【事件の表示】
　特許第３１４８６４７号「走査型露光装置およびオフセット調整方法」の請求項１ないし４に係る特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結　論】
　特許第３１４８６４７号の請求項１ないし４に係る特許を維持する。
【理　由】
１．手続きの経緯
　本件特許第３１４８６４７号は、平成８年７月１９日に特許出願され、平成１３年１月１２日にその特許の設定登録がなされ、その後、異議申立人株式会社ニコンから特許異議の申立てがなされ、取消理由通知がなされ、その指定期間内である平成１４年１月３０日に意見書が提出されたものである。
１．１　異議申立ての概要
　異議申立人株式会社ニコンは、甲第１号証（特開平６−２９１０１９号公報）及び甲第２号証（特開平７−１７６４６８号公報）を提出し、以下の主張をしている。
　請求項１〜４に係る発明は、甲第１号証記載の発明と同一であるから、本件請求項１〜４に係る特許は、特許法第２９条第１項第３号に該当する発明に対してなされたものである。
　請求項１及び２に係る発明は、甲第２号証記載の発明と同一であるから、本件請求項１及び２に係る特許は、特許法第２９条第１項第３号に該当する発明に対してなされたものである。
　請求項１〜４に係る発明は、甲第１号証記載の発明に基いて当業者が容易に発明できたものであるから、本件請求項１〜４係る特許は、特許法第２９条第２項の規定に違反してなされたものである。
　請求項１及び２に係る発明は、甲第１及び２号証記載の発明に基いて当業者が容易に発明できたものであるから、本件請求項１及び２に係る特許は、特許法第２９条第２項の規定に違反してなされたものである。
　従って、本件請求項１〜４に係る特許を取り消すべきである。
１．２　異議申立人株式会社ニコンが提出した甲第１号証及び甲第２号証の記載内容
１．２．１　甲第１号証の記載内容
　甲第1号証の【0017】段落から第5頁【0023】段落には、「【００１７】【実施例】以下、本発明による投影露光方法の一実施例につき図面を参照して説明する。本実施例は、スリットスキャン露光方式の投影露光装置でレチクルのパターンをウエハ上に露光する場合に、本発明を適用したものである。図１は本実施例の投影露光装置を示し、この図１において、図示省略された照明光学系からの露光光ＥＬによる矩形の照明領域（以下、「スリット状の照明領域」という）によりレチクル１２上のパターンが照明され、そのパターンの像が投影光学系８を介してウエハ５上に投影露光される。この際に、露光光ＥＬのスリット状の照明領域に対して、レチクル１２が図１の紙面に対して前方向に一定速度Ｖで走査されるのに同期して、ウエハ５は図１の紙面に対して後方向に一定速度Ｖ／β（１／βは投影光学系８の縮小倍率）で走査される。
【００１８】レチクル１２及びウエハ５の駆動系について説明すると、レチクル支持台９上にＹ軸方向（図１の紙面に垂直な方向）に駆動自在なレチクルＹ駆動ステージ１０が載置され、このレチクルＹ駆動ステージ１０上にレチクル微小駆動ステージ１１が載置され、レチクル微小駆動ステージ１１上にレチクル１２が真空チャック等により保持されている。レチクル微小駆動ステージ１１は、投影光学系８の光軸に垂直な面内で図１の紙面に平行なＸ方向、Ｙ方向及び回転方向（θ方向）にそれぞれ微小量だけ且つ高精度にレチクル１２の位置制御を行う。レチクル微小駆動ステージ１１上には移動鏡２１が配置され、レチクル支持台９上に配置された干渉計１４によって、常時レチクル微小駆動ステージ１１のＸ方向、Ｙ方向及びθ方向の位置がモニターされている。干渉計１４により得られた位置情報Ｓ１が主制御系２２Ａに供給されている。
【００１９】一方、ウエハ支持台１上には、Ｙ軸方向に駆動自在なウエハＹ軸駆動ステージ２が載置され、その上にＸ軸方向に駆動自在なウエハＸ軸駆動ステージ３が載置され、その上にＺθ軸駆動ステージ４が設けられ、このＺθ軸駆動ステージ４上にウエハ５が真空吸着によって保持されている。Ｚθ軸駆動ステージ４上にも移動鏡７が固定され、外部に配置された干渉計１３により、Ｚθ軸駆動ステージ４のＸ方向、Ｙ方向及びθ方向の位置がモニターされ、干渉計１３により得られた位置情報も主制御系２２Ａに供給されている。主制御系２２Ａは、ウエハ駆動装置２２Ｂ等を介してウエハＹ軸駆動ステージ２〜Ｚθ軸駆動ステージ４の位置決め動作を制御すると共に、装置全体の動作を制御する。
【００２０】また、後述するが、ウエハ側の干渉計１３によって計測される座標により規定されるウエハ座標系と、レチクル側の干渉計１４によって計測される座標により規定されるレチクル座標系の対応をとるために、Ｚθ軸駆動ステージ４上のウエハ５の近傍に基準マーク板６が固定されている。この基準マーク板６上には後述のように各種基準マークが形成されている。これらの基準マークの中にはＺθ軸駆動ステージ４側に導かれた照明光により裏側から照明されている基準マーク、即ち発光性の基準マークがある。
【００２１】本例のレチクル１２の上方には、基準マーク板６上の基準マークとレチクル１２上のマークとを同時に観察するためのレチクルアライメント顕微鏡１９及び２０が装備されている。この場合、レチクル１２からの検出光をそれぞれレチクルアライメント顕微鏡１９及び２０に導くための偏向ミラー１５及び１６が移動自在に配置され、露光シーケンスが開始されると、主制御系２２Ａからの指令のもとで、ミラー駆動装置１７及び１８によりそれぞれ偏向ミラー１５及び１６は待避される。更に、投影光学系８のＹ方向の側面部に、ウエハ５上のアライメントマーク（ウエハマーク）を観察するためのオフ・アクシスのアライメント装置３４が配置されている。
【００２２】次に、レチクル１２のアライメント及び後述の移動鏡の曲がりの計測を行うための機構及び動作につき説明する。図２（ａ）はレチクル１２上のアライメントマーク（レチクルマーク）及び曲がり計測用マークの配置を示し、図２（ｂ）はレチクル上で投影光学系の有効露光フィールドと共役な領域３３Ｒ内での、スリット状の照明領域明３２等を示す。走査方向をｙ方向として、ｙ方向に垂直な方向をｘ方向とする。図２（ａ）において、レチクル１２上の中央部のパターン領域の周囲には遮光部３１が形成され、この遮光部３１の外側に形成されているマークは、曲がり計測用マーク２７及び２８と、ファインアライメントマーク２９Ａ〜２９Ｄ及び３０Ａ〜３０Ｄとに分けられる。右辺側の曲がり計測用マーク２７は、走査方向であるｙ方向に沿って長い直線パターン２７ｃと、この直線状パターンの両端部に形成された十字パターンとより形成され、左辺側の曲がり計測用マーク２８は、右辺側の曲がり計測用マーク２７と対称的に直線パターン２８ｃを有するように構成されている。但し、本例の曲がり計測用マーク２７，２８はレチクル１２のおおまかなアライメント（ラフアライメント）を行う場合のアライメントマーク、即ちラフサーチ用アライメントマークとしても使用できるようになっている。
【００２３】また、右辺側の遮光部３１と曲がり計測用マーク２７の一方の十字パターンとの間に、ｙ方向に近接してファインアライメントマーク２９Ａ，２９Ｂが形成され、右辺側の遮光部３１と曲がり計測用マーク２７の他方の十字パターンとの間に、ｙ方向に近接してファインアライメントマーク２９Ｃ，２９Ｄが形成されている。これらファインアライメントマーク２９Ａ〜２９Ｄと対称的に左辺側にファインアライメントマーク３０Ａ〜３０Ｄが形成されており、これらファインアライメントマーク２９Ａ〜２９Ｄ及び３０Ａ〜３０Ｄは、それぞれ図２（ｃ）に示すように、３本の直線状パターンをｘ方向に所定間隔で２組配列すると共に、３本の直線状パターンをｙ方向に所定間隔で２組配列したものである。」と記載されている。
　甲第1号証の【0032】段落から第8頁【0042】段落には、「【００３２】図４（ａ）は、図２（ａ）のレチクル１２を図３（ａ）の基準マーク板６上に投影して得られるレチクル像１２Ｗを示し、この図４（ａ）において、図２（ａ）のファインアライメントマーク２９Ａ〜２９Ｄに共役なマーク像２９ＡＷ〜２９ＤＷと、ファインアライメントマーク３０Ａ〜３０Ｄに共役なマーク像３０ＡＷ〜３０ＤＷとが示されている。更に、曲がり計測用マーク２７，２８と共役なマーク像２７Ｗ，２８Ｗも示されている。
【００３３】図４（ｃ）は、基準マーク板６上の基準マークの配置を示し、この図４（ｃ）の基準マーク板６上には、図４（ａ）のマーク像２７Ｗ，２８ＷとＸ方向に同じ間隔で基準マーク３５Ｅ，３６Ｅが形成されている。基準マーク３５Ｅは、図４（ｃ）に示すように、Ｘ方向に所定間隔で配置された２本の遮光部の直線パターンから構成され、基準マーク３６Ｅも同じである。これら基準マーク３５Ｅ，３６Ｅはそれぞれ裏面から露光光と同じ波長の照明光で照明されている。
【００３４】また、基準マーク板６上には、更に図４（ａ）のマーク像２９ＡＷ〜２９ＤＷ及び３０ＡＷ〜３０ＤＷとほぼ同一の配置でそれぞれ基準マーク３５Ａ〜３５Ｄ及び３６Ａ〜３６Ｄが形成されている。これら基準マークは基準マーク板６の裏面から、露光光と同じ波長の照明光で照明されている。また、基準マーク板６上には、基準マーク３５Ａ及び３６Ａの中点から走査方向であるＹ方向に間隔ＩＬだけ離れた位置に基準マーク３７Ａが形成されている。間隔ＩＬは、図１における投影光学系８の基準点とオフ・アクシスのアライメント装置３４の基準点との間隔であるベースライン量と等しい。
同様に、基準マーク３５Ｂ及び３６Ｂの中点、基準マーク３５Ｃ及び３６Ｃの中点及び基準マーク３５Ｄ及び３６Ｄの中点からそれぞれＹ方向に間隔ＩＬだけ離れた位置に、基準マーク３７Ｂ，３７Ｃ及び３７Ｄが形成されている。
【００３５】そして、ファインアライメントマーク２９Ａ〜２９Ｄと対応する基準マーク３５Ａ〜３５Ｄとの位置関係をＲＡ顕微鏡１９で計測し、ファインアライメントマーク３０Ａ〜３０Ｄと対応する基準マーク３６Ａ〜３６Ｄとの位置関係をＲＡ顕微鏡２０で計測することにより、レチクル１２の最終的なアライメントが行われる。次に、移動鏡２１ｘの曲がり計測時には、図４（ｂ）の基準マーク３５Ｅ（又は３５Ｅ）と図２（ａ）の
レチクル１２側の曲がり計測用マーク２７の直線パターン２７ｃ（又は直線パターン２８ｃ）との位置ずれ量が、ＲＡ顕微鏡１９（又はＲＡ顕微鏡２０）により検出される。
【００３６】この位置ずれ量の求め方につき説明するために、図１のＲＡ顕微鏡１９等の構成を詳細に説明する。図５は、ＲＡ顕微鏡１９及びこの照明系を示し、この図５において、Ｚθ軸駆動ステージ４の外部より光ファイバー４４を介して露光光と同じ波長の照明光ＥＬがＺθ軸駆動ステージ４の内部に導かれている。光ファイバー４４の代わりにレンズ系で露光光をリレーしても良い。そのように導かれた照明光が、レンズ４５Ａ、ビームスプリッター４５Ｂ及びレンズ４５Ｃを経て基準マーク板６上の基準マーク３５Ａ〜３５Ｄを照明し、ビームスプリッター４５Ｂを透過した照明光が、レンズ４５Ｄ、レンズ４５Ｅ、ミラー４５Ｆ及びレンズ４５Ｇを経て基準マーク板６上の基準マーク３６Ａ〜３６Ｄを照明している。
【００３７】例えば基準マーク３５Ｅを透過した光は、投影光学系８を介して、レチクル１２上の直線パターン２７ｃ上にその基準マーク３５Ｅの像を結像する。その基準マーク３５Ｅの像及び直線パターン２７ｃからの光が、偏向ミラー１５、レンズ４０Ａ、レンズ４０Ｂを経てハーフミラー４２に達し、ハーフミラー４２で２分割された光がそれぞれ２次元ＣＣＤよりなるｘ軸用の撮像素子４３Ｘ及びｙ軸用の撮像素子４３Ｙの撮像面に入射する。これら撮像素子の内の撮像素子４３Ｘの撮像画面４３Ｘａには図６（ａ）に示すような、直線パターン２７ｃ及び基準マーク３５Ｅの像３５ＥＲの像が投影される。この場合、ｘ軸用の撮像素子４３Ｘの撮像画面４３Ｘａの水平走査線の方向はｘ方向であり、ｙ軸用の撮像素子４３Ｙの撮像画面の水平走査線の方向はｙ方向である。
【００３８】従って、撮像素子４３Ｘの撮像信号Ｓ４Ｘの加算平均から基準マーク３５Ｅの像３５ＥＲと直線パターン２７ｃとのｘ方向の位置ずれ量が求められる。この撮像信号Ｓ４Ｘが信号処理装置４１に供給されている。撮像信号Ｓ４Ｘが、信号処理装置４１内でアナログ／デジタル変換によりデジタル信号として検出される。
それぞれの走査線上の画像データは、信号処理装置４１内で、Ｘ軸上で加算平均され、加算平均されたＸ軸の画像信号Ｓ４Ｘは図６（ｂ）に示されるようになる。これら画像データはそれぞれ１次元画像処理信号として処理される。なお、基準マーク板６（ｂ）において、画像信号Ｓ４Ｘの横軸は時間ｔであるが、予め撮像素子４３Ｘの撮像画面の幅を計測しておくことにより、その横軸は位置ｘともみなすことができる。
【００３９】この様にして得られた信号を信号処理装置４１で演算処理すると、図６（ａ）のレチクル１２の直線パターン２７ｃの像に対応するｘ方向の位置ｘ3 、基準マーク３５Ｅの像３５ＥＲの左側のパターンに対応する位置ｘ1 及びその像３５ＥＲの右側のパターンに対応する位置ｘ2 が求められる。そして、直線パターン２７ｃと基準マーク３５Ｅとのｘ方向の相対的な位置ずれ量Δｘは、次のようになる。
Δｘ＝ｘ3-（ｘ1+ｘ2)／２ (1)このようにして、図２（ａ）の曲がり計測用マーク２７の直線パターン２７ｃと図４（ｂ）の基準マーク３５Ｅの投影像とのｘ方向の位置ずれ量を求めることができる。同様に、ＲＡ顕微鏡２０を用いて、図２（ａ）の曲がり計測用マーク２８の直線パターン２８ｃと図４（ｂ）の基準マーク３６Ｅの投影像とのｘ方向の位置ずれ量を求めることができる。
この位置ずれ量を用いて、図３（ｂ）のレチクルステージ側の移動鏡２１ｘの反射面の曲がり量を計測する方法の例につき説明する。
【００４０】移動鏡２１ｘの曲がり計測の第１の方法は、図２（ａ）の曲がり計測用マーク２７の直線パターン２７ｃ（又は直線パターン２８ｃ）を基準とする方法である。即ち、この場合、図５に示すように、ＲＡ顕微鏡１９で基準パターン３５Ｅの像及び直線パターン２７ｃを観察して、両者のｘ方向の位置ずれ量Δｘをモニターした状態で、且つ図３（ｂ）において、レチクル側のｘ軸用の干渉計１４ｘの計測値が一定値に維持された状態で、レチクル微小駆動ステージ１１を走査方向であるｙ方向に移動させる。そして、ｙ方向の多数の計測位置ｙi において、基準パターン３５Ｅの像と直線パターン２７ｃとのｘ方向の位置ずれ量Δｘi を求める。
【００４１】図７（ａ）は計測位置ｙi に対して位置ずれ量Δｘi をプロットして得られた結果を示し、曲線７０はｙ方向に真直な直線であり、曲線７１は一連のサンプル点（図７（ａ）で×印を付した点）を近似したものである。また、その曲線７１のもとになる計測データにおいて、直線７０からの位置ずれ量Δｘi は、図７（ｂ）に示すように、撮像信号Ｓ４Ｘ中の基準パターン３５Ｅの像３５ＥＲの中点７２と直線パターン２７ｃとのｘ方向の位置ずれ量として求められる。同様に、位置ずれ量Δｘn 及びΔｘm は、それぞれ図７（ｃ）及び（ｄ）の撮像信号から求められるものである。
【００４２】ｙ方向のサンプリング間隔は求める曲率と、アライメントセンサーとしてのＲＡ顕微鏡１９の計測精度で決定されるが、それぞれの相対的な位置ずれ量Δｘiは、移動鏡２１ｘの曲がりに沿って×印の様に計測される。そして、曲線７１を求める際には、位置ずれ量Δｘi のばらつきに応じてフィルタリングをソフトウェア的に実行する。その結果求められた曲線７１に対応する関数を位置ｙに関する２次曲線で近似して、例えばそのｙ2 の項の係数Ａを求め、スリットスキャン露光時に、レチクル微小駆動ステージ１１をｙ方向に走査する際には、その移動鏡２１ｘの曲がりを相殺するように、ｙ方向の位置に応じてレチクル微小駆動ステージ１１をｘ方向に微動する。これにより、ウエハ５の各ショット領域に露光されるパターン像のショット内歪みが低減される。」と記載されている。
　甲第1号証の効果の欄には、「【発明の効果】本発明の第１のステージ駆動方法によれば、マスクに設けた計測用マークを基準として移動鏡の曲がり量を計測し、露光時にその曲がり量を補正しているので、マスク側のマスクステージに設けられた移動鏡に曲がりが存在しても、基板側でショット内歪みが生じない利点がある。
【００５０】また、第２のステージ駆動方法によれば、マスクガイドを基準として移動鏡の曲がり量を計測しているので、マスクガイドの真直度が良好な場合には、迅速且つ容易に移動鏡の曲がり量を計測でき、露光時にその曲がり量を補正できる。」と記載されている。
１．２．２　甲第２号証の記載内容
　甲第2号証の【0029】段落から【0031】段落には、「【００２９】【実施例】以下、本発明による投影露光方法の第１実施例につき図面を参照して説明する。本実施例は、スリットスキャン露光方式の投影露光装置でレチクルのパターンをウエハ上に露光する場合に、本発明を適用したものである。図１は本実施例の投影露光装置を示し、この図１において、図示省略された照明光学系からの露光光ＥＬによる矩形の照明領域（以下、「スリット状の照明領域」という）によりレチクル１２上のパターンが照明され、そのパターンの像が投影光学系８を介してウエハ５上に投影露光される。この際に、露光光ＥＬのスリット状の照明領域に対して、レチクル１２が図１の紙面に対して前方向に一定速度Ｖで走査されるのに同期して、ウエハ５は図１の紙面に対して後方向に一定速度Ｖ／Ｍ（１／Ｍは投影光学系８の縮小倍率）で走査される。
【００３０】レチクル１２及びウエハ５の駆動系について説明するに、レチクル支持台９上にＹ軸方向（図１の紙面に垂直な方向）に駆動自在なレチクルＹ駆動ステージ１０が載置され、このレチクルＹ駆動ステージ１０上にレチクル微小駆動ステージ１１が載置され、レチクル微小駆動ステージ１１上にレチクル１２が真空チャック等により保持されている。レチクル微小駆動ステージ１１は、投影光学系８の光軸に垂直な面内で図１の紙面に平行なＸ方向、Ｙ方向及び回転方向（θ方向）にそれぞれ微小量だけ且つ高精度にレチクル１２の位置制御を行う。レチクル微小駆動ステージ１１上には移動鏡２１が配置され、レチクル支持台９上に配置された干渉計１４によって、常時レチクル微小駆動ステージ１１のＸ方向、Ｙ方向及びθ方向の位置がモニターされている。干渉計１４により得られた位置情報Ｓ１が主制御系２２Ａに供給されている。
【００３１】一方、ウエハ支持台１上には、Ｙ軸方向に駆動自在なウエハＹ軸駆動ステージ２が載置され、その上にＸ軸方向に駆動自在なウエハＸ軸駆動ステージ３が載置され、その上にＺθ軸駆動ステージ４が設けられ、このＺθ軸駆動ステージ４上にウエハ５が真空吸着によって保持されている。Ｚθ軸駆動ステージ４上にも移動鏡７が固定され、外部に配置された干渉計１３により、Ｚθ軸駆動ステージ４のＸ方向、Ｙ方向及びθ方向の位置がモニターされ、干渉計１３により得られた位置情報も主制御系２２Ａに供給されている。主制御系２２Ａは、ウエハ駆動装置２２Ｂ等を介してウエハＹ軸駆動ステージ２、ウエハＸ軸駆動ステージ３、Ｚθ軸駆動ステージ４の位置決め動作を制御すると共に、装置全体の動作を制御する。」と記載されている。
　また甲第2号証の【0032】段落から【0033】段落には「【００３２】また、後述するが、ウエハ側の干渉計１３によって計測される座標により規定されるウエハ座標系と、レチクル側の干渉計１４によって計測される座標により規定されるレチクル座標系の対応をとるために、Ｚθ軸駆動ステージ４上のウエハ５の近傍に基準マーク板６が固定されている。この基準マーク板６上には後述のように各種基準マークが形成されている。これらの基準マークの中にはＺθ軸駆動ステージ４側に導かれた照明光により裏側から照明されている基準マーク、即ち発光性の基準マークがある。
【００３３】本例のレチクル１２の上方には、基準マーク板６上の基準マークとレチクル１２上のマークとを同時に観察するためのレチクルアライメント顕微鏡１９及び２０が装備されている。この場合、レチクル１２からの検出光をそれぞれレチクルアライメント顕微鏡１９及び２０に導くための偏向ミラー１５及び１６が移動自在に配置され、露光シーケンスが開始されると、主制御系２２Ａからの指令のもとで、ミラー駆動装置１７及び１８によりそれぞれ偏向ミラー１５及び１６は退避される。更に、投影光学系８のＹ方向の側面部に、ウエハ５上のアライメントマーク（ウエハマーク）を観察するためのオフ・アクシス方式のアライメント装置３４が配置されている。」と記載されている。
　甲第2号証の【0058】段落から【0068】段落には「【００５８】図９（ａ）においては、基準マーク板６上にレチクル１２の投影像であるレチクル像１２Ｗが投影されている。また、図９（ｃ）に示すように、観察領域１９Ｗ及び２０Ｗは、それぞれ投影光学系８の露光フィールド内の光軸を横切る位置に有り、オフ・アクシス方式のアライメント装置３４の観察領域内に基準マーク３７Ａが収まっている。そして、スリットスキャン露光時と同様に、図７（ａ）のＺθ軸駆動ステージ４が上側（Ｙ方向）に移動するのと同期して、図７（ｂ）のレチクル微小駆動ステージ１１が下側（−ｙ方向）に移動すると、第９（ａ）から図９（ｂ）に示すように、基準マーク板６とレチクル像１２Ｗとが一緒にＹ方向に動く。
このとき、ＲＡ顕微鏡１９，２０の観察領域１９Ｗ，２０Ｗとオフ・アクシス方式のアライメント装置３４とは固定されているので、観察領域１９Ｗ，２０Ｗ及びアライメント装置３４の下を、符号Ａが付されたマーク群（マーク像２９ＡＷ，３０ＡＷ、基準マーク３５Ａ，３６Ａ，３７Ａ）から符号Ｄが付されたマーク群（マーク像２９ＤＷ，３０ＤＷ、基準マーク３５Ｄ，３６Ｄ，３７Ｄ）までが移動して行く。
【００５９】先ず、アライメント開始後の図９（ａ）の第１の静止位置では、観察領域１９Ｗの下にマーク像２９ＡＷ及び基準マーク３５Ａがあり、観察領域２０Ｗの下にはマーク像３０ＡＷ及び基準マーク３６Ａがあり、オフ・アクシス方式のアライメント装置３４の下には基準マーク３７Ａがあり、これら符号Ａが付されたマークは同時にすべて観察される。第１の静止位置での計測が終了すると、ステッピング動作によって第２の静止位置までレチクル像１２Ｗと基準マーク板６とを同期して移動させる。第１の静止位置で観察領域１９Ｗ，２０Ｗ及びアライメント装置３４の下に存在したマーク群は符号Ａが付されたマーク群であり、第２の静止位置で観察領域１９Ｗ，２０Ｗ及びアライメント装置３４の下に存在するマーク群は符号Ｂが付されたマーク群（図８のマーク像２９ＢＰ、基準マーク３５Ｂ，３７Ｂ等）である。
【００６０】以上の様なシーケンスを第３の静止位置及び第４の静止位置（図９（ｂ）の状態）と繰り返すことにより、レチクル像１２Ｗのマーク像及び基準マーク板６上の基準マークは、符号Ａが付されたマーク群、符号Ｂが付されたマーク群、符号Ｃが付されたマーク群、符号Ｄが付されたマーク群の順に、それぞれＲＡ顕微鏡１９，２０及びオフ・アクシス方式のアライメント装置３４によって計測されていくことになる。この動作が、図２のステップ１０５〜１１０の動作である。この様にして求められた計測結果を分かり易く表現するために、計測結果を図１０に示す。
【００６１】図１０において、ＲＡ顕微鏡１９で得られる測定結果を後述のように補正して求められる、基準マーク３５Ａからマーク像２９ＡＷまでのアライメント誤差のベクトルをＡＬとして、同様に基準マーク３５Ｂ〜３５Ｄからそれぞれマーク像２９ＢＷ〜２９ＤＷまでのアライメント誤差のベクトルをＢＬ〜ＤＬとする。同様に、基準マーク３６Ａからマーク像３０ＡＷまでのアライメント誤差のベクトルをＡＲとして、基準マーク３６Ｂ〜３６Ｄからそれぞれマーク像３０ＢＷ〜３０ＤＷまでのアライメント誤差のベクトルをＢＲ〜ＤＲとする。
また、オフ・アクシス方式のアライメント装置３４で得られる計測結果を後述のように補正して求められる、基準マーク３７Ａ〜３７Ｄからそのアライメント装置３４の基準点までの誤差ベクトルをそれぞれＡＯ〜ＤＯとする。
【００６２】そして、誤差ベクトルＡＬ，ＡＲ〜ＤＬ，ＤＲを得たときの、図１のレチクル側の干渉計１４で計測されたｘ方向の座標値、即ち図７（ｂ）のレーザービームＬＲｘを用いて得られた座標値をそれぞれＲｅＡｘ〜ＲｅＤｘ、誤差ベクトルＡＬ，ＡＲ〜ＤＬ，ＤＲを得たときの、図１のレチクル側の干渉計１４で計測されたｙ方向の座標値、即ち図７（ｂ）のレーザービームＬＲｙ１，ＬＲｙ２を用いて得られた座標値をそれぞれＲｅＡｙ１〜ＲｅＤｙ１，ＲｅＡｙ２〜?ＲｅＡｙ２とする。
また、誤差ベクトルＡＬ，ＡＲ〜ＤＬ，ＤＲを得たときの、図１のウエハ側の干渉計１３で計測されたＸ方向の座標値、即ち図７（ａ）のレーザービームＬＷＸを用いて得られた座標値をそれぞれＷａＡＸ〜ＷａＤＸ、誤差ベクトルＡＬ，ＡＲ?ＤＬ，ＤＲを得たときの、図１のウエハ側の干渉計１３で計測されたＹ方向の座標値、即ち図７（ａ）のレーザービームＬＷＹ１，ＬＷＹ２を用いて得られた座標値をそれぞれＷａＡＹ１〜ＷａＤＹ１，ＷａＡＹ２〜ＷａＤＹ２とする。
【００６３】また、誤差ベクトルＡＯ〜ＤＯを得たときの、オフ・アクシス方式のアライメント装置専用の干渉計で得られたＸ方向の座標値、即ち図７（ａ）のレーザービームＬＷOFを用いて得られた座標値をそれぞれＷａＡＯＸ〜ＷａＤＯＸとする。この場合、図７（ａ）に示すように、ウエハ側のレーザービームＬＷＹ１，ＬＷＹ２のＸ方向の間隔はＩＬであり、レチクル側のレーザービームＬＲｙ１，ＬＲｙ２のウエハ側での間隔はＲＬである。
【００６４】次に、図１０の誤差ベクトルＡＬ等の求め方につき説明するために、図１のＲＡ顕微鏡１９の構成を詳細に説明する。図１１は、ＲＡ顕微鏡１９及びこの照明系を示し、この図１１において、Ｚθ軸駆動ステージ４の外部より光ファイバー４４を介して露光光と同じ波長の照明光ＥＬがＺθ軸駆動ステージ４の内部に導かれている。光ファイバー４４の代わりにレンズ系で露光光をリレーしても良い。そのように導かれた照明光が、レンズ４５Ａ、ビームスプリッター４５Ｂ及びレンズ４５Ｃを経て基準マーク板６上の基準マーク３５Ａ〜３５Ｄを照明し、ビームスプリッター４５Ｂを透過した照明光が、レンズ４５Ｄ、レンズ４５Ｅ、ミラー４５Ｆ及びレンズ４５Ｇを経て基準マーク板６上の基準マーク３６Ａ〜３６Ｄを照明している。
【００６５】例えば基準マーク３５Ａを透過した光は、投影光学系８を介して、レチクル１２上のファインアライメントマーク２９上にその基準マーク３５Ａの像を結像する。その基準マーク３５Ａの像及びアライメントマーク２９からの光が、偏向ミラー１５、レンズ４０Ａ、レンズ４０Ｂを経てハーフミラー４２に達し、ハーフミラー４２で２分割された光がそれぞれ２次元ＣＣＤよりなるＸ軸用の撮像素子４３Ｘ及びＹ軸用の撮像素子４３Ｙの撮像面に入射する。これら撮像素子４３Ｘ及び４３Ｙの撮像面にはそれぞれ図１２（ａ）に示すような、ファインアライメントマーク２９Ａ及び基準マーク３５像３５ＡＲの像が投影される。この場合、Ｘ軸用の撮像素子４３Ｘの撮像画面４３Ｘａは、ウエハステージ上のＸ方向に平行な領域で、且つ水平走査線の方向もＸ方向であるが、Ｙ軸用の撮像素子４３Ｙの撮像画面４３Ｙａは、ウエハステージ上のＹ方向に平行な領域で、且つ水平走査線の方向もＹ方向である。
【００６６】従って、撮像素子４３Ｘの撮像信号Ｓ４Ｘの加算平均から基準マーク３５Ａとアライメントマーク２９ＡとのＸ方向の位置ずれ量が求められ、撮像素子４３Ｙの撮像信号Ｓ４Ｙの加算平均から基準マーク３５Ａとアライメントマーク２９ＡとのＹ方向の位置ずれ量が求められる。これら撮像信号Ｓ４Ｘ及びＳ４Ｙが信号処理装置４１に供給されている。
【００６７】より詳細に、符号Ａが付されたマーク群をアライメントしている場合を例に取って説明すると、ＲＡ顕微鏡１９では例えば図１２（ａ）に示されているアライメントマーク２９Ａと基準マーク像３５ＡＲとを同時に観察する。この図１２（ａ）において、破線で囲まれた撮像画面４３Ｘａ及び４３Ｙａ内の画像信号Ｓ４Ｘ及びＳ４Ｙが、信号処理装置４１内でアナログ／デジタル変換によりデジタル信号として検出される。それぞれの走査線上の画像データは、信号処理装置４１内で、Ｘ軸及びＹ軸で独立に加算平均され、加算平均されたＸ軸用の画像信号Ｓ４Ｘ′及びＹ軸用の画像信号Ｓ４Ｙ′はそれぞれ図１２（ｂ）及び（ｃ）に示されるようになる。これら画像データはそれぞれ１次元画像処理信号として処理される。
【００６８】この様にして得られた信号を信号処理装置４１で演算処理すると、図１０のレチクル１２のマーク像２９ＡＷと基準マーク板６の基準マーク３５ＡとのＸ方向及びＹ方向の相対的な位置ずれＡＬ′X 及びＡＬ′Yが求められる。そして、図１のＲＡ顕微鏡２０により、マーク像３０ＡＷと基準マーク３６ＡとのＸ方向及びＹ方向の相対的な位置ずれＡＲ′X 及びＡＲ′Y が求められる。同様に、図１０のマーク像２９ＢＷ〜２９ＤＷと基準マーク３５Ｂ〜３５Ｄとの相対的な位置ずれ、及びマーク像３０ＢＷ〜３０ＤＷと基準マーク３６Ｂ〜３６Ｄとの相対的な位置ずれが求められる。」と記載されている。
　甲第2号証の【0089】段落から【0090】段落には「【００８９】以上の様にして、図１０の符号Ａが付されたマーク群の位置でアライメントを行うと、ＡＬX 、ＡＬY 、ＡＲX 、ＡＲY 、ＡＯfX、ＡＯfY、ＡＯLX、ＡＯLYの８個のデータが計測される。この様なシーケンスで符号Ａが付されたマーク群〜符号Ｄが付されたマーク群までの計測を行うことによって、３２個（＝８×４）のデータが求められる。これら３２個のデータの内で、ＲＡ顕微鏡１９及び２０により得られたデータを実測データＤxn，Ｄynとして記憶し、オフ・アクシス方式のアライメント装置３４により得られたデータを実測データＡxn，Ａynとして記憶する。その後、動作は図２のステップ１１１に移行する。
【００９０】図２のステップ１１１において、ＲＡ顕微鏡１９，２０に対応する実測データＤxn，Ｄynに対して、実際にレチクル座標系とウエハ座標系とを線形誤差のみで変換できるようにした座標系での、ｘ方向及びｙ方向の座標をＦxn及びＦynとすると、これらの関係は以下の様になる。」と記載されている。
　甲第2号証の【0094】段落には「【００９４】そして、これら非線形誤差（εxn，εyn）が最小となる様に最小自乗近似を用いて、（数９）の６つのパラメータＲｘ，Ｒｙ，θ，ω，Ｏｘ，Ｏｙの値を算出する。ここでｘ方向のスケーリングパラメータＲｘはレチクル１２と基準マーク板６とのｘ方向の倍率誤差を示し、スケーリングパラメータＲｙはレチクル座標系とウエハ座標系との走査方向（ｙ方向）のスケーリング誤差を示す。また、角度パラメータθはレチクル１２と基準マーク板６と回転誤差、角度パラメータωはレチクル座標系とウエハ座標系との走査方向の平行度、オフセットパラメータＯｘ及びＯｙは両者のｘ方向及びｙ方向のオフセット値をそれぞれ示す。」と記載されている。
　甲第2号証の【0098】段落には「【００９８】次に、計測データＤxn，Ｄynは、ウエハ座標系とレチクル座標系との相対誤差のみを表しているので、ウエハ座標系基準で最小自乗近似計算を行った場合は、求められたパラメータＲｘ，Ｒｙ，θ，ω，Ｏｘ，Ｏｙはすべてウエハ座標系を基準としたレチクル座標系の線形誤差で表される。そこで、レチクル座標系のｘ座標及びｙ座標をそれぞれｒxn′及びｒyn′とすると、ウエハ座標系の動きに応じて次式から求められた新座標（ｒxn，ｒyn）に基づいてレチクルを駆動すれば良い。」と記載されている。
　甲第2号証の【0106】段落には「【０１０６】この際に基準マーク板６上のパターニング誤差及び投影光学系８のディストーション誤差が新座標系の中に誤差として残るが、これらは変動がほとんどないので、装置調整時に露光結果を参照データと比較して、得られた誤差をシステムオフセットとして取り除けば問題はない。なお、上述実施例では、図８（ｃ）に示すように、基準マーク板６上に基準マーク３５Ａ〜３５Ｄが複数個設けられ、基準マーク３７Ａ〜３７Ｄも複数個設けられている。しかしながら、例えば１個の基準マーク３５Ａ及び１個の基準マーク３７Ａのみを使用しても、レチクル１２だけを走査して計測結果を平均化することにより、レチクル１２上のパターンの描画誤差の影響を低減できる。」と記載されている。
　甲第2号証の【発明の効果】には「【発明の効果】本発明の第１の投影露光方法によれば、最終的に、例えばマスク上の複数の計測用マークの各位置で求められた位置ずれに合わせて、最小自乗近似等によって、マスク座標系と基板座標系とを対応付けるパラメータ（倍率，走査方向のスケーリング，回転，走査方向の平行度，Ｘ方向及びＹ方向のオフセット）を求めることにより、マスク上の計測用マークの描画誤差の影響を小さく抑えることができる。
【０１２４】また、第２の投影露光装置によれば、マスク側の複数の計測用マークに関する計測結果を平均化することにより、マスクの計測用マークの描画誤差を小さくして、投影光学系の基準点とアライメント系の基準点との間隔であるベースライン量を正確に計測できる。また、第３の投影露光装置によれば、基準マーク部材上に、マスク上の複数の計測用マークに対応させてその第１の基準マークを複数個形成すると共に、これら複数の第１の基準マークからそれぞれ投影光学系の露光フィールド内の基準点とオフ・アクシス方式のアライメント系の基準点との間隔に対応する間隔でその第２の基準マークを複数個形成しているため、基準マーク側でも平均化が行われるので、より正確にベースライン量が計測される。
【０１２５】また、本発明の第４の投影露光方法によれば、クイックモードによる簡易的な計測工程を選択することにより、必要に応じて高いスループットでマスク上の座標系とステージ上の座標系との対応関係を求めることができる。また、第５の投影露光方法によれば、クイックモードによる簡易的な計測工程を選択することにより、必要に応じて高いスループットでマスク上の座標系とステージ上の座標系との対応関係、及びベースライン量を求めることができる。
【０１２６】また、第６の投影露光方法によれば、所定枚数の基板に露光を行う毎に、クイックモードによる簡易的な計測工程を実行しているため、多くの基板に連続的にスキャン方式で露光を行う場合に、高いスループットでマスク上の座標系とステージ上の座標系との対応関係、及びベースライン量を求めることができる。」と記載されている。
２．特許異議申立てについての判断
２．１　本件請求項１〜４に係る発明
【請求項１】 原板を保持して走査する第１ステージと、基板を保持して走査する第２ステージと、原板の像を基板上に投影する投影光学系とを有し、第１ステージと第２ステージを投影光学系に対してそれぞれ走査することにより原板の像を基板上に転写する走査型露光装置において、
前記第１および第２ステージの一方を固定して他方を前記走査方向に移動させ第１ステージと第２ステージの複数の位置関係における前記原板と基板との前記走査方向と交差する方向へのずれ量を計測する手段と、
その計測結果を記憶する手段と、
走査露光時、前記記憶手段に記憶されたデータに基づいて第１ステージと第２ステージが互いに平行な直線上を走査するように第１および第２ステージの少なくとも一方を前記走査方向と交差する方向に補正駆動する手段とを備えたことを特徴とする走査型露光装置。
【請求項２】 前記ずれ量計測手段は、それぞれ位置検出パターンを配置され予め第１および第２ステージに保持させた位置検出用の原板および基板の前記位置検出パターンを、前記走査露光に先立って第１および第２ステージにそれぞれ保持される原板と基板とを位置合わせするために設けられている位置検出系を用いて計測するものである請求項１記載の走査型露光装置。
【請求項３】 前記補正駆動手段は、前記記憶手段に記憶されたデータに基づいて走査方向全面に対する走査方向と直交する方向へのずれ量を補間計算し、この補間計算結果に基づいて前記補正駆動を行うものである請求項１または２記載の走査型露光装置。
【請求項４】 原板を保持して走査する第１ステージと、基板を保持して走査する第２ステージと、原板の像を基板上に投影する投影光学系と、前記原板および基板のそれぞれに配置された位置合わせマークに基づいて該原板と基板との位置ずれ量を検出する位置検出系とを有し、第１ステージと第２ステージに保持された原板と基板を位置合わせした後、第１ステージと第２ステージを投影光学系に対してそれぞれ走査することにより原板の像を基板上に転写する走査型露光装置の、第１ステージと第２ステージのオフセット調整を行う方法において、
所定の位置検出パターンをそれぞれ配置された原板および基板をそれぞれ第１および第２ステージに保持させ、第１および第２ステージの一方を固定しておき他方を前記走査方向に移動させて第１ステージと第２ステージの複数の位置関係における前記原板および基板上の位置検出パターン間の前記走査方向と直交する方向へのずれ量を前記位置検出系を用いて計測し、この計測データに基づいて走査方向全面に対する走査方向と直交する方向へのずれ量を補間計算し、この補間計算結果に基づいて前記走査露光を行う際に第１ステージと第２ステージが互いに平行な直線上を走査するような第１および第２ステージの少なくとも一方の前記走査方向と直交する方向の補正駆動データを求め、それを前記走査露光時の走査方向と直交する方向への駆動データとして設定することを特徴とする走査型露光装置のオフセット調整方法。
２．２　異議申立ての理由の概要
　上記１．１に記載のとおり。
２．２．１　本件請求項１〜請求項４に係る発明と甲第１号証及び甲第２号証との対比、判断
　本件請求項１並びに本件請求項１を引用する本件請求項２及び３に係る発明が、「第１および第２ステージの一方を固定して他方を前記走査方向に移動させ第１ステージと第２ステージの複数の位置関係における前記原板と基板との前記走査方向と交差する方向へのずれ量を計測する手段と、
その計測結果を記憶する手段と、
走査露光時、前記記憶手段に記憶されたデータに基づいて第１ステージと第２ステージが互いに平行な直線上を走査するように第１および第２ステージの少なくとも一方を前記走査方向と交差する方向に補正駆動する手段とを備えた」（以下、「本件請求項１〜３に係る発明の特徴的構成」という。）を有するのに対し、甲第１号証及び甲第２号証に記載された発明は、いずれも、本件請求項１〜３に係る発明の特徴的構成について記載又は当該記載を示唆をするものではない。
　また、本件請求項１〜３に係る発明が、上記本件請求項１〜３に係る発明の特徴的構成を有することにより、特許明細書の【発明の効果】に記載された効果を有する。
　従って、本件請求項１〜３に係る発明は、甲第１号証記載の発明と同一ではなく、又、本件請求項１及び２に係る発明は、甲第２号証記載の発明と同一ではない。
　さらに、本件請求項１〜３に係る発明は、甲第１号証記載の発明に基いて当業者が容易に発明できたものではなく、又、本件請求項１及び２に係る発明は、甲第１及び２号証記載の発明に基いて当業者が容易に発明できたものではない。
　又、本件請求項４に係る発明が、「第１および第２ステージの一方を固定しておき他方を前記走査方向に移動させて第１ステージと第２ステージの複数の位置関係における前記原板および基板上の位置検出パターン間の前記走査方向と直交する方向へのずれ量を前記位置検出系を用いて計測し、この計測データに基づいて走査方向全面に対する走査方向と直交する方向へのずれ量を補間計算し、この補間計算結果に基づいて前記走査露光を行う際に第１ステージと第２ステージが互いに平行な直線上を走査するような第１および第２ステージの少なくとも一方の前記走査方向と直交する方向の補正駆動データを求め、それを前記走査露光時の走査方向と直交する方向への駆動データとして設定すること」（以下、「本件請求項４に係る発明の特徴的構成」という。）を有するのに対し、甲第１号証及び甲第２号証に記載された発明は、本件請求項２に係る発明の特徴的構成について記載又は当該記載を示唆をするものではない。
　また、本件請求項４に係る発明が、上記本件請求項４に係る発明の特徴的構成を有することにより、特許明細書の【発明の効果】に記載された効果を有する。
　従って、本件請求項４に係る発明は、甲第１号証記載の発明又は甲第２号証記載の発と同一ではなく、又、請求項４に係る発明は、甲第１号証及び甲第２号証記載の発明に基いて当業者が容易に発明できたものでもない。
　付言すると、甲第１号記載の発明は、移動鏡の曲がりを検出し、露光時に、移動鏡の曲がりを補正するようにステージを走査方向と垂直な方向に動かすものであるから、本件請求項１〜４に係る発明の特徴的構成をを示唆するのもではない。
　又、甲第２号記載の発明は、そもそも、露光時のステージ走査についての記載がないから、同号証記載の発明は、本件請求項１〜４に係る発明の特徴的構成を有していない。
５．むすび
 したがって、特許異議申立ての理由及び証拠によっては、本件請求項１〜４に係る発明の特許を取り消すことはできない。
　また、他に本件請求項１〜４に係る発明の特許を取り消すべき理由を発見しない。
　従って、本件請求項１〜４に係る発明についての特許は拒絶の査定をしなければならない特許出願に対してされたものと認めない。
　よって、上記のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１４年４月１２日（２００２．４．１２）