【事件の表示】
　特許第３０４７４６２号「洗浄装置」の請求項１ないし７に係る特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結　論】
　訂正を認める。
　特許第３０４７４６２号の請求項１ないし３に係る特許を維持する。
【理　由】
１．本件特許第３０４７４６２号は、平成２年１１月２２日の出願であって、平成１２年３月２４日にその特許権の設定登録がなされ、その後、坂本典子より特許異議の申立てがなされ、取消理由が通知され、その指定期間内である平成１３年７月１６日に訂正請求がなされたものである。
　
２．（１）本件特許に対し異議申立人坂本典子は、甲第１号証として特開昭５８−１４７１２５号公報を、甲第２号証として特開昭６１−７８１２４号公報を、及び甲第３号証として実願昭６０−１９６０４９号（実開昭６２−１０３４８７号）のマイクロフィルムを提示し、本件特許の請求項１、２、６及び７に係る発明は、本件特許の出願前に国内において頒布された甲第１号証に記載されているから、特許法第２９条第１項第３号に掲げられた発明に該当し、当該発明に係る特許は、特許法第２９条第１項の規定に違反して特許されたものであり、
　請求項４に係る発明は、本件特許の出願前に国内において頒布された甲第２号証に記載されているから特許法第２９条第１項第３号に掲げられた発明に該当し、当該発明に係る特許は、特許法第２９条第１項の規定に違反して特許されたものであり、
　また、本件特許の請求項３ないし５に係る発明は、本件特許の出願前に国内において頒布された甲第１号証〜甲第３号証に記載された発明に基づいて、当業者が容易に発明することができたものであるから、当該発明に係る特許は、特許法第２９条第２項の規定に違反して特許されたものである旨主張する。
　
３．上記取消理由は、本件特許は、特許請求の範囲に洗浄液の供給の制御をするための構成が記載されておらず、本件発明の必須の構成が記載されていないから、記載に不備のある明細書に対してされたものであって、取り消すべきというものである。
　
４．上記訂正請求によって訂正された明細書の請求項１ないし３に係る発明（以下、「訂正発明」という。）は、その特許請求の範囲に記載された次のとおりのものである。
　「【請求項１】被洗浄物の洗浄処理を行う洗浄装置であって、
　処理槽と、
　前記処理槽内の洗浄液量を監視する液面センサーであって、前記処理槽に前記被洗浄物が浸漬されたときに、前記被洗浄物が洗浄液に完全に浸漬される基準液面位置を検出する基準液面センサーと、を有し、
　前記基準液面センサーは、前記処理槽に取り付けたチューブと、前記チューブ内を流れる気体の圧力変化を検出するセンサー制御部と、から構成され、
　前記基準面センサーの検出信号が発生してから指定時間後に洗浄液供給信号を出力する制御部を備えることを特徴とする洗浄装置。
　【請求項２】請求項１において、前記被洗浄物は半導体ウェーハーであることを特徴とする洗浄装置。
　【請求項３】請求項１において、前記洗浄液は薬液であることを特徴とする洗浄装置。」
　
５．上記訂正請求の適否について判断する。
（１）上記訂正は、願書に添付された明細書（以下、「特許明細書」という。）を、以下のａ〜ｃのとおり訂正するものである。
ａ．特許請求の範囲について、
　特許請求の範囲第１項について、「液面センサー」を、「液面センサーであって、前記処理槽に前記被洗浄物が浸漬されたときに、前記被洗浄物が洗浄液に完全に浸漬される基準液面位置を検出する基準液面センサー」と訂正し（以下、「訂正事項ａ１」という。）、「前記基準液面センサーの検出信号が発生してから指定時間後に洗浄液供給信号を出力する制御部を備える」を加入する（以下、「訂正事項ａ２」という。）。
ｂ．特許請求の範囲について、
　特許請求の範囲第２〜５項を削除し、第６項及び第７項をそれぞれ第２項及び第３項に繰り上げる。
ｃ．発明の詳細な説明について、
　平成１１年１１月８日付け手続補正書により補正された明細書第３頁１０−１３行目の「本発明の洗浄装置は、被洗浄物の洗浄処理を行う洗浄装置であって、処理槽と、前記処理槽内の洗浄液量を監視する液面センサーと、を有し、前記液面センサーは、前記処理槽に取り付けたチューブと、前記チューブ内を流れる気体の圧力変化を検出するセンサー制御部と、から構成されることを特徴とする。また、前記液面センサーは、前記処理槽に前記被洗浄物が浸漬されたときに、前記被洗浄物が洗浄液に完全に浸漬される基準液面位置を検出する液面センサーであることを特徴とする。あるいは、前記液面センサーは、前記処理槽の焼損を防止するための焼損防止液面センサーであることを特徴とする。もしくは、前記液面センサーは、前記洗浄液の液量オーバーを示す上限液面位置を検出する液面センサーであることを特徴とする。さらには、前記洗浄装置は、前記処理槽に前記被洗浄物が浸漬されたときに、前記被洗浄物が洗浄液に完全に浸漬される基準液面位置を検出する液面センサーと、前記処理槽の焼損を防止するための焼損防止液面センサーと、前記被洗浄液の液量オーバーを示す上限液面位置を検出する液面センサーと、を有することを特徴とする。また、前記洗浄物は半導体ウェーハーであることを特徴とする。さらには、前記洗浄液は薬液であることを特徴とする。」を、「本発明の洗浄装置は、被洗浄物の洗浄処理を行う洗浄装置であって、処理槽と、前記処理槽内の洗浄液量を監視する液面センサーであって、前記処理槽に前記被洗浄物が浸漬されたときに、前記被洗浄物が洗浄液に完全に浸漬される基準液面を検出する基準液面センサーと、を有し、前記基準液面センサーは、前記処理槽に取り付けたチューブと、前記チューブ内を流れる気体の圧力変化を検出するセンサー制御部と、から構成され、前記基準面センサーの検出信号が発生してから指定時間後に洗浄液供給信号を出力する制御部を備えることを特徴とする。また、前記被洗浄物は半導体ウェーハーであることを特徴とする。さらには、前記洗浄液は薬液であることを特徴とする。」と訂正する。
　
（２）上記訂正のうち、
　ａの訂正事項についてみると、この訂正のうちは、訂正事項ａ１は、「液面センサー」を「処理槽に被洗浄物が浸漬されたときに、被洗浄物が洗浄液に完全に浸漬される基準液面位置を検出する」ものに限定するものであるから、特許請求の範囲の減縮に相当し、訂正事項ａ２は、「基準液面センサーの検出信号が発生してから指定時間後に洗浄液供給信号を出力する制御部」を構成として付加するものであるから、特許請求の範囲の減縮に相当する。
　ｂの訂正事項についてみると、この訂正は、請求項を削除するものであるから、特許請求の範囲の減縮に相当する。
　ｃの訂正についてみると、この訂正は、特許請求の範囲の減縮に伴って、発明の詳細な説明の【課題を解決するための手段】を、これと整合するように訂正するものであるから、明りょうでない記載の釈明に相当する。
　そして、上記ａ１の訂正事項は、特許明細書の請求項２に限定されている事項を請求項１の限定事項としたものであるから、特許明細書に記載された事項の範囲内のものであり、訂正事項ａ２は、特許明細書の第４頁２行目から、第５頁２０行目に処理層の構成が説明されており、本体制御部１２は、液面センサー制御部９を介して液面検出信号を得、薬液供給部１１を作動させることが記載され、また、その制御構成は、タイマーを用いてセンサー５の検出信号の発生後、指定時間後に薬液供給信号を出し、薬液供給部１１を作動させるようにしたものであることが記載されているから、特許明細書に記載された事項の範囲内のものである。
　そして、これらの訂正によって、発明の目的が変更されるものでもないから、前記訂正事項は、いずれも、実質上特許請求の範囲を拡張するものでもなく、また、変更するものでもない。
　
（３）以上のとおりであるから、上記訂正請求は、特許法第１２０条の４第２項並びに同条第３項で準用する第１２６条第２項及び第３項の規定に適合するので、当該訂正を認める。
　
６．次に、特許異議の申立てについて判断する。
（１）本件特許の請求項１ないし３に係る発明は、訂正された明細書の特許請求の範囲に記載されたとおりのものであって、上記４で認定したとおりのものである。
　
（２）異議申立人が提示した前記甲第１号証〜甲第３号証には、以下の事項が記載されている。
　甲第１号証；半導体装置製造工程に於て、半導体ウエハの洗浄、エッチング等のウエット処理工程を自動的に行う装置に関し、「第１図は本発明の一実施例を示す図であって、この図において符号１は半導体ウエハをウエット処理するウエット処理槽、２ａ，２ｂは各々薬液３ａ，３ｂを収納する薬液タンクである。」（第２頁右上欄１８行目−左下欄１行目）、「また、図において１２は液面検知ガス供給部であり、このガス供給部１２は上述したガスと同様の不活性ガスをパイプ１８に供給するものである。パイプ１８に供給された不活性ガスは圧力レギュレータ１４，パイプ１５，差圧センサ（圧力検知器）１６ａ，１６ｂ、パイプ１７ａ，１７ｂ、三方バルブ１８ａ，１８Ｂを通って液面検知パイプ１９ａ，１９ｂ内に供給されるようになっている。検知パイプ１９ａ，１９ｂは、その開口している側の端部が垂直状態で処理槽１内に挿入配置されている。そしてこの場合パイプ１９ａと１９ｂの開口部は、その上下方向の位置が異なっている。このパイプ１９ａ，１９ｂの開口部の位置は、処理槽１内に導入される薬液の量に応じて定められるものである。」（第２頁左下欄１４行目−右上欄８行目）、「このとき、液面検知ガス供給部１２からパイプ１８内に供給されている不活性ガスは、圧力レギュレータ１４により調圧されたのち液圧センサ１６ａ，１６ｂを通って液面検知パイプ１９ａ，１９ｂ内に導入され、これらパイプ１９ａ，１９ｂから処理槽１内に噴出する。処理槽１内に供給された薬液が液面検知パイプ１９ａに接触すると、液面検知パイプ１９ａからの検知ガスの流出が妨害され、パイプ１９ａ，１７ａ内の圧力が高くなる。液圧センサ１６ａはパイプ内の圧力の変化により薬液が液面検知パイプ１９ａの下端面まで供給されたことを検知する。」（第３頁左上欄１３行目−右上欄５行目）及び「本発明では薬液の供給が自動的に行えるので、作業者より隔離してウエット処理工程を自動的に行う事ができ、作業者の安全、省力化が吐かれるとともに、発塵、汚染のないクリーンなウエット処理が行える等多くの利点を有する。」（第３頁右下欄１１−１６行目）と記載されている。
　甲第２号証；ＬＳＩ，超ＬＳＩなどの半導体装置の製造に用いられる半導体ウエハの純水等による洗浄装置、特に自動洗浄装置における洗浄処理槽に関し、「第１図は本発明の半導体ウエハの自動洗浄装置における純水処理槽の正面図の一例で、処理槽１の底部には大口径の排水弁２と槽下部に純水供給弁３及び内部に発泡治具４が設けられ、・・・・８は純水上限検出センサで純水が満たされたことを検知する。」（第２頁右上欄７−１６行目）と記載されている。
　甲第３号証；光学レンズ等の光学部品、及びフォトマスクブランク用透明基板やフォトマスクブランクやウエハ等の半導体材料等を洗浄する際に使用される超音波洗浄機に係り、特に、超音波洗浄機の洗浄槽内に超音波を発生する超音波発生器の焼損防止対策を施した超音波洗浄機に関し、「そこで、この焼損を防止するために、液面スイッチとして、液面に応じて浮動子が上昇することによって開閉駆動（所謂、スイッチング）する浮動子スイッチ（図示せず。）を洗浄槽２内に配置し、」（第３頁１０−１４行目）と記載されている。
　
（３）本件特許の請求項１に係る発明と前記甲各号証に記載されたものとを対比すると、前記各引用例の、いずれにも、請求項１に係る発明の必須の構成である「基準面センサーの検出信号が発生してから指定時間後に洗浄液供給信号を出力する制御部」が、記載されておらず、かつ、該構成が示唆されているとすることもできない。
　なお、甲第１号証に記載されたもののパイプ１９ｂ及び差圧センサ１６ｂは、請求項１に係る発明の液面センサーと同様、洗浄時の液面の位置を検知するものであると認められるが、甲第１号証には、２つの薬液を所定量ずつ順次供給して薬液を洗浄時の薬液量となるように供給するものであって、薬液が減少してきたときに、不足となった薬液を供給することを前提としていない。
　したがって、請求項１に係る発明は、甲第１号証〜甲第３号証に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものとすることはできない。
　
（４）次に、請求項２及び３に係る発明についてみると、請求項２及び３に係る発明は、請求項１に係る発明の構成を全て備えた上で、さらに限定を加えたものであるから、この限定した構成が甲第１号証〜甲第３号証に記載されているとしても、前記（２）のとおり、請求項１に係る発明が甲第１号証〜甲第３号証に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものとすることができない以上、請求項２及び３に係る発明も、前記甲第１号証〜甲第３号証に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものとすることはできない。
　
（５）また、上記取消理由で指摘した明細書の記載不備も、上記訂正事項ａ２の訂正によって解消された。
　
７．したがって、特許異議申立ての理由及び証拠によっては、本件特許の請求項１ないし３に係る発明の特許を取り消すことはできない。
　また、他に、本件特許の請求項１ないし３に係る発明の特許を取り消すべき理由を発見しない。
　よって、結論のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１３年８月２４日（２００１．８．２４）
【訂正の要旨】
　訂正の要旨
ａ．特許請求の範囲について、
　特許請求の範囲第１項について、「液面センサー」を、「液面センサーであって、前記処理槽に前記被洗浄物が浸漬されたときに、前記被洗浄物が洗浄液に完全に浸漬される基準液面位置を検出する基準液面センサー」と、特許請求の範囲の減縮を目的として、訂正をし、「前記基準液面センサーの検出信号が発生してから指定時間後に洗浄液供給信号を出力する制御部を備える」を加入する、特許請求の範囲の減縮を目的とする訂正をする。
ｂ．特許請求の範囲について、
　特許請求の範囲第２〜５項を削除する、特許請求の範囲の減縮を目的とする訂正をし、第６項及び第７項をそれぞれ第２項及び第３項に繰り上げる。
ｃ．発明の詳細な説明について、
　平成１１年１１月８日付け手続補正書により補正された明細書第３頁１０−１３行目の「本発明の洗浄装置は、被洗浄物の洗浄処理を行う洗浄装置であって、処理槽と、前記処理槽内の洗浄液量を監視する液面センサーと、を有し、前記液面センサーは、前記処理槽に取り付けたチューブと、前記チューブ内を流れる気体の圧力変化を検出するセンサー制御部と、から構成されることを特徴とする。また、前記液面センサーは、前記処理槽に前記被洗浄物が浸漬されたときに、前記被洗浄物が洗浄液に完全に浸漬される基準液面位置を検出する液面センサーであることを特徴とする。あるいは、前記液面センサーは、前記処理槽の焼損を防止するための焼損防止液面センサーであることを特徴とする。もしくは、前記液面センサーは、前記洗浄液の液量オーバーを示す上限液面位置を検出する液面センサーであることを特徴とする。さらには、前記洗浄装置は、前記処理槽に前記被洗浄物が浸漬されたときに、前記被洗浄物が洗浄液に完全に浸漬される基準液面位置を検出する液面センサーと、前記処理槽の焼損を防止するための焼損防止液面センサーと、前記被洗浄液の液量オーバーを示す上限液面位置を検出する液面センサーと、を有することを特徴とする。また、前記洗浄物は半導体ウェーハーであることを特徴とする。さらには、前記洗浄液は薬液であることを特徴とする。」を、「本発明の洗浄装置は、被洗浄物の洗浄処理を行う洗浄装置であって、処理槽と、前記処理槽内の洗浄液量を監視する液面センサーであって、前記処理槽に前記被洗浄物が浸漬されたときに、前記被洗浄物が洗浄液に完全に浸漬される基準液面を検出する基準液面センサーと、を有し、前記基準液面センサーは、前記処理槽に取り付けたチューブと、前記チューブ内を流れる気体の圧力変化を検出するセンサー制御部と、から構成され、前記基準面センサーの検出信号が発生してから指定時間後に洗浄液供給信号を出力する制御部を備えることを特徴とする。また、前記被洗浄物は半導体ウェーハーであることを特徴とする。さらには、前記洗浄液は薬液であることを特徴とする。」と、明りょうでない記載の釈明を目的とする訂正をする。
（５４）【発明の名称】
洗浄装置
（５７）【特許請求の範囲】
　【請求項１】　被洗浄物の洗浄処理を行う洗浄装置であって、
　処理槽と、
　前記処理槽内の洗浄液量を監視する液面センサー
であって、前記処理槽に前記被洗浄物が浸漬されたときに、前記被洗浄物が洗浄液に完全に浸漬される基準液面位置を検出する基準液面センサー
　前記
基準
、
　前記基準液面センサーの検出信号が発生してから指定時間後に洗浄液供給信号を出力する制御部を備えることを特徴とする洗浄装置。
　【請求項２】
　
【請求項３】
【発明の詳細な説明】
　［産業上の利用分野］
　本発明は半導体ウェーハーなどの被洗浄物を薬液処理を行う洗浄装置に関する。
　［従来の技術］
　半導体製造工程、例えば酸化膜エッチング工程、レジスト剥離工程、洗浄工程等を行う手段として薬液処理装置が主に用いられている。すなわち薬液処理槽に半導体ウェーハーをカセット等の保持具にセットし、これを槽内に浸漬させて処理をしている。これらの工程を全て自動的に実行するためこの薬液処理を行う際、槽内の液量を目視にて確認する、叉、時間経過、処理回数等をチェックし、液が無ければ給液、蒸発や持ち出しにより少なければ追加、指定回数に達すれば排液を行い新液を給液する等、人の手作業で行っている。
　［発明が解決しようとする課題］
　しかし、従来の方法では自動的に実行するにもかかわらず、人の確認作業、給液、追加、排液処理等の作業が必要となり、薬液不足により不良品を作ってしまう。薬液を排液して空のままでヒーターを入れてしまい処理槽を焼損させてしまうといった人為的ポカミス等により損失をだしてしまう。叉、薬液を給液、追加する場合においても薬液タンクが重く、１０キログラム以上を持ち上げて給液する。危険な薬品の為保護具を身に付けて作業しなければならない等肉体的、精神的な苦痛を伴うという労働環境上の問題点があった。
　そこで本発明は、従来のこのような課題を解決するため、薬液の供給、追加、排液等が人の視覚判断、直接作業を必要とせず、安全性が高く、効率の良い自動洗浄装置を提供することを目的とする。
　［課題を解決するための手段］
　本発明の洗浄装置は、被洗浄物の洗浄処理を行う洗浄装置であって、
　処理槽と、
　前記処理槽内の洗浄液量を監視する液面センサー
であって、前記処理槽に前記被洗浄物が浸漬されたときに、前記被洗浄物が洗浄液に完全に浸漬される基準液面位置を検出する基準液面センサー
　前記
基準
、
　前記基準液面センサーの検出信号が発生してから指定時間後に洗浄液供給信号を出力する制御部を備えることを特徴とする。
　また、前記被洗浄物は半導体ウェーハーであることを特徴とする
　さらには、前記洗浄液は薬液であることを特徴とする。
　［実施例］
　以下に、本発明の実施例を図面にもとずいて説明する。
　ウェーハー１を収納したカセット２を処理槽３の中に浸漬、例えば酸化膜のエッチング工程を行う液槽を図１に示す。叉、これらを自動処理するための各々液槽を構成した自動洗浄装置を図２に示す。
　この処理槽の構成を以下に説明する。
処理槽３は液面センサー４、液面センサー５、液面センサー６、ヒーター７、浸漬装置部８、液面センサー制御部９、廃液バルブ１０、薬液供給部１１、本体制御部１２、及び薬液１３で構成されている。処理槽３には、ウェーハー１を収納したカセット２が浸漬装置部８の上下動作より浸漬される。この時、薬液１３はカセット２が完全に浸漬され少なくも２０ミリメートルは沈んでいる必要があり、この基準液面位置に液面センサー５が配置され、液量オーバーの上限位置に液面センサー４を配置してある。更にヒーター７より上面２０ミリメートルの位置にポカミスによりヒーター７を空炊きしてしまい液槽を焼損させてしまうのを防止するため焼損防止液面センサー６を配置してある。センサー４、５、６、とも窒素等の不活性な気体をチューブに通して流し、液中叉は大気へ流れる場合の圧力差により液面を検出し液量を自動監視する。この圧力差を検知して液面センサー制御部９をかえして本体制御部１２と、薬液供給部１１との通信により薬液供給部１１を作動させ、薬液１３の供給、追加供給、更には、排液バルブ１０を作動させ薬液１３の排液、供給、異常に対しては即装置停止、等を自動処理することが可能となる。基準液面センサー５は工程処理を行うと薬液１３の持ち出しや蒸発等により少しずつ減ってゆく叉、カセット２の出し入れにより液面は波打ち１ミリメートルでも液面が下がると液量不足を検出し薬液追加要求信号をだし追加、即基準液面に達して停止し、これを繰り返しチャタリングを起こして制御が不安定になる不具合があり、下限センサーを設けて対応する方法もあるが、複雑な構成にせず、タイマーを用いてセンサー５の検出信号発生後、指定時間例えば５分後に薬液供給信号を出し、薬液供給部１１を作動させるよう工夫した制御構成としている。叉、センサー４、６は検出信号、即、洗浄装置の動作停止及び所定の警報を出力するよう制御を構成してある。上記の実施例では、液量を監視する手段をチューブから流れる気体の液中と大気との圧力差にて液面を検出する事により液量を監視するセンサーで構成したが、この機構に限定するものでなく、例えば浮きを液中に入れこの浮きの上下動作をマイクロスイッチを用いて検出しても同様の効果を得る事ができる。
　［発明の効果］
　以上述べてきたようにこの実施例によれば処理槽内の液量を監視する手段を具備した事により自動的に工程処理をするために、人の視覚判断による確認作業。給液、追加、排液等の直接作業が無くなり液量不足による不良、ポカミスによる液槽の焼損、危険な薬液を直接処理する作業が不用となり、安定した稼働と信頼性の向上が可能となる。叉、肉体的、精神的苦痛もなくなり労働環境、安全性も向上する事ができる。
【図面の簡単な説明】
　第１図は本発明による処理槽の断面図。
　第２図は本発明の処理層を各々処理工程に構成し搭載した自動洗浄装置の外観図。
　符号の説明
　１・・・ウェーハー
　２・・・カセット
　３・・・処理槽
　４・・・センサー
　５・・・センサー
　６・・・センサー
　７・・・ヒーター
　８・・・浸漬装置部
　９・・・センサー制御部
１０・・・排液バルブ
１１・・・薬液供給部
１２・・・本体制御部
１３・・・薬液