【事件の表示】
　特許第３１３３７３５号「回転式塗布装置」の請求項１ないし５に係る特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結　論】
　訂正を認める。
　特許第３１３３７３５号の請求項１ないし５に係る特許を維持する。
【理　由】
１．手続の経緯
　特許第３１３３７３５号の請求項１〜５に係る発明は、その出願が平成５年５月２７日に出願した特願平５−１５１５６７号の一部を平成１１年２月８日に新たに特許出願されたものであって、平成１２年１１月２４日にその特許権の設定登録がなされ、その後、永田大樹より特許異議の申立てがなされ、取消しの理由が通知され、その指定期間内である平成１３年１２月２８日に訂正請求がなされたものである。
　
２．訂正の適否についての判断
（１）訂正の内容
（ア）訂正事項ａ
　特許請求の範囲の請求項１の記載について、
「・・・前記閉じ部材には、前記ケースの前記開口を当該閉じ部材により閉じた状態のケースの内と外を連通する気流通路が形成されている・・・」とあるのを、
「・・・前記閉じ部材には、前記ケースの前記開口を当該閉じ部材により閉じた状態のケースの内の空間であって、かつ前記塗布処理空間を形成すべく結合している前記基板支持部材と前記塗布処理空間形成部材との外側の空間と、前記ケースの外を連通する気流通路が形成されており、前記開口を閉じた状態の前記閉じ部材を上昇させて前記塗布処理空間形成部材を上昇させる際には、前記閉じ部材の上昇開始時には前記塗布処理空間形成部材は前記基板支持部材との結合を維持し、その後、前記塗布処理空間形成部材が前記基板支持部材から取り外されるよう構成されている・・・」と訂正する。
（イ）訂正事項ｂ
　特許請求の範囲の請求項２の記載について、
「請求項１に記載の回転式塗布装置において、前記閉じ部材に形成される前記気流通路は、前記基板支持部材の上方において基板支持部材の回転中心側から周辺側に向って流れる気流を形成するよう、前記閉じ部材の中心近傍に設けられている・・・」とあるのを、
「基板を回転させることにより当該基板の表面に塗布液を塗布する回転式塗布装置において、基板を回転可能に支持する基板支持部材と、前記基板支持部材と結合して塗布処理空間を形成する塗布処理空間形成部材と、上部に開口を有するとともに内部を排気するための排気口が形成され、基板支持部材の周囲を囲むケースと、前記ケースに着脱可能に設けられ、前記ケースへの装着時に前記ケースの前記開口を閉じる閉じ部材と、前記閉じ部材の中心に設けられ、前記塗布処理空間形成部材と前記閉じ部材の両者を結合し、前記閉じ部材の上昇により前記塗布処理空間形成部材を上昇させる係合部とを備え、前記閉じ部材には、前記ケースの前記開口を当該閉じ部材により閉じた状態のケースの内の空間であって、かつ前記塗布処理空間を形成すべく結合している前記基板支持部材と前記塗布処理空間形成部材との外側の空間と、前記ケースの外を連通する気流通路が形成されており、前記閉じ部材に形成される前記気流通路は、前記基板支持部材の上方において基板支持部材の回転中心側から周辺側に向って流れる気流を形成するよう、前記閉じ部材の中心近傍であってかつ前記係合部近傍に設けられている・・・」と訂正する。
（ウ）訂正事項ｃ
　明細書の段落【００５０】の記載について、
「・・・【符号の税明】・・・」とあるのを、「・・・【符号の説明】・・・」と訂正する。
　
（２）訂正の目的の適否、新規事項の有無及び拡張・変更の存否
　上記訂正事項ａのうち、「前記閉じ部材には、前記ケースの前記開口を当該閉じ部材により閉じた状態のケースの内の空間であって、かつ前記塗布処理空間を形成すべく結合している前記基板支持部材と前記塗布処理空間形成部材との外側の空間と、前記ケースの外を連通する気流通路が形成されており、」とする訂正は、願書に添付された明細書の段落【０００４】の「回転台による塗布処理空間から出てケース内に回収した塗布液が霧状になって・・・かえって霧状の塗布液をケース内に閉じ込めることになってしまい」との記載、及び、段落【０００５】の「ケース内の排気を有効に行う」との記載に基づき、ケースの外と気流通路を形成する「ケースの中の空間」を、それに含まれる「ケースの内の空間であって、かつ前記塗布処理空間を形成すべく結合している前記基板支持部材と前記塗布処理空間形成部材との外側の空間」に限定するものであるから、特許請求の範囲の減縮を目的とした明細書の訂正に該当するものであり、新規事項の追加に該当しない。
　訂正事項ａのうち、「前記開口を閉じた状態の前記閉じ部材を上昇させて前記塗布処理空間形成部材を上昇させる際には、前記閉じ部材の上昇開始時には前記塗布処理空間形成部材は前記基板支持部材との結合を維持し、その後、前記塗布処理空間形成部材が前記基板支持部材から取り外されるよう構成されている」との訂正は、願書に添付された明細書の段落【０００８】の「固定支持部材１６で上部支持板４、上部回転板３を吊り下げて上方に外す際には、固定支持部材１６が上昇をはじめてから固定支持部材１６の下方側支持プレート１６ｂが上部支持板４の環状プレート３１の下面を持ち上げるまで、上部支持板４及び上部回転板３は回転台２と結合した状態である。そして、下方側支持プレート１６ｂが上部支持板４の環状プレート３１の下面に当接して持ち上げることで、上部支持板４及び上部回転板３は回転台２から取り外される。」との記載に基づき、「塗布処理空間形成部材」の構造を限定するものであるから、特許請求の範囲の減縮を目的とした明細書の訂正に該当するものであり、新規事項の追加に該当しない。
　訂正事項ｂのうち、「基板を回転させることにより当該基板の表面に塗布液を塗布する回転式塗布装置において、基板を回転可能に支持する基板支持部材と、前記基板支持部材と結合して塗布処理空間を形成する塗布処理空間形成部材と、上部に開口を有するとともに内部を排気するための排気口が形成され、基板支持部材の周囲を囲むケースと、前記ケースに着脱可能に設けられ、前記ケースへの装着時に前記ケースの前記開口を閉じる閉じ部材と、を備え、前記閉じ部材には、前記ケースの前記開口を当該閉じ部材により閉じた状態のケースの内の空間であって、かつ前記塗布処理空間を形成すべく結合している前記基板支持部材と前記塗布処理空間形成部材との外側の空間と、前記ケースの外を連通する気流通路が形成されており、」とする訂正は、請求項２を請求項１を引用する形式から請求項１を引用しない形式への変更に対応しつつ、上記訂正事項ａとの整合を図るものであるから、特許請求の範囲の減縮を目的とした明細書の訂正に該当するものであり、新規事項の追加に該当しない。
　訂正事項ｂのうち、「前記閉じ部材の中心に設けられ、前記塗布処理空間形成部材と前記閉じ部材の両者を結合し、前記閉じ部材の上昇により前記塗布処理空間形成部材を上昇させる係合部とを備え、」との訂正は、願書に添付された明細書の段落【０００９】の「固定支持部材１６には、環状プレート３１の下方に位置するように下方側支持プレート１６ｂが設けられ、下方側支持プレート１６ｂの内周面側部１６ｃの上面には、係合突起２９が設けられている。係合突起２９は筒体３２と係合可能になっている。これら、取付部材３０、環状プレート３１、筒体３２、下方側支持プレート１６ｂ、内周面側部１６ｃ、係合突起２９により係合部が構成され、・・・。上部回転板３を上方に外す際には、固定支持部材１６が上昇することにより下方側支持プレート１６ｂの内周面側部１６ｃによって環状プレート３１が下方から支持される。またこのとき、環状プレート３１に設けられた筒体３２に固定支持部材１６の下方側支持プレート１６ｂの内周面側部１６ｃに設けられた係合突起２９が嵌入することにより両者が結合して環状プレート３１は下方から支持される。これにより、上部回転板３および上部支持板４は、・・・回転台２から離脱して上昇する。」との記載の記載に基づき、「回転式塗布装置」の構成部材を付加するものであるから、特許請求の範囲の減縮を目的とした明細書の訂正に該当するものであり、新規事項の追加に該当しない。
  訂正事項ｂのうち、「気流通路は、・・・前記閉じ部材の中心近傍であってかつ前記係合部近傍に設けられている」との訂正は、願書に添付された明細書の段落【０００６】の「固定支持部材１６は、上方側支持プレート１６ａと、下方側支持プレート１６ｂと、縦部材１６ｄと、横部材１６ｅとからなる。・・・上方側支持プレート１６ａの上側の空間と下側の空間とは、縦部材１６ｄで閉じられたところを除き、図５に示すように、上方側支持プレート１６ａの側方を通じて連通している。・・・固定支持部材１６によって図１と図５に矢印で示すような気流の通路が形成される。」との記載及び図５の記載に基づき、気流通路の設けられる位置である「閉じ部材の中心近傍」を、「閉じ部材の中心近傍であってかつ前記係合部近傍」に限定するものであるから、特許請求の範囲の減縮を目的とした明細書の訂正に該当するものであり、新規事項の追加に該当しない。
　訂正事項ｃは、誤記の訂正を目的とした明細書の訂正に該当するものである。
　そしていずれの訂正事項も、実質的に特許請求の範囲を拡張又は変更するものではない。
　
（３）むすび
　以上のとおりであるから、上記訂正は、特許法等の一部を改正する法律（平成６年法律第１１６号）附則第６条第１項の規定によりなお従前の例によるとされる、特許法第１２０条の４第３項において準用する平成６年法律第１１６号による改正前の特許法第１２６条第１項ただし書き及び第２項の規定に適合するので、当該訂正を認める。
　
３．特許異議の申立てについての判断
（１）申立ての理由の概要
　申立人永田大樹は、証拠として甲第１号証（特願平３−３１２４３４号の願書に最初に添付した明細書又は図面）を提示し、請求項１〜５に係る発明は、特許法第２９条の２の規定に違反してなされ、さらに、甲第２号証（特開平４−７８４６９号公報）を提出し、請求項１〜５に係る発明は、特許法第２９条第２項の規定に違反してなされたものであるから、請求項１〜５に係る発明についての特許を取り消すべき旨主張している。
　
（２）本件発明
　上記２．で示したように上記訂正が認められるから、本件特許第３１３３７３５号の請求項１〜５に係る発明（以下それぞれを、「本件発明１」〜「本件発明５」という。）は、上記訂正請求に係る訂正明細書の請求項１〜５にそれぞれ記載された次のとおりのものであると認める。
「【請求項１】基板を回転させることにより当該基板の表面に塗布液を塗布する回転式塗布装置において、
基板を回転可能に支持する基板支持部材と、
前記基板支持部材と結合して塗布処理空間を形成する塗布処理空間形成部材と、
上部に開口を有するとともに内部を排気するための排気口が形成され、基板支持部材の周囲を囲むケースと、
前記ケースに着脱可能に設けられ、前記ケースへの装着時に前記ケースの前記開口を閉じる閉じ部材とを備え、
前記閉じ部材には、前記ケースの前記開口を当該閉じ部材により閉じた状態のケースの内の空間であって、かつ前記塗布処理空間を形成すべく結合している前記基板支持部材と前記塗布処理空間形成部材との外側の空間と、前記ケースの外を連通する気流通路が形成されており、
前記開口を閉じた状態の前記閉じ部材を上昇させて前記塗布処理空間形成部材を上昇させる際には、前記閉じ部材の上昇開始時には前記塗布処理空間形成部材は前記基板支持部材との結合を維持し、その後、前記塗布処理空間形成部材が前記基板支持部材から取り外されるよう構成されている
ことを特徴とする回転式塗布装置。
【請求項２】基板を回転させることにより当該基板の表面に塗布液を塗布する回転式塗布装置において、
基板を回転可能に支持する基板支持部材と、
前記基板支持部材と結合して塗布処理空間を形成する塗布処理空間形成部材と、
上部に開口を有するとともに内部を排気するための排気口が形成され、基板支持部材の周囲を囲むケースと、
前記ケースに着脱可能に設けられ、前記ケースへの装着時に前記ケースの前記開口を閉じる閉じ部材と、
前記閉じ部材の中心に設けられ、前記塗布処理空間形成部材と前記閉じ部材の両者を結合し、前記閉じ部材の上昇により前記塗布処理空間形成部材を上昇させる係合部とを備え、
前記閉じ部材には、前記ケースの前記開口を当該閉じ部材により閉じた状態のケースの内の空間であって、かつ前記塗布処理空間を形成すべく結合している前記基板支持部材と前記塗布処理空間形成部材との外側の空間と、前記ケースの外を連通する気流通路が形成されており、
前記閉じ部材に形成される前記気流通路は、前記基板支持部材の上方において基板支持部材の回転中心側から周辺側に向って流れる気流を形成するよう、前記閉じ部材の中心近傍であってかつ前記係合部近傍に設けられていることを特徴とする回転式塗布装置。
【請求項３】請求項１または２に記載の回転式塗布装置において、
前記ケースに形成された排気口は、前記基板支持部材の周囲端部において下降気流を形成するよう、前記基板支持部材よりも下方位置に設けられていることを特徴とする回転塗布装置。
【請求項４】請求項１〜３のいずれかに記載の回転式塗布装置において、
前記塗布処理空間形成部材は、前記基板支持部材との結合時に当該基板支持部材と共に回転可能となるよう前記閉じ部材に結合されていることを特徴とする回転式塗布装置。
【請求項５】請求項３に記載の回転式塗布装置において、
前記ケースは、前記排気口よりも上方位置において、前記ケースと前記基板支持部材の周縁部側との間隔を狭めるための部材を備えてなることを特徴とする回転式塗布装置。」
　
（３）申立ての理由１（特許法第２９条の２の規定違反）について
（３−１）先願明細書記載の発明
　特願平３ー３１２４３４号の願書に最初に添付した明細書又は図面（甲第１号証。以下、「先願明細書」という。）には、
（イ）「本発明の目的は、余剰な薬液により生じたミストを、コーティング装置外部に飛散させることなく固定カップの排気口から完全に排気すると共に、コーティング装置外部の気流の乱れを防止することにより、コーティング不良による製品の歩留り低下を引き起こさないスピン式コーティング装置を提供することである。」（段落【０００９】）、
（ロ）「スピン式コーティング装置では、図１に示すように、盤状に成型されたガラス基板等のワーク（基板）１を水平に安定に回転させるために、ワーク１の一面を真空吸着もしくはピン等により保持して一体的に回転する円盤状のワークチャック（回転板）２が、その回転軸が垂直となるように設置されている。・・・この回転するワークチャック２およびワーク１と接触せずそれら両者１・２を囲む一方、そのワークチャック２と同軸で回転する有底略円筒状の回転カップ３が設けられ、さらに、この回転カップ３の上部には、上記ワーク１を出し入れするための開口部が設けられ、その上、コーティング時の回転カップ３内の空気流の乱れによるコート面の乱れを低減するために、その開口部を開閉する回転カップ上ブタ４が、その回転カップ上ブタ４の閉時に回転カップ３の上面と当接して回転カップ３内を密閉しながら一体的に回転するように設けられている。」（段落【００１８】〜【００１９】）、
（ハ）「この回転カップ上ブタ４を、上下に移動させて開口部を開閉するために、その回転カップ上ブタ４の上面から上方にアーム５が設置され、その上、回転カップ上ブタ４の閉時に、回転カップ３の上面と当接する回転カップ上ブタ４が回転カップ３と一体的に回転できるように、回転カップ上ブタ４はアーム５に回転自在に取り付けられている。・・・回転カップ上ブタ４の開いている時、前記ワーク１のほぼセンターにフォトレジストや樹脂コート剤等の薬液を吐出するノズル（図示せず）が設けられており、また、回転カップ３には、内部の余剰な薬液を外部に排出する排出口３ａが設けられている。さらに、回転カップ３の外部には、回転カップ３と接触せず回転カップ３を囲み、回転カップ３の排出口３ａから排出された薬液を受けると共に、回転カップ３の回転時にコーティング装置外部の空気流の乱れを防止する有底略円筒状の固定カップ６が設けられている。・・・この固定カップ６の上部には、回転カップ上ブタ４と接触せず回転カップ上ブタ４を囲み、回転カップ３の回転時にコーティング装置外部の空気流の乱れを防止する無底略円筒状の上部カップ７が設けられている。さらに、この上部カップ７の上部には、回転カップ上ブタ４やアーム５と接触せず、回転カップ３の回転時にコーティング装置外部の空気流の乱れを防止する上部カップ上ブタ８が設けられている。」（段落【００２１】〜【００２３】）、
（ニ）「即ち、回転カップ３と回転カップ上ブタ４とを、固定カップ６、上部カップ７および上部カップ上ブタ８が囲み、回転カップ３の回転時にコーティング装置外部の空気流の乱れを防止する二重カップ構造になっている。・・・上記上部カップ上ブタ８には、・・・回転カップ３の回転時に、固定カップ６内で余剰な薬液により生じるミストを、上部カップ７内に飛散させないためにコーティング装置の上方から下方へエアーを送る吸気口８ａが穿設されている。・・・また、上記固定カップ６の下部には、・・・吸気口８ａから送られたエアーを外部に排出する排気口６ｂとが穿設されている。また、固定カップ６の上部内周側には、回転カップ上ブタ４が閉じている時、固定カップ６内で余剰な薬液により生じるミストを、上部カップ７内に飛散させないようにコーティング装置の上方から下方に送られているエアーの流速を速くするため、回転カップ上ブタ４との隙間を例えば１ｍｍ以下にする鍔６ｃが設けられている。」（段落【００２５】〜【００２７】）
と記載されている。
　これらの記載及び【図１】〜【図３】の記載からみて、先願明細書には、
（ｉ）ワーク（基板）１を回転させることにより当該ワーク（基板）１の表面にフォトレジストや樹脂コート剤等の薬液を塗布するスピン式コーティング装置において、
ワーク（基板）１を回転可能に支持するワークチャック（回転板）２及び回転カップ３と、
前記ワークチャック（回転板）２及び回転カップ３と結合して塗布処理空間を形成する回転カップ上ブタ４と、
上部に開口を有するとともに内部を排気するための排気口６ｂが形成され、ワークチャック（回転板）２及び回転カップ３の周囲を囲む、上部カップ７及び固定カップ６と、
前記上部カップ７及び固定カップ６に着脱可能に設けられ、前記上部カップ７及び固定カップ６への装着時に、前記上部カップ７及び固定カップ６の前記開口を閉じる上部カップ上ブタ８とを備え、
前記上部カップ上ブタ８には、前記上部カップ７及び固定カップ６の前記開口を当該上部カップ上ブタ８により閉じた状態の上部カップ７及び固定カップ６内の空間であって、かつ前記塗布処理空間を形成すべく結合している前記ワークチャック（回転板）２及び回転カップ３と前記回転カップ上ブタ４との外側の空間と、前記上部カップ７及び固定カップ６の外を連通するエアーの通路が形成され、
（ｉｉ）前記上部カップ上ブタ８に形成される前記エアーの通路は、前記ワークチャック（回転板）２及び回転カップ３の上方において、ワークチャック（回転板）２及び回転カップ３の回転中心側から周辺側に向って流れる気流を形成するよう、前記上部カップ上ブタ８の中心近傍に設けられ、
（ｉｉｉ）前記上部カップ７及び固定カップ６に形成された排気口６ｂは、前記ワークチャック（回転板）２及び回転カップ３の周囲端部において下降気流を形成するよう、前記ワークチャック（回転板）２及び回転カップ３よりも下方位置に設けられ、
（ｉｖ）前記回転カップ上ブタ４は、前記ワークチャック（回転板）２及び回転カップ３との結合時に当該ワークチャック（回転板）２及び回転カップ３と共に回転可能となるよう設けられ、
（ｖ）前記上部カップ７及び固定カップ６は、前記排気口６ｂよりも上方位置において、前記上部カップ７及び固定カップ６と、前記ワークチャック（回転板）２及び回転カップ３の周縁部側との間隔を狭めるための鍔６ｃを備えてなる、スピン式コーティング装置」の発明（以下、「先願明細書記載の発明」という。）が記載されているものと認められる。
　
（３−２）本件発明１についての対比・判断
　本件発明１と先願明細書記載の発明とを対比すると、機能、構造、設置位置等からみて、後者の「ワーク（基板）１」は前者の「基板」に、後者の「フォトレジストや樹脂コート剤等の薬液」は前者の「塗布液」に、後者の「スピン式コーティング装置」は前者の「回転式塗布装置」に、後者の「ワークチャック（回転板）２及び回転カップ３」は前者の「基板支持部材」に、後者の「回転カップ上ブタ４」は前者の「塗布処理空間形成部材」に、後者の「排気口６ｂ」は前者の「排気口」に、後者の「上部カップ７及び固定カップ６」は前者の「ケース」に、後者の「上部カップ上ブタ８」は前者の「閉じ部材」に、後者の「エアーの通路」は前者の「気流通路」に、それぞれ相当する。
　してみると、両者は、
「基板を回転させることにより当該基板の表面に塗布液を塗布する回転式塗布装置において、
基板を回転可能に支持する基板支持部材と、
前記基板支持部材と結合して塗布処理空間を形成する塗布処理空間形成部材と、
上部に開口を有するとともに内部を排気するための排気口が形成され、基板支持部材の周囲を囲むケースと、
前記ケースに着脱可能に設けられ、前記ケースへの装着時に前記ケースの前記開口を閉じる閉じ部材とを備え、
前記閉じ部材には、前記ケースの前記開口を当該閉じ部材により閉じた状態のケースの内の空間であって、かつ前記塗布処理空間を形成すべく結合している前記基板支持部材と前記塗布処理空間形成部材との外側の空間と、前記ケースの外を連通する気流通路が形成されている、回転式塗布装置」で一致するものの、以下の点で相違する。
【相違点】前者は、開口を閉じた状態の閉じ部材を上昇させて塗布処理空間形成部材を上昇させる際には、前記閉じ部材の上昇開始時には前記塗布処理空間形成部材は基板支持部材との結合を維持し、その後、前記塗布処理空間形成部材が前記基板支持部材から取り外されるよう構成されているのに対して、後者は、塗布処理空間形成部材と基板支持部材とが結合可能に構成されていない点。
　そして、上記相違点に係る本件発明１の構成は、「ケース内は気流通路からの気流により排気が行われているといえども、回転塗布終了直後にはケース内には少なからず塗布液ミストが存在しておりますので、直ちに塗布処理空間形成部材を上昇させて基板支持部材の上方を開放すると、かかるミストが基板上に落下して基板を汚染するおそれがあります。上記の限定構成を採用しますと、回転塗布終了後にまず閉じ部材が上昇してケースの上部を（と比べて）より広く開放し、より多くの気流を取り入れてケース内のミストをケースの排気口から速やかに排出できますので、その後に塗布処理空間形成部材を取り外して基板支持部材を開放しても、基板が汚染されるおそれはなく」（平成１３年１２月２８日付け意見書の第４頁８行〜１６行を参照）との技術的意義を有しているものと認められるので、上記相違点に係る本件発明１の構成を単なる設計変更事項であるとすることはできない。
　してみると、本件発明１は先願明細書記載の発明と同一である、とすることはできない。
　
（３−３）本件発明２についての対比・判断
　本件発明２と先願明細書記載の発明とを対比すると、両者は、
「基板を回転させることにより当該基板の表面に塗布液を塗布する回転式塗布装置において、
基板を回転可能に支持する基板支持部材と、
前記基板支持部材と結合して塗布処理空間を形成する塗布処理空間形成部材と、
上部に開口を有するとともに内部を排気するための排気口が形成され、基板支持部材の周囲を囲むケースと、
前記ケースに着脱可能に設けられ、前記ケースへの装着時に前記ケースの前記開口を閉じる閉じ部材とを備え、
前記閉じ部材には、前記ケースの前記開口を当該閉じ部材により閉じた状態のケースの内の空間であって、かつ前記塗布処理空間を形成すべく結合している前記基板支持部材と前記塗布処理空間形成部材との外側の空間と、前記ケースの外を連通する気流通路が形成されており、
前記閉じ部材に形成される前記気流通路は、前記基板支持部材の上方において基板支持部材の回転中心側から周辺側に向って流れる気流を形成するよう、前記閉じ部材の中心近傍に設けられている、回転式塗布装置」で一致するものの、以下の点で相違する。
【相違点】前者は、閉じ部材の中心に設けられ、塗布処理空間形成部材と前記閉じ部材の両者を結合し、前記閉じ部材の上昇により前記塗布処理空間形成部材を上昇させる係合部を備えるとともに、気流通路は前記係合部近傍に設けられているのに対して、後者は、塗布処理空間形成部材と閉じ部材の両者を結合する係合部を有していない点。
　そして、本件発明１と先願明細書記載の発明との相違点について述べたとおり、上記相違点に係る本件発明２の構成も、単なる設計変更事項であるとすることはできない。
　してみると、本件発明２は先願明細書記載の発明と同一である、とすることはできない。
　
（３−４）本件発明３〜５についての対比・判断
　本件発明３〜５は、本件発明１又は本件発明２を、さらに他の事項を付加して限定したものである。
　したがって、上記（３−２）〜（３−３）と同様の理由から、本件発明３〜５は、いずれも先願明細書記載の発明と同一である、とすることはできない。
　
（４）申立ての理由２（特許法第２９条第２項の規定違反）について
（４−１）刊行物記載の発明
　特開平４ー７８４６９号公報（甲第２号証。以下、「刊行物」という。）には、
（ホ）「塗布装置２はスピンナー装置の軸２１に取り付けられたインナーカップ２２の外側にアウターカップ２３を固設している。これらインナーカップ２２及アウターカップ２３は下面を閉じ上面を開放し、インナーカップ２２内の中央部には被処理物Ｗを吸着固定する真空チャック２４を設け・・・ている。また、アウターカップ２３内にはドレイン回収リング２６を配置している。このドレイン回収リング２６は内側壁を外側壁よりも低くして前記ドレインパイプ２５の先端を臨ませ・・・ている。また、アウターカップ２３の閉じられた下面には排気口２８が形成されている。」（第２頁右下欄２０行〜第３頁左上欄１４行）、
（へ）「アーム３０の先端には下方に伸びる軸３１を取り付け、この軸３１にはノズル孔３２を穿設し、このノズル孔３２をジョイント３３及びアーム３０内を通るホース３４を介してチッ素ガスなどの圧気源につなげている。」（第３頁右上欄１行〜５行）、
（ト）「第４図及び第５図は第２実施例を実施する塗布装置の蓋体を上げた状態と蓋体を閉じた状態の断面図であり、この実施例では蓋体３８の上方のアーム３０の先端下面にアウターカップ２３の上面開口を閉塞するための蓋体４１を固着し、塗布液を拡散塗布する際にはインナーカップ２２を蓋体３８で、アウターカップ２３を蓋体４１で同時に閉塞するようにしている。このようにすることでアウターカップ内に回収した塗布液が霧状になって外部に飛散することがなくなり、したがって、塗布後に蓋体を開けて被処理物を取り出す際に、空気中に浮遊している塗布液の固化粉体が被処理物表面に付着することを防止できる。」（第３頁左下欄２０行〜同頁右下欄１３行）、
（チ）「インナーカップ２２の回転とともにボス部３７が回転する」（第３頁右下欄２０行〜第４頁左上欄１行）
と記載されている。
　これらの記載及び第４〜５図の記載からみて、上記刊行物には、
「被処理物Ｗを回転させることにより当該被処理物Ｗの表面に塗布液を塗布するスピンナー式塗布装置２において、
（ｉ）被処理物Ｗを回転可能に支持する真空チャック２４及びインナーカップ２２と、
前記真空チャック２４及びインナーカップ２２と結合して塗布処理空間を形成する蓋体３８と、
上部に開口を有するとともに内部を排気するための排気口２８が形成され、真空チャック２４及びインナーカップ２２の周囲を囲むアウターカップ２３と、
前記アウターカップ２３に着脱可能に設けられ、前記アウターカップ２３への装着時に前記アウターカップ２３の前記開口を閉じる蓋体４１とを備え、
前記蓋体４１には、前記アウターカップの前記開口を当該蓋体４１により閉じた状態の塗布処理空間とアウターカップ２３の外を連通し、チッ素ガスなどを送るホース３４が設けられ、
前記蓋体３８の上方のアーム３０に前記蓋体４１を固着し、前記開口を閉じた状態の前記蓋体４１を上昇させて前記蓋体３８を上昇させる際には、前記蓋体３８がただちに前記真空チャック２４及びインナーカップ２２から取り外されるよう構成され、
（ｉｉ）蓋体４１に形成されるホース３４は、前記真空チャック２４及びインナーカップ２２の上方において、前記蓋体４１の中心近傍であって、上記アーム３０に設けられ、
（ｉｉｉ）前記アウターカップ２３に形成された排気口２８は、前記真空チャック２４及びインナーカップ２２よりも下方位置に設けられ、
（ｉｖ）前記蓋体３８は、前記真空チャック２４及びインナーカップ２２との結合時に、当該真空チャック２４及びインナーカップ２２と共に回転可能となるよう前記蓋体４１に結合され、
（ｖ）前記アウターカップ２３は、前記排気口２８よりも上方位置において、前記アウターカップ２３に取り付けたドレイン回収リング２６の内側壁と前記インナーカップ２２の周縁部側との間隔がドレインパイプ近傍で狭められている、スピンナー式塗布装置」の発明（以下、「刊行物記載の発明」という。）が記載されているものと認められる。
　
（４−２）本件発明１についての対比・判断
　本件発明１と刊行物記載の発明とを対比すると、機能、構造、設置位置等からみて、後者の「被処理物Ｗ」は前者の「基板」に、後者の「スピンナー式塗布装置２」は前者の「回転式塗布装置」に、後者の「真空チャック２４及びインナーカップ２２」は前者の「基板支持部材」に、後者の「蓋体３８」は前者の「塗布処理空間形成部材」に、後者の「排気口２８」は前者の「排気口」に、後者の「アウターカップ２３」は前者の「ケース」に、後者の「蓋体４１」は前者の「閉じ部材」に、それぞれ相当する。
　してみると、両者は、
「基板を回転させることにより当該基板の表面に塗布液を塗布する回転式塗布装置において、
基板を回転可能に支持する基板支持部材と、
前記基板支持部材と結合して塗布処理空間を形成する塗布処理空間形成部材と、
上部に開口を有するとともに内部を排気するための排気口が形成され、基板支持部材の周囲を囲むケースと、
前記ケースに着脱可能に設けられ、前記ケースへの装着時に前記ケースの前記開口を閉じる閉じ部材とを備え、
前記閉じ部材には、前記ケースの外に連通する気流通路が形成されており、
前記開口を閉じた状態の前記閉じ部材を上昇させて前記塗布処理空間形成部材を上昇させる際には、前記塗布処理空間形成部材が前記基板支持部材から取り外されるよう構成されている、回転式塗布装置」で一致し、以下の点で相違する。
【相違点１】気流通路が、前者では、ケースの前記開口を閉じ部材により閉じた状態のケースの内の空間であって、かつ塗布処理空間を形成すべく結合している基板支持部材と塗布処理空間形成部材との外側の空間と、前記ケースの外とを連通するものであるのに対して、後者では、塗布処理空間とケースの外とを連通するものである点。
【相違点２】前記開口を閉じた状態の前記閉じ部材を上昇させて前記塗布処理空間形成部材を上昇させる際に、前者では、前記閉じ部材の上昇開始時には前記塗布処理空間形成部材は前記基板支持部材との結合を維持し、その後、前記塗布処理空間形成部材が前記基板支持部材から取り外されるよう構成されているのに対して、後者では、塗布処理空間形成部材が、基板支持部材との結合を維持することなく、ただちに前記基板支持部材から取り外されるよう構成されている点。
　そこで、相違点１につき検討するに、本件発明１は、相違点１に係る構成を採ることにより、ケース内の排気を有効に行うことができ、霧状の塗布液が基板に付着することを有効に防止できて、汚染のない塗布処理を効率的に行えるという優れた作用効果を奏しているものと認められる（訂正明細書の段落【０００４】、【０００５】を参照）。
　してみると、相違点２について検討するまでもなく、本件発明１は、刊行物記載の発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものである、とすることはできない。
　
（４−３）本件発明２についての対比・判断
　本件発明２と刊行物記載の発明とを対比すると、後者の「蓋体３８の上方のアーム３０」には「蓋体４１」が固着されているから、上記「アーム３０」は、その構造、機能から見て、前者の「係合部」と同じく、「塗布処理空間形成部材と閉じ部材の両者を結合し、前記閉じ部材の上昇により前記塗布処理空間形成部材を上昇させる」結合部材というべきものである。
　してみると、両者は、
「基板を回転させることにより当該基板の表面に塗布液を塗布する回転式塗布装置において、
基板を回転可能に支持する基板支持部材と、
前記基板支持部材と結合して塗布処理空間を形成する塗布処理空間形成部材と、
上部に開口を有するとともに内部を排気するための排気口が形成され、基板支持部材の周囲を囲むケースと、
前記ケースに着脱可能に設けられ、前記ケースへの装着時に前記ケースの前記開口を閉じる閉じ部材と、
前記塗布処理空間形成部材と前記閉じ部材の両者を結合し、前記閉じ部材の上昇により前記塗布処理空間形成部材を上昇させる結合部材とを備え、
前記閉じ部材には、前記ケースの外に連通する気流通路が形成されており、
前記閉じ部材に形成される前記気流通路は、前記基板支持部材の上方において基板支持部材の回転中心側から周辺側に向って流れる気流を形成するよう、前記閉じ部材の中心近傍であってかつ前記結合部材近傍に設けられている、回転式塗布装置」で一致し、上記相違点１に加えて下記の点で相違する。
【相違点３】結合部材が、前者では、閉じ部材に設けられる係合部であるのに対して、後者では、塗布処理空間形成部材に設けられる固着部である点。
　してみると、本件発明２は、本件発明１と同様の理由から、刊行物記載の発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものである、とすることはできない。
　
（４−４）本件発明３〜５についての対比・判断
　本件発明３〜５は、本件発明１又は本件発明２を、さらに他の事項を付加して限定したものである。
　したがって、上記（４−２）〜（４−３）と同様の理由から、本件発明３〜５は、いずれも刊行物記載の発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものである、とすることはできない。
　
（５）むすび
　以上のとおりであるから、特許異議の申立ての理由によっては、本件発明１〜５についての特許は、拒絶の査定をしなければならない特許出願に対してされたものとは認めることができない。
　また、他に、本件発明１〜５についての特許が拒絶の査定をしなければならない特許出願に対してされたものと認めるべき理由を発見しない。
　したがって、本件発明１〜５についての特許を取り消すことはできない。
　よって、特許法等の一部を改正する法律（平成６年法律第１１６号）附則第１４条の規定に基づく、特許法等の一部を改正する法律の施行に伴う経過措置を定める政令（平成７年政令第２０５号）第４条第２項の規定により、結論のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１４年１月２２日（２００２．１．２２）
【訂正の要旨】
　訂正の要旨
（ア）訂正事項ａ
　特許請求の範囲の請求項１の記載について、
「・・・前記閉じ部材には、前記ケースの前記開口を当該閉じ部材により閉じた状態のケースの内と外を連通する気流通路が形成されている・・・」とあるのを、特許請求の範囲の減縮を目的として、
「・・・前記閉じ部材には、前記ケースの前記開口を当該閉じ部材により閉じた状態のケースの内の空間であって、かつ前記塗布処理空間を形成すべく結合している前記基板支持部材と前記塗布処理空間形成部材との外側の空間と、前記ケースの外を連通する気流通路が形成されており、前記開口を閉じた状態の前記閉じ部材を上昇させて前記塗布処理空間形成部材を上昇させる際には、前記閉じ部材の上昇開始時には前記塗布処理空間形成部材は前記基板支持部材との結合を維持し、その後、前記塗布処理空間形成部材が前記基板支持部材から取り外されるよう構成されている・・・」と訂正する。
（イ）訂正事項ｂ
　特許請求の範囲の請求項２の記載について、
「請求項１に記載の回転式塗布装置において、前記閉じ部材に形成される前記気流通路は、前記基板支持部材の上方において基板支持部材の回転中心側から周辺側に向って流れる気流を形成するよう、前記閉じ部材の中心近傍に設けられている・・・」とあるのを、特許請求の範囲の減縮を目的として、
「基板を回転させることにより当該基板の表面に塗布液を塗布する回転式塗布装置において、基板を回転可能に支持する基板支持部材と、前記基板支持部材と結合して塗布処理空間を形成する塗布処理空間形成部材と、上部に開口を有するとともに内部を排気するための排気口が形成され、基板支持部材の周囲を囲むケースと、前記ケースに着脱可能に設けられ、前記ケースへの装着時に前記ケースの前記開口を閉じる閉じ部材と、前記閉じ部材の中心に設けられ、前記塗布処理空間形成部材と前記閉じ部材の両者を結合し、前記閉じ部材の上昇により前記塗布処理空間形成部材を上昇させる係合部とを備え、前記閉じ部材には、前記ケースの前記開口を当該閉じ部材により閉じた状態のケースの内の空間であって、かつ前記塗布処理空間を形成すべく結合している前記基板支持部材と前記塗布処理空間形成部材との外側の空間と、前記ケースの外を連通する気流通路が形成されており、前記閉じ部材に形成される前記気流通路は、前記基板支持部材の上方において基板支持部材の回転中心側から周辺側に向って流れる気流を形成するよう、前記閉じ部材の中心近傍であってかつ前記係合部近傍に設けられている・・・」と訂正する。
（ウ）訂正事項ｃ
　明細書の段落【００５０】の記載について、
「・・・【符号の税明】・・・」とあるのを、誤記の訂正を目的として、「・・・【符号の説明】・・・」と訂正する。
（５４）【発明の名称】
回転式塗布装置
（５７）【特許請求の範囲】
　【請求項１】　基板を回転させることにより当該基板の表面に塗布液を塗布する回転式塗布装置において、
　基板を回転可能に支持する基板支持部材と、
　前記基板支持部材と結合して塗布処理空間を形成する塗布処理空間形成部材と、
　上部に開口を有するとともに内部を排気するための排気口が形成され、基板支持部材の周囲を囲むケースと、
　前記ケースに着脱可能に設けられ、前記ケースへの装着時に前記ケースの前記開口を閉じる閉じ部材とを備え、
　前記閉じ部材には、前記ケースの前記開口を当該閉じ部材により閉じた状態のケースの
内の空間であって、かつ前記塗布処理空間を形成すべく結合している前記基板支持部材と前記塗布処理空間形成部材との外側の空間と、前記ケースの外
ており、
　前記開口を閉じた状態の前記閉じ部材を上昇させて前記塗布処理空間形成部材を上昇させる際には、前記閉じ部材の上昇開始時には前記塗布処理空間形成部材は前記基板支持部材との結合を維持し、その後、前記塗布処理空間形成部材が前記基板支持部材から取り外されるよう構成されてい
　ことを特徴とする回転式塗布装置。
　【請求項２】　
基板を回転させることにより当該基板の表面に塗布液を塗布する回転式塗布装置において、
　基板を回転可能に支持する基板支持部材と、
　前記基板支持部材と結合して塗布処理空間を形成する塗布処理空間形成部材と、
　上部に開口を有するとともに内部を排気するための排気口が形成され、基板支持部材の周囲を囲むケースと、
　前記ケースに着脱可能に設けられ、前記ケースへの装着時に前記ケースの前記開口を閉じる閉じ部材と、
　前記閉じ部材の中心に設けられ、前記塗布処理空間形成部材と前記閉じ部材の両者を結合し、前記閉じ部材の上昇により前記塗布処理空間形成部材を上昇させる係合部とを備え、
　前記閉じ部材には、前記ケースの前記開口を当該閉じ部材により閉じた状態のケースの内の空間であって、かつ前記塗布処理空間を形成すべく結合している前記基板支持部材と前記塗布処理空間形成部材との外側の空間と、前記ケースの外を連通する気流通路が形成されており、
　前
であってかつ前記係合部近傍
　【請求項３】　請求項１または２に記載の回転式塗布装置において、
　前記ケースに形成された排気口は、前記基板支持部材の周囲端部において下降気流を形成するよう、前記基板支持部材よりも下方位置に設けられていることを特徴とする回転式塗布装置。
　【請求項４】　請求項１〜３のいずれかに記載の回転式塗布装置において、
　前記塗布処理空間形成部材は、前記基板支持部材との結合時に当該基板支持部材と共に回転可能となるよう前記閉じ部材に結合されていることを特徴とする回転式塗布装置。
　【請求項５】　請求項３に記載の回転式塗布装置において、
前記ケースは、前記排気口よりも上方位置において、前記ケースと前記基板支持部材の周縁部側との間隔を狭めるための部材を備えてなることを特徴とする回転式塗布装置。
【発明の詳細な説明】
　【０００１】
　【発明の属する技術分野】
本発明は、液晶表示パネル用のガラス基板、半導体ウエハ、半導体製造装置用のマスク基板などの基板の表面に、遠心力を利用してフォトレジスト液などの塗布液を薄膜状に塗布するために、基板を水平支持した状態で回転させる回転台と、この回転台上に支持された基板の上面に塗布液を供給する塗布液供給手段とを備えた回転式塗布装置に関する。
　【０００２】
　【０００３】
　【従来の技術】　この種の回転式塗布装置では、基板を水平に支持して回転させる回転台と、この回転台を閉じる蓋と、回転台の周囲を囲む上面開口のケースと、ケースの上面開口を閉じる蓋とを備え、ケースを閉じる蓋を回転しないように固定支持するとともに、回転台を閉じる蓋をベアリングにより回転可能に支持している。
　【０００４】
　【発明が解決しようとする課題】
　上述の従来例の場合には、回転台による塗布処理空間から出てケース内に回収した塗布液が霧状になって外部へ飛散するのを防止するために、ケースの上面開口を閉じる蓋はケース内の気密性を保つように構成されている。しかしながら、このような構成では、かえって霧状の塗布液をケース内に閉じ込めることになってしまい、基板の出し入れ等を行うためにケースの蓋や回転台の蓋を開放する際に、その霧状の塗布液が基板に付着するという不都合を引き起こすことがある。上記従来技術では、ケース内を排気口から排気するようにしても、ケースを蓋により気密にしているので霧状の塗布液をケースから有効に排出できない。
　【０００５】
　本発明はこのような事情に鑑みてなされたものであつて、ケース内の排気を有効に行うことができ、霧状の塗布液が基板に付着することを有効に防止できて、汚染のない塗布処理を効率的に行える回転式塗布装置を提供するものである。
　【０００６】
　【課題を解決するための手段】　本発明の構成と効果を、後に詳述する実施形態に基づき図面の符号を参照して説明する。
　［気流通路構造］
　本構成では、廃液回収ケース５の上部に取り付けられた筒状カバー１５上部の基板出し入れ用の開口を閉じる閉じ部材としての固定支持部材１６は、上方側支持プレート１６ａと、下方側支持プレート１６ｂと、縦部材１６ｄと、横部材１６ｅとからなる。上方側支持プレート１６ａは図４の平面図に示す形状を、下方側支持プレート１６ｂは図３の平面図に示す形状を、それぞれ有する。また、縦部材１６ｄは図３に断面で示し、また図４に示す形状を有している。そして、上方側支持プレート１６ａの上側の空間と下側の空間と
は、縦部材１６ｄで閉じられたところを除き、図５に示すように、上方側支持プレート１６ａの側方を通じて連通している。すなわち、筒状カバー１５と廃液回収ケース５の内側でかつ固定支持部材１６の下側の、回転台２が設けられている空間と、固定支持部材１６の上側空間すなわち廃液回収ケース５の外側の空間との間には、固定支持部材１６によって図１と図５に矢印で示すような気流の通路が形成される。
　［気流通路構造による効果］
　かかる構成により、塗布処理に際し、固定支持部材１６で筒状カバー１５と廃液回収ケース５を閉じた状態であっても、図１と図５に矢印で示すような気流を形成でき、筒状カバー１５や廃液回収ケース５内の塗布液が霧状になった塗布液ミストを排気口１４から円
滑に排出できる。そのため、筒状カバー１５や廃液回収ケース５内の排気を有効に行うことができ、霧状の塗布液が基板に付着することを有効に防止できて、汚染のない塗布処理を効率的に行える。しかも、排気口１４と回転台２との間には、部材５ａが設けられており、回転台２の全周にわたって排気の吸引を均一にできるようになっている。また、回転台２から見た実質的な排気口は部材５ａの下端部と廃液回収ケース５との隙間５ｂであるが、これら排気口１４や隙間５ｂを回転台２よりも十分下方に設けることで、筒状カバー１５や廃液回収ケース５内を有効に排気できる。さらに、廃液回収ケース５は回転台２の周縁部上側のリングプレート１０との間を部材５ｃによって狭めており、回転台２から廃液回収ケース５内に流出した塗布液のミストが回転台２の上面に載置される角型基板１上面に付着しにくくするとともに、回転台２周辺での気流の流速を高くし、塗布液ミストの排出をより円滑にして角型基板１への再付着を確実に防止している。また、固定支持部材１６における気流通路は、回転台２の回転中心の軸心Ｐ近傍の上方にある上方側支持プレート１６ａの側を通過するよう、回転台２の回転中心近傍に設けられているので、回転台２の回転中心側から筒状カバー１５内の空間に入って回転台２の周辺側方向に向って流れ回転台２の周辺端部から下方に向う下降気流を形成し、それにより筒状カバー１５内の空間全体をより円滑にかつ効率よく排気でき、特に回転台２よりも上方の空間を円滑に排気できて、上部支持板４及び上部回転板３を持ち上げる際などにおける角型基板１へのミスト付着防止に特に有効である。
　【０００７】
　［非接触構造］
　実施形態に記載のように、塗布処理に際しては、電動モータ７を起動して回転台２、上部支持板４、上部回転板３および角型基板１を一体に水平回転させる。このとき、図５、図６等の図面から明らかなように、回転台２、上部支持板４、上部回転板３、取付部材３０、環状プレート３１は、固定支持部材１６とは非接触状態となっており、回転台２、上部支持板４、上部回転板３は固定支持部材１６にかかわらず自由に回転できる。
　［非接触構造による効果］
　角形基板１よりも大きな上部支持板４、上部回転板３などをベアリングを用いて回転自在に支持する場合と比べ、摺動部分が少なくなるため装置の寿命やパーティクル発生量において有利であり、また大型かつ高精度なベアリングが不要となりコストにおいて有利である。また、ベアリングにより回転自在に支持する場合では、それら上部支持板４と上部回転板３を支持するベアリングの回転中心を回転台２の回転軸心Ｐに対して厳密に一致させなければ円滑な回転は得られなかったが、本構成ではそのような厳密さは不要であり、回転台２等の円滑な回転による回転塗布を低コストで実現できる。
　【０００８】
　［相対昇降構造］
　固定支持部材１６の下方側支持プレート１６ｂは、取付部材３０で互いに結合されているところの上部支持板４と環状プレート３１との間の高さに位置し、かつ取付部材３０に対して接触しない状態となっている。そして、廃液回収ケース５の上部に取り付けられた筒状カバー１５上部の基板出し入れ用の開口を閉じる固定支持部材１６と、上部支持板４とは、非接触で上下方向に相対移動可能な状態で結合されている。これにより、固定支持部材１６で上部支持板４、上部回転板３を吊り下げて上方に外す際には、固定支持部材１６が上昇をはじめてから固定支持部材１６の下方側支持プレート１６ｂが上部支持板４の環状プレート３１の下面を持ち上げるまで、上部支持板４及び上部回転板３は回転台２と結合した状態である。そして、下方側支持プレート１６ｂが上部支持板４の環状プレート３１の下面に当接して持ち上げることで、上部支持板４及び上部回転板３は回転台２から取り外される。逆に、固定支持部材１６で筒状カバー１５を閉じ、上部支持板４、上部回転板３を回転台２に結合するためにそれらを下降させる際には、上部支持板４及び上部回転板３を吊り下げた状態の固定支持部材１６が下降することで、まず、上部支持板４及び上部回転板３がその自重により回転台２と結合する。そしてその後も固定支持部材１６は下降を続け、最終的に下方側支持プレート１６ｂが上部支持板４にぶつかる手前で図１に示す状態となり、固定支持部材１６が筒状カバー１５の上面に乗ってその開口を閉じ、固定支持部材１６は停止する。そしてこのとき、上部支持板４や取付部材３０、環状プレート３１は、下方側支持プレート１６ｂとは非接触状態で回転可能となる。
　［相対昇降構造による効果］
　固定支持部材１６と、上部支持板４及び上部回転板３とを上下方向に相対移動可能とすることにより、一方（以上の実施形態では上部支持板４及び上部回転板３）が最も下方の位置（すなわち回転台２と結合した状態）に至った後も他方（以上の実施形態では固定支持部材１６）は下降を続けることができて、上部支持板４及び上部回転板３が回転台２に対して、固定支持部材１６が筒状カバー１５に対して、それぞれ確実に結合装着される。　　公知技術のように、上部支持板４及び上部回転板と固定支持部材１６との上下位置が固定されてしまっていれば、それら上部支持板４及び上部回転板と固定支持部材１６の距離や回転台２、廃液回収ケース５、筒状カバー１５などの部材の寸法精度や組み立て精度をきわめて高くする必要があり、コストが非常に高くなってしまい、かつ、温度変化や経時変化など各種要因によって寸法が少しでもずれてしまった場合には、回転台２と廃液回収ケース５の筒状カバー１５とのどちらかの閉じ状態が不完全となってしまい、不完全な結合による遊びなどに起因する気密性の低下、振動やパーティクルの発生などの問題が生じる。
　本構成では、上部支持板４及び上部回転板と固定支持部材１６の距離や回転台２、廃液回収ケース５、筒状カバー１５などの寸法精度をさほど高くしなくても、回転台２と廃液回収ケース５の筒状カバー１５との両方を確実に閉塞でき、しかも簡単な構造であるからコストも安く、しかも温度変化や経時変化など各種要因による多少の寸法変化が起きても回転台２と廃液回収ケース５の筒状カバー１５との閉塞状態には全く悪影響が生じない。
　このことは、上述したように、上部支持板４が回転台２に結合した状態では上部支持板４、上部回転板３、取付部材３０、環状プレート３１が固定支持部材１６と非接触状態になることと相俟って、装置の円滑でかつ確実な作動を低コストで実現する。
　【０００９】
　［回転方向位置決め構造］
　また、角型基板１を基板支持部材である回転台２へ載置する際には、固定支持部材１６で吊り下げて上部回転板３を上方に外す。図３、図５、図６等の図面から明らかなように、上部回転板３が連結されている上部支持板４は、その上部支持板４から上方に延びるように結合された取付部材３０を介して水平方向に延在する環状プレート３１に結合されている。環状プレート３１には筒体３２が設けられる。一方、昇降することにより回転台２に対して進退する進退部材である固定支持部材１６には、環状プレート３１の下方に位置するように下方側支持プレート１６ｂが設けられ、下方側支持プレート１６ｂの内周面側部１６ｃの上面には、係合突起２９が設けられている。係合突起２９は筒体３２と係合可能になっている。これら、取付部材３０、環状プレート３１、筒体３２、下方側支持プレー
ト１６ｂ、内周面側部１６ｃ、係合突起２９により係合部が構成され、筒体３２と係合突起２９により凹凸結合による位置決め機構が構成される。
　上部回転板３を上方に外す際には、固定支持部材１６が上昇することにより下方側支持プレート１６ｂの内周面側部１６ｃによって環状プレート３１が下方から支持される。またこのとき、環状プレート３１に設けられた筒体３２に固定支持部材１６の下方側支持プレート１６ｂの内周面側部１６ｃに設けられた係合突起２９が嵌入することにより両者が結合して環状プレート３１は下方から支持される。これにより、上部回転板３および上部支持板４は、固定支持部材１６に対して回転しないように周方向に所定位置に位置決めさ
れて相対回転不能に吊り下げ支持され、回転台２から離脱して上昇する。回転台２に上部回転板３、上部支持板４を結合する際には、固定支持部材１６が下降し、回転台２に上部回転板３、上部支持板４が自重により載置結合される。そしてさらに固定支持部材１６が下降することで、下方側支持プレート１６ｂによる環状プレート３１の支持が解除され、また係合突起２９が筒体３２から外れてそれらによる凹凸結合が解除されて、環状プレート３１の下方からの支持が解除される。かくして、上部回転板３、上部支持板４は回転台２と一体で回転自在となる。
　［回転方向位置決め構造による効果］
　公知技術のように、塗布処理空間を形成するための塗布処理空間形成部材をベアリングを用いて回転自在に支持するだけでは、角型基板１を回転台２に対して出し入れするために塗布処理空間形成部材を上昇させて回転台２との結合を解除した際に、塗布処理空間形成部材が不所望に回転してしまい、次に塗布処理空間形成部材を回転台２に対して結合しようとする際に、一定の位置に結合させることができず、確実に結合することができないおそれがある。しかし本構成では、上部回転板３と上部支持板４とからなる塗布処理空間形成部材は、上昇されて回転台２との結合が解かれた際には、周方向に位置決めされて回転不能に支持されるので、回転台２に対して常に一定位置関係を保つことができ、常に一定の位置に結合させることができ、確実に結合させることができる。これにより本構成では、回転台２のリングプレート１０と上部支持板４との着脱自在な取り付けを常に一定位置関係で確実に行うことができる。
　［回転台洗浄構造］
　各実施形態では、基板を水平支持した状態で回転させる回転台と、この回転台上に支持された基板の上面に塗布液を供給する塗布液供給手段とを備えた回転式塗布装置において、回転台の上面に向けて洗浄液を噴射する回転台洗浄手段を備えて構成した。
　［回転台洗浄構造による効果］
　基板に対する所定の回転塗布を行った後、基板の無い状態にしてから洗浄液を回転台の上面に向けて噴射し、回転台の上面に飛散して付着した塗布液を洗浄除去することができるようにすることで、基板に対する所定の回転塗布に起因して回転台の上面に付着した塗布液を洗浄除去するから、回転台の上面への塗布液付着に起因するパーティクルの発生、ならびに、付着ミストの再飛散による基板の汚染を防止でき、基板の処理品質の低下を回避できる。
　【００１０】
　【発明の実施の形態】
　次に、本発明の実施の形態を図面を用いて詳細に説明する。
　【００１１】
　図１は本発明に係る回転式塗布装置の第１実施形態の全体の概略構成を示す縦断正面図であり、角型基板１を載置する回転台２が鉛直方向の軸心Ｐ周りに水平回転可能に設けられ、その回転台２の上方に、回転台２と平行に上部回転板３が設けられるとともに、その上部回転板３が回転台２に上部支持板４を介して一体的に回転可能に取り付けられ、これら回転部材の下方及び周辺部を外から囲むように廃液回収ケース５が設けられ、前記回転台２に、縦向き回転軸としての出力軸６を介して駆動源である電動モータ７が連結されている。
　【００１２】
　回転台２は、角型基板１の外形形状より充分大きい外形円板として構成されていて、その上面に立設した多数の基板支持ピン８・・・上に角型基板１が水平に載置支持されるようになっている。また、図示しないが、回転台２上には角型基板１の四隅それぞれに一対づつの位置決めピンが設けられていて、これら位置決めピンによって角型基板１が回転台２と一体に水平回転されるようになっている。
　【００１３】
　また、回転台２の外周上面には、回転台２と同外径のスペーサリング９およびリングプレート１０が同心円線上の場所に複数箇所で連結されるとともに、このリングプレート１０に上部支持板４がノブボルト１１を介して着脱自在に取り付けられ、上部支持板４を取り外すことで、リングプレート１０の中央開口から基板１を出し入れすることができるようになっている。
　【００１４】
　前記上部回転板３は基板１の外形形状より大径の円板に構成され、上部支持板４の下面にカラー１２を介してボルト連結されている。廃液回収ケース５の底部は絞り込まれ、その下端に廃液排出口１３が形成されるとともに、周方向の複数箇所には塗布液から蒸発した溶剤ガスや塗布液ミストを排出する排気口１４が形成されている。
　【００１５】
　前記廃液回収ケース５の上部に筒状カバー１５が取り付けられ、その筒状カバー１５に固定支持部材１６が着脱可能に取り付けられている．
　【００１６】
　図２の要部の一部切欠拡大正面図、図３および図４の要部の平面図、図５の要部の側面図に示すように、上部回転板３の中央には開口１９が形成され、この開口１９の鉛直方向上方位置において、固定支持部材１６の上方側支持プレート１６ａに駆動開閉機構としての第１のエアシリンダ２０が取り付けられ、その第１のエアシリンダ２０のシリンダロツド２０ａの先端にブロック２１が取り付けられるとともに、ブロック２１に相対昇降および相対回転可能に有底筒状の蓋１７が吊り下げ保持されている。
　【００１７】
　また、ブロック２１の下面に第１の磁石２２が付設され、一方、蓋１７の底面に、前記第１の磁石２２と同極の第２の磁石２３が付設され、蓋１７を閉じ位置に変位した状態で、ブロック２１を蓋１７と非接触状態にしたときに、反発力によって蓋１７を閉じ位置に維持できるようになっている。
　【００１８】
　したがって、第１のエアシリンダ２０の短縮により、蓋１７を開口１９の上方の開き位置に上昇変位させ、一方、第１のエアシリンダ２０の伸長により、蓋１７を下降して開口１９に嵌入する閉じ位置に変位し、開口１９を閉じながら蓋１７のみを上部回転板３と一体回転できるようになっている。
　【００１９】
　上方側支持プレート１６ａの第１のエアシリンダ２０の横側方に、鉛直方向の軸芯周りで９０゜の範囲で回転可能な第２のエアシリンダ２４が設けられるとともに、その第２のエアシリンダ２４のシリンダロツド２４ａにスプライン軸２５が連結されている。スプライン軸２５に昇降のみ可能にスプライン筒２６が取り付けられるとともに、スプライン筒２６に回転のみ可能に回転筒２７が取り付けられている。スプライン筒２６に洗浄ノズル１８が一体的に取り付けられるとともに、上方側支持プレート１６ａの第２のエアシリンダ２４の横側方下側に設けられた第３のエアシリンダ２８のシリンダロツド２８ａに回転筒２７が連結されている。図示しないが、洗浄ノズル１８には、洗浄液圧送機構に接続された配管が接続されている。上述の構成により、回転台２の上面に向けて洗浄液を噴出する回転台洗浄手段が構成されている。
　【００２０】
　上記構成により、蓋１７が閉じ位置にある非洗浄状態では、洗浄ノズル１８を開口１９の上方よりも外れた非洗浄位置に位置きせておき、そして、蓋１７が開き位置にある洗浄状態では、第２のエアシリンダ２４により回転して洗浄ノズル１８を開口１９の上方箇所に位置させた後に、第３のエアシリンダ２８を伸長して洗浄ノズル１８を下降させ、その吹き出し口１８ａから回転台２の上面に向けて洗浄液を噴出する洗浄位置に変位できるようになっている。上記洗浄ノズル１８を洗浄位置と非洗浄位置とに駆動変位させるための第２および第３のエアシリンダ２４、２８から成る構成をして駆動機構と総称する。
　【００２１】
　固定支持部材１６の下方側支持プレート１６ｂは環状に形成され、その内周面側に寄った上面の周方向所定の４箇所それぞれに、山形状の係合突起２９が設けられ、一方、下方側支持プレート１８ｂよりも上方に位置するように、上部支持板４に取付部材３０・・・を介して環状プレート３１が取り付けられるとともに、その環状プレート３１の周方向所定の４箇所それぞれに、係合突起２９を嵌入する筒体３２が設けられ、前記上部回転板３を着脱する際に、係合突起２９・・・を筒体３２・・・に嵌入することにより、固定支持部材１６で吊り下げることができるように構成されている。
　【００２２】
　以上の構成により、先ず、塗布処理に際しては、固定支持部材１６を筒状カバー１５から取り外すとともに上部支持板４を回転台２から取り外し、固定支持部材１６で吊り下げて上部回転板３を上方に外して角型基板１を回転台２の基板支持ピン８・・・上に所定の姿勢で載置する。
　【００２３】
　次に、図示しない塗布液供給手段としての塗布液供給ノズルを角型基板１の中央上方に移動させ、所定量の塗布液を滴下供給する。その後、固定支持部材１６で吊り下げて上部支持板４を搬入し、上部支持板４をリングプレート１０上に、そして、固定支持部材１６を筒状カバー１５上にそれぞれ取り付け、図６の要部の正面図に示すように、第１のエアシリンダ２０を伸長して蓋１７を駆動変位し、上部回転板ａの開口１９を閉じておくとともに洗浄ノズル１８を非洗浄位置に変位しておく。
　【００２４】
　その後、電動モータ７を起動して回転台２、上部支持板４、上部回転板３および角型基板１を一体に水平回転させる。この回転によって角型基板１上の塗布液は遠心力によって外方に拡散流動して角型基板１上面に薄く塗布される。この場合、回転台２と上部回転板３との間に形成された偏平な塗布処理空間Ｓの空気層も一体に回転し、角型基板１上に気流が発生しない状態で塗布液の拡散流動が行われる。
　【００２５】
　角型基板１上を流動して外周に到達した余剰塗布液は角型基板１の周縁から流出し、塗布処理空間Ｓの外周全域から飛散してゆく。そして、飛散した塗布液はスペーサリング９の上下に形成されている間隙を通って廃液回収ケース５内に流出して回収される。
　【００２６】
　所定回数の回転塗布処理が行われると、固定支持部材１６を筒状カバー１５から取り外すとともに上部支持板４を回転台２から取り外し、固定支持部材１６で吊り下げて上部回転板３を上方に外して角型基板１を取り出してから、上部支持板４をリングプレート１０上に、そして、固定支持部材１６を筒状カバー１５上にそれぞれ取り付け、その後に、第１のエアシリンダ２０を短縮して蓋１７を開き位置に駆動変位する。
　【００２７】
　しかる後、第２のエアシリンダ２４を作動して洗浄ノズル１８を開口１９の上方位置まで回転変位し、その状態から第３のエアシリンダ２８を伸長して洗浄ノズル１８を下降させ、開口１９を通じて、図５に示すように、上部回転板３の下方の洗浄位置まで変位する。その状態で、電動モータ７を起動して回転台２、上部支持板４、上部回転板３を一体に水平回転させながら、洗浄ノズル１８から回転台２の上面に洗浄液を噴出供給し、遠心力を利用して、回転台２の上面に付着した塗布液のミストを洗浄除去する。
　【００２８】
　図７は、本発明に係る回転式塗布装置の第２実施形態を示す全体概略正面図であり、第１実施例と異なるところは次の通りである。
　【００２９】
　回転台２の回転軸２ａの下端と電動モータ３３の駆動軸３３ａの上端とがベルト式伝動機構３４を介して連動連結されるとともに、回転台２の回転軸２ａに、その回転軸芯を通る貫通孔３５が形成され、その貫通孔３５内に、上端に洗浄ノズル３６を取り付けた洗浄液パイプ３７が挿入されるとともに、洗浄ノズル３６が回転台２の上方に位置されて固定状態で設けられ、回転台２の上面に向けて洗浄液を噴出するように回転台洗浄手段が構成されている。他の構成は第１実施形態と同様であり、同一図番を付すことにより、その説明を省略する。
　【００３０】
　図８は、本発明に係る回転式塗布装置の第３実施形態を示す全体概略正面図であり、第１実施形態と異なるところは次の通りである。
　【００３１】
　回転台２の周囲の固定フレーム１５ａ上の所定箇所に、支持ブラケット３８を介して洗浄ノズル３９が取り付けられ、上部回転板３を取り外した状態で回転台２の上面に向けて洗浄液を噴出するように回転台洗浄手段が構成されている。他の構成は第１実施形態と同様であり、同一図番を付すことにより、その説明を省略する。
　【００３２】
　本発明としては、角型基板１に限らず円形基板の回転式塗布装置にも適用できる。
　【００３３】
　【００３４】
　【００３５】
　【００３６】
　【００３７】
　【００３８】
　【００３９】
　【００４０】
　【００４１】
　【００４２】
　【００４３】
　【００４４】
　【００４５】
　【００４６】
　【００４７】
　【００４８】
　【００４９】
　【００５０】
　【発明の効果】
　以上の説明から明らかなように、本発明に係る発明の回転式塗布装置によれば、ケース内の排気を有効に行うことができ、霧状の塗布液が基板に付着することを有効に防止できて、汚染のない塗布処理を効率的に行える。
【図面の簡単な説明】
　【図１】
　本発明に係る回転式塗布装置の第１実施形態の全体の概略構成を示す縦断正面図である。
　【図２】
要部の拡大正面図である。
　【図３】
要部の平面図である。
　【図４】
要部の平面図である。
　【図５】
要部の側面図である。
　【図６】
回転塗布状態を示す要部の正面図である。
　【図７】
本発明に係る回転式塗布装置の第２実施形態を示す全体概略正面図である。
　【図８】
本発明に係る回転式塗布装置の第３実施形態を示す全体概略正面図である。
　【符号の
説
　　１・・・角型基板
　　２・・・回転台
　　３・・・上部回転板
　　４・・・上部支持板
　　５・・・廃液回収ケース
　１５・・・筒状カバー
　１６・・・固定支持部材