【事件の表示】
　特許第３１２０３１５号「処理装置」の請求項１ないし７に係る特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結　論】
　特許第３１２０３１５号の請求項１、６に係る特許を取り消す。
　同請求項２ないし５、７に係る特許を維持する。
【理　由】
１．手続きの経緯
　特許第３１２０３１５号の請求項１ないし７に係る発明についての出願は、平成５年４月２３日に特許出願され、平成１２年１０月２０日にその発明について特許の設定登録がなされた後、平成１３年６月２５日付けで特許異議申立人泉和武より請求項１ないし７に係る特許に対する特許異議の申立てがなされ、平成１３年９月２５日付けで請求項１及び６に係る特許に対する取消理由通知がなされ、平成１３年１１月１９日付けで訂正請求がなされたが、平成１３年１２月６日付けで訂正拒絶理由通知がなされ、平成１４年１月２１日付けで訂正請求は取り下げられた。
　
２．特許異議申立てについての判断
　
２−１　本件発明
　特許第３１２０３１５号の請求項１ないし７に係る発明は、その特許請求の範囲の請求項１ないし７に記載された次の事項により特定されるとおりのものである。
　
【請求項１】 未処理及び処理済みの被処理体を搬入・搬出手段にて搬送する搬入・搬出機構と、搬送手段によって被処理体を適宜処理部に搬送して処理する処理機構ユニットとを具備する処理装置において、上記被処理体にイオンを照射するイオン照射手段と、イオンの極性の選択及びイオン照射量を調整する制御部とを具備すると共に、イオン照射手段から生成されるイオンを被処理体側へ流通させる送風手段を具備することを特徴とする処理装置。
【請求項２】 イオン照射手段を、搬入・搬出機構と処理機構ユニットとの間で被処理体の受渡しを司る中継位置の上方に配置したことを特徴とする請求項１記載の処理装置。
【請求項３】 イオン照射手段を、搬入・搬出手段の移動領域又は搬送手段の移動領域の少なくとも一方に配置したことを特徴とする請求項１記載の処理装置。
【請求項４】 イオン照射手段を、処理部の上方に配置したことを特徴とする請求項１記載の処理装置。
【請求項５】 イオン照射手段を、被処理体を適宜間隔をおいて多段状に収容する被処理体収容部の側方に配置して、このイオン照射手段から生成されるイオンを上記被処理体側へ流通させることを特徴とする請求項１記載の処理装置。
【請求項６】 被処理体の帯電の有無、帯電量を検出する検出手段を設け、この検出手段からの検出信号を制御部に伝達することを特徴とする請求項１記載の処理装置。
【請求項７】 未処理及び処理済みの被処理体を搬入・搬出手段にて搬送する搬入・搬出機構と、搬送手段によって被処理体を適宜処理部に搬送して処理する処理機構ユニットとを具備する処理装置において、上記搬入・搬出手段及び搬送手段に、上記被処理体を保持して、被処理体を水平、垂直及び回転方向に移動可能なアームを具備し、上記搬入・搬出手段の移動領域又は搬送手段の移動領域の少なくとも一方に、上記被処理体にイオンを照射するイオン照射手段を具備すると共に、イオン照射手段から生成されるイオンを被処理体側へ流通させる送風手段を更に具備することを特徴とする処理装置。
　
２−２　異議申立ての理由の概要  　
　異議申立人泉和武は、証拠として甲第１号証（特開平４−１３７５２６号公報）、甲第２号証（特開平４−２４９１５号公報）、甲第３号証（ＮＩＫＫＥＩ　ＭＩＣＲＯＤＥＶＩＣＥＳ　１９９０年　１２月号）、甲第４号証（ＮＩＫＫＥＩ　ＭＩＣＲＯＤＥＶＩＣＥＳ　１９９１年　　７月号）、甲第５号証（静電気学会誌　第７巻　第６号　１９８３年）を提出し、請求項１ないし７に係る発明の特許は特許法第２９条第２項の規定に違反してなされたものであるから、請求項１ないし７に係る発明の特許を取り消すべき旨主張している。
　
２−３　引用刊行物に記載された発明
　
（ア）当審が平成１３年９月２５日付けで通知した取消しの理由で引用した引用刊行物
　刊行物１：特開平４−１３７５２６号公報（甲第１号証）
　刊行物２：特開平４−　２４９１５号公報（甲第２号証）
　刊行物３：ＮＩＫＫＥＩ　ＭＩＣＲＯＤＥＶＩＣＥＳ　１９９０年　１２月号
　　　　　　（甲第３号証）
　刊行物４：ＮＩＫＫＥＩ　ＭＩＣＲＯＤＥＶＩＣＥＳ　１９９１年　　７月号
　　　　　　（甲第４号証）
　刊行物５：静電気学会誌　第７巻　第６号　　　　　　１９８３年　　
　　　　　　（甲第５号証）
　
（イ）引用刊行物に記載の事項
  上記刊行物１には、
（１）「この筐体１内の熱処理炉２の下部には、被処理物である半導体ウエハ（図示せず）を載置されたウエハボート３を熱処理炉２内にロード・アンロードするための上下動機構（ボートエレベータ）４が設けられている。
　一方、上記筐体１の前面には、図示しないドアを備えた開口部５が設けられており、ここから筐体１内に被処理物である半導体ウエハ（図示せず）を収容したウエハカセット６を搬入・搬出可能に構成されている。
　すなわち、本実施例の場合、この開口部５には、一度に２つのウエハカセット６をほぼ水平な状態（半導体ウエハが垂直な状態）に載置可能に構成されたキャリアＩＯポート７が設けられており、キャリアＩＯポート７の後方には、ウエハカセット６を搬送するためのキャリアトランスファ８が設けられている。」（第２頁右下欄第１２行〜第３頁左上欄第９行）
（２）「また、上記キャリアトランスファ８の後方には、上部にキャリアステージ９，下部にトランスファステージ１０が設けられており、トランスファステージ１０の後方には半導体ウエハの移載を行うウエハトランスファ１１が設けられている。このキャリアステージ９は、棚状に複数例えば８つのウエハカセット６を収容可能に構成されており、筐体１内に搬入されたウエハカセット６を一時的に収容するものである。一方、トランスファステージ１０は、例えば２つのウエハカセット６を正確に位置決めした状態で収容可能に構成されており、このトランスファステージ１０に収容したウエハカセット６と、ボートエレベータ４上に設けられたウエハボート３との間で、ウエハトランスファ１１により半導体ウエハの移載を行うよう構成されている。
　さらに、第１図に示すように、筐体１のボートエレベータ４およびウエハトランスファ１１側方（筐体１の前から見て左側）には、２つのメンテナンス用ドア１２が設けられている。このメンテナンス用ドア１２には、第３図に示すように、それぞれ送風用ファン１３と、塵埃除去用フィルタ１４が内蔵されており、下部から取り入れた空気を清浄化し、内側面ほぼ全面から清浄化空気を送出するよう構成されている。また、これらのメンテナンス用ドア１２に対向する如く、筐体１の反対側（筐体１の前から見て右側）側部には、排気部１５が設けられており、メンテナンス用ドア１２から送られてきた気体流を、筐体１後部に排出（一部床下に再循環）するよう構成されている。
　そして、第１図に矢印で示すように、筐体１の天井部開口１６から筐体１内に取り込んだ空気を、上部から下部に向けて、キャリアステージ９、キャリアトランスファ８、キャリアＩＯポート７の順で通過させ、一旦床下部に取り込んだ後、ボートエレベータ４、ウエハトランスファ１１およびトランスファステージ１０を通過させる如く、メンテナンス用ドア１２から排気部１５に向かう（筐体１の前から見て左から右に向かう）清浄化気体流を形成するよう構成されている。」（３頁右上欄第１行〜同左下欄第２０行）
が記載されている。
　
　上記刊行物２には、
（１）「第１図に示すように、塗布・現像装置１には、半導体のウエハ２にフォトレジストの塗布、現像処理等を施す塗布・現像処理部３が設けられており、この塗布・現像処理部３の側方には、複数枚（例えば２５枚）の半導体ウエハ２を収容可能に構成されたウエハカセット４が複数個配置されるカセットステーション５が設けられている。
　上記塗布・現像処理部３には、例えば半導体ウエハ２にフォトレジストを滴下し、この後、半導体ウエハ２を高速回転させて半導体ウエハ２全面に均一にフォトレジストを拡散させるスピンコーティング装置、例えばホットプレート等により半導体ウエハ２を加熱処理するベーキング装置、例えばパドル現像等により露光されたフォトレジストを現像処理する現像装置等の処理機器６ａ〜６ｈが設けられている。また、この塗布・現像処理部３の中央部には、上記処理機器６ａ〜６ｈの間で半導体ウエハ２の搬送を行う搬送機構７が設けられている。この搬送機構７は、円弧状に形成されたウエハピンセット７ａで半導体ウエハ２裏面の周縁部を支持し、後述するバッファーステーション１０から各処理機器６ａ〜６ｈに順次搬送し、処理の終了した半導体ウエハ２を最後にバッファーステーション１０へ搬送する如く構成されている。
　一方、上記カセットステーション５には、ウエハカセット４を昇降させるカセットエレベータ　（図示せず）が複数例えば４つ配列されており、これらのカセットエレベータにそれぞれウエハカセット４が載置される。また、これらのウエハカセット４の前方には、ウエハ受け渡し機構が設けられている。このウエハ受け渡し機構には、半導体ウエハ２を支持する第１の基板支持機構としてのバッファーステーション１０と、半導体ウエハ２を支持し、バッファーステーション１０に受け渡しするための第２の基板支持機構としての吸着アーム １１が設けられている。
　上記吸着アーム１１は、策２図および第３図にも示すように、長板状に形成されており、その先端部上側には、真空チャックにより半導体ウエハ２を吸着保持する吸著保持部１１ａが設けられている。また、この吸着アーム１１は、図示しない駆動機構によりＸ−Ｙ−Ｚ−θ方向に移動可能に構成された移動台１２上に設けられている。そして、吸着保持部１１ａで半導体ウエハ２の裏面側ほぼ中央部を吸着保持し、各ウエハカセット４とバッファーステーション１０との間で半導体ウエハ２を搬送する如く構成されている。」（第２頁右上欄第２０行〜第３頁左上欄第７行）
が記載されている。
 
　この記載事項によると、刊行物２には、
　
【引用発明１】
「未処理及び処理済みの半導体ウエハ２（被処理体に相当。）を吸着アーム１１及び移動台１２（搬入・搬出手段に相当。）にて搬送するカッセトステーション５（搬入・搬出機構に相当。）と、搬送機構７（搬送手段に相当。）によって半導体ウエハ２を適宜処理機器６ａ〜６ｈ（処理部に相当。）に搬送して処理する塗布・現像処理部３（処理機構ユニットに相当。）とを具備する塗布・現像装置１（処理装置に相当。）。」（以下、「引用発明１」という。）及び
　
【引用発明２】
「未処理及び処理済みの半導体ウエハ２（被処理体に相当。）を吸着アーム１１及び移動台１２（搬入・搬出手段に相当。）にて搬送するカッセトステーション５（搬入・搬出機構に相当。）と、搬送機構７（搬送手段に相当。）によって半導体ウエハ２を適宜処理機器６ａ〜６ｈ（処理部に相当。）に搬送して処理する塗布・現像処理部３（処理機構ユニットに相当。）とを具備する塗布・現像装置１（処理装置に相当。）において、上記吸着アーム１１及び移動台１２（搬入・搬出手段に相当。）及び搬送機構７（搬送手段に相当。）に、上記半導体ウエハ２（被処理体に相当。）を保持して、半導体ウエハ２（被処理体に相当。）を水平、垂直及び回転方向に移動可能なウエハピンセット７ａ（アームに相当。）を具備することを特徴とする塗布・現像装置１（処理装置に相当。）処理装置。」（以下、「引用発明２」という。）
　
が記載されていると認められる。
　
　上記刊行物３には、
（１）「静電気発生による、半導体製造への影響としては主に２つの障害が考えられる。一つは物体表面が帯電した場合、浮遊粒子が静電気により付着蓄積されることである。ウエハへの粒子付着は当然問題となるわけであるが、それ以外の表面への付着についても、気流の乱れや振動といった突発的外力により、付着塵埃の再飛散を招くことから、安定した清浄度を得られない原因となる。もう一つの障害は、静電気放電による絶縁破壊や回路の断線といったデバイス破壊である。
　現在、帯電防止対策として、導電性材料を用いることにより大地との間で帯電物体の電荷を中和する方法と、イオナイザにより発生させた正負のイオンを利用し帯電物体の電荷を中和する方法の二つがある。」（第１４１頁左欄第１５行〜同中欄第８行）
（２）「つまり、ウエハの帯電はほとんど搬送系において生じており、搬送系における帯電防止対策が急がれるわけである。」（第１４２頁左欄第１６行〜同第１９行）
（３）「帯電電位を低くするためには、次の二つの方法が考えられる。
　（１）電気抵抗値を下げることによって電荷の中和を容易にする
　（２）イオンシャワーまたは電子シャワーにより電荷を中和する
（１）の電気抵抗値を下げることによる帯電防止対策は、ウエハに直接接触しないものにはかなり普及しており、クリーンルーム室内の帯電電位を数十Ｖ以内に制御することが可能となっている。一方、ウエハおよびウエハキャリアの帯電防止には、金属汚染の問題によりこの方法が使えないことから、現在、この除電にはイオンによる中和という手段が使われている。イオンは、コロナ放電により発生させている。針状放電電極に数ｋＶ〜数十ｋＶの電圧を印加することによりコロナ放電を起こすのである。」（第１４４頁左欄第４０行〜同中欄第１５行）
（４）「ウエハおよびウエハキャリア帯電防止用のイオナイザーとしては、その使用目的により２種類ある。一つは、搬送時の帯電を防止するイオナイザーで、天井面に取り付ける。もう一つは、装置内での帯電を防止するイオナイザーで、これは各装置内に内蔵して使用する。後者のものについては、スピンドライヤー用のイオナイザーが既に実用化されている。
〈天井取付タイプ：スーパークリーンイオナイザー〉
　これは、ウエハ搬送時の帯電を防止するイオナイザーで、天井のモジュールに合わせた形状となっており、ウエハ搬送エリアの天井面に取り付ける。このイオナイザーは、自己発塵および高濃度のオゾン発生が無いだけでなく、イオン極性の偏りに起因する残留電位も低く制御できる機能を備えている。高圧の放電電極と低圧の対向電極から構成されており、この対向電極の電圧（＝バイアス電圧）をコントロールすることにより、イオナイザー下流側の正負イオンのバランスを調整することが」（第１５０頁中欄第１８行〜同右欄第２１行）
（５）「このイオナイザ−による除電時間は、イオナイザー下流１ｍのところで、例えば、±５ＫＶ→ ±５０Ｖでは、約４０〜５０秒（天井吹出風速０．４ｍ／secの時）である。」（第１５２頁左欄第９行〜同第１３行）
（６）「半導体回路パターンの微細化、絶縁膜の薄膜化にともない、静電気力による浮遊粒子の付着およびESDによるデバイス破壊といった、静電気による障害がますます顕在化してくるのは確実である。この静電気問題を克服しない限り、高い製造歩留りは達成し得ないといっても過言ではない。ウエハの帯電防止方法としては、現在イオナイザーが最も有効である。しかし、従来機種では、０．１μｍ以下の超微粒子および高濃度のオゾンが電極から発生することから、４Mあるいは１６M以降においては使用できない。また、イオン濃度の偏りに原因する残留電位も非常に高く、ウエハの許容帯電電位をはるかに超えてしまう。一方、放電電極を石英で覆ったイオナイザーは、パーティクルフリー、オゾンフリーを実現し、さらに、イオンバランス調整機能を備えたことによって、従来のイオナイザーの欠点をすべて克服した。まさに、次世代の半導体製造プロセス用イオナイザーといえる。
　さらに、Open Manufacturing Systemを採用している生産現場における空気の質の重要性も指摘した。」（第１５８頁左欄第３３行〜同右欄第７行）
が記載されている。
　
　上記刊行物４には、
（１）「発生量、正負バランス制御式イオナイザ
１．ＭＯＤＥＬ−４４０シリーズ
２．イオンの発生量を制御、正負イオンのバランスを保ち帯電を±５０Ｖ以下に制御する。クリーン・ベンチ向け。イオン化部のセンサーでなく別売のセンサーを使えば帯電を±２０Ｖ以下に減らせる。
３．クリーン・ルーム全体の広い範囲に対応する製品を開発する。」（第１３７頁左上欄）
（２）「天井つり下げ型の静電気除去装置
１．オーバーヘッドエアロスタット
２．天井つり下げ型で、直流式のため広範囲の除電ができる。米国の規格「ＥＯＳ／ＥＳＤ」に対応して６００×１２００ｍｍ2の範囲を約１２秒で１０００Ｖから１００Ｖに除電できる。イオン・バランスを制御する回路を内蔵。重量は５．７ｋｇ。外形は１０６．７×１５．２×７．６ｃｍ3。」（第１３７頁中上欄）
　
　上記刊行物５には、
（１）「イオン化エアー送風機
　　　　各種製造工程での静電気発生による、製品同志の密着、ダストの付着、静電破壊　　　　の防止。
［応用］」
・エレクトロニクス
・フィルム、プラスチック製造
・光学機器　・印刷
・各種クリーンベンチ内への設置」
が記載されている。
　
２−４　対比・判断
　
（請求項１に係る発明について）　
　【請求項１に係る発明】と【引用発明１】とを対比すると、【引用発明１】における「半導体ウエハ２」、「吸着アーム１１及び移動台１２」、「カッセットステーション５」、「搬送機構７」、「処理機器６ａ〜６ｈ」、「塗布・現像処理部３」、「塗布・現像装置１」は、それぞれ、請求項１に係る発明における「被処理体」、「搬入・搬出手段」、「搬入・搬出機構」、「搬送手段」、「処理部」、「処理機構ユニット」、「処理装置」に相当するから、両者は、
【一致点】
「未処理及び処理済みの被処理体を搬入・搬出手段にて搬送する搬入・搬出機構と、搬送手段によって被処理体を適宜処理部に搬送して処理する処理機構ユニットとを具備する処理装置。」
で一致し、
【相違点１】
【請求項１に係る発明】では、被処理体にイオンを照射するイオン照射手段と、イオンの極性の選択及びイオン照射量を調整する制御部とを具備しているのに対して、【引用発明１】では、かかる手段を具備していない点
【相違点２】
【請求項１に係る発明】では、イオン照射手段から生成されるイオンを被処理体側へ流通させる送風手段を具備しているのに対して、【引用発明１】では、かかる手段を具備していない点
で相違する。
　
　そこで、【相違点１】について検討すると、
ウエハに帯電した静電気を除去するために、ウエハにイオンを照射するイオン照射手段と、イオンの極性の選択及びイオン照射量を調整する制御部とを設けることは、本願出願前周知の事項（例えば、上記刊行物３には、ウエハに帯電した静電気を除去するために、イオナイザーを装置内に内蔵すること、そして、イオナイザーには正負イオンのバランスを調整（イオンの極性の選択に相当。）できるタイプのものがあることが、上記刊行物４には、イオンの発生量を制御すること、そして、イオン・バランスを制御する回路を内蔵させることが記載されている。）であり、上記刊行物２に記載の塗布・現像装置１に、ウエハに帯電した静電気を除去するために、ウエハにイオンを照射するイオン照射手段と、イオンの極性の選択及びイオン照射量を調整する制御部とを具備させることは、当業者が容易になし得たことである。
　さらに、【相違点２】について検討すると、
上記刊行物３、５には、それぞれ、「天井吹出風速０．４ｍ／ｓｅｃ」、「イオン化エアー送風機」の記載があるように、イオナイザーには通常イオンを被処理体側へ流通させる何らかの送風手段が設けられていると認められるから、送風手段を設けることに困難性は認められない。なお、上記刊行物１には、送風手段として送風用ファン１３が記載されているから、とくにファンを用いることにも困難性は認められない。
　
（請求項６に係る発明について）
　【請求項６に係る発明】と【引用発明１】とを対比すると、両者は、
上記（請求項１に係る発明について）における【一致点】で一致し、上記【相違点１】、【相違点２】及び
【相違点３】
【請求項６に係る発明】では、被処理体の帯電の有無、帯電量を検出する検出手段を設け、この検出手段からの検出信号を制御部に伝達するように構成されているのに対して、【引用発明１】では、かかる構成を具備していない点
で相違する。
　
　【相違点１】、【相違点２】については、（請求項１に係る発明について）で検討したとおりである。
　そこで、【相違点３】について検討すると、イオナイザにおいて、センサーを設けて被処理体の帯電量を制御することは周知であり（刊行物４参照。）、帯電量の制御を被処理体の帯電量を検出するセンサーの信号により行うことも周知である（特開平４−１８１６４３号公報、実願平３−１６１９０号（実開平４−１１２４５２号）のＣＤ−ＲＯＭ参照。）。
　そうすると、【引用発明１】において、被処理体の帯電の有無、帯電量を検出する検出手段を設け、この検出手段からの検出信号を制御部に伝達するように構成することは、当業者が容易になしうることである。
　
（請求項２に係る発明について）
　【請求項２に係る発明】と【引用発明１】とを対比すると、両者は、
上記【一致点】で一致し、上記【相違点１】、【相違点２】及び
【相違点４】
　【請求項２に係る発明】では、イオン照射手段を、搬入・搬出機構と処理機構ユニットとの間で被処理体の受渡しを司る中継位置の上方に配置しているのに対して、【引用発明１】では、イオン照射手段の配置位置についての構成がない点
で相違する。
　【相違点４】について検討すると、イオン照射手段を、搬入・搬出機構と処理機構ユニットとの間で被処理体の受渡しを司る中継位置の上方に配置することについては、引用刊行物１，３〜５のいずれにも、記載も示唆もされておらず、当業者が容易になし得ることとは認められない。
　そして、請求項２に係る発明は、その技術的事項により明細書記載の効果を奏するものと認められる。
　
（請求項３に係る発明について）
　【請求項３に係る発明】と【引用発明１】とを対比すると、両者は、
上記【一致点】で一致し、上記【相違点１】、【相違点２】及び
【相違点５】
　【請求項３に係る発明】では、イオン照射手段を、搬入・搬出手段の移動領域又は搬送手段の移動領域の少なくとも一方に配置しているのに対して、【引用発明１】では、イオン照射手段の配置位置についての構成がない点
で相違する。
　【相違点５】について検討すると、イオン照射手段を、搬入・搬出手段の移動領域又は搬送手段の移動領域の少なくとも一方に配置することについては、引用刊行物１，３〜５のいずれにも、記載も示唆もされておらず、当業者が容易になし得ることとは認められない。
　そして、請求項３に係る発明は、その技術的事項により明細書記載の効果を奏するものと認められる。
　
（請求項４に係る発明について）
　【請求項４に係る発明】と【引用発明１】とを対比すると、両者は、
上記【一致点】で一致し、上記【相違点１】、【相違点２】及び
　【相違点６】
　【請求項４に係る発明】では、イオン照射手段を、処理部の上方に配置しているのに対して、【引用発明１】では、イオン照射手段の配置位置についての構成がない点
で相違する。
　【相違点６】について検討すると、イオン照射手段を、処理部の上方に配置することについては、引用刊行物１，３〜５のいずれにも、記載も示唆もされておらず、当業者が容易になし得ることとは認められない。
　そして、請求項４に係る発明は、その技術的事項により明細書記載の効果を奏するものと認められる。
　
（請求項５に係る発明について）
　【請求項５に係る発明】と【引用発明１】とを対比すると、両者は、
上記【一致点】で一致し、上記【相違点１】、【相違点２】及び
　【相違点７】
　【請求項５に係る発明】では、イオン照射手段を、被処理体を適宜間隔をおいて多段状に収容する被処理体収容部の側方に配置して、このイオン照射手段から生成されるイオンを上記被処理体側へ流通させているのに対して、【引用発明１】では、イオン照射手段の配置位置、及び、イオン照射手段から生成されるイオンを被処理体側へ流通させる構成がない点
で相違する。
　【相違点７】について検討すると、イオン照射手段を、被処理体を適宜間隔をおいて多段状に収容する被処理体収容部の側方に配置して、このイオン照射手段から生成されるイオンを上記被処理体側へ流通させることについては、引用刊行物１，３〜５のいずれにも、記載も示唆もされておらず、当業者が容易になし得ることとは認められない。
　そして、請求項５に係る発明は、その技術的事項により明細書記載の効果を奏するものと認められる。
　
（請求項７に係る発明について）
　【請求項７に係る発明】と【引用発明２】とを対比すると、両者は、
【一致点】
「未処理及び処理済みの被処理体を搬入・搬出手段にて搬送する搬入・搬出機構と、搬送手段によって被処理体を適宜処理部に搬送して処理する処理機構ユニットとを具備する処理装置において、上記搬入・搬出手段及び搬送手段に、上記被処理体を保持して、被処理体を水平、垂直及び回転方向に移動可能なアームを具備することを特徴とする処理装置。」で一致し、
上記【相違点５】、【相違点２】
で相違する。
　【相違点５】については、（請求項３に係る発明について）で検討したとおりである。
　【相違点２】については、（請求項１に係る発明について）で検討したとおりである。
　そして、請求項７に係る発明は、その技術的事項により明細書記載の効果を奏するものと認められる。
　
３．むすび
　以上のとおりであるから、本件請求項１に係る発明は、刊行物２，３，４，５，に記載された発明に基づいて、本件請求項６に係る発明は、刊行物２、３，４，５に記載された発明に基づいて、それぞれ、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、本件請求項１及び６に係る発明は、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　したがって、本件請求項１及び６に係る発明についての特許は、拒絶の査定をしなければならない特許出願に対してなされたものと認める。
　また、請求項２，３，４，５，７に係る発明についての特許は、特許異議の申立ての理由によっては取り消すことはできないし、他に請求項２，３，４，５，７に係る発明についての特許を取り消すべき理由を発見しない。
　よって、特許法等の一部を改正する法律（平成６年法律第１１６号）附則第１４条の規定に基づく、特許法等の一部を改正する法律の施行に伴う経過措置を定める制令（平成７年制令第２０５号）第４条第２項の規定により、結論のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１４年５月９日（２００２．５．９）