【事件の表示】
　特許第３００５８２８号「処理ガス供給装置」の請求項１、２に係る特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結　論】
　訂正を認める。
　特許第３００５８２８号の請求項１ないし２に係る特許を維持する。
【理　由】
［一］手続の経緯
　特許第３００５８２８号は、平成３年１２月１４日に特許出願され、平成１１年１１月２６日に登録の設定がなされ、その後、その請求項１、２に係る発明の特許に対して特許異議申立人東谷満により特許異議の申立てがなされ、取消の理由が通知され、その指定期間内である平成１３年２月１５日に訂正請求がなされたものである。
　なお、当審より平成１４年２月７日付けで特許権者及び特許異議申立人に審尋したところ、特許権者から回答書の提出があったが、特許異議申立人からは何らの応答がなかった。
　
［二］訂正の適否についての判断
１．訂正の内容
（１）訂正事項ａ
　特許請求の範囲の記載を下記のとおり訂正する。
「【請求項１】　ＨＭＤＳを液相状態で貯留するタンクと、
前記タンク内にキャリアガスを導入してＨＭＤＳを気化させ、生成したＨＭＤＳガスを第１の流量で配管を介して処理部へ供給するためのＨＭＤＳガス供給手段と、
前記配管に換気用ガスを第２の流量で供給するための換気用ガス供給手段と、
前記配管内で液滴化したＨＭＤＳを排出するための排気手段と、
前記配管の第１の管路位置に設けられ、前記換気用ガス供給手段に接続された第１の切換弁と、
前記配管の第２の管路位置に設けられ、前記排気手段に接続された第２の切換弁と
を具備することを特徴とする処理ガス供給装置。
【請求項２】　ＨＭＤＳを液相状態で貯留するタンクと、
前記タンク内にキャリアガスを導入してＨＭＤＳを気化させ、生成したＨＭＤＳガスを第１の流量で供給するためのＨＭＤＳガス供給源と、
前記ＨＭＤＳガス供給源と処理部とを接続する配管と、
前記配管に換気用ガスを第２の流量で供給するための換気用ガス供給手段と、
前記配管内で液滴化したＨＭＤＳを排出するための排気手段と、
前記配管の第１の管路位置に設けられ、前記換気用ガス供給手段に接続された第１の切換弁と、
前記配管の第２の管路位置に設けられ、前記排気手段に接続された第２の切換弁とを具備し、
前記処理部でＨＭＤＳガスを用いる処理が行われる時は前記第１および第２の切換弁がそれぞれ前記ＨＭＤＳガス供給源側および前記処理部側に切り換えられることにより前記ＨＭＤＳガス供給源と前記処理部とが前記配管を介して連通し、前記配管内で液滴化したＨＭＤＳを排出する時は前記第１および第２の切換弁がそれぞれ前記換気用ガス供給手段側および前記排気手段側に切り換えられることにより前記換気用ガス供給手段と前記排気手段とが前記配管を介して連通するように構成されたことを特徴とする処理ガス供給装置。」
　
（２）訂正事項ｂ
　明細書の段落【０００７】において、「１１４」（２箇所）を「１１６」と訂正する。
　
（３）訂正事項ｃ
　明細書の段落【０００８】において、「処理ガスが流れる配管内で発生した液滴その他のパーティクルを配管より排出・除去して、清浄な処理ガスを」とあるのを「ＨＭＤＳガス供給用の配管内に付着したＨＭＤＳの液滴を配管より排出・除去して、清浄なＨＭＤＳガスを」と訂正する。
　
（４）訂正事項ｄ
　明細書の段落【０００９】を以下のとおり訂正する。
「【０００９】
【課題を解決するための手段】
　上記の目的を達成するために、本発明の第１の処理ガス供給装置は、ＨＭＤＳを液相状態で貯留するタンクと、前記タンク内にキャリアガスを導入してＨＭＤＳを気化させ、生成したＨＭＤＳガスを第１の流量で配管を介して処理部へ供給するためのＨＭＤＳガス供給手段と、前記配管に換気用ガスを第２の流量で供給するための換気用ガス供給手段と、前記配管内で液滴化したＨＭＤＳを排出するための排気手段と、前記配管の第１の管路位置に設けられ、前記換気用ガス供給手段に接続された第１の切換弁と、前記配管の第２の管路位置に設けられ、前記排気手段に接続された第２の切換弁とを具備する構成とした。
　また、本発明の第２の処理ガス供給装置は、ＨＭＤＳを液相状態で貯留するタンクと、前記タンク内にキャリアガスを導入してＨＭＤＳを気化させ、生成したＨＭＤＳガスを第１の流量で供給するためのＨＭＤＳガス供給源と、前記ＨＭＤＳガス供給源と処理部とを接続する配管と、前記配管に換気用ガスを第２の流量で供給するための換気用ガス供給手段と、前記配管内で液滴化したＨＭＤＳを排出するための排気手段と、前記配管の第１の管路位置に設けられ、前記換気用ガス供給手段に接続された第１の切換弁と、前記配管の第２の管路位置に設けられ、前記排気手段に接続された第２の切換弁とを具備し、前記処理部でＨＭＤＳガスを用いる処理が行われる時は前記第１および第２の切換弁がそれぞれ前記ＨＭＤＳガス供給源側および前記処理部側に切り換えられることにより前記ＨＭＤＳガス供給源と前記処理部とが前記配管を介して連通し、前記配管内で液滴化したＨＭＤＳを排出する時は前記第１および第２の切換弁がそれぞれ前記換気用ガス供給手段側および前記排気手段側に切り換えられることにより前記換気用ガス供給手段と前記排気手段とが前記配管を介して連通する構成とした。」
　
（５）訂正事項ｅ
　明細書の段落【００１０】を以下のとおり訂正する。
「【００１０】
【作用】
　処理部で所定の処理が行われるとき、第１の切換弁は換気用ガス供給手段と遮断した状態、つまり第１の切換弁からみて配管の上流側の配管部と下流側の配管部とを連通接続する状態に切り換えられ、第２の切換弁は排気手段と遮断した状態、つまり第２の切換弁からみて配管の上流側の配管部と下流側の配管部とを連通接続する状態に切り換えられる。これにより、ＨＭＤＳガス供給手段（またはＨＭＤＳガス供給源）より第１の流量で与えられるＨＭＤＳガスは配管を通って処理部へ送られる。」
　
（６）訂正事項ｆ
　明細書の段落【００１１】を以下のとおり訂正する。
「【００１１】
　処理部で処理が行われない間に、配管内で液滴化しているＨＭＤＳを排出する時は、第１の切換弁は換気用ガス供給手段を配管の管路に接続した状態に切り換えられ、第２の切換弁は排気手段を配管の管路に接続した状態に切り換えられる。これによって、換気用ガス供給手段より第２の流量で与えられる換気用ガスは第１の切換弁から配管に流入して第２の切換弁側へ流れ、第２の切換弁から排気手段へ抜ける。この際、配管の内壁に付着していたＨＭＤＳの液滴は換気用ガスと一緒に排気手段へ排出される。」
　
（７）訂正事項ｇ
　明細書の段落【００１９】及び【００２０】において、「パルブ」（２箇所）を「バルブ」と訂正する。
　
（８）訂正事項ｈ
　明細書の段落【００２５】において「ＨＭＤＳ処理つき」を「ＨＭＤＳ処理につき」と訂正する。
　
（９）訂正事項ｉ
　明細書の段落【００２５】及び【００２６】において、「処理装置２２」（４箇所）を「処理容器２２」と訂正する。
　
（１０）訂正事項ｊ
　明細書の段落【００２６】の「また、この実施例ではＨＭＤＳガス供給管４０に流量計４６を設けたが、流量調整バルブ等の任意の気体装置を設けることが可能である。」を削除する。
　
（１１）訂正事項ｋ
　明細書の段落【００３０】を削除する。
　
（１２）訂正事項ｌ
　明細書の段落【００３１】を以下のとおり訂正する。
「【００３１】
【発明の効果】
　以上説明したように、本発明の処理ガス供給装置によれば、ＨＭＤＳガスを処理部へ供給する配管の所定の管路位置に第１及び第２の切換弁を設け、これら第１及び第２の切換弁を介して配管内に換気用ガスを流し、配管内に付着したＨＭＤＳの液滴を排気手段へ排出・除去するようにしたので、処理部に清浄なＨＭＤＳガスを供給することが可能であり、歩留まりの向上等をはかることができる。」
　
２．訂正の目的の可否、新規事項の有無及び拡張・変更の存否
（１）上記訂正事項ａは、請求項1、２について、処理ガスをＨＭＤＳガスに限定するとともに、ＨＭＤＳガス供給のための「ＨＭＤＳガスを液相状態で貯留するタンク」と「前記タンク内にキャリアガスを導入してＨＭＤＳを気化させ、生成したＨＭＤＳガスを第１の流量で供給するためのＨＭＤＳガス供給源」を装置の構成として明記し、さらに、換気用ガスの流量が「第２の流量」である点について訂正するものであるから、特許請求の範囲の減縮に該当する。また、上記訂正事項ｃ、ｄ、ｅ、ｆ、ｊ、ｋ、ｌは、いずれも上記訂正事項ａに係る請求項の訂正と整合を図るために、明細書の発明の詳細な説明を訂正するものであり、明りょうでない記載の釈明に該当する。
　そして、ＨＭＤＳガスについては特許明細書の実施例（【図１】、段落【００１３】）等に、処理ガス及び換気用ガスの流量については、特許明細書の段落【００２０】乃至【００２２】にそれぞれ記載されているように、これらの訂正は特許明細書に記載した事項の範囲内でなされたものであるから新規事項の追加に該当せず、また、実質的に特許請求の範囲を拡張又は変更するものでもない。
（２）上記訂正事項ｂ、ｇ、ｈ、ｉはいずれも誤記の訂正を目的としたものと認められ、その誤記が何を表現しようとしたものであったかも明確であるから、新規事項の追加に該当せず、また、実質的に特許請求の範囲を拡張又は変更するものでもない。
　
３．むすび
　したがって、上記訂正は、特許法の一部を改正する法律（平成６年法律第１１６号）附則第６条第１項の規定によりなお従前の例によるとされる、特許法第１２０条の４第３項において準用する平成６年法律第１１６号による改正前の特許法第１２６条第１項ただし書き、第２項及び第３項の規定に適合するので、当該訂正を認める。
　
［三］特許異議の申立についての判断
１．特許異議申立の理由の概要
　特許異議申立人は、（Ａ）請求項１、２に係る発明は下記甲第１号証に記載された発明であるか、同号証に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第１項第３号又は同条第２項の規定に違反してされたものであり、また、（Ｂ）請求項１、２に係る発明の特許は、その明細書が特許法第３６条第５項及び６項の規定に適合していない出願に対してなされたものであるから、取り消されるべきものである旨主張している。
　　甲第１号証：特開昭５９−８０７７７号公報
　
２．本件発明
　本件特許の請求項１、２に係る発明（以下、それぞれ「本件発明１、２」という。）は、訂正された明細書および図面の記載からみて、その特許請求の範囲の請求項１、２に記載されたとおりのものである。
　
３．引用刊行物記載の発明
　当審において平成１２年１２月５日付けで通知した取消の理由に引用した引用文献１（申立人が提出した甲第１号証）には、「ガス制御装置」に関し、以下の記載がある。
（イ）「１．真空槽内にガスを導入する装置において、真空槽とガス流量を調整する制御器との間に少なくとも一つの中間排気ポンプ系を設けることを特徴とするガス制御装置。
２．特許請求の範囲第１項において、真空槽にガスを供給する場合には中間排気ポンプ系を閉じ、真空槽にガスを供給しないときには中間排気ポンプ系を開状態とし、ガス排気を行うことを特徴とするガス制御装置。
３．特許請求の範囲第１項において、上記中間排気ポンプ系の排気速度は真空槽に接続する主排気ポンプ系と同一にすることを特徴とするガス制御装置。」（特許請求の範囲）
（ロ）「本発明の目的は真空槽にガスを供給する装置において、ガス流量あるいはガス圧力を制御するための簡単な装置構成により、より簡便で、ガス流量およびガス圧力をより短時間で安定化する装置構成を提供することにある。」（第２頁左上欄下１行−右上欄４行）
（ハ）「真空槽１にガスを供給する必要のない場合にはバルブ３を閉じバルブ１０を開とし、可変バルブ２とバルブ３および１０の間の配管部４にガスが溜まらないように排気ポンプ系５に流しており、真空槽にガス供給をする場合にバルブ１０を閉、バルブ３を開とする。バルブ１０とバルブ３の開閉のタイミングはバルブの動作機構によって差があるのであらかじめ時定数の調整をしておくのがよい。」（第２頁左下欄下２行−右下欄６行）
（ニ）「第４図はガス配管を清浄にするために可変バルブ２のバイパスバルブ１１を設けた装置構成であり、ガス源から可変バルブ２までの配管部分の不要ガスを排気清浄化するときに、処理時間が短縮できる。この場合には可変バルブ２の調整位置は固定のままでよい。」（第３頁左上欄７−１１行）
（ホ）第５図には可変バルブ２，バイパスバルブ１１を有する配管に、ガス源１３，１４、排気ポンプ系５のトラップ１５，１６がそれぞれストップバルブを介して接続された装置が示されており、「第５図はガスが高価であるとか、ポンプを劣化させる種類の場合に有効なガス配管の装置構成である。ガス源１３が高価なガスあるいは塩素系ガスや酸化性ガスのようにポンプを劣化させるガス源の場合には、排気ポンプ系５に流すガスは、できるだけ不活性で低価なガスに切り換えるのがよい。ガス源１４は上記目的の切り替えガス源で、通常Ｎ２、Ａｒガスを用いるのがよい。」（第３頁左上欄下３行−右上欄５行）と記載されている。
　
４．当審の判断
（Ａ）特許法第２９条第１項第３号、同条第２項について
（Ａ−１）本件発明１
　引用文献１の第５図における「真空槽」、「ガス源１３」、「ガス源１４」、「排気ポンプ系５とそのトラップ１５，１６」、は、それぞれ本件発明１における「処理部」、「ガス供給手段」、「換気用ガス供給手段」、「排気手段」に相当し、さらに、引用文献１におけるガス源１３，１４の供給管に設けられたストップバルブの開閉によって本件発明１の第１の切換弁と同様の機能をし、トラップ１５（１６）に設けられたストップバルブとストップバルブ３を開閉することによって第２の切換弁と同様の機能を果たしている。また、引用文献１に記載の装置において、処理ガス、換気用ガスはストップバルブの開閉操作によりそれぞれ所定の流量（本件発明１における第１、第２の流量）にて供給されるものと解される。
　してみると、引用文献１に記載の装置を本件発明１の記載振りに則って表現すると、引用文献１には、「処理ガスを配管を介して処理部へ供給するようにした装置において、第１の流量で配管を介して処理部へガスを供給するためのガス供給手段と、換気用ガスを第２の流量で供給するための換気用ガス供給手段と、配管内の不要ガスを排出するための排気手段と、ガス流量を調整する制御器と、換気用ガス供給手段に接続された第１の切換弁と、処理部と制御器との間に設けられ排気手段に接続された第２の切換弁とを具備したことを特徴とする処理ガス供給装置。」の発明（以下、「引用発明」）が記載されていると云える。
　そこで、本件発明１と引用発明とを比較すると、下記ｉ）、ｉｉ）において相違し、その余の点で一致する。
ｉ）本件発明１は、供給ガスがＨＭＤＳガスであり、配管内で液滴化したＨＭＤＳを排出するのに対し、引用発明においては供給ガスの種類及び排気清浄化時に排出される不要ガスの状態が特定されていない点、
ｉｉ）引用発明は、処理ガス或いは換気用ガス供給手段と処理部との間にガス流量を調整する制御器（第５図における可変バルブ２）を具備するのに対し、本件発明１はかかる制御器を有しない点。
　
　以下、上記相違点について検討する。
　本件発明１は、配管に設けた第１及び第２の切換弁の開閉操作によって、配管内に換気用ガスを流すことにより、配管内に付着したＨＭＤＳの液滴を排出・除去するようにしたものである。これに対して引用発明は、配管にガス流量を調整する制御器（例えば、可変バルブ）の調整位置は固定したままで配管中の不要ガス（気体）を排気できる装置あるが、配管や制御器への液滴の付着により生じる問題点、及び、この液滴の除去を想定したものではなく、かかる装置をＨＭＤＳの供給に用いた場合に、配管、特に制御器に付着するＨＭＤＳの液滴を好適に除去することは困難であると解される。
　また、本件明細書の段落番号【００２０】の記載から、供給ＨＭＤＳガスの流量はＨＭＤＳ（液相状態）貯留タンクに導入するキャリアガスの流量で調整するものと解されるから、配管部にガス流量調整のための構成は必要としない。
　そうすると、本件発明１は、上記相違点に掲げた点で、引用発明とは別異のものである。
　そして、配管内の不要ガスの排出を意図して設計された引用発明に係る技術をＨＭＤＳの供給に適用しても配管内に付着した液滴の除去が好適に行われるという効果は期待できないから、かかる適用が容易であると云うことはできない。また、制御器による流量調整の容易化を図る引用発明において、制御器を取り除いた装置構成とすることについて引用文献１に何ら示唆されておらず、また、かかる点が当業者による通常の創作能力の発揮にすぎないとする理由もない。
　したがって、本件発明１は、引用文献１に記載された発明と云うことはできず、また、引用文献１に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものとすることもできない。
　
（Ａ−２）本件発明２
　本件発明２は、本件発明１に係る装置と同等の構成を備えた装置の発明に、さらに切換弁の操作に関する技術的限定を付したものであるから、（Ａ−１）で検討した理由と同様の理由により、引用文献１に記載された発明であると云うことはできず、また、引用文献１に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものとすることもできない。
　
（Ｂ）特許法第３６条第５項及び第６項について
　特許異議申立人は、本件明細書の特許請求の範囲の記載について、「発明の詳細な説明の欄ではいわゆる「三方弁」しか開示されているにもかかわらず、請求項１、２では「切換弁」という広い表現が用いられているので」（特許異議申立書第９頁下７−５行）不当に広範な範囲を含んでいる点、さらに、かかる切換弁で如何なるガス通路が形成されるのか、処理ガス源、換気用ガス源、配管、排気手段、処理部それぞれの位置関係が明確でない点をもって特許法第３６条第５項及び第６項に規定する要件を満たさない旨主張する。
　しかしながら、本件発明１、２に係る切換弁はいずれもガス供給装置の配管に設けられ、管路を換気用ガス供給或いは排出手段と接続、遮断するためのものであり、かかる切換弁の具体的態様は当業者が当該技術分野の技術常識を考慮して所期の機能を有するものから適宜選択するものであると認められ、その好適な例として三方弁が挙げられるものである。したがって、当該「切換弁」なる用語が発明の詳細な説明の記載に比して不当に広範な技術的範囲を包含するものであるとの特許異議申立人の主張を採用することはできない。
　また、請求項１、２に記載の記載から、第１及び第２の切換弁を介して換気用ガス供給手段及び排気手段がそれぞれ管路に接続されることが明らかであり、さらに、上記切換弁及び各手段の具体的な設置位置については、当業者が当該技術分野の技術常識も考慮して設計的に決定し得る事項にすぎないものと認められるから、これら各構成の位置関係が具体的に記載されていないことをもって請求項１、２の記載が明確でないとは云えず、上記特許異議申立人の主張を採用することはできない。
　
５．むすび
　以上のとおりであるから、特許異議申立ての理由及び証拠によっては、本件発明１、２の特許を取り消すことはできない。また、他に本件発明１、２の特許を取り消すべき理由を発見しない。
　よって結論のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１４年６月１７日（２００２．６．１７）
【訂正の要旨】
訂正の要旨（特許第３００５８２８号（２０００年　異議　第７２９８６号））
１．特許請求の範囲の減縮を目的として、【特許請求の範囲】を下記のとおり訂正する。［訂正事項ａ］
「【請求項１】　ＨＭＤＳを液相状態で貯留するタンクと、
前記タンク内にキャリアガスを導入してＨＭＤＳを気化させ、生成したＨＭＤＳガスを第１の流量で配管を介して処理部へ供給するためのＨＭＤＳガス供給手段と、
前記配管に換気用ガスを第２の流量で供給するための換気用ガス供給手段と、
前記配管内で液滴化したＨＭＤＳを排出するための排気手段と、
前記配管の第１の管路位置に設けられ、前記換気用ガス供給手段に接続された第１の切換弁と、
前記配管の第２の管路位置に設けられ、前記排気手段に接続された第２の切換弁と
を具備することを特徴とする処理ガス供給装置。
　【請求項２】　ＨＭＤＳを液相状態で貯留するタンクと、
前記タンク内にキャリアガスを導入してＨＭＤＳを気化させ、生成したＨＭＤＳガスを第１の流量で供給するためのＨＭＤＳガス供給源と、
前記ＨＭＤＳガス供給源と処理部とを接続する配管と、
前記配管に換気用ガスを第２の流量で供給するための換気用ガス供給手段と、
前記配管内で液滴化したＨＭＤＳを排出するための排気手段と、
前記配管の第１の管路位置に設けられ、前記換気用ガス供給手段に接続された第１の切換弁と、
前記配管の第２の管路位置に設けられ、前記排気手段に接続された第２の切換弁とを具備し、
前記処理部でＨＭＤＳガスを用いる処理が行われる時は前記第１および第２の切換弁がそれぞれ前記ＨＭＤＳガス供給源側および前記処理部側に切り換えられることにより前記ＨＭＤＳガス供給源と前記処理部とが前記配管を介して連通し、前記配管内で液滴化したＨＭＤＳを排出する時は前記第１および第２の切換弁がそれぞれ前記換気用ガス供給手段側および前記排気手段側に切り換えられることにより前記換気用ガス供給手段と前記排気手段とが前記配管を介して連通するように構成されたことを特徴とする処理ガス供給装置。」
２．明りょうでない記載の釈明を目的として、下記のとおり訂正する。
（１）段落【０００８】において、「処理ガスが流れる配管内で発生した液滴その他のパーティクルを配管より排出・除去して、清浄な処理ガスを」とあるのを、「ＨＭＤＳガス供給用の配管内に付着したＨＭＤＳの液滴を配管より排出・除去して、清浄なＨＭＤＳガスを」と訂正する。［訂正事項ｃ］
（２）段落【０００９】を、「【課題を解決するための手段】　上記の目的を達成するために、本発明の第１の処理ガス供給装置は、ＨＭＤＳを液相状態で貯留するタンクと、前記タンク内にキャリアガスを導入してＨＭＤＳを気化させ、生成したＨＭＤＳガスを第１の流量で配管を介して処理部へ供給するためのＨＭＤＳガス供給手段と、前記配管に換気用ガスを第２の流量で供給するための換気用ガス供給手段と、前記配管内で液滴化したＨＭＤＳを排出するための排気手段と、前記配管の第１の管路位置に設けられ、前記換気用ガス供給手段に接続された第１の切換弁と、前記配管の第２の管路位置に設けられ、前記排気手段に接続された第２の切換弁とを具備する構成とした。
　また、本発明の第２の処理ガス供給装置は、ＨＭＤＳを液相状態で貯留するタンクと、前記タンク内にキャリアガスを導入してＨＭＤＳを気化させ、生成したＨＭＤＳガスを第１の流量で供給するためのＨＭＤＳガス供給源と、前記ＨＭＤＳガス供給源と処理部とを接続する配管と、前記配管に換気用ガスを第２の流量で供給するための換気用ガス供給手段と、前記配管内で液滴化したＨＭＤＳを排出するための排気手段と、前記配管の第１の管路位置に設けられ、前記換気用ガス供給手段に接続された第１の切換弁と、前記配管の第２の管路位置に設けられ、前記排気手段に接続された第２の切換弁とを具備し、前記処理部でＨＭＤＳガスを用いる処理が行われる時は前記第１および第２の切換弁がそれぞれ前記ＨＭＤＳガス供給源側および前記処理部側に切り換えられることにより前記ＨＭＤＳガス供給源と前記処理部とが前記配管を介して連通し、前記配管内で液滴化したＨＭＤＳを排出する時は前記第１および第２の切換弁がそれぞれ前記換気用ガス供給手段側および前記排気手段側に切り換えられることにより前記換気用ガス供給手段と前記排気手段とが前記配管を介して連通する構成とした。」と訂正する。［訂正事項ｄ］
（３）段落【００１０】において「ガス供給手段」を「換気用ガス供給手段」に、「処理ガス」を「ＨＭＤＳガス供給手段（またはＨＭＤＳガス供給源）より第１の流量で与えられるＨＭＤＳガス」に訂正する。［訂正事項ｅ］
（４）段落【００１１】を、「処理部で処理が行われない間に、配管内で液滴化しているＨＭＤＳを排出する時は、第１の切換弁は換気用ガス供給手段を配管の管路に接続した状態に切り換えられ、第２の切換弁は排気手段を配管の管路に接続した状態に切り換えられる。これによって、換気用ガス供給手段より第２の流量で与えられる換気用ガスは第１の切換弁から配管に流入して第２の切換弁側へ流れ、第２の切換弁から排気手段へ抜ける。この際、配管の内壁に付着していたＨＭＤＳの液滴は換気用ガスと一緒に排気手段へ排出される。」と訂正する。［訂正事項ｆ］
（５）段落【００２６】の「また、この実施例ではＨＭＤＳガス供給管４０に流量計４６を設けたが、流量調整バルブ等の任意の気体装置を設けることが可能である。」を削除する。［訂正事項ｊ］
（６）段落【００３０】を削除する。［訂正事項ｋ］
（７）段落【００３１】を、「【発明の効果】　以上説明したように、本発明の処理ガス供給装置によれば、ＨＭＤＳガスを処理部へ供給する配管の所定の管路位置に第１及び第２の切換弁を設け、これら第１及び第２の切換弁を介して配管内に換気用ガスを流し、配管内に付着したＨＭＤＳの液滴を排気手段へ排出・除去するようにしたので、処理部に清浄なＨＭＤＳガスを供給することが可能であり、歩留まりの向上等をはかることができる。」と訂正する。［訂正事項ｌ］
３．誤記の訂正を目的として、以下のとおり訂正する。
（１）段落【０００７】の「１１４」（２箇所）を「１１６」と訂正する。［訂正事項ｂ］
（２）段落【００１９】、【００２０】の「パルブ」を「バルブ」と訂正する。［訂正事項ｇ］
（３）段落【００２５】の「処理つき」を「処理につき」と訂正する。［訂正事項ｈ］
（４）段落【００２５】、【００２６】の「処理装置２２」（４箇所）を「処理容器２２」と訂正する。［訂正事項ｉ］
（５４）【発明の名称】
処理ガス供給装置
（５７）【特許請求の範囲】
　【請求項１】　
ＨＭＤＳを液相状態で貯留するタンクと、
　前記タンク内にキャリアガスを導入してＨＭＤＳを気化させ、生成したＨＭＤＳガスを第１の流量で配管を介して処理部へ供給するためのＨＭＤＳガス供給手段と、
　前記配管に
換気用
第２の流量で
　前記配管内
で液滴化したＨＭＤＳを排出
　前記配管の第１の管路位置に設けられ、前記換気用ガス供給手段に接続された第１の切換弁と、
　前記配管の第２の管路位置に設けられ、前記排気手段に接続された第２の切換弁と
を具備
する
　【請求項２】　
ＨＭＤＳを液相状態で貯留するタンクと、
　前記タンク内にキャリアガスを導入してＨＭＤＳを気化させ、生成したＨＭＤＳガスを第１の流量で供給するためのＨＭＤＳガス供給源と、
　前記ＨＭＤＳガス供給源
　前記配管に換気用ガスを
第２の流量で
　前記配管内
で液滴化したＨＭＤＳを排出
　前記配管の第１の管路位置に設けられ、前記換気用ガス供給手段に接続された第１の切換弁と、
　前記配管の第２の管路位置に設けられ、前記排気手段に接続された第２の切換弁とを具備し、
　前記処理部で
ＨＭＤＳガスを用いる処理
ＨＭＤＳ
側および
側
ＨＭＤＳガス供給源
で液滴化したＨＭＤＳを排出する時は
側
側
【発明の詳細な説明】
　【０００１】
　【産業上の利用分野】
　本発明は、処理ガスを配管を介して処理部へ供給する処理ガス供給装置に関する。
　【０００２】
　【従来の技術】
　半導体製品等の製造工程において、処理液をキャリアガス中に気相化させて処理ガスとし、この処理ガスを配管を介して処理装置に供給するようにした処理ガス供給装置が用いられている。
　【０００３】
　この種の処理液供給装置を適用した例として、図２に示すように、ヘキサメチルジシラザン（以下ＨＭＤＳという）を用いて半導体ウエハ等の被処理体の表面処理を行うＨＭＤＳ処理装置がある。このＨＭＤＳ処理装置のタンク１００においては、タンク内に処理液としてのＨＭＤＳ液が貯留されており、タンク底部に設けられたバブラー１０２にキャリアガスとして窒素ガス（Ｎ２ガス）がＮ２ガス供給管１０４より供給され、バブラー１０２より発生されるＮ２ガスの泡１０６にＨＭＤＳが気化して溶け込むようになっている。
　【０００４】
　このようにして気相化したＨＭＤＳ（ＨＭＤＳガス）は、Ｎ２ガスと共にＨＭＤＳガス供給管１０８を通って処理容器１１０へ送られ、処理容器１１０内に配置され必要に応じて加熱されている半導体ウエハ１１２に処理ガスとして吹き付けられる。これにより、半導体ウエハ１１２に対する所定の表面処理が行われ、処理後のガスは排気管１１４より排気される。
　【０００５】
　ＨＭＤＳガス供給管１０８には、ＨＭＤＳを溶解したＮ２ガスが所定の流量で流れていることを確認するためのフロート式流量計１１６が設けられている。この流量計１１６は、テーパ管内を浮遊するフロートの位置によって管内を流れるガスの流量を測定する。
　【０００６】
　【発明が解決しようとする課題】
　しかしながら、上記のようなＨＭＤＳ処理装置においては、ＨＭＤＳガスがＨＭＤＳガス供給管１０８内を流れる際に、一部が液滴化して管１０８の内壁に付着することがある。特に、キャリアガス（Ｎ２ガス）中のＨＭＤＳの濃度が高い場合や、ＨＭＤＳガスの温度と供給管の周囲の温度との温度差が大きい場合、そのようなＨＭＤＳガスの液滴化現象が発生しやすい。
　【０００７】
　このようにしてＨＭＤＳガス供給管１０８内で液滴化したＨＭＤＳがそのうち処理容器１１０内に入り込んで、半導体ウエハ１１２に付着すると、ウエハ１１２上にピンホール等を発生させ、半導体製品の歩留まり低下の原因となった。さらに、液滴化したＨＭＤＳが処理容器１１０内でウエハ加熱機構のヒータ等に触れると、発火するおそれがあった。また、ＨＭＤＳガス供給管１０８においても液滴化したＨＭＤＳが流量計１１
６
６
　【０００８】
　本発明は、かかる問題点に鑑みてなされたもので、
ＨＭＤＳガス供給用の
に付着したＨＭＤＳの液滴
ＨＭＤＳ
　【０００９】
　【課題を解決するための手段】
　上記の目的を達成するために、本発明の
第１の処理ガス供給装置は、ＨＭＤＳを液相状態で貯留するタンクと、前記タンク内にキャリアガスを導入してＨＭＤＳを気化させ、生成したＨＭＤＳガスを第１の流量で配管を介して処理部へ供給するためのＨＭＤＳガス供給手段と、
第２の流量で
で液滴化したＨＭＤＳを排出
する構成とした。
　また、
本発明の第２の処理ガス供給装置
ＨＭＤＳを液相状態で貯留するタンクと、前記タンク内にキャリアガスを導入してＨＭＤＳを気化させ、生成したＨＭＤＳガスを第１の流量で供給するためのＨＭＤＳガス供給源と、
ＨＭＤＳ
第２の流量で
で液滴化したＨＭＤＳを排出
ＨＭＤＳガスを用いる処理が行われる時は
ＨＭＤＳ
側および
側
ＨＭＤＳ
で液滴化したＨＭＤＳを排出する時は
とした。
　【００１０】
　【作用】
　処理部で所定の処理が行われるとき、第１の切換弁は
換気用
ＨＭＤＳガス供給手段（またはＨＭＤＳガス供給源）より第１の流量で与えられるＨＭＤＳガス
　【００１１】
　処理部で処理が行われない間に、
配管内で液滴化しているＨＭＤＳを排出する時は、
換気用
換気用ガス供給手段より第２の流量で与えられる
ＨＭＤＳの液滴
　【００１２】
　【実施例】
　以下、図１を参照して本発明の実施例を説明する。図１は、本発明の一実施例による処理ガス供給装置を適用したＨＭＤＳ処理装置の構成を示す。
　【００１３】
　このＨＭＤＳ処理装置において、タンク２は、ＨＭＤＳ液を貯溜する容器で、ＨＭＤＳ中への不純物の溶出を防止するために石英ガラスでできている。タンク２内の底部には、細かなＮ２ガスの気泡を発生させるための多孔質の部材からなるバブラー４が設けられており、このバブラー４にはＮ２ガスボンベ等のＮ２ガス源（図示せず）よりキャリアガスとしてのＮ２ガスを供給するＮ２ガス供給管６が接続されている。タンク２の頂部には、ＨＭＤＳを予備タンク（図示せず）からタンク２へ補給するためのＨＭＤＳ液供給管８が接続されている。タンク２の外壁には、タンク２内のＨＭＤＳ中のＮ２ガスの泡１０を計測するための超音波センサ１２，１４が取り付けられている。これらの超音波センサ１２，１４は計測回路１６に電気的に接続されている。なお、Ｎ２ガス供給管６およびＨＭＤＳ液供給管８にはそれぞれ開閉バルブ１８，２０が設けられている。
　【００１４】
　処理容器２２のチャンバ２４内には、電気ヒータ等を使用した加熱機構（図示せず）を内蔵したウエハ載置台２６が設けられ、このウエハ載置台２６上にＨＭＤＳ処理をうけるべき被処理体たとえば半導体ウエハ２８が載置される。処理容器２２の底部には処理後のガスを排気するための排気管３０が接続されている。排気管３０にはチャンバ２４内を負圧に吸引するためのエゼクタ（空気圧式真空装置）３２が設けられ、このエゼクタ３２には駆動用の圧力空気を供給する駆動空気供給管３４が接続されている。なお、排気管３０および駆動空気供給管３４には、それぞれ開閉バルブ３６，３８が設けられている。
　【００１５】
　タンク２の頂部と処理容器２２の頂部との間には、タンク２内で気相化したＨＭＤＳ（ＨＭＤＳガス）をＮ２ガスと一緒に処理容器２２へ供給するためのＨＭＤＳガス供給管４０が接続されている。ＨＭＤＳガス供給管４０には、タンク２に近い管路位置に第１の切換バルブ４２が設けられるとともに、処理装置２２に近い管路位置に第２の切換バルブ４４が設けられ、両切換バルブ４２，４４の間の管路に流量計４６が設けられている。
　【００１６】
　第１の切換バルブ４２には、Ｎ２ガス源４８より換気（パージｐｕｒｇｅ）用ガスとしてのＮ２ガスを供給するＮ２ガス供給管５０が接続されている。第１の切換バルブ４２は、手動式、電磁式または空気圧式等の適当な切換操作によって、バルブ４２からみて下流側のＨＭＤＳガス供給管部４０ａをバルブ４２からみて上流側のＨＭＤＳガス供給管部４０ｂもしくはＮ２ガス供給管５０に選択的に接続するように切り換わるようになっている。なお、Ｎ２ガス供給管５０には、圧力調整バルブ５２，流量計５４および開閉バルブ５６が設けられている。
　【００１７】
　第２の切換バルブ４４には排気管５８が接続され、この排気管５８の他端は排ガス除去装置（図示せず）に接続されている。第２の切換バルブ４４は手動式、電磁式または空気圧式等の適当な切換操作によって、バルブ４４からみて上流側のＨＭＤＳガス供給管部４０ａをバルブ４４からみて下流側のＨＭＤＳガス供給管部４０ｃもしくは排気管５８に選択的に接続するように切り換わるようになっており、ＨＭＤＳガス供給管４０内のガスを排気可能に構成されている。なお、ＨＭＤＳガス供給管４０において、第２の切換バルブ４４と処理装置２２との間の管路に開閉バルブ６０が設けられている。また、処理装置２２付近でＨＭＤＳガス供給管４０と並列に大気供給管６２が接続され、この管６２にも開閉バルブ６４が設けられている。
　【００１８】
　次に、このＨＭＤＳ処理装置の動作を説明する。搬送アーム（図示せず）により半導体ウエハ２８を処理容器２２内に搬入して載置台２６上に載置後、チャンバ２４を密閉状態にする。ＨＭＤＳ処理のためＨＭＤＳガスを処理容器２２に供給するに先立ち、開閉バルブ６０，６４を閉じ、開閉バルブ３６，３８を開いてエゼクタ３２に駆動空気供給管３４より駆動用の圧縮空気を送り、エゼクタ３２によって処理容器２２のチャンバ２４内の雰囲気を吸引排気して減圧する。
　【００１９】
　しかる後、第１の切換バルブ４２を上流側のＨＭＤＳガス供給管部４０ｂ側に切り換え、かつ第２の切換バルブ４４を下流側のＨＭＤＳガス供給管部４０ｃ側に切り換えた状態の下で、つまりＨＭＤＳガス供給管４０を介してタンク２と処理装置２２とを連通接続した状態の下で、開閉
バ
　【００２０】
　開閉
バ
　【００２１】
　次いで、ＨＭＤＳガスおよびキャリアガス（Ｎ２ガス）を所定の流量たとえば３リットル／分で処理容器２２へ供給し、通常のＨＭＤＳ処理状態とする。これにより、減圧された処理容器２２のチャンバ２４内で加熱された半導体ウエハ２８にＨＭＤＳガスが処理ガスとして吹き付けられ、半導体ウエハ２８の表面が疏水化処理される。この疏水化処理によって、後続のレジスト塗布工程におけるレジストとウエハ２８との密着性・固着性が向上する（アドヒージョンａｄｈｅｓｉｏｎ処理）。
　【００２２】
　上記のようなＨＭＤＳ処理が終了したならば、開閉バルブ６０，１８をそれぞれ閉じ、開閉バルブ６４を開いてチャンバ２４内を大気に置換後、処理済みの半導体ウエハ２８を搬出する。次に、第１の切換バルブ４２をＮ２ガス供給管５０側に切り換えるとともに、第２の切換バルブ４４を排気管５８側に切り換え、開閉バルブ５６を開く。そうすると、Ｎ２ガス供給源４８からの換気用Ｎ２ガスが所定の流量たとえば５リットル／分でＮ２ガス供給管５０より切換バルブ４２を介してＨＭＤＳガス供給管４０に流入し、流入したＮ２ガスはＨＭＤＳガス供給管４０内を第２の切換バルブ４４側に向かって流れ、第２の切換バルブ４４から排気管５８側へ抜ける。
　【００２３】
　このようにＮ２ガスが第１および第２の切換バルブ４２，４４間でＨＭＤＳガス供給管４０内を吹き抜けパージすることにより、先のＨＭＤＳ処理においてＨＭＤＳガス供給管４０あるいは流量計４６内で液滴化していたＨＭＤＳはＮ２ガスと共に排気管５８側へ排出され、ＨＭＤＳガス供給管４０から除去される。また、ＨＭＤＳガス供給管４０あるいは流量計４６内に存在していた他のパーティクルも一緒に排気管５８側へ排出・除去される。そして、ＨＭＤＳガス供給管４０の内壁および流量計４６のフロート等が浄化される。
　【００２４】
　このＨＭＤＳガス供給管４０の換気および浄化を、所定時間たとえば３０秒行ったなら、開閉バルブ５６を閉じ、両切換バルブ４２，４４を定常状態に戻す。すなわち、第１の切換バルブ４２を上流側のＨＭＤＳガス供給管部４０ｂ側に切り換えるとともに、第２の切換バルブ４２を下流側のＨＭＤＳガス供給管部４０ｃ側に切り換える。
　【００２５】
　上記のようなＨＭＤＳガス供給管４０に対する換気および浄化処理は、１回または複数回のＨＭＤＳ処理
に
容器
容器
　【００２６】
　第１および第２の切換バルブ４２，４４の配置位置は、任意に選択することが可能であるが、第１の切換バルブ４２をできるだけタンク２に近付け、第２の切換バルブ４４をできるだけ処理
容器
。また、
容器
　【００２７】
　なお、本実施例において、超音波センサ１２，１４はそれぞれ圧電材料からなる送信素子と受信素子を有している。各々の送信素子は、計測回路２０より超音波発生電圧を受けて、超音波ビームを放射する。この超音波ビームは、タンク２の外壁を通過してタンク２内へと放射され、この放射により発生する反射波は各超音波センサ１２，１４の受信素子により受信されて電気的な反射波検出信号に変換され、各々の反射波検出信号が計測回路２０に入力される。
　【００２８】
　超音波センサ１２，１４の付近にＨＭＤＳ液がないときは、超音波はタンク２内の内壁面で直ちに強く反射されるため、一定レベルの反射波検出信号が計測回路２０に与えられる。超音波センサ１２，１４の付近にＨＭＤＳ液があるときは超音波はタンク２の内壁面ではあまり反射されずＨＭＤＳ液中に放射され、ＨＭＤＳ液中のＮ２ガスの泡１０に入射すると、この泡１０で強い反射を受ける。
　【００２９】
　このように、ＨＭＤＳ液中に放射されたときの超音波の反射物体は泡１０であるから、超音波の入射方向に泡１０が存在するか否かにより計測回路２０に与えられる反射波検出信号のレベルが変動する。したがって、計測回路２０は、各反射波検出信号のレベルの変化から泡１０の有無すなわちＨＭＤＳ液の有無を判別し、タンク２内のＨＭＤＳ液の液位が所定範囲（超音波センサ１２，１４の設置位置）内にあるか否かを監視することができる。そして、液位が所定範囲内にあるように開閉バルブ２０を操作する。
　【００３０】
　【００３１】
　【発明の効果】
　以上説明したように、本発明の処理ガス供給装置によれば、
ＨＭＤＳガス
配管内に付着したＨＭＤＳの液滴を排気手段へ
ＨＭＤＳガス
【図面の簡単な説明】
　【図１】
　本発明の一実施例による処理ガス供給装置を適用したＨＭＤＳ処理装置の構成を示す図である。
　【図２】
　従来のＨＭＤＳ処理装置の構成を示す図である。
　【符号の説明】
　　２　　タンク
　　８　　ＨＭＤＳ液供給管
　２２　　処理容器
　２８　　半導体ウエハ
　４０　　ＨＭＤＳガス供給管
　４２　　第１の切換弁
　４４　　第２の切換弁
　４８　　Ｎ２ガス源
　５０　　Ｎ２ガス供給管
　５８　　排気管