(57)【要約】  隔壁の欠陥を容易に修正でき、インクジェット法によりインクを塗布する際に隣接する画素間のインクの混色を防止でき、また液晶パネルや有機ＥＬ等の表示ディスプレイの駆動に悪影響を与えることのない光学素子の製造方法の提供。  基材１に撥液性を有する隔壁２を形成する工程と、隔壁２の欠陥部３を検出する工程と、欠陥部３の周囲に位置する隔壁２の一部を除去する工程と、隔壁２を除去した箇所に撥インク剤（側鎖にポリフルオロアルキル基と二重結合を有するポリマー）を含む隔壁修正液４を塗布、硬化する工程と、隔壁２で区画された画素領域にインクジェット法によりインクを塗布し、画素を形成する工程と、を有する光学素子の製造方法。
2010013654.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
隔壁と画素の形成された基材を有する光学素子の製造方法であって、
基材に撥液性を有する隔壁を形成する工程と、
隔壁の欠陥部を検出する工程と、
欠陥部の周囲に位置する隔壁の一部を除去する工程と、
隔壁を除去した箇所に下記感光性組成物（Ｘ）を含む隔壁修正液を塗布し、感光性組成物（Ｘ）を硬化する工程と、
隔壁で区画された画素領域にインクジェット法によりインクを塗布し、画素を形成する工程と、を順に有し、
前記感光性組成物（Ｘ）が、下記式（１）で表される基または下記式（２）で表される基を有する側鎖と、エチレン性二重結合を有する側鎖と、を有する重合体（ａ）を含むことを特徴とする光学素子の製造方法。
−ＣＦＸＲｆ  （１）
式（１）中、Ｘは水素原子、フッ素原子、またはトリフルオロメチル基を示し、Ｒｆはエーテル性酸素原子を有していてもよい炭素数２０以下の水素原子の少なくとも１つがフッ素原子に置換されたアルキル基、またはフッ素原子を示す。
−（ＳｉＲ１Ｒ２Ｏ）ｎ−ＳｉＲ１Ｒ２Ｒ３  （２）
式（２）中、Ｒ１、Ｒ２は独立に水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、またはアリール基を示し、Ｒ３は水素原子または炭素数１〜１０の有機基を示し、ｎは１〜２００の整数を示す。
【請求項２】
前記隔壁が遮光性を有する、請求項１に記載の製造方法。
【請求項３】
前記重合体（ａ）のフッ素原子含有量は５〜５０質量％であり、重合体（ａ）の感光性組成物（Ｘ）中の全固形分における割合は０．０１〜３０質量％である、請求項１または２に記載の製造方法。
【請求項４】
前記重合体（ａ）の重量平均分子量が５００以上１０００００未満である、請求項１〜３のいずれかに記載の製造方法。
【請求項５】
前記撥液性を有する隔壁が、下記式（１）で表される基または下記式（２）で表される基を有する側鎖と、エチレン性二重結合を有する側鎖と、を有する重合体（ａ）を含むネガ型感光性組成物から形成される、請求項１〜４のいずれかに記載の製造方法。
−ＣＦＸＲｆ  （１）
式（１）中、Ｘは水素原子、フッ素原子、またはトリフルオロメチル基を示し、Ｒｆはエーテル性酸素原子を有していてもよい炭素数１〜２０の水素原子の少なくとも１つがフッ素原子に置換されたアルキル基、またはフッ素原子を示す。
−（ＳｉＲ１Ｒ２Ｏ）ｎ−ＳｉＲ１Ｒ２Ｒ３  （２）
式（２）中、Ｒ１、Ｒ２は独立に水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、またはアリール基を示し、Ｒ３は水素原子または炭素数１〜１０の有機基を示し、ｎは１〜２００の整数を示す。
【請求項６】
光学素子がカラーフィルタである、請求項１〜５のいずれかに記載の製造方法。
【請求項７】
光学素子が有機ＥＬ素子である、請求項１〜５のいずれかに記載の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えばインクジェット法により作製される、隔壁と画素が形成された基板を製造する方法に関する。また、本発明は、液晶表示装置等に用いられるカラーフィルタの製造方法、有機ＥＬ素子の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、カラーフィルタや有機ＥＬ素子の製造方法としてインクジェット法を利用した低コスト化プロセスが提案されている。【０００３】
例えば、カラーフィルタの製造においては、撥液性を有する隔壁を形成した後に、隔壁で区画された画素領域にＲ（レッド）、Ｇ（グリーン）、Ｂ（ブルー）のインクをインクジェット法により塗布し、着色層を有する画素が形成される。
また、有機ＥＬ表示素子の製造においては、撥液性を有する隔壁を形成した後に、隔壁で区画された画素領域に正孔輸送材料、発光材料の溶液であるインクをインクジェット法により塗布し、正孔輸送層、発光層等を有する画素が形成される。【０００４】
カラーフィルタの製造において、隔壁に欠け等の欠陥がある場合、その欠陥を介して隣接するドットに塗布された、異なる色のインクどうしが接触すること等により、混色が生じることがある。
有機ＥＬ表示素子の製造において、隔壁に欠け等の欠陥がある場合、その欠陥を介して隣接するドットに塗布された、異なる発色をするインクどうしが接触すること等により、混色が生じることがある。また、同じインクのみを製膜する場合においても、インクの膜厚制御が困難となる。【０００５】
特許文献１には、隔壁を形成した後、隔壁に発生したピンホール欠陥を撥インク剤を含む修正液で修正し、インクジェット法によって着色層を形成する技術が提案されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００８−７６７２５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
特許文献１においては、用いられている修正液の表面張力が低いため、修正液を塗布する前に下塗り液を塗布する必要がある。すなわち、修正を行うために異なる二種類の液を塗布する必要がある。【０００８】
また撥インク剤に光反応性がないため、撥インク剤が隔壁に固定化されない。従来は着色層を形成した後にオーバーコート層を形成していたため、隔壁や着色層から液晶層に材料が溶出する可能性は低かったが、近年、液晶の低コスト化のためにオーバーコート層を設けないカラーフィルタが増えている。そのため液晶パネルに組み込んだ場合に、カラーフィルタから撥インク成分が溶出し、液晶パネルの駆動に影響を与える恐れがある。特に撥液成分は隔壁の最表面に偏在する傾向にあるため、固定化されないと容易に溶出する可能性がある。【０００９】
本発明は、隔壁の欠陥を容易に修正でき、インクジェット法によりインクを塗布する際に隣接する画素間のインクの混色を防止でき、また液晶パネルや有機ＥＬ等の表示ディスプレイの駆動に悪影響を与えることのない光学素子の製造方法を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明は、下記の、光学素子の製造方法を要旨とする。【００１１】
＜１＞隔壁と画素の形成された基材を有する光学素子の製造方法であって、基材に撥液性を有する隔壁を形成する工程と、隔壁の欠陥部を検出する工程と、欠陥部の周囲に位置する隔壁の一部を除去する工程と、隔壁を除去した箇所に下記感光性組成物（Ｘ）を含む隔壁修正液を塗布し、感光性組成物（Ｘ）を硬化する工程と、隔壁で区画された画素領域にインクジェット法によりインクを塗布し、画素を形成する工程と、を順に有し、前記感光性組成物（Ｘ）が、下記式（１）で表される基または下記式（２）で表される基を有する側鎖と、エチレン性二重結合を有する側鎖と、を有する重合体（ａ）を含むことを特徴とする光学素子の製造方法。
−ＣＦＸＲｆ  （１）
式（１）中、Ｘは水素原子、フッ素原子、またはトリフルオロメチル基を示し、Ｒｆはエーテル性酸素原子を有していてもよい炭素数２０以下の水素原子の少なくとも１つがフッ素原子に置換されたアルキル基、またはフッ素原子を示す。
−（ＳｉＲ１Ｒ２Ｏ）ｎ−ＳｉＲ１Ｒ２Ｒ３  （２）
式（２）中、Ｒ１、Ｒ２は独立に水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、またはアリール基を示し、Ｒ３は水素原子または炭素数１〜１０の有機基を示し、ｎは１〜２００の整数を示す。【００１２】
＜２＞前記隔壁が遮光性を有する、上記＜１＞に記載の製造方法。
＜３＞前記重合体（ａ）のフッ素原子含有量は５〜５０質量％であり、重合体（ａ）の感光性組成物（Ｘ）中の全固形分における割合は０．０１〜３０質量％である、上記＜１＞または＜２＞に記載の製造方法。
＜４＞前記重合体（ａ）の重量平均分子量が５００以上１０００００未満である、上記＜１＞〜＜３＞のいずれかに記載の製造方法。【００１３】
＜５＞前記撥液性を有する隔壁が、下記式（１）で表される基または下記式（２）で表される基を有する側鎖と、エチレン性二重結合を有する側鎖と、を有する重合体（ａ）を含むネガ型感光性組成物から形成される、上記＜１＞〜＜４＞のいずれかに記載の製造方法。
−ＣＦＸＲｆ  （１）
式（１）中、Ｘは水素原子、フッ素原子、またはトリフルオロメチル基を示し、Ｒｆはエーテル性酸素原子を有していてもよい炭素数１〜２０の水素原子の少なくとも１つがフッ素原子に置換されたアルキル基、またはフッ素原子を示す。
−（ＳｉＲ１Ｒ２Ｏ）ｎ−ＳｉＲ１Ｒ２Ｒ３  （２）
式（２）中、Ｒ１、Ｒ２はそれぞれ独立に水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、またはアリール基を示し、Ｒ３は水素原子または炭素数１〜１０の有機基を示し、ｎは１〜２００の整数を示す。【００１４】
＜６＞光学素子がカラーフィルタである、上記＜１＞〜＜５＞のいずれかに記載の製造方法。
＜７＞光学素子が有機ＥＬ素子である、上記＜１＞〜＜５＞のいずれかに記載の製造方法。
【発明の効果】
【００１５】
本発明の製造方法によれば、隔壁の欠陥を容易に修正でき、修正された隔壁の箇所も撥液性を有するため、インクジェット法によりインクを塗布する際に隣接するドット間のインクの混色を防止できる。また本発明の製造方法によれば、液晶パネルや有機ＥＬ等の表示ディスプレイの駆動に悪影響を与えることのない光学素子を製造できる。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】本発明の光学素子の製造方法の一部を模式的に示す工程図。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
以下、本発明をさらに詳細に説明する。なお、本明細書において特に説明のない場合、％は質量％を表す。（メタ）アクリロイル基は、アクリロイル基とメタクリロイル基の両者を意味する総称として使用する。（メタ）アクリレートは、アクリレートとメタクリレートの両者を意味する総称として使用する。（メタ）アクリル酸は、アクリル酸とメタクリル酸の両者を意味する総称として使用する。（メタ）アクリルアミドは、アクリルアミドとメタクリルアミドの両者を意味する総称として使用する。（メタ）アリルは、アリルとメタリルの両者を意味する総称として使用する。一般式（１）で表される基を、基（１）ともいう。他の基も同様である。式（１１）で表される単量体を、単量体（１１）という。他の単量体も同様である。
【００１８】
＜隔壁修正液＞
本発明における隔壁修正液は、基（１）または基（２）を有する側鎖と、エチレン性二重結合を有する側鎖とを有する重合体（ａ）を含む感光性組成物（Ｘ）を含む。
【００１９】
（重合体（ａ））
本発明における重合体（ａ）における基（１）または基（２）を有する側鎖は、重合反応によって直接形成しても、重合反応後の化学変換によって形成してもよい。また、エチレン性二重結合を有する側鎖は重合反応後の化学変換によって形成できる。
【００２０】
式（１）中のＲｆが、エーテル性酸素原子を有していてもよい炭素数２０以下の水素原子の少なくとも１つがフッ素原子に置換されたアルキル基である場合、前記アルキル基中の水素原子はフッ素原子以外の他のハロゲン原子に置換されていてもよい。他のハロゲン原子としては、塩素原子が好ましい。また、エーテル性酸素原子は、該アルキル基の炭素−炭素結合間に存在してもよく、該アルキル基の末端に存在してもよい。また該アルキル基の構造は、直鎖構造、分岐構造、環構造、または部分的に環を有する構造が挙げられ、直鎖構造が好ましい。
【００２１】
基（１）の具体例としては、以下が挙げられる。
−ＣＦ３、−ＣＦ２ＣＦ３、−ＣＦ２ＣＨＦ２、−（ＣＦ２）２ＣＦ３、−（ＣＦ２）３ＣＦ３、−（ＣＦ２）４ＣＦ３、−（ＣＦ２）５ＣＦ３、−（ＣＦ２）６ＣＦ３、−（ＣＦ２）７ＣＦ３、−（ＣＦ２）８ＣＦ３、−（ＣＦ２）９ＣＦ３、−（ＣＦ２）１１ＣＦ３、−（ＣＦ２）１５ＣＦ３、
−ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ（ＣＦ２）５ＣＦ３、
−ＣＦ２Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｐＣＦ３（ｐは１〜８の整数）、
−ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ（ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ）ｑＣ６Ｆ１３（ｑは１〜４の整数）、
−ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ（ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ）ｒＣ３Ｆ７（ｒは１〜５の整数）。
【００２２】
基（１）としては、パーフルオロアルキル基または水素原子１個を含むポリフルオロアルキル基であることが好ましく、パーフルオロアルキル基が特に好ましい（ただし、前記アルキル基は、エーテル性酸素原子を有するものを含む。）。これによって、感光性組成物（Ｘ）によって修正される隔壁は撥液性が良好となる。また、基（１）の全炭素数は４〜６が好ましい。この場合、隔壁に充分な撥液性が付与される。また、重合体（ａ）と感光性組成物（Ｘ）を構成する他の成分との相溶性が良好であり、感光性組成物（Ｘ）を塗布し塗膜を形成したときに重合体（ａ）同士が凝集することがなく、修正箇所は平滑な表面となりやすい。
【００２３】
式（２）において、Ｒ１Ｒ２はシロキサン単位毎に同一でも異なっていてもよい。感光性組成物（Ｘ）の製膜性の観点から、Ｒ１、Ｒ２は独立に水素原子、炭素数１〜１０のアルキル基、シクロアルキル基、またはアリール基であることが好ましく、水素原子、メチル基、またはフェニル基であることがより好ましく、すべてのシロキサン単位のＲ１、Ｒ２がメチル基であることが特に好ましい。また、Ｒ３が有機基である場合、窒素原子、酸素原子等が含まれていてもよく、Ｒ３は水素原子または炭素数１〜５の炭化水素基であることが好ましい。ｎは１〜１００の整数が好ましく、２〜８０の整数がより好ましい。
【００２４】
エチレン性二重結合としては、例えば、（メタ）アクリロイル基、アリル基、ビニル基、ビニルエーテル基等の付加重合性の不飽和基等が挙げられる。それらの基の水素原子の一部またはすべてが、炭化水素基により置換されていてもよい。炭化水素基としては、メチル基が好ましい。
【００２５】
重合体（ａ）は、基（１）を有する単量体（ａ１）または基（２）を有する単量体（ａ２）と反応性基を有する単量体（ａ３）とを含む２種以上の単量体を共重合し、次いで得られた共重合体と前記反応性基と結合し得る官能基とエチレン性二重結合とを有する化合物（ｚ１）とを反応させることにより製造できる。
【００２６】
基（１）を有する単量体（ａ１）としては、下記式（１１）で表される単量体が好ましい。
ＣＨ２＝ＣＲ４ＣＯＯ−Ｙ−ＣＦＸＲｆ  （１１）
式（１１）中、Ｒ４は水素原子、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、メチル基、またはトリフルオロメチル基を示し、Ｙは単結合または炭素数１〜６のフッ素原子を含まない２価有機基を示し、Ｒｆはエーテル性酸素原子を有していてもよい炭素数２０以下の水素原子の少なくとも１つがフッ素原子に置換されたアルキル基、またはフッ素原子を示す。単量体（１１）において−ＣＦＸＲｆの好ましい態様は、基（１）に関して説明したのと同様である。単量体（１１）において、入手の容易さから、Ｙは炭素数２〜４のアルキレン基であることが好ましい。
【００２７】
単量体（１１）の例としては、以下が挙げられる。
ＣＨ２＝ＣＲ４ＣＯＯＲ５ＣＦＸＲｆ
ＣＨ２＝ＣＲ４ＣＯＯＲ５ＮＲ６ＳＯ２ＣＦＸＲｆ
ＣＨ２＝ＣＲ４ＣＯＯＲ５ＮＲ６ＣＯＣＦＸＲｆ
ＣＨ２＝ＣＲ４ＣＯＯＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）Ｒ７ＣＦＸＲｆ
ここで、Ｒ４は水素原子、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、メチル基、またはトリフルオロメチル基を示し、Ｒ５は炭素数１〜６のアルキレン基を示し、Ｒ６は水素原子またはメチル基を示し、Ｒ７は単結合または炭素数１〜４のアルキレン基を示し、Ｒｆは上記と同じ意味を示す。
【００２８】
Ｒ５の具体例としては、−ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ（ＣＨ３）−、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−、−Ｃ（ＣＨ３）２−、−ＣＨ（ＣＨ２ＣＨ３）−、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ（ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ３）−、−ＣＨ２（ＣＨ２）３ＣＨ２−、−ＣＨ（ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）２）−、等が挙げられる。
【００２９】
Ｒ７の具体例としては、−ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ（ＣＨ３）−、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−、−Ｃ（ＣＨ３）２−、−ＣＨ（ＣＨ２ＣＨ３）−、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ（ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ３）−、等が挙げられる。
【００３０】
単量体（１１）の具体例としては、２−（パーフルオロヘキシル）エチル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロブチル）エチル（メタ）アクリレート等が挙げられる。単量体（１１）は１種を用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【００３１】
基（２）を有する単量体（ａ２）としては、下記単量体（２１）が好ましい。
ＣＨ２＝ＣＲ８ＣＯＯ−Ｚ−（ＳｉＲ１Ｒ２Ｏ）ｎ−ＳｉＲ１Ｒ２Ｒ３  （２１）
式（２１）中、Ｒ８は水素原子またはメチル基を示し、Ｚは単結合または炭素数１〜６の２価有機基を示し、Ｒ１、Ｒ２は独立に水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、またはアリール基を示し、Ｒ３は水素原子または炭素数１〜１０の有機基を示し、ｎは１〜２００の整数を示す。単量体（２１）においてＲ１、Ｒ２、Ｒ３、ｎの好ましい態様は、基（２）に関して説明したのと同様である。
【００３２】
Ｚは炭素数１〜６の２価炭化水素基が好ましい。具体例としては下記が挙げられる。
−ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ（ＣＨ３）−、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−、−Ｃ（ＣＨ３）２−、−ＣＨ（ＣＨ２ＣＨ３）−、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ（ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ３）−、−ＣＨ２（ＣＨ２）３ＣＨ２−、−ＣＨ（ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）２）−等。
単量体（２１）は１種を用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【００３３】
反応性基を有する単量体（ａ３）としては、水酸基を有する単量体、エチレン性二重結合を有する酸無水物単量体、カルボキシ基を有する単量体、エポキシ基を有する単量体等が挙げられる。なお、単量体（ａ３）は、基（１）および基（２）を実質的に含まないことが好ましい。
【００３４】
共重合した後の単量体（ａ３）の有する反応性基が、当該反応性基と結合し得る官能基とエチレン性二重結合とを有する化合物（ｚ１）と反応することにより、エチレン性二重結合を有する側鎖を有する重合体（ａ）が形成されることとなる。
【００３５】
水酸基を有する単量体の具体例としては、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、５−ヒドロキシペンチル（メタ）アクリレート、６−ヒドロキシヘキシル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシシクロヘキシル（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールモノ（メタ）アクリレート、３−クロロ−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、グリセリンモノ（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチルビニルエーテル、４−ヒドロキシブチルビニルエーテル、シクロヘキサンジオールモノビニルエーテル、２−ヒドロキシエチルアリルエーテル、Ｎ−ヒドロキシメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ビス（ヒドロキシメチル）（メタ）アクリルアミド等が挙げられる。
【００３６】
さらに、水酸基を有する単量体としては、末端が水酸基であるポリオキシアルキレン鎖を有する単量体であってもよい。例えば、ＣＨ２＝ＣＨＯＣＨ２Ｃ６Ｈ１０ＣＨ２Ｏ（Ｃ２Ｈ４Ｏ）ｋＨ（ここで、ｋは１〜１００の整数、以下同じ。）、ＣＨ２＝ＣＨＯＣ４Ｈ８Ｏ（Ｃ２Ｈ４Ｏ）ｋＨ、ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯＣ２Ｈ４Ｏ（Ｃ２Ｈ４Ｏ）ｋＨ、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯＣ２Ｈ４Ｏ（Ｃ２Ｈ４Ｏ）ｋＨ、ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯＣ２Ｈ４Ｏ（Ｃ２Ｈ４Ｏ）ｍ（Ｃ３Ｈ６Ｏ）ｊＨ（ここで、ｍは０〜１００の整数であり、ｊは１〜１００の整数であり、ｍ＋ｊは１〜１００である。以下同じ。）、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯＣ２Ｈ４Ｏ（Ｃ２Ｈ４Ｏ）ｍ（Ｃ３Ｈ６Ｏ）ｊＨ等が挙げられる。
【００３７】
エチレン性二重結合を有する酸無水物単量体の具体例としては、無水マレイン酸、無水イタコン酸、無水シトラコン酸、無水メチル−５−ノルボルネン−２，３−ジカルボン酸、無水３，４，５，６−テトラヒドロフタル酸、無水ｃｉｓ−１，２，３，６−テトラヒドロフタル酸、２−ブテン−１−イルサクシニックアンハイドライド等が挙げられる。
カルボキシ基を有する単量体の具体例としては、アクリル酸、メタクリル酸、ビニル酢酸、クロトン酸、イタコン酸、マレイン酸、フマル酸、ケイ皮酸、もしくはそれらの塩が挙げられる。
エポキシ基を有する単量体の具体例としては、グリシジル（メタ）アクリレート、３，４−エポキシシクロヘキシルメチルアクリレートが挙げられる。
【００３８】
本発明における重合に用いる単量体には、基（１）を有する単量体（ａ１）、基（２）を有する単量体（ａ２）、および、反応性基を有する単量体（ａ３）以外のその他の単量体（ａ４）が含まれていてもよい。
【００３９】
その他の単量体（ａ４）としては、炭化水素系オレフィン類、ビニルエーテル類、イソプロペニルエーテル類、アリルエーテル類、ビニルエステル類、アリルエステル類、（メタ）アクリル酸エステル類、（メタ）アクリルアミド類、芳香族ビニル化合物、クロロオレフィン類、共役ジエン類が挙げられる。これらの化合物には、官能基が含まれていても良く、官能基としては、例えば、カルボニル基、アルコキシ基等が挙げられる。
【００４０】
上記の単量体を通常の重合方法によって重合して得られる共重合体と、反応性基と結合し得る官能基とエチレン性二重結合とを有する化合物（ｚ１）とを反応させることにより重合体（ａ）が得られる。
【００４１】
反応性基に対する、当該反応性基と結合し得る官能基とエチレン性二重結合とを有する化合物（ｚ１）との組み合わせとして、例えば以下の組み合わせが挙げられる。
（１）水酸基に対し、エチレン性二重結合を有する酸無水物、
（２）水酸基に対し、イソシアネート基とエチレン性二重結合を有する化合物、
（３）水酸基に対し、塩化アシル基とエチレン性二重結合を有する化合物、
（４）酸無水物に対し、水酸基とエチレン性二重結合を有する化合物、
（５）カルボキシ基に対し、エポキシ基とエチレン性二重結合を有する化合物、
（６）エポキシ基に対し、カルボキシ基とエチレン性二重結合を有する化合物。
【００４２】
エチレン性二重結合を有する酸無水物の具体例としては、上記した例が挙げられる。
イソシアネート基とエチレン性二重結合を有する化合物の具体例としては、２−（メタ）アクリロイルオキシエチルイソシアネート、１，１−ビス（（メタ）アクリロイルオキシメチル）エチルイソシアネートが挙げられる。
塩化アシル基とエチレン性二重結合を有する化合物の具体例としては、（メタ）アクリロイルクロライドが挙げられる。
水酸基とエチレン性二重結合を有する化合物の具体例としては、上記した水酸基を有する単量体の例が挙げられる。
エポキシ基とエチレン性二重結合を有する化合物の具体例としては、上記したエポキシ基を有する単量体の例が挙げられる。
カルボキシ基とエチレン性二重結合を有する化合物の具体例としては、上記したカルボキシ基を有する単量体の例が挙げられる。
上記の組み合わせとしては、水酸基に対し、１，１−ビス（（メタ）アクリロイルオキシメチル）エチルイソシアネートを用いることが特に好ましい。重合体（ａ）は側鎖１つにつきエチレン性二重結合を２つ以上有する側鎖を有することとなり、重合体（ａ）の隔壁表面への固定化が優れるからである。
【００４３】
共重合させる単量体全質量に対する各単量体の好ましい割合は以下のとおりである。
基（１）を有する単量体（ａ１）を用いる場合のその割合は２０〜８０質量％が好ましく、３０〜６０質量％がより好ましい。
基（２）を有する単量体（ａ２）を用いる場合のその割合は０．０１〜２０質量％が好ましく、０．０５〜１０質量％がより好ましい。
基（１）または基（２）の該割合が高いほど、本発明の重合体（ａ）は形成される隔壁の表面張力を下げる効果に優れ、隔壁に高い撥液性を付与する。一方、該割合が高すぎると、感光性組成物（Ｘ）を構成する他の成分との相溶性が悪化し、平滑な表面が得られないおそれがある。
反応性基を有する単量体（ａ３）の割合は２０〜７０質量％が好ましく、３０〜５０質量％がより好ましい。この範囲であると重合体（ａ）の隔壁への固定化が良好となる。
【００４４】
共重合体と化合物（ｚ１）とは、［化合物（ｚ１）の官能基］／［共重合体の反応性基］の当量比の値が０．５〜２．０となるように仕込むことが好ましい。当量比が高いほど、重合体（ａ）の隔壁への固定化が良好となる。一方、当量比が高すぎると、未反応の化合物（ｚ１）である不純物が多くなり、感光性組成物（Ｘ）の貯蔵安定性が低下する。より好ましくは、０．８〜１．５である。
【００４５】
重合体（ａ）が基（１）を有する場合、重合体（ａ）のフッ素原子の含有率は５〜５０質量％が好ましい。含有率が高いほど、重合体（ａ）は隔壁の表面張力を下げる効果に優れ、隔壁に高い撥液性を付与する。一方、含有率が高すぎると、感光性組成物（Ｘ）を構成する他材料との相溶性が低下して、塗膜の外観が悪化するおそれがある。重合体（ａ）におけるフッ素原子の含有率は、下限は１０質量％がより好ましく、上限は３０質量％であることがより好ましい。
【００４６】
重合体（ａ）が基（２）を有する場合、重合体（ａ）のケイ素原子の含有率は０．５〜３０質量％が好ましい。含有率が高いほど、重合体（ａ）は隔壁の表面張力を下げる効果に優れ、隔壁に高い撥液性を付与する。一方、含有率が高すぎると、感光性組成物（Ｘ）を構成する他材料との相溶性が低下して、塗膜の外観が悪化するおそれがある。重合体（ａ）におけるケイ素原子の含有率は、下限は０．５質量％がより好ましく、上限は１０質量％がより好ましい。
【００４７】
重合体（ａ）は、分子内に２個以上１００個以下のエチレン性二重結合を有することが好ましい。より好ましくは６個以上５０個以下である。この範囲であると重合体（ａ）の隔壁への固定化が良好となる。
【００４８】
重合体（ａ）の重量平均分子量は、５００以上１０００００未満が好ましく、１０００以上５００００未満がより好ましい。分子量が小さすぎると重合体（ａ）の含有量を増やさないと隔壁の撥液性が発現しにくく、分子量が大きすぎると感光性組成物（Ｘ）を構成する他材料との相溶性が低下するおそれがある。
【００４９】
感光性組成物（Ｘ）の全固形分における重合体（ａ）の割合は０．０１〜３０質量％が好ましい。該割合が高いと、形成される隔壁の表面張力を下げる効果に優れ、隔壁に高い撥液性を付与する。一方、該割合が高すぎると、感光性組成物（Ｘ）を構成する他材料との相溶性が低下して、塗膜の外観が悪化するおそれがある。感光性組成物（Ｘ）の全固形分における重合体（ａ）の割合は、下限は０．１５質量％がより好ましく、上限は２０質量％がより好ましい。なお、本明細書において感光性組成物（Ｘ）の全固形分とは、感光性組成物（Ｘ）を１５０℃で加熱し、重量変化が１分あたり０．１％未満になったときの残存成分をいう。
重合体（ａ）のフッ素含有量は、５〜５０質量％であり、重合体（ａ）の感光性組成物（Ｘ）の全固形分における割合は、０．０１〜３０質量％であることが好ましい。
【００５０】
本発明における重合体（ａ）は、基（１）を有する側鎖と基（２）を有する側鎖の両方を１分子内に有していてもよい。また本発明における感光性組成物（Ｘ）は、基（１）を有する側鎖を有する重合体（ａ）と、基（２）を有する側鎖を有する重合体（ａ）の両方を含んでいてもよい。これらの場合、感光性組成物は、特に高い撥液性、高いインク転落性を同時に発現できる。
【００５１】
（ラジカル架橋剤（ｂ））
本発明における感光性組成物（Ｘ）は、２個以上のエチレン性二重結合を有するラジカル架橋剤（ｂ）を含むことが好ましい。これにより、感光性組成物（Ｘ）の光硬化性が向上し、修正された隔壁には、その後のインクの塗布プロセスに耐えうる十分な耐薬品性が付与される。
【００５２】
ラジカル架橋剤（ｂ）の具体例としては、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、１，９−ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ウレタンアクリレート等が挙げられる。これらは１種を用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【００５３】
感光性組成物（Ｘ）の全固形分におけるラジカル架橋剤（ｂ）の割合は、４０〜８０質量％が好ましく、５０〜７０質量％がより好ましい。当該範囲であると修正された隔壁の耐薬品性が良好である。
【００５４】
（光重合開始剤（ｃ））
本発明における感光性組成物（Ｘ）は、光重合開始剤（ｃ）を含むことが好ましい。光重合開始剤（ｃ）は、光によりラジカルを発生する化合物からなることが好ましい。
光重合開始剤（ｃ）としては、ベンジル、ジアセチル、メチルフェニルグリオキシレート、９，１０−フェナンスレンキノン等のα−ジケトン類；ベンゾイン等のアシロイン類；ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル等のアシロインエーテル類；チオキサントン、２−クロロチオキサントン、２−メチルチオキサントン、２，４−ジメチルチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、２，４−ジクロロチオキサントン、２，４−ジイソプロピルチオキサントン、チオキサントン−４−スルホン酸等のチオキサントン類；ベンゾフェノン、４，４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン等のベンゾフェノン類；アセトフェノン、２−（４−トルエンスルホニルオキシ）−２−フェニルアセトフェノン、ｐ−ジメチルアミノアセトフェノン、２，２’−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、ｐ−メトキシアセトフェノン、２−メチル−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノ−１−プロパノン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタン−１−オン等のアセトフェノン類；アントラキノン、２−エチルアントラキノン、カンファーキノン、１，４−ナフトキノン等のキノン類；２−ジメチルアミノ安息香酸エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸（ｎ−ブトキシ）エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、４−ジメチルアミノ安息香酸２−エチルヘキシル等のアミノ安息香酸類；フェナシルクロライド、トリハロメチルフェニルスルホン等のハロゲン化合物；アシルホスフィンオキシド類；ジ−ｔ−ブチルパーオキサイド等の過酸化物；１，２−オクタンジオン，１−［４−（フェニルチオ）−，２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）、エタノン  １−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾイル−３−イル］−１−（Ｏ−アセチルオキシム）等のオキシムエステル類等が挙げられる。特に１−［４−（フェニルチオ）−，２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）、エタノン  １−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾイル−３−イル］−１−（Ｏ−アセチルオキシム）等のオキシムエステル類等が好ましい。
【００５５】
これらの光重合開始剤は、１種を用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。特に、上記アミノ安息香酸類、上記ベンゾフェノン類等は、その他の光ラジカル発生剤と共に用いられて、増感効果を発現することがある。また、トリエタノールアミン、メチルジエタノールアミン、トリイソプロパノールアミン、ｎ−ブチルアミン、Ｎ−メチルジエタノールアミン、ジエチルアミノエチルメタクリレート等の脂肪族アミン類も同じく光ラジカル発生剤と共に用いられて、増感効果を発現することがある。
【００５６】
感光性組成物（Ｘ）の全固形分における光重合開始剤（ｃ）の割合は、０．１〜５０質量％が好ましく、０．５〜３０質量％がより好ましい。当該範囲であると感光性組成物（Ｘ）の感度が良好である。
【００５７】
（遮光性粒子（ｄ））
本発明における感光性組成物（Ｘ）は、遮光性粒子（ｄ）を含むことが好ましい。これにより、隔壁に遮光性を付与できる。
【００５８】
遮光性粒子として、例えばカーボンブラック、アニリンブラック、アントラキノン系黒色顔料、ペリレン系黒色顔料が挙げられる。具体的には、Ｃ．Ｉ．ピグメントブラック１、６、７、１２、２０、３１等を用いることができる。黒色にするために、赤色顔料、青色顔料、緑色顔料等の有機顔料や無機顔料の混合物を用いることもできる。価格、遮光性の大きさからカーボンブラックが好ましく、カーボンブラックは、樹脂などで表面処理されていてもよい。また、色調を調整するため、青色顔料や紫色顔料を併用できる。
【００５９】
カーボンブラックとしては、ブラックマトリックスの形状の観点から、ＢＥＴ法による比表面積が５０〜２００ｍ２／ｇであるものが好ましく、６０〜１８０ｍ２／ｇがより好ましい。比表面積が５０ｍ２／ｇ未満のカーボンブラックを用いる場合には、ブラックマトリックス形状の劣化を引き起こし、２００ｍ２／ｇより大きいカーボンブラックを用いる場合には、カーボンブラックに分散助剤が過度に吸着してしまい、諸物性を発現させるためには多量の分散助剤を配合する必要が生じるためである。
【００６０】
また、カーボンブラックとしては、感度の点から、フタル酸ジブチルの吸油量が１２０ｃｃ／１００ｇ以下のものが好ましく、少ないものほどより好ましい。
さらに、カーボンブラックの平均１次粒子径は、２０〜５０ｎｍであることが好ましく、２５〜４５ｎｍがより好ましい。平均１次粒子径が小さすぎると、高濃度に分散させることが困難になるおそれがあり、経時安定性の良好な感光性黒色組成物が得られ難く、平均１次粒子径が大きすぎると、ブラックマトリックス形状の劣化を招くことがあるためである。
【００６１】
赤色顔料としては、例えばＣ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｒｅｄ  ７、９、１４、４１、４８：１、４８：２、４８：３、４８：４、８１：１、８１：２、８１：３、９７、１２２、１２３、１４６、１４９、１６８、１７７、１７８、１７９、１８０、１８４、１８５、１８７、１９２、２００、２０２、２０８、２１０、２１５、２１６、２１７、２２０、２２３、２２４、２２６、２２７、２２８、２４０、２４６、２５４、２５５、２６４、２７２、２７９等を用いることができる。
青色顔料としては、例えばＣ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｂｌｕｅ  １５、１５：１、１５：２、１５：３、１５：４、１５：６、１６、２２、６０、６４、８０等を用いることができる。
緑色顔料としては、例えばＣ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｇｒｅｅｎ  ７、３６、等を用いることができる。
【００６２】
感光性組成物（Ｘ）の全固形分における遮光性粒子（ｄ）の割合は、１５〜５０質量％が好ましく、２０〜４０質量％がより好ましい。割合が少なすぎると所望の遮光性が得られず、多すぎると感度の低下を招くおそれがある。
【００６３】
（その他の成分）
感光性組成物（Ｘ）は、熱硬化剤を含むことが好ましい。熱硬化剤としては、例えば、アミノ樹脂、２個以上のエポキシ基を有する化合物、２個以上のヒドラジノ基を有する化合物、ポリカルボジイミド化合物、２個以上のオキサゾリン基を有する化合物、２個以上のアジリジン基を有する化合物、多価金属類、２個以上のメルカプト基を有する化合物、ポリイソシアネート化合物等が挙げられる。
【００６４】
感光性組成物（Ｘ）は、必要に応じてシランカップリング剤を含むことが好ましい。シランカップリング剤の具体例としては、テトラエトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、３−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−フェニル−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、ヘプタデカフルオロオクチルエチルトリメトキシシラン、ポリオキシアルキレン鎖含有トリエトキシシラン、イミダゾールシラン等が挙げられる。これらは１種を用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【００６５】
感光性組成物（Ｘ）は、必要に応じて感光性組成物（Ｘ）の貯蔵安定性を高めるために、重合禁止剤を含むことが好ましい。重合禁止剤としては、特に限定されず、ジフェニルピクリルヒドラジド、トリ−ｐ−ニトロフェニルメチル，ｐ−ベンゾキノン、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルカテコール、ピクリン酸、塩化銅、メチルハイドロキノン、メトキノン、ｔｅｒｔ−ブチルハイドロキノン等の反応の重合禁止剤を用いることができる。なかでも保存安定性の点からハイドロキノン系重合禁止剤が好ましく、メチルハイドロキノンを用いるのが特に好ましい。
【００６６】
重合禁止剤の配合量は、感光性組成物（Ｘ）の全固形分における０．０１質量％〜３質量％が好ましく、０．０１重量％〜１質量％が更に好ましい。
【００６７】
感光性組成物（Ｘ）は、必要に応じて硬化促進剤、増粘剤、可塑剤、消泡剤、レベリング剤、ハジキ防止剤、紫外線吸収剤等を含んでもよい。
【００６８】
本発明における隔壁修正液は、感光性組成物（Ｘ）に溶剤を添加したものであることが好ましい。なお、本発明における感光性組成物（Ｘ）は実質的に溶剤を含まないものとする。また、本明細書において、溶剤とは反応性でないものとする。溶剤の具体例としては、例えば、メタノール、エタノール、Ｎ−プロピルアルコール、ｉ−プロピルアルコール等のアルコール系溶剤；メトキシアルコール、エトキシアルコール等のセロソルブ系溶剤；メトキシエトキシエタノール、エトキシエトキシエタノール等のカルビトール系溶剤；酢酸エチル、酢酸ブチル、メトキシプロピオン酸メチル、エトキシプロピオン酸エチル、乳酸エチル等のエステル系溶剤；アセトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系溶剤；メトキシエチルアセテート、エトキシエチルアセテート、エチルセロソルブアセテート等のセロソルブアセテート系溶剤；メトキシエトキシエチルアセテート、エトキシエトキシエチルアセテート等のカルビトールアセテート系溶剤；ジエチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル系溶剤；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン等の非プロトン性アミド溶剤；γ−ブチロラクトン等のラクトン系溶剤；ベンゼン、トルエン、キシレン、ナフタレン等の不飽和炭化水素系溶剤；Ｎ−ヘプタン、Ｎ−ヘキサン、Ｎ−オクタン等の飽和炭化水素系溶剤等の非水系有機溶剤を例示することができる。セロソルブアセテート系溶剤；カルビトールアセテート系溶剤；エーテル系溶剤；エステル系溶剤がより好ましい。ＰＧＭＥＡ（プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、メトキシプロピルアセテート、ＣＨ３ＯＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）ＯＣＯＣＨ３）、ＭＢＡ（酢酸−３−メトキシブチル、ＣＨ３ＣＨ（ＯＣＨ３）ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＯＣＨ３）、ＤＭＤＧ（ジエチレングリコールジメチルエーテル、Ｈ３ＣＯＣ２Ｈ４ＯＣＨ３）またはこれらを混合したものが特に好ましい。
【００６９】
隔壁修正液は、感光性組成物（Ｘ）に溶剤を添加したものでも、感光性組成物（Ｘ）に溶剤を添加しないものであってもよいが、その粘度は、１５〜３００ｍＰａ・ｓｅｃであるのが好ましく、３０〜１５０ｍＰａ・ｓｅｃがより好ましく、５５〜９０ｍＰａ・ｓｅｃが特に好ましい。粘度が低すぎると、感光性組成物（Ｘ）を含む隔壁修正液を塗布したときにスポットがにじんで広がり所望の膜厚を得られにくい。粘度が高すぎると、塗布したスポットの膜厚が大きくなり、スポット上面がなだらかでなくなり、突起が発生し突起高さが大きくなる傾向にある。
【００７０】
感光性組成物（Ｘ）から形成される硬化膜は、水に対する接触角が９０度以上となることが好ましく、９５度以上がより好ましい。また、キシレンに対する接触角が３５度以上となることが好ましく、４０度以上がより好ましい。
【００７１】
＜光学素子の製造方法＞
本発明の光学素子の製造方法は、透明基材に撥液性を有する隔壁を形成する工程［１］と、隔壁の欠陥部を検出する工程［２］と、欠陥部の周囲に位置する隔壁の一部を除去する工程［３］と、隔壁を除去した箇所に下記感光性組成物（Ｘ）を含む隔壁修正液を塗布し、感光性組成物（Ｘ）を硬化する工程［４］と、隔壁で区画された画素領域にインクジェット法によりインクを塗布し、画素を形成する工程［５］と、を順に有する。
【００７２】
図１は本発明の光学素子の製造方法の一部を模式的に示す工程図である。図１の［Ｉ］〜［Ｖ］において、紙面左側の図は上方より見た平面模式図、紙面右側の図は左側の図のＡ−Ｂ断面模式図である。
図１の［Ｉ］は、基板１上に隔壁２が形成され、欠陥部３が存在する状態を示す図である。
図１の［ＩＩ］は、［Ｉ］における欠陥部３の周囲に位置する隔壁の一部を除去した状態を示す図である。
図１の［ＩＩＩ］は、液供給手段５を用いて、隔壁修正液４を塗布する状態を示す図である。
図１の［ＩＶ］は、隔壁修正液４が硬化されて硬化部位６が形成された状態を示す図である。
図１の［Ｖ］は、硬化部位６のうち画素領域側にはみ出した不要な部分を除去した状態を示す図である。
以下、図１を用いて、本発明の製造方法を具体的に説明する。
【００７３】
（基材に撥液性を有する隔壁を形成する工程［１］）
撥液性を有する隔壁２を形成する方法としては、撥液性硬化物を形成しうる感光性組成物を用いてフォトリソ法により形成する方法（国際公開第２００４／０４２４７４号パンフレット等に記載の方法）；感光性組成物を用いてフォトリソ法により隔壁を形成した後、フッ素化合物を導入ガスとして用いて隔壁にプラズマを照射することにより、隔壁の表面を撥液化することにより形成する方法（特開２０００−３５３５９４等に記載の方法）が挙げられる。前者の方法が、高価なプラズマ照射装置を必要としないことや高い撥液性を有する隔壁を形成することが可能なため、好ましい。
【００７４】
撥液性硬化物を形成しうる感光性組成物としては、含フッ素化合物または含ケイ素化合物と、アルカリ可溶性感光性樹脂と、光重合開始剤とを含むネガ型感光性組成物が好ましい。
【００７５】
含フッ素化合物または含ケイ素化合物としては、上記隔壁修正液に含まれる基（１）または基（２）を有する側鎖と、エチレン性二重結合を有する側鎖とを有する重合体（ａ）が好ましい。高い撥液性を有する隔壁を形成しうるからである。
【００７６】
アルカリ可溶性感光性樹脂としては、例えば、エチレン性二重結合を有する単量体の共重合体であって、酸性基を有する側鎖とエチレン性二重結合を有する側鎖とを有する重合体；エポキシ樹脂にエチレン性二重結合と酸性基とを導入した樹脂が挙げられる。
【００７７】
光重合開始剤としては、上記隔壁修正液に含まれる光重合開始剤（ｃ）が好ましい。
【００７８】
ネガ型感光性組成物は、上記隔壁修正液において説明した遮光性粒子、ラジカル架橋剤、熱硬化剤、シランカップリング剤等を含んでもよい。ネガ型感光性組成物が遮光性粒子を含む場合は、形成される隔壁に遮光性が付与される。
【００７９】
隔壁と画素の形成される基材１としては、その材質は特に限定されるものではないが、例えば、各種ガラス板；ポリエステル（ポリエチレンテレフタレート等）、ポリオレフィン（ポリエチレン、ポリプロピレン等）、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、ポリスルホン、ポリイミド、ポリ（メタ）アクリル樹脂等の熱可塑性プラスチックシート；エポキシ樹脂、不飽和ポリエステル等の熱硬化性樹脂の硬化シート等を挙げることができる。特に、耐熱性の点からガラス板または耐熱性プラスチックが好ましく用いられる。基材は透明基板であることが好ましい。
【００８０】
また金属ブラックマトリックスや樹脂ブラックマトリックス等のブラックマトリックスが形成されている基板を用いることもできる。その場合ブラックマトリックス上に隔壁を形成することが好ましい。
また酸化インジウム錫（ＩＴＯ）等の透明電極やクロムやモリブデン等の金属配線が製膜された基板を用いることもできる。
【００８１】
撥液性を有する隔壁は、欠け等の欠陥が生じなければ、隔壁で囲まれた画素領域にインクを塗布した際、インクが画素領域外にはみ出るのを防ぐことができる。
【００８２】
形成された隔壁が遮光性を有する場合には、隔壁にはブラックマトリックスとしての機能が付与される。
【００８３】
隔壁２のライン幅の平均は、１００μｍ以下が好ましく、４０μｍ以下がより好ましく、２０μｍ以下が特に好ましい。隔壁２のライン幅の平均は、１０μｍ以上が好ましい。隔壁２の高さの平均は、０．０５〜５０μｍが好ましく、０．２〜１０μｍがより好ましく、０．５〜３μｍが特に好ましい。
【００８４】
隔壁２の形状は、特に限定されず、逆テーパー、矩形、順テーパーのいずれの形状でもよい。隔壁２の側壁と隔壁２の底面のおりなすテーパー角は、３０°〜１５０°が好ましい。テーパー角が小さすぎても大きすぎてもコントラストが低下するおそれがある。
【００８５】
隔壁２により区画された画素領域の幅の平均は、３００μｍ以下が好ましく、１００μｍ以下がより好ましい。ドットひとつのサイズ（面積）は、５０００μｍ２〜１５００００μｍ２が好ましく、１００００μｍ２〜１２００００μｍ２がより好ましく、１５０００μｍ２〜１０００００μｍ２が特に好ましい。ドットのサイズが小さすぎるとインクジェット法で所望のドットにインクを着弾させるのが難しくなるおそれがある。一方、ドットのサイズが大きすぎると着弾したインクがドットに均一に濡れ拡がることが難しくなるおそれがある。
【００８６】
（隔壁の欠陥部を検出する工程［２］）
隔壁２の欠陥部３を検出する方法としては、例えば、ＣＣＤカメラにより隔壁２を撮像し、これを予め準備された基準パターンと比較することによって欠陥を識別する方法；ＣＣＤカメラにより隔壁２を撮像し、入力された信号と、パターン間隔分を遅延した信号とを比較することにより規則的なパターン以外のデータを欠陥として検出する方法等が挙げられる。
【００８７】
（欠陥部の周囲に位置する隔壁の一部を除去する工程［３］）
検出された隔壁２の欠陥部３は、基板１の露出表面の面積が小さく、隔壁修正液４は塗布されにくい。よって、欠陥部３の周囲に位置する隔壁２の一部を除去して、基板１の露出表面の面積を拡大する。次工程における隔壁修正液４が塗布されやすい状態とするには、具体的には、隔壁２のライン長さ方向に５０μｍ分を除去するのが好ましい。
【００８８】
欠陥部３の隔壁２を除去する方法としては、例えば、針を用いてスクラッチする方法；レーザー光を照射する方法等が挙げられる。より微細な加工を行えることから、レーザー光を照射する方法が好ましい。レーザー光としては、パルス波の５３２ｎｍまたは３５５ｎｍの光が好ましい。
【００８９】
（隔壁を除去した箇所に下記感光性組成物（Ｘ）を含む隔壁修正液を塗布し、感光性組成物（Ｘ）を硬化する工程［４］）
隔壁修正液４を塗布する方法としては、特に限定はないが、図１の［ＩＩＩ］に示すように、液供給手段５を用いて隔壁修正液４を塗布するのが好ましい。具体的には、特開平８−１８２９４９号公報に開示されているように、針状部材に隔壁修正液４を付着させ、続いて隔壁２を除去した箇所に塗布する方法；特開２００７−３０１４４号公報に開示されているように、内部に隔壁修正液４が充填されている細長のニードル管より隔壁修正液４を吐出させて隔壁２を除去した箇所に塗布する方法が、微小な修正スポットに対応できるため好ましい。針状部材を用いる場合、所望の膜厚を得るまで繰り返し隔壁修正液４を塗布させてもよい。
上記針状部材として、隔壁修正液４を付着させる側の先端部分が平面状に加工されている針状部材を用いると、先端部分の接触による隔壁２の損傷を防ぐことができる。針状部材の先端部分の径を変化させると、様々な大きさの隔壁２の欠陥に対応できる。
【００９０】
隔壁修正液４を塗布した後、隔壁修正液４に溶剤が含まれない場合は乾燥する必要はなく、隔壁修正液４に溶剤が含まれていても自然に溶剤が揮発することがある。乾燥する操作をとる場合には、風乾、加熱乾燥、真空乾燥等を行えばよい。加熱乾燥の場合、オーブン、ホットプレート等を使用し、５０〜３００℃の範囲で１分〜３時間行うのが好ましい。また、隔壁２の修正においては局所的かつ短時間での乾燥が要求されることが多いので、赤外線スポットヒーター等を用いて、修正箇所だけを加熱して乾燥する方法も好ましい。
【００９１】
隔壁修正液４を硬化する方法としては、特に限定はないが、紫外線照射によって硬化させることが好ましい。特に連続波の３５５ｎｍの紫外線を発光するレーザー光源を用いると、その発光照度が高いため、短時間で修正液を硬化させるのに十分なエネルギーを照射することができ、また、修正箇所のみを照射できるため、生産性が高い。
【００９２】
隔壁修正液４を硬化させたとき、図１の［ＩＶ］に示すように、本来必要な隔壁２のライン幅以上に太り、画素領域側に硬化部位６がはみでることがある。この場合には、硬化部位６のうち画素領域側にはみ出した不要な部分を除去することが好ましい。不要な部分を除去する方法としては、上記パルス波の５３２ｎｍまたは３５５ｎｍのレーザー光を照射することが好ましい。
【００９３】
（隔壁で区画された画素領域にインクジェット法によりインクを塗布し、画素を形成する工程［５］）
用いるインクジェット装置としては、インク吐出方式によりピエゾ方式やサーマル方式が挙げられるが、ピエゾ方式の装置が好ましい。サーマル方式の場合、インクを吐出する際に加熱をするため、その熱によってインクが変質するおそれがあるが、ピエゾ方式の場合、インクは加熱されることがないからである。吐出されるインクの液滴は５〜５００ｐＬであることが好ましい。液滴が小さすぎるとインクの飛翔途中で溶剤が蒸発してしまうおそれや微小気流の影響を受けて着弾精度が低下するおそれがある。液滴が大きすぎると微小な画素が得られにくくなるおそれがある。
【００９４】
次に、インクの塗膜を真空乾燥や加熱乾燥することによって、溶剤を揮発させる。またインク層の外観のムラを発生させず、効率よく乾燥させるために、真空乾燥と加熱乾燥を併用することがより好ましい。各成分の種類、配合割合等によっても異なるが、真空乾燥は５００〜１０Ｐａ（ゲージ圧）、１０〜３００秒間程度、加熱乾燥は５０〜１２０℃、１０〜２０００秒間程度の幅広い範囲で行うことが好ましい。用いるインクの溶剤の沸点が低い場合には、必ずしも真空乾燥や加熱乾燥を行うことなく、室温で１０〜２０００秒間程度静置しておくだけでもよい。
【００９５】
次いで、ホットプレート、オーブン等の加熱装置により、好ましくは１５０〜２５０℃で、５〜９０分間加熱処理を行ってもよい。加熱処理することにより、インクが熱硬化性の成分を含んでいる場合、その硬化反応を促進し、実用上必要とされる耐薬品性や耐熱性をインク層に付与することができる。
【００９６】
（カラーフィルタの製造方法）
次に、光学素子がカラーフィルタである場合の本発明の製造方法について説明する。
ブラックマトリックスとしての機能を有する遮光性隔壁を形成し修正した後、隔壁で区分された画素領域に、インクジェット法によって赤色、緑色、および青色のカラーインクを塗布して画素を形成する。また、あらかじめブラックマトリックスが形成された基板を用いて、該ブラックマトリックス上に隔壁を形成し修正した後、隔壁で区分された画素領域に、インクジェット法によって、赤色、緑色、および青色のカラーインクをそれぞれ塗布して画素を形成する。
形成される画素の形状は、ストライプ型、モザイク型、トライアングル型、４画素配置型等の公知のいずれの配列とすることも可能である。
【００９７】
赤色、緑色、および青色のカラーインクは、主に着色成分と、バインダー樹脂成分と、溶剤とを含む。着色成分としては、耐熱性、耐光性等に優れた顔料または染料を用いることが好ましい。バインダー樹脂成分としては、透明で耐熱性に優れた樹脂が好ましく、アクリル樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂等が挙げられる。インクが水性である場合、溶剤は水および必要に応じて水溶性有機溶媒からなり、バインダー樹脂成分として水溶性樹脂または水分散性樹脂を含有し、必要に応じて各種助剤を含有する。インクが油性である場合、溶剤は有機溶剤であり、バインダー樹脂成分として有機溶剤に可溶な樹脂を含有し、必要に応じて各種助剤を含有する。
【００９８】
さらに必要に応じて、カラーフィルタを用いて製造される液晶パネルの高品位化のためにフォトスペーサーをブラックマトリックス上に形成することが好ましい。
【００９９】
（有機ＥＬ素子の製造方法）
次に、光学素子が有機ＥＬ表示素子である場合の本発明の製造方法について説明する。
最初に、ガラス等の透明基板に酸化インジウム錫（ＩＴＯ）等の透明電極をスパッタ法等によって製膜し、必要に応じて所望のパターンに透明電極をエッチングする。次に、隔壁を形成し修正する。その後、隔壁で区分された画素領域に、インクジェット法によって正孔輸送材料、発光材料の溶液を順次塗布、乾燥して、正孔輸送層、発光層を形成する。
【０１００】
正孔輸送材料としては、例えばチオフェン系導電性高分子（ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ）の塗布液を用いることができる。
また、発光材料としては、π共役ポリマー系発光材料と色素含有ポリマー系発光材料を用いることができる。π共役ポリマー系発光材料としては、ポリフルオレン（ＰＦ）誘電体（赤色，緑色，および青色）、ポリスパイロ（Ｐｏｌｙ−Ｓｐｉｒｏ）誘電体（赤色、緑色、および青色）、ポリパラフェニレン誘電体またはポリチオフェン誘電体等が挙げられる。色素含有ポリマー系発光材料としては、燐光または蛍光の低分子色素をポリビニルカルバゾール（ＰＶＫ）に分散した発光材料である色素分散ＰＶＫ（赤色、緑色、および青色）等が挙げられる。
溶剤としては、正孔輸送材料の溶媒としては水等の高極性の溶剤を用いることが好ましく、発光材料の溶媒としては、キシレン等の低極性の溶剤を用いることが好ましく用いられる。
【０１０１】
その後、アルミニウム等の電極を蒸着法等によって形成することによって、有機ＥＬ表示素子の画素が得られる。
【実施例】
【０１０２】
以下に、合成例および実施例を掲げて本発明を具体的に説明するが、これにより本発明は限定されない。なお、以下において、特に断らない限り、部および％は質量基準である。
重量平均分子量はゲルパーミエーションクロマトグラフィー法によりポリスチレンを標準物質として測定した値である。
重合体に含まれるフッ素原子の含有率は、以下の手法で測定した。得られた重合体を１２００℃で完全に燃焼分解させ、発生したガスを５０ｇの水に吸収させた。得られた水溶液のフッ化物イオン量を定量し、重合体に含まれるフッ素原子の含有率を算出した。
１分子中のエチレン性二重結合の数は、原料である単量体の配合割合から算出した理論値である。【０１０３】
以下の各例において用いた化合物の略号を以下に示す。
Ｃ６ＦＭＡ：ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯＣＨ２ＣＨ２（ＣＦ２）６Ｆ、
Ｘ−１７４ＤＸ：ジメチルシリコーン鎖含有メタクリレート（信越化学工業社製、商品名Ｘ−２２−１７４ＤＸ）
ＭＡＡ：メタクリル酸、
２ＨＥＭＡ：２−ヒドロキシエチルメタクリレート、
ＭＭＡ：メチルメタクリレート、
ＩＢＭＡ：イソボルニルメタクリレート、
２ＭＥ：２−メルカプトエタノール、
Ｖ７０：２，２’−アゾビス（４−メトキシ−２，４−ジメチルバレロニトリル）（和光純薬社製、商品名Ｖ−７０）、
ＭＯＩ：２−メタクリロイルオキシエチルイソシアネート、
ＤＢＴＤＬ：ジブチル錫ジラウレート、
ＢＨＴ：２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、
ＺＣＲ１５６９Ｈ：ビフェニル型エポキシアクリレート（日本化薬社製、商品名ＺＣＲ１５６９Ｈ：固形分７０質量％。）、
ＩＲ３６９：ラジカル開始剤（チバスペシャルティケミカルズ社製、商品名ＩＲＧＡＣＵＲＥ−３６９）。
ＯＸＥ０２：エタノン  １−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾイル−３−イル］−１−（Ｏ−アセチルオキシム）（チバスペシャルティケミカルズ社製、商品名ＯＸＥ０２）、
ＤＥＴＸ−Ｓ：イソプロピルチオキサントン（日本化薬社製、商品名ＤＥＴＸ−Ｓ）、
Ｄ３１０：ジペンタエリスリトールペンタアクリレート（日本化薬社製、商品名ＫＡＹＡＲＡＤ  Ｄ−３１０）、
Ａ９３００：（新中村化学工業社製、商品名  Ａ９３００）、
１５７Ｓ６５：ビスフェノールＡノボラック型エポキシ樹脂（ジャパンエポキシレジン社製、商品名エピコート１５７Ｓ６５）、
ＫＢＭ４０３：３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン（信越化学工業社製、商品名ＫＢＭ−４０３）、
ＰＧＭＥＡ：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、
ＣＨＯＮ：シクロヘキサノン、
ＭＢＡ：３−メトキシブチルアセテート、
ＣＢ：カーボンブラック分散液（平均二次粒径＝１２０ｎｍ、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶液、ＣＢ分２０質量％、固形分２５質量％）。【０１０４】
＜重合体（Ａ１）、（Ａ２）、および（Ａ３）の合成＞
［合成例１］
撹拌機を備えた内容積１Ｌのオートクレーブに、アセトン（５５６ｇ）、Ｃ６ＦＭＡ（９６ｇ）、ＭＡＡ（４．８ｇ）、２−ＨＥＭＡ（９６ｇ）、ＭＭＡ（４３．２ｇ）、連鎖移動剤２−ＭＥ（６．２ｇ）および重合開始剤Ｖ−７０（４．５ｇ）を仕込み、窒素雰囲気下に撹拌しながら、４０℃で１８時間重合させ、重合体（１）の溶液を得た。得られた重合体（１）のアセトン溶液に水を加え再沈精製し、次いで石油エーテルで再沈精製し、真空乾燥し、重合体（１）の２３７ｇを得た。重合体（１）の重量平均分子量は５６００であった。【０１０５】
［合成例２］
温度計、撹拌機、加熱装置を備えた内容量５００ｍＬのガラス製フラスコに、重合体（１）（１００ｇ）、ＭＯＩ（４７．７ｇ）、ＤＢＴＤＬ（０．１９ｇ）、ＢＨＴ（２．４ｇ）およびアセトン（１００ｇ）を仕込み、撹拌しながら、３０℃で１８時間重合させ、重合体（２）の溶液を得た。得られた重合体（２）のアセトン溶液に水を加え再沈精製し、次いで石油エーテルで再沈精製し、真空乾燥し、重合体（２）の１３５ｇを得た。重量平均分子量は８８００であった。【０１０６】
［合成例３］
撹拌機を備えた内容積１Ｌのオートクレーブに、アセトン（５５７ｇ）、Ｃ６ＦＭＡ（１２０ｇ）、２−ＨＥＭＡ（９６ｇ）、ＭＭＡ（９．６ｇ）、ＩＢＭＡ（３８．４ｇ）、連鎖移動剤２−ＭＥ（６．５ｇ）および重合開始剤Ｖ−７０（３．５ｇ）を仕込み、窒素雰囲気下に撹拌しながら、４０℃で１８時間重合させ、重合体の溶液を得た。得られた重合体のアセトン溶液に水を加え再沈精製し、次いで石油エーテルで再沈精製し、真空乾燥し、重合体の２３０ｇを得た。この重合体の重量平均分子量は５８００であった。【０１０７】
温度計、撹拌機、加熱装置を備えた内容量５００ｍＬのガラス製フラスコに、上記重合体（１００ｇ）、ＭＯＩ（３５．８ｇ）、ＤＢＴＤＬ（０．１４ｇ）、ＢＨＴ（１．８ｇ）およびアセトン（１００ｇ）を仕込み、撹拌しながら、３０℃で１８時間重合させ、重合体（３）の溶液を得た。得られた重合体（３）のアセトン溶液に水を加え再沈精製し、次いで石油エーテルで再沈精製し、真空乾燥し、重合体の１２８ｇを得た。重量平均分子量は８０００であった。【０１０８】
［合成例４］
撹拌機を備えた内容積１Ｌのオートクレーブに、アセトン（５５４ｇ）、Ｘ−１７４ＤＸ（１２ｇ）、２−ＨＥＭＡ（１３２ｇ）、ＭＭＡ（７２ｇ）、連鎖移動剤２−ＭＥ（２．７ｇ）および重合開始剤Ｖ−７０（６．２ｇ）を仕込み、窒素雰囲気下に撹拌しながら、４０℃で１８時間重合させ、重合体の溶液を得た。得られた重合体のアセトン溶液に水を加え再沈精製し、次いで石油エーテルで再沈精製し、真空乾燥し、重合体の２１５ｇを得た。この重合体の重量平均分子量は１３０００であった。【０１０９】
温度計、撹拌機、加熱装置を備えた内容量５００ｍＬのガラス製フラスコに、上記重合体（１００ｇ）、ＭＯＩ（６５．６ｇ）、ＤＢＴＤＬ（０．２６ｇ）、ＢＨＴ（３．３ｇ）およびアセトン（１００ｇ）を仕込み、撹拌しながら、３０℃で１８時間重合させ、重合体（４）の溶液を得た。得られた重合体（４）のアセトン溶液に水を加え再沈精製し、次いで石油エーテルで再沈精製し、真空乾燥し、重合体（４）の１６５ｇを得た。重量平均分子量は２２１００であった。
得られた重合体の重量平均分子量、重合体に含まれるフッ素原子の含有率、および１分子中のエチレン性二重結合（Ｃ＝Ｃ）の数を表１に示した。【０１１０】
【表１】
2010013654.tif 000003
【０１１１】
＜隔壁形成用組成物の調製＞
［隔壁形成用組成物１］
重合体（２）（１．４５部）、アルカリ可溶性感光性樹脂の分散液としてのＺＣＲ１５６９Ｈ（４７．１部）、光重合開始剤としてのＯＸＥ０２（８．７部）、黒色着色剤の分散液としてのＣＢ（２３２．０部）、ラジカル架橋剤としてのＤ３１０（２５．４部）、熱硬化剤としての１５７Ｓ６５（３．６部）、シランカップリング剤としてのＫＢＭ４０３（５．８部）および溶剤としてのＰＧＭＥＡ（５７６部）およびＣＨＯＮ（１００部）を混合して、隔壁形成用組成物１の希釈液を得た。隔壁形成用組成物１の全固形分中の重合体（２）の含有量は、０．９７％であった。【０１１２】
＜隔壁修正液の調製＞
［隔壁修正液（Ｘ１）］
重合体（２）（０．４３部）、
ラジカル架橋剤としてのＤ３１０（１５．１部）、Ａ９３００（６．５部）、
光重合開始剤としてのＩＲ３６９（３．２部）、ＤＥＴＸ−Ｓ（１．１部）、
黒色着色剤の分散液としてのＣＢ（４３．２部）、
熱架橋剤としての１５７Ｓ６５（１．１部）、
シランカップリング剤としてのＫＢＭ４０３（１．７部）、
重合禁止剤としてのＢＨＴ（０．５部）および
溶剤としてのＭＢＡ（２７．６部）を混合して、隔壁修正液１を得た。隔壁修正液１の全固形分中の重合体（２）の含有量は、１．１％であった。【０１１３】
［隔壁修正液（Ｘ２）〜（Ｘ５）］
各成分の配合を表２に示すように変更した以外は、隔壁修正液（Ｘ１）と同様にして、隔壁修正液（Ｘ２）〜（Ｘ５）を得た。
表２中、「−」は、当該材料を使用しなかったことを示す。【０１１４】
【表２】
2010013654.tif 000004
【０１１５】
［例１］
（カラーフィルタの作製）
無アルカリガラス基板上にスリットコーターを用いて、隔壁形成用組成物１を塗布した後、１３０Ｐａで３０秒間真空乾燥を行い、さらに１００℃で２分間ホットプレート上で乾燥した。塗膜の上方に、格子パターンが形成されているマスク（ライン＝２０μｍ、格子スペース＝１００μｍ×２００μｍ）を３０μｍのギャップで設置し、超高圧水銀灯により１００ｍＪ／ｃｍ２を照射した。次いで基板を界面活性剤入り０．１質量％テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液を用い、２５℃で４０秒間現像処理を行い、水で洗浄し、乾燥させ、遮光性隔壁を形成した。【０１１６】
遮光性隔壁を形成した基板にハロゲンランプ光を照射し、ＣＣＤカメラにより遮光性隔壁を撮像し、これを予め準備された基準パターンと比較することによって検査したところ、遮光性隔壁に欠陥が検出された。なお、上記装置には、隔壁の欠陥部を検出する欠陥隔壁観察部、隔壁の欠陥部を除去するレーザー、および欠陥修正用針が搭載されている。
隔壁の欠陥部に、上記装置に搭載されているパルスレーザー（波長５３２ｎｍ）を用いてスリット径５０μｍにて３パルス照射し、５０μｍ分の隔壁を除去した。
先端に隔壁修正液（Ｘ１）を付着させた上記欠陥修正用針を、隔壁を除去した個所に接触させ、引き離すことにより、隔壁に修正液を塗布した。この工程を２回繰り返し、隔壁に欠けがないように修正液を塗布した。その後、修正した領域に上記装置に搭載されているレーザー（波長３５５ｎｍ）により５０００ｍＪ／ｃｍ２の露光量で露光することにより、硬化させた。
修正した隔壁のライン幅を２０μｍに調整するために、パルスレーザー（波長５３２ｎｍ）を用いてスリット径５０μｍにて３パルス照射し、画素領域にはみ出た部分を除去した。【０１１７】
隔壁で区画された１００μｍ×２００μｍの領域内に、インクジェット装置を用いて、緑色、青色、赤色のそれぞれの顔料を含んだ固形分２５％の熱硬化型インク（１８０ｐＬ）を注入した。その後、１００℃で５分間ホットプレート上で乾燥した。次いで２００℃で３０分間加熱処理を行い、画素を形成した。インク層の加熱硬化後の体積は４０ｐＬであった。
上記修正された隔壁は撥液性を有しているため、インクが隔壁からあふれて混色等の不良が起こることなく、高精細にインク層を形成することができた。【０１１８】
（電圧保持率の測定）
隔壁修正液（Ｘ１）の硬化物の電圧保持率への影響について検討した。無アルカリガラス板上に、透明電極としてＩＴＯを成膜し、さらにポリイミド配向膜（ＪＳＲ社製ＡＬ−１０５１）を設けたＴＮセルを用意した。また、液晶材料としてＺＬＩ−１５６５（メルク社製）を用意した。ポリイミド配向膜上に、上記カラーフィルタの作製において用いた方法と同様の方法により、隔壁修正液（Ｘ１）を塗布、硬化させた。すなわち、修正液を意図的に液晶層と触れるように製膜し、評価を行った。【０１１９】
上記ＴＮセルに、±５Ｖ、２．５Ｈｚの矩形波から成るソース電圧ＶＳを、ゲートパルス（ゲート電圧）ＶＧによる高インピーダンスＦＥＴ（電界効果トランジスタ）スイッチングにより、６４μ秒だけ印加し、遮断した。ＴＮセルの両電極間の電圧ＶＬが１／２周期に描くカーブより電圧保持率を求めた。測定温度は８０℃とした。
初期の電圧保持率は９２％であった。その後、温度６０℃、相対湿度９０％の雰囲気で１０００時間保持した後に再度電圧保持率測定を行ったが、電圧保持率に変化は見られなかった。【０１２０】
［例２］
例１のカラーフィルタの作製において、隔壁修正液（Ｘ１）の代わりに隔壁修正液（Ｘ２）を用い、５０００ｍＪ／ｃｍ２の露光量の代わりに１０００ｍＪ／ｃｍ２の露光量で硬化させた以外は、例１と同様にしてカラーフィルタを作製した。
上記修正された隔壁は撥液性を有しているため、インクが隔壁からあふれて混色等の不良が起こることなく、高精細にインク層を形成することができた。【０１２１】
例１の電圧保持率の測定において、隔壁修正液（Ｘ１）の代わりに隔壁修正液（Ｘ２）を用い、５０００ｍＪ／ｃｍ２の露光量の代わりに１０００ｍＪ／ｃｍ２の露光量で硬化させた以外は、例１と同様にして電圧保持率の測定を行った。電圧保持率に変化は見られなかった。【０１２２】
［例３］
例１のカラーフィルタの作製において、隔壁修正液（Ｘ１）の代わりに隔壁修正液（Ｘ３）を用い、５０００ｍＪ／ｃｍ２の露光量の代わりに２０００ｍＪ／ｃｍ２の露光量で硬化させた以外は、例１と同様にしてカラーフィルタを作製した。
上記修正された隔壁は撥液性を有しているため、インクが隔壁からあふれて混色等の不良が起こることなく、高精細にインク層を形成することができた。
例１の電圧保持率の測定において、隔壁修正液（Ｘ１）の代わりに隔壁修正液（Ｘ３）を用い、５０００ｍＪ／ｃｍ２の露光量の代わりに２０００ｍＪ／ｃｍ２の露光量で硬化させた以外は、例１と同様にして電圧保持率の測定を行った。電圧保持率に変化は見られなかった。
［例４］
例１のカラーフィルタの作製において、隔壁修正液（Ｘ１）の代わりに隔壁修正液（Ｘ３）を用いた以外は、例１と同様にしてカラーフィルタを製造した。【０１２３】
上記修正された隔壁の修正箇所は撥液性を有していないため、修正箇所でインクが隔壁からあふれて混色している画素が検出された。【０１２４】
［例５］
例１のカラーフィルタの作製において、隔壁修正液（Ｘ１）の代わりに隔壁修正液（Ｘ４）を用い、５０００ｍＪ／ｃｍ２の露光量の代わりに１０００ｍＪ／ｃｍ２の露光量で硬化させた以外は、例１と同様にしてカラーフィルタを作製した。
上記修正された隔壁は撥液性を有しているため、インクが隔壁からあふれて混色等の不良が起こることなく、高精細にインク層を形成することができた。【０１２５】
例１の電圧保持率の測定において、隔壁修正液（Ｘ１）の代わりに隔壁修正液（Ｘ４）を用いた以外は、例１と同様にして電圧保持率の測定を行った。初期の電圧保持率が９１％であったのに対し、温度６０℃、相対湿度９０％の雰囲気で１０００時間保持した後の電圧保持率は７１％であり、２０％の低下がみられた。
【産業上の利用可能性】
【０１２６】
本発明の隔壁修正液を用いた光学素子の製造方法は、カラーフィルタ、有機ＥＬ表示素子、液晶表示素子のＩＴＯ電極、回路配線基板等の電子デバイスの製造に好適に用いられる。
なお、２００８年７月３０日に出願された日本特許出願２００８−１９６２０１号の明細書、特許請求の範囲、図面および要約書の全内容をここに引用し、本発明の明細書の開示として、取り入れるものである。
【符号の説明】
【０１２７】
１：基材
２：隔壁
３：欠陥部
４：隔壁修正液
５：液供給手段
６：硬化部位
【図１】
2010013654.tif 000005
【国際調査報告】
2010013654.tif 000006
2010013654.tif 000007
2010013654.tif 000008
2010013654.tif 000009
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