(57)【要約】  本発明は、青紫色レーザー光に対する高感度な光応答性等を有する光記録媒体に用いられるスクアリリウム化合物の金属錯体等を提供する。  本発明は、式（Ｉ）［式中、Ｒ１は置換基を有していてもよい複素環基、ＮＲ４Ｒ５（式中、Ｒ４およびＲ５は、同一または異なって、置換基を有していてもよいアリール基等を表す）等を表し、Ｒ２は置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよい複素環基等を表し、Ｒ３は水素原子等を表す］で表されるスクアリリウム化合物の金属錯体等を提供する。2010047341.tif 000023
2010047341.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式（Ｉ）
【化１６】
2010047341.tif 000021
［式中、Ｒ１は、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよい複素環基またはＮＲ４Ｒ５（式中、Ｒ４およびＲ５は、同一または異なって、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアラルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよい脂環式炭化水素基または置換基を有していてもよい複素環基を表す）を表し、Ｒ２は、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアラルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよい脂環式炭化水素基、置換基を有していてもよい複素環基、ＹＲ６（式中、Ｙは酸素原子または硫黄原子を表し、Ｒ６は置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよい脂環式炭化水素基または置換基を有していてもよい複素環基を表す）またはＮＲ７Ｒ８（式中、Ｒ７およびＲ８は、同一または異なって、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアラルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよい脂環式炭化水素基または置換基を有していてもよい複素環基を表す）を表し、Ｒ３は、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアラルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよい脂環式炭化水素基または置換基を有していてもよい複素環基を表す］で表されるスクアリリウム化合物の金属錯体。
【請求項２】
Ｒ１が置換基を有していてもよい複素環基である請求項１記載のスクアリリウム化合物の金属錯体。
【請求項３】
Ｒ１が置換基を有していてもよい複素環基であり、該複素環基が置換基を有していてもよい芳香族複素環基である請求項１記載のスクアリリウム化合物の金属錯体。
【請求項４】
Ｒ１が置換基を有する複素環基であり、該置換基を有する複素環基が、式（Ｘ）
【化１７】
2010047341.tif 000022
（式中、Ｒ９は、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアラルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよい脂環式炭化水素基または置換基を有していてもよい複素環基を表し、Ｒ１０は、水素原子、ヒドロキシル基、カルボキシル基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、置換基を有していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアラルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよい脂環式炭化水素基または置換基を有していてもよい複素環基を表す）で表される基である請求項１記載のスクアリリウム化合物の金属錯体。
【請求項５】
Ｒ１０が置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアラルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよい脂環式炭化水素基または置換基を有していてもよい複素環基である請求項４記載のスクアリリウム化合物の金属錯体。
【請求項６】
Ｒ１がＮＲ４Ｒ５（式中、Ｒ４およびＲ５は、それぞれ前記と同義である）である請求項１記載のスクアリリウム化合物の金属錯体。
【請求項７】
Ｒ１がＮＲ４Ｒ５（式中、Ｒ４およびＲ５は、それぞれ前記と同義である）であり、Ｒ４およびＲ５が、同一または異なって、置換基を有していてもよいアリール基または置換基を有していてもよい複素環基である請求項１記載のスクアリリウム化合物の金属錯体。
【請求項８】
Ｒ２が置換基を有していてもよいアリール基または置換基を有していてもよい複素環基である請求項１〜７のいずれかに記載のスクアリリウム化合物の金属錯体。
【請求項９】
Ｒ３が水素原子である請求項１〜８のいずれかに記載のスクアリリウム化合物の金属錯体。
【請求項１０】
金属がニッケル、コバルト、アルミニウム、銅、亜鉛または鉄である請求項１〜９のいずれかに記載のスクアリリウム化合物の金属錯体。
【請求項１１】
請求項１〜１０のいずれかに記載のスクアリリウム化合物の金属錯体を含有する光記録媒体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光記録媒体等に用いられるスクアリリウム化合物の金属錯体等に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、対物レンズの開口数ＮＡを大きくする技術、レーザー波長λを小さくする技術等を用い、さらに超高密度記録が可能となる光記録媒体の開発が進んでいる。例えば、ＨＤＴＶ（高精細度テレビ）の映像情報を２時間以上記録するためには、ＤＶＤと同サイズで少なくとも２３ＧＢ以上の容量をもつ光記録媒体が要望されている。こういった要望に応えるために、４０５ｎｍの青紫色レーザーを使用し、対物レンズのＮＡを０．８５とし、レーザースポット径を小さくすることによって、より高密度の情報を記録する光記録媒体、いわゆるＢｌｕ−ｒａｙ  Ｄｉｓｃ(ＢＤ)が開発された。【０００３】
追記型Ｂｌｕ−ｒａｙ  Ｄｉｓｃ（ＢＤ-Ｒ）には、記録・再生を可能にする要求性能に加えて、記録感度、変調度、ジッタ（Ｊｉｔｔｅｒ）、エラー率等において様々な優れた特性が求められる。しかし、従来の有機色素を用いたＢＤ-Ｒにおけるそれらの特性は十分でない。
ピラゾール構造を有するスクアリリウム化合物の金属錯体は、追記型デジタルバーサタイルディスク（ＤＶＤ−Ｒ）に用いる色素として有用であることが知られている（特許文献１）。該色素はＤＶＤ−Ｒの記録に用いられる約６５０ｎｍのレーザー光で記録するのに適しているが、４０５ｎｍのレーザー光で記録するのに適していない。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】国際公開第２００２／５０１９０号パンフレット
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明の目的は、青紫色レーザー光に対する高感度な光応答性等を有する光記録媒体に用いられるスクアリリウム化合物の金属錯体等を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明は、以下の［１］〜［１１］を提供する。
［１］式（Ｉ）【０００７】
【化１】
2010047341.tif 000003
【０００８】
［式中、Ｒ１は、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよい複素環基またはＮＲ４Ｒ５（式中、Ｒ４およびＲ５は、同一または異なって、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアラルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよい脂環式炭化水素基または置換基を有していてもよい複素環基を表す）を表し、Ｒ２は、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアラルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよい脂環式炭化水素基、置換基を有していてもよい複素環基、ＹＲ６（式中、Ｙは酸素原子または硫黄原子を表し、Ｒ６は置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよい脂環式炭化水素基または置換基を有していてもよい複素環基を表す）またはＮＲ７Ｒ８（式中、Ｒ７およびＲ８は、同一または異なって、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアラルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよい脂環式炭化水素基または置換基を有していてもよい複素環基を表す）を表し、Ｒ３は、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアラルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよい脂環式炭化水素基または置換基を有していてもよい複素環基を表す］で表されるスクアリリウム化合物の金属錯体。【０００９】
［２］Ｒ１が置換基を有していてもよい複素環基である［１］記載のスクアリリウム化合物の金属錯体。
［３］Ｒ１が置換基を有していてもよい複素環基であり、該複素環基が置換基を有していてもよい芳香族複素環基である［１］記載のスクアリリウム化合物の金属錯体。
［４］Ｒ１が置換基を有する複素環基であり、該置換基を有する複素環基が、式（Ｘ）【００１０】
【化２】
2010047341.tif 000004
【００１１】
（式中、Ｒ９は、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアラルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよい脂環式炭化水素基または置換基を有していてもよい複素環基を表し、Ｒ１０は、水素原子、ヒドロキシル基、カルボキシル基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、置換基を有していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアラルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよい脂環式炭化水素基または置換基を有していてもよい複素環基を表す）で表される基である［１］記載のスクアリリウム化合物の金属錯体。【００１２】
［５］Ｒ１０が置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアラルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよい脂環式炭化水素基または置換基を有していてもよい複素環基である［４］記載のスクアリリウム化合物の金属錯体。
［６］Ｒ１がＮＲ４Ｒ５（式中、Ｒ４およびＲ５は、それぞれ前記と同義である）である［１］記載のスクアリリウム化合物の金属錯体。
［７］Ｒ１がＮＲ４Ｒ５（式中、Ｒ４およびＲ５は、それぞれ前記と同義である）であり、Ｒ４およびＲ５が、同一または異なって、置換基を有していてもよいアリール基または置換基を有していてもよい複素環基である［１］記載のスクアリリウム化合物の金属錯体。【００１３】
［８］Ｒ２が置換基を有していてもよいアリール基または置換基を有していてもよい複素環基である［１］〜［７］のいずれかに記載のスクアリリウム化合物の金属錯体。
［９］Ｒ３が水素原子である［１］〜［８］のいずれかに記載のスクアリリウム化合物の金属錯体。
［１０］金属がニッケル、コバルト、アルミニウム、銅、亜鉛または鉄である［１］〜［９］のいずれかに記載のスクアリリウム化合物の金属錯体。
［１１］［１］〜［１０］のいずれかに記載のスクアリリウム化合物の金属錯体を含有する光記録媒体。
【発明の効果】
【００１４】
本発明により、青紫色レーザー光に対する高感度な光応答性等を有する光記録媒体に用いられるスクアリリウム化合物の金属錯体等を提供できる。  
【発明を実施するための形態】
【００１５】
以下、式（Ｉ）で表される化合物を化合物（Ｉ）という。他の式番号の化合物についても同様である。
一般式の各基の定義において、アルキル基としては、例えば、直鎖または分岐状の炭素数１〜２０のアルキル基が挙げられ、具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基、イソペンチル基、１−メチルブチル基、２−メチルブチル基、ｔｅｒｔ−ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、１−イソプロピル−２−メチルプロピル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、エイコシル基等が挙げられ、中でも炭素数が１〜１０であるものが好ましい。
【００１６】
アラルキル基としては、例えば、炭素数７〜１５のアラルキル基が挙げられ、具体的には、ベンジル基、フェネチル基、フェニルプロピル基、ナフチルメチル基等が挙げられる。
アリール基としては、例えば、炭素数６〜１４のアリール基が挙げられ、具体的には、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、アズレニル基等が挙げられる。
【００１７】
脂環式炭化水素基における脂環式炭化水素としては、例えば、炭素数３〜８のシクロアルカン、炭素数３〜８のシクロアルケン、３〜８員の環が縮合した二環または三環性の脂環式炭化水素等が挙げられる。
炭素数３〜８のシクロアルカンの具体例としては、例えば、シクロプロパン、シクロブタン、シクロペンタン、シクロヘキサン、シクロヘプタン、シクロオクタン等が挙げられる。
【００１８】
炭素数３〜８のシクロアルケンの具体例としては、例えば、シクロプロペン、シクロブテン、シクロペンテン、シクロヘキセン、シクロヘプテン、シクロオクテン等が挙げられる。
３〜８員の環が縮合した二環または三環性の脂環式炭化水素の具体例としては、例えば、ジヒドロペンタレン、ジヒドロインデン、テトラヒドロナフタレン、ヘキサヒドロフルオレン等が挙げられる。
【００１９】
複素環基における複素環としては、芳香族複素環および脂環式複素環が挙げられる。
芳香族複素環としては、例えば、窒素原子、酸素原子および硫黄原子から選ばれる少なくとも１個の原子を含む５員または６員の単環性芳香族複素環、３〜８員の環が縮合した二環または三環性で窒素原子、酸素原子および硫黄原子から選ばれる少なくとも１個の原子を含む縮環性芳香族複素環等が挙げられ、具体的には、ピリジン環、ピラジン環、ピリミジン環、ピリダジン環、キノリン環、イソキノリン環、フタラジン環、キナゾリン環、キノキサリン環、ナフチリジン環、シンノリン環、ピロール環、ピラゾール環、イミダゾール環、トリアゾール環、トリアジン環、テトラゾール環、チオフェン環、フラン環、チアゾール環、オキサゾール環、イソオキサゾール環、インドール環、イソインドール環、インダゾール環、ベンゾイミダゾール環、ベンゾチオフェン環、ベンゾトリアゾール環、ベンゾチアゾール環、ベンゾオキサゾール環、プリン環、カルバゾール環、アクリジン環、フェナジン環、フェノチアジン環、フェノキサジン環等が挙げられる。
【００２０】
脂環式複素環としては、例えば、窒素原子、酸素原子および硫黄原子から選ばれる少なくとも１個の原子を含む５〜８員の単環性脂環式複素環、３〜８員の環が縮合した二環または三環性で窒素原子、酸素原子および硫黄原子から選ばれる少なくとも１個の原子を含む縮環性脂環式複素環等が挙げられ、具体的には、ピロリジン環、ピペリジン環、ピペラジン環、モルホリン環、チオモルホリン環、ホモピペリジン環、ホモピペラジン環、テトラヒドロピリジン環、テトラヒドロキノリン環、テトラヒドロイソキノリン環、テトラヒドロフラン環、テトラヒドロピラン環、ジヒドロベンゾフラン環、インドリン環、テトラヒドロカルバゾール環等が挙げられる。
【００２１】
芳香族複素環基における芳香族複素環としては、例えば、前記に例示した芳香族複素環と同じものが挙げられる。
ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。
アミノ基の置換基としては、例えば、１個または２個の置換基、具体的には、アルキル基、アラルキル基、アリール基、脂環式炭化水素基、複素環基等が挙げられる。ここで、アルキル基、アラルキル基、アリール基、脂環式炭化水素基および複素環基は、それぞれ前記と同義である。該置換基が２個であるとき、置換基のそれぞれは同一または異なっていてもよい。
【００２２】
アルキル基の置換基としては、例えば、同一または異なって１〜５個の置換基、具体的には、ヒドロキシル基、カルボキシル基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、カルバモイル基、アルコキシル基、アルコキシアルコキシル基、アルカノイル基、アルキルカルボニルオキシ基、アルコキシカルボニル基、アロイル基、アリールオキシ基、アリールカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニル基、複素環基等が挙げられる。ハロゲン原子および複素環基は、それぞれ前記と同義である。アルコキシル基、アルカノイル基、アルキルカルボニルオキシ基およびアルコキシカルボニル基のアルキル部分は、それぞれ前記のアルキル基と同義である。アルコキシアルコキシル基の２つのアルコキシ部分は、それぞれ前記のアルコキシル基と同義である。アロイル基、アリールオキシ基、アリールカルボニルオキシ基およびアリールオキシカルボニル基のアリール部分は、それぞれ前記のアリール基と同義である。
【００２３】
アラルキル基、アリール基および脂環式炭化水素基の置換基としては、例えば、同一または異なって１〜５個の置換基、具体的には、ヒドロキシル基、カルボキシル基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、カルバモイル基、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアルコキシル基、アラルキル基、アルカノイル基、アルキルカルボニルオキシ基、アルコキシカルボニル基、アリール基、アロイル基、アリールオキシ基、アリールカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニル基、脂環式炭化水素基、複素環基、置換基を有していてもよいアミノ基等が挙げられる。ここで、ハロゲン原子、置換基を有していてもよいアルキル基、アルコキシル基、アラルキル基、アルカノイル基、アルキルカルボニルオキシ基、アルコキシカルボニル基、アリール基、アロイル基、アリールオキシ基、アリールカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニル基、脂環式炭化水素基、複素環基および置換基を有していてもよいアミノ基は、それぞれ前記と同義である。アルコキシル基の置換基としては、例えば、アルキル基の置換基として前記に例示した官能基と同じものが挙げられる。
【００２４】
芳香族複素環基の置換基としては、例えば、同一または異なって１〜５個の置換基、具体的には、ヒドロキシル基、オキソ基、カルボキシル基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、カルバモイル基、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアルコキシル基、置換基を有していてもよいアラルキル基、アルカノイル基、アルキルカルボニルオキシ基、アルコキシカルボニル基、置換基を有していてもよいアリール基、アロイル基、アリールオキシ基、アリールカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニル基、置換基を有していてもよい脂環式炭化水素基、複素環基、置換基を有していてもよいアミノ基等が挙げられる。ここで、ハロゲン原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアルコキシル基、置換基を有していてもよいアラルキル基、アルカノイル基、アルキルカルボニルオキシ基、アルコキシカルボニル基、置換基を有していてもよいアリール基、アロイル基、アリールオキシ基、アリールカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニル基、置換基を有していてもよい脂環式炭化水素基、複素環基および置換基を有していてもよいアミノ基は、それぞれ前記と同義である。
【００２５】
Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９またはＲ１０が置換基を有していてもよい複素環基であるときの複素環基の置換基としては、例えば、芳香族複素環基の置換基として前記に例示した官能基と同じものが挙げられる。
Ｒ１が置換基を有していてもよい複素環基であるときの複素環基の置換基としては、例えば、同一または異なって１〜５個の置換基、具体的には、ヒドロキシル基、オキソ基、カルボキシル基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、カルバモイル基、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアルコキシル基、置換基を有していてもよいアラルキル基、アルカノイル基、アルキルカルボニルオキシ基、アルコキシカルボニル基、置換基を有していてもよいアリール基、アロイル基、アリールオキシ基、アリールカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニル基、置換基を有していてもよい脂環式炭化水素基、置換基を有していてもよい複素環基、置換基を有していてもよいアミノ基等が挙げられる。ここで、ハロゲン原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアルコキシル基、置換基を有していてもよいアラルキル基、アルカノイル基、アルキルカルボニルオキシ基、アルコキシカルボニル基、置換基を有していてもよいアリール基、アロイル基、アリールオキシ基、アリールカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニル基、置換基を有していてもよい脂環式炭化水素基、および置換基を有していてもよいアミノ基は、それぞれ前記と同義である。また、置換基を有していてもよい複素環基における複素環基の置換基としては、例えば、芳香族複素環基の置換基として前記に例示した官能基と同じものが挙げられる。
【００２６】
金属錯体における金属としては、例えば、アルミニウム、ルテニウム、オスミウム、鉄、白金、亜鉛、ベリリウム、銅、ニッケル、クロム、コバルト、マンガン、イリジウム、バナジウム、チタン等が挙げられ、中でもニッケル、コバルト、アルミニウム、銅、亜鉛および鉄が好ましい。
Ｒ１がＮＲ４Ｒ５（式中、Ｒ４およびＲ５は、それぞれ前記と同義である）または置換基を有していてもよい芳香族複素環基であるのが好ましい。
【００２７】
Ｒ１がＮＲ４Ｒ５であるとき、Ｒ４およびＲ５が、同一または異なって、置換基を有していてもよいアリール基または置換基を有していてもよい複素環基であるのが好ましい。Ｒ４またはＲ５が置換基を有していてもよいアリール基であるとき、該アリール基がフェニル基であるのが好ましく、Ｒ４またはＲ５が置換基を有していてもよい複素環基であるとき、該複素環基における複素環がピリジン環であるのが好ましい。
【００２８】
Ｒ１が置換基を有していてもよい複素環基であるとき、該複素環基における複素環が少なくとも１個の窒素原子を含有する芳香族複素環であるのが好ましい。ここで、少なくとも１個の窒素原子を含有する芳香族複素環としては、例えば、前記に例示した芳香族複素環のうち少なくとも窒素原子を含有するもの等が挙げられ、より具体的には、例えば、ピリジン環、ピラジン環、ピリミジン環、ピリダジン環、キノリン環、イソキノリン環、フタラジン環、キナゾリン環、キノキサリン環、ナフチリジン環、シンノリン環、ピロール環、ピラゾール環、イミダゾール環、トリアゾール環、トリアジン環、テトラゾール環、チアゾール環、オキサゾール環、イソオキサゾール環、インドール環、イソインドール環、インダゾール環、ベンゾイミダゾール環、ベンゾトリアゾール環、ベンゾチアゾール環、ベンゾオキサゾール環、プリン環、カルバゾール環、アクリジン環、フェナジン環、フェノチアジン環、フェノキサジン環等が挙げられ、中でも、ピラゾール環またはインドール環が好ましい。
【００２９】
Ｒ１が式（Ｘ）で表される基であるとき、Ｒ９が置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアラルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよい脂環式炭化水素基または置換基を有していてもよい複素環基であるのが好ましい。
また、Ｒ１が式（Ｘ）で表される基であるとき、Ｒ１０が置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアラルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよい脂環式炭化水素基または置換基を有していてもよい複素環基であるのが好ましく、置換基を有していてもよいアルキル基であるのがより好ましい。
【００３０】
Ｒ２が置換基を有していてもよいアリール基または置換基を有していてもよい複素環基であるのが好ましい。Ｒ１が式（Ｘ）で表される基であるとき、Ｒ２が置換基を有していてもよいアリール基であるのがより好ましい。
Ｒ２がＹＲ６（式中、Ｒ６は前記と同義である）であるとき、Ｙが酸素原子であるのが好ましい。
【００３１】
また、Ｒ３が水素原子であるのが好ましい。
次に、化合物（Ｉ）の製造法について、例をあげて説明する。
化合物（Ｉ）は、例えば、反応式１〜３に従って製造することができる。
反応式１
【００３２】
【化３】
2010047341.tif 000005
【００３３】
反応式２
【００３４】
【化４】
2010047341.tif 000006
【００３５】
反応式３
【００３６】
【化５】
2010047341.tif 000007
【００３７】
（式中、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３はそれぞれ前記と同義であり、Ｗは塩素原子、臭素原子、炭素数１〜４のアルコキシル基等を表す）
炭素数１〜４のアルコキシル基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基等が挙げられる。
化合物（ＩＩＩ）のうちＲ１がＮＲ４Ｒ５（式中、Ｒ４およびＲ５はそれぞれ前記と同義である）であるものは、市販品として入手するか、公知の方法、例えば、社団法人日本化学会編，「実験化学講座（第２０巻）」，第４版，丸善株式会社，１９９１年，ｐ．３０−４６，ｐ．１１２−１８５，ｐ．２７９−２９０，ｐ．３３８−３４２、社団法人日本化学会編，「実験化学講座（第１３巻）」，第５版，丸善株式会社，１９９１年，ｐ．３７４−４１６、社団法人日本化学会編，「実験化学講座（第１４巻）」，第５版，丸善株式会社，２００３年，ｐ．２８９−３２０、Ｂｕｅｈｌｅｒ＆Ｐｅａｒｓｏｎ編，「Ｓｕｒｖｅｙ  ｏｆ  Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ（第１巻）」，Ｗｉｌｅｙ−Ｉｎｔｅｒｓｃｉｅｎｃｅ，１９７０年，ｐ．４１１−５１２、Ｂｕｅｈｌｅｒ＆Ｐｅａｒｓｏｎ編，「Ｓｕｒｖｅｙ  ｏｆ  Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ（第２巻）」，Ｗｉｌｅｙ−Ｉｎｔｅｒｓｃｉｅｎｃｅ，１９７７年，ｐ．８１２−８５３、Ｓａｕｌ  Ｐａｔａｉ編，「Ｔｈｅ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ  ｏｆ  ｔｈｅ  ａｍｉｎｏ  ｇｒｏｕｐ」，Ｊｏｈｎ  Ｗｉｌｅｙ＆Ｓｏｎｓ，１９６８年，ｐ．２７７−３４７記載の方法等に準じて製造して得ることができる。
【００３８】
化合物（ＩＩＩ）のうちＲ１が置換基を有していてもよい複素環基であるものは、市販品として入手するか、公知の方法、例えば、社団法人日本化学会編，「実験化学講座（第２４巻）」，第４版，丸善株式会社，１９９１年，ｐ．３１９−４０１、Ｋａｔｒｉｔｚｋｙ編，「Ｈａｎｄｂｏｏｋ  ｏｆ  Ｈｅｔｅｒｏｃｙｌｅｓ」，Ｐｅｒｇａｍｏｎ  Ｐｒｅｓｓ，１９８５年，ｐ．３７９−５０６、Ｂａｒｔｏｎ＆Ｏｌｌｉｓ編，「Ｃｏｍｐｒｅｈｅｎｓｉｖｅ  Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ−Ｈｅｔｅｒｏｃｙｌｉｃ  Ｃｏｍｐｏｕｎｄｓ−（第４巻）」，Ｐｅｒｇａｍｏｎ  Ｐｒｅｓｓ，１９７９年，ｐ．１−２４６，ｐ．２７５−３２０，ｐ．４１１−４９２，ｐ．７８９−８３８、社団法人日本化学会編，新実験化学講座，第１４巻，「有機化合物の合成と反応ＩＶ  複素環化合物」，丸善株式会社，１９７８年，ｐ．２１５４、Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，１９６４年，第２６巻，ｐ．３３３、Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，１９５７年，第２２巻， ｐ．７８０、Ｃｈｅｍｉｃａｌ  ＆  Ｐｈａｒｍａｃｅｕｔｉｃａｌ Ｂｕｌｌｅｔｉｎ，１９８１年，第２９巻，第１号，ｐ．２４４、Ｊｏｕｒｎａｌ  ｏｆ  Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌｉｃ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，１９８０年，第１７巻，第２号，ｐ．３８９、Ｌｉｅｂｉｇｓ  Ａｎｎａｌｅｎ  ｄｅｒ  Ｃｈｅｍｉｅ，１９８５年，第１巻，ｐ．７８、Ｊｏｕｒｎａｌ  ｏｆ  ｔｈｅ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｓｏｃｉｅｔｙ．Ｐｅｒｋｉｎ  Ｔｒａｎｓａｃｔｉｏｎｓ．１，１９８３年，第２巻 ，ｐ．３２５、Ｊｏｕｒｎａｌ  ｏｆ  ｔｈｅ  Ｉｎｄｉａｎ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｓｏｃｉｅｔｙ，１９８０年，第５７巻，ｐ．１１０８、Ｊｏｕｒｎａｌ  ｏｆ  Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，１９７９年，第４４巻，ｐ．４５９７記載の方法等に準じて製造して得ることができる。
【００３９】
化合物（ＩＩＩ）のうちＲ１が置換基を有していてもよいアリール基であるものは、市販品として入手するか、公知の方法、例えば、社団法人日本化学会編，「実験化学講座（第１９巻）」，第４版，丸善株式会社，１９９１年，ｐ．１１２−１３６、Ｂｕｅｈｌｅｒ＆Ｐｅａｒｓｏｎ編，「Ｓｕｒｖｅｙ  ｏｆ  Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ（第１巻）」，Ｗｉｌｅｙ−Ｉｎｔｅｒｓｃｉｅｎｃｅ，１９７０年，ｐ．２４６−２８４、Ｂｕｅｈｌｅｒ＆Ｐｅａｒｓｏｎ編，「Ｓｕｒｖｅｙ  ｏｆ  Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ（第２巻）」，Ｗｉｌｅｙ−Ｉｎｔｅｒｓｃｉｅｎｃｅ，１９７７年，ｐ．３９１−４６０記載の方法等に準じて製造して得ることができる。
【００４０】
化合物（Ｖ）は、市販品として入手するか、公知の方法、例えば、社団法人日本化学会編，「実験化学講座（第２０巻）有機化合物の合成と反応ＩＩ  ジアゾ，アゾならびにアゾキシ化合物の合成」，第１版，丸善株式会社，１９５６年，ｐ．３４７−３８９、社団法人日本化学会編，「新実験化学講座（第１４巻）  有機化合物の合成と反応ＩＩＩ  含窒素化合物」，第２版，丸善株式会社，１９７８年，ｐ.１５７３−１５８４、Ｓａｕｌ  Ｐａｔａｉ編，「Ｔｈｅ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ  ｏｆ  ｔｈｅ  ｈｙｄｒａｚｏ，ａｚｏ，ａｎｄ  ａｚｏｘｙ  ｇｒｏｕｐ（第１巻）」，Ｊｏｈｎ  Ｗｉｌｅｙ＆Ｓｏｎｓ，１９７５年，ｐ.６９−１０７、Ｓａｕｌ  Ｐａｔａｉ編，「Ｔｈｅ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ  ｏｆ  ｔｈｅ  ｈｙｄｒａｚｏ，ａｚｏ，ａｎｄ  ａｚｏｘｙ  ｇｒｏｕｐ（第２巻）」，Ｊｏｈｎ  Ｗｉｌｅｙ＆Ｓｏｎｓ，１９７５年，ｐ.５９９−７２３、Ｇｉｌｍａｎ編，「Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｓｙｎｔｈｅｓｅｓ  Ｃｏｌｌｅｃｔｉｖｅ（第１巻）」，Ｓｈｒｉｎｅｒ＆Ｓｈｒｉｎｅｒ，１９３２年，ｐ．４５０−４５３、Ｂｌａｔｔ編，「Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｓｙｎｔｈｅｓｅｓ  Ｃｏｌｌｅｃｔｉｖｅ（第２巻）」，Ｓｈｒｉｎｅｒ＆Ｓｈｒｉｎｅｒ，１９４３年，ｐ．８５−８７、Ｂａｕｍｇａｒｔｅｎ編，「Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｓｙｎｔｈｅｓｅｓ  Ｃｏｌｌｅｃｔｉｖｅ（第５巻）」，Ｓｈｒｉｎｅｒ＆Ｓｈｒｉｎｅｒ，１９７３年，ｐ．１６６−１７０、Ｂｒｙａｎ  Ｌｉ他著，「Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｓｙｎｔｈｅｓｅｓ（第８１巻）」，２００５年，ｐ.１１０８−１１１１記載の方法等に準じて製造して得ることができる。
【００４１】
反応式１
化合物（ＶＩＩ）は、公知の方法、例えば、Ｊｏｕｒｎａｌ  ｏｆ  Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，１９７７年，第４２巻，第７号，ｐ．１１２６〜１１３０、Ｄｙｅｓ  ａｎｄ  Ｐｉｇｍｅｎｔｓ，２００１年，第４９巻，ｐ．１６１〜１７９記載の方法等に準じて製造して得ることができる。具体的には、例えば、化合物（ＩＩ）と１〜２倍モルの化合物（ＩＩＩ）とを、要すれば１〜２倍モルの酸または１〜２倍モルの塩基存在下で、溶媒中、０〜１００℃で１〜２０時間反応させることにより得ることができる。
【００４２】
溶媒としては、例えば、クロロホルム、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素系溶媒、ジエチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル等のエーテル系溶媒、トルエン、ベンゼン等の芳香族炭化水素系溶媒、メタノール、エタノール、プロパノール等のアルコール系溶媒、テトラヒドロフラン、酢酸エチル、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）等が挙げられる。
【００４３】
酸としては、例えば、塩化アルミニウム、臭化アルミニウム等のハロゲン化アルミニウム、フッ化第二鉄、塩化第二鉄、臭化第二鉄等のハロゲン化第二鉄、酸化第二鉄等の酸化鉄、フッ化第二アンチモン、塩化第二アンチモン等のハロゲン化第二アンチモン、塩化亜鉛、硫酸第二鉄、トリフルオロメタンスルホン酸、フルオロスルホン酸等が挙げられる。
塩基としては、例えば、キノリン、トリエチルアミン、ピリジン等の有機塩基または炭酸カリウム、炭酸水素カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム等が挙げられる。
【００４４】
反応式２
化合物（ＶＩ）は、例えば、化合物（ＶＩＩ）を４０〜９０容量％の酢酸水溶液中、４０〜１２０℃で０．５〜７時間処理するか、または１〜１０重量％の炭酸カリウム水溶液中、４０〜１２０℃で０．５〜２０時間処理することにより得ることができる。
反応式３
化合物（Ｉ）は、例えば、化合物（ＶＩ）と１〜５倍モルの化合物（Ｖ）とを、溶媒中、４０〜１００℃で１〜１００時間反応させることにより得ることができる。
【００４５】
溶媒としては、例えば、エタノール、プロパノール、２−プロパノール、ブタノール、オクタノール等のアルコール系溶媒、または該アルコール系溶媒（２０容量％以上）とベンゼン、トルエンもしくはキシレンとの混合溶媒、アセトニトリル等が挙げられる。反応後、必要に応じて、化合物（Ｉ）を有機合成化学で通常用いられる方法（各種クロマトグラフィー法、再結晶法、蒸留法等）で精製してもよい。
【００４６】
化合物（Ｉ）のうちＲ１がＮＲ４Ｒ５（式中、Ｒ４およびＲ５は、それぞれ前記と同義である）であるものは、例えば、化合物（ＶＩ）の代わりに化合物（ＩＶ）
【００４７】
【化６】
2010047341.tif 000008
【００４８】
（式中、Ｒ４およびＲ５は、それぞれ前記と同義である）を用いる以外は反応式３と同様な操作を行い、製造して得ることもできる。
化合物（ＩＶ）は、公知の方法、例えば、特開２００２−１３１５３０号公報記載の方法等に準じて製造して得ることができる。具体的には、例えば、スクアリン酸と化合物（ＩＩＩ）のうちＲ１がＮＲ４Ｒ５（式中、Ｒ４およびＲ５は、それぞれ前記と同義である）であるものとを溶媒中、８０〜１５０℃で１〜１００時間反応させることにより得ることができる。ここで、溶媒としては、例えば、エタノール、プロパノール、２−プロパノール、ブタノール、オクタノール等のアルコール系溶媒、または該アルコール系溶媒（２０容量％以上）とベンゼン、トルエンもしくはキシレンとの混合溶媒等が挙げられる。化合物（ＩＩＩ）のうちＲ１がＮＲ４Ｒ５（式中、Ｒ４およびＲ５は、それぞれ前記と同義である）であるものの使用量は、スクアリン酸に対して２〜５倍モルであるのが好ましい。反応後、必要に応じて、化合物（ＩＶ）を有機合成化学で通常用いられる方法（各種クロマトグラフィー法、再結晶法、蒸留法等）で精製してもよい。
【００４９】
化合物（Ｉ）の金属錯体は、公知の方法、例えば、国際公開第０２／０５０１９０号パンフレット記載の方法等に準じて製造することができる。具体的には、有機金属化合物または金属塩と、化合物（Ｉ）とを、要すれば１〜５倍モルの酢酸の存在下、溶媒中、２５〜１２０℃の温度で、０．１〜３０時間反応させることにより化合物（Ｉ）の金属錯体を製造することができる。
【００５０】
化合物（Ｉ）の使用量は、有機金属化合物または金属塩に対して０．５〜５倍モル量であるのが好ましい。
有機金属化合物としては、例えば、アルミニウムトリス（アセチルアセトネート）、アルミニウムトリス（エチルアセトアセテート）、アルミニウムイソプロポキシド、アルミニウムｓｅｃ−ブトキシド、アルミニウムエトキシド、銅アセチルアセトネート、亜鉛アセチルアセトネート、鉄トリス(２，４−ペンタンジオネート)、トリス(カルボネート)コバルト（ＩＩＩ）酸ナトリウム塩等が挙げられる。
【００５１】
金属塩としては、例えば、塩化アルミニウム、塩化銅、酢酸銅、酢酸ニッケル、塩化ニッケル、酢酸コバルト、塩化コバルト、これらの水和物等が挙げられる。
溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、２−プロパノール、ブタノール、イソブタノール等のアルコール系溶媒、クロロホルム、ジクロロメタン等のハロゲン系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族系溶媒、テトラヒドロフラン、メチル−ｔｅｒｔ−ブチルエーテル等のエーテル系溶媒、酢酸エチル等のエステル系溶媒、アセトン、メチルエチルケトン等のケトン系溶媒、これらの混合溶媒等が挙げられる。
【００５２】
反応後、必要に応じて、有機合成化学で通常用いられる方法（各種カラムクロマトグラフィー法、再結晶法、溶媒による洗浄等）で化合物（Ｉ）の金属錯体を精製してもよい。
以下に、化合物（Ｉ）の具体例を例示する。表中、Ｍｅはメチル基を表し、Ｅｔはエチル基を表し、iＰｒはイソプロピル基を表し、ｔＢｕはｔｅｒｔ−ブチル基を表し、iＢｕはイソブチル基を表す。
【００５３】
【化７】
2010047341.tif 000009
【００５４】
【化８】
2010047341.tif 000010
【００５５】
【化９】
2010047341.tif 000011
【００５６】
【化１０】
2010047341.tif 000012
【００５７】
【化１１】
2010047341.tif 000013
【００５８】
【化１２】
2010047341.tif 000014
【００５９】
【化１３】
2010047341.tif 000015
【００６０】
【化１４】
2010047341.tif 000016
【００６１】
以下、化合物番号（１）のスクアリリウム化合物を化合物（１）という。その他の化合物番号の化合物についても同様である。
本発明の化合物（Ｉ）の金属錯体は、光記録媒体用色素、紫外線吸収剤、３次元記録材料としての二光子吸収用色素、短波長レーザー（例えば青紫色レーザー等）光対応の増感色素等として使用することができる。化合物（Ｉ）の金属錯体は優れた耐光性、優れた耐候性、優れた耐湿熱性、優れた塗膜性、優れた溶解性等を有するので、光記録媒体用の色素として適している。
【００６２】
化合物（Ｉ）の金属錯体のうち特に優れた耐光性を有するものとしては、例えば、以下の（１）、（２）等が挙げられる。
（１）式（Ｉ）において、Ｒ１がＮＲ４Ｒ５であり、Ｒ４およびＲ５が、同一または異なって、置換基を有していてもよいフェニル基であり、Ｒ２が置換基を有していてもよいピリジル基であり、Ｒ３が水素原子である化合物（Ｉ）のコバルトまたはニッケル錯体。
（２）式（Ｉ）において、Ｒ１が式（Ｘ）で表される基であり、Ｒ２が置換基を有していてもよいフェニル基であり、Ｒ３が水素原子であり、該式（Ｘ）において、Ｒ９が置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいフェニル基または置換基を有していてもよいピリミジニル基であり、Ｒ１０が置換基を有していてもよいアルキル基である化合物（Ｉ）のコバルトまたはニッケル錯体。
【００６３】
前記（１）および（２）において、置換基を有していてもよいアルキル基は前記と同義である。また、フェニル基の置換基としては、例えば、アリール基の置換基として前記に例示した官能基と同じものが挙げられ、ピリジル基およびピリミジニル基の置換基としては、例えば、芳香族複素環基の置換基として前記に例示した官能基と同じものが挙げられる。
【００６４】
本発明の光記録媒体は化合物（Ｉ）の金属錯体を含有し、青紫色レーザー光に対する高感度な光応答性、優れた記録信号品質等を有する。
本発明の光記録媒体としては、例えば、基板、反射層、記録層、透明保護層およびカバー層を備えているもの等が挙げられ、基板上に、反射層、記録層、透明保護層およびカバー層がこの順に設けられているものが好ましい。本発明の光記録媒体としては、例えば、化合物（Ｉ）の金属錯体を含有する記録層を有するもの等が挙げられる。化合物（Ｉ）の金属錯体を用いて該記録層を形成するとき、化合物（Ｉ）の金属錯体は単独でまたは２種以上を混合して用いてもよい。
【００６５】
化合物（Ｉ）の金属錯体と他の色素とを併用して用いてもよい。他の色素としては、記録用のレーザー光の波長域に吸収を有するものが好ましい。また、情報記録（記録層、反射層または透明保護層、およびカバー層における熱的変形によりレーザー照射箇所に形成される記録マーク等）の形成が阻害されないようなものを他の色素として用いることが好ましい。他の色素としては、例えば、含金属アゾ系色素、フタロシアニン系色素、ナフタロシアニン系色素、シアニン系色素、アゾ系色素、化合物（Ｉ）の金属錯体以外のスクアリリウム系色素、含金属インドアニリン系色素、トリアリールメタン系色素、メロシアニン系色素、アズレニウム系色素、ナフトキノン系色素、アントラキノン系色素、インドフェノール系色素、キサンテン系色素、オキサジン系色素、ピリリウム系色素等が挙げられる。これらは単独でまたは２種以上を混合して用いてもよい。他の色素のうち７７０〜８３０ｎｍの近赤外レーザー光、６２０〜６９０ｎｍの赤色レーザー光等のレーザー光を用いた記録に適する色素と化合物（Ｉ）の金属錯体とを併用して、複数の波長域のレーザー光での記録が可能である光記録媒体を作製することもできる。
【００６６】
記録層は、必要に応じてバインダーを含有してもよい。バインダーとしては、例えば、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ケトン樹脂、ニトロセルロース、酢酸セルロース、ポリビニルブチラール、ポリカーボネート等が挙げられる。これらは単独でまたは２種以上を混合して用いてもよい。
また、記録層は、記録層の安定性や耐光性向上のために、例えば、一重項酸素クエンチャーや記録感度向上剤等を含有してもよい。
【００６７】
一重項酸素クエンチャーとしては、遷移金属キレート化合物（例えば、アセチルアセトネート、ビスフェニルジチオール、サリチルアルデヒドオキシム、ビスジチオ−α−ジケトン等と遷移金属とのキレート化合物等）等が挙げられる。これらは単独でまたは２種以上を混合して用いてもよい。
記録感度向上剤としては、遷移金属等の金属が原子、イオン、クラスター等の形で化合物に含まれるものをいい、例えば、エチレンジアミン系錯体、アゾメチン系錯体、フェニルヒドロキシアミン系錯体、フェナントロリン系錯体、ジヒドロキシアゾベンゼン系錯体、ジオキシム系錯体、ニトロソアミノフェノール系錯体、ピリジルトリアジン系錯体、アセチルアセトネート系錯体、メタロセン系錯体、ポルフィリン系錯体等の有機金属化合物等が挙げられる。これらは単独でまたは２種以上を混合して用いてもよい。
【００６８】
本発明の光記録媒体の記録層の厚さは１ｎｍ〜５μｍであるのが好ましく、５〜１００ｎｍであるのがより好ましく、さらには２０〜６０ｎｍであるのが好ましい。
記録層は、真空蒸着法、スパッタリング法、ドクターブレード法、キャスト法、スピンコート法、浸漬法等の公知の薄膜形成法で形成することができるが、量産性、コスト面からスピンコート法が好ましい。スピンコート法により記録層を形成する場合、適切な膜厚を得るために、化合物（Ｉ）の金属錯体の濃度を０．３〜２．５重量％に調整した溶液を用いることが好ましく、回転数を５００〜１００００ｒｐｍにするのが好ましい。スピンコート法により溶液を塗布した後、加熱、減圧乾燥、溶媒蒸気への曝露等の処理を行ってもよい。
【００６９】
溶液を塗布することにより記録層を形成する場合（例えば、ドクターブレード法、キャスト法、スピンコート法、浸漬法等）に用いる溶液の溶媒としては、基板および記録層を塗布する前に基板上に形成した層（例えば、反射層等）を侵さない溶媒であればよく、特に限定されない。例えば、ジアセトンアルコール、３−ヒドロキシ−３−メチル−２−ブタノン等のケトンアルコール系溶媒、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ等のセロソルブ系溶媒、ｎ−ヘキサン、ｎ−オクタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン、ジメチルシクロヘキサン、ｎ−ブチルシクロヘキサン、ｔｅｒｔ−ブチルシクロヘキサン、シクロオクタン等の炭化水素系溶媒、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル等のエーテル系溶媒、テトラフルオロプロパノール（ＴＦＰ）、オクタフルオロペンタノール、ヘキサフルオロブタノール等のフルオロアルキルアルコール系溶媒、乳酸メチル、乳酸エチル、イソ酪酸メチル等のエステル系溶媒等が挙げられる。これらは単独でまたは２種以上を混合して用いてもよい。
【００７０】
本発明の光記録媒体の基板は、レーザー光による記録再生のため、表面上に螺旋状に形成される案内溝が形成されているものが好ましい。基板としては、狭トラックピッチである微細な溝を形成しやすいものが好ましく、具体的には、例えば、ガラス、プラスチック等が挙げられる。プラスチックとしては、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、塩化ビニル樹脂、酢酸ビニル樹脂、ニトロセルロース、ポリエステル樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリイミド樹脂、ポリスチレン樹脂、エポキシ樹脂、脂環式ポリオレフィン樹脂等が挙げられるが、高生産性、コスト、耐吸湿性等の点からポリカーボネート樹脂であるのが好ましい。
【００７１】
基板は前記のプラスチックを射出成形して作製するのが好ましい。射出成形により基板を作製する方法としては、案内溝が形成されたＮｉ等の金属からなるスタンパーを用いる方法等が挙げられる。
該スタンパーを作製するための原盤は、例えば、以下のようにして作製される。円盤状のガラス基板の表面を平滑になるよう研磨する。その基板上に所望の溝深さに応じて厚さを調整したフォトレジストを塗布する。次いで青紫色レーザー光よりも短い波長のレーザー光または電子ビームを用いてフォトレジストを露光し、現像を行うことにより、案内溝が形成された原盤を作製する。
【００７２】
次いで、この原盤表面にＮｉ等の導電膜を真空製膜し、メッキ工程を経て、案内溝が形成されたＮｉ等の金属からなるスタンパーを作製する。このスタンパーを用いて前記のプラスチックを射出成形することにより、表面上に案内溝が形成された基板を作製する。
該案内溝としては、凹凸の頂点面と底辺面の高低差（溝深さ）が１５〜８０ｎｍであるのが好ましく、２５〜５０ｎｍであるのがより好ましい。凸部と凹部の幅の比率としては４０％：６０％〜６０％：４０％(凸部:凹部)の範囲であるのが好ましい。
【００７３】
反射層は金属であるのが好ましい。金属としては、例えば、金、銀、アルミニウムまたはそれらの合金等が挙げられるが、５５０ｎｍ以下の波長のレーザー光に対する反射率や表面の平滑性の点から、銀または銀を主成分とする合金が好ましい。該銀を主成分とする合金は銀を９０％程度以上含むものが好ましく、銀以外の成分としてＣｕ、Ｐｄ、Ｎｄ、Ｎｉ、Ｓｉ、Ａｕ、Ａｌ、Ｔｉ、Ｚｎ、Ｚｒ、ＮｂおよびＭｏの群から選ばれる１種類以上を含むものが好ましい。反射層は、例えば、蒸着法、スパッタリング法（例えば、ＤＣスパッタリング法等）、イオンプレーティング法等によって基板上に形成することができる。記録再生特性を向上させるため、または反射率を調整する等の目的で、反射層と記録層との間に中間層を設けてもよい。中間層の材料としては、例えば、金属、金属酸化物、金属窒化物等が挙げられる。反射層の厚さは５〜３００ｎｍであるのが好ましく、３０〜１００ｎｍであるのがより好ましい。
【００７４】
透明保護層としては、記録再生時に使用するレーザー光に対して吸収を有しないか、わずかな吸収しか有しないものが好ましく、屈折率の実数部が比較的大きく、１．５〜２．０前後の値を有するものが好ましい。透明保護層の材料としては、例えば、金属酸化物、金属窒化物、金属硫化物、これらの混合物等が挙げられる。
透明保護層の厚さは、５〜５０ｎｍであるのが好ましい。保護層の厚さが５ｎｍ以上の場合には、記録層に変形を生じさせて形成した記録マークがこの記録マーク間の未記録部分と明確に分離できるためより良好な信号が得られる。また、保護層の厚さが５０ｎｍ以下の場合には、透明保護層の変形が生じやすいためより良好な信号が得られる。透明保護層はスパッタリング法（例えば、ＲＦスパッタリング法等）等によって記録層の上に形成することができる。
【００７５】
カバー層は、例えば、表面に記録再生レーザー光に対して透明、かつ、粘着力のある接着層を有する厚さ約０．１ｍｍのポリカーボネート製のシートを用い、接着層を介してシートを透明保護層に加圧接着することにより、透明保護層の上に形成することができる。接着層としては、情報記録の際に記録層および透明保護層の変形を阻害しないものが好ましい。カバー層は紫外線硬化樹脂を用いて形成することもでき、該紫外線硬化樹脂としては、接着層と同様に、情報記録の際に記録層および透明保護層の変形を阻害しないものが好ましい。
【００７６】
本発明の光記録媒体は化合物（Ｉ）の金属錯体を含有することから、記録時に使用するレーザー光の波長は３５０〜５３０ｎｍであるのが好ましい。一般的に、記録時に使用するレーザー光の波長が短いほど高密度な記録が可能となる。
レーザー光の具体例としては、例えば、中心波長が４０５ｎｍ、４１０ｎｍ等である青紫色レーザー光、中心波長が５１５ｎｍである青緑色の高出力半導体レーザー光等が挙げられ、中でも中心波長が４０５ｎｍである青緑色の高出力半導体レーザー光が好ましい。
【００７７】
基本発振波長が７４０〜９６０ｎｍである連続発振可能な半導体レーザー光、半導体レーザー光によって励起されかつ基本発振波長が７４０〜９６０ｎｍである連続発振可能な固体レーザー光等を、第二高調波発生素子（ＳＨＧ）により波長変換することによって得られる光を用いてもよい。ＳＨＧとしては、反射対称性を欠くピエゾ素子であればいかなるものでもよいが、ＫＤＰ（ＫＨ２ＰＯ４）、ＡＤＰ（ＮＨ４Ｈ２ＰＯ４）、ＢＮＮ（Ｂａ２ＮａＮｂ５Ｏ１５）、ＫＮ（ＫＮｂＯ３）、ＬＢＯ（ＬｉＢ３Ｏ５）、化合物半導体等がＳＨＧの好ましい具体例として挙げられる。
【００７８】
ＳＨＧにより波長変換することによって得られる光（第二高調波）の具体例としては、例えば、基本発振波長が８６０ｎｍである半導体レーザー光を波長変換した４３０ｎｍ光、基本発振波長が８６０ｎｍである半導体レーザー励起の固体レーザー光を波長変換した４３０ｎｍ光等が挙げられる。
本発明の光記録媒体はＢＤであるのが好ましい。ＢＤは波長４０５ｎｍの青紫色レーザーを使用し、対物レンズのＮＡを０．８５とすることによりレーザースポット径を小さくして、より高密度の情報を記録する光記録媒体である。ＢＤ−Ｒでは基板上に反射層と、記録層と、透明保護層と、基板よりも薄いカバー層とが順次積層されている。カバー層側から青紫色レーザー光を照射して記録再生を行う。
【実施例】
【００７９】
以下、実施例および参考例により、本発明をさらに具体的に説明する。
スクアリリウム化合物の原料として用いた化合物（ＩＶ−１）、（ＩＶ−２）、（ＶＩ−１）、（ＶＩ−２）、（ＶＩ−３）、（ＶＩ−４）、（ＶＩ−５）、（ＶＩ−６）（ＶＩ−７）および（ＶＩ−８）を以下に示す。式中、Ｍｅはメチル基を表し、ｉＰｒはイソプロピル基を表し、ｔＢｕはｔｅｒｔ−ブチル基を表す。【００８０】
【化１５】
2010047341.tif 000017
【００８１】
参考例１．化合物（ＩＶ−１）
１−ブロモ−３，４−ジフルオロベンゼン８．６８ｇ、３−フルオロアニリン５．００ｇ、ビス（ジベンジリデンアセトン）パラジウム錯体[Ｐｄ(ｄｂａ)２]１２８ｍｇ、１,１−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン（ｄｐｐｆ）１２５ｍｇ、ナトリウムｔｅｒｔ-ブトキシド５．６２ｇおよびトルエン３０ｍｌを混合し、１１０℃で２時間攪拌した。反応液を冷却後、反応液にセライトを加え、混合物を濾過し、濾液を飽和食塩水で洗浄し、溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝９:１）で精製することにより３，３’，４−トリフルオロジフェニルアミン６．８２ｇ（収率６８％）を得た。【００８２】
３，３’，４−トリフルオロジフェニルアミン３．５ｇおよびスクアリン酸０．７２ｇを、トルエン１．５ｍｌおよびブタノール１．５ｍｌの混合溶媒中、１３５℃で１２時間反応させた。反応液を冷却後、析出した固体を濾取してメタノール溶媒で洗浄後、乾燥することにより化合物（ＩＶ−１）２．０ｇ（収率６１％）を得た。
参考例２．化合物（ＩＶ−２）
３−フルオロアニリンの代わりに４−フルオロアニリンを用いる以外は参考例１と同様に操作し、３，４，４’− トリフルオロジフェニルアミンを得た。【００８３】
３，３’，４−トリフルオロジフェニルアミンの代わりに３，４，４’− トリフルオロジフェニルアミンを用いる以外は参考例１と同様に操作し、スクアリリウム化合物（ＩＶ−２）を得た。
参考例３．化合物（ＶＩ−１）
４−メトキシフェニルヒドラジン塩酸塩１７．４６ｇ、トリエチルアミン１０．１２ｇおよびクロロホルム１００ｍｌを混合し、室温で０．５時間攪拌した。反応液を水５０ｍｌで洗浄し、溶媒を留去した。残渣にキシレン１０ｍｌ、酢酸１．２ｇおよびトリフルオロアセト酢酸エチル１８.８ｇを加え、混合物を９０℃で８時間攪拌した。反応液を５℃に冷却し、反応液にオクタン２０ｍｌを加え、析出した固体を濾取してオクタンとキシレンとの２：１混合溶媒（体積比）で洗浄後、乾燥することにより１−（４−メトキシフェニル）−５−ヒドロキシ−３−トリフルオロメチルピラゾール１６．０ｇ（収率５８％）を得た。【００８４】
１−（４−メトキシフェニル）−５−ヒドロキシ−３−トリフルオロメチルピラゾール１２．９ｇ、３，４−ジメトキシシクロブテン−１，２−ジオン７．１１ｇ、炭酸カリウム６．９ｇおよびメタノール１５ｍｌを混合し、４０℃で３時間攪拌した。反応液を冷却後、析出した固体を濾取してメタノールで洗浄した。得られた固体に炭酸カリウム３．４６ｇおよび水７５ｍｌを加え、混合物を７０℃で４時間攪拌した。反応液を冷却後、反応液に３ｍｏｌ／ｌの塩酸１００ｍｌを加え、混合物を３０℃に冷却し、析出した固体を濾取してジエチルエーテルで洗浄後、乾燥することにより化合物（ＶＩ−１）９．８ｇ（収率５５％）を得た。
参考例４．化合物（ＶＩ−２）
２，３，４，５−テトラフルオロベンゾイル酢酸エチル１３．２１ｇ、酢酸０．６ｇ、フェニルヒドラジン５．４１ｇおよびキシレン１０ｍｌを混合し、９０℃で８時間攪拌した。反応液を５℃に冷却後、反応液にオクタン２０ｍｌを加え、析出した固体を濾取してオクタンとキシレンとの２：１混合溶媒（体積比）で洗浄後、乾燥することにより５−ヒドロキシ−１−フェニル−３−（２，３，４，５−テトラフルオロフェニル）ピラゾール１３．３５ｇ（収率８７％）を得た。【００８５】
５−ヒドロキシ−１−フェニル−３−（２，３，４，５−テトラフルオロフェニル）ピラゾール９．２５ｇ、３，４−ジメトキシシクロブテン−１，２−ジオン４．２６ｇ、炭酸カリウム４．１５ｇおよびメタノール６０ｍｌを混合し、４０℃で３時間攪拌した。反応液を冷却後、析出した固体を濾取してメタノールで洗浄した。得られた固体に炭酸カリウム２．０７ｇおよび水９０ｍｌを加え、混合物を８０℃で２時間攪拌した。反応液を冷却後、反応液に３ｍｏｌ／ｌの塩酸５０ｍｌを加え、混合物を５０℃に冷却し、析出した固体を濾取して水で洗浄後、乾燥することにより化合物（ＶＩ−２）８．７８ｇ（収率７２％）を得た。【００８６】
参考例５．化合物（ＶＩ−３）
３，４−ジクロロシクロブテン−１，２−ジオン５．００ｇとトリエチルアミン３．６９ｇとの混合物に１，２−ジメチルインドール５．２９ｇとベンゼン１６０ｍｌとの混合物を室温で滴下し、混合物を室温で１時間攪拌した。反応液を濾過し、濾液の溶媒を留去した。残渣をクロロホルムと酢酸エチルとの１:１混合溶媒（体積比）３０ｍｌで再結晶することにより褐色固体４．６ｇを得た。得られた固体に水と酢酸との１:１混合溶媒（体積比）４０ｍｌを加え、１１０℃で５時間加熱した。反応液を０℃に冷却後、析出した固体を濾取して水で洗浄後、乾燥することにより化合物（ＶＩ−３）３．９９ｇ（収率５０％）を得た。【００８７】
参考例６．化合物（１）
化合物（ＩＶ−１）０．５０ｇおよび２−ピリジンカルボヒドラジド０．１４ｇを、アセトニトリル１０ｍｌ中、５０℃で４０時間反応させた。反応液を冷却後、析出した固体を濾取して乾燥することにより化合物（１）０．３９ｇ（収率８８％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ （４００ＭＨｚ）δ（ＤＭＳＯ-ｄ６) ｐｐｍ：６．９５−７．１５（４Ｈ，ｍ），７．４０−７．５０（３Ｈ，ｍ），７．６５−７．７０（１Ｈ，ｍ），８．０１−８．０７（２Ｈ，ｍ），８．６８−８．７０（１Ｈ，ｍ），１１．６２（１Ｈ，ｓ）．【００８８】
参考例７．化合物（２２）
化合物（ＩＶ−２）０．５０ｇおよびイソニコチノヒドラジド０．１３ｇを、エタノール２０ｍｌ中、７０℃で１０時間反応させた。反応液を冷却後、析出した固体を濾取してエタノールで洗浄後、乾燥することにより化合物（２２）０．３７ｇ（収率９０％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ （４００ＭＨｚ）δ（ＤＭＳＯ-ｄ６）ｐｐｍ：６．９４−７．４５（７Ｈ，ｍ），７．７１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），８．７７（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），１１．６１（１Ｈ，ｂｓ）．【００８９】
参考例８．化合物（６４）
化合物（ＶＩ−１）２．８３ｇおよびベンゾヒドラジド１．０９ｇを、エタノール３２ｍｌ中、７０℃で４０時間反応させた。反応液を冷却後、析出した固体を濾取して乾燥することにより化合物（６４）１．２７ｇ（収率３４％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ （４００ＭＨｚ）δ（ＤＭＳＯ-ｄ６) ｐｐｍ：３．８１（３Ｈ，ｓ），７．０４−７．０７（２Ｈ，ｍ），７．５３−７．６５（５Ｈ，ｍ），７．７９−７．８１（２Ｈ，ｍ），１１．０６（１Ｈ，ｂｓ）．【００９０】
参考例９．化合物（６５）
化合物（ＶＩ−１）１．７７ｇおよび２−ピリジンカルボヒドラジド０．６９ｇを、エタノール３５ｍｌ中、７０℃で３時間反応させた。反応液を冷却後、析出した固体を濾取して乾燥することにより化合物（６５）２．１５ｇ（収率９８％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ （４００ＭＨｚ）δ（ＤＭＳＯ-ｄ６） ｐｐｍ：３．８１（３Ｈ，ｓ），４．０５（２Ｈ，ｂｓ），７．０６（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ），７．６２−７．６７（３Ｈ，ｍ），８．０２−８．１２（２Ｈ，ｍ），８．６９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．２Ｈｚ)．【００９１】
参考例１０．化合物（７３）
化合物（ＶＩ−２）１．６１ｇおよびニコチノヒドラジド０．５５ｇを、エタノール１６ｍｌ中、７０℃で３時間反応させた。反応液を冷却後、析出した固体を濾取して乾燥することにより化合物（７３）１．７１ｇ（収率９８％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ （４００ＭＨｚ）δ（ＣＤＣｌ３）ｐｐｍ：７．３４（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），７．４８−７．５３（３Ｈ，ｍ），７．８２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），７．９０−７．９３（１Ｈ，ｍ），８．５５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），８．９２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．１Ｈｚ），９．１２（１Ｈ，ｍ）．【００９２】
参考例１１．化合物（１１９）
化合物（ＶＩ−３）０．２８ｇおよびカルバジン酸エチル０．１２ｇを、エタノール１０ｍｌ中、７０℃で２．５時間反応させた。反応液を冷却後、析出した固体を濾取してエタノールで洗浄後、乾燥することにより化合物（１１９）を０．３３ｇ（収率８５．６％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ （４００ＭＨｚ）δ（ＤＭＳＯ-ｄ６）ｐｐｍ：１．２３（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），３．０１（３Ｈ，ｓ），３．７４（３Ｈ，ｓ），４．１３（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），７．１４（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），７．２０（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），７．４６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ），８．６７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），１０．３３（１Ｈ，ｂｓ）．【００９３】
参考例１２．化合物（１２８）
化合物（ＶＩ−３）０．５０ｇおよびフェニルアセトヒドラジド０．３１ｇを、エタノール１５ｍｌ中、７０℃で２時間反応させた。反応液を冷却後、析出した固体を濾取してエタノールで洗浄後、乾燥することにより化合物（１２８）を０．７１ｇ（収率９２％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ （４００ＭＨｚ）δ（ＤＭＳＯ-ｄ６）ｐｐｍ：３．０３（３Ｈ，ｓ），３．５８（３Ｈ，ｓ），３．７４（３Ｈ，ｓ），７．１３−７．３５（７Ｈ，ｍ），７．４７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ），８．６９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），１１．２３（１Ｈ，ｂｓ）．【００９４】
参考例１３．化合物（ＶＩ−４）
４−メトキシフェニルヒドラジン塩酸塩８．７３ｇおよびクロロホルム５０ｍｌの混合物にトリエチルアミン５．０６ｇを加え、混合物を２５℃で０．５時間攪拌した。反応液を水３０ｍｌで洗浄後、溶媒を留去した。残渣にキシレン５ｍｌ、酢酸０．６ｇおよび２，３，４，５−テトラフルオロベンゾイル酢酸エチル１３．２１ｇを加え、混合物を９０℃で７時間攪拌した。反応液を５℃に冷却後、反応液にオクタン２０ｍｌを加え、析出した固体を濾取してオクタンとキシレンとの２：１混合溶媒（体積比）で洗浄後、乾燥することにより５−ヒドロキシ−１−（４−メトキシフェニル）−３−（２，３，４，５−テトラフルオロフェニル）ピラゾール１０．７７ｇ（収率６４％）を得た。【００９５】
５−ヒドロキシ−１−（４−メトキシフェニル）−３−（２，３，４，５−テトラフルオロフェニル）ピラゾール８．４６ｇ、３，４−ジメトキシシクロブテン−１，２−ジオン３．５５ｇ、炭酸カリウム３．４６ｇおよびメタノール２５ｍｌを混合し、４０℃で３時間攪拌した。反応液を５℃に冷却後、析出した固体を濾取して５℃に冷却したメタノールで洗浄した。得られた固体に炭酸カリウム１．７３ｇおよび水６５ｍｌを加え、混合物を８０℃で２時間攪拌した。反応液を冷却後、反応液に３ｍｏｌ／ｌの塩酸４０ｍｌを加え、析出した固体を濾取して水で洗浄後、乾燥することにより化合物（ＶＩ−４）６．６６ｇ（収率６１％）を得た。【００９６】
参考例１４．化合物（ＶＩ−５）
２−クロロ−４，６−ジメトキシピリミジン２６．１９ｇおよびピリジン５８ｍｌの混合物にヒドラジン１水和物７５．０９ｇを５℃で滴下し、混合物を２５℃で５時間攪拌した。反応液に水１５０ｍｌを加え、混合物を５℃に冷却後、析出した固体を濾取して水で洗浄後、乾燥することにより２−ヒドラジノ−４，６−ジメトキシピリミジン１５．７８ｇ（収率６２％）を得た。【００９７】
２−ヒドラジノ−４，６−ジメトキシピリミジン１３．６１ｇ、ｐ−トルエンスルホン酸１水和物０．７６ｇおよびトルエン８０ｍｌを混合し、５０℃で０．５時間攪拌した。反応液に４，４，４−トリフルオロアセト酢酸エチル１５．０３ｇを加え、ディーン・スターク装置の付いた反応器中で混合物を７時間還流した。反応液にｐ−トルエンスルホン酸１水和物０．７６ｇを加え、ディーン・スターク装置の付いた反応器中で混合物を４時間還流した。反応液を５℃に冷却後、反応液にオクタン８０ｍｌを加え、混合物を５℃で１時間攪拌した。析出した固体を濾取してオクタンとトルエンとの１：１混合溶媒（体積比）で洗浄後、乾燥することにより５−ヒドロキシ−１−（４，６−ジメトキシ−２−ピリミジニル）−３−トリフルオロメチルピラゾール２１．８２ｇ（収率９４％）を得た。【００９８】
５−ヒドロキシ−１−（４，６−ジメトキシ−２−ピリミジニル）−３−トリフルオロメチルピラゾール２０．３１ｇ、３，４−ジメトキシシクロブテン−１，２−ジオン９．９５ｇ、炭酸カリウム９．６７ｇおよびメタノール７５ｍｌを混合し、４０℃で４時間攪拌した。反応液を５℃に冷却後、析出した固体を濾取して５℃に冷却したメタノールとトルエンとの１：１混合溶媒（体積比）で洗浄した。得られた固体に炭酸カリウム４．８４ｇおよび水１４０ｍｌを加え、混合物を８０℃で４時間攪拌した。反応液を冷却後、反応液に３ｍｏｌ／ｌの塩酸５０ｍｌを加え、混合物を５℃に冷却し、析出した固体を濾取して５℃に冷却した３ｍｏｌ／ｌの塩酸および５℃に冷却した水で順次洗浄後、乾燥することにより化合物（ＶＩ−５）１７．０６ｇ（収率６３％）を得た。【００９９】
参考例１５．化合物（ＶＩ−６）
ｔｅｒｔ−ブチルヒドラジン塩酸塩３７．５ｇ、アセト酢酸エチル３９．９５ｇ、トリエチルアミン３０．７５ｇ、キシレン１１０ｍｌおよびメタノール７５ｍｌを混合し、ディーン・スターク装置の付いた反応器中で６時間還流した。反応液を室温に冷却後、水１２０ｍｌで洗浄し、減圧下で濃縮し、析出した固体を濾取した。得られた固体をキシレン２０ｍｌおよびメタノール２０ｍｌで順次洗浄後、乾燥することにより５−ヒドロキシ−１−ｔｅｒｔ−ブチル−３−メチルピラゾール３３．７ｇ（収率７３％）を得た。【０１００】
５−ヒドロキシ−１−ｔｅｒｔ−ブチル−３−メチルピラゾール１０．０ｇ、３，４−ジメトキシシクロブテン−１，２−ジオン９．２２ｇ、炭酸カリウム８．９６ｇおよびメタノール１５０ｍｌを混合し、６０℃で４時間攪拌した。反応液を０℃に冷却後、析出した固体を濾取した。得られた固体に炭酸カリウム２．１８ｇおよび水７５ｍｌを加え、混合物を７５℃で２時間攪拌した。反応液を冷却後、反応液に６ｍｏｌ／ｌの塩酸２０ｍｌを加え、混合物を室温に冷却し、析出した固体を濾取して水で洗浄後、乾燥することにより化合物（ＶＩ−６）１１．８５ｇ（収率７３％）を得た。【０１０１】
参考例１６．化合物（ＶＩ−７）
２−ヒドラジノ−３−トリフルオロメチルピリジン１２．４０ｇ、硫酸０．６９ｇ、４−メチル−３−オキソペンタン酸メチル１０．０９ｇおよびトルエン２１ｍｌを混合し、ディーン・スターク装置の付いた反応器中で５時間還流した。反応液を冷却後、溶媒を留去し、残渣を乾燥することにより５−ヒドロキシ−１−（３−トリフルオロメチル−２−ピリジル）−３−イソプロピルピラゾール１９．９１ｇ（収率９２％）を得た。【０１０２】
５−ヒドロキシ−１−（３−トリフルオロメチル−２−ピリジル）−３−イソプロピルピラゾール１９．９１ｇ、３，４−ジメトキシシクロブテン−１，２−ジオン９．１２ｇ、炭酸カリウム８．８７ｇ、メタノール４６ｍｌおよびトルエン２３ｍｌを混合し、４０℃で３時間攪拌した。反応液を５℃に冷却後、析出した固体を濾取して５℃に冷却したメタノールとトルエンとの１：１混合溶媒（体積比）で洗浄した。得られた固体に炭酸カリウム４．４４ｇおよび水９６ｍｌを加え、混合物を８０℃で３時間攪拌した。反応液を冷却後、反応液に３ｍｏｌ／ｌの塩酸６４ｍｌを加え、混合物を５℃に冷却し、析出した固体を濾取して５℃に冷却した水で洗浄後、乾燥することにより化合物（ＶＩ−７）１６．６２ｇ（収率７１％）を得た。【０１０３】
参考例１７．化合物（ＶＩ−８）
参考例１４と同様な方法により製造して得た２−ヒドラジノ−４，６−ジメトキシピリミジン９．０９ｇ、トルエン２４ｍｌ、濃硫酸０．５２ｇおよび４−メチル−３−オキソペンタン酸エチル７．０７ｇを混合し、ディーン・スターク装置の付いた反応器中で８時間還流した。反応液を４０℃に冷却後、反応液にオクタン４８ｍｌを加え、混合物を５℃に冷却し、５℃で１時間攪拌した。析出した固体を濾取してオクタンとトルエンとの２：１混合溶媒（体積比）で洗浄後、乾燥することにより５−ヒドロキシ−１−（４，６−ジメトキシ−２−ピリミジニル）−３−イソプロピルピラゾール１１．８１ｇ（収率８４％）を得た。【０１０４】
５−ヒドロキシ−１−（４，６−ジメトキシ−２−ピリミジニル）−３−イソプロピルピラゾール１０．５７ｇ、３，４−ジメトキシシクロブテン−１，２−ジオン５．６８ｇ、炭酸カリウム５．５３ｇ、メタノール２０ｍｌおよびトルエン１００ｍｌを混合し、４０℃で３時間攪拌した。反応液を５℃に冷却後、析出した固体を濾取して５℃に冷却したメタノールとトルエンとの１：２混合溶媒（体積比）で洗浄した。得られた固体に炭酸カリウム２．７６ｇおよび水１００ｍｌを加え、混合物を８０℃で３時間攪拌した。反応液を冷却後、反応液に３ｍｏｌ／ｌの塩酸５５ｍｌを加え、混合物を５℃に冷却し、析出した固体を濾取して５℃に冷却した水で洗浄後、乾燥することにより化合物（ＶＩ−８）１５．９７ｇ（収率７９％）を得た。【０１０５】
参考例１８．化合物（８１）
化合物（ＶＩ−４）０．５０ｇおよび２−ピリジンカルボヒドラジド０．１４ｇを、アセトニトリル１０ｍｌ中、５０℃で４０時間反応させた。反応液を冷却後、析出した固体を濾取して乾燥することにより化合物（８１）０．３９ｇ（収率８８％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ （４００ＭＨｚ）δ（ＤＭＳＯ-ｄ６) ｐｐｍ：３．７８（３Ｈ，ｓ），６．９８（２Ｈ，ｂｄ，Ｊ＝９．１Ｈｚ），７．３０−７．３２(１Ｈ，ｍ)，７．５１−７．７１（１Ｈ，ｍ），７．８４（２Ｈ，ｂｄ，Ｊ＝９．１Ｈｚ），８．０３−８．１０（２Ｈ，ｍ），８．７０（１Ｈ，ｂｄ，Ｊ＝４．９Ｈｚ），１１．２４（１Ｈ，ｂｓ），１１．３７（１Ｈ，ｂｓ）．【０１０６】
参考例１９．化合物（１４８）
化合物（ＶＩ−５）０．５０ｇおよび２，４，６−トリメチルベンゾヒドラジド０．１３ｇを、エタノール２０ｍｌ中、７０℃で１０時間反応させた。反応液を冷却後、析出した固体を濾取してエタノールで洗浄後、乾燥することにより化合物（１４８）０．３７ｇ（収率９０％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ （４００ＭＨｚ）δ（ＤＭＳＯ-ｄ６）ｐｐｍ：２．１４（３Ｈ，s），２．２１(３Ｈ，ｓ)，２．２５（３Ｈ，ｓ），３．９４（６Ｈ，ｓ），６．３０（１Ｈ，ｓ），６．８５（１Ｈ，ｓ），６．８９（１Ｈ，ｓ），１０．１８（１Ｈ，ｓ），１０．３１（１Ｈ，ｓ）．【０１０７】
参考例２０．化合物（１４９）
化合物（ＶＩ−５）２．８３ｇおよび２，６−ジフルオロベンゾヒドラジド１．０９ｇを、エタノール３２ｍｌ中、７０℃で４０時間反応させた。反応液を冷却後、析出した固体を濾取して乾燥することにより化合物（１４９）１．２７ｇ（収率３４％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ （４００ＭＨｚ）δ（ＤＭＳＯ-ｄ６) ｐｐｍ：３．９４（６Ｈ，ｓ），６．３０（１Ｈ，ｓ），７．１９（２Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝２．４，８．１Ｈｚ），７．５１−７．６０（１Ｈ，ｍ），１０．５７（１Ｈ，ｓ），１１．０４（１Ｈ，ｓ）．【０１０８】
参考例２１．化合物（１５０）
化合物（ＶＩ−６）０．７３ｇおよび２，４，６−トリメチルベンゾヒドラジド０．６１ｇを、エタノール６ｍｌ中、７０℃で３時間反応させた。反応液を冷却後、反応液にジエチルエーテル１０ｍｌを加えた。析出した固体を濾取してジエチルエーテルで洗浄後、乾燥することにより化合物（１５０）０．４９ｇ（収率３７％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ （４００ＭＨｚ）δ（ＤＭＳＯ-ｄ６) ｐｐｍ：１．５１（９Ｈ，ｂｓ），２．２６（６Ｈ，ｂｓ），２．３２（３Ｈ，ｂｓ），２．５１（３Ｈ，ｂｓ），６．９０（２Ｈ，ｂｓ），１０．１５（１Ｈ，ｓ），１１．１６（１Ｈ，ｓ）．【０１０９】
参考例２２．化合物（１５１）
化合物（ＶＩ−７）１．４７ｇおよびベンゾヒドラジド０．５４ｇを、エタノール５ｍｌ中、７０℃で４時間反応させた。反応液を冷却後、析出した固体を濾取してジエチルエーテルで洗浄後、乾燥することにより化合物（１５１）１．３９ｇ（収率７２％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ （４００ＭＨｚ）δ（ＤＭＳＯ-ｄ６) ｐｐｍ：１．０８（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），１．２８（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），３．４９−３．５４（１Ｈ，ｍ），７．５０−７．６２（３Ｈ，ｍ），７．７７−７．８９（３Ｈ，ｍ），８．４１−８．５３（１Ｈ，ｍ），８．８６−８．９７（１Ｈ，ｍ），１０．４６（１Ｈ，ｓ），１１．０９（１Ｈ，ｓ）．【０１１０】
参考例２３．化合物（１５２）
化合物（ＶＩ−７）１．４７ｇおよび２，４，６−トリメチルベンゾヒドラジド０．７１ｇを、エタノール１０ｍｌ中、７０℃で４時間反応させた。反応液を冷却後、析出した固体を濾取してエタノールで洗浄後、乾燥することにより化合物（１５２）１．５０ｇ（収率７１％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ （４００ＭＨｚ）δ（ＤＭＳＯ-ｄ６) ｐｐｍ：１．２０（６Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），２．２６（９Ｈ，ｂｓ），３．４０−３．５７（１Ｈ，ｍ），６．９１（２Ｈ，ｂｓ），７．８０−７．８５（１Ｈ，ｍ），８．４１−８．４９（１Ｈ，ｍ），８．８５−８．９０（１Ｈ，ｍ），１０．１５（１Ｈ，ｓ），１１．２５（１Ｈ，ｓ）．【０１１１】
参考例２４．化合物（１５３）
化合物（ＶＩ−８）１．４４ｇおよび３−トリフルオロメチルベンゾヒドラジド０．８２ｇを、エタノール１６ｍｌ中、７０℃で３時間攪拌させた。反応液を冷却後、析出した固体を濾取してエタノールで洗浄後、乾燥することにより化合物（１５３）１．５２ｇ（収率７０％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ （４００ＭＨｚ）δ（ＤＭＳＯ-ｄ６）ｐｐｍ：１．１９（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），１．３１(３Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．０Ｈｚ)，３．４８−３．５７（１Ｈ，ｍ），３．８６（３Ｈ，ｓ），３．９１（３Ｈ，ｓ），６．１６（１Ｈ，ｓ），７．７７−７．８３（１Ｈ，ｍ），７．９５−８．２０（３Ｈ，ｍ），１０．５１（１Ｈ，ｓ），１１．２７（１Ｈ，ｓ）． 【０１１２】
（スクアリリウム化合物の金属錯体の製造）
セイコ−・インスツルメント社製 ＴＧ／ＤＴＡ６２００を用いて熱重量分析を以下の条件で行うことにより、以下の実施例で得られたスクアリリウム化合物の金属錯体の分解開始温度を求めた。０．０５重量％／℃以上の重量減少が観察されたときの温度を分解開始温度とした。分解開始温度が３００℃以下である化合物は、青紫色レーザー光等に対する高感度な光応答性が期待されるので、好ましい。【０１１３】
測定温度：４０〜４００℃、昇温温度：１０℃／分、雰囲気；窒素通気（３００ｍｌ／分）、試料容器：アルミニウム製１５μｌ（開放）、試料：１〜１．５mg
【実施例１】
【０１１４】
化合物（１）とニッケルとの２：１錯体［化合物（１−Ｎ）］
化合物（１）１５０ｍｇおよび酢酸ニッケル（ＩＩ）４水和物４２ｍｇを、エタノール５ｍｌ中、７０℃で７時間反応させた。析出した固体を濾取してエタノールで洗浄後、乾燥することにより化合物（１−Ｎ）１４２ｍｇ（収率９６％）を得た。
吸収極大波長（ＣＨＣｌ３）：４１５ｎｍ
モル吸光係数（ＣＨＣｌ３）：５９１００（ｍｏｌ／ｌ）−１・ｃｍ−１
吸収極大波長（ＴＦＰ）：４１０ｎｍ
分解開始温度：２２８℃
分子量：９３２［ＦＡＢ−ＭＳ：ｍ／ｚ  ９３３（Ｍ＋Ｈ）＋］
【実施例２】
【０１１５】
化合物（１）とコバルトとの２：１錯体［化合物（１−ＣＯ）］
化合物（１）１５０ｍｇおよび酢酸コバルト（ＩＩ）４水和物４２ｍｇを、エタノール５ｍｌ中、７０℃で７時間反応させた。析出した固体を濾取してエタノールで洗浄後、乾燥することにより化合物（１−ＣＯ）１３５ｍｇ（収率８５％）を得た。
吸収極大波長（ＣＨＣｌ３）：４２２ｎｍ
モル吸光係数（ＣＨＣｌ３）：４０４００（ｍｏｌ／ｌ）−１・ｃｍ−１
吸収極大波長（ＴＦＰ）：４０８ｎｍ
分子量：９３３［ＦＡＢ−ＭＳ：ｍ／ｚ  ９３４（Ｍ＋Ｈ）＋］
【実施例３】
【０１１６】
化合物（２２）とニッケルとの２：１錯体［化合物（２２−Ｎ）］
化合物（２２）１５０ｍｇおよび酢酸ニッケル（ＩＩ）４水和物４０ｍｇを、エタノール３ｍｌ中、７０℃で２時間反応させた。析出した固体を濾取してエタノールで洗浄後、乾燥することにより化合物（２２−Ｎ）を０．１３ｇ（収率８３．８％）を得た。
吸収極大波長（ＣＨＣｌ３）：４１４．５ｎｍ
モル吸光係数（ＣＨＣｌ３）：４０５００（ｍｏｌ／ｌ）−１・ｃｍ−１
吸収極大波長（ＴＦＰ）：４０３．５ｎｍ
分解開始温度：２６５℃
【実施例４】
【０１１７】
化合物（２２）とコバルトとの２：１錯体［化合物（２２−ＣＯ）］
化合物（２２）１５０ｍｇおよび酢酸コバルト（ＩＩ）４水和物４０ｍｇを、エタノール３ｍｌ中、７０℃で４．５時間反応させた。析出した固体を濾取してエタノールで洗浄後、乾燥することにより化合物（２２−ＣＯ）９０ｍｇ（収率５６％）を得た。
吸収極大波長（ＣＨＣｌ３）： ４１５．０ｎｍ
モル吸光係数（ＣＨＣｌ３）： ４４４００（ｍｏｌ／ｌ）−１・ｃｍ−１
吸収極大波長（ＴＦＰ）：４０３．５ｎｍ
分解開始温度：２７５℃
【実施例５】
【０１１８】
化合物（６４）とニッケルとの２：１錯体［化合物（６４−Ｎ）］
化合物（６４）４７０ｍｇおよび酢酸ニッケル（ＩＩ）４水和物１２０ｍｇを、エタノール５ｍｌ中、７０℃で４時間反応させた。析出した固体を濾取してエタノールで洗浄後、乾燥することにより化合物（６４−Ｎ）４９０ｍｇ（収率９８％）を得た。
吸収極大波長（ＴＦＰ）：３９７ｎｍ
モル吸光係数（ＴＦＰ）：４３１００（ｍｏｌ／ｌ）−１・ｃｍ−１
分解開始温度：２８２℃
分子量：１０００［ＦＡＢ−ＭＳ：ｍ／ｚ  １００１（Ｍ＋Ｈ）＋］
【実施例６】
【０１１９】
化合物（６４）とコバルトとの２：１錯体［化合物（６４−ＣＯ）］
化合物（６４）４７０ｍｇおよび酢酸コバルト（ＩＩ）４水和物１２０ｍｇを、エタノール５ｍｌ中、７０℃で４時間反応させた。析出した固体を濾取してエタノールで洗浄後、乾燥することにより化合物（６４−ＣＯ）４９０ｍｇ（収率９８％）を得た。
吸収極大波長（ＴＦＰ）：３８２ｎｍ
モル吸光係数（ＴＦＰ）：４２４００（ｍｏｌ／ｌ）−１・ｃｍ−１
分解開始温度：２７６℃
分子量：１００１［ＦＡＢ−ＭＳ：ｍ／ｚ  １００２（Ｍ＋Ｈ）＋］
【実施例７】
【０１２０】
化合物（６５）とニッケルとの２：１錯体［化合物（６５−Ｎ）］
化合物（６５）９５０ｍｇおよび酢酸ニッケル（ＩＩ）４水和物２５０ｍｇを、エタノール１５ｍｌ中、７０℃で４時間反応させた。析出した固体を濾取してエタノールで洗浄後、乾燥することにより化合物（６５−Ｎ）９５０ｍｇ（収率９０％）を得た。
吸収極大波長（ＴＦＰ）： ３７２ｎｍ
分解開始温度：２９１℃
【実施例８】
【０１２１】
化合物（６５）とコバルトとの２：１錯体［化合物（６５−ＣＯ）］
化合物（６５）９５０ｍｇおよび酢酸コバルト（ＩＩ）４水和物２８０ｍｇを、エタノール１５ｍｌ中、７０℃で４時間反応させた。析出した固体を濾取してエタノールで洗浄後、乾燥することにより化合物（６５−ＣＯ）９７０ｍｇ（収率９７％）を得た。
吸収極大波長（ＴＦＰ）： ３８２ｎｍ
分解開始温度：２９０℃
【実施例９】
【０１２２】
化合物（７３）とニッケルとの２：１錯体［化合物（７３−Ｎ）］
化合物（７３）７５０ｍｇおよび酢酸ニッケル（ＩＩ）４水和物１７０ｍｇを、エタノール１５ｍｌ中、７０℃で４時間反応させた。析出した固体を濾取してエタノールで洗浄後、乾燥することにより化合物（７３−Ｎ）７３０ｍｇ（収率９２％）を得た。
吸収極大波長（ＴＦＰ）： ３８５ｎｍ
分解開始温度：２５７℃
【実施例１０】
【０１２３】
化合物（７３）とコバルトとの２：１錯体［化合物（７３−ＣＯ）］
化合物（７３）７５０ｍｇおよび酢酸コバルト（ＩＩ）４水和物１７０ｍｇを、エタノール１５ｍｌ中、７０℃で４時間反応させた。析出した固体を濾取してエタノールで洗浄後、乾燥することにより化合物（７３−ＣＯ）７２０ｍｇ（収率９０％）を得た。
吸収極大波長（ＴＦＰ）： ３８０ｎｍ
分解開始温度：２５３℃
【実施例１１】
【０１２４】
化合物（１１９）とコバルトとの２：１錯体［化合物（１１９−ＣＯ）］
化合物（１１９）２００ｍｇおよび酢酸コバルト（ＩＩ）４水和物７６ｍｇを、エタノール２ｍｌ中、７０℃で０．５時間反応させた。析出した固体を濾取してエタノールで洗浄後、乾燥することにより化合物（１１９−ＣＯ）２０６ｍｇ（収率９３％）を得た。
吸収極大波長（ＣＨＣｌ３）：４１３．５ｎｍ
モル吸光係数（ＣＨＣｌ３）：７９１００（ｍｏｌ／ｌ）−１・ｃｍ−１
吸収極大波長（ＴＦＰ）：４０４．５ｎｍ
分解開始温度：１９２℃
【実施例１２】
【０１２５】
化合物（１２８）とニッケルとの２：１錯体［化合物（１２８−Ｎ）］
化合物（１２８）２００ｍｇおよび酢酸ニッケル（ＩＩ）４水和物６７ｍｇを、エタノール３ｍｌ中、７０℃で４．５時間反応させた。析出した固体を濾取してエタノールで洗浄後、乾燥することにより化合物（１２８−Ｎ）２１８ｍｇ（収率１００％）を得た。
吸収極大波長（ＣＨＣｌ３）：４３３．０ｎｍ
モル吸光係数（ＣＨＣｌ３）：１０５３００（ｍｏｌ／ｌ）−１・ｃｍ−１
吸収極大波長（ＴＦＰ）：４２７．５ｎｍ
分解開始温度：１８６℃
【実施例１３】
【０１２６】
化合物（１２８）とコバルトとの２：１錯体［化合物（１２８−ＣＯ）］
化合物（１２８）２００ｍｇおよび酢酸コバルト（ＩＩ）４水和物６７ｍｇを、エタノール３ｍｌ中、７０℃で４．５時間反応させた。析出した固体を濾取してエタノールで洗浄後、乾燥することにより化合物（１２８−ＣＯ）２２７ｍｇ（収率１００％）を得た。
吸収極大波長（ＣＨＣｌ３）： ４３２．０ｎｍ
モル吸光係数（ＣＨＣｌ３）： ９２２００（ｍｏｌ／ｌ）−１・ｃｍ−１
吸収極大波長（ＴＦＰ）： ４２４．５ｎｍ
分解開始温度：１７５℃
【実施例１４】
【０１２７】
化合物（８１）とニッケルとの２：１錯体［化合物（８１−Ｎ）］
化合物（８１）１５０ｍｇおよび酢酸ニッケル（ＩＩ）４水和物４２ｍｇを、エタノール５ｍｌ中、７０℃で７時間反応させた。析出した固体を濾取してエタノールで洗浄後、乾燥することにより化合物（８１−Ｎ）１４２ｍｇ（収率９６％）を得た。
吸収極大波長（ＴＦＰ）：４４５．０ｎｍ
分解開始温度：２３８℃
【実施例１５】
【０１２８】
化合物（８１）とコバルトとの２：１錯体［化合物（８１−ＣＯ）］
化合物（８１）１５０ｍｇおよび酢酸コバルト（ＩＩ）４水和物４２ｍｇを、エタノール５ｍｌ中、７０℃で７時間反応させた。析出した固体を濾取してエタノールで洗浄後、乾燥することにより化合物（８１−ＣＯ）１３５ｍｇ（収率８５％）を得た。
吸収極大波長（ＴＦＰ）：４５１．０ｎｍ
分解開始温度：２３４℃
【実施例１６】
【０１２９】
化合物（１４８）とコバルトとの２：１錯体［化合物（１４８−ＣＯ）］
化合物（１４８）１５０ｍｇおよび酢酸コバルト（ＩＩ）４水和物４０ｍｇを、エタノール３ｍｌ中、７０℃で４．５時間反応させた。析出した固体を濾取してエタノールで洗浄後、乾燥することにより化合物（１４８−ＣＯ）９０ｍｇ（収率５６％）を得た。
吸収極大波長（ＴＦＰ）：３７２．０ｎｍ
分解開始温度：２６１℃
分子量：１１４９［ＦＡＢ−ＭＳ：ｍ／ｚ  １１５０（Ｍ＋Ｈ）＋］
【実施例１７】
【０１３０】
化合物（１４９）とコバルトとの２：１錯体［化合物（１４９−ＣＯ）］
化合物（１４９）４７０ｍｇおよび酢酸コバルト（ＩＩ）４水和物１２０ｍｇを、エタノール５ｍｌ中、７０℃で４時間反応させた。析出した固体を濾取してエタノールで洗浄後、乾燥することにより化合物（１４９−ＣＯ）４９０ｍｇ（収率９８％）を得た。
吸収極大波長（ＴＦＰ）：３８０．０ｎｍ
分解開始温度：２４８℃
分子量：１１３７［ＦＡＢ−ＭＳ：ｍ／ｚ  １１３８（Ｍ＋Ｈ）＋］
【実施例１８】
【０１３１】
化合物（１５０）とコバルトとの２：１錯体［化合物（１５０−ＣＯ）］
化合物（１５０）４４０ｍｇおよび酢酸コバルト（ＩＩ）４水和物１３０ｍｇを、エタノール３ｍｌ中、７０℃で３時間反応させた。反応液を冷却後、反応液にジエチルエーテル１０ｍｌを加え、混合物を攪拌し、析出した固体を濾取してジエチルエーテルで洗浄後、乾燥することにより化合物（１５０−ＣＯ）３２０ｍｇ（収率４６％）を得た。
吸収極大波長（ＴＦＰ）：３８９．０ｎｍ
分解開始温度：２３３℃
分子量：８７７［ＦＡＢ−ＭＳ：ｍ／ｚ  ８７８（Ｍ＋Ｈ）＋］
【実施例１９】
【０１３２】
化合物（１５１）とコバルトとの２：１錯体［化合物（１５１−ＣＯ）］
化合物（１５１）９７０ｍｇおよび酢酸コバルト（ＩＩ）４水和物２５０ｍｇを、エタノール３ｍｌ中、７０℃で３時間反応させた。反応液を冷却後、反応液にジエチルエーテル１０ｍｌを加え、混合物を攪拌し、析出した固体を濾取してジエチルエーテルで洗浄後、乾燥することにより化合物（１５１−ＣＯ）８５０ｍｇ（収率８３％）を得た。
吸収極大波長（ＴＦＰ）：３８５．０ｎｍ
分解開始温度：２４４℃
分子量：１０２７［ＦＡＢ−ＭＳ：ｍ／ｚ  １０２８（Ｍ＋Ｈ）＋］
【実施例２０】
【０１３３】
化合物（１５２）とコバルトとの２：１錯体［化合物（１５２−ＣＯ）］
化合物（１５２）１０６０ｍｇおよび酢酸コバルト（ＩＩ）４水和物２５０ｍｇを、エタノール６ｍｌ中、７０℃で３時間反応させた。反応液を冷却後、ジエチルエーテル１０ｍｌを加え、混合物を攪拌し、析出した固体を濾取してジエチルエーテルで洗浄後、乾燥することにより化合物（１５２−ＣＯ）９７０ｍｇ（収率８７％）を得た。
吸収極大波長（ＴＦＰ）：３７５．０ｎｍ
分解開始温度：２４５℃
分子量：１１１１［ＦＡＢ−ＭＳ：ｍ／ｚ  １１１２（Ｍ＋Ｈ）＋］
【実施例２１】
【０１３４】
化合物（１５３）とコバルトとの２：１錯体［化合物（１５３−ＣＯ）］
化合物（１５３）９８０ｍｇおよび酢酸コバルト（ＩＩ）４水和物２２０ｍｇを、エタノール１２ｍｌ中、７０℃で３時間反応させた。反応液を冷却後、析出した固体を濾取してエタノールで洗浄後、乾燥することにより化合物（１５３−ＣＯ）６３０ｍｇ（収率６１％）を得た。
吸収極大波長（ＴＦＰ）：３７１．０ｎｍ
分解開始温度：２５７℃
分子量：１１４９［ＦＡＢ−ＭＳ：ｍ／ｚ  １１５０（Ｍ＋Ｈ）＋］【０１３５】
（溶解性試験）
化合物（１−Ｎ）、（１−ＣＯ）、（２２−ＣＯ）、（６４−Ｎ）、（６４−ＣＯ）、（１４８−ＣＯ）、（１４９−ＣＯ）、（１５０−ＣＯ）、（１５１−ＣＯ）、（１５２−ＣＯ）および（１５３−ＣＯ）について、ＴＦＰに対する溶解性を調べた。【０１３６】
上記のそれぞれのスクアリリウム化合物の金属錯体とＴＦＰとを混合し、室温で３０分間超音波振動を加えた後、混合物を目視で観察した。結果を表１および表２に示す。表１および表２中、溶解性試験１においては、スクアリリウム化合物の金属錯体１０ｍｇとＴＦＰ９９０ｍｇとを用いて前記の操作を行い、溶解性試験２においては、スクアリリウム化合物の金属錯体２０ｍｇとＴＦＰ９８０ｍｇとを用いて前記の操作を行った
化合物（１−Ｎ）、（１−ＣＯ）、（２２−ＣＯ）、（６４−Ｎ）、（６４−ＣＯ）、（１４８−ＣＯ）、（１４９−ＣＯ）、（１５０−ＣＯ）、（１５１−ＣＯ）、（１５２−ＣＯ）および（１５３−ＣＯ）は、それぞれＴＦＰに対する優れた溶解性を有することがわかる。【０１３７】
【表１】
2010047341.tif 000018
【０１３８】
【表２】
2010047341.tif 000019
【０１３９】
（塗膜性試験）
スクアリリウム化合物の金属錯体として、化合物（１−Ｎ）、（１−ＣＯ）、（２２−ＣＯ）、（６４−Ｎ）、（６４−ＣＯ）、（１４８−ＣＯ）、（１４９−ＣＯ）、（１５０−ＣＯ）、（１５１−ＣＯ）、（１５２−ＣＯ）および（１５３−ＣＯ）を用いた。
上記のそれぞれのスクアリリウム化合物の金属錯体２０ｍｇをＴＦＰ９８０ｍｇに溶解し、溶液をテフロン（登録商標）製フィルター（Ｗｈａｔｍａｎ社製、孔径０．４５μｍ）で濾過し、スクアリリウム化合物の金属錯体の溶液をそれぞれ得た。基板として、ポリカーボネート樹脂（太佑機材社製；５ｃｍ×５ｃｍ、厚さ１ｍｍ）を用いた。ミカサ社製１Ｈ-ＳＸを用いてスピンコート法（３０００ｒｐｍ、３０秒間、溶液の使用量；１０〜１５滴）にて該溶液を基板上に塗布し、７０℃で３０分間オーブン中で乾燥して、スクアリリウム化合物の金属錯体の薄膜をそれぞれ得た。それぞれの該薄膜にはむらがなく、均質に製膜されていることを目視により確認した。【０１４０】
（耐光性試験）
基板としてポリカーボネート樹脂の代わりにガラス（太佑機材社製；２ｃｍ×２ｃｍ、厚さ２ｍｍ）を用いる以外は塗膜性試験と同様にして、化合物（１−Ｎ）、（１−ＣＯ）、（２２−ＣＯ）、（６４−Ｎ）、（６４−ＣＯ）、（１４８−ＣＯ）、（１４９−ＣＯ）、（１５０−ＣＯ）、（１５１−ＣＯ）、（１５２−ＣＯ）および（１５３−ＣＯ）の薄膜をそれぞれ得た。紫外線蛍光燈（スガ試験機社製ＳＵＧＡ−ＦＳ４０：ピーク波長３１３ｎｍ、照度分布２８２〜３７３ｎｍ）を備えたスガ試験機社製デューパネル・光コントロールウェザーメーターＤＰＷＬ−５Ｒ型を用いて、該薄膜に１５Ｗ／ｍ２の光量にて４５℃で１０時間光照射した。耐光性試験前後において、吸収極大波長における吸光度を分光光度計を用いて測定した。耐光性試験前の吸収極大波長における吸光度（Ｉ０）に対する耐光性試験後の吸収極大波長における吸光度（Ｉ）を表３に示す。Ｉ／Ｉ０が大きいものほど、優れた耐光性を有することを表す。化合物（１−Ｎ）、（１−ＣＯ）、（２２−ＣＯ）、（６４−Ｎ）、（６４−ＣＯ）、（１４８−ＣＯ）、（１４９−ＣＯ）、（１５０−ＣＯ）および（１５３−ＣＯ）は、それぞれ優れた耐光性を有することがわかる。【０１４１】
【表３】
2010047341.tif 000020
【０１４２】
（光応答性試験）
塗膜性試験と同様にして、ポリカーボネート樹脂（太佑機材社製；５ｃｍ×５ｃｍ、厚さ１ｍｍ）の基板上に化合物（１−Ｎ）、（１−ＣＯ）、（２２−ＣＯ）、（６４−Ｎ）、（６４−ＣＯ）、（１４８−ＣＯ）、（１４９−ＣＯ）、（１５０−ＣＯ）、（１５１−ＣＯ）、（１５２−ＣＯ）および（１５３−ＣＯ）の薄膜を得た。波長４０５ｎｍ、開口数ＮＡ０．８５のピックアップヘッドをもつナノ加工装置（パルステック工業社製ＮＥＯ−１０００)を記録試験に用いた。記録マークの間隔として、半径方向のドット間隔（トラックピッチ）を０．３２μｍに、回転方向のドット間隔を０．５０μｍに設定した。該ナノ加工装置に該薄膜を設置した後、線速度９．８４ｍ／秒にて出力３ｍＷのレーザー光を前記薄膜に照射した。レーザー光を照射した後の該薄膜の表面を走査型顕微鏡（ＳＥＭ）で観察したところ、該薄膜の表面に該薄膜の熱的変形による記録マークが形成されていることを確認した。【０１４３】
化合物（１−Ｎ）、（１−ＣＯ）、（２２−ＣＯ）、（６４−Ｎ）、（６４−ＣＯ）、（１４８−ＣＯ）、（１４９−ＣＯ）、（１５０−ＣＯ）、（１５１−ＣＯ）、（１５２−ＣＯ）および（１５３−ＣＯ）の薄膜は、それぞれ青紫色レーザー光に対する高感度な光応答性を有することがわかる。
【産業上の利用可能性】
【０１４４】
本発明により、青紫色レーザー光に対する高感度な光応答性等を有する光記録媒体に用いられるスクアリリウム化合物の金属錯体等を提供できる。
【国際調査報告】
2010047341.tif 000024
2010047341.tif 000025
2010047341.tif 000026
2010047341.tif 000027