【事件の表示】
　特許第３１２０３９５号「処理装置」の請求項１ないし３、５ないし７、９に係る特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結　論】
　訂正を認める。
　本件特許異議の申立てを却下する。
【理　由】
Ｉ．手続の経緯
　本件特許第３１２０３９５号の請求項１〜９に係る発明は、平成５年３月１０日に特許出願され、平成１２年１０月２０日に設定登録がなされた後、本件請求項１〜３、および５〜７、ならびに９に係る発明の特許について、特許異議申立人泉　和武（以下、「申立人」という）により平成１３年６月２５日に特許異議の申し立てがなされ、取消理由通知がなされ、その指定期間内である平成１４年４月６日に訂正請求がなされたものである。
　
ＩＩ．訂正請求の適否
１．訂正の内容
　訂正請求は、本件特許の願書に添付した明細書（以下、「特許明細書」という）を、平成１４年４月６日付けの訂正請求書に添付された訂正明細書のとおりに訂正しようとするものであって、その訂正の内容は次のとおりである。
　
２．訂正事項
（１）訂正事項１
特許明細書の特許請求の範囲に
「【請求項１】被処理体を処理する処理容器と、前記被処理体を載置して前記処理容器に対して挿脱可能に設けられた被処理体載置台と、この被処理体載置台を待機させる待機空間と、この待機空間に前記被処理体に形成される自然酸化膜を抑制するための自然酸化膜抑制気体を供給するための自然酸化膜抑制気体供給系と、前記自然酸化膜抑制気体を前記待機空間に循環させるための循環通路とを有する処理装置において、前記自然酸化膜抑制気体は低い露点温度を有する乾燥気体であることを特徴とする処理装置。
【請求項２】前記待機空間の一側には多数の通気孔を有する区画壁とフィルタとが設けられて前記循環通路からの気体を送出するようになっており、他側には多数の通気孔を有する区画壁が設けられて前記待機空間を通過した気体を前記循環通路へ取り込むようになっており、取り込まれた気体は前記待機空間の底部に区画壁を設けることによって形成した前記循環通路内を流れることをと特徴とする請求項１記載の処理装置。　
【請求項３】前記自然酸化膜抑制気体供給系は、前記自然酸化膜抑制気体を噴射するための噴射ノズルを有することを特徴とする請求項１または２記載の処理装置。　
【請求項４】前記循環通路内には、これに流れる前記自然酸化膜抑制気体を冷却する冷却手段が設けられることを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の処理装置。
【請求項５】前記循環通路内には、前記自然酸化膜抑制気体を循環させる送風手段が設けられることを特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載の処理装置。　　
【請求項６】前記循環通路には、これに循環される前記自然酸化膜抑制気体の一部を系外へ排出する排気管が接続されていることを特徴とする請求項１乃至５のいずれかに記載の処理装置。　
【請求項７】前記待機空間には、前記被処理体を収容したキャリアを搬入搬出させる搬入・搬出ボックスがパーテーションを介して並設されると共に、前記パーテーションの一部には、前記待機空間と前記搬入・搬出ボックスとの間で前記被処理体を移送する際に開閉されるトランスファボックスが設けられることを特徴とする請求項１乃至６のいずれかに記載の処理装置。　
【請求項８】前記トランスファボックス内は真空引き可能になされると共に、前記自然酸化膜抑制気体が必要に応じて供給可能になされていることを特徴とする請求項１乃至７のいずれかに記載の処理装置。
【請求項９】前記自然酸化膜抑制気体は、ー６０℃以下の露点温度を有する乾燥空気であることを特徴とする請求項１乃至８のいずれかに記載の処理装置。」とあるのを、
「【請求項１】被処理体を処理する処理容器と、前記被処理体を載置して前記処理容器に対して挿脱可能に設けられた被処理体載置台と、この被処理体載置台を待機させる待機空間と、この待機空間に前記被処理体に形成される自然酸化膜を抑制するための自然酸化膜抑制気体を供給するための自然酸化膜抑制気体供給系と、前記自然酸化膜抑制気体を前記待機空間に循環させるための循環通路とを有する処理装置において、前記自然酸化膜抑制気体は低い露点温度を有する乾燥気体であると共に、前記循環通路内には、これに流れる前記自然酸化膜抑制気体を冷却する冷却手段が設けられていることを特徴とする処理装置。
【請求項２】前記待機空間の一側には多数の通気孔を有する区画壁とフィルタとが設けられて前記循環通路からの気体を送出するようになっており、他側には多数の通気孔を有する区画壁が設けられて前記待機空間を通過した気体を前記循環通路へ取り込むようになっており、取り込まれた気体は前記待機空間の底部に区画壁を設けることによって形成した前記循環通路内を流れることを特徴とする請求項１記載の処理装置。　
【請求項３】前記自然酸化膜抑制気体供給系は、前記自然酸化膜抑制気体を噴射するための噴射ノズルを有することを特徴とする請求項１または２記載の処理装置。　
【請求項４】前記循環通路内には、前記自然酸化膜抑制気体を循環させる送風手段が設けられることを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の処理装置。　　
【請求項５】前記循環通路には、これに循環される前記自然酸化膜抑制気体の一部を系外へ排出する排気管が接続されていることを特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載の処理装置。
【請求項６】前記待機空間には、前記被処理体を収容したキャリアを搬入搬出させる搬入・搬出ボックスがパーテーションを介して並設されると共に、前記パーテーションの一部には、前記待機空間と前記搬入・搬出ボックスとの間で前記被処理体を移送する際に開閉されるトランスファボックスが設けられることを特徴とする請求項１乃至５のいずれかに記載の処理装置。　
【請求項７】前記トランスファボックス内は真空引き可能になされると共に、前記自然酸化膜抑制気体が必要に応じて供給可能になされていることを特徴とする請求項６記載の処理装置。　
【請求項８】前記自然酸化膜抑制気体は、ー６０℃以下の露点温度を有する乾燥空気であることを特徴とする請求項１乃至７のいずれかに記載の処理装置。」と訂正する。
　
（２）訂正事項２
　特許明細書の段落番号【０００８】に
「乾燥気体にしたものである」とあるのを「乾燥気体であると共に、前記循環通路内には、これに流れる前記自然酸化膜抑制気体を冷却する冷却手段が設けてある」と訂正する。
　
（３）訂正事項３
　特許明細書の段落番号【００１９】に
「ラジエター５０」とあるのを「冷却手段であるラジエター５０」と訂正する。
３．訂正の目的の適否、新規事項の有無、拡張・変更の存否の各要件についての判断                      
（１）訂正事項１について
　まず、訂正事項１による、特許明細書の各請求項（以下、「旧請求項」という。）の記載と、訂正明細書の各請求項（以下、「新請求項」という。）の記載との対応関係を検討するに、
（イ）新請求項１は、旧請求項１を引用して記載していた旧請求項４を、独立形式で記載したものに相当し、
（ロ）新請求項２は、旧請求項２を引用して記載していた旧請求項４を、新請求項１を引用する形式に改め、同時に、旧請求項２中の誤記を訂正したものに相当し、
（ハ）新請求項３は、旧請求項３を引用して記載していた旧請求項４を、新請求項１または新請求項２を引用する形式に改めたものに相当し、
（ニ）新請求項４〜８は、旧請求項４を引用して記載していた旧請求項５〜９の請求項番号を、一つづつ繰り上げると同時に、旧請求項５〜９中で更に引用していた請求項の番号を新請求項の番号に順次対応させたものに相当する。
　したがって、上記（イ）〜（ニ）によれば、訂正事項１は、実体としては、旧請求項１〜３を削除し、旧請求項４を、独立形式で、あるいは、引用形式で新請求項１〜３と記載し直し、そして、旧請求項４を削除し、この削除に伴い、旧請求項５〜９を新請求項４〜８として、その請求項の番号を繰り上げたものであるといえる。
　そうすると、訂正事項１は、特許請求の範囲の減縮、誤記の訂正、および明りょうでない記載の釈明を目的としたものといえ、そして、この訂正は、新規事項を追加するものではなく、また、実質的に特許請求の範囲を拡張し又は変更するものでもない。
 　
（２）訂正事項２、訂正事項３について
　訂正事項２、訂正事項３は、特許明細書の段落番号【００１９】の記載に基づき、訂正事項１に整合させて明細書の記載を訂正するものであるから、明りょうでない記載の釈明に該当し、かつ新規事項を追加するものでも実質的に特許請求の範囲を拡張し又は変更するものでもない。
　　
４．まとめ
　したがって、上記訂正は、特許法第１２０条の４第３項で準用する平成６年法律第１１６号による改正前の特許法第１２６条第１項ただし書、第２項および第３項の規定に適合するので、当該訂正を認める。
　　
ＩＩＩ．特許異議の申立てについて
１．本件発明
　前述のように、本件訂正は適法なものであるので、本件請求項１〜８に係る発明は、訂正請求書に添付された訂正明細書の特許請求の範囲の請求項１〜８に記載された次のとおりのものである。
「【請求項１】被処理体を処理する処理容器と、前記被処理体を載置して前記処理容器に対して挿脱可能に設けられた被処理体載置台と、この被処理体載置台を待機させる待機空間と、この待機空間に前記被処理体に形成される自然酸化膜を抑制するための自然酸化膜抑制気体を供給するための自然酸化膜抑制気体供給系と、前記自然酸化膜抑制気体を前記待機空間に循環させるための循環通路とを有する処理装置において、前記自然酸化膜抑制気体は低い露点温度を有する乾燥気体であると共に、前記循環通路内には、これに流れる前記自然酸化膜抑制気体を冷却する冷却手段が設けられていることを特徴とする処理装置。
【請求項２】前記待機空間の一側には多数の通気孔を有する区画壁とフィルタとが設けられて前記循環通路からの気体を送出するようになっており、他側には多数の通気孔を有する区画壁が設けられて前記待機空間を通過した気体を前記循環通路へ取り込むようになっており、取り込まれた気体は前記待機空間の底部に区画壁を設けることによって形成した前記循環通路内を流れることを特徴とする請求項１記載の処理装置。　
【請求項３】前記自然酸化膜抑制気体供給系は、前記自然酸化膜抑制気体を噴射するための噴射ノズルを有することを特徴とする請求項１または２記載の処理装置。　
【請求項４】前記循環通路内には、前記自然酸化膜抑制気体を循環させる送風手段が設けられることを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の処理装置。　　
【請求項５】前記循環通路には、これに循環される前記自然酸化膜抑制気体の一部を系外へ排出する排気管が接続されていることを特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載の処理装置。
【請求項６】前記待機空間には、前記被処理体を収容したキャリアを搬入搬出させる搬入・搬出ボックスがパーテーションを介して並設されると共に、前記パーテーションの一部には、前記待機空間と前記搬入・搬出ボックスとの間で前記被処理体を移送する際に開閉されるトランスファボックスが設けられることを特徴とする請求項１乃至５のいずれかに記載の処理装置。　
【請求項７】前記トランスファボックス内は真空引き可能になされると共に、前記自然酸化膜抑制気体が必要に応じて供給可能になされていることを特徴とする請求項６記載の処理装置。　
【請求項８】前記自然酸化膜抑制気体は、ー６０℃以下の露点温度を有する乾燥空気であることを特徴とする請求項１乃至７のいずれかに記載の処理装置。」
２．申立の理由の概要
申立人は、「本件の特許明細書の請求項１〜３、および５〜７、ならびに９に係る発明は、その出願前に国内において頒布された刊行物である甲第１〜５号証に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、請求項１〜３、および５〜７、ならびに９に係る発明の特許は特許法第２９条第２項の規定に違反してされたものである。」旨主張する。
　
３．判断
　申立人の主張からも明らかなように、本件の特許明細書の請求項４に係る発明の特許については、少なくとも、特許異議の申立の対象とはされていない。
　ところで、前記「ＩＩ．３．（１）」に記載したように、本件の特許明細書の請求項４、即ち、旧請求項４（以下、「ＩＩ．３．（１）」におけると同様な意味で、「新請求項」、「旧請求項」と記す。）が、新請求項１〜３に訂正されたことによって、特許異議の申立てがなされた旧請求項１〜３は、実質的に削除されたといえ、また、旧請求項５〜９が、新請求項１〜３を直接的あるいは間接的に引用する新請求項４〜８に訂正され、これによって、新請求項４〜８は、特許異議の申立がなされなかった旧請求項４を実質的に引用する請求項となったのであるから、その結果、特許異議の申立がなされていた旧請求項５〜７、９は実質的に削除されたといえる。
　そうすると、特許異議の申立の対象であった旧請求項１〜３、５〜７、９は、訂正の結果削除され、申立の対象が存在しないので、この特許異議の申立は不適法な申立であって、その補正をすることができないものである。
　
ＩＶ．むすび
　以上のとおり、本件特許異議の申立ては、特許法第１２０条の６第１項で準用する第１３５条の規定により却下すべきものである。
　
　よって、結論のとおり決定する。 
【異議決定日】
平成１４年６月１９日（２００２．６．１９）
【訂正の要旨】
　訂正の要旨
（１）訂正事項１
特許明細書の特許請求の範囲に
「【請求項１】被処理体を処理する処理容器と、前記被処理体を載置して前記処理容器に対して挿脱可能に設けられた被処理体載置台と、この被処理体載置台を待機させる待機空間と、この待機空間に前記被処理体に形成される自然酸化膜を抑制するための自然酸化膜抑制気体を供給するための自然酸化膜抑制気体供給系と、前記自然酸化膜抑制気体を前記待機空間に循環させるための循環通路とを有する処理装置において、前記自然酸化膜抑制気体は低い露点温度を有する乾燥気体であることを特徴とする処理装置。
　【請求項２】前記待機空間の一側には多数の通気孔を有する区画壁とフィルタとが設けられて前記循環通路からの気体を送出するようになっており、他側には多数の通気孔を有する区画壁が設けられて前記待機空間を通過した気体を前記循環通路へ取り込むようになっており、取り込まれた気体は前記待機空間の底部に区画壁を設けることによって形成した前記循環通路内を流れることをと特徴とする請求項１記載の処理装置。
　【請求項３】前記自然酸化膜抑制気体供給系は、前記自然酸化膜抑制気体を噴射するための噴射ノズルを有することを特徴とする請求項１または２記載の処理装置。
　【請求項４】前記循環通路内には、これに流れる前記自然酸化膜抑制気体を冷却する冷却手段が設けられることを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の処理装置。
　【請求項５】前記循環通路内には、前記自然酸化膜抑制気体を循環させる送風手段が設けられることを特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載の処理装置。
　【請求項６】前記循環通路には、これに循環される前記自然酸化膜抑制気体の一部を系外へ排出する排気管が接続されていることを特徴とする請求項１乃至５のいずれかに記載の処理装置。
　【請求項７】前記待機空間には、前記被処理体を収容したキャリアを搬入搬出させる搬入・搬出ボックスがパーテーションを介して並設されると共に、前記パーテーションの一部には、前記待機空間と前記搬入・搬出ボックスとの間で前記被処理体を移送する際に開閉されるトランスファボックスが設けられることを特徴とする請求項１乃至６のいずれかに記載の処理装置。
　【請求項８】前記トランスファボックス内は真空引き可能になされると共に、前記自然酸化膜抑制気体が必要に応じて供給可能になされていることを特徴とする請求項１乃至７のいずれかに記載の処理装置。
　【請求項９】前記自然酸化膜抑制気体は、ー６０℃以下の露点温度を有する乾燥空気であることを特徴とする請求項１乃至８のいずれかに記載の処理装置。」とあるのを、特許請求の範囲の減縮、誤記の訂正および明りょうでない記載の釈明を目的として
「【請求項１】被処理体を処理する処理容器と、前記被処理体を載置して前記処理容器に対して挿脱可能に設けられた被処理体載置台と、この被処理体載置台を待機させる待機空間と、この待機空間に前記被処理体に形成される自然酸化膜を抑制するための自然酸化膜抑制気体を供給するための自然酸化膜抑制気体供給系と、前記自然酸化膜抑制気体を前記待機空間に循環させるための循環通路とを有する処理装置において、前記自然酸化膜抑制気体は低い露点温度を有する乾燥気体であると共に、前記循環通路内には、これに流れる前記自然酸化膜抑制気体を冷却する冷却手段が設けられていることを特徴とする処理装置。
　【請求項２】前記待機空間の一側には多数の通気孔を有する区画壁とフィルタとが設けられて前記循環通路からの気体を送出するようになっており、他側には多数の通気孔を有する区画壁が設けられて前記待機空間を通過した気体を前記循環通路へ取り込むようになっており、取り込まれた気体は前記待機空間の底部に区画壁を設けることによって形成した前記循環通路内を流れることを特徴とする請求項１記載の処理装置。
　【請求項３】前記自然酸化膜抑制気体供給系は、前記自然酸化膜抑制気体を噴射するための噴射ノズルを有することを特徴とする請求項１または２記載の処理装置。
　【請求項４】前記循環通路内には、前記自然酸化膜抑制気体を循環させる送風手段が設けられることを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の処理装置。
　【請求項５】前記循環通路には、これに循環される前記自然酸化膜抑制気体の一部を系外へ排出する排気管が接続されていることを特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載の処理装置。
　【請求項６】前記待機空間には、前記被処理体を収容したキャリアを搬入搬出させる搬入・搬出ボックスがパーテーションを介して並設されると共に、前記パーテーションの一部には、前記待機空間と前記搬入・搬出ボックスとの間で前記被処理体を移送する際に開閉されるトランスファボックスが設けられることを特徴とする請求項１乃至５のいずれかに記載の処理装置。
　【請求項７】前記トランスファボックス内は真空引き可能になされると共に、前記自然酸化膜抑制気体が必要に応じて供給可能になされていることを特徴とする請求項６記載の処理装置。
　【請求項８】前記自然酸化膜抑制気体は、ー６０℃以下の露点温度を有する乾燥空気であることを特徴とする請求項１乃至７のいずれかに記載の処理装置。」と訂正する。
（２）訂正事項２
　特許明細書の段落番号【０００８】に
「乾燥気体にしたものである」とあるのを明りょうでない記載の釈明を目的として「乾燥気体であると共に、前記循環通路内には、これに流れる前記自然酸化膜抑制気体を冷却する冷却手段が設けてある」と訂正する。
（３）訂正事項３
　特許明細書の段落番号【００１９】に
「ラジエター５０」とあるのを明りょうでない記載の釈明を目的として「冷却手段であるラジエター５０」と訂正する。
（５４）【発明の名称】
処理装置
（５７）【特許請求の範囲】
　【請求項１】　被処理体を処理する処理容器と、前記被処理体を載置して前記処理容器に対して挿脱可能に設けられた被処理体載置台と、この被処理体載置台を待機させる待機空間と、この待機空間に前記被処理体に形成される自然酸化膜を抑制するための自然酸化膜抑制気体を供給するための自然酸化膜抑制気体供給系と、前記自然酸化膜抑制気体を前記待機空間に循環させるための循環通路とを有する処理装置において、前記自然酸化膜抑制気体は低い露点温度を有する乾燥気体である
と共に、前記循環通路内には、これに流れる前記自然酸化膜抑制気体を冷却する冷却手段が設けられる
　【請求項２】　前記待機空間の一側には多数の通気孔を有する区画壁とフィルタとが設けられて前記循環通路からの気体を送出するようになっており、他側には多数の通気孔を有する区画壁が設けられて前記待機空間を通過した気体を前記循環通路へ取り込むようになっており、取り込まれた気体は前記待機空間の底部に区画壁を設けることによって形成した前記循環通路内を流れること
を特
　【請求項３】　前記自然酸化膜抑制気体供給系は、前記自然酸化膜抑制気体を噴射するための噴射ノズルを有することを特徴とする請求項１または２記載の処理装置。
　【請求項
４
３
　【請求項
５
４
　【請求項
６
５
　【請求項７】　前記トランスファボックス内は真空引き可能になされると共に、前記自然酸化膜抑制気体が必要に応じて供給可能になされていることを特徴とする請求
項６記載
　【請求項
８
７
【発明の詳細な説明】
　【０００１】
　【産業上の利用分野】
　本発明は、例えば縦型熱処理装置のような処理装置に関する。
　【０００２】
　【従来の技術】
　一般に、半導体デバイスの製造工程における熱拡散工程や成膜工程にて使用される処理装置として、無塵化及び省スペース化等を図ることができる縦型熱処理装置が用いられている。
　このような縦型熱処理装置にあっては、円筒状に形成された石英からなる処理容器を囲んで設けられたヒーター及び断熱材等からなる熱処理炉がほぼ矩形状の筐体内上部に垂直に設けられている。この筐体内の熱処理炉の下部には、被処理体である多数の半導体ウエハを載置したウエハボートを待機させる待機空間が設けられており、このウエハボートをボートエレベータのごとき昇降手段により熱処理炉内へ搬出入し得るようになっている。
　【０００３】
　ところで、この種の装置により例えばＳｉウエハ上に種々の成膜、例えばＳｉＯ２等の絶縁膜を形成することが行われるが、この種の成膜を行うに際しては、その直前のウエハ搬送系においてウエハは清浄空気に晒されることからウエハ表面に自然酸化膜（ＳｉＯ２）が形成されてしまうことは避けることができない。この自然酸化膜の特性は、堆積等により人為的に形成される酸化膜の特性とは異なり良好ではないことから成膜の直前において極力排除しておくことが好ましい。そのために成膜工程の直前においてはウエハ表面に付着した自然酸化膜を除去する洗浄工程が組み込まれているが、洗浄終了後にウエハを成膜用の熱処理装置へ搬送する途中、及び搬送後にウエハが待機している間においてもウエハは清浄空気に晒されることになり、ここで自然酸化膜が再度形成されてしまう。
　【０００４】
　ここで、集積度があまり高くない場合には、処理直前までに生じてしまう自然酸化膜でも素子の特性上大きな問題はなかったが、前述のように集積度が向上して例えば６４Ｍビット、或いは２５６Ｍビットのように高集積度になると堆積すべきＳｉＯ２自体が薄くなり、自然酸化膜が素子特性に与える影響を無視し得なくなる。例えば自然酸化膜の厚さが２０Åとしてこれを含めて全体のＳｉＯ２の厚さを１００Åとすると、自然酸化膜の占める割合は２０％程度であり、問題は少ないが、上述のように集積度が高くなって全体のＳｉＯ２の厚さが上述の半分の５０Åとすると、自然酸化膜の占める割合は４０％にもなり、自然酸化膜の与える影響を無視し得なくなる。
　【０００５】
　そこで、ウエハ洗浄後の自然酸化膜の発生を抑制するための構造として、上記待機空間をＮ２（窒素）等の不活性雰囲気にすると共にこれに連結させて真空雰囲気或いはＮ２（窒素）等の不活性雰囲気になされたロードロック室を設けて、ウエハが洗浄空気と接触することを可能な限り制限した構造や、この構造よりレベルを落とした構造として上記ロードロック室を設けることなく待機空間内だけに、清浄空気中のＯ２（酸素）をＮ２で置換してＯ２濃度を例えば３０ＰＰＭ程度まで低下した気体、すなわち自然酸化膜抑制気体を循環させて自然酸化膜の発生を抑制するようにした構造が知られている。
　上記したロードロック室を設けた構造にあっては、付帯設備としてロードロック室を設けなければならないばかりか、大量のＮ２ガスを使用しなければならず、設備費の高騰のみならずランニングコストも上昇するが、自然酸化膜の発生を大幅に抑制することができる。
　【０００６】
　【発明が解決しようとする課題】
　ところで、ロードロック室を設けないで待機空間に自然酸化膜抑制気体を循環させる構造にあっては、十分な自然酸化膜発生抑制効果を生ずるが上述と同様に多量のＮ２ガスを使用するために、ロードロック室を設けた場合よりも設備費を低くすることができても、それでもかなりのランニングコストの大幅な上昇を余儀なくされるという問題があった。
　本発明は、以上のような問題点に着目し、これを有効に解決すべく創案されたものである。本発明の目的は、露点温度の低い乾燥気体を用いることにより自然酸化膜の発生を抑制することができる処理装置を提供することにある。
　【０００７】
　【課題を解決するための手段】
　本発明者は、従来においては自然酸化膜を抑制するために自然酸化膜抑制気体中の酸素濃度のみを制御していたが、種々検討した結果、自然酸化膜の発生量は気体中の水分を制御することによりＯ２濃度に依存しなくなって低く押さえる事ができるという知見を得ることにより本発明を行ったものである。
　【０００８】
　本発明は、上記問題点を解決するために、被処理体を処理する処理容器と、前記被処理体を載置して前記処理容器に対して挿脱可能に設けられた被処理体載置台と、この被処理体載置台を待機させる待機空間と、この待機空間に前記被処理体に形成される自然酸化膜を抑制するための自然酸化膜抑制気体を供給するための自然酸化膜抑制気体供給系と、前記自然酸化膜抑制気体を前記待機空間に循環させるための循環通路とを有する処理装置において、前記自然酸化膜抑制気体は低い露点温度を有する乾燥気体
であると共に、前記循環通路内には、これに流れる前記自然酸化膜抑制気体を冷却する冷却手段が設けてある
　【０００９】
　【作用】
　本発明は、以上のように構成したので、処理容器の、例えば下部に設けられた待機空間内には被処理体を載置した被処理体載置台が収容されており、この空間内には自然酸化膜抑制気体供給系より低い露点温度を有する乾燥気体が導入されている。従って、被処理体表面に形成される自然酸化膜を極力抑制することができる。
　【００１０】
　【実施例】
　以下に、本発明に係る処理装置の一実施例を添付図面に基づいて詳述する。
　図１は本発明に係る処理装置の一実施例を示す側断面図、図２は図１中のＩＩ−ＩＩ線矢視断面図、図３は水分濃度、酸素濃度と自然酸化膜増加量との関係を示すグラフである。
　【００１１】
　本実施例においては、処理装置として縦型ＣＶＤ装置を用いた場合について説明する。図示するように処理装置としての縦型ＣＶＤ装置２は、例えばステンレススチール等により略矩形状に形成された筐体４を有しており、この筐体４内の上部には石英等により円筒状に形成された処理容器６が設けられる。そして、この処理容器６を囲んで図示しないヒータや断熱材等が設けられ、熱処理炉を構成している。この処理容器６の下部側壁にはこの容器内へプロセスガスを導入するためのプロセスガス導入管８が接続されると共に処理済みのプロセスガスを排出するためのプロセスガス排出管１０が接続され、この排出管１０の途中には第１のオートダンパ１２が介設されている。また、この処理容器６の下端には、被処理体のロード・アンロード時において流下する処理容器６内の高温雰囲気を排除するためのスカベンジャ１４が設けられており、このスカベンジャ１４にはこの中の雰囲気を炉外へ排出する排気管１６が連結されている。そして、この処理容器６の下方には、被処理体をこの中へ収容するための被処理体載置台、例えば石英よりなるウエハボート２４が昇降可能に設けられ、このボート２４には水平方向へ配置された被処理体、例えば半導体ウエハＷが所定のピッチで上下方向へ多数枚積層して載置されている。
　【００１２】
　一方、この筐体４内の下部はパーテション１８により２分割されており、一方の空間は、被処理体の搬入・搬出ボックス２０として構成されて、所定枚数、例えば２５枚の被処理体としての半導体ウエハを収容したキャリア２２が２個収容されている。他方の空間、すなわち処理容器６の下方は上記ウエハボート２４を待機させる待機空間２６として構成されており、これらの間を区画するパーテション１８には、両端が例えばゲートベン等のドア２８、３０により開閉可能になされた箱状のトランスファボックス３２が設けられている。このボックス３２には、気体導入管３４と真空ポンプ等に接続された気体排出管３６が接続されており、必要に応じてこのボックス内を真空排気するようになっている。
　【００１３】
　上記待機空間２６内に位置する上記ウエハボート２４は図示しない昇降手段により昇降可能に設けられており、必要に応じてこのボート２４を昇降させる。また、この待機空間２８の側部及び底部には筐体４の壁面より僅かな距離だけ離間させて区画壁３８、４０が形成されており、これらの壁により区画される空間部を後述する自然酸化膜抑制気体を循環させる循環通路４２として構成している。そして、側部を区画する各区画壁３８には、気体を通すための多数の通気孔４４が形成されると共に一方の区画壁３８には、待機空間２６中に漂うパーティクルを吸着除去するためのフィルタ、例えばＵＬＰＡフィルタ４６が装着されている。
　【００１４】
　そして、この循環通路４２の途中、例えば底部通路４２Ａ内には、内部気体を強制循環させるための送風ファン４８及び循環気体の温度を抑制するためのラジエター５０が順次介設されている。このように形成された待機空間２６に自然酸化膜抑制気体を供給するための本発明の特長とする自然酸化膜抑制気体供給系５２が接続されている。具体的には、この抑制気体供給系５２は、上記筐体４の底壁を貫通させて上記底部通路４２Ａ内に臨ませて設けた第１の気体噴射ノズル５６を有しており、このノズル５６は清浄空気を導入するブロワ５８に連結された気体供給管６０に接続されている。尚、気体噴射ノズルとしては、これに限定されるものではない。そして、この気体供給管６０の途中には流量制御弁６２と、これに流れる気体を乾燥させるために、例えばピュリファイヤのような活性炭等を充填した乾燥器６４が介設されており、これに流れる気体の露点温度を−６０℃以下、好ましくは−７０℃以下となるように乾燥し得るように構成されている。このように、清浄気体を高度に乾燥させることによって、後述するように酸素濃度に依存させることなく自然酸化膜の発生を大幅に抑制することが可能となる。
　【００１５】
　この乾燥器６４は、流れる気体を所定の露点まで乾燥させるために必要ならば多段に設けてもよく、また、この乾燥気体を気体導入管３４（図１及び図２参照）を介してトランスファボックス３２に供給するようにしてもよい。
　更に、この乾燥器６４としては、活性炭方式により水分子を吸着する構造のみならず、露点温度を低下し得るならばどのような乾燥方式を用いてもよい。
　尚、符号６６は循環する気体の一部を系外へ排出するための排気管である。
　【００１６】
　次に、以上のように構成された本実施例の動作について説明する。
　まず、予め洗浄工程等により表面の自然酸化膜の除去された未処理のウエハＷは例えば２５枚ずつキャリア２２内に収容されて、搬入・搬出ボックス２０内に収容され、このキャリア２２は、図示しない搬送アームによりトランスファボックス３２内に移送される。そして、ドア３０を閉じた後に、このボックス３２内の内部雰囲気を自然酸化膜抑制気体供給系５２から気体導入管３４を介して供給される乾燥空気により置換する。
　【００１７】
　次に、このボックス３２の待機空間２６側のドア２８を開き図示しない搬送アームによりウエハＷをウエハボート２４に移載し、移載が完了したらボート２４を昇降手段により上昇させてウエハボート２４全体をこの上方の処理容器６内に収容すると共にボートの下部で処理容器６の下端開口部を閉塞させる。
　このような状態でウエハを所定の温度に加熱しつつ容器内にプロセスガスを導入して所定の時間だけ処理を行う。そして、熱処理が完了したならば前述したと逆の操作を行ってウエハボートを下降させてウエハＷを処理容器６から待機空間２６側へ取り出し、更にトランスファボックス３２を介して搬入・搬出ボックス２０側へ移すことになる。
　【００１８】
　このような一連の工程の間、待機空間２６内には自然酸化膜抑制気体供給系５２から自然酸化膜抑制気体として高度に乾燥された乾燥空気が供給されており、待機空間２６に位置するウエハ表面の自然酸化膜の発生を抑制することができる。すなわち、ブロワ５８から導入される清浄空気は乾燥器６４により水分が除去されて高度に、例えば露点温度が−７０℃程度になるまで乾燥されて、第１の気体噴射ノズル５６から待機空間２６内へ導入される。この導入された乾燥空気Ａは、送風ファン４８の作用により循環通路４２を介して待機空間２６内を循環し、ウエハボート２４に載置されたウエハ表面と接触し、この表面に自然酸化膜が発生することを抑制することが可能となる。
　【００１９】
　また、雰囲気中に含まれるパーティクルは循環通路４２の出口、すなわち待機空間の側部に設けたフィルタ４６により捕捉除去され、また、ウエハの余熱により加熱された雰囲気は循環通路４２の途中に設けた
冷却手段である
　また、第１の気体噴射ノズル５６を形成したので、これより噴射される乾燥空気が待機空間２６内を循環し、ウエハＷが処理容器６内へ収容される時はウエハ表面に付着する大気成分やパーティクルを表面より排除することができ、また、熱処理が終了して処理容器６からウエハＷを下降させて取り出す時にはウエハを強制的に冷却することができる。このような冷却効果やパーティクル排除効果を向上させるためには、乾燥気体の供給量や送風ファン４８の回転数を適宜調整して循環風量を最適な量とするのが好ましい。
　【００２０】
　ここで図３に基づいて自然酸化膜増加量のＯ２・Ｈ２Ｏに対する依存性を検討した結果を説明する。このグラフは、処理温度８００℃において、純粋窒素を２０ＳＬＭ（２０リットル／分）の流量で待機空間に流している状態からＯ２及びＨ２Ｏを徐々に増加していった時の自然酸化膜の増加量を測定したものである。含有水分濃度９３ｐｐｂ、５３２ｐｐｂ、２．６ｐｐｍ及び１１ｐｐｍはそれぞれ略−９０℃、−８０℃、−７０℃及び−６０℃の露点温度を示し、清浄空気として使用される大気は略＋１０℃の露点温度を示す。グラフより明らかなように乾燥気体の露点温度が約−６０℃程度で酸化膜の増加量が約３．８Åを示し、それ以下の露点温度であるならば酸素濃度が上昇してもほとんど自然酸化膜の増加量に影響を与えることがなく、この自然酸化膜の発生を抑制できることが判明した。特に、露点温度を−７０℃以下に設定すると自然酸化膜の発生を３Å以下に抑制することができ、良好な結果を得ることができる。
　このように、気体を乾燥させて露点温度を低く抑制すればその気体中の酸素濃度に関係なく自然酸化膜の発生量を抑制することができる。
　【００２１】
　尚、上記実施例にあっては、自然酸化膜抑制気体Ａとして、乾燥空気を用いたが、これに限定されず、露点温度さえ上述のように低く設定されるのであれば、効果を一層発揮するためにある程度の不活性ガス、例えば窒素等を混入させてもよいのは勿論である。
　また、上記実施例にあっては、処理装置として縦型熱処理装置を例にとって説明したが、これに限定されず、自然酸化膜の発生を抑制したいどのような処理装置にも適用し得るのは勿論である。
　【００２２】
　【発明の効果】
　以上説明したように、本発明の処理装置によれば次のように優れた作用効果を発揮することができる。
　露点温度を低くした自然酸化膜抑制気体を、待機空間と循環通路とを介して循環させるように用いることにより、自然酸化膜の発生量を大幅に抑制することができる。特に、この抑制気体として露点温度の低い乾燥空気を用いることにより、従来、窒素ガス等の高価な不活性ガスを使用していた時の酸化膜抑制効果と同様な抑制効果を発揮することができ、ランニングコストの大幅な削減を図ることができる。
【図面の簡単な説明】
　【図１】
　本発明に係る処理装置の一実施例を示す側断面図である。
　【図２】
　図１中のＩＩ−ＩＩ線矢視断面図である。
　【図３】
　水分濃度、酸素濃度と自然酸化膜増加量との関係を示すグラフである。
　【符号の説明】
　２　　　　縦型ＣＶＤ装置（処理装置）
　４　　　　筐体
　６　　　　処理容器
　２４　　　ウエハボート（被処理体載置台）
　２６　　　待機空間
　４２　　　循環通路
　５２　　　自然酸化膜抑制気体供給系
　５６　　　第１の気体噴射ノズル
　６４　　　乾燥器
　Ａ　　　　乾燥空気（自然酸化膜抑制気体）
　Ｗ　　　　半導体ウエハ（被処理体）