【事件の表示】
　特許第３０９１１９０号「半透過型液晶表示装置」の請求項２に係る特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結　論】
　訂正を認める。
　特許第３０９１１９０号の請求項２に係る特許を維持する。
【理　由】
１．手続の経緯
　本件特許第3091190号の特許請求の範囲の請求項1及び2に係る発明は、平成11年6月30日に特許出願され、平成12年7月21日に設定登録がなされ、特許異議の申立がなされ、取消理由通知がなされ、その指定期間内である平成13年8月7日に訂正請求がなされ、再度、取消理由通知がなされ、その指定期間内である平成13年11月5日に前記訂正請求は取り下げられるとともに新たに訂正請求がなされたものである。
２．訂正の適否について
　ア．訂正の内容
　訂正事項ａ
　特許請求の範囲の請求項2の記載を
「【請求項2】基板の一方主面上に多数の透明樹脂製凸部を露光後の光感光性樹脂に対する現像にて隣り合う各凸部が接続されるようランダムに並べて隣り合う各凸部の間に平坦部が存在しないように凸状配列群を形成し、該凸状配列群上に光半透過膜を被覆し、この光半透過膜上に透明電極と配向層とを積層してなる一方部材と、透明基板上に透明電極と配向層とを順次積層してなる他方部材との間にネマチック型液晶を介在させてマトリックス状に画素を配列せしめるとともに、前記一方部材と他方部材の各外面に、それぞれ位相差板と偏光板とを配設し、さらに一方部材の外側にバックライトを配した半透過型液晶表示装置。」と訂正する。
　訂正事項ｂ
　特許明細書2頁右欄【0014】の記載
「本発明の他の半透過型液晶表示装置は、基板の一方主面上に多数の透明樹脂製凸部を隣り合う各凸部が接続されるようランダムに並べた凸状配列群を形成し、該凸状配列群上に光半透過膜を被覆し、この光半透過膜上に透明電極と配向層とを積層してなる一方部材と、透明基板上に透明電極と配向層とを順次積層してなる他方部材との間にネマチック型液晶を介在させてマトリックス状に画素を配列せしめるとともに、前記一方部材と他方部材の各外面に、それぞれ位相差板と偏光板とを配設し、さらに一方部材の外側にバックライトを配したことを特徴とする。」を
「本発明の他の半透過型液晶表示装置は、基板の一方主面上に多数の透明樹脂製凸部を露光後の光感光性樹脂に対する現像にて隣り合う各凸部が接続されるようランダムに並べて隣り合う各凸部の間に平坦部が存在しないように凸状配列群を形成し、該凸状配列群上に光半透過膜を被覆し、この光半透過膜上に透明電極と配向層とを積層してなる一方部材と、透明基板上に透明電極と配向層とを順次積層してなる他方部材との間にネマチック型液晶を介在させてマトリックス状に画素を配列せしめるとともに、前記一方部材と他方部材の各外面に、それぞれ位相差板と偏光板とを配設し、さらに一方部材の外側にバックライトを配したことを特徴とする。」と訂正する。
　イ．訂正の目的の適否、新規事項の追加及び特許請求の範囲の拡張又は変更の存否
　訂正事項ａについて
　この訂正事項ａにおいて挿入された「露光後の光感光性樹脂に対する現像にて」は、本件特許明細書2頁右欄【0024】〜3頁左欄【0030】の記載から導き出される事項であり、そして、この訂正事項ａにおいて挿入された「隣り合う各凸部の間に平坦部が存在しない」ことは、本件特許明細書4頁右欄【0043】の記載から導き出される事項である。
　したがって、この訂正事項ａは、特許請求の範囲の減縮を目的とするものであり、新規事項を追加するものでなく、特許請求の範囲を実質的に拡張又は変更するものでもない。
　訂正事項ｂについて
　この訂正事項ｂは、上記訂正事項ａの訂正に伴って、特許明細書の詳細な説明の記載を訂正するものであるから、明りょうでない記載の釈明に該当し、新規事項を追加するものでなく、特許請求の範囲を実質的に拡張又は変更するものでもない。
　ウ．むすび
　以上のとおり、上記訂正請求は、特許法第120条の4第2項及び同法同条第3項で準用する特許法第126条第２項及び第３項の規定に適合するので、当該訂正を認める。
３．特許異議申立について
　ア．本件発明
　訂正後の特許明細書の特許請求の範囲の請求項2に係る発明（以下、本件発明2という。）は次のとおりのものである。
「【請求項2】基板の一方主面上に多数の透明樹脂製凸部を露光後の光感光性樹脂に対する現像にて隣り合う各凸部が接続されるようランダムに並べて隣り合う各凸部の間に平坦部が存在しないように凸状配列群を形成し、該凸状配列群上に光半透過膜を被覆し、この光半透過膜上に透明電極と配向層とを積層してなる一方部材と、透明基板上に透明電極と配向層とを順次積層してなる他方部材との間にネマチック型液晶を介在させてマトリックス状に画素を配列せしめるとともに、前記一方部材と他方部材の各外面に、それぞれ位相差板と偏光板とを配設し、さらに一方部材の外側にバックライトを配した半透過型液晶表示装置。」
　イ．異議申立の理由の概要
　異議申立人 セイコーエプソン株式会社は、証拠として甲第1号証〜甲第3号証を提出し、本件発明2は特許法第29条第2項の規定に違反して特許されたものであるから、その特許は取り消されるべき旨主張している。
　ウ．証拠に記載の発明
　甲第1号証(特開平7-318929号公報)には、以下の事項が記載されているか、若しくは、読みとることができる。
「反射型表示の際の偏光板および液晶セルの基板での光吸収による光量ロスを少なくし、反射型表示での表示を十分明るくすることを目的とする」(【0011】)
「液晶セルの裏面側基板の内面に半透過反射膜が設けられている」(【0012】)
「図1、2に示される液晶表示装置において、一対の偏光板31、32の間に挟持された位相差板40及び液晶セル10が示され、下側偏光板32の外側には光源50が配置されている。液晶セル10は、透明基板11、12間に液晶26を挟持させ、一方の透明基板11(下側基板)の内面にはマトリクス状に配設された画素電極13と配向膜22が、他方の透明基板12には対向電極23と配向膜24とが順次に積層されている。」(【0029】〜【0032】)
「液晶については、TN型やSTN型の液晶に適用できる」(【0129】)
「TN型又はSTN型のネマティック型液晶の一方の透明基板11の内面に設けられている半透過反射膜Mは、電極を兼ねさせてもよい」(【0013】)
「電極が半透過反射膜を兼ねずに透明電極である場合は、電極の裏面側に透明絶縁膜を介して半透過反射膜を設ける」(【0016】〜【0017】)
「図1、2は画素電極が半透過反射膜Mを兼ねた例が示されており、それは図3、4に示されるように不規則な欠陥部Kを有するアルミニウム金属膜13aで形成され、金属薄膜13aの成膜厚さを20nm以下に選べば透過率5〜20%の半透過反射膜Mを得ることができる」(【0040】〜【0046】)
「液晶は90°ツイスト(TN型)に限らず180°〜270°ツイスト(STN型)のものであってもよい」(【0125】)。
　甲第2号証(特開平8-95071号公報)には、以下の事項が記載されているか、若しくは、読みとることができる。
「均一で高コントラストな明るい表示画像が得られる反射型液晶表示装置」(【0032】)。
「反射電極は、図4に示されるように、一方の透明絶縁基板78上に、表面が凹凸上の有機絶縁膜66及びその上に形成された薄膜0.01〜1.0μｍ(10〜1,000ｎｍ)のAI等の金属膜によって構成される」(【0056】)
「【0053】
図４は、一方基板５１の反射電極５４表面の凹所６０ａ，６０ｂの形成方法を段階的に示す断面図である。前述したようにして絶縁性基板７８上にＴＦＴ素子５５が形成された後、図４（１）に示されるように前記絶縁性基板７８の表面にはＴＦＴ素子５５を覆ってレジスト膜８１が形成される。レジスト膜８１は、たとえば東京応化社製商品名ＯＦＰＲ−８００で実現され、回転数が５００ｒｐｍ〜３０００ｒｐｍに設定されるスピンコート法によってレジスト膜材料が塗布される。本実施例では、レジスト膜材料を３０００ｒｐｍの回転数で３０秒間塗布し、１．２μｍの膜厚のレジスト膜８１を作成した。なお、塗布した後、１００℃で３０分間プリベーク処理（熱処理）される。
【0054】
　次に、図４（２）に示されるように塗布されたレジスト膜８１上に所定のパターンに透光領域８２ａおよび遮光領域８２ｂが形成されたマスク８２が配置され、光８３によって露光処理が行われる。その後、たとえば東京応化社製、商品名ＮＭＤ?３（２．３８％）によって現像処理が行われる。これによってマスク８２のパターンに応じた凸部が形成される。
【0055】
　前述したような基板を、たとえば１２０℃〜２５０℃で熱処理を行うことによ
って図４（３）に示されるように角がとれて滑らかとなった凸部８４が形成される。本実施例では、１８０℃で３０分間熱処理を行った。さらに、形成された凸部８４を覆って前述したレジスト膜８１と同様のレジスト材料を塗布し、当該レジスト材料と前記凸部８４とから成る有機絶縁膜６６を形成する。レジスト材料の塗布は、たとえばスピンコート法によって行われ、その条件は９２０ｒｐｍ〜３５００ｒｐｍの回転数で２０秒間に選ばれる。本実施例ではレジスト材料を２２００ｒｐｍで２０秒間塗布し、１μｍの厚さの有機絶縁膜６６を形成した。形成された有機絶縁膜６６の表面は前記凸部８４によって凹凸状となる。
【0056】
　続いて前記有機絶縁膜６６には、露光および現像処理によってコンタクトホール５９が形成される。さらに反射電極５４とされる金属膜が有機絶縁膜６６上に形成される。金属膜としては、たとえばＡｌ，Ｎｉ，ＣｒおよびＡｇなどを用いることができる。また金属膜の厚さは０．０１μｍ〜１．０μｍ程度に選ばれる。本実施例では、Ａｌを真空蒸着法によって形成した。さらに形成した金属膜を露光、現像およびエッチングすることによって図４（４）に示されるような反射電極５４が形成される。当該反射電極５４の表面には、前記有機絶縁膜６６表面が凹凸状であることから、凹所６０ａ，６０ｂが形成されて凹凸状となる。
【0057】
　図５は、凹凸状の表面を有する有機絶縁膜６６を作成する際に用いられるマスク８２を示す平面図である。当該マスク８２を用いて、前述したようにレジスト材料から成る複数の凸部８４が形成され、この凸部８４を覆ってレジスト材料を塗布することによって有機絶縁膜６６が形成される。マスク８２が有する透光領域８２ａと遮光領域８２ｂとによって、凸部８４の形状および配列パターンが決定され、これによって有機絶縁膜６６上の凹所６０ａ，６０ｂの形状および配列パターンも決定される。マスク８２の透光領域８２ａの配列パターンは、たとえば図示されるように各絵素７６ｃ〜７６ｆにおいて同一に配置される。
【0058】
　図６は、他のマスク８５を示す平面図である。マスク８５では、図示されるように隣接する絵素間において互いに反転して配置される。すなわち、絵素７６ｃにおいては、絵素７６ｃと絵素７６ｄ，７６ｅの配列パターンは線対称の関係となり、他の絵素７６ｄ〜７６ｆについても同様である。
【0059】
　凹凸状の表面を有する有機絶縁膜６６を作成する際に用いられるマスクとしては、前記マスク８２，８５の他に以下のようなマスク８６〜９０を用いることも可能である。」(【0053】〜【0059】)
　甲第3号証(特開平8-292413号公報)には、以下の事項が記載されているか、若しくは、読みとることができる。
「図1にはSTN液晶セル20の下側(光源側)に半透過反射板35が配置され、その表面が粗面化処理された光散乱面とされている」(【0026】)
「透過型液晶表示装置として用いる場合は、液晶セルと表側偏光板3との間に配置された第1の位相差板33、並びに半透過反射板35と裏側偏光板32との間に配置された第2の位相差板34とによって表示の着色を補償する」(【0016】)
　エ．当審の対比・判断
　本件発明2の「基板の一方主面上に多数の透明樹脂製凸部を露光後の光感光性樹脂に対する現像にて隣り合う各凸部が接続されるようランダムに並べて隣り合う各凸部の間に平坦部が存在しないように凸状配列群を形成する」ことは、上記甲第1号証〜甲第3号証に記載も示唆もされておらず、当業者に周知又は自明の事項でもない。
　そして、本件発明2は、「基板の一方主面上に多数の透明樹脂製凸部を露光後の光感光性樹脂に対する現像にて隣り合う各凸部が接続されるようランダムに並べて隣り合う各凸部の間に平坦部が存在しないように凸状配列群を形成する」ことにより、凸状配列群の平坦度が低下し、正反射成分が減少し、光散乱性が改善され、その結果、視野角が広くなるという作用効果を呈するものである。
　したがって、本件発明2は、上記甲第1号証〜甲第3号証に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものとすることができないから、特許法第29条第2項の規定に違反して特許されたものとすることができない。
　オ．むすび
  以上のとおり、異議申立の理由及び証拠によっては、本件発明2についての特許を取り消すことができない。
　また、他に本件発明2についての特許を取り消すべき理由を発見しない。
　よって、結論のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１３年１１月７日（２００１．１１．７）
【訂正の要旨】
　訂正の要旨
▲１▼訂正事項ａ
　請求項２を特許請求の範囲の減縮を目的として、
「【請求項２】基板の一方主面上に多数の透明樹脂製凸部を
露光後の光感光性樹脂に対する現像にて
て隣り合う各凸部の間に平坦部が存在しないように
▲２▼訂正事項ｂ
　上記▲１▼の訂正事項ａに伴い、特許請求の範囲と発明の詳細な説明の記載との整合を図るために明りょうでない記載の釈明を目的として、訂正請求書に添付された全文訂正明細書の通りに訂正する。
　即ち、平成１２年６月８日付手続補正書の全文訂正明細書【００１４】欄の
「本発明の他の半透過型液晶表示装置は、基板の一方主面上に多数の透明樹脂製凸部を隣り合う各凸部が接続されるようランダムに並べた凸状配列群を形成し、該凸状配列群上に光半透過膜を被覆し、この光半透過膜上に透明電極と配向層とを積層してなる一方部材と、透明基板上に透明電極と配向層とを順次積層してなる他方部材との間にネマチック型液晶を介在させてマトリックス状に画素を配列せしめるとともに、前記一方部材と他方部材の各外面に、それぞれ位相差板と偏光板とを配設し、さらに一方部材の外側にバックライトを配したことを特徴とする。」を
「本発明の他の半透過型液晶表示装置は、基板の一方主面上に多数の透明樹脂製凸部を
露光後の光感光性樹脂に対する現像にて
て隣り合う各凸部の間に平坦部が存在しないように
（５４）【発明の名称】
半透過型液晶表示装置
（５７）【特許請求の範囲】
　【請求項１】基板の一方主面上に多数の透明樹脂製凸部を隣り合う各凸部が接続されるようランダムに並べた凸状配列群を形成し、該凸状配列群上にストライプ状光半透過性電極群を被覆し、このストライプ状光半透過性電極群上に配向層を積層してなる一方部材と、透明基板上にストライプ状透明電極群と配向層とを順次積層してなる他方部材とを、これらストライプ状光半透過性電極群とストライプ状透明電極群とが交差するようにネマチック型液晶を介して貼り合わせて、マトリックス状に画素を配列せしめるとともに、前記一方部材と他方部材の各外面に、それぞれ位相差板と偏光板とを配設し、さらに一方部材の外側にバックライトを配した半透過型液晶表示装置。
　【請求項２】基板の一方主面上に多数の透明樹脂製凸部を
露光後の光感光性樹脂に対する現像にて
て隣り合う各凸部の間に平坦部が存在しないように
【発明の詳細な説明】
　【０００１】
　【発明の属する技術分野】
本発明は半透過型液晶表示装置に関するものである。
　【０００２】
　【従来の技術】
近年、バックライトを使用しない反射型液晶表示装置の技術が開発されており、薄型、軽量および低消費電力化に優れている。
　【０００３】
反射型液晶表示装置には、後方に配設した基板の面上に鏡面にした光反射層を設け、前方に配設した基板の外側に散乱板を設けた機能分離型と（特開平８−２０１８０２号参照）、後方に配設した基板に対し凹凸形状の光反射層を形成した散乱反射型とがあるが（特開平４−２４３２２６号参照）、双方の型ともにバックライトを用いないことで、周囲の光を有効に利用している。
　【０００４】
ＴＮモードやＳＴＮモードの散乱反射型液晶表示装置を図１１に示す。液晶表示装置１において、ガラス基板２の上にフォトリソ工程により樹脂からなるほぼ半球状の凸部３を多数ランダムに並べることで凸状配列群を形成し、凸状配列群上に金属からなる光反射層４を被覆し、光反射層４上に配向膜５を被覆し、また、ガラス基板６上にカラーフィルタ７を形成し、カラーフィルタ７の上にオーバーコート層８を被覆し、オーバーコート層８上にＩＴＯなどからなる透明電極９を帯状に複数配列し、さらに配向膜１０を被覆する。そして、双方の基板を液晶１１を介して対向配設し、液晶１１はシール部材１２により囲まれた領域内に充填され、ガラス基板６の外面に第１位相差フィルム１３と第２位相差フィルム１４と偏光板１５とを順次形成する。
　【０００５】
上記光反射層４については、凸状配列群上にＡｌなどの金属膜をスパッタリングにより被覆する。このＡｌ膜は多数の帯を平行に配列したものであり、各帯状膜が個々の電極（光反射層４）に相当する。
　【０００６】
上記構成の液晶表示装置１においては、偏光板１５、第２位相差フィルム１４、ガラス基板６および液晶１１を通して光入射されると、入射光が光反射層４にて光反射され、その反射光がふたたび液晶１１を通して出射されることで散乱反射型の構成となる。
　【０００７】
このような反射型液晶表示装置以外に、携帯情報端末などにおいては、屋外・屋内の双方に使用できるＳＴＮ型の半透過型液晶表示装置が開発されている。
　【０００８】
この半透過型液晶表示装置によれば、太陽光、蛍光灯などの外部照明によって反射型の装置として用いたり、あるいはバックライトを内部照明として装着して透過型の装置として使用するが、双方の機能を併せもたせるために、半透過膜を使用している（特開平８−２９２４１３号参照）。さらにアクティブマトリックス型半透過型液晶表示装置に同様な目的で半透過膜を使用することが提案されている（特開平７−３１８９２９号参照）。
　【０００９】
かかる半透過型液晶表示装置においても、後方に配設した基板の面上に半透過膜を設け、前方に配設した基板の外側に光散乱板を設けたことで機能分離型となしたものが知られている。
　【００１０】
　【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記のような機能分離型の半透過型液晶表示装置においては、光散乱板（前方散乱フィルムなど）を前方の基板の外側に配設しているので、とくに反射型の装置として用いた場合には、周囲光が装置に入射する際に、入射光は進行方向に散乱すると同時に、光散乱板によって散乱される光（後方散乱）が生じるという課題がある。
　【００１１】
このような後方散乱は各画素に対するＯＮ／ＯＦＦに限らず、常に発生し、そのためにＯＦＦのときには後方散乱により黒輝度が高くなり、コントラストが低下していた。
　【００１２】
したがって本発明の目的は反射型の表示モード時において後方散乱によるコントラストの低下をなくした半透過型液晶表示装置を提供することにある。
　【００１３】
　【課題を解決するための手段】
本発明の半透過型液晶表示装置は、基板の一方主面上に多数の透明樹脂製凸部を隣り合う各凸部が接続されるようランダムに並べた凸状配列群を形成し、該凸状配列群上にストライプ状光半透過性電極群を被覆し、このストライプ状光半透過性電極群上に配向層を積層してなる一方部材と、透明基板上にストライプ状透明電極群と配向層とを順次積層してなる他方部材とを、これらストライプ状光半透過性電極群とストライプ状透明電極群とが交差するようにネマチック型液晶を介して貼り合わせて、マトリックス状に画素を配列せしめるとともに、前記一方部材と他方部材の各外面に、それぞれ位相差板と偏光板とを配設し、さらに一方部材の外側にバックライトを配したことを特徴する。
　【００１４】
本発明の他の半透過型液晶表示装置は、基板の一方主面上に多数の透明樹脂製凸部を
露光後の光感光性樹脂に対する現像にて
て隣り合う各凸部の間に平坦部が存在しないように
　【００１５】
　【発明の実施の形態】
以下、本発明を図１〜図１０によって詳述する。図１は半透過型液晶表示装置の断面概略図、図２は凸状配列群の形成工程図、図３は凸状配列群を形成するためのフォトマスクの平面図、図４は他のフォトマスクの平面図である。また、図５は現像時間と凸状配列群の凹凸高低差との関係を示し、図６は現像時間の違いによる光感光性樹脂層の形状変化を示す。図７は凸状配列群の拡大図、図８は凸状配列群の写真図であって、図９は他の凸状配列群の拡大図である。さらに図１０は本発明の他の半透過型液晶表示装置の断面概略図である。なお、図１１に示す従来の液晶表示装置１と同一箇所には同一符号を付す。
　【００１６】
半透過型液晶表示装置
図１によりカラー表示用の半透過型液晶表示装置１６を説明する。２はセグメント側のガラス基板（０．７ｍｍ厚）、６はコモン側のガラス基板（０．７ｍｍ厚）であって、前記一方部材については、ガラス基板２の一方主面上に光透過性に優れた透明樹脂からなるほぼ半球状の凸部１７（径：５〜１５μｍ）を多数配列することで凸状配列群を形成し、凸状配列群上に前記ストライプ状光半透過性電極群としてのクロムやアルミニウム、銀などの薄い金属膜からなる光半透過性の半透過膜４ａ（膜厚２５０Å）を被覆している。半透過膜４ａは多数の帯を平行に配列したものであり、各帯状膜が個々の電極１８に相当する。
　【００１７】
そして、半透過膜４ａ上に一定方向にラビングしたポリイミド樹脂からなる配向膜５を被覆する。半透過膜４ａを被覆した凸状配列群と配向膜５との間に樹脂やＳｉＯ２からなる平滑膜をスパッタリング法やディップ法、印刷法、スピンナー法等でもって形成してもよい。
　【００１８】
前記他方部材については、ガラス基板６上に画素ごとに配したカラーフィルタ７を形成している。カラーフィルタ７は顔料分散方式、すなわちあらかじめ顔料（赤、緑、青）により調合された感光性レジストを基板上に塗布し、フォトリソグラフィにより形成している。その上にアクリル系樹脂からなるオーバーコート層８と、多数平行に配列したＩＴＯからなる透明電極９とを形成している。透明電極９は上記電極１８と直交している。ただし、オーバーコート層８は必須不可欠ではなく、カラーフィルタ７上に直に透明電極９を形成することで、オーバーコート層８を除外してもよい。さらに透明電極９上に一定方向にラビングしたポリイミド樹脂からなる配向膜１０を形成している。なお、配向膜１０は透明電極９上に直に成膜形成しているが、配向膜１０と透明電極９との間に樹脂やＳｉＯ２などからなる絶縁膜を介在させてもよい。
　【００１９】
そして、上記構成の一方部材および他方部材を、たとえば２００〜２６０°の角度でツイストされたカイラルネマチック液晶からなる液晶１１を介してシール部材１２により貼り合わせる。また、両部材間には液晶１１の厚みを一定にするためにスペーサを多数個配している。
　【００２０】
さらにガラス基板６の外側にポリカーボネイトなどからなる第１位相差フィルム１３と第２位相差フィルム１４とヨウ素系の偏光板１５とを順次形成する。これらの配設については、アクリル系の材料からなる粘着材を塗布することで貼り付ける。
　【００２１】
上記構成の液晶表示装置１６においては、太陽光、蛍光灯などの外部照明による入射光は偏光板１５、第２位相差フィルム１４、第１位相差フィルム１３を通して、さらにガラス基板６を通過し、カラーフィルタ７、液晶１１を通して半透過膜４ａに到達し、半透過膜４ａにて光反射され、その反射光が出射される。
　【００２２】
かくして、凸状配列群上に半透過膜４ａを被覆したことで、従来の光散乱板を使用しなくなり、これによって後方散乱が発生しなくなり、その結果、反射型表示モードのＯＦＦ時の輝度が低減し、コントラストが向上した。
　【００２３】
なお、上記液晶表示装置１６は図１でもって反射型表示モードを示しているが、一方の透過型表示モードについては、ガラス基板２の外側にポリカーボネイトなどからなる位相差フィルム（図示せず）とヨウ素系の偏光板（図示せず）とを順次形成し、さらにバックライトを配設すればよい。
　【００２４】
〔凸状配列群の形成方法〕
ガラス基板２上の凸状配列群は、図２に示すように（ａ）〜（ｇ）の各工程を経て形成する。
　【００２５】
（ａ）工程
アクリル系樹脂を主成分とし、溶媒としてジエチレングリコールメチルエチルエーテルを使用した光感光性樹脂（商品：ＰＣ３３９Ｈ・ＪＳＲ株式会社製）をスピンコート塗布する。この樹脂の膜厚はスピンナ回転数により制御でき、本例ではスピンナ回転数を１０００ｒｐｍにして２μｍ程度の厚さのポジ型光感光性樹脂を塗布した。
　【００２６】
（ｂ）工程
上記のように塗布された基板を、たとえば９０℃の温度で２分間、ホットプレートによりプリベークした。
　【００２７】
（ｃ）工程
つぎにフォトリソ用マスクを用いて露光をおこなう。この露光は基板の法線方向にＵＶを用いて全面露光する。
　【００２８】
このフォトリソ用マスクを図３または図４に示す。フォトマスク１９はガラス基板２０上にＣｒ金属や酸化鉄などからなる多数の円状スポット２１（たとえば６μｍ径）をランダム状態に配置したものであり、画像表示面が５．７インチサイズである場合、一表示面に対応するガラス基板２０上には約５０００万個のスポットが配置される。
　【００２９】
また、スポットは円状以外に、図４に示すフォトマスク２２のように、たとえば四角形、五角形、六角形、さらにそれ以上の多角形スポット２３であってもよいが、見る方向によって散乱特性に違いが生じないように円形にするのがよい。そして、このスポット形状とほぼ同一形状の凸部１７を形成される。
　【００３０】
（ｄ）工程
（ｃ）工程を経た後、現像をおこなう。現像液としては、たとえばＪＳＲ株式会社製のＰＤ５２３ＡＤ（濃度０．０５％）を使用する。そして、現像時間を変えることで現像の進行を加減することができるが、現像を適度に止めることで、隣り合う各凸部問にて双方の端部が接続され、連続的に繋がる。
　【００３１】
図５および図６により現像の進行程度による凸部の状態を示す。図５において、現像時間による凹凸高低差を示し、横軸は現像時間（秒）であり、縦軸は凹凸高低差（μｍ）であり、黒点は測定データである。
　【００３２】
現像時間が約２５秒までは時間の増大するにしたがって凹凸高低差が大きくなるが、現像時間が約２５秒を超えると、ガラス基板２が露出され、現像による深度が一定になることで凹凸高低差の変動が非常に小さくなっている。
　【００３３】
図６においては、測定データである黒点のうち（ａ）と（ｂ）と（ｃ）について、それぞれのガラス基板２上の凸状配列群の断面形状を示す。
　【００３４】
たとえば、現像時間を２０秒にすればよいが、この現像時間もレジスト塗布量、現像液濃度、プリベーク条件等により適宜変えればよい。
　【００３５】
なお、（ｃ）工程の露光においては、ＵＶがフォトマスク１９、２２を通過することで干渉が生じることで、これらマスクの直ぐ下の部分の樹脂もわずかに光分解反応しているので、その後の現像工程（ｄ）により凸部の角部が丸くなる。
　【００３６】
（ｅ）工程
この加熱処理でもって、たとえば低温（１３０℃、２分）にて表面形状が大きく変化しない程度に熱溶融させる。
　【００３７】
（ｆ）工程
つぎのポストベークでもって、たとえば高温（２００℃、３０分）にて全体を硬化させる。
　【００３８】
このように（ｅ）工程によって若干溶解させて表面形状をなめらかにして、凹凸形状に対し微調整をおこない、ついで（ｆ）工程により硬化させる。
　【００３９】
（ｇ）工程
最後に凸状配列群上にスパッタリングや蒸着法でもってクロムやアルミニウム、銀などの金属からなる半透過膜４ａを、たとえば膜厚２５０Åで被覆する。まず、膜厚２５０Åにて面状に金属膜をスパッタリンングし、その後、フォトレジストでもってストライプ状にパターニングすることで電極構造となす。
　【００４０】
以上の各工程（ａ）〜（ｇ）を経て得られた半透過膜４ａが被覆された凸状配列群に対し、その表面性状をスキャニングしたり、写真撮影をおこなった。
　【００４１】
図７はキーエンス製表面形状測定顕微鏡を用いて、その形状をスキャニングしたものであって、横軸（Ｘ）はスキャニング方向であり、縦軸（Ｚ）は高さを示し、各単位はμｍである。また、図８は光学式顕微鏡（オリンパス製ＢＨ３ＭＪＬ）を用いて５００倍にて写真撮影した撮影図である。
　【００４２】
これらの図から明らかなとおり、熱溶融により凸部が滑らかな形状になり、さらに隣り合う各凸部が接続されている。
　【００４３】
そして、半透過型液晶表示装置１６においては、凸状配列群の隣り合う各凸部１７を接続させるのがよく、これによって各凸部１７の間に平坦部が存在しなくなって、凸状配列群の平坦度が低下し、正反射成分が減少し、光散乱性が改善され、その結果、視野角が広くなった。なお、写真にて確認した限りでは、凸状配列群における隣り合う各凸部１７がほぼ全面的に接続されているが、部分的にわずかに非接続部分があっても光散乱性に影響がない。
　【００４４】
また、凸状配列群を形成するに当たり、（ｅ）工程の加熱処理（表面形状が大きく変化しない程度の熱溶融工程）を除外して、その他の各工程（ａ）〜（ｄ）、（ｆ）、（ｇ）でもって形成してもよい。
　【００４５】
このように（ｅ）工程が除かれた形成方法によって半透過膜４ａが被覆された凸状配列群を設け、そして、その表面性状をスキャニングしたところ、図９に示すような結果が得られた。熱溶融しない場合には、凸部形状は上面に若干平坦部が存在するが、上記のように凸状配列群の平坦度は低下し、同様に正反射成分が減少し、これによって光散乱性が改善され、視野角が広くなった。
　【００４６】
他の半透過型液晶表示装置
つぎに他の半透過型液晶表示装置を説明する。図１０に示すカラー表示用の半透過型液晶表示装置２５においては、２６はコモン側のガラス基板（０．７ｍｍ厚）、２７はセグメント側のガラス基板（０．７ｍｍ厚）であって、前記一方部材については、ガラス基板２６の一方主面上に透明樹脂からなるほぼ半球状の凸部１７を多数配列することで、前記液晶表示装置１６と同じようなランダム性の凸状配列群を形成し、この凸状配列群上にクロムやアルミニウム、銀などの金属からなる半透過膜４ａ（膜厚２５０Å）を被覆している。そして、凸状配列群上に画素ごとに配したカラーフィルタ７を形成している。さらにアクリル系樹脂からなるオーバーコート層８と、多数平行に配列したＩＴＯからなる透明電極２８とを形成している。この透明電極２８上に一定方向にラビングしたポリイミド樹脂からなる配向膜２９を形成している。
　【００４７】
なお、配向膜２９は透明電極２８上に直に成膜形成しているが、配向膜２９と透明電極２８との間に樹脂やＳｉＯ２などからなる絶縁膜を介在させてもよく、しかも、オーバーコート層８は設けなくてもよい。さらに凸状配列群上に樹脂やＳｉＯ２からなる平滑膜を形成し、この平滑膜上に画素ごとに配したカラーフィルタ７を形成してもよい。
　【００４８】
他方部材については、ガラス基板２７上に多数平行に配列したＩＴＯからなる透明電極３０と、一定方向にラビングしたポリイミド樹脂からなる配向膜３１とを順次形成している。透明電極３０と配向膜３１との間に樹脂やＳｉＯ２からなる絶縁層を介在させてもよい。
　【００４９】
そして、上記構成の一方部材および他方部材を液晶１１を介してシール部材１２により貼り合わせる。さらにガラス基板２７の外側にポリカーボネイトなどからなる第１位相差フィルム１３と第２位相差フィルム１４とヨウ素系の偏光板１５とを順次形成する。
　【００５０】
上記構成の液晶表示装置２５においては、太陽光、蛍光灯などの外部照明による入射光は偏光板１５、第２位相差フィルム１４、第１位相差フィルム１３およびガラス基板２７を通過し、液晶１１、カラーフィルタ７などを通して半透過膜４ａに到達し、半透過膜４ａにて光反射され、その反射光が出射される。
　【００５１】
かくして本発明の液晶表示装置２５においても、光散乱板を使用しないことで、従来のような後方散乱という課題が解消され、その結果、反射型表示モードのＯＦＦ時の明るさが低減し、コントラストが向上した。
　【００５２】
この液晶表示装置２５についてはガラス基板２６の外側にポリカーボネイトなどからなる位相差フィルム（図示せず）とヨウ素系の偏光板（図示せず）とを順次形成し、さらにバックライトを配設することで、透過型表示モードになる。
　【００５３】
また、液晶表示装置２５については、ガラス基板２６上に凸部１７を多数配列してランダム性の凸状配列群を形成し、この凸状配列群上に半透過膜４ａを被覆した構成であるが、これに代えてガラス基板２７上に凸部を多数配列した凸状配列群を形成し、この凸状配列群上に半透過膜を被覆し、そして、樹脂やＳｉＯ２などからなる平滑膜を形成し、その上に多数平行に配列したＩＴＯからなる透明電極３０と、一定方向にラビングしたポリイミド樹脂からなる配向膜３１とを順次形成し、そして、ガラス基板２６の外面に第１位相差フィルム１３と第２位相差フィルム１４と偏光板１５を配設し、ガラス基板２６側より光入射するように構成した半透過型液晶表示装置となしてもよい。
　【００５４】
半透過膜４ａについて
半透過膜４ａは光透過性と光反射性の双方の特性を具備しており、しかも、２枚の偏光板の間に挟んだ時に位相差を生じないようにする。
　【００５５】
半透過膜４ａは前述したようなクロムやアルミニウム、銀などの金属からなる薄膜にするが、膜厚が大きくなると、光透過性が小さくなり、光反射性が大きくなる。かかる金属薄膜の厚みは、金属の種類により光の吸収係数が異なり、しかも、反射型および透過型という双方の用途にうち、いずれの用途に対し性能の向上を求めるかによっても規定されるが、通常、５０〜５００Å、好適には１００〜４００Åにするとよい。これによって、反射率３０〜６５％、透過率１５〜５０％という半透過型液晶表示装置としての特性が得られる。
　【００５６】
たとえば、半透過膜４ａを膜厚２５０Åの膜厚でもってアルミニウム金属薄膜により形成した場合には、反射率が６５％、透過率が１５％となる。
　【００５７】
上記半透過膜４ａについては、金属薄膜に代えて、誘電体ハーフミラーにより形成してもよい。すなわち、凸状配列群の上に低屈折率層と高屈折率層とを交互に順次積層した積層構造にしてもよく、これによって液晶１１を通して入射した光の一部は高屈折率層にて反射され、それ他の高屈折率層を透過した光は低屈折率層にて反射され、そして、これら反射光が干渉され、反射性能が著しく高められ、いわゆる増反射が生じる。さらに上記の金属薄膜にて生じたような光吸収（アルミニウム金属材であれば、可視光の領域にて２０％程度吸収される）がほとんどなくなり、これにより、反射性能および透過性能ともに高めることができ、反射率３０〜８０％、透過率２０〜７０％という半透過型液晶表示装置としての特性が得られる。
　【００５８】
上記のような高屈折率層と低屈折率層とはその間にて屈折率差があれば、どのように材料でもって構成してもよいが、たとえば高屈折率層の屈折率の範囲は２．０〜２．８がよく、ＴｉＯ２、ＺｒＯ２、ＳｎＯ２などで構成するとよい。これに対する低屈折率層の屈折率の範囲は１．３〜１．６がよく、たとえばＳｉＯ２、ＡｌＦ３、ＣａＦ２、ＭｇＦ２などで構成するとよい。
　【００５９】
高屈折率層の厚み範囲は２５〜２０００Å、低屈折率層の厚み範囲は２５〜２０００Åにすることで、前述した増反射がもっとも顕著になる。さらに半透過膜４ａの厚み範囲を５０〜１２０００Åにすることで、この増反射が顕著になる。
　【００６０】
また、半透過膜４ａは低屈折率層と高屈折率層とを交互に順次積層した積層構造にしたことで、各層の総数は２層、４層、６層、８層、１０層あるいはそれ以上の層数にて構成する。
　【００６１】
さらにまた、このような積層構造の場合には、積層数を変えることで、反射率や透過率を所要とおりに設定することができ、その設計が容易になることで、製造歩留りが向上し、生産コストが低減できた。
　【００６２】
たとえば、凸状配列群の上にＳｉＯ２からなる低屈折率層（膜厚：９４０Å）とＴｉＯ２からなる高屈折率層（膜厚：６３０Å）とを交互に順次積層した積層し、
その総数を８層にした積層構造の場合には、反射率が７５％、透過率が２５％となる。
　【００６３】
　【実施例】
つぎに各液晶表示装置１６、２５ならびに従来例として特開平８−２０１８０２号にて提示されたものをＳＴＮ方式の機能分離型とした液晶表示装置について、それぞれ反射モードにおける輝度とコントラストを評価したところ、表１に示すような結果が得られた。
　【００６４】
さらに透過モードにおける輝度とコントラストを評価したところ、表２に示すような結果が得られた。
　【００６５】
　【表１】
　【００６６】
　【表２】
　【００６７】
輝度は装置に対する光入射方向を−３０°（法線方向を０°として）に設定し、その反射光および透過光を受光することで輝度を測定するが、受光方向を法線方向に規定した。
　【００６８】
この輝度は標準白色板基準を用いて数値化した。すなわち、標準白色板とはＪＩＳ規格においてＭｇＯに光を当て、その反射率を１００％としているので、本発明における輝度とは、標準白色板（ＭｇＯ）の反射光との相対値でもって表す。そして、コントラストは液晶パネルの〔ＯＮ時の明るさ／ＯＦＦ時の明るさ〕である。
　【００６９】
表から明らかなとおり、反射型モードにおいて、ＯＮ時にて輝度が顕著に大きくなり、ＯＦＦ時においては輝度が著しく小さくなり、これによってコントラストが大きくなっている。透過型モードについては、従来例との間にほとんど性能差がないことがわかる。
　【００７０】
なお、本発明は上記実施形態例に限定されるものでなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内で種々の変更や改善などは何ら差し支えない。
　【００７１】
たとえば、上記の実施形態においては、ＳＴＮ型単純マトリックスタイプのカラー液晶表示装置でもって説明しているが、その他にモノクロのＳＴＮ型単純マトリックスタイプの液晶表示装置であっても、あるいはＴＮ型単純マトリックスタイプの液晶表示装置やＴＮ型アクティブマトリックスタイプなどのツイストネマチック型液晶表示装置であっても、さらに双安定型の液晶表示装置でも同様な作用効果が得られる。
　【００７２】
　【発明の効果】
以上のとおり、本発明の半透過型液晶表示装置においては、基板上に多数の透明樹脂製凸部をランダムに並べた凸状配列群を形成し、この凸状配列群上にストライプ状光半透過性電極群を被覆したり、あるいは基板上に多数の透明樹脂製凸部をランダムに並べた凸状配列群を形成し、この凸状配列群上に光半透過膜を被覆したことで、光散乱板を取り除くことができ、これによって従来の後方散乱が解消され、反射型表示モードのＯＦＦ時の明るさが低減し、その結果、コントラストが向上した高性能な半透過型液晶表示装置が提供できた。
【図面の簡単な説明】
　【図１】本発明の半透過型液晶表示装置の断面概略図である。
　【図２】本発明の半透過型液晶表示装置に係る凸状配列群の形成工程図である。
　【図３】凸状配列群を形成するためのフォトマスクの平面図である。
　【図４】凸状配列群を形成するための他のフォトマスクの平面図である。
　【図５】凸状配列群を形成する際の現像時間と凸状配列群の凹凸高低差との関係を示す線図である。
　【図６】凸状配列群を形成する際の現像時間の違いによる光感光性樹脂層の形状変化を示す図である。
　【図７】凸状配列群の拡大図である。
　【図８】凸状配列群の写真図である。
　【図９】他の凸状配列群の拡大図である。
　【図１０】本発明の他の半透過型液晶表示装置の断面概略図である。
　【図１１】従来の半透過型液晶表示装置の断面概略図である。
　【符号の説明】
１、１６、２５　液晶表示装置
２、６　　　　　ガラス基板
３、１７　　　　凸部
４ａ　　　　　　半透過膜
５　　　　　　　配向膜
７　　　　　　　カラーフィルタ
９　　　　　　　透明電極
１０　　　　　　配向膜
１１　　　　　　液晶
１３　　　　　　第１位相差フィルム
１４　　　　　　第２位相差フィルム
１５　　　　　　偏光板
１８　　　　　　電極