【事件の表示】
　特許第３０９１０９６号「優れたグラス被膜と磁気特性を得るための方向性電磁鋼板用焼鈍分離剤及びスラリー」の請求項１ないし３に係る特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結　論】
　訂正を認める。
　特許第３０９１０９６号の請求項１ないし３に係る特許を維持する。
【理　由】
１．手続の経緯
　本件特許第３０９１０９６号の発明は、平成６年１１月１６日に特許出願され、平成１２年７月２１日にその発明について特許権の設定登録がなされ、その後、その特許について、川崎製鉄株式会社より特許異議の申立てがなされ、特許請求の範囲の請求項１〜３に係る特許に対して取消理由通知がなされ、その指定期間内である平成１４年２月４日に訂正請求がなされ、再度、請求項１に係る特許に対して取消理由通知がなされ、平成１４年２月４日付けの訂正請求が取り下げられるとともに、その指定期間内である平成１４年３月５日に訂正請求がなされたものである。
２．訂正の適否についての判断
ア．訂正の内容
訂正事項ａ
　特許請求の範囲の、
「【請求項１】　ＣＡＡ値４０〜２５０秒、粒子径１０μｍ以下が５０％以上のＭｇＯであって、ＭｇＯに対してフッ素を少なくとも０．００５％以上含み、フッ素又はフッ素＋塩素のトータル量を０．００５〜０．１２％含有するように調整されたことを特徴とする優れたグラス被膜と磁気特性を得るための方向性電磁鋼板用焼鈍分離剤。
　【請求項２】　ＣＡＡ値４０〜２５０秒、粒子径１０μｍ以下が５０％以上のＭｇＯであって、ＭｇＯに対してＨ，Ｌｉ，Ｎａ，Ｋ，Ｍｇ，Ｃａ，Ｓｒ，Ｂａ，Ｔｉ，Ｚｒ，Ｖ，Ｔａ，Ｃｒ，Ｍｏ，Ｗ，Ｍｎ，Ｆｅ，Ｃｏ，Ｎｉ，Ｃｕ，Ｚｎ，Ａｇ，Ｃｄ，Ａｌ，Ｓｎ，Ｐｂ，Ｓｂ，Ｂｉ，Ｂの中から選ばれる、少なくともフッ素化合物をＦとして０．００５％以上含み、フッ素化合物及び塩素化物の１種又は２種以上をＦ＋Ｃｌとして、０．００５〜０．１２％含有するように添加調整されたことを特徴とする優れたグラス被膜と磁気特性を得るための方向性電磁鋼板用焼鈍分離剤。
　【請求項３】　ＣＡＡ値４０〜２５０秒、粒子径１０μｍ以下が５０％以上のＭｇＯに、ＭｇＯに対してＨ，Ｌｉ，Ｎａ，Ｋ，Ｍｇ，Ｃａ，Ｓｒ，Ｂａ，Ｔｉ，Ｚｒ，Ｖ，Ｔａ，Ｃｒ，Ｍｏ，Ｗ，Ｍｎ，Ｆｅ，Ｃｏ，Ｎｉ，Ｃｕ，Ｚｎ，Ａｇ，Ｃｄ，Ａｌ，Ｓｎ，Ｐｂ，Ｓｂ，Ｂｉ，Ｂの中から選ばれる、少なくともフッ素化合物をＦとして０．００５％以上含み、フッ素化合物及び塩素化物の１種又は２種以上をＦ＋Ｃｌとして、０．００５〜０．１２％含有するように添加調整されたことを特徴とする優れたグラス被膜と磁気特性を得るための方向性電磁鋼板焼鈍分離用スラリー。
（但し、ＣＡＡ値測定は液温度３０℃における測定値、粒子径測定はレーザー式粒度計による測定値）」を、
　「【請求項１】　ＣＡＡ値４０〜２５０秒、粒子径１０μｍ以下が５０％以上のＭｇＯであって、ＭｇＯに対してフッ素を少なくとも０．０５％以上含み、フッ素＋塩素のトータル量を０．０５〜０．１２％含有するように調整されたことを特徴とする優れたグラス被膜と磁気特性を得るためのＡｌ：０．０２６〜０．０３２％を含有する方向性電磁鋼板用焼鈍分離剤。
（但し、ＣＡＡ値測定は液温度３０℃における測定値、粒子径測定はレーザー式粒度計による測定値）
　【請求項２】　ＣＡＡ値４０〜２５０秒、粒子径１０μｍ以下が５０％以上のＭｇＯであって、ＭｇＯに対してＨ，Ｌｉ，Ｎａ，Ｋ，Ｍｇ，Ｃａ，Ｓｒ，Ｂａ，Ｔｉ，Ｚｒ，Ｖ，Ｔａ，Ｃｒ，Ｍｏ，Ｗ，Ｍｎ，Ｆｅ，Ｃｏ，Ｎｉ，Ｃｕ，Ｚｎ，Ａｇ，Ｃｄ，Ａｌ，Ｓｎ，Ｐｂ，Ｓｂ，Ｂｉ，Ｂの中から選ばれる、少なくともフッ素化合物をＦとして０．０５％以上含み、フッ素化合物及び塩素化物の１種又は２種以上をＦ＋Ｃｌとして、０．０５〜０．１２％含有するように添加調整されたことを特徴とする優れたグラス被膜と磁気特性を得るためのＡｌ：０．０２６〜０．０３２％を含有する方向性電磁鋼板用焼鈍分離剤。
　【請求項３】　ＣＡＡ値４０〜２５０秒、粒子径１０μｍ以下が５０％以上のＭｇＯに、ＭｇＯに対してＨ，Ｌｉ，Ｎａ，Ｋ，Ｍｇ，Ｃａ，Ｓｒ，Ｂａ，Ｔｉ，Ｚｒ，Ｖ，Ｔａ，Ｃｒ，Ｍｏ，Ｗ，Ｍｎ，Ｆｅ，Ｃｏ，Ｎｉ，Ｃｕ，Ｚｎ，Ａｇ，Ｃｄ，Ａｌ，Ｓｎ，Ｐｂ，Ｓｂ，Ｂｉ，Ｂの中から選ばれる、少なくともフッ素化合物をＦとして０．０５％以上含み、フッ素化合物及び塩素化物の１種又は２種以上をＦ＋Ｃｌとして、０．０５〜０．１２％含有するように添加調整されたことを特徴とする優れたグラス被膜と磁気特性を得るためのＡｌ：０．０２６〜０．０３２％を含有する方向性電磁鋼板焼鈍分離用スラリー。」と訂正する。
訂正事項ｂ
　明細書の段落【００１２】の、
「　【課題を解決するための手段】
　本発明は焼鈍分離剤で使用するＭｇＯの従来技術における解決策として、以下の構成を要旨とする。
　（１）ＣＡＡ値４０〜２００秒、粒子径１０μｍ以下が５０％以上のＭｇＯであって、フッ素を少なくとも０．００５％以上含み、フッ素又はフッ素＋塩素のトータル量を０．００５〜０．１２％含有するように調整された優れたグラス被膜と磁気特性を得るための方向性電磁鋼板用焼鈍分離剤。
（但し、ＣＡＡ値測定は液温度３０℃における測定値、粒子径測定はレーザー式粒度計による測定値）」を、
「　【課題を解決するための手段】
　本発明は焼鈍分離剤で使用するＭｇＯの従来技術における解決策として、以下の構成を要旨とする。
　（１）ＣＡＡ値４０〜２００秒、粒子径１０μｍ以下が５０％以上のＭｇＯであって、フッ素を少なくとも０．０５％以上含み、フッ素＋塩素のトータル量を０．０５〜０．１２％含有するように調整されたことを特徴とする優れたグラス被膜と磁気特性を得るためのＡｌ：０．０２６〜０．０３２％を含有する方向性電磁鋼板用焼鈍分離剤。
（但し、ＣＡＡ値測定は液温度３０℃における測定値、粒子径測定はレーザー式粒度計による測定値）」と訂正する。
訂正事項ｃ
　明細書の段落【００１３】の、
「（２）ＣＡＡ値４０〜２００秒、粒子径１０μｍ以下が５０％以上のＭｇＯであって、Ｈ，Ｌｉ，Ｎａ，Ｋ，Ｍｇ，Ｃａ，Ｓｒ，Ｂａ，Ｔｉ，Ｚｒ，Ｖ，Ｔａ，Ｃｒ，Ｍｏ，Ｗ，Ｍｎ，Ｆｅ，Ｃｏ，Ｎｉ，Ｃｕ，Ｚｎ，Ａｇ，Ｃｄ，Ａｌ，Ｓｎ，Ｐｂ，Ｓｂ，Ｂｉ，Ｂの中から選ばれる、少なくともフッ素化合物をＦとして０．００５％以上含み、フッ素化合物及び塩素化物の１種又は２種以上をＦ＋Ｃｌとして、０．００５〜０．１２％含有するように添加調整された優れたグラス被膜と磁気特性を得るための方向性電磁鋼板用焼鈍分離剤。
　（３）ＣＡＡ値４０〜２００秒、粒子径１０μｍ以下が５０％以上のＭｇＯと（２）の塩化物、フッ素化合物を含有した優れたグラス被膜と磁気特性を得るための方向性電磁鋼板焼鈍分離用スラリー。」を、
「（２）ＣＡＡ値４０〜２００秒、粒子径１０μｍ以下が５０％以上のＭｇＯであって、Ｈ，Ｌｉ，Ｎａ，Ｋ，Ｍｇ，Ｃａ，Ｓｒ，Ｂａ，Ｔｉ，Ｚｒ，Ｖ，Ｔａ，Ｃｒ，Ｍｏ，Ｗ，Ｍｎ，Ｆｅ，Ｃｏ，Ｎｉ，Ｃｕ，Ｚｎ，Ａｇ，Ｃｄ，Ａｌ，Ｓｎ，Ｐｂ，Ｓｂ，Ｂｉ，Ｂの中から選ばれる、少なくともフッ素化合物をＦとして０．０５％以上含み、フッ素化合物及び塩素化物の１種又は２種以上をＦ＋Ｃｌとして、０．０５〜０．１２％含有するように添加調整された優れたグラス被膜と磁気特性を得るためのＡｌ：０．０２６〜０．０３２％を含有する方向性電磁鋼板用焼鈍分離剤。
　（３）ＣＡＡ値４０〜２００秒、粒子径１０μｍ以下が５０％以上のＭｇＯと（２）の塩化物、フッ素化合物を含有した優れたグラス被膜と磁気特性を得るためのＡｌ：０．０２６〜０．０３２％を含有する方向性電磁鋼板焼鈍分離用スラリー。」と訂正する。
訂正事項ｄ
　明細書の段落【００１４】の、
「本発明者等は、微粒子且つ低活性のＭｇＯ粒子の反応性向上策として、特にＭｇＯ中に存在させる不純物としてフッ素に着目し、フッ素或いはフッ素化合物及びフッ素或いはフッ素化合物と塩素及び塩素化合物とを共存させた場合に極めて安定してグラス被膜形成反応が向上することを発見した。
　これにより、従来技術では実現できなかったＭｇＯ表面水和層による反応性向上や、本発明者等による塩化物添加技術を凌ぐ技術の開発に成功した。即ち、広範囲の仕上げ焼鈍条件下においてグラス被膜が均一で、磁気特性がコイル全面、全長に亘って良好な方向性電磁鋼板を得ることに成功した。」を、
「本発明者等は、微粒子且つ低活性のＭｇＯ粒子の反応性向上策として、特にＭｇＯ中に存在させる不純物としてフッ素に着目し、フッ素或いはフッ素化合物、又はフッ素或いはフッ素化合物と塩素或いは塩素化合物とを共存させた場合に極めて安定してグラス被膜形成反応が向上することを発見した。
　これにより、従来技術では実現できなかったＭｇＯ表面水和層による反応性向上や、本発明者等による塩化物添加技術を凌ぐ技術の開発に成功した。即ち、広範囲の仕上げ焼鈍条件下においてグラス被膜が均一で、磁気特性がコイル全面、全長に亘って良好な方向性電磁鋼板を得ることに成功した。」と訂正する。
訂正事項ｅ
　明細書の段落【００１９】の、
「次に本発明の限定理由を述べる。
　先ず、本発明に適用されるＭｇＯの成分としてはフッ素を少なくとも０．００５％含み、フッ素又はフッ素＋塩素のトータル量を０．００５〜０．１２％含有するように調整されるのが特徴である。フッ素或いはフッ素化合物は少量の存在によって著しいグラス被膜の反応促進効果が得られる。その使用条件や含有量を適当に制御すると改善効果は塩素や塩素化合物或いは他の添加剤物質よりも飛躍的に得られる。これはフッ素化合物は熱に対して安定性が高く、仕上げ焼鈍昇温中における分解が塩素化合物より遅れる。これにより、高温域までその効果を安定に維持して、効果的、効率的な作用効果をもたらす。」を、
「次に本発明の限定理由を述べる。
　先ず、本発明に適用されるＭｇＯの成分としてはフッ素を少なくとも０．０５％含み、フッ素＋塩素のトータル量を０．０５〜０．１２％含有するように調整されるのが特徴である。フッ素或いはフッ素化合物は少量の存在によって著しいグラス被膜の反応促進効果が得られる。その使用条件や含有量を適当に制御すると改善効果は塩素や塩素化合物或いは他の添加剤物質よりも飛躍的に得られる。これはフッ素化合物は熱に対して安定性が高く、仕上げ焼鈍昇温中における分解が塩素化合物より遅れる。これにより、高温域までその効果を安定に維持して、効果的、効率的な作用効果をもたらす。」と訂正する。
訂正事項ｆ
　明細書の段落【００２０】の、
「フッ素量として０．００５％未満では、このグラス形成反応温度低下と昇温中の高温域までの反応促進及び安定化効果が十分に発揮できない。塩素がフッ素と共存する場合には、そのトータル量が０．００５〜０．１２％の範囲に制限される。０．００５〜０．１２％の範囲では、塩素や塩素化合物がフッ素やフッ素化合物による効果を補って、仕上げ焼鈍の条件の広範囲に亘って良好なグラス被膜形成と磁気特性の改善が顕著に得られる。０．１５％超では、被膜界面における融点低下が過度に生じて酸化過度特有の金属光沢斑点やスケール等の欠陥を生じる。又、余剰のフッ素や塩素による高温でのグラス被膜と地鉄界面のエッチング反応が生じ、グラス被膜が不均一になったり、薄くなる等の欠陥が生じるため制限される。」を、
「フッ素量として０．０５％未満では、このグラス形成反応温度低下と昇温中の高温域までの反応促進及び安定化効果が十分に発揮できない。塩素がフッ素と共存する場合には、そのトータル量が０．０５〜０．１２％の範囲に制限される。０．０５〜０．１２％の範囲では、塩素や塩素化合物がフッ素やフッ素化合物による効果を補って、仕上げ焼鈍の条件の広範囲に亘って良好なグラス被膜形成と磁気特性の改善が顕著に得られる。０．１５％超では、被膜界面における融点低下が過度に生じて酸化過度特有の金属光沢斑点やスケール等の欠陥を生じる。又、余剰のフッ素や塩素による高温でのグラス被膜と地鉄界面のエッチング反応が生じ、グラス被膜が不均一になったり、薄くなる等の欠陥が生じるため制限される。」と訂正する。
訂正事項ｇ
　明細書の段落【００２１】の、
「ＭｇＯの製造段階でＭｇの塩素化合物やフッ素化合物或いは他の金属化合物を添加し、原料としてＭｇＯを製造し、本発明のようにフッ素或いはフッ素＋塩素を０．０１〜０．１２％のように微量に調整する場合には、フッ素或いは塩素の存在形態を正確に特定するのは容易ではないが、基の添加されるフッ素化合物や塩素化合物の形態か、Ｍｇの化合物（ＭｇＦ，ＭｇＣｌ２）か焼成時のＭｇＯ表面へのフッ素、塩素の蒸着体、付着体、或いは表面水和層中の水和層の置換体（Ｍｇ（ＯＨ）２−ｘ・（Ｆ，Ｃｌ）ｘ）のいずれかと考えられる。」を、
「ＭｇＯの製造段階でＭｇの塩素化合物やフッ素化合物或いは他の金属化合物を添加し、原料としてＭｇＯを製造し、本発明のようにフッ素或いはフッ素＋塩素を０．０５〜０．１２％のように微量に調整する場合には、フッ素或いは塩素の存在形態を正確に特定するのは容易ではないが、基の添加されるフッ素化合物や塩素化合物の形態か、Ｍｇの化合物（ＭｇＦ，ＭｇＣｌ２）か焼成時のＭｇＯ表面へのフッ素、塩素の蒸着体、付着体、或いは表面水和層中の水和層の置換体（Ｍｇ（ＯＨ）２−ｘ・（Ｆ，Ｃｌ）ｘ）のいずれかと考えられる。」と訂正する。
訂正事項ｈ
　明細書の段落【００２２】の、
「ＭｇＯ製造時にこれらフッ素或いは塩素元素のソースとして添加される化合物としては、Ｈ，Ｌｉ，Ｎａ，Ｋ，Ｍｇ，Ｃａ，Ｓｒ，Ｂａ，Ｔｉ，Ｚｒ，Ｖ，Ｔａ，Ｃｒ，Ｍｏ，Ｗ，Ｍｎ，Ｆｅ，Ｃｏ，Ｎｉ，Ｃｕ，Ｚｎ，Ａｇ，Ｃｄ，Ａｌ，Ｓｎ，Ｐｂ，Ｓｂ，Ｂｉ，Ｂの中から選ばれる元素よりなるフッ素化合物又はフッ素化合物及び塩素化物の１種又は２種以上を最終製品のＭｇＯ中で少なくともＦとして０．００５％含み、Ｆ＋Ｃｌとして、０．００５〜０．１２％含有するように添加量調整したり、ＭｇＯの製造途中工程における洗浄工程、焼成条件をコントロールすることで制御する。」を、
「ＭｇＯ製造時にこれらフッ素或いは塩素元素のソースとして添加される化合物としては、Ｈ，Ｌｉ，Ｎａ，Ｋ，Ｍｇ，Ｃａ，Ｓｒ，Ｂａ，Ｔｉ，Ｚｒ，Ｖ，Ｔａ，Ｃｒ，Ｍｏ，Ｗ，Ｍｎ，Ｆｅ，Ｃｏ，Ｎｉ，Ｃｕ，Ｚｎ，Ａｇ，Ｃｄ，Ａｌ，Ｓｎ，Ｐｂ，Ｓｂ，Ｂｉ，Ｂの中から選ばれる元素よりなるフッ素化合物又はフッ素化合物及び塩素化物の１種又は２種以上を最終製品のＭｇＯ中で少なくともＦとして０．０５％含み、Ｆ＋Ｃｌとして、０．０５〜０．１２％含有するように添加量調整したり、ＭｇＯの製造途中工程における洗浄工程、焼成条件をコントロールすることで制御する。」と訂正する。
訂正事項ｉ
　明細書の段落【００２６】の、
「又、本発明においては前記のようにＭｇＯの製造段階でフッ素或いは塩素化合物を用いてフッ素量と塩素量を調整することの他に、ＭｇＯの使用段階でフッ素或いは塩素元素のソースとして酸或いは金属化合物等で添加調整することもできる。この場合には、Ｈ，Ｌｉ，Ｎａ，Ｋ，Ｍｇ，Ｃａ，Ｓｒ，Ｂａ，Ｔｉ，Ｚｒ，Ｖ，Ｔａ，Ｃｒ，Ｍｏ，Ｗ，Ｍｎ，Ｆｅ，Ｃｏ，Ｎｉ，Ｃｕ，Ｚｎ，Ａｇ，Ｃｄ，Ａｌ，Ｓｎ，Ｐｂ，Ｓｂ，Ｂｉ，Ｂの中からなるフッ素化合物又はフッ素化合物及び塩素化物の１種又は２種以上を、最終製品のＭｇＯ中でＦ或いはＦ＋Ｃｌとして、０．００５〜０．１２％含有するようにＭｇＯスラリー調整時に添加する。これらの添加剤によっても製造時のフッ素、塩素の調整と同様な効果がもたらされる。」を、
「又、本発明においては前記のようにＭｇＯの製造段階でフッ素或いは塩素化合物を用いてフッ素量と塩素量を調整することの他に、ＭｇＯの使用段階でフッ素或いは塩素元素のソースとして酸或いは金属化合物等で添加調整することもできる。この場合には、Ｈ，Ｌｉ，Ｎａ，Ｋ，Ｍｇ，Ｃａ，Ｓｒ，Ｂａ，Ｔｉ，Ｚｒ，Ｖ，Ｔａ，Ｃｒ，Ｍｏ，Ｗ，Ｍｎ，Ｆｅ，Ｃｏ，Ｎｉ，Ｃｕ，Ｚｎ，Ａｇ，Ｃｄ，Ａｌ，Ｓｎ，Ｐｂ，Ｓｂ，Ｂｉ，Ｂの中からなるフッ素化合物又はフッ素化合物及び塩素化物の１種又は２種以上を、最終製品のＭｇＯ中でＦ或いはＦ＋Ｃｌとして、０．０５〜０．１２％含有するようにＭｇＯスラリー調整時に添加する。これらの添加剤によっても製造時のフッ素、塩素の調整と同様な効果がもたらされる。」と訂正する。
訂正事項ｊ
　明細書の段落【００２７】の、
「添加量がＭｇＯ：１００重量部当たりＦ或いはＦ＋Ｃｌとして０．００５〜０．１２重量部であれば製造時の調整と同様な効果が得られる。０．００５重量部未満の場合と０．１２重量部超の場合、ＭｇＯ製造時におけるフッ素量と塩素量の限定理由と同じ理由によって制限される。」を、
「添加量がＭｇＯ：１００重量部当たりＦ或いはＦ＋Ｃｌとして０．０５〜０．１２重量部であれば製造時の調整と同様な効果が得られる。０．０５重量部未満の場合と０．１２重量部超の場合、ＭｇＯ製造時におけるフッ素量と塩素量の限定理由と同じ理由によって制限される。」と訂正する。
訂正事項ｋ
　明細書の段落【００３０】の【表１】において、塗布Ｎｏ．/本発明１、２、４、５、７及び８の行を削除する。
訂正事項ｌ
　明細書の段落【００３１】の【表２】において、塗布剤Ｎｏ．/本発明１、２、４、５、７及び８の行を削除する。
訂正事項ｍ
　明細書の段落【００３５】の【表３】において、塗布剤Ｎｏ．/本発明１、２、４〜１０の行を削除する。
訂正事項ｎ
　明細書の段落【００３６】の【表４】において、塗布剤Ｎｏ．/本発明１、２、４〜１０の行を削除する。
訂正事項ｏ
　明細書の段落【００３７】の
「この試験の結果、本発明の金属フッ化物或いは金属フッ化物と金属塩化物をＭｇＯ焼成前に添加してフッ素或いはフッ素及び塩素を調整したＭｇＯを適用したコイルは、いずれもグラス被膜形成反応が優れ、良好なグラス被膜特性と磁気特性が得られた。図１に本発明１０，２、比較例１，２の仕上げ焼鈍時のグラス被膜の生成状況を示すが、本発明のものが、より低温からグラス被膜が生成されていることが解る。図中のＭｇＯ量（ｇ／ｍ２）は、鋼板表面の被膜を定電位電解法により剥離し、Ｍｇを定量した後ＭｇＯとして換算した値である。
　一方、比較例の金属フッ化物、塩化物を添加しない場合には、グラス被膜形成が極度に低下した。又、フッ素化合物を含有しない塩素化合物のみの場合には、フッ素化合物の共存の場合よりもやや被膜特性、磁気特性共に劣る結果となった。」を、
「この試験の結果、本発明の金属フッ化物或いは金属フッ化物と金属塩化物をＭｇＯ焼成前に添加してフッ素或いはフッ素及び塩素を調整したＭｇＯを適用したコイルは、グラス被膜形成反応が優れ、良好なグラス被膜特性と磁気特性が得られた。
　一方、比較例の金属フッ化物、塩化物を添加しない場合には、グラス被膜形成が極度に低下した。又、フッ素化合物を含有しない塩素化合物のみの場合には、フッ素化合物の共存の場合よりもやや被膜特性、磁気特性共に劣る結果となった。」と訂正する。
訂正事項ｐ
　明細書の段落【００３８】から段落【００４１】までの全文を削除する。
訂正事項ｑ
　明細書の段落【００４２】の【発明の効果】の段落番号を【００３８】に繰り上げる。
訂正事項ｒ
　【図面の簡単な説明】の欄を全文削除する。
訂正事項ｓ
　【図１】を削除する。
イ．訂正の目的の適否、新規事項の有無及び特許請求の範囲の拡張・変更の存否
　訂正事項ａは、明細書の段落【００３０】、表１、塗布Ｎｏ．/本発明３及び６のＭｇＯ中のＦの含有量の数値に基づいて、特許請求の範囲の請求項１〜３に記載のＭｇＯに対するフッ素量及びフッ素＋塩素のトータル量の下限をそれぞれ０．００５％から０．０５％に限定し、更に、段落【００２８】、実施例１に記載の方向性電磁鋼板素材のＡｌ含有量及び段落【００３３】、実施例２に記載の方向性電磁鋼板スラブのＡｌ含有量の数値に基づいて、特許請求の範囲の請求項１〜３に記載の方向性電磁鋼板のＡｌ含有量を限定し、更に、請求項１において、段落【００１２】に記載のＣＡＡ値及び粒子径の定義に基づいて、ＣＡＡ値及び粒子径を限定し、訂正前の請求項３に記載の該ＣＡＡ値及び粒子径の定義を削除するものであるから、訂正事項ａは特許請求の範囲の減縮に該当する。訂正事項ｂ，ｃ，ｅ〜ｐ，ｒ，ｓは、訂正後の請求項１〜３の記載と発明の詳細な説明の記載及び図面との整合を図るものであり、訂正事項ｄは、ＭｇＯの反応性向上策としてＭｇＯ中に存在させる元素又は化合物ついての不明瞭な説明を明瞭なものにするものであり、また、訂正事項ｑは、段落番号を通し番号とするために段落番号を繰り上げるものであるから、訂正事項ｂ〜ｓは、明りょうでない記載の釈明に該当する。更に、訂正事項ａ〜ｓは、特許明細書に記載された事項の範囲内において訂正するものであるから、新規事項の追加に該当せず、また、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものでない。
ウ．むすび
　以上のとおりであるから、上記訂正は、特許法第１２０条の４第２項及び同条第３項で準用する第１２６条第２、３項の規定に適合するので、当該訂正を認める。
３．特許異議の申立てについて
（１）申立て理由の概要
　特許異議申立人川崎製鉄株式会社は、証拠として、甲第１〜５号証を提出し、本件特許の請求項１に記載の発明は甲第１号証に記載された発明であるか又は甲第１〜４号証に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであり、また、同請求項２及び３に記載の発明は甲第１〜５号証に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであり、同請求項１〜３に記載の発明は特許法第２９条第１又は２項の規定により、特許を受けることができないものであるから、同請求項１〜３に記載の発明に係る特許は取り消すべきであり、更に、特許明細書が記載不備であり、請求項１に記載の発明に係る特許が特許法第３６条第５項に規定する要件を満たしていない特許出願に対してされたものであるので、請求項１に記載の発明に係る特許を取り消すべき旨主張している。
（２）本件発明
　前記２．の項で示したように上記訂正が認められるから、本件特許の請求項１〜３に係る発明（以下、請求項１に係る発明を「本件発明」という。）は、訂正明細書の特許請求の範囲の請求項１〜３に記載された事項により特定される次のとおりのものである。
「【請求項１】　ＣＡＡ値４０〜２５０秒、粒子径１０μｍ以下が５０％以上のＭｇＯであって、ＭｇＯに対してフッ素を少なくとも０．０５％以上含み、フッ素＋塩素のトータル量を０．０５〜０．１２％含有するように調整されたことを特徴とする優れたグラス被膜と磁気特性を得るためのＡｌ：０．０２６〜０．０３２％を含有する方向性電磁鋼板用焼鈍分離剤。
（但し、ＣＡＡ値測定は液温度３０℃における測定値、粒子径測定はレーザー式粒度計による測定値）
　【請求項２】　ＣＡＡ値４０〜２５０秒、粒子径１０μｍ以下が５０％以上のＭｇＯであって、ＭｇＯに対してＨ，Ｌｉ，Ｎａ，Ｋ，Ｍｇ，Ｃａ，Ｓｒ，Ｂａ，Ｔｉ，Ｚｒ，Ｖ，Ｔａ，Ｃｒ，Ｍｏ，Ｗ，Ｍｎ，Ｆｅ，Ｃｏ，Ｎｉ，Ｃｕ，Ｚｎ，Ａｇ，Ｃｄ，Ａｌ，Ｓｎ，Ｐｂ，Ｓｂ，Ｂｉ，Ｂの中から選ばれる、少なくともフッ素化合物をＦとして０．０５％以上含み、フッ素化合物及び塩素化物の１種又は２種以上をＦ＋Ｃｌとして、０．０５〜０．１２％含有するように添加調整されたことを特徴とする優れたグラス被膜と磁気特性を得るためのＡｌ：０．０２６〜０．０３２％を含有する方向性電磁鋼板用焼鈍分離剤。
　【請求項３】　ＣＡＡ値４０〜２５０秒、粒子径１０μｍ以下が５０％以上のＭｇＯに、ＭｇＯに対してＨ，Ｌｉ，Ｎａ，Ｋ，Ｍｇ，Ｃａ，Ｓｒ，Ｂａ，Ｔｉ，Ｚｒ，Ｖ，Ｔａ，Ｃｒ，Ｍｏ，Ｗ，Ｍｎ，Ｆｅ，Ｃｏ，Ｎｉ，Ｃｕ，Ｚｎ，Ａｇ，Ｃｄ，Ａｌ，Ｓｎ，Ｐｂ，Ｓｂ，Ｂｉ，Ｂの中から選ばれる、少なくともフッ素化合物をＦとして０．０５％以上含み、フッ素化合物及び塩素化物の１種又は２種以上をＦ＋Ｃｌとして、０．０５〜０．１２％含有するように添加調整されたことを特徴とする優れたグラス被膜と磁気特性を得るためのＡｌ：０．０２６〜０．０３２％を含有する方向性電磁鋼板焼鈍分離用スラリー。」
（３）引用刊行物記載の発明
　当審が通知した取消理由で引用した刊行物１（特開昭５８−１４１３９２号公報、甲第１号証と同じ）には、
「２〜４重量％のＳｉを含む方向性けい素鋼材（「方向性けい鋼素材」は「方向性けい素鋼材」の誤記と認める。）に通常の熱延、冷延および脱炭焼鈍を施したのち、主としてマグネシアからなる焼鈍分離剤を塗布、乾燥してコイル状に巻取り、高温焼鈍に供するに当り、上記マグネシアとして、それに含まれるふつ素及び塩素が、それぞれ０．０４重量％以下でかつ、両者の和が０．０６重量％以下のものを、上記焼鈍分離剤に用いて鋼板表面に施用することを特徴とする方向性けい素鋼板のフオルステライト絶縁被膜の形成方法。」（特許請求の範囲）、
「均一性と密着性を満足するフオルステライト被膜を形成するための不可欠要因として、原料マグネシアが含有するふつ素さらにはふつ素と塩素との合計量が大きく影響していることを知見するにいたった。すなわち種々の特性を有するマグネシアにおいて、密着性の良好な灰色被膜が得られたものはとくにふつ素含有量の低いマグネシアのみであり、その含有量がたとえば０．０５〜０．０７重量％（以下単に％であらわす）程度に高いものや、またこれよりも低いものでも、塩素との和が０．０７％以上のものは生成した膜が薄く、白っぽい色調を呈し、直径５０〜７０ｍｍφの鋼棒に沿う曲げでもはく離してしまうような密着性の弱い被膜しか得られなかったのである。」（第２頁右上欄第１３行〜左下欄第７行）、
「第１表において均一は被膜が形成・・・した条件はふつ素含有量が０．０４％以下で、しかも塩素含有量の低いマグネシアを用いたときにはじめて満たされるのみで、ふつ素含有量の低い場合でも塩素含有量が高目のもの・・・は均一性、密着性の劣る被膜しか形成されない。第１図にマグネシアのふつ素と塩素の含有量と得られた被膜の曲げ密着性の関係を示した。均一性、密着性の良好な被膜が形成した領域はＦ＜０．０４％，Ｃｌ＜０．０４％，かつＦ＋Ｃｌ＜０．０６％の斜線で示される領域内に限定される。」（第３頁左上欄第４〜１４行）と記載され、
　同刊行物２（特開平１−１７７３７６号公報、甲第２号証と同じ）には、
「水酸化マグネシュウム、炭酸マグネシュウム・・・を原料として酸化マグネシュウムを製造するにあたり、製造過程で不純物及び活性度を調整して、・・・更にクエン酸活性度値が６０〜２５０秒であることを特徴とする鋼板への付着力が優れ、均一なグラス被膜と優れた磁気特性を得るための方向性電磁鋼板用焼鈍分離剤。」（特許請求の範囲）、
「水酸化マグネシュウム、炭酸マグネシュウム・・・を原料とし、酸化マグネシュウムを製造するに際し、不純物としてのＣａＯ，Ｂ量の特定値・・・とＣＡＡ値（クエン酸活性度値）（６０〜２５０秒）、粒度（１０μｍ以下；６０％以上）を満足するように調整することにより、低水和性でありながら、鋼板との付着力が優れ、下地被膜との反応性に優れることを見出した。」（第３頁右上欄第２〜１２行）と記載され、また、第１表には、ＭｇＯの製造条件について記載され、ＣＡＡ（ｓｅｃ．）１５０、粒度（１０μ＞）７０％＜と記載されており（第３頁第１表）、
　同刊行物３（特開平５−２９５４２３号公報、甲第３号証と同じ）には、
「方向性電磁鋼板素材を最終板厚に冷延後、脱炭焼鈍し、ＭｇＯを主成分とする焼鈍分離剤を塗布し、仕上げ焼鈍することからなる工程において、前記ＭｇＯとして、水酸化マグネシウム、炭酸マグネシウム・・・等、ＭｇＯの原料の１種又は２種以上を焼成して得たレーザ回折法により測定した平均粒子径３μｍ以下、且つ液温３０℃におけるＣＡＡ値が５０〜１５０秒のＭｇＯを水に懸濁させたスラリーを鋼板に塗布するとともに、・・・被膜特性及び磁気特性の優れる方向性電磁鋼板の製造方法。」（特許請求の範囲、請求項１）と記載され、
　同刊行物４（特開平６−１０１０５９号公報、甲第４号証と同じ）には、
「水酸化マグネシウム、炭酸マグネシウム、・・・等をマグネシウム化合物原料として高反応性マグネシアを製造するにあたり、原料調整から最終粉砕工程を経て製造されるマグネシアにおいて、Ｍｇ，Ｃａ，Ｂａ，Ｃｕ，Ｆｅ，Ｚｎ，Ｍｎ，Ｚｒ，Ｃｏ，Ｎｉ，Ａｌ，Ｓｎ，Ｖの中から選ばれる塩素化合物の１種又は２種以上をＣｌとして０．００５〜０．０６０％含有するように調整され、且つ、測定温度３０℃におけるＣＡＡ値５０〜１５０秒で、粒子径１０μｍ以下のものが７０％以上であることを特徴とする、均一な高張力グラス被膜と優れた磁気特性を得るための方向性電磁鋼板用焼鈍分離剤。」（特許請求の範囲、請求項１）と記載され、
　同刊行物５（特開平３−１２０３７６号公報、甲第５号証と同じ）には、
「１．仕上げ高温焼鈍前に冷間圧延方向性珪素鋼を被覆するための２５℃以下に維持されたマグネシアスラリーであって、
ａ）主要量のマグネシア粒子のクエン酸活性が２００以下のマグネシア；
ｂ）Ｍｇ，Ｃａ，Ｎａ及び/またはＫからなる群から選択された金属塩化物からの少なくとも０．０１重量％の塩素によるものであるマグネシアの重量を基準として０．０１〜０．２０重量％のマグネシア中の合計塩素レベル；・・・より実質上なることを特徴とするマグネシアスラリー。
・・・
５．金属塩化物の添加量が０．０１５〜０．１２％の塩素レベルを生ずる量である請求項１記載のマグネシアスラリー」（特許請求の範囲第１及び５項）と記載され、
　同刊行物６（特開昭６０−９６７７０号公報）には、
「・・・酸化マグネシウムを主成分とする焼鈍分離剤を塗布したのち最終仕上焼鈍を行なう方向性電磁鋼板の製造方法において、Ｓｂ，Ｓｒ，Ｔｉ，Ｚｒの塩化物の１種または２種以上を、酸化マグネシウム１００重量部に対して０．０２〜１．５重量部含有させた焼鈍分離剤を用いることを特徴とする鉄損の優れた方向性電磁鋼板の製造方法。」（特許請求の範囲）と記載されている。
（４）対比・判断           
　本件発明と刊行物１に記載のものを対比すると、両者は、ＭｇＯに対してフッ素を含み、フッ素＋塩素のトータル量を調整された方向性電磁鋼板用焼鈍分離剤である点で一致し、本件発明は、ＣＡＡ値４０〜２５０秒、粒子径１０μｍ以下が５０％以上のＭｇＯと限定するのに対し、刊行物１に記載のものは、ＭｇＯのＣＡＡ値及び粒子径が明らかでない点（相違点ａ）、本発明は、ＭｇＯに対してフッ素を少なくとも０．０５％以上含み、フッ素＋塩素のトータル量を０．０５〜０．１２％含有するのに対し、刊行物１に記載のものは、マグネシアに含まれるフッ素及び塩素が、それぞれ０．０４重量％以下でかつ、両者の和が０．０６重量％以下のものである点（相違点ｂ）並びに本件発明は、Ａｌ：０．０２６〜０．０３２％を含有する方向性電磁鋼板用焼鈍分離剤であるのに対し、刊行物１に記載のものはこの点が明らかでない点（相違点ｃ）で、相違する。
　相違点について検討する。
相違点ａについて、
　刊行物２には、方向性電磁鋼板用焼鈍分離剤のＭｇＯのクエン酸活性度値が６０〜２５０秒、粒度１０μｍ以下が６０％以上とすることが、刊行物３には、方向性電磁鋼板用焼鈍分離剤のＭｇＯのＣＡＡ値が５０〜１５０秒、平均粒子径３μｍ以下とすることが、また、刊行物４には、方向性電磁鋼板用焼鈍分離剤のＭｇＯのＣＡＡ値５０〜１５０秒で、粒子径１０μｍ以下のものが７０％以上であることが、それぞれ、記載されているから、方向性電磁鋼板用焼鈍分離剤のＭｇＯとして、刊行物２〜４に記載のものを適用し、ＣＡＡ値４０〜２５０秒、粒子径１０μｍ以下が５０％以上のＭｇＯを採用する程度のことは、当業者が任意に想到しうるものである。
相違点ｂ、ｃについて、
　刊行物１には、主としてマグネシアからなる方向性電磁鋼板用焼鈍分離剤であって、フッ素及び塩素を含有する焼鈍分離剤が記載されているが、刊行物１に記載のものは、フッ素及び塩素が、それぞれ０．０４重量％以下でかつ、両者の和が０．０６重量％以下の焼鈍分離剤であり、密着性の良好な灰色被膜が得られたものはフッ素含有量の低いマグネシアのみであり、その含有量がたとえば０．０５〜０．０７重量％程度に高いものや、また、これよりも低いものでも、塩素との和が０．０７％以上のものは生成した膜が薄く、白っぽい色調を呈し、直径５０〜７０ｍｍφの鋼棒に沿う曲げでもはく離してしまうような密着性の弱い被膜しか得られなかったというものである。すなわち、刊行物１に記載のものは、フッ素含有量を０．０４重量％以下に規制したものであり、本件発明のような、フッ素含有量が０．０５重量％以上の、フッ素含有量が高い方向性電磁鋼板用焼鈍分離剤を排除するものであり、方向性電磁鋼板用焼鈍分離剤としてＭｇＯに対してフッ素を少なくとも０．０５％以上含むものを示唆するものでなく、更に、Ａｌ：０．０２６〜０．０３２％を含有する方向性電磁鋼板用焼鈍分離剤でもないから、Ａｌ：０．０２６〜０．０３２％を含有する方向性電磁鋼板用焼鈍分離剤として刊行物１に記載のものを適用し、ＭｇＯに対してフッ素を少なくとも０．０５％以上含み、フッ素＋塩素のトータル量を０．０５〜０．１２％含有するように調整し、本件発明を構築することは当業者が容易に想到しうるものであるとすることができない。
　そして、本件発明は、「この焼鈍分離剤では、フッ素が仕上げ焼鈍昇温における高温域まで安定に保たれ、塩素低温域での反応促進補助作用の相乗効果によって、ＣＡＡ値４０〜２５０秒、粒子径１０μｍ以下５０％以上のＭｇＯの反応性を極めて向上する。この結果、従来の塩素或いは塩素化合物添加のみの改善技術に比較して、格段のグラス被膜と磁気特性改善ができる焼鈍分離剤を提供する。」（特許明細書段落００３８）という特許明細書に記載のとおりの顕著な作用効果を奏するものと認められる。
　以上のことから、本件発明は、刊行物１に記載された発明であるとすることができず、また、刊行物１〜４に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるとすることができない。
　次に、刊行物４には、マグネシアにおいて、Ｍｇ，Ｃａ，Ｂａ，Ｃｕ，Ｆｅ，Ｚｎ，Ｍｎ，Ｚｒ，Ｃｏ，Ｎｉ，Ａｌ，Ｓｎ，Ｖの中から選ばれる塩素化合物の１種又は２種以上を用いてＣｌを調整した方向性電磁鋼板用焼鈍分離剤が、刊行物５には、Ｍｇ，Ｃａ，Ｎａ及び/またはＫからなる群から選択された金属塩化物を用いてマグネシア中の合計塩素レベルを調整した方向性珪素鋼板用マグネシアスラリーが、また、刊行物６には、Ｓｂ，Ｓｒ，Ｔｉ，Ｚｒの塩化物の１種または２種以上を含有した方向性電磁鋼板用焼鈍分離剤が、それぞれ、記載されているが、本件の請求項２及び３に記載の発明（以下、それぞれ、「本件発明２」、「本件発明３」という）は、本件発明の構成要件である「ＣＡＡ値４０〜２５０秒、粒子径１０μｍ以下が５０％以上のＭｇＯであって、ＭｇＯに対してフッ素を少なくとも０．０５％以上含み、フッ素＋塩素のトータル量を０．０５〜０．１２％含有するように調整された、Ａｌ：０．０２６〜０．０３２％を含有する方向性電磁鋼板用焼鈍分離剤」を発明の構成要件とするものであるから、本件発明２及び３は、本件発明と同様な理由によって、刊行物１〜６に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるとすることができない。
（５）特許明細書の記載不備について
　特許異議申立人は、ａ．請求項１において、「フッ素を少なくとも０．００５％以上含み、フッ素又はフッ素＋塩素のトータル量を０．００５〜０．１２％含有する」と記載されているが、ＭｇＯには塩素がある程度含まれているから、「フッ素を少なくとも０．００５％以上含み」と「フッ素＋塩素のトータル量を０．００５〜０．１２％含有する」とには相互矛盾がある、ｂ．請求項１に「フッ素・・・を０．００５〜０．１２％含有する」と記載されているが、この規定振りはいわゆるオープンクレームであり、例えば、塩素の存在量が不明であり、明確でない、ｃ．フッ素と塩素とが共存する場合にのみ本発明の効果が得られるのに、フッ素単独含有の場合が請求項１に包含されているから、請求項１に記載は明瞭でないから、特許明細書は記載不備であると主張する。
　しかしながら、前記ａ．について、本件発明はフッ素又はフッ素と塩素を一定量含有する方向性電磁鋼板用焼鈍分離剤を特徴とするものであり、訂正後の請求項１にこの点が記載されているから、請求項１に特許異議申立人が指摘する記載不備があるとすることができない。前記ｂ．について、訂正後の請求項１には、「ＭｇＯに対してフッ素を少なくとも０．０５％以上含み、フッ素＋塩素のトータル量を０．０５〜０．１２％含有するように調整」すると記載されており、請求項１には、塩素とフッ素が共存する場合の塩素含有量が明瞭に記載されているから、請求項１の記載は塩素の存在量が不明であるとすることができない。また、訂正後の請求項１に本件発明の構成要件が明確に記載されているから、請求項１の記載がいわゆるオープンクレームであり、請求項１の記載は明確でないとすることができない。前記ｃ．について、本件発明は、フッ素又はフッ素と塩素とを共存させた場合に極めて安定してグラス被膜形成反応が向上するというものであり（段落００１４）、本件発明は、ＭｇＯに対してフッ素と塩素を共存する方向性電磁鋼板用焼鈍分離剤に加えて、ＭｇＯに対してフッ素を単独含有する方向性電磁鋼板用焼鈍分離剤を特徴とするものであるから、訂正後の請求項１の記載は明瞭でないとすることができない。
　以上のことから、本件の特許明細書は記載不備であるとすることができない。
４．むすび
　以上のとおりであるから、特許異議申立ての理由及び証拠によっては、本件発明及び本件発明２、３に係る特許を取り消すことはできない。
　また、他に本件発明及び本件発明２、３に係る特許を取り消すべき理由を発見しない。
　よって、結論のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１４年３月２６日（２００２．３．２６）
【訂正の要旨】
訂正の要旨
訂正事項ａ
　特許請求の範囲の減縮を目的として、特許請求の範囲の、
「【請求項１】　ＣＡＡ値４０〜２５０秒、粒子径１０μｍ以下が５０％以上のＭｇＯであって、ＭｇＯに対してフッ素を少なくとも０．００５％以上含み、フッ素又はフッ素＋塩素のトータル量を０．００５〜０．１２％含有するように調整されたことを特徴とする優れたグラス被膜と磁気特性を得るための方向性電磁鋼板用焼鈍分離剤。
　【請求項２】　ＣＡＡ値４０〜２５０秒、粒子径１０μｍ以下が５０％以上のＭｇＯであって、ＭｇＯに対してＨ，Ｌｉ，Ｎａ，Ｋ，Ｍｇ，Ｃａ，Ｓｒ，Ｂａ，Ｔｉ，Ｚｒ，Ｖ，Ｔａ，Ｃｒ，Ｍｏ，Ｗ，Ｍｎ，Ｆｅ，Ｃｏ，Ｎｉ，Ｃｕ，Ｚｎ，Ａｇ，Ｃｄ，Ａｌ，Ｓｎ，Ｐｂ，Ｓｂ，Ｂｉ，Ｂの中から選ばれる、少なくともフッ素化合物をＦとして０．００５％以上含み、フッ素化合物及び塩素化物の１種又は２種以上をＦ＋Ｃｌとして、０．００５〜０．１２％含有するように添加調整されたことを特徴とする優れたグラス被膜と磁気特性を得るための方向性電磁鋼板用焼鈍分離剤。
　【請求項３】　ＣＡＡ値４０〜２５０秒、粒子径１０μｍ以下が５０％以上のＭｇＯに、ＭｇＯに対してＨ，Ｌｉ，Ｎａ，Ｋ，Ｍｇ，Ｃａ，Ｓｒ，Ｂａ，Ｔｉ，Ｚｒ，Ｖ，Ｔａ，Ｃｒ，Ｍｏ，Ｗ，Ｍｎ，Ｆｅ，Ｃｏ，Ｎｉ，Ｃｕ，Ｚｎ，Ａｇ，Ｃｄ，Ａｌ，Ｓｎ，Ｐｂ，Ｓｂ，Ｂｉ，Ｂの中から選ばれる、少なくともフッ素化合物をＦとして０．００５％以上含み、フッ素化合物及び塩素化物の１種又は２種以上をＦ＋Ｃｌとして、０．００５〜０．１２％含有するように添加調整されたことを特徴とする優れたグラス被膜と磁気特性を得るための方向性電磁鋼板焼鈍分離用スラリー。
（但し、ＣＡＡ値測定は液温度３０℃における測定値、粒子径測定はレーザー式粒度計による測定値）」を、
　「【請求項１】　ＣＡＡ値４０〜２５０秒、粒子径１０μｍ以下が５０％以上のＭｇＯであって、ＭｇＯに対してフッ素を少なくとも０．０５％以上含み、フッ素＋塩素のトータル量を０．０５〜０．１２％含有するように調整されたことを特徴とする優れたグラス被膜と磁気特性を得るためのＡｌ：０．０２６〜０．０３２％を含有する方向性電磁鋼板用焼鈍分離剤。
（但し、ＣＡＡ値測定は液温度３０℃における測定値、粒子径測定はレーザー式粒度計による測定値）
　【請求項２】　ＣＡＡ値４０〜２５０秒、粒子径１０μｍ以下が５０％以上のＭｇＯであって、ＭｇＯに対してＨ，Ｌｉ，Ｎａ，Ｋ，Ｍｇ，Ｃａ，Ｓｒ，Ｂａ，Ｔｉ，Ｚｒ，Ｖ，Ｔａ，Ｃｒ，Ｍｏ，Ｗ，Ｍｎ，Ｆｅ，Ｃｏ，Ｎｉ，Ｃｕ，Ｚｎ，Ａｇ，Ｃｄ，Ａｌ，Ｓｎ，Ｐｂ，Ｓｂ，Ｂｉ，Ｂの中から選ばれる、少なくともフッ素化合物をＦとして０．０５％以上含み、フッ素化合物及び塩素化物の１種又は２種以上をＦ＋Ｃｌとして、０．０５〜０．１２％含有するように添加調整されたことを特徴とする優れたグラス被膜と磁気特性を得るためのＡｌ：０．０２６〜０．０３２％を含有する方向性電磁鋼板用焼鈍分離剤。
　【請求項３】　ＣＡＡ値４０〜２５０秒、粒子径１０μｍ以下が５０％以上のＭｇＯに、ＭｇＯに対してＨ，Ｌｉ，Ｎａ，Ｋ，Ｍｇ，Ｃａ，Ｓｒ，Ｂａ，Ｔｉ，Ｚｒ，Ｖ，Ｔａ，Ｃｒ，Ｍｏ，Ｗ，Ｍｎ，Ｆｅ，Ｃｏ，Ｎｉ，Ｃｕ，Ｚｎ，Ａｇ，Ｃｄ，Ａｌ，Ｓｎ，Ｐｂ，Ｓｂ，Ｂｉ，Ｂの中から選ばれる、少なくともフッ素化合物をＦとして０．０５％以上含み、フッ素化合物及び塩素化物の１種又は２種以上をＦ＋Ｃｌとして、０．０５〜０．１２％含有するように添加調整されたことを特徴とする優れたグラス被膜と磁気特性を得るためのＡｌ：０．０２６〜０．０３２％を含有する方向性電磁鋼板焼鈍分離用スラリー。」と訂正する。
訂正事項ｂ
　明りょうでない記載の釈明を目的として、明細書の段落【００１２】の、
「　【課題を解決するための手段】
　本発明は焼鈍分離剤で使用するＭｇＯの従来技術における解決策として、以下の構成を要旨とする。
　（１）ＣＡＡ値４０〜２００秒、粒子径１０μｍ以下が５０％以上のＭｇＯであって、フッ素を少なくとも０．００５％以上含み、フッ素又はフッ素＋塩素のトータル量を０．００５〜０．１２％含有するように調整された優れたグラス被膜と磁気特性を得るための方向性電磁鋼板用焼鈍分離剤。
（但し、ＣＡＡ値測定は液温度３０℃における測定値、粒子径測定はレーザー式粒度計による測定値）」を、
「　【課題を解決するための手段】
　本発明は焼鈍分離剤で使用するＭｇＯの従来技術における解決策として、以下の構成を要旨とする。
　（１）ＣＡＡ値４０〜２００秒、粒子径１０μｍ以下が５０％以上のＭｇＯであって、フッ素を少なくとも０．０５％以上含み、フッ素＋塩素のトータル量を０．０５〜０．１２％含有するように調整されたことを特徴とする優れたグラス被膜と磁気特性を得るためのＡｌ：０．０２６〜０．０３２％を含有する方向性電磁鋼板用焼鈍分離剤。
（但し、ＣＡＡ値測定は液温度３０℃における測定値、粒子径測定はレーザー式粒度計による測定値）」と訂正する。
訂正事項ｃ
　明りょうでない記載の釈明を目的として、明細書の段落【００１３】の、
「（２）ＣＡＡ値４０〜２００秒、粒子径１０μｍ以下が５０％以上のＭｇＯであって、Ｈ，Ｌｉ，Ｎａ，Ｋ，Ｍｇ，Ｃａ，Ｓｒ，Ｂａ，Ｔｉ，Ｚｒ，Ｖ，Ｔａ，Ｃｒ，Ｍｏ，Ｗ，Ｍｎ，Ｆｅ，Ｃｏ，Ｎｉ，Ｃｕ，Ｚｎ，Ａｇ，Ｃｄ，Ａｌ，Ｓｎ，Ｐｂ，Ｓｂ，Ｂｉ，Ｂの中から選ばれる、少なくともフッ素化合物をＦとして０．００５％以上含み、フッ素化合物及び塩素化物の１種又は２種以上をＦ＋Ｃｌとして、０．００５〜０．１２％含有するように添加調整された優れたグラス被膜と磁気特性を得るための方向性電磁鋼板用焼鈍分離剤。
　（３）ＣＡＡ値４０〜２００秒、粒子径１０μｍ以下が５０％以上のＭｇＯと（２）の塩化物、フッ素化合物を含有した優れたグラス被膜と磁気特性を得るための方向性電磁鋼板焼鈍分離用スラリー。」を、
「（２）ＣＡＡ値４０〜２００秒、粒子径１０μｍ以下が５０％以上のＭｇＯであって、Ｈ，Ｌｉ，Ｎａ，Ｋ，Ｍｇ，Ｃａ，Ｓｒ，Ｂａ，Ｔｉ，Ｚｒ，Ｖ，Ｔａ，Ｃｒ，Ｍｏ，Ｗ，Ｍｎ，Ｆｅ，Ｃｏ，Ｎｉ，Ｃｕ，Ｚｎ，Ａｇ，Ｃｄ，Ａｌ，Ｓｎ，Ｐｂ，Ｓｂ，Ｂｉ，Ｂの中から選ばれる、少なくともフッ素化合物をＦとして０．０５％以上含み、フッ素化合物及び塩素化物の１種又は２種以上をＦ＋Ｃｌとして、０．０５〜０．１２％含有するように添加調整された優れたグラス被膜と磁気特性を得るためのＡｌ：０．０２６〜０．０３２％を含有する方向性電磁鋼板用焼鈍分離剤。
　（３）ＣＡＡ値４０〜２００秒、粒子径１０μｍ以下が５０％以上のＭｇＯと（２）の塩化物、フッ素化合物を含有した優れたグラス被膜と磁気特性を得るためのＡｌ：０．０２６〜０．０３２％を含有する方向性電磁鋼板焼鈍分離用スラリー。」と訂正する。
訂正事項ｄ
　明りょうでない記載の釈明を目的として、明細書の段落【００１４】の、
「本発明者等は、微粒子且つ低活性のＭｇＯ粒子の反応性向上策として、特にＭｇＯ中に存在させる不純物としてフッ素に着目し、フッ素或いはフッ素化合物及びフッ素或いはフッ素化合物と塩素及び塩素化合物とを共存させた場合に極めて安定してグラス被膜形成反応が向上することを発見した。
　これにより、従来技術では実現できなかったＭｇＯ表面水和層による反応性向上や、本発明者等による塩化物添加技術を凌ぐ技術の開発に成功した。即ち、広範囲の仕上げ焼鈍条件下においてグラス被膜が均一で、磁気特性がコイル全面、全長に亘って良好な方向性電磁鋼板を得ることに成功した。」を、
「本発明者等は、微粒子且つ低活性のＭｇＯ粒子の反応性向上策として、特にＭｇＯ中に存在させる不純物としてフッ素に着目し、フッ素或いはフッ素化合物、又はフッ素或いはフッ素化合物と塩素或いは塩素化合物とを共存させた場合に極めて安定してグラス被膜形成反応が向上することを発見した。
　これにより、従来技術では実現できなかったＭｇＯ表面水和層による反応性向上や、本発明者等による塩化物添加技術を凌ぐ技術の開発に成功した。即ち、広範囲の仕上げ焼鈍条件下においてグラス被膜が均一で、磁気特性がコイル全面、全長に亘って良好な方向性電磁鋼板を得ることに成功した。」と訂正する。
訂正事項ｅ
　明りょうでない記載の釈明を目的として、明細書の段落【００１９】の、
「次に本発明の限定理由を述べる。
　先ず、本発明に適用されるＭｇＯの成分としてはフッ素を少なくとも０．００５％含み、フッ素又はフッ素＋塩素のトータル量を０．００５〜０．１２％含有するように調整されるのが特徴である。フッ素或いはフッ素化合物は少量の存在によって著しいグラス被膜の反応促進効果が得られる。その使用条件や含有量を適当に制御すると改善効果は塩素や塩素化合物或いは他の添加剤物質よりも飛躍的に得られる。これはフッ素化合物は熱に対して安定性が高く、仕上げ焼鈍昇温中における分解が塩素化合物より遅れる。これにより、高温域までその効果を安定に維持して、効果的、効率的な作用効果をもたらす。」を、
「次に本発明の限定理由を述べる。
　先ず、本発明に適用されるＭｇＯの成分としてはフッ素を少なくとも０．０５％含み、フッ素＋塩素のトータル量を０．０５〜０．１２％含有するように調整されるのが特徴である。フッ素或いはフッ素化合物は少量の存在によって著しいグラス被膜の反応促進効果が得られる。その使用条件や含有量を適当に制御すると改善効果は塩素や塩素化合物或いは他の添加剤物質よりも飛躍的に得られる。これはフッ素化合物は熱に対して安定性が高く、仕上げ焼鈍昇温中における分解が塩素化合物より遅れる。これにより、高温域までその効果を安定に維持して、効果的、効率的な作用効果をもたらす。」と訂正する。
訂正事項ｆ
　明りょうでない記載の釈明を目的として、明細書の段落【００２０】の、
「フッ素量として０．００５％未満では、このグラス形成反応温度低下と昇温中の高温域までの反応促進及び安定化効果が十分に発揮できない。塩素がフッ素と共存する場合には、そのトータル量が０．００５〜０．１２％の範囲に制限される。０．００５〜０．１２％の範囲では、塩素や塩素化合物がフッ素やフッ素化合物による効果を補って、仕上げ焼鈍の条件の広範囲に亘って良好なグラス被膜形成と磁気特性の改善が顕著に得られる。０．１５％超では、被膜界面における融点低下が過度に生じて酸化過度特有の金属光沢斑点やスケール等の欠陥を生じる。又、余剰のフッ素や塩素による高温でのグラス被膜と地鉄界面のエッチング反応が生じ、グラス被膜が不均一になったり、薄くなる等の欠陥が生じるため制限される。」を、
「フッ素量として０．０５％未満では、このグラス形成反応温度低下と昇温中の高温域までの反応促進及び安定化効果が十分に発揮できない。塩素がフッ素と共存する場合には、そのトータル量が０．０５〜０．１２％の範囲に制限される。０．０５〜０．１２％の範囲では、塩素や塩素化合物がフッ素やフッ素化合物による効果を補って、仕上げ焼鈍の条件の広範囲に亘って良好なグラス被膜形成と磁気特性の改善が顕著に得られる。０．１５％超では、被膜界面における融点低下が過度に生じて酸化過度特有の金属光沢斑点やスケール等の欠陥を生じる。又、余剰のフッ素や塩素による高温でのグラス被膜と地鉄界面のエッチング反応が生じ、グラス被膜が不均一になったり、薄くなる等の欠陥が生じるため制限される。」と訂正する。
訂正事項ｇ
　明りょうでない記載の釈明を目的として、明細書の段落【００２１】の、
「ＭｇＯの製造段階でＭｇの塩素化合物やフッ素化合物或いは他の金属化合物を添加し、原料としてＭｇＯを製造し、本発明のようにフッ素或いはフッ素＋塩素を０．０１〜０．１２％のように微量に調整する場合には、フッ素或いは塩素の存在形態を正確に特定するのは容易ではないが、基の添加されるフッ素化合物や塩素化合物の形態か、Ｍｇの化合物（ＭｇＦ，ＭｇＣｌ２）か焼成時のＭｇＯ表面へのフッ素、塩素の蒸着体、付着体、或いは表面水和層中の水和層の置換体（Ｍｇ（ＯＨ）２−ｘ・（Ｆ，Ｃｌ）ｘ）のいずれかと考えられる。」を、
「ＭｇＯの製造段階でＭｇの塩素化合物やフッ素化合物或いは他の金属化合物を添加し、原料としてＭｇＯを製造し、本発明のようにフッ素或いはフッ素＋塩素を０．０５〜０．１２％のように微量に調整する場合には、フッ素或いは塩素の存在形態を正確に特定するのは容易ではないが、基の添加されるフッ素化合物や塩素化合物の形態か、Ｍｇの化合物（ＭｇＦ，ＭｇＣｌ２）か焼成時のＭｇＯ表面へのフッ素、塩素の蒸着体、付着体、或いは表面水和層中の水和層の置換体（Ｍｇ（ＯＨ）２−ｘ・（Ｆ，Ｃｌ）ｘ）のいずれかと考えられる。」と訂正する。
訂正事項ｈ
　明りょうでない記載の釈明を目的として、明細書の段落【００２２】の、
「ＭｇＯ製造時にこれらフッ素或いは塩素元素のソースとして添加される化合物としては、Ｈ，Ｌｉ，Ｎａ，Ｋ，Ｍｇ，Ｃａ，Ｓｒ，Ｂａ，Ｔｉ，Ｚｒ，Ｖ，Ｔａ，Ｃｒ，Ｍｏ，Ｗ，Ｍｎ，Ｆｅ，Ｃｏ，Ｎｉ，Ｃｕ，Ｚｎ，Ａｇ，Ｃｄ，Ａｌ，Ｓｎ，Ｐｂ，Ｓｂ，Ｂｉ，Ｂの中から選ばれる元素よりなるフッ素化合物又はフッ素化合物及び塩素化物の１種又は２種以上を最終製品のＭｇＯ中で少なくともＦとして０．００５％含み、Ｆ＋Ｃｌとして、０．００５〜０．１２％含有するように添加量調整したり、ＭｇＯの製造途中工程における洗浄工程、焼成条件をコントロールすることで制御する。」を、
「ＭｇＯ製造時にこれらフッ素或いは塩素元素のソースとして添加される化合物としては、Ｈ，Ｌｉ，Ｎａ，Ｋ，Ｍｇ，Ｃａ，Ｓｒ，Ｂａ，Ｔｉ，Ｚｒ，Ｖ，Ｔａ，Ｃｒ，Ｍｏ，Ｗ，Ｍｎ，Ｆｅ，Ｃｏ，Ｎｉ，Ｃｕ，Ｚｎ，Ａｇ，Ｃｄ，Ａｌ，Ｓｎ，Ｐｂ，Ｓｂ，Ｂｉ，Ｂの中から選ばれる元素よりなるフッ素化合物又はフッ素化合物及び塩素化物の１種又は２種以上を最終製品のＭｇＯ中で少なくともＦとして０．０５％含み、Ｆ＋Ｃｌとして、０．０５〜０．１２％含有するように添加量調整したり、ＭｇＯの製造途中工程における洗浄工程、焼成条件をコントロールすることで制御する。」と訂正する。
訂正事項ｉ
　明りょうでない記載の釈明を目的として、明細書の段落【００２６】の、
「又、本発明においては前記のようにＭｇＯの製造段階でフッ素或いは塩素化合物を用いてフッ素量と塩素量を調整することの他に、ＭｇＯの使用段階でフッ素或いは塩素元素のソースとして酸或いは金属化合物等で添加調整することもできる。この場合には、Ｈ，Ｌｉ，Ｎａ，Ｋ，Ｍｇ，Ｃａ，Ｓｒ，Ｂａ，Ｔｉ，Ｚｒ，Ｖ，Ｔａ，Ｃｒ，Ｍｏ，Ｗ，Ｍｎ，Ｆｅ，Ｃｏ，Ｎｉ，Ｃｕ，Ｚｎ，Ａｇ，Ｃｄ，Ａｌ，Ｓｎ，Ｐｂ，Ｓｂ，Ｂｉ，Ｂの中からなるフッ素化合物又はフッ素化合物及び塩素化物の１種又は２種以上を、最終製品のＭｇＯ中でＦ或いはＦ＋Ｃｌとして、０．００５〜０．１２％含有するようにＭｇＯスラリー調整時に添加する。これらの添加剤によっても製造時のフッ素、塩素の調整と同様な効果がもたらされる。」を、
「又、本発明においては前記のようにＭｇＯの製造段階でフッ素或いは塩素化合物を用いてフッ素量と塩素量を調整することの他に、ＭｇＯの使用段階でフッ素或いは塩素元素のソースとして酸或いは金属化合物等で添加調整することもできる。この場合には、Ｈ，Ｌｉ，Ｎａ，Ｋ，Ｍｇ，Ｃａ，Ｓｒ，Ｂａ，Ｔｉ，Ｚｒ，Ｖ，Ｔａ，Ｃｒ，Ｍｏ，Ｗ，Ｍｎ，Ｆｅ，Ｃｏ，Ｎｉ，Ｃｕ，Ｚｎ，Ａｇ，Ｃｄ，Ａｌ，Ｓｎ，Ｐｂ，Ｓｂ，Ｂｉ，Ｂの中からなるフッ素化合物又はフッ素化合物及び塩素化物の１種又は２種以上を、最終製品のＭｇＯ中でＦ或いはＦ＋Ｃｌとして、０．０５〜０．１２％含有するようにＭｇＯスラリー調整時に添加する。これらの添加剤によっても製造時のフッ素、塩素の調整と同様な効果がもたらされる。」と訂正する。
訂正事項ｊ
　明りょうでない記載の釈明を目的として、明細書の段落【００２７】の、
「添加量がＭｇＯ：１００重量部当たりＦ或いはＦ＋Ｃｌとして０．００５〜０．１２重量部であれば製造時の調整と同様な効果が得られる。０．００５重量部未満の場合と０．１２重量部超の場合、ＭｇＯ製造時におけるフッ素量と塩素量の限定理由と同じ理由によって制限される。」を、
「添加量がＭｇＯ：１００重量部当たりＦ或いはＦ＋Ｃｌとして０．０５〜０．１２重量部であれば製造時の調整と同様な効果が得られる。０．０５重量部未満の場合と０．１２重量部超の場合、ＭｇＯ製造時におけるフッ素量と塩素量の限定理由と同じ理由によって制限される。」と訂正する。
訂正事項ｋ
　明りょうでない記載の釈明を目的として、明細書の段落【００３０】の【表１】において、塗布Ｎｏ．／本発明１、２、４、５、７及び８の行を削除する。
訂正事項ｌ
　明りょうでない記載の釈明を目的として、明細書の段落【００３１】の【表２】において、塗布剤Ｎｏ．／本発明１、２、４、５、７及び８の行を削除する。
訂正事項ｍ
　明りょうでない記載の釈明を目的として、明細書の段落【００３５】の【表３】において、塗布剤Ｎｏ．／本発明１、２、４〜１０の行を削除する。
訂正事項ｎ
　明りょうでない記載の釈明を目的として、明細書の段落【００３６】の【表４】において、塗布剤Ｎｏ．／本発明１、２、４〜１０の行を削除する。
訂正事項ｏ
　明りょうでない記載の釈明を目的として、明細書の段落【００３７】の
「この試験の結果、本発明の金属フッ化物或いは金属フッ化物と金属塩化物をＭｇＯ焼成前に添加してフッ素或いはフッ素及び塩素を調整したＭｇＯを適用したコイルは、いずれもグラス被膜形成反応が優れ、良好なグラス被膜特性と磁気特性が得られた。図１に本発明１０，２、比較例１，２の仕上げ焼鈍時のグラス被膜の生成状況を示すが、本発明のものが、より低温からグラス被膜が生成されていることが解る。図中のＭｇＯ量（ｇ／ｍ２）は、鋼板表面の被膜を定電位電解法により剥離し、Ｍｇを定量した後ＭｇＯとして換算した値である。
　一方、比較例の金属フッ化物、塩化物を添加しない場合には、グラス被膜形成が極度に低下した。又、フッ素化合物を含有しない塩素化合物のみの場合には、フッ素化合物の共存の場合よりもやや被膜特性、磁気特性共に劣る結果となった。」を、
「この試験の結果、本発明の金属フッ化物或いは金属フッ化物と金属塩化物をＭｇＯ焼成前に添加してフッ素或いはフッ素及び塩素を調整したＭｇＯを適用したコイルは、グラス被膜形成反応が優れ、良好なグラス被膜特性と磁気特性が得られた。
　一方、比較例の金属フッ化物、塩化物を添加しない場合には、グラス被膜形成が極度に低下した。又、フッ素化合物を含有しない塩素化合物のみの場合には、フッ素化合物の共存の場合よりもやや被膜特性、磁気特性共に劣る結果となった。」と訂正する。
訂正事項ｐ
　明りょうでない記載の釈明を目的として、明細書の段落【００３８】から段落【００４１】までの全文を削除する。
訂正事項ｑ
　明りょうでない記載の釈明を目的として、明細書の段落【００４２】の【発明の効果】の段落番号を【００３８】に繰り上げる。
訂正事項ｒ
　明りょうでない記載の釈明を目的として、【図面の簡単な説明】の欄を全文削除する。
訂正事項ｓ
　明りょうでない記載の釈明を目的として、【図１】を削除する。
（５４）【発明の名称】
優れたグラス被膜と磁気特性を得るための方向性電磁鋼板用焼鈍分離剤及びスラリー
（５７）【特許請求の範囲】
　【請求項１】　ＣＡＡ値４０〜２５０秒、粒子径１０μｍ以下が５０％以上のＭｇＯであって、ＭｇＯに対してフッ素を少なくとも
０．０５
＋塩素のトータル量を０．０５
Ａｌ：０．０２６〜０．０３２％を含有する
（但し、ＣＡＡ値測定は液温度３０℃における測定値、粒子径測定はレーザー式粒度計による測定値）
　【請求項２】　ＣＡＡ値４０〜２５０秒、粒子径１０μｍ以下が５０％以上のＭｇＯであって、ＭｇＯに対してＨ，Ｌｉ，Ｎａ，Ｋ，Ｍｇ，Ｃａ，Ｓｒ，Ｂａ，Ｔｉ，Ｚｒ，Ｖ，Ｔａ，Ｃｒ，Ｍｏ，Ｗ，Ｍｎ，Ｆｅ，Ｃｏ，Ｎｉ，Ｃｕ，Ｚｎ，Ａｇ，Ｃｄ，Ａｌ，Ｓｎ，Ｐｂ，Ｓｂ，Ｂｉ，Ｂの中から選ばれる、少なくともフッ素化合物をＦとして
０．０５
０．０５
Ａｌ：０．０２６〜０．０３２％を含有する
　【請求項３】　ＣＡＡ値４０〜２５０秒、粒子径１０μｍ以下が５０％以上のＭｇＯに、ＭｇＯに対してＨ，Ｌｉ，Ｎａ，Ｋ，Ｍｇ，Ｃａ，Ｓｒ，Ｂａ，Ｔｉ，Ｚｒ，Ｖ，Ｔａ，Ｃｒ，Ｍｏ，Ｗ，Ｍｎ，Ｆｅ，Ｃｏ，Ｎｉ，Ｃｕ，Ｚｎ，Ａｇ，Ｃｄ，Ａｌ，Ｓｎ，Ｐｂ，Ｓｂ，Ｂｉ，Ｂの中から選ばれる、少なくともフッ素化合物をＦとして
０．０５
０．０５
Ａｌ：０．０２６〜０．０３２％を含有する
【発明の詳細な説明】
　【０００１】
　【産業上の利用分野】
　本発明は方向性電磁鋼板の製造に際し、最終仕上げ焼鈍工程において、均一で優れた被膜性能をもつグラス被膜を形成すると共に、優れた磁気特性を得るための方向性電磁鋼板の焼鈍分離剤に関する。
　【０００２】
　【従来の技術】
　通常、方向性電磁鋼板はＳｉ：２．５〜４．０％を含有する素材スラブを熱延し、焼鈍と１回又は中間焼鈍を挟む２回以上の冷延により最終板厚とされる。次いで、連続焼鈍炉においてＨ２或いはＮ２＋Ｈ２雰囲気中でＰＨ２Ｏ／ＰＨ２を制御して脱炭焼鈍を行い、脱炭、一次再結晶及びＳｉＯ２を主成分とする酸化層形成処理を行う。その後、ＭｇＯを主成分とする焼鈍分離剤をスラリー状としてコーティングロール等により鋼板に塗布し、乾燥後、コイルに巻き取り最終仕上げ焼鈍を行い、通常は絶縁被膜剤処理とヒートフラットニングを行って最終製品とされる。
　【０００３】
　この方向性電磁鋼板〈００１〉軸をもつ（１１０）〈００１〉結晶が高温の二次再結晶で優先的に成長し、鋼中にインヒビターとして分散しているＡｌＮ，ＭｎＳ等によって、その成長を抑えられている他の結晶を侵食するために（１１０）〈００１〉結晶が優先的に成長するものと考えられている。従って、優れた方向性電磁鋼板を製造するためには、鋼中インヒビターＡｌＮ，ＭｎＳ等の分散状態とこれらの分解までの制御が重要である。特に、最終仕上げ焼鈍においてインヒビターは脱炭焼鈍で形成した鋼板表面の酸化膜、焼鈍分離剤及び最終仕上げ焼鈍での熱サイクルや雰囲気ガス条件により影響を受ける。
　【０００４】
　これらの中でとりわけ焼鈍分離剤に用いるグラス被膜形成剤のＭｇＯの反応性は、グラス被膜形成を介してのインヒビターの挙動に影響が大きい。これは、ＭｇＯの粒子の純度、活性度、粒度等の物性値が最終焼鈍での昇温過程における脱炭酸化膜の変化やグラス被膜の形成反応開始温度、成長速度、コイル板間の雰囲気酸化度等に多大な影響をもたらして、グラス被膜の形成状態等によって鋼中インヒビターの安定性に影響を与えるからである。
　【０００５】
　仕上げ焼鈍におけるグラス被膜形成反応は、焼鈍分離剤のＭｇＯと脱炭焼鈍で形成されたＳｉＯ２主体の酸化膜と反応して通常グラス被膜と呼ぶフォルステライト被膜を形成する（２ＭｇＯ＋ＳｉＯ２→Ｍｇ２ＳｉＯ４）。又、この際、鋼中インヒビターとしてＡｌＮを用いる場合にはフォルステライト被膜直下付近にＡｌ２Ｏ３とＭｇＯ，ＳｉＯ２等によるスピネル構造の化合物を形成する
　【０００６】
　このグラス被膜形成においては、ＭｇＯとＳｉＯ２の反応は純粋系においては１６００℃近い高温でなければ反応が生じず、酸化膜の性状（成分、形成状態）、仕上げ焼鈍条件の制御（ヒートサイクル、雰囲気ガス）と共に焼鈍分離剤の性状として不純物の調整、粒径、粒子形状、表面状態、活性度等を制御して仕上げ焼鈍工程において、いかに低温から均一なグラス被膜形成を行わせるかが優れたグラス被膜と良好な磁気特性を得るための重要な鍵となる。
　このように方向性電磁鋼板の商品価値を決定する上で重要なグラス被膜と磁気特性に対して焼鈍分離剤ＭｇＯの影響が大きいことから、ＭｇＯ品質の改善は方向性電磁鋼板製造技術上重要な課題となってきている。
　【０００７】
　焼鈍分離剤に使用するＭｇＯは、一般的にはＭｇＣｌ２或いは海水等を原料として、先ず、Ｃａ（ＯＨ）２との反応によりＭｇ（ＯＨ）２結晶を調整し、純度等の調整の目的で圧縮洗浄等によって１回又は洗浄と結晶調整を挟む２回以上の焼成によってＭｇＯとされ、必要に応じて粉砕、分級等による粒度調整を行って製品とされる。
　ＭｇＯの性状の中でグラス被膜形成とこれに関連してインヒビターの安定性ひいては磁気特性に影響する因子としては、ＭｇＯの純度、粒度、活性度、鋼板への密着性等が主なものであるが、鋼板に塗布される際には、水和の進行度合い、粒子の水スラリー中の分散状態、塗布量等がある。このため、優れたグラス被膜と磁気特性を有する方向性電磁鋼板を得るためには、これ等の条件を最適にすることが重要である。
　【０００８】
　前述のように通常、ＭｇＯは必要に応じて反応促進剤として配合する少量の添加剤と共に水に懸濁させてスラリー状として鋼板に塗布される。この際、ＭｇＯの製造条件によっては、例えば高活性の場合、水との混合撹拌条件によってはＭｇＯ→ＭｇＯ（ＯＨ）２となる水和反応が生じ、コイル内（板間）に水分を持ち込む結果、板間露点を高め且つコイル長手方向及び幅方向において雰囲気状態を不均一にする問題がある。このため、仕上げ焼鈍昇温過程で不均一で、過剰な追加酸化を生じさせ、スケール、ガスマーク、ピンホール、変色等の重度の被膜欠陥を引き起こす。この高水和による問題点を解決するための手段としては、一般的には特開昭５５−７３８２３号公報に開示された高温焼成による方法が採用される。
　【０００９】
　この方法として、このように焼成温度を上げることで得られた低活性ＭｇＯでは、水和性の低下は得られるが活性（反応性）や付着性が低下する欠点がある。又、特開昭６２−１５６２２６号公報にはＭｇＯ粒子の最表面層を活性化処理する方法が提案されている。この方法では、高温焼成したＭｇＯの最表面層のみを気相中で処理して水和層を形成するものである。これによりグラス被膜と磁気特性のかなりの向上が見られている。
　【００１０】
　更に、焼鈍分離剤中への添加剤によるグラス被膜及び磁性の改善技術として、特公平２−５８２０号公報にはＳｂ，Ｓｒ，Ｔｉ，Ｚｒの塩化物の１種又は２種以上をＭｇＯ：１００重量部に対して０．０２〜１．５重量部添加する方法が提案されている。これにより、添加剤化合物が鋼板表面の酸化層成分のＳｉＯ２リッチ化と緻密化をもたらし、仕上げ焼鈍において追加酸化の抑制と反応促進効果をもたらして優れた鉄損特性とグラス被膜が得られるものである。
　又、特開平３−１２０３７６号公報には前記のような塩化物の添加技術の改善技術として、Ｍｇ，Ｎａ，Ｋ及びＣａから選択された金属塩化物をＭｇＯへ添加すれば硫酸アンチモン、メタ珪酸ナトリウムの併用なしに磁気特性の改善効果が得られることが示されている。
　【００１１】
　【発明が解決しようとする課題】
　このように、これ等のＭｇＯ性状を改善することでグラス被膜形成反応が改善され、効果が得られている。しかし、鋼成分、脱炭焼鈍条件や最終仕上げ焼鈍条件によっては被膜特性や磁気特性が不安定になる場合があり、未だ十分な技術とはいえず、更なる技術改善が望まれているところである。
　本発明者等は低水和で且つ高反応性の焼鈍分離剤の実現に到達すべく、低水和ＭｇＯの反応性向上策について膨大な研究と実験を行って検討した。その結果、低水和タイプのＭｇＯの不純物としてフッ素含有をベースとしてフッ素と塩素を適量に制御するかフッ素及び塩素の金属化合物を焼鈍分離剤に含有させることで、従来の塩素化合物添加技術による磁気特性や被膜特性の向上効果を更に上回る改善効果が得られることを見いだした。
　【００１２】
　【課題を解決するための手段】
　本発明は焼鈍分離剤で使用するＭｇＯの従来技術における解決策として、以下の構成を要旨とする。
　（１）ＣＡＡ値４０〜２００秒、粒子径１０μｍ以下が５０％以上のＭｇＯであって、フッ素を少なくとも
０．０５
＋塩素のトータル量を０．０５
Ａｌ：０．０２６〜０．０３２％を含有する
（但し、ＣＡＡ値測定は液温度３０℃における測定値、粒子径測定はレーザー式粒度計による測定値）
　【００１３】
　（２）ＣＡＡ値４０〜２００秒、粒子径１０μｍ以下が５０％以上のＭｇＯであって、Ｈ，Ｌｉ，Ｎａ，Ｋ，Ｍｇ，Ｃａ，Ｓｒ，Ｂａ，Ｔｉ，Ｚｒ，Ｖ，Ｔａ，Ｃｒ，Ｍｏ，Ｗ，Ｍｎ，Ｆｅ，Ｃｏ，Ｎｉ，Ｃｕ，Ｚｎ，Ａｇ，Ｃｄ，Ａｌ，Ｓｎ，Ｐｂ，Ｓｂ，Ｂｉ，Ｂの中から選ばれる、少なくともフッ素化合物をＦとして
０．０５
０．０５
Ａｌ：０．０２６〜０．０３２％を含有する
　（３）ＣＡＡ値４０〜２００秒、粒子径１０μｍ以下が５０％以上のＭｇＯと（２）の塩化物、フッ素化合物を含有した優れたグラス被膜と磁気特性を得るための
Ａｌ：０．０２６〜０．０３２％を含有する
　【００１４】
　本発明者等は、微粒子且つ低活性のＭｇＯ粒子の反応性向上策として、特にＭｇＯ中に存在させる不純物としてフッ素に着目し、フッ素或いはフッ素化合物
、又は
或いは
　これにより、従来技術では実現できなかったＭｇＯ表面水和層による反応性向上や、本発明者等による塩化物添加技術を凌ぐ技術の開発に成功した。即ち、広範囲の仕上げ焼鈍条件下においてグラス被膜が均一で、磁気特性がコイル全面、全長に亘って良好な方向性電磁鋼板を得ることに成功した。
　【００１５】
　本発明の適用に当たっては、出発材としてはＳｉ：２．５〜４．０％含む珪素鋼スラブを公知の方法で熱延し、１回又は焼鈍を挟む２回以上の冷延を行い、最終板厚とし、次いで脱炭焼鈍を行って表面にＳｉＯ２を主成分とする酸化膜を形成したいわゆる脱炭焼鈍板が用いられる。この鋼板に前記フッ素、フッ素化合物及び塩素、塩素化合物を微量に調整したＭｇＯをスラリーとして均一に微細分散した後、連続ラインにおいてコーティングロール等で塗布し、１５０〜４００℃（板温度）程度の温度で乾燥し、コイルに巻き取られる。この際、焼鈍分離剤ＭｇＯにはグラス被膜形成の反応促進補助剤、板間露点調整剤、インヒビター強化補助剤として、酸化物、ほう素化合物、硫黄化合物、窒素化合物等が鋼成分や処理条件に応じて添加配合される。
　【００１６】
　このように処理されたコイルは、最終仕上げ焼鈍としてバッチ式、或いは連続式炉内において１１５０℃〜１２００℃×２０Ｈｒのような高温、長時間処理がなされ、グラス被膜形成と二次再結晶及び純化が同時に行われる。
　方向性電磁鋼板においては、この際のグラス被膜の形成時期、形成量、形成状態等がインヒビターＡｌＮ，ＭｎＳ等の分解速度に影響を与えたり、グラス被膜の質、張力或いは純化反応等に影響を及ぼす結果、製品のグラス被膜特性と磁気特性を左右するものである。
　【００１７】
　このようにして処理されたグラス被膜形成後のコイルは、連続ラインにおいて余剰の焼鈍分離剤を水洗により除去し、軽酸洗の後、絶縁被膜剤を塗布し、その焼き付けと形状矯正、歪取り焼鈍を兼ねてヒートフラットニングが行われ、最終製品とされる。
　この際、方向性電磁鋼板は、とりわけ高磁束密度材においては被膜張力による鉄損、磁歪等の改善効果が大きいことから、仕上げ焼鈍で形成したグラス被膜の張力効果を更に向上するために、絶縁被膜成分としては張力付与型のものが適用される。
　【００１８】
　この張力被膜剤としては、固形分でコロイダルシリカ１００重量部に対し、Ａｌ，Ｍｇ，Ｃａ等の燐酸塩の１種又は２種以上を１３０〜２００重量部とクロム酸、クロム酸塩、重クロム酸塩の１種又は２種以上をＣｒＯ３として１２〜４０重量部配合したものを用いるのが経済的に高張力被膜を得るのに好適である。
　この後、更に鉄損を改善しようとする場合には、レーザー、歯形ロール、エッチング、局部メッキ等により圧延方向とほぼ直角方向に線状、点状に間隔と深さをコントロールして、歪、疵、メッキ層等を処理して磁区細分化処理が行われる。
　【００１９】
　次に本発明の限定理由を述べる。
　先ず、本発明に適用されるＭｇＯの成分としてはフッ素を少なくとも
０．０５
＋塩素のトータル量を０．０５
　【００２０】
　フッ素量として
０．０５
０．０５
０．０５
　【００２１】
　ＭｇＯの製造段階でＭｇの塩素化合物やフッ素化合物或いは他の金属化合物を添加し、原料としてＭｇＯを製造し、本発明のようにフッ素或いはフッ素＋塩素を
０．０５
　【００２２】
　ＭｇＯ製造時にこれらフッ素或いは塩素元素のソースとして添加される化合物としては、Ｈ，Ｌｉ，Ｎａ，Ｋ，Ｍｇ，Ｃａ，Ｓｒ，Ｂａ，Ｔｉ，Ｚｒ，Ｖ，Ｔａ，Ｃｒ，Ｍｏ，Ｗ，Ｍｎ，Ｆｅ，Ｃｏ，Ｎｉ，Ｃｕ，Ｚｎ，Ａｇ，Ｃｄ，Ａｌ，Ｓｎ，Ｐｂ，Ｓｂ，Ｂｉ，Ｂの中から選ばれる元素よりなるフッ素化合物又はフッ素化合物及び塩素化物の１種又は２種以上を最終製品のＭｇＯ中で少なくともＦとして
０．０５
０．０５
　【００２３】
　次に、このようにして製造されるＭｇＯの活性度はＣＡＡ値で４０〜２５０秒である。本発明のフッ素、或いはフッ素＋塩素或いはこれらの化合物によるグラス被膜形成反応では、そのグラス被膜形成反応の向上効果の大きさから、仕上げ焼鈍中の雰囲気の水分による追加酸化を受けにくいのが特徴である。その一方、ＭｇＯや雰囲気ガスからの水分自体をグラス被膜形成反応にそれほど必要としないため、ドライからウェットまで焼鈍雰囲気の広範囲で安定なグラス被膜形成が実現できる。このため、ＣＡＡ値で４０秒から２５０秒までの広い活性領域のＭｇＯに適合する。
　【００２４】
　ＣＡＡ値が４０秒未満では、方向性電磁鋼板製造段階での工業的な水和水分のコントロールが難しく、極度に水和水分が増加するため、本発明の成分をもってしてもグラス被膜と磁気特性の向上が安定して得られにくい。一方、２５０秒超では、ＭｇＯの安定性は向上するが、ＭｇＯのスラリー塗布時の鋼板への密着性、スラリーの粘性等が低下して作業性が低下したり、グラス被膜形成にもやや悪影響を与えるため制限される。４０〜２５０秒では良好な反応性やＭｇＯの安定性が得られる。本発明では、フッ素化合物の仕上げ焼鈍昇温時の高温域までの幅広い反応促進効果と塩素化合物の反応促進補助効果により、従来技術よりも不活性なＭｇＯに適用可能で、工業的により安定して優れた製品の製造が可能である。
　【００２５】
　次にＭｇＯの粒度は１０μｍ以下の微粒子が５０％以上であることが重要である。前記ＣＡＡ値の範囲と同様に粒度についても通常のＭｇＯに比較して広範囲で良好な製品特性が得られる。１０μｍ以下の粒子５０％未満では、粒子と鋼板酸化膜との接触面積が低下して反応性が低下するため、本発明の焼鈍分離剤成分においても制限される。
　【００２６】
　又、本発明においては前記のようにＭｇＯの製造段階でフッ素或いは塩素化合物を用いてフッ素量と塩素量を調整することの他に、ＭｇＯの使用段階でフッ素或いは塩素元素のソースとして酸或いは金属化合物等で添加調整することもできる。この場合には、Ｈ，Ｌｉ，Ｎａ，Ｋ，Ｍｇ，Ｃａ，Ｓｒ，Ｂａ，Ｔｉ，Ｚｒ，Ｖ，Ｔａ，Ｃｒ，Ｍｏ，Ｗ，Ｍｎ，Ｆｅ，Ｃｏ，Ｎｉ，Ｃｕ，Ｚｎ，Ａｇ，Ｃｄ，Ａｌ，Ｓｎ，Ｐｂ，Ｓｂ，Ｂｉ，Ｂの中からなるフッ素化合物又はフッ素化合物及び塩素化物の１種又は２種以上を、最終製品のＭｇＯ中でＦ或いはＦ＋Ｃｌとして、
０．０５
　【００２７】
　添加量がＭｇＯ：１００重量部当たりＦ或いはＦ＋Ｃｌとして
０．０５
０．０５
　【００２８】
　【実施例】
　〔実施例１〕
　重量％でＣ：０．０７６、Ｓｉ：３．３０、Ｍｎ：０．０６５、Ｓ：０．０２５、Ａｌ：０．０２６、Ｎ：０．００７８、Ｃｕ：０．０６、Ｓｎ：０．０１０、残部を鉄と不可避の不純物からなる高磁束密度方向性電磁鋼板素材を公知の方法で熱延、焼鈍、冷延を行い、最終板厚０．０２３ｍｍとした。その後、Ｎ２２５％＋Ｈ２７５％、露点６７℃のウェット雰囲気中で脱炭焼鈍を行った。
　【００２９】
　次いで、表１に示す組成の粒子径１０μｍ以下８０％ＣＡＡ値５０秒のＭｇＯにＴｉＯ２５％配合した焼鈍分離剤を鋼板に塗布し、乾燥後コイルとして巻き取り、１２００℃×２０Ｈｒの最終仕上げ焼鈍を行った。この後、絶縁被膜剤として３０％コロイダルシリカ７０ｍｌ、５０％りん酸アルミニウム５０ｍｌからなるコーティング剤を乾燥、焼き付け後の重量で５ｇ／ｍ２になるように塗布し、連続炉中で８５０℃×３０秒間のヒートフラットニング処理を行い最終製品とした。
　この試験におけるグラス被膜形成状況、絶縁被膜特性、磁気特性の結果を表２に示す。
　【００３０】
　【表１】
　【００３１】
　【表２】
　【００３２】
　この結果、本発明のようにフッ素或いはフッ素と塩素を一定量含有する焼鈍分離剤を使用した場合には、光沢の良いグラス被膜が均一に、厚く形成され、被膜張力、密着性及び磁気特性の優れた結果が得られた。一方、比較例のフッ素、塩素をほとんど含有しない場合には、グラス被膜を形成せず、被膜張力、密着性、磁気特性がかなり劣る結果となった。又、フッ素を含有しない塩素のみを含有する場合には、グラス被膜は改善されるものの、フッ素と塩素の共存の場合に比較して、グラス被膜、磁性共やや劣る結果であった。更に、フッ素と塩素添加量が多い比較例３，４のケースでは、グラス被膜は比較的均一であるが、薄い被膜となり、被膜特性、磁気特性とも劣る結果となった。
　【００３３】
　〔実施例２〕
　重量％でＣ：０．０５５、Ｓｉ：３．３５、Ｍｎ：０．１２、Ａｌ：０．０３２、Ｓ：０．００７５、Ｎ：０．００７８、Ｓｎ：０．０５、残留応力部をＦｅと不可避の不純物からなる方向性電磁鋼板スラブを公知の方法で１１５０℃の低温で加熱後、熱延し、焼鈍と冷延により最終板厚０．２３ｍｍとした。このコイルを連続焼鈍ラインにおいてＮ２２５％＋Ｈ２７５％、露点６５℃のウェット雰囲気中で８３０℃×１１０秒間の脱炭焼鈍し、引き続き鋼中Ｎ量が２００ｐｐｍとなるようにＮ２２５％＋Ｈ２７５％＋ＮＨ３のドライ雰囲気中で７５０℃×３０秒間の窒化処理を行った。
　【００３４】
　この鋼板に表３に示すようにＭｇＯの製造段階で金属フッ化物、金属塩化物をＭｇＯの最終焼成前の水酸化Ｍｇの結晶調整段階で添加してフッ素、塩素量をそれぞれ調整し、焼成したＣＡＡ値７０秒、粒子径１０μｍ以下７０％のＭｇＯ：１００重量部に対し、ＴｉＯ２を５重量部からなる焼鈍分離剤スラリーを塗布し、乾燥後コイルに巻き取った。次いで実施例１と同様に最終焼鈍と絶縁被膜剤処理を行って最終製品とした。
　この試験におけるグラス被膜特性と磁気特性の結果を表４に示す。
　【００３５】
　【表３】
　【００３６】
　【表４】
　【００３７】
　この試験の結果、本発明の金属フッ化物或いは金属フッ化物と金属塩化物をＭｇＯ焼成前に添加してフッ素或いはフッ素及び塩素を調整したＭｇＯを適用したコイルは
、
。
　一方、比較例の金属フッ化物、塩化物を添加しない場合には、グラス被膜形成が極度に低下した。又、フッ素化合物を含有しない塩素化合物のみの場合には、フッ素化合物の共存の場合よりもやや被膜特性、磁気特性共に劣る結果となった。
　【００３８】
　【発明の効果】
　本発明はＭｇＯの製造過程或いはスラリー調整段階でフッ素或いはフッ素及び塩素の両方をそれぞれ元素或いは金属化合物によってフッ素量と塩素量を特定範囲に調整する。この焼鈍分離剤では、フッ素が仕上げ焼鈍昇温における高温域まで安定に保たれ、塩素低温域での反応促進補助作用の相乗効果によって、ＣＡＡ値４０〜２５０秒、粒子径１０μｍ以下５０％以上のＭｇＯの反応性を極めて向上する。この結果、従来の塩素或いは塩素化合物添加のみの改善技術に比較して、格段のグラス被膜と磁気特性改善ができる焼鈍分離剤を提供する。