(57)【要約】  抵抗変化型不揮発性記憶装置（１００）は、第１電極と前記第２電極との間に介在させ、両電極に接するように設けられた抵抗変化層で構成される抵抗変化素子（Ｒ１１、Ｒ１２、・・・）と、第３電極と前記第４電極との間に介在させ、両電極に接するように設けられた電流制御層で構成される電流制御素子（Ｄ１１、Ｄ１２、・・・）とを直列に接続してなるメモリセル（Ｍ１１、Ｍ１２、・・・）を備え、抵抗変化素子を低抵抗化するときは電流制限回路（１０５ｂ）を介して第１ＬＲ化駆動回路（１０５ａ１）で駆動し、高抵抗化するときは第２ＨＲ化駆動回路（１０５ａ２）で駆動し、電流制限回路（１０５ｂ）により、抵抗変化素子を低抵抗化するときの電流を、高抵抗化するときの電流よりも小さくする。
2010119671.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
予め定められた第１の極性の第１電圧が印加されると第１範囲に属する抵抗値の低抵抗状態に変化しかつ前記極性とは逆の第２の極性の第２電圧が印加されると前記第１範囲よりも高い第２範囲に属する抵抗値の高抵抗状態に変化する抵抗変化素子と、２端子の電流制御素子とを直列に接続してなる複数のメモリセルと、
互いに交差する複数の第１信号線および複数の第２信号線と、
前記複数のメモリセルを前記複数の第１信号線と前記複数の第２信号線との交差点に配置し、各交差点に配置されたメモリセルの両端を交差する１組の前記第１信号線と前記第２信号線とに接続してなるメモリセルアレイと、
前記複数のメモリセルに前記複数の第１信号線および前記複数の第２信号線を介して印加される両極性の電圧を発生する書き込み回路と、
前記書き込み回路から前記複数のメモリセルへ流れる電流の経路に挿入され、前記複数のメモリセルを低抵抗状態に変化させる方向の電流のみを制限する電流制限回路と
を備え、
前記各メモリセルにおいて、
前記抵抗変化素子は、第１電極と、第２電極と、前記第１電極と前記第２電極との間に介在させ、前記第１電極と前記第２電極と接するように設けられた抵抗変化層からなり、
前記抵抗変化層は、主たる抵抗変化材料として金属の酸化物を含み、
前記第１電極と前記第２電極とは、異なる元素で構成される材料によって構成され、
前記第１電極の標準電極電位Ｖ１と、前記第２電極の標準電極電位Ｖ２と、前記抵抗変化層を主として構成する金属の標準電極電位Ｖｔとが、Ｖｔ＜Ｖ２かつＶ１＜Ｖ２を満足する
ことを特徴とする抵抗変化型不揮発性記憶装置。
【請求項２】
前記各メモリセルは、接続されている第１信号線と第２信号線とを介して、前記第１信号線の電圧が前記第２信号線の電圧よりも高い前記第１の極性の第１電圧が印加されたときに前記低抵抗状態に変化し、前記第１の極性とは逆の前記第２の極性の第２電圧が印加されたときに前記高抵抗状態に変化し、
前記書き込み回路は、前記第１電圧以上の第１駆動電圧を発生する第１駆動回路と、前記第２電圧以上の第２駆動電圧を発生する第２駆動回路と、前記第１駆動電圧の基準となる電圧を発生する第３駆動回路と、前記第２駆動電圧の基準となる電圧を発生する第４駆動回路とを有し、
前記抵抗変化型不揮発性記憶装置は、さらに、
前記第１駆動回路および前記第４駆動回路と、前記複数の第１信号線の中から選択される１つの第１信号線とを接続する第１選択回路と、
前記第２駆動回路および前記第３駆動回路と、前記複数の第２信号線の中から選択される１つの第２信号線とを接続する第２選択回路と
を備え、
前記電流制限回路は、前記第１駆動回路と前記第１選択回路との間に挿入されている
ことを特徴とする請求項１に記載の抵抗変化型不揮発性記憶装置。
【請求項３】
前記各メモリセルは、接続されている第１信号線と第２信号線とを介して、前記第１信号線の電圧が前記第２信号線の電圧よりも高い前記第１の極性の第１電圧が印加されたときに前記低抵抗状態に変化し、前記第１の極性とは逆の前記第２の極性の第２電圧が印加されたときに前記高抵抗状態に変化し、
前記書き込み回路は、前記第１電圧以上の第１駆動電圧を発生する第１駆動回路と、前記第２電圧以上の第２駆動電圧を発生する第２駆動回路と、前記第１駆動電圧の基準となる電圧を発生する第３駆動回路と、前記第２駆動電圧の基準となる電圧を発生する第４駆動回路とを有し、
前記抵抗変化型不揮発性記憶装置は、さらに、
前記第１駆動回路および前記第２駆動回路と、前記複数の第１信号線の中から選択される１つの第１信号線とを接続する第１選択回路と、
前記第３駆動回路および前記第４駆動回路と、前記複数の第２信号線の中から選択される１つの第２信号線とを接続する第２選択回路と
を備え、
前記電流制限回路は複数の制限回路からなり、前記第１選択回路と前記各第１信号線との間に前記複数の制限回路の１つが挿入されている
ことを特徴とする請求項１に記載の抵抗変化型不揮発性記憶装置。
【請求項４】
前記各メモリセルは、接続されている第１信号線と第２信号線とを介して、前記第１信号線の電圧が前記第２信号線の電圧よりも高い前記第１の極性の第１電圧が印加されたときに前記低抵抗状態に変化し、前記第１の極性とは逆の前記第２の極性の第２電圧が印加されたときに前記高抵抗状態に変化し、
前記書き込み回路は、前記第１電圧以上の第１駆動電圧を発生する第１駆動回路と、前記第２電圧以上の第２駆動電圧を発生する第２駆動回路と、前記第１駆動電圧の基準となる電圧を発生する第３駆動回路と、前記第２駆動電圧の基準となる電圧を発生する第４駆動回路とを有し、
前記抵抗変化型不揮発性記憶装置は、さらに、
前記第１駆動回路および前記第２駆動回路と、前記複数の第１信号線の中から選択される１つの第１の信号線とを接続する第１選択回路と、
前記第３駆動回路および前記第４駆動回路と、前記複数の第２信号線の中から選択される１つの第２の信号線とを接続する第２選択回路と
を備え、
前記電流制限回路は、前記第３駆動回路と前記第２選択回路との間に挿入されている
ことを特徴とする請求項１に記載の抵抗変化型不揮発性記憶装置。
【請求項５】
前記各メモリセルは、接続されている第１信号線と第２信号線とを介して、前記第１信号線の電圧が前記第２信号線の電圧よりも高い前記第１の極性の第１電圧が印加されたときに前記低抵抗状態に変化し、前記第１の極性とは逆の前記第２の極性の第２電圧が印加されたときに前記高抵抗状態に変化し、
前記書き込み回路は、前記第１電圧以上の第１駆動電圧を発生する第１駆動回路と、前記第２電圧以上の第２駆動電圧を発生する第２駆動回路と、前記第１駆動電圧の基準となる電圧を発生する第３駆動回路と、前記第２駆動電圧の基準となる電圧を発生する第４駆動回路とを有し、
前記抵抗変化型不揮発性記憶装置は、さらに、
前記第１駆動回路および前記第２駆動回路と、前記複数の第１信号線の中から選択される１つの第１信号線とを接続する第１選択回路と、
前記第３駆動回路および前記第４駆動回路と、前記複数の第２信号線の中から選択される１つの第２信号線とを接続する第２選択回路と
を備え、
前記電流制限回路は複数の制限回路からなり、前記第２選択回路と前記各第２信号線との間に前記複数の制限回路の１つが挿入されている
ことを特徴とする請求項１に記載の抵抗変化型不揮発性記憶装置。
【請求項６】
前記各メモリセルにおいて、
前記電流制御素子は、第３電極と、第４電極と、前記第３電極と前記第４電極との間に介在させ、前記第３電極と前記第４電極と接するように設けられた電流制御層からなり、
前記第１電極が前記第１信号線に接続され、前記第２電極が前記第３電極に接続され、前記第４電極が前記第２信号線に接続されているか、または、
前記第３電極が前記第１信号線に接続され、前記第４電極が前記第１電極に接続され、前記第２電極が前記第２信号線に接続されている
ことを特徴とする請求項２から５のいずれか１項に記載の抵抗変化型不揮発性記憶装置。
【請求項７】
前記抵抗変化層は、遷移金属の酸化物を主たる抵抗変化材料とする
ことを特徴とする請求項６に記載の抵抗変化型不揮発性記憶装置。
【請求項８】
前記遷移金属の酸化物は、酸素不足型のタンタルの酸化物層を主たる抵抗変化材料とする
ことを特徴とする請求項７に記載の抵抗変化型不揮発性記憶装置。
【請求項９】
前記第２電極は、白金、イリジウム、パラジウム、銀、銅、金で構成される群から選択され、
前記第１電極は、タングステン、ニッケル、タンタル、チタン、アルミニウム、窒化タンタル、窒化チタンで構成される群から選択される
ことを特徴とする請求項８に記載の抵抗変化型不揮発性記憶装置。
【請求項１０】
前記遷移金属の酸化物は、酸素不足型のハフニウムの酸化物層を主たる抵抗変化材料とする
ことを特徴とする請求項７に記載の抵抗変化型不揮発性記憶装置。
【請求項１１】
前記第２電極は、タングステン、銅、白金、金で構成される群から選択され、
前記第１電極は、アルミニウム、チタン、ハフニウム、窒化タンタル、窒化チタンで構成される群から選択される
ことを特徴とする請求項１０に記載の抵抗変化型不揮発性記憶装置。
【請求項１２】
前記各メモリセルにおいて、
前記電流制御素子は、第３電極と、第４電極と、前記第３電極と前記第４電極との間に介在させ、前記第３電極と前記第４電極と接するように設けられた電流制御層からなり、
前記第１電極が前記第１信号線に接続され、前記第２電極が前記第３電極に接続され、前記第４電極が前記第２信号線に接続されているか、または、
前記第３電極が前記第１信号線に接続され、前記第４電極が前記第１電極に接続され、前記第２電極が前記第２信号線に接続されており、
前記抵抗変化層は、ＭＯｘで表される組成を有する第１の酸素不足型の遷移金属の酸化物を含む第１領域と、ＭＯｙ（但し、ｘ＜ｙ）で表される組成を有する第２の酸素不足型の遷移金属の酸化物を含む第２領域とを有し、
前記第１領域が前記第１電極と接して配置され、前記第２領域が前記第２電極と接して配置されている
ことを特徴とする請求項２から５のいずれか１項に記載の抵抗変化型不揮発性記憶装置。
【請求項１３】
前記抵抗変化型不揮発性記憶装置は、基板上に形成されており、前記基板上には、
前記複数の第１信号線として用いられる第１層配線と、
前記第１層配線よりも上層に、前記複数の第２信号線として用いられる第２層配線とが設けられ、
前記各メモリセルにおいて、
電流制御素子は、第３電極と、第４電極と、前記第３電極と前記第４電極との間に介在させ、前記第３電極と前記第４電極と接するように設けられた電流制御層からなり、
前記第１層配線と前記第２層配線との間に、下層から順に、
前記第３電極、前記電流制御層、前記第４電極、前記第１電極、前記抵抗変化層、および前記第２電極が、この順に形成されているか、または、
前記第１電極、前記抵抗変化層、前記第２電極、前記第３電極、前記電流制御層、および前記第４電極が、この順に形成されている
ことを特徴とする請求項２から５のいずれか１項に記載の抵抗変化型不揮発性記憶装置。
【請求項１４】
前記抵抗変化型不揮発性記憶装置は、基板上に形成されており、前記基板上には、
前記複数の第２信号線として用いられる第１層配線と、
前記第１層配線よりも上層に、前記複数の第１信号線として用いられる第２層配線とが設けられ、
前記各メモリセルにおいて、
電流制御素子は、第３電極と、第４電極と、前記第３電極と前記第４電極との間に介在させ、前記第３電極と前記第４電極と接するように設けられた電流制御層からなり、
前記第１層配線と前記第２層配線との間に、下層から順に、
前記第２電極、前記抵抗変化層、前記第１電極、前記第４電極、前記電流制御層、および前記第３電極が、この順に形成されているか、または、
前記第４電極、前記電流制御層、前記第３電極、前記第２電極、前記抵抗変化層、および前記第１電極が、この順に形成されている
ことを特徴とする請求項２から５のいずれか１項に記載の抵抗変化型不揮発性記憶装置。
【請求項１５】
前記各メモリセルにおいて、
前記第１層配線と前記抵抗変化素子との間、および前記電流制御素子と前記第２層配線との間が、それぞれビアで接続されているか、または、
前記第１層配線と前記電流制御素子との間、および前記抵抗変化素子と前記第２層配線との間が、それぞれビアで接続されている
ことを特徴とする請求項１３または１４に記載の抵抗変化型不揮発性記憶装置。
【請求項１６】
前記各メモリセルにおいて、
単一の電極が、前記抵抗変化素子および前記電流制御素子の互いに接続される側の電極として共通に用いられている
ことを特徴とする請求項１３または１４に記載の抵抗変化型不揮発性記憶装置。
【請求項１７】
前記各メモリセルにおいて、
前記電流制御素子および前記抵抗変化素子は、交差する前記第１層配線と前記第２層配線との間に設けられるビアと比べて、積層方向に直交する断面の大きさが同一またはより小さく形成されている
ことを特徴とする請求項１３または１４に記載の抵抗変化型不揮発性記憶装置。
【請求項１８】
前記各メモリセルにおいて、
前記第１層配線および前記第２層配線のいずれか一方が、前記第１電極または前記第２電極として用いられている
ことを特徴とする請求項１３または１４に記載の抵抗変化型不揮発性記憶装置。
【請求項１９】
前記各メモリセルにおいて、
前記第１層配線および前記第２層配線のいずれか一方が、前記第３電極または前記第４電極として用いられている
ことを特徴とする請求項１３または１４に記載の抵抗変化型不揮発性記憶装置。
【請求項２０】
前記電流制限回路は、Ｎ型ＭＯＳトランジスタで構成されている
ことを特徴とする請求項２、３または４に記載の抵抗変化型不揮発性記憶装置。
【請求項２１】
前記電流制限回路は、Ｎ型ＭＯＳトランジスタで構成されており、
前記抵抗変化素子を、前記第１範囲に属する抵抗値のなかで、前記メモリセルに第３電圧が印加されたときに設定される第３抵抗値より大きく、かつ前記第３電圧よりも小さい第４電圧が印加されたときに設定される第４抵抗値より小さい抵抗値に設定するとき、
前記Ｎ型ＭＯＳトランジスタのゲート電圧は、前記第４電圧に前記Ｎ型ＭＯＳトランジスタの閾値電圧の絶対値を加えた値より大きく、前記第３の電圧に前記Ｎ型ＭＯＳトランジスタの閾値電圧の絶対値を加えた値より小さく、かつ前記第１駆動電圧以下の電圧に設定される
ことを特徴とする請求項２または３に記載の抵抗変化型不揮発性記憶装置。
【請求項２２】
前記電流制限回路は、Ｎ型ＭＯＳトランジスタで構成されており、
前記抵抗変化素子を、前記第１範囲に属する抵抗値のなかで、前記メモリセルに第３電圧が印加されたときに設定される第３抵抗値より大きく、かつ前記第３電圧よりも小さい第４電圧が印加されたときに設定される第４抵抗値より小さい抵抗値に設定するとき、
前記Ｎ型ＭＯＳトランジスタのゲート電圧は、前記第１駆動電圧から前記第３電圧を減じて前記Ｎ型ＭＯＳトランジスタの閾値電圧の絶対値を加えた値より大きく、かつ前記第１駆動電圧から前記第４電圧を減じて前記Ｎ型ＭＯＳトランジスタの閾値電圧の絶対値を加えた値より小さい電圧に設定される
ことを特徴とする請求項４に記載の抵抗変化型不揮発性記憶装置。
【請求項２３】
前記電流制限回路における前記各制限回路は、Ｎ型ＭＯＳトランジスタで構成されており、
前記各Ｎ型ＭＯＳトランジスタは、ゲートに選択信号が供給されることで、前記電流制限回路および前記第１選択回路として共用される
ことを特徴とする請求項３に記載の抵抗変化型不揮発性記憶装置。
【請求項２４】
前記電流制限回路は、Ｐ型ＭＯＳトランジスタで構成されている
ことを特徴とする請求項２、４または５に記載の抵抗変化型不揮発性記憶装置。
【請求項２５】
前記電流制限回路は、Ｐ型ＭＯＳトランジスタで構成されており、
前記抵抗変化素子を、前記第１範囲に属する抵抗値のなかで、前記メモリセルに第３電圧が印加されたときに設定される第３抵抗値より大きく、かつ前記第３電圧よりも小さい第４電圧が印加されたときに設定される第４抵抗値より小さい抵抗値に設定するとき、
前記Ｐ型ＭＯＳトランジスタのゲート電圧は、前記第４電圧から前記Ｐ型ＭＯＳトランジスタの閾値電圧の絶対値を減じた値より大きく、かつ前記第３電圧から前記Ｐ型ＭＯＳトランジスタの閾値電圧の絶対値を減じた値より小さい電圧に設定される
ことを特徴とする請求項２に記載の抵抗変化型不揮発性記憶装置。
【請求項２６】
前記電流制限回路は、Ｐ型ＭＯＳトランジスタで構成されており、
前記抵抗変化素子を、前記第１範囲に属する抵抗値のなかで、前記メモリセルに第３電圧が印加されたときに設定される第３抵抗値より大きく、かつ前記第３電圧よりも小さい第４電圧が印加されたときに設定される第４抵抗値より小さい抵抗値に設定するとき、
前記Ｐ型ＭＯＳトランジスタのゲート電圧は、前記第１駆動電圧から前記第３電圧と前記Ｐ型ＭＯＳトランジスタの閾値電圧の絶対値とを減じた値より大きく、前記第１の駆動電圧から、前記第４電圧と前記Ｐ型ＭＯＳトランジスタの閾値電圧の絶対値とを減じた値より小さく、かつ前記第１駆動電圧の基準電圧以上の電圧に設定される
ことを特徴とする請求項４または５に記載の抵抗変化型不揮発性記憶装置。
【請求項２７】
前記電流制限回路における前記各制限回路は、Ｐ型ＭＯＳトランジスタで構成されており、
前記各Ｐ型ＭＯＳトランジスタは、ゲートに選択信号が供給されることで、前記電流制限回路および前記第２選択回路として共用される
ことを特徴とする請求項５に記載の抵抗変化型不揮発性記憶装置。
【請求項２８】
前記第３抵抗値は前記第１範囲に属する最小の抵抗値であり、
前記抵抗変化素子を前記第３抵抗値に設定するときに前記メモリセルに流れる電流は、前記電流制御素子が破壊されない最大の電流以下である
ことを特徴とする請求項２１、２２、２５または２６に記載の抵抗変化型不揮発性記憶装置。
【請求項２９】
前記第４抵抗値は前記第１範囲に属する最大の抵抗値であり、
読み出し回路を用いて前記低抵抗状態と前記高抵抗状態とが判別可能であるような最大の抵抗値である
ことを特徴とする請求項２１、２２、２５または２６に記載の抵抗変化型不揮発性記憶装置。
【請求項３０】
前記電流制限回路は、Ｎ型またはＰ型のＭＯＳトランジスタで構成され、
前記ＭＯＳトランジスタのゲート幅をＷＣ、ゲート長をＬＣとし、
前記第２の駆動回路を構成するＭＯＳトランジスタのゲート幅をＷ２、ゲート長をＬ２とし、
前記第４の駆動回路を構成するＭＯＳトランジスタのゲート幅をＷ４、ゲート長をＬ４とするとき、
Ｗ２／Ｌ２＞ＷＣ／ＬＣ、かつＷ４／Ｌ４＞ＷＣ／ＬＣを満たす
ことを特徴とする請求項２から５のいずれか１項に記載の抵抗変化型不揮発性記憶装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電気的信号に基づいて可逆的に抵抗値が変化する抵抗変化素子と電流制御素子とで構成されたメモリセルを有する抵抗変化型不揮発性記憶装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、抵抗変化素子を用いて構成されたメモリセルを有する不揮発性記憶装置の研究開発が進んでいる。抵抗変化素子とは、電気的信号によって抵抗値が可逆的に変化する性質を有し、さらにはこの抵抗値に対応したデータを、不揮発的に記憶することが可能な素子をいう。【０００３】
抵抗変化素子を用いた不揮発性記憶装置として、直交するように配置されたビット線とワード線との交点の位置に、トランジスタと抵抗変化素子とを直列に接続した、いわゆる１Ｔ１Ｒ型と呼ばれるメモリセルをマトリクス状にアレイ配置した不揮発性記憶装置が一般的に知られている。また、さらなる高集積化を目指して、直交するように配置されたビット線とワード線との交点の位置に、電流制御素子として機能するダイオード素子と、抵抗変化素子とを直列に接続した、いわゆる１Ｄ１Ｒ型クロスポイントメモリと呼ばれるメモリセルをマトリクス状にアレイ配置した不揮発性記憶装置や、１Ｄ１Ｒ型クロスポイントメモリのメモリセルを多層に積層した不揮発性記憶装置も知られている。【０００４】
特許文献１では、希土類酸化膜等のアモルファス薄膜を抵抗変化素子として用いた１Ｔ１Ｒ型メモリセルで構成された不揮発性記憶装置が示されている。【０００５】
図４１は、その中で示されている不揮発性記憶装置のメモリセルの回路図である。【０００６】
メモリセル１００１は、トランジスタ１００２と抵抗変化素子１００３とを電気的に直列に接続して形成されている。【０００７】
ここでは、抵抗変化素子１００３に用いる材料として、希土類酸化膜等のアモルファス薄膜が開示されており、電極材料として、銅、銀、亜鉛が開示されている。【０００８】
図４２は、その中で示されている不揮発性記憶装置のメモリセルに使用されている抵抗変化素子１００３の、電圧−電流変化を示す図である。書き込み時には、図４１のＶ１、Ｖ２間に電位差を与えることにより、抵抗変化素子１００３に＋１．１Ｘ［Ｖ］以上の電圧、及び微小な電流を印加し、抵抗変化素子が高抵抗状態から低抵抗状態へと変化する。消去時には、書き込み時と逆極性の電圧を与えることにより、抵抗変化素子１００３に−１．１Ｘ［Ｖ］の電圧、−１．５Ｙ［Ａ］の電流を印加し、抵抗変化素子が低抵抗状態から高抵抗状態へと変化する。【０００９】
特許文献１では、書き込み時において、図４１のトランジスタ１００２のゲート電圧を制御する等の方法で、トランジスタ１００２のオン抵抗値を変化させ、抵抗変化素子１００３が低抵抗化するときの電流値を制御することによって、低抵抗化した後の抵抗変化素子１００３の抵抗値を制御できること、その原理を多値メモリに応用することが開示されている。【００１０】
特許文献２では、ペロブスカイト型結晶構造の材料を抵抗変化素子として用い、バリスタを双方向ダイオード素子として用いた、１Ｄ１Ｒ型クロスポイントのメモリセルで構成された不揮発性記憶装置が示されている。【００１１】
図４３は、その中で示されている不揮発性記憶装置１２００のメモリセルアレイの模式図である。メモリセル１２８０は、ダイオード素子１２７０と抵抗変化素子１２６０とを電気的に直列に接続して形成されている。１２１０はビット線、１２２０はワード線である。【００１２】
抵抗変化素子１２６０は、電圧印加によって抵抗値が変化する抵抗変化層１２３０を、上部電極１２４０と下部電極１２５０との間に挟持してなる。【００１３】
図４４は、ダイオード素子１２７０の電圧−電流特性である。図４４に示す通り、ダイオード素子は双方向性を有し、閾値電圧Ｖｔｈ以上の電圧で急激に電流が増加する非線形、かつ対称な電圧−電流特性を持つ。【００１４】
ここでは、抵抗変化層１２３０に用いる材料として、マンガン、チタン、ジルコニア、高温超伝導材料、ＬａまたはＰｒの希土類やＬａとＰｒの混晶とＣａやＳｒのアルカリ土類金属やＣａとＳｒの混晶とＭｎＯ３を組み合わせたマンガン酸化物、Ｐｒ１−ｘＣａｘＭｎＯ３（ｘ＝０．３、０．５）が開示され、上部電極１２４０および下部電極１２５０に用いる材料として、Ｐｔ、Ｉｒ、Ｐｈ、Ｐｄ各単体、及び合金、Ｉｒ、Ｒｕ等の酸化物導電体、ＳＲＯ、ＹＢＣＯが開示されている。ダイオード素子に用いる材料、デバイスとしては、酸化亜鉛と微量の酸化ビスマス等の金属酸化物を焼結したＺｎＯバリスタや、ＳｒＴｉＯ３バリスタが開示されている。【００１５】
そして、書き込み時において、選択ビット線にＶｐｐ、非選択ビット線に１／２Ｖｐｐ、選択ワード線に０Ｖ、非選択ワード線に１／２Ｖｐｐを印加し、消去時において、選択ワード線にＶｐｐ、非選択ワード線に１／２Ｖｐｐ、選択ビット線に０Ｖ、非選択ビット線に１／２Ｖｐｐを印加することが示されている。【００１６】
このように特許文献２では、１Ｄ１Ｒクロスポイント型メモリセルにおいて、ダイオードとして双方向に電流を流すことのできる非線形素子、例えばバリスタを用いることで、書き換え時に双方向に必要な電流を流すことができ、さらには非選択線に与える電位１／２Ｖｐｐが、非線形素子の閾値電圧Ｖｔｈより低くなるようにこの閾値電圧Ｖｔｈを最適化することで、非選択セルへの漏れ電流の問題が解消され、メモリセルアレイのアレイサイズを大きくでき、高集積化を図れることが示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１７】
【特許文献１】特開２００５−２３５３６０号公報（図１、図２）
【特許文献２】特開２００６−２０３０９８号公報（図２、図４）
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１８】
本願発明者らは、抵抗変化型不揮発性記憶装置の１つとして、酸素不足型の遷移金属酸化物を主たる抵抗変化層材料とする１Ｄ１Ｒ型クロスポイントメモリのメモリセルで構成された抵抗変化型不揮発性記憶装置を検討している。【００１９】
ここで、酸素不足型の酸化物とは、酸素が化学量論的組成から不足した酸化物をいう。遷移金属の１つであるタンタルの例で言えば、化学量論的な組成を有する酸化物としてＴａ２Ｏ５がある。このＴａ２Ｏ５では、酸素がタンタルの２．５倍含まれており、酸素含有率で表現すると、７１．４％である。この酸素含有率７１．４％よりも酸素含有率が低くなった状態の酸化物、すなわちＴａＯｘと表現したとき、０＜ｘ＜２．５を満足する非化学量論的な組成を有するＴａ酸化物を、酸素不足型のＴａ酸化物と呼ぶ。通常、多くの遷移金属酸化物において、化学量論的組成の酸化物は絶縁体であるが、酸素不足型の酸化物は半導体あるいは導体の特性を示す。【００２０】
課題を説明するための準備として、酸素不足型のＴａ酸化物を抵抗変化層とする抵抗変化素子について、測定で得られたいくつかの特性を説明する。【００２１】
図１は、測定に用いた抵抗変化素子の基本構造を示す模式図である。抵抗変化層３３０２に酸素不足型のＴａ酸化物を用い、これをＰｔで構成される下部電極３３０１と、同じくＰｔで構成される上部電極３３０３でサンドイッチしたような上下対称な構造とした。【００２２】
以下、この不揮発性素子を素子Ａと呼ぶ。なお、素子の名称と電極材料の関係は、実施の形態で説明する素子も含めて、表１に示した。【００２３】
【表１】
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【００２４】
図２は、この素子Ａの抵抗変化の様子の一例を示す電流−電圧のヒステリシス特性を示すグラフであり、下部電極３３０１を基準にしたときの上部電極３３０３の電圧を横軸に表し、素子Ａに流れる電流値を縦軸に表している。【００２５】
図２において、最初、抵抗変化素子が低抵抗状態の電圧０ＶのＯ点にあるとする。下部電極３３０１を基準に上部電極３３０３に正電圧を印加していくと、電流はほぼ電圧に比例して増加し、Ａ点で示す正電圧を超えると急激に電流は減少し、Ｄ点に至る。すなわち低抵抗状態から高抵抗状態へ変化（高抵抗化）している様子を示している。【００２６】
一方、高抵抗状態のＯ点において、下部電極３３０１を基準に上部電極３３０３に負電圧（上部電極３３０３を基準に下部電極３３０１に正電圧を印加することと等価）を印加していくと、Ｂ点で示す負電圧を超えると急激に電流は増加する。すなわち高抵抗状態から低抵抗状態へ変化（低抵抗化）している様子を示している。なお図２のＣ点で示す状態の最終的に到達する低抵抗値は、特許文献１で開示されている現象と同様に、低抵抗化時（図２のＣ点の状態にあるときに相当する時）に流す電流値に依存して決まる現象も確認されている。【００２７】
また、図２に示す抵抗変化特性において、Ｃ点で示す低抵抗化時の到達点と、Ａ点で示す高抵抗化の開始点は、概ね対称な関係になる特徴がある。すなわちＣ点に対応する低抵抗化点で、所定の値に制御された電流（Ｃ点において、約−１５ｍＡ）を印加することで所望の低抵抗値が得られ、一方高抵抗化するときは、Ａ点に相当する電圧において前記以上の電流能力で印加すれば、安定な抵抗変化動作を実現できることがわかる。【００２８】
ところで、本願発明者らは、検討を進める中で、１つの方向の抵抗変化（低抵抗化または高抵抗化）を安定的に生ぜしめる電圧印加方向（駆動極性）は必ずしも一様ではなく、上下電極にＰｔを用い、抵抗変化層に酸素不足型のＴａ酸化物を用いて同一材料で作製した抵抗変化素子の中でも、駆動極性が異なるものがあることを見出した。【００２９】
例えば、ある抵抗変化素子は、下部電極３３０１よりも上部電極３３０３が高い電圧を正として、上下の電極間に＋２．０Ｖ、１００ｎｓのパルス電圧を印加することで低抵抗化し、−２．６Ｖ、１００ｎｓのパルス電圧を印加することで高抵抗化することが確認された。【００３０】
また、他の抵抗変化素子は、下部電極３３０１よりも上部電極３３０３が高い電圧を正として、上下の電極間に−２．０Ｖ、１００ｎｓのパルス電圧を印加することで低抵抗化し、＋２．７Ｖ、１００ｎｓのパルス電圧を印加することで高抵抗化することが確認された。【００３１】
図３（ａ）、図３（ｂ）は、これらの抵抗変化素子について、低抵抗化を引き起こすパルス電圧と高抵抗化を引き起こすパルス電圧とを交互に印加し続けたときの、その都度の抵抗値を表したグラフである。横軸は加えた電気的なパルスの数を表し、縦軸は抵抗値を表している。【００３２】
図３（ａ）に示されるように、ある抵抗変化素子は、最初、約３３ｋΩの高抵抗状態にあり、＋２．０Ｖのパルス電圧の印加で約５００Ωの低抵抗状態に変化し、次に−２．６Ｖのパルス電圧の印加で約４０ｋΩの高抵抗状態に変化した後、下部電極３３０１に対し上部電極３３０３に正のパルス電圧の印加による低抵抗化と、下部電極３３０１に対し上部電極３３０３に負のパルス電圧の印加による高抵抗化とを繰り返す。【００３３】
この抵抗変化の方向と印加電圧の極性との関係を、便宜的にＡモードと呼ぶ。【００３４】
図３（ｂ）に示されるように、別の抵抗変化素子は、最初、約４２ｋΩの高抵抗状態にあり、−２．０Ｖのパルス電圧の印加で約６００Ωの低抵抗状態に変化し、次に＋２．７Ｖのパルス電圧の印加で約４０ｋΩの高抵抗状態に変化した後、下部電極３３０１に対し上部電極３３０３に負のパルス電圧の印加による低抵抗化と、下部電極３３０１に対し上部電極３３０３に正のパルス電圧の印加による高抵抗化とを繰り返す。【００３５】
この抵抗変化の方向と印加電圧の極性との関係を、便宜的にＢモードと呼ぶ。図２に示した電圧−電流ヒステリシス特性は、このＢモードに対応している。【００３６】
なお、上述のパルス電圧値は、パルス発生器の設定出力電圧値を指しており、抵抗変化素子の両端間に印加されている実効的な電圧値は、測定系を通じた電圧降下のためこれより小さな電圧値と考えられる。【００３７】
このような結果が得られた素子Ａにおいて、上部電極３３０３と下部電極３３０１はいずれもＰｔからなり、それらに挟まれた酸素不足型のＴａ酸化物で構成される抵抗変化層３３０２は、電極に対して電気的には上下対称な関係である。【００３８】
このため、抵抗変化特性としてＡモード及びＢモードのいずれが出現するかは必ずしも自明ではなく、経験則や実証的な測定結果に基づいていた。そしてこれらの現象は、抵抗変化のメカニズムにおいて解明されていない何らかの異方性要因により定まっていると予想される。【００３９】
ところでバイポーラ型の抵抗変化素子を用いた１Ｄ１Ｒ型クロスポイント型メモリの書込み動作は、トランジスタで構成された１Ｔ１Ｒ型メモリの場合と異なり、特許文献２でも示されているように、書き込みのため選択されるメモリセルと、それ以外の非選択メモリセルとの区別が、メモリセルの両端にかかる電圧の差異で行われる。【００４０】
また、抵抗変化素子に設定される低抵抗値は、低抵抗化時に流す電流量で決まることから、低抵抗化する方向、例えばワード線側を基準にしてビット線側に正の電圧を印加し、所望の低抵抗値設定に相当する電流量を流す駆動回路（以下、ＬＲ化駆動回路と称す）をビット線駆動回路として構成すればよい。また高抵抗化は、抵抗変化素子の電圧−電流特性で概ね対称な電圧、電流で変化することから、低抵抗化方向とは逆の向きに、例えばビット線側を基準にしてワード線側に正の電圧を印加でき、かつ少なくともＬＲ化時以上の電流量を流すことができる駆動回路（以下、ＨＲ化駆動回路と称す）をワード線駆動回路として構成すればよい。また非選択メモリセルは、これらの電圧を印加しても電流が流れないような閾値電圧Ｖｔｈを有する電流制御素子で構成することが考えられる。【００４１】
しかしながら、抵抗変化素子の変化方向であるＡモードまたはＢモードが必ずしも一律ではない場合、次の課題が考えられる。【００４２】
第１の課題は、Ａモード、Ｂモードの出現が想定とは逆になった場合、抵抗変化素子に所望の抵抗値を設定できないことである。【００４３】
Ａモード、Ｂモードの出現が想定とは逆になると、低抵抗化書き込みは本来の電流駆動能力より高いＨＲ化駆動回路で行うため、抵抗値は想定より、より低く設定されてしまう。また高抵抗化書き込みは、本来の駆動能力より低いＬＲ化駆動回路で行うことになる。このため、想定よりさらに低い抵抗値に設定された抵抗変化素子を高抵抗化する必要があるが、それに必要な電流量が不足し、安定した抵抗変化動作ができないという課題が生じる。【００４４】
このような場合には、高抵抗化に際してより高い電圧を印加して電流を供給することにより高抵抗化動作を行い、安定した抵抗変化動作を行うことも考えられる。しかし所望の抵抗値とは異なる抵抗値に書き込まれるため、読み出し性能を一律にできず、その結果安定した性能の製品を提供できない課題が生じる。また、高い電圧が必要となるため、低電圧化を阻害する課題や、後述の第２の課題にも繋がる。【００４５】
またＡモードとＢモードの両方が出現する可能性を想定して、ＬＲ化駆動回路とＨＲ化駆動回路の両方をワード線駆動回路とビット線駆動回路の両方に用意し、ＡモードとＢモードの出現状態に応じて切り替える方法が考えられるが、その状態に応じて設定を切り替える繁雑さや、チップ面積の増大に繋がるという課題が生じる。【００４６】
第２の課題は、メモリセル、特に電流制御素子の信頼性に関係する課題である。特許文献２では１Ｄ１Ｒ型クロスポイントメモリに用いられる電流制御素子として、ＺｎＯバリスタやＳｒＴｉＯ３バリスタといったダイオードを用いることで、所定の電流を駆動できることが開示されている。本発明者らは、半導体プロセスとより親和性のある材質の電流制御素子として、後述のＳｉＮ系の材料でダイオードを構成する研究を進めている。【００４７】
ダイオード素子は一般的に、印加電圧に対し、非線形な電流特性を有し、所定の閾値電圧Ｖｔｈ以上で急激に電流が増加する特性をもつ。この閾値電圧Ｖｔｈの設定を制御できること、および閾値電圧Ｖｔｈ以上の電圧でいかに多くの電流を流せるかということが、高集積化や低電圧化に重要である。反面、電流密度の増大は熱的要因によるダイオード性能の劣化に繋がるため、必要以上の電流は流さない構成にすることが信頼性の観点から重要である。【００４８】
ＡモードとＢモードが想定とは逆になった場合、第１の課題で説明した通り、高抵抗化に際してより高い電圧を印加してより多くの電流を供給することで、高抵抗化動作は可能であるが、ダイオード特性を劣化させる可能性を有する課題がある。【００４９】
本発明は、このような事情を鑑みてなされたものであり、抵抗変化素子を用いた１Ｄ１Ｒ型クロスポイントメモリの不揮発性記憶装置について、抵抗変化素子の抵抗変化特性のＡモード及びＢモードの出現を制御可能とし、駆動回路とメモリセルとの接続関係を特定することにより、抵抗変化素子に所望の抵抗値を設定でき、安定した抵抗変化ができる制御技術を提供するとともに、電流制御素子の信頼性を高める制御技術を提供することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【００５０】
上記の課題を解決するために、本発明の不揮発性記憶装置は、第１の電極と、第２の電極と、前記第１の電極と前記第２の電極の間に配置させた抵抗変化膜とで構成され、前記第１の電極と前記第２の電極間に予め定められた極性の電圧が印加されると第１範囲に属する抵抗値の低抵抗状態に変化しかつ前記極性とは逆の極性の電圧が印加されると前記第１範囲よりも高い第２範囲に属する抵抗値の高抵抗状態に変化する抵抗変化素子と、２端子の電流制御素子とを直列に接続してなる複数のメモリセルと、互いに交差する複数の第１信号線および複数の第２信号線と、前記複数のメモリセルを前記複数の第１信号線と前記複数の第２信号線との交差点に配置し、各交差点に配置されたメモリセルの両端を交差する１組の前記第１信号線と前記第２信号線とに接続してなるメモリセルアレイと、前記複数のメモリセルに前記複数の第１信号線および前記複数の第２信号線を介して印加される両極性の電圧を発生する書き込み回路と、前記書き込み回路から前記複数のメモリセルへ流れる電流の経路に挿入され、前記複数のメモリセルを低抵抗状態に変化させる方向の電流のみを制限する電流制限回路とを備え、前記各メモリセルにおいて、前記抵抗変化素子は、第１電極と、第２電極と、前記第１電極と前記第２電極との間に介在させ、前記第１電極と前記第２電極と接するように設けられた抵抗変化層からなり、前記抵抗変化層は、主たる抵抗変化材料として金属の酸化物を含み、前記第１電極と前記第２電極とは、異なる元素で構成される材料によって構成され、前記第１電極の標準電極電位Ｖ１と、前記第２電極の標準電極電位Ｖ２と、前記抵抗変化層を主として構成する金属の標準電極電位Ｖｔとが、Ｖｔ＜Ｖ２かつＶ１＜Ｖ２を満足する。【００５１】
このような構成によれば、前記複数の第１信号線および前記複数の第２信号線を、例えば、それぞれ複数のビット線および複数のワード線として想定し、ワード線を基準にしてビット線に正の電圧が印加されることで抵抗変化素子が前記低抵抗状態に変化し、ビット線を基準にしてワード線に正の電圧が印加されることで抵抗変化素子が前記高抵抗状態に変化するように、各メモリセルを構成することができる。【００５２】
このようにして、前記複数のメモリセルを低抵抗状態に変化させる電流の方向を固定した上で、固定された方向の電流を前記電流制限回路にて制限することで、低抵抗状態に変化させるときは、高抵抗状態に変化させるときよりも少ない電流を供給することによって、想定以上の電流がメモリセルに流れることを防止できる。【００５３】
その結果、抵抗変化素子にばらつきが少なく、所望の抵抗値を設定することが可能となり、また、電流制御素子の信頼性低下、破壊を防止することができる。
【発明の効果】
【００５４】
本発明の不揮発性記憶装置によると、各メモリセルにおいて、抵抗変化素子の第１電極を基準にして第２電極に正の電圧を印加することで高抵抗化し、抵抗変化素子の第２電極を基準にして第１電極に正の電圧を印加することで低抵抗化するように、抵抗変化素子を構成した上で、第１電極側に電流制限回路を介してＬＲ化駆動回路を接続し、第２電極側にＨＲ化駆動回路を接続して構成される。【００５５】
一般的に、抵抗変化素子を高抵抗化させる場合、低抵抗化させる場合と比べて、低い抵抗値の状態にある抵抗変化素子に抵抗変化を起こすだけの電圧を発生させるために、より多くの駆動電流が必要となる。【００５６】
そこで、高抵抗化させるときは、抵抗変化素子の第２電極側に接続したＨＲ化駆動回路から電流を供給し、一方、低抵抗化させるときは、電流制限回路を介して、抵抗変化素子の第１電極側に接続したＬＲ化駆動回路から電流を供給し、前記電流制限回路を制御することにより、高抵抗化するときよりも少ない電流を供給することによって、想定以上の電流がメモリセルに流れることを防止し、抵抗変化素子にばらつきが少なく、所望の抵抗値を設定することが可能となる。同様に想定以上の電流がメモリセルに流れることを防止できるため、電流制御素子の信頼性低下、破壊を防止することができる。【００５７】
また、抵抗変化現象は抵抗変化層と電極材料との間の相互作用であり、抵抗変化材料だけではなく、特定の電極材料との組合せが重要となる。例えば電極として、Ｐｔ（白金）やＩｒ（イリジウム）などの比較的高価な材料と組み合わせる場合、一方の電極だけに使用し、他方の電極はＷ（タングステン）などのできるだけ安価な材料で構成できることが望ましい。そのような場合において、電極と駆動回路との接続関係を、確実に決定することができる。
【図面の簡単な説明】
【００５８】
【図１】図１は、本発明の基礎データとしての不揮発性記憶素子の基本構造を示す模式図である。
【図２】図２は、本発明の基礎データとしての不揮発性記憶素子の抵抗変化における電流−電圧のヒステリシス特性の一例を示す図である。
【図３】図３（ａ）、（ｂ）は、本発明の基礎データとしての不揮発性記憶素子の抵抗値と電気パルス印加回数との関係の一例を示す図である。
【図４】図４は、本発明の基礎データとしての不揮発性記憶素子のＴａ酸化物層の組成の解析結果を示す図である。
【図５】図５は、本発明の基礎データとしての不揮発性記憶素子の構成を示す断面図である。
【図６】図６（ａ）、（ｂ）は、本発明の基礎データとしての不揮発性記憶素子の抵抗値と電気パルス印加回数との関係を示す図である。
【図７】図７（ａ）、（ｂ）は、本発明の基礎データとしての不揮発性記憶素子の抵抗値と電気パルス印加回数との関係を示す図である。
【図８】図８（ａ）、（ｂ）は、本発明の基礎データとしての不揮発性記憶素子の抵抗値と電気パルス印加回数との関係を示す図である。
【図９】図９（ａ）、（ｂ）は、本発明の基礎データとしての不揮発性記憶素子の抵抗値と電気パルス印加回数との関係を示す図である。
【図１０】図１０（ａ）、（ｂ）は、本発明の基礎データとしての不揮発性記憶素子の抵抗値と電気パルス印加回数との関係を示す図である。
【図１１】図１１（ａ）、（ｂ）は、本発明の基礎データとしての不揮発性記憶素子の抵抗値と電気パルス印加回数との関係を示す図である。
【図１２】図１２は、本発明の基礎データとしての不揮発性記憶素子の抵抗値と電気パルス印加回数との関係を示す図である。
【図１３】図１３（ａ）〜（ｈ）は、本発明の基礎データとしての不揮発性記憶素子の抵抗値と電気パルス印加回数との関係を示す図である。
【図１４】図１４は、本発明の基礎データとしての不揮発性記憶素子の電極材料種と標準電極電位の関係を示す図である。
【図１５】図１５（ａ）、（ｂ）は、本発明の基礎データとしての不揮発性記憶素子の動作を説明するための断面模式図である。
【図１６】図１６（ａ）、（ｂ）は、本発明の基礎データとしての不揮発性記憶素子の動作を説明するための断面模式図である。
【図１７】図１７は、本発明の基礎データとしての不揮発性記憶素子のＨｆ酸化物層の組成の解析結果を示す図である。
【図１８】図１８（ａ）、（ｂ）は、本発明の基礎データとしての不揮発性記憶素子の抵抗値と電気パルス印加回数との関係を示す図である。
【図１９】図１９（ａ）〜（ｇ）は、本発明の基礎データとしての不揮発性記憶素子の抵抗値と電気パルス印加回数との関係を示す図である。
【図２０】図２０は、本発明の基礎データとしての不揮発性記憶素子の電極材料種と標準電極電位の関係を示す図である。
【図２１】図２１は、本発明の第１の実施形態に係る抵抗変化型不揮発性記憶装置の構成図である。
【図２２】図２２は、本発明の第１の実施形態に係るメモリセルの構成を示す断面図である。
【図２３】図２３は、本発明の実施形態に係る書き込み回路の実施形態を示す回路図である。
【図２４】図２４は、本発明の実施形態に係るメモリセルの電流電圧特性を示す実測データを示す図である。
【図２５】図２５（ａ）、（ｂ）は、本発明の実施形態に係る書き込み用電流経路の等価回路図、及びその特性を表す図である。
【図２６】図２６は、本発明の第１の実施形態に係る抵抗変化型不揮発性記憶装置の別の構成図である。
【図２７】図２７は、本発明の第１の実施形態に係る抵抗変化型不揮発性記憶装置の別の構成図である。
【図２８】図２８（ａ）、（ｂ）は、本発明の実施形態に係る別の書き込み系電流経路の等価回路図、及びその特性を表す図である。
【図２９】図２９（ａ）、（ｂ）は、本発明の実施形態に係る別の構成の場合の書き込み系電流経路の等価回路図である。
【図３０】図３０は、本発明の第１の実施形態に係る抵抗変化型不揮発性記憶装置の別の構成図である。
【図３１】図３１（ａ）、（ｂ）は、本発明の第１の実施形態に係る抵抗変化型不揮発性記憶装置の動作タイミングの説明図である。
【図３２】図３２（ａ）〜（ｄ）は、本発明の第１の実施形態に係るメモリセルの展開例を示す断面図である。
【図３３】図３３は、本発明の第１の実施形態に係るメモリセルの別の構成を示す断面図である。
【図３４】図３４（ａ）〜（ｃ）は、本発明の第１の実施形態に係るメモリセルの展開例を示す断面図である。
【図３５】図３５は、本発明の第２の実施形態に係る抵抗変化型不揮発性記憶装置の構成図である。
【図３６】図３６は、本発明の第２の実施形態に係るメモリセルの構成を示す断面図である。
【図３７】図３７（ａ）、（ｂ）は、本発明の第２の実施形態に係る抵抗変化型不揮発性記憶装置の動作タイミングの説明図である。
【図３８】図３８（ａ）〜（ｄ）は、本発明の第２の実施形態に係るメモリセルの展開例を示す断面図である。
【図３９】図３９は、本発明の第２の実施形態に係るメモリセルの別の構成を示す断面図である。
【図４０】図４０（ａ）〜（ｃ）は、本発明の第２の実施形態に係るメモリセルの展開例を示す断面図である。
【図４１】図４１は、従来の抵抗変化型不揮発性記憶装置のメモリセルの回路図である。
【図４２】図４２は、従来の抵抗変化型不揮発性記憶装置の抵抗変化素子の電圧−電流特性図である。
【図４３】図４３は、従来の抵抗変化型不揮発性記憶装置のメモリセルの模式図である。
【図４４】図４４は、従来の抵抗変化型不揮発性記憶装置の非線形素子の電圧−電流特性図である。
【発明を実施するための形態】
【００５９】
以下、本発明の実施形態について、図面を参照しながら詳細に説明する。
【００６０】
本発明の実施の形態における抵抗変化型不揮発性記憶装置は、抵抗変化素子と電流制御素子とを直列に接続してなる１Ｄ１Ｒ型の複数のメモリセルを用いたクロスポイント型の不揮発性記憶装置であって、抵抗変化素子の抵抗変化特性のモードを固定するとともに、固定されるモードに応じて駆動回路の構成を最適化するものである。
【００６１】
［本発明の基礎データ］
準備として、本発明の抵抗変化型不揮発性記憶装置の抵抗変化素子に用いられる２種類の抵抗変化材料に関する基礎的なデータを説明する。
【００６２】
これらの抵抗変化素子は、異種の材料で構成される上下の電極で、それぞれ酸素不足型のタンタル酸化物で構成される抵抗変化層、及び酸素不足型のハフニウム酸化物で構成される抵抗変化層を挟んで構成される。
【００６３】
これらの抵抗変化素子は、可逆的に安定した書き換え特性を有する、抵抗変化現象を利用した不揮発性記憶素子を得ることを目的として本願発明者らにより発明されたものであり、それぞれ、関連特許出願である国際公開第２００９／０５０８３３号、及び国際公開第２００９／１３６４６７号で詳細に説明されている。
【００６４】
これらの抵抗変化素子が有している、抵抗変化特性を前述のＡモード及びＢモードのいずれか意図した一方に固定できるという特徴を、本発明の抵抗変化型不揮発性記憶装置に利用する。以下では説明のために、前記関連特許出願の内容の一部を引用する。
【００６５】
なお、本明細書において、「抵抗変化素子」と「抵抗変化型の不揮発性記憶素子（または、短く、不揮発性記憶素子）」とを同義で用いる。
【００６６】
［抵抗変化層に酸素不足型のタンタル（Ｔａ）酸化物を用いた抵抗変化素子］
まず、酸素不足型のＴａ酸化物を使ったバイポーラ動作する抵抗変化型の不揮発性記憶素子に関する第１の実験について説明する。
【００６７】
この実験では、酸素不足型のＴａ酸化物を使ったバイポーラ動作する抵抗変化型の不揮発性記憶素子を、上下のどちらかの電極近傍でのみ抵抗変化が起こりやすく構成することによって、可逆的に安定した書き換え特性が得られるかを検証した。
【００６８】
この検証のため、抵抗変化の起きやすさが電極の材料種によって変化すると想定して、異種材料の上下電極で酸素不足型のＴａ酸化物を挟んだ構造の抵抗変化素子を作製し、抵抗変化特性を測定した。
【００６９】
以下では、この実験の結果について説明する。
【００７０】
なお、この検証結果を説明する前に、酸素不足型のＴａ酸化物層の形成方法や、酸素含有率の好適な範囲を説明する。
【００７１】
その後、抵抗変化の起こりやすさが電極材料に依存するかどうかの確認を行うため、白金（Ｐｔ）、タングステン（Ｗ）、タンタル（Ｔａ）、窒化Ｔａ（ＴａＮ）で構成される電極でＴａＯｘ層を挟んだ構造を形成し、電気パルスによる抵抗変化現象の様子を調べた結果について述べる。
【００７２】
そして最後に、動作しやすい電極材料と動作しにくい電極材料で酸素不足型のＴａ酸化物を挟み込んだ構造の抵抗変化素子の抵抗変化の測定結果について述べる。
【００７３】
［スパッタリング時の酸素流量比とＴａ酸化物層の酸素含有率との関係］
まず、本実験における酸素不足型のＴａ酸化物層の作製条件及び酸素含有率の解析結果について述べる。
【００７４】
酸素不足型のＴａ酸化物層は、ＴａターゲットをアルゴンＡｒとＯ２ガス雰囲気中でスパッタリングする、いわゆる、反応性スパッタリングで作製した。本実験での具体的な酸素不足型のＴａ酸化物の作製方法は次の通りである。
【００７５】
まずスパッタリング装置内に基板を設置し、スパッタリング装置内を７×１０−４Ｐａ程度まで真空引きする。Ｔａをターゲットとして、パワーを２５０Ｗ、Ａｒガスと酸素ガスとをあわせた全ガス圧力を３．３Ｐａ、基板の設定温度を３０℃にし、スパッタリングを行った。ここでは、Ａｒガスに対するＯ２ガスの流量比を０．８％から６．７％まで変化させた。
【００７６】
まずは、組成を調べる事が目的であるため、基板としては、シリコン（Ｓｉ）上に酸化シリコン（ＳｉＯ２）を２００ｎｍ堆積したものを用い、Ｔａ酸化物層の膜厚は約１００ｎｍになるようにスパッタリング時間を調整した。
【００７７】
このようにして作製したＴａ酸化物層の組成をラザフォード後方散乱法（ＲＢＳ法）、及びオージェ電子分光法（ＡＥＳ法）によって解析した結果を図４に示す。
【００７８】
この図から、酸素流量比を０．８％から６．７％に変化させた場合、Ｔａ酸化物層中の酸素含有率は約３５ａｔ％（ＴａＯ０．６６）から約７０ａｔ％（ＴａＯ２．３）へと変化していることが分かる。
【００７９】
以上の結果より、Ｔａ酸化物層中の酸素含有率を酸素流量比によって制御可能である事と、Ｔａの化学量論的な酸化物であるＴａ２Ｏ５（ＴａＯ２．５）の酸素含有率７１．４ａｔ％よりも酸素が不足している、酸素不足型のＴａ酸化物が形成されている事が明らかとなった。
【００８０】
なお、本実験では、Ｔａ酸化物層の解析にラザフォード後方散乱法（ＲＢＳ）及びオージェ電子分光法（ＡＥＳ）を利用したが、蛍光Ｘ線分析法（ＸＰＳ）や電子線マイクロアナリシス法（ＥＰＭＡ）等の機器分析手法も利用可能である。
【００８１】
［酸素不足型のＴａ酸化物層の組成と抵抗変化特性］
以上のように作製した酸素不足型のＴａ酸化物のうち、どの程度の酸素含有率を有する酸素不足型のＴａ酸化物が抵抗変化を示すのかを調べた。ここで酸素不足型のＴａ酸化物層を挟む電極の材料として用いたのは、上下の電極ともに白金（Ｐｔ）である。
【００８２】
上下にＰｔを用いた場合は、上述のように、バイポーラ型の抵抗変化型の不揮発性素子としては不適当である。しかしながら、Ｐｔは後述するように、抵抗変化を非常に示しやすい電極材料であり、ある酸素含有率を有する酸素不足型のＴａ酸化物が抵抗変化を示すか否かの判定を行うには最も好適な材料である。
【００８３】
以上のような理由から、図５のような不揮発性記憶素子５００を形成した。
【００８４】
すなわち、単結晶シリコン基板５０１上に、厚さ２００ｎｍの酸化物層５０２を熱酸化法により形成し、下部電極５０３としての厚さ１００ｎｍのＰｔ薄膜を、スパッタリング法により酸化物層５０２上に形成した。
【００８５】
その後、Ｔａをターゲットとして、反応性スパッタリングによって酸素不足型のＴａ酸化物層５０４を形成した。本実験で検討した範囲では、上記の分析試料と同様に、酸素ガスの流量比を、０．８％から６．７％まで変化させて不揮発性記憶素子を作製した。酸素不足型のＴａ酸化物層５０４の膜厚は３０ｎｍとした。
【００８６】
その後、酸素不足型のＴａ酸化物層５０４の上に、上部電極５０５としての厚さ１５０ｎｍのＰｔ薄膜をスパッタ法により堆積した。
【００８７】
最後にフォトリソグラフィー工程とドライエッチング工程によって、素子領域５０６を形成した。なお、素子領域５０６は、直径が３μｍの円形パターンである。
【００８８】
以上のように作製した不揮発性記憶素子の抵抗変化現象を測定した。その結果、図４のα点（酸素流量比約１．７％、酸素含有率約４５ａｔ％）からβ点（酸素流量比約５％、酸素含有率約６５ａｔ％）のＴａ酸化膜を使った不揮発性記憶素子では、高抵抗値が低抵抗値の５倍以上と良好であった。
【００８９】
図６（ａ）、図６（ｂ）は、それぞれ、α点及びβ点の酸素含有率を有するＴａ酸化物層を使った不揮発性記憶素子についてのパルス印加回数に対する抵抗変化特性を測定した結果である。
【００９０】
図６（ａ）、図６（ｂ）によれば、α点及びβ点の酸素含有率を有するＴａ酸化物層を使った素子では、共に、高抵抗値が低抵抗値の５倍以上と良好であることが判る。
【００９１】
従って、酸素含有率が４５〜６５ａｔ％の組成範囲、即ち抵抗変化層をＴａＯｘと表記した場合におけるｘの範囲が０．８≦ｘ≦１．９の範囲がより適切な抵抗変化層の範囲であると言える（酸素含有率＝４５ａｔ％がｘ＝０．８に、酸素含有率＝６５ａｔ％がｘ＝１．９にそれぞれ対応）。なおこの最適条件については、国際公開第２００８／０５９７０１号にて詳しく説明されている。
【００９２】
［Ｗ、Ｔａ、ＴａＮを上下の電極材料に用いた抵抗変化素子の抵抗変化特性］
次に、抵抗変化の起こりやすさが、電極材料に依存するかどうかの確認を行うため、Ｐｔ以外の材料として、Ｗ、Ｔａ、ＴａＮから成る下部電極５０３と上部電極５０５で酸素不足型のＴａ酸化物層５０４を挟んだ構造を作製し、電気パルスによる抵抗変化の様子を調べた結果について説明する。
【００９３】
なお、ここでも抵抗変化の起こりやすさだけを評価する目的で実験を行ったので、上下の電極材料は同一とした。また、使用した酸素不足型のＴａ酸化物の酸素含有率は、好適な酸素含有率の範囲のほぼ中間の５８ａｔ％（ＴａＯ１．３８）とした。素子の形成方法は上記とほぼ同じであり、Ｐｔ、Ｗ、Ｔａ、ＴａＮのいずれもスパッタリング法によって堆積した。
【００９４】
まず、比較のため、下部電極５０３と上部電極５０５のいずれもＰｔで構成される薄膜により形成した不揮発性記憶素子（以下、素子Ｂと表す）の抵抗変化特性について述べる。
【００９５】
図７（ａ）、図７（ｂ）は、このようにして作製した素子Ｂの電気パルスによる抵抗変化の測定結果である。
【００９６】
図７（ａ）は、下部電極５０３と上部電極５０５の間には、パルス幅が１００ｎｓｅｃで、下部電極５０３を基準として上部電極５０５に＋３．０Ｖと−１．５Ｖの電圧を有する電気的パルスを交互に印加した時の抵抗の測定結果である。
【００９７】
この場合、＋３．０Ｖの電圧の電気パルスを印加する事で抵抗値は８００〜１０００Ω程度となり、−１．５Ｖの電圧の電気パルスを印加した場合は、１５０Ω程度と変化していた。すなわち、上部電極５０５に下部電極５０３よりも高い電圧の電気パルスを加えた時に高抵抗化する変化するＢモードの特性を示した。
【００９８】
また、詳細は省略するが、追加的な実験から、このときの抵抗変化は上部電極５０５の近傍で生じていることを推認する結果が得られた。
【００９９】
次に、印加する電圧のバランスを変化させ、負の電圧を大きくした場合の結果が図７（ｂ）である。この場合、下部電極５０３に対して上部電極５０５に−３．０Ｖと＋１．５Ｖの電圧の電気的パルスを印加した。すると、−３．０Ｖの電気パルスを印加した時に、高抵抗化し、抵抗値は６００〜８００Ω程度となり、＋１．５Ｖの電気パルスを印加した時に低抵抗化して、抵抗値は１５０Ω程度となっている。すなわち、上部電極５０５に下部電極５０３よりも高い電圧の電気パルスを加えた時に低抵抗化しており、図７（ａ）を測定した時と、正反対のＡモードの特性を示した。
【０１００】
また、詳細は省略するが、追加的な実験から、このときの抵抗変化は下部電極５０３の近傍で生じていることを推認する結果が得られた。
【０１０１】
次に、下部電極５０３と上部電極５０５のいずれもＷで構成される薄膜により形成した不揮発性記憶素子（以下、素子Ｃと表す）の抵抗変化特性について述べる。
【０１０２】
図８（ａ）、図８（ｂ）は、このようにして作製した素子Ｃの電気パルスによる抵抗変化の測定結果である。
【０１０３】
図８（ａ）は、上部電極５０５の近傍での抵抗変化に起因するＢモードを発生させることを目的に、下部電極５０３を基準にして上部電極５０５に＋７Ｖと、−５Ｖを交互に印加した時の抵抗値の変化を示す。
【０１０４】
図８（ａ）から分かるように、パルス数が３０回程度まででは、弱いながらも、Ｂモードでの抵抗変化が観測されており、＋７Ｖの電気パルスを印加した時に高抵抗化し、−５Ｖの電気パルスを印加した時に低抵抗化している。しかしながら、パルス数が３０回を超えると、抵抗変化がほとんど観測されなくなっている。
【０１０５】
逆に下部電極５０３の近傍での抵抗変化に起因するＡモードを発生させることを目的に、上部電極５０５に＋５Ｖと、−７Ｖを交互に印加した時の抵抗値の変化を図８（ｂ）に示す。
【０１０６】
図８（ｂ）から分かるように、この場合はほとんど抵抗値の変化は観測されておらず、抵抗値は３０Ω程度で一定の値になっている。
【０１０７】
ここで図７（ａ）の上下の電極をＰｔで形成した素子Ｂの結果と図８（ａ）の結果を比較すると、Ｗを電極に使用した時、明らかに抵抗変化が起こりにくくなっているのが分かる。
【０１０８】
素子Ｂの測定結果である図７（ａ）では、低抵抗状態の抵抗値は１５０Ω、高抵抗状態の抵抗値は約１０００Ωと、比率にして７倍程度の変化をしているのに対し、Ｗを電極材料に使用した素子Ｃの測定結果である図８（ａ）では、大きく抵抗変化している範囲でも、高々、５０Ωと１００Ωの間で抵抗変化が起こっているだけであり、比率としては、２倍程度の変化をしているだけである。
【０１０９】
印加している電圧も、図７（ａ）の測定時は、＋３．０Ｖと−１．５Ｖであるのに対し、図８（ａ）では、＋７Ｖと−５Ｖと非常に高い電圧を印加しているにも関わらず、ほとんど抵抗変化が見られていない。
【０１１０】
以上のように、Ｗを電極に使用した場合、電極にＰｔを使用した場合に比べて、明らかに抵抗変化が起こりにくい事がわかる。
【０１１１】
以上の結果は、酸素不足型のＴａ酸化物を抵抗変化層に用いた抵抗変化素子の動作は、使用する電極の材料に非常に強く依存する事を意味している。すなわち、少なくとも、Ｐｔを電極に用いた場合は抵抗変化が起こりやすく、Ｗを電極に用いた場合、抵抗変化は起こりにくいのは明らかである。
【０１１２】
また、詳しくは説明しないが、ＴａやＴａＮを上下の電極に用いた抵抗変化素子も作製し、抵抗変化特性の測定を行った。
【０１１３】
図９（ａ）、図９（ｂ）は下部電極５０３と上部電極５０５のいずれにも、Ｔａを用いた素子Ｄの抵抗変化特性である。
【０１１４】
図９（ａ）は、上部電極５０５に＋７Ｖと−５Ｖの電気パルスを加えた場合で、図９（ｂ）は上部電極５０５に＋５Ｖと−７Ｖの電気パルスを加えた場合の測定結果である。いずれの場合も、ほとんど抵抗変化は起こっていない。
【０１１５】
また、図１０（ａ）は下部電極５０３と上部電極５０５のいずれにも、ＴａＮを用いた素子Ｅの抵抗変化特性である。図１０（ａ）は、上部電極５０５に＋７Ｖと−５Ｖの電気パルスを加えた場合で、図１０（ｂ）は上部電極５０５に＋５Ｖと−７Ｖの電気パルスを加えた場合の測定結果である。この場合も、ほとんど変化していないと言ってよい程度の抵抗変化しか起こっていない。
【０１１６】
以上のように、Ｗ以外にも抵抗変化が起こりにくい材料は存在する。
【０１１７】
［ＷとＰｔを電極に用いた抵抗変化素子の抵抗変化特性］
次に抵抗変化を起こしやすい材料であるＰｔと、抵抗変化を起こしにくい材料でかつ、プロセス安定性の高い材料であるＷで酸素不足型のＴａ酸化物を挟み込んだ形の抵抗変化素子である素子Ｆの抵抗変化特性について述べる。
【０１１８】
用意した素子は、下部電極５０３としてＷ薄膜を用い、上部電極５０５としてＰｔ薄膜を用いて作製した。Ｗ薄膜とＰｔ薄膜は、それぞれ、ＷターゲットとＰｔターゲットをＡｒガス中でスパッタリングする事で堆積した。
【０１１９】
以上のようにして作製した素子Ｆの電気パルスによる抵抗変化の様子を図１１（ａ）、図１１（ｂ）に示す。
【０１２０】
図１１（ａ）は、上部電極５０５の近傍での抵抗変化を起こさせる（Ｂモード）事を目的に、下部電極５０３を基準にして上部電極５０５に＋２．５Ｖと、−１．５Ｖを交互に印加した時の抵抗値の変化である。この場合、抵抗値は、＋２．５Ｖの電気パルスを印加した時には約６００Ωとなり、−１．５Ｖの電気パルスを印加した時に６０Ωとなって安定して変化している。
【０１２１】
一方で、下部電極５０３の近傍での抵抗変化を起こさせる（Ａモード）事を目的に、下部電極５０３を基準にして上部電極５０５に＋１．５Ｖと、−２．５Ｖを交互に印加した時の抵抗値の変化を図１１（ｂ）に示す。この場合は、抵抗変化は、６０Ωと１００Ωの間で抵抗変化が起こっているだけであり、Ｂモードの抵抗変化を起こさせるための電圧印加と比較して、無視できる程度の抵抗変化しか起こっていない。
【０１２２】
以上の図１１（ａ）、図１１（ｂ）の結果から、素子Ｆは、片側の電極近傍だけで抵抗変化を起こすバイポーラ動作する抵抗変化型の不揮発性記憶素子の理想的な動作を示している。
【０１２３】
また、ＡモードとＢモードの混ざりあいのような現象もみられなかった。
【０１２４】
例えば、図１２は、図１１（ａ）、図１１（ｂ）の測定結果を得た素子Ｆとは別の素子（同一基板上の異なる素子）に１０００回程度電気パルスを加えた結果を示しているが、抵抗変化現象が非常に安定して発生しているのが見て取れる。
【０１２５】
以上の事から、抵抗変化現象を起こしやすい電極と、抵抗変化現象を起こしにくい電極で抵抗変化膜を挟んだ構造を形成する事で、意図した片側の電極側で抵抗変化させることができるため安定動作し、望ましいバイポーラ動作を示す抵抗変化型の不揮発性記憶素子が作製可能である事が分かった。
【０１２６】
また、印加電圧と抵抗値の関係は、抵抗変化を起こしやすい電極に正の電圧の電気パルスを印加した時に、抵抗値が高くなり、負の電圧の電気パルスを印加した時に抵抗値が低くなるような動作を示す。
【０１２７】
［上下の電極材料種に応じた抵抗変化素子の抵抗変化特性］
次に、電極材料が相異なるいくつかの素子について抵抗変化の起こりやすさを評価した第２の実験の結果を示す。
【０１２８】
本実験の結果として、下部電極５０３をＷに固定し、上部電極５０５をＰｔ以外の相異なる材料で構成した複数の素子の抵抗変化の様子について述べる。ここで下部電極５０３をＷに固定したのは、Ｗが比較的安定した材料であり、加工も比較的容易である事による。
【０１２９】
なお、素子の作製方法は、第１の実験で説明した方法と同様であり、下部電極５０３、上部電極５０５は全てスパッタリング法によって形成した。また、抵抗変化材料である酸素不足型のＴａ酸化物もＴａ金属をＯ２とＡｒ中でスパッタリングして作製した。
【０１３０】
電極の違いに応じた抵抗変化の特性を調べるため、酸素不足型のＴａ酸化物の組成は全て同じに設定した。すなわち、酸素含有率を約５８ａｔ％の酸素不足型のＴａ酸化物（ＴａＯｘと表現した時、ｘは１．３８）に固定した。
【０１３１】
また、本実験では、下部電極５０３を動作しにくいＷとしたので、抵抗値の変化がほとんど生じないＡモード（上部電極に対し、下部電極に高い電圧を加えた時に高抵抗化するモード）の結果は省略し、Ｂモード（下部電極に対し、上部電極に高い電圧を加えた時に高抵抗化するモード）の結果のみを示す。Ｂモードで抵抗変化させた時の電気パルスの電圧は、素子によって若干の違いはあるが、下部電極を電圧の基準として、高抵抗化させる時の電圧は＋１．８〜＋２．０Ｖとし、低抵抗化させる時の電圧は−１．３〜−１．６Ｖとした。
【０１３２】
図１３（ａ）〜図１３（ｈ）に測定結果をまとめる。
【０１３３】
まず、図１３（ａ）の上部電極にイリジウム（Ｉｒ）を用いた素子Ｇ、図１３（ｂ）の上部電極に銀（Ａｇ）を用いた素子Ｈ、図１３（ｃ）の上部電極に銅（Ｃｕ）を用いた素子Ｉの結果を見ると、比較的安定して、大きな幅で抵抗変化が生じているのが分かる。次に、図１３（ｄ）の上部電極にニッケル（Ｎｉ）を用いた素子Ｊ、図１３（ｈ）の上部電極に窒化タンタル（ＴａＮ）を用いた素子Ｎでは、若干の抵抗変化が見られたがその変化幅が小さい。
【０１３４】
次に、図１３（ｅ）の上部電極にタンタル（Ｔａ）を用いた素子Ｋ、図１３（ｆ）の上部電極にチタン（Ｔｉ）を用いた素子Ｌ、図１３（ｇ）が上部電極にアルミニウム（Ａｌ）を用いた素子Ｍでは、全く抵抗変化現象は観測されなかった。これらの材料は、本質的に抵抗変化が生じにくい性質を持っていると考えられる。
【０１３５】
以上の結果から分かる事は、酸素不足型のＴａ酸化物を用いた不揮発性記憶素子では、抵抗変化現象が生じやすい（動作しやすい）電極材料と、生じにくい（動作しにくい）電極材料とが存在すると言う事である。本実験の範囲で言えば、動作しやすい電極はＰｔ、Ｉｒ、Ａｇ、Ｃｕであり、動作しにくい電極材料はＷ、Ｎｉ、Ｔａ、Ｔｉ、Ａｌ、ＴａＮである。
【０１３６】
これらの材料の組み合わせで酸素不足型のＴａ酸化物を挟んだ構造の抵抗変化素子を形成すれば、抵抗変化モードの混ざり合いのない安定した抵抗変化が得られる。但し、図７（ａ）、図１１（ｂ）、図１３（ｄ）、図１３（ｈ）を参照すると、Ｗ、Ｎｉ、ＴａＮ電極では、微弱ながらも抵抗変化は観測されている。それ故にこれらの材料を一つの電極に用い、例えば、本実験で全く抵抗変化が観測されなかった電極材料であるＴａ、Ｔｉ、Ａｌをもう一つの電極に用いた場合、微弱ながらも安定した抵抗変化が期待できる。
【０１３７】
次に、抵抗変化自体の起こるメカニズムと、抵抗変化の起こりやすさの材料依存性について若干の考察を行う。
【０１３８】
図１４は、第１の実験と第２の実験の結果をまとめたものである。横軸は電極材料、縦軸には標準電極電位をプロットしてある。図１４の○は抵抗変化が起こりやすかった事を意味し、△は変化の割合が小さいものの抵抗変化が起こった事を意味し、×は抵抗変化が起こらなかった事を意味する。なお、ＴｉＮは第１の実験および第２の実験では用いなかった電極材料であり、参考のために・で示している。
【０１３９】
図１４において、ＴａＮ、ＴｉＮ以外の電極材料の標準電極電位は、非特許文献１：「ＣＲＣ  ＨＡＮＤＢＯＯＫ  ｏｆ  ＣＨＥＭＩＳＴＲＹ  ａｎｄ  ＰＨＹＳＩＣＳ，  ＤＡＶＩＤ  Ｒ．ＬＩＤＥ  Ｅｄｉｔｏｒ−ｉｎ−ｃｈｉｆ，  ８４ｔｈ  Ｅｄｉｔｉｏｎ  ２００３−２００４，  ＣＲＣ  ＰＲＥＳＳ」に開示された文献値であり、ＴａＮ、ＴｉＮの標準電極電位は、発明者らが測定したデータである。
【０１４０】
発明者らは、ＴａＮ、ＴｉＮを含むいくつかの電極材料の標準電極電位を、Ｓｏｌａｒｔｒｏｎ社製の電気化学測定システムＳＩ１２８０Ｂを用いて構成した３電極系のポテンショスタットにより測定した。測定条件として、作用極に測定対象となる電極材料、対極にＰｔ電極、参照極にＡｇ／ＡｇＣｌ電極を用い、電解液には１ｗｔ％ＫＣｌ７ｍｌをＮ２バブリング下で用いた。
【０１４１】
このような条件下で作用極と対極との間の電位平衡点を探索することによって、電極材料のＡｇ／ＡｇＣｌ電極に対する電位平衡点における電位を測定した後、測定された電位に＋０．１９６Ｖを加えた値を、電極材料の標準水素電極に対する電位（すなわち標準電極電位）とした。
【０１４２】
図１４を見ると、抵抗変化膜の構成元素であるＴａよりも標準電極電位が高い材料では抵抗変化が起こっており、低い材料では抵抗変化が起こりにくくなっている事が分かる。そして、標準電極電位の差が大きいほど抵抗変化が起こりやすく、差が小さくなるにつれて、抵抗変化が起こりにくくなっているのが分かる。
【０１４３】
一般に標準電極電位は、酸化のされ易さの一つの指標であり、この値が大きければ酸化されにくく、小さければ酸化されやすい事を意味する。この事から酸化のされやすさが抵抗変化現象のメカニズムに大きな役割を果たしているのではないかと推測される。
【０１４４】
以上の結果をもとに、抵抗変化のメカニズムを考える。まず。抵抗変化が起こり易い材料（標準電極電位が大きく酸化されにくい材料）によって上部電極が構成されている場合について、図１５（ａ）、図１５（ｂ）を使って説明する。
【０１４５】
図１５（ａ）のように、下部電極１４０１と、酸素不足型のＴａ酸化物層１４０２と、Ｔａよりも酸化されにくい材料によって構成されている上部電極１４０３で構成される抵抗変化素子に、下部電極１４０１に対して高い電圧を上部電極１４０３に印加した場合、酸素不足型のＴａ酸化物中の酸素原子がイオンとなって、電界によって移動し、上部電極１４０３の界面近傍に集まる。
【０１４６】
しかし、上部電極１４０３を構成する金属はＴａに比べて酸化されにくいので、酸素イオン１４０４は酸素不足型のＴａ酸化物層１４０２と上部電極１４０３の界面に滞留した状態になり、界面付近でＴａと結合し、酸素濃度の高い酸素不足型のＴａ酸化物を形成する。この事によって素子は高抵抗化する。
【０１４７】
次に、図１５（ｂ）のように、下部電極１４０１に高い電圧を印加した場合、酸素原子は再び酸素イオンとなって、酸素不足型のＴａ酸化物層１４０２の内部に戻ってゆく。これにより、低抵抗化が起っていると考えられる。
【０１４８】
次に、Ｔａよりも酸化されやすい材料によって上部電極が構成されている場合について説明した図が図１６（ａ）、図１６（ｂ）である。
【０１４９】
図１６（ａ）のように下部電極１５０１と、酸素不足型のＴａ酸化物層１５０２と、Ｔａよりも酸化され易い材料によって構成されている上部電極１５０３で構成される抵抗変化素子に、下部電極１５０１に対して高い電圧を上部電極１５０３に印加した場合、酸素不足型のＴａ酸化物中の酸素原子がイオンとなって電界によって移動し、上部電極１５０３の界面近傍に集まる。
【０１５０】
この場合、上部電極１５０３はＴａよりも酸化されやすいので、酸素イオン１５０４は上部電極１５０３の内部に吸いとられて、上部電極１５０３を形成している材料と結合を起こす。この場合、図１５（ａ）とは異なり、酸素不足型のＴａ酸化物層１５０２と上部電極１５０３の界面に高抵抗層が形成されず、さらに上部電極１５０３を構成する元素の数に対して酸素イオンの数は少ないために、抵抗値はほとんど上昇しない。
【０１５１】
逆に、図１６（ｂ）のように、下部電極１５０１に高い電圧を印加した場合、上部電極１５０３に吸い取られた酸素は、上部電極材との結合がより安定であるため、酸素不足型のＴａ酸化物層１５０２の中には戻りにくく、抵抗値は大きくは変化しないと考えられる。
【０１５２】
もし、図１５（ａ）、図１５（ｂ）及び図１６（ａ）、図１６（ｂ）において、上部電極を構成する材料の酸化のされやすさがＴａと同程度の場合、上記の２つの例の中間的な変化が生じ、微弱な抵抗変化が生じると考えられる。
【０１５３】
以上の結果から分かるように、酸素不足型のＴａ酸化物を抵抗変化膜に使用した不揮発性記憶素子では、上部電極と下部電極とで異なる標準電極電位を有する材料を用いればよい。
【０１５４】
これにより、片側の電極近傍で優勢に抵抗変化が起こって、理想的なバイポーラ型の抵抗変化を実現できる。さらに、抵抗変化モードの混ざり合いも起こらず、安定した抵抗変化動作が可能となる。
【０１５５】
より好適には、一方の電極材料には、Ｔａの標準電極電位よりも大きく、かつ差の大きな材料を用い、もう一方の電極材料には、Ｔａの標準電極電位よりも大きく差の小さな材料を用いればよい。
【０１５６】
さらにより好適には、一方の電極材料には、Ｔａの標準電極電位よりも大きな材料を用い、もう一方の電極材料には、Ｔａの標準電極電位よりも小さな材料を用いればよい。
【０１５７】
なお、第２の実験の結果としては記述していないが、下部電極および上部電極に、それぞれＴａＮおよびＰｔを用いた抵抗変化素子について、安定した抵抗変化現象が起こったことを示す良好な実験結果が得られている。
【０１５８】
ＴａＮの標準電極電位は、発明者らの測定によれば＋０．４８ｅＶであり、ＰｔおよびＴａの標準電極電位は、非特許文献１によればそれぞれ＋１．１８ｅＶ、−０．６ｅＶである。
【０１５９】
この例は、上部電極には、Ｔａの標準電極電位よりも大きく、かつ差の大きな材料であるＰｔを用い、下部電極には、Ｔａの標準電極電位よりも大きく差の小さな材料であるＴａＮを用いた一例である。
【０１６０】
すなわち、この例では、上述の標準電極電位に関する条件を満たすＴａＮおよびＰｔを電極材料として用いたことで、第２の実験の結果として述べた作用効果が得られたと考えられる。
【０１６１】
また他の例として、下部電極および上部電極にそれぞれＴｉＮおよびＰｔを用いてもよい。ＴｉＮの標準電極電位は、発明者らによる前述の測定によれば＋０．５５ｅＶである。したがって、ＴｉＮとＰｔとの組み合わせは、抵抗変化層にタンタル酸化物を用いた場合の標準電極電位に関する条件を満たすので、ＴｉＮおよびＰｔを電極材料として用いることで、第２の実験の結果として述べた作用効果が期待できる。
【０１６２】
さらに他の例として、Ａｕ（金）またはＰｄを電極材料として用いてもよい。非特許文献１によればＡｕ、Ｐｄの標準電極電位はそれぞれ＋１．６９２ｅＶ、＋０．９５１ｅＶであり、Ｔａの標準電極電位−０．６ｅＶよりも高い。したがって、抵抗変化層としてタンタル酸化物を用いた場合に、抵抗変化しやすい電極材料としてＡｕおよびＰｄの一方を用い、かつ抵抗変化しにくい電極材料としてＡｕおよびＰｄの前記一方よりも標準電極電位が低い材料（例えば、標準電極電位が＋０．１ｅＶであるＷ）を用いることで、第２の実験の結果として述べた作用効果が期待できる。
【０１６３】
なお、本実験の結果としては記述していないが、金（Ａｕ）の標準電極電位は＋１．６９２ｅＶであるので、Ｔａの標準電極電位−０．６ｅＶよりも高い。したがって、抵抗変化膜としてＴａを用いた場合に、抵抗変化しやすい電極材料としてＡｕを用いても、本実験の結果として述べた作用効果が期待できる。
【０１６４】
また、上記のメカニズムからも明らかなように、抵抗変化を起こしやすい電極に正の電圧の電気パルスを印加した時に、抵抗値が高くなり、負の電圧の電気パルスを印加した時に抵抗値が低くなるような動作を示す。
【０１６５】
［抵抗変化層に酸素不足型のハフニウム（Ｈｆ）酸化物を用いた抵抗変化素子］
次に、他の同様な例として、酸素不足型のＨｆ酸化物を抵抗変化膜として用いたバイポーラ動作する不揮発性記憶素子に関する第３の実験について説明する。
【０１６６】
第１の実験の説明と同様に、まず、酸素不足型のＨｆ酸化物層の形成方法や、酸素含有率の好適な範囲を説明する。
【０１６７】
その後、抵抗変化の起こりやすさが電極材料に依存するかどうかの確認を行うため、Ａｌ、Ｔｉ、Ｔａ、Ｗ、Ｃｕ、Ｐｔで構成される電極でＨｆＯｘ層を挟んだ構造を形成し、電気パルスによる抵抗変化現象の様子を調べた結果について述べる。そして最後に、動作しやすい電極材料と動作しにくい電極材料で酸素不足型のＨｆ酸化物を挟み込んだ構造の抵抗変化素子の抵抗変化の測定結果について述べる。
【０１６８】
［スパッタリング時の酸素流量比とＨｆ酸化物層の酸素含有率との関係］
まず、本実験における酸素不足型のＨｆ酸化物層の作製条件及び酸素含有率の解析結果について述べる。
【０１６９】
酸素不足型のＨｆ酸化物層は、Ｈｆターゲットを（アルゴン）ＡｒとＯ２ガス雰囲気中でスパッタリングする、いわゆる、反応性スパッタリングで作製した。本実験での具体的な酸素不足型のＨｆ酸化物の作製方法は次の通りである。
【０１７０】
まずスパッタリング装置内に基板を設置し、スパッタリング装置内を３×１０−５Ｐａ程度まで真空引きする。Ｈｆをターゲットとして、パワーを３００Ｗ、アルゴンガスと酸素ガスとをあわせた全ガス圧力を０．９Ｐａ、基板の設定温度を３０℃にし、スパッタリングを行った。ここでは、Ａｒガスに対するＯ２ガスの流量比を２％から４．２％まで変化させた。
【０１７１】
まずは、組成を調べる事が目的であるため、基板としては、Ｓｉ上にＳｉＯ２を２００ｎｍ堆積したものを用い、Ｈｆ酸化物層の膜厚は約５０ｎｍになるようにスパッタリング時間を調整した。
【０１７２】
このようにして作製したＨｆ酸化物層の組成をラザフォード後方散乱法（ＲＢＳ法）によって解析した結果を図１７に示す。
【０１７３】
この図から、酸素流量比を２％から４．２％に変化させた場合、Ｈｆ酸化物層中の酸素含有率は約３７．７ａｔ％（ＨｆＯ０．６）から約６９．４ａｔ％（ＨｆＯ２．３）へと変化していることが分かる。
【０１７４】
以上の結果より、Ｈｆ酸化物層中の酸素含有率を酸素流量比によって制御可能である事と、Ｈｆの化学量論的な酸化物であるＨｆＯ２の酸素含有率６６．７ａｔ％よりも酸素が不足している、酸素不足型のＨｆ酸化物から酸素が過剰に含有されていると思われるＨｆ酸化物までが形成されている事が明らかとなった。
【０１７５】
なお、本実験では、Ｈｆ酸化物層の解析にラザフォード後方散乱法（ＲＢＳ）を利用したが、オージェ電子分光法（ＡＥＳ）、蛍光Ｘ線分析法（ＸＰＳ）、電子線マイクロアナリシス法（ＥＰＭＡ）等の機器分析手法も利用可能である。
【０１７６】
［酸素不足型のＨｆ酸化物層の抵抗変化特性］
以上のように作製した酸素不足型のＨｆ酸化物のうち、どの程度の酸素含有率を有する酸素不足型のＨｆ酸化物が抵抗変化を示すのかを調べた。ここで酸素不足型のＨｆ酸化物層を挟む電極の材料として用いたのは、上下の電極ともにＰｔである。
【０１７７】
上下にＰｔを用いた場合は、上述のように、バイポーラ型の抵抗変化型の不揮発性素子としては不適当である。しかしながら、Ｐｔは後述するように、抵抗変化を非常に示しやすい電極材料であり、ある酸素含有率を有する酸素不足型のＨｆ酸化物が抵抗変化を示すか否かの判定を行うには最も好適な材料である。
【０１７８】
以上のような理由から、図５のような不揮発性記憶素子を形成した。
【０１７９】
すなわち、単結晶シリコン基板５０１上に、厚さ２００ｎｍの酸化物層５０２を熱酸化法により形成し、下部電極５０３としての厚さ１００ｎｍのＰｔ薄膜を、スパッタリング法により酸化物層５０２上に形成した。
【０１８０】
その後、Ｈｆをターゲットとして、反応性スパッタリングによって酸素不足型のＨｆ酸化物層５０４を形成した。本実験で検討した範囲では、上記の分析試料と同様に、酸素ガスの流量比を、２％から４．２％まで変化させて不揮発性記憶素子を作製した。酸素不足型のＨｆ酸化物層５０４の膜厚は３０ｎｍとした。
【０１８１】
その後、酸素不足型のＨｆ酸化物層５０４の上に、上部電極５０５としての厚さ１５０ｎｍのＰｔ薄膜をスパッタ法により堆積した。
【０１８２】
最後にフォトリソグラフィー工程とドライエッチング工程によって、素子領域５０６を形成した。なお、素子領域５０６は、直径が３μｍの円形パターンである。
【０１８３】
以上のように作製した不揮発性記憶素子の抵抗変化現象を測定した。その結果、図１７のα点（酸素流量比約２．７％、酸素含有率約４６．６ａｔ％）からβ点（酸素流量比約３．３％、酸素含有率約６２ａｔ％）のＨｆ酸化膜を使った不揮発性記憶素子では、高抵抗値が低抵抗値の４倍以上と良好であった。
【０１８４】
図１８（ａ）、図１８（ｂ）は、それぞれ、α点及びβ点の酸素含有率を有するＨｆ酸化物層を使った不揮発性記憶素子についてのパルス印加回数に対する抵抗変化特性を測定した結果である。
【０１８５】
図１８（ａ）、図１８（ｂ）によれば、α点及びβ点の酸素含有率を有するＨｆ酸化物層を使った素子では、共に、高抵抗値が低抵抗値の４倍以上と良好であることが判る。
【０１８６】
従って、酸素含有率が４６．６〜６２ａｔ％の組成範囲、即ち抵抗変化層をＨｆＯｘと表記した場合におけるｘの範囲が０．９≦ｘ≦１．６の範囲がより適切な抵抗変化層の範囲であると言える（酸素含有率＝４６．６ａｔ％がｘ＝０．９に、酸素含有率＝６２ａｔ％がｘ＝１．６にそれぞれ対応）。
【０１８７】
［上下の電極材料種に応じた抵抗変化素子の抵抗変化特性］
次に、抵抗変化の起こりやすさが、電極材料に依存するかどうかの確認を行うため、Ｗで構成される下部電極５０３とＡｌ、Ｔｉ、Ｈｆ、Ｔａ、Ｗ、Ｃｕ、Ｐｔの１つから成る上部電極５０５で、酸素不足型のＨｆ酸化物層５０４を挟んだ複数種の素子を作製し、電気パルスによる抵抗変化の様子を調べた結果について説明する。
【０１８８】
使用した酸素不足型のＨｆ酸化物の酸素含有率は、好適な酸素含有率の範囲で上限に近い６１ａｔ％（ＨｆＯ１．５６）とした。素子の形成方法は、Ｈｆ酸化物の成膜方法は上記とほぼ同じであるが、Ａｌ、Ｔｉ、Ｈｆ、Ｔａ、Ｗ、Ｃｕ、ＰｔはＨｆ酸化物を形成後、一旦大気中に出し、別のスパッタ装置でスパッタリング法によって堆積した。
【０１８９】
作製した素子Ｏ〜素子Ｕに使用した下部電極、上部電極の材料を表２に示す。
【０１９０】
【表２】
2010119671.tif 000004
【０１９１】
上記の素子Ｏ〜素子Ｕを、所定の振幅でパルス幅１００ｎｓｅｃの電気パルスを与えて抵抗変化させた。
【０１９２】
本実験では、下部電極５０３を動作しにくいＷとしたので、Ａモード（上部電極に対し、下部電極に高い電圧を加えた時に高抵抗化するようなモード）の結果は省略し、Ｂモード（下部電極に対し、上部電極に高い電圧を加えた時に高抵抗化するようなモード）の結果のみを示す。
【０１９３】
上部電極モードで抵抗変化させた時の電気パルスの電圧は、素子によって若干の違いはあるが、下部電極を電圧の基準として、高抵抗化させる時の電圧は＋１．１〜＋１．９Ｖとし、低抵抗化させる時の電圧は−１．１〜−１．５Ｖとした。
【０１９４】
図１９（ａ）〜図１９（ｇ）に測定結果をまとめる。
【０１９５】
まず、図１９（ａ）の上部電極にＡｌを用いた素子Ｏ、図１９（ｂ）の上部電極にＴｉを用いた素子Ｐ、図１９（ｃ）の上部電極にＨｆを用いた素子Ｑの結果を見ると、ほとんど抵抗変化しないか、あるいはまったく抵抗変化しないのが分かる。次に、図１９（ｄ）の上部電極にＴａを用いた素子Ｒでは、最初わずかであるが抵抗変化が見られたがパルス数とともにその変化幅が減少していき、ほとんど抵抗変化を示さなくなった。これらの材料は、本質的に抵抗変化が生じにくい性質を持っていると考えられる。
【０１９６】
次に、図１９（ｅ）の上部電極にＷを用いた素子Ｓ、図１９（ｆ）の上部電極にＣｕを用いた素子Ｔ、図１９（ｇ）の上部電極にＰｔを用いた素子Ｕでは、比較的安定した抵抗変化が生じた。
【０１９７】
以上の結果から分かる事は、酸素不足型のＨｆ酸化物を用いた不揮発性記憶素子では、抵抗変化現象が生じやすい（動作しやすい）材料と、生じにくい（動作しにくい）材料が存在すると言う事である。本実験の範囲で言えば、動作しやすい電極はＰｔ、Ｃｕ、Ｗであり、動作しにくい電極材料はＴａ、Ｈｆ、Ｔｉ、Ａｌである。
【０１９８】
これらの材料の組み合わせで酸素不足型のＨｆ酸化物を挟んだ構造の抵抗変化素子を形成すれば、抵抗変化モードの混ざり合いのない安定した抵抗変化が得られる。但し、図１９（ｄ）を参照すると、Ｔａ電極では、微弱ながらも抵抗変化は観測されている。それ故にこの材料を一つの電極に用い、例えば、本実験で全く抵抗変化が観測されなかった電極材料であるＴｉ、Ｈｆをもう一つの電極に用いた場合、微弱ながらも安定した抵抗変化が期待できる。
【０１９９】
次に、抵抗変化自体の起こるメカニズムと、抵抗変化の起こりやすさの材料依存性について若干の考察を行う。
【０２００】
図２０は、酸素不足型のＨｆ酸化物を用いた不揮発性記憶素子に係る結果をまとめたものである。横軸は電極材料、縦軸には標準電極電位をプロットしてある。図２０の○は抵抗変化が起こりやすかった事を意味し、△は変化の割合が小さいものの抵抗変化が起こった事を意味し、×は抵抗変化が起こらなかった事を意味する。
【０２０１】
図２０を見ると、抵抗変化膜の構成元素であるＨｆよりも標準電極電位が高い材料では抵抗変化が起こっており、低い材料では抵抗変化が起こりにくくなっている事が分かる。そして、標準電極電位の差が大きいほど抵抗変化が起こりやすく、差が小さくなるにつれて、抵抗変化が起こりにくくなっているのが分かる。
【０２０２】
この結果は、第２の実験に関して述べた、酸素不足型のＴａ酸化物を用いた不揮発性記憶素子に係る結果と全く同一の傾向を示している。すなわち、酸素不足型のＨｆ酸化物を用いた不揮発性記憶素子について説明した抵抗変化のメカニズム（図１５（ａ）、図１５（ｂ）、及び図１６（ａ）、図１６（ｂ）を参照）が、酸素不足型のＨｆ酸化物を用いた不揮発性記憶素子にも同様に働いていると考えられる。
【０２０３】
以上の結果から分かるように、酸素不足型のＨｆ酸化物を抵抗変化膜に使用した不揮発性記憶素子では、上部電極と下部電極とで異なる標準電極電位を有する材料を用いればよい。
【０２０４】
これにより、片側の電極近傍で優勢に抵抗変化が起こって、理想的なバイポーラ型の抵抗変化を実現できる。さらに、抵抗変化モードの混ざり合いも起こらず、安定した抵抗変化動作が可能となる。
【０２０５】
より好適には、一方の電極材料には、Ｈｆの標準電極電位よりも大きく、かつ差の大きな材料を用い、もう一方の電極材料には、Ｈｆの標準電極電位よりも大きく差の小さな材料を用いればよい。
【０２０６】
さらにより好適には、一方の電極材料には、Ｈｆの標準電極電位よりも大きな材料を用い、もう一方の電極材料には、Ｈｆの標準電極電位以下の材料を用いればよい。
【０２０７】
なお、本実験の結果としては記述していないが、下部電極および上部電極に、それぞれＴａＮおよびＰｔを用いた抵抗変化素子について、安定した抵抗変化現象が起こったことを示す良好な実験結果が得られている。
【０２０８】
ＴａＮの標準電極電位は＋０．４８ｅＶであり、ＰｔおよびＨｆの標準電極電位は＋１．１８ｅＶ、−１．５５ｅＶである。
【０２０９】
この例は、上部電極には、Ｈｆの標準電極電位よりも大きく、かつ差の大きな材料であるＰｔを用い、下部電極には、Ｈｆの標準電極電位よりも大きく差の小さな材料であるＴａＮを用いた一例である。
【０２１０】
すなわち、この例では、上述の標準電極電位に関する条件を満たすＴａＮおよびＰｔを電極材料として用いたことで、本実験の結果として述べた作用効果が得られたと考えられる。
【０２１１】
また他の例として、下部電極および上部電極にそれぞれＴｉＮおよびＰｔを用いてもよい。ＴｉＮの標準電極電位は＋０．５５ｅＶである。したがって、ＴｉＮとＰｔとの組み合わせは、抵抗変化層にハフニウム酸化物を用いた場合の標準電極電位に関する条件を満たすので、ＴｉＮおよびＰｔを電極材料として用いることで、本実験の結果として述べた作用効果が期待できる。
【０２１２】
なお、本実験の結果としては記述していないが、金（Ａｕ）の標準電極電位は＋１．６９２ｅＶであるので、Ｈｆの標準電極電位−１．５５ｅＶよりも高い。したがって、抵抗変化膜としてＨｆを用いた場合に、抵抗変化しやすい電極材料としてＡｕを用いても、本実験の結果として述べた作用効果が期待できる。
【０２１３】
また、上記のメカニズムからも明らかなように、抵抗変化を起こしやすい電極に正の電圧の電気パルスを印加した時に、抵抗値が高くなり、負の電圧の電気パルスを印加した時に抵抗値が低くなるような動作を示す。
【０２１４】
なお、上記の第１、第２の実験及び第３の実験では、抵抗変化膜として酸素不足型のＴａ酸化物及びＨｆ酸化物を用いた例について説明したが、これに限定されるものではなく、他の遷移金属の酸素不足型の酸化膜を抵抗変化膜に用いた不揮発性記憶素子についても、上記で説明したように電極に加えられた電界による酸素イオンの移動が起こると考えられるため、同様に応用可能である。その場合も、用いる遷移金属材料の標準電極電位を基準にして電極材料を選択すれば、片側で優勢的に動作する不揮発性記憶素子が形成できる。また、抵抗変化層としてのタンタル酸化物やハフニウム酸化物に、抵抗変化特性を大きく変化させない程度に微量のドーパントを添加してもよい。
【０２１５】
［抵抗変化層に酸素不足型の遷移金属酸化物を積層した抵抗変化素子］
また、抵抗変化素子として、酸素不足型のタンタル酸化物、酸素不足型のハフニウム酸化物、及び酸素不足型のジルコニウム酸化物の１つからなり、かつ酸素含有率の異なる２つの抵抗変化層を積層し、２つの電極で挟んだ構成も可能である。
【０２１６】
これらの抵抗変化素子は、可逆的に安定した書き換え特性を有する、抵抗変化現象を利用した不揮発性記憶素子を得ることを目的として本願発明者らにより発明されたものであり、それぞれ関連特許出願である国際公開第２００８／１４９４８４号、国際公開第２０１０／００４７０５号、特開２０１０−２１３８１号公報で詳細に説明されている。
【０２１７】
これらの抵抗変化素子が有している、抵抗変化特性を前述のＡモード及びＢモードのいずれか意図した一方に固定できるという特徴も、前述の異種の材料で構成される上下の電極を用いた抵抗変化素子と同様に、本発明の抵抗変化型不揮発性記憶装置に利用可能である。
【０２１８】
なお、酸素不足型のタンタル酸化物を用いた抵抗変化素子における２つの抵抗変化層の膜厚、組成の最適条件について、国際公開第２００８／１４９４８４号にて、詳しく開示されている。
【０２１９】
［電流制御層にＳｉＮｘを用いた電流制御素子］
次に本発明の１Ｄ１Ｒ型クロスポイントメモリ装置の電流制御素子について説明する。
【０２２０】
電流制御素子は、電流制御層を窒化シリコンＳｉＮｘ（０＜ｘ≦０．８５）で構成することにより、その電流−電圧特性が非線形の電気特性を有し、かつ印加電圧の極性に対して実質的に対称となるという、双方向ダイオード特性を持つことが、関連出願である国際公開第２００８／１１７４９４号で詳細に説明されている。
【０２２１】
また、電流制御素子の第１の電極及び前記第２の電極の少なくとも一方を、体心立方格子（ｂｃｃ）構造を有するα−タングステン（α−Ｗ）で構成することにより、３００００Ａ／ｃｍ２以上の電流を安定供給可能なＭＳＭダイオードを実現できることが、関連出願である国際公開第２０１０／００４６７５号で詳細に説明されている。
【０２２２】
以上のような、対称な電流電圧特性、及び３００００Ａ／ｃｍ２以上という高い耐電流特性を持つ双方向ダイオード素子を、本発明における１Ｄ１Ｒ型クロスポイントメモリの電流制御素子として利用することが可能である。
【０２２３】
［本発明の第１の実施形態における抵抗変化型不揮発性記憶装置］
次に、本発明の実施の形態として、上記で説明した抵抗変化素子と電流制御素子を用いた１Ｄ１Ｒ型クロスポイントメモリ装置について説明する。
【０２２４】
図２１は、本発明の第１の実施形態に係る不揮発性記憶装置の構成を示すブロック図である。第１の実施形態は、抵抗変化現象が抵抗変化素子の上部電極近傍で生じると考えられるＢモード動作が生じるメモリセルの構成と、それに最適な制御回路を示すものである。
【０２２５】
図２１において、抵抗変化型不揮発性記憶装置１００は、半導体基板上に、メモリ本体部１０１を備えており、メモリ本体部１０１は、メモリセルアレイ１０２と、行選択回路１０３と、列選択回路１０４と、書き込み回路１０５と、選択ビット線に流れる電流量を検出し、記憶されているデータが「１」か「０」かを判定する読み出し回路１０６と、端子ＤＱを介して入出力データの入出力処理を行うデータ入出力回路１０７とを備えている。
【０２２６】
また、抵抗変化型不揮発性記憶装置１００の外部より与えられるアドレス信号を入力とし、所定のアドレスを選択指示するアドレス入力回路１０８と、制御信号を入力とする制御回路１０９の出力がメモリ本体部１０１に供給され、その動作を制御している。
【０２２７】
メモリセルアレイ１０２は、Ｍ行Ｎ列（Ｍ、Ｎは自然数。図２１では２行２列の４ビット分のみ図示）のマトリクス状にメモリセルＭｉｊ（ｉ≦Ｍ、ｊ≦Ｎなる自然数。以下同じものは省略）が配列されている。メモリセルＭｉｊは、抵抗変化素子Ｒｉｊの一端と、正負の双方向に閾値電圧を有する電流制御素子Ｄｉｊの一端とを、互いに直列に接続して構成されている。抵抗変化素子Ｒｉｊの他端はワード線ＷＬｉに、電流制御素子Ｄｉｊの他端はビット線ＢＬｊに接続されている。
【０２２８】
本構成では、ビット線ＢＬｊが下層の配線で構成され、紙面内の上下方向に配置されるとすると、ワード線ＷＬｉはビット線ＢＬｊより上層の配線で構成され、紙面内の左右方向に配置される。また抵抗変化素子Ｒｉｊは、後で詳細を説明するが、抵抗変化現象が抵抗変化素子の上部電極近傍で生じるＢモードの特性になる構造で構成されている。
【０２２９】
ワード線ＷＬｉは、行選択回路１０３に接続され、読み出しまたは書き込みモードにおいて択一的に行選択が行われる。またビット線ＢＬｊは、列選択回路１０４に接続され、読み出しまたは書き込みモードにおいて択一的に列選択が行われる。
【０２３０】
データ入出力回路１０７は、書き込みモードにおいて、データ入力信号Ｄｉｎのデータ“０”またはデータ“１”の書き込み指示に従って、選択されたメモリセルＭｉｊ内の抵抗変化素子Ｒｉｊに対し、低抵抗化または高抵抗化の書き込みを行う。本実施例では、データ“０”書き込みを低抵抗化書き込みに、データ“１”書き込みを高抵抗化書き込みに対応させてある。
【０２３１】
書き込み回路１０５はデータ入出力回路１０７と接続される。データ“０”書き込み、すなわち低抵抗化書き込みを行うときにハイレベルを駆動する第１ＬＲ化駆動回路１０５ａ１、その出力を入力とする電流制限回路１０５ｂ、およびロウレベルを駆動する第２ＬＲ化駆動回路１０５ｃ２を有している。また、データ“１”書き込み、すなわち高抵抗化書き込みを行うときにハイレベルを駆動する第１ＨＲ化駆動回路１０５ｃ１、およびロウレベルを駆動する第２ＨＲ化駆動回路１０５ａ２を有している。
【０２３２】
そして、低抵抗化書き込みを行うときは、電流制限回路１０５ｂにより電流制限した信号を、列選択回路１０４を介して選択ビット線ＢＬｊに供給する。一方、高抵抗化書き込みを行うときは、電流制限機能を有しない第１ＨＲ化駆動回路１０５ｃ１で行選択回路１０３を介して選択ワード線ＷＬｉに信号を供給することを一つの特徴としている。
【０２３３】
このように構成される抵抗変化型不揮発性記憶装置１００において、ビット線ＢＬｊおよびワード線ＷＬｉが、それぞれ本発明の第１信号線および第２信号線の一例である。第１ＬＲ化駆動回路１０５ａ１、第１ＨＲ化駆動回路１０５ｃ１、第２ＬＲ化駆動回路１０５ｃ２、および第２ＨＲ化駆動回路１０５ａ２が、それぞれ本発明の第１駆動回路、第２駆動回路、第３駆動回路、および第４駆動回路の一例である。電流制限回路１０５ｂが、本発明の電流制限回路の一例である。また、列選択回路１０４および行選択回路１０３が、それぞれ本発明の第１選択回路および第２選択回路の一例である。
【０２３４】
図２２は、図２１においてＡ部で示す、メモリセルＭ１１の構成を示す断面図である。
【０２３５】
電流制御素子２１２、抵抗変化素子２１３は、各々、図２１における電流制御素子Ｄｉｊ、抵抗変化素子Ｒｉｊ（ｉ、ｊはそれぞれ正の整数）に対応している。
【０２３６】
メモリセル２００は、アルミニウム（Ａｌ）で構成される第１層配線２０１、第１ビア２０２、電流制御素子２１２において窒化タンタル（ＴａＮ）で構成される第３電極２０３、窒素不足型窒化シリコンで構成される電流制御層２０４、ＴａＮで構成される第４電極２０５、第２ビア２０６、抵抗変化素子２１３においてＴａＮで構成される第１電極２０７、酸素不足型タンタル酸化物で構成される抵抗変化層２０８、白金（Ｐｔ）で構成される第２電極２０９、第３ビア２１０、アルミニウム（Ａｌ）で構成される第２層配線２１１を順に形成して構成されている。
【０２３７】
ここで、ワード線ＷＬｉ側に接続される、より上層の第２電極２０９を、ビット線ＢＬｊ側に接続される第１電極２０７に比べ、標準電極電位がより高い材料であるＰｔで構成することを、もう一つの特徴としている。
【０２３８】
このメモリセル構造では、本発明の基礎データでも説明したように、抵抗変化動作は、第１電極を構成するＴａＮよりも高い標準電極電位を有するＰｔで構成される第２電極と、抵抗変化層２０８との界面近傍で起こり、その動作はＢモードに対応している。
【０２３９】
図２２で、第１層配線２０１はビット線ＢＬ１に、第２層配線２１１はワード線ＷＬ１に対応しているので、第２層配線２１１の電圧に対し第１層配線２０１の電圧が所定電圧ＶＬｔｈ以上高くなったとき、抵抗変化素子２１３は低抵抗状態に変化し、第１層配線２０１の電圧に対し第２層配線２１１の電圧が所定電圧ＶＨｔｈ以上高くなったとき、抵抗変化素子２１３は高抵抗状態に変化する。
【０２４０】
なお、図２２において、電流制御素子２１２と抵抗変化素子２１３の関係は上下逆でもかまわないし、抵抗変化素子２１３において第１電極２０７と第２電極２０９の位置が逆でもかまわない。
【０２４１】
図２３は、図２１の書き込み回路１０５の具体的回路構成の一例を示している。
【０２４２】
図２３（ａ）は、第１ＬＲ化駆動回路１０５ａ１、第２ＨＲ化駆動回路１０５ａ２、電流制限回路１０５ｂの一例をそれぞれ示している。
【０２４３】
第１ＬＲ化駆動回路１０５ａ１はＰ型ＭＯＳトランジスタＭＰ１で構成され、第２ＨＲ化駆動回路１０５ａ２はＮ型ＭＯＳトランジスタＭＮ１で構成され、電流制限回路１０５ｂはＮ型ＭＯＳトランジスタＭＮ３で構成されている。
【０２４４】
Ｃ＿ＮＬＲは低抵抗化書き込みパルスの発生時ロウレベル、またＣ＿ＨＲは高抵抗化書き込みパルスの発生時ハイレベルとなる書き込み制御信号である。ＶＣＬは低抵抗化電流制限用ゲート電圧で、所定の定電圧が与えられている。
【０２４５】
またＰ型ＭＯＳトランジスタＭＰ１のソースには、低抵抗書き込み電源電圧ＶＬＲが供給され、抵抗変化素子２１３が低抵抗化するのに十分な電圧、電流を駆動できる能力を有するように設定されている。
【０２４６】
図２３（ｂ）は、第１ＨＲ化駆動回路１０５ｃ１、第２ＬＲ化駆動回路１０５ｃ２の一例を示している。
【０２４７】
第１ＨＲ化駆動回路１０５ｃ１はＰ型ＭＯＳトランジスタＭＰ２で構成され、第２ＬＲ化駆動回路１０５ｃ２はＮ型ＭＯＳトランジスタＭＮ２で構成されている。
【０２４８】
Ｃ＿ＮＨＲは高抵抗化書き込みパルスの発生時ロウレベル、またＣ＿ＬＲは低抵抗化書き込みパルスの発生時ハイレベルとなる書き込み制御信号である。
【０２４９】
またＰ型ＭＯＳトランジスタＭＰ２のソースには、高抵抗書き込み電源電圧ＶＨＲが供給され、抵抗変化素子２１３が高抵抗化するのに十分な電圧、電流を駆動できる能力を有するように設定されている。
【０２５０】
書き込みモードにおいて、データ“０”書き込み、すなわち低抵抗書き込みが指示されると、Ｃ＿ＮＬＲがロウレベル、Ｃ＿ＬＲがハイレベルに設定され、第１ＬＲ化駆動回路１０５ａ１のＰ型ＭＯＳトランジスタＭＰ１と、第２ＬＲ化駆動回路１０５ｃ２のＮ型ＭＯＳトランジスタＭＮ２がオンし、第１ＬＲ化駆動回路１０５ａ１の出力電流が、電流制限回路１０５ｂ、ビット線ＢＬｊ、メモリセルＭｉｊ、ワード線ＷＬｉを主経路とし、第２ＬＲ化駆動回路１０５ｃ２に流れ込む電流経路が形成される。
【０２５１】
また、電流制限回路１０５ｂの出力は、Ｎ型ＭＯＳトランジスタＭＮ３で電流制限されるとともに、その出力電圧ＶＬＲ＿Ｏは、ＭＮ３の閾値電圧をＶｔｈ＿ＭＮ３とすると、ＶＣＬ−Ｖｔｈ＿ＭＮ３の電圧に上限が制限される。それとともにソースフォロワ特性を持つため、低抵抗化書き込み電源ＶＬＲを一定電圧以上に設定すると、定電流源として動作し、電流は一定となる。
【０２５２】
書き込みモードにおいてデータ“１”書き込み、すなわち高抵抗書き込みが指示されると、Ｃ＿ＮＨＲがロウレベル、Ｃ＿ＨＲがハイレベルに設定され、第１ＨＲ化駆動回路１０５ｃ１のＰ型ＭＯＳトランジスタＭＰ２と、第２ＨＲ化駆動回路１０５ａ２のＮ型ＭＯＳトランジスタＭＮ１がオンし、第１ＨＲ化駆動回路１０５ｃ１の出力電流がワード線ＷＬｉ、メモリセルＭｉｊ、ビット線ＢＬｊを主経路とし、第２ＨＲ化駆動回路１０５ａ２に流れ込む電流経路が形成される。電流経路に電流制限回路を含まないため、高抵抗化書き込み電源ＶＨＲの増加に従い、電流は単調に増加する。
【０２５３】
［本発明の第１の実施形態における抵抗変化型不揮発性記憶装置の動作］
以上のように構成された抵抗変化型不揮発性記憶装置１００について、その動作を説明する。
【０２５４】
まず、メモリセルの動作について説明する。図２４は、図２２の構造を持つメモリセルについて、第１層配線２０１よりも第２層配線２１１が高い電圧となる極性を正として電圧を印加した場合に、その電圧、電流の関係を実測した図である。
【０２５５】
メモリセル２００に対し、第２層配線２１１よりも第１層配線２０１が高い電位となる負極性の電圧を印加していくと、−３．２Ｖを超える付近で抵抗変化素子は高抵抗状態から低抵抗状態へと変化を開始する。さらに−３．９Ｖ（Ａ点）まで印加しているが、印加電圧に応じて徐々に低抵抗化が進行している。
【０２５６】
一方、メモリセル２００に対し、第１層配線２０１よりも第２層配線２１１が高い電位となる正極性の電圧を印加していくと、低抵抗状態への変化電圧と概ね対称である３．８Ｖ付近（Ｂ点）で、抵抗変化素子は低抵抗状態から高抵抗状態へと変化を開始する。さらに、５．１Ｖまで印加すると電流増加が見られるが、この後印加電圧を下げていくと、印加電圧を上げるときと比較して電流が小さくなっているため、高抵抗状態に変化していることがわかる。
【０２５７】
すなわち図２４に示す実測データは、図２２の構造を持つメモリセル２００について、第２層配線２１１の電圧を基準として第１層配線２０１の電圧が所定電圧ＶＬｔｈ以上高くなったとき低抵抗状態に変化し、第１層配線２０１の電圧を基準として第２層配線２１１の電圧が所定電圧ＶＨｔｈ以上高くなったとき高抵抗状態に変化するＢモード動作を発現すること、および、低抵抗状態の印加電圧（Ａ点）と、高抵抗状態への変化開始電圧（Ｂ点）とが、概ね対称な関係にあることを示している。
【０２５８】
次に、以上のように構成した抵抗変化型不揮発性記憶装置の動作について説明する。
【０２５９】
最初に書き込み回路１０５の特性について説明する。
【０２６０】
図２５（ａ）は、図２３に示す第１の具体的書き込み回路を用いて、図２１に示す不揮発性記憶装置の動作を説明するため、書き込みに関わる電流経路だけを切り出した等価回路図である。図２５（ｂ）は、その特性説明図であり、メモリセル２００の抵抗変化素子は低抵抗状態を想定して１０ｋΩの固定値とし、双方向特性を有する電流制御素子と直列接続した状態で、書き込み回路１０５から与えられる電圧と、メモリセル２００に流れる電流との関係を、シミュレーションを用いて求めた図である。
【０２６１】
図２５（ｂ）において、負の電圧領域（Ａ）の特性は、高抵抗状態から１０ｋΩと仮定した低抵抗状態に変化した後のメモリセルを、第１ＬＲ化駆動回路１０５ａ１により駆動する場合（例えば−３Ｖというのは、ＶＬＲに３Ｖを与えて駆動することを意味する）の特性を示している。また、正の電圧領域（Ｂ）の特性は、１０ｋΩと仮定した低抵抗状態のメモリセルを高抵抗化状態に向け第１ＨＲ化駆動回路１０５ｃ１により駆動する場合の特性を示している。なお駆動回路の電圧とは、負の電圧領域（Ａ）では、低抵抗化書き込み電源電圧であるＶＬＲに相当し、正の電圧領域（Ｂ）では、高抵抗化書込み電源電圧であるＶＨＲに相当する。また、負の電圧領域（Ａ）中の破線は、電流制限回路１０５ｂを介さない場合の特性を比較のために示している。
【０２６２】
図２５（ｂ）より、メモリセルを低抵抗化するときは、低抵抗化電源電圧ＶＬＲの増加とともに、メモリセルに流れる電流も増加し、電流制限回路１０５ｂを介さない場合、破線の特性の様に単調増加するのに対し、電流制限回路１０５ｂを用いる場合、その電流制限効果により、変極点Ｃを持ち、約３．５Ｖ付近からは１３０μＡの一定電流に制限される。
【０２６３】
一方、メモリセルを高抵抗化するときは、電流制限回路がないため、高抵抗化電源電圧ＶＨＲに３．５Ｖを印加した場合、１５０μＡの電流、すなわち低抵抗化するときよりも大きい電流が流れることがわかる。
【０２６４】
ここで、この回路構成における電流制限回路１０５ｂのＮ型ＭＯＳトランジスタＭＮ３の設定条件を考える。
【０２６５】
メモリセルに設定する低抵抗値は、図２４に示すメモリセル特性において、Ａ点で示す低抵抗状態の印加電圧である−３．９Ｖまで電流を印加した時の低抵抗状態の設定を想定して考える。なお、先述のように、この低抵抗状態の印加電圧が低く、より少ない電流を流した場合は、低抵抗状態はより高抵抗に近く設定され、反対に印加電圧が高く、より多くの電流を流した場合は、より低抵抗化が進む。定式化のため、Ａ点の電圧をＶＬ、Ａ点の電流をＩＬとする。ただし、ダイオードでの電圧降下はないものと仮定する。
【０２６６】
ところで、図２５（ａ）において、電流制限回路１０５ｂ中のＮ型ＭＯＳトランジスタＭＮ３の閾値電圧をＶｔｈ＿ＭＮ３、同ゲート電圧をＶＣＬ、ＬＲ化電源の電圧をＶＬＲとすると、ＶＬＲ≧ＶＣＬのとき、図２５（ｂ）に示す変極点Ｃの電圧は、ＶＣＬ−Ｖｔｈ＿ＭＮ３と近似される。
【０２６７】
図２４のＡ点に示すメモリセルの低抵抗化点の電圧（ＶＬ＝ＶＬｔｈ）と、図２５（ｂ）に示す電流制限回路１０５ｂの変極点Ｃの電圧ＶＣＬ−Ｖｔｈ＿ＭＮ３とを一致させておけば、電流制限回路１０５ｂの変極点Ｃにおいて、メモリセルを想定する低抵抗状態に設定できる。よって、
ＶＬｔｈ＝ＶＣＬ−Ｖｔｈ＿ＭＮ３  かつ  ＶＬＲ≧ＶＣＬ
すなわち、
ＶＣＬ＝ＶＬｔｈ＋Ｖｔｈ＿ＭＮ３  かつ  ＶＬＲ≧ＶＣＬ  ・・・（式１）
を満たすように、ＶＣＬを設定すればよい。このとき、Ｎ型ＭＯＳトランジスタＭＮ２における電圧降下は無視できるとする。またこの条件のとき、Ａ点の電流ＩＬを駆動できるよう、電流制限回路１０５ｂのＮ型ＭＯＳトランジスタＭＮ３のゲート幅、ゲート長を調整して設計しておく。
【０２６８】
そして、この条件を満たしておけば、電圧変動や、速度低下の懸念に対してＬＲ化電源の電圧ＶＬＲを、余裕を持って高めに設定しても、変極点Ｃ以上の電圧では定電流となるため、低抵抗状態の抵抗値を一定の値に安定させて設定することができる。
【０２６９】
［本発明の第１の実施形態における抵抗変化型不揮発性記憶装置の変形例１］
図２６は、第１の実施形態において、Ｎ型ＭＯＳトランジスタを用いて電流制限回路１０５ｂを構成する場合の、図２１とは異なる第１の実施形態の変形例１を示している。電流制限回路１０５ｂを抵抗変化素子の第１電極と書き込み回路との間に配置することを特徴とする。図２６の構成では、電流制限回路１０５ｂをメモリセルアレイの近くに配置するため、図２１の場合と比較して、よりメモリセルに近い位置で電流制限を行うことが可能となる。よって低抵抗化書き込み動作を行うときに、電流制限回路１０５ｂを介して充放電すべき容量負荷を低減することができ、メモリセルの低抵抗状態への変化に対し、追随性よく電流制限を行えるため、より精度よく想定の抵抗値に設定することが可能となる。
【０２７０】
また、ＬＲ化駆動回路で書き込みを行うときは、電流制限回路１０５ｂはソースフォロワとなり、定電流特性を示すため、低抵抗状態の抵抗値を一定の値に安定させて設定することができる一方、ＨＲ化駆動回路で書き込みを行うときは、電流制限回路１０５ｂはソースフォロワとはならないため、低抵抗化するときよりも大きい電流を駆動することができる。
【０２７１】
ここで、列選択回路１０４は一般に、Ｐ型ＭＯＳトランジスタ、Ｎ型ＭＯＳトランジスタと、デコーダ回路とで構成され、選択されたメモリセルに対応したビット線が択一的に選択される。この列選択回路１０４をＮ型ＭＯＳトランジスタのみで構成することにより、ＬＲ駆動回路で書き込みを行うときにソースフォロワとなるため、列を選択する機能に加え、電流を制限する機能を持たせることができる。この場合、電流制限回路１０５ｂを別途設ける必要がなくなり、面積を削減することができる。
【０２７２】
［本発明の第１の実施形態における抵抗変化型不揮発性記憶装置の変形例２］
電流制限回路１０５ｂは、第１ＬＲ化駆動回路１０５ａ１側ではなく、第２ＬＲ化駆動回路１０５ｃ２側に設けることも可能である。図２７に、第１の実施形態の変形例２を示す。また、図２８（ａ）は、図２７の書き込み回路１０５の第１の具体的回路構成の一例を示していて、Ｎ型ＭＯＳトランジスタで構成される電流制限回路１０５ｂを有する。また、図２８（ｂ）は、その特性説明図であり、図２５（ｂ）と同様に、メモリセル２００の抵抗変化素子は低抵抗状態を想定して１０ｋΩの固定値とし、双方向特性を有する電流制御素子と直列接続した状態で、書き込み回路１０５から与えられる電圧と、メモリセル２００に流れる電流との関係を、シミュレーションを用いて求めた図である。
【０２７３】
図２８（ｂ）において、負の電圧領域（Ａ）の特性は、高抵抗状態から１０ｋΩと仮定した低抵抗状態に変化した後のメモリセルを、第１ＬＲ化駆動回路１０５ａ１により駆動する場合（例えば−３Ｖというのは、ＶＬＲに３Ｖを与えて駆動することを意味する）の特性を、正の電圧領域（Ｂ）の特性は、１０ｋΩと仮定した低抵抗状態のメモリセルを高抵抗化状態に向け第１ＨＲ化駆動回路１０５ｃ１により駆動する場合の特性を示している。負の電圧領域（Ａ）中の破線は、電流制限回路１０５ｂを介さない場合の特性を比較のために示している。
【０２７４】
図２８（ｂ）より、メモリセルを低抵抗化するときは、低抵抗化電源電圧ＶＬＲの増加とともに、メモリセルに流れる電流も増加し、電流制限回路１０５ｂを介さない場合、破線の特性の様に単調増加するのに対し、電流制限回路１０５ｂを用いる場合、その電流制限効果により、変極点Ｃを持ち、約３．９Ｖ付近からは１３０μＡの一定電流に制限される。
【０２７５】
一方、メモリセルを高抵抗化するときは、電流制限回路がないため、高抵抗化電源電圧ＶＨＲに３．５Ｖを印加した場合、１５０μＡの電流、すなわち低抵抗化するときよりも大きい電流が流れることがわかる。
【０２７６】
図２８（ａ）において、電流制限回路１０５ｂ中のＮ型ＭＯＳトランジスタＭＮ３の閾値電圧をＶｔｈ＿ＭＮ３、同ゲート電圧をＶＣＬ、ＬＲ化電源の電圧をＶＬＲ、メモリセルの低抵抗化点の電圧をＶＬ＝ＶＬｔｈとすると、図２８（ｂ）に示す変極点Ｃの電圧は、ＶＣＬ−Ｖｔｈ＿ＭＮ３＋ＶＬ（＝ＶＬｔｈ）と近似される。この変極点Ｃの電圧ＶＣＬ−Ｖｔｈ＿ＭＮ３＋ＶＬｔｈが、ＬＲ化電源の電圧ＶＬＲと一致するように、
ＶＬＲ＝ＶＣＬ−Ｖｔｈ＿ＭＮ３＋ＶＬｔｈ
すなわち、
ＶＣＬ＝ＶＬＲ−ＶＬｔｈ＋Ｖｔｈ＿ＭＮ３  ・・・（式２）
を満たすようにＶＣＬを設定することにより、ＬＲ化電源の電圧としてＶＬＲを与えた場合に、電流制限回路１０５ｂの変極点Ｃでメモリセルを低抵抗化すること、すなわち想定する低抵抗状態に設定することが可能となる。このとき、Ｐ型ＭＯＳトランジスタＭＰ１における電圧降下は無視できるとした。またこの条件のとき、図２４のＡ点の電流ＩＬが駆動できるよう、電流制限回路１０５ｂのＮ型ＭＯＳトランジスタＭＮ３のゲート幅、ゲート長を調整して設計しておく。
【０２７７】
さらには、電流制限回路１０５ｂをＮ型ＭＯＳトランジスタではなく、電流ミラー回路等を用いた定電流回路とし、一定の電流値に制御することにより、より精度よく想定の抵抗値に設定することが可能である。
【０２７８】
そして、この条件を満たしておけば、電圧変動や、速度低下の懸念に対してＬＲ化電源の電圧ＶＬＲを、余裕を持って高めに設定しても、変極点Ｃ以上の電圧では定電流となるため、低抵抗状態の抵抗値を、一定の値に安定させて設定することができる。
【０２７９】
以上において、Ｎ型ＭＯＳトランジスタＭＮ３の閾値電圧をＶｔｈ＿ＭＮ３としているが、これはソース電圧が基板電圧に比べ上昇した状態、すなわち基板バイアス効果が効いた状態での閾値電圧を指している。ＶＣＬだけでなく、閾値電圧Ｖｔｈ＿ＭＮ３を（式１）、（式２）の関係を満たすように設定することも、動作電圧の低減には有効となる。
【０２８０】
ところでメモリセルの特性、例えば図２４のＡ点に示すメモリセルの低抵抗化点の電流値はメモリセル毎に固有のばらつきを有している。ばらつきにより変極点Ｃもばらつくため、この点を考慮してＶＣＬを設定しておく必要がある。以下、具体的に説明する。
【０２８１】
まず下限値について、一般に読み出し回路１０６は、低抵抗状態のメモリセルの読み出しにおいては、一定値以上の読み出し電流が必要となる。そのため、最小読み出し電流となるメモリセル、すなわち低抵抗状態のメモリセルのなかで一番高抵抗な状態のメモリセルにおいても、前記読み出し電流を確保すべく、一定値より低い低抵抗状態に設定できるよう、ＶＣＬを設定しておく必要がある。
【０２８２】
一方、上限値について、メモリセル２００に一定値より大きい電流を繰り返し流した場合、メモリセル、特に電流制御素子２１２の信頼性面で、望ましくない場合がある。そのような場合には、電流制御素子に耐電流（電流制御素子が破壊されない最大の電流）より大きい電流が流れないよう、すなわち抵抗変化素子を一定値より高い低抵抗状態に留められるように、ＶＣＬを設定しておけばよい。
【０２８３】
下限値の設定において、不揮発性記憶装置で一般的に用いられる手段として、抵抗値のベリファイを行い、例えば低抵抗状態が不足したメモリセルに対して追加書き込みを行う場合がある。このような場合、追加書き込みを行うメモリセルに対してはＶＣＬを高く設定することにより、低抵抗化を促進させてもよい。
【０２８４】
以上の説明では、電流制限回路１０５ｂをＮ型ＭＯＳトランジスタで構成する場合について説明したが、Ｐ型ＭＯＳトランジスタで構成することも可能である。Ｐ型ＭＯＳトランジスタを使用して、電流制限回路１０５ｂを第１ＬＲ化駆動回路１０５ａ１側に設けた場合の、図２１の書き込み回路１０５の第２の具体的回路構成例を図２９（ａ）に、第２ＬＲ化駆動回路１０５ｃ２側に設けた、図２７の書き込み回路１０５の第２の具体的回路構成例を図２９（ｂ）に示す。
【０２８５】
電流制限回路１０５ｂのＰ型ＭＯＳトランジスタの満たすべき設定条件は、図２９（ａ）の場合、Ｎ型ＭＯＳトランジスタで構成した図２８の場合と同様に求めることができる。図２９（ａ）において、電流制限回路１０５ｂ中のＰ型ＭＯＳトランジスタＭＰ３の閾値電圧をＶｔｈ＿ＭＰ３（Ｖｔｈ＿ＭＰ３は正とする）、同ゲート電圧をＶＣＬ、ＬＲ化電源の電圧をＶＬＲ、メモリセルに印加される電圧をＶＬとすると、電流制限回路１０５ｂの変極点Ｃの電圧は、ＶＣＬ＋Ｖｔｈ＿ＭＰ３と近似される。メモリセルの低抵抗化点の電圧（ＶＬ＝ＶＬｔｈ）と、この電流制限回路１０５ｂの変極点Ｃの電圧（＝ＶＣＬ＋Ｖｔｈ＿ＭＰ３）とを一致させておけば、電流制限回路１０５ｂの変極点Ｃにおいて、メモリセルを想定する低抵抗状態に設定できる。よって、
ＶＬ＝ＶＬｔｈ＝ＶＣＬ＋Ｖｔｈ＿ＭＰ３
すなわち、
ＶＣＬ＝ＶＬｔｈ−Ｖｔｈ＿ＭＰ３  ・・・（式３）
を満たすように、ＶＣＬを設定すればよい。このとき、Ｎ型ＭＯＳトランジスタＭＮ２における電圧降下は無視できるとした。またこの条件のとき、Ａ点の電流ＩＬが駆動できるよう、電流制限回路１０５ｂのＰ型ＭＯＳトランジスタＭＰ３のゲート幅、ゲート長を調整して設計しておく。
【０２８６】
さらには、電流制限回路１０５ｂをＰ型ＭＯＳトランジスタではなく、電流ミラー回路等を用いた定電流回路とし、一定の電流値に制御することにより、より精度よく想定の抵抗値に設定することが可能である。
【０２８７】
そして、この条件を満たしておけば、電圧変動や、速度低下の懸念に対してＬＲ化電源の電圧ＶＬＲを、余裕を持って高めに設定しても、変極点Ｃ以上の電圧では定電流となるため、低抵抗状態の抵抗値を、一定の値に安定させて設定することができる。
【０２８８】
一方、図２９（ｂ）の場合は、図２５の場合と同様に求めることが可能である。すなわち、図２９（ｂ）において、電流制限回路１０５ｂ中のＰ型ＭＯＳトランジスタＭＰ３の閾値電圧をＶｔｈ＿ＭＰ３、同ゲート電圧をＶＣＬ、ＬＲ化電源の電圧をＶＬＲ、メモリセルに印加される電圧をＶＬ、メモリセルの低抵抗化点の電圧をＶＬ＝ＶＬｔｈとすると、ＶＣＬ≧０のとき、電流制限回路１０５ｂの変極点Ｃの電圧は、ＶＣＬ＋Ｖｔｈ＿ＭＰ３＋ＶＬ（＝ＶＬｔｈ）と近似される。この変極点Ｃの電圧（＝ＶＣＬ＋Ｖｔｈ＿ＭＰ３＋ＶＬ）が、ＬＲ化電源の電圧ＶＬＲと一致するように、
ＶＬＲ＝ＶＣＬ＋Ｖｔｈ＿ＭＰ３＋ＶＬ（＝ＶＬｔｈ）  かつ  ＶＣＬ≧０
すなわち、
ＶＣＬ＝ＶＬＲ−ＶＬｔｈ−Ｖｔｈ＿ＭＰ３  かつ  ＶＣＬ≧０  ・・・（式４）
を満たすようにＶＣＬを設定することにより、ＬＲ化電源の電圧としてＶＬＲを与えた場合に、電流制限回路１０５ｂの変極点Ｃでメモリセルを低抵抗化すること、すなわち想定する低抵抗状態に設定することが可能となる。このとき、Ｐ型ＭＯＳトランジスタＭＰ２における電圧降下は無視できるとした。またこの条件のとき、図２４のＡ点の電流ＩＬが駆動できるよう、電流制限回路１０５ｂのＰ型ＭＯＳトランジスタＭＰ３のゲート幅、ゲート長を調整して設計しておく。
【０２８９】
そして、この条件を満たしておけば、電圧変動や、速度低下の懸念に対してＬＲ化電源の電圧ＶＬＲを、余裕を持って高めに設定しても、変極点Ｃ以上の電圧では定電流となり、低抵抗状態の抵抗値を、一定の値に安定させて設定することができる。
【０２９０】
［本発明の第１の実施形態における抵抗変化型不揮発性記憶装置の変形例３］
図３０は、Ｐ型ＭＯＳトランジスタを用いて電流制限回路１０５ｂを構成する場合の、図２１とは異なる実施例であり、電流制限回路１０５ｂを抵抗変化素子の第２電極と書き込み回路との間に配置することを特徴とする。図３０では、電流制限回路１０５ｂをメモリセルアレイの近くに配置するため、図２７の場合と比較して、よりメモリセルに近い位置で電流制限を行うことが可能となる。よって低抵抗化書き込み動作を行うときに、電流制限回路１０５ｂを介して充放電すべき容量負荷を低減することができ、メモリセルの低抵抗状態への変化に対し、追随性よく電流制限を行えるため、より精度よく想定の抵抗値に設定することが可能となる。
【０２９１】
また、第２ＬＲ化駆動回路１０５ｃ２で書き込みを行うときは、電流制限回路１０５ｂはソースフォロワとなり定電流特性となるため、低抵抗状態の抵抗値を一定の値に安定させて設定することができる一方、第１ＨＲ化駆動回路１０５ｃ１で書き込みを行うときは、電流制限回路１０５ｂはソースフォロワとはならないため、低抵抗化するときよりも大きい電流を駆動することができる。
【０２９２】
ここで、行選択回路１０３は一般に、Ｐ型ＭＯＳトランジスタ、Ｎ型ＭＯＳトランジスタと、デコーダ回路とで構成され、選択されたメモリセルに対応したビット線が択一的に選択される。この行選択回路１０３をＰ型ＭＯＳトランジスタのみで構成することにより、第２ＬＲ化駆動回路１０５ｃ２で書き込みを行うときにソースフォロワとなるため、行選択回路１０３に行を選択する機能に加え、電流を制限する機能を持たせることができる。この場合、電流制限回路１０５ｂを別途設ける必要がなくなり、面積を削減することができる。
【０２９３】
なお、図２９のＰ型ＭＯＳトランジスタＭＰ３の閾値電圧をＶｔｈ＿ＭＰ３としているが、これはソース電圧が基板電圧に比べ下降した状態、すなわち基板バイアス効果が効いた状態での閾値電圧を指している。ＶＣＬだけでなく、（式３）、（式４）の関係を満たすように閾値電圧Ｖｔｈ＿ＭＰ３を他のトランジスタより低く設定することも、動作電圧の低減には有効となる。
【０２９４】
図２５、２８、２９のように電流制限回路を設ける場合、回路を設計する際に、電流制限回路を構成するＭＯＳトランジスタのサイズを適切に選択することにより、より簡便に電流制限を実現することが可能である。
【０２９５】
具体的には、第１ＨＲ化駆動回路１０５ｃ１を構成するＰ型ＭＯＳトランジスタのゲート幅をＷ２、ゲート長をＬ２とし、第２ＨＲ化駆動回路１０５ａ２を構成するＮ型ＭＯＳトランジスタのゲート幅をＷ４、ゲート長をＬ４とするとき、抵抗変化素子を高抵抗化する場合の駆動回路の電流能力は、Ｗ２／Ｌ２、Ｗ４／Ｌ４の内の、小さい方で規定される。
【０２９６】
抵抗変化素子を低抵抗化する際に使用する電流制限回路１０５ｂを構成するＭＯＳトランジスタのゲート幅をＷＣ、ゲート長をＬＣとするとき、電流制限回路の電流能力は、ＷＣ／ＬＣで規定されるが、電流制限回路の電流能力が、抵抗変化素子を高抵抗化する場合の駆動回路の電流能力より小さくなるように、すなわち、
Ｗ２／Ｌ２＞ＷＣ／ＬＣ、かつＷ４／Ｌ４＞ＷＣ／ＬＣ  ・・・（式５）
を満たすように、電流制限回路のトランジスタサイズを設計することにより、抵抗変化素子を低抵抗化する場合の駆動回路の電流能力を、抵抗変化素子を高抵抗化する場合の駆動回路の電流能力より小さく制限することが可能である。
【０２９７】
また、電流制限回路を構成するＭＯＳトランジスタのサイズを（式５）を満たすように設計し、加えて電流制限回路１０５ｂを構成するＭＯＳトランジスタのゲート電圧を、低抵抗化する場合の駆動回路の電流能力が、抵抗変化素子を高抵抗化する場合の駆動回路の電流能力より小さくなるよう制御することにより、より精度良く抵抗変化素子に抵抗値を設定することが可能なことは、いうまでもない。
【０２９８】
次に、第１の実施形態における抵抗変化型不揮発性記憶装置１００にデータを書き込む場合の、書き込みサイクルでの動作例について、図３１に示すタイミング図を参照しながら説明する。
【０２９９】
図３１（ａ）、図３１（ｂ）は、本発明の第１の実施の形態に係る不揮発性記憶装置の動作例を示すタイミング図である。図３１（ａ）は、データ「０」すなわち低抵抗状態を書き込む（ＬＲ化）場合を、図３１（ｂ）は、データ「１」すなわち高抵抗状態を書き込む（ＨＲ化）場合を示している。
【０３００】
以下において、説明はメモリセルＭ１１が選択され、データの書き込み及び読み出しが行われる場合についてのみ示す。Ｍ１１が選択セルとなる場合、Ｍ１２はワード線が選択電位、ビット線が非選択電位となる非選択セルであり、Ｍ２１はワード線が非選択電位、ビット線が選択電位となる非選択セルであり、Ｍ２２はワード線もビット線も非選択電位となる非選択セルである。
【０３０１】
図３１（ａ）、図３１（ｂ）では、選択セルＭ１１に流れる電流とあわせて、非選択セルＭ１２、Ｍ２１、Ｍ２２に流れる電流も示している。また電流波形は、ワード線からビット線の方向、すなわち抵抗変化素子の第２電極から第１電極の方向に流れる電流を正極性としている。
【０３０２】
以下、図３１（ａ）、図３１（ｂ）について、Ｔ１〜Ｔ４の期間に分けて、その動作を説明する。なお、図３１において、ＶＤＤは抵抗変化型不揮発性記憶装置１００に供給される電源電圧に対応している。
【０３０３】
図３１（ａ）に示すメモリセルＭ１１に対するデータ「０」書き込みサイクルにおいては、期間Ｔ１において、全ワード線（ＷＬ１およびＷＬ２）をＶＰＲ＿ＷＬに、全ビット線（ＢＬ１およびＢＬ２）を電圧ＶＰＲ＿ＢＬにプリチャージしておく。なお、プリチャージ電圧は、ワード線およびビット線の最大振幅の概ね中間電圧が設定されている。
【０３０４】
Ｔ１に続くＴ２は、まだ抵抗変化素子Ｒ１１が高抵抗状態にある期間で、行選択回路１０３でワード線ＷＬ１を、列選択回路１０４でビット線ＢＬ１を選択し、第１ＬＲ化駆動回路１０５ａ１を使用して選択ビット線ＢＬ１をＶＬＲに駆動し、第２ＬＲ化駆動回路１０５ｃ２を使用して選択ワード線ＷＬ１を０Ｖに駆動する。時間経過とともにＢＬ１の電位が上昇、ＷＬ１の電位が降下するが、ワード線ＷＬ１は比較的高速に降下するのに対し、電流制限回路１０５ｂを介して駆動されるビット線ＢＬ１は緩やかに上昇する。また、ビット線ＢＬ１の電位は、電流制限回路１０５ｂを介しているため、ＶＬＲまでは上昇しない。
【０３０５】
Ｔ３は、書き込み、すなわち抵抗変化が生じ、低抵抗状態に遷移する期間を示している。Ｔ３では、選択セルＭ１１に流れる電流値が増加して、抵抗変化素子Ｒ１１（図２２の２１３）に、第２電極２０９を基準にして第１電極２０７に抵抗変化素子の低抵抗化電圧ＶＬｔｈとなる絶対値を持つ電圧が抵抗変化素子Ｒ１１に印加された時点で、高抵抗値から低抵抗値に書き込みが行われる。低抵抗化すると共に、メモリセルＭ１１に流れる電流は増加するが、電流制限回路１０５ｂがあるため、電流値は一定値以上増加しない。そのため、抵抗値が一定の値で低抵抗化は留まる。なお、図３１（ａ）では電流の増加の方向は下向きにとっている。
【０３０６】
その後Ｔ４期間では、ワード線、ビット線の選択を解除し、全ワード線をＶＰＲ＿ＷＬに、全ビット線を電圧ＶＰＲ＿ＢＬにプリチャージして、データ「０」の書き込みが完了する。
【０３０７】
図３１（ｂ）に示すメモリセルＭ１１に対するデータ「１」書き込みサイクルにおいては、期間Ｔ１において、全ワード線をＶＰＲ＿ＷＬに、全ビット線を電圧ＶＰＲ＿ＢＬにプリチャージしておく。なお、プリチャージ電圧は、ワード線およびビット線の最大振幅の概ね中間電圧が設定されている。
【０３０８】
Ｔ１に続くＴ２は、まだ抵抗変化素子Ｒ１１が低抵抗状態にある期間で、行選択回路１０３でワード線ＷＬ１を、列選択回路１０４でビット線ＢＬ１を選択し、第１ＨＲ化駆動回路１０５ｃ１を使用して選択ワード線ＷＬ１をＶＨＲに駆動し、第２ＨＲ化駆動回路１０５ａ２を使用して選択ビット線ＢＬ１を０Ｖに駆動する。時間経過とともにＷＬ１の電位が上昇、ＢＬ１の電位が降下するが、電流制限回路を介さないため、ワード線ＷＬ１、ビット線ＢＬ１とも、比較的高速に変化する。
【０３０９】
Ｔ３は、書き込み、すなわち抵抗変化が生じ、高抵抗状態に遷移した期間を示している。Ｔ３では、選択セルＭ１１に流れる電流値が増加して、抵抗変化素子Ｒ１１（図２２の２１３）に、第１電極２０７を基準にして第２電極２０９に抵抗変化素子の高抵抗化電圧ＶＨｔｈを超える絶対値を持つ電圧が印加された時点で、低抵抗値から高抵抗値に書き込みが行われる。
【０３１０】
その後Ｔ４期間では、ワード線、ビット線の選択を解除し、全ワード線をＶＰＲ＿ＷＬに、全ビット線を電圧ＶＰＲ＿ＢＬにプリチャージして、データ「１」の書き込みが完了する。
【０３１１】
なお、メモリセルＭｉｊは図２２に示す構造に限定されるものではなく、Ｂモード特性を示す次のようなものでもよい。
【０３１２】
図３２（ａ）〜図３２（ｄ）はいずれも、図２２と同様に抵抗変化層を挟む上部電極および下部電極構造において、互いに異なる電極材料からなり、かつ上部電極を下部電極と比べて標準電極電位がより高い材料で構成することにより、Ｂモード動作をするメモリセルの展開例である。
【０３１３】
図３２（ａ）は、第２ビア２０６を設けず、抵抗変化素子２１３と電流制御素子２１２とを接する形で構成したメモリセルである。
【０３１４】
図３２（ｂ）は図３２（ａ）に対し、ＴａＮで構成される電流制御素子２１２の第４電極２０５とＴａＮで構成される抵抗変化素子２１３の第１電極とを、共通にしたメモリセルである。このメモリセルは、電極を共通にできるため、製造が容易となる。
【０３１５】
図３２（ｃ）は、第２ビア２０６と同一径で、抵抗変化素子２１３と電流制御素子２１２を構成したメモリセルである。このメモリセルは、第２ビア２０６と同一径で構成されるため、メモリセルを配線の最小間隔にあわせて配置することが可能となり、小面積化することができる。このメモリセルは、抵抗変化素子２１３および電流制御素子２１２の、積層方向に直交する断面の大きさ（一例としては上記の径）を、ビアと比べて同一またはより小さく形成した一例である。
【０３１６】
図３２（ｄ）は図３２（ｃ）に対し、第２層配線２１１をＰｔで構成することにより、第２層配線を抵抗変化素子２１３の第２電極として使用し、第１層配線２０１をＴａＮで構成することにより、第１層配線を電流制御素子２１２の第３電極として使用している。この場合、抵抗変化素子２１３の第２電極、電流制御素子２１２の第３電極を別途設ける必要がなくなるため、小面積化が可能となる。なお図３２（ｄ）では、第２層配線２１１、第１層配線２０１の双方をメモリセルの両端の電極と共通にする例を示したが、このうちのどちらか一方のみを共通としてもよい。
【０３１７】
以上では、第１層配線２０１の上に電流制御素子２１２、抵抗変化素子２１３、第２層配線２１１の順に構成する場合の構成例を説明したが、図２２、および図３２（ａ）、図３２（ｃ）、図３２（ｄ）の各場合については、第１層配線２０１の上に抵抗変化素子２１３、電流制御素子２１２、第２層配線２１１の順に構成してもよい。そのような構成では、第１層配線２０１の上に、抵抗変化素子２１３の第１電極２０７、抵抗変化層２０８、第２電極２０９、電流制御素子２１２の第３電極２０３、電流制御層２０４、第４電極２０５、および第２層配線２１１が、この順に形成される。
【０３１８】
図３３はＢモード動作をする別な構造のメモリセル２５０の一例を示す。なお図２２と同じものは、同じ記号を付している。
【０３１９】
メモリセル２５０は、図３３に示すように、アルミニウム（Ａｌ）で構成される第１層配線２０１、第１ビア２０２、電流制御素子において窒化タンタル（ＴａＮ）で構成される第３電極２０３、窒素不足型窒化シリコンで構成される電流制御層２０４、電流制御素子において窒化タンタル（ＴａＮ）で構成される第４電極２０５、第２ビア２０６、抵抗変化素子において白金（Ｐｔ）で構成される第１電極２０７、酸素含有率の低い第１のタンタル酸化物層２０８ａ、酸素含有率の高い第２のタンタル酸化物層２０８ｂ、抵抗変化素子において白金（Ｐｔ）で構成される第２電極２０９、第３ビア２１０、アルミニウム（Ａｌ）で構成される第２層配線２１１を順に形成して構成されており、第２のタンタル酸化物層２０８ｂを、抵抗変化素子の上部電極である第２電極２０９に接して構成することを特徴としている。
【０３２０】
この構造では、本発明の基礎データに記載した本出願の関連発明中で説明されているように、抵抗変化動作は上部電極である第２電極２０９と第２のタンタル酸化物層２０８ｂとの界面近傍で起こり、その動作はＢモードに対応している。
【０３２１】
図３３で、第１層配線２０１はビット線ＢＬ１に、第２層配線２１１はワード線ＷＬ１に対応しているので、第２層配線２１１の電圧に対し第１層配線２０１の電圧が所定電圧ＶＬｔｈ以上高くなったとき、抵抗変化素子２１３は低抵抗状態に変化し、第１層配線２０１の電圧に対し第２層配線２１１の電圧が所定電圧ＶＨｔｈ以上高くなったとき、抵抗変化素子２１３は高抵抗状態に変化する。
【０３２２】
図３４（ａ）〜図３４（ｃ）はいずれも、図３３と同様に抵抗変化層を挟む上部電極および下部電極構造において、上部電極に接して酸素含有率の高い第２のタンタル酸化物層を配置し、何れもＢモード動作をするメモリセルの展開例である。
【０３２３】
図３４（ａ）は、第２ビア２０６を設けず、抵抗変化素子２１３と電流制御素子２１２とを接する形で構成したメモリセルである。
【０３２４】
図３４（ｂ）は、第２ビア２０６と同一径で、抵抗変化素子２１３と電流制御素子２１２を構成したメモリセルである。このメモリセルは、第２ビア２０６と同一径で構成されるため、メモリセルを配線の最小間隔にあわせて配置することが可能となり、小面積化することができる。このメモリセルは、抵抗変化素子２１３および電流制御素子２１２の、積層方向に直交する断面の大きさ（一例としては上記の径）を、ビアと比べて同一またはより小さく形成した一例である。
【０３２５】
図３４（ｃ）は図３４（ｂ）に対し、第２層配線２１１をＰｔで構成することにより、第２層配線を抵抗変化素子２１３の第２電極として使用し、第１層配線２０１をＴａＮで構成することにより、第１層配線を電流制御素子２１２の第３電極として使用している。この場合、抵抗変化素子２１３の第２電極、電流制御素子２１２の第３電極を別途設ける必要がなくなるため、小面積化が可能となる。なお図３４（ｃ）では、第２層配線２１１、第１層配線２０１の双方をメモリセルの両端の電極と共通にする例を示したが、このうちのどちらか一方のみを共通としてもよい。
【０３２６】
以上では、図２２、図３２、図３３、および図３４について、第１層配線２０１の上に電流制御素子２１２、抵抗変化素子２１３、第２層配線２１１の順に構成する場合の構成例を説明したが、第１層配線２０１の上に抵抗変化素子２１３、電流制御素子２１２、第２層配線２１１の順に構成してもよい。そのような構成では、第１層配線２０１の上に、抵抗変化素子２１３の第１電極２０７、抵抗変化層２０８、第２電極２０９、電流制御素子２１２の第３電極２０３、電流制御層２０４、第４電極２０５、および第２層配線２１１が、この順に形成される。
【０３２７】
なお、図２２や図３２（ａ）〜図３２（ｄ）の電極構成のように、標準電極電位がより高い材料で上部電極を構成し、それに接して図３３や図３４（ａ）〜図３４（ｃ）で示した酸素含有率の高い第２のタンタル酸化物層を配置するという、異電極と、濃度の異なるタンタル酸化物層とを組み合せた構造でもよいことは、いうまでもない。
【０３２８】
さらに、第３電極２０３あるいは第３電極２０３および電流制御層２０４は、それぞれ第１層配線２０１上に同じ配線形状で形成してもよい。また、第２電極２０９も、第２層配線２１１の下に、同じ配線形状で形成してもよい。
【０３２９】
［本発明の第２の実施形態における抵抗変化型不揮発性記憶装置］
次に、本発明の第２の実施形態として、第１の実施形態とは異なる抵抗変化型不揮発性記憶装置について説明する。第２の実施形態は、第１の実施形態においてメモリセルをＡモードとしたものであり、以下、第１の実施形態と同様となる回路、動作等の説明は、適宜省略する。
【０３３０】
図３５は、本発明の第２の実施形態に係る不揮発性記憶装置の構成を示すブロック図である。第２の実施形態は、抵抗変化現象が抵抗変化素子の下部電極近傍で生じると考えられるＡモード動作が生じるメモリセルの構成と、それに最適な制御回路を示すものである。
【０３３１】
図３５において、抵抗変化型不揮発性記憶装置１２０は、半導体基板上に、メモリ本体部１２１を備えており、メモリ本体部１２１は、メモリセルアレイ１２２と、行選択回路１０３と、列選択回路１０４と、書き込み回路１０５と、選択ビット線に流れる電流量を検出し、記憶されているデータが「１」か「０」かを判定する読み出し回路１０６と、端子ＤＱを介して入出力データの入出力処理を行うデータ入出力回路１０７とを備えている。
【０３３２】
また、抵抗変化型不揮発性記憶装置１２０の外部より与えられるアドレス信号を入力とし、所定のアドレスを選択指示するアドレス入力回路１０８と、制御信号を入力とする制御回路１０９の出力がメモリ本体部１２１に供給され、その動作を制御している。
【０３３３】
メモリセルアレイ１２２は、Ｍ行Ｎ列（Ｍ、Ｎは自然数。図３５では２行２列の４ビット分のみ図示）のマトリクス状にメモリセルＭｉｊ（ｉ≦Ｍ、ｊ≦Ｎなる自然数。以下同じものは省略）が配列されている。メモリセルＭｉｊは、抵抗変化素子Ｒｉｊの一端と、正負の双方向に閾値電圧を有する電流制御素子Ｄｉｊの一端とを、互いに直列に接続して構成されている。抵抗変化素子Ｒｉｊの他端はビット線ＢＬｊに、電流制御素子Ｄｉｊの他端はワード線ＷＬｉに接続されている。
【０３３４】
本構成では、ビット線ＢＬｊが下層の配線で構成され、紙面内の上下方向に配置されるとすると、ワード線ＷＬｉはビット線ＢＬｊより上層の配線で構成され、紙面内の左右方向に配置される。また抵抗変化素子Ｒｉｊは、抵抗変化現象が抵抗変化素子の下部電極近傍で生じるＡモードの特性になる構造で構成されている。
【０３３５】
ワード線ＷＬｉは、行選択回路１０３に接続され、読み出しまたは書き込みモードにおいて択一的に行選択が行われる。
【０３３６】
またビット線ＢＬｊは、列選択回路１０４に接続され、読み出しまたは書き込みモードにおいて択一的に列選択が行われる。
【０３３７】
データ入出力回路１０７は、書き込みモードにおいて、データ入力信号Ｄｉｎのデータ“０”またはデータ“１”の書き込み指示に従って、選択されたメモリセルＭｉｊ内の抵抗変化素子Ｒｉｊに対し、低抵抗化または高抵抗化の書き込みを行う。本実施例では、データ“０”書き込みを低抵抗化書き込みに、データ“１”書き込みを高抵抗化書き込みに対応させてある。
【０３３８】
書き込み回路１０５はデータ入出力回路１０７と接続され、データ“０”書き込み、すなわち低抵抗化書き込みを行うときにハイレベルを駆動する第１ＬＲ化駆動回路１０５ａ１、その出力を入力とする電流制限回路１０５ｂ、およびロウレベルを駆動する第２ＬＲ化駆動回路１０５ｃ２を有している。また、データ“１”書き込み、すなわち高抵抗化書き込みを行うときにハイレベルを駆動する第１ＨＲ化駆動回路１０５ｃ１、およびロウレベルを駆動する第２ＨＲ化駆動回路１０５ａ２を有している。
【０３３９】
そして、低抵抗化書き込みを行うときは、電流制限回路１０５ｂにより電流制限した信号を、行選択回路１０３を介して選択ワード線ＷＬｉに供給する。一方、高抵抗化書き込みを行うときは、電流制限機能を有しない第１ＨＲ化駆動回路１０５ｃ１で列選択回路１０４を介して選択ビット線ＢＬｊに信号を供給することを一つの特徴としている。
【０３４０】
このように構成される抵抗変化型不揮発性記憶装置１２０において、ワード線ＷＬｉおよびビット線ＢＬｊが、それぞれ本発明の第１信号線および第２信号線の一例である。第１ＬＲ化駆動回路１０５ａ１、第１ＨＲ化駆動回路１０５ｃ１、第２ＬＲ化駆動回路１０５ｃ２、および第２ＨＲ化駆動回路１０５ａ２が、それぞれ本発明の第１駆動回路、第２駆動回路、第３駆動回路、および第４駆動回路の一例である。電流制限回路１０５ｂが、本発明の電流制限回路の一例である。また、行選択回路１０３および列選択回路１０４が、それぞれ本発明の第１選択回路および第２選択回路の一例である。
【０３４１】
図３６は、図３５においてＡで示す、メモリセルＭ１１の構成を示す断面図である。
【０３４２】
電流制御素子２１２、抵抗変化素子２１３は、各々、図３５における電流制御素子Ｄ１１、抵抗変化素子Ｒ１１に対応している。
【０３４３】
メモリセル２２０は、図３６に示すように、アルミニウム（Ａｌ）で構成される第１層配線２０１、第１ビア２０２、抵抗変化素子において白金（Ｐｔ）で構成される第２電極２０９、酸素不足型タンタル酸化物で構成される抵抗変化層２０８、抵抗変化素子において窒化タンタル（ＴａＮ）で構成される第１電極２０７、第２ビア２０６、電流制御素子において窒化タンタル（ＴａＮ）で構成される第４電極２０５、窒素不足型窒化シリコンで構成される電流制御層２０４、電流制御素子においてＴａＮで構成される第３電極２０３、第３ビア２１０、アルミニウム（Ａｌ）で構成される第２層配線２１１を順に形成して構成されており、抵抗変化素子の第１電極２０７と第２電極２０９とは異なる材料で構成されている。
【０３４４】
ここで、ビット線ＢＬｊ側に接続されているより下層の第２電極２０９を、ワード線ＷＬｉ側に接続される第１電極２０７に比べ標準電極電位がより高い材料であるＰｔで構成することを、もう一つの特徴としている。
【０３４５】
このメモリセル構造では、本発明の基礎データでも説明したように、抵抗変化動作は、第１電極を構成するＴａＮよりも高い標準電極電位を有するＰｔで構成される第２電極と、抵抗変化層２０８との界面近傍で起こり、その動作はＡモードに対応している。
【０３４６】
図３６で、第１層配線２０１はビット線ＢＬ１に、第２層配線２１１はワード線ＷＬ１に対応しているので、第１層配線２０１の電圧に対し第２層配線２１１の電圧が所定電圧ＶＬｔｈ以上高くなったとき、抵抗変化素子２１３は低抵抗状態に変化し、第２層配線２１１の電圧に対し第１層配線２０１の電圧が所定電圧ＶＨｔｈ以上高くなったとき、抵抗変化素子２１３は高抵抗状態に変化する。
【０３４７】
書き込み回路１０５の具体回路は、図２３と同様である。
【０３４８】
書き込みモードにおいて、データ“０”書き込み、すなわち低抵抗書き込みが指示されると、Ｃ＿ＮＬＲがロウレベル、Ｃ＿ＬＲがハイレベルに設定され、第１ＬＲ化駆動回路１０５ａ１のＰ型ＭＯＳトランジスタＭＰ１と、第２ＬＲ化駆動回路１０５ｃ２のＮ型ＭＯＳトランジスタＭＮ２がオンし、第１ＬＲ化駆動回路１０５ａ１の出力電流がワード線ＷＬｉ、メモリセルＭｉｊ、ビット線ＢＬｊを主経路とし、第２ＬＲ化駆動回路１０５ｃ２に流れ込む電流経路が形成される。
【０３４９】
また、電流制限回路１０５ｂの出力は、Ｎ型ＭＯＳトランジスタＭＮ３で電流制限されるとともに、その出力電圧ＶＬＲ＿Ｏは、ＭＮ３の閾値電圧をＶｔｈ＿ＭＮ３とすると、ＶＣＬ−Ｖｔｈ＿ＭＮ３の電圧に上限が制限される。それとともに、ソースフォロワ特性を持つため、低抵抗化書き込み電源ＶＬＲを一定電圧以上に設定すると、定電流源として動作する。
【０３５０】
書き込みモードにおいてデータ“１”書き込み、すなわち高抵抗書き込みが指示されると、Ｃ＿ＮＨＲがロウレベル、Ｃ＿ＨＲがハイレベルに設定され、第１ＨＲ化駆動回路１０５ｃ１のＰ型ＭＯＳトランジスタＭＰ２と、第２ＨＲ化駆動回路１０５ａ２のＮ型ＭＯＳトランジスタＭＮ１がオンし、第１ＨＲ化駆動回路１０５ｃ１の出力電流がビット線ＢＬｊ、メモリセルＭｉｊ、ワード線ＷＬｉを主経路とし、第２ＨＲ化駆動回路１０５ａ２に流れ込む電流経路が形成される。電流経路に電流制限回路を含まないため、高抵抗化書き込み電源ＶＨＲの増加に従い、電流は単調に増加する。
【０３５１】
［本発明の第２の実施形態における抵抗変化型不揮発性記憶装置の動作］
以上の様に構成された抵抗変化型不揮発性記憶装置１２０について、その動作を説明する。
【０３５２】
図３５のメモリセルＭ１１に対し、電圧を印加した場合の電圧、電流の関係は、第１の実施形態、すなわち図２４の場合と同様である。但しこの場合、メモリセルＭ１１（図３６における２２０）はＡモードで動作するため、図３６における第２層配線２１１に対し、第１層配線２０１が高い電位となる極性が正となる。
【０３５３】
第２の実施形態における書き込み回路１０５の特性は、第１の実施形態の場合、すなわち図２５と同様であり、電流制限回路１０５ｂのＮ型ＭＯＳトランジスタＭＮ３の設定条件は、図２４、図２５から同様に求めることが可能であるため、ここでは説明は省略する。
【０３５４】
また、第１の実施形態の場合と同様、電流制限回路１０５ｂは、第２ＬＲ化駆動回路１０５ｃ２側に設けてもよい。同様に、電流制限回路１０５ｂを、抵抗変化素子の第１電極と書き込み回路１０５との間に配置すること、Ｐ型ＭＯＳトランジスタで構成すること、抵抗変化素子の第２電極と書き込み回路１０５との間に配置することも可能である。
【０３５５】
次に、第２の実施形態における抵抗変化型不揮発性記憶装置１２０にデータを書き込む場合の、書き込みサイクルでの動作例について、図３７に示すタイミング図を参照しながら説明する。
【０３５６】
図３７（ａ）、図３７（ｂ）は、本発明の実施の形態に係る不揮発性記憶装置の動作例を示すタイミング図である。図３７（ａ）は、データ「０」すなわち低抵抗状態を書き込む場合を、図３７（ｂ）は、データ「１」すなわち高抵抗状態を書き込む場合を示している。
【０３５７】
以下において、説明はメモリセルＭ１１が選択され、データの書き込み及び読み出しが行われる場合についてのみ示す。Ｍ１１が選択セルとなる場合、Ｍ１２はワード線が選択電位、ビット線が非選択電位となる非選択セル、Ｍ２１はワード線が非選択電位、ビット線が選択電位となる非選択セル、Ｍ２２はワード線もビット線も非選択電位となる非選択セルとなる。図３７（ａ）、図３７（ｂ）では、選択セルＭ１１に流れる電流とあわせて、非選択セルＭ１２、Ｍ２１、Ｍ２２に流れる電流も示している。また電流波形は、ワード線からビット線の方向、すなわち抵抗変化素子の第１電極から第２電極の方向に流れる電流を正極性としている。
【０３５８】
以下、図３７について、Ｔ１〜Ｔ４の期間に分けて、その動作を説明する。なお、図３７において、ＶＤＤは抵抗変化型不揮発性記憶装置１２０に供給される電源電圧に対応している。
【０３５９】
図３７（ａ）に示すメモリセルＭ１１に対するデータ「０」書き込みサイクルにおいては、期間Ｔ１において、全ワード線をＶＰＲ＿ＷＬに、全ビット線を電圧ＶＰＲ＿ＢＬにプリチャージしておく。なお、プリチャージ電圧は、ワード線およびビット線の最大振幅の概ね中間電圧が設定されている。
【０３６０】
Ｔ１に続くＴ２は、まだ抵抗変化素子Ｒ１１が高抵抗状態にある期間で、行選択回路１０３でワード線ＷＬ１を、列選択回路１０４でビット線ＢＬ１を選択し、第１ＬＲ化駆動回路１０５ａ１を使用して選択ワード線ＷＬ１をＶＬＲに駆動し、第２ＬＲ化駆動回路１０５ｃ２を使用して選択ビット線ＢＬ１を０Ｖに駆動する。時間経過とともにＷＬ１の電位が上昇、ＢＬ１の電位が降下するが、ビット線ＢＬ１は比較的高速に降下するのに対し、電流制限回路１０５ｂを介して駆動されるワード線ＷＬ１は緩やかに上昇する。
【０３６１】
Ｔ３は、書き込み、すなわち抵抗変化が生じ、低抵抗状態に遷移した期間を示している。Ｔ３では、選択セルＭ１１に流れる電流値が増加して、抵抗変化素子２１３に第２電極２０９を基準にして第１電極２０７に、抵抗変化素子の低抵抗化電圧ＶＬｔｈとなる絶対値を持つ電圧が抵抗変化素子Ｒ１１に印加された時点で、高抵抗値から低抵抗値に書き込みが行われる。低抵抗化すると共に、メモリセルＭ１１に流れる電流は増加するが、電流制限回路１０５ｂがあるため、電流値は一定値以上増加しない。そのため、抵抗値が一定の値で低抵抗化は留まる。
【０３６２】
その後Ｔ４期間では、ワード線、ビット線の選択を解除し、全ワード線をＶＰＲ＿ＷＬに、全ビット線を電圧ＶＰＲ＿ＢＬにプリチャージして、データ「０」の書き込みが完了する。
【０３６３】
図３７（ｂ）に示すメモリセルＭ１１に対するデータ「１」書き込みサイクルにおいては、期間Ｔ１において、全ワード線をＶＰＲ＿ＷＬに、全ビット線を電圧ＶＰＲ＿ＢＬにプリチャージしておく。なお、プリチャージ電圧は、ワード線およびビット線の最大振幅の概ね中間電圧が設定されている。
【０３６４】
Ｔ１に続くＴ２は、まだ抵抗変化素子Ｒ１１が低抵抗状態にある期間で、行選択回路１０３でワード線ＷＬ１を、列選択回路１０４でビット線ＢＬ１を選択し、第１ＨＲ化駆動回路１０５ｃ１を使用して選択ビット線ＢＬ１をＶＨＲに駆動し、第２ＨＲ化駆動回路１０５ａ２を使用して選択ワード線ＷＬ１を０Ｖに駆動する。時間経過とともにＢＬ１の電位が上昇、ＷＬ１の電位が降下するが、電流制限回路を介さないため、ワード線ＷＬ１、ビット線ＢＬ１とも、比較的高速に変化する。
【０３６５】
Ｔ３は、書き込み、すなわち抵抗変化が生じ、高抵抗状態に遷移した期間を示している。Ｔ３では、選択セルＭ１１に流れる電流値が増加して、抵抗変化素子２１３に第１電極２０７を基準にして第２電極２０９に、抵抗変化素子の高抵抗化電圧ＶＨｔｈを超える絶対値を持つ電圧が印加された時点で、低抵抗値から高抵抗値に書き込みが行われる。
【０３６６】
その後Ｔ４期間では、ワード線、ビット線の選択を解除し、全ワード線をＶＰＲ＿ＷＬに、全ビット線を電圧ＶＰＲ＿ＢＬにプリチャージして、データ「１」の書き込みが完了する。
【０３６７】
なお、メモリセルＭｉｊは図３６に示す構造に限定されるものではなく、Ａモード特性を示す次のようなものでもよい。
【０３６８】
図３８（ａ）〜図３８（ｄ）はいずれも、図３６と同様に抵抗変化層を挟む上部電極および下部電極構造において、互いに異なる電極材料からなり、かつ下部電極を上部電極と比べて標準電極電位がより高い材料で構成することにより、Ａモード動作をするメモリセルの展開例である。
【０３６９】
図３８（ａ）は、第２ビア２０６を設けず、抵抗変化素子２１３と電流制御素子２１２とを接する形で構成したメモリセルである。
【０３７０】
図３８（ｂ）は図３８（ａ）に対し、ＴａＮで構成される電流制御素子２１２の第４電極２０５とＴａＮで構成される抵抗変化素子２１３の第１電極とを、共通にしたメモリセルである。このメモリセルは、電極を共通にできるため、製造が容易となる。
【０３７１】
図３８（ｃ）は、第２ビア２０６と同一径で、抵抗変化素子２１３と電流制御素子２１２を構成したメモリセルである。このメモリセルは、第２ビア２０６と同一径で構成されるため、メモリセルを配線の最小間隔にあわせて配置することが可能となり、小面積化することができる。このメモリセルは、抵抗変化素子２１３および電流制御素子２１２の、積層方向に直交する断面の大きさ（一例としては上記の径）を、ビアと比べて同一またはより小さく形成した一例である。
【０３７２】
図３８（ｄ）は図３８（ｃ）に対し、第１層配線２０１をＰｔで構成することにより、第１層配線を抵抗変化素子２１３の第２電極として使用し、第２層配線２１１をＴａＮで構成することにより、第２層配線を電流制御素子２１２の第３電極として使用している。この場合、抵抗変化素子２１３の第２電極、電流制御素子２１２の第３電極を別途設ける必要がなくなるため、小面積化が可能となる。なお図３８（ｄ）では、第２層配線２１１、第１層配線２０１の双方をメモリセルの両端の電極と共通にする例を示したが、このうちのどちらか一方のみを共通としてもよい。
【０３７３】
以上では、第１層配線２０１の上に抵抗変化素子２１３、電流制御素子２１２、第２層配線２１１の順に構成する場合の構成例を説明したが、図３６、および図３８（ａ）、図３８（ｃ）、図３８（ｄ）の各場合については、第１層配線２０１の上に電流制御素子２１２、抵抗変化素子２１３、第２層配線２１１の順に構成してもよい。そのような構成では、第１層配線２０１の上に、電流制御素子２１２の第４電極２０５、電流制御層２０４、第３電極２０３、抵抗変化素子２１３の第２電極２０９、抵抗変化層２０８、第１電極２０７、および第２層配線２１１が、この順に形成される。
【０３７４】
図３９はＡモード動作をする別な構造のメモリセル２７０の一例を示す。なお図３６と同じものは、同じ記号を付している。
【０３７５】
メモリセル２７０は、図３９に示すように、アルミニウム（Ａｌ）で構成される第１層配線２０１、第１ビア２０２、抵抗変化素子において白金（Ｐｔ）で構成される第２電極２０９、酸素含有率の高い第２のタンタル酸化物層２０８ｂ、酸素含有率の低い第１のタンタル酸化物層２０８ａ、抵抗変化素子において白金（Ｐｔ）で構成される第１電極２０７、第２ビア２０６、電流制御素子において窒化タンタル（ＴａＮ）で構成される第４電極２０５、窒素不足型窒化シリコンで構成される電流制御層２０４、電流制御素子においてＴａＮで構成される第３電極２０３、第３ビア２１０、アルミニウム（Ａｌ）で構成される第２層配線２１１を順に形成して構成されており、第２のタンタル酸化物層２０８ｂを、抵抗変化素子の下部電極である第２電極２０９に接して構成することを特徴としている。
【０３７６】
この構造では、本発明の基礎データに記載した本出願の関連発明中で説明されているように、抵抗変化動作は下部電極である第２電極２０９と第２のタンタル酸化物層２０８ｂとの界面近傍で起こり、その動作はＡモードに対応している。
【０３７７】
図３９で、第１層配線２０１はビット線ＢＬ１に、第２層配線２１１はワード線ＷＬ１に対応しているので、第１層配線２０１の電圧に対し第２層配線２１１の電圧が所定電圧ＶＬｔｈ以上高くなったとき、抵抗変化素子２１３は低抵抗状態に変化し、第２層配線２１１の電圧に対し第１層配線２０１の電圧が所定電圧ＶＨｔｈ以上高くなったとき、抵抗変化素子２１３は高抵抗状態に変化する。
【０３７８】
図４０（ａ）〜図４０（ｃ）はそれぞれ、図３９と同様に抵抗変化層を挟む上部電極および下部電極構造において、下部電極に接して酸素含有率の高い第２のタンタル酸化物層を配置し、何れもＡモード動作をするメモリセルの展開例である。
【０３７９】
図４０（ａ）は、第２ビア２０６を設けず、抵抗変化素子２１３と電流制御素子２１２とを接する形で構成したメモリセルである。
【０３８０】
図４０（ｂ）は、第２ビア２０６と同一径で、抵抗変化素子２１３と電流制御素子２１２を構成したメモリセルである。このメモリセルは、第２ビア２０６と同一径で構成されるため、メモリセルを配線の最小間隔にあわせて配置することが可能となり、小面積化することができる。このメモリセルは、抵抗変化素子２１３および電流制御素子２１２の、積層方向に直交する断面の大きさ（一例としては上記の径）を、ビアと比べて同一またはより小さく形成した一例である。
【０３８１】
図４０（ｃ）は図４０（ｂ）に対し、第１層配線２０１をＰｔで構成することにより、第１層配線を抵抗変化素子２１３の第２電極として使用し、第２層配線２１１をＴａＮで構成することにより、第２層配線を電流制御素子２１２の第３電極として使用している。この場合、抵抗変化素子２１３の第２電極、電流制御素子２１２の第３電極を別途設ける必要がなくなるため、小面積化が可能となる。なお図４０（ｃ）では、第２層配線２１１、第１層配線２０１の双方をメモリセルの両端の電極と共通にする例を示したが、このうちのどちらか一方のみを共通としてもよい。
【０３８２】
以上では、図３９、および図４０について、第１層配線２０１の上に抵抗変化素子２１３、電流制御素子２１２、第２層配線２１１の順に構成する場合の構成例を説明したが、第１層配線２０１の上に電流制御素子２１２、抵抗変化素子２１３、第２層配線２１１の順に構成してもよい。そのような構成では、第１層配線２０１の上に、電流制御素子２１２の第４電極２０５、電流制御層２０４、第３電極２０３、抵抗変化素子２１３の第２電極２０９、抵抗変化層２０８、第１電極２０７、および第２層配線２１１が、この順に形成される。
【０３８３】
なお、図３６や図３８（ａ）〜図３８（ｄ）の電極構成の様に、標準電極電位がより高い材料で下部電極を構成し、それに接して図３９や図４０（ａ）〜図４０（ｃ）で示した酸素含有率の高い第２のタンタル酸化物層を配置するという、異電極と、濃度の異なるタンタル酸化物層とを組み合せた構造でもよいことは、いうまでもない。さらに、第１電極２０３あるいは第１電極２０３および電流制御層２０４は、それぞれ、第２層配線２１１下に同じ配線形状で形成してもよい。また、第２電極２０９も、第１層配線２０１の上に、同じ配線形状で形成してもよい。
【０３８４】
なお、上述した実施形態においては、抵抗変化層としての遷移金属酸化物としては、タンタル酸化物、ハフニウム酸化物の場合について説明したが、例えば、ジルコニウム酸化物などの他の遷移金属酸化物についても同様に適用できる。また、上下電極間に挟まれる遷移金属酸化物層としては、抵抗変化を発現する主たる抵抗変化層として、タンタル、ハフニウム、ジルコニウム等の酸化物層が含まれていればよく、これ以外に例えば微量の他元素が含まれていても構わない。抵抗値の微調整等で、他元素を少量、意図的に含めることも可能であり、このような場合も本発明の範囲に含まれるものである。また、スパッタリングにて抵抗膜を形成した際に、残留ガスや真空容器壁からのガス放出などにより、意図しない微量の元素が抵抗膜に混入することがあるが、このような微量の元素が抵抗膜に混入した場合も本発明の範囲に含まれることは当然である。
【産業上の利用可能性】
【０３８５】
本発明の抵抗変化型不揮発性記憶装置は、高い信頼性と安定した書き換え特性とを有しており、デジタル家電、メモリカード、携帯型電話機、およびパーソナルコンピュータなどの種々の電子機器に用いられる不揮発性メモリ装置として有用である。
【符号の説明】
【０３８６】
１００、１２０    抵抗変化型不揮発性記憶装置
１０１、１２１    メモリ本体部
１０２、１２２    メモリセルアレイ
１０３    行選択回路
１０４    列選択回路
１０５    書き込み回路
１０５ａ１  第１ＬＲ化駆動回路
１０５ａ２  第２ＨＲ化駆動回路
１０５ｂ  電流制限回路
１０５ｃ１  第１ＨＲ化駆動回路
１０５ｃ２  第２ＬＲ化駆動回路
１０６    読み出し回路
１０７    データ入出力回路
１０８    アドレス入力回路
１０９    制御回路
２００、２２０、２５０、２７０、１００１、１２８０    メモリセル
２０１    第１層配線
２０２    第１ビア
２０３    第３電極
２０４    電流制御層
２０５    第４電極
２０６    第２ビア
２０７    第１電極
２０８、１２３０、３３０２    抵抗変化層
２０８ａ  第１のタンタル酸化物層
２０８ｂ  第２のタンタル酸化物層
２０９    第２電極
２１０    第３ビア
２１１    第２層配線
２１２    電流制御素子
２１３、１００３、１２６０    抵抗変化素子
５００    不揮発性記憶素子
５０１    単結晶シリコン基板
５０２    酸化物層
５０３、１２５０、１４０１、１５０１、３３０１    下部電極
５０４    酸素不足型の遷移金属（Ｔａ又はＨｆ）の酸化物層
５０５、１２４０、１４０３、１５０３、３３０３    上部電極
５０６    素子領域
１００２    トランジスタ
１２００    不揮発性記憶装置
１２１０    ビット線
１２２０    ワード線
１２７０    ダイオード素子
１４０２、１５０２  酸素不足型のＴａ酸化物層
１４０４、１５０４  酸素イオン
【図１】
2010119671.tif 000005
【図２】
2010119671.tif 000006
【図３】
2010119671.tif 000007
【図４】
2010119671.tif 000008
【図５】
2010119671.tif 000009
【図６】
2010119671.tif 000010
【図７】
2010119671.tif 000011
【図８】
2010119671.tif 000012
【図９】
2010119671.tif 000013
【図１０】
2010119671.tif 000014
【図１１】
2010119671.tif 000015
【図１２】
2010119671.tif 000016
【図１３】
2010119671.tif 000017
【図１４】
2010119671.tif 000018
【図１５】
2010119671.tif 000019
【図１６】
2010119671.tif 000020
【図１７】
2010119671.tif 000021
【図１８】
2010119671.tif 000022
【図１９】
2010119671.tif 000023
【図２０】
2010119671.tif 000024
【図２１】
2010119671.tif 000025
【図２２】
2010119671.tif 000026
【図２３】
2010119671.tif 000027
【図２４】
2010119671.tif 000028
【図２５】
2010119671.tif 000029
【図２６】
2010119671.tif 000030
【図２７】
2010119671.tif 000031
【図２８】
2010119671.tif 000032
【図２９】
2010119671.tif 000033
【図３０】
2010119671.tif 000034
【図３１】
2010119671.tif 000035
【図３２】
2010119671.tif 000036
【図３３】
2010119671.tif 000037
【図３４】
2010119671.tif 000038
【図３５】
2010119671.tif 000039
【図３６】
2010119671.tif 000040
【図３７】
2010119671.tif 000041
【図３８】
2010119671.tif 000042
【図３９】
2010119671.tif 000043
【図４０】
2010119671.tif 000044
【図４１】
2010119671.tif 000045
【図４２】
2010119671.tif 000046
【図４３】
2010119671.tif 000047
【図４４】
2010119671.tif 000048
【手続補正書】
【提出日】平成22年9月16日(2010.9.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電気的信号に基づいて可逆的に抵抗値が変化する抵抗変化素子と電流制御素子とで構成されたメモリセルを有する抵抗変化型不揮発性記憶装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、抵抗変化素子を用いて構成されたメモリセルを有する不揮発性記憶装置の研究開発が進んでいる。抵抗変化素子とは、電気的信号によって抵抗値が可逆的に変化する性質を有し、さらにはこの抵抗値に対応したデータを、不揮発的に記憶することが可能な素子をいう。
【０００３】
抵抗変化素子を用いた不揮発性記憶装置として、直交するように配置されたビット線とワード線との交点の位置に、トランジスタと抵抗変化素子とを直列に接続した、いわゆる１Ｔ１Ｒ型と呼ばれるメモリセルをマトリクス状にアレイ配置した不揮発性記憶装置が一般的に知られている。また、さらなる高集積化を目指して、直交するように配置されたビット線とワード線との交点の位置に、電流制御素子として機能するダイオード素子と、抵抗変化素子とを直列に接続した、いわゆる１Ｄ１Ｒ型クロスポイントメモリと呼ばれるメモリセルをマトリクス状にアレイ配置した不揮発性記憶装置や、１Ｄ１Ｒ型クロスポイントメモリのメモリセルを多層に積層した不揮発性記憶装置も知られている。
【０００４】
特許文献１では、希土類酸化膜等のアモルファス薄膜を抵抗変化素子として用いた１Ｔ１Ｒ型メモリセルで構成された不揮発性記憶装置が示されている。
【０００５】
図４１は、その中で示されている不揮発性記憶装置のメモリセルの回路図である。
【０００６】
メモリセル１００１は、トランジスタ１００２と抵抗変化素子１００３とを電気的に直列に接続して形成されている。
【０００７】
ここでは、抵抗変化素子１００３に用いる材料として、希土類酸化膜等のアモルファス薄膜が開示されており、電極材料として、銅、銀、亜鉛が開示されている。
【０００８】
図４２は、その中で示されている不揮発性記憶装置のメモリセルに使用されている抵抗変化素子１００３の、電圧−電流変化を示す図である。書き込み時には、図４１のＶ１、Ｖ２間に電位差を与えることにより、抵抗変化素子１００３に＋１．１Ｘ［Ｖ］以上の電圧、及び微小な電流を印加し、抵抗変化素子が高抵抗状態から低抵抗状態へと変化する。消去時には、書き込み時と逆極性の電圧を与えることにより、抵抗変化素子１００３に−１．１Ｘ［Ｖ］の電圧、−１．５Ｙ［Ａ］の電流を印加し、抵抗変化素子が低抵抗状態から高抵抗状態へと変化する。
【０００９】
特許文献１では、書き込み時において、図４１のトランジスタ１００２のゲート電圧を制御する等の方法で、トランジスタ１００２のオン抵抗値を変化させ、抵抗変化素子１００３が低抵抗化するときの電流値を制御することによって、低抵抗化した後の抵抗変化素子１００３の抵抗値を制御できること、その原理を多値メモリに応用することが開示されている。
【００１０】
特許文献２では、ペロブスカイト型結晶構造の材料を抵抗変化素子として用い、バリスタを双方向ダイオード素子として用いた、１Ｄ１Ｒ型クロスポイントのメモリセルで構成された不揮発性記憶装置が示されている。
【００１１】
図４３は、その中で示されている不揮発性記憶装置１２００のメモリセルアレイの模式図である。メモリセル１２８０は、ダイオード素子１２７０と抵抗変化素子１２６０とを電気的に直列に接続して形成されている。１２１０はビット線、１２２０はワード線である。
【００１２】
抵抗変化素子１２６０は、電圧印加によって抵抗値が変化する抵抗変化層１２３０を、上部電極１２４０と下部電極１２５０との間に挟持してなる。
【００１３】
図４４は、ダイオード素子１２７０の電圧−電流特性である。図４４に示す通り、ダイオード素子は双方向性を有し、閾値電圧Ｖｔｈ以上の電圧で急激に電流が増加する非線形、かつ対称な電圧−電流特性を持つ。
【００１４】
ここでは、抵抗変化層１２３０に用いる材料として、マンガン、チタン、ジルコニア、高温超伝導材料、ＬａまたはＰｒの希土類やＬａとＰｒの混晶とＣａやＳｒのアルカリ土類金属やＣａとＳｒの混晶とＭｎＯ３を組み合わせたマンガン酸化物、Ｐｒ１−ｘＣａｘＭｎＯ３（ｘ＝０．３、０．５）が開示され、上部電極１２４０および下部電極１２５０に用いる材料として、Ｐｔ、Ｉｒ、Ｐｈ、Ｐｄ各単体、及び合金、Ｉｒ、Ｒｕ等の酸化物導電体、ＳＲＯ、ＹＢＣＯが開示されている。ダイオード素子に用いる材料、デバイスとしては、酸化亜鉛と微量の酸化ビスマス等の金属酸化物を焼結したＺｎＯバリスタや、ＳｒＴｉＯ３バリスタが開示されている。
【００１５】
そして、書き込み時において、選択ビット線にＶｐｐ、非選択ビット線に１／２Ｖｐｐ、選択ワード線に０Ｖ、非選択ワード線に１／２Ｖｐｐを印加し、消去時において、選択ワード線にＶｐｐ、非選択ワード線に１／２Ｖｐｐ、選択ビット線に０Ｖ、非選択ビット線に１／２Ｖｐｐを印加することが示されている。
【００１６】
このように特許文献２では、１Ｄ１Ｒクロスポイント型メモリセルにおいて、ダイオードとして双方向に電流を流すことのできる非線形素子、例えばバリスタを用いることで、書き換え時に双方向に必要な電流を流すことができ、さらには非選択線に与える電位１／２Ｖｐｐが、非線形素子の閾値電圧Ｖｔｈより低くなるようにこの閾値電圧Ｖｔｈを最適化することで、非選択セルへの漏れ電流の問題が解消され、メモリセルアレイのアレイサイズを大きくでき、高集積化を図れることが示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１７】
【特許文献１】特開２００５−２３５３６０号公報（図１、図２）
【特許文献２】特開２００６−２０３０９８号公報（図２、図４）
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１８】
本願発明者らは、抵抗変化型不揮発性記憶装置の１つとして、酸素不足型の遷移金属酸化物を主たる抵抗変化層材料とする１Ｄ１Ｒ型クロスポイントメモリのメモリセルで構成された抵抗変化型不揮発性記憶装置を検討している。
【００１９】
ここで、酸素不足型の酸化物とは、酸素が化学量論的組成から不足した酸化物をいう。遷移金属の１つであるタンタルの例で言えば、化学量論的な組成を有する酸化物としてＴａ２Ｏ５がある。このＴａ２Ｏ５では、酸素がタンタルの２．５倍含まれており、酸素含有率で表現すると、７１．４％である。この酸素含有率７１．４％よりも酸素含有率が低くなった状態の酸化物、すなわちＴａＯｘと表現したとき、０＜ｘ＜２．５を満足する非化学量論的な組成を有するＴａ酸化物を、酸素不足型のＴａ酸化物と呼ぶ。通常、多くの遷移金属酸化物において、化学量論的組成の酸化物は絶縁体であるが、酸素不足型の酸化物は半導体あるいは導体の特性を示す。
【００２０】
課題を説明するための準備として、酸素不足型のＴａ酸化物を抵抗変化層とする抵抗変化素子について、測定で得られたいくつかの特性を説明する。
【００２１】
図１は、測定に用いた抵抗変化素子の基本構造を示す模式図である。抵抗変化層３３０２に酸素不足型のＴａ酸化物を用い、これをＰｔで構成される下部電極３３０１と、同じくＰｔで構成される上部電極３３０３でサンドイッチしたような上下対称な構造とした。
【００２２】
以下、この不揮発性素子を素子Ａと呼ぶ。なお、素子の名称と電極材料の関係は、実施の形態で説明する素子も含めて、表１に示した。
【００２３】
【表１】
2010119671.tif 000049
【００２４】
図２は、この素子Ａの抵抗変化の様子の一例を示す電流−電圧のヒステリシス特性を示すグラフであり、下部電極３３０１を基準にしたときの上部電極３３０３の電圧を横軸に表し、素子Ａに流れる電流値を縦軸に表している。
【００２５】
図２において、最初、抵抗変化素子が低抵抗状態の電圧０ＶのＯ点にあるとする。下部電極３３０１を基準に上部電極３３０３に正電圧を印加していくと、電流はほぼ電圧に比例して増加し、Ａ点で示す正電圧を超えると急激に電流は減少し、Ｄ点に至る。すなわち低抵抗状態から高抵抗状態へ変化（高抵抗化）している様子を示している。
【００２６】
一方、高抵抗状態のＯ点において、下部電極３３０１を基準に上部電極３３０３に負電圧（上部電極３３０３を基準に下部電極３３０１に正電圧を印加することと等価）を印加していくと、Ｂ点で示す負電圧を超えると急激に電流は増加する。すなわち高抵抗状態から低抵抗状態へ変化（低抵抗化）している様子を示している。なお図２のＣ点で示す状態の最終的に到達する低抵抗値は、特許文献１で開示されている現象と同様に、低抵抗化時（図２のＣ点の状態にあるときに相当する時）に流す電流値に依存して決まる現象も確認されている。
【００２７】
また、図２に示す抵抗変化特性において、Ｃ点で示す低抵抗化時の到達点と、Ａ点で示す高抵抗化の開始点は、概ね対称な関係になる特徴がある。すなわちＣ点に対応する低抵抗化点で、所定の値に制御された電流（Ｃ点において、約−１５ｍＡ）を印加することで所望の低抵抗値が得られ、一方高抵抗化するときは、Ａ点に相当する電圧において前記以上の電流能力で印加すれば、安定な抵抗変化動作を実現できることがわかる。
【００２８】
ところで、本願発明者らは、検討を進める中で、１つの方向の抵抗変化（低抵抗化または高抵抗化）を安定的に生ぜしめる電圧印加方向（駆動極性）は必ずしも一様ではなく、上下電極にＰｔを用い、抵抗変化層に酸素不足型のＴａ酸化物を用いて同一材料で作製した抵抗変化素子の中でも、駆動極性が異なるものがあることを見出した。
【００２９】
例えば、ある抵抗変化素子は、下部電極３３０１よりも上部電極３３０３が高い電圧を正として、上下の電極間に＋２．０Ｖ、１００ｎｓのパルス電圧を印加することで低抵抗化し、−２．６Ｖ、１００ｎｓのパルス電圧を印加することで高抵抗化することが確認された。
【００３０】
また、他の抵抗変化素子は、下部電極３３０１よりも上部電極３３０３が高い電圧を正として、上下の電極間に−２．０Ｖ、１００ｎｓのパルス電圧を印加することで低抵抗化し、＋２．７Ｖ、１００ｎｓのパルス電圧を印加することで高抵抗化することが確認された。
【００３１】
図３（ａ）、図３（ｂ）は、これらの抵抗変化素子について、低抵抗化を引き起こすパルス電圧と高抵抗化を引き起こすパルス電圧とを交互に印加し続けたときの、その都度の抵抗値を表したグラフである。横軸は加えた電気的なパルスの数を表し、縦軸は抵抗値を表している。
【００３２】
図３（ａ）に示されるように、ある抵抗変化素子は、最初、約３３ｋΩの高抵抗状態にあり、＋２．０Ｖのパルス電圧の印加で約５００Ωの低抵抗状態に変化し、次に−２．６Ｖのパルス電圧の印加で約４０ｋΩの高抵抗状態に変化した後、下部電極３３０１に対し上部電極３３０３に正のパルス電圧の印加による低抵抗化と、下部電極３３０１に対し上部電極３３０３に負のパルス電圧の印加による高抵抗化とを繰り返す。
【００３３】
この抵抗変化の方向と印加電圧の極性との関係を、便宜的にＡモードと呼ぶ。
【００３４】
図３（ｂ）に示されるように、別の抵抗変化素子は、最初、約４２ｋΩの高抵抗状態にあり、−２．０Ｖのパルス電圧の印加で約６００Ωの低抵抗状態に変化し、次に＋２．７Ｖのパルス電圧の印加で約４０ｋΩの高抵抗状態に変化した後、下部電極３３０１に対し上部電極３３０３に負のパルス電圧の印加による低抵抗化と、下部電極３３０１に対し上部電極３３０３に正のパルス電圧の印加による高抵抗化とを繰り返す。
【００３５】
この抵抗変化の方向と印加電圧の極性との関係を、便宜的にＢモードと呼ぶ。図２に示した電圧−電流ヒステリシス特性は、このＢモードに対応している。
【００３６】
なお、上述のパルス電圧値は、パルス発生器の設定出力電圧値を指しており、抵抗変化素子の両端間に印加されている実効的な電圧値は、測定系を通じた電圧降下のためこれより小さな電圧値と考えられる。
【００３７】
このような結果が得られた素子Ａにおいて、上部電極３３０３と下部電極３３０１はいずれもＰｔからなり、それらに挟まれた酸素不足型のＴａ酸化物で構成される抵抗変化層３３０２は、電極に対して電気的には上下対称な関係である。
【００３８】
このため、抵抗変化特性としてＡモード及びＢモードのいずれが出現するかは必ずしも自明ではなく、経験則や実証的な測定結果に基づいていた。そしてこれらの現象は、抵抗変化のメカニズムにおいて解明されていない何らかの異方性要因により定まっていると予想される。
【００３９】
ところでバイポーラ型の抵抗変化素子を用いた１Ｄ１Ｒ型クロスポイント型メモリの書込み動作は、トランジスタで構成された１Ｔ１Ｒ型メモリの場合と異なり、特許文献２でも示されているように、書き込みのため選択されるメモリセルと、それ以外の非選択メモリセルとの区別が、メモリセルの両端にかかる電圧の差異で行われる。
【００４０】
また、抵抗変化素子に設定される低抵抗値は、低抵抗化時に流す電流量で決まることから、低抵抗化する方向、例えばワード線側を基準にしてビット線側に正の電圧を印加し、所望の低抵抗値設定に相当する電流量を流す駆動回路（以下、ＬＲ化駆動回路と称す）をビット線駆動回路として構成すればよい。また高抵抗化は、抵抗変化素子の電圧−電流特性で概ね対称な電圧、電流で変化することから、低抵抗化方向とは逆の向きに、例えばビット線側を基準にしてワード線側に正の電圧を印加でき、かつ少なくともＬＲ化時以上の電流量を流すことができる駆動回路（以下、ＨＲ化駆動回路と称す）をワード線駆動回路として構成すればよい。また非選択メモリセルは、これらの電圧を印加しても電流が流れないような閾値電圧Ｖｔｈを有する電流制御素子で構成することが考えられる。
【００４１】
しかしながら、抵抗変化素子の変化方向であるＡモードまたはＢモードが必ずしも一律ではない場合、次の課題が考えられる。
【００４２】
第１の課題は、Ａモード、Ｂモードの出現が想定とは逆になった場合、抵抗変化素子に所望の抵抗値を設定できないことである。
【００４３】
Ａモード、Ｂモードの出現が想定とは逆になると、低抵抗化書き込みは本来の電流駆動能力より高いＨＲ化駆動回路で行うため、抵抗値は想定より、より低く設定されてしまう。また高抵抗化書き込みは、本来の駆動能力より低いＬＲ化駆動回路で行うことになる。このため、想定よりさらに低い抵抗値に設定された抵抗変化素子を高抵抗化する必要があるが、それに必要な電流量が不足し、安定した抵抗変化動作ができないという課題が生じる。
【００４４】
このような場合には、高抵抗化に際してより高い電圧を印加して電流を供給することにより高抵抗化動作を行い、安定した抵抗変化動作を行うことも考えられる。しかし所望の抵抗値とは異なる抵抗値に書き込まれるため、読み出し性能を一律にできず、その結果安定した性能の製品を提供できない課題が生じる。また、高い電圧が必要となるため、低電圧化を阻害する課題や、後述の第２の課題にも繋がる。
【００４５】
またＡモードとＢモードの両方が出現する可能性を想定して、ＬＲ化駆動回路とＨＲ化駆動回路の両方をワード線駆動回路とビット線駆動回路の両方に用意し、ＡモードとＢモードの出現状態に応じて切り替える方法が考えられるが、その状態に応じて設定を切り替える繁雑さや、チップ面積の増大に繋がるという課題が生じる。
【００４６】
第２の課題は、メモリセル、特に電流制御素子の信頼性に関係する課題である。特許文献２では１Ｄ１Ｒ型クロスポイントメモリに用いられる電流制御素子として、ＺｎＯバリスタやＳｒＴｉＯ３バリスタといったダイオードを用いることで、所定の電流を駆動できることが開示されている。本発明者らは、半導体プロセスとより親和性のある材質の電流制御素子として、後述のＳｉＮ系の材料でダイオードを構成する研究を進めている。
【００４７】
ダイオード素子は一般的に、印加電圧に対し、非線形な電流特性を有し、所定の閾値電圧Ｖｔｈ以上で急激に電流が増加する特性をもつ。この閾値電圧Ｖｔｈの設定を制御できること、および閾値電圧Ｖｔｈ以上の電圧でいかに多くの電流を流せるかということが、高集積化や低電圧化に重要である。反面、電流密度の増大は熱的要因によるダイオード性能の劣化に繋がるため、必要以上の電流は流さない構成にすることが信頼性の観点から重要である。
【００４８】
ＡモードとＢモードが想定とは逆になった場合、第１の課題で説明した通り、高抵抗化に際してより高い電圧を印加してより多くの電流を供給することで、高抵抗化動作は可能であるが、ダイオード特性を劣化させる可能性を有する課題がある。
【００４９】
本発明は、このような事情を鑑みてなされたものであり、抵抗変化素子を用いた１Ｄ１Ｒ型クロスポイントメモリの不揮発性記憶装置について、抵抗変化素子の抵抗変化特性のＡモード及びＢモードの出現を制御可能とし、駆動回路とメモリセルとの接続関係を特定することにより、抵抗変化素子に所望の抵抗値を設定でき、安定した抵抗変化ができる制御技術を提供するとともに、電流制御素子の信頼性を高める制御技術を提供することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【００５０】
上記の課題を解決するために、本発明の不揮発性記憶装置は、第１の電極と、第２の電極と、前記第１の電極と前記第２の電極の間に配置させた抵抗変化膜とで構成され、前記第１の電極と前記第２の電極間に予め定められた極性の電圧が印加されると第１範囲に属する抵抗値の低抵抗状態に変化しかつ前記極性とは逆の極性の電圧が印加されると前記第１範囲よりも高い第２範囲に属する抵抗値の高抵抗状態に変化する抵抗変化素子と、２端子の電流制御素子とを直列に接続してなる複数のメモリセルと、互いに交差する複数の第１信号線および複数の第２信号線と、前記複数のメモリセルを前記複数の第１信号線と前記複数の第２信号線との交差点に配置し、各交差点に配置されたメモリセルの両端を交差する１組の前記第１信号線と前記第２信号線とに接続してなるメモリセルアレイと、前記複数のメモリセルに前記複数の第１信号線および前記複数の第２信号線を介して印加される両極性の電圧を発生する書き込み回路と、前記書き込み回路から前記複数のメモリセルへ流れる電流の経路に挿入され、前記複数のメモリセルを低抵抗状態に変化させる方向の電流のみを制限する電流制限回路とを備え、前記各メモリセルにおいて、前記抵抗変化素子は、第１電極と、第２電極と、前記第１電極と前記第２電極との間に介在させ、前記第１電極と前記第２電極と接するように設けられた抵抗変化層からなり、前記抵抗変化層は、主たる抵抗変化材料として金属の酸化物を含み、前記第１電極と前記第２電極とは、異なる元素で構成される材料によって構成され、前記第１電極の標準電極電位Ｖ１と、前記第２電極の標準電極電位Ｖ２と、前記抵抗変化層を主として構成する金属の標準電極電位Ｖｔとが、Ｖｔ＜Ｖ２かつＶ１＜Ｖ２を満足する。
【００５１】
このような構成によれば、前記複数の第１信号線および前記複数の第２信号線を、例えば、それぞれ複数のビット線および複数のワード線として想定し、ワード線を基準にしてビット線に正の電圧が印加されることで抵抗変化素子が前記低抵抗状態に変化し、ビット線を基準にしてワード線に正の電圧が印加されることで抵抗変化素子が前記高抵抗状態に変化するように、各メモリセルを構成することができる。
【００５２】
このようにして、前記複数のメモリセルを低抵抗状態に変化させる電流の方向を固定した上で、固定された方向の電流を前記電流制限回路にて制限することで、低抵抗状態に変化させるときは、高抵抗状態に変化させるときよりも少ない電流を供給することによって、想定以上の電流がメモリセルに流れることを防止できる。
【００５３】
その結果、抵抗変化素子にばらつきが少なく、所望の抵抗値を設定することが可能となり、また、電流制御素子の信頼性低下、破壊を防止することができる。
【発明の効果】
【００５４】
本発明の不揮発性記憶装置によると、各メモリセルにおいて、抵抗変化素子の第１電極を基準にして第２電極に正の電圧を印加することで高抵抗化し、抵抗変化素子の第２電極を基準にして第１電極に正の電圧を印加することで低抵抗化するように、抵抗変化素子を構成した上で、第１電極側に電流制限回路を介してＬＲ化駆動回路を接続し、第２電極側にＨＲ化駆動回路を接続して構成される。
【００５５】
一般的に、抵抗変化素子を高抵抗化させる場合、低抵抗化させる場合と比べて、低い抵抗値の状態にある抵抗変化素子に抵抗変化を起こすだけの電圧を発生させるために、より多くの駆動電流が必要となる。
【００５６】
そこで、高抵抗化させるときは、抵抗変化素子の第２電極側に接続したＨＲ化駆動回路から電流を供給し、一方、低抵抗化させるときは、電流制限回路を介して、抵抗変化素子の第１電極側に接続したＬＲ化駆動回路から電流を供給し、前記電流制限回路を制御することにより、高抵抗化するときよりも少ない電流を供給することによって、想定以上の電流がメモリセルに流れることを防止し、抵抗変化素子にばらつきが少なく、所望の抵抗値を設定することが可能となる。同様に想定以上の電流がメモリセルに流れることを防止できるため、電流制御素子の信頼性低下、破壊を防止することができる。
【００５７】
また、抵抗変化現象は抵抗変化層と電極材料との間の相互作用であり、抵抗変化材料だけではなく、特定の電極材料との組合せが重要となる。例えば電極として、Ｐｔ（白金）やＩｒ（イリジウム）などの比較的高価な材料と組み合わせる場合、一方の電極だけに使用し、他方の電極はＷ（タングステン）などのできるだけ安価な材料で構成できることが望ましい。そのような場合において、電極と駆動回路との接続関係を、確実に決定することができる。
【図面の簡単な説明】
【００５８】
【図１】図１は、本発明の基礎データとしての不揮発性記憶素子の基本構造を示す模式図である。
【図２】図２は、本発明の基礎データとしての不揮発性記憶素子の抵抗変化における電流−電圧のヒステリシス特性の一例を示す図である。
【図３】図３（ａ）、（ｂ）は、本発明の基礎データとしての不揮発性記憶素子の抵抗値と電気パルス印加回数との関係の一例を示す図である。
【図４】図４は、本発明の基礎データとしての不揮発性記憶素子のＴａ酸化物層の組成の解析結果を示す図である。
【図５】図５は、本発明の基礎データとしての不揮発性記憶素子の構成を示す断面図である。
【図６】図６（ａ）、（ｂ）は、本発明の基礎データとしての不揮発性記憶素子の抵抗値と電気パルス印加回数との関係を示す図である。
【図７】図７（ａ）、（ｂ）は、本発明の基礎データとしての不揮発性記憶素子の抵抗値と電気パルス印加回数との関係を示す図である。
【図８】図８（ａ）、（ｂ）は、本発明の基礎データとしての不揮発性記憶素子の抵抗値と電気パルス印加回数との関係を示す図である。
【図９】図９（ａ）、（ｂ）は、本発明の基礎データとしての不揮発性記憶素子の抵抗値と電気パルス印加回数との関係を示す図である。
【図１０】図１０（ａ）、（ｂ）は、本発明の基礎データとしての不揮発性記憶素子の抵抗値と電気パルス印加回数との関係を示す図である。
【図１１】図１１（ａ）、（ｂ）は、本発明の基礎データとしての不揮発性記憶素子の抵抗値と電気パルス印加回数との関係を示す図である。
【図１２】図１２は、本発明の基礎データとしての不揮発性記憶素子の抵抗値と電気パルス印加回数との関係を示す図である。
【図１３】図１３（ａ）〜（ｈ）は、本発明の基礎データとしての不揮発性記憶素子の抵抗値と電気パルス印加回数との関係を示す図である。
【図１４】図１４は、本発明の基礎データとしての不揮発性記憶素子の電極材料種と標準電極電位の関係を示す図である。
【図１５】図１５（ａ）、（ｂ）は、本発明の基礎データとしての不揮発性記憶素子の動作を説明するための断面模式図である。
【図１６】図１６（ａ）、（ｂ）は、本発明の基礎データとしての不揮発性記憶素子の動作を説明するための断面模式図である。
【図１７】図１７は、本発明の基礎データとしての不揮発性記憶素子のＨｆ酸化物層の組成の解析結果を示す図である。
【図１８】図１８（ａ）、（ｂ）は、本発明の基礎データとしての不揮発性記憶素子の抵抗値と電気パルス印加回数との関係を示す図である。
【図１９】図１９（ａ）〜（ｇ）は、本発明の基礎データとしての不揮発性記憶素子の抵抗値と電気パルス印加回数との関係を示す図である。
【図２０】図２０は、本発明の基礎データとしての不揮発性記憶素子の電極材料種と標準電極電位の関係を示す図である。
【図２１】図２１は、本発明の第１の実施形態に係る抵抗変化型不揮発性記憶装置の構成図である。
【図２２】図２２は、本発明の第１の実施形態に係るメモリセルの構成を示す断面図である。
【図２３】図２３は、本発明の実施形態に係る書き込み回路の実施形態を示す回路図である。
【図２４】図２４は、本発明の実施形態に係るメモリセルの電流電圧特性を示す実測データを示す図である。
【図２５】図２５（ａ）、（ｂ）は、本発明の実施形態に係る書き込み用電流経路の等価回路図、及びその特性を表す図である。
【図２６】図２６は、本発明の第１の実施形態に係る抵抗変化型不揮発性記憶装置の別の構成図である。
【図２７】図２７は、本発明の第１の実施形態に係る抵抗変化型不揮発性記憶装置の別の構成図である。
【図２８】図２８（ａ）、（ｂ）は、本発明の実施形態に係る別の書き込み系電流経路の等価回路図、及びその特性を表す図である。
【図２９】図２９（ａ）、（ｂ）は、本発明の実施形態に係る別の構成の場合の書き込み系電流経路の等価回路図である。
【図３０】図３０は、本発明の第１の実施形態に係る抵抗変化型不揮発性記憶装置の別の構成図である。
【図３１】図３１（ａ）、（ｂ）は、本発明の第１の実施形態に係る抵抗変化型不揮発性記憶装置の動作タイミングの説明図である。
【図３２】図３２（ａ）〜（ｄ）は、本発明の第１の実施形態に係るメモリセルの展開例を示す断面図である。
【図３３】図３３は、本発明の第１の実施形態に係るメモリセルの別の構成を示す断面図である。
【図３４】図３４（ａ）〜（ｃ）は、本発明の第１の実施形態に係るメモリセルの展開例を示す断面図である。
【図３５】図３５は、本発明の第２の実施形態に係る抵抗変化型不揮発性記憶装置の構成図である。
【図３６】図３６は、本発明の第２の実施形態に係るメモリセルの構成を示す断面図である。
【図３７】図３７（ａ）、（ｂ）は、本発明の第２の実施形態に係る抵抗変化型不揮発性記憶装置の動作タイミングの説明図である。
【図３８】図３８（ａ）〜（ｄ）は、本発明の第２の実施形態に係るメモリセルの展開例を示す断面図である。
【図３９】図３９は、本発明の第２の実施形態に係るメモリセルの別の構成を示す断面図である。
【図４０】図４０（ａ）〜（ｃ）は、本発明の第２の実施形態に係るメモリセルの展開例を示す断面図である。
【図４１】図４１は、従来の抵抗変化型不揮発性記憶装置のメモリセルの回路図である。
【図４２】図４２は、従来の抵抗変化型不揮発性記憶装置の抵抗変化素子の電圧−電流特性図である。
【図４３】図４３は、従来の抵抗変化型不揮発性記憶装置のメモリセルの模式図である。
【図４４】図４４は、従来の抵抗変化型不揮発性記憶装置の非線形素子の電圧−電流特性図である。
【発明を実施するための形態】
【００５９】
以下、本発明の実施形態について、図面を参照しながら詳細に説明する。
【００６０】
本発明の実施の形態における抵抗変化型不揮発性記憶装置は、抵抗変化素子と電流制御素子とを直列に接続してなる１Ｄ１Ｒ型の複数のメモリセルを用いたクロスポイント型の不揮発性記憶装置であって、抵抗変化素子の抵抗変化特性のモードを固定するとともに、固定されるモードに応じて駆動回路の構成を最適化するものである。
【００６１】
［本発明の基礎データ］
準備として、本発明の抵抗変化型不揮発性記憶装置の抵抗変化素子に用いられる２種類の抵抗変化材料に関する基礎的なデータを説明する。
【００６２】
これらの抵抗変化素子は、異種の材料で構成される上下の電極で、それぞれ酸素不足型のタンタル酸化物で構成される抵抗変化層、及び酸素不足型のハフニウム酸化物で構成される抵抗変化層を挟んで構成される。
【００６３】
これらの抵抗変化素子は、可逆的に安定した書き換え特性を有する、抵抗変化現象を利用した不揮発性記憶素子を得ることを目的として本願発明者らにより発明されたものであり、それぞれ、関連特許出願である国際公開第２００９／０５０８３３号、及び国際公開第２００９／１３６４６７号で詳細に説明されている。
【００６４】
これらの抵抗変化素子が有している、抵抗変化特性を前述のＡモード及びＢモードのいずれか意図した一方に固定できるという特徴を、本発明の抵抗変化型不揮発性記憶装置に利用する。以下では説明のために、前記関連特許出願の内容の一部を引用する。
【００６５】
なお、本明細書において、「抵抗変化素子」と「抵抗変化型の不揮発性記憶素子（または、短く、不揮発性記憶素子）」とを同義で用いる。
【００６６】
［抵抗変化層に酸素不足型のタンタル（Ｔａ）酸化物を用いた抵抗変化素子］
まず、酸素不足型のＴａ酸化物を使ったバイポーラ動作する抵抗変化型の不揮発性記憶素子に関する第１の実験について説明する。
【００６７】
この実験では、酸素不足型のＴａ酸化物を使ったバイポーラ動作する抵抗変化型の不揮発性記憶素子を、上下のどちらかの電極近傍でのみ抵抗変化が起こりやすく構成することによって、可逆的に安定した書き換え特性が得られるかを検証した。
【００６８】
この検証のため、抵抗変化の起きやすさが電極の材料種によって変化すると想定して、異種材料の上下電極で酸素不足型のＴａ酸化物を挟んだ構造の抵抗変化素子を作製し、抵抗変化特性を測定した。
【００６９】
以下では、この実験の結果について説明する。
【００７０】
なお、この検証結果を説明する前に、酸素不足型のＴａ酸化物層の形成方法や、酸素含有率の好適な範囲を説明する。
【００７１】
その後、抵抗変化の起こりやすさが電極材料に依存するかどうかの確認を行うため、白金（Ｐｔ）、タングステン（Ｗ）、タンタル（Ｔａ）、窒化Ｔａ（ＴａＮ）で構成される電極でＴａＯｘ層を挟んだ構造を形成し、電気パルスによる抵抗変化現象の様子を調べた結果について述べる。
【００７２】
そして最後に、動作しやすい電極材料と動作しにくい電極材料で酸素不足型のＴａ酸化物を挟み込んだ構造の抵抗変化素子の抵抗変化の測定結果について述べる。
【００７３】
［スパッタリング時の酸素流量比とＴａ酸化物層の酸素含有率との関係］
まず、本実験における酸素不足型のＴａ酸化物層の作製条件及び酸素含有率の解析結果について述べる。
【００７４】
酸素不足型のＴａ酸化物層は、ＴａターゲットをアルゴンＡｒとＯ２ガス雰囲気中でスパッタリングする、いわゆる、反応性スパッタリングで作製した。本実験での具体的な酸素不足型のＴａ酸化物の作製方法は次の通りである。
【００７５】
まずスパッタリング装置内に基板を設置し、スパッタリング装置内を７×１０−４Ｐａ程度まで真空引きする。Ｔａをターゲットとして、パワーを２５０Ｗ、Ａｒガスと酸素ガスとをあわせた全ガス圧力を３．３Ｐａ、基板の設定温度を３０℃にし、スパッタリングを行った。ここでは、Ａｒガスに対するＯ２ガスの流量比を０．８％から６．７％まで変化させた。
【００７６】
まずは、組成を調べる事が目的であるため、基板としては、シリコン（Ｓｉ）上に酸化シリコン（ＳｉＯ２）を２００ｎｍ堆積したものを用い、Ｔａ酸化物層の膜厚は約１００ｎｍになるようにスパッタリング時間を調整した。
【００７７】
このようにして作製したＴａ酸化物層の組成をラザフォード後方散乱法（ＲＢＳ法）、及びオージェ電子分光法（ＡＥＳ法）によって解析した結果を図４に示す。
【００７８】
この図から、酸素流量比を０．８％から６．７％に変化させた場合、Ｔａ酸化物層中の酸素含有率は約３５ａｔ％（ＴａＯ０．６６）から約７０ａｔ％（ＴａＯ２．３）へと変化していることが分かる。
【００７９】
以上の結果より、Ｔａ酸化物層中の酸素含有率を酸素流量比によって制御可能である事と、Ｔａの化学量論的な酸化物であるＴａ２Ｏ５（ＴａＯ２．５）の酸素含有率７１．４ａｔ％よりも酸素が不足している、酸素不足型のＴａ酸化物が形成されている事が明らかとなった。
【００８０】
なお、本実験では、Ｔａ酸化物層の解析にラザフォード後方散乱法（ＲＢＳ）及びオージェ電子分光法（ＡＥＳ）を利用したが、蛍光Ｘ線分析法（ＸＰＳ）や電子線マイクロアナリシス法（ＥＰＭＡ）等の機器分析手法も利用可能である。
【００８１】
［酸素不足型のＴａ酸化物層の組成と抵抗変化特性］
以上のように作製した酸素不足型のＴａ酸化物のうち、どの程度の酸素含有率を有する酸素不足型のＴａ酸化物が抵抗変化を示すのかを調べた。ここで酸素不足型のＴａ酸化物層を挟む電極の材料として用いたのは、上下の電極ともに白金（Ｐｔ）である。
【００８２】
上下にＰｔを用いた場合は、上述のように、バイポーラ型の抵抗変化型の不揮発性素子としては不適当である。しかしながら、Ｐｔは後述するように、抵抗変化を非常に示しやすい電極材料であり、ある酸素含有率を有する酸素不足型のＴａ酸化物が抵抗変化を示すか否かの判定を行うには最も好適な材料である。
【００８３】
以上のような理由から、図５のような不揮発性記憶素子５００を形成した。
【００８４】
すなわち、単結晶シリコン基板５０１上に、厚さ２００ｎｍの酸化物層５０２を熱酸化法により形成し、下部電極５０３としての厚さ１００ｎｍのＰｔ薄膜を、スパッタリング法により酸化物層５０２上に形成した。
【００８５】
その後、Ｔａをターゲットとして、反応性スパッタリングによって酸素不足型のＴａ酸化物層５０４を形成した。本実験で検討した範囲では、上記の分析試料と同様に、酸素ガスの流量比を、０．８％から６．７％まで変化させて不揮発性記憶素子を作製した。酸素不足型のＴａ酸化物層５０４の膜厚は３０ｎｍとした。
【００８６】
その後、酸素不足型のＴａ酸化物層５０４の上に、上部電極５０５としての厚さ１５０ｎｍのＰｔ薄膜をスパッタ法により堆積した。
【００８７】
最後にフォトリソグラフィー工程とドライエッチング工程によって、素子領域５０６を形成した。なお、素子領域５０６は、直径が３μｍの円形パターンである。
【００８８】
以上のように作製した不揮発性記憶素子の抵抗変化現象を測定した。その結果、図４のα点（酸素流量比約１．７％、酸素含有率約４５ａｔ％）からβ点（酸素流量比約５％、酸素含有率約６５ａｔ％）のＴａ酸化膜を使った不揮発性記憶素子では、高抵抗値が低抵抗値の５倍以上と良好であった。
【００８９】
図６（ａ）、図６（ｂ）は、それぞれ、α点及びβ点の酸素含有率を有するＴａ酸化物層を使った不揮発性記憶素子についてのパルス印加回数に対する抵抗変化特性を測定した結果である。
【００９０】
図６（ａ）、図６（ｂ）によれば、α点及びβ点の酸素含有率を有するＴａ酸化物層を使った素子では、共に、高抵抗値が低抵抗値の５倍以上と良好であることが判る。
【００９１】
従って、酸素含有率が４５〜６５ａｔ％の組成範囲、即ち抵抗変化層をＴａＯｘと表記した場合におけるｘの範囲が０．８≦ｘ≦１．９の範囲がより適切な抵抗変化層の範囲であると言える（酸素含有率＝４５ａｔ％がｘ＝０．８に、酸素含有率＝６５ａｔ％がｘ＝１．９にそれぞれ対応）。なおこの最適条件については、国際公開第２００８／０５９７０１号にて詳しく説明されている。
【００９２】
［Ｗ、Ｔａ、ＴａＮを上下の電極材料に用いた抵抗変化素子の抵抗変化特性］
次に、抵抗変化の起こりやすさが、電極材料に依存するかどうかの確認を行うため、Ｐｔ以外の材料として、Ｗ、Ｔａ、ＴａＮから成る下部電極５０３と上部電極５０５で酸素不足型のＴａ酸化物層５０４を挟んだ構造を作製し、電気パルスによる抵抗変化の様子を調べた結果について説明する。
【００９３】
なお、ここでも抵抗変化の起こりやすさだけを評価する目的で実験を行ったので、上下の電極材料は同一とした。また、使用した酸素不足型のＴａ酸化物の酸素含有率は、好適な酸素含有率の範囲のほぼ中間の５８ａｔ％（ＴａＯ１．３８）とした。素子の形成方法は上記とほぼ同じであり、Ｐｔ、Ｗ、Ｔａ、ＴａＮのいずれもスパッタリング法によって堆積した。
【００９４】
まず、比較のため、下部電極５０３と上部電極５０５のいずれもＰｔで構成される薄膜により形成した不揮発性記憶素子（以下、素子Ｂと表す）の抵抗変化特性について述べる。
【００９５】
図７（ａ）、図７（ｂ）は、このようにして作製した素子Ｂの電気パルスによる抵抗変化の測定結果である。
【００９６】
図７（ａ）は、下部電極５０３と上部電極５０５の間には、パルス幅が１００ｎｓｅｃで、下部電極５０３を基準として上部電極５０５に＋３．０Ｖと−１．５Ｖの電圧を有する電気的パルスを交互に印加した時の抵抗の測定結果である。
【００９７】
この場合、＋３．０Ｖの電圧の電気パルスを印加する事で抵抗値は８００〜１０００Ω程度となり、−１．５Ｖの電圧の電気パルスを印加した場合は、１５０Ω程度と変化していた。すなわち、上部電極５０５に下部電極５０３よりも高い電圧の電気パルスを加えた時に高抵抗化する変化するＢモードの特性を示した。
【００９８】
また、詳細は省略するが、追加的な実験から、このときの抵抗変化は上部電極５０５の近傍で生じていることを推認する結果が得られた。
【００９９】
次に、印加する電圧のバランスを変化させ、負の電圧を大きくした場合の結果が図７（ｂ）である。この場合、下部電極５０３に対して上部電極５０５に−３．０Ｖと＋１．５Ｖの電圧の電気的パルスを印加した。すると、−３．０Ｖの電気パルスを印加した時に、高抵抗化し、抵抗値は６００〜８００Ω程度となり、＋１．５Ｖの電気パルスを印加した時に低抵抗化して、抵抗値は１５０Ω程度となっている。すなわち、上部電極５０５に下部電極５０３よりも高い電圧の電気パルスを加えた時に低抵抗化しており、図７（ａ）を測定した時と、正反対のＡモードの特性を示した。
【０１００】
また、詳細は省略するが、追加的な実験から、このときの抵抗変化は下部電極５０３の近傍で生じていることを推認する結果が得られた。
【０１０１】
次に、下部電極５０３と上部電極５０５のいずれもＷで構成される薄膜により形成した不揮発性記憶素子（以下、素子Ｃと表す）の抵抗変化特性について述べる。
【０１０２】
図８（ａ）、図８（ｂ）は、このようにして作製した素子Ｃの電気パルスによる抵抗変化の測定結果である。
【０１０３】
図８（ａ）は、上部電極５０５の近傍での抵抗変化に起因するＢモードを発生させることを目的に、下部電極５０３を基準にして上部電極５０５に＋７Ｖと、−５Ｖを交互に印加した時の抵抗値の変化を示す。
【０１０４】
図８（ａ）から分かるように、パルス数が３０回程度まででは、弱いながらも、Ｂモードでの抵抗変化が観測されており、＋７Ｖの電気パルスを印加した時に高抵抗化し、−５Ｖの電気パルスを印加した時に低抵抗化している。しかしながら、パルス数が３０回を超えると、抵抗変化がほとんど観測されなくなっている。
【０１０５】
逆に下部電極５０３の近傍での抵抗変化に起因するＡモードを発生させることを目的に、上部電極５０５に＋５Ｖと、−７Ｖを交互に印加した時の抵抗値の変化を図８（ｂ）に示す。
【０１０６】
図８（ｂ）から分かるように、この場合はほとんど抵抗値の変化は観測されておらず、抵抗値は３０Ω程度で一定の値になっている。
【０１０７】
ここで図７（ａ）の上下の電極をＰｔで形成した素子Ｂの結果と図８（ａ）の結果を比較すると、Ｗを電極に使用した時、明らかに抵抗変化が起こりにくくなっているのが分かる。
【０１０８】
素子Ｂの測定結果である図７（ａ）では、低抵抗状態の抵抗値は１５０Ω、高抵抗状態の抵抗値は約１０００Ωと、比率にして７倍程度の変化をしているのに対し、Ｗを電極材料に使用した素子Ｃの測定結果である図８（ａ）では、大きく抵抗変化している範囲でも、高々、５０Ωと１００Ωの間で抵抗変化が起こっているだけであり、比率としては、２倍程度の変化をしているだけである。
【０１０９】
印加している電圧も、図７（ａ）の測定時は、＋３．０Ｖと−１．５Ｖであるのに対し、図８（ａ）では、＋７Ｖと−５Ｖと非常に高い電圧を印加しているにも関わらず、ほとんど抵抗変化が見られていない。
【０１１０】
以上のように、Ｗを電極に使用した場合、電極にＰｔを使用した場合に比べて、明らかに抵抗変化が起こりにくい事がわかる。
【０１１１】
以上の結果は、酸素不足型のＴａ酸化物を抵抗変化層に用いた抵抗変化素子の動作は、使用する電極の材料に非常に強く依存する事を意味している。すなわち、少なくとも、Ｐｔを電極に用いた場合は抵抗変化が起こりやすく、Ｗを電極に用いた場合、抵抗変化は起こりにくいのは明らかである。
【０１１２】
また、詳しくは説明しないが、ＴａやＴａＮを上下の電極に用いた抵抗変化素子も作製し、抵抗変化特性の測定を行った。
【０１１３】
図９（ａ）、図９（ｂ）は下部電極５０３と上部電極５０５のいずれにも、Ｔａを用いた素子Ｄの抵抗変化特性である。
【０１１４】
図９（ａ）は、上部電極５０５に＋７Ｖと−５Ｖの電気パルスを加えた場合で、図９（ｂ）は上部電極５０５に＋５Ｖと−７Ｖの電気パルスを加えた場合の測定結果である。いずれの場合も、ほとんど抵抗変化は起こっていない。
【０１１５】
また、図１０（ａ）は下部電極５０３と上部電極５０５のいずれにも、ＴａＮを用いた素子Ｅの抵抗変化特性である。図１０（ａ）は、上部電極５０５に＋７Ｖと−５Ｖの電気パルスを加えた場合で、図１０（ｂ）は上部電極５０５に＋５Ｖと−７Ｖの電気パルスを加えた場合の測定結果である。この場合も、ほとんど変化していないと言ってよい程度の抵抗変化しか起こっていない。
【０１１６】
以上のように、Ｗ以外にも抵抗変化が起こりにくい材料は存在する。
【０１１７】
［ＷとＰｔを電極に用いた抵抗変化素子の抵抗変化特性］
次に抵抗変化を起こしやすい材料であるＰｔと、抵抗変化を起こしにくい材料でかつ、プロセス安定性の高い材料であるＷで酸素不足型のＴａ酸化物を挟み込んだ形の抵抗変化素子である素子Ｆの抵抗変化特性について述べる。
【０１１８】
用意した素子は、下部電極５０３としてＷ薄膜を用い、上部電極５０５としてＰｔ薄膜を用いて作製した。Ｗ薄膜とＰｔ薄膜は、それぞれ、ＷターゲットとＰｔターゲットをＡｒガス中でスパッタリングする事で堆積した。
【０１１９】
以上のようにして作製した素子Ｆの電気パルスによる抵抗変化の様子を図１１（ａ）、図１１（ｂ）に示す。
【０１２０】
図１１（ａ）は、上部電極５０５の近傍での抵抗変化を起こさせる（Ｂモード）事を目的に、下部電極５０３を基準にして上部電極５０５に＋２．５Ｖと、−１．５Ｖを交互に印加した時の抵抗値の変化である。この場合、抵抗値は、＋２．５Ｖの電気パルスを印加した時には約６００Ωとなり、−１．５Ｖの電気パルスを印加した時に６０Ωとなって安定して変化している。
【０１２１】
一方で、下部電極５０３の近傍での抵抗変化を起こさせる（Ａモード）事を目的に、下部電極５０３を基準にして上部電極５０５に＋１．５Ｖと、−２．５Ｖを交互に印加した時の抵抗値の変化を図１１（ｂ）に示す。この場合は、抵抗変化は、６０Ωと１００Ωの間で抵抗変化が起こっているだけであり、Ｂモードの抵抗変化を起こさせるための電圧印加と比較して、無視できる程度の抵抗変化しか起こっていない。
【０１２２】
以上の図１１（ａ）、図１１（ｂ）の結果から、素子Ｆは、片側の電極近傍だけで抵抗変化を起こすバイポーラ動作する抵抗変化型の不揮発性記憶素子の理想的な動作を示している。
【０１２３】
また、ＡモードとＢモードの混ざりあいのような現象もみられなかった。
【０１２４】
例えば、図１２は、図１１（ａ）、図１１（ｂ）の測定結果を得た素子Ｆとは別の素子（同一基板上の異なる素子）に１０００回程度電気パルスを加えた結果を示しているが、抵抗変化現象が非常に安定して発生しているのが見て取れる。
【０１２５】
以上の事から、抵抗変化現象を起こしやすい電極と、抵抗変化現象を起こしにくい電極で抵抗変化膜を挟んだ構造を形成する事で、意図した片側の電極側で抵抗変化させることができるため安定動作し、望ましいバイポーラ動作を示す抵抗変化型の不揮発性記憶素子が作製可能である事が分かった。
【０１２６】
また、印加電圧と抵抗値の関係は、抵抗変化を起こしやすい電極に正の電圧の電気パルスを印加した時に、抵抗値が高くなり、負の電圧の電気パルスを印加した時に抵抗値が低くなるような動作を示す。
【０１２７】
［上下の電極材料種に応じた抵抗変化素子の抵抗変化特性］
次に、電極材料が相異なるいくつかの素子について抵抗変化の起こりやすさを評価した第２の実験の結果を示す。
【０１２８】
本実験の結果として、下部電極５０３をＷに固定し、上部電極５０５をＰｔ以外の相異なる材料で構成した複数の素子の抵抗変化の様子について述べる。ここで下部電極５０３をＷに固定したのは、Ｗが比較的安定した材料であり、加工も比較的容易である事による。
【０１２９】
なお、素子の作製方法は、第１の実験で説明した方法と同様であり、下部電極５０３、上部電極５０５は全てスパッタリング法によって形成した。また、抵抗変化材料である酸素不足型のＴａ酸化物もＴａ金属をＯ２とＡｒ中でスパッタリングして作製した。
【０１３０】
電極の違いに応じた抵抗変化の特性を調べるため、酸素不足型のＴａ酸化物の組成は全て同じに設定した。すなわち、酸素含有率を約５８ａｔ％の酸素不足型のＴａ酸化物（ＴａＯｘと表現した時、ｘは１．３８）に固定した。
【０１３１】
また、本実験では、下部電極５０３を動作しにくいＷとしたので、抵抗値の変化がほとんど生じないＡモード（上部電極に対し、下部電極に高い電圧を加えた時に高抵抗化するモード）の結果は省略し、Ｂモード（下部電極に対し、上部電極に高い電圧を加えた時に高抵抗化するモード）の結果のみを示す。Ｂモードで抵抗変化させた時の電気パルスの電圧は、素子によって若干の違いはあるが、下部電極を電圧の基準として、高抵抗化させる時の電圧は＋１．８〜＋２．０Ｖとし、低抵抗化させる時の電圧は−１．３〜−１．６Ｖとした。
【０１３２】
図１３（ａ）〜図１３（ｈ）に測定結果をまとめる。
【０１３３】
まず、図１３（ａ）の上部電極にイリジウム（Ｉｒ）を用いた素子Ｇ、図１３（ｂ）の上部電極に銀（Ａｇ）を用いた素子Ｈ、図１３（ｃ）の上部電極に銅（Ｃｕ）を用いた素子Ｉの結果を見ると、比較的安定して、大きな幅で抵抗変化が生じているのが分かる。次に、図１３（ｄ）の上部電極にニッケル（Ｎｉ）を用いた素子Ｊ、図１３（ｈ）の上部電極に窒化タンタル（ＴａＮ）を用いた素子Ｎでは、若干の抵抗変化が見られたがその変化幅が小さい。
【０１３４】
次に、図１３（ｅ）の上部電極にタンタル（Ｔａ）を用いた素子Ｋ、図１３（ｆ）の上部電極にチタン（Ｔｉ）を用いた素子Ｌ、図１３（ｇ）が上部電極にアルミニウム（Ａｌ）を用いた素子Ｍでは、全く抵抗変化現象は観測されなかった。これらの材料は、本質的に抵抗変化が生じにくい性質を持っていると考えられる。
【０１３５】
以上の結果から分かる事は、酸素不足型のＴａ酸化物を用いた不揮発性記憶素子では、抵抗変化現象が生じやすい（動作しやすい）電極材料と、生じにくい（動作しにくい）電極材料とが存在すると言う事である。本実験の範囲で言えば、動作しやすい電極はＰｔ、Ｉｒ、Ａｇ、Ｃｕであり、動作しにくい電極材料はＷ、Ｎｉ、Ｔａ、Ｔｉ、Ａｌ、ＴａＮである。
【０１３６】
これらの材料の組み合わせで酸素不足型のＴａ酸化物を挟んだ構造の抵抗変化素子を形成すれば、抵抗変化モードの混ざり合いのない安定した抵抗変化が得られる。但し、図７（ａ）、図１１（ｂ）、図１３（ｄ）、図１３（ｈ）を参照すると、Ｗ、Ｎｉ、ＴａＮ電極では、微弱ながらも抵抗変化は観測されている。それ故にこれらの材料を一つの電極に用い、例えば、本実験で全く抵抗変化が観測されなかった電極材料であるＴａ、Ｔｉ、Ａｌをもう一つの電極に用いた場合、微弱ながらも安定した抵抗変化が期待できる。
【０１３７】
次に、抵抗変化自体の起こるメカニズムと、抵抗変化の起こりやすさの材料依存性について若干の考察を行う。
【０１３８】
図１４は、第１の実験と第２の実験の結果をまとめたものである。横軸は電極材料、縦軸には標準電極電位をプロットしてある。図１４の○は抵抗変化が起こりやすかった事を意味し、△は変化の割合が小さいものの抵抗変化が起こった事を意味し、×は抵抗変化が起こらなかった事を意味する。なお、ＴｉＮは第１の実験および第２の実験では用いなかった電極材料であり、参考のために・で示している。
【０１３９】
図１４において、ＴａＮ、ＴｉＮ以外の電極材料の標準電極電位は、非特許文献１：「ＣＲＣ  ＨＡＮＤＢＯＯＫ  ｏｆ  ＣＨＥＭＩＳＴＲＹ  ａｎｄ  ＰＨＹＳＩＣＳ，  ＤＡＶＩＤ  Ｒ．ＬＩＤＥ  Ｅｄｉｔｏｒ−ｉｎ−ｃｈｉｆ，  ８４ｔｈ  Ｅｄｉｔｉｏｎ  ２００３−２００４，  ＣＲＣ  ＰＲＥＳＳ」に開示された文献値であり、ＴａＮ、ＴｉＮの標準電極電位は、発明者らが測定したデータである。
【０１４０】
発明者らは、ＴａＮ、ＴｉＮを含むいくつかの電極材料の標準電極電位を、Ｓｏｌａｒｔｒｏｎ社製の電気化学測定システムＳＩ１２８０Ｂを用いて構成した３電極系のポテンショスタットにより測定した。測定条件として、作用極に測定対象となる電極材料、対極にＰｔ電極、参照極にＡｇ／ＡｇＣｌ電極を用い、電解液には１ｗｔ％ＫＣｌ７ｍｌをＮ２バブリング下で用いた。
【０１４１】
このような条件下で作用極と対極との間の電位平衡点を探索することによって、電極材料のＡｇ／ＡｇＣｌ電極に対する電位平衡点における電位を測定した後、測定された電位に＋０．１９６Ｖを加えた値を、電極材料の標準水素電極に対する電位（すなわち標準電極電位）とした。
【０１４２】
図１４を見ると、抵抗変化膜の構成元素であるＴａよりも標準電極電位が高い材料では抵抗変化が起こっており、低い材料では抵抗変化が起こりにくくなっている事が分かる。そして、標準電極電位の差が大きいほど抵抗変化が起こりやすく、差が小さくなるにつれて、抵抗変化が起こりにくくなっているのが分かる。
【０１４３】
一般に標準電極電位は、酸化のされ易さの一つの指標であり、この値が大きければ酸化されにくく、小さければ酸化されやすい事を意味する。この事から酸化のされやすさが抵抗変化現象のメカニズムに大きな役割を果たしているのではないかと推測される。
【０１４４】
以上の結果をもとに、抵抗変化のメカニズムを考える。まず。抵抗変化が起こり易い材料（標準電極電位が大きく酸化されにくい材料）によって上部電極が構成されている場合について、図１５（ａ）、図１５（ｂ）を使って説明する。
【０１４５】
図１５（ａ）のように、下部電極１４０１と、酸素不足型のＴａ酸化物層１４０２と、Ｔａよりも酸化されにくい材料によって構成されている上部電極１４０３で構成される抵抗変化素子に、下部電極１４０１に対して高い電圧を上部電極１４０３に印加した場合、酸素不足型のＴａ酸化物中の酸素原子がイオンとなって、電界によって移動し、上部電極１４０３の界面近傍に集まる。
【０１４６】
しかし、上部電極１４０３を構成する金属はＴａに比べて酸化されにくいので、酸素イオン１４０４は酸素不足型のＴａ酸化物層１４０２と上部電極１４０３の界面に滞留した状態になり、界面付近でＴａと結合し、酸素濃度の高い酸素不足型のＴａ酸化物を形成する。この事によって素子は高抵抗化する。
【０１４７】
次に、図１５（ｂ）のように、下部電極１４０１に高い電圧を印加した場合、酸素原子は再び酸素イオンとなって、酸素不足型のＴａ酸化物層１４０２の内部に戻ってゆく。これにより、低抵抗化が起っていると考えられる。
【０１４８】
次に、Ｔａよりも酸化されやすい材料によって上部電極が構成されている場合について説明した図が図１６（ａ）、図１６（ｂ）である。
【０１４９】
図１６（ａ）のように下部電極１５０１と、酸素不足型のＴａ酸化物層１５０２と、Ｔａよりも酸化され易い材料によって構成されている上部電極１５０３で構成される抵抗変化素子に、下部電極１５０１に対して高い電圧を上部電極１５０３に印加した場合、酸素不足型のＴａ酸化物中の酸素原子がイオンとなって電界によって移動し、上部電極１５０３の界面近傍に集まる。
【０１５０】
この場合、上部電極１５０３はＴａよりも酸化されやすいので、酸素イオン１５０４は上部電極１５０３の内部に吸いとられて、上部電極１５０３を形成している材料と結合を起こす。この場合、図１５（ａ）とは異なり、酸素不足型のＴａ酸化物層１５０２と上部電極１５０３の界面に高抵抗層が形成されず、さらに上部電極１５０３を構成する元素の数に対して酸素イオンの数は少ないために、抵抗値はほとんど上昇しない。
【０１５１】
逆に、図１６（ｂ）のように、下部電極１５０１に高い電圧を印加した場合、上部電極１５０３に吸い取られた酸素は、上部電極材との結合がより安定であるため、酸素不足型のＴａ酸化物層１５０２の中には戻りにくく、抵抗値は大きくは変化しないと考えられる。
【０１５２】
もし、図１５（ａ）、図１５（ｂ）及び図１６（ａ）、図１６（ｂ）において、上部電極を構成する材料の酸化のされやすさがＴａと同程度の場合、上記の２つの例の中間的な変化が生じ、微弱な抵抗変化が生じると考えられる。
【０１５３】
以上の結果から分かるように、酸素不足型のＴａ酸化物を抵抗変化膜に使用した不揮発性記憶素子では、上部電極と下部電極とで異なる標準電極電位を有する材料を用いればよい。
【０１５４】
これにより、片側の電極近傍で優勢に抵抗変化が起こって、理想的なバイポーラ型の抵抗変化を実現できる。さらに、抵抗変化モードの混ざり合いも起こらず、安定した抵抗変化動作が可能となる。
【０１５５】
より好適には、一方の電極材料には、Ｔａの標準電極電位よりも大きく、かつ差の大きな材料を用い、もう一方の電極材料には、Ｔａの標準電極電位よりも大きく差の小さな材料を用いればよい。
【０１５６】
さらにより好適には、一方の電極材料には、Ｔａの標準電極電位よりも大きな材料を用い、もう一方の電極材料には、Ｔａの標準電極電位よりも小さな材料を用いればよい。
【０１５７】
なお、第２の実験の結果としては記述していないが、下部電極および上部電極に、それぞれＴａＮおよびＰｔを用いた抵抗変化素子について、安定した抵抗変化現象が起こったことを示す良好な実験結果が得られている。
【０１５８】
ＴａＮの標準電極電位は、発明者らの測定によれば＋０．４８ｅＶであり、ＰｔおよびＴａの標準電極電位は、非特許文献１によればそれぞれ＋１．１８ｅＶ、−０．６ｅＶである。
【０１５９】
この例は、上部電極には、Ｔａの標準電極電位よりも大きく、かつ差の大きな材料であるＰｔを用い、下部電極には、Ｔａの標準電極電位よりも大きく差の小さな材料であるＴａＮを用いた一例である。
【０１６０】
すなわち、この例では、上述の標準電極電位に関する条件を満たすＴａＮおよびＰｔを電極材料として用いたことで、第２の実験の結果として述べた作用効果が得られたと考えられる。
【０１６１】
また他の例として、下部電極および上部電極にそれぞれＴｉＮおよびＰｔを用いてもよい。ＴｉＮの標準電極電位は、発明者らによる前述の測定によれば＋０．５５ｅＶである。したがって、ＴｉＮとＰｔとの組み合わせは、抵抗変化層にタンタル酸化物を用いた場合の標準電極電位に関する条件を満たすので、ＴｉＮおよびＰｔを電極材料として用いることで、第２の実験の結果として述べた作用効果が期待できる。
【０１６２】
さらに他の例として、Ａｕ（金）またはＰｄを電極材料として用いてもよい。非特許文献１によればＡｕ、Ｐｄの標準電極電位はそれぞれ＋１．６９２ｅＶ、＋０．９５１ｅＶであり、Ｔａの標準電極電位−０．６ｅＶよりも高い。したがって、抵抗変化層としてタンタル酸化物を用いた場合に、抵抗変化しやすい電極材料としてＡｕおよびＰｄの一方を用い、かつ抵抗変化しにくい電極材料としてＡｕおよびＰｄの前記一方よりも標準電極電位が低い材料（例えば、標準電極電位が＋０．１ｅＶであるＷ）を用いることで、第２の実験の結果として述べた作用効果が期待できる。
【０１６３】
なお、本実験の結果としては記述していないが、金（Ａｕ）の標準電極電位は＋１．６９２ｅＶであるので、Ｔａの標準電極電位−０．６ｅＶよりも高い。したがって、抵抗変化膜としてＴａを用いた場合に、抵抗変化しやすい電極材料としてＡｕを用いても、本実験の結果として述べた作用効果が期待できる。
【０１６４】
また、上記のメカニズムからも明らかなように、抵抗変化を起こしやすい電極に正の電圧の電気パルスを印加した時に、抵抗値が高くなり、負の電圧の電気パルスを印加した時に抵抗値が低くなるような動作を示す。
【０１６５】
［抵抗変化層に酸素不足型のハフニウム（Ｈｆ）酸化物を用いた抵抗変化素子］
次に、他の同様な例として、酸素不足型のＨｆ酸化物を抵抗変化膜として用いたバイポーラ動作する不揮発性記憶素子に関する第３の実験について説明する。
【０１６６】
第１の実験の説明と同様に、まず、酸素不足型のＨｆ酸化物層の形成方法や、酸素含有率の好適な範囲を説明する。
【０１６７】
その後、抵抗変化の起こりやすさが電極材料に依存するかどうかの確認を行うため、Ａｌ、Ｔｉ、Ｔａ、Ｗ、Ｃｕ、Ｐｔで構成される電極でＨｆＯｘ層を挟んだ構造を形成し、電気パルスによる抵抗変化現象の様子を調べた結果について述べる。そして最後に、動作しやすい電極材料と動作しにくい電極材料で酸素不足型のＨｆ酸化物を挟み込んだ構造の抵抗変化素子の抵抗変化の測定結果について述べる。
【０１６８】
［スパッタリング時の酸素流量比とＨｆ酸化物層の酸素含有率との関係］
まず、本実験における酸素不足型のＨｆ酸化物層の作製条件及び酸素含有率の解析結果について述べる。
【０１６９】
酸素不足型のＨｆ酸化物層は、Ｈｆターゲットを（アルゴン）ＡｒとＯ２ガス雰囲気中でスパッタリングする、いわゆる、反応性スパッタリングで作製した。本実験での具体的な酸素不足型のＨｆ酸化物の作製方法は次の通りである。
【０１７０】
まずスパッタリング装置内に基板を設置し、スパッタリング装置内を３×１０−５Ｐａ程度まで真空引きする。Ｈｆをターゲットとして、パワーを３００Ｗ、アルゴンガスと酸素ガスとをあわせた全ガス圧力を０．９Ｐａ、基板の設定温度を３０℃にし、スパッタリングを行った。ここでは、Ａｒガスに対するＯ２ガスの流量比を２％から４．２％まで変化させた。
【０１７１】
まずは、組成を調べる事が目的であるため、基板としては、Ｓｉ上にＳｉＯ２を２００ｎｍ堆積したものを用い、Ｈｆ酸化物層の膜厚は約５０ｎｍになるようにスパッタリング時間を調整した。
【０１７２】
このようにして作製したＨｆ酸化物層の組成をラザフォード後方散乱法（ＲＢＳ法）によって解析した結果を図１７に示す。
【０１７３】
この図から、酸素流量比を２％から４．２％に変化させた場合、Ｈｆ酸化物層中の酸素含有率は約３７．７ａｔ％（ＨｆＯ０．６）から約６９．４ａｔ％（ＨｆＯ２．３）へと変化していることが分かる。
【０１７４】
以上の結果より、Ｈｆ酸化物層中の酸素含有率を酸素流量比によって制御可能である事と、Ｈｆの化学量論的な酸化物であるＨｆＯ２の酸素含有率６６．７ａｔ％よりも酸素が不足している、酸素不足型のＨｆ酸化物から酸素が過剰に含有されていると思われるＨｆ酸化物までが形成されている事が明らかとなった。
【０１７５】
なお、本実験では、Ｈｆ酸化物層の解析にラザフォード後方散乱法（ＲＢＳ）を利用したが、オージェ電子分光法（ＡＥＳ）、蛍光Ｘ線分析法（ＸＰＳ）、電子線マイクロアナリシス法（ＥＰＭＡ）等の機器分析手法も利用可能である。
【０１７６】
［酸素不足型のＨｆ酸化物層の抵抗変化特性］
以上のように作製した酸素不足型のＨｆ酸化物のうち、どの程度の酸素含有率を有する酸素不足型のＨｆ酸化物が抵抗変化を示すのかを調べた。ここで酸素不足型のＨｆ酸化物層を挟む電極の材料として用いたのは、上下の電極ともにＰｔである。
【０１７７】
上下にＰｔを用いた場合は、上述のように、バイポーラ型の抵抗変化型の不揮発性素子としては不適当である。しかしながら、Ｐｔは後述するように、抵抗変化を非常に示しやすい電極材料であり、ある酸素含有率を有する酸素不足型のＨｆ酸化物が抵抗変化を示すか否かの判定を行うには最も好適な材料である。
【０１７８】
以上のような理由から、図５のような不揮発性記憶素子を形成した。
【０１７９】
すなわち、単結晶シリコン基板５０１上に、厚さ２００ｎｍの酸化物層５０２を熱酸化法により形成し、下部電極５０３としての厚さ１００ｎｍのＰｔ薄膜を、スパッタリング法により酸化物層５０２上に形成した。
【０１８０】
その後、Ｈｆをターゲットとして、反応性スパッタリングによって酸素不足型のＨｆ酸化物層５０４を形成した。本実験で検討した範囲では、上記の分析試料と同様に、酸素ガスの流量比を、２％から４．２％まで変化させて不揮発性記憶素子を作製した。酸素不足型のＨｆ酸化物層５０４の膜厚は３０ｎｍとした。
【０１８１】
その後、酸素不足型のＨｆ酸化物層５０４の上に、上部電極５０５としての厚さ１５０ｎｍのＰｔ薄膜をスパッタ法により堆積した。
【０１８２】
最後にフォトリソグラフィー工程とドライエッチング工程によって、素子領域５０６を形成した。なお、素子領域５０６は、直径が３μｍの円形パターンである。
【０１８３】
以上のように作製した不揮発性記憶素子の抵抗変化現象を測定した。その結果、図１７のα点（酸素流量比約２．７％、酸素含有率約４６．６ａｔ％）からβ点（酸素流量比約３．３％、酸素含有率約６２ａｔ％）のＨｆ酸化膜を使った不揮発性記憶素子では、高抵抗値が低抵抗値の４倍以上と良好であった。
【０１８４】
図１８（ａ）、図１８（ｂ）は、それぞれ、α点及びβ点の酸素含有率を有するＨｆ酸化物層を使った不揮発性記憶素子についてのパルス印加回数に対する抵抗変化特性を測定した結果である。
【０１８５】
図１８（ａ）、図１８（ｂ）によれば、α点及びβ点の酸素含有率を有するＨｆ酸化物層を使った素子では、共に、高抵抗値が低抵抗値の４倍以上と良好であることが判る。
【０１８６】
従って、酸素含有率が４６．６〜６２ａｔ％の組成範囲、即ち抵抗変化層をＨｆＯｘと表記した場合におけるｘの範囲が０．９≦ｘ≦１．６の範囲がより適切な抵抗変化層の範囲であると言える（酸素含有率＝４６．６ａｔ％がｘ＝０．９に、酸素含有率＝６２ａｔ％がｘ＝１．６にそれぞれ対応）。
【０１８７】
［上下の電極材料種に応じた抵抗変化素子の抵抗変化特性］
次に、抵抗変化の起こりやすさが、電極材料に依存するかどうかの確認を行うため、Ｗで構成される下部電極５０３とＡｌ、Ｔｉ、Ｈｆ、Ｔａ、Ｗ、Ｃｕ、Ｐｔの１つから成る上部電極５０５で、酸素不足型のＨｆ酸化物層５０４を挟んだ複数種の素子を作製し、電気パルスによる抵抗変化の様子を調べた結果について説明する。
【０１８８】
使用した酸素不足型のＨｆ酸化物の酸素含有率は、好適な酸素含有率の範囲で上限に近い６１ａｔ％（ＨｆＯ１．５６）とした。素子の形成方法は、Ｈｆ酸化物の成膜方法は上記とほぼ同じであるが、Ａｌ、Ｔｉ、Ｈｆ、Ｔａ、Ｗ、Ｃｕ、ＰｔはＨｆ酸化物を形成後、一旦大気中に出し、別のスパッタ装置でスパッタリング法によって堆積した。
【０１８９】
作製した素子Ｏ〜素子Ｕに使用した下部電極、上部電極の材料を表２に示す。
【０１９０】
【表２】
2010119671.tif 000050
【０１９１】
上記の素子Ｏ〜素子Ｕを、所定の振幅でパルス幅１００ｎｓｅｃの電気パルスを与えて抵抗変化させた。
【０１９２】
本実験では、下部電極５０３を動作しにくいＷとしたので、Ａモード（上部電極に対し、下部電極に高い電圧を加えた時に高抵抗化するようなモード）の結果は省略し、Ｂモード（下部電極に対し、上部電極に高い電圧を加えた時に高抵抗化するようなモード）の結果のみを示す。
【０１９３】
上部電極モードで抵抗変化させた時の電気パルスの電圧は、素子によって若干の違いはあるが、下部電極を電圧の基準として、高抵抗化させる時の電圧は＋１．１〜＋１．９Ｖとし、低抵抗化させる時の電圧は−１．１〜−１．５Ｖとした。
【０１９４】
図１９（ａ）〜図１９（ｇ）に測定結果をまとめる。
【０１９５】
まず、図１９（ａ）の上部電極にＡｌを用いた素子Ｏ、図１９（ｂ）の上部電極にＴｉを用いた素子Ｐ、図１９（ｃ）の上部電極にＨｆを用いた素子Ｑの結果を見ると、ほとんど抵抗変化しないか、あるいはまったく抵抗変化しないのが分かる。次に、図１９（ｄ）の上部電極にＴａを用いた素子Ｒでは、最初わずかであるが抵抗変化が見られたがパルス数とともにその変化幅が減少していき、ほとんど抵抗変化を示さなくなった。これらの材料は、本質的に抵抗変化が生じにくい性質を持っていると考えられる。
【０１９６】
次に、図１９（ｅ）の上部電極にＷを用いた素子Ｓ、図１９（ｆ）の上部電極にＣｕを用いた素子Ｔ、図１９（ｇ）の上部電極にＰｔを用いた素子Ｕでは、比較的安定した抵抗変化が生じた。
【０１９７】
以上の結果から分かる事は、酸素不足型のＨｆ酸化物を用いた不揮発性記憶素子では、抵抗変化現象が生じやすい（動作しやすい）材料と、生じにくい（動作しにくい）材料が存在すると言う事である。本実験の範囲で言えば、動作しやすい電極はＰｔ、Ｃｕ、Ｗであり、動作しにくい電極材料はＴａ、Ｈｆ、Ｔｉ、Ａｌである。
【０１９８】
これらの材料の組み合わせで酸素不足型のＨｆ酸化物を挟んだ構造の抵抗変化素子を形成すれば、抵抗変化モードの混ざり合いのない安定した抵抗変化が得られる。但し、図１９（ｄ）を参照すると、Ｔａ電極では、微弱ながらも抵抗変化は観測されている。それ故にこの材料を一つの電極に用い、例えば、本実験で全く抵抗変化が観測されなかった電極材料であるＴｉ、Ｈｆをもう一つの電極に用いた場合、微弱ながらも安定した抵抗変化が期待できる。
【０１９９】
次に、抵抗変化自体の起こるメカニズムと、抵抗変化の起こりやすさの材料依存性について若干の考察を行う。
【０２００】
図２０は、酸素不足型のＨｆ酸化物を用いた不揮発性記憶素子に係る結果をまとめたものである。横軸は電極材料、縦軸には標準電極電位をプロットしてある。図２０の○は抵抗変化が起こりやすかった事を意味し、△は変化の割合が小さいものの抵抗変化が起こった事を意味し、×は抵抗変化が起こらなかった事を意味する。
【０２０１】
図２０を見ると、抵抗変化膜の構成元素であるＨｆよりも標準電極電位が高い材料では抵抗変化が起こっており、低い材料では抵抗変化が起こりにくくなっている事が分かる。そして、標準電極電位の差が大きいほど抵抗変化が起こりやすく、差が小さくなるにつれて、抵抗変化が起こりにくくなっているのが分かる。
【０２０２】
この結果は、第２の実験に関して述べた、酸素不足型のＴａ酸化物を用いた不揮発性記憶素子に係る結果と全く同一の傾向を示している。すなわち、酸素不足型のＨｆ酸化物を用いた不揮発性記憶素子について説明した抵抗変化のメカニズム（図１５（ａ）、図１５（ｂ）、及び図１６（ａ）、図１６（ｂ）を参照）が、酸素不足型のＨｆ酸化物を用いた不揮発性記憶素子にも同様に働いていると考えられる。
【０２０３】
以上の結果から分かるように、酸素不足型のＨｆ酸化物を抵抗変化膜に使用した不揮発性記憶素子では、上部電極と下部電極とで異なる標準電極電位を有する材料を用いればよい。
【０２０４】
これにより、片側の電極近傍で優勢に抵抗変化が起こって、理想的なバイポーラ型の抵抗変化を実現できる。さらに、抵抗変化モードの混ざり合いも起こらず、安定した抵抗変化動作が可能となる。
【０２０５】
より好適には、一方の電極材料には、Ｈｆの標準電極電位よりも大きく、かつ差の大きな材料を用い、もう一方の電極材料には、Ｈｆの標準電極電位よりも大きく差の小さな材料を用いればよい。
【０２０６】
さらにより好適には、一方の電極材料には、Ｈｆの標準電極電位よりも大きな材料を用い、もう一方の電極材料には、Ｈｆの標準電極電位以下の材料を用いればよい。
【０２０７】
なお、本実験の結果としては記述していないが、下部電極および上部電極に、それぞれＴａＮおよびＰｔを用いた抵抗変化素子について、安定した抵抗変化現象が起こったことを示す良好な実験結果が得られている。
【０２０８】
ＴａＮの標準電極電位は＋０．４８ｅＶであり、ＰｔおよびＨｆの標準電極電位は＋１．１８ｅＶ、−１．５５ｅＶである。
【０２０９】
この例は、上部電極には、Ｈｆの標準電極電位よりも大きく、かつ差の大きな材料であるＰｔを用い、下部電極には、Ｈｆの標準電極電位よりも大きく差の小さな材料であるＴａＮを用いた一例である。
【０２１０】
すなわち、この例では、上述の標準電極電位に関する条件を満たすＴａＮおよびＰｔを電極材料として用いたことで、本実験の結果として述べた作用効果が得られたと考えられる。
【０２１１】
また他の例として、下部電極および上部電極にそれぞれＴｉＮおよびＰｔを用いてもよい。ＴｉＮの標準電極電位は＋０．５５ｅＶである。したがって、ＴｉＮとＰｔとの組み合わせは、抵抗変化層にハフニウム酸化物を用いた場合の標準電極電位に関する条件を満たすので、ＴｉＮおよびＰｔを電極材料として用いることで、本実験の結果として述べた作用効果が期待できる。
【０２１２】
なお、本実験の結果としては記述していないが、金（Ａｕ）の標準電極電位は＋１．６９２ｅＶであるので、Ｈｆの標準電極電位−１．５５ｅＶよりも高い。したがって、抵抗変化膜としてＨｆを用いた場合に、抵抗変化しやすい電極材料としてＡｕを用いても、本実験の結果として述べた作用効果が期待できる。
【０２１３】
また、上記のメカニズムからも明らかなように、抵抗変化を起こしやすい電極に正の電圧の電気パルスを印加した時に、抵抗値が高くなり、負の電圧の電気パルスを印加した時に抵抗値が低くなるような動作を示す。
【０２１４】
なお、上記の第１、第２の実験及び第３の実験では、抵抗変化膜として酸素不足型のＴａ酸化物及びＨｆ酸化物を用いた例について説明したが、これに限定されるものではなく、他の遷移金属の酸素不足型の酸化膜を抵抗変化膜に用いた不揮発性記憶素子についても、上記で説明したように電極に加えられた電界による酸素イオンの移動が起こると考えられるため、同様に応用可能である。その場合も、用いる遷移金属材料の標準電極電位を基準にして電極材料を選択すれば、片側で優勢的に動作する不揮発性記憶素子が形成できる。また、抵抗変化層としてのタンタル酸化物やハフニウム酸化物に、抵抗変化特性を大きく変化させない程度に微量のドーパントを添加してもよい。
【０２１５】
［抵抗変化層に酸素不足型の遷移金属酸化物を積層した抵抗変化素子］
また、抵抗変化素子として、酸素不足型のタンタル酸化物、酸素不足型のハフニウム酸化物、及び酸素不足型のジルコニウム酸化物の１つからなり、かつ酸素含有率の異なる２つの抵抗変化層を積層し、２つの電極で挟んだ構成も可能である。
【０２１６】
これらの抵抗変化素子は、可逆的に安定した書き換え特性を有する、抵抗変化現象を利用した不揮発性記憶素子を得ることを目的として本願発明者らにより発明されたものであり、それぞれ関連特許出願である国際公開第２００８／１４９４８４号、国際公開第２０１０／００４７０５号、特開２０１０−２１３８１号公報で詳細に説明されている。
【０２１７】
これらの抵抗変化素子が有している、抵抗変化特性を前述のＡモード及びＢモードのいずれか意図した一方に固定できるという特徴も、前述の異種の材料で構成される上下の電極を用いた抵抗変化素子と同様に、本発明の抵抗変化型不揮発性記憶装置に利用可能である。
【０２１８】
なお、酸素不足型のタンタル酸化物を用いた抵抗変化素子における２つの抵抗変化層の膜厚、組成の最適条件について、国際公開第２００８／１４９４８４号にて、詳しく開示されている。
【０２１９】
［電流制御層にＳｉＮｘを用いた電流制御素子］
次に本発明の１Ｄ１Ｒ型クロスポイントメモリ装置の電流制御素子について説明する。
【０２２０】
電流制御素子は、電流制御層を窒化シリコンＳｉＮｘ（０＜ｘ≦０．８５）で構成することにより、その電流−電圧特性が非線形の電気特性を有し、かつ印加電圧の極性に対して実質的に対称となるという、双方向ダイオード特性を持つことが、関連出願である国際公開第２００８／１１７４９４号で詳細に説明されている。
【０２２１】
また、電流制御素子の第１の電極及び前記第２の電極の少なくとも一方を、体心立方格子（ｂｃｃ）構造を有するα−タングステン（α−Ｗ）で構成することにより、３００００Ａ／ｃｍ２以上の電流を安定供給可能なＭＳＭダイオードを実現できることが、関連出願である国際公開第２０１０／００４６７５号で詳細に説明されている。
【０２２２】
以上のような、対称な電流電圧特性、及び３００００Ａ／ｃｍ２以上という高い耐電流特性を持つ双方向ダイオード素子を、本発明における１Ｄ１Ｒ型クロスポイントメモリの電流制御素子として利用することが可能である。
【０２２３】
［本発明の第１の実施形態における抵抗変化型不揮発性記憶装置］
次に、本発明の実施の形態として、上記で説明した抵抗変化素子と電流制御素子を用いた１Ｄ１Ｒ型クロスポイントメモリ装置について説明する。
【０２２４】
図２１は、本発明の第１の実施形態に係る不揮発性記憶装置の構成を示すブロック図である。第１の実施形態は、抵抗変化現象が抵抗変化素子の上部電極近傍で生じると考えられるＢモード動作が生じるメモリセルの構成と、それに最適な制御回路を示すものである。
【０２２５】
図２１において、抵抗変化型不揮発性記憶装置１００は、半導体基板上に、メモリ本体部１０１を備えており、メモリ本体部１０１は、メモリセルアレイ１０２と、行選択回路１０３と、列選択回路１０４と、書き込み回路１０５と、選択ビット線に流れる電流量を検出し、記憶されているデータが「１」か「０」かを判定する読み出し回路１０６と、端子ＤＱを介して入出力データの入出力処理を行うデータ入出力回路１０７とを備えている。
【０２２６】
また、抵抗変化型不揮発性記憶装置１００の外部より与えられるアドレス信号を入力とし、所定のアドレスを選択指示するアドレス入力回路１０８と、制御信号を入力とする制御回路１０９の出力がメモリ本体部１０１に供給され、その動作を制御している。
【０２２７】
メモリセルアレイ１０２は、Ｍ行Ｎ列（Ｍ、Ｎは自然数。図２１では２行２列の４ビット分のみ図示）のマトリクス状にメモリセルＭｉｊ（ｉ≦Ｍ、ｊ≦Ｎなる自然数。以下同じものは省略）が配列されている。メモリセルＭｉｊは、抵抗変化素子Ｒｉｊの一端と、正負の双方向に閾値電圧を有する電流制御素子Ｄｉｊの一端とを、互いに直列に接続して構成されている。抵抗変化素子Ｒｉｊの他端はワード線ＷＬｉに、電流制御素子Ｄｉｊの他端はビット線ＢＬｊに接続されている。
【０２２８】
本構成では、ビット線ＢＬｊが下層の配線で構成され、紙面内の上下方向に配置されるとすると、ワード線ＷＬｉはビット線ＢＬｊより上層の配線で構成され、紙面内の左右方向に配置される。また抵抗変化素子Ｒｉｊは、後で詳細を説明するが、抵抗変化現象が抵抗変化素子の上部電極近傍で生じるＢモードの特性になる構造で構成されている。
【０２２９】
ワード線ＷＬｉは、行選択回路１０３に接続され、読み出しまたは書き込みモードにおいて択一的に行選択が行われる。またビット線ＢＬｊは、列選択回路１０４に接続され、読み出しまたは書き込みモードにおいて択一的に列選択が行われる。
【０２３０】
データ入出力回路１０７は、書き込みモードにおいて、データ入力信号Ｄｉｎのデータ“０”またはデータ“１”の書き込み指示に従って、選択されたメモリセルＭｉｊ内の抵抗変化素子Ｒｉｊに対し、低抵抗化または高抵抗化の書き込みを行う。本実施例では、データ“０”書き込みを低抵抗化書き込みに、データ“１”書き込みを高抵抗化書き込みに対応させてある。
【０２３１】
書き込み回路１０５はデータ入出力回路１０７と接続される。データ“０”書き込み、すなわち低抵抗化書き込みを行うときにハイレベルを駆動する第１ＬＲ化駆動回路１０５ａ１、その出力を入力とする電流制限回路１０５ｂ、およびロウレベルを駆動する第２ＬＲ化駆動回路１０５ｃ２を有している。また、データ“１”書き込み、すなわち高抵抗化書き込みを行うときにハイレベルを駆動する第１ＨＲ化駆動回路１０５ｃ１、およびロウレベルを駆動する第２ＨＲ化駆動回路１０５ａ２を有している。
【０２３２】
そして、低抵抗化書き込みを行うときは、電流制限回路１０５ｂにより電流制限した信号を、列選択回路１０４を介して選択ビット線ＢＬｊに供給する。一方、高抵抗化書き込みを行うときは、電流制限機能を有しない第１ＨＲ化駆動回路１０５ｃ１で行選択回路１０３を介して選択ワード線ＷＬｉに信号を供給することを一つの特徴としている。
【０２３３】
このように構成される抵抗変化型不揮発性記憶装置１００において、ビット線ＢＬｊおよびワード線ＷＬｉが、それぞれ本発明の第１信号線および第２信号線の一例である。第１ＬＲ化駆動回路１０５ａ１、第１ＨＲ化駆動回路１０５ｃ１、第２ＬＲ化駆動回路１０５ｃ２、および第２ＨＲ化駆動回路１０５ａ２が、それぞれ本発明の第１駆動回路、第２駆動回路、第３駆動回路、および第４駆動回路の一例である。電流制限回路１０５ｂが、本発明の電流制限回路の一例である。また、列選択回路１０４および行選択回路１０３が、それぞれ本発明の第１選択回路および第２選択回路の一例である。
【０２３４】
図２２は、図２１においてＡ部で示す、メモリセルＭ１１の構成を示す断面図である。
【０２３５】
電流制御素子２１２、抵抗変化素子２１３は、各々、図２１における電流制御素子Ｄｉｊ、抵抗変化素子Ｒｉｊ（ｉ、ｊはそれぞれ正の整数）に対応している。
【０２３６】
メモリセル２００は、アルミニウム（Ａｌ）で構成される第１層配線２０１、第１ビア２０２、電流制御素子２１２において窒化タンタル（ＴａＮ）で構成される第３電極２０３、窒素不足型窒化シリコンで構成される電流制御層２０４、ＴａＮで構成される第４電極２０５、第２ビア２０６、抵抗変化素子２１３においてＴａＮで構成される第１電極２０７、酸素不足型タンタル酸化物で構成される抵抗変化層２０８、白金（Ｐｔ）で構成される第２電極２０９、第３ビア２１０、アルミニウム（Ａｌ）で構成される第２層配線２１１を順に形成して構成されている。
【０２３７】
ここで、ワード線ＷＬｉ側に接続される、より上層の第２電極２０９を、ビット線ＢＬｊ側に接続される第１電極２０７に比べ、標準電極電位がより高い材料であるＰｔで構成することを、もう一つの特徴としている。
【０２３８】
このメモリセル構造では、本発明の基礎データでも説明したように、抵抗変化動作は、第１電極を構成するＴａＮよりも高い標準電極電位を有するＰｔで構成される第２電極と、抵抗変化層２０８との界面近傍で起こり、その動作はＢモードに対応している。
【０２３９】
図２２で、第１層配線２０１はビット線ＢＬ１に、第２層配線２１１はワード線ＷＬ１に対応しているので、第２層配線２１１の電圧に対し第１層配線２０１の電圧が所定電圧ＶＬｔｈ以上高くなったとき、抵抗変化素子２１３は低抵抗状態に変化し、第１層配線２０１の電圧に対し第２層配線２１１の電圧が所定電圧ＶＨｔｈ以上高くなったとき、抵抗変化素子２１３は高抵抗状態に変化する。
【０２４０】
なお、図２２において、電流制御素子２１２と抵抗変化素子２１３の関係は上下逆でもかまわないし、抵抗変化素子２１３において第１電極２０７と第２電極２０９の位置が逆でもかまわない。
【０２４１】
図２３は、図２１の書き込み回路１０５の具体的回路構成の一例を示している。
【０２４２】
図２３（ａ）は、第１ＬＲ化駆動回路１０５ａ１、第２ＨＲ化駆動回路１０５ａ２、電流制限回路１０５ｂの一例をそれぞれ示している。
【０２４３】
第１ＬＲ化駆動回路１０５ａ１はＰ型ＭＯＳトランジスタＭＰ１で構成され、第２ＨＲ化駆動回路１０５ａ２はＮ型ＭＯＳトランジスタＭＮ１で構成され、電流制限回路１０５ｂはＮ型ＭＯＳトランジスタＭＮ３で構成されている。
【０２４４】
Ｃ＿ＮＬＲは低抵抗化書き込みパルスの発生時ロウレベル、またＣ＿ＨＲは高抵抗化書き込みパルスの発生時ハイレベルとなる書き込み制御信号である。ＶＣＬは低抵抗化電流制限用ゲート電圧で、所定の定電圧が与えられている。
【０２４５】
またＰ型ＭＯＳトランジスタＭＰ１のソースには、低抵抗書き込み電源電圧ＶＬＲが供給され、抵抗変化素子２１３が低抵抗化するのに十分な電圧、電流を駆動できる能力を有するように設定されている。
【０２４６】
図２３（ｂ）は、第１ＨＲ化駆動回路１０５ｃ１、第２ＬＲ化駆動回路１０５ｃ２の一例を示している。
【０２４７】
第１ＨＲ化駆動回路１０５ｃ１はＰ型ＭＯＳトランジスタＭＰ２で構成され、第２ＬＲ化駆動回路１０５ｃ２はＮ型ＭＯＳトランジスタＭＮ２で構成されている。
【０２４８】
Ｃ＿ＮＨＲは高抵抗化書き込みパルスの発生時ロウレベル、またＣ＿ＬＲは低抵抗化書き込みパルスの発生時ハイレベルとなる書き込み制御信号である。
【０２４９】
またＰ型ＭＯＳトランジスタＭＰ２のソースには、高抵抗書き込み電源電圧ＶＨＲが供給され、抵抗変化素子２１３が高抵抗化するのに十分な電圧、電流を駆動できる能力を有するように設定されている。
【０２５０】
書き込みモードにおいて、データ“０”書き込み、すなわち低抵抗書き込みが指示されると、Ｃ＿ＮＬＲがロウレベル、Ｃ＿ＬＲがハイレベルに設定され、第１ＬＲ化駆動回路１０５ａ１のＰ型ＭＯＳトランジスタＭＰ１と、第２ＬＲ化駆動回路１０５ｃ２のＮ型ＭＯＳトランジスタＭＮ２がオンし、第１ＬＲ化駆動回路１０５ａ１の出力電流が、電流制限回路１０５ｂ、ビット線ＢＬｊ、メモリセルＭｉｊ、ワード線ＷＬｉを主経路とし、第２ＬＲ化駆動回路１０５ｃ２に流れ込む電流経路が形成される。
【０２５１】
また、電流制限回路１０５ｂの出力は、Ｎ型ＭＯＳトランジスタＭＮ３で電流制限されるとともに、その出力電圧ＶＬＲ＿Ｏは、ＭＮ３の閾値電圧をＶｔｈ＿ＭＮ３とすると、ＶＣＬ−Ｖｔｈ＿ＭＮ３の電圧に上限が制限される。それとともにソースフォロワ特性を持つため、低抵抗化書き込み電源ＶＬＲを一定電圧以上に設定すると、定電流源として動作し、電流は一定となる。
【０２５２】
書き込みモードにおいてデータ“１”書き込み、すなわち高抵抗書き込みが指示されると、Ｃ＿ＮＨＲがロウレベル、Ｃ＿ＨＲがハイレベルに設定され、第１ＨＲ化駆動回路１０５ｃ１のＰ型ＭＯＳトランジスタＭＰ２と、第２ＨＲ化駆動回路１０５ａ２のＮ型ＭＯＳトランジスタＭＮ１がオンし、第１ＨＲ化駆動回路１０５ｃ１の出力電流がワード線ＷＬｉ、メモリセルＭｉｊ、ビット線ＢＬｊを主経路とし、第２ＨＲ化駆動回路１０５ａ２に流れ込む電流経路が形成される。電流経路に電流制限回路を含まないため、高抵抗化書き込み電源ＶＨＲの増加に従い、電流は単調に増加する。
【０２５３】
［本発明の第１の実施形態における抵抗変化型不揮発性記憶装置の動作］
以上のように構成された抵抗変化型不揮発性記憶装置１００について、その動作を説明する。
【０２５４】
まず、メモリセルの動作について説明する。図２４は、図２２の構造を持つメモリセルについて、第１層配線２０１よりも第２層配線２１１が高い電圧となる極性を正として電圧を印加した場合に、その電圧、電流の関係を実測した図である。
【０２５５】
メモリセル２００に対し、第２層配線２１１よりも第１層配線２０１が高い電位となる負極性の電圧を印加していくと、−３．２Ｖを超える付近で抵抗変化素子は高抵抗状態から低抵抗状態へと変化を開始する。さらに−３．９Ｖ（Ａ点）まで印加しているが、印加電圧に応じて徐々に低抵抗化が進行している。
【０２５６】
一方、メモリセル２００に対し、第１層配線２０１よりも第２層配線２１１が高い電位となる正極性の電圧を印加していくと、低抵抗状態への変化電圧と概ね対称である３．８Ｖ付近（Ｂ点）で、抵抗変化素子は低抵抗状態から高抵抗状態へと変化を開始する。さらに、５．１Ｖまで印加すると電流増加が見られるが、この後印加電圧を下げていくと、印加電圧を上げるときと比較して電流が小さくなっているため、高抵抗状態に変化していることがわかる。
【０２５７】
すなわち図２４に示す実測データは、図２２の構造を持つメモリセル２００について、第２層配線２１１の電圧を基準として第１層配線２０１の電圧が所定電圧ＶＬｔｈ以上高くなったとき低抵抗状態に変化し、第１層配線２０１の電圧を基準として第２層配線２１１の電圧が所定電圧ＶＨｔｈ以上高くなったとき高抵抗状態に変化するＢモード動作を発現すること、および、低抵抗状態の印加電圧（Ａ点）と、高抵抗状態への変化開始電圧（Ｂ点）とが、概ね対称な関係にあることを示している。
【０２５８】
次に、以上のように構成した抵抗変化型不揮発性記憶装置の動作について説明する。
【０２５９】
最初に書き込み回路１０５の特性について説明する。
【０２６０】
図２５（ａ）は、図２３に示す第１の具体的書き込み回路を用いて、図２１に示す不揮発性記憶装置の動作を説明するため、書き込みに関わる電流経路だけを切り出した等価回路図である。図２５（ｂ）は、その特性説明図であり、メモリセル２００の抵抗変化素子は低抵抗状態を想定して１０ｋΩの固定値とし、双方向特性を有する電流制御素子と直列接続した状態で、書き込み回路１０５から与えられる電圧と、メモリセル２００に流れる電流との関係を、シミュレーションを用いて求めた図である。
【０２６１】
図２５（ｂ）において、負の電圧領域（Ａ）の特性は、高抵抗状態から１０ｋΩと仮定した低抵抗状態に変化した後のメモリセルを、第１ＬＲ化駆動回路１０５ａ１により駆動する場合（例えば−３Ｖというのは、ＶＬＲに３Ｖを与えて駆動することを意味する）の特性を示している。また、正の電圧領域（Ｂ）の特性は、１０ｋΩと仮定した低抵抗状態のメモリセルを高抵抗化状態に向け第１ＨＲ化駆動回路１０５ｃ１により駆動する場合の特性を示している。なお駆動回路の電圧とは、負の電圧領域（Ａ）では、低抵抗化書き込み電源電圧であるＶＬＲに相当し、正の電圧領域（Ｂ）では、高抵抗化書込み電源電圧であるＶＨＲに相当する。また、負の電圧領域（Ａ）中の破線は、電流制限回路１０５ｂを介さない場合の特性を比較のために示している。
【０２６２】
図２５（ｂ）より、メモリセルを低抵抗化するときは、低抵抗化電源電圧ＶＬＲの増加とともに、メモリセルに流れる電流も増加し、電流制限回路１０５ｂを介さない場合、破線の特性の様に単調増加するのに対し、電流制限回路１０５ｂを用いる場合、その電流制限効果により、変極点Ｃを持ち、約３．５Ｖ付近からは１３０μＡの一定電流に制限される。
【０２６３】
一方、メモリセルを高抵抗化するときは、電流制限回路がないため、高抵抗化電源電圧ＶＨＲに３．５Ｖを印加した場合、１５０μＡの電流、すなわち低抵抗化するときよりも大きい電流が流れることがわかる。
【０２６４】
ここで、この回路構成における電流制限回路１０５ｂのＮ型ＭＯＳトランジスタＭＮ３の設定条件を考える。
【０２６５】
メモリセルに設定する低抵抗値は、図２４に示すメモリセル特性において、Ａ点で示す低抵抗状態の印加電圧である−３．９Ｖまで電流を印加した時の低抵抗状態の設定を想定して考える。なお、先述のように、この低抵抗状態の印加電圧が低く、より少ない電流を流した場合は、低抵抗状態はより高抵抗に近く設定され、反対に印加電圧が高く、より多くの電流を流した場合は、より低抵抗化が進む。定式化のため、Ａ点の電圧をＶＬ、Ａ点の電流をＩＬとする。ただし、ダイオードでの電圧降下はないものと仮定する。
【０２６６】
ところで、図２５（ａ）において、電流制限回路１０５ｂ中のＮ型ＭＯＳトランジスタＭＮ３の閾値電圧をＶｔｈ＿ＭＮ３、同ゲート電圧をＶＣＬ、ＬＲ化電源の電圧をＶＬＲとすると、ＶＬＲ≧ＶＣＬのとき、図２５（ｂ）に示す変極点Ｃの電圧は、ＶＣＬ−Ｖｔｈ＿ＭＮ３と近似される。
【０２６７】
図２４のＡ点に示すメモリセルの低抵抗化点の電圧（ＶＬ＝ＶＬｔｈ）と、図２５（ｂ）に示す電流制限回路１０５ｂの変極点Ｃの電圧ＶＣＬ−Ｖｔｈ＿ＭＮ３とを一致させておけば、電流制限回路１０５ｂの変極点Ｃにおいて、メモリセルを想定する低抵抗状態に設定できる。よって、
ＶＬｔｈ＝ＶＣＬ−Ｖｔｈ＿ＭＮ３  かつ  ＶＬＲ≧ＶＣＬ
すなわち、
ＶＣＬ＝ＶＬｔｈ＋Ｖｔｈ＿ＭＮ３  かつ  ＶＬＲ≧ＶＣＬ  ・・・（式１）
を満たすように、ＶＣＬを設定すればよい。このとき、Ｎ型ＭＯＳトランジスタＭＮ２における電圧降下は無視できるとする。またこの条件のとき、Ａ点の電流ＩＬを駆動できるよう、電流制限回路１０５ｂのＮ型ＭＯＳトランジスタＭＮ３のゲート幅、ゲート長を調整して設計しておく。
【０２６８】
そして、この条件を満たしておけば、電圧変動や、速度低下の懸念に対してＬＲ化電源の電圧ＶＬＲを、余裕を持って高めに設定しても、変極点Ｃ以上の電圧では定電流となるため、低抵抗状態の抵抗値を一定の値に安定させて設定することができる。
【０２６９】
［本発明の第１の実施形態における抵抗変化型不揮発性記憶装置の変形例１］
図２６は、第１の実施形態において、Ｎ型ＭＯＳトランジスタを用いて電流制限回路１０５ｂを構成する場合の、図２１とは異なる第１の実施形態の変形例１を示している。電流制限回路１０５ｂを抵抗変化素子の第１電極と書き込み回路との間に配置することを特徴とする。図２６の構成では、電流制限回路１０５ｂをメモリセルアレイの近くに配置するため、図２１の場合と比較して、よりメモリセルに近い位置で電流制限を行うことが可能となる。よって低抵抗化書き込み動作を行うときに、電流制限回路１０５ｂを介して充放電すべき容量負荷を低減することができ、メモリセルの低抵抗状態への変化に対し、追随性よく電流制限を行えるため、より精度よく想定の抵抗値に設定することが可能となる。
【０２７０】
また、ＬＲ化駆動回路で書き込みを行うときは、電流制限回路１０５ｂはソースフォロワとなり、定電流特性を示すため、低抵抗状態の抵抗値を一定の値に安定させて設定することができる一方、ＨＲ化駆動回路で書き込みを行うときは、電流制限回路１０５ｂはソースフォロワとはならないため、低抵抗化するときよりも大きい電流を駆動することができる。
【０２７１】
ここで、列選択回路１０４は一般に、Ｐ型ＭＯＳトランジスタ、Ｎ型ＭＯＳトランジスタと、デコーダ回路とで構成され、選択されたメモリセルに対応したビット線が択一的に選択される。この列選択回路１０４をＮ型ＭＯＳトランジスタのみで構成することにより、ＬＲ駆動回路で書き込みを行うときにソースフォロワとなるため、列を選択する機能に加え、電流を制限する機能を持たせることができる。この場合、電流制限回路１０５ｂを別途設ける必要がなくなり、面積を削減することができる。
【０２７２】
［本発明の第１の実施形態における抵抗変化型不揮発性記憶装置の変形例２］
電流制限回路１０５ｂは、第１ＬＲ化駆動回路１０５ａ１側ではなく、第２ＬＲ化駆動回路１０５ｃ２側に設けることも可能である。図２７に、第１の実施形態の変形例２を示す。また、図２８（ａ）は、図２７の書き込み回路１０５の第１の具体的回路構成の一例を示していて、Ｎ型ＭＯＳトランジスタで構成される電流制限回路１０５ｂを有する。また、図２８（ｂ）は、その特性説明図であり、図２５（ｂ）と同様に、メモリセル２００の抵抗変化素子は低抵抗状態を想定して１０ｋΩの固定値とし、双方向特性を有する電流制御素子と直列接続した状態で、書き込み回路１０５から与えられる電圧と、メモリセル２００に流れる電流との関係を、シミュレーションを用いて求めた図である。
【０２７３】
図２８（ｂ）において、負の電圧領域（Ａ）の特性は、高抵抗状態から１０ｋΩと仮定した低抵抗状態に変化した後のメモリセルを、第１ＬＲ化駆動回路１０５ａ１により駆動する場合（例えば−３Ｖというのは、ＶＬＲに３Ｖを与えて駆動することを意味する）の特性を、正の電圧領域（Ｂ）の特性は、１０ｋΩと仮定した低抵抗状態のメモリセルを高抵抗化状態に向け第１ＨＲ化駆動回路１０５ｃ１により駆動する場合の特性を示している。負の電圧領域（Ａ）中の破線は、電流制限回路１０５ｂを介さない場合の特性を比較のために示している。
【０２７４】
図２８（ｂ）より、メモリセルを低抵抗化するときは、低抵抗化電源電圧ＶＬＲの増加とともに、メモリセルに流れる電流も増加し、電流制限回路１０５ｂを介さない場合、破線の特性の様に単調増加するのに対し、電流制限回路１０５ｂを用いる場合、その電流制限効果により、変極点Ｃを持ち、約３．９Ｖ付近からは１３０μＡの一定電流に制限される。
【０２７５】
一方、メモリセルを高抵抗化するときは、電流制限回路がないため、高抵抗化電源電圧ＶＨＲに３．５Ｖを印加した場合、１５０μＡの電流、すなわち低抵抗化するときよりも大きい電流が流れることがわかる。
【０２７６】
図２８（ａ）において、電流制限回路１０５ｂ中のＮ型ＭＯＳトランジスタＭＮ３の閾値電圧をＶｔｈ＿ＭＮ３、同ゲート電圧をＶＣＬ、ＬＲ化電源の電圧をＶＬＲ、メモリセルの低抵抗化点の電圧をＶＬ＝ＶＬｔｈとすると、図２８（ｂ）に示す変極点Ｃの電圧は、ＶＣＬ−Ｖｔｈ＿ＭＮ３＋ＶＬ（＝ＶＬｔｈ）と近似される。この変極点Ｃの電圧ＶＣＬ−Ｖｔｈ＿ＭＮ３＋ＶＬｔｈが、ＬＲ化電源の電圧ＶＬＲと一致するように、
ＶＬＲ＝ＶＣＬ−Ｖｔｈ＿ＭＮ３＋ＶＬｔｈ
すなわち、
ＶＣＬ＝ＶＬＲ−ＶＬｔｈ＋Ｖｔｈ＿ＭＮ３  ・・・（式２）
を満たすようにＶＣＬを設定することにより、ＬＲ化電源の電圧としてＶＬＲを与えた場合に、電流制限回路１０５ｂの変極点Ｃでメモリセルを低抵抗化すること、すなわち想定する低抵抗状態に設定することが可能となる。このとき、Ｐ型ＭＯＳトランジスタＭＰ１における電圧降下は無視できるとした。またこの条件のとき、図２４のＡ点の電流ＩＬが駆動できるよう、電流制限回路１０５ｂのＮ型ＭＯＳトランジスタＭＮ３のゲート幅、ゲート長を調整して設計しておく。
【０２７７】
さらには、電流制限回路１０５ｂをＮ型ＭＯＳトランジスタではなく、電流ミラー回路等を用いた定電流回路とし、一定の電流値に制御することにより、より精度よく想定の抵抗値に設定することが可能である。
【０２７８】
そして、この条件を満たしておけば、電圧変動や、速度低下の懸念に対してＬＲ化電源の電圧ＶＬＲを、余裕を持って高めに設定しても、変極点Ｃ以上の電圧では定電流となるため、低抵抗状態の抵抗値を、一定の値に安定させて設定することができる。
【０２７９】
以上において、Ｎ型ＭＯＳトランジスタＭＮ３の閾値電圧をＶｔｈ＿ＭＮ３としているが、これはソース電圧が基板電圧に比べ上昇した状態、すなわち基板バイアス効果が効いた状態での閾値電圧を指している。ＶＣＬだけでなく、閾値電圧Ｖｔｈ＿ＭＮ３を（式１）、（式２）の関係を満たすように設定することも、動作電圧の低減には有効となる。
【０２８０】
ところでメモリセルの特性、例えば図２４のＡ点に示すメモリセルの低抵抗化点の電流値はメモリセル毎に固有のばらつきを有している。ばらつきにより変極点Ｃもばらつくため、この点を考慮してＶＣＬを設定しておく必要がある。以下、具体的に説明する。
【０２８１】
まず下限値について、一般に読み出し回路１０６は、低抵抗状態のメモリセルの読み出しにおいては、一定値以上の読み出し電流が必要となる。そのため、最小読み出し電流となるメモリセル、すなわち低抵抗状態のメモリセルのなかで一番高抵抗な状態のメモリセルにおいても、前記読み出し電流を確保すべく、一定値より低い低抵抗状態に設定できるよう、ＶＣＬを設定しておく必要がある。
【０２８２】
一方、上限値について、メモリセル２００に一定値より大きい電流を繰り返し流した場合、メモリセル、特に電流制御素子２１２の信頼性面で、望ましくない場合がある。そのような場合には、電流制御素子に耐電流（電流制御素子が破壊されない最大の電流）より大きい電流が流れないよう、すなわち抵抗変化素子を一定値より高い低抵抗状態に留められるように、ＶＣＬを設定しておけばよい。
【０２８３】
下限値の設定において、不揮発性記憶装置で一般的に用いられる手段として、抵抗値のベリファイを行い、例えば低抵抗状態が不足したメモリセルに対して追加書き込みを行う場合がある。このような場合、追加書き込みを行うメモリセルに対してはＶＣＬを高く設定することにより、低抵抗化を促進させてもよい。
【０２８４】
以上の説明では、電流制限回路１０５ｂをＮ型ＭＯＳトランジスタで構成する場合について説明したが、Ｐ型ＭＯＳトランジスタで構成することも可能である。Ｐ型ＭＯＳトランジスタを使用して、電流制限回路１０５ｂを第１ＬＲ化駆動回路１０５ａ１側に設けた場合の、図２１の書き込み回路１０５の第２の具体的回路構成例を図２９（ａ）に、第２ＬＲ化駆動回路１０５ｃ２側に設けた、図２７の書き込み回路１０５の第２の具体的回路構成例を図２９（ｂ）に示す。
【０２８５】
電流制限回路１０５ｂのＰ型ＭＯＳトランジスタの満たすべき設定条件は、図２９（ａ）の場合、Ｎ型ＭＯＳトランジスタで構成した図２８の場合と同様に求めることができる。図２９（ａ）において、電流制限回路１０５ｂ中のＰ型ＭＯＳトランジスタＭＰ３の閾値電圧をＶｔｈ＿ＭＰ３（Ｖｔｈ＿ＭＰ３は正とする）、同ゲート電圧をＶＣＬ、ＬＲ化電源の電圧をＶＬＲ、メモリセルに印加される電圧をＶＬとすると、電流制限回路１０５ｂの変極点Ｃの電圧は、ＶＣＬ＋Ｖｔｈ＿ＭＰ３と近似される。メモリセルの低抵抗化点の電圧（ＶＬ＝ＶＬｔｈ）と、この電流制限回路１０５ｂの変極点Ｃの電圧（＝ＶＣＬ＋Ｖｔｈ＿ＭＰ３）とを一致させておけば、電流制限回路１０５ｂの変極点Ｃにおいて、メモリセルを想定する低抵抗状態に設定できる。よって、
ＶＬ＝ＶＬｔｈ＝ＶＣＬ＋Ｖｔｈ＿ＭＰ３
すなわち、
ＶＣＬ＝ＶＬｔｈ−Ｖｔｈ＿ＭＰ３  ・・・（式３）
を満たすように、ＶＣＬを設定すればよい。このとき、Ｎ型ＭＯＳトランジスタＭＮ２における電圧降下は無視できるとした。またこの条件のとき、Ａ点の電流ＩＬが駆動できるよう、電流制限回路１０５ｂのＰ型ＭＯＳトランジスタＭＰ３のゲート幅、ゲート長を調整して設計しておく。
【０２８６】
さらには、電流制限回路１０５ｂをＰ型ＭＯＳトランジスタではなく、電流ミラー回路等を用いた定電流回路とし、一定の電流値に制御することにより、より精度よく想定の抵抗値に設定することが可能である。
【０２８７】
そして、この条件を満たしておけば、電圧変動や、速度低下の懸念に対してＬＲ化電源の電圧ＶＬＲを、余裕を持って高めに設定しても、変極点Ｃ以上の電圧では定電流となるため、低抵抗状態の抵抗値を、一定の値に安定させて設定することができる。
【０２８８】
一方、図２９（ｂ）の場合は、図２５の場合と同様に求めることが可能である。すなわち、図２９（ｂ）において、電流制限回路１０５ｂ中のＰ型ＭＯＳトランジスタＭＰ３の閾値電圧をＶｔｈ＿ＭＰ３、同ゲート電圧をＶＣＬ、ＬＲ化電源の電圧をＶＬＲ、メモリセルに印加される電圧をＶＬ、メモリセルの低抵抗化点の電圧をＶＬ＝ＶＬｔｈとすると、ＶＣＬ≧０のとき、電流制限回路１０５ｂの変極点Ｃの電圧は、ＶＣＬ＋Ｖｔｈ＿ＭＰ３＋ＶＬ（＝ＶＬｔｈ）と近似される。この変極点Ｃの電圧（＝ＶＣＬ＋Ｖｔｈ＿ＭＰ３＋ＶＬ）が、ＬＲ化電源の電圧ＶＬＲと一致するように、
ＶＬＲ＝ＶＣＬ＋Ｖｔｈ＿ＭＰ３＋ＶＬ（＝ＶＬｔｈ）  かつ  ＶＣＬ≧０
すなわち、
ＶＣＬ＝ＶＬＲ−ＶＬｔｈ−Ｖｔｈ＿ＭＰ３  かつ  ＶＣＬ≧０  ・・・（式４）
を満たすようにＶＣＬを設定することにより、ＬＲ化電源の電圧としてＶＬＲを与えた場合に、電流制限回路１０５ｂの変極点Ｃでメモリセルを低抵抗化すること、すなわち想定する低抵抗状態に設定することが可能となる。このとき、Ｐ型ＭＯＳトランジスタＭＰ２における電圧降下は無視できるとした。またこの条件のとき、図２４のＡ点の電流ＩＬが駆動できるよう、電流制限回路１０５ｂのＰ型ＭＯＳトランジスタＭＰ３のゲート幅、ゲート長を調整して設計しておく。
【０２８９】
そして、この条件を満たしておけば、電圧変動や、速度低下の懸念に対してＬＲ化電源の電圧ＶＬＲを、余裕を持って高めに設定しても、変極点Ｃ以上の電圧では定電流となり、低抵抗状態の抵抗値を、一定の値に安定させて設定することができる。
【０２９０】
［本発明の第１の実施形態における抵抗変化型不揮発性記憶装置の変形例３］
図３０は、Ｐ型ＭＯＳトランジスタを用いて電流制限回路１０５ｂを構成する場合の、図２１とは異なる実施例であり、電流制限回路１０５ｂを抵抗変化素子の第２電極と書き込み回路との間に配置することを特徴とする。図３０では、電流制限回路１０５ｂをメモリセルアレイの近くに配置するため、図２７の場合と比較して、よりメモリセルに近い位置で電流制限を行うことが可能となる。よって低抵抗化書き込み動作を行うときに、電流制限回路１０５ｂを介して充放電すべき容量負荷を低減することができ、メモリセルの低抵抗状態への変化に対し、追随性よく電流制限を行えるため、より精度よく想定の抵抗値に設定することが可能となる。
【０２９１】
また、第２ＬＲ化駆動回路１０５ｃ２で書き込みを行うときは、電流制限回路１０５ｂはソースフォロワとなり定電流特性となるため、低抵抗状態の抵抗値を一定の値に安定させて設定することができる一方、第１ＨＲ化駆動回路１０５ｃ１で書き込みを行うときは、電流制限回路１０５ｂはソースフォロワとはならないため、低抵抗化するときよりも大きい電流を駆動することができる。
【０２９２】
ここで、行選択回路１０３は一般に、Ｐ型ＭＯＳトランジスタ、Ｎ型ＭＯＳトランジスタと、デコーダ回路とで構成され、選択されたメモリセルに対応したビット線が択一的に選択される。この行選択回路１０３をＰ型ＭＯＳトランジスタのみで構成することにより、第２ＬＲ化駆動回路１０５ｃ２で書き込みを行うときにソースフォロワとなるため、行選択回路１０３に行を選択する機能に加え、電流を制限する機能を持たせることができる。この場合、電流制限回路１０５ｂを別途設ける必要がなくなり、面積を削減することができる。
【０２９３】
なお、図２９のＰ型ＭＯＳトランジスタＭＰ３の閾値電圧をＶｔｈ＿ＭＰ３としているが、これはソース電圧が基板電圧に比べ下降した状態、すなわち基板バイアス効果が効いた状態での閾値電圧を指している。ＶＣＬだけでなく、（式３）、（式４）の関係を満たすように閾値電圧Ｖｔｈ＿ＭＰ３を他のトランジスタより低く設定することも、動作電圧の低減には有効となる。
【０２９４】
図２５、２８、２９のように電流制限回路を設ける場合、回路を設計する際に、電流制限回路を構成するＭＯＳトランジスタのサイズを適切に選択することにより、より簡便に電流制限を実現することが可能である。
【０２９５】
具体的には、第１ＨＲ化駆動回路１０５ｃ１を構成するＰ型ＭＯＳトランジスタのゲート幅をＷ２、ゲート長をＬ２とし、第２ＨＲ化駆動回路１０５ａ２を構成するＮ型ＭＯＳトランジスタのゲート幅をＷ４、ゲート長をＬ４とするとき、抵抗変化素子を高抵抗化する場合の駆動回路の電流能力は、Ｗ２／Ｌ２、Ｗ４／Ｌ４の内の、小さい方で規定される。
【０２９６】
抵抗変化素子を低抵抗化する際に使用する電流制限回路１０５ｂを構成するＭＯＳトランジスタのゲート幅をＷＣ、ゲート長をＬＣとするとき、電流制限回路の電流能力は、ＷＣ／ＬＣで規定されるが、電流制限回路の電流能力が、抵抗変化素子を高抵抗化する場合の駆動回路の電流能力より小さくなるように、すなわち、
Ｗ２／Ｌ２＞ＷＣ／ＬＣ、かつＷ４／Ｌ４＞ＷＣ／ＬＣ  ・・・（式５）
を満たすように、電流制限回路のトランジスタサイズを設計することにより、抵抗変化素子を低抵抗化する場合の駆動回路の電流能力を、抵抗変化素子を高抵抗化する場合の駆動回路の電流能力より小さく制限することが可能である。
【０２９７】
また、電流制限回路を構成するＭＯＳトランジスタのサイズを（式５）を満たすように設計し、加えて電流制限回路１０５ｂを構成するＭＯＳトランジスタのゲート電圧を、低抵抗化する場合の駆動回路の電流能力が、抵抗変化素子を高抵抗化する場合の駆動回路の電流能力より小さくなるよう制御することにより、より精度良く抵抗変化素子に抵抗値を設定することが可能なことは、いうまでもない。
【０２９８】
次に、第１の実施形態における抵抗変化型不揮発性記憶装置１００にデータを書き込む場合の、書き込みサイクルでの動作例について、図３１に示すタイミング図を参照しながら説明する。
【０２９９】
図３１（ａ）、図３１（ｂ）は、本発明の第１の実施の形態に係る不揮発性記憶装置の動作例を示すタイミング図である。図３１（ａ）は、データ「０」すなわち低抵抗状態を書き込む（ＬＲ化）場合を、図３１（ｂ）は、データ「１」すなわち高抵抗状態を書き込む（ＨＲ化）場合を示している。
【０３００】
以下において、説明はメモリセルＭ１１が選択され、データの書き込み及び読み出しが行われる場合についてのみ示す。Ｍ１１が選択セルとなる場合、Ｍ１２はワード線が選択電位、ビット線が非選択電位となる非選択セルであり、Ｍ２１はワード線が非選択電位、ビット線が選択電位となる非選択セルであり、Ｍ２２はワード線もビット線も非選択電位となる非選択セルである。
【０３０１】
図３１（ａ）、図３１（ｂ）では、選択セルＭ１１に流れる電流とあわせて、非選択セルＭ１２、Ｍ２１、Ｍ２２に流れる電流も示している。また電流波形は、ワード線からビット線の方向、すなわち抵抗変化素子の第２電極から第１電極の方向に流れる電流を正極性としている。
【０３０２】
以下、図３１（ａ）、図３１（ｂ）について、Ｔ１〜Ｔ４の期間に分けて、その動作を説明する。なお、図３１において、ＶＤＤは抵抗変化型不揮発性記憶装置１００に供給される電源電圧に対応している。
【０３０３】
図３１（ａ）に示すメモリセルＭ１１に対するデータ「０」書き込みサイクルにおいては、期間Ｔ１において、全ワード線（ＷＬ１およびＷＬ２）をＶＰＲ＿ＷＬに、全ビット線（ＢＬ１およびＢＬ２）を電圧ＶＰＲ＿ＢＬにプリチャージしておく。なお、プリチャージ電圧は、ワード線およびビット線の最大振幅の概ね中間電圧が設定されている。
【０３０４】
Ｔ１に続くＴ２は、まだ抵抗変化素子Ｒ１１が高抵抗状態にある期間で、行選択回路１０３でワード線ＷＬ１を、列選択回路１０４でビット線ＢＬ１を選択し、第１ＬＲ化駆動回路１０５ａ１を使用して選択ビット線ＢＬ１をＶＬＲに駆動し、第２ＬＲ化駆動回路１０５ｃ２を使用して選択ワード線ＷＬ１を０Ｖに駆動する。時間経過とともにＢＬ１の電位が上昇、ＷＬ１の電位が降下するが、ワード線ＷＬ１は比較的高速に降下するのに対し、電流制限回路１０５ｂを介して駆動されるビット線ＢＬ１は緩やかに上昇する。また、ビット線ＢＬ１の電位は、電流制限回路１０５ｂを介しているため、ＶＬＲまでは上昇しない。
【０３０５】
Ｔ３は、書き込み、すなわち抵抗変化が生じ、低抵抗状態に遷移する期間を示している。Ｔ３では、選択セルＭ１１に流れる電流値が増加して、抵抗変化素子Ｒ１１（図２２の２１３）に、第２電極２０９を基準にして第１電極２０７に抵抗変化素子の低抵抗化電圧ＶＬｔｈとなる絶対値を持つ電圧が抵抗変化素子Ｒ１１に印加された時点で、高抵抗値から低抵抗値に書き込みが行われる。低抵抗化すると共に、メモリセルＭ１１に流れる電流は増加するが、電流制限回路１０５ｂがあるため、電流値は一定値以上増加しない。そのため、抵抗値が一定の値で低抵抗化は留まる。なお、図３１（ａ）では電流の増加の方向は下向きにとっている。
【０３０６】
その後Ｔ４期間では、ワード線、ビット線の選択を解除し、全ワード線をＶＰＲ＿ＷＬに、全ビット線を電圧ＶＰＲ＿ＢＬにプリチャージして、データ「０」の書き込みが完了する。
【０３０７】
図３１（ｂ）に示すメモリセルＭ１１に対するデータ「１」書き込みサイクルにおいては、期間Ｔ１において、全ワード線をＶＰＲ＿ＷＬに、全ビット線を電圧ＶＰＲ＿ＢＬにプリチャージしておく。なお、プリチャージ電圧は、ワード線およびビット線の最大振幅の概ね中間電圧が設定されている。
【０３０８】
Ｔ１に続くＴ２は、まだ抵抗変化素子Ｒ１１が低抵抗状態にある期間で、行選択回路１０３でワード線ＷＬ１を、列選択回路１０４でビット線ＢＬ１を選択し、第１ＨＲ化駆動回路１０５ｃ１を使用して選択ワード線ＷＬ１をＶＨＲに駆動し、第２ＨＲ化駆動回路１０５ａ２を使用して選択ビット線ＢＬ１を０Ｖに駆動する。時間経過とともにＷＬ１の電位が上昇、ＢＬ１の電位が降下するが、電流制限回路を介さないため、ワード線ＷＬ１、ビット線ＢＬ１とも、比較的高速に変化する。
【０３０９】
Ｔ３は、書き込み、すなわち抵抗変化が生じ、高抵抗状態に遷移した期間を示している。Ｔ３では、選択セルＭ１１に流れる電流値が増加して、抵抗変化素子Ｒ１１（図２２の２１３）に、第１電極２０７を基準にして第２電極２０９に抵抗変化素子の高抵抗化電圧ＶＨｔｈを超える絶対値を持つ電圧が印加された時点で、低抵抗値から高抵抗値に書き込みが行われる。
【０３１０】
その後Ｔ４期間では、ワード線、ビット線の選択を解除し、全ワード線をＶＰＲ＿ＷＬに、全ビット線を電圧ＶＰＲ＿ＢＬにプリチャージして、データ「１」の書き込みが完了する。
【０３１１】
なお、メモリセルＭｉｊは図２２に示す構造に限定されるものではなく、Ｂモード特性を示す次のようなものでもよい。
【０３１２】
図３２（ａ）〜図３２（ｄ）はいずれも、図２２と同様に抵抗変化層を挟む上部電極および下部電極構造において、互いに異なる電極材料からなり、かつ上部電極を下部電極と比べて標準電極電位がより高い材料で構成することにより、Ｂモード動作をするメモリセルの展開例である。
【０３１３】
図３２（ａ）は、第２ビア２０６を設けず、抵抗変化素子２１３と電流制御素子２１２とを接する形で構成したメモリセルである。
【０３１４】
図３２（ｂ）は図３２（ａ）に対し、ＴａＮで構成される電流制御素子２１２の第４電極２０５とＴａＮで構成される抵抗変化素子２１３の第１電極とを、共通にしたメモリセルである。このメモリセルは、電極を共通にできるため、製造が容易となる。
【０３１５】
図３２（ｃ）は、第２ビア２０６と同一径で、抵抗変化素子２１３と電流制御素子２１２を構成したメモリセルである。このメモリセルは、第２ビア２０６と同一径で構成されるため、メモリセルを配線の最小間隔にあわせて配置することが可能となり、小面積化することができる。このメモリセルは、抵抗変化素子２１３および電流制御素子２１２の、積層方向に直交する断面の大きさ（一例としては上記の径）を、ビアと比べて同一またはより小さく形成した一例である。
【０３１６】
図３２（ｄ）は図３２（ｃ）に対し、第２層配線２１１をＰｔで構成することにより、第２層配線を抵抗変化素子２１３の第２電極として使用し、第１層配線２０１をＴａＮで構成することにより、第１層配線を電流制御素子２１２の第３電極として使用している。この場合、抵抗変化素子２１３の第２電極、電流制御素子２１２の第３電極を別途設ける必要がなくなるため、小面積化が可能となる。なお図３２（ｄ）では、第２層配線２１１、第１層配線２０１の双方をメモリセルの両端の電極と共通にする例を示したが、このうちのどちらか一方のみを共通としてもよい。
【０３１７】
以上では、第１層配線２０１の上に電流制御素子２１２、抵抗変化素子２１３、第２層配線２１１の順に構成する場合の構成例を説明したが、図２２、および図３２（ａ）、図３２（ｃ）、図３２（ｄ）の各場合については、第１層配線２０１の上に抵抗変化素子２１３、電流制御素子２１２、第２層配線２１１の順に構成してもよい。そのような構成では、第１層配線２０１の上に、抵抗変化素子２１３の第１電極２０７、抵抗変化層２０８、第２電極２０９、電流制御素子２１２の第３電極２０３、電流制御層２０４、第４電極２０５、および第２層配線２１１が、この順に形成される。
【０３１８】
図３３はＢモード動作をする別な構造のメモリセル２５０の一例を示す。なお図２２と同じものは、同じ記号を付している。
【０３１９】
メモリセル２５０は、図３３に示すように、アルミニウム（Ａｌ）で構成される第１層配線２０１、第１ビア２０２、電流制御素子において窒化タンタル（ＴａＮ）で構成される第３電極２０３、窒素不足型窒化シリコンで構成される電流制御層２０４、電流制御素子において窒化タンタル（ＴａＮ）で構成される第４電極２０５、第２ビア２０６、抵抗変化素子において白金（Ｐｔ）で構成される第１電極２０７、酸素含有率の低い第１のタンタル酸化物層２０８ａ、酸素含有率の高い第２のタンタル酸化物層２０８ｂ、抵抗変化素子において白金（Ｐｔ）で構成される第２電極２０９、第３ビア２１０、アルミニウム（Ａｌ）で構成される第２層配線２１１を順に形成して構成されており、第２のタンタル酸化物層２０８ｂを、抵抗変化素子の上部電極である第２電極２０９に接して構成することを特徴としている。
【０３２０】
この構造では、本発明の基礎データに記載した本出願の関連発明中で説明されているように、抵抗変化動作は上部電極である第２電極２０９と第２のタンタル酸化物層２０８ｂとの界面近傍で起こり、その動作はＢモードに対応している。
【０３２１】
図３３で、第１層配線２０１はビット線ＢＬ１に、第２層配線２１１はワード線ＷＬ１に対応しているので、第２層配線２１１の電圧に対し第１層配線２０１の電圧が所定電圧ＶＬｔｈ以上高くなったとき、抵抗変化素子２１３は低抵抗状態に変化し、第１層配線２０１の電圧に対し第２層配線２１１の電圧が所定電圧ＶＨｔｈ以上高くなったとき、抵抗変化素子２１３は高抵抗状態に変化する。
【０３２２】
図３４（ａ）〜図３４（ｃ）はいずれも、図３３と同様に抵抗変化層を挟む上部電極および下部電極構造において、上部電極に接して酸素含有率の高い第２のタンタル酸化物層を配置し、何れもＢモード動作をするメモリセルの展開例である。
【０３２３】
図３４（ａ）は、第２ビア２０６を設けず、抵抗変化素子２１３と電流制御素子２１２とを接する形で構成したメモリセルである。
【０３２４】
図３４（ｂ）は、第２ビア２０６と同一径で、抵抗変化素子２１３と電流制御素子２１２を構成したメモリセルである。このメモリセルは、第２ビア２０６と同一径で構成されるため、メモリセルを配線の最小間隔にあわせて配置することが可能となり、小面積化することができる。このメモリセルは、抵抗変化素子２１３および電流制御素子２１２の、積層方向に直交する断面の大きさ（一例としては上記の径）を、ビアと比べて同一またはより小さく形成した一例である。
【０３２５】
図３４（ｃ）は図３４（ｂ）に対し、第２層配線２１１をＰｔで構成することにより、第２層配線を抵抗変化素子２１３の第２電極として使用し、第１層配線２０１をＴａＮで構成することにより、第１層配線を電流制御素子２１２の第３電極として使用している。この場合、抵抗変化素子２１３の第２電極、電流制御素子２１２の第３電極を別途設ける必要がなくなるため、小面積化が可能となる。なお図３４（ｃ）では、第２層配線２１１、第１層配線２０１の双方をメモリセルの両端の電極と共通にする例を示したが、このうちのどちらか一方のみを共通としてもよい。
【０３２６】
以上では、図２２、図３２、図３３、および図３４について、第１層配線２０１の上に電流制御素子２１２、抵抗変化素子２１３、第２層配線２１１の順に構成する場合の構成例を説明したが、第１層配線２０１の上に抵抗変化素子２１３、電流制御素子２１２、第２層配線２１１の順に構成してもよい。そのような構成では、第１層配線２０１の上に、抵抗変化素子２１３の第１電極２０７、抵抗変化層２０８、第２電極２０９、電流制御素子２１２の第３電極２０３、電流制御層２０４、第４電極２０５、および第２層配線２１１が、この順に形成される。
【０３２７】
なお、図２２や図３２（ａ）〜図３２（ｄ）の電極構成のように、標準電極電位がより高い材料で上部電極を構成し、それに接して図３３や図３４（ａ）〜図３４（ｃ）で示した酸素含有率の高い第２のタンタル酸化物層を配置するという、異電極と、濃度の異なるタンタル酸化物層とを組み合せた構造でもよいことは、いうまでもない。
【０３２８】
さらに、第３電極２０３あるいは第３電極２０３および電流制御層２０４は、それぞれ第１層配線２０１上に同じ配線形状で形成してもよい。また、第２電極２０９も、第２層配線２１１の下に、同じ配線形状で形成してもよい。
【０３２９】
［本発明の第２の実施形態における抵抗変化型不揮発性記憶装置］
次に、本発明の第２の実施形態として、第１の実施形態とは異なる抵抗変化型不揮発性記憶装置について説明する。第２の実施形態は、第１の実施形態においてメモリセルをＡモードとしたものであり、以下、第１の実施形態と同様となる回路、動作等の説明は、適宜省略する。
【０３３０】
図３５は、本発明の第２の実施形態に係る不揮発性記憶装置の構成を示すブロック図である。第２の実施形態は、抵抗変化現象が抵抗変化素子の下部電極近傍で生じると考えられるＡモード動作が生じるメモリセルの構成と、それに最適な制御回路を示すものである。
【０３３１】
図３５において、抵抗変化型不揮発性記憶装置１２０は、半導体基板上に、メモリ本体部１２１を備えており、メモリ本体部１２１は、メモリセルアレイ１２２と、行選択回路１０３と、列選択回路１０４と、書き込み回路１０５と、選択ビット線に流れる電流量を検出し、記憶されているデータが「１」か「０」かを判定する読み出し回路１０６と、端子ＤＱを介して入出力データの入出力処理を行うデータ入出力回路１０７とを備えている。
【０３３２】
また、抵抗変化型不揮発性記憶装置１２０の外部より与えられるアドレス信号を入力とし、所定のアドレスを選択指示するアドレス入力回路１０８と、制御信号を入力とする制御回路１０９の出力がメモリ本体部１２１に供給され、その動作を制御している。
【０３３３】
メモリセルアレイ１２２は、Ｍ行Ｎ列（Ｍ、Ｎは自然数。図３５では２行２列の４ビット分のみ図示）のマトリクス状にメモリセルＭｉｊ（ｉ≦Ｍ、ｊ≦Ｎなる自然数。以下同じものは省略）が配列されている。メモリセルＭｉｊは、抵抗変化素子Ｒｉｊの一端と、正負の双方向に閾値電圧を有する電流制御素子Ｄｉｊの一端とを、互いに直列に接続して構成されている。抵抗変化素子Ｒｉｊの他端はビット線ＢＬｊに、電流制御素子Ｄｉｊの他端はワード線ＷＬｉに接続されている。
【０３３４】
本構成では、ビット線ＢＬｊが下層の配線で構成され、紙面内の上下方向に配置されるとすると、ワード線ＷＬｉはビット線ＢＬｊより上層の配線で構成され、紙面内の左右方向に配置される。また抵抗変化素子Ｒｉｊは、抵抗変化現象が抵抗変化素子の下部電極近傍で生じるＡモードの特性になる構造で構成されている。
【０３３５】
ワード線ＷＬｉは、行選択回路１０３に接続され、読み出しまたは書き込みモードにおいて択一的に行選択が行われる。
【０３３６】
またビット線ＢＬｊは、列選択回路１０４に接続され、読み出しまたは書き込みモードにおいて択一的に列選択が行われる。
【０３３７】
データ入出力回路１０７は、書き込みモードにおいて、データ入力信号Ｄｉｎのデータ“０”またはデータ“１”の書き込み指示に従って、選択されたメモリセルＭｉｊ内の抵抗変化素子Ｒｉｊに対し、低抵抗化または高抵抗化の書き込みを行う。本実施例では、データ“０”書き込みを低抵抗化書き込みに、データ“１”書き込みを高抵抗化書き込みに対応させてある。
【０３３８】
書き込み回路１０５はデータ入出力回路１０７と接続され、データ“０”書き込み、すなわち低抵抗化書き込みを行うときにハイレベルを駆動する第１ＬＲ化駆動回路１０５ａ１、その出力を入力とする電流制限回路１０５ｂ、およびロウレベルを駆動する第２ＬＲ化駆動回路１０５ｃ２を有している。また、データ“１”書き込み、すなわち高抵抗化書き込みを行うときにハイレベルを駆動する第１ＨＲ化駆動回路１０５ｃ１、およびロウレベルを駆動する第２ＨＲ化駆動回路１０５ａ２を有している。
【０３３９】
そして、低抵抗化書き込みを行うときは、電流制限回路１０５ｂにより電流制限した信号を、行選択回路１０３を介して選択ワード線ＷＬｉに供給する。一方、高抵抗化書き込みを行うときは、電流制限機能を有しない第１ＨＲ化駆動回路１０５ｃ１で列選択回路１０４を介して選択ビット線ＢＬｊに信号を供給することを一つの特徴としている。
【０３４０】
このように構成される抵抗変化型不揮発性記憶装置１２０において、ワード線ＷＬｉおよびビット線ＢＬｊが、それぞれ本発明の第１信号線および第２信号線の一例である。第１ＬＲ化駆動回路１０５ａ１、第１ＨＲ化駆動回路１０５ｃ１、第２ＬＲ化駆動回路１０５ｃ２、および第２ＨＲ化駆動回路１０５ａ２が、それぞれ本発明の第１駆動回路、第２駆動回路、第３駆動回路、および第４駆動回路の一例である。電流制限回路１０５ｂが、本発明の電流制限回路の一例である。また、行選択回路１０３および列選択回路１０４が、それぞれ本発明の第１選択回路および第２選択回路の一例である。
【０３４１】
図３６は、図３５においてＡで示す、メモリセルＭ１１の構成を示す断面図である。
【０３４２】
電流制御素子２１２、抵抗変化素子２１３は、各々、図３５における電流制御素子Ｄ１１、抵抗変化素子Ｒ１１に対応している。
【０３４３】
メモリセル２２０は、図３６に示すように、アルミニウム（Ａｌ）で構成される第１層配線２０１、第１ビア２０２、抵抗変化素子において白金（Ｐｔ）で構成される第２電極２０９、酸素不足型タンタル酸化物で構成される抵抗変化層２０８、抵抗変化素子において窒化タンタル（ＴａＮ）で構成される第１電極２０７、第２ビア２０６、電流制御素子において窒化タンタル（ＴａＮ）で構成される第４電極２０５、窒素不足型窒化シリコンで構成される電流制御層２０４、電流制御素子においてＴａＮで構成される第３電極２０３、第３ビア２１０、アルミニウム（Ａｌ）で構成される第２層配線２１１を順に形成して構成されており、抵抗変化素子の第１電極２０７と第２電極２０９とは異なる材料で構成されている。
【０３４４】
ここで、ビット線ＢＬｊ側に接続されているより下層の第２電極２０９を、ワード線ＷＬｉ側に接続される第１電極２０７に比べ標準電極電位がより高い材料であるＰｔで構成することを、もう一つの特徴としている。
【０３４５】
このメモリセル構造では、本発明の基礎データでも説明したように、抵抗変化動作は、第１電極を構成するＴａＮよりも高い標準電極電位を有するＰｔで構成される第２電極と、抵抗変化層２０８との界面近傍で起こり、その動作はＡモードに対応している。
【０３４６】
図３６で、第１層配線２０１はビット線ＢＬ１に、第２層配線２１１はワード線ＷＬ１に対応しているので、第１層配線２０１の電圧に対し第２層配線２１１の電圧が所定電圧ＶＬｔｈ以上高くなったとき、抵抗変化素子２１３は低抵抗状態に変化し、第２層配線２１１の電圧に対し第１層配線２０１の電圧が所定電圧ＶＨｔｈ以上高くなったとき、抵抗変化素子２１３は高抵抗状態に変化する。
【０３４７】
書き込み回路１０５の具体回路は、図２３と同様である。
【０３４８】
書き込みモードにおいて、データ“０”書き込み、すなわち低抵抗書き込みが指示されると、Ｃ＿ＮＬＲがロウレベル、Ｃ＿ＬＲがハイレベルに設定され、第１ＬＲ化駆動回路１０５ａ１のＰ型ＭＯＳトランジスタＭＰ１と、第２ＬＲ化駆動回路１０５ｃ２のＮ型ＭＯＳトランジスタＭＮ２がオンし、第１ＬＲ化駆動回路１０５ａ１の出力電流がワード線ＷＬｉ、メモリセルＭｉｊ、ビット線ＢＬｊを主経路とし、第２ＬＲ化駆動回路１０５ｃ２に流れ込む電流経路が形成される。
【０３４９】
また、電流制限回路１０５ｂの出力は、Ｎ型ＭＯＳトランジスタＭＮ３で電流制限されるとともに、その出力電圧ＶＬＲ＿Ｏは、ＭＮ３の閾値電圧をＶｔｈ＿ＭＮ３とすると、ＶＣＬ−Ｖｔｈ＿ＭＮ３の電圧に上限が制限される。それとともに、ソースフォロワ特性を持つため、低抵抗化書き込み電源ＶＬＲを一定電圧以上に設定すると、定電流源として動作する。
【０３５０】
書き込みモードにおいてデータ“１”書き込み、すなわち高抵抗書き込みが指示されると、Ｃ＿ＮＨＲがロウレベル、Ｃ＿ＨＲがハイレベルに設定され、第１ＨＲ化駆動回路１０５ｃ１のＰ型ＭＯＳトランジスタＭＰ２と、第２ＨＲ化駆動回路１０５ａ２のＮ型ＭＯＳトランジスタＭＮ１がオンし、第１ＨＲ化駆動回路１０５ｃ１の出力電流がビット線ＢＬｊ、メモリセルＭｉｊ、ワード線ＷＬｉを主経路とし、第２ＨＲ化駆動回路１０５ａ２に流れ込む電流経路が形成される。電流経路に電流制限回路を含まないため、高抵抗化書き込み電源ＶＨＲの増加に従い、電流は単調に増加する。
【０３５１】
［本発明の第２の実施形態における抵抗変化型不揮発性記憶装置の動作］
以上の様に構成された抵抗変化型不揮発性記憶装置１２０について、その動作を説明する。
【０３５２】
図３５のメモリセルＭ１１に対し、電圧を印加した場合の電圧、電流の関係は、第１の実施形態、すなわち図２４の場合と同様である。但しこの場合、メモリセルＭ１１（図３６における２２０）はＡモードで動作するため、図３６における第２層配線２１１に対し、第１層配線２０１が高い電位となる極性が正となる。
【０３５３】
第２の実施形態における書き込み回路１０５の特性は、第１の実施形態の場合、すなわち図２５と同様であり、電流制限回路１０５ｂのＮ型ＭＯＳトランジスタＭＮ３の設定条件は、図２４、図２５から同様に求めることが可能であるため、ここでは説明は省略する。
【０３５４】
また、第１の実施形態の場合と同様、電流制限回路１０５ｂは、第２ＬＲ化駆動回路１０５ｃ２側に設けてもよい。同様に、電流制限回路１０５ｂを、抵抗変化素子の第１電極と書き込み回路１０５との間に配置すること、Ｐ型ＭＯＳトランジスタで構成すること、抵抗変化素子の第２電極と書き込み回路１０５との間に配置することも可能である。
【０３５５】
次に、第２の実施形態における抵抗変化型不揮発性記憶装置１２０にデータを書き込む場合の、書き込みサイクルでの動作例について、図３７に示すタイミング図を参照しながら説明する。
【０３５６】
図３７（ａ）、図３７（ｂ）は、本発明の実施の形態に係る不揮発性記憶装置の動作例を示すタイミング図である。図３７（ａ）は、データ「０」すなわち低抵抗状態を書き込む場合を、図３７（ｂ）は、データ「１」すなわち高抵抗状態を書き込む場合を示している。
【０３５７】
以下において、説明はメモリセルＭ１１が選択され、データの書き込み及び読み出しが行われる場合についてのみ示す。Ｍ１１が選択セルとなる場合、Ｍ１２はワード線が選択電位、ビット線が非選択電位となる非選択セル、Ｍ２１はワード線が非選択電位、ビット線が選択電位となる非選択セル、Ｍ２２はワード線もビット線も非選択電位となる非選択セルとなる。図３７（ａ）、図３７（ｂ）では、選択セルＭ１１に流れる電流とあわせて、非選択セルＭ１２、Ｍ２１、Ｍ２２に流れる電流も示している。また電流波形は、ワード線からビット線の方向、すなわち抵抗変化素子の第１電極から第２電極の方向に流れる電流を正極性としている。
【０３５８】
以下、図３７について、Ｔ１〜Ｔ４の期間に分けて、その動作を説明する。なお、図３７において、ＶＤＤは抵抗変化型不揮発性記憶装置１２０に供給される電源電圧に対応している。
【０３５９】
図３７（ａ）に示すメモリセルＭ１１に対するデータ「０」書き込みサイクルにおいては、期間Ｔ１において、全ワード線をＶＰＲ＿ＷＬに、全ビット線を電圧ＶＰＲ＿ＢＬにプリチャージしておく。なお、プリチャージ電圧は、ワード線およびビット線の最大振幅の概ね中間電圧が設定されている。
【０３６０】
Ｔ１に続くＴ２は、まだ抵抗変化素子Ｒ１１が高抵抗状態にある期間で、行選択回路１０３でワード線ＷＬ１を、列選択回路１０４でビット線ＢＬ１を選択し、第１ＬＲ化駆動回路１０５ａ１を使用して選択ワード線ＷＬ１をＶＬＲに駆動し、第２ＬＲ化駆動回路１０５ｃ２を使用して選択ビット線ＢＬ１を０Ｖに駆動する。時間経過とともにＷＬ１の電位が上昇、ＢＬ１の電位が降下するが、ビット線ＢＬ１は比較的高速に降下するのに対し、電流制限回路１０５ｂを介して駆動されるワード線ＷＬ１は緩やかに上昇する。
【０３６１】
Ｔ３は、書き込み、すなわち抵抗変化が生じ、低抵抗状態に遷移した期間を示している。Ｔ３では、選択セルＭ１１に流れる電流値が増加して、抵抗変化素子２１３に第２電極２０９を基準にして第１電極２０７に、抵抗変化素子の低抵抗化電圧ＶＬｔｈとなる絶対値を持つ電圧が抵抗変化素子Ｒ１１に印加された時点で、高抵抗値から低抵抗値に書き込みが行われる。低抵抗化すると共に、メモリセルＭ１１に流れる電流は増加するが、電流制限回路１０５ｂがあるため、電流値は一定値以上増加しない。そのため、抵抗値が一定の値で低抵抗化は留まる。
【０３６２】
その後Ｔ４期間では、ワード線、ビット線の選択を解除し、全ワード線をＶＰＲ＿ＷＬに、全ビット線を電圧ＶＰＲ＿ＢＬにプリチャージして、データ「０」の書き込みが完了する。
【０３６３】
図３７（ｂ）に示すメモリセルＭ１１に対するデータ「１」書き込みサイクルにおいては、期間Ｔ１において、全ワード線をＶＰＲ＿ＷＬに、全ビット線を電圧ＶＰＲ＿ＢＬにプリチャージしておく。なお、プリチャージ電圧は、ワード線およびビット線の最大振幅の概ね中間電圧が設定されている。
【０３６４】
Ｔ１に続くＴ２は、まだ抵抗変化素子Ｒ１１が低抵抗状態にある期間で、行選択回路１０３でワード線ＷＬ１を、列選択回路１０４でビット線ＢＬ１を選択し、第１ＨＲ化駆動回路１０５ｃ１を使用して選択ビット線ＢＬ１をＶＨＲに駆動し、第２ＨＲ化駆動回路１０５ａ２を使用して選択ワード線ＷＬ１を０Ｖに駆動する。時間経過とともにＢＬ１の電位が上昇、ＷＬ１の電位が降下するが、電流制限回路を介さないため、ワード線ＷＬ１、ビット線ＢＬ１とも、比較的高速に変化する。
【０３６５】
Ｔ３は、書き込み、すなわち抵抗変化が生じ、高抵抗状態に遷移した期間を示している。Ｔ３では、選択セルＭ１１に流れる電流値が増加して、抵抗変化素子２１３に第１電極２０７を基準にして第２電極２０９に、抵抗変化素子の高抵抗化電圧ＶＨｔｈを超える絶対値を持つ電圧が印加された時点で、低抵抗値から高抵抗値に書き込みが行われる。
【０３６６】
その後Ｔ４期間では、ワード線、ビット線の選択を解除し、全ワード線をＶＰＲ＿ＷＬに、全ビット線を電圧ＶＰＲ＿ＢＬにプリチャージして、データ「１」の書き込みが完了する。
【０３６７】
なお、メモリセルＭｉｊは図３６に示す構造に限定されるものではなく、Ａモード特性を示す次のようなものでもよい。
【０３６８】
図３８（ａ）〜図３８（ｄ）はいずれも、図３６と同様に抵抗変化層を挟む上部電極および下部電極構造において、互いに異なる電極材料からなり、かつ下部電極を上部電極と比べて標準電極電位がより高い材料で構成することにより、Ａモード動作をするメモリセルの展開例である。
【０３６９】
図３８（ａ）は、第２ビア２０６を設けず、抵抗変化素子２１３と電流制御素子２１２とを接する形で構成したメモリセルである。
【０３７０】
図３８（ｂ）は図３８（ａ）に対し、ＴａＮで構成される電流制御素子２１２の第４電極２０５とＴａＮで構成される抵抗変化素子２１３の第１電極とを、共通にしたメモリセルである。このメモリセルは、電極を共通にできるため、製造が容易となる。
【０３７１】
図３８（ｃ）は、第２ビア２０６と同一径で、抵抗変化素子２１３と電流制御素子２１２を構成したメモリセルである。このメモリセルは、第２ビア２０６と同一径で構成されるため、メモリセルを配線の最小間隔にあわせて配置することが可能となり、小面積化することができる。このメモリセルは、抵抗変化素子２１３および電流制御素子２１２の、積層方向に直交する断面の大きさ（一例としては上記の径）を、ビアと比べて同一またはより小さく形成した一例である。
【０３７２】
図３８（ｄ）は図３８（ｃ）に対し、第１層配線２０１をＰｔで構成することにより、第１層配線を抵抗変化素子２１３の第２電極として使用し、第２層配線２１１をＴａＮで構成することにより、第２層配線を電流制御素子２１２の第３電極として使用している。この場合、抵抗変化素子２１３の第２電極、電流制御素子２１２の第３電極を別途設ける必要がなくなるため、小面積化が可能となる。なお図３８（ｄ）では、第２層配線２１１、第１層配線２０１の双方をメモリセルの両端の電極と共通にする例を示したが、このうちのどちらか一方のみを共通としてもよい。
【０３７３】
以上では、第１層配線２０１の上に抵抗変化素子２１３、電流制御素子２１２、第２層配線２１１の順に構成する場合の構成例を説明したが、図３６、および図３８（ａ）、図３８（ｃ）、図３８（ｄ）の各場合については、第１層配線２０１の上に電流制御素子２１２、抵抗変化素子２１３、第２層配線２１１の順に構成してもよい。そのような構成では、第１層配線２０１の上に、電流制御素子２１２の第４電極２０５、電流制御層２０４、第３電極２０３、抵抗変化素子２１３の第２電極２０９、抵抗変化層２０８、第１電極２０７、および第２層配線２１１が、この順に形成される。
【０３７４】
図３９はＡモード動作をする別な構造のメモリセル２７０の一例を示す。なお図３６と同じものは、同じ記号を付している。
【０３７５】
メモリセル２７０は、図３９に示すように、アルミニウム（Ａｌ）で構成される第１層配線２０１、第１ビア２０２、抵抗変化素子において白金（Ｐｔ）で構成される第２電極２０９、酸素含有率の高い第２のタンタル酸化物層２０８ｂ、酸素含有率の低い第１のタンタル酸化物層２０８ａ、抵抗変化素子において白金（Ｐｔ）で構成される第１電極２０７、第２ビア２０６、電流制御素子において窒化タンタル（ＴａＮ）で構成される第４電極２０５、窒素不足型窒化シリコンで構成される電流制御層２０４、電流制御素子においてＴａＮで構成される第３電極２０３、第３ビア２１０、アルミニウム（Ａｌ）で構成される第２層配線２１１を順に形成して構成されており、第２のタンタル酸化物層２０８ｂを、抵抗変化素子の下部電極である第２電極２０９に接して構成することを特徴としている。
【０３７６】
この構造では、本発明の基礎データに記載した本出願の関連発明中で説明されているように、抵抗変化動作は下部電極である第２電極２０９と第２のタンタル酸化物層２０８ｂとの界面近傍で起こり、その動作はＡモードに対応している。
【０３７７】
図３９で、第１層配線２０１はビット線ＢＬ１に、第２層配線２１１はワード線ＷＬ１に対応しているので、第１層配線２０１の電圧に対し第２層配線２１１の電圧が所定電圧ＶＬｔｈ以上高くなったとき、抵抗変化素子２１３は低抵抗状態に変化し、第２層配線２１１の電圧に対し第１層配線２０１の電圧が所定電圧ＶＨｔｈ以上高くなったとき、抵抗変化素子２１３は高抵抗状態に変化する。
【０３７８】
図４０（ａ）〜図４０（ｃ）はそれぞれ、図３９と同様に抵抗変化層を挟む上部電極および下部電極構造において、下部電極に接して酸素含有率の高い第２のタンタル酸化物層を配置し、何れもＡモード動作をするメモリセルの展開例である。
【０３７９】
図４０（ａ）は、第２ビア２０６を設けず、抵抗変化素子２１３と電流制御素子２１２とを接する形で構成したメモリセルである。
【０３８０】
図４０（ｂ）は、第２ビア２０６と同一径で、抵抗変化素子２１３と電流制御素子２１２を構成したメモリセルである。このメモリセルは、第２ビア２０６と同一径で構成されるため、メモリセルを配線の最小間隔にあわせて配置することが可能となり、小面積化することができる。このメモリセルは、抵抗変化素子２１３および電流制御素子２１２の、積層方向に直交する断面の大きさ（一例としては上記の径）を、ビアと比べて同一またはより小さく形成した一例である。
【０３８１】
図４０（ｃ）は図４０（ｂ）に対し、第１層配線２０１をＰｔで構成することにより、第１層配線を抵抗変化素子２１３の第２電極として使用し、第２層配線２１１をＴａＮで構成することにより、第２層配線を電流制御素子２１２の第３電極として使用している。この場合、抵抗変化素子２１３の第２電極、電流制御素子２１２の第３電極を別途設ける必要がなくなるため、小面積化が可能となる。なお図４０（ｃ）では、第２層配線２１１、第１層配線２０１の双方をメモリセルの両端の電極と共通にする例を示したが、このうちのどちらか一方のみを共通としてもよい。
【０３８２】
以上では、図３９、および図４０について、第１層配線２０１の上に抵抗変化素子２１３、電流制御素子２１２、第２層配線２１１の順に構成する場合の構成例を説明したが、第１層配線２０１の上に電流制御素子２１２、抵抗変化素子２１３、第２層配線２１１の順に構成してもよい。そのような構成では、第１層配線２０１の上に、電流制御素子２１２の第４電極２０５、電流制御層２０４、第３電極２０３、抵抗変化素子２１３の第２電極２０９、抵抗変化層２０８、第１電極２０７、および第２層配線２１１が、この順に形成される。
【０３８３】
なお、図３６や図３８（ａ）〜図３８（ｄ）の電極構成の様に、標準電極電位がより高い材料で下部電極を構成し、それに接して図３９や図４０（ａ）〜図４０（ｃ）で示した酸素含有率の高い第２のタンタル酸化物層を配置するという、異電極と、濃度の異なるタンタル酸化物層とを組み合せた構造でもよいことは、いうまでもない。さらに、第１電極２０３あるいは第１電極２０３および電流制御層２０４は、それぞれ、第２層配線２１１下に同じ配線形状で形成してもよい。また、第２電極２０９も、第１層配線２０１の上に、同じ配線形状で形成してもよい。
【０３８４】
なお、上述した実施形態においては、抵抗変化層としての遷移金属酸化物としては、タンタル酸化物、ハフニウム酸化物の場合について説明したが、例えば、ジルコニウム酸化物などの他の遷移金属酸化物についても同様に適用できる。また、上下電極間に挟まれる遷移金属酸化物層としては、抵抗変化を発現する主たる抵抗変化層として、タンタル、ハフニウム、ジルコニウム等の酸化物層が含まれていればよく、これ以外に例えば微量の他元素が含まれていても構わない。抵抗値の微調整等で、他元素を少量、意図的に含めることも可能であり、このような場合も本発明の範囲に含まれるものである。また、スパッタリングにて抵抗膜を形成した際に、残留ガスや真空容器壁からのガス放出などにより、意図しない微量の元素が抵抗膜に混入することがあるが、このような微量の元素が抵抗膜に混入した場合も本発明の範囲に含まれることは当然である。
【産業上の利用可能性】
【０３８５】
本発明の抵抗変化型不揮発性記憶装置は、高い信頼性と安定した書き換え特性とを有しており、デジタル家電、メモリカード、携帯型電話機、およびパーソナルコンピュータなどの種々の電子機器に用いられる不揮発性メモリ装置として有用である。
【符号の説明】
【０３８６】
１００、１２０    抵抗変化型不揮発性記憶装置
１０１、１２１    メモリ本体部
１０２、１２２    メモリセルアレイ
１０３    行選択回路
１０４    列選択回路
１０５    書き込み回路
１０５ａ１  第１ＬＲ化駆動回路
１０５ａ２  第２ＨＲ化駆動回路
１０５ｂ  電流制限回路
１０５ｃ１  第１ＨＲ化駆動回路
１０５ｃ２  第２ＬＲ化駆動回路
１０６    読み出し回路
１０７    データ入出力回路
１０８    アドレス入力回路
１０９    制御回路
２００、２２０、２５０、２７０、１００１、１２８０    メモリセル
２０１    第１層配線
２０２    第１ビア
２０３    第３電極
２０４    電流制御層
２０５    第４電極
２０６    第２ビア
２０７    第１電極
２０８、１２３０、３３０２    抵抗変化層
２０８ａ  第１のタンタル酸化物層
２０８ｂ  第２のタンタル酸化物層
２０９    第２電極
２１０    第３ビア
２１１    第２層配線
２１２    電流制御素子
２１３、１００３、１２６０    抵抗変化素子
５００    不揮発性記憶素子
５０１    単結晶シリコン基板
５０２    酸化物層
５０３、１２５０、１４０１、１５０１、３３０１    下部電極
５０４    酸素不足型の遷移金属（Ｔａ又はＨｆ）の酸化物層
５０５、１２４０、１４０３、１５０３、３３０３    上部電極
５０６    素子領域
１００２    トランジスタ
１２００    不揮発性記憶装置
１２１０    ビット線
１２２０    ワード線
１２７０    ダイオード素子
１４０２、１５０２  酸素不足型のＴａ酸化物層
１４０４、１５０４  酸素イオン
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
予め定められた第１の極性の第１電圧が印加されると第１範囲に属する抵抗値の低抵抗状態に変化しかつ前記極性とは逆の第２の極性の第２電圧が印加されると前記第１範囲よりも高い第２範囲に属する抵抗値の高抵抗状態に変化する抵抗変化素子と、２端子の電流制御素子とを直列に接続してなる複数のメモリセルと、
互いに交差する複数の第１信号線および複数の第２信号線と、
前記複数のメモリセルを前記複数の第１信号線と前記複数の第２信号線との交差点に配置し、各交差点に配置されたメモリセルの両端を交差する１組の前記第１信号線と前記第２信号線とに接続してなるメモリセルアレイと、
前記複数のメモリセルに前記複数の第１信号線および前記複数の第２信号線を介して印加される両極性の電圧を発生する書き込み回路と、
前記書き込み回路から前記複数のメモリセルへ流れる電流の経路に挿入され、前記複数のメモリセルを低抵抗状態に変化させる方向の電流のみを制限する電流制限回路と
を備え、
前記各メモリセルにおいて、
前記抵抗変化素子は、第１電極と、第２電極と、前記第１電極と前記第２電極との間に介在させ、前記第１電極と前記第２電極と接するように設けられた抵抗変化層からなり、
前記抵抗変化層は、主たる抵抗変化材料として金属の酸化物を含み、
前記第１電極と前記第２電極とは、異なる元素で構成される材料によって構成され、
前記第１電極の標準電極電位Ｖ１と、前記第２電極の標準電極電位Ｖ２と、前記抵抗変化層を主として構成する金属の標準電極電位Ｖｔとが、Ｖｔ＜Ｖ２かつＶ１＜Ｖ２を満足する
ことを特徴とする抵抗変化型不揮発性記憶装置。
【請求項２】
前記各メモリセルは、接続されている第１信号線と第２信号線とを介して、前記第１信号線の電圧が前記第２信号線の電圧よりも高い前記第１の極性の第１電圧が印加されたときに前記低抵抗状態に変化し、前記第１の極性とは逆の前記第２の極性の第２電圧が印加されたときに前記高抵抗状態に変化し、
前記書き込み回路は、前記第１電圧以上の第１駆動電圧を発生する第１駆動回路と、前記第２電圧以上の第２駆動電圧を発生する第２駆動回路と、前記第１駆動電圧の基準となる電圧を発生する第３駆動回路と、前記第２駆動電圧の基準となる電圧を発生する第４駆動回路とを有し、
前記抵抗変化型不揮発性記憶装置は、さらに、
前記第１駆動回路および前記第４駆動回路と、前記複数の第１信号線の中から選択される１つの第１信号線とを接続する第１選択回路と、
前記第２駆動回路および前記第３駆動回路と、前記複数の第２信号線の中から選択される１つの第２信号線とを接続する第２選択回路と
を備え、
前記電流制限回路は、前記第１駆動回路と前記第１選択回路との間に挿入されている
ことを特徴とする請求項１に記載の抵抗変化型不揮発性記憶装置。
【請求項３】
前記各メモリセルは、接続されている第１信号線と第２信号線とを介して、前記第１信号線の電圧が前記第２信号線の電圧よりも高い前記第１の極性の第１電圧が印加されたときに前記低抵抗状態に変化し、前記第１の極性とは逆の前記第２の極性の第２電圧が印加されたときに前記高抵抗状態に変化し、
前記書き込み回路は、前記第１電圧以上の第１駆動電圧を発生する第１駆動回路と、前記第２電圧以上の第２駆動電圧を発生する第２駆動回路と、前記第１駆動電圧の基準となる電圧を発生する第３駆動回路と、前記第２駆動電圧の基準となる電圧を発生する第４駆動回路とを有し、
前記抵抗変化型不揮発性記憶装置は、さらに、
前記第１駆動回路および前記第２駆動回路と、前記複数の第１信号線の中から選択される１つの第１信号線とを接続する第１選択回路と、
前記第３駆動回路および前記第４駆動回路と、前記複数の第２信号線の中から選択される１つの第２信号線とを接続する第２選択回路と
を備え、
前記電流制限回路は複数の制限回路からなり、前記第１選択回路と前記各第１信号線との間に前記複数の制限回路の１つが挿入されている
ことを特徴とする請求項１に記載の抵抗変化型不揮発性記憶装置。
【請求項４】
前記各メモリセルは、接続されている第１信号線と第２信号線とを介して、前記第１信号線の電圧が前記第２信号線の電圧よりも高い前記第１の極性の第１電圧が印加されたときに前記低抵抗状態に変化し、前記第１の極性とは逆の前記第２の極性の第２電圧が印加されたときに前記高抵抗状態に変化し、
前記書き込み回路は、前記第１電圧以上の第１駆動電圧を発生する第１駆動回路と、前記第２電圧以上の第２駆動電圧を発生する第２駆動回路と、前記第１駆動電圧の基準となる電圧を発生する第３駆動回路と、前記第２駆動電圧の基準となる電圧を発生する第４駆動回路とを有し、
前記抵抗変化型不揮発性記憶装置は、さらに、
前記第１駆動回路および前記第２駆動回路と、前記複数の第１信号線の中から選択される１つの第１の信号線とを接続する第１選択回路と、
前記第３駆動回路および前記第４駆動回路と、前記複数の第２信号線の中から選択される１つの第２の信号線とを接続する第２選択回路と
を備え、
前記電流制限回路は、前記第３駆動回路と前記第２選択回路との間に挿入されている
ことを特徴とする請求項１に記載の抵抗変化型不揮発性記憶装置。
【請求項５】
前記各メモリセルは、接続されている第１信号線と第２信号線とを介して、前記第１信号線の電圧が前記第２信号線の電圧よりも高い前記第１の極性の第１電圧が印加されたときに前記低抵抗状態に変化し、前記第１の極性とは逆の前記第２の極性の第２電圧が印加されたときに前記高抵抗状態に変化し、
前記書き込み回路は、前記第１電圧以上の第１駆動電圧を発生する第１駆動回路と、前記第２電圧以上の第２駆動電圧を発生する第２駆動回路と、前記第１駆動電圧の基準となる電圧を発生する第３駆動回路と、前記第２駆動電圧の基準となる電圧を発生する第４駆動回路とを有し、
前記抵抗変化型不揮発性記憶装置は、さらに、
前記第１駆動回路および前記第２駆動回路と、前記複数の第１信号線の中から選択される１つの第１信号線とを接続する第１選択回路と、
前記第３駆動回路および前記第４駆動回路と、前記複数の第２信号線の中から選択される１つの第２信号線とを接続する第２選択回路と
を備え、
前記電流制限回路は複数の制限回路からなり、前記第２選択回路と前記各第２信号線との間に前記複数の制限回路の１つが挿入されている
ことを特徴とする請求項１に記載の抵抗変化型不揮発性記憶装置。
【請求項６】
前記各メモリセルにおいて、
前記電流制御素子は、第３電極と、第４電極と、前記第３電極と前記第４電極との間に介在させ、前記第３電極と前記第４電極と接するように設けられた電流制御層からなり、
前記第１電極が前記第１信号線に接続され、前記第２電極が前記第３電極に接続され、前記第４電極が前記第２信号線に接続されているか、または、
前記第３電極が前記第１信号線に接続され、前記第４電極が前記第１電極に接続され、前記第２電極が前記第２信号線に接続されている
ことを特徴とする請求項２から５のいずれか１項に記載の抵抗変化型不揮発性記憶装置。
【請求項７】
前記抵抗変化層は、遷移金属の酸化物を主たる抵抗変化材料とする
ことを特徴とする請求項６に記載の抵抗変化型不揮発性記憶装置。
【請求項８】
前記遷移金属の酸化物は、酸素不足型のタンタルの酸化物層を主たる抵抗変化材料とする
ことを特徴とする請求項７に記載の抵抗変化型不揮発性記憶装置。
【請求項９】
前記第２電極は、白金、イリジウム、パラジウム、銀、銅、金で構成される群から選択され、
前記第１電極は、タングステン、ニッケル、タンタル、チタン、アルミニウム、窒化タンタル、窒化チタンで構成される群から選択される
ことを特徴とする請求項８に記載の抵抗変化型不揮発性記憶装置。
【請求項１０】
前記遷移金属の酸化物は、酸素不足型のハフニウムの酸化物層を主たる抵抗変化材料とする
ことを特徴とする請求項７に記載の抵抗変化型不揮発性記憶装置。
【請求項１１】
前記第２電極は、タングステン、銅、白金、金で構成される群から選択され、
前記第１電極は、アルミニウム、チタン、ハフニウム、窒化タンタル、窒化チタンで構成される群から選択される
ことを特徴とする請求項１０に記載の抵抗変化型不揮発性記憶装置。
【請求項１２】
前記各メモリセルにおいて、
前記電流制御素子は、第３電極と、第４電極と、前記第３電極と前記第４電極との間に介在させ、前記第３電極と前記第４電極と接するように設けられた電流制御層からなり、
前記第１電極が前記第１信号線に接続され、前記第２電極が前記第３電極に接続され、前記第４電極が前記第２信号線に接続されているか、または、
前記第３電極が前記第１信号線に接続され、前記第４電極が前記第１電極に接続され、前記第２電極が前記第２信号線に接続されており、
前記抵抗変化層は、ＭＯｘで表される組成を有する第１の酸素不足型の遷移金属の酸化物を含む第１領域と、ＭＯｙ（但し、ｘ＜ｙ）で表される組成を有する第２の酸素不足型の遷移金属の酸化物を含む第２領域とを有し、
前記第１領域が前記第１電極と接して配置され、前記第２領域が前記第２電極と接して配置されている
ことを特徴とする請求項２から５のいずれか１項に記載の抵抗変化型不揮発性記憶装置。
【請求項１３】
前記抵抗変化型不揮発性記憶装置は、基板上に形成されており、前記基板上には、
前記複数の第１信号線として用いられる第１層配線と、
前記第１層配線よりも上層に、前記複数の第２信号線として用いられる第２層配線とが設けられ、
前記各メモリセルにおいて、
電流制御素子は、第３電極と、第４電極と、前記第３電極と前記第４電極との間に介在させ、前記第３電極と前記第４電極と接するように設けられた電流制御層からなり、
前記第１層配線と前記第２層配線との間に、下層から順に、
前記第３電極、前記電流制御層、前記第４電極、前記第１電極、前記抵抗変化層、および前記第２電極が、この順に形成されているか、または、
前記第１電極、前記抵抗変化層、前記第２電極、前記第３電極、前記電流制御層、および前記第４電極が、この順に形成されている
ことを特徴とする請求項２から５のいずれか１項に記載の抵抗変化型不揮発性記憶装置。
【請求項１４】
前記抵抗変化型不揮発性記憶装置は、基板上に形成されており、前記基板上には、
前記複数の第２信号線として用いられる第１層配線と、
前記第１層配線よりも上層に、前記複数の第１信号線として用いられる第２層配線とが設けられ、
前記各メモリセルにおいて、
電流制御素子は、第３電極と、第４電極と、前記第３電極と前記第４電極との間に介在させ、前記第３電極と前記第４電極と接するように設けられた電流制御層からなり、
前記第１層配線と前記第２層配線との間に、下層から順に、
前記第２電極、前記抵抗変化層、前記第１電極、前記第４電極、前記電流制御層、および前記第３電極が、この順に形成されているか、または、
前記第４電極、前記電流制御層、前記第３電極、前記第２電極、前記抵抗変化層、および前記第１電極が、この順に形成されている
ことを特徴とする請求項２から５のいずれか１項に記載の抵抗変化型不揮発性記憶装置。
【請求項１５】
前記各メモリセルにおいて、
前記第１層配線と前記抵抗変化素子との間、および前記電流制御素子と前記第２層配線との間が、それぞれビアで接続されているか、または、
前記第１層配線と前記電流制御素子との間、および前記抵抗変化素子と前記第２層配線との間が、それぞれビアで接続されている
ことを特徴とする請求項１３または１４に記載の抵抗変化型不揮発性記憶装置。
【請求項１６】
前記各メモリセルにおいて、
単一の電極が、前記抵抗変化素子および前記電流制御素子の互いに接続される側の電極として共通に用いられている
ことを特徴とする請求項１３または１４に記載の抵抗変化型不揮発性記憶装置。
【請求項１７】
前記各メモリセルにおいて、
前記電流制御素子および前記抵抗変化素子は、交差する前記第１層配線と前記第２層配線との間に設けられるビアと比べて、積層方向に直交する断面の大きさが同一またはより小さく形成されている
ことを特徴とする請求項１３または１４に記載の抵抗変化型不揮発性記憶装置。
【請求項１８】
前記各メモリセルにおいて、
前記第１層配線および前記第２層配線のいずれか一方が、前記第１電極または前記第２電極として用いられている
ことを特徴とする請求項１３または１４に記載の抵抗変化型不揮発性記憶装置。
【請求項１９】
前記各メモリセルにおいて、
前記第１層配線および前記第２層配線のいずれか一方が、前記第３電極または前記第４電極として用いられている
ことを特徴とする請求項１３または１４に記載の抵抗変化型不揮発性記憶装置。
【請求項２０】
前記電流制限回路は、Ｎ型ＭＯＳトランジスタで構成されている
ことを特徴とする請求項２、３または４に記載の抵抗変化型不揮発性記憶装置。
【請求項２１】
前記電流制限回路は、Ｎ型ＭＯＳトランジスタで構成されており、
前記抵抗変化素子を、前記第１範囲に属する抵抗値のなかで、前記メモリセルに第３電圧が印加されたときに設定される第３抵抗値より大きく、かつ前記第３電圧よりも小さい第４電圧が印加されたときに設定される第４抵抗値より小さい抵抗値に設定するとき、
前記Ｎ型ＭＯＳトランジスタのゲート電圧は、前記第４電圧に前記Ｎ型ＭＯＳトランジスタの閾値電圧の絶対値を加えた値より大きく、前記第３の電圧に前記Ｎ型ＭＯＳトランジスタの閾値電圧の絶対値を加えた値より小さく、かつ前記第１駆動電圧以下の電圧に設定される
ことを特徴とする請求項２または３に記載の抵抗変化型不揮発性記憶装置。
【請求項２２】
前記電流制限回路は、Ｎ型ＭＯＳトランジスタで構成されており、
前記抵抗変化素子を、前記第１範囲に属する抵抗値のなかで、前記メモリセルに第３電圧が印加されたときに設定される第３抵抗値より大きく、かつ前記第３電圧よりも小さい第４電圧が印加されたときに設定される第４抵抗値より小さい抵抗値に設定するとき、
前記Ｎ型ＭＯＳトランジスタのゲート電圧は、前記第１駆動電圧から前記第３電圧を減じて前記Ｎ型ＭＯＳトランジスタの閾値電圧の絶対値を加えた値より大きく、かつ前記第１駆動電圧から前記第４電圧を減じて前記Ｎ型ＭＯＳトランジスタの閾値電圧の絶対値を加えた値より小さい電圧に設定される
ことを特徴とする請求項４に記載の抵抗変化型不揮発性記憶装置。
【請求項２３】
前記電流制限回路における前記各制限回路は、Ｎ型ＭＯＳトランジスタで構成されており、
前記各Ｎ型ＭＯＳトランジスタは、ゲートに選択信号が供給されることで、前記電流制限回路および前記第１選択回路として共用される
ことを特徴とする請求項３に記載の抵抗変化型不揮発性記憶装置。
【請求項２４】
前記電流制限回路は、Ｐ型ＭＯＳトランジスタで構成されている
ことを特徴とする請求項２、４または５に記載の抵抗変化型不揮発性記憶装置。
【請求項２５】
前記電流制限回路は、Ｐ型ＭＯＳトランジスタで構成されており、
前記抵抗変化素子を、前記第１範囲に属する抵抗値のなかで、前記メモリセルに第３電圧が印加されたときに設定される第３抵抗値より大きく、かつ前記第３電圧よりも小さい第４電圧が印加されたときに設定される第４抵抗値より小さい抵抗値に設定するとき、
前記Ｐ型ＭＯＳトランジスタのゲート電圧は、前記第４電圧から前記Ｐ型ＭＯＳトランジスタの閾値電圧の絶対値を減じた値より大きく、かつ前記第３電圧から前記Ｐ型ＭＯＳトランジスタの閾値電圧の絶対値を減じた値より小さい電圧に設定される
ことを特徴とする請求項２に記載の抵抗変化型不揮発性記憶装置。
【請求項２６】
前記電流制限回路は、Ｐ型ＭＯＳトランジスタで構成されており、
前記抵抗変化素子を、前記第１範囲に属する抵抗値のなかで、前記メモリセルに第３電圧が印加されたときに設定される第３抵抗値より大きく、かつ前記第３電圧よりも小さい第４電圧が印加されたときに設定される第４抵抗値より小さい抵抗値に設定するとき、
前記Ｐ型ＭＯＳトランジスタのゲート電圧は、前記第１駆動電圧から前記第３電圧と前記Ｐ型ＭＯＳトランジスタの閾値電圧の絶対値とを減じた値より大きく、前記第１の駆動電圧から、前記第４電圧と前記Ｐ型ＭＯＳトランジスタの閾値電圧の絶対値とを減じた値より小さく、かつ前記第１駆動電圧の基準電圧以上の電圧に設定される
ことを特徴とする請求項４または５に記載の抵抗変化型不揮発性記憶装置。
【請求項２７】
前記電流制限回路における前記各制限回路は、Ｐ型ＭＯＳトランジスタで構成されており、
前記各Ｐ型ＭＯＳトランジスタは、ゲートに選択信号が供給されることで、前記電流制限回路および前記第２選択回路として共用される
ことを特徴とする請求項５に記載の抵抗変化型不揮発性記憶装置。
【請求項２８】
前記第３抵抗値は前記第１範囲に属する最小の抵抗値であり、
前記抵抗変化素子を前記第３抵抗値に設定するときに前記メモリセルに流れる電流は、前記電流制御素子が破壊されない最大の電流以下である
ことを特徴とする請求項２１、２２、２５または２６に記載の抵抗変化型不揮発性記憶装置。
【請求項２９】
前記第４抵抗値は前記第１範囲に属する最大の抵抗値であり、
読み出し回路を用いて前記低抵抗状態と前記高抵抗状態とが判別可能であるような最大の抵抗値である
ことを特徴とする請求項２１、２２、２５または２６に記載の抵抗変化型不揮発性記憶装置。
【請求項３０】
前記電流制限回路は、Ｎ型またはＰ型のＭＯＳトランジスタで構成され、
前記ＭＯＳトランジスタのゲート幅をＷＣ、ゲート長をＬＣとし、
前記第２の駆動回路を構成するＭＯＳトランジスタのゲート幅をＷ２、ゲート長をＬ２とし、
前記第４の駆動回路を構成するＭＯＳトランジスタのゲート幅をＷ４、ゲート長をＬ４とするとき、
Ｗ２／Ｌ２＞ＷＣ／ＬＣ、かつＷ４／Ｌ４＞ＷＣ／ＬＣを満たす
ことを特徴とする請求項２から５のいずれか１項に記載の抵抗変化型不揮発性記憶装置。
【手続補正３】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】全図
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１】
2010119671.tif 000051
【図２】
2010119671.tif 000052
【図３】
2010119671.tif 000053
【図４】
2010119671.tif 000054
【図５】
2010119671.tif 000055
【図６】
2010119671.tif 000056
【図７】
2010119671.tif 000057
【図８】
2010119671.tif 000058
【図９】
2010119671.tif 000059
【図１０】
2010119671.tif 000060
【図１１】
2010119671.tif 000061
【図１２】
2010119671.tif 000062
【図１３】
2010119671.tif 000063
【図１４】
2010119671.tif 000064
【図１５】
2010119671.tif 000065
【図１６】
2010119671.tif 000066
【図１７】
2010119671.tif 000067
【図１８】
2010119671.tif 000068
【図１９】
2010119671.tif 000069
【図２０】
2010119671.tif 000070
【図２１】
2010119671.tif 000071
【図２２】
2010119671.tif 000072
【図２３】
2010119671.tif 000073
【図２４】
2010119671.tif 000074
【図２５】
2010119671.tif 000075
【図２６】
2010119671.tif 000076
【図２７】
2010119671.tif 000077
【図２８】
2010119671.tif 000078
【図２９】
2010119671.tif 000079
【図３０】
2010119671.tif 000080
【図３１】
2010119671.tif 000081
【図３２】
2010119671.tif 000082
【図３３】
2010119671.tif 000083
【図３４】
2010119671.tif 000084
【図３５】
2010119671.tif 000085
【図３６】
2010119671.tif 000086
【図３７】
2010119671.tif 000087
【図３８】
2010119671.tif 000088
【図３９】
2010119671.tif 000089
【図４０】
2010119671.tif 000090
【図４１】
2010119671.tif 000091
【図４２】
2010119671.tif 000092
【図４３】
2010119671.tif 000093
【図４４】
2010119671.tif 000094
【国際調査報告】
2010119671.tif 000095
2010119671.tif 000096