【事件の表示】
　特許第３１０７５９２号「移動量測定方法」の請求項１に係る特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結　論】
　訂正を認める。
　特許第３１０７５９２号の請求項１に係る特許を維持する。
【理　由】
１．手続の経緯
　特許第３１０７５９２号の請求項１に係る発明についての出願は、平成３年６月４日に特許出願され、平成１２年９月８日にその発明について特許権の設定登録がなされ、その後、その特許について、異議申立人中石幸明より特許異議の申立てがなされ、平成１４年２月８日付け（発送日）で取消しの理由が通知され、その所定の期間内である平成１４年４月９日に特許異議意見書と訂正請求書が提出されたものである。
２．訂正の適否についての判断
　（１）訂正の内容
　　　　ア．訂正事項ａ
特許請求の範囲の請求項１の記載「周期的構造を持つ被検体に、光強度分布がガウス分布に従う発散性の単色光を照射し、上記被検体による反射光もしくは透過光により影絵パターンを発生せしめ、上記被検体の移動に伴う影絵パターンの移動を光センサーにより検知して上記被検体の移動量を測定する方法において、上記単色光の発散角を２θ、上記反射光もしくは透過光の上記周期的構造による回折角をαとするとき、θとαが　　　　　　　　　　０＜α／θ≦４
なる不等式を満足するようにして影絵パターンを発生させることを特徴とする移動量測定方法。」を、「周期的構造を持つ被検体に、光強度分布がガウス分布に従う発散性の単色光を照射し、上記被検体による反射光もしくは透過光により影絵パターンを発生せしめ、上記被検体の移動に伴う影絵パターンの移動を光センサーにより検知して上記被検体の移動量を測定する方法において、上記単色光の発散角を２θ、上記反射光もしくは透過光の上記周期的構造による回折角をαとするとき、θとαが
　　　　　０＜α／θ≦４
なる不等式を満足するようにして影絵パターンを発生させ、光センサーを、上記周期的構造における０次回折光と±１次回折光との干渉領域であって、光軸から離れた位置に配置することを特徴とする移動量測定方法。」と訂正する。
　　　　イ．訂正事項ｂ
　明細書の発明の詳細な説明における段落「００１０」の記載「即ち、被検体に照射する単色光の発散角を２θ、上記反射光もしくは透過光の上記周期的構造による回折角をαとするとき、θとαが
　　　　　０＜α／θ≦４
なる不等式を満足するようにして影絵パターンを発生させる点である。」を、「即ち、被検体に照射する単色光の発散角を２θ、上記反射光もしくは透過光の上記周期的構造による回折角をαとするとき、θとαが
　　　　　０＜α／θ≦４
なる不等式を満足するようにして影絵パターンを発生させる点である。また、光センサーは、上記周期的構造における０次回折光と±１次回折光との干渉領域であって、光軸から離れた位置に配置される。」と訂正する。
　（２）訂正の目的の適否、新規事項の有無及び拡張・変更の存否
　訂正事項ａは、実質的には訂正前の請求項１に「光センサーを、上記周期的構造における０次回折光と±１次回折光との干渉領域であって、光軸から離れた位置に配置する」という構成を付加するものであるが、この訂正は、光センサーの位置を限定するものであるから、特許請求の範囲の減縮を目的とするものである。そして、上記アの訂正事項ａに関連する記載として、願書に添付した明細書（以下、「特許明細書」という。）の発明の詳細な説明には「影絵パターンと呼ばれ、上記周期的構造Ｇを影絵的に拡大する明暗パターンは、０次回折光と±１次回折光のように、次数が１だけ異なる回折光同志の干渉の結果であることが、近年の研究により分かった。従って、影絵パターンが発生するのは図１（ａ）においてハッチを施した部分である。例えば、図１（ａ）において符号Ｂ，Ｃ，Ｄで示す部分にスクリーンを置いてみると、これらの位置における０次回折光（０で示す）と±１次回折光（±１で示す）の重なり具合、±１次回折光と±２次回折光の重なり具合は、それぞれ図１（ｂ）（ｃ）（ｄ）に示す如くであって、回折光同志の重なりあう部分に影絵パターンが発生する。」（段落００１４）と記載されていることから、影絵パターンが０次回折光と±１次回折光との重なった光軸から離れた領域で発生していることが理解でき、また、「図５は、この発明をリニアエンコーダに適用した例である。線状光源１（ＬＤの発光部の長手方向を利用する）からの発散性の光を被検体としてのリニアスケール２に照射する。照射光の発散角とリニアスケールの周期的構造による回折角αが上記関係を満足するように設定されており、影絵パターンが発生する。リニアスケール２の矢印方向への変位に伴う影絵パターンの変位を光センサー３により検出して、移動量測定を行う。光センサー３を光軸ＡＸ上に置くと０次光の強度が強いために影絵パターンのコントラストが若干弱められるので、光軸からはなれた破線で示す位置に置くとコントラストの良い影絵パターンを検出できる。」（段落００２５）と記載されていることから、コントラストの良い影絵パターンを光センサーで検出するためには、影絵パターンの発生する位置であって、光センサーを光軸から離れた位置に配置するのが良いことが理解できるから、「光センサーは、上記周期的構造における０次回折光と±１次回折光との干渉領域であって、光軸から離れた位置に配置される。」の事項は、特許明細書に記載されているものと認められる。
　そうすると、上記訂正事項ａは、特許明細書に記載された事項の範囲内において光センサーの位置を限定したものであるから、新規事項の追加に該当せず、また実質上特許請求の範囲を拡張又は変更するものではない。
　また、上記イの訂正事項ｂは、上記訂正事項ａと整合を図るものであるから、明りょうでない記載の釈明を目的とした明細書の訂正に該当し、新規事項の追加に該当せず、実質上特許請求の範囲を拡張又は変更するものではない。
　（３）むすび
　したがって、上記訂正は、特許法第１２０条の４第３項で準用する平成６年法律第１１６号による改正前の特許法第１２６条第１項ただし書及び第２項までの規定に適合するので、当該訂正を認める。
３．特許異議の申立てについての判断
　（１）申立ての理由の概要
　申立人中石幸明は、請求項１に係る発明は、甲第１号証（特開昭６３−４７６１６号公報）若しくは甲第２号証（「１９８９年度精密工学会秋季大会　学術講演会講演論文集　第２分冊」（平成元年１１月６日発行）第５１７〜５１８頁）に記載された発明であり、特許法第２９条第１項第３号の規定により、又は、甲第１号証、甲第２号証、甲第３号証（伊藤良一他１名編「半導体レーザ−基礎と応用−」（１９８９年４月２５日初版発行（（株）培風館））第１１４〜１１８頁）及び甲第４号証（応用エレクトロニクスハンドブック編集委員会編「応用光エレクトロニクスハンドブック」（１９８９年４月１０日初版第１刷発行（（株）昭晃堂））第１９頁）に記載された発明に基づき当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許を取り消すべきと主張している。
　（２）本件の請求項１に係る発明
　上記２．で示したように上記訂正が認められるから、本件の請求項１に係る発明（以下、「本件発明」という。）は、上記訂正請求に係る訂正明細書の特許請求の範囲の請求項１に記載された事項により特定されるとおりのものである。
　（３）刊行物等
　特許異議申立人が証拠として提示した刊行物には、それぞれ、以下のような発明が記載されている。
　刊行物１：特開昭６ ３−４７６１６号公報（甲第１号証）　
　　　　　　この第７頁左下欄第２行〜第８頁左上欄第８行、及び、第１図　　　　　　、第５図には、概ね次の事項が記載されている。
　　　　　「ピッチ０．０８ｍｍの周期的構造を持つスケール１２に、発振
　　　　　　波長７８０ｎｍでピンホール０．２ μｍ×０．６ μｍのマス
　　　　　　ク層を形成したＧａＡｓ及びＡＩＧａＡｓの３元素系半導体レ
　　　　　　ーザーからなる点状光源１０からの発性の単色光を照射し、ス
　　　　　　ケール１２による透過光により影絵パターンＰＴを発生せしめ
　　　　　　、スケール１２の移動に伴う影絵パターンＰＴの移動を光セン
　　　　　　サー１４により検知してスケール１２の移動量を測定する方法
　　　　　　」
　刊行物２：「１９８９年度精密工学会秋季大会　学術講演会講演論文集　
　　　　　　第２分冊」（平成元年１１月６日発行）第５１７〜５１８頁
　　　　　（甲第２号証）
　　　　　　この第５１７頁左欄第１９行〜第５１８頁右欄第９行、及び、
　　　　　　図１〜図４には、概ね次の事項が記載されている。
　　　　　　「ピッチ３μｍの周期的構造を持つ移動格子に、発振波長７８
　　　　　　０ｎｍで開口０．３×６μｍの半導体レーザーを移動格子の刻
　　　　　　線方向に対して回転調節することで光源の大きさを３μｍとし
　　　　　　た点光源からの発散性の単色光を照射し、移動格子による
　　　　　　透過光により影絵パターンを発生せしめ、移動格子の移動に伴
　　　　　　う影絵パターンの移動をＰＩＮフォトダイオードからなる光セ
　　　　　　ンサーにより検知して移動格子の移動量を測定する方法」
　刊行物３：伊藤良一他１名編「半導体レーザ　−基礎と応用−」（１９８
　　　　　　９年４月２５日初版発行（（株）培風館））第１１４〜１１８
　　　　　　頁（甲第３号証）
　　　　　　この第１１８頁第２〜１０行には、概ね次の事項が記載されて
　　　　　　いる。
　　　　　　「レーザー光強度分布はガウス分布であること、波長をλ、ビ
　　　　　　ームウェイストの半幅をのωｏとするとき、レーザー光の回折
　　　　　　光強度が１／ｅ２ になる半幅角θ''は、ｔａｎθ'' ＝λ／
　　　　　　πωｏで与えられること、すなわち、開口の直径をＤとする
　　　　　　と、ωｏ＝Ｄ／２の関係にあるため、ｔａｎθ''＝２ λ／
　　　　　　πＤで与えられること」
　刊行物４：応用光エレクトロニクスハンドブック編集委員会編「応用光エ
　　　　　　レクトロニクスハンドブック」（１９８ ９年４月１０日初版
　　　　　　第１刷発行（（株）昭晃堂））第１９頁（甲第４号証）
　　　　　　この第１９頁下から第１２〜１０行には、概ね次の事項が記載
　　　　　　されている。
　　　　　　「レーザー出力光強度分布がガウス分布であること（振幅分布
　　　　　　がガウス分布であるので強度分布もガウス分布となる）」
　（４）対比・判断
　本件発明と上記刊行物１ないし４に記載の発明とを対比すると、これら刊行物に記載の発明はその何れにも、本件発明を特定する事項である「光センサーは、上記周期的構造における０次回折光と±１次回折光との干渉領域であって、光軸から離れた位置に配置される」という構成を備えていないから、本件発明は、上記刊行物１又は刊行物２に記載された発明ではなく、また、刊行物１ないし４記載の発明をどのように組み合わせても本件発明が容易であるとすることはできない。そして、当該事項により本件発明は、「０次光の強度の影響を受けにくいコントラストの良い影絵パターンを得られる」という顕著な効果を奏するものである。
　（５）むすび
　以上のとおりであるから、特許異議申立ての理由及び証拠によっては、本件請求項１に係る特許を取り消すことができない。
　また、他に本件請求項１に係る特許を取り消すべき理由を発見しない。
　よって、結論のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１４年５月１４日（２００２．５．１４）
【訂正の要旨】
　訂正の要旨
　ア．訂正事項ａ
特許請求の範囲の請求項１の記載「周期的構造を持つ被検体に、光強度分布がガウス分布に従う発散性の単色光を照射し、上記被検体による反射光もしくは透過光により影絵パターンを発生せしめ、上記被検体の移動に伴う影絵パターンの移動を光センサーにより検知して上記被検体の移動量を測定する方法において、上記単色光の発散角を２θ、上記反射光もしくは透過光の上記周期的構造による回折角をαとするとき、θとαが
　０＜α／θ≦４
なる不等式を満足するようにして影絵パターンを発生させることを特徴とする移動量測定方法。」を、「周期的構造を持つ被検体に、光強度分布がガウス分布に従う発散性の単色光を照射し、上記被検体による反射光もしくは透過光により影絵パターンを発生せしめ、上記被検体の移動に伴う影絵パターンの移動を光センサーにより検知して上記被検体の移動量を測定する方法において、上記単色光の発散角を２θ、上記反射光もしくは透過光の上記周期的構造による回折角をαとするとき、θとαが
　０＜α／θ≦４
なる不等式を満足するようにして影絵パターンを発生させ、光センサーを、上記周期的構造における０次回折光と±１次回折光との干渉領域であって、光軸から離れた位置に配置することを特徴とする移動量測定方法。」と訂正する。
　イ．訂正事項ｂ
　明細書の発明の詳細な説明における段落「００１０」の記載「即ち、被検体に照射する単色光の発散角を２θ、上記反射光もしくは透過光の上記周期的構造による回折角をαとするとき、θとαが
　０＜α／θ≦４
なる不等式を満足するようにして影絵パターンを発生させる点である。」を、「即ち、被検体に照射する単色光の発散角を２θ、上記反射光もしくは透過光の上記周期的構造による回折角をαとするとき、θとαが
　０＜α／θ≦４
なる不等式を満足するようにして影絵パターンを発生させる点である。また、光センサーは、上記周期的構造における０次回折光と±１次回折光との干渉領域であって、光軸から離れた位置に配置される。」と訂正する。
（５４）【発明の名称】
移動量測定方法
（５７）【特許請求の範囲】
　【請求項１】
　周期的構造を持つ被検体に、光強度分布がガウス分布に従う発散性の単色光を照射し、上記被検体による反射光もしくは透過光により影絵パターンを発生せしめ、上記被検体の移動に伴う影絵パターンの移動を光センサーにより検知して上記被検体の移動量を測定する方法において、
　上記単色光の発散角を２θ、上記反射光もしくは透過光の上記周期的構造による回折角をαとするとき、θとαが
　０＜α／θ≦４
なる不等式を満足するようにして影絵パターンを発生させ
、
　光センサーを、上記周期的構造における０次回折光と±１次回折光との干渉領域であって、光軸から離れた位置に配置す
【発明の詳細な説明】
　【０００１】
　【産業上の利用分野】
　この発明は、移動量測定方法に関する。
　【０００２】
　【従来の技術】
　周期的構造を持つ被検体に発散性の単色光を照射し、上記被検体による反射光もしくは透過光により影絵パターンを発生せしめ、上記被検体の移動に伴う影絵パターンの移動を光センサーにより検知して、上記被検体の移動量を測定する一連の方法が知られている。
　【０００３】
　当初、この方法は点状光源（発光部の大きさが、被検体の単周期的構造のピッチに比して十分に小さい光源）を用いるものとして提案されたが（特開昭６３−４７６１６号公報）、その後、線状光源を用いる方法が提案された（特開平６４−２９７５１３号公報）。
　【０００４】
　影絵パターンは、被検体の有する周期的構造を影絵的に拡大したパターンであるが、点状光源を用いて発生させる場合、点状光源と被検体の位置関係が一定の条件を満足することにより発生する。
　【０００５】
　一方、線状光源を用いると、被検体の周期構造のピッチξと、線状光源の周期構造のピッチ方向の長さｄとが、条件
　０．１≦（ｄ／ξ）≦４．０
を満足するとき影絵パターンが発生する。
　【０００６】
　被検体に照射する単色光は、当初コヒーレント光であることが必要と考えられていたが、その後の研究で、インコヒーレントな光でもアパーチュアにより波面制限を行えば、影絵パターンを発生させ得ることが分かった。
　【０００７】
　しかし、影絵パターンを利用した従来の移動量測定方法では、点状光源を用いる場合、点状光源と被検体の位置関係を設定する必要があり、線状光源を用いる場合には線状光源の長さｄに対して周期構造のピッチξを上記不等式を満足するように設定する必要がある。
　【０００８】
　【発明が解決しようとする課題】
　この発明は、上述の如き事情に鑑みてなされたものであって、点状光源と線状光源とを問わず、またコヒーレント光源とインコヒーレント光源とを問わず、良好な影絵パターンを発生できる、新規な移動量測定方法の提供を目的とする。
　【０００９】
　【課題を解決するための手段】
　この発明の移動量測定方法は「周期的構造を持つ被検体に、光強度分布がガウス分布に従う発散性の単色光を照射し、上記被検体による反射光もしくは透過光により影絵パターンを発生せしめ、上記被検体の移動に伴う影絵パターンの移動を光センサーにより検知して上記被検体の移動量を測定する方法」であって、以下の点を特徴とする。
　【００１０】
　即ち、被検体に照射する単色光の発散角を２θ、上記反射光もしくは透過光の上記周期的構造による回折角をαとするとき、θとαが
　０＜α／θ≦４
なる不等式を満足するようにして影絵パターンを発生させる点である。
また、光センサーは、上記周期的構造における０次回折光と±１次回折光との干渉領域であって、光軸から離れた位置に配置される。
　【００１１】
　なお、被検体が周期的構造を有するとは、被検体が照射される単色光を反射するか透過させるかに応じて、反射率もしくは透過率が周期的に変化していることを言う。
　【００１２】
　【作用】
　図１（ａ）において、符号Ｑは単色光を放射する光源を示している。この光源Ｑから発散角２θの光束が放射される。符号Ｇは、被検体における光透過性の周期的構造を示している。ここでは、光源Ｑはコヒーレント光源である。
　【００１３】
　光源Ｑからの単色光が周期的構造Ｇを照射すると、透過光は回折により０次回折光と、±１次回折光、および更に高次の回折光に分かれる。単色光は干渉し易く、特にコヒーレント光源が発する単色光の場合には、これら０次，±１次回折光等は互いに干渉しあう。
　【００１４】
　影絵パターンと呼ばれ、上記周期的構造Ｇを影絵的に拡大する明暗パターンは、０次回折光と±１次回折光のように、次数が１だけ異なる回折光同志の干渉の結果であることが、近年の研究により分かった。従って、影絵パターンが発生するのは図１（ａ）においてハッチを施した部分である。例えば、図１（ａ）において符号Ｂ，Ｃ，Ｄで示す部分にスクリーンを置いてみると、これらの位置における０次回折光（０で示す）と±１次回折光（±１で示す）の重なり具合、±１次回折光と±２次回折光の重なり具合は、それぞれ図１（ｂ）（ｃ）（ｄ）に示す如くであって、回折光同志の重なりあう部分に影絵パターンが発生する。
　【００１５】
　影絵パターンの明暗のピッチをＸとすると、これは前述のように、周期的構造のピッチξを光源Ｑからの光で影絵的に拡大したものとなっている。即ち、光源Ｑと周期的構造Ｇとの距離をａ，周期的構造Ｇと影絵パターンとの距離をｂとすると、上記ピッチＸは、（ａ＋ｂ）ξ／ａで与えられる。
　【００１６】
　このようにして、発生した影絵パターンは、周期的構造を有する被検体が周期的構造の繰返し方向に変位すると、影絵的な関係を保ったまま同方向に変位する。従って、光センサーにより、影絵パターンの変位量Ｙを検出すれば、被検体自体の移動量Ｚは、上記変位量Ｙを影絵パターンの拡大倍率で除して、Ｙａ／（ａ＋ｂ）として知ることができる。勿論、この移動量を時間で微分する処理を行えば、被検体の移動量のみならず移動速度や加速度をも測定できる。
　【００１７】
　図１（ａ）の位置Ｂ，Ｃ，Ｄは、周期的構造Ｇから次第に遠ざかっているので、これらの位置Ｂ，Ｃ，Ｄにおける影絵パターンのピッチもそれに応じて、図１（ｂ）（ｃ）（ｄ）に示すように次第に大きくなっている。
　【００１８】
　図２（ａ）は、照射単色光の発散角に対応する角θと回折角αに対応させて、０次回折光の強度と１次回折光の強度の関係を示している。照射単色光の強度分布はガウス分布に従っている。回折角αは、１義的に定まるが、発散角は光強度分布がガウス分布に従うために、一義的には決まらない。この発明では、発散角２θは、光強度分布がピーク値の９０％を与える部分を見込む角として定義されている。
　【００１９】
　θとαの比をパラメータとし、影絵パターンの発生の様子をコンピューターでシミュレーション演算した結果を図３および図４に示す。但し、このシミュレーションでは、図２（ｂ）に示すように光強度分布のピーク値の１／ｅの強度部分を見込む角としてθ’を定義し、θ’／αをパラメータとして、計算を行った。θはθ’と、θ＝θ’／０．６５の関係があるから、この関係を用いて、結果を簡単にθに換算できる。なお、周期的構造は光透過部と遮光部とがピッチξで配列され、配列方向における光透過部幅と遮光部幅とが共にε＝ξ／２である場合を想定している。
　【００２０】
　図３に示す図でパラメータはθ’／αであり、このパラメータが１．０から次第に小さくなるに従って、透過光の強度分布がどのように変化するかを示している。図中で、光強度が細かく変化している部分が影絵パターンである。パラメータθ’／αが１．０から次第に小さくなると、影絵パターンのコントラストが次第に減少し、θ’／α＝０．３では、影絵パターンは全く発生しない。光強度の大きな３つの山は、０次回折光と、±１次回折光の強度分布であり、これらが完全に分離して重なり合わないため、これらの干渉もなく影絵パターンは発生しないのである。
　【００２１】
　影絵パターンの発生する限界におけるパラメータθ’／αの値は、０．３８であり、これは４θ＝αのときに相当する。従って、α／θをパラメータとする場合には、影絵パターンの発生する上限が４であることになる。
　【００２２】
　図４ではパラメータθ’／αが１．０から５．０まで変化するときの、透過光の強度分布の様子を示している。パラメータθ’／αが大きくなるにつれて影絵パターンのコントラストは相対的に小さくなっているが、それでも影絵パターン自体は発生しており、この傾向はパラメータθ’／αが大きくなっても変わらない。従って、影絵パターンが発生する条件は、パラメータα／θが
　０＜α／θ≦４
なる不等式を満足するときであることがわかる。そして、この条件は単色光の波長にも、周期的構造のピッチξにも依らない、極めて一般的な条件である。
　【００２３】
　上の説明では被検体に対する照射光をコヒーレント光として、説明したが、ＬＥＤ光源からの光のようにインコヒーレントな光であっても、適当なアパーチュアにより波面制限をすることにより干渉性の光とすることができ、このようにした光に上記条件を満足させることによって、影絵パターンを発生させることができる。
　【００２４】
　【実施例】
　図５以下に、具体的な実施例を示す。
　【００２５】
　図５は、この発明をリニアエンコーダに適用した例である。線状光源１（ＬＤの発光部の長手方向を利用する）からの発散性の光を被検体としてのリニアスケール２に照射する。照射光の発散角とリニアスケールの周期的構造による回折角αが上記関係を満足するように設定されており、影絵パターンが発生する。リニアスケール２の矢印方向への変位に伴う影絵パターンの変位を光センサー３により検出して、移動量測定を行う。光センサー３を光軸ＡＸ上に置くと０次光の強度が強いために影絵パターンのコントラストが若干弱められるので、光軸からはなれた破線で示す位置に置くとコントラストの良い影絵パターンを検出できる。
　【００２６】
　図６は、この発明をロータリエンコーダに適用した例である。
　線状光源１からの発散性の光束を、円板スケール２Ａに照射して、影絵パターンを発生させ、円板スケール２Ａの回転伴う影絵パターンの変位を光センサー３で検出して、円板スケール２Ａの移動量（回転量）の測定を行うことができる。
　【００２７】
　図７の例では、軸受６に軸支された回転軸７に周期的構造として反射率が周期的に変化するパターン８が形成され、線状光源１からの発散光をパターン８に照射し、発生する影絵パターンの移動を光センサー５により検出して回転軸７の回転量を測定する。
　【００２８】
　図８の例は、図７の例の変形例であり、インコヒーレントな光源であるＬＥＤ１’からの光をアパーチュア１’Ａにより波面制限して干渉性とし、θとαの比が前記条件を満足するようにして影絵パターンを発生させる。アパーチュアにおける開口形状は、例えば図９（ａ）（ｂ）（ｃ）に示すようなスリット形状、楕円形状、円形状等が可能である。
　【００２９】
　図７や図８の実施例の場合は、単色光を照射される被検体部分が正の曲率を持っているため、反射光は凸面の作用で、入射光束の発散角よりも発散角が広がる。図１０に示す例では、光源Ｑからの光束は発散角２θ０をもって被検体７に照射されるが反射光束の発散角は２θ（＞２θ０）となる。この場合条件
　０＜α／θ≦４
を満たすのは、勿論、反射光束の発散角である。従って、被検体の表面が凸面である場合には、図１１に示すように光源Ｑからの光をレンズ１３により平行光束１４として被検体７に照射しても良い。
　【００３０】
　なお、光強度分布がガウス分布に従うものでなく、一様な分布である場合にはα／θの満足する不等式は、上記不等式の上限値を４から２．６に代えたものとなる。
　【００３１】
　【発明の効果】
　以上のように、この発明によれば新規な移動量測定方法を提供できる。この発明では、被検体に対して照射する単色光の発散角と回折角との関係を調整して影絵パターンを発生させるのであるが、発散角はレンズ等の光学素子の使用により簡単に調整ができるから、被検体上の所定の周期的構造におうじて容易且つ確実に影絵パターンを発生させることができ、移動量測定が容易になる。
　【００３２】
　この発明の場合、影絵パターンを発生させるのに、回折角と発散角の関係を調整するので、照射光は、光源からの光を直接照射する場合のほか、レンズを介して照射したり、光ファイバーで導いた光を発散角を調整して照射したりすることができ、光源装置の形態上の自由度が大きくなる。
【図面の簡単な説明】
　【図１】
　この発明の特徴を説明するための図である。
　【図２】
　発散角と回折角の関係を説明するための図である。
　【図３】
　この発明の特徴をなす、不等式を説明するための図である。
　【図４】
　この発明の特徴をなす、不等式を説明するための図である。
　【図５】
　この発明の１実施例を示す斜視図である。
　【図６】
　この発明の別実施例を示す斜視図である。
　【図７】
　この発明の他の実施例を示す斜視図である。
　【図８】
　この発明の更に他の実施例を示す斜視図である。
　【図９】
　インコヒーレント光を用いる場合に波面制限を行うアパーチュアの開口形状を３例示す図である。
　【図１０】
　被検体表面が凸面である場合の発散角を説明するための図である。
　【図１１】
　この発明の別の実施例を示す図である。
　【符号の説明】
　Ｑ　　　単色光を放射する光源
　Ｇ　　　周期的構造