(57)【要約】  互いに対向するように配置された第１基板及び第２基板と、第１基板と第２基板との間に設けられた液晶層とを備え、第１基板側からの光を透過する透過領域、及び第２基板側からの光を第１基板で反射する反射領域をそれぞれ有する複数の画素が設けられ、各反射領域の液晶層の厚さを各透過領域の液晶層の厚さよりも小さくするための透明層が各反射領域に設けられ、第１基板の液晶層側には、各画素の間に溝部が形成されている。
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
互いに対向するように配置された第１基板及び第２基板と、
上記第１基板と上記第２基板との間に設けられた液晶層とを備え、
上記第１基板側からの光を透過する透過領域、及び上記第２基板側からの光を上記第１基板で反射する反射領域をそれぞれ有する複数の画素が設けられ、
上記各反射領域の液晶層の厚さを上記各透過領域の液晶層の厚さよりも小さくするための透明層が上記各反射領域に設けられた液晶表示装置であって、
上記第１基板の上記液晶層側には、上記各画素の間に溝部が形成されている
ことを特徴とする液晶表示装置。
【請求項２】
請求項１に記載の液晶表示装置において、
上記複数の画素は、行列状に設けられ、
上記透明層は、上記複数の画素の各行毎に一体に形成されている
ことを特徴とする液晶表示装置。
【請求項３】
請求項１に記載の液晶表示装置において、
上記溝部は、上記各画素の間に格子状に形成されている
ことを特徴とする液晶表示装置。
【請求項４】
請求項１に記載の液晶表示装置において、
上記第１基板は、上記各画素の間に延びるように設けられた複数の配線と、該各配線を覆うように設けられた絶縁膜とを有し、該絶縁膜上に配向膜が設けられ、
上記溝部は、上記絶縁膜に形成され、
上記配向膜の厚さをＴ１とし、上記各配線上の絶縁膜の厚さをＴ２とし、上記溝部の深さをＤとしたとき、Ｔ１＜Ｄ≦０．９×（Ｄ＋Ｔ２）の関係が満たされている
ことを特徴とする液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
半透過型の液晶表示装置は、各々、透過領域及び反射領域を有する複数の画素が行列状に設けられており、各透過領域で透過したバックライトの光と各反射領域で反射した外光とを利用して画像表示を行うように構成されている。この半透過型の液晶表示装置には、各反射領域の光路長を各透過領域の光路長と等しくするための透明層が各反射領域に設けられている（例えば、特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００６−３０９５１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ところで、液晶表示装置を構成する一対の基板は、軽量化や薄型化のために比較的薄く形成されており、撓みやすい。このため、外部から衝撃を受ける等して液晶表示装置に局所的に荷重が加わった場合には、その荷重が加わった部分で基板が撓んで液晶層を構成する液晶材料が外側に押し出されて流れ出る。【０００５】
しかし、上述の半透過型の液晶表示装置は、各反射領域に設けられた透明層によって液晶層が薄くなっていることにより、それら各反射領域において液晶材料が流動し難いため、局所的に荷重が加わったときに、上記外側に流れ出た分の液晶材料が各反射領域を介してすぐには戻り難い。このため、液晶層の荷重を受けた部分に気泡が発生し、表示品位が低下しやすい。【０００６】
本発明は、斯かる点に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、荷重が加わったときに液晶層に気泡が生じることを抑制することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記の目的を達成するために、この発明では、液晶表示装置を構成する基板の液晶層側に対して各画素の間に溝部を形成するようにした。【０００８】
具体的に、本発明に係る液晶表示装置は、互いに対向するように配置された第１基板及び第２基板と、上記第１基板と上記第２基板との間に設けられた液晶層とを備え、上記第１基板側からの光を透過する透過領域、及び上記第２基板側からの光を上記第１基板で反射する反射領域をそれぞれ有する複数の画素が設けられ、上記各反射領域の液晶層の厚さを上記各透過領域の液晶層の厚さよりも小さくするための透明層が上記各反射領域に設けられた液晶表示装置であって、上記第１基板の上記液晶層側には、上記各画素の間に溝部が形成されていることを特徴とする。【０００９】
この構成によると、第１基板の液晶層側には各画素の間に溝部が形成されているため、この溝部が設けられた部分において液晶材料が流動しやすくなる。そのことにより、外部から衝撃を受ける等して液晶表示装置に局所的に荷重が加わったときに、その荷重が加わった部分から外側に流れ出た分の液晶材料がその荷重が加わった部分に戻りやすくなる。さらに、溝部が設けられた分だけ液晶層を構成する液晶材料の量が増加するため、その液晶材料の量の適正量に対する割合が少なくなることが抑制され、荷重が加わったときに気泡が発生し難くなる。以上のことにより、総じて、荷重が加わったときに液晶層に気泡が生じることが抑制される。【００１０】
上記複数の画素は、行列状に設けられ、上記透明層は、上記複数の画素の各行毎に一体に形成されていてもよい。【００１１】
このように行列状に設けられた複数の画素の各行毎に透明層が一体に形成されている場合には、各行の隣り合う画素の間にも透明層が配置され、本発明に係る液晶表示装置のように第１基板に溝部が形成されていないと、それら各行の隣り合う画素の間における液晶層も比較的薄い。そのことにより、局所的に荷重が加わったときに、その荷重が加わった部分から外側に流れ出た分の液晶材料がその荷重が加わった部分に非常に戻り難く、液晶層に気泡が発生する虞が高いので、本発明の作用効果が特に有効に奏される。【００１２】
上記溝部は、上記各画素の間に格子状に形成されていることが好ましい。【００１３】
この構成によると、複数の画素の間全体において液晶材料が流動しやすくなると共に、液晶層を構成する液晶材料の量が可及的に増加するためにその液晶材料の量の適正量に対する割合が少なくなることがより抑制され、荷重が加わったときに液晶層に気泡が生じることが良好に抑制される。【００１４】
上記第１基板は、上記各画素の間に延びるように設けられた複数の配線と、該各配線を覆うように設けられた絶縁膜とを有し、該絶縁膜上に配向膜が設けられ、上記溝部は、上記絶縁膜に形成され、上記配向膜の厚さをＴ１とし、上記各配線上の絶縁膜の厚さをＴ２とし、上記溝部の深さをＤとしたとき、Ｔ１＜Ｄ≦０．９×（Ｄ＋Ｔ２）の関係が満たされていることが好ましい。【００１５】
仮に、Ｔ１≧Ｄの関係が満たされる場合には、溝部が配向膜によって埋められるため、荷重が加わったときに液晶層に気泡が生じることが十分に抑制され難い。また、仮に、Ｄ＞０．９×（Ｄ＋Ｔ２）の関係が満たされる場合には、各配線上の絶縁膜が比較的薄いことにより、荷重が加わったときにその絶縁膜にクラックが発生しやすくなり、そのクラックに起因して表示品位が低下しやすくなる。これに対して、上記構成のように、Ｔ１＜Ｄ≦０．９×（Ｄ＋Ｔ２）の関係が満たされている場合には、荷重が加わったときに、液晶層に気泡が生じることが十分に抑制され、且つ絶縁膜にクラックが発生することが抑制される。これにより、表示品位を良好に向上させることが可能になる。
【発明の効果】
【００１６】
本発明によれば、液晶表示装置を構成する基板の液晶層側において各画素の間に溝部が形成されているので、荷重が加わったときに液晶層に気泡が生じることを抑制できる。その結果、表示品位を向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】図１は、実施形態１の液晶表示装置を概略的に示す断面図である。
【図２】図２は、液晶表示パネルの一部を概略的に示す平面図である。
【図３】図３は、アクティブマトリクス基板の一部を概略的に示す平面図である。
【図４】図４は、カラーフィルタ基板の一部を概略的に示す平面図である。
【図５】図５は、図２のV−V線断面を概略的に示す図である。
【図６】図６は、図２のVI−VI線断面を概略的に示す図である。
【図７】図７は、衝撃試験で用いた衝撃試験装置を概略的に示す断面図である。
【図８】図８は、実施形態２の液晶表示装置におけるカラーフィルタ基板の一部を概略的に示す平面図である。
【図９】図９は、その他の実施形態の液晶表示装置におけるアクティブマトリクス基板の一部を概略的に示す平面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
以下、本発明の実施形態を図面に基づいて詳細に説明する。尚、本発明は、以下の各実施形態に限定されるものではない。
【００１９】
《発明の実施形態１》
図１〜図７は、本発明の実施形態１を示している。図１は、液晶表示装置Ｓを概略的に示す断面図である。図２は、液晶表示パネル１の一部を概略的に示す平面図である。図３は、アクティブマトリクス基板１０の一部を概略的に示す平面図である。図４は、カラーフィルタ基板２０の一部を概略的に示す平面図である。図５は、図２のV−V線に沿って液晶表示パネル１の一部を概略的に示す断面図である。図６は、図２のVI−VI線に沿って液晶表示パネル１の一部を概略的に示す断面図である。尚、図３及び４は、図２に対応する箇所を図示している。また、図４では、共通電極２５の図示を省略している。
【００２０】
液晶表示装置Ｓは、図１に示すように、液晶表示パネル１と、この液晶表示パネル１の背面側（図中下側）に配置されたバックライト２とを備えている。
【００２１】
液晶表示パネル１は、バックライト２側に配置された第１基板であるアクティブマトリクス基板１０と、アクティブマトリクス基板１０に対向するように配置された第２基板であるカラーフィルタ基板２０と、これら両基板１０，２０の間に設けられた液晶層３０とを有している。この液晶表示パネル１には、両基板１０，２０が液晶層３０を介して対向する部分に画像表示を行う表示部３が構成されている。
【００２２】
アクティブマトリクス基板１０及びカラーフィルタ基板２０は、例えば矩形状等に形成され、液晶層３０側の表面に配向膜３１，３２がそれぞれ設けられていると共に、液晶層３０とは反対側の表面に偏光板３３，３４がそれぞれ設けられている。これらアクティブマトリクス基板１０とカラーフィルタ基板２０との間には、エポシキ樹脂等からなる枠状のシール材３５が表示部３を囲むように設けられており、このシール材３５の内側に液晶材料が封入されていることによって液晶層３０が構成されている。
【００２３】
表示部３は、図２に示すように、行列状に設けられた複数の画素５によって構成されている。これら複数の画素５は、複数色の画素、例えば赤色、緑色及び青色の画素５Ｒ，５Ｇ，５Ｂから構成されており、これら各色の画素５Ｒ，５Ｇ，５Ｂが行方向に周期的に配列されている。各画素５は、バックライト２からの光を透過する透過領域５ｔ、及びカラーフィルタ基板２０側からの外光をアクティブマトリクス基板１０で反射する反射領域５ｒを有し、例えば、透過領域５ｔが各画素５の列方向の下側に配置され、反射領域５ｒが透過領域５ｔの上側に配置されている。
【００２４】
アクティブマトリクス基板１０は、図５及び図６に示すガラス基板１１を有し、そのガラス基板１１上に、図３に示すように、各画素５の間に互いに平行に行方向（図中左右方向）に延びるように複数のゲート線１２が設けられていると共に、各画素５の間に互いに平行に列方向（図中上下方向）に延びるように複数のソース線１３が設けられている。これら各ゲート線１２と各ソース線１３との交差部付近には、これら交差部をなすゲート線１２及びソース線１３に接続された薄膜トランジスタ１４がそれぞれ設けられている。
【００２５】
さらに、アクティブマトリクス基板１０には、各ソース線１３と共に各薄膜トランジスタ１４を覆うように図５及び図６に示すアクリル樹脂等からなる絶縁膜１５が設けられている。この絶縁膜１５には、図３に示すように、各薄膜トランジスタ１４のドレイン電極１４ｄ上にコンタクトホール１５ｈがそれぞれ形成されている。そして、各画素５には各コンタクトホール１５ｈを介して各薄膜トランジスタ１４に接続された画素電極１６が設けられており、図５及び図６に示すように、配向膜３１はこれら各画素電極１６を覆うように絶縁膜１５上に設けられている。
【００２６】
各画素電極１６は、図３及び図５に示すように、画素５全体に設けられた透明電極１６ｔと、各画素５の反射領域５ｒにおける透明電極１６ｔ上に設けられた反射電極１６ｒとで構成されている。各透明電極１６ｔはＩＴＯ（Indium Tin Oxide）層等で構成されており、各反射電極１６ｒは各透明電極１６ｔとの電食を抑制するために例えばＴｉ層及びＡｌ層が順に積層されて構成されている。
【００２７】
そして、このアクティブマトリクス基板１０の液晶層３０側には、図３及び図６に示すように、各画素電極１６の間に延びるように絶縁膜１５に溝部１７が形成されている。本実施形態における溝部１７は、図３中に斜線部分で示すように、各画素電極１６の間に格子状に形成されている。
【００２８】
ところで、配向膜３１の厚さをＴ１とし、各ソース線１３上の絶縁膜１５の厚さをＴ２とし、溝部１７の深さをＤとしたとき、仮に、Ｔ１≧Ｄの関係が満たされる場合には、溝部１７が配向膜３１によって埋められるため、荷重が加わったときに液晶層３０に気泡が生じることが十分に抑制され難い。また、仮に、Ｄ＞０．９×（Ｄ＋Ｔ２）の関係が満たされる場合には、各ゲート線１２上の絶縁膜１５が比較的薄いことにより、荷重が加わったときにその絶縁膜１５にクラックが発生しやすくなり、そのクラックに起因して表示品位が低下しやすくなる。このことから、この溝部１７は、Ｔ１＜Ｄ≦０．９×（Ｄ＋Ｔ２）の関係を満たすように形成されている。
【００２９】
カラーフィルタ基板２０は、図５及び図６に示すガラス基板２１を有し、そのガラス基板２１上に、図４に示すように、各画素電極１６に重なり合うように各画素５の色に対応した色の複数のカラーフィルタ２２、つまり赤色、緑色及び青色のカラーフィルタ２２Ｒ，２２Ｇ，２２Ｂが設けられ、これら各カラーフィルタ２２を区画するようにブラックマトリクス２３が設けられている。
【００３０】
そして、このカラーフィルタ基板２０には、各画素５の反射領域５ｒに、それら各反射領域５ｒの液晶層３０の厚さを各透過領域５ｔの液晶層３０の厚さよりも小さくするための透明層２４が設けられている。これにより、各反射領域５ｒの液晶層３０の厚さを各透過領域５ｔの液晶層３０の厚さの半分程度に薄くし、これら各反射領域５ｒ及び各透過領域５ｔの液晶層３０を通過する光の光路長を略等しくして、表示品位を高めている。この透明層２４は、複数の画素５の各行毎に一体に形成され、それら各行の各反射領域５ｒに亘って延びるようにそれぞれ設けられている。さらに、カラーフィルタ基板２０には、図５及び図６に示すように、これら各透明層２４と共に各カラーフィルタ２２を覆うように共通電極２５が設けられている。
【００３１】
バックライト２は、図示は省略するが、ＬＥＤ（Light Emitting Diode）等の光源、導光板、及びプリズムシート等の複数の光学シートを有し、光源から導光板に入射した光を、その導光板の出射面から各光学シートを介して液晶表示パネル１側へ均一な面状の光として出射するように構成されている。
【００３２】
このように、半透過型の液晶表示装置Ｓは、各画素５において透過領域５ｔでバックライト２からの光を透過すると共に反射領域５ｒで外光を反射した状態において、各画素電極１６と共通電極２５との間に電圧を印加して各画素５毎に液晶分子の配向を制御することにより、表示部３で所望の画像表示を行うように構成されている。
【００３３】
−製造方法−
次に、上記液晶表示装置Ｓを製造する方法について説明する。
【００３４】
まず、２枚のガラス基板１１，２１を準備する。次に、一方のガラス基板１１上に、各ゲート線１２、各ソース線１３、各薄膜トランジスタ１４、絶縁膜１５及び各画素電極１６等を形成する。続いて、各画素電極１６をマスクとして絶縁膜１５をドライエッチングしてそれら各画素電極１６の間に溝部１７を形成することにより、アクティブマトリクス基板１０を作製する。そして、このアクティブマトリクス基板１０の表面に印刷法によって配向膜３１を形成する。また、他方のガラス基板２１上に、ブラックマトリクス２３、各カラーフィルタ２２、各透明層２４及び共通電極２５を形成することにより、カラーフィルタ基板２０を作製する。そして、このカラーフィルタ基板２０の表面にも印刷法によって配向膜３２を形成する。
【００３５】
次に、配向膜３１が形成されたアクティブマトリクス基板１０上にディスペンサによる描画や印刷法等によってシール材３５を枠状に供給する。次いで、アクティブマトリクス基板１０上のシール材３５で囲まれた領域に所定量の液晶材料を滴下する。続いて、真空引きされた処理室内において、アクティブマトリクス基板１０の各画素電極１６とカラーフィルタ基板２０の各カラーフィルタ２２が重なるように両基板１０，２０を位置合わせして配置し、それら両基板１０，２０をシール材３５を介して互いに貼り合わせる。その後、シール材３５を硬化させて両基板１０，２０を互いに接着させる。こうして、液晶表示パネル１が作製される。
【００３６】
尚、本実施形態では、アクティブマトリクス基板１０に枠状のシール材３５を供給し、そのシール材３５の内側に液晶材料を滴下した後に、アクティブマトリクス基板１０及びカラーフィルタ基板２０を互いに貼り合わせるいわゆる滴下注入法を例に挙げて液晶表示パネル１の作製について説明しているが、アクティブマトリクス基板１０に対して注入口を構成する切れ目を有する略枠状にシール材を供給し、そのシール材を介してアクティブマトリクス基板１０及びカラーフィルタ基板２０を互いに貼り合わせ、次いで注入口から両基板１０，２０の間に液晶材料を真空注入した後、その注入口を封止するいわゆる真空注入法によって液晶表示パネルを作製してもよい。
【００３７】
その後、液晶表示パネル１に対して、両面に偏光板３３，３４をそれぞれ貼り付ける。そして、液晶表示パネル１の背面側に予め作製したバックライト２を取り付けて、図１に示す液晶表示装置Ｓが完成する。
【００３８】
−評価試験例−
次に、評価試験として実施した衝撃試験について説明する。
【００３９】
本衝撃試験では、液晶表示パネルに封入された液晶材料の量の適正量に対する割合が少ないほどその液晶表示パネルが衝撃を受けたときに液晶層に気泡が発生しやすいことから、本実施形態の液晶表示パネル１を液晶材料の量を変えて複数作製し、それら各液晶表示パネル１の中央部分に衝撃を与え、各液晶表示パネル１の液晶層３０における気泡の発生を検査した。具体的には、液晶材料の量が適正量に対して９７％、９８％、９９％、１００％の量の各液晶表示パネル１をそれぞれ作製してそれら各液晶表示パネルに衝撃試験を実施し、衝撃を与えた後の各液晶表示パネル１に対して、目視による検査及び点灯表示させることによる表示検査を行うことにより、液晶層３０に気泡が発生したか否かを検査した。
【００４０】
この衝撃試験では、実施例１として、配向膜３１の厚さＴ１が１００ｎｍ、各ソース線１３上の絶縁膜１５の厚さＴ２が１．５μｍ、溝部１７の深さＤが１．０μｍであり、Ｔ１＜Ｄ≦０．５×（Ｄ＋Ｔ２）の関係を満たす液晶表示パネル１、実施例２として、配向膜３１の厚さＴ１が１００ｎｍ、各ソース線１３上の絶縁膜１５の厚さＴ２が１．０μｍ、溝部１７の深さＤが１．５μｍであり、０．５×（Ｄ＋Ｔ２）＜Ｄ≦０．９×（Ｄ＋Ｔ２）の関係を満たす液晶表示パネル１に衝撃試験をそれぞれ行った。また、比較例として、配向膜の厚さＴ１が１００ｎｍ、各ソース線上の絶縁膜の厚さＴ２が２．５μｍであり、溝部１７が形成されていない液晶表示パネルについても、同様に衝撃試験を行った。これら実施例１、実施例２及び比較例の各液晶表示パネルは、各透過領域の液晶層の厚さが４μｍであり、各反射領域の液晶層の厚さが２μｍである。
【００４１】
この衝撃試験は、図７に示す衝撃試験装置４０を用いて行った。この衝撃試験装置４０は、図７に示すように、試験対象の液晶表示パネル（図中に１点差線で示す）を載置するための載置台４１と、この載置台４１の上側に配置され、直径１ｃｍの鋼球４２が内部に収納された鋼球ボックス４３とを備えている。鋼球ボックス４３は、底板４４が外側に突出しており、この底板４４を外側に引っ張ってスライドさせることで底部が開いて鋼球４２が載置台４１に載置された液晶表示パネルへ落下するように構成されている。尚、図７において、矢印４５は底板４４がスライドする方向を示しており、図中の２点鎖線は底板４４のスライドさせる前の位置を示している。また、図７中の矢印４６は、鋼球４２が落下する方向を示している。この衝撃試験では、載置台４１に載置された試験対象の液晶表示パネルに鋼球ボックス４３から鋼球４２を３０ｃｍ落下させて衝撃を与えた。
【００４２】
【表１】
2010070776.tif 000003
【００４３】
この試験結果を表１に示す。尚、表１中において、「○」は気泡が確認されなかったことを示し、「×」は気泡が確認されたことを示している。この表１に示すように、比較例の液晶表示パネルについては、適正量に対する液晶材料の量が９９％以下の量の液晶表示パネルにおいて気泡が確認された。これに対して、実施例１の液晶表示パネル１については適正量に対する液晶材料の量が９８％以下の量の液晶表示パネル、実施例２の液晶表示パネル１については適正量に対する液晶材料の量が９７％以下の量の液晶表示パネルで気泡がそれぞれ確認された。このことから、アクティブマトリクス基板１０の液晶層３０側に対して各画素５の間に溝部１７を形成することにより、荷重が加わったときに液晶層３０に気泡が生じることを抑制できる有利な効果を奏することがわかった。
【００４４】
−実施形態１の効果−
したがって、この実施形態１によると、アクティブマトリクス基板１０の液晶層３０側には各画素５の間に格子状に溝部１７が形成されているため、この溝部１７が設けられた各画素５の間全体においては液晶材料が流動しやすくなる。そのことにより、外部から衝撃を受ける等して液晶表示装置Ｓに局所的に荷重が加わったときに、その荷重が加わった部分から外側に流れ出た分の液晶材料がその荷重が加わった部分に戻りやすくなる。さらに、溝部１７が設けられた分だけ液晶層３０を構成する液晶材料の量を増加できるため、その液晶材料の量の適正量に対する割合が少なくなることを抑制でき、荷重が加わったときに液晶層３０に気泡を発生し難くできる。以上のことにより、総じて、荷重が加わったときに液晶層３０に気泡が生じることを抑制できる。
【００４５】
そして、配向膜３１の厚さをＴ１とし、各ソース線１３上の絶縁膜１５の厚さをＴ２とし、溝部１７の深さをＤとしたとき、Ｔ１＜Ｄ≦０．９×（Ｄ＋Ｔ２）の関係が満たされているため、荷重が加わったときに、液晶層３０に気泡が生じることを十分に抑制でき、且つ絶縁膜１５にクラックが発生することを抑制できる。その結果、表示品位を良好に向上させることができる。
【００４６】
《発明の実施形態２》
図８は、本発明の実施形態２を示している。尚、以降の各実施形態では、図１〜図７と同じ部分については同じ符号を付して、その詳細な説明を省略する。図８は、本実施形態の液晶表示装置Ｓを構成するカラーフィルタ基板２０の一部を概略的に示す平面図である。
【００４７】
上記実施形態１では、透明層２４が、複数の画素５の各行毎に一体に形成されているとしたが、本実施形態では、図８に示すように、透明層２４が各画素５の反射領域５ｒ毎に形成されている。そして、アクティブマトリクス基板１０の液晶層３０側には、上記実施形態１と同様に、各画素電極１６の間に格子状に溝部１７が形成されており、本実施形態の液晶表示装置Ｓのその他の構成についても上記実施形態１と同様に構成されている。
【００４８】
−実施形態２の効果−
したがって、この実施形態２によっても、アクティブマトリクス基板１０の液晶層３０側には各画素５の間に格子状に溝部１７が形成されているので、上記実施形態１と同様の効果を得ることができる。
【００４９】
《その他の実施形態》
上記実施形態１及び実施形態２では、溝部１７が各画素電極１６の間に格子状に形成されているとしたが、本発明はこれに限られず、溝部１７は、図９中に斜線部分で示すように各画素５の間に列方向（図中上下方向）に延びるように複数形成されていてもよく、各画素５の間の少なくとも一部に形成されていればよい。このように各画素５の間の少なくとも一部に溝部１７が形成されていれば、液晶表示装置Ｓに局所的に荷重が加わったときに、その荷重が加わった部分から外側に流れ出た分の液晶材料がその荷重が加わった部分に戻りやすくなり、且つ溝部１７が設けられた分だけ液晶層３０を構成する液晶材料の量が増加するので、荷重が加わったときに液晶層３０に気泡が生じることを抑制することが可能になる。
【産業上の利用可能性】
【００５０】
以上説明したように、本発明は、液晶表示装置について有用であり、特に、荷重が加わったときに液晶層に気泡が生じることを抑制することが要望される半透過型の液晶表示装置に適している。
【符号の説明】
【００５１】
Ｄ    溝部の深さ
Ｓ    液晶表示装置
Ｔ１    配向膜の厚さ
Ｔ２    ソース線上の絶縁膜の厚さ（配線上の絶縁膜の厚さ）
５    画素
５ｔ    透過領域
５ｒ    反射領域
１０    アクティブマトリクス基板（第１基板）
１２    ゲート線
１３    ソース線
１５    絶縁膜
１７    溝部
２０    カラーフィルタ基板（第２基板）
２４    透明層
３０    液晶層
３１，３２    配向膜
【図１】
2010070776.tif 000004
【図２】
2010070776.tif 000005
【図３】
2010070776.tif 000006
【図４】
2010070776.tif 000007
【図５】
2010070776.tif 000008
【図６】
2010070776.tif 000009
【図７】
2010070776.tif 000010
【図８】
2010070776.tif 000011
【図９】
2010070776.tif 000012
【国際調査報告】
2010070776.tif 000013
2010070776.tif 000014