【事件の表示】
　特許第３０９８５６２号「カラーフィルターの製造方法」の請求項１に係る特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結　論】
　訂正を認める。
　特許第３０９８５６２号の請求項１に係る特許を維持する。
【理　由】
１．手続の経緯
　特許第３０９８５６２号の請求項１に係る発明は、平成３年４月１日に出願されたものであって、平成１２年８月１１日にその特許の設定の登録がなされ、その後、五島 香里 により特許異議の申立がなされ、取消理由通知がなされ、その指定期間内の平成１３年８月２０日付けで訂正請求がなされたものである。
　　
２．訂正の適否について
2．1　訂正の内容
　特許請求の範囲の、
「【請求項１】透明基板上に着色層、保護膜、ケイ素酸化物により形成された無機阻止層、及び透明電極膜が順に積層され、周辺部では無機阻止層が透明基板上に着色層及び保護層を介さずに形成されたカラーフィルターの製造方法において、アルゴンおよび酸素を含有し、アルゴン分圧が１×１０-3ｔｏｒｒないし１×１０-2ｔｏｒｒ、酸素分圧が１×１０-5ｔｏｒｒないし１×１０-3ｔｏｒｒである放電気体中において、スパッタリングを行うことによってケイ素酸化物からなる無機阻止層を形成することを特徴とするカラーフィルターの製造方法。」
を
「【請求項１】透明基板上に着色層、保護膜、ケイ素酸化物により形成された無機阻止層、及び透明電極膜が順に積層され、周辺部では無機阻止層が透明基板上に着色層及び保護層を介さずに形成されたカラーフィルターの製造方法において、着色層を形成した透明基板上に形成した感光性樹脂組成物層を所定のパターンの露光を行った後に現像をして保護膜を形成し、アルゴンおよび酸素を含有し、アルゴン分圧が１×１０-3ｔｏｒｒないし１×１０-2ｔｏｒｒ、酸素分圧が１×１０-5ｔｏｒｒないし１×１０-3ｔｏｒｒである放電気体中において、スパッタリングを行うことによってケイ素酸化物からなる無機阻止層を形成することを特徴とするカラーフィルターの製造方法。」
と訂正する。
　　　
2．2　訂正の目的の適否、新規事項の有無及び拡張・変更の存否
　上記訂正事項は、特許請求の範囲の請求項１の「・・・カラーフィルターの製造方法において、アルゴンおよび酸素を含有し、・・・」を、「・・・カラーフィルターの製造方法において、着色層を形成した透明基板上に形成した感光性樹脂組成物層を所定のパターンの露光を行った後に現像をして保護膜を形成し、アルゴンおよび酸素を含有し、・・・」とすることで、保護膜の形成工程をさらに具体的に限定するものであり、特許請求の範囲の減縮を目的とするものである。
　そして、上記訂正事項は、特許明細書の【０００７】段落及び【００２２】段落の記載に基づくものであり、新規事項の追加に該当せず、また、実質的に特許請求の範囲を拡張又は変更するものではない。
　　
2．3　結論
　以上のとおりであるから、本件訂正は、特許法第１２０条の４第２項、同第３項において準用する平成６年法律第１１６号による改正前の特許法第１２６条第１項ただし書及び第２項の規定に適合するので、当該訂正を認める。
　　
３．特許異議申立てについて
3．1　本件発明
　本件特許の請求項１に係る発明は、訂正された特許明細書及び図面の記載からみて、その特許請求の範囲の請求項１に記載された次のとおりのものである。
　　
「【請求項１】透明基板上に着色層、保護膜、ケイ素酸化物により形成された無機阻止層、及び透明電極膜が順に積層され、周辺部では無機阻止層が透明基板上に着色層及び保護層を介さずに形成されたカラーフィルターの製造方法において、着色層を形成した透明基板上に形成した感光性樹脂組成物層を所定のパターンの露光を行った後に現像をして保護膜を形成し、アルゴンおよび酸素を含有し、アルゴン分圧が１×１０-3ｔｏｒｒないし１×１０-2ｔｏｒｒ、酸素分圧が１×１０-5ｔｏｒｒないし１×１０-3ｔｏｒｒである放電気体中において、スパッタリングを行うことによってケイ素酸化物からなる無機阻止層を形成することを特徴とするカラーフィルターの製造方法。」
　　
3．2　特許異議申立ての理由の概要
　特許異議申立人 五島 香里は、甲第１号証（特開平２−２８４１１８号公報）及び甲第２号証（「真空」第１９巻第３号（1976）、pp82-89）を提示して、訂正前の請求項１に係る発明は、甲第１号証、甲第２号証に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものである、と主張している。
　　
3．3　甲各号証の記載内容
　甲第１号証（以下、「刊行物１」という。）には、
「（１）液晶層を介して対向する一対の透明基板と、・・・カラーフィルターを備えたカラー液晶表示装置において、・・・前記カラーフィルターを被うような透明な有機高分子膜、無機薄膜及び透明電極膜とが積層されるとともに、シール部及び実装端子部から有機高分子膜を除去したことを特徴とするカラー液晶表示装置用電極板。」（特許請求の範囲）、
　　
「この発明は、・・・各カラーフィルターを被うように透明な有機高分子膜で平坦化処理をほどこし、かつ、無機薄膜及び透明電極膜とがこの順で積層されるとともに、シール部及び実装端子部に透明な有機高分子膜が形成されていないカラー液晶表示装置用電極板である。」（第２頁左下欄第４行〜第１５行）、
　　
「［実施例］第１図において、カラー液晶表示装置（１０）は、液晶層（１１）を介して上下に対向する一対の透明ガラス基板（１）、（２）と、この下側の透明ガラス基板（２）の上面に所定のＲＧＢに配置された複数のカラーフィルター（５）と各カラーフィルターを被うように透明な有機高分子膜（６）、無機薄膜（７）及び透明電極（ＩＴＯ）膜（８）とがこの順で積層されており、・・・透明ガラス基板（２）には、・・・カラーフィルターが多数色で所定のパターンで配置されている。前記カラーフィルター付透明ガラス基板に、スクリーン印刷機により、透明なエポキシ樹脂・・・を用いて前記カラーフィルターを被うように、所定のパターンを形成した。・・・次に、低温高速スパッタ装置で、２００℃に加熱しながらＳｉＯ2ターゲットを用いて、Ａｒガス雰囲気中にて全面をスパッタし１２５０ÅのＳｉＯ2無機薄膜（７）を形成後、ＩＴＯターゲットを用いて、Ａｒ、Ｏ2ガス雰囲気中にて全面をスパッタし、１０００ÅのＩＴＯの透明電極膜（８）を形成した。・・・ＩＴＯ透明電極膜（８）を所定のフォトマスクでパターニングし、シール部及び実装端子部から透明な有機高分子膜を除去した構造のカラー液晶表示装置用電極板を形成したが、カラーフィルター及び保護膜にシワ及びクラックの発生はなかった。」（第２頁左下欄第１６行〜第３頁左上欄第１２行）、
　　
「［発明の効果］以上のように本発明は、・・・カラーフィルター上に、所定のパターンで有機高分子膜を形成し、・・・平坦化膜として用いるとともに、シール部及び実装端子部から平坦化膜を除去し、かつ、無機薄膜を積層した構造にすることにより、耐薬品性、耐液晶性及び実装信頼性を付与し、カラーフィルター上の透明電極により、きわめて良好な駆動条件となり表示品質の向上及び高歩留りをもたらした。」（第２頁左下欄第１９行〜右下欄第１０行）と記載され、
　　
第１図には、透明ガラス基板上にカラーフィルター層、平坦化膜、ＳｉＯ2無機薄膜、及び透明電極膜が順に積層され、シール部及び実装端子部では無機薄膜が透明ガラス基板上にカラーフィルター層及び平坦化膜を介さずに形成されたカラー液晶表示装置用電極板、が図示されている。
　
　以上によれば、刊行物１には、「透明ガラス基板上にカラーフィルター層、平坦化膜、ＳｉＯ2無機薄膜、及び透明電極膜が順に積層され、シール部及び実装端子部では無機薄膜が透明ガラス基板上にカラーフィルター層及び平坦化膜を介さずに形成されたカラー液晶表示装置用電極板の製造方法において、カラーフィルター層を形成した透明ガラス基板上に、スクリーン印刷機により所定のパターンの平坦化膜を形成し、アルゴン雰囲気中において、スパッタリングを行うことによってケイ素酸化物からなる無機薄膜を形成することを特徴とするカラー液晶表示装置用電極板の製造方法。」の発明が記載されている。
　　
　甲第２号証には、スパッタリングによりＳｉＯ2膜を形成する際のアルゴンガス雰囲気中の酸素分圧の影響について記載され、
　
「3．3　スパッタリング圧力の影響
　通常の平板二極型rfスパッタリング装置のスパッタリング圧力は１０-3〜１０-2Torrの範囲であり・・・」（第８７頁右欄第５行〜第６行）、
　　
「3．4　不純物ガス分圧の影響
　スパッタリング中石英ターゲット表面には多数の活性サイトが生じている。ここにアルゴン以外の不純物活性原子が入射するとターゲット原子と結合して表面層を形成しスパッタ率低下の原因となろう。・・・アルゴン中に１０-6〜１０-4Torrの分圧の酸素がある場合の石英スパッタ膜の附着速度の低下現象に関する解析を行い、rf入射電力3．66Ｗ／ｃｍ2のとき純アルゴンの場合の附着速度に対して1．25×１０-5Torr酸素分圧下での附着速度は約９０％，５×１０-4Torr酸素分圧下では約４４％になる・・・」（第８８頁左欄第９行〜同欄下から第３行）、
　
「附着速度の低下を防止し再現性をよくするためには・・・アルゴン流量をできるだけ多くして・・・」（第８９頁右欄第１０行〜第１３行）と記載されている。
　　
3．4　対比　
　本件の訂正後の請求項１に係る発明（以下、「本件発明」という。）と刊行物１記載の発明とを対比すると、
刊行物１記載の発明の「透明ガラス基板」、「カラーフィルター層」、「平坦化膜」、「ＳｉＯ2無機薄膜」、「シール部及び実装端子部」及び「カラー液晶表示装置用電極板」は、本件発明の「透明基板」、「着色層」、「保護膜又は保護層」、「ケイ素酸化物により形成された無機阻止層」、「周辺部」及び「カラーフィルター」にそれぞれ相当し、また、引用発明の「Ａｒガス」は、「放電気体」の一種である。
　したがって、両者は、
「透明基板上に着色層、保護膜、ケイ素酸化物により形成された無機阻止層、及び透明電極膜が順に積層され、周辺部では無機阻止層が透明基板上に着色層及び保護層を介さずに形成されたカラーフィルターの製造方法において、着色層を形成した透明基板上に保護膜を形成し、放電気体中において、スパッタリングを行うことによってケイ素酸化物からなる無機阻止層を形成することを特徴とするカラーフィルターの製造方法。」で一致し、下記の点で相違する。
　　
　相違点１：「保護膜」の形成方法が、本件発明では、「着色層を形成した透明基板上に形成した感光性樹脂組成物層を所定のパターンの露光を行った後に現像をして保護膜を形成」するのに対して、刊行物１記載の発明では、「スクリーン印刷機により、所定のパターンを形成」している点。
　
相違点２：「放電気体」が、本件発明では、「アルゴン及び酸素を含有し、アルゴン分圧が１×１０-3ｔｏｒｒないし１×１０-2ｔｏｒｒ、酸素分圧が１×１０-5ｔｏｒｒないし１×１０-3ｔｏｒｒ」であるのに対して、刊行物１記載の発明では、単に「アルゴンガス」を使用するとしている点。
3．5　当審の判断
（相違点１について）
　刊行物２は、感光性樹脂組成物層を用いて、所定のパターンの露光を行った後に現像をして保護膜を形成する点について、何も記載しておらず、示唆もしていない。
（相違点２について）
　刊行物２は、スパッタリングによるＳｉＯ2の成膜において、アルゴンのみの雰囲気に対して、各種の不純物の含有による成膜速度の低下等の影響を述べたものであり、純アルゴンの場合に比して、所定の酸素分圧下のアルゴンの場合は、附着速度は低下する旨指摘している。換言すれば、刊行物２は、ＳｉＯ2の成膜には、「アルゴンと酸素を含有する雰囲気」が「アルゴンのみの雰囲気」より劣ること、を示しているものであるから、このことが阻害要因となって、刊行物１と２に記載された発明から上記相違点２の構成に想到することは当業者といえども容易ではない。
　そして、本件発明は、上記相違点１、２の構成を具備することにより、「感光性樹脂組成物層の露光・現像に起因した、本来保護層が形成されない領域での有機物の残留による無機阻止層の附着強度の低下、を防止でき、保護層への悪影響を与えずに無機阻止層および透明電極膜の付着力を極めて大きくすることができるので、信頼性の高いカラーフィルターが得られる。」という効果を奏すると認められる。
　したがって、本件発明は、甲第１号証及び甲第２号証に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるとすることができない。
　　
４．むすび
　以上のとおり、特許異議申立の理由及び証拠によっては、本件請求項１に係る発明の特許を取り消すことはできない。
　又、他に本件請求項１に係る発明の特許を取り消すべき理由を発見しない。
　よって、結論のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１３年１１月２日（２００１．１１．２）
【訂正の要旨】
　訂正の要旨
　訂正事項
　▲１▼本件特許公報第１頁特許請求の範囲に係る記載を、
「【請求項１】　透明基板上に着色層、保護膜、ケイ素酸化物により形成された無機阻止層、及び透明電極膜が順に積層され、周辺部では無機阻止層が透明基板上に着色層及び保護層を介さずに形成されたカラーフィルターの製造方法において、
着色層を形成した透明基板上に形成した感光性樹脂組成物層を所定のパターンの露光を行った後に現像をして保護膜を形成し、
　と訂正する。
（５４）【発明の名称】
カラーフィルターの製造方法
（５７）【特許請求の範囲】
　【請求項１】　透明基板上に着色層、保護膜、ケイ素酸化物により形成された無機阻止層、及び透明電極膜が順に積層され、周辺部では無機阻止層が透明基板上に着色層及び保護層を介さずに形成されたカラーフィルターの製造方法において、着色層を形成した透明基板上に形成した感光性樹脂組成物層を所定のパターンの露光を行った後に現像をして保護膜を形成し、アルゴンおよび酸素を含有し、アルゴン分圧が１×１０−３ｔｏｒｒないし１×１０−２ｔｏｒｒ、酸素分圧が１×１０−５ｔｏｒｒないし１×１０−３ｔｏｒｒである放電気体中において、スパッタリングを行うことによってケイ素酸化物からなる無機阻止層を形成することを特徴とするカラーフィルターの製造方法。
【発明の詳細な説明】
　【０００１】
　【産業上の利用分野】
　本発明は、カラーフィルターおよびカラーフィルターの製造方法に関し、とくに無機阻止層の形成に特徴を有する、カラー液晶表示装置等に使用されるカラーフィルターおよびその製造方法に関する。
　【０００２】
　【従来の技術】
　各種の装置において小型の表示装置としてＣＲＴに代わって利用されている液晶表示装置は、透明電極層を設けたガラス等の透明な基板を数μｍ程度のギャップを設けてその間に液晶物質を封入し、電極間に印加した電圧によって液晶を一定の方向に配向させて透明部分と不透明部分を形成して画像を表示している。カラー液晶表示装置はいずれかの透明電極基板上に光の三原色に対応する赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の三色のカラーフィルターを設けている。
　【０００３】
　カラー液晶表示装置用のカラーフィルターは、透明基板、着色層、保護層、透明導電膜等により構成されており、ＲＧＢの三原色の位置に対向する電極あるいは薄膜トランジスタを形成した透明基板とを数μｍの間隔を保持し液晶物質を封入して液晶表示装置を形成している。
　【０００４】
　液晶表示装置によるカラー表示の方法には各種の方法があるが、現在では透明電極基板上に光の三原色に対応する赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の三色のカラーフィルターを設け、液晶によりフィルターのＲＧＢに対応した光の透過量を制御する、カラーフィルターを使用する方法が中心となっている。
　【０００５】
　このような目的で使用されるカラーフィルターは、透過光を液晶による光変調作用で制御するために、透明電極基板上に光の三原色に対応する赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の三色の着色層、着色層の保護層、液晶の駆動用の透明電極層が形成されている。カラーフィルターは着色層のＲＧＢの三原色の位置に対向する電極あるいは能動素子を形成した透明基板との間に液晶物質を封入して液晶表示装置を形成している。
　【０００６】
　【発明が解決しようとする課題】
　カラーフィルターはガラスなどの透明基板上に顔料分散法、染色法、電着法、印刷法等によってＲ、Ｇ、Ｂの三原色を所定の形状とした着色層を形成し、着色層上には着色層の物理的および化学的な保護と着色層表面の平滑化を目的として保護層を形成している。保護層としては、アクリル系やノボラック系等の透明な高分子組成物で構成している。
　【０００７】
　保護層がカラーフィルター全面に形成されている場合には、カラーフィルターの基板と透明電極層との付着強度が十分でなかったり、カラーフィルターと対向電極を接着剤によってはり合わせる際に充分な接着強度が得られないことが生じることから、カラーフィルターに形成する保護層はカラーフィルター上に限定することが望ましく、カラーフィルターの外周部に保護層を形成しないために、着色層を形成した基板上に光硬化性の樹脂を塗布して光の照射部分を着色層上に限定するフォトマスクを設けて露光して、着色層外の部分については現像時に樹脂を除去する等の各種の工夫がなされている。
　【０００８】
　保護層の表面に直接酸化インジウムと酸化錫からなるＩＴＯの透明電極膜を形成することによってカラーフィルターを製造することが行われるが、有機物で形成された保護層や着色層をその後の液晶表示装置の製造過程での熱あるいは薬品類から保護するためにケイ素酸化物からなる透明な無機質の無機阻止層を形成することが好ましい。
　【０００９】
　ところが、保護層の表面に無機阻止層を形成しても無機阻止層とカラーフィルター周辺部分の保護層を形成していない部分でのガラス基板との接合強度が小さいと無機阻止層のガラス基板からの剥がれが起こり、周辺部分から着色層に薬品が浸透したりあるいは無機阻止層上に形成した透明電極層の剥がれ等のカラーフィルターにとって致命的な問題が生じることがある。
　【００１０】
　無機阻止層の剥がれが起こる原因を鋭意検討したところ、着色層および保護層の形成時において使用する色材、感光性樹脂等の各種の有機物がカラーフィルターの外周部の基板上に残渣として付着することが避けられず、外周部でのこうした有機物の残渣が極めてわずかな量であっても、無機阻止層の付着強度を左右し、電極の取り出し部の断線、剥離等の液晶表示装置の信頼性に重大な影響を及ぼす事態が発生することが判明した。
　【００１１】
　【課題を解決するための手段】
　本発明者らは上記した問題点を解決する手段を検討した結果、透明基板上に形成した着色層上に保護層を形成したカラーフィルター上にケイ素酸化物の無機阻止層をスパッタリングによって形成する際にスパッタリング時の放電ガスを特定の成分とすることによって、無機阻止層を形成するカラーフィルターをスパッタリング前に格別の前処理を行わなくても、ガラス基板との付着力が大きな無機阻止層を形成することを見いだしたものである。
　【００１２】
　すなわち、着色層上に保護層を形成したカラーフィルターを二酸化ケイ素のターゲットを用いてスパッタリングする際に、アルゴン中に微量の酸素を添加して放電ガスとするものである。
　【００１３】
　酸素を放電ガスとしたプラズマが有機物の灰化等に使用されていることはよく知られていることであるが、本発明で使用する混合ガスの場合には着色層上に形成した有機物からなる保護層には悪影響を与えることなく着色層の周辺部での無機阻止層の付着力を高めることを可能としたものである。
　【００１４】
　本発明で使用する放電ガスの組成を例示すれば、分圧が３×１０−３ｔｏｒｒのアルゴンに酸素分圧が３×１０−５ｔｏｒｒないし５×１０−４ｔｏｒｒの酸素を混合したガスであり、このような組成のガスを放電ガスとして二酸化ケイ素のターゲットを用いて高周波スパッタリングによってケイ素酸化物の無機阻止層を形成し、形成された無機阻止層上にＩＴＯの透明電極膜をスパッタリング等によって成膜をするものである。
　【００１５】
　【作用】
　本発明によって得られるカラーフィルターは、有機物の被膜を形成した基板上に透明電極膜を形成する方法において、ケイ素酸化物からなる無機阻止層をアルゴンおよび酸素を含有する放電気体中においてスパッタリングすることによって形成した後に透明電極を成膜したことにより、保護層への悪影響を与えずに無機阻止層および透明電極膜の付着力を極めて大きなものを得ることができる。
　【００１６】
　以下に本発明の実施例を示し、更に詳細に説明する。
　【００１７】
　【実施例】
　図面を参照して本発明を説明すると、第１図は本発明の方法を実施する装置を示す。スパッタリング装置１内には、二酸化ケイ素からなるターゲット２、ターゲットに対向して陽極３、陽極には無機阻止層を形成すべきカラーフィルター４が設けられており、ターゲットと陽極には高周波電源５から高周波電流を印加する。
　【００１８】
　スパッタリングは装置内を十分に減圧に真空排気した後に、アルゴンと酸素とを所定の分圧となるように供給し、規定の膜厚の無機阻止層が得られるまで放電を行う。
　【００１９】
　また、第２図には本発明の方法を適用して製造したカラーフィルターの断面図を示すが、カラーフィルター４には、着色層６上に保護層７、無機阻止層８および透明電極膜９が形成されており、周縁部１０において無機阻止層は基板１１と強固に結合している。
　【００２０】
実施例１
　大きさ３００ｍｍ×３５０ｍｍ、厚さ１．１ｍｍのガラス基板（旭硝子（株）製ＡＬ材）を充分に洗浄し、その上に、赤色感光性樹脂を１．２μｍの膜厚になるように塗布し、その後温度７０℃で３０分間オーブン中で乾燥させ、水銀ランプを用いて露光し、水によるスプレー現像を１分間行い、赤色画素を形成すべき領域に赤色のレリーフ画像を形成し、さらに１５０℃で３０分間、加熱硬化させた。
　【００２１】
　同様の工程を繰り返して、緑色画素を形成すべき領域に緑色のレリーフ画素を形成し、青色画素を形成すべき領域に青色のレリーフ画素を形成して着色層を形成した。
　【００２２】
　続いて光硬化性アタリレートオリゴマーとして、ビスフェノールＡアクリレート（分子量１５００〜２０００）を５０重量部、多官能重合性モノマーとして、トリメチロールプロパントリアクリレート（日本化薬（株）製ＴＭＰＴＡ）を５０重量部混合し、さらに重合開始剤としてイルガキュアー６５１（チバガイギー社製）２重量部を混合した配合物を、エチルセルソルブアセテート２００重量部中に溶解させ、その溶液１０ｇを用いてスピンコーターで前記着色層上に２．０μｍの厚さに塗布した。塗布膜に接してフォトマスクを配置して、２．０ＫＷの超高圧水銀ランプによって着色層上のみに紫外線を１０秒間照射した。続いて温度２５℃の１，１，２，２−テトラクロロエタンからなる現像液中に１分間浸漬して、塗布膜の未硬化部分のみを除去した。
　【００２３】
　次に、得られた保護層を形成した基板を高周波スパッタリング装置において、反応室内を１×１０−６ｔｏｒｒまで減圧した後に、装置内のアルゴン分圧を３×１０−３ｔｏｒｒとし、酸素分圧を３×１０−５ｔｏｒｒないし８×１０−４ｔｏｒｒの間に変化させて、二酸化ケイ素をターゲットとして周波数１３．５６ＭＨｚ、ターゲット投入電力密度１．５Ｗ／ｃｍ２にてスパッタリングを行い、厚さ５００ｎｍの無機阻止層を得た。
　【００２４】
　得られた無機阻止層上にＤＣマグネトロンスパッタリングによって厚さ２００ｎｍのＩＴＯの透明電極膜を形成した。
　【００２５】
　酸素分圧を変化させた際のカラーフィルターの周縁部での密着性を図３に概要を示す引っかき試験機で調べた。その結果を表１に示す。
　【００２６】
　【表１】
　【００２７】
比較例１
　反応ガスを圧力３×１０−３ｔｏｒｒのアルゴンのみとした点以外は実施例１と同様の方法でスパッタリングを行ってカラーフィルターを製造した。
　【００２８】
　カラーフィルターの周縁部での密着性を実施例と同様に引っかき試験機で調べたところ、荷重５０ｇにて二酸化ケイ素層の剥離が生じた。
　【００２９】
　【発明の効果】
　本発明の方法は、有機物の被膜を形成した基板上に透明電極層を形成する方法において、ケイ素酸化物からなる無機阻止層をアルゴンおよび酸素を含有する放電気体中においてスパッタリングすることによって成膜した後に透明電極を成膜したことにより、保護層への悪影響を与えずに無機阻止層および透明電極膜の付着力を極めて大きくすることができるので、信頼性の高いカラーフィルターが得られる。
【図面の簡単な説明】
　【図１】
　本発明の方法を実施するスパッタリング装置を示す。
　【図２】
　本発明の方法で製造したカラーフィルターの断面図を示す。
　【図３】
　引っかき試験の概要を示す。
　【符号の説明】
　１…スパッタリング装置、２…ターゲット、３…陽極、４…カラーフィルター、５…高周波電源、６…着色層、７…保護層…、８…無機阻止層、９…透明電極膜、１０…周辺部、１１…基板