【事件の表示】
　特許第３００７００９号「回転式基板処理装置」の請求項１に係る特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結　論】
　訂正を認める。
　特許第３００７００９号の請求項１に係る特許を維持する。
【理　由】
１．手続きの経緯
　本件特許第３００７００９号は、平成６年１１月７日に特許出願され、平成１１年１１月２６日にその発明について設定登録がされ、平成１２年２月７日に特許公報が発行されたところ、その申立期間内である平成１２年８月４日に異議申立人安井哲也（以下、「申立人」という）により特許異議の申立てがなされ、その後、平成１２年１２月１４日付（平成１２年１２月２６日発送）で取消しの理由が通知され、その指定期間内である平成１３年２月２２日に訂正請求がなされたものである。
２．訂正の適否についての判断
（１）訂正の内容
　平成１３年２月２２日に提出された訂正請求で特許権者が求めている訂正の内容は、以下のア〜エのとおりである。
ア．訂正事項ａ
　特許請求の範囲の請求項１について、
「平坦な上面を有する・・・・・・環状部材」
とあるのを
「
前記規制部材に達する位置にまで張り出して前記基板の外周端縁に近接する
と訂正し、また、
「前記基板から遠心力によって流されるドレンを鉛直方向下方に向かわせるドレン流路とを備えたこと」
とあるのを
「前記基材から遠心力によって流されるドレンを鉛直方向下方に向かわせるドレン流路とを備
え、前記ドレン流路は前記環状部材の内側にあり、かつ前記環状部材と前記基板保持手段との間に水平方向に延びるドレン排出用の隙間があり、前記ドレン流路を流下したドレンを前記隙間を通じて外部に排出する
と訂正する。
イ．訂正事項ｂ
明細書【０００６】段落に、
「平坦な上面を有する・・・・・・環状部材」
とあるのを
「
規制部材に達する位置にまで張り出して前記基板の外周端縁に近接する
と訂正し、また、
「基板から遠心力によって流されるドレンを鉛直方向下方に向かわせるドレン流路とを備えて構成する。」
とあるのを
「基板から遠心力によって流されるドレンを鉛直方向下方に向かわせるドレン流路とを備え
、このドレン流路は環状部材の内側にあり、かつ環状部材と基板保持手段との間に水平方向に延びるドレン排出用の隙間があり、ドレン流路を流下したドレンを前記隙間を通じて外部に排出するように
と訂正する。
ウ．訂正事項ｃ
明細書【０００７】段落に、
「しかも、規制部材の水平方向外側で、上面を平坦にした環状部材で基板の外周縁を全周にわたって覆い、塗布液やエッジリンスの場合の溶剤といった処理液やドレンが基板の外周端縁と環状部材との間に入り込んでも、それらを鉛直方向下方に向かうドレン流路を通じて流すことができる。」
とあるのを、
「しかも、規制部材の水平方向外側で、上面を平坦にした環状部材で基板の外周縁を全周にわたって覆い、
この環状部材の内側にドレン流路と、これに通じるドレン排出用の隙間を設けているので
流下させ、さらに環状部材と基板保持手段との間に水平方向に延びるドレン排出用の隙間を通じて外部に排出する
と訂正する。
エ．訂正事項ｄ
明細書【００１５】段落に、
「環状部材１３の上面は平坦な水平面に構成され、また、環状部材１３の下部はスペーサ（図示せず）を介してドレン排出用の隙間が形成されるように底板８に取り付けられ、ドレン流路１４を通じて流されるレジスト液や溶剤を外部に排出できるように構成されている。」
とあるのを、
「環状部材１３の上面は
規制部材１２に達する位置にまで張り出して基板Ｗの外周端縁に近接する
ている。つまり、環状部材１３の内側にある
環状部材１３と基板保持手段３との間に水平方向に延びる隙間を通じて
と訂正する。
（２）訂正の目的の適否、新規事項の有無及び拡張・変更の存否
ア．訂正の目的について
　上記訂正事項ａは、請求項１について、
（１）環状部材の構成に関して、「平坦な上面を有する・・・・・・環状部材」とあるのを、上記「環状部材」の平坦な上面の張り出し位置を限定して、「
規制部材に達する位置にまで張り出して前記基板の外周端縁に近接する
（２）ドレンの排出に係る構成に関して、「前記基板から遠心力によって流されるドレンを鉛直方向下方に向かわせるドレン流路とを備えたこと」とあるのを、
（ａ）ドレン流路の配置を「
前記ドレン流路は前記環状部材の内側にあり、
（ｂ）ドレン排出部の構造を「
前記環状部材と前記基板保持手段との間に水平方向に延びるドレン排出用の隙間があり、
（ｃ）ドレンを外部に排出するための経路を「
前記ドレン流路を流下したドレンを前記隙間を通じて外部に排出する
「前記基材から遠心力によって流されるドレンを鉛直方向下方に向かわせるドレン流路とを備
え、前記ドレン流路は前記環状部材の内側にあり、かつ前記環状部材と前記基板保持手段との間に水平方向に延びるドレン排出用の隙間があり、前記ドレン流路を流下したドレンを前記隙間を通じて外部に排出する
と訂正するものであるから、これは特許請求の範囲の減縮を目的とするものといえる。
　上記訂正事項ｂ及びｄは、上記訂正事項ａによる特許請求の範囲の減縮に伴い、環状部材及びドレンの排出に係る構成に関して、発明の詳細な説明の記載を特許請求の範囲の記載と整合させようとして訂正するものであるから、明りょうでない記載の釈明を目的とするものである。
　また、上記訂正事項ｃは、本件請求項１記載の発明（以下「本件発明」という）のドレンの排出に係る構成に基づく作用が技術的に不明りょうであるところ、発明の詳細な説明における【作用】に関する記載を訂正して、その不明りょうさを正すものであるから、明りょうでない記載の釈明を目的とするものである。
イ．新規事項の有無、拡張・変更の存在について
　上記訂正事項ａに関して検討すると、訂正事項ａ（１）は、環状部材の構成に関して、「平坦な上面を有する・・・・・・環状部材」とあるのを、上記「環状部材」の平坦な上面の張り出し位置を限定して、「
規制部材に達する位置にまで張り出して前記基板の外周端縁に近接する
規制部材に達する位置にまで張り出して前記基板の外周端縁に近接する
　訂正事項ａ（２）（ａ）は、ドレンの排出に係る構成に関して、ドレン流路の配置を「
前記ドレン流路は前記環状部材の内側にあり、
前記環状部材の内側
　訂正事項ａ（２）（ｂ）は、ドレンの排出に係る構成に関して、ドレン排出部の構造を「
前記環状部材と前記基板保持手段との間に水平方向に延びるドレン排出用の隙間があり、
前記環状部材と前記基板保持手段との間に水平方向に延びるドレン排出用の隙間
　訂正事項ａ（２）（ｃ）は、ドレンの排出に係る構成に関して、ドレンを外部に排出するための経路を「
前記ドレン流路を流下したドレンを前記隙間を通じて外部に排出する
前記ドレン流路を流下したドレンを前記隙間を通じて外部に排出する
　以上のとおりであるから、上記訂正事項ａは、願書に添付した明細書に記載した範囲内においてしたものである。
　一方、上記訂正事項ｂ及びｄは、上記訂正事項ａによる特許請求の範囲の減縮に伴い、環状部材及びドレンの排出に係る構成に関して、発明の詳細な説明の記載を特許請求の範囲の記載と整合させようとして訂正するものであるから、新規事項を含むものでないことは明らかである。
　また、上記訂正事項ｃに関して、「しかも、規制部材の水平方向外側で、上面を平坦にした環状部材で基板の外周縁を全周にわたって覆い、
この環状部材の内側にドレン流路と、これに通じるドレン排出用の隙間を設けているので
流下させ、さらに環状部材と基板保持手段との間に水平方向に延びるドレン排出用の隙間を通じて外部に排出する
　また、上記訂正事項ａ〜ｄが、実質上特許請求の範囲を拡張し又は変更するものではないことは明らかである。
（３）むすび
　以上のとおりであるから、上記訂正事項ａ〜ｄは、特許法第１２０条の４第２項ただし書き、及び同条第３項で準用する同法第１２６条第２項から第３項の規定に適合するので、当該訂正を認める。
３．特許異議の申立ての概要
　申立人は、下記の甲第１〜２号証を提示して、本件請求項１に係る発明は、甲第１〜２号証に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない、と主張している。
　甲第１号証：特開平４−６６１５９号公報
　甲第２号証：特開平２−２４９２２５号公報
４．特許異議の申立てについての判断
（１）本件訂正発明について
　上記２．で示したように上記訂正が認められるから、本件特許第３００７００９号の請求項１に記載の発明は、訂正明細書の特許請求の範囲の請求項１に記載された事項により特定される次の通りのものである。
「【請求項１】基板を保持して鉛直方向の軸芯周りで回転する基板保持手段と、前記基板保持手段に保持された前記基板に処理液を供給する処理液供給手段とを備えた回転式基板処理装置であって、　
　前記基板保持手段に、前記基板をその裏面に点接触して支持するピン状支持部材と、前記ピン状支持部材による支持状態の前記基板の外周端縁に点接触して前記基板の水平方向の位置を規制する規制部材とを備え、かつ、
前記規制部材に達する位置にまで張り出して前記基板の外周端縁に近接する
　前記ドレン流路は前記環状部材の内側にあり、かつ前記環状部材と前記基板保持手段との間に水平方向に延びるドレン排出用の隙間があり、前記ドレン流路を流下したドレンを前記隙間を通じて外部に排出する
（２）刊行物記載の発明
（Ａ）刊行物
　当審が平成１２年１２月１４日付で通知した取消の理由に引用された刊行物は以下のとおりである。
　刊行物１：特開平４−６６１５９号公報（申立人の提出した甲第１号証）
　刊行物２：特開平２−２４９２２５号公報（申立人の提出した甲第２号証）
（Ｂ）刊行物に記載された事項
　上記公知刊行物１には、下記１−ア〜カの点が記載されている。
１−ア．「（１）基板を水平回転することによって、塗布液を基板上面に塗布する回転式塗布装置において、基板の外形と同等以上の大きさを有し、基板を水平支持した状態で回転させる回転台と、この回転台の上面と基板下面との間に間隙ができるように、前記回転台上に立設された基板支持用の突出体と、この回転台上に支持された基板の上面と所定の小間隙をもって平行に配備されるとともに、基板の外形と同等以上の大きさを有し、かつ、回転台と一体に回転される上部回転板と、前記突出体に支持された基板の下面に向けて、前記回転台の回転軸を通して洗浄液を供給する洗浄液供給機構と、を備えたことを特徴とする回転式塗布装置。」（特許請求の範囲第１項）
１−イ．「本発明は、液晶表示パネル用のガラス基板、半導体ウエハ、半導体装置製造用のマスク基板などの基板の表面にフォトレジスト液などの塗布液を薄膜状に塗布する際に用いる回転式塗布装置に関する。」（第１頁右欄第１７〜２９行）
１−ウ．「第１実施例　第１図ないし第13図に第１の発明による回転式塗布装置の一実施例を示す。この回転式塗布装置は、角形の基板１を搭載して縦軸心Ｐ周りに水平回転する回転台２と、その上方において回転台２と平行に設置されて回転台２と共に一体回転する上部回転板３と、これら回転する部材の下方および周辺部を外周するように固定配置された廃液回収ケース４と、塗布液供給用のノズル５と、回転台２の中央上部において搭載基板１の下面に洗浄液を吹き付ける洗浄液供給機構６とを備えている。前記回転台２は、垂直に立設されて回転駆動される縦向き回転軸７の上端に連結ボス８を介して水平に取付けられたものであり、基板１の外形形状より充分大きい直径の円板状に構成されている。そして、この回転台２の上面に、基板支持用の突出体としての多数の基板支持ピン９群があり、この基板支持ピン９群を介して基板１が回転台２上に所定の上下間隔をもって水平に搭載支持されるとともに、
第４図に示すように、回転台２上に立設した一対づつ４組の係合ピン10で基板１の四隅を係合して、回転台２と共に基板１を水平回転させるよう構成
回転台２の外周上面には、回転台２と同外形のスペースリング14およびリングプレート15が同方向複数箇所で連結
前記スペーサリング14は断面が台形状に構成されたものであり、連結ボルト18に外嵌した上下の座金19の厚さに相当する廃液流出用の間隔11が上下に形成
１−エ．「基板１上を流動して外周に至った余剰の塗布液は基板１周縁から処理室23の周部にミスト状に飛散し、スペーサリング14の上下に形成されている間隔11を通って廃液回収ケース４内に流出し、排気口４ｂから排気される。」（第４頁右下欄第１〜５行）
１−オ．第１図には回転式塗布装置の全体縦断面図が記載されている。
１−カ．第４図には回転式塗布装置の基板搭載状態を示す一部切欠き平面図が記載されている。
　上記公知刊行物２には、下記２−ア〜キの点が記載されている。
２−ア．「筒状のチャンバ（２）と、該チャンバ（２）の中で回転駆動されるターンテーブル（３）とを有し、前記ターンテ−ブル（３）が、周辺部にレジストが流下する複数個の切欠（４）が設けられ、かつ基板（５）を吸着保持する保持盤（６）と、内壁が飛散するレジストを受ける張り出し形状をなし、かつ該保持盤（６）の周辺に嵌着される環状の外輪（７）とからなり、前記基板（５）の表面が、前記外輪（７）よりも突出しないように保持盤（６）に保持されていることを特徴とするレジスト塗布装置。」（特許請求の範囲）
２−イ．「本発明はレジスト塗布装置に関する。」（第１頁右欄第１３行）
２−ウ．「すなわち、ターンテーブルの周辺に外輪を設け、保持される基板の表面が外輪よりも上に突き出ないようにするとともに、形状が方形の基板の角張った端面を囲うようにしている。こうすると、ターンテーブルの回転によって生じる基板の周辺近傍の気流に乱れと、その乱れに起因して生じるレジストの塗布むらを防ぐことができる。」（第３頁右上欄下から第８〜１行）
２−エ．「外輪７は、直径190ｍｍφの保持盤６が嵌着する厚さ20ｍｍ、肉厚10ｍｍの不錆鋼製の環で、その内壁は、矢印９に示したように、飛び散ったレジストが下方に流れるよう、放物面状に張り出した形状に削った。」（第３頁左下欄下から第３行〜同右下欄第２行）
２−オ．「以上述べたように、本発明においては、従来のターンテーブルの周辺部に外輪を設けて、特に方形の基板の角張った端面を囲むようにし、レジスト塗布の際に、基板の周辺部近傍において気流の乱れが生じることを防いでいる。」（第４頁左上欄第３〜７行）
２−カ．第４頁の第１図は、刊行物２に記載の発明の実施例説明図を示すものであり、「外輪（７）」の上面は平坦な形状となっている。
２−キ．「従来のレジスト塗布装置においては、特に形状が方形の基板をターンテーブルの上に載置して回転させると、角張った基板の端面によって、気流に乱れが生じる。この気流の乱れに起因して、方形の基板にレジストを塗布する場合には、基板の周辺部に塗布むらが生じる。」（第３頁左上欄第２〜８行）
（Ｃ）刊行物に記載された発明等
　刊行物１には、上記１−アの記載事項から見て、「基板を水平回転することによって、塗布液を基板上面に塗布する回転式塗布装置において、基板の外形と同等以上の大きさを有し、基板を水平支持した状態で回転させる回転台と、この回転台の上面と基板下面との間に間隙ができるように、前記回転台上に立設された基板支持用の突出体と、を備えたことを特徴とする回転式塗布装置。」に係る発明が記載されている。また、上記１−ウ及びエには、上記発明の実施例として、「
回転台２上に立設した一対づつ４組の係合ピン10で基板１の四隅を係合して、回転台２と共に基板１を水平回転させるよう構成
回転台２の外周上面には、回転台２と同外形のスペースリング14およびリングプレート15が同方向複数箇所で連結
前記スペーサリング14は断面が台形状に構成されたものであり、連結ボルト18に外嵌した上下の座金19の厚さに相当する廃液流出用の間隔11が上下に形成
　刊行物２には、上記２−ア及びイの記載事項から見て、「筒状のチャンバ（２）と、該チャンバ（２）の中で回転駆動されるターンテーブル（３）とを有し、前記ターンテ−ブル（３）が、周辺部にレジストが流下する複数個の切欠（４）が設けられ、かつ基板（５）を吸着保持する保持盤（６）と、内壁が飛散するレジストを受ける張り出し形状をなし、かつ該保持盤（６）の周辺に嵌着される環状の外輪（７）とからなり、前記基板（５）の表面が、前記外輪（７）よりも突出しないように保持盤（６）に保持されていることを特徴とするレジスト塗布装置。」に係る発明（以下、「刊行物２に記載の発明」という）が記載されている。
　また、刊行物２に記載の発明においては、上記２−エ及びキの記載を参酌するに、飛び散ったレジストが下方に流れるようにするために、ターンテーブルの周辺部に設けられた「環状の外輪（７）」は、その内壁が放射面状に張り出した形状となっており、その上面は平坦な形状に形成されている。してみると、刊行物２には、『レジスト塗布装置において、飛び散ったレジストが下方に流れるようにするために、ターンテーブルの周辺部に設けられた環状の外輪を、その内壁が放射面状に張り出した形状とし、その上面は平坦な形状に形成すること』が示されているものといえる。
　さらに、刊行物２に記載の発明においては、上記２−ウ及びカの記載から見て、レジスト塗布の際に基板の周辺近傍において生じる気流の乱れと、その乱れに起因して生じるレジストの塗りむらを防止するために、ターンテーブルの周辺部に設けられた環状の外輪は、方形の基板の角張った端面を囲むように形成されているものといえる。してみると、刊行物２には、『レジスト塗布装置において、レジスト塗布の際に基板の周辺近傍において生じる気流の乱れと、その乱れに起因して生じるレジストの塗りむらを防止するために、ターンテーブルの周辺部に設けられた環状の外輪は、方形の基板の角張った端面を囲むように形成すること』が示されているものといえる。
　
（３）対比・判断
　本件発明と刊行物１に記載の発明とを対比する。
　刊行物１に記載の発明は、上記４．（２）（Ｃ）に示したとおり、「基板を水平回転することによって、塗布液を基板上面に塗布する回転式塗布装置において、基板の外形と同等以上の大きさを有し、基板を水平支持した状態で回転させる回転台と、この回転台の上面と基板下面との間に間隙ができるように、前記回転台上に立設された基板支持用の突出体とを備え、回転台上に立設した一対づつ４組の係合ピンで基板の四隅を係合して、回転台と共に基板を水平回転させるよう構成し、回転台の外周上面には、回転台と同外形のスペースリングおよびリングプレートが同方向複数箇所で連結され、前記スペーサリングは断面が台形状に構成されたものであり、連結ボルトに外嵌した上下の座金の厚さに相当する廃液流出用の間隔が上下に形成され、基板上を流動して外周に至った余剰の塗布液は基板周縁から処理室の周部にミスト状に飛散し、スペーサリングの上下に形成されている間隔を通って廃液回収ケース内に流出し、排気口から排気される、ことを特徴とする回転式塗布装置。」である。ここで、上記「回転式塗布装置」は、「回転式基板処理装置」と同義であることは明らかであり、また、上記１−ウの「基板１を搭載して縦軸心Ｐ周りに水平回転する回転台２」という記載、上記１−オの記載、及びその機能などから見て、上記「基板の外形と同等以上の大きさを有し、基板を水平支持した状態で回転させる回転台」は、本件発明の「基板を保持して鉛直方向に軸芯まわりで回転する基板保持手段」に相当するものである。一方、刊行物１に記載の発明における「塗布液を基板上面に塗布する回転式塗布装置」という記載、上記１−イの「本発明は、液晶表示パネル用のガラス基板、半導体ウエハ、半導体装置製造用のマスク基板などの基板の表面にフォトレジスト液などの塗布液を薄膜状に塗布する際に用いる回転式塗布装置に関する。」という記載、及び、上記１−オの記載から見て、刊行物１に記載の発明に係る装置は、「基板保持手段に保持された基板に処理液を供給する処理液供給手段」を備えたものであることは明らかである。
　また、上記１−ウの「この回転台２の上面に、基板支持用の突出体としての多数の基板支持ピン９群があり、この基板支持ピン９群を介して基板１が回転台２上に所定の上下間隔をもって水平に搭載支持される」という記載、上記１−オの、及びその機能などから見て、上記「この回転台の上面と基板下面との間に間隙ができるように、前記回転台上に立設された基板支持用の突出体」は、本件発明の「基板をその裏面に点接触して支持するピン状支持部材」に相当するものであり、しかも、本件発明の「基板保持手段」に相当する「回転板」に備えられたものである。
　さらに、上記「回転台上に立設した一対づつ４組の係合ピンで基板の四隅を係合して、回転台と共に基板を水平回転させるよう構成」した点に関し、上記１−オ及びカの記載、及びその機能から見て、「回転台上に立設した一対づつ４組の係合ピン」は、本件発明の「規制部材」に相当し、しかも、本件発明の「基板保持手段」に相当する「回転板」に備えられて、「突出体（本件発明の「ピン状支持部材」に相当）により支持状態の基板の外周端縁に点接触して基板の水平方向の位置を規制する」ものであるといえる。
　上記「回転台の外周上面には、回転台と同外形のスペースリングおよびリングプレートが同方向複数箇所で連結」された点に関し、「スペースリングおよびリングプレート」は、「回転台の外周」にあり「回転台と同外形」であるから、本件発明の「基板の外周を全周にわたって覆う環状部材」に相当するものであり、また、１−オの記載から見て、「係合ピン（本件発明の「規制部材」に相当）」の水平方向外側にあることは明らかである。
　上記「前記スペーサリングは断面が台形状に構成されたものであり、連結ボルトに外嵌した上下の座金の厚さに相当する廃液流出用の間隔が上下に形成され、基板上を流動して外周に至った余剰の塗布液は基板周縁から処理室の周部にミスト状に飛散し、スペーサリングの上下に形成されている間隔を通って廃液回収ケース内に流出し、排気口から排気される」という記載に関し、１−オの記載を参酌するに、「廃液流出用の間隔」は「スペーサリング（本件発明の「環状部材」に相当）と回転板（本件発明の「基板保持手段」に相当）との間に水平方向に延びるドレン排出用の隙間」に相当するものであり、また、ドレンは「廃液流出用の間隔」を通じて外部に排出されるものといえる。そして、上記１−オの記載、及びその機能から見て、上記「排気口」は、本件発明の「ドレン流路」に相当するものであり、しかも、「基板から遠心力によって流されるドレンを鉛直方向下方に向かわせる」ものであるといえる。
　してみると、本件発明と刊行物１に記載の発明とは、「基板を保持して鉛直方向の軸芯周りで回転する基板保持手段と、前記基板保持手段に保持された前記基板に処理液を供給する処理液供給手段とを備えた回転式基板処理装置であって、前記基板保持手段に、前記基板をその裏面に点接触して支持するピン状支持部材と、前記ピン状支持部材による支持状態の前記基板の外周端縁に点接触して前記基板の水平方向の位置を規制する規制部材とを備え、かつ、前記規制部材の水平方向外側で前記基板の外周緑を全周にわたって覆う環状部材と、前記基板から遠心力によって流されるドレンを鉛直方向下方に向かわせるドレン流路とを備えたことを特徴とする回転式基板処理装置。」である点で一致し、一方、両者は以下の（ａ）〜（ｃ）の点において相違しているものといえる。
（ａ）環状部材が、本件発明では「平坦な上面を有する」ものと規定されているのに対して、刊行物１に記載の発明では、この様な規定がなされていない点
（ｂ）環状部材の張り出し位置に関して、本件発明では「規制部材に達する位置にまで張り出して前記基板の外周端縁に近接する」と規定されているのに対して、刊行物１に記載の発明では、この様な規定がなされていない点
（ｃ）ドレンの排出に係る構成に関して、本件発明では「ドレン流路は前記環状部材の内側にあり、かつ前記環状部材と前記基板保持手段との間に水平方向に延びるドレン排出用の隙間があり、前記ドレン流路を流下したドレンを前記隙間を通じて外部に排出する」と規定されているのに対して、刊行物１に記載の発明では、「ドレン流路は前記環状部材の内側」に設ける点は規定されず、「前記環状部材と前記基板保持手段との間に水平方向に延びるドレン排出用の隙間があり、ドレンを前記隙間を通じて廃液回収ケース内に流出し、前記ドレン流路を通じて外部に排出する」と規定されている点。
　そこで、上記相違点について検討してみる。
　相違点（ａ）に関して、上記４．（２）（Ｃ）に示したとおり、「レジスト塗布装置において、飛び散ったレジストが下方に流れるようにするために、ターンテーブルの周辺部に設けられた環状の外輪を、その内壁が放射面状に張り出した形状とし、その上面は平坦な形状に形成すること」は、刊行物２に記載のとおり知られているので、刊行物１の回転式基板処理装置においても、同様の目的で、基板を保持して回転する基板保持手段の周辺部に設けられて、基板の外周緑を全周にわたって覆う環状部材を、その内壁が放射面状に張り出した形状とし、その上面は平坦な形状に形成することは、当業者なら格別困難な事項ではない。また、これにより、本件発明が格段の作用効果を奏したものとも認められない。
　相違点（ｂ）に関して、本件発明は、従来、「環状部材を設けるものの場合、塗布均一性には優れているが、基板の端面や裏面が汚れやすく、また、それらを洗浄しても洗浄液が残りやすく、基板の端面や裏面の清浄度が低下する」（特許明細書の段落【０００４】）という問題があるところ、「規制部材に達する位置にまで張り出して前記基板の外周端縁に近接する」環状部材を使用することにより、これらの問題の解決を図り、「基板回転に伴う遠心力によって生じる気流に抵抗を与えてピン状支持部材や規制部材の周囲に乱流が発生することを抑制するから、塗膜均一性を損なうことなく、基板の端面や裏面の清浄度を高め、処理品質を向上できる」（特許明細書の段落【００２２】）という効果を奏するものである。
　これに対して、刊行物１には、環状部材の張り出し位置に関する有意な記載は見あたらず、ただ、上記１−オの記載から見て、刊行物１に記載の発明においては、明らかに環状部材は規制部材の外側にこれと間隔をあけて設けらたものといえる。してみると、刊行物１には、環状部材を「規制部材に達する位置にまで張り出して前記基板の外周端縁に近接する」点は、記載も示唆もされていないものと認められる。
　一方、刊行物２には、上記４．（２）（Ｃ）で示したとおり、『レジスト塗布装置において、レジスト塗布の際に基板の周辺近傍において生じる気流の乱れと、その乱れに起因して生じるレジストの塗りむらを防止するために、ターンテーブルの周辺部に設けられた環状の外輪は、方形の基板の角張った端面を囲むように形成すること』が示されている。ここで、上記相違点（ａ）の検討で示したとおり、上記環状の外輪はその内壁が放射面状に張り出した形状であるから、結局、刊行物２には『レジスト塗布装置において、レジスト塗布の際に基板の周辺近傍において生じる気流の乱れと、その乱れに起因して生じるレジストの塗りむらを防止するために、ターンテーブルの周辺部に設けられた環状の外輪は、方形の基板の角張った端面まで張り出してこれを囲むように形成すること』が示されているものといえる。しかしながら、刊行物２における基板は角張った端面を有する方形のものであり、上記２−カを参酌するに、刊行物２に環状の外輪は、基板の角張った端面のみで近接し、基板のその他の外周端縁部分の上面では広い空間が形成されているので、刊行物２には、「基板の外周端縁に近接する」環状部材を使用する点までは開示されていないといえる。
　なお、刊行物２には、上記２−オのとおり、基板として円板のウェーハ（以下、「円形の基板」という）にも適用可能な旨記載されている。そして、刊行物２に記載の発明において、円形の基板を用いた場合、上記の環状の外輪の張り出しに関する示唆に乗っ取り、環状の外輪を基板の端面まで張り出させれば、その形状から見て必然的に基板の外周端縁に近接するという態様が存在することも考えられる。しかしながら、上記２−キのとおり、刊行物２に記載の発明において、ターンテーブルの周辺部に設けられた環状の外輪を張り出して設けるという構成は、角張った基板を用いた場合に生じる気流の乱れなどの不都合を解決することを意図して設けられたものであり、円形の基板を用いた場合にも同様の構成を設けることを意図しているとはいえない。
　また、刊行物２には、上記のように「レジスト塗布の際に基板の周辺近傍において生じる気流の乱れと、その乱れに起因して生じるレジストの塗りむらを防止する」という塗布均一性に関する技術思想は示されているが、本件発明のごとく環状部材を設けた場合の基板の端面や裏面の汚れ易さの点に関する問題点までは言及されていない。しかるに、刊行物２の記載は、当業者に対して、刊行物１における上記の技術的な問題点を提起し、解決手段の創意工夫を促すものでもない。
　してみると、刊行物２にも、従来「環状部材を設けるものの場合、塗布均一性には優れているが、基板の端面や裏面が汚れやすく、また、それらを洗浄しても洗浄液が残りやすく、基板の端面や裏面の清浄度が低下する」という問題点があるところ、「規制部材に達する位置にまで張り出して前記基板の外周端縁に近接する」環状部材を使用することにより、これらの問題を解決の解決を図るということは、記載も示唆もされていないといえる。
　したがって、刊行物２における記載を参酌しても、刊行物１に記載の発明において、「規制部材に達する位置にまで張り出して前記基板の外周端縁に近接する」環状部材を使用することは、当業者といえども容易に想到できたものとはいえない。
　そして、本件発明は、上記構成により、「基板回転に伴う遠心力によって生じる気流に抵抗を与えてピン状支持部材や規制部材の周囲に乱流が発生することを抑制するから、塗膜均一性を損なうことなく、基板の端面や裏面の清浄度を高め、処理品質を向上できる」という格段の効果を奏しているものといえる。
　上記相違点（ｃ）について、本件発明は、従来、「環状部材を設けるものの場合、塗布均一性には優れているが、基板の端面や裏面が汚れやすく、また、それらを洗浄しても洗浄液が残りやすく、基板の端面や裏面の清浄度が低下する」（特許明細書の段落【０００４】）という問題があるところ、「ドレン流路は前記環状部材の内側にあり、かつ前記環状部材と前記基板保持手段との間に水平方向に延びるドレン排出用の隙間があり、前記ドレン流路を流下したドレンを前記隙間を通じて外部に排出する」ことにより、これらの問題の解決を図り、「塗布液やエッジリンスの場合の溶剤といった処理液やドレンが基板の外周端縁と環状部材との間に入り込んだまま残って基板の端縁や裏面を汚染することを防止する」（特許明細書の段落【００２２】）という効果を奏するものである。
　これに対して、刊行物１に記載された発明では、上記１−オの記載などから見て、本件発明の「ドレン流路」に相当する「排気口」は、明らかに環状部材の外側に形成されたものであり、また、「基板上を流動して外周に至った余剰の塗布液は基板周縁から処理室の周部にミスト状に飛散し、スペーサリング（本件発明の「環状部材」に相当）の上下に形成されている間隔を通って廃液回収ケース内に流出し、排気口から排気される」（上記１−エ）という記載から見て、上記「排気口」を環状部材の内側に形成する余地はない。
　一方、刊行物２に記載の発明では、「ターンテーブル（３）が、周辺部にレジストが流下する複数個の切欠（４）が設けられ」（上記２−ア）ており、当該「切欠」は、上記２−カの記載及びその機能から見て、「ドレン（レジスト）を鉛直方向下方に向かわせるドレン流路」に相当し、しかも、環状部材の内側に形成されているものといえる。しかしながら、刊行物２に記載の発明では、刊行物１に記載の発明のような「前記環状部材と前記基板保持手段との間に水平方向に延びるドレン排出用の隙間があり、前記ドレン流路を流下したドレンを前記隙間を通じて外部に排出する」という手段は採用されていない。それどころか、刊行物２に記載の発明では、上記「切欠」を通じて単純にドレンを流下させて排出させるものであるから、むしろ、ドレン流路をさらに前記環状部材と前記基板保持手段との間に水平方向に延びるドレン排出用の隙間に連結させるという構成の採用を阻害しているものといえる。してみると、刊行物２に記載の発明で、環状部材の内側に形成されたドレン流路が示されているとはいえ、当業者に対して、これを刊行物１に記載の発明におけるドレンの排出に係る構成に採用する動機を与えるものではない。
　したがって、刊行物１〜２には、従来「環状部材を設けるものの場合、塗布均一性には優れているが、基板の端面や裏面が汚れやすく、また、それらを洗浄しても洗浄液が残りやすく、基板の端面や裏面の清浄度が低下する」という問題があるところ、「ドレン流路は前記環状部材の内側にあり、かつ前記環状部材と前記基板保持手段との間に水平方向に延びるドレン排出用の隙間があり、前記ドレン流路を流下したドレンを前記隙間を通じて外部に排出する」ことによりこれらの問題の解決を図るという点は記載も示唆もされておらず、当業者といえども当該構成の採用は容易に想到し得ない事項である。
　また、本件発明は、これにより、「塗布液やエッジリンスの場合の溶剤といった処理液やドレンが基板の外周端縁と環状部材との間に入り込んだまま残って基板の端縁や裏面を汚染することを防止する」という格段の作用効果を奏するものである。
　以上のとおりであるから、本件発明は、刊行物１〜２に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものでもない。
　
４．むすび
　訂正後の本件発明に係る特許は、特許異議の申立の理由および証拠によっては取り消すことができない。
　また、他に訂正後の本件発明に係る特許を取り消すべき理由を発見しない。
　よって、結論のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１３年１２月１１日（２００１．１２．１１）
【訂正の要旨】
　訂正の要旨：異議２０００−７３００６（特許第３００７００９）
　特許第３００７００９号発明の明細書を以下のア〜エのとおり訂正する。
ア．訂正事項ａ
　特許請求の範囲の請求項１について、特許請求の範囲の減縮を目的とし、
「平坦な上面を有する・・・・・・環状部材」
とあるのを
「
前記規制部材に達する位置にまで張り出して前記基板の外周端縁に近接する
と訂正し、また、
「前記基板から遠心力によって流されるドレンを鉛直方向下方に向かわせるドレン流路とを備えたこと」
とあるのを
「前記基材から遠心力によって流されるドレンを鉛直方向下方に向かわせるドレン流路とを備
え、前記ドレン流路は前記環状部材の内側にあり、かつ前記環状部材と前記基板保持手段との間に水平方向に延びるドレン排出用の隙間があり、前記ドレン流路を流下したドレンを前記隙間を通じて外部に排出する
と訂正する。
イ．訂正事項ｂ
　明細書【０００６】段落について、明りょうでない記載の釈明を目的として、
「平坦な上面を有する・・・・・・環状部材」
とあるのを
「
規制部材に達する位置にまで張り出して前記基板の外周端縁に近接する
と訂正し、また、
「基板から遠心力によって流されるドレンを鉛直方向下方に向かわせるドレン流路とを備えて構成する。」
とあるのを
「基板から遠心力によって流されるドレンを鉛直方向下方に向かわせるドレン流路とを備え
、このドレン流路は環状部材の内側にあり、かつ環状部材と基板保持手段との間に水平方向に延びるドレン排出用の隙間があり、ドレン流路を流下したドレンを前記隙間を通じて外部に排出するように
と訂正する。
ウ．訂正事項ｃ
　明細書【０００７】段落について、明りょうでない記載の釈明を目的として、
「しかも、規制部材の水平方向外側で、上面を平坦にした環状部材で基板の外周縁を全周にわたって覆い、塗布液やエッジリンスの場合の溶剤といった処理液やドレンが基板の外周端縁と環状部材との間に入り込んでも、それらを鉛直方向下方に向かうドレン流路を通じて流すことができる。」
とあるのを、
「しかも、規制部材の水平方向外側で、上面を平坦にした環状部材で基板の外周縁を全周にわたって覆い、
この環状部材の内側にドレン流路と、これに通じるドレン排出用の隙間を設けているので
流下させ、さらに環状部材と基板保持手段との間に水平方向に延びるドレン排出用の隙間を通じて外部に排出する
と訂正する。
エ．訂正事項ｄ
　明細書【００１５】段落について、明りょうでない記載の釈明を目的として、
「環状部材１３の上面は平坦な水平面に構成され、また、環状部材１３の下部はスペーサ（図示せず）を介してドレン排出用の隙間が形成されるように底板８に取り付けられ、ドレン流路１４を通じて流されるレジスト液や溶剤を外部に排出できるように構成されている。」
とあるのを、
「環状部材１３の上面は
規制部材１２に達する位置にまで張り出して基板Ｗの外周端縁に近接する
ている。つまり、環状部材１３の内側にある
環状部材１３と基板保持手段３との間に水平方向に延びる隙間を通じて
と訂正する。
（５４）【発明の名称】
回転式基板処理装置
（５７）【特許請求の範囲】
　【請求項１】　基板を保持して鉛直方向の軸芯周りで回転する基板保持手段と、前記基板保持手段に保持された前記基板に処理液を供給する処理液供給手段とを備えた回転式基板処理装置であって、
　前記基板保持手段に、前記基板をその裏面に点接触して支持するピン状支持部材と、前記ピン状支持部材による支持状態の前記基板の外周端縁に点接触して前記基板の水平方向の位置を規制する規制部材とを備え、かつ、
前記規制部材に達する位置にまで張り出して前記基板の外周端縁に近接する
、
　前記ドレン流路は前記環状部材の内側にあり、かつ前記環状部材と前記基板保持手段との間に水平方向に延びるドレン排出用の隙間があり、前記ドレン流路を流下したドレンを前記隙間を通じて外部に排出する
【発明の詳細な説明】
　【０００１】
　【産業上の利用分野】
　本発明は、半導体ウエハ、フォトマスク用のガラス基板、液晶表示装置用のガラス基板、光ディスク用の基板等の基板にレジスト液などの塗布液を塗布したり、また、基板の外周縁に溶剤を供給して洗浄する、いわゆるエッジリンスを行うなどのために、基板を保持して鉛直方向の軸芯周りで回転する基板保持手段と、前記基板保持手段に保持された前記基板に処理液を供給する処理液供給手段とを備えた回転式基板処理装置に関する。
　【０００２】
　【従来の技術】
　この種の回転式基板処理装置としては、従来一般に、基板を真空吸着によって保持するように構成されている。
　ところが、その強い吸着力に起因して基板裏面にチャック跡が残り、このチャック跡が前工程からの汚染に加わり、基板表面の高さにズレを生じて、露光時のフォーカス異常を発生させる問題があった。また、基板の裏面に付着したパーティクルが離脱し、カセットに収容する場合に、下側に収容されている基板の表面を汚染するとか、あるいは、基板搬送装置に転移して他の基板を汚染するといった問題があった。
　【０００３】
　そこで、上述のような問題を回避するために、基板の外周縁側に、基板の裏面を支持する支持ピンと、基板の端面と当接して水平方向の位置を規制する規制ピンとを設けるとか、あるいは、基板の外周縁をその全周にわたって覆いながら支持する環状部材を設けるなど、基板をその外周縁側でのみ支持するように構成したものが提案されている。
　【０００４】
　【発明が解決しようとする課題】
　しかしながら、支持ピンと規制ピンとから構成した場合、回転に伴ってピンにより乱流が発生し、ピンの周囲において塗布均一性が低下する欠点があった。一方、環状部材を設けるものの場合、塗布均一性には優れているが、基板の端面や裏面が汚れやすく、また、それらを洗浄しても洗浄液が残りやすく、基板の端面や裏面の清浄度が低下する欠点があった。
　【０００５】
　本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであって、基板裏面にチャック跡を生じさせないものでありながら、塗布均一性を損なうことなく、基板の端面や裏面の清浄度を高くできるようにすることを目的とする。
　【０００６】
　【課題を解決するための手段】
　本発明は、上述のような目的を達成するために、基板を保持して鉛直方向の軸芯周りで回転する基板保持手段と、その基板保持手段に保持された基板に処理液を供給する処理液供給手段とを備えた回転式基板処理装置において、基板保持手段に、基板をその裏面に点接触して支持するピン状支持部材と、ピン状支持部材による支持状態の基板の外周端縁に点接触して基板の水平方向の位置を規制する規制部材とを備え、かつ、
前記規制部材に達する位置にまで張り出して前記基板の外周端縁に近接する
、このドレン流路は環状部材の内側にあり、かつ環状部材と基板保持手段との間に水平方向に延びるドレン排出用の隙間があり、ドレン流路を流下したドレンを前記隙間を通じて外部に排出するように
　【０００７】
　【作用】
　本発明の回転式基板処理装置の構成によれば、ピン状支持部材を基板の裏面に、そして、規制部材を基板の外周端縁にそれぞれ点接触させることにより、基板を保持して回転させることができる。しかも、規制部材の水平方向外側で、上面を平坦にした環状部材で基板の外周縁を全周にわたって覆い、
この環状部材の内側にドレン流路と、これに通じるドレン排出用の隙間を設けているので
流下させ、さらに環状部材と基板保持手段との間に水平方向に延びるドレン排出用の隙間を通じて外部に排出する
　【０００８】
　【実施例】
　次に、本発明の実施例を図面を用いて詳細に説明する。
　図１は本発明の回転式基板処理装置の実施例を示す全体概略縦断面図、図２は要部の平面図、図３は要部の斜視図であり、電動モータ１の駆動によって鉛直方向の軸芯周りで回転する回転軸２の上端に、基板Ｗの外周縁を載置して保持する基板保持手段３が一体回転可能に取り付けられている。
　【０００９】
　基板保持手段３およびそれによって水平姿勢に保持された基板Ｗの周囲は、昇降駆動機構（図示せず）によって昇降可能な下側の第１のカップ４と、それより上側の第２のカップ５とで覆われている。
　【００１０】
　第２のカップ５の外側には、基板Ｗ上の回転中心に相当する供給位置と基板Ｗ上から離れた待機位置にわたって移動可能に構成されたレジスト液供給ノズル６が設けられ、供給位置において基板Ｗの表面にレジスト液を供給し、基板Ｗの回転により基板Ｗの表面にレジスト液を塗布できるように構成されている。また、第２のカップ５の外側には、基板Ｗの外周縁上に相当する供給位置と基板Ｗ上から離れた待機位置にわたって移動可能に構成された溶剤供給ノズル７が設けられ、供給位置において基板Ｗの表面の外周縁に溶剤を供給し、基板外周縁のレジスト液を除去できるように構成されている。
　【００１１】
　基板保持手段３は、回転軸２に一体回転可能に連結される底板８に、図４の要部の拡大断面図に示すように、スペーサ９を介して排水用の隙間（例えば、約０．２ｍｍ）が形成されるように環状の支持材１０が取り付けて構成されている。
　【００１２】
　支持材１０の上面には、その周方向に所定間隔を隔てて３本のピン状支持部材１１…が設けられ、基板Ｗの裏面に点接触して基板Ｗを支持するように構成されている。
　【００１３】
　また、支持材１０の上面のピン状支持部材１１…よりも外側には、その周方向に所定間隔を隔てて６本のピン状の規制部材１２…が設けられ、ピン状支持部材１１…による支持状態の基板Ｗの外周端縁に点接触して基板Ｗの水平方向の位置を規制するように構成されている。規制部材１２…のうちの所定の２本は、基板ＷのオリエンテーションフラットＯＦの外周端縁に点接触して基板Ｗに回転力を有効に伝達できるように設けられている。規制部材１２としては、ピン状に限らず、基板Ｗの外周端縁に点接触できるように構成するものであれば良く、棒状でも板状でも良い。
　【００１４】
　前記規制部材１２…の水平方向外側において、基板Ｗの外周縁を全周にわたって覆うように環状部材１３が設けられ、かつ、基板Ｗの外周縁ならびに規制部材１２…と環状部材１３の内周面との間、および、支持材１０の外周面と環状部材１３の内周面との間に、基板Ｗから遠心力によって流されるドレンを鉛直方向下方に向かわせるドレン流路１４が形成されている。
　【００１５】
　環状部材１３の上面は
規制部材１２に達する位置にまで張り出して基板Ｗの外周端縁に近接する
ている。つまり、環状部材１３の内側にある
環状部材１３と基板保持手段３との間に水平方向に延びる隙間を通じて
　【００１６】
　回転軸２が筒状に構成され、その回転軸２内から底板８を貫通する状態で洗浄液供給ノズル１５が設けられ、基板Ｗの裏面に洗浄液を供給し、排水用の隙間からドレン排出用の隙間を通じて外部に排出し、基板Ｗの裏面を洗浄できるように構成されている。
　【００１７】
　底板８の所定の３箇所にピン挿通孔１６が形成され、かつ、底板８の下方に、３本の基板昇降ピン１７…が昇降可能に設けられ、ロータリー・エンコーダなどにより基板保持手段３を所定位置で停止させ、その状態で基板昇降ピン１７…をピン挿通孔１６を通じて昇降させ、基板Ｗをピン状支持部材１１…に支持させる処理位置とそれより上方の受け渡し位置とに昇降するように構成されている。
　【００１８】
　以上の構成により、レジスト液の塗布やエッジリンスや裏面洗浄を行うときに、基板Ｗの回転による遠心力に伴って生じる気流をピン状支持部材１１…や規制部材１２…によって乱すことを防止して塗布均一性を向上できる。また、ピン状支持部材１１…および規制部材１２…それぞれに点接触させて基板Ｗを保持するために、真空吸着による場合のようなチャック跡が生じることを回避でき。更に、ドレン流路１４を通じてレジスト液や溶剤などを良好に排出でき、基板Ｗの端縁や裏面の清浄度を高くできる。
　【００１９】
　次に、上記実施例装置と従来装置との比較実験結果について説明する。
　従来装置としては、基板Ｗを真空吸着によって保持する構成のものを用いた。直径６インチの基板Ｗにレジスト液を１．２μｍの厚さに塗布したところ、膜厚変動は２０〜３０オングストロームで従来装置と同等であった。また、乱流による風きり跡も基板Ｗの端縁から２ｍｍ以内に収まった。エッジリンス後の洗浄性も同等であった。
　これに対し、実施例装置によれば、従来装置のようなチャック跡が全く無く、裏面に付着した０．２μｍ以上のパーティクル数が、裏面洗浄を行わない場合に、従来装置では数千個であったのに比べて２００〜３００個程度にまで減少し、そして、裏面洗浄を行った場合には、従来装置の３００個程度が数個以下にまで減少し、処理品質を大幅に向上できることが明らかであった。
　【００２０】
　前述のレジスト液供給ノズル６、溶剤供給ノズル７および洗浄液供給ノズル１５をして処理液供給手段と総称する。
　【００２１】
　本発明としては、上述実施例のようなオリエンテーションフラットＯＦを有する円形基板に限らず、ノッチを有する円形基板や液晶用などの角型基板に対する回転式基板処理装置にも適用できる。
　【００２２】
　【発明の効果】
　以上の説明から明らかなように、本発明の回転式基板処理装置によれば、ピン状支持部材を基板の裏面に、そして、規制部材を基板の外周端縁にそれぞれ点接触させて基板を保持するから、従来の真空吸着による場合のように基板裏面にチャック跡を生じさせることを回避できる。
　また、規制部材の外側で基板の外周縁を覆う環状部材の上面が平坦であるために、その回転に伴って気流が発生することを軽減できる。しかも、環状部材とドレン流路とによって、塗布液やエッジリンスの場合の溶剤といった処理液やドレンが基板の外周端縁と環状部材との間に入り込んだまま残って基板の端縁や裏面を汚染することを防止するとともに、基板回転に伴う遠心力によって生じる気流に抵抗を与えてピン状支持部材や規制部材の周囲に乱流が発生することを抑制するから、塗布均一性を損なうことなく、基板の端面や裏面の清浄度を高め、処理品質を向上できるようになった。
【図面の簡単な説明】
　【図１】
　本発明の回転式基板処理装置の実施例を示す全体概略縦断面図である。
　【図２】
　要部の平面図である。
　【図３】
　要部の斜視図である。
　【図４】
　要部の拡大断面図である。
　【符号の説明】
　３…基板保持手段
　６…レジスト液供給ノズル
　７…溶剤供給ノズル
１１…ピン状支持部材
１２…規制部材
１３…環状部材
１４…ドレン流路
１５…洗浄液供給ノズル
　Ｗ…基板