【事件の表示】
　特許第３０３０７７３号「液晶表示装置の製造方法」の請求項１に係る特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結　論】
　訂正を認める。
　特許第３０３０７７３号の請求項１に係る特許を取り消す。
【理　由】
１．手続の経緯
　本件特許第３０３０７７３号に係る出願は、昭和６２年３月１９日に出願された特願昭６２−６４８２４号の一部を特許法第４４条第１項の規定により、平成８年５月２４日に特許出願された特願平８−１３０４３０号の一部を特許法第４４条第１項の規定により、平成１０年８月３１日に特許出願され、平成１２年２月１０日にその設定登録がなされたものであって、その後、特許異議申立人佐藤勝明より請求項１に係る特許について特許異議の申立てがなされた。そして平成１２年１２月７日付けで取消理由通知がなされたところ、平成１３年２月１６日付けで訂正請求書及び特許異議意見書が提出された。
　
２．訂正の適否についての判断
２−１．訂正事項
（１）訂正事項ａ
　特許請求の範囲の請求項１の「工程と、を有すること」を「工程と、を有し、前記配向膜は、ポリイミド、ポリイミドアミド、ポリビニルアルコ−ル、ポリアミドから選ばれること」と訂正する。
（２）訂正事項ｂ
　発明の詳細な説明の段落【０００６】の「工程と、を有すること」を「工程と、を有し、前記配向膜は、ポリイミド、ポリイミドアミド、ポリビニルアルコ−ル、ポリアミドから選ばれること」と訂正する。
　
２−２．訂正の目的の適否、新規事項の有無及び拡張・変更の存否
（１）上記訂正事項ａは、段落【００２０】に記載されていたものである。よって、上記訂正は特許請求の範囲を減縮を目的とした明細書の訂正に該当し、願書に添付した明細書の範囲内の訂正であり、実質上特許請求の範囲を拡張し又は変更するものではない。
（２）上記訂正事項ｂは、上記特許請求の範囲の訂正に伴って発明の詳細な説明を訂正するものであり、明りょうでない記載の釈明を目的とするものであって、願書に添付した明細書及び図面の範囲内の訂正であり、実質上特許請求の範囲を拡大し又は変更するものでもない。
　
２−３．むすび
　以上のとおりであるから、上記訂正は、特許法等の一部を改正する法律（平成６年法律第１１６号）附則第６条第１項の規定により「なお従前の例による」とされる、特許法第１２０条の４第３項で準用する平成６年法律第１１６号による改正前の特許法第１２６条第１項ただし書ないし第２項の規定に適合するので、当該訂正を認める。
　
３．本件発明
　請求項１に係る発明は、訂正された特許明細書及び図面の記載からみて、その特許請求の範囲の請求項１により特定される次のとおりのものである。
「【請求項１】一対の基板間に液晶を挟持してなる液晶表示装置の製造方法であって、０．１μｍ以下の結晶粒径を有する電極を前記基板上に形成する工程と、前記電極が形成された前記基板上に３００オングストローム〜１０００オングストロームの膜厚を有する配向膜を形成する工程と、前記配向膜上にギャップ材を配置する工程と、を有し、前記配向膜は、ポリイミド、ポリイミドアミド、ポリビニルアルコ−ル、ポリアミドから選ばれることを特徴とする液晶表示装置の製造方法。」（以下、「本件発明」という。）
　
４．取消理由通知
　平成１２年１２月７日付け取消理由通知の概要は以下のとおりである。
　訂正前の請求項１に係る発明は、下記刊行物に記載の発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、請求項１に係る特許は特許法第２９条第２項の規定に違反してされたものである。　
　　　　記
刊行物：特開昭６１−２４５１８６号公報
　
５．引用刊行物
　引用刊行物（特開昭６１−２４５１８６号公報）には、次の事項が図面とともに記載されている。
「少なくとも一方が透明電極である１組の電極で液晶を挟み、透明電極側に偏光板が設けられた液晶表示装置において、透明電極の一方または双方が、平均０．１〜１μｍの表面粒径を持つ透明導電膜からなることを特徴とする広視野型液晶表示装置。」（特許請求の範囲第１項）、
「この種の液晶表示装置の透明電極４、５には、酸化錫や酸化インジウム錫等の透明導電膜が使用され、従来の場合、これら透明導電膜を構成する結晶粒子の表面粒径は平均０．０５μｍ前後であった。
〔発明が解決しようとする問題点〕
しかし、この液晶表示装置は、盤面を垂直に近い角度で見下ろす場合には、比較的高いコントラストが得られる反面、斜めから見たときのコントラストが極端に低くなり、極めて見にくいという欠点があった。この発明は、従来の液晶表示装置における前記の問題点を解消すべくなされたもので、盤面に対して広い角度から高いコントラストの映像が見られる視野角の広い液晶表示装置を提供することを目的とする。」（公報第２頁左上欄第１０行〜同頁右上欄第５行）、
「例えば、第１図の液晶表示装置は、パタ−ン化された透明電極１５が、平均０．１〜１μｍの範囲の表面粒径を持つ表面に凹凸のある透明導電膜で作られ、他方の透明電極１４が、平均０．０５μｍ前後の表面粒径を持つ平滑性の高い透明導電膜で作られたものである。同図はこれを模式的に示したものである。
　なおこの場合に、透明電極１４または１５の表面の凹凸状態が、液晶１１の配向性を乱すときは、スピンコ−トによるＳｉＯ２膜等、透明導電膜より屈折率が小さく、かつ粒径の細かい薄膜でこれら電極１４または１５の表面をコ−ティングすることにより、配向膜１６に依存する液晶１１の所定の配向状態を維持することができる。
　透明電極１４、１５は、スプレー法、スパッタリング法、ＣＶＤ法は、真空蒸着法等の既知の薄膜作製手段により、硝子基板１２、１３の表面に設けられた酸化錫や酸化インジウム錫、或いは酸化インジウム錫等の透明導電膜によって作られる。例えばスプレー法の場合は、硝子基板１２、１３の温度を適当に制御することによって、透明電極１５の表面粒径を前記の範囲に設定できる。」（公報第２頁右上欄第１８行〜左下欄第２０行）、
「なお、透明電極１４、１５の表面粒径を前記の範囲に設定したのは、平均０．１μｍ以下では、表面の凹凸による光の散乱効果が小さく、従来の液晶表示装置に対比し得る広い視野角が得られないこと・・・による。」（公報第２頁右下欄第１行〜第７行）、
「約１０００オングストロームのＳｉＯ２膜が両面に設けられた縦横１０ｍｍ、厚さ１．１ｍｍのソーダ硝子基板１２と１３を用意し、この内の１枚の硝子基板１３には、パターン化された透明電極１５を、他の１枚の硝子基板１２にはパターン化されてない一様な透明電極１４を設けた。前者の透明電極１５は、基板温度を４２０℃に維持し、スプレー法により設けられた膜厚約７０００オングストロームの酸化錫膜からなり、シート抵抗が２５Ω／□、結晶粒径の平均が約０．２５μｍである。また、後者の透明電極１４は、基板温度を３８０℃に維持し、同じくスプレー法により設けられた膜厚約２０００オングストロームの酸化錫膜からなり、シート抵抗が８０Ω／□、結晶粒径の平均が約０．０５μｍである。さらに、前記透明電極１４の上に厚さ約１０００オングストロームの酸化珪素膜を真空蒸着し、この表面をダイヤモンドペーストで一定方向にラッピングし、配向膜１６を設けた。
　この硝子基板１２、１３の透明電極１４、１５側を内側にして、この間に液晶１１を挟んで封入し、さらにこの外側に偏光板１７、１８を設け、第１図で示されたような液晶表示装置を作った。なお、偏光板１７、１８には、ポリビニルアルコール系の偏光膜が酢酸セルローズの保護膜で挟まれたフィルム状のものを使用した。
［比較例］
　前記の実施例との比較のため、何れも基板温度を３８０℃に維持し、スプレー法により、結晶粒径の平均が約０．０５μｍの酸化錫膜からなる透明電極４、５を硝子基板２、３の上に設け、これら硝子基板２、３を使用して前記と同様の方法で第４図に示されたような液晶表示装置を作った。」（公報第２頁右下欄第１０行〜第３頁右上欄第２行）
　
６．対比・判断
　本件発明と引用刊行物とを対比する。
（１） 引用刊行物には、「この硝子基板１２、１３の透明電極１４、１５側を内側にして、この間に液晶１１を挟んで封入し・・・液晶表示装置を作った。」と記載されており、これは本件発明の「一対の基板間に液晶を挟持してなる液晶表示装置の製造方法」に相当する技術的事項を示すものである。
（２） 引用刊行物には、「結晶粒径の平均が約０．０５μｍである。さらに、前記透明電極１４の上に厚さ約１０００オングストロームの酸化珪素膜を真空蒸着し」と記載されており、上記記載中「約０．０５μｍ」が「０．１μｍ以下」であることは明らかであるから、引用刊行物は、本件発明の「０．１μｍ以下の結晶粒径を有する電極を前記基板上に形成する工程」及び「電極が形成された前記基板上に１０００オングストロ−ムの膜厚を有する配向膜を形成する工程」に相当する技術的事項を示すものである。（両方の電極を０．１μｍ以下にすることも従来技術として記載されている。）
　上記考察（１），（２）から、両者は、「一対の基板間に液晶を挟持してなる液晶表示装置の製造方法であって、０．１μｍ以下の結晶粒径を有する電極を前記基板上に形成する工程と、前記電極が形成された前記基板上に１０００オングストロ−ムの膜厚を有する配向膜を形成する工程と、を有することを特徴とする液晶表示装置の製造方法」である点で一致しており、次の点で相違している。
　
相違点１：
　本件発明では、「配向膜上にギャップ材を配置する工程」を有しているのに対し、引用刊行物には、ギャップ材に関する記載はない点。
相違点２：
　本件発明は、配向膜が「ポリイミド、ポリイミドアミド、ポリビニルアルコ−ル、ポリアミドから選ばれる」のに対し、引用刊行物のものは、配向膜が酸化珪素膜であって、上記有機配向膜については記載されていない点。
　
　上記相違点について検討する。
相違点１について：
　液晶表示装置において、一対の基板間の間隔を所定の値とするために、配向膜上にギャップ材を形成すること及びそのために配向膜上にギャップ材を配置する工程が必要であることは周知であるから、引用発明において、上記相違点１の技術的事項とすることは、周知技術を勘案して当業者が適宜なしうる程度の事項である。
相違点２について：
　配向膜として、ポリイミド等の有機配向膜を用いること及び酸化珪素等の無機配向膜を用いることはともに常套手段であって、両膜の厚みも通常数百Åから１０００Åと大差ない値であるから（必要で有れば松本正一・角田市良共著「液晶の最新技術」工業調査会（昭５８−５−２５）ｐ．１５８−１６１参照）、引用刊行物の酸化珪素膜に換えてポリイミド等の配向膜を用いることにより、上記相違点２の事項とすることは当業者が容易に想到し得たことである。
　
　そして、ポリイミド等の配向膜を用いることにより得られる効果は、配向膜自身が有する効果であって格別のものではないから、本件発明が奏する効果は、引用刊行物に記載された発明及び周知技術から予測しうる程度のものである。
　
　なお特許権者は、特許異議意見書において、『さらに、引用例には、第２頁左下欄第６−１１行に、「透明電極１４または１５の表面の凹凸状態が、液晶１１の配光性を乱すときは、スピンコートによるＳｉＯ２膜等、透明導電膜より屈折率が小さく、かつ粒径の細かい薄膜でこれら電極１４または１５の表面をコーティングする」と記載されている。このＳｉＯ２膜等は配向膜ではないことは明らかであり、この上に配向膜が形成される。つまり、引用例においては、配向膜の下層に、ＳｉＯ２膜等をコーティングするものであり、そのための工程の増加を必要とするという問題があり、しかも、無機膜である酸化珪素の粒子による凹凸は、依然として残るものであり、上記した特定の材料を用いることによって、なめらかで、平坦な配向表面を形成し、配向を安定させるという本件特許における特有の効果がもたらされるものではないことは明らかである。』（第２頁第２３行〜第３頁第４行）と主張しているので、この点について検討する。
　引用刊行物に記載された発明には、従来技術のように０．０５μｍ前後であると視野角特性が悪いとの観点から、粒径を粗くした場合に、配向特性が悪くなることを懸念して上記のように構成（「透明電極・・・の表面の凹凸状態が、液晶１１の配向性を乱すときは・・・粒径の細かい薄膜でこれら電極・・・の表面をコーティングする」）したものであって、その場合にあっても、「粒径の細かい薄膜」でコーティングすることにより、配向性を改善することが引用刊行物に記載されているのであるから、引用刊行物に記載された発明においても、電極上の粒径が細かい場合における「平坦な配向表面を形成し、配向を安定させる」という効果について認識しているものであるので、引用刊行物のものが、本件発明の効果を奏するものでないとはいえない。
よって、特許権者の上記主張は採用するに足らないものである。
　
　したがって、本件発明は、引用刊行物に記載された発明及び周知技術に基づき当業者が容易に発明をすることができたものである。
　
７．むすび
　以上のとおり、本件発明は、引用刊行物に記載された発明及び周知技術に基づき当業者が容易に発明をすることができたものであるから、請求項１に係る特許は、特許法第２９条第２項の規定に違反してされたものであり、特許法第１１３条第２号に該当し、取り消されるべきものである。
　よって、結論のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１３年１１月２８日（２００１．１１．２８）
【訂正の要旨】
訂正の要旨
（１）訂正事項ａ
　特許請求の範囲の請求項１の「工程と、を有すること」を「工程と、を有し、前記配向膜は、ポリイミド、ポリイミドアミド、ポリビニルアルコール、ポリアミドから選ばれること」と訂正する。
（２）訂正事項ｂ
　発明の詳細な説明の段落【０００６】の「工程と、を有すること」を「工程と、を有し、前記配向膜は、ポリイミド、ポリイミドアミド、ポリビニルアルコール、ポリアミドから選ばれること」と訂正する。
（５４）【発明の名称】
液晶表示装置の製造方法
（５７）【特許請求の範囲】
　【請求項１】　一対の基板間に液晶を挟持してなる液晶表示装置の製造方法であって、
　０．１μｍ以下の結晶粒径を有する電極を前記基板上に形成する工程と、
　前記電極が形成された前記基板上に３００オングストローム〜１０００オングストロームの膜厚を有する配向膜を形成する工程と、
　前記配向膜上にギャップ材を配置する工程と、
を有し、
　前記配向膜は、ポリイミド、ポリイミドアミド、ポリビニルアルコール、ポリアミドから選ばれることを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
　【０００１】
　【発明の属する技術分野】
　本発明は液晶表示装置、詳しくは液晶セルにおける透明電極と配向膜の構造に関する。
　【０００２】
　【従来の技術】
　従来、液晶表示装置を製造するにあたり、透明電極は、真空蒸着法、スパッタリング法、ロールコーティング法もしくは化学気相法により、透過率や抵抗値に注目して膜厚のみの制御がされていた。又、無機層もパシベーション効果、反射率等から膜厚に注目し設計されていた。配向層に関しても基板の反射率等に注目されて膜厚設計がなされていた。
　【０００３】
　以上のように、透明電極・無機層・配向層全てにおいて、膜厚による管理のみがされていた。
　【０００４】
　【発明が解決しようとする課題】
　しかし、前述の従来技術では、配向層の下にくる電極もしくは無機層の結晶粒の制限がない為、ネマティック液晶を用い、コレステリック液晶よりなるカイラル剤の添加量を調整して９０°以上ねじった場合、配向膜が薄く、結晶粒径が大きいと下層の表面状態の影響を受け、液晶分子のティルト角が不均一となり、配向不良が発生するという問題が生じた。又、液晶表示装置の大型化に伴い透明電極の抵抗を下げる事が必要となり電極部を厚くする必要があるが、電極を厚くすると、電極エッヂでの配向不良や、液晶注入時のクロマト効果によるカイラルの不均一化による配向不良が発生していた。
　【０００５】
　そこで本発明はこの様な問題点を解決するもので、その目的とする所は、なめらかで、平坦な配向表面を形成し、配向を安定させる事にある。
　【０００６】
　【課題を解決するための手段】
　本発明の液晶表示装置の駆動方法は、一対の基板間に液晶を挟持してなる液晶表示装置の製造方法において、
　０．１μｍ以下の結晶粒径を有する電極を前記基板上に形成する工程、
　前記電極が形成された前記基板上に３００オングストローム〜１０００オングストロームの膜厚を有する配向膜を形成する工程と、
を有し、
　前記配向膜は、ポリイミド、ポリイミドアミド、ポリビニルアルコール、ポリアミドから選ばれることを特徴とする。
　【０００７】
　【０００８】
　【０００９】
　配向層の膜厚に関しては１００〜１０００オングストロームが望ましく、さらに好ましくは３００〜１０００オングストロームである。３００オングストローム未満では下層の透明電極の表面状態の影響を受けやすくなり液晶分子のティルト角が不均一となってしまう。又、１０００オングストロームを超えると上下透明電極間の抵抗や配向特性の問題が発生する。
　【００１０】
　透明電極及び無機膜の結晶粒径としては０．１μｍ以下が望ましく、０．１μｍを超えると表面の凹凸が激しくなり、液晶分子のティルト角に影響を及ぼしやすいものである。
　【００１１】
　【発明の実施の形態】
　〔実施例１〕
　図１は本発明の一実施例を示す図である。洗浄したガラス基板１上に、スパッタリング法により酸化インジウム−酸化スズ（以下、ＩＴＯと呼ぶ）ターゲットを用いて透明電極２を１０００オングストローム形成した。この際、導入ガスとしてＡｒを１．５×１０−３（ｔｏｒｒ）になるように導入しＯ２ガスを４×１０−３〜５×１０−３（ｔｏｒｒ）になるように導入した。このようにして、結晶粒径０．１μｍ以下で平均０．０５μｍの透明電極２が形成できた。この透明電極２をフォト法により任意のパターンに形成した後、配向層３としてポリイミド膜を３００オングストローム〜１０００オングストローム形成し、ラビング後ギャップ材５、シール材６を形成して液晶表示セルを作製した。
　【００１２】
　次に比較例として、従来の例を示す。
　【００１３】
　図２は、従来の液晶表示装置の構造を示す図である。上記と同様にガラス基板上に透明電極２′（ＩＴＯ膜）を形成するが、導入ガスとしてＡｒを１×１０−３（ｔｏｒｒ）の条件で導入した。このようにして形成されたＩＴＯをフォト法でパターン形成し、同じくポリイミド膜でなる配向層３′を２５０オングストローム形成後、ラビング処理し上記と同様に液晶表示セルを作製した。このようにしてできた液晶表示セルの透明電極２′の結晶粒径を測定したところ０．５〜２μｍであった。従って、凹凸の激しい表面状態となっている。そして、上記液晶表示セルと前述した液晶表示セルに、ネマチック液晶にカイラルを混合した液晶を注入し、両者を比較したところ液晶のねじれ具合４，４′は本実施例による液晶表示セルの方が優れており、均一なねじれ状態で安定した配向を得ることができた。
　【００１４】
〔実施例２〕
　同じく本実施例を図１により説明する。
　【００１５】
　エレクトロンビーム（ＥＢ）蒸着機により、ＩＴＯタブレットを用いて透明電極２を１０００オングストローム形成する。この時の条件は、導入Ｏ２圧５×１０−５〜８×１０−５（ｔｏｒｒ）になるようにして蒸着後、ポリイミドでなる配向層３を２５０オングストローム〜１０００オングストロームの範囲で数種に分けて形成後、実施例１と同様にして液晶表示セルを作製した。この時の透明電極２の結晶粒径は０．０５μｍ以下であった。
　【００１６】
　次に比較例について説明する。
　【００１７】
　上配と同じようにＥＢ蒸着機で、導入Ｏ２圧１×１０−５〜５×１０−５（ｔｏｒｒ）になるようにしてＩＴＯを蒸着後、フォト法で任意の形状にパターニングし透明電極２′形成し、この透明電極２′上にポリイミドでなる配向層を１００オングストローム〜２５０オングストローム形成して液晶表示セルを作製した。この時の透明電極２′の結晶粒径を測定したところ１〜２μｍであった。
　【００１８】
　この両者を比較すると、実施例１と同様に透明電極の結晶粒径が小さい本実施例の方が良好であった。特に、本実施例では結晶粒径が０．０５μｍ以下であるので、配向層の厚みを２５０オングストロームとほぽ従来と同様にしても良好な結果を得られ、さらに結晶粒径を小さくすれば、配向層を薄くすることも可能と思われる。
　【００１９】
〔実旅例３〕
　実施例１又は実施例２に示した本発明の実施例と同様の方法でＩＴＯを結晶粒径０．１μｍ以下になるように形成後、スパッタリング法でこの上に、ＴｉＯ２−ＺｒＯ２の無機膜を５００オングストローム〜１０００オングストロームを形成して、さらにこの上にポリイミドでなる配向層３を４００オングストローム〜１０００オングストローム形成する。この際、前配無機膜の結晶粒径の大きさは０．１μｍ以下とした。以上のように構成された液晶表示セルの配向状態は、非常に安定しており良好であった。
　【００２０】
　以上述べた実施例１〜３では透明電極及び無機膜を真空法で形成したが、他の方法、例えばロールコーティング法、スプレー法などの液組成による塗布や化学気相法でも結晶粒径を０．１μｍ以下となるように、条件設定して行なう方法でも良い。又、配向層としてはポリイミドの他、ポリイミドアミド、ポリビニルアルコール、ポリアミド等でも同様の効果を有している。実施例３では、ＴｉＯ２−ＺｒＯ２の無機膜を使用したが、これに限定されるものではなく例えばＳｉＯ２，ＴｉＯ２，Ａｌ２Ｏ３，ＣｅＯ２，Ｓｉ３Ｎ４等がある。
　【００２１】
　【発明の効果】
　上述したように、本発明の液晶表示装置の製造方法によれば、結晶粒径が０．１μｍ以下となるように電極を形成し、かつ膜厚が３００オングストローム以上となるように配向膜を形成するので、配向膜表面は下層の電極表面状態の影響が除かれて、凹凸が小さくなる。よって、液晶分子のティルト角が不均一となることを防止できる。また、配向膜上に配置されるギャップ材によって規定される液晶層の厚みも均一化することができる。
　そして、膜厚が３００オングストローム以上であるとともに、１０００オングストローム以下となるように配向膜を形成するので、電極間の抵抗や配向特性が劣化することも防止できる。
　すなわち、基板上に、電極の結晶粒径を０．１μｍとなるように形成し、かつ、３００オングストローム〜１０００オングストロームの膜厚となるように配向膜を形成することで、基板間に挟持される液晶分子の配向特性が均一となるように液晶表示装置を製造できる。
【図面の簡単な説明】
　【図１】　本発明の液晶表示装置の構造を示す図。
　【図２】　従来の液晶表示装置の構造を示す図。
　【符号の説明】
１・・・・・基板
２，２′・・透明電極
３，３′・・配向層、
４，４′・・液晶のねじれ具合
５・・・・・ギャップ材
６・・・・・シール材
７・・・・・液晶層