【事件の表示】
　特許第３０５２１０５号「洗浄処理装置」の請求項１ないし３に係る特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結　論】
　訂正を認める。
　特許第３０５２１０５号の請求項１に係る特許を維持する。
【理　由】
第１　手続の経緯
　本件特許第３０５２１０５号発明は、平成４年１１月２０日の出願であって、平成１２年４月７日にその特許権の設定登録がなされ、その後、特許異議申立人粟井良吉より請求項１〜３に対して特許異議の申し立てがなされ、また、特許異議申立人松原いづみより請求項１〜２に対して特許異議の申し立てがなされた。これに対し、当審より平成１３年６月２２日付で第１回目の取消理由通知がなされ、その指定期間内である平成１３年８月２４日に特許権者より特許異議意見書及び訂正請求書が提出され、当審の平成１３年１２月２７日付の第２回目の取消理由通知に対し、その指定期間内である平成１４年１月２８日に特許権者より特許異議意見書及び訂正請求書が提出されたものである。
　なお、上記平成１３年８月２４日付訂正請求書は、取り下げられた。
第２　訂正の適否についての判断
１　訂正事項
（１）訂正事項ａ
　発明の名称を、明りょうでない記載の釈明を目的として、「反転装置」と訂正する。
（２）訂正事項ｂ
　特許明細書の特許請求の範囲請求項１〜３に係る記載
　「【請求項１】板状の被処理体の片面を洗浄する洗浄手段と、
　前記洗浄手段が設けられた第１のユニットと、
　その表面と裏面が互いに入れ替わるように前記被処理体を反転させる反転専用の反転手段と、
　前記反転手段が設けられた第２のユニットと、
　前記第１および第２のユニット間で前記被処理体を反転せずに搬送する搬送手段とを具備し、
　前記第１および第２のユニットにおける前記被処理体の搬入出が各々独立して行われるように構成したことを特徴とする洗浄処理装置。
　【請求項２】互いに背中合わせの第１および第２の面を有する板状の被処理体を所定の位置で支持しながらその片面を洗浄する洗浄手段と、
　前記洗浄手段が設けられた第１のユニットと、
　前記第１および第２の面が互いに入れ替わるように前記被処理体を反転させる反転手段と、
　前記反転手段が設けられた第２のユニットと、
　前記第１および第２のユニット間で前記搬送体を搬送する搬送手段とを具備し、
　前記第１のユニットで前記洗浄手段により前記被処理体の第１の面を洗浄し、洗浄された前記被処理体を前記搬送手段により前記第１のユニットから前記第２のユニットへ搬送し、前記第２のユニットに搬入された前記被処理体を前記反転手段により反転させ、反転した前記被処理体を前記搬送手段により前記第２のユニットから前記第１のユニットへ搬送し、前記第１のユニットに搬入された前記被処理体の第２の面を前記洗浄手段により洗浄することを特徴とする洗浄処理装置。
　【請求項３】板状の被処理体をその背中合わせの第１および第２の面が互いに入れ替わるように反転させる反転装置であって、
　前記被処理体の周縁部を少なくとも２箇所で保持できるように構成された一対の保持アームと、
　前記一対の保持アームを開閉可能に支持するアーム支持手段と、
　前記一対の保持アームを水平に支持する水平軸を有し、前記水平軸まわりに前記一対の保持アームを所定の角度だけ回転駆動して反転させる固定設置された反転駆動手段と、
　前記一対の保持アームとの間で前記被処理体を受け渡し可能に前記被処理体を水平に支持するための被処理体支持部を有する昇降移動可能な被処理体ステージと、
　前記一対の保持アームと前記被処理体の受け渡しを行うための第１の位置と外部搬送手段と前記被処理体の受け渡しを行うための前記第１の位置とほぼ同一の垂直線上に設定された第２の位置との間で前記被処理体ステージを昇降移動させるステージ昇降手段と、
　前記第２の位置から前記第１の位置への前記被処理体ステージの昇降移動を所定位置で規制して前記被処理体ステージを前記第１の位置に位置決めする位置決め手段とを具備することを特徴とする反転装置。」を、
　「【請求項１】板状の被処理体をその背中合わせの第１および第２の面が互いに入れ替わるように反転させる反転装置であって、
　前記被処理体の周縁部を少なくとも２箇所で保持できるように構成された一対の保持アームと、
　前記一対の保持アームを開閉可能に支持するアーム支持手段と、
　前記一対の保持アームを水平に支持する水平軸を有し、前記水平軸まわりに前記一対の保持アームを所定の角度だけ回転駆動して反転させる固定設置された反転駆動手段と、
　前記一対の保持アームとの間で前記被処理体を受け渡し可能に前記被処理体を水平に支持するための被処理体支持部を有する昇降移動可能な被処理体ステージと、
　前記一対の保持アームと前記被処理体の受け渡しを行うための第１の位置と外部搬送手段と前記被処理体の受け渡しを行うための前記第１の位置の真上または真下に設定された第２の位置との間で前記被処理体ステージを昇降移動させるステージ昇降手段と、
　前記第２の位置から前記第１の位置への前記被処理体ステージの昇降移動を所定位置で規制して前記被処理体ステージを前記第１の位置に位置決めする位置決め手段と
を具備することを特徴とする反転装置。」
と訂正する。
　上記請求項１〜３の訂正個所は、次のとおりである。
ア　訂正個所１
　特許請求の範囲の滅縮を目的として、特許明細書における特許請求の範囲の請求項１を削除する。
イ　訂正個所２
　特許請求の範囲の減縮を目的として、特許明細書における特許請求の範囲の請求項２を削除する。
ウ　訂正個所３
　明りょうでない記載の釈明を目的として、特許明細書における特許請求の範囲の【請求項３】を【請求項１】と繰り上げ、特許明細書における特許請求の範囲の請求項３の「前記第１の位置とほぼ同一の垂直線上に設定された第２の位置」を、「前記第１の位置の真上または真下に設定された第２の位置」と訂正する。
（３）訂正事項ｃ
　明りょうでない記載の釈明を目的として、特許明細書の段落【０００１】（特許第３０５２１０５号公報（以下単に「特許公報」という。）第２頁第３欄２６〜２８行）を、「【産業上の利用分野】本発明は、被処理体の表面または裏面から異物やパーティクル等を除去するための洗浄処理装置に用いて好適な反転装置に関する。」と訂正する。
（４）訂正事項ｄ
　明りょうでない記載の釈明を目的として、特許明細書の段落【０００６】（特許公報第２頁第４欄３２〜３７行）を、「本発明の目的は、板状体被処理体の反転操作を簡易な構成で安定確実に行える反転装置を提供することにある。」と訂正する。
（５）訂正事項ｅ
　明りょうでない記載の釈明を目的として、特許明細書の段落【０００７】（特許公報第２頁第４欄３８〜４８行）を、削除する。
（６）訂正事項ｆ
　明りょうでない記載の釈明を目的として、特許明細書の段落【０００８】（特許公報第２頁第４欄４９行〜第３頁第５欄１５行）を、削除する。
（７）訂正事項ｇ
　明りょうでない記載の釈明を目的として、特許明細書の段落【０００９】（特許公報第３頁第５欄１６〜３６行）を、次のように訂正する。
　「【０００９】
　【課題を解決するための手段】
　上記の目的を達成するために、本発明の反転装置は、板状の被処理体をその背中合わせの第１および第２の面が互いに入れ替わるように反転させる反転装置であって、前記被処理体の周縁部を少なくとも２箇所で保持できるように構成された一対の保持アームと、前記一対の保持アームを開閉可能に支持するアーム支持手段と、前記一対の保持アームを水平に支持する水平軸を有し、前記水平軸まわりに前記一対の保持アームを所定の角度だけ回転駆動して反転させる固定設置された反転駆動手段と、前記一対の保持アームとの間で前記被処理体を受け渡し可能に前記被処理体を水平に支持するための被処理体支持部を有する昇降移動可能な被処理体ステージと、前記一対の保持アームと前記被処理体の受け渡しを行うための第１の位置と外部搬送手段と前記被処理体の受け渡しを行うための前記第１の位置の真上または真下に設定された第２の位置との間で前記被処理体ステージを昇降移動させるステージ昇降手段と、前記第２の位置から前記第１の位置への前記被処理体ステージの昇降移動を所定位置で規制して前記被処理体ステージを前記第１の位置に位置決めする位置決め手段とを具備する構成とした。」
（８）訂正事項ｈ
　明りょうでない記載の釈明を目的として、特許明細書の段落【００１０】（特許公報第３頁第５欄３７行〜第６欄２行）を、削除する。
（９）訂正事項ｉ
　誤記の訂正を目的として、特許明細書の段落【００２５】６行（特許公報第４頁第８欄５０行）の「５６Ａ」を、「 ５６ａ」と訂正する。
（１０）訂正事項ｊ
　誤記の訂正を目的として、特許明細書の段落【００３６】３行（特許公報第６頁第１１欄２３行）の「上段室１０」を、「下段室１２」と訂正する。
（１１）訂正事項ｋ
　誤記の訂正を目的として、特許明細書の段落【００４１】７行（特許公報第６頁第１２欄４３行）の「Ｗｊ」を、「ＷｈまたはＷｊ」と訂正する。
（１２）訂正事項ｌ
　誤記の訂正を目的として、特許明細書の段落【００４１】１３行（特許公報第７頁第１３欄１〜２行）の「Ｗｊ」を、「Ｗｉ」と訂正する。
（１３）訂正事項ｍ
　明りようでない記載の釈明を目的として、特許明細書の段落【００５５】（特許公報第８頁第１６欄２７〜４２行）を、次のように訂正する。
　「【００５５】
　【発明の効果】
　以上説明したように、本発明の反転装置によれば、板状の被処理体を反転させるための開閉可能かつ水平軸まわりに回転可能な一対の保持アームを固定位置で動作させるとともに、被処理体ステージを該保持アームと被処理体の受け渡しを行うための第１の位置と外部搬送手段と被処理体の受け渡しを行うための第２の位置との間で昇降移動させるようにし、第１の位置では被処理体ステージを正確に位置決めして正確な受け渡しを可能としたので、簡易な装置構成でもって安定確実に被処理体反転操作を行うことができる。」
２　訂正の目的の適否、新規事項の有無及び拡張・変更の存否
　上記１の訂正事項ａ〜ｍについて検討する。
（１）訂正事項ａ
　訂正事項ａは、上記訂正事項ｂと関連して、発明の名称を訂正後の請求項１に係る発明の装置の名称に整合させたものであり、明りようでない記載の釈明に相当するものである。
（２）訂正事項ｂ
　訂正事項ｂの訂正個所１及び２は、特許明細書の特許請求の範囲の請求項１及び２をそれぞれ削除したものであり、特許請求の範囲の減縮に相当するものである。
　また、訂正事項ｂの訂正個所３は、特許明細書における特許請求の範囲の【請求項３】を【請求項１】と繰り上げると共に、取消理由通知書により不明と指摘された特許明細書の請求項３における「前記第１の位置とほぼ同一の垂直線上に設定された第２の位置」を、「前記第１の位置の真上または真下に設定された第２の位置」と明確化したものであり、明りようでない記載の釈明に相当するものである。
（３）訂正事項ｃ
　訂正事項ｃは、上記訂正事項ｂの訂正個所１及び２と関連して、発明の詳細な説明の中の「産業上の利用分野」を訂正事項ｂの訂正個所３に係る発明に対応させて明確化したものであり、明りようでない記載の釈明に相当するものである。
（４）訂正事項ｄ
　訂正事項ｄは、上記訂正事項ｂの訂正個所１及び２と関連して、特許明細書の請求項１及び２に対応する発明の詳細な説明の中の「発明が解決しようとする課題」の記載を削除したものであり、明りょうでない記載の釈明に相当するものである。
（５）訂正事項ｅ，ｆは、上記訂正事項ｂの訂正個所１及び２と関連して、特許明細書の請求項１及び２に対応する発明の詳細な説明の中の「課題を解決するための手段」をそれぞれ削除したものであり、明りようでない記載の釈明に相当するものである。
（６）訂正事項ｇは、上記訂正事項ｂの訂正個所３と関連し、訂正後の請求項１に対応する発明の詳細な説明の中の「課題を解決するための手段」を明確化したものであり、明りようでない記載の釈明に相当するものである。
（７）訂正事項ｈ
　訂正事項ｈは、上記訂正事項ｂの訂正個所１及び２と関連して、特許明細書の請求項１，２に対応する発明の詳細な説明の中の「作用」を削除したものであり、明りようでない記載の釈明に相当するものである。
（８）訂正事項ｉ，ｊ，ｋ，１
　訂正事項ｉ，ｊ，ｋ，１は、錯誤による自明な誤記を訂正するものであり、誤記の訂正に相当するものである。
（９）訂正事項ｍ
　訂正事項ｍは、上記訂正事項ｂの訂正個所１及び２と関連して、特許明細書の請求項１及び２に対応する発明の詳細な説明の中の「発明の効果」の記載を削除したものであり、明りょうでない記載の釈明に相当するものである。
　そして、上記訂正事項ａ〜ｍは、願書に最初に添付した明細書又は図面に記載した事項の範囲内の訂正であり、また、実質上特許請求の範囲を拡張し又は変更するものでもない。
３　むすび
　以上のとおりであるから、上記訂正は、特許法第１２０条の４第３項において準用する平成６年法律第１１６号による改正前の特許法第１２６条第１項ただし書、第２項及び第３項の規定に適合するので、当該訂正を認める。
第３　特許異議の申立てについての判断
１　本件特許発明
　上記のように本件については訂正が認められており、本件特許発明は、第２の１（２）に示す訂正後の請求項１に記載されたとおりのものである。
　以下、特許時の請求項１〜３に係る発明を単に、それぞれ「特許発明１〜３」と言い、訂正請求による請求項１に係る発明を単に、「訂正発明１」と言う。
２　特許異議申立ての概要
　特許異議申立人粟井良吉は、甲第１号証として特開平３−５２２２６号公報を、甲第２号証として特開平４−１５７７５６号公報を、甲第３号証として特開平２−１３９１６５号公報を提出して、特許発明１〜３は、甲第１〜３号証に記載の発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであり、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないものであるから、特許法第１１３条第１項第２号の規定により取り消すべきものであると主張している。　
　また、特許異議申立人松原いづみは、甲第１号証として特開平６−８０２１２号公報を、甲第２号証として特開平３−５２２２６号公報を、甲第３号証として特開平３−２８８５８４号公報を、また、参考資料として特開昭６１−１８２７３９号公報を提出して、特許発明１は、甲第１号証に記載された発明と同一であるから、特許法第２９条の２の規定により特許を受けることができないものであり、特許発明２は、甲第２号証に記載された発明であるから、特許法第２９条第１項第３号の規定により特許を受けることができないものであり、また、特許発明１〜２は、甲第２〜３号証に記載の発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであり、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないものであるから、特許法第１１３条第１項第２号の規定により取り消すべきものであると主張している。　
　なお、特許異議申立人粟井良吉の提出した甲第１号証と、特許異議申立人松原いづみの提出した甲第２号証とは、同一の刊行物である。
３　取消理由及び当審の判断
　上記訂正により特許発明１〜２は削除されたので、特許発明３に対する当審の平成１３年１２月２７日付取消理由により訂正された訂正発明１について検討すると、当審の平成１３年１２月２７日付取消理由は、特許発明３の記載不備をその理由とするものであるが、訂正請求により特許発明３を訂正発明１に訂正することにより、同取消理由は、解消した。そして、訂正発明１の構成要件である「前記一対の保持アームと前記被処理体の受け渡しを行うための第１の位置と外部搬送手段と前記被処理体の受け渡しを行うための前記第１の位置とほぼ同一の垂直線上に設定された第２の位置との間で前記被処理体ステージを昇降移動させるステージ昇降手段と、前記第２の位置から前記第１の位置への前記被処理体ステージの昇降移動を所定位置で規制して前記被処理体ステージを前記第１の位置に位置決めする位置決め手段とを具備する」構成は、特許異議申立人粟井良吉の提出した甲第１〜３号証、及び特許異議申立人松原いづみの提出した、甲第１〜３号証及び参考資料には記載されていないから、特許法第２９条の２の規定に違反しているとも、若しくは特許法第２９条第１項第３号の規定又は同第２９条第２項の規定に違反しているともすることはできない。
第４　むすび
　以上のとおりであるから、特許異議の申立ての理由及び証拠によっては、訂正発明１の本件請求項１に係る特許を取り消すことはできない。
　また、他に、本件請求項１に係る特許を取り消すべき理由を発見しない。
　よって、結論のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１４年１月３１日（２００２．１．３１）
【訂正の要旨】
　訂正の要旨
１　訂正事項ａ
　発明の名称を、「反転装置」と訂正する。
２　訂正事項ｂ
　特許明細書の特許請求の範囲請求項１〜３に係る記載
　「【請求項１】板状の被処理体の片面を洗浄する洗浄手段と、
　前記洗浄手段が設けられた第１のユニットと、
　その表面と裏面が互いに入れ替わるように前記被処理体を反転させる反転専用の反転手段と、
　前記反転手段が設けられた第２のユニットと、
　前記第１および第２のユニット間で前記被処理体を反転せずに搬送する搬送手段とを具備し、
　前記第１および第２のユニットにおける前記被処理体の搬入出が各々独立して行われるように構成したことを特徴とする洗浄処理装置。
　【請求項２】互いに背中合わせの第１および第２の面を有する板状の被処理体を所定の位置で支持しながらその片面を洗浄する洗浄手段と、
　前記洗浄手段が設けられた第１のユニットと、
　前記第１および第２の面が互いに入れ替わるように前記被処理体を反転させる反転手段と、
　前記反転手段が設けられた第２のユニットと、
　前記第１および第２のユニット間で前記搬送体を搬送する搬送手段とを具備し、
　前記第１のユニットで前記洗浄手段により前記被処理体の第１の面を洗浄し、洗浄された前記被処理体を前記搬送手段により前記第１のユニットから前記第２のユニットへ搬送し、前記第２のユニットに搬入された前記被処理体を前記反転手段により反転させ、反転した前記被処理体を前記搬送手段により前記第２のユニットから前記第１のユニットへ搬送し、前記第１のユニットに搬入された前記被処理体の第２の面を前記洗浄手段により洗浄することを特徴とする洗浄処理装置。
　【請求項３】板状の被処理体をその背中合わせの第１および第２の面が互いに入れ替わるように反転させる反転装置であって、
　前記被処理体の周縁部を少なくとも２箇所で保持できるように構成された一対の保持アームと、
　前記一対の保持アームを開閉可能に支持するアーム支持手段と、
　前記一対の保持アームを水平に支持する水平軸を有し、前記水平軸まわりに前記一対の保持アームを所定の角度だけ回転駆動して反転させる固定設置された反転駆動手段と、
　前記一対の保持アームとの間で前記被処理体を受け渡し可能に前記被処理体を水平に支持するための被処理体支持部を有する昇降移動可能な被処理体ステージと、
　前記一対の保持アームと前記被処理体の受け渡しを行うための第１の位置と外部搬送手段と前記被処理体の受け渡しを行うための前記第１の位置とほぼ同一の垂直線上に設定された第２の位置との間で前記被処理体ステージを昇降移動させるステージ昇降手段と、
　前記第２の位置から前記第１の位置への前記被処理体ステージの昇降移動を所定位置で規制して前記被処理体ステージを前記第１の位置に位置決めする位置決め手段とを具備することを特徴とする反転装置。」を、
　「【請求項１】板状の被処理体をその背中合わせの第１および第２の面が互いに入れ替わるように反転させる反転装置であって、
　前記被処理体の周縁部を少なくとも２箇所で保持できるように構成された一対の保持アームと、
　前記一対の保持アームを開閉可能に支持するアーム支持手段と、
　前記一対の保持アームを水平に支持する水平軸を有し、前記水平軸まわりに前記一対の保持アームを所定の角度だけ回転駆動して反転させる固定設置された反転駆動手段と、
　前記一対の保持アームとの間で前記被処理体を受け渡し可能に前記被処理体を水平に支持するための被処理体支持部を有する昇降移動可能な被処理体ステージと、
　前記一対の保持アームと前記被処理体の受け渡しを行うための第１の位置と外部搬送手段と前記被処理体の受け渡しを行うための前記第１の位置の真上または真下に設定された第２の位置との間で前記被処理体ステージを昇降移動させるステージ昇降手段と、
　前記第２の位置から前記第１の位置への前記被処理体ステージの昇降移動を所定位置で規制して前記被処理体ステージを前記第１の位置に位置決めする位置決め手段と
を具備することを特徴とする反転装置。」
と訂正する。
　上記請求項１〜３の訂正個所は、次のとおりである。
（１）　訂正個所１
　特許明細書における特許請求の範囲の請求項１を削除する。
（２）　訂正個所２
　特許明細書における特許請求の範囲の請求項２を削除する。
（３）　訂正個所３
　特許明細書における特許請求の範囲の【請求項３】を【請求項１】と繰り上げ、特許明細書における特許請求の範囲の請求項３の「前記第１の位置とほぼ同一の垂直線上に設定された第２の位置」を、「前記第１の位置の真上または真下に設定された第２の位置」と訂正する。
３　訂正事項ｃ
　特許明細書の段落【０００１】（特許第３０５２１０５号公報（以下単に「特許公報」という。）第２頁第３欄２６〜２８行）を、「【産業上の利用分野】本発明は、被処理体の表面または裏面から異物やパーティクル等を除去するための洗浄処理装置に用いて好適な反転装置に関する。」と訂正する。
４　訂正事項ｄ
　特許明細書の段落【０００６】（特許公報第２頁第４欄３２〜３７行）を、「本発明の目的は、板状体被処理体の反転操作を簡易な構成で安定確実に行える反転装置を提供することにある。」と訂正する。
５　訂正事項ｅ
　特許明細書の段落【０００７】（特許公報第２頁第４欄３８〜４８行）を、削除する。
６　訂正事項ｆ
　特許明細書の段落【０００８】（特許公報第２頁第４欄４９行〜第３頁第５欄１５行）を、削除する。
７　訂正事項ｇ
　特許明細書の段落【０００９】（特許公報第３頁第５欄１６〜３６行）を、次のように訂正する。
　「【０００９】
　【課題を解決するための手段】
　上記の目的を達成するために、本発明の反転装置は、板状の被処理体をその背中合わせの第１および第２の面が互いに入れ替わるように反転させる反転装置であって、前記被処理体の周縁部を少なくとも２箇所で保持できるように構成された一対の保持アームと、前記一対の保持アームを開閉可能に支持するアーム支持手段と、前記一対の保持アームを水平に支持する水平軸を有し、前記水平軸まわりに前記一対の保持アームを所定の角度だけ回転駆動して反転させる固定設置された反転駆動手段と、前記一対の保持アームとの間で前記被処理体を受け渡し可能に前記被処理体を水平に支持するための被処理体支持部を有する昇降移動可能な被処理体ステージと、前記一対の保持アームと前記被処理体の受け渡しを行うための第１の位置と外部搬送手段と前記被処理体の受け渡しを行うための前記第１の位置の真上または真下に設定された第２の位置との間で前記被処理体ステージを昇降移動させるステージ昇降手段と、前記第２の位置から前記第１の位置への前記被処理体ステージの昇降移動を所定位置で規制して前記被処理体ステージを前記第１の位置に位置決めする位置決め手段とを具備する構成とした。」
８　訂正事項ｈ
　特許明細書の段落【００１０】（特許公報第３頁第５欄３７行〜第６欄２行）を、削除する。
９　訂正事項ｉ
　特許明細書の段落【００２５】６行（特許公報第４頁第８欄５０行）の「５６Ａ」を、「　５６ａ」と訂正する。
１０　訂正事項ｊ
　特許明細書の段落【００３６】３行（特許公報第６頁第１１欄２３行）の「上段室１０」を、「下段室１２」と訂正する。
１１　訂正事項ｋ
　特許明細書の段落【００４１】７行（特許公報第６頁第１２欄４３行）の「Ｗｊ」を、「ＷｈまたはＷｊ」と訂正する。
１２　訂正事項ｌ
　特許明細書の段落【００４１】１３行（特許公報第７頁第１３欄１〜２行）の「Ｗｊ」を、「Ｗｉ」と訂正する。
１３　訂正事項ｍ
　特許明細書の段落【００５５】（特許公報第８頁第１６欄２７〜４２行）を、次のように訂正する。
　「【００５５】
　【発明の効果】
　以上説明したように、本発明の反転装置によれば、板状の被処理体を反転させるための開閉可能かつ水平軸まわりに回転可能な一対の保持アームを固定位置で動作させるとともに、被処理体ステージを該保持アームと被処理体の受け渡しを行うための第１の位置と外部搬送手段と被処理体の受け渡しを行うための第２の位置との間で昇降移動させるようにし、第１の位置では被処理体ステージを正確に位置決めして正確な受け渡しを可能としたので、簡易な装置構成でもって安定確実に被処理体反転操作を行うことができる。」
（５４）【発明の名称】
反転
（５７）【特許請求の範囲】
　【請求項１】　板状の被処理体をその背中合わせの第１および第２の面が互いに入れ替わるように反転させる反転装置であって、
　前記被処理体の周縁部を少なくとも２箇所で保持できるように構成された一対の保持アームと、
　前記一対の保持アームを開閉可能に支持するアーム支持手段と、
　前記一対の保持アームを水平に支持する水平軸を有し、前記水平軸まわりに前記一対の保持アームを所定の角度だけ回転駆動して反転させる固定設置された反転駆動手段と、
　前記一対の保持アームとの間で前記被処理体を受け渡し可能に前記被処理体を水平に支持するための被処理体支持部を有する昇降移動可能な被処理体ステージと、
　前記一対の保持アームと前記被処理体の受け渡しを行うための第１の位置と外部搬送手段と前記被処理体の受け渡しを行うための前記第１の位置
の真上または真下に
　前記第２の位置から前記第１の位置への前記被処理体ステージの昇降移動を所定位置で規制して前記被処理体ステージを前記第１の位置に位置決めする位置決め手段と
を具備することを特徴とする反転装置。
【発明の詳細な説明】
　【０００１】
　【産業上の利用分野】
　本発明は、被処理体の表面または裏面から異物やパーティクル等を除去するための洗浄処理
装置に用いて好適な反転
　【０００２】
　【従来の技術】
　半導体デバイス製造においては、被処理体（半導体ウエハ、ＬＣＤ基板等）の表面が清浄化された状態にあることを前提として各微細加工が行われる。したがって、各加工処理に先立ちまたは各加工処理の合間に被処理体表面の洗浄が行われ、たとえばフォトリソグラフィー工程では、レジスト塗布に先立って被処理体の表面がスクラバと称される洗浄装置でスクラビング（ブラシ洗浄）される。また、被処理体の裏面に塵芥等の異物が付着していると露光の際に被処理体が傾いて良好なパターンが形成されなくなるため、被処理体の表面だけでなく裏面もスクラビングされるのが通例となっている。
　【０００３】
　従来から、スクラバには、被処理体の片面のみをスクラビングする片面スクラバと、被処理体の両面を同時にスクラビングする両面スクラバの２種類の型がある。一般に、片面スクラバは、被処理体をスピンチャックで支持して回転させながら、被処理体の上面にブラシをこすり合わせ、洗浄液で汚染を流しとるような機構になっている。両面スクラバは、被処理体の上面だけでなく下面にもブラシをこすり合わせて、両面の汚染を流しとるような機構になっている。
　【０００４】
　【発明が解決しようとする課題】
　従来、片面スクラバは被処理体の表面のみを洗浄する工程にしか使われておらず、上記したリソグラフィー工程のように被処理体の表面だけでなく裏面も洗浄する場合には両面スクラバが使われていた。しかし、両面スクラバは、被処理体を回転支持しながら被処理体の両面にブラシを当て洗浄水を供給するような機構を採るため、装置構成が非常に複雑で、装置価格も非常に高くつく欠点がある。
　【０００５】
　このような両方式の問題を解決するために、スピンチャック等から構成される洗浄部の付近に被処理体の面を反転するアームを設け、被処理体の表面と裏面を選択的または交互にスクラビングできるようにした片面洗浄・両面洗浄兼用型のスクラバが開発されている。この兼用型のスクラバでは、半導体ウエハ（被処理体）の表面に対するスクラビングが終了すると、該アームがウエハを把持していったんスピンチャックから離し、所定位置でウエハの上下面を反転し、次にウエハの裏面を上面にしてスピンチャックに載せるようになっており、これにより、１本のブラシでウエハの裏面もスクラビングできるようになっている。また、該アームにはオリフラ合わせ機構が搭載され、ウエハがアームに支持された状態でオリフラ合わせが行われるようになっている。しかし、この兼用型のスクラバでは、１つのアームがウエハの搬出入、反転操作およびオリフラ合わせの３つの機能を兼ねるため、アーム機構が大型化・複雑化し、結果的に装置コストもそれ程下がらなかった。また、片面をスクラビングした後に、反転とオリフラ合わせを行ってからでないと、他方の面のスクラビングに移れないため、洗浄処理のスループットが上がらないという問題があった。
　【０００６】
　本発明
の目的
　【０００９】
　【課題を解決するための手段】
　上記の目的を達成するために、本発明の反転装置は、板状の被処理体をその背中合わせの第１および第２の面が互いに入れ替わるように反転させる反転装置であって、前記被処理体の周縁部を少なくとも２箇所で保持できるように構成された一対の保持アームと、前記一対の保持アームを開閉可能に支持するアーム支持手段と、前記一対の保持アームを水平に支持する水平軸を有し、前記水平軸まわりに前記一対の保持アームを所定の角度だけ回転駆動して反転させる固定設置された反転駆動手段と、前記一対の保持アームとの間で前記被処理体を受け渡し可能に前記被処理体を水平に支持するための被処理体支持部を有する昇降移動可能な被処理体ステージと、前記一対の保持アームと前記被処理体の受け渡しを行うための第１の位置と外部搬送手段と前記被処理体の受け渡しを行うための前記第１の位置
の真上または真下に
　【００１１】
　本発明の反転装置では、外部の搬送手段より装置内に搬入された被処理体は、たとえば第１の面を上に向けた水平姿勢で被処理体ステージに移され、被処理体ステージの被処理体支持部に水平に支持される。次に、ステージ昇降手段が被処理体ステージを上昇または下降させて一対の保持アーム付近に設定された第１の位置まで移動させる。この際、位置決め手段の働きにより、被処理体ステージの昇降移動が所定位置で規制され、被処理体ステージが第１の位置に正確に位置決めされる。そこでは、一対の保持アームが開いた状態で待機しており、被処理体ステージが到着した後にアーム開閉駆動手段の駆動によってそれらの保持アームが閉じて、被処理体ステージ上の被処理体の周縁部を両側から安定確実に保持する。次に、被処理体ステージが第１の位置から退避した後、反転駆動手段が作動して水平軸まわりにそれら一対の保持アームを所定の角度たとえば１８０°反転させる。これにより、被処理体は第２の面が上を向いた姿勢となる。次いで、ステージ昇降手段が再び第１の位置まで移動してきてそこに位置決めされ、両保持アームが開くと、被処理体は両保持アームから被処理体ステージに移載される。しかる後、被処理体ステージが第２の位置へ移動され、そこで被処理体が外部搬送手段に移載される。
　【００１２】
　【実施例】
　以下、添付図を参照して本発明の実施例を説明する。
　図１３に、本発明の一実施例による洗浄処理装置を適用したフォトリソグラフィー工程用の処理システムの構成を示す。
　【００１３】
　この処理システムは、被処理体としての半導体ウエハＷを搬入・搬出するローダ部２００、ウエハＷをスクラビング（ブラシ洗浄）する２台の第１のユニットである洗浄処理ユニット２０２Ａ，２０２Ｂ、ウエハＷの表面を疏水化処理するアドヒージョン処理ユニット２０４、第２のユニットであるウエハＷの上下面を反転する反転ユニット２０６、ウエハＷを乾燥させる乾燥処理ユニット２０８、ウエハＷを所定温度に冷却する冷却処理ユニット２１０、ウエハＷの表面にレジストを塗布するレジスト塗布処理ユニット２１２、レジスト塗布の前後でウエハＷを加熱してプリベークまたはポストベークを行う加熱処理ユニット２１４、ウエハＷの周縁部のレジストを除去するレジスト除去処理ユニット２１６等を一体的に集合化したものである。
　【００１４】
　システムの中央部には、長手方向に廊下状のウエハ搬送路２１８が設けられている。各ユニット２００〜２１６はウエハ搬送路２１８に各々の正面を向けて配設されている。搬送手段であるウエハ搬送体２２０は、各ユニット２００〜２１６とウエハＷの受け渡しを行うためにウエハ搬送路２１８上を移動するようになっている。
　【００１５】
　ローダ部２００より搬入されたウエハＷは、洗浄処理ユニット２０２Ａ，２０２Ｂで表面および裏面を清浄にスクラビングされ、アドヒージョン処理装置２０４で疏水化処理を施されてから、レジスト塗布処理装置２１２でレジスト処理を受ける。そして、それらの主立った処理の前後または合間に、ウエハＷは、反転ユニット２０６、乾燥処理ユニット２０８、冷却処理ユニット２１０、加熱処理ユニット２１４、レジスト除去処理ユニット２１６で所要の付随的操作または処理を施される。
　【００１６】
　以下、図１〜図８につき本実施例の処理システムにおける洗浄処理部の構成および動作を説明する。
　【００１７】
　図１〜図４は反転ユニット２０６の内部の具体的構成例を示す図であって、図１は側面図、図２は正面図、図３は図１のＡ−Ａ線についての平面図、図４は部分背面図である。
　【００１８】
　図１および図２に示すように、反転ユニット２０６には上下２段の室１０，１２が設けられている。下段の室１２において、内奥に設置された支持板１４の上に反転駆動部１６が設けられている。
　【００１９】
　図１、図３および図４に示すように、この反転駆動部１６は、駆動モータ１８と、モータ駆動軸１８ａに固着された駆動プーリ２０と、アーム回転軸２８に固着されたプーリ２４と、両プーリ２０，２４を連結するベルト２６とから構成されている。アーム回転軸２８は、軸受３０を介して反転駆動部１６内の支持ブロック３１に回転可能に支持されている。アーム回転軸２８の先端部にはボルト３３を介してアーム開閉駆動部３２が取付されている。
　【００２０】
　図１、図２および図３に示すように、アーム開閉駆動部３２は、一対の半円形のウエハ把持アーム３４Ａ，３４Ｂの基端部にそれぞれ固着されたアーム支持体３６Ａ，３６Ｂと、アーム支持体３６Ａ，３６Ｂを水平方向で移動可能に支持するガイド棒３８と、アーム支持体３６Ａ，３６Ｂを介して両アーム３４Ａ，３４Ｂを開閉駆動するシリンダ４０とを有している。図２に明示するように、アーム支持体３６Ａ，３６Ｂは、水平ガイド棒３８と平行に取付された一対のプーリ４２Ａ，４２Ｂ間に掛け渡されたベルト４４の上側部と下側部とにそれぞれ固着され、シリンダ４０のピストンロッド４０ａの先端部は一方のアーム支持体３６Ａに固着されている。
　【００２１】
　図２の状態では、アーム支持体３６Ａ，３６Ｂが互いに近接しており、両アーム３４Ａ，３４Ｂは閉じている。この状態から、シリンダ４０の駆動力でピストンロッド４０ａが前進すると、アーム支持体３６Ａは一方のプーリ４２Ａ側へ移動する。そうすると、ベルト４４が矢印Ｆの方向に循環移動することにより、他方のアーム支持体３６Ｂは他方のプーリ４２Ｂ側へ移動する。このように両アーム支持体３６Ａ，３６Ｂは互いに離間する方向へ移動すると、両ウエハ把持アーム３４Ａ，３４Ｂも互いに離間して開く。ピストンロッド４０ａが後退すると、逆の動作が行われ、両アーム支持体３６Ａ，３６Ｂは互いに接近する方向へ移動し、両ウエハ把持アーム３４Ａ，３４Ｂは互いに接近して閉じる。ここで、両ウエハ把持アーム３４Ａ，３４Ｂが閉じるとはウエハＷを周縁部両側から把持できる程に閉じた状態であり、両ウエハ把持アーム３４Ａ，３４Ｂが開くとはウエハＷを離脱させる程に開いた状態である。
　【００２２】
　反転駆動部１６において駆動モータ１８が作動してアーム回転軸２８を任意の角度だけ回転させると、アーム回転軸２８と一体にアーム開閉駆動部３２およびウエハ把持アーム３４Ａ，３４Ｂが回転するようになっている。図２に示されるように、アーム開閉駆動部３２の両側面には一対のシャッタ板４６Ａ，４６Ｂが取付されるとともに、支持板１４に垂直に立てられたフランジ板４８の上端部に遮光型の光センサ５０が取付され、シャッタ板４６Ｂが光センサ５０を遮光している。この静止状態から反転動作が行われるときは、アーム開閉駆動部３２が１８０°回転（反転）したところで、シャッタ板４６Ａが光センサ５０を遮光するので、その遮光のタイミングで回転が止まり位置決めされるようになっている。
　【００２３】
　上記のように、ウエハ把持アーム３４Ａ，３４Ｂは、室１２の所定位置で、反転駆動部１６およびアーム開閉駆動部３２によって、１８０°回転（反転）動作と開閉動作を行うようになっている。
　【００２４】
　ウエハ把持アーム３４Ａ，３４Ｂの真下で下段室１２の底部には、ウエハＷのオリフラ合わせを行うためのスピンチャック５２が設けられている。このスピンチャック５２は、チャック本体５４に内蔵された駆動モータ（図示せず）によって所定の速度で回転するように構成されている。図１および図３に示すように、室１２の前上部および下部の所定位置に、オリフラ合わせ用の光センサを構成する発光部５３および受光部５５が互いに対向して配置されている。後述するように、オリフラ合わせば、スピンチャック５２がウエハＷを載せて回転し、受光部５５が発光部５３からの光をモニタすることによって行われる。
　【００２５】
　ウエハ把持アーム３４Ａ，３４Ｂとスピンチャック５２との間には、板状のウエハ支持台５６が垂直方向に移動可能に設けられている。図３に示すように、このウエハ支持台５６は、中央部から１２０°間隔で３方へそれぞれ延びた３つの板片部からなり、各板片部の先端部にはウエハＷの周縁部を担持するための支持ピン５８が立設されている。また、ウエハ支持台５６の中央部には、スピンチャック５２が通過できるように中心開口
５６ａ
　【００２６】
　図３および図４に示すように、この昇降駆動部６４は、支持アーム６０Ａ，６０Ｂの基端部に固着されているブロック６６と、このブロック６６を垂直方向に案内するためのガイド６８と、ピストンロッド７０ａの先端部がブロック６６に固着されているシリンダ７０とから構成されている。図１および図３に示すように、カバー６２には、両支持アーム６０Ａ，６０Ｂをそれぞれ通すための一対の縦溝６２ａ，６２ｂが形成されている。
　【００２７】
　シリンダ７０が作動してピストンロッド７０ａが前進すると、ブロック６６がカイド６８に沿って下降し、ブロック６６と一体に支持アーム６０Ａ，６０Ｂおよびウエハ支持台５６も下降する。ピストンロッド７０ａが後退すると、ブロック６６がカイド６８に沿って上昇し、ブロック６６と一体に支持アーム６０Ａ，６０Ｂおよびウエハ支持台５６も上昇する。このような昇降駆動部６４の昇降駆動によって、ウエハ支持台５６は、ウエハ把持アーム３４Ａ，３４ＢとウエハＷの受け渡しを行うための第１の位置と、反転ユニット２０６のウエハ搬送体２２０とウエハＷの受け渡しを行うための第２の位置（第１の位置と第３の位置との間の位置）と、ウエハＷの反転動作を可能とするため、またはスピンチャック５２とウエハＷの受け渡しを行うための第３の位置との間で昇降移動するようになっている。なお、ブロック６６の頭上にはショック・アブソーバからなるストッパ７２が配設されており、ブロック６６がこのストッパ７２に当接するまで上昇することで、ウエハ支持台５６が迅速かつ正確に第１の位置に位置決めされるようになっている。
　【００２８】
　上段室１０には、スピンチャック５２等のオリフラ合わせ機構が設けられていない点を除いて、上記した下段室１２内の各部つまりウエハ把持アーム３４Ａ，３４Ｂ、反転駆動部１６、ウエハ開閉機構３２、ウエハ支持台５６等と同様の構成・機能を有するウエハ把持アーム３４Ａ’，３４Ｂ’、反転駆動部１６’、ウエハ開閉機構３２’、ウエハ支持台５６’等が設けられている。ウエハ支持台５６’は、ウエハ把持アーム３４Ａ’，３４Ｂ’とウエハＷの受け渡しを行うための実線で示す第１の位置と、ウエハ搬送体２２０とウエハＷの受け渡しを行うための第２の位置（第１の位置と第３の位置との間の位置）と、ウエハＷの反転動作を可能とするための点線で示す第３の位置との間で昇降移動するように構成されている。このように、上段室１０では、ウエハ反転動作だけが行われるようになっている。
　【００２９】
　次に、図５〜図７につき反転ユニット２０６における一連の動作を洗浄処理ユニット２０２Ａ，２０２Ｂにおける洗浄処理動作と関連させて説明する。
　【００３０】
　図５に示すように、下段室１２においては、室上部の所定位置に矢印Ｇで示すように開閉可能で、かつ矢印Ｈで示すように反転可能に構成されたウエハ把持アーム３４Ａ，３４Ｂが設けられ、室底部の所定位置にウエハＷ（図示せず）を支持した状態で矢印Ｊで示すように回転運動を行うように構成されたオリフラ合わせ用のスピンチャック５２が設けられ、室中間部にウエハ把持アーム３４Ａ，３４Ｂとスピンチャック５２との間で矢印Ｋで示すように昇降可能に構成されたウエハ支持台５６が設けられている。
　【００３１】
　第１の洗浄処理ユニット２０２Ａで表面（片面）をスクラビングされたウエハＷｉは、ウエハ搬送体２２０により該洗浄処理ユニット２０２Ａから搬出され、次いで図６の（Ａ）に示すように反転ユニット２０６の下段室１２に搬入され、第２の位置で待機しているウエハ支持台５６に渡される。ウエハ搬送体２２０は、上段および下段の２本のウエハ搬送アーム２２０ａ，２２０ｂを有しており、反転ユニット２０６に入ると、先ずウエハ支持台５６から反転かつオリフラ合わせの済んでいるウエハＷｊを下段のアーム２２０ｂに受け取り、次に洗浄処理ユニット２０２Ａから搬送してきたウエハＷｉをウエハ支持台５６に載置して渡す。この段階で、ウエハＷｉはウエハ表面、たとえばレジスト液が塗布される一方の面が上面になっており、ウエハＷｊはウエハ裏面が上面になっている。
　【００３２】
　ウエハ搬送体２２０よりウエハＷｉを受け取ったウエハ支持台５６は、次に図７の（Ｅ）に示すように、第３の位置まで下降する。この第３の位置では、スピンチャック５２がウエハ支持台５６の中心開口５６ａより上方に臨み、スピンチャック５２のウエハ載置面がウエハ支持台５６の支持ピン５８の上端よりも高くなる。これによって、ウエハＷｉはウエハ支持台５６からスピンチャック５２に移載される。ウエハＷｉを載せたスピンチャック５２は、次にオリフラ合せのため、所定の速度で回転してウエハＷｉを矢印しの方向に回す。一方、発光部５３が真下の受光部５５に向けて光を出射する。この発光部５３からの光ＢＭはウエハＷｉの周縁部で遮光されるのが常であるが、ウエハＷｉのオリフラ面Ｗｉｆの中心部が光線ＢＭに最も接近した位置に来ると、光線ＢＭはオリフラ面Ｗｉｆの中心部の外側を通って受光部５５に入射する。したがって、受光部５５より光検出信号が出力された時、スピンチャック５２が回転を停止することによって、ウエハＷｉの向きが所定の方向に合わせられる。オリフラ合わせが終了すると。ウエハ支持台５６はスピンチャック５２からウエハＷｉを受け取る。
　【００３３】
　次に、図６の（Ｂ）に示すように第１の位置まで上昇し、ウエハ把持アーム３４Ａ，３４ＢにウエハＷｉを渡す。すなわち、ウエハ把持アーム３４Ａ，３４Ｂは開いた状態でウエハ支持台５６が上昇して来るのを待ち、ウエハ支持台５６が第１の位置に位置決めされたなら、矢印Ｇ０で示すように閉じてウエハＷｉの周縁部を把持する。ウエハ支持台５６は、ウエハＷをウエハ把持アーム３４Ａ，３４Ｂに渡した後、第３の位置まで下降する。
　【００３４】
　ウエハＷｉを受け取ったウエハ把持アーム３４Ａ，３４Ｂは、次に図６の（Ｃ）に示すように、アーム回転軸２８を軸として１８０°反転する。この反転動作の結果、ウエハＷｉは、ウエハ表面が下面になり、ウエハ裏面が上面になる。
　【００３５】
　反転動作が終了すると、図７の（Ｄ）に示すように、ウエハ支持台５６が再び第１の位置まで上昇してくる。そうすると、ウエハ把持アーム３４Ａ，３４Ｂは矢印Ｇ１で示すように開いて、ウエハＷｉをウエハ支持台５６に載置して渡す。ウエハＷｉを受け取ったウエハ支持台５６は、第２の位置まで下降し、ウエハＷｉを載せたままウエハ搬送体２２０を待つ。
　【００３６】
　上記のように、反転ユニット２０６の下段室１２内でウエハＷｉの反転およびオリフラ合わせが行われている間、第１の洗浄処理ユニット２０２Ａでは、反転ユニット２０６の
下段室１２
　【００３７】
　第２の洗浄処理ユニット２０２Ｂでウエハ表面を洗浄されたウエハＷｈは、ウエハ搬送体２２０によって、第２の洗浄処理ユニット２０２Ｂから搬出され、次に反転ユニット２０６の下段室１２へ搬入され、図７の（Ｆ）に示すように、第２の位置で待機しているウエハ支持台５６に渡される。図７の（Ｆ）において、先ずウエハ支持台５６から反転かつオリフラ合わせの済んでいるウエハＷｉが下段のアーム２２０ｂに移載され、次に上段のアーム２２０ａからウエハ支持台５６にウエハＷｈが移載される。この段階で、ウエハＷｉはウエハ裏面が上面になっており、ウエハＷｈはウエハ表面が上面になっている。
　【００３８】
　反転ユニット２０６の上段室１０に搬入されたウエハＷｊは、ウエハ搬送体２２０からウエハ支持台５６’に渡された後、ウエハ支持台５６’からウエハ把持アーム３４Ａ’，３４Ｂ’に渡される。次に、ウエハ把持アーム３４Ａ’，３４Ｂ’が反転駆動部１６’の回転駆動によって１８０°反転することにより、ウエハＷｊも上下面が反転し、今度はウエハ表面が上面になる。ウエハ表面が上面になったウエハＷｊは、次にウエハ支持台５６’を介してウエハ搬送体２２０に渡され、アドヒージョン処理ユニット２０４へ移される。
　【００３９】
　ここで、図８に、洗浄処理ユニット２０２Ａ，２０２Ｂの構成例を示す。これらのユニットにおいて、中心部にはスピンチャック８０が設置され、その周囲に洗浄液の飛散を防止するためのカップ８２が設けられている。カップ８２の外側にはスクラビングブラシ部８４が設けられている。このスクラビングブラシ部８４はその先端部に取付されたブラシ（図示せず）が洗浄液槽８６とスピンチャック８０との間を行き来できるように矢印Ｍの方向に回動可能に構成されている。ウエハＷは、スクラビングされるべき面を上面にして、ウエハ搬送体２２０のアームによってスピンチャック８０上に載置される。スピンチャック８０は、ベルヌイチャック方式でウエハＷを固定支持する。洗浄時、スピンチャック８０がウエハＷを載せて所定の速度で回転運動する一方、スクラビングブラシ部８４はブラシをウエハＷの上面にこすり合わせながら矢印Ｍの方向に一定の角度範囲で揺動する。これにより、ウエハＷの上面全部が均等にスクラビングされる。なお、ブラシを矢印Ｎで示すように自転させるように構成することで、洗浄効果を高めることができる。このように、洗浄処理ユニット２０２Ａ，２０２Ｂには、簡易な構成の片面スクラバが内蔵されている。
　【００４０】
　以上のように、本実施例の処理システムでは、各ウエハＷの両面（表面および裏面）をスクラビングするのに、各洗浄処理ユニット２０２Ａ，２０２ＢはウエハＷに対して片面（表面もしくは裏面）のスクラビングしか行わない簡易な構成の片面スクラバを内蔵したものであり、その代わり独立した反転ユニット２０６が併設されている。
　【００４１】
　各ウエハＷｉは、洗浄処理ユニット２０２Ａまたは２０２Ｂでウエハ表面をスクラビングされた後、いったん洗浄処理ユニット２０２Ａまたは２０２Ｂから搬出されて反転ユニット２０６に移され、そこでウエハＷｉの上下面が反転され、合わせてオリフラ合わせも行われる。この間、洗浄処理ユニット２０２Ａ，２０２Ｂでは別のウエハＷｊ，Ｗｈについてそれぞれ片面スクラビングが行われる。そして、これらのウエハＷｊ，Ｗｈに対する片面スクラビングが終了すると、反転ユニット２０６で待機していたウエハＷｉがウエハ
ＷｈまたはＷｊ
Ｗｉ
　【００４２】
　このように、洗浄処理ユニット２０２Ａ，２０２Ｂにおける片面スクラビング動作と反転ユニット２０６の下段室１２における反転・オリフラ合わせ動作および上段室１０における反転動作が並列的に行われることにより、洗浄処理全体のスループットが大幅に改善されている。しかも、各洗浄処理ユニット２０２Ａ，２０２Ｂは簡易で安価な片面スクラバで構成され、反転ユニット２０６も反転・オリフラ合わせ専用の機構で構成されるため、設計・製作が簡単であり、洗浄処理部全体としての装置コストを従来の両面スクラバや兼用型スクラバよりも安価にすることができる。
　【００４３】
　なお、上述した実施例では、２台の洗浄処理ユニット２０２Ａ，２０２Ｂと１台の反転ユニット２０６とを組み合わせて洗浄処理部を構成したが、それぞれのユニットを任意の台数選んで組み合わせることが可能である。また、必要に応じて反転ユニット２０６を上段室（反転専用室）１０だけの構成もしくは下段室（反転およびオリフラ合わせ室）１２だけの構成とすることも可能である。また、被処理体としては、半導体ウエハに限るものではなく、ＬＣＤ基板等の他の板状被処理体でも可能である。また、上述した実施例における洗浄処理ユニット２０２Ａ，２０２Ｂは片面スクラバを内蔵したユニットであったが、スクラバ以外の片面洗浄装置を内蔵した洗浄処理ユニットでも可能である。さらに、上述した実施例では、ウエハ搬送体２２０とウエハ支持台５６との間でのウエハＷの受け渡しを第２の位置で行うように構成したが、ウエハ支持台５６を第１の位置に位置させ、ウエハ把持アーム３４Ａ，３４Ｂが開いた状態でウエハ搬送体２２０をウエハ支持台５６の周囲に移動させ、この第１の位置でウエハＷを受け渡すように構成してもよい。この場合、第２の位置は、たとえば調整やメンテナンス時のマニュアル受け渡しに活用してもよく、無くしてもよい。
　【００４４】
　次に、図９〜図１１につき本実施例の処理システムにおける第２の特徴点について説明する。本実施例の処理システムにおいて、たとえばウエハ搬送体２２０の駆動部にはステッピングモータが用いられる。ステッピングモータの駆動方式にはいろいろあるが、高速回転が必要な用途にはチョッパ方式の定電流駆動方式が多用されている。この方式は、１クロックパルスの期間中に駆動トランジスタを高い周波数でオン・オフ制御（チョッパ制御）することにより、大きな駆動電流でモータ巻線を励磁し、高トルクを得ることができる。しかし、従来のこの種ステッピングモータにおいては、ノイズや熱等によってチョッピング動作が働かなくなると、駆動トランジスタに過電流が流れ続けて、駆動トランジスタが破損することがあった。本実施例のステッピングモータ駆動回路では、そのような過電流を早期に止めて、駆動トランジスタを保護するようにしている。
　【００４５】
　図９に、本実施例によるステッピングモータ駆動回路の構成を示す。この駆動回路は、Ａ相，Ａ−相，Ｂ相，Ｂ−相の巻線（励磁コイル）を有する４相型ステッピングモータ用の駆動回路である。ドライバ９０には、マイクロコンピュータ（図示せず）より励磁方式（２相励磁、１−２相励磁等）を指定する２つの励磁信号ＩＮＡ，ＩＮＢがクロック信号に同期して与えられる。ドライバ９０は、励磁信号ＩＮＡ，ＩＮＢの論理値に応じて所定のシーケンスで各励磁コイルＬＡ，ＬＡ−，ＬＢ，ＬＢ−にチョッピング制御された励磁電流ＩＡ，ＩＡ−，ＩＢ，ＩＢ−を流す。ドライバ９０には、Ａ相，Ａ−相用の抵抗ＲＳＡおよびフライホイール・ダイオードＤＡと、Ｂ相，Ｂ−相用の抵抗ＲＳＢおよびフライホイール・ダイオードＤＢとがそれぞれ外付けで接続されている。以上の構成は、一般に使用されている従来の駆動回路と共通する部分である。
　【００４６】
　本実施例では、外付け抵抗ＲＳＡ，ＲＳＢの一端たとえばアース側がスイッチＳＷを介して接地されるとともに、このスイッチＳＷを制御するスイッチ制御回路９２が設けられている。このスイッチ制御回路９２は、外付け抵抗ＲＳＡ，ＲＳＢに流れる電流を検出するためのダイオード９４Ａ，９４Ｂおよび抵抗９６と、遅延回路を構成する抵抗９８およびコンデンサ１００と、外付け抵抗ＲＳＡ，ＲＳＢに流れる電流に応じてスイッチＳＷを制御するためのトランジスタ１０２と、スイッチＳＷの切替を行うためのリレー１０４と、保護ダイオード１０６とから構成される。
　【００４７】
　図１０に、Ａ相，Ａ−相の励磁コイルＬＡ，ＬＡ−に対する駆動部の回路構成を示す。この駆動部において、比較器１０８，１１０、反転回路１１２、ＡＮＤ回路１１４、ＭＯＳＦＥＴ（駆動トランジスタ）１１６、フライホイール・ダイオード１１８は集積回路としてドライバ９０に内蔵されている。Ｂ相，Ｂ−相の励磁コイルＬＢ，ＬＢ−に対する駆動部もこのＡ相，Ａ−相用駆動部と同一の回路構成であり、位相が異なるだけで、同様の動作が行われる。以下、このＡ相，Ａ−相駆動部について説明する。
　【００４８】
　スイッチＳＷは正常時閉じていて、励磁電流を導通可能な状態になっている。外付け抵抗ＲＳＡの一方の端子はスイッチＳＷを介して接地され、他方の端子はＦＥＴ１１６を介してＡ相励磁コイルＬＡ、フライホイール・ダイオード１１８を介してＡ−相励磁コイルＬＡ−に直列接続されるとともに比較器１０８の反転入力端子に接続される。比較器１０８の非反転入力端子には、基準電圧発生回路Ｅ０より第１の基準電圧Ｖｒｅｆが与えられる。比較器１０８の出力端子は、抵抗Ｒ０およびコンデンサＣ０からなる時定数回路を介して比較器１１０の反転入力端子に接続される。比較器１０８の非反転入力端子には、基準電圧発生回路（図示せず）より第２の基準電圧ＶＭが与えられる。比較器１１０の出力端子は、反転回路１１２を介してＡＮＤ回路１１４の一方の入力端子に接続される。ＡＮＤ回路１１４の他方の入力端子には励磁信号ＩＮＡが与えられる。ＡＮＤ回路１１４の出力端子はＦＥＴ１１６のゲート端子に接続される。
　【００４９】
　次に、図１１の各部の波形図を参照してこのＡ相，Ａ−相駆動部の動作について説明する。あるクロック期間の開始時刻ｔ０で励磁信号ＩＮＡがＨレベルになると（図１１の（Ａ））、ＡＮＤ回路１１４の出力端子がＬレベルとなり、ＦＥＴ１１６がオンになる。これによって、励磁コイルＬＡに励磁電流ＩＡが流れ始める（図１１の（Ｇ））。この励磁電流ＩＡが立ち上がるにつれて、抵抗ＲＳＡの電流検出端子ＮＡに得られる電圧ＶＲＳが上昇する（図１１の（Ｂ））。
　【００５０】
　そして、時刻ｔ１で、この電圧ＶＲＳが第１の基準電圧Ｖｒｅｆに達すると、比較器１０８の出力電圧ＶｔｄがＨレベル（ＶＢ）からＬレベル（０）に反転する（図１１の（Ｃ））。そうすると、比較器１１０の出力電圧がＬレベルからＨレベルに反転し、反転回路１１２の出力電圧ＶＧがＨレベルからＬレベルに反転し（図１１の（Ｄ））、これによりＡＮＤ回路１１４の出力電圧がＬレベルになってＦＥＴ１１６がオフになり、励磁電流ＩＡが止まる（図１１の（Ｇ））。
　【００５１】
　ＦＥＴ１１６がオフになると、励磁コイルＬＡ−に逆起電力が発生し、この逆起電力によってアース側から抵抗ＲＳＡ、フライホイール・ダイオード１１８を介して励磁コイルＬＡ−に励磁電流ＩＡ−が流れる（図１１の（Ｈ））。これにより、電流検出端子ＮＡの電流検出電圧ＶＲＳは第１の基準電圧Ｖｒｅｆから負電圧まで急激に立ち下がる。一方、比較器１０８の出力電圧Ｖｔｄは、時刻ｔ１でＬレベル（０）に立ち下がった後、コンデンサＣ０の充電にしたがって次第に上昇する（図１１の（Ｃ））。そして、時刻ｔ２でこの電圧Ｖｔｄが第２の基準電圧ＶＭを越えると、比較器１１０、反転回路１１２およびＡＮＤ回路１１４の各出力電圧が反転し（図１１の（Ｄ））、ＦＥＴ１１６がオンする。ＦＥＴ１１６がオンすることによって、Ａ相側に励磁電流ＩＡが流れ始めると同時に（図１１の（Ｇ））、Ａ−相側の励磁電流ＩＡ−が止まる（図１１の（Ｈ））。
　【００５２】
　時刻ｔ２でＡ相側の励磁電流ＩＡが流れ始めると、電流検出端子ＮＡの電流検出電圧ＶＲＳは正の電圧まで急激に立ち上がり（図１１の（Ｂ））、励磁電流ＩＡの増大とともに電流検出電圧ＶＲＳも上昇する。そして、時刻ｔ３で、電流検出電圧ＶＲＳが第１の基準電圧Ｖｒｅｆに達すると、再び比較器１０８の出力電圧ＶｔｄがＨレベル（ＶＢ）からＬレベル（０）に反転し（図１１の（Ｃ））、以後、上記と同様な動作が繰り返される。
　【００５３】
　このように、１クロックパルスの期間中にＦＥＴ１１６が所定の周波数でオン・オフ制御（チョッパ制御）されることによって、励磁コイルＬＡ，ＬＡ−に一定の励磁電流ＩＡ，ＩＡ−が流される。このチョッパ制御は駆動部内の発振回路によって行われるのであるが、ノイズや熱等によって発振しなくなることがある。その場合、ＦＥＴ１１６がオンし続けると、図１２に示すように、励磁電流ＩＡは流れ続け、電流検出電圧ＶＲＳが上昇し続ける。しかし、本実施例の駆動回路では、電流検出電圧ＶＲＳが所定の上限電圧Ｖｕｐに達すると、スイッチ制御回路９２のダイオード９４Ａを通してオン動作に十分な電流が流れてトランジスタ１０２がオンしてリレー１０４を作動させ、スイッチＳＷを開状態に切り替え、励磁電流ＩＡを遮断可能にする。これによって、ＦＥＴ１１６に過電流が流れ続けることがなく、ＦＥＴ１１６の破損が防止される。なお、この駆動回路は、反転ユニット２０６の駆動モータ１８やチャック本体５４に内蔵された駆動モータとしてステッピングモータを使用した場合にも適用できる。
　【００５４】
　以上、定電流チョッパ方式のステッピングモータに係る実施例について述べたが、本発明は他の方式のステッピングモータにも適用可能である。
　【００５５】
　【発明の効果】
　以上説明したよう
に、本発明
【図面の簡単な説明】
　【図１】
　本発明の一実施例における反転ユニットの構成を示す側面図である。
　【図２】
　実施例における反転ユニットの構成を示す一部断面正面図である。
　【図３】
　図１のＡ−Ａ線についての平面図である。
　【図４】
　実施例における反転ユニットの下段室内の構成を示す背面図である。
　【図５】
　実施例における反転ユニットの下段室内の要部の配置構成を示す略斜視図である。
　【図６】
　実施例における反転ユニットの下段室内でのウエハの移載および反転動作を説明するための図である。
　【図７】
　実施例における反転ユニットの下段室内でのウエハのオリフラ合わせおよび移載動作を説明するための図である。
　【図８】
　実施例における洗浄処理ユニットの構成を示す平面図である。
　【図９】
　本発明の一実施例によるステッピングモータ駆動回路の構成を示すブロック回路図である。
　【図１０】
　実施例における駆動回路のＡ相，Ａ−相駆動部の構成を示す回路図である。
　【図１１】
　図１０の駆動部の正常時の動作を説明するための各部の電圧および電流の波形図である。
　【図１２】
　図１０の駆動部の異常時の動作を説明するための電流検出電圧および励磁電流の波形図である。
　【図１３】
　本発明の一実施例による洗浄処理装置を適用したフォトリソグラフィー工程用の処理システムの構成を示す斜視図である。
　【符号の説明】
　１０　　上段室
　１２　　下段室
　１６　　反転駆動部
　２８　　アーム回転軸
　３２　　開閉駆動機構
　３４Ａ，３４Ｂ　　ウエハ把持アーム
　５２　　スピンチャック
　５６　　ウエハ支持台