【事件の表示】
　上記当事者間の特許第４７３２１８１号発明「タブ端子の製造方法およびその方法により得られるタブ端子」の特許無効審判事件について、次のとおり審決する。
【結　論】
　平成３０年４月１０日付け訂正請求において、特許第４７３２１８１号の特許請求の範囲を訂正請求書に添付された訂正特許請求の範囲のとおり、訂正後の請求項〔１０−１４〕について訂正することを認める。
　特許第４７３２１８１号の請求項１ないし４、９に係る発明についての特許を無効とする。
　特許第４７３２１８１号の請求項１０、１２ないし１４に係る発明についての審判の請求は、成り立たない。
　特許第４７３２１８１号の請求項１１についての審判の請求を却下する。
　審判費用は、その１０分の５を請求人の負担とし、１０分の５を被請求人の負担とする。
【理　由】
第１　手続の経緯
　本件特許第４７３２１８１号に係る発明についての出願は、平成１８年２月１５日の出願であって、平成２３年４月２８日にその発明について特許権の設定登録がなされた。
　以後の本件に係る手続の概要は、以下のとおりである。
　　平成２８年　９月１６日　本件無効審判の請求
　　　　　同年１１月　８日　手続補正書（方式）（請求人）
　　平成２９年　１月１３日　審判事件答弁書
　　　　　同年　１月１３日　訂正請求書
　　　　　同年　１月２６日　手続補正書（方式）（被請求人）
　　　　　同年　３月　６日　審判事件弁駁書
　　　　　同年　４月　７日　訂正拒絶理由通知書・職権審理結果通知書
　　　　　同年　５月１１日　意見書（被請求人）
　　　　　同年　５月１１日　手続補正書
　　　　　　　　　　　　　（被請求人、補正の対象は訂正請求書）
　　　　　同年　５月１６日　上申書（請求人）
　　　　　同年　７月　４日　審理事項通知書
　　　　　同年　９月　６日　口頭審理陳述要領書（請求人）
　　　　　同年　９月　６日　口頭審理陳述要領書（被請求人）
　　　　　同年　９月１９日　手続補正書
　　　　　　　　　　　　　（請求人、補正の対象は口頭審理陳述要領書）
　　　　　同年　９月２７日　口頭審理
　　　　　同年１０月１１日　上申書（請求人）
　　　　　同年１０月２５日　上申書（被請求人）
　　平成３０年　２月　５日　審決の予告
　　　　　同年　４月１０日　意見書（被請求人）
　　　　　同年　４月１０日　訂正請求書
　　　　　同年　５月１７日　手続補正書（方式）（被請求人）
　　　　　同年　８月　２日　審判事件弁駁書
　　　　　同年１０月１８日　訂正拒絶理由通知書・職権審理結果通知書
第２　当事者の主張
１　請求人
（１）請求の趣旨及び無効理由について
　請求人は、審判請求書において、「特許第４７３２１８１号の請求項１乃至４、９乃至１４に係る特許を無効とする、審判費用は被請求人の負担とする」との審決を求め、請求人が主張する無効理由は、概略、以下のとおりのものである。なお、「１−１」「１−２」等の無効理由の番号は当審で付与したものである。
ア　無効理由１−１
　本件発明１ないし４、９ないし１１、１３は、甲第１号証に記載された発明であるから、特許法第２９条第１項第３号に該当し特許を受けることができない。（審判請求書の「７（１）（１−１）」及び「７（４）（４−３）」）
イ　無効理由１−２
　本件発明１ないし４、９ないし１１、１３は、甲第１号証に記載された発明、又は、それらに加えて本件特許出願時における技術常識に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。（審判請求書の「７（１）（１−１）」及び「７（４）（４−４）」）
ウ　無効理由２
　本件特許の発明の詳細な説明の記載は、本件発明１０ないし１４について、特許法第３６条第４項第１号に規定する要件を満たしていない。（審判請求書の「７（１）（１−２）」及び「７（４）（４−５）」）
エ　無効理由３
　本件特許の特許請求の範囲の請求項１０ないし１４の記載は、特許法第３６条第６項第１号に規定された要件を満たしていない。（審判請求書の「７（１）（１−３）」及び「７（４）（４−６）」）
オ　無効理由４
　本件特許の特許請求の範囲の請求項２、１０ないし１２、及び１４の記載は、特許法第３６条第６項第２号に規定された要件を満たしていない。（審判請求書の「７（１）（１−４）」及び「７（４）（４−７）」）
（２）訂正請求について
　請求人は、平成３０年８月２日付け審判事件弁駁書において、平成３０年４月１０日付けの訂正請求について、請求項１ないし９からなる一群の請求項に係る訂正に含まれる訂正事項１は、平成２９年５月１１日付け手続補正書による補正後の平成２９年１月１３日付けの訂正請求における訂正事項１と同じ内容であり、審決の予告に記載されているとおり、願書に添付した明細書、特許請求の範囲又は図面に記載した事項の範囲内のものであるとはいえないから、請求項１ないし９からなる一群の請求項に係る訂正は認められないと主張する。なお、平成３０年１０月１８日付け職権審理結果通知書によって、同日付けの訂正拒絶理由に対する意見を求めたが、請求人から意見書は提出されなかった。
　また、請求人は、平成２９年３月６日付け審判事件弁駁書、口頭審理陳述要領書、平成２９年１０月１１日付け上申書、及び、平成３０年８月２日付け審判事件弁駁書における主張を総合すると、仮に平成３０年４月１０日付けの訂正請求に係る訂正が認められたとしても、訂正後の請求項１ないし４、９ないし１０、１２ないし１４については、上記（１）のとおりの無効理由を依然として有すると主張する。
　さらに、請求人は、平成２９年１０月１１日付け上申書の「（７−３）」及び平成３０年８月２日付け審判事件弁駁書の「７．１」の「（２）」において、訂正後の請求項１０が訂正前の請求項１２における「ＳｉＯ２換算で２０ｎｍ以上」という発明特定事項を有していることも考慮すると、当該請求項１０を引用する訂正後の請求項１３については、審判請求書において訂正前の請求項１３に対して主張した無効理由に加えて、訂正前の請求項１２についての明確性要件違反（特許法第３６条第６項第２号）と同様の無効理由４が新たに生じた旨を主張する。
（３）請求人が提出した証拠方法
ア　審判請求書に添付した証拠方法
　　甲第１号証：特開２０００−２７７３９８号公報
　　甲第２号証：特開平９−４５５７９号公報
　　甲第３号証：特開平９−２１３５９２号公報
　　甲第４号証：特開平９−１３９３２６号公報
　　甲第５号証：特開２００４−２５３３１１号公報
　　甲第６号証：特開２０００−１４４４４５号公報
　　甲第７号証：化学大辞典９　縮刷版　第８０７頁
　　甲第８号証：特開平１１−３１４３１１号公報
　　甲第９号証：特開平７−２８６２８５号公報
　　甲第１０号証：理化学辞典　第４版　第５０４頁、第１３８３頁
　　甲第１１号証：特開２００２−１６１３９６号公報
　　甲第１２号証：「アルミ電解コンデンサのリード溶接部におけるＳｎウィスカの成長について」と題する記事（第３４回　信頼性・保全性シンポジウム　発表報文集）
　　甲第１３号証：化学辞典　第１版　第３７４頁
　　甲第１４号証：化学大辞典３　縮刷版　第５８頁、第５９頁
　　甲第１５号証：「東京地方裁判所平成２７年（ワ）第１９６６１号　特許権侵害差止等請求事件」において、平成２８年５月９日付けで原告（本件被請求人）が提出した準備書面（３）
　　甲第１６号証：「東京地方裁判所平成２７年（ワ）第１９６６１号　特許権侵害差止等請求事件」において、平成２８年６月１７日付けで原告（本件被請求人）が提出した準備書面（４）
　　甲第１７号証：「東京地方裁判所平成２７年（ワ）第１９６６１号　特許権侵害差止等請求事件」において、平成２８年３月７日付けで被告（本件請求人）が提出した証拠説明書１（差替え版）
イ　審判事件弁駁書に添付した証拠方法
　甲第１８号証：「東京地方裁判所平成２７年（ワ）第１９６６１号　特許権侵害差止等請求事件」において、平成２８年７月１５日付けで原告（本件被請求人）が提出した結果報告書
　　甲第１９号証：「東京地方裁判所平成２７年（ワ）第１９６６１号　特許権侵害差止等請求事件」において、平成２８年７月１５日付けで原告（本件被請求人）が提出した準備書面（５）
　　甲第２０号証：「知的財産高等裁判所平成２９年（ネ）第１０００３号　特許権侵害差止等請求控訴事件」において、平成２９年２月１０日付けで控訴人（本件被請求人）が提出した控訴理由書
　　甲第２１号証：「知的財産高等裁判所平成２９年（ネ）第１０００３号　特許権侵害差止等請求控訴事件」において、平成２９年２月２４日付けで控訴人（本件被請求人）が提出した控訴人準備書面（１）
　　甲第２２号証：「東京地方裁判所平成２７年（ワ）第１９６６１号　特許権侵害差止等請求事件」において、平成２８年２月２９日付けで被告（本件請求人）が提出した作業指導書
　　甲第２３号証：「東京地方裁判所平成２７年（ワ）第１９６６１号　特許権侵害差止等請求事件」において、平成２８年２月２９日付けで被告（本件請求人）が提出した製品安全データシート（ＭＳＤＳ）
　　甲第２４号証：「東京地方裁判所平成２７年（ワ）第１９６６１号　特許権侵害差止等請求事件」において、平成２８年２月２９日付けで被告（本件請求人）が提出した仕様書
ウ　口頭審理陳述要領書に添付した証拠方法
　　甲第２５号証：タブ端子の作製に関する報告書
　　甲第２６号証：オージェ電子分光装置分析報告書
　　甲第２７号証：サンウォッシュＬＨ−１の化学物質等安全データシート（ＭＳＤＳ）
エ　平成２９年１０月１１日付け上申書に添付した証拠方法
　　甲第２８号証：陳述書
２　被請求人
（１）答弁の趣旨及び無効理由について
　被請求人は、平成２９年１月１３日付けで訂正請求をした上で、審判事件答弁書において、「本件審判請求は成り立たない。審判費用は請求人の負担とする。」との審決を求め、訂正後の各発明については、請求人による無効の主張はいずれも理由がないと主張する。
　また、被請求人は、平成２９年１月１３日付けの請求項１ないし９からなる一群の請求項に係る訂正請求が認められないとした場合について、請求項１ないし４、９に記載された発明についての特許に対する上記各無効理由に対する意見は特にないと陳述した。（被請求人が提出した口頭審理陳述要領書の「５．（１）（１−２）」及び第１回口頭審理調書の「被請求人　７」。）
　さらに、被請求人は、平成３０年４月１０日付けで訂正請求をした上で、同日付けの意見書において、訂正後の各発明は特許性を有すると主張する。
（２）訂正請求について
　被請求人は、平成２９年１月１３日付けの訂正請求について、その訂正請求書において、訂正事項が全ての訂正要件に適合していることを説明するとともに、同年４月７日付けの訂正拒絶理由で訂正要件を満たしていないとされた訂正事項１について、同年５月１１日付け意見書において反論を述べている。
　そして、上記訂正事項１は訂正要件を満たしていないとする審決の予告の後、被請求人は、平成３０年４月１０日付けで、上記訂正事項１と同じ内容の訂正事項１を含む訂正を新たに請求するとともに、同日付けの意見書において、上記訂正事項１について審決の予告に対する反論を述べている。
　なお、平成３０年４月１０日付けの訂正請求についての同年１０月１８日付け訂正拒絶理由通知に対しては、被請求人から意見書は提出されなかった。
（３）被請求人が提出した証拠方法
ア　審判事件答弁書に添付した証拠方法
　乙第１号証：日本パーカライジング株式会社の製品カタログ
　乙第２号証：日本パーカライジング株式会社の製品安全データシート
イ　平成２９年１０月２５日付け上申書に添付した証拠方法
　乙第４号証：実験報告書
　乙第５号証：サンウォッシュＦＭ−２０の安全データシート
　乙第６号証：カタログ「サンウォッシュ　ＦＭ−２０」
　乙第７号証：報告書（平成２９年６月２１日付　東京都立産業技術研究センター理事長）
　乙第７号証の２：乙第７号証の詳細なデータ
　乙第８号証：鑑定意見書（２０１７年９月２０日付　国立大学法人　東京工業大学　教授　工学博士　高橋邦夫）
　乙第９号証：実験報告書（被請求人顧問　吉澤修平）
　乙第１０号証：結果報告書「Ｐイオン注入及び注入品のＸＰＳ分析」（株式会社東レリサーチセンター）
　乙第１１号証：結果報告書「Ｐイオン注入及び注入品のＸＰＳ分析２」（株式会社東レリサーチセンター）（当審注：上記「ＸＰＳ分析２」の「２」は○囲い数字）
ウ　平成３０年４月１０日付け意見書に添付した証拠方法
　乙第１２号証：特開２００４−３１２１７号公報
　乙第１３号証：特開平８−１０２３３１号公報
　乙第１4号証：特開２００５−３１０８００号公報
　乙第１５号証：特開２００２−１９８０２５号公報
　乙第１６号証：特開２００４−１４６３４８号公報
　乙第１７号証：特開２０１８−２４８９号公報
　乙第１８号証：特開２０１１−２４９６４１号公報
　乙第１９号証：特開２００６−１２０９５４号公報
　乙第２０号証の１：化学大辞典７　縮刷板３５０頁　「非晶質」
　乙第２０号証の２：化学大辞典９　縮刷板７７〜７８頁　「無定形」
　乙第２１号証：「Synthesis of organically templated nanoporous tin(II/IV) phosphate for radionuclide and metal sequestration」Inorganic Chemistry Volume 45, Issue 6, Pages:2382-2384
　乙第２２号証：ウェブページ「Inorganic Chemistry」Table of Contents - March 20, 2006 Volume 45, Issue 6
第３　本件訂正請求について
１　訂正の趣旨
　平成３０年４月１０日付けの訂正請求書（以下、「本件訂正請求書」という。）における訂正（以下、「本件訂正」という。）の趣旨は、「特許第４７３２１８１号の特許請求の範囲を本件請求書に添付した訂正特許請求の範囲のとおり訂正後の請求項１ないし１４について訂正することを求める」ものである。
　なお、平成２９年１月１３日付けの訂正の請求は、特許法第１３４条の２第６項の規定により取り下げられたものとみなす。
２　訂正の内容
　本件訂正は、特許請求の範囲を以下の訂正事項１ないし１４のとおりに訂正することを求めるものである。
（１）請求項１ないし９からなる一群の請求項に係る訂正
ア　訂正事項１
　特許請求の範囲の請求項１に「リン系溶剤で洗浄する工程」とあるのを、「リン系溶剤で洗浄して、前記溶接部分の少なくとも一部に、ＳｉＯ２換算で厚さ２０ｎｍ以上の、ＳｎＰＯｘ（ｘは２〜４を表す）からなる皮膜を形成する工程」に訂正する。
イ　訂正事項２
　特許請求の範囲の請求項２は請求項１を引用するものであるため、訂正事項１にともない請求項２の内容を実質的に訂正する。
ウ　訂正事項３
　特許請求の範囲の請求項３は請求項２を引用するものであるため、訂正事項２にともない請求項３の内容を実質的に訂正する。
エ　訂正事項４
　特許請求の範囲の請求項４は請求項１〜３のいずれか一項を引用するものであるため、訂正事項１〜３にともない請求項４の内容を実質的に訂正する。
オ　訂正事項５
　特許請求の範囲の請求項５は請求項１〜４のいずれか一項を引用するものであるため、訂正事項１〜４にともない請求項５の内容を実質的に訂正する。
カ　訂正事項６
　特許請求の範囲の請求項６は請求項５を引用するものであるため、訂正事項５にともない請求項６の内容を実質的に訂正する。
キ　訂正事項７
　特許請求の範囲の請求項７は請求項５又は６を引用するものであるため、訂正事項５及び６にともない請求項７の内容を実質的に訂正する。
ク　訂正事項８
　特許請求の範囲の請求項８は請求項５〜７のいずれか一項を引用するものであるため、訂正事項５〜７にともない請求項８の内容を実質的に訂正する。
ケ　訂正事項９
　特許請求の範囲の請求項９は請求項１〜８のいずれか一項を引用するものであるため、訂正事項１〜８にともない請求項９の内容を実質的に訂正する。
（２）請求項１０ないし１４からなる一群の請求項に係る訂正
コ　訂正事項１０
　特許請求の範囲の請求項１０に「前記溶接部分の少なくとも一部に、ＳｎＰＯｘ（ｘは２〜４を表す）からなる皮膜が形成されてなることを特徴とする」とあるのを、「前記溶接部分の少なくとも一部に、ＳｉＯ２換算で厚さ２０ｎｍ以上の、ＳｎＰＯｘ（ｘは２〜４を表す）からなる皮膜が形成されてなることを特徴とする」に訂正する。
サ　訂正事項１１
　特許請求の範囲の請求項１１を削除する。
シ　訂正事項１２
　特許請求の範囲の請求項１２に「前記ＳｎＰＯｘ皮膜またはスズ表面ＰＯｘ皮膜の厚みが、ＳｉＯ２換算で２０ｎｍ以上である、請求項１０に記載のタブ端子。」とあるのを、独立項形式に書き換えるとともに、「スズが存在する部分において、スズ表面にＰＯｘ（ｘは２〜４を表す）からなる皮膜が形成され」という事項を付加することで、「芯材表面にスズからなる金属層が形成されてなるリード線端部に、圧扁部を有するアルミ芯線が溶接されてなるタブ端子であって、前記溶接部分の少なくとも一部に、ＳｎＰＯｘ（ｘは２〜４を表す）からなる皮膜が形成され、スズが存在する部分において、スズ表面にＰＯｘ（ｘは２〜４を表す）からなる皮膜が形成され、前記ＳｎＰＯｘ皮膜またはスズ表面ＰＯｘ皮膜の厚みが、ＳｉＯ２換算で２０ｎｍ以上であることを特徴とする、タブ端子。」に訂正する。
ス　訂正事項１３
　特許請求の範囲の請求項１３は請求項１０ないし１２のいずれか一項を引用するものであるため、訂正事項１１にともない、特許請求の範囲の請求項１３に「請求項１０〜１２のいずれか一項に記載のタブ端子」とあるのを、「請求項１０または１２に記載のタブ端子」に訂正する。
セ　訂正事項１４
　特許請求の範囲の請求項１４は請求項１３を引用するものであるため、訂正事項１３にともない請求項１４の内容を実質的に訂正する。
３　訂正拒絶理由について
　当審において平成３０年１０月１８日付けで通知した訂正拒絶理由は、概略、以下のとおりのものである。
（１）請求項１ないし９からなる一群の請求項に係る訂正について
ア　訂正事項１について
　訂正事項１に含まれる「リン系溶剤で洗浄して、前記溶接部分の少なくとも一部に、ＳｉＯ２換算で厚さ２０ｎｍ以上の、ＳｎＰＯｘ（ｘは２〜４を表す）からなる皮膜を形成する」という発明特定事項は、願書に添付した明細書、特許請求の範囲に記載した事項の範囲内のものであるとはいえないから、訂正事項１は、特許法第１３４条の２第９項で準用する特許法第１２６条第５項の規定に適合していない。
　よって、上記訂正事項１を含む、請求項１ないし９からなる一群の請求項に係る訂正請求は、適法な訂正請求とはいえず、拒絶すべきものである。
４　訂正の適否についての判断
（１）請求項１ないし９からなる一群の請求項に係る訂正について
ア　一群の請求項について
　訂正前の請求項１ないし９において、請求項２ないし９は、訂正する請求項１を直接又は間接的に引用しているものであるから、請求項１ないし９は、特許法第１３４条の２第３項に規定する一群の請求項である。
イ　訂正事項１について
（ア）訂正の目的について
　訂正事項１は、訂正前の請求項１の「リン系溶剤で洗浄する工程」に関して、「前記溶接部分の少なくとも一部に、ＳｉＯ２換算で厚さ２０ｎｍ以上の、ＳｎＰＯｘ（ｘは２〜４を表す）からなる皮膜を形成する」という発明特定事項を付加するものであるから、特許法第１３４条の２第１項ただし書第１号に規定する特許請求の範囲の減縮を目的とするものである。
（イ）実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更する訂正であるか否かについて
　上記（ア）に示したとおり、訂正事項１は、発明特定事項を付加することによって、特許請求の範囲を減縮するものであるから、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものには該当せず、特許法第１３４条の２第９項で準用する特許法第１２６条第６項の規定に適合するものである。
（ウ）願書に添付した明細書又は特許請求の範囲に記載した事項の範囲内の訂正であるか否かについて
　願書に添付した明細書又は特許請求の範囲（以下、願書に添付した明細書を「本件特許明細書」といい、願書に添付した明細書又は特許請求の範囲を「本件特許明細書等」という。）には、ＳｎＰＯｘ（ｘは２〜４を表す）からなる皮膜の厚みに関して、次の事項が記載されている。（下線は当審で付与した。）
（ａ）「【請求項１０】
　芯材表面にスズからなる金属層が形成されてなるリード線端部に、圧扁部を有するアルミ芯線が溶接されてなるタブ端子であって、
　
前記溶接部分の少なくとも一部に、ＳｎＰＯ
ｘ
（ｘは２〜４を表す）からなる皮膜が形成されてなることを特徴とする、タブ端子
　（中略）
　　【請求項１２】
　
前記ＳｎＰＯ
ｘ
皮膜
の厚みが、ＳｉＯ
２
換算で２０ｎｍ以上である、請求項１０に記載のタブ端子
（ｂ）「【００２５】
　また、好ましい態様として、ＳｎＰＯｘ皮膜またはスズ表面ＰＯｘ皮膜の厚みが、ＳｉＯ２換算で２０ｎｍ以上である。」
（ｃ）「【００３９】
　本発明においては、
リン酸系化合物の皮膜を溶接部分に形成するために、タブ端子をリン系溶剤によって洗浄する。
（ｄ）「【００４４】
　本発明の好ましい態様においては、
上記の洗浄工程の後、タブ端子の溶接部分にイオン注入を行う。
　・・・（中略）・・・ 
【００４８】
　イオン注入においては、通常のイオンビーム成膜等に使用されるプラズマフィラメントイオン源やＥＣＲバケット型イオン源等を好適に使用できる。また、イオンビーム成膜装置としては、シングルイオン源型であってもデュアルイオン源型であってもよい。例えば、ＵＬＶＡＣ社製のＩＭＸ−３５００やＩＨ−８００ＵＰ等のイオン注入装置を使用できる。イオン注入時のエネルギーは、１０ｋｅＶ程度である。
イオン注入量は、注入時間や印可エネルギー等によって調整できるが、１．０×１０
５
〜１．０×１０
２０
ｃｍ
−２
程度が好ましい範囲である。この程度のイオン注入量とすることにより、溶接部分の表面に形成されたＳｎＰＯ
ｘ
のリン系化合物皮膜またはＳｎ表面状に形成されたＰＯ
ｘ
皮膜の厚みを、ＳｉＯ
２
換算で２０ｎｍ以上とすることができ、このような厚みのリン系化合物皮膜が形成されることにより、タブ端子の溶接部分でのウィスカ発生を抑制することができる。
　そして、上記（ｃ）及び（ｄ）の記載からみて、「ＳｉＯ２換算で厚さ２０ｎｍ以上の、ＳｎＰＯｘ（ｘは２〜４を表す）からなる皮膜」は、「リン系溶剤によって洗浄する」工程の後に、「イオン注入を行う」ことによって形成されており、イオン注入を行わずにリン系溶剤による洗浄のみで「ＳｉＯ２換算で厚さ２０ｎｍ以上の、ＳｎＰＯｘ（ｘは２〜４を表す）からなる皮膜」を形成することは、願書に添付した明細書又は特許請求の範囲には記載されていない。
　したがって、訂正事項１に含まれる「リン系溶剤で洗浄して、前記溶接部分の少なくとも一部に、ＳｉＯ２換算で厚さ２０ｎｍ以上の、ＳｎＰＯｘ（ｘは２〜４を表す）からなる皮膜を形成する」という発明特定事項は、願書に添付した明細書、特許請求の範囲又は図面に記載した事項の範囲内のものであるとはいえない。 
　よって、訂正事項１は、特許法第１３４条の２第９項で準用する特許法第１２６条第５項の規定に適合していない。 
　この点に関する被請求人の主張（反論）について検討する。なお、上記「第１」で示したとおり、平成３０年１０月１８日付けで通知した訂正拒絶理由（上記「３」参照。）に対して被請求人は意見書を提出していない。
（ｉ）被請求人は、平成３０年４月１０日付け訂正請求書の「６．（１）」の「３）」の「イ　訂正事項が全ての訂正要件に適合している事実の説明」の「（ア）ｃ」において、
「訂正事項１において、訂正前の請求項１に追加された発明特定事項である「溶接部分の少なくとも一部に、ＳｉＯ２換算で厚さ２０ｎｍ以上の、ＳｎＰＯｘ（ｘは２〜４を表す）からなる皮膜を形成する」なる記載は、本件特許公報の明細書（以下、本件明細書という。）の【００２５】及び【００４８】に記載されている事項であるから、願書に添付した明細書、特許請求の範囲又は図面に記載した事項の範囲内の訂正であると言える。したがって、訂正事項１は、特許法第１３４条の２第９項で準用する第１２６条第５項に適合するものである。」
と主張する。
　しかしながら、上記【００２５】には「ＳｎＰＯｘ皮膜またはスズ表面ＰＯｘ皮膜の厚みが、ＳｉＯ２換算で２０ｎｍ以上である」と記載されてはいるが（上記（ｂ）参照。）、どのような方法（工程）によってそのような厚みの皮膜を形成するのかについては当該段落に記載はない。また、特許請求の範囲の請求項１０及び１２の記載（上記（ａ）参照。）についても同様である。
　また、上述のとおり、上記【００４８】（上記（ｄ）参照。）に記載されているのは、「ＳｉＯ２換算で厚さ２０ｎｍ以上の、ＳｎＰＯｘ（ｘは２〜４を表す）からなる皮膜」を、「リン系溶剤によって洗浄する」工程の後に、「イオン注入を行う」ことによって形成することであって、イオン注入を行わずにリン系溶剤による洗浄のみで、すなわち、「リン系溶剤で洗浄する工程」のみで、「ＳｉＯ２換算で厚さ２０ｎｍ以上の、ＳｎＰＯｘ（ｘは２〜４を表す）からなる皮膜」を形成することは記載されていない。
　そうすると、上記【００２５】及び【００４８】に記載されている事項であるという被請求人の上記主張を採用することはできない。
（ｉｉ）被請求人は、平成３０年４月１０日付け意見書の「５」の「（２）請求項１ないし４、９の訂正要件充足について」において、
「しかしながら、段落【００４４】において「本発明の好ましい態様においては、上記の洗浄工程の後、タブ端子の溶接部分にイオン注入を行う」（傍点は被請求人による）（当審注：前記「好ましい態様においては」の各文字には傍点が付されている。）と記載されておりますとおり、イオン注入は単に本件発明の好ましい実施態様を示すものに過ぎず、段落【００４８】の記載は「ＳｉＯ２換算で厚さ２０ｎｍ以上の、ＳｎＰＯｘ（ｘは２〜４を表す）からなる皮膜」を形成する方法をイオン注入に限定する趣旨のものではありません。現に、段落【００３９】において「本発明は、リン酸系化合物の皮膜を溶接部分に形成するために、タブ端子をリン系溶剤によって洗浄する。この洗浄によって、リン系化合物がタブ端子表面に付着する。空気雰囲気中でタブ端子が置かれることにより、このリン系化合物が酸化してリン酸系化合物を形成する。」と記載されていることから、請求項１の方法によりリン酸系化合物の皮膜が形成されることが読み取れます。その上、段落【００２５】では、「また、好ましい態様として、ＳｎＰＯｘ皮膜またはスズ表面ＰＯｘ皮膜の厚みが、ＳｉＯ２換算で２０ｎｍ以上である。」と記載されており、ここからリン酸系化合物の皮膜（ＳｎＰＯｘ皮膜またはスズ表面ＰＯｘ皮膜）をＳｉＯ２換算で２０ｎｍ以上とすることが読み取れますが、この方法がイオン注入に限定されるものでないことは、その前後の文脈からも明らかです。」
と主張する。
　確かに、上記【００４４】（上記（ｄ）参照。）に記載されているとおり、「洗浄工程の後、タブ端子の溶接部分にイオン注入を行う」ことは、「本発明の好ましい態様」であって、「ＳｎＰＯｘ（ｘは２〜４を表す）からなる皮膜」を形成する方法をイオン注入に限定するものではない。しかしながら、上記「本発明の好ましい態様」についての上記【００４８】（上記（ｄ）参照。）には、「
この程度のイオン注入量とすることにより、
ＳｉＯ
２
換算で２０ｎｍ以上とすることができ
　また、上記【００３９】（上記（ｃ）参照。）には、リン系溶剤で洗浄することによって、リン酸系化合物を形成することが記載されているだけであって、ＳｎＰＯｘからなる皮膜の厚みについては何ら記載されていない。一方、上記【００２５】（上記（ｂ）参照。）には、ＳｎＰＯｘからなる皮膜の厚みについて記載はされているが、イオン注入を行わずにそのような厚みの皮膜を形成することは記載されておらず、むしろ、「好ましい態様として、」と記載されていることからみて、上述した「本発明の好ましい態様」である【００４４】ないし【００４８】の記載に対応するものであると解するのか妥当である。
　以上のとおりであるから、「段落【００４８】の記載は「ＳｉＯ２換算で厚さ２０ｎｍ以上の、ＳｎＰＯｘ（ｘは２〜４を表す）からなる皮膜」を形成する方法をイオン注入に限定する趣旨のものではありません。」という被請求人の上記主張を採用することはできない。
　なお、上記「第２」の「２」の「（２）」で述べたように、上記訂正事項１は、平成２９年１月１３日付けの訂正請求における訂正事項１と同じ内容であるから、平成２９年１月１３日付けの訂正請求における訂正事項１についての主張についても念のため検討する。
（ｉｉｉ）被請求人は、平成２９年５月１１日付け意見書の「５」の「（２）訂正事項１について」において、
「しかしながら、明細書の段落【００４４】の上記の記載は、本発明の好ましい態様、すなわち、本発明の効果がより一層奏される実施態様として、洗浄工程の後にイオン注入を行うことを記載しているに過ぎず、洗浄工程のみではウィスカ発生の抑制が不十分であることを記載しているわけではありません。また、明細書の同段落【００４８】には、上記の記載に続けて、「このような厚みのリン系化合物皮膜が形成されることにより、タブ端子の溶接部分でのウィスカ発生を抑制することができる。」と記載があり、当業者であれば、ＳｉＯ２換算で２０ｎｍ以上の厚みのＳｎＰＯｘ（ｘは２〜４を表す）からなる皮膜が形成されていれば、ウィスカ発生を抑制することができると理解します。
　そして、本件特許の明細書の【実施例】の欄には、トリポリリン酸ナトリウムを含む溶剤を用いて処理したタブ端子（実施例１）は、何らの溶剤処理も行わないタブ端子（比較例１）に対して、ウィスカの数が１０８本から僅か４本に減少し、ウィスカ長さも６５μｍあったものが２０μｍに減少したことが示されております（表１）。これらの実施例の評価結果に接した当業者であれば、タブ端子を特定の溶剤で処理すれば、更に続けてイオン注入を行わなくともウィスカ発生を抑制できることを理解します。」
とした上で、
「このように、明細書の段落【００４８】の記載と実施例の評価結果の記載（表１）を踏まえると、当業者であれば、実施例１のタブ端子は、ＳｉＯ２換算で２０ｎｍ以上の厚みのＳｎＰＯｘ（ｘは２〜４を表す）からなる皮膜が形成されているものと理解することができます。すなわち、特定の溶剤を用いた溶剤処理とイオン注入処理とを併用しなくとも、特定の溶剤を用いた溶剤処理を行えばウィスカの発生を抑制することができる程度の厚みの皮膜が形成されると当業者は理解するはずです。」
と主張する。
　確かに、上記【００４４】（上記（ｄ）参照。）に記載されているとおり、「洗浄工程の後、タブ端子の溶接部分にイオン注入を行う」ことは、「本発明の好ましい態様」であって、洗浄工程のみではウィスカ発生の抑制が不十分であることを記載しているわけではないが、洗浄工程のみを行った場合の皮膜の厚みについては、本件特許明細書等には記載はされていない。
　また、上記表１に記載の実施例の評価結果についても、実施例１と比較例１や、実施例３と比較例２をそれぞれ対比すれば、タブ端子を特定の溶剤で処理すれば、更に続けてイオン注入を行わなくともウィスカ発生を抑制できるということは読み取れるが、上記表１を含む【実施例】の欄（【００４９】ないし【００５９】）には、皮膜やその厚みについて全く記載がなされていない。
　したがって、タブ端子を特定の溶剤で処理すれば、更に続けてイオン注入を行わなくともウィスカ発生を抑制できるからといって、「ＳｉＯ２換算で２０ｎｍ以上の厚みのＳｎＰＯｘ（ｘは２〜４を表す）からなる皮膜が形成されている」とまではいうことはできないから、被請求人の上記主張を採用することはできない。
（ｉｖ）被請求人は、平成２９年１０月２５日付け上申書の「５」の「（１）被請求人の５月１１日付け意見書の３頁の最終段落の内容について」において、
「そして、特定の溶剤による洗浄処理によってタブ端子の溶接部分にＳｎＰＯｘからなる皮膜が形成されると理解する当業者であれば、溶剤による洗浄処理の条件について説明した本件特許明細書の段落【００４０】〜【００４３】の記載を参酌すれば、タブ端子の溶接部分に形成される皮膜の厚さ（換言すれば、ウィスカ抑制効果）は、リン系溶剤濃度や洗浄処理温度、洗浄処理時間等によって影響を受けると理解するはずであり、例えば、溶剤濃度を高くしたり、洗浄温度を溶剤の曇点以上に高くし、好ましい時間の範囲で洗浄を行うことにより、スズがより一層変性されて、より厚い「十分な」（段落【００４２】）ＳｎＰＯｘからなる皮膜が形成されると理解できます。
　即ち、洗浄処理のみを行った（リンイオン注入を行わなかった）実施例１及び実施例３のタブ端子において２０ｎｍ以上の皮膜が出来ていると考えるのが合理的であると考えますが、もし仮に溶接部分に形成されたＳｎＰＯｘのリン系化合物皮膜の厚みが仮に２０ｎｍ未満であるとすれば、それでもウィスカの抑制に足るＳｎＰＯｘからなる皮膜が形成されることになりますので、２０ｎｍ以上の皮膜においては尚更本件特許発明の課題が解決できることが理解できます。その上、当業者であれば、過度な試行錯誤や複雑高度な実験を行わずとも、リン系溶剤濃度や洗浄処理温度、洗浄処理時間等の洗浄条件の変更により、厚み２０ｎｍ以上のＳｎＰＯｘからなる皮膜とすることができることは明らかです。」
と主張する。
　確かに、上記【００４０】にはリン系溶剤濃度の範囲が、上記【００４１】には洗浄処理温度の範囲が、上記【００４２】には洗浄処理時間の範囲がそれぞれ記載されてはいるが、それらの範囲内で溶剤処理を行った場合に形成される皮膜の具体的な厚みや厚みの範囲については、上記（ｉｉ）でも述べたとおり、実施例１及び３の場合も含めて、何ら具体的な記載がない。
　さらに、タブ端子の溶接部分に形成される皮膜の厚さが、リン系溶剤濃度や洗浄処理温度、洗浄処理時間等によって影響を受けるからといって、それらの洗浄条件を変更することによって皮膜を無制限に厚くできるわけではなく、したがって、それらの洗浄条件を変更することによって厚みを２０ｎｍ以上にできることが明らかであるとまではいえず、特に、上記【００４０】ないし【００４２】記載の上記各範囲内の変更で、厚みを２０ｎｍ以上にできることが明らかであるとまでは到底いうことはできない。また、同様の理由で、特定の洗浄条件で厚みが２０ｎｍ未満の皮膜が形成できたからといって、厚みが２０ｎｍ以上の厚みの皮膜を形成できることが明らかであるということはできない。
　また、洗浄条件を変更することによって、例えば「３０分以上洗浄を行うと、タブ端子の表面、特にアルミ表面が過剰にエッチングされるため好ましくない」（【００４２】）という問題が生じることを勘案すると、単純に洗浄条件を変更して厚みを増していけばよいというものでないことは明らかであり、そうすると、洗浄処理のみで、タブ端子にそのような問題を生じることなく２０ｎｍ以上の皮膜が形成できることが、「過度な試行錯誤や複雑高度な実験を行わずとも」できることであるとは認められない。
　したがって、被請求人の上記主張を採用することはできない。
ウ　請求項１ないし９からなる一群の請求項に係る訂正の適否についての結論
　上記「イ」のとおり、請求項１ないし９からなる一群の請求項に係る訂正に含まれる訂正事項１は、特許法第１３４条の２第９項で準用する特許法第１２６条第５項の規定に適合するものではない。したがって、訂正事項２ないし９について判断するまでもなく、請求項１ないし９からなる一群の請求項に係る訂正は、これを認めることはできない。
（２）請求項１０ないし１４からなる一群の請求項に係る訂正について
ア　一群の請求項について
　訂正前の請求項１０ないし１４において、請求項１１ないし１４は、訂正する請求項１０を直接又は間接的に引用しているものであるから、請求項１０ないし１４は、特許法第１３４条の２第３項に規定する一群の請求項である。
イ　訂正事項１０について
（ア）訂正の目的について
　訂正事項１０は、訂正前の請求項１０の「ＳｎＰＯｘ（ｘは２〜４を表す）からなる皮膜」について、「ＳｉＯ２換算で２０ｎｍ以上の」ものであるという発明特定事項を付加したものであるから、当該訂正事項１０は、特許法第１３４条の２第１項ただし書第１号に規定する特許請求の範囲の減縮を目的とするものである。
（イ）願書に添付した明細書又は特許請求の範囲に記載した事項の範囲内の訂正であるか否かについて
　本件特許明細書等には、「前記ＳｎＰＯｘ皮膜またはスズ表面ＰＯｘ皮膜の厚みが、ＳｉＯ２換算で２０ｎｍ以上である、請求項１０に記載のタブ端子。」（【請求項１２】）、「また、好ましい態様として、ＳｎＰＯｘ皮膜またはスズ表面ＰＯｘ皮膜の厚みが、ＳｉＯ２換算で２０ｎｍ以上である。」（【００２５】）、「この程度のイオン注入量とすることにより、溶接部分の表面に形成されたＳｎＰＯｘのリン系化合物皮膜またはＳｎ表面状に形成されたＰＯｘ皮膜の厚みを、ＳｉＯ２換算で２０ｎｍ以上とすることができ、このような厚みのリン系化合物皮膜が形成されることにより、タブ端子の溶接部分でのウィスカ発生を抑制することができる。」（【００４８】）と記載されている。
　したがって、それらの記載からみて、訂正事項１０において、訂正前の請求項１０に付加された発明特定事項である「ＳｉＯ２換算で厚さ２０ｎｍ以上の」という事項は、願書に添付した明細書又は特許請求の範囲に記載した範囲内のものであるから、訂正事項１０は、特許法第１３４条の２第９項で準用する第１２６条第５項に適合するものである。
（ウ）実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更する訂正であるか否かについて
　上記「（ア）」に示したとおり、訂正事項１０は、発明特定事項を付加することによって、特許請求の範囲を減縮するものであるから、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものには該当せず、特許法第１３４条の２第９項で準用する特許法第１２６条第６項の規定に適合するものである。
（エ）独立特許要件について
　請求項１０は、無効審判の請求の対象とされているので、特許法第１３４条の２第９項で読み替えて準用する同法第１２６条第７項の独立特許要件は適用されない。
ウ　訂正事項１１について
　訂正事項１１は、請求項１１を削除するというものであるから、特許法第１３４条の２第１項ただし書第１号に規定する特許請求の範囲の減縮を目的とするものである。
　また、請求項１１を削除するというものであるから、願書に添付した明細書又は特許請求の範囲に記載した範囲内の訂正であるとともに、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものには該当しない。したがって、特許法第１３４条の２第９項で準用する第１２６条第５項及び第６項に適合するものである。
エ　訂正事項１２について
（ア）訂正の目的について
　訂正事項１２のうち、訂正前の請求項１２が引用していた請求項１０の「芯材表面にスズからなる金属層が形成されてなるリード線端部に、圧扁部を有するアルミ芯線が溶接されてなるタブ端子であって、前記溶接部分の少なくとも一部に、ＳｎＰＯｘ（ｘは２〜４を表す）からなる皮膜が形成されてなることを特徴とする、」という発明特定事項を含むように請求項１２の記載を書き換える訂正事項は、特許法第１３４条の２第１項ただし書第４号に規定する「他の請求項の記載を引用する請求項の記載を当該他の請求項の記載を引用しないものとすること。」を目的とするものであり、「スズが存在する部分において、スズ表面にＰＯｘ（ｘは２〜４を表す）からなる皮膜が形成され」という事項を付加する訂正事項は、特許法第１３４条の２第１項ただし書第１号に規定する特許請求の範囲の減縮を目的とするものである。
（イ）願書に添付した明細書又は特許請求の範囲に記載した事項の範囲内の訂正であるか否かについて
　訂正事項１２のうち、「芯材表面にスズからなる金属層が形成されてなるリード線端部に、圧扁部を有するアルミ芯線が溶接されてなるタブ端子であって、前記溶接部分の少なくとも一部に、ＳｎＰＯｘ（ｘは２〜４を表す）からなる皮膜が形成され、」という発明特定事項は訂正前の請求項１０に記載されており、「スズが存在する部分において、スズ表面にＰＯｘ（ｘは２〜４を表す）からなる皮膜が形成され、」という発明特定事項は訂正前の請求項１１に記載されている。
　したがって、それらの記載からみて、訂正事項１２は、願書に添付した明細書又は特許請求の範囲に記載した範囲内のものであるから、特許法第１３４条の２第９項で準用する第１２６条第５項に適合するものである。
（ウ）実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更する訂正であるか否かについて
　上記「（ア）」に示したとおり、訂正事項１２は、他の請求項の記載を引用する請求項の記載を当該他の請求項の記載を引用しないものとするものであるとともに、発明特定事項を付加することによって、特許請求の範囲を減縮するものであるから、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものには該当せず、特許法第１３４条の２第９項で準用する特許法第１２６条第６項の規定に適合するものである。
（エ）独立特許要件について
　請求項１２は、無効審判の請求の対象とされているので、特許法第１３４条の２第９項で読み替えて準用する同法第１２６条第７項の独立特許要件は適用されない。
オ　訂正事項１３について
　訂正事項１３は、請求項１３に「請求項１０〜１２のいずれか一項に記載のタブ端子」とあるのを、「請求項１０または１２に記載のタブ端子。」に訂正することによって引用請求項数を減少するものであるから、特許法第１３４条の２第１項ただし書第１号に規定する特許請求の範囲の減縮を目的とするものである。
　また、請求項１３の引用請求項数を減少するものであるから、願書に添付した明細書又は特許請求の範囲に記載した範囲内の訂正であるとともに、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものには該当しない。したがって、特許法第１３４条の２第９項で準用する第１２６条第５項及び第６項に適合するものである。
　なお、請求項１３は、無効審判の請求の対象とされているので、特許法第１３４条の２第９項で読み替えて準用する同法第１２６条第７項の独立特許要件は適用されない。
カ　訂正事項１４
　訂正事項１４に係る請求項１４は請求項１３を引用するものであり、かつ、請求項１３は請求項１０または１２を引用するものであるから、訂正事項１４は、訂正事項１０、１２及び１３を実質的に含むものである。
　そうすると、上記「イ」、「エ」及び「オ」で説示したように、訂正事項１４も、訂正事項１０、１２及び１３と同様に、特許法第１３４条の２第１項ただし書第１号に規定する特許請求の範囲の減縮を目的とするものであり、かつ、特許法第１３４条の２第９項で準用する第１２６条第５項及び第６項に適合するものである。
　なお、請求項１４は、無効審判の請求の対象とされているので、特許法第１３４条の２第９項で読み替えて準用する同法第１２６条第７項の独立特許要件は適用されない。
キ　請求項１０ないし１４からなる一群の請求項に係る訂正の適否についての結論
　上記「ア」ないし「カ」のとおり、請求項１０ないし１４からなる一群の請求項に係る訂正に含まれる訂正事項１０ないし１４は、特許法第１３４条の２第１項ただし書第１号に規定する特許請求の範囲の減縮を目的とするものであるとともに、訂正事項１２は同条同項ただし書第４号に規定する他の請求項の記載を引用する請求項の記載を当該他の請求項の記載を引用しないものとすることを目的とするものでもあり、かつ、特許法第１３４条の２第９項で準用する第１２６条第５項及び第６項に適合するものである。したがって、請求項１０ないし１４からなる一群の請求項に係る訂正は、これを認める。
（３）まとめ
　以上のとおりであるから、本件訂正のうち、請求項１ないし９からなる一群の請求項に係る訂正は認めない。
　また、本件訂正のうち、請求項１０ないし１４からなる一群の請求項に係る訂正は認める。
第４　本件発明
　上記「第３」のとおり、請求項１ないし９からなる一群の請求項に係る訂正を認めることができないから、特許第４７３２１８１号の請求項１ないし９に係る発明（以下、「本件発明１」ないし「本件発明９」という。）は、特許権の設定登録時の特許請求の範囲の請求項１ないし９に記載された事項により特定されるものであり、また、請求項１０ないし１４からなる一群の請求項に係る訂正は認めるから、特許第４７３２１８１号の請求項１０、１２ないし１４に係る発明（以下、「本件発明１０」、「本件発明１２」ないし「本件発明１４」という。）は、平成３０年４月１０日付け訂正請求書に添付された特許請求の範囲の請求項１０、１２ないし１４に記載された事項により特定されるものであるところ、本件発明１ないし１０、１２ないし１４はそれぞれ次のとおりのものである。
「【請求項１】
　芯材表面にスズからなる金属層が形成されてなるリード線端部に、圧扁部を有するアルミ芯線が溶接されてなるタブ端子を製造する方法であって、
　芯材表面にスズからなる金属層が形成されてなるリード線端部に、アルミ芯線を溶接し、該アルミ芯線の端部を圧扁してタブ端子を準備する工程、および
　前記タブ端子を、リン系溶剤で洗浄する工程、
を含んでなり、
　前記リン系溶剤が、リン酸ナトリウムまたはポリリン酸ナトリウムを含んでなる洗浄剤であることを特徴とする、方法。
【請求項２】
　前記洗浄工程を、前記洗浄剤の曇点以上の温度で行う、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
　前記洗浄工程を、７０〜１００℃の温度で行う、請求項２に記載の方法。
【請求項４】
　前記洗浄工程を、５〜３０分間行う、請求項１〜３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項５】
　前記タブ端子の溶接部分に、イオン注入を行う工程をさらに含んでなる、請求項１〜４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項６】
　前記イオン注入のイオン源がリンである、請求項５に記載の方法。
【請求項７】
　前記イオン注入工程を、前記洗浄工程の後に行う、請求項５または６に記載の方法。
【請求項８】
　イオン注入量が、１．０×１０５〜１．０×１０２０ｃｍ−２である、請求項５〜７のいずれか一項に記載の方法。
【請求項９】
　前記タブ端子が、アルミ電解コンデンサに使用されるものである、請求項１〜８のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１０】
　芯材表面にスズからなる金属層が形成されてなるリード線端部に、圧扁部を有するアルミ芯線が溶接されてなるタブ端子であって、
　前記溶接部分の少なくとも一部に、ＳｉＯ２換算で厚さ２０ｎｍ以上の、ＳｎＰＯｘ（ｘは２〜４を表す）からなる皮膜が形成されてなることを特徴とする、タブ端子。
【請求項１１】
　（削除）
【請求項１２】
　芯材表面にスズからなる金属層が形成されてなるリード線端部に、圧扁部を有するアルミ芯線が溶接されてなるタブ端子であって、
　前記溶接部分の少なくとも一部に、ＳｎＰＯｘ（ｘは２〜４を表す）からなる皮膜が形成され、
　スズが存在する部分において、スズ表面にＰＯｘ（ｘは２〜４を表す）からなる皮膜が形成され、
　前記ＳｎＰＯｘ皮膜またはスズ表面ＰＯｘ皮膜の厚みが、ＳｉＯ２換算で２０ｎｍ以上であることを特徴とする、タブ端子。
【請求項１３】
　針状のウィスカが実質的に存在しない、請求項１０または１２に記載のタブ端子。
【請求項１４】
　タブ端子表面に発生したウィスカの形状が、螺旋状または帯状である、請求項１３に記載のタブ端子。」
第５　無効理由に対する当審の判断
１　請求項１ないし４、９に係る発明の特許について
１−１　無効理由１−１（特許法第２９条第１項第３号）及び１−２（特許法第２９条第２項）について
　事案に鑑み、まず無効理由１−２（特許法第２９条第２項）から検討する。
　なお、上記「第２」の「２」の「（１）」のとおり、被請求人は、平成２９年１月１３日付けの請求項１ないし９からなる一群の請求項に係る訂正請求が認められないとした場合について、すなわち、訂正前の本件発明１ないし４、９について、上記無効理由１−２に対する意見は特にないと陳述した。
（１）引用発明１
ア　甲第１号証の記載事項
　請求人が提出した甲第１号証（特開２０００−２７７３９８号公報）には、「コンデンサ用リード線の製造方法」に関して、図面とともに以下の記載がある。（下線は当審で付与した。）
（ア）「【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、
すずめっきされた銅線とアルミニウム線とが溶接されたコンデンサ用リード線の製造方法
（イ）「【０００４】本発明の課題は、
ウィスカの発生を防止することができるコンデンサ用リード線の製造方法
（ウ）「【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明は、以下のような解決手段により、前記課題を解決する。すなわち、請求項１の発明は、
すずめっきされた銅線とアルミニウム線とが溶接されたコンデンサ用リード線の製造方法
前記コンデンサ用リード線をアルカリ性洗浄液で洗浄する洗浄工程
【０００６】請求項２の発明は、請求項１に記載のコンデンサ用リード線の製造方法において、
前記洗浄工程は、温度９０°Ｃ〜９９°Ｃで約１２分間洗浄する工程
（エ）「【０００７】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して、本発明の実施形態についてさらに詳しく説明する。図１は、コンデンサ用リード線の一部を省略して示す図であり、図２は、リード線製造装置の概略構成図である。
コンデンサ用リード線１は、
極めて純度の高いすずがめっきされた銅線１０とアルミニウム線１１とを溶接部１２で溶接したものである。
リード線製造装置２は、
洗浄装置２０と
を備えている
（オ）「【０００８】
前記洗浄装置２０は、例えば、アルミニウム及びその合金用の非エッチング型弱アルカリクリーナ（商品名：ファインクリーナ３１５）などの洗浄液によって、コンデンサ用リード線１を洗浄する洗浄槽である。この洗浄装置２０は、温度９０°Ｃ〜９９°Ｃの洗浄液でコンデンサ用リード線１を約１２分間洗浄して、アルミニウム線１１を脱脂したり、銅線１０とアルミニウム線１１とを溶接するときに発生するカーボンを除去する。
（カ）「【００１１】次に、本発明の実施形態に係るコンデンサ用リード線の製造方法を説明する。図２に示すように、コンデンサ用リード線１が搬送ユニット２７ａ内に図中Ａ方向から搬入されると、この搬送ユニット２７ａを搬送装置２７が図中Ｂ方向に搬送する。
コンデンサ用リード線１は、洗浄装置２０内で洗浄されて、アルミニウム線１１が脱脂されるとともに、銅線１０とアルミニウム線１１とを溶接するときに発生するカーボンが除去される（洗浄工程）。
（キ）「【００１２】本発明の実施形態に係るコンデンサ用リード線の製造方法は、以下に記載するような効果を有する。
（１）　本発明の実施形態では、
コンデンサ用リード線１をアルカリ性の洗浄液で洗浄し、
その結果、アルカリ性の洗浄液で洗浄した後に、コンデンサ用リード線１を温度約１５０°Ｃで約２１分間加熱して、溶接部１２にウィスカが発生するのを防止することができる。
【００１３】
（２）　本発明の実施形態では、
温度９０°Ｃ〜９９°Ｃのアルカリ性の洗浄液でコンデンサ用リード線１を約１２分間洗浄するので、アルミニウム線１１を脱脂できるとともに、このアルミニウム線１１に溶接時に付着したカーボンを除去することができる。
（ク）「【００１５】
【発明の効果】以上詳しく説明したように、本発明によれば、
コンデンサ用リード線をアルカリ性洗浄液で洗浄し、前記コンデンサ用リード線から前記アルカリ性洗浄液を除去し、前記コンデンサ用リード線を加熱して、溶接部にウィスカが発生するのを防止するので、ウィスカの発生を防止することができる。
（ケ）図１の記載からみて、すずめっきされた銅線１０の端部にアルミニウム線１１が溶接されている。
イ　甲第１号証に記載された発明（引用発明１）
　上記「ア」の「（エ）」の記載からみて、洗浄装置２０内で洗浄されるコンデンサ用リード線１は、「極めて純度の高いすずがめっきされた銅線１０とアルミニウム線１１とを溶接部１２で溶接したものである」から、すずめっきされた銅線１０とアルミニウム線１１とからコンデンサ用リード線１を製造する工程には、すずめっきされた銅線１０とアルミニウム線１１とを溶接する工程が含まれていることを踏まえて、上記「ア」の「（ア）ないし（ケ）」の記載事項及び図面の記載を総合すると、甲第１号証には、次の発明（以下、「引用発明１」という。）が記載されている。
「すずめっきされた銅線１０の端部に、アルミニウム線１１が溶接されたコンデンサ用リード線１の製造方法であって、
　すずめっきされた銅線１０の端部に、アルミニウム線１１を溶接する工程、および、すずめっきされた銅線１０とアルミニウム線１１とが溶接されたコンデンサ用リード線１を、アルミニウム及びその合金用の非エッチング型弱アルカリクリーナ（商品名：ファインクリーナ３１５）などの洗浄液によって洗浄する工程、を含んでなり、
　前記洗浄する工程は、温度９０°Ｃ〜９９°Ｃの洗浄液でコンデンサ用リード線１を約１２分間洗浄する、コンデンサ用リード線１の製造方法。」
（２）本件発明１について
ア　対比
　本件発明１と引用発明１とを対比する。
（ア）引用発明１の「銅線１０」は、本件発明１の「リード線」の「芯材」に相当し、また、引用発明１の前記「銅線１０」は「すずめっきされた」ものであるから、その「表面にスズからなる金属層が形成されて」いるといえる。そうすると、引用発明１の「すずめっきされた銅線１０」は、本件発明１の「芯材表面にスズからなる金属層が形成されてなるリード線」に相当する。
（イ）引用発明１の「アルミニウム線１１」は、本件発明１の「アルミ芯線」に相当する。
（ウ）引用発明１の「コンデンサ用リード線１」は、コンデンサに用いられる「部品」である点で、本件発明１の「タブ端子」と共通する。
（エ）引用発明１における「すずめっきされた銅線１０の端部に、アルミニウム線１１を溶接する工程」は、その後に行われる「洗浄する工程」において洗浄する対象となるコンデンサ用リード線を用意するための工程であるから、当該工程はコンデンサ用リード線を「準備する工程」であるということができる。
（オ）引用発明１における「洗浄液」は「洗浄剤」ということができ、また、引用発明１における「ファインクリーナ３１５」は、請求人が提出した甲第５号証（特開２００４−２５３３１１号公報）によれば、「縮合リン酸塩」を「２５〜３０質量％」含むものである（【００４１】を参照。）から、引用発明１の「洗浄液」は「リン系溶剤」に含まれるものである。
　そうすると、本件発明１と引用発明１は、
「芯材表面にスズからなる金属層が形成されてなるリード線端部に、アルミ芯線を溶接し、リード線端部にアルミ芯線が溶接されてなる部品を準備する工程、および、前記部品を、洗浄剤であるリン系溶剤で洗浄する工程、を含んでなる方法」
である点で一致し、次の各点において相違する。
＜相違点１＞
　本件発明１のアルミ芯線は「圧扁部」を有しており、前記「準備する工程」において「該アルミ芯線の端部を圧扁して」いるのに対して、引用発明１のアルミニウム線１１が圧扁部を有するか不明であり、したがって、準備する工程においてアルミニウム線１１の端部を圧扁しているのかも不明である点。
＜相違点２＞
　本件発明１の部品は「タブ端子」であるのに対して、引用発明１は「コンデンサ用リード線」である点。
＜相違点３＞
　本件発明１の洗浄剤（リン系溶剤）が、「リン酸ナトリウムまたはポリリン酸ナトリウムを含んでなる」のに対して、引用発明１における洗浄剤がそれらを含んでいるか不明である点。
イ　判断
　上記各相違点について検討する。
（ア）相違点１について
　コンデンサ用リード線に用いられるアルミニウム線に圧扁部を設けること、及び、そのためにアルミニウム線の端部を圧扁する（扁平加工を施す）ことは、本件出願日時点における周知技術にすぎず（請求人が提出した甲第３号証（特開平９−２１３５９２号公報）の【０００２】、図３等及び甲第４号証（特開平９−１３９３２６号公報）の【０００２】、図１等を参照のこと。）、これを引用発明１に適用することを妨げるべき事由は見当たらない。
　そうすると、引用発明１に上記周知技術を適用して、上記相違点１に係る構成とすることは、当業者が容易に想到し得ることである。
（イ）相違点２について
　すずめっきがされた銅線とアルミニウム線が溶接されたコンデンサ用リード線をアルミ電解コンデンサ用のタブ端子とすることは、本件出願日時点における周知技術にすぎず（請求人が提出した甲第２号証（特開平９−４５５７９号公報）の【００１３】等、甲第３号証の【０００２】等、甲第４号証の【０００２】等を参照のこと。）、これを引用発明１に適用することを妨げるべき事由は見当たらない。
　そうすると、引用発明１に上記周知技術を適用して、上記相違点２に係る構成とすることは、当業者が容易に想到し得ることである。
（ウ）相違点３について
　金属材料の脱脂処理液にリン酸ナトリウムまたはポリリン酸ナトリウムを含めることは、本件出願日時点における周知技術にすぎず（請求人が提出した甲第６号証（特開２０００−１４４４４５号公報）の【００１５】ないし【００１７】、表１及び２を参照のこと。）、かつ、引用発明１の洗浄液は、脱脂を目的の１つとするものであるから（上記「（１）ア（オ）」）、引用発明１の洗浄液に上記周知技術を適用してリン酸ナトリウムまたはポリリン酸ナトリウムを含めるようにすることは、当業者が適宜なし得ることであり、そのようにすることの効果も、引用発明１及び上記周知技術の効果から当業者が予測し得る範囲内のものである。
（エ）まとめ
　以上のとおりであるから、本件発明１は、甲第１号証に記載された引用発明１及び周知技術に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものである。
（３）本件発明２について
ア　対比
　本件発明２と引用発明１とを対比すると、上記「（２）ア」で示した点で一致し、上記「（２）ア」で示した相違点１ないし３に加えて以下の点で相違する。
　＜相違点４＞
　本件発明２は洗浄工程を「前記洗浄剤の曇点以上の温度で行う」のに対して、引用発明１の洗浄工程は「温度９０°Ｃ〜９９°Ｃの洗浄液で」行う点。
イ　判断
（ア）相違点１ないし３について
　上記「（２）イ」の「（ア）ないし（ウ）」で判断したとおりである。
（イ）相違点４について
　下記「１−２」で述べるとおり、本件発明２における「洗浄剤の曇点」とはどのようなものであるか不明確ではあるが、洗浄剤は本件発明２も引用発明１もリン系溶剤である点、及び、引用発明１の洗浄液の温度（９０°Ｃ〜９９°Ｃ）は本件特許明細書に実施例として記載されている洗浄処理の温度（８５°Ｃ）（【００５０】、【００５５】）よりも高いことを勘案すると、引用発明１においても、「洗浄剤の曇点以上の温度」で洗浄工程を行っている蓋然性が高いから、上記相違点４は実質的な相違点ではない。
（ウ）まとめ
　以上のとおりであるから、本件発明２は、甲第１号証に記載された引用発明１及び周知技術に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものである。
（４）本件発明３について
ア　対比
　引用発明１における洗浄液の温度は「９０°Ｃ〜９９°Ｃ」であり、本件発明３の「７０〜１００℃」という範囲内の温度である。
　そして、上記「（３）イ（イ）」で述べたとおり、上記相違点４が実質的な相違点でないことを勘案すると、本件発明３と引用発明１は、上記「（２）ア」で示した相違点１ないし３で相違し、その余の点で一致する。
イ　判断
（ア）相違点１ないし３について
　上記「（２）イ」の「（ア）ないし（ウ）」で判断したとおりである。
（イ）まとめ
　以上のとおりであるから、本件発明３は、甲第１号証に記載された引用発明１及び周知技術に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものである。
（５）本件発明４について
ア　対比
　引用発明１における洗浄工程の時間は「約１２分間」であり、本件発明４の「５〜３０分間」という範囲内の時間である。
　そうすると、本件発明４と引用発明１は、上記「（２）ア」で示した相違点１ないし３で相違し、その余の点で一致する。
イ　判断
（ア）相違点１ないし３について
　上記「（２）イ」の「（ア）ないし（ウ）」で判断したとおりである。
（イ）まとめ
　以上のとおりであるから、本件発明４は、甲第１号証に記載された引用発明１及び周知技術に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものである。
（６）本件発明９について
ア　対比
　上記「（２）ア」で示した相違点２と同様に、本件発明９の部品は「タブ端子」であるのに対して、引用発明１は「コンデンサ用リード線」である点で相違するが、それに加えて、本件発明９の部品（タブ端子）は「アルミ電解コンデンサに使用されるものである」のに対して、引用発明１の部品は「コンデンサ用」ではあるものの、「アルミ電解コンデンサ」用であるかは不明である。
　そうすると、本件発明９と引用発明１とを対比すると、上記「（２）ア」で示した点で一致し、上記「（２）ア」で示した相違点１ないし３に加えて以下の点で相違する。
＜相違点５＞
　本件発明９の部品は「アルミ電解コンデンサに使用されるものである」のに対して、引用発明１の部品が「アルミ電解コンデンサ」用であるかは不明である点。
イ　判断
（ア）相違点１ないし３について
　上記「（２）イ」の「（ア）ないし（ウ）」で判断したとおりである。
（イ）相違点５について
　上記「（２）イ」の「（イ）」で述べたとおり、すずめっきがされた銅線とアルミニウム線が溶接されたコンデンサ用リード線をアルミ電解コンデンサ用のタブ端子とすることは、本件出願日時点における周知技術にすぎず、これを引用発明１に適用することを妨げるべき事由は見当たらない。
　そうすると、引用発明１に上記周知技術を適用して、上記相違点５に係る構成とすることは、当業者が容易に想到し得ることである。
（ウ）まとめ
　以上のとおりであるから、本件発明９は、甲第１号証に記載された引用発明１及び周知技術に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものである。
（７）請求項１ないし４、９に係る発明の特許に対する無効理由１−１及び１−２についてのまとめ
　以上のとおりであるから、本件発明１ないし４、９は、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないものである。したがって、無効理由１−１について検討するまでもなく、請求項１ないし４、９に係る発明の特許は特許法第２９条第２項の規定に違反してされたものであるから、同法第１２３条第１項第２号に該当し、無効とすべきものである。
１−２　無効理由４について
　次に、請求項２に係る発明の特許に対する無効理由４（特許法第３６条第６項第２号）について検討する。
　なお、上記「第２」の「２」の「（１）」のとおり、被請求人は、平成２９年１月１３日付けの請求項１ないし９からなる一群の請求項に係る訂正請求が認められないとした場合について、すなわち、訂正前の本件発明２について、上記無効理由４に対する意見は特にないと陳述した。
（１）本件発明２について
　特許請求の範囲の請求項２には「前記洗浄工程を、前記洗浄剤の曇点以上の温度で行う」と記載されているが、上記「洗浄剤の曇点」がどのようなものであるかの定義は、本件特許明細書には記載されていない。
　そこで、「曇点」の一般的な意味について検討すると、請求人が提出した甲第１３号証（化学辞典　第１版　第３７４頁）及び甲第１４号証（化学大辞典３　縮小版　第５８頁及び第５９頁）には「曇り点」又は「曇点」についての意味が解説されているが、それらの記載からみて、「曇点」とは、非イオン界面活性剤の水溶液、若しくは油脂及び石油製品に関するパラメータであると認められる。
　ところが、本件特許明細書に記載の洗浄剤は、非イオン界面活性剤を含むものではなく、油脂又は石油製品でもないから、請求項２に記載の上記「曇点」の意味を、上記甲第１３号証及び甲第１４号証に説明されている一般的な意味であると解釈することは適切ではない。
　そうすると、請求項２の「洗浄剤の曇点」がどのようなものであるか不明であるといわざるを得ず、したがって、請求項２に係る発明（本件発明２）は明確でない。
（２）請求項２に係る発明の特許に対する無効理由４についてのまとめ
　以上のとおりであるから、願書に添付した特許請求の範囲の請求項２の記載は、特許法第３６条第６項第２号の規定に適合するものではない。したがって、請求項２に係る発明の特許は特許法第３６条第６項第２号に規定する要件を満たしていない特許出願に対してされたものであるから、同法第１２３条第１項第４号に該当し、無効とすべきものである。
２　請求項１０ないし１４に係る発明の特許について
（１）本件発明１０について
ア　「ＳｎＰＯｘ（ｘは２〜４を表す）からなる皮膜」について
（ア）請求人の主張
　上記「第４」で示したとおり、訂正後の特許請求の範囲の請求項１０には、「前記溶接部分の少なくとも一部に、ＳｉＯ２換算で厚さ２０ｎｍ以上の、ＳｎＰＯｘ（ｘは２〜４を表す）からなる皮膜が形成されてなる」と記載されているから、訂正後の請求項１０に係る発明（本件発明１０）は訂正前の請求項１０に係る発明と同様に、「前記溶接部分の少なくとも一部に、ＳｎＰＯｘ（ｘは２〜４を表す）からなる皮膜が形成されてなる」という発明特定事項を備えている。
　この発明特定事項に関して、請求人は、審判請求書において次のａないしｅのとおり主張する。（下線は当審で付与した。）
ａ　「（４−３）新規性違反について」の欄
「（４−３−６）　本件発明１０
　　（中略）
（ウ）　構成要件１０−Ｃについて
　構成要件１０−Ｃは、「前記溶接部分の少なくとも一部に、ＳｎＰＯｘ（ｘは２〜４を表す）からなる皮膜が形成されてなることを特徴とする、」である。
　ここで、
甲第７号証によれば、リン酸スズは、「２ＳｎＯ
２
・Ｐ
２
Ｏ
５
・１０Ｈ
２
Ｏ」、「Ｓｎ
３
（ＰＯ
４
）
２
」、「Ｓｎ
２
Ｐ
２
Ｏ
７
」、「ＳｎＰ
２
Ｏ
７
」、「Ｓｎ
２
Ｏ（ＰＯ
４
）
２
」及び「２ＳｎＯ
２
・Ｐ
２
Ｏ
５
」として存在することは記載されているが、「ＳｎＰＯｘ（ｘは２〜４を表す）」として存在することについては記載されていない。すなわち、構成要件１０−Ｃの「ＳｎＰＯｘ（ｘは２〜４を表す）」という化合物は、一般に知られていない化合物であり、そのような化合物を構成要件として含む本件発明１０はそもそも不明確であると認められる。
以下、構成要件１０−Ｃに記載された「ＳｎＰＯｘ（ｘは２〜４を表す）」が一般的な「リン酸スズ」を意味していると仮定して、
　　（以下、省略）」
ｂ　「（４−４）　進歩性違反について」の欄
「（４−４−５）　本件発明１０
　　（中略）
（相違点３）
　本件発明１０は、「溶接部分の少なくとも一部に、ＳｎＰＯｘ（ｘは２〜４を表す）からなる皮膜が形成されて」いるのに対して、甲第１号証には、「溶接部分の少なくとも一部にＳｎＰＯｘ（ｘは２〜４を表す）からなる皮膜が形成されて」いることに関する明示的な記載はない点。
イ　本件発明１０の容易想到性について
　　（中略）
（イ）相違点３
　
上記（４−３−６）（ウ）で述べたとおり、そもそも「ＳｎＰＯｘ（ｘは２〜４を表す）」は不明確であるから、以下においては、本件発明１０に記載された「ＳｎＰＯｘ（ｘは２〜４を表す）」が一般的な「リン酸スズ」を意味していると仮定して説明する。
　　（以下、省略）」
ｃ　「（４−５）　実施可能要件違反について」の欄
「（４−５−１）　本件発明１０について
　　（中略）
　ここで、本件特許明細書の実施例においては、タブ端子を、トリポリリン酸ナトリウムを含む溶剤（商品名：サンウォッシュＬＨ−１、ライオン株式会社製）中に８５℃で１０分間浸漬して洗浄処理を行い、加速試験によりタブ端子の溶接部分に発生したウィスカの数及びその長さを測定している（実施例１）。また、上記洗浄処理の後、さらにリンのイオン注入を行い、同様の加速試験により発生したウィスカの数及びその長さの評価を行っている（実施例２）。しかしながら、当該実施例においては、溶接部に「ＳｎＰＯｘ」が形成されたことや、ＳｎＰＯｘからなる「皮膜」が形成されたことは全く確認されていない。
ここで、上記（４−３−６）（ウ）で述べたとおり、ＳｎＰＯｘ（ｘは２〜４を表す）は一般に知られていない化合物であるから、実施例に記載の方法で実際にＳｎＰＯｘからなる皮膜が形成されているとは到底考えられない。
　また、実施例においては、特定の溶剤を用いて「溶剤処理」を行い、又は特定の条件で「イオン注入」を行っているのみであり、本件特許明細書には、「ＳｎＰＯｘからなる皮膜」に関して、皮膜中にＳｎＰＯｘがどの程度の濃度で分散していれば「ＳｎＰＯｘからなる皮膜」といえるのか等の「皮膜」に関する具体的な説明がないことから、当該実施例に記載された特定の溶剤又は条件以外に、どのような溶剤を用いて「溶剤処理」を行い、また、どのような条件で「イオン注入」を行えば、溶接部に「ＳｎＰＯｘからなる皮膜」が形成されるのかについて理解することができない。
　したがって、
当業者が本件特許明細書の記載内容及び本件特許出願時の技術常識を考慮しても、当該実施例に記載された特定の「溶剤処理」及び「イオン注入」によってＳｎＰＯｘからなる皮膜を形成できたとは認められず、またその特定の溶剤又は条件以外に、どのような溶剤を用いて「溶剤処理」を行い、また、どのような条件で「イオン注入」を行えば溶接部に「ＳｎＰＯｘからなる皮膜」が形成されて、本件発明１０の作用効果を奏するのかが明らかでないことから、本件発明１０は、当業者に期待しうる程度を超える試行錯誤や複雑高度な実験等を必要とするものである。
　　（以下、省略）」
ｄ　「（４―６）　サポート要件違反について」の欄
「（４−６−１）　本件発明１０について
　　（中略）
　しかしながら、当該実施例においては、溶接部に「ＳｎＰＯｘ」が形成されたことや、ＳｎＰＯｘからなる「皮膜」が形成されたことについては全く確認されていない。
ここで、上記（４−３−６）（ウ）で述べたとおり、ＳｎＰＯｘ（ｘは２〜４を表す）は一般に知られていない化合物であることから、実施例に記載の方法で、実際にＳｎＰＯｘからなる皮膜が形成されているとは到底考えられない。したがって、実施例における具体的な「洗浄処理」又は「イオン注入」によって「ＳｎＰＯｘからなる皮膜」が形成されたことは明らかでないため、「溶接部分の少なくとも一部に、ＳｎＰＯｘ（ｘは２〜４を表す）からなる皮膜が形成されて」という構成要件を備えることによって上記所期の課題を解決できることについても明らかでない。
　また仮に、実施例における「洗浄処理」又は「イオン注入」によって、溶接部に「ＳｎＰＯｘからなる皮膜」が形成されているとした場合であっても、実施例においては、特定の溶剤を用いて「溶剤処理」を行い、又は特定の条件で「イオン注入」を行っているのみであり、当該実施例に記載された特定の溶剤又は条件以外の「溶剤処理」又は「イオン注入」によっても、溶接部に「ＳｎＰＯｘからなる皮膜」が形成されることや、それによって上記所期の課題を解決できることは明らかでない。
　すなわち、本件発明１０の構成要件を備えれば本件発明１０の課題を解決できることを、発明の詳細な説明に当業者が認識できる程度に記載も示唆もされておらず、また、その記載や示唆がなくとも当業者が本件特許出願時の技術常識に照らし本件発明１０の課題を解決できると認識できる範囲のものでもない。
　したがって、当業者が本件特許明細書の記載内容及び出願時の技術常識を考慮しても、本件発明１０における当該特定の内容を特許請求の範囲の全範囲に拡張乃至一般化できるものではない。
　　（以下、省略）」
ｅ　「（４−７）　明確性要件違反について」の欄
「（４−７−２）　本件発明１０について
　本件発明１０は、「前記溶接部分の少なくとも一部に、ＳｎＰＯｘ（ｘは２〜４を表す）からなる皮膜が形成されてなることを特徴とする、」という構成要件を備えている。
しかしながら、上記（４−３−６）（ウ）で述べたとおり、スズとリンと酸素とからなる化合物としては、例えば、「２ＳｎＯ
２
・Ｐ
２
Ｏ
５
・１０Ｈ
２
Ｏ」、「Ｓｎ
３
（ＰＯ
４
）
２
」、「Ｓｎ
２
Ｐ
２
Ｏ
７
」、「ＳｎＰ
２
Ｏ
７
」、「Ｓｎ
２
Ｏ（ＰＯ
４
）
２
」及び「２ＳｎＯ
２
・Ｐ
２
Ｏ
５
」は知られているが、ＳｎＰＯｘは一般に知られていない化合物である。
　また、本件特許明細書には、「ＳｎＰＯｘからなる皮膜」に関して、「ＳｎＰＯｘ皮膜またはスズ表面ＰＯｘ皮膜の厚みが、ＳｉＯ２換算で２０ｎｍ以上である」（段落００２５）と記載されているものの、どの程度の濃度でＳｎＰＯｘが分散しているのか等について記載されておらず、また、実施例においても、ＳｎＰＯｘからなる皮膜が形成されたことや、皮膜の厚みについては一切評価を行っていないことから、「皮膜」が具体的にどのような形態を意味するのかが理解できない。
　
したがって、「ＳｎＰＯｘ（ｘは２〜４を表す）からなる皮膜」の意義が不明であるから、そのような構成要件を含む本件発明１０は不明確である。
　　（以下、省略）」
　以上のとおり、請求人が本件発明１０に対して主張する無効理由１−１ないし４のいずれも、「ＳｎＰＯｘ（ｘは２〜４を表す）という化合物は、一般に知られていない化合物である」ことをその理由又はその理由の前提に含んでいるから、まずその点について検討する。
（イ）被請求人の主張
　被請求人は、請求人の上記「ＳｎＰＯｘ（ｘは２〜４を表す）という化合物は、一般に知られていない化合物である」という主張に対して、審判事件答弁書の「７．」の「（３）」において、
「タブ端子の溶接部分に存在するＳｎの表面にリン酸スズからなる皮膜を形成する場合のように、化学組成が異なる物質からなる皮膜形成を行なった場合、通常は、皮膜の化学構造は、図２に示すような「非結晶状態」で多くの構造欠陥が存在するものと推測される。即ち、タブ端子の溶接部分に存在するＳｎの表面に形成されたリン酸スズからなる皮膜は、Ｓｎ（スズ）やＰ（リン）に結合しているＯ（酸素)の数が、単結晶や精製された化合物のような化学量論性の高い状態にあるリン酸スズとは異なった、化学構造を有しているものと考えられる。
　上記したように、本件訂正発明１及び１０の「ＳｎＰＯｘ（ｘは２〜４を表す）からなる皮膜」とは、上記したような化学量論的に完全なリン酸スズではなく、タブ端子の溶接部の表面に形成される化学量論的に不完全なリン酸スズからなる皮膜を意味していることは、当業者であれば当然に理解するものである。」
と主張する。
　そして、リン酸スズが非結晶状態で存在することについて、平成３０年４月１０日付け意見書の「５．」の「（３）」において、「甲第７号証においては、「Ｓｎ２Ｐ２Ｏ７（＝ＳｎＰＯ３．５）」が無定形粉末であることが記載されております。そして、乙第２０号証の１及び２（化学大辞典）に記載のとおり、「無定形」という用語は「非晶質」と同義ですので、「ＳｎＰＯｘ（ｘは２〜４を表す）」に属する化合物が「非晶質状態」で存在し得ることが明確に示唆されております。」と主張する。
　また、リン酸スズの表記に関して、同意見書の「５．」の「（３）」において、「甲第７号証に記載の「Ｓｎ２Ｐ２Ｏ７」という式は、組成式として該無定形（非晶質性）粉末中に存在する元素の種類とその比率を示しているものに過ぎませんので、「Ｓｎ２Ｐ２Ｏ７」と表記するか「ＳｎＰＯ３．５」と表記するかによって、指す化合物が変わることはありません。」と主張するとともに、本件出願前に公開された乙第１２号証（特開２００４−３１２１７号公報）の【００２６】、乙第１３号証（特開平８−１０２３３１号公報）の【００１６】、乙第１４号証（特開２００５−３１０８００号公報）の【００４９】の各記載を例示して、「「ＳｎＰＯ３．５」と小数を交えて表記することは何ら珍しいことではな」いと主張する。さらに、平成２９年１０月２５日付け上申書の「５．」の「（２）」において、乙第１０号証（結果報告書「Ｐイオン注入及び注入品のＸＰＳ分析」）及び乙第１１号証（結果報告書「Ｐイオン注入及び注入品のＸＰＳ分析２」）を示して、「ＳｎＰＯｘ」との表現は一般的に用いられていると主張する。
　また、同意見書の「５．」の「（３）」において、甲第７号証について、「ここでは単に「リン酸スズ」として代表的な化合物を列記しているに過ぎず、ここに記載のないものは存在し得ないということを意味する記載ではありません。」と主張するとともに、上記乙第１２号証ないしい乙第１４号証は、「「ＳｎＰＯｘ（ｘは２〜４を表す）」に属する「ＳｎＰＯ３．５」と表記される化合物が、本件出願時前現に存在し知られたことも示して」いると主張する。
（ウ）当審の判断
　「ＳｎＰＯｘ（ｘは２〜４を表す）」という化合物が、一般に知られていない化合物であるか否かについて検討する。
　請求人が提出した甲第７号証（化学大辞典９　縮刷版　第８０７頁）には「リン酸スズ」についての一般的な解説として、「オルトリン酸スズ（II），ピロリン酸スズ（II），メタリン酸スズ（II），ピロリン酸スズ（IV）などがある。」と記載されており、その後の「［２］ピロリン酸スズ（II）」の欄には「Sn2P2O7＝411.35　製法　（中略）　性質　無色の無定形粉末．（以下省略）」と記載されている。
　ここで、上記「無定形」の技術的意味は、被請求人が提出した乙第２０号証の１（化学大辞典７）の「ひしょうしつ　非晶質　（中略）　→　無定形」という記載、及び、乙第２０号証の２（化学大辞典９）の「むていけい　無定形　（中略）　原子配列の立場からいうと，結晶格子（原子の周期的配列）がほとんど認められない固体の状態を示す形容語で，結晶質−−に対し，無定形−−といわれる．この意味では非晶質が全く同じように用いられる．（以下省略）」という記載を参酌すると、「非晶質」と同義であって、結晶格子がほとんど認められない固体の状態を示すものである。
　そして、「非晶質」である化合物をその組成比で表現することは普通に行われていることであり、被請求人が提出した乙第１２号証（特開２００４−３１２１７号公報）の【００２６】、乙第１３号証（特開平８−１０２３３１号公報）の【００１６】、乙第１４号証（特開２００５−３１０８００号公報）の【００４９】には、上記ピロリン酸スズ（II）（Ｓｎ２Ｐ２Ｏ７）と同じ組成比である化合物に対して、「ＳｎＰＯ３．５」という表記が用いられている。
　してみると、甲第７号証に記載のピロリン酸スズ（II）（Ｓｎ２Ｐ２Ｏ７）は、非晶質（無定形）であるから、「ＳｎＰＯ３．５」とも表現しうるものであり、そうすると、「ＳｎＰＯｘ（ｘは２〜４を表す）」という化合物に含まれるものであるということができる。また、乙第１２号証ないし乙第１４号証に記載の上記「ＳｎＰＯ３．５」という化合物も、「ＳｎＰＯｘ（ｘは２〜４を表す）」という化合物に含まれるものである。
　したがって、少なくとも甲第７号証及び乙第１２号証ないし乙第１４号証の記載からみて、「ＳｎＰＯｘ（ｘは２〜４を表す）」という化合物が、一般に知られていない化合物であるということはできない。
　なお、請求人は、平成３０年８月２日付け審判事件弁駁書の「７．１」の「（２）」の欄において「ＳｎＰＯ３．５とも表記しうるピロリン酸スズ（ＩＩ）が知られているとしても、「ＳｎＰＯｘ（ｘは２〜４を表す）」の全体が一般的に知られているとまでは認められない。」とも主張するが、「ＳｎＰＯ３．５」とも表現しうるピロリン酸スズ（II）は非晶質（無定形）であるから、実際に測定した組成比におけるＯの数値がある程度の幅を有することは明らかであることや、被請求人が提出した乙第１５号証（特開２００２−１９８０２５号公報。特に、【００１６】を参照。）及び乙第１６号証（特開２００４−１４６３４８号公報。特に、【００１６】を参照。）に「スズ化合物」又は「リン酸錫」として「ＳｎＰＯ４」という化合物が記載されていることを勘案すると、請求人の上記主張を採用することはできない。
　さらに、請求人は上記「７．１」の上記「（２）」の欄において、甲第７号証には、ピロリン酸スズ（II）（Ｓｎ２Ｐ２Ｏ７）が無定形「粉末」であると記載されているから、甲第７号証の記載を参酌しても、粉末ではないタブ端子の溶接部分の「ＳｎＰＯｘ（ｘは２〜４を表す）からなる皮膜」が「非結晶状態」で形成されることは明らかではない旨を主張する。
　しかしながら、ピロリン酸スズ（II）等のリン酸スズをタブ端子の溶接部分に形成した際には、無定形にならないことを示す証拠は示されておらず、粉末として形成した際に「無定形」になるのであれば、タブ端子の溶接部分に形成しても同様に「無定形」になると解するのが自然であるから、請求人の上記主張を採用することはできない。
イ　無効理由１−１（特許法第２９条第１項第３号）及び無効理由１−２（特許法第２９条第２項）について
（ア）甲第１号証に記載された発明（引用発明２）
　請求人が提出した甲第１号証の記載事項は、上記「１」の「１−１」の「（１）」の「ア」で摘示したとおりであり、当該「ア」の「（ア）」ないし「（ケ）」の記載事項及び図面の記載を総合すると、甲第１号証には、次の発明（以下、「引用発明２」という。）が記載されている。
「すずめっきされた銅線１０の端部に、アルミニウム線１１が溶接されたコンデンサ用リード線１。」
（イ）対比
　本件発明１０と引用発明２とを対比する。
ａ　引用発明２の「銅線１０」は、本件発明１０の「リード線」の「芯材」に相当し、また、引用発明２の前記「銅線１０」は「すずめっきされた」ものであるから、その「表面にスズからなる金属層が形成されて」いるといえる。そうすると、引用発明２の「すずめっきされた銅線１０」は、本件発明１０の「芯材表面にスズからなる金属層が形成されてなるリード線」に相当する。
ｂ　引用発明２の「アルミニウム線１１」は、本件発明１０の「アルミ芯線」に相当する。
ｃ　引用発明２の「コンデンサ用リード線１」は、コンデンサに用いられる「部品」である点で、本件発明１０の「タブ端子」と共通する。
　そうすると、本件発明１０と引用発明２は、
「芯材表面にスズからなる金属層が形成されてなるリード線端部に、アルミ芯線が溶接されてなるタブ端子。」
である点で一致し、次の各点において相違する。
＜相違点１＞
　本件発明１０のアルミ芯線は「圧扁部」を有しているのに対して、引用発明２のアルミニウム線１１が圧扁部を有するか不明である点。
＜相違点２＞
　本件発明１０の部品は「タブ端子」であるのに対して、引用発明２は「コンデンサ用リード線」である点。
＜相違点３＞
　本件発明１０は、「溶接部分の少なくとも一部に、ＳｉＯ２換算で厚さ２０ｎｍ以上の、ＳｎＰＯｘ（ｘは２〜４を表す）からなる皮膜が形成されてなる」のに対して、引用発明２の溶接部分にそのような皮膜が形成されているか不明である点。
（ウ）無効理由１−１（特許法第２９条第１項第３号）についての判断
　上述のとおり、本件発明１０と引用発明２は、上記相違点１ないし３で相違するから、本件発明１０は、甲第１号証に記載された発明であるということはできない。
（エ）無効理由１−２（特許法第２９条第２項）についての判断
　上記各相違点について検討する。
ａ　相違点１について
　上記「１」の「１−１」の「（２）」の「イ」の「（ア）」で説示したように、コンデンサ用リード線に用いられるアルミニウム線に圧扁部を設けることは、本件出願日時点における周知技術にすぎず（請求人が提出した甲第３号証（特開平９−２１３５９２号公報）の【０００２】、図３等及び甲第４号証（特開平９−１３９３２６号公報）の【０００２】、図１等を参照のこと。）、これを引用発明２に適用することを妨げるべき事由は見当たらない。
　そうすると、引用発明２に上記周知技術を適用して、上記相違点１に係る構成とすることは、当業者が容易に想到し得ることである。
ｂ　相違点２について
　上記「１」の「１−１」の「（２）」の「イ」の「（イ）」で説示したように、すずめっきがされた銅線とアルミニウム線が溶接されたコンデンサ用リード線をアルミ電解コンデンサ用のタブ端子とすることは、本件出願日時点における周知技術にすぎず（請求人が提出した甲第２号証（特開平９−４５５７９号公報）の【００１３】等、甲第３号証の【０００２】等、甲第４号証の【０００２】等を参照のこと。）、これを引用発明２に適用することを妨げるべき事由は見当たらない。
　そうすると、引用発明２に上記周知技術を適用して、上記相違点２に係る構成とすることは、当業者が容易に想到し得ることである。
ｃ　相違点３について
　上記「１」の「１−１」の「（１）」の「イ」で説示したように、甲第１号証には、引用発明２の「すずめっきされた銅線１０の端部に、アルミニウム線１１が溶接されたコンデンサ用リード線１」を製造する工程に、「すずめっきされた銅線１０とアルミニウム線１１とが溶接されたコンデンサ用リード線１を、アルミニウム及びその合金用の非エッチング型弱アルカリクリーナ（商品名：ファインクリーナ３１５）などの洗浄液によって洗浄する工程」が含まれること、及び、前記洗浄する工程において、「温度９０°Ｃ〜９９°Ｃの洗浄液でコンデンサ用リード線１を約１２分間洗浄する」ことが記載されている。
　一方、本件特許明細書には、「ＳｎＰＯｘ（ｘは２〜４を表す）からなる皮膜」を、タブ端子をリン系溶剤で洗浄することによって形成することが記載されおり、その洗浄温度及び洗浄時間については「７０〜１００℃」（【００４１】、【請求項３】）及び「５〜３０分間」（【００４２】、【請求項４】）が好ましいと記載されている。
　そして、上記「１」の「１−１」の「（２）」の「ア」の「（オ）」で説示したように、甲第１号証に記載の上記「ファインクリーナ３１５」は、縮合リン酸塩を２５〜３０質量％含むものであるから、甲第１号証の上記洗浄液は本件特許明細書に記載の「リン系溶剤」に含まれるものであり、それを用いた洗浄温度及び洗浄時間も、本件特許明細書において好ましいと範囲として規定されている範囲内のものである。
　そうすると、引用発明２のコンデンサ用リード線１を製造する際には、本件特許明細書に記載の洗浄液、洗浄温度、及び洗浄時間に含まれる洗浄液、洗浄温度、及び洗浄時間で洗浄されているから、引用発明２の溶接部分の少なくとも一部にも、本件発明１０と同様にＳｎＰＯｘ（ｘは２〜４を表す）からなる皮膜が形成されていると解される。
　ただし、上記「第３」の「４」の「（１）」の「イ」の「（ウ）」で説示したように、本件特許明細書の記載によれば、「ＳｉＯ２換算で厚さ２０ｎｍ以上の、ＳｎＰＯｘ（ｘは２〜４を表す）からなる皮膜」は、リン系溶剤による洗浄のみでは形成されておらず、リン系溶剤によって洗浄する工程の後に、イオン注入を行うことによって形成されているのに対して、甲第１号証には、イオン注入を行うことについては何ら記載も示唆もない。したがって、引用発明２の溶接部分の少なくとも一部には、「ＳｎＰＯｘ（ｘは２〜４を表す）からなる皮膜」が形成されているとはいえるが、「ＳｉＯ２換算で厚さ２０ｎｍ以上の、ＳｎＰＯｘ（ｘは２〜４を表す）からなる皮膜」が形成されているとまではいうことができない。
　なお、本件訂正によって訂正前の請求項１０に対して付加された「ＳｉＯ２換算で厚さ２０ｎｍ以上の」という事項は、上記「第３」の「４」の「（２）」の「イ」の「（イ）」で説示したように、本件訂正前の請求項１２に記載されていた事項であり、当該請求項１２に対しては、無効理由１−１（新規性）及び１−２（進歩性）は主張されていない。また、平成３０年８月２日付け審判事件弁駁書の「７．１」の「（２）」の欄をみても「さらに、訂正後の請求項１０、１３及び１４は、新規性欠如及び進歩性欠如に基づく無効理由を有する。」と記載されているだけであって、「ＳｉＯ２換算で厚さ２０ｎｍ以上の」という事項に関する新規性欠如及び進歩性欠如の具体的理由は示されていない。そして、請求人が提出した他の証拠方法のいずれにも、ＳｉＯ２換算で厚さ２０ｎｍ以上の、ＳｎＰＯｘ（ｘは２〜４を表す）からなる皮膜を形成すること、あるいは、リン系溶剤によって洗浄する工程の後に、イオン注入を行うことは、記載も示唆もされていない。
　したがって、本件発明１０は、甲第１号証に記載された引用発明２に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるということはできない。
ウ　無効理由２（特許法第３６条第４項第１号）について
　上記「ア」の「（ア）」の「ｃ」で摘示したとおり、請求人は、「ＳｎＰＯｘ（ｘは２〜４を表す）は一般に知られていない化合物であるから、実施例に記載の方法で実際にＳｎＰＯｘからなる皮膜が形成されているとは到底考えられない。」と主張する。
　また、請求人は、審判請求書の「（４−５−１）」において、「当業者が本件特許明細書の記載内容及び本件特許出願時の技術常識を考慮しても、当該実施例に記載された特定の「溶剤処理」及び「イオン注入」によってＳｎＰＯｘからなる皮膜を形成できたとは認められず、またその特定の溶剤又は条件以外に、どのような溶剤を用いて「溶剤処理」を行い、また、どのような条件で「イオン注入」を行えば溶接部に「ＳｎＰＯｘからなる皮膜」が形成されて、本件発明１０の作用効果を奏するのかが明らかでないことから、本件発明１０は、当業者に期待しうる程度を超える試行錯誤や複雑高度な実験等を必要とするものである。」旨を主張する。
　しかしながら、上記「ア」の「（ウ）」で説示したとおり、「ＳｎＰＯｘ（ｘは２〜４を表す）」という化合物が、一般に知られていない化合物であるということはできない。
　また、本件特許明細書の【００４９】ないし【００５２】には溶剤処理の実施例が、【００５３】ないし【００５４】にはイオン注入の実施例が、それぞれ具体的に記載されており、さらに、【００４０】ないし【００４２】、【００４８】には、上記実施例以外の条件等についても記載されている。そして、【００３７】には「本発明者らがＡＥＳスペクトル分析等によって分析したところ、溶接部分の表面にはＳｎＰＯｘ（ｘは２〜４）のリン酸化合物が形成されていることを確認した。」と記載されており、ＳｎＰＯｘの存在やその厚みは、被請求人が平成２９年１月１３日付け審判事件答弁書の「７．」の「（３）」で主張するとおりＡＥＳ分析やＸＰＳ分析によって確認できるものである。したがって、以上を総合勘案すると、本件発明１０は、当業者に期待しうる程度を超える試行錯誤や複雑高度な実験等を必要とするものであるということはできない。
　なお、請求人は、平成２９年１０月１１日付け上申書の「（７−４）」において、本件特許明細書の【００５０】に記載の「商品名：サンウォッシュＬＨ−１、ライオン株式会社製」には、トリポリリン酸ナトリウムが含まれておらず、リンの含有量は０．１ｐｐｍであるから、本件特許明細書には、リンがほとんど含有されていない洗浄液を用いて洗浄処理を行った実施例しか記載されておらず、実施可能要件、サポート要件、及び明確性要件を充足していない旨を主張している。
　しかしながら、上記【００５０】には、「上記のタブ端子を、３０重量％のトリポリリン酸ナトリウムを含む溶剤（商品名：サンウォッシュＬＨ−１、ライオン株式会社製）中に８５℃で１０分間浸漬して洗浄処理を行った。」と記載されており、本件特許明細書の全体の記載も参酌すれば、溶剤の商品名の有無にかかわらず、当該記載から「タブ端子を、３０重量％のトリポリリン酸ナトリウムを含む溶剤中に８５℃で１０分間浸漬して洗浄処理を行った」という技術事項を把握することができるから、「サンウォッシュＬＨ−１」という商品に上記溶剤の商品名にリンがほとんど含有されていないとしても、すなわち、上記溶剤の商品名に誤りがあったとしても、実施可能要件、サポート要件、及び明確性要件を充足していないとまではいうことはできない。
　また、請求人は平成２９年９月６日付け口頭審理陳述要領書の「（１−４）」において、本件特許明細書の実施例１の追試を行い（甲第２５号証及び甲第２６号証）、その結果、厚み２０ｎｍ以上のＳｎＰＯｘからなる皮膜の形成は認められなかったから、実施可能要件、サポート要件、及び明確性要件を充足していない旨を主張している。
　しかしながら、請求人が行った上記追試においては、リン系溶剤による洗浄のみが行われたものであり、その後にイオン注入は行われていない。そして、上記「第３」の「４」の「（１）」の「イ」の「（ウ）」で説示したように、本件特許明細書の記載によれば、「ＳｉＯ２換算で厚さ２０ｎｍ以上の、ＳｎＰＯｘ（ｘは２〜４を表す）からなる皮膜」は、リン系溶剤による洗浄のみでは形成されておらず、リン系溶剤によって洗浄する工程の後に、イオン注入を行うことによって形成されていることを勘案すると、上記追試において厚み２０ｎｍ以上のＳｎＰＯｘからなる皮膜の形成が認められなかったということのみでは、実施可能要件、サポート要件、及び明確性要件を充足していないとまではいうことはできない。
エ　無効理由３（特許法第３６条第６項第１号）について
　本件発明１０が解決しようとする課題は、本件特許明細書の【００１４】に記載されているように、「鉛フリーのスズメッキが施されたリード線を、そのままタブ端子に使用した場合であっても、溶接部分からのスズウィスカが発生しない」ようにすることであるが、上記「ア」の「（ア）」の「ｄ」で摘示したとおり、請求人は、「ＳｎＰＯｘ（ｘは２〜４を表す）は一般に知られていない化合物であることから、実施例に記載の方法で、実際にＳｎＰＯｘからなる皮膜が形成されているとは到底考えられない」ため、本件発明１０は上記課題を解決することができない旨を主張する。
　さらに、請求人は、仮に、実施例における「洗浄処理」又は「イオン注入」によって上記課題が解決できたとしても、実施例以外の「洗浄処理」又は「イオン注入」によっても上記課題が解決できることは明らかでないから、本件発明１０の範囲にまで拡張又は一般化することはできない旨を主張する。
　しかしながら、上記「ア」の「（ウ）」で説示したとおり、「ＳｎＰＯｘ（ｘは２〜４を表す）」という化合物が、一般に知られていない化合物であるということはできず、かつ、上記「ウ」で説示したとおり、実施例に記載された特定の「溶剤処理」及び「イオン注入」以外についても、当業者に期待しうる程度を超える試行錯誤や複雑高度な実験等を必要とするものでもない。
　そして、本件特許明細書の【００４８】には、「溶接部分の表面に形成されたＳｎＰＯｘのリン系化合物皮膜またはＳｎ表面状に形成されたＰＯｘ皮膜の厚みを、ＳｉＯ２換算で２０ｎｍ以上とすることができ、このような厚みのリン系化合物皮膜が形成されることにより、タブ端子の溶接部分でのウィスカ発生を抑制することができる。」という記載とともに、ＳｎＰＯｘの皮膜の厚みをＳｉＯ２換算で厚さ２０ｎｍ以上とするための、イオン注入量の好ましい範囲は「１．０×１０５〜１．０×１０２０ｃｍ−２程度」であることが明記されている。さらに、本件特許明細書の実施例の欄には、溶剤処理の後に上記の好ましい範囲内の「１×１０１６ｃｍ−２」でイオン注入を行った実施例２について、ウィスカの数及び長さの測定結果が示されており（【表１】参照。）、「針状のウィスカは全く発生せず」（【００５４】）ということ、すなわち、上記課題が解決できていることが確認されている。
　そうすると、本件特許明細書の記載により、当業者であれば、「溶接部分の少なくとも一部に、ＳｉＯ２換算で厚さ２０ｎｍ以上の、ＳｎＰＯｘ（ｘは２〜４を表す）からなる皮膜が形成されてなること」によって、上記課題を解決できることを認識できるから、本件発明１０は、本件特許明細書の記載により当業者が発明の課題を解決できると認識できる範囲のものであるといえる。したがって、本件発明１０は、発明の課題が解決できることを当業者が認識できるように記載された範囲を超えるものであるということはできない。
オ　無効理由４（特許法第３６条第６項第２号）について
　上記「ア」の「（ア）」の「ｃ」で摘示したとおり、請求人は、「ＳｎＰＯｘは一般に知られていない化合物であ」り、「ＳｎＰＯｘ（ｘは２〜４を表す）からなる皮膜」の具体的形態も理解できないから、本件発明１０は明確でない旨を主張する。
　しかしながら、上記「ア」の「（ウ）」で説示したとおり、「ＳｎＰＯｘ（ｘは２〜４を表す）」という化合物が、一般に知られていない化合物であるということはできず、また、皮膜の化学構造についても、被請求人が主張するように「非結晶状態」であると解されるから、「ＳｎＰＯｘ（ｘは２〜４を表す）からなる皮膜」という記載が不明確であるということはできない。
　したがって、本件発明１０は明確でないということはできない。
　なお、請求人は、訂正前の請求項１２に係る発明について、審判請求書の「（４−７−４）」において、「そもそもＳｉＯ２換算で」の厚みの意味するところが全く理解できない。」と主張する。
　本件発明１０も「ＳｉＯ２換算で厚さ２０ｎｍ以上の」という発明特定事項を有するものであるから、上記主張についても検討すると、被請求人が審判事件答弁書の「７．」の「（５）」で述べているとおり、ＡＥＳ分析等の深さ方向分析において、「ＳｉＯ２換算」で厚みを表すことは周知であるから、請求人の上記主張を採用することはできない。
　また、請求人は、平成２９年１０月１１日付け上申書の「（７−３−２）」において、訂正によって請求項１０に追加された「ＳｉＯ２換算で厚さ２０ｎｍ以上」という事項は数値範囲の上限が示されていないから不明確である旨を主張している。
　しかしながら、数値範囲の上限が示されていないということのみから直ちに発明が不明確であるということはできず、上記「エ」で示した本件発明１０が解決しようとする課題からみて、上限を特定しなければならない合理的理由も見いだせないから、請求人の上記主張は採用することができない。
カ　本件発明１０についてのまとめ
　以上のとおり、本件発明１０は、甲第１号証に記載された発明ではないから、特許法第２９条第１項第３号に該当するものではない。
　また、本件発明１０は、甲第１号証に記載された引用発明２に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものではないから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないものではない。
　また、本件発明１０は、当業者に期待しうる程度を超える試行錯誤や複雑高度な実験等を必要とするものではないから、本件特許の発明の詳細な説明の記載は、本件発明１０について、特許法第３６条第４項第１号に規定する要件を満たすものである。
　さらに、本件発明１０は、発明の課題が解決できることを当業者が認識できるように記載された範囲を超えるものではなく、明確でないというものでもないから、本件特許の特許請求の範囲の請求項１０の記載は、特許法第３６条第６項第１号及び第２号に規定された要件を満たすものである。
（２）本件発明１２について
ア　無効理由２（特許法第３６条第４項第１号）、無効理由３（特許法第３６条第６項第１号）、無効理由４（特許法第３６条第６項第２号）について
（ア）請求人の主張
　請求人は、審判請求書において、訂正前の請求項１２は訂正前の請求項１０を引用するものであるから、訂正前の請求項１２に係る発明についても、訂正前の請求項１０に係る発明と同様の理由で、特許法第３６条第４項第１号、特許法第３６条第６項第１号及び第２号に規定された要件を満たしていない旨を主張する。さらに、訂正前の請求項１２に記載の「ＳｉＯ２換算で」の厚みの意味するところが全く理解できないから、その点においても、特許法第３６条第６項第２号に規定された要件を満たしていない旨を主張する。
　また、請求人は、審判請求書において、訂正前の請求項１１については、ＰＯｘ（ｘは２〜４を表す）は一般に知られていない化合物であるから、特許法第３６条第４項第１号、特許法第３６条第６項第１号及び第２号に規定された要件を満たしていない旨を主張する。
　そして、請求人は、平成３０年８月２日付け審判事件弁駁の「７．１」の「（３）」において、訂正後の請求項１２は、訂正前の請求項１０及び１１における発明特定事項を有していることも考慮すると、本件発明１２（訂正後の請求項１２に係る発明）についても、審判請求書において訂正前の請求項１０ないし１２に対して主張したのと同様の理由で、特許法第３６条第４項第１号、特許法第３６条第６項第１号及び第２号に規定された要件を満たしていない旨を主張する。
（イ）当審の判断
ａ　「ＳｎＰＯｘ（ｘは２〜４を表す）からなる皮膜が形成され」について
　上記「（１）」の「ア」の「（ウ）」で説示したとおり、少なくとも甲第７号証及び乙第１２号証ないし乙第１４号証の記載からみて、「ＳｎＰＯｘ（ｘは２〜４を表す）」という化合物が、一般に知られていない化合物であるということはできない。
　そうすると、本件発明１０の「ＳｎＰＯｘ（ｘは２〜４を表す）からなる皮膜が形成され」という発明特定事項について上記「（１）」の「ウ」ないし「オ」で説示したのと同様の理由で、本件発明１２の「ＳｎＰＯｘ（ｘは２〜４を表す）からなる皮膜が形成され」という発明特定事項についても、当業者に期待しうる程度を超える試行錯誤や複雑高度な実験等を必要とするものではなく、発明の課題が解決できることを当業者が認識できるように記載された範囲を超えるものではなく、明確でないというものでもない。
ｂ　「ＰＯｘ（ｘは２〜４を表す）からなる皮膜が形成され」について
　請求人が提出した甲第１１号証（特開２００２−１６１３９６号公報）には、
（ａ）「【請求項３】電子部品用リードフレーム等の板状素材上に形成される錫−銀合金めっき皮膜の製造方法であって、
前記錫−銀合金めっき皮膜の表面をリン酸化合物及び／又はカルボン酸化合物を含む溶液により洗浄処理する工程を備えた
（ｂ）「【００８５】（実施例１）三リン酸ナトリウムを含む処理液で処理した後、更に
リン酸化合物とカルボン酸化合物を含む溶液で錫−銀合金めっき皮膜８の表面を洗浄処理する工程を加えた
【００８６】リン酸化合物としては、リン酸、三リン酸ナトリウム、リン酸水素二ナトリウム、亜リン酸、亜リン酸ナトリウム、亜リン酸水素ナトリウム、ピロリン酸ナトリウム等が用いられる。本実施例では濃度７０ｇ／Ｌの亜リン酸水素ナトリウムと、濃度３０ｇ／Ｌのピロリン酸ナトリウムと、カルボン酸化合物として、濃度４０ｇ／Ｌのピロリジン−２−カルボン酸とを含む６０℃の水溶液に３０秒間浸漬して処理した。」
（ｃ）「【００９０】更に本実施例においては、形成された錫−銀合金めっき皮膜８に含まれる物質の微量分析を行った。錫−銀合金めっき皮膜８の微量分析は、ＴＯＦ−ＳＩＭＳ／Ｐｈｙｓｉｃａｌ　Ｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃｓ社製　ＴＲＩＦＴを使用した飛行時間型二次イオン質量分析法を用いた。なお、一次イオン種Ｇａ＋、二次イオン種Ｐｏｓｉｔｉｖｅ／Ｎｅｇａｔｉｖｅで測定した。
分析の結果、この錫−銀合金めっき皮膜８表面には分子量３１、６３、７９に相当するリン化合物Ｐ、ＰＯ
２
、ＰＯ
３
が測定された
と記載されており（下線は当審で付与した。）、これらの記載を総合すると、錫−銀合金めっき皮膜の表面をリン酸化合物を含む溶液により洗浄処理することにより、前記錫−銀合金めっき皮膜の表面に「ＰＯ２、ＰＯ３」といったリン化合物が形成される。
　そして、上記「ＰＯ２、ＰＯ３」は、「ＰＯｘ（ｘは２〜４を表す）」に含まれるから、ＰＯｘ（ｘは２〜４を表す）は一般に知られていない化合物であるということはできない。そうすると、本件発明１２の「ＰＯｘ（ｘは２〜４を表す）からなる皮膜が形成され」という発明特定事項は、当業者に期待しうる程度を超える試行錯誤や複雑高度な実験等を必要とするものではなく、発明の課題が解決できることを当業者が認識できるように記載された範囲を超えるものではなく、明確でないというものでもない。
ｃ　「前記ＳｎＰＯｘ皮膜またはスズ表面ＰＯｘ皮膜の厚みが、ＳｉＯ２換算で２０ｎｍ以上である」について
　本件発明１２の「ＳｉＯ２換算で２０ｎｍ以上」という発明特定事項についても、本件発明１０の「ＳｉＯ２換算で２０ｎｍ以上」という発明特定事項について上記「（１）」の「ウ」ないし「オ」で説示した理由と同様の理由で、当業者に期待しうる程度を超える試行錯誤や複雑高度な実験等を必要とするものではなく、発明の課題が解決できることを当業者が認識できるように記載された範囲を超えるものではなく、明確でないというものでもない。
イ　本件発明１２についてのまとめ
　以上のとおり、本件発明１２は、当業者に期待しうる程度を超える試行錯誤や複雑高度な実験等を必要とするものではないから、本件特許の発明の詳細な説明の記載は、本件発明１０について、特許法第３６条第４項第１号に規定する要件を満たすものである。
　さらに、本件発明１２は、発明の課題が解決できることを当業者が認識できるように記載された範囲を超えるものではなく、明確でないというものでもないから、本件特許の特許請求の範囲の請求項１２の記載は、特許法第３６条第６項第１号及び第２号に規定された要件を満たすものである。
（３）本件発明１３について
ア　無効理由１−１（特許法第２９条第１項第３号）及び１−２（特許法第２９条第２項）について
　本件発明１３は、本件発明１０の発明特定事項を全て含み、当該発明特定事項に対して、さらに「針状のウィスカが実質的に存在しない」という発明特定事項を付加したものであるから、上記「（１）」の「ア」及び「イ」で説示した理由と同様の理由で、本件発明１３は、甲第１号証に記載された発明であるということはできず、かつ、甲第１号証に記載された引用発明２に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるということもできない。
イ　無効理由２（特許法第３６条第４項第１号）、無効理由３（特許法第３６条第６項第１号）、無効理由４（特許法第３６条第６項第２号）について
（ア）請求人の主張
　請求人は、審判請求書において、訂正前の請求項１３は訂正前の請求項１０を引用するものであるから、訂正前の請求項１３に係る発明についても、訂正前の請求項１０に係る発明と同様の理由で、特許法第３６条第４項第１号及び特許法第３６条第６項第１号に規定された要件を満たしていない旨を主張する。
　そして、請求人は、平成２９年１０月１１日付け上申書の「（７−３）」及び平成３０年８月２日付け審判事件弁駁書の「７．１」の「（２）」において、訂正後の請求項１０が訂正前の請求項１２における「ＳｉＯ２換算で２０ｎｍ以上」という発明特定事項を有していることも考慮すると、当該請求項１０を引用する訂正後の請求項１３については、審判請求書において訂正前の請求項１３に対して主張した無効理由に加えて、訂正前の請求項１２についての明確性要件違反（特許法第３６条第６項第２号）と同様の無効理由４が新たに生じた旨を主張する。
（イ）当審の判断
　本件発明１０について上記「（１）」の「ウ」ないし「オ」で説示した理由と同様の理由で、本件発明１３は、当業者に期待しうる程度を超える試行錯誤や複雑高度な実験等を必要とするものではなく、発明の課題が解決できることを当業者が認識できるように記載された範囲を超えるものではなく、明確でないというものでもない。
ウ　本件発明１３についてのまとめ
　以上のとおり、本件発明１３は、甲第１号証に記載された発明ではないから、特許法第２９条第１項第３号に該当するものではない。
　また、本件発明１３は、甲第１号証に記載された引用発明２に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものではないから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないものではない。
　また、本件発明１３は、当業者に期待しうる程度を超える試行錯誤や複雑高度な実験等を必要とするものではないから、本件特許の発明の詳細な説明の記載は、本件発明１３について、特許法第３６条第４項第１号に規定する要件を満たすものである。
　さらに、本件発明１３は、発明の課題が解決できることを当業者が認識できるように記載された範囲を超えるものではなく、明確でないというものでもないから、本件特許の特許請求の範囲の請求項１３の記載は、特許法第３６条第６項第１号及び第２号に規定された要件を満たすものである。
（４）本件発明１４について
ア　無効理由２（特許法第３６条第４項第１号）、無効理由３（特許法第３６条第６項第１号）、無効理由４（特許法第３６条第６項第２号）について
（ア）請求人の主張
　請求人は、審判請求書において、訂正前の請求項１４は訂正前の請求項１０を間接的に引用するものであるから、訂正前の請求項１４に係る発明についても、訂正前の請求項１０に係る発明と同様の理由で、特許法第３６条第４項第１号及び特許法第３６条第６項第１号に規定された要件を満たしていない旨を主張する。さらに、訂正前の請求項１４に記載の「ウィスカの形状が、螺旋状または帯状である」という技術事項は不明確であるから、特許法第３６条第６項第２号に規定された要件も満たしていない旨を主張する。
　そして、請求人は、平成３０年８月２日付け審判事件弁駁書の「７．」において、訂正後の請求項１４においても、審判請求書等で述べた上記各無効理由を有する旨を主張する。
　なお、請求人は、同審判事件弁駁書において、「本件特許は、
訂正後の請求項
１４について、審判請求書、弁駁書、陳述要領書及び上申書において述べたとおり、特許法第２９条第１項第３号（新規性欠如）、同条第２項（進歩性欠如）
に基づく無効理由を有する。
　しかしながら、上記「第２」の「１」の「（１）」の「ア」及び「イ」で示したとおり、審判請求書においては、請求項１４に対して無効理由１−１（特許法第２９条第１項第３号）及び無効理由２（特許法第２９条第２項）は主張されていない。また、平成２９年３月６日付け審判事件弁駁書の第２０頁の「（５）本件訂正発明３、４、９、１３及び１４」には、当初、「
審判請求書に記載したとおり、本件訂正発明
１４は、依然として無効理由
４を有する
本件訂正発明１４は、依然として無効理由２乃至４を有する
　したがって、訂正後の請求項１４が、特許法第２９条第１項第３号（新規性欠如）、同条第２項（進歩性欠如）に基づく無効理由を有するという請求人の上記主張は、そもそも審判請求書に記載されたものではなく、その後の手続きを参酌しても、実質的な理由を伴うものではないので、審理の基礎としない。
（イ）当審の判断
　本件発明１０について上記「（１）」の「ウ」及び「エ」で説示した理由と同様の理由で、本件発明１４は、当業者に期待しうる程度を超える試行錯誤や複雑高度な実験等を必要とするものではなく、発明の課題が解決できることを当業者が認識できるように記載された範囲を超えるものでもない。
　また、「螺旋」及び「帯」の一般的な意味を勘案すれば、「螺旋状」及び「帯状」という形状がどのような形状であるのかは、明確に観念し得るものであり、また、本件特許明細書には、「螺旋（状）」及び「帯（状）」について一般的な意味とは異なる特別な定義がなされているわけではないから、本件発明１４の「ウィスカの形状が、螺旋状または帯状である」という発明特定事項は不明確であるということはできない。したがって、本件発明１４は、明確でないというものでもない。
イ　本件発明１４についてのまとめ
　以上のとおり、本件発明１４は、当業者に期待しうる程度を超える試行錯誤や複雑高度な実験等を必要とするものではないから、本件特許の発明の詳細な説明の記載は、本件発明１４について、特許法第３６条第４項第１号に規定する要件を満たすものである。
　さらに、本件発明１４は、発明の課題が解決できることを当業者が認識できるように記載された範囲を超えるものではなく、明確でないというものでもないから、本件特許の特許請求の範囲の請求項１４の記載は、特許法第３６条第６項第１号及び第２号に規定された要件を満たすものである。
（５）請求項１１について
　訂正によって、請求項１１は削除されたから、請求項１１についての本件審判請求は却下すべきものである。
（６）まとめ
　以上のとおりであるから、本件発明１０及び１３は、特許法第２９条第１項第３号（無効理由１−１）には該当せず、本件発明１０及び１３は、特許法第２９条第２項（無効理由１−２）の規定により特許を受けることができないものではなく、本件特許の発明の詳細な説明の記載は、本件発明１０、１２ないし１４について、特許法第３６条第４項第１号（無効理由２）に規定する要件を満たしており、本件特許の特許請求の範囲の請求項１０、１２ないし１４の記載は、特許法第３６条第６項第１号（無効理由３）に規定された要件を満たしており、本件特許の特許請求の範囲の請求項１０、１２ないし１４の記載は、特許法第３６条第６項第２号（無効理由４）に規定された要件を満たしているから、本件発明１０、１２ないし１４に係る特許を無効とすることはできない。
　また、訂正によって、請求項１１は削除されたから、請求項１１についての本件審判請求は却下すべきものである。
第６　むすび 
  以上のとおり、平成３０年４月１０日付けの訂正請求のうち、請求項１ないし９からなる一群の請求項に係る訂正は認めず、請求項１０ないし１４からなる一群の請求項に係る訂正は認める。
　そして、請求人の主張する無効理由１−２によって、本件特許の請求項１、３、４、及び９に係る特許は無効とすべきものであり、また、請求人の主張する無効理由１−２及び無効理由４によって、本件特許の請求項２に係る特許は無効とすべきものである。
　一方、請求人の主張する理由及び提出した証拠方法によっては、本件特許の訂正後の請求項１０、１２ないし１４に係る特許を無効とすることはできない。
　また、上記訂正によって、請求項１１は削除されたから、請求項１１についての本件審判請求は却下すべきものである。
　審判に関する費用については、特許法第１６９条第２項で準用する民事訴訟法第６１条の規定により、その１０分の５を請求人の負担とし、１０分の５を被請求人の負担とする。
　よって、結論のとおり審決する。