【事件の表示】
　特願２０１５−１９４４６４「ウェハの高精度加工装置」拒絶査定不服審判事件〔平成２９年　４月　６日出願公開、特開２０１７−　６９４２９〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
第１　手続の経緯
　本願は，平成２７年９月３０日の出願であって，その手続の概要は，以下のとおりである。
　平成３１年　３月１３日：拒絶理由通知（起案日）
　令和　元年　５月１７日：意見書，手続補正書
　令和　元年　７月２５日：拒絶査定（起案日） 
　令和　元年１１月　６日：審判請求，手続補正書
第２　令和元年１１月６日にされた手続補正についての補正の却下の決定
［補正の却下の決定の結論］
　令和元年１１月６日にされた手続補正（以下「本件補正」という。）を却下する。
　
［理由］
　１　本件補正について（補正の内容）
（１）本件補正後の特許請求の範囲の記載（補正箇所に下線を付した。）
　本件補正により，特許請求の範囲の請求項１の記載は，次のとおり補正された。
「【請求項１】
　円板状のウェハを吸引保持する円板状のチャックと，該チャックと一体に回転するチャックベースを有する回転チャックテーブルと，該回転チャックテーブル上のウェハを研削する回転加工ホイールと，前記回転チャックテーブル上に研削水を供給するノズルと，を備えるウェハの高精度加工装置であって，
　前記回転チャックテーブルは，前記回転チャックテーブルを略定温に保持して加工熱に伴う前記回転チャックテーブルの熱膨張変形を低減するための恒温チラー水を流す水路を
内部に
　
（２）本件補正前の特許請求の範囲
　本件補正前の特許請求の範囲の請求項１の記載は次のとおりである。
「【請求項１】
　円板状のウェハを吸引保持する円板状のチャックと，該チャックと一体に回転するチャックベースを有する回転チャックテーブルと，該回転チャックテーブル上のウェハを研削する回転加工ホイールと，前記回転チャックテーブル上に研削水を供給するノズルと，を備えるウェハの高精度加工装置であって，
　前記回転チャックテーブルは，前記回転チャックテーブルを略定温に保持して加工熱に伴う前記回転チャックテーブルの熱膨張変形を低減するための恒温チラー水を流す水路を設けた恒温制御部を有する，ことを特徴とするウェハの高精度加工装置。」
　２　補正の適否
　本件補正は，本願の出願当初の明細書の【００３５】の「前記恒温制御部１９は，前記チャックベース１７の上面（チャック１８と対向する面）を断面Ｕ字に掘削した溝として形成され，その溝の上面をチャック１８の下面（界面）で覆って塞いだ，水路１１９でなる。」との記載，及び図２に描かれた構成（水路１１９が回転チャックテーブル１３の内部に設けられている）に基づき，本件補正前の請求項１に記載された発明を特定するために必要な事項である「恒温制御部」について，上記のとおり限定を付加して補正後の請求項１とする補正事項を含む。
　そして，補正前の請求項１に記載された発明と補正後の請求項１に記載される発明の産業上の利用分野及び解決しようとする課題は同一である。
　したがって，本件補正前の請求項１に記載された発明を特定するために必要な事項について限定を付加して補正後の請求項１とする補正は，特許法１７条の２第５項２号の特許請求の範囲の減縮を目的とするものに該当する。
　そこで，本件補正後の請求項１に記載される発明（以下「本件補正発明」という。）が同条６項において準用する同法１２６条７項の規定に適合するか（特許出願の際独立して特許を受けることができるものであるか）について，以下，検討する。
（１）本件補正発明
　本件補正発明は，上記１（１）に記載したとおりのものである。
　
（２）引用文献の記載事項
　ア　引用文献１
（ア）原査定の拒絶の理由で引用された本願の出願前に頒布された又は電気通信回線を通じて公衆に利用可能となった引用文献である，特開２００６−６８８６２号公報（以下「引用文献１」という。）には，図面とともに，次の記載がある。（下線は，当審で付加した。以下同じ。）
「【請求項１】
　吸引手段と連通する吸引通路を備えた基台と，該基台の上面に着脱可能に装着され被加工物を吸引保持する保持部材とからなり，該保持部材が被加工物を吸引保持する保持面に細孔が開口された吸引部と，該保持面を囲繞する支持部とを有し，該支持部に該細孔と該吸引通路とを連通する連通路か形成されている，チャックテーブルにおいて，
　該基台と該保持部材は，互いに外周部だけで接合され，該吸引通路と該連通路がそれぞれ該外周部で互いに対向する位置に開口している，
　ことを特徴とするチャックテーブル。
【請求項２】
　該基台の上面には外周部に第１の環状接合面が形成されているとともに該第１の環状接合面の内側に第１の凹部が形成され，該保持部材の下面には外周部に第２の環状接合面が形成されているとともに該第２の環状接合面の内側に第２の凹部が形成されており，該基台と該保持部材は該第１の環状接合面と該第２の環状接合面だけで接合される，請求項１記載のチャックテーブル。
【請求項３】
　該吸引通路と該連通路は，それぞれ該第１の環状接合面と該第２の環状接合面に開口している，請求項２記載のチャックテーブル。
【請求項４】
　該基台の上面に形成された該第１の凹部と該保持部材に形成された該第２の凹部とによって形成される室は，冷却媒体供給手段に連通されている，請求項２又は３記載のチャックテーブル。」
「【技術分野】
【０００１】
　本発明は，研磨装置等における被加工物を保持するためのチャックテーブルに関する。」
「【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
　而して，保持部材と基台を分けて構成したチャックテーブルにおいては，基台と保持部材との接合面の面精度が悪いと両者の接合面から負圧が漏れて吸引力が低減したり，被加工物を保持する保持面の面精度が安定せず
被加工物を高精度に研磨することができないという問題がある
【０００７】
　
本発明は上記事実に鑑みてなされたものであり
「【００１２】
　
図１には本発明に従って構成されたチャックテーブルを装備した研磨装置
　図示の研磨装置は，全体を番号２で示す装置ハウジングを具備している。この装置ハウジング２は，細長く延在する直方体形状の主部２１と，該主部２１の後端部（図１において右上端）に設けられ実質上鉛直に上方に延びる直立壁２２とを有している。直立壁２２の前面には，上下方向に延びる一対の案内レール２２１，２２１が設けられている。この一対の案内レール２２１，２２１に研磨手段としての研磨ユニット３が上下方向に移動可能に装着されている。
【００１３】
　研磨ユニット３は，移動基台３１と該移動基台３１に装着されたスピンドルユニット３２を具備している。移動基台３１は，後面両側に上下方向に延びる一対の脚部３１１，３１１が設けられており，この一対の脚部３１１，３１１に上記一対の案内レール２２１，２２１と摺動可能に係合する被案内溝３１２，３１２が形成されている。このように直立壁２２に設けられた一対の案内レール２２１，２２１に摺動可能に装着された移動基台３１の前面には前方に突出した支持部３１３が設けられている。この支持部３１３にスピンドルユニット３２が取り付けられる。
【００１４】
　スピンドルユニット３２は，支持部３１３に装着されたスピンドルハウジング３３と，該スピンドルハウジング３３に回転自在に配設された回転スピンドル３４と，該回転スピンドル３４を回転駆動するための駆動手段としてのサーボモータ３５とを具備している。回転スピンドル３４の下端部はスピンドルハウジング３３の下端を越えて下方に突出せしめられており，その下端には円板形状のマウンター４が設けられている。
このマウンター４の下面に研磨ホイール５が取付けボルト５１によって装着される
「【００１７】
　チャックテーブル８について，図２および図３を参照して説明する。
　図示の実施形態における
チャックテーブル８は，円柱状の基台８１と，該基台８１の上面に着脱可能に装着される円盤状の保持部材８２とからなっている
基台８１は，その上面外周部が第１の環状接合面８１１となっており，該接合面８１１の内側には第１の凹部８１２が形成されている
基台８１には，上記第１の凹部８１２に冷却媒体を供給する冷却媒体供給手段を構成する冷却媒体供給通路８１４と冷却媒体排出通路８１５が設けられている
冷却媒体供給通路８１４の一端は上記第１の凹部８１２に開口しており，冷却媒体供給通路８１４の他端は図示しない冷却媒体供給源に連通されている。一方，冷却媒体排出通路８１５の一端は冷却媒体供給通路８１４と略１８０度の位相角を持って上記第１の凹部８１２に開口しており，冷却媒体排出通路８１５の他端は図示しない冷却媒体循環路に接続されまたは冷却媒体が空気の場合には大気に開放されている
このように構成されたチャックテーブル８は，図示しないサーボモータによって回転せしめられるようになっている
【００１８】
　
上記保持部材８２は，被加工物を吸引保持する保持部８２１と，該保持部８２１を囲繞する支持部８２２とからなっている
保持部８２１は，支持部８２２の上面より上方に突出して形成されており，図示の実施形態においてはその上面には円形状の嵌合凹部８２１ａが設けられ，この嵌合凹部８２１aに吸着チャック８２３が嵌合されている
保持部８２１の下面には，上記基台８１の上面に形成された第１の凹部８１２と対向する位置に第２の凹部８２１dが設けられている。保持部８２１における第２の凹部８２１dより外周側と上記支持部８２２の下面は第２の環状接合面８２４となっており，この第２の環状接合面８２４は上記基台８１の上面外周部に形成された第１の環状接合面８１１上に載置され接合される
「【００２１】
　図示の実施形態における研磨装置は以上のように構成されており，以下その作用について説明する。
　
図１に示す研磨装置を用いて被加工物を研磨するには，先ず図１に示す被加工物載置域２４に位置付けられているチャックテーブル８上に被加工物である例えば半導体ウエーハ１０を載置する
このようにしてチャックテーブル８上に載置されたウエーハ１０は，図示しない吸引手段を作動することによってチャックテーブル８上に吸引保持される。即ち，図示しない吸引手段を作動すると，図３に示すようにチャックテーブル８の基台８１に設けられた吸引通路８１３，保持部材８２の支持部８２２に設けられた連通路８２２a，保持部８２１に設けられた通路８２２cおよび吸引孔８２１bを通して嵌合凹部８２１aに負圧が作用せしめられる。この結果，嵌合凹部８２１aに嵌合された多孔性材料からなる吸着チャック８２３の上面である保持面８２３aに負圧が作用し，チャックテーブル８は保持面８２３a上に半導体ウエーハ１０を吸引保持する
冷却媒体供給手段を作動し，図示しない冷却媒体供給源から冷却媒体をチャックテーブル８の基台８１に設けられた冷却媒体供給通路８１４を通して，第１の凹部８１２と保持部材８２の保持部８２１に設けられた第２の凹部８２１dとによって形成される室に導入する
このようにして上記第１の凹部８１２と第２の凹部８２１dによって形成された室に導入された冷却媒体は，保持部材８２の保持部８２１を冷却して冷却媒体排出通路８１５から排出される
この結果，保持部８２１の保持面が冷却され，該保持面上に保持されたウエーハ１０を冷却することができる
従って，後述する研磨時において研磨ホイール５によって研磨されることによって発生する熱によるウエーハ１０の過熱を防止することができる
【００２２】
　チャックテーブル８上にウエーハ１０を吸引保持したならば，図示しないチャックテーブル移動機構を作動してチャックテーブル８を矢印２３ａで示す方向に移動し，チャックテーブル８上に保持されたウエーハ１０を研磨ホイール５の下方の研磨域２５に位置付ける。なお，この状態においてチャックテーブル８上に保持されたウエーハ１０は，図４に示すようにその中心（Ｐ）を研磨ホイール５が通過する位置に位置付けられている。このようにして，ウエーハ１０が研磨域２５に位置付けられたならば，
チャックテーブル８を図示しないサーボモータを駆動して１００〜３００ｒｐｍで回転し，上記研磨ユニット３のサーボモータ３５を駆動して研磨工具５を３０００〜６０００ｒｐｍで回転するとともに，上記研磨ユニット送り機構６のパルスモータ６４を正転駆動して研磨ユニット３を下降せしめて，研磨ホイール５の研磨面である下面をチャックテーブル８上に保持されたウエーハ１０の上面（裏面）に作用せしめる
そして，研磨ホイール５を所定量下降せしめて，ウエーハ１０を所定の厚さに研磨する
「
」
「
」
「
」
「
」
　上記に摘記した記載を参照すれば，図１から，半導体ウエーハ１０が，円板状であることを，また，図２及び図３から，吸着チャック８２３が，円板状であることを，それぞれ見て取ることができる。
（イ）上記記載から，引用文献１には，次の発明（以下「引用発明」という。）が記載されていると認められる。
＜引用発明＞
「円板状である半導体ウエーハ１０を吸引保持する円板状である吸着チャック８２３と，
　前記吸着チャック８２３を嵌合する円形状の嵌合凹部８２１ａが設けられた保持部８２１と，該保持部８２１を囲繞する支持部８２２とからなる保持部材８２と，
　前記保持部材８２を着脱可能に装着する円柱状の基台８１と，
　からなる，サーボモータにより１００〜３００ｒｐｍで回転するチャックテーブル８と，
　サーボモータ３５により３０００〜６０００ｒｐｍで回転して，研磨面である下面をチャックテーブル８上に保持されたウエーハ１０の上面（裏面）に作用せしめてウエーハ１０を所定の厚さに研磨する研磨ホイール５と，
　を備える研磨装置であって，
　前記基台８１は，その上面外周部が第１の環状接合面８１１となっており，該接合面８１１の内側には第１の凹部８１２が形成されており，
　保持部８２１の下面には，上記基台８１の上面に形成された第１の凹部８１２と対向する位置に第２の凹部８２１dが設けられており，保持部８２１における第２の凹部８２１dより外周側と上記支持部８２２の下面は第２の環状接合面８２４となっており，この第２の環状接合面８２４は上記基台８１の上面外周部に形成された第１の環状接合面８１１上に載置され接合され，
　上記第１の凹部８１２には，冷却媒体を供給する冷却媒体供給手段を構成する冷却媒体供給通路８１４と冷却媒体排出通路８１５が設けられており，冷却媒体供給通路８１４の一端は上記第１の凹部８１２に開口しており，冷却媒体供給通路８１４の他端は冷却媒体供給源に連通されており，冷却媒体排出通路８１５の一端は冷却媒体供給通路８１４と略１８０度の位相角を持って上記第１の凹部８１２に開口しており，冷却媒体排出通路８１５の他端は冷却媒体循環路に接続されており，
　冷却媒体供給手段を作動し，冷却媒体供給源から冷却媒体をチャックテーブル８の基台８１に設けられた冷却媒体供給通路８１４を通して，第１の凹部８１２と保持部材８２の保持部８２１に設けられた第２の凹部８２１dとによって形成される室に導入することで，研磨時において研磨ホイール５によって研磨されることによって発生する熱によるウエーハ１０の過熱を防止することができる研磨装置。」
（ウ）さらに，上記記載から，引用文献１には，次の技術的事項が記載されていると認められる。
・引用文献１に記載された発明は，被加工物を高精度に研磨することができないという問題を解決したものであること。
　
　イ　引用文献２
（ア）原査定の拒絶の理由で引用された本願の出願前に頒布された又は電気通信回線を通じて公衆に利用可能となった引用文献である，特開２００２−３７３８７５号公報（以下「引用文献２」という。）には，図面とともに，次の記載がある。
「【００１５】ベースプレート１２の内部の上面の近傍における中心と周辺との中間部領域には，破線矢印で示された高温（例えば，約２０℃）の冷却水１８を流通させるための高温用冷却水通路１９が複数本の円形環状路形状に敷設されており，
高温用冷却水通路１９の内側端および外側端には高温の冷却水１８を通水するための給水通路２０および排水通路２１がそれぞれ接続されている
【００１６】スラリ供給ノズル１６の近傍には
冷却水２７を研磨材面１５に供給するための冷却水供給ノズル２８が隣り合わせに配管されており
（イ）上記記載から，引用文献２には，次の技術的事項が記載されていると認められる。
・研磨装置に，冷却水を供給するための冷却水供給ノズルを配管すること。
・冷却媒体として，水を用いること。
　ウ　引用文献３
（ア）原査定で引用された本願の出願前に頒布された又は電気通信回線を通じて公衆に利用可能となった引用文献である，特開２０１２−１６６２７４号公報（以下「引用文献３」という。）には，図面とともに，次の記載がある。
「【００２２】
　図７に示す第１の形態においては，
可変容量形ポンプ７２によって温度制御流体送出管７４に送出された温度制御流体は，連通管６３６，支持基台６３に設けられた通路６３４，チャックテーブル６を構成する支持部材６２に設けられた第２の連通路６２４，流体通路６２２の外周流通口６２２b，流体通路６２２，流体通路６２２の中央流通口６２２a，チャックテーブル６を構成する支持部材６２に設けられた第１の連通路６２３，支持基台６３に設けられた通路６３３，連通管６３５，温度制御流体戻し管７５，温度調整手段７１を介して循環せしめられる
（イ）上記記載から，引用文献３には，次の技術的事項が記載されていると認められる。
・温度制御流体は，温度調整手段７１を介して循環せしめられること。
（３）引用発明との対比
　ア　本件補正発明と引用発明とを対比する。
（ア）引用発明の「円板状である半導体ウエーハ１０」は，本件補正発明の「円板状のウェハ」に相当する。
（イ）本願明細書の「さらに，チャック１０４は，円板状に形成されている吸引板１０４ａと，吸引板１０４の外周面及び下面を囲暁した状態で吸引板１０４を固定し，その吸引板１０４と一体化された枠体１０４ｂと，を備えている。吸引板１０４ａは，多孔質保持部材により構成されており，その上面がウェハＷを吸引保持する吸引面となっている。そして，一般に，チャック１０４の枠体１０４ｂはアルミナ（酸化アルミニウム）で形成されており，チャックベース１０４はステンレス鋼（ＳＵＳ）で形成されている。」（【０００４】）との記載に照らして，引用発明の「吸着チャック８２３」及び「前記吸着チャック８２３を嵌合する円形状の嵌合凹部８２１ａが設けられた保持部８２１と，該保持部８２１を囲繞する支持部８２２とからなる保持部材８２」は，それぞれ，本願明細書で説明される「吸引板」及び「枠体」に相当すると解されるから，引用発明の「円板状である吸着チャック８２３」及び「前記吸着チャック８２３を嵌合する円形状の嵌合凹部８２１ａが設けられた保持部８２１と，該保持部８２１を囲繞する支持部８２２とからなる保持部材８２」とからなる部材が，本件補正発明の「円板状のチャック」に相当するといえる。
（ウ）そうすると，引用発明の「保持部材８２を着脱可能に装着する円柱状の基台８１」は，本件補正発明の「チャックベース」に相当する。
（エ）上記（ア）ないし（ウ）から，引用発明の「吸着チャック８２３」と「保持部材８２」と「基台８１」とからなる「サーボモータにより１００〜３００ｒｐｍで回転するチャックテーブル８」は，本件補正発明の「回転チャックテーブル」に相当するといえる。
（オ）引用発明の「研磨ホイール５」は，本件補正発明の「回転加工ホイール」に相当する。
（カ）「チラー」とは，水や熱媒体の温度を管理しながら循環させることで，温度を一定に保つための装置の総称である。
　そして，引用発明の「冷却媒体」と，本件補正発明の「水」は，「流体」である点で一致する。
　そうすると，引用発明の「基台８１」の上面内側に形成された「第１の凹部８１２」及び「保持部８２１の下面」の前記第１の凹部８１２と対向する位置に形成された「第２の凹部８２１d 」とから構成される「チャックテーブル８」の内部に形成された空間は，「冷却媒体を供給する冷却媒体供給手段を構成する冷却媒体供給通路８１４と冷却媒体排出通路８１５が設けられて」いることから，本件補正発明の「回転チャックテーブル」の「内部に設けた」「チラー」流体を流す「路」に相当する。
　そして，引用発明の「研磨時において研磨ホイール５によって研磨されることによって発生する熱によるウエーハ１０の過熱を防止する」ために設けられた前記「チャックテーブル８」の内部に形成された空間と，本件補正発明の「前記回転チャックテーブルを略定温に保持して加工熱に伴う前記回転チャックテーブルの熱膨張変形を低減するため」に設けられた「恒温制御部」とは，制御部である点で一致する。
（キ）引用発明の「ウエーハ１０を所定の厚さに研磨する」「研磨装置」と，本件補正発明の「ウェハの高精度加工装置」とは，ウェハの加工装置である点で一致する。
　イ　以上のことから，本件補正発明と引用発明との一致点及び相違点は，次のとおりである。
【一致点】
「円板状のウェハを吸引保持する円板状のチャックと，該チャックと一体に回転するチャックベースを有する回転チャックテーブルと，該回転チャックテーブル上のウェハを研削する回転加工ホイールと，を備えるウェハの加工装置であって，
　前記回転チャックテーブルは，チラー流体を流す流路を内部に設けた制御部を有する，ウェハの加工装置。」
　
【相違点１】
　本件補正発明のウェハの加工装置が，「前記回転チャックテーブル上に研削水を供給するノズル」を備えるのに対して，引用発明は，そのような特定がされていない点。
【相違点２】
　制御部が，本件補正発明では，「前記回転チャックテーブルを略定温に保持して加工熱に伴う前記回転チャックテーブルの熱膨張変形を低減するため」の「恒温」「水」を流すものであるのに対して，引用発明は，「研磨時において研磨ホイール５によって研磨されることによって発生する熱によるウエーハ１０の過熱を防止する」ために「冷却媒体」を流すものである点。
【相違点３】
　本件補正発明が，ウエハの「高精度」加工装置であるのに対して，引用発明は，そのような特定がされていない点。
（４）判断
　以下，相違点について検討する。
　ア　相違点１について
　上記（２）イ（イ）のとおり，引用文献２には，研磨装置に，冷却水を供給するための冷却水供給ノズルを配管することが記載されており，このような構成は研磨装置において周知であると認められる。
　したがって，引用発明において，回転チャックテーブル上に研削水を供給するノズルを付加することは当業者が容易になし得たことである。
　イ　相違点２について
（ア）冷却媒体として，水を用いることは，引用文献２からも明らかなように周知であるから，引用発明の冷却媒体は，水と解される。また，仮に，引用発明の冷却媒体が水でないとしても，引用発明の冷却媒体として，周知の水を用いることは適宜なし得たことである。
（イ）そして，冷却媒体である水には，研磨時において研磨ホイール５によって研磨されることによって発生する熱によるウエーハ１０の過熱を防止するために，研磨時において研磨ホイール５によって研磨されることによって発生する熱が伝わるところ，引用発明においては，冷却媒体である水は，冷却媒体循環路を通じて循環して使用されるものであることから，何らの工夫も取らない場合には，研磨が進行するに従い，前記冷却媒体である水の温度は上昇し，これによって，ウエーハ１０の過熱を防止するという機能が低下することは明らかである。
　そして，引用発明の研磨装置は，１枚の半導体ウエーハ１０を研磨して，その使用が終了するという使用方法ではなく，複数枚の半導体ウエーハ１０を連続して研磨するように使用されるものであることは明らかであるところ，当該使用によって，前記冷却媒体である水の温度は更に上昇し，研磨時において研磨ホイール５によって研磨されることによって発生する熱によるウエーハ１０の過熱を防止するという機能が，ますます低下することになるといえる。
　しかも，被加工物を高精度に加工する作業において，作業の精度の再現性を維持するために，当該作業に影響を与える各種の条件を一定に保つように制御することは，上記引用文献３においても行われているように，通常行われていることである。
　してみれば，冷却媒体である水の温度の上昇によるウエーハ１０の過熱を防止するという機能の低下を防ぎ，また，作業の精度の再現性を維持するために，引用発明の冷却媒体循環路に，温度調整手段を設けて，冷却媒体である水の温度の上昇を解消するという工夫を施すこと，すなわち，温度調整手段によって，冷却媒体である水の温度を一定（恒温）に保つようにすることは当業者が容易になし得たことである。
（ウ）そして，冷却媒体循環路に循環する，温度が一定（恒温）に保たれた，冷却媒体である水は，本件補正発明の恒温チラー水といえるところ，引用発明において，冷却媒体として，温度が一定（恒温）に保たれた水を循環した場合，温度が一定（恒温）に保たれた前記冷却媒体に接する，引用発明の「吸着チャック８２３」と「保持部材８２」と「基台８１」とからなる「サーボモータにより１００〜３００ｒｐｍで回転するチャックテーブル８」の温度上昇が抑制され，略定温に保持されることは自明であり，その結果として，引用発明の「吸着チャック８２３」と「保持部材８２」と「基台８１」とからなる「サーボモータにより１００〜３００ｒｐｍで回転するチャックテーブル８」の熱膨張変形も低減されるといえる。
　したがって，相違点２に係る本件補正発明の構成を採用することは当業者が容易になし得たことである。そして，その効果も，当業者が予測する範囲内のものに過ぎない。
　ウ　相違点３について
　上記（２）ア（ウ）のとおり，引用文献１には，引用文献１に記載された発明は，被加工物を高精度に研磨することができないという問題を解決したものであることが記載されており，しかも，引用発明は，研磨時において研磨ホイール５によって研磨されることによって発生する熱によるウエーハ１０の過熱を防止するものであって，当該研磨が，前記過熱が防止されない場合と比較して，より高精度なものとなることは明らかであるから，引用発明は，ウエーハ１０を「高精度」に研磨する装置であるといえる。
　したがって，相違点３は，実質的なものではない。
　エ　そして，これらの相違点１ないし３を総合的に勘案しても，本件補正発明の奏する作用効果は，引用発明及び引用文献２，３に記載された技術の奏する作用効果から予測される範囲内のものにすぎず，格別顕著なものということはできない。
　
　オ　したがって，本件補正発明は，引用発明及び引用文献２，３に記載された技術に基づいて，当業者が容易に発明をすることができたものであり，特許法２９条２項の規定により，特許出願の際独立して特許を受けることができないものである。
　
　３　本件補正についてのむすび
　よって，本件補正は，特許法１７条の２第６項において準用する同法１２６条７項の規定に違反するので，同法１５９条１項の規定において読み替えて準用する同法５３条１項の規定により却下すべきものである。
　よって，上記補正の却下の決定の結論のとおり決定する。
　
第３　本願発明について
　１　本願発明
　令和元年１１月６日にされた手続補正は，上記のとおり却下されたので，本願の請求項に係る発明は，本件補正前の特許請求の範囲の請求項１ないし６に記載された事項により特定されるものであるところ，その請求項１に係る発明（以下「本願発明」という。）は，その請求項１に記載された事項により特定される，前記第２［理由］１（２）に記載のとおりのものである。
　２　原査定の拒絶の理由
　原査定の拒絶の理由は，この出願の請求項１ないし６に係る発明は，本願の出願前に頒布された又は電気通信回線を通じて公衆に利用可能となった下記の引用文献１に記載された発明及び引用文献２，３に記載された事項に基づいて，その出願前にその発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者が容易に発明をすることができたものであるから，特許法２９条２項の規定により特許を受けることができない，というものである。
１．特開２００６−６８８６２号公報
２．特開２００２−３７３８７５号公報
３．特開２０１２−１６６２７４号公報
　３　引用文献
　原査定の拒絶の理由で引用された引用文献１ないし３の記載事項は，前記第２の［理由］２（２）に記載したとおりである。
　
　４　対比・判断
　本願発明は，前記第２の［理由］２で検討した本件補正発明から限定事項を削除したものである。
　そうすると，本願発明の発明特定事項を全て含み，さらに他の事項を付加したものに相当する本件補正発明が，前記第２の［理由］２（３），（４）に記載したとおり，引用発明及び引用文献２，３に記載された技術に基づいて，当業者が容易に発明をすることができたものであるから，本願発明も，引用発明及び引用文献２，３に記載された技術に基づいて，当業者が容易に発明をすることができたものである。
　
第４　むすび
　以上のとおり，本願発明は，特許法２９条２項の規定により特許を受けることができないから，他の請求項に係る発明について検討するまでもなく，本願は拒絶されるべきものである。
　よって，結論のとおり審決する。