【事件の表示】
　特許第３１６８６４２号「被膜除去方法およびその装置」の請求項１、２に係る特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結　論】
　訂正を認める。
　特許第３１６８６４２号の請求項１ないし２に係る特許を維持する。
【理　由】
１．手続きの経緯
　本件特許第３１６８６４２号は、平成３年１０月２８日に特許出願され、平成１３年３月１６日にその特許の設定登録がなされ、その後、異議申立人井上博史から特許異議の申立てがなされ、取消理由通知がなされ、その指定期間内である平成１４年３月２５日に訂正請求がなされたものである。
１．１　異議申立ての概要
　異議申立人井上博史は、甲第１号証（特開昭６１−４２２９号公報）、甲第２号証（特開昭６１-１２１３３３号公報）、甲第３号証（実願昭６０−１７９１０８号（実開昭６２−８９１３４号公報）のマイクロフィルム）及び甲第４号証（特公昭５８−１９３５０号公報）を提出し、本件請求項１及び２に係る発明は、甲第１〜４号証に記載された発明に基いて容易に発明できたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないものであるので、本件特許を取り消すべき旨主張している。
１．２　異議申立人井上博史が提出した甲第１号証の記載内容
１．２．１　甲第１号証の記載内容
　甲第１号証の第１頁右欄第１７行〜第２頁左上欄第５行には、「第２図は従来のレジスト塗布装置の構成を示す正面図であって、回転軸１により駆動される回転台２の上にはレジストが塗布されるウェーハ１０が…回転する。…上方にはウェーハ１０の周辺部に対してシンナを噴射するためのノズル４が設けられている。」と記載されている。
　第２頁右上欄第４〜９行には、「このため、レジストを塗布したウェーハ１０の周辺部にシンナ噴射ノズル４からシンナを噴射し、周辺部に付着したレジストトを溶解して除去する。除去されたレジストはウェーハ周囲に形成されたカバー、ダクト等より成る回収装置（図示せず）により回収される。」と記載されている。
１．２．２　甲第２号証の記載内容
　甲第２号証の第１頁右欄最終行〜第２頁左上欄第６行には、「本発明は、感光材料の層を液体の形で半導体ウェーハに施し、次いで、所望の厚さの層を得るためにウェーハを回転し、このウェーハの周縁部にある感光材料を、該感光材料を溶解するためにウェーハの周縁部に向けた液体のジェットによって除去するようにした半導体ウェーハに感光材料の層を設ける方法に関するものである。」と記載されている。
１．２．３　甲第３号証の記載内容
　甲第３号証の明細書第２頁第１５行〜第３頁第５行には、「基板の周辺部におけるレジストを除去するためには、基板を回転させつつ、その周辺部に、上下方向を向くノズルから吐出するレジスト溶解液を当てる。この際、ノズルの位置は、基板の寸法に応じて、その径方向に変化させる必要があり、また、基板の回転数や、レジスト溶解液の種類およびその吐出圧力に応じて、ノズルを、溶解液落下点から引いた基板回転方向に対する法線方向および接線方向に対して適切な角度に設けることが望ましいことは知られている。」と記載されている。
１．２．４　甲第４号証の記載内容
　甲第４号証第２頁第４欄第４〜８行には、「更に本発明の他の目的は上記目的と共に基板の周辺部に塗膜の盛り上がりを少なくより望ましくは該部分の塗膜を除去するスピンコーティング方法を提供せんとすることにある。」と記載されている。
　第３頁第５欄第３４〜４１行には、「かくして、ある時間経過すると基板１２の全周にわたってこの現象が起こり、液だまり４０中の塗布液固形分は殆んどなくなる。この状態でノズルからの液体供給を停止し、更に基板の回転（好ましくは更に大きな回転数で）を続ければ、基板の裏側及び側端面に塗布液の付着がない塗膜１３が得られる。」と記載されている。
　第３頁第６欄第３４〜４１行には、「このようにして基板１２の表面にまわり込んだ液体は主に基板１２の周囲に形成された厚い塗膜部分を溶解するかあるいはその部分の塗布液を薄める。しかる後、基板１２の回転数を増すか、あるいは／及びノズル３０からの液供給を停止すれば基板１２の周辺部に形成された厚い塗膜部分が除去されるかあるいはその厚さが十分に減少されるのである。」と記載されている。
　第３頁第６欄第４２行〜第４頁第７欄第２行には、「基板の周囲の厚い塗膜を除去するための他の方法として、基板の裏面に液体を供給するノズルに加えて、基板表面の周辺部に液体を供給するノズルを設けて該部分に液体を供給し、該部分の塗布液を除去する方法がある。」と記載されている。
　第４頁第７欄第２５〜２９行には、「従って基板１２が正方形である場合にも塗膜を円形に形成しても良い。かかる際には基板１２の裏面に液体を供給するノズルと同様のノズルを配し、基板表面の周辺部に液体を供給することによって行ない得る。」と記載されている。
２．訂正の適否について
  本件訂正請求は、本件特許第３１６８６４２号の明細書（以下、「特許明細書」という。）を、本件訂正請求書に添付した訂正明細書のとおりに、訂正しようとするものである。
２．１　訂正事項
訂正事項ａ１
　特許明細書の特許請求の範囲の請求項１の記載「【請求項１】　表面に被膜が形成された基板を低速回転させながら、前記被膜の所定箇所に溶解液を前記基板の外側に向けて斜めに吹き付け、この溶解液で前記被膜の所定箇所を溶解した後、前記基板を前記低速回転より高速度で回転させることにより、この溶解した被膜を前記基板の高速回転による遠心力で飛散させることを特徴とする被膜除去方法。」を、「【請求項１】　表面に被膜が形成された四角形状の基板を低速回転させながら、前記被膜の前記基板の隅に対応する箇所に溶解液を、前記被膜が形成された表面側から、前記基板の外側に向けて斜めに吹き付け、この溶解液で前記被膜の前記隅に対応する箇所を溶解した後、前記基板を前記低速回転より高速度で回転させることにより、前記基板の隅の溶解した被膜を前記基板の高速回転による遠心力で飛散させることを特徴とする被膜除去方法。」と訂正する。
訂正事項ａ２
　特許明細書の特許請求の範囲の請求項２の記載「【請求項２】　表面に被膜が形成された基板を固定して回転するターンテーブルと、先端部が前記基板の外側に向いて傾斜して配置され、かつ前記被膜の所定箇所に溶解液を斜めに吹き付ける溶解液供給ノズルと、を備え、前記ターンテーブルは、前記基板に前記溶解液供給ノズルから溶解液を吹き付けるときは所定の低速度で回転し、前記溶解液の吹き付けにより溶解された被膜を飛散させるときは前記低速度回転より高速度で回転することを特徴とする被膜除去装置。」を、「【請求項２】　表面に被膜が形成された四角形状の基板を固定して回転するターンテーブルと、前記被膜が形成された基板の表面側に、先端部が前記基板の外側に向いて傾斜して配置され、かつ前記被膜の前記基板の隅に対応する箇所に溶解液を斜めに吹き付ける溶解液供給ノズルと、を備え、
　前記ターンテーブルは、前記基板に前記溶解液供給ノズルから溶解液を吹き付けるときは所定の低速度で回転し、前記溶解液の吹き付けにより前記基板の隅の溶解された被膜を飛散させるときは前記低速回転より高速度で回転することを特徴とする被膜除去装置。」と訂正する。
訂正事項ｂ
　特許明細書の段落番号【０００５】の記載「【０００５】　【課題を解決するための手段】　この発明の被膜除去方法は、表面に被膜が形成された基板を低速回転させながら、被膜の所定箇所に溶解液を基板の外側に向けて斜めに吹き付け、この溶解液で被膜の所定箇所を溶解した後、前記基板を前記低速回転より高速度で回転させることにより、この溶解した被膜を基板の高速回転による遠心力で飛散させることを特徴とする。
　また、この発明の被膜除去装置は、表面に被膜が形成された基板を固定して回転するターンテーブルと、先端部が基板の外側に向いて傾斜して配置され、かつ被膜の所定箇所に溶解液を斜めに吹き付ける溶解液供給ノズルとを備え、上記ターンテーブルは、上記基板に上記溶解液供給ノズルから溶解液を吹き付けるときは所定の低速度で回転し、上記溶解液の吹き付けにより溶解された被膜を飛散させるときは上記低速度回転より高速度で回転することを特徴とする。」を、「【０００５】　【課題を解決するための手段】　この発明の被膜除去方法は、表面に被膜が形成された四角形状の基板を低速回転させながら、前記被膜の前記基板の隅に対応する箇所に溶解液を、前記被膜が形成された表面側から、前記基板の外側に向けて斜めに吹き付け、この溶解液で前記被膜の前記隅に対応する箇所を溶解した後、前記基板を前記低速回転より高速度で回転させることにより、前記基板の隅の溶解した被膜を前記基板の高速回転による遠心力で飛散させることを特徴とする。
　また、この発明の被膜除去装置は、表面に被膜が形成された四角形状の基板を固定して回転するターンテーブルと、前記被膜が形成された基板の表面側に、先端部が前記基板の外側に向いて傾斜して配置され、かつ前記被膜の前記基板の隅に対応する箇所に溶解液を斜めに吹き付ける溶解液供給ノズルとを備え、前記ターンテーブルは、前記基板に前記溶解液供給ノズルから溶解液を吹き付けるときは所定の低速度で回転し、前記溶解液の吹き付けにより前記基板の隅の溶解された被膜を飛散させるときは前記低速度回転より高速度で回転することを特徴とする。」と訂正する。
訂正事項ｃ
　特許明細書の段落番号【０００６】の記載「【０００６】　【作用】　この発明によれば、ターンテーブルに基板を固定し、ターンテーブルと共に基板を回転させながら、表面の被膜の所定個所に基板の外側に向けて傾いた溶解液供給ノズルにより溶解液を斜めに吹き付け、この溶解液で被膜の所定個所を溶解し、この溶解した被膜を基板の回転による遠心力で飛散させることにより、不要な部分の被膜を除去することができる。」を、「【０００６】　【作用】　この発明によれば、ターンテーブルに被膜が形成された四角形状の基板を固定し、ターンテーブルと共に基板を回転させながら、前記被膜の前記基板の隅に対応する箇所に、前記基板の被膜が形成された表面側から、前記基板の外側に向けて傾いた溶解液供給ノズルにより溶解液を斜めに吹き付け、この溶解液で被膜の前記基板の隅に対応する箇所を溶解し、この溶解した被膜を基板の回転による遠心力で飛散させることにより、四角形状の前記基板の隅に形成された不要な被膜を除去することができる。」と訂正する。
２．２　訂正後の特許請求の範囲
請求項１
「表面に被膜が形成された四角形状の基板を低速回転させながら、前記被膜の前記基板の隅に対応する箇所に溶解液を、前記被膜が形成された表面側から、前記基板の外側に向けて斜めに吹き付け、この溶解液で前記被膜の前記隅に対応する箇所を溶解した後、前記基板を前記低速回転より高速度で回転させることにより、前記基板の隅の溶解した被膜を前記基板の高速回転による遠心力で飛散させることを特徴とする被膜除去方法。」
請求項２
「表面に被膜が形成された四角形状の基板を固定して回転するターンテーブルと、前記被膜が形成された基板の表面側に、先端部が前記基板の外側に向いて傾斜して配置され、かつ前記被膜の前記基板の隅に対応する箇所に溶解液を斜めに吹き付ける溶解液供給ノズルと、を備え、前記タターンテーブルは、前記基板に前記溶解液供給ノズルから溶解液を吹き付けるときは所定の低速度で回転し、前記溶解液の吹き付けにより前記基板の隅の溶解された被膜を飛散させるときは前記低速度回転より高速度で回転することを特徴とする被膜除去装置。」
３．　訂正の適否
３．１　訂正事項ａ１
　上記訂正事項ａ１については、特許明細書の請求項１の「基板」、「皮膜の所定箇所」、「前記基板の外側に向けて斜めに吹き付け」、「被膜の所定箇所」及び「溶解した被膜」を、それぞれ、下位概念である「四角形状の基板」、「皮膜の前記基板の隅に対応する箇所」、「前記被膜が形成された表面側から、前記基板の外側に向けて斜めに吹き付け」、「被膜の前記隅に対応する箇所」及び「前記基板の隅の溶解した被膜」と訂正するものであるから、特許請求の範囲の減縮に相当する。
　また、当該「四角形状の基板」、「皮膜の前記基板の隅に対応する箇所」、「前記被膜が形成された表面側から、前記基板の外側に向けて斜めに吹き付け」、「被膜の前記隅に対応する箇所」及び「前記基板の隅の溶解した被膜」は、特許明細書の【０００８】及び【０００７】段落から、直接かつ一義的に導き出されるものであるから、上記訂正事項a１は、特許明細書又は図面に記載された事項の範囲内の訂正であり、実質上特許請求の範囲を拡張または変更するものではない。
３．２　訂正事項ａ２
　上記訂正事項ａ２については、特許明細書の請求項２の「基板」、「先端部が前記基板の外側に向いて傾斜して配置され、かつ前記被膜の所定箇所に溶解液を斜めに吹き付ける溶解液供給ノズル」、及び「溶解された被膜」を、それぞれ、下位概念である「四角形状の基板」、「前記被膜が形成された基板の表面側に、先端部が前記基板の外側に向いて傾斜して配置され、かつ前記被膜の前記基板の隅に対応する箇所に溶解液を斜めに吹き付ける溶解液供給ノズル」及び「前記基板の隅の溶解された被膜」と訂正するものであるから、特許請求の範囲の減縮に相当する。
　また、当該「四角形状の基板」、「前記被膜が形成された基板の表面側に、先端部が前記基板の外側に向いて傾斜して配置され、かつ前記被膜の前記基板の隅に対応する箇所に溶解液を斜めに吹き付ける溶解液供給ノズル」及び「前記基板の隅の溶解された被膜」は、特許明細書の【０００８】及び【０００７】段落から、直接かつ一義的に導き出されるものであるから、上記訂正事項a２は、特許明細書又は図面に記載された事項の範囲内の訂正であり、実質上特許請求の範囲を拡張または変更するものではない。
３．３　訂正事項ｂ及びｃ
　上記訂正事項ｂ及びｃは、上記訂正事項ａ１及びａ２の特許請求の範囲の訂正による明細書の発明の詳細な説明の記載と特許請求の範囲との不一致を解消するものである。
　従って、訂正事項ｂ及びｃについては、明りょうでない記載の釈明に相当する。
　また、上記訂正事項ｂ及びｃは、特許明細書又は図面に記載された事項の範囲内の訂正であり、実質上特許請求の範囲を拡張または変更するものではない。
３．４　訂正の適否の判断
　上記訂正事項ａ１〜ｃは、上記３．１〜３．３のとおりであるから、平成６年法律第１１６号附則第６条第１項の規定によりなお従前の例によるとされる、改正前の特許法第１２６条第１項ただし書、同条第２項の規定に適合する。
　従って、当該請求を認める。
４．特許異議申立てについての判断
４．１　本件請求項１及び２に係る発明
　上記２．２に記載のとおり。
４．２　異議申立ての理由の概要
　上記１．１に記載のとおり。
４．２．１　本件請求項１に係る発明と甲１〜４号証との対比、判断
　本件請求項１に係る発明が、「表面に被膜が形成された四角形状の基板を低速回転させながら、前記被膜の前記基板の隅に対応する箇所に溶解液を、前記被膜が形成された表面側から、前記基板の外側に向けて斜めに吹き付け、この溶解液で前記被膜の前記隅に対応する箇所を溶解」する構成（以下、「本件請求項１に係る発明の特徴的構成」という。）を有するのに対し、甲第１〜４号証記載の発明には上記本件請求項１に係る発明の特徴的構成の記載及びその記載を示唆する記載がない。
　また、本件請求項１に係る発明は、上記本件請求項１に係る発明の特徴的構成を有することにより、「基板４が図３に示すように四角形状に形成されている場合には、その周辺部に設けられた被膜５のうち、４隅に設けられた被膜５のみが除去されることになる。」（特許明細書【０００８】段落）という上記甲第１〜４号証記載の発明にはない効果を有する。
　従って、本件請求項１に係る発明は、甲第１〜４号証記載の発明に基づいて当業者が容易に発明できたものでもない。
　付言すると、甲第１〜３号証記載の発明は、基板４が四角形状に形成されている構成がなく、上記本件請求項１に係る発明の特徴的構成を動機付けるものではない。
  又、甲第４号証記載の発明は、基板４が四角形状に形成されているが、基板の周囲の塗布液を、ピラミッド状のカバーを用いて除去することが示されているにすぎず、上記本件請求項１に係る発明の「基板の隅に対応する箇所に溶解液を、前記被膜が形成された表面側から、前記基板の外側に向けて斜めに吹き付け、この溶解液で前記被膜の前記隅に対応する箇所を溶解」する本件請求項１に係る発明の特徴的構成を動機付けるものではない。
４．２．２　本件請求項２に係る発明と甲第１〜４号証との対比、判断
　本件請求項２に係る発明が、「被膜が形成された基板の表面側に、先端部が前記基板の外側に向いて傾斜して配置され、かつ前記被膜の前記基板の隅に対応する箇所に溶解液を斜めに吹き付ける溶解液供給ノズル」と、「前記表面に被膜が形成された四角形状の基板を固定して回転するターンテーブルと、前記被膜が形成された基板の表面側に、先端部が前記基板の外側に向いて傾斜して配置され、かつ前記被膜の前記基板の隅に対応する箇所に溶解液を斜めに吹き付ける」構成（以下、「本件請求項２に係る発明の特徴的構成」という。）を有するのに対し、甲第１〜４号証記載の特徴的発明には上記本件請求項２に係る発明の構成の記載及びその記載を示唆する記載がない。
　また、本件請求項２に係る発明は、上記本件請求項２に係る発明の特徴的構成を有することにより、「基板４が図３に示すように四角形状に形成されている場合には、その周辺部に設けられた被膜５のうち、４隅に設けられた被膜５のみが除去されることになる。」（特許明細書【０００８】段落）という上記甲第１〜４号証記載の発明にはない効果を有する。
　従って、本件請求項２に係る発明は、甲第１〜４号証記載の発明に基づいて当業者が容易に発明できたものではない。
　付言すると、甲第１〜３号証記載の発明は、基板４が四角形状に形成されている構成がなく、上記本件請求項２に係る発明の特徴的構成を動機付けるものではない。
  又、甲第４号証記載の発明は、基板４が四角形状に形成されているが、基板の周囲の塗布液を、ピラミッド状のカバーを用いて除去することが示されているにすぎず、上記本件請求項２に係る発明の特徴的構成を動機付けるものではない。
５．むすび
 したがって、特許異議申立ての理由及び証拠によっては、本件請求項１及び２に係る発明の特許を取り消すことはできない。
　また、他に本件請求項１及び２に係る発明の特許を取り消すべき理由を発見しない。
　従って、本件請求項１及び２に係る発明についての特許は拒絶の査定をしなければならない特許出願に対してされたものと認めない。
　よって、特許法の一部を改正する法律（平成６年法律第１１６号）附則第１４条の規定に基づく、特許法等の一部を改正する法律の施行に伴う経過措置を定める政令（平成７年政令第２０５号）第４条第２項の規定により、上記のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１４年４月２３日（２００２．４．２３）
【訂正の要旨】
訂正の要旨
　訂正事項ａ１及びａ２は、特許請求の範囲の減縮を目的とするものである。
　訂正事項ｂ及びｃは、明りょうでない記載の釈明を目的とするものである。
訂正事項ａ１
　特許明細書の特許請求の範囲の請求項の記載「【請求項１】　表面に被膜が形成された基板を低速回転させながら、前記被膜の所定箇所に溶解液を前記基板の外側に向けて斜めに吹き付け、この溶解液で前記被膜の所定箇所を溶解した後、前記基板を前記低速回転より高速度で回転させることにより、この溶解した被膜を前記基板の高速回転による遠心力で飛散させることを特徴とする被膜除去方法。」を、「【請求項１】　表面に被膜が形成ざれた四角形状の基板を低速回転させながら、前記被膜の前記基板の隅に対応する箇所に溶解液を、前記被膜が形成された表面側から、前記基板の外側に向けて斜めに吹き付け、この溶解液で前記被膜の前記隅に対応する箇所を溶解した後、前記基板を前記低速回転より高速度で回転させることにより、前記基板の隅の溶解した被膜を前記基板の高速回転による遠心力で飛散させることを特徴とする被膜除去方法。」と訂正する。
訂正事項ａ２
　特許明細書の特許請求の範囲の請求項の記載「【請求項２】　表面に被膜が形成された基板を固定して回転するターンテーブルと、先端部が前記基板の外側に向いて傾斜して配置され、かつ前記被膜の所定箇所に溶解液を斜めに吹き付ける溶解液供給ノズルと、を備え、前記ターンテーブルは、前記基板に前記溶解液供給ノズルから溶解液を吹き付けるときは所定の低速度で回転し、前記溶解液の吹き付けにより溶解された被膜を飛散させるときは前記低速度回転より高速度で回転することを特徴とする被膜除去装置。」を、「【請求項２】　表面に被膜が形成された四角形状の基板を固定して回転するターンテーブルと、前記被膜が形成された基板の表面側に、先端部が前記基板の外側に向いて傾斜して配置され、かつ前記被膜の前記基板の隅に対応する箇所に溶解液を斜めに吹き付ける溶解液供給ノズルと、を備え、
　前記ターンテーブルは、前記基板に前記溶解液供給ノズルから溶解液を吹き付けるときは所定の低速度で回転し、前記溶解液の吹き付けにより前記基板の隅の溶解された被膜を飛散させるときは前記低速回転より高速度で回転することを特徴とする被膜除去装置。」と訂正する。
訂正事項ｂ
　特許明細書の段落番号【０００５】の記載「【０００５】【課題を解決するための手段】　この発明の被膜除去方法は、表面に被膜が形成された基板を低速回転させながら、被膜の所定箇所に溶解液を基板の外側に向けて斜めに吹き付け、この溶解液で被膜の所定箇所を溶解した後、前記基板を前記低速回転より高速度で回転させることにより、この溶解した被膜を基板の高速回転による遠心力で飛散させることを特徴とする。
　また、この発明の被膜除去装置は、表面に被膜が形成された基板を固定して回転するターンテーブルと、先端部が基板の外側に向いて傾斜して配置され、かつ被膜の所定箇所に溶解液を斜めに吹き付ける溶解液供給ノズルとを備え、上記ターンテーブルは、上記基板に上記溶解液供給ノズルから溶解液を吹き付けるときは所定の低速度で回転し、上記溶解液の吹き付けにより溶解された被膜を飛散させるときは上記低速度回転より高速度で回転することを特徴とする。」を、「【０００５】　【課題を解決するための手段】　この発明の被膜除去方法は、表面に被膜が形成された四角形状の基板を低速回転させながら、前記被膜の前記基板の隅に対応する箇所に溶解液を、前記被膜が形成された表面側から、前記基板の外側に向けて斜めに吹き付け、この溶解液で前記被膜の前記隅に対応する箇所を溶解した後、前記基板を前記低速回転より高速度で回転させることにより、前記基板の隅の溶解した被膜を前記基板の高速回転による遠心力で飛散させることを特徴とする。
　また、この発明の被膜除去装置は、表面に被膜が形成された四角形状の基板を固定して回転するターンテーブルと、前記被膜が形成された基板の表面側に、先端部が前記基板の外側に向いて傾斜して配置され、かつ前記被膜の前記基板の隅に対応する箇所に溶解液を斜めに吹き付ける溶解液供給ノズルとを備え、前記ターンテーブルは、前記基板に前記溶解液供給ノズルから溶解液を吹き付けるときは所定の低速度で回転し、前記溶解液の吹き付けにより前記基板の隅の溶解された被膜を飛散させるときは前記低速度回転より高速度で回転することを特徴とする。」と訂正する。
訂正事項ｃ
　特許明細書の段落番号【０００６】の記載「【０００６】【作用】　この発明によれば、ターンテーブルに基板を固定し、ターンテーブルと共に基板を回転させながら、表面の被膜の所定個所に基板の外側に向けて傾いた溶解液供給ノズルにより溶解液を斜めに吹き付け、この溶解液で被膜の所定個所を溶解し、この溶解した被膜を基板の回転による遠心力で飛散させることにより、不要な部分の被膜を除去することができる。」を、「【０００６】【作用】　この発明によれば、ターンテーブルに被膜が形成された四角形状の基板を固定し、ターンテーブルと共に基板を回転させながら、前記被膜の前記基板の隅に対応する箇所に、前記基板の被膜が形成された表面側から、前記基板の外側に向けて傾いた溶解液供給ノズルにより溶解液を斜めに吹き付け、この溶解液で被膜の前記基板の隅に対応する箇所を溶解し、この溶解した被膜を基板の回転による遠心力で飛散させることにより、四角形状の前記基板の隅に形成された不要な被膜を除去することができる。」と訂正する。
（５４）【発明の名称】
被膜除去方法およびその装置
（５７）【特許請求の範囲】
　【請求項１】
　表面に被膜が形成された
四角形状の
前記被膜
前記基板の隅に対応する
、前記被膜が形成された表面側から、
前記隅に対応する
前記基板の隅
　【請求項２】
　表面に被膜が形成された
四角形状の
　前記被膜が形成された基板の表面側に、
前記基板の隅に対応する
　前記ターンテーブルは、前記基板に前記溶解液供給ノズルから溶解液を吹き付けるときは所定の低速度で回転し、前記溶解液の吹き付けにより
前記基板の隅の
【発明の詳細な説明】
　【０００１】
　【産業上の利用分野】この発明は基板の表面に形成された不要な被膜を除去する被膜除去方法およびその装置に関する。
　【０００２】
　【従来の技術】
　ガラスまたは半導体ウエハなどの基板の表面にフォトレジスト膜などの被膜を形成する方法として、一般に、回転塗布方法が知られている。この回転塗布方法は、ターンテーブルに基板を真空吸着などで固定し、この基板の回転中心に被膜液をノズルで所定量滴下するとともに、モータなどの駆動手段でターンテーブルを回転させて基板を回転させることにより、その遠心力で被膜液を基板の表面に流動させて塗布している。
　【０００３】
　このような回転塗布方法では、基板の回転による遠心力で被膜液が基板の表面全体に塗布されるため、基板の端部に設けられたアライメントマーク（位置合わせマーク）や外部接続電極などのような被膜を必要としない部分にも被膜が施されてしまうとともに、被膜液の表面張力により基板の縁部に被膜液溜りが盛り上がって形成されてしまう。このため、従来では、被膜を溶解する溶解液を拭き取り部材に染み込まさせて、人手により不要な被膜および被膜液溜りを拭き取っている。
　【０００４】
　【発明が解決しようとする課題】
　しかしながら、溶解液を染み込ました拭き取り部材を用いて、人手によって不要な被膜および被膜液溜りを拭き取る被膜除去方法では、その作業が非能率的で、生産性が悪く、しかも確実かつ良好に被膜を除去することが困難であるという問題がある。
　この発明は上記事情に鑑みてなされたもので、その目的とするところは、被膜の除去作業が能率的にでき、生産性が良く、かつ確実に被膜を除去することのできる被膜除去方法およびその装置を提供することである。
　【０００５】
　【課題を解決するための手段】
　この発明の被膜除去方法は、表面に被膜が形成された四角形状の基板を低速回転させながら、前記被膜の前記基板の隅に対応する箇所に溶解液を、前記被膜が形成された表面側から、前記基板の外側に向けて斜めに吹き付け、この溶解液で前記被膜の前記隅に対応する箇所を溶解した後、前記基板を前記低速回転より高速度で回転させることにより、前記基板の隅の溶解した被膜を前記基板の高速回転による遠心力で飛散させることを特徴とする。
　また、この発明の被膜除去装置は、表面に被膜が形成された四角形状の基板を固定して回転するターンテーブルと、
　前記被膜が形成された基板の表面側に、先端部が前記基板の外側に向いて傾斜して配置され、かつ前記被膜の前記基板の隅に対応する箇所に溶解液を斜めに吹き付ける溶解液供給ノズルと、を備え、
　前記ターンテーブルは、前記基板に前記溶解液供給ノズルから溶解液を吹き付けるときは所定の低速度で回転し、前記溶解液の吹き付けにより前記基板の隅の溶解された被膜を飛散させるときは前記低速度回転より高速度で回転することを特徴とする。
　【０００６】
　【作用】
　この発明によれば、ターンテーブルに被膜が形成された四角形状の基板を固定し、ターンテーブルと共に基板を回転させながら、前記被膜の前記基板の隅に対応する箇所に、前記基板の被膜が形成された表面側から、前記基板の外側に向けて傾いた溶解液供給ノズルにより溶解液を斜めに吹き付け、この溶解液で被膜の前記基板の隅に対応する箇所を溶解し、この溶解した被膜を基板の回転による遠心力で飛散させることにより、四角形状の前記基板の隅に形成された不要な被膜を除去することができる。
　【０００７】
　【実施例】
　以下、図１〜図３を参照して、この発明の第１実施例を説明する。
　図１はこの発明の被膜除去方法に適した被膜除去装置の概略構成図を示している。この図において、１はターンテーブルである。このターンテーブル１は、下面中央が図示しないモータなどの駆動源によって回転する回転軸２の上端に水平に取り付けられており、外周部および底部がカップ状のカバー部材３により囲われている。ターンテーブル１の上面には、基板４が真空吸着により固定されるようになっている。基板４はガラスや半導体ウエハなどであり、その上面全体には被膜５が設けられている。
　ターンテーブル１の端部側における上方には、基板４の端部付近の被膜５に溶解液容器６内の溶解液７を吹き付ける溶解液供給ノズル８がその先端部を基板４の外側に向けて４０°〜５０°程度の角度傾いて配置されている。溶解液７は、被膜５を溶解する有機溶剤であり、溶解液容器６内に収容されており、溶解液容器６内にチューブ９から空気、窒素、ヘリウムなどの加圧ガスが送り込まれて加圧されると、チューブ１０を介して溶解液供給ノズル８に送り出されるようになっている。
　【０００８】
　つぎに、このような被膜除去装置を用いた被膜除去方法について説明する。
　まず、ターンテーブル１の上面に基板４を配置して真空吸着により固定する。次いで、ターンテーブル１を停止させた状態または低速回転（例えば、２００〜５００ｒｐｍ）の状態にして、溶解液容器６内にチューブ９から加圧ガスを送り込んで溶解液容器６内を加圧する。すると、溶解液容器６内の溶解液７がチューブ１０を介して溶解液供給ノズル８に送られ、この溶解液供給ノズル８から溶解液７が基板４の外側に向けて斜めに基板４の周辺部の被膜５に吹き付けられ、この溶解液７により基板４の縁部に設けられた被膜５が溶解される。この状態で、ターンテーブル１を高速回転（例えば、１５００〜２５００ｒｐｍ）させると、溶解された被膜５が基板４の高速回転による遠心力により飛散して除去されることになる。なお、このときには、基板４からの飛散材がカップ状のカバー部材３により受け止められるので、その周辺部における装置が汚れることはない。
　このような被膜除去方法では、例えば、基板４が図２に示すように円形状に形成されている場合には、その周辺部に設けられた被膜５が円形状に除去されることになり、また基板４が図３に示すように四角形状に形成されている場合には、その周辺部に設けられた被膜５のうち、４隅に設けられた被膜５のみが除去されることになる。なお、溶解液供給ノズル８の先端部の位置および溶解液供給ノズル８の傾きを調節することにより、基板４の周辺部の被膜５の除去範囲を適宜変えることができる。
　【０００９】
　このように、この第１実施例では、被膜５が基板４の上面全体に設けられていることにより、例えば基板４の端部に設けられたアライメントマークや外部接続電極などのような被膜を必要としない部分に被膜５が形成されていたり、あるいは基板４の端部に被膜液溜りが盛り上がって形成されていたりしても、不要な部分の被膜５および被膜液溜りに溶解液７を溶解液供給ノズル１３により吹き付けて溶解し、この溶解した被膜５を基板４の高速回転による遠心力で飛散させることにより、不要な被膜５を除去することができる。このため、従来のように溶解液７を染み込ました拭き取り部材を用いて、人手により不要な部分の被膜５および被膜液溜りを拭き取る必要がないため、被膜５の除去作業が能率的にでき、生産性が良く、しかも確実かつ良好に被膜５を除去することができる。
　【００１０】
　つぎに、図４を参照して、この発明の第２実施例を説明する。図４は上述した被膜除去装置と回転塗布装置とを組み合わせた装置の概略構成図を示している。なお、ここでは、図１と同一部分には同一符号を付し、その説明を適宜省略する。
　回転軸２の上端に水平に取り付けられたターンテーブル１の上面には、基板４が真空吸着により固定されるようになっている。ターンテーブル１の回転中心と対応する上方には、被膜液容器２０内の被膜液２１を基板４の回転中心上に滴下する被膜液供給ノズル２２が配置されている。被膜液２１は、ポリイミド、酸化シリコンなどの絶縁材またはフォトレジストなどであり、被膜液容器２０内に収容されており、被膜液容器２０内にチューブ２３から空気、窒素、ヘリウムなどの加圧ガスが送り込まれて加圧されると、チューブ２４を介して被膜液供給ノズル２２に送り出される。また、このターンテーブル１の端部側における上方には、第１実施例と同様に、溶解液容器６内の溶解液７を基板４の端部付近に設けられた被膜５に吹き付ける溶解液供給ノズル８がその先端部を基板４の外側に向けて４０°〜５０°程度の角度傾いて配置されている。この場合の溶解液７は、被膜５を溶解するアルコール類やアセトンなどの有機溶剤である。
　【００１１】
　つぎに、上述した装置を用いて、基板４に被膜５を形成し、不要な部分の被膜５を除去する方法について説明する。
　まず、ターンテーブル１の上面に基板４を配置して真空吸着により固定し、このターンテーブル１を停止させた状態または低速回転（例えば、２００〜５００ｒｐｍ）の状態にして、被膜液容器２０内にチューブ２３から加圧ガスを送り込んで被膜液容器２０内を加圧する。すると、被膜液容器２０内の被膜液２１がチューブ２４を介して被膜液供給ノズル２２から基板４の回転中心上に滴下される。このようにして、被膜液２１が所定量滴下した後は、ターンテーブル１を高速回転（例えば、１５００〜２５００ｒｐｍ）の状態にする。すると、基板４上に滴下した被膜液２１は基板４の回転に伴う遠心力により基板４の上面を流動して基板４の上面全体に塗布されることになる。
　この後、ターンテーブル１を低速回転に落して、第１実施例と同様に、溶解液容器６内にチューブ９から加圧ガスを送り込んで溶解液容器１１内を加圧し、溶解液容器６内の溶解液７をチューブ１０を介して溶解液供給ノズル２２から基板４の縁部に吹き付けるとともに、ターンテーブル１を高速回転させる。すると、溶解液供給ノズル２２から噴射された溶解液２１により、基板４の縁部の被膜液２１が溶解されて、基板４の高速回転による遠心力により飛散して除去されることになる。
　【００１２】
　このように、この第２実施例では、被膜除去装置と回転塗布装置とを組み合わせたので、被膜液供給ノズル２２により被膜液２１を基板４上に滴下して基板４を高速回転させることにより、基板４の上面全体に被膜液２１を塗布することができるとともに、基板４の上面全体に塗布された被膜液２１のうち、例えば基板４の端部に設けられたアライメントマークや外部接続電極などのような被膜を必要としない部分に塗布された被膜液２１、および基板４の端部に盛り上がって形成された被膜液溜りなどを溶解液供給ノズル８から噴射された溶解液７で溶解して除去することができる。特に、基板４に被膜液２１を塗布した後、基板４を移動させることなく、ターンテーブル１上に固定したままの状態で、基板４に塗布された不要な部分の被膜液２１を連続して除去することができるので、被膜の形成作業および除去作業を極めて能率的に行うことができる。
　【００１３】
　【発明の効果】
　以上説明したように、この発明によれば、ターンテーブルに基板を固定し、ターンテーブルと共に基板を低速回転させながら、表面の被膜の所定箇所に基板の外側に向けて傾いた溶解液供給ノズルにより溶解液を斜めに吹き付け、この溶解液で被膜の所定箇所を溶解した後、上記基板を上記低速回転より高速度で回転させることにより、この溶解した被膜を基板の高速回転による遠心力で飛散させ、不要な部分の被膜を除去するようにしたので、従来のように溶解液を染み込ました拭き取り部材を用いて、人手により不要な部分の被膜および被膜液溜りを拭き取る必要がないため、被膜の除去作業が能率的にでき、生産性が良く、かつ確実に被膜を除去することができる。
【図面の簡単な説明】
　【図１】
　この発明の被膜除去方法に適した第１実施例の概略構成図。
　【図２】
　円形状の基板の周辺部の被膜を除去した状態を示す平面図。
　【図３】
　四角形状の基板の縁部の被膜を除去した状態を示す平面図。
　【図４】
　この発明の被膜除去装置と回転塗布装置とを組み合わせた第２実施例の概略構成図。
　【符号の説明】
１　ターンテーブル
４　基板
５　被膜
７　溶解液
８　溶解液供給ノズル
２１　被膜液