(57)【要約】  本発明は、第１主面および第２主面を有する薄板ガラス基板、第１主面および第２主面を有する支持ガラス基板、ならびに易剥離性を有する樹脂層を有し、前記薄板ガラス基板の第１主面と前記支持ガラス基板の第１主面に固定された前記樹脂層とが密着するように、前記薄板ガラス基板と前記支持ガラス基板とが前記樹脂層を介して積層されたガラス積層体であって、前記薄板ガラス基板が、前記薄板ガラス基板の第１主面の外周の少なくとも一部が前記支持ガラス基板の第１主面の外周から突出するように積層されているガラス積層体に関する。
2010079688.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１主面および第２主面を有する薄板ガラス基板、第１主面および第２主面を有する支持ガラス基板、ならびに易剥離性を有する樹脂層を有し、前記薄板ガラス基板の第１主面と前記支持ガラス基板の第１主面に固定された前記樹脂層とが密着するように、前記薄板ガラス基板と前記支持ガラス基板とが前記樹脂層を介して積層されたガラス積層体であって、
前記薄板ガラス基板が、前記薄板ガラス基板の第１主面の外周の少なくとも一部が前記支持ガラス基板の第１主面の外周から突出するように積層されているガラス積層体。
【請求項２】
前記薄板ガラス基板の第１主面と前記支持ガラス基板の第１主面とが矩形形状をしており、前記薄板ガラス基板の第１主面の縦および／または横のそれぞれの長さが、前記支持ガラス基板の第１主面の縦および／または横のそれぞれの長さよりも長い、請求項１に記載のガラス積層体。
【請求項３】
前記薄板ガラス基板の第１主面の縦および／または横のそれぞれの長さが、前記支持ガラス基板の第１主面の縦および／または横のそれぞれの長さよりも、０．２ｍｍから２０ｍｍ長い、請求項１または２に記載のガラス積層体。
【請求項４】
前記薄板ガラス基板の第１主面の外周の全てが、前記支持ガラス基板の第１主面の外周よりも外側に突出している、請求項１〜３のいずれかに記載のガラス積層体。
【請求項５】
前記樹脂層を形成する樹脂が、アクリル樹脂、ポリオレフィン樹脂、ポリウレタン樹脂およびシリコーン樹脂から選ばれる少なくとも１つである、請求項１〜４のいずれかに記載のガラス積層体。
【請求項６】
前記樹脂層の厚さが５〜５０μｍである、請求項１〜５のいずれかに記載のガラス積層体。
【請求項７】
前記薄板ガラス基板と前記支持ガラス基板との線膨張係数の差が１５０×１０−７／℃以下である、請求項１〜６のいずれかに記載のガラス積層体。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれかに記載のガラス積層体の製造方法であって、前記支持ガラス基板の第１主面に易剥離性を有する樹脂層を形成し固定する樹脂層形成工程と、前記薄板ガラス基板の第１主面に、前記支持ガラス基板の第１主面上に固定された前記樹脂層を密着する密着工程とを含む、ガラス積層体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示装置、有機ＥＬ表示装置等に用いられるガラス基板を含むガラス積層体およびその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置（ＬＣＤ）、有機ＥＬ表示装置（ＯＬＥＤ）、特に携帯電話やデジタルカメラ等の携帯型表示装置の分野では、表示装置の軽量化、薄型化が重要な課題となっている。
この課題に対応するために、表示装置に用いるガラス基板の板厚をさらに薄くすることが望まれている。ガラス基板の板厚を薄くする方法としては、一般に、表示装置用部材をガラス基板の表面に形成する前または形成した後に、フッ酸等を用いてガラス基板をエッチング処理し、必要に応じてさらに物理研磨して薄くする方法が行われる。【０００３】
しかしながら、表示装置用部材をガラス基板の表面に形成する前にエッチング処理等をしてガラス基板の板厚を薄くすると、ガラス基板の強度が低下し、たわみ量も大きくなる。そのため既存の表示装置用部材の製造ラインで処理することが困難になるという問題が生じる。
また、表示装置用部材をガラス基板の表面に形成した後にエッチング処理等をしてガラス基板を薄くすると、表示装置用部材をガラス基板の表面に形成する過程においてガラス基板の表面に形成された微細な傷が顕在化する問題、すなわちエッチピット（etchpit）の発生という問題が生じる。【０００４】
そこで、このような問題を解決することを目的として、板厚の薄いガラス基板（以下では「薄板ガラス基板」ともいう。）を他の支持ガラス基板と貼り合わせてガラス積層体とし、その状態で表示装置を製造するための所定の処理を実施し、その後、薄板ガラス基板と支持ガラス基板とを分離する方法等が提案されている。【０００５】
例えば特許文献１には、薄板ガラス基板と、支持ガラス基板と、を積層させてなる薄板ガラス積層体であって、前記薄板ガラス基板と、前記支持ガラス基板と、が易剥離性および非粘着性を有するシリコーン樹脂層を介して積層されていることを特徴とする薄板ガラス積層体が記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】国際公開第２００７／０１８０２８号パンフレット
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
特許文献１において、薄板ガラス基板と支持ガラス基板の相対的な大小関係については、支持ガラス基板は薄板ガラス基板と同サイズ、もしくはそれよりも大きい事が望ましいと記載されている。つまり、特許文献１では、薄板ガラス基板の第１主面の外周が、支持ガラス基板の第１主面の外周よりも内周側に入ることを示している。この構成で、薄板ガラス基板を支持ガラス基板から剥離する工程に投入させると、次のような不具合が想定される。薄板ガラス基板と樹脂層との境界に、剥離用刃物を挿入しようとすると、前記境界に剥離用刃物が挿入されるのではなく、樹脂層に食い込むように挿入される。このため、剥離用刃物によって樹脂層を部分的に破壊してしまい、破壊された樹脂層の一部が薄板ガラス基板に付着したまま残る不具合を発生する。【０００８】
図５、図６は従来のガラス積層体の端部を示した拡大断面図である。図５は、薄板ガラス基板５２の第２主面５２ｂ側からガラス積層体５０を俯瞰したときに、支持ガラス基板５３の第１主面５３ａの外周と薄板ガラス基板５２の第１主面５２ａの外周とが、実質的に重なる形態のガラス積層体５０の端部付近の拡大断面図である。つまり、薄板ガラス基板５２と支持ガラス基板５３が同サイズの形態である。また、図６は、薄板ガラス基板６２の第２主面６２ｂ側からガラス積層体６０を俯瞰したときに、支持ガラス基板６３の第１主面６３ａの外周が、薄板ガラス基板６２の第１主面６２ａの外周より外側に突出している形態のガラス積層体６０の端部付近の拡大断面図である。つまり、支持ガラス基板６３が薄板ガラス基板６２より大きい形態である。【０００９】
図５、図６のガラス積層体５０、６０の形態で、薄板ガラス基板５２、６２を支持ガラス基板５３、６３から剥離する工程に投入すると、剥離用刃物１５の先端が薄板ガラス基板の第１主面５２ａ、６２ａと樹脂層５４、６４との境界に挿入されるのではなく、樹脂層５４、６４に食い込むように挿入される。このため、剥離用刃物１５が樹脂層５４、６４を破壊し、樹脂層の一部が薄板ガラス基板の第１主面５２ａ、６２ａに残ったまま、支持ガラス基板５３、６３から剥離される。【００１０】
また、支持ガラス基板の端部に凹陥部を設けて、薄板ガラス基板を剥離し易くすることが考えられるが、支持ガラス基板に凹陥部を設けるための工程が必要となり、ガラス積層体の生産時間が余計に掛かる不具合を発生する。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明者は上記課題を解決するために鋭意検討を重ね、本発明を完成した。
すなわち、本発明は以下の（１）〜（８）に関する。【００１２】
（１）第１主面および第２主面を有する薄板ガラス基板、第１主面および第２主面を有する支持ガラス基板、ならびに易剥離性を有する樹脂層を有し、前記薄板ガラス基板の第１主面と前記支持ガラス基板の第１主面に固定された前記樹脂層とが密着するように、前記薄板ガラス基板と前記支持ガラス基板とが前記樹脂層を介して積層されたガラス積層体であって、
前記薄板ガラス基板が、前記薄板ガラス基板の第１主面の外周の少なくとも一部が前記支持ガラス基板の第１主面の外周から突出するように積層されているガラス積層体。
（２）前記薄板ガラス基板の第１主面と前記支持ガラス基板の第１主面とが矩形形状をしており、前記薄板ガラス基板の第１主面の縦および／または横のそれぞれの長さが、前記支持ガラス基板の第１主面の縦および／または横のそれぞれの長さよりも長い、（１）に記載のガラス積層体。
（３）前記薄板ガラス基板の第１主面の縦および／または横のそれぞれの長さが、前記支持ガラス基板の第１主面の縦および／または横のそれぞれの長さよりも、０．２ｍｍから２０ｍｍ長い、（１）または（２）に記載のガラス積層体。
（４）前記薄板ガラス基板の第１主面の外周の全てが、前記支持ガラス基板の第１主面の外周よりも外側に突出している、（１）〜（３）のいずれかに記載のガラス積層体。
（５）前記樹脂層を形成する樹脂が、アクリル樹脂、ポリオレフィン樹脂、ポリウレタン樹脂およびシリコーン樹脂から選ばれる少なくとも１つである、（１）〜（４）のいずれかに記載のガラス積層体。
（６）前記樹脂層の厚さが５〜５０μｍである、（１）〜（５）のいずれかに記載のガラス積層体。
（７）前記薄板ガラス基板と前記支持ガラス基板との線膨張係数の差が１５０×１０−７／℃以下である、（１）〜（６）のいずれかに記載のガラス積層体。
（８）前記（１）〜（７）のいずれかに記載のガラス積層体の製造方法であって、前記支持ガラス基板の第１主面に易剥離性を有する樹脂層を形成し固定する樹脂層形成工程と、前記薄板ガラス基板の第１主面に、前記支持ガラス基板の第１主面上に固定された前記樹脂層を密着する密着工程とを含む、ガラス積層体の製造方法。【００１３】
さらに本発明者は、これら本発明のガラス積層体または製造方法を用いて形成される次の表示装置用パネルおよび表示装置に係る以下の発明を完成させた。
（９）前記（１）〜（７）のいずれかに記載のガラス積層体における前記薄板ガラス基板の第２主面に表示装置用部材を有する、支持体付き表示装置用パネル。
（１０）前記（９）に記載の支持体付き表示装置用パネルを用いて形成される表示装置用パネル。
（１１）前記（１０）に記載の表示装置用パネルを有する表示装置。
（１２）前記（８）に記載のガラス積層体の製造方法、および得られたガラス積層体における前記薄板ガラス基板の第２主面に、表示装置用部材を形成する工程を含む、支持体付き表示装置用パネルの製造方法。
（１３）前記（１２）に記載の支持体付き表示装置用パネルの製造方法、および得られた支持体付き表示装置用パネルにおける前記薄板ガラス基板と前記支持ガラス基板とを、前記薄板ガラス基板が該支持ガラス基板から突出している箇所を基点にして剥離する剥離工程を含む、表示装置用パネルの製造方法。
（１４）前記（１３）に記載の表示装置用パネルの製造方法、および得られた表示装置用パネルを用いて表示装置を得る工程を含む、表示装置の製造方法。
【発明の効果】
【００１４】
本発明により得られたガラス積層体は、支持ガラス基板に特別な加工が不必要であって、薄板ガラス基板を支持ガラス基板から剥離する工程において、樹脂層を破壊せずに、密着した薄板ガラス基板と樹脂層とを、容易かつ短時間に剥離ができる。
さらに、本発明のガラス積層体の製造方法によれば、ガラス基板間へ混入した気泡や塵介等の異物によるガラス欠陥の発生や、エッチピットの発生を抑制できる。
また、このようなガラス積層体を含む支持体付き表示装置用パネルを提供することができる。また、このような支持体付き表示装置用パネルを用いて形成される表示装置用パネルおよび表示装置を提供することができる。
さらに、このような支持体付き表示装置用パネル、表示装置用パネルおよび表示装置を製造する方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】図１は、本発明のガラス積層体の実施形態を示す概略正面図である。
【図２】図２は、図１のＡ−Ａ′断面を示す概略断面図である。
【図３】図３は、本発明のガラス積層体の実施形態の端部を示す概略断面図である。
【図４】図４（ａ）、（ｂ）および（ｃ）は本発明のガラス積層体の他の実施形態を示す概略正面図である
【図５】図５は、従来のガラス積層体の実施形態の端部を示す概略断面図である。
【図６】図６は、従来のガラス積層体の実施形態の端部を示す概略断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
本発明のガラス積層体の実施形態について図を用いて説明する。
【００１７】
図１は、本発明のガラス積層体（以下、単に「積層体」ともいう）の実施形態を示す概略正面図であり、図２は図１のＡ−Ａ’断面図（概略断面図）である。
【００１８】
本実施形態の積層体１０は、薄板ガラス基板１２、支持ガラス基板１３および樹脂層１４を有し、両ガラス基板で樹脂層１４を挟むように積層されている。
そして、図１に示すように、正面から見ると、本実施形態の積層体１０は、薄板ガラス基板１２、樹脂層１４および支持ガラス基板１３が各々矩形であり、薄板ガラス基板１２の第１主面１２ａの外周の少なくとも一部が、支持ガラス基板１３の第１主面１３ａの外周よりも主面方向の外側に突出するように位置している。
【００１９】
樹脂層１４は支持ガラス基板１３の第１主面１３ａに固定されており、薄板ガラス基板１２の第１主面１２ａに密着している。また、樹脂層１４は薄板ガラス基板１２の第１主面１２ａに対して易剥離性を具備している。ここで、薄板ガラス基板１２が有する２つの主面のうちの支持ガラス基板１３の側（樹脂層１４の側）の主面が第１主面１２ａであり、反対側の主面が第２主面１２ｂである。また、支持ガラス基板１３が有する２つの主面のうちの薄板ガラス基板１２の側（樹脂層１４が存在する側）の主面が第１主面１３ａであり、反対側の主面が第２主面１３ｂである。
【００２０】
図３は、薄板ガラス基板１２の第１主面１２ａの外周の一部が、支持ガラス基板１３の第１主面１３ａの外周の一部よりも外側に突出している、本実施形態の積層体１０の端部付近の拡大断面図である。この場合、剥離用刃物１５の先端は、薄板ガラス基板１２の第１主面１２ａを傷つけないように突き当てた後、薄板ガラス基板１２と樹脂層１４との境界に向かって第１主面１２ａ上を滑らせることができる。剥離用刃物１５を滑らせることで、樹脂層１４を破壊せずに、薄板ガラス基板１２と樹脂層１４との境界に剥離用刃物１５の先端が挿入され、薄板ガラス基板１２を支持ガラス基板１３から剥離することが可能となる。
【００２１】
次に、本実施形態の積層体が有する薄板ガラス基板、支持ガラス基板、および樹脂層の各々について説明する。
【００２２】
本発明における薄板ガラス基板について説明する。
薄板ガラス基板の厚さ、形状、大きさ、物性（熱収縮率、表面形状、耐薬品性等）、組成等は特に制限されず、例えば従来のＬＣＤ、ＯＬＥＤ等の表示装置用のガラス基板と同様であってよい。
【００２３】
薄板ガラス基板の厚さは特に制限されないが、０．７ｍｍ未満であることが好ましく、０．５ｍｍ以下であることがより好ましく、０．４ｍｍ以下であることがさらに好ましい。また、０．０５ｍｍ以上であることが好ましく、０．０７ｍｍ以上であることがより好ましく、０．１ｍｍ以上であることがさらに好ましい。
【００２４】
薄板ガラス基板の形状は制限されないが、矩形であることが好ましい。ここで矩形とは、実質的に略矩形であり、周辺部の隅を切り落とした（コーナーカットした）形状をも含む。
【００２５】
薄板ガラス基板の大きさは制限されないが、例えば矩形の場合は１００〜２０００ｍｍ×１００〜２０００ｍｍであってよく、５００〜１０００ｍｍ×５００〜１０００ｍｍであることが好ましい。
【００２６】
このような好ましい厚さおよび好ましい大きさであっても、本実施形態の積層体は薄板ガラス基板と支持ガラス基板とを容易に剥離することができる。
薄板ガラス基板の熱収縮率、表面形状、耐薬品性等の特性も特に制限されず、製造する表示装置の種類により異なる。
ただし、薄板ガラス基板の熱収縮率は小さいことが好ましい。具体的には熱収縮率の指標である線膨張係数が１５０×１０−７／℃以下であるものを用いることが好ましく、１００×１０−７／℃以下であることがより好ましく、４５×１０−７／℃以下であることがさらに好ましい。その理由は熱収縮率が大きいと高精細な表示装置を作り難くなるためである。また、薄板ガラス基板の線膨張係数は０／℃以上であることが好ましい。
【００２７】
なお、本発明において線膨張係数はＪＩＳ  Ｒ３１０２（１９９５年）に規定のものを意味する。
【００２８】
薄板ガラス基板の組成は、例えば従来知られているアルカリ金属酸化物を含有するガラス、無アルカリガラスと同様であってよい。中でも、熱収縮率が小さいことから無アルカリガラスであることが好ましい。
【００２９】
次に、本発明における支持ガラス基板について説明する。
支持ガラス基板は樹脂層を介して薄板ガラス基板を支持し、薄板ガラス基板の強度を補強する。
【００３０】
支持ガラス基板の厚さ、形状、物性（熱収縮率、表面形状、耐薬品性等）、組成等は特に制限されない。
【００３１】
支持ガラス基板の厚さは特に制限されないが、本実施形態の積層体を現行の表示装置用部材の製造工程で処理できる厚さであることが必要である。
例えば０．１〜１．１ｍｍの厚さであることが好ましく、０．３〜０．８ｍｍであることがより好ましく、０．４〜０．７ｍｍであることがさらに好ましい。
例えば、現行の製造工程が厚さ０．５ｍｍの基板を処理するように設計されたものであって、薄板ガラス基板の厚さが０．１ｍｍである場合、支持ガラス基板の厚さと樹脂層の厚さとの和を０．４ｍｍとする。また、現行の製造ラインは厚さが０．７ｍｍのガラス基板を処理するように設計されているものが最も一般的であるが、例えば薄板ガラス基板の厚さが０．４ｍｍならば、支持ガラス基板の厚さと樹脂層の厚さとの和を０．３ｍｍとする。
【００３２】
支持ガラス基板の厚さは、前記薄板ガラス基板よりも厚いことが好ましい。
【００３３】
支持ガラス基板の形状は制限されないが、矩形であることが好ましい。ただし、ここで矩形とは、実質的に略矩形であり、周辺部の隅を切り落とした（コーナーカットした）形状をも含む。
【００３４】
本発明における支持ガラス基板の大きさは制限されないが、薄板ガラス基板より小さいことが好ましい。すなわち、支持ガラス基板の第１主面の縦および／または横のそれぞれの長さは、薄板ガラス基板の第１主面の縦および／または横のそれぞれの長さよりも短いことが好ましい。ここで縦とは、図１において、薄板ガラス基板の短辺方向であって矢印Ｘａの方向であり、横とは、図１において、薄板ガラス基板の長辺方向であって矢印Ｘｂの方向であることを意味する。薄板ガラス基板と支持ガラス基板との縦の長さおよび／または横の長さの差の範囲としては、０．２ｍｍ以上２０ｍｍ以下であることが好ましい。この長さの差が０．２ｍｍ以上２０ｍｍ以下であると、薄板ガラス基板を支持ガラス基板から剥離する工程において、剥離用刃物による樹脂層の破壊を防ぐことができるため好ましい。さらに、薄板ガラス基板の突出部分が撓み難く、折れ難くなるため好ましい。この長さの差が２ｍｍ以上１５ｍｍ以下であることが更に好ましい。
【００３５】
また、薄板ガラス基板の第１主面の外周の一部が、支持ガラス基板の第１主面の外周よりも外側に突出している箇所数は特に制限されない。例えば図４（ａ）〜（ｃ）は本発明の積層体の他の実施形態の概略正面図である。これらの図では理解を容易にするために、薄板ガラス基板の第１主面と支持ガラス基板の第１主面のみを記している。
【００３６】
図４（ａ）における実施形態では、薄板ガラス基板の第１主面４２ａの４辺のうち２辺が、支持ガラス基板の第１主面４３ａの外周よりも外側に突出している。図４（ｂ）における実施形態では、薄板ガラス基板の第１主面４２ａの４辺のうち３辺が支持ガラス基板の第１主面４３ａの外周よりも外側に突出している。図４（ｃ）における実施形態では、薄板ガラス基板の第１主面４２ａの４辺すべてが支持ガラス基板の第１主面４３ａの外周よりも外側に突出している。これら図４（ａ）〜（ｃ）の実施形態の中で、図４（ｃ）の実施形態が好ましい。その理由は以下のとおりである。薄板ガラス基板を支持ガラス基板から剥離する工程において、剥離用刃物の挿入方向と積層体の薄板ガラス基板突出方向とが対向するように、積層体の薄板ガラス突出方向を確認して前記工程に投入する作業が必要となる。図４（ｃ）の実施形態のように、薄板ガラス基板の第１主面の外周すべてが支持ガラス基板の第１主面の外周よりも外側に突出していれば、積層体の薄板ガラス突出方向を確認する作業が不要となるため好ましい。
【００３７】
支持ガラス基板の線膨張係数は、薄板ガラス基板の線膨張係数と実質的に同一であってよく、異なってもよい。実質的に同一であると、本実施形態の積層体を熱処理した際に、薄板ガラス基板または支持ガラス基板に反りが発生し難い点で好ましい。
薄板ガラス基板と支持ガラス基板との線膨張係数の差は１５０×１０−７／℃以下であることが好ましく、１００×１０−７／℃以下であることがより好ましく、５０×１０−７／℃以下であることがさらに好ましい。
【００３８】
支持ガラス基板の組成は、例えばアルカリ金属酸化物を含有するガラス、無アルカリガラスと同様であってよい。中でも、熱収縮率が小さいことから無アルカリガラスであることが好ましい。
【００３９】
次に、本発明における樹脂層について説明する。
本実施形態の積層体において樹脂層は、前記支持ガラス基板の第１主面に固定されている。そして、樹脂層は、前記薄板ガラス基板の第１主面と密着しているが、容易に剥離することができる。すなわち樹脂層は、前記薄板ガラス基板に対して易剥離性を有する。
本実施形態の積層体において、樹脂層と薄板ガラス基板とは粘着剤が有するような粘着力によっては付いておらず、固体分子間におけるファンデルワールス力に起因する力、すなわち、密着力によって付いている。
【００４０】
樹脂層の厚さは特に制限されない。５〜５０μｍであることが好ましく、５〜３０μｍであることがより好ましく、７〜２０μｍであることがさらに好ましい。樹脂層の厚さがこのような範囲であると、薄板ガラス基板と樹脂層との密着が十分になるからである。また、気泡や異物が介在しても、薄板ガラス基板のゆがみ欠陥の発生を抑制することができるからである。また、樹脂層の厚さが厚すぎると、形成するのに時間および材料を要するため経済的ではない。
【００４１】
なお、樹脂層は２層以上からなっていてもよい。この場合「樹脂層の厚さ」は全ての樹脂層の合計の厚さを意味するものとする。
また、樹脂層が２層以上からなる場合は、各々の層を形成する樹脂の種類が異なってもよい。
【００４２】
樹脂層は表面張力が３０ｍＮ／ｍ以下であることが好ましく、２５ｍＮ／ｍ以下であることがより好ましく、２２ｍＮ／ｍ以下であることがさらに好ましい。このような表面張力であると、より容易に薄板ガラス基板と剥離することができ、同時に薄板ガラス基板との密着も十分になるからである。また、樹脂層は表面張力が１５ｍＮ／ｍ以上であることが好ましい。
【００４３】
また、樹脂層のガラス転移点は室温（２５℃程度）よりも低い、またはガラス転移点を有さない材料からなることが好ましい。非粘着性の樹脂層となり、より易剥離性を有し、より容易に薄板ガラス基板と剥離することができ、同時に薄板ガラス基板との密着も十分になるからである。
【００４４】
また、樹脂層は耐熱性を有していることが好ましい。例えば前記薄板ガラス基板の第２主面上に表示装置用部材を形成する場合に、本実施形態の積層体を熱処理に供し得るからである。
【００４５】
また、樹脂層の弾性率が高すぎると薄板ガラス基板との密着性が低くなる傾向にある。また弾性率が低すぎると易剥離性が低くなる。
【００４６】
樹脂層を形成する樹脂の種類は特に制限されない。例えばアクリル樹脂、ポリオレフィン樹脂、ポリウレタン樹脂およびシリコーン樹脂が挙げられる。いくつかの種類の樹脂を混合して用いることもできる。中でもシリコーン樹脂が好ましい。シリコーン樹脂は耐熱性に優れ、かつ、薄板ガラス基板に対する易剥離性に優れるためである。また、支持ガラス基板表面のシラノール基との縮合反応によって、支持ガラス基板に固定し易いからである。シリコーン樹脂層は例えば３００〜４００℃程度で１時間程度処理しても、易剥離性がほぼ劣化しない点も好ましい。
【００４７】
また、樹脂層はシリコーン樹脂の中でも剥離紙用シリコーンからなることが好ましく、その硬化物であることが好ましい。剥離紙用シリコーンは直鎖状のジメチルポリシロキサンを分子内に含むシリコーンを主剤とするものである。この主剤と架橋剤とを含む組成物を、触媒、光重合開始剤等を用いて前記支持ガラス基板の表面（第１主面）に硬化させて形成した樹脂層は、優れた易剥離性を有するので好ましい。また、柔軟性が高いので、薄板ガラス基板と樹脂層との間へ気泡や塵介等の異物が混入しても、薄板ガラス基板のゆがみ欠陥の発生を抑制することができる。
【００４８】
このような剥離紙用シリコーンは、その硬化機構により縮合反応型シリコーン、付加反応型シリコーン、紫外線硬化型シリコーンおよび電子線硬化型シリコーンに分類されるが、いずれも使用することができる。これらの中でも付加反応型シリコーンが好ましい。硬化反応のし易さ、樹脂層を形成した際に易剥離性の程度が良好で、耐熱性も高いからである。
【００４９】
また、剥離紙用シリコーンは形態的に溶剤型、エマルジョン型および無溶剤型があり、いずれの型も使用可能である。これらの中でも無溶剤型が好ましい。生産性、安全性、環境特性の面が優れるからである。また、樹脂層を形成する際の硬化時、すなわち、加熱硬化、紫外線硬化または電子線硬化の時に発泡を生じる溶剤を含まないため、樹脂層中に気泡が残留しにくいからである。
【００５０】
また、剥離紙用シリコーンとして、具体的には市販されている商品名または型番としてＫＮＳ−３２０Ａ，ＫＳ−８４７（いずれも信越シリコーン社製）、ＴＰＲ６７００（ＧＥ東芝シリコーン社製）、ビニルシリコーン「８５００」（荒川化学工業株式会社製）とメチルハイドロジェンポリシロキサン「１２０３１」（荒川化学工業株式会社製）との組み合わせ、ビニルシリコーン「１１３６４」（荒川化学工業株式会社製）とメチルハイドロジェンポリシロキサン「１２０３１」（荒川化学工業株式会社製）との組み合わせ、ビニルシリコーン「１１３６５」（荒川化学工業株式会社製）とメチルハイドロジェンポリシロキサン「１２０３１」（荒川化学工業株式会社製）との組み合わせ等が挙げられる。
なお、ＫＮＳ−３２０Ａ、ＫＳ−８４７およびＴＰＲ６７００は、あらかじめ主剤と架橋剤とを含有しているシリコーンである。
【００５１】
また、樹脂層を形成するシリコーン樹脂は、シリコーン樹脂層中の成分が薄板ガラス基板に移行しにくい性質、すなわち低シリコーン移行性を有することが好ましい。
【００５２】
このような本実施形態の積層体における前記薄板ガラス基板の第２主面に、表示装置用部材を形成することで支持体付き表示装置用パネルを得ることができる。
表示装置用部材とは、従来のＬＣＤ、ＯＬＥＤ等の表示装置用のガラス基板がその表面に有する発光層、保護層、カラーフィルタ、液晶、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）からなる透明電極等、各種回路パターン等を意味する。
【００５３】
また、このような表示装置用パネルから表示装置を得ることができる。表示装置としてはＬＣＤ、ＯＬＥＤが挙げられる。ＬＣＤとしてはＴＮ型、ＳＴＮ型、ＦＥ型、ＴＦＴ型、ＭＩＭ型が挙げられる。
【００５４】
次に、本実施形態の積層体の製造方法の一例を説明する。
本実施形態の積層体の製造方法は特に制限されないが、前記支持ガラス基板の第１主面上に易剥離性を有する樹脂層を形成し固定する樹脂層形成工程と、前記薄板ガラス基板の第１主面に、前記支持ガラス基板の第１主面上に固定された前記樹脂層を密着する密着工程とを含む、ガラス積層体の製造方法であることが好ましい。このような製造方法を、以下では「本実施形態の製造方法」ともいう。
【００５５】
本実施形態の製造方法で用いる前記薄板ガラス基板および前記支持ガラス基板自体の製造方法は特に制限されない。例えば従来公知の方法で製造することができる。例えば従来公知のガラス原料を溶解し溶融ガラスとした後、フロート法、フュージョン法、ダウンドロー法、スロットダウン法、リドロー法等によって板状に成形して得ることができる。
【００５６】
本実施形態の製造方法における樹脂層形成工程について説明する。
前記支持ガラス基板の表面（第１主面）に樹脂層を形成する方法も特に制限されない。例えば、フィルム状の樹脂を支持ガラス基板の表面に接着する方法が挙げられる。具体的には、フィルムの表面と高い接着力を付与するために、支持ガラス基板の表面に表面改質処理（プライミング処理）を行い、支持ガラス基板の第１主面に接着する方法が挙げられる。例えば、シランカップリング剤のような化学的に密着力を向上させる化学的方法（プライマー処理）や、フレーム（火炎）処理のように表面活性基を増加させる物理的方法、サンドブラスト処理のように表面の粗度を増加させることにより引っかかりを増加させる機械的処理方法などが例示される。
【００５７】
また、例えば、公知の方法によって樹脂層となる樹脂組成物を、支持ガラス基板の第１主面上にコートする方法が挙げられる。公知の方法としてはスプレーコート法、ダイコート法、スピンコート法、ディップコート法、ロールコート法、バーコート法、スクリーン印刷法、グラビアコート法が挙げられる。このような方法の中から、樹脂組成物に種類に応じて適宜選択することができる。
【００５８】
また、樹脂組成物を支持ガラス基板の第１主面上にコートする場合、その塗工量は１〜１００ｇ／ｍ２であることが好ましく、５〜２０ｇ／ｍ２であることがより好ましい。
【００５９】
例えば付加反応型シリコーンから樹脂層を形成する場合、直鎖状のジメチルポリシロキサンを分子内に含むシリコーン（主剤）、架橋剤および触媒を含む樹脂組成物を、上記のスプレーコート法等の公知の方法により支持ガラス基板上に塗工し、その後に加熱硬化させる。加熱硬化条件は、触媒の配合量によっても異なるが、例えば、主剤および架橋剤の合計量１００質量部に対して、白金系触媒を２質量部配合した場合、大気中で５０℃〜２５０℃、好ましくは１００℃〜２００℃で反応させる。また、この場合の反応時間は５〜６０分間、好ましくは１０〜３０分間とする。低シリコーン移行性を有するシリコーン樹脂層とするためには、シリコーン樹脂層中に未反応のシリコーン成分が残らないように、硬化反応をできるだけ進行させることが好ましい。上記のような反応温度および反応時間であると、シリコーン樹脂層中に未反応のシリコーン成分が残らないようにすることができるので好ましい。上記した反応時間よりも長すぎたり、反応温度が高すぎる場合には、シリコーン樹脂の酸化分解が同時に起こり、低分子量のシリコーン成分が生成して、シリコーン移行性が高くなる可能性がある。シリコーン樹脂層中に未反応のシリコーン成分が残らないように硬化反応をできるだけ進行させることは、加熱処理後の剥離性を良好にするためにも好ましい。
【００６０】
また、例えば樹脂層を、剥離紙用シリコーンを用いて製造した場合、支持ガラス基板上に塗工した剥離紙用シリコーンを加熱硬化してシリコーン樹脂層を形成した後、密着工程で支持ガラス基板のシリコーン樹脂形成面に薄板ガラス基板を積層させる。剥離紙用シリコーンを加熱硬化させることによって、シリコーン樹脂硬化物が支持ガラス基板と化学的に結合する。また、アンカー効果によってシリコーン樹脂層が支持ガラス基板と結合する。これらの作用によって、シリコーン樹脂層が支持ガラス基板に強固に固定される。
【００６１】
密着工程について説明する。
密着工程は、前記薄板ガラス基板の第１主面に、前記支持ガラス基板の第１主面上に固定された前記樹脂層を密着する工程である。薄板ガラス基板と樹脂層とは、非常に近接した、相対する固体分子間におけるファンデルワールス力に起因する力、すなわち、密着力によって樹脂層と密着する。この場合、支持ガラス基板と薄板ガラス基板と樹脂層を介して積層させた状態に保持することができる。
【００６２】
支持ガラス基板に固定された樹脂層の表面に薄板ガラス基板を積層させる方法は特に制限されない。例えば公知の方法を用いて実施することができる。例えば、常圧環境下で樹脂層の表面に薄板ガラス基板を重ねた後、ロールやプレスを用いて樹脂層と薄板ガラス基板とを圧着させる方法が挙げられる。ロールやプレスで圧着することにより樹脂層と薄板ガラス基板とがより密着するので好ましい。また、ロールまたはプレスによる圧着により、樹脂層と薄板ガラス基板との間に混入している気泡が比較的容易に除去されるので好ましい。真空ラミネート法や真空プレス法により圧着すると、気泡の混入の抑制や良好な密着の確保がより好ましく行われるのでより好ましい。真空下で圧着することにより、微小な気泡が残存した場合でも、加熱により気泡が成長することがなく、薄板ガラス基板のゆがみ欠陥につながりにくいという利点もある。
【００６３】
密着工程では、支持ガラス基板の樹脂層の表面に薄板ガラス基板を積層させる際には、薄板ガラス基板の表面を十分に洗浄し、クリーン度の高い環境で積層することが好ましい。樹脂層と薄板ガラス基板との間に異物が混入しても、樹脂層が変形するので薄板ガラス基板の表面の平坦性に影響を与えることはないが、クリーン度が高いほどその平坦性は良好となるので好ましい。
【００６４】
このような本実施形態の製造方法によって本実施形態のガラス積層体を製造することができる。
【００６５】
本実施形態のガラス積層体の製造方法に、さらに、得られた本実施形態のガラス積層体における前記薄板ガラス基板の第２主面に、表示装置用部材を形成する工程を含む製造方法によって、支持体付き表示装置用パネルを製造することができる。
ここで表示装置用部材は特に制限されない。例えばＬＣＤが有するアレイやカラーフィルタが挙げられる。また、例えばＯＬＥＤが有する透明電極、ホール注入層、ホール輸送層、発光層、電子輸送層が挙げられる。
【００６６】
このような表示装置部材を形成する方法も特に制限されず、従来公知の方法と同様であってよい。
例えば、表示装置としてＴＦＴ−ＬＣＤを製造する場合、従来公知のガラス基板上にアレイを形成する工程、カラーフィルタを形成する工程、アレイが形成されたガラス基板とカラーフィルタが形成されたガラス基板とをシール材等を介して貼り合わせる工程（アレイ・カラーフィルタ貼り合わせ工程）等の各種工程と同様であってよい。より具体的には、これらの工程で実施される処理として、例えば純水洗浄、乾燥、成膜、レジスト液塗布、露光、現像、エッチングおよびレジスト除去が挙げられる。さらに、アレイ・カラーフィルタ貼り合わせ工程を実施した後に行われる工程として、液晶注入工程および液晶注入口封止工程があり、これらの工程で実施される処理が挙げられる。
また、ＯＬＥＤを製造する場合を例にとると、薄板ガラス基板の第２主面上に有機ＥＬ構造体を形成するための工程として、透明電極を形成する工程、ホール注入層・ホール輸送層・発光層・電子輸送層等を蒸着する工程、封止工程等の各種工程を含み、これらの工程で実施される処理として、具体的には例えば、成膜処理、蒸着処理、封止板の接着処理等が挙げられる。
【００６７】
このようにして支持体付き表示装置用パネルを製造することができる。
【００６８】
また、このような支持体付き表示装置用パネルを得た後、さらに、得られた支持体付き表示装置用パネルにおける前記薄板ガラス基板と前記支持ガラス基板とを、剥離すること（剥離工程）によって、表示装置用パネルを得ることができる。
【００６９】
表示装置用パネルは、例えば、上記のような本実施形態の製造方法によって得られた支持体付き表示装置用パネルにおいて、前記薄板ガラス基板と前記支持ガラス基板とを剥離することにより製造することができる。剥離する方法は特に制限されない。具体的には、例えば、支持ガラス基板の第１主面の外周よりも外側に突出している、薄板ガラス基板の第１主面上に剥離用刃物を当てる。次に薄板ガラス基板と樹脂層との境界に向けて、剥離用刃物を薄板ガラス基板の第１主面上を滑らせる。そして、前記境界に剥離用刃物を差込み、剥離のきっかけを与えた上で、前記境界に水と圧縮空気との混合流体を吹き付けて、薄板ガラス基板を剥離することができる。好ましくは、前記支持体付き表示装置用パネルの支持ガラス基板が上側、パネル側が下側となるように定盤上に設置する。その後、パネル側基板を定盤上に真空吸着する（両面に支持ガラス基板が積層されている場合は順次行う）。この状態で、剥離用刃物を薄板ガラス基板の第１主面に突き当て、薄板ガラス基板の第１主面上を、薄板ガラス基板と樹脂層との境界に向かって滑らせ、前記境界に剥離用刃物を挿入させる。その後、薄板ガラス基板と樹脂層との境界に、水と圧縮空気の混合流体を噴きつけ、支持ガラス基板の端部を垂直上方へ引っ張り上げる。そうすると樹脂層と薄板ガラス基板との境界へ空気層が形成され、その空気層が前記境界の全面に広がり、支持ガラス基板を容易に剥離することができる（表示装置の前面側および背面側の薄板ガラス基板の両方に支持ガラス基板が積層されている場合は本操作を片面ずつ繰り返す）。
【００７０】
さらに、得られた表示装置用パネルを用いて表示装置を得る工程を含む製造方法によって表示装置を製造することができる。
ここで表示装置を得る工程における操作は特に制限されず、例えば従来公知の方法で表示装置を製造することができる。
【実施例】
【００７１】
（実施例１）
初めに縦７１５ｍｍ、横５９５ｍｍ、板厚０．４ｍｍ、線膨張係数３８×１０−７／℃の支持ガラス基板（旭硝子株式会社製、ＡＮ１００）を用意し、純水洗浄、ＵＶ洗浄して表面を清浄化した。【００７２】
次に、無溶剤付加反応型剥離紙用シリコーン１００質量部と、白金系触媒２質量部との混合物を、支持ガラス基板の第１主面上に縦７１４ｍｍ、横５９４ｍｍの大きさで、スクリーン印刷機にて塗工した（塗工量３０ｇ／ｍ２）。そして、１８０℃にて３０分間大気中で加熱硬化して厚さ２０μｍのシリコーン樹脂層を得た。【００７３】
次に、縦７２０ｍｍ、横６００ｍｍ、板厚０．３ｍｍ、線膨張係数３８×１０−７／℃の薄板ガラス基板（旭硝子株式会社製、ＡＮ１００）の第１主面（後にシリコーン樹脂層と接触させる側の面）を純水洗浄、ＵＶ洗浄して清浄化した。そして、前記支持ガラス基板の第１主面上のシリコーン樹脂層の表面と薄板ガラス基板の第１主面とを、室温下、真空プレスにて両基板の重心が重なるように貼り合わせ、ガラス積層体Ａ（本発明の積層体Ａ）を得た。【００７４】
このような実施例１に係るガラス積層体Ａにおいて、薄板ガラス基板および支持ガラス基板は、シリコーン樹脂層と気泡を発生することなく密着しており、凸状欠点もなく平滑性も良好であった。【００７５】
（実施例２）
実施例２は実施例１と同様であるが、より板厚が薄い薄板ガラス基板を用いた。
初めに縦７１８ｍｍ、横５９８ｍｍ、板厚０．６ｍｍ、線膨張係数３８×１０−７／℃の支持ガラス基板（旭硝子株式会社製、ＡＮ１００）を純水洗浄、ＵＶ洗浄して表面を清浄化した。【００７６】
次に樹脂層を形成するための樹脂として、両末端にビニル基を有する直鎖状ポリオルガノシロキサンと、分子内にハイドロシリル基を有するメチルハイドロジェンポリシロキサンとを用いた。そして、これを白金系触媒と混合して混合物を調製し、支持ガラス基板の第１主面上に縦７１５ｍｍ、横５９５ｍｍの大きさでダイコート装置にて塗工し（塗工量２０ｇ／ｍ２）、１８０℃にて３０分間大気中で加熱硬化して厚さ２０μｍのシリコーン樹脂層を形成した。ここで、ハイドロシリル基とビニル基のモル比は１／１となるように、直鎖状ポリオルガノシロキサンとメチルハイドロジェンポリシロキサンとの混合比を調整した。白金系触媒は、直鎖状ポリオルガノシロキサンとメチルハイドロジェンポリシロキサンとの合計１００質量部に対して５質量部添加した。
次に、薄板ガラス基板として、縦７２０ｍｍ、横６００ｍｍ、厚さ０．１ｍｍ、線膨張係数３８×１０−７／℃のガラス基板（旭硝子株式会社製ＡＮ１００）を用いて、支持ガラス基板の第１主面上のシリコーン樹脂層の表面と薄板ガラス基板とを、室温下、真空プレスにて両基板の重心が重なるように貼り合わせガラス積層体Ｂ（本発明の積層体Ｂ）を得た。【００７７】
このような実施例２に係るガラス積層体Ｂにおいて、薄板ガラス基板および支持ガラス基板は、シリコーン樹脂層と気泡を発生することなく密着しており、凸状欠点もなく平滑性も良好であった。【００７８】
（実施例３）
本例では、実施例２で得たガラス積層体Ｂを用いてＬＣＤを製造する。
２枚のガラス積層体Ｂを準備して、１枚はアレイ形成工程に供して薄板ガラス基板の第２主面上にアレイを形成する。残りの１枚はカラーフィルタ形成工程に供して薄板ガラス基板の第２主面上にカラーフィルタを形成する。【００７９】
アレイが形成されたガラス積層体と、カラーフィルタが形成されたガラス積層体とをシール材を介して貼り合わせた後、厚さ０．２５ｍｍのステンレス製剥離用刃物を、支持ガラス基板の第１主面の外周よりも外側に突出している薄板ガラス基板の第１主面に突き当てる。次に、薄板ガラス基板と樹脂層との境界に向かって薄板ガラス基板の第１主面上を滑らせ、前記境界に剥離用刃物を挿入させる。その後、前記境界に向けて、圧縮空気と水の混合流体を吹きつけた上で、各々の支持ガラス基板を剥離する。剥離後の支持ガラス基板上に固着している樹脂層に傷は存在せず、薄板ガラス基板にも樹脂が残っていない。【００８０】
続いて、支持ガラス基板を剥離したガラス基板を切断し、縦５１ｍｍ×横３８ｍｍの１６８個のセルに分断した後、液晶注入工程および注入口の封止工程を実施して液晶セルを形成する。形成された液晶セルに偏光板を貼付する工程を実施し、続いてモジュール形成工程を実施してＬＣＤを得る。こうして得られるＬＣＤは、特性上問題は生じない。【００８１】
（実施例４）
本例では、実施例１で得たガラス積層体Ａを用いてＬＣＤを製造する。
２枚のガラス積層体Ａを準備して、１枚はアレイ形成工程に供して薄板ガラス基板の第２主面にアレイを形成する。残りの１枚はカラーフィルタ形成工程に供して薄板ガラス基板の第２主面にカラーフィルタを形成する。【００８２】
アレイが形成されたガラス積層体と、カラーフィルタが形成されたガラス積層体とをシール材を介して貼り合わせた後、厚さ０．２５ｍｍのステンレス製剥離用刃物を、支持ガラス基板の第１主面の外周よりも外側に突出している薄板ガラス基板の第１主面に突き当てる。次に、薄板ガラス基板の第１主面上を、薄板ガラス基板と樹脂層との境界に向かって滑らせ、前記境界に剥離用刃物を挿入させる。その後、前記境界に向けて、水と圧縮空気の混合流体を吹きつけた上で、各々の支持ガラス基板を剥離する。剥離後の支持ガラス基板上に固着している樹脂層に傷は存在せず、薄板ガラス基板にも樹脂が残っていない。【００８３】
続いて、ケミカルエッチング処理によりそれぞれの薄板ガラス基板の厚さを０．１５ｍｍとする。ケミカルエッチング処理後の薄板ガラス基板の表面には光学的に問題となるようなエッチピットの発生はみられない。【００８４】
その後、支持ガラス基板を剥離したガラス基板を切断し、縦５１ｍｍ×横３８ｍｍの１６８個のセルに分断した後、液晶注入工程および注入口の封止工程を実施して液晶セルを形成する。形成された液晶セルに偏光板を貼付する工程を実施し、続いてモジュール形成工程を実施してＬＣＤを得る。こうして得られるＬＣＤは、特性上問題は生じない。【００８５】
（実施例５）
本例では、実施例２で得たガラス積層体Ｂを用いてＯＬＥＤを製造する。
透明電極を形成する工程、補助電極を形成する工程、ホール注入層・ホール輸送層・発光層・電子輸送層等を蒸着する工程、これらを封止する工程に供して、積層体の薄板ガラス基板の第２主面上に有機ＥＬ構造体を形成する。【００８６】
厚さ０．２５ｍｍのステンレス製剥離用刃物を、支持ガラス基板の第１主面の外周よりも外側に突出している薄板ガラス基板の第１主面に突き当てる。次に、剥離用刃物を積層体の薄板ガラス基板と樹脂層との境界に向かって薄板ガラス基板の第１主面上を滑らせ、前記境界に挿入させる。その後、前記境界に向けて、圧縮空気と水の混合流体を吹きつけた上で、各々の支持ガラス基板を剥離する。剥離後の支持ガラス基板上に固着している樹脂層に傷は存在せず、薄板ガラス基板にも樹脂が残っていない。【００８７】
続いて、薄板ガラス基板をレーザーカッタまたはスクライブ−ブレイク法を用いて切断し、縦４１ｍｍ×横３０ｍｍの２８８個のセルに分断した後、有機ＥＬ構造体が形成されたガラス基板と対向基板とを組み立てて、モジュール形成工程を実施してＯＬＥＤを作成する。こうして得られるＯＬＥＤは、特性上問題は生じない。【００８８】
（比較例１）
本例での積層体は、支持ガラス基板の縦および横のサイズを、薄板ガラス基板と同じサイズである、縦７２０ｍｍ、横６００ｍｍに変更したこと以外は、実施例１と同様とした。得られた比較例１に係るガラス積層体Ｃは、シリコーン樹脂層と気泡を発生することなくガラス基板が密着しており、凸状欠点もなく平滑性も良好であった。【００８９】
続いて、２枚のガラス積層体Ｃを準備して、１枚はアレイ形成工程に供して薄板ガラス基板の第２主面にアレイを形成する。残りの１枚はカラーフィルタ形成工程に供して薄板ガラス基板の第２主面にカラーフィルタを形成する。【００９０】
アレイが形成された積層体と、カラーフィルタが形成された積層体とをシール材を介して貼り合わせた後、厚さ０．２５ｍｍのステンレス製剥離用刃物を薄板ガラス基板の第１主面に突き当てる。次に、薄板ガラス基板の第１主面上を、薄板ガラス基板と樹脂層との境界に向かって滑らせ、前記境界に剥離用刃物を挿入させる。その後、前記境界に向けて、水と圧縮空気の混合流体を吹きつけた上で、各々の支持ガラス基板を剥離する。剥離後の支持ガラス基板上に固着している樹脂層に、剥離用刃物による傷が付いており、薄板ガラス基板の第１主面に樹脂の一部が付着して残っている。そのため、表示装置製造工程において、薄板ガラス基板の第１主面上に付着した樹脂の一部を、剃刀等で削ぎ落とす工程が余計に必要となる。【００９１】
本発明を詳細にまた特定の実施態様を参照して説明したが、本発明の精神と範囲を逸脱することなく様々な変更や修正を加えることができることは、当業者にとって明らかである。
本出願は、２００９年１月９日出願の日本特許出願２００９−００３４０５に基づくものであり、その内容はここに参照として取り込まれる。
【産業上の利用可能性】
【００９２】
本発明によって得られた薄板ガラス基板は、各種表示装置のガラス基板として使用することができる。
【符号の説明】
【００９３】
１０、５０、６０  ガラス積層体
１２、５２、６２  薄板ガラス基板
１２ａ、４２ａ、５２ａ、６２ａ  薄板ガラス基板の第１主面
１２ｂ、５２ｂ、６２ｂ  薄板ガラス基板の第２主面
１３、５３、６３  支持ガラス基板
１３ａ、４３ａ  支持ガラス基板の第１主面
１３ｂ  支持ガラス基板の第２主面
１４、５４、６４  樹脂層
１５  剥離用刃物
Ｘａ  縦方向矢印
Ｘｂ  横方向矢印
【図１】
2010079688.tif 000003
【図２】
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【図３】
2010079688.tif 000005
【図４】
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【図５】
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【図６】
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【国際調査報告】
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2010079688.tif 000010
2010079688.tif 000011
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