(57)【要約】  本発明は、大画面での均一な画像品質を生産性よく提供できる光学フィルムを提供することにある。  本発明の光学フィルムは、フラノース構造もしくはピラノース構造を少なくとも１個有し、該フラノース構造もしくはピラノース構造が１以上１２個以下結合した化合物のＯＨ基のすべてもしくは一部をエステル化した糖エステル化合物と少なくとも一般式（１）または（２）で表される繰り返し単位を有するセルロースエステルを含有することを特徴とする。    【化１】2010082411.tif 000036    【化２】2010082411.tif 000037（式中、Ａ、Ｂは、炭素数１〜１２の２価の炭化水素基または、水酸基で置換された炭素数１〜１２の２価の炭化水素基を表す。但しＡ、Ｂは同じでも異なってもよい。
2010082411.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
フラノース構造もしくはピラノース構造を少なくとも１個有し、該フラノース構造もしくはピラノース構造が１以上１２個以下結合した化合物のＯＨ基のすべてもしくは一部をエステル化した糖エステル化合物と少なくとも一般式（１）または（２）で表される繰り返し単位を有するセルロースエステルを含有することを特徴とする光学フィルム。
【化１】
2010082411.tif 000031
【化２】
2010082411.tif 000032
（式中、Ａ、Ｂは、炭素数１〜１２の２価の炭化水素基または、水酸基で置換された炭素数１〜１２の２価の炭化水素基を表す。但しＡ、Ｂは同じでも異なってもよい。）
【請求項２】
前記光学フィルムが下記一般式（３）で表されるベンゾトリアゾール系化合物または一般式（４）で表されるベンゾフェノン系化合物または一般式（５）で表されるシアノ基を含む化合物を含有することを特徴とする請求項１に記載の光学フィルム。
【化３】
2010082411.tif 000033
（式中、Ｑ１は含窒素芳香族ヘテロ環、Ｑ２は芳香族環を表す。）
【化４】
2010082411.tif 000034
（式中、Ｑ１およびＱ２はそれぞれ独立に芳香族環を表す。ＸはＮＲ、酸素原子または硫黄原子を表し、Ｒは水素原子または置換基を表す。）
【化５】
2010082411.tif 000035
（式中、Ｑ１およびＱ２はそれぞれ独立に芳香族環を表す。Ｘ１およびＸ２は水素原子または置換基を表し、少なくともどちらか１つはシアノ基、カルボニル基、スルホニル基、芳香族ヘテロ環を表す。）
【請求項３】
前記光学フィルムの巾が１．６〜４ｍであることを特徴とする請求項１又は２に記載の光学フィルム。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか１項に記載の光学フィルムを偏光子の少なくとも一方の面に有することを特徴とする偏光板。
【請求項５】
請求項４に記載の偏光板を液晶セルの少なくとも一方の面に用いることを特徴とする液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、額縁故障が軽減され且つ異物故障の少ない光学フィルムに関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置は大画面化が進み、画面全体での画像品質の均一化がより厳しいレベルで求められている。特に２０インチサイズを超える液晶表示画面では、額縁故障と呼ばれる表示画面の周辺部が黒表示中に額縁状に明るくなる光漏れ故障が発生することがあり改良が図られてきた。【０００３】
そこで例えば、従来のトリアセチルセルロースの替わりに特許文献１に記載の透明保護フィルムを用い、光学補償に必要な厚み方向のレターデーションＲｔｈの不足分を積層する液晶化合物が配向した光学補償層で補うか、新たに円盤状化合物の水平配向層やコレステリック液晶層等による負のＣプレート層を積層することにより、液晶表示装置とした時の所謂額縁故障を改善することができる提案がなされている（例えば、特許文献１を参照）。【０００４】
また、特定の繰り返し単位を有する新規なセルロースエステルフィルムも額縁故障を顕著に改善できることが提案されている（例えば、特許文献２を参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００８−２２４７６３号公報
【特許文献２】特開２００７−１６１３７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら前記、特定の繰り返し単位を有する新規なセルロースエステルフィルムでは額縁故障は顕著に改善できるものの、特に、フィルム製膜中に発生する使用材料の不溶解による異物故障が多くなる欠点があった。【０００７】
近年は、液晶表示装置の急速な需要増加に伴い、偏光板保護フィルムや位相差フィルムの広幅化、長尺巻き化などの高生産性の要望に対して、異物故障が多いことは生産収率に大きく影響するため致命的となる。【０００８】
本発明の目的は、額縁故障を軽減でき且つ異物故障の少ない、生産性に優れた光学フィルム、及びそれを用いた偏光板を提供し、それにより大画面での画像品質が均一な液晶表示装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明の上記目的は、以下の構成により達成することができる。【００１０】
１．フラノース構造もしくはピラノース構造を少なくとも１個有し、該フラノース構造もしくはピラノース構造が１以上１２個以下結合した化合物のＯＨ基のすべてもしくは一部をエステル化した糖エステル化合物と少なくとも一般式（１）または（２）で表される繰り返し単位を有するセルロースエステルを含有することを特徴とする光学フィルム。【００１１】
【化１】
2010082411.tif 000003
【００１２】
【化２】
2010082411.tif 000004
【００１３】
（式中、Ａ、Ｂは、炭素数１〜１２の２価の炭化水素基または、水酸基で置換された炭素数１〜１２の２価の炭化水素基を表す。但しＡ、Ｂは同じでも異なってもよい。）
２．前記光学フィルムが下記一般式（３）で表されるベンゾトリアゾール系化合物または一般式（４）で表されるベンゾフェノン系化合物または一般式（５）で表されるシアノ基を含む化合物を含有することを特徴とする前記１に記載の光学フィルム。【００１４】
【化３】
2010082411.tif 000005
【００１５】
（式中、Ｑ１は含窒素芳香族ヘテロ環、Ｑ２は芳香族環を表す。）【００１６】
【化４】
2010082411.tif 000006
【００１７】
（式中、Ｑ１およびＱ２はそれぞれ独立に芳香族環を表す。ＸはＮＲ、酸素原子または硫黄原子を表し、Ｒは水素原子または置換基を表す。）【００１８】
【化５】
2010082411.tif 000007
【００１９】
（式中、Ｑ１およびＱ２はそれぞれ独立に芳香族環を表す。Ｘ１およびＸ２は水素原子または置換基を表し、少なくともどちらか１つはシアノ基、カルボニル基、スルホニル基、芳香族ヘテロ環を表す。）
３．前記光学フィルムの巾が１．６〜４ｍであることを特徴とする前記１又は２に記載の光学フィルム。【００２０】
４．前記１〜３のいずれか１項に記載の光学フィルムを偏光子の少なくとも一方の面に有することを特徴とする偏光板。【００２１】
５．前記４に記載の偏光板を液晶セルの少なくとも一方の面に用いることを特徴とする液晶表示装置。
【発明の効果】
【００２２】
本発明により額縁故障を軽減でき且つ異物故障の少ない、生産性に優れた光学フィルム、偏光板、及び大画面で画像品質が均一な液晶表示装置を提供することができた。
【発明を実施するための形態】
【００２３】
本発明者らは鋭意検討した結果、上記課題に対し、本発明の糖エステル化合物をセルロースエステルに含有することで、額縁故障を軽減でき且つ異物故障の少ない、生産性に優れた光学フィルム、及びそれを用いた偏光板を提供することができる事を見出した。以下、本発明の構成を詳細に示す。
【００２４】
（糖エステル化合物）
本発明の光学フィルムは、フラノース構造もしくはピラノース構造を少なくとも１個有し、該フラノース構造もしくはピラノース構造が１〜１２個結合した化合物中のＯＨ基のすべてもしくは一部をエステル化した化合物（糖エステル化合物ということがある。）を含む。好ましい「フラノース構造もしくはピラノース構造を少なくとも１個有し、該フラノース構造もしくはピラノース構造が１〜１２個結合した化合物」としては、例えば以下のようなものを挙げることができるが、本発明はこれらに限定されない。
【００２５】
グルコース、ガラクトース、マンノース、フルクトース、キシロース、アラビノース、ラクトース、スクロース、セロビオース、セロトリオース、マルトトリオース、ラフィノースなどが挙げられ、特にフラノース構造とピラノース構造を両方有するものが好ましい。例としてはスクロースが挙げられる。
【００２６】
本発明の「フラノース構造もしくはピラノース構造を少なくとも１個有し、該フラノース構造もしくはピラノース構造が１〜１２個結合した化合物中のＯＨ基のすべてもしくは一部をエステル化した化合物（糖エステル化合物）」を合成する際に用いられるモノカルボン酸としては、特に制限はなく、公知の脂肪族モノカルボン酸、脂環族モノカルボン酸、芳香族モノカルボン酸等が挙げられる。用いられるカルボン酸は１種類でもよいし、２種以上の混合であってもよい。
【００２７】
好ましい脂肪族モノカルボン酸としては、酢酸、プロピオン酸、酪酸、イソ酪酸、吉草酸、カプロン酸、エナント酸、カプリル酸、ペラルゴン酸、カプリン酸、２−エチル−ヘキサンカルボン酸、ウンデシル酸、ラウリン酸、トリデシル酸、ミリスチン酸、ペンタデシル酸、パルミチン酸、ヘプタデシル酸、ステアリン酸、ノナデカン酸、アラキン酸、ベヘン酸、リグノセリン酸、セロチン酸、ヘプタコサン酸、モンタン酸、メリシン酸、ラクセル酸等の飽和脂肪酸、ウンデシレン酸、オレイン酸、ソルビン酸、リノール酸、リノレン酸、アラキドン酸、オクテン酸等の不飽和脂肪酸等を挙げることができる。
【００２８】
好ましい脂環族モノカルボン酸の例としては、シクロペンタンカルボン酸、シクロヘキサンカルボン酸、シクロオクタンカルボン酸、またはそれらの誘導体を挙げることができる。
【００２９】
好ましい芳香族モノカルボン酸の例としては、安息香酸、トルイル酸等の安息香酸のベンゼン環に１〜５個のアルキル基もしくはアルコキシ基等の置換基を導入した芳香族モノカルボン酸、ケイ皮酸、ベンジル酸、ビフェニルカルボン酸、ナフタリンカルボン酸、テトラリンカルボン酸等のベンゼン環を２個以上有する芳香族モノカルボン酸、またはそれらの誘導体を挙げることができ、特に安息香酸が好ましい。
【００３０】
これらの化合物の製造方法の詳細は、特開昭６２−４２９９６号公報及び特開平１０−２３７０８４号公報に記載されている。
【００３１】
以下に、具体例を挙げるが、本発明はこれに限定されるものではない。
【００３２】
【化６】
2010082411.tif 000008
【００３３】
【化７】
2010082411.tif 000009
【００３４】
【化８】
2010082411.tif 000010
【００３５】
本発明の糖エステル化合物は、光学フィルム中に１〜３５質量％、特に５〜３０質量％含むことが好ましい。
（セルロースエステル）
本発明の光学フィルムは、上記一般式（１）または（２）で表される繰り返し単位を有するセルロースエステルを含有することを特徴とする。
【００３６】
以下にＡの具体例を挙げる。
Ａ−１  −ＣＨ２ＣＨ２−
Ａ−２  −ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−
Ａ−３  −ＣＨ＝ＣＨ−
Ａ−４
【００３７】
【化９】
2010082411.tif 000011
【００３８】
Ａ−５  
【００３９】
【化１０】
2010082411.tif 000012
【００４０】
Ａ−６  −ＣＨ２Ｃ（ＣＨ３）２−
以下Ｂの具体例を挙げる。
Ｂ−１  −ＣＨ２ＣＨ２−
Ｂ−２  −ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−
Ｂ−３    
【００４１】
【化１１】
2010082411.tif 000013
【００４２】
Ｂ−４
【００４３】
【化１２】
2010082411.tif 000014
【００４４】
本発明における前記一般式（１）または（２）で表される繰り返し単位を有するセルロースエステルは、未置換の水酸基を有するセルロース、またはアセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、フタリル基等のアシル基によってすでに一部の水酸基が置換されているセルロースエステルの存在下で、多塩基酸またはその無水物と多価アルコールとのエステル化反応、またはＬ−ラクチド、Ｄ−ラクチドの開環重合、Ｌ−乳酸、Ｄ−乳酸の自己縮合を行わせることによって得ることができる。
【００４５】
エステル化反応に用いる多塩基酸無水物として、無水マレイン酸、無水フタル酸、無水フマル酸が挙げられるが特に限定されない。
【００４６】
エステル化反応に用いることができる多価アルコールとして、グリセリン、エチレングリコール、プロピレングリコールなどが挙げられるが特に限定されない。
【００４７】
エステル化反応は、無触媒で反応をすることもできるが、公知のルイス酸触媒などを用いることができる。使用できる触媒としてはスズ、亜鉛、チタン、ビスマス、ジルコニウム、ゲルマニウム、アンチモン、ナトリウム、カリウム、アルミニウムなどの金属およびその誘導体が挙げられ、特に誘導体については金属有機化合物、炭酸塩、酸化物、ハロゲン化物が好ましい。具体的にはオクチルスズ、塩化スズ、塩化亜鉛、塩化チタン、アルコキシチタン、酸化ゲルマニウム、酸化ジルコニウム、三酸化アンチモン、アルキルアルミニウムなどを例示することができる。また、触媒としてパラトルエンスルホン酸に代表される酸触媒を用いることもできる。また、カルボン酸とアルコールとの脱水反応を促進するためにカルボジイミド、ジメチルアミノピリジンなど公知の化合物を添加してもよい。
【００４８】
係る反応は、セルロースエステルおよびその他の反応させる化合物を溶解させることが可能な有機溶媒中における反応によってもよいし、剪断力を付加しながら加熱攪拌が可能なバッチ式ニーダーを用いた反応によるものであってもよいし、一軸或いは二軸のエクストルーダーを用いた反応によるものであってもよい。
【００４９】
本発明の繰り返し単位は当該部分のセルロースに対して０．５〜１９０質量％の範囲で適宜含有させることができる。
【００５０】
セルロースエステルの置換度は、適宜選択することができるが、２．２〜３であることが熱可塑性、熱加工性の点から好ましい。
【００５１】
本発明のセルロースエステルにおいて、セルロースの水酸基部分の水素原子が脂肪族アシル基との脂肪酸エステルであるとき、脂肪族アシル基は炭素原子数が２〜２０で具体的にはアセチル、プロピオニル、ブチリル、イソブチリル、バレリル、ピバロイル、ヘキサノイル、オクタノイル、ラウロイル、ステアロイル等が挙げられる。
【００５２】
本発明の繰り返し単位は、当該部分のセルロースに対しての数平均分子量として３００〜１００００であり、５００〜８０００であることが熱加工性の点から好ましい。なお、当該セルロースエステルが有する繰り返し単位のみの数平均分子量は、エステル化反応する前のセルロースエステルと反応後のセルロースエステルをポリスチレン換算したＧＰＣデータまたは、１Ｈ−ＮＭＲ（日本電子製ＪＮＭ−ＥＸ−２７０：溶媒：重塩化メチレン）により比較して求めた。
【００５３】
本発明の繰り返し単位をセルロースに導入する際に副反応として、一般式（１）または（２）で表される繰り返し単位を有するオリゴマー、ポリエステルが生成することあるが、これらの化合物は可塑剤として作用することから精製により必ずしも完全に除去する必要はなくセルロースエステルに含んでもよい。含有量としてはセルロースエステルに対して３０質量％以下であればセルロースエステルの性質を大きく変化させることは少ない。可塑性の点から、好ましくは０．５〜２０質量％である。
【００５４】
これらのオリゴマー、ポリエステルの数平均分子量は、３００〜１００００であり、可塑性の点から好ましくは５００〜８０００である。
（ベンゾトリアゾール系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノ基を含む化合物）
本発明に好ましく用いられるベンゾトリアゾール系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノ基を含む化合物を添加することにより、本発明の目的である使用材料の不溶解による異物故障低減効果が大きくなることが判明した。
【００５５】
これらの化合物は、揮散性の観点から分子量が２５０〜１０００であることが好ましい。より好ましくは２６０〜８００であり、更に好ましくは２７０〜８００であり、特に好ましくは３００〜８００である。これらの分子量の範囲であれば、特定のモノマー構造であっても良いし、そのモノマーユニットが複数結合したオリゴマー構造、ポリマー構造でも良い。添加量は、透明フィルムの０．０１乃至３０質量％であることが好ましく、０．１乃至２０質量％であることがより好ましく、０．２乃至１０質量％であることが特に好ましい。またこれら化合物は、単独で用いても、２種以上化合物を任意の比で混合して用いてもよい。またこれら化合物を添加する時期はドープ作製工程中の何れであってもよいが、材料の溶解性の観点からドープ作製初期に添加するのが好ましい。
【００５６】
以下、具体例を挙げるが、本発明はこれらに限定されるものではない。
ベンゾトリアゾール系化合物：
一般式（３）  Ｑ１−Ｑ２−ＯＨ
（式中、Ｑ１は含窒素芳香族ヘテロ環Ｑ２は芳香族環を表す。）
Ｑ１は好ましくは５乃至７員の含窒素芳香族ヘテロ環であり、より好ましくは５乃至６員の含窒素芳香族ヘテロ環であり、例えば、イミダゾール、ピラゾール、トリアゾール、テトラゾール、チアゾール、オキサゾール、セレナゾール、ベンゾトリアゾール、ベンゾチアゾール、ベンズオキサゾール、ベンゾセレナゾール、チアジアゾール、オキサジアゾール、ナフトチアゾール、ナフトオキサゾール、アザベンズイミダゾール、プリン、ピリジン、ピラジン、ピリミジン、ピリダジン、トリアジン、トリアザインデン、テトラザインデン等があげられ、更に好ましくは、５員の含窒素芳香族ヘテロ環であり、具体的にはイミダゾール、ピラゾール、トリアゾール、テトラゾール、チアゾール、オキサゾール、ベンゾトリアゾール、ベンゾチアゾール、ベンズオキサゾール、チアジアゾール、オキサジアゾールが好ましく、特に好ましくは、ベンゾトリアゾールである。Ｑ１で表される含窒素芳香族ヘテロ環は更に置換基を有してもよく、置換基としては後述の置換基Ｔが適用できる。また、置換基が複数ある場合にはそれぞれが縮環して更に環を形成してもよい。
【００５７】
Ｑ２で表される芳香族環は芳香族炭化水素環でも芳香族ヘテロ環でもよい。また、これらは単環であってもよいし、更に他の環と縮合環を形成してもよい。
【００５８】
芳香族炭化水素環として好ましくは炭素数６〜３０の単環または二環の芳香族炭化水素環（例えばベンゼン環、ナフタレン環などが挙げられる。）であり、より好ましくは炭素数６〜２０の芳香族炭化水素環、更に好ましくは炭素数６〜１２の芳香族炭化水素環である。更に好ましくはベンゼン環である。
【００５９】
芳香族ヘテロ環として好ましくは窒素原子あるいは硫黄原子を含む芳香族ヘテロ環である。ヘテロ環の具体例としては、例えば、チオフェン、イミダゾール、ピラゾール、ピリジン、ピラジン、ピリダジン、トリアゾール、トリアジン、インドール、インダゾール、プリン、チアゾリン、チアゾール、チアジアゾール、オキサゾリン、オキサゾール、オキサジアゾール、キノリン、イソキノリン、フタラジン、ナフチリジン、キノキサリン、キナゾリン、シンノリン、プテリジン、アクリジン、フェナントロリン、フェナジン、テトラゾール、ベンズイミダゾール、ベンズオキサゾール、ベンズチアゾール、ベンゾトリアゾール、テトラザインデンなどが挙げられる。芳香族ヘテロ環として好ましくは、ピリジン、トリアジン、キノリンである。
【００６０】
Ｑ２で表される芳香族環として好ましくは芳香族炭化水素環であり、より好ましくはナフタレン環、ベンゼン環であり、特に好ましくはベンゼン環である。Ｑ２は更に置換基を有してもよく、後述の置換基Ｔが好ましい。
【００６１】
置換基Ｔとしては例えばアルキル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１２、特に好ましくは炭素数１〜８であり、例えばメチル、エチル、ｉｓｏ−プロピル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｎ−オクチル、ｎ−デシル、ｎ−ヘキサデシル、シクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシルなどが挙げられる。）、アルケニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１２、特に好ましくは炭素数２〜８であり、例えばビニル、アリール、２−ブテニル、３−ペンテニルなどが挙げられる。）、アルキニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１２、特に好ましくは炭素数２〜８であり、例えばプロパルギル、３−ペンチニルなどが挙げられる。）、アリール基（好ましくは炭素数６〜３０、より好ましくは炭素数６〜２０、特に好ましくは炭素数６〜１２であり、例えばフェニル、ｐ−メチルフェニル、ナフチルなどが挙げられる。）、置換又は未置換のアミノ基（好ましくは炭素数０〜２０、より好ましくは炭素数０〜１０、特に好ましくは炭素数０〜６であり、例えばアミノ、メチルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ジベンジルアミノなどが挙げられる。）、アルコキシ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１２、特に好ましくは炭素数１〜８であり、例えばメトキシ、エトキシ、ブトキシなどが挙げられる。）、アリールオキシ基（好ましくは炭素数６〜２０、より好ましくは炭素数６〜１６、特に好ましくは炭素数６〜１２であり、例えばフェニルオキシ、２−ナフチルオキシなどが挙げられる。）、アシル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばアセチル、ベンゾイル、ホルミル、ピバロイルなどが挙げられる。）、アルコキシカルボニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１２であり、例えばメトキシカルボニル、エトキシカルボニルなどが挙げられる。）、アリールオキシカルボニル基（好ましくは炭素数７〜２０、より好ましくは炭素数７〜１６、特に好ましくは炭素数７〜１０であり、例えばフェニルオキシカルボニルなどが挙げられる。）、アシルオキシ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１０であり、例えばアセトキシ、ベンゾイルオキシなどが挙げられる。）、アシルアミノ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１０であり、例えばアセチルアミノ、ベンゾイルアミノなどが挙げられる。）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１２であり、例えばメトキシカルボニルアミノなどが挙げられる。）、アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数７〜２０、より好ましくは炭素数７〜１６、特に好ましくは炭素数７〜１２であり、例えばフェニルオキシカルボニルアミノなどが挙げられる。）、スルホニルアミノ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメタンスルホニルアミノ、ベンゼンスルホニルアミノなどが挙げられる。）、スルファモイル基（好ましくは炭素数０〜２０、より好ましくは炭素数０〜１６、特に好ましくは炭素数０〜１２であり、例えばスルファモイル、メチルスルファモイル、ジメチルスルファモイル、フェニルスルファモイルなどが挙げられる。）、カルバモイル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばカルバモイル、メチルカルバモイル、ジエチルカルバモイル、フェニルカルバモイルなどが挙げられる。）、アルキルチオ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメチルチオ、エチルチオなどが挙げられる。）、アリールチオ基（好ましくは炭素数６〜２０、より好ましくは炭素数６〜１６、特に好ましくは炭素数６〜１２であり、例えばフェニルチオなどが挙げられる。）、スルホニル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメシル、トシルなどが挙げられる。）、スルフィニル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメタンスルフィニル、ベンゼンスルフィニルなどが挙げられる。）、ウレイド基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばウレイド、メチルウレイド、フェニルウレイドなどが挙げられる。）、リン酸アミド基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばジエチルリン酸アミド、フェニルリン酸アミドなどが挙げられる。）、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、スルホ基、カルボキシル基、ニトロ基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、ヘテロ環基（好ましくは炭素数１〜３０、より好ましくは１〜１２であり、ヘテロ原子としては、例えば窒素原子、酸素原子、硫黄原子、具体的には例えばイミダゾリル、ピリジル、キノリル、フリル、ピペリジル、モルホリノ、ベンゾオキサゾリル、ベンズイミダゾリル、ベンズチアゾリルなどが挙げられる。）、シリル基（好ましくは、炭素数３〜４０、より好ましくは炭素数３〜３０、特に好ましくは、炭素数３〜２４であり、例えば、トリメチルシリル、トリフェニルシリルなどが挙げられる）などが挙げられる。これらの置換基は更に置換されてもよい。また、置換基が二つ以上ある場合は、同じでも異なってもよい。また、可能な場合には互いに連結して環を形成してもよい。
【００６２】
一般式（３）で表される化合物として、好ましくは下記一般式（３−Ａ）で表される化合物である。
【００６３】
【化１３】
2010082411.tif 000015
【００６４】
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、およびＲ８はそれぞれ独立に水素原子または置換基を表す。）
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、およびＲ９が表す置換基としては前述の置換基Ｔが適用できる。またこれらの置換基は更に別の置換基によって置換されてもよく、置換基同士が縮環して環構造を形成してもよい。好ましくは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、置換または無置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子であり、より好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、アルキルオキシ基、アリールオキシ基、ハロゲン原子である。
【００６５】
Ｒ１およびＲ３として更に好ましくは水素原子、炭素１〜１２アルキル基であり、特に好ましくは炭素数１〜１２のアルキル基（好ましくは炭素数４〜１２）である。
【００６６】
Ｒ２、およびＲ４として更に好ましくは水素原子、炭素１〜１２アルキル基であり、特に好ましくは水素原子、メチル基であり、最も好ましくは水素原子である。
【００６７】
Ｒ５およびＲ８として更に好ましくは水素原子、炭素１〜１２アルキル基であり、特に好ましくは水素原子、メチル基であり、最も好ましくは水素原子である。
【００６８】
Ｒ６およびＲ７として更に好ましくは水素原子、ハロゲン原子であり、特に好ましくは水素原子、塩素原子である。
【００６９】
一般式（３）で表される化合物として、より好ましくは下記一般式（３−Ｂ）で表される化合物である。
【００７０】
【化１４】
2010082411.tif 000016
【００７１】
（式中、Ｒ１、Ｒ３、Ｒ６およびＲ７は一般式（３−Ａ）におけるそれらと同義であり、また好ましい範囲も同様である。）
【００７２】
【化１５】
2010082411.tif 000017
【００７３】
また本発明に用いられるベンゾフェノン系化合物としては一般式（４）で示されるものが好ましく用いられる。
【００７４】
【化１６】
2010082411.tif 000018
【００７５】
（式中、Ｑ１およびＱ２はそれぞれ独立に芳香族環を表す。ＸはＮＲ（Ｒは水素原子または置換基を表す。）、酸素原子または硫黄原子を表す。）
Ｑ１およびＱ２で表される芳香族環は芳香族炭化水素環でも芳香族ヘテロ環でもよい。また、これらは単環であってもよいし、更に他の環と縮合環を形成してよい。
【００７６】
Ｑ１およびＱ２で表される芳香族炭化水素環として好ましくは（好ましくは炭素数６〜３０の単環または二環の芳香族炭化水素環（例えばベンゼン環、ナフタレン環などが挙げられる。）であり、より好ましくは炭素数６〜２０の芳香族炭化水素環、更に好ましくは炭素数６〜１２の芳香族炭化水素環である。）更に好ましくはベンゼン環である。
【００７７】
Ｑ１およびＱ２で表される芳香族ヘテロ環として好ましくは酸素原子、窒素原子あるいは硫黄原子のどれかひとつを少なくとも１つ含む芳香族ヘテロ環である。ヘテロ環の具体例としては、例えば、フラン、ピロール、チオフェン、イミダゾール、ピラゾール、ピリジン、ピラジン、ピリダジン、トリアゾール、トリアジン、インドール、インダゾール、プリン、チアゾリン、チアゾール、チアジアゾール、オキサゾリン、オキサゾール、オキサジアゾール、キノリン、イソキノリン、フタラジン、ナフチリジン、キノキサリン、キナゾリン、シンノリン、プテリジン、アクリジン、フェナントロリン、フェナジン、テトラゾール、ベンズイミダゾール、ベンズオキサゾール、ベンズチアゾール、ベンゾトリアゾール、テトラザインデンなどが挙げられる。芳香族ヘテロ環として好ましくは、ピリジン、トリアジン、キノリンである。
【００７８】
Ｑ１およびＱ２であらわされる芳香族環として好ましくは芳香族炭化水素環であり、より好ましくは炭素数６〜１０の芳香族炭化水素環であり、更に好ましくは置換または無置換のベンゼン環である。
【００７９】
Ｑ１およびＱ２は更に置換基を有してもよく、前述の置換基Ｔが好ましいが、置換基にカルボン酸やスルホン酸、４級アンモニウム塩を含むことはない。また、可能な場合には置換基同士が連結して環構造を形成してもよい。
【００８０】
ＸはＮＲ（Ｒは水素原子または置換基を表す。置換基としては後述の置換基Ｔが適用できる。）、酸素原子または硫黄原子を表し、Ｘとして好ましくは、ＮＲ（Ｒとして好ましくはアシル基、スルホニル基であり、これらの置換基は更に置換してもよい。）、またはＯであり、特に好ましくはＯである。
【００８１】
一般式（４）で表される化合物として、好ましくは下記一般式（４−Ａ）で表される化合物である。
【００８２】
【化１７】
2010082411.tif 000019
【００８３】
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、およびＲ９はそれぞれ独立に水素原子または置換基を表す。）
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、およびＲ９が表す置換基としては前述の置換基Ｔが適用できる。またこれらの置換基は更に別の置換基によって置換されてもよく、置換基同士が縮環して環構造を形成してもよい。好ましくは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、置換または無置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子である。
【００８４】
Ｒ１、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ８およびＲ９としてより好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、アルキルオキシ基、アリールオキシ基、ハロゲン原子であり、更に好ましくは水素原子、炭素１〜１２アルキル基であり、特に好ましくは水素原子、メチル基であり、最も好ましくは水素原子である。
【００８５】
Ｒ２としてより好ましくは水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数０〜２０のアミノ基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数６〜１２アリールオキシ基、ヒドロキシ基であり、更に好ましくは炭素数１〜２０のアルコキシ基であり、特に好ましくは炭素数１〜１２のアルコキシ基である。
【００８６】
Ｒ７としてより好ましくは水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数０〜２０のアミノ基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数６〜１２アリールオキシ基、ヒドロキシ基であり、更に好ましくは水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基（好ましくは炭素数１〜１２、より好ましくは炭素数１〜８、更に好ましくはメチル基）であり、特に好ましくはメチル基、水素原子である。
【００８７】
一般式（４）で表される化合物として、より好ましくは下記一般式（４−Ｂ）で表される化合物である。
【００８８】
【化１８】
2010082411.tif 000020
【００８９】
（式中、Ｒ１０は水素原子、置換または無置換のアルキル基、置換または無置換のアルケニル基、置換または無置換のアルキニル基、置換または無置換のアリール基を表す。）
Ｒ１０の置換基としては前述の置換基Ｔが適用できる。
【００９０】
Ｒ１０として好ましくは置換または無置換のアルキル基であり、より好ましくは炭素数５〜２０の置換または無置換のアルキル基であり、更に好ましくは炭素数５〜１２の置換または無置換のアルキル基（ｎ−ヘキシル基、２−エチルヘキシル基、ｎ−オクチル基、ｎ−デシル基、ｎ−ドデシル基、ベンジル基、などが挙げられる。）であり、特に好ましくは、炭素数６〜１２の置換または無置換のアルキル基（２−エチルヘキシル基、ｎ−オクチル基、ｎ−デシル基、ｎ−ドデシル基、ベンジル基）である。
【００９１】
一般式（４）で表される化合物は特開平１１−１２２１９号公報記載の公知の方法により合成できる。
【００９２】
【化１９】
2010082411.tif 000021
【００９３】
また本発明に用いられるシアノ基を含む化合物としては一般式（５）で示されるものが好ましく用いられる。
【００９４】
シアノ基を含む化合物：一般式（５）
【００９５】
【化２０】
2010082411.tif 000022
【００９６】
（式中、Ｑ１およびＱ２はそれぞれ独立に芳香族環を表す。Ｘ１およびＸ２は水素原子または置換基を表し、少なくともどちらか１つはシアノ基、カルボニル基、スルホニル基、芳香族ヘテロ環を表す。）Ｑ１およびＱ２であらわされる芳香族環は芳香族炭化水素環でも芳香族ヘテロ環でもよい。また、これらは単環であってもよいし、更に他の環と縮合環を形成してもよい。
【００９７】
芳香族炭化水素環として好ましくは（好ましくは炭素数６〜３０の単環または二環の芳香族炭化水素環（例えばベンゼン環、ナフタレン環などが挙げられる。）であり、より好ましくは炭素数６〜２０の芳香族炭化水素環、更に好ましくは炭素数６〜１２の芳香族炭化水素環である。）更に好ましくはベンゼン環である。
【００９８】
芳香族ヘテロ環として好ましくは窒素原子あるいは硫黄原子を含む芳香族ヘテロ環である。ヘテロ環の具体例としては、例えば、チオフェン、イミダゾール、ピラゾール、ピリジン、ピラジン、ピリダジン、トリアゾール、トリアジン、インドール、インダゾール、プリン、チアゾリン、チアゾール、チアジアゾール、オキサゾリン、オキサゾール、オキサジアゾール、キノリン、イソキノリン、フタラジン、ナフチリジン、キノキサリン、キナゾリン、シンノリン、プテリジン、アクリジン、フェナントロリン、フェナジン、テトラゾール、ベンズイミダゾール、ベンズオキサゾール、ベンズチアゾール、ベンゾトリアゾール、テトラザインデンなどが挙げられる。芳香族ヘテロ環として好ましくは、ピリジン、トリアジン、キノリンである。
【００９９】
Ｑ１およびＱ２で表される芳香族環として好ましくは芳香族炭化水素環であり、より好ましくはベンゼン環である。
【０１００】
Ｑ１およびＱ２は更に置換基を有してもよく、前述の置換基Ｔが好ましい。
【０１０１】
Ｘ１およびＸ２で表される置換基は前述の置換基Ｔを適用することができる。また、Ｘ１およびＸ２で表される置換基は更に他の置換基によって置換されてもよく、Ｘ１およびＸ２はそれぞれが縮環して環構造を形成してもよい。
【０１０２】
Ｘ１およびＸ２として好ましくは、水素原子、アルキル基、アリール基、シアノ基、ニトロ基、カルボニル基、スルホニル基、芳香族ヘテロ環であり、より好ましくは、シアノ基、カルボニル基、スルホニル基、芳香族ヘテロ環であり、更に好ましくはシアノ基、カルボニル基であり、特に好ましくはシアノ基、アルコキシカルボニル基（−Ｃ（＝Ｏ）ＯＲ（Ｒは：炭素数１〜２０アルキル基、炭素数６〜１２のアリール基およびこれらを組み合せたもの））である。
【０１０３】
一般式（５）で表される化合物として、好ましくは下記一般式（５−Ａ）で表される化合物である。
【０１０４】
【化２１】
2010082411.tif 000023
【０１０５】
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９およびＲ１０はそれぞれ独立に水素原子または置換基を表す。Ｘ１およびＸ２は一般式（２０）におけるそれらと同義であり、また好ましい範囲も同様である。）
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９およびＲ１０で表される置換基としては前述の置換基Ｔが適用できる。またこれらの置換基は更に別の置換基によって置換されてもよく、置換基同士が縮環して環構造を形成してもよい。好ましくは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、置換または無置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子である。
【０１０６】
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ９、およびＲ１０としてより好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、アルキルオキシ基、アリールオキシ基、ハロゲン原子であり、更に好ましくは水素原子、炭素１〜１２アルキル基であり、特に好ましくは水素原子、メチル基であり、最も好ましくは水素原子である。
【０１０７】
Ｒ３、およびＲ８としてより好ましくは水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数０〜２０のアミノ基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数６〜１２アリールオキシ基、ヒドロキシ基であり、更に好ましくは水素原子、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数１〜１２アルコキシ基であり、特に好ましくは水素原子である。
【０１０８】
一般式（５）で表される化合物として、より好ましくは下記一般式（５−Ｂ）で表される化合物である。
【０１０９】
【化２２】
2010082411.tif 000024
【０１１０】
（式中、Ｒ３およびＲ８は一般式（５−Ａ）におけるそれらと同義であり、また、好ましい範囲も同様である。Ｘ３は水素原子、または置換基を表す。）
Ｘ３が表す置換基としては前述の置換基Ｔが適用でき、また、可能な場合は更に他の置換基で置換されてもよい。Ｘ３として好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、シアノ基、ニトロ基、カルボニル基、スルホニル基、芳香族ヘテロ環であり、より好ましくは、シアノ基、カルボニル基、スルホニル基、芳香族ヘテロ環であり、更に好ましくはシアノ基、カルボニル基であり、特に好ましくはシアノ基、アルコキシカルボニル基（−Ｃ（＝Ｏ）ＯＲ（Ｒは：炭素数１〜２０アルキル基、炭素数６〜１２のアリール基およびこれらを組み合せたもの））である。
【０１１１】
一般式（５）で表される化合物として、更に好ましくは一般式（５−Ｃ）で表される化合物である。
【０１１２】
【化２３】
2010082411.tif 000025
【０１１３】
（式中、Ｒ３およびＲ８は一般式（５−Ａ）におけるそれらと同義であり、また、好ましい範囲も同様である。Ｒ２１は炭素数１〜２０のアルキル基を表す。）
Ｒ２１として好ましくはＲ３およびＲ８が両方水素の場合には、炭素数２〜１２のアルキル基であり、より好ましくは炭素数４〜１２のアルキル基であり、更に好ましくは、炭素数６〜１２のアルキル基であり、特に好ましくは、ｎ−オクチル基、ｔｅｒｔ−オクチル基、２−エチルヘキシル基、ｎ−デシル基、ｎ−ドデシル基であり、最も好ましくは２−エチルヘキシル基である。
【０１１４】
Ｒ２１として好ましくはＲ３およびＲ８が水素以外の場合には、一般式（５−Ｃ）で表される化合物の分子量が３００以上になり、かつ炭素数２０以下の炭素数のアルキル基が好ましい。
【０１１５】
本発明一般式（５）で表される化合物はＪｏｕｎａｌ  ｏｆ  Ａｍｅｒｉｃａｎ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｓｏｃｉｅｔｙ  ６３巻  ３４５２頁（１９４１）記載の方法によって合成できる。以下に一般式（５）で表される化合物の具体例を挙げるが、本発明は下記具体例に何ら限定されるものではない。
【０１１６】
【化２４】
2010082411.tif 000026
【０１１７】
（その他の添加剤）
（可塑剤）
セルロースエステルフィルムやセルロースエステル樹脂・アクリル樹脂フィルムには、下記のような可塑剤を含有することが好ましい。可塑剤としては、例えば、リン酸エステル系可塑剤、フタル酸エステル系可塑剤、トリメリット酸エステル系可塑剤、ピロメリット酸系可塑剤、グリコレート系可塑剤、クエン酸エステル系可塑剤、ポリエステル系可塑剤、多価アルコールエステル系可塑剤等を好ましく用いることができる。
【０１１８】
リン酸エステル系可塑剤では、トリフェニルホスフェート、トリクレジルホスフェート、クレジルジフェニルホスフェート、オクチルジフェニルホスフェート、ジフェニルビフェニルホスフェート、トリオクチルホスフェート、トリブチルホスフェート等、フタル酸エステル系可塑剤では、ジエチルフタレート、ジメトキシエチルフタレート、ジメチルフタレート、ジオクチルフタレート、ジブチルフタレート、ジ−２−エチルヘキシルフタレート、ブチルベンジルフタレート、ジフェニルフタレート、ジシクロヘキシルフタレート等、トリメリット酸系可塑剤では、トリブチルトリメリテート、トリフェニルトリメリテート、トリエチルトリメリテート等、ピロメリット酸エステル系可塑剤では、テトラブチルピロメリテート、テトラフェニルピロメリテート、テトラエチルピロメリテート等、グリコレート系可塑剤では、トリアセチン、トリブチリン、エチルフタリルエチルグリコレート、メチルフタリルエチルグリコレート、ブチルフタリルブチルグリコレート等、クエン酸エステル系可塑剤では、トリエチルシトレート、トリ−ｎ−ブチルシトレート、アセチルトリエチルシトレート、アセチルトリ−ｎ−ブチルシトレート、アセチルトリ−ｎ−（２−エチルヘキシル）シトレート等を好ましく用いることができる。その他のカルボン酸エステルの例には、オレイン酸ブチル、リシノール酸メチルアセチル、セバシン酸ジブチル、種々のトリメリット酸エステルが含まれる。
【０１１９】
ポリエステル系可塑剤として脂肪族二塩基酸、脂環式二塩基酸、芳香族二塩基酸等の二塩基酸とグリコールの共重合ポリマーを用いることができる。脂肪族二塩基酸としては特に限定されないが、アジピン酸、セバシン酸、フタル酸、テレフタル酸、１，４−シクロヘキシルジカルボン酸等を用いることができる。グリコールとしては、エチレングリコール、ジエチレングリコール、１，３−プロピレングリコール、１，２−プロピレングリコール、１，４−ブチレングリコール、１，３−ブチレングリコール、１，２−ブチレングリコール等を用いることができる。これらの二塩基酸及びグリコールはそれぞれ単独で用いてもよいし、２種以上混合して用いてもよい。
【０１２０】
多価アルコールエステル系可塑剤は２価以上の脂肪族多価アルコールとモノカルボン酸のエステルよりなる。好ましい多価アルコールの例としては、例えば以下のようなものを挙げることができるが、本発明はこれらに限定されるものではない。アドニトール、アラビトール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、１，２−プロパンジオール、１，３−プロパンジオール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、１，２−ブタンジオール、１，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオール、ジブチレングリコール、１，２，４−ブタントリオール、１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、ヘキサントリオール、２−ｎ−ブチル−２−エチル−１，３−プロパンジオール、ガラクチトール、マンニトール、３−メチルペンタン−１，３，５−トリオール、ピナコール、ソルビトール、トリメチロールプロパン、トリメチロールエタン、キシリトール、等を上げることができる。特に、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、ソルビトール、トリメチロールプロパン、キシリトール、であることが好ましい。多価アルコールエステルに用いられるモノカルボン酸としては特に制限はなく公知の脂肪族モノカルボン酸、脂環族モノカルボン酸、芳香族モノカルボン酸などを用いることができる。脂環族モノカルボン酸、芳香族モノカルボン酸を用いると透湿性、保留性を向上させる点で好ましい。好ましいモノカルボン酸の例としては以下のようなものを上げることができるが、本発明はこれに限定されるものではない。脂肪族モノカルボン酸としては炭素数１〜３２の直鎖または側鎖を持った脂肪酸を好ましく用いることができる。炭素数１〜２０であることが更に好ましく、炭素数１〜１０であることが特に好ましい。酢酸を含有させるとセルロースエステルとの相溶性が増すため好ましく、酢酸と他のモノカルボン酸を混合して用いることも好ましい。好ましい脂肪族モノカルボン酸としては酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、カプロン酸、エナント酸、カプリル酸、ペラルゴン酸、カプリン酸、２−エチル−ヘキサンカルボン酸、ウンデシル酸、ラウリン酸、トリデシル酸、ミリスチン酸、ペンタデシル酸、パルミチン酸、ヘプタデシル酸、ステアリン酸、ノナデカン酸、アラキン酸、ベヘン酸、リグノセリン酸、セロチン酸、ヘプタコサン酸、モンタン酸、メリシン酸、ラクセル酸などの飽和脂肪酸、ウンデシレン酸、オレイン酸、ソルビン酸、リノール酸、リノレン酸、アラキドン酸などの不飽和脂肪酸などを上げることができる。好ましい脂環族モノカルボン酸の例としては、シクロペンタンカルボン酸、シクロヘキサンカルボン酸、シクロオクタンカルボン酸、またはそれらの誘導体を上げることができる。好ましい芳香族モノカルボン酸の例としては、安息香酸、トルイル酸などの安息香酸のベンゼン環にアルキル基を導入したもの、ビフェニルカルボン酸、ナフタリンカルボン酸、テトラリンカルボン酸などのベンゼン環を２個以上もつ芳香族モノカルボン酸、またはそれらの誘導体を上げることができる。特に安息香酸であることが好ましい。多価アルコールエステルの分子量は特に制限はないが、分子量３００〜１５００の範囲であることが好ましく、３５０〜７５０の範囲であることが更に好ましい。保留性向上の点では大きい方が好ましく、透湿性、セルロースエステルとの相溶性の点では小さい方が好ましい。
【０１２１】
多価アルコールエステルに用いられるカルボン酸は一種類でもよいし、２種以上の混合であってもよい。また、多価アルコール中のＯＨ基はカルボン酸で全てエステル化してもよいし、一部をＯＨ基のままで残してもよい。これらの可塑剤は単独または併用するのが好ましい。これらの可塑剤の使用量は、フィルム性能、加工性等の点で、セルロースエステルに対して１〜２０質量％が好ましく、特に好ましくは、３〜１３質量％である。
【０１２２】
これらの可塑剤の添加量は、セルロースエステル１００質量部に対して、通常１〜３０質量部、好ましくは５〜２０質量部である。可塑剤の使用量が過小である場合には、可塑化温度が高く、加工性に不利であり、過大である場合には、フィルム表面からブリードしたり、透明性が低下するなどの問題点が生じ好ましくない。
【０１２３】
本発明の光学フィルムを構成するセルロースエステルには、公知の酸化防止剤、例えば２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノール、２，２′−ジオキシ−３，３′−ジ−ｔ−ブチル−５，５′−ジメチルフェニルメタン、テトラキス［メチレン−３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］メタン、１，１，３−トリス（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−ｔ−ブチルフェニル）ブタン、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、ステアリル−β−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、２，２′−ジオキシ−３，３′−ジ−ｔ−ブチル−５，５′−ジエチルフェニルメタン、３，９−ビス［１，１−ジメチル−２−〔β−（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオニルオキシ〕エチル］、２，４，８，１０−テトラオキスピロ［５，５］ウンデカン、トリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、サイクリックネオペンタンテトライルビス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、サイクリックネオペンタンテトライルビス（２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェニル）ホスファイト、２，２−メチレンビス（４，６−ジ−ｔ−ブチルフェニル）オクチルホスファイトや紫外線吸収剤などを添加することによって安定化することができる。
【０１２４】
これらの酸化防止剤の添加量は、セルロースエステル１００質量部に対して、通常０．１〜３質量部、好ましくは０．２〜２質量部である。酸化防止剤の使用量が過少である場合には、耐久性の改良効果が不十分であり、過大である場合にはフィルム表面からブリードアウトしたり、透明性が低下するなどの問題点が生じ好ましくない。
【０１２５】
本発明の光学フィルムは、搬送性や巻き取りをし易くするためにマット剤を添加することが好ましい。
【０１２６】
マット剤はできるだけ微粒子のものが好ましく、微粒子としては、例えば、二酸化ケイ素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、カオリン、タルク、焼成ケイ酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム、リン酸カルシウム等の無機微粒子や架橋高分子微粒子を挙げることが出来る。中でも、二酸化ケイ素がフィルムのヘイズを低く出来るので好ましい。二酸化ケイ素のような微粒子は有機物により表面処理されている場合が多いが、このようなものはフィルムのヘイズを低下出来るため好ましい。
【０１２７】
表面処理で好ましい有機物としては、ハロシラン類、アルコキシシラン類、シラザン、シロキサンなどが挙げられる。微粒子の平均粒径が大きい方が滑り性効果は大きく、反対に平均粒径の小さい方は透明性に優れる。また、微粒子の二次粒子の平均粒径は０．０５〜１．０μｍの範囲である。好ましい微粒子の一次粒子の平均粒径は５〜５０ｎｍが好ましく、更に好ましくは、７〜１４ｎｍである。これらの微粒子はセルロースエステルフィルム中では、セルロースエステルフィルム表面に０．０１〜１．０μｍの凹凸を生成させる為に好ましく用いられる。微粒子のセルロースエステル中の含有量はセルロースエステルに対して０．００５〜０．３質量％が好ましい。
【０１２８】
二酸化ケイ素の微粒子としては、日本アエロジル（株）製のアエロジル（ＡＥＲＯＳＩＬ）２００、２００Ｖ、３００、Ｒ９７２、Ｒ９７２Ｖ、Ｒ９７４、Ｒ２０２、Ｒ８１２、ＯＸ５０、ＴＴ６００等を挙げることが出来、好ましくはアエロジル２００Ｖ、Ｒ９７２、Ｒ９７２Ｖ、Ｒ９７４、Ｒ２０２、Ｒ８１２である。これらの微粒子は２種以上併用してもよい。２種以上併用する場合、任意の割合で混合して使用することが出来る。この場合、平均粒径や材質の異なる微粒子、例えば、アエロジル２００ＶあるいはＲ９７２ＶとＲ８１２を質量比で０．１：９９．９〜９９．９：０．１の範囲で使用出来る。
【０１２９】
本発明の光学フィルムは、例えば米国特許第２，４９２，９７８号、同第２，７３９，０７０号、同第２，７３９，０６９号、同第２，４９２，９７７号、同第２，３３６，３１０号、同第２，３６７，６０３号、同第２，６０７，７０４号、英国特許第６４，０７１号、同第７３５，８９２号、特公昭４５−９０７４号、同４９−４５５４号、同４９−５６１４号、同６０−２７５６２号、同６１−３９８９０号、同６２−４２０８号に記載の方法を参照して製膜できる。
【０１３０】
製膜工程において、カットされたフィルム両端のクリップ把持部分は、粉砕処理された後、同じ品種のフィルム用原料として又は異なる品種のフィルム用原料として再利用してもよい。
【０１３１】
本発明の光学フィルムは、寸度安定性が、２３℃５５％ＲＨに２４時間放置したフィルムの寸法を基準としたとき、８０℃９０％ＲＨにおける寸法の変動値が±２．０％未満であり、更に好ましくは１．０％未満であり、更に好ましくは０．５％未満である。更に、本発明の光学フィルムの巾は１．６〜４ｍであることが好ましい。
【０１３２】
本発明の光学フィルムは偏光板用保護フィルム用として用いることが出来る。偏光板用保護フィルムとして用いる場合、偏光板の作製方法は特に限定されず、一般的な方法で作製することが出来る。得られた光学フィルムをアルカリ処理し、ポリビニルアルコールフィルムを沃素溶液中に浸漬延伸して作製した偏光子の両面に完全鹸化ポリビニルアルコール水溶液を用いて、偏光子の両面に偏光板用保護フィルムを貼り合わせる方法があり、少なくとも片面に本発明の偏光板用保護フィルムである光学フィルムが偏光子に直接貼合できる観点で好ましい。
【０１３３】
また、上記アルカリ処理の代わりに特開平６−９４９１５号、同６−１１８２３２号に記載されているような易接着加工を施して偏光板加工を行ってもよい。
【０１３４】
（液晶表示装置）
本発明の偏光板は、ＭＶＡ（Ｍｕｌｔｉ−ｄｏｍａｉｎ  Ｖｅｒｔｉｃａｌ  Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）モード、ＰＶＡ（Ｐａｔｔｅｒｎｅｄ  Ｖｅｒｔｉｃａｌ  Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）モード、ＣＰＡ（Ｃｏｎｔｉｎｕｏｕｓ  Ｐｉｎｗｈｅｅｌ  Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）モード、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌ  Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｅｄ  Ｂｅｎｄ）モード、ＩＰＳ（Ｉｎ  Ｐｌａｃｅ  Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）モード等に好ましく用いることができるが、特定の液晶モード、偏光板の配置に限定されるものではない。
【０１３５】
本発明の偏光板は、公知の液晶基板、透明電極層、液晶配向層、ガスバリアなどを積層し、液晶表示装置として用いられる。本発明の偏光板を用いた液晶表示装置は携帯電話、ディジタル情報端末、ポケットベル（登録商標）、ナビゲーションなどの車載用液晶モニター、調光パネル、ＯＡ機器用ディスプレイ、ＡＶ機器用ディスプレイなどに用いることができる。
【実施例】
【０１３６】
以下、実施例および比較例を挙げて本発明を更に詳細に説明するが、本発明は、その要旨を超えない限り、以下の実施例に限定されるものではない。なお、以下において、「部」および「％」は、特に断りのない限り「質量部」および「質量％」を意味する。【０１３７】
以下に、セルロースエステルの合成例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。【０１３８】
（合成例１）セルロースエステル１の合成
反応器に酢酸セルロース（ダイセル化学工業（株）製、Ｌ−２０、置換度２．４１）７０部を加え、１１０℃、４時間、４Ｔｏｒｒ（１Ｔｏｒｒは約１３３Ｐａ）で減圧乾燥した。その後、乾燥窒素によりパージを行い、還流冷却管を取り付け、事前に乾燥、蒸留したε−カプロラクトン３０部、シクロヘキサノン６７部を加えて１６０℃に加熱、撹拌して酢酸セルロースを均一に溶解させた。この反応液にモノブチルスズトリオクチレート０．２５部を添加し、１６０℃で２時間撹拌しながら加熱した。その後、反応液を室温まで冷却し反応を終結させ反応物を得た。さらに、クロロホルム９０部に対して反応物１０部を溶解後、大過剰のメタノール９００部中にゆっくりと滴下し、沈殿した沈殿物を濾別することによって、ε−カプロラクトンの単独重合体を除去した。さらに、６０℃にて５時間以上加熱乾燥し、ε−カプロラクトンが酢酸セルロースに反応したセルロースエステル１を得た。そして、１Ｈ−ＮＭＲにより得られたセルロースエステルの一次構造を分析した。その結果、グルコース単位１モルあたりに反応したε−カプロラクトンの平均モル数は０．８６、平均置換度は０．１２、平均重合度は７．４であった。【０１３９】
（合成例２）セルロースエステル２の合成
反応器に酢酸セルロース（ダイセル化学工業（株）製、Ｌ−２０、置換度２．４１）７０部、Ｌ−ラクチド３０部を加え、６５℃、１２時間、４Ｔｏｒｒで減圧乾燥した。その後、乾燥窒素によりパージを行い、還流冷却管を取り付け、事前に乾燥、蒸留したシクロヘキサノン６７部を加えて１６０℃に加熱、撹拌して酢酸セルロースを均一に溶解させた。この反応液にモノブチルスズトリオクチレート０．２５部を添加し、１６０℃で２時間撹拌しながら加熱した。その後、反応液を室温まで冷却し反応を終結させ反応物を得た。さらに、クロロホルム９０部に対して反応物１０部を溶解後、大過剰のメタノール９００部中にゆっくりと滴下し、沈殿した沈殿物を濾別することによって、Ｌ−ラクチドの単独重合体を除去した。さらに、６０℃にて５時間以上加熱乾燥し、Ｌ−ラクチドが酢酸セルロースに反応したセルロースエステル２を得た。そして、１Ｈ−ＮＭＲにより得られたセルロースエステルの一次構造を分析した。その結果、グルコース単位１モルあたりに反応した乳酸単位（乳酸ユニット）の平均モル数は０．８５、平均置換度ＤＳは０．２２、平均重合度は３．９であった。【０１４０】
（合成例３）セルロースエステル３の合成
反応器に酢酸セルロース（ダイセル化学工業（株）製、ＮＡＣ、置換度２．７４）５０部を加え、１１０℃、４時間、４Ｔｏｒｒで減圧乾燥した。その後、乾燥窒素によりパージを行い、還流冷却管を取り付け、事前に乾燥、蒸留したε−カプロラクトン５０部、シクロヘキサノン６７部を加えて１６０℃に加熱、撹拌して酢酸セルロースを均一に溶解させた。この反応液にモノブチルスズトリオクチレート０．２５部を添加し、１６０℃で２時間撹拌しながら加熱した。その後、反応液を室温まで冷却し反応を終結させ反応物を得た。さらに、クロロホルム９０部に対して反応物１０部を溶解後、大過剰のメタノール９００部中にゆっくりと滴下し、沈殿した沈殿物（グラフト体）を濾別することによって、ε−カプロラクトンの単独重合体を除去した。さらに、６０℃にて５時間以上加熱乾燥し、ε−カプロラクトンが酢酸セルロースに反応したセルロースエステル３を得た。そして、１Ｈ−ＮＭＲにより得られたセルロースエステルの一次構造を分析した。その結果、グルコース単位１モルあたりに反応したε−カプロラクトンの平均モル数は１．６６、平均置換度は０．１７、平均重合度は１０．１であった。【０１４１】
（合成例４）セルロースエステル４の合成
反応器に酢酸セルロース（ダイセル化学工業（株）製、ＮＡＣ、置換度２．７４）２０部、Ｌ−ラクチド８０部を加え、６５℃、２４時間、４Ｔｏｒｒで減圧乾燥した。その後、乾燥窒素によりパージを行い、還流冷却管を取り付け、１４０℃に加熱、撹拌して酢酸セルロースを均一に溶解させた。この反応液にオクタン酸スズ０．１０部を添加し、１４０℃で１時間撹拌しながら加熱した。その後、反応液を室温まで冷却し反応を終結させ反応物を得た。さらに、クロロホルム９０部に対して反応物１０部を溶解後、大過剰のメタノール９００部中にゆっくりと滴下し、沈殿した沈殿物を濾別することによって、Ｌ−ラクチドの単独重合体を除去した。さらに、６０℃にて５時間以上加熱乾燥し、Ｌ−ラクチドが酢酸セルロースに反応したセルロースエステル４を得た。そして、１Ｈ−ＮＭＲにより得られたセルロースエステルの一次構造を分析した。その結果、グルコース単位１モルあたりに反応した乳酸単位（乳酸ユニット）の平均モル数は１４．１、平均置換度は０．２３、平均重合度は６０．５であった。
（光学フィルム−１の作製）
（光学フィルム１の作製）
（二酸化珪素分散液）
アエロジル９７２Ｖ（日本アエロジル（株）製）          １０質量部
（一次粒子の平均径１６ｎｍ、見掛け比重９０ｇ／リットル）
エタノール                                            ９０質量部
以上をディゾルバーで３０分間撹拌混合した後、マントンゴーリンで分散を行った。二酸化珪素分散液に８８質量部のメチレンクロライドを撹拌しながら投入し、ディゾルバーで３０分間撹拌混合し、二酸化珪素分散希釈液を作製した。ついで、微粒子分散希釈液濾過器１４（アドバンテック東洋（株）：ポリプロピレンワインドカートリッジフィルターＴＣＷ−ＰＰＳ−１Ｎ）で濾過した。【０１４２】
（ドープ組成物）
セルロースエステル（リンター綿から合成されたセルローストリアセテート、酢化度：６１．５％、Ｍｗ＝２９００００）          １００質量部
二酸化珪素分散液                                  ０．１５質量部
メチレンクロライド                                  ４３０質量部
エタノール                                            ４０質量部
添加剤２−ａ                                            ８質量部
ここで、添加剤２−ａは、密閉容器にてメチレンクロライドで加熱、撹拌しながら完全に溶解し、濾過して上記ドープ液に添加した。【０１４３】
以上を密閉容器に投入し、加熱し、撹拌しながら、完全に溶解し、安積濾紙（株）製の安積濾紙Ｎｏ．２４を使用して濾過し、ドープ液を調製した。【０１４４】
このドープ液を、流延製膜装置を用い、製膜後、テンター延伸機で１６０℃の雰囲気下でフィルムの搬送方向と直交する方向に１．２５倍延伸し、巾１．８ｍ、膜厚６０μｍの光学フィルムを得た。【０１４５】
【化２５】
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【０１４６】
（光学フィルム２〜２０の作製）
光学フィルム１と同様に、表１に示す樹脂、添加剤を用いて光学フィルム２〜２０を作製した。なお、添加剤は、添加剤２−ａもしくは２−ｂと同様に各々密閉容器にてメチレンクロライドで加熱、撹拌しながら完全に溶解し、濾過してドープ液に添加した。【０１４７】
【化２６】
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【０１４８】
（異物故障の評価）
上記のようにして作製した光学フィルムについて、図示しないベルト流延製膜装置の巻取り部の直前にオンライン欠陥検査機を設置し、フィルム１ｍ２あたりの２００μｍ以上の異物の個数を測定した。【０１４９】
評価結果を表１に示す。【０１５０】
【表１】
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【０１５１】
その結果、表１に示すように、本発明により異物故障が低減していることが解る。【０１５２】
（偏光板の作製）
厚さ１２０μｍのポリビニルアルコールフィルムを沃素１質量部、沃化カリウム２質量部、ホウ酸４質量部を含む水溶液に浸漬し５０℃で４倍に延伸し偏光子を作製した。この偏光子の両面に上記で作製した光学フィルム１〜２０をケン化処理した後、ポリビニルアルコール系接着剤を用い貼合し、偏光板１０１〜１２０を作製した。【０１５３】
（液晶表示装置の作製）
市販のＭＶＡ液晶表示装置（ＶＬ−１５３０Ｓ、富士通（株）製）から偏光板を取り除き、代わりに上記作製した偏光板１０１〜１２０を液晶表示装置の大きさにあわせて打ち抜いて貼り付けた。作製したＭＶＡ液晶表示装置について、液晶表示装置を６０℃８０％ＲＨの恒温槽に２４時間放置した後、額縁故障の発生状況を暗室中で目視により評価した。額縁故障は全面黒表示とし、液晶表示装置の外周に沿って明るく見える幅を測定した。【０１５４】
額縁故障の評価結果を表２に示す。【０１５５】
【表２】
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【０１５６】
その結果、本発明によって、額縁故障を軽減することができた。
【国際調査報告】
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