【事件の表示】
　特許第３０２２２９０号「液晶表示パネルの製法およびそれに用いる装置」の請求項１ないし４、８ないし１１に係る特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結　論】
　訂正を認める。
　特許第３０２２２９０号の請求項１ないし４、８ないし１１に係る特許を維持する。
【理　由】
１．手続の経緯
　特許第３０２２２９０号の請求項１ないし４、８ないし１１に係る発明は、平成７年１２月１２日に特許出願されたものであって、平成１２年１月１４日にその特許の設定の登録がなされ、その後、セイコーエプソン株式会社により特許異議の申立がなされ、取消理由通知がなされ、その指定期間内の平成１３年１月１５日付けで訂正請求がなされ、再度取消理由通知がなされ、その指定期間内の平成１３年１２月１４日付けで訂正請求がなされるとともに、平成１３年１月１５日付けの訂正請求が取り下げられ、３回目の取消理由通知がなされ、その指定期間内の平成１４年３月７日付けで訂正請求がなされるとともに、平成１３年１２月１４日付けの訂正請求が取り下げられたものである。
　　
２．訂正の適否について
2．1　訂正の内容
訂正事項ａ．
　特許明細書の特許請求の範囲の請求項１〜４及び８〜１１に係る
「【請求項１】　ガラス製の絶縁性基板と、当該絶縁性基板上に形成された液晶素子とを含む液晶表示パネルの製法であって、
前記液晶表示パネルの製造工程において、前記絶縁性基板と接触する部材の少なくとも前記絶縁性基板と接触する部分が、ポリテトラフルオロエチレン、テトラフルオロエチレンとパーフルオロアルキルビニルエーテルとの共重合体、およびポリアセタールのうちのいずれかひとつによって形成されてなることを特徴とする液晶表示パネルの製法。
　　【請求項２】　ガラス製の絶縁性基板と、当該絶縁性基板上に形成された液晶素子とを含む液晶表示パネルの製法であって、
前記液晶表示パネルの製造工程において、前記絶縁性基板と接触する部材が、ポリテトラフルオロエチレン、テトラフルオロエチレンとパーフルオロアルキルビニルエーテルとの共重合体、およびポリアセタールのうちのいずれかひとつによって形成されてなることを特徴とする液晶表示パネルの製法。
　　【請求項３】　ガラス製の絶縁性基板と、当該絶縁性基板上に形成された液晶素子とを含む液晶表示パネルの製法であって、
前記液晶表示パネルの製造工程において、前記絶縁性基板と接触する部材の少なくとも前記絶縁性基板と接触する部分が、ポリテトラフルオロエチレン、テトラフルオロエチレンとパーフルオロアルキルビニルエーテルとの共重合体、およびポリアセタールのうちのいずれかひとつで被覆されてなることを特徴とする液晶表示パネルの製法。
　　【請求項４】　前記材料の厚さが４０μｍより厚く、かつ、５００μｍより薄い請求項３記載の液晶表示パネルの製法。
　　【請求項８】　ガラス製の絶縁性基板と、当該絶縁性基板上に形成された液晶素子とを含む液晶表示パネルを製造する装置であって、
当該装置の前記絶縁性基板と接触する部材の少なくとも前記絶縁性基板と接触する部分が、ポリテトラフルオロエチレン、テトラフルオロエチレンとパーフルオロアルキルビニルエーテルとの共重合体、およびポリアセタールのうちのいずれかひとつによって形成されてなることを特徴とする液晶表示パネル製造装置。
　　【請求項９】　ガラス製の絶縁性基板と、当該絶縁性基板上に形成された液晶素子とを含む液晶表示パネルを製造する装置であって、
当該装置の前記絶縁性基板と接触する部材が、ポリテトラフルオロエチレン、テトラフルオロエチレンとパーフルオロアルキルビニルエーテルとの共重合体、およびポリアセタールのうちのいずれかひとつによって形成されてなることを特徴とする液晶表示パネル製造装置。
　　【請求項１０】　ガラス製の絶縁性基板と、当該絶縁性基板上に形成された液晶素子とを含む液晶表示パネルを製造する装置であって、
当該装置の前記絶縁性基板と接触する部材の少なくとも前記絶縁性基板と接触する部分が、ポリテトラフルオロエチレン、テトラフルオロエチレンとパーフルオロアルキルビニルエーテルとの共重合体、およびポリアセタールのうちのいずれかひとつによって被覆されてなることを特徴とする液晶表示パネル製造装置。
　　【請求項１１】　前記材料の厚さが４０μｍより厚く、かつ、５００μｍより薄い請求項１０記載の液晶表示パネル製造装置。」
の記載を、
　　
「【請求項１】　ガラス製の絶縁性基板と、当該絶縁性基板上に形成された液晶素子とを含む液晶表示パネルの製法であって、
前記液晶表示パネルの搬送工程において、前記絶縁性基板と接触し、当該基板を吸引力により吸着する、搬送に用いる部材のＯリングの少なくとも前記絶縁性基板と接触する部分が、前記絶縁性基板の仕事関数との差が小さい、ポリテトラフルオロエチレン、テトラフルオロエチレンとパーフルオロアルキルビニルエーテルとの共重合体、およびポリアセタールのうちのいずれかひとつによって形成されており、前記絶縁性基板が前記部材から剥離されることで発生する剥離帯電を抑制することを特徴とする液晶表示パネルの製法。
　　【請求項２】　ガラス製の絶縁性基板と、当該絶縁性基板上に形成された液晶素子とを含む液晶表示パネルの製法であって、
前記液晶表示パネルの搬送工程において、前記絶縁性基板と接触し、当該基板を吸引力により吸着する、搬送に用いる部材のＯリングが、絶縁性基板の仕事関数との差が小さい、ポリテトラフルオロエチレン、テトラフルオロエチレンとパーフルオロアルキルビニルエーテルとの共重合体、およびポリアセタールのうちのいずれかひとつによって形成されており、前記絶縁性基板が前記部材から剥離されることで発生する剥離帯電を抑制することを特徴とする液晶表示パネルの製法。
　　【請求項３】　ガラス製の絶縁性基板と、当該絶縁性基板上に形成された液晶素子とを含む液晶表示パネルの製法であって、
前記液晶表示パネルの搬送工程において、前記絶縁性基板と接触し、当該基板を吸引力により吸着する、搬送に用いる部材のＯリングの少なくとも前記絶縁性基板と接触する部分が、絶縁性基板の仕事関数との差が小さい、ポリテトラフルオロエチレン、テトラフルオロエチレンとパーフルオロアルキルビニルエーテルとの共重合体、およびポリアセタールのうちのいずれかひとつで被覆されており、前記絶縁性基板が前記部材から剥離されることで発生する剥離帯電を抑制することを特徴とする液晶表示パネルの製法。
　　【請求項４】　前記被覆の厚さが４０μｍより厚く、かつ、５００μｍより薄い請求項３記載の液晶表示パネルの製法。
　　【請求項８】　ガラス製の絶縁性基板と、当該絶縁性基板上に形成された液晶素子とを含む液晶表示パネルを搬送する装置であって、
前記絶縁性基板と接触し、当該基板を吸引力により吸着する、搬送に用いる部材のＯリングの少なくとも前記絶縁性基板と接触する部分が、絶縁性基板の仕事関数との差が小さい、ポリテトラフルオロエチレン、テトラフルオロエチレンとパーフルオロアルキルビニルエーテルとの共重合体、およびポリアセタールのうちのいずれかひとつによって形成されており、前記絶縁性基板が前記部材から剥離されることで発生する剥離帯電を抑制することを特徴とする液晶表示パネル製造装置。
　　【請求項９】　ガラス製の絶縁性基板と、当該絶縁性基板上に形成された液晶素子とを含む液晶表示パネルを搬送する装置であって、
前記絶縁性基板と接触し、当該基板を吸引力により吸着する、搬送に用いる部材のＯリングが、絶縁性基板の仕事関数との差が小さい、ポリテトラフルオロエチレン、テトラフルオロエチレンとパーフルオロアルキルビニルエーテルとの共重合体、およびポリアセタールのうちのいずれかひとつによって形成されており、前記絶縁性基板が前記部材から剥離されることで発生する剥離帯電を抑制することを特徴とする液晶表示パネル製造装置。
　　【請求項１０】　ガラス製の絶縁性基板と、当該絶縁性基板上に形成された液晶素子とを含む液晶表示パネルを搬送する装置であって、
前記絶縁性基板と接触し、当該基板を吸引力により吸着する、搬送に用いる部材のＯリングの少なくとも前記絶縁性基板と接触する部分が、絶縁性基板の仕事関数との差が小さい、ポリテトラフルオロエチレン、テトラフルオロエチレンとパーフルオロアルキルビニルエーテルとの共重合体、およびポリアセタールのうちのいずれかひとつによって被覆されており、前記絶縁性基板が前記部材から剥離されることで発生する剥離帯電を抑制することを特徴とする液晶表示パネル製造装置。
　　【請求項１１】　前記被覆の厚さが４０μｍより厚く、かつ、５００μｍより薄い請求項１０記載の液晶表示パネル製造装置。」
と訂正する。
　　　
訂正事項ｂ．
（１）特許明細書の【０００７】の「前記液晶表示パネルの製造工程において、・・・形成されてなる」を、
「前記液晶表示パネルの搬送工程において、前記絶縁性基板と接触し、当該基板を吸引力により吸着する、搬送に用いる部材のＯリングの少なくとも前記絶縁性基板と接触する部分が、前記絶縁性基板の仕事関数との差が小さい、ポリテトラフルオロエチレン、テトラフルオロエチレンとパーフルオロアルキルビニルエーテルとの共重合体、およびポリアセタールのうちのいずれかひとつによって形成されており、前記絶縁性基板が前記部材から剥離されることで発生する剥離帯電を抑制する」と訂正する。
　　
（２）特許明細書の【００１１】の「前記液晶表示パネルの製造工程において、・・・形成されてなる」を、
「前記液晶表示パネルの搬送工程において、前記絶縁性基板と接触し、当該基板を吸引力により吸着する、搬送に用いる部材のＯリングが、絶縁性基板の仕事関数との差が小さい、ポリテトラフルオロエチレン、テトラフルオロエチレンとパーフルオロアルキルビニルエーテルとの共重合体、およびポリアセタールのうちのいずれかひとつによって形成されており、前記絶縁性基板が前記部材から剥離されることで発生する剥離帯電を抑制する」と訂正する。
　　
（３）特許明細書の【００１４】の「前記液晶表示パネルの製造工程において、・・・形成されてなる」を、
「ガラス製の絶縁性基板と、当該絶縁性基板上に形成された液晶素子とを含む液晶表示パネルの製法であって、前記液晶表示パネルの搬送工程において、前記絶縁性基板と接触し、当該基板を吸引力により吸着する、搬送に用いる部材のＯリングの少なくとも前記絶縁性基板と接触する部分が、絶縁性基板の仕事関数との差が小さい、ポリテトラフルオロエチレン、テトラフルオロエチレンとパーフルオロアルキルビニルエーテルとの共重合体、およびポリアセタールのうちのいずれかひとつで被覆されており、前記絶縁性基板が前記部材から剥離されることで発生する剥離帯電を抑制する」と訂正する。
　　　
（４）特許明細書の【００１５】の１行目の「材料」を、「被覆」と訂正する。
　　
（５）特許明細書の【００２２】の「液晶表示パネルを製造する装置であって、・・・形成されてなる」を、
「液晶表示パネルを搬送する装置であって、前記絶縁性基板と接触し、当該基板を吸引力により吸着する、搬送に用いる部材のＯリングの少なくとも前記絶縁性基板と接触する部分が、絶縁性基板の仕事関数との差が小さい、ポリテトラフルオロエチレン、テトラフルオロエチレンとパーフルオロアルキルビニルエーテルとの共重合体、およびポリアセタールのうちのいずれかひとつによって形成されており、前記絶縁性基板が前記部材から剥離されることで発生する剥離帯電を抑制する」と訂正する。
　　
（６）特許明細書の【００２５】の「液晶表示パネルを製造する装置であって、・・・形成されてなる」を、
「液晶表示パネルを搬送する装置であって、前記絶縁性基板と接触し、当該基板を吸引力により吸着する、搬送に用いる部材のＯリングが、絶縁性基板の仕事関数との差が小さい、ポリテトラフルオロエチレン、テトラフルオロエチレンとパーフルオロアルキルビニルエーテルとの共重合体、およびポリアセタールのうちのいずれかひとつによって形成されており、前記絶縁性基板が前記部材から剥離されることで発生する剥離帯電を抑制する」と訂正する。
　
（７）特許明細書の【００２８】の「液晶表示パネルを製造する装置であって、・・・形成されてなる」を、
「液晶表示パネルを搬送する装置であって、前記絶縁性基板と接触し、当該基板を吸引力により吸着する、搬送に用いる部材のＯリングの少なくとも前記絶縁性基板と接触する部分が、絶縁性基板の仕事関数との差が小さい、ポリテトラフルオロエチレン、テトラフルオロエチレンとパーフルオロアルキルビニルエーテルとの共重合体、およびポリアセタールのうちのいずれかひとつによって被覆されており、前記絶縁性基板が前記部材から剥離されることで発生する剥離帯電を抑制する」と訂正する。
　　
（８）特許明細書の【００２９】の１行目の「材料」を、「被覆」と訂正する。
　　
2．2　訂正の目的の適否、新規事項の有無及び拡張・偏光の存否
　訂正事項ａの請求項１〜３及び８〜１０についての訂正は、特許明細書の【００４１】、【００４２】及び【００４４】〜【００４８】等の記載に基づいて、請求項１〜３及び８〜１０に記載の液晶表示パネルにおける、「絶縁性基板と接触する部材」に係る構成を限定するものであり、特許請求の範囲の減縮を目的とするものであって、新規事項を含むものではなく、実質的に特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものではない。また、同 請求項４及び１１についての訂正は、特許明細書の【００１９】等の記載に基づいて、請求項４及び１１に記載の「前記材料」が、「前記被覆」であることを明確にするものであって、明りょうでない記載の釈明に該当するものであり、新規事項を含むものではなく、実質的に特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものでもない。
　訂正事項ｂは、訂正事項ａの請求項１〜４及び８〜１１の訂正に伴い、それとの整合を図るため、発明の詳細な説明の記載を訂正するものであって、明りょうでない記載の釈明に該当し、新規事項を含むものではなく、実質的に特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものでもない。　
　
2．3　訂正の適否のむすび
　したがって、上記訂正は、特許法第１２０条の４第２項及び第３項で準用する特許法第１２６条第２項及び第３項の規定に適合するので、当該訂正を認める。
　　
３．特許異議申立理由及び取消理由について
3．1　本件発明
　本件の請求項１〜４及び８〜１１に係る発明は、訂正された特許明細書の記載からみて、その特許請求の範囲の請求項１〜４及び８〜１１に記載された次のとおりのものである。
　
「【請求項１】　ガラス製の絶縁性基板と、当該絶縁性基板上に形成された液晶素子とを含む液晶表示パネルの製法であって、
前記液晶表示パネルの搬送工程において、前記絶縁性基板と接触し、当該基板を吸引力により吸着する、搬送に用いる部材のＯリングの少なくとも前記絶縁性基板と接触する部分が、前記絶縁性基板の仕事関数との差が小さい、ポリテトラフルオロエチレン、テトラフルオロエチレンとパーフルオロアルキルビニルエーテルとの共重合体、およびポリアセタールのうちのいずれかひとつによって形成されており、前記絶縁性基板が前記部材から剥離されることで発生する剥離帯電を抑制することを特徴とする液晶表示パネルの製法。
　　【請求項２】　ガラス製の絶縁性基板と、当該絶縁性基板上に形成された液晶素子とを含む液晶表示パネルの製法であって、
前記液晶表示パネルの搬送工程において、前記絶縁性基板と接触し、当該基板を吸引力により吸着する、搬送に用いる部材のＯリングが、絶縁性基板の仕事関数との差が小さい、ポリテトラフルオロエチレン、テトラフルオロエチレンとパーフルオロアルキルビニルエーテルとの共重合体、およびポリアセタールのうちのいずれかひとつによって形成されており、前記絶縁性基板が前記部材から剥離されることで発生する剥離帯電を抑制することを特徴とする液晶表示パネルの製法。
　　【請求項３】　ガラス製の絶縁性基板と、当該絶縁性基板上に形成された液晶素子とを含む液晶表示パネルの製法であって、
前記液晶表示パネルの搬送工程において、前記絶縁性基板と接触し、当該基板を吸引力により吸着する、搬送に用いる部材のＯリングの少なくとも前記絶縁性基板と接触する部分が、絶縁性基板の仕事関数との差が小さい、ポリテトラフルオロエチレン、テトラフルオロエチレンとパーフルオロアルキルビニルエーテルとの共重合体、およびポリアセタールのうちのいずれかひとつで被覆されており、前記絶縁性基板が前記部材から剥離されることで発生する剥離帯電を抑制することを特徴とする液晶表示パネルの製法。
　　【請求項４】　前記被覆の厚さが４０μｍより厚く、かつ、５００μｍより薄い請求項３記載の液晶表示パネルの製法。
　　【請求項８】　ガラス製の絶縁性基板と、当該絶縁性基板上に形成された液晶素子とを含む液晶表示パネルを搬送する装置であって、
前記絶縁性基板と接触し、当該基板を吸引力により吸着する、搬送に用いる部材のＯリングの少なくとも前記絶縁性基板と接触する部分が、絶縁性基板の仕事関数との差が小さい、ポリテトラフルオロエチレン、テトラフルオロエチレンとパーフルオロアルキルビニルエーテルとの共重合体、およびポリアセタールのうちのいずれかひとつによって形成されており、前記絶縁性基板が前記部材から剥離されることで発生する剥離帯電を抑制することを特徴とする液晶表示パネル製造装置。
　　【請求項９】　ガラス製の絶縁性基板と、当該絶縁性基板上に形成された液晶素子とを含む液晶表示パネルを搬送する装置であって、
前記絶縁性基板と接触し、当該基板を吸引力により吸着する、搬送に用いる部材のＯリングが、絶縁性基板の仕事関数との差が小さい、ポリテトラフルオロエチレン、テトラフルオロエチレンとパーフルオロアルキルビニルエーテルとの共重合体、およびポリアセタールのうちのいずれかひとつによって形成されており、前記絶縁性基板が前記部材から剥離されることで発生する剥離帯電を抑制することを特徴とする液晶表示パネル製造装置。
　　【請求項１０】　ガラス製の絶縁性基板と、当該絶縁性基板上に形成された液晶素子とを含む液晶表示パネルを搬送する装置であって、
前記絶縁性基板と接触し、当該基板を吸引力により吸着する、搬送に用いる部材のＯリングの少なくとも前記絶縁性基板と接触する部分が、絶縁性基板の仕事関数との差が小さい、ポリテトラフルオロエチレン、テトラフルオロエチレンとパーフルオロアルキルビニルエーテルとの共重合体、およびポリアセタールのうちのいずれかひとつによって被覆されており、前記絶縁性基板が前記部材から剥離されることで発生する剥離帯電を抑制することを特徴とする液晶表示パネル製造装置。
　　【請求項１１】　前記被覆の厚さが４０μｍより厚く、かつ、５００μｍより薄い請求項１０記載の液晶表示パネル製造装置。」
（以下、「本件発明１〜４及び８〜１１」という。）
　　
3．2　異議申立理由及び取消理由の概要
3．2．1　特許異議申立理由概要　
　特許異議申立人 セイコーエプソン株式会社は、甲第１号証（特開平２−３５４１７号公報：以下、「刊行物２」という。）を提出して、本件の訂正前の請求項１〜３及び８〜１０に係る発明は、刊行物２に記載された発明であるか、又は、該発明から当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第１項第３号又は第２項の規定により特許を受けられないものであり、さらに、請求項４及び１１に係る発明は、刊行物２に記載された発明から当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けられないものである、というものである。
　　
3．2．2　取消理由の概要
　平成１３年１月１５日付け訂正請求書により訂正された請求項１〜４及び８〜１１に係る発明は、刊行物１（特開平６−１９４６３８号公報）に記載された発明であるか、又は、該発明から当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第１項第３号又は第２項の規定により特許を受けられないものであり、また、同請求項１〜４及び８〜１１に係る発明は、刊行物２（特開平２−３５４１７号公報）に記載された発明から当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けられないものであり、さらに、同請求項４及び１１は、そこに記載された「前記材料」の意味が不明瞭であるから、特許法第３６条第６項第２号の規定により特許を受けられないものである、というものである。　
　　
3．3　引用刊行物記載の発明
  刊行物１（特開平６−１９４６３８号公報）には、液晶素子用基板の支持装置に係る発明について記載され、液晶素子基板を載置してラビング処理する際に発生する静電気による障害を防止するため、支持装置のステージ全体が剛性に富むポリアセタール等の誘電体の材料で形成され、該ステージの内部に空洞部が設けられていることを特徴とし、支持装置に空洞部が設けられていることにより、装置全体の静電容量を小さくし、基板を載置してラビング処理を行う際に静電気が発生しても、その静電気を速やかに減衰させ、回路破壊などの静電気による障害を防止できる旨、記載されている。
　
　刊行物２（特開平２−３５４１７号公報）には、基板のラビング処理において電極破壊、配向不良を発生させることのない液晶表示装置について記載され、液晶表示装置の基板がラビング装置の基板着脱部材と絶縁物を介して接触する構成とし、実施例１では、基板に接触する部分がデルリン（ポリアセタール樹脂）で構成された基板着脱部材が、実施例２では、テフロン（ポリテトラフルオロエチレン樹脂）で構成された基板着脱部材が、実施例３では、デルリンを取り付けた基板着脱部材が、それぞれ記載され、発明の効果として、ラビング処理の後、基板をラビング装置から取り出すときに発生する静電気を実用的な低いレベルにおさえることができる旨、記載されている。
　　
3．4　対比・判断
3．4．1　特許法第２９条第１項及び第２項違反について
　刊行物１の発明は、基板を搬送する部材に係るものではなく、また、基板支持装置に空洞部を設けることにより、基板のラビング処理の際の装置全体の静電容量を小さくして、ラビング処理時に発生する静電気を減衰させるものであり、刊行物２の発明は、基板を吸引力により吸着して搬送する部材に係るものではなく、また、基板着脱部を絶縁物で形成することにより、ラビング処理後に、基板をラビング装置から取り出す時に発生する静電気を低レベルに抑えるものである。
　これに対して、本件発明１〜４及び８〜１１は、絶縁性基板と接触し、当該基板を吸引力により吸着する、搬送に用いる部材のＯリングに係るものであって、該Ｏリングを（或いは、Ｏリングの少なくとも絶縁性基板と接触する部分を）、基板の仕事関数との差が小さい部材で形成し（或いは、被覆し）、基板の剥離帯電による静電気の発生自体を防止する点、で相違する。
　また、刊行物１、２には、本件発明１及び８の構成である、「絶縁性基板と接触し、当該基板を吸引力により吸着する、搬送に用いる部材のＯリングの少なくとも前記絶縁性基板と接触する部分が、前記絶縁性基板の仕事関数との差が小さい、ポリテトラフルオロエチレン、テトラフルオロエチレンとパーフルオロアルキルビニルエーテルとの共重合体、およびポリアセタールのうちのいずれかひとつによって形成されており、前記絶縁性基板が前記部材から剥離されることで発生する剥離帯電を抑制すること」、本件発明２及び９の構成である「絶縁性基板と接触し、当該基板を吸引力により吸着する、搬送に用いる部材のＯリングが、絶縁性基板の仕事関数との差が小さい、ポリテトラフルオロエチレン、テトラフルオロエチレンとパーフルオロアルキルビニルエーテルとの共重合体、およびポリアセタールのうちのいずれかひとつによって形成されており、前記絶縁性基板が前記部材から剥離されることで発生する剥離帯電を抑制すること」及び本件発明３、４、１０及び１１の構成である「絶縁性基板と接触し、当該基板を吸引力により吸着する、搬送に用いる部材のＯリングの少なくとも前記絶縁性基板と接触する部分が、絶縁性基板の仕事関数との差が小さい、ポリテトラフルオロエチレン、テトラフルオロエチレンとパーフルオロアルキルビニルエーテルとの共重合体、およびポリアセタールのうちのいずれかひとつで被覆されており、前記絶縁性基板が前記部材から剥離されることで発生する剥離帯電を抑制すること」について記載されておらず、示唆されていない。
　一方、本件発明１〜４及び８〜１１は、上記構成を備えることにより、液晶表示パネルを構成する部品である絶縁性基板に発生した静電気を逃がす方策を必要とせず、静電気の発生自体を安定的に長期間防止することができ、液晶表示パネルを製造するに際し、静電気の発生などにより液晶素子が不良になることを防止できる、旨の明細書記載の格別な効果を奏すると認められる。
　したがって、本件発明１〜４及び８〜１１が刊行物１、２に記載された発明であるということができず、また、該発明から当業者が容易に発明をすることができたものであるということができない。
　
3．4．2　特許法第３６条第６項の違反について
　平成１４年３月７日付けの訂正請求書により、請求項４及び１１における「前記材料」は、「前記被覆」と訂正され、その意味が明確になった。したがって、もはや本件特許が特許法第３６条第６項の規定により特許を受けられないものである、とすることはできない。
　　
４．むすび
　以上のとおりであるから、特許異議の申立の理由及び取消理由によっては、訂正後の本件請求項１〜４及び８〜１１に係る発明の特許を取り消すことはできない。
　また、他に本件請求項１〜４及び８〜１１に係る発明の特許を取り消すべき理由を発見しない・
　よって、結論のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１４年４月１日（２００２．４．１）
【訂正の要旨】
（３）訂正の要旨
▲１▼訂正事項ａ
　特許明細書の特許請求の範囲の請求項１〜１４にかかわる記載
「　［請求項１］　ガラス製の絶縁性基板と、当該絶縁性基板上に形成された液晶素子とを含む液晶表示パネルの製法であって、
前記液晶表示パネルの製造工程において、前記絶縁性基板と接触する部材の少なくとも前記絶縁性基板と接触する部分が、ポリテトラフルオロエチレン、テトラフルオロエチレンとパーフルオロアルキルビニルエーテルとの共重合体、およびポリアセタールのうちのいずれかひとつによって形成されてなることを特徴とする液晶表示パネルの製法。
　［請求項２］　ガラス製の絶縁性基板と、当該絶縁性基板上に形成された液晶素子とを含む液晶表示パネルの製法であって、
前記液晶表示パネルの製造工程において、前記絶縁性基板と接触する部材が、ポリテトラフルオロエチレン、テトラフルオロエチレンとパーフルオロアルキルビニルエーテルとの共重合体、およびポリアセタールのうちのいずれかひとつによって形成されてなることを特徴とする液晶表示パネルの製法。
　［請求項３］　ガラス製の絶縁性基板と、当該絶縁性基板上に形成された液晶素子とを含む液晶表示パネルの製法であって、
前記液晶表示パネルの製造工程において、前記絶縁性基板と接触する部材の少なくとも前記絶縁性基板と接触する部分が、ポリテトラフルオロエチレン、テトラフルオロエチレンとパーフルオロアルキルビニルエーテルとの共重合体、およびポリアセタールのうちのいずれかひとつで被覆されてなることを特徴とする液晶表示パネルの製法。
　［請求項４］　前記材料の厚さが４０μｍより厚く、かつ、５００μｍより薄い請求項３記載の液晶表示パネルの製法。
　［請求項５］　一方の面に液晶素子が形成された第１の絶縁性基板と、一方の面に共通電極が形成された第２の絶縁性基板とが、前記液晶素子および前記共通電極が向き合うように貼り合わされて形成されたセルと、当該セルを形成する前記第１および第２の絶縁性基板のうち少なくともどちらかの絶縁性基板の、貼り合わされた面と反対側の面に貼りつけられた少なくとも１枚の偏光板とからなる液晶表示パネルの製法であって、
前記液晶表示パネルの製造工程において、前記偏光板と接触する部材の少なくとも前記偏光板と接触する部分が、前記偏光板の材質の仕事関数との差が小さい仕事関数を有する材質の材料で被覆されてなることを特徴とする液晶表示パネルの製法。
　［請求項６］　前記材料の厚さが、４０μｍより厚く、かつ、５００μｍより薄い請求項５記載の液晶表示パネルの製法。
　［請求項７］　前記材料の材質の仕事関数と前記偏光板の材質の仕事関数との差が０．３ｅＶ以下である請求項５または６記載の液晶表示パネルの製法。
　［請求項８］　ガラス製の絶縁性基板と、当該絶縁性基板上に形成された液晶素子とを含む液晶表示パネルを製造する装置であって、
当該装置の前記絶縁性基板と接触する部材の少なくとも前記絶縁性基板と接触する部分が、ポリテトラフルオロエチレン、テトラフルオロエチレンとパーフルオロアルキルビニルエーテルとの共重合体、およびポリアセタールのうちのいずれかひとつによって形成されてなることを特徴とする液晶表示パネル製造装置。
　［請求項９］　ガラス製の絶縁性基板と、当該絶縁性基板上に形成された液晶素子とを含む液晶表示パネルを製造する装置であって、
当該装置の前記絶縁性基板と接触する部材が、ポリテトラフルオロエチレン、テトラフルオロエチレンとパーフルオロアルキルビニルエーテルとの共重合体、およびポリアセタールのうちのいずれかひとつによって形成されてなることを特徴とする液晶表示パネル製造装置。
　［請求項１０］　ガラス製の絶縁性基板と、当該絶縁性基板上に形成された液晶素子とを含む液晶表示パネルを製造する装置であって、
当該装置の前記絶縁性基板と接触する部材の少なくとも前記絶縁性基板と接触する部分が、ポリテトラフルオロエチレン、テトラフルオロエチレンとパーフルオロアルキルビニルエーテルとの共重合体、およびポリアセタールのうちのいずれかひとつによって被覆されてなることを特徴とする液晶表示パネル製造装置。
　［請求項１１］　前記材料の厚さが４０μｍより厚く、かつ、５００μｍより薄い請求項１０記載の液晶表示パネル製造装置。
　［請求項１２］　一方の面に液晶素子が形成された第１の絶縁性基板と、一方の面に共通電極が形成された第２の絶縁性基板とが、前記液晶素子および前記共通電極が向き合うように貼り合わされて形成されたセルと、当該セルを形成する前記第１および第２の絶縁性基板のうち少なくともどちらかの絶縁性基板の、貼り合わされた面と反対側の面に貼りつけられた少なくとも１枚の偏光板とからなる液晶表示パネルを製造する装置であって、
当該装置の前記偏光板と接触する部材の少なくとも前記偏光板と接触する部分が、前記偏光板の材質の仕事関数との差が小さい仕事関数を有する材質の材料によって被覆されてなることを特徴とする液晶表示パネル製造装置。
　［請求項１３］　前記材料の厚さが、４０μｍより厚く、かつ、５００μｍより薄い請求項１２記載の液晶表示パネル製造装置。
　［請求項１４］　前記材料の材質の仕事関数と前記偏光板の材質の仕事関数との差が０．３ｅＶ以下である請求項１２または１３記載の液晶表示パネル製造装置。」
を
「　［請求項１］　ガラス製の絶縁性基板と、当該絶縁性基板上に形成された液晶素子とを含む液晶表示パネルの製法であって、
前記液晶表示パネルの搬送工程において、前記絶縁性基板と接触し、当該基板を吸引力により吸着する、搬送に用いる部材のＯリングの少なくとも前記絶縁性基板と接触する部分が、前記絶縁性基板の仕事関数との差が小さい、ポリテトラフルオロエチレン、テトラフルオロエチレンとパーフルオロアルキルビニルエーテルとの共重合体、およびポリアセタールのうちのいずれかひとつによって形成されており、前記絶縁性基板が前記部材から剥離されることで発生する剥離帯電を抑制することを特徴とする液晶表示パネルの製法。
　［請求項２］　ガラス製の絶縁性基板と、当該絶縁性基板上に形成された液晶素子とを含む液晶表示パネルの製法であって、
前記液晶表示パネルの搬送工程において、前記絶縁性基板と接触し、当該基板を吸引力により吸着する、搬送に用いる部材のＯリングが、絶縁性基板の仕事関数との差が小さい、ポリテトラフルオロエチレン、テトラフルオロエチレンとパーフルオロアルキルビニルエーテルとの共重合体、およびポリアセタールのうちのいずれかひとつによって形成されており、前記絶縁性基板が前記部材から剥離されることで発生する剥離帯電を抑制することを特徴とする液晶表示パネルの製法。
　［請求項３］　ガラス製の絶縁性基板と、当該絶縁性基板上に形成された液晶素子とを含む液晶表示パネルの製法であって、
前記液晶表示パネルの搬送工程において、前記絶縁性基板と接触し、当該基板を吸引力により吸着する、搬送に用いる部材のＯリングの少なくとも前記絶縁性基板と接触する部分が、絶縁性基板の仕事関数との差が小さい、ポリテトラフルオロエチレン、テトラフルオロエチレンとパーフルオロアルキルビニルエーテルとの共重合体、およびポリアセタールのうちのいずれかひとつで被覆されており、前記絶縁性基板が前記部材から剥離されることで発生する剥離帯電を抑制することを特徴とする液晶表示パネルの製法。
　［請求項４］　前記被覆の厚さが４０μｍより厚く、かつ、５００μｍより薄い請求項３記載の液晶表示パネルの製法。
　［請求項５］　一方の面に液晶素子が形成された第１の絶縁性基板と、一方の面に共通電極が形成された第２の絶縁性基板とが、前記液晶素子および前記共通電極が向き合うように貼り合わされて形成されたセルと、当該セルを形成する前記第１および第２の絶縁性基板のうち少なくともどちらかの絶縁性基板の、貼り合わされた面と反対側の面に貼りつけられた少なくとも１枚の偏光板とからなる液晶表示パネルの製法であって、
前記液晶表示パネルの製造工程において、前記偏光板と接触する部材の少なくとも前記偏光板と接触する部分が、前記偏光板の材質の仕事関数との差が小さい仕事関数を有する材質の材料で被覆されてなることを特徴とする液晶表示パネルの製法。
　［請求項６］　前記材料の厚さが、４０μｍより厚く、かつ、５００μｍより薄い請求項５記載の液晶表示パネルの製法。
　［請求項７］　前記材料の材質の仕事関数と前記偏光板の材質の仕事関数との差が０．３ｅＶ以下である請求項５または６記載の液晶表示パネルの製法。
　［請求項８］　ガラス製の絶縁性基板と、当該絶縁性基板上に形成された液晶素子とを含む液晶表示パネルを搬送する装置であって、
前記絶縁性基板と接触し、当該基板を吸引力により吸着する、搬送に用いる部材のＯリングの少なくとも前記絶縁性基板と接触する部分が、絶縁性基板の仕事関数との差が小さい、ポリテトラフルオロエチレン、テトラフルオロエチレンとパーフルオロアルキルビニルエーテルとの共重合体、およびポリアセタールのうちのいずれかひとつによって形成されており、前記絶縁性基板が前記部材から剥離されることで発生する剥離帯電を抑制することを特徴とする液晶表示パネル製造装置。
　［請求項９］　ガラス製の絶縁性基板と、当該絶縁性基板上に形成された液晶素子とを含む液晶表示パネルを搬送する装置であって、
前記絶縁性基板と接触し、当該基板を吸引力により吸着する、搬送に用いる部材のＯリングが、絶縁性基板の仕事関数との差が小さい、ポリテトラフルオロエチレン、テトラフルオロエチレンとパーフルオロアルキルビニルエーテルとの共重合体、およびポリアセタールのうちのいずれかひとつによって形成されており、前記絶縁性基板が前記部材から剥離されることで発生する剥離帯電を抑制することを特徴とする液晶表示パネル製造装置。
　［請求項１０］　ガラス製の絶縁性基板と、当該絶縁性基板上に形成された液晶素子とを含む液晶表示パネルを搬送する装置であって、
前記絶縁性基板と接触し、当該基板を吸引力により吸着する、搬送に用いる部材のＯリングの少なくとも前記絶縁性基板と接触する部分が、絶縁性基板の仕事関数との差が小さい、ポリテトラフルオロエチレン、テトラフルオロエチレンとパーフルオロアルキルビニルエーテルとの共重合体、およびポリアセタールのうちのいずれかひとつによって被覆されており、前記絶縁性基板が前記部材から剥離されることで発生する剥離帯電を抑制することを特徴とする液晶表示パネル製造装置。
　［請求項１１］　前記被覆の厚さが４０μｍより厚く、かつ、５００μｍより薄い請求項１０記載の液晶表示パネル製造装置。
　［請求項１２］　一方の面に液晶素子が形成された第１の絶縁性基板と、一方の面に共通電極が形成された第２の絶縁性基板とが、前記液晶素子および前記共通電極が向き合うように貼り合わされて形成されたセルと、当該セルを形成する前記第１および第２の絶縁性基板のうち少なくともどちらかの絶縁性基板の、貼り合わされた面と反対側の面に貼りつけられた少なくとも１枚の偏光板とからなる液晶表示パネルを製造する装置であって、
当該装置の前記偏光板と接触する部材の少なくとも前記偏光板と接触する部分が、前記偏光板の材質の仕事関数との差が小さい仕事関数を有する材質の材料によって被覆されてなることを特徴とする液晶表示パネル製造装置。
　［請求項１３］　前記材料の厚さが、４０μｍより厚く、かつ、５００μｍより薄い請求項１２記載の液晶表示パネル製造装置。
　［請求項１４］　前記材料の材質の仕事関数と前記偏光板の材質の仕事関数との差が０．３ｅＶ以下である請求項１２または１３記載の液晶表示パネル製造装置。」
と訂正する。
▲２▼訂正事項ｂ
（ｉ）平成１１年１１月２４日付提出の手続補正書にて補正した明細書における［０００７］の４〜７行（特許第３０２２２９０号公報３頁５欄の［０００７］の４〜９行）の「前記液晶表示パネルの製造工程において、……形成されてなる」を
「前記液晶表示パネルの搬送工程において、前記絶縁性基板と接触し、当該基板を吸引力により吸着する、搬送に用いる部材のＯリングの少なくとも前記絶縁性基板と接触する部分が、前記絶縁性基板の仕事関数との差が小さい、ポリテトラフルオロエチレン、テトラフルオロエチレンとパーフルオロアルキルビニルエーテルとの共重合体、およびポリアセタールのうちのいずれかひとつによって形成されており、前記絶縁性基板が前記部材から剥離されることで発生する剥離帯電を抑制する」
と訂正する。
（ｉｉ）平成１１年１１月２４日付提出の手続補正書にて補正した明細書における［００１１］の３〜６行（同公報３頁６欄の［００１１］の３〜８行）の「前記液晶表示パネルの製造工程において、……形成されてなる」を
「前記液晶表示パネルの搬送工程において、前記絶縁性基板と接触し、当該基板を吸引力により吸着する、搬送に用いる部材のＯリングが、絶縁性基板の仕事関数との差が小さい、ポリテトラフルオロエチレン、テトラフルオロエチレンとパーフルオロアルキルビニルエーテルとの共重合体、およびポリアセタールのうちのいずれかひとつによって形成されており、前記絶縁性基板が前記部材から剥離されることで発生する剥離帯電を抑制する」
と訂正する。
（ｉｉｉ）平成１１年１１月２４日付提出の手続補正書にて補正した明細書における［００１４］の３〜６行（同公報３頁６欄の［００１４］の３〜９行）の「前記液晶表示パネルの製造工程において、……被覆されてなる」を
「ガラス製の絶縁性基板と、当該絶縁性基板上に形成された液晶素子とを含む液晶表示パネルの製法であって、
前記液晶表示パネルの搬送工程において、前記絶縁性基板と接触し、当該基板を吸引力により吸着する、搬送に用いる部材のＯリングの少なくとも前記絶縁性基板と接触する部分が、絶縁性基板の仕事関数との差が小さい、ポリテトラフルオロエチレン、テトラフルオロエチレンとパーフルオロアルキルビニルエーテルとの共重合体、およびポリアセタールのうちのいずれかひとつで被覆されており、前記絶縁性基板が前記部材から剥離されることで発生する剥離帯電を抑制する」
と訂正する。
（ｉｖ）出願当初の明細書における［００１５］の１行（同公報３頁６欄の［００１５］の１行）の「材料」を
「被覆」
と訂正する。
（ｖ）平成１１年１１月２４日付提出の手続補正書にて補正した明細書における［００２２］の２〜６行（同公報４頁７欄の［００２２］の３〜８行）の「液晶表示パネルを製造する装置であって、……形成されてなる」を
「液晶表示パネルを搬送する装置であって、
前記絶縁性基板と接触し、当該基板を吸引力により吸着する、搬送に用いる部材のＯリングの少なくとも前記絶縁性基板と接触する部分が、絶縁性基板の仕事関数との差が小さい、ポリテトラフルオロエチレン、テトラフルオロエチレンとパーフルオロアルキルビニルエーテルとの共重合体、およびポリアセタールのうちのいずれかひとつによって形成されており、前記絶縁性基板が前記部材から剥離されることで発生する剥離帯電を抑制する」
と訂正する。
（ｖｉ）平成１１年１１月２４日付提出の手続補正書にて補正した明細書における［００２５］の２〜５行（同公報４頁７欄の［００２５］の３〜８行）の「液晶表示パネルを製造する装置であって、……形成されてなる」を
「液晶表示パネルを搬送する装置であって、
前記絶縁性基板と接触し、当該基板を吸引力により吸着する、搬送に用いる部材のＯリングが、絶縁性基板の仕事関数との差が小さい、ポリテトラフルオロエチレン、テトラフルオロエチレンとパーフルオロアルキルビニルエーテルとの共重合体、およびポリアセタールのうちのいずれかひとつによって形成されており、前記絶縁性基板が前記部材から剥離されることで発生する剥離帯電を抑制する」
と訂正する。
（ｖｉｉ）平成１１年１１月２４日付提出の手続補正書にて補正した明細書における［００２８］の２〜６行（同公報４頁７欄の［００２８］の３〜８行）の「液晶表示パネルを製造する装置であって、……被覆されてなる」を
「液晶表示パネルを搬送する装置であって、
前記絶縁性基板と接触し、当該基板を吸引力により吸着する、搬送に用いる部材のＯリングの少なくとも前記絶縁性基板と接触する部分が、絶縁性基板の仕事関数との差が小さい、ポリテトラフルオロエチレン、テトラフルオロエチレンとパーフルオロアルキルビニルエーテルとの共重合体、およびポリアセタールのうちのいずれかひとつによって被覆されており、前記絶縁性基板が前記部材から剥離されることで発生する剥離帯電を抑制する」
（ｖｉｉｉ）出願当初の明細書における［００２９］の１行（同公報４頁８欄の［００２９］の１行）の「材料」を
「被覆」
と訂正する。
（５４）【発明の名称】
液晶表示パネルの製法およびそれに用いる装置
（５７）【特許請求の範囲】
　【請求項１】　ガラス製の絶縁性基板と、当該絶縁性基板上に形成された液晶素子とを含む液晶表示パネルの製法であって、
前記液晶表示パネルの
搬送
し、当該基板を吸引力により吸着する、搬送に用いる部材のＯリングの
前記絶縁性基板の仕事関数との差が小さい、
おり、前記絶縁性基板が前記部材から剥離されることで発生する剥離帯電を抑制す
　【請求項２】　ガラス製の絶縁性基板と、当該絶縁性基板上に形成された液晶素子とを含む液晶表示パネルの製法であって、
前記液晶表示パネルの
搬送
し、当該基板を吸引力により吸着する、搬送に用いる部材のＯリングが
絶縁性基板の仕事関数との差が小さい、
おり、前記絶縁性基板が前記部材から剥離されることで発生する剥離帯電を抑制す
　【請求項３】　ガラス製の絶縁性基板と、当該絶縁性基板上に形成された液晶素子とを含む液晶表示パネルの製法であって、
前記液晶表示パネルの
搬送
し、当該基板を吸引力により吸着する、搬送に用いる部材のＯリングの
絶縁性基板の仕事関数との差が小さい、
おり、前記絶縁性基板が前記部材から剥離されることで発生する剥離帯電を抑制す
　【請求項４】　前記
被覆
　【請求項５】　一方の面に液晶素子が形成された第１の絶縁性基板と、一方の面に共通電極が形成された第２の絶縁性基板とが、前記液晶素子および前記共通電極が向き合うように貼り合わされて形成されたセルと、当該セルを形成する前記第１および第２の絶縁性基板のうち少なくともどちらかの絶縁性基板の、貼り合わされた面と反対側の面に貼りつけられた少なくとも１枚の偏光板とからなる液晶表示パネルの製法であって、
前記液晶表示パネルの製造工程において、前記偏光板と接触する部材の少なくとも前記偏光板と接触する部分が、前記偏光板の材質の仕事関数との差が小さい仕事関数を有する材質の材料で被覆されてなることを特徴とする液晶表示パネルの製法。
　【請求項６】　前記材料の厚さが、４０μｍより厚く、かつ、５００μｍより薄い請求項５記載の液晶表示パネルの製法。
　【請求項７】　前記材料の材質の仕事関数と前記偏光板の材質の仕事関数との差が０．３ｅＶ以下である請求項５または６記載の液晶表示パネルの製法。
　【請求項８】　ガラス製の絶縁性基板と、当該絶縁性基板上に形成された液晶素子とを含む液晶表示パネルを
搬送
前
し、当該基板を吸引力により吸着する、搬送に用いる部材のＯリングの
絶縁性基板の仕事関数との差が小さい、
おり、前記絶縁性基板が前記部材から剥離されることで発生する剥離帯電を抑制す
　【請求項９】　ガラス製の絶縁性基板と、当該絶縁性基板上に形成された液晶素子とを含む液晶表示パネルを
搬送
前
し、当該基板を吸引力により吸着する、搬送に用いる部材のＯリングが
絶縁性基板の仕事関数との差が小さい、
おり、前記絶縁性基板が前記部材から剥離されることで発生する剥離帯電を抑制す
　【請求項１０】　ガラス製の絶縁性基板と、当該絶縁性基板上に形成された液晶素子とを含む液晶表示パネルを
搬送
前
し、当該基板を吸引力により吸着する、搬送に用いる部材のＯリングの
絶縁性基板の仕事関数との差が小さい、
おり、前記絶縁性基板が前記部材から剥離されることで発生する剥離帯電を抑制す
　【請求項１１】　前記
被覆
　【請求項１２】　一方の面に液晶素子が形成された第１の絶縁性基板と、一方の面に共通電極が形成された第２の絶縁性基板とが、前記液晶素子および前記共通電極が向き合うように貼り合わされて形成されたセルと、当該セルを形成する前記第１および第２の絶縁性基板のうち少なくともどちらかの絶縁性基板の、貼り合わされた面と反対側の面に貼りつけられた少なくとも１枚の偏光板とからなる液晶表示パネルを製造する装置であって、
当該装置の前記偏光板と接触する部材の少なくとも前記偏光板と接触する部分が、前記偏光板の材質の仕事関数との差が小さい仕事関数を有する材質の材料によって被覆されてなることを特徴とする液晶表示パネル製造装置。
　【請求項１３】　前記材料の厚さが、４０μｍより厚く、かつ、５００μｍより薄い請求項１２記載の液晶表示パネル製造装置。
　【請求項１４】　前記材料の材質の仕事関数と前記偏光板の材質の仕事関数との差が０．３ｅＶ以下である請求項１２または１３記載の液晶表示パネル製造装置。
【発明の詳細な説明】
　【０００１】
　【発明の属する技術分野】
　本発明は液晶表示パネルの製法およびそれに用いる装置に関する。
　【０００２】
　【従来の技術】
　液晶表示パネルは、たとえば絶縁性基板に液晶素子を形成する工程や、前記絶縁性基板を２枚貼り合わせる工程や、前記絶縁性基板の表面に偏光板を貼りつける工程などを経て製造される。前記液晶表示パネルは、絶縁性基板と、前記絶縁性基板上に形成される液晶素子と、前記液晶基板の、前記液晶素子が形成された面の反対側の面に貼りつけられる偏光板とからなる。前記液晶素子は、薄膜トランジスタと、該薄膜トランジスタを接続する配線と、画素電極とからなる。前記液晶表示パネルに、液晶を注入し、駆動ＩＣを接続することにより液晶表示装置が形成される。液晶表示パネルを製造する前記各工程においては、絶縁性基板や偏光板など、液晶表示パネルを構成する部品を移動して載置（以下、単に「移載」という）したり、前記部品を搬送したりするための装置（以下、単に「移載搬送装置」という）が通常用いられている。液晶表示パネルを製造するときに、移載搬送装置から絶縁性基板が剥離されたり、移載搬送装置と絶縁性基板とのあいだに摩擦が生じたりすることによって、しばしば絶縁性基板は静電気を帯びる。同時に、絶縁性基板に接触していた移載搬送装置の一部分は、絶縁性基板と逆の極性の静電気を帯びる。この絶縁性基板の静電気によって、周囲の塵埃が引き寄せられて絶縁性基板に付着し、液晶表示パネルの製造工程における歩留まりが低下するばあいがある。また、絶縁性基板に帯電した静電気の量によっては、絶縁性基板と外部とのあいだで放電が発生し、絶縁性基板の表面上に形成された液晶素子が損傷を受け、液晶素子が不良となる危険性がある。したがって、静電気の発生を防止したり、絶縁性基板の静電気を速やかに逃がすことができるような方策を講じることは、歩留まりの向上のために極めて重要である。
　【０００３】
　前述のような観点から、絶縁性基板に発生した静電気を速やかに逃がすことを考慮した装置の一例として、特開平７−３７９６２号公報記載の絶縁性基板の移載搬送装置がある。図５は、かかる従来の移載搬送装置の一例を構成する素材の表面状態を示す説明図である。図５において、１０１は前記移載搬送装置の一部分であり、アルミニウムからなる部分（以下、単に「アルミニウム部分」という）であり、１０２はアルミニウム部分１０１の表面に形成された多孔性の陽極酸化被膜（アルマイト被膜）であり、１０３は陽極酸化被膜１０２の表面に塗布されたフッ素系樹脂（たとえばポリテトラフルオロエチレン）からなる被膜（以下、単に「フッ素系樹脂被膜」という）である。かかる構造により、絶縁性基板（図示せず）を移載および搬送する際、絶縁性基板はフッ素系樹脂被膜１０３にのみ接触する。陽極酸化被膜１０２およびフッ素系樹脂被膜１０３の厚さはそれぞれ４０μｍ以下とされている。また、移載搬送装置は、直接または導電性材料からなるフレーム（図示せず）を介して接地されており、アルミニウム部分１０１から接地点までのあいだは絶縁物を全く介していない。
　【０００４】
　前記絶縁性基板と、前記移載搬送装置とのあいだに静電気が発生したばあい、フッ素系樹脂被膜１０３が薄く、かつ、移載搬送装置が絶縁性基板に接触する部分から接地点に至るまで絶縁物を全く介していないので、移載搬送装置の表面に静電気が留まることはなく、発生した静電気を効率的、かつ、完全に接地点から逃がすことができる。また、移載搬送装置の表面にフッ素系樹脂被膜１０３が形成されているため、移載搬送装置の揩接部の耐磨耗性も高めることができる。
　【０００５】
　【発明が解決しようとする課題】
　前述の移載搬送装置では、アルミニウム部分に表面処理を施し陽極酸化被膜を形成することが必要であるため、移載搬送装置の製造に手間がかかるという問題がある。また、フッ素系樹脂被膜が非常に薄いために、絶縁性基板などとこすれて磨耗することにより、短期間でフッ素系樹脂被膜の下の膜が露出してしまい前述の耐磨耗性などの効果がえられなくなるという問題がある。
　【０００６】
　本発明はかかる問題を解決するためになされたもので、発生した静電気を逃がす方策を必要とせず、静電気の発生自体を安定的に長期間防止することができる液晶表示パネルの製法およびそれに用いる装置を提供することを目的とする。
　【０００７】
　【課題を解決するための手段】
　本発明の液晶表示パネルの製法は、ガラス製の絶縁性基板と、当該絶縁性基板上に形成された液晶素子とを含む液晶表示パネルの製法であって、
前記液晶表示パネルの
搬送
し、当該基板を吸引力により吸着する、搬送に用いる部材のＯリングの
前記絶縁性基板の仕事関数との差が小さい、
おり、前記絶縁性基板が前記部材から剥離されることで発生する剥離帯電を抑制す
　【０００８】
　
前記
　【０００９】
　【００１０】
　【００１１】
　本発明の液晶表示パネルの製法は、ガラス製の絶縁性基板と、当該絶縁性基板上に形成された液晶素子とを含む液晶表示パネルの製法であって、
前記液晶表示パネルの
搬送
し、当該基板を吸引力により吸着する、搬送に用いる部材のＯリングが
絶縁性基板の仕事関数との差が小さい、
おり、前記絶縁性基板が前記部材から剥離されることで発生する剥離帯電を抑制す
　【００１２】
　【００１３】
　【００１４】
　本発明の液晶表示パネルの製法は、ガラス製の絶縁性基板と、当該絶縁性基板上に形成された液晶素子とを含む液晶表示パネルの製法であって、
前記液晶表示パネルの
搬送
し、当該基板を吸引力により吸着する、搬送に用いる部材のＯリングの
絶縁性基板の仕事関数との差が小さい、
おり、前記絶縁性基板が前記部材から剥離されることで発生する剥離帯電を抑制す
　【００１５】
　前記
被覆
　【００１６】
　【００１７】
　【００１８】
　本発明の液晶表示パネルの製法は、一方の面に液晶素子が形成された第１の絶縁性基板と、一方の面に共通電極が形成された第２の絶縁性基板とが、前記液晶素子および前記共通電極が向き合うように貼り合わされて形成されたセルと、当該セルを形成する前記第１および第２の絶縁性基板のうち少なくともどちらかの絶縁性基板の、貼り合わされた面と反対側の面に貼りつけられた少なくとも１枚の偏光板とからなる液晶表示パネルの製法であって、
前記液晶表示パネルの製造工程において、前記偏光板と接触する部材の少なくとも前記偏光板と接触する部分が、前記偏光板の材質の仕事関数との差が小さい仕事関数を有する材質の材料で被覆されてなることを特徴とする。
　【００１９】
　前記材料の厚さが、４０μｍより厚く、かつ、５００μｍより薄いことが、前記材料と前記偏光板との接触または摩擦により、前記材料が磨耗することが防げるため好ましい。
　【００２０】
　前記材料の材質の仕事関数と前記偏光板の材質の仕事関数との差が０．３ｅＶ以下であることが、前記偏光板に静電気が発生することを防げるため好ましい。
　【００２１】
　【００２２】
　本発明の液晶表示パネル製造装置は、ガラス製の絶縁性基板と、当該絶縁性基板上に形成された液晶素子とを含む液晶表示パネルを
搬送
前
し、当該基板を吸引力により吸着する、搬送に用いる部材のＯリングの
絶縁性基板の仕事関数との差が小さい、
おり、前記絶縁性基板が前記部材から剥離されることで発生する剥離帯電を抑制す
　【００２３】
　【００２４】
　【００２５】
　本発明の液晶表示パネル製造装置は、ガラス製の絶縁性基板と、当該絶縁性基板上に形成された液晶素子とを含む液晶表示パネルを
搬送
前
し、当該基板を吸引力により吸着する、搬送に用いる部材のＯリングが
絶縁性基板の仕事関数との差が小さい、
おり、前記絶縁性基板が前記部材から剥離されることで発生する剥離帯電を抑制す
　【００２６】
　【００２７】
　【００２８】
　本発明の液晶表示パネル製造装置は、ガラス製の絶縁性基板と、当該絶縁性基板上に形成された液晶素子とを含む液晶表示パネルを
搬送
前
し、当該基板を吸引力により吸着する、搬送に用いる部材のＯリングの
絶縁性基板の仕事関数との差が小さい、
おり、前記絶縁性基板が前記部材から剥離されることで発生する剥離帯電を抑制す
　【００２９】
　前記
被覆
　【００３０】
　【００３１】
　【００３２】
　本発明の液晶表示パネルの製造装置は、一方の面に液晶素子が形成された第１の絶縁性基板と、一方の面に共通電極が形成された第２の絶縁性基板とが、前記液晶素子および前記共通電極が向き合うように貼り合わされて形成されたセルと、当該セルを形成する前記第１および第２の絶縁性基板のうち少なくともどちらかの絶縁性基板の、貼り合わされた面と反対側の面に貼りつけられた少なくとも１枚の偏光板とからなる液晶表示パネルを製造する装置であって、
当該装置の前記偏光板と接触する部材の少なくとも前記偏光板と接触する部分が、前記偏光板の材質の仕事関数との差が小さい仕事関数を有する材質の材料によって被覆されてなることを特徴とする。
　【００３３】
　前記材料の厚さが、４０μｍより厚く、かつ、５００μｍより薄いことが、前記材料と前記偏光板との接触または摩擦により、前記材料が磨耗することが防げるため好ましい。
　【００３４】
　前記材料の材質の仕事関数と前記偏光板の材質の仕事関数との差が０．３ｅＶ以下であることが、前記偏光板に静電気が発生することを防げるため好ましい。
　【００３５】
　【００３６】
　【発明の実施の形態】
　絶縁性基板と、当該絶縁性基板上に形成された液晶素子とを含む液晶表示パネルを製造する工程において、前記絶縁性基板に静電気が発生するのを防止するためには、液晶表示パネルの製造に際し用いられる装置、すなわち液晶表示パネル製造装置（以下、単に「製造装置」という）の、絶縁性基板と接触する部材の絶縁性基板と接触する部分の材質に着目する必要がある。一般的に、静電気は、互いに電気的な接続のない物質Ａおよび物質Ｂが接触し、さらに剥離したときに起こる帯電（以下、単に「剥離帯電」という）や、物質Ａ、Ｂが摩擦されたときに起こる帯電（以下、単に「摩擦帯電」という）などにより発生する。前記剥離帯電や前記摩擦帯電は、いずれも物質Ａと物質Ｂとが接触することにより起こる現象であり、つぎに述べるように解釈することができる。
　【００３７】
　まず、物質Ａ、Ｂが密着している際に、物質Ａと物質Ｂとの仕事関数が異なることにより、たとえば物質Ａの電子が物質Ｂに移動する。したがって、物質Ａがたとえばプラスの電気を帯び、さらに物質Ｂがマイナスの電気を帯びる。すなわち物質Ａ、Ｂそれぞれが逆の極性の電気を帯電する。しかし、物質Ａ、Ｂが密着しているときは、物質Ａ、Ｂの外部からは帯電現象はほとんど観測されない。なぜなら、物質Ａに帯電した電気（電荷）と、物質Ｂに帯電した電気（電荷）とが極めて接近しているため、物質Ａに帯電した電荷および物質Ｂに帯電した電荷間の静電容量が極めて大きいことにより、物質Ａ、Ｂ間の電位がほとんど観測されないからである。つぎに、互いに密着している物質Ａと物質Ｂとが引き離される（剥離される）と、物質Ａの電荷と物質Ｂの電荷とが引き離され、前記２つの電荷間に距離が生じる。２つの電荷間に距離が生じることで、前記２つの電荷間の静電容量が有限の値になり、物質Ａ、Ｂ間の電位が物質Ａ、Ｂの外部から観測されるようになる。同時に物質Ａ、Ｂそれぞれにおいて剥離帯電が観測されるようになる。つまり、物質Ａ、Ｂ間の電位は剥離という動作によって初めて観測されるが、帯電現象自体は物質Ａと物質Ｂとが接触しているあいだに既に生じている。
　【００３８】
　つぎに、物質Ａ、Ｂ間の接触界面を微視的に見たばあい、物質Ａおよび物質Ｂの表面にはそれぞれ、無数の凹凸部があり、前記凹凸部の形状に応じて物質Ａおよび物質Ｂの表面は部分的に接触している。物質Ａ、Ｂが接触した状態で摩擦という作用がなされることにより、物質Ａ、Ｂ間の接触する部分が増加する。結果的に物質Ａ、Ｂ間を移動する電子が増え、物質Ａ、Ｂそれぞれに帯電した電気の量（以下、単に「帯電量」という）が増大する。つぎに、物質Ａと物質Ｂとが引き離される（剥離される）と、前記剥離帯電のばあいと同様に摩擦帯電が観測される。つまり、前記摩擦帯電の発生は、前記剥離帯電のばあいと同様に物質Ａと物質Ｂとが接触することが直接の要因である。
　【００３９】
　したがって、前記剥離帯電や前記摩擦帯電は、基本的には互いに電気的な接続のない物質Ａおよび物質Ｂが接触することにより引き起こされる現象であると考えることができる。
　【００４０】
　つぎに、静電気によって絶縁性基板の表面上の液晶素子が不良になることを防止する方法について説明する。かかる方法としては静電気の発生自体を防ぐ方法と、絶縁性基板に発生した静電気を逃がす方法とが考えられる。しかし、液晶表示装置を製造する工程において、たとえば絶縁性基板の搬送をするに際し用いられる製造装置側に、たとえば後者の方法を接地などの手段を用いて実施しても、静電気を除去できるのは製造装置側のみであり、絶縁性基板側の静電気は除去できないので、結果的に絶縁性基板には静電気が発生する。したがって、静電気によって液晶素子が不良になることを防止するには、静電気の発生自体を抑制する必要があることがわかる。このことから本発明は静電気の発生自体を抑制するという点に着目した。
　【００４１】
　つぎに、静電気の発生自体を抑制するために、絶縁性基板に接触する物質の材質の違いによる、絶縁性基板の帯電量の違いについて考える。前記絶縁性基板をガラス基板とし、前記ガラス基板に接触する部材をＯリングとし、Ｏリングをガラス基板に接触させたばあいの、Ｏリングの材質の違いによるガラス基板およびＯリング間の表面電位の違いを６個のＯリングを比較して図４に示す。前記６個のＯリングは、それぞれ図中横軸に示す６種類の材質からなっている。前記６種類の材質とは、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）、テトラフルオロエチレンとパーフルオロアルキルビニルエーテルとの共重合体（ＰＦＡ）、ＰＴＦＥでコーティングされたバイトン（図中、「ＰＴＦＥコーティング」と示す）、シリコン、パーフルオロゴムおよびバイトンである。図４において、横軸の最も左側に示すＰＴＦＥの仕事関数は、前記６個のＯリングのなかで最もガラス基板の仕事関数との差が小さく、横軸の右側に示す材質ほどガラス基板の仕事関数との差が大きい。また、縦軸に示す表面電位は、表面電位が大きいほど、ガラス基板の帯電量が大きいことを示す。図４に示されるように、Ｏリングの材質によってガラス基板の帯電量が異なる原因は、前記ガラス基板の仕事関数Ｗｇと前記Ｏリングの材質の仕事関数Ｗｏとの差（｜Ｗｇ−Ｗｏ｜）で説明できる。たとえばある物質の仕事関数を仕事関数Ｗとすると、一般的に、仕事関数Ｗが小さいほど物質中の電子が物質中から放出されやすく、逆に仕事関数Ｗが大きいほど前記物質の電子が前記物質から放出されにくい。したがって、仕事関数Ｗの大きさが異なる２つの物質を接触させると、仕事関数Ｗの小さい物質中から仕事関数Ｗの大きい物質に、仕事関数Ｗの小さい物質中の電子が移動しやすく、前記仕事関数Ｗの大きさが異なる２つの物質は帯電しやすくなる。一方、仕事関数Ｗの大きさがほぼ等しい２つの物質を接触させると、電子の移動が少なく、前記仕事関数Ｗの大きさがほぼ等しい２つの物質は帯電しにくくなる。図４のばあい、ＰＴＦＥやＰＦＡの仕事関数Ｗｏは、前記仕事関数Ｗｇに対してほぼ等しく、バイトンの仕事関数Ｗｏは、前記仕事関数Ｗｇよりも大きく、また、表面電位はＰＴＦＥやＰＦＡが最も小さく、バイトンが最も大きい。
　【００４２】
　すなわち、絶縁性基板に発生する静電気を防止するためには、絶縁性基板に接触する部材の材質として、絶縁性基板の材質の仕事関数Ｗとほぼ等しい仕事関数Ｗを有する材質の部材を選べばよい。かかる考え方に基づき部材の材質を選択することにより、絶縁性基板の静電気の発生自身が防止でき、さらに、絶縁性基板から静電気を除く方法として、絶縁性基板に帯電した電荷を接地などにより逃がしたり除電したりすることを考慮する必要がなくなり、静電気を除く方法を実行するための手段を講じる必要もなくなる。
　【００４３】
　つぎに図面を参照しながら本発明の液晶表示パネルの製法およびそれに用いる装置の実施例について説明する。
　【００４４】
実施例１
　本実施例は、液晶表示パネルの製造に用いる装置における絶縁性基板搬送機構の各部材のうち、前記絶縁性基板に接触する部材に本発明を適用した例である。図１（ａ）、図１（ｂ）および図１（ｃ）は本発明の液晶表示パネルの製造に用いる装置の一実施例を示す説明図である。図１（ａ）は前記製造装置における搬送機構である搬送アームと、当該搬送アームによって保持されている絶縁性基板とを示す平面説明図である。図１（ｂ）および図１（ｃ）は、図１（ａ）をＡ方向から見た説明図である。なお、図１（ｂ）は絶縁性基板に接触する部材であるＯリングの一部分をＰＴＦＥで形成したばあいの説明図であり、図１（ｃ）は絶縁性基板に接触する部材であるＯリングの全体をＰＴＦＥで形成したばあいの説明図である。
　【００４５】
　図１（ａ）、図１（ｂ）および図１（ｃ）において、１は絶縁性基板としてのガラス基板であり、２はガラス基板１を搬送するために製造装置に設けられた搬送アームであり、３は搬送アーム２上のたとえば４箇所に配設されたＯリングであり、４は搬送アーム２のたとえば４箇所に形成された孔である。ガラス基板１は、たとえば寸法３００ｍｍ×４００ｍｍ、厚さ１ｍｍのガラス基板である。さらに搬送アーム２には真空ポンプ（図示せず）などが接続されており、前記真空ポンプの吸引力によりＯリング３の中央に位置する孔４部分でガラス基板１を吸着し搬送する。
　【００４６】
　つぎに、前記製造装置を用いた液晶表示パネルの製法について説明する。液晶表示パネルを製造するに際し、洗浄、成膜、写真製版、エッチング、レジスト除去または品質検査などの処理を施すために、ガラス基板１は搬送アーム２によって保持され搬送される。ガラス基板１を搬送する際、ガラス基板１と接触する部分はＯリング３のみであるが、真空ポンプの吸引力によりガラス基板１とＯリング３とが密着しているため、ガラス基板１が搬送アーム２のＯリング３から滑り落ちることはない。図１（ｂ）に示すように、Ｏリング３はたとえばガラス基板１と接触する部分のみＰＴＦＥによって形成され、ＰＴＦＥからなる部分（以下、単に「ＰＴＦＥ部分」という）３ａとバイトンからなる部分（以下、単に「バイトン部分」という）３ｂとによってＯリング３が形成される。図１（ｂ）に示すＯリング３は、ガラス基板１と接触する部分がＰＴＦＥによって形成されているため、ガラス基板１を搬送する際にガラス基板１およびＯリング３間で電子が移動することがほとんどないので、ガラス基板１にもＯリング３にも静電気が発生することはない。また、図１（ｃ）に示すようにＯリング３全体をＰＴＦＥによって形成してもよく、ガラス基板１とＯリング３との磨耗により、短期間でガラス基板１とＰＴＦＥ以外の材質の部材とが接触するようになることがなく、長期間安定して静電気の発生を防止できる。また、Ｏリング３は、図１（ａ）に示すように搬送アーム２に形成された孔４がＯリング３の中心部分に位置するように配設される。Ｏリング３は搬送アーム２に接着されて配設されるため、または、Ｏリング３は搬送アーム２の表面に形成された溝に一部分が嵌め込まれて搬送アーム２に配設されるため、搬送アーム２にあらかじめ表面処理などを施しておく必要がなく、容易に搬送アーム２にＯリング３を配設できる。
　【００４７】
　本実施例では、ガラス基板に接触する部材であるＯリングのガラス基板と接触する部分のみまたは全体の材質をＰＴＦＥとしたが、たとえばＰＦＡまたはポリアセタールでもよい。また、ガラス基板などの絶縁性基板の材質の仕事関数Ｗとの差が０．３ｅＶ以下である材質であれば、ＰＴＦＥやＰＦＡやポリアセタール以外でもよく、絶縁性基板で静電気が発生することを防止できる。
　【００４８】
　本実施例では、ガラス基板１を真空ポンプなどにより吸着したばあいを示したが、Ｏリング３上をガラス基板１が滑ることのないばあい、または滑ってもよいばあいには、真空ポンプなどによる吸着を行わなくてもよく、ガラス基板１とＯリング３とのあいだの静電気の発生を防止できるという効果が損なわれることはない。また、本実施例ではＯリング３の数を４個としたが、ガラス基板１を確実に保持でき、しかもガラス基板１がＰＴＦＥ以外の材質の部材と接触しない個数であれば４個以外であってもよい。
　【００４９】
参考例
　本
参考
に
は液
参考
　【００５０】
　つぎに、前記製造装置を用いた液晶表示パネルの製造について説明する。あらかじめ所望の温度に加熱されている加熱プレート５にガラス基板１を載せる。所望の時間が経過したのち、加熱プレート５とガラス基板１とが接触しない状態になるようにガラス基板１を移動し、ガラス基板１に対する加熱処理を終了する。ガラス基板１に加熱処理を施すあいだ、ガラス基板１は、加熱プレート５を被覆するコーティング材６にのみ接触する。
　【００５１】
　前記実施例１のばあいと同様に本
参考
参考
　【００５２】
　本
参考
　【００５３】
　本
参考
　【００５４】
実施例
２
　本実施例は、液晶表示パネルの製造に用いる装置における、２枚の絶縁性基板を貼り合わせて形成したセルに偏光板を貼りつける機構の各部材のうち、セルまたは偏光板に接触する部材に本発明を適用した例である。前記セルは、一方の面に液晶素子が形成された第１の絶縁性基板と、一方の面に共通電極が形成された第２の絶縁性基板とが、前記液晶素子および前記共通電極が向き合うように貼り合わされてなる。さらに前記液晶表示パネルは、前記セルと、当該セルを形成する前記第１および第２の絶縁性基板のうち少なくともどちらかの絶縁性基板の、貼り合わされた面と反対側の面に貼りつけられた少なくとも１枚の偏光板とからなる。図３（ａ）および図３（ｂ）は、本発明の液晶表示パネルの製法に用いる製造装置の他の実施例を示す説明図である。図３（ａ）において、７はそれぞれの一方の面に液晶素子または共通電極が形成された２枚のガラス基板（第１および第２の絶縁性基板）を、液晶素子および共通電極が向き合うように貼り合わせ形成したセルであり、８はセル７の表面に貼りつけられる偏光板であり、９はセル７または偏光板８に接触する部材であるローラ部分（以下、単に「ローラ」という）である。なお、偏光板８の、セル７の表面に貼りつけられる側の面には、あらかじめ接着剤が塗られている。さらに、２個のローラ９は、セル７および偏光板８の厚さに対応した距離で互いに離間されている。また、図３（ｂ）は図３（ａ）に示すローラ９の拡大断面説明図である。前記ローラ９はゴムからなる部分９ｂをＰＴＦＥからなる材料９ａで被覆して形成される。ＰＴＦＥからなる材料９ａの厚さはたとえば５０μｍである。
　【００５５】
　つぎに、前記製造装置を用いた液晶表示パネルの製法について説明する。図３（ａ）に示す２個のローラ９のあいだにセル７と偏光板８とを挟み、２個のローラ９をそれぞれＢ方向またはＣ方向に回転させると、セル７と偏光板８とがＤ方向に送られる。したがって、偏光板８の、接着剤が塗られた側の面がセル７に押しつけられて、セル７に偏光板８が貼りつけられる。
　【００５６】
　本実施例において、セル７または偏光板８と直接接触する材料はＰＴＦＥのみであるため、ガラス基板とＰＴＦＥからなる材料９ａとが接触したばあいと同様に、セル７およびＰＴＦＥからなる材料９ａの間、または偏光板８およびＰＴＦＥからなる材料９ａ間での電子の移動はほとんどなく、セル７または偏光板８に帯電が生じ静電気が発生することはない。したがって、本発明においてはセル７または偏光板８に発生した電荷を逃がしたり除電したりすることを考慮する必要がない。
　【００５７】
　また、本実施例においては、ローラ９のＰＴＦＥからなる材料９ａの厚さを５０μｍとしたが、セル７または偏光板８との磨耗に絶えうるようにたとえば４０μｍより厚くすることが好ましく、コーティングの費用を抑えるためにたとえば５００μｍより薄くすることが好ましい。さらに、本実施例では、セルまたは偏光板に直接接触する材料の材質としてＰＴＦＥを用いたが、たとえばＰＦＡまたはポリアセタールを用いてもよく、偏光板の材質の仕事関数Ｗとの差が０．３ｅＶ以下である材質であれば、ＰＴＦＥ、ＰＦＡおよびポリアセタール以外でもよい。
　【００５８】
　【発明の効果】
　本発明によれば、液晶表示パネルを構成する部品である絶縁性基板または偏光板などに発生した静電気を逃がす方策を必要とせず、静電気の発生自体を安定的に長期間防止することができる。したがって、液晶表示パネルを製造するに際し、静電気の発生などにより液晶素子が不良になることを防止できる。
【図面の簡単な説明】
　【図１】
　本発明の液晶表示パネルの製造に用いる装置の一実施例を示す説明図である。
　【図２】
　
液
参考
　【図３】
　本発明の液晶表示パネルの製造に用いる装置の他の実施例を示す説明図である。
　【図４】
　ガラス基板に接触する材料の材質の違いによる、ガラス基板および材料間の表面電位の違いを示す図である。
　【図５】
　従来のガラス基板の移載搬送装置の一例を構成する素材の表面状態を示す説明図である。
　【符号の説明】
　１　ガラス基板
　２　搬送アーム
　３　Ｏリング
　４　孔