【事件の表示】
　特許第３１１７２７６号「水素分離膜」の請求項１に係る特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結　論】
　訂正を認める。
　特許第３１１７２７６号の請求項１に係る特許を維持する。
【理　由】
１.手続の経緯
　特許第３１１７２７６号の請求項１に係る発明は、平成４年４月９日に特許出願され、平成１２年１０月６日に特許の設定登録がなされたものである。
その後、請求項１に対して特許異議の申立てがなされ、取消理由通知がなされ、訂正請求がなされ、再度取消理由通知がなされ、その指定期間内である平成１４年１月３０日に訂正請求がなされたものである（先の訂正請求書は取り下げ）。
２.訂正の適否についての判断
ア.訂正の内容
ａ．特許明細書の特許請求の範囲を減縮を目的として次のように訂正する。
　「【請求頃１】０．１〜２０μｍの細孔を有する金属多孔体を支持体とし、該支持体の少なくとも一方の表面に、予め膜厚が５０μｍ以下の、前記金属多孔体の金属成分とパラジウムとの熱拡散反応を防止できる耐熱性酸化物の薄膜を形成させた後、膜厚が５０μｍ以下のパラジウム−銀合金の薄膜を形成させてなることを特徴とする水素のみを選択的に透過する水素分離膜。」
ｂ．上記訂正事項ａの訂正に伴い、発明の詳細な説明を前記の特許請求の範囲の記載に整合させるため、段落【０００７】を明りょうでない記載の釈明を目的として次のように訂正する。
　「【課題を解決するための手段】本発明は０．１〜２０μｍの細孔を有する金属多孔体を支持体とし、該支持体の少なくとも一方の表面に、予め膜厚が５０μｍ以下の、前記金属多孔体の金属成分とパラジウムとの熱拡散反応を防止できる耐熱性酸化物の薄膜を形成させた後、膜厚が５０μｍ以下のパラジウム−銀合金の薄膜を形成させてなることを特徴とする水素のみを選択的に透過する水素分離膜である。」
ｃ．上記訂正事項ａの訂正に伴い、発明の詳細な説明を特許請求の範囲の記載に整合させるため、段落【００１０】を明りょうでない記載の釈明を目的として次のように訂正する。
　「本発明において、パラジウムを含有する薄膜とはＰｄを１０重量％以上含有する合金からなり、薄膜の厚さは、５０μｍ以下、特に２〜２０μｍのものが適当である。パラジウムを含有する薄膜とは、パラジウム以外にＡｇを含有するものを指す。」
ｄ．上記訂正事項ａの訂正に伴い、発明の詳細な説明を特許請求の範囲の記載に整合させるため、段落【００２１】を明りょうでない記載の釈明を目的として次のように訂正する。
　「シリカ、アルミナ、ジルコニア・シリカをコーティングした後にパラジウムまたはパラジウム合金をコーティングした金属多孔体パイプ（サンプル１〜３）を水素分離膜として使用し、図１に示す試験装置で水素透過試験を行った。水素分離膜１をＯリング２でステンレス鋼製外管３に固定し、その外側を電気炉（図示省略）で加熱する。温度はサーモカップル８を使用し、内管の中心部で測定した。サンプル２が本発明に係る実施例である。」
ｅ．上記訂正事項ａの訂正に伴い、発明の詳細な説明を特許請求の範囲の記載に整合させるため、段落【００２７】を明りょうでない記載の釈明を目的として次のように訂正する。
　「（参考例１）繊維径２μｍのＳＵＳ３１６製金属繊維不織布と２００メッシュ、１００メッシュ及び４０メッシュの金網（ＳＵＳ３１６）を重ねたものを１２００℃で３時間加熱し、積層焼結した金属多孔体を巻き加工し、溶接して径２０ｍｍ×長さ３００ｍｍの金属多孔体を製作した。このパイプの全厚みは約０．６ｍｍであり、焼結後の前記金属繊維不織布の細孔径は５〜７μｍ、厚みは０．０５ｍｍとなった。」
ｆ．上記訂正事項ａの訂正に伴い、発明の詳細な説明を特許請求の範囲の記載に整合させるため、段落【００３０】を明りょうでない記載の釈明を目的として次のように訂正する。
　「（参考例２）シリカの薄膜を形成させないこと以外は、参考例１と同様の方法で、参考例１の金属多孔体パイプを直接５０℃の無電解パラジウム用の液に浸漬し、Ｐｄを３０μｍコーティングし、水素透過試験を行った結果、９９．９９％以上の水素が１．４ＮＩ／ｍｉｎ得られた。なお、上記サンプルについて、５００℃で１０００時間エージング試験を行った結果、水素流量は０．５ＮＩ／ｍｉｎに低下した。」
イ.訂正の目的の適否、新規事項の有無及び拡張・変更の存否
　訂正事項ａは、請求項１に記載の「耐熱性酸化物の薄膜」に限定を付し、又「パラジウムまたはパラジウム合金」を「パラジウムー銀合金」に限定するものであるから、特許請求の範囲の減縮を目的とする訂正に該当し、また、この記載事項は明細書【０００６】、【００２０】及び【表１】に記載されているものであるから、新規事項の追加に該当せず、そしてまた実質的に特許請求の範囲を拡張又は変更するものではない。
　さらに、訂正事項ｂ.〜ｆ.も、特許請求の範囲の記載の訂正に伴い、これに、整合させるためのものであるから、明りょうでない記載の釈明を目的とした明細書の訂正に該当し、新規事項の追加に該当せず、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものではない。
ウ．むすび　
以上のとおりであるから、上記訂正は、特許法等の一部を改正する法律（平成6年法律第11 6号）附則第６第１項の規定によりなお従前の例によるとされる、特許法第１２０条の４第３項において準用する平成６年法律第１１６号による改正前の特許法第１２６条第１項ただし書及び第２項の規定に適合するので、当該訂正を認める。  
 ３.特許異議申立について
（１）本件訂正発明
本件訂正発明は、２．ａ.に記載されたとおりである。
（２）特許異議申立ての理由の概要
　申立人は、甲第１〜２号証を提出して、請求項１に係る発明は、甲第１号証に記載された発明と同一であり、また、甲第１〜２号証に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明できたものであるから、特許法第２９条第１項第３号または同条第２項の規定により許を受けることができないものであると主張している。
（３）証拠の記載内容
　甲第１〜２号証には、それぞれ以下の事項が記載されている。
甲第１号証（特開平２−２７１９０２号公報）：
（ａ）「（１）多孔質体からなる基体に、該基体の孔を閉塞することなく無機質材をコーティングし、次いで前記基体上に水素吸蔵性金属を堆積して水素吸蔵性薄膜を形成することを特徴とする水素分離媒体の製造方法。
（２）請求項１記載の水素分離媒体の製造方法において、無機質材をコ−ティングするに際し、コーティング厚を５０μｍ以下とすることを特徴とする水素分離媒体の製造方法。」（特許請求の範囲）
（ｂ）「まず、多孔質体からなる基板（基体）を用意する。多孔質体としては、ＳＵＳフィルタ−、セラミックスフィルタ−、多孔質ガラス等の耐熱性の高い材料からなるものが好適に用いられ、またその平均孔径が１μｍ以下のものが好ましく、」（第２頁下左欄下より第４〜８行）
（ｃ）「・・・無機質材としては、・・・ＴｉＯ２、ＺｒＯ２・・・が好適とされ、」（第２頁下右欄第１〜３行）
（ｄ）「また、Ｐｄ，Ｖ、Ｎｂ等の金属も水素吸蔵性を有するものであり、前記合金とともに本発明の水素吸蔵性金属として用いられるものである。」（第３頁右上欄第９〜１１行）
（ｅ）「また、この時の操作温度としては１００℃〜５００℃程度の温度範囲が望ましく、５００℃以上の温度で操業すると、多孔質体からなる基板の孔が基板の熱膨張により・・・」（第３頁右下欄第７〜１０行）
（ｆ）「該コ−ティング膜を介在することにより水素吸蔵性金属の基体への接合強度が向上し、かつ得られた薄膜におけるピンホールの発生が抑制される。」（第４頁左上欄第１２〜１５行）
甲第２号証（特開平３−５２６３０号公報）：
（ａ）「　０．１〜２０μの細孔を有する多孔質金属体の少なくとも一方の表面に、膜厚が５０μ以下のＰｄを含有する薄膜を形成させてなることを特徴とする水素分離膜。」（特許請求の範囲）
（ｂ）「本発明において、Ｐｄを含有する薄膜としては、Ｐｄ１００％又はＰｄを１０重量％以上含有する合金からなり、膜厚が５０μ以下、特に２〜２０μのものが適当である。Ｐｄを１０重量％以１上含有する合金としては、Ｐｄ以外にＰｔ、Ｒｈ、Ｒｕ、ＩｒなどのＶＩＩＩ族元素、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕなどのｌｂ族元素を含有するものをさす。」（第２頁下右欄第４〜１０行）
（ｃ）「本発明の水素分離膜の好ましい使用温度範囲は、２００〜８００℃であり、・・・。」（第３頁上左欄第１２〜１５行）
（４）当審の判断
　訂正後の請求項１（以下、「本件発明」という。）と甲第１号証に記載された発明とを比較する。
　甲第１号証には、多孔質体（ＳＵＳを含む）に無機質材をコーティングし、その上に水素吸蔵性合金を堆積した水素分離媒体が記載され、さらに、該無機質材は、（３）（ｃ）の記載によれば金属酸化物を含むから、両者は、金属多孔質体とパラジウム系薄膜の間に酸化物薄膜を介在させた水素分離膜である点で一致し、以下の点で相違する。
相違点１：本件発明では中間に介在する薄膜が、前記金属多孔体の金属成分とパラジウムとの熱拡散反応を防止できる耐熱性酸化物であるのに対し、甲第１号証記載の発明では、酸化物薄膜は、（３）（ｆ）の記載によれば、水素吸蔵性金属の基体への接合強度を向上させ、かつ得られた薄膜におけるピンホールの発生を抑制させるようなものであること。
相違点２：本件発明では、パラジウム系薄膜がパラジウムー銀合金の薄膜であるのに対し、甲第１号証記載の発明では、Ｐｄ金属の薄膜である点。
　上記相違点中、相違点２につき検討する。
　本件明細書の記載によると、パラジウム系薄膜として、パラジウム−銀合金の材質のものを用い、そして、これを、支持体である金属多孔質体の上に、耐熱性の酸化膜を介して設けることにより、５００℃、１０００時間に亘るエージング試験においても水素透過性能が一定であるという、有用な効果を奏したものである（実施例の表１及び２等を参照）。
　これに対して、甲第１号証のものでは、パラジウム系薄膜として、上記したとおり、パラジウム−銀合金の材質のものを用いることが記載されず、また、水素分離膜につき、本件発明のような５００℃程度の高温時の持続安定性を図ることについて、教示するところはない。
　してみれば、本件発明は、甲第１号証に記載された発明であるということができないばかりでなく、甲第１号証に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明することができたものであるということもできない。
　次に、甲第２号証の記載をみると、そこには、水素分離膜のパラジウム系薄膜として、パラジウム−銀合金（Ｐｄ−Ａｇ）の材質のものを用いることが示されるが、それは、耐熱性の酸化膜を介して用いられるものではなく、また、高温時の持続安定性を改善するために用いることが教示されるものでもない。
　してみれば、甲第２号証の記載を併せてみても、甲第１号証に記載の発明において、上記相違点２に関する構成を適用することが、当業者の容易に導き出せるものではない。
　このように、相違点２に関する構成が容易に想到することができないのであるから、その他の相違点１については判断するまでもなく、本件発明は、甲第１号証及び甲第２号証に記載される発明に基づいて当業者が容易に発明することができたものであるとすることはできない。
４むすび
　以上のとおり、本件発明の特許は、特許異議申立の理由によっては、取り消すことができない。
　また、他に本件発明の特許を取り消すべき理由を発見しない。
　よって、結論のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１４年２月８日（２００２．２．８）
【訂正の要旨】
　ａ．特許明細書の特許請求の範囲を減縮を目的として次のように訂正する。
　「【請求頃１】０．１〜２０μｍの細孔を有する金属多孔体を支持体とし、該支持体の少なくとも一方の表面に、予め膜厚が５０μｍ以下の、前記金属多孔体の金属成分とパラジウムとの熱拡散反応を防止できる耐熱性酸化物の薄膜を形成させた後、膜厚が５０μｍ以下のパラジウム−銀合金の薄膜を形成させてなることを特徴とする水素のみを選択的に透過する水素分離膜。」
ｂ．上記訂正事項ａの訂正に伴い、発明の詳細な説明を前記の特許請求の範囲の記載に整合させるため、段落【０００７】を明りょうでない記載の釈明を目的として次のように訂正する。
　「【課題を解決するための手段】本発明は０．１〜２０μｍの細孔を有する金属多孔体を支持体とし、該支持体の少なくとも一方の表面に、予め膜厚が５０μｍ以下の、前記金属多孔体の金属成分とパラジウムとの熱拡散反応を防止できる耐熱性酸化物の薄膜を形成させた後、膜厚が５０μｍ以下のパラジウム−銀合金の薄膜を形成させてなることを特徴とする水素のみを選択的に透過する水素分離膜である。」
ｃ．上記訂正事項ａの訂正に伴い、発明の詳細な説明を特許請求の範囲の記載に整合させるため、段落【００１０】を明りょうでない記載の釈明を目的として次のように訂正する。
　「本発明において、パラジウムを含有する薄膜とはＰｄを１０重量％以上含有する合金からなり、薄膜の厚さは、５０μｍ以下、特に２〜２０μｍのものが適当である。パラジウムを含有する薄膜とは、パラジウム以外にＡｇを含有するものを指す。」
ｄ．上記訂正事項ａの訂正に伴い、発明の詳細な説明を特許請求の範囲の記載に整合させるため、段落【００２１】を明りょうでない記載の釈明を目的として次のように訂正する。
　「シリカ、アルミナ、ジルコニア・シリカをコーティングした後にパラジウムまたはパラジウム合金をコーティングした金属多孔体パイプ（サンプル１〜３）を水素分離膜として使用し、図１に示す試験装置で水素透過試験を行った。水素分離膜１をＯリング２でステンレス鋼製外管３に固定し、その外側を電気炉（図示省略）で加熱する。温度はサーモカップル８を使用し、内管の中心部で測定した。サンプル２が本発明に係る実施例である。」
ｅ．上記訂正事項ａの訂正に伴い、発明の詳細な説明を特許請求の範囲の記載に整合させるため、段落【００２７】を明りょうでない記載の釈明を目的として次のように訂正する。
　「（参考例１）繊維径２μｍのＳＵＳ３１６製金属繊維不織布と２００メッシュ、１００メッシュ及び４０メッシュの金網（ＳＵＳ３１６）を重ねたものを１２００℃で３時間加熱し、積層焼結した金属多孔体を巻き加工し、溶接して径２０ｍｍ×長さ３００ｍｍの金属多孔体を製作した。このパイプの全厚みは約０．６ｍｍであり、焼結後の前記金属繊維不織布の細孔径は５〜７μｍ、厚みは０．０５ｍｍとなった。」
ｆ．上記訂正事項ａの訂正に伴い、発明の詳細な説明を特許請求の範囲の記載に整合させるため、段落【００３０】を明りょうでない記載の釈明を目的として次のように訂正する。
　「（参考例２）シリカの薄膜を形成させないこと以外は、参考例１と同様の方法で、参考例１の金属多孔体パイプを直接５０℃の無電解パラジウム用の液に浸漬し、Ｐｄを３０μｍコーティングし、水素透過試験を行った結果、９９．９９％以上の水素が１．４ＮＩ／ｍｉｎ得られた。なお、上記サンプルについて、５００℃で１０００時間エージング試験を行った結果、水素流量は０．５ＮＩ／ｍｉｎに低下した。」
（５４）【発明の名称】
水素分離膜
（５７）【特許請求の範囲】
　【請求項１】　０．１〜２０μｍの細孔を有する金属多孔体を支持体とし、該支持体の少なくとも一方の表面に、予め膜厚が５０μｍ以下の
、前記金属多孔体の金属成分とパラジウムとの熱拡散反応を防止できる
のパ
ム−銀合
【発明の詳細な説明】
　【０００１】
　【産業上の利用分野】
　本発明は混合ガス中の水素を分離するための水素分離膜に関する。
　【０００２】
　【従来の技術】
　省エネルギー型分離技術として、近年、膜による気体の分離方法が注目を集めている。水素含有気体から水素を分離し、９９．９９％以上の高純度の水素を得る方法としてＰｄ（パラジウム）を主体とする膜（Ｐｄ膜と呼ぶ）を使用する方法（Ｐｄ膜方法と呼ぶ）が知られている｛石油学会誌Ｖｏｌ．１５、Ｎｏ．１（１９７２年）ｐ．６４｝。従来Ｐｄ膜はＰｄまたはＰｄを主体とする合金を伸延し薄膜とすることによって製造され、この膜は支持枠で支持して使用されていた。伸延方法によって得られる膜の厚みの下限には限度があり、また、この膜は支持枠で支持して使用されるため、このような支持方法に耐えるだけの機械的強度を付与する必要があり、あまり薄い膜を使用すると使用中膜が破損しやすい。
　【０００３】
　混合ガスから特定ガスをガス拡散方法によって分離する一手段として、ガス分子の平均自由工程より小さな孔径、例えば数１０Å〜数１００Åの細孔をもつ多孔質のガス分離膜を使用するクヌーセン拡散による分離方法が知られている。例えば、かかる分離方法は、比較的分子量比の大きい水素（Ｈ２）、窒素（Ｎ２）、一酸化炭素（ＣＯ）などの混合ガス中のＨ２ガス分離に有効であり、一般にはガス分離膜として有機高分子膜が採用されている。しかしながら、かかる有機高分子膜は耐熱性、耐薬品性など耐久性に劣るという欠点があるため、セラミック多孔体など無機質材料からなる多孔質のガス分離膜の使用が試みられており、また、特開昭５９−５９２２３号公報には、かかる無機質材料からなる多孔質のガス分離膜が提案され、かつ従来例として示される。
　【０００４】
　また、上記問題点を解決する方法として、無機質材料からなる多孔質支持体にＰｄを含有する薄膜を形成させた水素分離膜を使用する方法が特開昭６２−１２１６１６号公報に示されている。さらに、また、金属多孔体にＰｄを含有する薄膜を形成させた水素分離膜を使用する方法については特開平３−５２６３０号公報に提案されている。
　【０００５】
　【発明が解決しようとする課題】
　前述した従来の方法については各々次のような問題点がある。
（１）クヌーセン拡散による分離方法における混合ガスの透過係数の比は、理論的には各ガスにおける分子量の逆数の平方根に等しいため、かなり小さく、高濃度の水素ガスを得るのは困難である。
（２）Ｐｄ膜方法は６０〜１５０μｍ程度の比較的厚いものを使用せざるを得ず、高価なＰｄの使用量が増大し、また水素の透過速度が小さい。
（３）特開昭６２−１２１６１６号公報に示されている無機質材料からなる多孔質支持体にＰｄを含有する薄膜を形成させた水素分離膜は強度が弱いため破損しやすく、また分離膜と管板とのシールが難しい。
（４）特開平３−５２６３０号公報に示されている金属多孔体にＰｄを含有する薄膜を形成させた水素分離膜は６００℃以上の高温で使用すると、金属多孔体の金属成分とＰｄとの熱拡散反応を起こし水素透過性能が低下するという問題がある。
　【０００６】
　本発明は従来技術が有する上記の問題点を解決することを目的としたものであり、金属多孔体の金属成分とＰｄの熱拡散反応が防止でき、かつＰｄを含有する膜の薄膜化が可能になることを利用し、水素を含有する混合ガスから高濃度の水素を分離する膜を提供しようとするものである。
　【０００７】
　【課題を解決するための手段】
　本発明は０．１〜２０μｍの細孔を有する金属多孔体を支持体とし、該支持体の少なくとも一方の表面に、予め膜厚が５０μｍ以下の
、前記金属多孔体の金属成分とパラジウムとの熱拡散反応を防止できる
のパ
ム−銀合
　【０００８】
　本発明において、細孔を有する金属多孔体としては３００℃以上の温度に耐える耐熱性を有し、処理すべき気体と反応性を有せず、かつ０．１〜２０μｍの範囲の中で、できるだけ均一な細孔を有する金属多孔体を使用するのが適している。細孔径を０．１μｍ以上としたのは、ガス拡散の妨害にならないようにするためであり、２０μｍ以下としたのはパラジウムを含有する薄膜を膜厚５０μｍ以下にコーティングした場合、ピンホールが生じやすくなるからである。なお、金属多孔体としては、円筒状または板状のものを使用するのが適当であり、支持体としての強度及び加工性などから、０．１〜２ｍｍの厚みものが好ましい。
　【０００９】
　本発明において金属多孔体の一例としては以下のものがあげられる。
（１）発泡（多孔質）金属をプレス成型し細孔径を制御したもの、さらにこれに溶射またはめっきなどにより細孔を小さくしたもの。
（２）粒径の小さい金属微粒粉末（５０μｍ以下）を成型したもの。
（３）化学反応により除去可能な粉末（例えば、燃焼除去が可能なグラファイト）を金属粉末に混合または溶融した金属に添加した後、粉末を化学反応により除去し細孔を生成させたもの。
（４）繊維径１〜２０μｍの金属繊維の不織布を圧延・焼結させたもの。
　【００１０】
　本発明において、パラジウムを含有する薄膜と
はＰ
にＡｇを
　【００１１】
　本発明において、耐熱性酸化物の薄膜とはＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、ＺｒＯ２、ＴｉＯ２、Ｌａ２Ｏ３などの融点が１０００℃以上の周期律表ＩＩＩａ、ＩＩＩｂ、ＩＶｂ族の酸化物を含有したもので、膜厚が５０μｍ以下のものを指す。
　【００１２】
　金属多孔体の少なくとも一方の表面に耐熱性酸化物の薄膜を形成させる方法の一例としては下記の方法が用いられる。
（１）耐熱性酸化物、水酸化物のゾル、ゲルまたはこれらを含有するスラリーを金属多孔体に塗布または浸漬し、焼成する。
（２）耐熱性酸化物または水酸化物を金属多孔体に容射する。
（３）真空蒸着方法、イオンプレーティング、気相化学反応（ＣＶＤ）方法などの気相方法。
　【００１３】
　金属多孔体の少なくとも一方の表面に形成させた耐熱性酸化物の薄膜上に膜厚が５０μｍ以下のパラジウムを含有する薄膜を形成させる方法の一例としては下記の方法が用いられる。
（１）めっきなどの液相方法
　表面活性化処理（塩化錫の水溶液と塩化パラジウムの各液に交互に浸漬）後、無電解めっき（パラジウムの化合物と還元剤及びバナジウム粉末を含有する液に浸漬）
　さらには、無電解めっき後に電気めっきしたもの、あるいは電気めっき後に無電解めっきしたもの。
（２）真空蒸着方法、イオンプレーティング、気相化学反応方法（ＣＶＤ）などの気相方法
　【００１４】
　以上のようにしてパラジウムを含有する薄膜を形成させた金属多孔体は、水素のみを選択的に透過する水素分離膜として使用できる。
　【００１５】
　上記水素分離膜の一方の側に水素を含有する混合ガスを供給すると、水素分離膜は水素のみを選択的に透過させ、水素分離膜の他方の側から純粋な水素が流出する。水素の透過速度は温度が高いほど大きく、また水素分離膜の両側の水素の圧力差が大きいほど大きくなる。本発明の水素分離膜の好ましい使用温度範囲は８００℃以下であり、水素分離膜の両側の水素圧力差の好ましい範囲は０．５〜１０ｋｇ／ｃｍ２である。
　【００１６】
　水素の透過速度は極めて大きく、４００℃、圧力差２ｋｇ／ｃｍ２の場合１５〜６０ｃｍ３／ｃｍ２・ｍｉｎ程度であり、この値は従来のＰｄ膜方法の３〜１５倍に達する。
　【００１７】
　ブリードガスは水素分圧が内側の水素の圧力と等しい状態で取出される。従って取り出すべき、内側の水素圧力を制御することによりブリードガスの組成、水素の分取率を制御することが可能となる。
　【００１８】
　【作用】
　本発明の水素分離膜においては、耐熱性酸化物の薄膜及びパラジウムを含有する薄膜を金属多孔体で支持しているため、高い強度を有するとともに加工性に富み、モジュール化が容易で、かつ高価なパラジウムの使用量が少なくて済むという利点がある。
　【００１９】
　【実施例】
（実施例１）
　平均粒子径５μｍのＳＵＳ３１６Ｌの金属微粉末を用い、平均細孔径が２μｍの金属多孔体パイプ（外径１０ｍｍ、内径８ｍｍ、長さ２５０ｍｍ）を成型した。このパイプの外側の面に、東亜合成化学のアロンセラミックＣ（シリカ含有ぺースト）、アロンセラミックＤ（アルミナ含有ペースト）、アロンセラミックＥ（ジルコニア・シリカ含有ペースト）をそれぞれ塗布し、８００℃で焼成を行い、金属多孔体の表面に酸化物の薄膜をそれぞれ５μｍ（サンプル１−１）、１０μｍ（サンプル２−１）、３０μｍ（サンプル３−１）形成させた。
　【００２０】
　サンプル１−１の外側の面にパラジウムのみを蒸着したサンプル１、サンプル２−１の外側の面にパラジウムと銀の合金（Ｐｄ：Ａｇ＝８０：２０重量比）を蒸着したサンプル２、サンプル３−１の外側の面にパラジウムと銅の合金（Ｐｄ：Ｃｕ＝９０：１０重量比）を蒸着したサンプル３を調整した。
　【００２１】
　シリカ、アルミナ、ジルコニア・シリカをコーティングした後にパラジウムまたはパラジウム合金をコーティングした金属多孔体パイプ（サンプル１〜３）を水素分離膜として使用し、図１に示す試験装置で水素透過試験を行った。水素分離膜１をＯリング２でステンレス鋼製外管３に固定し、その外側を電気炉（図示省略）で加熱する。温度はサーモカップル８を使用し、内管の中心部で測定した。
サンプル２が本発明に係る実施例である。
　【００２２】
　供給孔４からＨ２／Ｎ２＝１（モル）の混合ガスを連続的に供給し、排出孔５からブリードガスを排出し、下部の取出孔６から９９．９９％以上の純粋な水素（圧力：１ｋｇ／ｃｍ２ａｂｓ．）を得ることができた。なお、図１中、７はスィープガス供給口で、こゝからスィープガス（Ｎ２、スチームのような不活性ガス）を供給した。
　【００２３】
　混合ガスの圧力を３ｋｇ／ｃｍ２Ｇ、流量を２０Ｎｌ／ｍｉｎで、５００℃で試験した結果を表１に示す。
　【００２４】
　【表１】
　上記サンプル１〜３について、５００℃で１０００時間エージング試験を行った結果、水素透過性能は一定であった。
　【００２５】
　サンプル２について、混合ガスの圧力及び温度を変えて試験した結果を表２に示す。
　【００２６】
　【表２】
　【００２７】
（
参考例１
　繊維径２μｍのＳＵＳ３１６製金属繊維不織布と２００メッシュ、１００メッシュ及び４０メッシュの金網（ＳＵＳ３１６）を重ねたものを１２００℃で３時間加熱し、積層焼結した金属多孔体を巻き加工し、溶接して径２０ｍｍ×長さ３００ｍｍの金属多孔体を製作した。このパイプの全厚みは約０．６ｍｍであり、焼結後の前記金属繊維不織布の細孔径は５〜７μｍ、厚みは０．０５ｍｍとなった。
　【００２８】
　濃硝酸２ｇに水１００ｇを添加して調整した硝酸水溶液にテトラエトキシシラン１００ｇを添加し、急速攪拌しながら８０℃に加熱しシリカゾルを調整した。このシリカゾルを上記金属多孔体の表面に塗布し、５００℃で焼成する操作を繰り返し、金属多孔体の表面にシリカの薄膜を１０μｍ形成させた。このサンプルを５０℃の無電解パラジウム用の液（Ｐｄ化合物及びヒドラジン、アンモニア水を含有）に浸漬しＰｄを１０μｍコーティングした。
　【００２９】
　実施例１と同様の試験（混合ガス圧力３ｋｇ／ｃｍ２Ｇ、流量２０Ｎｌ／ｍｉｎ、５００℃）を行った結果、９９．９９％以上の水素が５．６Ｎｌ／ｍｉｎ得られた。なお、上記サンプルについて、５００℃で１０００時間エージング試験を行った結果、水素透過性能は一定であった。
　【００３０】
（参考例２）
　シリカの薄膜を形成させないこと以外は、
参考例１
参考例１
　【００３１】
　【発明の効果】
　以上、実施例から明らかなように、本発明の水素分離膜は、高温下で水素のみを選択的に透過する水素分離膜として使用できる。
【図面の簡単な説明】
　【図１】
　本発明水素分離膜の水素分離効果を実証するために使用した試験装置の概略図である。