【事件の表示】
　特許第３０８８５０９号「セラミック電子部品の製造方法」の請求項１ないし５に係る特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結　論】
　特許第３０８８５０９号の請求項１ないし５に係る特許を取り消す。
【理　由】
１．手続きの経緯
　本件特許第３０８８５０９号に係る手続きの主な経緯は次のとおりである。
　特許出願（特願平３−２４４６７５号）平成　３年　８月２９日
　特許権設定登録　　　　　　　　　　　平成１２年　７月１４日
　特許異議申立　　　　　　　　　　　　平成１３年　３月１６日
　取消理由通知（１）　　　　　　　　　平成１３年　５月１６日
　意見書（１）・訂正請求書（１）　　　平成１３年　７月２６日
　取消理由通知（２）　　　　　　　　　平成１３年　８月２０日
　訂正請求書（１）の取下書　　　　　　平成１３年１０月２９日
　意見書（２）・訂正請求書（２）　　　平成１３年１０月２９日
　訂正拒絶理由通知　　　　　　　　　　平成１３年１１月　８日
　訂正請求書（２）の取下書　　　　　　平成１４年　１月２１日
　意見書（３）・訂正請求書（３）　　　平成１４年　１月２１日
　訂正請求書（３）の却下理由通知　　　平成１４年　１月３１日
　訂正請求書（３）の手続却下の決定　　平成１４年　３月２９日
　
２．本件発明
　訂正請求書（１）及び訂正請求書（２）は取り下げられ、訂正請求書（３）は訂正請求書の提出できる期間以外の提出のため却下されたので、本件の請求項１〜５に係る発明（以下、「本件発明１〜５」という。）は、特許明細書の特許請求の範囲の請求項１〜５に記載された次のとおりのものである。
「【請求項１】　Ｐｂ（Ｍｇ1/3 Ｎｂ2/3)Ｏ３、ＰｂＴｉＯ３またはＰｂ（Ｍｇ1/2 Ｗ1/2)Ｏ３のうちの少なくとも１種以上を含有するセラミック層上に電極層を有するセラミック電子部品を製造する工程において、少なくとも空気中の酸素分圧を越える高酸素分圧の雰囲気中で焼成する焼成工程を含むことを特徴とするセラミック電子部品の製造方法。
　【請求項２】　前記焼成工程は、昇温領域、安定温度領域及び降温領域を含む焼成パターンを有し、前記酸素分圧の雰囲気中の焼成工程は、少なくとも前記安定温度領域を含むように設定することを特徴とする請求項１に記載されたセラミック電子部品の製造方法。
　【請求項３】　前記高酸素分圧の雰囲気中の焼成工程は、前記焼成パターンの素地の焼結開始温度を含む昇温領域と安定温度領域を含むように設定する事を特徴とする請求項１または請求項２に記載されたセラミック電子部品の製造方法。
　【請求項４】　前記高酸素分圧の雰囲気中の焼成工程は、前記焼成パターンの全領域を含むように設定することを特徴とする請求項１、請求項２または請求項３に記載されたセラミック電子部品の製造方法。
　【請求項５】　前記セラミック電子部品は、積層セラミックコンデンサであることを特徴とする請求項１、請求項２、請求項３または請求項４に記載されたセラミック電子部品の製造方法。」
　
３．特許異議申立及びこれについての判断
３．１　特許異議申立の理由及び取消理由通知（１）の概要
　特許異議申立人株式会社村田製作所は、甲第１号証（刊行物１：特開昭６３−１８６９８号公報）、甲第２号証（刊行物２：特開昭５３−１０３１９９号公報）及び甲第３号証（刊行物３：特開昭６２−１６２６７０号公報）を提出し、本件請求項１〜５に係る発明は、甲第１〜３号証に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定に違反してされたものであり、特許を取り消すべきであると主張している。
　取消理由通知は、特許異議申立の理由と同様の趣旨の他に、本件請求項１，２に係る発明は、刊行物１，２又は３に記載された発明であり、また、本件請求項３，５に係る発明は、刊行物１に記載された発明であり、特許法第２９条第１項第３号の規定に違反してされたものであり、特許を取り消すべきである旨追記した。
　
３．２　取消理由通知（１）で引用した刊行物１（甲第１号証：特開昭６３−１８６９８号公報）に記載された発明
　刊行物１は、積層セラミック電子部品の製造方法に関するものであり、以下の点が記載されている。
「内部電極が導電性酸化物からなる積層セラミック電子部品をドクターブレード法により作成した誘電体及び導電体のシートを積層して同時焼成により得ることを特徴とする積層セラミック電子部品の製造方法。」（特許請求の範囲）
「内部電極に導電性酸化物を用いた積層コンデンサーや積層アクチュエー夕
の製造方法に関する」（第２頁左上欄第１行〜第３行）
「従来より積層セラミック電子部品の製造方法は、ドクターブレード法により作成した誘電体シートにＰｔやＡｇなどの貴金属ペーストを印刷し積層して焼成するという方法であった。」（第２頁左上欄第９行〜第１２行）
「第１表に示す誘電体と導電体をその組成となるように、原料のＰｂＯ, ＢａＣＯ３，ＳｒＣＯ３，ＣａＣＯ３，Ｌａ２Ｏ３，Ｎｄ２Ｏ３，Ｂi２Ｏ３，Ｓｂ２Ｏ３，ＺｒＯ２，ＴiＯ２，Ｎｂ２Ｏ5，ＭｇＯ，ＳｎＯ２，ＣｏＣＯ３，ＮiＯ，ＷＯ3，Ｆｅ２Ｏ３，Ｌi２ＣＯ3，ＣｅＯ2，ＺｎＯを秤量調合し、ポットとボールを用い純水中で粉砕混合した」（第２頁右下欄第１１行〜第１６行）
「これらの粉末にバインダーとしてポリビニルブチラールを加えドクターブレード法によりシートを作成した。これらと酸化鉛シートを積層して酸素フロー中で１０００℃３時間焼成した」（第２頁右下欄第２０行〜第３頁左上欄第３行）
「これを５０℃／ｈｒの速度で昇温する炉中で１０００℃３時間酸素フロー中で焼成した」（第３頁右上欄第１１行〜第１３行）
　さらに、第３頁左上欄第１表には、実施例１２または１５の誘電体の組成として「ＰｂＭｇ１／３Ｎｂ２／３Ｏ３またはＰｂＭｇ１／２Ｗ１／２Ｏ３」が記載されている。
　以上より、刊行物１には、「ＰｂＭｇ１／３Ｎｂ２／３Ｏ３またはＰｂＭｇ１／２Ｗ１／２Ｏ３を含有する誘電体シートと内部電極となる導電体シートを積層した積層コンデンサー等のセラミック電子部品を製造する工程において、酸素フロー中で１０００℃３時間焼成する焼成工程を含むことを特徴とする積層セラミック電子部品の製造方法」が記載されている。
　
３．３　本件発明と刊行物記載の発明との対比・判断
３．３．１　本件発明１
　本件発明１と刊行物１に記載された発明とを対比すると、刊行物１に記載された発明の「ＰｂＭｇ１／３Ｎｂ２／３Ｏ３またはＰｂＭｇ１／２Ｗ１／２Ｏ３を含有する誘電体シート」，「内部電極となる導電体シート」は、それぞれ本件発明１の「セラミック層」，「電極層」に相当する。
　また、刊行物１に記載された発明の「酸素フロー中」とは、「空気中の酸素分圧を越える高酸素分圧の雰囲気」であることは明らかである。
　したがって、本件発明１と刊行物１に記載された発明とは、
「セラミック層と電極層を有するセラミック電子部品を製造する工程において、少なくとも空気中の酸素分圧を越える高酸素分圧の雰囲気中で焼成する焼成工程を含むことを特徴とするセラミック電子部品の製造方法。」の点で一致するが、
　相違点１：セラミック層が、本件発明では「Ｐｂ（Ｍｇ1/3 Ｎｂ2/3)Ｏ３、ＰｂＴｉＯ３またはＰｂ（Ｍｇ1/2 Ｗ1/2)Ｏ３のうちの少なくとも１種以上を含有する」のに対して、刊行物１に記載された発明では「ＰｂＭｇ１／３Ｎｂ２／３Ｏ３またはＰｂＭｇ１／２Ｗ１／２Ｏ３を含有する」点、
　相違点２：本件発明では「セラミック層上に電極層を有する」のに対して、刊行物１に記載された発明では「誘電体シート、内部電極となる導電体シート及び酸化鉛のシートを積層」している点で相違する。
　そこで、上記相違点について検討する。
　相違点１：刊行物１に記載された発明の「ＰｂＭｇ１／３Ｎｂ２／３Ｏ３またはＰｂＭｇ１／２Ｗ１／２Ｏ３」は、本件発明１の「Ｐｂ（Ｍｇ1/3 Ｎｂ2/3)Ｏ３またはＰｂ（Ｍｇ1/2 Ｗ1/2)Ｏ３」に相当する。したがって、刊行物１に記載された発明における「ＰｂＭｇ１／３Ｎｂ２／３Ｏ３またはＰｂＭｇ１／２Ｗ１／２Ｏ３」は、本件発明１の「Ｐｂ（Ｍｇ1/3 Ｎｂ2/3)Ｏ３、ＰｂＴｉＯ３またはＰｂ（Ｍｇ1/2 Ｗ1/2)Ｏ３のうちの少なくとも１種以上を含有する」範囲に含まれるので、実質的に相違はない。
　相違点２：セラミック層上に電極層を形成することは、刊行物１にも従来技術として記載されているように、周知慣用手段であり、刊行物１に記載された発明においても、当業者が容易に採用し得ることである。
　また、本件発明１の効果についても格別のものは認められない。
　ゆえに、本件発明１は、刊行物１に記載された発明から当業者が容易に発明をすることができたものである。
　
３．３．２　本件発明２
　本件発明２は、本件発明１を引用して「焼成工程は、昇温領域、安定温度領域及び降温領域を含む焼成パターンを有し、前記酸素分圧の雰囲気中の焼成工程は、少なくとも前記安定温度領域を含むように設定する」点を限定したものである。
　しかし、刊行物１に記載された発明においても、焼成工程は、昇温領域、安定温度領域及び降温領域を含む焼成パターンを有していることは当然であり、また、刊行物１に記載された発明では「酸素フロー中で１０００℃３時間焼成」しているので、高酸素分圧の雰囲気中の焼成工程は、少なくとも安定温度領域を含むように設定されていることも明らかである。
　したがって、本件発明２と刊行物１に記載された発明とは、「焼成工程は、昇温領域、安定温度領域及び降温領域を含む焼成パターンを有し、前記酸素分圧の雰囲気中の焼成工程は、少なくとも前記安定温度領域を含むように設定する」点も、一致する。そして、両者は上記相違点１，２の点で相違するが、この点は本件発明１と同様である。
　また、本件発明２の効果についても格別のものは認められない。
　ゆえに、本件発明２は、刊行物１に記載された発明から当業者が容易に発明をすることができたものである。
　
３．３．３　本件発明３
　本件発明３は、本件発明１等を引用して「高酸素分圧の雰囲気中の焼成工程は、焼成パターンの素地の焼結開始温度を含む昇温領域と安定温度領域を含むように設定する」点を限定したものである。
　したがって、本件発明３と刊行物１に記載された発明とを対比すると、両者は上記相違点１，２の他に
　相違点３：高酸素分圧の雰囲気中の焼成工程を、本件発明３では「焼成パターンの素地の焼結開始温度を含む昇温領域と安定温度領域を含むように設定」しているのに対して、刊行物１に記載された発明では、そのような記載がない点で相違する。
　そこで、上記相違点について検討する。
　相違点１，２：この点は本件発明１と同様である。
　相違点３：刊行物１に記載された発明は、焼成時に酸素フロー中とするのであるから、焼成の始まる素地の焼結開始温度を含む昇温領域においても、酸素フロー中とすることは、当業者が容易になし得ることである。
　また、本件発明３の効果についても格別のものは認められない。
　ゆえに、本件発明３は、刊行物１に記載された発明から当業者が容易に発明をすることができたものである。
　
３．３．４　本件発明４
　本件発明４は、本件発明１等を引用して「高酸素分圧の雰囲気中の焼成工程は、焼成パターンの全領域を含むように設定する」点を限定したものである。
　したがって、本件発明４と刊行物１に記載された発明とを対比すると、両者は上記相違点１，２の他に
　相違点４：高酸素分圧の雰囲気中の焼成工程を、本件発明４では「焼成パターンの全領域を含むように設定」しているのに対して、刊行物１に記載された発明では、そのような記載がない点で相違する。
　そこで、上記相違点について検討する。
　相違点１，２：この点は本件発明１と同様である。
　相違点４：刊行物１に記載された発明においても、焼成時以外の温度領域についても高酸素分圧の雰囲気中で支障がないのであれば、全領域を高酸素分圧の雰囲気中とすることは、当業者が適宜容易になし得ることである。
　また、本件発明４の効果についても格別のものは認められない。
　ゆえに、本件発明４、刊行物１に記載された発明から当業者が容易に発明をすることができたものである。
　
３．３．５　本件発明５
　本件発明５は、本件発明１等を引用して「セラミック電子部品は、積層セラミックコンデンサである」点を限定したものであるが、刊行物１に記載された発明においても、積層コンデンサーに用いる点が記載されている。
　したがって、本件発明５と刊行物１に記載された発明とは、「セラミック電子部品は、積層セラミックコンデンサである」点も一致する。そして、両者は上記相違点１，２の点で相違するが、この点は本件発明１と同様である。
　また、本件発明５の効果についても格別のものは認められない。
　ゆえに、本件発明５は、刊行物１に記載された発明から当業者が容易に発明をすることができたものである。
　
３．４　むすび
　以上のとおりであるから、本件発明１〜５は、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　したがって、本件発明１〜５についての特許は、拒絶の査定をしなければならない特許出願に対してなされたものと認める。
　よって、特許法等の一部を改正する法律（平成６年法律第１１６号）附則第１４条の規定に基づく、特許法等の一部を改正する法律の一部の施行に伴う経過措置を定める政令（平成７年政令第２０５号）第４条第２項の規定により、結論のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１４年７月３０日（２００２．７．３０）