【事件の表示】
　特願２０１６−５１９８６１「タッチセンサ装置」拒絶査定不服審判事件〔平成２７年　４月　９日国際公開、ＷＯ２０１５／０４８８２８、平成２８年１０月２７日国内公表、特表２０１６−５３３５６２、請求項の数（１１）〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　原査定を取り消す。
　本願の発明は、特許すべきものとする。
【理　由】
第１　手続きの経緯
　本願は、２０１４年（平成２６年）　１０月　１日（パリ条約による優先権主張２０１３年１０月４日　（ＡＴ）オーストリア国）を国際出願日とする出願であって、その手続の経緯は以下のとおりである。
平成２９年　８月　９日　　　手続補正書の提出
平成３０年　３月２７日付け　拒絶理由通知
平成３０年　８月３１日　　　手続補正書、意見書の提出
平成３１年　１月１１日付け　拒絶査定
令和　元年　５月２１日　　　手続補正書、審判請求書の提出
令和　元年　６月１７日付け　前置審査報告書　
第２　原査定の概要
　原査定（平成３１年１月１１日付け拒絶査定）の概要は次のとおりである。
理由１　請求項１に係る発明は、本願の請求項１に係る発明は引用文献１に記載されているから、特許法第２９条第１項第３号の規定により特許を受けることができない。
理由２　また、請求項１−１２に係る発明は、引用文献１に記載された発明に基づいて、当業者が容易に発明することができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
理由３　請求項２−１２は、不明確であるから、特許法第３６条第６項第２号に規定する要件を満たしておらず特許を受けることができない。
引用文献等一覧
１．国際公開第２０１２／１３４１７４号
第３　審判請求時の補正について
　審判請求時の補正は、以下のとおり、特許法第１７条の２第３項から第６項までの要件に違反しているものとはいえない。
　審判請求時の補正によって、請求項１−１１は、以下のとおりとなった。（下線部は、補正された箇所を示す。）
「【請求項１】光学的に透明で電気絶縁性の基板（１）、該基板上に配列された少なくとも１つの光学的に透明で導電性のセンサ要素（２ｘ、２ｙ）、及び前記光学的に透明なセンサ要素に電気的に接触させるための少なくとも１つの接触構造（４、４’）を有するタッチセンサ装置（１０）であって、前記接触構造が組成ＭｏａＸｂＯC Ｎd （ここで、
０＜ｂ≦０．２５ａ、０．５≦ｃ≦０．７５、０．０１≦ｄ≦０．２、ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＝１、且つ、ｃ＋ｄ≦０．８
【請求項２】前記
組成ＭｏａＸｂＯC Ｎd を有する
ドか
【請求項３】前記
組成ＭｏａＸｂＯC Ｎd を有する
ドが
【請求項４】前記接触構造が複数層状に構成されており、更に、Ａｌ、Ｍｏ、Ｃｕ、Ａｇ若しくはＡｕ又はこれらの金属の１つに基づく合金からなる金属層を有することを特徴とする請求項１〜
３
【請求項５】センサ電極として形成された前記センサ要素が格子状に配列されており、複数の第一のセンサ要素が第一の方向において異なる位置に配列されており、複数の第二のセンサ要素が第二の方向において異なる位置に配列されており、前記センサ電極が、それぞれ、交点において少なくとも１つの電気絶縁層により互いに分離されており、前記複数の第一のセンサ電極が前記交点において金属オキシニトリドを有する前記接触構造（４）により接触
していることを特徴とする請求項１〜
４
【請求項６】前記接触構造（４’）が前記センサ要素を活性化エレクトロニクス又は解析エレクトロニクスに電気的に接続するための接触端子として形成されていることを特徴とする請求項１〜
４
【請求項７】投影型容量式タッチセンサとして形成されていることを特徴とする請求項１〜
６
【請求項８】請求項１〜
７
【請求項９】前記接触構造が少なくとも１つの金属層及び少なくとも１つの
前記組成ＭｏａＸｂＯC Ｎdを有する
ドか
組成ＭｏａＸｂＯC Ｎdを有する
ドから
８
【請求項１０】請求項１〜
７
【請求項１１】請求項１〜７のいずれかに記載のタッチセンサ装置を製造するための方法であって、前記
組成ＭｏａＸｂＯC Ｎdを有する
ドか
　上記請求項における下線部は、補正前の請求項４（明細書【００１８】）に記載されたものであるから、新規事項を追加するものではない。
また、審判請求時の補正によって、補正前の請求項４を新たな請求項１とした補正は、請求項の削除を目的としたものである。
また、請求項２〜３において、「金属オキシニトリドＭｏａＸｂＯC Ｎd 」という記載を、「
組成ＭｏａＸｂＯC Ｎdを有する
第４　本願発明
　本願請求項１〜１１にかかる発明（以下、「本願発明１〜１１」という）は、令和元年５月２１日の手続補正で補正された上記「第３　１（２）」のとおりの発明である。
第５　引用文献、引用発明等
１．　引用文献１について
　原査定の拒絶理由に引用された引用文献１である、国際公開第２０１２／１３４１７４号（２０１２年（平成２４年）３月２８日公開）には、図面とともに、次の記載がある。
　なお、合議体仮訳には、原則として、引用文献１の公表公報である特表２０１４−５１４６４８号公報を用いた（【】は公表公報における段落番号。下線は，当審が付加した。以下、同様。）。
（第１頁第８〜１０行目）
（当審仮訳：
【技術分野】
【０００２】
　本発明は、伝導性構造体、タッチパネルおよびその製造方法に関する。具体的には、本発明は、伝導性パターンを含む伝導性構造体、タッチパネルおよびその製造方法に関する。」）
（第１頁第２４行〜第２頁第行４行目）
（当審仮訳：
【０００５】
　本発明は、
　ａ）基材；
　ｂ）前記基材の少なくとも一面に備えられた伝導性パターン；および
　ｃ）前記伝導性パターンの上部面および下部面に備えられ、前記伝導性パターンの側面の少なくとも一部に備えられ、前記伝導性パターンに対応する領域に備えられた暗色化層　を含む伝導性構造体
【０００６】
　また、本発明は、
前記伝導性構造体を含むタッチパネルを提供する
（第２頁第１６〜２２行目）
（当審仮訳：
【発明の効果】
【０００８】
　本発明では、有効画面部に備えられた伝導性パターンを含むタッチパネルにおいて、
伝導性パターンの可視面に暗色化層を導入することにより、伝導性パターンの伝導度に影響を及ぼすことなく伝導性パターンによる反射を防止し、可視面の側面暗色化層をさらに導入することによって暗色化度を向上させ、伝導性パターンの隠蔽性を向上させることができる。
（第９頁第３〜５行目）
（当審仮訳：
【００３６】
基材としては透明基板を用いることができる
例えば、ガラス、プラスチック基板、プラスチックフィルムなどを用いることができる
（第１１頁第５〜１４行目）
（当審仮訳：
【００４５】
　前記暗色化層の材料としては、吸光性材料であって、好ましくは、全面層を形成した時、前述した物理的特性を有する金属、金属酸化物、金属窒化物または金属酸窒化物からなる材料であれば、特に制限されることなく用いることができる。
【００４６】
　例えば、前記暗色化層は、Ｎｉ、Ｍｏ、Ｔｉ、Ｃｒなどを用いて当業者が設定した蒸着条件などにより、酸化物膜、窒化物膜、酸化物−窒化物膜、炭化物膜、金属膜またはこれらの組み合わせであってもよい。
【００４７】
　具体的な例として、
前記暗色化層は、ＮｉおよびＭｏを同時に含むことができる。前記暗色化層は、Ｎｉ５０〜９８原子％およびＭｏ２〜５０原子％を含むことができ
Ｔａ
０．０１〜１０原子％
窒素０．０１〜３０原子％または酸素および炭素４原子％以下をさらに含む
（第１５頁第４〜９行目）
（当審仮訳：
【００６６】
　本発明の一実施状態において、
前記伝導性パターンは規則的パターンであり、伝導性パターンを構成する線のうち任意の複数の線が交差し
（第１７頁第６〜１５行目）
（当審仮訳：
【００７６】
　本発明の一実施状態によるタッチパネルは、
下部基材；上部基材；および前記下部基材の上部基材に接する面および前記上部基材の下部基材に接する面のうちいずれか一面または両面に備えられた電極層を含むことができる。前記電極層は、各々、Ｘ軸位置検出およびＹ軸位置検出のための信号の送信および受信の機能を遂行することができる
【００７７】
　この時、
前記下部基材および前記下部基材の上部基材に接する面に備えられた電極層；および前記上部基材および前記上部基材の下部基材に接する面に備えられた電極層のうち１つまたは２つの全てが前述した本発明の一実施状態による伝導性構造体であってもよい。
　したがって、上記引用文献１には次の発明（以下、「引用発明１」という。）が記載されていると認められる。
「ａ）基材；ｂ）前記基材の少なくとも一面に備えられた伝導性パターン；およびｃ）前記伝導性パターンの上部面および下部面に備えられ、前記伝導性パターンの側面の少なくとも一部に備えられ、前記伝導性パターンに対応する領域に備えられた暗色化層を含む伝導性構造体を含むタッチパネルにおいて、
前記基材としてガラス又はプラスチックの透明基板を用いることができ、
前記伝導性パターンの可視面に暗色化層を導入することにより、伝導性パターンの伝導度に影響を及ぼすことなく伝導性パターンによる反射を防止し、伝導性パターンの隠蔽性を向上させるものであって、
暗色化層の材料としては、吸光性材料であって、好ましくは、全面層を形成した時前述した物理的特性を有する金属、金属酸化物、金属窒化物または金属酸窒化物からなる材料であれば、特に制限されることなく用いることができ、
前記暗色化層は、ＮｉおよびＭｏを同時に含むことができ、Ｎｉ５０〜９８原子％およびＭｏ２〜５０原子％を含むことができ、その他の金属、例えば、Ｔａなどの原子０．０１〜１０原子％をさらに含むことができ、また、必要な場合、窒素０．０１〜３０原子％または酸素および炭素４原子％以下をさらに含むこともでき、
伝導性パターンの材料は金属であることが好ましく、伝導度に優れ、
前記伝導性パターンは規則的パターンであり、伝導性パターンを構成する線のうち任意の複数の線が交差し、
前記タッチパネルは電極層を含み、前記電極層は、各々、Ｘ軸位置検出およびＹ軸位置検出のための信号の送信および受信の機能を遂行し、
上記電極層のうち１つまたは２つの全てが上記伝導性構造体であっても良い、
タッチパネル。」
２．　その他の文献について
（１）国際予備審査報告で引用された文献である、特開平１１−１１９６７６号公報（以下、「引用文献２」という。）（例えば【請求項２５】など）には、図面とともに次の事項が記載されている。
「【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、
液晶カラーディスプレイ装置や電極材料、フォトマスクに用いられるブランクス又はブラックマトリクス
【０００２】
【従来の技術】ここで、ブランクスとは、透明基板の表面上に、一様に形成した薄膜層からなる遮光用の層を言い、ブランクスの所定の部分にエッチング処理等を施し薄膜層を除去した開口部分と、該開口部分に相補的に残る遮光層を形成してパターン状としたものをブラックマ
トリクスと言う。従って、ブランクスとブラックマトリクスは、パターンの有無が相違するだけで、その材料、機能は同一であるから、以下に於いて特別に両者を区別しない限り同等物として扱う。
【０００３】液晶ディスプレイ装置のディスプレイ部は、画素開口部のコントラスト及び表示品質を向上させるため、ガラス基板上に規則的な格子状等に形成された高い遮光性を有するブラックマトリクスが設けられている。ブラックマトリクスのパターンの間には、ブルー、グリーン、レッドの各着色パターンから構成されるフィルタ色パターンが設けられ、ブラックマトリクスとフィルター色パターンの上部には、透明導電膜、保護膜又は平坦化膜を積層してカラーフィルタに構成される。　ブラックマトリクスは、０．３μｍ以下の膜厚が要求され、同時に可視光域での光学濃度（Ｏ．Ｄ）が３．５以上という高い遮光性、及び優れた耐食性が要求されている。このため従来は、ブランクス又はブラックマトリクスには、優れた耐食性と高い遮光性を有するＣｒ金属またはＣｒの酸化物、窒化物等のＣｒ化合物からなる薄膜が用いられており、近年では、Ｃｒの金属やその化合物の優れた光学特性を利用した２層膜構成等からなり、優れた低反射性をも兼備したものが用いられている。
【０００４】一方、生産性の観点から樹脂製ブラックマトリクスが提案され、その開発が進められている。これの場合、顔料を分散させた樹脂溶液を基板に塗布し、光リソグラフによりパターンを作製している。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】Ｃｒの金属やその化合物からなるブラックマトリクスは、パターン形成工程等のエッチング工程において、Ｃｒを含有する廃棄物が生ずる。６価のＣｒは有害であり、環境に影響を及ぼすため、廃棄物の取扱い、保管に厳重な注意が必要となるだけでなく、廃棄物の処理に多大な費用が生じる問題がある。
【０００６】一方、Ｃｒ以外の金属等からなる薄膜では、高い遮光性、低反射性が得られないこと、或いは、ブラックマトリクスに要求される耐酸性、耐アルカリ性等の耐食性が満足されていないこと、或いは、従来用いているＣｒ用ウエットエッチング液（例えば、硝酸第２セリウムアンモニウム１６５ｇと７０％過塩素酸４２ｍｌを純水に混合し、１０００ｍｌに調製した溶液等）によるエッチング速度が非常に遅いこと、などの理由によりパターン作製が困難で、ブラックマトリクスとして実用できない問題があり、更に耐水性も乏しいという問題がある。
【０００７】また、樹脂製ブラックマトリクスは、顔料濃度を高くすることが困難で、光学濃度３．５を得るために膜厚１μｍ以上が必要となり、カラーフィルタに段差が生じて平坦性を阻害し、ディスプレイの解像度を低下させる等の欠点があった。
【０００８】
本発明は、
Ｃｒを含有せず、環境への影響が小さく、
高い遮光性と優れた低反射性を有するブラックマトリクスを提供することを目的とするものである
「【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明では、上記の目的を達成するため、
透明基板の表面上に直接若しくは間接に付着させて形成した遮光膜又は遮光膜と反射防止膜からなるブランクス又はブラックマトリクスに於いて、該遮光膜又は反射防止膜の金属成分を
或いはその金属成分をＭｏとＮｉとＴｉを主成分とする薄膜とした
【００１０】ブラックマトリクスの耐食性、特に、耐酸性、耐アルカリ性、耐水性のいずれにも優れた特性を持たせるため、遮光膜を金属の原子％で、Ｎｉが４０〜８５％、Ｍｏが５〜３０％、Ａｌが１０〜３０％の範囲内で含有した遮光膜又は反射防止膜とし、或いは、Ｎｉが４８〜８３％、Ｍｏが１０〜３７％、Ｔｉが７〜１５％の範囲内で含有した遮光膜又は反射防止膜とするのが望ましく、さらに、遮光膜又は反射防止膜の金属の不純物成分の比率％は０．０１％未満とし、その全金属成分に対するＮｉとＭｏとＡｌの総和、或いはＮｉとＭｏとＴｉの総和は、原子％で９９．９％以上とするのが望ましい」
「【００１９】光学特性の見地から、
２層膜構成での反射防止膜の元素構成は
（金属成分）m−Ｏｘ−Ｎｙ
と表すと、原子％で、
３０≦ｍ≦４０　％
４０≦ｘ≦５０　％
１０≦ｙ≦２０　％
の範囲が望ましく
２．４≦ｎ≦２．７
０．５≦ｋ≦０．８
の範囲の所定値を有する薄膜を設計することが望ましい。」
　したがって、上記引用文献２には次の発明（以下、「引用発明２」という。）が記載されていると認められる。
「ディスプレイ装置に用いられるブラックマトリクスであって、
Ｃｒを含有せず、環境への影響が小さく、高い遮光性と優れた低反射性を有するブラックマトリクスにおいて、
透明基板の表面上に付着させて形成した遮光膜と反射防止膜からなるブラックマトリクスに於いて、該遮光膜又は反射防止膜その金属成分をＭｏとＮｉとＴｉを主成分とする薄膜とし、
前記反射防止膜の元素構成は、
（金属成分）m−Ｏｘ−Ｎｙ
と表すと、原子％で、
３０≦ｍ≦４０　％
４０≦ｘ≦５０　％
１０≦ｙ≦２０　％
の範囲が望ましい、ブラックマトリクス。」
（２）前置審査報告で引用された文献である、特開２０１１−１６５１９１号公報（以下、「引用文献３」という。）は、図面とともに次の事項が記載されている。
「【００３９】
　上述のタッチセンサ装置を製作するための製造プロセスにおいて、接触構造体２及び接触端子６が、陰極スパッタリング（スパッタ成膜）により、基板１上に成膜される。この成膜においては、ＭｏｘＴａｙ（ここで、０．０２≦ｙ≦０．１５である。）から成るターゲット領域を有するスパッタリングターゲットが用いられる。ＭｏｘＴａｙをスパッタリングターゲットとすることにより、この構造体を製作するための被覆法として、低コストな陰極スパッタリングを用いることができる。成膜条件を適正に選択することにより、特にガラス基板の場合に、基板上の接触構造体２及び接触端子６の優良な付着性を達成することができる。」
　よって、次の発明（以下、「引用発明３」という）が記載されているといえる。
「Ｍｏｘ Ｔａｙ （ここで、０．０２≦ｙ≦０．１５である）から成るスパッタリングターゲット。」
（３）前置審査報告で引用された文献である、特表２０１３−５３５５７１号公報（以下、「引用文献４」という。）（例えば、請求項２５）には、次の発明（以下、「引用発明４」という）が記載されているといえる。
「ＭｏｘＮｂ1-x の合金からなる合金層を含み、ｘは合金相におけるモリブデン原子の原子分率であり、ｘは約０．５以上かつ１未満であるスパッタ標的」
第６　対比・判断
１．本願発明１について（１）対比
　本願発明１と引用発明１とを対比すると、次のことが認められる。
　引用発明１における「基材」は、透明な基板であり、その材料として、電気絶縁性を有する「ガラス」や「プラスチック」などを用いることができるから、本願発明１の「光学的に透明で電気絶縁性の基板（１）」に等しい。
　引用発明１において、電極層は、Ｘ軸位置検出・Ｙ軸位置検出を行うものであるから、「センサ」といえるものであり、また、「伝導性パターン」は、基材の一面に備えられ、「パターン」とは、通常、配列されたものを含むことは明らかであるから、本願発明１の「該基板上に配列された少なくとも１つの光学的に透明で導電性のセンサ要素（２ｘ、２ｙ）」と共通する。
　引用発明１における「暗色化層」は、金属酸窒化物、つまり、金属、酸素（Ｏ）、及び窒素（Ｎ）の化合物からなる材料であり、その金属は、Ｍｏ、Ｎｉなどを含み、また、Ｔａ、Ｔｉなどから選ばれる元素であることから、Ｍｏ、Ｘ（Ｔａ）、Ｏ、Ｎからなる層を有する点で、本願発明１の「接触構造」と共通する。
　引用発明１における上記窒素の割合は０．０１〜３０原子％であり、これは割合にすると０．０００１〜０．３の範囲であるが、０．０１〜０．２の範囲で、本願発明１の条件「０．０１≦ｄ≦０．２」と共通する。
　引用発明１において、酸素が４原子％以下（０．０４以下）であり、窒素が０．０１〜３０原子％（０．０００１〜０．３）であることを考慮すると、窒素と酸素の総和は０．０００１〜０．３４となるから、これは、本願発明１の条件「ｃ＋ｄ≦０．８」に含まれる。
　引用発明１における「伝導性構造体」は、上記の、基材、伝導性パターン及び暗色化層を有するから、本願発明１の「タッチセンサ装置（１０）」と共通する。
　したがって、本願発明１と引用発明１には、次の一致点、相違点があるといえる。　
（一致点）
　光学的に透明で電気絶縁性の基板、該基板上に配列された導電性のセンサ要素、前記センサ要素に電気的に接触させるための少なくとも１つの接触構造を有するタッチセンサ装置であって、前記接触構造が、Ｍｏａ、Ｘｂ、ＯC 、Ｎd （ここで、０＜ｂ≦０．２５ａ、０．０１≦ｄ≦０．２、且つ、ｃ＋ｄ≦０．８の条件を満たし、Ｘは、タンタルなどからなる元素群から選ばれる元素である。）を含む組成を有する金属オキシニトリドからなる少なくとも１つの層を有することを特徴とするタッチセンサ装置。
（相違点）
（相違点１）
　引用発明１は、接触構造において、Ｎｉを同時に含む場合のみについて、Ｍｏａ、Ｘｂ、ＯC 、Ｎdの組成割合ａ、ｂ、ｃ、ｄの条件が示されているが、本願発明１における組成Ｍｏａ、Ｘｂ、ＯC 、Ｎdでは、Ｎｉについて全く考慮されておらず、Ｎｉを含む組成割合についても示唆がされていない点。
（相違点２）
　接触構造における酸素の割合について、引用発明では、４原子％以下（ｂ≦０．０４）であるのに対し、本願発明１では、０．５≦ｂ≦０．７５である点。
（相違点３）
　本願発明１のセンサ要素は、光学的に透明であるが、引用発明１の伝導性パターンが透明であるとはされていない点。
（２）相違点についての判断
　上記相違点１について検討すると、引用発明１のように、接触構造において、Ｍｏ及びＸだけでなくＮｉを同時に含む場合、Ｎｉを含まない場合に比較して、電気伝導性の点においても、安定性の点においても、その物性が大きく異なる。また、引用発明１において、安価で比較的安定性の高いＮｉを排除する動機付けがあるともいえない。
　また、相違点２について検討すると、引用発明２は、ディスプレイ装置の技術分野において、カラーディスプレイ等に用いられるブラックマトリクスにおいて、有害なＣｒを使用しないための反射防止膜として、（金属成分）ｍ−Ｏｘ−ＮｙのＯ（酸素）の割合を０．４≦ｘ≦０．５（４０≦ｘ≦５０％）とするものであり、本願発明１における酸素の割合０．５≦ｂ≦０．７５と比較すると、数値としては、ｂ＝０．５の一点で一致するといえる。しかしながら、引用発明１は、タッチパネル装置の技術分野において、伝導性パターンの伝導度を損ねることなく、伝導性パターンの隠蔽性を向上させるためのものであり、技術分野も発明の課題及び効果が大きく異なる引用発明２と組み合わせる動機付けがあるとはいえない。
　したがって、上記相違点３について判断するまでもなく、本願発明１は、引用発明および引用発明２に基づいて当業者が容易に発明できたものであるとはいえない。
２．本願発明２ないし本願発明９について
　本願発明２ないし本願発明９も、本願発明の「組成ＭｏａＸｂＯC Ｎd（０＜ｂ≦０．２５ａ、０．５≦ｃ≦０．７５、０．０１≦ｄ≦０．２、ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＝１、且つ、ｃ＋ｄ≦０．８）」と同一の構成を備えるものであるから、本願発明１と同じ理由により、当業者であっても、引用発明１および引用発明２に基づいて容易に発明できたものとはいえない。
３．本願発明１０について
　引用発明３は、第５　２（２）で示したとおりのものであり、（第３　で示した、）本願発明１０と対比すると、相違点は下記のとおりである。
「スパッタリングターゲットが、光学的に透明で電気絶縁性の基板（１）、該基板上に配列された少なくとも１つの光学的に透明で導電性のセンサ要素（２ｘ、２ｙ）、及び前記光学的に透明なセンサ要素に電気的に接触させるための少なくとも１つの接触構造（４、４’）を有するタッチセンサ装置（１０）であって、前記接触構造が組成ＭｏａＸｂＯC Ｎd （ここで、０＜ｂ≦０．２５ａ、０．５≦ｃ≦０．７５、０．０１≦ｄ≦０．２、ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＝１、且つ、ｃ＋ｄ≦０．８であり、Ｘは、ニオブ及びタンタルからなる元素群から選ばれる１種又は２種の元素である。）を有する金属オキシニトリドからなる少なくとも１つの層を有することを特徴とするタッチセンサ装置を製造するためのものであること」
　しかしながら、引用発明３は、上記相違点の構成について全て記載されているとはいえず、当業者であっても、引用発明３に基づいて、容易に発明できたものであるともいえない。
　また、引用発明４は、第５　２（３）で示したとおりのものであり、（第３　で示した、）本願発明１０と対比すると、相違点は下記のとおりである。
「スパッタリングターゲットが、光学的に透明で電気絶縁性の基板（１）、該基板上に配列された少なくとも１つの光学的に透明で導電性のセンサ要素（２ｘ、２ｙ）、及び前記光学的に透明なセンサ要素に電気的に接触させるための少なくとも１つの接触構造（４、４’）を有するタッチセンサ装置（１０）であって、前記接触構造が組成ＭｏａＸｂＯC Ｎd（ここで、０＜ｂ≦０．２５ａ、０．５≦ｃ≦０．７５、０．０１≦ｄ≦０．２、ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＝１、且つ、ｃ＋ｄ≦０．８であり、Ｘは、ニオブ及びタンタルからなる元素群から選ばれる１種又は２種の元素である。）を有する金属オキシニトリドからなる少なくとも１つの層を有することを特徴とするタッチセンサ装置を製造するためのものであること」
　しかしながら、引用発明４は、上記相違点の構成について全て記載されているとはいえず、当業者であっても、引用発明４に基づいて、容易に発明できたものであったともはいえない。
４．本願発明１１について
　本願発明１１は、組成ＭｏａＸｂＯC Ｎdを有する金属オキシニトリドからなる層が、酸素及び窒素の供給下に、請求項１０のスパッタリングターゲットを用いて、気相蒸着法により製造される方法である。
　よって、請求項１１は、請求項１０と同様に、引用発明３または引用文献４に記載されているとはいえず、また、引用発明３または引用文献４に基づいて、容易に発明できたものであったともはいえない。
第７　原査定について
・理由１（第２９条第１項第３号）、理由２（第２９条第２項）について
　審判請求時の補正により、本願発明１−１１は、「組成ＭｏａＸｂＯC Ｎd（０＜ｂ≦０．２５ａ、０．５≦ｃ≦０．７５、０．０１≦ｄ≦０．２、ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＝１、且つ、ｃ＋ｄ≦０．８）」という事項を備えるものとなっており、拒絶査定において引用された引用文献１に記載されているものであるとはいえず、また、引用文献１に基づいて、当業者であっても、容易に発明できたものとはいえない。したがって、原査定の理由１，２を維持することはできない。
・理由３（第３６条第２項）について
　審判請求時の補正により、本願発明１は、「金属オキシニトリドＭｏａＸｂＯC Ｎd 」という記載を「
組成ＭｏａＸｂＯC Ｎd を有する
第８　むすび
　以上のとおり、原査定の理由によっては、本願を拒絶することはできない。
　また、本願を拒絶すべき理由を発見しない。
　よって、結論のとおり審決する。