(57)【要約】  樹脂製の保護フィルムを設けなくても、ＰＤＰ用フィルタの視感反射率を低く抑え、反射バンド幅を広くでき、かつ導電性（電磁波遮蔽性）、可視光透過性および近赤外線遮蔽性に優れ、かつ耐久性に優れる導電性積層体を提供することを目的とする。  基体、屈折率１．３０〜１．５７である低屈折率層、導電膜がこの順で積層された導電性積層体であって、導電膜が、基体側から、酸化物層と金属層とが交互に計（２ｎ＋１）層［ただし、ｎは３〜８の整数である。］積層された多層構造体であり、金属層の厚さが積層体の中心になるほど厚く、金属層が銀または銀合金を主成分として含む層であることを特徴とする導電性積層体。
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基体、屈折率１．３０〜１．５７である低屈折率層、導電膜がこの順で積層された導電性積層体であって、
導電膜が、基体側から、酸化物層と金属層とが交互に計（２ｎ＋１）層［ただし、ｎは３〜８の整数である。］積層された多層構造体であり、
ｎが奇数の場合、各金属層の厚さが、基体側から順に１番目から｛（ｎ＋１）／２｝番目まではこの順で厚くなり、基体側から順に｛（ｎ＋１）／２｝番目からｎ番目まではこの順で薄くなり、
ｎが偶数の場合、各金属層の厚さが、基体側から順に１番目からｎ／２番目まではこの順で厚くなり、基体側から順に｛（ｎ／２）＋１｝番目からｎ番目まではこの順で薄くなり、
金属層が、銀または銀合金を主成分として含む層であることを特徴とする導電性積層体。
【請求項２】
前記低屈折率層が、酸化ケイ素を含む層である請求項１に記載の導電性積層体。
【請求項３】
前記低屈折率層の厚さが、５０〜１５０ｎｍである請求項１または２に記載の導電性積層体。
【請求項４】
前記導電膜において、基体から１番目とｎ番目の金属層が実質的に同じ厚さである請求項１〜３のいずれか一項に記載の導電性積層体。
【請求項５】
前記多層積層体におけるｎが４〜８の整数であり、基体から２番目とｎ−１番目の金属層が実質的に同じ厚さである請求項４に記載の導電性積層体。
【請求項６】
前記導電膜において、最も基体から遠い酸化物層の表面に保護層を有する請求項１〜５のいずれか一項に記載の導電性積層体。
【請求項７】
導電性積層体の視感透過率が５５％以上である請求項１〜６のいずれか一項に記載の導電性積層体。
【請求項８】
基体、屈折率１．３０〜１．５７である低屈折率層、導電膜がこの順で積層された導電性積層体であって、
導電膜が、基体側から、第１層としての酸化物層、第２層としての金属層、第３層としての酸化物層、第４層としての金属層、第５層としての酸化物層、第６層としての金属層、第７層としての酸化物層、第８層としての保護層とが、この順に積層された多層構造体であり、第４層としての金属層の厚さが、第２層および第６層としての金属層の厚さより厚くされており、かつ
金属層が、銀または銀合金を主成分として含む層であること請求項１〜７のいずれか一項に記載の特徴とする導電性積層体。
【請求項９】
基体、屈折率１．３０〜１．５７である低屈折率層、導電膜がこの順で積層された導電性積層体であって、
導電膜が、基体側から、第１層としての酸化物層、第２層としての金属層、第３層としての酸化物層、第４層としての金属層、第５層としての酸化物層、第６層としての金属層、第７層としての酸化物層、第８層としての金属層、第９層としての酸化物層、第１０層としての保護層とが、この順に積層された多層構造体であり、第４層および第６層としての金属層の厚さが、第２層および第８層としての金属層の厚さより厚くされており、かつ
金属層が、銀または銀合金を主成分として含む層であること請求項１〜７のいずれか一項に記載の特徴とする導電性積層体。
【請求項１０】
基体、屈折率１．３０〜１．５７である低屈折率層、導電膜がこの順で積層された導電性積層体であって、
導電膜が、基体側から、第１層としての酸化物層、第２層としての金属層、第３層としての酸化物層、第４層としての金属層、第５層としての酸化物層、第６層としての金属層、第７層としての酸化物層、第８層としての金属層、第９層としての酸化物層、第１０層としての金属層、第１１層としての酸化物層、第１２層としての保護層とが、この順に積層された多層構造体であり、第４層および第８層としての金属層の厚さが、第２層および第１０層としての金属層の厚さより厚くされ、第６層としての金属層の厚さが、第４層および第８層としての金属層の厚さより厚くされており、かつ
金属層が、銀または銀合金を主成分として含む層であること請求項１〜７のいずれか一項に記載の特徴とする導電性積層体。
【請求項１１】
前記導電膜において、各酸化物層の屈折率が、１．７〜２．５である請求項１〜１０のいずれか一項に記載の導電性積層体。
【請求項１２】
請求項１〜１１のいずれか一項に記載の導電性積層体と、支持基体とを有することを特徴とするプラズマディスプレイパネル用保護板。
【請求項１３】
請求項１２に記載のプラズマディスプレイパネル用保護板であって、プラズマディスプレイパネル用保護板がプラズマディスプレイの画面の視認者側に配設された際、前記導電性積層体の導電膜が、視認者と反対側のプラズマディスプレイの画面側の最表面となる構成としたことを特徴とするプラズマディスプレイパネル用保護板。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、導電性積層体、プラズマディスプレイパネル（以下、ＰＤＰと略す。）本体を保護するためにＰＤＰの観察者側に設置され、ＰＤＰから発生する電磁波を遮蔽する電磁波遮蔽能を有するプラズマディスプレイ用保護板に関する。
【背景技術】
【０００２】
透明性を有する導電性積層体は、液晶表示素子等の透明電極、自動車風防ガラス、ヒートミラー、電磁波遮蔽窓ガラス等として用いられている。また、導電性積層体は、ＰＤＰから発生する電磁波を遮蔽するフィルタとして用いられている。たとえば、ＰＤＰの観察者側には、基体上に、高屈折率の酸化物層と、銀または銀合金からなる金属層とが交互に計（２ｎ＋１）層積層された導電性積層体、または該導電性積層体をさらに支持基体上に設けたプラズマディスプレイ用保護板が配置されている。【０００３】
該導電性積層体としては、たとえば、下記のものが知られている。【０００４】
（１）基体表面に形成された酸化物層と金属層とを交互に積層した導電性積層体において、金属層の厚さが外側から真ん中になるほど厚くなる導電性積層体（特許文献１）。【０００５】
（２）基体表面に形成された酸化物層と金属層とを交互に積層した導電性積層体において、基体から最も近い金属層の厚さがそれ以外の金属層の厚さより薄い導電性積層体、特に基体から遠ざかるにつれて金属層の厚さが徐々に厚くなっている導電性積層体（特許文献２）。【０００６】
（３）高分子フィルムである基体上に下地層を介して酸化物層と金属層とを交互に積層した導電性積層体（特許文献３）
該導電性積層体においては、可視光領域全体にわたって透過率が高く、かつ反射率が低いこと、すなわち透過・反射バンド幅が広いこと、また、近赤外領域においては遮蔽性が高いこと、さらには耐湿性や耐熱性等の耐久性が求められる。【０００７】
（１）の導電性積層体においては、導電性積層体の導電膜を保護するために、導電膜側面に粘着剤等でポリエステルなどの樹脂製の保護フィルムを貼りつける例が記載されている。そして、かかる保護フィルムを導電性積層体の導電膜の貼りつけた場合には視感反射率を十分低減でき、透過および反射バンド幅が広くできる。【０００８】
（２）の導電性積層体のように、基体から一番近い金属層の厚さをそれ以外の金属層の厚さより薄くする、より好ましくは基体から遠ざかるにしたがって金属層の厚さが徐々に厚くなる導電積層体とすることで、樹脂製の保護フィルムがなくても視感反射率が低くかつ透過および反射バンド幅が広い導電性積層体とすることができる。【０００９】
（３）では下地層を介することで基体と積層膜の密着性を改善し、積層体の耐久性を向上させる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１０】
【特許文献１】特開２００６−１８６３０９号公報
【特許文献２】ＷＯ２００７／００７６２２パンフレット
【特許文献３】特開２００２−１９７９２５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
前記（１）の場合、樹脂製保護フィルムを設けない場合には導電性積層体の視感反射率が高くなり、かつ反射スペクトルにリプル（ripple）が乗るために反射色の角度による変化が大きくなってしまうという問題があった。したがって、製造の手間の削減やコストの低減の目的で、導電性積層体の導電膜側面に樹脂製保護フィルムを貼合しないディスプレイ用フィルタとする場合には、視感反射率が高くかつフィルタの見栄えが悪くなる問題があった。【００１２】
前記（２）の場合、前述の（１）の積層体における課題を解決できるが、この導電性積層体の金属層の厚さが基板から一番近い金属層の厚さが薄いため、高温、高湿環境下において層界面でのはがれなどが発生し、耐久性に劣る問題があった。【００１３】
前記（３）の場合、下地層を設ける目的が密着性を改善することであり光学的な観点からの下地層の厚みが記載されておらず、（３）をそのまま実施したのでは反射スペクトルにリプルと呼ばれる反射率が高くなる波長領域ができてしまうことや、反射バンド幅が狭くなってしまうことが多いという問題があった。【００１４】
本発明は前記問題点を解決するものであり、導電性積層体の導電膜側面に樹脂製の保護フィルムを設けなくても、ＰＤＰ用フィルタの視感反射率を低く抑え、反射バンド幅を広くでき、かつ導電性（電磁波遮蔽性）、可視光透過性および近赤外線遮蔽性に優れ、かつ耐久性に優れる導電性積層体を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
本発明は、基体、屈折率１．３０〜１．５７である低屈折率層、導電膜がこの順で積層された導電性積層体であって、  導電膜が、基体側から、酸化物層と金属層とが交互に計（２ｎ＋１）層［ただし、ｎは３〜８の整数である。］積層された多層構造体であり、ｎが奇数の場合、各金属層の厚さが、基体側から順に１番目から｛（ｎ＋１）／２｝番目まではこの順で厚くなり、基体側から順に｛（ｎ＋１）／２｝番目からｎ番目まではこの順で薄くなる、ｎが偶数の場合、各金属層の厚さが、基体側から順に１番目からｎ／２番目まではこの順で厚くなり、基体側から順に｛（ｎ／２）＋１｝番目からｎ番目まではこの順で薄くなり、金属層が、銀または銀合金を主成分として含む層であることを特徴とする導電性積層体を提供する。
【発明の効果】
【００１６】
本発明の導電性積層体は、樹脂製保護フィルムを設けなくとも、導電性積層体の視感反射率を低く抑えることができ、透過および反射バンド幅が広くでき、かつ耐熱性、耐湿性などの耐久性に優れる。本発明の導電性積層体は、樹脂製保護フィルムを設けないため、製造時に樹脂製保護フィルムを貼合する手間がかからないため簡便に製造できる。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】本発明の導電性積層体の一例を示す断面図である。
【図２】本発明の導電性積層体の一例を示す断面図である。
【図３】本発明の導電性積層体の一例を示す断面図である。
【図４】本発明の導電性積層体の一例を示す断面図である。
【図５】本発明の導電性積層体の一例を示す断面図である。
【図６】本発明の導電性積層体の一例を示す断面図である。
【図７】本発明の保護板の第１の実施形態を示す断面図である。
【図８】本発明の保護板の第２の実施形態を示す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
＜導電性積層体＞
本発明の導電性積層体は、基本的に、基体面と、低屈折率層と、導電膜とをこの順番で有するものである。
【００１９】
（基体）
基体としては、透明基体が好ましい。「透明」とは、可視光領域の波長の光を６０％以上透過することを意味する。透明基体は、可視光領域の波長の光を８０％以上透過することがより好ましく、９０％以上透過することがさらに好ましい。
【００２０】
透明基体の材質としては、ガラス（風冷強化ガラス、化学強化ガラス等の強化ガラスを含む。）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）等のプラスチック等が挙げられる。
【００２１】
（導電膜）
導電膜は、基体側から酸化物層と金属層とが交互に計（２ｎ＋１）層［ただし、ｎは３〜８の整数である。］積層された多層構造体である。ｎは、３〜６であることが好ましく、３〜５であることがより好ましい。代表的な導電膜の酸化物層と金属層との積層の構成としては、例えば、ｎが３の場合、すなわち合計７層の場合には、基板側から順番に酸化物層（第１層）／金属層（第２層）／酸化物層（第３層）／金属層（第４層）／酸化物層（第５層）／金属層（第６層）／酸化物層（第７層）の膜構成の多層構造体であり、ｎが４の場合、すなわち合計９層の場合には、基板側から順番に酸化物層（第１層）／金属層（第２層）／酸化物層（第３層）／金属層（第４層）／酸化物層（第５層）／金属層（第６層）／酸化物層（第７層）／金属層（第８層）／酸化物層（第９層）の膜構成の多層構造体であり、ｎが５の場合、すなわち合計１１層の場合には、基板側から順番に酸化物層（第１層）／金属層（第２層）／酸化物層（第３層）／金属層（第４層）／酸化物層（第５層）／金属層（第６層）／酸化物層（第７層）／金属層（第８層）／酸化物層（第９層）／金属層（第１０層）／酸化物層（第１１層）の膜構成の多層構造体である。
本明細書において、「〜」とは、それぞれの記載箇所において、特段の定めがない限り、その前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味で使用される。
【００２２】
（酸化物層）
酸化物層は、屈折率が１．７〜２．５である層が好ましく、１．８〜２．５である層がより好ましく、１．９〜２．５である、より高屈折率の層が特に好ましい。屈折率をこの範囲とすることにより、金属層との干渉効果で透過率を高くできる。「屈折率」とは、波長５５５ｎｍにおける屈折率を意味する。
【００２３】
屈折率が１．７〜２．５である酸化物としては、亜鉛、インジウム、チタン、ニオブ、スズ等の金属の酸化物が挙げられる。
【００２４】
これらのうち、上記酸化物層は、金属層の銀との相性がよく、導電膜の耐久性を高めることができる点で、亜鉛の酸化物を主成分とすることが好ましい。特に、銀の結晶性を向上させる観点からは亜鉛単独の酸化物が好ましい。酸化物層中の亜鉛酸化物の含有量は、９０質量％以上であることが好ましく、９５質量％以上であることがより好ましく、９９質量％以上であることが特に好ましい。また、屈折率の観点（より高い屈折率）からはインジウムの酸化物、チタンの酸化物またはニオブの酸化物を主成分とすることが好ましい。インジウムの酸化物、チタンの酸化物またはニオブの酸化物の酸化物層中の各々の酸化物の含有量は、酸化物層に含まれる化合物全量に対して、９０質量％以上であることが好ましく、９５質量％以上であることがより好ましく、９９質量％以上であることが特に好ましい。
【００２５】
さらに、酸化物層の材質としては、スズ、アルミニウム、クロム、チタン、ケイ素、ホウ素、マグネシウムおよびガリウムからなる群から選ばれる１種以上の元素を含有する亜鉛の酸化物を主成分とする層も好ましく、アルミニウムを含有する亜鉛の酸化物（以下、ＡＺＯと略す。）またはガリウムを含有する亜鉛の酸化物（以下、ＧＺＯと略す。）またはチタンを含有する亜鉛の酸化物（以下、ＴＺＯと略す。）を主成分として含有する層が特に好ましい。
【００２６】
酸化物層の材質としてＡＺＯを用いた場合、亜鉛およびアルミニウムは、亜鉛の酸化物、および亜鉛とアルミニウムの複合酸化物が混合した層となっているか、前記層にアルミニウムの酸化物をさらに含んだ層となっていると考えられる。
【００２７】
酸化物層の材質としてＧＺＯを用いた場合、亜鉛およびガリウムは、亜鉛の酸化物、および亜鉛とガリウムの複合酸化物が混合した層となっているか、前記層にガリウムの酸化物をさらに含んだ層となっていると考えられる。
【００２８】
酸化物層の材質としてＴＺＯを用いた場合、亜鉛およびチタンは、亜鉛の酸化物、および亜鉛とチタンの複合酸化物が混合した層となっているか、前記層にチタンの酸化物をさらに含んだ層となっていると考えられる。
【００２９】
酸化物層の材質がＡＺＯ、ＧＺＯまたはＴＺＯである場合、酸化物層は、層中の全金属原子に対して酸化物換算でＡｌ2Ｏ3、Ｇａ2Ｏ3またはＴｉＯ2と、ＺｎＯとを合計で９０質量％以上含有することが好ましく、９５質量％以上含有することがより好ましく、９９質量％以上含有することが特に好ましい。
【００３０】
ＡＺＯの屈折率は、アルミニウム原子の含有量にもよるが、１．９〜２．５であり、ＡＺＯを主成分とする酸化物層は高屈折率層としての役割を果たす。また、ＧＺＯの屈折率は、ガリウム原子の含有量にもよるが、１．９〜２．５であり、ＧＺＯを主成分とする酸化物層は高屈折率層としての役割を果たす。また、ＴＺＯの屈折率は、チタン原子の含有量にもよるが、１．９〜２．５であり、ＴＺＯを主成分とする酸化物層は高屈折率層としての役割を果たす。
【００３１】
ＡＺＯ、ＧＺＯまたはＴＺＯは、酸化亜鉛を含むため銀と類似した結晶性を有する。したがって、前記酸化物層表面に形成された金属層中の銀を結晶化させやすい。また、ＡＺＯ、ＧＺＯまたはＴＺＯはそれぞれ、アルミニウム原子、ガリウム原子またはチタン原子を含むため、酸化物層の内部応力を低減できる。したがって、酸化物層としてＡＺＯ、ＧＺＯまたはＴＺＯを用いた場合、銀のマイグレーションを防ぐことができ、導電性を高めることができ、かつ酸化物層の内部応力を低減できる。
【００３２】
酸化物層の材質として、ＡＺＯまたはＧＺＯを用いた場合、アルミニウム原子またはガリウム原子の量は、アルミニウム原子またはガリウム原子と亜鉛原子との総量に対して１〜１０原子％であることが好ましい。１原子％以上であることにより、酸化物層の内部応力を充分に低減することができ、酸化物層と金属層との密着性を維持することができる。その結果として耐湿性が良好となる。また、１０原子％以下とすることで、耐湿性を保つことができる。これは、アルミニウム原子またはガリウム原子の割合をある程度以下にすることで、酸化亜鉛の結晶性を保ち、銀との相性を維持できるためと考えられる。安定して再現性よく低内部応力の酸化物層を得ること、および酸化亜鉛の結晶性を考慮すると、アルミニウム原子またはガリウム原子の量は、１．５〜６原子％がより好ましく、１．５〜５．５原子％が特に好ましい。
【００３３】
酸化物層の材質として、ＴＺＯを用いた場合、チタン原子の量は、チタン原子と亜鉛原子との総量に対して２〜２０原子％であることが好ましい。２原子％以上であることにより、酸化物層の内部応力を充分に低減することができ、酸化物層と金属層との密着性を維持することができる。その結果として耐湿性が良好となる。また、２０原子％以下とすることで、耐湿性を保つことができる。これは、チタン原子の割合をある程度以下にすることで、酸化亜鉛の結晶性を保ち、銀との相性を維持できるためと考えられる。安定して再現性よく低内部応力の酸化物層を得ること、および酸化亜鉛の結晶性を考慮すると、チタンの量は、３〜１５原子％がより好ましい。
【００３４】
基体に最も近い酸化物層および基体から最も遠い酸化物層の物理的膜厚（以下、単に膜厚と略す。）は、１０〜６０ｎｍが好ましく、２０〜６０ｎｍがより好ましく、３０〜５０ｎｍが特に好ましい。それ以外の酸化物層の膜厚は、４０〜１４０ｎｍが好ましく、４０〜１００ｎｍが特に好ましい。導電膜中の各酸化物層の膜厚は、それぞれ同じであってもよく、それぞれ異なっていてもよい。
【００３５】
１つの酸化物層は、均一な１つの層から構成されていてもよく、異なる種類の２層以上の酸化物形成層から構成されていてもよい。例えば、後者の場合、所望の屈折率を得るために、異なる屈折率の異なる種類の酸化物形成層を２層、あるいは３層積層した構成としてもよい。このような２層、あるいは３層の酸化物形成層からなる酸化物層は、本発明において１層として取り扱う。導電膜中の各酸化物層は、それぞれ同じ構成であってもよく、それぞれ異なった構成であってもよい。たとえば、１つの酸化物層が、ＡＺＯ層／二酸化ケイ素層の２層構造；酸化亜鉛層／酸化ニオブ層の２層構造；ＴＺＯ層／酸化ニオブ層の２層構造；ＴＺＯ層／酸化チタン層の２層構造；ＡＺＯ層／二酸化ケイ素層／ＡＺＯ層の３層構造；ＡＺＯ層／酸化スズ層／ＡＺＯ層の３層構造；酸化亜鉛層／酸化スズ層／酸化亜鉛層の３層構造；酸化亜鉛層／二酸化ケイ素層／酸化亜鉛層の３層構造；酸化亜鉛層／窒化ケイ素層／酸化亜鉛層の３層構造；酸化亜鉛層／酸化ニオブ層／酸化亜鉛層の３層構造；ＴＺＯ層／酸化ニオブ層／ＴＺＯ層；ＴＺＯ層／酸化チタン層／ＴＺＯ層の３層構造等を有してもよい。
【００３６】
１つの酸化物層が２層以上の酸化物形成層から構成されている場合、該１つの酸化物層の平均屈折率が１．７〜２．５である限りは、該１つの酸化物層は屈折率が１．７〜２．５から外れる層を有していてもよい。「平均屈折率」は、１つの酸化物層を構成する各層の屈折率に膜厚の重み付けをして平均化した屈折率を意味し、下式（１）で求められる。
【００３７】
【数１】
2011001983.tif 000003
【００３８】
ただし、ｍは酸化物層を構成する層の数を表し、ｎj はｊ番目の層の屈折率を表し、ｄj はｊ番目の層の膜厚を表す。
【００３９】
（金属層）
金属層は、銀または銀合金を主成分として含む層である。銀または銀合金により金属層が形成されていることにより導電膜の抵抗値を低くできる。
【００４０】
金属層は、導電膜の抵抗値を低くする点からは、銀を主成分とする層が好ましく、純銀からなる層がより好ましい。銀を主成分とする層においては、層中の化合物全量に対して銀の含有量が９０質量％以上であることが好ましく、９５質量％以上であることがより好ましく、９９質量％以上であることが特に好ましい。純銀とは、金属層（１００質量％）中に銀を９９．９質量％以上含むことを意味する。
【００４１】
金属層は、銀の拡散を抑制し、結果として耐湿性を高くできる点からは、銀合金を主成分とする層であることも好ましく、金、パラジウムおよびビスマスから選ばれる少なくとも１種と銀を含む銀合金からなる層がより好ましい。銀合金を主成分とする層においては、金属層中の化合物全量に対して銀合金の含有量が９０質量％以上であることが好ましく、９５質量％以上がより好ましく、９７質量％とするのが更に好ましく、９９質量％以上が特に好ましい。金、パラジウムおよびビスマスの合計は、比抵抗を１０．０μΩｃｍ以下、特に５μΩｃｍ以下にするために、金属層（１００質量％）中、０．２〜３．０質量％が好ましく、０．２〜１．５質量％がより好ましい。
【００４２】
金属層の数は、３〜８が好ましく、３〜６がより好ましく、特に３〜５が好ましい。金属層が３層以上であれば、視感透過率が高くかつ抵抗値を充分に低くできる。金属層が８層以下であれば、導電性積層体の内部応力増加を抑制できる。
【００４３】
全金属層の合計膜厚は、たとえば、得られる導電性積層体のシート抵抗値の目標を１．５Ω／□とした場合は２５〜６０ｎｍが好ましく、２５〜５０ｎｍがより好ましく、シート抵抗値の目標を０．９Ω／□とした場合は３５〜８０ｎｍが好ましく、３５〜７０ｎｍがより好ましい。各金属層の膜厚は、前記合計膜厚を金属層の数で適宜配分する。なお、金属層の数が多くなると各金属層の比抵抗が上がるため、抵抗を下げるために合計膜厚は大きくなる傾向にある。金属層１層あたりの厚さは、７〜２５ｎｍであることが好ましく、８〜２０ｎｍであることがより好ましく、９〜１７ｎｍであることがさらに好ましい。金属層１層あたりの厚さが７ｎｍ以上であることで導電性積層体のシート抵抗を十分低くできる。金属層１層あたりの厚さが２５ｎｍ以下であると、導電性積層体の可視光透過率を十分高くできることから好ましい。
【００４４】
本発明における各金属層の厚さは、
ｎが奇数の場合、基体から順に１番目から｛（ｎ＋１）／２｝番目までの金属層は、この順で厚くなり、基体から順に｛（ｎ＋１）／２｝番目からｎ番目までの金属層はこの順で薄くなる、
ｎが偶数の場合、基体から順に１番目からｎ／２番目までの金属層はこの順で厚くなり、基体から順に｛（ｎ／２）＋１｝番目からｎ番目までの金属層はこの順で薄くなる。すなわち、各金属層の厚さは、積層体の中心に近い層ほど厚くなっている。
隣り合う２つの金属層において、中心に近い方の金属層の厚さは、もう一方の金属層の厚さの１．０５〜２倍であることが好ましく、１．０６〜１．８倍とすることがより好ましく、１．０７から１．６倍とすることがさらに好ましい。
【００４５】
各金属層の厚さが、前記の通り積層体の中心に近い層のほうがより厚いと、導電性積層体全体の応力のバランスがよくなるため、耐熱性、耐湿性などの耐久性に優れる導電性積層体とすることができる。
【００４６】
金属層のうち、最も離れた２つの層、すなわち基体から１番目とｎ番目の層は、実質的に同じ厚さであることが好ましい。実質的に同じ厚さとは、同じ厚さの場合だけでなく、光学的に影響のない範囲で若干厚さが相違することを許容することを示している。具体的には、±２ｎｍ以下の違いがある場合には実質的に同じ厚さとする。ｎが４以上の場合は１番目とｎ番目の層に加えさらに、最も外側から２番目の層、すなわち２番目とｎ−１番目の層も実質的に同じ厚さであることが好ましい。ｎが６以上の場合は１番目の層とｎ番目の層、２番目の層とｎ−１番目の層に加えさらに、最も外側から３番目の層、すなわち３番目の層とｎ−２番目の層も実質的に同じ厚さであることが好ましい。ｎが８の場合は、１番目の層とｎ番目の層、２番目の層とｎ−１番目の層、３番目の層とｎ−２番目の層に加えさらに、４番目の層と５番目の層も実質的に同じ厚さであることが好ましい。各金属層の厚さが前記の関係であると、導電性積層体全体の応力バランスがより良好となるため、耐熱性、耐湿性が優れるため好ましい。
【００４７】
（保護層）
導電膜は、最も基体から遠い酸化物層の表面に保護層を有していてもよい。保護層は、酸化物層および金属層を水分などから保護する層である。
【００４８】
保護層の材質としては、スズ、インジウム、チタン、ケイ素、ガリウム等の金属の酸化物の層、窒化物の層や、水素化炭素を主成分として含む層等が挙げられる。インジウム、スズおよびガリウムを酸化物として含む層、水素化炭素を主成分として含む層が好ましく、インジウム、スズおよびガリウムを酸化物として含む層と、水素化炭素を主成分として含む層とがこの順で積層されたものがより好ましい。水素化炭素層中に水素原子を５〜６０原子％含むことが好ましく、１０〜５０原子％含むことがより好ましく、１５〜３２原子％含むことがさらに好ましい。水素原子含有量が６０原子％以下で、少なくなればなるほど水素化炭素層の電気抵抗を低く抑えることができ、導電性積層体表面の接触抵抗を低くできるため好ましい。また、水素原子含有量が６０原子％以下であり、少なければ少ないほど機械的耐久性が優れた導電性積層体とすることができるため好ましい。水素原子含有量が５原子％以上であると、可視光線透過率を高くできるため好ましい。
【００４９】
保護層の膜厚は、２〜３０ｎｍが好ましく、３〜２０ｎｍがより好ましい。
【００５０】
（バリア層）
導電膜は、図６に示すように、金属層１４の上にバリア層１８を有していてもよい。金属層１４の上にバリア層１８を設けることにより、酸化物層１３を酸素雰囲気下で形成する場合に、金属層１４の酸化を防ぐことができる。
【００５１】
バリア層１８としては、酸素非存在下で形成できるものが挙げられる。バリア層１８としては、酸化亜鉛および酸化アルミニウムを含む層、酸化インジウムおよび酸化スズを含む層等が挙げられる。また、金属層の上に酸化物層を形成するに当たり、酸化物層を酸素雰囲気下で形成する場合には、金属層の上に自ら酸化して当該金属層の酸化を防止するＺｎ、ＴｉやＳｎなどの薄い金属層、所謂犠牲金属層を形成してもよい。この場合、酸素雰囲気下で酸化された犠牲金属層は、結果としてバリヤー層と呼ばれる。
【００５２】
（低屈折率層）
本発明における低屈折率層は、基体と導電膜との間に形成される。基体と低屈折率層は直接接して形成されることが好ましいが、光学的に大きな影響を及ぼさない範囲で、例えば密着性を向上させる密着層などを基体と低屈折率層との間に形成してもよい。また、低屈折率層と導電膜も直接接して形成されることが好ましい。低屈折率層と導電膜との間にも光学的に大きな影響を及ぼさない範囲で、他の層が形成されていてもよい。
【００５３】
本発明における低屈折率層は、屈折率が１．３０〜１．５７である。好ましくは１．３５〜１．５４であり、より好ましくは１．４３〜１．５１である。屈折率が１．５７以下であると、導電性積層体の視感反射率を低くかつ透過および反射バンド幅が広くできるため好ましい。屈折率が１．３０以上であると、５５０ｎｍ付近の反射率を低くでき、外観が良くなるため好ましい。
【００５４】
低屈折率層に用いる材料としては、酸化ケイ素、フッ化マグネシウム、フッ素樹脂、アクリル樹脂若しくはそれらの混合物などが挙げられる。低屈折率層は、前記の化合物または混合物の単一の層からなるか、または、複数種類の層からなるものである。生産性の観点からは、単一の層からなることが好ましい。低屈折率層としては、酸化ケイ素を含む層であることが好ましい。酸化ケイ素は基体や酸化物層との密着性に優れ、耐擦傷性が高いという点で好ましい。低屈折率層中の酸化ケイ素の含有割合は、９５質量％以上であることが好ましく、９８質量％以上であることがより好ましく、低屈折率層は、酸化ケイ素からなる層であることが好ましい。ただし酸化ケイ素からなる層には、不純物が少量含まれていてもよい。
【００５５】
低屈折率層の厚さは、５０〜１５０ｎｍであることが好ましく、７５〜１３０ｎｍであることがより好ましい。厚さが下限値以上上限値以下であることで導電性積層体の視感反射率を低くかつ透過および反射バンド幅が広くなるため好ましい。
【００５６】
本発明の導電性積層体において、基体と導電膜との間に低屈折率層を配置することと、導電膜における各金属層の厚さが積層体の中心に近い層ほど厚くなること、とを組み合わせることにより、導電性積層体の耐熱性および耐湿性が優れると同時に、導電性積層体の最表面に樹脂製の保護フィルムを設けなくても視感反射率が低くかつ透過および反射バンド幅が広い導電性積層体とすることができる。したがって、本発明の導電性積層体の導電層の最表面には、具体的には上記導電膜の最上層が酸化物層である場合には、この酸化物層面に、また上記導電膜の最上層が保護層である場合には、この保護層面に、樹脂製の保護フィルムを設ける必要がなくなる。本発明の導電性積層体の導電層の基体と反対側の最外層は、保護層であることが好ましい。この構成とすることで導電性積層体の耐久性がよく、かつ視感反射率を低くできるため好ましい。
【００５７】
（導電性積層体の特性）
導電性積層体の視感透過率は、５５％以上が好ましく、６０％以上がより好ましい。
【００５８】
導電性積層体の波長８５０ｎｍにおける透過率は、１５％以下が好ましく、１０％以下がより好ましい。
導電性積層体の視感透過率は高ければ高いほどよく、波長８５０ｎｍにおける透過率は低ければ低いほどよい。両者のバランスを考慮すると、視感透過率は９０％以下であることが好ましく、８５％以下であることがより好ましい。また、波長８５０ｎｍにおける透過率は２％以上であることが好ましい。
導電性積層体の視感反射率は、５％以下であることが好ましく、４％以下であることがより好ましい。本発明の導電性積層体の視感反射率は低ければ低いほどよいが、近赤外線領域や紫外線領域での反射率は高いほうが好ましい。したがって、これらのバランスを考慮すると、視感反射率は０．５％以上が好ましく、１％以上がより好ましい。なお。上記視感反射率は、上記導電性積層体の導電膜の形成面から測定した場合の値である。
【００５９】
導電性積層体の導電膜側のシート抵抗（表面抵抗）は、電磁波遮蔽能を充分に確保するために、０．１〜２．５Ω／□が好ましく、０．２〜１．５Ω／□がより好ましく、０．３〜０．８Ω／□が特に好ましい。
【００６０】
本発明の導電性積層体の反射バンド幅は、２７０ｎｍ以上であることが好ましく、２８０ｎｍ以上であることがより好ましく、２９０ｎｍ以上であることがさらに好ましい。反射バンド幅の上限値は特に制限はないが、現実的には４００ｎｍであることが好ましく、３５０ｎｍであることがより好ましい。反射バンド幅が２７０ｎｍ以上となることで導電性積層体の反射光の着色を抑えることができるため好ましい。本発明における反射バンド幅の測定方法は、カラーアナライザー（東京電色社製、装置名：ＴＣ１８００）により反射スペクトルを測定し、反射率が１０％未満の波長の範囲を反射バンド幅とした。測定条件は、厚さ２ｍｍのソーダライムガラス板の一方の面に導電性積層体、もう一方の面に反射防止フィルム（日油社製、商品名：リアルック７８００）をそれぞれ厚さ２５μｍの粘着剤を介して貼合したものを用いて測定した。貼合面は、導電性積層体は導電膜が形成されていない面であり、反射防止フィルムは反射防止層が形成されていない面である。測定用の光は反射防止フィルム側より入射させた。
【００６１】
本発明の導電性積層体の透過バンド幅は、３００ｎｍ以上であることが好ましい。上限は特に制限はないが、現実的には４００ｎｍである。透過バンド幅が３００ｎｍ以上であることで、導電性積層体の可視光透過率を大きくでき、また透過光の着色を抑えることができるため好ましい。本発明における透過バンド幅の測定方法としては、カラーアナライザー（東京電色社製、装置名：ＴＣ１８００）により透過スペクトルを測定し、透過率が６０％以上の波長の範囲を透過バンド幅とした。測定条件は、厚さ２ｍｍのソーダライムガラス板の一方の面に導電性積層体、もう一方の面に反射防止フィルム（日油社製、商品名：リアルック７８００）をそれぞれ厚さ２５μｍの粘着剤を介して貼合したものを用いて測定した。貼合面は、導電性積層体は導電膜が形成されていない面であり、反射防止フィルムは反射防止層が形成されていない面である。測定用の光は反射防止フィルム側より入射させた。
【００６２】
（導電性積層体の形成方法）
導電性積層体の形成方法としては、たとえば、スパッタ法、真空蒸着法、イオンプレーティング法、化学的気相成長法等が挙げられ、品質、特性の安定性が良好である点から、スパッタ法が特に好ましい。スパッタ法としては、パルススパッタ法、ＡＣスパッタ法等が挙げられる。
【００６３】
スパッタ法による導電性積層体の形成は、たとえば、以下のようにして行う。
【００６４】
（i）酸素ガスを混合したアルゴンガスを導入しながら、基体表面に、シリコンターゲットを用いてパルススパッタリングを行い、低屈折率層を形成する。
【００６５】
（ii）酸素ガスを混合したアルゴンガスを導入しながら、低屈折率層表面に、亜鉛とチタンの酸化物を含む混合ターゲットを用いてパルススパッタを行い、酸化物層を形成する。
【００６６】
（iii）アルゴンガスを導入しながら、銀ターゲットまたは銀合金ターゲットを用いてパルススパッタを行い、金属層を形成する。
【００６７】
（ii）（iii）の操作を繰り返し、最後に（ii）の操作で酸化物層を形成することにより、導電膜を形成する。
【００６８】
混合ターゲットは、各金属単独の酸化物の高純度（通常９９．９％）粉末を混合し、冷間静水圧プレス等を用いて成形し焼結することにより製造できる。
【００６９】
（用途）
本発明の導電性積層体は、導電性（電磁波遮蔽性）、可視光透過性および近赤外線遮蔽性に優れ、しかもガラス等の支持基体に積層した場合、透過バンド幅、反射バンド幅が広くなることから、プラズマディスプレイ用フィルタとして有用である。プラズマディスプレイ用フィルタとして用いる場合、導電性積層体をそのままＰＤＰの観察者側に配置してもよく、後述のプラズマディスプレイ用保護板としてＰＤＰの観察者側に配置してもよい。
【００７０】
また、本発明の導電性積層体は、液晶表示素子等の透明電極として用いることができる。該透明電極は、表面抵抗が低いため応答性がよく、反射率がガラス並みに抑えられるため視認性がよい。
【００７１】
また、本発明の導電性積層体は、自動車風防ガラスとして用いることができる。該自動車風防ガラスは、導電膜に通電することにより、防曇または融氷の機能を発揮でき、かつ低抵抗であるので通電に要する電圧が低く済み、また、反射率がガラス並みに抑えられるためドライバーの視認性を損なうことがない。
【００７２】
また、本発明の導電性積層体は、赤外線領域での反射率が非常に高いため、建物の窓等に設けられるヒートミラーとして用いることができる。
【００７３】
また、本発明の導電性積層体は、電磁波遮蔽効果が高いため、電気・電子機器から放射される電磁波が室外に漏れることを防止し、かつ電気・電子機器に影響する電磁波が室外から室内へ侵入することを防止する電磁波遮蔽窓ガラスに用いることができる。
【００７４】
図１は、酸化物層と金属層とが交互に計（２ｎ＋１）層積層された多層構造体の導電膜であって、ｎが３の場合の例に係る、本発明の導電性積層体の一例を示す断面図である。基体１１上に低屈折率層１７／酸化物層１３ａ／金属層１４ａ／酸化物層１３ｂ／金属層１４ｂ／酸化物層１３ｃ／金属層１４ｃ／酸化物層１３ｄ／保護層１６がこの順で形成さており、金属層１４ｂの厚さは、金属層１４ａ、金属層１４ｃの厚さより厚い。より好ましくは、金属層１４ａと金属層１４ｃとを実質的に同じ厚さとし、金属層１４ｂを、金属層１４ａと金属層１４ｃのそれぞれの厚さより厚くされる。
【００７５】
図２は、図１と同様にｎが３の場合の例に係る、本発明の導電性積層体の一例を示す断面図である。基体１１上に低屈折率層１７／酸化物層１３ａ／金属層１４ａ／酸化物層１３ｂ／金属層１４ｂ／酸化物層１３ｃ／金属層１４ｃ／酸化物層１３ｄ／保護層１６ａ／保護層１６ｂがこの順で形成さており、金属層１４ｂの厚さは、金属層１４ａ、金属層１４ｃの厚さより厚い。より好ましくは、金属層１４ａと金属層１４ｃとを実質的に同じ厚さとし、金属層１４ｂを、金属層１４ａと金属層１４ｃのそれぞれの厚さより厚くされる。また、図２の導電性積層体では保護層が２層となっており、例えば保護層１６ａがインジウム、スズおよびガリウムを酸化物として含む層であり、保護層１６ｂが水素化炭素を主成分として含む層である。
【００７６】
図３は、上記導電膜であって、ｎが４の場合の例に係る、本発明の導電性積層体の一例を示す断面図である。基体１１上に低屈折率層１７／酸化物層１３ａ／金属層１４ａ／酸化物層１３ｂ／金属層１４ｂ／酸化物層１３ｃ／金属層１４ｃ／酸化物層１３ｄ／金属層１４ｄ／酸化物層１３ｅ／保護層１６ａ／保護層１６ｂがこの順で形成さており、金属層１４ｂの厚さは金属層１４ａの厚さより厚く、金属層１４ｃの厚さは金属層１４ｄの厚さより厚い。より好ましくは、金属層１４ａと金属層１４ｄとを実質的に同じ厚さとし、金属層１４ｂと金属層１４ｃとを、金属層１４ａと金属層１４ｄのそれぞれの厚さより厚く、さらに好ましくは金属層１４ｂと金属層１４ｃのそれぞれの厚さを実質的に同じ厚さとされる。
【００７７】
図４は、上記導電膜であって、ｎが５の場合の例に係る、本発明の導電性積層体の一例を示す断面図である。基体１１上に低屈折率層１７／酸化物層１３ａ／金属層１４ａ／酸化物層１３ｂ／金属層１４ｂ／酸化物層１３ｃ／金属層１４ｃ／酸化物層１３ｄ／金属層１４ｄ／酸化物層１３ｅ／金属層１４ｅ／酸化物層１３ｆ／保護層１６ａ／保護層１６ｂがこの順で形成さており、金属層１４ｂの厚さは金属層１４ａの厚さより厚く、金属層１４ｄの厚さは金属層１４ｅの厚さより厚く、金属層１４ｃの厚さは金属層１４ｂおよび金属層１４ｄの厚さより厚い。より好ましくは、金属層１４ａと金属層１４ｅとをより薄い実質的に同じ厚さとし、金属層１４ｂと金属層１４ｄとを金属層１４ａと金属層１４ｅよりも、より厚い実質的に同じ厚さとし、金属層１４ｃの厚さを、金属層１４ｂと金属層１４ｄのそれぞれの厚さよりもさらに厚くされる。
【００７８】
図５は、上記導電膜であって、ｎが６の場合の例に係る、本発明の導電性積層体の一例を示す断面図である。基体１１上に低屈折率層１７／酸化物層１３ａ／金属層１４ａ／酸化物層１３ｂ／金属層１４ｂ／酸化物層１３ｃ／金属層１４ｃ／酸化物層１３ｄ／金属層１４ｄ／酸化物層１３ｅ／金属層１４ｅ／酸化物層１３ｆ／金属層１４ｆ／酸化物層１３ｇ／保護層１６ａ／保護層１６ｂがこの順で形成さており、金属層１４ｂの厚さは金属層１４ａの厚さより厚く、金属層１４ｃの厚さは金属層１４ｂの厚さより厚く、金属層１４ｅの厚さは金属層１４ｆの厚さより厚く、金属層１４ｄの厚さは金属層１４ｅの厚さより厚い。より好ましくは、金属層１４ａと金属層１４ｆとを実質的に同じ厚さとし、金属層１４ｂと金属層１４ｅとを、金属層１４ａと金属層１４ｆのそれぞれの厚さよりも、より厚い実質的に同じ厚さとし、金属層１４ｃと金属層１４ｄの厚さを金属層１４ｂと金属層１４ｅそれぞれの厚さより厚くし、さらに好ましくは金属層１４ｃと金属層１４ｄのそれぞれの厚さを実質的に同じ厚さとされる。
【００７９】
図６は、ｎが４で、上記導電膜にバリア層を有する本発明の導電性積層体の一例を示す断面図である。基体１１上に低屈折率層１７／酸化物層１３ａ／金属層１４ａ／バリア層１８ａ／酸化物層１３ｂ／金属層１４ｂ／バリア層１８ｂ／酸化物層１３ｃ／金属層１４ｃ／バリア層１８ｃ／酸化物層１３ｄ／金属層１４ｄ／バリア層１８ｄ／酸化物層１３ｅ／保護層１６ａ／保護層１６ｂがこの順で形成さており、金属層１４ｂの厚さは金属層１４ａの厚さより厚く、金属層１４ｃの厚さは金属層１４ｄの厚さより厚い。より好ましくは、金属層１４ａと金属層１４ｄとを実質的に同じ厚さとし、金属層１４ｂと金属層１４ｃを、金属層１４ａと金属層１４ｄのそれぞれの厚さより厚く、さらに好ましくは金属層１４ｂと金属層１４ｃのそれぞれの厚さを実質的に同じ厚さとされる。
【００８０】
＜プラズマディスプレイ用保護板＞
以下、本発明の導電性積層体を、プラズマディスプレイ用保護板（以下、保護板と記す。）に用いた例について説明する。
【００８１】
（第１の実施形態）
図７に、第１の実施形態の保護板を示す。保護板１は、支持基体２０と、支持基体２０上に粘着剤層６０を介して設けられた導電性積層体１０と、支持基体２０における導電性積層体１０側の面の周縁部に設けられた着色セラミックス層３０と、支持基体２０における導電性積層体１０側と反対側の面に粘着剤層５０を介して貼り合わされた飛散防止フィルム４０と、導電性積層体１０の導電膜１２の周縁部にて電気的に接している電極７０とを有するものである。導電性積層体１０は、基体１１と低屈折率層１７と導電膜１２を有している。
【００８２】
保護板１において、導電性積層体１０は、支持基体２０のＰＤＰ側に設けられている。すなわち、このＰＤＰ用保護板がＰＤＰの画面の視認者（観察者）側に配設された際、前記導電性積層体の導電膜が、視認者と反対側のＰＤＰの画面側の最表面となる構成とするのが好ましい。特に、導電性積層体１０の導電膜１２のＰＤＰ側の最外層は、保護層であることが好ましい。最外層が保護層であることで、導電性積層体の耐久性がよく、かつ視感反射率を低くできる。
【００８３】
支持基体２０は、剛性の高い透明基体からなるものが好ましい。導電性積層体１０の基体１１が剛性の低い材料からなる場合における支持基体２０は、これよりも、剛性の高い透明基体である。支持基体２０を設けることにより、導電性積層体１０の基体１１の材料がプラスチックであっても、ＰＤＰ側と観察者側との間で生じる温度差により反りが発生することがない。
【００８４】
支持基体２０としては、導電性積層体１０の基体１１と同様のものが挙げられる。
【００８５】
着色セラミックス層３０は、電極７０が観察者側から直接見えないように隠蔽するための層である。着色セラミックス層３０は、たとえば、支持基体２０上に印刷を施す、着色テープを貼る等により形成できる。
【００８６】
飛散防止フィルム４０は、支持基体２０の損傷時における支持基体２０の破片の飛散を防止するためのフィルムである。飛散防止フィルム４０としては、公知のものを用いることができる。
【００８７】
飛散防止フィルム４０には、反射防止機能を持たせてもよい。飛散防止機能と反射防止機能とを兼ね備えたフィルムとしては、日本油脂社製のリアルック（商品名）が挙げられる。リアルック（商品名）は、飛散防止特性を有するＰＥＴフィルムの片面に、低屈折率の反射防止層を形成して反射防止処理を施したものである。また、プラスチックからなるフィルム上に、低屈折率の反射防止層を湿式または乾式で形成したフィルム等も挙げられる。
【００８８】
電極７０は、導電性積層体１０の導電膜１２による電磁波遮蔽効果が発揮されるように、導電膜１２と電気的に接するように設けられる。電極７０は、導電膜１２の周縁部の全体に設けられていることが、導電膜１２による電磁波遮蔽効果を確保するために好ましい。電極７０の材質は、電気抵抗が低い方が電磁波遮蔽能の点では優位となる。電極７０は、たとえば、銀およびガラスフリットを含む銀ペースト、または銅およびガラスフリットを含む銅ペーストを塗布することにより形成される。
【００８９】
粘着剤層５０、６０の粘着剤としては、市販されている粘着剤が挙げられ、たとえば、アクリル酸エステル共重合体、ポリ塩化ビニル、エポキシ樹脂、ポリウレタン、酢酸ビニル共重合体、スチレン−アクリル共重合体、ポリエステル、ポリアミド、ポリオレフィン、スチレン−ブタジエン共重合体系ゴム、ブチルゴム、シリコーン樹脂等の粘着剤が挙げられ、良好な耐湿性が得られることから、アクリル系粘着剤が特に好ましい。粘着剤層５０、６０には、紫外線吸収剤、可視光領域の波長に吸収を有する色素等の種々の機能を有する添加剤が配合されてもよい。
【００９０】
（第２の実施形態）
図８に、第２の実施形態の保護板を示す。保護板１は、支持基体２０と、支持基体２０の片面の周縁部に設けられた着色セラミックス層３０と、前記面に設けられた導電性積層体１０と、導電性積層体１０の導電膜１２に周縁部にて電気的に接している電極７０と、支持基体２０における導電性積層体１０と反対側の面に反射防止膜８０を有するものである。保護板１は、導電性積層体１０が、支持基体２０のＰＤＰ側に設けられている。導電性積層体１０のＰＤＰ側の最外層は、保護層であることが好ましい。最外層が保護層であることで、導電性積層体の耐久性がよく、かつ視感反射率を低くできる。
【００９１】
なお、本実施形態において、第１の実施形態と同じ構成については図７と同じ符号を付して説明を省略する。
【００９２】
反射防止膜８０は、支持基体２０表面の可視光反射率より低くなるような膜であれば特に限定されない。具体的には、例えば支持基体２０側から順に、Ｔｉ原子とＮ原子を主成分とする層／酸化ケイ素を主成分とする層の積層膜、Ｔｉ原子とＯ原子を主成分とする層／酸化ケイ素を主成分とする層の積層膜などが挙げられる。反射防止膜８０の形成方法は、スパッタリング法、蒸着法などが挙げられるが、スパッタリング法が大面積での均一な膜厚分布が得られ易く好ましい。
【００９３】
保護板１は、ＰＤＰの前面に配置されるものであるため、ＰＤＰの画像が見にくくならないように、視感透過率は４０％以上であることが好ましい。また、視感反射率は６％以下が好ましく、３％以下が特に好ましい。また、波長８５０ｎｍにおける透過率は、１５％以下が好ましく、１０％以下が特に好ましい。
【００９４】
なお、本発明の保護板１は、これに限定されない。たとえば、粘着剤層３０を設けずに、熱による貼り合わせを行ってもよい。
【００９５】
また、保護板に近赤外線遮蔽機能を有する層を別途設けてもよい。近赤外線遮蔽機能を有する層としては、近赤外線遮蔽フィルムを用いる方法、近赤外線吸収基体を用いる方法、近赤外線吸収剤を添加した粘着剤をフィルム積層時に用いる方法、反射防止樹脂フィルム等に近赤外線吸収剤を添加して近赤外線吸収機能を併せ持たせる方法、近赤外線反射機能を有する導電膜を用いる方法等が挙げられる。
【００９６】
本発明の保護板において、導電性積層体の導電膜は最表面となるような構成が好ましい。導電膜が最表面であることで、保護板の視感反射率を低く抑え、反射バンド幅を広くできる。
【００９７】
導電膜が最表面となる構成の保護板をＰＤＰに設置する場合、図７，８の様に、保護板の導電性積層体の導電膜の最表面がＰＤＰ側となるように保護板を設置することが好ましい。前記のように設置することで、ＰＤＰの使用時、導電膜表面は人が触れることがほとんどないため、導電膜表面に樹脂製の保護フィルムを設ける必要がない。本発明の導電性積層体の構成においては、導電膜表面に樹脂製の保護フィルムが存在しないことで保護板の視感反射率を低く抑え、反射バンド幅を広くできる。
【００９８】
以上説明した導電性積層体１０にあっては、金属層１４の厚さが、導電性積層体１０の中心に近い層ほど厚くなっていることと、基体１１と導電膜１２との間に低屈折率層１７を有することから、導電膜１２表面に樹脂フィルムを設けなくても視感反射率が低く、かつ耐久性（耐湿性、耐熱性）に優れた導電性積層体となる。
【実施例】
【００９９】
（視感透過率、視感反射率の測定方法）
後述する導電性積層体について、カラーアナライザー（東京電色社製、装置名：ＴＣ１８００）により視感透過率、視感反射率（ＪＩＳ  Ｒ３１０６にしたがい、分光透過率および分光反射率を測定し付表１の重価係数により加重平均値を計算した値）を測定した。測定時は厚さ２ｍｍのソーダライムガラス板の一方の面に、導電性積層体の導電膜が形成されていない面を、もう一方の面に反射防止フィルム（日油社製、商品名：リアルック７８００）の反射防止層が形成されていない面を、それぞれ厚さ２５μｍの粘着剤を介して貼合した。光源は反射防止フィルム側より入射させた。【０１００】
（透過バンド幅の測定）
厚さ２ｍｍのソーダライムガラス板の一方の面に導電性積層体、もう一方の面に反射防止フィルム（日油社製、商品名：リアルック７８００）をそれぞれ厚さ２５μｍの粘着剤を介して貼合したものを測定サンプルとして測定した。貼合面は、導電性積層体は導電膜が形成されていない面であり、反射防止フィルムは反射防止層が形成されていない面である。カラーアナライザー（東京電色社製、装置名：ＴＣ１８００）を用いて、測定サンプルの透過スペクトルを測定し、透過率が６０％以上の波長の範囲を透過バンド幅とした。なお、測定用の光は、測定サンプルの反射防止フィルム側より入射させた。【０１０１】
（反射バンド幅の測定）
厚さ２ｍｍのソーダライムガラス板の一方の面に導電性積層体、もう一方の面に反射防止フィルム（日油社製、商品名：リアルック７８００）をそれぞれ厚さ２５μｍの粘着剤を介して貼合したものを測定サンプルとして測定した。貼合面は、導電性積層体は導電膜が形成されていない面であり、反射防止フィルムは反射防止層が形成されていない面である。カラーアナライザー（東京電色社製、装置名：ＴＣ１８００）により反射スペクトルを測定し、反射率が１０％未満の波長の範囲を反射バンド幅とした。なお、測定用の光は、測定サンプルの反射防止フィルム側より入射させた。【０１０２】
（シート抵抗の測定）
導電性積層体について、渦電流型抵抗測定器（Ｎａｇｙ社製、装置名：ＳＲＭ１２）によりシート抵抗（表面抵抗）を測定した。【０１０３】
（耐久性評価）
導電性積層体を２ｍｍのソーダライムガラス板の一方の面に２５μｍの粘着剤を介して貼合し、６０℃９０％環境に５００時間放置した後の外観について目視で確認し、１ｍｍ以上の大きさの銀凝集欠点について、１００ｃｍ２あたりの個数を数えた。【０１０４】
［例１］（実施例）
図１に示す導電性積層体１０を以下のように作製した。
まず、基体１１である厚さ１００μｍのＰＥＴフィルム表面の洗浄を目的としたイオンビームによる乾式洗浄を以下のようにして行った。まずアルゴンガスに約３０％の酸素を混合した混合ガスを導入しながら、１００Ｗの電力を投入した。イオンビームソースによりイオン化されたアルゴンイオンおよび酸素イオンを基体表面に照射した。【０１０５】
ついで、ＤＣスパッタリング装置を用いて下記のように各層を順次、形成した。まず、アルゴンガス６０体積％と酸素ガス４０体積％とを混合した混合ガスを導入しながら、多結晶シリコンをターゲットとして用い、圧力０．２５Ｐａ、周波数１００ｋＨｚ、電力密度５．０Ｗ／ｃｍ2 、反転パルス幅４．５μ秒の条件でＤＣパルススパッタリングを行い、基板１１面に、屈折率（ｎ）１．４６、厚さ１００ｎｍの酸化ケイ素からなる低屈折率層１７を形成した。【０１０６】
ついで、１０質量％チタニアを添加した酸化亜鉛ターゲットを用いてアルゴンガスに４体積％の酸素ガスを混合した混合ガスを導入しながら、０．１Ｐａの圧力で周波数５０ｋＨｚ、電力密度３．８Ｗ／ｃｍ２、反転パルス幅２μｓｅｃのパルススパッタを行い、上記低屈折率層１７面上に、厚さ３５ｎｍの酸化物層１３ａを形成した。膜中のチタン原子と亜鉛原子の含有割合は、ターゲットにおける割合と同一であった。【０１０７】
ついで、金を１．０質量％ドープした銀合金ターゲットを用いてアルゴンガスを導入しながら、０．７３Ｐａの圧力で周波数５０ｋＨｚ、電力密度２．３Ｗ／ｃｍ２、反転パルス幅１０μｓｅｃのパルススパッタを行い、上記酸化物層１３ａ面上に、厚さ１１ｎｍの金属層１４ａを形成した。膜の組成はターゲットと同一であった。【０１０８】
ついで、１０質量％チタニアを添加した酸化亜鉛ターゲットを用いてアルゴンガスに４体積％の酸素ガスを混合した混合ガスを導入しながら、０．１Ｐａの圧力で周波数５０ｋＨｚ、電力密度３．８Ｗ／ｃｍ２、反転パルス幅２μｓｅｃのパルススパッタを行い、上記金属層１４ａ面上に、厚さ７０ｎｍの亜鉛およびチタンの酸化物膜である酸化物層１３ｂを形成した。膜中のチタン原子と亜鉛原子の含有割合は、ターゲットにおける割合と同一であった。【０１０９】
ついで、同様に、金を１．０質量％ドープした銀合金ターゲットを用いてアルゴンガスを導入しながら、０．７３Ｐａの圧力で周波数５０ｋＨｚ、電力密度２．３Ｗ／ｃｍ２、反転パルス幅１０μｓｅｃのパルススパッタを行い、上記酸化物層１３ｂ面上に、厚さ１３ｎｍの金属層１４ｂを形成した。膜の組成はターゲットと同一であった。【０１１０】
ついで、１０質量％チタニアを添加した酸化亜鉛ターゲットを用いてアルゴンガスに４体積％の酸素ガスを混合した混合ガスを導入しながら、０．１Ｐａの圧力で周波数５０ｋＨｚ、電力密度３．８Ｗ／ｃｍ２、反転パルス幅２μｓｅｃのパルススパッタを行い、上記金属層１４ｂ面上に、厚さ７０ｎｍの亜鉛およびチタンの酸化物膜である酸化物層１３ｃを形成した。膜中のチタン原子と亜鉛原子の含有割合は、ターゲットにおける割合と同一であった。【０１１１】
ついで、金を１．０質量％ドープした銀合金ターゲットを用いてアルゴンガスを導入し、０．７３Ｐａの圧力で周波数５０ｋＨｚ、電力密度２．３Ｗ／ｃｍ２、反転パルス幅１０μｓｅｃのパルススパッタを行い、上記酸化物層１３ｃ面上に、厚さ１１ｎｍの金属層１４ｃを形成した。膜の組成はターゲットと同一であった。【０１１２】
ついで、１０質量％チタニアを添加した酸化亜鉛ターゲットを用いてアルゴンガスに４体積％の酸素ガスを混合した混合ガスを導入しながら、０．１Ｐａの圧力で周波数５０ｋＨｚ、電力密度３．８Ｗ／ｃｍ２、反転パルス幅２μｓｅｃのパルススパッタを行い、上記金属層１４ｃ面上に、厚さ３５ｎｍの亜鉛およびチタンの酸化物膜である酸化物層１３ｄを形成した。膜中のチタン原子と亜鉛原子の含有割合は、ターゲットにおける割合と同一であった。【０１１３】
ついで、ガリウム、インジウムおよびスズの酸化物ターゲット（ＡＧＣセラミックス社製、商品名：ＧＩＴターゲット）を用いてアルゴンガスに８体積％の酸素ガスを混合した混合ガスを導入しながら、０．５３Ｐａの圧力で周波数５０ｋＨｚ、電力密度１．５Ｗ／ｃｍ２、反転パルス幅１μｓｅｃのパルススパッタを行い、上記酸化物層１３ｄ面上に、厚さ５ｎｍの保護層１６を形成した。膜中の金属原子の量の割合は、ターゲットにおける割合と同一であった。【０１１４】
このようにして、基体３１上に、酸化ケイ素からなる低屈折率層１７が形成され、さらにその上にチタンと亜鉛の酸化物を主成分として含有する酸化物層１３ａ、１３ｂ、１３ｃ、１３ｄと、金−銀合金からなる金属層１４ａ、１４ｂ、１４ｃとが交互に積層され、さらに酸化物層（高屈折率層）１３ｄ表面に、保護層１６がこの順で積層された導電性積層体１０を得た。【０１１５】
得られた導電性積層体について、光学、電気特性、耐久性の測定を行った。結果を表２に示す。【０１１６】
［例２］（比較例）
金属層１４ａ、１４ｂ、１４ｃの厚さを１４ａ：８ｎｍ、１４ｂ：１２ｎｍ、１４ｃ：１５ｎｍとし、低屈折率層１７を形成しなかった以外は、例１と同様にして導電性積層体を作製した。【０１１７】
得られた導電性積層体について、光学、電気特性、耐久性の測定を行った。結果を表２に示す。【０１１８】
［例３］（比較例）
低屈折率層１７を設けなかったこと以外は、例１と同様にして導電性積層体を作製した。【０１１９】
得られた導電性積層体について、光学、電気特性、耐久性の測定を行った。結果を表２に示す。【０１２０】
例１は視感反射率は例２より上昇したものの、透過バンド幅が例２より１６ｎｍ広くなり、良好な光学特性を示した。例３は反射率も高く、透過および反射のバンド幅も狭い結果であった。【０１２１】
［例４］（実施例）
図２に示す導電性積層体１０を以下のように作製した。
まず、基体１１である厚さ１００μｍのＰＥＴフィルム表面の洗浄を目的としたイオンビームによる乾式洗浄を以下のようにして行った。まずアルゴンガスに約３０％の酸素を混合した混合ガスを導入しながら、１００Ｗの電力を投入した。イオンビームソースによりイオン化されたアルゴンイオンおよび酸素イオンを基体表面に照射した。【０１２２】
ついで、ＤＣスパッタリング装置を用いて下記のように各層を順次、形成した。まず、アルゴンガス６０体積％と酸素ガス４０体積％とを混合した混合ガスを導入しながら、多結晶シリコンをターゲットとして用い、圧力０．２５Ｐａ、周波数１００ｋＨｚ、電力密度５．０Ｗ／ｃｍ2 、反転パルス幅４．５μ秒の条件でＤＣパルススパッタリングを行い、屈折率（ｎ）１．４６、基板１１面に、厚さ１００ｎｍの酸化ケイ素からなる低屈折率層１７を形成した。【０１２３】
ついで、１０質量％チタニアを添加した酸化亜鉛ターゲットを用いてアルゴンガスに４体積％の酸素ガスを混合した混合ガスを導入しながら、０．１Ｐａの圧力で周波数５０ｋＨｚ、電力密度３．８Ｗ／ｃｍ２、反転パルス幅２μｓｅｃのパルススパッタを行い、上記低屈折率層１７面上に、厚さ３５ｎｍの酸化物層１３ａを形成した。膜中のチタン原子と亜鉛原子の含有割合は、ターゲットにおける割合と同一であった。【０１２４】
ついで、金を１．０質量％ドープした銀合金ターゲットを用いてアルゴンガスを導入しながら、０．７３Ｐａの圧力で周波数５０ｋＨｚ、電力密度２．３Ｗ／ｃｍ２、反転パルス幅１０μｓｅｃのパルススパッタを行い、上記酸化物１３ａ面上に、厚さ１１ｎｍの金属層１４ａを形成した。膜の組成はターゲットと同一であった。【０１２５】
ついで、１０質量％チタニアを添加した酸化亜鉛ターゲットを用いてアルゴンガスに４体積％の酸素ガスを混合した混合ガスを導入しながら、０．１Ｐａの圧力で周波数５０ｋＨｚ、電力密度３．８Ｗ／ｃｍ２、反転パルス幅２μｓｅｃのパルススパッタを行い、上記金属層１４ａ面上に、厚さ７０ｎｍの亜鉛およびチタンの酸化物膜である酸化物層１３ｂを形成した。膜中のチタン原子と亜鉛原子の含有割合は、ターゲットにおける割合と同一であった。【０１２６】
ついで、金を１．０質量％ドープした銀合金ターゲットを用いてアルゴンガスを導入しながら、０．７３Ｐａの圧力で周波数５０ｋＨｚ、電力密度２．３Ｗ／ｃｍ２、反転パルス幅１０μｓｅｃのパルススパッタを行い、上記酸化物層１３ｂ面上に、厚さ１３ｎｍの金属層１４ｂを形成した。膜の組成はターゲットと同一であった。【０１２７】
ついで、１０質量％チタニアを添加した酸化亜鉛ターゲットを用いてアルゴンガスに４体積％の酸素ガスを混合した混合ガスを導入しながら、０．１Ｐａの圧力で周波数５０ｋＨｚ、電力密度３．８Ｗ／ｃｍ２、反転パルス幅２μｓｅｃのパルススパッタを行い、上記金属層１４ｂ面上に、厚さ７０ｎｍの亜鉛およびチタンの酸化物膜である酸化物層１３ｃを形成した。膜中のチタン原子と亜鉛原子の含有割合は、ターゲットにおける割合と同一であった。【０１２８】
ついで、金を１．０質量％ドープした銀合金ターゲットを用いてアルゴンガスを導入し、０．７３Ｐａの圧力で周波数５０ｋＨｚ、電力密度２．３Ｗ／ｃｍ２、反転パルス幅１０μｓｅｃのパルススパッタを行い、上記酸化物層１３ｃ面上に、厚さ１１ｎｍの金属層１４ｃを形成した。膜の組成はターゲットと同一であった。【０１２９】
ついで、１０質量％チタニアを添加した酸化亜鉛ターゲットを用いてアルゴンガスに４体積％の酸素ガスを混合した混合ガスを導入しながら、０．１Ｐａの圧力で周波数５０ｋＨｚ、電力密度３．８Ｗ／ｃｍ２、反転パルス幅２μｓｅｃのパルススパッタを行い、上記金属層１４ｃ面上に、厚さ３１ｎｍの亜鉛およびチタンの酸化物膜である酸化物層１３ｄを形成した。膜中のチタン原子と亜鉛原子の含有割合は、ターゲットにおける割合と同一であった。【０１３０】
ついで、ガリウム、インジウムおよびスズの酸化物ターゲット（ＡＧＣセラミックス社製、商品名：ＧＩＴターゲット）を用いてアルゴンガスに８体積％の酸素ガスを混合した混合ガスを導入しながら、０．５３Ｐａの圧力で周波数５０ｋＨｚ、電力密度１．５Ｗ／ｃｍ２、反転パルス幅１μｓｅｃのパルススパッタを行い、上記酸化物層１３ｄ面上に、厚さ５ｎｍの保護層１６ａを形成した。膜中の金属原子の量の割合は、ターゲットにおける割合と同一であった。【０１３１】
ついで、グラファイトターゲット［東洋炭素社製  ＩＧ−５１０Ｕ］を用いて、アルゴンと水素のガスを導入し、０．２０Ｐａの圧力で周波数１００ｋＨｚ、電力密度２．５Ｗ／ｃｍ２、反転パルス幅４．５μｓｅｃのパルススパッタを行い、上記保護膜１６ａ面上に、厚さ５ｎｍの水素化炭素からなる保護層１６ｂを形成した。ガス中、水素ガスの含有量は３０体積％であった。【０１３２】
このようにして、基体３１上に、チタンと亜鉛の酸化物を主成分として含有する酸化物層１３ａ、１３ｂ、１３ｃ、１３ｄと、金−銀合金からなる金属層１４ａ、１４ｂ、１４ｃとが交互に積層され、さらに酸化物層（高屈折率層）１３ｄ表面に、保護層１６ａ、１６ｂがこの順で積層された導電性積層体１０を得た。得られた導電性積層体について、光学、電気特性、耐久性の測定を行った。結果を表２に示す。【０１３３】
［例５］（実施例）
低屈折率層１７の材料をフッ化マグネシウムとして以下に示す方法で形成した以外は例１と同様にして導電性積層体を作製した。【０１３４】
蒸着圧力２．７×１０−３Ｐａ、電子ビーム出力０．７ｋＷでフッ化マグネシウム蒸着源（メルク社製  ＴＰ８２４２２３  ６１４）を用いてＥＢ蒸着を行い、屈折率（ｎ）１．３８、厚さ１００ｎｍの低屈折率層１７を形成した。【０１３５】
得られた導電性積層体について、光学、電気特性、耐久性の測定を行った。結果を表２に示す。【０１３６】
［例６］（実施例）
低屈折率層１７を以下に示す方法で形成した以外は例１と同様にして導電性積層体を作製した。【０１３７】
アルコキシシランのオリゴマーと中空シリカとの混合溶液（触媒化成工業社製、ＥＬＣＯＭ Ｐ−５００５、固形分濃度２質量％、アルコキシシランのオリゴマーのＳｉＯ２換算１００質量部に対する中空シリカの含有量４０質量部）を、バーコーターを用いて基体１１に塗工し、塗膜を１４０℃で２分間乾燥させて溶剤を留去することで、厚さ１００ｎｍ、屈折率（ｎ）１．３３の）の酸化ケイ素からなる低屈折率層１７を形成した。【０１３８】
得られた導電性積層体について、光学、電気特性、耐久性の測定を行った。結果を表２に示す。【０１３９】
［例７］（比較例）
低屈折率層１７の材料を酸化アルミニウムとして以下に示す方法で形成した以外は例１と同様にして導電性積層体を作製した。【０１４０】
アルゴンガス６０体積％と酸素ガス４０体積％とを混合した混合ガスを導入しながら、アルミニウムをターゲットとして用い、圧力０．２５Ｐａ、周波数１００ｋＨｚ、電力密度５．０Ｗ／ｃｍ２、反転パルス幅４．５μ秒の条件でＤＣパルススパッタリングを行い、屈折率（ｎ）１．６０、厚さ１００ｎｍの低屈折率層１７を形成した。【０１４１】
得られた導電性積層体について、光学、電気特性、耐久性の測定を行った。結果を表２に示す。【０１４２】
［例８］（比較例）
金属層１４ａ、１４ｂ、１４ｃの厚さを１４ａ：８ｎｍ、１４ｂ：１２ｎｍ、１４ｃ：１５ｎｍとした以外は例１と同様にして導電性積層体を作製した。得られた導電性積層体について、光学、電気特性、耐久性の測定を行った。結果を表２に示す。【０１４３】
［例９］  （実施例）
金属層１４ａ、１４ｂ、１４ｃの厚さを１４ａ：９ｎｍ、１４ｂ：１３．５ｎｍ、１４ｃ：１２．５ｎｍとした以外は例１と同様にして導電性積層体を作製した。得られた導電性積層体について、光学、電気特性、耐久性の測定を行った。結果を表２に示す。【０１４４】
［例１０］（実施例）
低屈折率層１７の厚さを３０ｎｍとした以外は例１と同様にして導電性積層体を作製した。得られた導電性積層体について、光学、電気特性、耐久性の測定を行った。結果を表２に示す。【０１４５】
［例１１］（実施例）
低屈折率層１７の厚さを６０ｎｍとした以外は例１と同様にして導電性積層体を作製した。得られた導電性積層体について、光学、電気特性、耐久性の測定を行った。結果を表２に示す。【０１４６】
［例１２］（実施例）
低屈折率層１７の厚さを８０ｎｍとした以外は例１と同様にして導電性積層体を作製した。得られた導電性積層体について、光学、電気特性、耐久性の測定を行った。結果を表２に示す。【０１４７】
［例１３］（実施例）
低屈折率層１７の厚さを１２０ｎｍとした以外は例１と同様にして導電性積層体を作製した。得られた導電性積層体について、光学、電気特性、耐久性の測定を行った。結果を表２に示す。【０１４８】
［例１４］（実施例）
低屈折率層１７の厚さを１４０ｎｍとした以外は例１と同様にして導電性積層体を作製した。得られた導電性積層体について、光学、電気特性、耐久性の測定を行った。結果を表２に示す。【０１４９】
［例１５］（実施例）
低屈折率層１７の厚さを１８０ｎｍとした以外は例１と同様にして導電性積層体を作製した。得られた導電性積層体について、光学、電気特性、耐久性の測定を行った。結果を表２に示す。【０１５０】
【表１】
2011001983.tif 000004
【０１５１】
【表２】
2011001983.tif 000005
【産業上の利用可能性】
【０１５２】
本発明の導電性積層体および保護板は、導電性（電磁波遮蔽性）、可視光透過性および近赤外線遮蔽性に優れ、しかも透過・反射バンド幅が広くなることから、プラズマディスプレイ用フィルタとして有用である。また、本発明の導電性積層体は、液晶表示素子等の透明電極、自動車風防ガラス、ヒートミラー、電磁波遮蔽窓ガラスとして用いることができる。
なお、２００９年６月２９日に出願された日本特許出願２００９−１５４０２１号の明細書、特許請求の範囲、図面及び要約書の全内容をここに引用し、本発明の開示として取り入れるものである。
【符号の説明】
【０１５３】
１：保護板（プラズマディスプレイ用保護板）
１０：導電性積層体
１１：基体
１２：導電膜
１３ａ、１３ｂ、１３ｃ、１３ｄ、１３ｅ、１３ｆ、１３ｇ：酸化物層
１４ａ、１４ｂ、１４ｃ、１４ｄ、１４ｅ、１４ｆ：金属層
１６、１６ａ、１６ｂ：保護層
１７：低屈折率層
２０：支持基体
５０：電極
【図１】
2011001983.tif 000006
【図２】
2011001983.tif 000007
【図３】
2011001983.tif 000008
【図４】
2011001983.tif 000009
【図５】
2011001983.tif 000010
【図６】
2011001983.tif 000011
【図７】
2011001983.tif 000012
【図８】
2011001983.tif 000013
【国際調査報告】
2011001983.tif 000014
2011001983.tif 000015
2011001983.tif 000016
2011001983.tif 000017