(57)【要約】  低極性溶媒への溶解性を向上することにより、種々の化粧料製剤への応用を容易なものとし、美白作用や抗菌作用、ニキビ予防・改善作用、防臭作用にも優れる皮膚外用剤を提供することを課題とする。  下記一般式（１）で表されるロドデンドロール誘導体を含有することを特徴とする皮膚外用剤。（式中、Ｒ１は炭素数２〜２０のアシル基を示し、Ｒ２は水素原子又は炭素数２〜２０のアシル基を示す。）2010041417.tif 000025
2010041417.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記一般式（１）で表されるロドデンドロール誘導体を含有する皮膚外用剤。
【化１】
2010041417.tif 000017
（式中、Ｒ１は炭素数２〜２０のアシル基を示し、Ｒ２は水素原子又は炭素数２〜２０のアシル基を示す。）
【請求項２】
下記一般式（１）で表されるロドデンドロール誘導体を含有する美白化粧料。
【化２】
2010041417.tif 000018
（式中、Ｒ１は炭素数２〜２０のアシル基を示し、Ｒ２は水素原子又は炭素数２〜２０のアシル基を示す。）
【請求項３】
下記一般式（１）で表されるロドデンドロール誘導体を有効成分とする美白剤。
【化３】
2010041417.tif 000019
（式中、Ｒ１は炭素数２〜２０のアシル基を示し、Ｒ２は水素原子又は炭素数２〜２０のアシル基を示す。）
【請求項４】
下記一般式（１ａ）で表されるロドデンドロール誘導体を有効成分とする防腐殺菌剤。
【化４】
2010041417.tif 000020
（式中、Ｒ１ａは、炭素数２〜４のアシル基を示す。）
【請求項５】
下記一般式（１ａ）で表されるロドデンドロール誘導体を含有するニキビ肌用皮膚外用剤。
【化５】
2010041417.tif 000021
（式中、Ｒ１ａは、炭素数２〜４のアシル基を示す。）
【請求項６】
下記一般式（１ａ）で表されるロドデンドロール誘導体を含有する防臭用皮膚外用剤。
【化６】
2010041417.tif 000022
（式中、Ｒ１ａは、炭素数２〜４のアシル基を示す。）
【請求項７】
下記一般式（１ａ）で表されるロドデンドロール誘導体を有効成分とする防臭剤。
【化７】
2010041417.tif 000023
（式中、Ｒ１ａは、炭素数２〜４のアシル基を示す。）
【請求項８】
下記一般式（１ｂ）で表されるロドデンドロール誘導体。
【化８】
2010041417.tif 000024
（式中、Ｒ１ｂ及びＲ２ｂは、それぞれ炭素数３〜２０のアシル基を示す。）
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、皮膚外用剤に関する。
【背景技術】
【０００２】
しみ、そばかすは、メラニンの生成と排泄のバランスが崩れ、表皮細胞にメラニンが過剰に蓄積したものである。これらの原因は、炎症、ホルモンのバランス、遺伝的要因等、様々であるが紫外線の影響により助長される。増加した色素沈着を緩和するのが美白剤である。このうち、皮膚の黒化やしみ、そばかすを防ぎ、本来の白い肌を保つための美白化粧料に応用されているものとしては、コウジ酸、アルブチン、ハイドロキノンモノベンジルエーテル、過酸化水素等が知られている。しかしながら、これらの美白剤を配合すると、若干、色黒の肌を淡色化する効果はあるものの、美白化粧料として十分満足すべき効果が得られておらず、更に紫外線による炎症抑制効果はなく、安全性の面でも問題を残すものが多かった。また、紫外線による炎症を抑制する美白剤としては、ビタミンＣ及びその誘導体が知られている。しかしながら、これらは美白効果の程度、及び製剤中での安定性の面で満足できるものではなかった。【０００３】
また従来、化粧品や医薬部外品、医薬品には、防腐殺菌剤として、メチルパラベン、エチルパラベン、プロピルパラベン、ブチルパラベン等のパラベン類が頻繁に用いられてきた。近年、低刺激性や敏感肌用等を訴求する化粧料が上市されており、パラベン類の使用量の低減や代替方法等が望まれている。その手法として、植物抽出物の配合や１，２−ペンタンジオールや１，２−ヘキサンジオール等のアルカンジオールの配合等、種々の方法が提案されている（特許文献１〜５）。しかしながら、これら成分は、化粧品等に配合した際の製剤のテクスチャーや安定性への影響や匂いの等の嗜好性の点から、その使用量が制限されることが課題であった。【０００４】
またニキビ（尋常性座瘡）の病態は、大きく、１）非炎症性皮疹である面皰、２）赤色丘疹などの炎症性丘疹、３）瘢痕、４）炎症後色素沈着に分けられる。その治療は、病態に応じて、１）局所外用療法、２）全身内服療法、３）理学的療法の３種の治療法を単独或いは組合せて実施されている。このうち局所外用療法は、瘢痕以外の症状に対して有効な治療方法とされおり、これまで様々な有効成分を配合した外用剤が開発されてきた（非特許文献１）。ニキビの発症機序は大きく二つの段階に分かれる。第一段階は面皰形成であり、第二段階は炎症惹起である。面皰は、過剰な皮脂分泌と毛孔部の角化亢進により、毛孔が閉塞されて毛包内に皮脂が貯留することによって形成される。面皰は、皮膚常在菌である嫌気性細菌プロピオニバクテリウム・アクネス（Ｐｒｏｐｉｏｎｉｂａｃｔｅｒｉｕｍ  ａｃｎｅｓ）に適した生息環境であるため、面皰では、その菌数が増加し、細胞外炎症誘発物質が産生されるため、赤色丘疹などの炎症性丘疹が惹起される（非特許文献２）。これらのようなニキビの予防・改善対策としては、毛穴の閉塞原因となる皮脂（トリグリセリド）や角質肥厚を防ぐ洗顔、ビタミンＢ６といった抗脂漏剤の使用、レゾルシンやサリチル酸などによる不要な角質の早期剥離、Ｐ．ａｃｎｅｓの生育を阻害するイソプロピルメチルフェノールのような殺菌効果の高い抗菌性物質による悪化防止、抗炎症剤の使用などが知られている（非特許文献３）。また、炎症後の色素沈着に対しては、ビタミンＣ（アスコルビン酸）誘導体による局所外用療法が注目されており（非特許文献１）、更に、チロシナーゼ活性阻害剤と抗菌或いは抗ニキビ剤を組み合わせることで、ニキビ痕の黒ずみを予防或いは改善する手法が報告されている（特許文献６、７）。【０００５】
またヒトの体臭の中でも独特な臭いである腋臭は、腋窩部のアポクリン汗腺より分泌された糖蛋白、脂質などが、皮膚の細菌が産生する酵素により分解され、揮発性、異臭性の脂肪酸などを産生することが原因である（非特許文献４）。特に強く不快な腋臭を発生させる原因細菌として、コリネバクテリウム・ゼロシス（Ｃｏｒｙｎｅｂａｃｔｅｒｉｕｍ  ｘｅｒｏｓｉｓ）が挙げられ、好脂性菌であるために皮脂腺と汗腺が多い腋部で検出される。コリネバクテリウム属に属する細菌に有効な抗菌剤、腋臭用の組成物として、食品・化粧品の防腐剤や保存剤として従来使用されてきた脂肪酸のショ糖エステル（特許文献８）、除菌・殺菌成分であるトリクロサン及びイソプロピルメチルフェノール（特許文献９）、食用でもあるホンカンゾウの花蕾抽出物（特許文献１０）、抗菌活性を高めるためのアルカンジオール、リゾチーム（特許文献１１）が提案されている。腋臭を防ぐためには、制汗と殺菌の２つの機能が必要である。従来、制汗の一例として、ヒドロキシ塩化アルミニウム（アルミニウム塩化水和物）のようなアルミニウム塩が収斂剤として使用されてきた。また、殺菌の一例として、塩化ベンザルコニウムなど広く殺菌活性のある物質が、抗菌剤として使用されてきた（非特許文献３）。しかしながら、未だ十分な効果を有する防臭活性剤は見出されていなかった。【０００６】
上述のように、美白、防腐抗菌、ニキビ予防・改善及び防臭を目的とした皮膚外用剤については多くの検討が行われているが、いずれにおいても十分な効果と製剤上の課題を両立することは困難であった。【０００７】
一方、ロドデンドロール及びその一部の誘導体は、優れた美白作用を有すること、並びに特異的な菌に対して抗菌効果を示すことから皮膚外用剤への応用が提案されている（特許文献１２〜１４）。またロドデンドロールを含むフェニルブタノイド類は、数種類の菌に対して抗菌作用を示すことが報告されている（非特許文献５）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開平８−７３３６４号公報
【特許文献２】特開平８−７３３６８号公報
【特許文献３】特開平１０−１８２３３３号公報
【特許文献４】特開平１０−２０３９５５号公報
【特許文献５】特開平１１−３２２５９１号公報
【特許文献６】特開２００２−１４５８０２号公報
【特許文献７】特許第２８８３３６８号公報
【特許文献８】特開２００２−２５５７７５号公報
【特許文献９】特開２００６−９６７１９号公報
【特許文献１０】特開２００７−１９４８号公報
【特許文献１１】特開２００７−１４５７５０号公報
【特許文献１２】特許第３３４０９３５号公報
【特許文献１３】特開２００８−７４３２号公報
【特許文献１４】国際公開第０９−０８４２００号パンフレット
【非特許文献】
【０００９】
【非特許文献１】ＦＲＡＧＲＡＮＣＥ  ＪＯＵＲＮＡＬ、２００７年、第３５巻、第５号、ｐ．１２−１７
【非特許文献２】ＣＯＳＭＥＴＩＣ  ＳＴＡＧＥ、２００７年、第１巻、第５号、ｐ．２３−２７
【非特許文献３】ＦＲＡＧＲＡＮＣＥ  ＪＯＵＲＮＡＬ、２００３年、第３１巻、第３号、ｐ．２３〜２８
【非特許文献４】今門純久著「汗のすべて  アポクリン汗腺疾患」Ｍｏｎ  Ｂｏｏｋ  Ｄｅｒｍａ、２００７年３月、ｐ．４５−４７
【非特許文献５】Ｐ．Ｓｒｉｎｉｖａｓａ  Ｒｅｄｄｙ，Ｋａｉｓｅｒ  Ｊａｍｉｌら，Ｐｈａｒｍａｃｅｕｔｉｃａｌ  Ｂｉｏｌｏｇｙ，３９，２３６−２３８，２００１
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
しかしながら、これらのロドデンドロール及びその誘導体は、化粧料基剤として広く使用される低極性溶媒への溶解性に問題があり、種々の化粧料製剤への応用が困難であった。また、同様の理由から、それらの有効性を十分に発揮する製剤の検討が制限されるという現状があった。【００１１】
本発明は、低極性溶媒への溶解性が向上し、種々の化粧料製剤への応用が容易な新たなロドデンドロール誘導体、及びこれを含有し美白効果、防腐抗菌効果、ニキビ予防・改善効果、及び防臭効果にも優れる皮膚外用剤を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明者等は、上記事情を解決するために鋭意検討した結果、下記一般式（１）で表されるロドデンドロールのブチル基上の水酸基がアシル化された新規なロドデンドロール誘導体が、ロドデンドロールや、フェノール性水酸基がアシル化されたロドデンドロール誘導体に比べて、化粧料基剤として広く使用される低極性溶媒への溶解性に優れることを見出した。その結果、種々の化粧料製剤への応用が容易となり、更に、美白効果、細菌に対する抗菌効果、ニキビ原因菌であるＰ．ａｃｎｅｓに対する増殖阻害効果、ニキビ痕の予防・改善効果、及び不快な腋臭を発生させる原因細菌であるＣｏｒｙｎｅｂａｃｔｅｒｉｕｍ  Ｘｅｒｏｓｉｓに対する殺菌効果も十分に発揮できることを確認して、本発明を完成した。【００１３】
すなわち、本発明は、下記一般式（１）で表されるロドデンドロール誘導体を含有する皮膚外用剤を提供するものである。【００１４】
【化１】
2010041417.tif 000003
【００１５】
（式中、Ｒ１は炭素数２〜２０のアシル基を示し、Ｒ２は水素原子又は炭素数２〜２０のアシル基を示す。）【００１６】
また、本発明は、下記一般式（１ｂ）で表されるロドデンドロール誘導体を提供するものである。【００１７】
【化２】
2010041417.tif 000004
【００１８】
（式中、Ｒ１ｂ及びＲ２ｂは、それぞれ炭素数３〜２０のアシル基を示す。）【００１９】
また本発明は、下記一般式（１ａ）で表されるロドデンドロール誘導体を有効成分とする美白剤、防腐殺菌剤、抗ニキビ剤及び防臭剤を提供するものである。【００２０】
【化３】
2010041417.tif 000005
【００２１】
（式中、Ｒ１ａは、炭素数２〜４のアシル基を示す。）【００２２】
また、上記一般式（１ａ）で表されるロドデンドロール誘導体の、美白剤、防腐殺菌剤、抗ニキビ剤又は防臭剤製造のための使用を提供するものである。【００２３】
また上記一般式（１ａ）で表されるロドデンドロール誘導体を適用することを特徴とする美白方法、防腐殺菌方法、ニキビ治療法又は防臭方法を提供するものである。
【発明の効果】
【００２４】
本発明のロドデンドロール誘導体は、低極性溶媒への溶解性が高く、種々の化粧料製剤への応用が容易であり、且つ美白効果、防腐抗菌効果、ニキビ予防・改善効果、防臭効果にも優れた皮膚外用剤を提供することができる。
【発明を実施するための形態】
【００２５】
以下、本発明の実施の形態を詳述する。
【００２６】
本発明で用いられるロドデンドロール誘導体は、前記一般式（１）で表される化合物であり、式（１）中、Ｒ１は炭素数２〜２０のアシル基であり、Ｒ２は水素原子又は炭素数２〜２０のアシル基である。Ｒ１及びＲ２はともに同じ炭素数のアシル基であってもよいし、それぞれ異なる炭素数のアシル基であってもよい。Ｒ１及びＲ２のアシル基は、飽和であっても不飽和であってもよく、またアミノ基等の官能基を有するものであってもよい。このうち、飽和のアルカノイル基がより好ましい。具体的には、アセチル基、プロピオニル基、ブチロイル基、イソブチロイル基、バレリル基、ヘキサノイル基、オクタノイル基、ラウロイル基、パルミトイル基、ステアロイル基等が挙げられる。このうち炭素数２〜１８のアルカノイル基が好ましく、炭素数２〜８のアルカノイル基がより好ましく、炭素数２〜４であるアセチル基、プロピオニル基、ブチロイル基、イソブチロイル基である場合は、化粧料製剤へ応用しやすく特に好ましい。
【００２７】
一般式（１）で表されるロドデンドロール誘導体のうち、下記一般式（１ｂ）で表される化合物は新規化合物である。
【００２８】
【化４】
2010041417.tif 000006
【００２９】
（式中、Ｒ１ｂ及びＲ２ｂは、それぞれ炭素数３〜２０のアシル基を示す。）
【００３０】
また、一般式（１）中、美白剤、防腐殺菌剤、抗ニキビ剤、防臭剤等への応用性の点から、Ｒ１が炭素数２〜８のアシル基（特に炭素数２〜４のアシル基）であり、Ｒ２が水素原子又は炭素数２〜８のアシル基（特に水素原子又は炭素数２〜４のアシル基）である化合物が好ましく、特に、下記一般式（１ａ）で表される化合物が好ましい。
【００３１】
【化５】
2010041417.tif 000007
【００３２】
（式中、Ｒ１ａは、炭素数２〜４のアシル基を示す。）
【００３３】
本発明で用いられるロドデンドロール誘導体の製造方法は、公知の合成方法により得られるロドデンドロールや、メグスリノキやシラカバ等のロドデンドロールを含有する植物の抽出物から分離精製したものを出発原料として用い、公知のアシル化反応を利用して、製造することができる。例えば、ピリジン溶媒中において、ロドデンドロールと酸クロライド、又は酸無水物とを反応させる方法等がある。また、メグスリノキ等の植物抽出物を適当な方法によりアシル化した後、目的とするロドデンドロール誘導体を分離精製することにより得ることもできる。
【００３４】
上記方法等により得られたロドデンドロール誘導体は、光学異性体が存在するが、（＋）体、（−）体単独でも、またそれらの混合物を用いることもできる。
【００３５】
一般式（１）で表されるロドデンドロール誘導体は、後記実施例に示すように優れた美白作用、防腐殺菌作用、ニキビ予防改善作用、防臭作用を有し、かつ低極性溶媒に対する溶解性に優れることから、美白剤、美白化粧料、抗ニキビ剤、ニキビ肌用皮膚外用剤、防腐殺菌剤、防臭剤、防臭用皮膚外用剤として有用である。
【００３６】
また、本発明で用いるロドデンドロール誘導体は、上記一般式（１）で表されるロドデンドロール誘導体のうち、いずれか１種類を単独で用いてもよいし、又はそれらの２種類以上を混合物として用いてもよい。
【００３７】
本発明のロドデンドロール誘導体の含有量は、配合目的、配合対象とするものにより一概に規定できないが、通常は皮膚外用剤の総量を基準として、０．００００１質量％〜１０．０質量％、好ましくは０．００１質量％〜５．０質量％、更に好ましくは、０．０１質量％〜３．０質量％とすることができる。
【００３８】
本発明の皮膚外用剤は、本発明のロドデンドロール誘導体の他に、既に公知の美白剤であるハイドロキノン、アルブチン、エラグ酸、ビタミンＣ及びその誘導体（例えば、アスコルビン酸グルコシド、アスコルビン酸リン酸エステルナトリウム、アスコルビン酸硫酸エステル２ナトリウム、アスコルビン酸リン酸エステルマグネシウム等）、ビフェニル誘導体（例えば、デヒドロジクレオソール、２，２’−ジヒドロキシ−５，５’−ジプロピルビフェニル等）、及び特許第３３４０９３５号に記載のラズベリーケトン、ヘキサノイルラズベリーケトン、オクタノイルラズベリーケトン、ロドデンドロール、４−（３−ヒドロキシブチル）フェニルアセテート等のメラニン生成抑制剤、火棘エキス、ジオスコレアコンポジータエキス、岩白菜エキス、カミツレ抽出物、アデノシン５’−１リン酸及びその塩、リノール酸誘導体、トラネキサム酸及びトラネキサム酸塩、トラネキサム酸誘導体等の美白剤を適宜組み合わせて用いることができる。
【００３９】
また、皮膚外用剤等において通常用いられる防腐剤であるアルコール類、フェノキシエタノール、ジプロピレングリコールやブチレングリコール等の多価アルコール、アルカンジオール、エデト酢酸ナトリウム等のキレート剤と併用すると、相乗効果により、防腐殺菌効果を向上させることができる。特にフェノキシエタノールと併用すると防腐殺菌効果の面でより好ましい。
【００４０】
また本発明の皮膚外用剤は、上記の他、ヒアルロン酸、多価アルコール、糖アルコール等の保湿剤、タール系色素、酸化鉄等の着色顔料、パラベン等の防腐剤、脂肪酸石けん、セチル硫酸ナトリウム等の陰イオン性界面活性剤、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレン多価アルコール脂肪酸エステル、ポリオキシエチレン硬化ヒマシ油、多価アルコール脂肪酸エステル、ポリグリセリン脂肪酸エステル等の非イオン性界面活性剤、テトラアルキルアンモニウム塩等の陽イオン性界面活性剤、ベタイン型、スルホベタイン型、スルホアミノ酸型、Ｎ−ステアロイル−Ｌ−グルタミン酸ナトリウム等の両イオン性界面活性剤、レシチン、リゾフォスファチジルコリン等の天然系界面活性剤、ゼラチン、カゼイン、デンプン、アラビアガム、カラヤガム、グアガム、ローカストビーンガム、ドラガカントガム、クインスシード、ペクチン、カラギーナン、アルギン酸ソーダ等の天然高分子、メチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、カルボキシメチルセルロースナトリウム、エチルセルロース等の半合成高分子、ポリビニルアルコール、ポリビニルメチルエーテル及びコーポリマー、ポリビニルピロリドン、ポリアクリル酸ソーダ、カルボキシビニルポリマー、ポリエチレンオキシドポリマー等の合成高分子、キサンテンガム等の増粘剤、酸化チタン等の顔料、ジブチルヒドロキシトルエン等の抗酸化剤等を、本発明の目的を損なわない範囲内で適宜配合することができる。
【００４１】
本発明の皮膚外用剤の形態は、ロドデンドロール誘導体が低極性の溶媒に溶解するので、特に制限されないが、軟膏、クリーム、ローション、サンスクリーン、美容液、乳液、パック、入浴剤等の形態とすることができる。
【実施例】
【００４２】
以下、製造例、試験例、及び実施例に基いて、本発明を詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。尚、以下に記載のロドデンドロールは、市販の４−（ｐ−ヒドロキシフェニル）−２−ブタノン（ラズベリーケトン）を水素化ホウ素ナトリウムを用いて、常法により還元することにより製造したものを用いた。尚、各化合物の構造はＮＭＲ測定（ＪＥＯＬ  ＪＮＭ−ＬＡ４００（日本電子社製）、１Ｈ；４００ＭＨｚ、１３Ｃ；１００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ３）により確認した。【００４３】
製造例１：４−（３−アセトキシブチル）フェニルアセテート
ロドデンドロール（５．０ｇ）を２００ｍＬナス型フラスコに入れ、ピリジン（１ｍＬ）に溶解し、無水酢酸（８．０ｇ）を加え反応させた。４時間後、常法に従って後処理し、得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル６０Ｎ：１００−２１０μｍ；関東化学社製）に供し、酢酸エチル／ｎ−ヘキサン（１／５）を移動相として精製し、目的とするロドデンドロール誘導体（５．４ｇ）を無色透明の油状物質として得た。１３Ｃ−ＮＭＲの結果を以下に示す。【００４４】
１３Ｃ−ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：１７０．８、１６９．７、１４８．９、１３９．１、１２９．２、１２１．４、７０．４、３７．４、３１．１、２１．２、２１．０、１９．９【００４５】
製造例２：４−（４−ヒドロキシフェニル）−２−ブタニルアセテート
ロドデンドロール（５．０ｇ）を２００ｍＬナス型フラスコに入れ、ピリジン（１．０ｍＬ）、無水酢酸（８．０ｇ）を順次加え、４時間後、常法に従って後処理し、粗生成物を得た。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル６０Ｎ：１００−２１０μｍ；関東化学社製）に供し、酢酸エチル／ｎ−ヘキサン（１／５）を移動相として分画、精製した。得られた精製物（３．０ｇ）を２００ｍＬナス型フラスコに入れ、８０ｖｏｌ％メタノール水溶液（１２０ｍＬ）を加え、攪拌した。更に酢酸アンモニウム（７．５ｇ）を加え、４０℃で４８時間反応させた後、常法に従って後処理し、粗生成物を得た。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル６０Ｎ：１００−２１０μｍ；関東化学社製）に供し、酢酸エチル／ｎ−ヘキサン（１／４）を移動相として精製し、目的とするロドデンドロール誘導体（１．１ｇ）を無色油状物質として得た。１３Ｃ−ＮＭＲの結果を以下に示す。【００４６】
１３Ｃ−ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：１７１．７、１５４．２、１３３．１、１２９．３、１１５．３、７０．９、３７．６、３０．７、２１．２、１９．８【００４７】
製造例３：４−（３−プロパノイルオキシブチル）フェニルプロパノエート
ロドデンドロール（２．５ｇ）を２００ｍＬナス型フラスコに入れ、ピリジン（５ｍＬ）及びテトラヒドロフラン（５０ｍＬ）に溶解し、氷冷下で塩化プロピオニル（５．０ｇ）を滴下し、２４時間後、常法に従って後処理した。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル６０Ｎ：１００−２１０μｍ；関東化学社製）に供し、酢酸エチル／ｎ−ヘキサン（１／５）を移動相として精製し、目的とするロドデンドロール誘導体（３．３ｇ）を無色透明の油状物質として得た。１３Ｃ−ＮＭＲの結果を以下に示す。【００４８】
１３Ｃ−ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：１７３．９、１７２．８、１４８．８、１３８．８、１２９．０、１２１．２、６９．９、３７．３、３０．９、２７．５、２７．４、１９．７、８．９、８．７【００４９】
製造例４：４−（３−オクタノイルオキシブチル）フェニルオクタノエート
ロドデンドロール（５．０ｇ）を２００ｍＬナス型フラスコに入れ、ピリジン（７．５ｍＬ）及びテトラヒドロフラン（９２．５ｍＬ）に溶解し、氷冷下で攪拌しながら塩化オクチル（１２．５ｇ）を滴下し、４時間後、常法に従って後処理した。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル６０Ｎ：１００−２１０μｍ；関東化学社製）に供し、ｎ−ヘキサンを移動相として精製し、目的とするロドデンドロール誘導体（１１．３ｇ）を無色透明の油状物質として得た。１３Ｃ−ＮＭＲの結果を以下に示す。【００５０】
１３Ｃ−ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：１７３．５、１７２．５、１４８．９、１３９．０、１２９．２、１２１．４、７０．１、３７．６、３４．７、３４．４、３１．７、３１．７、３１．２、２９．１、２９．０、２８．９、２８．９、２５．１、２５．０、２２．６、２２．６、２０．１、１４．０、１４．０【００５１】
製造例５：４−（４−ヒドロキシフェニル）−２−ブタニルオクタノエート
ロドデンドロール（５．０ｇ）を２００ｍＬナス型フラスコに入れ、ピリジン（７．５ｍＬ）及びテトラヒドロフラン（９２．５ｍＬ）に溶解し、氷冷下で攪拌しながら塩化オクチル（１２．５ｇ）を滴下した。４時間後、常法に従って後処理し、粗生成物を得た。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル６０Ｎ：１００−２１０μｍ；関東化学社製）に供し、ｎ−ヘキサンを移動相として分画、精製した。得られた精製物（５．０ｇ）を２００ｍＬナス型フラスコに入れ、８０ｖｏｌ％アセトニトリル水溶液（１００ｍＬ）を加え、攪拌した。更に酢酸アンモニウム（６．０ｇ）を加え、５０℃で９６時間反応させた後、常法に従って後処理し、粗生成物を得た。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル６０Ｎ：１００−２１０μｍ；関東化学社製）に供し、酢酸エチル／ｎ−ヘキサン（１／４）を移動相として精製し、目的とするロドデンドロール誘導体（１．３ｇ）を無色透明の油状物質として得た。１３Ｃ−ＮＭＲの結果を以下に示す。【００５２】
１３Ｃ−ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：１７４．０、１５４．０、１３３．５、１２９．４、１１５．３、７０．３、３７．８、３４．７、３１．６、３０．８、２９．０、２８．８、２５．０、２２．５、１９．９、１３．９【００５３】
製造例６：４−（３−パルミトイルオキシブチル）フェニルパルミテート
ロドデンドロール（１．７ｇ）を２００ｍＬナス型フラスコに入れ、ピリジン（２ｍＬ）及びテトラヒドロフラン（５０ｍＬ）に溶解し、氷冷下で塩化パルミトイル（９．５ｇ）を滴下し、２４時間後、常法に従って後処理した。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル６０Ｎ：１００−２１０μｍ；関東化学社製）に供し、ｎ−ヘキサンを移動相として分画、精製し、目的とするロドデンドロール誘導体（３．７ｇ）を白色結晶として得た。１３Ｃ−ＮＭＲの結果を以下に示す。【００５４】
１３Ｃ−ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：１７３．１、１７２．０、１４８．８、１３８．８、１２８．９、１２１．３、６９．９、３７．５、３４．４、３４．２、３１．８、３１．１、２９．６、２９．６、２９．５、２９．４、２９．４、２９．３、２９．２、２９．２、２９．１、２９．０、２９．０、２５．０、２４．８、２２．６、１９．９、１４．０【００５５】
製造例７：４−（４−ヒドロキシフェニル）−２−ブタニルパルミテート
ロドデンドロール（１．７ｇ）を２００ｍＬナス型フラスコに入れ、ピリジン（２ｍＬ）及びテトラヒドロフラン（５０ｍＬ）に溶解し、氷冷下で塩化パルミトイル（９．５ｇ）を滴下し、２４時間後、常法に従って後処理した。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル６０Ｎ：１００−２１０μｍ；関東化学社製）に供し、ｎ−ヘキサンを移動相として精製した。得られた精製物（１．０ｇ）を２００ｍＬナス型フラスコに入れ、ＴＨＦ１００ｍＬに溶解させ、１ＮＮａＯＨ水溶液を滴下した。ＴＬＣで反応物の消失を確認した後、常法に従って後処理した。粗生成物を０．１Ｎ  ＫＯＨ水溶液に溶解し、室温で３０分攪拌した後、酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層を濃縮後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル６０Ｎ：１００−２１０μｍ；関東化学社製）に供し、酢酸エチル／ｎ−ヘキサン（１／９）を移動相として精製し、目的とするロドデンドロール誘導体（０．５ｇ）を白色結晶として得た。１３Ｃ−ＮＭＲの結果を以下に示す。【００５６】
１３Ｃ−ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：１７４．０、１５４．２、１３３．８、１２９．６、１１５．５、７０．６、３８．０、３５．０、３２．１、３１．１、２９．９、２９．９、２９．８、２９．７、２９．６、２９．５、２９．４、２５．３、２２．９、２０．２、１４．３【００５７】
試験例１（溶解性試験）
上記製造例１〜４で得られたロドデンドロール誘導体を用いて、下記に示す溶解性試験を行った。比較対照として、ロドデンドロール及び４−（３−ヒドロキシブチル）フェニルアセテートを比較例１及び２として用いた。【００５８】
試験方法
製造例１〜４及び比較例１〜２の各化合物（０．１ｇ）に、下記表１に示した溶媒（１ｍＬ）を加え、４０℃で１０分間加温後、室温に戻した。各溶液の上清を分取し、酢酸エチルで５０倍希釈したものを試料として、ガスクロマトグラフィーにより各溶解性を評価した。評価は１０〜１００ｍｇ／ｍＬの範囲で行った。
分析条件：カラム：ＤＢ−１（アジレントテクノロジー社製、３０ｍ×０．２５ｍｍ×０．２５ｍｍ）
オーブン：１３０℃  ｆｏｒ  ５ｍｉｎ、１３０℃  ｔｏ  ２６０℃  ａｔ  １０℃／ｍｉｎ
検出器：ＦＩＤ、２５０℃
試料導入：Ｓｐｌｉｔ、２５０℃、Ｓｐｌｉｔ  ｒａｃｉｏ  １：５０、１μＬ【００５９】
結果を下記表１に示す。【００６０】
【表１】
2010041417.tif 000008
【００６１】
表１より、本発明のロドデンドロール誘導体は、比較例１（ロドデンドロール）、比較例２（４−（３−ヒドロキシブチル）フェニルアセテート）と比べて低極性溶媒への溶解性が向上したことが分かる。また、製造例２と比較例２の比較から、ロドデンドロールにアシル基を付加させる場合、その付加させる位置により溶解性が異なり、本発明品は、比較例２よりも格段に溶解性が向上したことが確認された。また、製造例１〜４のＤＰＧやエタノールへの溶解性は、比較例１、２と同様に保持されていることが確認され、本発明品は汎用化粧品基剤に対して幅広い溶解スペクトルを有することが確認された。【００６２】
試験例２（一般細菌・真菌に対する抗菌力試験）
上記製造例２で得られたロドデンドロール誘導体を用いて、下記に示す抗菌力試験を行った。比較対象として、ロドデンドロール（比較例１）及びフェノキシエタノール（比較例３）を用いた。【００６３】
・試験方法
日本化学療法学会標準法の寒天平板希釈法に準じて、表２に示した各種微生物の最小発育阻止濃度（ＭＩＣ、単位：μｇ／ｍＬ）を測定することにより抗菌性を評価した。すなわち、評価試料（製造例２及び比較例１、３）を６２５〜１００００μｇ／ｍＬの範囲内の濃度となるように添加した培地を調製し、表２に示した各種微生物の増殖性をこれら培地を使用して評価した。培地及び培養条件は、（３）のＣａｎｄｉｄａ  ａｌｂｉｃａｎｓについてはグルコース・ペプトン寒天培地を用い、２５℃好気条件下で７２時間、その他についてはソイビーン・カゼイン・ダイジェスト寒天培地を用い、３０℃好気条件下で４８時間培養した後、それらの増殖性を確認した。【００６４】
【表２】
2010041417.tif 000009
【００６５】
その結果を表３に示した。【００６６】
【表３】
2010041417.tif 000010
【００６７】
表３の結果より、製造例２のロドデンドロール誘導体は、比較例２のロドデンドロールと比較して、全ての菌株においてＭＩＣ値が低いことから、非常に高い抗菌活性を有する優れた防腐殺菌剤であることが確認された。また、比較例３のフェノキシエタノールと比較すると、同程度のＭＩＣ値を示していることから、一般的な防腐抗菌剤として知られているフェノキシエタノールと同様に有用な防腐抗菌剤であることが示された。【００６８】
試験例３（ニキビ予防・改善作用に関する抗菌力試験）
上記製造例２で得られたロドデンドロール誘導体を用いて、下記に示す抗菌力試験を行った。比較対象として、ロドデンドロール（比較例１）及びレゾルシン（比較例４）を用いた。【００６９】
・試験方法
試験例２と同様にして試験を行った。すなわち、評価試料（製造例２及び比較例１、４）を６２５〜１００００μｇ／ｍＬの範囲内の濃度となるように添加した培地を調製し、Ｐｒｏｐｉｏｎｉｂａｃｔｅｒｉｕｍ  ａｃｎｅｓの増殖性をこれら培地を使用して評価した。培地としてブレイン・ハート・インフュージョン寒天培地を用い、３７℃嫌気条件下で７２時間培養した後、それらの増殖性を確認した。【００７０】
結果を表４に示した。【００７１】
【表４】
2010041417.tif 000011
【００７２】
表４の結果より、製造例２のロドデンドロール誘導体は、比較例１及び比較例４よりもＰｒｏｐｉｏｎｉｂａｃｔｅｒｉｕｍ  ａｃｎｅｓに対する抗菌力が非常に高いことが分かる。【００７３】
試験例４（ニキビ肌用皮膚外用剤）
下記表５に示す処方に従って、ニキビ肌用皮膚外用剤（化粧水）を調製し、その抗ニキビ効果を、以下に示す評価法に従って評価した。【００７４】
・評価方法（ニキビ改善効果）
顔面にニキビを有する１８才から３０才までの成人１０名（男性５名、女性５名）を１群として各評価試料を評価した。朝晩１日２回、同じ洗顔石鹸にて洗顔後、各々の評価試料をブラインドにて使用させた。使用開始前と使用１週間後の顔面のニキビ状態を目視並びに写真撮影にて比較し、症状の変化について「改善」「やや改善」「変化なし」「やや悪化」「悪化」の５段階にて評価した。【００７５】
・評価方法（ニキビ痕改善効果）
前記の「ニキビ改善効果」の評価者にサンプルの継続連用をしてもらい、使用開始から４週間後の顔面のニキビ痕の状態について、目視並びに写真撮影にて、１週間後の状態と比較し、その変化について「改善」「やや改善」「変化なし」「やや悪化」「悪化」の５段階にて評価した。【００７６】
結果を表５に示した。【００７７】
【表５】
2010041417.tif 000012
【００７８】
表５の結果より、実施例１は比較例５よりも、ニキビ改善効果及びニキビ痕改善効果において優れていた。【００７９】
試験例５（防臭作用に関する抗菌力試験例）
上記製造例２で得られたロドデンドロール誘導体を用いて、下記に示す抗菌力試験を行った。比較対象として、ロドデンドロール（比較例１）を用いた。【００８０】
・試験方法
試験例２と同様にして試験を行った。すなわち、評価試料（製造例２及び比較例１）を６２５〜１００００μｇ／ｍＬの範囲内の濃度となるように添加した培地を調製し、Ｃｏｒｙｎｅｂａｃｔｅｒｉｕｍ  ｘｅｒｏｓｉｓの増殖性をこれら培地を使用して評価した。培地及び培養条件は、ソイビーン・カゼイン・ダイジェスト寒天培地を用い、３０℃好気条件下で４８時間培養した後、それらの増殖性を確認した。【００８１】
その結果を表６に示した。【００８２】
【表６】
2010041417.tif 000013
【００８３】
表６の結果より、製造例２のロドデンドロール誘導体は、比較例１のロドデンドロールと比較してＭＩＣ値が低いことから、非常に高い抗菌活性を有する優れた防臭活性剤であることが示された。【００８４】
試験例６（メラニン生成抑制試験）
上記製造例１、製造例２で得られたロドデンドロール誘導体、及びロドデンドロール（比較例１）を用いて、下記に示すメラニン生成抑制試験を行った。【００８５】
・試験方法
Ｂ１６メラノーマ細胞を、１０ｖｏｌ％牛胎児血清含有ＭＥＭ培地で、１２穴培養プレートに１×１０４個／ｗｅｌｌとなるように播種し、常法にて２４時間前培養した。前培養後、試料（製造例１及び比較例１）を添加した試験培地と培地交換し、７２時間培養を行った。試験培地としては、上記の前培養用培地にテオフィリンを２ｍｍｏｌ／Ｌとなるように添加したものを使用した。培養後、１０ｖｏｌ％ジメチルスルホキシドを含有する１ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム水溶液に溶解させ、ＯＤ４７５値を測定しメラニン量とした。また同時に、Ｃｏｏｍａｓｉｅ  Ｐｌｕｓ  Ｐｒｏｔｅｉｎ  Ａｓｓａｙ  Ｒｅａｇｅｎｔ  Ｋｉｔ（ＰＩＥＲＣＥ社製）を用いて、溶解液の総タンパク質量を定量し、タンパク質量当たりのメラニン量を算出した。
・ＩＣ５０計算式
メラニン生成抑制率（％）＝（Ａ−Ｂ）／Ａ×１００
（但し、Ａ：試料無添加時のタンパク質量当たりのメラニン量、Ｂ：試料添加時のタンパク質量当たりのメラニン量）
横軸に濃度、縦軸にメラニン生成抑制率をプロットしたグラフを作成し、このグラフからメラニン生成を５０％抑制する濃度（ＩＣ５０）を求めた。【００８６】
結果を表７に示す。【００８７】
【表７】
2010041417.tif 000014
【００８８】
表７の結果から、本発明のロドデンドロール誘導体は、比較例１のロドデンドロールと比較して、同等のメラニン生成抑制効果を示すことが分かる。【００８９】
試験例７（美白実用試験）
上記製造例１、２で得られたロドデンドロール誘導体と、ロドデンドロールを配合したスキンクリームを用いて、下記に示す美白実用試験を行った。【００９０】
・試験方法
被験者２０名の前腕屈側部皮膚に、夏季の太陽光を３時間（１日１．５時間で連続２日間）曝露した。曝露後より被験者の左前腕屈側部皮膚には、下記表８の実施例２及び実施例３のスキンクリームを１日朝夕１回ずつ１３週間連続で塗布した。また被験者の右前腕屈側部皮膚には、下記表８の比較例６のスキンクリームを同様の条件で塗布した。最終塗布終了時に、左右の前腕屈側部皮膚の連用前後における美白の程度に関し、専門判定員により評価した。尚、評価は美白効果が確認された被験者を「美白効果あり」とし、その人数を示した。【００９１】
【表８】
2010041417.tif 000015
【００９２】
結果を下記表９に示す。この結果から、本発明のロドデンドロール誘導体を配合したスキンクリームは、比較例６のロドデンドロールを配合したスキンクリームと比較して、油剤への溶解性が向上したため、美白化粧料として非常に優れていることが分かる。なお、試験期間中、実施例２及び実施例３のスキンクリームを塗布した部位に、皮膚刺激反応及び皮膚感作反応が認められた被験者はおらず、本発明品が製剤の形態においても安全であることが確認できた。【００９３】
【表９】
2010041417.tif 000016
【００９４】
次に、製造例１〜７の化合物を用いて、下記の配合成分に従い、常法により各化粧料を製造した。【００９５】
実施例４（スキンローション）

原料成分                                          配合量（質量％）

エタノール                                          １０．０
モノラウリン酸ＰＯＥ（２０）ソルビタン                ５．０
フェノキシエタノール                                  ０．１
香料                                                  ０．０５
製造例２の化合物                                      ２．０
グリセリン                                            ５．０
キサンタンガム                                        ０．１
ヒドロキシエチルセルロース                            ０．１
精製水                                                残  量
【００９６】
実施例５（スキンクリーム）

原料成分                                          配合量（質量％）

グリセリンモノステアレート                            ２．０
ミツロウ                                              １．０
モノオレイン酸ＰＯＥ（２０）ソルビタン                ６．０
ワセリン                                              ４．０
流動パラフィン                                      １２．０
製造例１の化合物                                      ２．０
Ｎ−ステアロイル−Ｌ−グルタミン酸ナトリウム          １．０
カラギーナン                                          ０．３
メチルパラベン                                        ０．１
精製水                                                残  量
【００９７】
実施例６〜７（クリーム）

原料成分                                    配合量（質量％）
実施例６    実施例７

ステアリン酸                                    １．０      １．０
モノイソステアリン酸グリセリン                  ２．０      ２．０
ベヘニルアルコール                              ２．０      ２．０
サラシミツロウ                                  １．０      １．０
ミリスチン酸イソセチル                          １．０      １．０
イソステアリン酸ソルビタン                      １．０      １．０
パルミチン酸レチニル                            ０．１      ０．１
水素添加レシチン                                ０．１      ０．１
ユビデカレノン                                  ０．０３    ０．０３
フィトステロール                                ０．１      ０．１
植物スクワラン                                  ５．０      ５．０
水素添加ポリデセン                              ５．０      ５．０
炭酸ジカプリル                                  ５．０      ５．０
１，３−ブチレングリコール                      ５．０      ５．０
濃グリセリン                                    ５．０      ５．０
Ｎ−アセチルグルコサミン                        ０．１      ０．１
アスコルビン酸硫酸エステル二ナトリウム          ０．２      ０．２
γ−アミノ酪酸                                  ０．１      ０．１
Ｎ−ステアロイルグルタミン酸ナトリウム          ０．２      ０．２
グリチルリチン酸モノアンモニウム                ０．１      ０．１
エーデルワイスエキス（注３）                    ０．２      ０．２
酵母エキス（注４）                              ０．２      ０．２
アクリル酸・メタクリル酸アルキル共重合体（注５）０．０５    ０．０５
ニコチン酸アミド                                ０．１      ０．１
クレアチン                                      ０．２      ０．２
塩化カルニチン                                  ０．１      ０．１
火棘（注６）                                    ０．１      ０．１
製造例４の化合物                                ３．０        −
製造例７の化合物                                  −        １．０
精製水                                          残  量      残  量

（注３）エーデルワイスエキスＧＣ（ペンタファーム社製）
（注４）ディスムチンＢＴＪ（ペンタファーム社製）
（注５）ＰＥＭＵＬＥＮ  ＴＲ−１（Ｌｕｂｒｉｚｏｌ  Ａｄｖａｎｃｅｄ  Ｍａｔｅｒｉａｌｓ社製）
（注６）火棘抽出液（サントリー社製）【００９８】
実施例８（クリーム）

原料成分                                          配合量（質量％）

イソステアリン酸                                      １．０
モノイソステアリン酸グリセリン                        ２．０
ベヘニルアルコール                                    ２．０
サラシミツロウ                                        １．０
ミリスチン酸イソセチル                                １．０
イソステアリン酸ソルビタン                            １．０
パルミチン酸レチニル                                  ０．１
水素添加レシチン                                      ０．１
ユビデカレノン                                        ０．０３
フィトステロール                                      ０．１
植物スクワラン                                        ５．０
炭酸ジカプリル                                        ５．０
パラオキシ安息香酸メチル                              ０．２
１，３−ブチレングリコール                          １０．０
濃グリセリン                                          ５．０
Ｎ−アセチルグルコサミン                              ０．１
アスコルビン酸硫酸エステル二ナトリウム                ０．２
γ−アミノ酪酸                                        ０．１
Ｎ−ステアロイルグルタミン酸ナトリウム                ０．２
グリチルリチン酸モノアンモニウム                      ０．１
エーデルワイスエキス（注３）                          ０．２
酵母エキス（注４）                                    ０．２
アクリル酸・メタクリル酸アルキル共重合体              ０．０５
ニコチン酸アミド                                      ０．１
クレアチン                                            ０．２
塩化カルニチン                                        ０．１
アスコルビン酸リン酸エステルマグネシウム              ０．１
ディオスコリアコンポジタエキス（注７）                ０．１
ニワトコエキス（注８）                                ０．１
製造例６の化合物                                      １．０
精製水                                                残  量

（注７）ディオスコリアコンポジタ根エキス（三井化学社製）
（注８）ニワトコ抽出液ＢＧ（丸善製薬社製）【００９９】
実施例９〜１１（サンスクリーン）

原料成分                              配合量（質量％）
実施例９      実施例１０    実施例１１

ジオクチルエーテル          ２２．０      １５．０      １０．０
共変性シリコン（注９）        ２．０        ２．０        ２．０
トリ２−エチルヘキサン酸
グリセリル      −            −          ０．５
硬化油                          −            −          ０．１
メチルフェニルポリシロキサン    −          ３．０          −
マカデミアナッツ脂肪酸
フィトステリル      −            −          ２．０
酸化チタン                    ５．０          −          ４．０
酸化亜鉛                      ５．０          −          ４．０
メトキシケイ皮酸
エチルヘキシル  １０．０      １０．０      １０．０
製造例６の化合物              ０．５        ０．５        ０．５
フェノキシエタノール          ０．３        ０．３        ０．３
塩化マグネシウム              １．０        １．０        １．０
１，３−ブチレングリコール    ５．０        ５．０        ５．０
ローヤルゼリーエキス（注１０）１．０        １．０        １．０
アロエ抽出物（注１１）        ０．１        ０．１        ０．１
オウバクエキス（注１２）      ０．５        ０．５        ０．５
酵母エキス（注４）            １．０        １．０        １．０
精製水                        残  量        残  量        残  量

（注９）ＡＢＩＬ  ＥＭ９０（ゴールドシュミット社製）
（注１０）ローヤルゼリー（アピ社製）
（注１１）アロエ抽出ゲルＢＧ（丸善製薬社製）
（注１２）オウバク抽出液Ｊ（丸善製薬社製）【０１００】
実施例１２〜１４（美容液）

原料成分                              配合量（質量％）
実施例１２    実施例１３    実施例１４

共変性シリコン（注９）      ２．０        ２．０        ２．０
ＰＯＥ変性シリコン
分散液（注１３）        −          ２．０          −
スクワラン                    −            −        １０．０
デカメチルシクロ
ペンタシロキサン    １５．０      ２０．０      １０．０
メチルポリシロキサン
（１００ｃｓ）    ５．０        ２．０        ３．０
長鎖分岐脂肪酸
コレステリル（注１４）    −            −          ２．０
シリコンエラストマー
分散液（注１５）    ５．０        ２．０          −
製造例３の化合物            ０．０１      ０．１        ０．５
パラオキシ安息香酸
メチルエステル      ０．０５      ０．０５      ０．０５
塩化ナトリウム              １．０        １．０        １．０
ジプロピレングリコール      ５．０        ５．０        ５．０
濃グリセリン                ５．０        ５．０        ５．０
ラフィノース                １．０        １．０        １．０
混合異性化糖（注１６）      １．０        １．０        １．０
甘草抽出物（注１７）        ０．１        ０．１        ０．１
Ｎ−メチル−Ｌ−セリン      ０．５        ０．５        ０．５
精製水                      残  量        残  量        残  量

（注１３）シリコンＢＹ２２−００８（東レ・ダウコーニングシリコーン社製）
（注１４）ＹＯＦＣＯ  ＣＬＥ−ＮＨ（日本精化社製）
（注１５）トレフィル（東レ・ダウコーニングシリコーン社製）
（注１６）ＰＥＮＴＡＶＩＴＩＮ（ペンタファーム社製）
（注１７）カンゾウ抽出液（丸善製薬社製）【０１０１】
実施例１５〜１７（化粧水）

原料成分                                配合量（質量％）
実施例１５    実施例１６    実施例１７

製造例２の化合物              １．０        ０．１        ０．０１
フェノキシエタノール          ０．２        ０．２        ０．２
１，３−ブチレングリコール    ０．１        ０．３        ０．３
ジプロピレングリコール        ５．０          −          ５．０
ラフィノース                    −          ５．０        ５．０
ヒアルロン酸ジメチル
シラノール液（注１８）    ０．１        ０．１        ０．１
ＭＰＣポリマー（注１９）      ０．１        ０．１        ０．１
エタノール                      −            −          １．０
ペクチン                        −            −          ０．０５
キサンタンガム                  −            −          ０．０１
クエン酸ナトリウム            ０．０５      ０．０５      ０．０５
スギナ抽出物（注２０）        ０．１        ０．１        ０．１
ジイソプロピルアミン
ジクロロアセテート    ０．２        ０．２        ０．２
酢酸ｄｌ−α−トコフェロール  ０．１        ０．１        ０．１
γ−アミノ−β−
ヒドロキシ酪酸            ０．２        ０．２        ０．２
ヒアルロン酸ナトリウム        ０．００１    ０．００１    ０．００１
グリチルリチン酸ジカリウム    ０．２        ０．２        ０．２
ペンタペプチド−３（注２１）  ０．０５      ０．０５      ０．０５
デカルボキシカルノシン塩酸塩  ０．０５      ０．０５      ０．０５
香料                          ０．０２      ０．０２      ０．０２
精製水                        残  量        残  量        残  量

（注１８）ＤＳＨＣ−Ｎ（ＥＸＹＭＯＬ社製）
（注１９）リピデュアＰＭＢ（日本油脂社製）
（注２０）スギナ抽出液（丸善製薬社製）
（注２１）ＭＡＴＲＩＸＹＬ（クローダジャパン社製）【０１０２】
実施例１８（乳液）

原料成分                                        配合量（質量％）

メチルフェニルポリシロキサン（注２２）            ３．０
炭酸ジカプリル                                    １．０
オリーブ油                                        １．０
メドフォーム油                                    ０．１
モノラウリン酸ＰＯＥ（２０）ソルビタン            ０．５
ニコチン酸ｄｌ−α−トコフェロール                ０．０１
ＰＯＥ（６０）硬化ヒマシ油                        ２．０
シア脂（注２３）                                  ０．０１
テトライソパルミチン酸アスコルビル                ０．１
Ｎ−アセチルグルコサミン                          ０．０２
酵母エキス（注４）                                ３．０
１，３−ブチレングリコール                        ３．０
ソルビトール液                                    ３．０
ポリエチレングリコール１０００                    １．０
カルボキシビニルポリマー                          ０．１
製造例５の化合物                                  ０．０１
パラオキシ安息香酸メチル                          ０．２
シロキクラゲ多糖（注２４）                        ０．０５
エデト酸ナトリウム                                ０．０２
水酸化カリウム                                    ０．０５
キサンタンガム                                    ０．０５
ポリアクリル酸アミド（注２５）                    ０．０１
精製水                                            残  量

（注２２）コスメサーブＷＰ−５８ＭＰ（大日本化成社製）
（注２３）クロピュアＳＢ（クローダジャパン社製）
（注２４）Ｔｒｅｍｏｉｓｔ−ＴＰ（日本精化社製）
（注２５）コスメディアＳＰ（コグニス社製）【０１０３】
本発明のロドデンドロール誘導体を、実施例４〜１８の化粧料製剤へ応用することができ、またこれらを使用することにより優れた美白作用、防腐抗菌作用、ニキビ予防・改善作用及び防臭作用が発現される。
【産業上の利用可能性】
【０１０４】
本発明のロドデンドロール誘導体は、溶解性が向上したことにより、幅広い剤型、例えば、ローション類、乳液類、クリーム類、パック類、入浴剤等の化粧料に応用することが可能である。また、本発明のロドデンドロール誘導体は優れた美白作用、防腐抗菌作用、ニキビ予防・改善作用及び防臭作用を有することから、本発明のロドデンドロール誘導体を配合した皮膚外用剤の使用により皮膚の美容の面において非常に有用である。
【国際調査報告】
2010041417.tif 000026
2010041417.tif 000027
2010041417.tif 000028
2010041417.tif 000029