【事件の表示】
　特許第３００７９６１号「金属酸化物薄膜の製造方法」の請求項１ないし７に係る特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結　論】
　訂正を認める。
　特許第３００７９６１号の請求項１ないし２に係る特許を維持する。
【理　由】
　
Ｉ．手続の経緯
　
　本件特許第３００７９６１号は、平成１０年３月１３日に特許出願され、平成１１年１２月３日にその請求項１〜７に係る発明について特許の設定登録がなされ、その後、日本板硝子株式会社により全請求項に係る特許について特許異議の申立てがなされ、当審より取消理由通知がなされ、その指定期間内である平成１３年７月１９日に訂正請求がなされたものである。
　
　
II．訂正の適否
　
１．訂正の内容　
　本件特許明細書を訂正請求書に添付した訂正明細書のとおりに訂正する。
　即ち、
　訂正ａ：
　特許請求の範囲の請求項１の冒頭に「有機酸金属塩及び有機金属錯体の少なくとも１種」とあるを、「ナフテン酸コバルト、ナフテン酸バナジウム、オクチル酸ニッケル、オクチル酸鉛、オクチル酸マンガンおよびオクチル酸コバルトからなる群より選ばれた少なくとも１種の有機酸金属塩」に訂正する。
　訂正ｂ：
　特許請求の範囲の請求項２〜６を、削除する。
　訂正ｃ：
　特許請求の範囲の請求項７の文中に「請求項１〜６のいづれかに記載の」とあるを、「請求項１に記載の」に訂正する。
　
２．訂正の目的の適否、新規事項の有無および拡張・変更の存否
　訂正ａは、（訂正前の）請求項１の記載において、上位概念的に記載されていた化合物を、具体的な個々の化合物に限定するものであるから、特許請求の範囲の減縮に当たる。
　又、訂正ｂは、（訂正前の）請求項２〜６を削除するものであるから、特許請求の範囲の減縮に当たる。
　又、訂正ｃは、（訂正前の）請求項７の記載において、（訂正前の）請求項１〜６を引用していたのを、上記ａ，ｂの訂正に伴い、（訂正後の）請求項１のみを引用する形に訂正しつつ、請求項番号を繰り上げて請求項２としたものであるから、減縮された（訂正後の）請求項１を引用するという点では、特許請求の範囲の減縮に当たるが、その余の点は、専ら、訂正ｂとの整合を図るもので、明りょうでない記載の釈明に当たる。
　而して、訂正ａ及び訂正ｃ（但し、そのうちの、減縮された請求項１を引用する部分）における化合物の限定は、（訂正前の）明細書の【００３４】，【００３８】，【００４１】，【００４２】，【００４４】の記載に根拠をおいており、いわゆる新規事項には当たらないし、実質上特許請求の範囲を拡張又は変更するものでもない。又、訂正ｂ及び訂正ｃ（上記以外の部分）は、請求項の単なる削除ないし訂正ｂとの単純な整合を図るものに過ぎないから、いわゆる新規事項には当たらないし、実質上特許請求の範囲を拡張又は変更するものでもない。
　
３．むすび
　よって、上記訂正は、特許法第１２０条の４第２項及び同条第３項で準用する特許法第１２６条第第２項及び第３項の規定に適合するので、当該訂正を認める。
　
　
III．特許異議申立てについて
　
１．特許異議申立ての理由の概要
　特許異議申立人は、証拠として下記甲第１〜４号証を提示して、（ｉ）本件請求項１〜７に係る発明は、甲第１〜３号証に記載の発明に該当し、又は、それらに基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであり、又、本件請求項１に係る発明は、甲第４号証に記載の発明にも該当し、又は、それに基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、本件請求項１〜７に係る発明は、特許法第２９条第１項又は第２項の規定により特許を受けることができないものであり、又、（ii）本件明細書には特許法第３６条第４，５項に違反する記載不備がある旨主張する。
　　　　　　　　　　　　　　　　　記
　甲第１号証：特開平０２-２３６２８４号公報
　甲第２号証：特開平０６-１９１８９６号公報
　甲第３号証：特開平０１-１１１８８０号公報
　甲第４号証：「日本セラミックス協会１９９６年会講演予稿集」社団法人　　　　　　　日本セラミックス協会（1996-4-2），p.290
　
２．本件発明　
　訂正後の本件請求項１，２に係る発明（以下、それぞれ、「本件発明１」，「本件発明２」という。）は、訂正明細書の記載からみて、その特許請求の範囲の請求項１，２に記載された次のとおりのものである。
「【請求項１】ナフテン酸コバルト、ナフテン酸バナジウム、オクチル酸ニッケル、オクチル酸鉛、オクチル酸マンガンおよびオクチル酸コバルトからなる群より選ばれた少なくとも１種の有機酸金属塩を含む溶液を基板上に塗布し、得られた塗膜に対し紫外線照射を行った後、塗膜を350〜550℃で熱分解させて、基板に密着した均一な金属酸化物薄膜を形成させることを特徴とする金属酸化物薄膜の製造方法。
　【請求項２】基板が、透明性基板である請求項１に記載の製造方法。」　
　
３．甲各号証に記載の事項　
〈甲第１号証〉
　ア．「基材上に、有機金属化合物が含まれた塗布液を塗布して被膜を形成し、次いでこの被膜に、該被膜中に含まれる有機金属化合物を分解するための処理を施した後に加熱することを特徴とする金属酸化物被膜の形成方法。」（特許請求の範囲）
　イ．「本発明によれば、ピンホール、ボイドがほとんどなく、しかも水分を吸着することがない緻密で均一な被膜を基材上に形成することができる」（２頁右上欄９〜１４行）
　ウ．「塗布液としては、具体的には、Ａl、Ｔi、Ｚr、Ｓn、Ｉn等の金属のアルコキシド、β-ジケトン金属錯体または金属セッケン等の単独あるいは混合物、または…（中略）…有機ケイ素化合物あるいはこれらの部分加水分解物をアルコール、エーテル、エステルなどの有機溶媒に溶解または分散した塗布液がある。」（２頁左下欄８〜２０行）
　エ．「被膜中に含まれる有機金属化合物を分解するために被膜に施す処理は、具体的には下記のようにして行うことができる。
　(ａ) 被膜に紫外線、赤外線、Ｘ線、マイクロ波などの活性線を照射する。」（２頁右下欄１３〜１７行）
　オ．「上記のようにして被膜上に含まれる有機金属化合物を分解するための処理を被膜に施した後に、被膜を３００〜４５０℃程度の温度で加熱焼成する」（
３頁右上欄９〜１２行）
　
〈甲第２号証〉
　カ．「ガラス基板上に塗布液を…（中略）…塗布した後、光照射および／または乾燥した後、…（中略）…焼成することを特徴とする薄膜付窓ガラスの製造方法。」（特許請求の範囲【請求項１】）
　キ．「本発明で使用する光によりゲル化する塗布液としては、キレート化剤と、キレート化剤の存在下で光りによりゲル化される金属アルコキシドとを含む塗布液が挙げられる。」（３頁４欄１０〜１３行）
　ク．「焼成により…（中略）…ガラス基板との付着強度が高くなる。」（５頁８欄１２〜１４行）
　ケ．「上述の光（紫外線）照射時間、加熱時間は生成する着色薄膜の特性を考慮して決めればよい。光（紫外線）は１０秒から１０分、加熱は１〜６０分、加熱温度は１２０〜６８０℃程度が好ましい。」（５頁８欄【００５７】）
　
〈甲第３号証〉
　コ．「塗布法によって金属酸化膜を形成するに際し、基板上に金属酸化膜形成用塗布液を塗布し、乾燥して得られる金属酸化膜形成被膜に対し、紫外線を照射することを特徴とする金属酸化膜の形成方法。」（特許請求の範囲）
　サ．「本発明の方法で使用される金属酸化膜形成用塗布液としては、…（中略）…例えば（１）(イ)β-ジケトンと錯体を形成する金属元素、その金属元素の塩およびアルコキシドの加水分解物の中から選ばれる少なくとも１種を、(ロ)β-ジケトンと(ハ)非プロトン性極性溶剤とから成る混合溶液に溶解することで得られるもの、(２) β-ジケトンの金属錯体をβ-ジケトンと非プロトン性極性溶剤とから成る混合溶液に溶解することで得られるもの、そして (３) β-ジケトンの金属錯体を非プロトン性極性溶剤に溶解することで得られるものなどが好ましい金属酸化膜形成用塗布液として使用できる。
　ここで、(１)の方法で使用されるβ-ジケトンと錯体を形成する金属元素としては、銅などの周期律表第Ｉｂ族元素、ベリリウム、マグネシウム、カルシウム、ストロンチウム、バリウムなどの周期律表第IIａ族元素、亜鉛、カドミウムなどの周期律表第IIｂ族元素、ランタン、セリウム、スカンジウム、イットリウムなどの周期律表第IIIａ族元素、アルミニウム、ガリウム、インジウム、タリウムなどの周期律表第IIIｂ族元素、チタン、ジルコニウム、ハフニウムなどの周期律表第IＶａ族元素、ゲルマニウム、スズ、鉛などの周期律表第IＶｂ族元素、バナジウム、ニオブ、タンタルなどの周期律表第Ｖａ族元素、アンチモン、ビスマスなどの周期律表第Ｖｂ族元素、クロム、モリブデン、タングステンなどの周期律表第ＶIａ族元素、マンガン、レニウムなどの周期律表第ＶIIａ族元素、鉄、コバルト、ニッケルなどの周期律表第ＶIII族元素を挙げることができる。またこれらの金属元素の塩酸塩、硝酸塩、硫酸鉛などの無機塩類、および酢酸塩、オクチル酸塩などの有機塩類、アセチルアセトン錯塩などのβ-ジケトン錯塩類、ビスシクロペンタジエニル錯塩類なども使用することができる。さらにこれらの金属元素の少なくとも１種の金属元素のアルコキシドの加水分解物も使用することができる。」（２頁左下欄２行〜３頁左上欄４行）
　シ．「本発明の金属酸化膜の形成方法では…（中略）…密着性および均一性に優れた金属酸化膜形成被膜を形成することができる。」（４頁６〜１７行）
　
〈甲第４号証〉
　ス．「β-ジケトンで化学修飾された金属アルコキシドから得られるＺrＯ２、ＴiＯ２、Ａl２Ｏ３ゲル膜の光感応性を利用すると、薄膜の微細加工ができることをすでに明らかにしている。本研究では、この方法を二成分系非晶質薄膜に適用することを目的として、ベンゾイルアセトンＢzＡcＨで化学修飾されたＡl(Ｏ-sec-Ｂu)３とＳi(ＯＥt)４から得られるＡl２Ｏ３-ＳiＯ２系ゲル膜について、紫外線に対する光感応性および微細パターニングの可能性を検討した。」（２９０頁［目的］の項）
　セ．「図２にソーダ・石灰ガラス基板上にパターニングされたＡl２Ｏ３-ＳiＯ２系ゲル膜の表面粗さ粗さ計による表面状態を示す。…（中略）…これらのゲル膜を400℃で20分間熱処理すると、有機物の消失、緻密化が起こり、パターニングされたＡl２Ｏ３-ＳiＯ２系非晶質薄膜が得られた。」（２９０頁(下から)８〜１行）
　
４．対比・判断　
　特許異議申立てに係る訂正前の本件請求項１〜７のうち、請求項２〜６は、（上記IIで述べたとおり）訂正により削除された。そこで、以下における検討は、訂正後の請求項１，２に係る発明、即ち、本件発明１，２について行う。
 　
(１) 特許法第２９条第１項違反について
　本件発明１は、上記III．２で認定したことから明らかなように、基板上に金属酸化物薄膜を製造する方法において、塗布液として、「ナフテン酸コバルト、ナフテン酸バナジウム、オクチル酸ニッケル、オクチル酸鉛、オクチル酸マンガンおよびオクチル酸コバルトからなる群より選ばれた少なくとも１種の有機酸金属塩」（以下、「“本件所定の有機酸金属塩”」という。）を含む溶液を基板上に塗布して得られた塗膜に、紫外線照射と所定温度での熱分解処理を行い、これにより、基板上に密着した均一な金属酸化物薄膜を形成することを骨子とするものである。
　
　これに対し、甲第１〜４号証には、前記III．３．ア〜セに摘示したことから明らかなように、その何れにも、基板上に金属酸化物薄膜を製造する方法において、基板上に塗布液を塗布後、紫外線照射と（本件発明１の）上記所定温度と一致する温度での熱分解処理を行うことが記載されているとともに、甲第２，３号証には、上記の各処理により基板と薄膜の密着性が向上することが、更に又、甲第１，３号証には、上記の処理により薄膜の均一性が向上することが記載されており、従って、これら記載の点では、甲各号証に記載のものは、それぞれ、本件発明１と共通する内容を有することが認められる。
　
　しかし、塗布液の成分の点についてみると、本件発明１では、塗布液に、「ナフテン酸コバルト」ほか請求項１に規定された所定の化合物である“本件所定の有機酸金属塩”を含有させるのに対し、先ず、甲第２号証に記載のものでは、「キレート化剤」＋「金属アルコキシド」を含有させ（前記III．３．キ参照）、又、甲第４号証に記載のものでは、「ベンゾイルアセトン」で化学修飾された「Ａl(Ｏ-sec-Ｂu)３」と「Ｓi(ＯＥt)４」を含有させる（前記III．３．ス参照）のであるから、これら甲第２，４号証に記載のものの塗布液成分は、（訂正前の本件請求項１に記載されていた「有機金属錯体」との該当性は論じる余地があるにせよ）訂正後の本件発明１の塗布液成分たる“本件所定の有機酸金属塩”とは明確に異なる物質であることは論ずるまでもなく明らかである。
　
　次に又、甲第１号証に記載のものでは、塗布液に、「金属のアルコキシド」、「β-ジケトン金属錯体」、「金属セッケン」、「有機ケイ素化合物」又はこれらの「部分加水分解物」を含有させ（前記III．３．ウ参照）、又、甲第３号証に記載のものでは、(１)「β-ジケトンと錯体を形成する金属元素」、「その塩」（なお、該塩の金属元素の例として「鉛」、「バナジウム」、「マンガン」、「コバルト」、「ニッケル」ほかが挙げられ、又、該塩の例として「オクチル酸塩」ほかが挙げられている。）又は「（その）アルコキシドの加水分解物」のうちの一種＋「β-ジケトン」、(２)「β-ジケトンの金属錯体」＋「β-ジケトン」、又は、(３)「β-ジケトンの金属錯体」を含有させる（前記III．３．サ参照）のであるから、これら甲第１，３号証に記載の塗布液成分も、（そのうちの下記〔ａ〕，〔ｂ〕、即ち、
　〔ａ〕（甲第１号証に記載の）「金属セッケン」、
　〔ｂ〕（甲第３号証に記載の上記(１)における）「鉛」、「バナジウム」、「マンガン」、「コバルト」、「ニッケル」ほかの金属元素の「塩」の例としての「オクチル酸塩」
についてのみは、若干の検討を要するので以下において別途取り上げるとするが、少なくとも上記〔ａ〕，〔ｂ〕以外のものは、）やはり、本件発明１における塗布液成分たる“本件所定の有機酸金属塩”とは明確に異なる物質であることは論ずるまでもなく明らかである。
　
　そこで、以下、上で別途取り上げるとしたものについて検討するに、先ず、（甲第１号証の）上記〔ａ〕に挙げた「金属セッケン」は、一般に、“脂肪酸、樹脂酸、ナフテン酸などのアルカリ塩以外の金属塩”をいうのである（「化学大辞典[２]」共立出版（1960-6-30初版）p.919参照）から、これ自体は、概念上、本件発明１における“本件所定の有機酸金属塩”より遙かに上位の金属塩に当たるものでしかない。しかも、甲第１号証には、該「金属セッケン」については、単に、それが使える旨のいわゆる一行記載があるのみで、その具体例については、“本件所定の有機酸金属塩”はもとより、如何なる化合物も示されてはいない。（因みに、甲第１号証の実施例では、むしろ、「金属セッケン」以外の塗布液成分として挙げている「有機ケイ素化合物」及び「β-ジケトン金属錯体」に属する化合物の例のみが記載されるに止まるのである。）又、「金属セッケン」なる概念に包含される化合物のすべてが、甲第１号証に記載の発明にとって有効なものであることを認めるに足る理論的根拠が記載されている訳でもない。してみれば、甲第１号証に「金属セッケン」なる記載があるからといって、この「金属セッケン」を、本件発明１の“本件所定の有機酸金属塩”と同一のものとみることはできないし、又、もとより、かかる記載をもって、“本件所定の有機酸金属塩”という所定の化合物を塗布液成分として用いることによって基板上の金属酸化物薄膜の密着性及び均一性を高める、という本件発明１の技術思想が甲第１号証に開示されているものとみることもできない。
　
　次に、（甲第３号証の）上記〔ｂ〕に挙げた塗布液成分について検討するに、該塗布液成分を例示した箇所に「金属元素の塩」を構成し得る金属元素として挙げられたもののうち、「鉛」、「バナジウム」、「マンガン」、「コバルト」、「ニッケル」は、“本件所定の有機酸金属塩”の金属元素と一致し、又、同じく、該「金属元素の塩」の例として挙げられたもののうち、「オクチル酸塩」は、“本件所定の有機酸金属塩”のうちの各オクチル酸塩と同一の酸基(即ち、オクチル酸基）を有する金属塩である、ということができる。
　しかし、甲第３号証の上記「鉛」〜「ニッケル」の金属元素と「オクチル酸塩」〔注．金属元素との組み合わせの真の相手を表すには、むしろ、“オクチル酸基”と記すべきであるが、甲第３号証にはかかる用語の記載はないので、甲際３号証の記載振りに合わせた形で論述すべく、ここでは、単に「オクチル酸塩」と記載した。以下の論述においても、同様に、（“酸基”に着目しながらも）単に、（当該“酸基”を含む）「塩」を記載することがある。但し、その場合は、適宜、括弧書きで酸基名を併記する。〕とは、甲第３号証において、相互が実際に組み合わせられた形で示されている訳ではなく、単に、金属元素の例として、及び、該金属元素の塩の例として、それぞれ別の文脈において、しかも、それぞれ、いわば多種・多数の列挙の中に混じって示されているに過ぎない（２頁左下欄１９行〜右下欄１６行、及び、同頁右下欄１７行〜３頁１行参照）。
　因みに、甲第３号証には、上記文脈の箇所以外にも、実施例の記載（５頁１４行以下）中にも塗布液についての記載があり、該実施例では、一応３例の具体的塗布液が記載されてはいる。しかし、これらは製品記号でのみ記載されていて、該製品記号の塗布液の成分は、該製品記号を手がかりとして行われた当審の職権調査によるも不明である。もっとも、これらの製品記号の塗布液は、それぞれ、ＴiＯ２-ＳiＯ２系被膜、ＴiＯ２被膜及びＡl２Ｏ３被膜の形成用塗布液であるとされていることからすれば、これらの塗布液が、本件発明１の上記「鉛」〜「ニッケル」の金属元素を含有する可能性は、（特にその旨の特記もない以上）ないものと認めるのが相当である。
　しかも、甲第３号証における（金属元素或いは該金属元素の塩の）上記例示は、金属元素については、周期律表第IIａ族〜第ＶIII族迄という（僅かにアルカリ金属（Ｉａ族）のみを除く）略ぼすべての族の、しかもそれら各族に属する殆どすべての金属元素をいわば網羅的に羅列しただけのものに過ぎず、又、金属元素の塩についても、諸種の「無機塩類」のみならず、「有機塩類」及び「錯塩類」でもよいと、やはりいわば網羅的に塩の種類を列挙しているのである。従って、ここに挙げられた各金属元素と各種の塩（注．正確には、該塩の酸基）との論理的に可能な組み合わせは、実に膨大な数に上るといわなければならないが、それだけ膨大な数の組み合わせのいずれもが当該発明にとって有効であるとするには、質・量的にそれなりの充実した説明（例．多種の実例の提示ないしはそれに代わり得べき論理的説明等）が求められるべきところ、甲第３号証には、実施例として、上述したように、実体不明な製品記号名による例示が３例記されるのみであり、また、かかる記載の不十分さを補い得る論理的説明がある訳でもない。
　要するに、甲第３号証には、「鉛」〜「ニッケル」の金属元素と「オクチル酸塩」（注．オクチル酸基）とを具体的に組み合わせた化合物が記載されている訳でも、又、該組み合わせが、当該発明にとって確かに有効であるとする根拠が示されている訳でもない。
　
　更に言えば、そもそも、甲第３号証の上記〔ｂ〕の塗布液成分は、前記III．３．サにみるように、必ず「β-ジケトン」と共に加えられて当該塗布液を構成しているのであり、しかも、該〔ｂ〕の塗布液成分たる「金属元素の塩」における「金属元素」とは、「β-ジケトンと錯体を形成する」ものとされているのであるから、当該塗布液における「金属元素の塩」と「β-ジケトン」とは、当然、塗布液内での反応により、「β-ジケトンの金属錯体」を生成する筈のものであり、又、正に、該「β-ジケトンの金属錯体」の生成が意図されているものと解されるところである。（因みに、このことは、上記〔ｂ〕の塗布液成分を含む(１)の塗布液に続けて挙げられた(２)及び(３)の塗布液が、何れも、やはり「β-ジケトンの金属錯体」を主成分とし、それを利用するものであることとも整合する。）従って、該塗布液に、「金属元素の塩」と「β-ジケトン」とが、もし、当量関係で加えられた場合はもとより、たとえ、非当量関係でも「β-ジケトン」過剰という形で加えられた場合には、（反応の未完結とか、平衡点が生成側に偏ってないとかの特殊な事情でもない限り、）当初の「金属元素の塩」が、塗布液中にそのまま残存することは考えられない。しかるに、甲第３号証には、上記(１)の塗布液を、（上とは逆の非当量関係である）「金属元素の塩」過剰という形で特に作製するなどということについての記載も、又、その示唆も見出せない（むしろ、(１)の塗布液に続けて挙げられた(２)の塗布液では、「β-ジケトン金属錯体」＋「β-ジケトン」というように、いわば「β-ジケトン」過剰の形がとられ、又、(３)の塗布液では、（溶媒以外は）「β-ジケトン金属錯体」のみ、という、いわば当量関係の形がとられているのである。）し、又、反応の未完結等を利用して「金属元素の塩」を特に塗布液中に残存させるなどということについての記載ないし示唆がある訳でもない。従って、甲第３号証には、少なくとも、上記(１)の塗布液に「金属元素の塩」を特に残存させてそれを利用するという技術思想は、何も開示されていないと認めるのが相当である。
　
　以上のとおりであるから、甲第３号証における記載は、本件発明１の「ナフテン酸コバルト」や「オクチル酸ニッケル」ほかの“本件所定の有機酸金属塩”を塗布液成分として用いることによって基板上の金属酸化物薄膜の密着性及び均一性を高める、という本件発明１の技術思想を開示するものということはできない。
　
　従って、本件発明１が、甲第１〜４号証に記載の発明に該当するという特許異議申立人の主張には理由がないものというほかない。
　
　次に、本件発明２は、本件発明１に更に所定の限定を付加した内容のものであるから、上述したように、本件発明１が甲第１〜４号証に記載の発明に該当すると言えない以上、本件発明２も甲第１〜４号証に記載の発明に該当するということはできない。
　
 (２) 特許法第２９条第２項違反について
　特許異議申立人は、特許法第２９条第２項違反の主張の証拠として、訂正前の本件請求項１に係る発明に対しては甲第１〜４号証を、又、訂正前の本件請求項２〜７に係る発明に対しては甲第１〜３号証を挙げる。
　しかし、先ず、（訂正前の本件請求項１に対応する）本件発明１との対比で述べるならば、甲第１〜４号証に記載のものは、上記（１）で検討したように、塗布液に、「ナフテン酸コバルト」や「オクチル酸ニッケル」ほかの“本件所定の有機酸金属塩”を含有させる構成を有さない点で、本件発明１と相違し、従って又、甲第１〜４号証のいずれのものも、塗布液に上記“本件所定の有機酸金属塩”を含有させることにより基板上の金属酸化物薄膜の密着性及び均一性を高める、という本件発明１に該当するものではないことは、既に述べたとおりである。
　しかも、特許異議申立人は、単に特許法第２９条第２項違反であるとの結論を主張するのみで、甲第１〜４号証に記載のものからどのような契機により、又、相互のどのような結合により本件発明１を容易に構築し得るのかという論拠については、何ら明確に述べるところがない。そして、甲第１〜４号証に記載のものとの対比における上記相違点に係る本件発明１の構成を導き出し、且つ、この構成を、基板上の金属酸化物薄膜の密着性及び均一性を高めるために、（相違点以外の）残余の構成と結合して本件発明１を構築することを当業者に容易なこととさせるに足る記載は、甲第１〜４号証のどこにも見出すことはできない。従って、本件発明１が甲第１〜４号証に記載の発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものとすることはできない。
　
　次に、（訂正前の本件請求項７に対応する）本件発明２は、本件発明１に更に所定の限定を付加した内容のものであるから、上述したように、本件発明１が甲第１〜４号証に記載の発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものといえない以上、本件発明２が甲第１〜３号証に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものということはできない。
　
(３) 特許法第３６条違反について
　この点に関する特許異議申立人の主張は、要するに、本件各請求項に記載の化合物の概念的広さに比べて、本件明細書の実施例に記載の具体例が乏し過ぎるというものであるが、訂正により、本件発明１，２における化合物は、本件明細書の実施例に具体的に挙げられた化合物のみに限定された。従って、特許異議申立人の主張する記載不備は解消された。
　
５．むすび　
　以上のとおりであるから、特許異議申立ての理由及び証拠によっては、本件発明１，２に係る特許を取り消すことはできない。
　また、他に本件発明１，２に係る特許を取り消すべき理由を発見しない。
　よって、結論のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１３年１２月７日（２００１．１２．７）
【訂正の要旨】
　訂正の要旨
　特許第３００７９６１号の明細書を、特許請求の範囲の減縮及び明りょうでない記載の釈明を目的として、訂正請求書に添付した訂正明細書のとおりに訂正する。
　即ち、
　訂正ａ：
　特許請求の範囲の請求項１の冒頭に「有機酸金属塩及び有機金属錯体の少なくとも１種」とあるを、特許請求の範囲の減縮を目的として、「ナフテン酸コバルト、ナフテン酸バナジウム、オクチル酸ニッケル、オクチル酸鉛、オクチル酸マンガンおよびオクチル酸コバルトからなる群より選ばれた少なくとも１種の有機酸金属塩」に訂正する。
　訂正ｂ：
　特許請求の範囲の請求項２〜６を、特許請求の範囲の減縮を目的として、削除する。
　訂正ｃ：
　特許請求の範囲の請求項７の文中に「請求項１〜６のいづれかに記載の」とあるを、特許請求の範囲の減縮及び明りょうでない記載の釈明を目的として、「請求項１に記載の」に訂正する。
（５４）【発明の名称】
金属酸化物薄膜の製造方法
（５７）【特許請求の範囲】
　【請求項１】　
ナフテン酸コバルト、ナフテン酸バナジウム、オクチル酸ニッケル、オクチル酸鉛、オクチル酸マンガンおよびオクチル酸コバルトからなる群より選ばれた少なくとも１種の有機酸金属塩
　
【請求項２】　基板が、透明性基板である請求項１に記載の製造方法。
【発明の詳細な説明】
　【発明の属する技術分野】本発明は、金属酸化物薄膜の製造方法に関する。
　【従来技術】種々の金属酸化物の薄膜を各種の基板表面にコーティングする技術は、金属酸化物薄膜を電子素子、光学素子、薄膜触媒、ガスセンサ素子等の各種デバイスに応用する上できわめて重要である。
　従来、金属酸化物薄膜を作製する方法としては、例えばスパッタリング法、真空蒸着法、ゾル−ゲル法、金属石鹸（有機酸金属塩）又は有機金属錯体の熱分解法等が知られている。この中で、スパッタリング法は、高真空雰囲気下で薄膜調製を行う必要があり、また金属酸化物又は金属のターゲットを用いて所望の金属酸化物組成をもつ薄膜を得るためにはスパッタガス組成、放電時のインピーダンス等を精密に制御しなければならない。また、真空蒸着法は、高真空雰囲気下で薄膜調製を行う必要があり、融点が比較的低い金属酸化物にしか適用できず、その適用範囲に制約がある。また、スパッタリング法及び真空蒸着法では、基板表面が入り組んだ形状を有する場合には影となっている部分に金属酸化物薄膜を形成させることは不可能である。
　一方、ゾル−ゲル法及び金属石鹸又は有機金属錯体の熱分解法は、基板表面が入り組んでいても常圧下で薄膜を形成することが可能である。ところが、ゾル−ゲル法では、反応に時間のかかる金属アルコキシドの加水分解過程及び重縮合過程を必要とする。この点、上記熱分解法では、金属石鹸（例えば、ナフテン酸、オクチル酸、ステアリン酸、オレイン酸、ジアセチレンを含む有機酸等の金属塩等）又は有機金属錯体（例えば、アセルアセトナート金属錯体、アセチルアセトン金属錯体等）を有機溶媒に溶解し、スピンコート法等で基板上に塗布した後、常圧下空気中で焼成（熱分解）するだけで薄膜を形成でき、この点において比較的簡便な方法と言える。
　【発明が解決しようとする課題】しかしながら、金属石鹸又は有機金属錯体の熱分解法では、金属石鹸又は有機金属錯体と基板材質の種類の組み合わせによっては、金属石鹸等又は有機金属錯体との密着性が悪くなるため、塗布過程あるいは熱分解過程で薄膜の一部又は全部が基板から剥離してしまい、基板に密着した均一な金属酸化物薄膜を確実に得ることができない。
　従って、本発明は、基板に密着した均一な金属酸化物薄膜を形成することを主な目的とする。
　【課題を解決するための手段】本発明者は、従来技術の問題点に鑑み、鋭意研究を重ねたところ、従来より均一な薄膜を確実に得ることができなかった金属石鹸又は有機金属錯体の熱分解法において、熱分解に先立って紫外線照射により塗膜を処理する場合には上記目的を達成できることを見出し、本発明を完成するに至った。
　すなわち、本発明は、有機酸金属塩及び有機金属錯体の少なくとも１種を含む溶液を基板上に塗布した後に、得られた塗膜を加熱処理するに先立って紫外線照射を行うことを特徴とする金属酸化物薄膜の製造方法に係るものである。
　【発明の実施の形態】以下、本発明をその実施の形態とともに説明する。
　本発明の製造方法は、有機酸金属塩及び有機金属錯体の少なくとも１種を含む溶液を基板上に塗布した後に、得られた塗膜を加熱処理するに先立って紫外線照射を行うことを特徴とする。
　有機酸金属塩としては、酸素を含む雰囲気中で加熱すると熱分解して酸化物を生じるようなものであれば特に制限されない。本発明では、特に１分子中の全炭素数が４〜３０である有機酸の金属塩の少なくとも１種を好適に用いることができる。この範囲内でより最適な溶解性及び熱分解温度が得られる。より好ましくは、ベンゼン環、シクロペンタン環、シクロヘキサン環、炭素・炭素二重結合、炭素・炭素三重結合、カルボキシル基、炭素・酸素二重結合、水酸基及び分枝アルキル基の少なくとも１種を有する有機酸の金属塩を用いる。
　具体的には、ナフテン酸塩（シクロペンタン環又はシクロヘキサン環を有するナフテン酸塩等）、オクチル酸塩（２−エチルヘキサン酸塩）、イソステアリン酸塩、ブタン酸塩（酪酸塩）、ヘキサン酸塩（カプロン酸塩）、オクタン酸塩（カプリル酸塩）、ノナン酸塩（ペラルゴン酸塩）、デカン酸塩（カプリン酸塩）、ウンデカン酸塩、ドデカン酸塩（ラウリン酸塩）、テトラデカン酸塩（ミリスチン酸塩）、ヘキサデカン酸塩（パルミチン酸塩）、オクタデカン酸塩（ステアリン酸塩）、エイコサン酸塩（アラキン酸塩）、ドコサン酸塩（べヘン酸塩）、テトラコサン酸塩（リグノセリン酸塩）、ヘキサコサン酸塩（セロチン酸塩）、オクタコサン酸塩（モンタン酸塩）、トリアコンタン酸塩（メリシン酸塩）等のように分枝のある又は分枝のないアルキル鎖を有する有機酸の金属塩、オレイン酸塩、リノール酸塩、リノレン酸塩、エルカ酸塩等のようにアルキル鎖中に炭素・炭素二重結合を有する有機酸の金属塩、オメガ−トリコセン酸塩等のようにアルキル鎖の末端に炭素・炭素二重結合を含むビニル基を有する有機酸の金属塩、トリコサ−１０，１２−ジイン酸塩、ヘプタコサ−１０，１２−ジイン酸塩等のようにアルキル鎖中に炭素・炭素三重結合を含むジアセチレン基を有する有機酸の金属塩、リシノール酸塩、ヒドロキシステアリン酸塩等のようにアルキル鎖に結合した水酸基を有する有機酸の金属塩、安息香酸塩等のようにベンゼン環を有する有機酸の金属塩等が挙げられる。その他にも、アビエチン酸塩、デキストロピマル酸塩、ロジン酸塩等も使用することができる。これらは１種又は２種以上を用いることができる。
　これら有機酸金属塩の中でも、紫外線照射により光化学反応を起こしやすいもの、例えばナフテン酸塩、オクチル酸塩のほか、分枝したアルキル鎖、炭素・炭素二重結合、炭素・炭素三重結合、炭素・酸素二重結合、水酸基等を有する有機酸金属塩が好ましい。
　有機金属錯体としては、酸素を含む雰囲気中で加熱すると熱分解して酸化物を生じるようなものであれば特に制限されない。本発明では、特に１分子中の全炭素数が４〜３０である有機金属錯体の少なくとも１種を好適に用いることができる。この範囲内でより最適な溶解性及び熱分解温度が得られる。これらは１種又は２種以上を用いることができる。
　これら有機金属錯体の中でも、紫外線照射により光化学反応を起こしやすいもの、例えばアセチルアセトナート金属錯体、アセチルアセトン金属錯体等のように炭素・酸素二重結合を有する有機金属錯体が好適に用いることができる。
　本発明では、これら有機酸金属塩及び有機金属錯体（以下、両者を総称して「有機酸金属塩等」ともいう）の中で、所望の金属酸化物が得られるような金属成分を適宜選択して用いれば良い。これら有機酸金属塩等の金属成分としては、特に制限されず、例えばＬｉ、Ｂｅ、Ｍｇ、Ａｌ、Ｃａ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｇａ、Ｇｅ、Ｓｒ、Ｙ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ａｇ、Ｃｄ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｔｅ、Ｂａ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｔａ、Ｗ、Ｏｓ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ｈｇ、Ｔｌ、Ｐｂ、Ｂｉ、Ｔｈ等が挙げられ、これら金属成分を含む有機酸金属塩等の１種又は２種以上を用いることができる。
　有機酸金属塩等は、溶液として用いることが好ましい。この場合の溶媒としては、有機酸金属塩等を溶解できる限り特に制限されず、例えば１−ブタノール、エタノール、メタノール、イソプロパノール、トルエン、キシレン、ヘキサン、シクロヘキサン、アセトン、アセチルアセトン、酢酸エチル、酢酸ブチル、メチルエチルケトン、エチルセロソルブ、石油エーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、水等の１種又は２種以上を用いることができる。溶液の濃度は、用いる有機酸金属塩等、形成させる被膜の厚さ等によって適宜変更すれば良く、通常０．５〜２０重量％、好ましくは１〜１０重量％とすれば良い。なお、上記溶液においては、本発明の効果を損なわない範囲内で有機酸金属塩等の一部が未溶解となって残存していても良い。
　また、本発明では、その効果を損なわない範囲内において上記溶液中に他の成分が含まれていても良い。例えば、薄膜の多孔性、密度、薄膜を構成する粒子のサイズ、結晶化度等を制御するために、尿素、樟脳、アントラキノン、長鎖アルカン（オクタデカン等）、長鎖アルキルアルコール（ステアリルアルコール等）、長鎖アルキルアミン（ステアリルアミン等）、長鎖アルキルカルボン酸（ステアリン酸等）等の成分を適宜添加しても良い。また、本発明では紫外線照射による重合等によって硬化させたり、あるいは基板との密着性をより高めるために、炭素・炭素二重結合、炭素・炭素三重結合、エステル結合及びアミド結合の少なくとも１つを有する成分が含まれていても良い。例えば、メチルメタクリレート、ステアリン酸ビニル、アクリル酸オクタデシル、メタクリル酸オクタデシル、マレイン酸エステル、マレイン酸アミド、フマル酸アミド等を使用しても良い。
　本発明で用いる基板としては、熱分解の際に破損又は変質しない限りは特に制限されず、用途に応じて適宜選択すれば良い。例えば、薄膜に光を透過させて光学素子として用いる場合は、透明性基板を用いることが好ましい。このような基板の材質としては、例えばＳｉＯ２を主成分とするガラス、石英等、Ａｌ２Ｏ３からなるサファイアのほか、酸化スズ、酸化インジウム、酸化チタン等のセラミックス、金、白金、ニッケル・クロム合金等の金属材料をいずれも使用できる。
　基板に塗布する方法は、特に制限されず、公知の塗布方法を採用でき、本発明では噴霧、ローラー等による方法、スピンコート法等の各種の方法をいずれも包含する。
　塗布量は、薄膜が形成できる限り特に制限されないが、紫外線照射する過程で紫外線が有機酸金属塩等の塗膜に効率良く吸収されることが必要であるが、塗膜が厚すぎると紫外線の吸収効率が低下し、また熱分解過程での膜の収縮が過大となって膜質が低下するおそれがある。このため、１回のプロセスでの塗布量は、生成する金属酸化物の薄膜が１μｍ以下となるようにすることが好ましい。なお、厚膜を得る場合には、形成された薄膜上にさらに同様のプロセスを繰り返して薄膜を積層すれば良い。
　塗膜に紫外線を照射する手段は、特に制限されず、例えば波長３６５ｎｍの紫外線を主に発する高圧水銀ランプ、波長２５４ｎｍ及び１８５ｎｍの紫外線を主に発する低圧水銀ランプ等の公知の照射手段（装置）をそのまま適用することができる。また、その条件も特に制限されない。但し、照射する紫外線の波長は、有機酸金属塩等の光化学反応による重合、水酸基の生成等の化学的変化を効率良く生じさせるようにすることが必要である。このため、波長は通常１５０〜４００ｎｍ程度、好ましくは１８５〜３６５ｎｍとする。特に、炭素・炭素二重結合、炭素・炭素三重結合、シクロペンタン環、シクロヘキサン環等を有する有機酸金属塩等を用いる場合は、比較的低いフォトンエネルギーをもつ長波長の紫外線を照射しても膜質（均質性、透明性、機械的強度、基板密着性等）の改善効果が認められる。一方、炭素・炭素二重結合等をもたない有機酸金属塩等を用いる場合は、比較的高いフォトンエネルギーをもつ短波長の紫外線を照射することが好ましい。
　また、紫外線を照射する時間は、紫外線の波長等に応じて適宜変更すれば良い。例えば、上記高圧水銀ランプ（５０〜２００Ｗ）を用いる場合は、通常５〜１２０分程度とすれば良い。また、上記低圧水銀ランプ（５０〜２００Ｗ）を用いる場合は、通常１〜６０分程度とすれば良い。
　次いで、加熱処理（熱分解）を行う。処理温度は、用いる原料、基板等の種類に応じて適宜設定すれば良く、通常３００〜６００℃程度、好ましくは３５０〜５５０℃とする。処理雰囲気は、大気中又は酸化性雰囲気中とすれば良い。
　本発明の製造方法で得られる金属酸化物薄膜は、その金属の酸化状態に関しても特に制限はない。例えば、Ｌｉ２Ｏ、ＢｅＯ、ＭｇＯ、Ａｌ２Ｏ３、ＣａＯ、ＴｉＯ、Ｔｉ２Ｏ３、ＴｉＯ２、ＶＯ、Ｖ２Ｏ３、ＶＯ２、Ｖ２Ｏ５、ＣｒＯ、Ｃｒ２Ｏ３、ＣｒＯ２、Ｃｒ２Ｏ５、ＣｒＯ３、ＣｒＯ５、ＭｎＯ、Ｍｎ３Ｏ４、Ｍｎ２Ｏ３、ＭｎＯ２、ＭｎＯ３、ＦｅＯ、Ｆｅ３Ｏ４、Ｆｅ２Ｏ３、ＣｏＯ、Ｃｏ２Ｏ３、Ｃｏ３Ｏ４、ＣｏＯ２、ＮｉＯ、Ｎｉ３Ｏ４、Ｎｉ２Ｏ３、ＮｉＯ２、Ｃｕ２Ｏ、ＣｕＯ、ＺｎＯ、Ｇａ２Ｏ３、Ｇａ２Ｏ、ＧｅＯ、ＧｅＯ２、ＳｒＯ、Ｙ２Ｏ３、ＺｒＯ２、ＮｂＯ、Ｎｂ２Ｏ３、ＮｂＯ２、Ｎｂ２Ｏ５、ＭｏＯ、Ｍｏ２Ｏ３、ＭｏＯ２、Ｍｏ２Ｏ５、ＭｏＯ３、ＲｕＯ、Ｒｕ２Ｏ３、ＲｕＯ２、ＲｕＯ４、Ｒｈ２Ｏ３、ＲｈＯ２、ＲｈＯ３、ＰｄＯ、Ｐｄ２Ｏ３、ＰｄＯ２、Ａｇ２Ｏ、ＡｇＯ、ＣｄＯ、Ｉｎ２Ｏ、Ｉｎ２Ｏ３、ＳｎＯ、ＳｎＯ２、ＳｎＯ２−ｘ（１＜ｘ＜２）、Ｓｂ２Ｏ３、Ｓｂ２Ｏ４、Ｓｂ２Ｏ５、ＴｅＯ、ＴｅＯ２、ＴｅＯ３、ＢａＯ、Ｌａ２Ｏ３、ＣｅＯ２、Ｔａ２Ｏ５、ＴａＯ２、Ｔａ２Ｏ３、ＷＯ２、Ｗ２Ｏ５、ＷＯ３、ＯｓＯ、Ｏｓ２Ｏ３、ＯｓＯ２、ＯｓＯ３、ＯｓＯ４、ＩｒＯ２、Ｉｒ２Ｏ３、ＰｔＯ、Ｐｔ２Ｏ３、Ｐｔ３Ｏ４、ＰｔＯ２、ＰｔＯ３、ＨｇＯ、Ｔｌ２Ｏ、Ｔｌ２Ｏ３、Ｐｂ２Ｏ、ＰｂＯ、Ｐｂ３Ｏ４、Ｐｂ２Ｏ３、ＰｂＯ２、ＢｉＯ、Ｂｉ２Ｏ３、Ｂｉ２Ｏ５、ＴｈＯ２等が挙げられる。これら金属酸化物は、単一の酸化物のほか、２種以上の酸化物の混合物であっても良い。
　さらに、各種の複合酸化物であっても良い。例えば、ＬｉＡｌＯ２、Ｌｉ２ＧｅＯ３、Ｌｉ２ＭｏＯ４、ＬｉＮｂＯ３、ＬｉＴａＯ３、Ｌｉ２ＴｉＯ３、ＬｉＴｉ２Ｏ４、ＬｉＶＯ３、ＬｉｘＶ２Ｏ５（０．１＜ｘ＜０．７）、Ｌｉ２ＷＯ４、Ｌｉ２ＺｒＯ３、ＭｇＡｌ２Ｏ４、ＭｇＦｅ２Ｏ４、ＭｇＭｏＯ４、ＭｇＩｎ２Ｏ４、ＭｇＳｎＯ３、Ｍｇ２ＳｎＯ４・ＳｎＯ２、ＭｇＴｉＯ３、ＭｇＷＯ４、ＭｇＺｒＯ３、Ａｌ２ＴｉＯ５、ＣａＯ・Ａｌ２Ｏ３、ＣａＳｎＯ３、ＣａＴｉＯ３、ＣａＷＯ４、ＣａｘＶ２Ｏ５（０．１＜ｘ＜０．７）、ＣａＺｒＯ３、ＣａＭｏＯ４、ＭｎＣｏ２Ｏ４、ＭｎＣｒ２Ｏ４、ＭｎＦｅ２Ｏ４、ＭｎＴｉＯ３、ＭｎＷＯ４、ＣｏＦｅ２Ｏ４、ＣｏＭｏＯ４、ＣｏＴｉＯ３、ＣｏＷＯ４、ＮｉＣｏ２Ｏ４、ＮｉＦｅ２Ｏ４、ＮｉＴｉＯ３、ＮｉＭｏＯ４、ＮｉＷＯ４、ＮｉＭｎＣｏ４Ｏ８、ＣｕＦｅ２Ｏ４、ＣｕＭｏＯ４、ＣｕＴｉＯ３、ＣｕＶ２Ｏ６、ＣｕｘＶ２Ｏ５（０．１＜ｘ＜０．７）、ＣｕＷＯ４、ＣｕＣｒ２Ｏ４、ＳｒＦｅ２Ｏ４、ＳｒＦｅ１２Ｏ１９、ＳｒＭｏＯ４、ＳｒＮｂ２Ｏ６、ＳｒＳｎＯ３、ＳｒＴａ２Ｏ６、ＳｒＴｉＯ３、ＳｒＶ２Ｏ６、ＳｒＷＯ４、ＳｒＺｒＯ３、ＳｒＡｌ２Ｏ４、Ａｇ２ＭｏＯ４、Ａｇ２ＷＯ４、Ａｇ２ＣｒＯ４、ＡｇＶＯ３、ＡｇｘＶ２Ｏ５（０．１＜ｘ＜０．７）、ＣｄＳｎＯ３、ＣｄＴｉＯ３、ＣｄＭｏＯ４、ＣｄｘＶ２Ｏ５（０．１＜ｘ＜０．７）、ＣｄＷＯ４、ＣｄＺｒＯ３、Ｉｎ２Ｏ３・ＳｎＯ２、ＩｎＦｅＯ３、Ｉｎ３Ｆｅ５Ｏ１２、Ｉｎ２Ｏ３・Ｆｅ２Ｏ３、ＢａＡｌ２Ｏ４、ＢａＦｅ１２Ｏ１９、ＢａＭｏＯ４、ＢａＮｂ２Ｏ６、ＢａＣｒＯ４、ＢａＴｉＯ３、ＢａＷＯ４、ＢａＺｒＯ３、ＢａＳｎＯ３、ＬａＦｅＯ３、Ｌａ３Ｆｅ５Ｏ１２、Ｌａ２Ｔｉ２Ｏ７、ＣｅＳｎＯ４、ＣｅＴｉＯ４、ＰｂＭｏＯ４、ＰｂＮｂ２Ｏ６、ＰｂＴｉＯ３、ＰｂＶ２Ｏ６、ＰｂｘＶ２Ｏ５（０．１＜ｘ＜０．７）、ＰｂＷＯ４、ＰｂＺｒＯ３、ＰｂＣｒＯ４、Ｐｂ（Ｚｒ，Ｔｉ）Ｏ３、ＰｂＯ・Ｌａ２Ｏ３・ＺｒＯ２・ＴｉＯ２、Ｂｉ２ＭｏＯ６、Ｂｉ２Ｓｎ３Ｏ９、Ｂｉ２Ｔｉ２Ｏ７、ＢｉＷＯ６、２Ｂｉ２Ｏ３・３ＺｒＯ２等のほか、Ｙ−Ｂａ−Ｃｕ−Ｏ系複合酸化物、Ｂｉ−Ｓｒ−Ｃａ−Ｃｕ−Ｏ系複合酸化物、Ｂｉ−Ｐｂ−Ｓｒ−Ｃａ−Ｃｕ−Ｏ系複合酸化物等が挙げられる。これら１種又は２種以上とすることができる。
　本発明では、これらの中でも、特にＣｏ３Ｏ４、Ｌｉ２Ｏ、ＺｎＯ、ＰｂＯ、ＭｎＣｏ２Ｏ４、ＮｉＣｏ２Ｏ４、ＮｉＭｎＣｏ４Ｏ８、ＰｂＶ２Ｏ６等が紫外線照射による薄膜の均一性、透明性、機械的強度、基板密着性等における改善が著しい。
　【作用】本発明では、有機酸金属塩等を基板に塗布した後、紫外線照射を行うことなく直ちに熱分解を行った場合には、有機酸金属塩等と基板の材質の組み合わせによっては、原料物質あるいは生成する金属酸化物と基板との密着性が悪くなるため、基板上に部分的に剥離した金属酸化物の薄片、粉末等が生成し、所望の酸化物薄膜が得られない。これに対し、有機酸金属塩等を基板に塗布した後、塗膜を紫外線照射により処理し、続いて熱分解した場合には、基板に密着した均一な金属酸化物薄膜が得られることを見出した。
　この作用は、以下のような理由によるものと考えられる。有機酸金属塩等が紫外線照射を受けて光化学反応を起こすとともに、有機酸金属塩等の塗布膜中に残存する溶媒分子の光化学反応も起こる。この場合、照射する紫外線の波長が短くなると空気中の酸素がオゾンに変化する光化学反応等も起こる。これらの光化学反応が複雑に作用して水酸基の生成、化学結合の切断及び再結合、隣接した分子との重合、高分子化等が起こると考えられる。
　このような反応機構によって、塗布過程あるいは熱分解過程における基板との密着性の発現要因となる要素（有機酸金属塩等の疎水性、親水性、融点、熱分解温度等）が変化する結果、基板表面に良好に密着し、均一性、透明性、機械的強度等に優れた金属酸化物薄膜が得られると考えられる。
　【発明の効果】本発明の金属酸化物薄膜の製造方法によれば、熱分解法において、その熱分解に先立って予め紫外線照射により処理されるので、用いる有機酸金属塩等の種類にかかわらず、基板密着性及び機械的強度に優れた均一な薄膜を得ることができる。
　本発明の製造方法により得られる薄膜は、例えば光学素子材料、電子素子材料、触媒デバイス材料、ガスセンサ等の用途において特に有用である。
　【実施例】以下、実施例及び比較例を示し、本発明の特徴とするところをより一層明確にする。
　実施例１
　ガラス基板（１８ｍｍ×１８ｍｍ）上（片面）にナフテン酸コバルト膜をスピンコート法で薄膜を形成し、低圧水銀ランプ（５０Ｗ）の紫外線を２０分間照射した。ナフテン酸コバルト膜は淡青紫色から褐色に変化した。次いで、４００℃で１時間熱分解することにより、ガラス基板の全面に良く密着し、褐色で透明性のある酸化コバルト（Ｃｏ３Ｏ４）薄膜を得た。この薄膜を走査電子顕微鏡で観察した。その結果、図２（写真ｂ）に示すように、亀裂がなく、均一性に優れた酸化コバルト薄膜が形成されていることが判明した。
　また、低圧水銀ランプの代わりに高圧水銀ランプ（５０〜２００Ｗ）を用いたほかは、上記と同様にして薄膜を作製した。この場合も同様に基板に密着性が高く、均一で透明性の高い薄膜が得られた。
　このように、ナフテン酸コバルトに紫外線を照射してから熱分解を行うことにより、ガラス基板全面に良く密着した均一で透明性の高い酸化コバルト薄膜が得られた。
　比較例１
　ガラス基板（１８ｍｍ×１８ｍｍ）上（片面）にナフテン酸コバルト膜をスピンコート法で薄膜を形成し、紫外線を照射せずに４００℃で１時間熱分解を行ったほかは、実施例１と同様にして薄膜の作製を試みた。その結果、ガラス基板上には酸化コバルト（Ｃｏ３Ｏ４）の粉末及び基板密着性が悪く褐色で不透明な微細な断片だけが生成し、基板に密着した均一な酸化コバルト薄膜は得られなかった。上記ガラス基板上の微細断片を実施例１と同様にして走査電子顕微鏡で観察したところ、図１（写真ａ）に示すように酸化コバルト断片の中には幅約１μｍ前後の亀裂が多数あることも判明した。
　実施例２
　石英基板（１８ｍｍ×１８ｍｍ）上（片面）にナフテン酸コバルトとオクチル酸ニッケルの所定量をそれぞれ含む混合溶液をスピンコート法で塗布して膜を形成し、低圧水銀ランプ（５０Ｗ）の紫外線を１５分間照射した。次いで、３８０℃で２時間熱分解することにより、石英基板全面に良く密着し、均一で透明性の高い褐色のＮｉＣｏ２Ｏ４薄膜を得た。
　また、低圧水銀ランプの代わりに高圧水銀ランプ（５０〜２００Ｗ）を用いたほかは、上記と同様にして薄膜を作製した。この場合も同様に石英基板全面に良く密着し、均一で透明性の高いＮｉＣｏ２Ｏ４薄膜が得られた。
　比較例２
　紫外線を照射せずに熱分解したほかは実施例２と同様にして薄膜の作製を試みた。その結果、石英基板上に部分的に剥離した不均一なＮｉＣｏ２Ｏ４薄膜しか得られなかった。
　実施例３
　ガラス基板（１８ｍｍ×１８ｍｍ）上（片面）にオクチル酸鉛をスピンコート法で塗布して膜を形成し、低圧水銀ランプ（５０Ｗ）の紫外線を４０分間照射した。次いで、３８０℃で２時間熱分解することにより、ガラス基板全面に良く密着した、均一な黄色のＰｂＯ薄膜を得た。
　また同様に、オクチル酸鉛とナフテン酸バナジウムの混合溶液を用いて、上記と同様に薄膜を形成した。その結果、密着性に優れた均一なＰｂＶ２Ｏ６薄膜が得られた。
　比較例３
　紫外線を照射せずに熱分解したほかは実施例３と同様にして薄膜の作製を試みた。その結果、熱分解過程で膜周辺部が収縮したため、ガラス基板の全面に密着したＰｂＯ薄膜は得られず、基板中央付近に基板の１／４〜１／２程度の面積を占める不均一なＰｂＯ薄膜が得られただけであった。ガラス基板上に膜周辺部が収縮した不均一なＰｂＶ２Ｏ６薄膜しか得られなかった。
　実施例４
　ニッケル・クロム合金基板上（両面）にオクチル酸ニッケル、オクチル酸マンガン及びオクチル酸コバルトの混合溶液を塗布して膜を形成し、低圧水銀ランプ（５０Ｗ）の紫外線を４０分間照射した。次いで、４００℃で２時間加熱分解することによりＮｉＭｎＣｏ４Ｏ８薄膜を得た。この薄膜は、黄褐色であり、基板全面に良く密着していた。
　また、低圧水銀ランプの代わりに高圧水銀ランプ（５０〜２００Ｗ）を用いたほかは、上記と同様にして薄膜を作製した。この場合も同様にニッケル・クロム合金基板全面に良く密着し、均一で透明性の高いＮｉＭｎＣｏ４Ｏ８薄膜が得られた。
　比較例４
　紫外線を照射せずに熱分解したほかは実施例４と同様にして薄膜の作製を試みた。その結果、部分的に剥離した不均一なＮｉＭｎＣｏ４Ｏ８薄膜しか得られなかった。
【図面の簡単な説明】
　【図１】図１は、比較例１で得られた薄膜の構造を示す図である。
　【図２】図２は、実施例１で得られた薄膜の構造を示す図である。