(57)【要約】  低価格化を図るために、導電層上に樹脂層を積層した積層体で構成され、かつ十分な映り込み防止性能、光沢性のあるディスプレイ用フィルターを提供する。導電性メッシュからなる導電層を有し、該導電層上に、少なくともハードコート層と反射防止層がこの順に積層された樹脂層を有し、かつ、該導電性メッシュの存在しない部分に該樹脂層の凹み構造、該導電性メッシュの存在する部分に該樹脂層の凸構造を有し、該凸構造の樹脂占有率Ｒが５％以上２０％未満であることを特徴とする、ディスプレイ用フィルター。
2010007900.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基材上に、導電性メッシュからなる導電層を有し、該導電層上に、少なくともハードコート層と反射防止層を含む樹脂層を有し、該導電層、該ハードコート層、該反射防止層がこの順に積層され、かつ、該導電性メッシュの存在しない部分（開口部）に該樹脂層の凹みを有し、下記で定義する樹脂層占有率Ｒが５％以上２０％未満であることを特徴とするディスプレイ用フィルター。
Ｒ＝（β／α）×１００
α：三角形ＡＢＣの面積
β：三角形ＡＢＣの中に存在する樹脂層の面積
但し、三角形ＡＢＣの各頂点Ａ、Ｂ、Ｃは、透明基材の面方向における、導電性メッシュで囲まれた隣合う開口部の２つの重心（Ｇ１、Ｇ２）を通るように、透明基材と直交する方向に樹脂層の断面を視たときに、重心Ｇ１及びＧ２の間に存在する導電性メッシュ上の樹脂層の頂点をＣ、前記２つの重心における一方の重心Ｇ１を通る垂線（透明基材に対する垂線）と樹脂層の表面との交点をＡ、前記２つの重心における他方の重心Ｇ２を通る垂線（透明基材に対する垂線）と樹脂層の表面との交点をＢとする。
【請求項２】
前記樹脂層の凹みの深さＤが、０．１〜５μｍの範囲である請求項１に記載のディスプレイ用フィルター。
【請求項３】
前記導電性メッシュの厚みが０．５〜８μｍ、導電性メッシュのピッチが５０〜５００μｍの範囲である請求項１または２のいずれかに記載のディスプレイ用フィルター。
【請求項４】
前記反射防止層が、屈折率１．２３〜１．４２の低屈折率層のみで構成される請求項１〜３のいずれかに記載のディスプレイ用フィルター。
【請求項５】
更に、近赤外線遮断機能、色調補正機能、紫外線遮断機能、およびＮｅカット機能からなる群より選ばれた少なくとも１つの機能を有する機能層を有する請求項１〜４のいずれかに記載のディスプレイ用フィルター。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ＣＲＴ、有機ＥＬディスプレイ、液晶ディスプレイ、及びプラズマディスプレイ等のディスプレイ装置の画面に装着されるディスプレイ用フィルターに関し、特に、映り込み防止性、光沢性に優れたプラズマディスプレイ用フィルターに関する。
【背景技術】
【０００２】
ディスプレイに要求される性能は年々厳しくなっており、ディスプレイの表面に設置してディスプレイ特性を向上させる目的を有するディスプレイ用フィルターに対する要求もより高度になっている。ディスプレイをオン状態にした時の画質特性を向上させる目的では、画像の鮮明性向上（透過画像鮮明性）、高コントラスト化、蛍光灯等のディスプレイ表面への映り込みの軽減、表面品位（各種欠点）向上、などが求められ、更に、ディスプレイをオフ状態にした時の見た目をより良くする意味合いで、ディスプレイ表面の光沢性、反射色の調整なども求められるようになっている。中でも、映り込み低減への要求は非常に強く、一般に透明基材の上に凹凸形状を有した光拡散層を形成することにより実現される。また、この凹凸形状の形成は、微粒子を含む透明塗料を塗布して表面に微細な凹み構造を形成することによって実現される（特許文献１、２）。【０００３】
一方、ディスプレイの低価格化に伴って、フィルターも年々低価格化しており、コストダウンの要求も厳しくなっている。例えば、プラズマディスプレイの場合、一般的なフィルター構成は、反射防止機能、色調補正機能、近赤外線遮断機能、電磁波遮蔽機能等を有する複数の光学機能性フィルムを接着層を介して積層して形成されるが、この複数のフィルムからなるフィルターに対して、プラスチックフィルム１枚のみでフィルターを形成することによる低価格化が検討されている。例えば、プラスチックフィルムの一方の面に反射防止層を有し、他方の面に導電層を有するフィルター、あるいはプラスチックフィルム上に導電層を形成し、さらにその上に反射防止層や機能性樹脂層を積層したフィルターが提案されている（特許文献３、４、５、６、７）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００５−３１６４５０号公報
【特許文献２】特開２００６−１９５３０５号公報
【特許文献３】特開２００７−９６０４９号公報
【特許文献４】特開２００６−５４３７７号公報
【特許文献５】特開２００６−２１０５７２号公報
【特許文献６】特開２００７−１４０２８２号公報
【特許文献７】特開２００７−２４３１５８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、特許文献１、２の技術では、映り込み防止性は優れているものの、ディスプレイ用フィルターに複数のフィルムが必要であることからコスト面の優位性が不十分である。特許文献３、４の技術では、１枚のフィルムでディスプレイ用フィルターを形成しているためにコスト面では改善されているが、視認側最表面に光拡散のための凹凸が形成されていないために映り込み防止性が不十分である。特許文献５には、導電性メッシュ上に硬化塗膜を被覆し、該硬化塗膜の隆起部の平均傾斜角度が１０°以下である電磁波遮蔽部材が開示されている。しかし、特許文献５の実施例に例示されたいずれの隆起部も、本発明で定義される樹脂層占有率Ｒは２０％以上であり、光沢性を十分に満足するものではない。また、特許文献６、７では、視認側最表面に凹み構造が形成されており映り込み防止性は改良されているが、表面形状に関する検討が十分になされていないため、映り込み防止性と光沢性の両立がされていない。【０００６】
よって本発明の目的は、上記従来技術の問題点を鑑み、十分な映り込み防止性能を有し、更に光沢性に優れるディスプレイ用フィルターを低コストで提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記課題を解決するために、本発明のディスプレイ用フィルターは以下の構成をとる。
（１）透明基材上に、導電性メッシュからなる導電層を有し、該導電層上に少なくともハードコート層と反射防止層を含む樹脂層を有し、該導電層、該ハードコート層、該反射防止層がこの順に積層され、かつ、該導電性メッシュの存在しない部分（開口部）に該樹脂層の凹みを有し、下記で定義する樹脂層占有率Ｒが５％以上２０％未満である、ディスプレイ用フィルター。
Ｒ＝（β／α）×１００
α：三角形ＡＢＣの面積
β：三角形ＡＢＣの中に存在する樹脂層の面積
但し、三角形ＡＢＣの各頂点Ａ、Ｂ、Ｃは、透明基材の面方向における、導電性メッシュで囲まれた隣合う開口部の２つの重心（Ｇ１、Ｇ２）を通るように、透明基材と直交する方向に樹脂層の断面を視たときに、重心Ｇ１及びＧ２の間に存在する導電性メッシュ上の樹脂層の頂点をＣ、前記２つの重心における一方の重心Ｇ１を通る垂線（透明基材に対する垂線）と透明樹脂層の表面との交点をＡ、前記２つの重心における他方の重心Ｇ２を通る垂線（透明基材に対する垂線）と樹脂層の表面との交点をＢとする。
（２）前記樹脂層の凹みの深さＤが、０．１〜５μｍの範囲である、前記（１）に記載のディスプレイ用フィルター。
（３）導電性メッシュの厚みが０．５〜８μｍ、導電性メッシュのピッチが５０〜５００μｍの範囲である、前記（１）または（２）のいずれかに記載のディスプレイ用フィルター。
（４）更に、近赤外線遮断機能、色調補正機能、紫外線遮断機能、およびＮｅカット機能からなる群より選ばれた少なくとも１つの機能を有する機能層を有する、前記（１）〜（３）のいずれかに記載のディスプレイ用フィルター。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によれば、十分な映り込み防止性能を有し、光沢性に優れるディスプレイ用フィルターを低コストで提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】平坦部が少ない樹脂層の一例の模式断面図である。
【図２】本発明の樹脂層の凹み構造の一例の模式断面図である。
【図３】本発明のディスプレイ用フィルターの一例の模式断面図であり、樹脂層占有率Ｒを説明するための図である。
【図４】導電性メッシュの開口部の一例の模式図である。
【図５】本発明の樹脂層の凹構造を説明するための模式断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
本発明のディスプレイ用フィルターは、透明基材上に導電性メッシュからなる導電層を有し、該導電層上に少なくともハードコート層と反射防止層を含む樹脂層を有し、該導電層、該ハードコート層、該反射防止層がこの順に積層され、かつ、該導電性メッシュの存在しない部分に該樹脂層の凹み構造を有し、樹脂層占有率Ｒが５％以上２０％未満であることを特徴とするものである。導電層上に積層された樹脂層を上記のようにすることによって、本発明のディスプレイ用フィルターを装着したディスプレイ表面の見た目の品位に大きな影響を及ぼす光沢性を損なわずに、映り込みを効果的に防止できることを見いだしたものである。なお、本発明のディスプレイ用フィルターにおいては、導電層が導電性メッシュであるため、導電性メッシュの開口部には、透明基板、ハードコート層、反射防止層がこの順に積層されることとなる。
（樹脂層の構造）
本発明のディスプレイ用フィルターに用いられる樹脂層は、導電性メッシュからなる導電層上に形成され、導電性メッシュの存在しない部分に樹脂層の凹み構造を有する。なお本発明のディスプレイ用フィルターに用いられる樹脂層は、導電性メッシュの存在しない部分に樹脂層の凹み構造を有する一方で、導電性メッシュの存在する部分上には樹脂層の凸構造が形成されている。以下、樹脂層の凹み構造と凸構造を合わせて、樹脂層の凹み構造という。そして本発明のディスプレイ用フィルターに用いられる樹脂層は、樹脂層占有率Ｒが５％以上２０％未満である。
【００１１】
樹脂層占有率Ｒとは、樹脂層の凹み構造の輪郭における平坦部の割合を示すものであり、この数値が大きいほど平坦部分が少ない樹脂層の凹み構造（図１）を示し、この数値が小さいほど平坦部分が多い樹脂層の凹み構造（図２）を示す。
【００１２】
上記の平坦部分の割合は、下記のように表すことができる。即ち、透明基材の面方向における、導電性メッシュで囲まれた隣合う開口部の２つの重心（Ｇ１、Ｇ２）を通るように、透明基材と直交する方向に樹脂層の断面を視たときに、重心Ｇ１及び重心Ｇ２の間に存在する導電性メッシュ上の樹脂層の頂点をＣとし、前記２つの重心における一方の重心Ｇ１を通る垂線（透明基材に対する垂線）と樹脂層の表面との交点をＡとし、前記２つの重心における他方の重心Ｇ２を通る垂線（透明基材に対する垂線）と樹脂層の表面との交点をＢとする。三角形ＡＢＣの面積をα、三角形ＡＢＣの中に存在する樹脂層の面積をβとする。この時に、三角形ＡＢＣの面積αに対する、三角形ＡＢＣの中に存在する樹脂層の面積βの割合を、樹脂層占有率Ｒ（Ｒ＝（β／α）×１００）と言う。樹脂層占有率Ｒについて図面を用いて説明する。
【００１３】
図３は、本発明のディスプレイ用フィルターの断面図であり、隣合う開口部の２つの重心（Ｇ１、Ｇ２）を通るように、透明基材を直交する方向に樹脂層の断面を視た図である。図３において、樹脂層占有率Ｒとは、重心Ｇ１及びＧ２の間に存在する導電性メッシュ上の樹脂層の凸部の頂点Ｃと、導電性メッシュのある１つの開口部の重心Ｇ１を通る垂線６ａと樹脂層表面との交点Ａと、前記開口部に隣接する開口部の重心Ｇ２を通る垂線６ｂと樹脂層表面との交点Ｂとを結んだ三角形ＡＢＣの面積（α；ドットで表示）に対して、その三角形ＡＢＣの中に存在する樹脂層の凹み構造の面積（β；斜線で表示）の割合を表したものである。
【００１４】
ここで、導電性メッシュで囲まれた開口部の重心とは、図４に示すように導電性メッシュを透明基材の面方向に平面を視た時の、導電性メッシュの開口部７の重心８である。また、交点Ａ及びＢは、図３に示すように、２つの重心を通り、透明基材を直行する方向に樹脂層の断面を視たときに、開口部の重心８を通る垂線６ａ、６ｂと樹脂層３の表面との交点である。
【００１５】
樹脂層占有率Ｒは、上記の三角形ＡＢＣの面積αと上記の三角形ＡＢＣの中に存在する樹脂層の面積βから以下の式で表される。
Ｒ＝（β／α）×１００
樹脂層占有率Ｒを算出するための、樹脂層の凹み構造の面積である三角形ＡＢＣの中に存在する樹脂層の面積β、及び三角形ＡＢＣの面積αは、レーザー顕微鏡（例えば、（株）キーエンス社製のＶＫ−９７００）で測定、算出することができる。サンプルをレーザー顕微鏡で観察・測定することによって得られた樹脂層の三次元画像データを、更に垂直方向に二次元的に解析することによって二次元プロファイルを求め、この二次元プロファイルから、三角形ＡＢＣの中に存在する樹脂層の面積βと、三角形ＡＢＣの面積αを算出することができる。このとき、予め、サンプルの樹脂層表面に、スパッタ等で白金やパラジウム等の極薄膜（厚みが５０〜１００ｎｍ程度の均一膜）を形成することによって、樹脂層より下の導電性メッシュや基材の影響を受けない画像データが得られる。具体的な測定方法は、実施例に示す。
【００１６】
本発明において、上記の樹脂層占有率Ｒは５％以上２０％未満であることが重要であるが、樹脂層占有率Ｒは特に好ましくは８％以上２０％未満である。樹脂層占有率Ｒが５％未満の場合には映り込み像の輪郭が明瞭になることで映り込み像が見えやすくなる傾向があり、２０％以上の場合にはフィルター表面の荒れが大きくなり過ぎてフィルター光沢性が悪化する傾向があり、ディスプレイの見た目の品位が悪くなることがあるため、いずれも好ましい態様ではない。
【００１７】
本発明におけるディスプレイ用フィルターの樹脂層は、導電層上に少なくともハードコート層と反射防止層がこの順に積層された樹脂層である。そして樹脂層の最表面には反射防止層を有する。本発明の反射防止層は単層でも複層でも良いが、経済的な見地から、また、表面凹凸形状を精度良くコントロールすべきことを考慮すると、単層であることが好ましい。反射防止層の組成については後述する。
【００１８】
本発明におけるディスプレイフィルターの表面視感反射率（ここでの表面視感反射率はフィルター裏面を黒化して裏面からの反射の寄与をなくした値を指す。なお、ここでいうフィルター裏面とは、導電層に対して樹脂層とは反対側の面を意味する。）は０．５〜４．０％が好ましく、０．５〜３．０％がより好ましく、０．８〜２．５％が更に好ましく、１．０〜２．２％が特に好ましい。表面視感反射率が０．５％を下回る場合には、樹脂層の凹み構造の光拡散による映り込み防止効果が低減する傾向があり、表面視感反射率が４．０％を越える場合には、反射率が高くなる影響で映り込み像が眩しくなる方向であり、表面視感反射率が上記０．５〜４．０％の範囲内であることが好ましい。
【００１９】
従来のディスプレイ用フィルターにおいては、フィルター表面の視感反射率と樹脂層の凹凸形状のバランスが十分に検討されておらず、樹脂層の凹み構造の平坦部が少ない場合は映り込み防止能に優れるが光沢性能に劣り、樹脂層の凹み構造の平坦部が多い場合は光沢性能に優れるが映り込み防止性能に劣る傾向がみられた。本発明のディスプレイ用フィルターでは、比較的平坦部の多い表面凹凸形状の樹脂層と反射防止層（なお、反射防止層は樹脂層の一部である）を組み合わせることによって、反射防止層により正面付近から見た映り込み像の眩しさを抑制するとともに、樹脂層の凹み構造の光拡散効果により斜めから見た映り込みを効果的に改善することが可能となり、これらの効果に加えて更に、樹脂層の表面構造は平坦部が多いため、フィルター表面の光沢性が損なわれないという効果があることを見いだした。
【００２０】
本発明のディスプレイ用フィルターでは、導電性メッシュの存在しない部分に特定の形状を有する樹脂層の凹みを有していることが重要である。樹脂層の凹みの構造を、図５に例示する。図５において、透明基材１上に導電性メッシュ２（導電性メッシュは導電層である）が形成され、更に導電性メッシュ２上に樹脂層３が積層されている。
【００２１】
従来の映り込み防止技術では、プラスチックフィルムのような平滑な基材上に、平均粒子径が０．５〜１０μｍ程度の粒子を含む透明塗料を塗布して、表面に微細な凹凸を形成することによってなされていたが、この方法では、光沢性を低下させずに、十分な映り込み防止を実現することができなかった。
【００２２】
これに対して、本発明は、導電性メッシュからなる導電層を有し、該導電層上に樹脂層を有し、導電性メッシュの凹凸を利用して樹脂層に凹みを形成することで、樹脂層に粒子を含有させずとも、映り込み防止効果が得られ、同時に優れた光沢性も確保することが可能になった。
【００２３】
導電性メッシュを利用せずに、単に樹脂層に凹み構造を形成すると、樹脂層の凸部によって光が拡散され光沢性が低下するが、本発明のように、導電性メッシュの凹凸を利用して比較的平坦部が多い樹脂層の凹み構造を形成すると、光沢性の低下が抑制されることを見いだした。
【００２４】
本発明において、樹脂層の凹みの深さＤは、映り込みを有効に防止するという観点から、０．１〜５μｍの範囲が好ましく、０．５〜４μｍの範囲がより好ましく、０．８〜３μｍの範囲が更に好ましく、特に１〜２．５μｍの範囲が好ましい。
【００２５】
樹脂層の凹みの深さＤは、図５に示すように、樹脂層の凹み構造の山頂９から谷底１０までの垂直距離である。本発明では導電性メッシュの凹凸を利用して樹脂層の凹み構造を形成するので、樹脂層の山頂９は導電性メッシュ上に位置し、谷底１０は導電性メッシュが存在しない部分、即ち導電性メッシュと導電性メッシュの間（導電性メッシュの開口部）に位置する。
【００２６】
樹脂層の凹みの深さＤを０．１〜５μｍとすることで、映り込み像の輪郭が不明瞭になり、映り込み像を見えにくくすることができるため好ましい。
【００２７】
本発明は、導電性メッシュの存在しない部分に樹脂層の凹みを有し、かつ樹脂層占有率Ｒが５％以上２０％未満の凹み構造は、導電性メッシュの厚みやピッチを制御する方法や、樹脂層を設けるために用いる塗液の粘度を制御する方法などによって、形成することができる。詳細は後述する。
【００２８】
本発明では、樹脂層に粒子を含有させなくとも、樹脂層の凹みを有し（凹み構造を有し）、そのため映り込みを防止することができるが、映り込み防止効果を調整する目的で樹脂層に粒子を含有させることができる。しかし、樹脂層に粒子を含有させることによって、光沢性が低下することがある。従って、樹脂層に粒子を含有させて、映り込み防止効果を高める場合は、光沢性が低下しないように、粒子の平均粒子径及び含有量を慎重に選択する必要がある。なお、樹脂層に粒子を含有する際は、ハードコート層及び反射防止層のいずれの層に粒子を入れても構わない。
【００２９】
樹脂層に粒子を含有させる場合は、平均粒子径が０．５〜５μｍの粒子を用いるのが好ましく、特に平均粒子径が１〜３μｍの粒子を用いるのが好ましい。
【００３０】
ここで、粒子の平均粒子径とは、例えば電気抵抗試験方法（コールターカウンター法）にて測定した球相当値で表した粒子径の平均値とする。
【００３１】
また、樹脂層に粒子を含有させる場合、粒子の平均粒子径は、０．５〜５μｍの範囲内で、かつ導電性メッシュの厚みと同程度以下の平均粒子径を有する粒子を用いることが好ましく、特に導電性メッシュの厚み１００％に対して、９０％以下の平均粒子径を有する粒子を用いることがより好ましく、更に、導電性メッシュの厚みに対して、８０％以下の平均粒子径を有する粒子を用いることが好ましく、７０％以下の平均粒子径の粒子を用いることが特に好ましい。
【００３２】
樹脂層に粒子を含有させる場合の粒子の含有量は、樹脂層の全成分１００質量％に対して６質量％以下が好ましく、４質量％以下がより好ましく、更に３質量％以下が好ましく、特に２．５質量以下が好ましい。
【００３３】
樹脂層に含有させる粒子としては、無機系、有機系のものが挙げられるが、有機系材料により形成されるものが好ましい。また、透明性に優れるものがよい。粒子の具体例としては、無機系であればシリカビーズ、有機系であればプラスチックビーズが挙げられる。さらに、そのプラスチックビーズの中でも、好ましくは透明性が優れているものが挙げられ、具体例としては、アクリル系、スチレン系、メラミン系、等が挙げられる。本発明では、透明性に優れるアクリル系を用いるのが好ましい。
【００３４】
また、その形状は球状（真球状、楕円状、など）のものが好ましく、より好ましくは真球状のものである。
【００３５】
本発明のディスプレイフィルターの樹脂層最表面の表面粗さＲａは、１５〜４００ｎｍが好ましく、２０〜３００ｎｍがより好ましく、３０〜２００ｎｍが更に好ましく、４０〜１００ｎｍが特に好ましい。Ｒａが１５ｎｍを下回る場合には映り込み防止性が弱く、４００ｎｍを越える場合には光沢性が劣化することがあり好ましくない。
【００３６】
ディスプレイパネルにおいて映り込み像は、ディスプレイ用フィルターからの反射光とディスプレイパネルからの反射光から成る。ディスプレイパネルからの反射光は、ディスプレイ用フィルターで吸収されるため、ディスプレイ用フィルターの透過率を下げることにより映り込み性能を向上させることができる。しかし、ディスプレイ用フィルターの透過率を下げ過ぎた場合には、透過画像の輝度も低下して画像が暗くなることとなり、このような場合に輝度を維持するためにはディスプレイパネルに映す画像を明るくする必要があり、結果的に消費電力が多くなるので好ましい態様とは言えない。よって本発明のディスプレイ用フィルターの全光線透過率は好ましくは２０〜７０％、より好ましくは３０〜６０％、更に好ましくは３５〜５５％であり、このような透過率とすることで、映り込みの低減と透過像輝度のバランスを好適にすることができる。
（導電層）
ディスプレイ用フィルターは帯電防止性の観点から各種導電層が設置されるが、特に、プラズマディスプレイパネルでは、その構造や動作原理上パネルから強度の漏洩電磁波が発生する。近年、電子機器からの漏洩電磁波が人体や他の機器に与える影響について取り沙汰されており、例えば日本では、VCCI（voluntary control council for interference by processing equipment electronic office machine）による基準値内におさえることが求められている。具体的には、VCCIにおいては、業務用途の規制値を示すclassＡでは放射電界強度５０ｄBμＶ／ｍ未満であり、民生用途の規制値を示すclassＢでは４０ｄBμＶ／ｍ未満であるが、プラズマディスプレイパネルの放射電界強度は２０〜９０MＨｚ帯域内で５０ｄBμＶ／ｍ（対角４０インチ型の場合）を越えるため、このままの状態では家庭用途には使用できない。このため、プラズマディスプレイパネルには電磁波シールド層（導電層）を配置したプラズマディスプレイ用フィルターが必須となる。
【００３７】
電磁波シールド層が電磁波シールド性能を発揮するためには導電性が必要であり、プラズマディスプレイパネルの電磁波シールドに必要な導電性は、面抵抗で３Ω／□以下、好ましくは１Ω／□以下、更に好ましくは０．５Ω／□以下である。よって導電層を有する本発明のディスプレイ用フィルターにおいては、該導電層の導電性が、面抵抗で３Ω／□以下であることが好ましく、より好ましくは１Ω／□以下、更に好ましくは０．５Ω／□以下である。また、面抵抗は低いほど電磁波シールド性が向上するために好ましいが、現実的な下限は０．０１Ω／□程度と考えられる。
【００３８】
本発明のディスプレイ用フィルターにおいては、導電層として導電性メッシュが用いられる。導電性メッシュを用いることで、導電性メッシュの配置される凸部分と導電性メッシュの存在しない凹部分を利用することによって、導電性メッシュの存在しない部分に樹脂層の凹みを形成することが可能となる。
【００３９】
本発明にかかる導電性メッシュからなる導電層は、電磁波を遮蔽するという機能に加えて、上記したように、樹脂層に凹みを形成するための役目を有する。
【００４０】
映り込み防止に有効な凹みを樹脂層に形成するためには、導電性メッシュの厚みはある程度大きくする必要があるが、逆に厚みが大きくなりすぎると、光沢性が低下する傾向にあり、また、樹脂層の塗工性が低下し、塗布筋やムラが発生する場合がある。
【００４１】
上記の観点から、導電性メッシュの厚みは、０．５〜８μｍの範囲が好ましく、１〜７μｍの範囲がより好ましく、１〜５μｍの範囲が更に好ましく、１〜３μｍの範囲が特に好ましい。導電性メッシュの厚さが０．５μｍ未満の場合は、樹脂層の凹みの深さが十分に得られず、映り込みの輪郭が明瞭になり、映り込み像が見えやすくなる傾向があり、また、必要な電磁波シールド性が得られない場合がある。また、導電性メッシュの厚さが８μｍを超える場合は、樹脂層の凹みの深さが大きくなり過ぎて、光沢性が劣化する傾向があり、さらには、コストアップにつながるために好ましくない。
【００４２】
また、樹脂層の塗工性の観点からは、導電性メッシュの厚みは小さい方が好ましい。従って、導電性メッシュの厚みを８μｍ以下にすることによって、塗布スジや塗布ムラ等の生じない、良好な塗工面が得られる。導電性メッシュの厚みが８μｍを越えると、樹脂層の塗工性が低下するので、映り込み防止と光沢性保持に有効な凹みを、樹脂層上に安定的に形成することが難しくなる。
【００４３】
また、導電性メッシュのピッチについても、映り込み防止と光沢性保持に有効な凹みを樹脂層に形成するという観点から、好ましいピッチの範囲が存在する。ここで、導電性メッシュのピッチとは、導電性メッシュが存在しない部分（導電性メッシュの細線で囲まれた開口部分）の間隔であり、具体的には、１つの開口部と、この開口部と１辺を共有する隣接する開口部との重心間の距離である。
【００４４】
本発明において、樹脂層に形成された凹みのピッチは、導電性メッシュのピッチに大きく依存する。従って、導電性メッシュのピッチを制御することによって、映り込み防止に有効な凹みを樹脂層に形成することができる。ここで樹脂層の凹みのピッチとは、樹脂層の谷底間の距離であり、詳しくは、上述した図５において、ある１つの凹みの谷底１０と、該凹みと隣接する凹みの谷底１１の距離である。
【００４５】
上記の観点から、導電性メッシュのピッチは、５０〜５００μｍの範囲が好ましく、７５〜４５０ｎｍの範囲がより好ましく、１００〜３５０μｍの範囲が更に好ましい。
【００４６】
本発明にかかる導電性メッシュの線幅は、３〜３０μｍの範囲が好ましく、５〜２０μｍの範囲がより好ましい。導電性メッシュの線幅が、３μｍより小さくなると電磁波シールド性が低下する傾向にあり、一方、線幅が３０μｍより大きくなるとディスプレイ用フィルターの透過率が低下する傾向にある。上記の電磁波シールド性と透過率は、導電性メッシュのピッチも影響するので、線幅とピッチを上記した範囲内で調整するのが好ましい。
【００４７】
ディスプレイ用フィルターの透過率には、導電性メッシュの開口率が大きく影響する。導電性メッシュの開口率は、メッシュ部（細線部）の平面視上の総面積と開口部の平面視上の総面積の和に対する開口部の総面積の比率であり、導電性メッシュの開口率は、線幅とピッチによって決定される。本発明において、導電性メッシュの開口率は、６０％以上が好ましく、７０％以上がより好ましく、特に８０％以上が好ましい。開口率の上限は９５％以下が好ましく、９３％以下がより好ましい。
【００４８】
導電性メッシュの開口率は、例えば、以下のようにして測定することができる。
【００４９】
（株）キーエンス製  デジタルマイクロスコープ（ＶＨＸ−２００）を用いて、倍率２００倍で表面観察を行い、その輝度抽出機能（ヒストグラム抽出、輝度レンジ設定０−１７０）を用いて、導電性メッシュが存在しない部分（開口部）と導電性メッシュが存在する部分とに２値化し、次いで、面積計測機能を用いて、全体の面積、および開口部の面積を算出し、開口部面積を全体の面積で除算することによって開口率を求める。
【００５０】
具体的には、２０ｃｍ×２０ｃｍサイズのサンプル１枚から任意の２０箇所について開口率を算出し、その平均値とすることが好ましい。
【００５１】
導電性メッシュのメッシュパターンの形状（開口部の形状）は、例えば、正方形、長方形、菱形等の４角形からなる格子状メッシュパターン、三角形、５角形、６角形、８角形、１２角形のような多角形からなるメッシュパターン、円形、楕円形からなるメッシュパターン、前記の複合形状からなるメッシュパターン、及びランダムメッシュパターンが挙げられる。上記の中でも、４角形からなる格子状メッシュパターン、６角形からなるメッシュパターンが好ましく、更に規則的なメッシュパターンが好ましく用いられる。
【００５２】
メッシュパターンが、例えば格子状メッシュパターンの場合、縦横に並んで配置されたディスプレイの画素との相互作用でモワレを起こさないように、画素が並んだ線に対してメッシュパターンの線がある程度の角度（バイアス角）を有していることが好ましい。モワレを起こさないバイアス角は画素のピッチや、メッシュパターンのピッチ・線幅により変化するので、これらの条件に応じて適宜設定される。
【００５３】
本発明のディスプレイ用フィルターにおいて、導電性メッシュからなる導電層は、透明基材上に形成される。該透明基材としては、溶液製膜法や溶融製膜法により得られる各種フィルムが好ましく用いられるが、透明基材の詳細については後述する。
【００５４】
本発明のディスプレイ用フィルターにおいて、導電性メッシュからなる導電層を透明基材などの上に形成する方法は、公知の方法を用いることができる。例えば、１）透明基材上に導電性インキをパターン状に印刷する方法。２）メッキの触媒核を含むインキでパターン印刷した後にメッキを施す方法、３）導電性繊維を用いる方法、４）基材上に金属箔を接着剤で貼り合わせた後にパターニングする方法、５）基材上に気相製膜法あるいはメッキ法により金属薄膜を形成した後にパターニングする方法、６）感光性銀塩を用いる方法、及び７）金属薄膜をレーザーアブレーションする方法等が挙げられるが、これらに限定されない。
【００５５】
上記の導電性メッシュの製造方法について詳細に説明する。
【００５６】
１）透明基材上に導電性インキをパターン状に印刷する方法は、透明基材上に導電性インキを、スクリーン印刷、グラビア印刷等の公知の印刷法によりパターン状に印刷する方法である。
【００５７】
２）メッキの触媒核を含むインキでパターン印刷した後にメッキを施す方法は、例えば、パラジウムコロイド含有ペーストからなる触媒インクを用いてパターン状に印刷し、これを無電解銅メッキ液中に浸漬して無電解銅メッキを施し、続いて電解銅メッキを施し、さらにＮｉ−Ｓｎ合金の電解メッキを施して導電性メッシュパターンを形成する方法である。
【００５８】
３）導電性繊維を用いる方法は、導電性繊維からなる編布を接着剤または粘着材を介して貼り合わせる方法である。
【００５９】
４）透明基材上に金属箔を接着剤で貼り合わせた後にパターニングする方法は、透明基材上に金属箔（銅、アルミニウム、又はニッケル等）を接着剤または粘着材を介して貼り合わせた後、この金属箔をフォトリソグラフィー法あるいはスクリーン印刷法などを利用してレジストパターンを作製した後、金属箔をエッチングする方法である。上記のレジストパターンを形成する方法としては、フォトリソグラフィー法が好ましく、フォトリソグラフィー法は、金属箔上に感光性レジストを塗工又は感光性レジストフィルムをラミネートし、パターンマスクを密着させて露光後、現像液で現像してエッチングレジストパターンを形成し、さらに適当なエッチング液でパターン部以外の金属を溶出させて所望の導電性メッシュを形成する方法である。
【００６０】
５）透明基材上に気相製膜法あるいはメッキ法により金属薄膜を形成した後にパターニングする方法は、透明基材上に金属薄膜（銅、アルミニウム、銀、金、パラジウム、インジウム、スズ、あるいは銀とそれ以外の金属の合金などからなる金属）を、蒸着、スパッタリング、イオンプレーティング等の気相製膜法、あるいはメッキ法によって形成し、この金属薄膜をフォトリソグラフィー法あるいはスクリーン印刷法などを利用してレジストパターンを作製した後、金属薄膜をエッチングする方法である。上記のレジストパターンを形成する方法としては、フォトリソグラフィー法が好ましく、フォトリソグラフィー法は、金属薄膜上に感光性レジストを塗工又は感光性レジストフィルムをラミネートし、パターンマスクを密着させて露光後、現像液で現像してエッチングレジストパターンを形成し、さらに適当なエッチング液でパターン部以外の金属を溶出させて所望の導電性メッシュを形成する方法である。この方法では、接着剤や粘着剤を介さずに、透明基材上に金属薄膜を形成することが好ましい。
【００６１】
６）感光性銀塩を用いる方法は、ハロゲン化銀などの銀塩乳剤層を透明基材上にコーティングし、フォトマスク露光あるいはレーザー露光の後、現像処理して銀のメッシュを形成する方法がある。形成された銀メッシュはさらに銅、ニッケルなどの金属でメッキするのが好ましい。この方法は、国際公開２００４／７８１０号パンフレット、特開２００４−２２１５６４号公報、特開２００６−１２９３５号公報などに記載されており、参照することができる。
【００６２】
７）金属薄膜をレーザーアブレーションする方法は、上記５）と同様の方法で透明基材上に形成された金属薄膜をレーザーアブレーション方式で、金属薄膜のメッシュパターンを作製する方法である。
【００６３】
上記した導電性メッシュの製造方法の中でも、厚みが比較的小さい導電性メッシュ（例えば厚みが８μｍ以下の導電性メッシュ）を容易に製造することができ、かつ高い電磁波シールド性を確保できるという観点から、上記の２）、５）、６）及び７）の製造方法が好ましく用いられる。
【００６４】
また、樹脂層の塗工性、及び樹脂層と導電層との密着性の観点からは、上記の２）、５）及び７）の製造方法で製造された導電性メッシュが好ましく用いられる。特に、上記５）の製造方法は、樹脂層の塗工性が良好であり、かつ導電性メッシュの製造コストが低いことから、特に好ましく用いられる。
【００６５】
上記５）の製造方法について、更に詳細に説明する。
【００６６】
透明基材上に金属薄膜を形成する方法としては、気相製膜法が好ましい。上記の気相製膜法としては、スパッタリング、イオンプレーティング、電子ビーム蒸着、真空蒸着、化学蒸着等が挙げられるが、これらの中でも、スパッタリング及び真空蒸着が好ましい。金属薄膜を形成するための金属としては、銅、アルミニウム、ニッケル、鉄、金、銀、ステンレス、クロム、チタンなどの金属の内、１種または２種以上を組合せた合金あるいは多層のものを使用することができる。これらの中でも、良好な電磁波シールド性が得られ、メッシュパターン加工が容易で、かつ低価格であるなどの点から、銅が好ましく用いられる。
【００６７】
また、金属薄膜の金属として銅を用いる場合は、基材と銅薄膜との間に、５〜１００ｎｍの厚みのニッケル薄膜を用いるのが好ましい。これによって、基材と銅薄膜の接着性が向上する。
【００６８】
また、金属薄膜の表面に、金属酸化物、金属窒化物、金属硫化物等の金属化合物を、気相製膜法で積層することができる。この金属化合物の積層によって、後述する黒化処理を省略することができるので好ましい。かかる金属化合物としては、金、白金、銀、水銀、銅、アルミニウム、ニッケル、クロム、鉄、スズ、亜鉛、インジウム、パラジウム、イリジウム、コバルト、タンタル、アンチモン、及びチタン等の金属の酸化物、窒化物、あるいは硫化物が挙げられる。
【００６９】
上記の金属化合物の厚みは、５〜２００ｎｍの範囲が好ましく、１０〜１００ｎｍの範囲がより好ましい。この金属化合物層及び上記のニッケル薄膜は、金属薄膜の一部を構成し、更に導電メッシュの一部を構成する。
【００７０】
金属薄膜上にレジストパターンを形成する方法としては、フォトリソグラフィーが好ましく用いられる。かかるフォトリソグラフィー法は、金属薄膜上に感光性レジスト層を積層し、該レジスト層をメッシュパターン状に露光し、現像してレジストパターンを形成し、次いで、金属薄膜をエッチングしてメッシュパターン化し、メッシュ上のレジスト層を剥離除去する方法である。
【００７１】
感光性レジスト層としては、露光部分が硬化するネガレジスト、あるいは逆に露光部分が現像によって溶解するポジレジストを用いることができる。感光性レジスト層は金属薄膜上に直接に塗工して積層してもよいし、あるいはフォトレジストからなるフィルムを貼り合わせてもよい。フォトレジスト層を露光する方法としては、フォトマスクを介して紫外線等で露光する方法、もしくはレーザーを用いて直接に走査露光する方法を用いることができる。
【００７２】
また、上記のレジスト層に、カーボンブラックやチタンブラック等の黒顔料を含有させて、黒色化することができる。この黒色レジスト層は、除去せずに、導電メッシュ上にそのまま残すことによって、後述する黒化処理を省略することができるので好ましい。
【００７３】
エッチングする方法としては、ケミカルエッチング法等がある。ケミカルエッチングとは、レジストパターンで保護された金属部分以外の金属をエッチング液で溶解し、除去する方法である。エッチング液としては、塩化第二鉄水溶液、塩化第二銅水溶液、アルカリエッチング液等がある。
【００７４】
本発明にかかる導電性メッシュは、黒化処理が施されていることが好ましい。黒化処理を施すことにより、導電性メッシュの金属光沢による視聴者側からの反射やディスプレイ側からの反射も低減することができ、さらに画像視認性の低下を低減することができ、コントラスト・視認性に優れたディスプレイ用フィルターが得られる。
【００７５】
導電性メッシュはディスプレイに設置したときに透光部となる部分以外、つまりは表示部ではない部分や額縁印刷に隠れた部分は、必ずしもメッシュパターンを有している必要がなく、これら部分はパターニングされていない、例えば金属箔ベタであっても良い。加えて、パターニングされていないベタ部分が、黒色であると、そのままディスプレイ用フィルターの額縁印刷として使えて好適である。
【００７６】
（樹脂層の積層）
本発明において、導電性メッシュからなる導電層上に樹脂層が積層されるが、導電層上に直接に樹脂層が積層されることが好ましい。また導電層上の樹脂層は、ハードコート層と反射防止層がこの順に積層（反射防止層が最表面側になる順に積層）されることが重要である。なお樹脂層の積層方法としては、樹脂層となる塗液（以降、単に塗液と言う）を塗工することが好ましい。
【００７７】
塗工に際し、塗液の粘度（２３℃）を１〜５０ｍＰａ・ｓの範囲にすることが好ましい。塗液の粘度を上記の範囲に制御することによって、樹脂層に映り込み防止に有効な凹みと樹脂層占有率Ｒが５％以上２０％未満の凹み構造を形成することができる。樹脂層に上記の凹み構造を形成する上で、塗液の粘度を５０ｍＰａ・ｓ以下にすることは有効である。また、塗液の粘度が５０ｍＰａ・ｓを越えると、塗工性が低下し、塗工筋や塗工ムラが発生する場合がある。塗液の粘度が１ｍＰａ・ｓより低くなると、逆に塗工面が平滑になりやすく、映り込み防止に有効な凹みを形成することができなくなったり、はじきなどの塗工欠点が発生しやすくなる場合がある。好ましい塗液の粘度は、１〜４０ｍＰａの範囲であり、より好ましくは１〜３０ｍＰａ・ｓの範囲であり、特に１〜２０ｍＰａ・ｓの範囲が好ましい。
【００７８】
本発明において、導電性メッシュの厚みに応じて、樹脂層の乾燥状態での体積塗工量を制御することが好ましい。これによって、導電性メッシュの存在しない部分（導電性メッシュの開口部）に、映り込み防止に有効な凹みを樹脂層に形成することができる。導電性メッシュの厚みをＸ（μｍ）とすると、導電性メッシュの開口部のみに、導電性メッシュの厚みと同じ高さまで樹脂層を均一に埋めた場合の樹脂層の理論体積塗工量Ｙ（ｃｍ３／ｍ２）は、以下の式で表される。但し、下記式において、Ｚは導電性メッシュの開口率を表す。尚、ｍ２＝１０１２μｍ２、μｍ３＝１０−１２ｃｍ３、である。
Ｙ＝（Ｘ×１０１２）×Ｚ×１０−１２＝Ｘ×Ｚ
導電性メッシュの厚みに応じた樹脂層の体積塗工量の好ましい範囲は、上記の理論体積塗工量Ｙを基準にして求めることができる。即ち、樹脂層の体積塗工量は、理論体積塗工量Ｙを１００％として、８０〜６００％の範囲が好ましく、１５０〜５００％の範囲が好ましく、特に２５０％より大きく５００％以下の範囲が好ましい。理論体積塗工量に対する体積塗工量を上記の範囲に制御することによって、樹脂層に映り込み防止に有効な凹みと樹脂層占有率Ｒが５％以上２０％未満の凹み構造を形成することができる。樹脂層の体積塗工量が、理論体積塗工量Ｙを１００％として、８０％より小さくなると表面凹み構造が荒れる方向となり光沢性が低下する傾向があり、また、６００％より大きくなると映り込み防止に有効な凹みを樹脂層に形成することが難しくなるため、いずれも好ましい態様ではない。上記の樹脂層の体積塗工量は、乾燥後の体積塗工量であるが、樹脂層がハードコート層の場合は、硬化後の体積塗工量である。
【００７９】
また、本発明において樹脂層の凹みの深さＤは０．１〜５μｍであることが好ましいが、導電性メッシュの厚みが０．５〜８μｍの場合には上記した理論体積塗工量に対する体積塗工量を８０〜６００％とすることで制御することができる。
【００８０】
また、塗液中の固形分濃度、塗液のウェット塗工量についても、以下の範囲に調整することが好ましい。塗液中における固形分濃度は、１０〜８０質量％の範囲が好ましく、２０〜７０質量％の範囲がより好ましく、特に３０〜７０質量％の範囲が好ましい。ここで、塗液中の固形分としては、樹脂成分と、必要に応じてその他の固形分（例えば、重合開始剤、塗布性改良剤等）を含む。樹脂成分としては、ポリマー、モノマー、オリゴマーを含み、塗液中の全固形分に対して樹脂成分を５０質量％以上含有することが好ましく、６０質量％以上含有することがより好ましい。上限は１００質量％である。塗液のウェット塗工量は、１〜５０ｇ／ｍ２の範囲が好ましく、３〜４０ｇ／ｍ２の範囲がより好ましく、特に５〜３０ｇ／ｍ２の範囲が好ましい。
【００８１】
樹脂層用塗液の塗工方法としては、各種の塗工方法、例えば、リバースコート法、グラビアコート法、ロッドコート法、バーコート法、ダイコート法またはスプレーコート法などを用いることができる。これらの中でも、グラビアコート法、ダイコート法が好ましく用いられる。
【００８２】
本発明において、樹脂層はハードコート層を含む。ハードコート層は、ディスプレイ用フィルターに傷等が発生することを防止する働きがあり、その意味において、硬度が十分に高いことが好ましい。
【００８３】
高い硬度を得るためには、ハードコート層の樹脂成分として、多官能重合性モノマーを用いることが好ましく、これによって形成されたハードコート層の硬化後の比重は、１．２以上が好ましく、１．３以上がより好ましく、更に１．４以上が好ましい。ハードコート層の硬化後の比重が高くなるほど、硬度が高くなる傾向にあるので、ハードコート層の硬化後の比重は高い方が好ましい。ハードコート層の比重の上限は１．７程度である。
【００８４】
上記した樹脂層の体積塗工量に上記比重を掛けると、質量塗工量となる。樹脂層の質量塗工量は、塗工前後の単位面積当たりのサンプルの質量を測定することによって簡単に求めることができるために、製造工程を制御、管理する上で好ましい。
【００８５】
例えば、導電性メッシュの厚みＸが５μｍ、導電性メッシュの開口率Ｚが８５％、ハードコート層の硬化後の比重が１．４とすると、樹脂層の理論体積塗工量Ｙは、
Ｙ＝Ｘ×Ｚ＝５×０．８５＝４．２５ｃｍ３／ｍ２、となる。
【００８６】
本発明において、導電性メッシュの厚みは８μｍ以下が好ましいことは、前述したとおりである。導電性メッシュの厚みが８μｍより大きくなると、実際の生産工程において、導電性メッシュ上に樹脂層を塗工するときの塗工性が大きく低下し、樹脂層の塗工面に筋やムラが発生する原因となる他、樹脂層の平坦部分が少なくなり光沢性に悪影響を及ぼすことがある。特に樹脂層に凹みを形成するために、樹脂層の乾燥塗工量を比較的小さくすると、上記した塗工性の低下が顕著となる。樹脂層に塗工筋やムラが発生すると、ディスプレイ用フィルターとしては致命的である。
【００８７】
導電性メッシュの厚みが８μｍより大きい場合、樹脂層の良好な塗工性を確保するためには、樹脂層の質量塗工量（乾燥後）は、２０ｇ／ｍ２以上必要であり、塗工後の乾燥時間や硬化時間の増大により生産性が大幅に低下する。更に、樹脂層にハードコート層を含む場合、上記のように質量塗工量（ハードコート層の場合は硬化後の質量塗工量）が大きくなると、硬化時の重合収縮によりディスプレイ用フィルターにカールが発生するという問題、及びハードコート層にクラックが発生するという問題が起こる。乾燥時間等の乾燥条件を適正化することにより、樹脂層に映り込み防止に有効な凹みと樹脂層占有率Ｒが５％以上２０％未満の凹み構造を形成することができる。ここで、好ましい乾燥条件は塗液の粘度、体積塗工量などによるが、前述した範囲内の粘度、体積塗工量の範囲内では、乾燥温度は好ましくは８０〜１５０℃、更に好ましくは１００〜１３０℃であり、乾燥時間は３０〜９０秒が好ましい。
【００８８】
本発明において、樹脂層の質量塗工量は、１６ｇ／ｍ２以下が好ましく、１４ｇ／ｍ２以下が好ましく、更に１０ｇ／ｍ２以下が好ましく、特に９ｇ／ｍ２以下が好ましい。樹脂層の質量塗工量の下限は、樹脂層の硬度を確保するという観点から、１ｇ／ｍ２以上が好ましく、１．５ｇ／ｍ２以上が好ましい。なお、本発明のディスプレイ用フィルターの樹脂層は、少なくともハードコート層と反射防止層の２層を有する積層構成である。そのため、上記質量塗工量の説明は、樹脂層の最も導電層側の１層であるハードコート層若しくはその他の層の質量塗工量の説明である。
【００８９】
なお、本発明のディスプレイ用フィルターの導電層の上に積層される樹脂層の積層構成パターンとしては、例えば、低屈折率層／ハードコート層、低屈折率層／高屈折率層／ハードコート層、低屈折率層／高屈折率ハードコート層、防汚層／低屈折率層／ハードコート層、帯電防止層／低屈折率層／ハードコート層、低屈折率層／着色ハードコート層／ハードコート層、低屈折率層／高屈折率層／着色ハードコート層／ハードコート層、などを例示することができる（なおこれら樹脂層の積層構成は、左側に記載の層が最も視認者側であり、右側に記載の層が導電層側に配置される。つまり、「低屈折率層／ハードコート層」の場合、視認者側に低屈折率層が配置され、導電層側にハードコート層が配置されることを意味する。）。本発明はこれらにより限定されない。
【００９０】
（ハードコート層）
ハードコート層は、傷防止のために設けられる層である。ハードコート層は硬度が高いことが好ましく、ＪＩＳ  Ｋ５６００−５−４（１９９９年）で定義される鉛筆硬度が、Ｈ以上が好ましく、２Ｈ以上がより好ましい。上限は９Ｈ程度である。
【００９１】
また、耐擦傷性を簡易的に評価するために、スチールウールによる耐擦傷性試験を用いることができる。この試験方法は、ハードコート層表面を、＃００００のスチールウールに２５０ｇの荷重をかけて、ストローク幅１０ｃｍ、速度３０ｍｍ／ｓｅｃで１０往復摩擦した後、表面を目視で観察し、傷の付き方を次の５段階で評価したものである。
５級：傷が全く付かない。
４級：傷が１本以上５本以下。
３級：傷が６本以上１０本以下。
２級：傷が１１本以上。
１級：全面に無数の傷。
【００９２】
上記の試験方法において、本発明のハードコート層は、３級以上であることが好ましく、さらに好ましくは４級以上である。
【００９３】
本発明におけるハードコート層を構成する樹脂成分としては、アクリル系樹脂、シリコン系樹脂、メラミン系樹脂、ウレタン系樹脂、アルキド系樹脂、フッ素系樹脂等の熱硬化型樹脂又は光硬化型樹脂等が挙げられるが、性能、コスト、生産性などのバランスを考慮するとアクリル系樹脂が好ましく適用される。
【００９４】
アクリル系樹脂で形成されるハードコート層は多官能アクリレートを主成分とする硬化組成物からなるものである。多官能アクリレートは、１分子中に３（より好ましくは４、更に好ましくは５）個以上の（メタ）アクリロイルオキシ基を有する単量体もしくはオリゴマー、プレポリマーであって、１分子中に３個以上の（メタ）アクリロイルオキシ基（但し、本明細書において「・・・（メタ）アクリ・・・」とは、「・・・アクリ・・・又は・・・メタアクリ・・・」を略して表示したものである。）を有する単量体、オリゴマー、プレポリマーとしては、１分子中に３個以上のアルコール性水酸基を有する多価アルコールの該水酸基が、３個以上の（メタ）アクリル酸のエステル化物となっている化合物などを挙げることができる。
【００９５】
具体的な例としては、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンＥＯ変性トリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレートヘキサメチレンジイソシアネートウレタンプレポリマー、ペンタエリスリトールトリアクリレートトルエンジイソシアネートウレタンプレポリマー、ペンタエリスリトールトリアクリレートイソホロンジイソシアネートウレタンプレポリマーなどを用いることができる。これらは、１種または２種以上を混合して使用することができる。
【００９６】
これらの１分子中に３個以上の（メタ）アクリロイルオキシ基を有する単量体、オリゴマー、プレポリマーの使用割合は、ハードコート層構成成分総量１００質量％に対して５０〜９０質量％が好ましく、より好ましくは５０〜８０質量％である。
【００９７】
上記の化合物以外にハードコート層の剛直性を緩和させたり、硬化時の収縮を緩和させたりする目的で１〜２官能のアクリレートを併用するのが好ましい。１分子中に１〜２個のエチレン性不飽和二重結合を有する単量体としては、ラジカル重合性のある通常の単量体ならば特に限定されずに使用することができる。
【００９８】
分子内に２個のエチレン性不飽和二重結合を有する化合物としては、下記（ａ）〜（ｆ）の（メタ）アクリレート等を用いることができる。
【００９９】
（ａ）炭素数２〜１２のアルキレングリコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類：エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレートなど、
（ｂ）ポリオキシアルキレングリコールの（メタ）アクリレート酸ジエステル類：ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレートなど、
（ｃ）多価アルコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類：ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレートなど、
（ｄ）ビスフェノールＡあるいはビスフェノールＡの水素化物のエチレンオキシド及びプロピレンオキシド付加物の（メタ）アクリル酸ジエステル類：２，２’−ビス（４−アクリロキシエトキシフェニル）プロパン、２，２’−ビス（４−アクリロキシプロポキシフェニル）プロパンなど、
（ｅ）ジイソシアネート化合物と２個以上のアルコール性水酸基含有化合物を予め反応させて得られる末端イソシアネート基含有化合物に、更にアルコール性水酸基含有（メタ）アクリレートを反応させて得られる分子内に２個以上の（メタ）アクリロイルオキシ基を有するウレタン（メタ）アクリレート類など、および、
（ｆ）分子内に２個以上のエポキシ基を有する化合物にアクリル酸又はメタクリル酸を反応させて得られる分子内に２個以上の（メタ）アクリロイルオキシ基を有するエポキシ（メタ）アクリレート類など
また、分子内に１個のエチレン性不飽和二重結合を有する化合物としては、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ−及びｉ−プロピル（メタ）アクリレート、ｎ−、ｓｅｃ−、およびｔ−ブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、メトキシエチル（メタ）アクリレート、エトキシエチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、Ｎ−ヒドロキシエチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニル−３−メチルピロリドン、Ｎ−ビニル−５−メチルピロリドンなどを用いることができる。これらの単量体は、１種または２種以上混合して使用してもよい。
【０１００】
これらの１分子中に１〜２個のエチレン性不飽和二重結合を有する単量体の使用割合は、ハードコート層構成成分総量１００質量％に対して１０〜４０質量％が好ましく、より好ましくは２０〜４０質量％である。
【０１０１】
また本発明では、ハードコート層の改質剤として、塗布性改良剤、消泡剤、増粘剤、帯電防止剤、有機系潤滑剤、有機高分子化合物、紫外線吸収剤、光安定剤、染料、顔料あるいは安定剤などを用いることができ、これらは活性線または熱による反応を損なわない範囲内でハードコート層を構成する塗布層の組成物成分として使用され、用途に応じてハードコート層の特性を改良することができる。
【０１０２】
また、ハードコート層に、金属化合物粒子（例えば、錫含有酸化アンチモン粒子（ＡＴＯ）、亜鉛含有酸化アンチモン粒子、錫含有酸化インジウム粒子（ＩＴＯ）、酸化亜鉛／酸化アルミニウム粒子、酸化アンチモン粒子等）を含有させて、ハードコート層の屈折率を１．６０以上とすることができる。
【０１０３】
本発明において、上記のハードコート組成物を硬化させる方法としては、例えば、活性線として紫外線等を照射する方法や高温加熱法等を用いることができ、これらの方法を用いる場合には、前記ハードコート組成物に、光重合開始剤または熱重合開始剤等を加えることが望ましい。
【０１０４】
光重合開始剤の具体的な例としては、アセトフェノン、２，２−ジエトキシアセトフェノン、ｐ−ジメチルアセトフェノン、ｐ−ジメチルアミノプロピオフェノン、ベンゾフェノン、２−クロロベンゾフェノン、４，４’−ジクロロベンゾフェノン、４，４’−ビスジエチルアミノベンゾフェノン、ミヒラーケトン、ベンジル、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、メチルベンゾイルフォメート、ｐ−イソプロピル−α−ヒドロキシイソブチルフェノン、α−ヒドロキシイソブチルフェノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンなどのカルボニル化合物、テトラメチルチウラムモノスルフィド、テトラメチルチウラムジスルフィド、チオキサントン、２−クロロチオキサントン、２−メチルチオキサントンなどの硫黄化合物などを用いることができる。これらの光重合開始剤は単独で使用してもよいし、２種以上組み合せて用いてもよい。
また、熱重合開始剤としては、ベンゾイルパーオキサイドまたはジ−ｔ−ブチルパーオキサイドなどのパーオキサイド化合物などを用いることができる。
【０１０５】
光重合開始剤または熱重合開始剤の使用量は、ハードコート層構成成分総量１００質量％に対して、０．０１〜１０質量％が適当である。電子線またはガンマ線を硬化手段とする場合には、必ずしも重合開始剤を添加する必要はない。また２００℃以上の高温で熱硬化させる場合には熱重合開始剤の添加は必ずしも必要ではない。
【０１０６】
本発明で用いられるハードコート層形成組成物は、レベリング剤を含有することが好ましい。これによって、ハードコート層表面に平坦部の多い凹み構造を安定的に形成しやすくなり、さらに、樹脂層に映り込み防止に有効な凹みと樹脂層占有率Ｒが５％以上２０％未満の凹み構造を形成することができる。なお、ハードコート層表面に平坦部の多い凹み構造を形成できれば、ハードコート層の上に形成される反射防止層は一般に極薄膜であることもあり、樹脂層の凹み構造はハードコート層の凹み構造を追従することになる。
【０１０７】
上記したように、本願発明のディスプレイ用フィルターの樹脂層占有率Ｒを５％以上２０％未満とするために、（１）塗工に際し、塗液の粘度を適切な範囲にすること、（２）理論体積塗工量に対する体積塗工量を制御すること、（３）乾燥時間等の乾燥条件を適正化すること、（４）レベリング剤を含有させることは、特に有効であり、さらに、これら（１）〜（４）の方法を適切に組合せて適用することにより、樹脂層占有率Ｒの値を好ましく制御することができる。
【０１０８】
レベリング剤としては、シリコーン系化合物、フッ素系化合物、アクリル系化合物などが挙げられる。例えば、シリコーン系レベリング剤としては、ポリジメチルシロキサンを基本骨格とし、ポリオキシアルキレン基が付加されたものが好ましく、ジメチルポリシロキサン−ポリオキシアルキレン共重合体（例えば、東レダウコーニング（株）社製のＳＨ１９０）が挙げられる。また、アクリル系化合物としては、「ＡＲＵＦＯＮ−ＵＰ１０００シリーズ、ＵＨ２０００シリーズ、ＵＣ３０００シリーズ（商品名）：東亜合成化学（株）製」などが挙げられる。アクリル系化合物はアルキル鎖を多数持っており、ハードコート層の上に形成する樹脂層の塗布性、接着性を阻害しにくい傾向があることから好ましく用いることができる。レベリング剤の添加量はハードコート層構成成分総量１００質量％に対して、０．０１〜５質量％含有させるのが好ましい。
【０１０９】
本発明で必要に応じて用いられる活性線としては、紫外線、電子線および放射線（α線、β線、γ線など）などアクリル系のビニル基を重合させる電磁波が挙げられ、実用的には、紫外線が簡便であり好ましい。紫外線源としては、紫外線蛍光灯、低圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、キセノン灯または炭素アーク灯などを用いることができる。また、活性線を照射するときに、低酸素濃度下で照射を行なうと、効率よく硬化させることができる。また更に、電子線方式は、装置が高価で不活性気体下での操作が必要ではあるが、塗布層中に光重合開始剤や光増感剤などを含有させなくてもよい点で有利である。
【０１１０】
本発明で用いられる熱硬化に必要な熱としては、スチームヒーター、電気ヒーター、赤外線ヒーターあるいは遠赤外線ヒーターなどを用いて温度を少なくとも１４０℃以上に加温された空気、不活性ガスを、スリットノズルを用いて基材、塗膜に吹きあてることにより与えられる熱が挙げられ、中でも２００℃以上に加温された空気による熱が好ましく、更に好ましくは２００℃以上に加温された窒素による熱であることが、硬化速度が早いので好ましい。
【０１１１】
ハードコート層の硬化方法としては、ハードコート層の高い硬度を付与するという観点、生産性の観点から、活性線を照射する方法が好ましく、特に紫外線を照射する方法が好ましい。従って、本発明のハードコート層は、紫外線硬化型のハードコート層が好ましい。
【０１１２】
また、ハードコート層は、前述したように粒子を含有することができる。詳細は前述したとおりである。
【０１１３】
（反射防止層）
本発明における反射防止層は、反射防止膜を有し、具体的には、可視域において屈折率が１．５以下、好適には１．４以下と低い、フッ素系透明高分子樹脂やフッ化マグネシウム、シリコン系樹脂や酸化珪素の薄膜等を例えば１／４波長の光学膜厚で単層形成したもの、屈折率の異なる、金属酸化物、フッ化物、ケイ化物、窒化物、硫化物等の無機化合物またはシリコン系樹脂やアクリル樹脂、フッ素系樹脂等の有機化合物の薄膜を２層以上多層積層したものなどが挙げられる。    本発明では、反射防止層が低屈折率層のみの構成であっても、低屈折率層と高屈折率層の両方が積層された構成であってもよい。この反射防止層は通常ハードコート層の上に積層される。前述したように、本発明の反射防止層は、経済的な見地、及び表面凹凸形状を精度良くコントロールすることができるという観点から、単層であることが好ましい。即ち、本発明の反射防止層は、低屈折率層のみで構成されることが好ましい。
【０１１４】
反射防止層の形成方法は特に限定されないが、コストと性能のバランスを考慮すると、ウエットコーティングにより塗料を塗布する方法が好ましい。塗料の塗布方法としては、マイクログラビアコーティング、スピンコーティング、ディップコーティング、カーテンフローコーティング、ロールコーティング、スプレーコーティング、流し塗り法などを好ましく用いることができるが、塗布厚みの均一性の点からマイクログラビアコーティングが好適に用いられる。次いで塗布後に加熱、乾燥した後、熱または紫外線等の活性線で硬化させることにより各々の被膜を形成することができる。
【０１１５】
本発明の反射防止層は、例えば樹脂層としてハードコート層と反射防止層からなる積層体を用いた場合には、プラズマディスプレイ用フィルターの最表面に設置される。そのため、反射防止層の表面に付着した粉塵などを布で拭き取ったりした際に傷がつくと困るため、上記したスチールウールによる耐擦傷性が３級以上であることが好ましい。さらに好ましくは４級以上である。
【０１１６】
本発明における反射防止層は、反射防止性能を有していれば特に限定されるものではないが、以下に本発明に好ましく用いられる反射防止層について説明する
低屈折率層の屈折率は、１．２３〜１．４２が好ましく、更に好ましくは１．３４〜１．３８である。高屈折率層の屈折率は１．５５〜１．８０であることが好ましく、更に好ましくは１．６０〜１．７５である。また、反射防止層として高屈折率層と低屈折率層の積層構成を用いる場合は、低屈折率層と高屈折率層の屈折率差が０．１５以上であることが好ましい。
また、ハードコート層の屈折率も調整することが好ましい。ハードコート層の屈折率は、１．４５〜１．５５が好ましい。ハードコート層上に反射防止層として低屈折率層のみを設ける場合、低屈折率層の屈折率はハードコート層の屈折率より０．１５以上低いことが好ましい。
【０１１７】
本発明における反射防止層において、高屈折率層の構成成分としては、反射防止層表面に帯電防止性を付与するために、樹脂組成物に金属化合物粒子を分散させたものであることが好ましい。樹脂成分には、（メタ）アクリレート化合物が用いられる。（メタ）アクリレート化合物は、活性光線照射によりラジカル重合し、形成される膜の耐溶剤性や硬度を向上させるため好ましく、さらに、（メタ）アクリロイル基が分子内に２個以上の多官能（メタ）アクリレート化合物は、耐溶剤性等が向上するので本発明においては特に好ましい。例えば、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレートや、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、グリセロールトリ（メタ）アクリレート、エチレン変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリス−（２−ヒドロキシエチル）−イソシアヌル酸エステルトリ（メタ）アクリレート等の３官能（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等の４官能以上の（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【０１１８】
ここで用いられる金属化合物粒子としては、導電性の各種金属化合物粒子が好ましく用いられる。特に好ましくは錫含有酸化アンチモン粒子（ＡＴＯ）、亜鉛含有酸化アンチモン粒子、錫含有酸化インジウム粒子（ＩＴＯ）、酸化亜鉛／酸化アルミニウム粒子、酸化アンチモン粒子等である。さらに好ましくは錫含有酸化インジウム粒子（ＩＴＯ）が用いられる。
【０１１９】
導電性を有する導電性金属化合物粒子について、平均１次粒径が０．００５〜０．０５μｍの粒子が好適に使用される。該平均１次粒径が０．０５μｍを超えると、生成される被膜（高屈折率層）の透明性を低下させることがある。また、該平均１次粒径が０．００５μｍ未満では、該金属化合物粒子が凝集し易く生成被膜（高屈折率層）のヘイズ値が増大する。いずれの場合も、所望のヘイズ値を得ることが困難になる。また樹脂層としてハードコート層と反射防止層の積層構成とした場合（ハードコート層を導電層側とする）で、かつハードコート層のＲａを制御することによって、樹脂層のＲａも制御しようとした場合に、反射防止層の高屈折率層に平均1次粒径が０．０５μｍを超える粒径の大きな粒子を添加すると、ハードコート層のＲａに樹脂層最表面のＲａが追従せず、反射防止層の粒子が樹脂層最表面のＲａに影響を与える場合がある。１次粒径とは、静置した状態で電子顕微鏡やガスまたは溶質による吸着法、空気流通法、Ｘ線小角散乱法などで測定した粒径のことである。
【０１２０】
高屈折率層の構成成分の配合割合は、樹脂成分（Ａ）と金属化合物粒子（Ｂ）との質量割合〔(Ａ) ／(Ｂ) 〕が１０／９０〜３０／７０であることが好ましく、さらに好ましくは１５／８５〜２５／７５である。金属化合物粒子がかかる好ましい範囲であると、得られる膜は透明性十分で、導電性も良好であり、一方、得られる膜の各種物理的、化学的強度が悪くなることもない。
【０１２１】
高屈折率層は、好ましくは溶媒で分散させた塗布液を調整し、その塗布液をハードコート層上に塗布した後、乾燥・硬化させることによって形成することができる。
【０１２２】
また、有機溶媒の量は、塗布手段や、印刷手段に応じ作業性のよい状態の粘度に組成物がなるように任意の量を配合すればよいが、通常組成物の固形分濃度が６０質量％以下、好ましくは、５０質量％以下になる程度が適当である。
【０１２３】
本発明における好ましい反射防止層の１つの態様において、低屈折率層は内部に空洞を有するシリカ微粒子、シロキサン化合物、硬化剤、および溶媒を含有する塗料組成物をコーティングして得られたものとすることが、屈折率をより低くし、表面反射率を低くすることができるので好ましい。
【０１２４】
低屈折率層の１つの好ましい態様は、表面硬度を向上させ、耐擦傷性を優れたものとするためにマトリックス材料であるシロキサン化合物とシリカ微粒子が強固に結合していることが好ましく、そのためにはコーティング前の塗料組成物の段階で予めシロキサン化合物をシリカ微粒子表面と反応させて結合させることが好ましい。
【０１２５】
そのための塗料組成物は、シリカ微粒子の存在下、シラン化合物を溶媒中、酸触媒により、加水分解することによって、シラノール化合物を形成した後、該シラノール化合物を縮合反応させることによって得ることができる。
【０１２６】
シラノール化合物を形成するためのシラン化合物としては、下記に示すようなフッ素含有シラン化合物やシラン化合物（フッ素を含まない）が挙げられる。
【０１２７】
フッ素含有シラン化合物としては、トリフルオロメチルトリメトキシシラン、トリフルオロメチルトリエトキシシラン、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、トリフルオロプロピルトリエトキシシランなどが例示される。
また、シラン化合物（フッ素含まない）としては、ビニルトリアルコキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリアルコキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、ジメチルジアルコキシシラン、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシランなどが例示される。
【０１２８】
これらシラン化合物は、単独で用いても、２種以上を組み合わせて用いても良い。
【０１２９】
シロキサン化合物の含有量は、低屈折率層としての被膜を形成した際、低屈折率層の構成成分総量１００質量％に対して、好ましくは、２０質量％〜７０質量％、特に好ましくは３０質量％〜６０質量％である。この範囲でシロキサン化合物を含有することが、低屈折率層の屈折率を低く、かつ低屈折率層の被膜の硬度を高めることができるため好ましい。したがって、塗料中におけるシロキサン化合物の含有量は、溶媒を除く全成分に対して前記の範囲であることが好ましい。
【０１３０】
これらの中でも、低屈折率化のためには、フッ素含有シラン化合物を必須成分として用い、シラン化合物から選ばれた１種以上のシラン化合物を組み合わせて用いることが好ましい。フッ素含有シラン化合物の量は、全シラン化合物量１００質量％に対して、好ましくは、２０質量％〜８０質量％、特に好ましくは、３０質量％〜６０質量％である。フッ素含有シラン化合物の量が２０質量％を下回ると、低屈折率化が不十分になることがある。一方、フッ素含有シラン化合物の量が８０質量％を越えると、被膜の硬度が低下する場合がある。
【０１３１】
低屈折率層で用いられるシリカ微粒子は、数平均粒子径が１ｎｍ〜５０ｎｍである粒子が好適に使用される。数平均粒子径が１ｎｍを下回ると、マトリックス材料との結合が不十分となり、被膜の硬度が低下することがある。一方、数平均粒子径が５０ｎｍを越えると、粒子を多く導入して生じる粒子間の空隙の発生が少なくなり、低屈折率化の効果が十分発現しないことがある。ここで、シリカ微粒子の平均粒子径は、種々のパーティクルカウンターを用いて、数平均の粒子径を測定することができる。塗料に添加する前のシリカ微粒子の粒子径を測定することが好ましい。また、被膜形成後は、電子走査型顕微鏡や透過型電子顕微鏡を用いて、被膜中のシリカ微粒子の粒子径を測定する方法が好ましい。数平均粒子径測定法として透過型電子顕微鏡を用いたもの例示すると、超薄切片法で作製したサンプルを、透過型電子顕微鏡（日立製Ｈ−７１００ＦＡ型）で加速電圧１００ｋＶにて観察する（倍率１０万倍程度）し、得られた画像から平均粒子径を求めることができる。
【０１３２】
また樹脂層として、ハードコート層と反射防止層の積層構成とした場合（ハードコート層を導電層側とする）で、かつハードコート層のＲａを制御することによって、樹脂層のＲａも制御しようとした場合に、反射防止層の低屈折率層に数平均粒子径が５０ｎｍを越える粒径の大きな粒子を添加すると、ハードコート層のＲａに樹脂層最表面のＲａが追従せず、反射防止層の粒子が樹脂層最表面のＲａに影響を与える場合がある。
【０１３３】
低屈折率層で用いられるシリカ微粒子の数平均粒子径は、形成される被膜の膜厚よりも小さいことが好ましい。被膜の膜厚を上回ると、被膜表面にシリカ微粒子が露出し、反射防止性を損なうばかりでなく、被膜の表面硬度および耐汚染性が低下する。
【０１３４】
低屈折率層で用いられるシリカ微粒子としては、マトリックスのシロキサン化合物と反応しやすくするため、表面にシラノール基を有するシリカ微粒子が好ましい。また、被膜の低屈折率化のために内部に空洞を有するシリカ微粒子が好ましい。内部に空洞を有しないシリカ微粒子は、一般に粒子自体の屈折率は、１．４５〜１．５０であるため、屈折率低下効果が少ない。一方、内部に空洞を有するシリカ微粒子は、粒子自体の屈折率は、１．２０〜１．４０であるため、導入による屈折率低下効果が大きい。内部に空洞を有するシリカ微粒子としては、外殻によって包囲された空洞部を有するシリカ微粒子、多数の空洞部を有する多孔質のシリカ微粒子等が挙げられる。
【０１３５】
低屈折率層で用いられるシリカ微粒子の含有量は、低屈折率層としての被膜を形成した際、低屈折率層の構成成分総量１００質量％に対して、好ましくは、３０質量％〜８０質量％、特に好ましくは４０質量％〜７０質量％である。したがって、塗料組成物中におけるシリカ微粒子の含有量は、溶媒を除く全成分に対して前記の範囲であることが好ましい。この範囲でシリカ微粒子を被膜中に含有させると、屈折率を低くすることができるだけでなく、被膜の硬度を高めることができる。シリカ微粒子の含有量が３０質量％を下回ると、粒子間の空隙による屈折率低下効果が少なくなる。また、シリカ微粒子の含有量が８０質量％を越えると、コーティング膜中にアイランド現象が多数発生し、被膜の硬度が低下し、また、場所によって、屈折率が不均一になるので好ましくない。
【０１３６】
また、前述のように低屈折率層を形成するための塗料組成物は、シリカ微粒子の存在下、シラン化合物を溶媒中、酸触媒により、加水分解することによって、シラノール化合物を形成した後、該シラノール化合物を縮合反応させることによって得ることができるが、この加水分解反応においては、溶媒中、酸触媒および水を１〜１８０分かけて添加した後、室温〜８０℃で１〜１８０分反応させることが好ましい。このような条件で加水分解反応を行うことにより、急激な反応を抑制することができる。反応温度は、より好ましくは４０〜７０℃である。また、加水分解反応によりシラノール化合物を得た後、そのまま、反応液を、５０℃以上、溶媒の沸点以下で１〜１００時間加熱し、縮合反応を行なうのが好ましい。また、シロキサン化合物の重合度を上げるために、再加熱もしくは塩基触媒の添加を行なうことも可能である。
【０１３７】
加水分解反応に用いる酸触媒としては、塩酸、酢酸、蟻酸、硝酸、蓚酸、塩酸、硫酸、リン酸、ポリリン酸、多価カルボン酸あるいはその無水物、イオン交換樹脂などの酸触媒が挙げられる。特に蟻酸、酢酸またはリン酸を用いた酸性水溶液が好ましい。これら酸触媒の好ましい添加量としては、加水分解反応時に使用される全シラン化合物量に対して、好ましくは、０．０５質量％〜１０質量％、特に好ましくは、０．１質量％〜５質量％である。酸触媒の量が、０．０５質量％を下回ると、加水分解反応が十分進行しないことがあり。また、酸触媒の量が１０質量％を越えると、加水分解反応が暴走する恐れがある。
【０１３８】
溶媒は特に限定されないが、塗料組成物の安定性、濡れ性、揮発性などを考慮して決定される。溶媒は一種類のみならず２種類以上の混合物として用いることも可能である。溶媒の具体例としては、例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、などのアルコール類；エチレングリコール、プロピレングリコールなどのグリコール類；エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、などのエーテル類；メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、などのケトン類などを挙げることができる。
【０１３９】
加水分解反応時に使用される溶媒の量は、全シラン化合物量１００質量％に対して、５０質量％〜５００質量％の範囲が好ましく、特に好ましくは、８０質量％〜２００質量％の範囲である。溶媒の量が５０質量％を下回ると、反応が暴走し、ゲル化する場合がある。一方、溶媒の量が５００質量％を越えると、加水分解が進行しない場合がある。
【０１４０】
また、加水分解反応に用いる水としては、イオン交換水が好ましい。水の量は任意に選択可能であるが、シラン化合物１モルに対して、１．０〜４．０モルの範囲で用いるのが好ましい。
【０１４１】
また、塗工された塗料組成物を硬化させ低屈折率層を形成する目的で硬化剤を含有させることができる。かかる硬化剤としては、塗料組成物の硬化を促進せしめたり、あるいは硬化を容易ならしめる各種の硬化剤または三次元架橋剤が挙げられる。硬化剤の具体例としては、窒素含有有機物、シリコン樹脂硬化剤、各種金属アルコレート、各種金属キレート化合物、イソシアネート化合物およびその重合体、メラミン樹脂、多官能アクリル樹脂、尿素樹脂などがあり、これらを一種類、ないし２種類以上添加しても良い。なかでも、硬化剤の安定性、得られた被膜の加工性などから金属キレート化合物が好ましく用いられる。用いられる金属キレート化合物としてはチタニウムキレート化合物、ジルコニウムキレート化合物、アルミニウムキレート化合物および、マグネシウムキレート化合物が挙げられる。これらの中から、低屈折率化の目的には、屈折率の低いアルミニウムキレート化合物および／またはマグネシウムキレート化合物が好ましい。これらの金属キレート化合物は、金属アルコキシドにキレート化剤を反応させることにより容易に得ることができる。キレート化剤の例としては、アルミニウムトリス（アセチルアセトネート）、アルミニウムトリス（エチルアセトアセテート）が挙げられる。添加される硬化剤の量は、塗料組成物中の全シラン化合物量１００質量％に対して、好ましくは０．１質量％〜１０質量％であり、特に好ましくは、１質量％〜６質量％である。ここで、全シラン化合物量とは、シラン化合物、その加水分解物およびその縮合物の全てを含んだ量のことを言う。硬化剤の含有量が、０．１質量％を下回ると、得られる被膜の硬度が低下する。一方、硬化剤の含有量が１０質量％を越えると、硬化が十分となり、得られる被膜の硬度は向上するが、屈折率も高くなり、好ましくない。
【０１４２】
塗料組成物における全溶媒の含有量は、全シラン化合物含有量１００質量％に対して、１３００質量％〜９９００質量％の範囲が好ましく、特に好ましくは、１５００質量％〜６０００質量％の範囲である。全溶媒の含有量が１３００質量％を下回るか、もしくは、９９００質量％を越えると、所定の膜厚の被膜を形成することが困難となる。ここで、全シラン化合物量とは、シラン化合物、その加水分解物およびその縮合物の全てを含んだ量のことを言う。
【０１４３】
本発明における好ましい低屈折率層の他の態様として、含フッ素化合物及び／または上記した内部に空洞を有するシリカ系微粒子を含む活性線硬化型の低屈折率層が挙げられる。ここで、活性線硬化型の低屈折率層とは、活性線硬化型樹脂を含むことを意味する。
上記の含フッ素化合物としては、含フッ素モノマー、含フッ素高分子化合物が挙げられる。
【０１４４】
含フッ素モノマーとしては、例えば、２，２，２−トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロブチル）エチル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロヘキシル）エチル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロオクチル）エチル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロデシル）エチル（メタ）アクリレートなどのフッ素含有（メタ）アクリル酸エステル類が挙げられる。
【０１４５】
含フッ素高分子化合物としては、例えば、含フッ素モノマーと架橋性基付与のためのモノマーを構成単位とする含フッ素共重合体が挙げられる。含フッ素モノマー単位の具体例としては、例えばフルオロオレフィン類（例えばフルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、パーフルオロ−２，２−ジメチル−１，３−ジオキソール等）、（メタ）アクリル酸の部分または完全フッ素化アルキルエステル誘導体類（例えばビスコート６ＦＭ（大阪有機化学製）やＭ−２０２０（ダイキン製）等）、完全または部分フッ素化ビニルエーテル類等である。架橋性基付与のためのモノマーとしてはグリシジルメタクリレートのように分子内にあらかじめ架橋性官能基を有する（メタ）アクリレートモノマーの他、カルボキシル基やヒドロキシル基、アミノ基、スルホン酸基等を有する（メタ）アクリレートモノマー（例えば（メタ）アクリル酸、メチロール（メタ）アクリレート、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート、アリルアクリレート等）が挙げられる。
【０１４６】
上記の活性線硬化型樹脂とは、活性線の照射によって重合し硬化する樹脂であり、かかる樹脂としては、アクリル系樹脂が好ましく用いられる。ここで、活性線とは、紫外線、電子線および放射線（α線、β線、γ線など）などを指し、実用的には、電子線や紫外線が好ましく、特に紫外線が簡便であり好ましい。紫外線源としては、紫外線蛍光灯、低圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、キセノン灯、炭素アーク灯などを用いることができる。また、活性線を照射するときに、低酸素濃度下で照射を行なうと、効率よく硬化させることができる。また、電子線照射方式は、装置が高価で不活性気体下での操作が必要ではあるが、塗料組成物中に光重合開始剤や光増感剤などを含有させなくてもよい点で有利である。
【０１４７】
上記の活性線硬化型のアクリル系樹脂としては、（メタ）アクリロイル基を分子内に２個以上有する多官能（メタ）アクリレート化合物が好ましく用いられる。更に（メタ）アクリロイル基を分子内に３個以上有する多官能（メタ）アクリレート化合物が好ましく、特にアクリロイル基を分子内に３〜１０個有する多官能（メタ）アクリレート化合物が好ましく用いられる。
【０１４８】
かかる多官能（メタ）アクリレート化合物としては、例えば、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニルジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジイルジメチレンジ（メタ）アクリレート、トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡジグリシジルエーテルの両末端（メタ）アクリル酸付加物、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、グリセロールトリ（メタ）アクリレート、エチレン変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリス−（２−ヒドロキシエチル）−イソシアヌル酸エステルトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等が挙げられる。なお、本発明において「・・・（メタ）アクリ・・・」とは、「・・・アクリ・・・または・・・メタアクリ・・・」を略して表示したものである。
上記の多官能（メタ）アクリレート化合物の中でも、（メタ）アクリロイル基を分子内に３個以上有する多官能（メタ）アクリレート化合物が好ましく、特にアクリロイル基を分子内に３〜１０個有する多官能（メタ）アクリレート化合物が好ましく用いられる。
上記の多官能（メタ）アクリレート化合物の重合、硬化を促進するために、光重合開始剤を含有することが好ましい。かかる光重合開始剤としては、ハードコート層と同様の化合物を用いることができる。
【０１４９】
なお本発明では、反射防止層に適当な粒径の粒子を含有させることで、樹脂層に反射防止層を含む場合の、樹脂層最表面のＲａを制御することも可能である。しかし上述したように、反射防止層に含有される粒子は、低屈折率層では、表面硬度、耐擦傷性の向上のため、高屈折率層では、帯電防止性の向上のために添加されているので、反射防止層に用いられる各種粒子はその粒径が非常に小さいものが好ましく用いられる。このように反射防止層に非常に小さな粒径の粒子が用いられた場合は、樹脂層としてハードコート層と反射防止層の積層構成として（ハードコート層を導電層側とする）、かつハードコート層のＲａを制御することによって樹脂層最表面のＲａも制御しようとした場合において、反射防止層に用いられる粒子は樹脂層の中心線平均粗さＲaには影響を及ぼさない。
【０１５０】
（他の機能層）
本発明のディスプレイ用フィルターは、近赤外線遮断機能、色調補正機能、紫外線遮断機能、およびＮｅカット機能からなる群より選ばれた少なくとも１つの機能を有する機能層を有することが好ましい。これらの機能層は、１つの層に複数の機能を有する機能層としてもよい。また機能層は、複数の層を積層してもよい。
【０１５１】
以下に本発明のディスプレイ用フィルターを構成する機能層について述べる。
【０１５２】
（色調補正層）
機能層の一種である、色調補正機能を有する色調補正層は、色調補正能を有する色素を含有する層であり、透過可視光の色調補正を行い、ディスプレイパネルの画像特性の向上、より具体的には高コントラスト化および高鮮明色化を図るものである。また、色調補正層によりディスプレイ用フィルター全体の透過率調整が可能であり、映り込み性能の調整をする役割も担っている。
【０１５３】
色調補正は、ディスプレイ用フィルターを透過する可視光のうち、特定波長の可視光を選択的に吸収することによって達成される。したがって、色調補正層に含有される色素は、特定波長の可視光を選択的に吸収するものであり、色素は染料と顔料のいずれも使用できる。「特定波長の可視光を選択的に吸収する」とは、可視光の波長領域（波長３８０〜７８０ｎｍ）の光のうち、特定波長領域の光を特異的に吸収することを指す。ここで色素によって特異的に吸収される波長領域は、単一の波長領域であってもよく、または複数の波長領域であってもよい。
【０１５４】
このような特定波長を吸収する色素としては、具体的には例えば、アゾ系、縮合アゾ系、フタロシアニン系、アンスラキノン系、インジゴ系、ペリノン系、ペリレン系、ジオキサジン系、キナクリドン系、メチン系、イソインドリノン系、キノフタロン系、ピロール系、チオインジゴ系、金属錯体系などの周知の有機顔料および有機染料、無機顔料が挙げられる。
【０１５５】
色調補正層は、色調補正能を有する色素を含有する限り様々な態様を取りことができる。色調補正層は、その態様に応じて好適な方法で形成すればよい。例えば、粘着剤中に色調補正能を有する色素を含有させた態様の場合、粘着剤中に色調補正能を有する色素を染料または顔料として添加して、塗布して所望の厚さを有する色調補正層を形成すればよい。
【０１５６】
透明基材、透明基板を着色加工して色調補正層を形成する態様の場合、色調補正能を有する色素を染料または顔料として、そのまま、または溶剤に溶解させて、塗布および乾燥させて、所望の厚さを有する色調補正層を形成すればよい。
【０１５７】
また、色調補正層が、色調補正能を有する色素を含有する透明基材である場合、透明基材の原料となる熱可塑性樹脂を所望の溶剤に溶解させて、色調補正能を有する色素を染料または顔料として添加して得た溶液を塗布し、乾燥させて所望の厚さを有する色調補正層を形成すればよい。  
【０１５８】
（近赤外線遮断層）
続いて機能層の一種である、近赤外線遮断機能を有する近赤外線遮断層について説明する。プラズマディスプレイの場合、パネルから発生する強度の近赤外線は、リモコン、コードレスフォン等の周辺電子機器に作用して誤動作を引き起こすため、近赤外領域の光を実用上問題ないレベルまでカットする必要がある。問題である波長領域は８００〜１０００ｎｍであり、当該波長領域における透過率を２０％以下、好ましくは１０％以下とすることが必要である。近赤外線遮断層は、近赤外線遮断のために、通常、最大吸収波長が７５０〜１１００ｎｍである近赤外線吸収能を有する色素、具体的にはポリメチン系、フタロシアニン系、ナフタロシアニン系、金属錯体系、アミニウム系、イモニウム系、ジイモニウム系、アンスラキノン系、ジチオール金属錯体系、ナフトキノン系、インドールフェノール系、アゾ系、トリアリルメタン系の化合物などが好ましく適用され、金属錯体系、アミニウム系、フタロシアニン系、ナフタロシアニン系、ジイモニウム系が特に好ましい。なお、近赤外線吸収能を有する色素を用いる場合、いずれか１種類を含有させてもよいし、２種以上を含有させてもよい。
【０１５９】
近赤外線吸収層の構造、形成方法、厚さ等については上述した色調補正層と同様である。近赤外線吸収層は、色調補正層と同一の層、すなわち、色調補正層に色調補正能を有する色素と、近赤外線吸収能を有する色素とを含有させたものであってもよいし、色調補正層と別の近赤外線遮断層を設けても良い。
【０１６０】
（Ｎｅカット層）
続いて機能層の一種である、Ｎeカット機能を有する機能層について説明する。近赤外線遮断層あるいは色調補正層には、プラズマディスプレイパネル内に封入された放電ガス、例えばネオンとキセノンの二成分ガス、からの余分な発光色（主に５６０〜６１０ｎｍに波長領域）を選択的に吸収・減衰させるための１種類若しくは複数種類の色調補正剤を混合して含有させることが好ましい。このような色素構成とすることによって、プラズマディスプレイパネルの表示画面から発せられる可視光のうち、放電ガスの発光に起因する余分な光が吸収・減衰され、その結果プラズマディスプレイパネルから発する可視光の表示色を表示目標の表示色に近づけることができ、自然な色調を表示し得る。
【０１６１】
（紫外線遮断層）
続いて機能層の一種である、紫外線遮断機能を有する紫外線遮断層について説明する。本発明のディスプレイ用フィルターにおいて、紫外線遮断層はこの層よりもパネル側に位置する色調補正層、赤外線遮断層などに含まれる色素の光劣化を防止する役割を持つ。紫外線遮断層には紫外線吸収剤を含有する透明基材、粘着剤層などが用いられる。
【０１６２】
紫外線吸収剤としては、例えばサリチル酸系化合物、ベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、シアノアクリレート系化合物、およびベンゾオキサジノン系化合物、環状イミノエステル系化合物などを好ましく例示することができるが３８０ｎｍ〜３９０ｎｍにおける紫外線遮断性、色調などの点からベンゾオキサジノン系化合物が最も好ましい。これらの化合物は１種で用いても良いし、２種以上併用しても良い。またＨＡＬＳ（ヒンダードアミン系光安定剤）や酸化防止剤などの安定剤の併用はより好ましい。
【０１６３】
紫外線遮断層では波長３８０ｎｍにおける透過率が５％以下であるのが好ましく、これにより紫外線から基材や染料色素などを保護することができる。
【０１６４】
紫外線遮断層における紫外線吸収剤の含有量は０．１〜５質量％であることが好ましく、０．２〜３質量％であることがさらに好ましい。紫外線吸収剤の含有量が０．１〜５質量％であると、ディスプレイ用フィルターの観察者側から入射する紫外線を吸収し、色調補正層に含まれる色素の光劣化を防止する効果に優れており、かつ、透明基材あるいは粘着層の強度を阻害しない。
【０１６５】
（接着層）
本発明において、上記した様々な機能層を貼合するために、あるいはディスプレイ用フィルターをディスプレイに貼合するために、接着性を有する接着層を用いてもよい。このとき用いられる粘着剤としては、２つの物体をその粘着作用により接着させる接着剤であれば特に限定されず、ゴム系、アクリル系、シリコン系あるいはポリビニルエーテル系などからなる接着剤を用いることができる。
【０１６６】
更に、粘着剤は、溶剤型粘着剤と無溶剤型粘着剤の２つに大別される。乾燥性、生産性、加工性において優れた溶剤型粘着剤は依然として主流であるが、近年、公害、省エネルギ、省資源、安全性などの点で無溶剤型粘着剤に移り変わりつつある。中でも、活性線を照射することで秒単位で硬化し、可撓性、接着性、耐薬品性などに優れた特性を有する粘着剤である活性線硬化型粘着剤を使用することが好ましい。
【０１６７】
（透明基材）
本発明における透明基材は、通常、反射防止層、ハードコート層、赤外線カット層、導電層などを積層するための基材として用いられる。また、紫外線吸収成分を添加することで紫外線カット層としての役割を担うこともできる。
【０１６８】
本発明における透明基材は、溶融製膜や溶液製膜可能なフィルムである。その具体例としては、ポリエステル、ポリオレフィン、ポリアミド、ポリフェニレンスルフィド、セルロースエステル、ポリカーボネート、アクリレートなどからなるフィルムを挙げることができる。これらのフィルムは本発明における各機能層の基材として好適に用いられる。しかし、諸特性のすべてにおいてバランスされた性能を有し、本発明におけるすべての機能層用の基材に適用できるものとしてはポリエステルが特に好ましい。
【０１６９】
このようなポリエステルとしては、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリプロピレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレートおよびポリプロピレンナフタレートなどが挙げられるが、ポリエチレンテレフタレートが性能・コスト面で最も好ましい。
【０１７０】
本発明で用いられる透明基材は、２層以上の積層構造の複合体フィルムであっても良い。
【０１７１】
本発明で用いられる透明基材の厚みは、使用される用途に応じて適宜選択されるが、機械的強度やハンドリング性などの点から、好ましくは１０〜５００μｍ、より好ましくは２０〜３００μｍである。
【０１７２】
本発明の透明基材中には、本発明の効果、特に光学特性を阻害しない範囲内で各種の添加剤や樹脂組成物、架橋剤などを含有しても良い。例えば酸化防止剤、耐熱安定剤、紫外線吸収剤、有機、無機の粒子、顔料、染料、帯電防止剤、核剤などを挙げることができる。
【０１７３】
本発明に用いる透明基材は全光線透過率が９０％以上、ヘイズが１．５％以下であるのが好ましく、このようなものを適用することで画像の視認性や鮮明度を向上させることができる。
【０１７４】
本発明に用いられる透明基材は、導電層や前述した機能層との密着性（接着強度）を強化するためのプライマー層（易接着層、下引き層）を設けておくのが好ましい。
（透明基板）
本発明における透明基板はディスプレイパネル本体に機械的強度を付与するものであり、無機化合物成形物や透明な有機高分子成形物が用いられる。無機化合物成形物としては、好ましくはガラス、強化もしくは半強化ガラスなどが挙げられ、厚さは通常０．１〜１０ｍｍの範囲であり、より好ましくは１〜４ｍｍである。本発明では、透明基板であるガラスを用いることによって、機械的強度が得られるが、ガラスを用いない場合でも、プラズマディスプレイパネルとのエアーギャップがなくなることから、二重映りが解消されるなどの利点があるため、本発明では透明基板を使用してもしなくてもよい。
【０１７５】
なお、本発明のディスプレイ用フィルターの積層構成としては、例えば、樹脂層／導電層／透明基材／着色粘着層、樹脂層／導電層／透明基材／着色粘着層／透明基板、樹脂層／導電層／透明基材／着色層／粘着層、樹脂層／導電層／透明基材／着色層／粘着層／透明基板、などを例示することができる。なお、ここでいう着色粘着層及び着色層とは、色調補正能を有する色素、近赤外線吸収色素、Ｎｅカット色素などの色素を含有する層を意味する。
【実施例】
【０１７６】
以下、本発明を実施例により具体的に説明するが、本発明はこれにより制限されるものではない。
（評価方法）
（１）樹脂層占有率Ｒの測定
レーザー顕微鏡ＶＫ−９７００（（株）キーエンス）を用いて、２０ｃｍ×２０ｃｍサイズのサンプル１枚から任意の１０箇所について計測し、その平均値を求めた。まずサンプルを１ｃｍ×１ｃｍサイズにカットし、イオンコーターを用いてサンプルの樹脂層側の表面を白金でスパッタする。スパッタの条件は、真空度が１３．３Ｐａ、電流値が２ｍＡ、スパッタ時間が１５分間である。次に、サンプルの樹脂層側の三次元画像データをソフトウェアＶＫ−Ｈ１Ｖ１（観察・測定ソフトウェア）を用いて測定する。このとき、導電性メッシュの１つの開口部の重心と隣接する開口部の重心の間の樹脂層の３次元画像データを撮る。次に、上記で得られた３次元画像データを解析ソフトウェアＶＫ−Ｈ１Ａ１を用いて、垂直方向に二次元的に解析し、二次元プロファイルを求める。まず、３次元画像データの画像ノイズを自動で除去し、測定時に対象物が傾いていた場合などの傾きを補正する。その後に、開口部の重心とそれと隣接する開口部の重心を含む断面から、点Ａ、点Ｂ、点Ｃを通る直線でプロファイルを表示する。このプロファイルから、直線ＡＢからの点Ｃの高さを測定し、三角形ＡＢＣの面積αを算出する（直線ＡＢの長さは導電性メッシュのピッチに等しい）。尚、開口部の重心を求める方法については、例えば、３次元画像データ（平面図）を画面に表示させ、ある開口部及びそれと隣接する開口部の図を透明シートに写し取り、数学的な方法で重心を決定し、その重心を決めた透明シートを画面に貼り合わせて、解析画面上の重心を決定することができる。また、区分として点Ａと点Ｂ間を選択すると、三角形ＡＢＣの中に存在する樹脂層の面積βが算出される。得られた三角形ＡＢＣの面積α、及び三角形ＡＢＣの中に存在する樹脂層の面積βから、下記式により樹脂層占有率Ｒを算出する。
Ｒ＝（β／α）×１００。【０１７７】
（２）樹脂層の中心線平均粗さＲaの測定
サンプルの樹脂層側の中心線平均粗さＲaを、表面粗さ測定器ＳＥ−３４００（（株）小坂研究所製）を用いて測定した。２０ｃｍ×２０ｃｍサイズのサンプル１枚から任意の５箇所以上について計測し、その平均値をディスプレイ用フィルターサンプルの樹脂層のＲaの値とした。なお測定の際は、サンプルの粘着層側を厚み２．５ｍｍのガラス板に貼り付けたものを用いた。また、上記の計測に際し、測定針の移動方向を、導電性メッシュの細線に平行で、かつ導電性メッシュの非凸部領域（開口部）のほぼ中心を通るようにセットし、測定によって得られた波形のピッチが導電性メッシュのピッチとほぼ同じように表れている計測値を、５つ採用し、平均した。
・測定条件：
送り速さ；０．５ｍｍ／Ｓ
カットオフ値λｃ；
Ｒaが２０ｎｍ以下の場合、λｃ＝０．０８ｍｍ
Ｒaが２０ｎｍより大きく１００ｎｍ以下の場合、λｃ＝０．２５ｍｍ
Ｒaが１００ｎｍより大きく２０００ｎｍ以下の場合、λｃ＝０．８ｍｍ
評価長さ；８ｍｍ
尚、上記測定条件で測定するに際し、まずカットオフ値λｃ＝０．８ｍｍで測定し、その結果、Ｒａが１００ｎｍより大きい場合はそのＲａを採用する。一方、上記測定の結果、Ｒａが１００ｎｍ以下の場合は、λｃ＝０．２５ｍｍで再測定し、その結果、Ｒａが２０ｎｍより大きい場合は、そのＲａを採用する。一方、上記の再測定の結果、Ｒａが２０ｎｍ以下の場合は、λｃ＝０．０８ｍｍで測定し、そのＲａを採用する。
・Ｒａ：表面粗さ測定器ＳＥ−３４００（（株）小坂研究所製）でＲaと定義されたパラメータ。ＪＩＳ  Ｂ０６０１−１９８２の方法に基づいて測定した。【０１７８】
（３）樹脂層の凹み深さＤ
樹脂層の凹み深さＤを、レーザー顕微鏡ＶＫ−９７００（（株）キーエンス）を用いて測定した。２０ｃｍ×２０ｃｍサイズのサンプル１枚から任意の１０箇所について計測し、その平均値をサンプルの凹み深さＤとした。測定方法としては、観察・測定ソフトウェアＶＫ−Ｈ１Ｖ１を用いて、まず５ｃｍ×５ｃｍサイズのサンプルを導電性メッシュの開口部の上辺と下辺が画面に平行になるように設置する。倍率は、導電性メッシュの少なくとも１つの開口部が入るように設定する。焦点を合わせ、測定高さ範囲を設定した後、測定を開始する。次に、測定データを解析ソフトウェアＶＫ−Ｈ１Ａ１を用いて解析する。まず、測定データの画像ノイズを自動で除去し、測定時に対象物が傾いていた場合などの傾きを補正する。その後に、線粗さを測定する。このとき、少なくとも導電性メッシュの開口部１つを含む画面に対して平行な直線で解析する。各種補正（高さスムージング→±１２単純平均、傾き補正→直線（自動））を行い、カットオフ値λｃ＝０．０８ｍｍ、λｓ、λｆはなしで、うねり曲線を算出し、ＪＩＳ  Ｂ０６３３−２００１の規格に基づき算出される最大高さＷｚを樹脂層の凹み深さＤとした。尚、サンプルの粘着層側を厚み２．５ｍｍのガラス板に貼り付けたものをサンプルとして用いた。【０１７９】
（４）導電性メッシュの厚み
ミクロトームにてサンプル断面を切り出し、その断面を電解放射型走査電子顕微鏡（（株）日立製Ｓ―８００、加速電圧２６ｋＶ、観察倍率３０００倍）にて観察し、導電性メッシュの厚みを計測した。２０ｃｍ×２０ｃｍサイズのサンプル１枚から任意の５箇所について計測し、その平均値を導電性メッシュの厚みとした。【０１８０】
（５）導電性メッシュの線幅及びピッチ
（株）キーエンス製デジタルマイクロスコープ（ＶＨＸ−２００）を用いて、倍率４５０倍で表面観察を行った。その測長機能を用いて、格子状導電性メッシュのピッチを測長した。２０ｃｍ×２０ｃｍサイズのサンプル１枚から、任意の２５箇所について計測し、その平均値を導電性メッシュの線幅、ピッチとした。なお、導電性メッシュのピッチとは、メッシュ構造のある開口部と、この開口部と１辺を共有する隣接する開口部との重心間の距離とする。尚、サンプルの粘着層側を厚み２．５ｍｍのガラス板に貼り付けたものをサンプルとして用いた。【０１８１】
（６）粘度の測定
ブルックフィールド製デジタルレオメータ（ＤＶ―Ｅ）を用いて、スピンドルをＬＶ１、に設定して、２３℃における粘度の測定を行った。各サンプルについて、１０回測定を行い、その平均値をハードコート層塗料の粘度とした。【０１８２】
（７）屈折率の測定
シリコンウエハー上に乾燥膜厚が０．１μｍとなるように、測定対象となる層の原料塗剤を、スピンコーターを用いて塗布する。ついでイナートオーブンＩＮＨ−２１ＣＤ（光洋サーモシステム（株）社製）を用いて、１３０℃で１分間、加熱硬化することにより（低屈折率層の硬化条件）、被膜を得る。形成した被膜について、位相差測定装置（ニコン（株）製：ＮＰＤＭ−１０００）で６３３ｎｍにおける屈折率を測定する。【０１８３】
（８）積層の厚み測定
サンプルの断面を透過型電子顕微鏡（日立製Ｈ−７１００ＦＡ型）で加速電圧１００ｋＶにて観察する。ガラス基板を用いたフィルターの場合はガラスから剥がして評価する。試料調整は超薄切片法を用いる。１０万倍の倍率で観察し、各々の層の厚みを測定する。【０１８４】
（９）視感反射率
分光光度計（島津製作所製、ＵＶ３１５０ＰＣ）を用いて、測定面から５度の入射角で波長３８０〜７８０ｎｍの範囲で反射率（片面反射）を算出し、視感反射率（ＪＩＳ Ｚ８７０１−１９９９において規定されている反射の刺激値Ｙ）を求める。サンプルの非測定面側からの反射の影響がないようにするため、サンプルの粘着層側を２．５ｍｍ厚ガラス板に貼り付け、ガラス板の反対側にビニルテープ（日東電工社製  NO.21特幅・黒  厚み０．２ｍｍ）を気泡が入らないように貼り付けた試料を測定する。分光光度計で分光立体角を測定し、ＪＩＳ Ｚ８７０１−１９９９に従って反射率（片面光線反射）を算出する。算出式は以下の通りである。
Ｔ＝Ｋ・ ∫Ｓ（λ）・ｙ（λ)・ Ｒ（λ) ・ｄλ  （ただし、積分区間は３８０〜７８０ｎｍ）
Ｔ：片面光線反射率
Ｓ（λ) ：色の表示に用いる標準の光の分布
ｙ（λ) ：ＸＹＺ表示系における等色関数
Ｒ（λ) ：分光立体角反射率。【０１８５】
（１０）視感透過率
分光光度計（島津製作所製、ＵＶ３１５０ＰＣ）を用いて、観察者側（樹脂層側）からの入射光に対する透過率を波長３００〜１３００ｎｍの範囲で測定し、可視光波長領域（３８０〜７８０ｎｍ）の視感透過率を求める。ここで、視感透過率（Ｔ）とは、フィルターを透過する光束Φｔと、物体に入射する光束Φｉとの比（Φｔ／Φｉ、ＪＩＳ Ｚ ８１０５（２０００年）にて規定）を百分率で表わした値、すなわちＸＹＺ表色系における透過による物体色の三刺激値のＹである。（ＪＩＳ Ｚ８７０１−１９９９にて規定）尚、サンプルの粘着層側を厚み２．５ｍｍのガラス板に貼り付けたものをサンプルとして用いた。【０１８６】
（１１）映り込みの評価（正面）
サンプルを視認面側（樹脂層側）が上になるように黒紙（王子特殊紙（株）製  ＡＣカード  ＃３００）の上に貼り付ける（粘着面を黒紙に貼り付ける）。得られたサンプルを暗室中で、フィルターサンプルの直上２００ｃｍの場所に３波長蛍光灯（ナショナル  パルック  ３波長形昼白色（F.L 15EX-N 15W））２本を設置する。フィルターの視認面を正面３０ｃｍの距離から肉眼観察し、フィルター視認面に映り込んだ蛍光灯像の輪郭の鮮明性を評価する。
・映り込み像の輪郭が不鮮明        ：  ◎（極良）
・映り込み像の輪郭が僅かに鮮明    ：  ○（良）
・映り込み像の輪郭がやや鮮明      ：  △（可）
・映り込み像の輪郭が鮮明に見える  ：  ×（不可）
評価は５名で各水準について１枚のフィルターを評価して、最も頻度の高い判定結果を採用する。最も頻度の高い判定結果が２つある場合は、悪い方の評価結果を採用する（最も頻度の高い判定結果が「○」と「△」の２つなら「△」、「△」と「×」の２つなら「×」、「○」と「×」の２つなら「×」と判定する。）。【０１８７】
（１２）映り込みの評価（斜め）
サンプルを視認面側（樹脂層側）が上になるように黒紙（王子特殊紙（株）製  ＡＣカード  ＃３００）の上に貼り付ける（粘着層を黒紙に貼り付ける）。得られたサンプルを暗室中で、フィルターサンプルを設置した台より２００ｃｍ高い場所に３波長蛍光灯（ナショナル  パルック  ３波長形昼白色（F.L 15EX-N 15W））２本を設置する。フィルターの視認面を斜め４５°の角度で３０ｃｍの距離から肉眼観察し、フィルター視認面に映り込んだ蛍光灯像の輪郭の鮮明性を評価する。
・映り込み像の輪郭が不鮮明        ：  ◎（極良）
・映り込み像の輪郭が僅かに鮮明    ：  ○（良）
・映り込み像の輪郭がやや鮮明      ：  △（可）
・映り込み像の輪郭が鮮明に見える  ：  ×（不可）
評価は５名で各水準について１枚のフィルターを評価して、最も頻度の高い判定結果を採用する。最も頻度の高い判定結果が２つある場合は、悪い方の評価結果を採用する（最も頻度の高い判定結果が「○」と「△」の２つなら「△」、「△」と「×」の２つなら「×」、「○」と「×」の２つなら「×」と判定する。）。【０１８８】
（１３）光沢性の評価
サンプルを視認面側（樹脂層側）が上になるように黒紙（王子特殊紙（株）製  ＡＣカード  ＃３００）の上に貼り付ける（粘着層を黒紙に貼り付ける）。得られたサンプルを暗室中で、フィルターサンプル設置台から２００ｃｍの高さの場所に３波長蛍光灯（ナショナル  パルック  ３波長形昼白色（F.L 15EX-N 15W））を２本設置する。フィルターの視認面を距離３０ｃｍ、ほぼ正面の角度から肉眼観察し、フィルター視認面に映る蛍光灯像周辺の光沢性を評価する。
・表面平滑性良く、光沢性極めて良好    ：  ◎（極良）
・表面平滑性良く、光沢性良好          ：  ○（良）
・表面に若干のざらつき感が見られる    ：  △（可）
・表面に明らかなざらつき感が見られる  ：  ×（不可）
評価は５名で各水準について１枚のフィルターを評価して、最も頻度の高い判定結果を採用する。最も頻度の高い判定結果が２つある場合は、悪い方の評価結果を採用する（最も頻度の高い判定結果が「○」と「△」の２つなら「△」、「△」と「×」の２つなら「×」、「○」と「×」の２つなら「×」と判定する。）。【０１８９】
［実施例１］
以下の要領でディスプレイ用フィルターを作製した。
＜導電層の作製＞
光学用ポリエステルフィルム（東レ（株）製のルミラー（登録商標）Ｕ４２６、厚み１００μｍ）の片面に、常温にて３×１０−３Ｐａの真空下で、真空蒸着法によりニッケル層（厚み０．０２μｍ）を形成した。さらにその上に、同じく常温にて３×１０−３Ｐａの真空下で、真空蒸着法により銅層（厚み３μｍ）を形成した。その後、この銅層側の表面にフォトレジスト層を塗工形成し、格子状メッシュパターンのマスクを介してフォトレジスト層を露光、現像し、次いでエッチング処理を施して、導電性メッシュを作製した。さらに、導電性メッシュに黒化処理（酸化処理）を施した。この導電性メッシュは、線幅が１２μｍ、ピッチが３００μｍ、厚みが３μｍ、開口率が８７％であった。
＜ハードコート層の作製＞
市販のハードコート剤（ＪＳＲ製  オプスター（登録商標）Ｚ７５３４；固形分濃度６０質量％）を、固形分濃度が３５質量％となるようにメチルイソブチルケトンで希釈してハードコート層用の塗料を作製した。塗液の粘度は２ｍＰａ・ｓであった。上記で得られた導電層の導電性メッシュ上に、この塗料をマイクログラビアコーターで塗工し、８０℃で１分乾燥後、紫外線０．５Ｊ／ｃｍ２を照射して硬化させ、ハードコート層を形成した。ハードコート層の質量塗工量（乾燥、硬化後）は、７ｇ／ｍ２であった。また、屈折率は１．５２であった。
＜反射防止層の作製＞
上記ハードコート層形成面に、下記の低屈折率層の塗料をマイクログラビアコーターで塗布した。次いで１３０℃で１分間、乾燥および硬化させ、屈折率１．３６、厚み９０ｎｍの低屈折率層を形成することで、反射防止層を作製した。
＜低屈折率層用塗料の作製＞
メチルトリメトキシシラン９５．２質量部、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン６５．４質量部を、プロピレングリコールモノメチルエーテル３００質量部、イソプロパノール１００質量部に溶解した。この溶液に、数平均粒子径５０ｎｍの外殻の内部に空洞を有するシリカ微粒子分散液（イソプロパノール分散型、固形分濃度２０．５％、触媒化成工業社製）２９７．９質量部、水５４質量部およびギ酸１．８質量部を、撹拌しながら反応温度が３０℃を越えないように滴下した。滴下後、得られた溶液をバス温４０℃で２時間加熱し、その後、溶液をバス温８５℃で２時間加熱し、内温を８０℃まで上げて、１．５時間加熱した後、室温まで冷却し、ポリマー溶液を得た。得られたポリマー溶液に、アルミニウム系硬化剤として、アルミニウムトリス（アセチルアセテート）（商品名  アルミキレートＡ（Ｗ）、川研ファインケミカル（株）社製）４．８質量部をメタノール１２５質量部に溶解したものを添加し、さらにイソプロパノール  １５００質量部およびプロピレングリコールモノメチルエーテル２５０質量部を添加して、室温にて２時間撹拌し、低屈折率塗料を作製した。
＜Ｎｅカット機能を有する近赤外線遮断層の作製＞
近赤外線吸収色素として、日本化薬（株）製  ＫＡＹＡＳＯＲＢ（登録商標）  ＩＲＧ−０５０を１４．５質量部、日本触媒（株）製  イーエクスカラー（登録商標）  ＩＲ−１０Ａを８質量部、さらに５９３ｎｍに主吸収ピークを有する有機色素として、山田化学工業（株）製ＴＡＰ−２を２．９質量部、メチルエチルケトン２０００質量部に攪拌混合して溶解させた。この溶液を透明高分子樹脂バインダー溶液として、日本触媒（株）製  ハルスハイブリッド（登録商標）  ＩＲ−Ｇ２０５（固形分濃度２９％溶液）２０００質量部と攪拌混合して塗料を作製した。ハードコート層を形成した側と反対側の光学用ポリエステルフィルム面に、ダイコーターを用いて上記塗料を塗工し、１３０℃で乾燥して、厚み１０μｍの近赤外線遮断層を作製した。
＜色補正層の作製＞
アクリル系透明粘着剤中に有機系色補正色素を含有させた。各水準における色素添加量は最終的なフィルターの視感透過率が４０％になるように調整した。この粘着剤を上記の近赤外線遮断層の上に厚み２５μｍで積層した。【０１９０】
［実施例２］
ハードコート層の質量塗工量（乾燥、硬化後）を１０ｇ／ｍ２となるように塗布した以外は実施例１と同様にして、ディスプレイ用フィルターを作製した。【０１９１】
［実施例３］
ハードコート層の塗料として、市販のハードコート剤（ＪＳＲ製  オプスター（登録商標）Ｚ７５３４；固形分濃度６０質量％）を、固形分濃度が４５質量％となるようにメチルイソブチルケトンで希釈したもの（塗液の粘度は３．５ｍＰａ・ｓ）を使用して、ハードコート層の質量塗工量（乾燥、硬化後）を１３ｇ／ｍ２となるように塗布した以外は実施例１と同様にして、ディスプレイ用フィルターを作製した。【０１９２】
［比較例１］
反射防止層を設けない以外は、実施例２と同様にしてディスプレイ用フィルターを作製した。【０１９３】
［比較例２］
光学用ポリエステルフィルム（東レ（株）製のルミラー（登録商標）Ｕ４２６、厚み１００μｍ）上に、実施例１で用いた下記のハードコート剤をマイクログラビアコーターで塗工し、８０℃で１分乾燥後、紫外線０．５Ｊ／ｃｍ２を照射して硬化させ、ハードコート層を形成した。ハードコート層の質量塗工量（乾燥、硬化後）は、４．０ｇ／ｍ２であった。ハードコート剤：市販のハードコート剤（ＪＳＲ製  オプスター（登録商標）Ｚ７５３４；固形分濃度６０質量％）を、固形分濃度が３５質量％となるようにメチルイソブチルケトンで希釈してハードコート層用の塗料を作製した。塗液粘度は２ｍＰａ・ｓであった。得られたハードコートフィルムを用い実施例１と同様にしてディスプレイ用フィルターを作製した。
（評価）
上記で作製したそれぞれのサンプルについて、樹脂層占有率Ｒ、樹脂層の凹みの深さ（Ｄ）、樹脂層の中心線平均粗さＲａ、視感反射率、映り込み、及び光沢性について評価した。その結果を表１に示す。【０１９４】
【表１】
2010007900.tif 000003
【０１９５】
表１から、本発明の実施例は、正面の映り込み防止性、斜めからの映り込み防止性及び光沢性に優れていることが分かる。これに対して、比較例１は反射防止層がないために（視感反射率が高く）、正面の映り込み防止性が不良であった。比較例２は、基材として凹み構造を持たないＰＥＴフィルムを用いているため（導電性メッシュを有さないため）、樹脂層の凹みを有さず（樹脂層の凹み構造を有さず）、斜めからの映り込み防止性が不良であった。【０１９６】
［実施例４］
＜導電層の作製＞
光学用ポリエステルフィルム（東レ（株）製のルミラー（登録商標）Ｕ４２６、厚み１００μｍ）の片面に、常温にて３×１０−３Ｐａの真空下で、真空蒸着法によりニッケル層（厚み０．０２μｍ）を形成した。さらにその上に、同じく常温にて３×１０−３Ｐａの真空下で、真空蒸着法により銅層（厚み３μｍ）を形成した。その後、この銅層側の表面にフォトレジスト層を塗工形成し、格子状メッシュパターンのマスクを介してフォトレジスト層を露光、現像し、次いでエッチング処理を施して、導電性メッシュを作製した。さらに、導電性メッシュに黒化処理（酸化処理）を施した。この導電性メッシュは、線幅が１０μｍ、ピッチが１５０μｍ、厚みが３μｍ、開口率が８５％であった。
＜ハードコート層の作製＞
市販のハードコート剤（ＪＳＲ製  オプスター（登録商標）Ｚ７５３４；固形分濃度６０質量％）を、固形分濃度が４５質量％となるようにメチルイソブチルケトンで希釈してハードコート層用の塗料を作製した。塗液の粘度は３．５ｍＰａ・ｓであった。
上記で得られた導電層の導電性メッシュ上に、この塗料をマイクログラビアコーターで塗工し、８０℃で１分乾燥後、紫外線０．５Ｊ／ｃｍ２を照射して硬化させ、ハードコート層を形成した。ハードコート層の質量塗工量（乾燥、硬化後）は、７ｇ／ｍ２であった。
＜反射防止層の作製＞
上記のハードコート層上に、実施例１と同様にして低屈折率層を塗工形成した。その他は、実施例１と同様にしてディスプレイ用フィルターを作製した。【０１９７】
［実施例５］
実施例４と同様にして、導電性メッシュを作製した。導電性メッシュ上に、実施例１と同様のハードコート層用塗料を、質量塗工量が１３ｇ／ｍ２となるように塗工した。その他は、実施例４と同様にしてディスプレイ用フィルターを作製した。【０１９８】
［比較例３］
実施例４と同様にして、導電性メッシュを作製した。導電性メッシュ上に、実施例１と同様のハードコート層用塗料を、質量塗工量が１７ｇ／ｍ２となるように塗工した。その他は、実施例１と同様にしてディスプレイ用フィルターを作製した。
［比較例４］
実施例４と同様にして、導電性メッシュを作製した。導電性メッシュ上に、市販のハードコート剤（ＪＳＲ製  オプスター（登録商標）Ｚ７５３４；固形分濃度６０質量％）を、質量塗工量が７ｇ／ｍ２となるように塗工した。その他は、実施例１と同様にしてディスプレイ用フィルターを作製した。但し、ハードコート層の上に反射防止層は設けなかった。
（評価）
上記で作製したそれぞれのサンプルについて、樹脂層占有率Ｒ、樹脂層の凹みの深さ（Ｄ）、樹脂層の中心線平均粗さＲａ、視感反射率、映り込み、及び光沢性について評価した。その結果を表１に示す。表１から、本発明の実施例は、正面の映り込み防止性、斜めからの映り込み防止性及び光沢性に優れていることが分かる。これに対して、比較例３は樹脂層占有率Ｒが小さいため、斜めからの映り込み防止性が不良であった。比較例４は反射防止層がないために（視感反射率が高く）、正面の映り込み防止性が不良であった。また、比較例４は樹脂占有率Ｒが大きいため、光沢性がやや劣っていた。【０１９９】
［実施例６］
＜導電層の作製＞
光学用ポリエステルフィルム（東レ（株）製のルミラー（登録商標）Ｕ３６、厚み１２５μｍ）の片面に、パラジウムコロイド含有ペーストからなる触媒インクを用いて、格子状メッシュパターンにグラビア印刷し、これを無電解銅メッキ液中に浸漬して無電解銅メッキを施し、続いて電解銅メッキを施し、さらにＮｉ−Ｓｎ合金の電解メッキを施すことによって、導電性メッシュを作製した。この導電性メッシュは、線幅が２０μｍ、ピッチが３００μｍ、厚みが６μｍ、開口率が８４％であった。
＜ハードコート層の作製＞
市販のハードコート剤（ＪＳＲ製  オプスター（登録商標）Ｚ７５３４；固形分濃度６０質量％）を、固形分濃度が３５質量％となるようにメチルイソブチルケトンで希釈してハードコート層用の塗料を作製した。塗液の粘度は２ｍＰａ・ｓであった。上記で得られた導電層の導電性メッシュ上に、この塗料をマイクログラビアコーターで塗工し、８０℃で１分乾燥後、紫外線０．５Ｊ／ｃｍ２を照射して硬化させ、ハードコート層を形成した。ハードコート層の質量塗工量（乾燥、硬化後）は、８．５ｇ／ｍ２であった。
＜反射防止層の作製＞
上記のハードコート層上に、実施例１と同様にして低屈折率層を塗工形成した。その他は、実施例１と同様にしてディスプレイ用フィルターを作製した。【０２００】
［比較例５］
実施例６と同様にして、導電性メッシュを作製した。導電性メッシュ上に、実施例６と同様のハードコート層用塗料を、質量塗工量が８．５ｇ／ｍ２となるように塗工した。反射防止層は積層しなかった。その他は、実施例６と同様にしてディスプレイ用フィルターを作製した。【０２０１】
［比較例６］
実施例６と同様にして、導電性メッシュを作製した。導電性メッシュ上に、市販のハードコート剤（ＪＳＲ製  オプスター（登録商標）Ｚ７５３４；固形分濃度６０質量％）を、固形分濃度が５６質量％となるようにメチルイソブチルケトンで希釈したもの（塗液の粘度は８ｍＰａ・ｓ）を、質量塗工量が６ｇ／ｍ２となるように塗工した。その他は、実施例６と同様にしてディスプレイ用フィルターを作製した。
［比較例７］
実施例６と同様にして、導電性メッシュを作製した。導電性メッシュ上に、下記に示すハードコート層用塗料を、質量塗工量が１０ｇ／ｍ２となるように塗工した。その他は、実施例６と同様にしてディスプレイ用フィルターを作製した。但し、ハードコート層の上に反射防止層は設けなかった。
＜ハードコート塗料の作製＞  
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートを４０質量部、Ｎ−ビニルピロリドンを８質量部、メチルメタクリレートを２質量部、メチルエチルケトンを５０質量部含む塗液を作製した。この塗液の粘度は４．５ｍＰａ・ｓであった。
（評価）
上記で作製したそれぞれのサンプルについて、樹脂層占有率Ｒ、樹脂層の凹みの深さ（Ｄ）、樹脂層の中心線平均粗さＲａ、視感反射率、映り込み、及び光沢性について評価した。その結果を表１に示す。表１から、本発明の実施例は、正面の映り込み防止性、斜めからの映り込み防止性及び光沢性に優れていることが分かる。これに対して、比較例５は反射防止層がなく、視感反射率が高すぎるため、正面からの映り込み防止性が不良であった。また、比較例６は樹脂層占有率Ｒが逆に大きすぎるため光沢性に劣る結果となった。比較例７は反射防止層がなく、視感反射率が高すぎるため、正面からの映り込み防止性が不良であった。また、比較例７は樹脂占有率Ｒが大きいため、光沢性がやや劣っていた。
【産業上の利用可能性】
【０２０２】
本発明は、ＣＲＴ、有機ＥＬディスプレイ、液晶ディスプレイ、及びプラズマディスプレイ等のディスプレイ装置の画面に装着されるディスプレイ用フィルターとして適用される。特に、プラズマディスプレイの画面に装着されるディスプレイ用フィルターとして好適である。
【符号の説明】
【０２０３】
１  透明基材
２  導電性メッシュ
３  樹脂層
４  ハードコート層
５  反射防止層
６ａ  重心Ｇ１を通る垂線
６ｂ  重心Ｇ２を通る垂線
７  開口部
８  開口部の重心
９  山頂部
１０  谷底部
１１  谷底部
Ｄ  樹脂層の凹み深さ
α  点ＡＢＣで囲まれる三角形の面積
β  樹脂層断面積
【図１】
2010007900.tif 000004
【図２】
2010007900.tif 000005
【図３】
2010007900.tif 000006
【図４】
2010007900.tif 000007
【図５】
2010007900.tif 000008
【国際調査報告】
2010007900.tif 000009
2010007900.tif 000010
2010007900.tif 000011
2010007900.tif 000012