【事件の表示】
　特許第２８１８４０６号「ポジチブ及びネガチブ処理感放射線混合物用ポリマー結合剤及びその結合剤を含む混合物の画像形成方法」の請求項１ないし６に係る特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結　論】
　訂正を認める。
　特許第２８１８４０６号の請求項１ないし３に係る特許を維持する。
【理　由】
Ｉ．手続の経緯
　本件特許第２８１８４０６号は、平成１年５月１０日（パリ条約による優先権主張１９８８年５月１９日、ドイツ連邦共和国）に出願された特願平１−１１５２５６号出願の一部を新たな特許出願として平成９年３月１４日に出願され、平成１０年８月２１日にその発明について特許の設定登録がなされた。その後、伊藤廣美、石黒きよし、荒井純子、及び和光純薬工業株式会社より特許異議の申立がなされ、取消の理由が通知され、その指定期間内である平成１２年４月４日に訂正請求がなされた。更に当審から特許異議申立人和光純薬工業株式会社に審尋書が発せられ、和光純薬工業株式会社から平成１２年６月１日に回答書が提出されたものである。
　
II．訂正の適否
１．訂正事項
（１）訂正事項ａ
　特許請求の範囲の請求項１〜６を次の如く訂正する。
「【請求項１】　フェノール性ヒドロキシル基含有ポリマーが、ポリ−（ｐ−ヒドロキシスチレン）、ポリ−（ｐ−ヒドロキシ−α−メチルスチレン）、或はｐ−ヒドロキシスチレン／ｐ−ヒドロキシ−α−メチルスチレン共重合体であり、かつ該フェノール性ヒドロキシル基含有ポリマーのヒドロキシル基とジヒドロピラン或はアルキルビニルエーテルとの反応生成物、或いは該フェノール性ヒドロキシル基含有ポリマーの構成モノマーとしてのフェノール性ヒドロキシル基含有モノマー化合物のヒドロキシル基とジヒドロピラン或いはアルキルビニルエーテルとの反応生成物の重合或は重縮合により得られる重合体或は重縮合物からなることを特徴とするポジチブ及びネガチブ処理感放射線混合物用ポリマー結合剤。
【請求項２】　前記ポリマー中に当初から存在するフェノール性ヒドロキシル基の１０乃至１００％とジヒドロピラン或はアルキルビニルエーテルとの反応生成物からなることを特徴とする請求項１記載のポリマー結合剤。
【請求項３】　請求項１のポリマー結合剤を含む感放射線混合物を２４８ｎｍ（ＫｒＦ）のエキシマレーザ光にて露光することを特徴とする感放射線混合物の画像形成方法。」
（２）訂正事項ｂ．
　明細書段落【０００５】を次の如く訂正する。
「本発明の対象は、フェノール性ヒドロキシル基含有ポリマーが、ポリ−（ｐ−ヒドロキシスチレン）、ポリ−（ｐ−ヒドロキシ−α−メチルスチレン）、或はｐ一ヒドロキシスチレン／ｐ−ヒドロキシ−α−メチルスチレン共重合体であり、かつ該フェノール性ヒドロキシル基含有ポリマーのヒドロキシル基とジヒドロピラン或はアルキルビニルエーテルとの反応生成物、或いは該フェノール性ヒドロキシル基含有ポリマーの構成モノマーとしてのフェノール性ヒドロキシル基含有モノマー化合物のヒドロキシル基とジヒドロピラン或いはアルキルビニルエーテルとの反応生成物の重合或は重縮合により得られる重合体或は重縮合物からなることを特徴とするポリマー結合剤及びポリマー結合剤を含む感放射線混合物を短波長紫外にて露光することを特徴とする画像形成方法である。」
（３）訂正事項ｃ．
　明細書段落【０００６】を次の如く訂正する。
「本発明のポリマー結合剤中において、ポリマー中に当初から存在するフェノール性ヒドロキシル基の１０乃至１００％をジヒドロピラン或はアルキルビニルエーテルと反応させることが好ましく、このポリマー結合剤としてポリ−（ｐ−ヒドロキシスチレン）、ポリ−（ｐ−ヒドロキシ−α−メチルスチレン）、或はｐ−ヒドロキシスチレン／ｐ−ヒドロキシ−α−メチルスチレンの共重合体と、ジヒドロピラン或はアルキルビニルエーテルとの反応生成物を使用するのが好ましい。」
（４）訂正事項ｄ．
　明細書段落【００１１】を次の如く訂正する。
「本発明のポリマー結合剤を製造するための出発材料としては、ポリ−（ｐ−ヒドロキシスチレン）、ポリ−（ｐ−ヒドロキシ−α−メチルスチレン）或はｐ−ヒドロキシスチレン／ｐ−ヒドロキシ−α−メチルスチレン共重合体が挙げられる。これらは全体的或は部分的にジヒドロピラン或はアルキルビニルエーテルと反応せしめられ、例えばジヒドロピランとの反応生成物の場合には、一般式（II）」と訂正する。
（５）訂正事項ｅ．
　明細書段落【００１３】を次の如く訂正する。
「以下の、段落【００１４】含む、出発材料としてのノボラックの記載にかかわらず、本発明の出発材料としてのフェノール性ヒドロキシル基含有ポリマーは、ノボラックを含まない。参考例としてのノボラック（出発材料）としては、例えば「ソリッド、ステイト、テクノロジー」１９８４年６月号１１５−１２０頁におけるＴ．パンパローン（Ｐａｍｐａｌｏｎｅ）の論稿「ノボラック、レジンス、ユーズド、イン、ポジチブ、レジスト、システムズ」に記載されているものが使用される。特殊な用途、例えば短波長紫外線露光用には、ｐ−クレゾール及びホルムアルデヒドからのノボラックが好ましい。」
（６）訂正事項ｆ．
　明細書段落【００２９】を次の如く訂正する。
「本発明のポリマー結合剤を含む感放射線混合物は、Ｘ線、電子ビーム、紫外線に対して感応する。長波長紫外線から可視光線波長域まで感応するように、場合により微量の増感剤、例えばピレン、ペリレンを添加することができる。特殊な波長範囲、例えば短波長紫外線帯域（＜３００ｎｍ）における露光のため、それぞれの露光波長における高い透明度が要求される。水銀灯を主体とする慣用の露光装置においては２５４ｎｍラインが使用され、また２４８ｎｍ（ＫｒＦ）のエキシマレーザ光が使用される。したがって、感放射線記録材料はこの波長帯域においてなるべく低い光学密度を持たねばならない。このような用途のためにはノボラックを主体とするポリマー結合剤は、本発明のヒドロキシスチレンを主体とするポリマー結合剤がこの特殊な用途のために使用される場合に比し不適当である。」
　
２．訂正の目的の適否、新規事項追加の有無、及び特許請求の範囲の実質上の拡張又は変更の存否
　訂正事項ａ．は、特許請求の範囲請求項１に記載された、「フェノール性ヒドロキシル基含有ポリマー」を、より下位概念である「ポリ−（ｐ−ヒドロキシスチレン）、ポリ−（ｐ−ヒドロキシ−α−メチルスチレン）、或はｐ−ヒドロキシスチレン／ｐ−ヒドロキシ−α−メチルスチレン共重合体」に限定するとともに、「フェノール性ヒドロキシル基含有モノマー化合物」を、先に３種のポリマーに具体的に限定されたフェノール性ヒドロキシル基含有ポリマーの構成モノマーの化合物に、即ち「該フェノール性ヒドロキシル基含有ポリマーの構成モノマーとしてのフェノール性ヒドロキシル基含有モノマー化合物」に限定するものであるから、特許請求の範囲の減縮を目的とする訂正に該当する。
　そして該訂正事項は、訂正前の特許請求の範囲請求項４に記載されていたものであるから、願書に添付した明細書に記載した事項の範囲内の訂正であり、実質上特許請求の範囲を拡張し又は変更するものでもない。
　また、訂正事項ｂ．〜ｆ．は、上記特許請求の範囲の減縮に伴い、特許請求の範囲の記載と発明の詳細な説明との間に生じる不整合な記載の整合をとるためのものであるから、明りょうでない記載の釈明を目的とする訂正に該当する。
　そして、上記訂正事項は、願書に添付した明細書に記載した事項の範囲内の訂正であり、実質上特許請求の範囲を拡張し又は変更するものでもない。
　
３．独立特許要件
　取消理由通知の趣旨は、訂正前の請求項１〜６に係る発明は、特開昭４８−８９００３号公報（刊行物１）、及び特開昭６２−２１５９４７号公報（刊行物２）に記載された発明であるから、それら各発明は、特許法第２９条第１項第３号の規定に違反して特許されたものであること、および、請求項１〜６に係る発明は、刊行物１、刊行物２、及び特開昭５９−４５４３９号公報（刊行物３）に記載された発明に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、それら各発明は、特許法第２９条第２項の規定に違反して特許されたものであること、並びに、本件特許明細書には記載上の不備があるため、特許法第３６条の規定に違反して特許されたものであることを理由として、それら各発明に係る特許を取り消すというものである。
　ところで、本件特許発明は、上記の訂正によって、フェノール性ヒドロキシル基含有ポリマーについて、「ポリ−（ｐ−ヒドロキシスチレン）、ポリ−（ｐ−ヒドロキシ−α−メチルスチレン）、或はｐ−ヒドロキシスチレン／ｐ−ヒドロキシ−α−メチルスチレン共重合体」であるもののみに限定された。
　それに対して、引用された刊行物１、２のいずれにも、ポジチブおよびネガチブ処理感放射線混合物用ポリマー結合材に使用されるフェノール性ヒドロキシル基含有ポリマーとして、「ポリ−（ｐ−ヒドロキシスチレン）、ポリ−（ｐ−ヒドロキシ−α−メチルスチレン）、或はｐ−ヒドロキシスチレン／ｐ−ヒドロキシ−α−メチルスチレン共重合体」を用いる点についての記載がないから、訂正後の各請求項に係る発明は、刊行物１、２のいずれかに記載された発明であるとすることはできない。
　また、さらに引用された刊行物３にも、ポジチブおよびネガチブ処理感放射線混合物用ポリマー結合材に使用されるフェノール性ヒドロキシル基含有ポリマーとして、「ポリ−（ｐ−ヒドロキシスチレン）、ポリ−（ｐ−ヒドロキシ−α−メチルスチレン）、或はｐ−ヒドロキシスチレン／ｐ−ヒドロキシ−α−メチルスチレン共重合体」を用いることは全く記載されていないから、刊行物１〜３に記載された事項をいかに組み合わせたところで、本件各発明の構成に到達することはできない。そのため、訂正後の請求項１〜３に係る発明が、刊行物１〜３に記載された発明に基いて容易に発明をすることができたものとすることはできない。
　さらに、明細書の記載についても、下記「III． 特許異議申立について」に示すとおり、記載不備とする程度には当たらない。
　その他、下記「III． 特許異議申立について」に示すとおり、特許異議申立の理由によっては、訂正後の請求項１〜３に係る発明を、当業者が容易に発明をすることができたものとすることはできない。
　したがって、訂正明細書の請求項１〜３に係る発明は、特許出願の際独立して特許を受けることができるものである。
　
４．むすび
　以上のとおりであるから、本件訂正請求は、特許法等の一部を改正する法律（平成６年法律１１６号）附則第６条第１項の規定によりなお従前の例によるとされる、特許法第１２０条の４第３項において準用する平成６年法律第１１６号による改正前の特許法第１２６条第１項ただし書き、第２項乃び第３項の規定に適合するので、当該訂正を認める。
　
III．特許異議申立について
１．本件発明
　本件の請求項１〜３に係る発明は、前記訂正後の特許請求の範囲の請求項１〜３に記載されたとおりのものである（上記訂正事項ａ、参照）。
　
２．特許異議申立の理由の概要
（１）特許異議申立人伊藤廣美は、甲第１〜３号証を提出して、訂正前の請求項１〜３に係る発明は、甲第１号証に記載された発明であるから、又訂正前の請求項１〜６に係る発明は、甲第１〜３号証に記載された発明に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第１項第３号、又は第２項に規定する発明に該当することをもって、訂正前の請求項１〜６に係る発明の特許は、取り消されるべき旨主張する。
（２）特許異議申立人石黒きよしは、甲第１〜７号証を提出して、訂正前の請求項１、２に係る発明は、甲第１号証に記載された発明であるから、又訂正前の請求項１〜６に係る発明は、甲第１〜５号証に記載された発明に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第１項第３号、又は第２項に規定する発明に該当すること、および、本件特許は、分割のもととなった原出願である特願平１−１１５２５６号出願に包含されていない発明を出願し、特許されたものであるから、特許法第４４条第２項の規定の適用を受けることができず、そのため、請求項１〜６に係る発明は、原公開公報である甲第７号証に記載された発明であるか、少なくとも、甲第５号証および甲第７号証に記載された発明に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第１項第３号、又は第２項に規定する発明に該当することをもって、訂正前の請求項１〜６に係る発明の特許は、取り消されるべき旨主張する。
（３）特許異議申立人荒井純子は、甲第１〜３号証を提出して、訂正前の請求項１〜３に係る発明は、甲第１号証に記載された発明であるから、又訂正前の請求項１、３に係る発明は、甲第２号証に記載された発明であるから、さらに訂正前の請求項２に係る発明は、甲第２号証に記載された発明に基いて、訂正前の請求項４〜６に係る発明は、甲第１〜３号証に記載された発明に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第１項第３号、又は第２項に規定する発明に該当すること、
　および、本件特許明細書には、記載不備があるため、特許法第３６条第３項又は第４項の規定に違反して特許されたものであることをもって、訂正前の請求項１〜６に係る発明の特許を取り消されるべき旨主張する。
（４）特許異議申立人和光純薬工業株式会社は、甲第１〜１２号証、及び参考資料１〜３を提出して、本件特許は、分割のもととなった原出願である特願平１−１１５２５６号出願に包含されていない発明を出願し、特許されたものであるから、特許法第４４条第２項の規定の適用を受けることができず、そのため、訂正前の請求項１〜６に係る発明は、原公開公報である甲第１号証、および甲第２号証に記載された発明であるか、少なくとも、甲第１、２号証に記載された発明に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、また訂正前の請求項１〜６に係る発明は、甲第３号証に記載された発明であるから、さらに訂正前の請求項１〜６に係る発明は、甲第３〜９号証に記載された発明に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第１項第３号、又は第２項に規定する発明に該当すること、
　および、本件特許明細書には、記載不備があるため、特許法第３６条第３項又は第４項の規定に違反して特許されたものであることをもって、訂正前の請求項１〜６に係る発明の特許を取り消されるべき旨主張する。
　
３．証拠方法
（１）特許異議申立人伊藤廣美提出分
甲第１号証：特開昭４８−８９００３号公報（以下、「刊行物１」という）
甲第２号証：特開昭６０−３７５４９号公報（以下、「刊行物２」という）
甲第３号証特開昭６０−１２１４４６号公報（以下、「刊行物３」という）
（２）特許異議申立人石黒きよし提出分
甲第１号証：特公昭５２−３６４４２号公報（以下、「刊行物４」という）
甲第２号証：特開昭６０−３７５４９号公報（刊行物２に同じ）
甲第３号証：特開昭５９−４５４３９号公報（以下、「刊行物５」という）
甲第４号証：Ｍｉｃｒｏｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃ　Ｅｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇ　６（１９８７）ｐ．３９３〜３９８（以下、「刊行物６」という）
甲第５号証：Ｐｒｏｃｅｅｄｉｎｇｓ　ｏｆ　ＳＰＩＥ，Ｖｏｌ．７７１，Ａｄｖａｎｃｅｓ　ｉｎ　Ｒｅｓｉｓｔ　Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ　ａｎｄ　Ｐｒｏｃｅｓｓｉｎｇ　ＩＶ，ｐ．３２〜３８（１９８７）（以下、「刊行物７」という）
甲第６号証:特許第２６７５１３８号公報（以下、「原特許公報」という）
甲第７号証:特開平２−１９８４７号公報（以下、「原公開公報」という）
（３）特許異議申立人荒井純子提出分
甲第１号証:特開昭６２−２１５９４７号公報（以下、「刊行物８」という）
甲第２号証:特開昭４８−８９００３号公報（刊行物１に同じ）
甲第３号証:特開昭５９−４５４３９号公報（刊行物５に同じ）
（４）特許異議申立人和光純薬工業株式会社提出分
甲第１号証:特開平２−１９８４７号公報（「原公開公報」に同じ）
甲第２号証:特開平２−１６１４３６号公報（以下、「刊行物９」という）
甲第３号証:特開昭４８−８９００３号公報（刊行物１に同じ）
甲第４号証:特開昭６０−３７５４９号公報（刊行物２に同じ）
甲第５号証:特開昭６０−１２１４４６号公報（刊行物３に同じ）
甲第６号証:Ｊｏｕｒｎａｌ　ｏｆ　ｔｈｅ　Ｃｈｅｍｉｃａｌ　Ｓｏｃｉｅｔｙ，Ｐｅｒｋｉｎ　Ｔｒａｎｓａｃｔｉｏｎｓ　II，１９７６，ｐ．１００１〜１００３（以下、「刊行物１０」という）
甲第７号証:Ｃａｎａｄｉａｎ　Ｊｏｕｒｎａｌ　ｏｆ　Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，６３（１）１５３〜１６２（１９８５）（以下、「刊行物１１」という）
甲第８号証:Ｍｉｃｒｏｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃ　Ｅｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇ　６（１９８７）ｐ．３９３〜３９８（刊行物６に同じ）
甲第９号証:Ｐｒｏｃｅｅｄｉｎｇｓ　ｏｆ　ＳＰＩＥ，Ｖｏｌ．７７１，Ａｄｖａｎｃｅｓ　ｉｎ　Ｒｅｓｉｓｔ　Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ　ａｎｄ　Ｐｒｏｃｅｓｓｉｎｇ　ＩＶ，ｐ．３２〜３８（１９８７）（刊行物７に同じ）
甲第１０号証:和光純薬工業株式会社東京研究所　浦野文良作成になる平成１１年１月１４日付「ポリマー結合剤の合成実験結果」（以下、「合成実験結果」という）
甲第１１号証:和光純薬工業株式会社東京研究所　浦野文良作成になる平成１１年３月１８日付「画像形成実験結果」（以下、「画像形成実験結果」という）
甲第１２号証:本件特許のパテントファミリー調査結果と題する書面（以下、「パテントファミリー調査結果」という）
参考資料１:特許庁発行「参考審判決集第３巻」第１６９〜１７１頁
参考資料２:米国特許第３７７９７７８号明細書
参考資料３:特開平５−２４９６８２号公報
　
４．書証の検討
（１）刊行物１には、
ａ．「化学線照射に露光された区域では像を形成し、非露光区域はそのまま残るように現像液で容易に除去できるようになる光分解性組成物において、
　（ａ）一般式（省略）
の１個又は２個以上の酸減成結合を含む水不溶性有機化合物と；
　（ｂ）通常は非反応性であるが化学線照射を吸収すると酸性状態を生ずる光分解性酸発生物質を含む光反応促進剤、を含むことを特徴とする光分解性組成物」（請求項１）に関する発明が記載され、
ｂ．「１個又は２個以上の上式の酸減成結合を含む水不溶性有機化合物は（１）非重合体、（２）酸減成結合が重合鎖に含まれる重合体、又は（３）酸減成結合が重合鎖に対して対の位置にある重合体でよい。」（第３頁左上欄第７〜１１行）こと、「上記の光分解性組成物の露光区域の可溶化は２種の化学的過程によって起こる。第１は３００ないし７００ｍμの波長の化学線照射にこの組成物が露光されると、光分解性酸発生物質の直接の光分解又は染料感光分解が起こり、このため照射区域に酸性状態を生ずることである。第２は酸触媒作用で酸減成結合を分解して生成物を生じ、該生成物は非露光物質よりも選択的分解性又は分散性が高くなることである。」（第３頁右上欄第５〜１３行）こと、
ｃ．「酸減成結合を含む水不溶性化合物は一般に、（１）１個又は２個以上のビニルエーテル基を含む有機化合物と、（２）１個又は２個以上の芳香族水酸基、・・・・との求核付加反応によって作られる」（第３頁左下欄第８行〜末行）こと、「１個のビニルエーテル基を含む適当な化合物はアルキルビニルエーテル（例えばメチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、イソブチルビニルエーテル等）及びジヒドロピラン類（例えばジヒドロピラン、・・・・）を包含する。」（第４頁右上欄第１１〜１８行）こと、「本発明の組成物に使用する酸減成物質の製造に有用な、１個又は２個以上の芳香族水酸基を含む化合物はフェノール類及び多価フェノール類で、これらの例はフェノール、クレゾール、・・・・等である。」（第５頁右上欄第５〜１７行）こと、「対の位置に酸減成基を含む重合体付加生成物の例は上記のビニルエステル又はジヒドロピランとフェノール−アルデヒド縮合ノボラック樹脂との付加生成物である。」（第６頁左下欄第２〜８行）こと、
ｄ．「特定波長範囲の化学線照射に対する上記の光分解性組成物の感度は公知の紫外線及び可視光線用増感剤を配合することによって増加でき・・・米国特許第３，６１７，２８８号に記載されている。」（第８頁右下欄第４〜１９行）こと、が記載されている。
（２）刊行物２には、
ｅ．「（ａ）活性光線の照射により、酸を発生し得る化合物、及び（ｂ）下記一般式（Ｉ）で示される、酸により分解し得るシリルエーテル基を少なくとも１個有し、現像液中でその溶解度が酸の作用により増大する化合物、を含有する光可溶化組成物。（一般式省略）」（請求項１）に関する発明が記載され、
ｆ．一般式（Ｉ）で示されるシリルエーテル基を少なくとも１個有する化合物の具体例として、化合物Ｎｏ．６（５〜１００％がシリルエーテルで置換されたフェノール性ＯＨ基を有するポリマー）、が記載されている（第３頁左下欄）。
（３）刊行物３には、
ｇ．「（ａ）活性光線の照射により、酸を発生し得る化合物、及び（ｂ）分子中に下記一般式（Ｉ）で示される、酸により分解し得るシリルエーテル基を少なくとも１個有し、なお且つ親水性基を少なくとも１個有する化合物、を含有することを特徴とする光可溶化組成物。（一般式省略）」（特許請求の範囲）に関する発明が記載され、
　一般式（Ｉ）で示されるシリルエーテル基を少なくとも１個有する化合物の具体例として、化合物Ｎｏ．２（５〜９５モル％がシリルエーテルで置換されたフェノール性ＯＨ基を有するポリマー）、が記載されている（第４頁上欄、第９頁左上欄３、４行）。
（４）刊行物４には、
ｈ．「化学線照射に露光された区域では像を形成し、非露光区域はそのまま残るように現像液で容易に除去できるようになる光分解性組成物において、　（ａ）式（省略）
の１個又は２個以上の酸分解結合を含む水不溶性有機化合物と；
　（ｂ）通常は非反応性であるが化学線照射を吸収すると酸性状態を生ずる光分解性酸発生物質を含む光反応開始剤、を含むことを特徴とする光分解性組成物」（請求項１）に関する発明が記載され、
ｉ．「本発明は新規な光分解性組成物とこれから得られる感光材料を提供するもので、この組成物は普通の画像形成に使用される紫外線及び可視光線の波長、即ち約３００〜７００ｍμにわたって感光性があり、また触媒反応性があり、従って従来の光分解性組成物よりも高い量子効率を有する。本発明による光分解性組成物は、化学線照射区域は現像液によって容易に除去でき、該組成物は（ａ）式  （省略）
の１個又は２個以上の酸分解結合を含む水溶性有機化合物と；
　（ｂ）通常は本質的に中性で安定しているが、化学線照射に露光されると酸性状態を生ずる光分解性酸発生物質、を含んでいる。」（第３欄第９〜３６行）こと、
ｊ．「１個又は２個以上の上式の酸分解結合を含む水不溶性有機化合物は（１）非重合体、（２）酸分解結合が重合鎖に含まれる重合体、又は（３）酸分解結合が重合鎖に対して対の位置にある重合体でよい。」（第３欄第３７〜４０行）こと、「酸分解結合を含む水不溶性化合物は一般に、（１）１個又は２個以上のビニルエーテル基を含む有機化合物と、（２）１個又は２個以上の芳香族水酸基、芳香族モノアルキルスルホンアミド基、即ち−ＲＮＨＳＯ２Ａｒ ここでＲは低級アルキル基でＡｒは１価又は２価の芳香族基である）を含む有機化合物又は第二芳香族アミンのフェノチアジン又はα-ナフチルフェニルアミン、との求核付加反応によって作られる。」（第４欄第３７〜第５欄第２行）こと、「１個のビニルエーテル基を含む適当な化合物はアルキルビニルエーテル（例えばメチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、・・・等）及びジヒドロピラン類（例えばジヒドロピラン、２−メチル−２Ｈ−３，４ジヒドロピラン、・・・等）を包含する。」（第６欄第７〜１４行）こと、「対の位置に酸分解性基を含む重合体付加生成物の例は上記のビニルエステル又はジヒドロピランとフェノール−アルデヒド縮合ノボラック樹脂との付加生成物である。」（第１０欄第３４〜３７行）こと、
ｋ．例３として、「・・・・減光下で下記の成分を溶解するまで混合して光分解性組成物を作る：
　２００部　塩化メチレン
　　３０部　フェノール−ホルムアルデヒド樹脂のポリ−２−テトラヒドロピラニルエーテル（フェノール−ホルムアルデヒド樹脂：ダウケミカル社製　Ｎｏｖｏｌａｋ　ＥＴ３４５／１３００と触媒としてのｐ−トルエンスルホン酸の存在下でジヒドロピランとの反応で生成される）
　　　２部　ヘキサブロモエタン
　　　１部　トリフェニルアミン
　この感光性組成物を浸漬法により、珪酸アルミニウム板上に被覆し、乾燥被覆重量約１０ｍｇ／ｄｍ２ の増感板を作る。この増感板は暗所で長期間安定で、１８ｃｍの距離で５００ワット紫外線ランプ（ＧＥ社製　Ｈ３Ｔ７）の照射に１分間透明陽画を通して露光する。この感光板を、３５部のｎ−プロピルアルコール、１部の水酸化カリウム及び６４部の水からなる溶液で現像し露光区域を除去する。得られた陽画印刷板は良好なインク／水平衡特性を示し、非露光区域は良好な石版インク受容性を示す。」（第１６欄第４１〜第１７欄２１行）こと、が記載されている。
（５）刊行物５には、
ｌ．「酸に対して不安定な反復的に存在する枝分れした基を有する重合体と、放射に対してさらされたときに酸を生じる光重合開始剤とを含むレジスト組成物。」（特許請求の範囲）に関する発明が記載され、
ｍ．「ジアリールヨードニウム又はトリアリールスルホニウム金属ハロゲン化物を含む本発明による組成物は、遠紫外線に対して著しく感応して、２μよりも厚い被膜においても垂直に近い壁の角度を有する極めて高解像力の像を生じるので、遠紫外線（２００〜３００ｎｍ）による露光とともに用いられたときに特に有用かつ有利である。」（第２頁左下欄第１４〜２０行）こと、「好ましい酸に対して不安定な枝分かれした基は、カルボン酸のｔｅｒｔ−ブチル・エステル及びフェノールのｔｅｒｔ−ブチルカルボナートであるが・・・・。最も好ましい重合体は、ポリ（ｐ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルオキシ−α−メチルスチレン）、ポリ（ｐ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルオキシスチレン）、・・・である。」（第３頁左上欄第８〜右上欄１行）こと、
ｎ．実施例２では、ポリ（ｐ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルオキシ−α−メチルスチレン）、トリフェニルスルホニウム・ヘキサンフルオロファーセナートのシクロヘキサン溶液をシリコン・ウエハ上に塗布し２５４ｎｍの紫外線で露光を行ったこと（第５頁右下欄第５〜末行）、が記載されている。
（６）刊行物６は、「ＡＮ　ＯＲＧＡＮＯＳＩＬＩＣＯＮ　ＰＨＯＴＯＲＥＳＩＳＴ　ＦＯＲ　ＵＳＥ　ＩＮ　ＥＸＣＩＭＥＲ　ＬＡＳＥＲ　ＬＩＴＨＯＧＲＡＰＨＹ」と題する論文であって、
ｏ．この論文には、ＩＣ製造に標準的に用いられている現在のノボラック系ポジ型レジストは、ノボラックによる吸収が大きいため遠紫外線には使用できないこと、ポリ（ヒドロキシスチレン）はノボラック樹脂よりも遠紫外線に対する吸収が少ないので、ポリ（ヒドロキシスチレン）の水酸基をトリメチルシリルエーテル化したものと光分解性酸発生剤との組合せは、２４８ｎｍのエキシマレーザーで露光させる感放射線組成物として好ましいことが記載されている。そして、第４図には、ノボラック樹脂と比較して水酸基をトリメチルシリルエーテル化したポリ（ヒドロキシスチレン）は、２４５ｎｍのエキシマレーザー光に対する透過率が著しく大きい（＝吸収が著しく少ない）ことが示されている。また、第３図には、ポリ（ヒドロキシスチレン）の水酸基は、その全てをトリメチルシリルエーテル化する必要はなく、その一部をトリメチルシリルエーテル化するだけでよいことが示されている。
（７）刊行物７は、「ＣＨＡＲＡＣＴＥＲＩＺＡＴＩＯＮ　ＯＦ　ＮＥＷ　ＯＲＧＡＮＯＳＩＬＩＣＯＮ　ＰＨＯＴＯＲＥＳＩＳＴ」と題する論文であって、
ｐ．この論文には、ポリ（ビニルフェノール）の２５４ｎｍにおける吸収係数は２．８４であって、ノボラック樹脂の吸収係数３．３４よりも小さいことが記載されている。また、第４図には、ポリ（ビニルフェノール）の水酸基をトリメチルシリル化した樹脂について、そのシリコンの含有量と水酸化テトラメチルアンモニウム現像液に対する溶解速度との関係が示されており、それによればシリコンの含有量が６％から１０％に増加すると、溶解速度は著しく低下する。シリコン含有量６％は、ポリ（ビニルフェノール）の水酸基の２５．５％をシリル化したものに相当し、シリコン含有量１０％はポリ（ビニルフェノール）の水酸基の４２．３％をシリル化したものに相当する。またその第１３図には、シリコン含有量１０％のシリル化されたポリ（ビニルフェノール）を２４０〜２６０ｎｍで露光したもののＳＥＭ写真が示されている。
（８）刊行物８には、
ｑ．「（１）露光により酸を発生する化合物および分子内に該酸により分解するアセタール結合部分を少なくとも３個有する化合物を含有することを特徴とする感光性組成物。　（２）酸により分解する化合物が、分子内にアセタール結合部分を少なくとも３個有するノボラック系樹脂である特許請求の範囲第１項記載の感光性組成物。　（３）該ノボラック系樹脂が、下記一般式（Ｉ）で示される構成単位を有するものである特許請求の範囲第２項記載の感光性組成物。（一般式は省略する）」（特許請求の範囲第１〜３項）に関する発明が記載され、
ｒ．この感光性組成物は、フォトレジスト等に使用し得るものであり、従来技術の課題として、「これらオルトカルボン酸エステル基、シリルエーテル基、シリルエステル基を含有する化合物の組み合せは、高感度ではあるが保存安定性に劣り、又、１価、２価の芳香族、あるいは脂肪族基を含有するアセタールあるいはケタール基を持つ化合物は保存安定性には優れているが、感度が低く、共に実用的に不十分な性能であった。従って、従来知られている感光性組成物では現像性等他の性質を損なわずに充分な感光性を得ることが出来なかった。」（第２頁右下欄第１３〜第３頁左上欄３行）こと、
ｓ．「本発明者らは、かかる酸により分解し溶解性を増す化合物に着目し、より高感度で上述の様な問題のない新規な化合物を提供すべく鋭意検討した結果、酸により分解するアセタール結合部分を少なくとも３個有する化合物を使用することにより、所期の目的を達成することができることを知得した。」（第３頁左上欄第４〜１０行）こと、「かかる化合物の例としては、分子内にアセタール結合部分を少なくとも３個有するノボラック系樹脂、例えば、下記一般式（Ｉ）で示される構成単位を有するようなノボラック系樹脂等が挙げられる。（一般式省略）」（第３頁左下欄第５〜右下欄末行）こと、「前記一般式（Ｉ）で表わされるような少なくとも３個のアセタール結合部分を有する構成単位は、通常、得られるノボラック系樹脂中、５〜１００ｗｔ％、好ましくは１０〜１００ｗｔ％の範囲である。」（第４頁左上欄第１８〜右上欄２行）こと、が記載されている。
（９）刊行物９には、
ｔ．「下記の一般式（Ｉ）で表されるポリ（ｐ−ビニルフェノール）残基のアセタールと、下記の構造式（ＩＩ）で表わされるポリ（ｐ−ビニルフェノール）残基とを繰り返し単位として含むベース樹脂と、下記の一般式（ＩＩＩ）〜（Ｖ）のうちのいずれかで表わされるｓ−トリアジン誘導体、または下記の一般式（ＶＩ）で表わされるポリハロアセタミド類、または下記の一般式（ＶＩＩ）で表されるポリハロ酢酸類のうちのいずれか１種類または２種類以上のポリハロゲン化合物からなる感光剤と、トリｎ−アルキルアミン類またはトリ（ω−ヒドロキシ）アミン類からなる水素供与剤とを含んで成ることを特徴とするフォトレジスト組成物。（一般式・構造式省略）」（請求項１）、
　「請求項１に記載のフォトレジスト組成物を被加工基板の表面に塗布してレジスト膜を形成した後、前記感光剤から発生するハロゲンラジカルの当量ＮＲ と前記水素供与剤の当屋ＮＨ とが
　ＮＲ ＜ＮＨ 　を満たす低ドーズ量条件で遠紫外線によりフォトマスクを介して露光し、前記レジスト膜に低ドーズ露光部と未露光部とを形成し、該低ドーズ露光部をアルカリ性現像液で除去してポジ型レジストパターンを形成することを特徴とするフォトレジスト組成物の使用方法。」（請求項３）、
　「請求項１に記載のフォトレジスト組成物を被加工基板の表面に塗布してレジスト膜を形成した後、前記感光剤から発生するハロゲンラジカルの当量ＮＲ と前記水素供与剤の当量ＮＨ とが
　ＮＲ ＞ＮＨ　　を満たす高ドーズ量条件で遠紫外線によりフォトマスクを介して露光し、前記レジスト膜に高ドーズ露光部と未　露光部とを形成し、未露光部を有機系現像液で除去してネガ型レジストパターンを形成することを特徴とするフォトレジスト組成物の使用方法。」（請求項４）に関する発明が記載され、
ｕ．産業上の利用分野として、「この発明は、半導体装置等の製造に用いられるフォトレジスト組成物と、この組成物を用いたレジストパターン形成技術とに関し、特に、波長２００〜３００（ｎｍ）の遠紫外線に対して感度を有するフォトレジスト組成物とその使用方法に関する。」（第２頁右下欄第５〜１０行）こと、
ｖ．実施例として、「実施例１　＜ベース樹脂の合成＞
　始めに、この実施例で用いたベース樹脂の合成手順の一例として、ポリ（ｐ‐ビニルフェノール）に由来するポリ（ｐ−ビニルフェノール）残基にテトラヒドロピラニル基をエーテル結合せしめたアセタール単位を含む場合につき詳細に説明する。まず、出発物質として、ポリ（ｐ−ビニルフェノール）・・・・１２．０（ｇ）と、２，３−ジヒドロピラン８．４（ｇ）とを秤量し、・・・・この実施例に係るベース樹脂１３．０（ｇ）が得られた。」（第６頁右下欄第１７〜第７頁右上欄１６行）こと、「実施例１で合成したベース樹脂に対するテトラヒドロピラニル基の導入率は、９０％であった。」（第７頁左下欄第１０〜１２行）こと、が記載されている。
(10)刊行物１０は、ジエチルエーテル中でのアリルエチルアセタールとエチルマグネシウムブロマイドとの反応における炭素−酸素単結合の開裂に対する動力学的研究に関しての論文であって、
ｗ．試料とするアセタール類として、フェノールとエチルビニルエーテルとからアセトアルデヒドのエチルフェニルアセタールを作成したこと、同様にして、エチル　４−メトキシフェニルアセタール、エチル　４−メチルフェニルアセタール、エチル　３−クロロフェニルアセタールを製造したこと、が記載されている。
（11）刊行物１１は、ジ−ｔｅｒｔ−ブチル　ジカルボナートによるアルコール、フェノール、エノールおよびチオールのｔｅｒｔ−ブチロキシカルボニル化反応における相間移動触媒に関する論文であって、
ｘ．ｔ−ブトキシカルボニル化においてポリ（ｐ−ヒドロキシスチレン）がノボラックと同様に反応すること、反応生成物が化学増幅作用を有しフォトイメージング剤として使用できること、が記載されている。
（12）合成実験結果には、本件特許明細書の記載に沿って、ポリ（ｐ−ヒドロキシスチレン）と、ジヒドロピランまたはエチルビニルエーテルとを反応させたところ、ジヒドロピランが反応したｐ−（テトラヒドロピラニルオキシスチレンは生成したが、エチルビニルエーテルが付加したポリ（ｐ−ヒドロキシスチレン）のエーテル化物は得られなかった旨、記載されている。
（13）画像形成実験結果には、ポリ（ｐ−ヒドロキシスチレン）とジヒドロピランの反応生成物、ポリ（ｐ−ヒドロキシスチレン）とエチルビニルエーテルとの反応生成物に、感光剤としてジフェニルｐ−ｔｅｒｔ−ブトキシフェニルスルホニウム・トリフレート又はビス（シクロヘキシルスルホニル）ジアゾメタンを組み合わせてレジストＡ〜Ｄを作成し、現像性をテストしたところ、ポリ（ｐ−ヒドロキシスチレン）とエチルビニルエーテルとの反応生成物と、酸により分裂する基を有しない感光剤であるビス（シクロヘキシルスルホニル）ジアゾメタンとを組み合わせたレジストは、熱処理温度７０℃でも、１５０℃でもポジ型のレリーフ像が形成され、ネガ型はできなかった旨、記載している。
（14）パテントファミリー調査結果には、本件特許が分割された原出願である特願平１−１１５２５６号出願のパテントファミリーを調査した結果、が示されている。
　
５．当審の判断
（１）特許法第４４条第１項違反について
ａ．特許異議申立人石黒きよしが、本件特許について分割要件の欠如を主張する趣旨は、
　（イ）本件請求項５に係る発明は、Ｐ−クレゾール−ホルムアルデヒドを主体とするノボラック樹脂のフェノール性水酸基に、アルキルビニルエーテル又はジヒドロピランを付加反応させたものを含む感放射線組成物を用いて画像形成を行う方法である。それに対して、原特許公報の請求項３には、Ｐ−クレゾール−ホルムアルデヒドを主体とするノボラック樹脂のフェノール性水酸基にアルキルビニルエーテル又はジヒドロピランを付加させたものを含む感放射線組成物が記載されており、同請求項６にはこれを用いて画像形成を行うことが記載されている。したがって、本件請求項５に係る発明は、原特許公報の請求項６の発明と同一であること、
　（ロ）本件請求項６に係る発明は、ポリ（ｐ−ヒドロキシスチレン）のフェノール性水酸基に、アルキルビニルエーテル又はジヒドロピランを付加反応させたものを含む感放射線組成物を用いて、２４８ｎｍのエキシマレーザー光で露光して画像形成を行う方法である。それに対して、原特許公報の請求項４には、ポリ（ｐ−ヒドロキシスチレン）のフェノール性水酸基にアルキルビニルエーテル又はジヒドロピランを付加させたものを含む感放射線組成物が記載されており、同請求項６にはこれを用いて画像形成を行うことが記載されている。この請求項６には露光に用いる光の波長は記載されていないが、原特許公報の第４頁右欄第２３〜３１行には２４８ｎｍのエキシマレーザー光を用いることが記載されており、また第５頁右欄の実施例では全て２４８ｎｍのエキシマレーザー光で露光が行われているから、原特許公報の請求項６には、画像形成に際しての光として２４８ｎｍのエキシマレーザー光を含む波長範囲の光を用いることが潜在的に記載されているというべきである。したがって、本件請求項６に係る発明は、原特許公報の請求項６の発明と同一であること、
　（ハ）本件請求項１〜４に係る発明は、ポリマー結合剤そのものの発明であるが、原出願の出願当初の明細書に記載されているのは、ポリマー結合剤と、水性アルカリ現像剤に対する溶解性が酸の作用により高められ、少くとも１個の、酸により分裂可能の基及び放射線の作用下に強酸を形成する、さらに他の基を有する有機化合物、典型的には式（１）で示されるスルホニウム塩とを含有する感放射線組成物の発明であって、ポリマー結合剤そのものの発明ではない。したがって、本件請求項１〜４に係る発明は、原出願の出願当初の明細書に記載されていない発明であり、
　以上の３点により、本件特許は適法な分割出願に基くものではないというものである。
ｂ．特許異議申立人和光純薬工業株式会社が、本件特許について分割要件の欠如を主張する趣旨は、
　（ニ）本件請求項１に係る発明の、「・・・ポジチブ及びネガチブ処理感放射線混合物用ポリマー結合剤」という用途は、「重合体或は重縮合物」に感光剤として「放射線の作用で強酸を形成する有機化合物」を組み合わせてポジチブ及びネガチブ処理感放射線混合物として使用することを意味すると解せるのに対して、原出願明細書には、「重合体或は重縮合物」からなるポリマー結合剤を「ポジチブ及びネガチブ処理感放射線混合物」として使用する旨記載されているが、組み合わせる感光剤については、「放射線の作用で強酸を形成する有機化合物」だけでなく、同一分子内にさらに「酸により分裂可能の基」をも有しなければならないのであって、それ以外の感光剤との組み合わせを示唆する記載は全くない。したがって、本件請求項１に係る発明において、組み合わせる感光剤が同一分子内に酸により分裂可能の基と露光により強酸を形成する基の両方を有する有機化合物であるもの以外は、原出願明細書に記載された発明ではないというべきであるから、本件特許は適法な分割出願に基くものではないというものである。
ｃ．そこで、上記主張について、以下に検討する。
（イ）について
  Ｐ−クレゾール−ホルムアルデヒドを主体とするノボラック樹脂のフェノール性水酸基に、アルキルビニルエーテル又はジヒドロピランを付加反応させたものを含む感放射線組成物を用いて画像形成を行う方法である訂正前の請求項５は、訂正により削除されたので、（イ）は理由がなくなった。
（ロ）について
　原特許公報の特許請求の範囲請求項６の発明は、「上記請求項のいずれか１項による感放射線混合物が使用されることを特徴とするレリーフパターン及びレリーフ画像を作成する方法。」と記載されているとおり、特定の感放射線混合物を用いてレリーフパターン及びレリーフ画像を作成することを特徴とするものである。それに対して、訂正前の本件請求項６に係る発明（訂正後の請求項３）は、「請求項４のポリマー結合剤を含む感放射線混合物を２４８ｎｍ（ＫｒＦ）のエキシマレーザー光に露光することを特徴とする感放射線混合物の画像形成方法。」であり、特定結合剤を含む感放射線混合物を特定光源を用いて露光する点に特徴があるものであるから、構成上も、発明の思想も異なることは明らかである。したがって、本件請求項６に係る発明（訂正後の請求項３）は、原特許明細書の請求項６の発明と同一ではない。
（ハ）について
　原出願の出願当初の明細書には、ポリマー結合剤と、水性アルカリ現像剤に対する溶解性が酸の作用により高められ、少くとも１個の、酸により分裂可能の基及び放射線の作用下に強酸を形成する、さらに他の基を有する有機化合物、典型的には式（１）で示されるスルホニウム塩とを含有する感放射線組成物の発明が記載されているが、その構成のうちの、ポリマー結合剤も記載されていることは明らかである。よって、本件特許発明は、原出願の出願当初の明細書に記載された発明である。
（ニ）について
　本件訂正後の請求項１において、「重縮合体或は重縮合物」そのものが「ポリマー結合剤」をなすことは明らかである。
　そして、原出願明細書には、「重合体或は重縮合物」からなるポリマー結合剤を「ポジチブ及びネガチブ処理感放射線混合物」として使用する旨記載されているから、重縮合体または重縮合物、言い換えれば、ポリマー結合剤が、「ポジチブ及びネガチブ処理感放射線混合物」に使用されること、すなわち「ポジチブ及びネガチブ処理感放射線混合物用」であることも記載されているものである。
　なお、特許異議申立人和光純薬工業株式会社は、「ポジチブ及びネガチブ処理感放射線混合物用」との用途発明は、ポリマー結合剤に感光剤を組み合わせてなるもののように主張するが、「重縮合体或は重縮合物」そのものを「ポリマー結合剤」という用途に使用するものであるから、その主張は意味のないものである。
ｄ．以上のとおり、本件特許発明に対する、特許法第４４条第１項違反の申し立ては、いずれも理由がない。よって、本件特許の出願は、もとの特許の出願の時にされたものとみなされ、更に原特許出願についてなされた優先権主張の適用により、１９８８年５月１９日以降に頒布された原公開公報、原特許公報、及び刊行物７、９をもってして、本件特許が、特許法第２９条第１項第３号、又特許法第２９条第２項に違反するということはできない。
　
（２）特許法第２９条第１項第３号違反について
　刊行物１には、ビニルエステル又はジヒドロピランと付加重合するフェノール性ヒドロキシル基含有ポリマーとして、フェノール−アルデヒド縮合ノボラック樹脂が示されているのみで、訂正後の請求項１に係る発明で規定するｐ−ヒドロキシルスチレンまたはｐ−ヒドロキシ−α−メチルスチレンの重合体、或いはこれらの共重合体を記載していない。そのため、刊行物１には、請求項１に係る発明が記載されているとすることはできない。また、公開公報である刊行物１の対応する公告公報である刊行物４にも、同じ理由で、請求項１に係る発明が記載されているとすることはできない。
　刊行物８にも、ビニルエステル又はジヒドロピランと付加重合するフェノール性ヒドロキシル基含有ポリマーとして、フェノール−アルデヒド縮合ノボラック樹脂が示されているのみで、訂正後の請求項１に係る発明で規定するｐ−ヒドロキシルスチレンまたはｐ−ヒドロキシ−α−メチルスチレンの重合体、或いはこれらの共重合体を記載していない。そのため、刊行物８にも、請求項１に係る発明が記載されているとすることはできない。
　また、請求項２に係る発明は、請求項１に係る発明の構成をすべて引用し、さらにエーテル化率の範囲を限定するものであるから、更に、請求項３に係る発明は、請求項１に係る発明のポリマー結合剤を使用する画像形成方法の発明であるから、本件請求項２、３に係る発明は、上記と同じ理由により刊行物１、４、及び８に記載された発明ではない。
　したがって、本件請求項１〜３に係る発明は、特許法第２９条第１項第３号に違反するものではない。
　
（３）特許法第２９条第２項違反について
　請求項１に係る発明と、刊行物１、４、及び８に記載された発明とを対比すると、両者は、「フェノール性ヒドロキシル基含有ポリマーのヒドロキシル基とジヒドロピラン或いはアルキルビニルエーテルとの反応生成物からなるポジチブ及びネガチブ処理感放射線混合物用ポリマー結合剤。」である点で一致し、
請求項１に係る発明においては、フェノール性ヒドロキシル基含有ポリマーについて、「ポリ−（ｐ−ヒドロキシスチレン）、ポリ−（ｐ−ヒドロキシスチレン）、或はｐ−ヒドロキシスチレン／ｐ−ヒドロキシ−α−メチルスチレン共重合体であり、かつ該フェノール性ヒドロキシル基含有ポリマーのヒドロキシル基とジヒドロピラン或はアルキルビニルエーテルとの反応生成物或いは該フェノール性ヒドロキシル基含有ポリマーの構成モノマーとしてのフェノール性ヒドロキシル基含有モノマー化合物のヒドロキシル基とジヒドロピラン或いはアルキルビニルエーテルとの反応生成物の重合或は重縮合により得られる重合体或は重縮合体からなる」ものと規定するのに対して、刊行物１、４、及び８においては、ノボラック樹脂である点で相違する。
　相違点について検討する。
　刊行物２、３の記載によって、レジスト組成物において、ノボラック樹脂に関して、そのフェノール性ヒドロキシル基にアルキルビニルエーテルまたはジヒドロピランを結合させて酸解裂原子団とすることは本件特許の出願前より公知であることが理解され、刊行物５の記載により、ポリ−（ｐ−ヒドロキシスチレン）のヒドロキシル基をｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基でエステル化したポリマーが、遠紫外線（２００〜３００ｎｍ）露光により画像を形成するために使用されることが示され、刊行物６、７には、ポリ−（ｐ−ヒドロキシスチレン）のヒドロキシル基をトリメチルシラニル基でエーテル化したポリマーが、短波長紫外線の露光を用いるレジスト材料に使用されることが示されている。
　更に、刊行物１０の記載は、フェノールとエチレンビニルエーテルが反応して、アリルビニルアセタールを形成すること、刊行物１１の記載は、ｔ−ブトキシカルボニル化においてポリ（ｐ−ヒドロキシスチレン）がノボラックと同様に反応すること、反応生成物がフォトイメージング剤として使用できることを示すに過ぎない。
　しかしながら、ポリ−（ｐ−ヒドロキシスチレン）、ポリ−（ｐ−ヒドロキシスチレン）、或はｐ−ヒドロキシスチレン／ｐ−ヒドロキシ−α−メチルスチレン共重合体のヒドロキシル基を、ジヒドロピラン或はアルキルビニルエーテルでエーテル化させた構造の化合物、及び特に短波長紫外光に対するレジスト組成物としてどの程度の効果を示すのかは、刊行物２、３、５〜７に、それぞれ別個に、フェノール性ヒドロキシル基にアルキルビニルエーテルまたはジヒドロピランを結合させて酸解裂原子団とすること、ポリ−（ｐ−ヒドロキシスチレン）のヒドロキシル基に酸解裂原子団を結合させてレジスト組成物を作ることが記載されているとしても、それらの記載、及び刊行物１０、１１の記載を組合せる動機付けはなく、当業者が容易に導き出せるものではない。
　そして、本件請求項１に係る発明は、上記相違点に基づく請求項１に係る発明の構成により、明細書に記載された本発明のポリマー結合剤を含む感放射線混合物は、ことに高感度、良好な像解度、処理の容易性を示し、従って短波長の紫外線によるリトグラフィーに特に適するという、各刊行物の記載からは予測することのできない格別な効果を奏すものである。
　したがって、本件請求項１に係る発明は、刊行物１〜８、１０、及び１１に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものとすることはできない。
　また、請求項２に係る発明は、請求項１に係る発明の構成をすべて引用し、さらにエーテル化率の範囲を限定するものであるから、更に、請求項３に係る発明は、請求項１に係る発明のポリマー結合剤を使用する画像形成方法の発明であるから、本件請求項２、３に係る発明は、上記と同じ理由により刊行物１〜８、１０、及び１１に記載された発明に基いて当業者が容易に発明をすることができたものとすることはできない。
　したがって、本件請求項１〜３に係る発明は、特許法第２９条第２項に違反するものではない。
　
（４）特許法第３６条違反について
　特許異議申立人荒井純子、及び同和光純薬工業株式会社が、本件明細書の記載に関して、特許法第３６条違反を申立てる趣旨は、本件請求項に係る発明において、「フェノール性ヒドロキシル基含有ポリマーのヒドロキシル基とジヒドロピラン或はアルキルビニルエーテルとの反応生成物、或いは該フェノール性ヒドロキシル基含有ポリマーの構成モノマーとしてのフェノール性ヒドロキシル基含有モノマー化合物のヒドロキシル基とジヒドロピラン或いはアルキルビニルエーテルとの反応生成物の重合或は重縮合により得られる重合体或は重縮合物」として、ジヒドロピランとアルキルビニルエーテルとを併記しているが、実施例においては、ジヒドロピランを使用した例のみで、アルキルビニルエ−テルを使用する例が示されていないから、当業者がその効果を予測できず、また容易に実施することができず、記載不備であるとするものである。
　ところで、本件特許明細書には、特許請求の範囲の記載だけでなく、段落【０００５】、【０００６】、【００１１】、【００１６】〜【００１８】、【００３２】等において、ジヒドロピランとアルキルビニルエーテルとは並列して記載されており、少なくとも本件特許明細書においては同類のものと考えられる。したがって、ジヒドロピランを使用する例があれば、それを参考にして、アルキルビニルエーテルについても、当該分野の技術常識を加味して、当業者が追試することは可能なものと認められる。
　この点について、特許異議申立人和光純薬工業株式会社は、本件明細書に記載されたジヒドロピランを用いる例に準じてエチルビニルエーテルを用いて追試したところ、反応生成物が得られなかったので（合成実験結果）当業者が追試できない旨申立てている。しかしながら、取消理由通知に応じて特許権者から提出された意見書に添付された平成１２年１月２６日付け実験成績証明書の結果によれば、技術常識の範囲でエチルビニルエーテル化物が得られることが理解できる。
　更に当審から和光純薬工業株式会社に対して発した審尋書に対し、和光純薬工業株式会社は、回答書中で再度浦野文良による平成１２年５月２６日付け実験成績証明書を提出し、特許権者が先の実験成績証明書で、ｎ−ブチルビニルエーテル（約０．０５モル）、エチルビニルエーテルを使用して、エーテル化物を得たとしたことに対して、ｎ−ブチルビニルエーテル（０．０４２モル）使用しても、エーテル化物を得られなかったとして、当業者が容易に実施することができないものである旨主張している。
　しかしながら、浦野文良による平成１２年５月２６日付けの再度の実験成績証明書では、ｎ−ブチルビニルエーテルの使用量が特許権者が実施したものと異なり、特許権者が実施したとおりの追試ではなく、また貧溶媒を選択する程度のことも当業者が通常行い得る範囲内のことであるから、特定の条件下で形成されなかったからといって、すべての条件でエーテル化物が生成できないとする合理的な根拠はなく、当業者が容易に実施することができないとも考えられない。
　したがって、本件特許明細書には、記載不備はなく、本件特許が特許法第３６条第３項および第４項の要件を満たしていない出願になされたものとすることはできない。
　
IV．むすび
  以上のとおりであるから、特許異議の申立ての理由によっては本件請求項１〜３に係る発明の特許を取り消すことはできない。
 また、他に本件請求項１〜３に係る発明の特許を取り消すべき理由を発見しない。
　したがって、本件請求項１〜３に係る発明の特許を拒絶の査定をしなければならない特許出願に対してされたものと認めない。
　よって、特許法等の一部を改正する法律（平成６年法律第１１６号）附則第１４条の規定に基づく、特許法の一部を改正する法律の施行に伴う経過措置を定める政令（平成７年政令第２０５号）第４条第２項の規定により、結論のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１３年９月３日（２００１．９．３）
【訂正の要旨】
訂正の要旨［特許第２８１８４０６号］
特許第２８１８４０６号発明の明細書を、下記のとおり訂正する。
１．訂正事項ａ
　特許請求の範囲の請求項１〜６を、特許請求の範囲の減縮を目的として、
「【請求項１】　フェノール性ヒドロキシル基含有ポリマーが、ポリ−（ｐ−ヒドロキシスチレン）、ポリ−（ｐ−ヒドロキシ−α−メチルスチレン）、或はｐ−ヒドロキシスチレン／ｐ−ヒドロキシ−α−メチルスチレン共重合体であり、かつ該フェノール性ヒドロキシル基含有ポリマーのヒドロキシル基とジヒドロピラン或はアルキルビニルエーテルとの反応生成物、或いは該フェノール性ヒドロキシル基含有ポリマーの構成モノマーとしてのフェノール性ヒドロキシル基含有モノマー化合物のヒドロキシル基とジヒドロピラン或いはアルキルビニルエーテルとの反応生成物の重合或は重縮合により得られる重合体或は重縮合物からなることを特徴とするポジチブ及びネガチブ処理感放射線混合物用ポリマー結合剤。
　【請求項２】　前記ポリマー中に当初から存在するフェノール性ヒドロキシル基の１０乃至１００％とジヒドロピラン或はアルキルビニルエーテルとの反応生成物からなることを特徴とする請求項１記載のポリマー結合剤。
　【請求項３】　請求項１のポリマー結合剤を含む感放射線混合物を２４８ｎｍ（ＫｒＦ）のエキシマレーザ光にて露光することを特徴とする感放射線混合物の画像形成方法。」と訂正する。
２．訂正事項ｂ．
　明細書段落【０００５】を、明りょうでない記載の釈明を目的として、「本発明の対象は、フェノール性ヒドロキシル基含有ポリマーが、ポリ−（ｐ−ヒドロキシスチレン）、ポリ−（ｐ−ヒドロキシ−α−メチルスチレン）、或はｐ−ヒドロキシスチレン／ｐ−ヒドロキシ−α−メチルスチレン共重合体であり、かつ該フェノール性ヒドロキシル基含有ポリマーのヒドロキシル基とジヒドロピラン或はアルキルビニルエーテルとの反応生成物、或いは該フェノール性ヒドロキシル基含有ポリマーの構成モノマーとしてのフェノール性ヒドロキシル基含有モノマ化合物のヒドロキシル基とジヒドロピラン或いはアルキルビニルエーテルとの反応生成物の重合或は重縮合により得られる重合体或は重縮合物からなることを特徴とするポリマー結合剤及びポリマー結合剤を含む感放射線混合物を短波長紫外にて露光することを特徴とする画像形成方法である。」と訂正する。
３．訂正事項ｃ．
　明細書段落【０００６】を、明りょうでない記載の釈明を目的として、
「本発明のポリマー結合剤中において、ポリマー中に当初から存在するフェノール性ヒドロキシル基の１０乃至１００％をジヒドロピラン或はアルキルビニルエーテルと反応させることが好ましく、このポリマー結合剤としてポリ−（ｐ−ヒドロキシスチレン）、ポリ−（ｐ−ヒドロキシ−α−メチルスチレン）、或はｐ−ヒドロキシスチレン／ｐ−ヒドロキシ−α−メチルスチレンの共重合体と、ジヒドロピラン或はアルキルビニルエーテルとの反応生成物を使用するのが好ましい。」と訂正する。
４．訂正事項ｄ．
　明細書段落【００１１】を、明りょうでない記載の釈明を目的として、
「本発明のポリマー結合剤を製造するための出発材料としては、ポリ−（ｐ−ヒドロキシスチレン）、ポリ−（ｐ−ヒドロキシ−α−メチルスチレン）或はｐ−ヒドロキシスチレン／ｐ−ヒドロキシ−α−メチルスチレン共重合体が挙げられる。これらは全体的或は部分的にジヒドロピラン或はアルキルビニルエーテルと反応せしめられ、例えばジヒドロピランとの反応生成物の場合には、一般式（ＩＩ）」と訂正する。
５．訂正事項ｅ．
　明細書段落【００１３】を、明りょうでない記載の釈明を目的として、
「以下の、段落【００１４】含む、出発材料としてのノボラックの記載にかかわらず、本発明の出発材料としてのフェノール性ヒドロキシル基含有ポリマーは、ノボラックを含まない。参考例としてのノボラック（出発材料）としては、例えば「ソリッド、ステイト、テクノロジー」１９８４年６月号１１５−１２０頁におけるＴ．パンパローン（Ｐａｍｐａｌｏｎｅ）の論稿「ノボラック、レジンス、ユーズド、イン、ポジチブ、レジスト、システムズ」に記載されているものが使用される。特殊な用途、例えば短波長紫外線露光用には、ｐ−クレゾール及びホルムアルデヒドからのノボラックが好ましい。」と訂正する。
６．訂正事項ｆ．
　明細書段落【００２９】を、明りょうでない記載の釈明を目的として、
「本発明のポリマー結合剤を含む感放射線混合物は、Ｘ線、電子ビーム、紫外線に対して感応する。長波長紫外線から可視光線波長域まで感応するように、場合により微量の増感剤、例えばピレン、ペリレンを添加することができる。特殊な波長範囲、例えば短波長紫外線帯域（＜３００ｎｍ）における露光のため、それぞれの露光波長における高い透明度が要求される。水銀灯を主体とする慣用の露光装置においては２５４ｎｍラインが使用され、また２４８ｎｍ（ＫｒＦ）のエキシマレーザ光が使用される。したがって、感放射線記録材料はこの波長帯域においてなるべく低い光学密度を持たねばならない。このような用途のためにはノボラックを主体とするポリマー結合剤は、本発明のヒドロキシスチレンを主体とするポリマー結合剤がこの特殊な用途のために使用される場合に比し不適当である。」と訂正する。
（５４）【発明の名称】
ポジチブ及びネガチブ処理感放射線混合物用ポリマー結合剤及びその結合剤を含む混合物の画像形成方法
（５７）【特許請求の範囲】
　【請求項１】　フェノール性ヒドロキシル基含有ポリマー
が、ポリ−（ｐ−ヒドロキシスチレン）、ポリ−（ｐ−ヒドロキシ−α−メチルスチレン）、或はｐ−ヒドロキシスチレン／ｐ−ヒドロキシ−α−メチルスチレン共重合体であり、かつ該フェノール性ヒドロキシル基含有ポリマー
該フェノール性ヒドロキシル基含有ポリマーの構成モノマーとしての
　【請求項２】　前記ポリマー中に当初から存在するフェノール性ヒドロキシル基の１０乃至１００％とジヒドロピラン或はアルキルビニルエーテルとの反応生成物からなることを特徴とする請求項１記載のポリマー結合剤。
　【請求項
３
１
【発明の詳細な説明】
　【０００１】
　【発明の属する技術分野】
　本発明はポリマー結合剤及びその結合剤を含む混合物の画像形成方法に関し、特に放射線の作用下で強酸を形成する有機化合物との混合使用で、ポジチブ及びネガチブ処理可能な感放射線混合物を形成するポリマー結合剤及びその結合剤を含む混合物を短波長紫外にて露光する混合物の画像形成方法に関する。本発明のポリマー結合剤を用いた上記混合物は、紫外線、電子線、及びＸ線に対して感応し、ことにレジスト材料として好適である。
　【０００２】
　【従来の技術】
　ポジチブ処理感放射線混合物に使用されている結合剤として、アルカリ水溶液に可溶性の結合剤、例えばノボラック或はポリ−（ｐ−ビニルフェノール）が知られている。しかしながら、このような結合剤をｏ−キノンジアジドと共に使用したポジチブ処理感放射線混合物は、ことに短波長放射線に対する感度が部分的に不十分である。
　【０００３】
　【発明が解決しようとする課題】
　本発明の目的乃至課題は、放射線の作用で強酸を形成する有機化合物との混合使用で、アルカリ水溶液で現像され、しかもポジチブ処理もネガチブ処理も可能なレリーフパターン作製用の高活性感放射線組成物に好適なポリマー結合剤及び良好な画像が得られる、ポリマー結合剤を含む感放射線混合物を短波長紫外にて露光する画像形成方法を提供することである。
　【０００４】
　【課題を解決するための手段】
　本発明のポリマー結合剤からは、何らの追加的処理工程を必要とすることなくポジチブ処理もネガチブ処理も可能な、高感度のアルカリ現像しうる感放射線混合物が調製されうることが見出された。
　【０００５】
　本発明の対象は、フェノール性ヒドロキシル基含有ポリマー
が、ポリ−（ｐ−ヒドロキシスチレン）、ポリ−（ｐ−ヒドロキシ−α−メチルスチレン）、或はｐ−ヒドロキシスチレン／ｐ−ヒドロキシ−α−メチルスチレン共重合体であり、かつ該フェノール性ヒドロキシル基含有ポリマー
該フェノール性ヒドロキシル基含有ポリマーの構成モノマーとしての
　【０００６】
　本発明のポリマー結合剤中において、ポリマー中に当初から存在するフェノール性ヒドロキシル基の１０乃至１００％をジヒドロピラン或はアルキルビニルエーテルと反応させることが好ましく、このポリマー結合剤とし
てポ
　【０００７】
　本発明のポリマー結合剤と好適に共使用し、感放射線組成物を調製しうる有機化合物の一例として一般式（Ｉ）：
　【０００８】
　【化１】
［式中、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は互いに同じであっても異なっていてもよく、それぞれ場合によりヘテロ原子を含有する脂肪族及び／或は芳香族基を意味し、或はＲ１乃至Ｒ３の２個が互いに結合して環を形成するが、Ｒ１乃至Ｒ３の少なくとも１個は少なくとも１個の、酸により分裂可能の基を有し、Ｒ１乃至Ｒ３の１個は１個或は複数個のさらに他のスルホニウム塩基と、場合により酸により分裂可能の基を介して、結合されることができ、Ｘ−は非求核性反対イオンを意味する］のスルホニウム塩を使用することが好ましい。
　【０００９】
　本発明のポリマー結合剤を用いた感放射線混合物を露光後、６０乃至９０℃の温度に加熱し、次いでアルカリ現像剤で現像することにより、ポジチブレジストパターンが得られる。又上記と同様にして、但し露光後に１２０乃至２００℃の温度に加熱することによりネガチブレジストパターンが得られる。
　【００１０】
　本発明のポリマー結合剤を用いて調製された感放射線混合物の各組成分を以下に逐一説明する。
　【００１１】
　本発明のポリマー結合剤を製造するための出発材料としては
、ポ
　【００１２】
　【化２】
［式中、Ｒは水素或は炭素原子１乃至３個を有するアルキルを意味する］の基が導入される。
　【００１３】
　
以下の、段落００１４】を含む、出発材料としてのノボラックの記載にかかわらず、本発明の出発材料としてのフェノール性ヒドロキシル基含有ポリマーは、ノボラックを含まない。参考例としての
　【００１４】
　次いでノボラックは、例えばエチルアセタート中において、触媒的量の塩酸の存在下に、ジヒドロピラン或はアルキルビニルエーテルと反応せしめられ、フェノール性ＯＨ基が全部或は部分的に代替される。
　【００１５】
　ヒドロキシスチレンを主体とするフェノール樹脂は、慣用の方法により種々の不飽和モノマーをラジカル共重合或はイオン共重合して製造される。共重合せしめられるべき不飽和コモノマーは、置換或は非置換ヒドロキシスチレン、例えばｐ−ヒドロキシスチレン、ｍ−ヒドロキシスチレン、ｐ−（テトラヒドロピラニル−オキシ）−スチレン及びｐ−ヒドロキシ−α−メチルスチレンが好ましい。
　【００１６】
　ヒドロキシスチレンを主体とするこれらのポリマーは、重合類似反応により、例えばポリ−（ｐ−ヒドロキシスチレン）をそれぞれ化学量論的量の或はこの理論量より少ない量の、例えばジヒドロピラン或はアルキルビニルエーテルと反応せしめられる。
　【００１７】
　アルキルビニルエーテルとしては、１乃至８個の、好ましくは２乃至６個、ことに２乃至４個の炭素原子をアルキル基中に有する、直鎖、分岐或は環式のものが挙げられる。ことに好ましいのはフェノール性ヒドロキシ基を有する縮合物或は重合体をジヒドロピランとにより変換したものである。
　【００１８】
　本発明の結合剤におけるフェノール性ヒドロキシル基の１０乃至１００％、ことに１５乃至３０％が、アルキルビニルエーテル或はジヒドロピランでエーテル化されるのが好ましい。
　【００１９】
　共重合体（ポリマー結合剤）の組成はＨ−ＮＭＲスペクトロスコープにより測定される。
　【００２０】
　本発明の結合剤から調製される感放射線混合物中には、ポリマー結合剤が７０乃至９８％、ことに８０乃至９５％含有され得る。
　【００２１】
　感放射線混合物を調製するために、本発明の結合剤と混合される好ましい有機化合物は、少なくとも１個のスルホニウム塩基と、少なくとも１個のｔ−ブチルカルボナート基或は少なくとも１個のシリルエーテル基とを含有するものが好ましい。しかしながら、放射線照射により強酸を形成し、同一分子内に酸により分裂可能の基を含有するものであれば上記以外の化合物も使用されうる。
　【００２２】
　好ましいこのような有機化合物は一般式（Ｉ）：
　【００２３】
　【化３】
で表されるものである。
　【００２４】
　Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は互いに同じであっても異なっていてもよく、それぞれ場合によりヘテロ原子を有する脂肪族及び／或は芳香族基を意味し、或はＲ１乃至Ｒ３のうちの２個が結合して環を形成するが、Ｒ１乃至Ｒ３の少なくとも１個は少なくとも１個の酸により分裂可能の基を含有し、Ｒ１乃至Ｒ３の１個は１個或は複数個の他のスルホニウム塩基と、場合により酸により分裂可能の基を介して、結合されることができ、Ｘ−は非求核性反対イオンを意味する。具体的には例えば反対イオンとしてヘキサフルオロアルセナート、ヘキサフルオロアンチモナート、ヘキサフルオロホスファート及び／或はヘキサフルオロカルボナートを有するジメチル−４−ｔ−ブトキシカルボニルオキシフェニル−スルホニウム塩、上記反対イオンを有するフェニル−ビス−（４−ｔ−ブトキシカルボニルオキシフェニル）−スルホニウム塩、上記反対イオンを有するトリス−（４−ｔ−ブトキシカルボニルオキシフェニル）−スルホニウム塩、上記反対イオンを有する４−ヒドロキシフェニル−ビス−（４−ｔ−ブトキシカルボニルオキシフェニル）−スルホニウム塩或は上記反対イオンを有する１−ナフチル−４−トリメチルシリルオキシテトラメチレン−スルホニウム塩である。
　【００２５】
　ことに好ましい有機化合物は一般式（ＩＩＩ）：
　【００２６】
　【化４】
で表されるものである。Ｒは水素、ｔ−ブトキシカルボニル及び／或はトリアルキルシリルを意味するが、Ｒのうち少なくとも１個は水素であってはならない。
　【００２７】
　上記スルホニウム塩の製造法は、例えば西独特許出願公開３７２１７４１号及び３７２１７４０号公報に記載されている。
　【００２８】
　本発明の結合剤含有感放射線混合物中、結合剤及び有機化合物の合計量に対し、この有機化合物は好ましくは２乃至３０重量％、ことに５乃至２０重量％含有される。
　【００２９】
　本発明のポリマー結合剤を含む感放射線混合物は、Ｘ線、電子ビーム、紫外線に対して感応する。長波長紫外線から可視光線波長域まで感応するように、場合により微量の増感剤、例えばピレン、ペリレンを添加することができる。特殊な波長範囲、例えば短波長紫外線帯域（＜３００ｎｍ）における露光のため、それぞれの露光波長における高い透明度が要求される。水銀灯を主体とする慣用の露光装置においては２５４ｎｍラインが使用され、また２４８ｎｍ（ＫｒＦ）のエキシマレーザ光が使用される。したがって、感放射線記録材料はこの波長帯域においてなるべく低い光学密度を持たねばならない。このような用途のためにはノボラックを主体とす
るポ
本発明の
　【００３０】
　本発明のポリマー結合剤を含む感放射線混合物からポジチブレリーフパターンの作製において、感放射線混合物からなる感放射線記録層は、６０乃至９０℃の温度に加熱することにより露光領域の水性アルカリ溶媒に対する溶解性が増大せしめられ、この露光領域が水性アルカリ現像剤により選択的に洗除されうる程度に画像形成露光される。
　【００３１】
　ネガチブレリーフパターン作製においては、感放射線記録層は、１２０乃至２００℃の温度に加熱することにより露光領域の水性アルカリ現像剤に対して最早溶解しなくなる程度に画像形成露光される。非露光領域はこの処理により逆に水性アルカリ現像剤により完全に洗除される。
　【００３２】
　フェノール系モノマー組成分の１０乃至１００％がアルキルビニルエーテル或はジヒドロピランと反応せしめられたポリマー結合剤、例えばポリ−ｐ−ヒドロキシスチレンと、ポリマー結合剤と放射線の作用で強酸を形成する有機化合物の合計量に対して５乃至２０重量％、ことに５乃至１５重量％の有機化合物とを、適当な不活性溶媒、例えばメチルグリコールアセタート或はメチル−プロピレングリコール−アセタートに溶解させ、固体分含有量を１０乃至３０重量％となるようにする。
　【００３３】
　この溶液を０．２μｍ網目のフィルターで濾過する。このレジスト溶液を１０００乃至１００００ｒｐｍの回転数でウエハ（例えば表面を酸化させた珪素ウエハ）上に遠心力塗布して、レジストフィルム（厚さ約１μｍ）を形成する。このウエハを９０乃至８０℃で１乃至５分間加熱する。形成層をクロム被覆石英マスクを介して水銀灯紫外線、エキシマレーザー光、電子ビーム或はＸ線により露光処理する。露光層を６０乃至８０℃で５秒乃至２分間、或は１２０乃至２００℃で１０秒乃至２分間加熱する。このように熱処理された層をアルカリ現像剤で現像処理し、６０乃至８０℃の低温熱処理をした場合には露光領域が選択的に溶解洗除され、１２０℃以上の高温熱処理した場合には非露光領域が選択的に溶解洗除される。
　【００３４】
　現像剤としては市販の、例えばナトリウムヒドロキシド、珪酸ナトリウム、珪酸カリウム或はテトラアルキルアンモニウムヒドロキシドを主体とする市販のものが使用される。
　【００３５】
　本発明のポリマー結合剤を含む感放射線混合物は、ことに高感度、良好な解像度、処理の容易性を示し、従って短波長紫外線によるリトグラフィーに特に適する。
　【００３６】
　以下の実施例における部及びパーセントは明示されない限りすべて重量部及び重量％である。
　【００３７】
　【実施例】
　ポリマー結合剤の合成
　分子量Ｍｗ（光散乱）６２０００ｇ／モルのポリ−（ｐ−ヒドロキシスチレン）２部をエチルアセタート２０部に溶解させる。これにジヒドロピラン１０部及び濃塩酸０．５部を添加する。この混合物を室温において６２時間反応させ、次いでリグロイン中に沈殿させる。生成ポリマーを希釈炭酸水素ナトリウムで洗浄し、５０℃減圧下に乾燥する。そのＩＲスペクトロープ及びＨ−ＮＭＲスペクトロープ分析により、フェノール性ＯＨが完全にエーテル化されており、ポリ−（ｐ−ヒドロキシスチレン）のテトラヒドロピラニルエーテルが形成されていることが認められる。
　【００３８】
　同様にしてそれぞれ理論量のジヒドロピランを添加して、部分的にエーテル化されたフェノール基を有するポリマーが製造される。
　【００３９】
　また、ジヒドロピランの代わりに、それと同じ当量のアルキルビニルエーテルを添加して、エーテル化されたフェノール基を有するポリマーが製造される。
　【００４０】
　ポリマー結合剤の用途例１
　レジスト溶液の調製
　１０部のトリス−（４−ｔ−ブトキシカルボニルオキシフェニル）−スルホニウムヘキサフルオロアルセナート、９０部の、ｐ−ヒドロキシスチレン／ｐ−２−テトラヒドロピラニル−オキシスチレン（７５：２５）共重合体（分子量Ｍｎ＝２２０００ｇ／モル（ＧＰＣ））及び４００部のメチルプロピレングリコールアセタートからフォトレジスト溶液を調製する。この溶液を０．２μｍ網目のフィルターで濾過する。
　【００４１】
　リトグラフィー試験
（ａ）ポジチブ法
　レジスト溶液を７９００ｒｐｍの回転数でＳｉＯ２被覆珪素ウエハ上に遠心力塗布し、１．０７μｍ厚さの層を形成する。このウエハを９０℃で１分間乾燥し、次いでテストマスクを通して波長２４８ｎｍのエキシマレーザー光で１５秒間コンタクト法で画像形成露光に付し、次いで７０℃で６０秒間熱処理し、アルカリ現像剤（ｐＨ値１２．３）で６０秒間現像処理する。露光領域は完全に洗除され、マスクに忠実なポジチブ画像を有するレジストパターンが得られる。感度は１００ｍＪ／ｃｍ２である。
（ｂ）ネガチブ法
　上記（ａ）のようにしてレジスト溶液を遠心力塗布し（層厚さ１．００５μｍ）、９０℃で１分間加熱する。次いでテストマスクを介して、波長２４８ｎｍのエキシマレーザー光で２０秒間画像形成露光し、次いで１２０℃で１分間熱処理する。アルカリ性現像剤（ｐＨ１２．３）により９０秒間現像すると、非露光領域は完全に洗除されるが、露光領域は約１μｍの厚さの層が残存する。感度は７０ｍＪ／ｃｍ２で、マスクのネガチブパターンが形成される。
　【００４２】
　ポリマー結合剤の用途例２
　１０部のトリス−（４−ｔ−ブトキシカルボニルオキシフェニル）−スルホニウムヘキサフルオロホスファート、９０部の、ｐ−ヒドロキシスチレン／ｐ−２−テトラヒドロピラニル−オキシスチレン（９０：１０）共重合体（分子量Ｍｎ＝１６５００ｇ／モル（ＧＰＣ））及び４００部のメチルプロピレングリコールアセタートからフォトレジスト溶液を調製する。次いでこの溶液を０．２μｍ網目のフィルターで濾過する。
　【００４３】
　このレジスト溶液を９８２０ｒｐｍの回転数でＳｉＯ２被覆珪素ウエハ上に遠心力塗布して０．９９μｍ厚さの層を形成する。このウエハを９０℃で１分間乾燥し、次いでテストマスクを介してして波長２４８ｎｍのエキシマレーザー光で１５秒間画像形成露光し、次いで８０℃で６０秒間熱処理する。ｐＨ値１２．３の現像液で６０秒間現像処理すると、露光領域は完全に洗除され、マスクのポジチブ再生画像を有するレリーフパターンが得られる。感度は２５０ｍＪ／ｃｍ２である。
　【００４４】
　上記混合物を１２０℃で熱処理すると相当するネガチブパターンが得られる。感度は１００ｍＪ／ｃｍ２である。