(57)【要約】  本発明の課題は、過酷条件下においても優れた耐食性を発揮するとともに接着対象との間で優れた接着強度を保持するＲ−Ｆｅ−Ｂ系焼結磁石およびその製造方法を提供することである。その解決手段としての本発明の耐食性磁石は、Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系焼結磁石の表面に、Ａｌまたはその合金からなる被膜を介して、構成元素としてＺｒ、Ｖ、Ａｌ、フッ素、酸素を少なくとも含有する化成被膜（但しリンは含有しない）を有することを特徴とする。
2010013774.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系焼結磁石の表面に、Ａｌまたはその合金からなる被膜を介して、構成元素としてＺｒ、Ｖ、Ａｌ、フッ素、酸素を少なくとも含有する化成被膜（但しリンは含有しない）を有することを特徴とする耐食性磁石。
【請求項２】
化成被膜の膜厚が０．００１μｍ〜１μｍであることを特徴とする請求項１記載の耐食性磁石。
【請求項３】
化成被膜の厚みの外表面側半分の領域と磁石側半分の領域におけるＺｒ含量を比較すると後者よりも前者の方が多いことを特徴とする請求項１記載の耐食性磁石。
【請求項４】
化成被膜の厚みの外表面側半分の領域と磁石側半分の領域におけるＶ含量を比較すると後者よりも前者の方が多いことを特徴とする請求項１記載の耐食性磁石。
【請求項５】
化成被膜の厚みの外表面側１／３の領域と中央部１／３の領域と磁石側１／３の領域におけるフッ素含量を比較すると中央部１／３の領域が最も多いことを特徴とする請求項１記載の耐食性磁石。
【請求項６】
化成被膜中のＶが少なくとも３価〜５価の３種類の価数状態で存在し、５価の割合が６０％以上であることを特徴とする請求項１記載の耐食性磁石。
【請求項７】
Ａｌまたはその合金からなる被膜が蒸着被膜であって、磁石体表面から外表面に向かって幅広に成長した柱状結晶組織からなり、被膜の厚み方向の磁石体表面から１／３までの領域において、幅０．０１μｍ〜１μｍの結晶間空隙を被膜の横方向１０μｍあたり５個〜３０個存在する部分を有することを特徴とする請求項１記載の耐食性磁石。
【請求項８】
柱状結晶組織の結晶幅が、被膜の厚み方向の磁石体表面から１／３までの領域において０．１μｍ〜１μｍであり、残りの２／３の領域において１μｍ〜５μｍである部分を有することを特徴とする請求項７記載の耐食性磁石。
【請求項９】
平均成膜速度を、所望する被膜の厚みの１／３の厚みに達するまでは０．１μｍ／分〜０．４μｍ／分とし、それ以降は０．２μｍ／分〜１μｍ／分とする（但し後者は前者よりも常に速いものとする）ことによって形成された蒸着被膜であることを特徴とする請求項７記載の耐食性磁石。
【請求項１０】
Ａｌまたはその合金からなる被膜の膜厚が３μｍ〜２０μｍであることを特徴とする請求項１記載の耐食性磁石。
【請求項１１】
Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系焼結磁石の表面に、平均成膜速度を、所望する被膜の厚みの１／３の厚みに達するまでは０．１μｍ／分〜０．４μｍ／分とし、それ以降は０．２μｍ／分〜１μｍ／分とする（但し後者は前者よりも常に速いものとする）ことによってＡｌまたはその合金からなる被膜を蒸着形成した後、その表面に、構成元素としてＺｒ、Ｖ、Ａｌ、フッ素、酸素を少なくとも含有する化成被膜（但しリンは含有しない）を形成することを特徴とする耐食性磁石の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、過酷条件下においても優れた耐食性を発揮するとともに接着対象との間で優れた接着強度を保持するＲ−Ｆｅ−Ｂ系焼結磁石およびその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
Ｎｄ−Ｆｅ−Ｂ系焼結磁石に代表されるＲ−Ｆｅ−Ｂ系焼結磁石は、高い磁気特性を有していることから、今日様々な分野で使用されている。しかしながら、Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系焼結磁石は反応性の高い希土類金属：Ｒを含むため、大気中で酸化腐食されやすく、何の表面処理をも行わずに使用した場合には、わずかな酸やアルカリや水分などの存在によって表面から腐食が進行して錆が発生し、それに伴って、磁石特性の劣化やばらつきを招く。さらに、錆が発生した磁石を磁気回路などの装置に組み込んだ場合、錆が飛散して周辺部品を汚染する恐れがある。【０００３】
Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系焼結磁石に対して耐食性を付与する方法は種々知られているが、その中に、磁石の表面に、Ａｌ被膜を介して、構成元素としてＴｉおよびＺｒから選ばれる少なくとも１種、リン、酸素およびフッ素を含有する化成被膜を形成する方法がある（特許文献１）。この方法は、磁石に対して優れた耐食性を付与することができる方法として当業者に認識されている。しかしながら、使用環境の温度変化が激しいことに加え、寒冷地域において道路に散布される凍結防止剤に含まれる塩素イオンに晒されたり、海岸付近で海水に晒されたりする可能性がある自動車用モータに組み込まれる磁石などは、家庭内で使用される磁石などに比較してより高い耐食性が要求される。従って、特許文献１に記載の方法よりもより優れた磁石に対する耐食性付与方法の開発が望まれている。さらに、磁石を接着剤を用いて部品組み込みを行う場合には、過酷条件下においても接着対象との間で優れた接着強度を保持することが望ましい。
【特許文献１】特開２０００−１５０２１６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
そこで本発明は、過酷条件下においても優れた耐食性を発揮するとともに接着対象との間で優れた接着強度を保持するＲ−Ｆｅ−Ｂ系焼結磁石およびその製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
上記の点に鑑みてなされた本発明の耐食性磁石は、請求項１記載の通り、Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系焼結磁石の表面に、Ａｌまたはその合金からなる被膜を介して、構成元素としてＺｒ、Ｖ、Ａｌ、フッ素、酸素を少なくとも含有する化成被膜（但しリンは含有しない）を有することを特徴とする。
また、請求項２記載の耐食性磁石は、請求項１記載の耐食性磁石において、化成被膜の膜厚が０．００１μｍ〜１μｍであることを特徴とする。
また、請求項３記載の耐食性磁石は、請求項１記載の耐食性磁石において、化成被膜の厚みの外表面側半分の領域と磁石側半分の領域におけるＺｒ含量を比較すると後者よりも前者の方が多いことを特徴とする。
また、請求項４記載の耐食性磁石は、請求項１記載の耐食性磁石において、化成被膜の厚みの外表面側半分の領域と磁石側半分の領域におけるＶ含量を比較すると後者よりも前者の方が多いことを特徴とする。
また、請求項５記載の耐食性磁石は、請求項１記載の耐食性磁石において、化成被膜の厚みの外表面側１／３の領域と中央部１／３の領域と磁石側１／３の領域におけるフッ素含量を比較すると中央部１／３の領域が最も多いことを特徴とする。
また、請求項６記載の耐食性磁石は、請求項１記載の耐食性磁石において、化成被膜中のＶが少なくとも３価〜５価の３種類の価数状態で存在し、５価の割合が６０％以上であることを特徴とする。
また、請求項７記載の耐食性磁石は、請求項１記載の耐食性磁石において、Ａｌまたはその合金からなる被膜が蒸着被膜であって、磁石体表面から外表面に向かって幅広に成長した柱状結晶組織からなり、被膜の厚み方向の磁石体表面から１／３までの領域において、幅０．０１μｍ〜１μｍの結晶間空隙を被膜の横方向１０μｍあたり５個〜３０個存在する部分を有することを特徴とする。
また、請求項８記載の耐食性磁石は、請求項７記載の耐食性磁石において、柱状結晶組織の結晶幅が、被膜の厚み方向の磁石体表面から１／３までの領域において０．１μｍ〜１μｍであり、残りの２／３の領域において１μｍ〜５μｍである部分を有することを特徴とする。
また、請求項９記載の耐食性磁石は、請求項７記載の耐食性磁石において、平均成膜速度を、所望する被膜の厚みの１／３の厚みに達するまでは０．１μｍ／分〜０．４μｍ／分とし、それ以降は０．２μｍ／分〜１μｍ／分とする（但し後者は前者よりも常に速いものとする）ことによって形成された蒸着被膜であることを特徴とする。
また、請求項１０記載の耐食性磁石は、請求項１記載の耐食性磁石において、Ａｌまたはその合金からなる被膜の膜厚が３μｍ〜２０μｍであることを特徴とする。
また、本発明の耐食性磁石の製造方法は、請求項１１記載の通り、Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系焼結磁石の表面に、平均成膜速度を、所望する被膜の厚みの１／３の厚みに達するまでは０．１μｍ／分〜０．４μｍ／分とし、それ以降は０．２μｍ／分〜１μｍ／分とする（但し後者は前者よりも常に速いものとする）ことによってＡｌまたはその合金からなる被膜を蒸着形成した後、その表面に、構成元素としてＺｒ、Ｖ、Ａｌ、フッ素、酸素を少なくとも含有する化成被膜（但しリンは含有しない）を形成することを特徴とする。
【発明の効果】
【０００６】
本発明によれば、過酷条件下においても優れた耐食性を発揮するとともに接着対象との間で優れた接着強度を保持するＲ−Ｆｅ−Ｂ系焼結磁石およびその製造方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００７】
【図１】Ａｌまたはその合金の蒸着被膜を有するＲ−Ｆｅ−Ｂ系焼結磁石を製造するのに適した蒸着被膜形成装置の一実施形態の真空処理室の内部の模式的正面図（一部透視図）である。
【図２】実施例１において磁石体試験片の表面に形成されたＡｌ蒸着被膜の断面写真である。
【図３】同、Ａｌ蒸着被膜の表面に形成された化成被膜のオージェ分光法による深さ方向分析の結果を示すチャートである。
【図４】同、化成被膜の外表面部分におけるＶの価数状態の分析結果を示すチャートである。
【図５】同、化成被膜のＡｌ蒸着被膜との界面部分におけるＶの価数状態の分析結果を示すチャートである。
【符号の説明】
【０００８】
１  真空処理室
２  ボート（蒸発部）
３  支持テーブル
４  ボート支持台
５  円筒形バレル
６  回転シャフト
７  支持部材
８  支持軸
９  蒸着材料のワイヤー
１０  繰り出しリール
１１  耐熱性の保護チューブ
１２  切り欠き窓
１３  繰り出しギア
３０  被処理物
【発明を実施するための最良の形態】
【０００９】
本発明の耐食性磁石は、Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系焼結磁石の表面に、Ａｌまたはその合金からなる被膜を介して、構成元素としてＺｒ、Ｖ、Ａｌ、フッ素、酸素を少なくとも含有する化成被膜（但しリンは含有しない）を有することを特徴とするものである。【００１０】
Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系焼結磁石の表面に形成されるＡｌまたはその合金からなる被膜は特段限定されるものではないが、当該被膜は蒸着被膜であって、磁石体表面から外表面に向かって幅広に成長した柱状結晶組織からなり、被膜の厚み方向の磁石体表面から１／３までの領域において、幅０．０１μｍ〜１μｍの結晶間空隙を被膜の横方向１０μｍあたり５個〜３０個存在する部分を有することが望ましい。Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系焼結磁石の表面に形成されるＡｌまたはその合金の蒸着被膜の少なくとも一部において、Ａｌまたはその合金の柱状結晶を磁石体表面から外表面に向かって幅広（末広がり）に成長させることで、換言すれば、被膜の下部（磁石体表面に近い側）のＡｌまたはその合金の柱状結晶を、被膜の上部（外表面に近い側）のＡｌまたはその合金の柱状結晶よりも幅狭な結晶とすることで、被膜の下部に結晶間空隙を多数存在させて当該領域を粗な組織構造とすることにより、磁石と被膜の間での例えば−４０℃〜１２０℃といったヒートサイクルテストによる熱履歴に対する挙動の相違に基づいて両者の界面に生じる歪みや応力を緩和乃至吸収でき、これによって、磁石と被膜の間の密着強度の劣化やそれに伴う界面破壊を阻止することができる。被膜の厚み方向の磁石体表面から１／３までの領域（被膜の磁石体表面から厚さ１／３までの領域）に存在する幅０．０１μｍ〜１μｍの結晶間空隙の個数が少なすぎる場合にはヒートサイクルテストによって磁石と被膜の界面に生じる歪みや応力を効果的に緩和乃至吸収できない恐れがある一方、多すぎる場合には被膜の磁石表面に対する密着強度に悪影響を及ぼす恐れがある。被膜の厚み方向の磁石体表面から１／３までの領域に存在する幅０．０１μｍ〜１μｍの結晶間空隙の個数は被膜の横方向１０μｍあたり１０個〜２５個が望ましい。幅１μｍを超える結晶間空隙は被膜の磁石に対する耐食性付与効果に悪影響を及ぼす恐れがあるので存在しないことが望ましい。
一方、被膜の上部におけるＡｌまたはその合金の柱状結晶を幅広な結晶とすることで、当該領域を密な組織構造とすることにより、外部からの酸やアルカリや水分などの浸入が阻止され、これによって、磁石に対して優れた耐食性付与効果を発揮することができる（この効果を高めるためには被膜の表面をピーニング処理することが望ましい）。被膜の厚み方向の磁石体表面から残りの２／３の領域に存在する幅０．０１μｍ〜１μｍの結晶間空隙の個数が、１／３までの領域に存在する幅０．０１μｍ〜１μｍの結晶間空隙の個数よりも少ないことを前提にして、被膜の横方向１０μｍあたり多くて１０個、望ましくは５個以下であることで、被膜は磁石に対して優れた耐食性付与効果を発揮する。
なお、幅０．０１μｍ〜１μｍの結晶間空隙の個数の測定は、Ａｌまたはその合金の蒸着被膜の任意の縦断面における任意の横方向の１０μｍの範囲に存在する個数を、電界放射型走査顕微鏡など用いた観察によってカウントすることにより行えばよい。例えば、被膜の厚み方向の磁石体表面から１／３までの領域に存在する個数は、その領域の厚み方向の中央部付近（すなわち磁石体表面から１／６付近）において測定すればよく、残りの２／３の領域に存在する個数は、その領域の厚み方向の中央部付近（すなわち磁石体表面から４／６付近）において測定すればよい。測定に際しては、イオンビーム断面加工などの被膜の断面が変形しないような加工方法により断面加工を予め行っておくことが望ましい。【００１１】
Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系焼結磁石の表面に形成されるＡｌまたはその合金の蒸着被膜の少なくとも一部の柱状結晶組織の結晶幅は、被膜の厚み方向の磁石体表面から１／３までの領域において０．１μｍ〜１μｍであり、残りの２／３の領域において１μｍ〜５μｍであることが、ヒートサイクルテストによって磁石と被膜の界面に生じる歪みや応力を効果的に緩和乃至吸収できる点において望ましい。【００１２】
以上のような特徴的な組織構造を有するＡｌまたはその合金の蒸着被膜は、例えば、平均成膜速度を、所望する被膜の厚みの１／３の厚みに達するまでは０．１μｍ／分〜０．４μｍ／分とし、それ以降は０．２μｍ／分〜１μｍ／分、望ましくは０．３μｍ／分〜０．６μｍ／分とする（但し後者は前者よりも常に速いものとする）ことにより、Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系焼結磁石の表面に形成することができる。このように平均成膜速度を成膜前期と成膜後期で個々に制御することで所望する成膜が行える理由は次の通りであると推測される。即ち、成膜直前のＲ−Ｆｅ−Ｂ系焼結磁石の表面は、事前の加工や洗浄工程を経ていることによってＲａが０．８μｍ〜１．５μｍ程度の凹凸を有している。また、Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系焼結磁石の表面の組織は、Ｒ２Ｆｅ１４Ｂ相の部分とＲ−ｒｉｃｈ相の部分からなるが、Ｒ２Ｆｅ１４Ｂ相の部分とＲ−ｒｉｃｈ相は、酸化されやすさに差異があり、Ｒ−ｒｉｃｈ相の方が酸化されやすい。Ａｌ蒸着被膜の形成過程では、磁石の表面にＡｌ粒子が次々と堆積することで、Ａｌ合金蒸着被膜の形成過程では、磁石の表面にＡｌ合金を構成するＡｌ粒子と他の金属粒子が次々と堆積することで、柱状結晶が成長していくが、磁石の表面は以上のように形状的にも組織的にも均一ではないため、平均成膜速度が遅い成膜前期では、Ａｌ粒子（および他の金属粒子）が安定に堆積する部分とそうでない部分が生じ、Ａｌ粒子（および他の金属粒子）は、凸部やＲ２Ｆｅ１４Ｂ相の部分の上に優先的に堆積するのに対し、凹部やＲ−ｒｉｃｈ相の部分の上には堆積しにくく、その結果、凸部やＲ２Ｆｅ１４Ｂ相の部分の上に成長するＡｌまたはその合金の柱状結晶は幅狭なものとなり、凹部やＲ−ｒｉｃｈ相の部分の上には適度な結晶間空隙が多くなる。一方、平均成膜速度が成膜前期よりも速い成膜後期では、既に成長した柱状結晶の上にＡｌ粒子（および他の金属粒子）が急速かつ多量に堆積するため、結晶は次第に幅広なものとなり、その分だけ結晶間空隙が少なくなる。よって、このようにして形成されるＡｌまたはその合金の蒸着被膜の組織構造は、下部では粗で上部では密なものとなる。【００１３】
上記のＲ−Ｆｅ−Ｂ系焼結磁石の表面へのＡｌまたはその合金の蒸着被膜の形成方法は、例えば、蒸着材料の蒸発部へのＡｌまたはその合金の蒸着源の供給がワイヤーフィード方式で行われ、蒸発部におけるＡｌまたはその合金の蒸着源の蒸発が抵抗加熱方式で行われる蒸着被膜形成装置、一例を挙げると、特開２００１−３３５９２１号公報に記載されている、真空処理室内に、蒸着材料の蒸発部と、その表面に蒸着材料が蒸着される被処理物を収容するためのメッシュで形成された筒型バレルを備えた蒸着被膜形成装置であって、水平方向の回転軸線を中心に回転自在とした支持部材の回転軸線の周方向の外方に筒型バレルが公転自在に支持されており、支持部材を回転させることによって、支持部材の回転軸線を中心に公転運動する筒型バレルと蒸発部の間の距離を可変自在としつつ、ワイヤー状蒸着材料を加熱した蒸発部に連続供給しながら蒸発させることで被処理物の表面に蒸着被膜を形成することができる蒸着被膜形成装置を用いることにより容易に実施することができる。【００１４】
図１は、特開２００１−３３５９２１号公報に記載されている上記の蒸着被膜形成装置の一実施形態の真空処理室の内部の模式的正面図（一部透視図）である。図略の真空排気系に連なる真空処理室１の内部の上方には、水平方向の回転軸線上の回転シャフト６を中心に回転自在とした支持部材７が２個併設されており、この支持部材７の回転シャフト６の周方向の外方に６個のステンレス製のメッシュ金網で形成された円筒形バレル５が支持軸８によって公転自在に環状に支持されている。また、真空処理室１の内部の下方には、蒸着材料を蒸発させる蒸発部であるボート２が、支持テーブル３上に立設されたボート支持台４上に複数個配置されている。支持テーブル３の下方内部には、蒸着材料のワイヤー９が繰り出しリール１０に巻回保持されている。蒸着材料のワイヤー９の先端はボート２の内面に向かって臨ませた耐熱性の保護チューブ１１によってボート２の上方に案内されている。保護チューブ１１の一部には切り欠き窓１２が設けられており、この切り欠き窓１２に対応して設けられた繰り出しギア１３が蒸着材料のワイヤー９に直接接触し、蒸着材料のワイヤー９を繰り出すことによってボート２内に蒸着材料が絶えず供給されるように構成され、蒸着材料のワイヤー９の繰り出し速度を調節することで蒸着被膜の成膜速度を自在に制御することができる。また、回転シャフト６を中心に支持部材７を回転させると（図１矢印参照）、支持部材７の回転シャフト６の周方向の外方に支持軸８によって支持されている円筒形バレル５は、これに対応して、回転シャフト６を中心に公転運動する。その結果、個々の円筒形バレルと支持部材の下方に配置された蒸発部との間の距離が変動することになり、以下の効果が発揮される。即ち、支持部材７の下部に位置した円筒形バレルは蒸発部に接近している。従って、この円筒形バレルに収容された被処理物３０に対しては、その表面に蒸着被膜が効率よく形成される。一方、蒸発部から遠ざかった円筒形バレルに収容された被処理物は、蒸発部から遠ざかった分だけ加熱状態から開放されて冷却される。従って、この間、その表面に形成された蒸着被膜の軟化が抑制される。このように、この蒸着被膜形成装置を用いれば、蒸着被膜の効率的形成と形成された蒸着被膜の軟化抑制を同時に達成することが可能となる。【００１５】
Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系焼結磁石の表面に形成されるＡｌまたはその合金の蒸着被膜の膜厚は、３μｍ〜２０μｍであることが望ましい。膜厚が３μｍ未満であると磁石に対する優れた耐食性付与効果などが得られない恐れがある一方、膜厚が２０μｍを超えると成膜に要する時間が長くなることで被膜の下部に形成された幅狭なＡｌまたはその合金の柱状結晶が横方向に成長してしまい、その結果として被膜の下部の結晶間空隙が減少して粗な組織構造が破壊される恐れがあるからである。【００１６】
なお、Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系焼結磁石の表面に形成される蒸着被膜がＡｌ合金蒸着被膜である場合、Ａｌ以外の金属成分の含有量は１０ｍａｓｓ％以下であることが望ましい。例えば、Ａｌ以外の金属成分としてＭｇを３ｍａｓｓ％〜７ｍａｓｓ％含有するＡｌ合金蒸着被膜は、耐塩水性に優れるといった点において望ましい。Ａｌまたはその合金の蒸着被膜には、混入回避不可避な微量成分が含まれていてもよい。【００１７】
Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系焼結磁石の表面に形成されたＡｌまたはその合金からなる被膜の表面に、構成元素としてＺｒ、Ｖ、Ａｌ、フッ素、酸素を少なくとも含有する化成被膜（但しリンは含有しない）を形成する方法としては、例えば、少なくともＺｒ、Ｖ、フッ素を含有する水溶液を処理液として、これをＡｌまたはその合金からなる被膜の表面に塗布した後、乾燥する方法が挙げられる。処理液の具体例としては、フルオロジルコニウム酸（Ｈ２ＺｒＦ６）、フルオロジルコニウム酸のアルカリ金属塩やアルカリ土類金属塩やアンモニウム塩などのようなＺｒおよびフッ素を含む化合物と、五酸化バナジウムや硫酸バナジウムなどのＶ化合物を水に溶解して調製されたもの（さらにフッ化水素酸などを添加してもよい）が挙げられる。処理液のＺｒ含量とＶ含量は、それぞれ、金属換算で１ｐｐｍ〜２０００ｐｐｍが望ましく、１０ｐｐｍ〜１０００ｐｐｍがより望ましい。含量が１ｐｐｍよりも少ないと化成被膜を形成できない恐れがあり、２０００ｐｐｍよりも多いとコストの上昇を招く恐れがあるからである。また、処理液のフッ素含量は、フッ素濃度で０．１ｐｐｍ〜１００００ｐｐｍが望ましく、１ｐｐｍ〜１００ｐｐｍがより望ましい。含量が０．１ｐｐｍよりも少ないとＡｌまたはその合金からなる被膜の表面が効率良くエッチングされない恐れがあり、１００００ｐｐｍよりも多いとエッチング速度が被膜形成速度よりも速くなり、均一な被膜形成が困難になる恐れがあるからである。処理液は、Ｚｒの硫酸塩や硝酸塩などのフッ素を含まないＺｒ化合物と、Ｖ化合物と、フッ化水素酸、フッ化アンモニウム、フッ化水素アンモニウム、フッ化ナトリウム、フッ化水素ナトリウムなどのＺｒを含まないフッ素化合物を水に溶解して調製されたものであってもよい。なお、処理液には、化成被膜の構成元素であるＡｌの供給源が含まれていてもよいし含まれていなくてもよい。Ａｌは、化成処理の過程で、Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系焼結磁石の表面に形成されたＡｌまたはその合金からなる被膜がエッチングされることで当該被膜から溶出し、化成被膜に取り込まれるからである。処理液のｐＨは１〜６に調整することが望ましく、３〜５に調整することがより望ましい。ｐＨが１未満であるとＡｌまたはその合金からなる被膜の表面が過剰にエッチングされる恐れがあり、６を越えると処理液の安定性に影響を及ぼす恐れがあるからである。なお、Ａｌまたはその合金からなる被膜が蒸着被膜の場合、表面に自然発生的に形成される酸化膜は比較的薄いので、酸化膜が形成された後も被膜の表面活性は依然として高い。従って、ｐＨが３〜５程度の処理液であっても化成反応が効率よく起こるので、化成処理に先立って被膜に対して酸やアルカリを用いたエッチング処理やアルコール脱脂などを行う必要はない。【００１８】
処理液には上記の成分以外にも、化成反応性の向上、処理液の安定性の向上、化成被膜のＲ−Ｆｅ−Ｂ系焼結磁石の表面に形成されたＡｌまたはその合金からなる被膜の表面への密着性の向上、磁石を部品に組み込む際に使用される接着剤との接着性の向上などを目的として、タンニン酸などの有機酸、酸化剤（過酸化水素、塩素酸およびその塩、亜硝酸およびその塩、硝酸およびその塩、タングステン酸およびその塩、モリブテン酸およびその塩など）、水溶性ポリアミド、ポリアリルアミンなどの水溶性樹脂などを添加してもよい。【００１９】
処理液はそれ自体が保存安定性に欠ける場合、要時調整されるものであってもよい。本発明において使用可能な市販の処理液としては、日本パーカライジング社が提供する、パルコート３７６２（商品名）が挙げられる。【００２０】
Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系焼結磁石の表面に形成されたＡｌまたはその合金からなる被膜への処理液の塗布方法としては、浸漬法、スプレー法、スピンコート法などを用いることができる。塗布の際、処理液の温度は２０℃〜８０℃とすることが望ましく、４０℃〜６０℃とすることがより望ましい。該温度が２０℃未満であると反応が進行しない恐れがあり、８０℃を越えると処理液の安定性に影響を及ぼす恐れがあるからである。処理時間は、通常、１０秒間〜３０分間である。【００２１】
Ａｌまたはその合金からなる被膜の表面に処理液を塗布した後、乾燥処理を行う。乾燥処理の温度は、５０℃未満であると十分に乾燥することができない結果、外観の悪化を招く恐れや、磁石を部品に組み込む際に使用される接着剤との接着性に影響を及ぼす恐れがあり、２５０℃を越えると形成された化成被膜の分解が起こる恐れがある。従って、該温度は、５０℃〜２５０℃が望ましいが、生産性や製造コストの観点からは５０℃〜２００℃がより望ましい。なお、通常、乾燥処理時間は５秒間〜１時間である。【００２２】
上記の方法によってＲ−Ｆｅ−Ｂ系焼結磁石の表面に形成されたＡｌまたはその合金からなる被膜の表面に形成される、構成元素としてＺｒ、Ｖ、Ａｌ、フッ素、酸素を少なくとも含有する化成被膜（但しリンは含有しない）は、Ａｌまたはその合金からなる被膜に強固に密着しているので、膜厚が０．００１μｍ以上であれば、Ａｌまたはその合金からなる被膜の耐食性と相俟って過酷条件下においても優れた耐食性を発揮する。化成被膜の膜厚の上限は限定されるものではないが、磁石自体の小型化に基づく要請や製造コストの観点から、１μｍ以下が望ましく、０．５μｍ以下がより望ましく、０．１μｍ以下がさらに望ましい。Ａｌまたはその合金からなる被膜の表面に形成されたこの化成被膜は、その厚みの外表面側半分の領域と磁石側半分の領域におけるＺｒ含量を比較すると後者よりも前者の方が多いという特徴を有する。従って、外表面側半分の領域にはＺｒを含む化合物が多く含まれている。Ｚｒを含む化合物としては、例えば耐食性に優れるＺｒ酸化物が考えられるが、Ｚｒ酸化物の存在がこの化成被膜の耐食性に寄与していると推察される。なお、外表面側半分の領域の厚み方向におけるＺｒ含量の最大値は１０原子％〜２０原子％である。また、この化成被膜は、その厚みの外表面側半分の領域と磁石側半分の領域におけるＶ含量を比較すると後者よりも前者の方が多いという特徴を有し、外表面側半分の領域の厚み方向におけるＶ含量の最大値は５原子％〜１５原子％である。さらに、その厚みの外表面側１／３の領域と中央部１／３の領域と磁石側１／３の領域におけるフッ素含量を比較すると中央部１／３の領域が最も多いという特徴を有し、中央部１／３の領域の厚み方向におけるフッ素含量の最大値は１０原子％〜２０原子％である。このような特徴的な被膜構成は、ｐＨを３〜５に調整した処理液を用いて化成処理を行うことによってより顕著なものとなる。これは、Ａｌまたはその合金からなる被膜の表面でのｐＨが３〜５における化成反応では、反応の初期から中期にかけてＡｌとフッ素を含む化合物の形成が活発であることから、化成被膜中のフッ素含量が次第に増加するが、その後、処理液からのＺｒを含む化合物やＶを含む化合物の析出が進行することで、化成被膜中のフッ素含量が減少する一方、Ｚｒ含量とＶ含量が増加することによるものと考えられる。このような特徴的な被膜構成により、化成被膜が持つ自己修復作用が強化され、それ自体が十分な耐食性を発揮すると推察されるが、特筆すべきは、化成被膜中のＶが少なくとも３価〜５価の３種類の価数状態で存在し、５価の割合が６０％以上であることであり（上限は８５％程度である）、５価のＶが価数を減少させる際にもたらされる自己修復作用が化成被膜の耐食性に寄与しているものと考えられる。また、化成被膜がその表面に有する微細な凹凸は、いわゆるアンカー効果を高め、これにより、過酷条件下においても接着対象との間での優れた接着強度をもたらす。【００２３】
なお、Ａｌまたはその合金からなる被膜の表面に化成被膜を形成する前工程として、ショットピーニング（硬質粒子を衝突させることによって表面を改質する方法）を行ってもよい。ショットピーニングを行うことによって、Ａｌまたはその合金からなる被膜の平滑化や緻密化を行い、薄膜でも優れた耐食性を有する化成被膜を形成しやすくすることができる。ショットピーニングに用いる粉末としては、形成したＡｌまたはその合金からなる被膜の硬度と同等以上の硬度のものが望ましく、たとえば、スチールボールやガラスビーズなどのようなモース硬度が３以上の球状硬質粉末が挙げられる。該粉末の平均粒度が３０μｍ未満であると被膜に対する押圧力が小さくて処理に時間を要する。一方、３０００μｍを越えると表面粗度が荒くなりすぎて仕上がり面が不均一となる恐れがある。従って、該粉末の平均粒径は、３０μｍ〜３０００μｍが望ましく、４０μｍ〜２０００μｍがより望ましい。ショットピーニングにおける噴射圧は、１．０ｋｇ／ｃｍ２（０．０９８ＭＰａ）〜５．０ｋｇ／ｃｍ２（０．４９ＭＰａ）が望ましい。噴射圧が１．０ｋｇ／ｃｍ２未満であると被膜に対する押圧力が小さくて処理に時間を要し、５．０ｋｇ／ｃｍ２を越えると被膜に対する押圧力が不均一になって表面粗度の悪化を招く恐れがあるからである。ショットピーニングにおける噴射時間は、１分間〜１時間が望ましい。噴射時間が１分未満であると全表面に対して均一な処理ができない恐れがあり、１時間を越えると表面粗度の悪化を招く恐れがあるからである。【００２４】
本発明において用いられるＲ−Ｆｅ−Ｂ系焼結磁石における希土類元素（Ｒ）は、Ｎｄ、Ｐｒ、Ｄｙ、Ｈｏ、Ｔｂ、Ｓｍのうち少なくとも１種を含んでいてもよく、さらに、Ｌａ、Ｃｅ、Ｇｄ、Ｅｒ、Ｅｕ、Ｔｍ、Ｙｂ、Ｌｕ、Ｙのうち少なくとも１種を含んでいてもよい。また、通常はＲのうち１種をもって足りるが、実用上は２種以上の混合物（ミッシュメタルやジジムなど）を入手上の便宜などの理由によって用いることもできる。Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系焼結磁石におけるＲの含量は、１０原子％未満であるとα−Ｆｅ相が析出するため、高磁気特性、特に高い保磁力（ｉＨｃ）が得られず、一方、３０原子％を越えるとＲリッチな非磁性相が多くなり、残留磁束密度（Ｂｒ）が低下して優れた特性の永久磁石が得られないので、Ｒの含量は組成の１０原子％〜３０原子％であることが望ましい。【００２５】
Ｆｅの含量は、６５原子％未満であるとＢｒが低下し、８０原子％を越えると高いｉＨｃが得られないので、６５原子％〜８０原子％の含有が望ましい。また、Ｆｅの一部をＣｏで置換することによって、得られる磁石の磁気特性を損なうことなしに温度特性を改善することができるが、Ｃｏ置換量がＦｅの２０原子％を越えると、磁気特性が劣化するので望ましくない。Ｃｏ置換量が５原子％〜１５原子％の場合、Ｂｒは置換しない場合に比較して増加するため、高磁束密度を得るのに望ましい。【００２６】
Ｂの含量は、２原子％未満であると菱面体構造が主相となり、高いｉＨｃは得られず、２８原子％を越えるとＢリッチな非磁性相が多くなり、Ｂｒが低下して優れた特性の永久磁石が得られないので、２原子％〜２８原子％の含有が望ましい。また、磁石の製造性の改善や低価格化のために、２．０ｗｔ％以下のＰ、２．０ｗｔ％以下のＳのうち、少なくとも１種、合計量で２．０ｗｔ％以下を含有していてもよい。さらに、Ｂの一部を３０ｗｔ％以下のＣで置換することによって、磁石の耐食性を改善することができる。【００２７】
さらに、Ａｌ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｂｉ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｍｏ、Ｗ、Ｓｂ、Ｇｅ、Ｓｎ、Ｚｒ、Ｎｉ、Ｓｉ、Ｚｎ、Ｈｆ、Ｇａのうち少なくとも１種の添加は、保磁力や減磁曲線の角型性の改善、製造性の改善、低価格化に効果がある。なお、その添加量は、最大エネルギー積（ＢＨ）ｍａｘを２０ＭＧＯｅ以上とするためには、Ｂｒが少なくとも９ｋＧ以上必要となるので、該条件を満たす範囲で添加することが望ましい。なお、Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系焼結磁石には、Ｒ、Ｆｅ、Ｂ以外に工業的生産上不可避な不純物を含有するものでも差し支えない。【００２８】
また、本発明において用いられるＲ−Ｆｅ−Ｂ系焼結磁石の中で、平均結晶粒径が１μｍ〜８０μｍの範囲にある正方晶系の結晶構造を有する化合物を主相とし、体積比で１％〜５０％の非磁性相（酸化物相を除く）を含むことを特徴とするものは、ｉＨｃ≧１ｋＯｅ、Ｂｒ＞４ｋＧ、（ＢＨ）ｍａｘ≧１０ＭＧＯｅを示し、（ＢＨ）ｍａｘの最大値は２５ＭＧＯｅ以上に達する。【００２９】
なお、本発明の化成被膜の表面に、更に別の耐食性被膜を積層形成してもよい。このような構成を採用することによって、本発明の化成被膜の特性を増強・補完したり、さらなる機能性を付与したりすることができる。
【実施例】
【００３０】
以下、本発明を実施例によって詳細に説明するが、本発明は以下の記載に限定して解釈されるものではない。なお、以下の実施例と比較例は、例えば、米国特許４７７０７２３号公報や米国特許４７９２３６８号公報に記載されているようにして、公知の鋳造インゴットを粗粉砕し、微粉砕後に成形、焼結、熱処理、表面加工を行うことによって得られたＮｄ１４Ｆｅ７９Ｂ６Ｃｏ１組成（ａｔ％）の縦５０ｍｍ×横２０ｍｍ×幅２ｍｍ寸法の焼結磁石（以下、磁石体試験片と称する）を用いて行った。【００３１】
実施例１：
工程１：磁石体試験片の表面へのＡｌ蒸着被膜の形成
図１に示した蒸着被膜形成装置を用いて以下のようにして行った。なお、真空処理室内に配置した１２個の円筒形バレルは、直径１１０ｍｍ×長さ６００ｍｍで、ステンレス製メッシュ金網（開口率：約８０％、目開きの形状：一辺が１０ｍｍの正方形、線幅：２ｍｍ）で作製されたものを用いた。
磁石体試験片に対し、サンドブラスト加工を行い、前工程の表面加工で生じた試験片の表面の酸化層を除去した。この酸化層が除去された磁石体試験片をそれぞれの円筒形バレル内に５０個ずつ収容し、真空槽内を全圧が５×１０−２Ｐａ以下になるまで真空排気した後、Ａｒガスを全圧が１Ｐａになるように導入し、その後、バレルの回転シャフトを５．０ｒｐｍで回転させながら、バイアス電圧−０．３ｋＶの条件下、１５分間グロー放電を行って磁石体試験片の表面を清浄化した。
続いて、Ａｒガス圧１Ｐａ、バイアス電圧−０．３ｋＶの条件下、バレルの回転シャフトを５．０ｒｐｍで回転させながら、Ａｌ蒸着被膜の成膜速度が０．２μｍ／分となるようにＡｌワイヤーの繰り出し速度を調節してＡｌワイヤーを蒸発部に連続供給し、これを加熱して蒸発させてイオン化し、イオンプレーティングを１５分間行い、引き続き、０．５μｍ／分の成膜速度でイオンプレーティングを１２分間行って磁石体試験片の表面に膜厚が９μｍのＡｌ蒸着被膜を形成した。このようにして磁石体試験片の表面に形成したＡｌ蒸着被膜に対し、モース硬度が６で平均粒度が１２０μｍのガラスビーズを用いたショットピーニングを１０分間行い（噴射圧：０．２ＭＰａ）、被膜の表面の平滑化と緻密化を行った。
以上のようにして得た表面にショットピーニングを行ったＡｌ蒸着被膜を有する磁石体試験片を、ヨーク材に接着剤を用いて接着し、ヒートサイクルテスト用の接着試験体を得た。なお、ヨーク材には表面をサンドブラスト加工した炭素鋼Ｓ４５Ｃを用い、接着剤には熱硬化型エポキシ接着剤ＸＮＲ３６２８（ナガセケムテックス社製）を用いた。接着剤の厚みは、ヨーク材と表面にＡｌ蒸着被膜を有する磁石体試験片の間に線径φ２００μｍのニクロム線を介在させることで規定した。
接着試験体に対するヒートサイクルテストは、気相型冷熱衝撃試験機ＮＴ５１０（楠本化成社製）を用いて１２０℃３０分〜−４０℃３０分を１サイクルとして行った。接着試験体の温度は、接着試験体に熱電対を挿入することにより確認した。ヒートサイクルテストを行う前と２００サイクルおよび４００サイクルを行った後の接着試験体の接着強度を比較することにより、磁石体試験片の表面に形成されたＡｌ蒸着被膜の性能評価を行った。この評価は、ヒートサイクルテストを行う前と２００サイクルおよび４００サイクルを行った後の接着試験体について、万能試験機ＡＧ−１０ＴＢ（島津製作所社製）を用いてクロスヘッド速度２ｍｍ／分にてせん断強度を測定し、ヒートサイクルテストを行う前に対する２００サイクルおよび４００サイクルを行った後のせん断強度低下率を接着強度低下率として評価することで行った。その結果、磁石体試験片の表面に形成するＡｌ蒸着被膜の成膜速度を成膜前期と成膜後期で個々に制御することで、接着強度低下率は、２００サイクルを行った後ではわずか６％に過ぎず、４００サイクルを行った後でも２０％に留まり、接着試験体は非常に良好な耐ヒートサイクル性を示した。また、せん断強度を測定した後の破断面の外観は、接着剤の凝集破壊に起因する様子を呈していたことから、磁石体試験片とＡｌ蒸着被膜の密着強度、および、Ａｌ蒸着被膜と接着剤の接着強度は、それぞれ非常に高いことがわかった。
また、表面にショットピーニングを行ったＡｌ蒸着被膜を有する磁石体試験片を、イオンビーム断面加工装置ＳＭ０９０１０（日本電子社製）にて断面加工した後、電界放射型走査電子顕微鏡Ｓ−４３００（日立製作所社製）にて加工断面を観察した。図２に磁石体試験片の表面に形成されたＡｌ蒸着被膜の断面写真を示す。図２から明らかなように、磁石体試験片の表面に形成されたＡｌ蒸着被膜の厚み方向の磁石体試験片表面から１／３までの領域には、結晶幅が０．１μｍ〜１μｍと幅狭なＡｌ柱状結晶が多数存在するとともに、幅０．０１μｍ〜１μｍの結晶間空隙を被膜の横方向１０μｍあたり１０個〜１５個存在する部分が多い一方、残りの２／３の領域を構成するＡｌ柱状結晶の結晶幅は１μｍ〜５μｍと幅広であり、幅０．０１μｍ〜１μｍの結晶間空隙は全く存在しないか、存在しても被膜の横方向１０μｍあたり多くて５個程度の部分が多いことがわかった。このことから、この実施例で得た表面にＡｌ蒸着被膜を有する磁石体試験片が、上記の通り、ヒートサイクルテストを行った後でもヨーク材との間で優れた接着強度を保持し、また、優れた耐食性を発揮するのは（別途行った８０℃×９０％ＲＨの耐湿潤性試験において、５００時間経過後も発錆せず、良好な耐食性を示すことを確認）、磁石体試験片の表面に形成されたＡｌ蒸着被膜のこのような特徴的な組織構造に由来すると考えられた。【００３２】
工程２：Ａｌ蒸着被膜の表面への化成被膜の形成
工程１で得た表面にショットピーニングを行ったＡｌ蒸着被膜を有する磁石体試験片に対し、超音波水洗を１分間行った後、７０ｇのパルコート３７６２をイオン交換水１リットルに溶解し、炭酸水素ナトリウムでｐＨを４．０に調整して調製した処理液に、浴温５０℃で５分間浸漬して化成処理を行い、磁石を処理液から引き上げた後、水洗し、１００℃で２０分間乾燥処理を行うことで、Ａｌ蒸着被膜の表面に膜厚が約２０ｎｍの化成被膜を形成した。
得られた表面にＡｌ蒸着被膜を介して化成被膜を有する磁石体試験片に対し、オージェ分光法により化成被膜の深さ方向分析を行った（装置はアルバックファイ社のＰＨＩ／６８０を使用）。分析結果を図３に示す。
図３から明らかなように、化成被膜の外表面から深さ１０ｎｍの領域（厚みの外表面側半分の領域）は、Ｚｒ含量とＶ含量が多いことが特徴的であり、この領域にはＺｒを含む化合物（例えばＺｒ酸化物）やＶを含む化合物が多く含まれていることがわかった。また、この領域の構成元素の含量は、Ｚｒが６原子％〜１６原子％、Ｖが４原子％〜１０原子％、Ａｌが２原子％〜２５原子％、フッ素が２原子％〜１５原子％、酸素が３３原子％〜５６原子％であった。厚み方向におけるフッ素含量の最大値は被膜の中央部付近の約１０ｎｍにおいて認められた。
この表面にＡｌ蒸着被膜を介して化成被膜を有する磁石体試験片に対し、塩水噴霧試験（３５℃、５％ＮａＣｌ、ｐＨ７）を４００時間行い、錆の面積率（被膜の欠損部や薄膜部において磁石体試験片に発生するもの）を画像処理にて測定したところ０．０９％であった。従って、この表面にＡｌ蒸着被膜を介して化成被膜を有する磁石体試験片は非常に高い耐食性を有していることがわかった。また、この表面にＡｌ蒸着被膜を介して化成被膜を有する磁石体試験片に対し、工程１で行ったヒートサイクルテストと同様のテストを行ったところ、接着強度低下率は、２００サイクルを行った後では５％、４００サイクルを行った後では１６％であり、Ａｌ蒸着被膜の表面に化成被膜を形成することで、耐ヒートサイクル性が向上することがわかった。この結果は、化成被膜がその表面に有する微細な凹凸がいわゆるアンカー効果を高めることで、化成被膜と接着剤の接着強度が非常に高いことに基づくと考えられた。
さらに、得られた表面にＡｌ蒸着被膜を介して化成被膜を有する磁石体試験片を斜め切断し、その露出面にて化成被膜の厚み方向における数点のそれぞれのＶの価数状態を走査型Ｘ線電子分光分析器（μ−ＥＳＣＡ）によって分析した（装置はアルバックファイ社のＱｕａｎｔｅｒａ  ＳＸＭを使用。Ｘ線ビーム径は１００μｍφ）。化成被膜の外表面部分の分析結果を図４に、Ａｌ蒸着被膜との界面部分の分析結果を図５に示す。また、それぞれの部分のＶの価数分布を表１に示す。図４、図５、表１から明らかなように、化成被膜のいずれの部分においてもＶは３価〜５価の３種類の価数状態で存在し、５価の割合は７０％以上であり、価数分布は似通ったものであった。【００３３】
【表１】
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【００３４】
実施例２：
実施例１の工程２におけるＡｌ蒸着被膜の表面に対する化成処理条件のかわりに、処理液のｐＨ：３．０〜４．５、温浴：４０℃〜６０℃、浸漬時間：３分〜１０分の範囲内で化成処理条件を選択し（実施例１の条件を除く）、化成被膜を形成すること以外は実施例１と同様にして、表面に膜厚が９μｍのＡｌ蒸着被膜を介して膜厚が約２０ｎｍの化成被膜を有する磁石体試験片を得、実施例１の工程２で行った塩水噴霧試験と同様の試験を行って錆の面積率を測定したところ、いずれも４％以下であった。【００３５】
比較例１：
実施例１の工程２におけるＡｌ蒸着被膜の表面に対する化成処理条件のかわりに、パルコート３７５６ＭＡおよびパルコート３７５６ＭＢ（いずれも日本パーカライジング社の商品名）を用いた特許文献１に記載の化成処理条件（構成元素としてＺｒ、リン、酸素およびフッ素を含有する化成被膜を形成するためのもの）を採用し、化成被膜を形成すること以外は実施例１と同様にして、表面に膜厚が９μｍのＡｌ蒸着被膜を介して膜厚が約２０ｎｍの化成被膜を有する磁石体試験片を得、実施例１の工程２で行った塩水噴霧試験と同様の試験を行って錆の面積率を測定したところ、１０％であった。【００３６】
実施例３：
Ｍｇを５ｍａｓｓ％含有するＡｌ合金ワイヤー（ＪＩＳ  Ａ５３５６に準拠したもの）を用いたこと以外は実施例１の工程１と同様にして、磁石体試験片の表面にＭｇを５ｍａｓｓ％含有する膜厚が９μｍのＡｌ合金蒸着被膜を形成し、ショットピーニングを行った後、実施例１の工程１で行った評価と同様の評価を行った。その結果、接着強度低下率は、２００サイクルを行った後ではわずか８％に過ぎず、接着試験体は非常に良好な耐ヒートサイクル性を示した。また、せん断強度を測定した後の破断面の外観は、接着剤の凝集破壊に起因する様子を呈していたことから、磁石体試験片とＡｌ合金蒸着被膜の密着強度、および、Ａｌ合金蒸着被膜と接着剤の接着強度は、それぞれ非常に高いことがわかった。磁石体試験片の表面に形成されたＡｌ合金蒸着被膜の断面観察によれば、磁石体試験片の表面に形成されたＡｌ合金蒸着被膜の厚み方向の磁石体試験片表面から１／３までの領域には、結晶幅が０．１μｍ〜１μｍと幅狭なＡｌ合金柱状結晶が多数存在するとともに、幅０．０１μｍ〜１μｍの結晶間空隙を被膜の横方向１０μｍあたり１０個〜１５個存在する部分が多い一方、残りの２／３の領域を構成するＡｌ合金柱状結晶の結晶幅は１μｍ〜５μｍと幅広であり、幅０．０１μｍ〜１μｍの結晶間空隙は全く存在しないか、存在しても被膜の横方向１０μｍあたり多くて５個程度の部分が多く、実施例１の工程１で磁石体試験片の表面に形成されたＡｌ蒸着被膜の組織構造と同様の組織構造を有していた。
この磁石体試験片が表面に有するショットピーニングを行ったＡｌ合金蒸着被膜に対し、実施例１の工程２における化成処理条件と同じ条件で化成処理を行い、Ａｌ合金蒸着被膜の表面に膜厚が約２０ｎｍの化成被膜を形成した。得られた表面にＡｌ合金蒸着被膜を介して化成被膜を有する磁石体試験片に対し、実施例１の工程２で行った塩水噴霧試験と同様の試験を行って錆の面積率を測定したところ、１％であった。
【産業上の利用可能性】
【００３７】
本発明は、過酷条件下においても優れた耐食性を発揮するとともに接着対象との間で優れた接着強度を保持するＲ−Ｆｅ−Ｂ系焼結磁石およびその製造方法を提供することができる点において産業上の利用可能性を有する。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【国際調査報告】
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