【事件の表示】
　特許第３０９４５４６号「液晶表示体用拡散反射板の製造方法、及び液晶表示体の製造方法」の請求項１ないし４に係る特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結　論】
　訂正を認める。
　特許第３０９４５４６号の請求項１ないし２に係る特許を維持する。
【理　由】
１．手続の経緯
　本件特許第３０９４５４６号に係る出願は、平成３年９月２４日の出願であって、平成１２年８月４日にその設定登録がなされ、その後、工藤美智子より特許異議の申立てがなされ、取消理由通知がなされ、その指定期間内である平成１３年８月２０日に訂正請求がなされ、再度の取消理由通知がなされ、その指定期間内である平成１３年１０月１１日に先の訂正請求取下書とともに新たな訂正請求がなされたものである。
　　　　
２．訂正の適否についての判断
2．1　訂正事項
　特許請求の範囲の記載、
「【請求項１】反射膜を基板上に形成する液晶表示体用拡散反射板の製造方法において、前記基板上に有機膜を形成する工程、及び前記有機膜とは異なる熱膨脹率を有する反射膜を前記有機膜上に形成する工程を有してなり、前記反射膜を形成する工程は１００℃〜２５０℃に加熱しながら行い、前記反射膜には凹凸が形成されることを特徴とする液晶表示体用拡散反射板の製造方法。
 【請求項２】請求項１に記載の液晶表示体用拡散反射板の製造方法において、前記有機膜を形成する工程においては凹凸を有する前記有機膜を前記基板上に形成することを特徴とする液晶表示体用拡散反射板の製造方法。
 【請求項３】一対の基板間に液晶層を有しており一方の前記基板上には反射膜が形成されてなる液晶表示体を製造する方法において、前記一方の基板上に有機膜を形成する工程、及び前記有機膜とは異なる熱膨脹率を有する反射膜を前記有機膜上に形成する工程を有してなり、前記反射膜を形成する工程は１００℃〜２５０℃に加熱しながら行い、前記反射膜には凹凸が形成されることを特徴とする液晶表示体の製造方法。
 【請求項４】請求項３に記載の液晶表示体の製造方法において、前記有機膜を形成する工程においては凹凸を有する有機膜を前記基板上に形成することを特徴とする液晶表示体の製造方法。」
を、
「【請求項１】反射膜を基板上に形成する液晶表示体用拡散反射板の製造方法において、前記基板上に有機膜を形成する工程、及び前記有機膜とは異なる熱膨脹率を有する反射膜を前記有機膜上に形成する工程を有してなり、前記有機膜を形成する工程においては印刷法により凹凸を有する前記有機膜を前記基板上に形成し、前記反射膜を形成する工程はスパッタ法又は蒸着法により１００℃〜２５０℃に加熱しながら行い、前記反射膜には、前記凹凸より微細な凹凸が形成されることを特徴とする液晶表示体用拡散反射板の製造方法。
【請求項２】一対の基板間に液晶層を有しており一方の前記基板上には反射膜が形成されてなる液晶表示体を製造する方法において、前記一方の基板上に有機膜を形成する工程、及び前記有機膜とは異なる熱膨脹率を有する反射膜を前記有機膜上に形成する工程を有してなり、前記有機膜を形成する工程においては印刷法により凹凸を有する有機膜を前記基板上に形成し、前記反射膜を形成する工程はスパッタ法又は蒸着法により１００℃〜２５０℃に加熱しながら行い、前記反射膜には、前記凹凸より微細な凹凸が形成されることを特徴とする液晶表示体の製造方法。」
　　
と訂正する。
　　
2．2　訂正の目的の適否、新規事項の有無及び拡張・変更の存否
　上記訂正事項は、特許請求の範囲の減縮を目的として、請求項１、３を削除するものであり、また、
　請求項２、４の「反射膜には凹凸が形成される」を「反射膜には、前記凹凸より微細な凹凸が形成される」と、
　同「前記有機膜を形成する工程においては凹凸を有する」を「前記有機膜を形成する工程においては印刷法により凹凸を有する」と、
　同「前記反射膜を形成する工程は１００℃〜２５０℃」を「前記反射膜を形成する工程はスパッタ法又は蒸着法により１００℃〜２５０℃」と、それぞれ減縮した上で、この請求項２、４を、上記の請求項１、３の削除に伴い、繰り上げて請求項１、２とするものである。
　そして、上記訂正事項は、何れも、特許明細書の【００１３】段落の記載に基づくものであり、新規事項の追加に該当せず、実質的に特許請求の範囲を拡張又は変更するものではない。
　　　
2．3　結論
　以上のとおりであるから、本件訂正は、特許法第１２０条の４第２項、同第３項において準用する平成６年法律第１１６号による改正前の特許法第１２６条第１項ただし書及び第２項の規定に適合するので、当該訂正を認める。
　　　
３．特許異議申立てについて
3．1　本件発明
　本件特許第３０９４５４６号の請求項１及び２に係る発明は、訂正された特許明細書及び図面の記載からみて、その特許請求の範囲の請求項１及び２に記載された次のとおりのものである。
　　　　　　　　　　　　　　　　
「【請求項１】反射膜を基板上に形成する液晶表示体用拡散反射板の製造方法において、前記基板上に有機膜を形成する工程、及び前記有機膜とは異なる熱膨脹率を有する反射膜を前記有機膜上に形成する工程を有してなり、前記有機膜を形成する工程においては印刷法により凹凸を有する前記有機膜を前記基板上に形成し、前記反射膜を形成する工程はスパッタ法又は蒸着法により１００℃〜２５０℃に加熱しながら行い、前記反射膜には、前記凹凸より微細な凹凸が形成されることを特徴とする液晶表示体用拡散反射板の製造方法。
【請求項２】一対の基板間に液晶層を有しており一方の前記基板上には反射膜が形成されてなる液晶表示体を製造する方法において、前記一方の基板上に有機膜を形成する工程、及び前記有機膜とは異なる熱膨脹率を有する反射膜を前記有機膜上に形成する工程を有してなり、前記有機膜を形成する工程においては印刷法により凹凸を有する有機膜を前記基板上に形成し、前記反射膜を形成する工程はスパッタ法又は蒸着法により１００℃〜２５０℃に加熱しながら行い、前記反射膜には、前記凹凸より微細な凹凸が形成されることを特徴とする液晶表示体の製造方法。」
　　
3．2　特許異議申立ての理由の概要
　特許異議申立人 工藤美智子は、甲第１号証（特開昭６３−１０４００１号公報）及び甲第２号証（特開昭５８−１２５０８４号公報）を提示し、訂正前の請求項１及び３に係る発明は、甲第１号証記載の発明であるか、該発明から当業者が容易に発明をすることができたものであり、訂正前の請求項２及び４に係る発明は、甲第１号証記載の発明から、或いは、甲第１号証、甲第２号証に各記載の発明から、当業者が容易に発明をすることができたものである、と主張している。
　　
3．3　甲各号証の記載内容
　甲第１号証（以下、「刊行物１」という。）には、
「拡散反射面は特に液晶表示デバイス（LCDS）やエレクトロスコープ（electroscopic）表示デバイスに用いられる」（第１頁右下欄第１９行〜第２頁左上欄第１行）、
　　
「本発明は、表面パターンを合成樹脂層の上層の粗面化（roughening）によって得ることを特徴とするものである。」（第２頁右上欄第１２行〜第１４行）、
　　
「第１の粗面化方法は、フレオン含有プラズマ中または紫外線を経ての処理によって合成樹脂層に上層を設け、この上層が成るひずみ下にあるようにすることによって実現される。続く加熱工程（１８０℃〜２８０℃）で前記の上層に緩和が生じ、このため表面の粗面化が生じる。材料、層の厚さ、及び、エッチング時間、加熱時間、フレオン含有量等のような工程のパラメータの適当な選択によって、反射材料の被覆後申し分のない拡散反射面が得られるような構造を形成することができる。」（第２頁右上欄第２０行〜左下欄第１０行）、
　　
「第２の方法では、粗面化は、樹脂層が或る程度流動し始める高い温度で、少なくとも０．４μｍの厚さを有する反射材料の層を蒸着することによって実現される。工程のパラメータを適当に選択した場合、この方法で申し分のない拡散反射面がやはり得られる。」（第２頁左下欄第１１行〜第１６行）、
　　
「本発明の方法では出発材料は合成樹脂層で、この実施例では略々１．２μｍの厚さを有する・・・フォトレジスト層１である。・・・フォトレジスト層は例えばガラス支持板２上に設けられる。液晶デバイスでは、このガラス板は、一緒に液晶材料を取り囲む２枚のガラス板の一方であってもよい。」（第２頁右下欄第１１行〜第２０行）、
　　
「本発明の第１実施例では、フォトレジスト層１は、・・・フレオンエッチング剤中で数分間処理される。物理化学的な変化によって表面３に上層４ａができるが、この上層は、・・・強い架橋を有する稠密（close）な構造を有する（第２ａ図）。前記の表面３上の稠密な構造はまた例えば・・・紫外線・・・による層の照射によっても得ることができる。この場合所謂架橋が生じるのでやはり強い架橋を有する上層４ｂが形成される（第２ｂ図）。・・・このアセンブリを略々２００℃で略々１／２時間加熱すると、エッチング処理または紫外線に作用されない下方のフォトレジスト層１が或程度流れ始めるので、上層は緩和する。その結果表面３が小さく波うつので、この表面は、反射材料例えば銀またはアルミニウムの０．３μｍ厚の層５の蒸着後申し分ない拡散反射面が得られるように変形される。・・・実質的に完全な（略々９９％）拡散反射面ができる。」（第３頁左上欄第１行〜右上欄第８行）、
　　
「第３図と同様な構造は、若し必要ならばベークされたフォトレジ層１を略々１７５℃に加熱し、この温度でフォトレジスト層上に０．４μｍまたはそれ以上の厚さの反射金属の層を蒸着することによっても得ることができる。恐らくその間に遊離熱および／または機械的ひずみが演ずるフォトレジストと金属の相互作用の影響の下で、金属表面の１種の粗面化が再び起きる。」（第３頁右上欄第９行〜第１６行）、
　　
「このようにして得られた反射構造体は、フォトリソグラフィー工程によって金属にパターンを設け、マスクとしての金属を残してフォトレジスト層をエッチングオフすることによって複数の反射面（サブ反射面）に分けることができる。」（第３頁右上欄第１７行〜左下欄第１行）と記載されている。
　
　以上によれば、刊行物１には、
（１）ガラス支持板上のフォトレジスト層からなる合成樹脂層を、フレオン含有プラズマ処理または紫外線照射処理を行った後、加熱処理することにより合成樹脂層表面を粗面化し、これに反射金属層を蒸着することよりなる、第１の粗面化方法による液晶表示デバイス用拡散反射面の製造方法、及び
　
（２）ガラス支持板上のフォトレジスト層からなる合成樹脂層を、樹脂層が或る程度流動し始める高い温度に加熱し、この温度で反射金属の層を蒸着することよりなる、第２の粗面化方法による液晶表示デバイス用拡散反射面の製造方法、
がそれぞれ記載されている。
　　　
　同じく、甲第２号証（以下、「刊行物２」という。）には、
「第１図は一実施例を示す断面概略図であり、１画素分を示してある。ここで半導体基板１はトランジスタ、抵抗、コンデンサ等の液晶駆動用素子が集積されており、金属配線２により各素子間が相互配線されている。この半導体基板１上に高分子樹脂としてポリイミド樹脂層３を介して、反射膜を兼ねるアルミニウムからなる表示電極４が被着形成されている。ポリイミド樹脂層３は表面になめらかな凹凸があり、表示電極４はその凹凸を反映して白色散乱面となっている。このような表示電極４が形成された半導体基板１と、透明導電膜５が全面に被着された透明基板６との間にゲスト・ホスト型液晶層７を挟持して液晶表示装置が構成されている。」（第２頁左下欄第３行〜第１６行）と記載され、
　
第１図には、半導体基板１上に高分子樹脂としてポリイミド樹脂層３を介して、反射膜を兼ねるアルミニウムからなる表示電極４が被着形成されたもの、が図示されている。
　
　以上によれば、刊行物２には、半導体基板上に滑らかな凹凸を有するポリイミド樹脂層を介して反射膜を兼ねる表示電極を被着形成することよりなる、反射膜を兼ねる液晶表示装置用表示電極の製造方法、が記載されている。
　　　
3．4　当審の判断
　本件の訂正後の請求項１及び２に係る発明（以下、本件発明１及び２という。）と刊行物１、２記載の発明とを対比すると、刊行物１、２には、本件発明１及び２の構成である「基板上に有機膜を形成する工程、及び前記有機膜とは異なる熱膨脹率を有する反射膜を前記有機膜上に形成する工程を有してなり、前記有機膜を形成する工程においては印刷法により凹凸を有する前記有機膜を前記基板上に形成し、前記反射膜を形成する工程はスパッタ法又は蒸着法により１００℃〜２５０℃に加熱しながら行い、前記反射膜には、前記凹凸より微細な凹凸が形成されること」については、何ら記載されていないし、示唆されてもいない。
　　
　すなわち、刊行物１の第１の粗面化方法による拡散反射面の製造方法は、フレオン含有プラズマ中または紫外線を経ての処理によって、合成樹脂層に上層を設ける工程を前提とし、続く加熱工程により合成樹脂層の表面層の粗面化（即ち、凹凸）を生じさせるものである点、及び反射金属層の形成工程が、合成樹脂層の粗面化された表面に沿って単に蒸着を行うものに過ぎず、「スパッタ法又は蒸着法により１００℃〜２５０℃に加熱しながら行い、前記反射膜には、前記凹凸より微細な凹凸が形成される」ものではない点、で本件発明１、２と相違する。
　　　
　また、刊行物１の第２の粗面化方法による拡散反射面の製造方法は、ガラス支持板上のベークされたフォトレジスト層を、樹脂層が或る程度流動し始める高い温度に加熱し、この温度でフォトレジスト層上に反射金属の層を蒸着するものであるが、ガラス支持板上に形成されるフォトレジスト層（樹脂層）は、「印刷法により凹凸を有する有機膜」ではない点、で本件発明１、２と相違する。
　　
　さらに、刊行物２の反射膜の製造方法は、半導体基板上に滑らかな凹凸を有するポリイミド樹脂層を介して反射膜を兼ねる表示電極を被着形成するものであるが、反射膜である表示電極の形成工程が、ポリイミド樹脂層の凹凸表面に沿って単に被着形成を行うものに過ぎず、「スパッタ法又は蒸着法により１００℃〜２５０℃に加熱しながら行い、前記反射膜には、前記凹凸より微細な凹凸が形成される」ものではない点、で本件発明１、２と相違する。
　
　このように、本件発明１、２は、有機膜を基板上に形成する工程において、凹凸を有する有機膜を形成し、この有機膜の凹凸面の上に、前記凹凸より微細な凹凸を形成することで、散乱反射に必要な凹凸を得ることをその目的・課題とするものであって、刊行物１、２記載の発明は、このような目的・課題の認識を欠くものであるから、刊行物１、２に記載の発明に基づいて本件発明１、２に想到することは、当業者といえども容易なことではない。
　そして、本件発明１，２は上記構成により、「散乱反射に必要な凹凸が反射膜上に形成」でき、「明るい表示を可能とする液晶表示体用拡散反射板、及び液晶表示体を容易に製造する」という明細書記載の顕著な効果を奏するものであるから、本件発明１、２が、刊行物１、２に記載された発明であるとすることができず、或いは、刊行物１、２に記載された発明から容易に発明をすることができたものであるとすることができない。
　　　　　　　
４．むすび
　以上のとおりであるから、特許異議申立ての理由及び証拠によっては、訂正後の本件請求項１及び請求項２に係る発明の特許を取り消すべき理由を発見しない。
　よって、結論のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１３年１０月３１日（２００１．１０．３１）
【訂正の要旨】
訂正の要旨
訂正事項
　平成１２年１月２５日付け手続補正書により補正された特許請求の範囲の記載
「【特許請求の範囲】
　【請求項１】　反射膜を基板上に形成する液晶表示体用拡散反射板の製造方法において、
　前記基板上に有機膜を形成する工程、及び前記有機膜とは異なる熱膨脹率を有する反射膜を前記有機膜上に形成する工程を有してなり、
　前記反射膜を形成する工程は１００℃〜２５０℃に加熱しながら行い、
　前記反射膜には凹凸が形成されることを特徴とする液晶表示体用拡散反射板の製造方法。
　【請求項２】　請求項１に記載の液晶表示体用拡散反射板の製造方法において、
　前記有機膜を形成する工程においては凹凸を有する前記有機膜を前記基板上に形成することを特徴とする液晶表示体用拡散反射板の製造方法。
　【請求項３】　一対の基板間に液晶層を有しており一方の前記基板上には反射膜が形成されてなる液晶表示体を製造する方法において、
　前記一方の基板上に有機膜を形成する工程、及び前記有機膜とは異なる熱膨脹率を有する反射膜を前記有機膜上に形成する工程を有してなり、
　前記反射膜を形成する工程は１００℃〜２５０℃に加熱しながら行い、
　前記反射膜には凹凸が形成されることを特徴とする液晶表示体の製造方法。
　【請求項４】　請求項３に記載の液晶表示体の製造方法において、
　前記有機膜を形成する工程においては凹凸を有する有機膜を前記基板上に形成することを特徴とする液晶表示体の製造方法。」
を、
「【特許請求の範囲】
　【請求項１】　反射膜を基板上に形成する液晶表示体用拡散反射板の製造方法において、
　前記基板上に有機膜を形成する工程、及び前記有機膜とは異なる熱膨脹率を有する反射膜を前記有機膜上に形成する工程を有してなり、
　
前記有機膜を形成する工程においては印刷法により凹凸を有する前記有機膜を前記基板上に形成し、
　前記反射膜を形成する工程は
スパッタ法又は蒸着法により
　前記反射膜には
、前記凹凸より微細な
　【請求項２】　
一対の基板間に液晶層を有しており一方の前記基板上には反射膜が形成されてなる液晶表示体を製造する
　
前記一方の基板上に有機膜を形成する工程、及び前記有機膜とは異なる熱膨脹率を有する反射膜を前記有機膜上に形成する工程を有してなり、
　
前記有機膜を形成する工程においては印刷法により凹凸を有する有機膜を前記基板上に形成し、
　
前記反射膜を形成する工程はスパッタ法又は蒸着法により１００℃〜２５０℃に加熱しながら行い、
　
前記反射膜には、前記凹凸より微細な凹凸が形成されることを特徴とする液晶表示体
と訂正する
（５４）【発明の名称】
液晶表示体用拡散反射板の製造方法、及び液晶表示体の製造方法
（５７）【特許請求の範囲】
　【請求項１】　反射膜を基板上に形成する液晶表示体用拡散反射板の製造方法において、
　前記基板上に有機膜を形成する工程、及び前記有機膜とは異なる熱膨脹率を有する反射膜を前記有機膜上に形成する工程を有してなり、
　
前記有機膜を形成する工程においては印刷法により凹凸を有する前記有機膜を前記基板上に形成し、
　前記反射膜を形成する工程は
スパッタ法又は蒸着法により
　前記反射膜には
、前記凹凸より微細な
　【請求項２】　
一対の基板間に液晶層を有しており一方の前記基板上には反射膜が形成されてなる液晶表示体を製造する
　
前記一方の基板上に有機膜を形成する工程、及び前記有機膜とは異なる熱膨脹率を有する反射膜を前記有機膜上に形成する工程を有してなり、
　
前記有機膜を形成する工程においては印刷法により凹凸を有する有機膜を前記基板上に形成し、
　
前記反射膜を形成する工程はスパッタ法又は蒸着法により１００℃〜２５０℃に加熱しながら行い、
　
前記反射膜には前記凹凸より微細な凹凸が形成されることを特徴とする液晶表示体
【発明の詳細な説明】
　【０００１】
　【産業上の利用分野】
　本発明は液晶表示体に用いられる拡散反射板の製造方法、及び液晶表示体の製造方法に関する。
　【０００２】
　【従来の技術】
　従来の液晶表示体用拡散反射板は、フィルム状の物（反射板のみの物や、反射板と偏光板とが一体となった物）で表示体の液晶パネル（偏光板を含む）の下部に配置していた。
　【０００３】
　【発明が解決しようとする課題】
　しかし、前述した従来の構成においては反射型表示体の明るさが不足であるという課題を有していた。
　【０００４】
　すなわち、反射型液晶表示体の入射光は、液晶パネル（偏光板ーガラス基板ー透明電極層ー配向膜層ー液晶層ー配向膜層ー透明電極層ーガラス基板ー偏光板）を通過し反射板に到達する。反射板により反射された反射光は、液晶パネルを通過し液晶表示体外部へと到達する。すなわち、光は液晶パネルを２回通過することになり、よって反射型液晶表示体の入射光に対して反射光の光量は液晶表示体の液晶パネル（偏光板を含む）の光損失を考慮するとその３分の１以下に落ちて暗くなってしまうという問題点があった。
　【０００５】
　そこで本発明は、このような従来技術における問題点を克服し、明るい表示を可能とする液晶表示体用拡散反射板、及び液晶表示体を容易に製造することを目的とする。
　【０００６】
　【課題を解決するための手段】
　本発明の液晶表示体用拡散反射板の製造方法は、反射膜を基板上に形成する液晶表示体用拡散反射板の製造方法において、前記基板上に有機膜を形成する工程、及び前記有機膜とは異なる熱膨脹率を有する反射膜を前記有機膜上に形成する工程を有してなり、前記反射膜を形成する工程は１００℃〜２５０℃に加熱しながら行い、前記反射膜には凹凸が形成されることを特徴とする。また、前記有機膜を形成する工程においては凹凸を有する前記有機膜を前記基板上に形成することを特徴とする。
　【０００７】
　本発明の液晶表示体の製造方法は、一対の基板間に液晶層を有しており一方の前記基板上には反射膜が形成されてなる液晶表示体を製造する方法において、前記一方の基板上に有機膜を形成する工程、及び前記有機膜とは異なる熱膨脹率を有する反射膜を前記有機膜上に形成する工程を有してなり、前記反射膜を形成する工程は１００℃〜２５０℃に加熱しながら行い、前記反射膜には凹凸が形成されることを特徴とする。また、前記有機膜を形成する工程においては凹凸を有する有機膜を前記基板上に形成することを特徴とする。
　【０００８】
　【実施例】
（実施例１）
　図１（ａ）及び（ｂ）は、本発明の実施例を説明するものであって、液晶表示体用拡散反射板の概略平面図及びＡ−Ａ’線に沿った概略断面図である。
　【０００９】
　この液晶表示体用拡散反射板は、平面基板１の上に有機薄膜層２を持ち、その上にパターン形成された反射電極３を設けた構造である。前記有機薄膜２はレジストであり、前記反射電極３はスパッタ法もしくは蒸着法により堆積され、エッチングによってパターン形成されている。
　【００１０】
　図２（ａ）〜（ｄ）は、前述した液晶表示体用拡散反射板の製造方法を説明するものであって、重要な製造工程終了後のガラス基板の概略断面図である。図２に基づき液晶表示体用拡散反射板の製造工程を説明する。
　【００１１】
　まず、平面基板１の表面を有機洗浄したのち、さらにプラズマもしくはＵＶ＋Ｏ３により完全に基板表面の有機物及び異物の除去を行なう（図２（ａ））。次に、平面基板１の表面に、レジストをスピンコート法により１〜１０μｍの厚みに塗布し、それを１００〜２００℃でべーキングして有機薄膜層２を形成する（同図（ｂ））。次に、有機薄膜層２の表面全体に、スパッタ法もしくは蒸着法によりＡｌ薄膜もしくはＰｔ薄膜よりなる反射薄膜層４を堆積する（同図（ｃ））。このとき、有機薄膜層２を含む平面基板１を１００〜２５０℃に加熱することによって、拡散反射に必要な微細な凹凸が同時に形成される。これは有機薄膜層２と反射薄膜層４との熱膨張率の違いにより有機薄膜層２にシワが発生し、また、スパッタ時あるいは蒸着時にＡｌ薄膜もしくはＰｔ薄膜自身がグレーン成長するためである。次に、反射薄膜層４をエッチングによってパターン形成し反射電極３を形成する（同図（ｄ））。
　【００１２】
　図３（ａ）〜（ｄ）は、前述した液晶表示体用拡散反射板のもう一つの製造方法を説明するものであって、重要な製造工程終了後のガラス基板の概略断面図である。図３に基づき液晶表示体用拡散反射板の製造工程を説明する。
　【００１３】
　まず、平面基板１の表面を有機洗浄したのち、さらにプラズマもしくはＵＶ＋Ｏ３により完全に基板表面の有機物及び異物の除去を行なう（図３（ａ））。次に、平面基板１の表面に、レジストを印刷法により１〜５μｍの厚みに塗布し、それを１００〜２００℃でべーキングして凹凸の有する有機薄膜層２を形成する。次に、有機薄膜層２の表面全体に、スパッタ法もしくは蒸着法によりＡｌ薄膜もしくはＰｔ薄膜よりなる反射薄膜層４を堆積する（同図（ｃ））。このとき、有機薄膜層２を含む平面基板１を１００〜２５０℃に加熱することによって、拡散反射に必要な凹凸が同時に形成される（この凹凸は、前述した印刷法によって形成された凹凸より更に微細な凹凸であり、印刷法により形成された凹凸の上に形成される）。これは有機薄膜層２と反射薄膜層４との熱膨張率の違いにより有機薄膜層２にシワが発生し、また、、スパッタ時あるいは蒸着時にＡｌ薄膜もしくはＰｔ薄膜自身がグレーン成長するためである。次に、反射薄膜層４をエッチングによってパターン形成し反射電極３を形成する（同図（ｄ））。
　【００１４】
（実施例２）
　図４は、本発明の液晶表示体用拡散反射板を用て作成した反射型液晶パネルの概略断面図であり、図５は、従来の反射型液晶パネルの概略断面図である。従来の反射型液晶パネルにおいて、入射光１０は、偏光板９−対向平面基板８−透明電極７−配向膜５−液晶層６−配向膜５−透明電極７−平面基板１−偏光板９を通過し反射フィルム１２に達し反射する。反射板により反射された反射光１１は、その逆を通過して液晶パネル外部へと到達するため、入射光に対し反射光は３分の１以下となる。しかし、本発明の液晶表示体用拡散反射板を用いた反射型液晶パネルでは、入射光１０は、偏光板９−対向平面基板８−透明電極７−配向膜５−液晶層６−配向膜５を通過し反射電極３に達し反射する。反射板により反射された反射光１１は、その逆を通過して液晶パネルの外部に達するので、従来の反射型液晶パネルより光の損失が少なく明るさも従来より２倍以上明るくなった。また、反射電極３は、金属薄膜で反射板と電極とを兼ねるので、従来の透明電極による配線抵抗より低抵抗になるため、液晶パネル駆動時のクロストークを無くし表示品質も向上した。以上、単純マトリクスを例に述べたが、アクティブマトリクスにおいては、アクティブ素子の形成されていない対向基板上に本発明の液晶表示体用拡散反射板を形成することにより応用が可能である。
　【００１５】
　以上実施例を述べたが、本発明は以上の実施例における平面基板上に形成される液晶表示体用拡散反射板のみに限定されるものではなく、各種の反射板等に応用が可能である。
　【００１６】
　【発明の効果】
　以上述べてきたように本発明は、有機膜上に反射膜を形成する際に、１００℃〜２５０℃に加熱する。その際、有機膜と反射膜との熱膨脹係数の違いにより散乱反射に必要な凹凸が反射膜上に形成される。
【図面の簡単な説明】
　【図１】
　（ａ）は実施例１における液晶表示体用拡散反射板の概略平面図であり、（ｂ）はＡ−Ａ’線に沿った概略断面図である。
　【図２】
　（ａ）〜（ｄ）は実施例１における液晶表示体用拡散反射板の製造プロセスを説明するものであって、重要な製造工程終了後の基板の概略断面図である。
　【図３】
　（ａ）〜（ｄ）は実施例１における液晶表示体用拡散反射板のもう一つの製造プロセスを説明するものであって、重要な製造工程終了後の基板の概略断面図である。
　【図４】
　実施例２における本発明の液晶表示体用拡散反射板を用いた反射型液晶パネルの概略断面図。
　【図５】従来の反射型液晶パネルの概略断面図。
　【符号の説明】
　１　平面基板
　２　有機薄膜層
　３　反射電極
　４　反射薄膜層
　５　配向膜
　６　液晶層
　７　透明電極
　８　対向平面基板
　９　偏光板
　１０　入射光
　１１　反射光
　１２　反射フィルム
　１３　シール剤