【事件の表示】
　特許第３１２６８７８号「基板裏面洗浄装置」の請求項１及び２に係る特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結　論】
　訂正を認める。
　特許第３１２６８７８号の請求項１及び２に係る特許を維持する。
【理　由】
第１　手続の経緯
　特許第３１２６８７８号の請求項１及び２に係る発明についての出願は、平成６年６月３０日に特許出願され、平成１２年１１月２日にその発明について特許権の設定の登録がされ、その後、請求項１及び２に係る特許について、平成１３年７月１７日に特許異議申立人永田大樹より特許異議の申立てがされ、取消しの理由が通知され、その指定期間内である平成１４年１月１１日に明細書の訂正の請求がされ、訂正拒絶の理由が通知され、その指定期間内である平成１４年４月２５日に手続補正書が提出されたものである。
第２　訂正の適否についての判断
１　訂正の内容
　訂正の内容は、平成１４年４月２５日付け手続補正書により補正された平成１４年１月１１日付け訂正請求書及び前記手続補正書に添付された全文訂正明細書の記載から見て、次のとおりのものと認められる。
（１）登録時の明細書又は図面（以下「特許明細書等」という。）の特許請求の範囲の請求項２に記載された
「基板を回転させつつその裏面に下方から洗浄液を吐出して基板の裏面を洗浄する装置であって、基板を略水平姿勢で支持して回転させる支持回転手段と、支持された基板の下方に配設される被取付部材と、前記被取付部材に鉛直姿勢で設けられる吐出管と、前記吐出管の先端部に形成されて鉛直方向に対して所定の角度をもって上方へ洗浄液を吐出するノズル部と、前記吐出管の下部に形成された大径部と、前記大径部を押さえて前記吐出管を鉛直軸周りで回転可能に前記支持部材に取り付ける取付け手段と、を備えたことを特徴とする基板裏面洗浄装置。」を、
「基板を回転させつつその裏面に下方から洗浄液を吐出して基板の裏面を洗浄する装置であって、基板を略水平姿勢で支持して回転させる支持回転手段と、支持された基板の下方に配設される被取付部材と、前記被取付部材に鉛直姿勢で設けられる吐出管と、前記吐出管の先端部に形成されて鉛直方向に対して所定の角度をもって上方へ洗浄液を吐出するノズル部と、前記吐出管の下部に形成された大径部と、前記大径部を押さえて前記吐出管を鉛直軸周りで回転可能に前記被取付部材に取り付ける取付け手段と、を備えたことを特徴とする基板裏面洗浄装置。」と訂正する。
（２）特許明細書等の発明の詳細な説明の段落【００１１】及び【００３４】に記載された「支持部材」を「被取付部材」と訂正する。
２　訂正の目的の適否、新規事項の有無及び拡張・変更の存否
　前記１（１）の請求項２についての訂正は、「支持部材」を「被取付部材」と誤記を訂正しようとするものであり、また、「被取付部材」は特許明細書等の特許請求の範囲の請求項２及び発明の詳細な説明の段落【００１３】に記載されている事項である。
　したがって、この訂正は、誤記の訂正を目的とする明細書の訂正に該当し、また、特許明細書等に記載した事項の範囲内においてされたものである。
　前記１（２）についての訂正は、前記１（１）で訂正された特許請求の範囲の記載と発明の詳細な説明の記載との整合をとるためのものであるから、明瞭でない記載の釈明を目的とする明細書の訂正に該当するものであり、また、明らかに特許明細書等に記載した事項の範囲内においてされたものである。
　さらに、特許明細書等の請求項２には、「前記吐出管を鉛直軸周りで回転可能に前記支持部材に取り付ける」の記載の前に「支持部材」の語は記載されていないこと、請求項２に「前記被取付部材に鉛直姿勢で設けられる吐出管」と記載されていること、及び、発明の詳細な説明の段落【００１３】に「さらに前記吐出管は・・・鉛直軸周りで回転可能に被取付部材に取り付けられている」と記載されていることから、「支持部材」が「被取付部材」の誤りであることは、当業者であれば、当然に認識できるから、前記１（１）及び（２）の訂正は、いずれも実質上特許請求の範囲を変更するものでもない。
　以上のとおりであるので、前記１（１）及び（２）の訂正は、特許法第１２０条の４第２項及び同条第３項で準用する第１２６条第２項及び３項の規定に適合するので、当該訂正を認める。
第３　特許異議の申立て等についての判断
１　特許異議の申立ての理由の概要及び取消しの理由の概要
　特許異議申立人永田大樹の特許異議の申立の理由の概要は、証拠として本件特許出願前に日本国内又は外国において頒布された刊行物である特開昭６２−５４４３８号公報（以下「引用例１」という。）及び米国特許第４５１８６７８号明細書（以下「引用例２」という。）を提出し、請求項１及び２に係る発明は引用例１及び２に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであり、請求項１及び２に係る特許は、特許法第２９条第２項の規定に違反してされたものであるから、取り消されるものというものである。
　また、当審で通知した取消しの理由は、請求項１に係る発明は、引用例１に記載された発明であるか、又は引用例１に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであり、また、請求項２に係る発明は、引用例１に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであり、請求項１及び２に係る特許は、特許法第２９条の規定に違反してされたものであるから、取り消されるものというものである。
２　本件発明
　請求項１及び２に係る発明（以下「本件発明１及び２」という。）は、前記全文訂正明細書（補正後）の特許請求の範囲の請求項１及び２に記載された次のとおりのものと認められる。
「【請求項１】基板を回転させつつその裏面に下方から洗浄液を吐出して基板の裏面を洗浄する装置であって、基板を略水平姿勢で支持して回転させる支持回転手段と、支持された基板の下方から鉛直方向に対して斜め上方に向けて所定の角度をもって基板の裏面へ洗浄液を吐出する吐出手段と、前記吐出手段からの洗浄液の吐出向きを鉛直軸周りで回転可能に設定する設定手段と、を備えたことを特徴とする基板裏面洗浄装置。
【請求項２】基板を回転させつつその裏面に下方から洗浄液を吐出して基板の裏面を洗浄する装置であって、基板を略水平姿勢で支持して回転させる支持回転手段と、支持された基板の下方に配設される被取付部材と、前記被取付部材に鉛直姿勢で設けられる吐出管と、前記吐出管の先端部に形成されて鉛直方向に対して所定の角度をもって上方へ洗浄液を吐出するノズル部と、前記吐出管の下部に形成された大径部と、前記大径部を押さえて前記吐出管を鉛直軸周りで回転可能に前記被取付部材に取り付ける取付け手段と、を備えたことを特徴とする基板裏面洗浄装置。」
３　引用例
（１）引用例１
ａ　第１頁右下欄第３−６行に、
「従来技術においては、第４図（Ａ），第４図（Ｂ）に示す様に、ウェハー１の中心部１４から外側５に向って、ウェハー１の裏面にノズル４にてリンス液を吹きつけている。」と記載され、
ｂ　第２頁左上欄第１８−末行に、
「本発明のウェハー上への液体滴下装置は、リンス液をウェハー回転方向に噴出出来る裏面リンス用ノズルを有する。」と記載され、
ｃ　第２頁右上欄第５−７行に、
「本装置は、ノズルの先端がウェハーの回転方向６を向いている裏面リンス用ノズル２から構成される。」と記載され、
ｄ　第３頁左上欄第１−６行に、
「第５図（Ａ）は、中心１４，オリエーテンションフラット１５を有する半導体ウェハー１に対して、ノズルの角度θと裏面リンス液とび発生率の関係を説明する際のノズルの角度を定義するための図、第５図（Ｂ）は、ノズルの角度と裏面リンス液とび発生率の関係を説明するための図である。」と記載されていると認められる。
ｅ　また、第１図（Ａ），（Ｂ）に半導体製造装置の第１の実施例においてウェハー上への液体滴下装置による液体滴下及び振り切り方法を説明するための上面図及び縦断面図が示され、第５図（Ａ），（Ｂ）にノズルの角度と裏面リンス液とび発生率の関係を説明する図が示されていると認められる。
（２）引用例２
ａ　第３欄第４−１６行に、基板１０はドレインプレート３０を貫通するスピンチャック２０に支持されていることが記載され、
ｂ　第３欄第１７−２１行に、ドレインプレート３０に設けた穴３６を介してノズルアセンブリ４０が設けられ、このノズルアセンブリ４０はドレインプレート３０にカラー４２により固定されたパイプ４４を備え、そして前記カラー４２の端部にはエンドキャップ４８が取付けられることが記載され、
ｃ　第３欄第２２−３１行に、前記カラー４２には、ノズル５０の一端が接続され、ノズル５０の他端におけるチップ５８は約４５°の角度で基板１０の裏面に指向して、基板のコーティング物質の除去を行うように構成されていることが記載されていると認められる。
ｄ　また、第４図にコーティング基板上のコーティング物質の選択除去を行う装置の概略図が示され、第５図に第４図に示された装置のノズルアセンブリの断面図が示されていると認められる。
４　本件発明と引用例に記載された発明との対比・判断
（１）本件発明１について
　先ず、引用例１には、第５図（Ｂ）にノズルの角度と裏面リンス液とび発生率の関係を説明する図が示されているが、この図に示されたノズルの角度と裏面リンス液とび発生率の関係の実験データは、ノズルの角度が固定でその角度が異なる複数台の半導体製造装置を用意することによっても得られるものであり、ノズルの角度が可変な半導体製造装置、換言すると、吐出手段からの洗浄液の吐出向きを鉛直軸周りで回転可能に設定することができる基板裏面洗浄装置によってのみ得られるものではない。
　したがって、引用例１には、吐出手段からの洗浄液の吐出向きを鉛直軸周りで回転可能に設定することができる基板裏面洗浄装置が記載されているとすることができない。
　次に、引用例２には、前記３（２）のとおりの事項が記載され、ノズルアセンブリ４０の断面図が示されているが、ドレインプレート３０に対するパイプ４４の取付状態、ドレインプレート３０に対するカラー４２の取付状態等が明らかでなく、また、ノズル５０をパイプ４４の軸周りで回転可能に設定することができることについて記載もなく、且つ、示唆もされていない。
　したがって、引用例２には、ノズル５０をパイプ４４の軸周りで回転可能に設定することができること、換言すると、ノズル５０の吐出向きを鉛直軸周りで回転可能に設定することができることが記載されているとすることができない。
　本件発明１と引用例１及び２に記載された発明とを対比すると、引用例１及び２に記載された発明は、本件発明１の構成と類似する構成を有するものの、本件発明１の「吐出手段からの洗浄液の吐出向きを鉛直軸周りで回転可能に設定する設定手段」の構成を有しておらず、且つ、引用例１及び２には、この構成を示唆する記載もない。
　そして、本件発明１は、前記構成を有することにより、洗浄液の吐出向きを容易に調整することができて基板裏面の広範囲を洗浄することができるという格別の効果を奏することができるものと認められる。
　以上のとおりであるので、本件発明１は、引用例１に記載された発明であるとすることはできず、また、引用例１又は１及び２に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものとすることもできない。
（２）本件発明２について
　本件発明２と引用例１及び２に記載された発明とを対比すると、前記（１）本件発明１についてで述べたと同様の理由により、引用例１及び２に記載された発明は、本件発明２の「前記大径部を押さえて前記吐出管を鉛直軸周りで回転可能に前記被取付部材に取り付ける取付け手段」の構成を有しておらず、且つ、引用例１及び２には、この構成を示唆する記載もないので、本件発明２は、引用例１又は１及び２に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものとすることはできない。
５　むすび
　以上のとおりであるから、請求項１及び２に係る特許は、特許異議の申立ての理由及び証拠によっては取り消すことができない。
　また、他に請求項１及び２に係る特許を取り消すべき理由を発見しない。
　よって、結論のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１４年６月２０日（２００２．６．２０）
【訂正の要旨】
　訂正の要旨
１　特許第３１２６８７８号発明の明細書中の特許請求の範囲の請求項２の「・・・回転可能に
前記支持部材
前記被取付部材
２　前記明細書中の段落【００１１】及び【００３４】に記載された「
支持部材
被取付部材
（５４）【発明の名称】
基板裏面洗浄装置
（５７）【特許請求の範囲】
　【請求項１】　基板を回転させつつその裏面に下方から洗浄液を吐出して基板の裏面を洗浄する装置であって、基板を略水平姿勢で支持して回転させる支持回転手段と、支持された基板の下方から鉛直方向に対して斜め上方に向けて所定の角度をもって基板の裏面へ洗浄液を吐出する吐出手段と、前記吐出手段からの洗浄液の吐出向きを鉛直軸周りで回転可能に設定する設定手段と、を備えたことを特徴とする基板裏面洗浄装置。
　【請求項２】　基板を回転させつつその裏面に下方から洗浄液を吐出して基板の裏面を洗浄する装置であって、基板を略水平姿勢で支持して回転させる支持回転手段と、支持された基板の下方に配設される被取付部材と、前記被取付部材に鉛直姿勢で設けられる吐出管と、前記吐出管の先端部に形成されて鉛直方向に対して所定の角度をもって上方へ洗浄液を吐出するノズル部と、前記吐出管の下部に形成された大径部と、前記大径部を押さえて前記吐出管を鉛直軸周りで回転可能に前記
被取付部材
【発明の詳細な説明】
　【０００１】
　【産業上の利用分野】
　本発明は、半導体ウエハや液晶表示装置用ガラス基板などの基板を回転させつつその裏面に下方から洗浄液を吐出して基板の裏面を洗浄する基板裏面洗浄装置に関する。
　【０００２】
　【従来の技術】
　従来のこの種の基板裏面洗浄装置として、例えば、特公平５−１９７２号公報に示すようなものがある。この装置を図１１および図１２を参照して説明する。
　【０００３】
　この装置は、基板Ｗを略水平姿勢で吸引支持して回転させるスピンチャックを備えた支持回転手段１０と、この支持回転手段に支持された基板Ｗの下方から、鉛直方向に対して所定の角度をもって上方へ洗浄液を吐出する吐出手段２０と、基板Ｗの回転中心の上方からフォトレジスト液を吐出するフォトレジスト液吐出ノズル３０とを備えている（図１１（ａ））。なお、以下の説明においては、水平面に対する角度θ１で洗浄液の吐出角度を表現し、この角度θ１を噴角とする。吐出手段２０は支持回転手段１０を挟んで対向する２か所に配設されており、平面視でのその吐出向きは（図１１（ｂ））、基板回転中心を通って二つの吐出手段２０を結ぶラインを基準として、基板Ｗの回転進行方向（反時計周り方向）への所定の角度θ２（噴出方向）をもって配設されている。
　【０００４】
　この種の基板裏面洗浄装置では、まず、基板Ｗが支持回転手段１０に支持され、所定の回転速度で回転駆動される。そしてフォトレジスト液吐出ノズル３０から所定量のフォトレジスト液が吐出される。さらに所定時間だけ回転駆動することにより余剰のフォトレジスト液が振り切られ、基板Ｗの表面には所定膜厚のフォトレジスト膜が形成される。このとき基板Ｗの端面（オリエンテーション・フラットが形成されている場合にはその端面を含む）には、基板Ｗの表面に吐出されたフォトレジスト液が回り込んで付着し、さらには基板Ｗの裏面周辺部にまで余剰のフォトレジスト液が回り込むこともある。さらに基板Ｗの裏面には、フォトレジスト液が振り切られて霧状になったミストが回り込んで付着する。これらの付着したフォトレジスト液は、その後の硬化処理によって基板表面と同様に硬化膜となるが、その後の基板搬送工程やフォトリソグラフィー工程等において剥がれてパーティクル発生の原因となるなどの不都合を引き起こす。
　【０００５】
　したがって、通常は、フォトレジスト液の回転振り切り後に、基板Ｗの裏面に対して吐出手段２０から洗浄液を吐出し、支持回転手段１０のスピンチャック部分を除く基板Ｗの裏面を洗浄液で覆ってミストの付着を防止したり、余剰フォトレジスト液の基板端面、裏面への回り込みを阻止したり、付着したフォトレジスト液やそのミストを洗い流すという、いわゆるバックリンスを行うようにしている。
　【０００６】
　【発明が解決しようとする課題】
　ところで、基板Ｗにフォトレジスト液を吐出する際あるいは振り切る際の支持回転手段１０の回転数は、基板Ｗの表面に形成するフォトレジスト膜の膜厚に応じて可変する必要がある。例えば、薄い膜厚を必要とする場合には高い回転数で基板Ｗを回転させつつフォトレジスト液を吐出し、厚い膜厚を必要とする場合には低い回転数で基板Ｗを回転させつつフォトレジスト液を吐出する。かかる場合、吐出手段２０から洗浄液が吐出される方向である噴出方向θ２は固定であるので、支持回転手段１０の回転数に応じて基板Ｗの裏面を流れる洗浄液の軌跡が変動する。
　【０００７】
　また、基板Ｗの裏面においては、洗浄液によって洗浄される面積が広いほど良いが、スピンチャック等の支持回転手段１０にまで洗浄液が及ぶと、支持回転手段１０の吸引経路に洗浄液が侵入してパッキン等を劣化させたり、基板Ｗの裏面にスピンチャックの痕跡が残ったりする不都合があるため、支持回転手段１０を濡らさない範囲でできる限りスピンチャックの近傍まで洗浄液を及ばせることが望まれる。通常、吐出手段２０から吐出された洗浄液が基板Ｗの裏面に達した部分では、洗浄液の吐出圧力に応じて遠心力に逆らって回転中心側へと洗浄液の一部が基板Ｗの裏面を伝わる。模式的に示すと、回転数が低い場合は図１２（ａ）に示すようになり、回転数が高い場合は図１２（ｂ）に示すようになる。このとき、回転数が低い場合の支持回転手段１０のスピンチャックと洗浄液との間隔をｄ１とし、回転数が高い場合の間隔をｄ２とすると、大小関係はｄ１＜ｄ２となる。したがってフォトレジスト液の吐出時にバックリンスを行う場合には、支持回転手段１０の回転数に応じて洗浄液によって洗浄できる基板Ｗの裏面の範囲が変動することになる。すなわち、回転数が高いときは〔遠心力によって洗浄液が外周へ流れ、スピンチャック近傍には洗浄液が達しないので〕回転数が低いときに比べてバックリンスによって洗浄できる範囲が狭くなるという問題点がある。
　【０００８】
　また、フォトレジスト液を基板Ｗに吐出し、余剰フォトレジスト液の回転振り切り後にバックリンスを行う場合には、基板Ｗの裏面へのミストの付着、基板Ｗの端面へのフォトレジスト液の付着の度合いや、裏面の周囲へのフォトレジスト液の回り込みの度合いによって、バックリンスを行う際の支持回転手段１０の回転数を調整する必要がある。しかしながら、上記の理由により回転数が高いときは回転数が低いときに比べて洗浄できる範囲が狭くなるという問題点がある。
　【０００９】
　本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであって、洗浄液の噴出方向を容易に調節することができ、基板の裏面の広範囲を洗浄することができる基板裏面洗浄装置を提供することを目的とする。
　【００１０】
　【課題を解決するための手段】
　本発明は、このような目的を達成するために、次のような構成をとる。すなわち、請求項１に記載の発明は、基板を回転させつつその裏面に下方から洗浄液を吐出して基板の裏面を洗浄する装置であって、基板を略水平姿勢で支持して回転させる支持回転手段と、支持された基板の下方から鉛直方向に対して斜め上方に向けて所定の角度をもって基板の裏面へ洗浄液を吐出する吐出手段と、前記吐出手段からの洗浄液の吐出向きを鉛直軸周りで回転可能に設定する設定手段と、を備えたことを特徴とするものである。
　【００１１】
　また、請求項２に記載の発明は、基板を回転させつつその裏面に下方から洗浄液を吐出して基板の裏面を洗浄する装置であって、基板を略水平姿勢で支持して回転させる支持回転手段と、支持された基板の下方に配設される被取付部材と、前記被取付部材に鉛直姿勢で設けられる吐出管と、前記吐出管の先端部に形成されて鉛直方向に対して所定の角度をもって上方へ洗浄液を吐出するノズル部と、前記吐出管の下部に形成された大径部と、前記大径部を押さえて前記吐出管を鉛直軸周りで回転可能に前記
被取付部材
　【００１２】
　【作用】
　本発明の作用は次のとおりである。請求項１に記載の発明は、支持回転手段に支持された基板の下方から洗浄液を吐出手段で吐出する。この吐出手段は、鉛直方向に対して斜め上方に向けて所定の角度をもって基板の裏面へ洗浄液を吐出するので、基板の裏面を流れて基板端面に達した洗浄液は上方へと回り込む。これによって基板端面に付着したフォトレジスト液は除去される。さらに吐出手段は、設定手段によってその洗浄液の吐出向きを鉛直軸周りで回転可能に設定されるので、その吐出向きを容易に調整することができる。したがって、支持回転手段の回転速度等の条件に応じて吐出手段の吐出向きを調整することができる。
　【００１３】
　請求項２に記載の発明は、支持回転手段に支持された基板の下方から洗浄液を吐出管で吐出する。この吐出管は、その先端部に形成されたノズル部から鉛直方向に対して所定の角度をもって上方へ洗浄液を吐出するので、基板の裏面を流れて基板端面に達した洗浄液は上方へと回り込む。これによって基板端面に付着したフォトレジスト液は除去される。さらに前記吐出管は、その下部に形成された大径部を取付け手段で押さえることによって鉛直軸周りで回転可能に被取付部材に取り付けられているので、その先端部のノズル部からの吐出向きを容易に調整することができる。したがって支持回転手段の回転速度等の条件に応じて吐出手段の吐出向きを調整することができる。
　【００１４】
　【実施例】
　以下、図面を参照して本発明の一実施例を説明する。図１は、基板裏面洗浄装置の一例である回転式基板処理装置を示す縦断面図である。図２は、図１の要部拡大図である。
　【００１５】
　図中、符号１０は吸引式スピンチャックであり、基板Ｗを略水平姿勢で吸着支持する。この吸引式スピンチャック１０は、中空の回転軸１１を介して回転モーター１２によって回転駆動される。回転駆動の方向は、平面視で反時計方向である。さらに吸引式スピンチャック１０の周囲には、フォトレジスト液や洗浄液の飛散を防止するための飛散防止カップ１３が配設されている。また、図示しない搬送手段が未処理の基板Ｗを吸引式スピンチャック１０に載置または吸引式スピンチャック１０から処理済みの基板Ｗを受け取る際には、図示しない昇降手段が回転軸１１と飛散防止カップ１３とを相対昇降させることによって、吸引式スピンチャック１０を飛散防止カップ１３の上方へと移動させる（図中の二点鎖線）。さらに、飛散防止カップ１３の開口部１４ａ（後述する）の上方であって、基板Ｗのほぼ回転中心の上方には、フォトレジスト液を吐出する吐出ノズル３０が位置している。なお、吸引式スピンチャック１０と、回転軸１１と、回転モーター１２とは、本発明における支持回転手段に相当する。
　【００１６】
　飛散防止カップ１３は、上カップ１４と、円形整流部材１５と、被取付部材に相当するバックリンスバット１６と、下カップ１７とから構成されている。上カップ１４は、上部に開口部１４ａと、基板Ｗの回転によるフォトレジスト液や洗浄液の飛沫を下方へ案内する傾斜面１４ｂとを有する。上カップ１４は、下カップ１７の外周壁の上端部段落面に嵌め込まれている。
　【００１７】
　円形整流部材１５は、バックリンスバット１６に嵌め込まれ、バックリンスバット１６が下カップ１７に嵌め込まれることによって飛散防止カップ１３に取り付けられている。そして開口部１４ａから流入して基板Ｗの周縁に沿って流下する気流を下カップ１７に整流して案内するとともに、上カップ１４の傾斜面１４ｂによって下方に案内されたフォトレジスト液や洗浄液の飛沫をこの気流に乗せて下カップ１７に案内する傾斜整流面１５ａを有する。
　【００１８】
　下カップ１７は、外周壁の下部に内接するリング状の排液ゾーン１７ａと、この排液ゾーン１７ａの内側に形成したリング状の排気ゾーン１７ｂとを有する。排液ゾーン１７ａの底部には、排液口１７ｃが配設されている。この排液口１７ｃは、排液タンク１７ｄに接続されており、回転振り切り後のフォトレジスト液や洗浄液を回収する。排気ゾーン１７ｂの底部には、カップ排気口１７ｅが配設されている。このカップ排気口１７ｅは、排気ポンプ１７ｆに接続されており、飛散防止カップ１３内に滞留する霧状のフォトレジスト液や洗浄液、いわゆるミストを空気とともに吸引排気する。
　【００１９】
　下カップ１７と円形整流部材１５との間に配設されているバックリンスバット１６について、図３および図４を参照して説明する。図３はバックリンスバット１６の平面図であり、図４はそのＡ−Ａ矢視断面図である。
　【００２０】
　平面視におけるバックリンスバット１６の上面周辺部に形成された環状の凹部１６ａは、底面が水平面に形成され、その底面には、基板回転中心部を挟んで対称な位置に貫通孔１６ｂが２か所に形成されている。図２を参照して、貫通孔１６ｂは、その側壁に形成された雌ネジ部１６ｐと、雌ネジ部１６ｐの下端に連なる水平部１６ｑと、水平部１６ｑの中心に形成されたすり鉢部１６ｒと、すり鉢部１６ｒの下部とバックリンスバット１６の下面とを連通させる連通部１６ｓとからなっている。この貫通孔１６ｂには、洗浄液を吐出するためのバックリンスノズル２０が取り付けられている。バックリンスノズル２０は、中空部を有する吐出管２０ａと、その上端部に一体的に形成されて水平面に対して噴角θ１で斜め上方へ向けて洗浄液を吐出するノズル部２０ｂと、吐出管２０ａの下端部に、その吐出管２０ａの外径よりも半径方向に突出形成された大径部２０ｃと、大径部２０ｃの下方に形成された先細部２０ｒとから構成されている。バックリンスノズル２０は、その大径部２０ｃを押さえネジ２１によって押さえられてバックリンスバット１６の貫通孔１６ｂに取り付けられている。押さえネジ２１の外側面には、貫通孔１６ｂの雌ネジ部１６ｐと螺合する雄ネジ部２１ｐが形成され、押さえネジ２１の内部にはバックリンスノズル２０の大径部２０ｃを押さえる押さえ壁２１ｃが形成されている。また、押さえ壁２１ｃには、バックリンスノズル２０の吐出管２０ａが貫通する開口２１ａが形成されている。
　【００２１】
　バックリンスノズル２０の貫通孔１６ｂへの取付けは、以下のように行われる。すなわち、バックリンスノズル２０を貫通孔１６に差し込んでその先細部２０ｒと貫通孔１６ｂのすり鉢部１６ｒとのはめあいによって位置決めし、バックリンスノズル２０の吐出管２０ａを押さえネジ２１の開口２１ａに貫通させ、ノズル部２０ｂを所望の向きに向けた状態で、押さえネジ２１の雄ネジ部２１ｐを貫通孔１６ｂの雌ネジ部１６ｐと螺合させて締め付ける。そしてこのとき、バックリンスノズル２０のノズル部２０ｂの向きを容易に調整設定することができる。すなわち、押さえネジ２１の締め付け前においては、バックリンスノズル２０のノズル部２０ｂの向きすなわち洗浄液の吐出向きは、バックリンスノズル２０の鉛直軸まわりでの回転により回転調整可能である。このとき、バックリンスノズル２０の回転は、バックリンスノズル２０の先細部２０ｒと貫通孔１６ｂのすり鉢部１６ｒとのはめあいによって案内され、微妙な調整作業を円滑に行い得る。また、押さえネジ２１の締め付け時においては、バックリンスノズル２０の大径部２０ｃは押さえネジ２１の押さえ壁２１ｃによってバックリンスバット１６との間で押さえられ、ノズル部２０ｂの向きは固定される。なお、噴角θ１は、０°＜θ１＜９０°の範囲で適宜設定され、これにより、ノズル部２０ｂは鉛直方向に対して所定の角度をもって上方へ向けて洗浄液を吐出することになるが、この噴角θ１は基板Ｗの裏面および端面の洗浄度等に関連するので、基板Ｗのサイズや回転モーター１２の回転数などの条件に応じて例えば２０°〜６０°程度の範囲内で設定される。なお、バックリンスノズル２０を構成する吐出管２０ａとノズル部２０ｂとは本発明における吐出手段に相当し、バックリンスノズル２０の大径部２０ｃと押さえネジ２１は設定手段に相当する。また、押さえネジ２１は取付け手段にも相当する。
　【００２２】
　バックリンスバット１６の下面周辺部には、リング状の浅い溝である洗浄液供給溝１６ｃが形成されている。この洗浄液供給溝１６ｃの下面には、流通する洗浄液の漏れがないように蓋材１６ｄが溶接されている。洗浄液供給溝１６ｃには、蓋材１６ｄに配設されたＬ字状の管継手１８と、これに接続された供給配管１８ａを介して洗浄液供給部１８ｂ（図１参照）から洗浄液が所定圧力で供給されるようになっている。
　【００２３】
　バックリンスバット１６に取り付けられたバックリンスノズル２０は、その上部に取り付けられた円形整流部材１５の、リング状の凹部１５ｂ（図２参照）に形成された貫通孔１５ｃから突出している。したがってバックリンスノズル２０から吐出された洗浄液が円形整流部材１５の貫通孔１５ｃから流下したり、洗浄液供給溝１６ｃから洗浄液が大径部２０ｃ，押さえネジ２１の周囲を伝ってバックリンスバット１６の凹部１６ａに滲み出して滞留する場合がある。そこで凹部１６ａに貫通孔１６ｅを形成し、これに管継手１９を配設することによって凹部１６ａに滞留した洗浄液を排出するようにしている。この管継手１９は、排液タンク１７ｄに接続されている。
　【００２４】
　平面視でのバックリンスノズル２０の洗浄液の吐出向きである噴出方向θ２は、図５に示すように設定されている。噴出方向θ２は、平面視で基板回転中心を通って二つのバックリンスノズル２０を結ぶラインを基準として、基板Ｗの回転進行方向（反時計周り方向）の角度で定義する。
　【００２５】
　図６と図７を参照する。図６は吸引式スピンチャック１０の回転数が低い場合を示し、図７は吸引式スピンチャック１０の回転数が高い場合を示している。
　【００２６】
　回転数が低い場合について説明する。この回転数が低い場合とは、回転数が例えば２０〜２００ｒｐｍ程度であり、このとき噴出方向は例えば約０〜４５°（θ２ａ）に設定する。この場合の洗浄液の軌跡は、二点鎖線で示すようになる（図６（ａ））。さらにバックリンスノズル２０から噴射され、基板Ｗの裏面に達した洗浄液の一部は、一時的に遠心力に逆らって回転中心側へ基板Ｗの裏面を伝わる。このときの吸引式スピンチャック１０と回転中心側に伝わった洗浄液との間隔をｄ１とする（図６（ｂ））。この場合の洗浄される平面視での範囲は、符号Ｃ１で示す二点鎖線の円より外周側となる。
　【００２７】
　さらに、バックリンスノズル２０のノズル部２０ｂは、噴角θ１で基板Ｗの裏面に洗浄液を噴射するので、上方へのエネルギーをもった洗浄液は、基板Ｗの端面に達すると上方へ回り込む。これによって基板Ｗのオリエンテーション・フラット部の端面や周囲の端面に付着したフォトレジスト液を除去することができる（図６（ｂ））。
　【００２８】
　次に基板Ｗに形成するフォトレジスト膜の膜厚を薄くする場合や、回転振り切り後にバックリンスを行う場合で、吸引式スピンチャック１０の回転数を高くする場合について説明する。この場合の回転数は、例えば５００ｒｐｍ程度に設定する。かかる場合、上カップ１４を下カップ１７から取り外し、円形整流部材１５を取り外す。次に押さえネジ２１を緩めるとともにバックリンスノズル２０の吐出管２０ａを鉛直軸周りに回転させて噴出方向θ２を回転数が低い場合に比較してやや大きく調整し、押さえネジ２１を締め付けて固定する。このように押さえネジ２１を緩めて吐出管２０ａを鉛直軸周りに回転させることにより洗浄液の吐出方向を容易に調整することができる。
　【００２９】
　回転数が５００ｒｐｍ程度の場合には、噴出方向は例えば約４５°（θ２ｂ）に設定する。この場合においては、洗浄液が遠心力によって基板Ｗの外周に移動するのが早くなるので洗浄液の軌跡は図７（ａ）の二点鎖線で示すように回転数が低い場合に比べて短くなる。このときの吸引式スピンチャック１０と回転中心側に伝わった洗浄液との間隔をｄ２とする（図７（ｂ））。単に吸引式スピンチャック１０の回転数を高くしたのみであれば、このｄ２はｄ１よりも大きくなる。しかし、ノズル部２０ｂからの洗浄液の噴出方向θ２を調整することにより、ノズル部２０ｂから吐出された洗浄液の吐出向きを変えることができ、またそれに伴って、基板Ｗ裏面への洗浄液の基板Ｗの半径方向における到達位置をも変えることができるので、回転数が高くなるのに応じて洗浄液の噴出方向θ２を調整することにより、このｄ２と上記のｄ１とはほぼ同程度に調整することができる。この場合に洗浄される平面視での範囲は、符号Ｃ２で示す二点鎖線の円より外周側になり、上記のようにバックリンスノズル２０の噴出方向θ２を鉛直軸周りに回転させることによって回転数が低い場合とほぼ同程度になるように調整することができる。すなわち、噴出方向θ２を調整することによって、基板Ｗの裏面の広範囲を洗浄することができる。なお、このような洗浄液の噴出方向θ２の調整は、基板Ｗの端面やオリエンテーション・フラットの端面に付着したフォトレジスト液の除去が良好になされ、かつ洗浄液によって洗浄される基板Ｗの裏面面積が広くなる向きを実験的に求め、その結果に基づいて行われる。噴出方向θ２は負も値であってもよく、この場合には洗浄液を吐出向きは、基板Ｗの回転進行方向と逆方向になる。
　【００３０】
　次に、バックリンスノズル２０の変形例を示す図８を参照して説明する。バックリンスノズル２０は、ネジが形成された鉛直管部２０ｄと、この鉛直管部２０ｄから噴角θ１で屈曲したノズル部２０ｅが一体形成されてなる。このバックリンスノズル２０は、その鉛直管部２０ｄをバックリンスバット１６の貫通孔１６ｂにねじ込まれている。そして、押さえネジ２１によってその噴出方向θ２が固定されている。この構成では、押さえネジ２１を緩め、バックリンスノズル２０の向きを調整し（図中の二点鎖線）、その後押さえネジ２１を締めつけることによって噴出方向θ２を調整することができる。
　【００３１】
　なお、本実施例では、バックリンスノズル２０を２か所に配設したが、本発明はこの個数に限定されることなく種々の変形実施が可能である。例えば、バックリンスノズル２０は１個でもよく、さらに図９に示すようにバックリンスノズル２０を４か所に配設するようにしてもよい。また、それぞれの噴出方向θ２を一対のバックリンスノズル２０ごとに変えて、例えば、一方の一対のバックリンスノズル２０の噴出方向をθ２ａとし、他方の一対のバックリンスノズル２０の噴出方向をθ２ｂとする。そして、図示しない電磁弁と制御部によってバックリンスノズル２０への洗浄液の供給を制御し、回転数に応じてこれらの一対のバックリンスノズル２０を切り換え使用するようにしてもよい。
　【００３２】
　図１０はさらに他の変形例を示す。バックリンスノズル２０は、鉛直管部２０ｄとその先端部に挿入して取り付けられた噴角θ１で斜め上方へ向けて洗浄液を吐出するノズル部２０ｅとからなる。バックリンスバット１６の凹部１６ａの底面には台座３０がねじ込まれ、凹部１６ａの底面との接触面にはパッキン３１が介挿されて洗浄液の漏れを防止する。台座３０の上部外周にはネジ山が形成されて、上方から押さえネジ３２がねじ込まれる。台座３０の上部には、鉛直管部２０ｄが挿入される挿入孔３０ａが形成され、また挿入孔３０ａの上端にはすり鉢状の傾斜面３０ｂが形成される。そして、かかる傾斜面３０ｂの部分にパッキン３３を介挿して押さえネジ３２を締め付けることにより、バックリンスノズル２０からの洗浄液の噴出方向θ２を任意に調整して固定することができる。また、図１０では鉛直管部２０ｄを挿入孔３０ａの底部まで挿入してあるが、本実施例においてはバックリンスノズル２０を基板Ｗに触れない範囲で任意の高さまで引き上げて、かかる状態で押さえネジ３２を締め付けることにより、傾斜面３０ｂとパッキン３３により鉛直管部２０ｄが締め付けられ、その任意の高さでバックリンスノズル２０を固定することができる。これにより、バックリンスノズル２０の取り付け姿勢、洗浄液の吐出向きの調整の自由度をさらに高めることができ、基板Ｗの裏面の洗浄範囲を広くし、かつ基板Ｗの周囲端面やオリエンテーション・フラット部の端面を良好に洗浄する状態に調整することができる。
　【００３３】
　【発明の効果】
　以上の説明から明らかなように、請求項１に記載の発明によれば、吐出手段は、鉛直方向に対して斜め上方に向けて所定の角度をもって基板の裏面へ洗浄液を吐出し、さらに吐出手段は設定手段によって吐出向きを設定されるので、容易に吐出向きを調整できて基板裏面の広範囲を洗浄することができる。
　【００３４】
　また、請求項２に記載の発明によれば、吐出管は、その先端部に形成されたノズル部から鉛直方向に対して所定の角度をもって上方へ洗浄液を吐出し、さらに吐出管は、その下部に形成された大径部を取付け手段で押さえることによって鉛直軸周りで回転可能に
被取付部材
【図面の簡単な説明】
　【図１】実施例に係る回転式基板処理装置の縦断面図である。
　【図２】回転式基板処理装置の要部拡大図である。
　【図３】バックリンスバットの平面図である。
　【図４】図３のＡ−Ａ矢視断面図である。
　【図５】バックリンスノズルの噴出方向の説明に供する図である。
　【図６】基板裏面の洗浄範囲の説明に供する図である。
　【図７】基板裏面の洗浄範囲の説明に供する図である。
　【図８】バックリンスノズルの変形例を示す図である。
　【図９】変形例を示す平面図である。
　【図１０】他の変形例を示す図である。
　【図１１】従来例に係る基板裏面洗浄装置の説明に供する図である。
　【図１２】基板裏面の洗浄範囲の説明に供する図である。
　【符号の説明】
　１０…吸引式スピンチャック
　１１…回転軸
　１２…回転モーター
　１３…飛散防止カップ
　１４…上カップ
　１５…円形整流部材
　１６…バックリンスバット
　１７…下カップ
　２０…バックリンスノズル
　２０ａ…吐出管
　２０ｂ…ノズル部
　２０ｃ…大径部
　２１…押さえネジ