【事件の表示】
　特許第３１２２４９８号「カラーフィルタの製造方法」の請求項１に係る特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結　論】
　訂正を認める。
　特許第３１２２４９８号の請求項１に係る特許を維持する。
【理　由】
（１）手続の経緯
　特許第３１２２４９８号の請求項１に係る発明は、平成３年９月３０日に特許出願され、平成１２年１０月２０日にその特許の設定登録がなされ、その後異議申立人篠田健により特許異議の申立がなされ、取消理由通知がなされ、その指定期間内である平成１３年１１月１２日に訂正請求がなされたものである。
　
（２）訂正の適否についての判断
　（あ）訂正の内容
　訂正事項ａ
　特許請求の範囲の請求項１の末行の「（ハ）マスク基板上の感光性樹脂」を、「（ハ）基板上の感光性樹脂」と訂正する。
　
　訂正事項ｂ
　明細書の段落【０００５】の第９行（特許公報の段落【０００５】の第１２行）の「（ハ）マスク基板上の感光性樹脂」を、「（ハ）基板上の感光性樹脂」と訂正する。
　
　（い）訂正の目的の適否、新規事項の有無及び拡張・変更の存否
　訂正事項ａ及びｂに係る訂正は、誤記の訂正に該当し、実質的に特許請求の範囲を拡張又は変更するものではないし、新規事項の追加にも該当しない。
　（う）むすび
　以上のとおりであるから、上記訂正は特許法等の一部を改正する法律（平成６年法律第１１６号）（以下「平成６年改正法」という。）附則第６条第１項の規定によりなお従前の例によるとされる、特許法第１２０条の４第３項において準用する平成６年改正法による改正前の特許法第１２６条第１項ただし書及び第２項の規定に適合するので、当該訂正を認める。
　
（３）特許異議の申立について
　（あ）申立の理由の概要
　申立人篠田健は、本件明細書の記載には不備があり特許法第３６条第４項及び第６項の要件を満たしていないので、本件請求項１に係る発明の特許を取り消すべき旨主張している。
　
　（い）本件請求項１に係る発明
　上記「（２）訂正の適否についての判断」で示したように上記訂正が認められるから、本件請求項１に係る発明は、上記訂正請求に係る訂正明細書の特許請求の範囲の請求項１に記載された事項により特定される次のとおりのものである。
「【請求項１】 基板上に所定色の画素を形成し、その上に平滑化膜形成用の感光性樹脂を塗布し、次いで順次下記（イ）（ロ）（ハ）の各工程を経ることにより、エッジ部において次第に膜厚が減少するような断面形状の平滑化膜を形成することを特徴とするカラーフィルタの製造方法。
（イ）透明なマスク基板の一方の面上に所定パターンの遮光膜を形成したフォトマスクを他方の面が上記基板と対向する向きに配置する工程。
（ロ）上記フォトマスクの遮光膜が形成されている面側から紫外線を照射し、遮光膜縁部における紫外線の広がりを利用して感光性樹脂の上記遮光膜縁部に対応する部分の露光量が次第に変化する状態で感光性樹脂を露光させる工程。
（ハ）基板上の感光性樹脂を現像する工程。」
　
　（う）特許法第３６条違反について
　平成１３年１１月１２日付の訂正で、明細書の記載不備については解消した。
　
　（え）むすび
　以上のとおりであるから、特許異議の申立の理由によっては、本件請求項１に係る発明についての特許を取り消すことはできない。
　また、他に本件請求項１に係る発明についての特許を取り消すべき理由を発見しない。
　したがって、本件請求項１に係る発明についての特許は拒絶の査定をしなければならない特許出願に対してされたものと認めない。
　よって、特許法等の一部を改正する法律（平成６年法律第１１６号）附則第１４条の規定に基づく、特許法等の一部を改正する法律の施行に伴う経過措置を定める政令（平成７年政令第２０５号）第４条第２項の規定により、結論のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１４年１月１１日（２００２．１．１１）
【訂正の要旨】
　（訂正の要旨）
　訂正事項ａ
　特許請求の範囲の請求項１の末行の「（ハ）マスク基板上の感光性樹脂」を、「（ハ）基板上の感光性樹脂」と訂正する。
　訂正事項ｂ
　明細書の段落【０００５】の第９行（特許公報の段落【０００５】の第１２行）の「（ハ）マスク基板上の感光性樹脂」を、「（ハ）基板上の感光性樹脂」と訂正する。
（５４）【発明の名称】
カラーフィルタの製造方法
（５７）【特許請求の範囲】
　【請求項１】　基板上に所定色の画素を形成し、その上に平滑化膜形成用の感光性樹脂を塗布し、次いで順次下記（イ）（ロ）（ハ）の各工程を経ることにより、エッジ部において次第に膜厚が減少するような断面形状の平滑化膜を形成することを特徴とするカラーフィルタの製造方法。
（イ）透明なマスク基板の一方の面上に所定パターンの遮光膜を形成したフォトマスクを他方の面が上記基板と対向する向きに配置する工程。
（ロ）上記フォトマスクの遮光膜が形成されている面側から紫外線を照射し、遮光膜縁部における紫外線の広がりを利用して感光性樹脂の上記遮光膜縁部に対応する部分の露光量が次第に変化する状態で感光性樹脂を露光させる工程。
（ハ）
基板上の感光性樹脂
【発明の詳細な説明】
　【０００１】
　【産業上の利用分野】
　この発明は、液晶、例えばスーパー・ツイステッド・ネマティック液晶と組み合わせてカラー表示装置を構成する場合等に用いられるカラーフィルタの製造方法に関する。
　【０００２】
　【従来の技術】
　液晶セルを構成する片側の基板内面に、所定色の画素、例えば赤、緑、青の３色の画素を備えたカラーフィルタを形成し、対向する２枚の基板間に液晶層を挟持させたカラー表示装置は、例えば特開昭６１−３１２２号公報等によって知られている。このようなカラーフィルタにおいては、画素の保護と画素形成部の平滑化のために平滑化膜が設けられている。この平滑化膜には一般にアクリル系、ポリイミド系、エポキシ系等の高分子樹脂が使用されるが、基板全面に平滑化膜が形成される場合と感光性樹脂等を用いてフォトリソグラフィの技術により表示部のみを覆うようなパターニングで平滑化膜が形成される場合がある。
　【０００３】
　後者の表示部のみを覆うパターニングの場合には、現像時における現像液の染み込みに起因するめくれによって平滑化膜のエッジ部が鋭い断面形状になりやすい。図３はこの状態を例示したもので、１は基板、２は画素、３は平滑化膜、３ａは上方に盛り上がった部分を有するエッジ部である。平滑化膜３の上面には後工程で透明導電膜４が形成されるが、鋭い形状のエッジ部３ａのためにこれを覆う部分４ａに無理な力が加わりやすくなり、またステップカバレッジがよくない場合には平滑化膜３の端面に沿う立ち下がり部が薄くなる。このため、部分４ａで断線しやすくなり、信頼性を低下させる結果となっていた。
　【０００４】
　【発明が解決しようとする課題】
　この発明はこのような問題点に着目し、平滑化膜のエッジ部において透明導電膜が断線しないカラーフィルタを得ることを課題としてなされたものである。
　【０００５】
　【課題を解決するための手段】
　上述の課題を解決するために、この発明では、基板上に所定色の画素を形成し、その上に平滑化膜形成用の感光性樹脂を塗布し、次いで
（イ）透明なマスク基板の一方の面上に所定パターンの遮光膜を形成したフォトマスクを他方の面が上記基板と対向するように配置する工程。
（ロ）上記フォトマスクの遮光膜が形成されている面側から紫外線を照射し、遮光膜縁部における紫外線の広がりを利用して感光性樹脂の上記遮光膜縁部に対応する部分の露光量が次第に変化する状態で感光性樹脂を露光させる工程。
（ハ）
基板上の感光性樹脂
の各工程を順次経ることにより、エッジ部において次第に膜厚が減少するような断面形状の平滑化膜を形成するようにしている。
　【０００６】
　【作用】
　平滑化膜のエッジ部の膜厚が次第に減少するので図３のような鋭い形状にならず、平滑化膜の上面に形成される透明導電膜も平滑化膜の形状に沿った形状となって断線が生じにくくなる。
　【０００７】
　【実施例】
　次に図示の実施例について説明する。図２はこの発明の一実施例の製造方法の工程説明図であり、図１はこの方法によって製造されたカラーフィルタの断面図である。図１において、１は基板、２は画素、３は平滑化膜であることは図３と同様であるが、平滑化膜３のエッジ部３ｂはその断面形状が図３のエッジ部３ａのような鋭い形状ではなく、膜厚が勾配を持ってなだらかに減少する形状となっている。このため、平滑化膜３の上面に透明導電膜４が形成された場合にエッジ部３ｂを覆う部分４ｂもなだらかなものとなって、この部分に無理な力が加わることがなくなり、また鋭い立ち下がり形状とならないためにステップカバレッジに関しても有利に作用して部分４ｂを所定の厚さで形成することが容易となり、この部分での断線が生じにくくなって信頼性が向上されるのである。なお、エッジ部３ｂの傾斜は４５°以下とすることが望ましい。
　【０００８】
　図２において１４はフォトマスクであり、透明なマスク基板１１の一方の面上に所定のパターンで遮光膜１２を形成してある。この遮光膜１２は例えばクロムの成膜によって形成される。露光処理は、図２の（ａ）に示すように、画素（図示せず）を形成してその上に平滑化膜形成用の感光性樹脂５を塗布した基板１に、上記のフォトマスク１４を重ねて紫外線を照射し、遮光膜１２で覆われている部分以外を感光させることによって行われるが、フォトマスク１４を遮光膜１２を形成してない側が基板１と対向するような向きで配置し、紫外線を遮光膜１２が形成されている側から照射するのである。
　【０００９】
　フォトリソグラフィの技術においては、転写精度を向上するためにマスクと被露光物との間隔、すなわちプロキシミティ量は通常１００μｍ以下にされるが、この発明では上記のように遮光膜１２が形成されていない側を基板１に向けてフォトマスク１４を配置するのでプロキシミティ量は通常よりも大きくなり、紫外線の回折現象によって遮光膜１２の縁部で生ずる紫外線の広がりの影響が拡大される。このため、遮光膜１２の縁部に対応する部分の露光量は勾配を持って次第に変化するものとなるのであるが、更に紫外線は遮光膜１２を過ぎた後にマスク基板１１を通過して若干散乱されるので、露光量の変化はよりなだらかなものとなる。なお、この紫外線の広がりは露光時の基板１とフォトマスク１４の距離によっても変化する。
　【００１０】
　次に、この基板１を現像して感光性樹脂５の感光した部分を除去し、残った部分を平滑化膜３とするのであるが、遮光膜１２の縁部に対応するエッジ部３ｂは露光量が次第に変化しているので現像時に除去される量も次第に変化し、膜厚がなだらかに減少した形状となるのである。以後、透明導電膜の形成その他の所定の工程を経てカラーフィルタが完成される。
　【００１１】
　なお、上記の実施例では平滑化膜の形成材料としてポジタイプの感光性樹脂を使用しているが、材料がネガタイプの場合には遮光膜の位置が逆になるだけであり、同様な工程によってエッジ部の膜厚が勾配を持って次第に減少する形状の平滑化膜を得ることができる。
　【００１２】
　【発明の効果】
　上述の説明から明らかなように、この発明のカラーフィルタの製造方法は、フォトマスクを使用した露光処理の際に、遮光膜縁部での紫外線の広がりを積極的に利用して平滑化膜のエッジ部の露光量を次第に変化する状態とし、平滑化膜のエッジ部を次第に膜厚が減少する断面形状で形成するようにしたものである。
　【００１３】
　従って、平滑化膜のエッジ部が鋭い形状にならず、特に紫外線がマスク基板を通過する際に散乱が促進されるのでエッジ部はよりなだらかなものとなり、透明導電膜もこの平滑化膜のなだらかな形状に沿って形成されると共に、透明導電膜成膜の際のステップカバレッジも良好となってエッジ部で所定の膜厚を確保することが容易となり、透明導電膜の断線が発生しにくく、信頼性の高いカラーフィルタを得ることができるのである。
【図面の簡単な説明】
　【図１】
　この発明の製造方法によるカラーフィルタの断面図である。
　【図２】
　この発明のカラーフィルタの製造方法の一実施例の工程説明図である。
　【図３】
　従来の製造方法によるカラーフィルタの断面図である。
　【符号の説明】
　１　基板
　２　画素
　３　平滑化膜
　３ｂ　エッジ部
　４　透明導電膜
　５　感光性樹脂
　１１　マスク基板
　１２　遮光膜
　１４　フォトマスク