【事件の表示】
　特許第２９９８７３８号「スパッタリング装置とその成膜方法」の請求項１、２に係る特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結　論】
　特許第２９９８７３８号の請求項１、２に係る特許を取り消す。
【理　由】
１．手続の経緯
　特許第２９９８７３８号は、平成１０年５月２１日に特許出願され、平成１１年１１月５日に登録の設定がなされ、その後、その請求項１、２に係る発明の特許に対して特許異議申立人佐々木茂之により特許異議の申立てがなされたものである。
　
２．特許異議申立の理由の概要
　特許異議申立人は、請求項１、２に係る発明の特許は、（Ａ）その明細書が特許法第３６条第４項の規定に適合していない出願に対してなされたものであり、また、（Ｂ）請求項１、２に係る発明は甲第１号証（特許第２５９２３１１号公報）に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであり、特許法第２９条第２項の規定に違反してされたものであるから、取り消されるべきものである旨主張している。
　
３．本件発明
　本件特許の請求項１、２に係る発明（以下、それぞれ「本件発明１」、「本件発明２」という。）は、特許明細書および図面の記載からみて、その特許請求の範囲の請求項１、２に記載された次の事項により特定されるものである。
「【請求項１】成膜材料であるｎ個（ｎは２以上の整数）のターゲットと膜を成膜するｋ個（ｋは２以上の整数）の基板とが対向して設けられ、前記基板がその中心を回転軸として自転しながら前記ターゲット上を公転し、前記ターゲットの中心は、基板の中心軸の公転軌跡が通過するように配置したスパッタリング装置において、
　前記基板が、公転１回に対して自転回数がｎ回（このｎは、前記ｎと同じ）以上の非整数値となるように構成したことを特徴とするスパッタリング装置。
【請求項２】成膜材料であるｎ個（ｎは２以上の整数）のターゲットと膜を成膜するｋ個（ｋは２以上の整数）の基板とが対向して設けられ、前記基板がその中心を回転軸として自転しながら前記ターゲット上を公転し、前記ターゲットの中心は、基板の中心軸の公転軌跡が通過するように配置したスパッタリング装置を用いた成膜方法において、
　前記基板が、公転１回に対して自転回数がｎ回（このｎは、前記ｎと同じ）以上の非整数値となるように構成したことを特徴とするスパッタリング装置を用いた成膜方法。」
　
４．引用刊行物記載の発明
（１）これに対して、当審において平成１２年１０月３１日付けで通知した取消の理由に引用した刊行物１「特許第２５９２３１１号公報（平成９年３月１９日発行、申立人が提出した甲第１号証）」には、「スパッタ室内に希土類金属ターゲットと遷移金属ターゲットを並設し、前記両ターゲットに対向すると共に公転軸が前記両ターゲット面の各々の幾何学的中心を通る各垂線から等距離に位置するようにした前記基板を自公転させながら前記両ターゲットによるスパッタリングを行う光磁気記録媒体の製造方法」（第１欄３−８行）及び、「スパッタ室内に並設された希土類金属ターゲット及び遷移金属ターゲットと、前記両ターゲットに対向するように前記基板を保持する自転ホルダと、公転軸が前記両ターゲット面の各々の幾何学的中心を通る各垂線から等距離に位置するように前記自転ホルダ」（第１欄１４行−第２欄８行）を備えた、光磁気記録媒体の製造装置が記載されている。
　また、「前記自転ホルダ３は前記公転ホルダ４に対して複数個（第１図では２個）装着されるように構成されている」（第５欄４−５行）点、その［実施例］には、「前記自転ホルダ３を公転数Ｗ１が３０ｒｐｍ、自転数Ｗ２が１２８ｒｐｍ（自公転比：Ｗ２／Ｗ１＝４．２７）となるように回転」（第６欄４５−４７行）させる点がそれぞれ記載されている。
（２）同じく刊行物２「特開昭１０−１１６７８９号公報（平成１０年５月６日公開）」には、「基板回転装置及び基板回転方法」（発明の名称）が開示されており、図１には「複数の基板４２を支持する上部回転体６２」（第１０欄１７−１９行）が配置された装置が示されている。
　
５．対比、判断
（１）本件発明１について
　刊行物１に記載の発明について、特許権者は特許異議意見書において、基板の自公転比に整数を含んでおり、ターゲット上を基板が通過する際に毎回異なった状態で通過させることで膜厚のばらつきを補正するという概念が記載されていない旨主張しているが、上述のように、同刊行物には、実施例として自公転比４．２７の場合に均一な膜厚が得られることが示されており、さらに、第５欄下２行−第６欄３行、及び【第２図】には、自公転比が整数値のときには膜厚分布が悪化する点について示唆されていることから、かかる自公転比が非整数の場合について記載されていると言える。
　そこで、本件発明１と刊行物１に記載の発明とを対比すると、両者は「成膜材料である２個以上のターゲットと膜を成膜する２個以上の基板とが対向して設けられ、前記基板がその中心を回転軸として自転しながら前記ターゲット上を公転するように配置したスパッタリング装置において、前記基板が、公転１回に対して自転回数が２回以上の非整数値となるように構成したスパッタリング装置」である点で一致し、（ａ）前者においてはターゲットの中心を基板の中心軸の公転軌跡が通過している点でのみ、相違している。
  しかしながら、基板の自公転を伴うスパッタリング装置において、ターゲットの中心が上記基板の公転軌跡上に位置するような構造とすることは、その設計上、通常想定される事項である（必要であれば、特開平３−１００１７１号公報（例えば、第４頁左下欄、比較例１）を参照されたい。）点を考慮すれば、刊行物２には、ターゲット中心と基板中心の公転軌跡との位置関係について明確に特定する記載はないものの、例えば、図１の記載から、カソードに設けられたターゲットの中心が上記公転軌跡上に位置するような装置が開示されているものと解することができる。してみると、刊行物１に記載のスパッタリング装置の発明において、ターゲットの中心を基板の中心軸の公転軌跡が通過するよう構成する点に格別の技術的困難性は認められない。
（２）本件発明２について
　本件発明２は本件発明１に係るスパッタリング装置を用いた成膜方法に係るものであり、これと刊行物１に記載のスパッタリング装置を用いた膜の製造方法の発明とを対比すると、（１）で検討した相違点（ａ）においてのみ、両発明は相違している。
　しかしながら、（１）で検討したとおり、刊行物１に記載のスパッタリング装置の発明において、ターゲットの中心を基板の中心軸の公転軌跡が通過するよう構成した点に格別の技術的困難性が認められないから、それを用いた成膜方法についても当業者が容易に想到し得るところである。
　したがって、本件発明２は、刊行物１及び刊行物２の記載に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものである。
　
（３）明細書の記載不備について
　特許異議申立人は、本件発明１及び本件発明２において、ターゲットの中心を基板の中心軸の公転軌跡が通過するように配置した点について、「その内容が明細書によって支持されておらず、ターゲット中心と、基板の中心軸の公転軌跡との間の許容される偏心量が具体的に記載されていない限り、その範囲が不明確であるため、本願特許発明は当業者が実施できない」（特許異議申立書第６頁第５−８行）旨主張している。しかしながら、本件発明１及び本件発明２は、所期の目的を達するために、ターゲット中心と基板中心軸の公転軌跡の相互に偏倚を設けないような位置関係とするものであって、数学的な厳密さをもって上記偏倚を全く許容しないとするものではないと解される。すなわち、出願時の技術常識を考慮すれば、当該技術において装置上許容される範囲の上記偏倚を有する場合であっても厳密に全く偏倚がない場合とほぼ同等の均一性を有する膜が得られると考えられることから、上記範囲の偏倚は許容されているものと解されるべきである。してみると、特許異議申立人の主張するように許容される偏心量が具体的に記載されていないことをもって、本件特許明細書の発明の詳細な説明が当業者が実施できる程度に明確かつ十分に記載されていないと認めることはできない。
　
６．むすび
　以上により、本件発明１、２はそれぞれ刊行物１、２に記載された発明に基づいて、当業者が容易に発明することができたものであるから、上記発明についての特許は特許法第２９条第２項の規定に違反してされたものであり、同法第１１３条第２号に該当し、取り消されるべきものである。
　よって結論のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１４年２月５日（２００２．２．５）