【事件の表示】
　特許第３０１１２７７号「有機エレクトロルミネッセンス素子の製造法」の請求項１に係る特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結　論】
　訂正を認める。
　特許第３０１１２７７号の請求項１に係る特許を取り消す。
【理　由】
１．手続の経緯
　特許第３０１１２７７号の請求項１に係る発明についての出願は、平成２年９月２０日に特許出願され、平成１１年１２月１０日にその発明について特許権の設定登録がなされ、その後、その特許について、申立人・三菱化学株式会社より特許異議の申立がなされ、平成１３年３月１６日付けで取消しの理由が通知され、その指定期間内である平成１３年５月２９日に訂正請求がなされたものである。
　
２．訂正の適否についての判断
（１）訂正の内容
　ア．訂正事項ａ
　【特許請求の範囲】の【請求項１】における「その蒸着工程の際に、基板を冷却する事」を「少なくとも２層の組み合せが正孔輸送層と電子輸送性発光層との組み合せもしくは電子輸送層と正孔輸送性発光層との組み合せ、または少なくとも３層の組み合せが正孔輸送層と電子輸送層と発光層との組み合せからなる層の蒸着工程の際に、支持体と電極からなる基板を冷却すること」と訂正する。
　イ．訂正事項ｂ
　【発明の詳細な説明】の［課題を解決するための手段］の項における「その蒸着工程の際に基板」（特許第３０１１２７７号公報第２頁左欄２２〜２３行）を「少なくとも２層の組み合せが正孔輸送層と電子輸送性発光層との組み合せもしくは電子輸送層と正孔輸送性発光層との組み合せ、または少なくとも３層の組み合せが正孔輸送層と電子輸送層と発光層との組み合せからなる層の蒸着工程の際に、支持体と電極からなる基板」と訂正する。
（２）訂正の目的の適否、新規事項の有無及び拡張・変更の存否
　上記訂正事項ａは、蒸着工程の際の基板を、上記公報第２頁左欄２７〜３１行及び同公報第２頁右欄１８〜２３行に記載された下位概念のものに限定しようとするものであるから、特許請求の範囲の減縮を目的とした明細書の訂正に該当し、新規事項の追加に該当しない。
　また、上記訂正事項ｂは、上記訂正事項ａと整合を図るものであるから、明りょうでない記載の釈明を目的とした明細書の訂正に該当し、新規事項の追加に該当しない。
　そして、上記いずれの訂正事項も、発光ムラの小さい有機ＥＬ素子の提供という課題に変更を及ぼすものでもないから、実質的に特許請求の範囲を拡張又は変更するものではない。
（３）むすび
　以上のとおりであるから、上記訂正は、特許法等の一部を改正する法律（平成６年法律第１１６号）附則第６条第１項の規定によりなお従前の例によるとされる、特許法第１２０条の４第３項において準用する平成６年法律第１１６号による改正前の特許法第１２６条第１項ただし書及び第２項の規定に適合するので、当該訂正を認める。
　
３．特許異議の申立てについての判断
（１）本件発明
　上記２．で示したように上記訂正が認められるから、本件の請求項１に係る発明（以下、「本件発明」という。）は、上記訂正に係る訂正明細書の特許請求の範囲の請求項１に記載した事項により特定される次のとおりのものである。
「蒸着法により基板上に薄膜を形成して成る有機エレクトロルミネッセンス素子において、少なくとも２層の組み合せが正孔輸送層と電子輸送性発光層との組み合せもしくは電子輸送層と正孔輸送性発光層との組み合せ、または少なくとも３層の組み合せが正孔輸送層と電子輸送層と発光層との組み合せからなる層の蒸着工程の際に、支持体と電極からなる基板を冷却することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子の製造法。」
（２）引用刊行物に記載された発明
　当審が通知した取消しの理由で刊行物１として引用した『「Thin Solid Films,94」１９８２年、第１７１−１８３頁』（以下、「引用刊行物」という。）には、真空−蒸着有機膜による青色エレクトロルミネッセンスに関するものであって、
　第１７１頁本文第６〜１１行に「我々は、比較的低い印加電圧で高い定常電流密度が生じ得る約０．６μｍの真空−蒸着アントラセン膜の製造、並びに構造、電気的及びＥＬ特性について報告する。この膜は、膜が−６０℃付近の狭い範囲の基板温度で調製された時は、明確な単一性を表す臨界的最適化効果、種々の構造的及び電気的特性を示す。」、
　第１７１頁末行〜第１７２頁第３行に「正孔及び電子の両者は、アントラセンに高効率で注入され、これらのキャリヤー（単結晶の反対側から注入）が再結合した時、青（４００−５００ｎｍ）ＥＬが高効率で発生する。」、
　第１７３頁第２２〜３５行に「２．実験の詳細
　完全な電極／アントラセン／電極サンドイッチ構造は、約２×１０−６Ｔｏｒｒ．の真空中熱蒸着により作製した。・・・通常の下位電極、５０ｎｍのアルミニウム、は室温で清浄なガラス基板上に蒸着し、次いでトンネル注入陰極を形成するために、空気に曝し酸化物を生成させた。アントラセンの蒸着の間、基板温度Ｔｓは広範囲に亘り変化させることができた；大部分の電気及びＥＬ測定には、Ｔｓ＝−６０℃で蒸着した膜を用いた（３．１章参照）。見かけ上のアントラセンの蒸着速度は、およそ０．３〜５ｎｍｓ−１で変化させ、厚さは約０．２〜約３μｍで、ほとんどの試料は約０．６μｍとした。上位電極、通常は１５ｎｍの金は、通常３ｍｍの円形基板として、真空を止めずに蒸着した；アントラセンの再蒸着を最小にするためＴｓは−５０℃とした。」、
　第１７３頁第４０〜４３行に「幾つかの初期の実験は、空気中でおこなわれたが、一般的には、試料は乾燥窒素中で保存（一ヶ月以内）し、テストした。数ヶ月後では、アントラセンの再結晶による影響が屡々認められ、構造的及び電気的変化をもたらした；」、
　第１７４頁第１〜５行に「３．１　膜の構造及び電気的特性：臨界的最適化効果
　基板温度Ｔｓの広い範囲における多結晶アントラセン膜の電子顕微鏡写真は既に報告されている。−６０℃付近の非常に狭い範囲内のＴｓでは、位相的（局所的）不規則性（ｔｏｐｏｇｒａｐｈｉｃ　ｄｉｓｏｒｄｅｒ）は、全く予想外の非常に狭い最低値で観察された。」、
　第１７４頁第９〜１３行に「臨界的温度Ｔｏで蒸着したフタロシアニン（Ｐｃ）膜の光学的及び電気的回折の単一性は、種々の最適化効果が、Ｔｏにおける微結晶の大きさ及び配向性の単一性によることを示唆しており、他方Ｔｏより高温での配向は、Ｔｏ以下での配向と相違する。」、
とする旨それぞれ記載されている（特許異議申立書第５〜６頁の甲第１号証についての部分訳参照）。
　これらの記載事項によれば、刊行物１には、以下のとおりの発明が記載されているものと認められる。
「下位電極が形成されたガラス基板上に蒸着法により薄膜を形成して成る有機膜によるエレクトロルミネッセンスを発生する構造体において、下位電極は室温でガラス基板上に蒸着し、次いで、アントラセンの蒸着工程の際に、下位電極が形成されたガラス基板の温度を−６０℃で蒸着して厚さ約０．２〜約３μｍのアントラセン膜を形成する製造法。」（以下、「引用発明」という。）
（３）対比・判断
　本件発明と引用発明とを対比すると、引用発明の「下位電極が形成されたガラス基板」、「厚さ約０．２〜約３μｍのアントラセン膜」、「有機膜によるエレクトロルミネッセンスを発生する構造体」、「−６０℃」が、本件発明の「支持体と電極からなる基板」、「薄膜」又は「層」、「有機エレクトロルミネッセンス素子」、「冷却」にそれぞれ相当している。
　したがって、両者は、「蒸着法により基板上に薄膜を形成して成る有機エレクトロルミネッセンス素子において、層の蒸着工程の際に、支持体と電極からなる基板を冷却する有機エレクトロルミネッセンス素子の製造法」において一致し、
　層に関し、本件発明が「少なくとも２層の組み合せが正孔輸送層と電子輸送性発光層との組み合せもしくは電子輸送層と正孔輸送性発光層との組み合せ、または少なくとも３層の組み合せが正孔輸送層と電子輸送層と発光層との組み合せからなる層」としたのに対し、引用発明はかかる層構造を具備していない点で相違している。
　しかしながら、上記の組み合せからなる層構造自体は、有機エレクトロルミネッセンス素子として周知のものである（例えば、特開平２−８８６８９号公報、特開平２−２１６７９０号公報、特開平２−２３５９８３号公報参照。）から、引用発明における有機エレクトロルミネッセンス素子の層構造として、かかる周知の構造のものを採用することは当業者であれば容易に想到しうる程度の事項にすぎない。
　そして、本件発明により奏される効果は、上記引用刊行物記載の事項から予測しうる範囲のものである。
　したがって、本件発明は、上記引用刊行物記載の発明に基いて当業者が容易に発明をすることができたものである。
　
　なお、特許権者は、平成１３年５月２９日付けの特許異議意見書において、本件発明の製造方法によって製造された有機ＥＬ素子の蒸着膜は、結晶化が防がれアモルファス状に形成されているので発光強度にムラのない有機ＥＬ素子が得られるという効果を発揮するという点で、引用発明と異なる旨主張している。
　しかしながら、本件特許掲載公報（特許第３０１１２７７号公報）の第７頁左欄の［発明の効果］の項に「本発明の製造方法によって製造された有機ＥＬ素子は、蒸着工程の際に基板を冷却するので蒸着薄膜の結晶化が防がれてアモルファス状に形成されるため、発光強度にムラを生じない」とあるように、上記の効果は、「蒸着工程の際に基板を冷却する」との手法によりもたらされるものであって、これと同じ手法を採用した引用発明においても、上記と同等の効果が奏されるものと解するのが相当である。
　したがって、特許権者の上記主張は採用することができない。
（４）むすび
　以上のとおりであるから、本件発明は、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　したがって、本件発明についての特許は、拒絶の査定をしなければならない特許出願に対してされたものと認める。
　よって、特許法等の一部を改正する法律（平成６年法律第１１６号）附則第１４条の規定に基づく、特許法等の一部を改正する法律の施行に伴う経過措置を定める政令（平成７年政令第２０５号）第４条第２項の規定により、結論のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１３年８月１日（２００１．８．１）
【訂正の要旨】
訂正の要旨
（１）訂正事項ａ
　【特許請求の範囲】の【請求項１】における「その蒸着工程の際に、基板を冷却する事」を「少なくとも２層の組み合せが正孔輸送層と電子輸送性発光層との組み合せもしくは電子輸送層と正孔輸送性発光層との組み合せ、または少なくとも３層の組み合せが正孔輸送層と電子輸送層と発光層との組み合せからなる層の蒸着工程の際に、支持体と電極からなる基板を冷却すること」と訂正する。
（２）訂正事項ｂ
　【発明の詳細な説明】の［課題を解決するための手段］の項における「その蒸着工程の際に基板」（特許第３０１１２７７号公報第２頁左欄２２〜２３行）を「少なくとも２層の組み合せが正孔輸送層と電子輸送性発光層との組み合せもしくは電子輸送層と正孔輸送性発光層との組み合せ、または少なくとも３層の組み合せが正孔輸送層と電子輸送層と発光層との組み合せからなる層の蒸着工程の際に、支持体と電極からなる基板」と訂正する。
（５４）【発明の名称】
有機エレクトロルミネッセンス素子の製造法
（５７）【特許請求の範囲】
　【請求項１】　蒸着法により基板上に薄膜を形成して成る有機エレクトロルミネッセンス素子において、
少なくとも２層の組み合せが正孔輸送層と電子輸送性発光層との組み合せもしくは電子輸送層と正孔輸送性発光層との組み合せ、または少なくとも３層の組み合せが正孔輸送層と電子輸送層と発光層との組み合せからなる層の蒸着工程の際に、支持体と電極からなる基板
【発明の詳細な説明】
　本発明は、平面光源やディスプレイ等に利用される有機エレクトロルミネッセンス素子の製造法に関する。
〔従来の技術〕
　エレクトロルミネッセンス素子（以下、ＥＬ素子という）は、自己発光型のため視認性が高く、完全固体素子であるため耐衝撃性に優れ、大面積の面発光体が製造できるという特徴を有しており、現在、無機蛍光体であるＺｎＳ：Ｍｎを用いたＥＬ素子が実用化されている。しかしながら、無機ＥＬ素子は発光させるために２００Ｖ程度の高い印加電圧が必要であり、又、駆動方法も複雑である。
　一方、有機ＥＬ素子は印加電圧を大幅に低下させることができ、最近、有機薄膜を二層構造にした新しいタイプの、より低電圧印加（１０Ｖ以下）で高輝度（１０００ｃｄ／ｍ２以上）の得られる有機ＥＬ素子が報告されている（アプライド・フィジックス・レターズ５１巻、９１３頁、１９８７年）。又、特開平２−８２８７、特開平２−８２８８、特開平２−８２８９等に記載された新しい有機蛍光体の開発や層構成を変化させること（化学と工業、第４２巻、２０２３頁、１９８９年）等により赤色光〜青色光まで各種の波長域の発光例が報告されている。このように有機ＥＬ素子は各色の発光が可能で且つ、横成が簡単で、容易に作製できることから、例えば安価な大面積フルカラー表示素子等として注目されている。
　しかしながら、有機ＥＬ用薄膜は膜厚０．１〜０．３μｍであるためピンホールが生じ易く、大面積化が困難である。蒸着法によれば、形成される膜の均一性は向上し、ピンホールも生じにくくなるが、蒸着膜の結晶化が進行し微結晶集合体薄膜として得られることが多い。
〔発明が解決しようとする課題〕
　蒸着法により有機ＥＬ用薄膜を形成する場合において、結晶化が進行し微結晶集合体薄膜として得られることが多く、このような場合には結晶化による膜方向の均一性が失なわれ、発光強度にムラが生じ、大面積で均一な発光を示す有機ＥＬ素子が得られない。
　本発明は、上述の欠点を改良した有機ＥＬ素子を製造するための製造法を提供することを目的とする。
　〔課題を解決するための手段〕
　本発明者らは、有機ＥＬ素子において発光強度ムラが観察される原因は蒸着膜の結晶化による事を見い出し、蒸着法により基板上に薄膜を形成させ有機ＥＬ素子を製造する場合において、蒸着工程時、基板を充分に冷却して蒸着薄膜の結晶化を防ぎアモルファス状に形成させる事により発光強度にムラのない有機ＥＬ素子を製造できる事を見い出し本発明に到った。
　すなわち、本発明は、蒸着法により基板上に薄膜を形成して成る有機ＥＬ素子において、
少なくとも２層の組み合せが正孔輸送層と電子輸送性発光層との組み合せもしくは電子輸送層と正孔輸送性発光層との組み合せ、または少なくとも３層の組み合せが正孔輸送層と電子輸送層と発光層との組み合せからなる層の蒸着工程の際に、支持体と電極からなる基板
　有機ＥＬ素子には、二層構造と三層構造のものが有り、これらの層構成を基板となる透明電極上に設け、その上に対電極を設けて有機ＥＬ素子を製造する。二層構造の場合は、正孔輸送層と電子輸送性発光層の組み合せあるいは電子輸送層と正孔輸送性発光層の組み合せから成り、三層構造の場合は正孔輸送層と電子輸送層で発光層をサンドイッチした構成となる。
　電荷輸送剤としては、電子写真用有機感光体に使用されている化合物や電荷輸送能を有する化合物が利用できる。正孔輸送剤としては、例えば、ポルフィン、テトラフェニルポルフィン銅、フタロシアニン、銅フタロシアニン、チタニウムフタロシアニンオキサイド等のポルフィリン化合物、１，１−ビス｛４−（ジ−ｐ−トリルアミノ）フェニル｝シクロヘキサン、４，４’，４”−トリメチルトリフェニルアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（ｐ−トリル）−ｐ−フェニレンジアミン、１−（Ｎ，Ｎ，−ジ−ｐ−トリルアミノ）ナフタリン、４，４’−ビス（ジメチルアミノ）−２，２’−ジメチルトリフェニルメタン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラフェニル−４，４’−ジアミノビフェニル、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ジ−ｍ−トリル−４，４’−ジアミノビフェニル、Ｎ−フェニルカルバゾール等の芳香族三級アミン、４−ジ−ｐ−トリルアミノスチルベン、４−（ジ−ｐ−トリルアミノ）−４’−〔４−（ジ−ｐ−トリルアミノ）スチリル〕スチルベン等のスチルベン化合物等である。電子輸送剤としては、例えば、２−（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−５−（ｐ−ビフェニリル）−１，３，５−オキサジアゾール、テトラシアノキノジメタン、３，５−ジメチル−３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４，４’−ジフェノキノン等である。
　発光層用有機蛍光物質としては、例えば、トリス（８−キノリノール）アルミニウム、ビス（８−キノリノール）マグネシウム、トリス（５−クロロ−８−キノリノール）ガリウム等のキレート化オキシノイド化合物，１，４−ビス（４−エチルスチリル）ベンゼン、１，２，３，４−テトラフェニルシクロペンタジエン、１，２，３，４，５−ペンタフェニルシクロペンタジエン等の芳香族化合物、ペリレン系顔料、キレート化２，２’−ビピリジン化合物やサリチリデン−Ｏ−アミノフェノール誘導体のキレート化合物、及び、４−（ジ−ｐ−トリルアミノ）−４’−クロロスチルベン、４−（ジ−ｐ−トリルアミノ）−β−フェニルスチルベン、４，４’−ジメトキシ−４”−（１−ナフチルビニル）トリフェニルアミン等のスチルベン型化合物などである。
　有機ＥＬ素子支持体にはガラス、プラスチック、石英などが用いられ、この基板上に、金、アルミニウム、インシジウム、銀、マグネシウム等の金属やインジウム−チン−オキサイド（ＩＴＯ）、酸化スズ、酸化亜鉛などから成る極薄膜の電極を蒸着法等で形成し、半透明あるいは透明電極とする。この上に電荷輸送層や発光層を積層し、更にその上に前述したのと同様な電極を形成して有機ＥＬ素子を製造する。これに直流電圧を印加し発光を行なう。
〔実施例〕
　以下、実施例により本発明を具体的に説明する。
実施例１
　市販のＩＴＯガラス電極（松崎真空（株）製　透明導電膜（標準タイプ））を蒸着装置（真空器械工業（株）製ＬＣ−６Ｆ型）の基板ホルダーに固定し、加熱ボードに銅フタロシアニン（Ｃｕ・Ｐｃ）を入れて、１×１０−５Ｔｏｒｒまで減圧した。加熱ボードを３００℃に加熱し５００Å／分の蒸着速度で蒸着を行ない膜厚１０００Åの銅フタロシアニンの正孔注入層をＩＴＯガラス電極上に形成した。この際、ＩＴＯガラス電極は−１００℃に冷却し、図−１に示すように銅フタロシアニンのアモルファス状の蒸着膜を得た。次に、トリス（８−キノリノール）アルミニウム（Ａｌｑ３）を入れたもう一方の加熱ボードを１８０℃まで加熱して５００Å／分の蒸着速度で膜厚１０００Åの発光層を正孔注入層の上に形成した。更にその上に膜厚５０００Åのマグネシウム蒸着膜３ｍｍ×８ｍｍの大きさで形成して対電極とし、有機ＥＬ素子を作製した。また、前記した条件と同様の条件でＩＴＯガラス電極の冷却温度のみを変化させ、−４０℃に冷却したものと、−１６０℃に冷却したものについても作製した。
　ＩＴＯ電極を正極、マグネシウム電極を負極として直流２２Ｖを印加したところ明るい緑色に発光した。発光面を８個の小エリアに区分し、各々の小エリアについて１ｍｍφの大きさの測定点で、輝度計（ミノルタカメラ（株）製ＬＳ−１１０型）を用いて輝度を測定したところ表−１の結果を得た。
　〔表１〕
　平均輝度は４３７ｃｄ／ｍ２であり、発光ムラの小さい有機ＥＬ素子が得られた。
　また、３種の有機ＥＬ素子の回折強度を理学電機（株）製ＲＡＤ−Ｃシステムにて測定した結果は、第２図の通り回折強度が小さく、蒸着膜の結晶化は防がれていることがわかる。
比較例１
　実施例１で蒸着の際、ＩＴＯガラス電極を冷却することなく室温で実施した以外は実施例１と同様に行って表−２に示す結果を得た。
　〔表２〕
　平均輝度は１５４ｃｄ／ｍ２であり、実施例１に比較して発光効率が低く、発光ムラの大きいものであった。また、回折強度を理学電機（株）製ＲＡＤ−Ｃシステムにて測定した結果は、第２図の通り回折強度が大きく、蒸着膜の結晶化が進行していることがわかる。この比較例により本発明による効果が顕著である事がわかる。
実施例２
　市販のＩＴＯガラス電極（松崎真空（株）製　透明導電膜（標準タイプ））を蒸着装置（真空器械工業（株）製ＬＣ−６Ｆ型）の基板ホルダーに固定し、加熱ボードに銅フタロシアニン（Ｃｕ・Ｐｃ）を入れて、１×１０−５Ｔｏｒｒまで減圧した。加熱ボードを３００℃に加熱し、５００Å／分の蒸着速度で蒸着を行ない、膜厚１０００Åの銅フタロシアニンの正孔注入層をＩＴＯガラス電極上に形成した。この際、ＩＴＯガラス電極は−１００℃に冷却し、銅フタロシアニンのアモルファス状の蒸着膜を得た。次に真空度を１×１０−６Ｔｏｒｒまであげてサリチリデン−Ｏ−アミノフェノールのＡｌ錯体を入れたもう一方の加熱ボードを３２０℃まで加熱して５００Å／分の蒸着速度で、膜厚２０００Åの発光層を正孔注入層の上に形成した。更にその上に膜厚５０００Åマグネシウム蒸着膜３ｍｍ×８ｍｍの大きさで形成して対電極とし、有機ＥＬ素子を作製した。
　ＩＴＯ電極を正極、マグネシウム電極を負極として直流２５Ｖを印加したところ青緑色に発光した。発光面を８個の小エリアに区分し、各々の小エリアについて１ｍｍφの大きさの測定点で、輝度計（ミノルタカメラ（株）製　ＬＳ−１１０型）を用いて輝度を測定したところ表−３の結果を得た。
　〔表−３〕
　平均輝度は２０１ｃｄ／ｍ２であり、発光ムラの小さい有機ＥＬ素子が得られた。
比較例２
　実施例２で蒸着の際、ＩＴＯガラス電極を冷却することなく室温で実施した以外は実施例２と同様に行なって表−４に示す結果を得た。
　〔表−４〕
　平均輝度は９１ｃｄ／ｍ２であり、実施例２に比較して発光効率が低く、発光ムラの大きいものであった。この比較例により本発明による効果が顕著である事がわかる。
実施例３
市販のＩＴＯガラス電極（松崎真空（株）製　透明導電膜（標準タイプ））を蒸着装置（真空器械工業（株）製ＬＣ−６Ｆ型）の基板ホルダーに固定し、加熱ボードにＮ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ジ−ｍ−トリル−４，４’−ジアミノビフェニルを入れて、１×１０−５Ｔｏｒｒまで減圧した。加熱ボートを２００℃に加熱し、５００Å／分の蒸着速度で蒸着を行ない、膜厚１５００Åの、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ジ−ｍ−トリル−４，４’−ジアミノビフェニルの正孔注入層をＩＴＯガラス電極上に形成した。この際、ＩＴＯガラス電極は−１００℃に冷却し、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ジ−ｍ−トリル−４，４’−ジアミノビフェニルのアモルファス状の蒸着膜を得た。次に、トリス（８−キノリノール）アルミニウムを入れたもう一方の加熱ボートを１８０℃まで加熱して５００Å／分の蒸着速度で膜厚１０００Åの発光層を正孔注入層の上に形成した。更にその上に膜厚５０００Åのマグネシウム蒸着膜を３ｍｍ×８ｍｍの大きさで形成して対電極とし、有機ＥＬ素子を作製した。
　ＩＴＯ電極を正極、マグネシウム電極を負極として直流４０Ｖを印加したところ緑色に発光した。発光面を８個の小エリアに区別し，各々の小エリアについて１ｍｍφの大きさの測定点で、輝度計（ミノルタカメラ（株）製　ＬＳ−１１０型）を用いて輝度を測定したところ表−５の結果を得た。
　〔表５〕
　平均輝度は２９６ｃｄ／ｍ２であり、発光ムラの小さい有機ＥＬ素子が得られた。
　〔発明の効果〕
　本発明の製造方法によって製造された有機ＥＬ素子は、蒸着工程の際に基板を冷却するので蒸着薄膜の結晶化が防がれてアモルファス上に形成されるため、発光強度にムラを生じない、という効果を発揮する。
【図面の簡単な説明】
　第１図は、本発明で得られる有機エレクトロルミネッセンス素子の構成層を示すものである。
　第２図は、Ｃｕ・Ｐｃ薄膜のＸ−線回折パターンを示すものであり、ＩＴＯガラス電極（基板）の冷却温度（−１６０℃、−１００℃、−４０℃、室温）と回折強度との関係を示しており、横軸は回折角（２θ）を、横軸は回折強度を表わす。