【事件の表示】
　特許第２５８２９４２号「保安用の磁気材料」の請求項１に係る特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結　論】
　訂正を認める。
　特許第２５８２９４２号の請求項１に係る特許を維持する。
【理　由】
［Ｉ］手続の経緯
　本件特許第２５８２９４２号は、１９９０年１月９日（パリ条約による優先権主張外国庁受理１９８９年１月９日、英国）を国際出願日とする出願であって、平成８年１１月２１日に請求項１〜６に係る発明について特許権の設定登録がなされ、その後、本件の請求項１に係る特許に対して、ユニチカ株式会社より特許異議の申立てがなされ、取消理由が通知され、その指定期間内である平成１１年１月２１日に訂正請求がなされ、訂正拒絶理由が通知され、その指定期間内である平成１１年９月２０日に手続補正書（訂正請求書）が提出されたものである。
  
［II］訂正の適否について
１．訂正請求に対する補正
　平成１１年９月２０日付手続補正書（訂正請求）による補正の内容は、下記（イ）、（ロ）のとおりである。
補正事項（イ）；
　平成１１年１月２１日付訂正請求書に添付された訂正明細書（以下、「本件訂正明細書」という。）の請求項１の
「１．基材；高い透磁率及び低い保磁力を有する軟質磁気材料である「活性」磁気材料；及び、ニッケル、ニッケル／鉄合金、ニッケル／コバルト合金、コバルト及びコバルト／タングステン合金からなる群から選択される、穏やかな又は高い保磁力及び穏やかな透磁率並びに０．５を超える残留磁気比（Ｍ［残留］＋Ｍ［飽和］）を有する硬質又は半硬質磁気材料である失活材料；を含み、この構成によって、十分に高い磁化力がかけられると、失活材料によって「活性」材料の磁気特性を固定（clamp）し、「活性」材料を失活させることができる磁気的に活性な標識(tag）又はマーカーであって、かかる「活性」材料及びかかる失活材料の少なくとも一方が電着法によって形成されることを特徴とする前記標識又はマーカー。」との記載を、
「１．基材；高い透磁率及び低い保磁力を有する軟質磁気材料である「活性」磁気材料；及び、ニッケル、ニッケル／鉄合金、ニッケル／コバルト合金、コバルト及びコバルト／タングステン合金からなる群から選択される、穏やかな又は高い保磁力及び穏やかな透磁率並びに０．５を超える残留磁気比（Ｍ［残留］／Ｍ［飽和］）を有する硬質又は半硬質磁気材料である失活材料；を含み、この構成によって、十分に高い磁化力がかけられると、失活材料によって「活性」材料の磁気特性を固定（clamp）し、「活性」材料を失活させることができる磁気的に活性な標識(tag）又はマーカーであって、かかる「活性」材料及びかかる失活材料の少なくとも一方が電着法によって形成されることを特徴とする前記標識又はマーカー。」と補正する。
補正事項（ロ）；
　本件訂正明細書の第４頁１３行の「残留磁気比（Ｍ［残留］＋Ｍ［飽和］）」との記載を、「残留磁気比（Ｍ［残留］／Ｍ［飽和］）（Ｍｒ／Ｍｓ）」と補正する。
　
２．補正の適否について
　補正事項（イ）は、本件訂正明細書の請求項１に記載された「残留磁気比（Ｍ［残留］＋Ｍ［飽和］）」を、「残留磁気比（Ｍ［残留］／Ｍ［飽和］）」と、補正するものであるが、「残留磁気比」という用語それ自体の技術内容からすれば、残留磁気比は、Ｍ［残留］とＭ［飽和］の比、あるいは、ＭｒとＭｓの比によって定義されものであることは、当業者にとって明らかであるから、本件訂正明細書の請求項１中の「残留磁気比（Ｍ［残留］＋Ｍ［飽和］）」という記載は、技術的に意味をなさないものであって、この記載が、「残留磁気比（Ｍ［残留］／Ｍ［飽和］）」の誤りであることは明白である。
　また、補正事項（ロ）は、前記同様、本件訂正明細書第４頁第１３行の「残留磁気比」に関するカッコ書きの明白な誤りを正すと同時に、「残留磁気比」がＭｒとＭｓの比としても表現されることを明らかにした補正であるといえる。
　よって、上記補正事項（イ）、（ロ）は、何れも、平成１１年１月２１日付訂正請求書の要旨を変更するものではないから、上記補正は、特許法第１２０条の４第３項において準用する同法第１３１条第２項の規定に適合する。
　
３．訂正の適否について
（１）平成１１年９月２０日付手続補正書（訂正請求）による補正された平成１１年１月２１日付訂正請求書による訂正は、下記（ａ）、（ｂ）のとおりである。
訂正事項（ａ）；
　願書に添付した明細書（以下、「本件特許明細書」という。）の特許請求の範囲の請求項１の
「１．基材；高い透磁率及び低い保磁力を有する軟質磁気材料である「活性」磁気材料；及び、ニッケル、鉄、ニッケル／鉄合金、ニッケル／コバルト合金、コバルト及びコバルト／タングステン合金からなる群から選択される、穏やかな又は高い保磁力及び穏やかな透磁率を有する硬質又は半硬質磁気材料である失活材料；を含み、この構成によって、十分に高い磁化力がかけられると、失活材料によって「活性」材料の磁気特性を固定（clamp）し、「活性」材料を失活させることができる磁気的に活性な標識(tag）又はマーカーであって、かかる「活性」材料及びかかる失活材料の少なくとも一方が電着法によって形成されることを特徴とする前記標識又はマーカー。」との記載を、
「１．基材；高い透磁率及び低い保磁力を有する軟質磁気材料である「活性」磁気材料；及び、ニッケル、ニッケル／鉄合金、ニッケル／コバルト合金、コバルト及びコバルト／タングステン合金からなる群から選択される、穏やかな又は高い保磁力及び穏やかな透磁率並びに０．５を超える残留磁気比（Ｍ［残留］／Ｍ［飽和］）を有する硬質又は半硬質磁気材料である失活材料；を含み、この構成によって、十分に高い磁化力がかけられると、失活材料によって「活性」材料の磁気特性を固定（clamp）し、「活性」材料を失活させることができる磁気的に活性な標識(tag）又はマーカーであって、かかる「活性」材料及びかかる失活材料の少なくとも一方が電着法によって形成されることを特徴とする前記標識又はマーカー」と
訂正する。
訂正事項（ｂ）；
　本件特許明細書の第５頁１５行（本件特許公報第５欄３９行参照）の「残留磁気比（Ｍ［残留］＋Ｍ［飽和］）」との記載を、「残留磁気比（Ｍ［残留］／Ｍ［飽和］）（Ｍｒ／Ｍｓ）」と訂正する。
　
（２）訂正の目的の適否、新規事項の有無及び拡張・変更の存否
　訂正事項（ａ）は、具体的には、本件特許明細書の特許請求の範囲の請求項１について、
（ａ）−１.「残留磁気比（Ｍ［残留］＋Ｍ［飽和］）」との記載を、「残留磁気比（Ｍ［残留］／Ｍ［飽和］）」と訂正し、
（ａ)−２.選択的に記載されていた失活材料のうちから、「鉄」を削除し、
（ａ)−３．失活材料について、その残留磁気比を「０．５を超える残留磁気比」と限定したもの、
に相当する。
　そして、上記（ａ）−１．は、「II．２．補正の適否について」で既に述べたように、技術的に意味をなさない表現を、本来の定義どおりに訂正したものであるから、明りょうでない記載の釈明を目的とするものである。
　また、上記（ａ）−２．（ａ）−３．は、いずれも特許請求の範囲の減縮を目的とするものである。
　訂正事項（ｂ）は、上記訂正事項（ａ）に整合させて本件特許明細書の記載を訂正するものであって、明りょうでない記載の釈明を目的とするものである。
　そして、上記訂正事項（ａ）、（ｂ）は、何れも、本件特許明細書に記載した事項の範囲内のものであり、実質上特許請求の範囲を拡張し又は変更するものではない。
　
（３）独立特許要件
　平成１１年９月２０日付手続補正書（訂正請求）により補正された本件訂正明細書の請求項１に記載された事項により構成される発明は、後記（「［III］特許異議の申立てについて　４．当審の判断」を参照。）するように、特許出願の際独立して特許を受けることができない発明であるとすることはできない。
　
４．むすび
　以上のとおりであるから、上記訂正は、平成６年改正法第１１６号附則第６条第１項の規定によりなお従前の例によるとされる、特許法第１２０条の４第３項において準用する平成６年改正前の特許法第１２６条第１項ただし書、第２項及び第３項の規定に適合するので、当該訂正を認める。
　
［III］特許異議の申立てについて
１．本件発明
　本件の請求項１に係る発明（以下、「本件発明」という。）は、平成１１年９月２０日付手続補正書（訂正請求）により補正された本件訂正明細書（以下、単に、「本件明細書」という。）の特許請求の範囲の請求項１に記載された以下のとおりのものである。
　「１．基材；高い透磁率及び低い保磁力を有する軟質磁気材料である「活性」磁気材料；及び、ニッケル、ニッケル／鉄合金、ニッケル／コバルト合金、コバルト及びコバルト／タングステン合金からなる群から選択される、穏やかな又は高い保磁力及び穏やかな透磁率並びに０．５を超える残留磁気比（Ｍ［残留］／Ｍ［飽和］）を有する硬質又は半硬質磁気材料である失活材料；を含み、この構成によって、十分に高い磁化力がかけられると、失活材料によって「活性」材料の磁気特性を固定（clamp）し、「活性」材料を失活させることができる磁気的に活性な標識(tag）又はマーカーであって、かかる「活性」材料及びかかる失活材料の少なくとも一方が電着法によって形成されることを特徴とする前記標識又はマーカー。」
　
２．異議申立の理由の概要
　異議申立人　ユニチカ株式会社は、甲第１号証（欧州特許公開第295028号公報）、甲第２号証（特開昭64−64207号公報。甲第１号証の対応特許の公開公報であって、甲第１号証の訳文に相当する。）及び甲第３号証（「実用電気メッキ」（昭和５９年７月１０日発行）第148〜151頁）を提出し、本件発明は、甲第１号証に記載された発明であるから特許法第２９条第１項第３号に該当し、また、本件発明は、甲第１号証及び甲第３号証に記載された発明から当業者が容易に発明をすることができたものであるから、本件発明に係る特許は、特許法第２９条第１項、同条第２項の規定に違反してなされたものであり、取り消されるべきであると主張する。
　
３．甲第１、３号証の記載事項
３−１．甲第１号証
「２．基板と磁気物質の薄い被膜とから成る抜き荷防止タグまたはマーカーであって、（ａ）上記基板が可撓性の薄板状物質であり；（ｂ）上記磁性物質が高い固有磁気透過率をもつ磁気ひずみが小さいか実質的にゼロである非晶質の金属ガラスであり；そして、（ｃ）上記の磁性物質の薄い被膜が６ミクロンより大きくない厚さである；ことを特徴とする抜き荷防止タグまたはマーカー。」（第１２頁４４〜４９行）、
「脱活性化用の箔として、・・（中略）・・軟鋼（0.12％Ｃ）を使用できる。・・（中略）・・脱活性化層は、半硬質でなければならず、すなわち、1,000〜10,000Ａ／ｍの範囲にある飽和保磁力をもつ。」（第６頁４２〜４６行）、
「脱活性化技法は固定磁場を適用するときにタグの活性構成要素の完全脱活性化を保証するようなものであるべきであり、そして、タグと固定磁場との間の相対的配向とほとんど無関係におこるべきものである。」（第５頁４４〜４６行）、
「前述のとおり、軟質の強磁性の非晶質金属ガラス薄膜状被覆は、例えば、スパッタリング、電子ビーム蒸発、あるいは無電解的または電解的の化学的沈着によって沈着させることができる。」（第７頁５７行〜第８頁１行）
と記載されている。
３−２．甲第３号証　
　第１４８〜１５１頁には、磁性合金めっき皮膜について記載され、第１４９頁の表5・6には、Ｃｏ電気めっき皮膜は、8〜25または600〜1200（Ｏe）、Ｃｏ−Ｎｉ電気めっき皮膜は、50〜140または100〜500（Ｏｅ）、Ｆｅ−Ｎｉ電気めっき皮膜は、1〜10（Ｏｅ）、Ｎｉ電気めっき皮膜は、40〜120（Ｏe）、また、Ｎｉ−Ｆｅ電気めっき皮膜は、1〜5（Ｏｅ）の保磁力を有することが記載されている。
　
４．当審の判断
　甲第１号証に記載された「基板」、「磁性物質が高い固有磁気透過率をもつ非晶質の金属ガラス」、「半硬質の脱活性化層」、「脱活性化技法は固定磁場を適用するときにタグの活性構成要素の完全脱活性化を保証するようなものである」、「軟質の強磁性の非晶質金属ガラス薄膜状被覆は、電解的の化学的沈着によって沈着させることができる。」及び「抜き荷防止タグまたはマーカー」は、本件発明の「基材」、「高い透磁率及び低い保磁力を有する軟質磁気材料である「活性」磁気材料」、「硬質又は半硬質磁気材料である失活材料」、「十分に高い磁化力がかけられると、失活材料によって「活性」材料の磁気特性を固定（clamp）し、「活性」材料を失活させることができる」、「かかる「活性」材料及びかかる失活材料の少なくとも一方が電着法によって形成される」及び「標識又はマーカー」に、それぞれ相当する。
　そこで、本件発明と甲第１号証に記載された発明とを対比すると、両者は、「基材；高い透磁率及び低い保磁力を有する軟質磁気材料である「活性」磁気材料；及び、硬質又は半硬質磁気材料である失活材料；を含み、この構成によって、十分に高い磁化力がかけられると、失活材料によって「活性」材料の磁気特性を固定（clamp）し、「活性」材料を失活させることができる磁気的に活性な標識(tag）又はマーカーであって、かかる「活性」材料及びかかる失活材料の少なくとも一方が電着法によって形成されることを特徴とする前記標識又はマーカー。」で一致している。
　しかしながら、本件発明では、「ニッケル、ニッケル／鉄合金、ニッケル／コバルト合金、コバルト及びコバルト／タングステン合金からなる群から選択される、穏やかな又は高い保磁力及び穏やかな透磁率並びに０．５を超える残留磁気比（Ｍ［残留］／Ｍ［飽和］）を有する硬質又は半硬質磁気材料である失活材料」と、失活材料の成分及び磁気特性を限定しているのに対して、甲第１号証では、失活材料の成分及び磁気特性を特定していない点（以下、「相違点」という。）で、両者は明らかに相違する。
　したがって、本件発明は、上記相違点において、甲第１号証に記載された発明とはその構成が相違するから、本件発明が甲第１号証に記載された発明であるとすることはできない。
　次に、上記相違点が、甲第３号証の記載から容易になし得たものか否かを検討する。
　甲第３号証には、各種の磁性合金めっき皮膜について記載されており、その記載によれば、ニッケル、ニッケル／鉄合金、ニッケル／コバルト合金あるいはコバルトからなる電気めっき皮膜の内の幾つかは、確かに、硬質又は半硬質磁気材料であることが認められる。（なお、本件発明における失活材料の一つであるコバルト／タングステン合金については、甲第３号証中に全く記載されるところがない。）
　ところで、上記相違点を、甲第３号証の記載との関係で言い換えれば、上記相違点は、甲第３号証に記載された各種磁性合金の中から、特定の成分（ニッケル、ニッケル／鉄合金、ニッケル／コバルト合金あるいはコバルト）からなり、かつ、特定の磁気特性（穏やかな又は高い保磁力及び穏やかな透磁率並びに０．５を超える残留磁気比）を有する硬質又は半硬質磁気材料を、失活材料として選択・適用したものに相当するところ、甲第３号証には、前記の如く、ニッケル、ニッケル／鉄合金、ニッケル／コバルト合金あるいはコバルトからなる磁気材料の中には、硬質又は半硬質磁気特性を備えたものがあることが開示されているにとどまり、特定の成分、特定の磁気特性の磁気材料を、標識又はマーカー用の失活材料として選択・適用することについては何らの開示も示唆もない。
　しかも、本件明細書の「特に、ドラムマンドレルの上に生成する電鋳Ｎｉは、望ましくない残留応力を有することなく2〜100ミクロンの厚さで、かつ、加熱処理の必要なく5000〜6000Ａｍ−１の範囲において容易に制御し得る保磁力を有するように、速やかにかつ安価に製造することができる。Ｎｉ、Ｃｏ及びこれらの合金も、腐食に対して高い耐性を有する。本発明者らは、電鋳Ｎｉ箔は、現在用いられている特別の合金と比較して容易に切断することができるので、片又は孔を、箔から機械的に容易に打刻することができる。」（本件特許公報第５欄４１〜５０行参照）との記載によれば、本件発明では、少なくとも、残留応力がなく、加熱処理を必要とせずに所定保磁力を備え、耐腐食性を有し、容易な切断、打刻することができるようにするという観点から、失活材料として、特定の成分（ニッケル、ニッケル／鉄合金、ニッケル／コバルト合金あるいはコバルト）の磁気材料を選択したことが認められるところ、甲第３号証には、ニッケル、ニッケル／鉄合金、ニッケル／コバルト合金あるいはコバルトからなる磁気材料が、前記の如き特性を備えることについての開示乃至示唆があるわけでもない。
　そうであれば、特定の成分及び特定の磁気特性の磁気材料を失活材料として選択・適用するという上記相違点は、各種磁性合金の磁気特性を明らかにしているにすぎない甲第３号証の記載からでは、当業者が容易に想到し得たとすることはできない。
　そして、本件発明は、上記相違点をもその構成として備えることにより、本件明細書に記載される顕著な効果を奏するものである。
　よって、本件発明は、甲第１号証及び甲第３号証に記載された発明から当業者が容易に発明をすることができたものであると認めることはできない。
　
［IV］むすび
　以上のとおりであるから、特許異議申立ての理由及び証拠方法によっては、本件発明に係る特許を取り消すことはできない。
　また、他に本件発明に係る特許を取り消すべき理由を発見しない。
　
　よって、結論のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１４年４月１６日（２００２．４．１６）
【訂正の要旨】
１．願書に添付した明細書の特許請求の範囲の請求項１の、「１．基材；高い透磁率及び低い保磁力を有する軟質磁気材料である「活性」磁気材料；及び、ニッケル、鉄、ニッケル／鉄合金、ニッケル／コバルト合金、コバルト及びコバルト／タングステン合金からなる群から選択される、穏やかな又は高い保磁力及び穏やかな透磁率を有する硬質又は半硬質磁気材料である失活材料；を含み、この構成によって、十分に高い磁化力がかけられると、失活材料によって「活性」材料の磁気特性を固定（ｃｌａｍｐ）し、「活性」材料を失活させることができる磁気的に活性な標識（ｔａｇ）又はマーカーであって、かかる「活性」材料及びかかる失活材料の少なくとも一方が電着法によって形成されることを特徴とする前記標識又はマーカー。」との記載を、特許請求の範囲の減縮及び明りょうでない記載の釈明を目的として、
「１．基材；高い透磁率及び低い保磁力を有する軟質磁気材料である「活性」磁気材料；及び、ニッケル、ニッケル／鉄合金、ニッケル／コバルト合金、コバルト及びコバルト／タングステン合金からなる群から選択される、穏やかな又は高い保磁力及び穏やかな透磁率並びに０．５を超える残留磁気比（Ｍ［残留］／Ｍ［飽和］）を有する硬質又は半硬質磁気材料である失活材料；を含み、この構成によって、十分に高い磁化力がかけられると、失活材料によって「活性」材料の磁気特性を固定（ｃｌａｍｐ）し、「活性」材料を失活させることができる磁気的に活性な標識（ｔａｇ）又はマーカーであって、かかる「活性」材料及びかかる失活材料の少なくとも一方が電着法によって形成されることを特徴とする前記標識又はマーカー」と訂正する。
２．願書に添付した明細書の第５頁１５行（本件特許公報第５欄３９行参照）の、「残留磁気比（Ｍ［残留］＋Ｍ［飽和］）」との記載を、明りょうでない記載の釈明を目的として、
「残留磁気比（Ｍ［残留］／Ｍ［飽和］）（Ｍｒ／Ｍｓ）」と訂正する。
（５４）【発明の名称】
保安用の磁気材料
【発明の詳細な説明】
　本発明は、磁気材料、及び、保安標識（Ｓｅｃｕｒｉｔｙ　ｔａｇｇｉｎｇ）、盗難防止、物品配置及び物品同定のためのシステムにおける標識（ｔａｇ）又はマーカーにおけるその使用に関するものである。
　販売物品を販売場所から盗まれるのを防止するために、盗難防止標識又はマーカーが販売物品に施される。同様の標識は、在庫管理又は同定の目的のために物品又は人間に取り付けられ、物品又は人間が所定の検出地点を通過するか又は通過しようとする際に検出される。マーカーは、また、他の構造物又は材料によって、隠されたり、包まれたり又は被包することができる固定物品に取り付けられ、この場合には、マーカーが取り付けられた物品は、携帯マーカー検出器を用いることによって配置される。
　所定の磁気特性を得、マーカーの全体の大きさ及び製造コストを最小にするためには、マーカーの磁気素子を、薄層シート、箔又はフィルムの形態で製造することが有利である。かかるマーカーには、通常二つの部分がある。ひとつは、軟質（ｓｏｆｔ）な磁気特性、即ち高い透磁率及び低い保磁力（１００Ａｍ−１以下）を有する「活性」な磁気材料である。二番目の部分は、しばしば「失活」材料と称され、中程度の透磁率及び中〜硬の保磁力（１０００　Ａｍ−１以上）を有する、半硬質（ｓｅｍｉ−ｈａｒｄ）又は硬質（ｈａｒｄ）磁気材料である。活性材料は、検出可能な信号を発生し、半硬質又は硬質部分は、適当な条件下で活性材料の応答をバイアス又は抑制する切り替え可能な直流磁場を生成する。どちらのタイプの材料も、現在においては、必要な特定の磁気特性を得るためには、比較的高価な合金及び方法を用いて製造されている。現在において用いられている合金の例は、西ドイツ国のＶａｃｕｕｍｓｃｈｍｅｌｔｚｅから入手できるバコゼット（Ｖａｃｏｚｅｔ）、ビトロバック（Ｖｉｔｒｏｖａｃ）及びクロバック（Ｃｒｏｖａｃ）、並びに、米国のＡｒｎｏｌｄｓから入手できるアーノクロム（Ａｒｎｏｋｒｏｍｅ）である。本発明者らは、磁気部分をより安価に製造することのできる材料及び方法を確認した。
　本発明の一特徴によれば、基材；高い透磁率及び低い保磁力を有する軟質磁気材料である「活性」磁気材料；及び穏やかな又は高い保磁力及び穏やかな透磁率を有する硬質又は半硬質磁気材料である失活材料；を含み、この構成によって、十分に高い磁化力がかけられると、失活材料によって「活性」材料の磁気特性を固定（ｃｌａｍｐ）し、「活性」材料を失活させることができる磁気的に活性な標識又はマーカーであって、かかる「活性」材料及びかかる失活材料の少なくとも一方が電着法によって形成されることを特徴とする前記標識又はマーカーが提供される。
　しかして、「活性」材料及び失活材料の少なくとも一方は、電着、電鋳又は無電解化学沈着のような方法によって製造される。これらの方法は、良好に画定された特性を有する材料の薄い箔を低コストで製造するのに有利である。これらは、ニッケルスルファメート溶液のような、溶液中に金属イオンを含む液体から、金属又は合金フィルムを析出させる工程を含む。析出は、電流又は化学触媒によって進行せしめられる。電鋳を用いた場合は、フィルムは、成形型、ダイ、テンプレート、ツール又はマンドレル上に形成され、その後、自己支持箔として取り除くことができる。作用溶液に少量の有機分子を加えて、電鋳フィルムにおける応力が制御される。電着においては、箔は、通常、金属製又は伝導性の基材又はキャリア上に析出せしめられ、その後これから取り除かない。無電解析出においては、基材は伝導性である必要はない。かかる析出法を用いる更なる有利性は、析出領域を簡単なマスキング法によって制御することができるので、材料を切断したり、廃棄したりすることなく、箔を、不連続素子（例えば、ドット又はアイランド）あるいは孔を有するシートとして形成することもできるということである。本発明者らは、このマスキングを、非伝導性のインク又は塗料を金属基材上にスクリーン印刷するか、又は、好適なパターンを有するインクローラーを用いることによって行うことができる事を見出した。また、再使用可能なマスクを、析出中に基材に押圧するか、又は、フォトリソグラフマスキングを用いることができる。他の方法は、ポリマー又は樹脂のような材料の非伝導性領域を、電鋳プロセスにおけるフォーマー又はマンドレル上に固定することである。不連続フィルム又は多数の孔を有するものは、非均一の形状によってマーキングシステムにおける部分の磁気効果、特に半硬質又は失活素子の効果が向上せしめられるので、有利である。その後に材料を切断したり除去したりする必要なく単一の工程で不連続又は孔透磁性（ｈｏｌｅ−ｐｅｒｍｅａｔｅｄ）のフィルム又は箔を形成することができるので、製造工程においてコストが大きく節約できる。
　これらの析出法は、プロセスのコストがローリング又は注型法よりも低いので、約１００ミクロン以下の薄層フィルム、特に約４０ミクロン以下のフィルムを形成するために特に好ましく、５〜２５ミクロンの厚さのフィルムに関して特にコスト的に有効である。これらの方法の更なる有利性は、磁気特性が、通常、フィルム平面において等方性又は均一であるので、マーカーの製造中において材料を特定配向にする必要がないということである。しかして、部分の磁気特性も等方性であり、このため、マーカーの特性がより良好である。対比して、ローリング又は注型材料は、強い異方性を有する傾向がある。例えば、保磁力は、フィルム平面における異なる方向に関して２倍以下変化する可能性があり、このため、マーカーの製造中に、特定の方向に沿って材料を整列させる必要がある。
　これらの析出法によって生成する結晶粒構造は、事実上、円柱状、即ち、箔の面に対して垂直な長軸を有する長い薄結晶であることが多い。これは、上記に示したような平面における有利な等方性を与える。しかしながら、幾つかの用途においては異方性を有することが望ましい。本発明者らは、円柱状ではなく平面状の結晶成長を得るために、電解質への添加剤を変え、析出条件を変えることによって、異方性が達成されることを見出した。平面状の粒成長（しばしば「明（ｂｒｉｇｈｔ）」析出と称される）を達成するのに必要な条件は、これらの析出法の当業者に公知である。
　円柱状の粒の場合、材料が見かけ上磁化されない場合には、円柱の末端面に関連する微細磁場によって、漂遊磁場（ｓｔｒａｙ　ｍａｇｎｅｔｉｃ　ｆｉｅｌｄ）のような望ましくない磁気的効果が得られる可能性がある。本発明者らは、平面粒材料の薄層を、等方性で円柱状の材料の頂部上に付着させ、望ましくない微細磁場のための磁気的短絡を形成することによって、これらの効果を減少させることができることを見出した。
　本発明者らは、活性又は軟質磁性素子に好適な材料が、６０〜１００％のＮｉを有する電着ニッケル／鉄合金であることを見出した。低い磁気歪みは、Ｎｉが７５〜８０％のときに得られる。箔の保磁力を約２０Ａｍ−１以下の値に低下させることが必要な場合には、幾つかのその後の加熱処理が必要な場合がある。
　これらの析出法によって半硬質磁性部分を形成することは、これが概してマーカーにおける最も大きな容積比を有する部分であるので特に好ましい。この部分は、１００〜１５，０００Ａｍ−１（マーカーの設計に依存する）の範囲の良好に画定された保磁力を有することが必要である。本発明者らは、本発明において記載されている方法によって製造することのできる、この部分のために好適な材料としては、純粋なＮｉ、純粋なＦｅ、Ｎｉ−Ｃ０、Ｃ０及びＣ０−Ｗが含まれることを見出した。合金の場合には、第２の成分の相対割合を変化させて所望の保磁力を得る。また、保磁力は、アニーリングのような加熱処理によって制御することができる。本発明者らは、上記の材料のすべての電着試料を製造し、所望の範囲の保磁力を生成し、０．５を超える残留磁気比
（Ｍ［残留］／Ｍ［飽和］）（Ｍｒ／Ｍｓ）
　本発明の他の特徴によれば、電着材料は、打刻、ローリング、一次加工又はエンボス加工のような、選択的な冷間成形又は変形（ｄｅｆｏｒｍａｔｉｏｎ）法によって、磁気的に不連続又は不均一にされる。変形プロセスによって、磁気特性、特に箔の平面における材料の透磁率が変化せしめられる。この目的は、上述したように、磁気特性を変化させることによって、材料の磁場の機造及び効力を向上せしめることである。変形法の有利性は、材料が、局在変化をほとんど若しくは全く起こさずに、積層のようなその後の段階においてより簡単にかつより安価に取り扱うことができ、最終製品においてより均一な表面仕上げが得られる、機械的に連続な箔のままで保持されるという点にある。更に、変形は、箔マスキング又は箔から片を切断若しくは除去するのと比較して、実施するのが簡単である。
　本発明の更なる特徴によれば、半硬質部分は、ロールシート、ワイヤウール又は充填材のような好適な形態のステンレススチールから製造することができる。本発明者らは、スチール中のＣｒ、Ｃ及びＮｉ含有量を注意深く制御することによって、冷間処理（例えばローリング）後に大きな強磁性を有するが、簡単な加熱処理によって非強磁性にすることができる合金を形成させることができることを見出した。組成条件を満足する市販のステンレススチールは、０．１５％以下の炭素、１６〜１８％のクロム及び６〜８％のニッケルを含む、タイプＡＩＳＩ３０１のステンレススチールである。シートの冷間ロール（好ましくは約５０％縮小まで）によって、１０００〜５０００Ａｍ−１の範囲、通常は約３０００Ａｍ−１の保磁力、及び、高い残留磁気が得られるので、材料は、半硬質（失活）素子に好適である。強磁性含有は、冷間処理中に生成するマルテンサイト相の存在によるものである。マルテンサイトは、約８００℃に加熱することのような、好適な加熱処理によって非磁性オーステナイトに再変換することができる。長時間高温で処理すると、炭化物が生成し、これがマルテンサイトを安定化させるので、加熱を長時間保持してはならない。しかしながら、冷却速度はオーステナイトでの相転移が起こる時間を与えるのに十分な程度徐々に行わなければならない。
　選択的な領域で加熱処理を行うことによって、磁性及び非磁性材料の交互の領域を有するステンレススチールの連続的なフィルム又は片を形成させることができるので、この相転移は大きな有利性である。前述したように、これによって、活性素子上の半硬質磁性材料の効果が向上せしめられる。選択的な加熱処理は、例えば、レーザービーム若しくは電子加熱によって、又は、誘導加熱若しくは局在抵抗加熱によって行うことができる。ステンレススチールは、また、広く市販されているので、低コスト材料であるという、従来の特殊な磁性合金を凌ぐ有利性を有する。
　本発明を、以下の実施例によって示す。これらは本発明の範囲を制限するものではない。以下の記載において、次の添付図面を参照する。
　第１ａ図は、本発明の一態様において用いられる押圧ツールを示す。
　第１ｂ図は、第１ａ図に示すツールの一部分の拡大図である。
　第２図は、金属箔の冷間処理において、第１図のツールを用いて得られるパターンを示す。
　第３図は、金属箔の所定の領域を選択的にアニーリングするために用いられる加熱プレスの概略図である。
　第４図は、第３図のプレスを用いた結果を図式的に示す。
　以下の実施例においては、図面を参照する。
実施例１
　本実施例は、電鋳ニッケル箔からの失活材料の製造を示す。２０ミクロンの厚さを有する電鋳平面ニッケル箔の連続ロールを、英国のＩＮＣＯ　Ａｌｌｏｙｓ　Ｌｔｄ．から購入した。次に、箔を２８０℃で２４時間、次に室温迄の冷却時間を２４時間かけてアニーリングした。これによって、保磁力は６０００ｋＡ／ｍから、ここでの特定の用途に必要な値である２０００ｋＡ／ｍに減少した。仕上げ材料は、幅５０ｃｍのロールの形態であった。次に、このロールを幅８ｍｍのロールに切断し、盗難防止ラベル製造工程において、他の部品と共に積層するための失活剤供給材料として用いた。
実施例２
　本実施例は、電鋳法を用いた失活材料の孔透磁性箔の製造を示す。実施例１と同一の電解方法及び条件を用いたが、直径が１．５ｍｍで中心から中心への離隔距離が３ｍｍの、連続配置（六方晶格子をベースとする）の円形埋封エポキシ樹脂アイランドで被覆された、幅５０ｃｍのチタンドラムで構成されている成形マンドレルを用いた。樹脂は、チタンドラム中に機械加工された深さ１ｍｍ以下の適当な寸法の凹部中に埋封され、ドラム表面と平坦になるように機械加工した。このマンドレル上に箔を電鋳することによって、連続して製造することができ、１．５ｍｍの円形孔を有し、そのパターンがエポキシ樹脂アイランドのパターンに対応する、厚さ２０ミクロンのニッケル箔が得られた。次に、箔を実施例１に記載の方法でアニーリングした。最後に、箔を、２５ミクロンのポリマーフィルム上に付着させた、連続的な箔状の「活性」磁性材料に積層した。この方法の有利性は、活性材料及び失活材料を、積層工程の為に連続ウェブとして取り扱うことができ、そのため、連続ウェブの製造が容易になり、これを任意の必要な寸法の失活可能な盗難防止マーカーに切断することができるという点である。
実施例３
　本実施例は、選択的な冷間処理工程によって磁気的に不連続にされる、構造的に連続な失活箔の製造を示す。本実施例においては、実施例１において用いたものと同一のニッケル箔を用いた。幅５０ｃｍの箔を、第１ａ図及び１ｂ図において示したフラットベット・パラレル・プレス中に供給した。プレスツールは、平滑及び平坦に機械加工された軟鋼で形成された下部面１、及び、正方形のグリッド配列で配置され、正方形の一辺が２．５ｃｍであるライン３のメッシュを有して形成された上部面２から構成されていた。上部面２は、工具グレードの鋼鉄釣銭で形成されており、正方形のグリッドパターン３は、グリッドラインの配列を深さ０．５ｍｍに機械加工することによって形成されていた（第１ｂ図参照）。プレスツール１、２は、５０ｃｍ×２ｃｍの領域をカバーしているので、ニッケル箔を、ツールの長辺に対して直角な方向にプレスを通して供給し、各プレス操作の後に一段階で２ｃｍ箔を前進させることによって、連続ロールの箔の全部を容易に処理することができる。このプレスツールを用いる結果、その幅及び長さの全体に亙って変形パターン４を有し（第２図参照）、そのパターンが第１ｂ図のグリッド配列のパターンと合致する箔のロールが形成される。箔を切断したり大きく湾曲させたりすることなく、処理された箔のライン４において所望の程度のプラスチック変形を得るためには、プレスツールの一ストロークあたり２０〜１００トンの範囲の圧力が必要なことが分かった。この圧力は約５０トンの力であることが有利であった。２０トンの下限以下では、得られるプラスチック変形が、箱の平面における全ての磁気回路を適当に崩壊させるのには不十分であった。次に、得られた失活材料の連続箔ロールを、実施例２において上述したような連続工程において活性磁気材料（箔の形態のもの）に積層した。
実施例４
　実施例３において上述したように変形パターンでニッケル箔を押圧したが、本実施例においては、第１図のフラットベットプレスに代えて回転エンボスタイプの工程を用いた。円筒形のロータリーローラーツールは、実施例２において記載したものと同様の材料及びパターンのものであるが、本実施例においては瞬時接触面積がより小さいので、２〜１０トンのより小さい力しか必要ではなかった。これによって、実施例３において記載したものと同様の材料が得られるが、箔はより速やかに処理することができ、ロータリー法においてはツールの摩耗も少なかった。
実施例５
　本実施例は、ステンレススチールからの失活材料の製造を示す。ＡＩＳＩタイプ３０１ステンレススチールを８０ミクロンの厚さに冷間圧延し、次に、実質的に非磁性になるまで、十分に熱アニーリングした。次に、この箔を厚さ４０ミクロンに冷間圧延すると、その変形度においては、最大保磁力３ｋＡ／ｍ及び残留磁気比０．８を示した。
実施例６
　実施例５の方法によって製造された箔は、実施例１において上記した方法で、連続的で磁気的に均一な失活箔又は片として用いるのに好適であった。また、材料を磁気的に不連続にして実施例４のＮｉ材料と同等の結果を得ることができた。この磁気的に不連続な状態を得るための方法を以下に説明する。
　鋼箔を、連続フラットベットプレス中に供給した。プレスツールは、第３図に示す構造を有していた。即ち、下部プレート５によって平坦歯の金属クランプ（歯７を有する）が形成され、上部プレート６は、加熱素子８が差し込まれている同様のクランプ歯を有していた。素子を８００〜１２００℃の範囲、好ましくは約１０００℃の温度に保持し、約０．２秒間、極めて低い圧で押圧してロールスチールシートに接触させた。箔をグリップするフラット歯を循環水系によって冷却した。これは、箔の加熱領域に隣接する非加熱領域を低温に保持して加熱素子８によって影響を受けないように機能した。プレスを通して箔を供給することによって、加熱素子と接触した材料がアニーリングされ非磁性になるので、ロール箔にアニーリング及び非アニーリング材料のストライプの連続パターンがつけられた。「ストライプ」の付けられた箔を幅２ｍｍのリールに切断しリールを幅０．８ｍｍのＶｉｔｒｏｖａｃ６００６合金（西ドイツ国のＶａｃｕｕｍｓｃｈｍｅｌｔｚｅから入手）の連続片に積層して、任意の所望の長さに切断することができる失活可能なマーカーの片を製造した。
（５７）【特許請求の範囲】
１．基材；高い透磁率及び低い保磁力を有する軟質磁気材料である「活性」磁気材料；及び、
ニッケル、ニッケル／鉄合金
並びに０．５を超える残留磁気比（Ｍ［残留］／Ｍ［飽和］）
　２．かかる少なくとも一方の材料が、選択析出がマスキング法によって達成される電着法によって、基材によって支持された不連続な箔又は層あるいは多数のアイランドとして形成される請求の範囲第１項に記載の標識又はマーカー。
　３．かかる少なくとも一方の材料が円柱形の粒構造を有する請求の範囲第１項又は第２項に記載の標識又はマーカー。
　４．かかる少なくとも一方の材料が平面状の粒構造を有する請求の範囲第１項又は第２項に記載の標識又はマーカー。
　５．かかる円柱形の粒が平面状の粒の薄層で被覆されている請求の範囲第３項に記載の標識又はマーカー。
　６．かかる少なくとも一方の材料が電着法によって形成された後に変形工程にかけられている請求の範囲第１項〜第５項のいずれかに記載の標識又はマーカー。