(57)【要約】  液晶組成物への溶解性が大きく、長波長域の紫外線に対する反応性が高い重合性化合物の提供。  ネマチック相の高い上限温度、ネマチック相の低い下限温度、小さな粘度、適切な光学異方性、負に大きな誘電率異方性、大きな比抵抗、高い紫外線安定性、高い熱安定性等の特性において、少なくとも１つの特性を充足し２つ以上の特性に関して適切なバランスを有する液晶組成物の提供。短い応答時間、大きな電圧保持率、大きなコントラスト比、長い寿命等を有するＰＳＡ−ＶＡ素子の提供。  ＰＳＡ素子製造工程において長波長を適用し高重合度の高分子構造体の構築により安定した表示を得る為に少なくとも１つの１,３−フェニレン構造または２,７−フルオレンジイルを有する骨格構造に導入した重合性化合物、これを含有する液晶組成物およびこの組成物を含有する液晶表示素子。
2010131600.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式（１）で表される化合物。
2010131600.tif 000058
（式（１）中、Ｘは独立して、単結合、−ＣＯＯ−、または−Ｏ−であり；Ｚは独立して、水素、フッ素、塩素、メチル、または−ＣＦ３であり；ｎは独立して、０から８の整数であり；Ｇは式（２）または式（３）で示される２価基を表す。
式（２）および式（３）中、Ａは独立して、１，４−シクロへキシレン、１，４−シクロヘキセニレン、１，４−フェニレン、２，６−ナフタレン、テトラヒドロピラン−２，５−ジイル、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル、ピリミジン−２，５−ジイル、またはピリジン−２，５−ジイルであり、これらの環において任意の水素はフッ素で置き換えられていてもよく；ｍは０または１であり；Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、およびＲ４は独立して、炭素数１から５のアルキル、水素、塩素、またはフッ素である。）
【請求項２】
式（１−２）で表される化合物。
2010131600.tif 000059
（式中、Ｒ１およびＲ２は独立して、炭素数１から５のアルキル、水素、塩素、またはフッ素であり；Ａ１は独立して、１，４−シクロへキシレン、１，４−シクロヘキセニレン、１，４−フェニレン、２，６−ナフタレン、テトラヒドロピラン−２，５−ジイル、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル、ピリミジン−２，５−ジイル、またはピリジン−２，５−ジイルであり、これらの環において任意の水素はフッ素で置き換えられていてもよく；Ｘ１は独立して、単結合、−ＣＯＯ−、または−Ｏ−であり；Ｚ１は独立して、水素、フッ素、塩素、メチル、または−ＣＦ３であり；ｍ１は０または１であり；ｎ１は独立して、０から８の整数である。）
【請求項３】
Ｒ１およびＲ２が独立して、水素、メチル、塩素、またはフッ素であり；Ａ１が独立して、１，４−フェニレン、２−フルオロ−１，４−フェニレン、２，３−ジフルオロ−１，４−フェニレン、２，６−ナフタレン、または３−フルオロ−２，６−ナフタレンであり；Ｘ１が単結合であり；Ｚ１が独立して、水素またはメチルであり；ｍ１が１であり；ｎ１が０である、請求項２に記載の化合物。
【請求項４】
Ｒ１が水素、メチル、塩素、またはフッ素であり；Ｒ２が水素、フッ素であり；Ａ１が独立して、１，４−フェニレン、２−フルオロ−１，４−フェニレン、２，３−ジフルオロ−１，４−フェニレン、２，６−ナフタレン、または３−フルオロ−２，６−ナフタレンであり；Ｘ１が単結合であり；Ｚ１が独立して、水素またはメチルであり；ｍ１が０であり；ｎ１が０である、請求項２に記載の化合物。
【請求項５】
式（１−３）で表される化合物。
2010131600.tif 000060
（式中、Ｒ３およびＲ４は独立して、炭素数１から５のアルキル、水素、塩素、またはフッ素であり；Ｘ２は独立して、単結合、−ＣＯＯ−、または−Ｏ−であり；Ｚ２は独立して、水素、フッ素、塩素、メチル、または−ＣＦ３であり；ｎ２は独立して、０から８の整数である。）
【請求項６】
Ｒ３が水素であり、Ｒ４がメチルであり、Ｘ２が単結合であり、Ｚ２が独立して、水素またはメチルであり、ｎ２が０である、請求項５に記載の化合物。
【請求項７】
Ｒ３およびＲ４がメチルであり、Ｘ２が単結合であり、Ｚ２が独立して、水素またはメチルであり、ｎ２が０である、請求項５に記載の化合物。
【請求項８】
第一成分として請求項１に示される式（１）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物を含有し、
第二成分として式（４）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物を含有し、
第三成分として式（５）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物
を含有する液晶組成物。
2010131600.tif 000061
（式中、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、およびＲ１４は独立して、炭素数１から１２のアルキル、炭素数１から１２のアルコキシ、炭素数２から１２のアルケニル、または任意の水素がフッ素で置き換えられた炭素数２から１２のアルケニルであり；
環Ｂは独立して、１，４−シクロへキシレンまたは１，４−フェニレンであり；
環Ｃおよび環Ｄは独立して、１，４−シクロへキシレン、１，４−フェニレン、２−フルオロ−１，４−フェニレン、または２，５−ジフルオロ−１，４−フェニレンであり；
Ｚ１１は独立して、単結合、−（ＣＨ２）２−、−ＣＨ２Ｏ−、または−ＣＯＯ−であり；ｋおよびｊは独立して、１、２、または３である。）
【請求項９】
第一成分が請求項２に示される式（１−２）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物を含有し、第二成分が式（４）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物を含有し、第三成分が式（５）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物を含有する、請求項８に記載の液晶組成物。
【請求項１０】
第一成分が請求項５に示される式（１−３）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物を含有し、第二成分が式（４）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物を含有し、第三成分が式（５）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物を含有する、請求項８に記載の液晶組成物。
【請求項１１】
第二成分が式（４−１）から式（４−７）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物である、請求項８に記載の液晶組成物。
2010131600.tif 000062
ここで、Ｒ１１およびＲ１２は独立して、炭素数１から１２のアルキル、炭素数１から１２のアルコキシ、炭素数２から１２のアルケニル、または任意の水素がフッ素で置き換えられた炭素数２から１２のアルケニルである。
【請求項１２】
第二成分が式（４−１）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物である、請求項１１に記載の液晶組成物。
【請求項１３】
第二成分が式（４−４）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物である、請求項１１に記載の液晶組成物。
【請求項１４】
第二成分が式（４−７）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物である、請求項１１に記載の液晶組成物。
【請求項１５】
第二成分が、式（４−１）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物、および式（４−４）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物の混合物である、請求項１１に記載の液晶組成物。
【請求項１６】
第二成分が、式（４−１）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物、および式（４−７）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物の混合物である、請求項１１に記載の液晶組成物。
【請求項１７】
第二成分が、式（４−１）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物、式（４−４）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物、および式（４−７）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物の混合物である、請求項１１に記載の液晶組成物。
【請求項１８】
第三成分が式（５−１）から式（５−１３）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物である、請求項８から１７のいずれか１項に記載の液晶組成物。
2010131600.tif 000063
（式中、Ｒ１３およびＲ１４は独立して、炭素数１から１２のアルキル、炭素数１から１２のアルコキシ、炭素数２から１２のアルケニル、または任意の水素がフッ素で置き換えられた炭素数２から１２のアルケニルである。
【請求項１９】
第三成分が式（５−１）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物である、請求項１８に記載の液晶組成物。
【請求項２０】
第三成分が、式（５−１）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物、および式（５−５）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物の混合物である、請求項１８に記載の液晶組成物。
【請求項２１】
第三成分が、式（５−１）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物、および式（５−７）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物の混合物である、請求項１８に記載の液晶組成物。
【請求項２２】
第三成分が、式（５−１）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物、式（５−７）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物、および式（５−１３）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物の混合物である、請求項１８に記載の液晶組成物。
【請求項２３】
第一成分を除く液晶組成物の重量に基づいて、第二成分の割合が１０重量％から６０重量％の範囲であり、第三成分の割合が５重量％から５０重量％の範囲であり、そして第一成分を除く液晶組成物１００重量％に対して、第一成分の割合が０．０５重量％から１０重量％の範囲である、請求項８から２２のいずれか１項に記載の液晶組成物。
【請求項２４】
第四成分として式（６−１）から式（６−４）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物をさらに含有する、請求項８から２３のいずれか１項に記載の液晶組成物。
2010131600.tif 000064
ここで、Ｒ１１およびＲ１２は独立して、炭素数１から１２のアルキル、炭素数１から１２のアルコキシ、炭素数２から１２のアルケニル、または任意の水素がフッ素で置き換えられた炭素数２から１２のアルケニルであり；
環Ｂおよび環Ｆは独立して、１，４−シクロへキシレンまたは１，４−フェニレンであり；
環Ｅは独立して、テトラヒドロピラン−２，５−ジイル、１，４−シクロへキシレン、１，４−フェニレン、２，３−ジフルオロ−１，４−フェニレン、または２−フルオロ−１，４−フェニレンであり；
Ｚ１１およびＺ１２は独立して、単結合、−（ＣＨ２）２−、−ＣＨ２Ｏ−、または−ＣＯＯ−であり；
Ｘ１１およびＸ１２は、一方がフッ素であり、他方が塩素であり；
Ｘ１３は水素またはメチルであり、Ｘ１３が水素である場合は、少なくとも１つの環Ｅは、テトラヒドロピラン−２，５−ジイル、２，３−ジフルオロ−１，４−フェニレン、または２−フルオロ−１，４−フェニレンであり；
ｒおよびｔは独立して、１、２、または３であり；
ｐおよびｑは独立して、０、１、２、または３であり、そしてｐとｑとの和は０、１、２、または３である。）
【請求項２５】
第四成分が式（６−１−１）から式（６−１−３）、式（６−２−１）から式（６−２−１６）、式（６−３−１）から式（６−３−４）、および式（６−４）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物である、請求項２４に記載の液晶組成物。
2010131600.tif 000065
2010131600.tif 000066
2010131600.tif 000067
2010131600.tif 000068
（式中、Ｒ１１およびＲ１２は独立して、炭素数１から１２のアルキル、炭素数１から１２のアルコキシ、炭素数２から１２のアルケニル、または任意の水素がフッ素で置き換えられた炭素数２から１２のアルケニルであり；
環Ｂ１、環Ｂ２、環Ｆ１、および環Ｆ２は独立して、１，４−シクロへキシレンまたは１，４−フェニレンであり；
Ｚ１１およびＺ１２は独立して、単結合、−（ＣＨ２）２−、−ＣＨ２Ｏ−、または−ＣＯＯ−である。）
【請求項２６】
第四成分が式（６−１−２）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物である、請求項２５に記載の液晶組成物。
【請求項２７】
第四成分が式（６−２−４）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物である、請求項２５に記載の液晶組成物。
【請求項２８】
第四成分が式（６−２−５）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物である、請求項２５に記載の液晶組成物。
【請求項２９】
第四成分が式（６−２−７）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物である、請求項２５に記載の液晶組成物。
【請求項３０】
第四成分が式（６−２−１３）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物である、請求項２５に記載の液晶組成物。
【請求項３１】
第四成分が式（６−２−１５）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物である、請求項２５に記載の液晶組成物。
【請求項３２】
第一成分を除く液晶組成物の重量に基づいて、第四成分の割合が５重量％から５０重量％の範囲である、請求項２４から３１のいずれか１項に記載の液晶組成物。
【請求項３３】
第五成分として式（７−１）から式（７−４）で表される化合物の群から選択される少なくとも１つの化合物をさらに含有する、請求項８から３２に記載の液晶組成物。
2010131600.tif 000069
［式中、Ｒ１５は炭素数１から１２のアルキルまたは炭素数２から１２のアルケニルであり、アルキルおよびアルケニルにおいて任意の水素はフッ素で置き換えられてもよく、任意の−ＣＨ2−は−Ｏ−で置き換えられてもよく；
Ｘ１４はフッ素、塩素、−ＯＣＦ3、−ＯＣＨＦ2、−ＣＦ3、−ＣＨＦ2、−ＣＨ2Ｆ、−ＯＣＦ2ＣＨＦ2、または−ＯＣＦ2ＣＨＦＣＦ3であり；
Ｘ１５は−Ｃ≡Ｎまたは−Ｃ≡Ｃ−Ｃ≡Ｎであり；
環Ｉ１、環Ｉ２、環Ｉ３、環Ｊ１、環Ｊ２、および環Ｊ３は独立して１，４−シクロヘキシレン、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル、ピリミジン−２，５−ジイル、テトラヒドロピラン−２，５−ジイル、または任意の水素がフッ素で置き換えられてもよい１，４−フェニレンであり；
Ｚ１３およびＺ１４は独立して、−（ＣＨ2）2−、−（ＣＨ2）4−、−ＣＯＯ−、−ＣＦ2Ｏ−、−ＯＣＦ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ２Ｏ−、または単結合であり；
Ｚ１５は−（ＣＨ2）2−、−ＣＯＯ−、−ＣＦ2Ｏ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ２Ｏ−、または単結合であり；
Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３、およびＬ４は独立して、水素またはフッ素である；
ｕは０、１、または２であり、ｖは０または１である。］
【請求項３４】
第一成分を除く液晶組成物の重量に基づいて、第五成分の割合が５重量％から５０重量％の範囲である、請求項３３に記載の液晶組成物。
【請求項３５】
重合開始剤をさらに含有する、請求項８から３４のいずれか１項に記載の液晶組成物。
【請求項３６】
重合禁止剤をさらに含有する、請求項８から３５のいずれか１項に記載の液晶組成物。
【請求項３７】
ネマチック相の上限温度が７０℃以上であり、波長５８９ｎｍにおける光学異方性（２５℃）が０．０８以上であり、そして周波数１ｋＨｚにおける誘電率異方性（２５℃）が−２以下である、請求項８から３６のいずれか１項に記載の液晶組成物。
【請求項３８】
少なくとも一方の基板に電極層を有する２つの基板から構成され、この２つの基板の間に請求項８から３７のいずれか１項に記載の液晶組成物中の重合性化合物が重合した化合物を含む液晶材料を配置する事を特徴とする、高分子支持配向型（ＰＳＡ）液晶表示素子。
【請求項３９】
液晶表示素子の動作モードが、ＴＮモード、ＶＡモード、またはＩＰＳモードであり、液晶表示素子の駆動方式がアクティブマトリックス方式である、請求項３８に記載の液晶表示素子。
【請求項４０】
液晶表示素子の動作モードがＶＡモードであることを特徴とする、請求項３８に記載の液晶表示素子。
【請求項４１】
液晶表示素子がマルチドメイン構造を有し、動作モードがＶＡモードである、請求項３８に記載の液晶表示素子。
【請求項４２】
液晶表示素子の動作モードがＯＣＢモードまたはＩＰＳモードであることを特徴とする、請求項３８に記載の液晶表示素子。
【請求項４３】
２つの基板間に配置した請求項８から３７のいずれか１項に記載の液晶組成物を電圧印加状態で光照射して重合性化合物を重合させることを特徴とする、請求項３８に記載の液晶表示素子の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えば光または熱により重合する重合性化合物、および重合性化合物を含有する液晶組成物に関する。また、その液晶組成物を基板間に封入し、液晶層に印加する電圧を調整しながら液晶組成物に含有されている重合性化合物を重合して液晶の配向を固定化する液晶表示素子に関する。
本発明の技術分野は。主としてＡＭ（active matrix）素子などに適する液晶組成物、およびこの組成物を含有するＡＭ素子などに関する。特に、誘電率異方性が負の液晶組成物に関し、この組成物を含有するＩＰＳ（in-plane switching）モード、ＶＡ（vertical alignment）モードまたはこれらのモードにＰＳＡ（polymer sustained alignment）技術を適用した素子などに関する。ＶＡモードにはＭＶＡ（multi-domain vertical alignment）モードおよびＰＶＡ（patterned vertical alignment）モードが含まれる。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示素子において、液晶の動作モードに基づいた分類は、ＰＣ（phase change）、ＴＮ（twisted nematic）、ＳＴＮ（super twisted nematic）、ＥＣＢ（electrically controlled birefringence）、ＯＣＢ（optically compensated bend）、ＩＰＳ（in-plane switching）、ＶＡ（vertical alignment）などである。素子の駆動方式に基づいた分類は、ＰＭ（passive matrix）とＡＭ（active matrix）である。ＰＭはスタティック（static）とマルチプレックス（multiplex）などに分類され、ＡＭはＴＦＴ（thin film transistor）、ＭＩＭ（metal insulator metal）などに分類される。ＴＦＴの分類は非晶質シリコン（amorphous silicon）および多結晶シリコン（polycrystal silicon）である。後者は製造工程によって高温型と低温型とに分類される。光源に基づいた分類は、自然光を利用する反射型、バックライトを利用する透過型、そして自然光とバックライトの両方を利用する半透過型である。【０００３】
これらの素子は適切な特性を有する液晶組成物を含有する。この液晶組成物はネマチック相を有する。良好な一般的特性を有するＡＭ素子を得るには、組成物の一般的特性を向上させる必要がある。２つの一般的特性における関連を下記の表１にまとめる。組成物の一般的特性を、市販されているＡＭ素子に基づいてさらに説明する。ネマチック相の温度範囲は、素子の使用できる温度範囲に関連する。ネマチック相の好ましい上限温度は７０℃以上であり、そしてネマチック相の好ましい下限温度は−１０℃以下である。組成物の粘度は素子の応答時間に関連する。素子で動画を表示するためには短い応答時間が好ましい。したがって、組成物における小さな粘度が好ましい。低い温度における小さな粘度はより好ましい。【０００４】
2010131600.tif 000003
【０００５】
組成物の光学異方性は、素子のコントラスト比に関連する。組成物の光学異方性（Δｎ）と素子のセルギャップ（ｄ）との積（Δｎ×ｄ）は、コントラスト比を最大にするように設計される。適切な積の値は動作モードの種類に依存する。ＶＡモードまたはＰＳＡモードの素子では０．３０μｍから０．４０μｍの範囲、ＩＰＳモードの素子では０．２０μｍから０．３０μｍの範囲である。この場合、小さなセルギャップの素子には大きな光学異方性を有する組成物が好ましい。組成物における絶対値の大きな誘電率異方性は、素子における低いしきい値電圧、小さな消費電力と大きなコントラスト比に寄与する。したがって、絶対値の大きな誘電率異方性が好ましい。組成物における大きな比抵抗は、素子における大きな電圧保持率と大きなコントラスト比に寄与する。したがって、初期段階において室温だけでなく高い温度でも大きな比抵抗を有する組成物が好ましい。長時間使用したあと、室温だけでなく高い温度でも大きな比抵抗を有する組成物が好ましい。紫外線および熱に対する組成物の安定性は、液晶表示素子の寿命に関連する。これらの安定性が高いとき、この素子の寿命は長い。このような特性は、液晶プロジェクター、液晶テレビなどに用いるＡＭ素子に好ましい。【０００６】
ＴＮモードを有するＡＭ素子においては正の誘電率異方性を有する組成物が用いられる。一方、ＶＡモードを有するＡＭ素子においては負の誘電率異方性を有する組成物が用いられる。ＩＰＳモードを有するＡＭ素子においては正または負の誘電率異方性を有する組成物が用いられる。高分子支持配向（ＰＳＡ）技術を適用したＡＭ素子においては正または負の誘電率異方性を有する組成物が用いられる。負の誘電率異方性を有する液晶組成物の例は次の特許文献１〜４に開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２００３−３０７７２０号公報
【特許文献２】特開２００４−１３１７０４号公報
【特許文献３】特開２００６−１３３６１９号公報
【特許文献４】欧州特許出願公開１８８９８９４号明細書
【０００８】
望ましいＡＭ素子は、使用できる温度範囲が広い、応答時間が短い、コントラスト比が大きい、しきい値電圧が低い、電圧保持率が大きい、寿命が長い、などの特性を有する。１ｍｓでもより短い応答時間が望ましい。したがって、組成物の望ましい特性は、ネマチック相の高い上限温度、ネマチック相の低い下限温度、小さな粘度、適切な光学異方性、正または負に大きな誘電率異方性、大きな比抵抗、紫外線に対する高い安定性、熱に対する高い安定性などである。
ＰＳＡ技術を適用したディスプレイでは、少量(例えば０．３重量％、典型的には１％未満)の重合性化合物（ＲＭ）が液晶組成物に添加され、液晶表示セルに導入後、電極間に電圧を印加した状態で通常ＵＶ照射下に重合性化合物のみを重合させ、素子内でポリマー構造を形成する。ＲＭとしては重合性のメソゲン性または液晶性化合物が液晶組成物添加モノマーとして特に適していることが知られている。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
上述の重合性メソゲン性または液晶性化合物は一般に、液晶分子を配向させる能力が高い。その反面、液晶組成物への溶解性が悪く、多くの量を添加することができない。環構造間にアルキレンやエステルなどのフレキシブルな連結基を導入することで、液晶組成物への溶解性は良くなるが、分子の剛直性が弱くなり液晶分子を配向させる能力が低くなる。【００１０】
液晶表示素子の製造プロセスに着目する。液晶組成物と混合した重合性化合物はガラス基板間に封入し、液晶層に印加する電圧を調整しながら重合させる。紫外線はガラス基板上から照射されるが、表示素子に使用されるガラスは低波長の紫外線を吸収するので、重合性化合物を効率よく紫外線で重合させるには、ガラスで吸収される紫外線領域より長波長側で反応しやすい性質を持つ化合物であることが望ましい。【００１１】
本発明の１つの目的は、ネマチック相の高い上限温度、ネマチック相の低い下限温度、小さな粘度、適切な光学異方性、負に大きな誘電率異方性、大きな比抵抗、紫外線に対する高い安定性、熱に対する高い安定性などの特性において、少なくとも１つの特性を充足する液晶組成物である。他の目的は、少なくとも２つの特性に関して適切なバランスを有する液晶組成物である。別の目的は、このような組成物を含有する液晶表示素子である。別の目的は、小さな光学異方性、または大きな光学異方性である適切な光学異方性、負に大きな誘電率異方性、紫外線に対する高い安定性などを有する組成物であり、そして液晶層中に高分子構造を構築することによって短い応答時間、大きな電圧保持率、大きなコントラスト比、長い寿命などを有するＡＭ素子である。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明者らはＰＳＡ技術を応用した液晶表示素子用の重合性化合物の骨格構造に着目し、少なくとも１つの１,３−フェニレン構造または２,７−フルオレンジイルを骨格構造に導入することで、フレキシブルな連結基を導入することなく液晶組成物への溶解性を向上させ、効率的にＰＳＡ効果を発現して、液晶分子を配向させる能力が高くせしめることを見出した。
さらに本発明の重合性化合物は長波長域の紫外線に対して高い反応性を示すので、液晶材料にダメージを与えることが少ない条件でのＰＳＡ技術を適用した種々の液晶表示装置のＲＭとして適している。【００１３】
本発明の重合性化合物を液晶組成物に添加することによって、ネマチック相の高い上限温度、ネマチック相の低い下限温度、小さな粘度、適切な光学異方性、正または負に大きな誘電率異方性、大きな比抵抗、紫外線に対する高い安定性、熱に対する高い安定性などの特性において、少なくとも１つの特性あるいは２つ以上の適切な特性バランスを充足する液晶組成物特性を有し、かつＰＳＡ技術を適用した表示素子に好適な液晶組成物の提供が可能となった。
本発明の液晶組成物を用いる事によって、小さな光学異方性、または大きな光学異方性である適切な光学異方性、負に大きな誘電率異方性、紫外線に対する高い安定性などを有する組成物であり、そして短い応答時間、大きな電圧保持率、大きなコントラスト比、長い寿命などを有するＡＭ素子を製造する事が可能である。
また本発明は、特にＰＳＡ技術を適用したＶＡ型液晶表示素子の性能改善に著しく効果がある。ＰＳＡ技術を用いたＶＡ型素子は、透明電極と液晶分子を配向させる配向制御膜を備えた二枚の基板を有し、これらの基板の間に重合性化合物を含む液晶組成物を配置し、これらの基板の相対する透明電極の間に電圧を印加しながら重合性化合物を重合する工程を経て製造される液晶表示装置である。【００１４】
本発明によって、電圧印加時の配向状態を高分子成分に記憶させた液晶材料を基板間に配置でき、封入した液晶分子の倒れる方向を記憶させて応答時間を短縮し、焼き付きの程度を改善することができる。
特に本発明の重合性化合物を用いることによってセル製造工程に幅広く対応することが可能となり、さらに長波長紫外線を使用できるため従来の高分子配向制御液晶表示に用いられてきた反応性モノマーより高品位な液晶表示素子を製造することが可能となった。【００１５】
式（１）で表される化合物、式（１）で表される化合物を含有する液晶組成物、およびこの組成物を含有する液晶表示素子である。
2010131600.tif 000004
【００１６】
（式（１）中、Ｘは独立して、単結合、−ＣＯＯ−、または−Ｏ−であり；Ｚは独立して、水素、フッ素、塩素、メチル、または−ＣＦ３であり；ｎは独立して、０から８の整数であり；Ｇは式（２）または式（３）で示される２価基を表す。
式（２）および式（３）中、Ａは独立して、１，４−シクロへキシレン、１，４−シクロヘキセニレン、１，４−フェニレン、２，６−ナフタレン、テトラヒドロピラン−２，５−ジイル、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル、ピリミジン−２，５−ジイル、またはピリジン−２，５−ジイルであり、これらの環において任意の水素はフッ素で置き換えられていてもよく；ｍは０または１であり；Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、およびＲ４は独立して、炭素数１から５のアルキル、水素、塩素、またはフッ素である。）
【発明の効果】
【００１７】
本発明の長所は、重合性化合物について、液晶組成物に対する溶解性、液晶分子を配向させる高い能力、長波長域の紫外線に対する高い反応性である。
本発明の他の長所は、ネマチック相の高い上限温度、ネマチック相の低い下限温度、小さな粘度、適切な光学異方性、負に大きな誘電率異方性または正に大きな誘電率異方性、大きな比抵抗、紫外線に対する高い安定性、熱に対する高い安定性などの特性において、少なくとも１つの特性を充足する液晶組成物であることである。本発明の１つの側面は、少なくとも２つの特性に関して適切なバランスを有する液晶組成物である。別の側面は、このような組成物を含有する液晶表示素子である。他の側面は、適切な光学異方性、負に大きな誘電率異方性または正に大きな誘電率異方性、紫外線に対する高い安定性などを有する組成物であり、そして特に短い応答時間、大きな電圧保持率、大きなコントラスト比、長い寿命などを有するＡＭ素子である。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】実施例１で得られた化合物（１−２−１）のＵＶ／Ｖｉｓスペクトル
【図２】実施例２で得られた化合物（１−２−９）のＵＶ／Ｖｉｓスペクトル
【図３】実施例５で得られた化合物（１−２−１７）のＵＶ／Ｖｉｓスペクトル
【図４】実施例６で得られた化合物（１−２−２５）のＵＶ／Ｖｉｓスペクトル
【図５】実施例３で得られた化合物（１−２−３３）のＵＶ／Ｖｉｓスペクトル
【図６】実施例４で得られた化合物（１−２−４１）のＵＶ／Ｖｉｓスペクトル
【図７】実施例７で得られた化合物（１−３−４）のＵＶ／Ｖｉｓスペクトル
【図８】実施例９で得られた化合物（１−３−５）のＵＶ／Ｖｉｓスペクトル
【図９】実施例８で得られた化合物（１−３−１２）のＵＶ／Ｖｉｓスペクトル
【図１０】実施例１０で得られた化合物（１−３−１３）のＵＶ／Ｖｉｓスペクトル
【図１１】比較例２で得られた化合物（Ｒ−２）のＵＶ／Ｖｉｓスペクトル
【発明を実施するための形態】
【００１９】
この明細書における用語の使い方は次のとおりである。本発明の液晶組成物または本発明の液晶表示素子をそれぞれ「組成物」または「素子」と略すことがある。液晶表示素子は液晶表示パネルおよび液晶表示モジュールの総称である。「液晶性化合物」は、ネマチック相、スメクチック相などの液晶相を有する化合物または液晶相を有さないが組成物の成分として有用な化合物を意味する。この有用な化合物は例えば１，４−シクロヘキシレンや１，４−フェニレンのような六員環を含有し、その分子構造は棒状（rod like）である。光学活性な化合物および式（１）の化合物以外の重合可能な化合物は組成物に添加されることがある。これらの化合物が液晶性化合物であったとしても、ここでは添加物として分類される。式（１）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物を「化合物（１）」と略すことがある。「化合物（１）」は、式（１）で表される１つの化合物または２つ以上の化合物を意味する。他の式で表される化合物についても同様である。「任意の」は、位置だけでなく個数についても任意であることを示すが、個数が０である場合を含まない。
【００２０】
ネマチック相の上限温度を「上限温度」と略すことがある。ネマチック相の下限温度を「下限温度」と略すことがある。「比抵抗が大きい」は、組成物が初期段階において室温だけでなくネマチック相の上限温度に近い温度でも大きな比抵抗を有し、そして長時間使用したあと室温だけでなくネマチック相の上限温度に近い温度でも大きな比抵抗を有することを意味する。「電圧保持率が大きい」は、素子が初期段階において室温だけでなく高い温度でも大きな電圧保持率を有し、そして長時間使用したあと室温だけでなくネマチック相の上限温度に近い温度でも大きな電圧保持率を有することを意味する。光学異方性などの特性を説明するときは、実施例に記載した測定方法で得られた値を用いる。組成物に供される第一成分などの各成分は、１つの化合物または２つ以上の化合物である。「第一成分の割合」は、該第一成分を除いた液晶組成物の全重量１００重量％を基準とした重量百分率（重量％）である。第一成分を除く他の第二成分や第三成分などの割合は、第一成分を除いた液晶組成物の全重量に基づいた各成分の重量百分率（重量％）を意味する。すなわち、第一成分の割合は、組成物の構成により、以下のような算出方法となる。
【００２１】
第二成分＋第三成分、の全重量を１００重量％とし、第一成分の割合を算出。
第二成分＋第三成分＋第四成分、の全重量を１００重量％とし、第一成分の割合を算出。
第二成分＋第三成分＋第四成分＋第五成分、の全重量を１００重量％とし、第一成分の割合を算出。
【００２２】
第二成分から第五成分に係るこれらの組み合わせは一例であって、この開示によって組成が限定されるものではない。また、各成分中に不純物などを含有していてもよい。
【００２３】
組成物に混合される添加物の割合は、液晶組成物の全重量に基づいた重量百分率（重量％）または重量百万分率（重量ｐｐｍ）を意味する。
【００２４】
成分化合物の化学式において、Ｒ１の記号を複数の化合物に用いた。これらのうちの任意の２つの化合物において、Ｒ１の意味は同じであっても、異なってもよい。例えば、化合物（１−２）のＲ１がエチルであり、化合物（２）のＲ１がエチルであるケースがある。化合物（１−２）のＲ１がエチルであり、化合物（２）のＲ１がプロピルであるケースもある。このルールは、Ｒ２〜Ｒ１５などにも適用される。
成分化合物の化学式において二価基であるＺ１１〜Ｚ１５およびＸ〜Ｘ２は記述された定義の向きに限定されることはなく、例えば−ＣＨ２Ｏ−の場合は−ＯＣＨ２−であっても良く、−ＣＯＯ−は−ＯＣＯ−であっても良く、−ＣＦ２Ｏ−は−ＯＣＦ２−であってもよい。
成分化合物の化学式において二置換の環であるＡ，Ａ１、Ｂ、Ｂ１，Ｂ２，Ｃ、Ｄ、Ｅ、Ｆ１，Ｆ２，Ｉ１〜Ｉ３、およびＪ１〜Ｊ３は、記述された定義の向きに限定されることはなく、例えば２−フルオロ−１，４−フェニレンの場合は３−フルオロ−１，４−フェニレンオキシメチレンであってもよい。
また、成分化合物の化学式において構造の繰り返しを意味するｋ、ｊ、ｐ、ｑ、ｒ、ｔおよびｕが２以上の値を持つ場合、複数の二価基や二置換の環を選択することが可能であるが、これらは同一であっても異なっていてもよい。
例えば化合物（４）においてｋが２のとき、環Ｂは２つの１，４−シクロへキシレンであってもよいし、または２つの１，４−フェニレンであってもよい。さらには、１，４−シクロへキシレンと１，４−フェニレンの組み合わせでもよい。Ｚ１１も同様に、例えば単結合と単結合が選択されてもよいし、単結合と−ＣＯＯ−が選択されてもよい。
【００２５】
本発明は、下記の項などである。
１．  式（１）で表される化合物。
2010131600.tif 000005
【００２６】
（式（１）中、Ｘは独立して、単結合、−ＣＯＯ−、または−Ｏ−であり；Ｚは独立して、水素、フッ素、塩素、メチル、または−ＣＦ３であり；ｎは独立して、０から８の整数であり；Ｇは式（２）または式（３）で示される２価基を表す。
式（２）および式（３）中、Ａは独立して、１，４−シクロへキシレン、１，４−シクロヘキセニレン、１，４−フェニレン、２，６−ナフタレン、テトラヒドロピラン−２，５−ジイル、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル、ピリミジン−２，５−ジイル、またはピリジン−２，５−ジイルであり、これらの環において任意の水素はフッ素で置き換えられていてもよく；ｍは０または１であり；Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、およびＲ４は独立して、炭素数１から５のアルキル、水素、塩素、またはフッ素である。）
【００２７】
２．  式（１−２）で表される化合物。
2010131600.tif 000006
【００２８】
（式中、Ｒ１およびＲ２は独立して、炭素数１から５のアルキル、水素、塩素、またはフッ素であり；Ａ１は独立して、１，４−シクロへキシレン、１，４−シクロヘキセニレン、１，４−フェニレン、２，６−ナフタレン、テトラヒドロピラン−２，５−ジイル、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル、ピリミジン−２，５−ジイル、またはピリジン−２，５−ジイルであり、これらの環において任意の水素はフッ素で置き換えられていてもよく；Ｘ１は独立して、単結合、−ＣＯＯ−、または−Ｏ−であり；Ｚ１は独立して、水素、フッ素、塩素、メチル、または−ＣＦ３であり；ｍ１は０または１であり；ｎ１は独立して、０から８の整数である。）
【００２９】
３．  Ｒ１およびＲ２が独立して、水素、メチル、塩素、またはフッ素であり；Ａ１が独立して、１，４−フェニレン、２−フルオロ−１，４−フェニレン、２，３−ジフルオロ−１，４−フェニレン、２，６−ナフタレン、または３−フルオロ−２，６−ナフタレンであり；Ｘ１が単結合であり；Ｚ１が独立して、水素またはメチルであり；ｍ１が１であり；ｎ１が０である、項２に記載の化合物。
【００３０】
４．  Ｒ１が水素、メチル、塩素、またはフッ素であり；Ｒ２が水素、フッ素であり；Ａ１が独立して、１，４−フェニレン、２−フルオロ−１，４−フェニレン、２，３−ジフルオロ−１，４−フェニレン、２，６−ナフタレン、または３−フルオロ−２，６−ナフタレンであり；Ｘ１が単結合であり；Ｚ１が独立して、水素またはメチルであり；ｍ１が０であり；ｎ１が０である、項２に記載の化合物。
【００３１】
５．式（１−３）で表される化合物。
2010131600.tif 000007
（式中、Ｒ３およびＲ４は独立して、炭素数１から５のアルキル、水素、塩素、またはフッ素であり；Ｘ２は独立して、単結合、−ＣＯＯ−、または−Ｏ−であり；Ｚ２は独立して、水素、フッ素、塩素、メチル、または−ＣＦ３であり；ｎ２は独立して、０から８の整数である。）
【００３２】
６．  Ｒ３が水素であり、Ｒ４がメチルであり、Ｘ２が単結合であり、Ｚ２が独立して、水素またはメチルであり、ｎ２が０である、項５に記載の化合物。
【００３３】
７．  Ｒ３およびＲ４がメチルであり、Ｘ２が単結合であり、Ｚ２が独立して、水素またはメチルであり、ｎ２が０である、項５に記載の化合物。
【００３４】
８．  第一成分として項１に示される式（１）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物を含有し、
第二成分として式（４）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物を含有し、
第三成分として式（５）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物
を含有する液晶組成物。
2010131600.tif 000008
【００３５】
（式中、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、およびＲ１４は独立して、炭素数１から１２のアルキル、炭素数１から１２のアルコキシ、炭素数２から１２のアルケニル、または任意の水素がフッ素で置き換えられた炭素数２から１２のアルケニルであり；
環Ｂは独立して、１，４−シクロへキシレンまたは１，４−フェニレンであり；
環Ｃおよび環Ｄは独立して、１，４−シクロへキシレン、１，４−フェニレン、２−フルオロ−１，４−フェニレン、または２，５−ジフルオロ−１，４−フェニレンであり；
Ｚ１１は独立して、単結合、−（ＣＨ２）２−、−ＣＨ２Ｏ−、または−ＣＯＯ−であり；ｋおよびｊは独立して、１、２、または３である。）
【００３６】
９．  第一成分が項２に示される式（１−２）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物を含有し、第二成分が式（４）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物を含有し、第三成分が式（５）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物を含有する、項８に記載の液晶組成物。
【００３７】
１０．  第一成分が項５に示される式（１−３）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物を含有し、第二成分が式（４）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物を含有し、第三成分が式（５）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物を含有する、項８に記載の液晶組成物。
【００３８】
１１．  第二成分が式（４−１）から式（４−７）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物である、項８に記載の液晶組成物。
2010131600.tif 000009
【００３９】
ここで、Ｒ１１およびＲ１２は独立して、炭素数１から１２のアルキル、炭素数１から１２のアルコキシ、炭素数２から１２のアルケニル、または任意の水素がフッ素で置き換えられた炭素数２から１２のアルケニルである。
【００４０】
１２．  第二成分が式（４−１）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物である、項１１に記載の液晶組成物。
【００４１】
１３．  第二成分が式（４−４）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物である、項１１に記載の液晶組成物。
【００４２】
１４．  第二成分が式（４−７）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物である、項１１に記載の液晶組成物。
【００４３】
１５．  第二成分が、式（４−１）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物、および式（４−４）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物の混合物である、項１１に記載の液晶組成物。
【００４４】
１６．  第二成分が、式（４−１）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物、および式（４−７）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物の混合物である、項１１に記載の液晶組成物。
【００４５】
１７．  第二成分が、式（４−１）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物、式（４−４）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物、および式（４−７）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物の混合物である、項１１に記載の液晶組成物。
【００４６】
１８．  第三成分が式（５−１）から式（５−１３）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物である、項８から１７のいずれか１項に記載の液晶組成物。
2010131600.tif 000010
【００４７】
（式中、Ｒ１３およびＲ１４は独立して、炭素数１から１２のアルキル、炭素数１から１２のアルコキシ、炭素数２から１２のアルケニル、または任意の水素がフッ素で置き換えられた炭素数２から１２のアルケニルである。
【００４８】
１９．  第三成分が式（５−１）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物である、項１８に記載の液晶組成物。
【００４９】
２０．  第三成分が、式（５−１）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物、および式（５−５）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物の混合物である、項１８に記載の液晶組成物。
【００５０】
２１．  第三成分が、式（５−１）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物、および式（５−７）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物の混合物である、項１８に記載の液晶組成物。
【００５１】
２２．  第三成分が、式（５−１）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物、式（５−７）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物、および式（５−１３）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物の混合物である、項１８に記載の液晶組成物。
【００５２】
２３．  第一成分を除く液晶組成物の重量に基づいて、第二成分の割合が１０重量％から６０重量％の範囲であり、第三成分の割合が５重量％から５０重量％の範囲であり、そして第一成分を除く液晶組成物１００重量％に対して、第一成分の割合が０．０５重量％から１０重量％の範囲である、項８から２２のいずれか１項に記載の液晶組成物。
【００５３】
２４．  第四成分として式（６−１）から式（６−４）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物をさらに含有する、項８から２３のいずれか１項に記載の液晶組成物。
2010131600.tif 000011
【００５４】
ここで、Ｒ１１およびＲ１２は独立して、炭素数１から１２のアルキル、炭素数１から１２のアルコキシ、炭素数２から１２のアルケニル、または任意の水素がフッ素で置き換えられた炭素数２から１２のアルケニルであり；
環Ｂおよび環Ｆは独立して、１，４−シクロへキシレンまたは１，４−フェニレンであり；
環Ｅは独立して、テトラヒドロピラン−２，５−ジイル、１，４−シクロへキシレン、１，４−フェニレン、２，３−ジフルオロ−１，４−フェニレン、または２−フルオロ−１，４−フェニレンであり；
Ｚ１１およびＺ１２は独立して、単結合、−（ＣＨ２）２−、−ＣＨ２Ｏ−、または−ＣＯＯ−であり；
Ｘ１１およびＸ１２は、一方がフッ素であり、他方が塩素であり；
Ｘ１３は水素またはメチルであり、Ｘ１３が水素である場合は、少なくとも１つの環Ｅは、テトラヒドロピラン−２，５−ジイル、２，３−ジフルオロ−１，４−フェニレン、または２−フルオロ−１，４−フェニレンであり；
ｒおよびｔは独立して、１、２、または３であり；
ｐおよびｑは独立して、０、１、２、または３であり、そしてｐとｑとの和は０、１、２、または３である。）
【００５５】
２５．  第四成分が式（６−１−１）から式（６−１−３）、式（６−２−１）から式（６−２−１６）、式（６−３−１）から式（６−３−４）、および式（６−４）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物である、項２４に記載の液晶組成物。
2010131600.tif 000012
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2010131600.tif 000014
2010131600.tif 000015
【００５６】
（式中、Ｒ１１およびＲ１２は独立して、炭素数１から１２のアルキル、炭素数１から１２のアルコキシ、炭素数２から１２のアルケニル、または任意の水素がフッ素で置き換えられた炭素数２から１２のアルケニルであり；
環Ｂ１、環Ｂ２、環Ｆ１、および環Ｆ２は独立して、１，４−シクロへキシレンまたは１，４−フェニレンであり；
Ｚ１１およびＺ１２は独立して、単結合、−（ＣＨ２）２−、−ＣＨ２Ｏ−、または−ＣＯＯ−である。）
【００５７】
２６．  第四成分が式（６−１−２）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物である、項２５に記載の液晶組成物。
【００５８】
２７．  第四成分が式（６−２−４）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物である、項２５に記載の液晶組成物。
【００５９】
２８．  第四成分が式（６−２−５）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物である、項２５に記載の液晶組成物。
【００６０】
２９．  第四成分が式（６−２−７）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物である、項２５に記載の液晶組成物。
【００６１】
３０．  第四成分が式（６−２−１３）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物である、項２５に記載の液晶組成物。
【００６２】
３１．  第四成分が式（６−２−１５）で表される化合物の群から選択された少なくとも１つの化合物である、項２５に記載の液晶組成物。
【００６３】
３２．  第一成分を除く液晶組成物の重量に基づいて、第四成分の割合が５重量％から５０重量％の範囲である、項２４から３１のいずれか１項に記載の液晶組成物。
【００６４】
３３．  第五成分として式（７−１）から式（７−４）で表される化合物の群から選択される少なくとも１つの化合物をさらに含有する、項８から３２に記載の液晶組成物。
2010131600.tif 000016
【００６５】
［式中、Ｒ１５は炭素数１から１２のアルキルまたは炭素数２から１２のアルケニルであり、アルキルおよびアルケニルにおいて任意の水素はフッ素で置き換えられてもよく、任意の−ＣＨ2−は−Ｏ−で置き換えられてもよく；
Ｘ１４はフッ素、塩素、−ＯＣＦ3、−ＯＣＨＦ2、−ＣＦ3、−ＣＨＦ2、−ＣＨ2Ｆ、−ＯＣＦ2ＣＨＦ2、または−ＯＣＦ2ＣＨＦＣＦ3であり；
Ｘ１５は−Ｃ≡Ｎまたは−Ｃ≡Ｃ−Ｃ≡Ｎであり；
環Ｉ１、環Ｉ２、環Ｉ３、環Ｊ１、環Ｊ２、および環Ｊ３は独立して１，４−シクロヘキシレン、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル、ピリミジン−２，５−ジイル、テトラヒドロピラン−２，５−ジイル、または任意の水素がフッ素で置き換えられてもよい１，４−フェニレンであり；
Ｚ１３およびＺ１４は独立して、−（ＣＨ2）2−、−（ＣＨ2）4−、−ＣＯＯ−、−ＣＦ2Ｏ−、−ＯＣＦ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ２Ｏ−、または単結合であり；
Ｚ１５は−（ＣＨ2）2−、−ＣＯＯ−、−ＣＦ2Ｏ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ２Ｏ−、または単結合であり；
Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３、およびＬ４は独立して、水素またはフッ素である；
ｕは０、１、または２であり、ｖは０または１である。］
【００６６】
３４．  第一成分を除く液晶組成物の重量に基づいて、第五成分の割合が５重量％から５０重量％の範囲である、項３３に記載の液晶組成物。
【００６７】
３５．  重合開始剤をさらに含有する、項８から３４のいずれか１項に記載の液晶組成物。
【００６８】
３６．  重合禁止剤をさらに含有する、項８から３５のいずれか１項に記載の液晶組成物。
【００６９】
３７．  ネマチック相の上限温度が７０℃以上であり、波長５８９ｎｍにおける光学異方性（２５℃）が０．０８以上であり、そして周波数１ｋＨｚにおける誘電率異方性（２５℃）が−２以下である、項８から３６のいずれか１項に記載の液晶組成物。
【００７０】
３８．  少なくとも一方の基板に電極層を有する２つの基板から構成され、この２つの基板の間に項８から３７のいずれか１項に記載の液晶組成物中の重合性化合物が重合した化合物を含む液晶材料を配置する事を特徴とする、高分子支持配向型（ＰＳＡ）液晶表示素子。
【００７１】
３９．  液晶表示素子の動作モードが、ＴＮモード、ＶＡモード、またはＩＰＳモードであり、液晶表示素子の駆動方式がアクティブマトリックス方式である、項３８に記載の液晶表示素子。
【００７２】
４０．  液晶表示素子の動作モードがＶＡモードであることを特徴とする、項３８に記載の液晶表示素子。
【００７３】
４１．  液晶表示素子がマルチドメイン構造を有し、動作モードがＶＡモードである、項３８に記載の液晶表示素子。
【００７４】
４２．  液晶表示素子の動作モードがＯＣＢモードまたはＩＰＳモードであることを特徴とする、項３８に記載の液晶表示素子。
【００７５】
４３．  ２つの基板間に配置した項８から３７のいずれか１項に記載の液晶組成物を電圧印加状態で光照射して重合性化合物を重合させることを特徴とする、項３８に記載の液晶表示素子の製造方法。
【００７６】
本発明は、次の項も含む。１）光学活性な化合物をさらに含有する上記の組成物、２）酸化防止剤、紫外線吸収剤、消泡剤などの添加物をさらに含有する上記の組成物。３）上記の組成物を含有するＡＭ素子、４）上記の組成物を含有し、そしてＴＮ、ＥＣＢ、ＯＣＢ、ＩＰＳ、ＶＡ、またはＰＳＡのモードを有する素子、５）上記の組成物を含有する透過型の素子、６）上記の組成物を、ネマチック相を有する組成物としての使用、７）上記の組成物に光学活性な化合物を添加することによって光学活性な組成物としての使用。
【００７７】
本発明の組成物を次の順で説明する。第一に、組成物における成分化合物の構成を説明する。第二に、成分化合物の主要な特性、およびこの化合物が組成物に及ぼす主要な効果を説明する。第三に、組成物における成分の組み合わせ、成分化合物の好ましい割合およびその根拠を説明する。第四に、成分化合物の好ましい形態を説明する。第五に、成分化合物の具体的な例を示す。第六に、組成物に混合してもよい添加物を説明する。第七に、成分化合物の合成法を説明する。最後に、組成物の用途を説明する。
【００７８】
第一に、組成物における成分化合物の構成を説明する。本発明の組成物は組成物Ａと組成物Ｂに分類される。組成物Ａはその他の液晶性化合物、添加物、不純物などをさらに含有してもよい。「その他の液晶性化合物」は、化合物（１）、化合物（１−２）、化合物（１−３）、化合物（４）、化合物（５）、化合物（６−１）、化合物（６−２）、化合物（６−３）、化合物（６−４）、化合物（７−１）、化合物（７−２）、化合物（７−３）、および化合物（７−４）とは異なる液晶性化合物である。このような化合物は、特性をさらに調整する目的で組成物に混合される。その他の液晶性化合物の中で、シアノ化合物は熱または紫外線に対する安定性の観点から少ない方が好ましい。シアノ化合物のさらに好ましい割合は０重量％である。添加物は、光学活性な化合物、酸化防止剤、紫外線吸収剤、色素、消泡剤、重合可能な化合物、重合開始剤などである。不純物は成分化合物の合成などの工程において混入した化合物などである。この化合物が液晶性化合物であったとしても、ここでは不純物として分類される。
【００７９】
組成物Ｂは、実質的に化合物（１）、化合物（１−２）、化合物（１−３）、化合物（４）、化合物（５）、化合物（６−１）、化合物（６−２）、化合物（６−３）、化合物（６−４）、化合物（７−１）、化合物（７−２）、化合物（７−３）、および化合物（７−４）のみからなる。「実質的に」は、組成物が添加物および不純物を含有してもよいが、これらの化合物と異なる液晶性化合物を含有しないことを意味する。組成物Ｂは組成物Ａに比較して成分の数が少ない。コストを下げるという観点から、組成物Ｂは組成物Ａよりも好ましい。その他の液晶性化合物を混合することによって物性をさらに調整できるという観点から、組成物Ａは組成物Ｂよりも好ましい。
【００８０】
第二に、成分化合物の主要な特性、およびこの化合物が組成物の特性に及ぼす主要な効果を説明する。成分化合物の主要な特性を本発明の効果に基づいて表２にまとめる。表２の記号において、Ｌは大きいまたは高い、Ｍは中程度の、Ｓは小さいまたは低い、を意味する。記号Ｌ、Ｍ、Ｓは、成分化合物のあいだの定性的な比較に基づいた分類であり、０（ゼロ）は、値がほぼゼロであることを意味する。
【００８１】
2010131600.tif 000017
【００８２】
成分化合物を組成物に混合したとき、成分化合物が組成物の特性に及ぼす主要な効果は次のとおりである。化合物（４）は誘電率異方性の絶対値を上げ、そして下限温度を下げる。化合物（５）は粘度を下げる、または上限温度を上げる。化合物（６−１）、化合物（６−２）、化合物（６−３）および化合物（６−４）は誘電率異方性の絶対値を上げる。化合物（７−１）、化合物（７−２）、化合物（７−３）、および化合物（７−４）は誘電率異方性を上げる。
【００８３】
第三に、組成物における成分の組み合わせ、成分化合物の好ましい割合およびその根拠を説明する。組成物における成分の組み合わせは、
第一成分＋第二成分＋第三成分、
第一成分＋第二成分＋第三成分＋第四成分、
第一成分＋第二成分＋第三成分＋第四成分＋第五成分、
第一成分＋第二成分＋第三成分＋第五成分、
である。
【００８４】
第一成分の好ましい割合は、第一成分を除いた液晶組成物１００重量％に対して、その効果を得るために０．０５重量％以上であり、表示不良を防ぐために１０重量％以下である。さらに好ましい割合は、０．１重量％から２重量％の範囲である。
【００８５】
第二成分の好ましい割合は、誘電率異方性の絶対値を上げるために１０重量％以上であり、下限温度を下げるために６０重量％以下である。さらに好ましい割合は１０重量％から５５重量％の範囲である。特に好ましい割合は１５重量％から５０重量％の範囲である。
【００８６】
第三成分の好ましい割合は、粘度を下げるため、または上限温度を上げるために５重量％以上であり、誘電率異方性の絶対値を上げるために５０重量％以下である。さらに好ましい割合は１０重量％から４５重量％の範囲である。特に好ましい割合は１０重量％から４０重量％の範囲である。
【００８７】
第四成分の好ましい割合は、誘電率異方性の絶対値を上げるために５重量％以上であり、粘度を下げるために５０重量％以下である。さらに好ましい割合は５重量％から４５重量％の範囲である。特に好ましい割合は５重量％から４０重量％の範囲である。
【００８８】
第五成分の好ましい割合は、誘電率異方性を上げるために５重量％以上であり、粘度を下げるために５０重量％以下である。さらに好ましい割合は５重量％から４５重量％の範囲である。特に好ましい割合は５重量％から４０重量％の範囲である。
【００８９】
第四に、成分化合物の好ましい形態を説明する。
Ｇは式（２）の場合に液晶組成物に対する溶解性が好適であって好ましい。Ｇが式（３）の場合、液晶性が良好である点で好ましい。
Ｒ１は好ましくは、炭素数１から５のアルキル、水素、塩素またはフッ素であり、特に好ましくは水素、メチル、塩素またはフッ素である。Ｒ２は好ましくは、炭素数１から５のアルキル、水素、塩素またはフッ素であり、特に好ましくは水素またはフッ素である。
Ａは、好ましくは、１，４−シクロへキシレン、１，４−シクロヘキセニレン、１，４−フェニレン、２，６−ナフタレン、テトラヒドロピラン−２，５−ジイル、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル、ピリミジン−２，５−ジイル、またはピリジン−２，５−ジイルであり、これらの環において任意の水素はフッ素で置き換えられていてもよい。
特に好ましいＡは１，４−フェニレン、２−フルオロ−１，４−フェニレン、２，３−ジフルオロ−１，４−フェニレン、２，６−ナフタレンまたは３−フルオロ−２，６−ナフタレンである。
好ましいＸは単結合−ＣＯＯ−、または−Ｏ−であり；ｎは０から８の整数である。特に好ましいＸ、ｎの組み合わせはＸが単結合、ｎが０である。もう一つの特に好ましいＸ、ｎの組み合わせはＸが−Ｏ−、ｎが１から４の整数である。
Ｘが−Ｏ−である場合に、ｎが０であることは化合物の安定性から好ましくない。
好ましいＺは水素、フッ素、塩素、メチルまたは−ＣＦ３−である。特に好ましいＺは水素またはメチルである。
【００９０】
Ａ１は、好ましくは、１，４−シクロへキシレン、１，４−シクロヘキセニレン、１，４−フェニレン、２，６−ナフタレン、テトラヒドロピラン−２，５−ジイル、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル、ピリミジン−２，５−ジイル、またはピリジン−２，５−ジイルであり、これらの環において任意の水素はフッ素で置き換えられていてもよい。
特に好ましいＡ１は１，４−フェニレン、２−フルオロ−１，４−フェニレン、２，３−ジフルオロ−１，４−フェニレン、２，６−ナフタレンまたは３−フルオロ−２，６−ナフタレンである。好ましいＸ１は単結合−ＣＯＯ−、または−Ｏ−であり；ｎ１は０から８の整数である。特に好ましいＸ１、ｎ１の組み合わせはＸ１が単結合、ｎ１が０である。もう一つの特に好ましいＸ１、ｎ１の組み合わせはＸ１が−Ｏ−、ｎ１が１から４の整数である。Ｘ１が−Ｏ−である場合に、ｎ１が０であることは化合物の安定性から好ましくない。好ましいＺ１は水素、フッ素、塩素、メチルまたは−ＣＦ３−である。特に好ましいＺ１は水素またはメチルである。
【００９１】
好ましいＲ３、Ｒ４は炭素数１から５のアルキル、水素、塩素またはフッ素である。特に好ましいＲ３、Ｒ４はメチルまたは水素である。
好ましいＸ２は単結合−ＣＯＯ−、または−Ｏ−であり；ｎ２は０から８の整数である。特に好ましいＸ２とｎ２との組み合わせはＸ２が単結合でｎ２が０である。もう一つの特に好ましいＸ２とｎ２との組み合わせはＸ２が−Ｏ−であり、ｎ２が１〜４の整数である。Ｘ２が−Ｏ−である場合に、ｎ２が０であることは化合物の安定性から好ましくない。
好ましいＺ２は水素、フッ素、塩素、メチルまたは−ＣＦ３−である。特に好ましいＺ２は水素またはメチルである。
【００９２】
Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３およびＲ１４は独立して、炭素数１から１２のアルキル、炭素数１から１２のアルコキシ、炭素数２から１２のアルケニル、または任意の水素がフッ素で置き換えられた炭素数２から１２のアルケニルである。好ましいＲ１１およびＲ１２はそれぞれ、紫外線または熱に対する安定性などを上げるために炭素数１から１２のアルキル、または誘電率異方性の絶対値を上げるために炭素数１から１２のアルコキシである。好ましいＲ１３およびＲ１４はそれぞれ、紫外線または熱に対する安定性などを上げるために炭素数１から１２のアルキル、または下限温度を下げるために炭素数２から１２のアルケニルである。
Ｒ１５は炭素数１から１２のアルキルまたは炭素数２から１２のアルケニルであり、アルキルおよびアルケニルにおいて任意の水素はフッ素で置き換えられてもよく、任意の−ＣＨ2−は−Ｏ−で置き換えられてもよい。好ましいＲ１５は紫外線または熱に対する安定性などを上げるために炭素数１から１２のアルキル、または下限温度を下げるために炭素数２から１２のアルケニルである。
【００９３】
好ましいアルキルは、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、またはオクチルである。さらに好ましいアルキルは、粘度を下げるためにエチル、プロピル、ブチル、ペンチル、またはヘプチルである。
【００９４】
好ましいアルコキシは、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ、ペンチルオキシ、ヘキシルオキシ、またはヘプチルオキシである。粘度を下げるために、さらに好ましいアルコキシは、メトキシまたはエトキシである。
【００９５】
好ましいアルケニルは、ビニル、１−プロペニル、２−プロペニル、１−ブテニル、２−ブテニル、３−ブテニル、１−ペンテニル、２−ペンテニル、３−ペンテニル、４−ペンテニル、１−ヘキセニル、２−ヘキセニル、３−ヘキセニル、４−ヘキセニル、または５−ヘキセニルである。さらに好ましいアルケニルは、粘度を下げるためにビニル、１−プロペニル、３−ブテニル、または３−ペンテニルである。これらのアルケニルにおける−ＣＨ＝ＣＨ−の好ましい立体配置は、二重結合の位置に依存する。粘度を下げるためなどから１−プロペニル、１−ブテニル、１−ペンテニル、１−ヘキセニル、３−ペンテニル、３−ヘキセニルのようなアルケニルにおいてはトランスが好ましい。２−ブテニル、２−ペンテニル、２−ヘキセニルのようなアルケニルにおいてはシスが好ましい。これらのアルケニルにおいては、分岐よりも直鎖のアルケニルが好ましい。
【００９６】
任意の水素がフッ素で置き換えられたアルケニルの好ましい例は、２，２−ジフルオロビニル、３，３−ジフルオロ−２−プロペニル、４，４−ジフルオロ−３−ブテニル、５，５−ジフルオロ−４−ペンテニル、および６，６−ジフルオロ−５−ヘキセニルである。さらに好ましい例は、粘度を下げるために２，２−ジフルオロビニル、および４，４−ジフルオロ−３−ブテニルである。
【００９７】
環Ｂおよび環Ｆは独立して、１，４−シクロへキシレンまたは１，４−フェニレンであり、ｋ、ｒ、またはｐが２または３である時の任意の２つの環Ｂは同じであっても、異なってもよく、ｑが２または３である時の任意の２つの環Ｆは同じであっても、異なってもよい。好ましい環Ｂまたは環Ｆはそれぞれ、粘度を下げるために１，４−シクロへキシレンである。
環Ｃおよび環Ｄは独立して、１，４−シクロへキシレン、１，４−フェニレン、２−フルオロ−１，４−フェニレンまたは２，５−ジフルオロ−１，４−フェニレンであり、ｊが２または３である時の任意の２つの環Ｃは同じであっても、異なってもよい。好ましい環Ｃまたは環Ｄはそれぞれ、粘度を下げるために１，４−シクロへキシレンである。
環Ｅは独立して、テトラヒドロピラン−２，５−ジイル、１，４−シクロへキシレン、１，４−フェニレン、２，３−ジフルオロ−１，４−フェニレン、または２−フルオロ−１，４−フェニレンであり、ｔが２または３である時の任意の２つの環Ｅは同じであっても、異なってもよい。好ましい環Ｅは、誘電率異方性の絶対値を上げるためにテトラヒドロピラン−２，５−ジイルである。テトラヒドロピラン−２，５−ジイルは、
2010131600.tif 000018
であり、好ましくは
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である。
環Ｂ１、環Ｂ２、環Ｆ１、および環Ｆ２は独立して、１，４−シクロへキシレンまたは１，４−フェニレンである。特に好ましい環Ｂ１、環Ｂ２、環Ｆ１、または環Ｆ２は、粘度を下げるために１，４−シクロへキシレンである。
環Ｉ１、環Ｉ２、環Ｉ３、環Ｊ１、環Ｊ２、および環Ｊ３は独立して１，４−シクロヘキシレン、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル、ピリミジン−２，５−ジイル、テトラヒドロピラン−２，５−ジイルまたは任意の水素がフッ素で置き換えられてもよい１，４−フェニレンであり、ｕが２である時の２つの環Ｊ２は同じであっても、異なってもよい。
好ましい環Ｉ１、環Ｉ２、環Ｉ３、環Ｊ１、環Ｊ２、または環Ｊ３は、粘度を下げるために１，４−シクロへキシレンであり、誘電率異方性を上げるために任意の水素がフッ素で置き換えられてもよい１，４−フェニレンである。
【００９８】
Ｚ１１およびＺ１２は独立して、単結合、エチレン、メチレンオキシ、またはカルボニルオキシであり、ｋ、ｊ、ｒ、ｔ、またはｐが２または３である時の任意の２つのＺ１１は同じであっても、異なってもよく、ｑが２または３である時の任意の２つのＺ１２は同じであっても、異なってもよい。好ましいＺ１１はそれぞれ、粘度を下げるために単結合、または誘電率異方性の絶対値を上げるためにメチレンオキシである。好ましいＺ１２はそれぞれ、粘度を下げるために単結合である。
Ｚ１３およびＺ１４は独立して−（ＣＨ2）2−、−（ＣＨ2）4−、−ＣＯＯ−、−ＣＦ2Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ２Ｏ−または単結合である。好ましいＺ１３またはＺ１４は、それぞれ粘度を下げるために単結合であり、誘電率異方性を上げるために−ＣＦ2Ｏ−である。
Ｚ１５は−（ＣＨ2）2−、−ＣＯＯ−、−ＣＦ2Ｏ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ２Ｏ−または単結合である。好ましいＺ１５は粘度を下げるために単結合であり、誘電率異方性を上げるために−ＣＦ2Ｏ−である。
【００９９】
Ｘ１１およびＸ１２は、一方がフッ素であり、他方が塩素である。好ましいＸ１１またはＸ１２は、下限温度を下げるために、Ｘ１１がフッ素でありＸ１２が塩素である。
Ｘ１３は水素またはメチルであり、Ｘ１３が水素である場合は、少なくとも１つの環Ｅは、テトラヒドロピラン−２，５−ジイル、２，３−ジフルオロ−１，４−フェニレン、または２−フルオロ−１，４−フェニレンである。好ましいＸ１３は誘電率異方性の絶対値を上げるために水素である。
Ｘ１４はフッ素、塩素、−ＯＣＦ3、−ＯＣＨＦ2、−ＣＦ3、−ＣＨＦ2、−ＣＨ2Ｆ、−ＯＣＦ2ＣＨＦ2または−ＯＣＦ2ＣＨＦＣＦ3である。好ましいＸ１４は粘度を下げるためにフッ素である。
Ｘ１５は−Ｃ≡Ｎまたは−Ｃ≡Ｃ−Ｃ≡Ｎである。好ましいＸ１５は粘度を下げるために−Ｃ≡Ｎである。
【０１００】
Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３、およびＬ４は独立して水素またはフッ素である。好ましいＬ１、Ｌ２、Ｌ３、またはＬ４は、誘電率異方性を上げるためにフッ素である。
【０１０１】
ｋ、ｊ、ｒ、およびｔは独立して、１、２、または３である。好ましいｋは、誘電率異方性の絶対値を上げるために１である。好ましいｊは、粘度を下げるために１である。好ましいｒおよびｔはそれぞれ、下限温度を下げるために２である。
ｐおよびｑは独立して、０、１、２、または３であり、そしてｐとｑの和は３以下である。好ましいｐは、上限温度を上げるために２である。好ましいｑは、下限温度を下げるために０である。
ｕは０、１または２であり、ｖは０または１である。好ましいｕは上限温度を上げるために１であり、好ましいｖは粘度を下げるために０である。
【０１０２】
第五に、成分化合物の具体的な例を示す。下記の好ましい化合物において、Ｒ１６は、炭素数１から１２を有する直鎖のアルキルまたは炭素数１から１２を有する直鎖のアルコキシである。Ｒ１７は、炭素数１から１２を有する直鎖のアルキルまたは炭素数２から１２を有する直鎖のアルケニルである。Ｒ１８は、炭素数１から１２を有する直鎖のアルキル、炭素数２から１２を有する直鎖のアルケニル、または炭素数１から１２を有する直鎖のアルコキシである。これらの化合物において１，４−シクロヘキシレンに関する立体配置は、上限温度を上げるためにシスよりもトランスが好ましい。
【０１０３】
好ましい化合物（４）は、化合物（４−１−１）から化合物（４−７−１）である。さらに好ましい化合物（４）は、化合物（４−１−１）、化合物（４−３−１）、化合物（４−４−１）、化合物（４−６−１）、および化合物（４−７−１）である。特に好ましい化合物（４）は、化合物（４−１−１）、化合物（４−４−１）、および化合物（４−７−１）である。好ましい化合物（５）は、化合物（５−１−１）から化合物（５−１３−１）である。さらに好ましい化合物（５）は、化合物（５−１−１）、化合物（５−３−１）、化合物（５−５−１）、化合物（５−７−１）、化合物（５−９−１）、化合物（５−１０−１）、および化合物（５−１３−１）である。特に好ましい化合物（５）は、化合物（５−１−１）、化合物（５−５−１）、化合物（５−７−１）、および化合物（５−１３−１）である。好ましい化合物（６−１）は、化合物（６−１−１−１）から化合物（６−１−３−１）である。さらに好ましい化合物（６−１）は、化合物（６−１−２−１）である。好ましい化合物（６−２）は、化合物（６−２−１−１）から化合物（６−２−１６−１）である。さらに好ましい化合物（６−２）は、化合物（６−２−１−１）、化合物（６−２−３−１）、化合物（６−２−５−１）、化合物（６−２−６−１）、化合物（６−２−７−１）、化合物（６−２−１３−１）、および化合物（６−２−１５−１）である。特に好ましい化合物（６−２）は、化合物（６−２−１−１）、化合物（６−２−５−１）、化合物（６−２−７−１）である。好ましい化合物（６−３）は化合物（６−３−１−１）から化合物（６−３−１−４）、化合物（６−３−２−１）から化合物（６−３−２−２）、化合物（６−３−３−１）から化合物（６−３−３−５）、および化合物（６−３−４−１）から化合物（６−３−４−２）である。さらに好ましい化合物（６−３）は化合物（６−３−１−１）、化合物（６−３−１−３）、化合物（６−３−３−１）、化合物（６−３−３−３）、および化合物（６−３−４−１）である。特に好ましい化合物（６−３）は化合物（６−３−１−３）および化合物（６−３−３−３）である。好ましい化合物（６−４）は化合物（６−４−１）である。
【０１０４】
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【０１０５】
2010131600.tif 000021
【０１０６】
2010131600.tif 000022
【０１０７】
2010131600.tif 000023
【０１０８】
2010131600.tif 000024
【０１０９】
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【０１１０】
第六に、組成物に混合してもよい添加物を説明する。このような添加物は、光学活性な化合物、酸化防止剤、紫外線吸収剤、色素、消泡剤、重合開始剤、重合禁止剤などである。液晶のらせん構造を誘起してねじれ角を与える目的で光学活性な化合物が組成物に混合される。このような化合物の例は、化合物（８−１）から化合物（８−４）である。光学活性な化合物の好ましい割合は５重量％以下である。さらに好ましい割合は０．０１重量％から２重量％の範囲である。
【０１１１】
2010131600.tif 000026
【０１１２】
大気中での加熱による比抵抗の低下を防止するために、または素子を長時間使用したあと、室温だけではなく高い温度でも大きな電圧保持率を維持するために、酸化防止剤が組成物に混合される。
2010131600.tif 000027
【０１１３】
酸化防止剤の好ましい例は、ｗが１から９の整数である化合物（９）などである。化合物（９）において、好ましいｗは、１、３、５、７、または９である。さらに好ましいｗは１または７である。ｗが１である化合物（９）は、揮発性が大きいので、大気中での加熱による比抵抗の低下を防止するときに有効である。ｗが７である化合物（９）は、揮発性が小さいので、素子を長時間使用したあと、室温だけではなく高い温度でも大きな電圧保持率を維持するのに有効である。酸化防止剤の好ましい割合は、その効果を得るために５０ｐｐｍ以上であり、上限温度を下げないように、または下限温度を上げないように６００ｐｐｍ以下である。さらに好ましい割合は、１００ｐｐｍから３００ｐｐｍの範囲である。
【０１１４】
紫外線吸収剤の好ましい例は、ベンゾフェノン誘導体、ベンゾエート誘導体、トリアゾール誘導体などである。立体障害のあるアミンのような光安定剤もまた好ましい。これらの吸収剤や安定剤における好ましい割合は、その効果を得るために５０ｐｐｍ以上であり、上限温度を下げないように、または下限温度を上げないように１００００ｐｐｍ以下である。さらに好ましい割合は１００ｐｐｍから１００００ｐｐｍの範囲である。
【０１１５】
ＧＨ（guest host）モードの素子に適合させるためにアゾ系色素、アントラキノン系色素などのような二色性色素（dichroic dye）が組成物に混合される。色素の好ましい割合は、０．０１重量％から１０重量％の範囲である。
【０１１６】
泡立ちを防ぐために、ジメチルシリコーンオイル、メチルフェニルシリコーンオイルなどの消泡剤が組成物に混合される。消泡剤の好ましい割合は、その効果を得るために１ｐｐｍ以上であり、表示の不良を防ぐために１０００ｐｐｍ以下である。さらに好ましい割合は、１ｐｐｍから５００ｐｐｍの範囲である。
【０１１７】
ラジカルまたはイオンを容易に生じ、連鎖重合反応を開始させるのに必要な物質として、重合開始剤が混合される。例えば光重合開始剤であるＩｒｇａｃｕｒｅ６５１（登録商標）、Ｉｒｇａｃｕｒｅ１８４（登録商標）、またはＤａｒｏｃｕｒｅ１１７３（登録商標）（Ｃｉｂａ  Ｊａｐａｎ  Ｋ．Ｋ．）がラジカル重合に対して適切である。重合可能な化合物は、好ましくは光重合開始剤を０．１重量％から５重量％の範囲で含む。特に好ましくは光重合開始剤を１重量％から３重量％の範囲で含む。
【０１１８】
ラジカル重合系において、重合開始剤あるいは単量体から生じたラジカルと速やかに反応して安定なラジカルまたは中性の化合物に変化し、その結果重合反応を停止させる目的で重合禁止剤が混合される。重合禁止剤は構造上いくつかに分類される。その一つは、トリ−ｐ−ニトロフェニルメチル、ジ−ｐ−フルオロフェニルアミンなどのようなそれ自身安定なラジカルで、もう一方は、重合系に存在するラジカルと容易に反応して安定なラジカルに変わるもので、ニトロ、ニトリソ、アミノ、ポリヒドロキシ化合物などがその代表である。後者の代表としてはヒドロキノン、ジメトキシベンゼンなどがあげられる。重合禁止剤の好ましい割合は、その効果を得るために５ｐｐｍ以上であり、表示の不良を防ぐために１０００ｐｐｍ以下である。さらに好ましい割合は、５ｐｐｍから５００ｐｐｍの範囲である。
【０１１９】
第七に、成分化合物の合成法を説明する。
重合性化合物、式（１−２）、式（１−３）の合成方法について説明する。
【０１２０】
式（１−２）中、Ｘ１が単結合であり、ｍ１が０であり、ｎ１が０である化合物（１−２−ａ）はスキーム１の工程により合成する。
（スキーム１）
2010131600.tif 000028
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ａ１、Ｚ１は前記と同じ意味を表し、ＪはＣｌ、Ｂｒ、Ｉである。）
【０１２１】
アニソール誘導体[１]をｎ−ブチルリチウムでリチオ化した後、ホウ酸トリイソプロピルを反応させることで対応するホウ素酸[２]とする。ホウ素酸[２]と化合物[３]をパラジウム触媒による鈴木−宮浦クロスカップリング反応により化合物[４]とする。化合物[４]に三臭化ホウ素を反応させ対応するフェノール体[５]を得る。最後にフェノール体[５]とアクリル酸クロリド誘導体[６]とのエステル化反応を行うことで化合物（１−２−ａ）を合成できる。
【０１２２】
式（１−２）中、Ｘ１が単結合であり、ｍ１が１であり、ｎ１が０である化合物（１−２−ｂ）はスキーム２の工程により合成する。
【０１２３】
（スキーム２）
2010131600.tif 000029
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ａ１、Ｚ１、Ｊは前記と同じ意味を表す。）
【０１２４】
ハロゲン化アニソール誘導体[３]をｎ−ブチルリチウムでリチオ化した後、ホウ酸トリイソプロピルを反応させることで対応するホウ素酸[７]とする。ホウ素酸[７]と化合物[８]をパラジウム触媒による鈴木−宮浦クロスカップリング反応により化合物[９]とする。化合物[９]に三臭化ホウ素を反応させ対応するフェノール体[１０]を得る。最後にフェノール体[１０]とアクリル酸クロリド誘導体[６]とのエステル化反応を行うことで化合物（１−２−ｂ）を合成できる。
【０１２５】
式（１−２）中、Ｘ１が−Ｏ−であり、ｍ１が１であり、ｎ１が１〜８の整数である化合物（（１−２−ｃ）はスキーム３の工程により合成する。
【０１２６】
（スキーム３）
2010131600.tif 000030
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ａ１、Ｚ１、Ｊは前記と同じ意味を表す。）
【０１２７】
フェノール体[１０]と炭素数ｎ１のハロゲン化アルコールを水酸化カリウムの存在下、エーテル化反応を行いジオール体[１２]を得る。得られた[１２]をアクリル酸クロリド誘導体[６]とのエステル化反応を行うことで化合物（１−２−ｃ）を合成できる。
【０１２８】
式（１−２）中、Ｘ１が−Ｏ−であり、ｍ１が０であり、ｎ１が１〜８の整数である化合物（１−２−ｄ）は、スキーム４の工程により合成する。
【０１２９】
（スキーム４）
2010131600.tif 000031
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ａ１、Ｚ１は前記と同じ意味を表す。）
【０１３０】
フェノール体[５]と炭素数ｎ１のハロゲン化アルコール[１１]を水酸化カリウムの存在下、エーテル化反応を行いジオール体[１３]を得る。得られた[１３]をアクリル酸クロリド誘導体[６]とのエステル化反応を行うことで化合物（１−２−ｄ）を合成できる。
【０１３１】
式（１−３）中、Ｘ２が単結合であり、ｎ２が０の整数である化合物（１−３−ａ）はスキーム５の工程により合成する。
【０１３２】
（スキーム５）
2010131600.tif 000032
（式中、Ｒ３、Ｒ４、Ｚ２は前記と同じ意味を表す。）
【０１３３】
ビフェノール体[１４]とをアクリル酸クロリド誘導体[６]とのエステル化反応を行うことで化合物（１−３−ａ）を合成できる。
【０１３４】
式（１−３）中、Ｘ２が−Ｏ−であり、ｎ２が１〜８の整数であるである化合物（１−３−ｂ）はスキーム６の工程により合成する。
【０１３５】
（スキーム６）
2010131600.tif 000033
（式中、Ｒ３、Ｒ４、Ｚ２は前記と同じ意味を表す。）
【０１３６】
フェノール体[１４]と炭素数ｎ１のハロゲン化アルコール[１１]を水酸化カリウムの存在下、エーテル化反応を行いジオール体[１５]を得る。得られた[１５]をアクリル酸クロリド誘導体[６]とのエステル化反応を行うことで化合物（１−３−ｂ）を合成できる。
【０１３７】
以上の方法により化合物（１−２−１）〜（１−２−６０）および化合物（１−３−１）〜（１−３−３６）を合成する。
【０１３８】
2010131600.tif 000034
【０１３９】
2010131600.tif 000035
【０１４０】
2010131600.tif 000036
【０１４１】
2010131600.tif 000037
【０１４２】
2010131600.tif 000038
【０１４３】
2010131600.tif 000039
【０１４４】
2010131600.tif 000040
【０１４５】
2010131600.tif 000041
【０１４６】
次に液晶性化合物の合成法を説明する。これらの化合物は既知の方法によって合成できる。合成法を例示する。化合物（４−１）、化合物（４−２）および化合物（４−４−１）は、特表平２−５０３４４１号公報に掲載された方法で合成する。化合物（５−１−１）および化合物（５−５−１）は、特開昭５９−１７６２２１号公報に記載された方法で合成する。化合物（６−３−２−１）は、特開２００５−３５９８６号公報に記載された方法で合成する。酸化防止剤は市販されている。式（９）のｗが１である化合物は、アルドリッチ（Sigma-Aldrich Corporation）から入手できる。ｗが７である化合物（９）などは、米国特許３６６０５０５号明細書に記載された方法によって合成する。
【０１４７】
合成法を記載しなかった化合物は、オーガニック・シンセシス（Organic Syntheses, John Wiley & Sons, Inc）、オーガニック・リアクションズ（Organic Reactions, John Wiley & Sons, Inc）、コンプリヘンシブ・オーガニック・シンセシス（Comprehensive Organic Synthesis, Pergamon Press）、新実験化学講座（丸善）などの成書に記載された方法によって合成できる。組成物は、このようにして得た化合物から公知の方法によって調製される。例えば、成分化合物を混合し、そして加熱によって互いに溶解させる。
【０１４８】
重合性化合物は電圧を印加した状態で液晶表示素子の基板間の液晶組成物中に於いて表示素子中で重合させることにより重合または架橋される。好ましい重合方法は例えば熱、または光重合で、好ましくは光重合である。さらに好ましくは液晶組成物の構成要素である式（４）から式（７−４）の様な化合物の分解を伴わない長波長領域での重合が好ましい。必要であればここに一種以上の重合開始剤を加えることもできる。重合条件および開始剤の適当な種類は当業者に公知であり、文献に記載されている。
本発明の重合性化合物は特に開始剤を用いることなく、速やかに反応する点で優れている。これによって系中に残存する光開始剤またはその残渣に由来する表示不良を低減することおよび製品寿命の長期化を達成できる。
本発明の重合性化合物は単独で用いても、その他の重合性化合物と混合して用いてもよい。併せて用いることのできる重合性化合物としては市販または公知のモノマー、例えば特開２００４−１２３８２９などに記載の液晶表示素子に好適である既存の単官能または多官能の液晶性モノマーなどが挙げられる。
【０１４９】
本発明の液晶表示素子は透明電極と液晶分子を配向させる配向制御膜を備えた二枚の基板を有し、これらの基板の間に重合性化合物を含む液晶組成物を配置し、これらの基板の相対する透明電極の間に電圧を印加しながら重合性化合物を重合する工程を経て製造される液晶表示装置である。
【０１５０】
本発明の液晶表示素子は最初に引用した先行技術に記載される様なＰＳＡ表示素子の従来の構造に対応している。プロトリューションを含むＶＡ型表示素子において好適であり、スリット型電極を用いたＶＡ素子用にとくに好ましい。ＰＳＡ−ＶＡに適切で好ましいセルの構造は例えばＵＳ２００６／６６７９３に記載されている。
【０１５１】
最後に、組成物の用途を説明する。大部分の組成物は、−１０℃以下の下限温度、７０℃以上の上限温度、そして０．０７から０．２０の範囲の光学異方性を有する。この組成物を含有する素子は大きな電圧保持率を有する。この組成物はＡＭ素子に適する。この組成物は透過型のＡＭ素子に特に適する。成分化合物の割合を制御することによって、またはその他の液晶性化合物を混合することによって、０．０８から０．２５の範囲の光学異方性を有する組成物を調製してもよい。この組成物は、ネマチック相を有する組成物としての使用、光学活性な化合物を添加することによって光学活性な組成物としての使用が可能である。
【０１５２】
この組成物はＡＭ素子への使用が可能である。さらにＰＭ素子への使用も可能である。この組成物は、ＰＣ、ＴＮ、ＳＴＮ、ＥＣＢ、ＯＣＢ、ＩＰＳ、ＶＡ、ＰＳＡなどのモードを有するＡＭ素子およびＰＭ素子への使用が可能である。ＰＳＡ−ＡＭ素子への使用は特に好ましい。これらの素子が反射型、透過型または半透過型であってもよい。透過型の素子への使用は好ましい。非結晶シリコン−ＴＦＴ素子または多結晶シリコン−ＴＦＴ素子への使用も可能である。
【実施例】
【０１５３】
以下、実施例により本発明をさらに詳しく説明するが、本発明はこれら実施例によっては制限されない。なお特に断りのない限り、「％」は「重量％」を意味する。【０１５４】
合成によって得られた化合物は、プロトン核磁気共鳴分光法（１Ｈ−ＮＭＲ）、高速液体クロマトグラフィー（ＨＰＬＣ）、紫外／可視分光度法（ＵＶ／Ｖｉｓ）などにより同定した。化合物の融点は、示差走査熱量測定（ＤＳＣ）により決定した。まず、各分析方法について説明をする。【０１５５】
１Ｈ−ＮＭＲ分析：測定装置は、ＤＲＸ−５００（ブルカーバイオスピン製）を用いた。測定は、実施例などで製造したサンプルを、ＣＤＣｌ３などのサンプルが可溶な重水素化溶媒に溶解し、室温で、５００ＭＨｚ、積算回数２４回などの条件で行った。なお、得られた核磁気共鳴スペクトルの説明において、ｓはシングレット、ｄはダブレット、ｔはトリプレット、ｑはカルテット、ｍはマルチプレットであることを意味する。また、化学シフトδ値のゼロ点の基準物質としてはテトラメチルシラン（ＴＭＳ）を用いた。【０１５６】
ＨＰＬＣ分析：測定装置は、島津製作所製のＰｒｏｍｉｎｅｎｃｅ（ＬＣ−２０ＡＤ；ＳＰＤ−２０Ａ）を用いた。カラムはワイエムシー製のＹＭＣ−Ｐａｃｋ  ＯＤＳ−Ａ（長さ１５０ｍｍ、内径４．６ｍｍ、粒子径５μｍ）を用いた。溶出液はアセトニトリル／水（容量比：８０／２０）を用い、流速は１ｍＬ／分に調整した。検出器としてはＵＶ検出器、ＲＩ検出器、ＣＯＲＯＮＡ検出器などを適宜用いた。ＵＶ検出器を用いた場合、検出波長は２５４ｎｍとした。
試料はアセトニトリルに溶解して、０．１重量％の溶液となるように調製し、得られた溶液１μＬを試料室に導入した。
記録計としては島津製作所製のＣ−Ｒ７Ａｐｌｕｓを用いた。得られたクロマトグラムには、成分化合物に対応するピークの保持時間およびピークの面積値が示されている。【０１５７】
ＨＰＬＣより得られたクロマトグラムにおけるピークの面積比は成分化合物の割合に相当する。一般には、分析サンプルの成分化合物の重量％は、分析サンプルの各ピークの面積％と完全に同一ではないが、本発明において上述したカラムを用いる場合には、実質的に補正係数は１であるので、分析サンプル中の成分化合物の重量％は、分析サンプル中の各ピークの面積％とほぼ対応している。成分の液晶性化合物における補正係数に大きな差異がないからである。クロマトグラムにより液晶組成物中の液晶性化合物の組成比をより正確に求めるには、クロマトグラムによる内部標準法を用いる。一定量正確に秤量された各液晶性化合物成分（被検成分）と基準となる液晶性化合物（基準物質）を同時にＨＰＬＣにより測定して、得られた被検成分のピークと基準物質のピークとの面積比の相対強度をあらかじめ算出する。基準物質に対する各成分のピーク面積の相対強度を用いて補正すると、液晶組成物中の液晶性化合物の組成比をクロマトグラムより正確に求めることができる。【０１５８】
ＵＶ／Ｖｉｓ分析：測定装置は、島津製作所製のＰｈａｒｍａＳｐｅｃ  ＵＶ‐１７００用いた。検出波長は１９０ｎｍから７００ｎｍとした。
試料はアセトニトリルに溶解して、０．０１ｍｍｏｌ／Ｌの溶液となるように調製し、石英セル（光路長１ｃｍ）に入れて測定した。【０１５９】
ＤＳＣ測定：パーキンエルマー社製走査熱量計ＤＳＣ−７システム、またはＤｉａｍｏｎｄ ＤＳＣシステムを用いて、３℃／分速度で昇降温し、試料の相変化に伴う吸熱ピーク、または発熱ピークの開始点を外挿により求め（ｏｎ ｓｅｔ）、融点を決定した。【０１６０】
［実施例１］
＜３，４’−ビス（アクリロイルオキシ）ビフェニル（１−２−１）の合成＞
式（１−２）において、Ｒ１およびＲ２は水素であり、Ａ１は１，４−フェニレンであり、Ｘ１はそれぞれ単結合であり、ｎ１はそれぞれ０であり、ｍ１は０であり、Ｚ１はそれぞれ水素である化合物（１−２−１）は、前述のスキーム１の工程により合成する。
2010131600.tif 000042
【０１６１】
第１工程：３−メトキシフェニルボロン酸（Ｔ−２）の合成
窒素雰囲気下、ＴＨＦ（１０００ ｍL）、１−ブロモ−３−メトキシベンゼン（Ｔ−１）（２５０．０ｇ、１．３４ ｍｏｌ）、の混合物に、−７０℃でｎ−ブチルリチウムのｎ−ヘキサン溶液（９２５．０ｍＬ、1．５９Ｍ）を滴下した。滴下終了後、反応液を同温度で1時間撹拌した後、ホウ酸トリイソプロピル（３００．９ ｇ、１．６０ ｍｏｌ）を滴下し、その後徐々に室温まで昇温した。室温で１８時間撹拌した後、反応混合物を６Ｍ塩酸に注ぎ、酢酸エチル（５００ ｍL）で４回抽出し、有機層を水で洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、有機溶媒を減圧下留去した。残渣をヘプタンで十分に洗浄し、３−メトキシフェニルボロン酸（Ｔ−２）の無色固体（１５６．１ｇ）を得た。【０１６２】
第２工程：３，４’−ジメトキシビフェニル（Ｔ−３）の合成
窒素雰囲気下、混合溶媒（トルエン／エタノール／水＝１．５／１．５／１、９００ ｍｌ）、化合物（Ｔ−２）（４８．６ ｇ、３１９．６ ｍｍｏｌ）、１−ヨード−４−メトキシベンゼン（６８．０ ｇ、２９０．６ ｍｍｏｌ）、５％パラジウム炭素（３．４０ ｇ）炭酸カリウム（６０．２ ｇ、４３５．９ ｍｍｏｌ）、テトラブチルアンモニウムブロミド（２３．４ ｇ、７２．７ ｍｍｏｌ）の混合物を１５時間撹拌しながら還流した。得られた反応混合物をトルエン（４００ ｍＬ）で３回抽出し、有機層を水で洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、有機溶媒を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出液：トルエン）で精製し、ヘプタン、メタノール、酢酸エチルの混合溶媒から再結晶し、３，４’−ジメトキシビフェニル（Ｔ−３）の無色結晶（５７．８ ｇ）を得た。【０１６３】
第３工程：ビフェニル−３，４’−ジオール（Ｔ−４）の合成
窒素雰囲気下、ジクロロメタン（５００ ｍＬ）、化合物（Ｔ−３）（４９．３ ｇ、２３０．３ ｍｍｏｌ）の混合物に、氷冷下で三臭化ホウ素（１５０．０ ｇ、５９８．８ ｍｍｏｌ）を滴下し、その後徐々に室温まで昇温した。室温で２４時間撹拌した後、反応混合物を水に注ぎ、酢酸エチル（３００ ｍL）で３回抽出し、有機層を水で洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、有機溶媒を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出液：酢酸エチル）で精製し、酢酸エチルとクロロホルムの混合溶媒から再結晶し、ビフェニル−３，４’−ジオール（Ｔ−４）の無色結晶（３７．３ ｇ）を得た。【０１６４】
第４工程：３，４’−ビス（アクリロイルオキシ）ビフェニル（１−２−１）の合成
窒素雰囲気下、ジクロロメタン（１００ ｍL）、化合物（Ｔ−４）（１０．０ ｇ、５３．７ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン（１４．１ ｇ、１３９．３ ｍｍｏｌ）、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−ｐ−クレゾール（１１．８ ｍｇ、０．０５３７ ｍｍｏｌ）の混合物に、氷冷下でアクリロイルクロリド（１２．６ ｇ、１３９．２ ｍｍｏｌ）を滴下し、その後徐々に室温まで昇温した。室温で１６時間撹拌した後、反応混合物を水に注ぎ、有機層を１Ｍ塩酸、１Ｍ水酸化ナトリウム水溶液、次いで水で洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、有機溶媒を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出液：トルエン／酢酸エチル（容量比：９５／５））で精製し、ヘプタンとエタノールの混合溶媒から再結晶し、３，４’−ビス（アクリロイルオキシ）ビフェニル（１−２−１）の無色結晶（９．２９ ｇ）を得た。
融点：６３．６℃
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３；δ  ｐｐｍ）：７．６１−７．５９（ｍ，２Ｈ），７．４８−７．４４（ｍ，２Ｈ），７．３４−７．３３（ｍ，１Ｈ），７．２３−７．２０（ｍ，２Ｈ），７．１４−７．１２（ｍ，１Ｈ），６．６５（ｔ，１Ｈ），６．６２（ｔ，１Ｈ），６．３７（ｄｄ，１Ｈ），６．３３（ｄｄ，１Ｈ），６．０５（ｄ，１Ｈ），６．０３（ｄ，１Ｈ）．【０１６５】
［実施例２］
＜３，４’−ビス（メタクリロイルオキシ）ビフェニル（１−２−９）の合成＞
式（１−２）において、Ｒ１およびＲ２は水素であり、Ａ１は１，４−フェニレンであり、Ｘ１はそれぞれ単結合であり、ｎ１はそれぞれ０であり、ｍ１は０であり、Ｚ１はそれぞれメチルである化合物（１−２−９）は、前述のスキーム１の工程により合成する。
2010131600.tif 000043
【０１６６】
第４工程のアクリロイルクロリドをメタクリロイルクロリドに変更した他は実施例１と同様に合成を行い、３，４’−ビス（メタクリロイルオキシ）ビフェニル（１−２−９）の無色結晶を得た。
融点：６５．０℃
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３；δ  ｐｐｍ）：７．６１−７．５９（ｍ，２Ｈ），７．４８−７．４４（ｍ，２Ｈ），７．３３−７．３２（ｍ，１Ｈ），７．２１−７．１８（ｍ，２Ｈ），７．１３−７．１０（ｍ，１Ｈ），６．３９−６．３７（ｍ，２Ｈ），５．７９−５．７７（ｍ，２Ｈ），２．０８（ｄｄ，６Ｈ）．【０１６７】
［実施例３］
＜４，４’ ’−ビス（アクリロイルオキシ）−（１，１’：３’，１’’）−ターフェニル（１−２−３３）の合成＞
式（１−２）において、Ｒ１およびＲ２は水素であり、Ａ１はそれぞれ１，４−フェニレンであり、Ｘ１はそれぞれ単結合であり、ｎ１はそれぞれ０であり、ｍ１は１であり、Ｚ１はそれぞれ水素である化合物（１−２−３３）は、前述のスキーム２の工程により合成する。
2010131600.tif 000044
【０１６８】
第１工程：４−メトキシフェニルボロン酸（Ｔ−５）の合成
窒素雰囲気下、ＴＨＦ（１０００ ｍL）、１−ブロモ−４−メトキシベンゼン（Ｔ−５）（２５０．０ｇ、１．３４ ｍｏｌ）、の混合物に、−７０℃でｎ−ブチルリチウムのｎ−ヘキサン溶液（９２５．０ｍＬ、1．５９Ｍ）を滴下した。滴下終了後、反応液を同温度で1時間撹拌した後、ホウ酸トリイソプロピル（３００．９ ｇ、１．６０ ｍｏｌ）を滴下し、その後徐々に室温まで昇温した。室温で１８時間撹拌した後、反応混合物を６Ｍ塩酸に注ぎ、酢酸エチル（５００ ｍL）で４回抽出し、有機層を水で洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、有機溶媒を減圧下留去した。残渣をヘプタンで十分に洗浄し、４−メトキシフェニルボロン酸（Ｔ−６）の無色固体（１４３．８ｇ）を得た。【０１６９】
第２工程：４，４’’−ジメトキシ−（１，１’：３’，１’’）−ターフェニル（Ｔ−７）の合成
窒素雰囲気下、混合溶媒（トルエン／エタノール／水＝５／５／１、１６００ ｍｌ）、化合物（Ｔ−６）（７５．９ ｇ、４９９．４ ｍｍｏｌ）、１、３−ジヨードベンゼン（７５．０ ｇ、２２７．３ ｍｍｏｌ）、５％パラジウム炭素（３．７５ ｇ）炭酸カリウム（９４．１ ｇ、６８１．０ ｍｍｏｌ）、テトラブチルアンモニウムブロミド（１８．２９ ｇ、５６．７ ｍｍｏｌ）の混合物を１５時間撹拌しながら還流した。得られた反応混合物を室温まで冷却し、析出物ろ過にて回収した。回収物をＴＨＦと酢酸エチルの混合溶媒から再結晶し、４，４’’−ジメトキシ−（１，１’：３’，１’’）−ターフェニル（Ｔ−７）の無色結晶（６１．０ ｇ）を得た。【０１７０】
第３工程：４，４’’−ジヒドロキシ−（１，１’：３’，１’’）−ターフェニル（Ｔ−８）の合成
窒素雰囲気下、ジクロロメタン（１２００ ｍＬ）、化合物（Ｔ−７）（５８．０ ｇ、１９９．６ ｍｍｏｌ）の混合物に、氷冷下で三臭化ホウ素（１５０．０ ｇ、５９８．８ ｍｍｏｌ）を滴下し、その後徐々に室温まで昇温した。室温で２４時間撹拌した後、反応混合物を水に注ぎ、酢酸エチル（３００ ｍL）で３回抽出し、有機層を水で洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、有機溶媒を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出液：酢酸エチル）で精製し、酢酸エチルとクロロホルムの混合溶媒から再結晶し、４，４’’−ジヒドロキシ−（１，１’：３’，１’’）−ターフェニル（Ｔ−８）の無色結晶（３４．１ ｇ）を得た。【０１７１】
第４工程：４，４’ ’−ビス（アクリロイルオキシ）−（１，１’：３’，１’’）−ターフェニル（１−２−３３）の合成
窒素雰囲気下、ジクロロメタン（１００ ｍL）、化合物（Ｔ−８）（１０．０ｇ、３８．１ ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン（１０．０ ｇ、９９．１ ｍｍｏｌ）、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−ｐ−クレゾール（８．４ ｍｇ、０．０３８１ ｍｍｏｌ）の混合物に、氷冷下でアクリロイルクロリド（８．９７ ｇ、９９．１ ｍｍｏｌ）を滴下し、その後徐々に室温まで昇温した。室温で１６時間撹拌した後、反応混合物を水に注ぎ、有機層を１Ｍ塩酸、１Ｍ水酸化ナトリウム水溶液、次いで水で洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、有機溶媒を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出液：トルエン）で精製し、エタノールと酢酸エチルの混合溶媒から再結晶し、４，４’ ’−ビス（アクリロイルオキシ）−（１，１’：３’，１’’）−ターフェニル（１−２−３３）の無色結晶（４．７３ ｇ）を得た。
融点：１０６．３℃
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３；δ  ｐｐｍ）：７．７６（ｔ，１Ｈ），７．６７−７．６４（ｍ，２Ｈ），７．５７（ｔ，１Ｈ），７．５５（ｄ，１Ｈ），７．５１（ｄｄ，１Ｈ），７．２５−７．２２（ｍ，２Ｈ），６．６６（ｄ，１Ｈ），６．６３（ｄ，１Ｈ），６．３８（ｄ，１Ｈ），６．３４（ｄ，１Ｈ），６．０６（ｄ，１Ｈ），６．０３（ｄ，１Ｈ）．【０１７２】
［実施例４］
＜４，４’ ’−ビス（メタクリロイルオキシ）−（１，１’：３’，１’’）−ターフェニル（１−２−４１）の合成＞
式（１−２）において、Ｒ１およびＲ２は水素であり、Ａ１はそれぞれ１，４−フェニレンであり、Ｘ１はそれぞれ単結合であり、ｎ１はそれぞれ０であり、ｍ１は１であり、Ｚ１はそれぞれメチルである化合物（１−２−４１）は、前述のスキーム２の工程により合成する。
2010131600.tif 000045
【０１７３】
第４工程のアクリロイルクロリドをメタクリロイルクロリドに変更した他は実施例３と同様に合成を行い、４，４’ ’−ビス（メタクリロイルオキシ）−（１，１’：３’，１’’）−ターフェニル（１−２−４１）の無色結晶を得た。
融点：１０４．１℃
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３；δ  ｐｐｍ）：７．７６（ｔ，１Ｈ），７．６７−７．６４（ｍ，２Ｈ），７．５７（ｔ，１Ｈ），７．５５（ｄ，１Ｈ），７．５１（ｄｄ，１Ｈ），７．２３−７．２１（ｍ，２Ｈ），６．３９−６．３８（ｍ，２Ｈ），５．７９−７．７８（ｍ，２Ｈ），２．０９（ｔ，６Ｈ）．【０１７４】
［実施例５］
＜２−アクリロイルオキシ−６−（３−アクリロイルオキシフェニル）ナフタレン（１−２−１７）の合成＞
式（１−２）において、Ｒ１およびＲ２は水素であり、Ａ１は２，６−ナフタレンであり、Ｘ１はそれぞれ単結合であり、ｎ１はそれぞれ０であり、ｍ１は０であり、Ｚ１はそれぞれ水素である化合物（１−２−１７）は、前述のスキーム１の工程により合成する。
2010131600.tif 000046
【０１７５】
第１工程：２−メトキシ−６−（３−メトキシフェニル）ナフタレン（Ｔ−９）の合成
窒素雰囲気下、混合溶媒（トルエン／エタノール／水＝２．５／２．５／１、５００ ｍｌ）、化合物（Ｔ−２）（４８．６ ｇ、３１９．６ ｍｍｏｌ）、２−ブロモ−６−メトキシナフタレン（４２．９ ｇ、１８１．０ ｍｍｏｌ）、５％パラジウム炭素（２．１５ ｇ）炭酸カリウム（３７．５ ｇ、２７１．５ ｍｍｏｌ）、テトラブチルアンモニウムブロミド（１４．６ ｇ、４５．３ ｍｍｏｌ）の混合物を１５時間撹拌しながら還流した。得られた反応混合物をトルエン（３００ ｍＬ）で３回抽出し、有機層を水で洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、有機溶媒を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出液：トルエン）で精製し、ヘプタン、メタノール、酢酸エチルの混合溶媒から再結晶し、２−メトキシ−６−（３−メトキシフェニル）ナフタレン（Ｔ−９）の無色結晶（４５．０ ｇ）を得た。【０１７６】
第２工程：６−（３−ヒドロキシフェニル）−２−ナフトール（Ｔ−１０）の合成
窒素雰囲気下、ジクロロメタン（５００ ｍＬ）、化合物（Ｔ−９）（５０．７ ｇ、１９１．９ ｍｍｏｌ）の混合物に、氷冷下で三臭化ホウ素（１２５．０ ｇ、４９９．０ ｍｍｏｌ）を滴下し、その後徐々に室温まで昇温した。室温で２４時間撹拌した後、反応混合物を水に注ぎ、酢酸エチル（３００ ｍL）で３回抽出し、有機層を水で洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、有機溶媒を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出液：酢酸エチル）で精製し、酢酸エチルとクロロホルムの混合溶媒から再結晶し、６−（３−ヒドロキシフェニル）−２−ナフトール（Ｔ−１０）の無色結晶（３９．９ ｇ）を得た。【０１７７】
第３工程：２−アクリロイルオキシ−６−（３−アクリロイルオキシフェニル）ナフタレン（１−２−１７）の合成
窒素雰囲気下、ジクロロメタン（１００ ｍL）、化合物（Ｔ−１０）（１０．０ｇ、４２．３ ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン（１１．１ ｇ、１１０．１ ｍｍｏｌ）、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−ｐ−クレゾール（９．４ ｍｇ、０．０４２７ ｍｍｏｌ）の混合物に、氷冷下でアクリロイルクロリド（９．９６ ｇ、１１０．０ ｍｍｏｌ）を滴下し、その後徐々に室温まで昇温した。室温で１６時間撹拌した後、反応混合物を水に注ぎ、有機層を１Ｍ塩酸、１Ｍ水酸化ナトリウム水溶液、次いで水で洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、有機溶媒を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出液：トルエン）で精製し、エタノール、酢酸エチル、ジクロロメタンの混合溶媒から再結晶し、２−アクリロイルオキシ−６−（３−アクリロイルオキシフェニル）ナフタレン（１−２−１７）の無色結晶（５．８５ ｇ）を得た。
融点：７５．４℃
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３；δ  ｐｐｍ）：８．０４（ｄ，１Ｈ），７．９１（ｄ，１Ｈ），７．８８（ｄ，１Ｈ），７．７４（ｄｄ，１Ｈ），７．６４（ｄ，１Ｈ），７．６０−７．５８（ｍ，１Ｈ），７．５０（ｔ，１Ｈ），７．４８（ｔ，１Ｈ），７．３０（ｄｄ，１Ｈ），７．１６（ｄｄｄ，１Ｈ），６．６８（ｄｄ，１Ｈ），６．４２（ｄｄ，１Ｈ），６．４２−６．３４（ｍ，２Ｈ），６．０６（ｄｄ，１Ｈ），６．０４（ｄｄ，１Ｈ）．【０１７８】
［実施例６］
＜２−メタクリロイルオキシ−６−（３−メタクリロイルオキシフェニル）ナフタレン（１−２−２５）の合成＞
式（１−２）において、Ｒ１およびＲ２は水素であり、Ａ１は２，６−ナフタレンであり、Ｘ１はそれぞれ単結合であり、ｎ１はそれぞれ０であり、ｍ１は０であり、Ｚ１はそれぞれメチルである化合物（１−２−２５）は、前述のスキーム１の工程により合成する。
2010131600.tif 000047
【０１７９】
第３工程のアクリロイルクロリドをメタクリロイルクロリドに変更した他は実施例５と同様に合成を行い、２−メタクリロイルオキシ−６−（３−メタクリロイルオキシフェニル）ナフタレン（１−２−２５）の無色結晶を得た。
融点：８７．４℃
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３；δ  ｐｐｍ）：８．０５（ｄ，１Ｈ），７．９１（ｄ，１Ｈ），７．８７（ｄ，１Ｈ），７．７５（ｄｄ，１Ｈ），７．６２（ｄ，１Ｈ），７．６０−７．５８（ｍ，１Ｈ），７．５０（ｔ，１Ｈ），７．４８（ｔ，１Ｈ），７．３０（ｄｄ，１Ｈ），７．１５（ｄｄｄ，１Ｈ），６．４２−６．４１（ｍ，１Ｈ），６．４１−６．４０（ｍ，１Ｈ），５．８１−５．７９（ｍ，２Ｈ），２．１１（ｔ，３Ｈ），２．１０（ｔ，３Ｈ）．【０１８０】
［実施例７］
＜２，７−ビス（アクリロイルオキシ）−９−メチルフルオレン（１−３−４）の合成＞
式（１−３）において、Ｒ３はメチルであり、Ｒ４は水素であり、Ｘ２はそれぞれ単結合であり、ｎ２はそれぞれ０であり、Ｚ２はそれぞれ水素である化合物（１−３−４）は、前述のスキーム５の工程により合成する。
2010131600.tif 000048
【０１８１】
窒素雰囲気下、ジクロロメタン（５００ ｍL）、２，７−ジヒドロキシ−９−メチルフルオレン（Ｔ−１１）（５０．０ ｇ、２３５．６ ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン（６１．７ ｇ、６０９．７ ｍｍｏｌ）、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−ｐ−クレゾール（５２．０ｍｇ、０．２４ｍｍｏｌ）の混合物に、氷冷下でアクリロイルクロリド（５５．４ｇ、６１２．１ ｍｍｏｌ）を滴下し、その後徐々に室温まで昇温した。室温で１６時間撹拌した後、反応混合物を水に注ぎ、有機層を１Ｍ塩酸、１Ｍ水酸化ナトリウム水溶液、次いで水で洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、有機溶媒を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出液：トルエン）で精製し、ジクロメタンとエタノールの混合溶媒から再結晶し、２，７−ビス（アクリロイルオキシ）−９−メチルフルオレン（１−３−４）の無色結晶（３４．２ｇ）を得た。
融点：１３７．６℃
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３；δ  ｐｐｍ）：７．７１（ｄ，２Ｈ），７．２８（ｄ，２Ｈ），７．１３（ｄｄ，２Ｈ），６．６４（ｄｄ，２Ｈ），６．３６（ｄｄ，２Ｈ），６．０４（ｄｄ，２Ｈ），３．９７（ｑ，１Ｈ），１．５２（ｄ，３Ｈ）．【０１８２】
［実施例８］
＜２，７−ビス（メタクリロイルオキシ）−９−メチルフルオレン（１−３−１２）の合成＞
式（１−３）において、Ｒ３はメチルであり、Ｒ４は水素であり、Ｘ２はそれぞれ単結合であり、ｎ２はそれぞれ０であり、Ｚ２はそれぞれメチルである化合物（１−３−１２）は、前述のスキーム５の工程により合成する。
2010131600.tif 000049
【０１８３】
アクリロイルクロライドをメタクリロイルクロリドに変更した他は実施例７と同様に合成を行い、２，７−ビス（メタクリロイルオキシ）−９−メチルフルオレン（１−３−１２）の無色結晶を得た。
融点：１２７．２℃
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３；δ  ｐｐｍ）：７．７１（ｄ，２Ｈ），７．２７（ｄ，２Ｈ），７．１２（ｄｄ，２Ｈ），３．９６（ｑ，１Ｈ），６．３８（ｓ，２Ｈ），５．７８（ｔ，２Ｈ），２．０９（ｓ，６Ｈ），１．５２（ｄ，３Ｈ）．【０１８４】
［実施例９］
＜２，７−ビス（アクリロイルオキシ）−９，９−ジメチルフルオレン（１−３−５）の合成＞
式（１−３）において、Ｒ３およびＲ４はメチルであり、Ｘ２はそれぞれ単結合であり、ｎ２はそれぞれ０であり、Ｚ２はそれぞれ水素である化合物（１−３−５）は、前述のスキーム５の工程により合成する。
2010131600.tif 000050
【０１８５】
２，７−ジヒドロキシ−９−メチルフルオレンを２，７−ジヒドロキシ−９，９−ジメチルフルオレンに変更した他は実施例７と同様に合成を行い、２，７−ビス（アクリロイルオキシ）−９，９−ジメチルフルオレン（１−３−５）の無色結晶を得た。
融点：１１１．１℃
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３；δ  ｐｐｍ）：７．６８（ｄ，２Ｈ），７．２０（ｄ，２Ｈ），７．１１（ｄｄ，２Ｈ），６．６３（ｄｄ，２Ｈ），６．３６（ｄｄ，２Ｈ），６．０４（ｄｄ，２Ｈ），１．４８（ｓ，６Ｈ）．【０１８６】
［実施例１０］
＜２，７−ビス（メタクリロイルオキシ）−９，９−ジメチルフルオレン（１−３−１３）の合成＞
式（１−３）において、Ｒ３およびＲ４はメチルであり、Ｘ２はそれぞれ単結合であり、ｎ２はそれぞれ０であり、Ｚ２はそれぞれメチルである化合物（１−３−１３）は、前述のスキーム５の工程により合成する。
2010131600.tif 000051
【０１８７】
２，７−ジヒドロキシ−９−メチルフルオレンを２，７−ジヒドロキシ−９，９−ジメチルフルオレンに変更し、アクリロイルクロリドをメタクリロイルクロリドに変更した他は実施例７と同様に合成を行い、２，７−ビス（メタクリロイルオキシ）−９，９−ジメチルフルオレン（１−３−１３）の無色結晶を得た。
融点：１４６．０℃
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３；δ  ｐｐｍ）：７．６８（ｄｄ，２Ｈ），７．１９（ｄ，２Ｈ），７．０９（ｄｄ，２Ｈ），６．３８（ｓ，２Ｈ），５．７７−５．７８（ｍ，２Ｈ），２．０９（ｓ，６Ｈ），１．４８（ｓ，６Ｈ）．【０１８８】
［比較例１］
＜４，４’−ビス（メタクリロイルオキシ）ビフェニル（Ｒ−１）の合成＞
2010131600.tif 000052
【０１８９】
２，７−ジヒドロキシ−９−メチルフルオレンを４，４’−ジヒドロキシビフェニルに変更し、アクリロイルクロリドをメタクリロイルクロリドに変更した他は実施例７と同様に合成を行い、４，４’−ビス（メタクリロイルオキシ）ビフェニル（Ｒ−１）の無色結晶を得た。
融点：１５２．７℃
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３；δ  ｐｐｍ）：７．６０‐７．５７（ｍ，４Ｈ），７．２１‐７．１８（ｍ，４Ｈ），６．３８（ｓ，２Ｈ），５．７８（ｔ，２Ｈ），２．０９（ｓ，６Ｈ）．
【０１９０】
［比較例２］
＜２，７−ビス（メタクリロイルオキシ）ナフタレン（Ｒ−２）＞
2010131600.tif 000053
【０１９１】
２，７−ジヒドロキシ−９−メチルフルオレンを２，７−ジヒドロキシナフタレンに変更し、アクリロイルクロリドをメタクリロイルクロリドに変更した他は実施例７と同様に合成を行い、２，７−ビス（メタクリロイルオキシ）ナフタレン（Ｒ−２）の無色結晶を得た。
融点：７１．９℃
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３；δ  ｐｐｍ）：７．８７（ｄ，２Ｈ），７．５９（ｄ，２Ｈ），７．２６（ｄｄ，２Ｈ），６．４１（ｓ，２Ｈ），５．８１−５．７９（ｍ，２Ｈ），２．１０（ｓ，６Ｈ）．【０１９２】
[実施例１１]
（液晶組成物への溶解性の比較１）
液晶組成物Ｃに[比較例１]の重合性化合物（Ｒ−１）を１重量％加え２５℃で溶解を試みたが、結晶が液晶組成物中に残りすべて溶解しなかった。
液晶組成物Ｃに[実施例２]の重合性化合物（１−２−９）を１重量％加え２５℃で溶解を試みたところ、すべての（１−２−９）が溶解した。この比較により本発明の化合物が液晶組成物に溶解しやすいことがわかった。
液晶組成物Ｃの成分は以下のとおりである。【０１９３】
2010131600.tif 000054
【０１９４】
[実施例１２]
（液晶組成物への溶解性の比較２）
液晶組成物Ｃに[比較例１]の重合性化合物（Ｒ−１）、および本願の重合性化合物（１−２−９）、（１−２−４１）、（１−２−２５）、（１−３−１３）、（１−３−１２）をそれぞれ０．３重量％加え、５０℃３０分加熱した。溶解した液晶組成物を１）室温で２日間放置、および２）−２０℃で１０日間放置した。その後、目視により結晶の析出を確認した。表３に結果を示す。表３中の記号において“○”は結晶が認められないもの、“×”は結晶が認められたもの、“−”は未実施の結果を示す。
2010131600.tif 000055
よって本発明の重合性化合物は液晶組成物Ｃへの溶解性が良かった。【０１９５】
[実施例１３]
比較例化合物（Ｒ−２）と実施例の化合物（１−２−１）、（１−２−９）、（１−２−１７）、（１−２−２５）、（１−２−３３）、（１−２−４１）、（１−３−４）、（１−３−５）、（１−３−１２）、（１−２−１３）のＵＶ／Ｖｉｓスペクトル図１から図１１を比較した。
比較例化合物は２５０ｎｍ以上に大きな吸収はないが、実施例で合成した化合物はすべて２５０ｎｍ以上に大きな吸収を有している。よって本発明の重合性化合物は長波長域の紫外線の照射に対して高い重合反応性を示す。【０１９６】
組成物および組成物に含有させる化合物の特性を評価するために、組成物およびこの化合物を測定目的物とする。測定目的物が組成物のときはそのままを試料として測定し、得られた値を記載した。測定目的物が化合物のときは、この化合物（１５重量％）を母液晶（８５重量％）に混合することによって測定用試料を調製した。測定によって得られた値から外挿法によって化合物の特性値を算出した。（外挿値）＝｛（測定用試料の測定値）−０．８５×（母液晶の測定値）｝／０．１５。この割合でスメクチック相（または結晶）が２５℃で析出するときは、化合物と母液晶の割合を１０重量％：９０重量％、５重量％：９５重量％、１重量％：９９重量％の順に変更した。この外挿法によって化合物に関する上限温度、光学異方性、粘度および誘電率異方性の値を求めた。【０１９７】
液晶組成物Ｄの成分とその割合は下記のとおりである。
2010131600.tif 000056
【０１９８】
特性値の測定は下記の方法にしたがった。それらの多くは、日本電子機械工業会規格（Standard of Electric Industries Association of Japan）ＥＩＡＪ・ＥＤ−２５２１Ａに記載された方法、またはこれを修飾した方法である。【０１９９】
ネマチック相の上限温度（ＮＩ；℃）：偏光顕微鏡を備えた融点測定装置のホットプレートに試料を置き、１℃／分の速度で加熱した。試料の一部がネマチック相から等方性液体に変化したときの温度を測定した。ネマチック相の上限温度を「上限温度」と略すことがある。【０２００】
ネマチック相の下限温度（ＴＣ；℃）：ネマチック相を有する試料をガラス瓶に入れ、０℃、−１０℃、−２０℃、−３０℃、および−４０℃のフリーザー中に１０日間保管したあと、液晶相を観察した。例えば、試料が−２０℃ではネマチック相のままであり、−３０℃では結晶またはスメクチック相に変化したとき、ＴＣを≦−２０℃と記載した。ネマチック相の下限温度を「下限温度」と略すことがある。【０２０１】
粘度（バルク粘度；η；２０℃で測定；ｍＰａ・ｓ）：測定にはＥ型回転粘度計を用いた。【０２０２】
光学異方性（屈折率異方性；Δｎ；２５℃で測定）：測定は、波長５８９ｎｍの光を用い、接眼鏡に偏光板を取り付けたアッベ屈折計により行なった。主プリズムの表面を一方向にラビングしたあと、試料を主プリズムに滴下した。屈折率ｎ‖は偏光の方向がラビングの方向と平行であるときに測定した。屈折率ｎ⊥は偏光の方向がラビングの方向と垂直であるときに測定した。光学異方性の値は、Δｎ＝ｎ‖−ｎ⊥、の式から計算した。【０２０３】
誘電率異方性（Δε；２５℃で測定）：誘電率異方性の値は、Δε＝ε‖−ε⊥、の式から計算した。誘電率（ε‖およびε⊥）は次のように測定した。
１）誘電率（ε‖）の測定：よく洗浄したガラス基板にオクタデシルトリエトキシシラン（０．１６ｍＬ）のエタノール（２０ｍＬ）溶液を塗布した。ガラス基板をスピンナーで回転させたあと、１５０℃で１時間加熱した。２枚のガラス基板の間隔（セルギャップ）が４μｍであるＶＡ素子に試料を入れ、この素子を紫外線で硬化する接着剤で密閉した。この素子にサイン波（０．５Ｖ、１ｋＨｚ）を印加し、２秒後に液晶分子の長軸方向における誘電率（ε‖）を測定した。
２）誘電率（ε⊥）の測定：よく洗浄したガラス基板にポリイミド溶液を塗布した。このガラス基板を焼成した後、得られた配向膜にラビング処理をした。２枚のガラス基板の間隔（セルギャップ）が９μｍであり、ツイスト角が８０度であるＴＮ素子に試料を入れた。この素子にサイン波（０．５Ｖ、１ｋＨｚ）を印加し、２秒後に液晶分子の短軸方向における誘電率（ε⊥）を測定した。【０２０４】
しきい値電圧（Ｖｔｈ；２５℃で測定；Ｖ）：測定には大塚電子株式会社製のＬＣＤ５１００型輝度計を用いた。光源はハロゲンランプである。２枚のガラス基板の間隔（セルギャップ）が４μｍであり、ラビング方向がアンチパラレルであるノーマリーブラックモード（normally black mode）のＶＡ素子に試料を入れ、この素子を紫外線で硬化する接着剤を用いて密閉した。この素子に印加する電圧（６０Ｈｚ、矩形波）は０Ｖから２０Ｖまで０．０２Ｖずつ段階的に増加させた。この際に、素子に垂直方向から光を照射し、素子を透過した光量を測定した。この光量が最大になったときが透過率１００％であり、この光量が最小であったときが透過率０％である電圧−透過率曲線を作成した。しきい値電圧は透過率が１０％になったときの電圧である。【０２０５】
電圧保持率（ＶＨＲ−１；２５℃；％）：測定に用いたＴＮ素子はポリイミド配向膜を有し、そして２枚のガラス基板の間隔（セルギャップ）は５μｍである。この素子は試料を入れたあと紫外線で硬化する接着剤で密閉した。このＴＮ素子にパルス電圧（５Ｖで６０マイクロ秒）を印加して充電した。減衰する電圧を高速電圧計で１６．７ｍｓのあいだ測定し、単位周期における電圧曲線と横軸との間の面積Ａを求めた。面積Ｂは減衰しなかったときの面積である。電圧保持率は面積Ｂに対する面積Ａの百分率である。【０２０６】
電圧保持率（ＶＨＲ−２；８０℃；％）：測定に用いたＴＮ素子はポリイミド配向膜を有し、そして２枚のガラス基板の間隔（セルギャップ）は５μｍである。この素子は試料を入れたあと紫外線で硬化する接着剤で密閉した。このＴＮ素子にパルス電圧（５Ｖで６０マイクロ秒）を印加して充電した。減衰する電圧を高速電圧計で１６．７ｍｓのあいだ測定し、単位周期における電圧曲線と横軸との間の面積Ａを求めた。面積Ｂは減衰しなかったときの面積である。電圧保持率は面積Ｂに対する面積Ａの百分率である。【０２０７】
電圧保持率（ＶＨＲ−３；２５℃；％）：紫外線を照射したあと、電圧保持率を測定し、紫外線に対する安定性を評価した。大きなＶＨＲ−３を有する組成物は紫外線に対して大きな安定性を有する。測定に用いたＴＮ素子はポリイミド配向膜を有し、そしてセルギャップは５μｍである。この素子に試料を注入し、光を２０分間照射した。光源は超高圧水銀ランプＵＳＨ−５００Ｄ（ウシオ電機製）であり、素子と光源の間隔は２０ｃｍである。ＶＨＲ−３の測定では、減衰する電圧を１６．７ｍｓのあいだ測定した。ＶＨＲ−３は９０％以上が好ましく、９５％以上がより好ましい。【０２０８】
電圧保持率（ＶＨＲ−４；２５℃；％）：試料を注入したＴＮ素子を８０℃の恒温槽内で５００時間加熱したあと、電圧保持率を測定し、熱に対する安定性を評価した。大きなＶＨＲ−４を有する組成物は熱に対して大きな安定性を有する。ＶＨＲ−４の測定では、減衰する電圧を１６．７ｍｓのあいだ測定した。【０２０９】
応答時間（τ；２５℃で測定；ｍｓ）：測定には大塚電子株式会社製のＬＣＤ５１００型輝度計を用いた。光源はハロゲンランプである。ローパス・フィルター（Low-pass filter）は５ｋＨｚに設定した。２枚のガラス基板の間隔（セルギャップ）が３．２μｍであり、ラビング方向がアンチパラレルであるノーマリーブラックモード（normally black mode）の、垂直配向膜を有するＰＶＡ素子に試料を入れ、この素子を紫外線で硬化する接着剤を用いて密閉した。
この素子にしきい値電圧を若干超える程度の電圧を約１分間印加し、次に５．６Ｖの電圧を印加しながら１７．３ｍＷ／ｃｍ２の紫外線を約８分間照射した。光源は、超高圧水銀ランプＵＳＨ−２５０Ｄ（ウシオ電機製）を用いた。この素子に矩形波（６０Ｈｚ、１０Ｖ、０．５秒）を印加した。この際に、素子に垂直方向から光を照射し、素子を透過した光量を測定した。この光量が最大になったときが透過率１００％であり、この光量が最小であったときが透過率０％である。応答時間は透過率０％から９０％に変化するのに要した時間立ち上がり時間（rise time；ｍｓ）である。【０２１０】
比抵抗（ρ；２５℃で測定；Ωｃｍ）：電極を備えた容器に試料１．０ｍＬを注入した。この容器に直流電圧（１０Ｖ）を印加し、１０秒後の直流電流を測定した。比抵抗は次の式から算出した。（比抵抗）＝｛（電圧）×（容器の電気容量）｝／｛（直流電流）×（真空の誘電率）｝。【０２１１】
本発明の組成物を実施例により詳細に説明する。本発明は下記の実施例によって限定されない。比較例および実施例における化合物は、下記の表４の定義に基づいて記号により表した。
表４において、１，４−シクロヘキシレンに関する立体配置はトランスであり、２，５−テトラヒドロピラン環の立体配置は（Ｒ，Ｒ）と（Ｓ，Ｓ）の混合物である。実施例において記号の後にあるかっこ内の番号は化合物の番号に対応する。（−）の記号はその他の液晶性化合物を意味する。液晶性化合物の割合（百分率）は、液晶組成物の全重量に基づいた重量百分率（重量％）であり、液晶組成物にはこの他に不純物が含まれている。最後に、組成物の特性値をまとめた。【０２１２】
2010131600.tif 000057
【０２１３】
［比較組成例１］
この組成物は本発明の第一成分を含有していない誘電率異方性が負の液晶組成物である。この組成物の成分および特性は下記のとおりである。
Ｖ−ＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２        （４−１−１）        １５％
Ｖ−ＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ４        （４−１−１）        １０％
２−ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２      （４−７−１）          １％
３−ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２      （４−７−１）        １０％
５−ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２      （４−７−１）        １０％
２−ＨＨ−３                        （５−１−１）        ２７％
３−ＨＢ−Ｏ２                      （５−２−１）          ２％
３−ＨＨＢ−１                      （５−５−１）          ６％
３−ＨＨＢ−３                      （５−５−１）          ５％
３−ＨＨＢ−Ｏ１                    （５−５−１）          ３％
２−ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｃｌ）−Ｏ２    （６−１−２−１）      ２％
３−ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｃｌ）−Ｏ２    （６−１−２−１）      ３％
４−ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｃｌ）−Ｏ２    （６−１−２−１）      ３％
５−ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｃｌ）−Ｏ２    （６−１−２−１）      ３％【０２１４】
ＮＩ＝７４．７℃；Ｔｃ≦−２０℃；Δｎ＝０．０９０；Δε＝−２．９；Ｖｔｈ＝２．１６Ｖ；ＶＨＲ−１＝９９．１％；ＶＨＲ−２＝９８．１％；ＶＨＲ−３＝９８．１％．
本願記載のＰＶＡ素子における応答時間はτ＝７．７ｍｓであった。【０２１５】
［実施例Ｍ１］
Ｖ−ＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２        （４−１−１）        １５％
Ｖ−ＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ４        （４−１−１）        １０％
２−ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２      （４−７−１）          １％
３−ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２      （４−７−１）        １０％
５−ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２      （４−７−１）        １０％
２−ＨＨ−３                        （５−１−１）        ２７％
３−ＨＢ−Ｏ２                      （５−２−１）          ２％
３−ＨＨＢ−１                      （５−５−１）          ６％
３−ＨＨＢ−３                      （５−５−１）          ５％
３−ＨＨＢ−Ｏ１                    （５−５−１）          ３％
２−ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｃｌ）−Ｏ２    （６−１−２−１）      ２％
３−ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｃｌ）−Ｏ２    （６−１−２−１）      ３％
４−ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｃｌ）−Ｏ２    （６−１−２−１）      ３％
５−ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｃｌ）−Ｏ２    （６−１−２−１）      ３％
上記組成物１００重量％に本発明の第一成分である化合物（１−２−９）を０．３重量％添加した。【０２１６】
ＮＩ＝７４．７℃；Ｔｃ≦−２０℃；Δｎ＝０．０９０；Δε＝−２．９；Ｖｔｈ＝２．１６Ｖ；ＶＨＲ−１＝９９．２％；ＶＨＲ−２＝９８．５％；ＶＨＲ−３＝９８．６％．
本願記載のＰＶＡ素子における応答時間はτ＝４．０ｍｓであった。【０２１７】
［実施例Ｍ２］
３−Ｈ２Ｂ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２      （４−２−１）        １７％
５−Ｈ２Ｂ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２      （４−２−１）        １６％
３−ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２      （４−７−１）        １２％
４−ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２      （４−７−１）          ６％
５−ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２      （４−７−１）        １０％
２−ＨＨ−３                        （５−１−１）        ２０％
３−ＨＨ−４                        （５−１−１）          ４％
５−ＨＢ−Ｏ２                      （５−２−１）          ４％
３−ＨＨＢ−１                      （５−５−１）          ４％
５−ＨＢＢ（Ｆ）Ｂ−２              （５−１３−１）        ７％【０２１８】
上記組成物１００重量％に本発明の第一成分である化合物（１−２−９）を０．３重量％添加した。
ＮＩ＝７８．２℃；Ｔｃ≦−２０℃；Δｎ＝０．１０１；Δε＝−３．１；Ｖｔｈ＝２．３３Ｖ；ＶＨＲ−１＝９９．２％；ＶＨＲ−２＝９８．６％；ＶＨＲ−３＝９８．８％．
本願記載のＰＶＡ素子における応答時間はτ＝４．２ｍｓであった。【０２１９】
［実施例Ｍ３］
Ｖ−ＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２        （４−１−１）        １１％
Ｖ−ＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ４        （４−１−１）        １０％
３−Ｈ２Ｂ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２      （４−２−１）        １５％
５−Ｈ２Ｂ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２      （４−２−１）          ５％
３−ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２      （４−７−１）        １０％
４−ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２      （４−７−１）          ６％
５−ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２      （４−７−１）          ６％
３−ＨＨ−４                        （５−１−１）        １４％
３−ＨＨＢ−１                      （５−５−１）          ４％
３−ＨＨＢ−３                      （５−５−１）          ５％
３−ＨＨＢ−Ｏ１                    （５−５−１）          ３％
５−ＨＢＢ（Ｆ）Ｂ−２              （５−１３−１）        ６％
５−ＨＢＢ（Ｆ）Ｂ−３              （５−１３−１）        ５％【０２２０】
上記組成物１００重量％に本発明の第一成分である化合物（１−２−４１）を０．５重量％添加した。
ＮＩ＝８６．０℃；Ｔｃ≦−２０℃；Δｎ＝０．１１８；Δε＝−３．６；Ｖｔｈ＝２．２０Ｖ；ＶＨＲ−１＝９９．０％；ＶＨＲ−２＝９８．６％；ＶＨＲ−３＝９８．８％．
本願記載のＰＶＡ素子における応答時間はτ＝５．５ｍｓであった。【０２２１】
［実施例Ｍ４］
Ｖ−ＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２        （４−１−１）        １３％
Ｖ−ＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ４        （４−１−１）        １３％
３−ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２      （４−７−１）        １０％
４−ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２      （４−７−１）          ６％
５−ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２      （４−７−１）          ８％
２−ＨＨ−５                        （５−１−１）          ８％
３−ＨＨ−４                        （５−１−１）        １４％
５−ＨＢ−Ｏ２                      （５−２−１）          ８％
３−ＨＨＢ−１                      （５−５−１）          ３％
３−ＨＨＢ−３                      （５−５−１）          ４％
３−ＨＨＢ−Ｏ１                    （５−５−１）          ２％
３−ＨＨＥＢＨ−３                  （５−１０−１）        ２％
３−ＨＨＥＢＨ−５                  （５−１０−１）        ２％
５−ＨＢＢ（Ｆ）Ｂ−２              （５−１３−１）        ２％
３−ＨＨ１ＯＣｒｏ（７Ｆ，８Ｆ）−５
（６−３−３−３）          ５％【０２２２】
上記組成物１００重量％に本発明の第一成分である化合物（１−２−４１）を０．３重量％添加した。
ＮＩ＝８５．４℃；Ｔｃ≦−２０℃；Δｎ＝０．１００；Δε＝−３．２；Ｖｔｈ＝２．２４Ｖ；ＶＨＲ−１＝９９．２％；ＶＨＲ−２＝９８．６％；ＶＨＲ−３＝９８．８％．
本願記載のＰＶＡ素子における応答時間はτ＝５．４ｍｓであった。【０２２３】
［実施例Ｍ５］
Ｖ−ＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２        （４−１−１）        １０％
Ｖ−ＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ４        （４−１−１）        １０％
３−Ｈ２Ｂ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２      （４−２−１）        １３％
５−Ｈ２Ｂ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２      （４−２−１）        １２％
３−ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２      （４−７−１）        １１％
４−ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２      （４−７−１）          ４％
５−ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２      （４−７−１）          ９％
３−ＨＨ−４                        （５−１−１）          ２％
３−ＨＨＥＨ−３                    （５−４−１）          ２％
３−ＨＨＥＨ−５                    （５−４−１）          ２％
４−ＨＨＥＨ−３                    （５−４−１）          ２％
４−ＨＨＥＨ−５                    （５−４−１）          ２％
３−ＨＨＢ−１                      （５−５−１）          ４％
３−ＨＨＢ−３                      （５−５−１）          ７％
３−ＨＨＢ−Ｏ１                    （５−５−１）          ４％
３−ＨＨＥＢＨ−３                  （５−１０−１）        ３％
３−ＨＨＥＢＨ−５                  （５−１０−１）        ３％【０２２４】
上記組成物１００重量％に本発明の第一成分である化合物（１−２−２５）を０．３重量％添加した。
ＮＩ＝９０．９℃；Ｔｃ≦−２０℃；Δｎ＝０．１０５；Δε＝−４．４；Ｖｔｈ＝２．０３Ｖ；ＶＨＲ−１＝９９．３％；ＶＨＲ−２＝９８．６％；ＶＨＲ−３＝９８．９％
本願記載のＰＶＡ素子における応答時間はτ＝５．７ｍｓであった。【０２２５】
［実施例Ｍ６］
Ｖ−ＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２        （４−１−１）        １１％
Ｖ−ＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ４        （４−１−１）        １０％
３−ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２      （４−７−１）        １１％
４−ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２      （４−７−１）          ４％
５−ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２      （４−７−１）          ７％
２−ＨＨ−３                        （５−１−１）        １７％
３−ＨＨ−４                        （５−１−１）          ８％
３−ＨＨ−５                        （５−１−１）          ４％
５−ＨＢ−Ｏ２                      （５−２−１）          ６％
３−ＨＨＢ−１                      （５−５−１）          ５％
３−ＨＨＢ−３                      （５−５−１）          ６％
３−ＨＨＢ−Ｏ１                    （５−５−１）          ３％
３−ＨＨ１ＯＣｒｏ（７Ｆ，８Ｆ）−５（６−３−３−３）      ８％【０２２６】
上記組成物１００重量％に本発明の第一成分である化合物（１−２−２５）を０．３重量％添加した。
ＮＩ＝７９．２℃；Ｔｃ≦−２０℃；Δｎ＝０．０９２；Δε＝−２．９；Ｖｔｈ＝２．３０Ｖ；ＶＨＲ−１＝９９．３％；ＶＨＲ−２＝９８．５％；ＶＨＲ−３＝９８．５％．
本願記載のＰＶＡ素子における応答時間はτ＝４．０ｍｓであった。【０２２７】
［実施例Ｍ７］
Ｖ−ＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２        （４−１−１）        １３％
Ｖ−ＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ４        （４−１−１）        １３％
３−ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２      （４−７−１）          ６％
４−ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２      （４−７−１）          ６％
５−ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２      （４−７−１）          ６％
２−ＨＨ−３                        （５−１−１）        ２６％
５−ＨＢ−Ｏ２                      （５−２−１）          ５％
３−ＨＨＢ−１                      （５−５−１）          ４％
３−ＨＨＢ−３                      （５−５−１）          ７％
３−ＨＨＢ−Ｏ１                    （５−５−１）          ４％
５−ＨＢＢ（Ｆ）Ｂ−２              （５−１３−１）        ５％
３−ＨＨ１ＯＣｒｏ（７Ｆ，８Ｆ）−５（６−３−３−３）      ５％【０２２８】
上記組成物１００重量％に本発明の第一成分である化合物（１−２−９）を重量０．３％添加した。
ＮＩ＝７５．０℃；Ｔｃ≦−２０℃；Δｎ＝０．０９５；Δε＝−２．７；Ｖｔｈ＝２．２９Ｖ；ＶＨＲ−１＝９９．３％；ＶＨＲ−２＝９８．５％；ＶＨＲ−２＝９８．５％．
本願記載のＰＶＡ素子における応答時間はτ＝３．７ｍｓであった。【０２２９】
［実施例Ｍ８］
Ｖ−ＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２        （４−１−１）        １４％
Ｖ−ＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ４        （４−１−１）        １３％
３−ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２      （４−７−１）        １０％
４−ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２      （４−７−１）          ４％
５−ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２      （４−７−１）          ５％
２−ＨＨ−３                        （５−１−１）        ２６％
４−ＨＨＥＨ−３                    （５−４−１）          ３％
４−ＨＨＥＨ−５                    （５−４−１）          ３％
３−ＨＨＢ−１                      （５−５−１）          ６％
３−ＨＨＢ−３                      （５−５−１）          ６％
３−ＨＨＢ−Ｏ１                    （５−５−１）          ３％
３−ＨＨ１ＯＣｒｏ（７Ｆ，８Ｆ）−５（６−３−３−３）      ７％【０２３０】
上記組成物１００重量％に本発明の第一成分である化合物（１−３−１３）を０．３重量％添加した。
ＮＩ＝７５．６℃；Δｎ＝０．０９０；Δε＝−３．１；Ｖｔｈ＝２．０７Ｖ；ＶＨＲ−１＝９９．２％；ＶＨＲ−２＝９８．５％；ＶＨＲ−３＝９８．５％．
本願記載のＰＶＡ素子における応答時間はτ＝４．３ｍｓであった。【０２３１】
［実施例Ｍ９］
３−Ｈ２Ｂ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２              （４−２−１）            １５％
５−Ｈ２Ｂ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２      （４−２−１）        １５％
２−ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２      （４−７−１）          ３％
３−ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２      （４−７−１）          ９％
５−ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２      （４−７−１）          ９％
２−ＨＨ−５                        （５−１−１）          ３％
３−ＨＨ−４                        （５−１−１）        １５％
３−ＨＨ−５                        （５−１−１）          ４％
３−ＨＢ−Ｏ２                      （５−２−１）        １２％
３−ＨＨＢ−１                      （５−５−１）          ３％
３−ＨＨＢ−３                      （５−５−１）          ４％
３−ＨＨＢ−Ｏ１                    （５−５−１）          ３％
３−ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｃｌ）−Ｏ２    （６−１−２−１）      ５％【０２３２】
上記組成物１００重量％に本発明の第一成分である化合物（１−３−１３）を０．３重量％添加した。
ＮＩ＝７６．１℃；Δｎ＝０．０９８；Δε＝−２．８；Ｖｔｈ＝２．３９Ｖ；ＶＨＲ−１＝９９．２％；ＶＨＲ−２＝９８．５％；ＶＨＲ−３＝９８．５％．
本願記載のＰＶＡ素子における応答時間はτ＝４．４ｍｓであった。【０２３３】
［実施例Ｍ１０］
３−Ｈ２Ｂ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２      （４−２−１）        １７％
５−Ｈ２Ｂ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２      （４−２−１）        １７％
Ｖ−ＨＨ−３                        （５−１−１）        ２７％
Ｖ−ＨＨＢ−１                      （５−５−１）        １０％
２−ＢＢ（Ｆ）Ｂ−３                （５−７−１）          ２％
３−ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｃｌ）−Ｏ２    （６−１−２−１）      ４％
４−ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｃｌ）−Ｏ２    （６−１−２−１）      ３％
５−ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｃｌ）−Ｏ２    （６−１−２−１）      ３％
３−ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｃｌ）−Ｏ２    （６−１−３−１）      ８％
５−ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｃｌ）−Ｏ２    （６−１−３−１）      ９％【０２３４】
上記組成物１００重量％に本発明の第一成分である化合物（１−３−１２）を０．３重量％添加した。
ＮＩ＝７０．３℃；Δｎ＝０．０９５；Δε＝−２．８；Ｖｔｈ＝２．３４Ｖ；ＶＨＲ−１＝９９．２％；ＶＨＲ−２＝９８．６％；ＶＨＲ−３＝９８．６％．
本願記載のＰＶＡ素子における応答時間はτ＝４．３ｍｓであった。【０２３５】
［実施例Ｍ１１］
Ｖ−ＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２        （４−１−１）        １０％
Ｖ−ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２      （４−４−１）        １５％
Ｖ２−ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２    （４−４−１）        １５％
Ｖ−ＨＨ−３                        （５−１−１）        ２５％
１Ｖ−ＨＨ−３                      （５−１−１）          ８％
Ｖ−ＨＨＢ−１                      （５−５−１）          ５％
２−ＢＢ（Ｆ）Ｂ−３                （５−７−１）        １０％
３−ＨＣｒｏ（７Ｆ，８Ｆ）−５      （６−３−１−１）      ３％
２Ｏ−Ｃｒｏ（７Ｆ，８Ｆ）Ｈ−３    （６−３−２）          ３％
３−ＨＨＣｒｏ（７Ｆ，８Ｆ）−５    （６−３−３−１）      ３％
２Ｏ−Ｃｒｏ（７Ｆ，８Ｆ）ＨＨ−５  （６−３−４）          ３％【０２３６】
上記組成物１００重量％に本発明の第一成分である化合物（１−３−１２）を０．３重量％添加した。
ＮＩ=７６．３℃；Ｔｃ≦−２０℃；Δｎ＝０．０９６；Δε＝−３．１；Ｖｔｈ＝２．２７Ｖ；ＶＨＲ−１＝９９．１％；ＶＨＲ−２＝９８．５％；ＶＨＲ−３＝９８．６％．
本願記載のＰＶＡ素子における応答時間はτ＝５．９ｍｓであった。【０２３７】
［実施例Ｍ１２］
Ｖ２−ＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２      （４−１−１）        １５％
Ｖ−ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２      （４−７−１）        １２％
Ｖ−ＨＨ−３                        （５−１−１）        ３０％
Ｖ２−ＨＨＢ−１                    （５−５−１）        １０％
３−ＢＢ（Ｆ）Ｂ−２Ｖ              （５−７−１）          ８％
３−Ｈ１ＯＣｒｏ（７Ｆ，８Ｆ）−５  （６−３−１−３）      ５％
５−Ｈ１ＯＣｒｏ（７Ｆ，８Ｆ）−４  （６−３−１−３）      ５％
３−ＨＨ１ＯＣｒｏ（７Ｆ，８Ｆ）−５（６−３−３−３）      ４％
５−ＨＨ１ＯＣｒｏ（７Ｆ，８Ｆ）−５（６−３−３−３）      ６％
３−ＢＢＣｒｏ（７Ｆ，８Ｆ）−５    （６−３−３−５）      ５％【０２３８】
上記組成物１００重量％に本発明の第一成分である化合物（１−２−１）を０．３重量％添加した。
ＮＩ=７８．３℃；Ｔｃ≦−２０℃；Δｎ＝０．１１１；Δε＝−３．０；Ｖｔｈ＝２．３０Ｖ；ＶＨＲ−１＝９９．２％；ＶＨＲ−２＝９８．５％；ＶＨＲ−３＝９８．６％．
本願記載のＰＶＡ素子における応答時間はτ＝５．９ｍｓであった。【０２３９】
［実施例Ｍ１３］
Ｖ−ＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２        （４−１−１）        １０％
Ｖ−ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２      （４−４−１）        １０％
１Ｖ−ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２    （４−４−１）          ５％
１Ｖ２−ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２  （４−４−１）          ５％
Ｖ２−ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２    （４−７−１）        １０％
２−ＨＨ−３                        （５−１−１）        ２２％
３−ＨＨ−Ｏ１                      （５−１−１）          ３％
７−ＨＢ−１                        （５−２−１）          ５％
３−ＨＨＥＨ−５                    （５−４−１）          ３％
Ｖ−ＨＨＢ−１                      （５−５−１）          ７％
Ｖ２−ＢＢ（Ｆ）Ｂ−１              （５−７−１）          ５％
５−ＨＢＢ（Ｆ）Ｂ−３              （５−１３−１）        ５％
３−Ｈ２Ｃｒｏ（７Ｆ，８Ｆ）−５    （６−３−１−２）      ５％
２−Ｃｒｏ（７Ｆ，８Ｆ）２Ｈ−３    （６−３−２−２）      ５％【０２４０】
上記組成物１００重量％に本発明の第一成分である化合物（１−２−１）を０．３重量％添加した。
ＮＩ=８１．１℃；Ｔｃ≦−２０℃；Δｎ＝０．１００；Δε＝−２．７；Ｖｔｈ＝２．４３Ｖ；ＶＨＲ−１＝９９．３％；ＶＨＲ−２＝９８．４％；ＶＨＲ−２＝９８．６％．
本願記載のＰＶＡ素子における応答時間はτ＝４．２ｍｓであった。【０２４１】
［実施例Ｍ１４］
３−ＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２        （４−１−１）          ５％
Ｖ−ＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２        （４−１−１）        １１％
Ｖ−ＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ４        （４−１−１）        １２％
Ｖ−ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２      （４−４−１）        １０％
Ｖ−ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ４      （４−４−１）        １０％
３−ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２      （４−７−１）          ５％
Ｖ−ＨＨ−３                        （５−１−１）        ２５％
Ｖ２−ＢＢ−１                      （５−３−１）          ６％
１Ｖ−ＨＢＢ−２                    （５−６−１）          ４％
５−ＨＢＢＨ−３                    （５−１１−１）        ５％
３−ＢＣｒｏ（７Ｆ，８Ｆ）−５      （６−３−１−４）      ３％
３−ＨＢＣｒｏ（７Ｆ，８Ｆ）−５    （６−３−３−４）      ４％【０２４２】
上記組成物１００重量％に本発明の第一成分である化合物（１−２−３３）を０．３重量％添加した。
ＮＩ=７０．１℃；Ｔｃ≦−２０℃；Δｎ＝０．１００；Δε＝−３．１；Ｖｔｈ＝２．２０Ｖ；ＶＨＲ−１＝９９．３％；ＶＨＲ−２＝９８．５％；ＶＨＲ−２＝９８．５％．
本願記載のＰＶＡ素子における応答時間はτ＝４．０ｍｓであった。【０２４３】
［実施例Ｍ１５］
Ｖ−ＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２        （４−１−１）        １６％
１Ｖ−ＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ４      （４−１−１）          ６％
３−Ｈ２Ｂ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２      （４−２−１）          ３％
３−ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２      （４−４−１）          ３％
Ｖ−ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２      （４−４−１）        １０％
Ｖ２−ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２    （４−４−１）          ７％
Ｖ−ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２      （４−７−１）        １０％
Ｖ−ＨＨ−３                        （５−１−１）        ２０％
１Ｖ−ＨＨ−３                      （５−１−１）          ７％
５−ＨＨＥＢＨ−３                  （５−１０−１）        ４％
５−ＨＢ（Ｆ）ＢＨ−３              （５−１２−１）        ４％
３−ＨＨ２Ｃｒｏ（７Ｆ，８Ｆ）−３  （６−３−３−２）      ３％
３−ＨＨ２Ｃｒｏ（７Ｆ，８Ｆ）−５  （６−３−３−２）      ４％
３−Ｃｒｏ（７Ｆ，８Ｆ）２ＨＨ−５  （６−３−４−２）      ３％【０２４４】
上記組成物１００重量％に本発明の第三成分である化合物（１−２−３３）を０．３重量％添加した
ＮＩ=９０．１℃；Ｔｃ≦−２０℃；Δｎ＝０．０９５；Δε＝−３．６；Ｖｔｈ＝１．９１Ｖ；ＶＨＲ−１＝９９．２％；ＶＨＲ−２＝９８．５％；ＶＨＲ−３＝９８．６％．本願記載のＰＶＡ素子における応答時間はτ＝４．０ｍｓであった。【０２４５】
［実施例Ｍ１６］
Ｖ−ＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２        （４−１−１）        １５％
Ｖ−ＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ４        （４−１−１）          ７％
３−ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２      （４−７−１）          ３％
Ｖ−ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２      （４−７−１）        １０％
Ｖ２−ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２    （４−７−１）        １０％
２−ＨＨ−３                        （５−１−１）        ２９％
３−ＨＨＢ−１                      （５−５−１）          ６％
３−ＨＨＢ−３                      （５−５−１）          ６％
３−ＨＨＢ−Ｏ１                    （５−５−１）          ６％
３−ＨＨ１ＯＣｒｏ（７Ｆ，８Ｆ）−５（６−３−３−３）      ８％【０２４６】
上記組成物１００重量％に本発明の第一成分である化合物（１−２−１７）を０．３重量％添加した。
ＮＩ=８１．０℃；Ｔｃ≦−２０℃；Δｎ＝０．０９４；Δε＝−３．１；Ｖｔｈ＝２．２６Ｖ；ＶＨＲ−１＝９９．３％；ＶＨＲ−２＝９８．５％；ＶＨＲ−３＝９８．６％．本願記載のＰＶＡ素子における応答時間はτ＝４．６ｍｓであった。【０２４７】
［実施例Ｍ１７］
３−ＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２        （４−１−１）          ５％
５−ＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２        （４−１−１）          ５％
３−ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２      （４−４−１）          ５％
３−ＨＨ２Ｂ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２    （４−５−１）          ７％
３−ＨＨ−ＶＦＦ                    （５−１）              ３％
Ｖ−ＨＨ−３                        （５−１−１）        ２８％
１Ｖ２−ＢＢ−１                    （５−３−１）          ４％
３−ＨＨＥＨ−３                    （５−４−１）          ３％
Ｖ２−ＢＢ（Ｆ）Ｂ−１              （５−７−１）          ４％
３−ＨＢ（Ｆ）ＨＨ−５              （５−９−１）          ５％
５−ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｃｌ）−Ｏ２    （６−１−３−１）      ５％
３−ＤｈＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２    （６−２）              ５％
５−ＤｈＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２    （６−２）              ４％
３−ＤｈＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２      （６−２−１−１）      ６％
５−ＤｈＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２      （６−２−１−１）      ６％
３−Ｄｈ１ＯＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２  （６−２−３−１）      ５％【０２４８】
上記組成物１００重量％に本発明の第一成分である化合物（１−２−１７）を０．３重量％添加した。
ＮＩ＝７２．２℃；Ｔｃ≦−２０℃；Δｎ＝０．０９６；Δε＝−２．４；ＶＨＲ−１＝９９．１％；ＶＨＲ−２＝９８．４％；ＶＨＲ−３＝９８．５％．
本願記載のＰＶＡ素子における応答時間はτ＝３．６ｍｓであった。【０２４９】
［実施例Ｍ１８］
３−Ｈ１ＯＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２    （４−３−１）          ５％
５−Ｈ１ＯＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２    （４−３−１）          ５％
３−ＨＨ１ＯＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２  （４−６−１）          ５％
５−ＨＨ１ＯＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２  （４−６−１）          ５％
３−ＢＢ（２Ｆ，５Ｆ）Ｂ−２        （５−８−１）          ３％
Ｖ−ＨＨ−３                        （５−１−１）        ３７％
１Ｖ−ＨＨ−３                      （５−１−１）          ６％
３−ＨＨＢ−１                      （５−５−１）          ４％
３−ＨＨＢ−Ｏ１                    （５−５−１）          ４％
５−ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｃｌ）−Ｏ２    （６−１−３−１）      ６％
３−ＤｈＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２    （６−２−４−１）      ６％
３−ＨＤｈＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２    （６−２−５−１）    １０％
１Ｏ１−ＨＢＢＨ−５                （−）                  ４％【０２５０】
上記組成物１００重量％に本発明の第一成分である化合物（１−２−２５）を０．３重量％添加した
ＮＩ＝９２．１℃；Ｔｃ≦−２０℃；Δｎ＝０．０８５；Δε＝−２．４；ＶＨＲ−１＝９９．２％；ＶＨＲ−２＝９８．５％；ＶＨＲ−３＝９８．５％．
本願記載のＰＶＡ素子における応答時間はτ＝３．３ｍｓであった。【０２５１】
［実施例Ｍ１９］
３−ＨＨ１ＯＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２  （４−６−１）          ６％
３−ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２      （４−７−１）          ６％
５−ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２      （４−７−１）          ６％
Ｖ−ＨＨ−３                        （５−１−１）        ３２％
１Ｖ−ＨＨ−３                      （５−１−１）          ７％
３−ＨＢ−Ｏ２                      （５−２−１）          ３％
１Ｖ−ＨＢＢ−２                    （５−６−１）          ４％
２−ＢＢ（Ｆ）Ｂ−３                （５−７−１）          ５％
３−Ｄｈ２Ｂ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２    （６−２−２−１）      ９％
３−Ｄｈ１ＯＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２  （６−２−３−１）      ６％
３−ＤｈＨ１ＯＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２（６−２−６−１）      ６％
３−Ｈ２Ｃｒｏ（７Ｆ，８Ｆ）−５    （６−３−１−２）      ３％
３−Ｈ１ＯＣｒｏ（７Ｆ，８Ｆ）−５  （６−３−１−３）      ４％
３−ＨＨＣｒｏ（７Ｆ，８Ｆ）−５    （６−３−３−１）      ３％【０２５２】
上記組成物１００重量％に本発明の第一成分である化合物（１−３−４）を０．３重量％添加した。
ＮＩ＝７２．０℃；Δｎ＝０．０９２；Δε＝−２．９；ＶＨＲ−１＝９９．２％；ＶＨＲ−２＝９８．５％；ＶＨＲ−３＝９８．６％．
本願記載のＰＶＡ素子における応答時間はτ＝３．４ｍｓであった。【０２５３】
［実施例Ｍ２０］
３−ＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２        （４−１−１）          ５％
５−ＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２        （４−１−１）          ５％
Ｖ−Ｈ１ＯＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２    （４−３−１）          ４％
Ｖ２−Ｈ１ＯＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２  （４−３−１）          ４％
Ｖ−ＨＨ２Ｂ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２    （４−５−１）          ５％
Ｖ２−ＨＨ２Ｂ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２  （４−５−１）          ５％
３−ＨＨ１ＯＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２  （４−６−１）          ５％
４−ＨＨ１ＯＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２  （４−６−１）          ３％
５−ＨＨ１ＯＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２  （４−６−１）          ５％
Ｖ−ＨＨ−３                        （５−１−１）        ２８％
３−ＨＨ−４                        （５−１−１）        １０％
Ｖ２−ＢＢ−１                      （５−３−１）          ４％
５−ＨＢＢ（Ｆ）Ｂ−２              （５−１３−１）        ４％
５−ＨＢＢ（Ｆ）Ｂ−３              （５−１３−１）        ３％
３−ＨＢ（２Ｆ，３Ｃｌ）−Ｏ２      （６−１−１−１）      ５％
３−ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｃｌ）−Ｏ２    （６−１−３−１）      ２％
５−ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｃｌ）−Ｏ２    （６−１−３−１）      ３％【０２５４】
上記組成物１００重量％に本発明の第一成分である化合物（１−３−５）を０．３重量％添加した。
ＮＩ＝７４．５℃；Ｔｃ≦−２０℃；Δｎ＝０．０８７；Δε＝−３．４；ＶＨＲ−１＝９９．２％；ＶＨＲ−２＝９８．６％；ＶＨＲ−３＝９８．６％．
本願記載のＰＶＡ素子における応答時間はτ＝３．８ｍｓであった。【０２５５】
［実施例Ｍ２１］
Ｖ−ＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２        （４−１−１）          ３％
５−ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２      （４−４−１）          ８％
Ｖ−ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２      （４−４−１）        １０％
Ｖ−ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ４      （４−４−１）          ４％
Ｖ−ＨＨ−５                        （５−１−１）        ２０％
１Ｖ２−ＢＢ−１                    （５−３−１）        １０％
Ｖ−ＨＨＢ−１                      （５−５−１）          ５％
Ｖ２−ＢＢ（Ｆ）Ｂ−１              （５−７−１）          ３％
Ｖ２−ＢＢ（Ｆ）Ｂ−２              （５−７−１）          ７％
５−ＨＢＢ（Ｆ）Ｂ−２              （５−１３−１）        ５％
３−Ｈ１ＯＢ（２Ｆ，３Ｆ，６Ｍｅ）−Ｏ２
（６−２−１０−１）        ５％
５−Ｈ１ＯＢ（２Ｆ，３Ｆ，６Ｍｅ）−Ｏ２
（６−２−１０−１）        ５％
３−ＨＨ１ＯＢ（２Ｆ，３Ｆ，６Ｍｅ）−Ｏ２
（６−２−１３−１）        ５％
５−ＨＨ１ＯＢ（２Ｆ，３Ｆ，６Ｍｅ）−Ｏ２
（６−２−１３−１）        ５％
３−ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ，６Ｍｅ）−Ｏ２
（６−２−１４−１）        ５％【０２５６】
上記組成物１００重量％に本発明の第一成分である化合物（１−２−９）を０．３重量％添加した。
ＮＩ=９０．５℃；Ｔｃ≦−３０℃；Δｎ＝０．１２９；Δε＝−３．０；ＶＨＲ−１＝９９．２％；ＶＨＲ−２＝９８．５％；ＶＨＲ−３＝９８．５％．
本願記載のＰＶＡ素子における応答時間はτ＝３．８ｍｓであった。【０２５７】
［実施例Ｍ２２］
２−ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２      （４−７−１）          ５％
３−ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２      （４−７−１）        １２％
５−ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２      （４−７−１）          ４％
Ｖ−ＨＨ−４                        （５−１−１）        １５％
Ｖ−ＨＨ−５                        （５−１−１）        ２３％
１Ｖ−ＨＨ−３                      （５−１−１）          ６％
Ｖ−ＨＨＢ−１                      （５−５−１）          ５％
Ｖ２−ＨＨＢ−１                    （５−５−１）          ３％
３−Ｈ２Ｂ（２Ｆ，３Ｆ，６Ｍｅ）−Ｏ２
（６−２−９−１）          ４％
３−Ｈ１ＯＢ（２Ｆ，３Ｆ，６Ｍｅ）−Ｏ２
（６−２−１０−１）        ５％
５−Ｈ１ＯＢ（２Ｆ，３Ｆ，６Ｍｅ）−Ｏ２
（６−２−１０−１）        ３％
３−ＨＨ２Ｂ（２Ｆ，３Ｆ，６Ｍｅ）−Ｏ２
（６−２−１２−１）        ５％
３−ＨＨ１ＯＢ（２Ｆ，３Ｆ，６Ｍｅ）−Ｏ２
（６−２−１３−１）        ６％
３−ＨＨ１ＯＣｒｏ（７Ｆ，８Ｆ）−５
（６−３−３−３）          ４％【０２５８】
上記組成物１００重量％に本発明の第一成分である化合物（１−２−２５）を０．３重量％添加した。
ＮＩ=８５．４℃；Ｔｃ≦−２０℃；Δｎ＝０．０９２；Δε＝−２．８；ＶＨＲ−１＝９９．３％；ＶＨＲ−２＝９８．６％；ＶＨＲ−３＝９８．６％．
本願記載のＰＶＡ素子における応答時間はτ＝５．２ｍｓであった。【０２５９】
［実施例Ｍ２３］
３−ＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２        （４−１−１）          ８％
３−ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２      （４−４−１）        １０％
３−ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２      （４−７−１）        １１％
５−ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２      （４−７−１）          ５％
Ｖ−ＨＨ−３                        （５−１−１）        ４０％
３−ＨＨＥＢＨ−３                  （５−１０−１）        ４％
３−ＨＨＥＢＨ−４                  （５−１０−１）        ３％
３−ＨＢ（２Ｆ，３Ｆ，６Ｍｅ）−Ｏ２（６−２−８−１）      ４％
３−Ｈ２Ｂ（２Ｆ，３Ｆ，６Ｍｅ）−Ｏ２
（６−２−９−１）          ４％
３−ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ，６Ｍｅ）−Ｏ２
（６−２−１１−１）        ５％
３−ＨＨ１ＯＢ（２Ｆ，３Ｆ，６Ｍｅ）−Ｏ２
（６−２−１３−１）        ６％【０２６０】
上記組成物１００重量％に本発明の第一成分である化合物（１−３−１２）を０．３重量％添加した。
ＮＩ=８２．９℃；Δｎ＝０．０８８；Δε＝−３．０；ＶＨＲ−１＝９９．１％；ＶＨＲ−２＝９８．６％；ＶＨＲ−３＝９８．６％．
本願記載のＰＶＡ素子における応答時間はτ＝４．１ｍｓであった。【０２６１】
［実施例Ｍ２４］
Ｖ−ＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２        （４−１−１）        １２％
Ｖ−ＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ４        （４−１−１）        １０％
３−Ｈ２Ｂ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２      （４−２−１）        １５％
３−ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２      （４−７−１）          ７％
４−ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２      （４−７−１）          ６％
５−ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２      （４−７−１）          ６％
３−ＨＨ−４                        （５−１−１）        １４％
３−ＨＨＢ−１                      （５−５−１）          ４％
３−ＨＨＢ−３                      （５−５−１）          ５％
３−ＨＨＢ−Ｏ１                    （５−５−１）          ３％
５−ＨＢＢ（Ｆ）Ｂ−２              （５−１３−１）        ６％
５−ＨＢＢ（Ｆ）Ｂ−３              （５−１３−１）        ５％
４Ｏ−Ｂ（２Ｆ，３Ｆ）Ｂ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ６
（６−２−１５−１）        ４％
２−ＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）Ｂ−４        （６−４−１）          ３％【０２６２】
上記組成物１００重量％に本発明の第一成分である化合物（１−２−２５）を０．５重量％添加した。
ＮＩ＝８３．９℃；Ｔｃ≦−２０℃；Δｎ＝０．１２０；Δε＝−３．７；Ｖｔｈ＝２．１３Ｖ；ＶＨＲ−１＝９９．１％；ＶＨＲ−２＝９８．６％；ＶＨＲ−２＝９８．６％．
本願記載のＰＶＡ素子における応答時間はτ＝５．３ｍｓであった。【０２６３】
［実施例Ｍ２５］
３−Ｈ２Ｂ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２      （４−２−１）        １５％
５−Ｈ２Ｂ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２      （４−２−１）        １５％
２−ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２      （４−７−１）          ３％
３−ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２      （４−７−１）          ９％
４−ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２      （４−７−１）          ５％
５−ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２      （４−７−１）          ９％
２−ＨＨ−５                        （５−１−１）          ３％
３−ＨＨ−４                        （５−１−１）        １５％
３−ＨＨ−５                        （５−１−１）          ４％
３−ＨＢ−Ｏ２                      （５−２−１）        １２％
３−ＨＨＢ−１                      （５−５−１）          ３％
３−ＨＨＢ−３                      （５−５−１）          ４％
３−ＨＨＢ−Ｏ１                    （５−５−１）          ３％【０２６４】
上記組成物１００重量％に本発明の第一成分である化合物（１−３−１３）を０．３重量％添加した。
ＮＩ＝７６．０℃；Δｎ＝０．１０１；Δε＝−２．８；Ｖｔｈ＝２．４０Ｖ；ＶＨＲ−１＝９９．３％；ＶＨＲ−２＝９８．６％；ＶＨＲ−３＝９８．７％．
本願記載のＰＶＡ素子における応答時間はτ＝４．１ｍｓであった。【０２６５】
［実施例Ｍ２６］
３−ＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２        （４−１−１）          ５％
５−ＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２        （４−１−１）          ５％
３−ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２      （４−４−１）          ５％
３−ＨＨ２Ｂ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２    （４−５−１）          ７％
３−ＨＨ−ＶＦＦ                    （５−１）              ３％
Ｖ−ＨＨ−３                        （５−１−１）        ２８％
１Ｖ２−ＢＢ−１                    （５−３−１）          ４％
３−ＨＨＥＨ−３                    （５−４−１）          ３％
Ｖ２−ＢＢ（Ｆ）Ｂ−１              （５−７−１）          ４％
３−ＨＢ（Ｆ）ＨＨ−５              （５−９−１）          ５％
５−ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｃｌ）−Ｏ２    （６−１−３−１）      ５％
５−ＤｈＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２    （６−２）              ４％
３−ＤｈＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２      （６−２−１−１）      ６％
５−ＤｈＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２      （６−２−１−１）      ６％
３−Ｄｈ１ＯＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２  （６−２−３−１）      ５％
３−ｄｈＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２    （６−２−７−１）      ５％【０２６６】
上記組成物１００重量％に本発明の第一成分である化合物（１−２−１７）を０．３重量％添加した。
ＮＩ＝７３．１℃；Ｔｃ≦−２０℃；Δｎ＝０．０９７；Δε＝−２．５；ＶＨＲ−１＝９９．１％；ＶＨＲ−２＝９８．３％；ＶＨＲ−３＝９８．５％．
本願記載のＰＶＡ素子における応答時間はτ＝３．５ｍｓであった。【０２６７】
［実施例Ｍ２７］
Ｖ−ＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２        （４−１−１）        １５％
Ｖ−ＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ４        （４−１−１）          ７％
３−ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２      （４−７−１）          ３％
Ｖ−ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２      （４−７−１）        １０％
Ｖ２−ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２    （４−７−１）        １０％
Ｖ−ＨＨ−３                        （５−１−１）        ２９％
３−ＨＨＢ−１                      （５−５−１）          ６％
３−ＨＨＢ−３                      （５−５−１）          ６％
３−ＨＨＢ−Ｏ１                    （５−５−１）          ６％
３−ＨＨ１ＯＣｒｏ（７Ｆ，８Ｆ）−５（６−３−３−３）      ８％【０２６８】
上記組成物１００重量％に本発明の第一成分である化合物（１−２−１７）を０．３重量％添加し、化合物（８−３）を０．３重量％添加し、ｗが７である化合物（９）を２００ｐｐｍ添加した。
ＮＩ=８５．５℃；Ｔｃ≦−２０℃；Δｎ＝０．１００；Δε＝−３．２；Ｖｔｈ＝２．２８Ｖ；ＶＨＲ−１＝９９．５％；ＶＨＲ−２＝９８．８％；ＶＨＲ−３＝９８．８％．本願記載のＰＶＡ素子における応答時間はτ＝４．３ｍｓであった。【０２６９】
［実施例Ｍ２８］
３−Ｈ２Ｂ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２      （４−２−１）        １８％
５−Ｈ２Ｂ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２      （４−２−１）        １７％
３−ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２      （４−７−１）          ９％
４−ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２      （４−７−１）          ３％
５−ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２      （４−７−１）          ９％
２−ＨＨ−３                        （５−１−１）        １８％
３−ＨＨ−４                        （５−１−１）          ２％
３−ＨＨＢ−１                      （５−５−１）          ５％
３−ＨＨＢ−３                      （５−５−１）          ５％
３−ＨＨＢ−Ｏ１                    （５−５−１）          ４％
３−ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｃｌ）−Ｏ２    （６−１−２−１）      ４％
４−ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｃｌ）−Ｏ２    （６−１−２−１）      ３％
５−ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｃｌ）−Ｏ２    （６−１−２−１）      ３％【０２７０】
上記組成物１００重量％に本発明の第一成分である化合物（１−３−４）を０．３重量％添加した。
ＮＩ＝８０．７℃；Ｔｃ≦−２０℃；Δｎ＝０．０９４；Δε＝−３．４；ＶＨＲ−１＝９９．１％；ＶＨＲ−２＝９８．２％；ＶＨＲ−３＝９８．３％．
本願記載のＰＶＡ素子における応答時間はτ＝５．０ｍｓであった。【０２７１】
［実施例Ｍ２９］
３−Ｈ２Ｂ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２      （４−２−１）        １８％
５−Ｈ２Ｂ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２      （４−２−１）        １７％
３−ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２      （４−７−１）          ９％
４−ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２      （４−７−１）          ３％
５−ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２      （４−７−１）          ９％
２−ＨＨ−３                        （５−１−１）        １８％
３−ＨＨ−４                        （５−１−１）          ２％
３−ＨＨＢ−１                      （５−５−１）          ５％
３−ＨＨＢ−３                      （５−５−１）          ５％
３−ＨＨＢ−Ｏ１                    （５−５−１）          ４％
３−ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｃｌ）−Ｏ２    （６−１−２−１）      ３％
５−ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｃｌ）−Ｏ２    （６−１−２−１）      ２％
３−ＨＤｈＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２    （６−２−５−１）      ５％【０２７２】
上記組成物１００重量％に本発明の第一成分である化合物（１−３−５）を０．３重量％添加した。
ＮＩ＝８０．２℃；Ｔｃ≦−２０℃；Δｎ＝０．０９３；Δε＝−３．６；ＶＨＲ−１＝９９．１％；ＶＨＲ−２＝９８．３％；ＶＨＲ−３＝９８．４％．
本願記載のＰＶＡ素子における応答時間はτ＝５．０ｍｓであった。【０２７３】
［実施例Ｍ３０］
３−Ｈ２Ｂ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２      （４−２−１）        １８％
５−Ｈ２Ｂ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２      （４−２−１）        １７％
３−ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２      （４−４−１）          ５％
５−ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２      （４−４−１）          ５％
３−ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２      （４−７−１）          ９％
４−ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２      （４−７−１）          ３％
５−ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２      （４−７−１）          ９％
２−ＨＨ−３                        （５−１−１）        １８％
３−ＨＨ−４                        （５−１−１）          ２％
３−ＨＨＢ−１                      （５−５−１）          ５％
３−ＨＨＢ−３                      （５−５−１）          ５％
３−ＨＨＢ−Ｏ１                    （５−５−１）          ４％【０２７４】
上記組成物１００重量％に本発明の第一成分である化合物（１−２−９）を０．３重量％添加した。
ＮＩ＝８２．２℃；Ｔｃ≦−２０℃；Δｎ＝０．０９５；Δε＝−３．６；ＶＨＲ−１＝９９．２％；ＶＨＲ−２＝９８．５％；ＶＨＲ−３＝９８．５％．
本願記載のＰＶＡ素子における応答時間はτ＝４．８ｍｓであった。【０２７５】
［実施例Ｍ３１］
３−Ｈ２Ｂ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２      （４−２−１）        １８％
５−Ｈ２Ｂ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２      （４−２−１）        １７％
３−ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２      （４−７−１）          ９％
４−ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２      （４−７−１）          ３％
５−ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２      （４−７−１）          ９％
２−ＨＨ−３                        （５−１−１）        １８％
３−ＨＨ−４                        （５−１−１）          ２％
３−ＨＨＢ−１                      （５−５−１）          ５％
３−ＨＨＢ−３                      （５−５−１）          ５％
３−ＨＨＢ−Ｏ１                    （５−５−１）          ４％
３−ＨＤｈＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２    （６−２−５−１）      ５％
５−ＨＤｈＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２    （６−２−５−１）      ５％【０２７６】
上記組成物１００重量％に本発明の第一成分である化合物（１−２−２５）を０．３重量％添加した。
ＮＩ＝７９．８℃；Ｔｃ≦−２０℃；Δｎ＝０．０９２；Δε＝−３．６；ＶＨＲ−１＝９９．２％；ＶＨＲ−２＝９８．６％；ＶＨＲ−３＝９８．５％．
本願記載のＰＶＡ素子における応答時間はτ＝４．８ｍｓであった。【０２７７】
［実施例Ｍ３２］
３−Ｈ２Ｂ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２      （４−２−１）        ２０％
５−Ｈ２Ｂ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２      （４−２−１）        ２０％
３−ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２      （４−７−１）        １０％
４−ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２      （４−７−１）          ６％
５−ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２      （４−７−１）          ３％
２−ＨＨ−３                        （５−１−１）          ６％
３−ＨＨ−４                        （５−１−１）        １７％
３−ＨＨＢ−Ｏ１                    （５−５−１）          ３％
３−ＨＨＥＢＨ−３                  （５−１０−１）        ４％
３−ＨＨＥＢＨ−４                  （５−１０−１）        ３％
３−ＨＨ１ＯＣｒｏ（７Ｆ，８Ｆ）−５（６−３−３−３）      ８％【０２７８】
上記組成物１００重量％に本発明の第一成分である化合物（１−３−１２）を０．３重量％添加した。
ＮＩ＝８０．６℃；Ｔｃ≦−２０℃；Δｎ＝０．０８９；Δε＝−３．９；ＶＨＲ−１＝９９．１％；ＶＨＲ−２＝９８．３％；ＶＨＲ−３＝９８．３％．
本願記載のＰＶＡ素子における応答時間はτ＝５．１ｍｓであった。【０２７９】
［実施例Ｍ３３］
３−Ｈ２Ｂ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２      （４−２−１）        ２０％
５−Ｈ２Ｂ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２      （４−２−１）        １４％
３−ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２      （４−７−１）          ９％
４−ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２      （４−７−１）          ３％
２−ＨＨ−３                        （５−１−１）        １９％
３−ＨＨ−４                        （５−１−１）          ７％
３−ＨＨＢ−１                      （５−５−１）          ３％
３−ＨＨＢ−３                      （５−５−１）          ４％
３−ＨＨＥＢＨ−３                  （５−１０−１）        ４％
３−ＨＨＥＢＨ−４                  （５−１０−１）        ４％
３−ＨＤｈＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２    （６−２−５−１）      ８％
３−ＨＨ１ＯＣｒｏ（７Ｆ，８Ｆ）−５（６−３−３−３）      ５％【０２８０】
上記組成物１００重量％に本発明の第一成分である化合物（１−２−２５）を０．３重量％添加した。
ＮＩ＝７８．３℃；Ｔｃ≦−２０℃；Δｎ＝０．０８４；Δε＝−３．５；ＶＨＲ−１＝９９．１％；ＶＨＲ−２＝９８．３％；ＶＨＲ−３＝９８．２％．
本願記載のＰＶＡ素子における応答時間はτ＝４．７ｍｓであった。【０２８１】
［実施例Ｍ３４］
３−Ｈ２Ｂ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２      （４−２−１）        １５％
５−Ｈ２Ｂ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２      （４−２−１）        １０％
３−ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２      （４−４−１）          ６％
３−ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２      （４−７−１）        １１％
４−ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２      （４−７−１）        １０％
５−ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２      （４−７−１）          ７％
２−ＨＨ−３                        （５−１−１）        ２２％
３−ＨＢ−Ｏ２                      （５−２−１）          ７％
５−ＨＢ−Ｏ２                      （５−２−１）          ６％
５−ＨＢＢ（Ｆ）Ｂ−２              （５−１３−１）        ６％【０２８２】
上記組成物１００重量％に本発明の第一成分である化合物（１−３−４）を０．３重量％添加した。
ＮＩ＝７３．３℃；Ｔｃ≦−２０℃；Δｎ＝０．１０６；Δε＝−３．０；ＶＨＲ−１＝９９．１％；ＶＨＲ−２＝９８．２％；ＶＨＲ−３＝９８．３％．
本願記載のＰＶＡ素子における応答時間はτ＝４．９ｍｓであった。【０２８３】
［実施例Ｍ３５］
３−Ｈ２Ｂ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２      （４−２−１）        １５％
５−Ｈ２Ｂ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２      （４−２−１）          ７％
３−ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２      （４−７−１）        １１％
４−ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２      （４−７−１）        １０％
５−ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２      （４−７−１）          ７％
２−ＨＨ−３                        （５−１−１）        ２２％
３−ＨＨ−４                        （５−１−１）          ３％
３−ＨＢ−Ｏ２                      （５−２−１）          ７％
５−ＨＢ−Ｏ２                      （５−２−１）          ６％
５−ＨＢＢ（Ｆ）Ｂ−２              （５−１３−１）        ６％
３−ＨＤｈＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２    （６−２−５−１）      ６％【０２８４】
上記組成物１００重量％に本発明の第一成分である化合物（１−３−５）を０．３重量％添加した。
ＮＩ＝７４．６℃；Ｔｃ≦−２０℃；Δｎ＝０．１０４；Δε＝−３．０；ＶＨＲ−１＝９９．２％；ＶＨＲ−２＝９８．３％；ＶＨＲ−３＝９８．３％．
本願記載のＰＶＡ素子における応答時間はτ＝４．９ｍｓであった。【０２８５】
実施例Ｍ１から実施例Ｍ３５の組成物は、比較例Ｍ１のそれと比べて短い応答時間を有する。よって、本発明による液晶組成物は、比較例Ｍ１に示された液晶組成物よりも、さらに優れた特性を有する。
【産業上の利用可能性】
【０２８６】
ネマチック相の高い上限温度、ネマチック相の低い下限温度、小さな粘度、適切な光学異方性、正または負に大きな誘電率異方性、大きな比抵抗、紫外線に対する高い安定性、熱に対する高い安定性などの特性において、少なくとも１つの特性あるいは２つ以上の適切な特性バランスを充足する液晶組成物特性を有し、かつＰＳＡ技術を適用した表示素子に好適な液晶組成物である。このような組成物を含有する液晶表示素子は、短い応答時間、大きな電圧保持率、大きなコントラスト比、長い寿命などを有するＡＭ素子となるので、液晶プロジェクター、液晶テレビなどに用いることができる。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【国際調査報告】
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