【事件の表示】
　特許第３０６３４６４号「ガラス基板周辺の現像方法とその現像液塗布装置」の請求項１に係る特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結　論】
　訂正を認める。
　特許第３０６３４６４号の請求項１に係る特許を維持する。
【理　由】
（１）手続の経緯
　特許第３０６３４６４号の請求項１に係る発明は、平成５年７月１５日に特許出願され、平成１２年５月１２日にその特許の設定登録がなされ、その後異議申立人北村二郎により特許異議の申立がなされ、取消理由通知がなされ、その指定期間内である平成１３年５月２２日に訂正請求がなされたものである。
　
（２）訂正の適否についての判断
　（ア）訂正の内容
訂正事項ａ
　特許請求の範囲の請求項１を、次のように訂正する。
「【請求項１】
　カラーフィルターの製造工程において、カラーレジスト成膜済ガラス基板周辺の余剰なレジスト膜に現像液を塗布し、周辺を現像する方法であって、前記カラーレジスト成膜済ガラス基板を水平状態に載置し、駆動モータにより２〜５０ｒｐｍで自動回転するスポンジ状の現像液塗布ローラにて、該ガラス基板の左右の縦側縁に部分的に現像液を塗布し現像する第１の現像工程と、前記と同仕様の現像液塗布ローラにて、前記カラーレジスト成膜済ガラス基板上下の両横側緑に部分的に現像液を塗布し現像する第２の現像工程とを施すことを特徴とするガラス基板周辺の現像方法。」
　
訂正事項ｂ
　明細書の段落【０００６】を、次のように訂正する。
「【課題を解決するための手段】
　そこで本発明は課題を解決するために、カラーレジスト成膜済ガラス基板周辺の余剰なレジスト膜に現像液を塗布し現像する方法であって、前記カラーレジスト成膜済ガラス基板を水平状態に載置し、駆動モータにより２〜５０ｒｐｍで自動回転するスポンジ状の現像液塗布ローラにて、該ガラス基板の左右の縦側縁（ｅ，ｅ）に部分的に現像液を塗布し現像する第１の現像工程と、前記と同仕様の現像液塗布ローラにて、前記カラーレジスト成膜済ガラス基板上下の両横側縁（ｆ，ｆ）に部分的に現像液を塗布し現像する第２の現像工程とからなり、ガラス基板周辺の余剰なレジスト膜を除去するための現像方法である。」
　
訂正事項ｃ
　明細書の段落【００２０】中の「・・・２〜５０／ｒｐｍの自動回転が出来るように・・・」を、「・・・２〜５０ｒｐｍの自動回転が出来るように・・・」と訂正する。
　
　（イ）訂正の目的の適否、新規事項の有無及び拡張・変更の存否
　訂正事項ａに係る訂正は、特許請求の範囲の減縮に該当し、実質的に特許請求の範囲を拡張又は変更するものではないし、新規事項の追加にも該当しない。
　
　訂正事項ｂに係る訂正は、明瞭でない記載の釈明に該当し、実質的に特許請求の範囲を拡張又は変更するものではないし、新規事項の追加にも該当しない。
　
　訂正事項ｃに係る訂正は、誤記の訂正に該当し、実質的に特許請求の範囲を拡張又は変更するものではないし、新規事項の追加にも該当しない。　
　
　（ウ）むすび
　以上のとおりであるから、上記訂正は特許法等の一部を改正する法律（平成６年法律第１１６号）（以下「平成６年改正法」という。）附則第６条第１項の規定によりなお従前の例によるとされる、特許法第１２０条の４第３項において準用する平成６年改正法による改正前の特許法第１２６条第１項ただし書及び第２項の規定に適合するので、当該訂正を認める。
　
（３）特許異議の申立について
　（ア）申立の理由の概要
　申立人北村二郎は、証拠として甲第１号証（特開平５−１７５１１７号公報）、甲第２号証（特開平５−１１４５５５号公報）、甲第３号証〔特願平４−２８７０１３号（特開平６−１１８２２６号公報参照）〕、甲第４号証（特開平４−５１２０２号公報）、甲第５号証（特開昭６３−３０７７３４号公報）を提出し、本件請求項１に係る発明の特許は、甲第１及び２号証記載の発明に基づいて当業者が容易に発明することができたものであるので特許法第２９条第２項の規定に違反してなされたものであり、さらに、本件請求項１に係る発明の特許は、その出願の日前の出願であって、その出願後に出願公開された甲第３号証（特願平４−２８７０１３号）の願書に最初に添付した明細書又は図面に記載された発明と同一であると認められ、しかも、請求項１に係る発明の発明者が甲第３号証（特願平４−２８７０１３号）に記載された発明の発明者と同一であるとも、この出願の時において、その出願人が上記他の出願の出願人と同一であるとも認められないので、請求項１に係る発明の特許は特許法第２９条の２第１項の規定に違反してなされたものであるので、本件請求項１に係る発明の特許を取り消すべき旨主張している。
　
　（イ）本件請求項１に係る発明
　上記「（２）訂正の適否についての判断」で示したように上記訂正が認められるから、本件請求項１に係る発明は、上記訂正請求に係る訂正明細書の特許請求の範囲の請求項１に記載された事項により特定される次のとおりのものである。
「【請求項１】
　カラーフィルターの製造工程において、カラーレジスト成膜済ガラス基板周辺の余剰なレジスト膜に現像液を塗布し、周辺を現像する方法であって、前記カラーレジスト成膜済ガラス基板を水平状態に載置し、駆動モータにより２〜５０ｒｐｍで自動回転するスポンジ状の現像液塗布ローラにて、該ガラス基板の左右の縦側縁に部分的に現像液を塗布し現像する第１の現像工程と、前記と同仕様の現像液塗布ローラにて、前記カラーレジスト成膜済ガラス基板上下の両横側緑に部分的に現像液を塗布し現像する第２の現像工程とを施すことを特徴とするガラス基板周辺の現像方法。」
　
　（ウ）引用刊行物
　本件請求項１に係る発明に対して、当審が平成１３年３月１５日付で通知した取消理由（特許法第２９条の２第１項）で引用した特願平４−２８７０１３号〔甲第３号証（特開平６−１１８２２６号公報参照）〕の願書に最初に添付した明細書又は図面には、
「本発明は、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）用カラーフィルタの製造過程において、色材の塗膜上にレジストを塗布して露光，現像する工程で、現像前又はそれと併行してガラス基板端面に付着した残膜を除去する装置に関するものである。」（第２頁左欄第１７〜２１行）
　
「搬送路に載置された基板１１上に枠２が下降して基板１１のパターン部の両側がマスキングされる。次に、基板１１は搬送路を移動しながら希アルカリ液噴射ノズル４から基板１１の両側の端面部に希アルカリ液がかけられるが、この希アルカリ液としては、基板１１のパターン形成に使用する現像液である０．５〜１％程度の濃度の希アルカリ液よりも高濃度である０．５〜１０％程度の濃度のＮａＯＨ，ＫＯＨなどの水溶液を使用する。この希アルカリ液によって基板１１の端面の残膜は溶解，除去されるが、同時に純水噴射ノズル６によって枠２の内側下端に純水を噴射し、枠２の下端と基板１１の隙間からの希アルカリ液の浸入を防止し、基板１１のパターン部が希アルカリ液に侵されないように保護する。」（第２頁右欄第２〜１５行）
　
「このようにして、両側端面の残膜が除去された基板１１の他の両側端面の残膜を除去するには、その後の基板１１の搬送路を９０°曲げて基板１１をそのまま横に移動し、前記と同様な残膜除去装置をシリーズに設けて残膜の除去を行うか、又は搬送路はそのまま真直ぐにしておき、前記と同様な残膜除去装置を９０°向きを変えてシリーズに設けて残膜の除去を行う。上記の残膜除去は、露光後の基板１１の現像前又はこれと併行して行われるが、現像前の場合には次の現像工程で除去できる程度に残膜が薄くなっていればよい。また、残膜除去は、テストによれば１０秒程度の短時間で可能であるため、現像工程内で行うことができ、この装置のインライン化も可能である。」（第２頁右欄第２１〜３３行）が記載されている。
　
　本件請求項１に係る発明に対して、同日付取消理由（特許法第２９条第２項）で引用した刊行物１〔甲第１号証（特開平５−１７５１１７号公報）〕には、
「本発明は、回転塗布によって、フォトレジスト塗布液や感光性ポリイミド樹脂やカラーフィルター用の染色剤といった薄膜が表面に形成された液晶用のガラス基板やフォトマスク用のガラス基板などの角型基板に対し、その薄膜形成後の角型基板の端縁に溶剤を吐出して、角型基板端縁の不要薄膜を溶解除去する基板端縁洗浄装置に関する。」（第２頁左欄第１４〜２０行）
　
「また、染色剤を溶解する場合には、３０〜６０℃の温湯や、メタノール、エタノール、プロパノールなどの低級アルコールや、アセトンなどを用いることができ、」（第２頁右欄第４６〜４９行）
　
「【００２５】以上の構成により、図４の（ａ）の概略平面図に示すように、回転塗布によって表面に薄膜が形成された角型基板１を基板保持手段２に保持させ、角型基板１の短辺を洗浄具本体１８の移動方向と平行になる姿勢にし、その状態で、溶剤とガスを吐出しながら洗浄具本体１８を移動させ、角型基板１の短辺側の表裏両面と周端面の不要薄膜を溶解除去する。図中斜線部分Ｃが、不要薄膜を溶解除去した箇所を示している。
【００２６】次いで、図４の（ｂ）の概略平面図に示すように、角型基板１を９０゜回転させて角型基板１の長辺を洗浄具本体１８の移動方向と平行になる姿勢にするとともに、位置調整手段２０により洗浄具本体１８を角型基板１に近づく所定位置まで移動し、その状態で、前述の場合と同様にして、溶剤とガスを吐出しながら洗浄具本体１８を移動させ、角型基板１の長辺側の表裏両面と周端面の不要薄膜を溶解除去する。更に、９０゜回転させるとともに位置調整手段２０により洗浄具本体１８を所定位置まで移動し、同様にして、残りの短辺部分および長辺部分の表裏両面と周端面の不要薄膜を溶解除去し、角型基板１の端縁全周の不要薄膜を溶解除去する。」（第４頁左欄第２５〜４４行）が記載されている。
　
　同刊行物２〔甲第２号証（特開平５−１１４５５５号公報）〕には、
「本実施例において処理対象となる被処理体としては図４に示すように矩形状、すなわち４角形状に成形されたＬＣＤ基板１０が使用され、この基板１０の表面全体に渡って塗布されたフォトレジスト４のうち基板の周辺部１１に形成された不要なフォトレジスト４ａが本発明の除去装置により除去されることになる。」（第２頁右欄第３２〜３８行）
　
「以上のようにして、基板周辺部１１の収容が完了したならば、次に、フォトレジスト除去ユニット８を基板周辺部１１に沿って走査しつつ、各溶剤吐出手段１４のニードル管１２から溶剤を噴射乃至吐出すると共に、吸引装置２６を駆動して吸引手段１６の吸引管２２内の雰囲気を吸引する。これにより、ニードル管３０から噴射された溶剤１２は基板周辺部１１に噴き付けられ、ここに位置するフォトレジスト４ａ及び盛り上がり部６を溶解しつつ吸引管２２内へ吸引され、不必要なフォトレジストが除去されることになる。このようにして周辺部１１の対向する一対の辺のフォトレジスト除去操作が完了したならば、一旦フォトレジスト除去装置８を基板１０から離間させて、この状態で回転機構３６を９０°回転することにより基板１０を９０°回転し、再度同じような除去操作を繰り返して行って、他の対向する一対の辺のフォトレジスト除去操作を完了し、最終的に基板１０の全周辺部１１に位置する不要なフォトレジストを除去する。」（第３頁右欄第３６行〜第４頁左欄第３行）が記載されている。
　
　同刊行物３〔甲第５号証（特開昭６３−３０７７３４号公報）〕には、
「すなわち、被現像膜を現像液で最深部まで湿潤させた後、被現像膜に現像液を撒布することにより、湿潤された被現像膜を完全に除去するようにしたものである。
〔作用〕
　現像液の被現像膜への溶け込み速度は、現像液と同質である被現像膜中の溶媒の現像液への溶け出し速度よりも早い。したがって、被現像膜は溶媒の溶け出しによって表面から徐々に削減されて行くが、現像液の溶け込み速度の方が早いため、現像液によって最深部まで早く湿潤されることになる。
　そして、この湿潤された状態は粘度がきわめて低下された状態であって、小さな機械力によって容易に剥離される状態である。したがって、湿潤された被現像膜に現像液が撒布されると、その衝撃力によって、湿潤された被現像膜は剥離されることになる。」（第２頁左下欄第２０行〜同頁右下欄第１７行）
　
「例えば、感光性ポリイミド膜において温度が高く膜厚が薄い領域では現像作用が早く進行することにより、感光性ポリイミド膜が短時間に消失してその周辺部についての侵蝕（所謂オーバエッチング現象）が進行する傾向になるのに対し、低温で膜厚が厚い領域では現像作用が遅行することにより、感光性ポリイミド膜が残存する傾向になる。したがって、高温下で短時間に処理された場合、低温で膜厚が厚い領域では感光性ポリイミド膜が残存してしまい、高温下で比較的長く処理された場合、高温で膜厚が薄い領域ではオーバエッチング現象が発生してしまう。したがって、処理温度が高く設定された場合、その温度に対応する処理時点において被現像物と現像液との接触を確実に断つ必要があり、処理時間に対する余裕、所謂マージンがきわめて少なくなる。」（第５頁右上欄第１０行〜同頁左下欄第５頁）が記載されている。
　
なお、甲第４号証（特開平４−５１２０２号公報）には、
「その上に、赤色感光性樹脂を１．２μｍの膜厚になるように塗布し、その後温度７０℃で３０分間オーブン中で乾燥させ、水銀ランプを用いて露光し、水によるスプレー現像を１分間行い、赤色画素を形成すべき領域に赤色のレリーフ画像を形成し、さらに１５０℃で３０分間、加熱硬化させた。」（第６頁左上欄第２〜７行）が記載されている。
　
　（エ）対比・判断
（特許法第２９条の２第１項について）
　本件請求項１に係る発明と上記特願平４−２８７０１３号（甲第３号証）に記載の発明とを対比すると、特願平４−２８７０１３号（甲第３号証）に記載の発明は、本件請求項１に係る発明を特定する事項である「駆動モータにより２〜５０ｒｐｍで自動回転するスポンジ状の現像液塗布ローラ」を備えておらず、この点が自明ないし技術常識であるとも言えず、本件請求項１に係る発明が、その出願の日前の出願であって、その出願後に出願公開された上記特願平４−２８７０１３号（甲第３号証）の願書に最初に添付した明細書又は図面に記載された発明と同一であるとは認められない。
　
（特許法第２９条第２項について）
　本件請求項１に係る発明と上記刊行物１〜３（甲第１、２及び５号証）に記載の発明とを対比すると、刊行物１〜３に記載の発明は、本件請求項１に係る発明を特定する事項である「駆動モータにより２〜５０ｒｐｍで自動回転するスポンジ状の現像液塗布ローラ」を備えておらず、この点により本件請求項１に係る発明は、明細書記載の「スポンジ状の現像液塗布ローラが、現像液を吸収、保持し、しかも、ガラス基板周辺に接触してもレジスト膜を傷つけない」という効果、及び、平成１３年５月２２日付特許異議意見書第４頁第１９〜２１行に記載の「スポンジ状の塗布ローラを回転させながら残膜に軽く接触するように現像液を供給することで、接触という物理的な力が作用し、効率よく残膜を除去できる」という効果を奏するものであり、本件請求項１に係る発明が上記刊行物１〜３のいずれかに記載された発明であるとも、刊行物１〜３に記載の発明から容易に推考することができたものともいえない。
　
　（オ）むすび
　以上のとおりであるから、特許異議の申立の理由及び証拠によっては、本件請求項１に係る発明についての特許を取り消すことはできない。
　また、他に本件請求項１に係る発明についての特許を取り消すべき理由を発見しない。
　したがって、本件請求項１に係る発明についての特許は拒絶の査定をしなければならない特許出願に対してされたものと認めない。
　よって、特許法等の一部を改正する法律（平成６年法律第１１６号）附則第１４条の規定に基づく、特許法等の一部を改正する法律の施行に伴う経過措置を定める政令（平成７年政令第２０５号）第４条第２項の規定により、結論のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１３年７月１８日（２００１．７．１８）
【訂正の要旨】
　（訂正の要旨）
訂正事項ａ
　特許請求の範囲の請求項１を、次のように訂正する。
「【請求項１】
　カラーフィルターの製造工程において、カラーレジスト成膜済ガラス基板周辺の余剰なレジスト膜に現像液を塗布し、周辺を現像する方法であって、前記カラーレジスト成膜済ガラス基板を水平状態に載置し、駆動モータにより２〜５０ｒｐｍで自動回転するスポンジ状の現像液塗布ローラにて、該ガラス基板の左右の縦側縁に部分的に現像液を塗布し現像する第１の現像工程と、前記と同仕様の現像液塗布ローラにて、前記カラーレジスト成膜済ガラス基板上下の両横側緑に部分的に現像液を塗布し現像する第２の現像工程とを施すことを特徴とするガラス基板周辺の現像方法。」
訂正事項ｂ
　明細書の段落【０００６】を、次のように訂正する。
「【課題を解決するための手段】
　そこで本発明は課題を解決するために、カラーレジスト成膜済ガラス基板周辺の余剰なレジスト膜に現像液を塗布し現像する方法であって、前記カラーレジスト成膜済ガラス基板を水平状態に載置し、駆動モータにより２〜５０ｒｐｍで自動回転するスポンジ状の現像液塗布ローラにて、該ガラス基板の左右の縦側縁（ｅ，ｅ）に部分的に現像液を塗布し現像する第１の現像工程と、前記と同仕様の現像液塗布ローラにて、前記カラーレジスト成膜済ガラス基板上下の両横側縁（ｆ，ｆ）に部分的に現像液を塗布し現像する第２の現像工程とからなり、ガラス基板周辺の余剰なレジスト膜を除去するための現像方法である。」
訂正事項ｃ
　明細書の段落【００２０】中の「・・・２〜５０／ｒｐｍの自動回転が出来るように・・・」を、「・・・２〜５０ｒｐｍの自動回転が出来るように・・・」と訂正する。
（５４）【発明の名称】
ガラス基板周辺の現像方法とその現像液塗布装置
（５７）【特許請求の範囲】
　【請求項１】
　カラーフィルターの製造工程において、カラーレジスト成膜済ガラス基板周辺の余剰なレジスト膜に現像液を塗布し、周辺を現像する方法であって、前記カラーレジスト成膜済ガラス基板を水平状態に載置し、
駆動モータにより２〜５０ｒｐｍで自動回転するスポンジ状の現像液塗布ローラにて、該ガラス基板の左右の縦側縁に部分的に
前記と同仕様の現像液塗布ローラにて、
両横側縁に部分的に
　【請求項２】
　カラーフィルターの製造工程において、ローラコンベアに水平に載置して右側方向に搬送されるカラーレジスト成膜済ガラス基板周辺の余剰なレジスト膜に、現像液を塗布するガラス基板周辺の現像液塗布装置であって、前記現像液塗布装置が、ローラコンベア下側に上下動可能な基板ステージと、上側には、支持シャフトの両端に現像液塗布ローラを有する現像ユニットを、ローラコンベアの搬送ローラと直交する方向に移動可能に備えて、該ガラス基板の進行方向左右の縦側縁を処理する第１の現像液塗布手段と、支持シャフトの両先端に現像液塗布ローラを有する現像ユニットを、ローラコンベアの搬送ローラに対し平行する位置に固定して、該ガラス基板の進行方向上下の両横側縁を処理する第２の現像液塗布手段とを具備したことを特徴とするガラス基板周辺の現像液塗布装置。
【発明の詳細な説明】
　【０００１】
　【産業上の利用分野】
　本発明は、カラーフィルターの製造工程において、カラーレジストの成膜の際にガラス基板の周辺部にできる余剰なカラーレジスト膜に、現像液を塗布して、次の現像工程でのレジスト残りを防止するガラス基板周辺の現像方法とその現像液塗布装置に関する。
　【０００２】
　【従来の技術】
　従来から、カラーフィルターの製造方法として、染色法、印刷法、顔料分散法が知られている。このなかで顔料分散法によるカラーフィルターの製造工程は、例えば、アクリル系樹脂に顔料を分散したカラーレジスト溶液を、ガラス基板上にスピンナコーティング法により塗布し、加熱乾燥してカラーレジスト層を形成して、その上に光硬化性を促進するための酸素遮断膜として、ＰＶＡ溶液をスピンナコーティングにより塗布し（図示はせず）、加熱乾燥する。次に、マスクパターンの露光焼付をして、炭酸ソーダ水溶液等により現像を行い、未露光部分のカラーレジスト層を取り除き、加熱乾燥してカラーフィルターパターンを形成していたものである。
　【０００３】
　しかしながら、カラーレジスト溶液のスピナコーティング法による塗工の欠点として、膜厚が厚くなる部分ができる。例えば、図４に示すように、ガラス基板（１０）（以下、レジスト層成膜済ガラス基板も含む）の周辺や端面に、スピンナコーティングの際、カラーレジスト溶液が遠心力により集まり、この余分なカラーレジスト溶液を完全に取り除くことができずに、加熱乾燥によってガラス基板周辺や端面に、丘陵状に成膜された余剰なカラーレジスト層（Ｒ，Ｒ）が形成される。更に、この状態で酸素遮断膜のＰＶＡ溶液を前記のスピンナコーティング法により塗工すると、ガラス基板周辺は一段と厚膜となって成膜されていた。
　【０００４】
　【発明が解決しようとする課題】
　上記に述べたように、この状態で露光焼付、現像を行うと、ガラス基板周辺部の丘陵状の余剰なカラーレジスト層（Ｒ，Ｒ）は現像されずに部分的に残ってしまう。このためレッド、グリーン、ブルーのカラーレジストを用いてパターン形成を繰り返すカラーフィルターの製造工程において、大きな障害となっていた。このため現像時間を延ばしたり、現像液濃度を上げるなどして取り除こうとすると、カラーレジスト層のパターン（１２）部分が侵されて鮮明なパターンを得ることができず、従って、現像時間を抑えなければならず、ガラス基板周辺の余剰なカラーレジスト層（Ｒ１）が残ってしまった。
　【０００５】
　そこで本発明は、ガラス基板の周辺部の余剰なレジスト膜を除去するために、ガラス基板周辺に予め現像液又はそれに類する薬液を塗布し、現像を先行させるガラス基板周辺の現像方法とその現像液塗布装置を提供するものである。
　【０００６】
　【課題を解決するための手段】
　そこで本発明は課題を解決するために、カラーレジスト成膜済ガラス基板周辺の余剰なレジスト膜に現像液を塗布し現像する方法であって、前記カラーレジスト成膜済ガラス基板を水平状態に載置し、
駆動モータにより２〜５０ｒｐｍで自動回転するスポンジ状の現像液塗布ローラにて、該ガラス基板の左右の縦側縁（ｅ，ｅ）に部分的に
前記と同仕様の現像液塗布ローラにて、
両横側縁（ｆ，ｆ）に部分的に
　【０００７】
　また、カラーフィルターの製造工程において、ローラコンベアに水平に載置されて、右側方向に搬送されるカラーレジスト成膜済ガラス基板周辺の余剰なレジスト膜（Ｒ，Ｒ）に、現像液を塗布するガラス基板周辺の現像液塗布装置であって、前記現像液塗布装置が、ローラコンベア（２０）下側に上下動可能とした基板ステージ（３０）と、上側には、支持シャフト（２４）の両先端に現像液塗布ローラ（２２，２２）を有する現像ユニット（２５）を、ローラコンベア（２０）の搬送ローラ（２１）と直交する方向に移動可能に備えて、該ガラス基板の進行方向左右の縦側縁（ｅ，ｅ）を処理する第１の現像液塗布手段と、支持シャフト（２４ａ）の両端に現像液塗布ローラ（２２ａ，２２ａ）を有する現像ユニット（２５ａ）を、ローラコンベアの搬送ローラ（２１）に対し平行する位置に固定して、該ガラス基板の進行方向上下の両横側縁（ｆ，ｆ）を処理する第２の現像液塗布手段とを具備したことを特徴とするガラス基板周辺の現像液塗布装置（５０）である。
　【０００８】
　【作用】
　本発明の請求項１に係わる作用は、スピンナコーティング法によるカラーレジスト成膜の際、ガラス基板周辺に形成される丘陵状の余剰なレジスト膜（Ｒ，Ｒ）に現像液を塗布すると、ガラス基板周辺のレジスト膜が膨潤して一部分が先に現像されて、カラーフィルター製造工程における本現像を行うと、ガラス基板周辺の余剰なレジスト膜が未露光レジスト膜と同時に現像除去されて、余剰なレジスト膜が残らない。
　【０００９】
　本発明の請求項２に係わる作用は、ローラコンベア上を搬送されるカラーレジスト成膜済のガラス基板（１０）が、最初の現像ユニット（２５）の位置に入ると、ローラコンベア（２０）下側から基板ステージ（３０）が上昇してガラス基板を停止させ支持すると共に、ガラス基板の進行方向左右の縦側縁（ｅ，ｅ）を上部の現像液塗布ローラ（２２，２２）に接触するまで上昇させ、現像ユニット（２５）がローラコンベア（２０）の反対側の端縁まで直交移動して、塗布ローラ（２２，２２）が現像液を塗布する。現像ユニット（２５）の往路移動が終了し停止すると、基板ステージ（３０）が下降してガラス基板（１０）はローラコンベア（２０）上に再び載置され、搬送ローラ（２１）と平行の位置に固定された第２現像ユニット（２５ａ）の下に搬送され現像液塗布ローラ（２２ａ，２２ａ）と接触しながら、ガラス基板の進行方向上下の横側縁（ｆ，ｆ）に現像液を塗布する機構となっている。
　【００１０】
　【実施例】
　本発明を図に基づき説明する。
　図１は、本発明の実施例に係わるカラーレジスト膜を予め周辺現像を行い、次の本現像工程でガラス基板周辺の余剰なレジスト膜を完全に除去したカラーフィルター製造の説明図である。
　【００１１】
　本発明は、スピンナコーティング法によりカラーレジストを塗布し、プレベークされ成膜、露光済のガラス基板周辺の丘陵状の余剰なレジスト膜（Ｒ，Ｒ）に対して、本現像に入る前に、ガラス基板周辺や端面に現像液を塗布し現像する方法とその現像液塗布装置である。
　【００１２】
　本発明の現像方法は、単独で余剰レジスト膜を除去し得るものではなく、ガラス基板周辺部や端面部に現像液を塗布し、周辺の一部分もしくは大部分を現像して、直後に実施する本現像工程との相乗効果により余剰なレジスト膜を除去するものである。従って、現像液又はそれに類する薬液を使用することが望ましい。例えば、無機アルカリ現像液（炭酸カルシュウム等）、有機アルカリ現像液（アミン等）、又はそれらに５〜５０％の低級アルコール（エタノール、ＩＰＡ等）を添加すると有効である。
　【００１３】
　上記の現像液を用いて、先ず、カラーレジスト成膜、露光済のガラス基板（１０）を上面から見て（図示はせず）、左右の縦側縁（ｅ，ｅ）に現像液を塗布し、次に上下（天地）の両横側縁（ｆ，ｆ）に現像液を塗布すると、ガラス基板周辺の丘陵状になった余剰なレジスト膜（Ｒ，Ｒ）が膨潤し、この余剰なレジスト膜の現像が先行して、次の本現像工程において周辺や端面のレジスト膜を完全に除去すると共に、ガラス基板の未露光部分の現像を行いパターン（１２）を形成する。従って、本現像の時間を延ばしたり、現像液濃度を上げる等の処置をする必要はなかった。
　【００１４】
　図２は、本発明の現像液塗布装置の概略上面図であり、また図３は、現像液塗布装置の概略側面図（Ａ）とこの装置による現像液塗布方法を示す説明図（Ｂ）である。
　【００１５】
　本発明の現像液塗布装置（５０）は、レジスト塗布、プレベーク、露光、本現像、ポストベークの順に従いガラス基板が搬送されるカラーフィルター製造工程において、露光工程と本現像工程間のローラコンベア（２０）上に設置する。
　この装置は、第１及び第２現像ユニット（２５，２５ａ）からなり、いずれもコ字状の支持シャフト（２４，２４ａ）先端部に、駆動モータ（２３，２３ａ）により回転を可能とした現像液塗布ローラ（２２，２２ａ）を設け、この塗布ローラに支持シャフトを介して現像液を滴下するための現像液供給管（２６，２６ａ）を設ける。また、処理を行うカラーレジスト成膜済ガラス基板と現像液塗布ローラの間隔を調整する調節ネジ（Ｔ，Ｔ）を支持シャフトに設け、現像液は調整弁（Ｃ，Ｃ）により滴下量をコントロールする機構になっている。
　この現像ユニット（２５，２５ａ）に装着する現像液塗布ローラ（２２，２２，２２ａ，２２ａ）は、現像液を吸収、保持することが必要で、しかも、ガラス基板（１０）周辺に接触してもレジスト膜（１１）を傷つけないようなスポンジ状のローラが好適である。
　【００１６】
　図２、図３に示すとおり、第１現像ユニット（２５）は、ローラコンベア（２０）と直交する一方の側縁に設置したもので、しかもエアーシリンダ（図示はせず）等によりローラコンベアの搬送ローラ（２１）と直交する方向に移動可能としたものである。また、この現像ユニット（２５）の下方でローラコンベア（２０）の下側に、オイルシリンダ（３１）等により上下動可能な基板ステージ（３０）を設けたもので、この基板ステージ（３０）が上昇する場合は、搬送ローラ（２１）の間からステージ面（ｇ，ｇ）が突出するようになっている。
　【００１７】
　次に、第２現像ユニット（２５ａ）は、第１現像ユニット（２５）と同様の構造であるが、この第２現像ユニット（２５ａ）は、ローラコンベア（２０）の搬送ローラ（２１）に対して平行する方向の位置に固定して設置したものである。
　【００１８】
　この現像液塗布装置（５０）によるガラス基板（１０）周辺の現像液塗布方法は、図３に示すように、カラーレジスト成膜、露光済のガラス基板（１０）がローラコンベア上を搬送されて、先ず、第１現像ユニット（２５）の位置にくると、ストッパーにより基板が停止すると同時に、下側から基板ステージ（３０）が上昇して、ガラス基板を押し上げ支持する。上昇したガラス基板（１０）の側縁が塗布ローラ（２２，２２）に接触すると同時に、現像ユニット（２５）がローラコンベアの反対側に移動して停止する。その移動の際に、現像液塗布ローラはガラス基板進行方向（図の右側方向）の左右の縦側縁（ｅ，ｅ）に、現像液を塗布しながら移動する。
　この現像ユニット（２５）が移動して塗布が終了すると、基板ステージ（３０）が下降し、搬送ローラ（２１）上にガラス基板（１０）が再び載置されて、基板は前進（図の右方向）して第２現像ユニット（２５ａ）の下に搬送される。
　【００１９】
　次に、搬送されたガラス基板（１０）は、搬送されながら第２現像ユニット（２５ａ）を通過する。この通過の際に、ガラス基板の進行方向上下の両横側縁（ｆ，ｆ）が現像液塗布ローラ（２２ａ，２２ａ）と接触して通過することで現像液が塗布される。この際、第１の現像ユニット（２５）には次のガラス基板が搬送され、基板ステージが再び上昇し、ガラス基板を支持すると、現像ユニットは元の位置（復路）に戻りながら現像液をガラス基板の進行方向上下の横側縁（ｆ，ｆ）に塗布し現像するライン機構となっている。
　【００２０】
　尚、第１、第２現像ユニットの各塗布ローラ（２２，２２，２２ａ，２２ａ）は、駆動モータ（２３，２３ａ）により
２〜５０ｒｐｍ
　【００２１】
　【発明の効果】
　本発明は、スピンナコーティング法によるカラーレジスト成膜の際に、ガラス基板周辺や端面に形成される余剰な丘陵状のレジスト膜を、塗布ローラで幅狭範囲のみに施す現像液による現像と、次の本現像工程の相乗効果により完全に除去して、カラーフィルター製造工程の障害を取り除いたものである。従って、本現像液の濃度を上げたり、現像時間を延ばしたりする必要がなく、また、別な工程でレジスト残りの除去作業をする必要がなくなり、これら余剰なレジスト膜の除去工程をカラーフィルター製造工程のインラインで自動的に行うので生産効率が向上する。
【図面の簡単な説明】
　【図１】
　本発明の実施例に係わるカラーレジスト膜を予め周辺現像を行い、次の本現像工程でガラス基板周辺の余剰なレジスト膜を完全に除去したカラーフィルター製造の説明図である。
　【図２】
　本発明の現像液塗布装置の上面の説明図である。
　【図３】
　本発明の現像液塗布装置の概略側面図（Ａ）とこの装置による現像液塗布方法の説明図（Ｂ）である。
　【図４】
　カラーフィルターの一例を示す説明図である。
　【符号の説明】
１０　…ガラス基板（レジスト成膜済のガラス基板も含む）
１１　…レジスト層
１２　…パターン層
２０　…ローラコンベア
２１　…搬送ローラ
２２，２２ａ…　現像液塗布ローラ
２３，２３ａ…　駆動モータ
２４，２４ａ…　支持シャフト
２５，２５ａ…　第１、第２現像ユニット
２６　…現像液供給管
３０　…基板ステージ
３１　…オイルシリンダ
ｅ　　…ガラス基板左右の縦側縁
ｆ　　…ガラス基板上下の両横側縁
ｇ　　…基板ステージ面
Ｃ　　…調整弁
Ｔ　　…調節ネジ
Ｒ，Ｒ１…余剰なレジスト膜