【事件の表示】
　特願２０１７−５２６９４４号「流体取扱構造、リソグラフィ装置及びデバイス製造方法」拒絶査定不服審判事件〔平成２８年６月２３日国際公開、ＷＯ２０１６／０９６５０８号、平成２９年１２月２１日国内公表、特表２０１７−５３８１５９号〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
第１　手続の経緯
　本願は、２０１５年１２月７日（パリ条約による優先権主張　外国庁受理　２０１４年１２月１９日、欧州特許庁）を国際出願日とする出願であって、平成２９年７月１３日に国際出願翻訳文（特許請求の範囲、明細書及び図面）が提出され、平成３０年５月１４日付けで拒絶理由が通知され、同年８月８日付けで意見書が提出されるとともに同日に手続補正がなされたが、平成３１年１月７日付け（送達日　同年同月９日）で拒絶査定がなされ、これに対し、平成３１年４月２５日に拒絶査定不服審判請求がなされるとともに、同時に手続補正がなされたものである。
　
第２　平成３１年４月２５日になされた手続補正（以下「本願補正」という。）についての補正の却下の決定
［補正の却下の決定の結論］
　本願補正を却下する。
　
［理由］
１　補正の内容
　本願補正は、補正前（平成３０年８月８日の手続き補正によるもの）の特許請求の範囲の請求項１につき、
「【請求項１】
　液浸流体を空間に収容するように構成された流体取扱構造を含む液浸システムであって、前記流体取扱構造は、前記空間の境界において、
　前記空間から半径方向外側の方向に少なくとも１つのガスナイフ開口と、
　前記空間に対して前記少なくとも１つのガスナイフ開口から半径方向外側の方向に少なくとも１つのガス供給開口と、を有し、
　前記液浸システムは、
　前記少なくとも１つのガスナイフ開口及び前記少なくとも１つのガス供給開口を介して実質的に純粋なＣＯ２ガスを供給して実質的に純粋なＣＯ２ガスの大気を前記空間の近くかつ前記空間の半径方向外側に提供するように構成されたガス供給システムを更に含む、液浸システム。」
とあったものを、
「【請求項１】
Ａ　液浸流体を空間に収容するように構成された流体取扱構造を含む液浸システムであって、前記流体取扱構造は、前記空間の境界において、
Ｂ　前記空間から半径方向外側の方向に少なくとも１つのガスナイフ開口と、
Ｃ　前記空間に対して前記少なくとも１つのガスナイフ開口から半径方向外側の方向に少なくとも１つのガス供給開口
であって、前記少なくとも１つのガスナイフ開口を囲むように平面視において閉じた形を形成する、少なくとも１つのガス供給開口
Ｄ　前記液浸システムは、
Ｅ　前記少なくとも１つのガスナイフ開口及び前記少なくとも１つのガス供給開口を介して実質的に純粋なＣＯ２ガスを供給して実質的に純粋なＣＯ２ガスの大気を前記空間の近くかつ前記空間の半径方向外側に提供するように構成されたガス供給システムを更に含む、
Ｆ　液浸システム。」（以下「本願補正発明」という。）
に補正する内容を含むものである（下線は請求人が付したものに基づいて当審が付したものであって、補正箇所を示すものである。また、Ａ〜Ｆは、本願補正発明を分説するために当審で付した。）。
　
２　補正の目的
（１）本願補正は、補正前の請求項１において、「少なくとも１つのガス供給開口」に関して、「前記少なくとも１つのガスナイフ開口を囲むように平面視において閉じた形を形成する」との限定を付加するものである。
　
（２）上記補正について検討する。
　上記（１）の補正は限定を付加するものであるから、当該補正は特許法第１７条の２第５項第２号に掲げる特許請求の範囲の減縮を目的とするものに該当する。
　
３　独立特許要件について
　そこで、本願補正発明が、特許出願の際独立して特許を受けることができるものであるかどうか（特許法第１７条の２第６項において準用する同法第１２６条第７項に規定する要件を満たすか否か）について検討する。
（１）本願補正発明の認定
　本願補正発明は、上記「１」において、本願補正後のものとして記載したとおりのものと認める。
　
（２）刊行物の記載
ア　引用文献１及び引用発明１について
（ア）原査定の拒絶理由に引用された、本願の優先日前に電気通信回線を通じて公衆に利用可能となつた国際公開第２０１４／１０４１３９号（以下「引用文献１」という。）には、下記の事項が記載されている（下線は当審が付した。以下同じ。）。
（ａ）「［０００１］　本発明は、液浸部材、露光装置、露光方法、デバイス製造方法、プログラム、及び記録媒体に関する。」
　
（ｂ）「［００３１］＜第１実施形態＞
　第１実施形態について説明する。図１は、
第１実施形態に係る
液体ＬＱを介して露光光ＥＬで基板Ｐを露光する液浸露光装置であ
基板Ｐに照射される露光光ＥＬの光路が液体ＬＱで満たされるように液浸空間ＬＳが形成され
液浸空間ＬＳとは、液体で満たされた部分（空間、領域）をい
　
（ｃ）「［００５９］　
液浸部材５は、露光光ＥＬの光路の周囲の少なくとも一部に配置される第１部分２１１を含む第１部材２１と、少なくとも一部が光路Ｋに対して第１部分２１１の外側に配置される第２部材２２とを有
　
（ｄ）「［０１１２］　
液浸部材５は、液体ＬＱを供給可能な第１液体供給部４１、第２液体供給部４２、及び第３液体供給部４３と、液体ＬＱを回収可能な第１液体回収部５１、第２液体回収部５２、及び第３液体回収部５３と、気体を供給可能な第１気体供給部６１とを備え
　
（ｅ）「［０１３７］　
第１気体供給部６１は、第２部材２２に
第２開口部３０の周囲の少なくとも一部に
第２空間ＳＰ２に面するように
下面３１に配置され
［０１３８］　本実施形態において、第１気体供給部６１は、下面３１に配置され、
気体Ｇを供給可能な開口（第１気体供給口）６１Ｍを含
光路Ｋを囲むように
光路Ｋの周囲において間隔をあけて複数配置され
複数の第１気体供給口６１Ｍは、ＸＹ平面内において四角形の仮想線に沿うように
（途中省略）
［０１４０］　本実施形態において、第１気体供給部６１は、
光路Ｋ（光軸ＡＸ）に対する放射方向に関して、第１液体回収部５１の外側に配置され
　
（ｆ）「［０１６０］　また、本実施形態においては、第１液体供給部４１、第２液体供給部４２、及び第３液体供給部４３からの少なくとも一つの液体ＬＱの供給動作、及び第１液体回収部５１からの液体ＬＱの回収動作と並行して、第１気体供給部６１からの気体Ｇの供給動作が実行される。
第１気体供給部６１は、液浸空間ＬＳの外側で、気体Ｇを供給することができ
第１気体供給部６１から供給された気体Ｇにより、液浸空間ＬＳの外側にガスシールが形成される
これにより、第２空間ＳＰ２の液体ＬＱが、第２空間ＳＰ２から流出することが抑制され
　
（ｇ）「［０２９５］＜第５実施形態＞
　第５実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。
［０２９６］　図１９は、本実施形態に係る第２部材２２Ｅの一例を示す図である。図１９（Ａ）に示すように、
終端光学素子１３の光軸ＡＸに対する放射方向に関して第１気体供給部６１の外側に、第２気体供給部６２が配置され
第２気体供給部６２は、第２部材２２の下面３１に配置され
第２気体供給部６２から供給される気体Ｇによって、第２空間ＳＰ２からの液体ＬＱの流出が抑制され
　
（ｈ）「［０３２５］　なお、上述の
第１
実施形態において、
（途中省略）
［０３３７］また、
上述の各実施形態において、
、気体供給部（６１など）から二酸化炭素を含む気体（炭酸ガス）を供給し
　
（ｉ）図３、４及び１９は次のものである。
　
　
　
（ｊ）上記（ａ）ないし（ｈ）の記載の、特に「基板Ｐに照射される露光光ＥＬの光路が液体ＬＱで満たされるように液浸空間ＬＳが形成される。液浸空間ＬＳとは、液体で満たされた部分（空間、領域）をいう。」（上記（ｂ）［００３１］）との記載を踏まえて、上記（ｉ）の図３及び１９を見ると、当該液体ＬＱで満たされる液浸空間ＬＳと第１気体供給部６１（第１気体供給口６１Ｍ）の間にメニスカスがあり、液体ＬＱで満たされる液浸空間ＬＳの境界を形成していることが見てとれる。
　また、上記（ａ）ないし（ｈ）の、特に「第１気体供給部６１は、下面３１に配置され、気体Ｇを供給可能な開口（第１気体供給口）６１Ｍを含む。図４に示すように、第１気体供給口６１Ｍは、下面３１に複数配置される。第１気体供給口６１Ｍは、光路Ｋを囲むように複数配置される。第１気体供給口６１Ｍは、光路Ｋの周囲において間隔をあけて複数配置される。本実施形態において、複数の第１気体供給口６１Ｍは、ＸＹ平面内において四角形の仮想線に沿うように配置される。」（上記（ｅ）［０１３８］）及び「第１気体供給部６１は、光路Ｋ（光軸ＡＸ）に対する放射方向に関して、第１液体回収部５１の外側に配置され」（上記（ｅ）［０１４０］）との記載を踏まえて、上記（ｉ）の図３及び４を見ると、第１気体供給部６１（第１気体供給口６１Ｍ）は、光路Ｋ（光軸ＡＸ）の周囲の液体ＬＱで満たされる液浸空間ＬＳから光軸ＡＸの放射方向を中心とする半径方向外側に位置していることが見てとれる。
　さらに同様に、上記（ａ）ないし（ｈ）の、特に「終端光学素子１３の光軸ＡＸに対する放射方向に関して第１気体供給部６１の外側に、第２気体供給部６２が配置されてもよい。」（上記（ｇ）［０２９６］）との記載と、上記（ｉ）の図３及び４における「終端光学素子１３の光軸ＡＸ」と「第１気体供給部６１（第１気体供給口６１Ｍ）」の位置を踏まえて、上記（ｉ）の図１９を見ると、少なくとも図１９に記載された第２気体供給部６２は、光路Ｋ（光軸ＡＸ）の周囲の液体ＬＱで満たされる液浸空間ＬＳから光軸ＡＸを中心にした第１気体供給部６１の半径方向外側に位置していることが見てとれる。
　そして、上記（ｅ）［０１３８］、［０１４０］、及び（ｇ）［０２９６］の記載を踏まえて、上記（ｉ）の図３、４及び１９を見ると、第１気体供給部６１（第１気体供給口６１Ｍ）及び第２気体供給部６２は、光路Ｋ（光軸ＡＸ）の周囲の液体ＬＱで満たされる液浸空間ＬＳから光軸ＡＸの放射方向を中心とする半径方向外側の領域に気体を提供していることが見てとれる。
　
（イ）引用発明１
　上記（ア）によれば、引用文献１には、次の発明（以下「引用発明１」という。）が記載されているものと認められる（なお、ａ１〜ｊ１は、引用発明１を分説するために当審で付した。）
「ａ１　液体を介して露光光で基板を露光する液浸露光装置であって（［００３１］）、
ｂ１　基板に照射される露光光の光路が液体で満たされるように液浸空間が形成され、液浸空間とは、液体で満たされた部分（空間、領域）をいい（［００３１］）、
ｃ１　液浸部材は、露光光の光路の周囲の少なくとも一部に配置される第１部分を含む第１部材と、少なくとも一部が光路に対して第１部分の外側に配置される第２部材とを有し（［００５９］）、
ｄ１　前記液浸部材は、液体を供給可能な第１液体供給部、第２液体供給部及び第３液体供給部と、液体を回収可能な第１液体回収部、第２液体回収部及び第３液体回収部と、気体を供給可能な第１気体供給部とを備え（［０１１２］）、
ｅ１　前記第１気体供給部は、第２部材に第２開口部の周囲の少なくとも一部に第２空間に面するように下面に配置され（［０１３７］）、気体を供給可能な開口（第１気体供給口）を含み、光路を囲むように光路の周囲において間隔をあけて複数配置され、前記複数の第１気体供給口は、ＸＹ平面内において四角形の仮想線に沿うように（［０１３８］）、光路（光軸）に対する放射方向に関して、第１液体回収部の外側に配置され（［０１４０］）、
ｆ１　前記第１気体供給部は、液浸空間の外側で、気体を供給することができ、第１気体供給部から供給された気体により、液浸空間の外側にガスシールが形成されることにより、第２空間の液体が、第２空間から流出することが抑制され（［０１６０］）、
ｇ１　終端光学素子の光軸に対する放射方向に関して第１気体供給部の外側に、第２気体供給部が配置され、前記第２気体供給部は、第２部材の下面に配置され、前記第２気体供給部から供給される気体によって、第２空間からの液体の流出が抑制され（［０２９６］）、
ｈ１　前記第１気体供給部から二酸化炭素を含む気体（炭酸ガス）を供給し（［０３３７］）、
ｉ１　前記液体で満たされる液浸空間と第１気体供給部（第１気体供給口）の間にメニスカスがあり、液体で満たされる液浸空間の境界を形成し、前記第１気体供給部（第１気体供給口）は、光路（光軸）の周囲の液体で満たされる液浸空間から光軸の放射方向を中心とする半径方向外側に位置し、前記第２気体供給部は、光路（光軸）の周囲の液体で満たされる液浸空間から光軸を中心にした第１気体供給部の半径方向外側に位置し、前記第１気体供給部（第１気体供給口）及び第２気体供給部は、光路（光軸）の周囲の液体で満たされる液浸空間から光軸の放射方向を中心とする半径方向外側の領域に気体を提供している（上記「（ア）」「（ｊ）」）、
ｊ１　液浸露光装置。」
　
イ　引用文献２及び引用発明２について
（ア）原査定の拒絶理由に引用された、本願の優先日前に電気通信回線を通じて公衆に利用可能となつた国際公開第２００６／１０１１２０号（以下「引用文献２」という。）には、下記の事項が記載されている。
（ａ）「［０００１］　本発明は、
液体を介して基板を露光する露光装置
　
（ｂ）「［００３８］　
ガスシール機構３
露光光ＥＬの光路空間Ｋ１に満たされた液体ＬＱをシールするために基板Ｐ上に気流を生成するものであって、投影光学系ＰＬの直下に配置される基板Ｐと対向するように設けられ、気流を生成するために基板Ｐに向けて気体を噴射する噴射口３２と、光路空間Ｋ１に対して噴射口３２より内側であって、基板Ｐと対向するように設けられ、気体を吸引する吸引口４２とを有している
（途中省略）
［００４２］　図３に示すように、
シール部材７０の下面７０Ａにおいて、光路空間Ｋ１に対して回収口２２よりも外側には、光路空間Ｋｌ、供給口１２、及び回収口２２を囲むように設けられた環状の第１溝部４５が設けられ
シール部材７０の下面７０Αにおいて、光路空間Ｋ１に対して第１溝部４５よりも外側には、第１溝部４５を囲むように設けられた環状の第２溝部３５が設けられ
噴射口３２は、第２溝部３５の内側に複数所定間隔で設けられ
噴射口３２は、吸引口４２の外側において、光路空間Ｋｌを囲むように複数設けられ
噴射口３２及び吸引口４２のそれぞれは平面視において略円形状であ
（途中省略）
［００４５］　
補償機構５は、ガスシール機構３により生成された気流に起因する基板Ｐの温度変化を補償するものであ
　
（ｃ）「［００５８］＜第２実施形態＞
　次に、第２実施形態について図５を参照しながら説明する。本実施形態の特徴的な部分は、
補償機構５が、光路空間Ｋ１に対して噴射口３２の外側に、気体を吹き出す吹き出し口３６を備えて
［００５９］　図５において、シール部材７０の下面７０Ａには、上述の実施形態同様、液体ＬＱを供給する供給口１２、及び液体ＬＱを回収する回収口２２のそれぞれが設けられている。なお図５では省略されているが、上述の実施形態同様、供給口１２は供給流路及び供給管１３を介して液体供給装置１０と接続されており、回収口２２は回収流路及び回収管２３を介して液体回収装置２０と接続されている。
［００６０］　シール部材７０の下面７０Ａにおいて、光路空間Ｋ１に対して回収口２２の外側には、気体を吸引する吸引口４２が設けられており、光路空間Ｋ１に対して吸引口４２の外側には、気体を噴射する噴射口３２が設けられている。上述の実施形態同様、吸引口４２は吸引流路４４及び吸引管４３を介して気体吸引装置４０と接続されており、噴射口３２は供給流路３４及び供給管３３を介して気体供給装置３０と接続されている。ここで、本実施形態においては、供給管３３の途中に設けられた気体温調装置５０は、噴射口３２から噴射される気体の温度と、光路空間Ｋ１に満たされた液体ＬＱの温度（基板Ｐの温度）とがほぼ等しくなるように、気体の温度を調整する。
［００６１］　
シール部材７０の下面７０Ａにおいて、光路空間Ｋ１に対して噴射口３２の外側には、気体を吹き出す吹き出し口３６が設けられ
吹き出し口３６は、シール部材７０の下面７０Ａにおいて、光路空間Ｋ１を囲むように設けられた環状の溝部内に複数配置され
　
（ｄ）図２、３及び５は次のものである。
　
　
　
（ｅ）上記（ａ）ないし（ｃ）の、特に「ガスシール機構３は、露光光ＥＬの光路空間Ｋ１に満たされた液体ＬＱをシールするために基板Ｐ上に気流を生成するものであ」（上記（ｂ）［００３８］）るとの記載を踏まえて、上記（ｄ）の図２、５を見ると、当該液体ＬＱで満たされる光路空間Ｋ１と噴射口３２の間にメニスカスがあり、液体ＬＱで満たされる光路空間Ｋ１の境界を形成していることが見てとれる。
　また、上記（ａ）ないし（ｃ）の、特に「シール部材７０の下面７０Ａにおいて、光路空間Ｋ１に対して回収口２２よりも外側には、光路空間Ｋｌ、供給口１２、及び回収口２２を囲むように設けられた環状の第１溝部４５が設けられている。また、シール部材７０の下面７０Αにおいて、光路空間Ｋ１に対して第１溝部４５よりも外側には、第１溝部４５を囲むように設けられた環状の第２溝部３５が設けられている。吸引口４２は、第１溝部４５の内側に複数所定間隔で設けられている。噴射口３２は、第２溝部３５の内側に複数所定間隔で設けられている。すなわち、吸引口４２は、回収口２２の外側において、光路空間Ｋ１を囲むように複数設けられており、噴射口３２は、吸引口４２の外側において、光路空間Ｋｌを囲むように複数設けられている。本実施形態の噴射口３２及び吸引口４２のそれぞれは平面視において略円形状である。」（上記（ｂ）［００４２］）との記載を踏まえて、上記（ｄ）の図３、５を見ると、噴射口３２は、光路空間Ｋ１を囲むように設けられた環状の第２溝部３５が設けられ、前記噴射口３２は、第２溝部３５の内側に複数所定間隔で設けられ、前記噴射口３２は光路空間Ｋ１を中心とする半径方向外側に位置していることが見てとれる。
　さらに同様に、上記（ａ）ないし（ｃ）の、特に「シール部材７０の下面７０Ａにおいて、光路空間Ｋ１に対して噴射口３２の外側には、気体を吹き出す吹き出し口３６が設けられ」、「吹き出し口３６は、シール部材７０の下面７０Ａにおいて、光路空間Ｋ１を囲むように設けられた環状の溝部内に複数配置され」（上記（ｃ）［００６１］）ているとの記載を踏まえて、上記（ｄ）の図５を見ると、吹き出し口３６は、光路空間Ｋ１を中心にした噴射口３２の半径方向外側に位置していることが見てとれる。
　そして、上記（ｂ）［００４２］及び上記（ｃ）［００６１］の記載を踏まえて、上記（ｄ）の図３及び５を見ると、噴射口３２及び吹き出し口３６は、光路空間Ｋ１を中心とする半径方向外側の領域に気体を提供していることが見てとれる。
　
（イ）引用発明２
　上記（ア）によれば、引用文献２には、次の発明（以下「引用発明２」という。）が記載されているものと認められる（なお、ａ２〜ｆ２は、引用発明２を分説するために当審で付した。）。
「ａ２　露光光の光路空間に満たされた液体をシールするために基板上に気流を生成するものであって、投影光学系の直下に配置される基板と対向するように設けられ、気流を生成するために基板に向けて気体を噴射する噴射口と、光路空間に対して噴射口より内側であって、基板と対向するように設けられ、気体を吸引する吸引口とを有しているガスシール機構を備え（［００３８］）、
ｂ２　シール部材の下面において、光路空間に対して回収口よりも外側には、光路空間、供給口及び回収口を囲むように設けられた環状の第１溝部が設けられ、前記シール部材の下面において、光路空間に対して第１溝部よりも外側には、第１溝部を囲むように設けられた環状の第２溝部が設けられ、前記噴射口は、第２溝部の内側に複数所定間隔で設けられ、吸引口の外側において、光路空間を囲むように複数設けられ、前記噴射口及び吸引口のそれぞれは平面視において略円形状であり（［００４２］）、
ｃ２　補償機構は、ガスシール機構により生成された気流に起因する基板の温度変化を補償するものであり（［００４５］）、
ｄ２　前記補償機構が、光路空間に対して前記噴射口の外側に、気体を吹き出す吹き出し口を備えるものであって（［００５８］）、前記シール部材の下面において、光路空間に対して噴射口の外側には、気体を吹き出す吹き出し口が設けられ、前記吹き出し口は、前記シール部材の下面において、光路空間を囲むように設けられた環状の溝部内に複数配置され（［００６１］）、
ｅ２　前記液体で満たされる光路空間と噴射口の間にメニスカスがあり、液体で満たされる光路空間の境界を形成し、前記噴射口は、光路空間を囲むように設けられた環状の第２溝部が設けられ、第２溝部の内側に複数所定間隔で設けられ、光路空間を中心とする半径方向外側に位置し、前記吹き出し口は、光路空間を中心にした前記噴射口の半径方向外側に位置し、前記噴射口及び前記吹き出し口は、光路空間を中心とする半径方向外側の領域に気体を提供している（上記「（ア）」「（ｅ）」）、
ｆ２　液体を介して基板を露光する露光装置（［０００１］）。」
　
ウ　引用文献３及び引用文献３に記載された事項について
（ア）原査定の拒絶理由に引用された、本願の優先日前に頒布された刊行物である特開２０１２−８９８４３号公報（以下「引用文献３」という。）には、下記の事項が記載されている。
（ａ）「【技術分野】
【０００１】
　本発明は、流体ハンドリング構造、
リソグラフィ装置
　
（ｂ）「【００９３】
　本明細書に述べる本発明のある実施の形態は、
液浸液のメニスカス３２０の周りにＣＯ
２
雰囲気を形成し、液浸液へと気体が入ろうとも液浸液に溶解するように
【００９４】
　気体のＣＯ２を使用することで、メニスカス３２０が液滴に衝突することに関連する問題が緩和ないし軽減されうる。典型的に３００マイクロメートルの滴は直径３０マイクロメートルの気泡を生成する（つまり１０分の１の大きさ）。こうした二酸化炭素の気泡はたいてい、露光領域に到達する前に液浸液に溶けてしまう（この大きさの滴は１つ又は複数の他の問題を起こしうることに注意）。したがって、滴により生じる問題はより重要ではなくなる。液浸システムは、空間から漏れる液浸液との相互作用に、より耐性をもつことになる。
【００９５】
　
二酸化炭素は気体供給開口２１０を通じて供給される
気体供給開口２１０
メニスカス釘付け特徴部の半径方向外側に
　
（イ）引用文献３に記載された事項
　上記（ア）によれば、引用文献３には、次の事項（以下「引用文献３に記載された事項」という。）が記載されているものと認められる。
「液浸液のメニスカスの周りにＣＯ２雰囲気を形成し、液浸液へと気体が入ろうとも液浸液に溶解するようにするために、気体供給開口をメニスカス釘付け特徴部の半径方向外側に設け、二酸化炭素は気体供給開口を通じて供給されるリソグラフィ装置。」
　
エ　引用文献４及び引用文献４に記載された事項について
（ア）原査定の拒絶理由に引用された、本願の優先日前に頒布された刊行物である特開２０１３−１３１７４６号公報（以下「引用文献４」という。）には、下記の事項が記載されている。
（ａ）「【技術分野】
【０００１】
　[0001]　本発明は、ポンプシステム、二酸化炭素供給システム、抽出システム、
リソグラフィ装置
　
（ｂ）「【００７５】
　[0083]　一実施形態では、二酸化炭素供給システム１００によって供給される二酸化炭素は、図５に詳細に示されるように、流体ハンドリングシステム１２に供給される。図７に示されるように、
二酸化炭素は、流体ハンドリング構造１２と、対向表面、
基板テーブルＷＴ１上の基板との間に延在するメニスカス３２０の半径方向外側に流体ハンドリング構造１２内の開口３０５を介して供給される
　
（イ）引用文献４に記載された事項
　上記（ア）によれば、引用文献４には、次の事項（以下「引用文献４に記載された事項」という。）が記載されているものと認められる。
「二酸化炭素は、流体ハンドリング構造と、対向表面の基板テーブル上の基板との間に延在するメニスカスの半径方向外側に流体ハンドリング構造内の開口を介して供給されるリソグラフィ装置。」
　
（３）対比・判断
（３−１）引用発明１を主引例とした場合
ア　本願補正発明と引用発明１とを対比する。
（ア）引用発明１の「液体」、「液浸空間」、「液浸部材」、「液浸露光装置」及び「メニスカス（液体で満たされる液浸空間の境界）」は、本願補正発明の「液浸流体」、「空間」、「流体取扱構造」、「液浸システム」及び「空間の境界」にそれぞれ相当するとともに、引用発明１の「液浸露光装置」（構成ａ１）は、本願補正発明の「液浸システム」（構成Ｄ及びＦ）に相当すると認められる。
　
（イ）引用発明１の「液体を介して露光光で基板を露光する
液浸露光装置
液体で満たされるように液浸空間が形成され
液浸部材
前記液浸部材
液体で満たされる液浸空間と第１気体供給部（第１気体供給口）の間にメニスカスがあり、液体で満たされる液浸空間の境界を形成し
　したがって、引用発明１の構成ｂ１、ｃ１、ｄ１及びｉ１から認定される「液浸空間の境界」は、本願補正発明の「液浸流体を空間に収容するように構成された流体取扱構造を含む液浸システムであって、前記流体取扱構造は、前記空間の境界にお」（構成Ａ）ける「空間の境界」との構成を含んでいると認められる。
　
（ウ）引用発明１の「前記液浸部材は、液体を供給可能な第１液体供給部、第２液体供給部及び第３液体供給部と、液体を回収可能な第１液体回収部、第２液体回収部及び第３液体回収部と、気体を供給可能な第１気体供給部とを備え」（構成ｄ１）、「前記第１気体供給部は、第２部材に第２開口部の周囲の少なくとも一部に第２空間に面するように下面に配置され、気体を供給可能な開口（第１気体供給口）を含み、光路を囲むように光路の周囲において間隔をあけて複数配置され、前記複数の第１気体供給口は、ＸＹ平面内において四角形の仮想線に沿うように、光路（光軸）に対する放射方向に関して、第１液体回収部の外側に配置され」（構成ｅ１）、「前記液体で満たされる液浸空間と第１気体供給部（第１気体供給口）の間にメニスカスがあり、液体で満たされる液浸空間の境界を形成し、
前記第１気体供給部（第１気体供給口）
半径方向外側に位置
　したがって、引用発明１の構成ｄ１、ｅ１及びｉ１から認定される「第１気体供給部」の「第１気体供給口」は、本願補正発明の「前記空間から半径方向外側の方向に少なくとも１つのガスナイフ開口」（構成Ｂ）と「前記空間から半径方向外側の方向に少なくとも１つのガス開口」（以下「構成Ｂ´」という。）の点で一致する。
　
（エ）引用発明１の「終端光学素子の光軸に対する放射方向に関して第１気体供給部の外側に、第２気体供給部が配置され、前記第２気体供給部は、第２部材の下面に配置され、前記第２気体供給部から供給される気体によって、第２空間からの液体の流出が抑制され」（構成ｇ１）、「前記第２気体供給部は、光路（光軸）の周囲の液体で満たされる液浸空間から光軸を中心にした第１気体供給部の半径方向外側に位置」（構成ｉ１）する「第２気体供給部」は、本願補正発明の「前記空間に対して前記少なくとも１つのガスナイフ開口から半径方向外側の方向に少なくとも１つのガス供給開口であって、前記少なくとも１つのガスナイフ開口を囲むように平面視において閉じた形を形成する、少なくとも１つのガス供給開口」（構成Ｃ）と、「前記空間に対して前記少なくとも１つのガス開口から半径方向外側の方向に少なくとも１つのガス供給開口」（以下「構成Ｃ´」という。）の点で一致する。
　
（オ）引用発明１の「前記第１気体供給部から二酸化炭素を含む気体（炭酸ガス）を供給し」（構成ｈ１）、「前記第１気体供給部（第１気体供給口）及び第２気体供給部は、光路（光軸）の周囲の液体で満たされる液浸空間から光軸の放射方向を中心とする半径方向外側の領域に気体を提供している」（構成ｉ１）「第１気体供給部」及び「第２気体供給部」は、ガス供給システムといえるから、本願補正発明の「前記少なくとも１つのガスナイフ開口及び前記少なくとも１つのガス供給開口を介して実質的に純粋なＣＯ２ガスを供給して実質的に純粋なＣＯ２ガスの大気を前記空間の近くかつ前記空間の半径方向外側に提供するように構成されたガス供給システム」（構成Ｅ）と、「前記少なくとも１つのガス開口及び前記少なくとも１つのガス供給開口を介してＣＯ２ガスを供給してＣＯ２ガスの大気を前記空間の半径方向外側に提供するように構成されたガス供給システム」（以下「構成Ｅ´」という。）の点で一致する。
　
（カ）上記（ア）ないし（オ）によれば、本願補正発明と引用発明１は、
「Ａ　液浸流体を空間に収容するように構成された流体取扱構造を含む液浸システムであって、前記流体取扱構造は、前記空間の境界において、
Ｂ´　前記空間から半径方向外側の方向に少なくとも１つのガス開口と、
Ｃ´　前記空間に対して前記少なくとも１つのガス開口から半径方向外側の方向に少なくとも１つのガス供給開口と、を有し、
Ｄ　前記液浸システムは、
Ｅ´　前記少なくとも１つのガス開口及び前記少なくとも１つのガス供給開口を介してＣＯ２ガスを供給してＣＯ２ガスの大気を前記空間の半径方向外側に提供するように構成されたガス供給システムを更に含む、
Ｆ　液浸システム。」
の点で一致し、以下の各点で相違するものと認められる。
＜相違点１−１＞
　「ガス開口」が、本願補正発明では、「ガスナイフ開口」と特定されるのに対し、引用発明１では、このように特定されない点。
　
＜相違点１−２＞
　「ガス供給開口」が、本願補正発明では、「少なくとも１つのガスナイフ開口を囲むように平面視において閉じた形を形成する」と特定されるのに対し、引用発明１では、このように特定されない点。
　
＜相違点１−３＞
　「ガス供給システム」が、本願補正発明では、「実質的に純粋な」ＣＯ２ガスを供給して「実質的に純粋な」ＣＯ２ガスの大気を「前記空間の近くかつ」前記空間の半径方向外側に提供するのに対し、引用発明１では、このように特定されない点。
　
イ　判断
（ア）上記相違点１−１について検討する。
　本願補正発明の「ガスナイフ」が、本願明細書によれば、「本発明の実施形態におけるガスナイフは、基板Ｗ又は基板テーブルＷＴなどの接面に残っているあらゆる
液体膜の厚みを減少させる働きをする
液体膜が小滴へと分解される代わりに液体が開口５０に向かって動かされて抽出されることを確実にする
膜の形成を防止するように動作する
　よって、相違点１−１は実質的な相違点ではない。
　
（イ）上記相違点１−２について検討する。
　引用発明１の「第１気体供給部」は、「光路を囲むように複数配置され、
光路の周囲において間隔をあけて複数配置され、
ＸＹ平面内において四角形の仮想線に沿うように配置され、
　そして、当該仮想線は、上記「（２）」「ア」「（ア）」「（ｉ）」の図４によれば、ＸＹ平面で平面視した場合には、光路の周囲に四角形の仮想線に沿うように光路を囲む形を形成していると認められる。
　ここで、上記光路の周囲に四角形の仮想線に沿うように光路を囲む形を形成する「第１気体供給部」は、連続的に光路を囲む四角形を形成するのではなく、離散的に光路を囲む四角形を形成するものであるが、光路を囲む四角形には、離散的に配置された隙間はあるものの、四角形を囲まない（四角形の形状を不完全とする）箇所は存在しないことから、離散的ではあるものの、光路を囲む閉じた四角形の形を形成していると認められる。
　これに対して、引用発明１の「第２気体供給部」は、「終端光学素子の光軸に対する放射方向に関して第１気体供給部の外側に、第２気体供給部が配置され、前記第２気体供給部は、第２部材の下面に配置され、前記第２気体供給部から供給される気体によって、第２空間からの液体の流出が抑制され」（構成ｇ）るものであるから、「第２空間からの液体の流出」を「抑制」するものである以上、「第２気体供給部」を「第１気体供給部」の外側に「第１気体供給部」の配置と同様に、光路及び「第１気体供給部」を囲む閉じた四角形の形を形成する配置とすることは当業者が容易に想到し得たことである。
　したがって、引用発明１の「第２気体供給部」をＸＹ平面で平面視した場合には、光路の周囲に四角形の仮想線に沿うように光路を囲むように閉じた形を形成している「第１気体供給部」の外側に「第１気体供給部」の配置と同様に配置する構成となして、「第１気体供給部」の周囲に四角形の仮想線に沿うように光路を囲むように閉じた形を形成して、上記相違点１−２に係る本願補正発明の構成となすことは当業者が容易になし得たことである。
　
（ウ）上記相違点１−３について検討する。
　引用発明１の「第２気体供給部」が何のガスを供給するかは特定しないが、引用文献１における「第２部材（２２など）の気体供給部（６１など）から供給される気体は、液浸部材（５など）の周囲の気体と同じであってもよいし、異なっていてもよい。例えば、気体供給部（６１など）から二酸化炭素を含む気体（炭酸ガス）を供給してもよい。」（上記「（２）」「ア」「（ア）」「（ｈ）」）との記載に照らして、「第１気体供給部」と同じガスとすることは当業者が容易に想到し得たことである。
　そして、当該「第１気体供給部」が供給する「二酸化炭素を含む気体（炭酸ガス）」として、炭酸ガスを供給すれば、実質的に純粋なＣＯ２ガスを供給することとなることは、本願優先日当時の技術常識である。
　さらに、引用発明１の「第１気体供給部」は「第２空間の液体が、第２空間から流出することが抑制され」（構成ｆ）るものであり、「第２気体供給部」も「第２空間からの液体の流出が抑制され」（構成ｇ）るものである以上、あえて液浸空間から不必要に離れた位置に配置される必要性はなく、液浸空間の近くの適宜の位置に配置されるものであると解される。
　したがって、上記相違点１−３は実質的な相違点ではない。
　
（エ）よって、本願補正発明は、引用発明１に基いて当業者が容易に発明をすることができたものである。
　
（３−２）引用発明２を主引例とした場合
ア　本願補正発明と引用発明２とを対比する。
（ア）引用発明２の「液体」、「光路空間」、「ガスシール機構」、「液体を介して基板を露光する露光装置」及び「メニスカス（液体で満たされる光路空間の境界）」は、本願補正発明の「液浸流体」、「空間」、「流体取扱構造」、「液浸システム」及び「空間の境界」にそれぞれ相当するとともに、引用発明２の「液体を介して基板を露光する露光装置」（構成ｆ２）は、本願補正発明の「液浸システム」（構成Ｄ及びＦ）に相当すると認められる。
　
（イ）引用発明２の「
液体を介して基板を露光する露光装置
前記液体で満たされる光路空間と噴射口の間にメニスカスがあり、液体で満たされる光路空間の境界を形成し
光路空間に満たさ
液体を
ガスシール機構を備え
　したがって、引用発明２の構成ｅ２、ａ２及びｆ２から認定される「光路空間の境界」は、本願補正発明の「液浸流体を空間に収容するように構成された流体取扱構造を含む液浸システムであって、前記流体取扱構造は、前記空間の境界にお」（構成Ａ）ける「空間の境界」との構成を含んでいると認められる。
　
（ウ）引用発明２の「シール部材の下面において、光路空間に対して回収口よりも外側には、光路空間、供給口及び回収口を囲むように設けられた環状の第１溝部が設けられ、前記シール部材の下面において、光路空間に対して第１溝部よりも外側には、第１溝部を囲むように設けられた環状の第２溝部が設けられ、前記噴射口は、第２溝部の内側に複数所定間隔で設けられ、吸引口の外側において、光路空間を囲むように複数設けられ、前記噴射口及び吸引口のそれぞれは平面視において略円形状であり」（構成ｂ２）、「前記
噴射口
光路空間を中心とする半径方向外側に位置
　したがって、引用発明２の構成ｂ２及びｅ２から認定される「噴射口」は、本願補正発明の「前記空間から半径方向外側の方向に少なくとも１つのガスナイフ開口」（構成Ｂ）と「前記空間から半径方向外側の方向に少なくとも１つのガス開口」（以下「構成Ｂ´´」という。）の点で一致する。
　
（エ）引用発明２の「補償機構は、ガスシール機構により生成された気流に起因する基板の温度変化を補償するものであり」（構成ｃ２）、「前記補償機構が、光路空間に対して前記噴射口の外側に、気体を吹き出す吹き出し口を備えるものであって、前記シール部材の下面において、光路空間に対して噴射口の外側には、気体を吹き出す吹き出し口が設けられ、前記吹き出し口は、前記シール部材の下面において、光路空間を囲むように設けられた環状の溝部内に複数配置され」（構成ｄ２）、「前記吹き出し口は、光路空間を中心にした前記噴射口の半径方向外側に位置し、前記噴射口及び前記吹き出し口は、光路空間を中心とする半径方向外側の領域に気体を提供している」（構成ｅ２）「吹き出し口」は、本願補正発明の「前記空間に対して前記少なくとも１つのガスナイフ開口から半径方向外側の方向に少なくとも１つのガス供給開口であって、前記少なくとも１つのガスナイフ開口を囲むように平面視において閉じた形を形成する、少なくとも１つのガス供給開口」（構成Ｃ）と、「前記空間に対して前記少なくとも１つのガス開口から半径方向外側の方向に少なくとも１つのガス供給開口」（以下「構成Ｃ´´」という。）の点で一致する。
　
（オ）引用発明２の「前記噴射口及び前記吹き出し口は、光路空間を中心とする半径方向外側の領域に気体を提供している」（構成ｅ２）ことは、本願補正発明の「前記少なくとも１つのガスナイフ開口及び前記少なくとも１つのガス供給開口を介して実質的に純粋なＣＯ２ガスを供給して実質的に純粋なＣＯ２ガスの大気を前記空間の近くかつ前記空間の半径方向外側に提供するように構成されたガス供給システム」（構成Ｅ）と、「前記少なくとも１つのガス開口及び前記少なくとも１つのガス供給開口を介してガスを供給してガスの大気を前記空間の半径方向外側に提供するように構成されたガス供給システム」（以下「構成Ｅ´´」という。）の点で一致する。
　
（カ）上記（ア）ないし（オ）によれば、本願補正発明と引用発明２は、
「Ａ　液浸流体を空間に収容するように構成された流体取扱構造を含む液浸システムであって、前記流体取扱構造は、前記空間の境界において、
Ｂ´´　前記空間から半径方向外側の方向に少なくとも１つのガス開口と、
Ｃ´´　前記空間に対して前記少なくとも１つのガス開口から半径方向外側の方向に少なくとも１つのガス供給開口と、を有し、
Ｄ　前記液浸システムは、
Ｅ´´　前記少なくとも１つのガス開口及び前記少なくとも１つのガス供給開口を介してガスを供給してガスの大気を前記空間の半径方向外側に提供するように構成されたガス供給システムを更に含む、
Ｆ　液浸システム。」
の点で一致し、以下の点で相違するものと認められる。
＜相違点２−１＞
　「ガス開口」が、本願補正発明では、「ガスナイフ開口」と特定されるのに対し、引用発明２では、このように特定されない点。
　
＜相違点２−２＞
　「ガス供給開口」が、本願補正発明では、「少なくとも１つのガスナイフ開口を囲むように平面視において閉じた形を形成する」と特定されるのに対し、引用発明２では、このように特定されない点。
　
＜相違点２−３＞
　「ガス供給システム」が、本願補正発明では、「実質的に純粋なＣＯ２」ガスを供給して「実質的に純粋なＣＯ２」ガスの大気を「前記空間の近くかつ」前記空間の半径方向外側に提供するのに対し、引用発明２では、このように特定されない点。
　
イ　判断
（ア）上記相違点２−１について検討する。
　本願補正発明の「ガスナイフ」が、本願明細書によれば、「本発明の実施形態におけるガスナイフは、基板Ｗ又は基板テーブルＷＴなどの接面に残っているあらゆる
液体膜の厚みを減少させる働きをする
液体膜が小滴へと分解される代わりに液体が開口５０に向かって動かされて抽出されることを確実にする
膜の形成を防止するように動作する
　よって、相違点２−１は実質的な相違点ではない。
　
（イ）上記相違点２−２について検討する。
　引用発明２の「噴射口」は、「シール部材の下面において、光路空間に対して回収口よりも外側には、光路空間、供給口及び回収口を囲むように設けられた環状の第１溝部が設けられ、前記シール部材の下面において、光路空間に対して第１溝部よりも外側には、第１溝部を囲むように設けられた環状の第２溝部が設けられ、前記噴射口は、第２溝部の内側に複数所定間隔で設けら、吸引口の外側において、光路空間を囲むように複数設けられ、前記噴射口及び吸引口のそれぞれは平面視において略円形状であ」（構成ｂ２）るから、平面視において、光路空間、供給口及び回収口を囲むように設けられた環状（略円形状）に配置されているといえる。
　ここで、引用発明２の「噴射口」は「環状の第２溝部」「の内側に複数所定間隔で設けられ」るものであるから、連続的に設けられているのではなく、離散的に設けられているものであるが、「前記噴射口は、光路空間を囲むように設けられた環状の第２溝部が設けられ、第２溝部の内側に複数所定間隔で設けられ、光路空間を中心とする半径方向外側に位置し」（構成ｅ２）、当該環状の第２溝部は連続的に光路空間、供給口及び回収口を囲む閉じた形状であり、環状（略円形状）の形状を不完全とする箇所は存在しないことから、光路空間、供給口及び回収口を囲む閉じた環状（略円形状）の形を形成していると認められ、「噴射口」及び「環状の第２溝部」全体としてみれば、当該「噴射口」は連続的に光路空間、供給口及び回収口を囲む閉じた形状であると認められる。
　したがって、引用発明２の「吹き出し口」を平面視において、光路空間、供給口及び回収口を囲むように設けられた閉じた環状（略円形状）に配置されている「噴射口」及び「環状の第２溝部」の外側に「噴射口」の配置と同様の環状の溝部の内側に複数所定間隔で設けられる構成となして、「噴射口」を囲むように設けられた閉じた環状（略円形状）に配置して、上記相違点２−２に係る本願補正発明の構成となすことは当業者が容易になし得たことである。
　
（ウ）上記相違点２−３について検討する。
　液浸式のリソグラフィ装置において、液浸液のメニスカスの周りに開口を介してＣＯ２（二酸化炭素）を供給することは、引用文献３に「液浸液のメニスカスの周りにＣＯ２雰囲気を形成し、液浸液へと気体が入ろうとも液浸液に溶解するようにするために、気体供給開口をメニスカス釘付け特徴部の半径方向外側に設け、二酸化炭素は気体供給開口を通じて供給されるリソグラフィ装置。」（引用文献３に記載された事項）、及び、引用文献４に「二酸化炭素は、流体ハンドリング構造と、対向表面の基板テーブル上の基板との間に延在するメニスカスの半径方向外側に流体ハンドリング構造内の開口を介して供給されるリソグラフィ装置。」（引用文献４に記載された事項）と記載されているように周知の技術的事項であるから、引用発明２の「噴射口」及び「吹き出し口」が供給する気体をＣＯ２ガスとすることは当業者が容易に想到し得たことである。
　そして、当該「噴射口」及び「吹き出し口」が供給するＣＯ２ガスとして、格別他のガスを混合しなければ、実質的に純粋なＣＯ２ガスを供給することとなることは、本願優先日当時の技術常識である。
　さらに、引用発明２の「噴射口」及び「吹き出し口」を、あえて光路空間から不必要に離れた位置に配置する必要性はなく、光路空間の近くの適宜の位置に配置されるものであると解される。
　したがって、上記周知の技術的事項を踏まえて、上記相違点２−３に係る本願補正発明の構成となすことは、当業者が容易になし得たことである。
　
（エ）よって、本願補正発明は、引用発明２及び周知の技術的事項に基いて当業者が容易に発明をすることができたものである。
　
（３−３）請求人の主張
ア　審判請求人は、審判請求書の「【請求の理由】」、「３．本願発明が特許されるべき理由」、「（２）進歩性」の３６〜４７行において、
「しかし、第２気体供給部（６２）は、断面図（図１９（Ｂ））においてのみ図示されており、平面視においてどのような形状に形成されているのかは不明です。引用文献１に記載の発明は、結像エラーの増大を招くことなく、第１気体供給部（６１）からのＣＯ２ガスの流量の増大に伴うウォーターマークの発生を回避することを課題としておらず、また、そのような課題を解決するための指針も提示しておりません。このような事情に鑑みれば、引用文献１に接した当業者が、結像エラーの増大を招くことなく、第１気体供給部（６１）からのＣＯ２ガスの流量の増大に伴うウォーターマークの発生を回避するための手段として、第２気体供給部（６２）の平面視における形状を、第１気体供給部（６１）を囲むように『閉じた形』にするという着想を試みたはずであるとは言えないものと思料致します。」
　また、同５４〜６９行において、
「噴射口（３２）及び吹き出し口（３６）から供給されるガスがＣＯ２ガスであるのか否かは、引用文献２の記載からは不明であるものの、液浸流体を収容する空間の半径方向外側にＣＯ２ガスを供給することは、引用文献３，４に記載されているように、周知の技術常識です。しかし、吹き出し口（３６）は、断面図（図５）においてのみ図示されており、平面視においてどのような形状に形成されているのかは不明です。引用文献２に記載の発明は、結像エラーの増大を招くことなく、噴射口（３２）からのガスの流量の増大に伴うウォーターマークの発生を回避することを課題としておらず、また、そのような課題を解決するための指針も提示しておりません。このような事情に鑑みれば、引用文献２に接した当業者が、結像エラーの増大を招くことなく、噴射口（３２）からのガスの流量の増大に伴うウォーターマークの発生を回避するための手段として、吹き出し口（３６）の平面視における形状を、噴射口（３２）を囲むように『閉じた形』にするという着想を試みたはずであるとは言えないものと思料致します。」
と主張する。
　
イ　しかしながら、上記「（３−１）」「イ」「（イ）」で検討したとおりであって、引用発明１が、「結像エラーの増大を招くことなく、第１気体供給部（６１）からのＣＯ２ガスの流量の増大に伴うウォーターマークの発生を回避することを課題としておらず、また、そのような課題を解決するための指針も提示して」いないものであっても、引用発明１の「第２気体供給部」をＸＹ平面で平面視した場合には、光路の周囲に四角形の仮想線に沿うように光路を囲むように閉じた形を形成している「第１気体供給部」の外側に「第１気体供給部」の配置と同様に配置する構成となして、「第１気体供給部」の周囲に四角形の仮想線に沿うように光路を囲むように閉じた形を形成して、上記相違点１−２に係る本願補正発明の構成となすことは当業者が容易になし得たことであり、また、上記「（３−２）」「イ」「（イ）」で検討したとおりであって、引用発明２が、「結像エラーの増大を招くことなく、噴射口（３２）からのガスの流量の増大に伴うウォーターマークの発生を回避することを課題としておらず、また、そのような課題を解決するための指針も提示して」いないものであっても、引用発明２の「吹き出し口」を平面視において、光路空間、供給口及び回収口を囲むように設けられた環状（略円形状）に配置されている「噴射口」の外側に「噴射口」の配置と同様に配置する構成となして、「噴射口」を囲むように設けられた環状（略円形状）に配置して、上記相違点２−２に係る本願補正発明の構成となすことは当業者が容易になし得たことであるから、上記請求人の主張は採用できない。
　
（４）むすび（補正の却下の決定のむすび）
　以上のとおり、本願補正発明は、引用発明１に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであり、あるいは、引用発明２及び周知の技術的事項に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであり、特許法第２９条第２項の規定により、特許を受けることができないから、特許出願の際独立して特許を受けることができないものである。
　
４　補正の却下の決定についてのむすび
　上記３の検討によれば、本願補正は、特許法第１７条の２第６項において準用する同法第１２６条第７項の規定に違反するものであるから、同法第１５９条第１項の規定において読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定により却下すべきものである。
　
第３　本願発明について
１　本願発明
　上記のとおり、本願補正は却下されたので、本願の特許請求の範囲の各請求項に係る発明は、平成３０年８月８日の手続補正による特許請求の範囲の請求項１ないし１５に記載されたとおりのものであるところ、その請求項１に係る発明（以下「本願発明」という。）は、前記「第２」［理由］「１　補正の内容」において、本願補正前のものとして示したとおりのものである。
　
２　刊行物の記載及び引用発明
　前記「第２」［理由］「３」「（２）」のとおりである。
　
３　対比・判断
　前記「第２」［理由］「１　補正の内容」のとおり、本願補正は、補正前の請求項１において、「少なくとも１つのガス供給開口」に関して、「前記少なくとも１つのガスナイフ開口を囲むように平面視において閉じた形を形成する」との限定を付加するものである。
　したがって、本願発明は、前記「第２」［理由］「３」「（３）」で検討した本願補正発明を特定するための事項である、「前記少なくとも１つのガスナイフ開口を囲むように平面視において閉じた形を形成する」との限定を省いたものである。
　これに対して、前記「第２」［理由］「３」「（３）」で検討したとおり、本願補正発明は、引用発明１に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであり、あるいは、引用発明２及び周知の技術的事項に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により、特許を受けることができないものである。
　そうすると、上記限定を省いた本願発明も、引用発明１に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであり、あるいは、引用発明２及び周知の技術的事項に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により、特許を受けることができないものである。
　
４　むすび
　以上のとおり、本願発明は、引用発明１に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであり、あるいは、引用発明２及び周知の技術的事項に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により、特許を受けることができない。
　したがって、本願の他の請求項に係る発明について検討するまでもなく、本願は拒絶されるべきものである。
　
　よって、結論のとおり審決する。