【事件の表示】
　特許第３１１８８５８号「レジスト塗布装置とその洗浄方法」の請求項１、２に係る特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結　論】
　訂正を認める。
　特許第３１１８８５８号の請求項１、２に係る特許を維持する。
【理　由】
１．手続きの経緯
　本件特許第３１１８８５８号は、平成３年４月２３日に特許出願され、平成１２年１０月１３日にその特許の設定登録がなされ、その後、異議申立人高橋友之輔から特許異議の申立てがなされ、取消理由通知がなされ、その指定期間内である平成１３年１０月３０日に訂正請求がなされたものである。
１．１　異議申立ての概要
　異議申立人高橋友之輔は、甲第１号証（特開平１−２１８６６２号公報）、甲第２号証（実願昭６１−１０２４８１号（実開昭６３−９１３０号公報）のマイクロフィルム）及び甲第３号証（実願平１−４１６３４号（実開平２−１３２９３２号公報）のマイクロフィルム）を提出し、本件請求項１及び２に係る発明は、甲第１〜３号証に記載された発明に基いて容易に発明できたものであるから、本件請求項１及び２に係る発明は、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないものであり、本件請求項１及び２に係る特許を取り消すべき旨主張している。
　また、異議申立人高橋友之輔は、本件特許第３１１８８５８号は、発明の詳細な説明の欄及び特許請求の範囲の記載が、異議申立人高橋友之輔が提出した異議申立書記載の理由により、不備のため、特許法第３６条に規定する要件を満たさないから、本件請求項１及び２に係る特許を取り消すべき旨主張している。
１．２　異議申立人高橋友之輔が提出した甲第１３号証の記載内容
１．２．１　甲第１号証の記載内容
　甲第１号証第２頁右上欄第１１行〜左下欄第１行には、「回転体（真空チャック）５の周囲は円筒状の容器６で覆われる。容器６は上部が開口し、上縁部は円錐状に縮径している。チャック５の上方には洗浄液（溶剤）３を吐出するためのノズル７が設けられる。…チャック５の回転中にレジスト液等…を滴下して…コーティングする。塗布剤は飛散して容器６の内面に付着する」と記載されている。
　甲第１号証の第２頁左下欄第１〜７行には、「容器６の内面は定期的に洗浄する必要がある。…チャック５を回転させながらこのチャック５に向けてノズル７より洗浄液３を吐出する。洗浄液３はチャック５の遠心力により外側の容器６の内面に向けて跳ね跳ばされ、容器６の内面を洗浄する」と記載されている。
　甲第１号証の第２頁左下欄第１０〜１８行には、「チャック５の上面には中心から外側に向けて複数の溝１０、２０が放射状に形成され…各溝１０、２０は外側に向って浅く形成されている。…溝２０は溝１０より洗浄液を上方へ飛散させる。…洗浄液は斜の上方外側に向けて必要な幅の範囲内に均一に飛散する」と記載されている。
１．２．２　甲第２号証の記載内容
　甲第２号証の明細書第２頁第３〜７行には、「１はフォトレジストを吐出するノズル、２はフォトレジストが回転塗布されるウエハ、３はこのウエハ２の回転により飛び散ったレジストを受けるドレインカップ」と記載されている。
　甲第２号証の明細書第４頁第１７〜１８行には、「前記ドレインカップ３に取り付けられた洗浄ノズル」と記載されている。
　甲第２号証の明細書第５頁第７〜１２行には、「ウエハ２の裏面に向けて設けた洗浄ノズル７よりフォトレジストを溶解する有機溶剤が吐出され、ウエハ２の裏面に当るが、回転遠心力によってドレインカップ３の側壁に向って有機溶剤が飛び散り、同様に飛び散って付着しているフォトレジストを洗い流す」と記載されている。
１．２．３　甲第３号証の記載内容
　甲第３号証の明細書第５頁第３〜１４行には、「塗布カップ内にレジストが塗布される基板１８を固定するためのスピンチャック１７、そのスピンチャック１７に回転を伝える回転軸１１、…レジストを基板１８上に滴下するためのノズル１０より構成され、…基板１８上にノズル１０よりレジストを滴下し、所定の回転数でスピンチャック１７を回転させ、レジストを基板１８上に均一に塗布させる…この時、回転運動によって飛ばされたレジストが塗布カップ７の内側に付着し、レジストの残滓１６となり蓄積されていく」と記載されている。
　甲第３号証の明細書第５頁第１７行〜第６頁第１１行には、「スピンチャック１７を回転軸１１より外し、代わりにレジスト塗布カップ洗浄チャックを取り付ける…。所定の回転数にて…回転させながら、…塗布カップ７の内側を全面洗浄できるよう角度調整された洗浄用のスプレー３より洗浄液を吐出させ、レジストの残滓１６を洗浄する」と記載されている。
２．１　訂正事項
訂正事項ａ
　特許明細書の請求項１の「前記回転吸着部に着脱可能な洗浄治具と」、「前記残余レジストを溶解する洗浄液を前記洗浄治具の周縁部の上下方向から吐出する吐出口と」、「回転する前記洗浄治具に前記洗浄液を供給し」及び「前記塗布チャンバに対して前記洗浄液を飛散させる」を、それぞれ、「前記回転吸着部に着脱可能に吸着支持される洗浄治具と」、「前記残余レジストを溶解する洗浄液を、前記洗浄治具の周縁部に上下方向から供給する吐出口と」、「前記回転吸着部に吸着支持され回転する前記洗浄治具に前記洗浄液を供給し」及び「前記塗布チャンバに対して上下方向に前記洗浄液を飛散させる」と訂正する。
訂正事項ｂ
　特許明細書の請求項２の「周縁部の断面形状が上下方向に傾斜面をなした洗浄治具を前記回転吸着部に載置し」及び「前記塗布チャンバに対して前記洗浄液を飛散させる」を、それぞれ、「周縁部の断面形状が上下方向に傾斜面をなした洗浄治具を前記回転吸着部で吸着支持し」及び「前記塗布チャンバに対して上下方向に前記洗浄液を飛散させる」と訂正する。
訂正事項ｃ
　特許明細書の段落番号【００１８】の「【課題を解決するための手段】上で述べた課題は、レジストが塗着される被塗着物を吸着支持して回転させる回転吸着部と、前記回転吸着部を取り囲み、前記被塗着物にレジストが供給された際に飛散した残余レジストを付着させる塗布チャンバと、前記回転吸着部に着脱可能な洗浄治具と、前記残余レジストを溶解する洗浄液を前記洗浄治具の周縁の上下方向から吐出する吐出口とを有し、前記洗浄治具は、周縁部の断面形状が上下方向に傾斜面をなしており、前記塗布チャンバに付着した前記残余レジストを洗浄する際には、回転する前記洗浄治具に前記洗浄液を供給し、前記塗布チャンバに対して前記洗浄液を飛散させるように構成されたレジスト塗布装置によって解決される。また、周縁部の断面形状が上下方向に傾斜面をなした洗浄治具を前記回転吸着部に載置し、回転する前記洗浄治具に洗浄液を上下方向から供給することによって前記塗布チャンバに対して前記洗浄液を飛散させるように構成されたレジスト塗布装置の洗浄方法によって解決される。」を、「【課題を解決するための手段】上で述べた課題は、レジストが塗着される被塗着物を吸着支持して回転させる回転吸着部と、前記回転吸着部を取り囲み、前記被塗着物にレジストが供給された際に飛散した残余レジストを付着させる塗布チャンバと、前記回転吸着部に着脱可能に吸着支持される洗浄治具と、前記残余レジストを溶解する洗浄液を、前記洗浄治具の周縁部に上下方向から供給する吐出口とを有し、前記洗浄治具は、周縁部の断面形状が上下方向に傾斜面をなしており、前記塗布チャンバに付着した前記残余レジストを洗浄する際には、前記回転吸着部に吸着支持され回転する前記洗浄治具に前記洗浄液を供給し、前記塗布チャンバに対して上下方向に前記洗浄液を飛散させるように構成されたレジスト塗布装置によって解決される。また、周縁部の断面形状が上下方向に傾斜面をなした洗浄治具を前記回転吸着部で吸着支持し、回転する前記洗浄治具に洗浄液を上下方向から供給することによって前記塗布チャンバに対して上下方向に前記洗浄液を飛散させることを特徴とするレジスト塗布装置の洗浄方法によって解決される。」と訂正する。
２．２　訂正後の請求項
請求項１
「レジストが塗着される被塗着物を吸着支持して回転させる回転吸着部と、前記回転吸着部を取り囲み、前記被塗着物にレジストが供給された際に飛散した残余レジストを付着させる塗布チャンバと、前記回転吸着部に着脱可能に吸着支持される洗浄治具と、前記残余レジストを溶解する洗浄液を、前記洗浄治具の周縁部に上下方向から供給する吐出口とを有し、前記洗浄治具は、周縁部の断面形状が上下方向に傾斜面をなしており、前記塗布チャンバに付着した前記残余レジストを洗浄する際には、前記回転吸着部に吸着支持され回転する前記洗浄治具に前記洗浄液を供給し、前記塗布チャンバに対して上下方向に前記洗浄液を飛散させることを特徴とするレジスト塗布装置。」
請求項２
「レジストが塗着される被塗着物を吸着支持して回転させる回転吸着部と、前記回転吸着部を取り囲み、前記被塗着物にレジストが供給された際に飛散した残余レジストを付着させる塗布チャンバとを備えるレジスト塗布装置の洗浄方法であって、周縁部の断面形状が上下方向に傾斜面をなした洗浄治具を前記回転吸着部で吸着支持し、回転する前記洗浄治具に洗浄液を上下方向から供給することによって前記塗布チャンバに対して上下方向に前記洗浄液を飛散させることを特徴とするレジスト塗布装置の洗浄方法。」
３．　訂正の適否
３．１　目的該当性等について
３．１．１　訂正事項ａ
　上記訂正事項ａについては、特許明細書の請求項１の「前記回転吸着部に着脱可能な洗浄治具と」、「前記残余レジストを溶解する洗浄液を前記洗浄治具の周縁部の上下方向から吐出する吐出口と」、「回転する前記洗浄治具に前記洗浄液を供給し」及び「前記塗布チャンバに対して前記洗浄液を飛散させる」を、それぞれ下位概念である、「前記回転吸着部に着脱可能に吸着支持される洗浄治具と」、「前記残余レジストを溶解する洗浄液を、前記洗浄治具の周縁部に上下方向から供給する吐出口と」、「前記回転吸着部に吸着支持され回転する前記洗浄治具に前記洗浄液を供給し」及び「前記塗布チャンバに対して上下方向に前記洗浄液を飛散させる」と訂正するものであるから、特許請求の範囲の減縮にあたる。
　また、上記訂正事項ａにおいて、「吸着支持される洗浄治具」および「吸着支持され回転する前記洗浄治具」は、特許明細書の段落番号【０００８】，【００２９】及び図２に記載されているものである。
　また、「洗浄治具の周縁部に上下方向から供給する」は、特許明細書の段落番号【００２８】及び図２に記載されているものである。
　さらに、「上下方向に前記洗浄液を飛散させ」は、特許明細書の段落番号【００２０】及び図２に記載されているものである。
　したがって、当該訂正は、願書に添付した明細書に記載した事項の範囲内のものであり、かつ実質上特許請求の範囲を拡張または変更するものではない。
３．１．２　訂正事項ｂ
　上記訂正事項２については、特許明細書の請求項２の「周縁部の断面形状が上下方向に傾斜面をなした洗浄治具を前記回転吸着部に載置し」及び「前記塗布チャンバに対して前記洗浄液を飛散させる」を、それぞれ下位概念である、「周縁部の断面形状が上下方向に傾斜面をなした洗浄治具を前記回転吸着部で吸着支持し」及び「前記塗布チャンバに対して上下方向に前記洗浄液を飛散させる」と訂正するものであるから、特許請求の範囲の減縮にあたる。
　また、上記訂正事項ｂにおいて、「洗浄治具を前記回転吸着部で吸着支持し」は、特許明細書の段落番号【０００８】、【００２９】及び図２に記載されているものである。
　また、「上下方向に前記洗浄液を飛散させ」は、特許明細書の段落番号【００２０】及び図２１に記載されているものである。
　したがって、当該訂正は、願書に添付した明細書に記載した事項の範囲内のものであり、かつ実質上特許請求の範囲を拡張または変更するものではない。
３．１．３　訂正事項ｃ
　上記訂正事項ｃについては、　上記訂正事項ａ及びｂの訂正に伴い、特許請求の範囲と発明の詳細な説明を整合させるものであるから、明りょうでない記載の釈明にあたる。
　また、上記訂正事項ｃについては、願書に添付した明細書に記載した事項の範囲内のものであり、かつ実質上特許請求の範囲を拡張または変更するものではない。
３．２　訂正の適否の判断
　上記訂正事項ａ〜ｃは、上記３．１．１〜３．１．３のとおりであるから、平成６年法律第１１６号附則第６条第１項の規定によりなお従前の例によるとされる、改正前の特許法第１２６条第１項ただし書及び同条第２項の規定に適合する。
　従って、当該請求を認める。
４．特許異議申立てについての判断
４．１　本件請求項１及び２に係る発明
上記２．２に記載のとおり。
４．２　異議申立ての理由の概要
　上記１．１に記載のとおり。
４．２．１　本件請求項１に係る発明と甲第１号証〜甲第３号証との対比、判断
　本件請求項１に係る発明が、「残余レジストを溶解する洗浄液を、前記洗浄治具の周縁部に上下方向から供給する吐出口とを有し、前記洗浄治具は、周縁部の断面形状が上下方向に傾斜面をなしており、前記塗布チャンバに付着した前記残余レジストを洗浄する際には、前記回転吸着部に吸着支持され回転する前記洗浄治具に前記洗浄液を供給し、前記塗布チャンバに対して上下方向に前記洗浄液を飛散させる」（以下、「本件請求項１に係る発明の特徴的構成」という。）を有するのに対し、甲第１号証に記載された発明は、本件請求項１に係る発明の特徴的構成について記載又は当該記載を示唆をするものではない。
　また、本件請求項１に係る発明が、上記本件請求項１に係る発明の特徴的構成により、「塗布チャンバ内に付着した残余レジストを、簡単な構成で、ほぼ完全に短時間で効率よく取り除くことが可能になる」（平成１３年１０月３０日付異議意見書第５頁第２１行ないし第２２行）という甲第１〜３号証にはない効果を有する。
　従って、本件請求項１に係る発明は、甲第１〜３号証に記載された発明に基づいて容易に発明できたとすることができない。
４．２．２　本件請求項２に係る発明と甲第１号証〜甲第３号証との対比、判断
　本件請求項２に係る発明が、「周縁部の断面形状が上下方向に傾斜面をなした洗浄治具を前記回転吸着部で吸着支持し、回転する前記洗浄治具に洗浄液を上下方向から供給することによって前記塗布チャンバに対して上下方向に前記洗浄液を飛散させる」（以下、「本件請求項２に係る発明の特徴的構成」という。）を有するのに対し、甲第１号証に記載された発明は、本件請求項２に係る発明の特徴的構成について記載又は当該記載を示唆をするものではない。
　また、本件請求項２に係る発明が、上記本件請求項１に係る発明の特徴的構成により、「塗布チャンバ内に付着した残余レジストを、簡単な構成で、ほぼ完全に短時間で効率よく取り除くことが可能になる」（平成１３年１０月３０日付異議意見書第５頁第２１行ないし第２２行）という甲第１〜３号証にはない効果を有する。
　従って、本件請求項２に係る発明は、甲第１〜３号証に記載された発明に基づいて容易に発明できたとすることができない。　
４．２．３　特許法第３６条違反について
　本件特許明細書の発明の詳細な説明において、本件請求項１及び２に係る発明が、当業者が容易に実施できる程度に記載されており、また、特許請求の範囲の記載不備もないから、本件特許第３１１８８５８号は、発明の詳細な説明の欄及び特許請求の範囲の記載が、異議申立人高橋友之輔が提出した異議申立書記載の理由により、不備のため、特許法第３６条に規定する要件を満たさないとはいえない。
５．むすび
 したがって、特許異議申立ての理由及び証拠によっては、本件請求項１及び２に係る発明の特許を取り消すことはできない。
　また、他に本件請求項１及び２に係る発明の特許を取り消すべき理由を発見しない。
　従って、本件請求項１及び２に係る発明についての特許は拒絶の査定をしなければならない特許出願に対してされたものと認めない。
　よって、特許法の一部を改正する法律（平成６年法律第１１６号）附則第１４条の規定に基づく、特許法等の一部を改正する法律の施行に伴う経過措置を定める政令（平成７年政令第２０５号）第４条第２項の規定により、上記のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１４年１月１７日（２００２．１．１７）
【訂正の要旨】
訂正の要旨
　訂正事項ａ及びｂは、特許請求の範囲の減縮を目的とし、訂正事項ｃは、明りょうでない記載の釈明を目的とする。
訂正事項ａ
　特許明細書の請求項１の「前記回転吸着部に着脱可能な洗浄治具と」、「前記残余レジストを溶解する洗浄液を前記洗浄治具の周縁部の上下方向から吐出する吐出口と」、「回転する前記洗浄治具に前記洗浄液を供給し」及び「前記塗布チャンバに対して前記洗浄液を飛散させる」を、それぞれ、「前記回転吸着部に着脱可能に吸着支持される洗浄治具と」、「前記残余レジストを溶解する洗浄液を、前記洗浄治具の周縁部に上下方向から供給する吐出口と」、「前記回転吸着部に吸着支持され回転する前記洗浄治具に前記洗浄液を供給し」及び「前記塗布チャンバに対して上下方向に前記洗浄液を飛散させる」と訂正する。
訂正事項ｂ
　特許明細書の請求項２の「周縁部の断面形状が上下方向に傾斜面をなした洗浄治具を前記回転吸着部に載置し」及び「前記塗布チャンバに対して前記洗浄液を飛散させる」を、それぞれ、「周縁部の断面形状が上下方向に傾斜面をなした洗浄治具を前記回転吸着部で吸着支持し」及び「前記塗布チャンバに対して上下方向に前記洗浄液を飛散させる」と訂正する。
訂正事項ｃ
　特許明細書の段落番号【００１８】の「【課題を解決するための手段】上で述べた課題は、レジストが塗着される被塗着物を吸着支持して回転させる回転吸着部と、前記回転吸着部を取り囲み、前記被塗着物にレジストが供給された際に飛散した残余レジストを付着させる塗布チャンバと、前記回転吸着部に着脱可能な洗浄治具と、前記残余レジストを溶解する洗浄液を前記洗浄治具の周縁の上下方向から吐出する吐出口とを有し、前記洗浄治具は、周縁部の断面形状が上下方向に傾斜面をなしており、前記塗布チャンバに付着した前記残余レジストを洗浄する際には、回転する前記洗浄治具に前記洗浄液を供給し、前記塗布チャンバに対して前記洗浄液を飛散させるように構成されたレジスト塗布装置によって解決される。また、周縁部の断面形状が上下方向に傾斜面をなした洗浄治具を前記回転吸着部に載置し、回転する前記洗浄治具に洗浄液を上下方向から供給することによって前記塗布チャンバに対して前記洗浄液を飛散させるように構成されたレジスト塗布装置の洗浄方法によって解決される。」を、「【課題を解決するための手段】上で述べた課題は、レジストが塗着される被塗着物を吸着支持して回転させる回転吸着部と、前記回転吸着部を取り囲み、前記被塗着物にレジストが供給された際に飛散した残余レジストを付着させる塗布チャンバと、前記回転吸着部に着脱可能に吸着支持される洗浄治具と、前記残余レジストを溶解する洗浄液を、前記洗浄治具の周縁部に上下方向から供給する吐出口とを有し、前記洗浄治具は、周縁部の断面形状が上下方向に傾斜面をなしており、前記塗布チャンバに付着した前記残余レジストを洗浄する際には、前記回転吸着部に吸着支持され回転する前記洗浄治具に前記洗浄液を供給し、前記塗布チャンバに対して上下方向に前記洗浄液を飛散させるように構成されたレジスト塗布装置によって解決される。また、周縁部の断面形状が上下方向に傾斜面をなした洗浄治具を前記回転吸着部で吸着支持し、回転する前記洗浄治具に洗浄液を上下方向から供給することによって前記塗布チャンバに対して上下方向に前記洗浄液を飛散させることを特徴とするレジスト塗布装置の洗浄方法によって解決される。」と訂正する。
（５４）【発明の名称】
レジスト塗布装置とその洗浄方法
（５７）【特許請求の範囲】
　【請求項１】　レジストが塗着される被塗着物を吸着支持して回転させる回転吸着部と、
　前記回転吸着部を取り囲み、前記被塗着物にレジストが供給された際に飛散した残余レジストを付着させる塗布チャンバと、
　前記回転吸着部に着脱可能
に吸着支持される
　前記残余レジストを溶解する洗浄液を
、
に
供給する
　前記洗浄治具は、周縁部の断面形状が上下方向に傾斜面をなしており、
　前記塗布チャンバに付着した前記残余レジストを洗浄する際には、
前記回転吸着部に吸着支持され
上下方向に
　【請求項２】　レジストが塗着される被塗着物を吸着支持して回転させる回転吸着部と、前記回転吸着部を取り囲み、前記被塗着物にレジストが供給された際に飛散した残余レジストを付着させる塗布チャンバとを備えるレジスト塗布装置の洗浄方法であって、
　周縁部の断面形状が上下方向に傾斜面をなした洗浄治具を前記回転吸着部
で吸着支持し
上下方向に
【発明の詳細な説明】
　【産業上の利用分野】
　本発明はレジスト塗布装置に係わり、塗布チャンバに付着した残余レジストを飛散する洗浄液によって、短時間に効率よく取り除くことができるレジスト塗布装置に関する。
　近年、半導体装置の高集積化を実現するために、パターンの微細化がますます進められている。また、液晶表示装置のような平面ディスプレイにおいては、大面積にわたって微細なパターニングが要求されるようになってきている。
　それに伴い、微細パターンを形成するための各種微細加工技術の開発が精力的に行われている。その中で、ホトリソグラフィ（写真蝕刻法）と呼ばれるホトエッチングを中核としたパターニング技術が現在最も活用されている。
　ホトエッチングによるパターニング技術の中の要素技術の１つに、レジストがある。レジストは、材料や光源に対する感度といった素材に係わる検討もなされているが、パターンの微細化に対応して、如何に薄くしかも均一な厚さにレジストを塗布するかが重要な製造技術となっている。
　【従来の技術】
　レジスト塗布装置には、スピンコータとも呼ばれる回転式のレジスト塗布装置のほかに、スプレー式のレジスト塗布装置やロール式のレジスト塗布装置など、いろいろな塗布装置が用途に応じて利用されている。しかし、極く微細なパターニングを行う際には、レジスト膜を広い面積にわたって、パターン幅に見合って均一に薄く形成しなければならないので、回転式のレジスト塗布装置が最もよく用いられている。
　ところで、レジストは、重合体のポジティブ型にしろ未重合体のネガティブ型にしろ、一般に成膜性をもった有機化合物の有機溶剤溶液からなる。そのため、何れのレジスト塗布装置においても、所定の塗布膜厚に制御したあとの余剰のレジストが装置内のあちこちに付着して残ってしまう。このような残余レジストは、ある時は霧状になりある時は粒状になって、被塗着物に再付着し、レジスト塗布不良が間々生じることが避けられない。しかも、長時間放置して溶剤が蒸発すると、固くなって固着してしまい取り除くことが厄介となる。
　そこで、この残余レジストを固まらないように絶えず溶剤で湿らせながら、洗い流すことが行われている。
　図３は従来の回転式の塗布装置の一例の構成図で、図３（Ａ）は断面図、図３（Ｂ）は要部の斜視図である。図において、１は被塗着物、２は回転吸着部、３は塗布チャンバ、３ａは液受け壁面、３ｂは液受け斜面、３ｃは流下路、３ｄは排液口、３ｅは排気口、４は残余レジスト、５は洗浄液、８ａは上吐液口、８ｂは下吐液口、９はレジスト、１０はレジスト塗布装置である。
　回転式のレジスト塗布装置１０は、上部が開口したお碗型の塗布チャンバ３によって回りを取り囲まれた構造になっている。この塗布チャンバ３の中央部には、図示してないモータに連なって回転し、図示してない真空吸着手段に連なっているテーブル状の回転吸着部２が設けられている。そして、被塗着物１がこの回転吸着部２に吸着支持され回転するようになっている。
　塗布チャンバ３の周辺部には流下路３ｃが設けられており、下方へ螺旋状に下って底部の排液口３ｄに連なっている。また、塗布チャンバ３の底部には排気口３ｅが設けられており、塗布チャンバ３の中を排気するようになっている。
　被塗着物１は、半導体装置を構成する素子の場合にはシリコンウェーハであり、パターン露光用のマスクやディスプレイ素子などを作るような場合には、遮光膜や導体膜が被着されたガラス基板などである。
　この被塗着物１を回転吸着部２に支持して回しながら、レジスト９を塗布チャンバ３の中央部上方から被塗着物１の上に滴下すれば、レジスト９が遠心力によって周囲に薄く広がる。そして、レジスト９の粘度や滴下量、被塗着物１の回転速度などが規定されれば、所定の膜厚のレジスト塗膜が形成される。
　ところで、被塗着物１の周縁部から余って飛び散ったレジスト９は、勢いよく飛ばされて液受け壁面３ａにぶつかったり、あるいは液受け斜面３ｂに沿って流下路３ｃに流れ込むようになっている。ところが、こうして飛び散った残余レジスト４は、次第に溶剤が蒸発すると粘度が高くなって流下し難くなってくる。
　そこで、塗布チャンバ３を取り外して持ち運びできる形態のレジスト塗布装置の場合には、大きな容器の中に洗浄液を入れて、その中に取り外した塗布チャンバ３を浸し、８時間とか１２時間といった長時間掛けて洗浄を行っていた。そして、その間は予備のチャンバと交換して塗布作業が行われていた。
　一方、塗布チャンバ３が取り外せない形態の場合には、液受け壁面３ａの裏側に上吐液口８ａを適宜間隔を開けて複数個設け、液受け斜面３ｂの裏側には下吐液口８ｂを適宜間隔を開けて複数個設ける。そして、この二種類の吐液口８ａ、８ｂから付着した残余レジスト４をよく溶かす洗浄液５を少しずつ吐出させ、残余レジスト４が固まらずに流下路３ｃに流れ落ちるようにしている。
　【発明が解決しようとする課題】
　このように従来のレジスト塗布装置１０においては、塗布チャンバ３が取り外せる場合には、塗布チャンバ３を長時間洗浄液５に浸して付着した残余レジスト４を取り除いていた。こういった洗浄作業は、複数台のレジスト塗布装置１０に対して毎日行うことが必要なので、洗浄に時間と手間が掛かり、大量の洗浄液５を必要とし、しかも浸しただけでは取り切れないので人手による洗浄作業が伴って安全衛生上からも問題があった。
　一方、吐液口８ａ、８ｂから洗浄液５を吐出させて洗浄する場合には、それぞれの吐液口８ａ、８ｂの近傍では洗浄液５の流れに沿って斑模様に残余レジスト４が洗い流されるが、洗浄液５の吐出量の割りには液受け壁面３ａや液受け斜面３ｂの全面を充分に洗浄することができない問題があった。
　そこで本発明においては、回転吸着部に洗浄治具を支持して回転させ、洗浄治具の上下から吐出させた洗浄液を遠心力によって液受け壁面と液受け斜面に飛散させ、短時間にむらなく塗布チャンバ内に付着したレジストを洗浄できる塗布装置を提供することを目的としている。
　【課題を解決するための手段】
　上で述べた課題は、レジストが塗着される被塗着物を吸着支持して回転させる回転吸着部と、前記回転吸着部を取り囲み、前記被塗着物にレジストが供給された際に飛散した残余レジストを付着させる塗布チャンバと、前記回転吸着部に着脱可能
に吸着支持される
、
に
供給する
前記回転吸着部に吸着支持され
上下方向に
　また、周縁部の断面形状が上下方向に傾斜面をなした洗浄治具を前記回転吸着部
で吸着支持し
上下方向に
　【作用】
　従来のレジスト塗布装置においては、吐液口から少しずつ流れ出る洗浄液で塗布チャンバに付着した残余レジストを湿らしながら流し取るのに対して、本発明においては、洗浄液を勢いよくぶつけて完全に取り除くようにしている。
　すなわち、被塗着物に類似の洗浄治具を回転吸着部に支持して回転させ、その周辺部の上方と下方に設けられた吐液口から洗浄液を供給するようにしている。そして、周縁部の断面形状が上下方向に傾斜面をもっている洗浄治具によって洗浄液を上下方向の広い範囲で塗布チャンバ内に飛散させ、液受け壁面や液受け斜面に勢いよくぶつけるようにしている。
　こうすると、液受け壁面や液受け斜面にこびり着いている残余レジストが洗浄液によって叩かれながら洗われるので、短時間に効率よく、しかも完全に残余レジストを流し取ることができる。
　【実施例】
　図１は本発明の一実施例の説明図で、図１（Ａ）は断面図、図１（Ｂ）は要部の拡大断面図、図２は本発明の他の実施例の要部の拡大断面図である。図において、１は被塗着物、２は回転吸着部、３は塗布チャンバ、３ａは液受け壁面、３ｂは液受け斜面、４は残余レジスト、５は洗浄液、６ａは上吐出口、６ｂは下吐出口、７は洗浄治具、１０はレジスト塗布装置である。
　実施例：１
　図１において、レジスト塗布装置１０は従来同様、回転吸着部２が塗布チャンバ３に取り囲まれた構造になっている。そして、塗布チャンバ３の内部には液受け壁面３ａと液受け斜面３ｂが設けられており、例えばシリコンウェーハのような被塗着物１が回転吸着部２に支持されてレジスト塗布された際、飛び散った残余レジスト４が、この液受け壁面３ａと液受け斜面３ｂに付着して受け止められ、流れ落ちるようになっている。
　一方、回転吸着部２に支持された被塗着物１の周縁部の近傍に対面して、上方に上吐出口６ａと下方に下吐出口６ｂがそれぞれ開口している。この吐出口６ａ、６ｂからは、液受け壁面３ａと液受け斜面３ｂに付着した残余レジスト４が溶解する洗浄液５が吐出して、被塗着物１の周縁部に供給されるようになっている。
　洗浄に際しては、被塗着物１を回転させながら吐出口６ａ、６ｂから洗浄液５を吐出させると、洗浄液５が遠心力によって勢いよく飛散する。そして、上吐出口６ａから供給された洗浄液５は主に液受け壁面３ａを洗うように飛び、下吐出口６ｂから供給された洗浄液５は主に液受け斜面３ｂを洗うように飛ぶ。
　こうして、洗浄液５を強制的に液受け壁面３ａと液受け斜面３ｂに付着した残余レジスト４にぶつけるようにして、短時間に効率よく、しかもむらなく完全に洗い流すことができる。
　実施例：２
　実施例１においては、被塗着物１を直接流用して洗浄を行っているが、実施例２においては、洗浄治具７を用いてより効率的に洗浄できるようにしている。
　すなわち、図２において、洗浄治具７は、被塗着物１とほゞ同じ外径の円板からなる。そして、供給された洗浄液５が中央部に流れ寄らずに効率よく周縁部から飛散するように、中央部が断面視凸状に膨出している。また、上吐出口６ａから供給された洗浄液５が効率よく液受け壁面３ａに向かって飛散し、下吐出口６ｂから供給された洗浄液５が効率よく液受け斜面３ｂに向かって飛散するように、周縁部の断面形状が上下方向に傾斜面をもった形状になっている。
　こうして、洗浄治具７を用いれば、被塗着物１をそのまゝ用いて洗浄を行うよりもより効率的に残余レジスト４を取り除くことができる。
　この洗浄治具７は、所定の枚数の被塗着物１に対するレジスト塗布が終わって液受け壁面３ａや液受け斜面３ｂに残余レジスト４が程々に付着した時点で、回転吸着部２に支持されて回転する。そして、上吐出口６ａと下吐出口６ｂから洗浄液５が供給されるようにする。さらに、洗浄治具７は被塗着物１と同様に、ロボット機構などを用いて回転吸着部２に着脱するようにすれば、塗布装置の洗浄を自動的に行うことができる。
　【発明の効果】
　従来のレジスト塗布装置においては、塗布チャンバの内部に付着した残余レジストを洗浄液で湿らせて洗い流そうとしていたのに対して、本発明においては、洗浄液を飛散させて残余レジストにぶつけ、洗い流すようにしている。
　その結果、短時間に効率よく、しかも完全に付着した残余レジストを取り除くことができるようになり、本発明はレジスト塗布工程の歩留りと生産性の向上に寄与するところが大である。
【図面の簡単な説明】
　【図１】　本発明の一実施例の説明図であり、（Ａ）は断面図、（Ｂ）は要部の拡大断面図である。
　【図２】　本発明の他の実施例の要部の拡大断面図である。
　【図３】　従来の回転式の塗布装置の一例の構成図であり、（Ａ）は断面図、（Ｂ）は要部の斜視図である。
　【符号の説明】
　１　被塗着物
　２　回転吸着部
　３　塗布チャンバ　　　　３ａ　液受け壁面　　　　３ｂ　液受け斜面
　４　残余レジスト
　５　洗浄液
　６ａ　上吐出口　　　　　６ｂ　下吐出口
　７　洗浄治具