【事件の表示】
　特許第３０７８５３８号「反射型液晶表示装置の製法」の請求項２に係る特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結　論】
　訂正を認める。
　特許第３０７８５３８号の請求項に係る特許を維持する。
【理　由】
１．手続の経緯
　特許第３０７８５３８号の請求項２に係る発明についての出願は、平成１１年５月２８日に特許出願され、平成１２年６月１６日にその発明についての特許権の設定登録がされ、その後、その特許について、異議申立人セイコーエプソン株式会社により特許異議の申立てがなされ、取消の理由が通知され、その指定期間内である平成１３年７月１６日に訂正請求がなされたものである。
　
２．訂正の適否についての判断
(1) 訂正の内容
　特許権者が求めている訂正の内容は、以下のａ、ｂのとおりである。
　
  ア．訂正事項ａ
　特許請求の範囲の記載
「【請求項２】基板の一方主面上に多数の樹脂製凸部をランダムに並べた凸状配列群を形成し、該凸状配列群上に光反射膜を被覆し、この光反射膜上に透明電極と配向層とを順次積層してなる一方部材と、透明基板上に透明電極と配向層とを順次積層してなる他方部材との間にネマチック型液晶を介在させてマトリックス状に画素を配列せしめてなる反射型液晶表示装置の製法であって、順次下記（ａ）〜（ｆ）の各工程もしくは順次下記（ａ）〜（ｄ），（ｆ）の各工程を経て前記凸状配列群における隣り合う各凸部を接続せしめたことを特徴とする反射型液晶表示装置の製法。
（ａ）工程：基板上に光感光性樹脂を塗布形成する。
（ｂ）工程：上記塗布基板をプリベークする。
（ｃ）工程：上記プリベークした基板に対し、多数のスポットを間隔０．１〜２０μｍにてランダム状態に配置したフォトリソ用マスクを用いて露光をおこなう。
（ｄ）工程：隣り合う各凸部間にて双方の端部が接続され連続的に繋がるまで現像をおこなう。
（ｅ）工程：各凸部の表面形状が大きく変化しない程度に熱溶融させる。
（ｆ）工程：各凸部を加熱硬化する。」を
「【請求項２】基板の一方主面上に多数の樹脂製凸部をランダムに並べた凸状配列群を形成し、該凸状配列群上に光反射膜を被覆し、この光反射膜上に透明電極と配向層とを順次積層してなる一方部材と、透明基板上に透明電極と配向層とを順次積層してなる他方部材との間にネマチック型液晶を介在させてマトリックス状に画素を配列せしめてなる反射型液晶表示装置の製法であって、順次下記（ａ）〜（ｆ）の各工程もしくは順次下記（ａ）〜（ｄ），（ｆ）の各工程を経て前記凸状配列群における隣り合う各凸部を接続せしめたことを特徴とする反射型液晶表示装置の製法。
（ａ）工程：基板上に光感光性樹脂を塗布形成する。
（ｂ）工程：上記塗布基板をプリベークする。
（ｃ）工程：上記プリベークした基板に対し、スポット径が１〜５０μｍである多数のスポットを間隔０．１〜２０μｍにて非接続にランダム状態に配置したフォトリソ用マスクを用いて露光をおこなう。
（ｄ）工程：前記スポットに対応した凸部を形成すべく隣り合う各凸部間にて平坦部が存在しないよう双方の端部が接続され連続的に繋がるまで現像をおこなう。
（ｅ）工程：各凸部の表面形状が大きく変化しない程度に熱溶融させる。
（ｆ）工程：各凸部を加熱硬化する。」と訂正する。
　
　イ．訂正事項ｂ
　明細書第００１２欄の記載
「本発明の他の反射型液晶表示装置の製法は、基板の一方主面上に多数の樹脂製凸部をランダムに並べた凸状配列群を形成し、この凸状配列群上に光反射膜を被覆し、光反射膜上に透明電極と配向層とを順次積層してなる一方部材と、透明基板上に透明電極と配向層とを順次積層してなる他方部材との間にネマチック型液晶を介在させてマトリックス状に画素を配列せしめてなる構成において、順次下記（ａ）〜（ｆ）の各工程もしくは順次下記（ａ）〜（ｄ），（ｆ）の各工程を経て前記凸状配列群における隣り合う各凸部を接続せしめたことを特徴とする。
  （ａ）工程：基板上に光感光性樹脂を塗布形成する。
  （ｂ）工程：上記塗布基板をプリベークする。
  （ｃ）工程：上記プリベークした基板に対し、多数のスポットを間隔０．１〜２０μｍにてランダム状態に配置したフォトリソ用マスクを用いて露光をおこなう。
  （ｄ）工程：隣り合う各凸部間にて双方の端部が接続され連続的に繋がるまで現像をおこなう。
  （ｅ）工程：各凸部の表面形状が大きく変化しない程度に熱溶融させる。
  （ｆ）工程：各凸部を加熱硬化する。」を
「本発明の他の反射型液晶表示装置の製法は、基板の一方主面上に多数の樹脂製凸部をランダムに並べた凸状配列群を形成し、この凸状配列群上に光反射膜を被覆し、光反射膜上に透明電極と配向層とを順次積層してなる一方部材と、透明基板上に透明電極と配向層とを順次積層してなる他方部材との間にネマチック型液晶を介在させてマトリックス状に画素を配列せしめてなる構成において、順次下記（ａ）〜（ｆ）の各工程もしくは順次下記（ａ）〜（ｄ），（ｆ）の各工程を経て前記凸状配列群における隣り合う各凸部を接続せしめたことを特徴とする。
（ａ）工程：基板上に光感光性樹脂を塗布形成する。
（ｂ）工程：上記塗布基板をプリベークする。
（ｃ）工程：上記プリベークした基板に対し、スポット径が１〜５０μｍである多数のスポットを間隔０．１〜２０μｍにて非接続にランダム状態に配置したフォトリソ用マスクを用いて露光をおこなう。
（ｄ）工程：前記スポットに対応した凸部を形成すべく隣り合う各凸部間にて平坦部が存在しないよう双方の端部が接続され連続的に繋がるまで現像をおこなう。
（ｅ）工程：各凸部の表面形状が大きく変化しない程度に熱溶融させる。
（ｆ）工程：各凸部を加熱硬化する。」と訂正する。
　
　なお、訂正請求書の「６．請求の趣旨」「（３）訂正の要旨」中の「訂正事項ｂ」の（ｂ−３）及び（ｂ−４）には、
「（ｂ−３）平成１２年３月１５日付手続補正書の全文訂正明細書【００１２】第５頁７行目の「隣り合う各凸部間にて・・・現像をおこなう。」を「前記スポットに対応した凸部を形成すべく隣り合う各凸部間にて・・・現像をおこなう。」と訂正する。
（ｂ−４）平成１２年３月１５日付手続補正書の全文訂正明細書【００１２】第５頁７行目の「隣り合う各凸部間にて双方の端部が接続され・・・」を「隣り合う各凸部間にて平坦部が存在しないよう双方の端部が接続され・・・」と訂正する。」と記載されており、上記訂正の内容と若干相違しているが、訂正請求書の請求の趣旨は、「特許第３０７８５３８号の明細書を請求書に添付した訂正明細書の通り訂正することを求める」ものであり、また、上記記載は明らかに誤記を含んでいるものであるから、訂正の内容を上記のとおり認定した。
　
(2) 訂正の目的の適否、新規事項の有無、及び、特許請求の範囲の拡張・変更の存否
　上記訂正事項ａは、訂正前の【請求項２】を、その「多数のスポット」の径を「１〜５０μｍ」と、「間隔０．１〜２０μｍにてランダム状態に配置した」「多数のスポット」が非接続状態であることをそれぞれ限定し、さらに、「現像」が「スポットの対応した凸部を形成すべく隣り合う各凸部間にて平坦部が存在しないよう」に行われることを限定したものであり、特許請求の範囲の減縮を目的とした訂正に該当する。そして、「多数のスポット」の径を「１〜５０μｍ」であることは、願書に最初に添付された明細書第００２６欄に記載されており、また、「間隔０．１〜２０μｍにてランダム状態に配置した」「多数のスポット」が非接続状態であることは、同明細書第００２６欄並びに図３及び図４の記載から導き出すことができる事項であり、さらに、「現像」が「スポットの対応した凸部を形成すべく隣り合う各凸部間にて平坦部が存在しないよう」に行われることは、明細書第００２３欄乃至第００３２欄並びに第２図の記載から導き出すことができる事項であるから、新規事項の追加に該当しないし、実質的に特許請求の範囲を拡張又は変更するものではない。
　また、上記訂正事項ｂは、上記訂正事項ａと整合を図るものであるから、明瞭でない記載の釈明を目的とした明細書の訂正に該当し、新規事項の追加に該当せず、実質的に特許請求の範囲を拡張又は変更するものではない。
　
(3) むすび
　したがって、上記訂正は、特許法第１２０条の４第２項及び第３項で準用する第１２６条第２項から第４項までの規定に適合するので、当該訂正を認める。
　
３．特許異議の申立て
(1) 申立ての理由の概要
　申立人セイコーエプソン株式会社は、下記の甲第１、２号証を提出し、請求項２に係る発明の特許は、甲第１号証及び甲第２号証より、第２９条第２項の規定に違反してなされたものであるから、第１１３条第１項第２号に該当するので取り消されるべきものである旨主張している。
　甲第１号証：特開平１１−８４３７５号公報（刊行物１）
　甲第２号証：特開平１０−１８６３５９号公報（刊行物２）
　
(2) 本件発明
　上記２．で示したように上記訂正が認められるから、本件の請求項２に係る発明（以下、「本件発明」という。）は、平成１３年７月１６日付けの訂正請求書により訂正された特許請求の範囲の請求項２に記載されたとおりのものである。（上記訂正事項ａ参照。）
　
(3) 引用刊行物に記載された発明
　当審が平成１３年４月２４日付けの取消理由で通知した各刊行物には、下記の点が記載されている。
　
　ア．特開平１１−８４３７５号公報（刊行物１）
「凹凸構造を有する光反射層を作成する場合、その光拡散特性は周辺からランダムに入射する外光を可能な限り正面方向に反射することが望ましい。凹凸構造と反射特性を解析した結果、ある程度凸部分が平面的に連続している方が望ましいことが判明した。しかしながら、従来の様に感光性樹脂を離散的な円柱にパタニングして凹凸構造を形成する場合、凸部分を平面的に見て連続的に形成することが困難であり、特にプロセス上のばらつきを考慮した場合、形状が容易に変動し望む光学特性を安定に得ることができなかった。」（第０００８欄１行〜１０行）
　
「図１は本発明に係る反射型表示装置の基本的な構造を表わしている。本反射型表示装置は入射側に配置される透明な第１の基板１と、所定の間隙を介して入射側の基板１に接合し反射側に配置される第２の基板２とを用いたフラットパネル構造となっている。上下一対の基板１，２の間隙内でゲストホスト液晶層（電気光学物質層）３が基板１側に位置している。又、同じく間隙内で光反射層９が基板２側に位置している。更に、ゲストホスト液晶層３と光反射層９との間に四分の一波長板層１０が介在している。加えて、基板１及び２側にそれぞれ透明な電極６及び１１が形成されており、ゲストホスト液晶層３に電圧を印加する。なお、各電極６，１１の表面はそれぞれ配向膜６ａ，１１ａで被覆されており、ゲストホスト液晶層３を垂直配向している。このゲストホスト液晶層３はネマティック液晶分子４を主体とし二色性色素５を所定の割合で含有したものである。特徴事項として、光反射層９は表面に凹凸を有し光散乱性を備えているとともに、凸部が平面方向に連続している。光反射層９は凹凸が形成された樹脂膜９ｂとその表面に成膜された金属膜９ａとからなる。樹脂膜９ｂはフォトリソグラフィにより凹凸がパタニングされた感光性樹脂膜である。」（第０００９欄２行〜第０００９欄最終行）
　
「図２は、本発明に係る光反射層の製造方法を示す工程図である。まず（Ａ）に示す様に、ガラスなどからなる基板２の上に感光性樹脂として例えばフォトレジスト９ｒをスピンコートにより所望の厚みで成膜する。次に（Ｂ）に示すように、フォトレジストを選択的に露光現像して凹部９ｐを形成し、残された凸部９ｔが平面的に連続する様にパタニングする。続いて（Ｃ）に示すように、パタニングされたフォトレジスト９ｒを加熱処理によりリフローして凹部９ｐ及び凸部９ｔの形状をなめらかにする。続いて（Ｄ）に示すように、リフロー処理を施されたフォトレジスト９ｒの表面にアクリル樹脂などの透明な樹脂９ｓを塗工して凹部９ｐ及び凸部９ｔの曲率を調整する。この様にして、平面方向に連続した凸部を有する樹脂膜９ｂ（９ｓ＋９ｒ）が得られる。最後に（Ｅ）に示すように、樹脂膜９ｂの凹凸面にスパッタリングなどでアルミニウムなどの金属膜９ａを成膜する。
【００１５】図３は図２の（Ｂ）に示したフォトリソグラフィ工程で用いられるマスクのパタン例を表わしている。このマスクは直径が５μｍ程度の円形パタンを含んでおり凹部９ｐに対応している。残された部分が凸部９ｔとなる。図から明らかな様に、凹部９ｐをある程度連続的に配することで凸部９ｔは平面的に見て連続したパタンとなっている。本実施形態では表示装置の画面の上方向及び下方向との間でほぼ左右方向に沿って凸部９ｔが連続的に配されている。係る構成により、特に画面の上下方向から観察した場合の輝度特性が改善できる。係るマスクを用いてフォトレジスト９ｒをパタニングすることにより、連続する凸部９ｔが安定的に得られる。凹部９ｐをある程度連続して形成することで、自由に凸部９ｔの連続形状が変えられる。」（第００１４欄１行〜第００１５欄最終行）
　
「本発明によれば、表示装置に内蔵された光反射層は表面に凹凸を有し光散乱性を備えているとともに、凸部が平面方向に連続している。係る構成により、反射型表示装置の高輝度化が可能になるとともに、光反射層の安定的な形成が可能となり歩留りの向上につながる。以上により、反射型表示装置の輝度安定化が達成できる。」（第００１８欄１行〜７行）
　
　図１には、反射型液晶表示装置の構造が、図２には、光反射層の形成方法が、図３には、フォトリソグラフィで用いられるマスクパタンが、それぞれ記載されている。
　
　イ．特開平１０−１８６３５９号公報（刊行物２）
「図４は図１に示す反射板８の製造工程を説明する断面図である。図４（１）に示されるように、本実施の形態では厚さｔ１（例として１．１ｍｍ）のガラス基板２（コーニング社製、商品名７０５９）を用いる。ガラス基板２上に、例として東京応化社製、商品名ＯＦＰＲ−８００などの感光性樹脂材料を、５００ｒｐｍ〜３０００ｒｐｍでスピンコートし、レジスト層２１を形成する。本実施の形態では、好適には２５００ｒｐｍで３０秒間スピンコートし、厚さｔ２（例として１．５μｍ）のレジスト膜２１を成膜する。
【００２８】次に、レジスト膜２１が成膜されたガラス基板２を９０℃で３０分間焼成し、次に図４（２）に示すように、後述する大小２種類の円形のパターンが多数形成されたフォトマスク２２を配置して露光し、例として東京応化社製、商品名ＮＭＤ−３の２．３８％溶液からなる現像液で現像を行い、図４（３）に示されるようにガラス基板２の表面に、高さの異なる大突起２３および小突起２４を形成した。このように、高さの異なる２種類以上の突起を形成する理由は、突起の頂上と谷とで反射した光の干渉による反射光の色付きを防ぐためである。
【００２９】前記フォトマスク２２は、これによって形成される図２に示す大突起４および小突起５の配列状態に示すように、直径Ｄ１（例として５μｍ）と、直径Ｄ２（例として３μｍ）の円がランダムに配置された構成であり、各円の間隔Ｄ３は少なくとも２μｍ以上であるように選ばれる。なお、フォトマスク２２のパターンはこれに限定されるものではない。図４（３）の製造段階のガラス基板２を、２００℃で１時間加熱し、図４（４）に示されるように突起２３、２４の頂部を若干程度溶融して円弧状に形成した。さらに図４（５）に示すように、図４（４）の製造段階のガラス基板２上に、前記感光性樹脂材料と同一の材料を１０００ｒｐｍ〜３０００ｒｐｍでスピンコートする。本実施の形態では好適には２０００ｒｐｍでスピンコートする。これにより、各突起２３、２４の間の凹所が埋められ、形成された平滑化膜６の表面を比較的緩やかでかつ滑らかな曲面状に形成することができる。
【００３０】さらに、平滑化膜６の表面にアルミニウム、ニッケル、クロムあるいは銀などの金属薄膜を膜厚ｔ３（例として０．０１〜１．０μｍ）程度に形成する。本実施の形態ではアルミニウムをスパッタリングして、反射金属膜７を形成する。
【００３１】各ガラス基板２、３上に、ポリイミド樹脂膜を形成し、２００℃で１時間焼成する。この後、前記液晶分子２０を配向させるためのラビング処理を行う。これにより配向膜９、１１が形成される。これらのガラス基板２、３間を封止するシール材１２は、例として直径６μｍのスペーサを混入した接着性シール材をスクリーン印刷することによって形成される。」（第００２７欄１行〜第００３１欄最終行）
　
(4) 対比・判断
　特許異議申立人セイコーエプソン株式会社が提出した刊行物１、２のいずれにも、本件発明が具備する「スポット径が１〜５０μｍである多数のスポットを間隔０．１〜２０μｍにて非接続にランダム状態に配置したフォトリソ用マスクを用いて露光をおこな」い、「前記スポットに対応した凸部を形成すべく隣り合う各凸部間にて平坦部が存在しないよう双方の端部が接続され連続的に繋がるまで現像をおこなう」ことについては、記載も示唆もされていない。そして、この点が当業者にとって容易に想定できる根拠も見当たらない。
　してみると、本件発明は、異議申立人セイコーエプソン株式会社が提出した刊行物１，２に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明できたものではない。
　したがって、本件発明の特許は、特許異議申立ての理由及び証拠によっては取り消すことができない。
　
(5) むすび
　以上のとおりであるから、特許異議申立ての理由及び証拠によっては、本件請求項２に係る発明の特許を取り消すことはできない。
　また、他に本件請求項２に係る発明の特許を取り消すべき理由を発見しない。
　よって、結論のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１３年７月２７日（２００１．７．２７）
【訂正の要旨】
訂正の要旨
　ア．訂正事項ａ
　特許請求の範囲の記載
「【請求項２】基板の一方主面上に多数の樹脂製凸部をランダムに並べた凸状配列群を形成し、該凸状配列群上に光反射膜を被覆し、この光反射膜上に透明電極と配向層とを順次積層してなる一方部材と、透明基板上に透明電極と配向層とを順次積層してなる他方部材との間にネマチック型液晶を介在させてマトリックス状に画素を配列せしめてなる反射型液晶表示装置の製法であって、順次下記（ａ）〜（ｆ）の各工程もしくは順次下記（ａ）〜（ｄ），（ｆ）の各工程を経て前記凸状配列群における隣り合う各凸部を接続せしめたことを特徴とする反射型液晶表示装置の製法。
（ａ）工程：基板上に光感光性樹脂を塗布形成する。
（ｂ）工程：上記塗布基板をプリベークする。
（ｃ）工程：上記プリベークした基板に対し、多数のスポットを間隔０．１〜２０μｍにてランダム状態に配置したフォトリソ用マスクを用いて露光をおこなう。
（ｄ）工程：隣り合う各凸部間にて双方の端部が接続され連続的に繋がるまで現像をおこなう。
（ｅ）工程：各凸部の表面形状が大きく変化しない程度に熱溶融させる。
（ｆ）工程：各凸部を加熱硬化する。」を
「【請求項２】基板の一方主面上に多数の樹脂製凸部をランダムに並べた凸状配列群を形成し、該凸状配列群上に光反射膜を被覆し、この光反射膜上に透明電極と配向層とを順次積層してなる一方部材と、透明基板上に透明電極と配向層とを順次積層してなる他方部材との間にネマチック型液晶を介在させてマトリックス状に画素を配列せしめてなる反射型液晶表示装置の製法であって、順次下記（ａ）〜（ｆ）の各工程もしくは順次下記（ａ）〜（ｄ），（ｆ）の各工程を経て前記凸状配列群における隣り合う各凸部を接続せしめたことを特徴とする反射型液晶表示装置の製法。
（ａ）工程：基板上に光感光性樹脂を塗布形成する。
（ｂ）工程：上記塗布基板をプリベークする。
（ｃ）工程：上記プリベークした基板に対し、スポット径が１〜５０μｍである多数のスポットを間隔０．１〜２０μｍにて非接続にランダム状態に配置したフォトリソ用マスクを用いて露光をおこなう。
（ｄ）工程：前記スポットに対応した凸部を形成すべく隣り合う各凸部間にて平坦部が存在しないよう双方の端部が接続され連続的に繋がるまで現像をおこなう。
（ｅ）工程：各凸部の表面形状が大きく変化しない程度に熱溶融させる。
（ｆ）工程：各凸部を加熱硬化する。」と訂正する。
　イ．訂正事項ｂ
　明細書第００１２欄の記載
「本発明の他の反射型液晶表示装置の製法は、基板の一方主面上に多数の樹脂製凸部をランダムに並べた凸状配列群を形成し、この凸状配列群上に光反射膜を被覆し、光反射膜上に透明電極と配向層とを順次積層してなる一方部材と、透明基板上に透明電極と配向層とを順次積層してなる他方部材との間にネマチック型液晶を介在させてマトリックス状に画素を配列せしめてなる構成において、順次下記（ａ）〜（ｆ）の各工程もしくは順次下記（ａ）〜（ｄ），（ｆ）の各工程を経て前記凸状配列群における隣り合う各凸部を接続せしめたことを特徴とする。
　（ａ）工程：基板上に光感光性樹脂を塗布形成する。
　（ｂ）工程：上記塗布基板をプリベークする。
　（ｃ）工程：上記プリベークした基板に対し、多数のスポットを間隔０．１〜２０μｍにてランダム状態に配置したフォトリソ用マスクを用いて露光をおこなう。
　（ｄ）工程：隣り合う各凸部間にて双方の端部が接続され連続的に繋がるまで現像をおこなう。
　（ｅ）工程：各凸部の表面形状が大きく変化しない程度に熱溶融させる。
　（ｆ）工程：各凸部を加熱硬化する。」を
「本発明の他の反射型液晶表示装置の製法は、基板の一方主面上に多数の樹脂製凸部をランダムに並べた凸状配列群を形成し、この凸状配列群上に光反射膜を被覆し、光反射膜上に透明電極と配向層とを順次積層してなる一方部材と、透明基板上に透明電極と配向層とを順次積層してなる他方部材との間にネマチック型液晶を介在させてマトリックス状に画素を配列せしめてなる構成において、順次下記（ａ）〜（ｆ）の各工程もしくは順次下記（ａ）〜（ｄ），（ｆ）の各工程を経て前記凸状配列群における隣り合う各凸部を接続せしめたことを特徴とする。
（ａ）工程：基板上に光感光性樹脂を塗布形成する。
（ｂ）工程：上記塗布基板をプリベークする。
（ｃ）工程：上記プリベークした基板に対し、スポット径が１〜５０μｍである多数のスポットを間隔０．１〜２０μｍにて非接続にランダム状態に配置したフォトリソ用マスクを用いて露光をおこなう。
（ｄ）工程：前記スポットに対応した凸部を形成すべく隣り合う各凸部間にて平坦部が存在しないよう双方の端部が接続され連続的に繋がるまで現像をおこなう。
（ｅ）工程：各凸部の表面形状が大きく変化しない程度に熱溶融させる。
（ｆ）工程：各凸部を加熱硬化する。」と訂正する。
（５４）【発明の名称】
反射型液晶表示装置の製法
（５７）【特許請求の範囲】
　【請求項１】基板の一方主面上に多数の樹脂製凸部をランダムに並べた凸状配列群を形成し、該凸状配列群上にストライプ状光反射性電極群を被覆し、このストライプ状光反射性電極群上に配向層を積層してなる一方部材と、透明基板上にストライプ状透明電極群と配向層とを順次積層してなる他方部材とを、これらストライプ状光反射性電極群とストライプ状透明電極群とが交差するようにネマチック型液晶を介して貼り合わせて、マトリックス状に画素を配列せしめてなる反射型液晶表示装置の製法であって、順次下記（ａ）〜（ｆ）の各工程もしくは順次下記（ａ）〜（ｄ），（ｆ）の各工程を経て前記凸状配列群における隣り合う各凸部を接続せしめたことを特徴とする反射型液晶表示装置の製法。
（ａ）工程：基板上に光感光性樹脂を塗布形成する。
（ｂ）工程：上記塗布基板をプリベークする。
（ｃ）工程：上記プリベークした基板に対し、多数のスポットを間隔０．１〜２０μｍにてランダム状態に配置したフォトリソ用マスクを用いて露光をおこなう。
（ｄ）工程：隣り合う各凸部間にて双方の端部が接続され連続的に繋がるまで現像をおこなう。
（ｅ）工程：各凸部の表面形状が大きく変化しない程度に熱溶融させる。
（ｆ）工程：各凸部を加熱硬化する。
　【請求項２】基板の一方主面上に多数の樹脂製凸部をランダムに並べた凸状配列群を形成し、該凸状配列群上に光反射膜を被覆し、この光反射膜上に透明電極と配向層とを順次積層してなる一方部材と、透明基板上に透明電極と配向層とを順次積層してなる他方部材との間にネマチック型液晶を介在させてマトリックス状に画素を配列せしめてなる反射型液晶表示装置の製法であって、順次下記（ａ）〜（ｆ）の各工程もしくは順次下記（ａ）〜（ｄ），（ｆ）の各工程を経て前記凸状配列群における隣り合う各凸部を接続せしめたことを特徴とする反射型液晶表示装置の製法。
（ａ）工程：基板上に光感光性樹脂を塗布形成する。
（ｂ）工程：上記塗布基板をプリベークする。
（ｃ）工程：上記プリベータした基板に対し、
スポット径が１〜５０μｍである
非接続に
（ｄ）工程：
前記スポットに対応した凸部を形成すべく
平坦部が存在しないよう
（ｅ）工程：各凸部の表面形状が大きく変化しない程度に熱溶融させる。
（ｆ）工程：各凸部を加熱硬化する。
【発明の詳細な説明】
　【０００１】
　【発明の属する技術分野】
本発明は反射型液晶表示装置の製法に関するものである。
　【０００２】
　【従来の技術】
近年、液晶表示装置は小型もしくは中型の携帯情報端末やノートパソコンの他に、大型かつ高精細のモニターにまで使用されている。さらにバックライトを使用しない反射型液晶表示装置の技術も開発されており、薄型、軽量および低消費電力化に優れている。
　【０００３】
反射型液晶表示装置には、後方に配設した基板の面上に鏡面にした光反射層を設け、前方に配設した基板の外側に散乱板を設けた機能分離型と、後方に配設した基板に対し凹凸形状の光反射層を形成した散乱反射型とがあるが、双方の型ともにバックライトを用いないことで、周囲の光を有効に利用している。
　【０００４】
散乱反射型液晶表示装置を図１３に示す（特開平４−２４３２２６号参照）。
液晶表示装置１において、ガラス基板２の上にフォトリソ工程により樹脂からなるほぼ半球状の凸部３を多数ランダムに並べることで凸状配列群を形成し、凸状配列群上に金属からなる光反射層４を被覆し、光反射層４上に配向膜５を被覆し、また、ガラス基板６上にカラーフィルタ７を形成し、カラーフィルタ７の上にオーバーコート層８を被覆し、オーバーコート層８上にＩＴＯなどからなる透明電極９を帯状に複数配列し、さらに配向膜１０を被覆する。そして、双方の基板を液晶１１を介して対向配設し、液晶１１はシール部材１２により囲まれた領域内に充填され、ガラス基板６の外面に第１位相差フィルム１３と第２位相差フィルム１４と偏光板１５とを順次形成する。
　【０００５】
上記光反射層４については、凸状配列群上にＡｌなどの金属膜をスパッタリングにより被覆する。このＡｌ膜は多数の帯を平行に配列したものであり、各帯状膜が個々の電極（光反射層４）に相当する。
　【０００６】
上記構成の液晶表示装置１においては、偏光板１５、第２位相差フィルム１４、ガラス基板６および液晶１１を通して光入射されると、入射光が光反射層４にて光反射され、その反射光がふたたび液晶１１を通して出射されることで散乱反射型の装置構成となる。
　【０００７】
　【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記構成の液晶表示装置１においては、フォトリソ工程により凸状配列群を形成するに際し、再現性と量産性を高めるために各凸部３を隔離させるが、その反面、各凸部３の間に平坦部Ｈが存在し、この平坦部Ｈ上にも光反射層４としてＡｌ膜が被覆され、これにより、凸状配列群の平坦度が上がり、正反射成分が増大し、その結果、光散乱性が低下していた。
　【０００８】
この課題を解消するために、ふたたびフォトリソ工程でもって平坦部Ｈ上に凸部を設けたり、あるいは凸状配列群上に樹脂を被覆して滑らかにする技術が提案されているが、そのような工程を加えることで生産コストが上がっていた。
　【０００９】
したがって本発明の目的は凸状配列群による光散乱性を向上させることで、視野角を広くし、これによって良好な表示特性をもつ高性能かつ高信頼性の反射型液晶表示装置の製法を提供することにある。
　【００１０】
また、本発明の他の目的は生産コストを下げて、かかる高性能かつ高信頼性の反射型液晶表示装置の製法を提供することにある。
　【００１１】
　【課題を解決するための手段】
本発明の反射型液晶表示装置の製法は、基板の一方主面上に多数の樹脂製凸部をランダムに並べた凸状配列群を形成し、この凸状配列群上に光反射性電極を被覆し、光反射性電極上に配向層を積層してなる一方部材と、透明基板上に透明電極と配向層とを順次積層してなる他方部材との間にネマチック型液晶を介在させてマトリックス状に画素を配列せしめてなる構成において、順次下記（ａ）〜（ｆ）の各工程もしくは順次下記（ａ）〜（ｄ），（ｆ）の各工程を経て前記凸状配列群における隣り合う各凸部を接続せしめたことを特徴とする。
（ａ）工程：基板上に光感光性樹脂を塗布形成する。
（ｂ）工程：上記塗布基板をプリベークする。
（ｃ）工程：上記プリベークした基板に対し、多数のスポットを間隔０．１〜２０μｍにてランダム状態に配置したフォトリソ用マスクを用いて露光をおこなう。
（ｄ）工程：隣り合う各凸部間にて双方の端部が接続され連続的に繋がるまで現像をおこなう。
（ｅ）工程：各凸部の表面形状が大きく変化しない程度に熱溶融させる。
（ｆ）工程：各凸部を加熱硬化する。
　【００１２】
本発明の他の反射型液晶表示装置の製法は、基板の一方主面上に多数の樹脂製凸部をランダムに並べた凸状配列群を形成し、この凸状配列群上に光反射膜を被覆し、光反射膜上に透明電極と配向層とを順次積層してなる一方部材と、透明基板上に透明電極と配向層とを順次積層してなる他方部材との間にネマチック型液晶を介在させてマトリックス状に画素を配列せしめてなる構成において、順次下記（ａ）〜（ｆ）の各工程もしくは順次下記（ａ）〜（ｄ），（ｆ）の各工程を経て前記凸状配列群における隣り合う各凸部を接続せしめたことを特徴とする。
（ａ）工程：基板上に光感光性樹脂を塗布形成する。
（ｂ）工程：上記塗布基板をプリベークする。
（ｃ）工程：上記プリベークした基板に対し、スポット径が１〜５０μｍである多数のスポットを間隔０．１〜２０μｍにて非接続にランダム状態に配置したフォトリソ用マスクを用いて露光をおこなう。
（ｄ）工程：前記スポットに対応した凸部を形成すべく隣り合う各凸部間にて平坦部が存在しないよう双方の端部が接続され連続的に繋がるまで現像をおこなう。
（ｅ）工程：各凸部の表面形状が大きく変化しない程度に熱溶融させる。
（ｆ）工程：各凸部を加熱硬化する。
　【００１３】
　【発明の実施の形態】
以下、本発明を図１〜図１２によって詳述する。図１は反射型液晶表示装置の断面概略図、図２は凸状配列群の形成工程図、図３は凸状配列群を形成するためのフォトマスクの平面図、図４は他のフォトマスクの平面図である。また、図５は現像時間と凸状配列群の凹凸高低差との関係を示し、図６は現像時間の違いによる光感光性樹脂層の形状変化を示す。図７は凸状配列群の拡大図、図８は凸状配列群の写真図であって、図９は他の凸状配列群の拡大図である。さらに図１０は本発明の他の反射型液晶表示装置の断面概略図、図１１は反射特性を測定するための仮想部材の断面概略図である。図１２は仮想部材の散乱特性を示す。なお、図１３に示す従来の液晶表示装置１と同一箇所には同一符号を付す。
　【００１４】
反射型液晶表示装置
図１によりカラー表示用の反射型液晶表示装置１６を説明する。２はセグメント側のガラス基板（０．７ｍｍ厚）、６はコモン側のガラス基板（０．７ｍｍ厚）であって、前記一方部材については、ガラス基板２の一方主面上に樹脂からなるほぼ半球状の凸部１７（径：１０〜１５μｍ）を多数配列することで凸状配列群を形成し、凸状配列群上にクロムやアルミニウム、銀などの金属からなる光反射層４を膜厚１０００Åで被覆している。光反射層４は多数の帯を平行に配列したものであり、各帯状膜が個々の電極１８に相当する。
　【００１５】
そして、光反射層４上に一定方向にラビングしたポリイミド樹脂からなる配向膜５を被覆する。光反射層４を被覆した凸状配列群と配向膜５との間に樹脂やＳｉＯ２からなる平滑膜をスパッタリング法やディップ法、印刷法、スピンナー法等でもって形成してもよい。
　【００１６】
前記他方部材については、ガラス基板６上に画素ごとに配したカラーフィルタ７を形成している。カラーフィルタ７は顔料分散方式、すなわちあらかじめ顔料（赤、緑、青）により調合された感光性レジストを基板上に塗布し、フォトリソグラフィにより形成している。その上にアクリル系樹脂からなるオーバーコート層８と、多数平行に配列したＩＴＯからなる透明電極９とを形成している。透明電極９は上記電極１８と直交している。ただし、オーバーコート層８は必須不可欠ではなく、カラーフィルタ７上に直に透明電極９を形成することで、オーバーコート層８を除外してもよい。さらに透明電極９上に一定方向にラビングしたポリイミド樹脂からなる配向膜１０を形成している。なお、配向膜１０は透明電極９上に直に成膜形成しているが、配向膜１０と透明電極９との間に樹脂やＳｉＯ２などからなる絶縁膜を介在させてもよい。
　【００１７】
そして、上記構成の一方部材および他方部材を、たとえば２００〜２６０°の角度でツイストされたカイラルネマチック液晶からなる液晶１１を介してシール部材１２により貼り合わせる。また、両部材間には液晶１１の厚みを一定にするためにスペーサを多数個配している。
　【００１８】
さらにガラス基板６の外側にポリカーボネイトなどからなる第１位相差フィルム１３と第２位相差フィルム１４とヨウ素系の偏光板１５とを順次形成する。これらの配設については、アクリル系の材料からなる粘着材を塗布することで貼り付ける。
　【００１９】
上記構成の液晶表示装置１６においては、太陽光、蛍光灯などの外部照明による入射光は偏光板１５、第２位相差フィルム１４、第１位相差フィルム１３を通して、さらにガラス基板６を通過し、カラーフィルタ７、液晶１１を通して光反射層４に到達し、光反射層４にて光反射され、その反射光が出射される。
　【００２０】
〔凸状配列群の形成方法〕
ガラス基板２上の凸状配列群は、図２に示すように（ａ）〜（ｇ）の各工程を経て形成する。
　【００２１】
（ａ）工程
ジエチレングリコールメチルエチルエーテルを溶媒とする光感光性樹脂（商品：ＰＣ３３９Ｈ・ＪＳＲ株式会社製）をスピンコート塗布する。この樹脂の膜厚はスピンナ回転数により制御でき、本例ではスピンナ回転数を１０００ｒｐｍにして２μｍ程度の厚さのポジ型光感光性樹脂を塗布した。
　【００２２】
（ｂ）工程
上記のように塗布された基板を、たとえば９０℃の温度で２分間、ホットプレートによりプリベークした。
　【００２３】
（ｃ）工程
つぎにフォトリソ用マスクを用いて露光をおこなう。この露光は基板の法線方向にＵＶを用いて全面露光する。
　【００２４】
このフォトリソ用マスクを図３または図４に示す。フォトマスク１９はガラス基板２０上にＣｒ金属や酸化鉄などからなる多数の円状スポット２１（たとえば１５μｍ径）をランダム状態に配置したものであり、画像表示面が５．７インチサイズである場合、一表示面に対応するガラス基板２０上には約１０００万個のスポットが配置される。
　【００２５】
また、スポットは円状以外に、図４に示すフォトマスク２２のように、たとえば四角形、五角形、六角形、さらにそれ以上の多角形スポット２３であってもよいが、見る方向によって散乱特性に違いが生じないように円形にするのがよい。そして、このスポット形状とほぼ同一形状の凸部１７を形成される。
　【００２６】
さらにスポット径およびスポット間隔を規定するのが望ましい。すなわちスポット径を１〜５０μｍに、好適には３〜１５μｍにすることで、同じレジスト膜厚で多くの凹凸を形成でき、良好な散乱特性が得られる。しかも、各スポットの間隔を０．１〜２０μｍ、好適には４〜７μｍにすることで、露光および現像の後に凹凸性状が連続的につながり、これによって良好な散乱特性が得られる。
　【００２７】
（ｄ）工程
（ｃ）工程を経た後、現像をおこなう。現像液としては、たとえばＪＳＲ株式会社製のＰＤ５２３ＡＤ（濃度０．０５％）を使用する。そして、現像時間を変えることで現像の進行を加減することができるが、現像を適度に止めることで、隣り合う各凸部間にて双方の端部が接続され、連続的に繋がる。
　【００２８】
図５および図６により現像の進行程度による凸部の状態を示す。図５において、現像時間による凹凸高低差を示し、横軸は現像時間（秒）であり、縦軸は凹凸高低差（μｍ）であり、黒点は測定データである。現像時間が約２５秒までは時間の増大するにしたがって凹凸高低差が大きくなるが、現像時間が約２５秒を超えると、ガラス基板２が露出され、現像による深度が一定になることで凹凸高低差の変動が非常に小さくなっている。
　【００２９】
図６においては、測定データである黒点のうち（ａ）と（ｂ）と（ｃ）について、それぞれのガラス基板２上の凸状配列群の断面形状を示す。
　【００３０】
たとえば、現像時間を２０秒にすればよいが、この現像時間もレジスト塗布量、現像液濃度、プリベーク条件等により適宜変えればよい。
　【００３１】
なお、（ｃ）工程の露光においては、ＵＶがフォトマスク１９、２２を通過することで干渉が生じることで、これらマスクの直ぐ下の部分の樹脂もわずかに光分解反応しているので、その後の現像工程（ｄ）により凸部の角部が丸くなる。
　【００３２】
（ｅ）工程
この加熱処理でもって、たとえば低温（１３０℃、２分）にて表面形状が大きく変化しない程度に熱溶融させる。
　【００３３】
（ｆ）工程
つぎのポストベークでもって、たとえば高温（２００℃、３０分）にて全体を硬化させる。
　【００３４】
このように（ｅ）工程によって若干溶解させて表面形状をなめらかにして、凹凸形状に対し微調整をおこない、ついで（ｆ）工程により硬化させる。
　【００３５】
（ｇ）工程
最後に凸状配列群上にスパッタリングや蒸着法でもってクロムやアルミニウム、銀などの金属からなる光反射層４を、たとえば膜厚１０００Åで被覆する。
　【００３６】
以上の各工程（ａ）〜（ｇ）を経て得られた光反射層４が被覆された凸状配列群に対し、その表面性状をスキャニングしたり、写真撮影をおこなった。
　【００３７】
図７はキーエンス製表面形状測定顕微鏡を用いて、その形状をスキャニングしたものであって、横軸（Ｘ）はスキャニング方向であり、縦軸（Ｚ）は高さを示し、各単位はμｍである。
　【００３８】
また、図８は光学式顕微鏡（オリンパス製ＢＨ３ＭＪＬ）を用いて５００倍にて写真撮影した撮影図である。
　【００３９】
これらの図から明らかなとおり、熱溶融により凸部が滑らかな形状になり、さらに隣り合う各凸部が接続されている。
　【００４０】
かくして本発明の液晶表示装置１６によれば、凸状配列群の隣り合う各凸部１７が接続されているので、各凸部１７の間に前述したような平坦部Ｈが存在しなくなり、これにより、凸状配列群の平坦度が低下し、正反射成分が減少し、光散乱性が改善され、その結果、視野角が広くなった。
　【００４１】
なお、写真にて確認した限りでは、凸状配列群における隣り合う各凸部１７がほぼ全面的に接続されているが、部分的にわずかに非接続部分があっても光散乱性が改善されることから本発明の技術範囲内である。
　【００４２】
また、凸状配列群を形成するに当たり、（ｅ）工程の加熱処理（表面形状が大きく変化しない程度の熱溶融工程）を除外して、その他の各工程（ａ）〜（ｄ）、（ｆ）、（ｇ）でもって形成してもよい。
　【００４３】
このように（ｅ）工程が除かれた形成方法によって光反射層４が被覆された凸状配列群を設け、その表面性状をスキャニングしたところ、図９に示すような結果が得られた。
　【００４４】
熱溶融しない場合には、凸部形状は上面に若干の平坦部が存在することがわかるが、同様に正反射成分が減少し、光散乱性が改善され、視野角が広くなった。
　【００４５】
他の反射型液晶表示装置
つぎに他の反射型液晶表示装置を説明する。ただし、凸部１７に対する好適な数値範囲については、以下の各種反射型液晶表示装置に対しても適用される。
　【００４６】
図１０に示すカラー表示用の反射型液晶表示装置２５においては、２６はコモン側のガラス基板（０．７ｍｍ厚）、２７はセグメント側のガラス基板（０．７ｍｍ厚）であって、前記一方部材については、ガラス基板２６の一方主面上に樹脂からなるほぼ半球状の凸部１７を多数配列することで、前記液晶表示装置１６と同じようなランダム性の凸状配列群を形成し、この凸状配列群上にクロムやアルミニウム、銀などの金属からなる光反射層４（膜厚１０００Å）を被覆している。そして、凸状配列群上に画素ごとに配したカラーフィルタ７を形成している。さらにアクリル系樹脂からなるオーバーコート層８と、多数平行に配列したＩＴＯからなる透明電極２８とを形成している。この透明電極２８上に一定方向にラビングしたポリイミド樹脂からなる配向膜２９を形成している。
　【００４７】
前記光反射層４には上記金属層に代えて、金属層と低屈折率層と高屈折率層とを順次積層したものであってもよい。かかる高屈折率層と低屈折率層については、双方間にて屈折率に差があればよく、さまざまな材料でもって構成できる。たとえば、高屈折率層の屈折率は２．０〜２．７の範囲にするよく、そのためにＴｉＯ２、ＺｒＯ２、ＳｎＯ２などで構成するとよく、低屈折率層の屈折率は１．３〜１．７の範囲にするよく、そのためにＳｉＯ２、ＡｌＦ３、ＣａＦ２、ＭｇＦ２などで構成するとよい。
　【００４８】
なお、配向膜２９は透明電極２８上に直に成膜形成しているが、配向膜２９と透明電極２８との間に樹脂やＳｉＯ２などからなる絶縁膜を介在させてもよく、しかも、オーバーコート層８は設けなくてもよい。さらに凸状配列群上に樹脂やＳｉＯ２からなる平滑膜を形成し、この平滑膜上に画素ごとに配したカラーフィルタ７を形成してもよい。
　【００４９】
他方部材については、ガラス基板２７上に多数平行に配列したＩＴＯからなる透明電極３０と、一定方向にラビングしたポリイミド樹脂からなる配向膜３１とを順次形成している。透明電極３０と配向膜３１との間に樹脂やＳｉＯ２からなる絶縁層を介在させてもよい。
　【００５０】
そして、上記構成の一方部材および他方部材を液晶１１を介してシール部材１２により貼り合わせる。さらにガラス基板２７の外側にポリカーボネイトなどからなる第１位相差フィルム１３と第２位相差フィルム１４とヨウ素系の偏光板１５とを順次形成する。
　【００５１】
上記構成の液晶表示装置２５においては、太陽光、蛍光灯などの外部照明による入射光はガラス基板２７を通過し、液晶１１、カラーフィルタ７などを通して光反射層４に到達し、光反射層４にて光反射され、その反射光が出射される。
　【００５２】
かくして本発明の液晶表示装置２５においても、凸状配列群の隣り合う各凸部１７を上述のように接続形成することで、各凸部１７の間に平坦部Ｈが存在しなくなり、これにより、凸状配列群の平坦度が低下し、正反射成分が減少し、光散乱性が改善され、その結果、視野角が広くなった。
　【００５３】
上記液晶表示装置２５においては、ガラス基板２６上に凸部１７を多数配列してランダム性の凸状配列群を形成し、この凸状配列群上に光反射層４を被覆した構成であるが、これに代えてガラス基板２７上に凸部を多数配列した凸状配列群を形成し、この凸状配列群上に光反射層を被覆し、そして、樹脂やＳｉＯ２などからなる平滑膜を形成し、その上に多数平行に配列したＩＴＯからなる透明電極３０と、一定方向にラビングしたポリイミド樹脂からなる配向膜３１とを順次形成し、第１位相差フィルム１３と第２位相差フィルム１４と偏光板１５をガラス基板２６の外面に配設し、ガラス基板２６側より光入射するように構成してもよい。
　【００５４】
光散乱性の測定
つぎに図１１に示すような液晶表示装置１６の仮想構造である反射部材３２を作成した。
　【００５５】
反射部材３２はガラス基板２の上に前述とおりに隣り合う各凸部１７間にて接続された凸状配列群を形成し、この凸状配列群上に光反射層４（膜厚１０００Å）を被覆し、その上にアクリル系の樹脂から成る透明樹脂層３３（屈折率：１．５３）を５０μｍ程度の厚みでもって形成し、さらにガラス基板６を配設したものである。
　【００５６】
そして、反射部材３２に対する法線から３０°の角度でもって入射光（光源：ハロゲンランプ）を投光し、その反射光の輝度を、その法線からの角度を変えることで測定し、その反射率を測定したところ、図１２に示すような結果が得られた。なお、反射率は標準白色板基準（ＪＩＳ）に基づいてＭｇＯに光を照射し、その反射率を１００％として、その相対値でもって表す。
　【００５７】
このように形成した凸状配列群において、図２に示すように（ａ）〜（ｇ）の各工程すべてを経て凸状配列群を形成した場合を（イ）、（ｅ）工程の熱溶融処理を除外して形成した場合を（ロ）とした。
　【００５８】
また、上記反射部材３２において、隣り合う各凸部１７間にて接続された凸状配列群に代えて、従来の液晶表示装置１に形成したような各凸部１７が離隔した凸状配列群を設けて、同じ評価実験をおこなったところ、（ハ）の結果が得られた。
　【００５９】
図１２から明らかなとおり、本発明の（イ）および（ロ）については、従来の構成に係る（ハ）に比べ、凸部による光散乱性を向上し、これにより、視野角が広くなった。とくに（イ）は凸部に対する滑らかさに優れていることで、（ロ）に比べて視野角が広くなった。
　【００６０】
また、本発明の反射型液晶表示装置１６（散乱反射型）と、従来の機能分離型の反射型液晶表示装置について、コントラストおよび反射率を測定したところ、下記のような結果が得られた。
　【００６１】
散乱反射型の反射型液晶表示装置
コントラスト：１１．５
白表示時の反射率（％）：１３．４
黒表示時の反射率（％）：１．１７
機能分離型の反射型液晶表示装置
コントラスト：５．５
白表示時の反射率（％）：１３．７
黒表示時の反射率（％）：２．４７
この結果から明らかなとおり、本発明の反射型液晶表示装置１６は従来の機能分離型の反射型液晶表示装置に比べてコントラストが約２倍に向上し、光散乱性についても散乱反射型の方が向上した。
　【００６２】
なお、本発明は上記実施形態例に限定されるものでなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内で種々の変更や改善などは何ら差し支えない。
　【００６３】
たとえば、上記の実施形態においては、ＳＴＮ型単純マトリックスタイプのカラー液晶表示装置でもって説明しているが、その他にモノクロのＳＴＮ型単純マトリックスタイプの液晶表示装置であっても、あるいはＴＮ型単純マトリックスタイプの液晶表示装置やＴＮ型アクティブマトリックスタイプなどのツイストネマチック型液晶表示装置であっても、さらに双安定型の液晶表示装置でも同様な作用効果が得られる。
　【００６４】
　【発明の効果】
以上のとおり、本発明の反射型液晶表示装置の製法によれば、散乱反射型にて設けた凸状配列群を構成する各凸部において、隣り合う各凸部が接続されていることで、光散乱性能が向上し、視野角が広くなり、これによって良好な表示特性をもつ高性能かつ高信頼性の反射型液晶表示装置が提供できた。
　【００６５】
しかも、発明においては、凸状配列群を形成するに際し、現像の進行を適度に止めることで、隣り合う各凸部間にて双方の端部が接続され、連続的に繋がることから生産コストを低減できた。
【図面の簡単な説明】
　【図１】本発明の反射型液晶表示装置の断面概略図である。
　【図２】（ａ），（ｂ），（ｃ），（ｄ），（ｅ），（ｆ），（ｇ）は凸状配列群を形成するための各工程図である。
　【図３】本発明に係る凸状配列群のランダム性を示すフォトマスクの平面図である。
　【図４】本発明に係る凸状配列群のランダム性を示す他のフォトマスクの平面図である。
　【図５】凸状配列群の形成に係る現像時間と凸状配列群の凹凸高低差との関係を示す線図である。
　【図６】（ａ），（ｂ），（ｃ）は凸状配列群の形成に係る現像時間に違いによる光感光性樹脂層の形状変化を示す概略図である。
　【図７】本発明に係る凸状配列群の断面拡大図である。
　【図８】本発明に係る凸状配列群の写真図である。
　【図９】本発明に係る他の凸状配列群の断面拡大図である。
　【図１０】本発明の他の反射型液晶表示装置の断面概略図である。
　【図１１】反射特性を測定するための仮想部材の断面概略図である。
　【図１２】反射型液晶表示装置の散乱特性を示す図である。
　【図１３】従来の反射型液晶表示装置の断面概略図である。
　【符号の説明】
１　　　液晶表示装置
２、６、２６、２７　　ガラス基板
３　　　　　　　　　　凸部
４　　　　　　　　　　光反射層
５、１０、２９、３１　配向膜
７　　　　　　　　　　カラーフィルタ
９、２８、３０　　　　透明電極
１１　　　　　　　　　液晶
１６、２５　　　　　　反射型液晶表示装置
１７　　　　　　　　　凸部
１８　　　　　　　　　電極
１９、２２　　　　　　フォトマスク
Ｈ　　　　　　　　　　平坦部