【事件の表示】
　特許第３１６７７１６号「電気光学装置」の請求項１に係る特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結　論】
　訂正を認める。
　特許第３１６７７１６号の請求項１に係る特許を維持する。
【理　由】
１．手続の経緯
　特許第３１６７７１６号の請求項１に係る発明についての出願は、平成２年１１月２８日に特許出願されたものであって、平成１３年３月９日にその特許の設定の登録がなされ、その後、田中美子により特許異議の申立てがなされ、取消理由通知がなされ、その指定期間内の平成１４年４月２日付けで訂正請求がなされ、再度、取消理由通知がなされ、その指定期間内の平成１４年７月１８日付けで訂正請求がなされるとともに、平成１４年４月２日付け訂正請求が取り下げられたものである。
　
２．訂正の適否について
２−１．訂正の内容
　ａ．特許請求の範囲、請求項１の「液晶層側の面上に形成された有機膜によって」を「液晶層側の面上に選択的に有機膜を形成した後、該有機膜の液晶層側に凹凸が形成されるように処理することにより、当該有機膜によって」と訂正する。
　ｂ．同じく請求項１の「前記二次元方向に形成された凹凸」を「前記二次元方向に形成された、有機膜の凹凸」と訂正する。
　ｃ．平成１１年１１月１５日付けの手続補正書（第４手続補正書）により補正された明細書第７頁下から６行〜第９頁１６行中の「液晶層側の面上に形成された有機膜によって」（第４手続補正書第２頁１３行〜１４行）を「液晶層側の面上に選択的に有機膜を形成した後、該有機膜の液晶層側に凹凸が形成されるように処理することにより、当該有機膜によって」と訂正する。
　ｄ．平成１１年１１月１５日付けの手続補正書（第４手続補正書）により補正された明細書第７頁下から６行〜第９頁１６行中の「前記二次元方向に形成された凹凸」（第４手続補正書第２頁１５行〜１６行）を「前記二次元方向に形成された、有機膜の凹凸」と訂正する。
　ｅ．平成１１年１１月１５日付けの手続補正書（第４手続補正書）により補正された明細書第２０頁１１行〜第２１頁８行中の「液晶層側の面上に形成された有機膜によって」（第４手続補正書第４頁３行〜４行）を「液晶層側の面上に選択的に有機膜を形成した後、該有機膜の液晶層側に凹凸が形成されるように処理することにより、当該有機膜によって」と訂正する。
　ｆ．平成１１年１１月１５日付けの手続補正書（第４手続補正書）により補正された明細書第２０頁１１行〜第２１頁８行中の「前記二次元方向に形成された凹凸」（第４手続補正書第４頁５行〜６行）を「前記二次元方向に形成された、有機膜の凹凸」と訂正する。
　
２−２．訂正の目的の適否、新規事項の有無及び拡張・変更の存否
　訂正事項ａは、請求項１の「液晶層側の面上に形成された有機膜」を「液晶層側の面上に選択的に有機膜を形成した後、該有機膜の液晶層側に凹凸が形成されるように処理することにより、当該有機膜によって」と限定するもので、特許請求の範囲の減縮を目的とするものである。そして、この限定は、明細書第１４頁２行〜５行（特許公報第５欄７〜１０行）の「また有機膜の形成位置は、信号入力用端子部は避け上記の凹凸を形成すべき位置にのみ選択的に形成するのが、信頼性の上からも有効で望ましい。」及び明細書第１３頁１４行〜１６行（特許公報第５欄１〜２行）の「ガラス基板に有機膜を形成したのち有機膜をホーニング処理して凹凸を形成してもよく」、明細書第１３頁９行〜１０行（特許公報第４欄４６〜４７行）の「上記の基板に凹凸を形成する手段は任意であるが、例えばホーニング処理により形成するとよい。」との記載に基づくものであり、願書に添付した明細書又は図面に記載された事項の範囲内のものであり、実質的に特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものではない。
　訂正事項ｂは、請求項１にさらに、反射層が二次元方向に形成された有機膜の凹凸の上に形成されるものであることを限定するものであり、願書に添付した明細書又は図面に記載された事項の範囲内のものであり、実質的に特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものではない。
  訂正事項ｃ〜ｆは、上記訂正事項ａ及びｂによる特許請求の範囲の減縮に伴いそれとの整合を図るため、発明の詳細な説明の［課題を解決するための手段］及び［発明の効果］の欄の記載を訂正するものであり、明瞭でない記載の釈明に該当する。そして、これらは、願書に添付した明細書に記載された事項の範囲内のものであり、実質的に特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものではない。
　
２−３．訂正の適否に対するむすび
　以上のとおり、本件訂正は、特許法等の一部を改正する法律（平成６年法律第１１６号）附則第６条第１項の規定によりなお従前の例によるとされる、特許法第１２０条の４第２項及び第３項で準用する同法第１２６条第１項ただし書き及び第２項の規定に適合するので、当該訂正を認める。
　
３．特許異議申立の理由の概要
　特許異議申立人は、本件の請求項１に係る発明は、甲第１号証〜甲第４号証に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明することができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定に該当し、特許法第１１３条第１項第２号の規定により特許を取り消すべきである旨主張している。
　
３−１．本件発明
　本件の請求項１に係る発明（以下「本件発明」という。）は、訂正明細書の特許請求の範囲の請求項１に記載された事項により特定される次のとおりのものである。
「【請求項１】一対の基板間にねじれ配向したネマチック液晶層を挟持してなり、一方の前記基板の液晶層側に凹凸を有する反射層が形成されてなる電気光学装置であって、
　前記一方の基板の液晶層側の面上に選択的に有機膜を形成した後、該有機膜の液晶層側に凹凸が形成されるように処理することにより、当該有機膜によって、凹凸のピッチが不均一で且つ凹凸の平均ピッチが８０μｍ以下の凹凸が二次元方向に形成されてなり、
　前記反射層は、前記二次元方向に形成された、有機膜の凹凸の上に、当該反射層の表面にも凹凸が形成されるように配置され、
　前記反射層上には、前記ねじれ配向したネマチック液晶層の層厚が均一になるように、無機膜あるいは有機膜が形成されてなり、
　前記表面に凹凸を有する反射層は表示用電極を兼ねる金属膜により構成されてなることを特徴とする電気光学装置。」
　
３−２．甲各号証記載の発明
　特許異議申立人の提出したこの出願前公知の刊行物である甲第１号証：特開平１−１５６７２０号公報には、
（１）特許請求の範囲の請求項１には、「透明な第一のプレートと第二のプレートとの間に配置された液晶層、上記第二のプレートと上記液晶層との間にある電極であって、光を反射する材料から作られており、光を反射拡散させるように表示領域に位置する全表面にわたって艶消し処理されたカウンター電極を含む液晶表示セル」が記載されている。
（２）２頁右上欄４〜１３行には、「これらのセルにおいて、ねじれたネマチック液晶セルも知られている」ことが記載されている。
（３）５頁右上欄１１〜１９行には、「背面プレート３の内表面は、少なくともセルの表示領域の範囲にわたって艶消し処理され、その艶消し部を覆って配置されるカウンター電極は、その表面が液晶層に隣接して位置して実質上背面プレートの艶消し処理された表面と同じ不規則性を示す」ことが記載されている。
　　
　同じく、甲第２号証：特開昭５８−５０１６４１号公報には、熱的に書込可能な媒体を利用した液晶表示装置に関し、
（１）６頁右上欄１４行〜同頁左下欄２１行には、第５図と共に、「二つのガラス基板３４，３６の間に多色性染料を含む液晶媒体３２を有する表示装置において、上記基板３６はその上に微小レンズ状表面を持ち、その上には、全面に行電極により生じる熱の多くが液晶媒体に入り込むように絶縁する熱障壁３８を、さらにその上に光反射性物質からなる行電極４０を、また、その上に低指数物質の膜４２を形成し、それらの全てが基板３６上の微小レンズ状表面を写し取る」ものであることが記載され、５頁右上欄９〜１８行には、「熱障壁の絶縁特性はほぼ１５×１０−４ｃａｌ　ｓｅｃ−１ｃｍ−１℃−１未満の伝熱係数をもつ熱層として規定されてもよく、この熱層は液晶媒体が加熱電極により生じた熱より相当多くを吸収するようにするものであり、熱の障壁には有機高分子を含む」ことが記載されている。
（２）３頁右下欄１行〜同４行には、「微小レンズ状表面は約０．５から２．５μｍの範囲の深さ及び約５から２５μｍの範囲の直径を持つ凹形の空どうあるいは小さいくぼみからなる。」ことが記載されている。
　
　同じく、甲第３号証：「応用光エレクトロニクスハンドブック」野田健一他１名監修、１９８９年４月１０日、株式会社昭晃堂発行、８１４頁〜８１７頁には、液晶の動作モードに関し、図１０．１８におけるＴＮモード、図１０．２０のゲストホストモードいずれにあっても、液晶層厚が均一に図示されている。
　
　同じく、甲第４号証：特公平２−１０９２２号公報には、不透明半導体基板を用いた反射型液晶表示装置に関し、熱処理し、さらにエッチングを施すことにより皿状の凹部が多数形成されたアルミニウム合金の表面上に、その凹部が平坦化される絶縁膜を形成し、表示ムラの無い高品質の表示装置が得られることが記載されている。
　
３−３．対比・判断
　本件発明と甲第１号証記載の発明（以下、「引用発明」という。）とを比較すると、引用発明の「透明な第一のプレートと第二のプレート」、「艶消し処理された表面と同じ不規則性」、「光を反射する材料から作られており、光を反射拡散させるように表示領域に位置する全表面にわたって艶消し処理されたカウンター電極」、「液晶表示セル」は、本件発明の「一対の基板」、「凹凸のピッチが不均一」、「表面に凹凸を有する反射層は表示用電極を兼ねる金属膜により構成されてなる」、「電気光学装置」にそれぞれ相当するから、両者は、
「一対の基板間にねじれ配向したネマチック液晶層を挟持してなり、一方の前記基板の液晶層側に凹凸を有する反射層が形成されてなる電気光学装置であって、前記一方の基板の液晶層側に、凹凸のピッチが不均一な凹凸が二次元方向に形成されてなり、前記反射層は、前記二次元方向に形成された凹凸の上に、当該反射層の表面にも凹凸が形成されるように配置され、前記表面に凹凸を有する反射層は表示用電極を兼ねる金属膜により構成されてなることを特徴とする電気光学装置。」
で一致し、下記の点で相違する。
　相違点１；本件発明は、一方の基板の液晶層側の面上に選択的に有機膜を形成した後、該有機膜の液晶層側に凹凸が形成されるように処理することにより、当該有機膜によって、凹凸の平均ピッチが８０μｍ以下の凹凸が形成されるように配置されるのに対し、引用発明には、このような構成が備わっていない点、
　相違点２；本件発明は、反射層上には、前記ねじれ配向したネマチック液晶層の層厚が均一になるように、無機膜あるいは有機膜が形成されているのに対し、引用発明には、このような構成が備わっていない点。
　
　そこで、上記相違点に付き検討する。
（１）相違点１について
　甲第２号証は、熱的に書込可能な媒体を利用した液晶表示装置に関するものであり、凹形のくぼみを直径５から２５μｍとすることが記載され、凹凸の平均ピッチを８０μｍ以下とすることが実質的に記載されている。
　しかし、甲第２号証の有機高分子の熱障壁は、微小レンズ状表面を持つ基板の上に形成されるものであり、有機高分子の熱障壁自体に凹凸が形成されるように処理するものではない。その上、この熱障壁はその機能からしても選択的に形成されるものでもなく、現に第５図にガラス基板の全面に形成するものしか開示されていない。したがって、甲第２号証の有機高分子の熱障壁は、本件発明の上記相違点１の構成を備えているとはいえない。さらに、甲第３号証及び甲第４号証には、この点に関する記載も示唆もない。
　そして、本件発明は、上記相違点１の構成を有することにより、凹凸を形成する必要のない箇所にまで凹凸が形成されてしまうことがなく、有機膜を選択的に形成して凹凸が必要な位置にその有機膜によって凹凸を形成することができるという、平成１４年４月２日付け特許異議意見書第４頁３行〜７行に記載された作用効果を奏するものと認められる。
　したがって、本件発明は、相違点２について検討するまでもなく、甲第１号証ないし甲第４号証に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものではない。　
　
５．むすび
　以上のとおり、特許異議申立の理由及び証拠によっては、本件請求項１に係る発明の特許を取り消すことはできない。
　又、他に本件特許を取り消すべき理由を発見しない。 
　よって、結論のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１４年７月３０日（２００２．７．３０）
【訂正の要旨】
訂正の要旨
　ａ．特許請求の範囲の請求項１中の「液晶層側の面上に形成された有機膜によって」を「液晶層側の面上に選択的に有機膜を形成した後、該有機膜の液晶層側に凹凸が形成されるように処理することにより、当該有機膜によって」と訂正する。
　ｂ．特許請求の範囲の請求項１中の「前記二次元方向に形成された凹凸」を「前記二次元方向に形成された、有機膜の凹凸」と訂正する。
　ｃ．平成１１年１１月１５日付けの手続補正書（第４手続補正書）により補正された明細書第７頁下から６行〜第９頁１６行中の「液晶層側の面上に形成された有機膜によって」（第４手続補正書第２頁１３行〜１４行）を「液晶層側の面上に選択的に有機膜を形成した後、該有機膜の液晶層側に凹凸が形成されるように処理することにより、当該有機膜によって」と訂正する。
　ｄ．平成１１年１１月１５日付けの手続補正書（第４手続補正書）により補正された明細書第７頁下から６行〜第９頁１６行中の「前記二次元方向に形成された凹凸」（第４手続補正書第２頁１５行〜１６行）を「前記二次元方向に形成された、有機膜の凹凸」と訂正する。
　ｅ．平成１１年１１月１５日付けの手続補正書（第４手続補正書）により補正された明細書第２０頁１１行〜第２１頁８行中の「液晶層側の面上に形成された有機膜によって」（第４手続補正書第４頁３行〜４行）を「液晶層側の面上に選択的に有機膜を形成した後、該有機膜の液晶層側に凹凸が形成されるように処理することにより、当該有機膜によって」と訂正する。
　ｆ．平成１１年１１月１５日付けの手続補正書（第４手続補正書）により補正された明細書第２０頁１１行〜第２１頁８行中の「前記二次元方向に形成された凹凸」（第４手続補正書第４頁５行〜６行）を「前記二次元方向に形成された、有機膜の凹凸」と訂正する。
（５４）【発明の名称】
電気光学装置
（５７）【特許請求の範囲】
　【請求項１】一対の基板間にねじれ配向したネマチック液晶層を挟持してなり、一方の前記基板の液晶層側に凹凸を有する反射層が形成されてなる電気光学装置であって、
　前記一方の基板の液晶層側の面上に選択的に有機膜を形成した後、該有機膜の液晶層側に凹凸が形成されるように処理することにより、当該有機膜によって、凹凸のピッチが不均一で且つ凹凸の平均ピッチが８０μｍ以下の凹凸が二次元方向に形成されてなり、
　前記反射層は、前記二次元方向に形成された、有機膜の凹凸の上に、当該反射層の表面にも凹凸が形成されるように配置され、
　前記反射層上には、前記ねじれ配向したネマチック液晶層の層厚が均一になるように、無機膜あるいは有機膜方形成されてなり、
　前記表面に凹凸を有する反射層は表示用電極を兼ねる金属膜により構成されてなる
　ことを特徴とする電気光学装置。
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
　本発明は液晶表示装置等の電気光学装置に関する。
〔従来の技術〕
　従来の液晶表示装置、例えば特開平１−１８８８２８号公報に示される反射型の液晶表示装置においては、対向する一対の基板間に液晶層を挟持してなる液晶セルの一方の基板の液晶層側の面に反射層等を設けることによって、明るい表示が得られるようにすることが提案されている。
　しかし、上記従来のものは反射層が必ずしも明確ではなく、反射層として基板の液晶層側の面に金属膜等を平滑に形成すると、その反射層が鏡面となって使用者の顔や背景が映り、表示が非常に見づらくなる等の不具合がある。
　そこで、基板の液晶層側の面に反射層を形成した後に加熱処理して表面に凹凸をつける方法や、反射層形成後にホーニングまたはエッチング処理して光散乱面とする方法が提案されている。
〔発明が解決しようとする課題〕
　ところが、上記のように基板の液晶層側の面に形成した反射層の表面に凹凸をつけると、その凹凸によって液晶層厚にばらつきが生じ、それによって表示領域内での液晶セルのリタデーション（Δｎ・ｄ）が変化して表示に色調むらが生じる等の不具合がある。
　本発明は上記の問題点を解消することのできる電気光学装置を提供することを目的とする。
〔課題を解決するための手段〕
　上記の目的を達成するために本発明による電気光学装置は以下の構成としたものである。
　即ち、本発明による電気光学装置は、一対の基板間にねじれ配向したネマチック液晶層を挟持してなり、一方の前記基板の液晶層側に凹凸を有する反射層が形成されてなる電気光学装置であって、前記一方の基板の液晶層側の面上に選択的に有機膜を形成した後、該有機膜の液晶層側に凹凸が形成されるように処理することにより、当該有機膜によって、凹凸のピッチが不均一で且つ凹凸の平均ピッチが８０μｍ以下の凹凸が二次元方向に形成されてなり、前記反射層は、前記二次元方向に形成された、有機膜の凹凸の上に、当該反射層の表面にも凹凸が形成されるように配置され、前記反射層上には、前記ねじれ配向したネマチック液晶層の層厚が均一になるように、無機膜あるいは有機膜が形成されてなり、前記表面に凹凸を有する反射層は表示用電極を兼ねる金属膜により構成されてなることを特徴とする。
〔作用〕
　上記の構成により、前記反射層で光が良好に散乱されて表示が見やすく、しかも視角が広い電気光学装置を安価に提供することが可能となる。
〔実施例〕
　以下、本発明による電気光学装置を具体的に説明する。
　第１図は本発明による電気光学装置としての液晶表示装置の一例を示す縦断面図である。
　図において、１は液晶セルであり、上下一対の基板２・３間に液晶層４を挟持してなる。上側の基板２の液晶層４側の面には、ＩＴＯ等の透明電極５が設けられ他方の基板３の内面には、反射層としての薄い金属膜６が設けられている。７はスペーサ、８は偏光板を示す。
　そして本発明においては、下側の基板３の液晶層４側の面に形成した無機膜や有機膜によって微細な凹凸を設け、その表面に上記の薄い金属膜６を設けることによって、金属膜６の表面にも凹凸が波及するようにしたものである。
　また、液晶層の層厚が均一になるように金属膜６の表面上にＳｉＯ２等の無機膜や有機膜を形成する。なお液晶分子が均一に配向するようにポリイミド、ポリビニルアルコール等の高分子有機薄膜をラビング処理することもある。
　前記の基板３としては、例えばガラス基板を用いる、またはポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエーテルサルフォン（ＰＥＳ）、ポリカーボネート（ＰＣ）等の合成樹脂基板を用いてもよい。それらの基板の表面に形成する有機膜としては、例えばアクリル系樹脂、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂、ポリイミドアミド樹脂、ミラノール系樹脂等を用いることができる。なお基板３は必ずしも透明である必要はない。また基板はその両表面間に導電性をもち表面内では絶縁性をもつ異方性導電性のものでもよい。
　また反射層を構成する金属膜の材質は、アルミニウム、銀その他任意であり、特に制限はない。又その金属膜の膜厚は、好ましくは１μｍ以下、より好ましくは３０００オングストローム以下にするのが望ましい。上記の金属膜は表示用電極に兼用する。
　上記のように基板の液晶層側の面に形成した無機膜や有機膜によって凹凸を設け、その表面に反射層として薄い金属膜を設けることにより、基板側の凹凸が金属膜表面に波及し、その凹凸面が光散乱面となって観察面側（図で上側）から入射した光を良好に散乱反射させることができるものである。
　なおその場合、第３図（ｂ）に示すように観察者側に反射光が多くなるように制御するのが望ましく、例えば凹凸のピッチを均一に形成すると、反射光に指向性を生じ、全方向に対して均一に効果が生じないため、凹凸のピッチは第２図に示すように二次元方向に不均一に且つランダムに形成するのが望ましい。又その場合の凹凸の平均ピッチｐは、８０μｍ以下、より好ましくは１０μｍ以下とするのが望ましく、また凹凸の高さｈは、２μｍ以下であって、挟持する液晶の配向安定性と、反射する光の観察者側への集中を考慮して０．６μｍ以下、より好ましくは０．３μｍ以下とするのが望ましい。
　次に、上記のような液晶表示装置等の電気光学装置の製造方法を具体的に説明する。
　即ち、例えば、対向する一対の基板間に液晶層を挟持してなる液晶セルの一方の基板の液晶層側の面に反射層を有する液晶表示装置等を製造するに当たり、上記反射層を形成する基板の液晶層側の面に微細な凹凸を形成し、必要に応じてその凹凸表面を補修処理した後、その凹凸表面に上記反射層としての金属膜を形成するものである。
　上記の基板に凹凸を形成する手段は任意であるが、例えばホーニング処理により形成するとよい。この場合、基板はガラス基板または前記の合成樹脂基板もしくはガラス基板上に前記のような有機膜を有するものでもよい。そのガラス基板上に有機膜を有するものにあっては、ガラス基板に有機膜を形成したのち有機膜をホーニング処理して凹凸を形成してもよく、あるいはガラス基板をホーニング処理して凹凸を形成したのち有機膜を形成してもよい。
　その有機膜の材質はアクリル樹脂その他適宜であり、また膜厚については特に制約条件はない。有機膜をガラス基板上に形成する手段は、塗布その他適宜であり、また有機膜の形成位置は、信号入力用端子部は避け上記の凹凸を形成すべき位置にのみ選択的に形成するのが、信頼性の上からも有効で望ましい。例えば感光性アクリル樹脂をスピンコート法で２μｍ厚で全面コートした後、フォトマスクで所望のパターンのみに紫外線を照射して光重合させ、残りを現像処理して有機膜を形成することができる。
　前記の基板にホーニング処理により凹凸を形成する際の研磨粒子は、ガラス基板にあっては酸化セリウム等を用いるとよく、また前記の合成樹脂基板もしくは有機膜にあってはポリビニルアルコールやポリウレタン系樹脂等の粒子を用いるとよい。又それ等の粒径は、１０μｍ以下、より好ましくは５μｍ以下のものを用いるのが望ましい。
　さらに、ホーニング処理する方向は基板に対して鉛直（垂直）方向から行うと、形成される凹凸の高さが大きくなり制御しにくくなるため、鉛直方向に対して所定の角度傾斜させて行うことが、均一で浅い凹凸を形成する上で望ましく、上記の傾斜角度は好ましくは鉛直方向に対して４５°以上傾斜させるとよい。
　なお、ホーニング処理以外の方法として、ガラス基板をフッ酸でエッチングして凹凸を形成する方法が有効である。また前記の補修処理としても、例えばフッ酸を用いて基板上に形成された凹凸表面を軽くエッチング処理する、あるいは上記凹凸の凸部を研磨して凹凸の高さを調整する方法をとり得る。
　上記のフッ酸を用いて基板上に形成された凹凸表面を軽くエッチング処理する場合には、ホーニング処理したガラス基板を、ホーニングした面側にフッ酸もしくはフッ酸とフッ化アンモニウムとの混合液（混合比４：１〜１：４、程度により調整）を用いて２０〜４０℃で浸漬し、エッチングすることにより凹凸の高さや形状を調整する。
　また上記のように凸部を研磨する場合は、研磨する基板の材質に応じて研磨材を適宜選択するもので、例えば前述したホーニング処理に用いる研磨粒子と同じものを用いる。
　次いで上記のようにして凹凸を形成した基板上に反射層としての金属膜を形成するもので、例えばスパッタもしくは蒸着等の真空成膜法により形成する。この場合、成膜レートは早い方が膜に凹凸ができやすく、例えば８０〜２５０Å／ｍｉｎ程度が望ましい。また成膜温度は１００〜３００℃程度が望ましい。
　具体的には、例えばスパッタ法の場合は、膜形成レートが２００Å／ｍｉｎ程度、成膜温度が１８０℃程度で膜厚５０００Å程度形成すればよく、蒸着法の場合は膜形成レートが１００Å／ｍｉｎ程度、成膜温度が２００℃程度で膜厚５０００Å程度形成すればよい。
　上記のようにして形成した金属膜は、必要に応じて加熱処理して凹凸をコントロールすると、微細なピッチの凹凸とすることができる。例えばガラス基板を用いる場合は、２００〜４５０℃で空気中で加熱処理すればよい。また合成樹脂基板もしくはガラス基板上に有機膜を有するものでも耐熱性の高いものであれば、上記の加熱処理が可能であり、例えばポリイミド樹脂の場合には２２０〜２４０℃で加熱処理できる。
　上記のようにして基板上に形成した金属膜は、パターニングして表示用電極とする。この場合、電極形成はパターニングの前でも後でもよいが、加熱処理して結晶性のかわった表面はエッチングレートが変わるため望ましくはパターニング後に加熱するとよい。また上記の加熱処理は空気中でもよいが、金属によっては、例えばクロムのように酸化して反射率の低下するものがあるため、望ましくは不活性ガス雰囲気中で処理するとよい。
　なお、前記の基板と金属膜との間には、ＩＴＯ等の透明または不透明の電極を設けることも可能であり、この場合、前記のようにして凹凸を形成した基板上にＩＴＯ等の所望のパターンの電極を形成した後、金属膜を形成する。あるいは平らな基板上に電極を形成し、その電極表面に前記と同様の要領で凹凸を形成した後、金属膜を形成することもできる。又この場合、上記の金属膜はニッケル等をメッキして形成することもできる。
　具体的には、例えば以下の要領で形成する。すなわち、電極が形成された基板を２０％のＫＯＨ溶液の中に常温で１０分間浸漬して脱脂を行い、５％のＨＣｌ容液に常温で５分間浸漬して中和させる。次いで、その基板表面上に無電解メッキを開始してパラジウムを付着させる。これは例えば１５％のＨＣｌ溶液中に増感剤（日立化成工業株式会社製　商品名　ＨＳ−１０１Ｂ）を７％混合し常温で１０分間浸漬させることにより行う。次いで、ニッケルメッキ液の中にガラス基板を浸漬させ透明電極上に平均膜厚７０００Å程度のニッケルメッキを行う。
　なおアルミニウムを電解メッキして金属膜を形成してもよく、本発明の効果はメッキ法に左右されるものではなく、形成する金属により無電解メッキ、電解メッキの選択が可能である。
　上記の要領で製造することにより、基板上の金属膜表面に微細な凹凸を形成することができるもので、実際に金属膜表面に平均ピッチ１〜２μｍ、深さ約０．１〜０．２μｍの凹凸を良好に形成することができた。又その基板を用い、それと対向する基板間にシール部を介して液晶を挟持させ、その対向する基板の外側に偏光板を設置して１８０°〜２７０°ねじれ配向したネマチック液晶層を用いた液晶表示装置を作成したところ、反射層が散乱状態となっているため背景等が映ることがなく、従来の反射板を基板の外側に付加するものと比較して明るく影ができることなく、しかも広視角の反射型液晶表示装置を得ることができた。また電極が金属でできるため低抵抗電極となり、入力電圧波形のなまりが殆どなく、クロストーク等の画像を不均一にする不良が大幅に低減された。
　その結果、例えばいわゆるノート型パソコン等に盛んに採用されている反射型液晶表示装置において、表示を見やすく、しかも薄型・軽量で低消費電力の装置が得られるものである。
　なお本発明は光学的な補償体を備えたいわゆる白黒表示タイプやカラータイプの液晶表示装置にも適用可能である。また偏光板を多くとも１枚しか必要としない二色性染料を用いたゲストホストタイプ，光散乱を利用したＤＳＭや高分子保持体中に液晶を分散したＰＤＬＣ等のタイプに適用可能である。さらに液晶表示装置に限らず、各種の電気光学装置にも適用できる。
〔発明の効果〕
以上説明したように本発明による電気光学装置は、一対の基板間にねじれ配向したネマチック液晶層を挟持してなり、一方の前記基板の液晶層側に凹凸を有する反射層が形成されてなる電気光学装置であって、前記一方の基板の液晶層側の面上に選択的に有機膜を形成した後、該有機膜の液晶層側に凹凸が形成されるように処理することにより、当該有機膜によって、凹凸のピッチが不均一で且つ凹凸の平均ピッチが８０μｍ以下の凹凸が二次元方向に形成されてなり、
　前記反射層は、前記二次元方向に形成された、有機膜の凹凸の上に、当該反射層の表面にも凹凸が形成されるように配置され、前記反射層上には、前記ねじれ配向したネマチック液晶層の層厚が均一になるように、無機膜あるいは有機膜が形成されてなり、前記表面に凹凸を有する反射層は表示用電極を兼ねる金属膜により構成されてなるので、表示領域内での液晶セルのリタデーションが略一定となり、表示に色調むらが生じるのを防止することが可能となる。その結果、凹凸を有する反射層による光散乱効果を維持した上で、色調むらのない視認性のよい電気光学装置を提供することができる等の効果がある。
【図面の簡単な説明】
　第１図は本発明による電気光学装置の一実施例を示す断面図、第２図は基板の斜視図、第３図（ａ）（ｂ）は反射光分布の説明図である。
１は液晶セル、２・３は基板、４は液晶層、５は電極、６は反射層（金属膜）、７はスペーサ、８は偏光板。