【事件の表示】
　特許第３０４８９８２号「レジスト塗布前処理装置」の請求項１ないし５に係る特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結　論】
　訂正を認める。
　特許第３０４８９８２号の請求項１ないし３に係る特許を維持する。
【理　由】
１．手続きの経緯
　 本件特許第３０４８９８２号は、平成９年１０月１５日に特許出願され、平成１２年３月２４日にその特許の設定登録がなされ、その後、異議申立人吉成迪夫から特許異議の申立てがなされ、取消理由通知がなされ、その指定期間内である平成１３年３月２２日に訂正請求（後日取り下げ）がなされ、再度の取消理由通知がなされ、その指定期間内である平成１３年７月１２日に訂正請求なされたものである。
１．１　異議申立ての概要　
　異議申立人吉成迪夫は、甲第１号証（実用新案登録第2517721号公報）、甲第２号証（特開平7-321023号公報）、参考文献１（特開平9-36103号公報）、参考文献２（特開平7-14905号公報）及び参考文献３（特開平8-124861号公報）を提出し、本件請求項１〜５に係る発明は、参考文献１〜３を参照すると、甲第１号証及び甲第２号証に記載された発明に基いて容易に発明できたものであり、本件請求項１〜５に係る特許は、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないものであるから、本件請求項１〜５に係る特許を取り消すべき旨主張している。
１．２　異議申立人吉成迪夫が提出した甲第１号証、甲第２号証、参考文献１、参考文献２及び参考文献３の記載内容
１．２．１　甲第１号証の記載内容
　甲第１号証の、第２欄第３９行〜第４９行には、「ホットプレート１上方には下側に開放された箱形の上部カバー６が設けられ、・・・上部カバー６の内部にＮ２ガスや表面処理用のガスなどを分散供給してホットプレート１上の基板処理空間部を所要のガス雰囲気にする」と記載されている。
　また、甲第１号証の第１図には３本の基板支持ピン１１を備えた基板昇降機構１０が示されるとともに、第４欄第１０行〜第１１行には 「基板支持ピン１１がホットプレート１上に突出し、基板Ｗをホットプレート１上に浮上支持する」と記載され、第４欄第１６行〜第１８行には「基板支持ピン１１がホットプレート１の上面より没入して、基板Ｗがホットプレート１上に載置される」と記載されている。
　甲第１号証の第３欄第１行〜第２行には、「断熱カバー２の底面と外壁体４の底面との間の空間Ｃには基板昇降機構１０が収容されている」と記載されている。
　甲第１号証の第３欄第２４行〜第２６行には、「プロセス排気用ダクト１５は、上部カバー６内の雰囲気ガスを徐々に吸引排出するためのものであって、」と記載されている。
　また、甲第１号証の第３欄第２９行〜第３２行には、「下部熱排気用ダクト１６は、・・・空間Ｃに運通しており、前側の中空支柱１２にのみ連通している」と記載されている。
　また、甲第１号証の第３欄第１１行〜第１４行には、「プロセス排気用ダクト１５が・・・中空支柱１２にわたって架設され、・・・プロセス排気用ダクト１５の下面に、・・・下部熱排気用ダクト１６が連結されている」と記載されている。
　さらに、甲第１号証の第４欄第３６行〜第３９行には、「熱排気用ダクト１４，１６およびプロセス排気用ダクト１５ …に専用の吸引ダクトを用いてもよい」と記載されている。
１．２．２　甲第２号証の記載内容
　甲第２号証の【００１９】段落には、外容器２の後部に排気管９ａを接続する旨記載されている。　また、甲第２号証の【００４３】段落には、「基板載置プレートの上面に対して基板を微小な間隔を保って載置するものであってもよい」と記載されている。
１．２．３　参考文献１の記載内容
　リフトピン収納部の底部に排気配管を設けることが図１に示されている。
１．２．４　参考文献２の記載内容
　リフトピン収納部の底部に排気配管を設けることが図１に示されている。
１．２．５　参考文献３の記載内容
　リフトピン収納部の底部に排気配管を設けることが図１に示されている。
２．１　訂正事項
訂正事項ａ
　請求項１及び請求項２を削除し、以下項数を繰り上げる。
　　　　　クレーム対応表
特許時のクレーム　　　　訂正後のクレーム
　１　　　　　　　　　　　　　削除
　２　　　　　　　　　　　　　削除
　３　　　　　　　　　　　　　１
　４　　　　　　　　　　　　　２
　５　　　　　　　　　　　　　３
訂正事項ｂ
　上記請求項１の削除に伴い、特許明細書中の特許請求の範囲の請求項３を独立項にすると共に、請求項３を、「ウエハを載置するウエハステージと、ウエハステージを覆う上蓋により形成される処理室と、ウエハステージに内蔵されウエハの受け渡しを行うために上下動作するリフトピンと、リフトピンを収納するリフトピン収納部と、ウエハ表面処理の前後に前記処理室の真空排気を第１の排気配管を介して行う第１の真空排気ユニットと、前記リフトピン収納部の真空排気を該リフトピン収納部の底部に設けられた第２の排気配管を介して行う前記第１の真空排気ユニットとは別の第２の真空排気ユニットとを備え、前記処理室は前記上蓋と前記ウエハステージとが第１のＯリングでシールされ、下降した状態で前記リフトピンと前記リフトピン収納部の底部とが第２のＯリングでシールされ、前記処理室と前記リフトピン収納部とはそれぞれ密閉状態となっており、前記第２の排気配管側を前記第１の排気配管側よりわずかに減圧状態としたことを特徴とするレジスト塗布前処理装置。」と訂正する。
訂正事項ｃ
　請求項４及び請求項５を、それぞれ請求項３（訂正後の請求項１）の従属項となるように訂正する。
訂正事項ｄ
　段落番号０００９を「本発明は、ウエハを載置するウエハステージと、ウエハステージを覆う上蓋により形成される処理室と、ウエハステージに内蔵されウエハの受け渡しを行うために上下動作するリフトピンと、リフトピンを収納するリフトピン収納部と、ウエハ表面処理の前後に前記処理室の真空排気を第１の排気配管を介して行う第１の真空排気ユニットと、前記リフトピン収納部の真空排気を該リフトピン収納部の底部に設けられた第２の排気配管を介して行う前記第１の真空排気ユニットとは別の第２の真空排気ユニットとを備え、前記処理室は前記上蓋と前記ウエハステージとが第１のＯリングでシールされ、下降した状態で前記リフトピンと前記リフトピン収納部の底部とが第２のＯリングでシールされ、前記処理室と前記リフトピン収納部とはそれぞれ密閉状態となっており、前記第２の排気配管側を前記第１の排気配管側よりわずかに減圧状態としたことを特徴とするレジスト塗布前処理装置である。」と訂正する。
訂正事項ｅ
　発明の実施の形態及び図面の簡単な説明において、「本発明の第１の実施の形態」を「本発明の参考例の実施の形態」に、「本発明の第２の実施の形態」を「本発明の実施の形態」にそれぞれ訂正する。
訂正事項ｆ
　００１７段落の発明の効果の欄の「その理由は、ウエハ裏面側にあるリフトピン収納部に排気配管を設け、ウエハ裏面側とウエハ表面側との圧力差が生じないようにするか、または、裏面側を表面側よりわずか減圧状態にしたためである。」を、「その理由は、処理室の真空排気を第１の排気配管を介して行う第１の真空排気ユニットとは別に、リフトピン収納部の真空班気をリフトピン収納部の底部に設けられた第２の排気配管を介して行う第２の真空排気ユニットを備え、処理室は上蓋とウエハステージとが第１のＯリングでシールされ、下降した状態でリフトピンとリフトピン収納部の底部とが第２のＯリングでシールされ、処理室とりフトピン収納部とをそれぞれ密閉状態とし、ウエハ裏面側をウエハ表面側よりわずかに減圧状態にしたためである。」と訂正する。
２．２　訂正後の請求項
請求項１
「ウエハを載置するウエハステージと、ウエハステージを覆う上蓋により形成される処理室と、ウエハステージに内蔵されウエハの受け渡しを行うために上下動作するリフトピンと、リフトピンを収納するリフトピン収納部と、ウエハ表面処理の前後に前記処理室の真空排気を第１の排気配管を介して行う第１の真空排気ユニットと、前記リフトピン収納部の真空排気を該リフトピン収納部の底部に設けられた第２の排気配管を介して行う前記第１の真空排気ユニットとは別の第２の真空排気ユニットとを備え、前記処理室は前記上蓋と前記ウエハステージとが第１のＯリングでシールされ、下降した状態で前記リフトピンと前記リフトピン収納部の底部とが第２のＯリングでシールされ、前記処理室と前記リフトピン収納部とはそれぞれ密閉状態となっており、前記第２の排気配管側を前記第１の排気配管側よりわずかに減圧状態としたことを特徴とするレジスト塗布前処理装置。」
請求項２
「前記処理室からの排気の流れの一部が、ウエハ外周部から裏面側を経て前記リフトピン収納部へ流れることを特徴とする請求項１記載のレジスト塗布前処理装置。」
請求項３
「前記リフトピン収納部内の排気の流れが、ダウンフローを形成していることを特徴とする請求項１記載のレジスト塗布前処理装置。」
３．　訂正の適否
３．１　目的該当性等について
３．１．１　訂正事項ａ
　上記訂正事項ａについては、特許明細書の請求項１を削除するものであるから、特許請求の範囲の減縮に相当する。
　また、訂正事項ａは、実質上特許請求の範囲を拡張しまたは変更するものでもない。
３．１．２　訂正事項ｂ
　訂正事項ｂは、訂正事項ａに伴い、請求項番号を訂正し訂正前の請求項３を独立形式にするものであるから、明りょうでない記載の釈明に相当する。
　また、訂正事項ｂは、願書に添付した明細書に記載した事項の範囲内のものであり、かつ実質上特許請求の範囲を拡張または変更するものではない。
３．１．３　訂正事項ｃ
　訂正事項ｃは、特許明細書中の特許請求の範囲において、訂正事項ａに伴い、訂正前の請求項４及び５を、訂正前の請求項３を引用する形式に訂正するものであるから、明りょうでない記載の釈明に相当する。
　また、訂正事項ｃは、願書に添付した明細書に記載した事項の範囲内のものであり、かつ実質上特許請求の範囲を拡張または変更するものではない。
３．１．４　訂正事項ｄ〜ｆ
　訂正事項ｄは、訂正事項ａに伴い、特許明細書中の特許請求の範囲の記載と発明の詳細な説明を整合させるものであるから、明りょうでない記載の釈明に相当する。
　また、訂正事項ｄ〜ｆは、願書に添付した明細書に記載した事項の範囲内のものであり、かつ実質上特許請求の範囲を拡張または変更するものではない。
３．２　訂正の適否の判断
　上記訂正事項ａ〜ｆは、上記３．１．１〜３．１．４のとおりであるから、特許法第１２０条の４第２項及び第３項において準用する特許法第１２６条第２項から第３項までの規定に適合するので、当該請求を認める。
４．特許異議申立てについての判断
４．１　本件請求項１〜３に係る発明
　上記２．２に記載のとおり。
４．２　異議申立ての理由の概要
　上記１．１に記載のとおり。
４．２．１　本件請求項１〜３に係る発明と甲第１号証及び甲第２号証との対比、判断
　本件請求項１並びに本件請求項１を引用する請求項２及び３に係る発明が、「処理室の真空排気を第１の排気配管を介して行う第１の真空排気ユニットと、前記リフトピン収納部の真空排気を該リフトピン収納部の底部に設けられた第２の排気配管を介して行う前記第１の真空排気ユニットとは別の第２の真空排気ユニットとを備え、前記処理室は前記上蓋と前記ウエハステージとが第１のＯリングでシールされ、下降した状態で前記リフトピンと前記リフトピン収納部の底部とが第２のＯリングでシールされ、前記処理室と前記リフトピン収納部とはそれぞれ密閉状態となっており、前記第２の排気配管側を前記第１の排気配管側よりわずかに減圧状態とした」構成（以下、「本件請求項１〜３に係る発明の特徴的構成」という。）を有し、また、その効果として、「真空引きの際、ウエハ裏面方向への排気の流れを無くすことができる」（特許明細書【発明の効果】の項）のに対し、参考文献１〜３、甲第１号証及び甲第２号証に記載された発明は、上記本件請求項１〜３に係る発明の特徴的構成について記載又はその示唆をするものではない。
　従って、本件請求項１〜３に係る発明は、甲第１号証及び甲第２号証に記載された発明に基づいて容易に発明できたものであるとすることができない。
５．むすび
 したがって、特許異議申立ての理由及び証拠によっては、本件請求項１〜３に係る発明の特許を取り消すことはできない。
　また、他に本件請求項１〜３に係る発明の特許を取り消すべき理由を発見しない。
　従って、本件請求項１〜３に係る発明についての特許は拒絶の査定をしなければならない特許出願に対してされたものと認めない。
　よって、上記のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１３年７月２４日（２００１．７．２４）
【訂正の要旨】
訂正の要旨
　訂正事項ａは、特許請求の範囲の減縮を目的とし、訂正事項ｂ〜ｆは、明りょうでない記載の釈明を目的とするものである。
訂正事項ａ
　請求項１及び請求項２を削除し、以下項数を繰り上げる。
　　　　　クレーム対応表
特許時のクレーム　　　　訂正後のクレーム
　１　　　　　　　　　　　　　削除
　２　　　　　　　　　　　　　削除
　３　　　　　　　　　　　　　１
　４　　　　　　　　　　　　　２
　５　　　　　　　　　　　　　３
訂正事項ｂ
　上記請求項１の削除に伴い、特許明細書中の特許請求の範囲の請求項３を独立項にすると共に、請求項３を、「ウエハを載置するウエハステージと、ウエハステージを覆う上蓋により形成される処理室と、ウエハステージに内蔵されウエハの受け渡しを行うために上下動作するリフトピンと、リフトピンを収納するリフトピン収納部と、ウエハ表面処理の前後に前記処理室の真空排気を第１の排気配管を介して行う第１の真空排気ユニットと、前記リフトピン収納部の真空排気を該リフトピン収納部の底部に設けられた第２の排気配管を介して行う前記第１の真空排気ユニットとは別の第２の真空排気ユニットとを備え、前記処理室は前記上蓋と前記ウエハステージとが第１のＯリングでシールされ、下降した状態で前記リフトピンと前記リフトピン収納部の底部とが第２のＯリングでシールされ、前記処理室と前記リフトピン収納部とはそれぞれ密閉状態となっており、前記第２の排気配管側を前記第１の排気配管側よりわずかに減圧状態としたことを特徴とするレジスト塗布前処理装置。」と訂正する。
訂正事項ｃ
　請求項４及び請求項５を、それぞれ請求項３（訂正後の請求項１）の従属項となるように訂正する。
訂正事項ｄ
　段落番号０００９を「本発明は、ウエハを載置するウエハステージと、ウエハステージを覆う上蓋により形成される処理室と、ウエハステージに内蔵されウエハの受け渡しを行うために上下動作するリフトピンと、リフトピンを収納するリフトピン収納部と、ウエハ表面処理の前後に前記処理室の真空排気を第１の排気配管を介して行う第１の真空排気ユニットと、前記リフトピン収納部の真空排気を該リフトピン収納部の底部に設けられた第２の排気配管を介して行う前記第１の真空排気ユニットとは別の第２の真空排気ユニットとを備え、前記処理室は前記上蓋と前記ウエハステージとが第１のＯリングでシールされ、下降した状態で前記リフトピンと前記リフトピン収納部の底部とが第２のＯリングでシールされ、前記処理室と前記リフトピン収納部とはそれぞれ密閉状態となっており、前記第２の排気配管側を前記第１の排気配管側よりわずかに減圧状態としたことを特徴とするレジスト塗布前処理装置である。」と訂正する。
訂正事項ｅ
　発明の実施の形態及び図面の簡単な説明において、「本発明の第１の実施の形態」を「本発明の参考例の実施の形態」に、「本発明の第２の実施の形態」を「本発明の実施の形態」にそれぞれ訂正する。
訂正事項ｆ
　００１７段落の発明の効果の欄の「その理由は、ウエハ裏面側にあるリフトピン収納部に排気配管を設け、ウエハ裏面側とウエハ表面側との圧力差が生じないようにするか、または、裏面側を表面側よりわずか減圧状態にしたためである。」を、「その理由は、処理室の真空排気を第１の排気配管を介して行う第１の真空排気ユニットとは別に、リフトピン収納部の真空班気をリフトピン収納部の底部に設けられた第２の排気配管を介して行う第２の真空排気ユニットを備え、処理室は上蓋とウエハステージとが第１のＯリングでシールされ、下降した状態でリフトピンとリフトピン収納部の底部とが第２のＯリングでシールされ、処理室とりフトピン収納部とをそれぞれ密閉状態とし、ウエハ裏面側をウエハ表面側よりわずかに減圧状態にしたためである。」と訂正する。
（５４）【発明の名称】
レジスト塗布前処理装置
（５７）【特許請求の範囲】
　【請求項１】　ウエハを載置するウエハステージと、ウエハステージを覆う上蓋により形成される処理室と、ウエハステージに内蔵されウエハの受け渡しを行うために上下動作するリフトピンと、リフトピンを収納するリフトピン収納部と
、
第１の排気配管を介して行う第１の真空排気ユニットと、前記リフトピン収納部の真空排気を該リフトピン収納部の底部に設けられた第２の排気配管を介して行う前記第１の真空排気ユニットとは別の第２の真空排気ユニットとを備え、前記処理室は前記上蓋と前記ウエハステージとが第１のＯリングでシールされ、下降した状態で前記リフトピンと前記リフトピン収納部の底部とが第２のＯリングでシールされ、前記処理室と前記リフトピン収部とはそれぞれ密閉状態となっており、前記第２の排気配体側を前記第１の排気配管側よりわずかに減圧状態とした
　【請求項２】　
前記処理室からの排気の流れの一部が、ウエハ外周部から裏面側室を経て前記リフトピン収納部へ流れることを特徴とする
　【請求項３】　
前記リフトピン収納部内の排気の流れが、ダウンフローを形成していることを特徴とする
【発明の詳細な説明】
　【０００１】
　【発明の属する技術分野】本発明は、レジスト塗布前処理装置に関し、特にウエハヘのフォトレジスト塗布前の表面処理を行うレジスト塗布前処理装置に関する。
　【０００２】
　【従来の技術】従来、ウエハにレジスト（フォトレジスト）を塗布する際には、前処理としてウエハ表面にＨＭＤＳ（ヘキサメチルジシラザン）の気化ガスを吹き付け、塗布されたレジストとウエハとの間に現像液やエッチング液が浸入するのを防止している。この前処理に用いるレジスト前処理装置は、レジスト塗布ユニット装置の一部として構成され、ウエハはこの前処理装置を経由してレジスト塗布装置へと搬送されるようになっている。
　【０００３】この従来のレジスト塗布前処理装置について、図３の断面図を参照して説明する。供給されたウエハ１は、加熱器が内蔵されたウエハステージ２上に設けられたウエハ支持ピン３で支持され、上蓋５で形成された処理室４内に載置される。処理室４は、Ｏリング６を介して気密に密閉され、排気は真空排気ユニット１４にて排気配管１１、大元排気配管１３を経由して真空排気ユニット１４により排気されるようになっている。
　【０００４】まず、処理室４内に載置されたウエハ１は、ウエハステージ２内の加熱器により５０〜８０℃程度に加熱され、同時に処理室４内は真空排気ユニット１４によりエアが排気される。この時、ＨＭＤＳ供給バルブ１５は閉じている。処理室４内のエアを排気した後にＨＭＤＳ供給バルブ１５を開け、ＨＭＤＳ供給ユニット１６よりＨＭＤＳガスをウエハ１に吹き付ける。
　【０００５】さらに従来の前処理装置においては、ウエハ１の受け渡しに必要となるリフトピン７が設けられている（特開平３−２９１９１２号公報）。このリフトピン７は、この種の密閉機構を有する装置においては必要不可欠のものであり、ウエハの受け渡し方式に関わらずウエハステージ２内に組み込まれている。リフトピン７が組み込まれたエリアであるリフトピン収納部８は、Ｏリング９を介した密閉構造となっており、かつリフトピン７が上下動作する摺動部を有している。
　【０００６】しかし、この従来の前処理装置は、リフトピン７が組み込まれたリフトピン収納部８内を排気する機構を備えていないため、処理室４内を排気する時に、リフトピン収納部８内の排気は上昇してウエハ１の裏面に当たり、さらにウエハ裏面に沿って外周方向に流れ、ウエハステージ２の外周に設けられた排気ポート１７から排気配管１１へと流れる構造になっていた。
　【０００７】
　【発明が解決しようとする課題】上述した従来のレジスト塗布前処理装置は、ウエハ１を受け渡しする際に、リフトピン収納部８内で上下動作するリフトピン７の摺動部でゴミが発生し、このゴミを含んだ排気が真空引きの時に上方に巻き上げられ、このゴミを含んだ排気がウエハ裏面方向に流れ、さらに裏面に沿って流れるため、ウエハ裏面にゴミが付着するという問題があった。その理由は、処理室４内の排気がウエハステージ２の外周に設けられた排気ポート１７のみで行われているためである。
　【０００８】本発明の目的は、レジスト塗布前処理装置において、ウエハ表面処理の前後に行う処理室の真空引きの際、ウエハステージ内部にあるリフトピン収納部で発生したゴミを含んだ排気の流れを、ウエハ裏面に届かないように制御することができるレジスト塗布前処理装置を提供することにある。
　【０００９】
　【課題を解決するための手段】本発明は、ウエハを載置するウエハステージと、ウエハステージを覆う上蓋により形成される処理室と、ウエハステージに内蔵されウエハの受け渡しを行うために上下動作するリフトピンと、リフトピンを収納するリフトピン収納部
と、
第１の排気配管を介して行う第１の真空排気ユニットと、前記リフトピン収納部の真空排気を該リフトピン収納部の底部に設けられた第２の排気配管を介して行う前記第１の真空排気ユニットとは別の第２の真空排気ユニットとを備え、前記処理室は前記上蓋と前記ウエハステージとが第１のＯリングでシールされ、下降した状態で前記リフトピンと前記リフトピン収納部の底部とが第２のＯリングでシールされ、前記処理室と前記リフトピン収納部とはそれぞれ密閉状態となっており、前記第２の排気配管側を前記第１の排気配管側よりわずかに減圧状態とした
　【００１０】
　【発明の実施の形態】次に、本発明の実施の形態について、図面を参照して詳細に説明する。図１は本発明の
参考例の
　【００１１】この状態で、処理室４内のエアを排気配管１１から、またリフトピン収納部８内のエアを排気配管１２からそれぞれ真空排気し、排気終了後、ＨＭＤＳ供給バルブ１５を開き、ＨＭＤＳ供給ユニット１６からのＨＭＤＳの気化ガスが導入管１０から処理室４へ供給される。ウエハ１へのＨＭＤＳガスの吹き付けが終了後、処理室４内は排気配管１１により排気され、リフトピン収納部８内は排気配管１２により排気される。これらの真空排気の際、処理室４内の排気の一部はウエハ１の表面側から裏面側へ回り込み、リフトピン収納部８を経由して排気配管１２から排気される。排気配管１１と排気配管１２の排気は、合流して大元排気配管１３へと導かれる。従って、リフトピン収納部８内の排気の流れは、常にダウンフローが形成される。
　【００１２】次に、本発明の
参考例
　【００１３】この状態でＨＭＤＳガスによるプロセス処理が開始されるが、本実施の形態に必要な個所の動作のみ説明する。リフトピン７の上下動作の際、Ｏリング９との間にこすれが生じ、ゴミが発生した状態となっている。従来は、排気配管１２が存在しなかったため、この状態で排気配管１１からのみ真空引きを行うと、ゴミを含んだエアがリフトピン収納部８からウエハ１の裏面へ流れ、ウエハ裏面にゴミを付着させていた。しかし、本実施の形態によれば、処理室４内は排気配管１１から、またリフトピン収納部８は排気配管１２からそれぞれ真空引きされるため、処理室４からリフトピン収納部８へ向かう気流を発生させることができ、リフトピン収納部８内において、気流は全てダウンフローとなり、ウエハ１の裏面方向へのエアの流れの発生はない。その結果、ウエハ裏面へのゴミの付着を低減することができる。
　【００１４】次に、
本発明の実施の形態
本発明の実施の形態
　【００１５】この状態で、まずエアを真空排気した後、気化したＨＭＤＳガスを導入管１０より供給する。処理後、処理室４内は排気配管１１より排気され、リフトピン収納部８は排気配管１１とは別系統の排気配管１２より排気される。排気配管１１と排気配管１２とを別系統とすることにより、処理室４とリフトピン収納部８との圧力を別々に制御することが可能となり、真空引きの際の排気の流れを、処理室４側からリフトピン収納部８側へ向ける制御が可能となる。特に、排気配管１２側を排気配管１１側よりわずか減圧状態にしておけば効果的である。
　【００１６】以上述べたように、本発明によれば、処理室内を真空引きする際、ウエハステージ外周に設けられた排気配管とリフトピン収納部に設けられた排気配管との両方から排気される。このため、処理室内からウエハ裏面側を通ってリフトピン収納部内への排気流が発生し、リフトピン収納部内はダウンフローとなり、ウエハ裏面方向への排気流は発生しない。よって、ウエハ裏面へのゴミの付着を低減することができる。
　【００１７】
　【発明の効果】本発明の効果は、真空引きの際、ウエハ裏面方向への排気の流れを無くすことができるということである。これにより、ウエハ裏面へのゴミの付着を低減できる。その理由は、
処理室の真空排気を第１の排気配管を介して行う第１の真空排気ユニットとは別に、リフトピン収納部の真空排気をリフトピン収納部の底部に設けられた第２の排気配管を介して行う第２の真空排気ユニットを備え、処理室は上蓋とウエハステージとが第１のＯリングでシールされ、下降した状態でリフトピンとリフトピン収納部の底部とが第２のＯリングでシールされ、処理室とリフトピン収納部とをそれぞれ密閉状態とし、ウエハ裏面側をウエハ表面側よりわずかに
【図面の簡単な説明】
　【図１】本発明の参考例の実施の形態を示す断面図である。
　【図２】
本発明の実施の形態
　【図３】従来のレジスト塗布前処理装置を示す断面図である。
　【符号の説明】
１　　ウエハ
２　　ウエハステージ
３　　ウエハ支持ピン
４　　処理室
５　　上蓋
６　　Ｏリング
７　　リフトピン
８　　リフトピン収納部
９　　Ｏリング
１０　　導入管
１１　　排気配管
１２　　排気配管
１３　　大元排気配管
１４　　真空排気ユニット
１５　　ＨＭＤＳ供給バルブ
１６　　ＨＭＤＳ供給ユニット
１７　　排気ポート
１８　　排気ポート