【事件の表示】
　特許第３０３３３６９号「電波吸収体」の請求項１ないし６に係る発明についての特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結　論】
　訂正を認める。
　特許第３０３３３６９号の請求項１ないし６に係る発明についての特許を取り消す。
【理　由】
１
　本件特許３０３３３６９号の請求項１ないし６に係る発明は、平成４年１０月６日（１９９２．１０．６）に出願され、平成１２年２月１８日（２０００．２．１８）にその特許の設定登録がなされ、その後、表記の異議申立人より特許異議の申立てがなされ、取消理由通知がなされ、その指定期間内である平成１３年６月５日に訂正請求がなされたものである。
　
２
　(1)　訂正の内容
　　　　（特許請求の範囲）
　ａ　請求項１の冒頭に、「
電波吸収特性を得るために
　ｂ　請求項２の「その上にもうけられる抵抗皮膜」を、「その上にもうけられる
電波吸収特性を得るために適当な表面抵抗をもつ
　　　　（発明の詳細な説明）
　ｃ　明細書段落番号【０００８】を、「好ましくは、抵抗皮膜として金属酸化物、金属窒化物ないしはこれらの混合体をイオンプレーティング、蒸着、スパッタリング等により作成した透明な薄膜を用いる。金属酸化物、金属窒化物は、ＩＴＯ（酸化インジウム／酸化錫）、酸化錫、酸化亜鉛、窒化チタンから選ばれたものである。」と訂正する。
　
　(2) 訂正の目的の適否、新規事項の有無及び拡張・変更の存否
   （特許請求の範囲）
　上記訂正事項ａについては、特許明細書の特許請求の範囲に記載された「表面抵抗」の種類をより具体的なものに限定しようとするものである。
　したがって、上記訂正事項ａは、特許請求の範囲の減縮を目的とするものである。
　上記訂正事項ｂについては、特許明細書の特許請求の範囲に記載された「抵抗皮膜」の種類と構成をより具体的な構成に限定しようとするものである。
　したがって、上記訂正事項ｂは、特許請求の範囲の減縮を目的とするものである。
　　（発明の詳細な説明）
　上記訂正事項ｃについては、不明瞭な記載の釈明を目的として請求項２及び４に記載の事項を加入するものである。
　
　また上記訂正事項ａないしｃは、願書に添付した明細書又は図面に記載した事項の範囲内での訂正であり、実質上特許請求の範囲を拡張し又は変更するものでもない。
　
　(4)  むすび
　以上のとおりであるから、上記訂正請求は、特許法１２０条の四第２項及び同条第３項で準用する特許法１２６条の規定に適合するので、当該訂正を認める。
　
３
　(1)　本件発明
　上記
２
「【請求項１】
電波吸収特性を得るために
　抵抗皮膜および誘電体を透明な材料で構成し、電波反射体を光を通す構造もしくは材料で構成したことを特徴とする電波吸収体。
【請求項２】電波反射体と、その上にもうけられる厚さ約λg ／４（λgは誘電体内での電波の波長）の誘電体と、その上にもうけられる
電波吸収特性を得るために適当な表面抵抗をもつ
　透明な抵抗皮膜を電波到来方向に配し、その背面に厚さ約λg ／４（ここでλg は誘電体内での電波の波長を表す）の透明な誘電体を配し、さらに誘電体の背面に光を透過する電波反射体を配したことを特徴とする電波吸収体。
【請求項３】抵抗皮膜が金属酸化物、金属窒化物ないしはこれらの混合体をイオンプレーティング、蒸着、スパッタリング等により作成した透明な膜であることを特徴とする請求項１または２に記載の電波吸収体。
【請求項４】金属酸化物、金属窒化物がＩＴＯ（酸化インジウム／酸化錫）、酸化錫、酸化亜鉛、窒化チタンから選ばれたものである請求項３に記載の電波吸収体。
【請求項５】透明な誘電体が空気、ガラス、透明な有機高分子から選ばれたものである請求項１又は２に記載の電波吸収体。
【請求項６】電波反射体が金属線格子、又は透明な金属薄膜から選ばれたものである請求項１又は２に記載の電波吸収体。」
　
　(2)  引用刊行物記載の発明
　当審で通知した取消の理由で引用した
刊行物１：特開平１―１７１２９７号公報〈甲第１号証〉
刊行物２：特開平３―２２８８５０号公報〈甲第２号証〉
刊行物３：１９８９年１月１０日日経技術図書株式会社発行「電磁波の吸収と遮蔽」ｐ１４３〜１４６〈甲第３号証〉
刊行物４：特開昭５９―２０１４９４号公報〈甲第４号証〉
刊行物５：特開平１―２９３６９９号公報〈甲第５号証〉
刊行物６：１９９０年３月３１日日刊工業新聞社発行「真空技術ハンドブック」目次，ｐ５０８，ｐ５０９，ｐ５２９，ｐ５４０，ｐ５４１，ｐ５５０，ｐ５５１〈甲第６号証〉
には、以下のような事項が記載されている。
　
　上記刊行物１に記載された発明は、電磁波遮蔽透明体に関するものであって、その明細書４頁右上欄７行目〜同頁左下欄４行目には、「ガラス等からなる透明体の表面に金属若しくは金属酸化物又はこれらの積層体のコーティングを施した電磁波遮蔽透明体は、コーティングする金属若しくは金属酸化物又はこれらの積層体の種類、量、安定化処理等により様々な色合いと反射色を持ち、透明体本来のもつ透明感、光の透過率、反射率が異なってくる。…このような場合には、建物の計画意図に合った色具合、反射性能を持たせることができる。その対応例を示したのが第３図である。第３図（ａ）は透明ガラス３１と電磁波遮蔽膜３２からなる電磁波遮蔽透明体の上に色合・反射性能調整層３３を配置したものであり、同図（ｂ）は電磁波遮蔽膜３２と反対側に色合・反射性能調整層３３を配置した例である。」という記載がある。
　
　刊行物２に記載の発明は、建物によるテレビ電波等の電波反射障害を防ぐことを課題とした、ガラス体(4)，電波吸収層(5)及び電波反射層(6)から成る電波吸収ガラス(1)に関するもので、その請求項６には、「電波吸収ガラス(1)を、この電波吸収ガラス(1)を介して光を透過させるように」と記載され、透明な電波吸収体をも意図したものであると認められる。
　また、その実施例では、明細書４頁左上欄２行目〜同欄１０行目に、「電波反射層(6)は、金属、ＳnＯ２、ＩＴＯ等の物質を用いて、スパッタリング、ＣＶＤ、真空蒸着等の方法により、前記ガラス板(4)の表面に薄膜状に形成してある。一方、建物外部に向けられた前記電波吸収層(5)は、フェライト粉末を高分子材料に混合してなる液状の複合フェライト材を、前記ガラス板(4)の表面に塗布すると共にこれを乾燥させて形成してある。」と記載されている。
　また、５頁左上欄２行目〜同欄９行目には、「まず、第４図に示す第２実施例においては、前記ガラス体を２枚の板部、つまり２枚のガラス板（１３），（１４）よりなる複層ガラスで構成してある。この２枚のガラス板（１３），（１４）の互いに対向する対向面に、前記電波吸収層（５）と前記電波反射層（６）とを各別に設ける一方、この対向面どうしの間にスペーサー（１５）を介在させて空気層を形成してある。」との記載がある。
　そして、ガラス体(4)は誘電体に該当するから、刊行物２には、電波到来方向側の背面を電波反射体で裏打し、その上に誘電体と、その上に
電波吸収特性を得るため
　前記層および誘電体を透明な材料で構成し、電波反射体を光を通す構造もしくは材料で構成したことを特徴とする電波吸収体が記載されていることになり、また「 透明な誘電体が空気、ガラス、透明な有機高分子から選ばれたものである」点及び「 電波反射体が金属線格子、又は透明な金属薄膜から選ばれたものである」点も記載されている。
　
　刊行物３には、その１４３頁図４．１−１には、「金属板と、その上にもうけられる厚さλ／４のスペーサ（無損失誘電体）と、その上にもうけられる抵抗皮膜とを有するλ／４形電波吸収体」が記載されている。また、同１４３頁〜１４５頁、特に１４５頁左欄９行目〜同欄１１行目には、「抵抗皮膜と金属板との間にもうけられるスぺーサ（無損失誘電体）の厚さを、誘電体の内部波長λの約１／４の厚さに調整すると電波吸収能が最大になる」ことが記載されている。
　
　刊行物４は透明電磁遮蔽部材に関するものであり、１頁右欄１６行目〜同欄最終行目には、「従来、透明な電磁遮蔽部材としては、ガラス、プラスチック等の透明な透光体表面にＩＴＯ（インジウムオキサイド（Ｉn２Ｏ３）と二酸化錫（ＳnＯ２）との固溶体）等の透明導電性薄膜を形成したものが用いられていた。」との記載があり、２頁左下欄１行目〜同欄８行目には、「電磁遮蔽薄膜は電磁波を反射（多重反射を含む）、あるいは吸収することによって電磁波の遮断効果を上げる機能を有する。《中略》透明導電性薄膜としては、ＩＴＯ（インジウムオキサイド（Ｉn２Ｏ３）と二酸化錫（ＳnＯ２）との固溶体）等を用いることができる。」との記載があり、３頁右上欄１行目〜同欄４行目には、「本実施例の電磁遮蔽ガラスはガラス基板１０上にＩＴＯ膜２０及び二酸化珪素膜３０をそれぞれＲＦマグネトロンスパッタリング法によって成膜させることによって製造した。《中略》本実施例における電磁遮蔽薄膜の抵抗率は１．５×１０−３Ωcm、可視光透過率は最高８７％」との記載があり、また第１図にはＩＴＯ膜２０と二酸化珪素膜３０とを交互に積層した例が示されている。
　したがって刊行物４には、電磁波を反射もしくは吸収する材料として、透明で適当な表面抵抗をもち、ＩＴＯ（酸化インジウム／酸化錫）をスパッタリングにより作成した抵抗皮膜が示されている
　
　刊行物５は電波吸収体に関するものであり、２頁右上欄１９行目〜同欄最終行目には、「（３）は第二電波反射体として用いた５mm角の穴を多数設けたアルミ箔であり、」との記載があり、また２頁右下欄下から１６行目〜同欄下から１１行目には、「次に第二電波反射体（３に設ける穴は、あまり小さいと電磁波は第二電波反射体（３）ですべて反射されてしまうので、媒質中の電磁波の半波長程度かそれ以上の大きさにする必要がある。この発明の一実施例では第二電波反射体（３）に５mm角の穴を設けた。」との記載がある
　
　刊行物６の目次vi頁及びvii頁には、第６章「真空を利用した薄膜製造装置」として、真空蒸着、スパッタリング、イオンプレーティングが記載されている。そして、５０８頁表６．１．４（化成蒸着法による化合物薄膜の代表例）には、金属酸化物（Ａl２Ｏ３等）、金属窒化物（ＴiＮ等）を用いて蒸着により薄膜を形成することが記載されており、また、５２９頁９行目〜同頁１３行目には、「このスパッタリング法は、現在半導体工業を中心としたマイクロエレクトロニクス分野の生産工程で、真空蒸着法と並んで最もよく利用されている成膜技術である。また、その取扱い・制御技術が容易であること、被膜の特性が優れていること、材質が多様に選べることなどの利点があるため、広範囲な産業分野で利用されており、今後、より一層応用分野が拡大すると期待できる。」との記載があり、５４０頁表６．３．３（反応性スパッタリングに用いられる反応ガスと化合物薄膜例）には、金属酸化物（ＩＴＯ等）、金属窒化物（ＴiＮ等）を用いてスパッタリングにより薄膜を形成することが記載されている。
　さらに、５５０頁には、「（１）酸化膜反応性イオンプレーティング法の中で最も容易に作成しうるものの一つである。酸素放電中で元素単体または酸化物を蒸発させて作りうる。基板加熱を行わずとも、プラズマで十分酸化されるので、透明性、密着性において他の真空蒸着法やスパッタリング法によるものよりも優れている。酸化膜は、主として光学系電子部品材料に利用される場合が多く、今後大いに利用されると考えられる。Ｉn２Ｏ３、ＴiＯ２、Ａl２Ｏ３、Ｓi−Ｏ系、Ｃr−Ｏ系、ＺnＯ、などほとんどのものが作製可能であり、物性的にも優れた特性を示している。」との記載があり、５５１頁には、「（３）窒化膜窒化物の合成には、窒素（Ｎ２）または、アンモニア（ＮＨ３）の放電を利用する。ＴiＮ、ＴaＮは硬く、また強靭できれいな金色を帯びており新材料中の花形となっている。窒化膜は安定で、硬くかつ耐熱性、耐蝕性に優れたものが多い。工具、電子部品材料、装飾など幅広い利用がある。」との記載があり、５５１頁表６．４．１（反応ガスと化合物）には、得られる化合物として、ＺnＯ、ＳnＯ２等の金属酸化物、ＴiＮ等の金属窒化物が記載されている。
　
　(4)  対比・判断
　本件発明と刊行物２に記載された発明とを比較すると、
　両者は、請求項１の「
電波吸収特性を得るため
　前記層および誘電体を透明な材料で構成し、電波反射体を光を通す構造もしくは材料で構成したことを特徴とする電波吸収体。」の構成，請求項２の「電波反射体と、その上にもうけられる誘電体と、その上にもうけられる
電波吸収特性を得るため
電波吸収特性を得るため
　
Ａ：本件発明においては
電波吸収特性を得るため
　
Ｂ：本件発明においては、厚さ約λg ／４（λgは誘電体内での電波の波長）の誘電体を用いている（請求項２）のに対し、刊行物２に記載された発明においては、該記載がない点で相違している。
　
　しかしながら、Ａの点については、刊行物４に電磁波を反射もしくは吸収する材料として、透明で適当な表面抵抗をもち、ＩＴＯ（酸化インジウム／酸化錫）をスパッタリングにより作成した抵抗皮膜が示されているから、該抵抗皮膜を、本件発明のフェライト層の代わりに用いることは当業者が容易に想到しうることと認められる。
　また、Ｂの点に関しては、刊行物３に示されているように電波吸収体を設計する際の常識的な事項に過ぎない。
　
　特許権者は、刊行物２に記載の発明は、フェライトの磁気損失を利用して電磁波エネルギーを吸収するものであるから本件発明の抵抗被膜による電磁波エネルギー吸収とはその原理が違う旨主張している。
　しかしながら、本件発明も刊行物２及び４に記載の発明も、電磁波が１００％反射し、あるいは１００％通過するものではなく、したがって、いくつかの電磁波吸収原理が混在するものであるから、当該分野のものでさえあれば、たとえ主たる原理の違いがあったとしても、当業者なら材料の置換は可能であると見る方が妥当であると認められる。
　また、特許権者は刊行物２に記載の発明は光を透過しないフェライト複合材であるから、本件発明と課題の共通性がなく透明な材料と置換できないと主張する。
　しかしながら、刊行物２の請求項６の記載から、刊行物２の発明も透明な電波吸収体を意図したものと認められるから、該主張は認められない。
　(5)  むすび
　以上のとおり、本件請求項１ないし６に係る発明は、上記引用刊行物に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明することができたものであるから、本件請求項１ないし６に係る発明についての特許は特許法２９条２項の規定に違反してされたものである。
　したがって、本件請求項１ないし６に係る発明についての特許は、拒絶の査定をしなければならない特許出願に対してされたものと認める。
　よって、特許法の一部を改正する法律（平成６年法律第１１６号）附則１４条の規定に基づく特許法の一部を改正する法律の施行に伴う経過措置を定める政令（平成７年政令２０５号）４条２項の規定により、結論のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１３年７月２３日（２００１．７．２３）
【訂正の要旨】
特許第３０３３３６９号の明細書を以下のとおりに訂正する。
　（特許請求の範囲）
　ａ　請求項１の冒頭に、「
電波吸収特性を得るために
　ｂ　請求項２の「その上にもうけられる抵抗皮膜」を、特許請求の範囲の減縮を目的として「その上にもうけられる
電波吸収特性を得るために適当な表面抵抗をもつ
　（発明の詳細な説明）
　ｃ　明細書段落番号【０００８】を、不明瞭な記載の釈明を目的として、「好ましくは、抵抗皮膜として金属酸化物、金属窒化物ないしはこれらの混合体をイオンプレーティング、蒸着、スパッタリング等により作成した透明な薄膜を用いる。金属酸化物、金属窒化物は、ＩＴＯ（酸化インジウム／酸化錫）、酸化錫、酸化亜鉛、窒化チタンから選ばれたものである。」と訂正する。
（５４）【発明の名称】
電波吸収体
（５７）【特許請求の範囲】
　【請求項１】　電波吸収特性を得るために適当な表面抵抗をもつ抵抗皮膜と誘電体とを交互に配置し、背面を電波反射体で裏打した多層型電波吸収体において、
　抵抗皮膜および誘電体を透明な材料で構成し、電波反射体を光を通す構造もしくは材料で構成したことを特徴とする電波吸収体。
　【請求項２】　電波反射体と、その上にもうけられる厚さ約λｇ／４（λｇは誘電体内での電波の波長）の誘電体と、その上にもうけられる電波吸収特性を得るために適当な表面抵抗をもつ抵抗皮膜とを有する電波吸収体において、
　透明な抵抗皮膜を電波到来方向に配し、その背面に厚さ約λｇ／４（ここでλｇは誘電体内での電波の波長を表す）の透明な誘電体を配し、さらに誘電体の背面に光を透過する電波反射体を配したことを特徴とする電波吸収体。
　【請求項３】　抵抗皮膜が金属酸化物、金属窒化物ないしはこれらの混合体をイオンプレーティング、蒸着、スパッタリング等により作成した透明な膜であることを特徴とする請求項１または２に記載の電波吸収体。
　【請求項４】　金属酸化物、金属窒化物がＩＴＯ（酸化インジウム／酸化錫）、酸化錫、酸化亜鉛、窒化チタンから選ばれたものである請求項３に記載の電波吸収体。
　【請求項５】　透明な誘電体が空気、ガラス、透明な有機高分子から選ばれたものである請求項１又は２に記載の電波吸収体。
　【請求項６】　電波反射体が金属線格子、又は透明な金属薄膜から選ばれたものである請求項１又は２に記載の電波吸収体。
【発明の詳細な説明】
　【０００１】
　【産業上の利用分野】
　本発明は、レーダゴースト（偽像防止）、反射体からの電磁波の散乱等反射防止に用いられる透明な電波吸収体に関する。
　【０００２】
　【従来の技術】
　近年、電波の利用が進むにつれて電波障害、誤動作等の問題が発生している。これらの問題の対策の１つとして、電波吸収体が利用され大きな効果を奏している。
　【０００３】
　電波吸収体は一般にフェライト、カーボン等の損失材料をゴム、樹脂等の保持材に混合させた構成となっている。したがって従来の電波吸収体においては、光を透過せず、透明性を有していない。
　【０００４】
　最近では電波の用途は多岐に渡り、そのため透明な電波吸収体の要求が高まってきている。
　【０００５】
　【発明が解決しようとする課題】
　しかしながら、上記で述べたように従来の電波吸収体においては透明でないため透明性を必要とする箇所に電波吸収体を設置することは不可能であった。
　【０００６】
　本発明はこれらの問題を解決するためのもので、透明な電波吸収体を提供することを目的とする。
　【０００７】
　【課題を解決するための手段】
　本発明は、前記問題点を解決するために、適当な表面抵抗を持つ抵抗皮膜と誘電体とを交互に配置し、背面を電波反射体で裏打した多層型電波吸収体及び電波の到来方向に３７７Ω（自由空間の電波特性インピーダンス）の表面抵抗をもつ抵抗皮膜を配し、さらにその背面に電波反射体に裏打された厚さλｇ／４（ここでλｇは誘電体内での電波の波長を表す）の誘電体を配した構造、即ちλ／４型電波吸収体において、抵抗皮膜、誘電体、電波反射体の各部材を光学的に透明とする。
　【０００８】
　好ましくは、抵抗皮膜として金属酸化物、金属窒化物ないしはこれらの混合体をイオンプレーティング、蒸着、スパッタリング等により作成した透明な薄膜を用いる。金属酸化物、金属窒化物は、ＩＴＯ（酸化インジウム／酸化錫）、酸化錫、酸化亜鉛、窒化チタンから選ばれたものである。
　【０００９】
　又、誘電体として透明なガラス、樹脂もしくは空気を用いる。
　【００１０】
　又、電波反射体として金属線格子もしくは透明な金属薄膜を用いる。
　【００１１】
　【作用】
　本発明における抵抗皮膜と誘電体を用いた多層型及び単層型電波吸収体は、透明性もしくは光透過性を有する抵抗皮膜、誘電体及び電波反射体で構成させているため、光学的に透明な特性を得ることができる。また希望とする電波吸収性能に合わせて抵抗皮膜の表面抵抗、誘電体の誘電率及び厚さ、層数を調整することにより、電波吸収性能を得ることができる。
　【００１２】
　【実施例１】
　厚さ５ｍｍの透明アクリル樹脂板（誘電体１２）を金属線格子（格子間隔５ｍｍ）（電波反射体１１）で裏打し、金属酸化物が装着されている厚さ１２５μｍの透明で表面抵抗が３７７Ω／□±１０％のＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）フィルム（抵抗皮膜１３）を透明な粘着剤でアクリル樹脂板の表面に装着させ電波吸収体を作成した。
　【００１３】
　この電波吸収体の電波吸収特性の測定方法として反射電力法を用いて測定を行なった。その測定系を図１１に示す。
　【００１４】
　ここで送信アンテナから、スウィーパにより周波数の掃引される電波を発射し、試料はアンテナから３ｍのところにおく。受信アンテナは、試料からやはり３ｍのところにおき、アンプを介して受信アンテナに接続したネットワークアナライザにより、試料による電波の反射を解析する。
　【００１５】
　また、電波吸収体の構成図を図１に示す。そのときの電波吸収特性結果を図６に示す。
　【００１６】
　【実施例２】
　金が蒸着されている厚さ１２５μｍの透明なＰＥＴフィルム（電波反射体２１）によって厚さ５ｍｍの透明アクリル樹脂板（誘電体２２）を裏打し、金属酸化物が装着されている厚さ１２５μｍの透明で表面抵抗が３７７Ω／口±１０％のＰＥＴフィルム（抵抗皮膜２３）を透明な粘着剤でアクリル樹脂板の表面に装着させ電波吸収体を作成した。
　【００１７】
　構成図を図２に示す。そのときの電波吸収特性結果を図６に示す。
　【００１８】
　【実施例３】
　金属酸化物が装着されている厚さ０．５ｍｍの透明で表面抵抗が３７７Ω／□±１０％のＰＥＴ板（抵抗皮膜３３）と、片面に金属線格子（格子間隔５ｍｍ）を装着している透明なアクリル樹脂板（電波反射体３１）を隙間（１０ｍｍ）（誘電体３２）をあけて相対させて電波吸収体を作成した。
　【００１９】
　構成図を図３に示す。そのときの電波吸収特性結果を図８に示す。
　【００２０】
　【実施例４】
　表面抵抗が３７７Ω／□±１０％の金属酸化物（抵抗皮膜４３）が装着されている厚さ８ｍｍの透明のガラス板（誘電体４２）を金属線格子（格子間隔５ｍｍ）（電波反射体４１）で裏打し、電波吸収体を作成した。構成図を図４に示す。そのときの電波吸収特性結果を図９に示す。
　【００２１】
　【実施例５】
　電波反射体として金属線格子（格子間隔５ｍｍ）を装着している透明なアクリル樹脂板（電波吸収体５１）を用い、表面抵抗３７７Ω／□±１０％にした金属酸化物が装着されている厚さ０．５ｍｍの透明なＰＥＴ板３枚（抵抗皮膜５３）をそれぞれ１０ｍｍ間隔（誘電体５２）で相対させて電波吸収体を作成した。構成図を図５に示す。そのときの電波吸収特性結果を図１０に示す。
　【００２２】
　【発明の効果】
　以上説明したように本発明は電波吸収体において透明性を持たせてあるため、透明性を必要とする箇所、例えば窓ガラス等に利用可能である。
【図面の簡単な説明】
　【図１】
　本発明の一実施例（１）の電波吸収体の構成を示す図である。
　【図２】
　本発明の一実施例（２）の電波吸収体の構成を示す図である。
　【図３】
　本発明の一実施例（３）の電波吸収体の構成を示す図である。
　【図４】
　本発明の一実施例（４）の電波吸収体の構成を示す図である。
　【図５】
　本発明の　実施例（５）の電波吸収体の構成を示す図である。
　【図６】
　本発明の一実施例（１）の電波吸収特性を示す図である。
　【図７】
　本発明の一実施例（２）の電波吸収特性を示す図である。
　【図８】
　本発明の一実施例（３）の電波吸収特性を示す図である。
　【図９】
　本発明の一実施例（４）の電波吸収特性を示す図である。
　【図１０】
　本発明の一実施例（５）の電波吸収特性を示す図である。
　【図１１】
　本発明の実施例の電波吸収体の電波吸収特性測定系を示す図である。
　【符号の説明】
１１，２１，３１，４１，５１　電波反射体
１２，２２，３２，４２，５２　誘電体
１３，２３，３３，４３，５３　抵抗皮膜