(57)【要約】  偏光度およびｐ偏光透過率が高く、裏面ｓ偏光反射率が低いワイヤグリッド型偏光子およびその製造方法を提供する。  底部から頂部に向かうにしたがって幅がしだいに狭くなる複数の凸条１２が、凸条１２間に形成される平坦部１３を介して互いに平行にかつ所定のピッチＰｐで表面に形成された光透過性基板１４と、凸条１２の第１の側面１６を被覆する、金属材料からなる第１の反射層２０と、凸条１２と第１の反射層２０との間に存在し、凸条１２の第１の側面１６の全面を被覆する、金属材料よりも光を吸収する光吸収性材料からなる第１の吸収層２２とを有するワイヤグリッド型偏光子１０、及び斜方蒸着法にて第１の吸収層２２および第１の反射層２０を形成するワイヤグリッド型偏光子１０の製造方法、並びに当該ワイヤグリッド型偏光子１０を備えた液晶表示装置。
2010126110.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
底部から頂部に向かうにしたがって幅がしだいに狭くなる複数の凸条が、該凸条間に形成される平坦部を介して互いに平行に、かつ所定のピッチで表面に形成された光透過性基板と、
前記凸条の第１の側面を被覆する、金属材料からなる第１の反射層と、
前記凸条と前記第１の反射層との間に存在し、前記凸条の第１の側面の全面を被覆する、前記金属材料よりも光を吸収する光吸収性材料からなる第１の吸収層と
を有する、ワイヤグリッド型偏光子。
【請求項２】
前記第１の吸収層の厚さが、３〜２０ｎｍである、請求項１に記載のワイヤグリッド型偏光子。
【請求項３】
前記凸条と前記第１の吸収層との間に存在し、前記凸条の第１の側面の全面を被覆する、金属材料からなる下地層をさらに有する、請求項１または２に記載のワイヤグリッド型偏光子。
【請求項４】
前記凸条の第２の側面の全面を被覆する、前記光吸収性材料からなる第２の吸収層をさらに有する、請求項１〜３のいずれかに記載のワイヤグリッド型偏光子。
【請求項５】
前記第２の吸収層の表面を被覆する、金属材料からなる第２の反射層をさらに有する、請求項４に記載のワイヤグリッド型偏光子。
【請求項６】
前記凸条の長さ方向に直交する断面形状が、三角形または台形である、請求項１〜５のいずれかに記載のワイヤグリッド型偏光子。
【請求項７】
前記ピッチＰｐが、３００ｎｍ以下である、請求項１〜６のいずれかに記載のワイヤグリッド型偏光子。
【請求項８】
前記第１の反射層の厚さが、３〜２０ｎｍである、請求項１〜７のいずれかに記載のワイヤグリッド型偏光子。
【請求項９】
前記凸条の底部の幅Ｄｐｂと該Ｄｐｂと凸条間に形成された平坦部の幅との合計長さＰｐとの比（Ｄｐｂ／Ｐｐ）が、０．１〜０．７である、請求項１〜８のいずれかに記載のワイヤグリッド型偏光子。
【請求項１０】
前記凸条の底部の幅をＤｐｂとし、該Ｄｐｂと凸条間に形成された平坦部の幅との合計長さをＰｐとし、第１の反射層の凸条の幅方向の厚さの最大値をＤｒ１としたとき、Ｄｒ１が下記式を満足する請求項１〜９のいずれかに記載のワイヤグリッド型偏光子。
０．２×（Ｐｐ−Ｄｐｂ）≦Ｄｒ１≦０．５×（Ｐｐ−Ｄｐｂ）
【請求項１１】
前記凸条の第１の側面に形成された第１の反射層の高さＨｒ１と前記凸条の高さＨｐとの比（Ｈｒ１／Ｈｐ）が、０．５〜１．０である、請求項１〜１０のいずれかに記載のワイヤグリッド型偏光子。
【請求項１２】
底部から頂部に向かうにしたがって幅がしだいに狭くなる複数の凸条が、該凸条間に形成される平坦部を介して互いに平行に、かつ所定のピッチで表面に形成された光透過性基板と、前記凸条の第１の側面を被覆する、金属材料からなる第１の反射層と、前記凸条と前記第１の反射層との間に存在し、前記凸条の第１の側面の全面を被覆する、前記金属材料よりも光を吸収する光吸収性材料からなる第１の吸収層とを有するワイヤグリッド型偏光子を製造する方法であって、
前記凸条の長さ方向に対して略直交し、かつ前記凸条の高さ方向に対して第１の側面の側に２５〜４０゜の角度をなす方向から前記光吸収材料を、蒸着量が３〜２０ｎｍとなる条件で蒸着して前記第１の吸収層を形成し、
前記凸条の長さ方向に対して略直交し、かつ前記凸条の高さ方向に対して第１の側面の側に２５〜５０゜の角度をなす方向から前記金属材料を、蒸着量が１５〜５０ｎｍとなる条件で蒸着して前記第１の反射層を形成する、ワイヤグリッド型偏光子の製造方法。
【請求項１３】
前記凸条の長さ方向に直交する断面形状が、三角形または台形である、請求項１２に記載のワイヤグリッド型偏光子の製造方法。
【請求項１４】
前記凸条が、光硬化樹脂または熱可塑性樹脂からなり、インプリント法で形成される、請求項１２または１３に記載のワイヤグリッド型偏光子の製造方法。
【請求項１５】
一対の基板間に液晶層を挟持した液晶パネルと、
バックライトユニットと、
凸条が形成された側の面が前記バックライトユニット側となり、凸条が形成されていない側の面が液晶表示装置の視認側となるように配置された、請求項１〜１１のいずれか１項に記載のワイヤグリッド型偏光子と
を有する、液晶表示装置。
【請求項１６】
吸収型偏光子をさらに有し、
前記ワイヤグリッド型偏光子が、前記液晶パネルの一方の表面に配置され、
前記吸収型偏光子が、前記ワイヤグリッド型偏光子が配置された側とは反対側の前記液晶パネルの表面に配置されている、請求項１５に記載の液晶表示装置。
【請求項１７】
前記ワイヤグリッド型偏光子が、前記バックライトユニット側の前記液晶パネルの表面に配置され、
前記吸収型偏光子が、前記バックライトユニット側とは反対側の前記液晶パネルの表面に配置されている、請求項１６に記載の液晶表示装置。
【請求項１８】
吸収型偏光子をさらに有し、
前記ワイヤグリッド型偏光子が、前記液晶パネルの前記一対の基板のうちの一方の基板と一体化され、
前記吸収型偏光子が、前記ワイヤグリッド型偏光子が一体化された側とは反対側の前記液晶パネルの基板の表面に配置されている、請求項１５に記載の液晶表示装置。
【請求項１９】
前記ワイヤグリッド型偏光子が、前記バックライトユニット側の前記液晶パネルの前記基板と一体化され、
前記吸収型偏光子が、前記バックライトユニット側とは反対側の前記液晶パネルの表面に配置されている、請求項１８に記載の液晶表示装置。
【請求項２０】
吸収型偏光子をさらに有し、
前記ワイヤグリッド型偏光子が、前記液晶パネルの前記一対の基板のうちの一方の基板の液晶層側に配置され、
前記吸収型偏光子が、前記ワイヤグリッド型偏光子が配置された側とは反対側の前記液晶パネルの基板の表面に配置されている、請求項１５に記載の液晶表示装置。
【請求項２１】
前記ワイヤグリッド型偏光子が、前記液晶パネルの前記一対の基板のうちの前記バックライトユニット側の基板の液晶層側に配置され、
前記吸収型偏光子が、前記バックライトユニット側とは反対側の前記液晶パネルの表面に配置されている、請求項２０に記載の液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ワイヤグリッド型偏光子およびその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置、リアプロジェクションテレビ、フロントプロジェクター等の画像表示装置に用いられる、可視光領域で偏光分離能を示す偏光子（偏光分離素子ともいう。）としては、吸収型偏光子および反射型偏光子がある。
吸収型偏光子は、たとえば、ヨウ素等の二色性色素を樹脂フィルム中に配向させた偏光子である。しかし、吸収型偏光子は、一方の偏光を吸収するため、光の利用効率が低い。【０００３】
一方、反射型偏光子は、偏光子に入射せずに反射した光を偏光子に再入射させることにより、光の利用効率を上げることができる。そのため、液晶表示装置等の高輝度化を目的として反射型偏光子のニーズが高まっている。
反射型偏光子としては、複屈折樹脂積層体からなる直線偏光子、コレステリック液晶からなる円偏光子、ワイヤグリッド型偏光子がある。
しかし、直線偏光子および円偏光子は、偏光分離能が低い。そのため、高い偏光分離能を示すワイヤグリッド型偏光子が注目されている。【０００４】
ワイヤグリッド型偏光子は、光透過性基板上に複数の金属細線が互いに平行に配列した構造を有する。金属細線のピッチが入射光の波長よりも充分に短い場合、ワイヤグリッド型偏光子の凸条が形成された側（以下、表面側と記す。）から入射した光のうち、金属細線に直交する電場ベクトルを有する成分（すなわちｐ偏光）は透過し、金属細線と平行な電場ベクトルを有する成分（すなわちｓ偏光）は反射される。【０００５】
可視光領域で偏光分離能を示すワイヤグリッド型偏光子としては、下記のものが知られている。
（１）光透過性基板の表面に所定のピッチで形成された複数の凸条に金属層を形成し、金属細線としたワイヤグリッド型偏光子（特許文献１、２）。【０００６】
（１）のワイヤグリッド型偏光子は、金属の蒸着で金属細線を形成しているため、生産性がよい。しかし、（１）のワイヤグリッド型偏光子を、液晶表示装置の液晶パネルのバックライト側の表面に貼着した場合、液晶パネル側（ワイヤグリッド型偏光子の凸条が形成されていない側。以下、裏面側と記す。）から入射したｓ偏光が金属細線によって反射し、表示される画像のコントラストが低下する。【０００７】
裏面側から入射するｓ偏光の反射率（以下、裏面ｓ偏光反射率と記す。）が抑えられたワイヤグリッド型偏光子としては、下記のものが提案されている。
（２）光透過性基板の表面に所定のピッチで形成された断面矩形の複数の凸条の上部に黒色層および金属層を形成したワイヤグリッド型偏光子（特許文献３の図２８（ａ）、（ｂ））。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開２００６−００３４４７号公報
【特許文献２】国際公開第２００６／０６４６９３号パンフレット（米国公開２００８／０１２９９３１）
【特許文献３】国際公開第２００８／０８４８５６号パンフレット
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
しかし、（２）の（ａ）のワイヤグリッド型偏光子では、下記の問題がある。
（ｉ）凸条の断面形状が矩形であり、かつ矩形の凸条の上部にＬ字形の金属層が形成されているため、ｐ偏光透過率が低く、表示される画像の輝度が低下する。
（ii）凸条の頂部のみに黒色層が形成されているため、裏面ｓ偏光反射率の抑制が不充分であり、表示される画像のコントラストが低下する。
（iii）裏面ｓ偏光反射率の抑制効果を得るためには黒色層側を液晶パネルに貼り付ける必要があるが、黒色層側は凹凸となっているため、ワイヤグリッド型偏光子を液晶パネルに貼り付けにくい。また、貼り付けた際に使用する糊の影響で光学特性が低下する可能性がある。
（iv）バックライトからの光が光透過性基板側から入射するため、空気と光透過性基板との界面でｐ偏光の反射が発生し、表示される画像の輝度が低下する。【００１０】
また、（２）の（ｂ）のワイヤグリッド型偏光子では、下記の問題がある。
（ｉ）凸条の断面形状が矩形であり、かつ矩形の凸条の上部にＬ字形の金属層が形成されているため、ｐ偏光透過率が低く、表示される画像の輝度が低下する。
（ii）凸条の頂部のみに金属層が形成されているため、偏光度が低い。
（iii）黒色層が凸条の一方の側面を完全に被覆していないため、裏面ｓ偏光反射率の抑制が不充分であり、表示される画像のコントラストが低下する。【００１１】
本発明は、偏光度およびｐ偏光透過率が高く、裏面ｓ偏光反射率が低いワイヤグリッド型偏光子およびその製造方法を提供する。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明のワイヤグリッド型偏光子は、底部から頂部に向かうにしたがって幅がしだいに狭くなる複数の凸条が、該凸条間に形成される平坦部を介して互いに平行に、かつ所定のピッチで表面に形成された光透過性基板と、前記凸条の第１の側面を被覆する、金属材料からなる第１の反射層と、前記凸条の第１の側面と前記第１の反射層との間に存在し、前記凸条の第１の側面の全面を被覆する、前記金属材料よりも光を吸収する光吸収性材料からなる第１の吸収層とを有することを特徴とする。【００１３】
前記第１の吸収層の厚さは、３〜２０ｎｍであることが好ましい。
本発明のワイヤグリッド型偏光子は、前記凸条の第１の側面と前記第１の吸収層との間に存在し、前記凸条の第１の側面の全面を被覆する、金属材料からなる下地層をさらに有することが好ましい。
本発明のワイヤグリッド型偏光子は、前記凸条の第２の側面の全面を被覆する、前記光吸収性材料からなる第２の吸収層をさらに有することが好ましい。
本発明のワイヤグリッド型偏光子は、前記第２の吸収層の表面を被覆する、金属材料からなる第２の反射層をさらに有することが好ましい。
前記凸条の長さ方向に直交する断面形状は、三角形または台形であることが好ましい。
前記ピッチＰｐは、３００ｎｍ以下であることが好ましい。【００１４】
本発明のワイヤグリッド型偏光子の製造方法は、底部から頂部に向かうにしたがって幅がしだいに狭くなる複数の凸条が、該凸条間に形成される平坦部を介して互いに平行に、かつ所定のピッチで表面に形成された光透過性基板と、前記凸条の第１の側面を被覆する、金属材料からなる第１の反射層と、前記凸条の第１の側面と前記第１の反射層との間に存在し、前記凸条の第１の側面の全面を被覆する、前記金属材料よりも光を吸収する光吸収性材料からなる第１の吸収層とを有するワイヤグリッド型偏光子を製造する方法であって、前記凸条の長さ方向に対して略直交し、かつ前記凸条の高さ方向に対して第１の側面の側に２５〜４０゜の角度をなす方向から前記光吸収性材料を、蒸着量が３〜２０ｎｍとなる条件で蒸着して前記第１の吸収層を形成し、前記凸条の長さ方向に対して略直交し、かつ前記凸条の高さ方向に対して第１の側面の側に２５〜５０゜の角度をなす方向から前記金属材料を、蒸着量が１５〜５０ｎｍとなる条件で蒸着して前記第１の反射層を形成することを特徴とする。【００１５】
前記凸条の長さ方向に直交する断面形状は、三角形または台形であることが好ましい。
前記凸条は、光硬化樹脂または熱可塑性樹脂からなり、インプリント法で形成されることが好ましい。
【００１６】
本発明の液晶表示装置は、一対の基板間に液晶層を挟持した液晶パネルと、バックライトユニットと、前記凸条が形成された側の面が前記バックライトユニット側となり、前記凸条が形成されていない側の面が前記液晶表示装置の視認側となるように配置された上記本発明のワイヤグリッド型偏光子とを有することを特徴とする。【００１７】
本発明の液晶表示装置は、吸収型偏光子をさらに有し、前記ワイヤグリッド型偏光子が、前記液晶パネルの一方の表面に配置され、前記吸収型偏光子が、前記ワイヤグリッド型偏光子が配置された側とは反対側の前記液晶パネルの表面に配置されているものであることが好ましい。
また、前記ワイヤグリッド型偏光子は、前記バックライトユニット側の前記液晶パネルの表面に配置され、前記吸収型偏光子が、前記バックライトユニット側とは反対側の前記液晶パネルの表面に配置されていることがより好ましい。【００１８】
本発明の液晶表示装置は、吸収型偏光子をさらに有し、前記ワイヤグリッド型偏光子が、前記液晶パネルの前記一対の基板のうちの一方の基板と一体化され、前記吸収型偏光子が、前記ワイヤグリッド型偏光子が一体化された側とは反対側の前記液晶パネルの基板の表面に配置されているものであることが好ましい。
また、前記ワイヤグリッド型偏光子が、前記バックライトユニット側の前記液晶パネルの前記基板と一体化され、前記吸収型偏光子が、前記バックライトユニット側とは反対側の前記液晶パネルの表面に配置されていることがより好ましい。【００１９】
本発明の液晶表示装置は、吸収型偏光子をさらに有し、前記ワイヤグリッド型偏光子が、前記液晶パネルの前記一対の基板のうちの一方の基板の液晶層側に配置され、前記吸収型偏光子が、前記ワイヤグリッド型偏光子が配置された側とは反対側の前記液晶パネルの基板の表面に配置されているものであることが好ましい。
また、前記ワイヤグリッド型偏光子が、前記液晶パネルの前記一対の基板のうちの前記バックライトユニット側の基板の液晶層側に配置され、前記吸収型偏光子が、前記バックライトユニット側とは反対側の前記液晶パネルの表面に配置されていることがより好ましい。
【発明の効果】
【００２０】
本発明のワイヤグリッド型偏光子は、偏光度およびｐ偏光透過率が高く、裏面ｓ偏光反射率が低い。また、裏面側を液晶パネルに貼り付けることができるため、ワイヤグリッド型偏光子を液晶パネルに貼り付けやすい。さらに、バックライトからの光が表面側から入射するため、該界面でのｐ偏光の反射が抑えられる。
本発明のワイヤグリッド型偏光子の製造方法によれば、偏光度およびｐ偏光透過率が高く、裏面ｓ偏光反射率が低いワイヤグリッド型偏光子を生産性よく製造できる。
特に本発明の好ましい態様によれば、波長４５０ｎｍ、５５０ｎｍ、７００ｎｍにおいて、３５％以上、より好ましくは３８％以上、最も好ましくは４０％以上の高いｐ偏光透過率、同各波長において３５％以上の高い表面ｓ偏光反射率、同各波長において２０％未満の低い裏面ｓ偏光反射率を有し、かつ９９．２％以上の偏光度を有するワイヤグリッド型偏光子を得ることができる。
本発明の液晶表示装置は、輝度が高く、コントラスの低下が抑えられる。
【図面の簡単な説明】
【００２１】
【図１】本発明のワイヤグリッド型偏光子の一例を示す斜視図である。
【図２】本発明のワイヤグリッド型偏光子の他の例を示す斜視図である。
【図３】本発明のワイヤグリッド型偏光子の他の例を示す斜視図である。
【図４】本発明のワイヤグリッド型偏光子の他の例を示す斜視図である。
【図５】本発明のワイヤグリッド型偏光子の他の例を示す斜視図である。
【図６】本発明のワイヤグリッド型偏光子の他の例を示す斜視図である。
【図７】本発明の液晶表示装置の一例を示す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２２】
＜ワイヤグリッド型偏光子＞
本発明のワイヤグリッド型偏光子は、底部から頂部に向かうにしたがって幅がしだいに狭くなる複数の凸条が、該凸条間に形成される平坦部を介して互いに平行に、かつ所定のピッチで表面に形成された光透過性基板と、凸条の第１の側面を被覆する、金属材料からなる第１の反射層と、凸条の第１の側面と第１の反射層との間に存在し、凸条の第１の側面の全面を被覆する、金属材料よりも光を吸収する光吸収性材料からなる第１の吸収層とを有するものである。かかる凸条の第１の側面の第１の反射層および第１の吸収層は、凸条の長さ方向に伸びる帯状をなしており、ワイヤグリッド型偏光子を構成する金属細線に相当する。本発明においては、前記した光透過性基板表面に所定ピッチで、光透過性基板の一方向に伸びるように形成された、例えば、長さ方向の断面形状が、三角形または台形の凸条の対向する側面の一方を第１の側面、他方を第２の側面と称する。
【００２３】
本発明のワイヤグリッド型偏光子は、凸条の第１の側面と第１の吸収層との間に存在し、凸条の第１の側面の全面を被覆する、金属材料からなる下地層を有していてもよい。さらに、凸条のもう一方の側面である凸条の第２の側面に、当該第２の側面の全面を被覆する、光吸収性材料からなる第２の吸収層を有していてもよい。また、本発明のワイヤグリッド型偏光子は、第２の吸収層の表面を被覆する、金属材料からなる第２の反射層をさらに有していてもよい。
本発明において被覆とは、表面に層が直接形成されている場合に限定されず、他の層を介して前記表面に覆い被さるように前記層が形成されている場合も含む。
本明細書において、「〜」とは、その前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味で使用される。
【００２４】
（光透過性基板）
光透過性基板は、ワイヤグリッド型偏光子の使用波長範囲において光透過性を有する基板である。光透過性とは、光を透過することを意味し、使用波長範囲は、具体的には、４００ｎｍ〜８００ｎｍの範囲である。好ましくは、４００ｎｍ〜８００ｎｍの範囲における平均光透過率が、８５％以上である。
【００２５】
本発明において凸条とは、光透過性基板の主表面（平坦部）から立ち上がり、かつその立ち上がりが一方向に延びている部分をいう。凸条は光透過性基板の主表面と一体で、光透過性基板の主表面と同じ光透過性材料からなっていてもよく、光透過性基板の主表面と異なる光透過性材料からなっていてもよい。凸条は光透過性基板の主表面と一体で、かつ光透過性基板の主表面と同じ材料からなっていることが好ましく、光透過性基板の少なくとも主表面を成形することにより形成された凸条であることが好ましい。
【００２６】
複数の凸条は、凸条毎の対応する側面が実質的に平行に形成されていればよく、完全に平行に形成されてなくてもよい。また、各凸条は、面内において光学的な異方性を最も発現しやすい直線状であるのが好ましいが、隣接する凸条が接触しない範囲で曲線状または折れ線状であってもよい。
凸条は、その長さ方向と光透過性基板の主表面とに直交する方向の断面の形状が長さ方向にわたってほぼ一定であり、複数の凸条においてもそれらの断面形状はすべてほぼ一定であることが好ましい。凸条の断面形状は、底部（光透過性基板の主表面）から頂部に向かうにしたがって幅がしだいに狭くなる形状である。具体的な断面形状としては、たとえば、三角形、台形等が挙げられる。該断面形状は、角や辺（側面）が曲線状であってもよい。また、平行または略平行に光透過性基板の主表面に形成された複数の凸条間のピッチの幅、即ち平坦部の幅は、それぞれ一定、あるいはほぼ一定であることが好ましい。
【００２７】
本発明において、凸条の頂部とは、前記断面形状の最も高い部分が長さ方向に連なった部分を意味する。凸条の頂部は面であっても線であってもよい。たとえば、断面形状が台形の場合には頂部は面をなし、断面形状が三角形の場合には頂部は線をなす。本発明において、凸条の頂部以外の表面を凸条の側面という。なお、隣接する２つの凸条間の平坦部（隣接する２つの凸条から形成される溝の底面）は凸条の表面ではなく、光透過性基板の主表面とみなす。
【００２８】
光透過性基板の材料としては、光硬化樹脂、熱可塑性樹脂、ガラス等が挙げられ、後述するインプリント法にて凸条を形成できる点から、光硬化樹脂または熱可塑性樹脂が好ましく、光インプリント法にて凸条を形成できる点および耐熱性および耐久性に優れる点から、光硬化樹脂が特に好ましい。光硬化樹脂としては、生産性の点から、光ラジカル重合により光硬化し得る光硬化性組成物を光硬化して得られる光硬化樹脂が好ましい。
【００２９】
光硬化性組成物としては、光硬化後の硬化膜の水に対する接触角が９０°以上となるものが好ましい。該硬化膜の水に対する接触角が９０°以上であれば、光インプリント法により凸条を形成する際、モールドとの離型性がよくなり、精度の高い転写が可能となり、得られるワイヤグリッド型偏光子が目的とする性能を充分に発揮できる。また、該接触角が高くても各吸収層または下地層の付着には支障がない。
【００３０】
（第１の反射層）
第１の反射層は、凸条の長さ方向に延びる線条をなしており、ワイヤグリッド型偏光子を構成する金属細線に相当する。第１の反射層は、凸条の第１の側面の一部または全面を被覆する。第１の反射層は、裏面ｓ偏光反射率がより低くなる点から、凸条の第１の側面の一部を被覆することが好ましい。第１の反射層は、凸条の頂部の一部もしくは全部を被覆してもよい。また、第１の反射層は、凸条の第１の側面に隣接する平坦部の一部を被覆してもよい。
凸条の第１の側面を被覆する第１の反射層は、連続しているのが通例である。凸条の第１の側面は、第１の反射層によって連続的に被覆されていることが好ましいが、製造上の問題等によりごく一部の第１の側面が第１の反射層によって被覆されない場合もある。該場合であっても、第１の側面が第１の反射層によってほぼ連続的に被覆されていれば、第１の側面が第１の反射層によって連続的に被覆されているとみなす。
【００３１】
第１の反射層の金属材料は、可視光に対する反射率が高く、充分な導電性を有するものであればよく、耐蝕性等の特性も考慮されたものが好ましい。
金属材料としては、金属単体、合金、ドーパントまたは不純物を含む金属等が挙げられる。具体的には、アルミニウム、銀、マグネシウム、アルミニウム系合金、銀系合金等が挙げられ、可視光に対する反射率が高く、可視光の吸収が少なく、かつ高い導電率を有する点から、アルミニウム、アルミニウム系合金、銀、マグネシウムが好ましく、アルミニウム、アルミニウム系合金が特に好ましい。
【００３２】
（第２の反射層）
第２の反射層は、凸条の長さ方向に延びる線条をなしており、ワイヤグリッド型偏光子を構成する金属細線に相当する。第２の反射層は、凸条の第２の側面の一部または全面を被覆する。第２の反射層は、裏面ｓ偏光反射率がより低くなる点から、凸条の第２の側面の一部を被覆することが好ましい。第２の反射層は、凸条の頂部の一部もしくは全部を被覆してもよい。また、第２の反射層は、凸条の第２の側面に隣接する平坦部の一部を被覆してもよい。
凸条の第２の側面を被覆する第２の反射層は、その第２の側面の長手方向に連続しているのが通例である。凸条の第２の側面は、第２の反射層によって連続的に被覆されていることが好ましいが、製造上の問題等によりごく一部の第２の側面が第２の反射層によって被覆されない場合もある。該場合であっても、第２の側面が第２の反射層によってほぼ連続的に被覆されていれば、第２の側面が第２の反射層によって連続的に被覆されているとみなす。
【００３３】
第２の反射層が存在することによって凸条を被覆する金属材料の量が増えることになり、透過率の低下が少ない状態で消光比を向上できる。
第２の反射層の金属材料としては、第１の反射層の金属材料と同様のものが挙げられる。
【００３４】
（第１の吸収層）
第１の吸収層は、凸条の第１の側面と第１の反射層との間に存在し、凸条の第１の側面の全面を被覆する。第１の吸収層は、凸条の頂部の一部もしくは全部を被覆してもよい。第１の吸収層は、ｐ偏光の透過率に優れる点から、凸条の頂部を被覆しないことが好ましい。第１の吸収層は、凸条の第１の側面に隣接する平坦部の一部を被覆してもよい。
凸条の第１の側面を被覆する第１の吸収層は、その第１の側面の長手方向に連続しているのが通例である。凸条の第１の側面は、第１の吸収層によって完全に被覆されていることが好ましいが、製造上の問題等によりごく一部の第１の側面が第１の吸収層によって被覆されない場合もある。該場合であっても、第１の側面のほぼ全面が第１の吸収層によって被覆されていれば、第１の側面の全面が第１の吸収層によって被覆されているとみなす。
【００３５】
第１の吸収層が凸条の第１の側面の全面を被覆することにより、ワイヤグリッド型偏光子の裏面ｓ偏光反射率が低くなる。
第１の吸収層の光吸収性材料は、第１の反射層の金属材料よりも光を吸収する材料であればよい。各材料の光の吸収の度合いは、厚さ６０ｎｍの薄膜状態における波長５５０ｎｍの光の吸収率とする。吸収率は、下式で定義する。
波長５５０ｎｍの光の吸収率（％）＝１００−［波長５５０ｎｍの光の透過率（％）］−［波長５５０ｎｍの光の反射率（％）］
【００３６】
光吸収性材料としては、具体的には、ニッケル、クロム、チタン、タングステン、白金、モリブデン、バナジウム等の低反射性金属；酸化クロム、酸化アルミニウム等の無機酸化物；窒化チタン、窒化ケイ素等の無機窒化物；炭化アルミニウム、炭化モリブデン等の無機炭化物；カーボンブラック、カーボンナノチューブ等の炭素化合物等が挙げられるが、無機酸化物は、第１の吸収層を形成させる際の金属と酸素との反応によって発生する熱によって凸条が変形しやすいため、好ましくない。光吸収性材料としては、光吸収率が大きく生産性が高い点から、ニッケル、クロム、チタンが好ましい。
【００３７】
（下地層）
下地層は、凸条の第１の側面と第１の吸収層との間に存在し、凸条の第１の側面の全面を被覆する。
下地層は、凸条の頂部の一部もしくは全部を被覆してもよい。また、下地層は、凸条の第１の側面に隣接する平坦部の一部を被覆してもよい。
凸条の第１の側面を被覆する下地層は、その第１の側面の長手方向に連続しているのが通例である。凸条の第１の側面は、下地層によって完全に被覆されていることが好ましいが、製造上の問題等によりごく一部の第１の側面が下地層によって被覆されない場合もある。該場合であっても、第１の側面のほぼ全面が下地層によって被覆されていれば、第１の側面の全面が下地層によって被覆されているとみなす。
【００３８】
光吸収性材料からなる第１の吸収層は圧縮応力が大きいため、凸条をその長さ方向に直交する方向に変形（屈曲）させやすい。金属材料からなる下地層は、第１の吸収層における圧縮応力を緩和させる作用を有する。
よって、下地層の金属材料としては、圧縮応力の発生が少ないものが好ましく、具体的には、アルミニウム、銀、マグネシウム、アルミニウム系合金、銀系合金等が挙げられ、可視光領域での反射率が高い点から、アルミニウム、アルミニウム系合金が好ましい。
【００３９】
（第２の吸収層）
第２の吸収層は、凸条の第２の側面の全面を被覆する。第２の吸収層は、凸条の頂部の一部もしくは全部を被覆してもよく、凸条の第２の側面に隣接する平坦部の一部を被覆してもよい。
凸条の第２の側面を被覆する第２の吸収層は、その第２の側面の長手方向に連続しているのが通例である。凸条の第２の側面は、第２の吸収層によって完全に被覆されていることが好ましいが、製造上の問題等によりごく一部の第２の側面が第２の吸収層によって被覆されない場合もある。該場合であっても、第２の側面のほぼ全面が第２の吸収層によって被覆されていれば、第２の側面の全面が第２の吸収層によって被覆されていると見なす。
【００４０】
光吸収性材料からなる第１の吸収層は圧縮応力が大きいため、凸条をその長さ方向に直交する方向に変形（屈曲）させやすい。光吸収性材料からなる第２の吸収層は、第１の吸収層と対向することによって、圧縮応力を相殺させる作用を有する。
よって、第２の吸収層の光吸収性材料は、第１の吸収層の光吸収性材料と同様のものであればよく、まったく同じものが好ましい。
【００４１】
＜ワイヤグリッド型偏光子の製造方法＞
ワイヤグリッド型偏光子は、表面に複数の凸条が互いに平行にかつ所定のピッチで形成された光透過性基板を作製した後、各層を順に形成することによって製造される。
【００４２】
（光透過性基板の作製）
光透過性基板の作製方法としては、インプリント法（光インプリント法、熱インプリント法。）、リソグラフィ法等が挙げられ、凸条を生産性よく形成できる点および光透過性基板を大面積化できる点から、インプリント法が好ましく、凸条をより生産性よく形成できる点およびモールドの溝を精度よく転写できる点から、光インプリント法が特に好ましい。
【００４３】
光インプリント法は、たとえば、電子線描画とエッチングとの組み合わせにより、複数の溝が互いに平行にかつ所定のピッチで形成されたモールドを作製し、該モールドの溝を、任意の基材の表面に塗布された光硬化性組成物に転写し、同時に該光硬化性組成物を光硬化させる方法である。
【００４４】
光インプリント法による光透過性基板の作製は、具体的には下記の工程（ｉ）〜（iv）を経て行われることが好ましい。
（ｉ）光硬化性組成物を基材の表面に塗布する工程。
（ii）複数の溝が互いに平行にかつ所定のピッチで形成されたモールドを、溝が光硬化性組成物に接するように、光硬化性組成物に押しつける工程。
（iii）モールドを光硬化性組成物に押しつけた状態で放射線（紫外線、電子線等。）を照射して光硬化性組成物を硬化させて、モールドの溝に対応する複数の凸条を有する光透過性基板を作製する工程。
（iv）光透過性基板からモールドを分離する工程。
なお、得られた、基材上の光透過性基板は、基材と一体のまま後述の各層の形成を行うことができる。また必要により各層の形成後に光透過性基板と基材を分離することができる。さらに、基材上に作製された光透過性基板を基材から分離した後、後述の各層の形成を行うことができる。
【００４５】
熱インプリント法による光透過性基板の作製は、具体的には下記の工程（ｉ）〜（iii）を経て行われることが好ましい。
（ｉ）基材の表面に熱可塑性樹脂の被転写膜を形成する工程、または熱可塑性樹脂の被転写フィルムを作製する工程。
（ii）複数の溝が互いに平行にかつ一定のピッチで形成されたモールドを、溝が被転写膜または被転写フィルムに接するように、熱可塑性樹脂のガラス転移温度（Ｔｇ）または融点（Ｔｍ）以上に加熱した被転写膜または被転写フィルムに押しつけ、モールドの溝に対応する複数の凸条を有する光透過性基板を作製する工程。
（iii）光透過性基板をＴｇまたはＴｍより低い温度に冷却して光透過性基板からモールドを分離する工程。
なお、得られた、基材上の光透過性基板は、基材と一体のまま後述の各層の形成を行うことができる。また必要により各層の形成後に光透過性基板と基材を分離することができる。さらに、基材上に作製された光透過性基板を基材から分離した後、後述の各層の形成を行うことができる。
【００４６】
インプリント法に用いられるモールドの材料としては、シリコン、ニッケル、石英、樹脂等が挙げられ、転写精度の点から、樹脂が好ましい。樹脂としては、フッ素系樹脂（エチレン−テトラフルオロエチレン共重合体等。）、環状オレフィン、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂、アクリル樹脂等が挙げられる、モールドの精度の点から、光硬化性のアクリル樹脂が好ましい。樹脂モールドは、転写の繰り返し耐久性の点から、表面に厚さ２〜１０ｎｍの無機膜を有することが好ましい。無機膜としては、酸化ケイ素、酸化チタン、酸化アルミニウム等の酸化膜が好ましい。
【００４７】
（各層の形成）
各層は、蒸着法で形成されることが好ましい。蒸着法としては、物理蒸着法（ＰＶＤ）または化学蒸着法（ＣＶＤ）が挙げられ、真空蒸着法、スパッタ法、イオンプレーティング法が好ましく、真空蒸着法が特に好ましい。真空蒸着法は、付着させる微粒子の光透過性基板に対する入射方向を制御することが容易であり、後述の斜方蒸着法を行うことが容易である。各層の形成は、凸条の各側面に選択的に各材料を蒸着して形成する必要があるため、蒸着法としては、真空蒸着法による斜方蒸着法が最も好ましい。
【００４８】
（下地層の形成）
下地層は、具体的には、凸条の長さ方向に対して略直交し、かつ凸条の高さ方向に対して第１の側面の側に２５〜４０゜の角度をなす方向から金属材料を、蒸着量が３〜１５ｎｍとなる条件で蒸着することにより形成できる。角度は３０〜４５°が好ましく、蒸着量は５〜１５ｎｍが好ましい。
蒸着量が３〜１５ｎｍとなる条件とは、凸条に金属層を形成する際に、凸条が形成されていない領域（平坦な平坦部分）の表面に金属または金属化合物を蒸着して形成される金属層の厚さが３〜１５ｎｍとなるような条件を意味し、該条件にて下地層を斜方蒸着法にて形成する。なお、以下の第１の吸収層、第２の吸収層、第１の反射層および第２の反射層の形成にあたっての蒸着量の条件も同様である。
【００４９】
（第１の吸収層の形成）
第１の吸収層は、具体的には、凸条の長さ方向に対して略直交し、かつ凸条の高さ方向に対して第１の側面の側に２５〜４０゜の角度をなす方向から光吸収材料を、蒸着量が３〜２０ｎｍとなる条件で蒸着することにより形成できる。角度は３０〜３５°が好ましく、蒸着量は５〜１５ｎｍが好ましい。
【００５０】
（第２の吸収層の形成）
第２の吸収層は、具体的には、凸条の長さ方向に対して略直交し、かつ凸条の高さ方向に対して第２の側面の側に２５〜４０゜の角度をなす方向から光吸収材料を、蒸着量が３〜２０ｎｍとなる条件で蒸着することにより形成できる。角度は３０〜４０°が好ましく、蒸着量は５〜１５ｎｍが好ましい。
【００５１】
（第１の反射層の形成）
第１の反射層は、具体的には、凸条の長さ方向に対して略直交し、かつ凸条の高さ方向に対して第１の側面の側に２５〜５０゜の角度をなす方向から金属材料を、蒸着量が１５〜５０ｎｍとなる条件で蒸着することにより形成できる。角度は３０〜４５°が好ましく、蒸着量は２０〜４５ｎｍが好ましい。
【００５２】
（第２の反射層の形成）
第２の反射層は、具体的には、凸条の長さ方向に対して略直交し、かつ凸条の高さ方向に対して第２の側面の側に２５〜５０゜の角度をなす方向から金属材料を、蒸着量が１５〜５０ｎｍとなる条件で蒸着することにより形成できる。角度は３０〜４５°が好ましく、蒸着量は２０〜４５ｎｍが好ましい。
【００５３】
＜ワイヤグリッド型偏光子の実施形態＞
以下、本発明のワイヤグリッド型偏光子の実施形態を、図を用いて説明する。以下の図は模式図であり、実際のワイヤグリッド型偏光子は、図示したような理論的かつ理想的形状を有するものではない。たとえば、実際のワイヤグリッド型偏光子においては、凸条等の形状の崩れが多少あり、各層の厚さの不均一も少なからず生じている。
なお、本発明における凸条および各層の各寸法は、ワイヤグリッド型偏光子の断面の走査型電子顕微鏡像または透過型電子顕微鏡像において、５つの凸条および該凸条上の各層における各寸法の最大値を測定し、５つの該最大値を平均したものとする。
【００５４】
〔第１の実施形態〕
図１は、本発明のワイヤグリッド型偏光子の第１の実施形態を示す斜視図である。ワイヤグリッド型偏光子１０は、同図の矢印紙面Ａ方向に伸びる、断面形状が台形である複数の凸条１２が、該凸条１２間に形成される溝の平坦部１３を介して互いに平行にかつ所定のピッチＰｐで表面に形成された光透過性基板１４と、凸条１２の第１の側面１６の表面の一部を被覆する、金属材料からなる第１の反射層２０と、凸条１２の第１の側面と第１の反射層２０との間に存在し、凸条１２の第１の側面１６の全面を被覆する、光吸収性材料からなる第１の吸収層２２とを有する。第１の反射層２０は凸条１２の長さ方向に伸びて金属細線を構成する。
【００５５】
（光透過性基板）
Ｐｐは、凸条１２の底部の幅Ｄｐｂと、凸条１２間に形成される平坦部１３の幅との合計である。Ｐｐは、３００ｎｍ以下が好ましく、５０〜３００ｎｍの範囲が好ましく、さらには５０〜２５０ｎｍがより好ましい。Ｐｐが３００ｎｍ以下であれば、高い表面ｓ偏光反射率を示し、かつ４００ｎｍ程度の短波長領域においても高い偏光度を示す。また、回折による着色現象が抑えられる。また、Ｐｐが５０〜２００ｎｍであれば、蒸着によって各層を形成しやすい。
【００５６】
ＤｐｂとＰｐの比（Ｄｐｂ／Ｐｐ）は、０．１〜０．７が好ましく、０．２５〜０．５５がより好ましい。Ｄｐｂ／Ｐｐが０．１以上であれば、高い偏光度を示す。Ｄｐｂ／Ｐｐを０．７以下とすることにより、干渉による透過光の着色が抑えられる。
Ｄｐｂは、蒸着によって各層を形成しやすい点から、３０〜１００ｎｍが好ましい。
【００５７】
凸条の断面形状が台形状の場合、凸条１２の頂部１９の幅Ｄｐｔは、Ｄｐｂの半分以下が好ましく、４０ｎｍ以下がより好ましく、２０ｎｍ以下がさらに好ましい。ＤｐｔがＤｐｂの半分以下であれば、ｐ偏光透過率がより高くなり、角度依存性が充分に低くなる。
【００５８】
凸条１２の高さＨｐは、８０〜５００ｎｍが好ましく、８０〜４００ｎｍがより好ましく、１２０〜３００ｎｍがさらに好ましく、１２０〜２７０ｎｍが最も好ましい。Ｈｐが８０ｎｍ以上であれば、偏光分離能が充分に高くなる。Ｈｐが５００ｎｍ以下であれば、波長分散が小さくなる。また、Ｈｐが８０〜２７０ｎｍであれば、蒸着によって各層を形成しやすい。
第１の側面１６の光透過性基板の平坦部をなす主表面に対する傾斜角θ１および第２の側面１８の傾斜角θ２は、３０°以上、９０°未満が好ましく、５０°以上、９０°未満がより好ましく、さらに７０以上、９０°未満が好ましく、７５°以上、９０°未満が最も好ましい。θ１とθ２は、同じであってもよく、異なってもよい。
光透過性基板１４の厚さＨｓは、０．５〜１０００μｍが好ましく、１〜４０μｍがより好ましい。
【００５９】
（第１の反射層）
第１の反射層２０の、凸条１２の幅方向の厚さの最大値Ｄｒ１は、下式（Ｉ）を満足することが好ましい。
０．２×（Ｐｐ−Ｄｐｂ）≦Ｄｒ１≦０．５×（Ｐｐ−Ｄｐｂ）  ・・・（Ｉ）。
Ｄｒ１が０．２×（Ｐｐ−Ｄｐｂ）以上であれば、高いｐ偏光透過率を示し、かつ波長分散が小さい。Ｄｒ１が０．５×（Ｐｐ−Ｄｐｂ）以下であれば、偏光分離能が充分に高くなる。
【００６０】
第１の反射層２０の高さＨｒ１は、８０〜５００ｎｍが好ましく、８０〜４００ｎｍがより好ましく、１２０〜３００ｎｍがさらに好ましい。Ｈｒ１が８０ｎｍ以上であれば、第１の反射層２０の結晶化が抑制され、高いｓ偏光反射率を示す。Ｈｒ１が５００ｎｍ以下であれば、短波長領域においても偏光分離能が充分に高くなる。
【００６１】
Ｈｒ１／Ｈｐは、０．５〜１が好ましく、０．６〜１がより好ましい。Ｈｒ１／Ｈｐが１以下であれば、偏光分離能が向上する。Ｈｒ１／Ｈｐが０．５以上であれば、光学特性の角度依存性が充分に低くなる。
第１の反射層２０が凸条１２の頂部の一部もしくは全部を被覆する場合は、頂部におけるその高さは、透過率の低下を抑える点から、２０ｎｍ以下が好ましい。
【００６２】
（第１の吸収層）
第１の吸収層２２の、凸条１２の幅方向の厚さの最大値Ｄａ１は、３〜２０ｎｍが好ましく、５〜１５ｎｍがより好ましい。Ｄａ１が３ｎｍ以上であれば、裏面ｓ偏光反射率が充分に低くなる。Ｄａ１が２０ｎｍ以下であれば、第１の吸収層２２の圧縮応力を低く抑えることができる。
第１の吸収層２２の高さＨａ１は、第１の吸収層が第１の側面の全面に被覆、形成される故、Ｈｐとほぼ同じである。
【００６３】
〔第２の実施形態〕
図２は、本発明のワイヤグリッド型偏光子の第２の実施形態を示す斜視図である。ワイヤグリッド型偏光子１０は、断面形状が台形である複数の凸条１２が、該凸条１２間に形成される溝の平坦部１３を介して互いに平行にかつ所定のピッチＰｐで表面に形成された光透過性基板１４と、凸条１２の第１の側面１６の表面の一部を被覆する、金属材料からなる第１の反射層２０と、凸条１２の第１の側面と第１の反射層２０との間に存在し、凸条１２の第１の側面１６の全面を被覆する、光吸収性材料からなる第１の吸収層２２と、凸条１２と第１の吸収層２２との間に存在し、凸条１２の第１の側面１６の全面を被覆する、金属材料からなる下地層２４とを有する。
第２の実施形態においては、第１，２の実施形態のワイヤグリッド型偏光子１０と同じ構成については、説明を省略する。
【００６４】
（下地層）
下地層２４の、凸条１２の幅方向の厚さの最大値Ｄｂ１は、３〜２０ｎｍが好ましく、５〜１５ｎｍがより好ましい。Ｄｂ１が３ｎｍ以上であれば、第１の吸収層２２における圧縮応力を充分に緩和できる。Ｄｂ１が２０ｎｍ以下であれば、裏面ｓ偏光反射率の上昇が抑えられる。
下地層２４の高さＨｂ１は、下地層が第１の側面の全面に被覆、形成される故、Ｈｐとほぼ同じである。
【００６５】
〔第３の実施形態〕
図３は、本発明のワイヤグリッド型偏光子の第３の実施形態を示す斜視図である。ワイヤグリッド型偏光子１０は、断面形状が台形である複数の凸条１２が、該凸条１２間に形成される溝の平坦部１３を介して互いに平行にかつ所定のピッチＰｐで表面に形成された光透過性基板１４と、凸条１２の第１の側面１６の表面の一部を被覆する、金属材料からなる第１の反射層２０と、凸条１２と第１の反射層２０との間に存在し、凸条１２の第１の側面１６の全面を被覆する、光吸収性材料からなる第１の吸収層２２と、凸条１２の第２の側面１８の全面を被覆する、光吸収性材料からなる第２の吸収層２６とを有する。
第３の実施形態においては、第１の実施形態のワイヤグリッド型偏光子１０と同じ構成については、説明を省略する。
【００６６】
（第２の吸収層）
第２の吸収層２６の、凸条１２の幅方向の厚さの最大値Ｄａ２は、３〜２０ｎｍが好ましく、５〜１５ｎｍがより好ましい。Ｄａ２が３ｎｍ以上であれば、裏面ｓ偏光反射率が充分に低くなる。Ｄａ２が２０ｎｍ以下であれば、第２の吸収層２６の圧縮応力を低く抑えることができる。
Ｄａ２は、第１の吸収層２２と第２の吸収層２６とで圧縮応力を相殺させる点から、Ｄａ１の厚さの０．５５〜２倍が好ましく、０．５５〜１．５がより好ましい。
第２の吸収層２６の高さＨａ２は、第２の吸収層が第２の側面の全面に被覆、形成される故、Ｈｐとほぼ同じである。
【００６７】
〔第４の実施形態〕
図４は、本発明のワイヤグリッド型偏光子の第４の実施形態を示す斜視図である。ワイヤグリッド型偏光子１０は、断面形状が台形である複数の凸条１２が、該凸条１２間に形成される溝の平坦部１３を介して互いに平行にかつ所定のピッチＰｐで表面に形成された光透過性基板１４と、凸条１２の第１の側面１６の表面の一部を被覆する、金属材料からなる第１の反射層２０と、凸条１２の第１の側面と第１の反射層２０との間に存在し、凸条１２の第１の側面１６の全面を被覆する、光吸収性材料からなる第１の吸収層２２と、凸条１２と第１の吸収層２２との間に存在し、凸条１２の第１の側面１６の全面を被覆する、金属材料からなる下地層２４と、凸条１２の第２の側面１８の全面を被覆する、光吸収性材料からなる第２の吸収層２６とを有する。
第４の実施形態においては、第１〜３の実施形態のワイヤグリッド型偏光子１０と同じ構成については、説明を省略する。
【００６８】
〔第５の実施形態〕
図５は、本発明のワイヤグリッド型偏光子の第５の実施形態を示す斜視図である。ワイヤグリッド型偏光子１０は、断面形状が台形である複数の凸条１２が、該凸条１２間に形成される溝の平坦部１３を介して互いに平行にかつ所定のピッチＰｐで表面に形成された光透過性基板１４と、凸条１２の第１の側面１６の一部を被覆する、金属材料からなる第１の反射層２０と、凸条１２と第１の反射層２０との間に存在し、凸条１２の第１の側面１６の全面を被覆する、光吸収性材料からなる第１の吸収層２２と、凸条１２の第２の側面１８の一部を被覆する、金属材料からなる第２の反射層２８と、凸条１２と第２の反射層２８との間に存在し、凸条１２の第２の側面１８の全面を被覆する、光吸収性材料からなる第２の吸収層２６とを有する。
第５の実施形態においては、第１〜４の実施形態のワイヤグリッド型偏光子１０と同じ構成については、説明を省略する。
【００６９】
（第２の反射層）
第２の反射層２８の、凸条１２の幅方向の厚さの最大値Ｄｒ２は、下式（II）を満足することが好ましい。
０．２×（Ｐｐ−Ｄｐｂ）≦Ｄｒ２≦０．５×（Ｐｐ−Ｄｐｂ）  ・・・（II）
Ｄｒ２が０．２×（Ｐｐ−Ｄｐｂ）以上であれば、高いｐ偏光透過率を示し、かつ波長分散が小さい。Ｄｒ２が０．５×（Ｐｐ−Ｄｐｂ）以下であれば、偏光分離能が充分に高くなる。
【００７０】
第２の反射層２８の高さＨｒ２は、８０〜５００ｎｍが好ましく、８０〜４００ｎｍがより好ましく、１２０〜３００ｎｍがさらに好ましい。Ｈｒ２が８０ｎｍ以上であれば、第２の反射層２８の結晶化が抑制され、高いｓ偏光反射率を示す。Ｈｒ２が５００ｎｍ以下であれば、短波長領域においても偏光分離能が充分に高くなる。
【００７１】
Ｈｒ２／Ｈｐは、０．５〜１が好ましく、０．６〜１がより好ましい。Ｈｒ２／Ｈｐが１以下であれば、偏光分離能が向上する。Ｈｒ２／Ｈｐが０．５以上であれば、光学特性の角度依存性が充分に低くなる。
第２の反射層２８が凸条１２の頂部の一部もしくは全部を被覆する場合は、頂部におけるその高さは、透過率の低下を抑える点から、２０ｎｍ以下が好ましい。
前述した本発明の第１〜５の各実施態様のワイヤグリッド型偏光子の図１〜図５の説明において、凸条の第１の側面を同凸条の右側の面とし、この第１の側面に第１の吸収層、第１の反射層、さらには下地層を形成した例について説明し、凸条の第２の側面を同凸条の左側の面とし、この第２の側面に第２の吸収層、さらに第２の反射層を形成した例について説明したが、勿論各図面の凸条の第１の側面を同凸条の左側の面とし、凸条の第２の側面を同凸条の右側の面としともよい。
【００７２】
＜各実施形態のワイヤグリッド型偏光子の製造方法＞
〔第１の実施形態のワイヤグリッド型偏光子の製造方法〕
第１の実施形態のワイヤグリッド型偏光子１０は、光透過性基板１４の凸条１２の第１の側面１６の表面に第１の吸収層２２を形成し、該第１の吸収層２２の表面に第１の反射層２０を形成することによって製造できる。
【００７３】
（第１の吸収層の形成）
第１の吸収層２２は、図６に示すように、凸条１２の長さ方向Ｌに対して略直交し、かつ凸条１２の高さ方向Ｈに対して第１の側面１６の側に２５〜４０゜の角度θＲをなす方向Ｖ１から光吸収性材料を、前述した蒸着量が３〜２０ｎｍとなる条件で蒸着することにより形成できる。
【００７４】
蒸着は、トータルの蒸着量が３〜２０ｎｍとなる条件で、ｎ回（ただし、ｎは２以上の整数である。）に分けて行ってもよい。ｉ回目（ただし、ｉは１〜ｎ−１の整数である。）の角度θＲｉとｉ＋１回目の角度θＲｉ＋１は、θＲｉ＋１＜θＲｉであることが好ましい。
【００７５】
蒸着源としては、光吸収材料（ニッケル、クロム、チタン、タングステン、白金、モリブデン、バナジウム等の低反射性金属；酸化クロム、酸化アルミニウム等の無機酸化物；窒化チタン、窒化ケイ素等の無機窒化物；炭化アルミニウム、炭化モリブデン等の無機炭化物；カーボンブラック、カーボンナノチューブ等の炭素化合物等。）が挙げられ、吸収率の大きさと生産性の高さの点から、ニッケル、クロム、チタンが好ましい。
【００７６】
（第１の反射層の形成）
第１の反射層２０は、図６に示すように、凸条１２の長さ方向Ｌに対して略直交し、かつ凸条１２の高さ方向Ｈに対して第１の側面１６の側に２５〜５０゜の角度θＲをなす方向Ｖ１から金属材料を、前述した蒸着量が１５〜５０ｎｍとなる条件で蒸着することにより形成できる。
【００７７】
蒸着は、トータルの蒸着量が１５〜５０ｎｍとなる条件で、ｎ回（ただし、ｎは２以上の整数である。）に分けて行ってもよい。ｉ回目（ただし、ｉは１〜ｎ−１の整数である。）の角度θＲｉとｉ＋１回目の角度θＲｉ＋１は、θＲｉ＋１＜θＲｉであることが好ましい。
【００７８】
蒸着源としては、金属材料（アルミニウム、銀、マグネシウム、アルミニウム系合金、銀系合金等。）が挙げられ、可視光に対する反射率が高く、可視光の吸収が少なく、かつ高い導電率を有する点から、アルミニウム、アルミニウム系合金、銀、マグネシウムが好ましく、アルミニウム、アルミニウム系合金が特に好ましい。
【００７９】
〔第２の実施形態のワイヤグリッド型偏光子の製造方法〕
第２の実施形態のワイヤグリッド型偏光子１０は、光透過性基板１４の凸条１２の第１の側面１６の表面に下地層２４を形成し、該下地層２４の表面に第１の吸収層２２を形成し、該第１の吸収層２２の表面に第１の反射層２０を形成することによって製造できる。
第２の実施形態においては、第１の実施形態のワイヤグリッド型偏光子１０と同じ構成については、説明を省略する。
【００８０】
（下地層の形成）
下地層２４は、図６に示すように、凸条１２の長さ方向Ｌに対して略直交し、かつ凸条１２の高さ方向Ｈに対して第１の側面１６の側に２５〜４０゜の角度θＲをなす方向Ｖ１から金属材料を、前述した蒸着量が３〜１５ｎｍとなる条件で蒸着することにより形成できる。
【００８１】
蒸着は、トータルの蒸着量が３〜１５ｎｍとなる条件で、ｎ回（ただし、ｎは２以上の整数である。）に分けて行ってもよい。ｉ回目（ただし、ｉは１〜ｎ−１の整数である。）の角度θＲｉとｉ＋１回目の角度θＲｉ＋１は、θＲｉ＋１＜θＲｉであることが好ましい。
【００８２】
蒸着源としては、金属材料（アルミニウム、銀、マグネシウム、アルミニウム系合金、銀系合金等。）が挙げられ、可視光領域の反射率の高さの点から、アルミニウム、アルミニウム系合金が好ましい。
【００８３】
〔第３の実施形態のワイヤグリッド型偏光子の製造方法〕
第３の実施形態のワイヤグリッド型偏光子１０は、第１の実施形態の製造方法に、下記の工程を加えることによって製造できる。
任意の段階で、光透過性基板１４の凸条１２の第２の側面１８の表面に第２の吸収層２６を形成する工程を加える。
第３の実施形態においては、第１の実施形態のワイヤグリッド型偏光子１０と同じ構成については、説明を省略する。
【００８４】
（第２の吸収層の形成）
第２の吸収層２６は、図６に示すように、凸条１２の長さ方向Ｌに対して略直交し、かつ凸条１２の高さ方向Ｈに対して第２の側面１８の側に２５〜４０゜の角度θＬをなす方向Ｖ２から光吸収材料を、前述した蒸着量が３〜２０ｎｍとなる条件で蒸着することにより形成できる。
【００８５】
蒸着は、トータルの蒸着量が３〜２０ｎｍとなる条件で、ｎ回（ただし、ｎは２以上の整数である。）に分けて行ってもよい。ｉ回目（ただし、ｉは１〜ｎ−１の整数である。
）の角度θＬｉとｉ＋１回目の角度θＬｉ＋１は、θＬｉ＋１＜θＬｉであることが好ましい。
【００８６】
蒸着源としては、光吸収材料（ニッケル、クロム、チタン、タングステン、白金、モリブデン、バナジウムニッケル、クロム、チタン等。）が挙げられ、吸収率の大きさと生産性の高さの点から、ニッケル、クロム、チタンが好ましい。
【００８７】
〔第４の実施形態のワイヤグリッド型偏光子の製造方法〕
第４の実施形態のワイヤグリッド型偏光子１０は、第２の実施形態の製造方法に、下記の工程を加えることによって製造できる。
任意の段階で、光透過性基板１４の凸条１２の第２の側面１８の表面に第２の吸収層２６を形成する工程を加える。
第４の実施形態においては、第１〜３の実施形態のワイヤグリッド型偏光子１０と同じ構成については、説明を省略する。
【００８８】
〔第５の実施形態のワイヤグリッド型偏光子の製造方法〕
第５の実施形態のワイヤグリッド型偏光子１０は、第３の実施形態の製造方法に、下記の工程を加えることによって製造できる。
任意の段階で、第２の吸収層２６の表面に第２の反射層２８を形成する工程を加える。
第５の実施形態においては、第１〜４の実施形態のワイヤグリッド型偏光子１０と同じ構成については、説明を省略する。
【００８９】
（第２の反射層の形成）
第２の反射層２８は、図６に示すように、凸条１２の長さ方向Ｌに対して略直交し、かつ凸条１２の高さ方向Ｈに対して第２の側面１８の側に２５〜５０゜の角度θLをなす方向Ｖ２から金属材料を、前述した蒸着量が１５〜５０ｎｍとなる条件で蒸着することにより形成できる。
【００９０】
蒸着は、トータルの蒸着量が１５〜５０ｎｍとなる条件で、ｎ回（ただし、ｎは２以上の整数である。）に分けて行ってもよい。ｉ回目（ただし、ｉは１〜ｎ−１の整数である。）の角度θLｉとｉ＋１回目の角度θLｉ＋１は、θLｉ＋１＜θLｉであることが好ましい。
【００９１】
蒸着源としては、金属材料（アルミニウム、銀、マグネシウム、アルミニウム系合金、銀系合金等。）が挙げられ、可視光に対する反射率が高く、可視光の吸収が少なく、かつ高い導電率を有する点から、アルミニウム、アルミニウム系合金、銀、マグネシウムが好ましく、アルミニウム、アルミニウム系合金が特に好ましい。
【００９２】
第１〜５の実施形態の製造方法における角度θＲ（θＬ）は、たとえば、下記の蒸着装置を用いることによって調整できる。
凸条１２の長さ方向Ｌに対して略直交し、かつ凸条１２の高さ方向Ｈに対して第１の側面１６（第２の側面１８）の側に角度θＲ（θＬ）をなす方向Ｖ１（Ｖ２）の延長線上に蒸着源が位置するように、蒸着源に対向して配置された光透過性基板１４の傾きを変更できる蒸着装置。
【００９３】
以上説明した本発明のワイヤグリッド型偏光子にあっては、光透過性基板の表面に形成された複数の凸条の断面形状が、底部から頂部に向かうにしたがって幅がしだいに狭くなる形状であり、かつ該凸条の第１の側面が第１の反射層によって被覆されているため、高い偏光度および高いｐ偏光透過率を示す。また、凸条の第１の側面の全面を被覆する第１の吸収層が凸条と第１の反射層との間に存在するため、裏面ｓ偏光反射率が低い。
【００９４】
また、以上説明した本発明のワイヤグリッド型偏光子の製造方法にあっては、凸条の長さ方向に対して略直交し、かつ凸条の高さ方向に対して第１の側面の側に２５〜４０゜の角度をなす方向から光吸収性材料を、蒸着量が３〜２０ｎｍとなる条件で蒸着して第１の吸収層を形成し、凸条の長さ方向に対して略直交し、かつ凸条の高さ方向に対して第１の側面の側に２５〜４０゜の角度θをなす方向から金属材料を、蒸着量が１５〜５０ｎｍとなる条件で蒸着して第１の反射層を形成しているため、偏光度およびｐ偏光透過率が高く、裏面ｓ偏光反射率が低いワイヤグリッド型偏光子を生産性よく製造できる。
【００９５】
＜液晶表示装置＞
本発明の液晶表示装置は、一対の基板間に液晶層を挟持した液晶パネルと、バックライトユニットと、凸条が形成された側の面がバックライトユニット側となり、凸条が形成されていない側の面が液晶表示装置の視認側となるように配置された上記本発明のワイヤグリッド型偏光子とを有するものである。
【００９６】
ワイヤグリッド型偏光子は、液晶パネルの一方の表面に配置されていてもよく、バックライトユニット側の液晶パネルの表面に配置されていることが好ましい。
また、ワイヤグリッド型偏光子は、特開２００６−１３９２８３号公報の図１５等に記載されているように、液晶パネルの一対の基板のうちの一方の基板と一体化された状態で配置されていてもよく、バックライトユニット側の液晶パネルの前記基板と一体化されていることが好ましい。
また、ワイヤグリッド型偏光子は、特許第４４１２３８８号公報の図１４等に記載されているように、液晶パネルの一対の基板のうちの一方の基板の液晶層側、すなわち液晶パネルの内部に配置されていてもよく、液晶パネルの一対の基板のうちのバックライトユニット側の基板の液晶層側に配置されていることが好ましい。
【００９７】
本発明の液晶表示装置は、薄型化の点から、ワイヤグリッド型偏光子が配置された側とは反対側の液晶パネルの表面に吸収型偏光子を有することが好ましい。
吸収型偏光子は、バックライトユニット側とは反対側の液晶パネルの表面に配置されていることがより好ましい。
【００９８】
図７は、本発明の液晶表示装置の一例を示す断面図である。液晶表示装置３０は、一対の基板３１、基板３２間に液晶層３３を挟持した液晶パネル３４と、バックライトユニット３５と、バックライトユニット３５側の液晶パネル３４の表面に貼着された本発明の製造方法で得られたワイヤグリッド型偏光子１０と、バックライトユニット３５側とは反対側の液晶パネル３４の表面に貼着された吸収型偏光子３６とを有する。
【００９９】
以上説明した本発明の液晶表示装置にあっては、偏光度およびｐ偏光透過率が高いワイヤグリッド型偏光子を有するため、輝度が高い。
また、本発明の液晶表示装置にあっては、一方の面（凸条が形成された側の面、すなわち表面）のｓ偏光反射率が高く、かつ他方の面（凸条が形成されていない側の面、すなわち裏面）のｓ偏光反射率が低い本発明の製造方法で得られたワイヤグリッド型偏光子が、凸条が形成された側の面がバックライトユニット側となり、凸条が形成されていない側の面が液晶表示装置の視認側となるように配置されているため、コントラストの低下が抑えられる。
【実施例】
【０１００】
以下、実施例により本発明をさらに詳しく説明するが、本発明はこれら実施例に限定されない。
例１〜３０は実施例であり、例３１〜３４は比較例である。【０１０１】
（凸条および各層の各寸法）
凸条および各層の各寸法は、ワイヤグリッド型偏光子の断面の透過型電子顕微鏡像において、５つの凸条および該凸条上の各層における各寸法の最大値（ただし、Ｄｒ１、Ｄｒ２、Ｄｂ１、Ｄａ１およびＤａ２は上記で定義した値。）を測定し、５つの該最大値を平均して求めた。【０１０２】
（ｐ偏光透過率）
ｐ偏光透過率は、紫外可視分光光度計（ＪＡＳＣＯ社製、Ｖ−７２００）を用いて測定した。測定は、付属の偏光子を、光源とワイヤグリッド型偏光子との間に、ワイヤグリッド型偏光子の金属細線の長軸に吸収軸が並行な向きにセットし、ワイヤグリッド型偏光子の表面側（凸条が形成された側）または裏面側（凸条が形成されていない側）から偏光を入射して行った。測定波長は、４５０ｎｍ、５５０ｎｍ、７００ｎｍとした。
ｐ偏光透過率が、４０％以上をＳとし、３５％以上４０％未満をＡとし、３０％以上３５％未満をＢとし、３０％未満をＸとした。【０１０３】
（ｓ偏光反射率）
ｓ偏光反射率は、紫外可視分光光度計（ＪＡＳＣＯ社製、Ｖ−７２００）を用いて測定した。測定は、付属の偏光子を、光源とワイヤグリッド型偏光子との間に、ワイヤグリッド型偏光子の金属細線の長軸に吸収軸が直行する向きにセットし、ワイヤグリッド型偏光子の表面または裏面に対し、５度の角度で偏光を入射して行った。測定波長は、４５０ｎｍ、５５０ｎｍ、７００ｎｍとした。
表面ｓ偏光反射率が、４０％以上をＳとし、３５％以上４０％未満をＡとし、３０％以上３５％未満をＢとした。
また、裏面ｓ偏光反射率が、１０％未満をＳとし、１０％以上２０％未満をＡとし、２０％以上をＢとし、２０％未満をＸとした。【０１０４】
（偏光度）
偏光度は、下式から計算した。
偏光度＝（（Ｔｐ−Ｔｓ）／（Ｔｐ＋Ｔｓ））０．５
ただし、Ｔｐは、表面ｐ偏光透過率であり、Ｔｓは、表面ｓ偏光透過率である。
偏光度が９９．５％以上をＳとし、９９．２％以上９９．５％未満をＡとし、９９％以上９９．２％未満をＢとし、９９％未満をＸとした。【０１０５】
（輝度）
輝度は以下の方法で測定した。
２インチサイズのＬＥＤサイドライト型バックライト上に、ワイヤグリッド型偏光子、液晶セルを順に重ねた。ワイヤグリッド型偏光子は、裏面側が液晶セル側になるように設置した。液晶セルとしては、上側にのみヨウ素系偏光板を備えたものを用いた。
暗室内でバックライトおよび液晶セルを立ち上げた。液晶セルの全面の表示を白色表示とし、点灯１０分後の中心輝度Ｂ３１を、色彩輝度計（トプコン社製、ＢＭ−５ＡＳ）を用いて視野角０．１°で測定した。ついで、液晶セルの全面の表示を黒表示とし、そのときの輝度Ｂ３２を測定した。
同じバックライトを用い、この上に上側および下側にヨウ素系偏光板を備えた液晶セルを重ねた。暗室内でバックライトおよび液晶セルを立ち上げ、同様に液晶セルの全面の表示を白色表示としたときの中心輝度Ｂ２１を測定した。
上記測定で得られた値を用いて、下式から輝度向上率を求めた。
輝度向上率＝（Ｂ３２−Ｂ２１）／Ｂ２１×１００
輝度向上率が２５％以上をＳとし、２０％以上２５％未満をＡとし、１５％以上２０％未満をＢとし、１５％未満をＸとした。【０１０６】
（コントラスト）
上記測定で得られた値を用いて、下式からコントラストを求めた。
コントラスト＝Ｂ３１／Ｂ３２
コントラストが１０００以上をＳとし、５００以上１０００未満をＡとし、３００以上５００未満をＢとし、３００％未満をＸとした。【０１０７】
（光吸収性材料の吸収率の測定）
光吸収性材料の吸収率は、以下の方法で見積もった。【０１０８】
（ニッケルの吸収率）
真空蒸着装置（昭和真空社製、ＳＥＣ−１６ＣＭ）の内部に、厚さ：０．５５ｍｍの５インチ石英ウエハーを、ターゲットに対して水平にセットし、圧力：１．２×１０−４Ｐａの条件下、石英ウエハー上に、ニッケルを厚さが６０ｎｍになるよう蒸着した。
紫外可視分光光度計（ＪＡＳＣＯ社製、Ｖ−７２００）を用い、上面にニッケル薄膜が形成された石英ウエハーの波長５５０ｎｍでの透過率、反射率を求めた。石英ウエハーをブランクとした。
吸収率は下式から推算した。
波長５５０ｎｍの光の吸収率（％）＝１００−波長５５０ｎｍの光の透過率（％）−波長５５０ｎｍの光の反射率（％）
透過率：１％、反射率：２５％、吸収率：７４％【０１０９】
（チタンの吸収率）
ニッケルと同様の方法で吸収率を推算した。
透過率：０．５％、反射率：１８％、吸収率：８１．５％【０１１０】
（クロムの吸収率）
ニッケルと同様の方法で吸収率を推算した。
透過率：２％、反射率：１５％、吸収率：８７％【０１１１】
（アルミニウムの吸収率）
ニッケルと同様の方法で吸収率を推算した。
透過率：０％、反射率：９５％、吸収率：５％【０１１２】
（光硬化性組成物の調製）
撹拌機および冷却管を装着した１０００ｍＬの４つ口フラスコに、
単量体１（新中村化学工業社製、ＮＫ  エステル  Ａ−ＤＰＨ、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート）の６０ｇ、
単量体２（新中村化学工業社製、ＮＫ  エステル  Ａ−ＮＰＧ、ネオペンチルグリコールジアクリレート）の４０ｇ、
光重合開始剤（チバスペシャリティーケミカルズ社製、ＩＲＧＡＣＵＲＥ９０７）の４．０ｇ、
含フッ素界面活性剤（旭硝子社製、フルオロアクリレート（ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯ（ＣＨ２）２（ＣＦ２）８Ｆ）とブチルアクリレートとのコオリゴマー、フッ素含有量：約３０質量％、質量平均分子量：約３０００）の０．１ｇ、
重合禁止剤（和光純薬社製、Ｑ１３０１）の１．０ｇ、および
シクロヘキサノンの６５．０ｇを入れた。【０１１３】
フラスコ内を常温および遮光にした状態で、１時間撹拌して均一化した。ついで、フラスコ内を撹拌しながら、コロイド状シリカの１００ｇ（固形分：３０ｇ）をゆっくりと加え、さらにフラスコ内を常温および遮光にした状態で１時間撹拌して均一化した。ついで、シクロヘキサノンの３４０ｇを加え、フラスコ内を常温および遮光にした状態で１時間撹拌して光硬化性組成物１の溶液を得た。【０１１４】
〔例１〕
厚さ１００μｍの高透過ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（帝人デュポン社製、帝人テトロンＯ３、１００ｍｍ×１００ｍｍ）の表面に、光硬化性組成物１をスピンコート法により塗布し、厚さ５μｍの光硬化性組成物１の塗膜を形成した。【０１１５】
複数の溝が、該溝間に形成される平坦部を介して互いに平行にかつ所定のピッチで形成された石英製モールド（面積：１５０ｍｍ×１５０ｍｍ、パターン面積：１００ｍｍ×１００ｍｍ、溝のピッチＰｐ：１４０ｎｍ、溝の上部の幅Ｄｐｂ：６０ｎｍ、溝の底部の幅Ｄｐｔ：２０ｎｍ、溝の深さＨｐ：２００ｎｍ、溝の長さ：１００ｍｍ、溝の断面形状：略台形。）を、溝が光硬化性組成物１の塗膜に接するように、２５℃にて０．５ＭＰａ（ゲージ圧）で光硬化性組成物１の塗膜に押しつけた。【０１１６】
該状態を保持したまま、ＰＥＴフィルム側から高圧水銀灯（周波数：１．５ｋＨｚ〜２．０ｋＨｚ、主波長光：２５５ｎｍ、３１５ｎｍおよび３６５ｎｍ、３６５ｎｍにおける照射エネルギー：１０００ｍＪ。）の光を１５秒間照射し、光硬化性組成物１を硬化させて、石英製モールドの溝に対応する複数の凸条および該凸条間の平坦部を有する光透過性基板１（凸条のピッチＰｐ：１４０ｎｍ、凸条の底部の幅Ｄｐｂ：６０ｎｍ、凸条の頂部の幅Ｄｐｔ：２０ｎｍ、凸条の高さＨｐ：２００ｎｍ、θ１およびθ２：８４°）を作製した。光透過性基板１から石英製モールドをゆっくり分離した。【０１１７】
蒸着源に対向する光透過性基板１の傾きを変更可能な真空蒸着装置（昭和真空社製、ＳＥＣ−１６ＣＭ）を用い、圧力：１．２×１０−４Ｐａの条件下、光透過性基板１の凸条の第１の側面に、蒸着１回目として表１に示す方向Ｖ、角度θＲおよび蒸着量ｔにてニッケルを蒸着させて第１の吸収層を形成し、ついで、前記第１の吸収層面上に蒸着２回目として表１に示す方向Ｖ、角度θＲおよび蒸着量ｔにてアルミニウムを蒸着させ、第１の反射層を形成し、裏面にＰＥＴフィルムが貼着されたワイヤグリッド型偏光子を得た。
なお、蒸着量ｔは、水晶振動子を膜厚センサーとする膜厚モニターにより測定した。【０１１８】
〔例２、３〕
第１の吸収層を形成するニッケルを、チタンまたはクロムに変更した以外は、例１と同様にしてワイヤグリッド型偏光子を得た。【０１１９】
〔例４〕
第１の反射層を形成する際の角度θＲを表１に示す角度とした以外は、例１と同様にしてワイヤグリッド型偏光子を得た。【０１２０】
〔例５〕
圧力：１．２×１０−４Ｐａの条件下、例１と同様にして作製した光透過性基板１の凸条の第１の側面に、蒸着１回目として表１に示す方向Ｖ、角度θＲおよび蒸着量ｔにてアルミニウムを蒸着させて下地層を形成し、ついで、前記下地層面上に蒸着２回目として表１に示す方向Ｖ、角度θＲおよび蒸着量ｔにてニッケルを蒸着させて第１の吸収層を形成し、ついで、前記第１の吸収層面上に蒸着３回目として表１に示す方向Ｖ、角度θＲおよび蒸着量ｔにてアルミニウムを蒸着させ、第１の反射層を形成し、裏面にＰＥＴフィルムが貼着されたワイヤグリッド型偏光子を得た。【０１２１】
〔例６、７〕
第１の吸収層を形成するニッケルを、チタンまたはクロムに変更した以外は、例５と同様にしてワイヤグリッド型偏光子を得た。【０１２２】
〔例８〕
第１の反射層を形成する際の角度θＲを表１に示す角度とした以外は、例６と同様にしてワイヤグリッド型偏光子を得た。【０１２３】
〔例９〕
圧力：１．２×１０−４Ｐａの条件下、例１と同様にして作製した光透過性基板１の凸条の第２の側面に、蒸着１回目として表１に示す方向Ｖ、角度θＬおよび蒸着量ｔにてニッケルを蒸着させて第２の吸収層を形成し、ついで、前記凸条の第１の側面に蒸着２回目として表１に示す方向Ｖ、角度θＲおよび蒸着量ｔにてニッケルを蒸着させて第１の吸収層を形成し、ついで、蒸着３回目として表１に示す方向Ｖ、角度θＲおよび蒸着量ｔにてアルミニウムを蒸着させ、第１の反射層を形成し、裏面にＰＥＴフィルムが貼着されたワイヤグリッド型偏光子を得た。【０１２４】
〔例１０、１１〕
第１の吸収層および第２の吸収層を形成するニッケルを、チタンまたはクロムに変更した以外は、例９と同様にしてワイヤグリッド型偏光子を得た。【０１２５】
〔例１２〕
第１の反射層を形成する際の角度θＲを表１に示す角度とした以外は、例１０と同様にしてワイヤグリッド型偏光子を得た。【０１２６】
〔例１３〕
圧力：１．２×１０−４Ｐａの条件下、例１と同様にして作製した光透過性基板１の凸条の第１の側面に、蒸着１回目として表１に示す方向Ｖ、角度θＲおよび蒸着量ｔにてアルミニウムを蒸着させて下地層を形成し、ついで、前記凸条の第２の側面に蒸着２回目として表１に示す方向Ｖ、角度θＬおよび蒸着量ｔにてニッケルを蒸着させて第２の吸収層を形成し、ついで、前記下地層面上に蒸着３回目として表１に示す方向Ｖ、角度θＲおよび蒸着量ｔにてニッケルを蒸着させて第１の吸収層を形成し、ついで、前記第１の吸収層面上に蒸着４回目として表１に示す方向Ｖ、角度θＲおよび蒸着量ｔにてアルミニウムを蒸着させ、第１の反射層を形成し、裏面にＰＥＴフィルムが貼着されたワイヤグリッド型偏光子を得た。【０１２７】
〔例１４、１５〕
第１の吸収層および第２の吸収層を形成するニッケルを、チタンまたはクロムに変更した以外は、例１３と同様にしてワイヤグリッド型偏光子を得た。【０１２８】
〔例１６〕
第１の反射層を形成する際の角度θＲを表１に示す角度とした以外は、例１４と同様にしてワイヤグリッド型偏光子を得た。【０１２９】
〔例１７〕
圧力：１．２×１０−４Ｐａの条件下、例１と同様にして作製した光透過性基板１の凸条の第１の側面に、蒸着１回目として表１に示す方向Ｖ、角度θＲおよび蒸着量ｔにてニッケルを蒸着させて第１の吸収層を形成し、ついで、前記凸条の第２の側面に蒸着２回目として表１に示す方向Ｖ、角度θＬおよび蒸着量ｔにてニッケルを蒸着させて第２の吸収層を形成し、ついで、前記第１の吸収層面上に表１に示す方向Ｖ、角度θＲおよび蒸着量ｔにてアルミニウムを蒸着させて第１の反射層を形成し、ついで、前記第２の吸収層面上に表１に示す方向Ｖ、角度θLおよび蒸着量ｔにてアルミニウムを蒸着させ、第２の反射層を形成し、裏面にＰＥＴフィルムが貼着されたワイヤグリッド型偏光子を得た。【０１３０】
〔例１８、１９〕
第１の吸収層および第２の吸収層を形成するニッケルを、チタンまたはクロムに変更した以外は、例１７と同様にしてワイヤグリッド型偏光子を得た。【０１３１】
〔例２０〕
第２の反射層を形成する際の角度θLを表１に示す角度とした以外は、例１８と同様にしてワイヤグリッド型偏光子を得た。
〔例２１〕
モールドとして、複数の溝が、該溝間に形成される平坦部を介して互いに平行にかつ所定のピッチで形成された石英製モールド（面積：１５０ｍｍ×１５０ｍｍ、パターン面積：１００ｍｍ×１００ｍｍ、溝のピッチＰｐ：１４０ｎｍ、溝の幅Ｄｐｂ：６０ｎｍ、溝の深さＨｐ：２００ｎｍ、溝の長さ：１００ｍｍ、溝の断面形状：略二等辺三角形。）を用いた以外は、例１と同様にして石英製モールドの溝に対応する複数の凸条および該凸条間の平坦部を有する光透過性基板２（凸条のピッチＰｐ：１４０ｎｍ、凸条の幅Ｄｐｂ：６０ｎｍ、凸条の高さＨｐ：２００ｎｍ、θ１およびθ２：８７°。）を作製した。【０１３２】
光透過性基板２を用いた以外は、例１と同様にしてワイヤグリッド型偏光子を得た。【０１３３】
〔例２２〕
例２１と同様にして作製した光透過性基板２を用い、第１の反射層を形成する際の角度θＲを表２に示す角度とした以外は、例１と同様にしてワイヤグリッド型偏光子を得た。【０１３４】
〔例２３〕
例２１と同様にして作製した光透過性基板２を用いた以外は、例５と同様にしてワイヤグリッド型偏光子を得た。【０１３５】
〔例２４〕
例２１と同様にして作製した光透過性基板２を用い、第１の反射層を形成する際の角度θＲを表２に示す角度とした以外は、例５と同様にしてワイヤグリッド型偏光子を得た。【０１３６】
〔例２５〕
例２１と同様にして作製した光透過性基板２を用いた以外は、例９と同様にしてワイヤグリッド型偏光子を得た。【０１３７】
〔例２６〕
例２１と同様にして作製した光透過性基板２を用い、第１の反射層を形成する際の角度θＲを表２に示す角度とした以外は、例９と同様にしてワイヤグリッド型偏光子を得た。【０１３８】
〔例２７〕
例２１と同様にして作製した光透過性基板２を用いた以外は、例１３と同様にしてワイヤグリッド型偏光子を得た。【０１３９】
〔例２８〕
例２１と同様にして作製した光透過性基板２を用い、第１の反射層を形成する際の角度θＲを表２に示す角度とした以外は、例１３と同様にしてワイヤグリッド型偏光子を得た。【０１４０】
〔例２９〕
例２１と同様にして作製した光透過性基板２を用いた以外は、例１７と同様にしてワイヤグリッド型偏光子を得た。【０１４１】
〔例３０〕
例２１と同様にして作製した光透過性基板２を用い、第１の反射層を形成する際の角度θＲと第２の反射層を形成する際の角度θＬを表２に示す角度とした以外は、例１７と同様にしてワイヤグリッド型偏光子を得た。【０１４２】
〔例３１〕
モールドとして、複数の溝が、該溝間に形成される平坦部を介して互いに平行にかつ所定のピッチで形成された石英製モールド（面積：１５０ｍｍ×１５０ｍｍ、パターン面積：１００ｍｍ×１００ｍｍ、溝のピッチＰｐ：１５０ｎｍ、溝の幅Ｄｐｂ：６０ｎｍ、溝の深さＨｐ：２００ｎｍ、溝の長さ：１００ｍｍ、溝の断面形状：矩形。）を用いた以外は、例１と同様にして石英製モールドの溝に対応する複数の凸条および該凸条間の平坦部を有する光透過性基板３（凸条のピッチＰｐ：１５０ｎｍ、凸条の幅Ｄｐｂ：６０ｎｍ、凸条の高さＨｐ：２００ｎｍ、θ１およびθ２：９０°。）を作製した。【０１４３】
光硬化性基板３を用い、例１と同様の真空蒸着装置を用い、圧力：１．２×１０−４Ｐａの条件下、０．２ｎｍ／ｓｅｃの酸素を導入しながら、光透過性基板３の凸条の第１の側面に、蒸着１回目として、表２に示す方向Ｖ、角度θＲおよび蒸着量ｔにて、クロムを酸化させながら蒸着させて第１の吸収層（酸化クロム層）を形成した。ついで、酸素の導入を止めて、前記第１の吸収層面上に表２に示す方向Ｖ、角度θＲおよび蒸着量ｔにてアルミニウムを蒸着させ、第１の反射層（アルミニウム層）を形成し、裏面にＰＥＴフィルムが貼着されたワイヤグリッド型偏光子を得た。
酸化クロム層および最外層であるアルミニウム層は、凸条の頂部付近にのみ形成されていた。酸化クロム層の凸条の幅方向の最大幅は６７ｎｍであり、高さは４５ｎｍであった。アルミニウム層の凸条の幅方向の最大幅は７５ｎｍであり、高さは１１７ｎｍであった。【０１４４】
〔例３２〕
例３１で作成した光透過性基板３を用い、例１と同様の真空蒸着装置を用い、圧力：１．２×１０−４Ｐａの条件下、光透過性基板３の凸条の第１の側面に、蒸着１回目として、表２に示す方向Ｖ、角度θＲおよび蒸着量ｔにてアルミニウムを蒸着させ、第１の反射層（アルミニウム層）を形成した。ついで、０．２ｎｍ／ｓｅｃの酸素を導入しながら、前記前記第１の反射層面上に表２に示す方向Ｖ、角度θＲおよび蒸着量ｔにてクロムを酸化させながら蒸着させて第１の吸収層（酸化クロム層）を形成し、裏面にＰＥＴフィルムが貼着されたワイヤグリッド型偏光子を得た。
アルミニウム層および最外層である酸化クロム層は、凸条の頂部付近にのみ形成されていた。アルミニウム層の凸条の幅方向の最大幅は７０ｎｍであり、高さは１１６ｎｍであった。最外層である酸化クロム層の凸条の幅方向の最大幅は７４ｎｍであり、高さは２０ｎｍであった。【０１４５】
〔例３３〕
例２１と同様にして作製した光透過性基板２を用い、第１の吸収層を形成する際の角度θＲを表２に示す角度とした以外は、例１と同様にしてワイヤグリッド型偏光子を得た。【０１４６】
〔例３４〕
圧力：１．２×１０−４Ｐａの条件下、例２１と同様にして作製した光透過性基板２の凸条に、表２に示す方向Ｖ、角度θＲおよび蒸着量ｔにてアルミニウムを蒸着させて第１の反射層を形成し、ついで、表２に示す方向Ｖ、角度θＬおよび蒸着量ｔにてニッケルを蒸着させて第１の吸収層を形成し、裏面にＰＥＴフィルムが貼着されたワイヤグリッド型偏光子を得た。【０１４７】
〔測定、評価〕
例１〜３４のワイヤグリッド型偏光子について、各層の各寸法を測定した。結果を表３、４に示す。
また、例１〜３４のワイヤグリッド型偏光子について、透過率、反射率、偏光度、輝度、コントラストを測定した。結果を表５、６に示す。【０１４８】
【表１】
2010126110.tif 000003
【０１４９】
【表２】
2010126110.tif 000004
【０１５０】
【表３】
2010126110.tif 000005
【０１５１】
【表４】
2010126110.tif 000006
【０１５２】
【表５】
2010126110.tif 000007
【０１５３】
【表６】
2010126110.tif 000008
【産業上の利用可能性】
【０１５４】
本発明のワイヤグリッド型偏光子は、液晶表示装置、リアプロジェクションテレビ、フロントプロジェクター等の画像表示装置の偏光子として有用である。
なお、２００９年４月３０日に出願された日本特許出願２００９−１１１４８７号の明細書、特許請求の範囲、図面及び要約書の全内容をここに引用し、本発明の開示として取り入れるものである。
【符号の説明】
【０１５５】
１０  ワイヤグリッド型偏光子
１２  凸条
１３  平坦部
１４  光透過性基板
１６  第１の側面
１８  第２の側面
１９  頂部
２０  第１の反射層
２２  第１の吸収層
２４  下地層
２６  第２の吸収層
２８  第２の反射層
３０  液晶表示装置
３１  基板
３２  基板
３３  液晶層
３４  液晶パネル
３５  バックライトユニット
３６  吸収型偏光子
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【国際調査報告】
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