【事件の表示】
　特許第３２０７０３０号「化粧料」の請求項１に係る特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結　論】
　特許第３２０７０３０号の請求項１に係る特許を維持する。
【理　由】
１．手続の経緯
　本件特許第３２０７０３０号の請求項１に係る発明については、平成５年９月２２日に特許出願され、平成１３年７月６日に特許権の設定登録がされた。その後、特許異議申立人 信越化学工業株式会社により特許の異議申立てがされた。
　
２．特許異議の申立てについて
２−(a) 申立ての理由の概要
　特許異議申立人は、甲第１〜３号証を提出して、本件特許の請求項１に係る発明は、(i)甲第１号証に記載された発明であり（特許法第２９条第１項第３号）、また、(ii)甲第２号証及び甲第３号証に記載された発明に基いてその出願前に当業者が容易に発明をすることができたものである（特許法第２９条第２項）から、本件特許は特許法第２９条の規定に違反してされたものであり、特許法第１１３条第１項第２号の規定に該当するので取り消されるべきものである旨を主張している。
　
２−(b) 本件特許発明
　本件特許の請求項１に係る発明（以下、本件発明という。）は、特許請求の範囲に記載された次のとおりのものである。
【請求項１】　一般式
　　　 Ｒ　　　　Ｒ　　　　 Ｒ
　　　 ｜　　　　｜　　　 　｜
　Ｒ−ＳｉＯ−（ＳｉＯ）n−Ｓｉ−Ｒ
　　　 ｜　　　　｜　　　　 ｜
　　　 Ｒ　　　　Ｒ　　　　 Ｒ
（式中、Ｒは互いに独立してメチル基またはフェニル基から選択された任意の基であり、このうちモル比で少なくとも５０％がフェニル基であり、ｎは０ないし１を表す。）で表されるメチルフェニルポリシロキサンを必須成分とすることを特徴とする化粧料。
　
２−(c) 特許異議申立人が提出した甲第１〜３号証の記載
(i) 甲第１号証（特開平３−１８４９０５号公報）には、以下の事項が記載されている。
・「チタンアルコキシドを加水分解して水酸化チタンを製造する際に、沸点が100〜200℃である炭化水素及び／または下記一般式（Ｉ）及び（II）
［（ＣＨ3）2ＳｉＯ］n（式中、ｎは３〜７の整数である）…（Ｉ）
ＣＨ3［Ｒ2ＳｉＯ］nＳｉ（ＣＨ3）3（式中、ｎは１〜４の整数、Ｒはメチル基、フェニル基を表す）…（II）
で表わされるシリコーンを加えることにより得られる微粒子水酸化チタン粉末を配合することを特徴とする化粧料。」（特許請求の範囲）
・「用いられるシリコーンは、下記一般式（Ｉ）及び（II）
［（ＣＨ3）2ＳｉＯ］n（式中、ｎは３〜７の整数である）…（Ｉ）
ＣＨ3［Ｒ2ＳｉＯ］nＳｉ（ＣＨ3）3（式中、ｎは１〜４の整数、Ｒはメチル基、フェニル基を表す）…（II）
であり、例えば、ヘキサメチルシクロトリシロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、デカメチルシクロペンタシロキサン、ヘキサメチルジシロキサン、オクタメチルトリシロキサン、デカメチルテトラシロキサン、ドデカメチルペンタシロキサン、ヘキサメチルジフェニルトリシロキサン、ヘキサメチルテトラフェニルテトラシロキサン、ヘキサメチルヘキサフェニルペンタシロキサンなどがあげられる。」（２頁左下欄７行〜右下欄２行）
　
(ii) 甲第２号証（特開平５−１７９２９７号公報）には以下の事項が記載されている。
・「水性媒質中に、洗浄特性を有する界面活性剤、前記媒質に不溶性の少なくとも１種のシリコーン並びにジアリルジアルキルアンモニウムおよびアニオン性モノマーに由来する少なくとも１種のコポリマーを含むことを特徴とする、角質洗じょうおよび／またはコンディショニング組成物。」（請求項１）
・「ポリアルキルアリールシロキサンの場合、２５℃で１０-5〜５×１０-2m2／sの粘度を有する、直鎖および／または分枝鎖状ポリジメチルメチルフェニルシロキサン、ポリメチルフェニルシロキサン、ポリジメチルジフェニルシロキサン、例えば:
・ローヌ・プーランのローダーシル７０　６３３および７６３シリーズの油、
・ローヌ・プーランの７０　６４１シリーズのシルビオン油、
・ダウ・コーニングのＤＣ５５６コスメティック・グラッド・フルード油、
・バイエルのＰＫシリーズのシリコーン、例えばＰＫ２０、
・バイエルのＰＮ、ＰＨシリーズのシリコーン、例えばＰＮ１０００およびＰＨ１０００、
・ジェネラル・エレクトリックのＳＦシリーズのある種の油、例えばＳＦ１２５０、ＳＦ１２６５、ＳＦ１１５４、ＳＦ１０２３
を挙げることができる。」（５頁右欄４２行〜６頁左欄１０行）
・「下記組成のシャンプーを製造する。
…
−ローヌ・プーラン社によりシルビオン・ユイル７０６３３Ｖ３０の名称で市販されているポリフェニルメチルシロキサン　２.５g
…」（実施例１）
　
(iii) 甲第３号証（信越化学工業株式会社発行カタログ「油拡散ポンプ用オイル ＨＩＶＡＣ Ｆ−４／Ｆ−５」）には以下の事項が記載されている。
・「ＨＩＶＡＣ Ｆ−４、ＨＩＶＡＣ Ｆ−５は、10-7Torr−10-9Torr以上という高真空を得るために開発された油拡散ポンプ用シリコーンオイル」（１頁右上欄６〜９行）
・「拡散ポンプ油の基本的性質として、次のようなことが要求されます。…ｃ）非揮発性。」（２頁右上欄２〜７行）
・「…拡散ポンプ用イオルＨＩＶＡＣ Ｆ−４、ＨＩＶＡＣ Ｆ−５は、（本質的に）耐熱性のすぐれたシリコーンオイルですから、熱クラッキング温度が高く、耐酸化性に優れ、化学的に安定であり、吸引ガスによる影響をほとんど受けないなど、拡散ポンプ油に必要な性質をすべて備えています。」（２頁右上欄８〜１３行）
・「ＨＩＶＡＣ Ｆ−４、Ｆ−５は、下記の化学式で表わされる単量体です。
ＨＩＶＡＣ Ｆ−４の構造
　　　　 Ｃ6Ｈ5　　ＣＨ3 　　Ｃ6Ｈ5　
　　　　  ｜　　　　｜　　 　 ｜
Ｈ5Ｃ6−Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ−Ｃ6Ｈ5　
　　　 　｜　　　　｜　　 　 ｜
　　　　 ＣＨ3　　 ＣＨ3　 　ＣＨ3　
　　　　　　　　　　　　　　 分子量：４８４
　
ＨＩＶＡＣ Ｆ−５の構造
　　　　 Ｃ6Ｈ5　　ＣＨ3　　Ｃ6Ｈ5　
　　　　  ｜　　　　｜　　　  ｜
Ｈ5Ｃ6−Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ−Ｃ6Ｈ5　
　　　　  ｜　　　　｜　　　  ｜
　　　　 ＣＨ3　 　Ｃ6Ｈ5　  ＣＨ3　
　　　　　　　　　　　　　　分子量：５４６」（２頁 「■特性の項」）
・２頁 「■一般特性」の表には、ＨＩＶＡＣ Ｆ−４及びＨＩＶＡＣ Ｆ−５の２５℃における粘度が、それぞれ、３７CS、１６０CSであることが記載されている。
　
２−(d) 判断
２−(d)−(i) 上記２−(a)の(i)について
　特許異議申立人は、本件発明の一般式で表されるメチルフェニルポリシロキサン、及び、甲第１号証に記載の一般式（II）で表わされるシリコーンには、次の化学構造
　ＣＨ3［（Ｃ6Ｈ5）2ＳｉＯ］2Ｓｉ（ＣＨ3）3　　
の化合物（以下、化合物Ａという）が包含されることは自明であることを理由に、本件発明と甲第１号証に記載の発明は同一である、と主張する。
　しかし、甲第１号証には化合物Ａそのものに関する記載はないことから、甲第１号証に記載の一般式（II）で表わされるシリコーンに化合物Ａが包含される点をもって、直ちに、化合物Ａが甲第１号証に記載された発明であるということは出来ない。
　すなわち、甲第１号証に記載の一般式（II）で表わされるシリコーンについて、同号証２頁左下欄１６行〜右下欄２行に具体的な化合物として、ヘキサメチルジシロキサン、オクタメチルトリシロキサン、デカメチルテトラシロキサン、ドデカメチルペンタシロキサン、ヘキサメチルジフェニルトリシロキサン、ヘキサメチルテトラフェニルテトラシロキサン、ヘキサメチルヘキサフェニルペンタシロキサンが例示されている。ここで、一般式（II）においてｎが１でありＲがメチル基であるヘキサメチルジシロキサンが例示されているが、同一般式においてｎが１でありＲがフェニル基であるテトラメチルジフェニルジシロキサンは例示されていないこと、及び、フェニル基を有するシリコーンの例示はすべて１分子中にメチル基を６個有するものであることを斟酌すると、甲第１号証に記載の一般式（II）で表わされるシリコーンにおいてｎが２であるものとしては、両末端にトリメチルシリル基を有するヘキサメチルジフェニルトリシロキサンが記載されているといえるとしても、一方の末端のみがトリメチルシリル基である化合物Ａ、すなわち、テトラメチルテトラフェニルトリシロキサンまで記載されているとするのは妥当でない。
　そうすると、甲第１号証には、本件発明の一般式で表されるメチルフェニルポリシロキサンに関する開示はないということになる。
　したがって、本件発明は甲第１号証に記載された発明ではない。
　
２−(d)−(ii) 上記２−(a)の(ii)について
　本件発明と甲第２号証に記載された発明を対比すると、本件発明の一般式で表されるメチルフェニルポリシロキサン及び甲第２号証に記載のポリアルキルアリールシロキサンはいずれも分子中にメチル基とフェニル基のみを含有するポリシロキサンであり、甲第２号証に記載の「角質洗じょうおよび／またはコンディショニング組成物」は化粧料の１種であることから、両者は、メチル基とフェニル基のみを含有するポリシロキサンを必須成分とする、角質洗じょうおよび／またはコンディショニング組成物である点において一致し、本件発明のメチル基とフェニル基のみを含有するポリシロキサンは、メチル基とフェニル基のモル比においてフェニル基が少なくとも５０％であり、かつ、ポリシロキサン１分子中にケイ素原子を２又は３含有するジシロキサン又はトリシロキサンであるのに対し、甲第２号証に記載のメチル基とフェニル基のみを含有するポリシロキサンは、ポリシロキサン中のメチル基とフェニル基のモル比に関する記載がなく、また、ポリシロキサン１分子中のケイ素原子の数も不明である点において一応相違する。
　そこで、この相違点について検討する。
　甲第２号証に記載のポリアルキルアリールシロキサンは、先に述べたように、１分子中のメチル基とフェニル基のモル比に関する記載がなく、１分子中のケイ素原子の数、すなわち、シロキシ基の繰り返し数も不明である。また、同号証の５頁右欄４７行〜６頁左欄１０行に具体的に例示されたポリアルキルアリールシロキサン、及び、実施例１に記載されたローヌ・プーラン社によりシルビオン・ユイル７０６３３Ｖ３０の名称で市販されているポリフェニルメチルシロキサンの記載を参酌しても、シロキサン１分子中のメチル基とフェニル基のモル比及びシロキシ基の繰り返し数も明らかではない。（特許異議申立人はこれらのポリアルキルアリールシロキサンが、本件発明の一般式で表されるメチルフェニルポリシロキサンと同一であるとも類似のものであるとも指摘していない。）
　そうすると、甲第２号証には本件発明の一般式で表されるメチルフェニルポリシロキサンについては、何ら記載も示唆もされていないというしかない。
　この点に関し、特許異議申立人は、甲第２号証に記載のポリアルキルアリールシロキサンは、２５℃で１０-5 〜 ５×１０-2  m2／sの粘度、換算すると１０〜５０,０００CSの粘度を有し、極めて低粘度の場合を含むので、メチル基とフェニル基とを有する低分子量乃至低重合度であるトリシロキサンである場合を当然に包含することを理由に、甲第２号証記載のシリコーンの粘度等の条件を満足するトリシロキサンとして、甲第３号証により古くより公知の市販品であるＨＩＶＡＣ Ｆ−４（粘度３７CS）及びＨＩＶＡＣ Ｆ−５（粘度１６０CS）を採用する点に、当業者に格別の困難があったとすることは到底できない旨の主張を行っている。（ここで、単位「m2／s」及び「CS」は動粘度（＝粘度／密度）の単位であるが、これらシロキサンの２５℃における密度はほぼ１であることから、以下では、動粘度と粘度の区別は行わないこととする。）
　しかし、本件特許明細書の段落番号【００１６】〜【００１７】には、甲第２号証に記載のポリアルキルアリールシロキサンなる表現に含まれるものであって低粘度のシロキサン、具体的には、ポリジメチルジフェニルシロキサンであって粘度が１５センチポイズであるもの（式（６）で表される化合物）、ポリメチルフェニルシロキサンであって粘度が５００センチポイズであるもの（式（７）で表される化合物）、ポリジメチルメチルフェニルシロキサンであって粘度が１２５センチポイズであるもの（式（８）で表される化合物）を、本件発明の比較例として毛髪化粧料を調製し、その評価を行ったことが記載されている。そして、評価結果（表４）をみると、甲第２号証に記載のポリアルキルアリールシロキサンなる表現に含まれるものであって低粘度のシロキサンであれば、必ず優れた効果を有するものではないことが分かる。
　そうしてみると、甲第２号証に記載のポリアルキルアリールシロキサンについて、極めて低粘度の場合を含む粘度の範囲が記載されており、甲第３号証において本件発明の一般式で表されるメチルフェニルポリシロキサンが公知であったとしても、本件発明は甲第２号証と甲第３号証から当業者が容易に発明をすることができたものということは出来ない。
　なお、甲第３号証に記載のＨＩＶＡＣ Ｆ−４及びＨＩＶＡＣ Ｆ−５の用途は、上記に摘示したように油拡散ポンプ用オイルであり、毛髪用化粧料として適切な性質を有するものか否かについては、同号証には何ら記載されていない。そうしてみると、油拡散ポンプ用オイルに使用するトリシロキサンを毛髪化粧料に採用することは当業者が容易に想到し得ることとはいえず、この点からも甲第２号証と甲第３号証とを組み合わせることに容易性はない。
　そして、本件発明は、請求項１において一般式で表される特定化学構造のメチルフェニルポリシロキサンを必須成分とすることによって、べたつきがなく、透明性を向上させ、毛髪にぎらつきのない自然なつややかさを付与する化粧料の提供を可能としたものである。
　したがって、本件発明は、甲第２号証及び甲第３号証に記載された事項に基いて当業者が容易に発明をすることができたものではない。
　
３．むすび
　以上のとおりであるから、特許異議の申立ての理由及び証拠によっては、本件請求項１に係る発明の特許を取り消すことはできない。
　
　また、他に取り消すべき理由を発見しない。
　
　よって、結論のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１４年６月４日（２００２．６．４）