【事件の表示】
　特許第２８５０５３３号「洗浄剤組成物」の請求項１ないし３に係る特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結　論】
　訂正を認める。
　特許第２８５０５３３号の請求項１ないし３に係る特許を維持する。
【理　由】
Ｉ．手続の経緯
　本件特許第２８５０５３３号の発明は、平成２年１１月２８日に特許出願（優先権主張平成１年１２月７日　日本）され、平成１０年１１月１３日にその特許権の設定登録がされ、その後、三井・デュポンフロロケミカル株式会社より特許異議の申立てがされ、取消理由通知がされ、その指定期間内である平成１２年３月６日に訂正請求がされたものである。
II．訂正の適否
１．訂正の内容
　ア．訂正事項ａ
　特許請求の範囲の請求項１の記載について、「Ｃ４Ｆ６Ｈ４、Ｃ４Ｆ８Ｈ２、Ｃ５Ｆ７Ｈ５、Ｃ５Ｆ８Ｈ４、Ｃ５Ｆ９Ｈ３、Ｃ５Ｆ１０Ｈ２、Ｃ６Ｆ９Ｈ５及びＣ６Ｆ１２Ｈ２」とあるのを「１，１，２，３，４，４−ヘキサフルオロブタン、Ｃ４Ｆ８Ｈ２、１，１，２，２，３，３，４−ヘプタフルオロペンタン、Ｃ５Ｆ８Ｈ４、１，１，２，２，３，３，４，４，５−ノナフルオロペンタン、１，１，１，２，３，３，４，４，５，５−デカフルオロペンタン、Ｃ６Ｆ９Ｈ５、１，１，２，２，３，３，４，４，５，５，６，６−ドデカフルオロヘキサン及び２−トリフルオロメチル−１，１，１，３，４，４，５，５，５−ノナフルオロペンタン」と訂正する。
２．訂正の目的の適否、新規事項の有無及び拡張・変更の存否
　上記訂正事項ａは、訂正前の請求項１記載の「Ｃ４Ｆ６Ｈ４、Ｃ５Ｆ７Ｈ５、Ｃ５Ｆ９Ｈ３、Ｃ５Ｆ１０Ｈ２、Ｃ６Ｆ１２Ｈ２」を特定の化合物である「１，１，２，３，４，４−ヘキサフルオロブタン、１，１，２，２，３，３，４−ヘプタフルオロペンタン、１，１，２，２，３，３，４，４，５−ノナフルオロペンタン、１，１，１，２，３，３，４，４，５，５−デカフルオロペンタン、１，１，２，２，３，３，４，４，５，５，６，６−ドデカフルオロヘキサン及び２−トリフルオロメチル−１，１，１，３，４，４，５，５，５−ノナフルオロペンタン」に限定するものであり、特許請求の範囲の減縮を目的とするものである。
　そして、これらの限定された化合物は、訂正前の請求項２に記載されていた化合物であるから、この訂正は、願書に添付した明細書に記載した事項の範囲内においてなされたものであり、かつ実質的に特許請求の範囲を拡張し又は変更するものではない。
３．独立特許要件の判断
（１）取消理由の概要
　訂正前の本件請求項１ないし３に係る洗浄剤組成物の発明のうち、優先権主張の基礎となる特願平１−３１８６４２号、特願平１−３１８６４３号、特願平１−３１８６４４号の願書に最初に添付した明細書に記載された発明については、優先権主張の効果が享受されるが、それを除いた部分の発明については、現実の出願日となる。
　訂正前の本件請求項１に係る発明は、刊行物１（特開平２−２３５９８２号公報、甲第１号証）、刊行物２（「洗剤・洗浄の辞典」、株式会社朝倉書店、１９９０年１１月２５日発行、第６３５〜６３６頁、第６５７〜６５８頁）及び刊行物３（特開平１−１３２６９３号公報）に記載された発明に基づき当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により、特許を受けることができない。
　また、訂正前の本件請求項１、３に係る発明は、先願明細書１（特願平３−５１７９３９号（甲第３号証、特表平５−５１７９３９号公報、優先権主張１９９０年１０月１１日　米国））の願書に最初に添付した明細書に記載された発明と同一であるから、特許法第２９条の２の規定により特許を受けることができない、というにある。
（２）本件発明
　訂正後の本件請求項１ないし３に係る発明（以下、「本件発明１ないし３」という。）は、次のとおりのものである。
「【請求項１】１，１，２，３，４，４−ヘキサフルオロブタン、Ｃ４Ｆ８Ｈ２、１，１，２，２，３，３，４−ヘプタフルオロペンタン、Ｃ５Ｆ８Ｈ４、１，１，２，２，３，３，４，４，５−ノナフルオロペンタン、１，１，１，２，３，３，４，４，５，５−デカフルオロペンタン、Ｃ６Ｆ９Ｈ５　、１，１，２，２，３，３，４，４，５，５，６，６−ドデカフルオロヘキサン及び２−トリフルオロメチル−１，１，１，３，４，４，５，５，５−ノナフルオロペンタンから選ばれた少なくとも１種のフッ化脂肪族炭化水素を有効成分として含有するＩＣ部品又は精密機械部品用洗浄剤組成物。
【請求項２】　フッ化脂肪族炭化水素が１，１，２，３，４，４−ヘキサフルオロブタン、１，１，１，２，２，３，３，４−オクタフルオロブタン、１，１，２，２，３，３，４−ヘプタフルオロペンタン、１，１，２，３，３，４，５，５−オクタフルオロペンタン、１，１，２，２，３，３，４，４，５−ノナフルオロペンタン、１，１，１，２，３，３，４，４，５，５−デカフルオロペンタン、１，１，１，２，２，３，３，４，４−ノナフルオロヘキサン、１，１，２，２，３，３，４，４，５，５，６，６−ドデカフルオロヘキサン及び２−トリフルオロメチル−１，１，１，３，４，４，５，５，５−ノナフルオロペンタンから選ばれた少なくとも１種の化合物である請求項１に記載のＩＣ部品又は精密機械部品用洗浄剤組成物。
【請求項３】炭化水素類、アルコール類、エステル類及びケトン類から選ばれた少なくとも１種の有機溶剤を含む請求項１に記載のＩＣ部品又は精密機械部品用洗浄剤組成物。」
（３）引用刊行物等の記載事項
　刊行物１（特開平２−２３５９８２号公報、甲第１号証）の記載事項
　イ．「３．式、ＣＸ３−ＣＹ２−Ｒ　式中、Ｘ基の各々は独立に水素又はフッ素を表し、Ｙ基の各々は独立に水素、フッ素又はＣＦ３を表し、ＲはＣＨ２Ｆ、・・・ＣＦ２−ＣＨ３、ＣＦ２ＣＨ２Ｆ、・・・を表し、上記式のポリフルオロアルカンは少なくとも２個のフッ素原子を含む、のポリフルオロアルカン少なくとも１種、又は前記ポリフルオロアルカン少なくとも１種と慣用の噴射剤又は脱油剤及び洗浄剤との混合物を含んでなる電気工業に有用な脱油剤又は洗浄剤」（請求項 ３）、
　ロ．「式（Ｉ）のポリフルオロアルカン類は、更に電気工業での脱グリース剤及び洗浄剤として使用することができる。好ましいものとして前記したポリフルオロアルカンと同じポリフルオロアルカンがこの目的にとって好ましい。」（第５頁右上欄第１６〜２０行）、
　刊行物２（「洗剤・洗浄の辞典」株式会社朝倉書店1990年１１月２５日発行、第635〜636頁、第657〜658頁）の記載事項
　ハ．「プリント基板で洗浄の対象となるよごれは、・・・フラックスの除去が主である。・・・（１）ロジン系フラックスの洗浄・・・民生用機器などでは、フレオン・・・などの溶剤洗浄が行われる。」（第635〜636頁）、
　ニ．「光学レンズ・めがねの洗浄について、「ピッチの洗浄は・・トリクロロエチレン・・・などの不燃性溶剤を用い、・・・乾燥はトリクロロトリフルオロエタン・・・などの不燃性のフッ素系溶剤で上記洗浄するのが一般的である。」（第657頁）、
　ホ．「通常前項（光学レンズ・めがねの洗浄の項）で取り上げた不燃性の溶剤で洗浄される。」（第658頁）、
　刊行物３（特開平１−１３２６９３号公報）の記載事項
　ヘ．ＩＣ部品又は精密機器のフラックス洗浄剤としてフッ素系炭化水素が用いられている旨（第１頁左下欄〜右下欄）、
　刊行物４（米国特許第３，７２９，５６７号明細書、甲第２号証）の記載事項
　ト．新規化合物「ＣＨＦ２（ＣＦ２）３ＣＨ２Ｆ」について、「この発明の化合物は、・・・脱脂剤として使用することができる。」（第１欄第３４〜３７行）、
　先願明細書１（特願平３−５１７９３９号［優先権主張、１９９０年１０月１１日米国、特表平５−５０８４１８号（甲第３号証）］の記載事項
　チ．「ＣＦ３ＣＨＦＣＨＦＣＦ２ＣＦ３、ＣＦ３ＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＣＦ３、ＣＦ３ＣＨＦＣＨ２ＣＦ２ＣＦ３、ＣＦ３ＣＨＦＣＨＣＦ２ＣＦ２ＣＦ３、・・・からなる群より選ばれる化合物。」（請求の範囲第１項）、
　リ．「本発明の線状ジヒドロポリフルオロペンタン、線状トリヒドロポリフルオロベンタン、線状ジヒドロポリフルオロベキサンは、溶媒（略）として有用である。・・・これらは、オゾンを消耗する能力を持たず、また難燃性である。これらポリフルオロアルカンは、・・・洗浄剤または固体表面、例えばプリント配線基板の脱フラックス剤として使用されうる。」（第９頁右上欄）、
　ヌ．「本発明の１以上のジヒドロポリフルオロアルカン、トリヒドロポリフルオロアルカン有効量とアルコール類、・・・エステル類、ケトン類・・・からなる群より選ばれる１以上の溶媒との混合物からなり、・・・混合物を形成する組成物は、特に有用であると考えられている。」（第９頁左下欄）。
　なお、先願明細書１の記載事項は、優先権主張の基礎となる第１国出願の明細書に記載されているものである。
（４）対比・判断
　イ．本件発明１ないし３に係る新規性、進歩性判断の基準日
　本件発明１ないし３に係る洗浄剤組成物のうち、国内優先権主張の基礎となった特願平１−３１８６４２号、 特願平１−３１８６４３号及び特願平１−３１８６４４号の願書に最初に添付した明細書に記載されている発明は、１，１，２，２，３，３，４−ヘプタフルオロペンタン、１，１，２，２，３，３，４，５，５−オクタフルオロペンタン、２−トリフルオロメチル−１，１，１，３，４，４，５，５，５−ノナフルオロペンタンを有効成分とする洗浄剤組成物及びそれらとアルコール類、エステル類及びケトン類から選ばれる少なくとの一種を含む洗浄剤組成物である。
　したがって、上記の洗浄剤組成物については優先権主張が認められ新規性、進歩性判断の基準日は平成１年１２月７日となる。上記以外の「フッ素化脂肪族炭化水素」を有効成分として含有する洗浄剤組成物については優先権主張が認められず、新規性、進歩性判断の基準日は現実の出願日である平成２年１１月２８日である。
　ロ．特許法第２９条第１項または第２項違反について
［本件発明１について］
　本件発明１と刊行物１ないし４に記載の発明（ただし、刊行物１、２に対しては、その頒布日以前の優先権主張が認められるものを除く。）とを比較すると、刊行物１には式（Ｉ）で表されるフッ素化脂肪族炭化水素を有効成分として含有する電気工業に有用な脱油剤又は洗浄剤組成物が記載されている。式（Ｉ）の化合物は、炭素原子数が４ないし７、フッ素原子数６ないし１２のフッ素化脂肪族炭化水素を含む概念であるが、本件発明１に記載の「１，１，２，３，４，４−ヘキサフルオロブタン、Ｃ４Ｆ８Ｈ２、１，１，２，２，３，３，４−ヘプタフルオロペンタン、Ｃ５Ｆ８Ｈ４、１，１，２，２，３，３，４，４，５−ノナフルオロペンタン、１，１，１，２，３，３，４，４，５，５−デカフルオロペンタン、Ｃ６Ｆ９Ｈ５　、１，１，２，２，３，３，４，４，５，５，６，６−ドデカフルオロヘキサン及び２−トリフルオロメチル−１，１，１，３，４，４，５，５，５−ノナフルオロペンタン」については具体的に記載されていない。さらに、式（Ｉ）の化合物を特にＩＣ部品又は精密機械部品の洗浄剤として用いることも示されていないから、刊行物１には、本件発明１に記載の上記特定のフッ素化脂肪族炭化水素を含有する組成物をＩＣ部品又は精密機械部品の洗浄剤として用いることは記載も示唆もされていない。
　刊行物２には、プリント基板、ＩＣ部品又は精密機器の洗浄剤としてフッ素系炭化水素が用いられることが記載されているが、本件発明１に記載の特定のフッ素化脂肪族炭化水素化合物を用いることは記載も示唆もない。
　刊行物３には、プリント基板、ＩＣ部品又は精密機器の洗浄剤としてフッ素系炭化水素が用いられることが記載されているが、本件発明１に記載の特定のフッ素化脂肪族炭化水素化合物を用いることは記載も示唆もない。
　刊行物４には「ＣＨＦ２（ＣＦ２）３ＣＨ２Ｆ」（１，１，２，２，３，３，４，４，５−ノナフルオロペンタン）が脱脂剤として使用できることが示されているが、ＩＣ部品又は精密機械部品の洗浄剤として用いることは記載されていないし示唆もない。
　それ故、刊行物１ないし４には、本件発明１に記載の上記特定のフッ素化脂肪族炭化水素を含有する組成物をＩＣ部品又は精密機械部品用洗浄剤とすることは示されていないから、これらの技術を組み合わせても、本件発明１が容易に発明をすることができたものであるとすることはできない。
　そして、本件発明１は、フラックス洗浄効果に優れ、金属、プラスチック、エラストマーなどからなる複合部品を浸すことがないＩＣ部品又は精密機械部品用洗浄剤を提供できるという明細書記載の効果を奏するものである。
　したがって、本件発明１は、刊行物１ないし４に記載された発明であるとも刊行物１ないし４に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものとすることもできない。
［本件発明２について］
　本件発明２は、本件発明１におけるフッ素化脂肪族炭化水素Ｃ４Ｆ８Ｈ２、Ｃ５Ｆ８Ｈ４、Ｃ６Ｆ９Ｈ５を更に限定して、１，１，１，２，２，３，３，４−オクタフルオロブタン、１，１，２，３，３，４，５，５−オクタフルオロペンタン、１，１，２，２，３，３，４，４，５−ノナフルオロペンタン、１，１，１，２，２，３，３，４，４，−ノナフルオロヘキサンとしているが、上記本件発明１の判断で述べたのと同様の理由により、刊行物１ないし４には、本件発明２に記載の上記特定のフッ素化脂肪族炭化水素を含有する組成物をＩＣ部品又は精密機械部品用洗浄剤とすることは記載も示唆もされていないし、また、これらの技術を組み合わせても、本件発明２が当業者に容易に発明をすることができたものであるとすることはできない。
　したがって、本件発明２は、刊行物１ないし４に記載された発明であるとも刊行物１ないし４に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものとすることもできない。
　ハ．特許法第２９条の２違反について
［本件発明１について］
　本件発明１（ただし、前述の優先権主張が認められるものを除く）と先願明細書１に記載の発明を比較すると、先願明細書１には、その請求の範囲に記載の特定のジヒドロポリフルオロアルカン、トリヒドロポリフルオロアルカンを有効成分とし、オゾンを消耗する能力を持たない、固体表面、例えばプリント配線基板の脱フラックス剤として使用される組成物が記載されているが、本件発明１のフッ化脂肪族炭化水素については記載されていない。
　したがって、本件発明１は、先願明細書１に記載された発明と同一であるとすることはできない。
［本件発明３について］
　本件発明３は、本件発明１において、更に特定の有機溶剤を含有させたものであるから、本件発明３は、先願明細書１に記載された発明と同一であるとすることができない。
　よって、本件発明１、３は、先願明細書１に記載された発明と同一であるとすることもできない。
　ニ．まとめ
　したがって、本件発明１ないし３は、特許法第２９条第１項、第２項及び第２９条の２の規定に違反せず、特許出願の際に独立して特許を受けることができるものである。
（５）むすび
　以上のとおりであるから、上記訂正請求は、特許法第１２０条の４第３項において準用する平成６年法律第１１６号による改正前の第１２６条第１項ただし書、第２項及び第３項の規定に適合するものである。
　よって、本件訂正請求のとおり訂正を認める。
III．異議申立てについての判断
１．本件発明
　訂正明細書の特許請求の範囲の請求項１ないし３に記載されたとおりのものである。                        
２．特許異議申立ての理由の概要
　訂正前の本件請求項１ないし３に係る洗浄剤組成物の発明のうち、優先権主張の基礎となる特願平１−３１８６４２号、特願平１−３１８６４３号、特願平１−３１８６４４号の願書に最初に添付した明細書に記載された発明については、優先権主張の効果が享受されるが、それを除いた部分の発明については、現実の出願日となる。
　訂正前の本件請求項１ないし２に係る発明は、甲第１号証（特開平２−２３５９８２号公報）あるいは甲第２号証（米国特許第３７２９５６７号明細書）に記載された発明であるか、又は甲第１号証あるいは甲第２号証に記載された発明に基づき当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第１項あるいは第２項の規定により、特許を受けることができない。
　また、訂正前の本件請求項３に係る発明は、甲第３号証（特願平３−５１７９３９号（特表平５−５１７９３９号公報、優先権主張１９９０年１０月１１日　米国））の願書に最初に添付した明細書に記載された発明と同一であるから、特許法第２９条の２の規定により特許を受けることができない。
　よって、訂正前の本件請求項１ないし３に記載の発明に係る特許を取り消すべき旨主張している。
３．対比・判断
　異議申立人の主張が採用できないことは、上記II．３．（４）の記載から明らかである。
IV．むすび
　以上のとおりであるから、異議申立ての理由及び証拠方法並びに取消理由によっては本件発明１ないし３に係る特許を取り消すことができない。
　また、他に本件発明１ないし３に係る特許を取り消すべき理由を発見しない。
　よって、結論のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１４年１月７日（２００２．１．７）
【訂正の要旨】
訂正の要旨
　ア．訂正事項ａ
　特許請求の範囲の請求項１の記載において、「Ｃ４Ｆ６Ｈ４、Ｃ４Ｆ８Ｈ２、Ｃ５Ｆ７Ｈ５、Ｃ５Ｆ８Ｈ４、Ｃ５Ｆ９Ｈ３、Ｃ５Ｆ１０Ｈ２、Ｃ６Ｆ９Ｈ５及びＣ６Ｆ１２Ｈ２」とあるのを「１，１，２，３，４，４−ヘキサフルオロブタン、Ｃ４Ｆ８Ｈ２、１，１，２，２，３，３，４−ヘプタフルオロペンタン、Ｃ５Ｆ８Ｈ４、１，１，２，２，３，３，４，４，５−ノナフルオロペンタン、１，１，１，２，３，３，４，４，５，５−デカフルオロペンタン、Ｃ６Ｆ９Ｈ５、１，１，２，２，３，３，４，４，５，５，６，６−ドデカフルオロペンタン及び２−トリフルオロメチル−１，１，１，３，４，４，５，５，５−ノナフルオロペンタン」と訂正する。
（５４）【発明の名称】
洗浄剤組成物
（５７）【特許請求の範囲】
▲１▼　
１，１，２，３，４，４−ヘキサフルオロブタン
１，１，２，２，３，３，４−ヘプタフルオロペンタン
１，１，２，２，３，３，４，４，５−ノナフルオロペンタン
１，１，１，２，３，３，４，４，５，５−デカフルオロペンタン
１，１，２，２，３，３，４，４，５，５，６，６−ドデカフルオロヘキサン及び２−トリフルオロメチル−１，１，１，３，４，４，５，５，５−ノナフルオロペンタン
▲２▼　フッ化脂肪族炭化水素が、１，１，２，３，４，４−ヘキサフルオロブタン、１，１，１，２，２，３，３，４−オクタフルオロブタン、１，１，２，２，３，３，４−ヘプタフルオロペンタン、１，１，２，３，３，４，５，５−オクタフルオロペンタン、１，１，２，２，３，３，４，４，５−ノナフルオロペンタン、１，１，１，２，３，３，４，４，５，５−デカフルオロペンタン、１，１，１，２，２，３，３，４，４−ノナフルオロヘキサン、１，１，２，２，３，３，４，４，５，５，６，６−ドデカフルオロヘキサン及び２−トリフルオロメチル−１，１，１，３，４，４，５，５，５−ノナフルオロペンタンから選ばれた少なくとも１種の化合物である請求項１に記載のＩＣ部品又は精密機械部品用洗浄剤組成物。
▲３▼　炭化水素類、アルコール類、エステル類及びケトン類から選ばれた少なくとも１種の有機溶剤を含む請求項１に記載のＩＣ部品又は精密機械部品用洗浄剤組成物。
【発明の詳細な説明】
　
産業上の利用分野
　本発明は、洗浄剤組成物に関し、さらに詳しくは、ＩＣ部品、精密機械部品などに付着したフラックス、油脂類、塵埃などの除去に適した洗浄剤組成物に関する。
　
従来の技術とその課題
　従来から、ＩＣ部品、精密機械部品などを製造する際、組み立て行程で付着したフラックス、塵埃などを除去するために、通常有機溶剤を用いる洗浄が行なわれている。有機溶剤としては、１，１，２−トリクロロ−１，２，２−トリフルオロエタン（Ｒ−１１３という）が広く使われている。Ｒ−１１３は、不燃性で毒性が低く、安定性に優れている。しかも適度な溶解性を有しているので、各種の汚れのみを選択的に溶解し、金属、プラスチック、エラストマーなどを侵すことはない。プリント基板上のフラックス洗浄を行なう場合、被洗物類は、一般に、金属、プラスチック、エラストマーなどからなる複合部品が多い。従って、この点からもＲ−１１３が有利である。
　しかるに、最近、Ｒ−１１３が成層圏のオゾンを破壊し、ひいては皮膚癌の発生をひき起こす原因となる疑いがあることから、その使用が規制されつつある。
　
課題を解決するための手段
　本発明者は、上記従来技術の現状に鑑みて鋭意研究を重ねた結果、特定のフッ化脂肪族炭化水素が、１）分子中に塩素を含有しないので、オゾンを破壊する恐れがまったく無く、２）フラックス、油脂類、塵埃などの洗浄効果に優れ、３）従来使用されていたＲ−１１３と同様の適度な溶解力を持つので、各種の汚れのみを選択的に溶解除去し、金属、プラスチック、エラストマーなどからなる複合部品を侵さないことを見出し、本発明を完成した。
　すなわち、本発明は、Ｃ４Ｆ６Ｈ４、Ｃ４Ｆ８Ｈ２、Ｃ５Ｆ７Ｈ５、Ｃ５Ｆ８Ｈ４、Ｃ５Ｆ９Ｈ３、Ｃ５Ｆ１０Ｈ２、Ｃ６Ｆ９Ｈ５及びＣ６Ｆ１２Ｈ２で表される化合物から選ばれた少なくとも１種のフッ化脂肪族炭化水素を有効成分として含有するＩＣ部品又は精密機械部品用洗浄剤組成物を提供するものである。
　本発明の洗浄剤組成物は、有効成分として、一般式ＣｎＦｍＨ２ｎ＋２−ｍ（式中、４≦ｎ≦６及び６≦ｍ≦１２である）で表わされるフッ化脂肪族炭化水素を含有するものである。この様な化合物がフラックス、油脂類などの洗浄剤として用いられた例は全くなく、また知られていない。
　上記フッ化脂肪族炭化水素としては、具体的には、Ｃ４Ｆ６Ｈ４、Ｃ４Ｆ８Ｈ２、Ｃ５Ｆ７Ｈ５、Ｃ５Ｆ８Ｈ４、Ｃ５Ｆ９Ｈ３、Ｃ５Ｆ１０Ｈ２、Ｃ６Ｆ９Ｈ５、Ｃ６Ｆ１２Ｈ２等で表わされる化合物を例示することができ、好ましい具体例としては、１，１，２，３，４，４−ヘキサフルオロブタン（ＨＣＦ２ＣＦＨＣＦＨＣＦ２Ｈ）、１，１，１，２，２，３，３，４−オクタフルオロブタン（ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２Ｆ）、１，１，２，２，３，３，４−ヘプタフルオロペンタン（ＨＣＦ２（ＣＦ２）２ＣＦＨＣＨ３）、１，１，２，３，３，４，５，５−オクタフルオロペンタン（ＨＣＦ２ＣＦＨＣＦ２ＣＦＨＣＦ２Ｈ）、１，１，２，２，３，３，４，４，５−ノナフルオロペンタン（ＨＣＦ２（ＣＦ２）３ＣＨ２Ｆ）、１，１，１，２，３，３，４，４，５，５−デカフルオロペンタン（ＣＦ３ＣＦ（ＣＨＦ２）ＣＦ２ＣＦ２Ｈ）、１，１，１，２，２，３，３，４，４−ノナフルオロヘキサン（ＣＦ３（ＣＦ２）３ＣＨ２ＣＨ３）、１，１，２，２，３，３，４，４，５，５，６，６−ドデカフルオロヘキサン（ＨＣＦ２（ＣＦ２）４ＣＦ２Ｈ）、２−トリフルオロメチル−１，１，１，３，４，４，５，５，５−ノナフルオロペンタン（ＣＦ３）２ＣＨＣＦＨＣＦ２ＣＦ３）等を挙げることができる。
　本発明の洗浄剤組成物では、上記したフッ化脂肪族炭化水素の含有量は、特に限定的ではないが、通常７０重量％程度以上、好ましくは８０重量％程度以上とすればよい。
　本発明の組成物には、フラックスの溶解力を向上させるために、炭化水素類、アルコール類、エステル類、ケトン類などの有機溶剤から選ばれる少なくとも一種を併用しても良い。有機溶剤の配合量は、特に制限されないが、通常洗浄剤組成物全量の３０重量％程度を越えない範囲、好ましくは２〜１０重量％程度、さらに好ましくは３〜８重量％程度とすれば良い。フッ化脂肪族炭化水素と有機溶剤との混合物に共沸組成が存在する場合には、その共沸組成での使用が好ましい。
　炭化水素類としては、特に制限されないが、例えば、ヘキサン、ヘプタン、イソヘプタン、オクタン、イソオクタン、メチルシクロペンタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、トルエンなどが好ましい。
　アルコール類としては、特に制限されないが、炭素数１〜５程度の鎖状飽和アルコール類が好ましく、例えば、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブチルアルコール、ｓｅｃ−ブチルアルコール、イソブチルアルコール、ｔｅｒｔ−ブチルアルコール、ペンチルアルコール、ｓｅｃ−アミルアルコール、１−エチル−１−プロパノール、２−メチル−１−ブタノール、イソペンチルアルコール、ｔｅｒｔ−ペンチルアルコール、３−メチル−２−ブタノール、ネオペンチルアルコール、２−エチル−１−ブタノールなどを挙げることができる。その中でも、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ｎ−プロパノールなどが特に好ましい。
　エステル類としては、特に制限されないが、炭素数１〜５程度の脂肪酸と炭素数１〜６程度の低級アルコールのエステルが好ましく、例えば、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、プロピオン酸プロピル、プロピオン酸イソプロピル、酪酸メチル、酪酸エチル、吉草酸メチルなどを挙げることができる。その中でも、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチルなどが特に好ましい。
　ケトン類としては、特に制限されないが、一般式Ｒ−ＣＯ−Ｒ′（式中、ＲおよびＲ′は炭素数１〜４程度の飽和炭化水素基を示す）で表わされるものが好ましく、例えば、アセトン、２−ブタノン、２−ペンタノン、３−ペンタノン、４−メチル−２−ペンタノンなどを挙げることができる。その中でも、アセトン、２−ブタノン、４−メチル−２−ペンタノンなどが特に好ましい。
　さらに本発明組成物には、各種の目的に応じて、従来からこの種の洗浄剤に用いられている成分が含まれていても良い。該成分としては、例えば、界面活性剤などの各種洗浄助剤や安定剤、オゾンを破壊する恐れの少ない水素含有塩素化フッ素化炭化水素類、オゾンを破壊する恐れが全くない水素含有フッ素化炭化水素類、炭化水素類などを挙げることができる。
　本発明組成物を用いてフラックス、油脂類などの洗浄、塵埃除去などを行なうに際しては、通常の洗浄方法が採用できる。具体的には、手拭き、浸漬、スプレー、揺動、超音波洗浄、蒸気洗浄などの方法を挙げることができる。
　
発明の効果
　本発明の洗浄組成物は、オゾンを破壊する恐れがまったく無く、しかもフラックス洗浄効果に優れている。また、従来使用されていたＲ−１１３と同様の適度な溶解力を持つので、各種の汚れ（フラックス、油脂類、塵埃など）のみを選択的に溶解除去し、金属、プラスチック、エラストマーなどからなる複合部品を侵すことがない。
　
実　施　例
　以下に実施例を挙げ、本発明を一層明瞭にする。
実施例１
　１，１，２，２，３，３，４−ヘプタフルオロペンタン（７Ｆペンタン）、１，１，２，３，３，４，５，５−オクタフルオロペンタン（８Ｆペンタン）又は２−トリフルオロメチル−１，１，１，３，４，４，５，５，５−ノナフルオロペンタン（６ＦＤＨ２）を有効成分として含有する下記第１表に示す本発明の洗浄剤組成物Ｎｏ．１〜２７を用いてフラックスの洗浄試験を行なった。
　プリント基板（銅張り積層板）全面にフラックス（タムラＦ−Ａｌ−４、（株）タムラ製作所製）を塗布し、１１０℃で２０秒間予備加熱後、２５０℃で５秒間ハンダ付けを行なった。ハンダ付け後のプリント基板を本発明の洗浄剤組成物に浸漬し、超音波洗浄を１分間行なった。フラックスの除去の度合を以下の基準で評価した。結果を第１表に示す。
　　◎…フラックスを良好に除去できる。
　　○…ごく僅かにフラックスが残存する。
　　×…かなりフラックスが残存する。
実施例２
　実施例１で使用した洗浄剤組成物Ｎｏ．１〜１８のプラスチックに対する影響をみるために、第２表に示す各種プラスチックを、５０℃にて１時間各組成物に浸漬し、取り出した直後にプラスチックの重量変化率（％）を測定し、以下の基準で影響度を評価した。結果を第２表に示す。
　　０…影響がほとんどみられない
　　　　（重量変化率０〜１％）
　　１…やや膨潤するが、実質的に問題ない。
　　　　（重量変化率１〜５％）
　　２…膨潤し、プラスチックが侵される。
　　　　（重量変化率５〜１０％）
　第１表および第２表から、本発明組成物が、フラックス洗浄効果に優れ、かつ各種プラスチックを侵さないことが判る。
実施例３
　１０×１０ｃｍのプリント基板に（株）タムラ製作所製のフラックス（Ｆ−ＡＬ−４）を塗布し、１１０℃で予備加熱を行い、２５０℃で５秒間ハンダづけを行った。
　この基板に対して、下記第３表に示す本発明の洗浄剤を用いて、超音波洗浄を６０秒間及び蒸気洗浄を６０秒間行うことによって、洗浄試験を行った。
　洗浄後のプリント基板につき、フラックスの除去性を目視により観察する一方、イオン性残渣量をオメガメータ−５００（ＫＥＮＣＯ社製）を用いて測定し、以下の基準で評価した。結果を第３表に示す。
○目視評価
　　○：良好に除去されている。
　　△：わずかに残渣が認められる。
　　×：かなり残存する。
○イオン性残渣評価：２μｇＮａＣｌ／ｃｍ２以下は良好な洗浄性を示す。
実施例４
　スピンドル油の付着した１００メッシュの円筒状金網（２５φ×１５Ｈｍｍ）を６０℃に加温した本発明の洗浄剤に浸漬し、超音波洗浄を６０秒間行った。
　更に４０〜５０℃に加温した本発明の洗浄剤中で浸漬或いは超音波洗浄を６０秒間行った後、蒸気洗浄を６０秒間行うことにより脱脂洗浄試験を行った。
　その後金網に残留している油分量を油分濃度計（（株）堀場製作所製）にて測定し、油分の除去された割合を洗浄度（％）として求めた。
　使用した洗浄剤の組成及び洗浄度を下記第４表に示す。
　上述のように本発明の洗浄剤組成物は脱脂洗浄性に優れたものである。