【事件の表示】
　特願２０１６−５６５４１３「ＣＶＤ又はＰＶＤコーティング装置にプロセスガス混合物を供給するための装置及び方法」拒絶査定不服審判事件〔平成２７年１１月１２日国際公開、ＷＯ２０１５／１６９８８２、平成２９年　８月１０日国内公表、特表２０１７−５２２４４７、請求項の数（１２）〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　原査定を取り消す。
　本願の発明は、特許すべきものとする。
【理　由】
第１　手続の経緯
　本願は、２０１５年（平成２７年）５月７日（パリ条約による優先権主張外国庁受理　２０１４年５月９日（ＤＥ）ドイツ国）を国際出願日とする出願であって、平成３１年１月１７日付けで拒絶理由が通知され、同年３月１４日付けの意見書及び手続補正書が提出されたが、令和元年６月２５日付けで拒絶査定がされ、これに対し、同年１０月９日付けで拒絶査定不服審判が請求されると同時に手続補正書が提出されたものである。
第２　原査定の概要
理由１．（進歩性）この出願の平成３１年３月１４日付け手続補正に基づく特許請求の範囲の請求項１−６、８−１１に係る発明は、その優先日前に日本国内又は外国において、頒布された又は電気通信回線を通じて公衆に利用可能となった下記引用文献１、２に記載された発明に基いて、また、同じく請求項７、１２に係る発明は、その優先日前に日本国内又は外国において、頒布された又は電気通信回線を通じて公衆に利用可能となった下記引用文献１〜４に記載された発明に基いて、その優先日前にその発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　　　　　　　　　　　＜引用文献等一覧＞
１．特開２００３−１４２４７３号公報
２．米国特許出願公開第２０１３／００６１７５９号明細書
３．特開平１１−２９３４６５号公報（周知技術を示す文献）
４．特開昭５９−４９８２９号公報（周知技術を示す文献）
第３　審判請求時の補正について
（１）補正の内容
　審判請求時の補正は、以下の補正事項１〜４を含む（下線は補正箇所であり、当審で付した）。
補正事項１：
　請求項１が「前記第１混合室（１２）では複数段の第１ガス偏向要素（１３）がフロー方向に重なって配置されることにより
、周方向において時計回りと反時計回りに行われる
補正事項２：
　請求項１が「前記第２混合室（１５）にてフロー方向に重なって配置された複数段の第２ガス偏向要素（１６）
であって各々が曲がった部分を有する平板材料から形成された同じ構成を有しかつ一つが他の一つの上に置かれて支持された前記複数段の第２ガス偏向要素（１６）
補正事項３：
　請求項８が「前記第１混合室（１２）内でフロー方向に重なって配置された複数段の第１ガス偏向要素（１３）を用いて各ガス流を
、周方向において時計回りと反時計回りに
補正事項４：
　請求項８が「前記第２混合室（１５）にてフロー方向に重なって配置された複数段の第２ガス偏向要素（１６）
であって各々が曲がった部分を有する平板材料から形成された同じ構成を有しかつ一つが他の一つの上に置かれて支持された前記複数段の第２ガス偏向要素（１６）
（２）補正の適否
（２−１）補正の目的要件について
　補正事項１は、「
周方向において時計回りと反時計回りに行われる
　補正事項２は、「
各々が曲がった部分を有する平板材料から形成された同じ構成を有しかつ一つが他の一つの上に置かれて支持された
　そして、いずれにおいても、補正前後の発明は、産業上の利用分野及び解決しようとする課題が同一であるのは明らかであるといえる。
　よって、補正は、特許法第１７条の２第５項第２号に該当する。
（２−２）新規事項の追加の有無、単一性について
　補正事項１、３は、当初明細書の段落００４２等に記載されているものであるから、特許法第１７条の２第３項の規定を満たすものである。
　補正事項２、４は、当初明細書の段落００３９等に記載されているものであるから、特許法第１７条の２第３項の規定を満たすものである。
　補正前後の発明が単一性を満たすのは明らかであるから、補正は、特許法第１７条の２第４項の規定を満たすものである。
（２−３）独立特許要件について
　後記する「第４　本願発明」から「第６　対比・判断」までに示すように、補正後の請求項１−１２に係る発明は、特許法第１７条の２第６項の規定で準用する同法第１２６条第７項で規定する独立特許要件を満たすものである。
（２−４）むすび
　したがって、審判請求時の補正は、特許法第１７条の２第３項から第６項までの要件に違反しているものとはいえない。
第４　本願発明
　上記第３のとおりであるから、本願に係る発明は、審判請求時の令和元年１０月９日付け手続補正書の特許請求の範囲の請求項１〜１２に記載された事項により特定される次のとおりのものであると認める（以下、それぞれ、「本願発明１」〜「本願発明１２」という。）。
「　【請求項１】
　プロセスチャンバ及びガス供給装置を有するＣＶＤ又はＰＶＤ反応炉であって、
　前記ガス供給装置は、中心の周りにスター状に配置されそれぞれ気化ガスソース（２１）と接続された各入口ダクト（２２）を具備し、該各入口ダクト（２２）はそれぞれ前記ガスソース（２１）から供給された各ガス流を、中心の周りに環状円筒形にて配置された第１混合室（１２）に供給し、
　前記第１混合室（１２）では複数段の第１ガス偏向要素（１３）がフロー方向に重なって配置されることにより、
周方向において時計回りと反時計回りに行われる
　前記ガス供給装置はオーバーフロー障壁（１４）を具備し、前記第１混合室（１２）から出た全ての各ガス流からなる第１ガス流が前記オーバーフロー障壁（１４）を超えて１８０°向きを変えさせられて前記第１混合室（１２）の内側に配置された第２混合室（１５）に流れ、前記第２混合室（１５）にてフロー方向に重なって配置された複数段の第２ガス偏向要素（１６）
であって各々が曲がった部分を有する平板材料から形成された同じ構成を有しかつ一つが他の一つの上に置かれて支持された前記複数段の第２ガス偏向要素（１６）
　前記ガス供給装置はガス出口ダクト（８）を具備し、前記ガス出口ダクト（８）は前記第２混合室（１５）からＣＶＤ又はＰＶＤコーティング装置（１）のガス入口部材（５）への前記ガス流の出口のために中心に配置さ
れ、
　２つの前記混合室（１２，１５）と前記気化ガスソース（２１）とからなる前記ガス供給装置が前記プロセスチャンバ（２）の鉛直方向上方に配置さ
れ、かつ、
　前記ガスソース（２１）から前記ガス入口部材（５）までの各ガス流の有効行程長が互いに同じであることを特徴とする
　ＣＶＤ又はＰＶＤ反応炉。
　　【請求項２】
　前記入口ダクト（２２）が入口平面に配置されかつ共通の中心を向いており、前記ガス出口ダクト（８）が入口平面に対して交差する方向に延在することを特徴とする
　請求項１に記載のＣＶＤ又はＰＶＤ反応炉。
　　【請求項３】
　前記第１混合室（１２）が予備混合室であり、かつ、前記第２混合室（１５）が渦流生成室であって前記第２混合室（１５）内に渦状の第２ガス流を生成するために第２ガス偏向要素（１６）を具備することを特徴とする
　請求項１又は２に記載のＣＶＤ又はＰＶＤ反応炉。
　　【請求項４】
　第１又は第２の前記混合室（１２、１５）が、同心状の管（１８，１９）から形成されており、それらは反対方向に流れられ通過されることを特徴とする
　請求項１〜３のいずれかに記載のＣＶＤ又はＰＶＤ反応炉。
　　【請求項５】
　第１又は第２の前記混合室（１２，１５）の直径が、第１又は第２の前記混合室（１２，１５）の軸方向高さより短いことを特徴とする
　請求項１〜４のいずれかに記載のＣＶＤ又はＰＶＤ反応炉。
　　【請求項６】
　前記ガスソース（２１）及び前記混合室（１２，１５）が、前記反応炉ハウジング（１）の上壁の真上に配置されていることを特徴とする
　請求項１〜５のいずれかに記載のＣＶＤ又はＰＶＤ反応炉。
　　【請求項７】
　希釈ガス流の流入のための付加的なガス入口ダクト（２２’）があることを特徴とする
　請求項１〜６のいずれかに記載のＣＶＤ又はＰＶＤ反応炉。
　　【請求項８】
　ＣＶＤ又はＰＶＤコーティング装置のガス入口部材（５）にプロセスガスを供給するための方法であって、
　複数のプロセスガスの各々をそれぞれのガスソース（２１）に供給するステップと、
　複数のプロセスガスの各々を各ガス流として他の各ガス流とは分離して各ガスソース（２１）から、中心の周りにスター状に配置された各入口ダクト（２２）をそれぞれ通って中心の周りに環状円筒形にて配置された第１混合室（１２）に送るステップと、
　前記第１混合室（１２）内でフロー方向に重なって配置された複数段の第１ガス偏向要素（１３）を用いて各ガス流を
、周方向において時計回りと反時計回りに
　全ての各ガス流からなる第１ガス流を、オーバーフロー障壁（１４）を超えさせ１８０°向きを変えさせて前記第１混合室（１２）の内側に配置された第２混合室（１５）にオーバーフローさせるステップと、
　前記第２混合室（１５）にてフロー方向に重なって配置された複数段の第２ガス偏向要素（１６）
であって各々が曲がった部分を有する平板材料から形成された同じ構成を有しかつ一つが他の一つの上に置かれて支持された前記複数段の第２ガス偏向要素（１６）
　全ての各ガス流からなるガス流をガス出口ダクト（８）から前記ガス入口部材（５）に送出するステップと、を有
し、
　前記ガスソース（２１）と前記ガス入口部材（５）の間の行程における前記ガスの有効滞在時間が最大で１０ミリ秒異なることを特徴とする方法。
　　【請求項９】
　前記ガスソース（２１）と前記ガス入口部材（５）の間の行程における前記ガスの有効滞在時間が、１００ミリ秒より短いことを特徴とする
　請求項８に記載の方法。
　　【請求項１０】
　前記第２混合室（１５）に配置された前記第２ガス偏向要素（１６）が渦状の第２のガス流を生じることを特徴とする
　請求項８又は９に記載の方法。
　　【請求項１１】
　前記入口ダクト（２２）におけるガス流は、各ガス流がそれぞれの入口ダクト（２２）を同じ平均ガス速度で出るように設定されていることを特徴とする請求項８〜１０のいずれかに記載の方法。
　　【請求項１２】
　付加的な入口ダクト（２２’）を通して希釈ガス流が供給されることを特徴とする
　請求項８〜１１のいずれかに記載の方法。」
第５　引用文献、引用発明等
１．引用文献１について
（１）引用文献１の記載事項
　引用文献１には、「ガス供給装置及びガス供給方法、及び成膜装置及び成膜方法」（発明の名称）について、次の記載がある。
「【００４９】図５は本発明の実施の形態によるガス供給装置を有する成膜装置を示す概略構成図である。図５において、図１に示す構成部品と同等な部品には同じ符号を付す。図５に示す成膜装置は、ＰＺＴ膜を化学的気相合成法（ＣＶＤ）によりＰＺＴ膜を生成するＣＶＤ装置である。」
「【００５０】図５に示す成膜装置は、原料ガスを供給するためのガス供給装置６０と、原料ガスを酸化剤ガスと反応させるための成膜室６２と、ガス供給装置６０から供給された原料ガスを成膜室６２に導入するためのシャワーヘッド６４とを有する。成膜室６２内には、プラチナ（Ｐｔ）基板が配置され、原料ガスと酸化剤ガスとを成膜室６２に導入することによりＰｔ電極上にＰＺＴ膜が生成される。成膜後の原料ガスと酸化剤ガスは真空ポンプ等の排気手段により成膜室６２から排気される。」
「【００７１】ＰＺＴの成膜では、Ｐｂ，Ｚｒ，Ｔｉの混合ガスを処理ガスとしてシャワーヘッド６４に供給し、且つ酸化剤ガスとしてＮＯ２を成膜室６２に供給する。すなわち、Ｐｂ原料、Ｚｒ原料、Ｔｉ原料を、Ｐｂ溶液原料タンク１２、Ｚｒ溶液原料タンク１４、Ｔｉ溶液原料タンク１６から夫々の気化器７２−１，７２−２，７２−３に送出して個別に気化した後、気化したＰｂ原料、Ｚｒ原料、Ｔｉ原料をガス混合部７６に供給する。気化したＰｂ原料、Ｚｒ原料、Ｔｉ原料はガス混合部７６を通過する際に均一に拡散混合され、Ｐｂ原料、Ｚｒ原料、Ｔｉ原料の混合ガスがシャワーヘッド６４を介して成膜室６２に導入される。これにより、成膜室６２内のＰｔ基板上に形成されたＰＴＯ核上にＰＺＴ膜が形成される。」
「【００７９】図７はガス混合部７６の好ましい実施例を示す簡略断面図である。図８は図７におけるVIII−VIII断面である。また、図９は図７に示すガス混合部のガス供給通路を示す簡略図である。」
「【００８０】図７に示すガス混合部１００は、筒状の本体１０２と、本体１０２の下部に設けられた基部１０４とを有する。本体１０２の中央には筒状の混合ガス通路１０６が形成されている。混合ガス通路１０６と本体１０２との間には空間が形成されており、この空間に複数の拡散板１０８−１，１０８−２が本体１０２の長手方向に所定の間隔で整列している。」
「【００８１】拡散板１０８−１，１０８−２の各々は、図８に示すように半円状の板部材である。図７において拡散板１０８−１には斜線が施してある。拡散板１０８−１は、図７において本体１０２と混合ガス通路１０６との空間の右側部分に配置される。拡散板１０８−２は、図７において本体１０２と混合ガス通路１０６との空間の左側部分に配置される。また、拡散板１０８−１，１０８−２は、本体１０２の長手方向に交互に配列される。」
「【００８２】上述のようなガス混合部の構成において、複数の種類の原料ガス（原料ガス１、原料ガス２、原料ガス３）は、基部１０４から本体１０２へと導入される。図７に示す構成では、原料ガス１，２，３は各々異なる位置から基部１０４に供給されるが、図９に示すように基部１０４の中で一つの通路にまとめられて本体１０２に導入される。」
「【００８３】本体１０２に入った原料ガス１，２，３は、長手方向に交互に整列した拡散板１０８−１，１０８−２により進路が変えられながら本体１０２の上端部分まで到達する。この際、拡散板１０８−１，１０８−２により原料ガスが上端まで到達するまでの通路の長さは長くなり、且つガスの流れる方向が何回も１８０度変えられるので、原料ガスは拡散混合され、均一に混合された混合ガスとなる。」
「【００８４】本体１０２の上端部分に達した原料ガス（混合ガス）は、混合ガス通路１０６内をK番１０４の方向へと流れ、シャワーヘッド６４へと供給される。混合ガスは混合ガス通路１０６内を流れる間にも拡散作用によりより均一に混合される。」
（２）引用文献１に記載された発明
　引用文献１には、「【００８０】図７に示すガス混合部１００は、筒状の本体１０２と、本体１０２の下部に設けられた基部１０４とを有する。本体１０２の中央には筒状の混合ガス通路１０６が形成されている。混合ガス通路１０６と本体１０２の間には空間が形成されており、この空間に複数の拡散板１０８−１，１０８−２が本体１０２の長手方向に所定の間隔で整列している。」と記載され、図７には、混合ガス通路１０６と本体１０２の間の空間を流れている原料ガスが、筒状の混合ガス通路１０６と、混合ガス通路１０６と本体１０２の間の空間との間の壁を超えて、１８０°向きを変えさせられて混合ガス通路１０６に導入されていることが示されている。
　また、図８からは、筒状の本体と筒状の混合ガス通路の間にある空間は、環状円筒形であることが見て取れる。
　また、本体１０２の中央には筒状の混合ガス通路１０６が設けられていることから、混合ガス通路１０６からシャワーヘッドに接続される混合ガス通路１０６の下端も、本体１０２の中央に設けられていると認められる。
　引用文献１の段落００８４の「K番１０４」は「基部１０４」の誤記と認める。
　そこで、上記（１）の記載された事項を「ＣＶＤ装置」に注目して整理すると、引用文献１には、
「ガス供給装置６０と、成膜室６２と、ガス供給装置６０から供給された原料ガスを成膜室６２に導入するためのシャワーヘッド６４を有するＣＶＤ装置において、
　ガス供給装置６０は、気化器７２−１、７２−２、７２−３から複数の気化した原料をガス混合部７６の基部１０４に異なる位置で供給し、複数の気化した原料ガスは、ガス混合部７６の基部１０４から本体１０２へと導入され、混合ガス通路１０６と本体１０２との間の環状円筒形の空間に導入され、
　混合ガス通路１０６と本体１０２との間の空間では、複数の拡散板１０８−１、１０８−２が本体１０２の長手方向に所定の間隔で整列されることにより、本体１０２に入った原料ガス１、２、３が進路を変えられながら本体１０２の上端部分まで到達する際、ガスの流れる方向が何回も１８０度変わり、
　ガス供給装置６０は、筒状の混合ガス通路と、混合ガス通路１０６と本体１０２の間の空間との間の壁を備え、本体１０２の上端部分に達した原料ガス（混合ガス）は、筒状の混合ガス通路と、混合ガス通路１０６と本体１０２の間の空間との間の壁を超えて、１８０°向きを変えさせられて混合ガス通路１０６内を基部１０４の方向へと流れ、シャワーヘッド６４へと供給され、
　ガス供給装置６０は、本体１０２の中央に混合ガス通路１０６が形成され、混合ガス通路１０６では拡散作用によりより均一に混合され、本体１０２の中央の混合ガス通路１０６の下端はシャワーヘッド６４へと供給される
ＣＶＤ装置。」の発明（以下、「引用発明１」という。）が記載されているということができる。
　また、上記（１）の記載された事項を、シャワーヘッドへの原料ガスを導入するための方法に注目して整理すると、引用文献１には、
「ＣＶＤ装置のシャワーヘッド６４に原料ガスを導入するための方法であって、
　原料ガス１,２,３をそれぞれの気化器７２−１、７２−２、７２−３に供給するステップと、
　気化器７２−１、７２−２、７２−３から複数の気化した原料をガス混合部７６の基部１０４に異なる位置で供給し、複数の気化した原料ガスは、ガス混合部７６の基部１０４から本体１０２へと導入され、混合ガス通路１０６と本体１０２との間の環状円筒形の空間に導入され、
　混合ガス通路１０６と本体１０２の間の空間では、複数の拡散板１０８−１、１０８−２が本体１０２の長手方向に所定の間隔で整列されることにより、本体１０２に入った原料ガス１、２、３が進路を変えられながら本体１０２の上端部分まで到達する際、ガスの流れる方向が何回も１８０度変わり、
　本体１０２の上端部分に達した原料ガス（混合ガス）は、筒状の混合ガス通路と混合ガス通路１０６と本体１０２との間の空間との間の壁を超えて、１８０°向きを変えさせられ、
　本体１０２の中央に形成された混合ガス通路１０６内を基部１０４の方向へと流れ、混合ガス通路１０６では拡散作用によりより均一に混合され、
　混合ガスを本体１０２の中央の混合ガス通路１０６の下端からシャワーヘッド６４へと供給される
方法」の発明（以下、「引用発明２」という。）が記載されているということができる。
２．引用文献２について
　引用文献２には、段落００２４、００３３、００３４、図１の記載からみて、ＣＶＤ装置等のガス供給システムにおいて、Ｓ字状のガス供給管内の入口側にミキシングフィン、出口側にサイクロンフィンを有する構成が記載され、当該サイクロンフィンは、気流に対して傾斜している部材を備え、前駆体ガスに比較的滑らかな回転流を導入しているとの構成を備えるという技術的事項が記載されていると認められる。
３．引用文献３について
　引用文献３には、段落００１５、００２３、図１、４の記載からみて、ＣＶＤ装置において、気化装置から反応室に接続される配管にバルブを介してベントを行う構成という技術的事項が記載されていると認められる。
４．引用文献４について
　引用文献４には、３ページ左上欄９−１５行目の記載からみて、混合流体管において、流体を導入する管の他に予備の管を設けるという技術的事項が記載されていると認められる。
第６　対比・判断
１．本願発明１について
（１）対比
　本願発明１と引用発明１とを対比する。
　引用発明１の「ガス供給装置６０」、「成膜室６２」、「ＣＶＤ装置」、「気化器７２−１、７２−２、７２−３」、「気化器７２−１、７２−２、７２−３から複数の気化した原料をガス混合部７６の基部１０４に異なる位置」、「混合ガス通路１０６と本体１０２との間の空間」、「複数の拡散板１０８−１、１０８−２」、「混合ガス通路１０６」、「筒状の混合ガス通路と空間の間の壁」、「本体１０２の中央の混合ガス通路１０６の下端」、「シャワーヘッド６４」は、それぞれ本願発明１の「ガス供給装置」、「プロセスチャンバ」、「ＣＶＤ又はＰＶＤ反応炉」、「気化ガスソース（２１）」、「各入口ダクト（２２）」「前記第１混合室（１２）」、「複数段の第１ガス偏向要素（１３）」、「第２混合室（１５）」、「オーバーフロー障壁（１４）」、「ガス出口ダクト（８）」、「ガス入口部材（５）」に相当する。
　そうすると、本願発明１と引用発明１とは、
「プロセスチャンバ及びガス供給装置を有するＣＶＤ又はＰＶＤ反応炉であって、
　前記ガス供給装置は、」「それぞれ気化ガスソース（２１）と接続された各入口ダクト（２２）を具備し、該各入口ダクト（２２）はそれぞれ前記ガスソース（２１）から供給された各ガス流を、中心の周りに環状円筒形にて配置された第１混合室（１２）に供給し、
　前記第１混合室（１２）では複数段の第１ガス偏向要素（１３）がフロー方向に重なって配置されることにより、」「複数回の各ガス流の偏向及び各ガス流の混合が生じ、」
　「前記ガス供給装置はオーバーフロー障壁（１４）を具備し、前記第１混合室（１２）から出た全ての各ガス流からなる第１ガス流が前記オーバーフロー障壁（１４）を超えて１８０°向きを変えさせられて前記第１混合室（１２）の内側に配置された第２混合室（１５）に流れ、」
　前記ガス供給装置はガス出口ダクト（８）を具備し、前記ガス出口ダクト（８）は前記第２混合室（１５）からＣＶＤ又はＰＶＤコーティング装置（１）のガス入口部材（５）への前記ガス流の出口のために中心に配置され」る、
「ＣＶＤ又はＰＶＤ反応炉。」である点で一致し、次の相違点１−５で相違する。
（相違点１）
　気化ガスソース（２１）と接続された各入口ダクト（２２）が、本願発明１は「中心の周りにスター状に配置され」ているのに対して、引用発明１は「基部１０４に供給される位置が異なる」点。
（相違点２）
　第１混合室（１２）の複数回の各ガス流の偏向及び各ガス流の混合について、本願発明１は「周方向において時計回りと反時計回りに行われる」、「かつ、螺旋状で層状の流れが生じ」るのに対して、引用発明１は「進路を変えられながら本体１０２の上端部分まで到達する際、ガスの流れる方向が何回も１８０度変わる」点。
（相違点３）
　第２混合室（１５）について、本願発明１は「前記第２混合室（１５）にてフロー方向に重なって配置された複数段の第２ガス偏向要素（１６）であって各々が曲がった部分を有する平板材料から形成された同じ構成を有しかつ一つが他の一つの上に置かれて支持された前記複数段の第２ガス偏向要素（１６）により前記第１ガス流の複数回の偏向を生じ」るのに対して、引用発明１は「拡散作用によりより均一に混合される」点。
（相違点４）
　本願発明１には、「２つの前記混合室（１２，１５）と前記気化ガスソース（２１）とからなる前記ガス供給装置が前記プロセスチャンバ（２）の鉛直方向上方に配置され」のに対して、引用発明１は、「混合ガス通路１０６と本体１０２との間の空間」及び「混合ガス通路１０６」と、「気化器７２−１、７２−２、７２−３」との配置について記載されていない点。
（相違点５）
　本願発明１には、「前記ガスソース（２１）から前記ガス入口部材（５）までの各ガス流の有効行程長が互いに同じである」のに対して、引用発明１は、気化器７２−１、７２−２、７２−３からシャワーヘッド６４までの有効行程長について記載されていない点。
（２）相違点についての判断
　事案に鑑み、先ず相違点２について検討する。
　引用文献１には、「【００８３】本体１０２に入った原料ガス１，２，３は、長手方向に交互に整列した拡散板１０８−１，１０８−２により進路が変えられながら本体１０２の上端部分まで到達する。この際、拡散板１０８−１，１０８−２により原料ガスが上端まで到達するまでの通路の長さは長くなり、且つガスの流れる方向が何回も１８０度変えられるので、原料ガスは拡散混合され、均一に混合された混合ガスとなる。」と記載されている。この「ガスの流れる方向が何回も１８０度変えられる」とは、長手方向に交互に整列した拡散板によって、進路が変更されていることであり、周方向において時計回りと反時計回りに行われるとは認められない。
　そうすると引用文献１においては、周方向において時計回りと反時計回りに行われる」、「かつ、螺旋状で層状の流れが生じ」ることについて記載も示唆もない。
　また、引用文献２〜４においても、「周方向において時計回りと反時計回りに行われる」、「かつ、螺旋状で層状の流れが生じ」ることについて記載も示唆もない。
　そして、ガス混合部において、ガス偏向要素を用いて「周方向において時計回りと反時計回りに行われる」、「かつ、螺旋状で層状の流れが生じ」る構成が、当業者の技術常識であったと認めるに足る証拠もない。
　そうすると、引用発明１おいて、混合ガス通路１０６と本体１０２との間の空間に「周方向において時計回りと反時計回りに行われる」、「かつ、螺旋状で層状の流れが生じ」る構成を採用することを、当業者が容易に想到し得たことである、ということはできない。
　次に、相違点３について検討する。
　引用文献１には、「【００８４】本体１０２の上端部分に達した原料ガス（混合ガス）は、混合ガス通路１０６内をK番１０４の方向へと流れ、シャワーヘッド６４へと供給される。混合ガスは混合ガス通路１０６内を流れる間にも拡散作用によりより均一に混合される。」と記載されており、「混合ガス通路１０６」内において、「複数段の第２ガス偏向要素（１６）」に対応する部材は記載されていない。
　引用文献２には、ＣＶＤ装置等のガス供給システムにおいて用いるサイクロンフィンを有する構成が記載されているものの、当該サイクロンフィンが「各々が曲がった部分を有する平板材料から形成された同じ構成を有し」「一つが他の一つの上に置かれて支持された」との構成であるとは認められない。
　また、引用文献３、４においても、「前記第２混合室（１５）にてフロー方向に重なって配置された複数段の第２ガス偏向要素（１６）であって各々が曲がった部分を有する平板材料から形成された同じ構成を有しかつ一つが他の一つの上に置かれて支持された前記複数段の第２ガス偏向要素（１６）により前記第１ガス流の複数回の偏向を生じ」ることについて記載も示唆もない。
　そして、「前記第２混合室（１５）にてフロー方向に重なって配置された複数段の第２ガス偏向要素（１６）であって各々が曲がった部分を有する平板材料から形成された同じ構成を有しかつ一つが他の一つの上に置かれて支持された前記複数段の第２ガス偏向要素（１６）により前記第１ガス流の複数回の偏向を生じ」る構成が、当業者の技術常識であったと認めるに足る証拠もない。
　そうすると、引用発明１において、混合ガス通路１０６内に「フロー方向に重なって配置された複数段の第２ガス偏向要素（１６）」及び「各々が曲がった部分を有する平板材料から形成された同じ構成を有しかつ一つが他の一つの上に置かれて支持された前記複数段の第２ガス偏向要素（１６）」を備える構成を採用することを、当業者が容易に想到し得たことである、ということはできない。
（３）まとめ
　したがって、上記相違点２及び３に係る本願発明１の発明特定事項は、引用文献１〜４に記載された事項並びに技術常識に基づいて、当業者が容易に想到し得たということはできず、その余の相違点について検討するまでもなく、本願発明１は、引用発明１及び引用文献１〜４に記載された事項並びに技術常識に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものであるとはいえない。
２．本願発明２〜７について
　本願発明２〜７は、本願発明１の発明特定事項を全て含むものであるから、本願発明１と同様な理由から、引用発明１及び引用文献１〜４に記載された事項並びに技術常識に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものであるとはいえない。
３．本願発明８について
（１）対比
　本願発明８と引用発明２とを対比する。
　引用発明２の「ＣＶＤ装置」、「気化器７２−１、７２−２、７２−３」、「気化器７２−１、７２−２、７２−３から複数の気化した原料をガス混合部７６の基部１０４に異なる位置」、「混合ガス通路１０６と本体１０２との間の空間」、「複数の拡散板１０８−１、１０８−２」、「混合ガス通路１０６」、「筒状の混合ガス通路と空間との間の壁」、「本体１０２の中央の混合ガス通路１０６の下端」、「シャワーヘッド６４」は、それぞれ本願発明８の「ＣＶＤ又はＰＶＤコーティング装置」、「ガスソース（２１）」、「各入口ダクト（２２）」「前記第１混合室（１２）」、「複数段の第１ガス偏向要素（１３）」、「第２混合室（１５）」、「オーバーフロー障壁（１４）」、「ガス出口ダクト（８）」、「ガス入口部材（５）」に相当する。
　そうすると、本願発明８と引用発明２とは、
「ＣＶＤ又はＰＶＤコーティング装置のガス入口部材（５）にプロセスガスを供給するための方法であって、
　複数のプロセスガスの各々をそれぞれのガスソース（２１）に供給するステップと、
　複数のプロセスガスの各々を各ガス流として他の各ガス流とは分離して各ガスソース（２１）から、」「各入口ダクト（２２）をそれぞれ通って中心の周りに環状円筒形にて配置された第１混合室（１２）に送るステップと、
　前記第１混合室（１２）内でフロー方向に重なって配置された複数段の第１ガス偏向要素（１３）を用いて」「各ガス流を混合」する「ステップと、
　全ての各ガス流からなる第１ガス流を、オーバーフロー障壁（１４）を超えさせ１８０°向きを変えさせて前記第１混合室（１２）の内側に配置された第２混合室（１５）にオーバーフローさせるステップと、」
「全ての各ガス流からなるガス流をガス出口ダクト（８）から前記ガス入口部材（５）に送出するステップと、を有」する「ことを特徴とする方法。」である点で一致し、次の相違点６−９で相違する。
（相違点６）
　各入口ダクト（２２）が、本願発明８は「中心の周りにスター状に配置され」ているのに対して、引用発明２は「基部１０４に供給される位置が異なる」点。
（相違点７）
　第１混合室（１２）内の各ガス流について、本願発明８は「周方向において時計回りと反時計回りに複数回偏向し」、「かつ、螺旋状で層状の流れが生じ」させるのに対して、引用発明２は「進路を変えられながら本体１０２の上端部分まで到達する際、ガスの流れる方向が何回も１８０度変わる」点。
（相違点８）
　第２混合室（１５）について、本願発明８は「前記第２混合室（１５）にてフロー方向に重なって配置された複数段の第２ガス偏向要素（１６）であって各々が曲がった部分を有する平板材料から形成された同じ構成を有しかつ一つが他の一つの上に置かれて支持された前記複数段の第２ガス偏向要素（１６）を用いて前記ガス流を複数回偏向させるステップと」するのに対して、引用発明２は「拡散作用によりより均一に混合される」点。
（相違点９）
　本願発明８には、「前記ガスソース（２１）と前記ガス入口部材（５）の間の行程における前記ガスの有効滞在時間が最大で１０ミリ秒異なる」のに対して、引用発明２は、気化器７２−１、７２−２、７２−３からシャワーヘッド６４までの行程における原料ガスの有効滞在時間について記載されていない点。
（２）相違点についての判断
　相違点７は、上記１．で検討した相違点２と同様であり、相違点８は、上記１．で検討した相違点３と同様であるから、これらに係る本願発明８の発明特定事項は、引用文献１〜４に記載された事項並びに技術常識に基づいて、当業者が容易に想到し得たということはできず、その余の相違点について検討するまでもなく、本願発明８は、引用発明１及び引用文献１〜４に記載された事項並びに技術常識に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものであるとはいえない。
４．本願発明９〜１２について
　本願発明９〜１２は、本願発明８の発明特定事項を全て含むものであるから、同様に、引用発明２及び引用文献１〜４に記載された事項並びに技術常識に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものであるとはいえない。
第７　原査定について
　上記第４から第６に示すように、審判請求時の補正により、本願発明１は補正事項１、２、本願発明８は補正事項３、４を有するものとなっており、本願発明１〜１２は、当業者であっても、拒絶査定において引用された引用文献１〜４に記載された発明と技術常識とに基づいて、容易に発明をすることができたものとはいえない。
　よって、本願発明１〜６、８〜１１は、引用文献１、２に記載された発明に基づいて、容易に発明をすることができたものとはいえず、また本願発明７、１２も引用文献１〜４に記載された発明に基づいて、容易に発明をすることができたものとはいえないから、原査定の理由１を維持することはできない。
第８　むすび
　以上のとおり、原査定の理由によっては、本願を拒絶することはできない。
　また、他に本願を拒絶すべき理由を発見しない。
　よって、結論のとおり審決する。