【事件の表示】
　特許第３００３８６３号「平面位置決め装置および方法」の請求項１ないし４に係る特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結　論】
　訂正を認める。
　特許第３００３８６３号の請求項１ないし４に係る特許を維持する。
【理　由】
１．手続の経緯
　特許第３００３８６３号の請求項１ないし４に係る発明についての出願は、昭和６３年３月３１日に出願され、平成１１年１１月１９日にその発明について特許権の設定登録がなされ、その後、請求項１ないし４に係る発明の特許に対して、特許異議申立人キヤノン株式会社、横田貞則より特許異議の申立てがなされ、取消理由が通知され、その指定期間内である平成１３年２月２０日に訂正請求がなされたものである。
　
２．訂正の適否についての判断
２−１．訂正の内容
　特許権者が求めている訂正の内容は、以下の（ａ）〜（ｃ）のとおりである。
（ａ）特許請求の範囲の請求項１および４中の
「第１のテーブルと、この第１のテーブルに載置され、複数の区画領域面が設定された平面位置決め対象物を載置するための第２のテーブルと、Ｘ軸、Ｙ軸、Ｚ軸から成る直角座標を基準とし、前記第１のテーブルを少なくともＸ軸方向あるいはＹ軸方向へ駆動するための第１の駆動手段と、前記第２のテーブルをＺ軸方向、Ｘ軸回り回転方向、Ｙ軸回り回転方向にそれぞれ駆動するための第２の駆動手段」
を、
「Ｘ軸、Ｙ軸、Ｚ軸から成る直角座標を基準とし、少なくともＸ軸方向あるいはＹ軸方向に移動可能なＸＹテーブルと、このＸＹテーブルに載置される第１のテーブルと、この第１のテーブルに載置され、複数の区画領域面が設定された平面位置決め対象物を載置するための第２のテーブルと、前記ＸＹテーブルを少なくともＸ軸方向あるいはＹ軸方向へ駆動するための第１の駆動手段と、前記第１のテーブルおよび前記第２のテーブルをＺ軸方向に駆動するとともに、該第１のテーブル上で該第２のテーブルをＸ軸回り回転方向、Ｙ軸回り回転方向にそれぞれ駆動するための第２の駆動手段」
に訂正する。
（ｂ）特許請求の範囲の請求項２中の
「前記第２のテーブル全体をＺ軸方向に移動させるための第１の駆動機構」
を、
「前記第１のテーブルおよび前記第２のテーブル全体をＺ軸方向に移動させるための第１の駆動機構」
に訂正する。
（ｃ）発明の詳細な説明の「（課題を解決するための手段）」中の（特許公報５欄２２〜２９行及び同欄４３〜５０行の２か所）
「第１のテーブルと、この第１のテーブルに載置され、複数の区画領域面が設定された平面位置決め対象物を載置するための第２のテーブルと、Ｘ軸、Ｙ軸、Ｚ軸から成る直角座標を基準とし、前記第１のテーブルを少なくともＸ軸方向あるいはＹ軸方向へ駆動するための第１の駆動手段と、前記第２のテーブルをＺ軸方向、Ｘ軸回り回転方向、Ｙ軸回り回転方向にそれぞれ駆動するための第２の駆動手段」
を、
「Ｘ軸、Ｙ軸、Ｚ軸から成る直角座標を基準とし、少なくともＸ軸方向あるいはＹ軸方向に移動可能なＸＹテーブルと、このＸＹテーブルに載置される第１のテーブルと、この第１のテーブルに載置され、複数の区画領域面が設定された平面位置決め対象物を載置するための第２のテーブルと、前記ＸＹテーブルを少なくともＸ軸方向あるいはＹ軸方向へ駆動するための第１の駆動手段と、前記第１のテーブルおよび前記第２のテーブルをＺ軸方向に駆動するとともに、該第１のテーブル上で該第２のテーブルをＸ軸回り回転方向、Ｙ軸回り回転方向にそれぞれ駆動するための第２の駆動手段」
に訂正する。
　
２−２．訂正の目的の適否、新規事項の有無及び特許請求の範囲の拡張・変更の存否
　上記（ａ）及び（ｂ）の訂正事項に関連する記載として、特許明細書の発明の詳細な説明の（課題を解決するための手段）中には、「第１のテーブルと、この第１のテーブルに載置され、複数の区画領域面が設定された平面位置決め対象物を載置するための第２のテーブルと、Ｘ軸、Ｙ軸、Ｚ軸から成る直角座標を基準とし、前記第１のテーブルを少なくともＸ軸方向あるいはＹ軸方向へ駆動するための第１の駆動手段と、前記第２のテーブルをＺ軸方向、Ｘ軸回り回転方向、Ｙ軸回り回転方向にそれぞれ駆動するための第２の駆動手段」と記載されており、同じく発明の詳細な説明の（実施例）中には、「第１図に示すようにＸ軸、Ｙ軸、Ｚ軸からなる直角座標を基準としたとき、図示しないＸＹテーブル上にＺ軸方向に移動可能に配置されたテーブル１と、このテーブル１をＺ軸方向に選択的に移動させる第１の駆動機構２と、テーブル１上でＹ軸上に配置された第１の支持機構３と、テーブル１上でＹ軸を境にして対称的な位置にＺ軸方向へ移動可能に配置された第２および第３の支持機構４、５と、第２の支持機構４および第３の支持機構５を選択的にＺ軸方向に移動させる第２の駆動機構６および第３の駆動機構７とで構成されている。・・・一方、支持機構３、４、５の上面には，これらによって３点支持される、ウェハテーブル１１が載置されており、このウェハテーブル１１の上面には平面位置合せ対象物としてのウェハ１２が支持されている。」と記載されている。
　してみれば、「Ｘ軸、Ｙ軸、Ｚ軸から成る直角座標を基準とし、少なくともＸ軸方向あるいはＹ軸方向に移動可能なＸＹテーブルと、このＸＹテーブルに載置される第１のテーブル」、「第１のテーブルおよび第２のテーブルをＺ軸方向に駆動するとともに、該第１のテーブル上で該第２のテーブルをＸ軸回り回転方向、Ｙ軸回り回転方向にそれぞれ駆動するための第２の駆動手段」、「第１のテーブルおよび第２のテーブル全体をＺ軸方向に移動させるための第１の駆動機構」は、特許明細書に記載された事項の範囲内のものである。
　したがって、上記（ａ）及び（ｂ）の訂正事項は、いずれも、特許請求の範囲の減縮を目的とするものであり、新規事項の追加でもなく、特許請求の範囲を実質的に拡張し又は変更するものでもない。
　また、上記（ｃ）の訂正事項は、上記（ａ）の訂正事項により特許請求の範囲を訂正したことに伴う発明の詳細な説明の訂正であるから、明りょうでない記載の釈明を目的とするものであり、新規事項の追加でもなく、特許請求の範囲を実質的に拡張し又は変更するものでもない。
　
２−３．むすび
　以上のとおりであるから、上記訂正は、特許法第１２０条の４第２項及び同条第３項で準用する第１２６条第２項及び第３項の規定に適合するので、当該訂正を認める。
　
３．特許異議申立てについて
３−１．特許異議申立ての概要
（ａ）特許異議申立人キヤノン株式会社は、下記の甲第１〜３号証を提出し、請求項１〜４に係る発明は、甲第１号証に記載された発明と同一、または、甲第１〜３号証に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであり、特許法第２９条第１項第３号または第２９条第２項の規定により特許を受けることができないものであるから、請求項１〜４に係る発明の特許は、特許法第１１３条第１項第２号の規定により取り消されるべきものである旨主張している。
　甲第１号証：実願昭６１−５７４３８号（実開昭６２−１６９３５３号）のマイクロフィルム
　甲第２号証：特開昭５２−５５４７２号公報
　甲第３号証：特開昭５８−１０３１３６号公報
　
（ｂ）特許異議申立人横田貞則は、下記の甲１〜８第号証を提出し、請求項１〜４に係る発明は、甲第１〜８号証に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであり、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないものであるから、請求項１〜４に係る発明の特許は、特許法第１１３条第１項第２号の規定により取り消されるべきものである旨主張している。
　甲第１号証：特開昭５８−１０３１３６号公報
　甲第２号証：米国特許第４５０４１４４号明細書（１９８５年）
　甲第３号証：特開昭６２−２７４２０１号公報
　甲第４号証：「昭和６２年度精密工学会秋季大会学術講演会講演論文集（第１分冊）」（昭和６２年１０月１２日）社団法人精密工学会、３４１〜３４２頁
　甲第５号証：特開昭５２−５５４７２号公報
　甲第６号証：特開昭５８−３０１２８号公報
　甲第７号証：特開昭６３−３６５２６号公報
　甲第８号証：特開昭５９−４７７３１号公報
　
３−２．本件発明
　本件特許３００３８６３号の請求項１ないし４に係る発明は、訂正明細書の特許請求の範囲の請求項１ないし４に記載された事項により特定される次のとおりのものである。
「（１）Ｘ軸、Ｙ軸、Ｚ軸から成る直角座標を基準とし、少なくともＸ軸方向あるいはＹ軸方向に移動可能なＸＹテーブルと、
　このＸＹテーブルに載置される第１のテーブルと、
　この第１のテーブルに載置され、複数の区画領域面が設定された平面位置決め対象物を載置するための第２のテーブルと、
前記ＸＹテーブルを少なくともＸ軸方向あるいはＹ軸方向へ駆動するための第１の駆動手段と、
　前記第１のテーブルおよび前記第２のテーブルをＺ軸方向に駆動するとともに、該第１のテーブル上で該第２のテーブルをＸ軸回り回転方向、Ｙ軸回り回転方向にそれぞれ駆動するための第２の駆動手段と、
　前記平面位置決め対象物の位置決め対象とする前記区画領域面上の少なくとも３個所のＺ軸方向位置を同時に測定するための測定手段と、
　この測定手段の出力信号に基づいて基準平面に対する前記区画領域面上の前記Ｚ軸方向位置誤差量、Ｘ軸回り方向回転誤差量、Ｙ軸回り方向回転誤差量をそれぞれ算出するための算出手段と、
　この算出手段によって得られた前記それぞれの誤差量を零にすべく前記第２の駆動手段に制御信号を与えるための第１の制御手段と、
　この第１の制御手段によって前記位置決め対象とする区画領域面の平面位置決めが完了した後に、次に位置決め対象となる区画領域面を前記測定手段で測定可能な位置に移動すべく前記第１の駆動手段に制御信号を与える第２の制御手段とを備えたことを特徴とする平面位置決め装置。（以下、「本件発明１」という。）
（２）前記第２の駆動手段は、
　前記第１のテーブルおよび前記第２の駆動手段は、前記第２のテーブル全体をＺ軸方向に移動させるための第１の駆動機構と、
　前記第１のテーブル上で前記Ｙ軸上に配置される第１の支持機構と、
　前記第１のテーブル上で前記Ｙ軸を境にして対称な位置に前記Ｚ軸方向へ移動可能に配置された第２および第３の支持機構と、
　前記第２および第３の支持機構を選択的に前記Ｚ軸方向へ移動させるための第２および第３の駆動機構とから成ることを特徴とする請求項１記載の平面位置決め装置。（以下、「本件発明２」という。）
（３）前記第１の制御手段は、
　前記Ｘ軸回り方向回転誤差量と前記Ｙ軸回り方向回転誤差量との基準信号との偏差をそれぞれ求め、前記第２および第３の駆動機構へ当該駆動機構同士の相互の干渉を補償する干渉補償手段を介して信号を出力するように構成されていることを特徴とする請求項２記載の平面位置決め装置。（以下、「本件発明３」という。）
（４）Ｘ軸、Ｙ軸、Ｚ軸から成る直角座標を基準とし、少なくともＸ軸方向あるいはＹ軸方向に移動可能なＸＹテーブルと、このＸＹテーブルに載置される第１のテーブルと、この第１のテーブルに載置され、複数の区画領域面が設定された平面位置決め対象物を載置するための第２のテーブルと、前記ＸＹテーブルを少なくともＸ軸方向あるいはＹ軸方向へ駆動するための第１の駆動手段と、前記第１のテーブルおよび前記第２のテーブルをＺ軸方向に駆動するとともに、該第１のテーブル上で該第２のテーブルをＸ軸回り回転方向、Ｙ軸回り回転方向にそれぞれ駆動するための第２の駆動手段と、前記平面位置決め対象物の位置決め対象とする前記区画領域面上の少なくとも３個所の位置を同時に測定するための測定手段と、この測定手段の出力信号に基づいて基準平面に対する前記Ｚ軸方向位置誤差量、Ｘ軸回り方向回転誤差量、Ｙ軸回り方向回転誤差量をそれぞれ算出するための算出手段とを備えた平面位置決め装置を用いて平面位置決め対象物の位置決めを行う平面位置決め方法において、
　前記複数の区画領域面のうち位置決め対象とする区画領域面を前記測定手段で測定可能な位置まで、前記第１の駆動手段によって前記第１のテーブルを移動させて移動する工程と、
　前記位置決め対象とする区画領域面上の少なくとも３個所の位置を前記測定手段よって同時に測定する工程と、
　この測定結果に基づいて基準平面に対する前記Ｚ軸方向位置誤差量、Ｘ軸回り方向回転誤差量、Ｙ軸回り方向回転誤差量をそれぞれ算出する工程と、
　この算出結果によって得られた前記それぞれの誤差量を零にすべく前記第２の駆動手段に制御信号を与えて前記位置決め対象とする区画領域面を位置決めする工程と、
　この位置決めされた前記区画領域面に所定の処理を施す工程と、
　この所定の処理が完了した後に、前記複数の区画領域面の中の次の位置決め対象とする区画領域面が前記測定手段で測定可能な位置まで、前記第１の駆動手段によって前記第１のテーブルを移動させるようにして順次上記工程を繰返す工程とを備えていることを特徴とする平面位置決め方法。（以下、「本件発明４」という。）」
　
３−３．各甲号証刊行物記載の発明
（ａ）特許異議申立人キヤノン株式会社が提出した甲第１号証（実願昭６１−５７４３８号（実開昭６２−１６９３５３号）のマイクロフィルム）には、次の事項が図面とともに記載されている。
「縮小投影露光装置において、ウエハを面内（以下ＸＹ方向と記す）に移動し、かつその位置を計測する手段と、該ウエハと露光光学系の焦点面との変位を、一括露光領域を複数個に分割した各領域の代表点において光学的に計測する手段と、該ウエハ表面を該焦点面に合致させるために、該ウエハを一様に光軸方向（以下Ｚ方向と記す）に駆動する手段と、前記複数領域に対応して設けられ、独立にＺ方向に駆動することにより該ウエハを傾ける手段とから成り、ウエハ上における当該ショットの露光位置に応じて前記Ｚ方向の計測手段と駆動手段とを選択的に組合せて焦点調整するように構成したことを特徴とする焦点調整装置。」（実用新案登録請求の範囲）
「第１図は一般的な縮小投影露光装置の側面図に相当し、投影レンズ１により原画像がウエハ２上に転写される。一方該ウエハ２はＸＹ移動３の最上部であるトップテーブル４に取付られたチャック５に吸着され、図示を省略したＸＹ測長、駆動手段により前記原画像の配列を得るべくステップ駆動される。前記トップテーブル４は移動台上部に対しくさび６を介して支持され、ＤＣモータ７により回転駆動される送りねじ８による回転−直線変換、くさび６の勾配による方向変換により光軸方向（Ｚ方向）に一様に駆動される。また、前記ＸＹ移動台３の最下部は投影レンズ１の光軸中心線上において鋼球９により基盤１０に対し回転自在に支持され、圧縮ばね１１ａ，１１ｂによって圧電棒１２ａ，１２ｂの長さに見合った傾きでつりあうため、圧電棒の印加電圧制御により傾きを制御できる。次に、投影レンズ１の焦点面とウエハ表面との変位を計測するための光学系について説明する。光源１３を出た光は集光レンズ１４により長方形穴の孔いたスリット１５を照射し、透過した光は集光レンズ１６，ミラー１７によりウエハ２の表面を照射し、正反射光はミラー１８，対物レンズ１９により２分割センサ２０上にスリット像２１を投影する。２分割センサ２０は第２図に示す像領域ｌＲ ，ｌＬ の差に相当する電気信号を送出する。上記光学系は第３図に示す一括露光領域２２を分割した４領域を代表する計測点２３ａ〜２３ｄにおいて変位計測するために、図示の如くウエハ面計測光学系２４ａ〜２４ｄとして投影レンズ１の周囲に同体に支持される。（詳細図示せず）。なお第３図に示すように計測点２３ａはウエハ面計測光学系２４ａ，２分割センサ２０ａ，そして圧電棒１２ａに対応し、以下ｂ〜ｄについても同様に構成されている。」（明細書第４頁第３行〜第５頁第１６行）
「焦点調整開始状態においてウエハ表面は焦点面の下方にあるため前記正反射光は第１図点線の如く２分割センサ２０ａに入射し、第２図のｌＲ ＞＞ｌＬ から大なる差信号を送出する。増幅器２５ａにより増幅された信号は中央処理装置２６により切換られるスイッチ３１，２７Ａを経て増幅器２８Ａにより電力増幅され、ＤＣモータ７を駆動することによりウエハ表面を一様に焦点面に近づける。この間、スイッチ２７ａ〜２７ｄは図示側にあるため比較器２９ａ，２９ｄへの入力は零に近く、圧電棒１２ａ，１２ｄはほぼ静止状態にある。Ａ／Ｄ変換器３０Ａを経て監視される前記差信号が一定範囲内に入ったとき、中央処理装置２６はスイッチ２７Ａ，２７ａ〜２７ｄを全て反転し、ＤＣモータ７を静止状態にする。また比較器２９ａ，２９ｂには２分割センサ２０ａと２０ｃ及び２０ｂと２０ｄの信号が入力され、各々の差信号が零に近づくよう、即ち計測点２３ａと２３ｃ及び２３ｂと２３ｄにおける変位が各々等しくなるように、圧電棒１２ａ，１２ｂを制御する。Ａ／Ｄ変換器３０ａ，３０ｂを経て監視される前記差信号が一定範囲に入ったとき、前記スイッチ群は再び反転され、レベリングによって発生した計測点２３ａの変位を再び一定範囲に入れるようＤＣモータ７を仕上駆動し、１ショット分の露光を実行する。・・・差信号が零に近づくよう制御される。」（明細書第５頁第１７行〜第７頁第１２行）
「以上の実施例において、レベリング用の圧電棒は、モータと差動ねじによる回転−直線変換手段等に容易に置換えうる。また圧電棒をトップテーブルやチャック部に設ける方法や、圧電棒と鋼球、ばね等の一式に換えて、台の四隅においてエアベアリングで支持とて上下面圧力制御によりレベリングするなどの方法もあるが、アクチュエータ間の混信を避け、独立的に駆動できる面で本考案が好ましい。」（明細書第７頁第１６行〜第８頁第４行）
　同甲第２号証（特開昭５２−５５４７２号公報）には、次の事項が図面とともに記載されている。
「光ビームを放射するための光源と、マスクと、光学系と、試料ホルダーを支持するための手段を有する台と、モータ機構と、コンピュータとを備え・・・試料ホルダー支持手段は電気的制御入力端子を有する少なくとも３本の圧電棒と、前記試料と前記光学系の前面との間の距離を検出し、かつ前記圧電棒の前記入力端子に制御信号を与えるために前記光学系に連結される空気センサとを備えることを特徴とするマスクホトレピータ装置。」（特許請求の範囲）
「レンズは空気センサと一体であり、露光のたびに、記録すべき領域の中心をレンズにより投写される映像の中心に合わせ、かつ前記領域の面を前記映像の面に合わせるために、前記空気センサから電圧を受ける少くとも３本の圧電棒によってホルダーは台の上に支持される。」（２頁右上欄１０〜１５行）
「パイプ群６が設けられている試料ホルダ５は、圧電セラミックを積重ねて形成された圧電棒アセンブリ７により、台８の上に支持される。この台８の動きはモータ機構９により制御される。・・・図には３本の圧電棒７が示されているがそれより多くの圧電棒を設けることもできる。・・・試料の種々の領域をレンズ３に向い合わせるために、台８はモーター機構９により動かされる。」（２頁左下欄４〜２０行）
「４個の作動空気センサにより与えられる４種類の圧力・・・それらの誤差電圧は増幅器２０１、２０２、２０３で増幅されてから３本の圧電棒７に加えられる。」（３頁右上欄１４行〜左下欄１２行）
　同甲第３号証（特開昭５８−１０３１３６号公報）には、次の事項が図面とともに記載されている。
「対向するマスクとウエハとを近接してマスクのパターンをウエハ上に転写する露光装置において、・・・を特徴とするギャップ設定装置。」（特許請求の範囲）
「第２図は本発明の実施例であって、マスク５１を真空吸着によって保持するマスクホルダー５２は、・・・一方、ウエハ６０を保持するウエハホルダー６１は、３個の調節ねじ６２Ａ、６２Ｂ、６２Ｃ（・・・）と引張ばね６３によって保持されており、このウエハホルダー６１の高さおよび傾斜は、３個の調節ねじ６２Ａ、６２Ｂ、６２Ｃにそれぞれ接続された３個のモーター６４Ａ、６４Ｂ、６４Ｃ（・・・）によって、コンピューター５８の指令に応じてインターフェース５７を介して調整されるように構成されている。この３個の調節ねじ６２Ａ、６２Ｂ、６２Ｃを介してウエハホルダー６１を支持するＸＹステージ６５はまた、ベヤリング６６を介して基準面としてのベース６７上に載置されており、コンピューター５８の指令により、インターフェース５７を介してＸＹ方向の任意の位置に移動し得るように構成されている・・・マスクステージ５５とベース６７とは機械的に一体に構成されている。」（３頁右上欄８〜右下欄１３行）
「次に、ウエハ６０にマスク５１のパターンをくり返し露光していく場合・・・各露光領域毎にウエハ６０の転写面の近似平面を求めて、マスク５１の近似平面と平行にする。」（６頁左上欄１〜７行）
「以上の計算をコンピューター５８で行い・・・以降については、第１露光領域６９にて行ったことをくり返して行えば良い。」（７頁左上欄８〜１９行）
「なお、第２図においては、・・・少なくとも３個のギャップセンサーで同時に計測するように構成することによって・・・時間を短縮できる。」（８頁左上欄１〜８行）
　
（ｂ）特許異議申立人横田貞則が提出した甲第１号証（特開昭５８−１０３１３６号公報）は、特許異議申立人キヤノン株式会社が提出した甲第３号証と同じであるから上記「３−３．（ａ）」に示した事項が図面とともに記載されている。
　同甲第２号証（米国特許第４５０４１４４号明細書（１９８５年））には、おおよそ次の事項が図面とともに記載されている。
「ステップアンドリピート投影システムは・・・それぞれのウエハのサブフィールドについて、そのサブフィールドの露光の前に、フォーカスと傾きを修正することができる。」（１欄３３〜３６行参照）
「この発明の実施例では、ウエハ１１は、サーボモータのアクチュエータが取りつけられたテーブルあるいはステージ（不図示）の表面に固定される。ウエハ１１のサブフィールド１１ａの中心Ｐは図１に示されるＸ、Ｙ座標によって規定される・・・この発明における装置はサブフィールドを変化させるので、これらＸ、Ｙ座標が変化する。」（２欄１３〜２２行参照）
「値θｘとθｙは、サブフィールド１１ａのＸ軸とＹ軸に関して傾き誤差の程度を表す。・・・焦点面からサブフィールド１１ａが変位された距離は、変数ｆによって表される。３つのエラー信号θｘ、θｙ、ｆを代表する信号が利用可能だとしたら、これらはサーボモータＺ１、Ｚ２、Ｚ３の３つのコマンドに変換されるに違いない。これらの量についての代数式は以下の通りである。・・・サーボモータＺ１、Ｚ２とＺ３に対応するアクチュエータはそれぞれのサブフィールドについての傾きとフォーカスの連続的な修正を与える。」（２欄３９〜６８行参照）
「実施例中で、ウエハを保持するステージは、・・・ＸＹ方向でのステージの移動は、センサによって検出される。センサはよく知られた基準からＸＹ方向でのステージの距離に比例した電圧を与える。」（３欄２４〜３０行参照）
「エラー信号θｘ、θｙ、ｆの各々は、コンポーネント３３によって与えられ、コンポーネント３３はスルーザレンズ光学検出システム３５の一部を形成する。本発明のスルーザレンズ光学検出システム３５は、サブフィールドの周辺近傍の異なる３ヶ所でフォーカスを測ることによってエラー信号θｘ、θｙとｆを得るように機能する。図３に示されるように・・・場所ａ、ｂにおいてのフォーカスエラー信号間の相違は、Ｘ軸に関する傾きの測定値であり、θｘエラー信号を供給する。場所ｂ、ｃにおいてのフォーカスエラー信号間の相違は、Ｙ軸に関する傾きの測定値であり、θｙエラー信号を供給する。場所ａ、ｂ、ｃにおいてのフォーカスエラーの和は、サブフィールド１１ａのフォーカスエラーの計測値であり、フォーカスエラー信号ｆを供給する。図４は・・・論理回路を示す。その論理回路は・・・加算回路３８を含む。」（３欄５７行〜４欄１３行参照）
「第２ビームスプリッタ４３は、このシステムの焦点面近傍に配置されている。・・・２つの検出器４４と４５だけが示されているが、３つの領域ａ、ｂ、ｃの各々について、１組あることに留意すべきである。」（４欄２５〜３６行参照）
「３つのフォーカスエラー信号ａ、ｂとｃは、サブフィールドのフォーカスと傾きを修正するために図２の回路で使われるエラー信号θｘ、θｙとｆを供給するために、図３を参照して上述したように処理される。・・・露光の後に、ステップアンドリピートシステムで、同じプロセスは次のサブフィールドのために繰り返される。」（４欄５８行〜５欄８行参照）
　同甲第３号証（特開昭６２−２７４２０１号公報）には、次の事項が図面とともに記載されている。
「さて露光すべきウエハＷは基準平面Ｒに対して任意方向に傾斜可能なレベリングステージ２上にウエハチャック（不図示）を介して保持される。レベリングステージ２はＺステージ４上に設けられており、Ｚステージ４は基準平面Ｒに沿ってＸ、Ｙ方向に移動するＸＹステージ６上に設けられている。Ｚステージ４はＸＹステージ６に対してＺ方向（光軸ＡＸ方向）にのみ移動するように構成され・・・平面鏡８が設けられている。」（３頁右上欄９〜２０行）
「さてレベリングステージ２には放射方向に伸びた３つのアーム部２ａ、２ｂ、２ｃが一体に設けられている。アーム部２ａ、２ｂ、２ｃはレベリングステージ２のウエハ載置中心に関して約１２０°の角度で配置され・・・基準平面Ｒにほぼ一致するように配置されている。」（３頁左下欄１９行〜右下欄６行）
「さてアーム部２ａの下部には・・・このように３ヶ所に設けられたモータを任意に駆動することによって、レベリングステージ２を任意の方向に傾斜させることができる。」（４頁左上欄６行〜右上欄１行）
　同甲第４号証（「昭和６２年度精密工学会秋季大会学術講演会講演論文集（第１分冊）」（昭和６２年１０月１２日）社団法人精密工学会、３４１〜３４２頁）には、次の事項が図面とともに記載されている。
「５．６軸微動機構の干渉変位　　図６は６軸微動機構でＸ軸並進機構をストローク１０μｍまで一往復動作させた時の各軸に生じる変位を示す。図よりＺ軸回転の干渉変位θｚは、ほぼ零であるが、Ｚ軸並進の干渉変位Ｕｚに約０．０６μｍ、Ｙ軸回転の干渉変位θｙに約５μｒａｄの干渉量を生じている。これは単軸機構で補償しきれなかった変位量である。しかしその干渉変位がほぼ直線的に変位しているため、干渉特性を補償する行列を求め、それを使い０．０２μｍ、１μｒａｄの精度に位置決め出来た。」（３４２頁２０〜３８行）
　同甲第５号証（特開昭５２−５５４７２号公報）は、特許異議申立人キヤノン株式会社が提出した甲第２号証と同じであるから上記「３−３．（ａ）」に示した事項が図面とともに記載されている。
　同甲第６号証（特開昭５８−３０１２８号公報）には、次の事項が図面とともに記載されている。
「本発明は半導体集積回路等を形成するウエハ等の板材を高精度に保持するウエハのチャック装置に関するものである。」（１頁右下欄９〜１１行）、
「第４図に本発明の一実施例を示す。ベース２０上に３ケ所円周上に配置したピエゾ微動上下機構（以下微動機構２１と称す）、該微動機構２１に周囲を支持されたウエハチャック１、該ウエハチャック１をベース２０に引きつけるバネ２２、ウエハチャック用真空管路１１、ピエゾコントローラ２３、ウエハ面９位置を検出する円周上に配置された３個の静電容量型検出器２４及び該検出器２４の検出値から各微動機構２１の微動量を演算し、ピエゾコントローラ２３を動かすメインコントローラ２５からなる。」（２頁右下欄９〜１９行）、
「微動機構は３ケ所供動く必要はなく、２ケ所のみ個々に微動するようにしてもよい。この場合は第５図のように上下動機構１２が別に必要となるがチャックに対する構剛性は１ケ所の支柱が固定されることにより向上する。又この場合、微動量は式（４）でＣＭ −ＣＷ の項を上下動機構１２が調節し、（ＡＭ −ＡＷ ）Ｘ＋（ＢＭ −ＢＷ ）Ｙを微動機構が調節する。」（３頁右上欄１４行〜左下欄１行）
　同甲第７号証（特開昭６３−３６５２６号公報）には、次の事項が図面とともに記載されている。
「ウエハ表面における露光領域の複数点に光線を照射し、その光線の反射光に基づき前記複数点の上下位置に関する信号を得てその信号を出力する露光領域測定部と・・・ウエハ露光装置。」（特許請求の範囲）
「また、露光領域５０の中心の上下位置は・・・露光領域測定部５５により露光領域５０の複数点の上下位置の測定を行う。」（４頁右上欄３〜８行）
　同甲第８号証（特開昭５９−４７７３１号公報）には、次の事項が図面とともに記載されている。
「レテイクルパターンを光学系を介して物品の感光面に結像させて露光する投影露光装置における・・・露光エリアの周辺部および中央部等複数箇所の位置を検出し、その検出に基いて制御部で演算処理して相対的な物品の位置を修正する・・・オートフォーカス機構。」（特許請求の範囲）
「そこで、前記光検出機構８では、第３図で示すように、単一露光エリア９の中心の中心領域１０および４隅の隅領域１１の感光面高さ（位置）を検出する・・・受光部１３は各受光器１６の位置情報を制御部７に送る。」（２頁右下欄４〜１８行）
　
３−４．対比・判断
（ａ）本件発明１について
　本件発明１と特許異議申立人キヤノン株式会社の提出した甲第１号証に記載された発明を対比する。
（ア）甲第１号証記載の「ＸＹ移動台３とくさび６との間に配置されＸＹ移動台３に当接している部材」、「くさび６を介して支持される移動台上部」が、それぞれ、本件発明１の「ＸＹテーブル」、「第１のテーブル」に相当し、また、甲第１号証記載の「トップテーブル４」が本件発明１の「第２のテーブル」に相当する。
（イ）甲第１号証の「図示を省略したＸＹ測長、駆動手段により前記原画像の配列を得るべくステップ駆動される」との記載からみて、甲第１号証記載のものも本件発明１でいう「ＸＹテーブルを少なくともＸ軸方向あるいはＹ軸方向へ駆動するための第１の駆動手段」及び「位置決め対象とする区画領域面の位置決めが完了した後に、次に位置決め対象となる区画領域面を移動すべく第１の駆動手段に制御信号を与える第２の制御手段」を備えていることは明らかである。
（ウ）甲第１号証記載の「ウエハ面計測光学系２４ａ〜ｄ」は区画領域面上の４個所のＺ軸方向位置を同時に測定しているから、本件発明１の「少なくとも３個所のＺ軸方向位置を同時に測定する測定手段」に相当する。また、甲第１号証記載のものにおいては、２分割センサ２０ａの出力により該出力が零となるようにＤＣモータ７によりくさび６が駆動されることから、甲第１号証記載の「２分割センサ２０ａ」が本件発明１の「Ｚ軸方向位置誤差量を算出するための算出手段」に相当する。そして、甲第１号証記載のものにおいては、くさび６の駆動によりトップテーブル４のみがＺ軸方向に駆動され、比較器２９ａの出力が第３図の圧電棒１２ｂ−圧縮ばね１１ｂを結ぶ軸回りの回転誤差量に対応するものであって、この誤差量を零にすべく圧電棒１２ａが駆動され、比較器２９ｂの出力が圧電棒１２ａ−圧縮ばね１１ａを結ぶ軸回りの回転誤差量に対応するものであって、この誤差量を零にすべく圧電棒１２ｂが駆動されている。
　上記（ア）〜（ウ）の考察から、両者は、「Ｘ軸、Ｙ軸、Ｚ軸から成る直角座標を基準とし、少なくともＸ軸方向あるいはＹ軸方向に移動可能なＸＹテーブルと、第１のテーブルと、この第１のテーブルに載置され、複数の区画領域面が設定された平面位置決め対象物を載置するための第２のテーブルと、前記ＸＹテーブルを少なくともＸ軸方向あるいはＹ軸方向へ駆動するための第１の駆動手段と、前記平面位置決め対象物の位置決め対象とする前記区画領域面上の少なくとも３個所のＺ軸方向位置を同時に測定するための測定手段と、この測定手段の出力信号に基づいて基準平面に対する前記区画領域面上の前記Ｚ軸方向位置誤差量、２つの軸の軸回り方向回転誤差量をそれぞれ算出するための算出手段と、この算出手段によって得られた前記それぞれの誤差量を零にすべく駆動手段に制御信号を与えるための第１の制御手段と、前記位置決め対象とする区画領域面の平面位置決めが完了した後に、次に位置決め対象となる区画領域面を前記測定手段で測定可能な位置に移動すべく前記第１の駆動手段に制御信号を与える第２の制御手段とを備えた平面位置決め装置」である点で一致し、次の２つの点で相違する。
　相違点１：軸回り方向回転誤差量を算出する２つの軸が、本件発明１では、Ｘ軸、Ｙ軸であるのに対し、甲第１号証記載のものでは、圧電棒１２ｂ−圧縮ばね１１ｂを結ぶ軸、圧電棒１２ａ−圧縮ばね１１ａを結ぶ軸である点。
　相違点２：本件発明１は、ＸＹテーブルに載置される第１のテーブルと、第１のテーブルおよび第２のテーブルをＺ軸方向に駆動するとともに、第１のテーブル上で該第２のテーブルを２つの軸回り回転方向にそれぞれ駆動するための第２の駆動手段とを備えるのに対して、甲第１号証記載のものにおいては、ＸＹテーブルと第１のテーブルとは駆動手段を介さずに設けられており、第１のテーブルおよび第２のテーブル（甲第１号証記載のトップテーブル４）を含むＸＹ移動台の最下部を、２つの軸のそれぞれの軸回り回転方向に駆動するとともに、第１のテーブル上で第２のテーブル（甲第１号証記載のトップテーブル４）をＺ軸方向に駆動する駆動手段を備える点。
　上記相違点について検討するに、相違点１については、甲第１号証記載の圧電棒１２ｂ−圧縮ばね１１ｂを結ぶ軸、圧電棒１２ａ−圧縮ばね１１ａを結ぶ軸も、１平面内の異なる２軸であるから、２つの軸について実質的な差異はない。
　しかしながら、相違点２については、本件発明１が、第１のテーブルおよび第２のテーブルをＺ軸方向に駆動するとともに、第１のテーブル上で該第２のテーブルを２つの軸回り回転方向にそれぞれ駆動するのに対して、甲第１号証記載のものは、第１のテーブルおよび第２のテーブルを、２つの軸のそれぞれの軸回り回転方向に駆動するとともに、第１のテーブル上で第２のテーブルをＺ軸方向に駆動することから、両者の駆動手段は基本的に構成を異にするものである。したがって、甲第１号証記載の第１のテーブルおよび第２のテーブルを、２つの軸のそれぞれの軸回り回転方向に駆動するとともに、第１のテーブル上で第２のテーブルをＺ軸方向に駆動する駆動手段を適用したとしても、該駆動手段を本件発明のごとく第１のテーブルおよび第２のテーブルをＺ軸方向に駆動するとともに、第１のテーブル上で該第２のテーブルを２つの軸回り回転方向にそれぞれ駆動するごとく構成することは、当業者にとって自明の事項でもなく、容易になし得る事項でもない。
　なお、上記甲第１号証には、圧電棒をトップテーブル（本件発明１の第２のテーブルに相当）に設ける方法もある旨記載されているものの、圧電棒と鋼球とばねをトップテーブルに設ける具体的構成が記載されておらず、前記記載からみて自明な構成であるともいえない。
　また、上記相違点２にかかる構成については、特許異議申立人キヤノン株式会社、横田貞則の提出した各甲号証のいずれにも記載されていない。すなわち、特許異議申立人キヤノン株式会社の提出した甲第２号証（特許異議申立人横田貞則の提出した甲第５号証）、甲第３号証（特許異議申立人横田貞則の提出した甲第１号証）、特許異議申立人横田貞則の提出した甲第２号証記載のものは、いずれもＸＹテーブルに載置されるテーブルは１つしかなく、第１のテーブル上でさらに第２のテーブルを駆動する本件発明１とは明らかに異なり、特許異議申立人横田貞則の提出した甲第４号証記載の６軸微動機構は３軸回転機構を有するものであって、２つの軸のそれぞれの軸回り回転方向に回転させる本件発明１とは明らかに異なり、特許異議申立人横田貞則の提出した甲第７、８号証にはテーブルの駆動手段が明記されていない。特許異議申立人横田貞則の提出した甲第３号証、甲第６号証（第５図の実施例）には、第１のテーブルおよび第２のテーブルをＺ軸方向に駆動し、第１のテーブル上で第２テーブルを駆動する形式のものが記載されているが、特許異議申立人横田貞則の提出した甲第３号証には、３ヶ所に設けられたモータを任意に駆動することによって、レベリングステージ２（本件発明１の第２のテーブルに相当）を任意の方向に傾斜させることができると記載されているだけであって、第２のテーブルを２つの軸のそれぞれの軸回り回転方向に駆動する点が記載されておらず示唆もされてない。特許異議申立人横田貞則の提出した甲第６号証には、式（４）でＣＭ −ＣＷ の項を上下動機構１２が調節し、（ＡＭ −ＡＷ ）Ｘ＋（ＢＭ −ＢＷ ）Ｙを微動機構が調節することが記載されているだけであって、第２のテーブルを２つの軸のそれぞれの軸回り回転方向に駆動する点が記載されておらず示唆もされてない。
　そして、本件発明１は、明細書記載の顕著な効果を奏するものである。
　したがって、本件発明１は、特許異議申立人キヤノン株式会社が提出した甲第１号証に記載された発明と同一であるとも、特許異議申立人キヤノン株式会社、横田貞則が提出した上記各甲号証に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるともいえない。
　
（ｂ）本件発明２、本件発明３について
　本件発明２は、本件発明１を引用してさらに限定したものであり、本件発明３は、本件発明２を引用してさらに限定したものであるから、本件発明２、３は、上記本件発明１と同様の理由により、特許異議申立人キヤノン株式会社が提出した甲第１号証に記載された発明と同一でもなく、特許異議申立人キヤノン株式会社、横田貞則が提出した上記各甲号証に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものでもない。
　
（ｃ）本件発明４について
　本件発明４は、本件発明１を方法の発明で表現したものであるから、本件発明１と同様の理由により、特許異議申立人キヤノン株式会社が提出した甲第１号証に記載された発明と同一でもなく、特許異議申立人キヤノン株式会社、横田貞則が提出した上記各甲号証に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものでもない。
　なお、当審が通知した取消しの理由に引用した刊行物１、刊行物２は、それぞれ、特許異議申立人キヤノン株式会社が提出した甲第１号証、特許異議申立人横田貞則が提出した甲第６号証と同一であり、該各甲号証記載の発明に基づいて本件発明１〜４が容易に発明をすることができたものであるともいえないのは上記のとおりであるから、取消理由は解消している。
　
３−５．むすび
　以上のとおりであるから、特許異議申立ての理由及び証拠によっては本件発明１ないし４についての特許を取り消すことはできない。
　また、他に本件発明１ないし４についての特許を取り消すべき理由を発見しない。
　よって、結論のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１３年９月１３日（２００１．９．１３）
【訂正の要旨】
（ａ）特許請求の範囲の請求項１及び請求項４中の
「第１のテーブルと、この第１のテーブルに載置され、複数の区画領域面が設定された平面位置決め対象物を載置するための第２のテーブルと、Ｘ軸、Ｙ軸、Ｚ軸から成る直角座標を基準とし、前記第１のテーブルを少なくともＸ軸方向あるいはＹ軸方向へ駆動するための第１の駆動手段と、前記第２のテーブルをＺ軸方向、Ｘ軸回り回転方向、Ｙ軸回り回転方向にそれぞれ駆動するための第２の駆動手段」
を、
「Ｘ軸、Ｙ軸、Ｚ軸から成る直角座標を基準とし、少なくともＸ軸方向あるいはＹ軸方向に移動可能なＸＹテーブルと、このＸＹテーブルに載置される第１のテーブルと、この第１のテーブルに載置され、複数の区画領域面が設定された平面位置決め対象物を載置するための第２のテーブルと、前記ＸＹテーブルを少なくともＸ軸方向あるいはＹ軸方向へ駆動するための第１の駆動手段と、前記第１のテーブルおよび前記第２のテーブルをＺ軸方向に駆動するとともに、該第１のテーブル上で該第２のテーブルをＸ軸回り回転方向、Ｙ軸回り回転方向にそれぞれ駆動するための第２の駆動手段」
に訂正する。
（ｂ）特許請求の範囲の請求項２中の
「前記第２のテーブル全体をＺ軸方向に移動させるための第１の駆動機構」
を、
「前記第１のテーブルおよび前記第２のテーブル全体をＺ軸方向に移動させるための第１の駆動機構」
に訂正する。
（ｃ）発明の詳細な説明の「（課題を解決するための手段）」中の（特許公報５欄２２〜２９行及び同欄４３〜５０行の２か所）
「第１のテーブルと、この第１のテーブルに載置され、複数の区画領域面が設定された平面位置決め対象物を載置するための第２のテーブルと、Ｘ軸、Ｙ軸、Ｚ軸から成る直角座標を基準とし、前記第１のテーブルを少なくともＸ軸方向あるいはＹ軸方向へ駆動するための第１の駆動手段と、前記第２のテーブルをＺ軸方向、Ｘ軸回り回転方向、Ｙ軸回り回転方向にそれぞれ駆動するための第２の駆動手段」
を、
「Ｘ軸、Ｙ軸、Ｚ軸から成る直角座標を基準とし、少なくともＸ軸方向あるいはＹ軸方向に移動可能なＸＹテーブルと、このＸＹテーブルに載置される第１のテーブルと、この第１のテーブルに載置され、複数の区画領域面が設定された平面位置決め対象物を載置するための第２のテーブルと、前記ＸＹテーブルを少なくともＸ軸方向あるいはＹ軸方向へ駆動するための第１の駆動手段と、前記第１のテーブルおよび前記第２のテーブルをＺ軸方向に駆動するとともに、該第１のテーブル上で該第２のテーブルをＸ軸回り回転方向、Ｙ軸回り回転方向にそれぞれ駆動するための第２の駆動手段」
に訂正する。
（５４）【発明の名称】
平面位置決め装置および方法
（５７）【特許請求の範囲】
（１）　
Ｘ軸、Ｙ軸、Ｚ軸から成る直角座標を基準とし、少なくともＸ軸方向あるいはＹ軸方向に移動可能なＸＹテーブルと、
　
このＸＹテーブルに載置される
　この第１のテーブルに載置され、複数の区画領域面が設定された平面位置決め対象物を載置するための第２のテーブルと、
　
前
ＸＹ
　
前記第１のテーブルおよび
に駆動するとともに、該第１のテーブル上で該第２のテーブルを
　前記平面位置決め対象物の位置決め対象とする前記区画領域面上の少なくとも３個所のＺ軸方向位置を同時に測定するための測定手段と、
　この測定手段の出力信号に基づいて基準平面に対する前記区画領域面上の前記Ｚ軸方向位置誤差量、Ｘ軸回り方向回転誤差量、Ｙ軸回り方向回転誤差量をそれぞれ算出するための算出手段と、
　この算出手段によって得られた前記それぞれの誤差量を零にすべく前記第２の駆動手段に制御信号を与えるための第１の制御手段と、
　この第１の制御手段によって前記位置決め対象とする区画領域面の平面位置決めが完了した後に、次に位置決め対象となる区画領域面を前記測定手段で測定可能な位置に移動すべく前記第１の駆動手段に制御信号を与える第２の制御手段とを備えたことを特徴とする平面位置決め装置。
（２）　前記第２の駆動手段は、
　
前記第１のテーブルおよび
　前記第１のテーブル上で前記Ｙ軸上に配置される第１の支持機構と、
　前記第１のテーブル上で前記Ｙ軸を境にして対称な位置に前記Ｚ軸方向へ移動可能に配置された第２および第３の支持機構と、
　前記第２および第３の支持機構を選択的に前記Ｚ軸方向へ移動させるための第２および第３の駆動機構とから成ることを特徴とする請求項１記載の平面位置決め装置。
（３）　前記第１の制御手段は、
　前記Ｘ軸回り方向回転誤差量と前記Ｙ軸回り方向回転誤差量との基準信号との偏差をそれぞれ求め、前記第２および第３の駆動機構へ当該駆動機構同士の相互の干渉を補償する干渉補償手段を介して信号を出力するように構成されていることを特徴とする請求項２記載の平面位置決め装置。
（４）　
Ｘ軸、Ｙ軸、Ｚ軸から成る直角座標を基準とし、少なくともＸ軸方向あるいはＹ軸方向に移動可能なＸＹテーブルと、このＸＹテーブルに載置される
と、前
ＸＹ
前記第１のテーブルおよび
に駆動するとともに
該第１のテーブル上で該第２のテーブルを
　前記複数の区画領域面のうち位置決め対象とする区画領域面を前記測定手段で測定可能な位置まで、前記第１の駆動手段によって前記第１のテーブルを移動させて移動する工程と、
　前記位置決め対象とする区画領域面上の少なくとも３個所の位置を前記測定手段によって同時に測定する工程と、
　この測定結果に基づいて基準平面に対する前記Ｚ軸方向位置誤差量、Ｘ軸回り方向回転誤差量、Ｙ軸回り方向回転誤差量をそれぞれ算出する工程と、
　この算出結果によって得られた前記それぞれの誤差量を零にすべく前記第２の駆動手段に制御信号を与えて前記位置決め対象とする区画領域面を位置決めする工程と、
　この位置決めされた前記区画領域面に所定の処理を施す工程と、
　この所定の処理が完了した後に、前記複数の区画領域面の中の次の位置決め対象とする区画領域面が前記測定手段で測定可能な位置まで、前記第１駆動手段によって前記第１のテーブルを移動させるようにして順次上記工程を繰返す工程とを備えていることを特徴とする平面位置決め方法。
【発明の詳細な説明】
［発明の目的］
（産業上の利用分野）
　本発明は、半導体露光装置、半導体検査装置、超精密加工装置などに組込むのに好適な平面位置決め装置に関する。
（従来の技術）
　周知のように、光ステッパを用いて半導体装置を製造するときには、露光するウェハ面を投影レンズの光軸に対して直角に、かつ結像位置に正確に位置決めする必要がある。
　ところで、上記のようにウェハ面を投影レンズの光軸に対して直角に位置決めするための、いわゆる平面位置決め装置としては、従来、次のようなものが考えられている。すなわち、代表的なものとして、特開昭５９−１２９６３６号公報に示されている装置を挙げることができる。この公報に示されている装置では、Ｘ方向に設けた１組の送り機構と、Ｙ方向に設けた２組の送り機構と、Ｚ方向に設けた３組の送り機構とを有し、これら６組の送り機構とステージとの間に、各送り機構の送り方向の力のみを伝達して送り方向以外の動きを許容する伝動部材を介装し、６組の送り機構がそれぞれ独立してステージを直接的に駆動できるように構成している。そして、実際にウェハ面を投影光学系の焦点面に合わせるには、静電容量型近接センサを使ってウェハ面上に設定された９個所の位置を測定し、これら９個所の位置と焦点位置との間のずれ量を求め、これからウェハ全体の近似平面と投影光学系の焦点面との間のずれ量および傾き量を求める。このようにして得られたずれ量および傾き量に基づいて前述したＺ方向の３組の送り機構を制御してウェハ全体の近似平面を投影光学系の焦点面に合わせるようにしている。
　しかしながら、このように構成された装置にあっても次のような問題があった。すなわち、スループットを向上させるためには、１枚のウェハから複数個のチップが得られるように大口径のウェハを用いる必要がある。このように口径の大きいウェハでは、一般に表面の平坦度を上げることが困難で、僅かではあるが反り等の発生している場合が多い。一方、微細なパターンをウェハ上に転写するには、投影光学系の光源として波長の短いものを用いるか、あるいは投影光学系における投影レンズの開口数を大きくする必要がある。しかし、これらの方法は、投影レンズの焦点深度の低下を招く。
　上述した説明から判るように、スループットを向上させるには反りなどが存在している大口径のウェハを用いる必要がある。また、ウェハ上に微細なパターンを転写するには投影光学系の光源として波長の短いものを用いるか、あるいは投影レンズの開口数を大きくする必要があり、それに伴って投影レンズの焦点深度の低下を招く。このように焦点深度の浅い状態でパターンを転写した場合には、ウェハ表面位置が僅かに変化した場合でも転写精度が悪化する。
　したがって、前述した従来装置のように、当初、ウェハ全体の近似平面を投影光学系の焦点面に合わせ、この状態のまま各部へ転写を行う方式では、反りなどが存在する大口径のウェハを用いた場合には精度の高い転写を行えないという問題があった。
（発明が解決しようとする課題）
　上述の如く、従来の平面位置決め装置にあっては、たとえば光りステッパに適用しようとすると、特に焦点深度が浅く、しかもウェハ口径が大きい場合には、精度の高い転写が本質的にできないという問題があった。
　そこで本発明は、上述した不具合を解消でき、たとえば焦点深度が浅く、しかも口径の大きいウェハを対象にした光ステッパに適用した場合には精度の高い転写実現に寄与できる平面位置決め装置を提供することを目的としている。
［発明の構成］
（課題を解決するための手段）
　上記目的を達成するために、本発明の平面位置決め装置は、
Ｘ軸、Ｙ軸、Ｚ軸から成る直角座標を基準とし、少なくともＸ軸方向あるいはＹ軸方向に移動可能なＸＹテーブルと、このＸＹテーブルに載置される
、前
ＸＹ
前記第１のテーブルおよび
に駆動するとともに
該第１のテーブル上で該第２のテーブルを
　また、本発明の平面位置決め方法は、
Ｘ軸、Ｙ軸、Ｚ軸から成る直角座標を基準とし、少なくともＸ軸方向あるいはＹ軸方向に移動可能なＸＹテーブルと、このＸＹテーブルに載置される
、前
ＸＹ
前記第１のテーブルおよび
に駆動するとともに
該第１のテーブル上で該第２のテーブルを独立して
（作用）
　平面位置決め対象物の位置決め対象面上に区画設定された複数の区画領域面毎に、この区画領域面の３個所位置を同時に測定して基準平面に対する上記区画領域面のＺ軸方向位置誤差量、Ｘ軸回り回転誤差量およびＹ軸回り回転誤差量を算出する手段を設けているので、上記各誤差量を算出するために平面位置決め対象物をＸＹ軸方向に移動させる必要はない。したがって、Ｚ軸方向位置誤差量、Ｘ軸回り回転誤差量およびＹ軸回り回転誤差量をほとんど瞬時に算出できる。また、上述した誤差量算出手段を設けているので、第１の制御手段に対してもフィードバック制御が可能となる。したがって、外乱の補償も確実に行うことができる。また、対象物の位置決め対象面上に区画設定された複数の区画領域面毎に、この区画領域面を基準平面に合わせるように制御系を構成しているので、たとえば焦点深度が浅く、しかも反りなどが存在している口径の大きいウェハを対象にした光ステッパに適用した場合においては精度の高い転写実現に寄与できる。
（実施例）
　以下、図面を参照しながら実施例を説明する。
　第１図には半導体露光システムに適用した一実施例に係る平面位置決め装置の概略斜視図が示されている。
　この装置の機械的可動部分は、第１図に示すようにＸ軸、Ｙ軸、Ｚ軸からなる直角座標を基準としたとき、図示しないＸＹテーブル上にＺ軸方向に移動可動に配置されたテーブル１と、このテーブル１をＺ軸方向に選択的に移動させる第１の駆動機構２と、テーブル１上でＹ軸上に配置された第１の支持機構３と、テーブル１上でＹ軸を境にして対称的な位置にＺ軸方向へ移動可能に配置された第２および第３の支持機構４、５と、第２の支持機構４および第３の支持機構５を選択的にＺ軸方向に移動させる第２の駆動機構６および第３の駆動機構７とで構成されている。各駆動機構２、６、７としては、それぞれモータとボールネジを含む減速ギアとを組合わせた機構のもの、あるいは圧電素子を組合せたものが使用されている。そして、これら各駆動機構２、６、７は、それぞれ第１、第２、第３のサーボ機構８、９、１０によって制御される。
　一方、支持機構３、４、５の上面には、これらによって３点支持される、ウェハテーブル１１が載置されており、このウェハテーブル１１の上面には平面位置合せ対象物としてのウェハ１２が支持されている。ウェハテーブル１１の上方あるいは斜め上方位置には、ウェハ１２の上面で丁度、露光位置に存在するウェハチップ１３の３個所Ｐ１、Ｐ２、Ｐ３のＺ軸方向位置を同時に測定し、ウェハチップ１３のＺ軸方向位置ＺＩ、Ｘ軸回り回転角Ｘθ、Ｙ軸回り回転角Ｙθを検出して、Ｚ軸方向位置信号ＺＩ１、Ｘ軸回り回転角信号Ｘθ１、Ｙ軸回り回転角信号Ｙθ１を出力する変位系１４が設けられている。そして、変位１４から出力されたＺ軸方向位置信号ＺＩ１はサーボ機構８に、Ｘ軸回り回転角信号Ｘθ１はサーボ機構９に、また、Ｙ軸回り回転角信号Ｙθ１はサーボ機構１０に入力される。
　サーボ機構８、９、１０は具体的には第２図に示すように構成されている。すなわち、サーボ機構８は、減算器２１でＺ軸方向基準位置信号ＺＩＳとＺ軸方向位置信号ＺＩ１との偏差をとり、この誤差信号ＺＩ′をドライバ回路２２の入力信号として与えている。ドライバ回路２２は、誤差信号ＺＩ′に対応させて駆動機構２のアクチュエータを駆動する。サーボ機構９は、減算器２３でＸ軸回り基準回転角信号ＸθＳとＸ軸回り回転角信号Ｘθ１との偏差をとり、この誤差信号Ｘθ′を干渉補償要素２４を介して加算器２５の一方の入力端に導入し、この加算器２５の出力をドライバ回路２６の入力信号として与えている。ドライバ回路２６は、入力信号に対応させて駆動機構６はアクチュエータを駆動する。また、サーボ機構１０は、減算器２７でＹ軸回り基準回転角信号ＹθＳとＹ軸回り回転角信号Ｙθ１との偏差をとり、この誤差信号Ｙθ′をゲイン補償要素２８を介して一方においては前記加算器２５の他方の入力端に導入し、他方においては、インバータ２９を介して加算器３０の一方の入力端に導入している。この加算器３０の他方の入力端には前記干渉補償要素２４を通った誤差信号Ｘθ′が与えられている。そして、加算器３０の出力をドライバ回路３１の入力信号として与えている。ドライバ回路３１は、入力信号に対応させて駆動機構７のアクチュエータを駆動する。上記信号の流れから判かるように、サーボ機構９のドライバ回路２６には、Ｘ軸回り回転誤差信号を零にすべく駆動機構６、７に与えるべき信号とＹ軸回り回転誤差信号を零にすべく駆動機構６、７に与えるべき信号のうち駆動機構６に与えられる信号分を加算した信号が入力として与えられる。また、ドライバ回路３１には、Ｘ軸回り回転誤差信号を零にすべく駆動機構６、７に与えるべき信号とＹ軸回り回転誤差信号を零にすべく駆動機構６、７に与えるべき信号とＹ軸回り回転誤差信号を零にすべく駆動機構６、７に与えるべき信号のうちの駆動機構７に与えられる信号分を加算した信号が入力として与えられる。
　このような構成であると、ＸＹテーブルの移動によって対象とするウェハチップ１３が、順次露光位置まで送られてきた時点で、変位計１４が瞬時にＺ軸方向位置信号ＺＩ１、Ｘ軸回り回転角信号Ｘθ１、Ｙ軸回り回転角信号Ｙθ１を出力する。そして、この出力によってサーボ機構８、９、１０にサーボがかけられる。したがって、極めて短時間に対象とするウェハチップ１３、つまり対象物の位置決め対象面上に区画設定された各区画領域面の表面全体を正確に位置合せすることができる。また、駆動機構２、６、７をそれぞれサーボ機構８、９、１０を使って制御しているので、位置決め後に外乱が入ってもこれを速やかに補償することができる。
　第３図には本発明の別の実施例に係る平面位置決め装置におけるサーボ機構８ａ、９ａ、１０ａが示されている。この実施例では、干渉補償要素４１、４２と加算器４３とを用いて互いの間での干渉を防止している。このように構成すると、前記実施例と同様な効果が期待できることは勿論のこと、平面位置決め制御を一層円滑に、かつ応答性良く行なわせることができる。
［発明の効果］
　以上説明したように、本発明によれば、対象物の位置決め対象面上に区画設定された複数の区画領域面毎に、この区画領域面を基準平面に合わせるように制御系を構成しているので、たとえば焦点深度が浅く、しかも反りなどが存在している口径の大きいウェハを対象にした光ステッパに適用した場合には精度の高い転写実現に寄与できる。
【図面の簡単な説明】
　第１図は半導体露光システムに適用した一実施例に係る平面位置決め装置の概略斜視図，第２図は同装置におけるサーボ機構の構成図，第３図は別の実施例に係る平面位置決め装置におけるサーボ機構の構成図である。
１…テーブル，２…第１の駆動機構，３…第１の支持機構，４…第２の支持機構，５…第３の支持機構，６…第２の駆動機構，７…第３の駆動機構，８…第１のサーボ機構，９…第２のサーボ機構，１０…第３のサーボ機構，１１…ウェハテーブル，１３…ウェハチップ，１４…変位計。