(57)【要約】メトキシカルボニル体からメトキシアミド体を経由して目的物（ＩＩＩ）を製造する二工程を連続して反応させ、これらを実質上の一工程で行う製造方法を提供する。本発明により、デュアルチロシンキナーゼ阻害剤の製造中間体として有用な化合物（ＩＩＩ）が簡便かつ高収率で製造される。【特許請求の範囲】
【請求項１】
式（Ｉ）：
【化１】
2010074150.tif 000038
[式中、Ｒ１は、式：−Ｏ−Ｒｘまたは−Ｓ−Ｒｘ（式中、Ｒｘは、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアルケニル、置換もしくは非置換のアルキニル、置換もしくは非置換のアリールまたは式（ＩＩ）：
【化２】
2010074150.tif 000039
（式中、Ｌ１は置換もしくは非置換のＣ２〜Ｃ３アルキレン）で示される基）；
Ｒ２は、水素原子、ハロゲン、置換もしくは非置換のアルキルオキシ、置換もしくは非置換のアルケニルオキシ、置換もしくは非置換のアルキニルオキシまたは式：−Ｙ−Ｒｙ（式中、−Ｙ−は−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ２−または−Ｏ−、−Ｓ−もしくは−Ｎ（Ｒｚ）−を介在してもよいアルキレン；Ｒｙは置換もしくは非置換のアリールまたは置換もしくは非置換のヘテロアリール；Ｒｚは水素原子、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアシル、置換もしくは非置換のアルキルオキシカルボニル、置換もしくは非置換のアルケニルオキシカルボニルまたは置換もしくは非置換のアラルキルオキシカルボニル）で示される基；
Ｒ３およびＲ４は、それぞれ独立して、水素原子、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアルケニル、置換もしくは非置換のアルキニル、置換もしくは非置換のアルキルオキシ、置換もしくは非置換のアルケニルオキシ、置換もしくは非置換のアルキニルオキシ、ハロゲン、ヒドロキシ、メルカプト、シアノまたは置換もしくは非置換のアミノ］
で示される化合物を、
式：（ＲｂＯ−）Ｎ（−Ｒａ）Ｈ
（式中、ＲａおよびＲｂは互いに独立して置換もしくは非置換のＣ１〜Ｃ３アルキル）
で示される化合物またはその塩、ならびに、
グリニヤール試薬、水素化ナトリウム、アルキルリチウム、アルケニルリチウム、アルキニルリチウム、フェニルリチウムおよびリチウムアミドから選択される１以上の金属試薬と反応させる反応Ａ、
および、反応Ａの生成物に１−プロピニル金属アセチリドを反応させる反応Ｂ、
を実質上の一工程として連続的に行うことを特徴とする、式（ＩＩＩ）：
【化３】
2010074150.tif 000040
（式中、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４は前記と同意義）
で示される化合物もしくはその塩またはそれらの溶媒和物の製造方法。
【請求項２】
Ｒ２が、式：−Ｙ−Ｒｙ（式中、Ｙは、−Ｏ−を介在してもよいアルキレン；Ｒｙは、置換基群ｐ（置換基群ｐ：ハロゲン、カルボキシ、アルキル、ハロアルキル、ヒドロキシアルキル、アルキルオキシ、アルキルオキシカルボニルおよび置換もしくは非置換のアミノ）から選択される置換基で置換されたフェニルもしくは非置換のフェニル、置換基群ｐから選択される置換基で置換されたピリジルもしくは非置換のピリジル、置換基群ｐから選択される置換基で置換されたフリルもしくは非置換のフリル、置換基群ｐから選択される置換基で置換されたチエニルもしくは非置換のチエニル、置換基群ｐから選択される置換基で置換されたチアゾリルもしくは非置換のチアゾリル、または置換基群ｐから選択される置換基で置換されたオキサゾリルもしくは非置換のオキサゾリル）で示される基；
Ｒ３が、置換もしくは非置換のアルキニル、置換もしくは非置換のアルキルオキシまたはハロゲン；および
Ｒ４が、水素原子；
である、請求項１記載の製造方法。
【請求項３】
式（ＩＩＩ）で示される化合物もしくはその塩またはそれらの溶媒和物が結晶である、請求項１または２記載の製造方法。
【請求項４】
式（ＩＩＩ）で示される化合物が、式（ＩＶ）：
【化４】
2010074150.tif 000041
で示される化合物である請求項１〜３のいずれかに記載の製造方法。
【請求項５】
式（ＩＶ）で示される化合物を有機溶媒から再結晶する工程を包含する、請求項４記載の製造方法。
【請求項６】
請求項１〜３のいずれかに記載の方法により式（ＩＩＩ）で示される化合物もしくはその塩またはそれらの溶媒和物を得、得られた式（ＩＩＩ）で示される化合物もしくはその塩またはそれらの溶媒和物を、式（Ｖ）：Ｒ５−Ｒ６−Ｏ−ＮＨ２
（式中、Ｒ５は置換もしくは非置換のアリール、置換もしくは非置換のヘテロアリール、置換もしくは非置換のヘテロサイクリルまたは置換もしくは非置換のアミノであり、Ｒ６は置換もしくは非置換のＣ１〜３アルキレンである。）で示される化合物と反応させることを特徴とする、式（ＶＩ）：
【化５】
2010074150.tif 000042
（式中、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４は請求項１と同意義、Ｒ５およびＲ６は前記と同意義）
で示される化合物もしくはその塩またはそれらの溶媒和物の製造方法。
【請求項７】
請求項４または５記載の方法により式（ＩＶ）で示される化合物もしくはその塩またはそれらの溶媒和物を得、得られた式（ＩＶ）で示される化合物もしくはその塩またはそれらの溶媒和物を、式（Ｖ）：Ｒ５−Ｒ６−Ｏ−ＮＨ２
（式中、Ｒ５およびＲ６は請求項６と同意義）で示される化合物と反応させることを特徴とする、式（ＶＩ’）：
【化６】
2010074150.tif 000043
（式中、Ｒ５およびＲ６は前記と同意義）
で示される化合物もしくはその塩またはそれらの溶媒和物の製造方法。
【請求項８】
式（ＩＶ）：
【化７】
2010074150.tif 000044
で示される化合物の一水和物の結晶。
【請求項９】
粉末Ｘ線回折スペクトルにおいて、回折角度（２θ）：５．６°±０．２°、７．６°±０．２°、１１．６°±０．２°、１９．１°±０．２°、２５．０°±０．２°、２５．７°±０．２°である、請求項８記載の結晶。
【請求項１０】
図１に実質的に一致する粉末Ｘ線回折スペクトルにより特徴付けられる、請求項８記載の結晶。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ＥＧＦ受容体チロシンキナーゼおよびＨＥＲ２チロシンキナーゼの両方を阻害するデュアル阻害剤の製造中間体として有用な、６位に１−オキソ−２−ブチン−１−イル基が置換した化合物の製造方法、さらには当該製造中間体化合物の結晶に関する。
【背景技術】
【０００２】
チロシンキナーゼは蛋白質中のチロシン残基をリン酸化する酵素であり、細胞の分化・増殖や細胞内情報伝達系において重要な役割を果たすことが知られている。特に、ＨＥＲ２（ＥｒｂＢ２またはＮｅｕとも呼ばれる）およびＥＧＦ受容体等の増殖因子受容体チロシンキナーゼ（以下、受容体チロシンキナーゼ）が癌の形成に深く関与していること、ヒト癌において受容体チロシンキナーゼ活性が亢進していることが知られている（非特許文献１、非特許文献２、および非特許文献３）。
また、ＥＧＦ受容体とＨＥＲ２の共発現によりＥＧＦ受容体単独による癌化がさらに加速されることが知られており（非特許文献４）、ＥＧＦ受容体とＨＥＲ２の両方のチロシンキナーゼを阻害するデュアル阻害剤は単独のキナーゼにのみ作用する化合物と比較して、適応疾患が広く、デュアル阻害の相乗作用によってより強い治療効果が得られる点で優れている。６位にアルコキシイミノ構造を含む置換基を有するキナゾリン誘導体（ＶＩ）：
【化１】
2010074150.tif 000002
（式中、Ｒ２は、水素原子、ハロゲン、置換もしくは非置換のアルキルオキシ、置換もしくは非置換のアルケニルオキシ、置換もしくは非置換のアルキニルオキシまたは式：−Ｙ−Ｒｙ（式中、Ｙは−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ２−または−Ｏ−、−Ｓ−もしくは−Ｎ（Ｒｚ）−を介在してもよいアルキレン；Ｒｙは置換もしくは非置換のアリールまたは置換もしくは非置換のヘテロアリール；Ｒｚは水素原子、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアシル、置換もしくは非置換のアルキルオキシカルボニル、置換もしくは非置換のアルケニルオキシカルボニルまたは置換もしくは非置換のアラルキルオキシカルボニル）で示される基；
Ｒ３およびＲ４は、それぞれ独立して、水素原子、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアルケニル、置換もしくは非置換のアルキニル、置換もしくは非置換のアルキルオキシ、置換もしくは非置換のアルケニルオキシ、置換もしくは非置換のアルキニルオキシ、ハロゲン、ヒドロキシ、メルカプト、シアノまたは置換もしくは非置換のアミノ；
Ｒ５は置換もしくは非置換のアリール、置換もしくは非置換のヘテロアリール、置換もしくは非置換のヘテロサイクリルまたは置換もしくは非置換のアミノであり、Ｒ６は置換もしくは非置換のＣ１〜３アルキレンである。）
は、このようなデュアル阻害剤のひとつであり、新たな抗がん剤としての用途が期待されている（特許文献１）。
上記キナゾリン誘導体（ＶＩ）は、６位に１−オキソ−２−ブチン−１−イル基が置換した化合物（ＩＩＩ）：
【化２】
2010074150.tif 000003
（式中、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４は上記と同様）
とアルコキシアミン誘導体との反応により製造されるので、化合物（ＩＩＩ）はキナゾリン誘導体（ＶＩ）を製造するための重要な製造中間体である。
【特許文献１】ＷＯ２００６／０９０７１７号公報
【非特許文献１】キャンサー  リサーチ（Cancer Res.）1991年、第51巻、p.4430-4435
【非特許文献２】キャンサー  リサーチ（Cancer Res.）1992年、第52巻、p.3636-3641
【非特許文献３】キャンサー  ケモセラピー  アンド  ファーマコロジー（Cancer Chemother. Pharmacol.）、1993年、第32巻、p.1-19
【非特許文献４】セル（Cell）1987年、第58巻、p.287-292
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
製造中間体の上記化合物（ＩＩＩ）は、対応するメトキシカルボニル体（Ｉ’）に反応Ａを行ってメトキシメチルアミド体（ＶＩＩ）を合成し、次いで（ＶＩＩ）に対し反応Ｂを行って
【化３】
2010074150.tif 000004
（式中、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４は前記と同様）
製造することができる。【０００４】
例えば、先の特許文献１には、メトキシカルボニル体（Ｘ−１）からメトキシメチルアミド（ＸＩ−１）を製造し（第２工程）、次いでグリニヤール試薬との反応により（ＶＩＩ−４）を製造する（第３工程）方法が開示されている。
【化４】
2010074150.tif 000005
しかしながら、その収率は未だ十分とはいえず、その操作性についても改良の余地があった。
具体的には、特許文献１の参考例１には、式（Ｘ−１）で示される化合物から、式（ＸＩ−１）で示される化合物の製造方法が開示されている。該工程では、Ｎ，Ｏ−ジメチルヒドロキシルアミン塩酸塩を３当量、iPrMgClを６当量使用しており、反応は定量的に進行することがわかる。
次に、式（ＸＩ−１）で示される化合物から、式（ＶＩＩ−４）で示される化合物の製造方法が開示されている。該工程では、反応系中で３当量のグリニヤール試薬を発生させ、収率約７９％で反応が進行することがわかる。
よって、特許文献１には、式（Ｘ−１）で示される化合物から、二段階の反応を経て、式（ＶＩＩ−４）で示される化合物を、通算約７９％の収率で製造できることが開示されている。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明者らは鋭意検討を重ねた結果、化合物（ＶＩＩ）を単離することなく、二つの反応を連続して実質上一工程として行うことによりメトキシカルボニル体（Ｉ−１）から（ＩＶ）を高収率で製造できることを見出した。
そして、この連続合成法が広く基質（Ｉ）からの化合物（ＩＩＩ）の合成について応用できることを確認して本発明を完成した。
本発明は、
（１）式（Ｉ）：
【化５】
2010074150.tif 000006
[式中、Ｒ１は、式：−Ｏ−Ｒｘまたは−Ｓ−Ｒｘ（式中、Ｒｘは、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアルケニル、置換もしくは非置換のアルキニル、置換もしくは非置換のアリールまたは式（ＩＩ）：
【化６】
2010074150.tif 000007
（式中、Ｌ１は置換もしくは非置換のＣ２〜Ｃ３アルキレン）で示される基）；
Ｒ２は、水素原子、ハロゲン、置換もしくは非置換のアルキルオキシ、置換もしくは非置換のアルケニルオキシ、置換もしくは非置換のアルキニルオキシまたは式：−Ｙ−Ｒｙ（式中、−Ｙ−は−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ２−または−Ｏ−、−Ｓ−もしくは−Ｎ（Ｒｚ）−を介在してもよいアルキレン；Ｒｙは置換もしくは非置換のアリールまたは置換もしくは非置換のヘテロアリール；Ｒｚは水素原子、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアシル、置換もしくは非置換のアルキルオキシカルボニル、置換もしくは非置換のアルケニルオキシカルボニルまたは置換もしくは非置換のアラルキルオキシカルボニル）で示される基；
Ｒ３およびＲ４は、それぞれ独立して、水素原子、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアルケニル、置換もしくは非置換のアルキニル、置換もしくは非置換のアルキルオキシ、置換もしくは非置換のアルケニルオキシ、置換もしくは非置換のアルキニルオキシ、ハロゲン、ヒドロキシ、メルカプト、シアノまたは置換もしくは非置換のアミノ］
で示される化合物を、
式：（ＲｂＯ−）Ｎ（−Ｒａ）Ｈ
（式中、ＲａおよびＲｂは互いに独立して置換もしくは非置換のＣ１〜Ｃ３アルキル）
で示される化合物またはその塩、ならびに、
グリニヤール試薬、水素化ナトリウム、アルキルリチウム、アルケニルリチウム、アルキニルリチウム、フェニルリチウムおよびリチウムアミドから選択される１以上の金属試薬と反応させる反応Ａ、
および、反応Ａの生成物に１−プロピニル金属アセチリドを反応させる反応Ｂ、
を実質上の一工程として連続的に行うことを特徴とする、式（ＩＩＩ）：
【化７】
2010074150.tif 000008
（式中、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４は前記と同意義）
で示される化合物もしくはその塩またはそれらの溶媒和物の製造方法；
（１’）式（Ｉ）：
【化８】
2010074150.tif 000009
[式中、Ｒ１は、式：−Ｏ−Ｒｘまたは−Ｓ−Ｒｘ（式中、Ｒｘは、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアルケニル、置換もしくは非置換のアルキニル、置換もしくは非置換のアリールまたは式（ＩＩ）：
【化９】
2010074150.tif 000010
（式中、Ｌ１は置換もしくは非置換のＣ２〜Ｃ３アルキレン）で示される基）；
Ｒ２は、水素原子、ハロゲン、置換もしくは非置換のアルキルオキシ、置換もしくは非置換のアルケニルオキシ、置換もしくは非置換のアルキニルオキシまたは式：−Ｙ−Ｒｙ（式中、−Ｙ−は−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ２−または−Ｏ−、−Ｓ−もしくは−Ｎ（Ｒｚ）−を介在してもよいアルキレン；Ｒｙは置換もしくは非置換のアリールまたは置換もしくは非置換のヘテロアリール；Ｒｚは水素原子、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアシル、置換もしくは非置換のアルキルオキシカルボニル、置換もしくは非置換のアルケニルオキシカルボニルまたは置換もしくは非置換のアラルキルオキシカルボニル）で示される基；
Ｒ３およびＲ４は、それぞれ独立して、水素原子、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアルケニル、置換もしくは非置換のアルキニル、置換もしくは非置換のアルキルオキシ、置換もしくは非置換のアルケニルオキシ、置換もしくは非置換のアルキニルオキシ、ハロゲン、ヒドロキシ、メルカプト、シアノまたは置換もしくは非置換のアミノ］
で示される化合物を、
式：（ＲｂＯ−）Ｎ（−Ｒａ）Ｈ
（式中、ＲａおよびＲｂは互いに独立して置換もしくは非置換のＣ１〜Ｃ３アルキル）
で示される化合物またはその塩、ならびに、
グリニヤール試薬、水素化ナトリウム、アルキルリチウム、アルケニルリチウム、アルキニルリチウム、フェニルリチウムおよびリチウムアミドから選択される１以上の金属試薬と反応させる反応Ａ、
および、反応Ａの生成物に１−プロピニル金属アセチリドを反応させる反応Ｂ、
を実質上の一工程として連続的に行うことを特徴とする、式（ＩＩＩ）：
【化１０】
2010074150.tif 000011
（式中、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４は前記と同意義）
で示される化合物の製造方法；
（２）Ｒ２が、式：−Ｙ−Ｒｙ（式中、−Ｙ−は、−Ｏ−を介在してもよいアルキレン；Ｒｙは、置換基群ｐ（置換基群ｐ：ハロゲン、カルボキシ、アルキル、ハロアルキル、ヒドロキシアルキル、アルキルオキシ、アルキルオキシカルボニルおよび置換もしくは非置換のアミノ）から選択される置換基で置換されたフェニルもしくは非置換のフェニル、置換基群ｐから選択される置換基で置換されたピリジルもしくは非置換のピリジル、置換基群ｐから選択される置換基で置換されたフリルもしくは非置換のフリル、置換基群ｐから選択される置換基で置換されたチエニルもしくは非置換のチエニル、置換基群ｐから選択される置換基で置換されたチアゾリルもしくは非置換のチアゾリル、または置換基群ｐから選択される置換基で置換されたオキサゾリルもしくは非置換のオキサゾリル）で示される基；
Ｒ３が、置換もしくは非置換のアルキニル、置換もしくは非置換のアルキルオキシまたはハロゲン；および
Ｒ４が、水素原子；
である、前記（１）記載の製造方法；
（３）式（ＩＩＩ）で示される化合物が結晶である、前記（１）または（２）または(１’)記載の製造方法；
（３’）式（ＩＩＩ）で示される化合物もしくはその塩またはそれらの溶媒和物が結晶である、前記（１）または（２）記載の製造方法；
（４）式（ＩＩＩ）で示される化合物が、式（ＩＶ）：
【化１１】
2010074150.tif 000012
で示される化合物である前記（１）〜（３）、（１’）または（３’）のいずれかに記載の製造方法；
（４’）式（ＩＩＩ）で示される化合物が、式（ＩＶ）：
【化１２】
2010074150.tif 000013
で示される化合物である前記（１）〜（３）のいずれかに記載の製造方法；
（５）式（ＩＶ）で示される化合物を有機溶媒から再結晶する工程を包含する、前記（４）記載の製造方法。
（６）前記（１）〜（３）、（１’）または（３’）のいずれかに記載の方法により式（ＩＩＩ）で示される化合物を得、得られた式（ＩＩＩ）で示される化合物を、式（Ｖ）：Ｒ５−Ｒ６−Ｏ−ＮＨ２
（式中、Ｒ５は置換もしくは非置換のアリール、置換もしくは非置換のヘテロアリール、置換もしくは非置換のヘテロサイクリルまたは置換もしくは非置換のアミノであり、Ｒ６は置換もしくは非置換のＣ１〜３アルキレンである。）で示される化合物と反応させることを特徴とする、式（ＶＩ）：
【化１３】
2010074150.tif 000014
（式中、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４は前記（１）と同意義、Ｒ５およびＲ６は前記と同意義）
で示される化合物の製造方法；
（６’）前記（１）〜（３）のいずれかに記載の方法により式（ＩＩＩ）で示される化合物もしくはその塩またはそれらの溶媒和物を得、得られた式（ＩＩＩ）で示される化合物もしくはその塩またはそれらの溶媒和物を、式（Ｖ）：Ｒ５−Ｒ６−Ｏ−ＮＨ２
（式中、Ｒ５は置換もしくは非置換のアリール、置換もしくは非置換のヘテロアリール、置換もしくは非置換のヘテロサイクリルまたは置換もしくは非置換のアミノであり、Ｒ６は置換もしくは非置換のＣ１〜３アルキレンである。）で示される化合物と反応させることを特徴とする、式（ＶＩ）：
【化１４】
2010074150.tif 000015
（式中、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４は前記（１）と同意義、Ｒ５およびＲ６は前記と同意義）
で示される化合物もしくはその塩またはそれらの溶媒和物の製造方法；
（７）前記（４）記載の方法により式（ＩＶ）で示される化合物を得、得られた式（ＩＶ）で示される化合物を、式（Ｖ）：Ｒ５−Ｒ６−Ｏ−ＮＨ２
（式中、Ｒ５およびＲ６は前記（５）と同意義）で示される化合物と反応させることを特徴とする、式（ＶＩ’）：
【化１５】
2010074150.tif 000016
（式中、Ｒ５およびＲ６は前記と同意義）
で示される化合物もしくはその塩またはそれらの溶媒和物の製造方法；
（７’）前記（４）または（５）記載の方法により式（ＩＶ）で示される化合物もしくはその塩またはそれらの溶媒和物を得、得られた式（ＩＶ）で示される化合物もしくはその塩またはそれらの溶媒和物を、式（Ｖ）：Ｒ５−Ｒ６−Ｏ−ＮＨ２
（式中、Ｒ５およびＲ６は前記（５）と同意義）で示される化合物と反応させることを特徴とする、式（ＶＩ’）：
【化１６】
2010074150.tif 000017
（式中、Ｒ５およびＲ６は前記と同意義）
で示される化合物の製造方法；
（８）式（ＩＶ）：
【化１７】
2010074150.tif 000018
で示される化合物の一水和物の結晶。
および
（９）粉末Ｘ線回折の主なピークの回折角２θが５．６°±０．２°、７．６°±０．２°、１１．６°±０．２°、１９．１°±０．２°、２５．０°±０．２°、２５．７°±０．２°である、前記（８）記載の結晶；
（１０）粉末Ｘ線回折の主なピークの回折角２θが５．６°±０．１°、７．６°±０．１°、１１．６°±０．１°、１９．１°±０．１°、２５．０°±０．１°、２５．７°±０．１°である、前記（８）記載の結晶式（ＩＶ）：
（１１）図１に実質的に一致する粉末Ｘ線回折スペクトルにより特徴付けられる、前記（８）記載の結晶；
（１２）式（ＩＶ）：
【化１８】
2010074150.tif 000019
で示される化合物の結晶；
（１３）粉末Ｘ線回折の主なピークの回折角２θが
１２．２°±０．２°、１３．５°±０．２°、１３．８°±０．２°、１８．４°±０．２°、１８．７°±０．２°、２０．２°±０．２°、２１．８°±０．２°、２２．０°±０．２°、２９．３°±０．２°、２９．７°±０．２°である、式（ＩＶ）で示される化合物の結晶；
（１４）粉末Ｘ線回折の主なピークの回折角２θが
１２．２°±０．１°、１３．５°±０．１°、１３．８°±０．１°、１８．４°±０．１°、１８．７°±０．１°、２０．２°±０．１°、２１．８°±０．１°、２２．０°±０．１°、２９．３°±０．１°、２９．７°±０．１°である、式（ＩＶ）で示される化合物の結晶を提供する。
【発明の効果】
【０００６】
製造中間体として有用な化合物（ＩＩＩ）を対応するメトキシカルボニル体から高収率で製造することができる。また、従来法と比較して使用する塩基および試薬の量を削減することが可能となり、工業的にも優れた製造方法である。
【図面の簡単な説明】
【０００７】
【図１】化合物（ＩＶ）の一水和物の結晶（実施例１−１）の粉末Ｘ線回折の測定結果を示す。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００８】
本発明の連続合成法は、下式（Ｉ）：
【化１９】
2010074150.tif 000020
[式中、Ｒ１は、式：−Ｏ−Ｒｘまたは−Ｓ−Ｒｘ（式中、Ｒｘは、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアルケニル、置換もしくは非置換のアルキニル、置換もしくは非置換のアリールまたは式（ＩＩ）：
【化２０】
2010074150.tif 000021
（式中、Ｌ１は置換もしくは非置換のＣ２〜Ｃ３アルキレン）で示される基）；
Ｒ２は、水素原子、ハロゲン、置換もしくは非置換のアルキルオキシ、置換もしくは非置換のアルケニルオキシ、置換もしくは非置換のアルキニルオキシまたは式：−Ｙ−Ｒｙ（式中、Ｙは−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ２−または−Ｏ−、−Ｓ−もしくは−Ｎ（Ｒｚ）−を介在してもよいアルキレン；Ｒｙは置換もしくは非置換のアリールまたは置換もしくは非置換のヘテロアリール；Ｒｚは水素原子、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアシル、置換もしくは非置換のアルキルオキシカルボニル、置換もしくは非置換のアルケニルオキシカルボニルまたは置換もしくは非置換のアラルキルオキシカルボニル）で示される基；
Ｒ３およびＲ４は、それぞれ独立して、水素原子、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアルケニル、置換もしくは非置換のアルキニル、置換もしくは非置換のアルキルオキシ、置換もしくは非置換のアルケニルオキシ、置換もしくは非置換のアルキニルオキシ、ハロゲン、ヒドロキシ、メルカプト、シアノまたは置換もしくは非置換のアミノ］
で示される化合物を、
式：（ＲｂＯ−）Ｎ（−Ｒａ）Ｈ
（式中、ＲａおよびＲｂは互いに独立して置換もしくは非置換のＣ１〜Ｃ３アルキル）
で示される化合物またはその塩、ならびに、
グリニヤール試薬、水素化ナトリウム、アルキルリチウム、アルケニルリチウム、アルキニルリチウム、フェニルリチウムおよびリチウムアミドから選択される１以上の金属試薬と反応させる反応Ａを第一段階として含む。
この第一段階の反応において用いられる溶媒としては、反応を阻害しない限り特に限定はされないが、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、シクロペンチルメチルエーテル（ＣＰＭＥ）、ジエチルエーテル、メチルtert-ブチルエーテル等のエーテル類、トルエン、ヘプタン、シクロヘキサン等の炭化水素類、ジクロロメタン等のハロゲン系溶媒等が例示される。例えば溶媒としてＴＨＦが用いることができる。また、前記溶媒を混合して使用することもできる。
反応温度は、通常−７０℃〜８０℃の範囲で実施されるが、−２０℃〜２０℃の範囲で行うことができる。
反応は通常、化合物（Ｉ）と、式：（ＲｂＯ−）Ｎ（−Ｒａ）Ｈ（式中、ＲａおよびＲｂは前記と同意義）またはその塩とを上記溶媒中に懸濁もしくは溶解しておき、これに金属試薬を滴下することにより行われる。式：（ＲｂＯ−）Ｎ（−Ｒａ）Ｈ（式中、ＲａおよびＲｂは前期と同意義）で示される化合物またはその塩の使用量は通常１〜４当量、例えば１．０〜１．５当量を使用すればよい。
金属試薬としては、グリニヤール試薬、水素化ナトリウム、アルキルリチウム、アルケニルリチウム、アルキニルリチウム、フェニルリチウム、リチウムアミドが挙げられる。
グリニヤール試薬としては、シクロヘキシルマグネシウムクロリド、シクロヘキシルマグネシウムブロミド、イソプロピルマグネシウムクロリド、イソプロピルマグネシウムブロミド等が挙げられる。
アルキルリチウムとしては、メチルリチウム、ｎ−ブチルリチウム、ｓｅｃ−ブチルリチウム、ｔｅｒｔ−ブチルリチウム等が挙げられる。
アルケニルリチウムとしては、ビニルリチウム等が挙げられる。
アルキニルリチウムとしては、エチニルリチウム等が挙げられる。
上記金属試薬は、工業的に入手可能な試薬を用いることができるが、公知の化合物から常法により誘導された化合物を用いてもよい。また、金属試薬として、反応Ｂで使用する１−プロピニル金属アセチリドを用いてもよい。ここで、金属アセチリドとは、アセチレンもしくはアルキル置換アセチレンの水素原子を金属で置換して得られる金属試薬をいう。１−プロピニル金属アセチリドは１−プロピンの水素原子を金属で置換して得られる金属試薬である。金属試薬の使用量は、通常３〜９当量、例えば３〜４当量を使用すればよい。
また、式：（ＲｂＯ−）Ｎ（−Ｒａ）Ｈ（式中、ＲａおよびＲｂは前記と同意義）で示される化合物がフリー体である場合は、金属試薬の使用量は、例えば２〜３当量を使用すればよい。
本発明の連続合成法では、上記反応Ａを行った後、連続して反応Ｂを行う。具体的には、上記金属試薬の滴下終了後、反応温度を−５０℃〜８０℃、例えば３０℃〜７０℃に調整し、当該反応混合物に１−プロピニル金属アセチリドを加える。
ここで、上記金属試薬を滴下終了後、続いて反応液を当該温度で０．５〜１時間攪拌した後、温度を調整し、１−プロピニル金属アセチリドを加えてもよい。また、上記金属試薬を滴下終了後、直ちに温度を調整し、１−プロピニル金属アセチリドを加えてもよい。
１−プロピニル金属アセチリドを加えた後は、反応が完結するまで攪拌すればよく、例えば、０．５〜４８時間攪拌すればよい。
当該金属アセチリドの金属としては、Ｌｉ、ＭｇＸ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｎａ、Ｋ等が例示されるが、例えば、ＭｇＸを使用することができる。該試薬はプロピレンのグリニヤール試薬として容易に入手することができる。また、特許文献１記載のように、反応系中で発生させた１−プロピニル金属アセチリドを使用することができる。ここでＸとしては、臭素、塩素、ヨウ素が挙げられる。例えば、塩素、臭素を使用することができる。
当該金属アセチリドの使用量は通常１〜４当量、例えば１〜２当量を使用することができる。
本発明の連続製造法によれば、式（Ｉ）で示される化合物から式（ＩＩＩ）で示される化合物もしくはその塩またはそれらの溶媒和物が実質上一工程として製造される。
ここで「連続して行なう」とは、上記反応Ａで得られる生成物を単離することなく次の反応（反応Ｂ）に付すことをいう。【０００９】
本発明の連続合成法により製造された式（ＩＩＩ）：
【化２１】
2010074150.tif 000022
（式中、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４は前記と同意義）
の化合物もしくはその塩またはそれらの溶媒和物に、式（Ｖ）：Ｒ５−Ｒ６−Ｏ−ＮＨ２
（式中、Ｒ５は置換もしくは非置換のアリール、置換もしくは非置換のヘテロアリール、置換もしくは非置換のヘテロサイクリルまたは置換もしくは非置換のアミノであり、Ｒ６は置換もしくは非置換のＣ１〜３アルキレンである。）
で示される化合物またはその塩と反応させると、チロシンキナーゼのデュアル阻害剤として有用な式（ＶＩ）：
【化２２】
2010074150.tif 000023
（式中、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４、Ｒ５およびＲ６は前記と同意義）
で示される化合物もしくはその塩またはそれらの溶媒和物が得られる。
また、式（ＩＩＩ）の化合物中、下式（ＩＶ）：
【化２３】
2010074150.tif 000024
で示される化合物は、水-テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）-メタノールの混合溶媒から結晶化させることができる。結晶化する際の溶媒としては、特に限定されないが、酢酸エチル、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、アルコール、水およびこれらの混合溶媒を使用することができる。
該結晶は上記の製造工程を行う上でまたは式（ＶＩ）もしくは式（ＶＩ’）で示される化合物を有効成分として含有する医薬組成物を製造する上で取り扱い易く、また高純度であることから医薬組成物を製造するために有用な結晶である。
また当該結晶は、粉末Ｘ線解析によってＸ線回折パターンを得ることができる。式（ＩＶ）で示される化合物の結晶については、後記実施例１にＸ線回折パターンを示す［Ｘ線回折測定条件：RINT X-ray Diffractometer ( ＴＴＲ ＩＩＩ )、管球ＣｕＫα線、管電圧５０Ｋｖ、管電流３００ｍＡ、ｄｓｉｎθ＝ｎλ、但し、ｎは整数、ｄは面間隔（単位：オングストローム）、θは回折角（単位：度）、λは１．５４１８Å］。この結晶は、各回折角または面間隔の値によって特徴づけられる。【００１０】
本明細書中、「ハロゲン」とは、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素を意味する。フッ素、塩素、および臭素が挙げられる。
本明細書中、単独でもしくは他の用語と組み合わせて用いられる「アルキル」とは、炭素原子数１〜１０の直鎖または分枝鎖の１価の炭化水素基を包含する。例えば、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｎ−ペンチル、イソペンチル、ｎｅｏ−ペンチル、ｎ−ヘキシル、イソヘキシル、ｎ−ヘプチル、ｎ−オクチル、ｎ−ノナニル、ｎ−デカニル等が挙げられる。例えば、Ｃ１〜Ｃ１０アルキルが挙げられる。例えば、Ｃ１〜Ｃ６アルキルが挙げられる。例えば、Ｃ１〜Ｃ４アルキルが挙げられる。
本明細書中、「アルキルオキシ」としては、メチルオキシ、エチルオキシ、ｎ−プロピルオキシ、イソプロピルオキシ、ｎ−ブチルオキシ、イソブチルオキシ、ｓｅｃ−ブチルオキシ、ｔｅｒｔ−ブチルオキシ、ｎ−ペンチルオキシ、ｎ−ヘキシルオキシ、ｎ−ヘプチルオキシ、ｎ−オクチルオキシ、ｎ−ノナニルオキシ、ｎ−デカニルオキシ等が挙げられる。例えば、Ｃ１〜Ｃ６アルキルオキシが挙げられる。例えば、Ｃ１〜Ｃ３アルキルオキシが挙げられる。
本明細書中、「アルキルオキシカルボニル」としては、メチルオキシカルボニル、エチルオキシカルボニル、ｎ−プロピルオキシカルボニル、イソプロピルオキシカルボニル、ｎ−ブチルオキシカルボニル、ｔ−ブチルオキシカルボニル、ｎ−ペンチルオキシカルボニル等が挙げられる。例えば、Ｃ１〜Ｃ６アルキルオキシカルボニルが挙げられる。例えば、Ｃ１〜Ｃ３アルキルオキシカルボニルが挙げられる。
本明細書中、「アルケニル」とは、炭素原子数が２〜８個であり、１個もしくは２個以上の二重結合を有する、直鎖または分枝鎖の１価の炭化水素基を包含する。三重結合を鎖内に有していてもよい。例えば、ビニル、アリル、１−プロペニル、２−プロペニル、種々のブテニル異性体等が挙げられる。例えば、Ｃ２〜Ｃ６アルケニルが挙げられる。例えば、Ｃ２〜Ｃ４アルケニルが挙げられる。
本明細書中、「アルケニルオキシ」としては、ビニルオキシ、アリルオキシ、１−プロペニルオキシ、２−プロペニルオキシ、種々のブテニルオキシが挙げられる。例えばＣ２〜Ｃ６アルケニルオキシが挙げられる。例えば、Ｃ２〜Ｃ４アルケニルオキシが挙げられる。
本明細書中、「アルケニルオキシカルボニル」としては、ビニルオキシカルボニル、アリルオキシカルボニル、１−プロペニルオキシカルボニル、２−プロペニルオキシカルボニル、種々のブテニルオキシカルボニルが挙げられる。例えば、Ｃ２〜Ｃ６アルケニルオキシカルボニルが挙げられる。例えば、Ｃ２〜Ｃ４アルケニルオキシカルボニルが挙げられる。
本明細書中、「アルキニル」とは、炭素原子数が２〜８個であり、１個もしくは２個以上の三重結合を有する、直鎖または分枝鎖の１価の炭化水素基を包含する。例えば、エチニル、１−プロピニル、２−プロピニル、１−ブチニル、２−ブチニル、３−ブチニル、１−ペンチニル、２−ペンチニル、種々のペンチニル異性体等が挙げられる。例えば、Ｃ２〜Ｃ６アルキニルが挙げられる。例えば、Ｃ２〜Ｃ４アルキニルが挙げられる。
本明細書中、「アルキニルオキシ」としては、エチニルオキシ、プロピニルオキシ、ブチニルオキシ、ペンチニルオキシ等が挙げられる。例えば、Ｃ２〜Ｃ６アルキニルオキシが挙げられる。例えば、Ｃ２〜Ｃ４アルキニルオキシが挙げられる。【００１１】
本明細書中、単独でもしくは他の用語と組み合わせて用いられる「アルキレン」とは、炭素原子数１〜４の直鎖または分枝鎖の２価の炭化水素基を包含する。例えば、メチレン、エチレン、プロピレン、ブチレン等が挙げられる。例えばＣ１〜Ｃ３アルキレンが挙げられる例えば、Ｃ１〜Ｃ２アルキレンが挙げられる。【００１２】
本明細書中、単独でもしくは他の用語と組み合わせて用いられる「アリール」とは、単環状もしくは縮合環状芳香族炭化水素を包含する。例えば、フェニル、１−ナフチル、２−ナフチル、アントリル等が挙げられる。例えば、フェニル、１−ナフチル、２−ナフチルが挙げられる。例えば、フェニルが挙げられる。
本明細書中、「アラルキル」とは、前記「アルキル」に前記「アリ−ル」が１または２以上置換したものを包含し、これらは可能な全ての位置で置換しうる。例えば、ベンジル、フェニルエチル（例えば、２−フェニルエチル等）、フェニルプロピル（例えば、３−フェニルプロピル等）、ナフチルメチル（例えば、１−ナフチルメチル、２−ナフチルメチル等）、アントリルメチル（例えば、９−アントリルメチル等）等が挙げられる。例えば、ベンジル、フェニルエチルが挙げられる。
本明細書中、「アラルキルオキシ」としては、ベンジルオキシ、フェニルエチルオキシ（例えば、２−フェニルエチルオキシ等）、フェニルプロピルオキシ（例えば、３−フェニルプロピルオキシ等）、ナフチルメチルオキシ（例えば、１−ナフチルメチル、２−ナフチルメチルオキシ等）、アントリルメチルオキシ（例えば、９−アントリルメチルオキシ等）等が挙げられる。例えば、ベンジルオキシ、フェニルエチルオキシが挙げられる。
本明細書中、「アラルキルオキシカルボニル」としては、ベンジルオキシカルボニル、フェニルエチルオキシカルボニル（例えば、２−フェニルエチルオキシカルボニル等）、フェニルプロピルオキシカルボニル（例えば、３−フェニルプロピルオキシカルボニル等）、ナフチルメチルオキシカルボニル（例えば、１−ナフチルメチル、２−ナフチルメチルオキシカルボニル等）、アントリルメチルオキシカルボニル（例えば、９−アントリルメチルオキシカルボニル等）等が挙げられる。例えば、ベンジルオキシカルボニル、フェニルエチルオキシカルボニルが挙げられる。【００１３】
本明細書中、単独でもしくは他の用語と組み合わせて用いられる「ヘテロアリール」とは、任意に選ばれる、酸素原子、硫黄原子又は窒素原子を環内に１個以上含む５〜６員の芳香環基を包含する。これは前記「アリール」もしくは他のヘテロアリールと可能な全ての位置で縮合していてもよい。ヘテロアリールが単環および縮合環のいずれである場合も、すべての可能な位置で結合しうる。例えば、ピロリル（例えば、１−ピロリル、２−ピロリル、３−ピロリル）、フリル（例えば、２−フリル、３−フリル）、チエニル（例えば、２−チエニル、３−チエニル）、イミダゾリル（例えば、２−イミダゾリル、４−イミダゾリル）、ピラゾリル（例えば、１−ピラゾリル、３−ピラゾリル）、イソチアゾリル（例えば、３−イソチアゾリル）、イソオキサゾリル（例えば、３−イソオキサゾリル）、オキサゾリル（例えば、２−オキサゾリル）、チアゾリル（例えば、２−チアゾリル、５−チアゾリル）、ピリジル（例えば、２−ピリジル、３−ピリジル、４−ピリジル）、ピラジニル（例えば、２−ピラジニル）、ピリミジニル（例えば、２−ピリミジニル、４−ピリミジニル）、ピリダジニル（例えば、３−ピリダジニル）、トリアゾリル、テトラゾリル（例えば、１Ｈ−テトラゾリル）、オキサジアゾリル（例えば、１，３，４−オキサジアゾリル）、チアジアゾリル（例えば、１，３，４−チアジアゾリル）、インドリジニル（例えば、２−インドリジニル、６−インドリジニル）、イソインドリル（例えば、２−イソインドリル）、インドリル（例えば、１−インドリル、２−インドリル、３−インドリル）、インダゾリル（例えば、３−インダゾリル）、プリニル（例えば、８−プリニル）、キノリジニル（例えば、２−キノリジニル）、イソキノリル（例えば、３−イソキノリル）、キノリル（例えば、２−キノリル、５−キノリル）、フタラジニル（例えば、１−フタラジニル）、ナフチリジニル（例えば、２−ナフチリジニル）、キナゾリニル（例えば、２−キナゾリニル）、シンノリニル（例えば、３−シンノリニル）、プテリジニル（例えば、２−プテリジニル）、カルバゾリル（例えば、２−カルバゾリル、４−カルバゾリル）、フェナントリジニル（例えば、２−フェナントリジニル、３−フェナントリジニル）、アクリジニル（例えば、１−アクリジニル、２−アクリジニル）、ジベンゾフラニル（例えば、１−ジベンゾフラニル、２−ジベンゾフラニル）、ベンゾイミダゾリル（例えば、２−ベンゾイミダゾリル）、ベンゾイソオキサゾリル（例えば、３−ベンゾイソオキサゾリル）、ベンゾオキサゾリル（例えば、２−ベンゾオキサゾリル）、ベンゾオキサジアゾリル（例えば、４−ベンゾオキサジアゾリル）、ベンゾイソチアゾリル（例えば、３−ベンゾイソチアゾリル）、ベンゾチアゾリル（例えば、２−ベンゾチアゾリル）、ベンゾフリル（例えば、３−ベンゾフリル）、ベンゾチエニル（例えば、２−ベンゾチエニル）、４，５−ジヒドロナフト［１，２−ｄ］チアゾリル、４Ｈ−クロメノ［４，３−ｄ］チアゾリル、４Ｈ−チオクロメノ［４，３−ｄ］チアゾリル、４，５−ジヒドロチアゾロ［５，４−ｃ］キノリル、８Ｈ−インデノ［１，２−ｄ］チアゾリル、５，６−ジヒドロ−４Ｈ−３−チア−１−アザ−ベンゾ［ｅ］アズレニル等が挙げられる。【００１４】
本明細書中、単独でもしくは他の用語と組み合わせて用いられる「ヘテロサイクリル」なる用語は、任意に選ばれる、酸素原子、硫黄原子又は窒素原子を環内に１個以上含む非芳香族の５〜７員環またはそれに別の１以上の「ヘテロサイクリル」もしくは「ヘテロアリール」が縮合した環から誘導される基を包含する。例えば、ピロリジニル（例えば、１−ピロリジニル、２−ピロリジニル）、ピロリニル（例えば、３−ピロリニル）、イミダゾリジニル（例えば、２−イミダゾリジニル）、イミダゾリニル（例えば、イミダゾリニル）、ピラゾリジニル（例えば、１−ピラゾリジニル、２−ピラゾリジニル）、ピラゾリニル（例えば、ピラゾリニル）、ピペリジル（例えば、ピペリジノ、２−ピペリジル）、ピペラジニル（例えば、１−ピペラジニル、２−ピペラジニル）、インドリニル（例えば、１−インドリニル）、イソインドリニル（例えば、イソインドリニル）、モルホリニル（例えば、モルホリノ、２−モルホリニル、３−モルホリニル）、テトラヒドロフラニル、ジヒドロピラニル、テトラヒドロピラニル、ジオキソラニル、テトラヒドロチエニル、ジヒドロチオピラニル、テトラヒドロチオフラニル、デカヒドロイソキノリル、アゼピニル、オキセピニル、ジヒドロオキセピニル、テトラヒドロオキセピニル、オキセパニル、４，５，６，７−テトラヒドロチエノ［３，２］ピリジル、２−オキサ−５−アザ−ビシクロ［２．２．１］ヘプタ−５−イル、ヘキサヒドロピラジル［２．１−ｂ］［１，３］オキサジン−８−イル等が挙げられる。
本明細書中、Ｒ５におけるヘテロサイクリルとしては、モルホリニル、アゼチジニル、ピロリジニル、ピペラジニルが挙げられる。
本明細書中、前記「ハロゲン」によって１〜８箇所、例えば１〜５箇所置換された前記「アルキル」を包含する。例えば、トリフルオロメチル、トリクロロメチル、ジフルオロエチル、トリフルオロエチル、ジクロロエチル、トリクロロエチル等が挙げられる。例えば、前記「ハロゲン」によって１〜５箇所置換されたＣ１〜Ｃ６アルキルが挙げられる。
本明細書中、単独でもしくは他の用語と組み合わせて用いられる「シクロアルキル」とは、炭素原子数が３〜８個であるシクロアルキルを包含する。例えば、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチルが挙げられる。例えば、Ｃ５〜Ｃ６シクロアルキルが挙げられる。
本明細書中、「アシル」とは、ホルミル、アルキル部分が前記「アルキル」であるアルキルカルボニル、ハロアルキル部分が前記「ハロアルキル」であるハロアルキルカルボニル、アルケニル部分が前記「アルケニル」であるアルケニルカルボニル、アラルキル部分が前記「アラルキル」であるアラルキルカルボニル、アリール部分が前記「アリール」であるアリールカルボニル、ヘテロアリール部分が前記「ヘテロアリール」であるヘテロアリールカルボニル、ヘテロサイクリル部分が前記「ヘテロサイクリル」であるヘテロサイクリルカルボニル、またはシクロアルキル部分が後記「シクロアルキル」であるシクロアルキルカルボニルを包含する。例えば、アセチル、プロピオニル、ブチロイル、トリフルオロメチルカルボニル、ビニルカルボニル、フェニルアセチル、ベンゾイル等が挙げられる。「アルキル」、「アルケニル」、「アリール」、「ヘテロアリール」、「ヘテロサイクリル」および「シクロアルキル」は後述のそれぞれの置換基によって置換されていてもよい。【００１５】
「置換アルキル」、「置換アルケニル」、「置換アルキニル」、「置換アルキルオキシ」、「置換アルキルオキシカルボニル」、「置換アルケニルオキシ」、「置換アルケニルオキシカルボニル」、「置換アルキニルオキシ」、「置換アルキレン」、「置換アラルキルオキシカルボニル」、「置換アリール」、「置換ヘテロアリール」、「置換ヘテロサイクリル」、「置換アシル」、「置換シクロアルキル」および「置換アミノ」における置換基としては、例えば、ヒドロキシ、カルボキシ、ハロゲン、ハロアルキル（例：ＣＦ３、ＣＨ２ＣＦ３、ＣＨ２ＣＣｌ３）、アルキル（例：メチル、エチル、イソプロピル、ｔｅｒｔ−ブチル）、アルケニル（例：ビニル）、アルキニル（例：エチニル）、シクロアルキル（例：シクロプロピル）、シクロアルケニル（例：シクロプロペニル）、アルキルオキシ（例：メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ）、ハロアルキルオキシ（例：ＯＣＦ３）、アルケニルオキシ（例：ビニルオキシ、アリルオキシ）、アリールオキシ（例：フェノキシ）、アルコキシカルボニル（例：メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）、ニトロ、ニトロソ、置換されていてもよいアミノ（例：アルキルアミノ（例：メチルアミノ、エチルアミノ、ジメチルアミノ）、アシルアミノ（例：アセチルアミノ、ベンゾイルアミノ）、アラルキルアミノ（例：ベンジルアミノ、トリチルアミノ）、ヒドロキシアミノ、アルコキシカルボニルアミノ、アルキルスルホニルアミノ、カルバモリルアミノ、ヘテロサイクリルカルボニルアミノ、アリールスルホニルアミノ）、アジド、アリール（例：フェニル）、アラルキル（例：ベンジル）、シアノ、イソシアノ、イソシアナト、チオシアナト、イソチオシアナト、メルカプト、アルキルチオ（例：メチルチオ）、アルキルスルホニル（例：メタンスルホニル、エタンスルホニル）、アルキルスルホニルオキシ（例：メタンスルホニルオキシ、エタンスルホニルオキシ）、置換されていてもよいカルバモイル（例：アルキルカルバモイル（例：メチルカルバモイル、エチルカルバモイル、ジメチルカルバモイル）、アルキルスルホニルカルバモイル）、スルファモイル、アシル（例：ホルミル、アセチル）、ホルミルオキシ、ハロホルミル、オキザロ、チオホルミル、チオカルボキシ、ジチオカルボキシ、チオカルバモイル、スルフィノ、スルフォ、スルホニル、スルフィニル、スルホアミノ、ヒドラジノ、アジド、ウレイド、アミジノ、グアニジノ、フタルイミド、オキソ、シクロアルキル、シクロアルケニル、アリール、ヘテロアリール、ヘテロサイクリル、アルキレン、置換されていてもよいアルキレンジオキシ（−Ｏ−ＣＨ２−Ｏ−、−Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｏ−、−Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｏ−等）、ヘテロアリールオキシ、ヘテロサイクリルオキシ、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、ヘテロアリールオキシカルボニル、ヘテロサイクリルオキシカルボニル、アルキルカルボニルオキシ、アリールカルボニルオキシ、ヘテロアリールカルボニルオキシ、ヘテロサイクリルカルボニルオキシ、アルキルカルボニル、アリールカルボニル、ヘテロアリールカルボニル、ヘテロサイクリルカルボニル、アルキルチオ、アリールチオ、ヘテロアリールチオ、ヘテロサイクリルチオ、アルキルスルホニル、アリールスルホニル、ヘテロアリールスルホニル、ヘテロサイクリルスルホニル、チオカルバモイル」、「スルファモイル」等からなる群から選択される。１〜４個の当該置換基で置換されていてもよい。
Ｒ５における「置換アミノ」の置換基としては、例えば、アルキル（ヒドロキシアルキル、アルキルオキシアルキルを包含する。）、シクロアルキルなどが挙げられる。
Ｒ５における「置換ヘテロサイクリル」の置換基としては、例えば、ヒドロキシなどが挙げられる。
本明細書中、「ヒドロキシアルキル」、「アリールオキシカルボニル」、「アリールカルボニルオキシ」、「アルキルカルボニル」、「アルキルチオ」、「アルキルスルホニル」のアルキル部分は、前記「アルキル」を意味する。
本明細書中、「ヘテロアリールオキシカルボニル」、「ヘテロアリールカルボニルオキシ」、「ヘテロアリールカルボニル」、「ヘテロアリールチオ」、「ヘテロアリールスルホニル」のヘテロアリール部分は、前記「ヘテロアリール」を意味する。
本明細書中、「ヘテロサイクリルオキシカルボニル」、「ヘテロサイクリルカルボニルオキシ」、「ヘテロサイクリルカルボニル」、「ヘテロサイクリルチオ」、「ヘテロサイクリルスルホニル」のヘテロサイクリル部分は、前記「ヘテロサイクリル」を意味する。【００１６】
本明細書中、「有機溶媒」とは、アルコール類、エーテル類、炭化水素類、ハロゲン系溶媒、極性溶媒等が含まれる。例えば、アルコール類としては、メタノール、エタノール、１−プロパノール、2−プロパノール、1−ブタノール、２−ブタノール、3−ブタノール等が挙げられる。エーテル類としては、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、シクロペンチルメチルエーテル（ＣＰＭＥ）、ジエチルエーテル、メチルtert-ブチルエーテル等が挙げられる。炭化水素類としては、トルエン、ヘプタン、シクロヘキサン等が挙げられる。ハロゲン系溶媒としては、ジクロロメタン、クロロホルム等が挙げられる。極性溶媒としては、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ＮＭＰ等が挙げられる。その他、酢酸エチル、アセトン、アセトニトリル等が挙げられる、また、前記溶媒を混合して使用することもできる。前記有機溶媒は必ずしも脱水処理を必要とせず、脱水処理が必要な場合は、有機溶媒の蒸留または脱水剤の使用により脱水処理を行うことができる。例えば、脱水剤としては、モレキュラーシーブスが挙げられ、モレキュラーシーブスの３Ａ、４Ａ、５Ａ、１３Ａ等が好ましい。【００１７】
本明細書中、一般式（Ｉ）、（ＩＩＩ）、（ＩＶ）および（Ｖ）で示される化合物は塩を形成していてもよい。例えば、該化合物とアルカリ金属（リチウム、ナトリウム、カリウム等）、アルカリ土類金属（マグネシウム、カルシウム等）、アンモニウム、有機塩基およびアミノ酸との塩、または無機酸（塩酸、臭化水素酸、リン酸、硫酸等）、および有機酸（酢酸、クエン酸、マレイン酸、フマル酸、ベンゼンスルホン酸、パラトルエンスルホン酸等）との塩が挙げられる。これらの塩は、通常行われる方法によって形成させることができる。
また、該化合物は溶媒和物を形成していてもよい。例えば有機溶媒との溶媒和物、水和物等を包含する。有機溶媒との溶媒和物を形成する時は、任意の数の有機溶媒分子と配位していてもよい。水和物を形成する時は、任意の数の水分子と配位していてもよい。
本発明の連続製造法は、例えばＲ２として、式：−Ｙ−Ｒｙ（式中、Ｙは、−Ｏ−を介在してもよいアルキレン；Ｒｙは、置換基群ｐ（置換基群ｐ：ハロゲン、カルボキシ、アルキル、ハロアルキル、ヒドロキシアルキル、アルキルオキシ、アルキルオキシカルボニルおよび置換もしくは非置換のアミノ）から選択される置換基で置換されたフェニルもしくは非置換のフェニル、置換基群ｐから選択される置換基で置換されたピリジルもしくは非置換のピリジル、置換基群ｐから選択される置換基で置換されたフリルもしくは非置換のフリル、置換基群ｐから選択される置換基で置換されたチエニルもしくは非置換のチエニル、置換基群ｐから選択される置換基で置換されたチアゾリルもしくは非置換のチアゾリル、または置換基群ｐから選択される置換基で置換されたオキサゾリルもしくは非置換のオキサゾリル）で示される基；
Ｒ３が、置換もしくは非置換のアルキニル、置換もしくは非置換のアルキルオキシまたはハロゲン；および
Ｒ４が、水素原子；
である場合、より好適に反応を行うことができる。
例えば下記スキーム
【化２４】
2010074150.tif 000025
で示される製造法である。
【実施例１】
【００１８】
実施例１−１
４−（３−クロロ−４−（３−フルオロベンジルオキシ）フェニルアミノ）−６−（１−
オキソ−２−ブチン−１−イル）キナゾリン（ＩＶ）の製造
【化２５】
2010074150.tif 000026
メトキシカルボニル体（I-1）（２０．０ｋｇ）とＮ、Ｏ−ジメチルヒドロキシルアミン塩酸塩（４．９ｋｇ、１．１当量）にテトラヒドロフラン（１００Ｌ）を加えて攪拌し、０℃まで冷却した。シクロヘキシルマグネシウムクロリド（２０．９ｋｇ、３．２当量）のテトラヒドロフラン溶液を滴下した後、５５℃で１−プロピニルマグネシウムブロミド（９．８ｋｇ、１．５当量）のテトラヒドロフラン溶液を加えておよそ３時間攪拌した後、室温まで冷却した。あらかじめ０℃まで冷却しておいた、濃塩酸（２２．４ｋｇ、４．７当量）を含むメタノール−水混合液に反応液を滴下し、続いて水２００Ｌを加えて５℃で３０分攪拌した。懸濁液のｐＨを３．５に調整した後に濾過し、結晶を冷却したテトラヒドロフラン水溶液およびメタノールで洗浄することにより化合物（ＩＶ）（１９．０ｋｇ、収率９３％）を得た。
１Ｈ-ＮＭＲ（３００  ＭＨｚ、ＣＤＣｌ３）δ2.22 (s、3H)、5.18 (s、2H)、6.99-7.06 (m、2H)、 7.20-7.25 (m、2H)、7.33-7.40 (m、1H)、7.53 (dd、1H、J=8.7、2.5Hz)、7.73 (s、1H)、7.90 (d、1H、J=2.6Hz)、7.96 (d、1H、J=8.6、1.7Hz)、8.52 (dd、1H、J=8.6、1.7Hz)、8.73 (d、1H、J=1.7Hz)、8.79 (s、1H).
元素分析：
計算値: C, 64.73; H, 4.13; N, 9.06; Cl, 7.64; F, 4.10
実測値: C, 64.45; H, 4.10; N, 8.90; Cl, 7.65; F, 3.54. （1.0H2O）
実施例１−２
メトキシカルボニル体（I-1）（１０．０ｇ）とＮ、Ｏ−ジメチルヒドロキシルアミン塩酸塩（２．４５ｇ、１．１当量）にテトラヒドロフラン（５０ｍＬ）を加えて攪拌し、０℃まで冷却した。シクロヘキシルマグネシウムブロミド（１４．１ｇ、３．３当量）のテトラヒドロフラン溶液を滴下した後、５５℃で１−プロピニルマグネシウムブロミド（４．９ｇ、１．５当量）のテトラヒドロフラン溶液を加えておよそ３時間攪拌した後、室温まで冷却した。あらかじめ０℃まで冷却しておいた、濃塩酸（１１．９ｇ、４．７当量）を含むメタノール−水混合液に反応液を滴下し、続いて水１００ｍＬを加えて５℃で３０分攪拌し，懸濁液のｐＨを３．５に調整した後に濾過した。濾過した結晶をテトラヒドロフラン−メタノール混合液（３３０ｍｌ）に溶解させた。溶液を減圧濃縮した後にメタノールを加え，０℃まで冷却した後に濾過することにより化合物（ＩＶ）（８．６ｇ、収率８５％）を得た。
元素分析：
計算値: C, 66.80; H, 3.90; N, 9.35; Cl, 7.89; F, 4.23. 
実測値: C, 66.80; H, 4.02; N, 9.34; Cl, 7.82; F, 4.02.（0.2H2O）
粉末Ｘ線回折パターンの測定
各実施例で得られた結晶の粉末Ｘ線回折測定は、日本薬局方の一般試験法に記載された粉末Ｘ線回折測定法に従い、以下の測定条件で行った。
（装置）
ＲＩＮＴ  Ｘ−ｒａｙ  Ｄｉｆｆｒａｃｔｏｍｅｔｅｒ  （  ＴＴＲ  ＩＩＩ  ）
（操作方法）
試料について、以下の条件で測定を行った。
測定法：反射法
光源の種類：Ｃｕ管球
使用波長：ＣｕＫα線
管電流：３００ｍＡ
管電圧：５０Ｋｖ
試料プレート：アルミ
粉末Ｘ線回折の結果を表１、表２および図１に示す。表１および図１は実施例１−１で得られた化合物（IV）、表２は実施例１−２で得られた化合物（IV）の各測定結果である。
【表１】
2010074150.tif 000027
主なピークの回折角：２θ＝５．６±０．２°、７．６±０．２°、１１．６±０．２°、１９．１±０．２°、２５．０±０．２°、２５．７±０．２°
【表２】
2010074150.tif 000028
主なピークの回折角：２θ＝１２．２±０．２°、１３．５±０．２°、１３．８±０．２°、１８．４±０．２°、１８．７±０．２°、２０．２±０．２°、２１．８±０．２°、２２．０±０．２°、２９．３±０．２°、２９．７±０．２°
実施例２
４−（３−クロロ−４−（３−フルオロベンジルオキシ）フェニルアミノ）−６−（１−（（Ｓ）−モルホリン−２−イルメトキシイミノ）−２−ブチン−１−イル）キナゾリン・二塩酸塩（ＶＩ-1）の製造
【化２６】
2010074150.tif 000029
（１）  上記実施例１に従って化合物（ＩＶ）を製造した。
（２）  ４−（３−クロロ−４−（３−フルオロベンジルオキシ）フェニルアミノ）−６−（１−（（Ｓ）−モルホリン−２−イルメトキシイミノ）−２−ブチン−１−イル）キナゾリン・二塩酸塩の合成
４−（３−クロロ−４−（３−フルオロベンジルオキシ）フェニルアミノ）−６−（１−オキソ−２−ブチン−１−イル）キナゾリン（ＩＶ）（７８６ｍｇ）と（Ｓ）−２−アミノオキシメチル−モルホリン−４−カルボン酸  ｔｅｒｔ−ブチルエステル６１４ｍｇの１，４−ジオキサン３１ｍｌ懸濁液に、２ｍｏｌ／Ｌメタンスルホン酸水溶液２．２１ｍｌを加えて８０℃で２２時間撹拌した。２ｍｏｌ／Ｌメタンスルホン酸水溶液１．３２ｍｌを追加してさらに５．５時間撹拌した。反応終了後、反応液を氷−炭酸水素ナトリウム水溶液中に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。水層を酢酸エチルで再抽出後、すべての有機層を合わせて水洗後、無水硫酸マグネシウム上で乾燥した。ろ液を濃縮後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム：メタノール＝９：１で溶出）で精製することにより黄色油状物を得た。この油状物を酢酸エチル５０ｍｌに溶解させてろ過後、撹拌しながら４ｍｏｌ／Ｌ塩酸−酢酸エチル溶液０．９５ｍｌを加え、室温で１時間撹拌した。析出物をろ取後、酢酸エチル、ヘキサンの順で洗浄した。ろ取物をメタノール−酢酸エチルにより再結晶をすることにより４−（３−クロロ−４−（３−フルオロベンジルオキシ）フェニルアミノ）−６−（１−（（Ｓ）−モルホリン−２−イルメトキシイミノ）−２−ブチン−１−イル）キナゾリン・二塩酸塩（ＶＩ-1）（８３９ｍｇ）を黄色結晶として得た。
１Ｈ-ＮＭＲ（ｄ６−ＤＭＳＯ，δ）: 11.69(1H, bs), 9.49-9.37(2H, m), 9.05(1H, s), 8.88(1H, s), 8.38(1H, dd, J=1.5Hz, J=8.7Hz), 7.96(1H, d, J=8.7Hz), 7.89(1H, d, J=2.7Hz), 7.64(1H, dd, J=2.4Hz, J=9.0Hz), 7.52-7.45(1H, m), 7.36-7.30(3H, m), 7.23-7.16(1H, m), 5.31(2H, s), 4.36-4.34(1H, m), 4.25-4.22(1H, m), 4.04-3.98(1H, m), 3.84-3.77(1H, m), 3.04-2.85(3H, m), 2.28(3H, s).
実施例３
４−（３−クロロ−４−（３−フルオロベンジルオキシ）フェニルアミノ）−６−（１−（２−エチルアミノエトキシイミノ）−２−ブチン−１−イル）キナゾリン（VI-4）の製造
【化２７】
2010074150.tif 000030
（１）  上記実施例１に従って化合物（ＩＶ）を製造した。
（２）  ４−（３−クロロ−４−（３−フルオロベンジルオキシ）フェニルアミノ）−６−（１−（２−ヒドロキシエトキシイミノ）−２−ブチン−１−イル）キナゾリン（ＶＩＩＩ）の合成
４−（３−クロロ−４−（３−フルオロベンジルオキシ）フェニルアミノ）−６−（１−オキソ−２−ブチン−１−イル）キナゾリン（ＩＶ）（１０ｇ）を１，４−ジオキサン３００ｍｌに溶解させ、１．５当量の２−（アセトキシ）エトキシアミンを加えた後、２ｍｏｌ／Ｌメタンスルホン酸水溶液２８ｍｌを加えて６０℃で１７時間攪拌した。反応液を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液に注ぎ、混合液を酢酸エチルで抽出した。有機層を水洗後、硫酸ナトリウム上で乾燥した。ろ液を濃縮した残渣を含水エタノール−水より再結晶後、ろ取、乾燥することにより４−（３−クロロ−４−（３−フルオロベンジルオキシ）フェニルアミノ）−６−（１−（２−ヒドロキシエトキシイミノ）−２−ブチン−１−イル）キナゾリン（ＶＩＩＩ）（７．６ｇ）を無色固体として得た。
1H NMR(d6-DMSO，δ): 10.07(1H, s), 8.74(1H, s), 8.58(1H, s), 8.22(1H, d, J=8.8Hz), 7.96(1H, d, J=2.4Hz), 7.80(1H, d, J=8.8Hz), 7.69(1H, dd, J=2.4Hz, J=8.8Hz), 7.50-7.45(1H, m), 7.35-7.24(3H, m), 7.20-7.16(1H, m), 5.27(2H, s), 4.79(1H, t. J=5.6Hz), 4.29(2H, t. J=5.6Hz), 3.75(2H, dd, J=5.2Hz, J=10.4Hz), 2.26(3H, s).【００１９】
（３）  ４−（３−クロロ−４−（３−フルオロベンジルオキシ）フェニルアミノ）−６−（１−（２−スルホニルオキシエトキシイミノ）−２−ブチン−１−イル）キナゾリン（ＩＸ）の合成
４−（３−クロロ−４−（３−フルオロベンジルオキシ）フェニルアミノ）−６−（１−（２−ヒドロキシエトキシイミノ）−２−ブチン−１−イル）キナゾリン（ＶＩＩＩ）（７．６ｇ）をテトラヒドロフラン１５０ｍｌに溶かし、トリエチルアミン４．１９ｍｌと塩化メタンスルホニル２．３３ｍｌを加え３．５時間攪拌した。反応終了後に反応液を水に注ぎ、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加えて、酢酸エチルで抽出した。有機層を硫酸ナトリウム上で乾燥し、ろ液を濃縮した。濃縮残渣に酢酸エチルを加え室温で静置すると結晶が析出したのでヘキサンで希釈後、結晶をろ取することにより４−（３−クロロ−４−（３−フルオロベンジルオキシ）フェニルアミノ）−６−（１−（２−スルホニルオキシエトキシイミノ）−２−ブチン−１−イル）キナゾリン（ＩＸ）（７．６６ｇ）を淡黄色結晶として得た。
1H NMR(d6-DMSO，δ): 10.07(1H, s), 8.77(1H, s), 8.60(1H, s), 8.24(1H, d, J=8.8Hz), 7.97(1H, d, J=2.4Hz), 7.81(1H, d, J=8.8Hz), 7.69(1H, dd, J=2.4Hz, J=8.8Hz), 7.51-7.45(1H, m), 7.35-7.27(3H, m), 7.21-7.17(1H, m), 5.27(2H, s), 4.58(2H, t. J=4.8Hz), 4.54(2H, t. J=4.8Hz), 3.24(3H, s), 2.27(3H, s).【００２０】
（４）  ４−（３−クロロ−４−（３−フルオロベンジルオキシ）フェニルアミノ）−６−（１−（２−エチルアミノエトキシイミノ）−２−ブチン−１−イル）キナゾリン（ＶＩ−４）の合成
４−（３−クロロ−４−（３−フルオロベンジルオキシ）フェニルアミノ）−６−（１−（２−スルホニルオキシエトキシイミノ）−２−ブチン−１−イル）キナゾリン（ＩＸ）（１００ｍｇ）をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド３ｍｌに溶解し、７０％エチルアミン水溶液を１６０μｌ加え、６０℃で１４時間攪拌した。反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を硫酸マグネシウム上で乾燥し、ろ液の濃縮残渣をアミノカラムを用いたクロマトグラフィー（酢酸エチルで溶出）により精製することにより４−（３−クロロ−４−（３−フルオロベンジルオキシ）フェニルアミノ）−６−（１−（２−エチルアミノエトキシイミノ）−２−ブチン−１−イル）キナゾリン（ＶＩ−４）（５３ｍｇ）を無色固体として得た。
1H NMR(d6-DMSO，δ): 10.08(1H, s), 8.74(1H, s), 8.59(1H, s), 8.21(1H, d, J=8.4Hz), 7.96(1H, s), 7.80(1H, d, J=8.8Hz), 7.69(1H, d, J=8.0Hz), 7.51-7.45(1H, m), 7.35-7.27(3H, m), 7.21-7.16(1H, m), 5.27(2H, s), 4.31(2H, t. J=5.6Hz), 2.89(2H, t, J=6.0Hz), 2.61(2H, q, J=7.2Hz), 2.26(3H, s), 1.02(3H, t, J=7.6Hz).【００２１】
上記のアミノ化では市販品として入手可能であるアミンまたはJ. Syn. Org. Chem., Jpn., 2001, 59 : 779-789.、Tetrahedron Lett., 1995, 36 : 6373-6374.、Synlett, 1999 : 1301-1303.、Tetrahedron, 2002, 58 : 6267-6276.に記載の方法に従って合成できるアミンまたはその塩を使用できる。
実施例４
【化２８】
2010074150.tif 000031
上記実施例と同様にして、化合物（VI-5）〜（VI -20）を製造した。【００２２】
【表３】
2010074150.tif 000032
【００２３】
【表４】
2010074150.tif 000033
【００２４】
【表５】
2010074150.tif 000034
試験例１
結晶の安定性試験
化合物（ＩＶ）の一水和物の結晶をガラスバイアル瓶に密封し、室温で20日間放置し、放置前後の品質の変化を確認した。また，50℃(21時間)および80℃(9時間)の加熱下でも品質の変化を確認した。
化合物（ＩＶ）の一水和物の結晶は20日間放置でも品質の劣化は見られなかった。また、50℃、80℃加熱下でも品質の劣化は見られなかった。
表６に室温(22℃付近)での化合物（ＩＶ）の一水和物結晶の残存率の結果、表７に室温(50℃)での化合物（ＩＶ）の一水和物結晶の残存率の結果および表８に室温(80℃)での化合物（ＩＶ）の一水和物結晶の残存率の結果を示した。
ＨＰＬＣ条件：カラムＵｎｉｓｏｎ  ＵＫ−Ｃ１８  ３μｍ；
移動相  ０．１％トリフルオロ酢酸水溶液／アセトニトリル；
カラム温度  ３０℃
検出器  紫外吸光光度計（２５４ｎｍ）
【表６】
2010074150.tif 000035
【表７】
2010074150.tif 000036
【表８】
2010074150.tif 000037
試験例２
結晶の安定性試験
化合物（ＩＶ）の無水和物の結晶または化合物（ＩＶ）の一水和物の結晶を二重ポリ袋に入れてコンベックスで密封し、長期安定性試験（温度：２５℃±２℃，湿度：６５％±５％ＲＨ，光：遮光）、または加速試験（温度：４０℃±２℃，湿度：７５％±５％ＲＨ，光：遮光）を行うことにより、結晶の安定性を調べることができる。試験開始日より２週毎〜３ヶ月毎の範囲で絶対検量線法によるＨＰＬＣ法で、化合物（ＩＶ）の残存率を測定して、安定性を調べることができる。例えば、下記のＨＰＬＣ条件で残存率を測定することができる。
ＨＰＬＣ条件：カラムＵｎｉｓｏｎ  ＵＫ−Ｃ１８  ３μｍ；
移動相  ０．１％トリフルオロ酢酸水溶液／０．１％トリフルオロ酢酸アセトニトリル溶液；
カラム温度  １５℃
検出器  紫外吸光光度計（３５５ｎｍ）
【産業上の利用可能性】
【００２５】
本発明の連続製造法により、デュアルチロシンキナーゼ阻害剤の製造中間体として有用な化合物（ＩＩＩ）を実質的に一工程で製造することができる。
【図１】
2010074150.tif 000045
【国際調査報告】
2010074150.tif 000046
2010074150.tif 000047
2010074150.tif 000048
2010074150.tif 000049