【事件の表示】
　特願２０１７−５４４５９０「核磁気共鳴コイルの配置のためのシステム及び方法」拒絶査定不服審判事件〔平成２８年　９月　１日国際公開、ＷＯ２０１６／１３４４３７、平成３０年　３月　１日国内公表、特表２０１８−５０５７５１、請求項の数（１５）〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　原査定を取り消す。
　本願の発明は、特許すべきものとする。
【理　由】
第１　手続の経緯
　本願は、２０１５年（平成２７年）２月２３日を国際出願日とする出願であって、平成３０年１０月３１日付けで拒絶理由が通知され、平成３１年２月７日付けで意見書及び手続補正書が提出され、同年２月２７日付けで拒絶査定（以下「原査定」という。）されたところ、同年６月２７日に拒絶査定不服審判の請求がなされたものである。
第２　原査定の概要
　原査定の概要は次のとおりである。
　本願請求項１，３及び４に係る発明は、以下の引用文献１、２に基づいて、その発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者（以下、「当業者」という。）が容易に発明できたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
引用文献等一覧
１.米国特許第０７４１４４０１号明細書
２.特表２０１５−５００１２７号公報（周知技術を示す文献）
第３　本願発明
　本願請求項１〜１５に係る発明（以下、それぞれ「本願発明１」〜「本願発明１５」という。）は、平成３１年２月７日付けの手続補正で補正された特許請求の範囲の請求項１〜１５に記載された事項により特定される発明であり、以下のとおりの発明である。
「　　【請求項１】
　核磁気共鳴画像法（ＭＲＩ）システムにおいて使用するための一体型磁石装置であって、
　一次磁場シフト用磁石及び磁場シフト用遮蔽磁石を含む磁場シフト用電磁石であって、前記一次磁場シフト用磁石は、前記磁場シフト用遮蔽磁石よりも撮像ボリュームの近くに配置される、磁場シフト用電磁石と、
　前記一次磁場シフト用磁石と前記磁場シフト用遮蔽磁石との間に配置される傾斜磁場コイルと、
　前記磁場シフト用電磁石、及び前記傾斜磁場コイルに対する機械的支持を提供する、少なくとも１つの基材層と、
　少なくとも１つの冷却機構であって、
　部分的には、冷却剤を受容する中空導体から、前記傾斜磁場コイル、前記一次磁場シフト用磁石、及び前記磁場シフト用遮蔽磁石のうちの少なくとも１つを形成することを含み、
　前記傾斜磁場コイル、前記一次磁場シフト用磁石、及び前記磁場シフト用遮蔽磁石のうちの少なくとも１つに隣接して配置される冷却剤層を含み、
　前記冷却剤層は、冷却剤副層と、
　前記冷却剤副層と、前記傾斜磁場コイル、前記一次磁場シフト用磁石、及び前記磁場シフト用遮蔽磁石のうちのいずれかとの間に配置される、少なくとも１つの熱伝導性副層と、を更に含むものである、冷却機構と、
を含む、装置。
　　【請求項２】
　前記冷却剤副層は、冷却剤の循環を可能とする機構を含む、請求項１に記載の装置。
　　【請求項３】
　前記傾斜磁場コイルは、
　一次傾斜磁石と遮蔽傾斜磁石を更に含み、前記一次傾斜磁石は、撮像する物体のより近くに配置される、請求項１に記載の装置。
　　【請求項４】
　前記装置は、円筒状であり、前記円筒の内側は、撮像ボリュームを形成し、前記傾斜磁場コイル、前記一次磁場シフト用磁石、及び前記磁場シフト用遮蔽磁石は、前記円筒の長さ方向に沿って延びる前記円筒の円形層を形成する、請求項１に記載の装置。
　　【請求項５】
　前記一次磁場シフト用磁石は、内層を形成し、前記磁場シフト用遮蔽磁石は、外層を形成し、前記傾斜磁場コイルは、少なくとも１つの中間層を形成する、請求項４に記載の装置。
　　【請求項６】
　前記内層、中間層、及び外層はそれぞれ、冷却剤層で分離されている、請求項５に記載の装置。
　　【請求項７】
　デルタ緩和核磁気共鳴画像法（ＤＲＥＭＲ）システムであって、
　撮像ボリュームにおいて、静磁場を生成する主磁石と、
　前記主磁石のボア内に配置される一体型磁石装置と、を含み、前記一体型磁石装置は、
　　一次磁場シフト用磁石及び磁場シフト用遮蔽磁石を含む磁場シフト用電磁石であって、前記一次磁場シフト用磁石は、前記磁場シフト用遮蔽磁石よりも撮像ボリュームの近くに配置される、磁場シフト用電磁石と、
　　前記一次磁場シフト用磁石と前記磁場シフト用遮蔽磁石との間に配置される傾斜磁場コイルと、
　　前記磁場シフト用電磁石、及び前記傾斜磁場コイルに対する機械的支持を提供する、少なくとも１つの基材層と、
　　少なくとも１つの冷却機構と、を含む、ＤＲＥＭＲシステム。
　　【請求項８】
　前記冷却機構は、部分的には、冷却剤を受容する中空導体から、前記傾斜磁場コイル、前記一次磁場シフト用磁石、及び前記磁場シフト用遮蔽磁石のうちの少なくとも１つを形成することを含む、請求項７に記載のＤＲＥＭＲシステム。
　　【請求項９】
　前記冷却機構は、
　前記傾斜磁場コイル、前記一次磁場シフト用磁石、及び前記磁場シフト用遮蔽磁石のうちの少なくとも１つに隣接して配置される冷却剤層を含む、請求項７に記載のＤＲＥＭＲシステム。
　　【請求項１０】
　前記冷却剤層は、
　冷却剤副層と、
　前記冷却剤副層と、前記傾斜磁場コイル、前記一次磁場シフト用磁石、及び前記磁場シフト用遮蔽磁石のうちのいずれかとの間に配置される、少なくとも１つの熱伝導性副層と、を更に含む、請求項９に記載のＤＲＥＭＲシステム。
　　【請求項１１】
　前記冷却剤副層は、冷却剤の循環を可能とする機構を含む、請求項１０に記載のＤＲＥＭＲシステム。
　　【請求項１２】
　前記傾斜磁場コイルは、
　一次傾斜磁石と遮蔽傾斜磁石を更に含み、前記一次傾斜磁石は、撮像する物体のより近くに配置される、請求項７に記載のＤＲＥＭＲシステム。
　　【請求項１３】
　前記一体型磁石装置は、円筒状であり、前記円筒の内側は、撮像ボリュームを形成し、前記傾斜磁場コイル、前記一次磁場シフト用磁石、及び前記磁場シフト用遮蔽磁石は、前記円筒の長さ方向に沿って延びる前記円筒の円形層を形成する、請求項７に記載のＤＲＥＭＲシステム。
　　【請求項１４】
　前記一次磁場シフト用磁石は、内層を形成し、前記磁場シフト用遮蔽磁石は、外層を形成し、前記傾斜磁場コイルは、少なくとも１つの中間層を形成する、請求項１３に記載のＤＲＥＭＲシステム。
　　【請求項１５】
　前記内層、中間層、及び外層はそれぞれ、冷却剤層で分離されている、請求項１４に記載のＤＲＥＭＲシステム。」
第４　引用文献、引用発明等
１　引用文献１について
（１）引用文献１に記載された事項
　原査定の拒絶の理由に引用された上記引用文献１には、図面とともに次の事項が記載されている。（下線は、当審にて付した。以下同様。）
（引１ａ）「　　　A dynamic shim insert for dynamic shimming in a magnet assembly 
may be used with 
MR system
Magnet assembly 100
includes
a superconducting magnet 102, a gradient coil assembly 104 and an RF coil 106.
The gradient coil assembly 104 is disposed around the RF coil 106
　　　A patient or imaging subject 112 may be inserted into the magnet assembly 100 along a center axis 114 (e.g., a z-axis) on a patient table or cradle 116. Center axis 114 is aligned along the tube axis of the magnet assembly 100 parallel to the direction of a main magnetic field, B0, generated by the magnet 102. RF coil 106 may be used to apply a radio frequency magnetic field pulse (or a plurality of pulses) to a patient or subject 112 and may be used to receive MR information back from the subject 112. Gradient coil assembly 104 generates time dependent gradient magnetic pulses that are used to spatially encode points in the imaging volume.
　　　Superconducting magnet 102 may include, for example, several radially aligned and longitudinally spaced apart superconductive coils 118, each capable of carrying a large, identical current. The superconductive coils 118 are designed to create a magnetic field, B0, within the patient volume 108. The superconductive coils 118 are enclosed in a cryogenic environment within a cryogenic envelope 122. The cryogenic environment is designed to maintain the temperature of the superconducting coils 118 below the appropriate critical temperature so that the superconducting coils 118 are in a superconducting state with zero resistance. Cryogenic envelope 122 may include, for example, a helium vessel (not shown) and thermal or cold shields (not shown) for containing and cooling magnet windings in a known manner. Superconducting magnet 102 is enclosed by a magnet vessel 120, e.g., a cryostat vessel. Magnet vessel 120 is configured to maintain a vacuum and to prevent heat from being transferred to the cryogenic envelope 122.
　　　
Gradient coil assembly 104 may be a self-shielded gradient coil assembly. Gradient coil assembly 104 comprises a cylindrical inner gradient coil assembly or winding 124 and a cylindrical outer gradient coil assembly or winding 126 disposed in concentric arrangement with respect to a common axis 114.
　　　
A standard high order main shim coil set 130 is located at a first radius inside the magnet assembly 100.
the main shim coil set 130 may be located in a volume or space 138 between the inner gradient coil assembly 124 and the outer gradient coil assembly 126.
 Main shim coil set 130 is configured for use by itself to provide static compensation of magnetic field inhomogeneities, e.g., patient induced harmonics.
a dynamic shim insert 132 may be inserted and positioned at a second radius inside the magnet assembly 100. The second radius is smaller than the first radius at which the main shim coil set 130 is located.
the dynamic shim insert 132 is located between the RF coil 106 and the patient bore tube 110.
　　　The dynamic shim insert 132 shown in FIG. 2 is a full-size dynamic shim insert and, accordingly, may be cylindrical and a similar length as the RF coil 106 cylinder. Dynamic shim insert 132 includes an unshielded resistive shim coil set. 
The main shim coil set 130 may be used as a shielding shim coil for the dynamic shim insert 132. Accordingly, main shim coil set 130 and dynamic shim insert 132 may be used as a shielded dynamic shim system.
MRシステム
と共に使用することができる
磁石アセンブリ100は
超伝導マグネット102、傾斜コイルアセンブリ104及びRFコイル106を含む
傾斜コイルアセンブリ104はRFコイル106を円周方向に囲むように配され
　患者または撮像対象物112は、患者テーブルまたはクレードル116上で中心軸114(例えば、z軸)に沿ってマグネットアセンブリ100に挿入することができる。中心軸114は、マグネット102が発生する、主磁場B0の方向と平行なマグネットアセンブリ100のチューブの軸に沿って整列される。RFコイル106は、患者または対象物112に対して一つの高周波磁場パルス(または複数のパルス)を印加するために使用され、また、対象物112から戻されるMR情報を受け取るために使用される。傾斜コイルアセンブリ104は、撮像ボリューム内の点を空間エンコードに用いられる時間に依存した傾斜磁気パルスを発生する。
　超伝導マグネット102は、例えば、各々が同一の大きな電流を流すことができる、いくつかの半径方向に整合され、長手方向に間隔を置いた超伝導コイル118を含む。超伝導コイル118は患者ボリューム108の内部に、B0磁場を生成するように設計される。超伝導コイル118は、極低温エンベロープ122内部の極低温環境内に封入されている。この極低温環境は、超伝導コイル118をゼロ抵抗の超伝導状態とするように超伝導コイル118の温度が適切な臨界温度未満となるように設計されている。極低温エンベロープ122は、例えば、ヘリウム容器(図示せず)及び周知の方式でマグネット巻き線を内蔵し冷却するための熱シールドまたは低温シールド(図示せず)を含む。超伝導マグネット102はマグネット容器120(例えば、低温容器)に収納されている。マグネット容器120は、真空を維持し、極低温エンベロープ122に熱が伝達するのを防止するように構成される。
　
傾斜コイルアセンブリ104は自己遮蔽型傾斜コイルアセンブリとすることができ
傾斜コイルアセンブリ104は、共通の軸114に対して同心円上に配置させた円筒状内側傾斜コイルアセンブリまたは巻き線124及び円筒状外側傾斜コイルアセンブリまたは巻き線126を備え
　
磁石アセンブリ100内の第1の半径の位置に標準的な上位のメインシム・コイル組130が配置され
メインシム・コイル組130は、内側傾斜コイルアセンブリ124と外側傾斜コイルアセンブリ126との間のボリュームまたはスペース138に配置され
メインシム・コイル組130は、それ自体により、例えば、患者により誘発される磁場の不均一性の静的補償を提供するための構成である
動的シム挿入物132が、磁石アセンブリ100内の第2半径に挿入および配置される
第2の半径は主メインシム・コイル組130が配置される第1の半径よりも小さい
動的シム挿入物132は、RFコイル106と患者ボアチューブ110との間に配置され
　図2に示される動的シム挿入物132は、フルサイズの動的シム挿入物であるから、円筒状であり、RFコイル106の円筒と同様の長さである。動的シム挿入物132はシールドされていない抵抗性シムコイル組を含む。
メインシム・コイル組130は、動的シム挿入物132用の遮蔽用コイルとして使用することができ
これにより、メインシム・コイル組130及び動的シム挿入物132は、遮蔽された動的シムシステムとして使用することができ
（引１ｂ）「
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　」
（２）引用文献１に記載された発明
ア　上記（引１ｂ）より、引用文献１の「磁石アセンブリ100」は、一体型磁石装置である点が見て取れる。
イ　上記アを踏まえると、引用文献１には、以下の発明（以下「引用発明」という。）が記載されている。
「MRシステムと共に使用することができる一体型磁石装置である磁石アセンブリ100は、超伝導マグネット102、傾斜コイルアセンブリ104及びRFコイル106を含み、
　傾斜コイルアセンブリ104はRFコイル106を円周方向に囲むように配され、
　傾斜コイルアセンブリ104は自己遮蔽型傾斜コイルアセンブリとすることができ、
　傾斜コイルアセンブリ104は、共通の軸114に対して同心円上に配置させた円筒状内側傾斜コイルアセンブリまたは巻き線124及び円筒状外側傾斜コイルアセンブリまたは巻き線126を備え、
　磁石アセンブリ100内の第1の半径の位置に標準的な上位のメインシム・コイル組130が配置され、
　メインシム・コイル組130は、内側傾斜コイルアセンブリ124と外側傾斜コイルアセンブリ126との間のボリュームまたはスペース138に配置され、
　メインシム・コイル組130は、それ自体により、例えば、患者により誘発される磁場の不均一性の静的補償を提供するための構成であり、
　動的シム挿入物132が、磁石アセンブリ100内の第2半径に挿入および配置され、
　第2の半径はメインシム・コイル組130が配置される第1の半径よりも小さく、
　動的シム挿入物132は、RFコイル106と患者ボアチューブ110との間に配置され、
　メインシム・コイル組130は、動的シム挿入物132用の遮蔽用コイルとして使用することができ、
　これにより、メインシム・コイル組130及び動的シム挿入物132は、遮蔽された動的シムシステムとして使用することができる
　磁石アセンブリ100。」
２　引用文献２について
　原査定の拒絶の理由に引用された上記引用文献２には、図面とともに次の事項が記載されている。
（引２ａ）「【００１９】
　図２ａは、図１に図示されたシステムの断面図である。図２ａの実施形態は、ギャップ１０２により分離された、一対の主磁石２００を含む水平オープンＭＲＩシステム１００を図示する。ＭＲＩシステム１００は、ギャップされないＭＲＩシステムに関連する実施形態に対する本開示の原理に従って、１つの主磁石２００だけを含むように設計されてもよいことが認識されるべきである。ＭＲＩシステムは、患者ベッド１０８上方の対象となる領域を画像化するように使用される。ＭＲＩシステム１００は、例えばＲＦコイルを含む無線周波数（ＲＦ）システムなどの、図示されない付加的な従来の構成要素を含む。図面及びこの開示を通して使用される座標系では、ＭＲＩボアを通り抜ける長手方向の軸をＺ軸と呼ぶ。Ｘ軸はＺ軸に対して垂直にかつＭＲＩシステム１００の左右に延在し、Ｙ軸はＺ軸に対して垂直にかつＭＲＩシステム１００のボトムからトップに延在する。
【００２０】
　また、ＭＲＩボア（Ｚ軸）を介して磁石２００と長手方向軸２０６との間に配置される第１の傾斜コイル２０４が図２ａに図示される。ＭＲＩシステム１００は、磁石２００の外側に配置されかつ第１の傾斜コイル２０４に近接するアクティブ抵抗性シムコイルアッセンブリ２０８を含む。アクティブシムコイルアッセンブリ２０８は、少なくとも１つの増幅器２２０において（図示されない）複数の電力チャネルにそれぞれが接続される複数のシムコイルを含んでもよい。複数のシムコイルはそれぞれ、少なくとも１つの増幅器２２０における複数の電力チャネルを介して提供される分離した複数の電流により電力が印加されるように動作可能となってもよい。」
第５　対比・判断
１　本願発明１について
（１）対比
ア　引用発明の「MRシステム」及び「一体型磁石装置である磁石アセンブリ100」は、それぞれ、本願発明１の「核磁気共鳴画像法（ＭＲＩ）システム」及び「一体型磁石装置」に相当する。そして、引用発明の「MRシステムと共に使用することができる一体型磁石装置である磁石アセンブリ100」は、本願発明１の「核磁気共鳴画像法（ＭＲＩ）システムにおいて使用するための一体型磁石装置」に相当する。
イ　引用発明の「メインシム・コイル組130は、動的シム挿入物132用の遮蔽用コイルとして使用することができ、これにより、メインシム・コイル組130及び動的シム挿入物132は、遮蔽された動的シムシステムとして使用することができる」ことから、引用発明の「動的シム挿入物132」、「メインシム・コイル組130」及び「遮蔽された動的シムシステム」と、本願発明１の「一次磁場シフト用磁石」「磁場シフト用遮蔽磁石」及び「磁場シフト用電磁石」とは、「磁石」「遮蔽磁石」及び「電磁石」である点で共通する。そして、引用発明の「メインシム・コイル組130及び動的シム挿入物132」からなる「遮蔽された動的シムシステム」と、本願発明１の「一次磁場シフト用磁石及び磁場シフト用遮蔽磁石を含む磁場シフト用電磁石」とは、「磁石及び遮蔽磁石を含む電磁石」である点で共通する。そして、引用発明の「動的シム挿入物132が、磁石アセンブリ100内の第2半径に挿入および配置され、第2の半径はメインシム・コイル組130が配置される第1の半径よりも小さ」いことから、「動的シム挿入物132」は、「メインシム・コイル組130」よりも「患者ボアチューブ110」側にあるといえる。そうすると、引用発明の「メインシム・コイル組130」よりも「患者ボアチューブ110」側にある、「動的シム挿入物132」と、本願発明１の「前記磁場シフト用遮蔽磁石よりも撮像ボリュームの近くに配置される」「前記一次磁場シフト用磁石」とは、「遮蔽磁石よりも撮像ボリュームの近くに配置される」「磁石」である点で共通する。
ウ　引用発明の「傾斜コイルアセンブリ104」の「内側傾斜コイルアセンブリ124」は、本願発明1の「傾斜磁場コイル」に相当する。そして、引用発明の「傾斜コイルアセンブリ104はRFコイル106を円周方向に囲むように配され」、「メインシム・コイル組130は、内側傾斜コイルアセンブリ124と外側傾斜コイルアセンブリ126との間のボリュームまたはスペース138に配置され」、「動的シム挿入物132は、RFコイル106と患者ボアチューブ110との間に配置され」ているから、「内側傾斜コイルアセンブリ124」は、「動的シム挿入物132」と「メインシム・コイル組130」との間に配置されているといえる。そうすると、「動的シム挿入物132」と「メインシム・コイル組130」との間に配置されている「内側傾斜コイルアセンブリ124」と、本願発明1の「前記一次磁場シフト用磁石と前記磁場シフト用遮蔽磁石との間に配置される傾斜磁場コイル」とは、「磁石と遮蔽磁石との間に配置される傾斜磁場コイル」である点で共通する。
エ　引用発明の「傾斜コイルアセンブリ104」及び「メインシム・コイル組130及び動的シム挿入物132」からなる「遮蔽された動的シムシステム」は、何らか基材層で機械的支持がなされていることは明らかであるから、引用発明の「傾斜コイルアセンブリ104」及び「メインシム・コイル組130及び動的シム挿入物132」からなる「遮蔽された動的シムシステム」を機械的に支持する基材層と、本願発明１の「前記磁場シフト用電磁石、及び前記傾斜磁場コイルに対する機械的支持を提供する、少なくとも１つの基材層」とは、「電磁石、及び前記傾斜磁場コイルに対する機械的支持を提供する、少なくとも１つの基材層」である点で共通する。
オ　以上のことから、本願発明１と引用発明との間には、次の一致点、相違点があるといえる。
（一致点）
「　核磁気共鳴画像法（ＭＲＩ）システムにおいて使用するための一体型磁石装置であって、
　磁石及び遮蔽磁石を含む電磁石であって、前記磁石は、前記遮蔽磁石よりも撮像ボリュームの近くに配置される、電磁石と、
　前記磁石と前記遮蔽磁石との間に配置される傾斜磁場コイルと、
　前記電磁石、及び前記傾斜磁場コイルに対する機械的支持を提供する、少なくとも１つの基材層と、
を含む、装置。」
（相違点１）磁石及び遮蔽磁石を含む電磁石が、本願発明１は、「一次磁場シフト用磁石及び磁場シフト用遮蔽磁石を含む磁場シフト用電磁石」であるのに対し、引用発明は、「メインシム・コイル組130及び動的シム挿入物132」からなる「遮蔽された動的シムシステム」である点。
（相違点２）本願発明１は、「前記傾斜磁場コイル、前記一次磁場シフト用磁石、及び前記磁場シフト用遮蔽磁石のうちの少なくとも１つに隣接して配置される冷却剤層を含み、前記冷却剤層は、冷却剤副層と、前記冷却剤副層と、前記傾斜磁場コイル、前記一次磁場シフト用磁石、及び前記磁場シフト用遮蔽磁石のうちのいずれかとの間に配置される、少なくとも１つの熱伝導性副層と、を更に含むものである、冷却機構と、を含む」のに対し、引用発明は、そのような特定がない点。
（２）相違点についての判断
ア　相違点１について検討する。
　本願発明１の「一次磁場シフト用磁石及び磁場シフト用遮蔽磁石を含む磁場シフト用電磁石」に関し、本願明細書の発明の詳細な説明には、以下の記載がある。
（本１）「【０００３】
　デルタ緩和拡張核磁気共鳴（ＤＲＥＭＲ：ｄｅｌｔａ　ｒｅｌａｘａｔｉｏｎ　ｅｎｈａｎｃｅｄ　ｍａｇｎｅｔｉｃ　ｒｅｓｏｎａｎｃｅ）は、一般的には、磁場循環緩和時間測定法（ｆｉｅｌｄ−ｃｙｃｌｅｄ　ｒｅｌａｘｏｍｅｔｒｙ）、又は磁場循環画像法（ｆｉｅｌｄ−ｃｙｃｌｅｄ　ｉｍａｇｉｎｇ）と呼ばれており、印加する磁場の強さによって変化する内在組織のコントラスト機構を使用して、新規な画像コントラストを生成可能とするＭＲＩ技術である。
ＤＲＥＭＲコントラストを得るために、ＭＲパルスシーケンスの特定の部分の間、時間に応じて、静磁場を変化させる。磁場を変化させるために、磁場シフト用磁気コイルが用いられる。
（本２）「【００２６】
　
磁場シフト法によりコントラスト画像を作成するため、ＤＲＥＭＲシステム１００では、ＭＲ信号の生成及び取得と同時に、磁場シフト用電磁石１４０を使用することができる。磁場シフト用電磁石１４０によって静磁場の強度を変動させることができる。したがって、磁場シフト用電磁石１４０は、静磁場を増大させるか、又は摂動させる、磁場シフト用磁場を作り出すことにより、主磁石１１０を補助する役目を果たし得る。
【００２７】
　干渉及びアーチファクトを減らすため、磁場シフト用電磁石１４０は、上述した遮蔽付き傾斜磁場コイル１２０と同様の遮蔽体を含んでいてもよい。
遮蔽付き磁場シフト用電磁石１４０は、２つの構成要素、即ち、磁場シフトを生み出す、内側の一次磁場シフト用電磁石と、撮像ボリュームなどの特定のボリュームの外側における、一次磁場シフト用電磁石の漂遊磁場を弱めることにより、遮蔽を形成する、外側の遮蔽磁場シフト用電磁石と、を有していてよい。
　上記記載より、本願発明１の「一次磁場シフト用磁石及び磁場シフト用遮蔽磁石を含む磁場シフト用電磁石」は、「ＤＲＥＭＲシステム１００」において、「ＤＲＥＭＲコントラストを得るために」「静磁場を増大させるか、又は摂動させる、磁場シフト用磁場を作り出すことにより」、「静磁場の強度を変動させる」ためのものである。
　これに対し引用発明の「メインシム・コイル組130は、それ自体により、例えば、患者により誘発される磁場の不均一性の静的補償を提供するための構成であ」り、「メインシム・コイル組130は、動的シム挿入物132用の遮蔽用コイルとして使用することができ、これにより、メインシム・コイル組130及び動的シム挿入物132は、遮蔽された動的シムシステムとして使用することができる」ことから、「メインシム・コイル組130及び動的シム挿入物132」からなる「遮蔽された動的シムシステム」は、「患者により誘発される磁場の不均一性の静的補償を提供するための」ものであって、本願発明１の「一次磁場シフト用磁石及び磁場シフト用遮蔽磁石を含む磁場シフト用電磁石」とは、その用途及び機能が全く違うものであるといえる。そして、この点は、本願明細書の発明の詳細な説明に、
「【００２３】
　ＤＲＥＭＲシステム１００の一部の実施形態においては、シムコイル（以下に限定されるわけではないが、通例、２次又はそれよりも高次の球面調和関数の磁場プロファイルを生成する）、又は一様な磁場オフセットコイル、又は何らかの他の補正電磁石などの追加的な磁気コイルが存在してもよい。能動的なシミング（様々の物体がシステム内部、又はシステムの周囲に存在するときに入り込む、磁場の歪みを補正すること）を行うためには、静磁場をより均一にするように作用する磁場を提供するために用いられる、シムコイルなどの補正電磁石に通電する。例えば、これらのコイルにより生成した磁場により、主磁石１１０の欠陥、若しくは外部の強磁性体の存在に起因する静磁場の不均一性、又は撮像領域内の物質の磁化率の違い、又は、何らかの他の静的事象若しくは時変的事象に起因する静磁場の不均一性の補正が容易になり得る。」
と、「一次磁場シフト用磁石及び磁場シフト用遮蔽磁石を含む磁場シフト用電磁石」とは別に「シムコイル」「などの追加的な磁気コイルが存在してもよい」旨記載されていることからも明らかである。
　そうすると、本願発明１の「一次磁場シフト用磁石及び磁場シフト用遮蔽磁石を含む磁場シフト用電磁石」は、引用文献１に記載されていないし、引用発明より当業者が容易に想到できるものであるともいえない。
　また、引用文献２には、「第１の傾斜コイル２０４に近接するアクティブ抵抗性シムコイルアッセンブリ２０８」について記載されているものの、「一次磁場シフト用磁石及び磁場シフト用遮蔽磁石を含む磁場シフト用電磁石」は記載されていないし、コントラストを得るために静磁場の強度を変動させればよいなどの、「磁場シフト用電磁石」を示唆するような記載も認められない。
　そうすると、上記相違点１は、引用発明及び引用文献２に記載された事項から、当業者が容易に想到できたものであるとはいえない。
　したがって、上記相違点２について判断するまでもなく、本願発明１は、当業者であっても、引用発明及び引用文献２に記載された技術的事項に基づいて容易に発明できたものとはいえない。
２　本願発明２〜６について
　本願発明２〜６も、本願発明１の「一次磁場シフト用磁石及び磁場シフト用遮蔽磁石を含む磁場シフト用電磁石」と同一の構成を備えるものであるから、本願発明１と同じ理由により、当業者であっても、引用発明及び引用文献２に記載された技術的事項に基づいて容易に発明できたものとはいえない。
３　本願発明７〜１５について
　本願発明７〜１５は、本願発明１〜６と同様の構成を有する「ＤＲＥＭＲシステム」であって、いずれも、本願発明１の「一次磁場シフト用磁石及び磁場シフト用遮蔽磁石を含む磁場シフト用電磁石」に対応する構成を備えるものであるから、本願発明１と同様の理由により、当業者であっても、引用発明及び引用文献２に記載された技術的事項に基づいて容易に発明できたものとはいえない。
第６　むすび
　以上のとおり、本願発明１〜１５は、当業者が引用発明及び引用文献２に記載された技術的事項に基づいて容易に発明をすることができたものではない。したがって、原査定の理由によっては、本願を拒絶することはできない。
　また、他に本願を拒絶すべき理由を発見しない。
　よって、結論のとおり審決する。