【事件の表示】
　特許第３１０８５０９号「薄膜磁気ヘッドの製造方法」の請求項１ないし６に係る特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結　論】
　訂正を認める。
　特許第３１０８５０９号の請求項１ないし６に係る特許を取り消す。
【理　由】
１　経緯
　特許出願　　　　　　　　　　　　　　　　　平成　４年　２月２１日
　登　　録（特許第３１０８５０９号）　　　　平成１２年　９月　８日
　特許異議申立（根津　仁）　　　　　　　　　平成１３年　５月１４日
　取消理由通知　　　　　　　　　　　　　　　平成１３年　８月１４日
　意見書・訂正請求書　　　　　　　　　　　　平成１３年１０月２３日
　
２　訂正請求の適否についての判断
（１）訂正請求の概要
　上記訂正請求は、次の訂正事項に係る訂正を求めるものである。
　
訂正事項ａ
　特許請求の範囲の請求項１に係る記載
「　【請求項１】　ダイヤモンド微粒子を使用したダイヤモンド研磨フィルムによって、薄膜磁気ヘッドのスライダを研磨する薄膜磁気ヘッドの製造方法において、前記ダイヤモンド研磨フィルムの厚さを１５μｍ以下とするとともに、前記ダイヤモンド微粒子の平均粒径を１．０μｍ以下に設定したことを特徴とする薄膜磁気ヘッドの製造方法。」
を、
「　【請求項１】
（イ’）
の空気ベアリング面
（ロ）
（ハ’）
と訂正する。
　
訂正事項ｂ
　明細書段落００１０を以下のとおり訂正する。
「　本発明は、上記知見によるものであり、以下の（１）〜（６）にある。
　（１）
（イ’）ダイヤモンド微粒子を使用したダイヤモンド研磨フィルムによって、薄膜磁気ヘッドのスライダの空気ベアリング面を研磨する薄膜磁気ヘッドの製造方法において、
（ロ）前記ダイヤモンド研磨フィルムの厚さを１５μｍ以下とするとともに、前記ダイヤモンド微粒子の平均粒径を１．０μｍ以下に設定し、
（ハ’）前記ダイヤモンド研磨フィルムを弾性シート上に配置して、前記薄膜磁気ヘッドの空気ベアリング面を当接して研磨することを特徴とする薄膜磁気ヘッドの製造方法。
　（２）前記ダイヤモンド研磨フィルムの厚さを１０μｍ以下とした上記（１）の薄膜磁気ヘッドの製造方法。
　（３）　前記薄膜磁気ヘッドのスライダのビッカース硬度ＨＶ（５００ｇ）を１１００以上に設定した上記（１）または（２）の薄膜磁気ヘッドの製造方法。
　（４）　前記薄膜磁気ヘッドのスライダのビッカース硬度ＨＶ（５００ｇ）を１５００以上に設定した上記（１）または（２）の薄膜磁気ヘッドの製造方法。
　（５）　前記薄膜磁気ヘッドのスライダのビッカース硬度を１８００〜３０００の範囲とした上記（１）または（２）の薄膜磁気ヘッドの製造方法。
　（６）　基板上に複数の薄膜磁気変換素子を成膜したのち、これを切断し、切断端面を媒体対向面として、これを前記ダイヤモンド研磨フィルムにて研磨する上記（１）ないし（５）のいずれかの薄膜磁気ヘッドの製造方法。
　
訂正事項ｃ
明細書段落００１１〜００１４を
削除する
　
　なお、訂正請求書の７．（３）請求の要旨には明記されていないが、次の訂正事項があるものと認められる。
訂正事項ｄ
　特許請求の範囲の請求項５に係る記載
「【請求項５】　前記薄膜磁気ヘッドのスライダのビッカース硬度を１８００〜３０００の範囲とした請求項１または２の浮動型磁気ヘッドの製造方法。」を、
「【請求項５】　前記薄膜磁気ヘッドのスライダのビッカース硬度を１８００〜３０００の範囲とした請求項１または２の
薄膜
と訂正する。
　
（２）訂正目的の可否、新規事項の有無及び拡張・変更の存否
　訂正事項ａは、特許請求の範囲の減縮を目的としており、訂正事項ｂは、訂正事項ａに伴い、発明の詳細な説明を訂正するものであり、明りょうでない記載の釈明を目的とするものであり、訂正事項ｃは、発明の詳細な説明の削除であり、実施例を具体化するための、明りょうでない記載の釈明に該当し、訂正事項ｄは、誤記の訂正に該当する。
　上記各訂正事項は、特許明細書又は図面に記載した事項の範囲内において、訂正することを求めるものであり、新規事項の追加に該当せず、実質上特許請求の範囲を拡張し、変更するものではない。
　
（３）訂正についての結び
　以上のとおりであるから、上記訂正は、特許法等の一部を改正する法律（平成六年法律第百十六号。以下「平成六年改正法」という。）附則第六条第一項の規定によりなお従前の例によるとされる、特許法第百二十条の四第三項において準用する平成六年改正法による改正前の特許法第百二十六条第一項ただし書、第二項及び第三項の規定に適合するので、当該訂正を認める。
　
３　特許異議申立についての判断
（１）本件に係る発明
　上記２で示したように、上記訂正が認められるから、本件請求項１〜６に係る発明は、下記の訂正請求書に記載されたとおりのものである。（以下、それぞれ訂正発明１〜６という。）
「【請求項1】
（イ’）ダイヤモンド微粒子を使用したダイヤモンド研磨フィルムによって、薄膜磁気ヘッドのスライダの空気ベアリング面を研磨する薄膜磁気ヘッドの製造方法において、
（ロ）前記ダイヤモンド研磨フィルムの厚さを１５μｍ以下とするとともに、前記ダイヤモンド微粒子の平均粒径を１．０μｍ以下に設定し、
（ハ’）前記ダイヤモンド研磨フィルムを弾性シート上に配置して、前記薄膜磁気ヘッドの空気ベアリング面を当接して研磨することを特徴とする薄膜磁気ヘッドの製造方法。
　【請求項２】　前記ダイヤモンド研磨フィルムの厚さを１０μｍ以下とした請求項１の薄膜磁気ヘッドの製造方法。
　【請求項３】　前記薄膜磁気ヘッドのスライダのビッカース硬度ＨＶ（５００ｇ）を１１００以上に設定した請求項１または２の薄膜磁気ヘッドの製造方法。
　【請求項４】　前記薄膜磁気ヘッドのスライダのビッカース硬度ＨＶ（５００ｇ）を１５００以上に設定した請求項１または２の薄膜磁気ヘッドの製造方法。
　【請求項５】　前記薄膜磁気ヘッドのスライダのビッカース硬度を１８００〜３０００の範囲とした請求項１または２の薄膜磁気ヘッドの製造方法。
　【請求項６】　基板上に複数の薄膜磁気変換素子を成膜したのち、これを切断し、切断端面を媒体対向面として、これを前記ダイヤモンド研磨フィルムにて研磨する請求項１ないし５のいずれかの薄膜磁気ヘッドの製造方法。」
　
（２）取消理由の概要
　甲第１号証（特開平４−８４７８号公報）、甲第２号証（特開平１−２５８２１９号公報）、甲第３号証（特開平２−３０１０１４号公報）、甲第４号証（特開平１−１１２５１３号公報）を示し、本件特許の請求項１〜６に係る発明は、それぞれ甲第１号証〜甲第４号証記載の発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるので、本件特許発明についての特許は、拒絶の査定をしなければならない特許出願に対してされたものである。
　
（３）引用例記載の発明
（ｉ）甲第１号証（特開平４−８４７８号公報）
  第１頁右下欄第２行〜第８行に、「［発明の分野］　本発明はエレクトロニクス部品、薄膜磁気ヘッド基板の如きセラミック材料の最終研磨に使用されるダイヤモンド研磨フィルムに関し、詳しくは本発明は、プラスチック支持体上にダイヤモンド研磨層を形成したダイヤモンド研磨フィルムに関する。」と記載され、
　
第２頁左下欄第２行〜第１５行に、「〔実施例の説明〕　本発明の１実施例におけるダイヤモンド研磨フィルムは、ダイヤモンド砥粒：ウレタン系樹脂：メチルエチルケトン／トルエンが１００：２０：１００である塗料組成を使用して形成される。上記組成に於て、ダイヤモンド砥粒径は一般に１．０μｍ以下の範囲のものが好都合に使用され得る。該範囲は、ダイヤモンド砥粒径を０〜１．５μｍの範囲でＳｉＣ、ＺｒＯ２、Ａｌ２Ｏ３−ＴｉＣを被研削物として研削加工する予備検査を実施した結果、１．０μｍを越える範囲に於ては加工面にスクラッチが生じ易いこと及び１．０μｍ以下ではスクラッチの問題が無く、一様な研磨すじが生じることが判明したこと、によって画定されたものである。」と記載され、
　
同頁右下欄第２行〜第３頁左上欄最下行に、「詳しくは、本件出願人は４．０から１０．０μｍの範囲の全厚を有するダイヤモンド研磨フィルムをその耐久性及び研磨面の均一性に関して評価する実験を実施し、その結果、以下の４つの全厚のものが何れも前記耐久性及び研磨面の均一性に於て共に優れていると総合評価し得ることを見出した。そしてこれらの全厚を有するダイヤモンド研磨フィルムは何れも前記スティフネス値を満足することが確認された。
　全厚（μｍ）　　スティフネス（ＥＴ３）
　６．２　　　　　　１．０１×１０５　
　７．９　　　　　　９．４５×１０４　
　８．２　　　　　　１．００×１０５　
　８．５　　　　　　１．０１×１０５　
　また、比較例としてその他全厚及びスティヒネスの場合の耐久性及び研磨面の均一性の評価結果を示す。
　全厚　　　　　スティフネス　　　耐久性　　研磨面の均一性
　４．０　　　２．７４×１０４　　　不良　　　　−
　５．８　　　３．３６×１０４　　　不良　　　　−
　６．０　　　３．９５×１０４　　　不良　　　　−
　６．９　　　６．６０×１０４　　　不良　　　　−
　７．０　　　６．７５×１０４　　　不良　　　　−
　８．７　　　１．２５×１０５　　　良好　　　　不良
　９．２　　　１．４６×１０５　　　良好　　　　不良
１０．０　　　２．０１×１０５　　　良好　　　　不良
　以上のように、前記スティフネス値１×１０５（μｍ）３ｋｇ／ｍｍ３±２００００を満足しない全厚を有するものは、耐久性が不良であるか若しくは、耐久性が良好であっても研磨面の均一性が不良であるという結果が得られた。」と記載されている。
　
　即ち甲第１号証には、
「ａ．ダイヤモンド粒子を使用したダイヤモンド研磨フィルムによって、
ｂ．薄膜磁気ヘッド基板を研磨する方法において、
ｃ．ダイヤモンド研磨フィルムの厚さが４．０〜１０．０μｍ、特に６．２〜８．５μｍであり、
ｄ．ダイヤモンド粒子の平均粒子径が１．０μｍ以下であること。」が開示されている。
　
（ｉｉ）甲第２号証（特開平１−２５８２１９号公報）
　その特許請求の範囲（１）に、「始動時と静止時に接触する磁気ヘッドスライダにより情報の記録・再生を行うコンタクト・スタート・ストップ方式の磁気ディスクにおいて、基板に形成された磁気記録媒体層を保護する保護膜の硬度を上記磁気ヘッドスライダの硬度±１０％の硬度範囲とすることを特徴とする磁気ディスク。」と記載され、
　
　第２頁右下欄第１１行〜第３頁右上欄第５行に、「一方、現在、磁気ヘッドスライダとして用いられる材料は、表に示すように、硬度により大きく二つのグループに分けられる。１つは、Ａｌ２Ｏ３、ＳｉＣ、ＴｉＣなどの緻密・高硬度のセラミックスを主成分とする高硬度スライダ材料であり、もう１つは酸化鉄（フェライト）、ジルコニア、ＴｉＯ２などの遷移元素の酸化物を主成分とする低硬度（高硬度は誤記と認められる。）スライダ材料である。高硬度スライダ材料のビッカース硬度Ｈｖは１４５０〜２２００、特に１８００付近に集まり、低硬度スライダ材料のビッカース硬度Ｈｖは６５０〜１３６０、特に１０００付近に集まっている。　例えば、現在広く用いられているＡｌ２Ｏ３−ＴｉＣ製の薄膜磁気ヘッドスライダのビッカース硬度Ｈｖは２０００である。」と記載されている。
　
　即ち、甲第２号証には、
「始動時と静止時に接触する磁気ヘッドスライダ」であって、
「ｈ．ビッカース硬度２０００のＡｌ２Ｏ３−ＴｉＣ製スライダ。」、及び　
「ビッカース硬度Ｈｖが１４５０〜２２００の高硬度スライダ」が開示されている。
　
（ｉｉｉ）甲第３号証（特開平２−３０１０１４号公報）
　第１頁右下欄第３行に、「一般に浮上型磁気ヘッド」と、記載され、
同頁同欄第１６行〜第１９行に、「従来この種のエッジ面取りは第５図に示すようにダイヤモンド砥粒等を保持した柔軟な研磨媒体５の上に磁気ヘッド２のスライダーエッジを押しつけて摺動させることにより行なっていた。」と記載されている。
　即ち、甲第３号証には、
「ｋ’．浮上型磁気ヘッドのスライダーエッジを
ｌ．ダイヤモンド砥石を保持する研磨媒体で研磨すること。」が開示されている。
　
（ｉｖ）甲第４号証（特開平１−１１２５１３号公報）
　第２図に、浮上型の薄膜磁気ヘッドにおいて、
ｉ．基板上に複数の電磁変換素子を形成し、
ｊ．複数のチップに切り出し、
ｋ．切断面が媒体対向面となること
が開示されている。
　
（４）訂正発明と引用例との対比
（訂正発明１について）
（一致点）
　訂正発明１と甲第１号証とを対比すると、両者は、次の点で一致する。
「ダイヤモンド微粒子を使用したダイヤモンド研磨フィルムによって、薄膜磁気ヘッドのスライダを研磨する薄膜磁気ヘッドの製造方法において、
前記ダイヤモンド微粒子の平均粒径を１．０μｍ以下に設定し、
前記ダイヤモンド研磨フィルムを配置して、前記薄膜磁気ヘッドを研磨することを特徴とする薄膜磁気ヘッドの製造方法。」
（相違点１）
　そして、訂正発明１は、「スライダ
の空気ベアリング面
（相違点２）
　訂正発明１は、「前記ダイヤモンド研磨フィルムの厚さを１５μｍ以下とする」のに対して、甲第１号証のものは「ダイヤモンド研磨フィルムの厚さが４．０〜１０．０μｍである」点、
（相違点３）
　訂正発明１は、「前記ダイヤモンド研磨フィルムを弾性シート上に配置して研磨する」のに対して、甲第１号証のものは、弾性シートは明記されていない点で、それぞれ相違している。
（相違点の判断）
　薄膜磁気ヘッドのスライダを研磨する際に、空気ベアリング面を研磨することは周知の事実である。このことは、後述する周知例１、２からも明らかである。従って、相違点１は当業者が任意に選択できた設計的事項である。
　甲第１号証のものは、ダイヤモンド研磨フィルムの厚さが４．０〜１０．０μｍ、特に６．２〜８．５μｍであり、１５μｍ以下であることは明らかである。そして、甲第１号証において研磨フィルムの厚さが厚いと、研磨面の均一性が悪化することが第３頁左上欄に示されており、１５μｍ以下とすることに格別なことが認められない。従って、相違点２は格別のことではない。
　次に相違点３について検討する。
　特開昭６０−１８５２７２号公報（以下、周知例１という。）の特許請求の範囲に、「浮上型磁気ヘッドの製造方法であって、定盤上に固定した弾性体上にラッピング材を施し、該ラッピング材に磁気ヘッドのスライダ面を載せ、磁気ヘッドにそれのスライダ面と反対側から押圧力を加えながらラッピングしてスライダ面のエッジを面取りすることを特徴とする磁気ヘッドの製造方法。」が示されている。
　特開昭６２−１６５７２４号公報（以下、周知例２という。）の特許請求の範囲には、「研磨テープの裏面側から弾性体を当てがい上記研磨テープの表面に浮動式磁気ヘッドを所定の押圧力で押し付けながら上記浮動式敷ヘッドを回転させて研磨することにより、上記浮動式磁気ヘッドのレールの少なくとも内側縁部及び外側縁部の面取り加工を行うことを特徴とする浮動式磁気ヘッドの製造方法。」が示されている。
　してみると、研磨フィルムを弾性シート上に配置して研磨することは周知の技術であると認められ、ダイヤモンド研磨テープに適応することは当業者が容易に想到できた事項である。従って、相違点３も格別のものではない。
（訂正発明請求項１についてのまとめ）
　訂正発明１に係る発明は、上記甲第１号証〜甲第４号証及び周知例１，２に記載の発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるので、特許を受けることができないものである。
　
（訂正発明２について）
　一致点は、訂正発明１についてと同様である。そして、相違点は相違点１、３と、つぎの相違点４である。
（相違点４）
　訂正発明２は、「前記ダイヤモンド研磨フィルムの厚さを１０μｍ以下とする」のに対して、甲第１号証のものは「ダイヤモンド研磨フィルムの厚さが４．０〜１０．０μｍである」点。
（相違点の判断）
　相違点１、３については、上記（訂正発明１について）と同様である。
　甲第１号証のものは、ダイヤモンド研磨フィルムの厚さが４．０〜１０．０μｍ、特に６．２〜８．５μｍであり、１０μｍ以下であることは明らかである。そして、甲第１号証において研磨フィルムの厚さが厚いと、研磨面の均一性が悪化することが第３頁左上欄に示されており、１０μｍ以下とすることに格別なことが認められない。従って、相違点４は格別のことではない。
（訂正発明２についてのまとめ）
　訂正発明２に係る発明は、上記甲第１号証〜甲第４号証及び周知例１，２に記載の発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるので、特許を受けることができないものである。
　
（訂正発明３について）
　以下、訂正発明３〜５については新たな相違点についてのみ記述・検討する。
　甲第２号証に、高硬度スライダ材料のビッカース硬度Ｈｖは１４５０〜２２００と示されており、１１００以上に設定したことに格別のことが認められない。　
　
（訂正発明４について）
　甲第２号証に、高硬度スライダ材料のビッカース硬度Ｈｖは１４５０〜２２００と示されており、１５００以上に設定したことに格別のことが認められない。　
　
（訂正発明５について）
　甲第２号証に、高硬度スライダ材料のビッカース硬度Ｈｖは１４５０〜２２００と示されており、１８００〜３０００に設定したことに格別のことが認められない。
　
（訂正発明６について）
（相違点５）
　訂正発明６は、「基板上に複数の薄膜磁気変換素子を成膜したのち、これを切断し、切断端面を媒体対向面として、これを前記ダイヤモンド研磨フィルムにて研磨」しているが、甲第１号証のものは、その記載がない点でさらに相違している。
　しかしながら、甲第３号証には、磁気ヘッドスライダの媒体対向面をダイヤモンド研磨テープで研磨することが開示されている。確かに、甲第３号証には、媒体対向面が切断された基板の切断面であることが明記されていない。しかし、甲第４号証の第２図から明らかなように、基板の切断面は媒体対向面となる。
　従って、甲第３号証は、基板から切り出された個片の切断面（媒体対向面）をダイヤモンド研磨フィルムで研磨していることは明白であり、相違点５は、当業者が容易に想到することができたものである。従って、この点も格別のものではない。
　
４　まとめ
　訂正発明１〜６は、それぞれ甲第１号証〜甲第４号証及び周知例１，２記載の発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるので、本件訂正された特許発明についての特許は拒絶の査定をしなければならない特許出願に対してされたものである。
　よって、特許法等の一部を改正する法律（平成６年法律第１１６号）附則第１４条の規定に基づく、特許法等の一部を改正する法律の施行に伴う経過措置を定める政令（平成７年政令第２０５号）第４条第２項に規定により、取消されるべきである。
　よって、結論のとおり審決する。
【異議決定日】
平成１３年１０月３１日（２００１．１０．３１）
【訂正の要旨】
訂正事項ａ
　特許請求の範囲の減縮を目的として、特許請求の範囲の請求項１に係る記載
「　【請求項１】　ダイヤモンド微粒子を使用したダイヤモンド研磨フィルムによって、薄膜磁気ヘッドのスライダを研磨する薄膜磁気ヘッドの製造方法において、前記ダイヤモンド研磨フィルムの厚さを１５μｍ以下とするとともに、前記ダイヤモンド微粒子の平均粒径を１．０μｍ以下に設定したことを特徴とする薄膜磁気ヘッドの製造方法。」
を、
「　【請求項１】
（イ’）
の空気ベアリング面
（ロ）
（ハ’）
と訂正する。
訂正事項ｂ
　明りょうでない記載の釈明を目的として、明細書段落００１０を以下のとおり訂正する。
「　本発明は、上記知見によるものであり、以下の（１）〜（６）にある。
　（１）
（イ’）ダイヤモンド微粒子を使用したダイヤモンド研磨フィルムによって、薄膜磁気ヘッドのスライダの空気ベアリング面を研磨する薄膜磁気ヘッドの製造方法において、
（ロ）前記ダイヤモンド研磨フィルムの厚さを１５μｍ以下とするとともに、前記ダイヤモンド微粒子の平均粒径を１．０μｍ以下に設定し、
（ハ’）前記ダイヤモンド研磨フィルムを弾性シート上に配置して、前記薄膜磁気ヘッドの空気ベアリング面を当接して研磨することを特徴とする薄膜磁気ヘッドの製造方法。
　（２）前記ダイヤモンド研磨フィルムの厚さを１０μｍ以下とした上記（１）の薄膜磁気ヘッドの製造方法。
　（３）　前記薄膜磁気ヘッドのスライダのビッカース硬度ＨＶ（５００ｇ）を１１００以上に設定した上記（１）または（２）の薄膜磁気ヘッドの製造方法。
　（４）　前記薄膜磁気ヘッドのスライダのビッカース硬度ＨＶ（５００ｇ）を１５００以上に設定した上記（１）または（２）の薄膜磁気ヘッドの製造方法。
　（５）　前記薄膜磁気ヘッドのスライダのビッカース硬度を１８００〜３０００の範囲とした上記（１）または（２）の薄膜磁気ヘッドの製造方法。
　（６）　基板上に複数の薄膜磁気変換素子を成膜したのち、これを切断し、切断端面を媒体対向面として、これを前記ダイヤモンド研磨フィルムにて研磨する上記（１）ないし（５）のいずれかの薄膜磁気ヘッドの製造方法。
訂正事項ｃ
　明りょうでない記載の釈明を目的として、明細書段落００１１〜００１４を
削除する
訂正事項ｄ
　誤記の訂正を目的として、特許請求の範囲の請求項５に係る記載
「【請求項５】　前記薄膜磁気ヘッドのスライダのビッカース硬度を１８００〜３０００の範囲とした請求項１または２の浮動型磁気ヘッドの製造方法。」を、
「【請求項５】　前記薄膜磁気ヘッドのスライダのビッカース硬度を１８００〜３０００の範囲とした請求項１または２の
薄膜
と訂正する。
（５４）【発明の名称】
薄膜磁気ヘッドの製造方法
（５７）【特許請求の範囲】
　【請求項１】
（イ’）
の空気ベアリング面
（ロ）
し、
（ハ’）前記ダイヤモンド研磨フィルムを弾性シート上に配置して、前記薄膜磁気ヘッドの空気ベアリング面を当接して研磨する
　【請求項２】　前記ダイヤモンド研磨フィルムの厚さを１０μｍ以下とした請求項１の薄膜磁気ヘッドの製造方法。
　【請求項３】　前記薄膜磁気ヘッドのスライダのビッカース硬度ＨＶ（５００ｇ）を１１００以上に設定した請求項１または２の薄膜磁気ヘッドの製造方法。
　【請求項４】　前記薄膜磁気ヘッドのスライダのビッカース硬度ＨＶ（５００ｇ）を１５００以上に設定した請求項１または２の薄膜磁気ヘッドの製造方法。
　【請求項５】　前記薄膜磁気ヘッドのスライダのビッカース硬度を１８００〜３０００の範囲とした請求項１または２の
薄膜
　【請求項６】　基板上に複数の薄膜磁気変換素子を成膜したのち、これを切断し、切断端面を媒体対向面として、これを前記ダイヤモンド研磨フィルムにて研磨する請求項１ないし５のいずれかの薄膜磁気ヘッドの製造方法。
【発明の詳細な説明】
　【０００１】
　【産業上の利用分野】
　本発明は、薄膜磁気ヘッドの製造方法に関し、更に詳細には、ダイヤモンド微粒子を砥粒とする研磨剤層を支持体としての可撓性フィルムで支持させてなるダイヤモンド研磨フィルムによって、薄膜磁気ヘッドのスライダを研磨する薄膜磁気ヘッドの製造方法に関するものである。
　【０００２】
　【従来の技術】
　情報記録容量の増大、高速アクセス化等が進むにつれて、フェライトヘッドと比較して高い透磁率を有し且つ高い転送速度でも高電磁変換率を維持出来る薄膜磁気ヘッドに対する要求が高まっている。
　【０００３】
　薄膜磁気ヘッドでは、スライダとして各種セラミックス基板材料が必要であり、ＳｉＣ、ＺｒＯ２、Ａｌ２Ｏ３、Ａｌ２Ｏ３−ＴｉＣ等の材料がスライダとして用いられている。
　【０００４】
　薄膜磁気ヘッドのスライダは、安定な浮上性と、良好な耐久走行性とを得るために、媒体対向面のうち、空気ベアリング面の表面を研磨し、さらにその端部や周囲の稜角部を面取りする等の必要がある。スライダの空気ベアリング面等の研磨に際しては、例えば特開昭６０−１８５２７２号公報、特開昭６３−７０９１８号公報、特開平２−１９９６１４号公報、特開平２−２１２０５７号公報、特開平２−３０１０１４号公報等に開示されているように、研磨テープあるいは研磨フィルムを用いている。
　【０００５】
　各種セラミック材料の研磨においては、研磨加工性を上げるため、ダイヤモンド粒子を使用したダイヤモンド研磨フィルムによる加工が必要とされている。しかし、上記の公報には、ダイヤモンド研磨フィルムによる加工は開示されていないが、従来から、ダイヤモンド研磨フィルムによる薄膜磁気ヘッドの研磨は行なわれている。
　【０００６】
　【発明が解決しようとする課題】
　しかしながら、上記の従来のダイヤモンド研磨フィルムによってスライダを研磨したところ、同一の条件で研磨を行なっても、小さな面取り加工が困難であったり、面取り寸法や角度がバラツイてしまったり、更には、直線部分と面取り部分との遷移部分において角が出てしまったりしてしまうことがあることが判明した。このように、面取り加工が小さくできないと、小型のスライダでは用いることができない他、面取り寸法ないし面取り角度がバラツイてしまうと、例えば、浮動型磁気ヘッドでは、所定の耐久性が保証できなくなってしまったり、安定した相対速度と浮上量とで浮上することが不可能となり、また上記のように研磨面に角があると媒体を損傷する他浮上性ないし走行性にも悪影響を及ぼす。
　【０００７】
　そこで、本発明は、極小の面取り加工を精度よく行うことができ、隣り合う面にわたって連続的にかつなめらかに面取りを行うことができ、しかもこの面取り量を微小にすることができ、安定な浮上性を示すヘッドを得ることのできる薄膜磁気ヘッドの製造方法を提供することを主たる目的とするものである。
　【０００８】
　【課題を解決するための手段】
　本発明者らは、従来の問題点を鋭意研究したところ、従来のダイヤモンド研磨フィルムにおいては、ダイヤモンド微粒子の径が大きすぎ、研磨フィルムの腰が強すぎると、研磨フィルムと被研磨物間の密着性が悪化し、研磨面の均一性にかけるということを知見した。
　【０００９】
　本発明者らは、更に上記ダイヤモンド研磨フィルムと被研磨物間の密着性を解決すべく、ダイヤモンド研磨フィルムについて研究したところ、その全体としての厚みに負うところが大きいことを知見した。
　【００１０】
　本発明は、上記知見によるものであり、以下の（１）〜（６）にある。
　（１）
（イ’）
の空気ベアリング面
（ロ）
し、
（ハ’）前記ダイヤモンド研磨フィルムを弾性シート上に配置して、前記薄膜磁気ヘッドの空気ベアリング面を当接して研磨する
　（２）　前記ダイヤモンド研磨フィルムの厚さを１０μｍ以下とした上記（１）の薄膜磁気ヘッドの製造方法。
　（３）　前記薄膜磁気ヘッドのスライダのビッカース硬度ＨＶ（５００ｇ）を１１００以上に設定した上記（１）または（２）の薄膜磁気ヘッドの製造方法。
　（４）　前記薄膜磁気ヘッドのスライダのビッカース硬度ＨＶ（５００ｇ）を１５００以上に設定した上記（１）または
（
）
　（５）　前記薄膜磁気ヘッドのスライダのビッカース硬度を１８００〜３０００の範囲とした上記（１）または（２）の
薄膜
　（６）　基板上に複数の薄膜磁気変換素子を成膜したのち、これを切断し、切断端面を媒体対向面として、これを前記ダイヤモンド研磨フィルムにて研磨する上記（１）ないし（５）のいずれかの薄膜磁気ヘッドの製造方法。
　【００１５】
　【作用・効果】
　本発明によれば、ダイヤモンド研磨フィルムにおいてダイヤモンド粒径と全厚を設定することにより、極小の面取りを精度よく行うことができ、面取り寸法や角度のバラツキが無くなるので、耐久性が向上するとともに、磁気ヘッドが安定した相対速度で浮上することができるようになる。
　【００１６】
　【実施例】
　以下、添付図面を参照しつつ、本発明の好ましい実施例について説明する。
　まず、本発明によって得られる薄膜磁気ヘッドについて説明する。図１は、薄膜磁気ヘッドの一例を示す斜視図であり、スライダ１は、媒体対向面１１に平面状の空気ベアリング面１１１を有している。両図において、ａは磁気ディスクと組み合わせた場合の空気流入方向を示す。そして、図１では、媒体対向面１１の空気流入方向ａの両側端に、中央部の溝１９を介して、２本のレール１６、１６が形成され、このレール１６、１６上の媒体対向面が空気ベアリング面１１１を構成している。なお、レール１６、１６は３本以上であってもよい。
　【００１７】
　磁気ディスク装置として使用する場合は、スライダ１の媒体対向面１１と逆側の面１２を、ジンバルアッセイにヘッドスタックし、この状態で起動、停止を行なう、いわゆるコンタクト．スタート．トップ（以下ＣＳＳと称する）方式によって駆動される。磁気ディスクが静止しているときは、ヘッド支持装置のバネ圧により空気ベアリング面１１１が磁気ディスクの表面に押付けられているが、磁気ディスクが回転すると、スライダ１の空気ベアリング面１１１に揚力動圧が発生し、この動圧とヘッド支持装置のバネ圧と釣り合う浮上量で動作する。なお、ＣＳＳにかえて、いわゆるダイナミックローディングを用いてもよい。
　【００１８】
　図１に示されるように、レール１６、１６の空気流入端側において空気ベアリング面１１１と側端面１３とが形成する稜角部は、面取りされた傾斜面１４形状となっている。このためＣＳＳ動作等において、容易にスタートできるようになり、ヘッドクラッシュ、媒体損傷等を生じにくくなる。すなわち、空気流入端側での傾斜面１４と空気ベアリング面１１１とのなす角が所定の角度をなし、その長さが所定の寸法となるようにし、しかもその加工精度を高めると、より安定した相対速度で浮上を開始し、または浮上を停止するようになる。
　【００１９】
　このような傾斜面１４は研磨による面取りによって形成される。この際、その傾斜角は小さいため、面寸法および傾斜角の精度に問題が生じやすいが、これらの精度は本発明に従い格段と高いものとなる。なお、図示した例では、レール１６、１６の空気流出側において空気ベアリング面１１１と側端面１４とが形成する稜角部およびスライダ１６、１６の長さ方向の両側部が、傾斜面１７、１８とされた例を示している。
　【００２０】
　上記スライダ１は、そのビッカース硬度（ＪＩＳ　Ｚ　２２４４　試験荷重５００ｇ）ＨＶ（５００ｇ）１１００以上、特に１１００〜３０００の範囲となるように設定されている。この場合、その下限値としては、好ましくは１３００以上、より好ましくは１５００以上、更に好ましくは１８００以上であり、このとき本発明の効果はさらにすぐれたものとなる。
　【００２１】
　このようなセラミックス材料としては、Ａｌ２Ｏ３−ＴｉＯ２［ＨＶ（５００）１１５０程度］、　ＭｇＯ−ＮｉＯ−ＺｒＯ２（１２００程度）、ＺｒＯ２（１２００〜１６００程度）、ＺｒＯ２−Ａｌ２Ｏ３（１４００〜１６００程度）、　Ａｌ２Ｏ３−Ｔｉｃ−ＡｌＮ（１７００〜２０００）、ＳｉＣ（１８００〜２０００程度）、Ａｌ２Ｏ３−ＴｉＣ（２０００〜２３００程度）等が好適である。また、これらには、添加物としてＭｇ、Ｙ、ＺｒＯ２、ＴｉＯ２等が含有されていてもよい。
　【００２２】
　これらのうち、本発明に特に好適なものは、加工性の点でＡｌ２Ｏ３−ＴｉＣを主成分とするセラミックスである。
　【００２３】
　図４は、図１に示した磁気ヘッドの製造方法を示す図である。図においては、１は磁気ヘッドスライダ、９１は弾性シート、９２は研磨フィルム、９３は加工台、９４は治具である。この場合、スライダは、上記の構造のいずれのものであってもよい。
　【００２４】
　上記研磨フィルム９２は、図５に示したように、研磨剤層９２１を、支持体としての可撓性フィルム９２２上に形成してなるものである。研磨剤層９２１は、例えばダイヤモンド微粒子として合成ダイヤモンド砥粒を用い、ポリウレタン系樹脂等のバインダー樹脂を用い、ＭＥＫ／トルエン／シクロヘキサノン混合系等の希釈溶剤を用いて塗布、乾燥して作製することができる。上記ペーストは、各種コーティング機械を用いて、支持体上に均一に塗布されて、層形成される。上記支持体としての可撓性フィルム９２２としては、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリアミド、ポリイミド等を用いることができる。
　【００２５】
　上記ダイヤモンド粒子の平均粒径は、後の実施例からも分かるように、１μｍ以下でなければならないが、特に０．１〜１．０μｍ、さらには０．１〜０．９μｍ、もっとも好ましくは０．１〜０．５μｍであることが好ましい。また、ダイヤモンド粒子とバインダの比は、重量比で１：１／７〜１程度である。また、研磨剤層９２１の厚さは、１〜１０μｍとすることが好ましい。
　【００２６】
　磁気ヘッドスライダ１は、接着等の手段によって治具９４に取付けられ、治具９４に荷重を加えながら、薄膜磁気ヘッドのスライダ１の媒体対向面１１側を、弾性フィルム９１によって支持された研磨フィルム９２の面上に接触させ、スライダ１を研磨フィルム９２に対して、相対的に移動させて研磨する。このとき、図４に示すように、ダイヤモンド研磨フィルムが好適な状態で押し込まれるように、ヤング率をＥとして定義される研磨フィルムの柔軟性の指標であるスティッフネスＥＴ３が０．５〜３×１０５、特に０．５〜２×１０５、さらには０．８〜１．２×１０５（μｍ）３Ｋｇ／ｍｍ２となるように設定することが望ましい。支持体としての可撓性フィルムが上記したような材料で形成されるので、そのゴム硬度がある所定の範囲内にあるため、上記ダイヤモンド研磨フィルムのスティッフネスは、その全厚によるところが大きい。従って、研磨フィルムの厚みが厚すぎたり、薄すぎたりすると密着性が悪化し、研磨面の均一性に欠ける。したがって、本発明においては、フィルムの厚みを１５μｍ以下、好ましくは１０以下とし、該ダイヤモンド研磨フィルムのスティッフネスを上記値の範囲に設定することにより、研磨面のバラツキが抑えられ、安定した耐久走行性が得られるようになった。
　【００２７】
　上記の相対移動は、スライダ１、研磨フィルム９２のいずれの移動によって達成してもよい。また、研磨フィルムを円形にしておき、その円形の中心を中心として回転させ、いわゆるバフのようにして研磨することもできる。また、長尺の研磨フィルムと弾性シートを組み合わせたものを、研磨フィルムを外側にして、輪を形成してエンドレステープ状とし、これを走行させることによって研磨するようにしてもよい。上記荷重は、磁気ヘッド１個あたり、５〜２００ｇの範囲とする。更に、研磨時間は、スライダ１の硬度、ダイヤモンド粒子の粒径、荷重の大きさ等によっても異なるが、概ね、１０〜３００秒程度とする。
　【００２８】
　このようにして、空気ベアリング面１１１を研磨する他、例えば特開昭６０−１８５２７２号、同６３−７０９１８号、特開平２−１９９６１４号、同２−２１２０５７号、同２−３０１０１４号等に記載された方法に準じ、必要に応じスライダ１と研磨フィルムとを傾けたり、研磨フィルムを所定形状に配置したりして、傾斜角や、稜角部の面取りが行なわれる。
　【００２９】
　以上説明してきたが、要約すると、本発明方法は、平均粒径１．０μｍ以下のダイヤモンド粒子、および厚さ１５μｍ以下の研磨フィルムに、磁気ヘッドスライダの媒体対向面側を接触させ、前記スライダを前記研磨シートに対して相対的に移動させて前記媒体対向面を研磨することを主眼とするものである。
　【００３０】
　次に、本発明による方法、特に研磨方法による効果の確認のため、表１に示すように、研磨材としてのダイヤモンドの粒径を設定した。ペーストの配合比を表１に示すようにしてペーストを配合し、これを、厚みを表１に示すように設定し、所定の弾性シート上に配置したダイヤモンド研磨フィルムを用い、荷重と研磨時間一定の条件で、図１に示されるスライダ（磁気ヘッド）を１個づつ、計１０個研磨し、その面取り傾斜面の精度を、表２の基準で測定あるいは調べた。その結果を表３に示す。なお、被研磨物としては、Ａｌ２Ｏ３−ＴｉＯ２製で、Ｈｖ（５００ｇ）が２０００のスライダを有する薄膜磁気ヘッドを用いた。また、研磨精度は、研磨された１０個のスライダの研磨面の種々の箇所を測定し、その寸法バラツキを調べた。
　【００３１】
　【表１】
　【００３２】
　【表２】
　【００３３】
　【表３】
　【００３４】
　これらの表から明らかなように、ダイヤモンド研磨フィルムの厚さ１５μｍ以下、ダイヤモンド微粒子の平均粒径１．０μｍ以下での条件をいずれかでも満足しないときには、５μｍより大のバラツキを生じ、面取り面と水平、垂直面との角で大きな角θができてしまい実用に耐えないことがわかる。これに対し厚さ１５μｍ以下かつ平均粒径１．０μｍ以下では、これらはいずれも満足できる状態となっている。特に、厚さが１０μｍ以下、また平均粒径が０．１μｍ以上であって、０．９μｍ以下、特に０．５μｍ以下となると、これらはより一層好ましい状態となることがわかる。
　【００３５】
　さらに、使用するダイヤモンド微粒子の平均粒径１．０μｍとし、表４に示したように、スライダのビッカース硬度ＨＶ（５００ｇ）およびダイヤモンド研磨フィルムの厚さを種々替えて実験を行なった。その結果を、表４に示す。この表４に示されているように、ビッカース硬度ＨＶ（５００ｇ）１１００以下の時、研磨表面に大きな傷が付いてしまい、実用に耐えないことが分かる。これに対し、ビッカース硬度ＨＶ（５００ｇ）１１００以上となると、スライダの研磨面に小さな傷が存在するだけで満足の行くものであった。またビッカース硬度ＨＶ（５００ｇ）が１２００以下のときには、ダイヤモンド研磨フィルムの全厚を１０μｍ以下とすると、発生する傷が微小となる。
　【００３６】
　特に、ビッカース硬度ＨＶ（５００ｇ）を１５００以上としたときには、キズ、精度ともに良好な状態となり、さらには、１８００以上とすると、きわめて良好な結果が得られる。
　【００３７】
　【表４】
　【００３８】
　上記の表から分かるように、ビッカース硬度ＨＶ（５００ｇ）を１４００以上とし、全厚を７μｍ以下とすると、寸法バラツキが２μｍ以下となり、満足の行くものであった。さらに、全厚が７μｍとそのままであっても、ビッカース硬度ＨＶ（５００ｇ）を１５００以上とすると、寸法バラツキが０．５μｍ以下となり、満足の行くものであり、この傾向は、ビッカース硬度ＨＶ（５００ｇ）が大きければ大きい程、また、全厚が小さければ小さい程、精度が向上することがわかる。
【図面の簡単な説明】
　【図１】
　本発明の製造方法によって製造される浮動型磁気ヘッドの１例を示す斜視図である。
　【図２】
　図１の磁気ヘッドの正面図である。
　【図３】
　図１の磁気ヘッドの側面図である。
　【図４】
　浮動型磁気ヘッドのスライダの空気ベアリング面の研磨方法を説明するための正面図である。
　【図５】
　本発明方法において使用される研磨フィルムの１例を示す断面図である。
　【符号の説明】
　１　　　スライダ
　１１　　媒体対向面
　１１１　空気ベアリング面
　１４、１７、１８　傾斜面
　９２　　研磨フィルム
　９２１　研磨材層
　９２２　可撓性フィルム