(57)【要約】  本発明は、透光性部材１１と、透光性部材１１の光入射側に形成された流路１０又はセルと、透光性部材１０の光出射側において、流路１０又はセルに対応した位置に形成されたアパーチャ１６と、を備えたマイクロチップ１に関する。アパーチャ１６は、流路１０又はセルから出射する光束を出射させる出射面１７と、入射した光束を全反射させる反射面１８と、を有している。出射面１７の幅寸法Ｗ１は、流路１０又はセルの幅寸法Ｗ２よりも小さい
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
透光性部材と、
前記透光性部材の光入射側に形成された流路又はセルと、
前記透光性部材の光出射側において、前記流路又は前記セルに対応した位置に形成されたアパーチャと、
を備えており、
前記アパーチャは、前記流路又はセルから出射する光束を出射させる出射面と、入射した光束を全反射させる反射面と、を有しており、
前記出射面の幅寸法は、前記流路又はセルの幅寸法よりも小さい、マイクロチップ。
【請求項２】
前記反射面は、互いに対向する一対の傾斜面を含んでおり、
前記一対の傾斜面は、前記出射面から離れるにしたがって間隔が大きくなるように形成されている、請求項１に記載のマイクロチップ。
【請求項３】
前記反射面は、円錐状の傾斜面を含んでおり、
前記円錐状の傾斜面は、前記出射面から離れるにしたがって間隔が大きくなるように形成されている、請求項１に記載のマイクロチップ。
【請求項４】
前記アパーチャ以外の部分から光が出射するのを防止するための遮光部をさらに備えている、請求項１に記載のマイクロチップ。
【請求項５】
前記遮光部は、前記アパーチャに隣接して設けられている、請求項４に記載のマイクロチップ。
【請求項６】
前記遮光部は、前記透光性部材の側面に形成されている、請求項４に記載のマイクロチップ。
【請求項７】
前記透光性部材は、前記出射面を透過しなかった光束を前記前記透光性部材の外部に導くためのガイド面を有しており、
前記遮光部は、前記ガイド面によって前記透光性部材の外部に導かれた光束を吸収するものである、請求項４に記載のマイクロチップ。
【請求項８】
前記透光性部材は、側面が傾斜面とされており、
前記ガイド面は、前記側面である、請求項７に記載のマイクロチップ。
【請求項９】
前記透光性部材の光入射側に形成された第２の流路又はセルと、
前記透光性部材の光出射側において、前記第２の流路又はセルに対応した位置に形成された第２のアパーチャと、
をさらに備えており、
前記ガイド面は、前記アパーチャと前記第２のアパーチャとの間に設けられている、請求項７に記載のマイクロチップ。
【請求項１０】
前記透光性部材の光出射側に形成された断面Ｖ字状の溝をさらに備えており、
前記ガイド面は、前記溝の内面である、請求項９に記載のマイクロチップ。
【請求項１１】
前記透光性部材の光入射側において、前記流路又はセルを覆うカバーをさらに備えており、
前記カバーは、前記流路又はセルに光を照射するための照射手段の端部を配置するための凹部を有している、請求項１に記載のマイクロチップ。
【請求項１２】
前記照射手段は光ファイバを含んでおり、
前記凹部は、その底面において前記光ファイバにおける光出射端面が当接し、又は前記光ファイバの光出射端面を含む端部が嵌合するものである、請求項１１に記載のマイクロチップ。
【請求項１３】
前記流路又はセルの底面と前記アパーチャの出射面とは、同一又は略同一軸上に配置されている、請求項１に記載のマイクロチップ。
【請求項１４】
前記流路又はセルに照射手段により光が照射される場合において、
前記流路又はセルに対する入射面は、Ｃ＜Ｖの関係を満たす位置に形成される、請求項１３に記載のマイクロチップ。
Ｃ：照射手段における光出射面の寸法
Ｖ：流路又はセルの光照射面のエッジとアパーチャにおける出射面のエッジとを結ぶ直線が照射手段の端面と交差する部分の距離
【請求項１５】
前記透光性部材に第２の透光性部材を貼り合わせることにより形成されており、
前記透明部材および前記第２の透光性部材は、前記アパーチャと、前記流路を規定する溝と、を有しており、
前記アパーチャおよび前記溝は、平面視において、線対称または点対称の位置関係に配置されている、請求項１に記載にマイクロチップ。
【請求項１６】
前記透明部材および前記第２の透光性部材は、位置決め用の凹部を有しており、
前記凹部は、平面視において、線対称または点対称の位置関係に配置されている、請求項１５に記載にマイクロチップ。
【請求項１７】
請求項１に記載のマイクロチップを用いる分析装置であって、
光源と、
光学系と、
を備えており、
前記光源及び前記光学系は、前記流路又はセルに光束を入射させ、前記アパーチャから光束を出射させるように配置されており、
前記光学系は、前記流路又は前記セルに対して、前記アパーチャの出射面の短軸方向に広がる光束を照射することができる、分析装置。
【請求項１８】
前記光学系は、前記流路又は前記セルに対して、前記アパーチャの出射面の短軸方向に長軸を有する光束を照射することができる、請求項１７に記載の分析装置。
【請求項１９】
請求項１１に記載のマイクロチップを用いる分析装置であって、
前記流路又はセルに光を照射するための照射手段を備えており、
前記照射手段は、出射端が前記マイクロチップにおけるカバーの凹部に当接又は嵌合するように設けられている、分析装置。
【請求項２０】
前記凹部の底面には、第２の凹部が形成されている、請求項１９に記載の分析装置。
【請求項２１】
前記照射手段は、光ファイバを含んでいる、請求項１９に記載の分析装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光を照射して試料を分析するための流路又はセルを備えたマイクロチップ及びこれを用いる分析装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
血液、タンパク質、薬物等の試料の分析方法として、マイクロチップを用いた技術が知られている。マイクロチップは、微細流路を有するものであり、たとえば電気泳動あるいは毛細管力により微細流路において試料を移動させるものである。このようなマイクロチップを用いる場合、微細流路やその途中に設けたセルに光を照射し、微細流路やセルを透過した光を検出して試料を分析している。光学的な分析には、吸光光度法や蛍光光度等が知られている。【０００３】
光学的な分析方法において測定精度を高めるためには、光学系を構成するレンズの収差、乱反射などに起因する内部的な迷光（測定に寄与しない余分な光）を除去する必要がある。このため、分析装置では、光軸上にアパーチャ（絞り）を設置して、不要光を遮蔽することが行われている。【０００４】
不要光を遮蔽する方法としては、マイクロチップなどの分析用具では、測定セルを構成する透明部材に、テーパ状の面を形成することが提案されている。テーパ状の面は、出射光を散乱又は反射させて、セルを通過する光束のみを受光部に到達させるためのものである。【０００５】
しかしながら、不要光を遮蔽するためにテーパ状の面を形成する方法では、μ−ＴＡＳ（Micro Total Analysis System）のさらなる微細化の進歩に対応することが困難になる。すなわち、分析装置における特定の観測点にマイクロチップを脱着させる構成においては、マイクロチップを正確な位置に設置するには限度があった。【０００６】
例えば、マイクロチップを分析装置に設けられたトレイの凹部に脱着させる場合は、凹部の開口寸法は、マイクロチップの寸法誤差を考慮して、多少の余裕を持たせる必要がある。そのため、マイクロチップの位置決め精度をある程度は確保できるが、マイクロチップが特定の位置に正確に定まらないので、流路が微細化される場合には、マイクロチップの観測点と光軸とが正確に位置合わせされた状態にするのは困難である。【０００７】
このような位置合わせを正確にするには、例えばマイクロチップ及びトレイの寸法精度を厳格にし、マイクロチップとトレイとの嵌合を厳格にすることが考えられるが、この場合は製造コストが上昇してしまう。また、位置調整機構を設けて位置合わせする構成も考えられるが、装置が複雑になりかつ高価になる。【０００８】
【特許文献１】米国特許４５１１７９８号明細書
【特許文献２】特開２００７−２９８４７４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
本発明は、マイクロチップの位置ばらつきを許容しながらも、簡単な構成で試料の分析精度を確保することを課題としている。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明の第１の側面においては、透光性部材と、前記透光性部材の光入射側に形成された流路又はセルと、前記透光性部材の光出射側において、前記流路又は前記セルに対応した位置に形成されたアパーチャと、を備えマイクロチップが提供される。前記アパーチャは、前記流路又はセルから出射する光束を出射させる出射面と、入射した光束を全反射させる反射面と、を有している。前記出射面の幅寸法は、前記流路又はセルの幅寸法よりも小さくされる。【００１１】
前記反射面は、たとえば互いに対向する一対の傾斜面を含んでいる。前記一対の傾斜面は、前記出射面から離れるにしたがって間隔が大きくなるように形成されている。前記反射面は、円錐状の傾斜面を含んでいてもよい。前記円錐状の傾斜面は、前記出射面から離れるにしたがって間隔が大きくなるように形成される。【００１２】
本発明のマイクロチップは、前記アパーチャ以外の部分から光が出射するのを防止するための遮光部をさらに備えていてもよい。【００１３】
前記遮光部は、たとえば前記アパーチャに隣接して設けられる。前記遮光部は、前記透光性部材の側面に形成してもよい。【００１４】
前記透光性部材は、前記出射面を透過しない光束を前記前記透光性部材の外部に導くためのガイド面を有していてもよい。この場合、前記遮光部は、前記ガイド面によって前記透光性部材の外部に導かれた光束を吸収するものであるのが好ましい。【００１５】
前記ガイド面は、前記透光性部材の側面を傾斜面とすることにより形成してもよい。【００１６】
本発明のマイクロチップは、前記透光性部材の光入射側に形成された第２の流路又はセルと、前記透光性部材の光出射側において、前記第２の流路又はセルに対応した位置に形成された第２のアパーチャと、をさらに備えていてもよい。この場合、前記ガイド面は、前記アパーチャと前記第２のアパーチャとの間に設けるのが好ましい。前記ガイド面は、前記透光性部材の光出射側に形成された断面Ｖ字状の溝の内面であってもよい。【００１７】
本発明のマイクロチップは、前記透光性部材の光入射側において、前記流路又はセルを覆うカバーをさらに備えていてもよい。この場合、前記カバーは、前記流路又はセルに光を照射するための照射手段の端部を配置するための凹部を有しているのが好ましい。【００１８】
前記光源は光ファイバである場合において、前記凹部は、その底面において前記光ファイバの光出射端面が当接し、又は前記光ファイバの光出射端面を含む端部が嵌合するものであるのが好ましい。【００１９】
好ましくは、前記流路又はセルの底面と前記アパーチャの出射面とは、同一又は略同一軸上に配置されている。【００２０】
前記流路又はセルに照射手段により光が照射される場合において、前記流路又はセルに対する入射面は、たとえばＣ＜Ｖの関係を満たす位置に形成される。ここで、Ｃは照射手段における光出射面の寸法である。Ｖは流路又はセルの光照射面のエッジとアパーチャにおける出射面のエッジとを結ぶ直線が照射手段の端面と交差する部分の距離である。【００２１】
本発明のマイクロチップは、たとえば前記透光性部材に第２の透光性部材を貼り合わせることにより形成されている。前記透明部材および前記第２の透光性部材は、前記アパーチャと、流路を規定する溝と、を有している。前記アパーチャおよび前記溝は、平面視において、線対称または点対称の位置関係に配置されているのが好ましい。【００２２】
前記透明部材および前記第２の透光性部材は、位置決め用の凹部を有していてもよい。前記凹部は、平面視において、線対称または点対称の位置関係に配置されているのが好ましい。【００２３】
本発明の第２の側面においては、本発明の第１の側面に係るマイクロチップを用いる分析装置であって、光源と、光学系と、を備えた分析装置が提供される。前記光源及び前記光学系は、前記流路又はセルに光束を入射させ、前記アパーチャから光束を出射させるように配置されている。前記光学系は、前記流路又は前記セルに対して、前記アパーチャの出射面の短軸方向に広がる光束を照射することができる。【００２４】
前記光学系は、たとえば前記流路又は前記セルに対して、前記アパーチャの出射面の短軸方向に長軸を有する光束を照射することができる。【００２５】
本発明の第３の側面においては、前記透光性部材の光入射側において、前記流路又はセルを覆い、かつ凹部を有するカバーをさらに備えたマイクロチップを用い、かつ前記流路又はセルに光を照射するための照射手段を備えた分析装置が提供される。【００２６】
前記照射手段は、出射端が前記マイクロチップにおけるカバーの凹部に当接又は嵌合するように設けられる。前記凹部の底面には、第２の凹部を形成するのが好ましい。【００２７】
前記照射手段は、たとえば光ファイバを含んでいる。
【図面の簡単な説明】
【００２８】
【図１】本発明に係るマイクロチップの一例を示す全体斜視図である。
【図２】図１に示したマイクロチップの分解斜視図である。
【図３】図３Ａおよび図３Ｂは、図１に示したマイクロチップにおける基板を、裏面側から見た斜視図である。
【図４】図１のIV−IV線に沿う断面図である。
【図５】図１のV−V線に沿う断面図である。
【図６】本発明に係る分析装置の概略構成を示す斜視図である。
【図７】図６に示した分析装置の断面図である。
【図８】本発明に係る分析装置の他の例を示す断面図である。
【図９】本発明に係るマイクロチップの他の例を示す断面図である。
【図１０】本発明に係るマイクロチップのさらに他の例を示す断面図である。
【図１１】本発明に係るマイクロチップのさらに他の例を示す分解斜視図である。
【図１２】本発明に係るマイクロチップのさらに他の例を示す平面図である。
【図１３】図１２のVIII−VIII線に沿う断面図である。
【図１４】本発明に係るマイクロチップのさらに他の例を示す斜視図である。
【図１５】図１４に示したマイクロチップの分解斜視図である。
【図１６】図１６Ａは図１４のXVIA−XVIA線に沿う断面図であり、図１６Ｂは図１５のXVIB−XVIB線に沿う断面図である。
【図１７】本発明に係るマイクロチップのさらに他の例を示す斜視図である。
【図１８】本発明に係る分析装置の他の例を示す断面図である。
【図１９】図１８に示した分析装置の要部を拡大して示した断面図である。
【図２０】図１８に示した分析装置の作用を説明するための図１９に相当する断面図である。
【図２１】図１８に示した分析装置の作用を説明するための図１９に相当する断面図である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２９】
以下、本発明の実施について、図面を参照しつつ具体的に説明する。【００３０】
まず、本発明に第１の実施の形態について、図１ないし図７を参照しつつ説明する。【００３１】
図１ないし図５に示したように、マイクロチップ１は、血液、タンパク質、薬物等の試料を分析するために、分析装置２（図５および図６参照）に装着して使用するものである。このマイクロチップ１は、微細な流路１０が形成されたものであり、基板１１、カバー１２、板状部材１３および遮光部１４Ａ，１４Ｂを有している。【００３２】
基板１１は、溝１５およびアパーチャ１６を有するものであり、透光性部材により形成されている。基板１１を形成するための材料としては、ＰＤＭＳ、ＰＭＭＡ、ＰＳ、およびＰＣを挙げることができる。【００３３】
溝１５は、カバー１２とともに流路１０を構成するものである。この溝１５は、基板１１の上面１１Ａにおいて、基板１１の長手方向に延びるように形成されている。【００３４】
アパーチャ１６は、内部的な迷光（測定に寄与しない余分な光）を除去するための絞りとして機能するものである。図３Ａに示したように、アパーチャ１６は、出射面１７および一対の反射面１８を有するものであり、基板１１の下面１１Ｂにおいて基板１１の長手方向に延びるように形成されている。図３Ｂに示したように、アパーチャ１６′は、基板１１の下面１１Ｂにおいて、出射面１７′および円錐状の反射面１８′を有するものとして形成してもよい。【００３５】
図４および図５に示したように、出射面１７，１７′は、流路１０から出射する光束を出射させるものである。図３Ａに示したアパーチャ１６では、出射面１７は、流路１０（溝１５）に対応して基板１１の長手方向に延びる平坦面として形成されている。出射面１７の幅寸法Ｗ１は、流路１０（溝１５）の幅寸法Ｗ２よりも小さくされている。一方、図３Ｂに示したアパーチャ１６′では、出射面１７′は、流路１０（溝１５）に対面した円形の平坦面として形成されている。出射面１７′の直径Ｗ１は、流路１０（溝１５）の幅寸法Ｗ２よりも小さくされている。【００３６】
反射面１８，１８′は、流路１０から出射する光束を全反射させ、基板１１の側面１１Ｃに向けて進行させるものである。図３Ａに示した一対の反射面１８は、互いに対向するとともに、光束の光軸Ｌに対して傾斜する平面として設けられている。これらの反射面１８は、流路１０から離れるにしたがって間隔が広くなるように形成されており、反射面１８の傾斜角度は反射面１８に達した光束を全反射させるような角度に設定される。一方、図３Ｂに反射面１８′は、出射面１７′から離れるにしたがって間隔が大きくなるように円錐状の形成されている。反射面１８′の傾斜角度は、反射面１８（図３Ａ参照）と同様に、反射面１８′に達した光束を全反射させるような角度に設定される。【００３７】
ここで、反射面１８，１８′において光束を全反射させるための条件について検討する。反射面１８，１８′において全反射を起こす臨界角θｍは、ｓｉｎθｍ＝ｎ１／ｎ２（ｎ２＞ｎ１）の関係を満たす。ここで、ｎ１は空気の屈折率、ｎ２は基板１の屈折率である。このとき、空気の屈折率ｎ１を１とすれば、基板１１の材料と臨界角θｍとの下記表１に示した通りである。【００３８】
【表１】
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【００３９】
表１中、ＰＤＭＳはシリコーン樹脂、ＰＭＭＡはメタクリル酸メチル樹脂（アクリル樹脂）、ＰＳはポリスチレン樹脂、ＰＣはポリカーボネート樹脂である。【００４０】
なお、屈折率は波長に応じて異なるが、θｍは使用する波長の最長波長における屈折率に基づいて設定すればよい。【００４１】
図６および図７に示した分析装置２のように、マイクロチップ１への入射光がＸ方向視において平行光の場合、反射面１８，１８′の傾斜角θｓは、θｓ＜９０−θｍとなる。例えば、基板１の材料がＰＤＭＳの場合は、臨界角θｍは４３．６°である。したがって、基板１の材料がＰＤＭＳの場合の反射面１８の傾斜角θｓは４６．４°以下に設定すればよい。【００４２】
カバー１２は、基板１１とともに流路１０を規定するものであり、透光性部材により形成されている。このカバー１２は、基板１１と同様な材料により板状に形成されており、基板１１の溝１５を覆っている。カバー１２は、溝１５の端部１５Ａ，１５Ｂに対応する位置に設けられた貫通孔１２Ａ，１２Ｂを有している。これらの貫通口１２Ａ，１２Ｂは、溝１５および後述する板状部材１３の貫通孔１３Ａ，１３Ｂに連通しており、注入口１０Ａおよび排出口１０Ｂを構成している。【００４３】
板状部材１３は、流路１０に供給すべき泳動液の注入口１０Ａおよび排出口１０Ｂを規定するとともに、電極１９を保持するものである。板状部材１３は、貫通孔１３Ａ，１３Ｂを有しており、これらの貫通口１３Ａ，１３Ｂが注入口１０Ａおよび排出口１０Ｂを構成している。電極１９は、流路１０に泳動液や流路１０に注入された泳動液に電圧を印加し、試料を電気泳動させ分離するためのものである。電極１９の端部１９Ａは、板状部材１３の貫通孔１３Ａ，１３Ｂ（注入口１０Ａおよび排出口１０Ｂ）において突出しており、泳動液と接触するようになされている。電極１９の端部１９Ｂは、板状部材１９から側方に突出しており、図外の電力供給源に接続されている。【００４４】
遮光部１４Ａ，１４Ｂは、アパーチャ１６，１６′以外の部分から光が出射するのを防止するためのものである。遮光部１４Ａは、基板１１の側面１１Ｃから光が出射するのを防止するためのものであり、基板１１の側面１１Ｃに設けられている。遮光部１４Ｂは、基板１１の下面１１Ｂから光が出射するのを防止するためのものであり、基板１１の下面１１Ｂにおいて、アパーチャ１６，１６′に隣接して設けられている。遮光部１４Ａ，１４Ｂは、たとえば測定波長の光を吸収する塗料を塗布、スタンプあるいは印刷し、測定波長の光を吸収する顔料や色素を含んだフィルムを貼着することにより形成することができる。【００４５】
このような構成のマイクロチップ１では、注入口１０Ａから流路１０に向けて泳動液を注入し、さらに試料を注入する。次に、２本の電極１９間に電圧を印加することにより、試料を電気泳動させ試料を分離する。この分離した試料に光を照射して試料を分析する。この分析には、例えば吸光光度法や蛍光光度法が用いられる。【００４６】
次に、本発明に係る分析装置の一例について、図６および図７を参照しつつ説明する。ただし、以下においては、マイクロチップ１として図３Ａに示したものを使用する場合を例にとって説明する。【００４７】
図６に示した分析装置２は、図外の搭載部に搭載されたマイクロチップ１を利用して試料の分析を行うものであり、光源２０、光学系２１および検出器２２を備えている。【００４８】
ここで、搭載部は、マイクロチップ１を位置決めできる構成であればよい。詳細は後に説明するが、この位置決め精度は高精度であることが望ましいが、厳格な精度は要求されない。また、搭載部を位置調整する機構も特別必要ない。搭載部は、例えばマイクロチップ１の外形と嵌合する凹状の収納部を備えたトレイが挙げられ、この凹部の開口寸法はマイクロチップ１の外形寸法より若干大きくしておけばよい。【００４９】
光源２０は、マイクロチップ１における流路１０の所定箇所に光を照射するためのものである。光源２０としては、例えばレーザ、ＬＥＤあるいは光ファイバを用いることができる。【００５０】
光学系２１は、光源２０から出射された光を、流路１０の所定箇所に導くためのものである。この光学系２１は、コリメートレンズ２３およびシリンドリカルレンズ２４を有している。【００５１】
コリメートレンズ２３は、光源２０から出射された発散光を平行光にするためのものである。【００５２】
シリンドリカルレンズ２４は、コリメートレンズ２３において平行光とされた光束を収束させるためのものである。このシリンドリカルレンズ２４は、出射面２４Ａが凸曲面とされており、シリンドリカルレンズ２４を透過した光束が流路１０の長手方向（Ｘ方向）には収束するが、流路１０の幅方向（Ｙ方向）には収束しないように配置されている。このため、シリンドリカルレンズ２４を透過した光束は、マイクロチップ１（カバー１２や流路１０）には、基板１１（流路１０）の短手方向（Ｙ方向）に長軸を有するスポットＳｐとして光束が照射される。スポットＳｐは、流路１０を横切るとともに、長軸方向（Ｙ方向）の長さは、流路１０の幅より大きい。【００５３】
検出器２２は、マイクロチップ１を透過した光を受光し、受光量に応じた電気信号を生成するものである。この電気信号は、試料における目的成分の量などに対応するものであり、電子信号に基づいて試料の分析を行うことができる。【００５４】
分析装置２では、光源２０から出射された発散光は、コリメートレンズ２３において平行光とされた後にシリンドリカルレンズ２４において収束され、マイクロチップ１の流路１０に交差する方向に長軸を有するスポットＳｐとしてマイクロチップ１に照射される。【００５５】
マイクロチップ１に照射された光束は、カバー１２を透過して基板１１に入射する。このとき、流路１０を透過する光束は、電気泳動により分離した試料を照射することになる。流路１０を透過した光束は、大部分がアパーチャ１６に入射し、アパーチャ１６に入射しなかった光は遮光部１４Ｂにおいて吸収される。【００５６】
アパーチャ１６に入射した光束は、一部が出射面１７を透過し、残部は反射面１８において全反射する。反射面１８において全反射した光は、基板１１の側面１１Ｃに向けて進行する。基板１１の側面１１Ｃに到達した光は、遮光部１４Ａにおいて吸収される。【００５７】
一方、出射面１７を透過した光束は、検出器２２において受光され、試料の分析に供される。ここで、検出器２２に形成されるスポットＳｐは、マイクロチップ１に形成されるスポットＳｐに比べ、幅（Ｘ方向）、長さ（Ｙ方向）ともに小さくなっている。検出器２２に形成されるスポットＳｐの幅（Ｘ方向）が小さくなっているのは、シリンドリカルレンズ２４の収束作用を受けるためである。【００５８】
これに対して、スポットＳｐの長さ（Ｙ方向）については、シリンドリカルレンズ２４の収束作用は受けないが、アパーチャ１６を通過する際に反射面１８において光束の一部が遮蔽されるため、スポットＳｐの長さ（Ｙ方向）が短くなっている。より具体的には、図７に示したように、マイクロチップ１を用いて分析装置２によって試料を分析する場合、マイクロチップ１には、流路１０の幅Ｌ２より大きい長さＬ１の光束が入射する。この光束は、シリンドリカルレンズ２４の収束作用を受けないために長さＬ１を維持しながら基板１１を進行しアパーチャ１６に入射する。アパーチャ１６に到達した光は、出射面１７および反射面１８に到達する。出射面１７に到達した光は透過し、反射面１８に到達した光は反射される。このため、光束はアパーチャ１６を通過することにより、出射面１７の幅（直径）である長さＷ１の光束となって検出器２２に到達する。【００５９】
この構成によれば、流路１０を透過した光以外は、検出器２２には到達せず、また流路１０を透過した光であっても反射面１８に到達した光は検出器２２には到達しない。すなわち、出射面１７を透過した光のみが検出器２２において受光される。すなわち、アパーチャ１６の反射面１８によって試料の分析に必要な光のみを検出することが可能となるたね、分析精度を高めることが可能となる。【００６０】
また、マイクロチップ１に入射された光束は、アパーチャ１６の出射面１７を透過した光束以外は、遮光部１４Ａ，１４Ｂにおいて吸収される。そのため、マイクロチップ１では、遮光部１４Ａ，１４Ｂを設けることによって、マイクロチップ１の内部に生じる迷光がマイクロチップ１の外部に出射されてしまうことを防止することができる。その結果、検出器２２において、不要光が受光されてしまうことを抑制することができるため、分析精度を向上させることができる。【００６１】
本発明ではさらに、マイクロチップ１の設置精度を厳格にしなくても得ることができる。すなわち、マイクロチップ１を用いて試料分析を行う場合には、分析装置２の搭載部（図示略）にマイクロチップ１を搭載する。このとき、搭載部は凹状の収納部を備えたトレイであるとして、この場合、凹状の収納部の開口は、マイクロチップ１０の外形寸法のばらつきを考慮して、マイクロチップ１の外形より若干大きな寸法に設定する。この構成では、マイクロチップ１の外形寸法のばらつきには対応できるが、マイクロチップ１の設置位置に、ばらつきが生じることになる。【００６２】
これに対して、マイクロチップ１のスポットＳｐは、流路１０と交差している。この場合、マイクロチップ１が流路１０の長手方向（Ｘ方向）に移動しても、スポットＳｐと流路１０とが交差した状態には変わりない。他方、スポットＳｐの長さ（Ｙ方向）は、流路１０の幅より大きい。このことにより、マイクロチップ１が流路１０の幅方向（Ｙ方向）に移動しても、スポットＳｐと流路１０とが交差した状態を維持することが可能になる。【００６３】
すなわち、マイクロチップ１の位置に変動があっても、スポットＳｐと流路１０とが交差した状態を維持している限りは、流路１０を透過した長さＬ３のスポットが検出器２２に到達することになり、分析精度を維持することができる。【００６４】
したがって、マイクロチップ１を用いて試料の分析を行えば、マイクロチップ１の位置決め精度を厳格にしたり、別個に位置調整機構を設けたりしなくても、マイクロチップ１にアパーチャ１６を形成することにより、分析精度を確保することができる。アパーチャ１６は、基板１１と一体に成形でき、特別な追加部品は不要である。すなわち、マイクロチップ１によれば、マイクロチップ１の位置ばらつきを許容しながらも、簡単な構成で試料の分析精度を確保することができる。このような効果は、マイクロチップ１として図３Ｂに示したものを使用した場合にも同様に得ることができる。【００６５】
もちろん、本発明は種々に設計変更可能である。たとえば光学系２１では、マイクロチップ１に縦長のスポットＳｐを形成するためにシリンドリカルレンズ２４を用いたが、これに代えて、縦長スリットを有するアパーチャを配置してもよい。【００６６】
また、図８に示した分析装置２′のように、光学系１１′においてシリンドリカルレンズ２４に代えて集光レンズ２４′を用い、流路１０の幅方向（Ｙ方向）についても光束を収束させるようにしてもよい。【００６７】
図８に示した構成においても、マイクロチップ１には、流路１０の幅Ｗ２より大きい直径の円形状の光束が入射する。この光束は、収束しつつ基板１１を進行する。集光レンズ２４′は、光束が流路１０を通過するまでの間は、光束と流路１０とが交差した状態が維持するように設定している。【００６８】
アパーチャ１６（１６′）に到達した光は、一部が出射面１７を透過する一方で、残部が反射面１８（１８′）において反射される。このため、光束はアパーチャ１６（１６′）を透過することにより、出射面１７（１７′）における光束が収束されて検出器２２に到達する。したがって、流路１０を透過した光以外は、検出器２２には到達しないので、分析精度を高めることができる。この効果は、上述のようにマイクロチップ１の設置精度を厳格にしなくても達成することができる。【００６９】
ここで、反射面１８（１８′）において光束を全反射させるための条件について検討する。反射面１８（１８′）において全反射を起こす臨界角θｍは、ｓｉｎθｍ＝ｎ１／ｎ２（ｎ２＞ｎ１）の関係を満たす。ここで、ｎ１は空気の屈折率、ｎ２は基板１の屈折率である。このとき、空気の屈折率ｎ１を１とすれば、基板１の材料と臨界角θｍとの上記表１に示した通りである。【００７０】
図８に示した分析装置２′のように集光レンズ２４′を用いるのであれば、入射光の入射角を考慮して角度θｓを設定すればよい。入射光の入射角θｓは、θｓ＜（９０−θｍ）−α  （ｔａｎα＝ｒ／ｆ）となる。ここで、ｒは集光レンズ２４′の有効半径、ｆは集光レンズ２４′の焦点距離である。【００７１】
例えば、基板１１の材料がＰＤＭＳの場合は、臨界角θｍは４３．６°である。したがって、基板１１の材料がＰＤＭＳの場合の反射面１８（１８′）の傾斜角θｓは、集光レンズ２４′の有効半径ｒが５ｍｍ、焦点距離ｆが１０ｍｍのときは、１９．８°以下に設定すればよい。【００７２】
さらに、本発明のマイクロチップにおいては、遮光部についても種々に変更可能である。【００７３】
遮光部１４Ａ，１４Ｂは必ずしも必要なものではなく、遮光部１４Ａ，１４Ｂの一方または双方を省略してもよく、また、遮光部として図９および図１０に示した構成を採用することも可能である。【００７４】
図９に示したマイクロチップ３は、ガイド面３０および遮光部３１を有するものである。【００７５】
ガイド面３０は、アパーチャ１６（１６′）の反射面１８（１８′）において全反射した光束を、基板３２の外部に導くためのものである。このガイド面３０は、基板３２の側面を傾斜面とすることにより形成されている。【００７６】
遮光部３１は、ガイド面３０によって基板３２の外部に導かれた光束を吸収するものであり、基板３２の側方に向けて突出している。この遮光部３１は、分析波長の光を吸収する顔料や色素を含有したフィルムなどの吸収部材を、基板３２の下面３３に貼着することにより形成されている。【００７７】
マイクロチップ３では、アパーチャ１６（１６′）の反射面１８（１８′）において全反射した光束は基板３２の側面（ガイド面）３０に向けて進行する。この光束は、側面（ガイド面）３０において下方に向きが変えられ、側面（ガイド面）３０から出射する。ガイド面３０から出射した光束は、遮光部３１において吸収される。【００７８】
図１０に示したマイクロチップ４は、複数の流路４０，４１およびアパーチャ４２，４３を備えたものである。複数の流路４０，４１は互いに隣接して設けられている。アパーチャ４２，４３は、流路４０，４１の直下に設けられており。図３Ａまたは図３Ｂに示したマイクロチップ１のアパーチャ１６（１６′）と同様な形態とされている。このマイクロチップ４はさらに、ガイド面４４，４５および遮光部４６，４７を有している。【００７９】
ガイド面４４，４５は、アパーチャ４２，４３の反射面４２Ａ，４３Ａにおいて全反射した光束を、基板４８の外部に導くためのものである。このガイド面４４，４５は、基板４８の側面を傾斜面とし、隣接するアパーチャ４２，４３の間にＶ字状の凹部４９を設けることにより形成されている。すなわち、ガイド面４４，４５は、図９に示したマイクロチップ３のガイド面３０と同様なガイド面４４に加えて、Ｖ字状の凹部４９を規定する傾斜面としてガイド面４５を含んでいる。【００８０】
遮光部４６，４７は、ガイド面４４，４５によって基板４８の外部に導かれた光束を吸収するものである。この遮光部４６，４７は、図９に示したマイクロチップ４の遮光部３１と同様に基板４８の側方に向けて突出した遮光部４６に加えて、Ｖ字状の凹部４９を覆う遮光部４７を含んでいる。【００８１】
このようなマイクロチップ４においては、複数の流路４０，４１を備えている場合において、一方の流路４０（４１）を透過した光束が隣接する流路４１（４０）に入り込むことを適切に抑制することができる。すなわち、一方の流路４０（４１）を透過して隣接する流路４１（４０）に進行する光は、凹部４９のガイド面（傾斜面）４４，４５において下方に進行方向が変えられて基板４８から出射する。そのため、隣接する流路４０，４１において、一方の流路４０（４１）から他方の流路４１（４２）に光が入射してしまうことを抑制することができる。【００８２】
また、凹部４９において向きを変えられて基板４８から出射する光は、遮光部４７において吸収される。そのため、一方の流路４０（４１）から他方の流路４１（４０）に向かう光が検出器２２において受光されることを抑制し、分析精度を向上させることが可能となる。【００８３】
また、本発明の分析装置においては、光源として半導体レーザ採用することもできる。一般的に半導体レーザは、その構造から楕円形状のレーザビームを出射する。例えば、エドモンド社のＶＬＭ可視光レーザモジュール(商品コード：３８９２７−Ｄ)であれば、４．０×１．０ｍｍのビーム形状となる。これを通常の集光レンズ又はコリメータを使用して、スポットサイズを１／２０に縮小すれば、０．２×０．０５ｍｍのスポットサイズになる。この縮小スポットの長手方向が流路１０を横切るように、半導体レーザを設置することにより、図６のスポットＳｐのように、縦長スポットを流路１０と交差する方向に形成することができる。【００８４】
また、本発明は、図１１に示したマイクロチップ１″、図１２および図１３に示したマイクロチップ５、あるいは図１４ないし図１６に示したマイクロチップ６に対しても適用することができる。【００８５】
図１１に示したマイクロチップ１″は、基板１１″において、流路（図１ないし図５を参照して説明してマイクロチップ１の符号１０）を規定する溝１５″の途中にセル１５Ａ″が設けられたものである。セル１５Ａ″は、溝１（流路）１５″の幅よりも大きな径を有するものであり、基板１１″に形成された円柱状の凹部によって規定されている。このようなマイクロチップ１″においては、セル１５Ａ″と交差するように光束がセル１５Ａ″を照射される。【００８６】
図１２および図１３に示したマイクロチップ５は、全体として円盤状に形成されており、複数の流路５０および遮光部５１を備えている。【００８７】
複数の流路５０は、注入口５２から放射状に形成されている。各流路５０には、セル５３が設けられている。セル５３は、同一円周上に配置している。この構成によれば、注入口５２を中心にマイクロチップ５を回転させながら、順次隣接するセル５３における試料を測定することができる。このような流路５０およびセル５３は、基板５４の上面５４Ａに凹部を形成し、基板５４にカバー５６を積層することにより形成されている。【００８８】
基板５４の下面５４Ｂには、アパーチャ５７およびＶ字状の溝５８が設けられている。【００８９】
アパーチャ５７は、セル５３に対応してセル５３の直下に形成されている。アパーチャ５７は、図１ないし図５を参照して説明したマイクロチップ１のアパーチャ１６と同様なものであり、出射面５７Ａおよび一対の反射面５７Ｂを有している。【００９０】
Ｖ字状の溝５８は、隣接する流路５０の間において、セル５３（アパーチャ５７）に挟まれるように形成されている。このＶ字状の溝５８の内面５９は、図１０を参照して説明したマイクロチップ４のガイド面４５に相当するものであり、アパーチャ５７の反射面５７Ｂにおいて反射した光を基板５４の下方に向けて進行させるものである。【００９１】
遮光部５１は、Ｖ字状の溝５８の傾斜面（ガイド面）５９から出射する光を吸収するものであり、Ｖ字状の溝５８を覆うように形成されている。【００９２】
図１４ないし図１６に示したマイクロチップ６は、２つの試料を測定できるものであり、一対の透明部材６０，６１を貼り合わせることにより形成されている。各透明部材６０，６１は、長矩形板状に形成されており、溝６０Ａ，６１Ａ、貫通孔６０Ｂ，６０Ｃ，６１Ｂ，６１Ｃ、および凹部６０Ｄ，６０Ｅ，６１Ｄ，６１Ｅを有している。【００９３】
溝６０Ａ，６１Ａは、対向する他方の透明部材６０，６１の貼り合わせ面６０Ｆ，６１Ｆとともに流路を規定するものである。溝６０Ａ，６１Ａは、各透明部材６０，６１の貼り合わせ面６０Ｆ，６１Ｆにおいて、透明部材６０，６１の長手方向に延びるように形成されている。溝６０Ａ，６１Ａは、平面視において線対称な位置関係に配置されている。【００９４】
貫通孔６０Ｂ，６１Ｂは流路（溝６０Ａ，６１Ａ）に試料を導入するものであり、貫通孔６０Ｃ，６１Ｃは流路（溝６０Ａ，６１Ａ）から試料を排出するものである。このような貫通孔６０Ｂ，６０Ｃ，６１Ｂ，６１Ｃは、溝６０Ａ，６１Ａの端部に連通するように透明部材６０，６１を貫通して形成されている。貫通孔６０Ｂ，６１Ｂは平面視において線対称な位置関係に配置されており、貫通孔６０Ｃ，６１Ｃは平面視において線対称な位置関係に配置されている。【００９５】
凹部６０Ｄ，６１Ｄは、位置決め用に利用されるものであり、各透明部材６０，６１において、非貼り合わせ面６０Ｇ，６１Ｇに形成されている。凹部６０Ｄ，６１Ｄは、平面視において線対称な位置関係に配置されている。【００９６】
凹部６０Ｅ，６１Ｅは、図３Ｂに示したマイクロチップ１のアパーチャ１６′に相当するものであり、出射面６０Ｅａ，６１Ｅａおよび円錐状の反射面６０Ｅｂ，６１Ｅｂを有している。凹部６０Ｅ，６１Ｅは、対向する透明部材６０，６１の溝６０Ａ，６１Ａの直下または直下に形成されている。凹部６０Ｅ，６１Ｅは、平面視において線対称な位置関係に配置されている。【００９７】
マイクロチップ６は、透明部材６０，６１どうしをそれらの貼り合わせ面６０Ｆ，６１Ｆが対面するようにして貼り合わせることにより形成されている。そのため、マイクロチップ６は、２つの流路（溝６０Ａ，６１Ａ）を有するとともに、表裏の構成が同一なものとされている。したがって、マイクロチップ６は、表裏を反転させて使用することにより、２つの試料の測定が可能となっている。【００９８】
マイクロチップ６は、溝６０Ａ，６１Ａどうし、貫通孔６０Ｂ，６１Ｂどうし、貫通孔６０Ｃ，６１Ｃどうし、凹部６０Ｄ，６１Ｄどうし、および凹部６０Ｅ，６１Ｅどうしは、それぞれ点対称な位置関係となるように配置してもよい。【００９９】
本発明に係るマイクロチップは、図１ないし図５に示したマイクロチップ１のように、流路１０での試料の移動が電圧印加により行われるように構成されたものに限らず、流路の毛細管により試料を移動させる構成であってもよい。【０１００】
また、図１７に示したように、流路１０″やセルを規定するための凹部（溝）１５″は、基板１１″ではなくカバー１２″に形成するようにしてもよい。【０１０１】
また、アパーチャの出射面や反射面は、平面に限らず、全部または一部が曲面であってもよい。【０１０２】
また、上述の分析装置２，２′における光学系２１，２１′は一例であり、各種レンズ、絞り等を適宜組み合わせて設計すればよい。【０１０３】
次に、本発明の第２の実施の形態について、図１８ないし図２１を参照しつつ説明する。【０１０４】
図１８および図１９に示した分析装置７は、マイクロチップ８を用いて試料の分析を行うものであり、照射手段７０および検出器２２を備えている。【０１０５】
照射手段７０は、マイクロチップ８の流路８４（またはセル）に光を照射するためのものである。この照射手段７０は、光ファイバ７１およびフェルール７２を有している。【０１０６】
光ファイバ７１は、図外の光源からの光をマイクロチップ８に導くためのものである。この光ファイバ７１は、コア７３およびクラッド７４を有している。コア７３は、光が移動する部分である。クラッド７４は、コア７３との界面において光を全反射させるものである。クラッド７４は、コア７３よりも屈折率の高い材料により形成されており、コア７３の被覆している。すなわち、光ファイバ７１においては、コア７３とクラッド７４との界面において全反射を繰り返しながらコア７３の内部で光が導波され、コア７３の端面７５から光が出射される、端面７５から出射される光は、コア７３とクラッド７４との界面における全反射臨界角に応じた開口数の光であり、端面７５から離れるにしたがって光束を広げつつ進行する。【０１０７】
フェルール７２は、光ファイバ７１の端部を保持するものである。このフェルール７２は、ホルダ７６において、コイルバネ７７に付勢された状態で上下方向に移動可能に保持されている。すなわち、光ファイバ７１は、適度な押圧力をもってマイクロチップ８の凹部８７に当接させられるように構成されている。【０１０８】
検出器２２は、図６および図７を参照して説明した分析装置２の検出器２２と同様なものであり、受光量に応じた電気信号を生成するものである。【０１０９】
マイクロチップ８は、基本的な構成が図１ないし図５を参照して説明したマイクロチップ１と同様とされており、基板８０、遮光部８１，８２およびカバー８３を備えている。【０１１０】
基板８０は、流路８４（またはセル）を規定する溝８５、およびアパーチャ８６を有している。溝８５およびアパーチャ８６の構成は、図１ないし図５を参照して説明したマイクロチップ１の溝１５およびアパーチャ１６と同様である。ただし、アパーチャ８６の出射面８６Ａの幅寸法Ｗ１は、溝８５の底面８５Ａの幅寸法Ｗ２よりも小さい。そのため、アパーチャ８６の出射面８６Ａには、光ファイバ７１におけるコア７３の端面７５の寸法（コア径Ｃ）よりも小さな光束が入射するようになされている。したがって、コア径Ｃに応じて、コア７３の端面７５と流路８４（またはセル）の上面８４Ａとの距離を適宜調整すれば、迷光成分の影響を効率良く除外することができるようになる。【０１１１】
遮光部８１，８２は、アパーチャ８６における出射面８６Ａ以外から基板８０の外部に光が出射するのを防止するためのものである。遮光部８１は、基板８０の下面８０Ｂにおいて、アパーチャ８６に隣接して設けられている。遮光部８２は、基板８０の側面８０Ｃに設けられている。【０１１２】
カバー８３は、溝８５を覆うように基板８０に積層されており、溝８５とともに流路８４（またはセル）を規定している。カバー８３は、凹部８７，８８を有している。凹部８７は、照射手段７０の端部７８を配置するためのものであり、底面８７Ａがアパーチャ８６の出射面８６Ａと、同一又は略同一軸上に配置されている。この凹部８７には、照射手段７０の端部７８を配置された状態では、光ファイバ７１の出射端面７９が凹部８７の底面８７Ａに当接し、あるいは光ファイバ７１の光出射端面７９を含む端部７８が嵌合される。凹部８８は、凹部８７の底面８７Ａに設けられたものである。この凹部８８は、光ファイバ７１におけるコア７３の端面７５が凹部８７の底面８７Ａに接触するのを防止するためのものである。このような凹部８８を設ければ、コア７３の端面７５の損傷を抑制し、所望とする光束を端面７５から繰り返し出射することが可能となる。【０１１３】
ここで、凹部８７の底面８７Ａに光ファイバ７１（コア７３）の端面７５を当接させる構成においては、凹部８７の底面８７Ａの位置とコア７３の端面７５の位置とは実質的に一致する。この場合、凹部８７の底面８７Ａは、図１９に示したようにＣ＜Ｖの関係を満たす位置に形成される。Ｃは光ファイバ７１のコア径である。Ｖは流路８４（又はセル）の視野角αに対応する光ファイバ７１の出射端面７９における寸法である。視野角αは、流路８４（基板８０の溝８５）およびアパーチャ８６における光出射面８６Ａの形状および位置によって規定されるものである。この視野角αは、アパーチャ８６における出射面８６ＡのエッジＥ１と流路８４（又はセル）の上面８４Ａ側のエッジＥ２と、を結ぶ直線Ｌ１と光軸Ｌとの交差角度に相当する。そのため、寸法Ｖは、直線Ｌ１の延長線Ｌ２と光ファイバ７１の出射端面７９との交点Ｅ３，Ｅ３間の距離に相当するものであり、光ファイバ７１における出射端面７９の位置（流路８４（またはセル）の上面８４Ａとの距離Ｄ）に依存するものである。【０１１４】
図２０には、Ｃ＝Ｖの関係を満たす場合を示した。光ファイバ７１における出射端面７９と流路８４（またはセル）の上面８４Ａとの距離ＤをＤ２とする。このとき、アパーチャ８６における出射面８６ＡのエッジＥ１と流路８４（又はセル）の上面８４Ａ側のエッジＥ２と、を結ぶ直線Ｌ１の延長線Ｌ２は、光ファイバ７１の出射端面７９において、コア７３とクラッド７４との界面Ｉｎと交差する。すなわち、Ｃ＝Ｖの関係を満たす場合には、コア７３とクラッド７４との界面Ｉｎから出射して流路８４（又はセル）の上面８４Ａ側のエッジＥ２を通過する光は、アパーチャ８６の出射面８６Ａと反射面８６Ｂとの境界を通過する。【０１１５】
図２１には、Ｃ＞Ｖの関係を満たす場合を示した。光ファイバ７１における出射端面７９と流路８４（またはセル）の上面８４Ａとの距離ＤはＤ３であり、距離Ｄ３はＣ＝Ｖの関係を満たす場合の距離Ｄ２よりも小さい。このとき、アパーチャ８６における出射面８６ＡのエッジＥ１と流路８４（又はセル）の上面８４Ａ側のエッジＥ２と、を結ぶ直線Ｌ１の延長線Ｌ２は、光ファイバ７１の出射端面７９において、コア７３の端面７５と交差する。そのため、Ｃ＞Ｖの関係を満たす場合には、コア７３とクラッド７４との界面Ｉｎから出射してアパーチャ８６の出射面８６Ａと反射面８６Ｂとの境界を通過する光は、流路８４（又はセル）を通過しない。したがって、Ｃ＞Ｖ（Ｄ３＜Ｄ２）の関係を満たす場合には、コア７３の端面７５から出射した光の一部は、流路８４（またはセル）を通過することなくアパーチャ８６の出射面を透過して検出器２２において受光されてしまう。【０１１６】
これに対して、図１９に示したように、Ｃ＜Ｖの関係を満たす場合には、光ファイバ７１における出射端面７９と流路８４（またはセル）の上面８４Ａとの距離Ｄ３は、図２０に示した場合（Ｃ＝Ｖ）の場合の距離Ｄ２よりも大きくなる。また、アパーチャ８６における出射面８６ＡのエッジＥ１と流路８４（又はセル）の上面８４Ａ側のエッジＥ２と、を結ぶ直線Ｌ１の延長線Ｌ２は、光ファイバ７１の出射端面７９において、コア７３よりも外側において交差する。そのため、Ｃ＜Ｖの関係を満たす場合には、コア７３とクラッド７４との界面Ｉｎから出射してアパーチャ８６の出射面８６Ａと反射面８６Ｂとの境界を通過する光は、流路８４（又はセル）を通過する。その結果、Ｃ＜Ｖ（Ｄ１＞Ｄ２）の関係を満たす場合には、アパーチャ８６の出射面８６Ａを透過する光は、流路８４（又はセル）を通過したものであり、流路８４（またはセル）を通過することなくアパーチャ８６の出射面を透過して検出器２２において受光されてしまうことを抑制できる。【０１１７】
したがって、Ｃ＜Ｖ（Ｄ１＞Ｄ２）の関係を満たす位置に凹部８７の底面８７Ａを形成すれば、流路８４（またはセル）を透過しない光がアパーチャ８６の出射面８６Ａを透過することがないため、迷光成分が検出器２２において受光されるのを防止することができる。その結果、分析装置７においては、分析精度を向上させることが可能となる。【０１１８】
本発明では、光ファイバ７１との関係において、流路８４（またはセル）の上面８４ＡがＣ＜Ｖの関係を満たす位置するように形成すればよい。すなわち、光ファイバ７１は、端面７５が凹部８７の底面８７Ａに当接するよう配置する必要はなく、また凹部８７は必ずしも必要なものではない。
【符号の説明】
【０１１９】
１，１″，３，４，５，６，８  マイクロチップ
１０，１０″，８４  流路
１１，１１″，３２，４８，５４  基板（透光性部材）
１４Ａ，１４Ｂ，３１，４６，４７，５１，８１，８２  遮光部
１５Ａ″  セル
１６，１６′，４２，４３，５７，６０Ｅ，６１Ｅ，８６  アパーチャ
１７，１７′，５７Ａ，６０Ｅａ，８６Ａ  （アパーチャの）出射面
１８，１８′，４２Ａ，４３Ａ，５７Ｂ，６０Ｅｂ，８６Ｂ  （アパーチャの）反射面
２，２′，７  分析装置
２０  光源
２１  光学系
３０，４４，４５，５９  ガイド面
４９，５８  （Ｖ字状の）溝
６０  透明部材（透光性部材）
６１  透明部材（第２の透光性部材）
７０  照射手段
７１  光ファイバ
７９  （光ファイバの）光出射面
８３  カバー
８７  （カバーの）凹部
８８  （カバーの第２の）凹部
Ｗ１  （出射面の）幅寸法
Ｗ２  （流路またはセルの）幅寸法
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【国際調査報告】
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