【事件の表示】
　特許第３１２０６４７号「石英ガラスの製造方法及びそれにより製造された石英ガラス」の請求項１ないし１２に係る特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結　論】
　訂正を認める。
　特許第３１２０６４７号の訂正後の請求項１ないし１２に係る特許を維持する。
【理　由】
１．手続の経緯
  本件特許第３１２０６４７号の請求項１〜１２に係る発明についての出願は、平成５年１２月２７日に特許出願されたものであって、平成１２年１０月２０日にその発明について特許の設定登録がなされたものである。
　これに対して、須田武（以下、「申立人Ａ」という）より請求項１〜１２に係る発明の特許について、信越石英株式会社（以下、「申立人Ｂ」という）より請求項１〜３、５〜１２に係る発明の特許についてそれぞれ特許異議の申立てがなされ、取消理由通知がなされ、その指定期間内の平成１３年１２月３日付けで訂正請求がなされたものである。なお、申立人Ｂより平成１３年１２月６日付けで特許異議取下書が提出されたが、平成１３年１０月２日に取消理由通知がなされているため、上記取下書は平成１４年４月２３日に特許法第１２０条の６第１項の規定によって準用する特許法第１３３条の２第１項の規定により却下された。
２．訂正の適否
２−１．訂正の内容
  本件訂正の内容は、本件特許明細書を訂正請求書に添付された訂正明細書のとおりに訂正しようとするものである。
（１）訂正事項ａ
　請求項１〜１２を、「【請求項１】中心部に配置されＳｉ化合物ガスを噴出する原料用円状管と、これの周囲に同心円状に配置され酸素ガスおよび水素ガスを噴出する複数の燃焼用リング状管と、最外部の燃焼用リング状管の内部に配置され酸素を噴出する複数の燃焼用円状管とを有するバーナにより、Ｓｉ化合物ガスと酸素ガスと水素ガスとを噴出し、ターゲット上に石英ガラス粉を堆積しガラス化させ、インゴットを形成し、このインゴットを加工して石英ガラス光学部材を得る石英ガラス光学部材の製造方法において、「最外部を除く複数の燃焼用リング状管から噴出させる酸素ガスおよび水素ガスの割合」を、理論当量比および「最外部の燃焼用リング状管とその内部の燃焼用円状管から噴出させる酸素ガスおよび水素ガスの割合」と比較して水素過剰として石英ガラスインゴットを合成する工程と、前記石英ガラスインゴットを加工して水素濃度が５×１０１７個／ｃｍ３以上の石英ガラス光学部材を得る工程と、からなる石英ガラス光学部材の製造方法。
【請求項２】中心部に配置されＳｉ化合物ガスを噴出する原料用円状管と、これの周囲に同心円状に配置され酸素ガスおよび水素ガスを噴出する複数の燃焼用リング状管と、最外部の燃焼用リング状管の内部に配置され酸素を噴出する複数の燃焼用円状管とを有するバーナにより、Ｓｉ化合物ガスと酸素ガスと水素ガスとを噴出し、ターゲット上に石英ガラス粉を堆積しガラス化させ、インゴットを形成し、このインゴットを加工して石英ガラス光学部材を得る石英ガラス光学部材の製造方法において、「最外部を除く複数の燃焼用リング状管から噴出させる酸素ガスおよび水素ガスの割合」を、理論当量比と比較して水素過剰とし、「最外部の燃焼用リング状管とその内部の燃焼用円状管から噴出させる酸素ガスおよび水素ガスの割合」を理論当量比と比較して同等または酸素過剰として石英ガラスインゴットを合成する工程と、前記石英ガラスインゴットを加工して水素濃度が５×１０１７個／ｃｍ３以上の石英ガラス光学部材を得る工程と、からなる石英ガラス光学部材の製造方法。
【請求項３】請求項１または請求項２に記載の石英ガラス光学部材の製造方法において、原料用円状管からＳｉ化合物ガスを噴出させるときにキャリアガスとして水素ガスを用いることを特徴とする石英ガラス光学部材の製造方法。
【請求項４】請求項１または請求項２に記載の石英ガラス光学部材の製造方法により製造した石英ガラス光学部材において、波面収差のＲＭＳ値がパワー成分補正後に０．０２λ以下であることを特徴とする石英ガラス光学部材。
【請求項５】請求項１または請求項２に記載の石英ガラス光学部材の製造方法により製造した石英ガラス光学部材において、一方向の屈折率の均質性がパワー成分補正なしで△ｎ≦２×１０−６であることを特徴とする石英ガラス光学部材。
【請求項６】請求項５に記載の石英ガラス光学部材において、前記一方向を光軸方向とすることを特徴とする石英ガラス光学部材。
【請求項７】請求項１または請求項２に記載の石英ガラス光学部材の製造方法により製造した石英ガラス光学部材において、一方向の断面のの屈折率分布の極値がひとつで中央対称であることを特徴とする石英ガラス光学部材。
【請求項８】請求項７に記載の石英ガラス光学部材において、前記一方向の断面が入射光軸を含む断面であることを特徴とする石英ガラス光学部材。
【請求項９】請求項１または請求項２に記載の石英ガラス光学部材の製造方法により製造した石英ガラス光学部材において、３６５ｎｍ、２４８ｎｍ、１９３ｎｍにおいて１０ｍｍ内部透過率が９９．９％を越えることを特徴とする石英ガラス光学部材。
【請求項１０】請求項１または請求項２に記載の石英ガラス光学部材の製造方法により製造した石英ガラス光学部材において、ＫｒＦエキシマレーザを４００ｍＪ／ｃｍ２・ｐｕｌｓｅで１０６ｐｕｌｓｅ照射した後、２４８ｎｍにおける１０ｍｍ内部透過率が９９．９％を越えることを特徴とする石英ガラス光学部材。
【請求項１１】請求項１または請求項２に記載の石英ガラス光学部材の製造方法により製造した石英ガラス光学部材において、ＡｒＦエキシマレーザを１００ｍＪ／ｃｍ２・ｐｕｌｓｅで１０６ｐｕｌｓｅ照射した後、１９３ｎｍにおける１０ｍｍ内部透過率が９９．９％を越えることを特徴とする石英ガラス光学部材。
【請求項１２】請求項１または請求項２に記載の石英ガラス光学部材の製造方法により製造した石英ガラス光学部材において、中央部の方が周辺部より高い水素濃度持つことを特徴とする石英ガラス光学部材。」と訂正する。
（２）訂正事項ｂ
　【発明の名称】を、「石英ガラス光学部材の製造方法及びそれにより製造された石英ガラス光学部材」と訂正する。
２−２．訂正の目的の適否、新規事項の有無及び拡張変更の存否
　上記訂正事項ａは、大別すると、
ａ−１．請求項１の「インゴットを形成する石英ガラスの製造方法において」を「インゴットを形成し、このインゴットを加工して石英ガラス光学部材を得る石英ガラス光学部材の製造方法において」と訂正する、
ａ−２．請求項１の「水素過剰とすることを特徴とする石英ガラスの製造方法」を、「水素過剰として石英ガラスインゴットを合成する工程と、前記石英ガラスインゴットを加工して水素濃度が５×１０１７個／ｃｍ３以上の石英ガラス光学部材を得る工程と、からなる石英ガラス光学部材の製造方法」と訂正する、
ａ−３．請求項２の「インゴットを形成する石英ガラスの製造方法において」を「インゴットを形成し、このインゴットを加工して石英ガラス光学部材を得る石英ガラス光学部材の製造方法において」と訂正する、
ａ−４．請求項２の「酸素過剰とすることを特徴とする石英ガラスの製造方法」を、「酸素過剰として石英ガラスインゴットを合成する工程と、前記石英ガラスインゴットを加工して水素濃度が５×１０１７個／ｃｍ３以上の石英ガラス光学部材を得る工程と、からなる石英ガラス光学部材の製造方法」と訂正する、
ａ−５．請求項３〜１２の「石英ガラス」を「石英ガラス光学部材」と訂正する、というものである。
　上記訂正事項ａ−１．、ａ−３．は、「インゴットを形成する石英ガラスの製造方法」を、「インゴットを形成し、このインゴットを加工して石英ガラス光学部材を得る石英ガラス光学部材の製造方法」と限定するものであり、また上記訂正事項ａ−２．は、「水素過剰とすることを特徴とする石英ガラスの製造方法」を「水素過剰として石英ガラスインゴットを合成する工程と、前記石英ガラスインゴットを加工して水素濃度が５×１０１７個／ｃｍ３以上の石英ガラス光学部材の製造方法」と限定するものであり、また上記訂正事項ａ−４．は、「酸素過剰とすることを特徴とする石英ガラスの製造方法」を、「酸素過剰として石英ガラスインゴットを合成する工程と、前記石英ガラスインゴットを加工して水素濃度が５×１０１７個／ｃｍ３以上の石英ガラス光学部材を得る工程と、からなる石英ガラス光学部材の製造方法」と限定するものであり、また上記訂正事項ａ−５．は「石英ガラス」を「石英ガラス光学部材」と限定するものであるから、それぞれ特許請求の範囲の減縮を目的とする訂正に該当する。
　そして、本件特許明細書中の「実施例１のサンプル１の石英ガラスから、インゴット外形から幾何学的中央部を維持しながら加工して得られた石英ガラス光学部材を使用して」（本件特許掲載公報第６頁第１２欄第４４〜４７行）、「本発明によって得られる石英ガラスの水素濃度がいずれの場所においても５×１０１７個／ｃｍ３以上であり」（本件特許掲載公報第４頁第７欄第７〜９行）という記載からみて、訂正事項ａ−１．〜ａ−５．は、願書に添付した明細書に記載した事項の範囲内においてなされたものであり、また実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものでもない。
　また上記訂正事項ｂは、特許請求の範囲の減縮を目的とする訂正事項ａの訂正に伴うものであり、減縮された特許請求の範囲の記載と明細書の記載を整合させるために明りょうでない記載の釈明を行うことを目的とする訂正に該当するものであり、しかも願書に添付した明細書に記載した事項の範囲内においてなされた訂正であり、また実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものでもない。
２−３．まとめ
　以上のとおりであるから、上記訂正は、特許法等の一部を改正する法律（平成６年法律第１１６号）附則第６条第１項の規定によりなお従前の例によるとされる、特許法第１２０条の４第３項において準用する平成６年法律第１１６号による改正前の特許法第１２６条第１項ただし書、第２項の規定に適合するので、当該訂正を認める。
３．特許異議申立てについて
３−１．特許異議の申立ての理由の概要
（１）申立人Ａの申立ての理由の概要
 申立人Ａは、証拠方法として甲第１〜６号証を提出し、請求項１に係る発明は、甲第１、２号証に記載された発明に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであり、請求項２に係る発明は、甲第３号証に記載された発明であり、さらに請求項３〜１２に係る発明は、甲第１〜６号証に記載された発明に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、請求項２に係る発明の特許は特許法第２９条第１項第３号の規定に違反してされたものであり、また、請求項１、３〜１２に係る発明の特許は特許法第２９条第２項の規定に違反してされたものであり、取り消されるべきものである旨主張している。
（２）申立人Ｂの申立ての理由の概要
（ｉ）申立人Ｂは、証拠方法として甲第１〜５号証を提出し、請求項１、２、５に係る発明は、甲第１号証又は甲第２号証に記載された発明であり、請求項１〜３、５〜１２に係る発明は甲第１〜５号証に記載された発明に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、請求項１、２、５に係る発明の特許は特許法第２９条第１項第３号の規定に違反してされたものであり、また、請求項１〜３、５〜１２に係る発明の特許は特許法第２９条第２項の規定に違反してされたものであり、取り消されるべきものである旨、
（ｉｉ）本件特許明細書の記載は記載不備であるから、特許法第３６条第４項又は第６項の規定を満たしていない旨、
主張している。
３−２．本件訂正発明
　特許権者が請求した上記訂正は、上述したとおり、認容することができるから、訂正後の本件請求項１〜１２に係る発明は、上記訂正事項ａに記載された特許請求の範囲の請求項１〜１２に記載されたとおりのものである（以下、「本件訂正発明１〜１２」という）。
３−３．上記３−１．（１）申立人Ａの主張について
３−３−１．甲各号証の記載内容
（１）甲第１号証：特開平２−６４６４５号公報：取消理由通知の刊行物２
（ａ）「（１）ＫｒＦ２５Ｈｚ，５００ｍＪ／ｃｍ２以上であるエキシマレーザ光の５分以上の照射に対し赤色蛍光を発せず波長２００ｎｍでの吸収係数が１×１０−２以下である紫外域用有水合成石英ガラス。（２）実質的に三方向に脈理の無い特許請求の範囲第１項記載の紫外域用有水合成石英ガラス。（３）有水合成石英ガラスがフォトマスク用基板である特許請求の範囲第１項から第２項のいずれかに記載の紫外域用有水合成石英ガラス。（４）有水合成石英ガラスが光学用機器に使用されるものである特許請求の範囲第１項から第２項のいずれかに記載の紫外域用有水合成石英ガラス。（５）四塩化ケイ素を酸水炎中で加水分解して有水合成石英ガラスを製造する工程において、原料の四塩化ケイ素に不活性ガスをキャリアガスとして同伴させることを特徴とする紫外域用有水合成石英ガラスの製造方法。」（請求項１〜５）
（ｂ）「この発明は合成石英ガラス、特に紫外領域で使用される精密光学系の窓、ミラー、プリズム等の光学用部品、超ＬＳＩ用フォトマスク基板等に使用される有水合成石英ガラスおよびその製造方法に関する。」（第１頁右欄第１５〜１９行）
（ｃ）「比較例１　酸素ガスをキャリアガスとして従来の方法によって４２ロット試作した。ついで、第３図に示すベルヌイ炉の頂部に第４図示す石英ガラス製バーナーをセットし、バーナー各部より第１表に示す量の各種ガスを供給した。・・・その際、中心管、２重管、及び３重管のガス量は固定し、その他のガス量によって、Ｏ２／Ｈ２比を所望の値になるように変化し、なおかつ炉内温度を１４００±１０℃に制御した。得られたガラスのエキシマレーザー（ＫｒＦ，２０Ｈｚ）照射による赤色蛍光の「しきい値」と２００ｎｍにおける透過率のデータ一を、Ｈ２／Ｏ２比に対して整理した結果を第２図に示す。Ｈ２／Ｏ２比を２．２〜２．３にすると、スパッタリングやプラズマエッチングに対して変質して赤色蛍光を発することは無く、エキシマレーザーＫｒＦ（２４８ｎｍ）に対し２００ｍＪ／ｃｍ２のエネルギー密度にまで耐える。しかし２００ｎｍでの透過率（厚さ１０ｍｍ）が約８６％となった。これを吸光係数に換算すると、２．４×１０−２ｃｍ−１となり、フォトマスク等にとって、不十分である。また、脈理に関しては、積層厚１００ｍｍに対し２〜１０本の脈理が観察された。」（第５頁左上欄最終行〜左下欄第１３行）
（ｄ）第５頁第１表には、中心管　Ｏ２　１（ｌ／ｍｉｎ）、ＳｉＣｌ４　７（ｇ／ｍｉｎ）、２重管　Ｏ２　１５（ｌ／ｍｉｎ）、３重管　Ｈ２　５０（ｌ／ｍｉｎ）、４重管＋６重管　Ｏ２　８５〜１２０（ｌ／ｍｉｎ）、４重管＋６重管　Ｈ２　２００〜２５０（ｌ／ｍｉｎ）であることが記載されている。
（ｅ）第７図第３図には、ガラスインゴットの記載がある。
（ｆ）第７頁第４図に多重管のバーナーが図示されており、中心管にはＳｉＣｌ４＋Ｏ２、二重管にはＯ２、３重管にはＨ２、４重管にはＯ２、５重管にはＨ２、６重管にはＯ２、７重管にはＨ２が記載されている。
（２）甲第２号証：特開昭６０−２１５５１５号公報：取消理由通知の刊行物３　
（ａ）「（１）揮発性ケイ素化合物と酸素ガスならびに酸素ガスと水素ガスをバーナより吹き出させ、酸水素炎中で二酸化ケイ素微粒子を生成させ、該二酸化ケイ素微粒子を回転する標的基盤上に吹付け、溶融成長させることよりなる合成石英素塊の製造法において、バーナ中心部では揮発性ケイ素化合物と酸素ガスとを二重管状に供給するとともにその周りでは該中心部に対し、それぞれ対称位置で管状に酸素ガスを供給し、かつ該酸素ガス流間の隙間に水素ガスを供給し、さらに最外側ではイナート・シーリングガスを二重管状に供給するバーナを使用することを特徴とする合成石英素塊の製造法。」（請求項１）
（ｂ）「本発明は半導体用マスク基盤や光学用レンズなどの原材料となる合成石英素塊の製造法及びその装置に関するものである。」（第１頁右下欄第１４〜１６行）
（ｃ）「実施例　第４図の透明石英製バーナ（シール用外筒管２０の外径８０ｍｍ）を用いて、合成石英ガラス素塊を製造した。反応ガス供給管１６内に酸素ガス・・・０．７Ｎｍ３／Ｈｒ、反応ガス供給管１７内に酸素ガス・・・０．３Ｎｍ３／Ｈｒ、反応ガス供給管１８内に酸素ガス・・・２．５Ｎｍ３／Ｈｒ、反応ガス供給管１８周囲の外筒管１５（外径７０ｍｍ）内の水素ガス・・・１４．０Ｎｍ３／Ｈｒ、外筒管（外径７０ｍｍ）１５とシール用外筒管（外径８０ｍｍ）２０との間に酸素ガス・・・３．３Ｎｍ３／Ｈｒ、最初バーナに上記流量で酸水素炎を形成させ、回転しつつある標的基盤が十分溶融温度に加熱された状態になってから反応ガス供給管１６に精溜された四塩化ケイ素ガスを平均１７００ｇ／Ｈｒで送入、反応時間７時間で外径１００ｍｍ，高さ１１０ｍｍの弾丸状の合成石英ガラス素塊３，１５０ｇが得られた。」（第３頁右上欄第１２行〜左下欄第９行）
（ｄ）「比較例　第４図（ａ）の透明石英製バーナ（外筒管１５の外径７０ｍｍ）を用いて、合成石英ガラス素塊を製造した。反応ガス供給管１６内に酸素ガス・・・０．７Ｎｍ３／Ｈｒ、反応ガス供給管１７内に酸素ガス・・・０．３Ｎｍ３／Ｈｒ、反応ガス供給管１８内に酸素ガス・・・３．５Ｎｍ３／Ｈｒ、上記反応ガス供給管１８の周囲の外筒管１５内の水素ガス・・・１５．０Ｎｍ３／Ｈｒ・・・回転する標的基盤が十分溶融温度に加熱された状態になってから、反応ガス供給管１６に精溜された四塩化ケイ素ガスを平均１，１００ｇ／Ｈｒで送入、・・・まず気泡については、目視による検査では比較例の試料には大小１０個ほどの気泡が認められた。一方、実施例の試料には気泡は認められず、シール用外筒管の効果がはっきりと認められた。」（第３頁左下欄第第１０行〜右下欄第９行）
（ｅ）第５頁第２図（ａ）には中心部が管１６、その外周に管１７、その外周に管１５、そして１７と１５の間に管１８が配設されている多重管が記載されている。また、第４図（ａ）には、前記多重管の外周に管２０が配設されている多重管が記載されている。
（３）甲第３号証：特開昭５９−１０２８１０号公報：取消理由通知の刊行物１
（ａ）「一般式ＲｎＳｉＸ４−ｎ（ここにＲは水素原子またはメチル基、エチル基、Ｘはハロゲン原子またはメトキシ基、エトキシ基、ｎは０〜４）で示されるけい素化合物を燃焼または加水分解させて微細なシリカを発生させ、これを合成石英基体上に堆積させると同時にその顕熱によって溶融ガラス化させて合成石英塊を製造する方法において、このシリカ成長面近傍を補助バーナーを用いて加熱し、この部位に付着しているすすを溶融して針状ガラス層の形成を防止することを特徴とする合成石英の製造方法」（特許請求の範囲第１項）
（ｂ）「実施例１．・・・なお、これはついでこれを１８００℃に加熱して熱間成形を行なったが、得られた成型品には気泡が全く認められなかった。」（第４頁左上欄第１８行〜右上欄第１４行）
（ｃ）「実施例３．第２図に示した装置を使用し、原料ガスとしてのＳｉＣｌ４またはＣＨ３ＳｉＣｌ３を、キャリヤーガスと共に第３図（ｂ）の構造のバーナーに送り、下記第３表に示した条件で、酸水素炎として直径１１０ｍｍおよび１１５ｍｍの合成石英基体に照射すると共に、この基体上に成長した合成石英素塊を第３表に併記した条件下に補助バーナーで加熱したところ、その表面に０．１〜０．２ｍｍの薄いシリカ層をもつ合成石英素塊が得られ、これは１５％のＨＦ液中に浸漬したのち、熱間成形機中で１７００℃で成形したところ、全く気泡のない合成石英棒となった。」（第４頁右下欄最終行〜第５頁左上欄第１０行）　　
（ｄ）第５頁の第３表では、原料ガスの種類　ＳｉＣｌ４、原料ガスの供給速度１２００ｇ／時、キャリヤーガス　Ａｒ　−、キャリヤーガスＯ２　２００Ｎｌ／時、燃料ガスＯ２（Ｂ部）１Ｎｍ３／時、燃料ガスＯ２（Ｃ部）７Ｎｍ３／時、燃料ガスＨ２（Ｄ部）１２Ｎｍ３／時、燃料ガスＨ２（Ｅ部）５Ｎｍ３／時、補助バーナー用Ｏ２　１．５Ｎｍ３／時、補助バーナー用Ｈ２　３．０Ｎｍ３／時、主バーナーと補助バーナーの間隔（Ｌ）１１０ｍｍ、主バーナーと補助バーナーの角度（θ）１５゜、反応継続時間　２０時間、焼結体の収量５１６０ｇ、燒結体の直径１００±０．８ｍｍが記載されている。
（ｅ）第６頁第３図（ｂ）には、中心管がＡ、２重管がＢ、３重管がＥ、４重管がＤであり、その内部にＣの管が配設されているバーナーが図示されている。
（４）甲第４号証：特開昭５４−７１６５０号公報：取消理由通知の刊行物５
（ａ）「高純度に精製されたシリコンのハロゲン化物または水素化物のガスおよび蒸気を不活性ガス、水素ガスおよび酸素ガスとともにバーナーノズルに供給して火炎酸化分解させることによって高純度透明石英ガラス管を製造する方法において、前記シリコンのハロゲン化物または水素化物のガスおよび蒸気の量と、前記シリコンのハロゲン化物または水素化物のガスおよび蒸気に同伴させる水素ガスとの比が１：１．５〜６の範囲で、しかも前記シリコンのハロゲン化物または水素化物のガスおよび蒸気と前記同伴させる水素ガスを完全に酸化するに必要な理論酸素量の１．５〜２倍の範囲内の酸素ガス量で形成された火炎酸化分解の火炎の中心軸を、回転する石英ガラス基体上の中心から約５ｍｍ以上離れた位置に保持しながら、かつ前記バーナーノズルからの酸水素火炎で回転する石英ガラス基体の成長部を包み込むことを特徴とする火炎酸化分解から連続的に石英管の先端に高純度石英を生成させる高純度透明石英ガラス管の製造方法。」（特許請求の範囲第１項）
（ｂ）「アルゴンガスが火炎酸化分解の火炎が乱れない程度に流入した成長室内の駆動軸上に保持された直径１５ｍｍ、長さ２０ｍｍの透明石英ガラス棒に、多重管構造のバーナーノズルの内側の１つのノズル口から高純度に精製された四塩化硅素の蒸気０．４ｌ／ｍｉｎを水素ガス１．８ｌ／ｍｉｎに同伴させて供給しその外側にアルゴンガス０．２ｌ／ｍｉｎと水素ガス２．５ｌ／ｍｉｎ、酸素ガス５ｌ／ｍｉｎを供給して火炎酸化分解の火炎を形成し、該火炎の中心軸を回転する石英ガラス棒の中心から約５ｍｍ離れた片側の位置に保持しながら生成した二酸化硅素微粒子を石英ガラス棒の頭部平面に析出成長を開始し、駆動軸を２０ｒ．ｐ．ｍ、引き下げ速度０．５〜０．７ｍｍ／ｍｉｎで４時間続行したところ、外径２１．５ｍｍ±０．２ｍｍ　内径６ｍｍ±０．３ｍｍ、長さ１５０ｍｍの透明石英ガラス管を得た。得られたガラス管の光学的均質性を顕微鏡にて観察したところ泡、脈理等の光学的欠陥は認められなかった。」（第５頁左上欄第３行〜最終行）
（５）甲第５号証：特開平３−１０１２８２号公報：取消理由通知の刊行物６
（ａ）「略４００ｎｍ以下の紫外線波長域のレーザ光に使用されるレーザ光用光学系部材において、該光学系部材を高純度合成石英ガラス材で形成すると共に、該光学部材中への、不純物の拡散を阻止して高純度を維持しつつ、水素ガスを少なくとも５×１０１６（ｍｏｌｅｃｕｌｅｓ／ｃｍ３）濃度以上含有させたことを特徴とするレーザ光用光学部材」（請求項１）
（ｂ）「従ってかかる欠点を解消するには前記加熱処理中に脱ガス化した水素をドーピングすればよい事が理解できるが、本発明者は更に一歩進めて、耐レーザ性を保証し得る水素ドーピング量、言い換えれば水素濃度範囲を明確にしたい。」（第２頁右下欄第４〜８行）
（ｃ）「先ず原料四塩化ケイ素を蒸留処理して不純物を除去させた後テフロンランニング付ステンレス製容器に貯留した高純度四塩化ケイ素を用意し、該高純度の四塩化ケイ素原料を用いてダイレクト法とＣＶＤスート再溶融合成法にて、φ１２０×ｔ１０００ｍｍの高純度石英ガラスインゴットを各々複数個合成する。尚これらインゴットは、３方向脈理フリーでありかつ光使用領域における屈折率変動幅（△ｎ）を２×１０−６に設定されている。」（第４頁左上欄第１５行〜右上欄第３行）
（６）甲第６号証：特開平３−１０９２３３号公報：取消理由通知の刊行物７
（ａ）「脈理除去及び内部歪除去の処理を施したＯＨ基含有合成シリカガラス体からなり、該ガラス体はその仮想温度分布に基づく屈折率変動分布とＯＨ基濃度分布に基づく屈折率変動分布とが互いに打消し合い実質的に屈折率変動の無い構成としてあり、かつ、紫外線レーザ照射よる光透過率低下を抑制するに充分な量の水素分子を含有していることを特徴とする紫外線レーザ用合成シリカガラス光学体。」（請求項１）
（ｂ）「前記したように高純度で且つ均一組成の合成シリカガラス塊を用いて加熱−徐冷処理を行った場合は、屈折率分布は前記仮想温度分布に依存してしまう為に、ガラス塊の中心域より周縁域に移行するに連れ順次屈折率が大である曲線、例えば（Ｂ）に示すような軸対称で且つ凹型曲線状の屈折率分布が生じてしまう。そこで、前記屈折率分布を打消し、（試料番号１のＡ）に示すような平坦な屈折率分布を得る為には、加熱処理前のシリカガラス塊の屈折率分布を（試料番号１のＣ）のような、母材中心域から周縁城に移行するに連れ順次小になるよう軸対称で且つ凸型曲線状の分布形状にすればよい。」（第４頁左上欄第４〜１６行）　　
３−３−２．対比・判断
（１）本件訂正発明１について
　甲第１号証には、上記（１）（ａ）（ｃ）から「ベルヌイ炉の頂部に多重管からなる石英ガラス製バーナーをセットし、バーナー各部よりＳｉＣｌ４とＯ２とＨ２のガスを供給し製造する有水合成石英ガラスの製造方法。」が記載されていると云える。そして、上記（１）（ｅ）からガラスインゴットが製造されることが、また上記（１）（ｂ）から精密光学系の窓等に使われることが、記載されていると云える。
　ここで、甲第１号証の比較例が上記（１）（ｃ）（ｄ）に記載されているが、上記（１）（ｄ）の「４重管＋６重管　Ｈ２　２００〜２５０（ｌ／ｍｉｎ）」の記載は、第４図の５重管と７重管からＨ２が供給されている図面（上記（１）（ｆ））からみて、「５重管＋７重管　Ｈ２　２００〜２５０（ｌ／ｍｉｎ）」の誤記であると認められる。
　そうすると、上記（１）（ｄ）から、中心管よりＯ２を１ｌ／ｍｉｎと、ＳｉＣｌ４を７ｇ／ｍｉｎ、２重管よりＯ２を１５ｌ／ｍｉｎ、３重管よりＨ２を５０ｌ／ｍｉｎ、４重管＋６重管よりＯ２を８５〜１２０ｌ／ｍｉｎ、５重管＋７重管よりＨ２を２００〜２５０ｌ／ｍｉｎ供給されていることとなる。ここで、２重管と３重管とのＨ２／Ｏ２は３．３３であり、４重管＋６重管と５重管＋７重管とのＨ２／Ｏ２は１．６６〜２．９４である。
　これら比較例の記載事項を、本件訂正発明１の記載ぶりに則って整理すると、甲第１号証には、「ベルヌイ炉の頂部に、中心管よりＯ２とＳｉＣｌ４を、２重管よりＯ２を、３重管よりＨ２を、４重管と６重管よりＯ２を、５重管と７重管よりＨ２を供給する７重管からなる石英ガラス製バーナーをセットし、中心管よりＯ２を１ｌ／ｍｉｎと、ＳｉＣｌ４を７ｇ／ｍｉｎ供給し、２重管と３重管とのＨ２／Ｏ２は３．３３であり、４重管＋６重管と５重管＋７重管とのＨ２／Ｏ２は１．６６〜２．９４であるように供給しガラスインゴットを製造し、次に合成石英ガラス光学部材を製造する合成石英ガラス光学部材の製造方法。」という発明（以下、「甲１Ａ発明」という）が記載されていると云える。
　次に、本件訂正発明１と甲１Ａ発明とを対比すると、甲１Ａ発明において、バーナーを使用する以上、ターゲット上に石英ガラス粉を堆積しガラス化させていることは明らかであるから、両者は「バーナにより、Ｓｉ化合物ガスと酸素ガスと水素ガスとを噴出し、ターゲット上に石英ガラス粉を堆積しガラス化させ、インゴットを形成し、このインゴットを加工して石英ガラス光学部材を得る石英ガラス光学部材の製造方法。」で一致し、次の点で相違している。
相違点（イ）：本件訂正発明１では、バーナーが、中心部に配置されＳｉ化合物ガスを噴出する原料用円状管と、これの周囲に同心円状に配置され酸素ガスおよび水素ガスを噴出する複数の燃焼用リング状管と、最外部の燃焼用リング状管の内部に配置され酸素を噴出する複数の燃焼用円状管を有するのに対して、甲１Ａ発明では、中心管よりＯ２とＳｉＣｌ４を、２重管よりＯ２を、３重管よりＨ２を、４重管と６重管よりＯ２を、５重管と７重管よりＨ２を供給する７重管からなる点
相違点（ロ）：本件訂正発明１では、「最外部を除く複数の燃焼用リング状管から噴出させる酸素ガスおよび水素ガスの割合」を、理論当量比および「最外部の燃焼用リング状管とその内部の燃焼用円状管から噴出させる酸素ガスおよび水素ガスの割合」と比較して水素過剰とするのに対して、甲１Ａ発明では、２重管と３重管とのＨ２／Ｏ２は３．３３であり、４重管＋６重管と５重管＋７重管とのＨ２／Ｏ２は１．６６〜２．９４であるように供給する点
相違点（ハ）：本件訂正発明１では、水素濃度が５×１０１７個／ｃｍ３以上の石英ガラス光学部材を得ているのに対して、甲１Ａ発明では、その点が不明である点
  そこで、相違点（イ）について検討すると、確かに甲第２号証には、上記（２）（ｅ）から、バーナーの形状として、最外部の燃焼用リング状管の内部に、酸素を噴出する複数の燃焼用円状管を有する形状は記載されている。
　しかしながら、この形状は、何よりも製造品に目視で気泡が認められる比較例の場合の形状であり、さらに最外部のリング状管以外にはリング状管としては中心管の外側に酸素を供給する２重管しかないため（上記（２）（ｄ））、本件訂正発明１に云う「酸素ガスおよび水素ガスを噴出する複数の燃焼用リング状管」は記載されていないと云える。　また、甲第２号証の実施例においては、必ず最外周にイナート・シーリングガスを供給する管を付設している（上記（２）（ａ）（ｃ）（ｅ））。
　してみると、甲第２号証から、甲１発明のバーナーを、中心部に配置されＳｉ化合物ガスを噴出する原料用円状管と、これの周囲に同心円状に配置され酸素ガスおよび水素ガスを噴出する複数の燃焼用リング状管と、最外部の燃焼用リング状管の内部に配置され酸素を噴出する複数の燃焼用円状管を有するものとすることは当業者が容易に想到し得るものであるとすることはできない。
　なお、申立人Ａは、バーナーの形状として甲第３号証について言及しているが、甲第３号証は補助バーナーを使用することを主眼とするものであり、甲第３号証の主バーナーの形状が本件出願前周知・慣用の技術であるとも云えないので申立人Ａの主張を採用することはできない。
　そして、本件発明は「汚染やコストアップとなる二次処理をすること無しに高均質かつ高い紫外線透過性および紫外線耐性を持つ合成石英ガラスを得ることができ、それにより大口径石英ガラス光学部材を得ることができた。」（本件特許掲載公報第７頁第１３欄第１５〜１９行）という効果を奏する。
　したがって、相違点（ロ）（ハ）について検討するまでもなく、本件訂正発明１は、甲第１、２号証に記載された発明に基づいて当業者が容易に想到し得るものであるとすることはできない。
（２）本件訂正発明２について
　甲第３号証には、上記（３）（ｃ）（ｄ）（ｅ）から「主バーナーとして４重管構造であり、４重管内に酸素を供給する管が配設されている構造のバーナーを使用し、中心管にＳｉＣｌ４とキャリヤーガスＯ２　２００Ｎｌ／時、２重管にＯ２　１Ｎｍ３／時、３重管にＨ２　５Ｎｍ３／時、４重管にＨ２　１２Ｎｍ３／時、４重管に配設された管にＯ２　７Ｎｍ３／時供給し、合成石英素塊を製造しつつ補助バーナーで加熱し、次いで熱間成形機中で１７００℃で成形し合成石英棒とする方法。」という発明（以下、「甲３Ａ発明」という）が記載されていると云える。
　本件訂正発明２と甲３Ａ発明とを対比すると、甲３Ａ発明の「中心管」、「２重管、３重管」、「４重管」、「４重管に配設された管」、「合成石英素塊」は、本件訂正発明２の「原料用円状管」、「複数の燃焼用リング状管」、「最外部の燃焼用リング状管」、「酸素を噴出する複数の燃焼用円状管」、「インゴット」にそれぞれ相当し、また、甲３Ａ発明の「２重管、３重管のＯ２とＨ２の割合」、「４重管と４重管に配設された管のＯ２とＨ２の割合」は、それぞれ具体的数値は「５」、「１．７１」であり、かつ本件訂正発明２の「最外部を除く複数の燃焼用リング状管から噴出させる酸素ガスおよび水素ガスの割合」、「最外部の燃焼用リング状管とその内部の燃焼用円状管から噴出させる酸素ガスおよび水素ガスの割合」にそれぞれ相当し、また、甲３Ａ発明において、バーナーを使用する以上、ターゲット上に石英ガラス粉を堆積しガラス化させていることは明らかであるから、両者は「中心部に配置されＳｉ化合物ガスを噴出する原料用円状管と、これの周囲に同心円状に配置され酸素ガスおよび水素ガスを噴出する複数の燃焼用リング状管と、最外部の燃焼用リング状管の内部に配置され酸素を噴出する複数の燃焼用円状管とを有するバーナにより、Ｓｉ化合物ガスと酸素ガスと水素ガスとを噴出し、ターゲット上に石英ガラス粉を堆積しガラス化させ、インゴットを形成する方法において、「最外部を除く複数の燃焼用リング状管から噴出させる酸素ガスおよび水素ガスの割合」を、理論当量比と比較して水素過剰とし、「最外部の燃焼用リング状管とその内部の燃焼用円状管から噴出させる酸素ガスおよび水素ガスの割合」を理論当量比と比較して酸素過剰として石英ガラスインゴットを合成する工程からなる方法」で一致し、次の点で相違している。
相違点（イ）：本件訂正発明２では、石英ガラスインゴットを加工して水素濃度が５×１０１７個／ｃｍ３以上の石英ガラス光学部材を得ているのに対して、甲３Ａ発明では、合成石英素塊を製造しつつ補助バーナーで加熱し、次いで熱間成形機中で１７００℃で成形し合成石英棒とする点
　そこで検討すると、甲３Ａ発明では、補助バーナーで加熱するだけでなく、１７００℃で加熱することによって高温熱処理しており、この過程で石英ガラスインゴット内の水素分子が放出されているものと考えられる。
　してみると、石英ガラスインゴットを加工して水素濃度が５×１０１７個／ｃｍ３以上の石英ガラス光学部材を得ること、すなわち石英ガラスインゴットから水素濃度を維持したまま光学部材を切り出すことにより、高透過率・紫外線耐久性を有する石英ガラス光学部材を得る（平成１３年１２月３日付け特許異議意見書第７頁第３〜５行）ことは、甲第３号証の記載から当業者が容易に想到し得るものであるとすることはできない。
　そして、本件訂正発明２は上記（１）で述べたとおりの効果を奏する。
　したがって、本件訂正発明２は、甲第３号証に記載された発明とすることはできないし、また甲第３号証に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものとすることはできない。
（３）本件訂正発明３〜１２について
　本件訂正発明３〜１２は少なくとも請求項１又は請求項２を引用しさらに限定した発明である。
  甲第４号証には、石英ガラス管の製造方法に関し、多重管構造のバーナーや、キャリアガスとして水素を使用することについて記載されているが、上記（１）の相違点（イ）のバーナー構造や、上記（２）の相違点（イ）の水素濃度を維持したまま切り出すことについては何も示唆されていないと云える。
　甲第５号証には、レーザー光用光学系部材に関し水素ガスを５×１０１６（ｍｏｌｅｃｕｌｅｓ／ｃｍ３）濃度以上含有させることについては記載されているが、これは加熱処理後の水素ドーピングをすることによる濃度であるから、水素濃度を維持したまま光学部材を切り出すことは何も示唆されていないと云える。
　甲第６号証には、紫外線レーザ用合成シリカガラス光学体について、加熱−徐冷処理を行なっても屈折率変動を打ち消し合うようにすることが記載されているが、水素濃度を維持したまま光学部材を切り出すことは何も示唆されていないと云える。
　したがって、上記（１）（２）と同じ理由で、本件訂正発明３〜１２は、甲第１〜６号証に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることはできたものであるとすることはできない。
３−４．上記３−１．（２）申立人Ｂの主張について
３−４−１．上記３−１（２）（ｉ）、特許法第２９条第１項第３号、同条第２項違反の主張について
３−４−１−１．甲各号証の記載内容
（１）甲第１号証：特願昭５９−１０２８１０号公報：申立人Ａの甲第３号証と同じ。
（２）甲第２号証：特開平３−２９０３３０号公報：取消理由通知の刊行物４
（ａ）「シラン化合物から直接大火炎法によって合成シリカ微粒子を製造する方法は米国特許第２，２７２，３４２号明細書によって公知とされている。この方法で用いられるバーナーは多段構造体とされており、これは内炎を形成するシラン化合物からなる原料ガス（ａ）と支燃性ガス（ｄ）、燃性ガス（ｂ）および支燃性ガス（ｃ）をそれぞれ供給するノズル群と、外炎を形成する燃性ガス（ｅ）と支燃性ガス（ｆ）を供給するノズル群とから構成されており、内炎用ノズル群はバーナー中心部に、外炎用ノズル群はバーナー中心部の内炎ノズル群を取りまいて設置されていて、これらのノズルから噴出されるガスによって形成される内炎と外炎は一つの大きな火炎となり、これが回転している耐熱性担体に吹き付けられることによって担体上に合成シリカ微粒子が堆積されると同時に溶融ガラス化して合成石英ガラス部材が製造される。」（第２頁左上欄第１１行〜右上欄第７行）
（ｂ）「同心円状５重管バーナーの中心層に原料ガスａとしてのメチルトリクロロシランまたは四塩化けい素と支燃性ガスｄとしての酸素ガスとの混合ガス、第２層に支燃性ガスｃとしての酸素、第３層に燃性ガスｂとしての水素ガス、第４層に支燃性ガスｆとしての酸素ガス、第５層に燃性ガスｅとしての水素ガスを供給するようにし、このａ、ｂ、ｃ、ｄで内炎を、ｅ、ｆで外炎を形成するさせることとし、このａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ、ｆのガス供給量を第１表に示した量としてこの酸水素火炎バーナーで発生したシリカ微粒子を炭化けい素製担体棒上に堆積させると共に直ちに溶融して外径８０ｍｍ、長さ５０ｍｍの合成石英ガラス部材を作ったところ・・・」（第４頁右上欄第１２行〜左下欄第５行）
（ｃ）第５頁左上欄の第１表の実施例１には、ガス供給量Ｎｍ３／時として原料ガスａ０．２、支燃性ガスｄ（Ｏ２）０．９、支燃性ガスｃ（Ｏ２）０．３、燃性ガスｂ（Ｈ２）３．０、支燃性ガスｆ（Ｏ２）４．０、燃性ガス（Ｈ２）８．０、△ＯＨ（ｐｐｍ）５０、屈折率最大偏差量（△ｎ）５．０×１０−６であることが記載されている。
（３）甲第３号証：特開昭５４−７１６５０号公報
　申立人Ａの甲第４号証と同じ。
（４）甲第４号証：特開平４−１３００３１号公報：取消理由通知の刊行物８　
（ａ）「石英ガラスの吸収、発光という分光学的性質は、現在のところ、次のように説明される。ａ）酸素過剰　合成石英ガラスの製造において、酸水素火炎の酸素が過剰な場合、すなわち、Ｈ２／Ｏ２＜２となるような時は、エキシマレーザーなどの照射によって、２６０ｎｍの吸収帯が生じ、それに伴って６５０ｎｍの赤色発光帯が生成する。ｂ）水素過剰　逆に、酸水素火炎が水素過剰の場合（Ｈ２／Ｏ２＞２）、合成石英ガラス中に過剰の水素が残存し、ＡｒＦエキシマレーザーの照射によって２２０ｎｍの吸収帯を生じ、それに伴う２８０ｎｍの発光帯が見られる。・・・第１図および第２図のＡの試料は、酸水素火炎Ｈ２／Ｏ２＝１．８で製造した合成石英ガラスにＡｒＦエキシマレーザー（１９３ｎｍ）を２００ｍＪ／ｃｍ３、１００Ｈｚ、６０００パルスの照射条件で照射したときの発光スペクトルと吸収スペクトルであり、６５０ｎｍに赤色発光があり、２６０ｎｍに吸収帯がある。また、第１図のＢの試料は、Ｈ２／Ｏ２＝２．３で製造した合成石英ガラスにＡと同様にＡｒＦエキシマレーザー（１９３ｎｍ）を照射したとき発光スペクトルである。」（第２頁右下欄第９行〜第３頁第１６行）
（ｂ）「本発明は、四塩化ケイ素を酸水素火炎中で加水分解する石英ガラスの合成方法において、溶存する酸素分子（Ｏ２）濃度が１×１０１７個／ｃｍ３以下となるように酸水素火炎の酸素と水素の比が化学量論的必要量より過剰の水素の存在下で合成し、・・・合成された石英ガラスの溶存する酸素分子（Ｏ２）濃度を１×１０１７個／ｃｍ３以下とすることが可能となり、したがって、６５０ｎｍの赤色発光の前駆体である不安定な構造の形成が防止されることになる。」（第４頁左上欄第１〜１９行）
（ｃ）「以上のことから、溶存酸素分子の許容濃度は約１×１０１７個／ｃｍ３であり、好ましくは内部透過率が９９．９％となる条件として１×１０１６個／ｃｍ３以下が望ましい。」（第５頁左上欄第８〜１１行）
（５）甲第５号証：特開平４−１６４８３３号公報：取消理由通知の刊行物９
（ａ）「塊状合成シリカガラス体を高圧希ガス雰囲気下で加熱して再溶融した後、該再溶融状態を所定時間維持することにより、前記ガラス体中に水素分子を含有させた事を特徴とする水素分子含有シリカガラス体の製造方法。」（請求項１）
（ｂ）「更に、特に略２５０ｎｍ以下の短紫外域におけるＫｒＦもしくはＡｒＦエキシマレーザーは、最も強いエネルギーを持っており、該エキシマレーザの照射により前記シリカガラスは一層強い光学的ダメージを受けやすいことが確認されている。・・・前記シリカガラス体中に水素ガスをドープする事により特に略２５０ｎｍ以下の短紫外域エキシマレーザーの照射における光学的ダメージを大幅に低減した商品を開発すると共に、そのシリカガラス中への水素ガスドープを主要構成要件とする・・・」（第２頁左上欄最終行〜右上欄第２０行）
（ｃ）「尚、耐紫外線レーザ性を効果的に達成するには、前記シリカガラス体中に５×１０１７（ｍｏｌｅｃｕｌｅ／ｃｍ３・ｇｌａｓｓ）以上の水素分子を含有させるのがよい」（第３頁右上欄第１５〜１７行）
３−４−１−２．対比・判断
（１）本件訂正発明１について
（ｉ）甲第１号証を主引例とする対比・判断
　甲第１号証には、上記３−３−２（２）から「主バーナーとして４重管構造であり、４重管内に酸素を供給する管が配設されている構造のバーナーを使用し、中心管にＳｉＣｌ４とキャリヤーガスＯ２　２００Ｎｌ／時、２重管にＯ２　１Ｎｍ３／時、３重管にＨ２　５Ｎｍ３／時、４重管にＨ２　１２Ｎｍ３／時、４重管に配設された管にＯ２　７Ｎｍ３／時供給し、合成石英素塊を製造しつつ補助バーナーで加熱し、次いで熱間成形機中で１７００℃で成形し合成石英棒とする方法。」という発明（以下、「甲１Ｂ発明」という）が記載されていると云える。
　本件訂正発明１と甲１Ｂ発明とを対比すると、甲１Ｂ発明の「中心管」、「２重管、３重管」、「４重管」、「４重管に配設された管」、「合成石英素塊」は、本件訂正発明２の「原料用円状管」、「複数の燃焼用リング状管」、「最外部の燃焼用リング状管」、「酸素を噴出する複数の燃焼用円状管」、「インゴット」にそれぞれ相当し、また、甲１Ｂ発明の「２重管、３重管のＯ２とＨ２の割合」、「４重管と４重管に配設された管のＯ２とＨ２の割合」は、それぞれ具体的数値は「５」、「１．７１」であり、かつ本件訂正発明１の「最外部を除く複数の燃焼用リング状管から噴出させる酸素ガスおよび水素ガスの割合」、「最外部の燃焼用リング状管とその内部の燃焼用円状管から噴出させる酸素ガスおよび水素ガスの割合」にそれぞれ相当するから、両者は「中心部に配置されＳｉ化合物ガスを噴出する原料用円状管と、これの周囲に同心円状に配置され酸素ガスおよび水素ガスを噴出する複数の燃焼用リング状管と、最外部の燃焼用リング状管の内部に配置され酸素を噴出する複数の燃焼用円状管とを有するバーナにより、Ｓｉ化合物ガスと酸素ガスと水素ガスとを噴出し、ターゲット上に石英ガラス粉を堆積しガラス化させ、インゴットを形成する方法において、「最外部を除く複数の燃焼用リング状管から噴出させる酸素ガスおよび水素ガスの割合」を、理論当量比と比較して水素過剰として石英ガラスインゴットを合成する工程からなる方法」で一致し、次の点で相違している。
相違点（イ）：本件訂正発明１は、石英ガラスインゴットを加工して水素濃度が５×１０１７個／ｃｍ３以上の石英ガラス光学部材を得ているのに対して、甲１Ｂ発明は、合成石英素塊を製造しつつ補助バーナーで加熱し、次いで熱間成形機中で１７００℃で成形し合成石英棒とする点
相違点（ロ）：本件訂正発明１では、「最外部を除く複数の燃焼用リング状管から噴出させる酸素ガスおよび水素ガスの割合」を、「最外部の燃焼用リング状管とその内部の燃焼用円状管から噴出させる酸素ガスおよび水素ガスの割合」と比較して水素過剰としているのに対して、甲１Ｂ発明では、「最外部の燃焼用リング状管とその内部の燃焼用円状管から噴出させる酸素ガスおよび水素ガスの割合」を理論当量比と比較して酸素過剰としている点
  そこで相違点（イ）について検討する。
  甲第２号証には、後述の（ｉｉ）で述べるように、石英ガラスインゴットを加工して水素濃度が５×１０１７個／ｃｍ３以上の石英ガラス光学部材を得ることについては何も示唆されていない。
　甲第３号証については、上記３−３−２（３）での甲第４号証について述べたと同じことが云える。
　甲第４号証には、石英ガラスの分光学的性質と、酸素過剰、水素過剰の関係について記載されているが、石英ガラスインゴットを加工して水素濃度が５×１０１７個／ｃｍ３以上の石英ガラス光学部材を得ることについては何も示唆されていない。
  甲第５号証には、インゴットを高圧希ガス雰囲気下で加熱再溶融することは記載されているが、石英ガラスインゴットを加工して水素濃度が５×１０１７個／ｃｍ３以上の石英ガラス光学部材を得ることについては何も示唆されていない。
  してみると、相違点（ロ）について検討するまでもなく、本件訂正発明１は、甲第１号証に記載された発明であるとすることはできないし、また甲第１〜５号証に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるとすることはできない。
（ｉｉ）甲第２号証を主引例とする対比・判断
　甲第２号証には、上記（２）（ｂ）（ｃ）から、「中心層に四塩化けい素と酸素ガスとの混合ガス、第２層に酸素ガス、第３層に水素ガス、第４層に酸素ガス、第５層に水素ガスを供給する同心円状５重管バーナーによる合成石英ガラス部材の製造方法において、２層（Ｏ２）に０．３Ｎｍ３／時、３層（Ｈ２）に３．０Ｎｍ３／時、４層（Ｏ２）に４．０Ｎｍ３／時、５層（Ｈ２）に８．０Ｎｍ３／時供給し、このバーナーで発生したシリカ微粒子を炭化けい素製担体棒上に堆積させると共に直ちに溶融して合成石英ガラス部材を作る合成石英ガラス部材の製造方法。」という発明（以下、「甲２Ｂ発明」という）が記載されていると云える。
  次に本件訂正発明１と甲２Ｂ発明とを対比すると、甲２Ｂ発明において２層（Ｏ２）と３層（Ｈ２）との比は１０、４層（Ｏ２）と５層（Ｈ２）との比は２であり、甲２Ｂ発明の「炭化けい素製担体棒」、「合成石英ガラス部材」は本件訂正発明１の「ターゲット」、「インゴット」にそれぞれ相当するから、両者は「バーナにより、Ｓｉ化合物ガスと酸素ガスと水素ガスとを噴出し、ターゲット上に石英ガラス粉を堆積しガラス化させ、インゴットを形成し、このインゴットを加工して石英ガラス光学部材を得る石英ガラス光学部材の製造方法」で一致し、次の点で相違している。
相違点（イ）：本件訂正発明１では、バーナーが、中心部に配置されＳｉ化合物ガスを噴出する原料用円状管と、これの周囲に同心円状に配置され酸素ガスおよび水素ガスを噴出する複数の燃焼用リング状管と、最外部の燃焼用リング状管の内部に配置され酸素を噴出する複数の燃焼用円状管とを有するものであるのに対して、甲２Ｂ発明では、中心層に四塩化けい素と酸素ガスとの混合ガス、第２層に酸素ガス、第３層に水素ガス、第４層に酸素ガス、第５層に水素ガスを供給する同心円状５重管バーナーである点
相違点（ロ）：本件訂正発明１では、「最外部を除く複数の燃焼用リング状管から噴出させる酸素ガスおよび水素ガスの割合」を、理論当量比および「最外部の燃焼用リング状管とその内部の燃焼用円状管から噴出させる酸素ガスおよび水素ガスの割合」と比較して水素過剰としているのに対して、甲２Ｂ発明では、２層（Ｏ２）と３層（Ｈ２）との比は１０、４層（Ｏ２）と５層（Ｈ２）との比は２である点
相違点（ハ）：本件訂正発明１では、石英ガラスインゴットを加工して水素濃度が５×１０１７個／ｃｍ３以上の石英ガラス光学部材を得ているのに対して、甲２Ｂ発明では、その点が不明である点
　そこで相違点（イ）について検討する。
　甲第１号証については、上記３−３−２．（１）で甲第３号証について述べたことと同じことが云える。
  甲第３号証については、上記３−３−２．（３）で甲第４号証について述べたことと同じことが云える。
   甲第４、５号証には、バーナーが、中心部に配置されＳｉ化合物ガスを噴出する原料用円状管と、これの周囲に同じ、円状に配置され酸素ガスおよび水素ガスを噴出する複数の燃焼用リング状管と、最外部の燃焼用リング状管の内部に配置され酸素を噴出する複数の燃焼用円状管とを有するものについては何も示唆されていない。
  してみると、相違点（ロ）（ハ）について検討するまでもなく、本件訂正発明１は、甲第２号証に記載された発明であるとすることはできないし、また甲第１〜５号証に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるとすることはできない。
（２）本件訂正発明２について
（ｉ）甲第１号証を主引例とする対比・判断　
　本件訂正発明２と甲１Ｂ発明とを対比すると、甲１Ｂ発明の「中心管」、「２重管、３重管」、「４重管」、「４重管に配設された管」、「合成石英素塊」は、本件訂正発明２の「原料用円状管」、「複数の燃焼用リング状管」、「最外部の燃焼用リング状管」、「酸素を噴出する複数の燃焼用円状管」、「インゴット」にそれぞれ相当し、また、甲１Ｂ発明の「２重管、３重管のＯ２とＨ２の割合」、「４重管と４重管に配設された管のＯ２とＨ２の割合」は、それぞれ具体的数値は「５」、「１．７１」であり、かつ本件訂正発明２の「最外部を除く複数の燃焼用リング状管から噴出させる酸素ガスおよび水素ガスの割合」、「最外部の燃焼用リング状管とその内部の燃焼用円状管から噴出させる酸素ガスおよび水素ガスの割合」にそれぞれ相当するから、両者は「中心部に配置されＳｉ化合物ガスを噴出する原料用円状管と、これの周囲に同心円状に配置され酸素ガスおよび水素ガスを噴出する複数の燃焼用リング状管と、最外部の燃焼用リング状管の内部に配置され酸素を噴出する複数の燃焼用円状管とを有するバーナにより、Ｓｉ化合物ガスと酸素ガスと水素ガスとを噴出し、ターゲット上に石英ガラス粉を堆積しガラス化させ、インゴットを形成する方法において、「最外部を除く複数の燃焼用リング状管から噴出させる酸素ガスおよび水素ガスの割合」を、理論当量比と比較して水素過剰とし、「最外部の燃焼用リング状管とその内部の燃焼用円状管から噴出させる酸素ガスおよび水素ガスの割合」を理論当量比と比較して酸素過剰として石英ガラスインゴットを合成する工程からなる方法」で一致し、次の点で相違している。
相違点（イ）：本件訂正発明２では、石英ガラスインゴットを加工して水素濃度が５×１０１７個／ｃｍ３以上の石英ガラス光学部材を得ているのに対して、甲１Ｂ発明では、合成石英素塊を製造しつつ補助バーナーで加熱し、次いで熱間成形機中で１７００℃で成形し合成石英棒とする点
  そこで相違点（イ）について検討すると、甲第２〜５号証について上記（１）（ｉ）で述べたことと同じことが云えるから、本件訂正発明２は、甲第１号証に記載された発明であるとすることはできないし、また甲第１〜５号証に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるとすることはできない。
（ｉｉ）甲第２号証を主引例とする対比・判断
　本件訂正発明２と甲２Ｂ発明とを対比すると、甲２Ｂ発明において２層（Ｏ２）と３層（Ｈ２）との比は１０、４層（Ｏ２）と５層（Ｈ２）との比は２であり、甲２Ｂ発明の「炭化けい素製担体棒」、「合成石英ガラス部材」は本件訂正発明２の「ターゲット」、「インゴット」にそれぞれ相当するから、両者は「バーナにより、Ｓｉ化合物ガスと酸素ガスと水素ガスとを噴出し、ターゲット上に石英ガラス粉を堆積しガラス化させ、インゴットを形成し、このインゴットを加工して石英ガラス光学部材を得る石英ガラス光学部材の製造方法」で一致し、次の点で相違している。
相違点（イ）：本件訂正発明２では、バーナーが、中心部に配置されＳｉ化合物ガスを噴出する原料用円状管と、これの周囲に同心円状に配置され酸素ガスおよび水素ガスを噴出する複数の燃焼用リング状管と、最外部の燃焼用リング状管の内部に配置され酸素を噴出する複数の燃焼用円状管とを有するものであるのに対して、甲２Ｂ発明では、中心層に四塩化けい素と酸素ガスとの混合ガス、第２層に酸素ガス、第３層に水素ガス、第４層に酸素ガス、第５層に水素ガスを供給する同心円状５重管バーナーである点
相違点（ロ）：本件訂正発明２では、「最外部を除く複数の燃焼用リング状管から噴出させる酸素ガスおよび水素ガスの割合」を、理論当量比と比較して水素過剰とし、「最外部の燃焼用リング状管とその内部の燃焼用円状管から噴出させる酸素ガスおよび水素ガスの割合」を理論当量比と比較して同等または酸素過剰としているのに対して、甲２Ｂ発明では、２層（Ｏ２）と３層（Ｈ２）との比は１０、４層（Ｏ２）と５層（Ｈ２）との比は２である点
相違点（ハ）：本件訂正発明２では、石英ガラスインゴットを加工して水素濃度が５×１０１７個／ｃｍ３以上の石英ガラス光学部材を得ているのに対して、甲２Ｂ発明では、その点が不明である点
　そこで相違点（イ）について検討すると、上記（１）（ｉ）で述べたこととと同じことが云えるから、相違点（ロ）（ハ）について検討するまでもなく、本件訂正発明２は、甲第２号証に記載された発明であるとすることはできないし、また甲第１〜５号証に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるとすることはできない。
（３）本件訂正発明３について
  本件訂正発明３は、請求項１又は請求項２を引用しさらに限定した発明であるから、上記（１）（２）と同じ理由で、本件訂正発明３は、甲第１〜５号証に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることはできたものであるとすることはできない。
（４）本件訂正発明５について
　 本件訂正発明５は、請求項１又は請求項２を引用しさらに限定した発明であるから、上記（１）（２）と同じ理由で、本件訂正発明５は、甲第１号証又は甲第２号証に記載された発明とすることはできないし、また甲第１〜５号証に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることはできたものであるとすることはできない。
（５）本件訂正発明６〜１２について
 本件訂正発明６〜１２は、少なくとも請求項１又は請求項２を引用しさらに限定した発明であるから、上記（１）（２）と同じ理由で、本件訂正発明６〜１２は、甲第１〜５号証に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることはできたものであるとすることはできない。
３−４−２．上記３−２（１）（ｉｉ）、特許法第３６条違反の主張について
　申立人Ｂは、具体的には請求項２に関する実施例が明細書中に記載されていないことを主張している。
　そこで検討すると、本件訂正発明２において「最外部の燃焼用リング状管とその内部の燃焼用円状管から噴出させる酸素ガスおよび水素ガスの割合」が理論当量比と比較して同等または酸素過剰となっているということは、換言すれば、水素に関しては理論当量比と比較して、同等ないし水素不足となっているということである。してみると、本件訂正発明２において、「最外部を除く複数の燃焼用リング状管から噴出させる酸素ガスおよび水素ガスの割合」が理論当量比と比較して水素過剰である以上、本件訂正発明２では必ず、「最外部を除く複数の燃焼用リング状管から噴出させる酸素ガスおよび水素ガスの割合」は「最外部の燃焼用リング状管とその内部の燃焼用円状管から噴出させる酸素ガスおよび水素ガスの割合」と比較して水素過剰になっていると云うことである。そうすると、本件訂正発明２は本件訂正発明１の下位概念と云えるから、本件訂正発明１の実施例が明細書に記載されている以上、本件訂正発明２の実施例が記載されていないからといって、記載不備とまで云うことはできない。
４．むすび
　以上のとおり、特許異議申立ての理由及び証拠方法によっては、訂正後の本件請求項１〜１２に係る発明の特許を取り消すことはできない。
 また、他に訂正後の本件請求項１〜１２に係る発明の特許を取り消すべき理由を発見しない。
　したがって、訂正後の本件請求項１〜１２に係る発明の特許は拒絶の査定をしなければならない特許出願に対してされたものと認めない。
　よって、特許法等の一部を改正する法律（平成６年法律第１１６号）附則第１４条の規定に基づく、特許法等の一部を改正する法律の施行に伴う経過措置を定める政令（平成７年政令第２０５号）第４条第２項の規定により、結論のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１４年８月９日（２００２．８．９）
【訂正の要旨】
訂正の要旨
　特許第３１２０６４７号発明の明細書を、本件訂正請求書に添付された訂正明細書のとおりに、
　（１）訂正事項ａ
　請求項１〜２を、「【請求項１】中心部に配置されＳｉ化合物ガスを噴出する原料用円状管と、これの周囲に同心円状に配置され酸素ガスおよび水素ガスを噴出する複数の燃焼用リング状管と、最外部の燃焼用リング状管の内部に配置され酸素を噴出する複数の燃焼用円状管とを有するバーナにより、Ｓｉ化合物ガスと酸素ガスと水素ガスとを噴出し、ターゲット上に石英ガラス粉を堆積しガラス化させ、インゴットを形成し、このインゴットを加工して石英ガラス光学部材を得る石英ガラス光学部材の製造方法において、「最外部を除く複数の燃焼用リング状管から噴出させる酸素ガスおよび水素ガスの割合」を、理論当量比および「最外部の燃焼用リング状管とその内部の燃焼用円状管から噴出させる酸素ガスおよび水素ガスの割合」と比較して水素過剰として石英ガラスインゴットを合成する工程と、前記石英ガラスインゴットを加工して水素濃度が５×１０１７個／ｃｍ３以上の石英ガラス光学部材を得る工程と、からなる石英ガラス光学部材の製造方法。
　【請求項２】中心部に配置されＳｉ化合物ガスを噴出する原料用円状管と、これの周囲に同心円状に配置され酸素ガスおよび水素ガスを噴出する複数の燃焼用リング状管と、最外部の燃焼用リング状管の内部に配置され酸素を噴出する複数の燃焼用円状管とを有するバーナにより、Ｓｉ化合物ガスと酸素ガスと水素ガスとを噴出し、ターゲット上に石英ガラス粉を堆積しガラス化させ、インゴットを形成し、このインゴットを加工して石英ガラス光学部材を得る石英ガラス光学部材の製造方法において、「最外部を除く複数の燃焼用リング状管から噴出させる酸素ガスおよび水素ガスの割合」を、理論当量比と比較して水素過剰とし、「最外部の燃焼用リング状管とその内部の燃焼用円状管から噴出させる酸素ガスおよび水素ガスの割合」を理論当量比と比較して同等または酸素過剰として石英ガラスインゴットを合成する工程と、前記石英ガラスインゴットを加工して水素濃度が５×１０１７個／ｃｍ３以上の石英ガラス光学部材を得る工程と、からなる石英ガラス光学部材の製造方法。
　【請求項３】請求項１または請求項２に記載の石英ガラス光学部材の製造方法において、原料用円状管からＳｉ化合物ガスを噴出させるときにキャリアガスとして水素ガスを用いることを特徴とする石英ガラス光学部材の製造方法。
　【請求項４】請求項１または請求項２に記載の石英ガラス光学部材の製造方法により製造した石英ガラス光学部材において、波面収差のＲＭＳ値がパワー成分補正後に０．０２λ以下であることを特徴とする石英ガラス光学部材。
　【請求項５】請求項１または請求項２に記載の石英ガラス光学部材の製造方法により製造した石英ガラス光学部材において、一方向の屈折率の均質性がパワー成分補正なしで△ｎ≦２×１０−６であることを特徴とする石英ガラス光学部材。
　【請求項６】請求項５に記載の石英ガラス光学部材において、前記一方向を光軸方向とすることを特徴とする石英ガラス光学部材。
　【請求項７】請求項１または請求項２に記載の石英ガラス光学部材の製造方法により製造した石英ガラス光学部材において、一方向の断面のの屈折率分布の極値がひとつで中央対称であることを特徴とする石英ガラス光学部材。
　【請求項８】請求項７に記載の石英ガラス光学部材において、前記一方向の断面が入射光軸を含む断面であることを特徴とする石英ガラス光学部材。
　【請求項９】請求項１または請求項２に記載の石英ガラス光学部材の製造方法により製造した石英ガラス光学部材において、３６５ｎｍ、２４８ｎｍ、１９３ｎｍにおいて１０ｍｍ内部透過率が９９．９％を越えることを特徴とする石英ガラス光学部材。
　【請求項１０】請求項１または請求項２に記載の石英ガラス光学部材の製造方法により製造した石英ガラス光学部材において、ＫｒＦエキシマレーザを４００ｍＪ／ｃｍ２・ｐｕｌｓｅで１０６ｐｕｌｓｅ照射した後、２４８ｎｍにおける１０ｍｍ内部透過率が９９．９％を越えることを特徴とする石英ガラス光学部材。
　【請求項１１】請求項１または請求項２に記載の石英ガラス光学部材の製造方法により製造した石英ガラス光学部材において、ＡｒＦエキシマレーザを１００ｍＪ／ｃｍ２・ｐｕｌｓｅで１０６ｐｕｌｓｅ照射した後、１９３ｎｍにおける１０ｍｍ内部透過率が９９．９％を越えることを特徴とする石英ガラス光学部材。
　【請求項１２】請求項１または請求項２に記載の石英ガラス光学部材の製造方法により製造した石英ガラス光学部材において、中央部の方が周辺部より高い水素濃度持つことを特徴とする石英ガラス光学部材。」と訂正する。
（２）訂正事項ｂ
　【発明の名称】を、石英ガラス光学部材の製造方法及びそれにより製造された石英ガラス光学部材」と訂正する。
（５４）【発明の名称】
石英ガラス
光学部材
光学部材
（５７）【特許請求の範囲】
　【請求項１】　中心部に配置されＳｉ化合物ガスを噴出する原料用円状管と、これの周囲に同心円状に配置され酸素ガスおよび水素ガスを噴出する複数の燃焼用リング状管と、最外部の燃焼用リング状管の内部に配置され酸素を噴出する複数の燃焼用円状管とを有するバーナにより、Ｓｉ化合物ガスと酸素ガスと水素ガスとを噴出し、ターゲット上に石英ガラス粉を堆積しガラス化させ、インゴットを
形成し、このインゴットを加工して石英ガラス光学部材を得る石英ガラス光学部材の製造方法において、
「最外部を除く複数の燃焼用リング状管から噴出させる酸素ガスおよび水素ガスの割合」を、理論当量比および「最外部の燃焼用リング状管とその内部の燃焼用円状管から噴出させる酸素ガスおよび水素ガスの割合」と比較して水素過剰と
して石英ガラスインゴットを合成する工程と、
前記石英ガラスインゴットを加工して水素濃度が５×１０１７個／ｃｍ３以上の石英ガラス光学部材を得る工程と、
からなる石英ガラス光学部材の製造方法。
　【請求項２】　中心部に配置されＳｉ化合物ガスを噴出する原料用円状管と、これの周囲に同心円状に配置され酸素ガスおよび水素ガスを噴出する複数の燃焼用リング状管と、最外部の燃焼用リング状管の内部に配置され酸素を噴出する複数の燃焼用円状管とを有するバーナにより、Ｓｉ化合物ガスと酸素ガスと水素ガスとを噴出し、ターゲット上に石英ガラス粉を堆積しガラス化させ、インゴットを
形成し、このインゴットを加工して石英ガラス光学部材を得る石英ガラス光学部材の製造方法において、
「最外部を除く複数の燃焼用リング状管から噴出させる酸素ガスおよび水素ガスの割合」を、理論当量比と比較して水素過剰とし、「最外部の燃焼用リング状管とその内部の燃焼用円状管から噴出させる酸素ガスおよび水素ガスの割合」を理論当量比と比較して同等または酸素過剰と
して石英ガラスインゴットを合成する工程と、
前記石英ガラスインゴットを加工して水素濃度が５×１０１７個／ｃｍ３以上の石英ガラス光学部材を得る工程と、
からなる石英ガラス光学部材の製造方法。
　【請求項３】　請求項１または請求項２に記載の石英ガラス
光学部材
光学部材
　【請求項４】　請求項１または請求項２に記載の石英ガラス
光学部材
光学部材
光学部材
　【請求項５】　請求項１または請求項２に記載の石英ガラス
光学部材
光学部材
光学部材
　【請求項６】　請求項５に記載の石英ガラス
光学部材
　【請求項７】　請求項１または請求項２に記載の石英ガラス
光学部材
光学部材
光学部材
　【請求項８】　請求項７に記載の石英ガラス
光学部材
　【請求項９】　請求項１または請求項２に記載の石英ガラス
光学部材
光学部材
光学部材
　【請求項１０】　請求項１または請求項２に記載の石英ガラス
光学部材
光学部材
光学部材
　【請求項１１】　請求項１または請求項２に記載の石英ガラス
光学部材
光学部材
光学部材
　【請求項１２】　請求項１または請求項２に記載の石英ガラス
光学部材
光学部材
光学部材
【発明の詳細な説明】
　【０００１】
　【産業上の利用分野】
　本発明は石英ガラスの製造方法に関するものであり、特に、紫外線レーザ全般に使用される光学部材用の合成石英ガラスの製造方法及びそれにより製造された石英ガラスに関するものである。
　【０００２】
　【従来の技術】
　従来、シリコン等のウエハ上に集積回路の微細パターンを露光・転写する光リソグラフィー技術においては、ステッパと呼ばれる露光装置が用いられている。このステッパの光源は、近年のＬＳＩの高集積化にともなってｇ線（４３６ｎｍ）からｉ線（３６５ｎｍ）、さらにはＫｒＦ（２４８ｎｍ）やＡｒＦ（１９３ｎｍ）エキシマレーザへと短波長化が進められている。
　【０００３】
　一般に、ステッパの照明系あるいは投影レンズとして用いられる光学ガラスは、ｉ線よりも短い波長領域では光透過率が低下するため、従来の光学ガラスにかえて合成石英ガラスやＣａＦ２（蛍石）等のフッ化物単結晶を用いることが提案されている。
　ステッパに搭載される光学系は多数のレンズの組み合わせにより構成されており、たとえレンズ一枚当たりの透過率低下量が小さくとも、それが使用レンズ枚数分だけ積算されてしまい、照射面での光量の低下につながるため、素材に対して高透過率化が要求されている。また、使用波長が短くなるほど、屈折率分布のほんの小さなムラによってでも結像性能が極端に悪くなる。
　【０００４】
　このように、紫外線リソグラフィー用の光学素子として用いられる石英ガラスには、紫外線の高透過性と屈折率の高均質性が要求されている。
　しかし、通常市販されている合成石英ガラスは、均質性、耐紫外線性を始めとする品質が不十分であり、前述したような精密光学機器に使用することはできなかった。このため、これまでに均質化のための二次処理（特公平０３−１７７７５，特開昭６４−２８２４０）や、加圧水素ガス中での熱処理による耐レーザ性の向上（特開平０３−１０９２３３）が提案されている。
　【０００５】
　これらの方法は、一旦、石英ガラスを合成した後、光学的性能を向上させるために二次的な処理を施す方法である。
　【０００６】
　【発明が解決しようとする課題】
　石英ガラスに紫外領域の光が作用すると、Ｅ’センターと呼ばれる５．８ｅＶの吸収帯が現れ紫外領域の透過率が著しく低下する。ここに水素分子が存在すると、Ｅ’センターを水素分子がターミネートし、紫外領域での石英ガラスの透過率低下量を激減させることができるという報告がある（米国特許第５０８６３５２号）。
　【０００７】
　この様に石英ガラス中における水素分子は、その紫外線耐久性を著しく向上させる効果がある。しかしながら、前述のような従来の技術では、石英ガラス中に水素分子を導入するために、一旦、石英ガラスを合成した後に再び熱処理（水素処理等）を加えなければならないという問題がある。すなわち、この方法であると水素分子の導入まで熱を少なくとも２回加えることになる。それ故、生産性が低下し、最終生産物がコストアップする等の問題がある。また、二次処理で水素分子を導入するためには水素雰囲気中で処理を行わねばならず、発火・爆発等の危険性も伴う。さらに、不純物の混入、高温での加圧熱処理で還元雰囲気に曝すことによる、新たな吸収帯や発光帯の発生という問題もあった。
　【０００８】
　加えて、近年、光リソグラフィー技術に用いるレンズ径が大きくなるにつれ、二次処理で水素分子を大口径の石英ガラス光学部材に均一に導入するには、拡散係数から考えてもかなりの長時間を有する。さらに、紫外線リソグラフィー用のレンズとして用いることを考えた場合、最もエネルギー密度が高くなるため、より高い水素濃度が必要となる中央部の水素濃度が周辺部に比較して低くなるという問題があった。
　【０００９】
　本発明は、これらの問題を解決し、紫外光照射による透過率低下を抑えるのに必要な量の水素分子を含有し、泡・異物・脈理・歪等含まず、光学的に均質で高透過率・紫外線耐久性を有する石英ガラスの製造方法を提供することを目的とする。
　【００１０】
　【課題を解決する為の手段】
　そこで本発明は、水素分子の導入を合成時に行うことにより二次処理が不要になることに着目し、鋭意研究を進めた。
　その結果、バーナの中心部に配置されＳｉ化合物ガスを噴出する原料用円状管の周りの燃焼ガスの割合を水素過剰にすることにより合成時に高濃度の水素分子が導入され、二次処理が不要になることがわかった。そして、さらに、最外部の燃焼用リング状管とその内部の燃焼用円状管から噴出させる燃焼ガスの割合については、水素過剰雰囲気が強すぎると、合成される石英ガラスの透過率が低くなることがわかった。
　【００１１】
　よって、本発明においては、「最外部を除く複数の燃焼用リング状管から噴出させる酸素ガスおよび水素ガスの割合」を、理論当量比および「最外部の燃焼用リング状管とその内部の燃焼用円状管から噴出させる酸素ガスおよび水素ガスの割合」と比較して水素過剰とするものとした。
　あるいは、本発明においては、「最外部を除く複数の燃焼用リング状管から噴出させる酸素ガスおよび水素ガスの割合」を理論当量比と比較して水素過剰とし、「最外部の燃焼用リング状管とその内部の燃焼用円状管から噴出させる酸素ガスおよび水素ガスの割合」を理論当量比と比較して同等または酸素過剰とするものとした。
　【００１２】
　【作用】
　前述したように、水素分子を導入する方法として、一般的には熱間等方圧プレス（ＨＩＰ）や高温高圧雰囲気熱処理炉などによる二次処理を行うことが多い。この二次処理時に酸素欠乏型欠陥の生成や、Ｎａ等不純物の混入により紫外光学材料として用いる場合に問題となる、新たなる吸収帯の生成やその処理温度範囲によっては失透などが起こり得る。
　【００１３】
　本発明の製造方法であれば、このようなデメリットがない。
　さらに、２次処理では大口径な石英ガラス部材に水素を導入することが困難であるのに対し、本発明の製造方法であれば、合成時に水素分子を導入するため、石英ガラスの径によらず高濃度の水素分子濃度を保たせることができる。
　この様にして得られた石英ガラスインゴット中の水素分子濃度は、径方向では中心部において比較的なだらかな分布を持ち、周縁部に近くなるほど減少する、すなわち凸型の分布になる。凸型の水素分子濃度の分布をもつ石英ガラスであれば、紫外線リソグラフィー用の光学素子として用いた場合、最もエネルギー密度が高い中心部においても紫外線耐久性が保たれる。
　【００１４】
　以下に合成により水素を合成する機構を説明する。
　合成時における石英ガラス中への水素分子の溶解過程はよく解ってはいないが、キャリアガスと共に噴射されたＳｉ化合物（原料）ガスが加水分解されて微粒子（石英ガラス粉）状になる際に、ある割合の水素分子を巻き込みながらガラス化されると推測される。それ故、中心部により近い部分が水素過剰であれば、石英ガラス中に水素分子が溶け込む確率が高くなり水素分子濃度は高くなるはずである。この様な方法により高濃度の水素分子を含有させることで、汚染や危険性を考慮せずとも紫外線耐久性を向上させることが可能になる。しかしながらこの方法において、最外部部の燃焼ガス（支燃性ガスと助燃性ガス）の割合を水素過剰にすることだけは得策ではない。この部位は、他の部位に比べガス流量が非常に多いため水素過剰・酸素欠乏雰囲気になり易く、この様な条件で合成することによりＳｉ−Ｓｉ等の酸素欠乏型欠陥が生成してしまい、逆に２２５ｎｍ以下の透過率低下を招いてしまうからである。
　【００１５】
　本発明の石英ガラスの製造方法により製造される石英ガラスであれば、屈折率分布に関して光リソグラフィー用光学素子として直接光学性能に影響する光学的な物性を満足する。
　石英ガラスの屈折率分布を細かく見ると、パワー成分、アス成分、回転対称成分、傾斜成分、ランダム成分等に分離でき、それぞれが重なりあって全体の屈折率分布を形成している。そして、これらの各成分が光学性能に及ぼす影響はそれぞれ異なっている。
　【００１６】
　波面収差のＲＭＳ値（パワー成分補正後）は、光学性能に直接影響を与える成分のみを表している。パワー成分補正後としたのは、パワー成分は曲率半径の誤差と同一であり、例えばレンズとして用いる場合であればレンズの曲率により補正が可能であり、レンズの空気間隔によっても容易に補正が可能であるため、光学系に使用した場合に像質に直接影響を及ぼさないからである。
　【００１７】
　本発明の製造方法によれば、具体的には、波面収差のＲＭＳ（二乗平均平方根）値がパワー成分補正後に０．０２λ以下、光軸方向の屈折率の均質性がパワー成分補正なしでΔｎ≦２×１０−６、入射光軸を含む断面の屈折率分布が極値がひとつで中央対称、複屈折≦２ｎｍ／ｃｍであるような石英ガラスが、それぞれ得られる。また、石英ガラス中のどの部位においても３６５ｎｍ，２４８ｎｍ，１９３ｎｍにおいて１０ｍｍ内部透過率が９９．９％を超える石英ガラスが得られる。この様な石英ガラスは未だ知られていなかった。
　【００１８】
　また、ＫｒＦエキシマレーザを４００ｍＪ／ｃｍ２・ｐｕｌｓｅで１０６ｐｕｌｓｅ照射した後、２４８ｎｍにおける１０ｍｍ内部透過率が９９．９％を超える石英ガラス、あるいは、ＡｒＦエキシマレーザを１００ｍＪ／ｃｍ２・ｐｕｌｓｅで１０６ｐｕｌｓｅ照射した後、１９３ｎｍにおける１０ｍｍ内部透過率が９９．９％を超える石英ガラスが得られる。これは、本発明によって得られる石英ガラスの水素濃度がいずれの場所においても５×１０１７個／ｃｍ３以上であり、中央部の方が周辺部より高い水素濃度を持つからである。このような石英ガラスは、紫外線照射により生成する欠陥が生じにくく、紫外線リソグラフィー用光学素子としての耐久性を満足する。
　【００１９】
　なぜならば、本発明の石英ガラスの製造方法においては、これらの光学性能に悪影響を及ぼす合成後の２次処理を必要としないためである。これらの石英ガラスは、紫外線リソグラフィー用光学素子としての使用に適している。
　【００２０】
　【実施例】
　本発明における実施例を以下に記す。
　表１及び表２に、実施例および比較例の石英ガラスの製造条件および物性を示す。また、表３は、表１、表２中の符号（○、△、×）を説明するものである。
　【００２１】
　【表１】
　【００２２】
　【表２】
　【００２３】
　【表３】
　【００２４】
　〔実施例１〕
　高純度石英ガラスインゴットは、原料として高純度の珪素の塩素化合物ガスを用い、図２及び図３に示すような石英ガラス製多重管バーナにて酸素ガス及び水素ガスを表１に示すような配置・流量にして燃焼させ、中心部から原料ガスをキャリアガスで希釈して噴出させる、いわゆる酸水素炎加水分解法あるいはダイレクト法と呼ばれる方法により合成した。合成の際、ガラスを積層させる不透明石英ガラス板からなるターゲットを一定周期で回転及び揺動させ、更に降下を同時に行うことによりインゴット上部の位置を常時バーナから同距離に保った（特願平０５−２２２９３、特願平０５−２２２９４参照）。このようにして複数個のインゴットを合成した。これらのインゴット（φ１６０〜５００ｍｍ，Ｌ８００〜１２００ｍｍ）から、インゴットの回転中心と一致させる様に、円板状のテストピース（φ１５０〜４５０ｍｍ，ｔ５０ｍｍ）を５０〜１００ｍｍ毎に水平に切り出した。それぞれのサンプルについて、高圧水銀灯下において脈理の測定、複屈折測定装置による歪の測定、及びＨｅ−Ｎｅレーザ干渉計を用いオイルオンプレート法により光軸方向及び光軸垂直方向における屈折率分布の測定を行った。さらに、屈折率の傾斜成分を測定するため、その円板をはさむ外側からプリズム形状のテストピースを取り、最小偏角法で屈折率の絶対値を測定した。これら切り出したバルク体の上層部をＨ３０×Ｌ１５０×ｔ１０ｍｍの寸法に切断し、側面四面研磨を施し水素分子濃度測定用試料片とした。また、残りをφ６０×ｔ１０ｍｍ（５ｍｍのオリエンテーションフラット付き）の寸法に切断し、両面及び側面の三面研磨を施し水素分子濃度測定，透過率測定及びエキシマレーザ照射用試料片とした（図６参照）。
　【００２５】
　水素分子濃度の測定は、レーザラマン分光光度計により行った。定量は、サンプルを試料台にセットした後、　Ａｒ＋レーザ（出力８００ｍＷ）を照射した時に発生するサンプルと直角方向のラマン散乱光のうち、８００ｃｍ−１と４１３５ｃｍ−１の強度を測定し、その強度比をとることにより行った（Ｖ．Ｓ．Ｋｈｏｔｉｍｃｈｅｎｋｏ　ｅｔ　ａｌ．，Ｊ．Ａｐｐｌ．Ｓｐｅｃｔｒｏｓｃ．，４６，６３２−６３５（１９８７））。
　【００２６】
　透過率は、サンプルの１０ｍｍ厚における内部透過率を測定した。その測定は、近赤−可視−紫外用ダブルビーム分光光度計を用い、リファレンス側に厚さ２ｍｍのサンプルを、測定側に厚さ１２ｍｍのサンプル（両者共に同じロットからサンプリングしたもの）をセットすることにより行った。このようにすることにより、サンプル内での多重反射成分及び表面反射成分が取り除かれ、１０ｍｍ厚における内部透過率が測定できる。この際、分光光度計の精度を高めるために、厚さを変えた石英ガラス標準サンプル（１ｍｍ〜２８ｍｍ）で、測定波長で厚みによる透過率変化が起こらないように調整した（特願平５−２１１２１７）。
　【００２７】
　また、エキシマレーザ照射は、照射用試料片に対してＫｒＦエキシマレーザ（２４８ｎｍ）及びＡｒＦエキシマレーザ（１９３ｎｍ）を用い、前者についてはエネルギー密度４００ｍＪ／ｃｍ２・ｐｕｌｓｅで１×１０６ｐｕｌｓｅまで、後者についてはエネルギー密度１００ｍＪ／ｃｍ２・ｐｕｌｓｅで１×１０６ｐｕｌｓｅまで照射を行った。
　ここで諸物性を測定するために用意されたサンプルは、表１に記載したサンプル１，２である。
　【００２８】
　その結果、サンプル１では４．１×１０１８個／ｃｍ３もの非常に多量の水素分子が石英ガラス塊内に溶存していた。原料を四塩化珪素ではなく、トリクロロシランを用いて合成（サンプル２）しても、若干少なくはなるが３．１×１０１８個／ｃｍ３の水素分子が溶存していた。これらいずれのサンプルにおいても屈折率分布について中央対称であった。また、屈折率分布においても光軸方向・光軸垂直方向いずれにおいても良好な結果が得られた。さらに、２４８ｎｍ，１９３ｎｍにおける透過率も９９．９％以上であり、エキシマレーザ照射試験後の透過率も、サンプル１，２共に９９．９％以上であった。
　【００２９】
　〔比較例１〕
　ここで用意したサンプルは表１のサンプル３〜６である。サンプル３は水素キャリアで最外部の燃焼ガスにおける酸水素比を同心円状多重管の酸水素比より水素過剰にし、サンプル４は酸素キャリア，サンプル５はヘリウムキャリア，サンプル６はアルゴンキャリアにし、同心円状のガス放出管から噴出させるガスを酸水素比：０．４４にすることにより合成したものである。サンプル３では実施例１のものよりさらに約１．７倍も多い水素分子を溶存させることができたが、真空紫外側に吸収帯も存在し１９３ｎｍの初期透過率が悪かった。エキシマレーザ照射試験では、初期に透過率低下が認められるためエキシマレーザ照射後の透過率、特にＡｒＦ波長における照射後の透過率が悪かった。サンプル４については、初期に吸収帯も存在せず透過率も良好であったが、水素分子濃度は３．５×１０１７個／ｃｍ３と少なかった。また、Δｎ，ＲＭＳに若干の悪化が認められたものの、比較的良い値が得られた。エキシマレーザ照射試験において、照射後の透過率はＫｒＦ，ＡｒＦ波長共にわずかながら透過率の低下が見られた。サンプル５，６では初期に吸収帯も存在せず初期透過率も良好であったが、水素分子濃度は非常に少なく１×１０１７個／ｃｍ３以下であったため、エキシマレーザ照射試験では、両サンプル共に照射後の透過率がＫｒＦ，ＡｒＦ共に非常に悪くなっていた。Δｎ，ＲＭＳについては、若干の悪化が認められたものの、比較的良い値が得られた。
　【００３０】
　〔実施例２〕
　図４及び図５のバーナに変え、合成実験を行った（サンプル７，８）。合成方法は表２に示した通りである。サンプルは、二，三重管目から流出する酸水素のガス比を０．２９３にしたもの（サンプル７），四，五重管目から流出する酸水素のガス比を０．２９３にしたもの（サンプル８）である。実施例１と同様の条件で各種物性測定を行った。両サンプル共、サンプル１に比べ若干少ない水素分子濃度ではあったものの、１０１８個／ｃｍ３以上溶存していた。サンプル７，サンプル８双方共に屈折率分布についても中央対称であった。また、両サンプル共Δｎ，ＲＭＳも良好であり、初期透過率及びエキシマレーザ照射試験後における透過率もＫｒＦ，ＡｒＦ共に９９．９％以上を保っていた。
　【００３１】
　〔比較例２〕
　図４及び図５のバーナを用いて酸素キャリアで合成実験を行った（サンプル９，１０）。これらのサンプルについての諸物性は、以下の通りであった。屈折率分布については中央対称であったものの、ΔｎやＲＭＳについてはサンプル７，８に比べ若干悪化していた。また、水素分子濃度もサンプル９で４．３×１０１７個／ｃｍ３，サンプル１０で検出下限以下（＜１０１６個／ｃｍ３）とサンプル７やサンプル８に比べ格段に小さくなっていた。初期透過率はいずれも９９．９％以上であったがエキシマレーザ照射試験後の測定値では、ＫｒＦ，ＡｒＦ共に低下が見られた。また、水素キャリアで最外部の燃焼ガスにおける酸水素比を同心円状多重管の酸水素比より水素過剰にして合成したサンプル（サンプル１１）についても測定を行った。これについては実施例２のサンプル７，８よりさらに約１．６，２．７倍も多い水素分子を溶存させることができたが、真空紫外側に吸収帯も存在し１９３ｎｍの初期透過率が悪かった。エキシマレーザ照射試験では、初期に透過率低下が認められるためエキシマレーザ照射後の透過率、特にＡｒＦ波長における照射後の透過率が悪かった。またΔｎ，ＲＭＳについては悪化する傾向にあった。
　【００３２】
　〔実施例３〕
　実施例１のサンプル１の石英ガラスから、インゴット外形から幾何学的中央部を維持しながら加工して得られた石英ガラス光学部材を使用して、ＡｒＦエキシマレーザを光源とした投影レンズを製作したところ、所望の設計性能を満足することが確認できた。これにより０．３μｍ以下の解像力を有し、実用上十分な平坦性を持つ集積回路パターンを得ることができた。さらに、長時間光学性能が劣化せず維持されることが確認された。
　【００３３】
　【発明の効果】
　以上のように、「最外部を除く複数の燃焼用リング状管から噴出させる酸素ガスおよび水素ガスの割合」を、理論当量比および「最外部の燃焼用リング状管とその内部の燃焼用円状管から噴出させる酸素ガスおよび水素ガスの割合」と比較して水素過剰とすること、あるいは「最外部を除く複数の燃焼用リング状管から噴出させる酸素ガスおよび水素ガスの割合」を理論当量比と比較して水素過剰とし、「最外部の燃焼用リング状管とその内部の燃焼用円状管から噴出させる酸素ガスおよび水素ガスの割合」を理論当量比と比較して同等または酸素過剰とすることにより、さらに好ましくは水素キャリアにすることにより、汚染やコストアップ要因となる二次処理をすること無しに高均質かつ高い紫外線透過性および紫外線耐性を持つ合成石英ガラスを得ることができ、それにより大口径石英ガラス光学部材を得ることができた。
【図面の簡単な説明】
　【図１】　実施例で述べた透過率測定結果の一例である。
　【図２】　石英ガラス合成時に使用したバーナの外観図である。
　【図３】　図２の矢印方向からの矢視図であり、図中の番号は表１の配管内ガス種類及び流量の番号に対応する。
　【図４】　石英ガラス合成時に使用したバーナの外観図である。
　【図５】　図４の矢印方向からの矢視図であり、図中の番号は表２の配管内ガス種類及び流量の番号に対応する。
　【図６】　石英インゴットからサンプルを切り出す時のフローチャートである。
　【符号の説明】
　１…水素ガス或いは酸素ガス噴出口
　２…酸素ガス或いは水素ガス噴出口
　５…酸素ガス噴出口
　６…水素ガス噴出口
　７…キャリアガス＋原料ガス噴出口
　１１…水素ガス或いは酸素ガス噴出口
　１２…酸素ガス或いは水素ガス噴出口
　１３…水素ガス或いは酸素ガス噴出口
　１４…酸素ガス或いは水素ガス噴出口
　１５…酸素ガス噴出口
　１６…水素ガス噴出口
　１７…キャリアガス＋原料ガス噴出口