(57)【要約】電波を反射する反射体３と、反射体３に形成された係合部３ａと、反射体３を支持する支持体４と、支持体４に形成されて、係合部３ａが挿入される被係合部４ａと、係合部３ａを被係合部４ａに挿入した際の挿入量を規定する挿入量規制部３ｂ、４ｂと、を備える。
2010134647.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電波を反射する反射体と、
前記反射体に形成された係合部と、
前記反射体を支持する支持体と、
前記支持体に形成されて、前記係合部が挿入される被係合部と、
前記係合部を前記被係合部に挿入した際の挿入量を規定する挿入量規制部と、を備えることを特徴とする反射体装置。
【請求項２】
請求項１に記載の反射体装置であって、
前記係合部は、前記反射体の軸線と同軸に形成された突出体であり、前記被係合部は、前記支持体の軸線と同軸に形成され前記突出体を受ける受け穴であることを特徴とする反射体装置。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の反射体装置であって、
前記挿入量規制部は、前記係合部を前記被係合部に挿入した際に、前記反射体と前記支持体とが接する前記反射体の面及び前記支持体の面であることを特徴とする反射体装置。
【請求項４】
請求項３に記載の反射体装置であって、
前記係合部の長さ寸法が、前記被係合部の深さ寸法より所定量小さい寸法に設定されて、前記係合部を前記被係合部に挿入した際に、前記係合部の先端面と前記被係合部の底面とが当接することなく、前記反射体の面と前記支持体の面とが当接することにより前記係合部の挿入量が規定されることを特徴とする反射体装置。
【請求項５】
請求項１乃至４のいずれか１項に記載の反射体装置であって、
前記被係合部の側面に複数の接着材落下溝部を形成したことを特徴とする反射体装置。
【請求項６】
請求項１乃至４のいずれか１項に記載の反射体装置であって、
前記係合部の先端面のコーナにテーパ部を設けたことを特徴とする反射体装置。
【請求項７】
請求項１乃至６のいずれか１項に記載の反射体装置であって、
前記反射体が接する前記支持体の面に、接着材を貯留する接着材貯部を設けたことを特徴とする反射体装置。
【請求項８】
請求項７記載の反射体装置であって、
前記接着材貯部が前記支持体の軸線に対して環状に形成されていることを特徴とする反射体装置。
【請求項９】
請求項７又は８に記載の反射体装置であって、
前記接着材貯部の深さは、前記支持体の軸線から離れるに従い浅くなっていることを特徴とする反射体装置。
【請求項１０】
請求項１乃至９のいずれか１項に記載の反射体装置であって、
前記係合部を前記被係合部に挿入した際に、前記支持体が前記反射体との接触から逃げる逃部を形成したことを特徴とする反射体装置。
【請求項１１】
請求項１乃至４のいずれか１項に記載の反射体装置であって、
前記係合部は、前記反射体又は前記支持体の外周部に設けられた筒状の係合筒であり、前記被係合部は、前記支持体又は前記反射体の外周部であることを特徴とする反射体装置。
【請求項１２】
請求項１１に記載の反射体装置であって、
前記被係合部の外周部のコーナにテーパ部を設けたことを特徴とする反射体装置。
【請求項１３】
請求項１１又は１２に記載の反射体装置であって、
前記係合部の先端内側のコーナにテーパ部を設けたことを特徴とする反射体装置。
【請求項１４】
請求項１１乃至１３のいずれか１項に記載の反射体装置であって、
前記係合部が嵌合する前記支持体の前記被係合部にテーパ部を設けたことを特徴とする反射体装置。
【請求項１５】
請求項１乃至１４のいずれか１項に記載の反射体装置であって、
前記係合部の長さが、反射する電波の波長の４分の１よりも小さいことを特徴とする反射体装置。
【請求項１６】
請求項１乃至１５のいずれか１項に記載の反射体装置であって、
前記被係合部の内径が、反射する電波の波長の４分の１よりも小さいことを特徴とする反射体装置。
【請求項１７】
電波を反射する主反射器と、
請求項１〜１６のいずれか１項に記載の反射体装置と、
導波管と、
前記主反射器から反射された電波を、前記反射体装置でさらに反射し、前記導波管の内部に導入することを特徴とするパラボラアンテナ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、反射体装置及び、それを用いたパラボラアンテナに関する。
【背景技術】
【０００２】
主反射器、副反射器及び導波管を備えたパラボラアンテナが知られている。副反射器は主反射器で反射された電波を反射して、電波を円形導波管フィーダの内部に導入するように構成されている。このようなパラボラアンテナにおいては、反射特性の劣化等を防止するために、主反射器、導波管及び副反射器のそれぞれの軸線が一致した状態で固定されることが好ましい。
例えば、特開平９−１９９９３７号公報には、主反射器、主反射器に取付けられた円形導波管フィーダ、円形導波管フィーダの先端に設けられた中空体のフィドーム及び、フィドームに挿入して固定された副反射器を備えたパラボラアンテナ装置が開示されている。
これら主反射器、円形導波管フィーダ、フィドーム及び副反射器は、それぞれの軸線を有する回転対称体である。そして、円形導波管フィーダは、主反射器の軸線と一致するように取付けられ、主反射器と反対側の端部分にフィドームが挿入して固定されている。従って、フィドームの軸線は、主反射器の軸線と一致している。さらに、フィドームは、副反射器を挿入して固定される。これにより、副反射器の軸線はフィドームの軸線と一致するので、この副反射器の軸線は主反射器の軸線と一致する。
【発明の開示】
【０００３】
しかしながら、特開平９−１９９９３７号公報にかかるパラボラアンテナ装置においては、副反射器をフィドームに挿入して固定する際に、副反射器の挿入量を規制する手段が設けられていないので、副反射器の軸線方向の位置のばらつきが生じる。このばらつきにより、電波の反射特性が劣化する問題がある。従って、主反射器、導波管及び副反射器の軸線が一致すると共に、少なくとも主反射器に対する副反射器の位置を正確に規定できるようにすることが望まれる。
そこで、本発明の主目的は、反射体（副反射器）の軸線方向及びこの軸線に垂直な方向の位置を容易に規定できる反射体装置及び、それを用いたパラボラアンテナを提供することにある。
課題を解決するための手段
上記課題を解決するために、本発明にかかる反射体装置は、電波を反射する反射体と、反射体に形成された係合部と、反射体を支持する支持体と、支持体に形成されて、係合部が挿入される被係合部と、係合部を被係合部に挿入した際の挿入量を規定する挿入量規制部と、を備える。
また、パラボラアンテナは、電波を反射する主反射器と、主反射器と同軸に設けられた導波管と、反射体装置とを含み、反射体装置は、導波管と同軸に設けられた支持体と、支持体に接着して設けられた副反射器と、副反射器に形成された係合部と、支持体に形成されて係合部が挿入される被係合部と、係合部が被係合部に挿入された際の挿入量を規定する挿入量規制部と、を備える。
発明の効果
本発明によれば、反射体の軸線方向及びこの軸線に垂直な方向の位置を容易に規定できるようになる。
【図面の簡単な説明】
【０００４】
図１Ａは、本発明にかかる第１の実施形態の反射体装置における反射体の断面図である。
図１Ｂは、第１の実施形態の反射体装置における支持体の断面図である。
図１Ｃは、第１の実施形態の反射体装置の断面図である。
図２は、本発明にかかる第２の実施形態のパラボラアンテナの部分断面図である。
図３Ａは、第２の実施形態にかかるパラボラアンテナにおける副反射器の断面図である。
図３Ｂは、第２の実施形態にかかるパラボラアンテナにおける支持体の断面図である。
図３Ｃは、第２の実施形態にかかるパラボラアンテナにおける導波管の断面図である。
図３Ｄは、第２の実施形態にかかるパラボラアンテナにおける主反射器の部分断面図である。
図４Ａは、第２の実施形態にかかる副反射器と支持体とを対向させた際の、副反射器と支持体との断面図である。
図４Ｂは、第２の実施形態にかかる係合部が支持面に当たった際の、副反射器と支持体との断面図である。
図４Ｃは、第２の実施形態にかかる係合部が被係合部に挿入された際の、副反射器と支持体との断面図である。
図５Ａは、第２の実施形態の副反射器と支持体との軸線がずれている状態で、対向させた際の副反射器と支持体との断面図である。
図５Ｂは、第２の実施形態の副反射面が支持面に当たった際の、副反射器と支持体との断面図である。
図５Ｃは、第２の実施形態の副反射器を支持体に固着した際の、副反射器と支持体との断面図である。
図６は、本発明の第３の実施形態の副反射器の外周部に係合筒を設けた反射体装置を有するパラボラアンテナの断面図である。
図７は、本発明の第３の実施形態の支持体の外周部に係合筒を設けた反射体装置を有するパラボラアンテナの断面図である。
図８は、本発明の第４の実施形態にかかる反射体装置を備えるパラボラアンテナの断面図である。
図９は、第４の実施形態の支持体の部分拡大断面図である。
図１０Ａは、第４の実施形態にかかる副反射器と支持体とを対向させた際の、副反射器と支持体との断面図である。
図１０Ｂは、第４の実施形態にかかる副反射面が接着材に接した際の、副反射器と支持体との断面図である
図１０Ｃは、第４の実施形態にかかる副反射面が支持面に接した際の、副反射器と支持体との断面図である。
図１１Ａは、本発明の第５の実施形態の係合部を備える副反射器の断面図である。
図１１Ｂは、第５の実施形態の副反射器を支持体に接着する際の断面図である。
図１１Ｃは、図１１Ｂにおける領域Ａの部分拡大断面図である。
図１２Ａは、本発明の第６の実施形態の副反射器や支持体の外周部にテーパ部を設けた副反射器と支持体との断面図である。
図１２Ｂは、第６の実施形態の副反射器を支持体に接着する際の断面図である。
図１３Ａは、本発明の第７の実施形態の支持体の外周部にテーパ部を設けた副反射器及び支持体の断面図である。
図１３Ｂは、第７の実施形態の副反射器を支持体に接着する際の、断面図である。
図１４Ａは、本発明の第８の実施形態にかかる支持体の部分上面図である。
図１４Ｂは、図１４ＡにおけるＡ−Ａ線に沿った矢視断面図である。
図１５は、第８の実施形態の係合部および非係合部を持たない反射体装置の断面図である。
図１６は、第８の実施形態にかかる接着材落下溝部を持たない反射体装置の断面図である。
図１７は、第８の実施形態にかかる接着材落下溝部を持つ反射体装置の断面図である。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００５】
本発明の第１の実施形態を図を参照して説明する。図１Ａは、本発明にかかる第１の実施形態の反射体装置における反射体の断面図である。図１Ｂは、第１の実施形態の反射体装置における支持体の断面図である。図１Ｃは、第１の実施形態の反射体装置の断面図である。図１Ｃに示すように、反射体装置２は、反射体３，支持体４にそれぞれ形成される係合部３ａ、被係合部４ａ及び、挿入量規制部３ｂ，４ｂを含む。
反射体３は軸線Ｋ１を回転対称軸とする皿状の回転対称体であり、支持体４は軸線Ｋ２を回転対称軸とする皿状の回転対称体である。なお、以下の説明で、断面図と記載するときは、特に断らない限り、それぞれの部材の軸線に沿った断面図を言う。例えば、図１Ａにおける反射体３は、軸線Ｋ１に沿った断面図である。
反射体３の支持体４側の面は反射面（挿入量規制部）３ｂをなし、支持体４の反射体３側の面は、支持面（挿入量規制部）４ｂをなしている。
係合部３ａは反射面３ｂから凸状に形成された円柱体であり、被係合部４ａは支持面４ｂから凹状に形成された円柱穴である。そして、係合部３ａを被係合部４ａに挿入することにより、反射体３の軸線Ｋ１は支持体４の軸線Ｋ２と一致する。また、係合部３ａを被係合部４ａに挿入した際に、反射面３ｂが支持面４ｂに当ることで、係合部３ａの被係合部４ａへの挿入量が規定される。
従って、被係合部４ａと係合部３ａとの嵌合により、反射体３の軸線Ｋ１と支持体４の軸線Ｋ２とが一致する。また、反射面３ｂが支持面４ｂに当ることで支持体４に対する反射体３の軸線Ｋ１（又は軸線Ｋ２）に沿った方向の位置が規定される。よって、容易に支持体４に対する反射体３の位置を所定位置に設定できるようになる。
次に、本発明の第２の実施形態を説明する。図２は、本発明にかかる第２の実施形態のパラボラアンテナ６Ａの部分断面図である。パラボラアンテナ６Ａは、主反射器１０、導波管１２、支持体１４、副反射器（反射体）１６を備える。ここで、支持体１４と反射体である副反射器１６とは、反射体装置２０Ａを構成する。主反射器１０、導波管１２、支持体１４及び副反射器１６は、軸線Ｒを回転軸とする皿状の回転対称体である。
なお、後述するように、副反射器１６には副反射面１６ａ、係合部１６ｂが設けられると共に、支持体１４には支持面１４ａ、被係合部１４ｂが設けられている。また、副反射面１６ａ及び支持面１４ａが挿入量規制部としても機能する。この挿入量規制部の機能については、後述する。そして、反射体装置２０Ａは、これら係合部１６ｂ、被係合部１４ｂ、副反射面（挿入量規制部）１６ａ及び、支持面（挿入量規制部）１４ａを含む。
図３Ａは副反射器１６の断面図であり、図３Ｂは支持体１４の断面図であり、図３Ｃは導波管１２の断面図であり、図３Ｄは主反射器１０の部分断面図である。以下においては、図３Ａ〜図３Ｄに示すように、主反射器１０の軸線をＲ１、導波管１２の軸線をＲ２、支持体１４の軸線をＲ３、副反射器１６の軸線をＲ４と記載し、これらを総称して軸線Ｒと記載する。従って、図２に示すパラボラアンテナ６Ａにおいては、軸線Ｒ１〜Ｒ４は重なった状態が図示され、これらが軸線Ｒとして表示されている。
主反射器１０は、図３Ｄに示すように放物面等の主反射面１１を備えて、電波を反射する。主反射面１１は、副反射器１６の副反射面１６ａに電波を反射するように作用する。さらに、副反射面１６ａで反射された電波は導波管１２の内部に導入される。
導波管１２は、図２及び図３Ｃに示すように、主反射面１１に立設された中空の金属管で、マイクロ波等を導く。そして、導波管１２の主反射面１１と反対側の端部分に、支持体１４が固着されている。
副反射器１６は、アルミニューム等の金属材料を切削や型鍛造等の加工方法を用いて形成されている。副反射器１６の支持体１４側の面が副反射面（挿入量規制部）１６ａとして機能する。また、図３Ａに示すように、軸線Ｒ４と同軸に凸状の円柱体をなす係合部１６ｂが設けられている。
なお、以下においては、副反射面１６ａは円錐台の側面のように、周方向（軸線Ｒ４の周りの方向）には曲率を持つが、径方向（軸線Ｒ４に垂直な方向）には曲率を持たない面の場合について説明する。しかし、副反射面１６ａは双曲面等のように径方向に曲率を持つ面であっても良い。
支持体１４は、図３Ｂに示すように、支持面（挿入量規制部）１４ａ、被係合部１４ｂ、固定部１４ｃを備える。支持面１４ａは、接着材により副反射器１６が接着される面で、この副反射面１６ａと相似形に形成されている。被係合部１４ｂは、軸線Ｒ３と同軸に支持面１４ａに形成されて、副反射器１６の係合部１６ｂが嵌合する円柱穴（受け穴）である。固定部１４ｃは、支持面１４ａと反対側の面で、支持体１４と導波管１２との接続部をなしている。
この支持体１４は、低誘電率のポリカーボネート等の樹脂材料を切削や射出成形等の方法により形成される。支持体１４を低誘電率の材料を用いて形成する理由は、反射損失を小さくするためである。この意味で、反射損失が小さくなる材料で支持体１４を形成することが望ましく、ポリカーボネートに限定される必要はない。
図２、図３Ａ及び図３Ｂに示すように、副反射器１６の係合部１６ｂの高さＬ１は、支持体１４の被係合部１４ｃの深さＬ２より、所定量Ｌ３だけ小さい（Ｌ２＝Ｌ１＋Ｌ３）。この寸法Ｌ３は、係合部１６ｂを被係合部１４ｂに挿入した際に、副反射面１６ａが支持面１４ａに接する前に、係合部１６ｂの先端面１６ｃが被係合部１４ｂの底面１４ｄに当らないようにするための逃げ寸法である。
また、図３Ａ及び図３Ｂに示すように、係合部１６ｂの直径Ｄ１は、被係合部１４ｂの内径をＤ２としたとき、Ｄ２＝Ｄ１＋Ｄ３である。ここで、寸法Ｄ３は加工公差である。従って、係合部１６ｂの直径Ｄ１は、加工誤差の範囲で被係合部１４ｂの内径Ｄ２に等しい。よって、係合部１６ｂを被係合部１４ｂに挿入したときは、副反射器１６の軸線Ｒ４は支持体１４の軸線Ｒ３と加工誤差の範囲で一致する。
また、係合部１６ｂの高さＬ１及び被係合部１４ｂの内径Ｄ２は、反射する電波の波長をλとしたとき、支持体１４を通過する電波のリターンロス特性の低下を抑制するために、Ｌ１＜λ／４、Ｄ２＜λ／４に設定されることが望ましい。例えば、周波数２３ＧＨｚの電波を反射する２フィートアンテナにおいて、係合部１６ｂの高さＬ１を１ｍｍとすると、λ／４は約３．０ｍｍとなるので、Ｄ２＜３．０ｍｍにする。
このような係合部１６ｂ、被係合部１４ｂ、副反射面（挿入量規制部）１６ａ及び、支持面１４ａが、反射体装置２０Ａを形成して、この反射体装置２０Ａによって、支持体１４に対する副反射器１６の位置が規定される。なお、副反射器１６を支持体１４に固定する際には接着材が用いられる。
図４Ａ〜図４Ｃは、上記の副反射器１６と支持体１４とを接着する手順を示す副反射器１６と支持体１４との断面図である。図４Ａは、副反射器１６と支持体１４とを対向させた際の断面図であり、図４Ｂは係合部１６ｂが支持面１４ａに当たった際の断面図であり、図４Ｃは係合部１６ｂを被係合部１４ｂに挿入した際の断面図である。
一方、図５Ａ〜図５Ｃは、上述した反射体装置２０Ａを備えない副反射器１１６と支持体１１４とを接着する手順を示す副反射器１１６と支持体１１４との断面図である。図５Ａは副反射器１１６と支持体１１１４とを対向させた際の断面図であり、図５Ｂは副反射面１１６ａが支持面１１４ａに当たった際の断面図であり、図５Ｃは副反射器１１６を支持体１１４に固着した際の断面図である。
まず、図５Ａ〜図５Ｃに示す反射体装置２０Ａを備えない副反射器１１６と支持体１１４との接着手順を説明する。支持体１１４の支持面１１４ａに接着材１１０を塗布する。そして、図５Ａに示すように、副反射器１１６の軸線Ｒ１０４を支持体１１４の軸線Ｒ１０３と一致させた状態で、副反射器１１６を支持体１１４に対向させる。
次に、軸線Ｒ１０４と軸線Ｒ１０３とが一致した状態を保ちながら、副反射器１１６を支持体１１４側に移動させる。副反射器１１６を移動させる際に、この副反射器１１６を例えばロボットで掴み移動させたとしても、ロボットの把持精度、移動後の位置決め精度、支持体１１４の設置位置の誤差等により、副反射器１１６の軸線Ｒ１０４と支持体１４の軸線Ｒ１０３とは、図５Ｂに示すように位置ずれする場合がある。無論、手作業で副反射器１１６を把持して移動させた場合には、軸線Ｒ１０４と軸線Ｒ１０３との位置ずれは更に大きくなることがある。
軸線Ｒ１０４と軸線Ｒ１０３との位置ずれが大きい場合には、この位置ずれを位置検出センサ又は目視等により検出して位置調整できる。しかし、小さい位置ずれ量の場合には容易に検出することができないため、副反射器１１６の位置調整が困難となる。このため、図５Ｃに示すように、軸線Ｒ１０４と軸線Ｒ１０３とが位置ずれした状態で副反射器１１６が支持体１１４に接着される場合が生じる。
軸線Ｒ１０４と軸線Ｒ１０３とが位置ずれして副反射器１１６が支持体１１４に接着されることは、支持体１１４に対して副反射器１１６が径方向に位置ずれすると共に、軸線Ｒ１０４（Ｒ１０３）の方向に位置ずれすることを意味している。この結果、例え導波管１２、主反射器１０及び支持体１１４の各軸線が一致していても、副反射器１１６で反射される電波の反射特性は非対称性となる。
これに対し、図４Ａ〜図４Ｃに示すように、第２の実施形態にかかる係合部１６ｂや被係合部１４ｂ等を備えた反射体装置２０Ａは、このような支持体１４に対する副反射器１６の位置ずれを抑制することができる。
図４Ａにおいて、副反射器１６の軸線Ｒ４と支持体１４の軸線Ｒ３とが、図５Ｂのように位置ずれして対向しているとする。このような状態から副反射器１６を接着材１３が塗布された支持体１４側に移動させると、図４Ｂに示すように、係合部１６ｂの端縁１６ｅが支持面１４ａに当たる。
係合部１６ｂの高さＬ１（図４Ａ参照）は、ミリメータのオーダである。従って、係合部１６ｂの端縁１６ｅが支持面１４ａに当たると、ミリオーダの寸法（この寸法をＬ４と記載する）の隙間が副反射面１６ａと支持面１４ａとの間に発生する（図４Ｂ参照）。このように大きな寸法であれば、安価なセンサでも容易に確実でき、かつ、確実に検出することができ、また目視によっても確認することができる。従って、この検出結果に基づき副反射器１６の位置を径方向にずらす位置調整が可能になる。
副反射器１６の位置を径方向に調整することにより、係合部１６ｂは被係合部１４ｂに嵌る。換言すれば、係合部１６ｂが被係合部１４ｂに嵌るように副反射器１６を径方向に位置調整する。そして、係合部１６ｂが被係合部１４ｂに嵌った状態で、副反射器１６を更に支持体１４側に移動させると、副反射面１６ａが支持面１４ａに当たる。
従って、係合部１６ｂが被係合部１４ｂに嵌ることにより径方向の副反射器１６の位置が規定され、また副反射面１６ａが支持面１４ａに当たることで、軸線Ｒ３（Ｒ４）の方向の副反射器１６の位置が規定される。よって、図４Ｃに示すように、副反射器１６は所定位置で支持体１４に接着できる。
なお、先に述べたように、係合部１６ｂの先端面１６ｃが被係合部１４ｂの底面１４ｄに当たると、副反射面１６ａが支持面１４ａと接しなくなる場合が生じる。そこで、被係合部１４ｂの深さＬ２（図４Ａ参照）を係合部１６ｂの高さＬ１より寸法Ｌ３だけ深くすることで、係合部１６ｂの先端面１６ｃと被係合部１４ｂの底面１４ｄとが接触しないようになっている。これにより、副反射面１６ａは支持面１４ａと確実に接触するため、副反射器１６の軸線方向の位置の位置ずれが防止できる。
次に、本発明の第３の実施形態を説明する。なお、第２の実施形態と同一の構成については同一符号を用いて説明を適宜省略する。第２の実施形態では、副反射器の軸線を支持体の軸線と一致させるために、副反射器に円柱体の係合部を設け、支持体に円柱穴の被係合部を設けた。しかし、本発明はこのような構成に限定されず、例えば図６及び図７に示すような係合筒（係合部）２２ａ，２２ｂ及び被係合部２３ａ，２３ｂを備えた反射体装置２０Ｂ，２０Ｃであってもよい。
図６は副反射器１６Ｂの外周部に係合筒２２ａが設けられた反射体装置２０Ｂを有するパラボラアンテナ６Ｂの断面図である。副反射器１６Ｂは皿状であるため、その外周の側面に設けた係合筒２２ａは円筒状の形状を持つ。支持体１４Ｂの外周部は被係合部２３ａとして機能し、副反射器１６Ｂの副反射面１６ａ及び支持体１４Ｂの支持面１４ａは挿入量規制部として機能する。
そして、副反射器１６Ｂを支持体１４Ｂに接着する際に、係合筒２２ａを被係合部２３ａに嵌ることにより、副反射器１６Ｂの軸線Ｒ４と支持体１４Ｂの軸線Ｒ３とを一致させることができる。
また、図７は、支持体１４Ｃの外周部に係合筒２２ｂが設けられた反射体装置２０Ｃを有するパラボラアンテナ６Ｃの断面図である。支持体１４Ｃは皿状であるため、その外周の側面に設けた係合筒２２は円筒状の形状を持っている。この場合、副反射器１６Ｃの外周部が被係合部２３ｂとして機能し、副反射器１６Ｃの副反射面１６ａ及び支持体１４Ｃの支持面１４ａが挿入量規制部として機能する。
これにより、副反射器１６Ｃを支持体１４Ｃに接着する際に、副反射器１６Ｃの被係合部２３ｂを係合筒２２ｂに嵌めることで、副反射器１６Ｃの軸線Ｒ４と支持体１４Ｃの軸線Ｒ３とを一致させることができる。また、副反射面１６ａが支持面１４ａに当たることで、支持体１４Ｃの軸線Ｒ３方向の副反射器１６Ｃの位置が規定される。
次に、本発明の第４の実施形態を説明する。なお、第２の実施形態と同一の構成については同一符号を用いて説明を適宜省略する。第２の実施形態における支持体の支持面は、円錐台の側面のように径方向に曲率を持たない面であった。そして、この支持面の全面に接着材を塗布して、副反射器を接着した。
副反射面と支持面とが、完全に相似形をなす曲面に形成されたような場合には、接着時における接着材の厚みは非常に薄い層となる。しかし、実際には副反射面や支持面を形成する際の加工誤差が存在するために、完全な相似形の面を形成することができない。特に、副反射面が双曲面等の場合には、支持面を全面にわたり副反射面と完全に相似形にすることは困難である。このような副反射面や支持面が不完全な相似形の面を持つと、これらの面が点接触するようになるため、接着力に不均一性が発生する。接着力の不均一性は、副反射器の剥離等の原因となることがある。
そこで、第４の実施形態では、支持面と副反射器とを全面で接着せずに、特定接着領域（後述する接着材貯部の領域）を設けて、この領域で副反射器と支持体とを接着するようにした。
図８は、第４の実施形態にかかる反射体装置２０Ｄを備えるパラボラアンテナ６Ｄの断面図である。図２に示すパラボラアンテナ６Ａとは、支持体の支持面の構成が異なっている。
第４の実施形態にかかるパラボラアンテナ６Ｄにおける支持体１５は、図８に示すように、支持面（挿入量規制部）１５ａ、被係合部１５ｂ、固定部１５ｃを備える。また、副反射器１６と対向する支持体１５の面の外周部分には接着材貯部１７及びテラス部１９が形成され、軸線Ｒ３側には逃部１８が形成されている。即ち、支持体１５には、軸線Ｒ３側から外周に向って、被係合部１５ｂ、逃部１８、支持面１５ａ、接着材貯部１７及び、テラス部１９が順次形成されている。これら被係合部１５ｂ、逃部１８、支持面１５ａ、接着材貯部１７及び、テラス部１９は、軸線Ｒ３を中心軸とする環状溝体である。副反射器１６と支持体１５は、反射体装置２０Ｄを構成する。
図９は、支持体１５の部分拡大断面図である。なお、以下の説明において、支持面１５ａに接する面を延長支持面１５ｃと記載する。この延長支持面１５ｃは、図２における支持面１４ａに相当する。図９は支持体１５の部分断面図を示しているので、延長支持面１５ｃは線として図示されている。
接着材貯部１７は、軸線Ｒ３側の側面１７ａ及び、接着材が塗布される底面１７ｂを備えている。側面１７ａは軸線Ｒ３と略平行になるように設けられている。また、接着材貯部１７の深さは、支持体１５の外周側に近づくに従って浅くなるように形成されている。即ち、底面１７ｂは、支持体１５の外周側に近づくに従って延長支持面１５ｃに近づく。具体的には、図９において、側面１７ａにおける接着材貯部１７の深さをＤ１０とし、テラス部１９との境界における接着材貯部１７の深さをＤ１１としたとき、Ｄ１０＞Ｄ１１となっている。テラス部１９は、軸線Ｒ３と略垂直な面である。逃部１８は、延長支持面１５ｃから窪むように形成されている。なお、逃部１８の断面形状は任意である。
接着材貯部１７及び逃部１８の作用を、図１０Ａ〜図１０Ｃを参照して説明する。図１０Ａ〜図１０Ｃは、副反射器１６を支持体１５に接着する工程を示す支持体１５及び副反射器１６の断面図である。図１０Ａは副反射器１６を支持体１５に対向させた際の断面図であり、図１０Ｂは副反射面１６ａが接着材２１に接した際の断面図であり、図１０Ｃは副反射器１６の副反射面１６ａが支持面１５ａに接した際の断面図である。
図１０Ａに示すように、副反射器１６を接着する際には、接着材２１を接着材貯部１７に塗布する。このとき、接着材２１の頂点が延長支持面１５ｃより副反射器１６側に突出し、かつ、接着材２１が側面１７ａに接しないように塗布する。
そして、この状態から副反射器１６を支持体１５側に移動させると、図１０Ｂに示すように、副反射面１６ａは接着材２１に接する。
通常、接着面に必要量の接着材２１だけを塗布することは困難であるため、必要量より多めの接着材２１が塗布される。従って、接着材２１は、副反射面１６ａによって押し広げられる。押し広げられた接着材２１は、支持体１５の軸線Ｒ３側と外周側とに流動する。接着材貯部１７の深さは側面１７ａ側から外周側に向って浅くなっているため、接着材２１は軸線Ｒ３側に優先的に流動する。しかし、接着材貯部１７の軸線Ｒ３側には側面１７ａが設けられているので、接着材２１はこの側面１７ａで堰き止められる。
一方、接着材貯部１７の外周側には接着材２１を堰き止める物がないため、テラス部１９まで流動する。接着材２１が流動する際に、空洞は接着材１７により埋められる。従って、流動する接着材２１の量は、徐々に少なくなる。しかし、接着材貯部１７の深さは側面１７ａ側から外周側に向って浅くなっているため、外周側に流動する接着材２１は、絞られるようになる。これにより、図１０Ｃに示すように、接着材貯部１７の底面１７ｂと副反射面１６ａとの間は接着材２１で満たされ、余った接着材２１のみがテラス部１９に流動する。
接着材貯部１７の底面１７ｂと副反射面１６ａとの間が接着材２１で満たされるようになるため、副反射面１６ａや支持面１５ａに加工誤差が存在しても、均一な接着力が支持体１５と副反射器１６との間に働くようになる。
接着材２１を塗布する際には、接着材２１が延長支持面１５ｃより副反射器１６側に突出し、かつ、接着材２１が側面１７ａに接しないように塗布されている。従って、副反射面１６ａで押し広げられた接着材２１は接着材貯部１７の側面１７ａで堰き止められるが、微少量の接着材２１は接着材貯部１７の側面１７ａを乗越えて支持面１５ａ側に流動して、支持面１５ａで副反射器１６が接着される場合がある。
支持面１５ａに流動する接着材２１は、上述したように微少であるため、この支持面１５ａにおける接着力に不均一性が発生し、副反射器１６の剥離等の原因となることが危惧される。
しかし、支持面１５ａは接着材貯部１７により囲まれ、かつ、接着材貯部１７の接着材２１は均一な接着力を発揮するので、支持面１５ａ側に流動した接着材２１が副反射器１６の剥離等の要因となることはない。
次に、逃部１８の作用を説明する。逃部１８は、副反射面１６ａと支持体１５との接触面を少なくするために設けている。支持体１５に対する副反射器１６の軸線Ｒ４の方向の位置規定は、挿入量規制部をなす副反射面１６ａと支持面１５ａとの当接により行われる。従って、支持面１５ａは大面積である必要が無く、確実に副反射面１６ａと当たる面又は点であればよい。即ち、支持体１５の副反射器１６側の面は、副反射面１６ａと完全に相似形にする必要はない。そこで、第４の実施形態では、逃部１８を設けて、支持体１５の副反射器１６側の面を副反射面１６ａと完全に相似形に加工する場合に要するコストを削減している。
なお、先に、副反射面は双曲面等であっても良いこと述べた。支持面を副反射面と相似の形状を持つように形成することは、大きなコストアップの要因となる。しかし、上述したように、接着剤貯部を設け、かつ、逃部を設けることで、このようなコストアップが防止できる。即ち、例え副反射面が双曲面等であっても、延長支持面より副反射器側に突出して接着材を塗布するならば、確実に副反射器が接着でき、かつ、支持面が副反射面の一部としか接触しないので、支持面を双曲面に加工する必要がない。従って、接着剤貯部を設け、かつ、逃部を設けることで、製造コストが抑制できる。
次に、本発明の第５の実施形態を説明する。なお、第２の実施形態と同一の構成については同一符号を用いて説明を適宜省略する。
第２の実施形態では支持体に対する副反射器の位置合せを行うために、係合部が被係合部に嵌るように副反射器の位置を調整した。これに対して、第５の実施形態では、自動的に位置合わせができるように自動調芯機能をなすテーパ部を設けている。
図１１Ａ〜図１１Ｃは、テーパ部を設けた第５の実施形態における反射体装置２０Ｅと、副反射器１６Ｅとの断面図である。図１１Ａは、このような係合部１６Ｅｂを備えた副反射器１６Ｅの断面図であり、図１１Ｂは反射体装置２０Ｅを製造するため副反射器１６Ｅを支持体１４Ｅに接着する際の断面図であり、図１１Ｃは図１１Ｂにおける領域Ａの部分拡大断面図である。
図１１Ａ〜図１１Ｃに示すように、副反射器１６Ｅに設けられた係合部１６ｂの先端面１６ｃ側のコーナにテーパ部１６ｆが形成されている。なお、テーパ部には面取りも含んでいる。
このように係合部１６ｂの先端面１６ｃ側のコーナにテーパ部１６ｆを形成することで、副反射器１６Ｅを支持体１４Ｅ側に移動させた際に、副反射器１６Ｅの軸線Ｒ４と支持体１４Ｅの軸線Ｒ３との位置ずれが自動調整される。
即ち、軸線Ｒ４と軸線Ｒ３と位置ずれしている状態で、副反射器１６Ｅを支持体１４Ｅ側に移動させると、図１１Ｂ及び図１１Ｃに示すように、テーパ部１６ｆが被係合部１５ｂの端縁１４ｆに当たる。
しかし、このテーパ部１６ｆが被係合部１５ｂの端縁１４ｆに当たった状態から、さらに副反射器１６Ｅを支持体１４Ｅ側に移動させると、テーパ部１６ｆは端縁１４ｆに案内されて移動して、係合部１６ｂが被係合部１５ｂに嵌合するようになる。よって、副反射器１６Ｅの軸線Ｒ４と支持体１４Ｅの軸線Ｒ３とを自動的に一致させることができる。
次に、本発明の第６の実施形態を説明する。なお、第３の実施形態と同一の構成については同一符号を用いて説明を適宜省略する。第６の実施形態は、図６に示した反射体装置に、支持体に対する副反射器の位置を自動的に位置合わせできるようにするテーパ部を設けた。
図１２Ａ，図１２Ｂを参照して第６の実施形態にかかる反射体装置２０Ｆを説明する。図１２Ａは、副反射器１６Ｆを支持体１４Ｆに対向させた際の副反射器１６Ｆ及び支持体１４Ｆの断面図であり、図１２Ｂは副反射器１６Ｆを支持体１４Ｆに接着する際の断面図である。
図１２Ａに示すように、副反射器１６Ｆの係合筒２２ａの軸線Ｒ４側のコーナにテーパ部１６ｇが形成され、支持体１４Ｆの支持面１４ａの外周部分のコーナにテーパ部１４ｇが形成されている。
従って、副反射器１６Ｆを支持体１４Ｆ側に移動させたとき、図１２Ｂに示すように、副反射器１６Ｆの軸線Ｒ４と支持体１４Ｆの軸線Ｒ３とが位置ずれして副反射器１６Ｆのテーパ部１６ｇが支持体１４Ｆのテーパ部１４ｇに当っても、テーパ部１６ｇは相手のテーパ部１４ｇに沿って移動するため、副反射器１６Ｆの軸線Ｒ４と支持体１４Ｆの軸線Ｒ３との位置ずれが自動調整できるようになる。
次に、本発明の第７の実施形態を説明する。なお、第３の実施形態と同一の構成については同一符号を用いて説明を適宜省略する。第７の実施形態は、図７に示した反射体装置に、支持体に対する副反射器の位置を自動的に位置合わせできるようにするテーパ部を設けた。
図１３Ａ，図１３Ｂを参照して第７の実施形態にかかる反射体装置２０Ｇを説明する。図１３Ａは、副反射器１６Ｇを支持体１４に対向させた際の副反射器１６Ｇ及び支持体１４Ｇの断面図であり、図１３Ｂは副反射器１６Ｇを支持体１４Ｇに接着する際の断面図である。
図１３Ａに示すように、支持体１４Ｇの係合筒２２Ｇｂの軸線Ｒ３側のコーナには、テーパ部１４ｈが設けられている。従って、図１３Ｂに示すように、副反射器１６Ｇを支持体１４Ｇ側に移動させた際に、被係合部２３ｂがテーパ部１４ｈに当っても、被係合部２３ｂはテーパ部１４ｈに案内されて移動するため副反射器１６Ｇの軸線Ｒ４と支持体１４Ｇの軸線Ｒ３との位置ずれが自動調整されるようになる。
次に、本発明の第８の実施形態を説明する。なお、第２の実施形態と同一の構成に関しては同一符号を用いて説明を適宜省略する。上述した第２の実施形態においては、被係合部は円柱穴であった。第８の実施形態における被係合部は、この円柱穴に接着材落下溝が追設されている。
図１４Ａは、第８の実施形態にかかる支持体１４Ｈの部分上面図であり、図１４Ｂは図１４ＡにおけるＡ−Ａ線に沿った矢視断面図である。図１４Ａ及び図１４Ｂに示すように、支持体１４Ｈは軸線Ｒ３と同軸に形成された被係合部１４ｂと、この被係合部１４ｂの長手方向に沿って形成された複数の接着材落下溝部１４ｋとを備える。この接着材落下溝部１４ｋは被係合部１４ｂと連通している。
このような接着材落下溝部１４ｋを持つ支持体１４Ｈに副反射器１６Ｈを接着する際の接着材２１の挙動を図１５〜図１７を参照して説明する。図１５は、図５Ａ〜図５Ｃに示した副反射器１１６及び支持体１１４の断面図である。図１６は、図４等に示した反射体装置２０Ａにおける副反射器１６及び支持体１４の断面図である。また、図１７は、本第６の実施形態にかかる副反射器１６Ｈ及び支持体１４Ｈの断面図である。
副反射器と支持体との接着を確実に行うために、接着に必要な量より多い量の接着材が支持面に塗布される。従って、副反射器を支持体に密着させた際には、余分な接着材は、支持体の外周から外部に流出する。
図１５に示した被係合部を持たない反射体装置の場合、副反射面１１６ａが最初に接触した接着材１１０は、支持体１１４の外周部から外部に流出すると共に、未接触の領域に向かって流動する。図１５において、外周部に向かう接着材１１０の流路を流路Ｙ１で示し、未接触の領域に向かって流動する接着材１１０の流路を流路Ｙ２で示している。
一般に、接着材１１０は粘性流体であることが多く、パスの長い流路Ｙ２に沿って流動する接着材２１には大きな流動抵抗が働く。この流動抵抗は、副反射器１１６を支持体１１４側に押し付ける際の抗力となる。このため、副反射器１１６に大きな反力が作用して、副反射面１１６ａが支持面１１４ａに接したか否かの判断が難しくなる。
一方、図１６に示すように、反射体装置２０Ａが係合部１６ｂと被係合部１４ｂとを持つ場合には、係合部１６ｂが被係合部１４ｂに嵌ることにより、副反射器１６の軸線Ｒ４は支持体１４の軸線Ｒ３と一致させることができるので、接着材１３は支持体１４の軸線Ｒ３側から外周に略等方的に流動する。図１６において、この接着材１３の流れを流路Ｙ３で示している。このように、接着材１３の流路長を短くできるので、副反射器１６に作用する接着材１３からの反力を小さくすることができる。
しかし、このような場合であっても、接着材１３は略等方的に支持体１４の外周部から順次流動しなければならないため、軸線Ｒ３側の余剰の接着材１３は支持体１４の外周部から外に容易に流出できない。
そこで、第８の実施形態にかかる反射体装置２０Ｈでは、非係合部１４ｂの内壁（側面）に軸方向に延びる複数の接着材落下溝部１４ｋを設けて、接着材１３を軸線Ｒ３側に流動する接着材１３と外周側に流動する接着材１３との２方向に分流させている。
軸線Ｒ３側に流動した接着材１３は、図１７に示すように、接着材落下溝部１４ｋから被係合部１４ｂに流れ落ちる。また、外周側に流動した接着材１３は、外に流れ出る。図１７において、接着材落下溝部１４ｋに流動する接着材１３は流路Ｙ４で図示され、外周側に流動する接着材１３は流路Ｙ５で図示されている。
このように、接着材１３が２方向に分流することにより、余剰の接着材１３は大きな流動抵抗を伴うことなく速やかに接着面から流出するので、副反射面１６ａが支持面１４ａに接したことが容易に認識できるようになる。従って、副反射器１６Ｈを支持体１４Ｈに接着する接着作業が簡単になる。
本発明は、以上説明した第１〜第８の実施形態に限定されるものではなく、請求項の記載の範囲内で各種の変形、変更が可能である。例えば、反射体装置はパラボラアンテナの主反射器からの反射電波を導波管内に反射させるものに限定せず、一次放射器として機能してもよい。即ち、反射体装置は導波管から放射された電波を主反射器に反射するようにしてもよい。また、係合部は円柱体に限らず、角柱体であってもよい。係合部は突出体であり、非係合部はそれを受ける受け穴であればよい。
本願発明の構成や詳細には、本願発明のスコープ内で当業者が理解し得る様々な変更をすることができる。
この出願は、２００９年５月２２日に出願された日本出願特願２００９−１２３６９３を基礎とする優先権を主張し、その開示の全てをここに取り込む。
【符号の説明】
【０００６】
３  反射体
３ｂ  反射面（挿入量規制部）
３ａ，  １６ｂ  係合部（挿入量規制部）
４，１４，１４Ｂ〜１４Ｈ，１５  支持体
４ａ，１４ｂ，１４ｃ，１５ｂ，２３ａ，２３ｂ  被係合部
４ｂ，１４ａ，１５ａ  支持面（挿入量規制部）
６Ａ〜６Ｄ  パラボラアンテナ
１０  主反射器
１２  導波管
１４ｈ，１４ｇ，１６ｆ，１６ｇ  テーパ部
１４ｋ  接着材落下溝部
１６、１６Ｂ〜１６Ｈ  副反射器
１６ａ  副反射面（挿入量規制部）
１７  接着材貯部
１８  逃部
２０Ａ〜２０Ｈ  反射体装置
【図１Ａ】
2010134647.tif 000003
【図１Ｂ】
2010134647.tif 000004
【図１Ｃ】
2010134647.tif 000005
【図２】
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【図３Ａ】
2010134647.tif 000007
【図３Ｂ】
2010134647.tif 000008
【図３Ｃ】
2010134647.tif 000009
【図３Ｄ】
2010134647.tif 000010
【図４Ａ】
2010134647.tif 000011
【図４Ｂ】
2010134647.tif 000012
【図４Ｃ】
2010134647.tif 000013
【図５Ａ】
2010134647.tif 000014
【図５Ｂ】
2010134647.tif 000015
【図５Ｃ】
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【図６】
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【図７】
2010134647.tif 000018
【図８】
2010134647.tif 000019
【図９】
2010134647.tif 000020
【図１０Ａ】
2010134647.tif 000021
【図１０Ｂ】
2010134647.tif 000022
【図１０Ｃ】
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【図１１Ａ】
2010134647.tif 000024
【図１１Ｂ】
2010134647.tif 000025
【図１１Ｃ】
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【図１２Ａ】
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【図１２Ｂ】
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【図１３Ａ】
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【図１３Ｂ】
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【図１４Ａ】
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【図１４Ｂ】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【国際調査報告】
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