【事件の表示】
　特許第３１０４０９２号「光ディスクの製造方法」の請求項１に係る特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結　論】
　訂正を認める。
　特許第３１０４０９２号の請求項１に係る特許を維持する。
【理　由】
Ｉ．手続の経緯
　特許第３１０４０９２号の発明についての出願は、平成３年１１月３０日に特許出願され、平成１２年９月１日にその発明について特許権の設定登録がなされ、その後、その特許について、特許異議申立人・オリジン電気株式会社および特許異議申立人・ティーディーケイ株式会社により特許異議の申立がなされ、取消しの理由が通知され、その指定期間内である平成１３年９月２５日に訂正請求がなされたものである。
　
ＩＩ．訂正の適否
１．訂正の内容
　　特許権者が求めている訂正の内容は、訂正請求及びそれに添付された訂正明細書の記載からみて、次の（ａ）〜（ｃ）のとおりである。　なお、下線の箇所が訂正された個所である。
　（ａ）特許請求の範囲の請求項１を次のとおり訂正する。
    　「【請求項１】　
磁気ヘッドが摺動する摺動方式の光ディスクの製造方法において、
塗布に連続して
上記紫外線硬化樹脂を硬化させて紫外線硬化樹脂層を形成することにより、上記透明基板の外周側に形成される
紫外線硬化樹脂層の盛り上がりの上記透明基板の外周縁からの幅を制御する
　（ｂ）段落【００１３】の「上述の目的を達成するために、本発明の光ディスクの製造方法は、透明基板上に形成された光学的に情報の記録及び／又は再生が可能な記録部上に、紫外線硬化樹脂層を形成するに際し、記録部上に紫外線硬化樹脂をスピンコート法により塗布した後、透明基板を回転させながら塗布された紫外線硬化樹脂に紫外線を照射して紫外線硬化樹脂層を形成することを特徴とするものである。」の記載を、
「上述の目的を達成するために、
本発明は、磁気ヘッドが摺動する摺動方式の光ディスクの製造方法において、
塗布に連続して
上記紫外線硬化樹脂を硬化させて紫外線硬化樹脂層を形成することにより、上記透明基板の外周側に形成される
紫外線硬化樹脂層の盛り上がりの上記透明基板の外周縁からの幅を制御する
　（ｃ）段落【００３２】の「なお、本実施例では、本発明を光磁気ディスクの製造に適用した例について説明したが、本発明はこれに限らず、各種追記型光ディスク，コンパクトディスク，レーザディスク等各種光ディスクについても適用可能である。」の記載を、「なお、本実施例では、本発明を光磁気ディスクの製造に適用した例について説明した。」と訂正する。
　
２．訂正の目的の適否、新規事項の有無、及び特許請求の範囲の拡張・変更の存否
　上記（ａ）の「
磁気ヘッドが摺動する摺動方式の光ディスクの製造方法において、
塗布に連続して
上記紫外線硬化樹脂を硬化させて紫外線硬化樹脂層を形成することにより、上記透明基板の外周側に形成される
紫外線硬化樹脂層の盛り上がりの上記透明基板の外周縁からの幅を制御する
　上記（ｂ）と（ｃ）の訂正は、上記（ａ）の訂正により付随的に生じる記載の不備を解消するものであり、明瞭でない記載の釈明に該当する。
　そして、こられの訂正はいずれも、願書に添付した明細書に記載された事項の範囲内においてなされたものであって、新規事項の追加に該当せず、また、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものでもない。
　以上のとおりであるから、上記訂正は、特許法等の一部を改正する法律（平成６年法律第１１６号）附則第６条第１項の規定によりなお従前の例によるとされる、特許法第１２０条の４第３項において準用する平成６年法律第１１６号による改正前の特許法第１２６条第１項ただし書、第２項及び第３項の規定に適合するので、当該訂正を認める。
　
　
ＩＩＩ．特許異議申立について
１．特許異議の申立の概要
　　特許異議申立人・オリジン電気株式会社は、本件発明についての特許に対して、証拠として甲第１号証（特開平１−２８６１４６号公報（以下、「刊行物２」という。））、甲第２号証（特開昭６２−２１９３４６号公報（以下、「刊行物１」という。））を提出し、本件発明の特許は特許法第２９条第２項の規定に違反してなされたものであり、特許異議申立人・ティーディーケイ株式会社は、本件発明についての特許に対して、証拠として甲第１号証（特開昭６１−３３４２号公報（以下、「刊行物３」という。））、甲第２号証（特開平２−１４９９５３号公報（以下、「刊行物４」という。））、甲第３号証（特開昭６１−１１０３５０号公報（以下、「刊行物５」という。））を提出し、本件発明の特許は特許法第２９条第２項の規定に違反してなされたものであり、本件発明についての特許を取り消すべき旨主張している。
　
２．本件発明
　　特許第３１０４０９２号の請求項１に係る発明（以下順に、「本件発明」という。）は、訂正が認められることから、平成１３年９月２５日付け訂正明細書の請求項１に記載された事項により特定されるとおりのものである（上記、ＩＩ．１．訂正の内容の（ａ）参照）。
　
３．各刊行物の記載
　当審が通知した取消しの理由に引用した刊行物１（特開昭６２−２１９３４６号公報）には、
　（1-i）「光情報を多数の微細なピットとして刻設された合成樹脂ディスク基板の記録面に金属反射膜を形成し、この反射膜上に保護膜を形成するに際し、前記基板を真空吸着盤に吸着させながら、該基板の反射膜に紫外線硬化樹脂をコートした後、該真空吸着盤に吸着した状態で紫外線を照射して化（注：硬化の誤記）させることにより保護膜を形成することを特徴とする光ディスクの保護膜形成方法」（特許請求の範囲第１項参照）、
　（1-ii）「ディスク基板の反射膜表面に紫外線硬化性のアクリル液状樹脂、エポキシ系液状樹脂を塗布した後、紫外線を照射して硬化を完結させる際、収縮を生じるため、ディスク基板にうねりが発生するという問題があった。うねりの大きい光ディスクは、再生時のトラッキング性能に悪影響を及ぼす。」（第２頁左上欄末行〜同頁右上欄６行参照）、
　（1-iii）「これら紫外線硬化樹脂の反射膜表面へのコート手段としては、スピンコート法、ロールコート法又はホットメルト法等を採用し得る。」（第２頁左下欄７〜９行参照）、
　（1-iv）「実施例１　（前略）・・・　この回転シャフト２は、保護膜塗布時には３５０〜７５０ｒｐｍで回転し、一方塗布後の紫外線照射ランプ３により硬化させる場合には４０〜７０ｒｐｍの低速回転させながら直接的に往復動作する。　・・・（中略）・・・まず、ポリメチルメタクリレート（・・略・・）からなり、光情報が多数の微細なピットとして刻設された３００ｍｍφのディスク基板の記録表面に金属反射膜としての厚さ１４００ÅのＡｌ膜を蒸着した。　つづいて、・・・（中略）・・・同基板７を吸着盤１に吸着させると共に、回転シャフト２により同吸着盤１を６５０ｒｐｍの条件で回転させながら、反射膜表面に紫外線照射硬化性アクリル系樹脂（・・略・・）を５０秒間滴下してスピンコートした。　ひきつづき、回転シャフト２の回転数を５０ｒｐｍに落とし吸着盤１を回転させながら、紫外線照射ランプ３下を３ｍ／minの速度で３往復させて硬化を行なって厚さ０．０５ｍｍの保護膜８を形成した。　」（第２頁右下欄下から４行〜第３頁右下欄下から４行目参照）、
　（1-v）「［発明の効果］　以上詳述した如く、本発明の光ディスクの保護膜形成方法によればディスク基板を真空吸着盤で吸着させながら、紫外線硬化樹脂のコート及び紫外線照射硬化処理を行なって保護膜を形成することによって、ディスク基板のうねり発生を著しく抑制でき、ひいては再生時のトラッキング性能の劣化のない高性能のビデオディスク、コンパクトディスク、ＤＲＡＭ型ディスク、消去可能ディスク等を製造できる顕著な効果を有する。」（第４頁右上欄１１行〜同欄末行参照）、と記載されている。
　これらの記載から、刊行物１には、「光ディスクの製造方法において、透明基板上に形成された光学的に情報の記録及び／又は再生が可能な記録部上に金属反射膜を形成し、この上に紫外線硬化樹脂層を形成するに際し、記録部上に紫外線硬化樹脂をスピンコート法により回転数３５０〜７００ｒｐｍで塗布し、回転数４０〜７０ｒｐｍで透明基板を回転させながら塗布された紫外線硬化樹脂に紫外線を照射して上記紫外線硬化樹脂を硬化させて紫外線硬化樹脂層を形成することを特徴とする光ディスクの製造方法。」の発明が記載されている。
　
　また、刊行物２（特開平１−２８６１４６号公報）には、
　（2-i）「光を利用して情報を記録、再生する光ディスク媒体の基板に紫外線硬化樹脂を回転塗布する第１の工程と、前記回転塗布後同一ステージで所定の回転数で回転させながら紫外線照射し前記塗膜を硬化する第２の工程とを含むことを特徴とする光ディスク媒体製造方法。」（特許請求の範囲参照）、
　（2-ii）「［実施例］　（前略）・・・　まず、第１の工程では、スピンコート法により基板１の表面に紫外線硬化型樹脂を滴下し、高速回転（例えば３０００回転）で樹脂を振り切り（例えば２０秒間）を行なう。　次に、第２の工程では高速回転した状態で上から紫外線ランプで光を照射し塗膜を硬化する。」（第２頁左上欄１５行〜同頁右上欄７行参照）、
　（2-iii）「［発明の効果］　　本発明の光ディスク媒体製造方法は、紫外線硬化型樹脂を塗布しながら硬化するため、基板上の外周部に留りが生じないので、外周部の塗膜剥離が発生せずしかも基板からの発塵もなくなるので、良好な光学特性を得ることができるという効果がある。」（第４頁右上欄８〜１４行参照）、と記載されている。
　
　刊行物３（特開昭６１−３３４２号公報）には、
　（3-i）「この発明は硬質基板上にディジタルデータを光学的に記録することに関し特にそのような基板のための滑らかな層に関する。」（第３頁左下欄１５〜１７行参照）、
　（3-ii）「１つの好ましい技術は当業者に知られているように、”スピンコーティング”である。　そのコーティングがディスク表面上に析出される間、そのディスクは（たとえば８０ｒｐｍにまで・・または一定に固定されたまま）回転されてよい。　そのディスクはそれから過剰なコーティング材料を十分に取り除くのに十分な（たとえば１５０−４００ｒｐｍに）回転される。　回転の速度／時間は除去の望まれた速度／程度に依存する。　１０−５０μｍの間のそのようなコーティングの厚みはその被体の（”陽極処理された”）アルミニウムディスクの表面を十分に滑らかにするのに適していることが見出されている。　望ましい量のコーティングがディスク上にそのように散布された後、放射による硬化が実施される。　ここでそれは好ましくは不活性の雰囲気の下で（ＵＶ）放射によって光化学的に硬化される。　その上特に、すべての雰囲気の酸素を追い出すために窒素を大量に流す前に約１．５分間このコーティングに紫外線を照射する。　それから、（総計で４分間２０−５０ｒｐｍで）そのディスクをゆっくりと回転しながら、この窒素を大量に流して数分間連続する紫外線の照射によって完成される。」（第８頁左上欄８行〜同頁右上欄１０行参照）、と記載されている。
　
　刊行物４（特開平２−１４９９５３号公報）には、
　「基板１２には、記録層１４が形成され、この記録層１４は記録層保護膜１５により被覆されている。　以下、光磁気ディスク１１の製造手順を説明する。　・・・（中略）・・・　記録層１４は、図面上は１層として示されているが、実際は、誘電体膜、磁性膜、反射膜等を備えた多層構造とすることができる。　記録層１４内の上記各膜は、それぞれ真空蒸着、スパッタリング等により形成される。　引続き、記録層１４が形成された基板１２は回転テーブル１６上にセットされ、回転テーブル１６が数１０〜数１００ｒｐｍ程度の速度で低速回転させられながら、第１図（ｂ）に示すように、記録層１４上に図示しないノズルにより紫外線硬化型樹脂からなる記録層保護膜１５の材料１７が滴下されて、塗布される。　上記ノズルの位置を変更しながら材料１７を滴下することにより、材料１７が記録層１４の全域の所定の厚さで広がると、その後、回転テーブル１６の回転速度が１０００〜数１０００ｒｐｍ程度まで上昇させられ、材料１７の厚みが記録層１４の全域でほぼ均一に維持させられながら、第１図（ｃ）に示すように、材料１７に紫外線１８が照射され、材料１７が硬化させられる。これにより、材料１７はほぼ均一な厚みのまま硬化し、膜厚の均一な記録層保護膜１５が形成される。」（第２頁右上欄１６行〜同頁右下欄８行参照）と記載されている。
　
　刊行物５（特開昭６１−１１０３５０号公報）には、
　「第６図に示した状態になってから第７図に示すように回転具２０の軸２１を中心に２枚の基板を回転させることによって、接着剤は遠心力にょってディスクの外周端２７に向かって広がり、外周端２７からあふれ出た接着剤は遠心力で矢印２８の方向に飛散するためディスクの表面にまわり込むことはない。　この時のディスクの回転数、回転時間が均一な膜厚の接着層、あるいはディスク全面への充填を得るために重要であり、この条件も接着剤の粘度によって左右されるが具体的には、接着剤として１０００ｃｐ〜２０００ｃｐ（２６℃）の粘度のものを使用した場合、回転数３００〜１０００ｒｐｍ、回転時間３０〜９０秒で所定の接着剤膜厚を得ることができ、ディスク全面に気泡を混入することなく接着剤を充填することができた。　上述した回転数、回転時間でディスクを回転させた後、回転を継続させながら、矢印２９の方向から紫外線を照射することによって、短時間で貼り合わせを行なうことができるものである。　但し接着剤を充填、飛散させた回転数のままで硬化した場合、第８図に示すように接着剤が不規則に突出した状態３０になっており、このまま硬化するため硬化後の後加工が必要になってくる。　　このため硬化時の回転数は接着剤充填時の回転数より充分遅くする必要があり、具体的には１／３以下の回転数にして硬化することによって、第９図の突出した接着剤３０が平均化されなめらかな硬化状態を得ることができるものである。」（第４頁右上欄１３行〜同頁左下欄末行参照）と記載されている。
　
４．各刊行物記載の発明との対比、判断
　（１）本件発明と刊行物１記載の発明とを対比すると、刊行物１記載の発明における紫外線硬化時の回転数（本件発明のＲ２に相当）４０〜７０ｒｐｍはスピンコート塗布時の回転数（本件発明のＲ１に相当）３５０〜７５０ｒｐｍよりも小さいから、両者は、「光ディスクの製造方法において、透明基板上に形成された光学的に情報の記録及び／又は再生が可能な記録部上に、紫外線硬化樹脂層を形成するに際し、記録部上に紫外線硬化樹脂をスピンコート法により塗布に連続して、上記スピンコート法における回転数Ｒ１よりも小さな回転数Ｒ２で透明基板を回転させながら塗布された紫外線硬化樹脂に紫外線を照射して上記紫外線硬化樹脂を硬化させて紫外線硬化樹脂層を形成することを特徴とする光ディスクの製造方法。」の発明である点で一致し、他方、少なくとも、本件発明が、（ｉ）「磁気ヘッドが摺動する摺動方式の光ディスク」である点、及び、（ｉｉ）「上記透明基板の外周側に形成される上記紫外線硬化樹脂層の盛り上がりの上記透明基板の外周縁からの幅を制御する」点を、必須の構成としているのに対して、刊行物１記載の発明ではかかる点について言及していない点で相違する。
　なお、刊行物１記載の発明では、反射膜上に紫外線硬化樹脂を塗布しているのに対して、本件発明では記録部上に紫外線硬化樹脂を塗布しているけれども、本件発明に言う記録部とは反射層を有する態様が含まれることが明示（本件明細書段落【０００４】、【００２９】など参照）されていることからも明らかなように、反射膜を採用する場合は記録部の一部を構成するものと認められるから、該点は実質的な相違点ではない。　また、本件発明では「スピンコート法における振り切り回転数」と記載されているのに対して、刊行物１記載の発明では「振り切り回転数」について言及されていないけれども、スピンコート法における振り切りは適宜行われている手段にすぎず、例えば前記刊行物３の第８頁左上欄に、「過剰なコーティング材料を十分に取り除くのに十分な（たとえば１５０−４００ｒｐｍに）回転される」と記載されているように、６５０ｒｐｍの回転数であれば振り切りされているものと判断できるから、刊行物１記載の発明におけるその回転数６５０ｒｐｍが本件発明の回転数を何ら数値限定していない単なる振り切り回転数と実質的に相違すると判断すべき理由がない。
　そこで、（ｉｉ）の相違点について検討する。
　刊行物１には、基板のうねり発生を著しく抑制でき、再生時のトラッキング性能の劣化がない光ディスクが得られることは記載されている。　しかしながら、該うねりは基板外周部に形成される紫外線硬化樹脂層の盛り上がりではないし、かつ、本件発明の該盛り上がりの幅を小さくすること、及びそれによって磁気ヘッドが摺動する平坦部が広い表面が得られることの本件発明の作用効果は、刊行物１記載の発明では言及されておらず、また認識もされていない。  　なお、特許異議申立人・オリジン電気株式会社は、「「うねり」は該証第２頁右上欄の「発明が解決しようとする問題点」の記述から明らかなように、紫外線硬化性樹脂の硬化過程で生じるものを指しており、本願の「紫外線硬化樹脂層による盛り上がりを防止」するとの目的と同一であります。」と主張しているけれども、基板の「うねり」を外周側に形成された盛り上がりと同等視することは無理があり、失当である。
　してみると、前記（ｉｉ）の相違点は、本質的な相違点であって、また、当業者が容易に想到し得るものと言うことが出来ない。
　したがって、本件発明は刊行物１記載の発明と同一ではなく、また、刊行物１記載の発明に基づいて当業者が容易に発明し得るということが出来ない。
　
　（２）ところで、刊行物２〜４に記載の発明は、紫外線硬化樹脂をスピンコートし、紫外線硬化する光ディスクの製造方法の発明である点で、本件発明と軌を一にするものである。
　しかしながら、刊行物２記載の発明は、基板上の外周部に留まりが生じないことを開示しているけれども、スピンコート時の回転数と紫外線硬化時の回転数がどのような関係にあるのか明示されておらず、実施例などを検討しても紫外線硬化時には回転させた状態で紫外線硬化させることが記載されいるに留まるから、スピンコート時の回転数よりも紫外線硬化時の回転数を小さくする本件発明と実質的に相違する。
　刊行物３においては、スピン塗布（過剰なコーティング材を取り除くための回転）後に窒素を大量に流す前に約１．５分間の紫外線照射して、それからゆっくりと回転しながら窒素を大量に流しながら紫外線照射して完結させる旨記載はされている。　しかしながら、ゆっくりと回転しているのは紫外線照射を完結させるためであって、窒素を大量に流す前の約１．５分間の紫外線照射がどの程度の回転数であるのかが記載されていないから、本件発明の如くスピンコート法における振り切り回転数よりも小さな回転数で紫外線硬化を行なうことは自明でもなく、容易に想い到ることともいえない。　　なお、特許異議申立人・ティーディーケイ株式会社は、前記摘示箇所（摘示（3-ii）参照）の記載をもって、「塗布時の振り切り回転数よりも小さな回転数で基板を回転させながら紫外線を照射する（本件発明のＲ１、Ｒ２に相当する甲第１号証の発明における回転数はそれぞれ、１５０〜４００ｒｐｍ、２０〜５０ｒｐｍである）点で一致する。」旨主張しているけれども、総計で４分間２０〜５０ｒｐｍでの紫外線照射が、窒素を大量に流す前に約１．５分間の紫外線照射のことを意味するとまでは解し得ないので、かかる主張は失当である。
　刊行物４には、ほぼ均一な厚みのまま硬化できることは言及されているけれども、本件発明とは異なり、紫外線硬化樹脂を塗布後の回転数を上昇（振り切りに相当）させてそのまま紫外線硬化を行なう点で、本件発明と本質的に相違する。
　以上のとおり、刊行物２〜４には、いずれもスピンコート法によつて紫外線硬化樹脂層を形成することが開示されているけれども、「スピンコート法における振り切り回転数Ｒ１よりも小さな回転数Ｒ２で透明基板を回転させながら塗布された紫外線硬化樹脂に紫外線を照射して上記紫外線硬化樹脂を硬化させて紫外線硬化樹脂層を形成すること」及びそれによって積極的に「基板外周側に形成される紫外線硬化樹脂層の盛り上がりの外周縁からの幅を制御すること」は、記載も示唆もされていない。　本件発明は、その形成方法を採用することによって、該盛り上がりの幅を小さくし、それによって磁気ヘッドが摺動する平坦部が広い表面が得られることの作用効果を奏するものであるから、刊行物２〜４記載の発明は本件発明と実質的に相違し、また、容易に想到し得たものとすることができない。
　
　（３）そして、刊行物１乃至４記載の発明を組み合わせるべき動機付けが無く、また組み合わせたところで、「基板外周側に形成される紫外線硬化樹脂層の盛り上がりの外周縁からの幅を制御する」ために「スピンコート法における振り切り回転数Ｒ１よりも小さな回転数Ｒ２で透明基板を回転させながら塗布された紫外線硬化樹脂に紫外線を照射して上記紫外線硬化樹脂を硬化させて紫外線硬化樹脂層を形成すること」は容易に想い到るものとはいえない。　なお、刊行物５記載の発明は、紫外線硬化樹脂の紫外線硬化時の回転数を充填時の回転数よりも遅くすることは記載されているものの、紫外線硬化樹脂が接着剤として用いられている点で、保護層形成材料として用いられる本件発明と本質的に相違しているから、これまた刊行物１〜４記載の発明と組み合わせるべき動機付けが認められない。
　よって、本件発明は、刊行物１〜５記載の発明に基づいて、当業者が容易に想到し得る発明ということができない。
　
ＩＶ．むすび
　以上のとおりであるから、特許異議申立人・オリジン電気株式会社および特許異議申立人・ティーディーケイ株式会社の申立理由および証拠によっては、本件発明についての特許を取り消すことができない。
　また、他に本件発明についての特許を取り消すべき理由を発見しない。
　よって、結論のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１３年１１月１４日（２００１．１１．１４）
【訂正の要旨】
訂正の要旨
　（ａ）特許請求の範囲の請求項１を、減縮を目的として次のとおり訂正する。　なお、下線の箇所が訂正された個所である。
　「【請求項１】　
磁気ヘッドが摺動する摺動方式の光ディスクの製造方法において、
塗布に連続して
上記紫外線硬化樹脂を硬化させて紫外線硬化樹脂層を形成することにより、上記透明基板の外周側に形成される
紫外線硬化樹脂層の盛り上がりの上記透明基板の外周縁からの幅を制御する
　（ｂ）前記（ａ）の訂正に伴い付随的に生じる記載の不備を解消するため、段落【００１３】の「上述の目的を達成するために、本発明の光ディスクの製造方法は、透明基板上に形成された光学的に情報の記録及び／又は再生が可能な記録部上に、紫外線硬化樹脂層を形成するに際し、記録部上に紫外線硬化樹脂をスピンコート法により塗布した後、透明基板を回転させながら塗布された紫外線硬化樹脂に紫外線を照射して紫外線硬化樹脂層を形成することを特徴とするものである。」の記載を、
　「上述の目的を達成するために、
本発明は、磁気ヘッドが摺動する摺動方式の光ディスクの製造方法において、
塗布に連続して
上記紫外線硬化樹脂を硬化させて紫外線硬化樹脂層を形成することにより、上記透明基板の外周側に形成される
紫外線硬化樹脂層の盛り上がりの上記透明基板の外周縁からの幅を制御する
　（ｃ）前記（ａ）の訂正に伴い付随的に生じる記載の不備を解消するため、段落【００３２】の「なお、本実施例では、本発明を光磁気ディスクの製造に適用した例について説明したが、本発明はこれに限らず、各種追記型光ディスク，コンパクトディスク，レーザディスク等各種光ディスクについても適用可能である。」の記載を、
　「なお、本実施例では、本発明を光磁気ディスクの製造に適用した例について説明した。」と訂正する。
（５４）【発明の名称】
光ディスクの製造方法
（５７）【特許請求の範囲】
　【請求項１】　
磁気ヘッドが摺動する摺動方式の光ディスクの製造方法において、
　透明基板上に形成された光学的に情報の記録及び／又は再生が可能な記録部上に、紫外線硬化樹脂層を形成するに際し、
　記録部上に紫外線硬化樹脂をスピンコート法により
塗布に連続して
上記紫外線硬化樹脂を硬化させて紫外線硬化樹脂層を形成することにより、上記透明基板の外周側に形成される
紫外線硬化樹脂層の盛り上がりの上記透明基板の外周縁からの幅を制御する
【発明の詳細な説明】
　【０００１】
　【産業上の利用分野】
　本発明は光ディスクの製造方法に関し、特に紫外硬化樹脂層の形成方法に関する。
　【０００２】
　【従来の技術】
　従来、レーザ光の照射により情報の記録・再生を行う光ディスクとしては、光磁気ディスク，各種追記型光ディスク，書換え可能光ディスク，デジダル・オーディオ・ディスク（いわゆるコンパクトディスク），光学式ビデオディスク（いわゆるレーザディスク）等の各種媒体が知られている。
　【０００３】
　このうち、光磁気ディスクは、磁性薄膜を部分的にキュリー点または温度補償点を越えて昇温し、この部分の保磁力を消滅させて外部から印加される記録磁界の方向に磁化の向きを反転することを基本原理とするもので、光ファイルシステムやコンピュータの外部記憶装置、あるいは音響，映像情報の記録装置等において実用化されつつある。
　【０００４】
　このような光磁気ディスクは、たとえば、ポリカーボネート等からなる透明基板の一主面に、膜面と垂直方向に磁化容易軸を有し、且つ磁気光学効果の大きな記録磁性層（例えば希土類−遷移金属合金非晶質薄膜）や反射層，誘電体層を積層することにより記録部を形成し、さらに記録部上の覆う如く紫外線硬化樹脂層を形成した構成とされる。
　【０００５】
　上記構成の光磁気ディスクに記録を行うには、透明基板側からレーザ光を照射することにより記録磁性層の微小面積の領域のみをキュリー温度以上に加熱するとともに、この領域に紫外線硬化樹脂層側から磁界を印加する。すると、上記レーザビームが照射された領域の記録磁性層は保磁力を失い、磁化方向が外部より印加された磁界方向に倣わされ、信号が書き込まれることとなる。
　【０００６】
　したがって、上記光磁気ディスクに対して記録再生を行う記録再生装置は、たとえば光磁気ディスクを保持して回転操作する回転駆動装置とレーザ光を照射する光学ピックアップ装置と磁界を印加する磁気ヘッドとを備えてなり、磁気ヘッドと光学ピックアップ装置とが光磁気ディスクを介して、磁気ヘッドが紫外線硬化樹脂層側，光学ピックアップ装置が透明基板側となるように対向配置された構成とされる。
　【０００７】
　従来、上記記録再生装置において備えられる磁気ヘッドには、サーボ機構が内蔵され、このサーボ機構により、磁気ヘッドと光磁気ディスクの距離が常に一定に保たれるようになされている。ところが、このようなサーボ機構の設置は装置の製造工程の煩雑化，製造コストの増大を招く。そこで、近年、磁気ヘッドのサーボ機構を不要とすることができる記録方式として、磁気ヘッドが光磁気ディスクのディスク面に接触した状態で磁界を印加する摺接記録方式が実用化へ向けて開発が進められており、たとえば小径の光磁気ディスク（いわゆるミニディスク）の記録方式として採用が検討されている。
　【０００８】
　【発明が解決しようとする課題】
　ところで、このような摺接記録方式では、上述の如く磁気ヘッドが光磁気ディスクのディスク面を摺接することとなる。このため、使用する光磁気ディスクとしては、磁気ヘッドが摺接する面が潤滑剤等が塗布されることにより、動摩擦係数が低減されているとともに平坦な面に形成されていることが良好な記録再生特性を得るための必須条件となる。
　【０００９】
　光磁気ディスクにおいて、磁気ヘッドが摺接する側の面となる紫外線硬化樹脂層は、通常、生産性，再現性が得られることから、スピンコート法により形成される。すなわち、記録部の中央部に所定量の紫外線硬化樹脂を滴下した後、ディスクをたとえば４５００ｒｐｍで所定時間回転させることにより、滴下した紫外線硬化樹脂を記録部全面に均一に行き亘らせる。そして、ディスクを止めて２〜３秒経過した後、塗布された紫外線硬化樹脂に紫外線を照射することにより、紫外線硬化樹脂層を形成する。
　【００１０】
　ところが、このようにして形成された紫外線硬化樹脂層は、外周から２ｍｍに亘る領域に２０〜３０μｍの盛り上がりを有する形状で形成されてしまう。光磁気ディスクにおいては、透明基板自体も若干外周付近が盛り上がっている（約１０μｍの盛り上がり）形状を有しているため、外周付近は他の部分と比べて３０〜４０μｍ高い高さを有することとなる。
　【００１１】
　光磁気ディスクにおいて、磁気ヘッドが盛り上がり部分に摺接すると、ディスクが高周波数で振動し、光学ピックアップ装置のフォーカスサーボやトラッキングサーボが効かなくなるといった問題を生ずる。このため、このようにして紫外線硬化樹脂層が形成された光磁気ディスクを摺接記録方式の媒体として使用する場合には、外周から２ｍｍに亘る領域に磁気ヘッドが摺接しないように、ユーザエリアを狭くすることが必要となり、十分な信号記録量が得られない。特に、直径６４ｍｍ程度のミニディスクにおいて、外周から２ｍｍにも亘る領域が磁気へッド非摺接部となってしまうと、ユーザエリアが狭くなりすぎて、記録情報量の点で実用性に欠けるものとなってしまう。
　【００１２】
　そこで、本発明はこのような従来の実情に鑑みて提案されたものであり、盛り上がり部分の面積が狭い紫外線硬化樹脂層が形成でき、たとえば光磁気ディスクとして摺接記録方式を採用した場合でもユーザエリアを広く採ることが可能な光ディスクの製造方法を提供することを目的とする。
　【００１３】
　【課題を解決するための手段】
　上述の目的を達成するために、
本発明は、磁気ヘッドが摺動する摺動方式の光ディスクの製造方法において、
塗布に連続して
上記紫外線硬化樹脂を硬化させて紫外線硬化樹脂層を形成することにより、上記透明基板の外周側に形成される
紫外線硬化樹脂層の盛り上がりの上記透明基板の外周縁からの幅を制御する
　【００１４】
　【作用】
　記録部上に紫外線硬化樹脂をスピンコートし、透明基板を回転させながら紫外線を照射して紫外線硬化樹脂層を形成すると、盛り上がり部分が狭く、平坦部分の広い紫外線硬化樹脂層が形成される。
　【００１５】
　【実施例】
　本発明の好適な実施例について、図面を参照しながら説明する。
　【００１６】
　本実施例は本発明を光磁気ディスクの製造に適用した例である。
　本実施例において製造する光磁気ディスクは、透明基板上に少なくとも記録磁性層よりなる記録部が形成され、上記記録部を覆う如く紫外線硬化樹脂層が形成されてなるものである。
　【００１７】
　記録部が形成される基板としては、ガラス，ポリカーボネート，ＰＭＭＡ（ポリメチルメタクリレート），セラミクス，シリコンウェハ等が使用可能である。
　【００１８】
　上記記録磁性層としては、この種の媒体に用いられるものがいずれも使用でき、たとえばＴｂＦｅＣｏ非晶質合金膜等の希土類−遷移金属非晶質合金膜等が挙げられる。
　希土類−遷移金属非晶質合金膜は、スパッタリング，分子線エピキタシー，真空蒸着等の真空薄膜形成技術により基板上に成膜することができる。ここで、実用的な磁気光学特性を達成する観点からは、膜厚を１００〜１００００Å程度に選ぶことが望ましい。
　【００１９】
　上記紫外線硬化樹脂層は、記録部を衝撃や外部環境との接触による腐食から保護するために設けられるものであり、摺動記録方式において磁気ヘッドが摺動する側の面となるものである。この紫外線硬化樹脂層は、記録部上に紫外線硬化樹脂をスピンコート法により塗布した後、紫外線を照射して硬化することにより形成される。
　【００２０】
　ここで、本発明においては、平坦部分の広い紫外線硬化樹脂層を形成するために、紫外線硬化樹脂の塗布，硬化を、記録部上に紫外線硬化樹脂をスピンコートし、ディスクを回転させながら塗布した紫外線硬化樹脂に紫外線を照射することにより行うこととする。
　【００２１】
　すなわち、スピンコート法とは、ディスク面の中央に所定量の塗料を滴下した後、ディスクを回転させることにより、記録部全面に紫外線硬化樹脂を均一に行き亘らせて塗布する方法である。従来の紫外線硬化樹脂層の形成方法では、紫外線硬化樹脂をスピンコートした後、ディスクの回転を停止させて２〜３秒経過した後、紫外線照射を行っている。ところが、このようにして形成された紫外線硬化樹脂層は、外周から１〜２ｍｍに亘る広い領域に盛り上がりを有した形状で形成される。
　【００２２】
　すなわち、記録部上にスピンコート法により紫外線硬化樹脂を塗布した後、基板の回転を停止させると、塗布された紫外線硬化樹脂は、ディスク外周付近に盛り上がりを有している。そして、この盛り上がり部分の樹脂は時間の経過に伴って徐々に中心へ向かって流動する。たとえば、紫外線硬化樹脂を振り切り回転数４５００ｒｐｍ，振り切り時間４．５秒に設定してスピンコートした場合、盛り上がり部分の紫外線硬化樹脂は、ディスク回転停止から２秒経過後には、外周から１ｍｍの領域に、また１分経過後には外周から２ｍｍの領域にまで流動する。
　【００２３】
　図２，図３に基板１上に紫外線硬化樹脂をスピンコートした後、回転停止から２秒後に紫外線を照射して形成された紫外線硬化樹脂層２の形状（図２）、回転停止から１分後に紫外線を照射して形成された紫外線硬化樹脂層２の形状（図３）を示すが、この状態で紫外線硬化樹脂に紫外線を照射すると、このようにそれぞれ外周付近に幅Ｄが１〜２ｍｍ，高さｈが２０〜３０μｍの盛り上がり２ａを有する紫外線硬化樹脂層が形成されることとなる。
　【００２４】
　光磁気ディスクにおいて、摺動記録方式を採用する場合、盛り上がり部分にヘッドが摺接すると良好な情報記録を困難となる。このため、このようにして紫外線硬化樹脂層が形成された光磁気ディスクは、外周から１〜２ｍｍに亘る領域に磁気ヘッドが接触しないようにユーザエリアを設定せざるを得ず、記録情報量の確保が困難である。特に、ミニディスクとする場合には、記録情報量において実用性を欠くものとなってしまう。
　【００２５】
　本発明では、紫外線硬化樹脂をスピンコートした後、ディスクの回転を停止させずに引き続きディスクを回転させながら紫外線を照射して紫外線硬化樹脂層を形成する。ディスクを回転させながら紫外線照射した場合には、紫外線照射時において、外周付近の紫外線硬化樹脂はディスクの回転による遠心力によって、中心部への流動が抑えられる。このため、盛り上がりは外周から０．２ｍｍ程度の範囲に止まり、形成された紫外線硬化樹脂層は平坦部の広いものとなる。したがって、摺動記録方式を採用した場合でも、ユーザエリアを広く採ることができ、ミニディスクとした場合でも十分な記録情報量を得ることが可能な光磁気ディスクが得られることとなる。
　【００２６】
　ここで、良好な形状を有する紫外線硬化樹脂層を形成するためには、紫外線照射の際のディスクの回転数Ｒ２は、スピンコートの際の振り切り回転数Ｒ１よりも小さいことが好ましい。Ｒ２がＲ１よりも大きい場合には、遠心力が大きくなり過ぎ、紫外線硬化樹脂が硬化に際してディスク外周よりもはみ出してしまい、バリが残存する虞れがある。
　【００２７】
　なお、図１に、Ｒ１を４５００ｒｐｍ、Ｒ２を３０００ｒｐｍに設定した場合に形成された紫外線硬化樹脂層２の形状を示すが、このように紫外線硬化樹脂層は、盛り上がり２ａの幅Ｄが０．２ｍｍであり、平坦部が広く、良好な形状を有して形成される。
　【００２８】
　上記紫外線硬化樹脂としては、防水性に優れ、紫外線硬化樹脂層として形成した場合にレーザ光を十分に透過し得ることが要求され、アクリル系紫外線硬化樹脂等、通常、使用されている紫外線硬化塗料のうち、これら要求を満たすものを使用することが望ましい。また、紫外線硬化樹脂の粘度および表面張力は、形成される紫外線硬化樹脂層の膜厚や塗布状態に影響するので、紫外線硬化樹脂を選択する場合には、このような点を考慮することが望ましい。本実施例では、粘度５００ｃｐｓ，表面張力３９ｄｙｎｅ／ｃｍの紫外線硬化樹脂を使用した。
　【００２９】
　本発明の製造方法において製造される光磁気ディスクとしては、記録部が上記記録磁性層とともに誘電体層や反射層等よりなるものであってもよい。
　【００３０】
　上記誘電体層は、耐蝕性の向上や多重反射によるカー回転角の増大（カー効果エンハンスメント）を目的として設けられるものであり、酸化物，窒化物，オキシナイトライド等の材料を真空薄膜形成技術により５〜５０００Åの膜厚に成膜することにより得られる。この誘電体膜は、基板と記録磁性層の間に介在させても、記録磁性層の上に積層しても、あるいはその両方であっても良い。
　【００３１】
　上記反射膜は、記録磁性層を透過したレーザ光をも反射させることによりカー効果にファラデー効果を相乗させ、回転角を拡大するために設けられるものである。通常、Ａｌ，Ａｕ，Ｐｔ，Ｃｕ等の金属材料を真空薄膜形成技術にて成膜することにより得られる。
　【００３２】
　なお、本実施例では、本発明を光磁気ディスクの製造に適用した例について説明した。
　【００３３】
　【発明の効果】
　上述の説明からも明らかなように、本発明の光ディスクの製造方法は、記録部上に紫外線硬化樹脂をスピンコート法により塗布した後、透明基板を回転させながら塗布された紫外線硬化樹脂に紫外線を照射して紫外線硬化樹脂層を形成するので、盛り上がり部分が狭く、平坦部分の広い紫外線硬化樹脂層を形成することができる。
　【００３４】
　したがって、本発明によれば、たとえば光磁気ディスクとして摺動記録方式を採用した場合でもユーザエリアを広く採ることが可能となり、ミニディスクとして好適な光ディスクを得ることが可能となる。
【図面の簡単な説明】
　【図１】
　本発明の方法を適用して形成された紫外線硬化樹脂層の形状を示す要部概略断面図である。
　【図２】
　紫外線硬化樹脂をスピンコートした後，ディスクの回転を停止させてから２秒経過後に紫外線を照射して形成された紫外線硬化樹脂層の形状を示す要部概略断面図である。
　【図３】
　紫外線硬化樹脂をスピンコートした後，ディスクの回転を停止させてから１分経過後に紫外線を照射して形成された紫外線硬化樹脂層の形状を示す要部概略断面図である。