【事件の表示】
　特許第３００４２２２号「透明積層体およびそれを用いたディスプレイ用フィルター」の請求項１ないし１７に係る特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結　論】
　訂正を認める。
　特許第３００４２２２号の請求項１ないし１６に係る特許を維持する。
【理　由】
Ａ．手続きの経緯
　本件特許第３００４２２２号に係る発明は、平成９年５月２２日に特許出願（国内優先権主張：平成８年５月２８日出願日の特願平８−１３３９８２号、平成８年１０月２２日出願の特願平８−２７９５０３号及び平成８年１２月３日出願の特願平８−３２２８５４号）され、平成１１年１１月１９日にその特許の設定登録がなされたが、その後、中島勝也、三浦敬明及び大谷保より特許異議の申立てがなされ（ただし、中島勝也よりの特許異議の申立てはその後取り下げられた）、平成１２年１２月２７日付けで取消理由通知（第１回目）がなされ、その指定期間内である平成１３年３月１９日に特許異議意見書が提出されると共に訂正請求（だだし、この訂正請求はその後取り下げられた）がなされ、さらに、平成１３年７月５日付けで取消理由通知（第２回目）及び訂正拒絶理由通知がなされ、その指定期間内である平成１３年９月２０日に特許異議意見書が提出されると共に訂正請求がなされたものである。
　
Ｂ．訂正の適否についての判断 
１、訂正の目的及び内容
（１）特許請求の範囲
（１）−１　特許請求の範囲の減縮を目的として、
ａ．請求項１の記載、
「【請求項１】透明基体（Ａ）の一方の主面上に、高屈折率透明薄膜層（Ｂ）と、銀又は銀を含む合金からなる金属薄膜層（Ｃ）とが、高屈折率透明薄膜層（Ｂ）と金属薄膜層（Ｃ）との組み合わせ（Ｂ）／（Ｃ）を繰り返し単位として３回以上６回以下繰り返して積層され、さらにその上に高屈折率透明薄膜層（Ｂ）が積層されてなり、金属薄膜層と高屈折率透明薄膜層との積層構造によって導電面が形成され、該導電面における面抵抗が３Ω／□以下であり、可視光線透過率が５０％以上であり、かつ、８２０ｎｍ〜１０００ｎｍの波長領域の光線透過率が当該波長領域の全域において２０％以下である透明積層体であり、当該基体（Ａ）から最もはなれて積層されている高屈折率透明薄膜上に、透明な粘着材層または透明な接着剤層又は透明な保護層を積層しても、可視光線反射率の増加が２％以下であることを特徴とする透明積層体。」を、
「【請求項１】透明基体（Ａ）の一方の主面上に、厚さ１０〜１００ｎｍの高屈折率透明薄膜層（Ｂ）と、銀又は銀を含む合金からなる厚さ４〜３０ｎｍの金属薄膜層（Ｃ）とが、高屈折率透明薄膜層（Ｂ）と金属薄膜層（Ｃ）との組み合わせ（Ｂ）／（Ｃ）を繰り返し単位として３回以上６回以下繰り返して積層され、さらにその上に厚さ１０〜１００ｎｍの高屈折率透明薄膜層（Ｂ）が積層されてなり、金属薄膜層と高屈折率透明薄膜層との積層構造によって導電面が形成され、該導電面における面抵抗が３Ω／□以下であり、可視光線透過率が５０％以上であり、かつ、８２０ｎｍ〜１０００ｎｍの波長領域の光線透過率が当該波長領域の全域において２０％以下である透明積層体であり、当該基体（Ａ）から最もはなれて積層されている高屈折率透明薄膜上に、厚さが０．５〜５０μｍでありかつ波長５００〜６００ｎｍの光に対する屈折率が１．４５〜１．７の透明な粘着材層又は透明な接着剤層を積層しても、可視光線反射率の増加が＋１％以下であることを特徴とする、ディスプレイ用フィルター用透明積層体。」と訂正する。
ｂ．請求項３の記載、
「【請求項３】透明基体（Ａ）から最もはなれて積層されている高屈折率透明薄膜（Ｂ）上に隣接して透明な粘着材又は透明な接着剤層又は透明な保護層が積層されていることを特徴とする請求項１又は２に記載の透明積層体。」を、
「【請求項３】透明基体（Ａ）から最もはなれて積層されている高屈折率透明薄膜（Ｂ）上に隣接して透明な粘着材又は透明な接着剤層が積層されており、積層後の可視光線反射率の増加が＋１％以下であることを特徴とする請求項１又は２に記載の透明積層体。」と訂正する。
ｃ．特許請求の範囲請求項１２を削除する。
（１）−２　明りょうでない記載の釈明として、
ａ．「請求項１３〜請求項１７」の項数をひとつづつ繰り上げて、「請求項１２〜請求項１６」に訂正する。
ｂ．請求項４において、「…請求項１〜３に記載の…」とあるのを「…請求項１〜３のいずれかに記載の…」と訂正する。
ｃ．請求項５において、「…請求項１〜４に記載の…」とあるのを「…請求項１〜４のいずれかに記載の…Ｊと訂正する。
ｄ．請求項７において、「…請求項１〜６に記載の…」とあるのを「…請求項１〜６のいずれかに記載の…」と訂正する。
ｅ．項数繰り上後の請求頃１２において、「…請求項１０〜１２記載の…」とあるのを「…請求項１０又は１１記載の…」と訂正する。
ｆ．項数繰り上後の請求項１４において、「…請求項１４記載の…」とあるのを「…請求項１３記載の…」と訂正する。
ｇ．項数繰り上後の請求項１５において、「…請求項１４記載の…」とあるのを「…請求項１３記載の…」と訂正する。
　
（２）発明の詳細な説明の項における、明りょうでない記載の釈明を目的として、
ａ．段落【０１１９】の「実施例２」を「比較例１」と訂正し、段落【０１２０】の「実施例３」を「実施例２」と訂正し、段落【０１２１】の「実施例４」を「比較例２」と訂正し、段落【０１２２】の「実施例５」を「実施例３」と訂正し、段落【０１２３】の「比較例１」を「比較例３」と訂正し、段落【０１２４】の「実施例６」を「実施例４」と訂正し、段落【０１２５】の「実施例７」を「実施例５」と訂正し、段落【０１２６】の「実施例８」を「実施例６」と、「実施例５」を「実施例３」と訂正し、段落【０１２７】の「実施例９」を「実施例７」と訂正し、段落【０１２９】の「実施例１０」を「比較例４」と、「実施例１１」を「実施例８」と、「実施例９」を「実施例７」と訂正し、段落【０１３０】の「比較例２」を「比較例５」と、「比較例１」を「比較例３」と、「実施例９」を「実施例７」と、「比較例３」を「比較例６」と、「実施例８」を「実施例６」と訂正し、段落【０１３１】の「実施例１２」を「実施例９」と、「実施例５」を「実施例３」と訂正し、段落【０１３６】の「実施例１３」を「実施例１０」と、「実施例５」を「実施例３」と訂正し、段落【０１３８】の「実施例９」を「実施例７」と訂正し、【０１３９】の「実施例１４」を「実施例１１」と、「実施例７」を「実施例５」と訂正し、段落【０１４０】の「実施例９」を「実施例７」と訂正し、段落【０１４１】の「実施例９」を「実施例７」と訂正し、段落【０１４２】の「実施例１５」を「実施例１２」と、「実施例７」を「実施例５」と訂正し、段落【０１４３】の「実施例１４」を「実施例１１」と訂正し、段落【０１４４】の「実施例１６」を「実施例１３」と訂正し、段落【０１４６】の「実施例１５」を「実施例１２」と訂正する。
ｂ．段落【０１５６】の【表１】における、「実施例２」を「比較例１」と訂正し、「実施例３」を「実施例２」と訂正し、「実施例４」を「比較例２」と訂正し、「実施例６」を「実施例４」と訂正し、「比較例１」を「比較例３」と訂正し、「実施例７」を「実施例５」と訂正し、「実施例８」を「実施例６」と訂正し、「実施例１３」を「実施例１０」と訂正する。
ｃ．段落【０１５７】の【表２】における、「実施例２」（２個所）を「比較例１」と、「実施例３」（２個所）を「実施例２」と、「実施例４」を「比較例２」と、「実施例５」を「実施例３」と、「実施例６」を「実施例４」と、「比較例１」（２個所）を「比較例３」と、「実施例１０」を「比較例４」と、「実施例１１」を「実施例８」と、「比較例２」を「比較例５」と、「実施例１２」を「実施例９」と、「実施例１３」を「実施例１０」とそれぞれ訂正する。
ｄ．段落【０１５８】の【表３】における、「実施例３」を「実施例２」と、「実施例２」を「比較例１」と、「実施例４」を「比較例２」と、「実施例６」を「実施例４」と、「比較例１」を「比較例３」とそれぞれ訂正する。
ｅ．段落【０１５９】の【表４】における、「実施例６」を「実施例４」と、「実施例９」を「実施例７」と、「実施例１０」を「比較例４」と、「実施例２」を「比較例１」と、「実施例１１」を「実施例８」と、「実施例３」を「実施例２」と、「実施例１３」を「実施例１０」と、「比較例２」を「比較例５」と、「比較例１」を「比較例３」と、「比較例３」を「比較例６」とそれぞれ訂正する。
ｆ．段落【０１４７】の「実施例１」を「実施例１〜４」と、「比較例１」（２個所）を「比較例１〜３」と、「実施例７〜１３」を「実施例５〜１０」と、「比較例２〜３」を「比較例５〜６」と、「実施例１〜４、６」を「実施例１〜２、４」と、「実施例８、１３」を「実施例６、１０」とそれぞれ訂正する。
ｇ．段落【０１４８】の「実施例１〜４、６」を「実施例１〜２、４」と、「比較例１」（２個所）を「比較例１〜３」と、「実施例７、８、１３」を「実施例５、６、１０」とそれぞれ訂正する。
ｈ．段落【０１４９】の「実施例１〜４、６」を「実施例１〜２、４」と、「比較例１」を「比較例１〜３」とそれぞれ訂正する。
ｉ．段落【０１５０】の「実施例７、８、１３」を「実施例５〜６、１０」と訂正する。
ｊ．段落【０１５１】の「実施例１〜６」を「実施例１〜４」と、「比較例１」を「比較例１〜３」と、「実施例９〜１３」を「実施例７〜１０」と、「比較例２」を「比較例５」とそれぞれ訂正する。
ｋ．段落【０１５２】の「実施例１〜６」（２個所）を「実施例１〜４」と、「比較例１」（２個所）を「比較例１〜３」と、「実施例９〜１３」を「実施例７〜１０」と、「比較例２」（２個所）を「比較例５」と、「実施例９〜１１」を「実施例７〜８」とそれぞれ訂正する。
ｌ．段落【０１５４】の「実施例１〜４」を「実施例１〜２」と、「比較例１」を「比較例１〜３」と、「実施例６」を「実施例４」と、「実施例９、１０、１１〜１６」を「実施例７〜１３」と、「比較例２、３」を「比較例５、６」とそれぞれ訂正する。
ｍ．段落【０１５５】の「実施例１、６」を「実施例１、４」と、「実施例９、１０、１１、１３〜１６」を「実施例７、８、１０〜１３」と、「比較例２、３」を「比較例５、６」とそれぞれ訂正する。
ｎ．段落【０１６０】の「実施例７」を「実施例５」と訂正する。
ｏ．段落【０１６１】の「実施例１、２、４、５、６」を「実施例１、３、４」と、「実施例１２、１３」を「実施例９、１０」と、「実施例３」を「実施例２」とそれぞれ訂正する。
ｐ．段落【０１６２】の「実施例１、２」（２個所）を「実施例１」と、「実施例９、１０」を「実施例７」と、「実施例３」（２個所）を「実施例２」と、「実施例１１」を「実施例８」と、「比較例１」（２個所）を「比較例３」と、「比較例２」を「比較例５」とそれぞれ訂正する。
ｑ．段落【０１６３】の「実施例１、３」を「実施例１、２」と、「実施例２、４及び比較例１」を「比較例１〜３」とそれぞれ訂正する。
ｒ．段落【０１６４】の「実施例９〜１１」を「実施例７〜８」と、「比較例２」を「比較例５」と、「実施例１、３」を「実施例１、２」と、「実施例９、１１」を「実施例７〜８」とそれぞれ訂正する。
ｓ．段落【０１６５】の「比較例３」を「 比較例６」と、「実施例６」を「実施例４」とそれぞれ訂正する。
ｔ．段落【０１６６】の「実施例１４〜１５」を「実施例１１〜１２」と、「実施例１６」を「実施例１３」と、「実施例１４」を「実施例１１」と、「実施例１５」を「実施例１２」と、「実施例１６」を「実施例１２」とそれぞれ訂正する。
ｕ．段落【０１６７】の「実施例１４〜１６」を「実施例１１〜１３」と、「実施例１４、１５」を「実施例１１、１２」と、「実施例７」を「実施例５」とそれぞれ訂正する。
ｖ．段落【０１６８】の「実施例１２〜１６」を「実施例９〜１３」と訂正する。
ｗ．段落【０１６９】の「実施例１２、１５、１６」を「実施例９、１２、１３」と、「実施例１２、１６」を「実施例９、１３」とそれぞれ訂正する。
ｘ．段落【０１７０】の「実施例１２、１５、１６」を「実施例９、１２、１３」と、「実施例１２、１６」を「実施例９、１３」とそれぞれ訂正する。
２、訂正の目的の適否及び拡張・変更の存否
（１）特許請求の範囲
　上記（１）−１のａの訂正は、高屈折率透明薄膜層（Ｂ）の厚みを「厚さ１０〜１００ｎｍ」に、金属薄膜層（Ｃ）の厚みを「厚さ４〜３０ｎｍ」に限定し、また、透明な層を「透明な粘着材層又は透明な接着剤層」に限定（透明な保護層を削除）し、これら透明な層の厚さ及び屈折率を「厚さが０．５〜５０μｍでありかつ波長５００〜６００ｎｍの光に対する屈折率が１．４５〜１．７」のものに限定し、これら透明な層を積層した場合の可視光線反射率の増加を「２％以下」から「＋１％以下」に限定し、さらに透明積層体を「ディスプレイ用フィルター用」に限定したものであるから特許請求の範囲の減縮であるといえる。
　そして、高屈折率透明薄膜層（Ｂ）の厚みが「１０〜１００ｎｍ」であることは本件公報段落【００３８】に記載されており、金属薄膜層（Ｃ）の厚みが「４〜３０ｎｍ」であることは本件公報段落【００３５】記載されており、また、透明な粘着材層又は透明な接着剤層に関して、段落【００５８】に「粘着材もしくは接着剤層の厚みは…０．５μｍ〜５０μｍ…」、段落【００４６】に「透明な粘着材や接着剤の光学特性は、５００〜６００ｎｍにおいて屈折率は１．４５〜１．７程度」と記載されており、可視光線反射率の増加が「＋１％以下」であることは本件公報段落【００４７】に記載されており、さらに、透明積層体がディスプレイ用フィルター用に用いられることは段落【０１７１】に記載されているから、これらの訂正は、願書に添付した明細書に記載した事項の範囲内のものであり、これらの訂正は、実質的に特許請求の範囲を拡張又は変更するものではない。
　上記（１）−１のｂの訂正は、積層する透明な層を「透明な粘着材層又は透明な接着剤層」に限定（透明な保護層を削除）し、これら積層する透明な層の厚さ及び屈折率を「厚さが０．５〜５０μｍでありかつ波長５００〜６００ｎｍの光に対する屈折率が１．４５〜１．７」のものに限定し、かつ、これら透明な層を積層した後の可視光線反射率の増加を「２％以下」から「＋１％以下」に限定したものであるから特許請求の範囲の減縮であるといえる。
　そして、透明な粘着材層又は透明な接着剤層に関して、段落【００５８】に「粘着材もしくは接着剤層の厚みは…０．５μｍ〜５０μｍ…」、段落【００４６】に「透明な粘着材や接着剤の光学特性は、５００〜６００ｎｍにおいて屈折率は１．４５〜１．７程度」と記載されており、可視光線反射率の増加が「＋１％以下」であることは，本件公報段落【００４７】に記載されているから、これらの訂正は、願書に添付した明細書に記載した事項の範囲内のものであり、また、これらの訂正は、実質的に特許請求の範囲を拡張又は変更するものではない。
　上記（１）−１のｃの訂正は、特許請求の範囲の削除であるから特許請求の範囲の減縮であり、願書に添付した明細書に記載した事項の範囲内のものであり、実質的に特許請求の範囲を拡張又は変更するものではない。
　上記（１）−２のａ〜ｇの訂正は、すべて明りょうでない記載の釈明であって、これらの訂正は、願書に添付した明細書に記載した事項の範囲内のものであり、また、これらの訂正は、実質的に特許請求の範囲を拡張又は変更するものではない。
　さらに、上記（２）ａ〜ｘの訂正は、すべて特許請求の範囲の記載と発明の詳細な説明の記載とを整合させるための訂正であって、明りょうでない記載の釈明を目的とした訂正である。そして、これらの訂正は、願書に添付した明細書に記載した事項の範囲内のものであり、これらの訂正は、実質的に特許請求の範囲を拡張又は変更するものではない。
３、むすび
　以上のとおりであるから、上記訂正は、特許法第１２０条の４第２項及び同条第３項において準用する特許法第１２６条第２項から第４項までの規定に適合するので、当該訂正を認める。
　
Ｃ．特許異議の申立についての判断
１、特許異議申立の理由の概要
（１）特許異議申立人 三浦敬明（以下、「申立人Ａ」という）は、参考資料１〜５を提出し、訂正前の請求項１及び当該請求項１を直接、間接に引用している請求項３〜１７の発明は、明確なものではなく、また、明細書の詳細な説明の記載に不備があるので、特許法第３６条の規定を満たしておらず、訂正前の請求項１及び請求項３〜１７に係る特許は取り消されるべきである旨の主張をしている。
（２）特許異議申立人 大谷保（以下、「申立人Ｂ」という）は、甲第１〜５号証及び参考資料１を提出し、訂正前の請求項１〜７、１０〜１２及び１４の発明は、甲第１号証記載の発明と同一であり（主張１）、訂正前の請求項１〜１７の発明は、甲第１〜５号証記載の発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであり（主張２）、また、本件明細書の記載に不備があるので（主張３）、訂正前の請求項１〜１７に係る特許は取り消されるべきである旨の主張をしている。
２、本件発明
　本件発明は訂正され、次のとおりの、
「【請求項１】透明基体（Ａ）の一方の主面上に、厚さ１０〜１００ｎｍの高屈折率透明薄膜層（Ｂ）と、銀又は銀を含む合金からなる厚さ４〜３０ｎｍの金属薄膜層（Ｃ）とが、高屈折率透明薄膜層（Ｂ）と金属薄膜層（Ｃ）との組み合わせ（Ｂ）／（Ｃ）を繰り返し単位として３回以上６回以下繰り返して積層され、さらにその上に厚さ１０〜１００ｎｍの高屈折率透明薄膜層（Ｂ）が積層されてなり、金属薄膜層と高屈折率透明薄膜層との積層構造によって導電面が形成され、該導電面における面抵抗が３Ω／□以下であり、可視光線透過率が５０％以上であり、かつ、８２０ｎｍ〜１０００ｎｍの波長領域の光線透過率が当該波長領域の全域において２０％以下である透明積層体であり、当該基体（Ａ）から最もはなれて積層されている高屈折率透明薄膜上に、厚さが０．５〜５０μｍでありかつ波長５００〜６００ｎｍの光に対する屈折率が１．４５〜１．７の透明な粘着材層又は透明な接着剤層を積層しても、可視光線反射率の増加が＋１％以下であることを特徴とする、ディスプレイ用フィルター用透明積層体。
【請求項２】繰り返し単位数が３回であって、透明基体から数えて２番目の金属薄膜層が、１番目および３番目の金属薄膜層より厚いことを特徴とする請求項１に記載の透明積層体。
【請求項３】透明基体（Ａ）から最もはなれて積層されている高屈折率透明薄膜（Ｂ）上に隣接して透明な粘着材又は透明な接着剤層が積層されており、積層後の可視光線反射率の増加が＋１％以下であることを特徴とする請求項１又は２に記載の透明積層体。
【請求項４】高屈折透明薄膜層（Ｂ）が、インジウム、チタン、ジルコニウム、ビスマス、スズ、亜鉛、アンチモン、タンタルの酸化物から少なくとも１つ選ばれた酸化物であることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の透明積層体。
【請求項５】高屈折率透明薄膜層（Ｂ）が、インジウム、スズ、チタンの酸化物から少なくとも１つ選ばれた酸化物であることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の透明積層体。
【請求項６】透明基体（Ａ）が透明な高分子成型物であることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の透明積層体。
【請求項７】高屈折率透明薄膜層（Ｂ）が、主として酸化インジウムで構成されることを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載の透明積層体。
【請求項８】請求項１〜７のいずれかに記載の透明積層体と、該透明積層体の導電面上に形成された、金属を含む電極とを有することを特徴とするディスプレイ用フィルター。
【請求項９】電極が、導電面上で、かつ、導電面の周縁部に連続的に形成されていることを特徴とする請求項８記載のディスプレイ用フィルター。
【請求項１０】請求項１〜７のいずれかに記載の透明積層体と、該透明積層体の導電面上に形成された透明保護層（Ｄ）とを有することを特徴とするディスプレイ用フィルター。
【請求項１１】透明保護層（Ｄ）の透湿度が、１０ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下であることを特徴とする請求項１０記載のディスプレイ用フィルター。
【請求項１２】透明保護層（Ｄ）の表面に０．１〜１０μｍの大きさの微小な凹凸が形成されていることを特徴とする請求項１０又は１１記載のディスプレイ用フィルター。
【請求項１３】請求項１〜７のいずれかに記載の透明積層体と、透明成形体（Ｅ）を有し、透明積層体の主面と透明成形体の一方の主面とが貼り合わせられていることを特徴とするディスプレイ用フィルター。
【請求項１４】透明成形体（Ｅ）の他方の主面に、反射防止層、アンチグレア層およびアンチニュートンリング層のいずれかが形成されていることを特徴とする請求項１３記載のディスプレイ用フィルター。
【請求項１５】請求項１３記載のディスプレイ用フィルターの両方の主面にアンチニュートンリング層が形成されていることを特徴とするディスプレイ用フィルター。
【請求項１６】請求項１〜７のいずれかに記載の透明積層体と、反射防止層、アンチニュートンリング層およびアンチグレア層の中から選ばれた１種類の層からなる第１の部材と、透明成形体（Ｅ）と、透明保護層（Ｄ）および金属を含む電極の中から選ばれた１種類以上からなる第２の部材とを有し、第１の部材、透明成形体（Ｅ）、透明積層体、第２の部材の順に構成されていることを特徴とするプラズマディスプレイ用フィルター。」（以下、訂正後の各発明を順次「本件訂正発明１」などという）である。
３、申立人Ｂの提出した甲号証の記載事項
甲第１号証：米国特許第５０７１２０６号明細書「（発明の名称）色が修正された熱反射複合フィルム及びそれを用いたガラス製品」
ａ．「発明の分野　この発明は熱反射フィルムに関し、詳しくは赤外線反射干渉フィルターを形成する複数の誘電体層及び金属層からなる複合フィルムに関し、また、そのようなフィルムの窓ガラス材料への使用に関する。」（第１欄１４〜１５行）
ｂ．「この発明の目的は、選択的に熱、すなわち赤外線を反射し、一方で可視波長の高透過性を与える改善された透明Fabry-Perotフィルターを提供することにある。」（第２欄３７〜４１行）
ｃ．「透明支持体１４上に、外層２２、光透過金属層１６、スペサー層１８、光透過金属層１６’、スペサー層１８’、光透過金属層１６”及び境界層２１からなる干渉フィルター１２が形成されたフィルム１０」（ＦＩＧ−１）
ｄ．「光透過金属層は、実質的な透明性を与える厚みを有する銀、金（中略）あるいはそれらの合金からなる均一密着金属層である。」（第４欄４９〜５３行）
ｅ．「スペサー層は、好ましくは５０〜１１０ｎｍ、特に７０〜１００ｎｍの厚みを有し、１．７５〜２．２５の屈折率を有する誘電体層である。（中略）これらの物質としては、酸化亜鉛、酸化インジュウム、酸化スズ及びこれらの混合物及び酸化チタンが好ましい。」（第５欄６８〜第６欄１２行）
ｆ．「境界層は、スペーサを形成する誘電体と同じものでも異なったものでもよいが、同じであるほうが単純で好ましい。」（第６欄５２〜５９行）
ｇ．「SampleEの金属薄膜層（３層）の厚みが、１０ｎｍ、１１ｎｍ、１０ｎｍであり、総膜厚は３１ｎｍである。」（第１１欄TABLE１）
ｈ．「縦軸をパーセント、横軸を波長（ｎｍ）にとった表で、金属３層のものの透過・反射・吸収の変化の状態を示している。」（ＦＩＧ−１２）
甲第２号証：特開平１−１４９００３号公報
ｉ．「（１）複数の機能性フィルム層が架橋タイプのエチレン系共重合体接着剤層により接着一体化されたＶＤＴフィルター用積層体。
（２）特許請求の範囲（１）記載の積層体において、機能性フィルム層が導電性フィルム、熱線反射フィルム、偏光フィルム、液晶フィルム、円偏光フィルム、１／４位相差フィルムあるいは導電性メッシュである積層体。」（特許請求の範囲第１、２項）
甲第３号証：特開平７−３２０６６３号公報
ｊ．「ディスプレイデバイスのフェイスの外面に設けられた透明保護層から成るディスプレイデバイスのフェイス保護装置において、前記透明保護層は、透明導電膜と前記透明導電膜の上に設けられた透明硬質薄膜とから成っていることを特徴とするディスプレイデバイスのフェイス保護装置。」（特許請求の範囲請求項１）
甲第４号証：プラスチックフィルム−加工と応用−（第二版）　沖山とし明編　1995年4月5日技報堂出版株式会社発行　第190〜193頁
ｋ．「各種プラスチックフィルムの化学的性質、透湿度、透湿率の一覧表」
甲第５号証：特開平８−５５５８１号公報
ｌ．「【請求項１】前面ガラス板の前面側に光学フィルタを設けてなるカラー表示用プラズマディスプレイパネルにおいて、前記光学フィルタに、コントラスト改善のために一定範囲の可視光を吸収するとともに、前記カラー表示用プラズマディスプレイで生じる不要輻射電磁波を吸収する光・電磁波吸収層を設けてなることを特徴とするカラー表示用プラズマディスプレイパネル。
【請求項２】光学フィルタは、透明プラスチック板の前面側に防眩用のノングレア層を設け、背面側に、所定の可視光及び電磁波を吸収する粒子をバインダ中に分散したものを塗布してなる光・電磁波吸収層と、前面ガラス板との光干渉を除去するためのノングレア層とを設けてなる請求項１記載のカラー表示用プラズマディスプレイパネル。
【請求項３】カラー表示用プラズマディスプレイパネルの前面ガラス板の中に、コントラスト改善のために一定範囲の可視光を吸収するとともに、前記カラー表示用プラズマディスプレイパネルで生ずる不要輻射電磁波を吸収する光・電磁波吸収材料を分散してなることを特徴とするカラー表示用プラズマディスプレイパネル。
【請求項４】前面ガラス板の前面側に防眩用のノングレア層を設けてなる請求項３記載のカラー表示用プラズマディスプレイパネル。」（特許請求の範囲）
５．対比・判断
（１）申立人Ａの主張に対して
　申立人Ａは、訂正前の本件発明１の特定事項（１）（合議体注：請求項１の透明積層体に関する特定事項部分）に記載された層構成のものはすべて発明特定事項（２）（合議体注：「当該基体（Ａ）から最もはなれて積層されている高屈折率透明薄膜上に、透明な粘着材層又は透明な接着剤層又は透明な保護層を積層しても、可視光線反射率の増加が２％以下であること」）に記載の「可視光線反射率の増加が２％以下である」範囲を含めてそれぞれに種々の可視光線反射率を実現することができ、それらのうちから「２％以下」の可視光線透過率を実現するものを選択するということではなく、発明特定事項（１）に記載された層構成の範囲内であっても、ある層構成では発明特定事項（２）に記載の可視光線反射率が実現でき他のある層構成ではこれを実現できない訳であり、このことから可視光線反射率の増加が２％以下であるという特性について層構成に依存する何らかの関係性が存在することが十分に伺える。しかもこの関係性は請求項１において明確にされていない。従って、請求項１の上述の発明特定事項（２）に記載された「反射率」および「反射率の増加」という特性自体は当業者に知られているとしても、その特性を奏することができる具体的手段を直ちに認識できるとはいえず、請求項１に記載の発明の外延が不明確である、旨の主張（申立書第１０頁１３〜２７行）をしているが、そもそも本件請求項１の記載における発明特定事項（１）と発明特定事項（２）との関係は、発明特定事項（２）を実現するために発明特定事項（１）が記載されているというものではなく、どちらも請求項１の発明を特定するためにそれぞれ独立した技術実事項として記載されているのであるから、可視光線反射率の増加が２％以下であるという特性について層構成に依存する何らかの関係性が存在することが十分にうかがえるからといって、その関係性を請求項１において明確にしなければならないとする理由は存在しない。　そして、請求項１の上述の発明特定事項（２）に記載された「可視光線反射率の増加」ということ自体が不明確でない以上、請求項１に記載の発明の外延が不明確であるとすることはできない。
　そして、この判断は訂正後の訂正発明１に関しても同様である。
　また、申立人Ａは、実施例の記載によれば、金属薄膜層が３層で、かつ、２番目の金属薄膜層が１番目および３番目の金属薄膜層より厚い構成において可視光線反射率の増加が請求項１で規定する数値をとることができる場合があることが開示されているだけであって、金属薄膜層の厚さの関係がそれ以外の場合や金属薄膜層の数が４〜６の場合について、効果を確認できる具体例が開示されておらず、そのような実施の形態（訂正前の実施例１および３）の記載のみでは、請求項１に係る発明を、いわゆる当業者が実施できる程度に明確かつ十分に説明したことにはならない、旨の主張（申立書第１２頁１〜３行）をし、また、請求項１の発明が明確であるとした場合、その「明確な発明」を実施するために、当業者は通常期待される程度を越える試行錯誤的努力を強いられるという結果となるのである、とも述べている（申立書第１３頁１０〜１５行）ので検討する。
　本件請求項１の発明は、「物」の発明であり、「物」の発明においては、発明の詳細な説明において、その物がどのようにして得られるかが明確に記載されていれば足りるのであって、たとえ、１つの実施例の記載であってもその物がどのようにして得られるかが明確に記載されていれば、当業者が実施できる程度に明確かつ十分に記載されているといえる。　そして、本件明細書には、実施例１や実施例２（訂正前の実施例３）おいて、本件請求項１の発明に係る「物」の製法が具体的に記載されているから、また、本件請求項１の発明に係る金属薄膜層の厚さの関係がそれ以外や金属薄膜層の数が４〜６のものを得る場合において、当業者は通常期待される程度を越える試行錯誤的努力を強いられることがあるとしても、そのことをもって直ちに本件明細書の記載が当業者が実施できる程度に明確かつ十分なものではないとまではいえない。
　そして、この判断は訂正後の訂正発明１に関しても同様である。
　したがって、申立人Ａの主張は採用できない。
（２）申立人Ｂの主張に対して
ａ．主張１に対して
　本件訂正発明１（前者）と甲第１号証記載の発明（後者）とを対比すると、両者は共に、赤外線を反射し、可視波長の高透過性を有する「透明基体面上に、高屈折率透明薄膜層と、銀又は銀を含む合金からなる金属薄膜層とが、繰り返して積層され、さらにその上に高屈折率透明薄膜層が積層されてなる透明積層体。」であるが、前者は、特に「基体（Ａ）から最もはなれて積層されている高屈折率透明薄膜上に、厚さが０．５〜５０μｍでありかつ波長５００〜６００ｎｍの光に対する屈折率が１．４５〜１．７の透明な粘着材層又は透明な接着剤層を積層しても、可視光線反射率の増加が＋１％以下である」という要件（以下、「本件反射率増加要件」という）を備えるものであるのに対して、後者は本件反射率増加要件を備えるものであるかどうか不明であり、また、甲第１号証には、後者の透明積層体を窓ガラス材料として用いることが記載（上記ａの記載参照）されているものの「ディスプレイ用フィルター用」として用いることについては記載されていない点で相違が認められる。
　申立人Ｂは、甲第１号証のＦｉｇ．１２のグラフの記載を指摘して、透明な粘着材などを積層した場合、可視光線反射率の増加が２％以下となるようなものは、やはり甲第１号証に実質的に記載されている旨の主張（申立書第１７頁１５〜２３行）をしているが、甲第１号証のＦｉｇ．１２のグラフにおける可視光線反射率の増加は、＋１％を越えていると認められるから、甲第１号証には本件反射率増加要件は記載されているとはいえない。
　したがって、両者を同一の発明であるとすることはできない。
　また、本件訂正発明１の発明を直接又は他の請求項を介して引用している本件訂正発明２〜７、１０〜１１及び１３は、本件訂正発明１に対する理由と同様の理由により甲第１号証記載の発明と同一の発明であるとすることはできない。
ｂ．主張２に対して
　本件訂正発明１は、上記のとおり本件反射率増加要件を備えるものであるが、前記のとおり甲第１号証のＦｉｇ．１２のグラフにおける可視光線反射率の増加は、＋１％を越えていると認められ、また、甲第２〜５号証記載の発明においても、本件反射率増加要件についてはなんら記載されておらず示唆する記載もみられない。
　したがって、反射率の増加に関してなんら着目していない甲第１〜５号証記載の発明から「本件反射率増加要件」を当業者が容易に見出し得るとはいえない。
　そして、本件訂正発明１は特許請求の範囲記載の要件を具備することにより明細書記載のとおりの効果を奏し得ているものと認められる。
　したがって、本件訂正発明１が甲第１〜５号証記載の発明から当業者が容易に発明をすることができたものであるとは認められない。
　また、本件訂正発明１の発明を直接又は他の請求項を介して引用している、本件訂正発明２〜１６は、本件訂正発明１に対する理由と同じ理由により甲第１〜５号証記載の発明から当業者が容易に発明をすることができたものであるとすることはできない。
ｃ．主張３に対して
　申立人Ｂは、請求項１には、「基体（Ａ）から最もはなれて積層されている高屈折率透明薄膜上に、透明な粘着材層又は透明な接着剤層又は透明な保護層を積層しても、可視光線反射率の増加が２％以下であること」と規定されているが、この規定は、仮定の文言が含まれ（申立書第１３頁６行）、著しく不明確である旨の主張（申立書第２５頁１２〜１５行）をしている。
　この規定は上記とおり適法に訂正されて「基体（Ａ）から最もはなれて積層されている高屈折率透明薄膜上に、厚さが０．５〜５０μｍでありかつ波長５００〜６００ｎｍの光に対する屈折率が１．４５〜１．７の透明な粘着材層又は透明な接着剤層を積層しても、可視光線反射率の増加が＋１％以下であること」と訂正されているが、この規定は請求項１の発明に係る「ディスプレイ用フィルター用積層体」が、基体（Ａ）から最もはなれて積層されている高屈折率透明薄膜上に厚さが０．５〜５０μｍでありかつ波長５００〜６００ｎｍの光に対する屈折率が１．４５〜１．７の透明な粘着材層又は透明な接着剤層を積層した場合において、可視光線反射率の増加が＋１％以下であるという特性を持つものであることを意味するものであることは明確であるから、申立人Ｂの主張する記載不備は存在しない。
６、むすび
　以上のとおりであるから、特許異議申立の理由及び証拠によっては、本件請求項１〜１６係る特許を取り消すことはできない。
　また、他に本件請求項１〜１６に係る特許を取り消すべき理由を発見しない。
　よって、結論のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１３年１１月６日（２００１．１１．６）
【訂正の要旨】
　特許第３００４２２２号発明の明細書中、
Ａ．特許請求の範囲の記載における、
１、請求項１の記載、
「【請求項１】透明基体（Ａ）の一方の主面上に、高屈折率透明薄膜層（Ｂ）と、銀又は銀を含む合金からなる金属薄膜層（Ｃ）とが、高屈折率透明薄膜層（Ｂ）と金属薄膜層（Ｃ）との組み合わせ（Ｂ）／（Ｃ）を繰り返し単位として３回以上６回以下繰り返して積層され、さらにその上に高屈折率透明薄膜層（Ｂ）が積層されてなり、金属薄膜層と高屈折率透明薄膜層との積層構造によって導電面が形成され、該導電面における面抵抗が３Ω／□以下であり、可視光線透過率が５０％以上であり、かつ、８２０ｎｍ〜１０００ｎｍの波長領域の光線透過率が当該波長領域の全域において２０％以下である透明積層体であり、当該基体（Ａ）から最もはなれて積層されている高屈折率透明薄膜上に、透明な粘着材層または透明な接着剤層又は透明な保護層を積層しても、可視光線反射率の増加が２％以下であることを特徴とする透明積層体。」を、
「【請求項１】透明基体（Ａ）の一方の主面上に、厚さ１０〜１００ｎｍの高屈折率透明薄膜層（Ｂ）と、銀又は銀を含む合金からなる厚さ４〜３０ｎｍの金属薄膜層（Ｃ）とが、高屈折率透明薄膜層（Ｂ）と金属薄膜層（Ｃ）との組み合わせ（Ｂ）／（Ｃ）を繰り返し単位として３回以上６回以下繰り返して積層され、さらにその上に厚さ１０〜１００ｎｍの高屈折率透明薄膜層（Ｂ）が積層されてなり、金属薄膜層と高屈折率透明薄膜層との積層構造によって導電面が形成され、該導電面における面抵抗が３Ω／□以下であり、可視光線透過率が５０％以上であり、かつ、８２０ｎｍ〜１０００ｎｍの波長領域の光線透過率が当該波長領域の全域において２０％以下である透明積層体であり、当該基体（Ａ）から最もはなれて積層されている高屈折率透明薄膜上に、厚さが０．５〜５０μｍでありかつ波長５００〜６００ｎｍの光に対する屈折率が１．４５〜１．７の透明な粘着材層又は透明な接着剤層を積層しても、可視光線反射率の増加が＋１％以下であることを特徴とする、ディスプレイ用フィルター用透明積層体。」と訂正する。
２、請求項３の記載、
「【請求項３】透明基体（Ａ）から最もはなれて積層されている高屈折率透明薄膜（Ｂ）上に隣接して透明な粘着材又は透明な接着剤層又は透明な保護層が積層されていることを特徴とする請求項１又は２に記載の透明積層体。」を、
「【請求項３】透明基体（Ａ）から最もはなれて積層されている高屈折率透明薄膜（Ｂ）上に隣接して透明な粘着材又は透明な接着剤層が積層されており、積層後の可視光線反射率の増加が＋１％以下であることを特徴とする請求項１又は２に記載の透明積層体。」と訂正する。
３、特許請求の範囲請求項１２を削除する。
４、「請求項１３〜請求項１７」の項数をひとつづつ繰り上げて、「請求項１２〜請求項１６」と訂正する。
５、請求項４において、「…請求項１〜３に記載の…」とあるのを「…請求項１〜３のいずれかに記載の…」と訂正する。
６、請求項５において、「…請求項１〜４に記載の…」とあるのを「…請求項１〜４のいずれかに記載の…Ｊと訂正する。
７、請求項７において、「…請求項１〜６に記載の…」とあるのを「…請求項１〜６のいずれかに記載の…」と訂正する。
８、項数繰り上後の請求頃１２において「…請求項１０〜１２記載の…」とあるのを「…請求項１０又は１１記載の…」と訂正する。
９、項数繰り上後の請求項１４において「…請求項１４記載の…」とあるのを「…請求項１３記載の…」と訂正する。
１０、項数繰り上後の請求項１５において「…請求項１４記載の…」とあるのを「…請求項１３記載の…」と訂正する。
Ｂ．発明の詳細な説明の記載における、
１、段落【０１１９】の「実施例２」を「比較例１」と訂正し、段落【０１２０】の「実施例３」を「実施例２」と訂正し、段落【０１２１】の「実施例４」を「比較例２」と訂正し、段落【０１２２】の「実施例５」を「実施例３」と訂正し、段落【０１２３】の「比較例１」を「比較例３」と訂正し、段落【０１２４】の「実施例６」を「実施例４」と訂正し、段落【０１２５】の「実施例７」を「実施例５」と訂正し、段落【０１２６】の「実施例８」を「実施例６」と、「実施例５」を「実施例３」と訂正し、段落【０１２７】の「実施例９」を「実施例７」と訂正し、段落【０１２９】の「実施例１０」を「比較例４」と、「実施例１１」を「実施例８」と、「実施例９」を「実施例７」と訂正し、段落【０１３０】の「比較例２」を「比較例５」と、「比較例１」を「比較例３」と、「実施例９」を「実施例７」と、「比較例３」を「比較例６」と、「実施例８」を「実施例６」と訂正し、段落【０１３１】の「実施例１２」を「実施例９」と、「実施例５」を「実施例３」と訂正し、段落【０１３６】の「実施例１３」を「実施例１０」と、「実施例５」を「実施例３」と訂正し、段落【０１３８】の「実施例９」を「実施例７」と訂正し、【０１３９】の「実施例１４」を「実施例１１」と、「実施例７」を「実施例５」と訂正し、段落【０１４０】の「実施例９」を「実施例７」と訂正し、段落【０１４１】の「実施例９」を「実施例７」と訂正し、段落【０１４２】の「実施例１５」を「実施例１２」と、「実施例７」を「実施例５」と訂正し、段落【０１４３】の「実施例１４」を「実施例１１」と訂正し、段落【０１４４】の「実施例１６」を「実施例１３」と訂正し、段落【０１４６】の「実施例１５」を「実施例１２」と訂正する。
２、段落【０１５６】の【表１】における、「実施例２」を「比較例１」と訂正し、「実施例３」を「実施例２」と訂正し、「実施例４」を「比較例２」と訂正し、「実施例６」を「実施例４」と訂正し、「比較例１」を「比較例３」と訂正し、「実施例７」を「実施例５」と訂正し、「実施例８」を「実施例６」と訂正し、「実施例１３」を「実施例１０」と訂正する。
３、段落【０１５７】の【表２】における、「実施例２」（２個所）を「比較例１」と、「実施例３」（２個所）を「実施例２」と、「実施例４」を「比較例２」と、「実施例５」を「実施例３」と、「実施例６」を「実施例４」と、「比較例１」（２個所）を「比較例３」と、「実施例１０」を「比較例４」と、「実施例１１」を「実施例８」と、「比較例２」を「比較例５」と、「実施例１２」を「実施例９」と、「実施例１３」を「実施例１０」とそれぞれ訂正する。
４、段落【０１５８】の【表３】における、「実施例３」を「実施例２」と、「実施例２」を「比較例１」と、「実施例４」を「比較例２」と、「実施例６」を「実施例４」と、「比較例１」を「比較例３」とそれぞれ訂正する。
５、段落【０１５９】の【表４】における、「実施例６」を「実施例４」と、「実施例９」を「実施例７」と、「実施例１０」を「比較例４」と、「実施例２」を「比較例１」と、「実施例１１」を「実施例８」と、「実施例３」を「実施例２」と、「実施例１３」を「実施例１０」と、「比較例２」を「比較例５」と、「比較例１」を「比較例３」と、「比較例３」を「比較例６」とそれぞれ訂正する。
６、段落【０１４７】の「実施例１」を「実施例１〜４」と、「比較例１」（２個所）を「比較例１〜３」と、「実施例７〜１３」を「実施例５〜１０」と、「比較例２〜３」を「比較例５〜６」と、「実施例１〜４、６」を「実施例１〜２、４」と、「実施例８、１３」を「実施例６、１０」とそれぞれ訂正する。
７、段落【０１４８】の「実施例１〜４、６」を「実施例１〜２、４」と、「比較例１」（２個所）を「比較例１〜３」と、「実施例７、８、１３」を「実施例５、６、１０」とそれぞれ訂正する。
８、段落【０１４９】の「実施例１〜４、６」を「実施例１〜２、４」と、「比較例１」を「比較例１〜３」とそれぞれ訂正する。
９、段落【０１５０】の「実施例７、８、１３」を「実施例５〜６、１０」と訂正する。
１０、段落【０１５１】の「実施例１〜６」を「実施例１〜４」と、「比較例１」を「比較例１〜３」と、「実施例９〜１３」を「実施例７〜１０」と、「比較例２」を「比較例５」とそれぞれ訂正する。
１１、段落【０１５２】の「実施例１〜６」（２個所）を「実施例１〜４」と、「比較例１」（２個所）を「比較例１〜３」と、「実施例９〜１３」を「実施例７〜１０」と、「比較例２」（２個所）を「比較例５」と、「実施例９〜１１」を「実施例７〜８」とそれぞれ訂正する。
１２、段落【０１５４】の「実施例１〜４」を「実施例１〜２」と、「比較例１」を「比較例１〜３」と、「実施例６」を「実施例４」と、「実施例９、１０、１１〜１６」を「実施例７〜１３」と、「比較例２、３」を「比較例５、６」とそれぞれ訂正する。
１３、段落【０１５５】の「実施例１、６」を「実施例１、４」と、「実施例９、１０、１１、１３〜１６」を「実施例７、８、１０〜１３」と、「比較例２、３」を「比較例５、６」とそれぞれ訂正する。
１４、段落【０１６０】の「実施例７」を「実施例５」と訂正する。
１５、段落【０１６１】の「実施例１、２、４、５、６」を「実施例１、３、４」と、「実施例１２、１３」を「実施例９、１０」と、「実施例３」を「実施例２」とそれぞれ訂正する。
１６、段落【０１６２】の「実施例１、２」（２個所）を「実施例１」と、「実施例９、１０」を「実施例７」と、「実施例３」（２個所）を「実施例２」と、「実施例１１」を「実施例８」と、「比較例１」（２個所）を「比較例３」と、「比較例２」を「比較例５」とそれぞれ訂正する。
１７、段落【０１６３】の「実施例１、３」を「実施例１、２」と、「実施例２、４及び比較例１」を「比較例１〜３」とそれぞれ訂正する。
１８、段落【０１６４】の「実施例９〜１１」を「実施例７〜８」と、「比較例２」を「比較例５」と、「実施例１、３」を「実施例１、２」と、「実施例９、１１」を「実施例７〜８」とそれぞれ訂正する。
１９、段落【０１６５】の「比較例３」を「比較例６」と、「実施例６」を「実施例４」とそれぞれ訂正する。
２０、段落【０１６６】の「実施例１４〜１５」を「実施例１１〜１２」と、「実施例１６」を「実施例１３」と、「実施例１４」を「実施例１１」と、「実施例１５」を「実施例１２」と、「実施例１６」を「実施例１２」とそれぞれ訂正する。
２１、段落【０１６７】の「実施例１４〜１６」を「実施例１１〜１３」と、「実施例１４、１５」を「実施例１１、１２」と、「実施例７」を「実施例５」とそれぞれ訂正する。
２２、段落【０１６８】の「実施例１２〜１６」を「実施例９〜１３」と訂正する。
２３、段落【０１６９】の「実施例１２、１５、１６」を「実施例９、１２、１３」と、「実施例１２、１６」を「実施例９、１３」とそれぞれ訂正する。
２４、段落【０１７０】の「実施例１２、１５、１６」を「実施例９、１２、１３」と、「実施例１２、１６」を「実施例９、１３」とそれぞれ訂正する。
（５４）【発明の名称】
透明積層体およびそれを用いたディスプレイ用フィルター
（５７）【特許請求の範囲】
　【請求項１】透明基体（Ａ）の一方の主面上に、
厚さ１０〜１００ｎｍの
厚さ４〜３０ｎｍの
厚さ１０〜１００ｎｍの
厚さが０．５〜５０μｍでありかつ波長５００〜６００ｎｍの光に対する屈折率が１．４５〜１．７の
層又は
＋１％以下
、ディスプレイ用フィルター用
　【請求項２】繰り返し単位数が３回であって、透明基体から数えて２番目の金属薄膜層が、１番目および３番目の金属薄膜層より厚いことを特徴とする請求項１に記載の透明積層体。
　【請求項３】透明基体（Ａ）から最もはなれて積層されている高屈折率透明薄膜（Ｂ）上に隣接して透明な粘着材又は透明な接着剤層が積層されて
おり、積層後の可視光線反射率の増加が＋１％以下であ
　【請求項４】高屈折透明薄膜層（Ｂ）が、インジウム、チタン、ジルコニウム、ビスマス、スズ、亜鉛、アンチモン、タンタルの酸化物から少なくとも１つ選ばれた酸化物であることを特徴とする請求項１〜３
のいずれか
　　【請求項５】高屈折率透明薄膜層（Ｂ）が、インジウム、スズ、チタンの酸化物から少なくとも１つ選ばれた酸化物であることを特徴とする請求項１〜４
のいずれか
　【請求項６】透明基体（Ａ）が透明な高分子成型物であることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の透明積層体。
　【請求項７】高屈折率透明薄膜層（Ｂ）が、主として酸化インジウムで構成されることを特徴とする請求項１〜６
のいずれか
　【請求項８】請求項１〜７のいずれかに記載の透明積層体と、該透明積層体の導電面上に形成された、金属を含む電極とを有することを特徴とするディスプレイ用フィルター。
　【請求項９】電極が、導電面上で、かつ、導電面の周縁部に連続的に形成されていることを特徴とする請求項８記載のディスプレイ用フィルター。
　【請求項１０】請求項１〜７のいずれかに記載の透明積層体と、該透明積層体の導電面上に形成された透明保護層（Ｄ）とを有することを特徴とするディスプレイ用フィルター。
　【請求項１１】透明保護層（Ｄ）の透湿度が、１０ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下であることを特徴とする請求項１０記載のディスプレイ用フィルター。
　
【請求項１２】
又は１１
　
【請求項１３】
　
【請求項１４】
１３
　
【請求項１５】
１３
　
【請求項１６】
【発明の詳細な説明】
　【０００１】
　【発明の属する技術分野】
　本発明は、透明積層体及びそれを用いたディスプレイ用フィルターに関する。さらに詳しくはプラズマディスプレイから発生する、健康に害をなすといわれている電磁波を遮蔽する電磁波シールド性、及び、周辺電子機器の誤操作をまねく近赤外線を遮断する赤外線カット性、透明性に優れる透明積層体、及び、それを用いた電磁波シールド性、近赤外線カット性、高透明性、低反射性、耐候性・耐環境性に優れ、さらにまた、防眩性、アンチニュートンリング性を兼ね備えたディスプレイ用フィルターに関する。
　【０００２】
　【従来の技術】
　社会が高度に情報化されてくるにしたがって、光エレクトロニクス関連部品、機器は著しく進歩、普及している。そのなかで、画像を表示するディスプレイはテレビジョン装置用、パーソナルコンピューターのモニタ装置用等として著しく普及し、また、その大型化とともに薄型化が進んでいる。近年、大型の薄型テレビ、薄型モニタなどの用途に適するものとして、プラズマディスプレイが注目され、すでに市場に出始めている。しかし、プラズマディスプレイは、その構造原理上、強度の漏洩電磁界を発生する。近年、漏洩電磁界の人体や他の機器に与える影響が議論されるようになっており、プラズマディスプレイから発生する漏洩電磁界を所定の基準値以内に抑えることが必要となってきている。この値の安全基準として、例えば、日本では、ＶＣＣＩ（Ｖｏｌｕｎｔａｌｙ　Ｃｏｎｔｒｏｌ　Ｃｏｕｎｃｉｌ　ｆｏｒ　Ｉｎｔｅｒｆｅｒｅｎｃｅ　ｂｙ　ｄａｔａ　ｐｒｏｃｅｓｓｉｎｇ　ｅｑｕｉｐｍｅｎｔ　ｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃ　ｏｆｆｉｃｅ　ｍａｃｈｉｎｅ）による基準があり、米国では、ＦＣＣ（Ｆｅｄｅｒａｌ　Ｃｏｍｍｕｎｉｃａｔｉｏｎ　ｃｏｍｍｉｓｓｉｏｎ）による安全基準がある。
　【０００３】
　またプラズマディスプレイは、強い近赤外線光を発し、コードレスフォンや赤外線リモートコントローラ等の電子機器に作用して誤動作を引き起こす原因となることがある。特に問題になる波長としては、赤外線リモートコントローラや伝送系光通信に使用されている８２０ｎｍと８８０ｎｍ、９８０ｎｍが挙げられる。そのため、プラズマディスプレイからの、近赤外領域である８００〜１０００ｎｍの波長領域の光を実用上問題ないレベルまでカットする必要がある。
　【０００４】
　上述したように、プラズマディスプレイを使用する際には、プラズマディスプレイから環境中に放射される電磁波及び近赤外線のレベルを低減することが必要であり、そのため、プラズマディスプレイに、電磁波シールド性及び近赤外線カット性を有するフィルターを取り付けることが検討されている。当然のことながら、このフィルターは、可視光に対しては透明性に優れていることが必要である。さらに、場合により、ディスプレイ前面に取り付けられることから、可視光の反射率が小さく、防眩性やアンチニュートンリング性に優れていることが望まれる。
　【０００５】
　近赤外線カット性に関しては、従来、近赤外線吸収色素を用いて近赤外吸収フィルターを作製することが知られているが、これには種々の問題がある。例えば、近赤外線吸収色素として、シアニン類は光に対する安定性が悪く実用的でない。また、アントラキノン類、ナフトキノン類は可視領域の吸収が大きく、これらを用いて近赤外線吸収フィルターを作製した場合は、フィルターの可視光線透過率が低くなるため問題となる。一方、フタロシアニン色素は耐光性も高く、７００〜８００ｎｍ領域での近赤外線光は良く吸収するが、誤動作が問題になる８００ｎｍ以上の波長はうまく吸収できないものもあり、また、ナフタロシアニン色素は比較的高価である。一般に、近赤外線吸収色素は、湿度、熱、光といった環境による劣化が生じ、経時とともに近赤外線カット性やフィルターの色目といった光学特性の変化が生じてしまう問題があった。
　【０００６】
　プラズマディスプレイは、強度かつ広い近赤外線波長領域に渡って問題となる近赤外線を発するため、広い波長領域に渡って近赤外領域の吸収率の大きい近赤外吸収フィルターを使用する必要がある。しかし、問題とならない程度まで近赤外線の透過率を下げるためには、フィルターに含有させる色素の量を増やさなければならず、それに伴う、可視光線透過率の低下が問題となる。
　【０００７】
　プラズマディスプレイ用フィルターとして満たすべき要求性能は、電磁波シールド能等もあるため、要求性能の増加に伴う部材の増加は、コストの問題や、部材の貼り合わせで生じる可視光線透過率減少、貼り合わせ界面による反射強度の増加等の問題につながる。
　【０００８】
　プラズマディスプレイ用フィルターとして使用する際には、プラズマディスプレイからでる近赤外線、電磁波をカットするためにディスプレイの前面に設置するため、可視光線の透過率が低いと、画像の鮮明さが低下することになる。一般に、ディスプレイ用フィルターの可視光線透過率は高い程良く、少なくとも５０％以上、好ましくは６０％以上、さらに好ましくは７０％以上必要である。
　【０００９】
　また、漏洩電磁界（電磁波）を遮蔽するには、ディスプレイ表面を導電性の大きな物体でおおう必要がある。電磁波の遮蔽のためには、一般的には、アースされた金属メッシュ、または合成樹脂または金属繊維のメッシュに金属被覆したものを用いるが、これらの方法は、ディスプレイから発する光を透過しない部分が生じたり、モワレ縞発生、歩留りの悪さによるコスト高などが問題となる。そこでＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ　Ｔｉｎ　Ｏｘｉｄｅ）に代表される透明導電膜を電磁波シールド層に用いることも検討されている。このような透明導電膜に通常要求される導電性は、面抵抗として１０５Ω／□以下、好ましくは１０３Ω／□以下である。
　【００１０】
　透明導電膜としては、金、銀、銅、白金、パラジウムなどの金属薄膜；酸化インジウム、酸化第２スズ、酸化亜鉛等の酸化物半導体薄膜；金属薄膜と高屈折率透明薄膜を交互に積層した多層薄膜などがある。この中で、金属薄膜による透明導電膜は、高い導電性は得られるが、広い波長領域にわたる金属の反射及び吸収により、可視光線透過率の高いものは得られない。また、酸化物半導体薄膜を用いたものは、金属薄膜を用いたものに比べて透明性に優れるが導電性に劣り、また近赤外線の反射能は乏しい。プラズマディスプレイから生じる電磁波は非常に強度であり、ＩＴＯを透明導電層とした電磁波シールド体で、プラズマディスプレイが発する電磁波を遮蔽するものは得られていない。また、プラズマディスプレイの電磁波シールド能を有し、かつディスプレイの透明性を損なわない高透明な電磁波シールド材、または、さらに近赤外線カット能を有する電磁波シールド材も得られていない。
　【００１１】
　これらに対し、金属薄膜と高屈折率透明薄膜とを積層した多層薄膜は、銀などの金属の持つ導電性及び光学的特性と、高屈折率透明薄膜の、ある波長領域における金属による反射の防止により、導電性、近赤外線カット能、可視光線透過率のいずれにおいても好ましい特性を有している。
　【００１２】
　金属薄膜と高屈折率透明薄膜とを積層した多層薄膜を用いた積層体は、特公平８−３２４３６号公報に開示があるが、プラズマディスプレイの強度の電磁波、近赤外線を抑止するに十分な性能はなく、また、ディスプレイ用フィルターとしての用途は記載されていない。
　【００１３】
　また、透明導電層に薄膜を用いた場合は、一般に薄膜形成面が耐擦傷性に乏しいという問題点がある。また、透明導電層が金属薄膜もしくは金属薄膜を高屈折率透明薄膜で挟み込んだ多層薄膜である場合は、使用環境中のガスにより薄膜が化学変化又は物理変化を起こしてしまう問題がある。特に金属薄膜に銀を用いている場合は、高温高湿下において銀が凝集し、白化現象が生じ、ディスプレイ用フィルターの視認性が低下してしまう。したがって、透明導電層として薄膜を用いた場合、特に金属薄膜と高屈折率透明薄膜を交互に積層した多層薄膜を用いた場合、薄膜は耐擦傷性、環境安定性に劣るため、薄膜の保護を目的とした透明保護層を必要とする場合がある。
　【００１４】
　また、ディスプレイ用フィルターは、ディスプレイの全面に設置されることから、高透明、低反射性が要求される。さらに、場合により、アンチニュートンリング層が要求される。このため、直接、又は透明な粘着材・接着剤を介して反射防止層を薄膜形成面上に設ける場合や、同じく直接又は透明な粘着材・接着剤を介してアンチニュートンリング層を薄膜形成面上に設ける場合がある。
　【００１５】
　しかしながら、透明積層体において、透明導電層上に透明保護層や、反射防止層、アンチニュートンリング層、透明な粘着材層・接着剤層を形成すると、透明積層体の光学特性の変化、特に、可視光反射強度の増加とそれに伴う透明性の低下が生じてしまい、ひいてはこのような透明積層体を用いたディスプレイ用フィルターの可視光反射強度の増加とそれに伴う透明性の低下が生じてしまう。
　【００１６】
　【発明が解決しようとする課題】
　本発明の課題は、上記従来技術に鑑み、高透明性、さらにはプラズマディスプレイから発生する、健康に害をなすといわれている電磁波を遮蔽する電磁波シールド性、及び、周辺電子機器の誤操作をまねく近赤外線を遮断する赤外線カット性に優れる透明積層体、及び、それを用いた電磁波シールド性、近赤外線カット性、高透明性、低反射性、耐候性・耐環境性に優れ、さらにまた、防眩性、アンチニュートンリング性を兼ね備えたディスプレイ用フィルターを提供することである。
　【００１７】
　【課題を解決するための手段】
本発明者らは、上記の問題を解決するために鋭意検討を重ねた結果、プラズマディスプレイから発生する非常に強度で、特に問題となる２０〜１００ＭＨｚ帯域の電磁波を遮蔽し、さらには、プラズマディスプレイの発する強度の近赤外線光を周辺機器誤動作が起こらない程度に抑止することができるディスプレイ用フィルターを得るためには、透明基体（Ａ）の一方の主面上に高屈折率透明薄膜層（Ｂ）と、銀又は銀の合金からなる金属薄膜層（Ｃ）との組合せ（Ｂ）／（Ｃ）を繰り返し単位として３回以上繰り返し積層され、さらにその上に１層の高屈折率透明薄膜層（Ｂ）が少なくとも積層されてなる、面抵抗３Ω／□以下、可視光線透過率５０％以上、８２０ｎｍより長波長の領域の光線透過率が２０％以下であることを特徴とする透明積層体が好ましいことを見いだし本発明を完成するに到った。
　【００１８】
　すなわち、本発明は、（１）透明基体（Ａ）の一方の主面上に、高屈折率透明薄膜層（Ｂ）と、銀又は銀を含む合金からなる金属薄膜層（Ｃ）とが、高屈折率透明薄膜層（Ｂ）と金属薄膜層（Ｃ）との組合せ（Ｂ）／（Ｃ）を繰返し単位として３回以上繰り返して積層され、さらにその上に、高屈折率透明薄膜層（Ｂ）が少なくとも積層されてなり、金属薄膜層と高屈折率透明薄膜層との積層構造によって導電面が構成され、該導電面における面抵抗が３Ω／□以下であり、可視光線透過率が５０％以上であり、かつ、８２０ｎｍより長波長の領域の光線透過率が２０％以下であることを特徴とする透明積層体、（２）繰返し回数が３回であって、透明基体から数えて２番目の金属薄膜層が、１番目および３番目の金属薄膜層より厚いことを特徴とする（１）記載の透明積層体、（３）高屈折率透明薄膜層のうち、透明基体から最もはなれて積層されている高屈折率透明薄膜層上に、透明な粘着材層または透明な接着剤層を積層しても、可視光線反射率の増加が２％以下であることを特徴とする（１）又は（２）記載の透明積層体、（４）透明基体（Ａ）が透明な高分子成形物であることを特徴とする（１）〜（３）のいずれかに記載の透明積層体、（５）高屈折率透明薄膜層（Ｂ）が、主として酸化インジウムで構成されることを特徴とする（１）〜（４）のいずれかに記載の透明積層体、（６）透明基体（Ａ）が色素を含有していることを特徴とする（１）〜（５）のいずれかに記載の透明積層体、（７）ディスプレイ用フィルターにおいて、（１）〜（６）のいずれかに記載の透明積層体と、該透明積層体の導電面上に形成された、金属を含む電極とを有することを特徴とするディスプレイ用フィルター、（８）電極が、導電面上で、かつ、導電面の周縁部に連続的に形成されていることを特徴とする（７）記載のディスプレイ用フィルター、（９）ディスプレイ用フィルターにおいて、（１）〜（６）のいずれかに記載の透明積層体と、該透明積層体の導電面上に形成された透明保護層（Ｄ）とを有することを特徴とするディスプレイ用フィルター、（１０）透明保護層の透湿度が、１０ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下であることを特徴とする（９）記載のディスプレイ用フィルター、（１１）透明保護層が形成された面における可視光線反射率が２％以下であることを特徴とする（９）又は（１０）記載のディスプレイ用フィルター、（１２）透明保護層の表面に、０．１〜１０μｍの大きさの微小な凹凸が形成されていることを特徴とする（９）又は（１０）記載のディスプレイ用フィルター、（１３）　ディスプレイ用フィルターにおいて、（１）〜（６）のいずれかに記載の透明積層体と、透明成形体（Ｅ）とを有し、透明積層体の主面と透明成形体の一方の主面とが貼り合わせていることを特徴とするディスプレイ用フィルター、（１４）透明成形体の他方の主面に、反射防止層、アンチグレア層およびアンチニュートンリング層のいずれかが形成されていることを特徴とする（１３）記載のディスプレイ用フィルター、（１５）（１３）のディスプレイ用フィルターの両方の主面にアンチニュートンリング層が形成されていることを特徴とするディスプレイ用フィルター、（１６）ディスプレイ用フィルターにおいて、��１）〜（６）のいずれかに記載の透明積層体と、金属を含む電極、透明保護層（Ｄ）、反射防止層、アンチニュートンリング層、アンチグレア層、および透明成形体（Ｅ）からなる群から選ばれた２種類以上の付加層を備えてなることを特徴とするディスプレイ用フィルター、（１７）電極以外の付加層のいずれかに色素が含有されていることを特徴とする（１６）記載のディスプレイ用フィルター、（１８）　ディスプレイ用フィルターにおいて、（１）〜（６）のいずれかに記載の透明積層体と、反射防止層、アンチニュートンリング層およびアンチグレア層の中から選ばれた１種の層からなる第１の部材と、透明成形体（Ｅ）と、透明保護層（Ｄ）および金属を含む電極の中から選ばれた１種以上からなる第２の部材とを有し、第１の部材、透明成形体、透明積層体、第２の部材の順に構成されていることを特徴とするディスプレイ用フィルター、（１９）ディスプレイ用フィルターにおいて、（１）〜（６）のいずれかに記載の透明積層体と、色素を含有する透明成形物（Ｆ）とを有し、８２０ｎｍより長波長の領域の光線透過率が１０％以下であることを特徴とするディスプレイ用フィルター、（２０）プラズマディスプレイに取り付けられて使用されるフィルターにおいて、（１）〜（６）のいずれかに記載の透明積層体を有し、８２０ｎｍより長波長の領域の光線透過率が１０％以下であることを特徴とするプラズマディスプレイ用フィルターに関するものである。
　【００１９】
　【発明の実施の形態】
　本発明の透明積層体は、透明基体（Ａ）の一方の主面上に、高屈折率透明薄膜層（Ｂ）と、銀又は銀を含む合金からなる金属薄膜層（Ｃ）との組合せ、（Ｂ）／（Ｃ）を繰り返し単位として３回以上繰り返し積層され、さらにその上に高屈折率透明薄膜層（Ｂ）が少なくとも積層されてなり、金属薄膜層と高屈折率透明薄膜層との積層構造によって導電面が構成され、該導電面における面抵抗が３Ω／□以下であり、可視光線透過率が５０％以上であり、８２０ｎｍより長波長の領域の光線透過率が２０％以下のものである。
　【００２０】
　本発明において、透明基体（Ａ）としては、ガラス、石英等の無機化合物成形物と透明な有機高分子成形物があげられるが、高分子成形物は軽く割れにくいため、より好適に使用できる。高分子成形物は可視波長領域において透明であればよく、その種類を具体的にあげれば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエーテルサルフォン、ポリスチレン、ポリエチレンナフタレート、ポリアリレート、ポリエーテルエーテルケトン、ポリカーボネート、ポリプロピレン、ポリイミド、トリアセチルセルロース等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。これら透明な高分子成形物は、主面が平滑であれば板（シート）状であってもフィルム状であってもよい。シート状の高分子成形物を基体として用いた場合には、基体が寸法安定性と機械的強度に優れているため、寸法安定性と機械的強度に優れる透明積層体が得られ、特にそれが要求される場合には好適に使用できる。
　【００２１】
　また、透明な高分子フィルムは可撓性を有しており透明導電層をロール・ツー・ロール法で連続的に形成することができるため、これを使用した場合には効率よく、また、長尺大面積に透明積層体を生産できることや、フィルム状の透明積層体をディスプレイのガラスやディスプレイ用フィルターのガラス支持体に貼り付けることによりガラス破損時の飛散防止になることから、これもまた好適に使用できる。この場合フィルムの厚さは通常１０〜２５０μｍのものが用いられる。フィルムの厚さが１０μｍ未満では、基材としての機械的強度に不足し、厚さが２５０μｍを超えると可撓性が不足するためフィルムをロールで巻きとって利用するのに適さない。
　【００２２】
　これらの基体は、その表面に予めスパッタリング処理、コロナ処理、火炎処理、紫外線照射、電子線照射などのエッチング処理や、下塗り処理を施して、この基体上に形成される薄膜層の上記基体に対する密着性を向上させるようにしてもよい。透明基体と薄膜層との密着力を増強させるために、例えば、その間に任意の無機物層を形成してもよい。具体的な材料としては、ニッケル、クロム、金、銀、白金、亜鉛、ジルコニウム、チタン、タングステン、スズ、パラジウム等、あるいはこれらの材料の２種類以上からなる合金があげられるが、特にこれらに限定されるものではない。その厚さは、透明性を損なわない程度の厚さであればよく、好ましくは０．０２ｎｍ〜１０ｎｍ程度である。無機物層の厚さが薄いと密着力向上の十分な効果が得られず、逆に厚すぎると透明性が損なわれる。形成される薄膜層が酸化物であると、該無機物層の金属の一部または全部は、実際には金属酸化物となっているが、密着力向上の効果に問題はない。また、薄膜層を成膜する前に、必要に応じて溶剤洗浄や超音波洗浄などの防塵処理を施してもよい。
　【００２３】
　本発明においては、かかる透明基体（Ａ）の一方の主面上に、高屈折率透明薄膜層（Ｂ）と金属薄膜層（Ｃ）を交互に積層する。その際、各金属薄膜層（Ｃ）は、それぞれ両面から高屈折率透明薄膜層（Ｂ）によってはさまれるように配置する。
　【００２４】
　ところで、電磁波遮蔽は、電磁波シールド体における電磁波の反射及び吸収の効果によってなされる。電磁波の吸収には、電磁波シールド体に導電性が必要であり、プラズマディスプレイ用電磁波シールド体には、非常に低抵抗な導電層が要求される。また、ディスプレイから発生する電磁波をすべて吸収するには、導電層にはある値以上の厚みが必要であるが、導電層、つまり、主たる導電層である金属薄膜層を厚くすると高屈折率透明薄膜層を用いても可視光線透過率の低いものとなってしまう。したがって、多層積層により反射界面を増やし、電磁波の反射を増やすことも重要である。
　【００２５】
　電磁波シールド能を表すシールド効果は、電磁波エネルギーをどの程度減衰させるかを表し、その大きさはデシベル（ｄＢ）で表される。シールド効果（ＳＥ）は、次に示す式（１）で表される相対評価であり、この数値が大きいほどシールド効果があるといえる。Ｅｉは入射電界強度、Ｅｔは伝送電界強度つまりシールド体を透過した電磁波の電界強度を示し、いずれも単位はＶ／ｍである。
ＳＥ＝２０Ｌｏｇ（Ｅｉ／Ｅｔ）　（１）
　【００２６】
　漏洩電磁界の規制値は、絶対値である放射電界強度で示され、その単位はｄＢμＶ／ｍである。測定対象物から３ｍ離れた規制直は、工業用途を対象とする場合は５０ｄＢμＶ／ｍであり、家庭用途を対象とする場合は４０ｄＢμＶ／ｍである。プラズマディスプレイの放射電界強度は２０〜１００ＭＨｚ帯域内で、対角２０インチ型程度で４０ｄＢμＶ／ｍ、対角４０インチ型程度で５０ｄＢμＶ／ｍを越えているため、このままでは家庭用途に使用することはできない。家庭用途としては実用的には放射電界強度を４０ｄＢμＶ／ｍ以下、好ましくは３５ｄＢμＶ／ｍ以下、より好ましくは３０ｄＢμＶ／ｍ以下にする必要がある。プラズマディスプレイ単体の放射電界強度が５０ｄＢμＶ／ｍである場合は、１０ｄＢ以上、好ましくは１５ｄＢ以上、より好ましくは２０ｄＢ以上のシールド効果を有する電磁波シールドを必要とするのである。
　【００２７】
　本発明者らは、上記のプラズマディスプレイに対する十分なシールド効果を達成するには、電磁波シールド体とすべき透明積層体が、多層積層による多くの電磁波反射界面を有し、かつ、面抵抗３Ω／□以下、好ましくは２．５Ω／□以下、さらに好ましくは２Ω／□以下の低抵抗な導電性が必要であることを見いだした。
　【００２８】
　また、プラズマディスプレイは、強度の近赤外線を発するため、近赤外領域である８００〜１０００ｎｍの波長領域の光を実用的に問題とならない程度にカットする必要がある。例えば８２０ｎｍにおける光線透過率を１０％以下にする必要があるが、部材数低減の要求や色素を用いた近赤外線吸収の限界から電磁波シールド体自体が近赤外線カット性を持つことが望ましい。近赤外線吸収色素を併用する場合は、電磁波シールド体に要求される近赤外線カット性は上記要求性能より低いものになるが、電磁波シールド体の近赤外線カット性があまり低いと近赤外線吸収色素の必要量が多くなり、従って可視光線透過率の減少を招いてしまう。そのため、電磁波シールド体である透明積層体は、８２０ｎｍより長波長の領域における光線透過率が、２０％以下であることが望ましい。
　【００２９】
　近赤外線カットには、金属の自由電子による反射を用いることができるが、金属薄膜層を厚くすると前述したように可視光線透過率も低くなり、薄くすると近赤外線の反射が弱くなる。そこで、ある厚さの金属薄膜層を高屈折率透明薄膜層で挟み込んだ積層構造を２段以上重ねることにより、可視光線透過率を高くし、かつ全体的な金属薄膜層の厚さを増やすことができ、また、層数及び／またはそれぞれの層の厚さを制御することにより可視光線透過率、可視光線反射率、近赤外線の透過率、透過色、反射色をある範囲で変化させることができる。
　【００３０】
　可視光線透過率が低いと、ディスプレイ設置時に画像の鮮明さが低下するため、ディスプレイ用フィルターの可視光線透過率は高い方が良く、少なくとも５０％以上、好ましくは６０％以上、さらに好ましくは７０％以上必要である。そのため、透明積層体の可視光線透過率は、少なくとも５０％以上、好ましくは６０％以上、さらに好ましくは７０％以上である。
　【００３１】
　ディスプレイの発光輝度が高いと、コントラストをあげるためにニュートラル・デンシティ（ＮＤ）フィルターが必要となる場合があり、ディスプレイ用フィルターはＮＤフィルターの役割も果たすことが好ましい。従ってディスプレイ用フィルターの可視光線透過率は８０％以下であることを要求されることもある。さらにフィルターの透過色は、ディスプレイのコントラスト等に大きく影響し、プラズマディスプレイ用フィルターには、緑色は不適であり、ニュートラルグレー、または、ニュートラルブルーであることが要求される。さらに、可視光線反射率が高いと、画面への照明器具等の映り込みが大きくなり、視認性が低下する。反射色としても、目立たない、白色、青色、紫色系が好ましい。このためにも、光学的に設計、制御しやすい多層積層が好ましくなる。なお、本発明における可視光線透過率、可視光線反射率とは、透過率及び反射率の波長依存性から、ＪＩＳ（日本工業規格）Ｒ−３１０６に従って計算されるものである。
　【００３２】
　本発明の透明積層体において、金属薄膜層（Ｃ）は、銀又は銀を含む合金からなる薄膜層である。なかでも銀は、導電性、赤外線反射性および多層積層したときの可視光線透過性に優れているため好適に使用できる。しかし、銀は化学的、物理的安定性に欠け、環境中の汚染物質、水蒸気、熱、光等によって劣化するため、銀に、金、白金、パラジウム、銅、インジウム、スズ等の環境に安定な金属を一種以上含んだ合金も好適に使用できる。ここで、銀を含む合金の銀の含有率は、特に限定されるものではないが銀単体薄膜の導電性、光学特性と大きく変わらないことが望ましく、５０重量％以上１００重量％未満程度とすることが好ましい。一般に、銀に他の金属を添加すると、銀の優れた導電性、光学特性を阻害するので、可能であれば、多層薄膜を構成する複数の金属薄膜層のうち少なくとも１つの層は、銀を合金にしないで用いることが望ましい。金属薄膜層のすべてが、合金ではない銀からなる場合、優れた導電性および光学特性を有する透明積層体が得られるが、耐環境性が必ずしも十分ではない。
　【００３３】
　本発明の透明積層体は、上述したように、面抵抗３Ω／□以下、可視光線透過率５０％以上、８２０ｎｍより長波長の領域（少なくとも８２０〜１０００ｎｍの領域）の光線透過率が２０％以下であることを特徴とする透明積層体である。このような透明積層体は、透明基体（Ａ）の一方の主面上に高屈折率透明薄膜層（Ｂ）と、銀又は銀を含む合金からなる金属薄膜層（Ｃ）との組合せ（Ｂ）／（Ｃ）を繰り返し単位として３回以上繰り返し積層し、さらにその上に１層の高屈折率透明薄膜層（Ｂ）を少なくとも積層することによって得られ、電磁波のシールド性のための電磁波反射界面数の多い、低抵抗性、近赤外線カット性、透明性に優れたものである。
　【００３４】
　本発明において、繰り返し積層数は、３回〜６回が好ましい。つまり、本発明による透明積層体の好ましい層構成は、（１）透明基体／高屈折率透明薄膜層／銀又は銀を含む合金からなる金属薄膜層（以下、金属薄膜層という）／高屈折率透明薄膜層／金属薄膜層／高屈折率透明薄膜層／金属薄膜層／高屈折率透明薄膜層、または、（２）透明基体／高屈折率透明薄膜層／金属薄膜層／高屈折率透明薄膜層／金属薄膜層／高屈折率透明薄膜層／金属薄膜層／高屈折率透明薄膜層／金属薄膜層／高屈折率透明薄膜層、または、（３）透明基体／高屈折率透明薄膜層／金属薄膜層／高屈折率透明薄膜層／金属薄膜層／高屈折率透明薄膜層／金属薄膜層／高屈折率透明薄膜層／金属薄膜層／高屈折率透明薄膜層／金属薄膜層／高屈折率透明薄膜層、または、（４）透明基体／高屈折率透明薄膜層／銀又は銀を含む合金／高屈折率透明薄膜層／金属薄膜層／高屈折率透明薄膜層／金属薄膜層／高屈折率透明薄膜層／金属薄膜層／高屈折率透明薄膜層／金属薄膜層／高屈折率透明薄膜層／金属薄膜層／高屈折率透明薄膜層である。繰り返し回数が２回以下であると、近赤外線の低透過率、可視光線の低反射率、低抵抗性を同時に達成するのは困難であり、繰り返し回数が７回以上だと生産装置の制限、生産性の問題が大きくなり、また、可視光線透過率が低くなる。
　【００３５】
　金属薄膜層の厚さは導電性、光学特性等から光学設計的かつ実験的に求められ、透明積層体が要求特性を持てば特に限定されるものではないが、導電性等の観点から、金属薄膜層における金属原子の集合状態が島状構造ではなく連続状態であることが必要なので、金属薄膜層の４ｎｍ以上であることが望ましい。金属薄膜層が厚すぎると透明性が問題になるので３０ｎｍ以下が望ましい。
　【００３６】
　金属薄膜層に隣接する高屈折率透明薄膜層が酸化物であると、金属薄膜層の金属の一部は、実際には金属酸化物となっていることがある。しかしながら、金属薄膜層におけるこのような金属酸化物の領域は、非常に薄い領域であるため光学設計及び成膜上において、問題となることはない。また、ｎ層（ｎ≧３）ある金属薄膜層は、同じ厚さとは限らない。各金属薄膜層の組成も同一とは限らない。すなわち、金属薄膜層の積層順に応じて、金属薄膜層中の銀の含有量や、銀以外に使用する金属の種類を変えるようにしてもよい。金属薄膜層の形成には、スパッタリング、イオンプレーティング、真空蒸着、メッキ等、従来公知の方法のいずれでも採用できる。
　【００３７】
　本発明において高屈折率透明薄膜層（Ｂ）とは、可視光に対して透明性を有し、金属薄膜層との屈折率の差によって、金属薄膜層における可視域の光線反射を防止する効果を有するものであれば特に限定されるものではないが、可視光線に対する屈折率が１．６以上、好ましくは１．７以上の屈折率の高い材料が用いられる。このような透明薄膜を形成する具体的な材料としては、インジウム、チタン、ジルコニウム、ビスマス、スズ、亜鉛、アンチモン、タンタル、セリウム、ネオジウム、ランタン、トリウム、マグネシウム、ガリウム等の酸化物、または、これら酸化物の混合物や、硫化亜鉛などが挙げられる。これら酸化物あるいは硫化物は、金属と酸素あるいは硫黄と化学量論的な組成にズレがあっても、光学特性を大きく変えない範囲であるならば差し支えない。なかでも、酸化インジウムや酸化インジウムと酸化スズの混合物（ＩＴＯ）は、透明性、屈折率に加えて、成膜速度が速く金属薄膜層との密着性等が良好であることから好適に使用できる。また、ＩＴＯといった比較的高い導電性を持つ酸化物半導体薄膜を用いることによって、電磁波の吸収層を増やし、また透明積層体の導電性を上げることができる。
　【００３８】
　各高屈折率透明薄膜層の厚さは、透明基体の光学特性、金属薄膜層の厚さ、光学特性、および、高屈折率透明薄膜層の屈折率等から光学設計的かつ実験的に求められ、特に限定されるものではないが、５ｎｍ以上、２００ｎｍ以下であることが好ましく、より好ましくは１０ｎｍ以上、１００ｎｍ以下である。また、ｍ層（ｍ≧４）ある高屈折率透明薄膜は、同じ厚さとは限らず、また、同じ透明薄膜材料でなくともよい。高屈折率透明薄膜層の形成には、スパッタリング、イオンプレーティング、イオンビームアシスト、真空蒸着、湿式塗工等、従来公知の方法のいずれでも採用できる。
　【００３９】
　各種の成膜方法の中でスパッタリングは、膜厚制御、多層積層には好適であり、金属薄膜層と高屈折率透明薄膜層を容易に繰り返し連続的に成膜できる。具体例として実施例において後述するが、主として酸化インジウムで構成される高屈折率透明薄膜層と銀または銀を含む合金からなる金属薄膜層をスパッタリング法により連続成膜する。主として酸化インジウムで構成される高屈折率透明薄膜層の形成には、インジウムを主成分とする金属ターゲットまたは酸化インジウムを主成分とする焼結体ターゲットを用いた反応性スパッタリングを行う。反応性スパッタリング法においては、スパッタガスにはアルゴン等の不活性ガス、反応性ガスには酸素を用い、通常圧力０．１〜２０ｍＴｏｒｒ、直流（ＤＣ）あるいは高周波（ＲＦ）マグネトロンスパッタリング法等が利用できる。酸素ガス流量は得られる成膜速度等から実験的に求められ、所望の透明性を持つ薄膜が得られるように制御する。銀または銀を含む合金からなる金属薄膜層の形成には、銀または銀を含む合金をターゲットとしたスパッタリングを行う。スパッタガスには、アルゴン等の不活性ガスを用い、通常、圧力０．１〜２０ｍＴｏｒｒ、直流（ＤＣ）あるいは高周波（ＲＦ）マグネトロンスパッタリング法等が利用できる。
　【００４０】
　本発明において、透明積層体の機械的強度や耐環境性を向上させるために、透明基体（Ａ）の導電面ではない面に透明性を有するハードコート層を設けたり、導電面の最表面に、導電性、光学特性を損なわない程度に任意の保護層を設けてもよい。また、金属薄膜層の耐環境性や金属薄膜層と高屈折率透明薄膜層との密着性等を向上させるため、金属薄膜層と高屈折率透明薄膜層の間に、導電性、光学特性を損なわない程度に任意の無機物層を形成してもよい。具体的な材料としては銅、ニッケル、クロム、金、白金、亜鉛、ジルコニウム、チタン、タングステン、スズ、パラジウム等あるいはこれらの材料の２種類以上からなる合金があげられる。その厚さは、好ましくは０．０２ｎｍ〜２ｎｍ程度で、厚さが薄すぎると密着力向上の十分な効果が得られない。高屈折率透明薄膜層が酸化物であると、該無機物層の金属の一部または全部は、実際には金属酸化物となっているがその効果に問題はない。さらには、透明積層体の主面に単層又は多層の任意の反射防止層を設けることによって、さらに透過率の高い透明積層体を得ることもできる。
　【００４１】
　所望の光学特性の透明積層体を得るには、透明基体および薄膜材料の屈折率、消光係数を用いたベクトル法、アドミッタンス図を用いる方法等を使った光学設計を行い、各層の薄膜材料及び、層数、膜厚等を決定する。また、光学特性を観察しながら、層数、膜厚等を制御して成膜を行うこともできる。
　【００４２】
　しかしながら、金属薄膜層を高屈折率透明薄膜層で挟み込んだ積層構造を１段以上重ねた多層積層の透明積層体は、透明な粘着材・接着剤を介して機能性フィルムを薄膜形成面上に貼り合わせたり、薄膜保護を目的とした透明保護層を薄膜形成面上に直接形成したりすると、一般に光学特性が変化しやすく、特に可視光線反射強度の増加とそれに伴う透過率の低下が生じてしまう。これは、透明積層体への光の入射または出射媒体として屈折率１、消光係数０の真空または空気を用いて光学設計を行うことや、成膜時の観察を、同様の条件下で行っていることに起因していた。透明積層体が真空または空気中で可視光線反射強度が低くなるよう、光学設計または成膜を行った場合、そのままでは可視光線反射強度の低い透明積層体が得られる。しかしながら、透明な粘着材・接着剤や透明保護層といった隣接層が薄膜形成面上に形成されると、光の入射または出射媒質の光学特性、特に屈折率が異なるため、透明薄膜層と媒質の間の界面反射が変化すること、また、各薄膜層間、各薄膜層−媒質間の光の干渉状態が変化するためで、光学特性、特に可視光線波長領域における反射強度が変化してしまう。以下の説明においては、金属薄膜層と高屈折率透明薄膜層からなる多層積層構造のことを透明多層薄膜と呼ぶ。
　【００４３】
　従って、光の入射または出射媒質を、薄膜形成面上に形成する予定の隣接層の屈折率、消光係数を用いて、光学設計を行えばよい。隣接層は、先述した透明な粘着材層・接着剤層や透明保護層であり、その厚みは通常１μｍ以上、薄くとも０．５μｍ以上であり、透明多層薄膜の厚みに比べ十分厚いので、光の入射または出射媒質と見なせる。透明な粘着材・接着剤または透明保護層に用いる材料の屈折率や消光係数は、アッベ屈折計や、エリプソメトリー（楕円偏光解析法）等を用いることによって測定することができる。また、高屈折率透明薄膜層（Ｂ）、銀又は銀を含む合金からなる金属薄膜層（Ｃ）の屈折率、消光係数はエリプソメトリー等を用いることができる。
　【００４４】
　アドミッタンス図を用いる方法は、透明基体の光学定数（屈折率、消光係数）、透明基体上に形成する薄膜の光学定数及び膜厚、さらにその上に形成する第１層の薄膜の光学定数及び膜厚、さらにまたその上に形成する第２層の薄膜の光学定数及び膜厚、・・・に従って、積層体の光学アドミッタンスを求める手法で、光の入射または出射媒質の光学アドミッタンスに近い値に設計するほど媒質と透明薄膜層の界面反射を小さくすることができる。従って、透明積層体の光学アドミッタンスと隣接層の光学アドミッタンスに近い値に設計するほど媒質と透明薄膜層の界面反射を小さくすることができる。光学アドミッタンスはガウス単位系では複素屈折率Ｎに数値的に等しいものである。ここでＮはＮ＝ｎ−ｉ・ｋ（ｎ：屈折率、ｋ：消光係数）である。複素屈折率つまりは光学アドミッタンスは波長に依存している。
　【００４５】
　ところで、ヒトにおいては、５００〜６００ｎｍの波長領域は視感度が高いため、この波長領域の反射を低くすることにより、視感上の可視光線反射率を低下させることができる。従って、この波長領域の光学アドミッタンスを重視して光学設計を行えばよい。
　【００４６】
　機能性フィルムを透明積層体の薄膜形成面上に貼り合わせる際には、透明な粘着材・接着剤を用いる。具体的な材料として、アクリル系接着剤、シリコン系接着剤、ウレタン系接着剤、ポリビニルブチラール接着剤（ＰＶＢ）、エチレン−酢酸ビニル系接着剤（ＥＶＡ）等、ボリビニルエーテル、飽和無定形ポリエステル、メラミン樹脂等があげられる。このような透明な粘着材や接着剤の光学特性は、５００〜６００ｎｍにおいて屈折率は１．４５〜１．７程度、消光係数はほぼ０である。
　【００４７】
　透明積層体は、その表面、裏面を考慮した反射すなわち両面の反射が、透明多層薄膜の形成面上、すなわち最上層の高屈折率透明薄膜層（Ｂ）上に透明な粘着材・接着剤を形成しても、反射が大きく増加しないことが好ましい。すなわち、透明基体／透明多層薄膜／透明な粘着材・接着剤の両面の反射が、透明積層体、すなわち透明基体／透明多層薄膜の両面の反射より大きく増加しないことが好ましい。好適には、可視光線反射率の増加が２％以下であり、さらに好適には１％以下で、さらには、可視光線反射率が増加しない、またさらには可視光線反射率が減少することが好適である。このような透明積層体を得ることによって、透明な粘着材・接着剤を介して貼り合わせを行っても、可視光線反射率の低く、それにともなって可視光線透過率の高いディスプレイ用フィルターを得ることができるのである。
　【００４８】
　透明な粘着材・接着剤を介して貼り合わせを行うことを考慮して、光学アドミッタンスを用いる手法で光学設計を行うと、透明基体（Ａ）の一方の主面上に、高屈折率透明薄膜層（Ｂ）および銀又は銀を含む合金からなる金属薄膜層（Ｃ）との組合せ（Ｂ）／（Ｃ）を繰り返し単位として３回繰り返し積層し、さらにその上に１層の高屈折率透明薄膜層（Ｂ）を積層し、かつ、透明基体（Ａ）から数えて２番目の金属薄膜層（Ｃ）を、１番目および３番目の金属薄膜層（Ｃ）より厚くすることにより、透明な粘着材・接着剤の光学アドミッタンスに近い光学アドミッタンスを有する透明積層体を得ることができ、従って、透明な粘着材・接着剤を薄膜形成面上に形成しても、可視光線反射率の増加が２％以下である透明積層体を得ることができることが分かった。
　【００４９】
　上記の方法により形成した、高屈折率透明薄膜層および銀又は銀を含む合金からなる金属薄膜層の原子組成は、オージェ電子分光法（ＡＥＳ）、誘導結合プラズマ法（ＩＣＰ）、ラザフォード後方散乱法（ＲＢＳ）等により測定できる。また、層構成および膜厚は、オージェ電子分光の深さ方向観察、透過型電子顕微鏡による断面観察等により測定できる。また膜厚は、成膜条件と成膜速度の関係をあらかじめ明らかにした上で成膜を行うことや、水晶振動子等を用いた成膜中の膜厚モニタリングにより制御できる。
　【００５０】
　上記のようにして本発明の透明積層体を得るが、先述した様に、薄膜は耐擦傷性、耐環境性に乏しく、薄膜が剥き出しのままではディスプレイ用フィルターとして使用することが難しい。従って、薄膜を保護する透明保護層（Ｄ）を形成することが好ましい。本発明でいうところの透明保護層（Ｄ）とは、可視波長領域において透明であり、かつ、薄膜を保護する機能を有するもので、該機能を有する膜、該機能を有する高分子フィルム、高分子シート、ガラス等の透明な成形物、または、該機能を有する膜が形成されているものを示している。透明保護層（Ｄ）を形成する基体に、該機能を有する膜を塗布、印刷または従来公知の各種成膜法により形成しても、該機能を有する膜を形成した透明な成形物、または、該機能を有する透明な成形物を任意の透明な粘着材・接着剤を介して貼り付けても良い。これら透明保護層の作成方法は特に制限を受けない。透明な成形物の種類、厚さも特に制限を受けない。
　【００５１】
　本発明の透明積層体を構成する銀は、化学的、物理的安定性に欠け、環境中の汚染物質、水蒸気等によって劣化し、凝集、白化現象を起こすため、透明積層体の薄膜形成面には、薄膜が使用環境中の汚染物質、水蒸気にさらされないようにガスバリア性を有する層で被覆することが肝要である。
　【００５２】
　該透明保護層（Ｄ）がガスバリア性を有していると好適である。必要とされるガスバリア性は、透湿度で１０ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下、好ましくは５ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下、さらに好ましくは１ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下である。本発明でいうところのガスバリア性を有する透明保護層とは、可視波長領域で透明かつ前記ガスバリア性を有する層であり、ガスバリア性を有する膜、又は、ガスバリア性を有する膜が形成されている透明な成形物、ガスバリア性を有する透明な成形物などが挙げられる。
　【００５３】
　ガスバリア性を有する透明保護層を透明積層体に設ける際には、ガスバリア性を有する膜を、化学的気相成長法（ＣＶＤ）、蒸着、スパッタリング、イオンプレーティング、塗布、印刷、その他従来公知の各種成膜法により形成しても良いし、ガスバリア性を有する高分子フィルム、高分子シート、ガラス、または、ガスバリア性を有する膜を形成した高分子フィルム、高分子シートを任意の透明な粘着材・接着剤を介して貼り付けても良いし、さらには部材を貼り合わせる透明な粘着材・接着剤がガスバリア性を有していても良い。これらガスバリア性を有す透明保護層の作製方法は特に制限を受けない。
　【００５４】
　ガスバリア性を有する膜の具体例としては、酸化珪素、酸化アルミニウム、酸化スズ、酸化インジウム、酸化イットリウム、酸化マグネシウム等、またはこれらの混合物、またはこれらに他の元素を微量に添加した金属酸化物薄膜や、ポリ塩化ビニリデンほか、アクリル系樹脂、シリコン系樹脂、メラミン系樹脂、ウレタン系樹脂、フッ素系樹脂等が挙げられるが、特にこれらに限定されるものではない。これら膜の厚さは、金属酸化物薄膜の場合１０〜２００ｎｍ、樹脂の場合１〜１００μｍ程度であり、単層でも多層でも良いが、これもまた特に制限されるものではない。
　【００５５】
　また、水蒸気透湿度が低い高分子フィルムとしては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ナイロン、ポリ塩化ビニリデンや、塩化ビニリデンと塩化ビニル、塩化ビニリデンとアクリロニトリルの共重合物、フッ素系樹脂等が挙げられるが、透湿度が１０ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下、好ましくは５ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下、さらに好ましくは１ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下であれば特に限定されるものではない。透湿度が比較的高い場合でも、フィルムの厚みを増やすことや適当な添加物を加えることにより、透湿度は低下する。従って、上記の透湿度を達成するに十分な厚みを有するポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリアリレート、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエーテルサルフォン等でも良い。
　【００５６】
　電磁波に対するシールドとして本発明のディスプレイ用フィスターを用いる場合、透明積層体の導電面に電極を設けてディスプレイの本体と透明積層体とを電気的に接続することが広く行われている。このため、透明保護層（Ｄ）を形成する際に肝要なことは、ディスプレイ用フィルターの導電面に形成される金属を含む電極とディスプレイ本体との電気的接触を妨げないようにすることである。すなわち、電極形成部分を除いて薄膜形成面全てを透明保護層（Ｄ）で被覆するようにすれば良い。
　【００５７】
　銀又は銀を含む合金からなる金属薄膜の劣化を抑制するには、上述したような透明保護層を設けるほか、銀又は銀を含む合金の劣化を抑制する化合物を任意の溶剤に溶かし込み、本発明の透明積層体の薄膜形成面の表面または端面に塗布しても良い。
　【００５８】
　本発明において、透明積層体あるいはディスプレイ用フィルターを構成する各部材の貼り合わせには、任意の透明な粘着材・接着剤を使用できる。この際肝要なことはディスプレイからの光線透過部である中心部分に用いられる粘着材または接着剤は可視光線に対して充分透明である必要がある。粘着材または接着剤は、実用上の接着強度があればシート状のものでも液状のものでもよい。粘着材は感圧型接着剤でシート状のものが好適に使用できる。シート状粘着材貼り付け後または接着材塗布後に各部材をラミネートすることによって貼り合わせを行う。液状のものは塗布、貼り合わせ後に室温放置または加熱により硬化する接着剤であり、接着剤の塗布方法としては、バーコート法、リバースコート法、グラビアコート法、ダイコート法、ロールコート法等が挙げられるが、接着剤の種類、粘度、塗布量等から考慮、選定される。粘着材もしくは接着剤層の厚みは、特に限定されるものではないが、０．５μｍ〜５０μｍ、好ましくは１μｍ〜３０μｍである。粘着材または接着剤を用いて貼り合わせた後は、貼り合わせ時に部材間に入り込んだ空気を脱泡または、粘着材または接着剤に固溶させ、さらには部材間の密着力を向上させる為に、加圧、加温の条件で養生を行うことが好ましい。このとき、加圧条件としては、一般的に数気圧〜２０気圧以下程度であり、加温条件としては各部材の耐熱性に依るが、一般的には室温以上、８０以下程度であるが、これらに特に制限を受けない。
　【００５９】
　また特に、ある種の機能を有するフィルムを透明積層体の薄膜形成面側に貼り合わせる場合、その際に使用する透明な粘着材・接着剤が、または、接着剤・粘着材／該フィルムの水蒸気透湿度が１０ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下、好ましくは５ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下、さらに好ましくは１ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下のガスバリア性を有している場合は、より好適に使用できる。
　【００６０】
　一般に、電磁波シールドを必要とする機器には、機器のケース内部に金属層を設けたり、ケースに導電性材料を使用して電波を遮蔽する。ディスプレイの如く透明性が必要である場合には、透明導電層膜を形成した窓状の光学部材すなわちディスプレイ用フィルターを設置する。電磁波は導電層において吸収されたのち電荷を誘起するため、アースをとることによって電荷を逃がさないと、再び電磁波シールド体がアンテナとなって電磁波を発振し電磁波遮蔽能が低下する。従って、電磁波シールド性を付与したディスプレイ用フィルターは、ディスプレイ装置本体のケース内部の導電部に、電気的にオーミックにコンタクトしていることが好ましい。そのため、透明積層体は通電部分である薄膜形成面が一部剥き出されており、前述の透明保護層をはじめとする薄膜形成面に形成される層は、電気的接触を得る部分以外に形成されている必要がある。
　【００６１】
　透明積層体に対する電気的接触を良好とするために、透明積層体の導電面に金属を含む電極を形成することが好ましい。電極形状は特に限定するものではない。しかしながら、ディスプレイ用フィルターと電磁波シールドを必要とする機器の間に、電磁波の漏洩する隙間が存在しないことが肝要であり、また、金属を含む電極と透明導電層の間に空気の層が存在しないことが重要である。従って、透明積層体の導電面すなわち薄膜形成面上且つ周縁部に連続的に、金属を含む電極を形成すると好適である。すなわち、ディスプレイからの光線透過部である中心部分を除いて、枠状にかつ凹凸がないように金属を含む電極を形成する。これは、電極が、透明導電層で電磁波が吸収されたときに誘起される電荷を効率的にディスプレイ本体のケース内部へ逃がす役割も担っているからである。電極形状の具体例を図１に示す。透明成形体３０の上に透明積層体１０が形成され、かつ、透明積層体１０の表面に、矩形の枠状に電極２０が形成されている。電極２０は透明積層体１０の周縁部に沿って配置している。なお、電極の形状はここに示すものに限定されるものではない。
　【００６２】
　また、透明積層体の透明導電層（透明多層薄膜）、金属を含む電極、ディスプレイ本体のケース内部の比抵抗が大きく異なると、これらの接触部分でインピーダンス差が生じ、その部分で電磁波が放出されてしまう。通常、ケース内部の導電層は金属層であり、比抵抗は１０−５Ω・ｃｍ以下であるのに対し、透明導電層の比抵抗は１０−５〜１０−４Ω・ｃｍ以上である。従って、電極は比抵抗１×１０−３Ω・ｃｍ以下であることが好ましい。
　【００６３】
　電極に用いる材料は、導電性、耐触性および導電面との密着性等の点から、銀、金、銅、白金、ニッケル、アルミニウム、クロム、鉄、亜鉛、等の単体もしくは２種以上からなる合金や、合成樹脂と銀または銀を含む合金の混合物、もしくは、ホウケイ酸ガラスと銀または銀を含む合金の混合物からなる銀ペーストを使用できる。電極形成にはメッキ法、真空蒸着法、スパッタ法など、銀ペーストといったものは印刷、塗工する方法など従来公知の方法を採用できる。金属を含む電極の厚さは、これもまた特に限定されるものではないが、一般的には、数μｍ〜数ｍｍ程度である。
　【００６４】
　電極が形成されていない透明積層体をディスプレイ用フィルターとして用いた場合、このディスプレイ用フィルターにおいて、ディスプレイ本体と電気的に接触する部分は、通電部である透明導電層が剥き出しとなる。透明導電層に用いられる薄膜は、先述した如く、耐擦傷性、耐環境性に乏しいため、ディスプレイ本体との電気的接触部分において透明導電層が剥き出しになっていると、信頼性の低下等につながる。このため、ディスプレイ用フィルターとして用いる場合には、透明導電層が剥き出しではなく、電極が形成されていることが肝要なのである。金属を含む電極が十分厚い場合は、電極が透明導電層の保護層となり、耐擦傷性、耐環境性を付与することができる。このように、全透明導電層形成面上が、透明保護層か電極で被覆されていることが望ましい。どちらも形成されていない部分が存在すると、その部分から環境中の汚染物質、水蒸気が入り込み、白化現象が生じてしまう。
　【００６５】
　透明基体（Ａ）として高分子フィルムを用いた場合、前記のようにして得られた透明積層体は、強度やディスプレイとの貼り合わせ時の平面性、設置方法などの観点から、主面の平滑な板状の透明成形体（Ｅ）と貼り合わせて用いることが望ましい。貼り合わせば、透明成形体（Ｅ）の主面と、透明積層体の薄膜形成面でない主面を透明な粘着材・接着剤を介して行うと、電極を形成し易く、かつ、ディスプレイ本体と電気的接触を得るのに好適である。
　【００６６】
　電磁波シールド能を必要としないディスプレイ用フィルターの場合、貼り合わせば透明積層体のどちらの主面でも良い。このとき、薄膜形成面を透明成形体（Ｅ）の主面と貼り合わせる場合は透明な粘着材・接着剤及び／又は透明成形体（Ｅ）が透明保護層の役割を有していればよい。
　【００６７】
　透明成形体としては、機械的強度や、軽さ、割れにくさから、可視域において透明なプラスチック板が望ましいが、熱による変形等の少ない熱的安定性からガラス板も好適に使用できる。プラスチック板の具体例を挙げると、ポリメタクリル酸メチル（ＰＭＭＡ）をはじめとするアクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、透明ＡＢＳ樹脂等が使用できるが、これらの樹脂に限定されるものではない。特にＰＭＭＡはその広い波長領域での高透明性と機械的強度の高さから好適に使用できる。プラスチック板の厚みは十分な機械的強度と、たわまずに平面性を維持する剛性が得られればよく、特に限定されるものではないが、通常１ｍｍ〜１０ｍｍ程度である。ガラス板を透明成形体（Ｅ）として使用する場合は、機械的強度を付加するために化学強化加工または風冷強化加工を行った半強化ガラス板または強化ガラス板を用いることが望ましい。
　【００６８】
　ディスプレイ用フィルターは、フィルターの主面とディスプレイ表面を密着させて使用する場合、ディスプレイ表面とディスプレイ用フィルターの密着度が部分によって異なるために、それによって生じる間隙を原因とするニュートンリングが発生してしまう。そのため、ディスプレイ用フィルターのディスプレイ表面と密着する主面上には、アンチニュートンリング層を形成することが好ましい。電磁波シールドを目的としてディスプレイ用フィルターとの電気的接触を得る場合、アンチニュートンリング層が金属を含む電極とディスプレイ本体との接触を妨げることがあってはならない。
　【００６９】
　また、ディスプレイヘの照明器具等の映り込みによって表示画面が見づらくなってしまうため、ディスプレイ用フィルターの人側すなわち装着したときのディスプレイ本体側の反対側の面に、反射防止層を形成することにより外光反射を抑制するか、アンチグレア層を形成することによって防眩性を持たせることが必要である。さらに、ディスプレイ用フィルターの外光反射は、装着したときのディスプレイ本体側の面にも反射防止層を形成することによって、さらに低減できる。また、反射防止層の形成により、ディスプレイ用フィルターの反射を減じることによって、光線透過率を向上させることができる。アンチグレア層、反射防止層もまた、透明積層体の導電面側に形成される場合は、金属を含む電極とディスプレイ用フィルターの電気的接触を妨げてはならない。
　【００７０】
　ここで、アンチニュートンリング層、アンチグレア層、反射防止層とは、各機能を有する膜、または、対応する機能を有する膜が形成されているものを示しているのであって、各層を形成する基体に、各機能を有する膜を塗布または印刷または従来公知の各種成膜法により形成しても、各機能を有する膜を形成した透明成形物、または、各機能を有する透明成形物を任意の透明な粘着材・接着剤を介して貼り付けても良い。これらの作成方法は特に制限を受けない。透明成形物の種類、厚さも特に制限を受けない。
　【００７１】
　透明積層体の、透明導電層側にアンチニュートンリング性及び／又はアンチグレア性、又は反射防止性が要求される場合に、透明保護層（Ｄ）がアンチニュートンリング性及び／又はアンチグレア性、又は反射防止性を有していると好適である。この場合は、透明保護層（Ｄ）上にさらに各機能を有する層を形成する必要がない。また、逆に、アンチニュートンリング層、アンチグレア層、反射防止層が、透明保護層の役割、すなわち耐擦傷性やガスバリア性等を有している場合も好適である。これらは、構成部材数または構成層数が減ることにより工程、コスト、部材間の界面反射を減じることができるからである。
　【００７２】
　反射防止層は、反射防止膜を形成する基体の光学特性を考慮し、前述したような光学設計によって反射防止膜の構成要素及び各構成要素の膜厚を決定する。反射防止層は、反射防止膜が形成されている面の可視光線反射率が２％以下、好ましくは１．５％以下、より好ましくは０．５％以下の性能を有することが望ましい。反射防止膜が形成されている面の可視光線反射率は、反対面（反射防止膜が形成されていない面）をサンドペーパーで荒らし、黒色塗装等により、反対面の反射を無くして、反射防止膜が形成されている面のみでおこる反射光を測定することにより測定される。
　【００７３】
　反射防止層として具体的には、可視域において屈折率が１．５以下、好適には１．４以下と低い、フッ素系透明高分子樹脂やフッ化マグネシウム、シリコン系樹脂や酸化珪素の薄膜等を例えば１／４波長の光学膜厚で単層形成したもの、屈折率の異なる、金属酸化物、フッ化物、ケイ化物、ホウ化物、炭化物、窒化物、硫化物等の無機化合物またはシリコン系樹脂やアクリル樹脂、フッ素系樹脂等の有機化合物の薄膜を２層以上多層積層したものがある。単層形成したものは、製造が容易であるが、反射防止性が多層積層に比べ劣る。多層積層したものは、広い波長領域にわたって反射防止能を有し、基体の光学特性による光学設計の制限が少ない。これらの無機化合物薄膜は、スパッタリング、イオンプレーティング、イオンビームアシスト、真空蒸着、湿式塗工等、従来公知の方法のいずれでも採用できる。有機化合物薄膜は、湿式塗工等、従来公知の方法を採用できる。
　【００７４】
　また、先述した如く、透明積層体の薄膜形成面側に形成する反射防止層、すなわち、反射防止膜、反射防止膜を形成した透明な成形物、または、反射防止膜を有する透明な成形物が、ガスバリア性を有していると、部材低減につながるため、好適である。具体例としては、酸化珪素やフッ素系樹脂を１／４波長の光学膜厚で単層形成したポリエチレンテレフタレートフィルムや、フッ素系樹脂フィルムが挙げられ、これらは、水蒸気透湿度が低く、また、反射防止能を有している。さらには薄膜上に形成することによって耐擦傷性を付与することができる。
　【００７５】
　本発明でいうところのアンチニュートンリング層とアンチグレア層は、用途が異なるだけで、０．１μｍ〜１０μｍ程度の微少な凹凸の表面状態を有する可視光線に対して透明な層を指している。アンチニュートンリング層はアンチグレア性を有している。特に具体的には、アクリル系樹脂、シリコン系樹脂、メラミン系樹脂、ウレタン系樹脂、アルキド系樹脂、フッ素系樹脂等の熱硬化型又は光硬化型樹脂に、シリカ、メラミン、アクリル等の無機化合物または有機化合物の粒子を分散させインキ化したものを、バーコート法、リバースコート法、グラビアコート法、ダイコート法、ロールコート法等によって基体上に塗布、硬化させる。粒子の平均粒径は、１〜４０ｉｍである。または、アクリル系樹脂、シリコン系樹脂、メラミン系樹脂、ウレタン系樹脂、アルキド系樹脂、フッ素系樹脂等の熱硬化型又は光硬化型樹を基体に塗布し、所望のヘイズまたは表面状態を有する型を押しつけ硬化することによってもアンチニュートンリング層またはアンチグレア層を得ることができる。さらには、例えばガラス板をフッ酸等でエッチングするように、基体を薬剤処理することによってもアンチグレア層を得ることができる。この場合は、処理時間、薬剤のエッチング性により、アンチグレア層のヘイズを調節する事ができる。要は適当な凹凸を有することが重要であり、必ずしも上記方法に限定されるものではない。アンチグレア層またはアンチニュートンリング層のヘイズは０．５％以上２０％以下であり、好ましくは１％以上１０％以下である。ヘイズが小さすぎるとアンチグレア能またはアンチニュートンリング能が不十分であり、ヘイズが大きすぎると平行光線透過率が低くなり、ディスプレイの視認性が悪くなる。
　【００７６】
　また、透明積層体の薄膜形成面側の主面に、アンチニュートンリング性及び／又はアンチグレア性を要する場合、アンチニュートンリング及び／又はアンチグレア性を有する膜、またはアンチニュートンリング及び／又はアンチグレア性を有する膜を形成した透明な成形物、または、アンチニュートンリング及び／又はアンチグレア性を有する透明な成形物が、ガスバリア性を有していると、部材低減につながるため、好適である。具体例としては、前述の透明保護層中に上記のような無機化合物または有機化合物の粒子を分散させて透明保護層がアンチニュートンリング性及び／又はアンチグレア性を付与する。また、アンチニュートンリング及び／又はアンチグレア性を有する膜を形成したポリエチレンテレフタレートフィルムが水蒸気透湿度が低い場合は、このフィルムを薄膜形成面上に透明な粘着材・接着剤を介して貼り合わせればよく、薄膜上に形成することによって耐擦傷性も付与することができる。
　【００７７】
　ディスプレイ用フィルターがディスプレイ本体に密着せずに離れて設置される場合等、ディスプレイ用フィルターのアンチグレア層がディスプレイ表面から比較的距離があると、画像の拡散によるボケが生じる場合がある。この為このような設置方法の場合は、アンチグレア層は防眩性を維持し、且つ、ディスプレイから適当距離はなしても画像のボケのないヘイズのものを選択することが肝要である。
　【００７８】
　本発明のディスプレイ用フィルターは、上述したように、透明積層体と、金属を含む電極、透明保護層（Ｄ）、反射防止層、アンチニュートンリング層、アンチグレア層、および透明成形体（Ｅ）からなる群から選ばれた２種類以上の付加層を備えてなることが好ましい。
　【００７９】
　さらには、ディスプレイ用フィルターに耐擦傷性を付加させるために、特にフィルターのディスプレイ側でない方の表面に、光学特性をはじめとするディスプレイ用フィルターの特性を損なわない程度に透明性を有するハードコート層を形成しても良い。アンチグレア層がハードコート性を有していても良いし、反射防止層がハードコート性を有していても良い。ハードコート層が透明積層体の薄膜形成面側に要される場合は、透明保護層がハードコート性を有していると好適である。
　【００８０】
　ところで、ディスプレイ表面には、静電気帯電によりホコリが付着しやすく、また、人体が接触したときに放電して電気ショックを受けることがあるため、静電防止処理を行うことが必要とされる場合がある。静電防止能については、ディスプレイ表面に導電層を直接形成するか、導電層を有する部材をディスプレイ表面に張り付け、導電層をアースすることにより解決できる。従って、ディスプレイ用フィルターに静電防止能を付与するために、ディスプレイ用フィルターの利用者側となる面に、導電層を設けても良い。この場合に導電層は面抵抗で１０８Ω／□程度以下であれば良く、また、ディスプレイ画面の透明性や解像度を損なうものであってはならない。
　【００８１】
　静電防止能を有するディスプレイ用フィルターは、静電防止用の透明導電層が以下のように形成されていればよい。（１）アンチグレア層上に透明導電層を形成する、（２）反射防止層またはアンチグレア層が透明導電性を有している、である。（１）の方法では、すでに述べたＩＴＯをはじめとする公知の透明導電膜を前述したような方法で成膜するか、ＩＴＯを成膜した高分子フイルムを貼り合わせることによって、静電防止用の透明導電層を形成する。この際肝要なことは、静電防止用の透明導電層を形成しても防眩性をあまり損なわないことである。アンチグレア層上に静電防止用の透明導電層を形成する場合は、静電防止能の要求する導電性は比較的低くて良いため、防眩性を損なわない程度の薄い膜で十分効果がある。（２）の方法では、アンチグレア層中にＩＴＯ超微粒子や酸化スズ超微粒子をはじめとする導電性超微粒子を分散させたものであり、反射防止層の場合は、反射防止層の構成要素として透明導電膜を含めて光学設計を行えばよい。具体例を挙げれば、基体／ＩＴＯ／含ケイ素化合物／ＩＴＯ／含ケイ素化合物、基体／ＩＴＯ／含フッ素化合物等が挙げられる。
　【００８２】
　本発明の透明積層体は、電磁波シールド能に加え、近赤外線カット性を有するが、透明積層体が８２０ｎｍより長波長の領域での光線透過率が１０％満たない場合、積層体の近赤外線カット能を補填するために、近赤外線吸収色素を併用しても良い。また、先述したように、ディスプレイ用フィルターはニュートラルグレーまたはニュートラルブルーの透過色が望ましく、積層体の色調を調整し、上記のような透過色のディスプレイ用フィルターを得るために、可視領域に吸収のある市販の色素を調色用色素として併用しても良い。
　【００８３】
　色素を含有させる方法としては、（１）透明積層体の透明基体（Ａ）に色素を含有させたり、（２）透明積層体に貼り合わせられたり、透明積層体に形成される透明成形体（Ｅ）、透明保護層（Ｄ）、反射防止層、アンチグレア層、アンチニュートリング層、ハードコート層のいずれか１つ以上に色素を含有させたり、（３）貼り合わせに使用される透明な粘着材・接着剤のいずれか一つ以上に色素を含有させたり、（４）ディスプレイ用フィルターの構成要素として、ディスプレイ用フィルターを構成する各部材のいずれかの間に、任意の透明な粘着材・接着剤を介して色素を含有する透明成形物（Ｆ）を貼り合わせたりする方法がある。このように色素を含有させたディスプレイ用フィルターは、色素が近赤外線吸収色素である場合は薄膜による近赤外線カット能を補填し、近赤外線カット能に優れ、色素が調色用色素の場合は、透過色すなわち色調に優れる。本発明でいうところの色素とは、可視波長領域に吸収を有する調色用色素、または、近赤外波長領域に吸収を有する近赤外線吸収色素を示している。
　【００８４】
　本発明で用いる近赤外線吸収色素は、積層体の近赤外線カット能を補填し、プラズマディスプレイの発する強度の近赤外線を充分実用的になる程度に吸収するものであれば、特に限定されるものではなく、濃度も限定されるものではない。しかしながら、以下の式（１）（化１）または式（２）（化２）で表されるジチオール錯体化合物、またはそれらの少なくとも１種以上の混合物である場合、本発明のディスプレイ用フィルターは、よりすぐれた近赤外線カット能を有することができる。下記式（１）、（２）の化合物は市販されているので、入手可能である。
　【００８５】
　【化１】
［式中、Ａ１〜Ａ８は各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、チオシアナート基、シアナート基、アシル基、カルバモイル基、アルキルアミノカルボニル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、置換又は未置換のアルキル基、置換又は未置換のアリール基、置換又は未置換のアルコキシ基、置換又は未置換のアリールオキシ基、置換又は未置換のアルキルチオ基、置換又は未置換のアリールチオ基、置換又は未置換のアルキルアミノ基、あるいは置換又は未置換のアリールアミノ基を表し、かつ、隣合う２個の置換基が連結基を介してつながっていてもよく、Ｒ１〜Ｒ４は各々独立に置換又は未置換のアルキル基、置換又は未置換のアリール基を表し、Ｍはニッケル、白金、パラジウムまたは銅を表し、Ｘは窒素原子又はリン原子を表す。］
　【００８６】
　【化２】
［式中、Ｂ１〜Ｂ４は各々独立に、水素原子、シアノ基、アシル基、カルバモイル基、アルキルアミノカルボニル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、置換又は未置換のアルキル基、置換又は未置換のアリール基を表し、かつ、隣合う２個の置換基が連結基を介してつながっていてもよく、Ｍはニッケル、白金、パラジウムまたは銅を表す。］
　【００８７】
　可視領域に吸収のある市販の調色用色素の濃度は、色素の吸収係数、調色を要する透明積層体の色調、可視光線透過率およびディスプレイ用フィルターに要する色調、可視光線透過率等から決まり、特に限定されるものではない。可視領域において異なる吸収波長を有する調色用色素を２種類以上使用しても良い。
　【００８８】
　本発明でいう含有とは、基材の内部に含有されることは勿論、基材の表面に塗布した状態、基材と基材の間に挟まれた状態等を意味する。ここでいう基材とは前述した透明積層体の透明基体（Ａ）、透明積層体を貼り合わせる透明成形体（Ｅ）、透明保護層（Ｄ）、反射防止層、アンチグレア層、アンチニュートンリング層、ハードコート層のいずれか、または、ディスプレイ用フィルターに挟み込む、近赤外線吸収色素を含有させる透明成形物（Ｆ）である。透明保護層（Ｄ）、反射防止層、アンチグレア層、アンチニュートンリング層、ハードコート層は各機能を有する膜中に色素を含有していても、各機能を有する膜が色素を含有する透明成形物（Ｆ）上に形成されていていても良い。色素を含有する透明成形物（Ｆ）としては、透明プラスチック板、透明高分子フィルム、ガラス等が挙げられる。色素の含有量は、前述の如く、透明積層体の光学特性とディスプレイ用フィルターに必要とする光学特性に依る。
　【００８９】
　色素を用いて、色素を含有する透明成形物（Ｆ）を作製する方法としては、特に限定されるものではないが、例えば、以下の３つの方法が利用できる。
（１）樹脂に色素を混練し、加熱成形してプラスチック板或いは高分子フィルムを作製する方法、（２）色素を含有する塗料を作製し、透明プラスチック板、透明高分子フィルム、或いは透明ガラス板上にコーティングする方法、（３）色素を接着剤に含有させて、合わせプラスチック板、合わせ高分子フイルム、合わせガラス等を作製する方法、等である。
　【００９０】
　まず、樹脂に色素を混練し、加熱成形する（１）の方法において、樹脂材料としては、プラスチック板または高分子フィルムにした場合にできるだけ透明性の高いものが好ましく、具体例として、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリアクリル酸、ポリアクリル酸エステル、ポリ酢酸ビニル、ポリアクリロニトリル、ポリ塩化ビニル、ポリフッ化ビニル等のビニル化合物、及びそれらのビニル化合物の付加重合体、ポリメタクリル酸、ポリメタクリル酸エステル、ポリ塩化ビニリデン、ポリフッ化ビニリデン、ポリシアン化ビニリデン、フッ化ビニリデン／トリフルオロエチレン共重合体、フッ化ビニリデン／テトラフルオロエチレン共重合体、シアン化ビニリデン／酢酸ビニル共重合体等のビニル化合物又はフッ素系化合物の共重合体、ポリトリフルオロエチレン、ポリテトラフルオロエチレン、ポリヘキサフルオロプロピレン等のフッ素を含む化合物、ナイロン６、ナイロン６６等のポリアミド、ポリイミド、ポリウレタン、ポリペプチド、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステル、ポリカーボネート、ポリオキシメチレン、ポリエチレンオキシド、ポリプロピレンオキシド等のポリエーテル、エポキシ樹脂、ポリビニルアルコール、ポリビニルブチラール等を挙げることが出来るが、これらの樹脂に限定されるものではない。
　【００９１】
　作製方法としては、用いる色素、ベース高分子成形体によって、加工温度、フィルム化条件等が多少異なるが、通常（ｉ）色素を、ペース高分子成形体の粉体或いはペレットに添加し、１５０〜３５０℃に加熱、溶解させた後、成形して樹脂板を作製する方法、（ｉｉ）押し出し機によりフィルム化する方法、（ｉｉｉ）押し出し機により原反を作製し、３０〜１２０℃で２〜５倍に、１軸乃至は２軸に延伸して１０〜２００μｍ厚のフィルムにする方法、等が挙げられる。なお、混練する際に、紫外線吸収剤、可塑剤等の通常の樹脂成型に用いる添加剤を加えてもよい。色素の添加量は、色素の吸収係数、作製する高分子成形体の厚み、目的の吸収強度、目的の可視光透過率等によって異なるが、通常、１ｐｐｍ〜２０重量％である。
　【００９２】
　塗料化してコーティングする（２）の方法としては、色素をバインダー樹脂及び有機系溶媒に溶解させて塗料化する方法、ジチオール錯体化合物を数ｉｍ以下に微粒化してアクリルエマルジョン中に分散して水系塗料とする方法、等がある。前者の方法では、通常、脂肪族エステル系樹脂、アクリル系樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、芳香族エステル系樹脂、ポリカーボネート樹脂、脂肪族ポリオレフィン樹脂、芳香族ポリオレフィン樹脂、ポリビニル系樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニル系変成樹脂（ＰＶＢ、ＥＶＡ等）或いはそれらの共重合樹脂をバインダー樹脂として用いる。
　【００９３】
　溶媒としては、ハロゲン系、アルコール系、ケトン系、エステル系、脂肪族炭化水素系、芳香族炭化水素系、エーテル系溶媒、あるいはそれらの混合物系等を用いる。
　【００９４】
　色素の濃度は、色素の吸収係数、コーティングの厚み、目的の吸収強度、目的の可視光透過率等によって異なるが、バインダー樹脂の重量に対して、通常、０．１〜３０％である。また、バインダー樹脂濃度は、塗料全体に対して、通常、１〜５０％である。
　【００９５】
　アクリルエマルジョン系水系塗料の場合も同様に、未着色のアクリルエマルジョン塗料にジチオール錯体化合物を微粉砕（５０〜５００ｎｍ）したものを分散させて得られる。塗料中には、紫外線吸収剤、酸化防止剤等の通常塗料に用いるような添加物を加えてもよい。
　【００９６】
　上記の方法で作製した塗料は、透明高分子フィルム、透明樹脂、透明ガラス等の上にバーコーダー、ブレードコーター、スピンコーター、リバースコーター、ダイコーター、或いはスプレー等でコーティングして、色素を含有する基材を作製する。コーティング面を保護するために保護層を設けたり、透明樹脂板、透明高分子フィルム等をコーティング面に貼り合わせることもできる。また、キャストフィルムも本方法に含まれる。
　【００９７】
　色素を接着剤に含有させて、合わせ樹脂板、合わせ樹脂フィルム、合わせガラス等を作製する（３）の方法においては、接着剤として、一般的なシリコン系、ウレタン系、アクリル系等の樹脂用、或いは合わせガラス用のポリビニルブチラール接着剤（ＰＶＢ）、エチレン−酢酸ビニル系接着剤（ＥＶＡ）等の合わせガラス用の公知の透明接着剤が使用できる。色素を０．１〜３０重量％添加した接着剤を用いて透明な樹脂板同士、樹脂板と高分子フィルム、樹脂板とガラス、高分子フィルム同士、高分子フィルムとガラス、ガラス同士を接着して作製する。
　【００９８】
　上記の色素を含有する接着剤は、透明積層体、透明積層体を貼り合わせる透明成形体（Ｅ）、透明保護層（Ｄ）、反射防止層、アンチグレア層、アンチニュートンリング層、色素を含有する透明成形物（Ｆ）等の各部材の貼り合わせに用いても良い。
　【００９９】
　また、プラズマディスプレイ用フィルターは、８００〜１０００ｎｍの波長領域で強度の近赤外線をカットする必要があり、このために必要であれば、上記の式（１）及び／または（２）で表されるジチオール錯体化合物を２種類以上組み合わせることもできる。また、さらに他の近赤外線吸収色素を１種類以上加えても良い。また、近赤外線抑止能に加えて、好適な色調を有するディスプレイ用フィルターを得るために、可視波長領域に吸収を有する調色用色素を１種類以上加えても良い。
　【０１００】
　色素含有のディスプレイ用フィルターの耐光性を上げるためにＵＶ吸収剤を含有した透明フィルム（ＵＶカットフィルム）を貼りつけることもできるし、ＵＶ吸収材を色素と共に含有させることもできる。
　【０１０１】
　本発明に基づくディスプレイ用フィルターの構成は、必要に応じて変えることができる。本発明の透明積層体およびディスプレイ用フィルターは、近赤外線抑止能に優れ、また、本発明のディスプレイ用フィルターは、通常一般の有機色素のみで近赤外線を抑止するディスプレイ用近赤外線カットフィルターに比較して、湿度、熱、光といった環境による劣化が少ない。また先述した式（１）（化１）または式（２）（化２）で表されるジチオール錯体化合物、またはそれらの少なくとも１種以上の混合物は、耐環境性に優れるため、これらを色素として併用した場合も劣化が少ないディスプレイ用フィルターが得られる。従って、本発明の積層体及びディスプレイ用フィルターは、近赤外線カットフィルターとしても好適に使用できる。
　【０１０２】
　以上説明したような本発明の透明積層体及びディスプレイ用フィルターの構成について、さらに詳しく説明する。図２に示す本発明の好ましい実施態様による透明積層体１０は、高分子フィルムなどからなる透明基体１１の一方の主面上に、透明導電層１２が形成されたものである。透明導電層１２は、透明基体１１の主面上に、４層の高屈折率透明薄膜層１３と３層の金属薄膜層１４を交互に積層することによって、形成されている。高屈折率透明薄膜層１３は、典型的には、主として酸化インジウムから構成されている。また、金属薄膜層１４は、銀又は銀を含む合金から構成されている。ここで示した透明積層体１０では、３層ある金属薄膜層１４のうち、中央の金属薄膜層１４が、他の金属薄膜層１４よりも厚く形成されている。
　【０１０３】
　図３に示す本発明の好ましい実施態様によるディスプレイ用フィルターは、図２に示す透明積層体１０を使用したものであって、透明積層体１０の主面のうち透明導電層１２が形成されていない方の主面が、透明成形体３０の一方の主面に貼り合わされている。透明成形体３０の他方の主面には、反射防止層５１として反射防止フィルムが貼り合わされている。透明導電層１２の表面のうち、周縁部を除く部分には、この透明導電層１２を保護するための透明保護層４０が貼り付けられている。また、透明導電層１２の表面のうち周縁部には、透明導電層１２の側面も覆うようにして、電極２０が形成されている。電極２０は、金属を含んでおり、透明導電層１２をアースするためのものである。電極２０の平面形状は、図１に示す通りである。このディスプレイ用フィルターが装着されるプラズマディスプレイにおいて、画面周縁部にアース用の導電層が形成されていれば、プラズマディスプレイにディスプレイ用フィルターを装着したときに、ディスプレイの導電層とフィルターの電極２０とが電気的に接触することになり、透明導電層１２のアースを行えることになる。また、枠状の部材によって、ディスプレイ用フィルターとディスプレイの画面部分とが隙間なく電気的に接続されることになり、漏洩電磁波を著しく低減することが可能になる。なお、透明導電層１２の保護のため、透明保護層４０が透明導電層１２を覆う部分と電極２０が透明導電層１２を覆う部分の間に隙間が生じないようにすることが重要である。
　【０１０４】
　本発明のディスプレイ用フィルターの用途、装着方法としては大きく分けて、以下のものが挙げられるが、これらに特に制限されるものではない。
（１）電磁波シールド能および近赤外線カット能を有するディスプレイ用フィルターでフィルター主面をディスプレイ画面に密着させて装着する。
（２）電磁波シールド能および近赤外線カット能を有するディスプレイ用フィルターでフィルター主面をディスプレイ画面から離して装着する。
（３）近赤外線カット能を有するディスプレイ用フィルターでディスプレイ画面に密着させて装着する。
（４）近赤外線カット能を有するディスプレイ用フィルターでフィルター主面をディスプレイ画面から離して装着する。
　【０１０５】
　以下、上述の各装着方法に応じ、本発明の好ましい実施態様による透明積層体及びディスプレイ用フィルターについて、図面を用いて説明する。（１）の場合、透明保護層がアンチニュートンリング層の機能を有し、かつディスプレイ側にアース用の導電層を有するディスプレイにフィルターを装着する場合には、通常、フィルターの電極がディスプレイ側に向くようにして装着する。図３のディスプレイ用フィルターを用いるとすると、ディスプレイ側から順に、（金属を含む電極２０・透明保護層４０）／透明積層体１０／透明成形体３０／反射防止層５１の順で構成される。反射防止層の代わりに、図４に示すようにアンチグレア層５２を設けても良い。
　【０１０６】
　一方、透明保護層４０がアンチニュートンリング層としての機能を有していない場合には、図５に示すように、透明保護層４０に、さらにアンチニュートンリング層４１を貼り合わせる。この場合、ディスプレイ側から、（電極２０・アンチニュートンリング層４１）／透明保護層４０／透明積層体１０／透明成形体３０／反射防止層５１の順で構成される。もちろん、反射防止層５１の代わりにアンチグレア層５２を設けても良い。
　【０１０７】
　さらに、ディスプレイ側にアース用の導電層が形成されていない場合などには、透明成形体３０と透明積層体１０との位置関係を上述とは逆にすることができる。この場合、透明保護層がアンチグレア層あるいは反射防止層としての機能を有するのであれば、図６に示すように、ディスプレイ側から、アンチニュートンリング層５３／透明成形体３０／透明積層体１０／（透明保護層４０・電極２０）となる。透明保護層４０がアンチグレア層あるいは反射防止層としての機能を有していない場合には、図７に示すように、ディスプレイ側から、アンチニュートンリング層５３／透明成形体３０／透明積層体１０／透明保護層４０／（反射防止層４２・電極２０）の順で積層する。図８に示すように、反射防止層４２の代わりにアンチグレア層４３を設けてよい。
　【０１０８】
　（２）の場合は、ディスプレイとディスプレイ用フィルターを装着させないことにより、アンチニュートンリング層を設けたり、透明保護層にアンチニュートンリング層としての機能を持たせる必要はなくなる。その代わり、ディスプレイ用フィルターの両方の主面に、反射防止性あるいはアンチグレア性を持たせるようにする必要がある。
　【０１０９】
　透明保護層が、反射防止層またはアンチグレア層としての機能を有している場合には、図３、４に示すようにディスプレイ用フィルターを構成する。ただし、ディスプレイ用フィルターのいずれの主面がディスプレイ側に向くかはアース用導電層のある位置によって決まる。透明保護層が、反射防止層またはアンチグレア層としての機能を有していない場合には、図７、８に示すディスプレイ用フィルターにおいて、アンチニュートンリング層５３を反射防止層５１あるいはアンチグレア層５２に置き換えたものを使用することができる。ただし、ディスプレイ用フィルターのいずれの主面がディスプレイ側に向くかは任意である。
　【０１１０】
　（３）の場合は、ディスプレイ用フィルターに電極は必要でない。透明保護層がアンチニュートンリング層としての機能を有している場合には、図９に示したように、ディスプレイ側から、透明保護層４０／透明積層体１０／透明成形体３０／反射防止層５１の順で構成される。反射防止層５１の代わりに、アンチグレア層５２を設けてもよい。透明保護層がアンチニュートンリング層の機能を有していない場合には、図１０に示すように、透明保護層４０にさらにアンチニュートンリング層４１を貼り合わせる。いずれの場合も、透明保護層４０は、側面も含めて透明積層体１０の全面を覆うように形成される。
　【０１１１】
　（４）の場合には、透明保護層が反射防止層またはアンチグレア層としての機能を有しているのであれば、通常、（反射防止層またはアンチグレア層）／透明積層体／透明成形体／（反射防止層またはアンチグレア層）の順でディスプレイ用フィルターが構成される。
　【０１１２】
　本発明のディスプレイ用フィルターにおいて、近赤外線吸収色素及び／又は調色用色素を用いる場合は、フィルターを構成する上述の各構成要素のいずれか１つ以上に色素を含有するか、色素を含有する透明成形物（Ｆ）を各構成要素の間のいずれかに挟み込む。例えば、上述の（２）の場合において透明保護層が反射防止層またはアンチグレア層としての機能を有する場合は、ディスプレイ側から、（金属電極・透明保護層）／透明積層体／透明成形体／色素を含有する透明成形物（Ｆ）／（反射防止層またはアンチグレア層）の順で構成される。色素を含有する透明成形物（Ｆ）上に反射防止性またはアンチグレア性を有する膜を直接形成しても良いし、各機能を有するフィルムを貼り合わせても良い。
　【０１１３】
　一般に、透明成形体（Ｅ）が透明な樹脂である場合は、透明成形体（Ｅ）に透明積層体や各機能を有する高分子フィルムを貼り合わせたとき、または、貼り合わせにより作製したディスプレイ用フィルターの使用時にディスプレイや使用環境による熱がかかったときに、ディスプレイ用フィルターが反ることがある。従って、反りが発生しないように貼り合わせを行うことが肝要である。各機能を有する高分子フィルムを貼り合わせる場合は、透明成形体（Ｅ）の片面のみではなく、両面にフィルムの張力等のバランスをとって貼り合わせることが重要である。貼り合わせを行わない場合は、透明成形体が反っていないことが肝要である。
　【０１１４】
　特に、ディスプレイに装着した時にディスプレイ用フィルターが利用者側に膨らむように反ると、画像の視認性が低下する。アンチグレア層を形成している場合は、画像のボケが生じる。
　【０１１５】
　上記（３）の場合、アンチニュートンリング層は、通常、アンチグレア性を有しており、さらにディスプレイ用フィルターの利用者側の面のアンチグレア層がアンチニュートンリング性を有していれば、フィルターのどちらの面もディスプレイ画面に密着させて用いることができる。すなわち両面にアンチニュートンリング層が形成されていることが好ましい。この場合は、ディスプレイ用フィルターの反り方向を確認してから、利用者側に膨らまずにディスプレイ本体に密着する好適な向きで装着すればよい。図１１はこのようなディスプレイ用フィルターの一例を示している。このディスプレイ用フィルターでは、第１のアンチニュートンリング層４１／透明保護層４０／透明積層体１０／透明成形体３０／第２のアンチニュートンリング層５３の順で積層している。
　【０１１６】
　本発明のディスプレイ用フィルターは、ディスプレイに装着したとき、装着用冶具、電極部分等が視認者から見えないようにするために、任意の額縁印刷を施して良い。印刷形状、印刷面、印刷色、印刷方法は特に特定されるものではない。また、ディスプレイに装着するための穴加工等の加工を施しても良い。さらに偏光フィルムや位相差フィルム等をつけて円偏光フィルターの性能を付加することで、ディスプレイ側からの反射光を抑えることができ、さらに優れたフィルターとなる。
　【０１１７】
　本発明のディスプレイ用フィルターは可視光線透過率が高いためディスプレイの鮮明度が損なわれず、ディスプレイから発生する健康に害をなすといわれている電磁波を遮蔽する電磁波シールド性に優れ、さらに、ディスプレイからでる８００〜１０００ｎｍ付近の近赤外線光を効率よくカットするため、伝送系光通信等が使用する波長に悪影響を与えることがなく、周辺にある電子機器の赤外線リモートコントローラの誤動作を防ぐことができる。また、耐候性・耐環境性に優れ、反射防止性または防眩性、アンチニュートンリング性を兼ね備えている。
　【０１１８】
　【実施例】
　つぎに、本発明を実施例により具体的に説明する。本発明はこれらによりなんら制限されるものではない。以下の実施例および比較例で示す薄膜の厚さは、成膜条件から求めた値であり、実際に測定した膜厚ではない。
［実施例１］
　２軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム（厚さ：５０ｉｍ）の一方の主面に、マグネトロンＤＣスパッタリング法により、ＩＴＯ薄膜（厚さ４０ｎｍ）、銀薄膜（厚さ１０ｎｍ）、ＩＴＯ薄膜（厚さ８０ｎｍ）、銀薄膜（厚さ１５ｎｍ）、ＩＴＯ薄膜（厚さ８０ｎｍ）、銀薄膜（厚さ１０ｎｍ）、ＩＴＯ薄膜（厚さ４０ｎｍ）の順に積層し、これによって、３層の金属薄膜層と４層の高屈折率透明薄膜層を有する本発明の透明積層体を作製した。ＩＴＯ薄膜は高屈折率透明薄膜層を構成し、銀薄膜は金属薄膜層を構成する。ＩＴＯ薄膜の成膜には、ターゲットとして酸化インジウム・酸化スズ焼結体（組成比Ｉｎ２Ｏ３：ＳｎＯ２＝９０：１０ｗｔ％）を、スパッタガスにはアルゴン・酸素混合ガス（全圧２６６ｍＰａ：酸素分圧５ｍＰａ）を用いた。また、銀薄膜の成膜には、ターゲットとして銀を用い、スパッタガスにはアルゴンガス（全圧２６６ｍＰａ）を用いた。
　【０１１９】
［比較例１］
　実施例１と同様にして、２軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム（厚さ：５０ｉｍ）の一方の主面に、ＩＴＯ薄膜（厚さ４０ｎｍ）、銀薄膜（厚さ１２ｎｍ）、ＩＴＯ薄膜（厚さ８０ｎｍ）、銀薄膜（厚さ１２ｎｍ）、ＩＴＯ薄膜（厚さ７０ｎｍ）、銀薄膜（厚さ１２ｎｍ）、ＩＴＯ薄膜（厚さ４０ｎｍ）の順で積層し、本発明の透明積層体を作製した。
　【０１２０】
［実施例
２
　実施例１と同様にして、２軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム（厚さ：５０ｉｍ）の一方の主面に、ＩＴＯ薄膜（厚さ４０ｎｍ）、銀薄膜（厚さ９ｎｍ）、ＩＴＯ薄膜（厚さ８０ｎｍ）、銀薄膜（厚さ１２ｎｍ）、ＩＴＯ薄膜（厚さ８０ｎｍ）、銀薄膜（厚さ９ｎｍ）、ＩＴＯ薄膜（厚さ４０ｎｍ）の順で積層し、本発明の透明積層体を作製した。
　【０１２１】
［
比較例２
　実施例１と同様にして、２軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム（厚さ：５０ｉｍ）の一方の主面に、ＩＴＯ薄膜（厚さ４０ｎｍ）、銀薄膜（厚さ１１ｎｍ）、ＩＴＯ薄膜（厚さ８０ｎｍ）、銀薄膜（厚さ１１ｎｍ）、ＩＴＯ薄膜（厚さ８０ｎｍ）、銀薄膜（厚さ１３ｎｍ）、ＩＴＯ薄膜（厚さ８０ｎｍ）、銀薄膜（厚さ１３ｎｍ）、ＩＴＯ薄膜（厚さ４０ｎｍ）の順で積層し、４層の金属薄膜層と５層の高屈折率透明薄膜層を有する本発明の透明積層体を作製した。
　【０１２２】
［実施例
３
　２軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム（厚さ：５０μｍ）の一方の主面に、マグネトロンＤＣスパッタリング法により、酸化インジウム薄膜（厚さ４０ｎｍ）、銀薄膜（厚さ１０ｎｍ）、酸化インジウム薄膜（厚さ７０ｎｍ）、銀薄膜（厚さ１０ｎｍ）、酸化インジウム薄膜（厚さ７０ｎｍ）、銀薄膜（厚さ１０ｎｍ）、酸化インジウム薄膜（厚さ６０ｎｍ）、銀薄膜（厚さ６ｎｍ）、酸化インジウム薄膜（厚さ４０ｎｍ）、銀薄膜（厚さ６ｎｍ）、酸化インジウム薄膜（厚さ２０ｎｍ）の順に積層し、５層の金属薄膜層と６層の高屈折率透明薄膜層を有する本発明の透明積層体を作製した。高屈折率透明薄膜層である酸化インジウム薄膜の成膜には、ターゲットにインジウムを、スパッタガスにアルゴン・酸素混合ガス（全圧２６６ｍＰａ：酸素分圧８０ｍＰａ）を用いた。また、金属薄膜層である銀薄膜の成膜には、ターゲットに銀を、スパッタガスにアルゴンガス（全圧２６６ｍＰａ）を用いた。
　【０１２３】
［比較例
３
　実施例１と同様にして、２軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム（厚さ：５０μｍ）の一方の主面に、ＩＴＯ薄膜（厚さ４０ｎｍ）、銀薄膜（厚さ９ｎｍ）、ＩＴＯ薄膜（厚さ７０ｎｍ）、銀薄膜（厚さ９ｎｍ）、ＩＴＯ薄膜（厚さ４０ｎｍ）の順に積層し、透明積層体を作製した。
　【０１２４】
［実施例
４
　２軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム（厚さ：５０μｍ）の一方の主面に、マグネトロンＤＣスパッタリング法により、酸化インジウム薄膜（厚さ４０ｎｍ）、銀薄膜（厚さ１０ｎｍ）、酸化インジウム薄膜（厚さ７０ｎｍ）、銀薄膜（厚さ１０ｎｍ）、酸化インジウム薄膜（厚さ７０ｎｍ）、銀薄膜（厚さ１０ｎｍ）、酸化インジウム薄膜（厚さ６０ｎｍ）、銀−金合金薄膜（厚さ６ｎｍ）、酸化インジウム薄膜（厚さ４０ｎｍ）、銀−金合金薄膜（厚さ６ｎｍ）、酸化インジウム薄膜（厚さ２０ｎｍ）の順に積層し、５層の金属薄膜層と６層の高屈折率透明薄膜層を有する本発明の透明積層体を作製した。ここで酸化インジウムは高屈折率透明薄膜層を構成し、銀薄膜及び銀−金合金薄膜は金属薄膜層を構成する。酸化インジウム薄膜の成膜には、ターゲットにインジウムを、スパッタガスにアルゴン・酸素混合ガス（全圧２６６ｍＰａ：酸素分圧８０ｍＰａ）を用いた。銀薄膜の成膜には、ターゲットに銀を、スパッタガスにアルゴンガス（全圧２６６ｍＰａ）を用いた。銀−金合金薄膜の成膜には、ターゲットに銀−金合金（組成比、銀：金＝８５：１５ｗｔ％）を、スパッタガスにアルゴンガス（全圧２６６ｍＰａ）を用いた。
　【０１２５】
［実施例
５
　実施例１の透明積層体の主面のうち薄膜が形成されていない方の面と、厚さ２ｍｍのＰＭＭＡ板（三菱レイヨン（株）製：アクリライト（商品名）、４７０ｍｍ×３５０ｍｍ）の主面と、透明な粘着材を介して貼り合わせた。さらに透明積層体の薄膜形成面すなわち導電面に図１に示すように銀ペースト（三井東圧化学（株）製：ＭＳＰ−６００Ｆ）をスクリーン印刷し、乾燥させ、厚さ２０μｍ、幅１０ｍｍの金属を含む電極（比抵抗５×１０−５Ω・ｃｍ）を形成し、本発明のディスプレイ用フィルターを作製した。
　【０１２６】
［実施例
６
　実施例
３
　【０１２７】
［実施例
７
　ポリエチレンテレフタレートペレット１２０３（ユニチカ（株）製）に下記式（３）（化３）で示されるジチオール錯体を０．１ｗｔ％混合し、２６０〜２８０℃で溶融させ、押し出し機により厚み１００μｍのフィルムを作製した。その後、このフィルムを２軸延伸して、厚み５０μｍのフィルムとし、このフィルムの一方の主面に、酸化珪素薄膜を電子ビーム蒸着により厚さ９０ｎｍ形成し、反射防止フィルムを作製した。該反射防止フィルムの反射防止膜形成面での可視光線反射率は、反射防止膜が形成されていない面をサンドペーパーで荒らし、黒色塗装を行った後、後述する方法で可視光線反射率を得たところ、１．４％であった。該反射防止フィルムは、ＡＳＴＭ−Ｅ９６に準拠して透湿度を測定したところ、１．４ｇ／ｍ２・ｄａｙであり、ガスバリア性を有していた。この近赤外線吸収色素を含有し且つガスバリア性を有する反射防止（ガスバリア）フィルム（本発明でいうところの透明保護層且つ反射防止層）の酸化珪素薄膜が形成されていないもう一方の主面と、実施例１の本発明の透明積層体の薄膜形成面をアクリル系粘着材（５００〜６００ｎｍにおいて屈折率１．６４、消光係数０）を介して貼り合わせ、本発明のディスプレイ用フィルターを作製した。
　【０１２８】
　【化３】
　【０１２９】
［比較例４］
　実施例１の透明積層体の代わりに実施例２の本発明の透明積層体を用いた以外は、実施例
７
［実施例８］
　実施例１の透明積層体の代わりに実施例
２
７
　【０１３０】
［比較例
５
　実施例１の透明積層体の代わりに比較例１の透明積層体を用いた以外は、実施例
７
［比較例
６
　実施例１の本発明の透明積層体の薄膜形成面と、ポリカーボネートフィルム（厚さ：１００μｍ）の主面を、実施例
６
　【０１３１】
［実施例
９
　実施例
３
　【０１３２】
　ポリエチレンテレフタレートペレット１２０３（ユニチカ（株）製）に下記式（４）（化４）で示されるジチオール錯体を０．１３ｗｔ％混合し、２６０〜２８０で溶融させ、押し出し機により厚み１００μｍのフィルムを作製した。その後、このフィルムを２軸延伸して、厚み５０μｍの色素フィルムとした。
　【０１３３】
　【化４】
　【０１３４】
　また２軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム（厚さ：１００μｍ）の一方の主面に、大日本インキ化学工業（株）製熱硬化ワニス（ＳＦ−Ｃ−３３５）３ｇをトルエン／メチルケトン（１０：１）の混合溶媒１００ｇに溶解したものを塗布し、自然乾燥させ、その後、１５０で２０秒間硬化させて１μｍ厚のアンチニュートンリング層を形成し、アンチニュートンリングフィルムを作製した。アンチニュートンリング層のへーズをへーズメーターを用いて測定したところ、２％であり、このアンチニュートンリングフィルムはアンチグレア性を有していた。
　【０１３５】
　厚さ２ｍｍのＰＭＭＡ板（三菱レイヨン（株）製：アクリライト（商品名））の一方の主面と上述の色素フィルムを貼り合わせ、さらに該透明積層体の主面のうち透明多層薄膜を形成されていない方の面を、ＰＭＭＡ板に貼り合わせた色素フィルム上に貼り合わせた。その後、透明積層体の薄膜形成面に、透明保護層としてアクリル系樹脂をスクリーン印刷にて１０μｍ形成し、該透明保護層上および該ＰＭＭＡ板の他方の主面上に、該アンチニュートンリングフィルムをアンチニュートンリング層がディスプレイ側になるように透明な粘着材を用いて貼り合わせ、本発明のディスプレイ用フィルターを本発明のディスプレイ用フィルターを作製した。
　【０１３６】
［実施例１
０
　実施例
３
　【０１３７】
　この透明積層体の薄膜が形成されていない面と、片面にアンチグレア層を有する厚さ２ｍｍのＰＭＭＡ板（三菱レイヨン（株）製：アクリフィルターＭＲ−ＮＧ）のアンチグレア層の形成されていない面を貼り合わせた。アンチグレア層のへーズをへーズメーターを用いて測定したところ、２％であった。さらに透明積層体の薄膜形成面すなわち導電面に図１に示すように銀ペースト（三井東圧化学（株）製）をスクリーン印刷し、乾燥させ、厚さ２０ｉｍ、幅１０ｍｍの金属を含む電極を形成した。
　【０１３８】
　また、２軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム（厚さ：１００μｍ）の一方の主面に、電子ビーム蒸着により酸化珪素薄膜を厚さ９０ｎｍ形成し、反射防止フィルムを作製した。該反射防止フィルムの反射防止膜形成面での可視光線反射率は、実施例
７
　【０１３９】
［実施例１
１
　実施例１の本発明の透明積層体の主面のうち透明多層薄膜が形成されていない方の面と、厚さ２ｍｍのＰＭＭＡ板（三菱レイヨン（株）製：アクリライト（商品名）、４７０ｍｍ×３５０ｍｍ）の主面を貼り合わせた。さらに実施例
５
　【０１４０】
　また、２軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム（厚さ：５０μｍ）の一方の主面に、電子ビーム蒸着によりフッ化マグネシウム薄膜を厚さ９５ｎｍ形成し、第１の反射防止フィルムを作製した。該反射防止フィルムの反射防止膜形成面での可視光線反射率は、実施例
７
　【０１４１】
　またさらに、ポリエチレンテレフタレートペレット１２０３（ユニチカ（株）製）に４５０ｎｍ〜６００ｎｍに吸収を有する色素（三井東圧化学（株）製、ＰＳ−Ｒｅｄ−Ｇ）を０．０１４ｗｔ％混合し、２６０〜２８０℃で溶融させ、押し出し機により厚み１００μｍのフィルムを作製した。その後、このフィルムを２軸延伸して、厚み５０μｍの調色用色素フィルムとし、このフィルムの一方の主面に、電子ビーム蒸着によりフッ化マグネシウム薄膜を厚さ９５ｎｍ形成し、第２の反射防止フィルムを作製した。該反射防止フィルムの反射防止膜形成面での可視光線反射率は、実施例
７
　【０１４２】
［実施例１
２
　実施例１の本発明の透明積層体の薄膜が形成されていない面と、片面にアンチグレア層を有する厚さ２ｍｍのＰＭＭＡ板（三菱レイヨン（株）製：アクリフィルターＭＲ−ＮＧ・４７０ｍｍ×３５０ｍｍ）のアンチグレア層の形成されていない面を透明な粘着材を介して貼り合わせた。アンチグレア層のへーズをへーズメーターを用いて測定したところ、２％であった。さらに実施例
５
　【０１４３】
　また、実施例１
２
　【０１４４】
［実施例１
３
　実施例１の本発明の透明積層体の主面のうち透明多層薄膜が形成されていない面と、厚さ２ｍｍのＰＭＭＡ板（三菱レイヨン（株）製アクリライト、４７０ｍｍ×３５０ｍｍ）の主面を貼り合わせた。また２軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム（厚さ：１００μｍ）の一方の主面に、大日本インキ化学工業（株）製熱硬化ワニス（ＳＦ−Ｃ−３３５）３ｇをトルエン／メチルケトン（１０：１）の混合溶媒１００ｇに溶解して、塗布、自然乾燥後、１５０℃で２０秒間硬化させて１μｍ厚のアンチニュートンリング層を形成し、第１のアンチニュートンリングフィルムを作製した。アンチニュートンリング層のへーズをへーズメーターを用いて測定したところ、２％であった。第１のアンチニュートンリングフィルムは、ＡＳＴＭ−Ｅ９６に準拠して透湿度を測定したところ、１．２ｇ／ｍ２・ｄａｙであり、ガスバリア性を有し、且つ、アンチグレア性を有していた。
　【０１４５】
　第１のアンチニュートンリングフィルムの反対の主面と、透明積層体薄膜形成面をアクリル系粘着材（５００〜６００ｎｍにおいて屈折率１．６４、消光係数０）を介して貼り合わせた。この際、該アンチニュートンリングフィルムが透明積層体の端面も覆い、薄膜が環境に曝されないように形成した。
　【０１４６】
　またさらに、実施例１
２
　【０１４７】
　以上のようにして作製した実施例１〜
４
〜３
５〜１０
５〜６
１）面抵抗
　実施例１〜
２
４
〜３
６、１０
　【０１４８】
２）電磁波シールド能
　実施例１〜
２、４
〜３
５、６、１０
　【０１４９】
　実施例１〜
２、４
〜３
　【０１５０】
　実施例
５、６、１０
　【０１５１】
３）可視光線透過率（Ｔｖｉｓ）及び近赤外線透過率
　実施例１〜
４
〜３
７〜１０
５
　【０１５２】
４）赤外線リモートコントローラに対する限界距離試験
　実施例１〜
４
〜３
７〜１０
５
４
〜３
７〜８
５
　【０１５３】
　試験対象のディスプレイ用フィルターを対角２１インチのプラズマディスプレイの画面に設置して、赤外線リモートコントローラを使用する電子機器を０．２ｍ〜５ｍディスプレイから離してその誤動作を確認した。誤動作がある場合は、その限界距離を求めた。限界距離が短いほど誤動作が少ないといえる。実用的には少なくとも２．５ｍ以下、好適には１．５ｍ以下である。なお、ディスプレイ用フィルターを設置しないプラズマディスプレイの限界距離も併せて測定した。結果を表２に示す。
　【０１５４】
５）可視光線反射率（Ｒｖｉｓ）
実施例１〜２及び比較例１〜３の透明積層体について、透明積層体の薄膜形成面にアクリル系粘着材（５００〜６００ｎｍにおいて屈折率１．６４、消光係数０）を形成する前後で、測定対象物を小片に切り出し、反射積分球（光線入射角度６°）を用いて（株）日立製作所製分光光度計（Ｕ−３４００）により３００〜８００ｎｍにおける測定対象物両面の全光線反射率を測定した。ここで求めた反射率からＪＩＳ　Ｒ−３０１６に従って可視光線反射率Ｒｖｉｓを計算した。結果を表３に示す。また、実施例
４
７〜１３
５、６
　【０１５５】
６）耐環境性（高温高湿試験）
実施例１、
４
７、８、１０〜１３
５、６
　【０１５６】
　【表１】
　【０１５７】
　【表２】
　【０１５８】
　【表３】
　【０１５９】
　【表４】
　【０１６０】
　表１から明らかなように、面抵抗が３Ω／□以下では、実用的な電磁波シールド効果が明らかに認められ、面抵抗が低いほど電磁波シールド効果がある。しかしながら、面抵抗が４．９Ω／□である比較例１の透明積層体を用いた場合には、周波数帯域によって電磁波シールド効果が実用的レベルではない。また、実施例１と実施例
５
　【０１６１】
　表２から明らかなように、８２０ｎｍより長波長の領域の光線透過率が１０％未満である実施例１
、３、４
９、１０
２
　【０１６２】
　また、実施例１の透明積層体に近赤外線吸収色素を併用した実施例
７
２
８
２
３
５
３
　【０１６３】
　表３から明らかなように、透明基体上にＩＴＯ薄膜と薄膜を交互に計７層積層し、かつ、透明基体から数えて２番目の銀層が、１番目及び３番目の銀層より厚い、実施例１、
２
比較例１〜３の
　【０１６４】
　表４から明らかなように、反射防止層を併用した実施例
７〜８
５
２
７〜８
　【０１６５】
　また、耐環境性は、薄膜形成面にフィルムを貼合していない実施例１が最も低く、薄膜形成面に貼合したフィルムの透湿度が１０ｇ／ｍ２・ｄａｙ以上である比較例
６
４
　【０１６６】
　なお、表４には示されていないが、実施例
１１〜１２
３
１
２
３
　【０１６７】
　実施例１の透明積層体は、透過色が緑色（平行光線透過率から計算したＬ★ａ★ｂ★表色系でａ★＝−８、ｂ★＝２）であったが、実施例１の透明積層体に調色用を併用した実施例
１１〜１３
１１、１２
５
　【０１６８】
　また、実施例
９〜１３
　【０１６９】
　実施例
９、１２、１３
９、１３
　【０１７０】
　また、実施例
９、１２、１３
９、１３
　【０１７１】
　【発明の効果】
　以上のごとく、本発明によれば、プラズマディスプレイの発する強度の電磁波を遮蔽でき、また、ディスプレイの鮮明性を損なわない可視域での高透明性と、周辺電子機器の誤動作を誘発する８２０ｎｍより長波長の近赤外光のカット能を有する透明積層体を提供できる。また、この透明積層体を用いることによって、ディスプレイの鮮明性を損なわない可視域での高透明性と、周辺電子機器の誤動作を誘発する８２０ｎｍより長波長の近赤外光のカット能に優れる、８２０ｎｍより長波長の領域での光線透過率が１０％以下であるディスプレイ用フィルターを提供でき、電磁波シールド能、耐候性・耐環境性、さらには、防眩性または反射防止能、アンチニュートンリング性に優れるディスプレイ用フィルターを提供できる。またさらに、色素を併用することによって、さらに近赤外線抑止性に優れる及び／又は好ましい透過色のディスプレイ用フィルターを提供できる。
【図面の簡単な説明】
　【図１】
　本発明のディスプレイ用フィルターの一例を示すディスプレイ側から見た平面図
　【図２】
　本発明の透明積層体の一例を示す断面図
　【図３】
　本発明のディスプレイ用フィルターの一例を示す断面図
　【図４】
　本発明のディスプレイ用フィルターの一例を示す断面図
　【図５】
　本発明のディスプレイ用フィルターの一例を示す断面図
　【図６】
　本発明のディスプレイ用フィルターの一例を示す断面図
　【図７】
　本発明のディスプレイ用フィルターの一例を示す断面図
　【図８】
　本発明のディスプレイ用フィルターの一例を示す断面図
　【図９】
　本発明のディスプレイ用フィルターの一例を示す断面図
　【図１０】
　本発明のディスプレイ用フィルターの一例を示す断面図
　【図１１】
　本発明のディスプレイ用フィルターの一例を示す断面図
　【符号の説明】
　１０　透明積層体
　１１　透明基体（Ａ）
　１２　透明導電層
　１３　高屈折率透明薄膜層
　１４　銀又は銀を含む合金からなる金属薄膜層
　２０　金属を含む電極
　３０　透明成形体
　４０　透明保護層（Ｄ）
　４１　アンチニュートンリング層
　４２　反射防止層
　４３　アンチグレア層
　５１　反射防止層
　５２　アンチグレア層
　５３　アンチニュートンリング層