【事件の表示】
　特許第３１８３２６９号「反応生成物除去機能付き真空装置及びその反応生成物除去方法」の請求項１ないし９に係る発明についての特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結　論】
　訂正を認める。
　特許第３１８３２６９号の請求項１ないし２に係る発明についての特許を維持する。
【理　由】
１．手続の経緯
　特許第３１８３２６９号の請求項１〜９に係る発明についての出願は、平成１０年９月９日に出願され、平成１３年４月２７日にそれらの発明について特許権の設定登録がなされ、その後、小野信夫より特許異議の申立てがなされ、平成１４年３月８日付けで取消しの理由が通知され、その指定期間内である平成１４年５月３０日に訂正請求（その後取下げ）がなされ、平成１４年５月２８日付けで再度取消しの理由が通知され、その指定期間内である平成１４年７月２６日に訂正請求がなされたものである。
　
２．訂正の適否
（１）訂正の内容
　特許権者が平成１４年７月２６日付けの訂正請求により求めている訂正の内容は、以下のとおりである。
　
〈訂正事項ａ〉本件特許の特許権の設定登録時の願書に添付した明細書又は図面（以下、「本件特許明細書」という。）の特許請求の範囲の請求項１に記載される、
「【請求項１】内部で反応生成物が生成される真空室と、
前記真空室内の前記反応生成物の蒸気を排出するための排気管と、
前記排気管に介設され前記蒸気を吸引するための真空ポンプと、
前記反応生成物を気化させることができる温度のガスを前記排気管に供給するためのガス供給器とを有することを特徴とする反応生成物除去機能付き真空装置。」を、
「【請求項１】内部で反応生成物が生成される真空室と、
前記真空室に接続され、前記真空室内の前記反応生成物の蒸気を吸引するための第１の真空ポンプと、
前記第１の真空ポンプの下流に接続され、前記真空室内の前記反応生成物の蒸気を排出するための第１の排気管と、
前記第１の排気管の前記第１のポンプに近接した位置に接続され、前記反応生成物を気化させることができる温度の不活性ガスを前記第１の排気管に供給する第１のガス導入管を持つ第１のガス供給器と、
前記第１の排気管の下流に接続され、前記真空室内の前記反応生成物の蒸気を吸引するための第２の真空ポンプと、
前記第２の真空ポンプの下流に接続され、前記真空室内の前記反応生成物の蒸気を排出するための第２の排気管と、
前記第２の排気管の前記第２の真空ポンプに近接した位置に接続され、前記反応生成物を気化させることができる温度の不活性ガスを前記第２の排気管に供給する第２のガス導入管を持つ第２のガス供給器とを有することを特徴とする反応生成物除去機能付き真空装置。」と訂正する。
　
〈訂正事項ｂ〉本件特許明細書の特許請求の範囲の請求項２〜６、請求項８〜９を削除する。
　
〈訂正事項ｃ〉本件特許明細書の特許請求の範囲の請求項７に記載される、
「【請求項７】請求項１において、
前記反応生成物を気化させることができる温度のガスを前記排気管に供給するための前記ガス供給器に代えて、
　前記反応生成物が昇華する昇華温度のガスを前記排気管に供給するためのガス供給器を有することを特徴とする反応生成物除去機能付き真空装置。」を、
「【請求項２】請求項１において、
前記反応生成物を気化させることができる温度のガスを前記第１及び第２の排気管に供給するための前記第１及び第２のガス供給器に代えて、前記反応生成物が昇華する昇華温度のガスを前記第１及び第２の排気管に供給するための第１及び第２のガス供給器を有することを特徴とする反応生成物除去機能付き真空装置。」と訂正する。
　
（２）訂正の目的の適否、新規事項の有無、及び、特許請求の範囲の拡張・変更の存否
　上記訂正事項ａ、ｃに関して、本件特許明細書の段落【００１１】〜【００１４】には、「真空化容器室１は、これに反応用ガスを導入するための反応用ガス導入口２が開けられている。・・・真空化容器室１の外壁に、上流側真空化ポンプ５が取り付けられている。・・・上流側真空化ポンプ５と障害筒６との間には排気管７が介設され、障害筒６は排気配管７を介して下流側真空化ポンプ８に接続されている。下流側真空化ポンプ８は排気管７を介して上流側真空化ポンプ５に接続されている。真空化容器室１の外側に、高温ガス発生器９が設けられている。高温ガス発生器９は、熱交換器又は加熱器１０を備えている。昇華用ガスが、高温ガス発生器９に導入され加熱器１０により暖められる。・・・高温ガス発生器９の出口には、分配器１１が接続されている。・・・排気管７の上流側接続部位１２と分配器１１の１つの口とは、上流側ガス導入管１３により接続されている。上流側接続部位１２は、上流側真空化ポンプ５の下流側で上流側真空化ポンプ５に近接した位置である。排気管７の下流側接続部位１４と分配器１１の他の口とは、下流側ガス導入管１５により接続されている。下流側接続部位１４は、下流側真空化ポンプ８の下流側で下流側真空化ポンプ８に近接した位置である。上流側ガス導入管１３と下流側ガス導入管１５について、独立した２つの加熱器を用いることができる。」と記載されている。
　してみると、訂正事項ａ、ｃは、本件特許明細書に記載された事項の範囲内で、それぞれ訂正前の請求項１、７の反応生成物除去機能付き真空装置を、２つの真空ポンプと、ガス導入管を持つ２つのガス供給器とを有するものに限定するとともに、ガスを不活性ガスに限定したものといえるから、特許請求の範囲の減縮を目的とした明細書の訂正に該当するものであって、新規事項の追加に該当せず、また、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものではない。
　また、訂正事項ｂは、訂正前の請求項２〜６、請求項８〜９を削除するものであるから、特許請求の範囲の減縮を目的とした明細書の訂正に該当するものであって、新規事項の追加に該当せず、また、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものではない。
　
（３）むすび
　以上のとおりであるから、上記訂正は、特許法第１２０条の４第２項、及び、同条第３項において準用する特許法第１２６条第２項、第３項の規定に適合するので、当該訂正を認める。
　
３．特許異議の申立ての概要
　異議申立人は、証拠として甲第１号証（特開平４−３３０３８８号公報）を提示し、請求項１〜９に係る発明は、甲第１号証記載の発明であるか、又は、甲第１号証記載の発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、請求項１〜９に係る発明についての特許は取り消されるべきである、旨主張している。
　
４．特許異議の申立てについての判断
（１）本件発明
　上記２．で示したように上記訂正が認められるから、本件の請求項１、２に係る発明（以下、「本件発明１」、「本件発明２」という。）は、上記訂正に係る訂正明細書の特許請求の範囲の請求項１、請求項２に記載された事項により特定されるとおりのものである（上記２．（１）の訂正事項ａ、ｃを参照。）。
　なお、平成１４年５月２８日付けで通知した、請求項４〜６に対する記載不備に関しての取消しの理由は、上記訂正で請求項４〜６が削除されたことによって、解消している。
　
（２）刊行物記載の発明
　当審が平成１４年５月２８日付けで通知した取消しの理由において引用した特開平８−２０９３５０号公報（以下、「刊行物１」という。）、特開平９−２７４５８号公報（以下、「刊行物２」という。）、特開平７−３３５５６３号公報（以下、「刊行物３」という。）、及び、特開平４ー３３０３８８号公報（甲第１号証。以下、「刊行物４」という。）には、以下の発明（事項）が記載されているものと認められる。
　
〈刊行物１〉
「内部で反応副生成物が生成される反応容器２と、前記反応容器２内に付着した反応副生成物を除去する、ＣｌＦ３を含むクリーニングガスを反応容器２内に導入するクリーニングガス導入管１０と、前記反応容器２に接続され、使用されたクリーニングガスを排出するための排気管２３と、前記排気管２３の下流に接続され、前記反応容器２内のクリーニングガスを吸引するための真空ポンプ２４と、前記真空ポンプ２４の下流に接続され、前記反応容器２内のクリーニングガスを排出するための排気管とを有する、反応副生成物による付着物を均一かつ効率的に除去可能なセルフクリーニング機能を備えた薄膜形成装置」（特に、【図１０】参照）
　
〈刊行物２〉
「内部で反応生成物が生成される処理室２と、前記処理室２に接続され、前記処理室２内の前記反応生成物の蒸気を排出するための排気管３１と、前記排気管３１の下流に接続され、前記反応生成物の蒸気を吸引するためのドラッグポンプ４と、前記ドラッグポンプ４の下流に接続され、前記処理室１内の前記反応生成物の蒸気を排出するための排気管３２と、排気管３２の下流に接続され、前記ドラッグポンプ内及び排気管３１、３２内を反応生成物が析出する温度よりも高い温度に加熱するための第１、第２の加熱手段と６１，６２，６６と、反応生成物の析出温度以下の温度に冷却して反応生成物を析出、捕集するトラップ７１と、トラップ７１の下流に接続される排気管３３及びドライポンプ７２とを有する、真空処理装置」（特に、【図１】参照）
　
〈刊行物３〉
「内部で反応生成物が生成される反応容器１と、加熱された反応ガスからなるクリーニングガス９を前記反応容器１内に導入する手段６と、前記反応容器１に排気管を介して接続され、前記反応容器１内の前記反応生成物の蒸気を吸引するための真空排気系のポンプ２とを有する、プラズマＣＶＤ装置」（特に、【図１】参照）
　
〈刊行物４〉
「内部にプロセスガスＡが導入される反応室４と、前記反応室４に配管を介して接続され、プロセスガスＡを吸引するための真空ポンプ１と、前記真空ポンプ１の下流に接続され、プロセスガスＡを排出するための配管２と、前記真空ポンプ１と前記配管２の前記真空ポンプ１に近接した位置とに接続され、プロセスガスＡの冷却を防止し、気相から固相又は液層への相変化を抑止することができる温度の不活性ガスＢを前記真空ポンプ１及び前記配管２に供給するガス導入配管６を持つ予熱部７とを有する、真空ポンプ装置」（特に、【図１】参照）
　
（３）対比・判断
〈本件発明１について〉
　本件発明１と刊行物４記載の発明とを対比すると、後者の「内部にプロセスガスＡが導入される反応室４」は、その技術的意義からみて、前者の「真空室」に相当し、以下同様にして、後者の「真空ポンプ１」は前者の「第１の真空ポンプ」に、後者の「配管２」は前者の「第１の排気管」に、それぞれ相当する。また、前者の「第１の排気管の第１のポンプに近接した位置に接続され、反応生成物を気化させることができる温度の不活性ガスを前記第１の排気管に供給する第１のガス導入管を持つ第１のガス供給器」と後者の「真空ポンプ１と配管２の前記真空ポンプ１に近接した位置とに接続され、プロセスガスＡの冷却を防止し、気相から固相又は液層への相変化を抑止することができる温度の不活性ガスＢを前記真空ポンプ１及び前記配管２に供給するガス導入配管６を持つ予熱部７」とは、「第１の排気管の第１のポンプに近接した位置に接続され、加熱された不活性ガスを第１の排気管に供給する第１のガス導入管を持つ第１のガス供給器」の限りで共通する。さらに、後者の「反応室４」の内部で反応生成物が生成していること、及び、反応室４の下流に位置する、後者の真空ポンプ１及び配管２が、反応室４内で生成した反応生成物の蒸気を、それぞれ吸引、排出する機能を有することは、技術常識である。
　してみると、両者の一致点、相違点は以下のとおりである。
【一致点】内部で反応生成物が生成される真空室と、前記真空室に接続され、前記真空室内の前記反応生成物の蒸気を吸引する第１の真空ポンプと、前記第１の真空ポンプの下流に接続され、前記真空室内の前記反応生成物の蒸気を排出する第１の排気管と、前記第１の排気管の前記第１のポンプに近接した位置に接続され、加熱された不活性ガスを前記第１の排気管に供給する第１のガス導入管を持つ第１のガス供給器とを有する、真空装置。
【相違点１】前者は、第２の真空ポンプと第２の排気管と第２のガス導入管を持つ第２のガス供給器を有するのに対して、後者は、そのようなものを有しない点。
【相違点２】前者では、不活性ガスが反応生成物を気化させることができる温度のものであって、真空装置が反応生成物を除去する機能を有しているのに対して、後者では、不活性ガスは、プロセスガスＡの気相から固相又は液層への相変化を抑止することができる温度のものではあるが、反応生成物を気化させることができる温度のものか明らかではなく、また、反応生成物の除去についても明らかではない点。
　そこで、相違点２につき検討するに、刊行物１〜３にも、反応生成物を気化させることができる温度の不活性ガスを用いて、反応生成物を除去することについて、記載も示唆もされていない。
　そして、本件発明１は、上記の事項を、発明特定事項とすることにより、訂正明細書記載の作用効果を奏しているものと認められる。
　してみると、相違点１について検討するまでもなく、本件発明１は、刊行物１〜４記載の発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものである、とすることはできない。
　
〈本件発明２について〉
　本件発明２と刊行物４記載の発明とを対比すると、両者の一致点、相違点は以下のとおりである。
【一致点】内部で反応生成物が生成される真空室と、前記真空室に接続され、前記真空室内の前記反応生成物の蒸気を吸引する第１の真空ポンプと、前記第１の真空ポンプの下流に接続され、前記真空室内の前記反応生成物の蒸気を排出する第１の排気管と、前記第１の排気管の前記第１のポンプに近接した位置に接続され、加熱された不活性ガスを前記第１の排気管に供給する第１のガス導入管を持つ第１のガス供給器とを有する、真空装置。
【相違点１】前者は、第２の真空ポンプと第２の排気管と第２のガス導入管を持つ第２のガス供給器を有するのに対して、後者は、そのようなものを有しない点。
【相違点２】前者では、不活性ガスが反応生成物を昇華させることができる温度のものであって、真空装置が反応生成物を除去する機能を有しているのに対して、後者は、そのようなことが明らかではない点。
　そこで、相違点２につき検討するに、刊行物１〜３にも、反応生成物を昇華させることができる温度の不活性ガスを用いて、反応生成物を除去することについて、記載も示唆もされていない。
　そして、本件発明２は、上記の事項を、発明特定事項とすることにより、訂正明細書記載の作用効果を奏しているものと認められる。
　してみると、相違点１について検討するまでもなく、本件発明２は、刊行物１〜４記載の発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものである、とすることはできない。
　
（４）むすび
　以上のとおりであるから、特許異議の申立ての証拠、理由によっては、本件発明１、２についての特許を取り消すことはできない。
　また、他に本件発明１、２についての特許を取り消すべき理由を発見しない。
　よって、結論のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１４年８月１５日（２００２．８．１５）
【訂正の要旨】
訂正の内容
〈訂正事項ａ〉本件特許の特許権の設定登録時の願書に添付した明細書又は図面（以下、「本件特許明細書」という。）の特許請求の範囲の請求項１に記載される、
「【請求項１】内部で反応生成物が生成される真空室と、
前記真空室内の前記反応生成物の蒸気を排出するための排気管と、
前記排気管に介設され前記蒸気を吸引するための真空ポンプと、
前記反応生成物を気化させることができる温度のガスを前記排気管に供給するためのガス供給器とを有することを特徴とする反応生成物除去機能付き真空装置。」を、特許請求の範囲の減縮を目的として、
「【請求項１】内部で反応生成物が生成される真空室と、
前記真空室に接続され、前記真空室内の前記反応生成物の蒸気を吸引するための第１の真空ポンプと、
前記第１の真空ポンプの下流に接続され、前記真空室内の前記反応生成物の蒸気を排出するための第１の排気管と、
前記第１の排気管の前記第１のポンプに近接した位置に接続され、前記反応生成物を気化させることができる温度の不活性ガスを前記第１の排気管に供給する第１のガス導入管を持つ第１のガス供給器と、
前記第１の排気管の下流に接続され、前記真空室内の前記反応生成物の蒸気を吸引するための第２の真空ポンプと、
前記第２の真空ポンプの下流に接続され、前記真空室内の前記反応生成物の蒸気を排出するための第２の排気管と、
前記第２の排気管の前記第２の真空ポンプに近接した位置に接続され、前記反応生成物を気化させることができる温度の不活性ガスを前記第２の排気管に供給する第２のガス導入管を持つ第２のガス供給器とを有することを特徴とする反応生成物除去機能付き真空装置。」と訂正する。
〈訂正事項ｂ〉本件特許明細書の特許請求の範囲の請求項２〜６、請求項８〜９を、特許請求の範囲の減縮を目的として、削除する。
〈訂正事項ｃ〉本件特許明細書の特許請求の範囲の請求項７に記載される、
「【請求項７】請求項１において、
前記反応生成物を気化させることができる温度のガスを前記排気管に供給するための前記ガス供給器に代えて、
　前記反応生成物が昇華する昇華温度のガスを前記排気管に供給するためのガス供給器を有することを特徴とする反応生成物除去機能付き真空装置。」を、特許請求の範囲の減縮を目的として、
「【請求項２】請求項１において、
前記反応生成物を気化させることができる温度のガスを前記第１及び第２の排気管に供給するための前記第１及び第２のガス供給器に代えて、前記反応生成物が昇華する昇華温度のガスを前記第１及び第２の排気管に供給するための第１及び第２のガス供給器を有することを特徴とする反応生成物除去機能付き真空装置。」と訂正する。
（５４）【発明の名称】
反応生成物除去機能付き真空装置及びその反応生成物除去方法
（５７）【特許請求の範囲】
　【請求項１】内部で反応生成物が生成される真空室と、
前記真空室に接続され、前記真空室内の前記反応生成物の蒸気を吸引するための第１の真空ポンプと、
前記第１の真空ポンプの下流に接続され、
第１の
前記第１の排気管の前記第１のポンプに近接した位置に接続され、
不活性
第１の
第１のガス導入管を持つ第１の
、
前記第１の排気管の下流に接続され、前記真空室内の前記反応生成物の蒸気を吸引するための第２の真空ポンプと、
前記第２の真空ポンプの下流に接続され、前記真空室内の前記反応生成物の蒸気を排出するための第２の排気管と、
前記第２の排気管の前記第２の真空ポンプに近接した位置に接続され、前記反応生成物を気化させることができる温度の不活性ガスを前記第２の排気管に供給する第２のガス導入管を持つ第２のガス供給器
　【請求項
２
前記反応生成物を気化させることができる温度のガスを前記
第１及び第２の
第１及び第２の
第１及び第２の
第１及び第２の
【発明の詳細な説明】
　【０００１】
　【発明の属する技術分野】本発明は、反応生成物除去機能付き真空装置及びその反応生成物除去方法に関し、特に、ガスプラズマのような反応用ガスを用いて製品加工を行う真空容器の中で生成される反応生成物を真空室、排気配管、ポンプから円滑に除去する機能を持った反応生成物除去機能付き真空装置及びその反応生成物除去方法に関する。
　【０００２】
　【従来の技術】半導体デバイスのような製品を製造するプロセスには、真空容器中で反応用ガスをプラズマ化したプラズマガスを用いて多様な反応を行わせるステップがある。このような反応により生成される反応生成物が真空容器の壁面、排気配管の管面に付着して堆積する。このような付着・堆積が進むと、背圧が高まる真空ポンプに故障が生じ、色々な不都合を招く。
　【０００３】このような不都合を招かないような配慮が従来からなされている。図３に示す公知装置は、真空化室１０１にガス導入口１０２から導入される反応用ガスと反応して生成される反応生成物を真空ポンプ１０３により吸引して除害筒１０４に送る途中の排気配管１０５の適当な部位から不活性ガスを導入し、その不活性ガスでその反応生成物１０６を誘引して除害筒まで誘導する除去手段を備えている。このような公知手段に用いられている不活性ガスは常温で用いられているので、冷却される反応生成物はやがては管面その他の部位に付着するようになり、それが堆積することを回避することができない。
　【０００４】そこで、図３に示されるように、テープ状ヒータ１０７を排気配管１０５の適所に貼りつけて、反応生成物の温度低下を防止することが考えられる。そのようなヒータを用いた装置が、特開平９−２７４５８号で知られている。このようなヒータは、排気配管を局所的に加熱するが、熱分散を均一化して全面的に均一に加熱する加熱手段としては適切でない。特に、真空ポンプのような複雑な内面形状、構造を持つ機器を均一に加熱することは困難であり、反応生成物を除去する効率は当然に悪い。現在は、結局、定期的、高頻度の清掃作業を強いられている現状である。
　【０００５】流路を形成するどのような面にも反応生成物が付着・堆積しないことが望まれている。特に、ポンプのような複雑な形状、構造を持つ機器内の流路形成面に反応生成物が付着・堆積しないことが望まれている。
　【０００６】
　【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、流路を形成するどのような面にも反応生成物が付着・堆積しない反応生成物除去機能付き真空装置及びその反応生成物除去方法を提供することにある。本発明の他の課題は、ポンプのような複雑な形状、構造を持つ機器内の流路形成面に反応生成物が付着・堆積しない反応生成物除去機能付き真空装置及びその反応生成物除去方法を提供することにある。本発明の更に他の課題は、真空ポンプの流路形成面への反応生成物の堆積を回避し、且つ、製造プロセスを停止させない反応生成物除去機能付き真空装置及びその反応生成物除去方法を提供することにある。
　【０００７】
　【課題を解決するための手段】本発明による反応生成物除去機能付き真空装置は、内部で反応生成物が生成される真空室と、真空室内の反応生成物の蒸気を排出するための排気管と、排気管に介設され蒸気を吸引するための真空ポンプと、反応生成物を気化させることができる温度のガスを排気管に供給するためのガス供給器とを有している。低圧下で気化又は昇華しやすい反応生成物は、導入されるガスにより暖められて容易に気化し、蒸気状態の反応生成物は固体化する温度まで冷却されることがなく、蒸気状態のままでガス流に乗って排気される。ガスは、ポンプの複雑な構造・形状の狭い流路内でも流れ、すべての流路及びその流路形成面の温度を蒸気状態の反応生成物が固体化しない温度に維持する。このようにガスは、排気用媒体であり、且つ、温度維持用媒体である。
　【０００８】ガスは反応生成物に反応しない不活性ガスであることが好ましい。ガス供給器と排気管との間を接続してガスをガス供給器から排気管に導入する。このような排気管は、複数本が設けられることが好ましい。言い換えれば、排気管の複数部位からガスが排気管に導入されることが好ましい。真空ポンプの上流側で排気管にガスが導入されることが好ましい。ガス配管が排気管に接続される接続部位と真空室との間に真空ポンプが位置づけられている場合には、その接続部位は、下流側の真空ポンプの上流側であることが好ましい。
　【０００９】ガス配管が真空室に接続されていることは特に好ましい。この場合、すべてのポンプは、ガス導入部位よりも下流側になる。複数のポンプが上流側と下流側に設けられている場合、下流側のポンプの上流側にもガス導入部位が配置されることが好ましい。ガス配管が真空室に接続されている場合には、ガスは真空室の中で反応が行われていない時間帯にその真空室に導入される。ガスは反応プロセスの間に導入されるので、反応生成物の除去のために反応プロセスを停止させる必要がない。
　【００１０】本発明による反応生成物除去機能付き真空装置は、反応生成物を気化させることができる温度のガスを排気管に供給するためのガス供給器に代えて、反応生成物が昇華する昇華温度のガスを排気管に供給するためのガス供給器を有してもよい。反応生成物を昇華させるガスの流れは、昇華し又は固体化しない反応生成物を乗せて迅速に排気することができる。本発明による反応生成物除去方法は、言い換えれば、真空化される真空化室の内部に反応用ガスを導入して加工を行った結果生成される反応生成物を、昇華用ガスで昇華させることにより、その反応生成物を排気管に介設されたポンプで吸引して、反応生成物を昇華させたまま排気管及びポンプを通して排除する排除方法である。導入する昇華用ガスの温度を制御することは、更に好ましい。温度制御は、排気配管の途中の適切な部位に温度センサーを設置し、検出温度に連動させて昇華用ガスの昇温を制御することが好ましい。このような適切な部位の１つは、排気管の最下流に位置する除害筒の直前である。
　【００１１】
　【発明の実施の形態】図に一致させて本発明の実施の形態が記述される。図１は、本発明による反応生成物除去機能付き真空装置の実施の形態を示し、機器配置系統図である。真空化容器室１は、これに反応用ガスを導入するための反応用ガス導入口２が開けられている。真空化容器室１の内側に電極３が設けられている。電極３は、電源装置４により高圧化される。反応用ガス導入口２から導入される反応用ガスは、電極３によりプラズマ化される。プラズマ化された反応用ガスは、真空化容器室１内の製品材料と反応して、反応生成物を生成する。
　【００１２】真空化容器室１の外壁に、上流側真空化ポンプ５が取り付けられている。真空化容器室１内の気体又は粉体は、直ちに、真空化容器室１の中から上流側真空化ポンプ５のポンプ室に吸引される。真空化容器室１の外部に除害筒６が設置されている。除害筒６は、真空化容器室１の中で生成される反応生成物その他の物質を無害化するための装置である。除害筒６は、上流側真空化ポンプ５よりも下流側に配置されている。
　【００１３】上流側真空化ポンプ５と除害筒６との間には排気管７が介設され、除害筒６は排気配管７を介して下流側真空化ポンプ８に接続されている。下流側真空化ポンプ８は排気管７を介して上流側真空化ポンプ５に接続されている。真空化容器室１の外側に、高温ガス発生器９が設けられている。高温ガス発生器９は、熱交換器又は加熱器１０を備えている。昇華用ガスが、高温ガス発生器９に導入され加熱器１０により暖められる。昇華用ガスは、反応生成物を昇華させる昇華温度よりも高い温度まで加熱器により加熱される。
　【００１４】高温ガス発生器９の出口には、分配器１１が接続されている。分配器１１は、多方口を有し、その各口は独立に流量を制御するための流量制御弁（図示せず）を備えている。排気管７の上流側接続部位１２と分配器１１の１つの口とは、上流側ガス導入管１３により接続されている。上流側接続部位１２は、上流側真空化ポンプ５の下流側で上流側真空化ポンプ５に近接した位置である。排気管７の下流側接続部位１４と分配器１１の他の口とは、下流側ガス導入管１５により接続されている。下流側接続部位１４は、下流側真空化ポンプ８の下流側で下流側真空化ポンプ８に近接した位置である。上流側ガス導入管１３と下流側ガス導入管１５について、独立した２つの加熱器を用いることができる。
　【００１５】反応ガス・ガスプラズマが製品材料と反応して真空化容器室１の中で生成される反応生成物である気体（粉体を含むこともある）は、上流側真空化ポンプ５により吸引される。上流側真空化ポンプ５の内部では温度降下の程度は低く、反応生成物は気体状態で上流側真空化ポンプ５を通過する。温度降下し始める反応生成物は、上流側接続部位１２から導入される昇華用ガスで加熱され、その気体状態を維持する。昇華用ガスとしては、反応生成物に反応しないガス特に不活性ガス（Ｈｅ、Ｎ２、Ａｒ等）が好適である。
　【００１６】昇華状態の反応生成物は、排気管７に付着せず、下流側真空化ポンプ８の中の複雑な狭い流路の内面にも付着しないで、昇華用ガスの気流に乗って誘引され下流側真空化ポンプ８を通過することができる。下流側真空化ポンプ８を通過して部分的に固体化しつつある反応生成物は、下流側接続部位１４から導入される昇華用ガスにより再び加熱されその気流に乗って気体状態で除害筒６に送り込まれ、除害筒６の中の捕獲器（図示せず）に捕獲される。除害筒６は、定期的に交換される。より下流側の排気管７の管内面に局所的により多く付着し堆積することがある反応生成物は、上流側接続部位１２又は下流側接続部位１４から導入される昇華用ガスにより加熱され昇華して、気体状態で除害筒６に送り込まれる。
　【００１７】図２は、本発明による反応生成物除去機能付き真空装置の実施の他の形態を示し、機器配置系統図である。図２に示される真空化容器室１、反応用ガス導入口２、電極３、電源装置４、上流側真空化ポンプ５、除害筒６、排気管７、下流側真空化ポンプ８の機器系統関係は、図１に示される実施の形態の機器系統関係に全く同じである。
　【００１８】加熱器１０と他の機器との関係は、図１の実施の形態のその関係と異なる。真空化容器室１に含まれる真空化容器側接続部位２１が、加熱器１０の分配器１１に接続されている。図１に示した他の接続部位１２，１４を更に設けて、上流側ガス導入管１３及び下流側ガス導入管１５を追加することができる。
　【００１９】加熱器１０で加熱された昇華用ガスは、真空化容器室１に初期的に導入される。真空化容器室１内で昇華していない反応生成物は、真空化容器室１内で昇華用ガスにより加熱され、真空化容器室１内で昇華している反応生成物は、更に加熱され、上流側真空化ポンプ５を通過する際に温度降下しても、昇華温度以下には温度降下しない。図２の実施の形態では、図１の実施の形態に比べて、上流側真空化ポンプ５における付着防止がより完全に行われる。
　【００２０】図２の実施の形態では、真空化容器室１の中での反応ステップの進行中は、昇華用ガスを真空化容器室１内には導入できない。その反応ステップ間の合間に、昇華用ガスを１真空化容器室内には導入する。この導入のためにそのステップを含むプロセスの進行が遅延することはない。
　【００２１】図１中の下流側部位２２、上流側部位２３に温度センサー等を配置することが好ましい。最上流側部位２４に温度センサーを追加することも好ましい。これらの位置の温度センサーと加熱器１０と分配器１１とをコントローラ（図示せず）に接続して、温度センサーが常時一定の温度を検出するように加熱器１０の出力と分配器の弁の開閉度を制御することができる。そのコントローラは、昇華用ガスの温度を任意に設定することができる。
　【００２２】
　【発明の効果】本発明による反応生成物除去機能付き真空装置及びその反応生成物除去方法は、反応生成物を加熱しながらその加熱を行うガスの気流に乗せて排出するので、流路形成面への付着・堆積を防止する防止率が高く、安定した真空到達度を得ることができる。内面清掃のために生産を一時的に停止する必要がない。流路途中の除去器が不要であり、その除去器を交換する間一時的に生産を停止する必要がない。
【図面の簡単な説明】
　【図１】図１は、本発明による反応生成物除去機能付き真空装置の実施の形態を示す機器配置系統図である。
　【図２】図２は、本発明による反応生成物除去機能付き真空装置の実施の他の形態を示す機器配置系統図である。
　【図３】図３は、公知装置の機器配置系統図である。
　【符号の説明】
　１…真空化容器室
　５…上流側真空化ポンプ
　７…排気管
　８…下流側真空化ポンプ
　９…高温ガス発生器
　１０…加熱器
　１１…分配器
　１２…上流側接続部位
　１３…上流側ガス導入管
　１４…下流側接続部位
　１５…下流側ガス導入管