【事件の表示】
　特許第３１９６７９６号「インクジェット記録ヘッドのノズル形成方法」の請求項１、２に係る特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結　論】
　訂正を認める。
　特許第３１９６７９６号の請求項１ないし２に係る特許を維持する。
【理　由】
１．手続の経緯
　特許第３１９６７９６号の請求項１ないし２に係る発明についての出願は、平成５年５月１２日（優先権主張平成４年６月２４日、平成４年７月２１日）の出願であって、平成１３年６月８日にその特許権の設定登録がなされ、その後、渡辺等より特許異議の申立てがなされ、取消しの理由が通知され、その指定期間内である平成１４年７月２３日に訂正請求がなされたものである。
　
２．訂正の適否についての判断
（１）訂正の内容
ア．訂正事項ａ
　特許請求の範囲の請求項１の記載について、
「エキシマレーザーによるアブレーションが可能なプラスチックにより形成したノズル形成部材の表面に、上記ノズル形成部材のアブレーションによって除去され得る２０ｎｍ以上の厚さを有する含弗素重合体よりなるコーティング層を形成する工程と、
　上記コーティング層の表面にエキシマレーザーによるアブレーションが可能で、かつ剥離可能なプラスチックの被覆層を形成する工程と、
　上記ノズル形成部材の背面よりノズル形成部位に向けてエキシマレーザーを照射するノズル形成工程と、
　上記ノズル形成工程の後に、上記コーティング層から上記被覆層を剥離する工程と、
からなるインクジェット記録ヘッドのノズル形成方法。」
とあるのを、
「エキシマレーザーによるアブレーションが可能なプラスチックにより形成したノズル形成部材の表面に、上記ノズル形成部材のアブレーションによって除去され得る２０ｎｍ以上の厚さを有する含弗素重合体よりなるコーティング層を形成する工程と、
　上記コーティング層の表面にエキシマレーザーによるアブレーションが可能で、かつ剥離可能なプラスチックの被覆層を
添着により
　上記ノズル形成部材の背面よりノズル形成部位に向けてエキシマレーザーを照射するノズル形成工程と、
　上記ノズル形成工程の後に、上記コーティング層から上記被覆層を剥離する工程と、
からなるインクジェット記録ヘッドのノズル形成方法。」
と訂正する（訂正個所にアンダーラインを付した。以下、同じ。）。
イ．訂正事項ｂ
　明細書の段落【０００９】の記載について、
「【課題を解決するための手段】
　このような課題を達成するために本発明のインクジェット記録ヘッドのノズル形成方法は、エキシマレーザーによるアブレーションが可能なプラスチックにより形成したノズル形成部材の表面に、上記ノズル形成部材のアブレーションによって除去され得る２０ｎｍ以上の厚さを有する含弗素重合体よりなるコーティング層を形成する工程と、上記コーティング層の表面にエキシマレーザーによるアブレーションが可能で、かつ剥離可能なプラスチックの被覆層を形成する工程と、上記ノズル形成部材の背面よりノズル形成部位に向けてエキシマレーザーを照射するノズル形成工程と、上記ノズル形成工程の後に、上記コーティング層から上記被覆層を剥離する工程と、を備える。」
とあるのを、
「【課題を解決するための手段】
　このような課題を達成するために本発明のインクジェット記録ヘッドのノズル形成方法は、エキシマレーザーによるアブレーションが可能なプラスチックにより形成したノズル形成部材の表面に、上記ノズル形成部材のアブレーションによって除去され得る２０ｎｍ以上の厚さを有する含弗素重合体よりなるコーティング層を形成する工程と、上記コーティング層の表面にエキシマレーザーによるアブレーションが可能で、かつ剥離可能なプラスチックの被覆層を
添着により
と訂正する。
ウ．訂正事項ｃ
　明細書の段落【００４１】の記載について、
「【発明の効果】
　以上述べたように本発明によれば、エキシマレーザーによるアブレーションが可能なプラスチックにより形成したノズル形成部材の表面に、ノズル形成部材のアブレーションによって除去され得る２０ｎｍ以上の厚さを有する含弗素重合体よりなるコーティング層を形成する工程と、コーティング層の表面にエキシマレーザーによるアブレーションが可能で、かつ剥離可能なプラスチックの被覆層を形成する工程と、ノズル形成部材の背面よりノズル形成部位に向けてエキシマレーザーを照射するノズル形成工程と、ノズル形成工程の後に、コーティング層から被覆層を剥離する工程とを備えたので、被覆層のアブレーションによりノズルに残存するコーテング層が除去可能となり、コーテング層の膜厚の厳密な管理を要することなく、インク滴を所望の方向に飛行させることができるノズルが形成できる。」
とあるのを、
「【発明の効果】
　以上述べたように本発明によれば、エキシマレーザーによるアブレーションが可能なプラスチックにより形成したノズル形成部材の表面に、ノズル形成部材のアブレーションによって除去され得る２０ｎｍ以上の厚さを有する含弗素重合体よりなるコーティング層を形成する工程と、コーティング層の表面にエキシマレーザーによるアブレーションが可能で、かつ剥離可能なプラスチックの被覆層を
添着により
上記
と訂正する。
エ．訂正事項ｄ
　明細書の段落【００４２】を削除する。
　
（２）訂正の適否、新規事項の有無、及び特許請求の範囲の拡張・変更の存否
　上記訂正事項に関連する記載として、願書に添付した明細書には、「このコーティング層５の上面に、厚さが約１００μｍ程度のポリイミドのような、エキシマレーザーでアブレーション可能なプラスチックよりなるフィルムを被覆層６として添着する（同図ｂ）。」（段落【００３４】）と記載されている。
　
（２−１）訂正事項ａについて
　上記訂正事項ａは、願書に添付した明細書に記載された事項の範囲内において、被覆層を「添着により」形成することに技術的に限定したものであるから、特許請求の範囲の減縮を目的とした明細書の訂正に該当する。
　
（２−２）訂正事項ｂ、ｃについて
　上記訂正事項ｂ、ｃは、上記訂正事項ａと整合を図るもので、明りょうでない記載の釈明を目的とした明細書の訂正に該当する。
　
（２−３）訂正事項ｄについて
　上記訂正事項ｄは、段落番号を削除しただけのものであるから、明りょうでない記載の釈明を目的とした明細書の訂正に該当する。
　
　よって、訂正事項ａ〜ｄのいずれも新規事項の追加に該当せず、実質的に特許請求の範囲を拡張または変更するものではない。
　
（３）むすび
　以上のとおりであるから、上記訂正は、特許法等の一部を改正する法律（平成６年法律第１１６号）附則第６条第１項の規定によりなお従前の例によるとされる、特許法第１２０条の４第３項において準用する平成６年法律第１１６号による改正前の特許法第１２６条第１項ただし書、第２項及び第３項の規定に適合するので、当該訂正を認める。
　
３．特許異議申立についての判断
（１）申立の理由の概要
　異議申立人渡辺等は、本件特許に対して、証拠として、甲第１号証（欧州特許出願公開第３６７５４１号明細書）、甲第２号証（欧州特許出願公開第４６８７１２号明細書）、甲第３号証（特開昭５９−３３９０１号公報）、甲第４号証（実願昭４９−１２９１２号（実開昭５０−１０５６９１号）のマイクロフィルム）を提出し、
　請求項１ないし２に係る発明の特許は、甲第１号証に記載された発明ないし甲第４号証に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないものであることを主張し、
　また、特許請求の範囲の記載に不備があるとして、特許法第３６条第４項ないし第６項に規定する要件を満たしていないことを主張し、
　請求項１ないし２に係る発明の特許は、拒絶の査定をしなければならない特許出願に対してされたものである旨主張している。
　
（２）本件発明
　上記２．で示したように上記訂正が認められるから、特許第３１９６７９６号の請求項１ないし２に係る発明は、上記訂正に係る訂正明細書の特許請求の範囲の請求項１ないし２に記載された次のとおりのものである
「【請求項１】エキシマレーザーによるアブレーションが可能なプラスチックにより形成したノズル形成部材の表面に、上記ノズル形成部材のアブレーションによって除去され得る２０ｎｍ以上の厚さを有する含弗素重合体よりなるコーティング層を形成する工程と、
　上記コーティング層の表面にエキシマレーザーによるアブレーションが可能で、かつ剥離可能なプラスチックの被覆層を添着により形成する工程と、
　上記ノズル形成部材の背面よりノズル形成部位に向けてエキシマレーザーを照射するノズル形成工程と、
　上記ノズル形成工程の後に、上記コーティング層から上記被覆層を剥離する工程と、
からなるインクジェット記録ヘッドのノズル形成方法。
【請求項２】上記コーティング層が、非晶質含弗素重合体である請求項１に記載のインクジェット記録ヘッドのノズル形成方法。」
（以下、それぞれを「本件発明１」ないし「本件発明２」という。）。
　
（３）引用刊行物等
　平成１４年５月１４日付けの取消理由通知で引用した刊行物１ないし４には、以下のような事項等が記載されている。
刊行物１：欧州特許出願公開第３６７５４１号明細書（特許異議申立人が提出した甲第１号証）（訳は、特許異議申立書の資料１を参考にし、当審で作成した。）
ａ．「図２３は、本発明の別実施形態による、樹脂フィルム製のオリフィスプレートにエキシマレーザー光によってオリフィス加工を行う様子を示したものであり、図２９で示された要素と同様の要素には同一の符号を付している。図２３では、２１０がＫｒＦエキシマレーザーを発振するレーザー発振装置、２１２はレーザー発振装置２１０から発振される波長２４８ｍｍ、パルス幅約１５ｎｓｅｃのパルスレーザービーム、２１１はレーザービーム２１２を集光するための合成石英レンズ、２０９はレーザービーム２１２に対して遮蔽可能なアルミニウムを蒸着した投影マスクであり、直径１３３μｍの穴が２１２μｍピッチで複数配設されてオリフィスパターンを構成している。４０はオリフィスプレート部材であり、厚さ４μｍのポリエーテルサルフオン（ＰＥＳ）のフィルムに厚さ６μｍの粘着層を塗布し、さらに厚さ２５μｍのマイラーを貼り付けたものである。
　図２４は、図２３に示すオリフィスプレート部材４０を拡大した断面図であり、図において、１２ＢはオリフィスプレートをなすＰＥＳフィルム、１３Ｂは接着剤としての粘着層、１７Ｂはマイラーである。この場合、マスク２０９を介したレーザービーム２１２の照射によってオリフィスプレートとなるＰＥＳフィルム１２Ｂのレーザービーム照射側には３μｍのオリフィスが７０μｍピッチで形成される。オリフィスプレート１２Ｂにレーザー光を照射して図２４の状態とした後、マイラー１７Ｂを剥離して得たオリフィスプレート１２Ｂをインク液路の開口面に接合して、インクジェット記録ヘッド本体を完成させる。
（中略）
　次に、オリフィスプレートの材料としてドライフィルム（東京応化（株）ＳＥ３２０）を用いた実施例を、図２６〜図２８を参照して説明する。レーザー光、光学系及び投影マスクは上述の実施例と同様である。
　図２６はレーザービーム２１２がフィルムに入射する部分を拡大した図であり、図において１８Ｂはオリフィスプレートをなすドライフィルム、１９Ｂはポリエーテルよりなる保護フィルム、２０Ｂはマイラーである。
　この構成では、まずレーザービーム２１２を照射した後、保護フィルム１９Ｂを剥離して得たドライフィルムのオリフィスプレートをインク液路の開口面に接合する。（図２７）
　次に、マイラーを剥離して図２８に示す状態とし、接合されたドライフィルムのオリフィスプレート１８Ｂに吐出方向側から紫外光を照射させて光硬化させ、インクジェット記録ヘッド本体を完成する。この例によってもまた、インク吐出方向とは逆方向にオリフイスのテーパが広がる形状が得られる。」（第１３頁第５２行〜第１４頁第２８行）
ｂ．「以下に、本発明の一例について詳細に説明する。
　本発明の方法においては、まず図３２（Ｂ）に示すように吐出オリフィスプレートを構成し得るプレート部材３０２の一方の面に撥液性（撥インク性）被覆層３０３及び接着剤層３０４を設ける。プレート部材３０２としては、樹脂、金属等からなるものが利用できる。
　なお、接着剤層３０４に熱硬化性樹脂を用いる場合におけるプレート部材に用いる樹脂としては、接着剤層３０４の熱硬化時に変形等を生じない耐熱性の高い樹脂を用いるのが好ましく、例えば、ポリイミド、ポリエーテルサルフォン、ポリサルフォン、ポリエステル、アクリル樹脂、フェノール樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂、シリコン樹脂等を用いる事ができる。」（第１４頁第４４行〜第５２行）
ｃ．「実施例ａ
　３０μｍ厚のポリイミドフィルム（プレート材）の一方の面に以下の各成分を混合したエポキシ系接着剤を下記の各種条件でスピンコート法によりそれぞれ塗布し、更に１００℃〜１２０℃、３０〜６０分の条件での加熱処理を行い、乾燥・固化させてＢステージ化させ、接着剤層付きプレート材を多数得た。なお、Ｂステージ化接着剤層の層厚は１〜５μｍであった。
　接着剤層組成：
（１）エピコート１００４（商品名）とメチルエチルケトンとを２：１（重量比）で配合した混合物・・・１００重量部
（２）ジシアンジアミドとジメチルホルムアミドとを１：４（重量比）で配合した混合物・・・３重量部
（３）Ｎ−Ｎジメチルベンジルアミン・・・０．２重量部
　スピンコート条件：回転数　５００〜１０００ｒｐｍ、時間　５〜１０秒
　次に、上記のようにして得られた接着剤層付き板材の接着剤層が設けられた面と相対する面（裏面）に、弗素シリコンコーティング剤ＫＰ−８０１（商品名　信越化学工業社製）をダイフロンＳ−３（商品名　ダイキン工業社製）に０．０７重量％添加して調整した溶液を以下の各種条件でスピンコートし、８０℃〜１２０℃の加熱処理を行い、１μｍ以下の撥液性被覆層を形成した。
　スピンコート条件：回転数　２５００〜３０００ｒｐｍ、時間　２０〜３０秒
　次に、以上の操作で得られた各プレート材に４８個の貫通孔（直径、３０±２μｍ、ピッチ７０．６±２μｍ）を所定の位置で、プレスによる連続穿孔加工法により形成し、吐出オリフィスプレートを得た。得られた吐出オリフィスプレートにおける撥液性被覆層及び接着剤層の状態を検査したところ、いずれもプレートの表面のみに所定の層厚で均一に形成され、吐出口を形成するための貫通孔内はポリイミドフィルムのみが露出した状態にあった。
　こうして得られた吐出オリフィスプレートを、その接着剤層を介して図３及び図４に示す構成の基板上に流路壁等を有する記録ヘッド本体部分のそれぞれの図示した所定位置に位置決めし、仮接着を行った後、その状態で１５０℃〜２００℃、３０〜１２０分間の加熱処理により吐出口プレートの接着剤層を完全硬化させて、記録ヘッドを完成した。
　なお本実施例で用いた記録ヘッド本体部分としては、通常この分野で利用されているものを使用した。また、インク吐出エネルギー発生体、該発生体に吐出信号を印加するための電気系等は通常この分野で用いられている材料を利用して形成した。」（第１５頁第３１行〜第１６頁第２０行）
　
刊行物２：欧州特許出願公開第４６８７１２号明細書（特許異議申立人が提出した甲第２号証）（訳は、特許異議申立書の資料２を参考にし、当審で作成した。）
ａ．「本発明において、ヘテロ環構造を有する含弗素ポリマーのうち特に、非晶質なポリマーを用いることが好ましい。」（第５頁第４８行〜第４９行）
ｂ．「以上示したような特定な化学構造を持ち、撥液処理剤として適しているものとして、サイトップＣＴＸ−１０５（商品名　旭硝子製）（中略）があげられる。
　本発明において、特定の環構造を有するポリマーによる撥液膜形成方法は、ヘッド作成工程により、大きく２つに分けられる。
　すなわち、撥液膜が形成された後、吐出ポートを形成するタイプと、吐出ポートが形成された後、撥液膜を形成するタイプである。」（第８頁第２９行〜第３７行）
ｃ．「（実施例１）
　射出成形方法によって支持体とオリフィスプレートが一体化した溝付天板を成形した後、その成形した溝付天板に付着している離型剤を落とすため超音波洗浄漕内で洗浄される。次ぎにその溝付天板に対して撥液処理が行われる。撥液処理剤としてはサイトップＣＴＸ−１０５（旭硝子製）の５％溶液をＣＴ−ｓｏｌｖ．１００（沸点１００℃、旭硝子製）で０．５重量％まで希釈したものを使用した。撥液処理剤の塗布範囲（図１Ｌ×ｍ）は吸収体の幅と移動距離とで決定される。このとき、吸収体の幅は必要な撥液処理剤の幅（図１Ｌ）よりも０．２ｍｍ短い寸法で切断した。これは塗布時に撥液処理剤自身の広がり（両方向約０．１ｍｍづつ）が存在するためである。移動距離は吸収体により塗布しない部分を残した寸法（図ｌｍ）となる。ここで、塗布範囲が吐出口形成面全面でなく、ある塗布範囲を指定したのは塗布時、及び熱処理時に裏回りするのを防ぐためである。今回は図１Ａ、Ｂ、Ｃとも０．５ｍｍで行った。しかし、裏回りの心配がなければ、Ａ、Ｂ、Ｃとも０であっても良い。塗布が完了した溝付き天板をトレイに入れ、１５０℃のオーブン中に２時間半投入し、熱処理した。このとき投入後３０分間は溝付天板及びトレイの温度が所定の１５０℃に上昇するのに使われるので、実際の熱処理時間は２時間である。２時間半後除冷し、８０℃以下になった所でオープンより取り出した。撥液処理が終了した溝付天板に対し、エキシマレーザー等により、吐出オリフィスを形成し、吐出圧発生素子を有する基板と貼り合わせを行った。」（第９頁第５５行〜第１０頁第２４行）
ｄ．「１．インクジェット記録ヘッドにおいて．少なくとも吐出口の周縁部が、主鎖に含弗素へテロ環状構造を有するポリマーを含有する膜を備えた事を特徴とするインクジェット記録ヘッド。
２．前記吐出口周緑部の膜の厚さが０．１〜２μｍの膜厚であることを特徴とするクレーム１記載のインクジェット記録ヘッド。」（特許請求の範囲）
　
刊行物３：特開昭５９−３３９０１号公報（特許異議申立人が提出した甲第３号証）
ａ．「被加工物の裏面にプラスチックのシート状の物質を密着させて、そのプラスチックの気化蒸気で被加工材の溶融物を有効に除去して高精度の穴をあける方法がある。」（第１頁右下欄第９行〜第１２行）
ｂ．「本発明の目的は、バリがなく、被加工物の表面に対して垂直な高精度の穴をあけるためのレーザ加工法を提供することにある。」（第１頁右下欄第１６行〜第１８行）
ｃ．「また、本発明は板厚が１ｍｍ程度の板状物質に穴を精度良くあけるために用いることもできる。この実施例について第５図を用いて説明する。構成は第４図の場合とほぼ同じであるが、あて板を用いずレーザビーム６を被加工物１０に直接照射すること、及びレーザビーム６の焦点位置を被加工物１０の外側に来るようにすることが異なる点である。
　この構成において、レーザビーム６が被加工物１０に照射されると、被加工物１０の表面に対して垂直な穴あけが進む。そして加工穴が裏あて板１２に達すると、裏あて板１２の気化蒸気の流れが被加工物１０の穴を通って大気中に噴出する。その際に、被加工物１０に残った溶融物が吹き飛ばされることにより、バリがなく垂直な穴があくことになる。また、パルス幅が長過ぎても加工穴がふさがることはない。」（第２頁左下欄第９行〜右下欄第５行）
　
刊行物４：実願昭４９−１２９１２号（実開昭５０−１０５６９１号）のマイクロフィルム（特許異議申立人が提出した甲第４号証）
ａ．「本考案は、レーザ加工装置に係り、特に穴あけ加工に適する装置に関する。
　従来、レーザビームを支持台に載置された被加工物に照射して穴あけ加工を行なう装置において特に熱伝導の良い銅あるいはアルミニウムなどの被加工物に穴あけ加工を行なう場合、真円度のよい穴を形成することが難かしかった。すなわち、ビームを加工部分に照射すればほぼ真円の穴を形成することができるが、加工後このビームの照射を終了すると、この穴の周辺に付着している溶けた材料が完全に飛散せず加工された穴の中に流れ込んで穴をふさいだり、またふさがないまでも一度ほぼ真円に加工された穴の真円度を低下させたり、あるいは穴の開口端にばりとなって付着し穴の加工精度を低下させるなどの欠点を有する。
　本考案は、上記欠点を除去するもので、簡単な構造で溶けた材料が穴に流れ込んだり付着することを防止し加工精度の高い穴あけ加工を行なえるレーザ加工装置を提供するものである。
　すなわち、本考案は、被加工物と支持台との間に、この被加工物の沸点より低い沸点を有するシート状物体を密着させてこの物体の蒸発により溶けた材料を飛散させるようにしたレーザ加工装置である。」（第１頁第１１行〜第２頁第１５行）
　
（４）対比・判断
（４−１）本件発明１について
　本件発明１と上記刊行物１ないし４に記載された発明とを対比する。
　上記刊行物１ないし４のいずれにも、本件発明１の「コーティング層の表面にエキシマレーザーによるアブレーションが可能で、かつ剥離可能なプラスチックの被覆層を添着により形成する工程」について、記載も示唆もされていない。
　敷衍すれば、刊行物１には、オリフィスプレートにエキシマレーザー光によってオリフィス加工を行う際に、オリフィスプレートをなすドライフィルムのそれぞれの面に保護フィルムとマイラーを貼り付け、保護フィルムの側よりレーザービームを照射し、保護フィルムを剥離してインク液路の開口面に接合し、マイラーを剥離すること（以下、「刊行物１発明Ａ」とする。）、及び、ポリイミド、ポリエーテルサルフォン、ポリサルフォン、ポリエステル、アクリル樹脂、フェノール樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂、シリコン樹脂等の吐出オリフィスプレートを構成し得るプレート部材の一方の面に接着層を設け、接着剤層と相対する面に、弗素シリコンコーティング剤ＫＰ−８０１をダイフロンＳ−３に０．０７重量％添加して調整した溶液をスピンコートし、８０℃〜１２０℃の加熱処理を行って撥液性被覆層を形成し、貫通孔を所定の位置に形成することで吐出オリフィスプレートを得ること（以下、「刊行物１発明Ｂ」とする。）が記載されている。
　刊行物２には、インクジェット記録ヘッドにおいて．支持体とオリフィスプレートが一体化した溝付天板に対して、主鎖に含弗素へテロ環状構造を有するポリマー（好ましくは、非晶質なポリマー）による撥液処理を行い、撥液処理が終了した溝付天板に対し、エキシマレーザー等により吐出オリフィスを形成することにより、少なくとも吐出口の周縁部が、主鎖に含弗素へテロ環状構造を有するポリマー（好ましくは、非晶質なポリマー）を含有する厚さが０．１〜２μｍの膜を備えた構成が記載されている。
　刊行物３には、被加工物の裏面にプラスチックのシート状の物質を密着させて、そのプラスチックの気化蒸気で被加工材の溶融物を有効に除去して高精度の穴をあける方法が記載され、また、バリがなく、被加工物の表面に対して垂直な高精度の穴をあけるためのレーザ加工法を提供するために、被加工物の裏面に裏あて板を設け、レーザビームの焦点位置を被加工物の外側に来るようにし、レーザビームが被加工物に照射されると、被加工物の表面に対して垂直な穴あけが進み、加工穴が裏あて板に達すると、裏あて板の気化蒸気の流れが被加工物の穴を通って大気中に噴出し、その際に、被加工物に残った溶融物が吹き飛ばされることにより、バリがなく垂直な穴があく構成が記載されている。
　刊行物４には、被加工物と支持台との間に、この被加工物の沸点より低い沸点を有するシート状物体を密着させてこの物体の蒸発により溶けた材料を飛散させるようにし、溶けた材料が穴に流れ込んだり付着することを防止し加工精度の高い穴あけ加工を行なえるレーザ加工装置が記載されている。
　そうすると、レーザー加工において、被加工物の裏面に何らかの物体をあてることが刊行物３，４に記載されているように周知であり、特に、刊行物３には、プラスチックを密着させることが記載されていることから、刊行物１発明Ａを基にして、エキシマレーザーによるアブレーションが可能なプラスチックにより形成したノズル形成部材の表面に、エキシマレーザーによるアブレーションが可能で、かつ剥離可能なプラスチックの被覆層を添着により形成する工程と、上記ノズル形成部材の背面よりノズル形成部位に向けてエキシマレーザーを照射するノズル形成工程と、上記ノズル形成工程の後に、上記被覆層を剥離する工程と、からなるインクジェット記録ヘッドのノズル形成方法を思いつくことは容易であると認められる。
　また、刊行物１発明Ｂの撥液性被覆層を形成する物質及びその厚さとして、刊行物２に記載されたように、主鎖に含弗素へテロ環状構造を有するポリマー（好ましくは、非晶質なポリマー）を含有する物質とし、その厚さを２０ｎｍ以上にすることに何ら困難性は見いだせないし、エキシマレーザーによるノズル形成は周知であるので、刊行物１発明Ｂを基にして、エキシマレーザーによるアブレーションが可能なプラスチックにより形成したノズル形成部材の表面に、上記ノズル形成部材のアブレーションによって除去され得る２０ｎｍ以上の厚さを有する含弗素重合体よりなるコーティング層を形成する工程と、上記ノズル形成部材の背面よりノズル形成部位に向けてエキシマレーザーを照射するノズル形成工程と、からなるインクジェット記録ヘッドのノズル形成方法を思いつくことは容易であると認められる。
　しかしながら、本件発明１は、コーテング層の膜厚の厳密な管理を要することなく、インク滴を所望の方向に飛行させることができるノズルを形成するという効果を有するものであるが、刊行物１ないし４のいずれをみてもそのような効果を有するための構成は見受けられないし、そのような効果を有するために、本件発明１は、コーティング層の表面にエキシマレーザーによるアブレーションが可能で、かつ剥離可能なプラスチックの被覆層を添着により形成したものであるが、刊行物１ないし４のいずれをみてもそのような構成は見受けられない。
　上記の通りであるから、上記刊行物１ないし４のいずれにも、本件発明１の構成要件である、「コーティング層の表面にエキシマレーザーによるアブレーションが可能で、かつ剥離可能なプラスチックの被覆層を添着により形成する工程」について、記載も示唆もされてなく、当該技術分野において、自明な技術事項でもなく、また、上記各刊行物の記載事項を相互に適用しても、本件発明１に到達することができるものとは認められない。
　そして、本件発明１は、「コーティング層の表面にエキシマレーザーによるアブレーションが可能で、かつ剥離可能なプラスチックの被覆層を添着により形成する工程」を備えることにより、「被覆層のアブレーションによりノズルに残存するコーテング層が除去可能となり、コーテング層の膜厚の厳密な管理を要することなく、インク滴を所望の方向に飛行させることができるノズルが形成できる。」（訂正明細書段落【００４１】参照。）という上記刊行物１ないし４に記載されたものから当業者が予測できない顕著な作用効果を奏するものである。
　したがって、本件発明１は、上記刊行物１ないし４のいずれかに記載された発明と同一であるとは言えず、上記刊行物１ないし４に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものとも言えない。
　
（４−２）本件発明２について
　本件発明２は、本件発明１に、コーティング層が、非晶質含弗素重合体であることを技術的に限定したものである。
　したがって、上記（４−１）にて説示したと同様の理由により、本件発明２は、上記刊行物１ないし４のいずれかに記載された発明と同一であるとは言えず、上記刊行物１ないし４に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものとも言えない。
　
（４−３）記載不備について
　異議申立人は、異議申立書において、
「本件明細書では、当該被覆層をコーティング層表面に「添着」する事が記載されているが、それ以外の構成については記載されていない。
　そして「添着」によって被覆層を形成するという事は、被覆層をコーティング層に添着させるための、接着層を形成する工程が必要であるにもかかわらず、上記特許請求の範囲にはその旨が何ら記載されていない。」
と主張している。
　しかしながら、上記２．（１）ア．訂正事項ａにより、本件発明１は、「被覆層を添着により形成する」ことに限定され、「添着により」という限定は、何らかの方法で接着することを含むものであるから、本件発明１は明確になった。
　したがって、特許請求の範囲の記載について不備はないから、異議申立人の主張は採用できない。
　
（５）むすび
　以上のとおりであるから、特許異議の申立の理由及び証拠によっては本件請求項１ないし２に係る発明についての特許を取り消すことはできない。
　また、他に本件請求項１ないし２に係る発明についての特許を取り消すべき理由を発見しない。
　したがって、本件請求項１ないし２に係る発明についての特許は拒絶の査定をしなければならない特許出願に対してされたものと認めない。
　よって、特許法等の一部を改正する法律（平成６年法律第１１６号）附則第１４条の規定に基づく、特許法等の一部を改正する法律の施行に伴う経過措置を定める政令（平成７年政令第２０５号）第４条第２項の規定により、結論のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１４年８月１９日（２００２．８．１９）
【訂正の要旨】
訂正の要旨
　本件訂正は、特許請求の範囲の減縮、詳細な説明の明瞭でない記載の釈明を目的として、願書に添付した明細書の記載を以下のア〜エのように訂正するものである。
ア．特許請求の範囲【請求項１】の記載について、
「エキシマレーザーによるアブレーションが可能なプラスチックにより形成したノズル形成部材の表面に、上記ノズル形成部材のアブレーションによって除去され得る２０ｎｍ以上の厚さを有する含弗素重合体よりなるコーティング層を形成する工程と、
　上記コーティング層の表面にエキシマレーザーによるアブレーションが可能で、かつ剥離可能なプラスチックの被覆層を添着により形成する工程と、
　上記ノズル形成部材の背面よりノズル形成部位に向けてエキシマレーザーを照射するノズル形成工程と、
　上記ノズル形成工程の後に、上記コーティング層から上記被覆層を剥離する工程と、
からなるインクジェット記録ヘッドのノズル形成方法。」
と訂正する。
イ．明細書の段落【０００９】の記載について、
「【課題を解決するための手段】
　このような課題を達成するために本発明のインクジェット記録ヘッドのノズル形成方法は、エキシマレーザーによるアブレーションが可能なプラスチックにより形成したノズル形成部材の表面に、上記ノズル形成部材のアブレーションによって除去され得る２０ｎｍ以上の厚さを有する含弗素重合体よりなるコーティング層を形成する工程と、上記コーティング層の表面にエキシマレーザーによるアブレーションが可能で、かつ剥離可能なプラスチックの被覆層を添着により形成する工程と、上記ノズル形成部材の背面よりノズル形成部位に向けてエキシマレーザーを照射するノズル形成工程と、上記ノズル形成工程の後に、上記コーティング層から上記被覆層を剥離する工程と、を備える。」
と訂正する。
ウ．明細書の段落【００４１】の記載について、
「【発明の効果】
　以上述べたように本発明によれば、エキシマレーザーによるアブレーションが可能なプラスチックにより形成したノズル形成部材の表面に、ノズル形成部材のアブレーションによって除去され得る２０ｎｍ以上の厚さを有する含弗素重合体よりなるコーティング層を形成する工程と、コーティング層の表面にエキシマレーザーによるアブレーションが可能で、かつ剥離可能なプラスチックの被覆層を添着により形成する工程と、ノズル形成部材の背面よりノズル形成部位に向けてエキシマレーザーを照射するノズル形成工程と、ノズル形成工程の後に、コーティング層から上記被覆層を剥離する工程とを備えたので、被覆層のアブレーションによりノズルに残存するコーテング層が除去可能となり、コーテング層の膜厚の厳密な管理を要することなく、インク滴を所望の方向に飛行させることができるノズルが形成できる。」
と訂正する。
エ．明細書の段落【００４２】を削除する。
（５４）【発明の名称】
インクジェット記録ヘッドのノズル形成方法
（５７）【特許請求の範囲】
　【請求項１】　エキシマレーザーによるアブレーションが可能なプラスチックにより形成したノズル形成部材の表面に、上記ノズル形成部材のアブレーションによって除去され得る２０ｎｍ以上の厚さを有する含弗素重合体よりなるコーティング層を形成する工程と、
　上記コーティング層の表面にエキシマレーザーによるアブレーションが可能で、かつ剥離可能なプラスチックの被覆層を
添着により
　上記ノズル形成部材の背面よりノズル形成部位に向けてエキシマレーザーを照射するノズル形成工程と、
　上記ノズル形成工程の後に、上記コーティング層から上記被覆層を剥離する工程と、
　からなるインクジェット記録ヘッドのノズル形成方法。
　【請求項２】　上記コーティング層が、非晶質含弗素重合体である請求項１に記載のインクジェット記録ヘッドのノズル形成方法。
【発明の詳細な説明】
　【０００１】
　【産業上の利用分野】
　本発明はインク滴を吐出して記録書込みを行うインクジェット記録ヘッドにおけるノズルの形成方法に関する。
　【０００２】
　【従来の技術】
　インクジェット記録ヘッドは、ノズルよりインクをインク滴として吐出し記録媒体上に記録の書込みを行うものであるが、この書込みに水性インクを用いる場合には、ノズル開口部周囲の撥水性が不充分であると、インクがその面に付着し易くなってインク滴の直進性が損なわれるなどの問題が生じる。
　一般に、インクジェット記録ヘッドにおいて求められるノズル開口部周囲の撥水性は、接触角が９０度以上あればインク滴の直進性が損なわれないと言われており、このために、ノズル開口面側に撥水剤をコーティングすることが行われている。
　【０００３】
　このコーティング方法としては、これまで静電粉体塗装法（特開昭５７−１６７７６５号）、真空蒸着法（特開昭６０−１８３１６１号）あるいは、ディッピング法、スプレーコート法、スピンコート法等が提案されているが、これらの方法では、いずれも撥水剤がノズル内に入り込んで目詰まりを起こしたり、インク滴の直進性を損ねて印字品質に悪影響を与えるといった問題を有している。
　【０００４】
　一方、ノズルに目詰まりを生じさせることなくその開口面側に撥水処理を行う方法として、特開昭６３−１２２５６０号公報に開示されたものは、ノズルを含むインク流路内に液体または固体を充填してからコーティング処理をするというもので、また特開昭６２−５９０４７号公報に開示されたものは、ノズルよりエアを噴出させながらコーティング処理をするというものである。
　【０００５】
　しかしながら、前者の方法では、流路内への液体・固体の充填が容易でなく、また流路内に充填剤を満たしたままでノズル開口面に付着した余分な充填剤を除去することが困難であるといった問題を有し、また後者の方法では、最も撥水性を要求されるノズル開口部の周囲がエア流の影響を受けるため、十分なコーティングを行うことができないという問題を有している。
　【０００６】
　他方、ノズルの形成手段としてエキシマレーザーを用いる方法については、特開平３−２０７６５７号公報において提案されている。そしてここには、ノズルの形成と同時にその開口部周面に設けた撥水層をエキシマレーザーにより除去するという点についても開示されているが、このエキシマレーザーにより除去することができる撥水剤としてのテフロンは、ワイピングによってノズルの表面から簡単に剥離してしまうといった問題があり、またシリコン系の樹脂は、エキシマレーザーでアブレーション可能な樹脂には積層させることができず、ガラスには強力に結合するが、ノズル形成部材にガラスを用いた場合には、ノズルの形成が困難であるほか、長期の使用によってガラスが溶けてしまうといった問題を有している。
　【０００７】
　【発明が解決しようとする課題】
　本発明はこのような問題に鑑みてなされたもので、その目的とするところは、ノズル形成部材に対して密着性がよく、かつ耐摩耗性に優れた撥水層を、加工前の膜厚の厳密な管理を不要とするとともに、比較的大なる膜厚で形成することができるノズル形成方法を提案することにある。
　【０００８】
　また、本発明の他の目的とするところは、ノズル形成部材の表面に、より膜厚の大なる含弗素重合体を撥水層として形成することのできる新たなノズル形成方法を提供することにある。
　【０００９】
　【課題を解決するための手段】
　このような課題を達成するために本発明のインクジェット記録ヘッドのノズル形成方法は、
エキシマレーザーによるアブレーションが可能なプラスチックにより形成したノズル形成部材の表面に、上記ノズル形成部材のアブレーションによって除去され得る２０ｎｍ以上の厚さを有する含弗素重合体よりなるコーティング層を形成する工程と、上記コーティング層の表面にエキシマレーザーによるアブレーションが可能で、かつ剥離可能なプラスチックの被覆層を
添着により
　【００１０】
　【作用】
　含弗素重合体よりなるコーティング層の表面にエキシマレーザーによるアブレーションが可能で、かつ剥離可能なプラスチックの被覆層を形成して、ノズル形成部材の背面よりノズル形成部位に向けてエキシマレーザーを照射するから、被覆層のアブレーションによりノズルに残存するコーテング層が除去可能となり、コーテング層の膜厚の厳密な管理を要することなく、インク滴が所望の方向に飛翔するノズルを形成できる。
　【００１１】
　【実施例】
　そこで以下に図示した実施例について説明する。
　図１は、本発明の一実施例をなすインクジェット記録ヘッドのノズル形成工程を示したものである。
　【００１２】
　はじめに、Ｅ字形をなすノズル形成部材１を上下から治具２ａ、２ｂで挟み込んでネジ３により固定する（図１ａ）。
　このノズル形成部材１は、エキシマレーザーによりアブレーションが可能な任意のプラスチック、つまり高強度紫外レーザーによる光化学反応により照射された部分に高濃度の励起種が生成し、これが分解飛散する力によりエッチングされる任意のプラスチックが使用されるが、具体的には、ポリカーボネート、ポリサルフォン、ポリイミド、ポリエーテルイミド、ポリベンズイミダゾール、ポリアセタール、ポリエチレン、ポリエチレンテレフタレート、ポリスチレン、ポリフェニレンオキサイド、その他フェノール樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ＡＢＳなどが使用される。
　【００１３】
　ついで、撥水剤としてサイトップ１０５Ｐ（旭硝子（株）製）４０重量％、ＣＴ−ｓｏｌｖ．１００（旭硝子（株）製）６０重量％よりなる含弗素重合体の溶液内へこのノズル形成部材１の表面４を浸し、しばらく静置した後、１００ｍｍ／分の速度で溶液中より引上げ、これをオーブン内で約１時間、１２０度の温度で加熱して溶媒を蒸発除去させ、その表面４に、膜厚が２０乃至７００ｎｍのコーティング層５を形成する（図１ｂ）。
　【００１４】
　撥水剤として使用する含弗素重合体については、非晶質含弗素重合体であることが望ましく、具体的には、上記した組成物以外に、ポリジパーフルオロアルキルフマレート、テフロンＡＦ（Ｄｕ　ｐｏｎｔ社商標）のような含弗素重合体、あるいはジパーフルオロアルキルフマレートとスチレンの交互共重合体、三弗化塩化エチレンとビニルエーテルとの交互共重合体、四弗化塩化エチレンとビニルエステルとの交互共重合体などの含弗素エチンレンと炭化水素系エチレンとの交互共重合体もしくはその類似体乃至誘導体、フマライト（日本油脂（株）商標）が用いられる。
　【００１５】
　これらの非晶質含弗素重合体は弗素系の有機溶媒に溶解するから、溶媒に任意の濃度で溶解してコーティングすることにより、エキシマレーザーでアブレーション可能なプラスティックに対する密着性が高く、かつ均一なコーティングが可能となる。
　【００１６】
　この非晶質含弗素重合体のコーティング方法としては、上述したディッピング法以外に、例えば、スプレーを用いて噴霧するスプレーコート法、表面に１乃至数滴滴下したあと高速で回転させてコーティングするスピンコート法、ゴムなどの支持体に予め溶液を塗っておいてこれを表面に押し付けてコーティングする転写法などを採用することができる。
　【００１７】
　また、コーティングを行う面をオゾン雰囲気に曝し、そのあとでコーティングすることもできる。このようなオゾンを用いた表面洗浄処理を行うことにより、その面の汚れを除去してコーティング層の密着性を上げることができ、さらにオゾンの雰囲気は酸素プラズマや紫外線照射により得ることができる。またさらに、コーティングを行う面との密着性を向上するためにカップリング化合物層を介してコーティング層を形成することができ、これはオゾンを用いた表面洗浄処理とともに行うようにしても単独で行うようにしてもよい。
　【００１８】
　つぎに、このノズル形成部材１を治具２ａ、２ｂから外し、発振波長２４８ｎｍ、エネルギー密度２．０Ｊ／ｃｍ２のＫｒ　Ｆエキシマレーザー光をノズル形成部材１の背面６よりノズル形成部位に向けて照射し、そこにノズル７を形成する。
　【００１９】
　これにより、ノズル形成部材１のうちエキシマレーザーの照射を受けた部分が光化学反応により高濃度の励起種を生成しこれが分解・飛散して、図１（ｃ）に示したように、当該部分をエッチングしてそこにノズル７を正確に形成するとともに、分解・飛散した励起種がノズル７上のコーティング層５を吹飛ばして除去する。
　【００２０】
　なお、この際、コーティング層５が７００ｎｍ以上の膜厚を有する場合には、励起種による吹飛ばしが十分に行えず、図３に示したように、ノズル７の開口部周囲に水掻き状の膜５ａが残り、また、膜厚が２０ｎｍ以下の場合には、図４に示したように、ノズル７上の周囲のコーティング層５が吹飛ばされて、撥水層のない部分４ａが形成される。
　【００２１】
　そして最後に、このようにして形成したノズル形成部材１に圧力伝達用の振動板８とインク供給口を備えたヘッド形成部品９を接着し（図１ｄ）、さらに、振動板８に圧電素子１０を接着してインクジェット記録ヘッド１１を構成する。
　このようにして形成した含弗素重合体よりなるコーティング層５は、水に対する接触角が１００度以上あり、またコーティング層５によるノズル７の詰まり及びノズル７の穿孔不良、形状不良はなかった。
　【００２２】
（実施例１）
　上述したディッピング法により成形したコーティング層５をポリサルフォンの小片で一部削り取り、その結果現れた表面４との段差を測定する方法でこの層５の厚さを求めたところ、厚さは約３００ｎｍであった。このヘッド１１を用いて表１に示すところのインクジェット用インク１２をノズル７より吐出したところ、インク滴は曲がりなく（０．５°以下）真直ぐに吐出、飛行し、記録媒体１４上に印字精度の高い高品位な記録画像を形成することができた。
　【００２３】
　【表１】
　【００２４】
　また、シリコンゴムからなるゴミ除去ワイパー１用いてワイピングを５０００回繰返す試験を行った結果、インク滴の直進性は損なわれることなく、ワイピング後においても印字精度の高い高品位な記録画像を形成することができた。
　また、撥水剤としてＡＦ１６００（Ｄｕ　ｐｏｎｔ社製）３．５重量％、ＦＣ−７５（住友スリーエム社製）９６．５重量％の溶液を用いたディッピング法により膜厚が約６５０ｎｍのコーティング層５を形成した場合にも上記したと同様の好結果が得られ、１００００回のワイピング処理を行った後も画像品質に変化はなかった。
　【００２５】
　一方、このディッピング法によりノズル形成部材１の表面４に膜厚が約８００ｎｍのコーティング層５を形成して上述した条件のもとでエキシマレーザーによりノズルを形成したところ、図３に示したように、ノズル７上のコーティング層５を十分に除去することができず、この結果、このヘッド１１を用いてインクをノズル７より吐出させたところ、インク滴はノズル７の上部に水掻き状の膜として残存したコーティング層５の影響を受けて２乃至８°の曲がりを示し、記録媒体１４上に高品位の記録画像を形成することができなかった。
　【００２６】
（実施例２）
　ポリカーボネートからなるノズル形成部材１の表面４に、波長が２００ｎｍの紫外線光を１０分照射した後、表２に示す組成よりなる溶液を数滴滴下し、３０００回転／分で１分間スピンコートによりコーティングし、さらに８０度の温度で１時間加熱して溶媒を除去し、表面４に撥水性を示すコーティング層５を形成した。
　【００２７】
　【表２】
　【００２８】
　このノズル形成部材１に、発振波長が２４８ｎｍ、エネルギー密度が２．０Ｊ／ｃｍ２のＫｒ　Ｆエキシマレーザー光を背面より照射してノズルを形成した。
　このスピンコート法により形成したコーティング層５は水に対する接触角が１００度以上あり、また、形成されたノズル７は、このコーティング層５によって詰まったりすることはなかった。
　また、この方法によって形成したコーティング層５は３０ｎｍの厚さを有し、このヘッド１１を用いてインクをノズル７より吐出させたところ、インク滴は曲がりなく真直ぐに吐出、飛行して記録媒体１４上に良好な記録画像を形成することができた。
　【００２９】
　さらに実施例１と同様の方法にてワイピングを２０００回繰返す試験を行ったが、その後においても印字精度の高い記録画像を形成することができた。一方、このスピンコート法によりノズル成形部材の表面に厚さが１５ｎｍのコーティング層を形成し、その上で上述した条件のもとでノズルを形成したところ、図４（ａ）に示したようにノズル７の周囲のコーティング層５は破壊され、このヘッド１１を用いてインクをノズル７より吐出させたところ、ノズル７の表面４周囲にインクが付着して、その影響によりインクの吐出方向が３〜５°曲がって高品位の記録画像を形成することはできなかった。
　【００３０】
　以上の実施例から明らかなように、ノズル形成部材１の表面４に含弗素重合体よりなるコーティング層５を２０〜７００ｎｍの厚みに形成することにより、その後のエキシマレーザーによるノズル７の形成とともに、ノズル開口部周囲に、十分な被覆を有し、かつノズル７内へのコーティング層７の侵入のない良好なノズルを形成することができる確証が得られた。
　【００３１】
　ところで上述した各実施例は、ノズル形成部材１そのものがアブレーションをを利用するものであって、ノズル形成部材１がもたらすアブレーション効果は、高強度紫外レーザーによる光化学反応によって照射された部分の構成分子が励起状態、つまり高エネルギー状態となって不安定になるのに伴い、励起エネルギーを発散して安定化するために分子間の結合を切って飛散するものと推測されるから、励起エネルギー量以上のエネルギー密度のエキシマレーザーを照射しても、励起しにくい性質を有する含弗素重合体を一定以上除去することはできない。
　【００３２】
　したがって、上述した実施例では、励起させにくいコーティング層を良好に除去させるためにその膜厚の上限を厳密に管理する必要を有するものであるが、以下に述べる実施例はこのような管理を特に不要となし、かつ膜厚を大となして耐摩耗性をより高めるようにしたものである。
　【００３３】
　図５はこの実施例を示したもので、はじめに、ポリサルフォンからなるノズル形成部材１の表面に、第１実施例で述べたと同様のディッピング法により含弗素重合体よりなるコーティング層５を形成する（同図ａ）。このコーティング層５は、ノズル形成部材１のアブレーションにより少なくともノズル７上の一部が穿設除去される程度の厚さに止どめられる。
　【００３４】
　そしてさらに、このコーティング層５の上面に、厚さが約１００μｍ程度のポリイミドのような、エキシマレーザーでアブレーション可能なプラスチックよりなるフィルムを被覆層６として添着する（同図ｂ）。
　【００３５】
　ついで、このコーティング層５と被覆層６を設けたノズル形成部材１の背面から発振波長が２４８ｎｍ、エネルギー密度が２．０Ｊ／ｃｍ２のＫｒ　Ｆエキシマレーザー光を照射する。これにより、照射された部分の構成分子は高濃度の励起種を生成しこれが分解・飛散して、この部分をエッチングすることにより精度のよいノズル７を削成するとともに、この分解・飛散した励起種により、同図ｃに示したように、ノズル７の上部を覆っているコーティング層５の一部を除去し、さらに貫通したエキシマレーザーによりその上の被覆層６の一部を除去して、この被覆層６のアブレーションによりノズル７上に残存するコーティング層５の全てを除去する。
　そして最後に、同図ｄに示したように、コーティング層５の上面から被覆層６を剥離して全ての生成工程を終える。
　【００３６】
　この実施例により形成されたコーティング層５は膜厚が２０００ｎｍであったが、このヘッドを用いてインクをノズル７より吐出させたところ、インク滴は曲りなく真直ぐに吐出・飛行して記録媒体１４上に精度のよい記録画像を形成した。
　【００３７】
　他方、膜厚が２０００ｎｍのコーティング層５の上面に被覆層６を添着することなくノズル形成部材１の背面からエキシマレーザーによりノズル７を形成したところ、ノズル７上のコーティング層５は完全に除去されず、この影響を受けてインク滴は２°乃至８°の曲りを生じて高品位な記録画像を形成することはできなかった。
　このことから、ノズル７上のコーティング層５は、ノズル形成部材１のアブレーションだけでなく被覆層６のアブレーションによって除去されることが確認できた。
　【００３８】
（実施例３）
　ポリエーテルイミドよりなるノズル形成部材１の表面４に、第２実施例で示したと同様のスピンコート法をもって膜厚が８００ｎｍのコーティング層５を形成し、その上にポリエチレンテレフタレートよりなる膜厚１５０μｍの被覆層６を添着した。
　そして、ノズル形成部材１の背面からエキシマレーザーを照射して上述したと同様のノズル形成加工を施したところ、インク滴の曲りのないヘッドが形成できた。
　【００３９】
　他方、これと同じ膜厚を有するコーティング層５の上に、エキシマレーザーでアブレーションしない膜厚が５００μｍのポリテトラフルオロエチレンのフィルムを添着して、上述したと同様のノズル形成加工を施したところ、ノズル７上のコーティング層５は完全に除去することができず、インクの吐出方向に曲がりが生じた。
　【００４０】
　このことから、コーティング層５の上に添着する被覆層６は、エキシマレーザーでアブレーションする素材からなるフィルムでなければならないことが確認できた。
　【００４１】
　【発明の効果】
　以上述べたように本発明によれば、エキシマレーザーによるアブレーションが可能なプラスチックにより形成したノズル形成部材の表面に、ノズル形成部材のアブレーションによって除去され得る２０ｎｍ以上の厚さを有する含弗素重合体よりなるコーティング層を形成する工程と、コーティング層の表面にエキシマレーザーによるアブレーションが可能で、かつ剥離可能なプラスチックの被覆層を
添着により
【図面の簡単な説明】
　【図１】
　（ａ）乃至（ｄ）は発明の一実施例をなすインクジェット記録ヘッドの形成工程を示した図である。
　【図２】
　この形成工程により形成されたインクジェット記録ヘッドのインク吐出試験について示した図である。
　【図３】
　コーティング層の膜厚が不足な場合の成形状態を示した図である。
　【図４】
　（ａ）（ｂ）はコーティング層の膜厚が過大な場合の成形状態を示した図である。
　【図５】
　（ａ）乃至（ｄ）は本発明の他のノズル形成工程を示した図である。
　【符号の説明】
　１　ノズル形成部材
　５　含弗素重合体よりなるコーティング層
　６　被覆層
　７ノズル
　１０　圧電素子
　１１　インクジェット記録ヘッド