(57)【要約】  被転写体を支持する支持機構を移動させる支持機構駆動手段と、被転写体の表面に向けてエネルギー線を照射する照射手段とが設置される装置において、パターン転写処理の進捗に応じて、光照射手段及び支持機構駆動手段のいずれか１つを使用位置に移動可能にする。  【選択図】  図１
2010082300.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
モールドに形成されたパターンを被転写体に転写する一連の転写処理を行う転写装置であって、
前記被転写体を支持する支持機構と、
前記支持機構を第１方向に駆動させる支持機構駆動手段と、
エネルギー線を前記被転写体に向けて照射する照射手段と、
前記照射手段及び／又は前記支持機構駆動手段を移動させる移動手段と、を有することを特徴とする転写装置。
【請求項２】
前記一連の転写処理の進捗に応じて、前記光照射手段及び前記支持機構駆動手段の内の一方を選択的に使用位置に配置すべく前記移動手段を制御する制御手段を更に含むことを特徴とする請求項１に記載の転写装置。
【請求項３】
前記移動手段は、前記照射手段が設置されている第１ステージと、前記支持機構駆動手段が設置されている第２ステージと、を含み、
前記制御手段は、前記一連の転写処理の進捗に応じて、前記第１ステージ及び前記第２ステージの内の一方を前記使用位置に移動させることを特徴とする請求項２記載の転写装置。
【請求項４】
前記照射手段及び前記支持機構駆動手段はステージ上に設置されており、
前記制御手段は、前記照射手段及び前記支持機構駆動手段の内の一方を前記使用位置に配置させるべく前記ステージを移動させる制御手段を更に有することを特徴とする請求項２に記載の転写装置。
【請求項５】
前記制御手段は、前記モールドと前記被転写体とのアライメント動作時には前記支持機構駆動手段を前記使用位置に配置させるべく前記移動手段を制御し、前記モールドを前記被転写体に押圧する押圧動作時には前記照射手段を前記使用位置に配置させるべく前記移動手段を制御することを特徴とする請求項２に記載の転写装置。
【請求項６】
前記使用位置は、前記支持機構に支持されている前記被転写体の真上又は真下の位置であることを特徴とする請求項２に記載の転写装置。
【請求項７】
前記制御手段は、前記支持機構を前記第１方向に駆動させる場合には前記支持機構駆動手段を前記使用位置に配置させるべく前記移動手段を制御し、前記エネルギー線を前記被転写体に照射する場合には前記照射手段を前記使用位置に配置させるべく前記移動手段を制御することを特徴とする請求項２又は６記載の転写装置。
【請求項８】
モールドに形成されたパターンを被転写体に転写する一連の転写処理を行う転写装置であって、
前記被転写体を支持する支持機構と、
前記支持機構を第１方向に駆動させる支持機構駆動手段と、
前記被転写体と前記モールドのアライメント用の撮影手段と、
前記撮影手段及び／又は前記支持機構駆動手段を移動させる移動手段と、を有することを特徴とする転写装置。
【請求項９】
前記一連の転写処理の進捗に応じて、前記撮影手段及び前記支持機構駆動手段の内の一方を選択的に使用位置に配置すべく前記移動手段を制御する制御手段を更に含むことを特徴とする請求項８に記載の転写装置。
【請求項１０】
前記移動手段は、前記撮影手段及び前記支持機構駆動手段が設置されているステージを含み、
前記制御手段は、前記撮影手段及び前記支持機構駆動手段各々の内の一方を前記使用位置に配置すべく前記ステージを移動させるべき制御を行うことを特徴とする請求項９に記載の転写装置。
【請求項１１】
前記制御手段は、前記モールドと前記被転写体とのアライメント動作時には前記撮影手段を前記使用位置に配置させるべく前記移動手段を制御し、前記モールド及び前記被転写体の離型動作時には前記支持機構駆動手段を前記使用位置に配置させるべく前記移動手段を制御することを特徴とする請求項９に記載の転写装置。
【請求項１２】
前記使用位置は、前記支持機構に支持されている前記被転写体の真上又は真下の位置であることを特徴とする請求項９に記載の転写装置。
【請求項１３】
前記制御手段は、前記支持機構を前記第１方向に駆動させる場合には前記支持機構駆動手段を前記使用位置に配置させるべく前記移動手段を制御し、前記被転写体及び／又は前記モールドの表面を撮影する場合には前記撮影手段を前記使用位置に配置させるべく前記移動手段を制御することを特徴とする請求項９又は１２記載の転写装置。
【請求項１４】
モールドに形成されたパターンを被転写体に転写する転写装置であって、
エネルギー線を前記被転写体に向けて照射する照射手段と、
前記被転写体及び前記モールドのアライメント用の撮影手段と、
前記撮影手段又は前記照射手段を移動させる移動手段と、
パターン転写処理の進捗に応じて、前記撮影手段及び前記照射手段の内の一方を使用位置に配置させるべく前記移動手段を制御する制御手段と、を有することを特徴とする転写装置。
【請求項１５】
前記移動手段は、前記撮影手段及び前記照射手段が設置されているステージを含み、
前記制御手段は、前記撮影手段及び前記照射手段各々の内の一方を前記使用位置に配置すべく前記ステージを移動させるべき制御を行うことを特徴とする請求項１４に記載の転写装置。
【請求項１６】
前記制御手段は、前記モールドと前記被転写体とのアライメント動作時には前記撮影手段を前記使用位置に配置させるべく前記移動手段を制御し、前記モールドを前記被転写体に押圧する押圧動作時には前記照射手段を前記使用位置に配置させるべく前記移動手段を制御することを特徴とする請求項１４に記載の転写装置。
【請求項１７】
前記使用位置は、前記被転写体の真上又は真下の位置であることを特徴とする請求項１４に記載の転写装置。
【請求項１８】
前記制御手段は、前記エネルギー線を前記被転写体に照射する場合には前記照射手段を前記使用位置に配置させるべく前記移動手段を制御し、前記被転写体及び／又は前記モールドの表面を撮影する場合には前記撮影手段を前記使用位置に配置させるべく前記移動手段を制御することを特徴とする請求項１４又は１７記載の転写装置。
【請求項１９】
第１モールドに形成されたパターンを被転写体の第１面に転写し、且つ第２モールドに形成されたパターンを前記被転写体の第２面に転写する一連の転写処理を行う転写装置であって、
前記被転写体を第一の方向から支持する第１支持機構と、
前記第１支持機構を第１方向に駆動させる第１支持機構駆動手段と、
エネルギー線を前記被転写体の前記第１面に向けて照射する第１照射手段と、
エネルギー線を前記被転写体の前記第２面に向けて照射する第２照射手段と、
前記被転写体と前記第１及び第２モールドのアライメント用の撮影手段と、
前記被転写体を第二の方向から支持する第２支持機構と、
前記第２支持機構を移動させる第２支持機構駆動手段と、
前記撮影手段、前記第１支持機構駆動手段、又は前記第１照射手段を移動させる第１移動手段と、
前記第２支持機構駆動手段、又は前記第２照射手段を移動させる第２移動手段と、を有し、
パターン転写処理の進捗に応じて、前記撮影手段、前記第１支持機構駆動手段及び前記第１照射手段の内の一方を選択的に第１使用位置に移動させるように前記第１移動手段を制御し、前記第２支持機構駆動手段及び前記第２照射手段の内の一方を選択的に第２使用位置に移動するように前記第２移動手段を制御する制御手段を有することを特徴とする転写装置。
【請求項２０】
モールドに形成されたパターンを被転写体に転写する一連の転写処理を行う転写装置であって、
前記被転写体を支持する支持機構を第１方向に駆動させる支持機構駆動手段、及びエネルギー線を前記被転写体に向けて照射する照射手段が夫々設置されているスライドテーブルと、
前記支持機構駆動手段及び前記照射手段の内の一方を使用位置に配置させるべく前記スライドテーブルを移動させる移動制御手段と、からなるデバイスステーションを備えたことを特徴とする転写装置。
【請求項２１】
モールドに形成されたパターンを被転写体に転写する一連の転写処理を行う転写装置であって、
前記被転写体を支持する支持機構を第１方向に駆動させる支持機構駆動手段、及び前記被転写体と前記モールドのアライメント用の撮影手段が夫々設置されているスライドテーブルと、
前記支持機構駆動手段及び前記撮影手段の内の一方を使用位置に配置させるべく前記スライドテーブルを移動させる移動制御手段と、からなるデバイスステーションを備えたことを特徴とする転写装置。
【請求項２２】
モールドに形成されたパターンを被転写体に転写する一連の転写処理を行う転写装置であって、
前記被転写体と前記モールドのアライメント用の撮影手段、及びエネルギー線を前記被転写体に向けて照射する照射手段が夫々設置されているスライドテーブルと、
前記撮影手段及び前記照射手段の内の一方を使用位置に配置させるべく前記スライドテーブルを移動させる移動制御手段と、からなるデバイスステーションを備えたことを特徴とする転写装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、被転写体に凹凸パターンを転写する転写装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
現在、光インプリント法を利用してディスク形状の記録媒体基板上に微細な凹凸パターンを転写する転写装置として、例えば、特許文献１の図１に示すような装置が提案されている。上記のような従来転写装置では、各工程毎に、例えば、モールドと基板のアライメントのための補助装置、光照射のための補助装置を備えなければならず、転写装置が大型化する、装置構成が複雑化するといった課題が生じる。これによって、転写装置のコストが増し、作業性やメンテナンス性の悪化も招くこととなる。
【特許文献１】特開２００８−１５５５２２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
本発明は、上述した点に鑑みてなされたものであって、装置の大型化および装置構成の複雑化を生じない転写装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
本発明の第１の特徴による転写装置は、モールドに形成されたパターンを被転写体に転写する一連の転写処理を行う転写装置であって、前記被転写体を支持する支持機構と、前記支持機構を第１方向に駆動させる支持機構駆動手段と、エネルギー線を前記被転写体に向けて照射する照射手段と、前記照射手段及び／又は前記支持機構駆動手段を移動させる移動手段と、を有する。【０００５】
本発明の第２の特徴による転写装置は、モールドに形成されたパターンを被転写体に転写する一連の転写処理を行う転写装置であって、前記被転写体を支持する支持機構と、前記支持機構を第１方向に駆動させる支持機構駆動手段と、前記被転写体と前記モールドのアライメント用の撮影手段と、前記撮影手段及び／又は前記支持機構駆動手段を移動させる移動手段と、を有する。【０００６】
本発明の第３の特徴による転写装置は、モールドに形成されたパターンを被転写体に転写する転写装置であって、エネルギー線を前記被転写体に向けて照射する照射手段と、前記被転写体及び前記モールドのアライメント用の撮影手段と、前記撮影手段又は前記照射手段を移動させる移動手段と、パターン転写処理の進捗に応じて、前記撮影手段及び前記照射手段の内の一方を使用位置に配置させるべく前記移動手段を制御する制御手段と、を有する。【０００７】
本発明の第４の特徴による転写装置は、第１モールドに形成されたパターンを被転写体の第１面に転写し、且つ第２モールドに形成されたパターンを前記被転写体の第２面に転写する一連の転写処理を行う転写装置であって、前記被転写体を支持する第１支持機構と、前記第１支持機構を第１方向に駆動させる第１支持機構駆動手段と、エネルギー線を前記被転写体の前記第１面に向けて照射する第１照射手段と、エネルギー線を前記被転写体の前記第２面に向けて照射する第２照射手段と、前記被転写体と前記第１及び第２モールドのアライメント用の撮影手段と、前記被転写体を支持する第２支持機構と、前記第２支持機構を移動させる第２支持機構駆動手段と、前記撮影手段、前記第１支持機構駆動手段、又は前記第１照射手段を移動させる第１移動手段と、前記第２支持機構駆動手段、又は前記第２照射手段を移動させる第２移動手段と、パターン転写処理の進捗に応じて、前記撮影手段、前記第１支持機構駆動手段及び前記第１照射手段の内の一方を選択的に第１使用位置に移動させるように前記第１移動手段を制御し、前記第２支持機構駆動手段及び前記第２照射手段の内の一方を選択的に第２使用位置に移動するように前記第２移動手段を制御する制御手段と、を有する。【０００８】
本発明の第５の特徴による転写装置は、モールドに形成されたパターンを被転写体に転写する一連の転写処理を行う転写装置であって、前記被転写体を支持する支持機構を第１方向に駆動させる支持機構駆動手段、及びエネルギー線を前記被転写体に向けて照射する照射手段が夫々設置されているスライドテーブルと、前記支持機構駆動手段及び前記照射手段の内の一方を使用位置に配置させるべく前記スライドテーブルを移動させる移動制御手段と、からなるデバイスステーションを備える。【０００９】
本発明の第６の特徴による転写装置は、モールドに形成されたパターンを被転写体に転写する一連の転写処理を行う転写装置であって、前記被転写体を支持する支持機構を第１方向に駆動させる支持機構駆動手段、及び前記被転写体と前記モールドのアライメント用の撮影手段が夫々設置されているスライドテーブルと、前記支持機構駆動手段及び前記撮影手段の内の一方を使用位置に配置させるべく前記スライドテーブルを移動させる移動制御手段と、からなるデバイスステーションを備える。【００１０】
本発明の第７の特徴による転写装置は、モールドに形成されたパターンを被転写体に転写する一連の転写処理を行う転写装置であって、前記被転写体と前記モールドのアライメント用の撮影手段、及びエネルギー線を前記被転写体に向けて照射する照射手段が夫々設置されているスライドテーブルと、前記撮影手段及び前記照射手段の内の一方を使用位置に配置させるべく前記スライドテーブルを移動させる移動制御手段と、からなるデバイスステーションを備える。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】本発明に係るインプリント装置の概略構成を示す図である。
【図２Ａ】上面から眺めた上側デバイスステーション９０ａの概略構成を示す図である。
【図２Ｂ】側面から眺めた上側デバイスステーション９０ａの概略構成を示す図である。
【図３Ａ】上面から眺めた下側デバイスステーション９０ｂの概略構成を示す図である。
【図３Ｂ】側面から眺めた下側デバイスステーション９０ｂの概略構成を示す図である。
【図４Ａ】上側デバイスステーション９０ａの他の構成を示す上面図である。
【図４Ｂ】上側デバイスステーション９０ａの他の構成を示す側面図である。
【図５】両面磁気ディスクの製造工程の一例を示す図である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
被転写体及びモールドの基準位置を一致させて夫々を支持する支持機構を移動させる支持機構駆動手段と、基板の表面を硬化させる光を照射する光照射手段とが設置されるステージ上において、基板に対する光照射手段及び支持機構駆動手段の設置位置を移動可能にする。【００１３】
以下、本発明に係る実施の形態について図面を参照して説明する。なお、以下の説明における例示が本発明を限定することはない。
【実施例】
【００１４】
図１は、本発明によるＵＶ（Ultraviolet）式のインプリント装置の概略断面構造を示す図である。【００１５】
このインプリント装置は、転写すべき凹凸パターンが形成されている上側モールド５０３ａ及び下側モールド５０３ｂを用いて、パターンの転写対象となる被転写体としての基板６に対して両面にパターン転写を行うものである。なお、本明細書において被転写体を基板と称する。ここで基板とは、被転写層を含む構成を指すものとする。また、支持機構とはセンターピンを指す。基板６の両面には、紫外線が照射されると硬化する転写材料からなる上側転写層６０４ａ及び下側転写層６０４ｂが形成されている。尚、図１では、これら基板６、上側モールド５０３ａ及び下側モールド５０３ｂが設置された状態で、インプリント装置の構成を示している。【００１６】
図１に示すインプリント装置は、上側機構部、下側機構部、これら上側機構部及び下側機構部を制御するコントローラ２００及び操作部２０１から構成される。【００１７】
上側機構部は、上側センターピン３０ａ、カメラユニット４０、上側デバイスステーション９０ａ、上側モールドＸＹステージ５００ａ、上側モールド保持部５０１ａ、上側ステージ５０５ａ、上側センターピン駆動ユニット５０７ａ、上側ＵＶ照射ユニット５０８ａ、を備える。尚、本実施例では、後述する下側センターピン３０ｂの先端部を撮影するために、上側センターピン３０ａと上側センターピン駆動ユニット５０７ａは一体構成としている。すなわち、上側センターピン駆動ユニット５０７ａの移動によって、上側センターピン３０ａも同じく移動することになる。【００１８】
ボード状の上側ステージ５０５ａには、図１に示す如き開口部１００ａと共に、後述するボールネジ５１２がねじ込まれるネジ溝が切られているネジ穴部が存在する。【００１９】
上側ステージ５０５ａの下面には、開口部１００ａと連続する開口部を有する上側モールドＸＹステージ５００ａが設置されている。上側モールドＸＹステージ５００ａ上には、その開口部を覆うように透明材料からなる上側モールド保持部５０１ａが設置されている。上側モールドＸＹステージ５００ａは、コントローラ２００から供給された上側ＸＹステージ移動信号ＸＹＵに応じて、上側モールド保持部５０１ａを、上側ステージ５０５ａの下面に対する２次元の各方向に移動させる。上側モールド保持部５０１ａは、上側モールド５０３ａを保持させる為のモールド保持面（図１において上側モールド５０３ａが接触している面）を備えている。又、上側モールド保持部５０１ａの中心部には、上側センターピン３０ａを上側モールド保持部５０１ａのモールド保持面に対して垂直な方向において上下移動可能とする貫通孔が設けられている。【００２０】
上側モールド保持部５０１ａは、コントローラ２００から供給された上側モールド保持信号ＭＨＵに応じて、例えば、真空吸着することにより、上側モールド５０３ａをモールド保持面に保持する。尚、上側モールド５０３ａをモールド保持面に保持する方法は、真空吸着に限られず機械式方法で保持するようにしても良い。【００２１】
上側ステージ５０５ａの上面には、上側デバイスステーション９０ａが設置されている。上側デバイスステーション９０ａは、カメラユニット４０、上側センターピン駆動ユニット５０７ａ及び上側ＵＶ照射ユニット５０８ａの内で、コントローラ２００から供給されたユニット指定信号ＵＳＵによっていずれか１つのユニットを開口部１００ａの中心位置に移動させる。又、上側デバイスステーション９０ａは、コントローラ２００から供給されたユニット位置調整信号ＵＰＵの距離だけ上記で選択されたユニットの設置位置を移動させる。【００２２】
図２Ａは、上面から眺めた上側デバイスステーション９０ａの概略構成を示す図であり、図２Ｂは側面から眺めた上側デバイスステーション９０ａの概略構成を示す図である。【００２３】
図２Ａ及び図２Ｂに示すように、上側デバイスステーション９０ａは、カメラユニット４０、上側センターピン駆動ユニット５０７ａ及び上側ＵＶ照射ユニット５０８ａの各ユニットが設置されるスライドテーブル９０１ａと、スライドテーブル９０１ａを移動させる為のガイドレール９０２ａとから構成される。図２Ａに示すように、ガイドレール９０２ａは、上側ステージ５０５ａの開口部１００ａの領域を挟んで互いに平行な状態で配置されている２本のレールからなる。又、図２Ｂに示すように、スライドテーブル９０１ａには、各ユニットが配置されるべき位置に夫々開口部が設けられている。スライドテーブル９０１ａは、コントローラ２００から供給されたユニット指定信号ＵＳＵに応じて、指定されたユニット（カメラユニット４０、上側センターピン駆動ユニット５０７ａ又は上側ＵＶ照射ユニット５０８ａ）のみが開口部１００ａの中心に配置されるように、ガイドレール９０２ａに沿って移動する。【００２４】
すなわち、上側デバイスステーション９０ａは、カメラユニット４０、上側センターピン駆動ユニット５０７ａ及び上側ＵＶ照射ユニット５０８ａの内の１つを選択的に使用位置、すなわち上側ステージ５０５ａ上における基板６配置位置の中心位置の上部に移送するのである。ここで使用位置とは、カメラユニット４０、上側センターピン駆動ユニット５０７ａ及び上側ＵＶ照射ユニット５０８ａが、インプリント工程において、その機能を発揮させて使用される位置を指す。従って、カメラユニット４０、上側センターピン駆動ユニット５０７ａ及び上側ＵＶ照射ユニット５０８ａの使用位置は各々同じであってもよいし、異なっていても構わない。【００２５】
カメラユニット４０は、モールド（５０３ａ、５０３ｂ）に形成されているアライメントマークを撮影する為のカメラ４０１、４０２及び４０3と、下側センターピン３０ｂの先端部を撮影する為のカメラ４０4を備える。カメラ４０１、４０２及び４０3の各々は、スライドテーブル９０１ａの開口部を介してその撮影レンズを上側モールド保持部５０１ａの表面に対して垂直に向けた状態で設置されている。又、カメラ４０4は、スライドテーブル９０１ａの開口部を介してその撮影レンズを、下側センターピン３０ｂの先端部に対して垂直に向けた状態で設置されている。カメラ４０１、４０２、及び、４０３の各々は、夫々の位置から上側モールド５０３ａ、下側モールド５０３ｂを撮影して得られた撮影信号ＰＤ１、ＰＤ２、及び、ＰＤ3をコントロ−ラ２００に供給する。又、カメラ４０4は、下側センターピン３０ｂの先端部を撮影して得られた撮影信号ＰＤ4をコントロ−ラ２００に供給する。【００２６】
上側ＵＶ照射ユニット５０８ａは、コントローラ２００から供給された紫外線照射信号ＵＶに応じて、転写材料を硬化させるべき紫外線を、スライドテーブル９０１ａの開口部、上側ステージ５０５ａの開口部１００ａ及び上側モールド保持部５０１ａを介して、基板６の上側転写層６０４ａに向けて照射する。【００２７】
上側センターピン駆動ユニット５０７ａは、コントローラ２００から供給された上側センターピン移動信号ＣＧＵに応じて、上側センターピン３０ａを、その中心軸の方向において上側又は下側に移動させる。尚、上側センターピン３０ａは、下方向の移動により、上側モールド５０３ａの中心孔を通過して基板６の中心孔近傍を支持する。さらに、後述する下側センターピン３０ｂと共に基板６の中心孔近傍を支持ことによって、基板６が保持される。また、上側センターピン駆動ユニット５０７ａには、上側センターピン３０ａを回転させる機構を設けても良い。【００２８】
インプリント装置の下側機構部は、下側センターピン３０ｂ、下側デバイスステーション９０ｂ、下側モールドＸＹステージ５００ｂ、下側モールド保持部５０１ｂ、下側ステージ５０５ｂ、下側センターピン駆動ユニット５０７ｂ、下側ＵＶ照射ユニット５０８ｂ、ステージ上下駆動ユニット５１１及びボールネジ５１２を備える。【００２９】
ボード状の下側ステージ５０５ｂには、図１に示す如き開口部１００ｂと共に、ボールネジ５１２が貫通する貫通孔が存在する。ボールネジ５１２は、下側ステージ５０５ｂと上側ステージ５０５ａの平行状態を維持させたまま両者を連結するように、その一端が下側ステージ５０５ｂの貫通孔を貫通し、他端が上側ステージ５０５ａのネジ穴部にネジ込まれている。【００３０】
下側ステージ５０５ｂの上面には、開口部１００ｂよりも大なる開口部を有する下側モールドＸＹステージ５００ｂが設置されている。下側モールドＸＹステージ５００ｂ上には、その開口部を覆うように透明材料からなる下側モールド保持部５０１ｂが設置されている。下側モールドＸＹステージ５００ｂは、コントローラ２００から供給された下側ＸＹステージ移動信号ＸＹＬに応じて、下側モールド保持部５０１ｂを、下側ステージ５０５ｂの下面に対する２次元の各方向において移動させる。下側モールド保持部５０１ｂは、下側モールド５０３ｂを保持させる為のモールド保持面（図１において下側モールド５０３ｂが接触している面）を備えている。又、下側モールド保持部５０１ｂの中心部には、下側センターピン３０ｂを下側モールド保持部５０１ｂのモールド保持面に対して垂直な方向において上下移動可能な状態で支持する為の貫通孔が設けられている。【００３１】
下側モールド保持部５０１ｂは、コントローラ２００から供給された下側モールド保持信号ＭＨＬに応じて、例えば、真空吸着によって下側モールド５０３ｂをモールド保持面に保持する。尚、下側モールド５０３ｂをモールド保持面に保持する方法は、真空吸着に限られず機械式方法で保持するようにしても良い。【００３２】
下側ＵＶ照射ユニット５０８ｂは、コントローラ２００から供給された紫外線照射信号ＵＶに応じて、転写材料を硬化させるべき紫外線を、上記開口部１００ａ及び上側モールド保持部５０１ｂを介して、基板６の下側転写層６０４ｂに向けて照射する。【００３３】
下側センターピン駆動ユニット５０７ｂは、コントローラ２００から供給された下側センターピン移動信号ＣＧＬに応じて、下側センターピン３０ｂを、下側モールド保持部５０１ｂのモールド保持面に対して垂直な方向、つまり下側センターピン３０ｂの中心軸方向において上側又は下側に移動させる。尚、下側センターピン駆動ユニット５０７ｂには、下側センターピン３０ｂを回転させる機構を設けても良い。【００３４】
下側ステージ５０５ｂの下面にはステージ上下駆動ユニット５１１及び下側デバイスステーション９０ｂが設けられている。【００３５】
ステージ上下駆動ユニット５１１は、コントローラ２００から供給されたステージ駆動信号ＳＧに応じて、ボールネジ５１２を時計方向又は反時計方向に回転させることにより、上側ステージ５０５ａを、下側ステージ５０５ｂに対する平行状態を維持したまま上方向又は下方向に移動させる。すなわち、上側ステージ５０５ａの上方向への移動により、上側モールド保持部５０１ａが、下側モールド保持部５０１ｂのモールド保持面に対して垂直な方向において下側モールド保持部５０１ｂから離間するように移動する。一方、上側ステージ５０５ａの下方向への移動により、上側モールド保持部５０１ａが、下側モールド保持部５０１ｂに向けて移動する。【００３６】
下側デバイスステーション９０ｂは、下側センターピン駆動ユニット５０７ｂ及び下側ＵＶ照射ユニット５０８ｂの内で、コントローラ２００から供給されたユニット指定信号ＵＳＬによっていずれか１つのユニットを開口部１００ｂの中心位置に移動させる。又、下側デバイスステーション９０ｂは、コントローラ２００から供給されたユニット位置調整信号ＵＰＬの距離だけ上記で選択されたユニットの設置位置を移動させる。【００３７】
図３Ａは、上面から眺めた下側デバイスステーション９０ｂの概略構成を示す図であり、図３Ｂは側面から眺めた下側デバイスステーション９０ｂの概略構成を示す図である。【００３８】
図３Ａ及び図３Ｂに示すように、下側デバイスステーション９０ｂは、下側センターピン駆動ユニット５０７ｂ及び下側ＵＶ照射ユニット５０８ｂの各ユニットが設置されるスライドテーブル９０１ｂと、スライドテーブル９０１ｂを移動させる為のガイドレール９０２ｂとから構成される。尚、図３Ａに示すように、ガイドレール９０２ｂは、下側ステージ５０５ｂの開口部１００ｂの領域を挟んで互いに平行な状態で配置されている２本のレールからなる。又、図３Ｂに示すように、スライドテーブル９０１ｂには、各ユニットが配置されるべき位置に夫々開口部が設けられている。スライドテーブル９０１ｂは、コントローラ２００から供給されたユニット指定信号ＵＳＬに応じて、指定されたユニット（下側センターピン駆動ユニット５０７ｂ又は下側ＵＶ照射ユニット５０８ｂ）のみが開口部１００ｂの中心位置に配置されるように、ガイドレール９０２ｂに沿って移動する。【００３９】
すなわち、下側デバイスステーション９０ｂは、下側センターピン駆動ユニット５０７ｂ及び下側ＵＶ照射ユニット５０８ｂの内の１つを選択的に使用位置、すなわち下側ステージ５０５ｂ上における基板６配置位置の中心位置に移送するのである。【００４０】
下側ＵＶ照射ユニット５０８ｂは、コントローラ２００から供給された紫外線照射信号ＵＶに応じて、転写材料を硬化させるべき紫外線を、スライドテーブル９０１ｂの開口部、下側ステージ５０５ｂの開口部１００ｂ及び下側モールド保持部５０１ｂを介して、基板６の下側転写層６０４ｂに向けて照射する。【００４１】
下側センターピン駆動ユニット５０７ｂは、コントローラ２００から供給された下側センターピン移動信号ＣＧＬに応じて、下側センターピン３０ｂを、その中心軸の方向において上側又は下側に移動させる。尚、下側センターピン３０ｂには、上側モールド５０３ａまたは下側モールド５０３ｂを支持する第１支持部ＴＢ１及び基板６を支持する第２支持部ＴＢ２が夫々形成されている。【００４２】
操作部２０１は、このインプリント装置を動作させるべく、使用者によって指示された各種動作指令を受け付け、その動作指令を示す動作指令信号をコントローラ２００に供給する。コントローラ２００は、操作部２０１から供給された動作指令信号にて示される動作に対応した処理プログラムを実行することにより、インプリント装置を制御する為の各種制御信号を生成する。【００４３】
ここで、操作部２０１が、使用者からのインプリント実行指令を受け付けると、コントローラ２００は、インプリント処理プログラムを実行する。【００４４】
以下に、かかるナノインプリント処理プログラムの実行によって為されるパターン転写動作について説明する。【００４５】
図１に示す如く、インプリント装置に基板６、上側モールド５０３ａ及び下側モールド５０３ｂ各々が装着されると、コントローラ２００は、先ず、これら基板６、上側モールド５０３ａ及び下側モールド５０３ｂ各々の位置合わせ行う（以下、アライメントと称する）。コントローラ２００は、先ず、カメラユニット４０を指定するユニット指定信号ＵＳＵを上側デバイスステーション９０ａに供給する。これにより、上側デバイスステーション９０ａのスライドテーブル９０１ａは、カメラユニット４０を開口部１００ａの中心位置に配置すべくガイドレール９０２ａに沿って移動する。ここで、コントローラ２００は、カメラユニット４０のカメラ４０１〜４０４にて撮影して得られた撮影信号ＰＤ１〜ＰＤ４に基づき、基板６、上側モールド５０３ａ及び下側モールド５０３ｂ各々の相対位置関係を検出し、これが所定の相対位置関係となるように上側モールドＸＹステージ５００ａ及び／又は下側モールドＸＹステージ５００ｂを制御する。【００４６】
かかるアライメント終了後、コントローラ２００は、上側モールド５０３ａ及び下側モールド５０３ｂを基板６に押圧させるべく、上側ステージ５０５ａを下方向に移動させるステージ駆動信号ＳＧをステージ上下駆動ユニット５１１に供給する。これにより、基板６の両面が、上側モールド５０３ａ及び下側モールド５０３ｂによって押圧され、その状態が保持される。つまり、上側モールド５０３ａに形成されている凹凸パターンが上側転写層６０４ａに押圧されると共に、下側モールド５０３ｂに形成されている凹凸パターンが下側転写層６０４ｂに夫々押圧される。上側転写層６０４ａ及び下側転写層６０４ｂは液状（流動可能状態）にあるため、上側転写層６０４ａが上側モールド５０３ａに形成されている凹凸パターン形状に沿って変形すると共に、下側転写層６０４ｂが下側モールド５０３ｂに形成されている凹凸パターン形状に沿って夫々変形する。【００４７】
その後、コントローラ２００は、基板６の上側転写層６０４ａ及び下側転写層６０４ｂ各々を硬化させるべく、先ず、上側ＵＶ照射ユニット５０８ａを指定するユニット指定信号ＵＳＵを上側デバイスステーション９０ａに供給すると共に、下側ＵＶ照射ユニット５０８ｂを指定するユニット指定信号ＵＳＬを下側デバイスステーション９０ｂに供給する。これにより、上側デバイスステーション９０ａのスライドテーブル９０１ａは、カメラユニット４０に代わり上側ＵＶ照射ユニット５０８ａを開口部１００ａの中心位置に配置すべく、ガイドレール９０２ａに沿って移動する。更に、下側デバイスステーション９０ｂのスライドテーブル９０１ｂは、下側センターピン駆動ユニット５０７ｂに代わり下側ＵＶ照射ユニット５０８ｂを開口部１００ｂの中心位置に配置すべく、ガイドレール９０２ｂに沿って移動する。そして、コントローラ２００は、紫外線照射信号ＵＶを上側ＵＶ照射ユニット５０８ａ及び下側ＵＶ照射ユニット５０８ｂに供給する。すると、上側ＵＶ照射ユニット５０８ａが転写層材料を硬化させるべき紫外線を基板６の上側転写層６０４ａに向けて照射すると共に、下側ＵＶ照射ユニット５０８ｂが転写層材料を硬化させるべき紫外線を下側転写層６０４ｂに向けて照射する。これにより、上側転写層６０４ａ及び下側転写層６０４ｂ各々の転写層が硬化し、上側転写層６０４ａ及び下側転写層６０４ｂ表面の凹凸パターンが確定する。【００４８】
次に、コントローラ２００は、上側モールド５０３ａ及び下側モールド５０３ｂから基板６を離型させるべく、先ず、上側センターピン駆動ユニット５０７ａを指定するユニット指定信号ＵＳＵを上側デバイスステーション９０ａに供給すると共に、下側センターピン駆動ユニット５０７ｂを指定するユニット指定信号ＵＳＬを下側デバイスステーション９０ｂに供給する。これにより、上側デバイスステーション９０ａのスライドテーブル９０１ａは、上側ＵＶ照射ユニット５０８ａに代わり上側センターピン駆動ユニット５０７ａを開口部１００ａの中心位置に配置すべく、ガイドレール９０２ａに沿って移動する。更に、下側デバイスステーション９０ｂのスライドテーブル９０１ｂが、下側ＵＶ照射ユニット５０８ｂに代わり下側センターピン駆動ユニット５０７ｂを開口部１００ｂの中心位置に配置すべく、ガイドレール９０２ｂに沿って移動する。次に、コントローラ２００は、上側センターピン３０ａを下方向に移動させるべき上側センターピン移動信号ＣＧＵを上側センターピン駆動ユニット５０７ａに供給すると共に、下側センターピン３０ｂを上方向に移動させるべき下側センターピン移動信号ＣＧＬを下側センターピン駆動ユニット５０７ｂに供給する。すると、下側センターピン３０ｂと共に基板６が上方向に移動すると共に、上側センターピン３０ａ及び下側センターピン３０ｂの先端部同士が接合される。これにより、上側モールド５０３ａが基板６の上側転写層６０４ａから離型すると共に、下側モールド５０３ｂから基板６が離型する。【００４９】
このように、図１に示すインプリント装置には、モールド（５０３ａ、５０３ｂ）を基板６に押圧する為の動作を担う各種機構部品（５０１ａ、５０１ｂ、５０５ａ、５０５ｂ、５１１、５１２）と共に、上述した如きアライメント、転写層の硬化、基板・モールドの離型を夫々担う各種補助装置が搭載されている。すなわち、上述した如きアライメントを実施する際に使用するカメラユニット４０と、基板６からモールド（５０３ａ、５０３ｂ）を離型する際に使用する上側センターピン駆動ユニット５０７ａと、上側転写層６０４ａを硬化させるべき紫外線光を発する上側ＵＶ照射ユニット５０８ａとが、上側ステージ５０５ａ上に設けられている。又、基板６及び下側モールド５０３ｂを支持する下側センターピン３０ｂを駆動する下側センターピン駆動ユニット５０７ｂと、下側転写層６０４ｂを硬化させるべき紫外線光を発する下側ＵＶ照射ユニット５０８ｂとが、下側ステージ５０５ｂ上に設けられている。この際、上記の如き補助装置としてのカメラユニット４０、上側センターピン駆動ユニット５０７ａ及び上側ＵＶ照射ユニット５０８ａは、図２Ａ及び図２Ｂに示す如く、ガイドレール９０２ａに沿って移動するスライドテーブル９０１ａ上に夫々配置されている。スライドテーブル９０１ａは、コントローラ２００から供給されたユニット指定信号ＵＳＵによって示される１ユニット（カメラユニット４０、上側センターピン駆動ユニット５０７ａ又は上側ＵＶ照射ユニット５０８ａ）のみが上側ステージ５０５ａの開口部１００ａの中心に位置するように、ガイドレール９０２ａに沿って移動する。又、補助装置としての下側センターピン駆動ユニット５０７ｂ及び下側ＵＶ照射ユニット５０８ｂは、図３Ａ及び図３Ｂに示す如く、ガイドレール９０２ｂに沿って移動するスライドテーブル９０１ｂ上に夫々配置されている。スライドテーブル９０１ｂは、コントローラ２００から供給されたユニット指定信号ＵＳＬに応じて、このユニット指定信号ＵＳＬにて示される１ユニット（下側センターピン駆動ユニット５０７ｂ又は下側ＵＶ照射ユニット５０８ｂ）のみが開口部１００ｂの中心に配置されるように、ガイドレール９０２ｂに沿って移動する。【００５０】
よって、かかる構成によれば、転写層を硬化させる光を発する照射ユニット（５０８ａ、５０８ｂ）及び各種調整用補助装置（カメラユニット４０、上側センターピン駆動ユニット５０７ａ、下側センターピン駆動ユニット５０７ｂ）各々の内の１つをその使用時において、最適な位置（開口部１００ａ、１００ｂの中心位置）に設置することが可能となる。【００５１】
これにより、転写層を硬化させる場合には、転写層を硬化させるべき光を基板６の表面全面に亘って均一に照射できるような位置に、照射ユニット（５０８ａ、５０８ｂ）を移動することができる。従って、照射ユニット（５０８ａ、５０８ｂ）と共に各種補助装置（４０、５０７ａ、５０７ｂ）がステージ（５０５ａ、５０５ｂ）上に搭載されていても、照射ユニット（５０８ａ、５０８ｂ）は、基板６の表面全面に亘って均一に転写層硬化用の光を照射することが可能となる。【００５２】
尚、図２Ａ及び図２Ｂに示す上側デバイスステーション９０ａでは、カメラユニット４０、上側ＵＶ照射ユニット５０８ａ及び上側センターピン駆動ユニット５０７ａを全て１つのスライドテーブル９０１ａ上に設置しているが、３つの夫々独立したスライドテーブル上に各ユニット（４０、５０７ａ、５０８ａ）を設置するようにしても良い。【００５３】
図４Ａ及び図４Ｂは、かかる点に鑑みて為された上側デバイスステーション９０ａの他の構成を示す図である。尚、図４Ａは上面側、図４Ｂは側面側から夫々眺めた上側デバイスステーション９０ａの他の構成を示す図である。【００５４】
図４Ａ及び図４Ｂに示す上側デバイスステーション９０ａは、カメラユニット４０が設置されるスライドテーブル９０１１、上側センターピン駆動ユニット５０７ａが設置されるスライドテーブル９０１２、及び上側ＵＶ照射ユニット５０８ａが設置されるスライドテーブル９０１３を個別に備える。この際、スライドテーブル９０１１及び９０１３は、上側ステージ５０５ａの開口部１００ａの領域（波線にて囲まれている領域）を挟んで互いに平行な状態で配置されている２本のガイドレール９０２１に沿って夫々個別に移動する。一方、スライドテーブル９０１２は、開口部１００ａの領域を挟んで互いに平行な状態で配置されており且つ上記ガイドレール９０２１に直交する２本のガイドレール９０２２に沿って移動する。ここで、コントローラ２００から上側センターピン駆動ユニット５０７ａを指定するユニット指定信号ＵＳＵが供給されると、スライドテーブル９０１１〜９０１３の内のスライドテーブル９０１２のみがガイドレール９０２２に沿って移動し、上側センターピン駆動ユニット５０７ａを開口部１００ａの中心に配置する。又、コントローラ２００からカメラユニット４０を指定するユニット指定信号ＵＳＵが供給されると、スライドテーブル９０１１〜９０１３の内のスライドテーブル９０１１のみがガイドレール９０２１に沿って移動し、カメラユニット４０を開口部１００ａの中心に配置する。又、コントローラ２００から上側ＵＶ照射ユニット５０８ａを指定するユニット指定信号ＵＳＵが供給されると、スライドテーブル９０１１〜９０１３の内のスライドテーブル９０１３のみがガイドレール９０２１に沿って移動し、上側ＵＶ照射ユニット５０８ａを開口部１００ａの中心に配置する。【００５５】
ここで、図１に示されるインプリント装置によるインプリント動作は、ディスクリートトラックメディアやビットパターンドメディア等の磁気記録媒体の製造工程に適用することができる。以下に、上記したインプリント動作を含む磁気ディスクの製造手方法について図５を参照しつつ説明する。【００５６】
まず、ガラス等の紫外線を透過する材料からなる基材の表面に所望とする凹凸パターンを有する上側モールド５０３ａ及び下側モールド５０３ｂを作製する。凹凸パターンは、例えば電子ビーム描画装置などにより基材上にレジストパターンを形成し、その後、レジストパターンをマスクとしてドライエッチング処理等を行うことによって形成する。【００５７】
完成した上側モールド５０３ａ及び下側モールド５０３ｂには、離型性向上のためシランカップリング剤等により表面処理を施しておく。なお、上側モールド５０３ａ及び下側モールド５０３ｂを原盤として、インプリント法等で複製したガラス等の紫外線を透過する材料からなる基板を転写用のモールドとして用いても良い。更に、上記方法で作製した複製盤からインプリント法等で複製したガラス等の紫外線を透過する材料からなる基板を転写用のモールドとして用いても良い。尚、複製した転写用のモールドを使用するのであれば、原盤、及び／又は、複製盤の基材は、例えば、シリコンや電鋳等の方法によって複製したニッケル（合金を含む）等の紫外線を透過しない材料を用いることができる。【００５８】
次に磁気ディスクメディア基板（以下メディア基板と称する）６００を作製する。メディア基板６００は、例えば、特殊加工化学強化ガラス、シリコンウエハ、アルミ基板等からなるディスク状の支持基板６０１の一方の面側（上側面）及び他方の面側（下側面）に、夫々、上側転写層６０４ａ及び下側転写層６０４ｂを含む、以下の如き複数の層が積層されて為るものである。つまり、図５（Ａ）に示すように、支持基板６０１の上側面には、非磁性材料からなる上側非磁性層６０２ａ、金属材料、例えばＴａ又はＴｉ等からなる上側メタル層６０３ａ、及び上側転写層６０４ａが積層されている。支持基板６０１の下側面には非磁性材料からなる下側非磁性層６０２ｂ、金属材料、例えばＴａ又はＴｉ等からなる下側メタル層６０３ｂ、及び下側転写層６０４ｂを積層することにより形成する。上側非磁性層６０２ａ、上側メタル層６０３ａ、下側非磁性層６０２ｂ、及び下側メタル層６０３ｂは、スパッタリング法等により形成する。【００５９】
次に、上記したインプリント方法により、メディア基板６００に形成した上側転写層６０４ａ及び下側転写層６０４ｂに上側モールド５０３ａ及び下側モールド５０３ｂに形成された凹凸パターンを転写する。すなわち、上記工程で用意したメディア基板６００にスピンコート法等で上側転写層６０４ａ及び下側転写層６０４ｂを形成し、上側モールド５０３ａ及び下側モールド５０３ｂの基準位置をセンターピン３０ｂの中心軸に合致させた状態で固定した後、メディア基板６００をセンターピン３０ｂに装着させ、基準位置をセンターピン３０ｂの中心軸に合致させた状態で、上側モールド５０３ａをセンターピン３０ｂの中心軸方向において下側モールド５０３ｂに向けて移動させることにより、上側モールド５０３ａをメディア基板６００の一面に押圧すると共に下側モールド５０３ｂをメディア基板６００の他面に押圧する。その後、上側ＵＶ照射ユニット５０８ａから転写層を硬化させるべき紫外線をメディア基板６００の上側転写層６０４ａに向けて照射すると共に、下側ＵＶ照射ユニット５０８ｂから転写層を硬化させるべき紫外線を下側転写層６０４ｂに向けて照射し、上側転写層６０４ａ及び下側転写層６０４ｂが硬化したら上側モールド５０３ａ及び下側モールド５０３ｂをメディア基板６００から離型し、メディア基板６００を取り出す。以上の工程により、メディア基板６００の両面に図５（Ａ）に示す如き断面構造を有するものが形成される。【００６０】
次に、図５（Ａ）に示す如き構造を有するメディア基板６００の両面にエッチング処理を施す。エッチング処理として、先ず、上側モールド５０３ａの凸部に相当する部分に上側転写層６０４ａの残膜が、下側モールド５０３ｂの凸部に相当する部分に下側転写層６０４ｂの残膜が残るため、酸素リアクティブイオンエッチング（ＲＩＥ）等でこの残膜を除去する。次に、上記インプリント工程によりパターニングが施された上側転写層６０４ａ及び下側転写層６０４ｂをマスクとしてドライエッチング処理により、上側メタル層６０３ａ及び下側メタル層６０３ｂをエッチングし、パターニングを施す。かかるエッチング処理により、図５（Ｂ）に示す如く、上側レジスト層６０４ａ及び下側レジスト層６０４ｂ各々の凹凸パターンの内で凹部、並びに、上側メタル層６０３ａ及び下側メタル層６０３ｂ各々における上記凹部に対応した部分が除去され、上側メタル層６０３ａ及び下側メタル層６０３ｂ各々にパターンが形成される（メタルマスクパターニング工程）。【００６１】
次に、図５（Ｂ）に示す如き状態にあるメディア基板６００の両面に対して、ウェットエッチング若しくはドライアッシング処理等の方法で転写層除去処理を施すことにより、図５（Ｃ）に示すように、上側メタル層６０３ａ及び下側メタル層６０３ｂ各々に残存する転写層を除去する（転写層除去行程）。【００６２】
次に、図５（Ｃ）に示す如き状態にあるメディア基板６００に対して上側メタル層６０３ａ及び下側メタル層６０３ｂをマスクとしてドライエッチング処理により、非磁性体をエッチングし、パターニングを施す。これにより、上側非磁性層６０２ａ及び下側非磁性層６０２ｂ各々の露出領域に対して、図５（Ｄ）に示す如く、所定の深さ分だけ非磁性材料にパターンが形成される（非磁性層パターニング行程）。【００６３】
次に、図５（Ｄ）に示す如き状態にあるメディア基板６００の両面に対して、残存する上側メタル層６０３ａ及び下側メタル層６０３ｂをウェットエッチング処理、若しくはドライエッチング処理等の方法で除去することにより、図５（Ｅ）に示すように、上側非磁性層６０２ａ及び下側非磁性層６０２ｂ各々に残存するメタル層を除去する（メタルマスク除去行程）。【００６４】
次に、図５（Ｅ）に示す如き上側非磁性層６０２ａ及び下側非磁性層６０２ｂ各々の凹部に磁性体（黒塗りにて示す）を充填し、更に、上側保護層６０５ａ、上側潤滑層６０６ａ、下側保護層６０５ｂ、及び下側潤滑層６０６ｂを図５（Ｆ）に示すように積層する。【００６５】
このように、図１に示すインプリント装置によって両面に凹凸パターンが形成された被転写体６に対して、図５（Ａ）〜図５（Ｆ）の如き処理を施すことにより、図５（Ｆ）に示す如き断面構造を有する両面磁気ディスクが製造されるのである。【００６６】
尚、図５（Ａ）〜図５（Ｆ）では、図５（Ａ）に示す如き上側非磁性層６０２ａ及び下側非磁性層６０２ｂを備えたメディア基板６００から、磁気ディスクを製造する方法について説明したが、上側非磁性層６０２ａ及び下側非磁性層６０２ｂに代わり、磁性材料からなる上側磁性層及び下側磁性層を採用したメディア基板６００から磁気ディスクを製造するようにしても良い。この際、図５（Ｃ）に示す如き状態にあるメディア基板６００に対して上側メタル層６０３ａ及び下側メタル層６０３ｂをマスクとしてドライエッチング処理により、磁性体をエッチングし、上側非磁性層及び下側非磁性層各々の露出領域に対して、所定の深さ分だけ磁性材料にパターン形成を行う（磁性層パターニング行程）。そして、上側磁性層及び下側磁性層各々の凹部に非磁性材料を充填することにより、磁気ディスクを得るのである。【００６７】
尚、本実施例ではＵＶ式のインプリント方法およびインプリント装置に関して記載しているが、これに限定されるものではなく、熱式インプリント、光エネルギー（ＵＶ以外の光）硬化式インプリント等の他の方式のインプリント装置にも適用可能である。【００６８】
また、磁気ディスクの転写だけでなく、光ディスクなどの様々な記録媒体の製造に用いることができる。
【図１】
2010082300.tif 000003
【図２Ａ−２Ｂ】
2010082300.tif 000004
【図３Ａ−３Ｂ】
2010082300.tif 000005
【図４Ａ−４Ｂ】
2010082300.tif 000006
【図５】
2010082300.tif 000007
【手続補正書】
【提出日】平成22年12月27日(2010.12.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
モールドに形成されたパターンを被転写体に転写する一連の転写処理を行う転写装置であって、
前記被転写体を支持する支持機構と、前記支持機構を第１方向に駆動させる支持機構駆動手段と、エネルギー線を前記被転写体に向けて照射する照射手段と、前記照射手段及び／又は前記支持機構駆動手段を移動させる移動手段と、前記一連の転写処理の進捗に応じて、前記照射手段及び前記支持機構駆動手段の内の一方を選択的に使用位置に配置すべく前記移動手段を制御する制御手段と、を有し、
前記移動手段は、前記照射手段が設置されている第１ステージと、前記支持機構駆動手段が設置されている第２ステージと、を含み、
前記制御手段は、前記一連の転写処理の進捗に応じて、前記第１ステージ及び前記第２ステージの内の一方を前記使用位置に移動させることを特徴とする転写装置。
【請求項２】
モールドに形成されたパターンを被転写体に転写する一連の転写処理を行う転写装置であって、
前記被転写体を支持する支持機構と、前記支持機構を第１方向に駆動させる支持機構駆動手段と、エネルギー線を前記被転写体に向けて照射する照射手段と、前記照射手段及び／又は前記支持機構駆動手段を移動させる移動手段と、前記一連の転写処理の進捗に応じて、前記照射手段及び前記支持機構駆動手段の内の一方を選択的に使用位置に配置すべく前記移動手段を制御する制御手段と、を有し、
前記照射手段及び前記支持機構駆動手段はステージ上に設置されており、
前記制御手段は、前記照射手段及び前記支持機構駆動手段の内の一方を前記使用位置に配置させるべく前記ステージを移動させることを特徴とする転写装置。
【請求項３】
モールドに形成されたパターンを被転写体に転写する一連の転写処理を行う転写装置であって、
前記被転写体を支持する支持機構と、前記支持機構を第１方向に駆動させる支持機構駆動手段と、エネルギー線を前記被転写体に向けて照射する照射手段と、前記照射手段及び／又は前記支持機構駆動手段を移動させる移動手段と、前記一連の転写処理の進捗に応じて、前記照射手段及び前記支持機構駆動手段の内の一方を選択的に使用位置に配置すべく前記移動手段を制御する制御手段と、を有し、
前記制御手段は、前記モールドと前記被転写体とのアライメント動作時には前記支持機構駆動手段を前記使用位置に配置させるべく前記移動手段を制御し、前記モールドを前記被転写体に押圧する押圧動作時には前記照射手段を前記使用位置に配置させるべく前記移動手段を制御することを特徴とする転写装置。
【請求項４】
モールドに形成されたパターンを被転写体に転写する一連の転写処理を行う転写装置であって、
前記被転写体を支持する支持機構と、前記支持機構を第１方向に駆動させる支持機構駆動手段と、エネルギー線を前記被転写体に向けて照射する照射手段と、前記照射手段及び／又は前記支持機構駆動手段を移動させる移動手段と、前記一連の転写処理の進捗に応じて、前記照射手段及び前記支持機構駆動手段の内の一方を選択的に使用位置に配置すべく前記移動手段を制御する制御手段と、を有し、
前記制御手段は、前記支持機構を前記第１方向に駆動させる場合には前記支持機構駆動手段を前記使用位置に配置させるべく前記移動手段を制御し、前記エネルギー線を前記被転写体に照射する場合には前記照射手段を前記使用位置に配置させるべく前記移動手段を制御することを特徴とする転写装置。
【請求項５】
モールドに形成されたパターンを被転写体に転写する一連の転写処理を行う転写装置であって、
前記被転写体を支持する支持機構と、前記支持機構を第１方向に駆動させる支持機構駆動手段と、前記被転写体と前記モールドのアライメント用の撮影手段と、前記撮影手段及び／又は前記支持機構駆動手段を移動させる移動手段と、前記一連の転写処理の進捗に応じて、前記撮影手段及び前記支持機構駆動手段の内の一方を選択的に使用位置に配置すべく前記移動手段を制御する制御手段と、を有し、
前記制御手段は、前記モールドと前記被転写体とのアライメント動作時には前記撮影手段を前記使用位置に配置させるべく前記移動手段を制御し、前記モールド及び前記被転写体の離型動作時には前記支持機構駆動手段を前記使用位置に配置させるべく前記移動手段を制御することを特徴とする転写装置。
【請求項６】
モールドに形成されたパターンを被転写体に転写する一連の転写処理を行う転写装置であって、
前記被転写体を支持する支持機構と、前記支持機構を第１方向に駆動させる支持機構駆動手段と、前記被転写体と前記モールドのアライメント用の撮影手段と、前記撮影手段及び／又は前記支持機構駆動手段を移動させる移動手段と、前記一連の転写処理の進捗に応じて、前記撮影手段及び前記支持機構駆動手段の内の一方を選択的に使用位置に配置すべく前記移動手段を制御する制御手段と、を有し、
前記制御手段は、前記支持機構を前記第１方向に駆動させる場合には前記支持機構駆動手段を前記使用位置に配置させるべく前記移動手段を制御し、前記被転写体及び／又は前記モールドの表面を撮影する場合には前記撮影手段を前記使用位置に配置させるべく前記移動手段を制御することを特徴とする転写装置。
【請求項７】
モールドに形成されたパターンを被転写体に転写する転写装置であって、
エネルギー線を前記被転写体に向けて照射する照射手段と、
前記被転写体及び前記モールドのアライメント用の撮影手段と、
前記撮影手段又は前記照射手段を移動させる移動手段と、
パターン転写処理の進捗に応じて、前記撮影手段及び前記照射手段の内の一方を使用位置に配置させるべく前記移動手段を制御する制御手段と、を有することを特徴とする転写装置。
【請求項８】
前記移動手段は、前記撮影手段及び前記照射手段が設置されているステージを含み、
前記制御手段は、前記撮影手段及び前記照射手段各々の内の一方を前記使用位置に配置すべく前記ステージを移動させるべき制御を行うことを特徴とする請求項７に記載の転写装置。
【請求項９】
前記制御手段は、前記モールドと前記被転写体とのアライメント動作時には前記撮影手段を前記使用位置に配置させるべく前記移動手段を制御し、前記モールドを前記被転写体に押圧する押圧動作時には前記照射手段を前記使用位置に配置させるべく前記移動手段を制御することを特徴とする請求項７に記載の転写装置。
【請求項１０】
前記使用位置は、前記被転写体の真上又は真下の位置であることを特徴とする請求項７に記載の転写装置。
【請求項１１】
前記制御手段は、前記エネルギー線を前記被転写体に照射する場合には前記照射手段を前記使用位置に配置させるべく前記移動手段を制御し、前記被転写体及び／又は前記モールドの表面を撮影する場合には前記撮影手段を前記使用位置に配置させるべく前記移動手段を制御することを特徴とする請求項７又は１０記載の転写装置。
【請求項１２】
第１モールドに形成されたパターンを被転写体の第１面に転写し、且つ第２モールドに形成されたパターンを前記被転写体の第２面に転写する一連の転写処理を行う転写装置であって、
前記被転写体を第一の方向から支持する第１支持機構と、
前記第１支持機構を第１方向に駆動させる第１支持機構駆動手段と、
エネルギー線を前記被転写体の前記第１面に向けて照射する第１照射手段と、
エネルギー線を前記被転写体の前記第２面に向けて照射する第２照射手段と、
前記被転写体と前記第１及び第２モールドのアライメント用の撮影手段と、
前記被転写体を第二の方向から支持する第２支持機構と、
前記第２支持機構を移動させる第２支持機構駆動手段と、
前記撮影手段、前記第１支持機構駆動手段、又は前記第１照射手段を移動させる第１移動手段と、
前記第２支持機構駆動手段、又は前記第２照射手段を移動させる第２移動手段と、を有し、
パターン転写処理の進捗に応じて、前記撮影手段、前記第１支持機構駆動手段及び前記第１照射手段の内の一方を選択的に第１使用位置に移動させるように前記第１移動手段を制御し、前記第２支持機構駆動手段及び前記第２照射手段の内の一方を選択的に第２使用位置に移動するように前記第２移動手段を制御する制御手段を有することを特徴とする転写装置。
【請求項１３】
モールドに形成されたパターンを被転写体に転写する一連の転写処理を行う転写装置であって、
前記被転写体を支持する支持機構を第１方向に駆動させる支持機構駆動手段、及びエネルギー線を前記被転写体に向けて照射する照射手段が夫々設置されているスライドテーブルと、
前記支持機構駆動手段及び前記照射手段の内の一方を使用位置に配置させるべく前記スライドテーブルを移動させる移動制御手段と、からなるデバイスステーションを備えたことを特徴とする転写装置。
【請求項１４】
モールドに形成されたパターンを被転写体に転写する一連の転写処理を行う転写装置であって、
前記被転写体を支持する支持機構を第１方向に駆動させる支持機構駆動手段、及び前記被転写体と前記モールドのアライメント用の撮影手段が夫々設置されているスライドテーブルと、
前記支持機構駆動手段及び前記撮影手段の内の一方を使用位置に配置させるべく前記スライドテーブルを移動させる移動制御手段と、からなるデバイスステーションを備えたことを特徴とする転写装置。
【請求項１５】
モールドに形成されたパターンを被転写体に転写する一連の転写処理を行う転写装置であって、
前記被転写体と前記モールドのアライメント用の撮影手段、及びエネルギー線を前記被転写体に向けて照射する照射手段が夫々設置されているスライドテーブルと、
前記撮影手段及び前記照射手段の内の一方を使用位置に配置させるべく前記スライドテーブルを移動させる移動制御手段と、からなるデバイスステーションを備えたことを特徴とする転写装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
本発明の第１の特徴による転写装置は、モールドに形成されたパターンを被転写体に転写する一連の転写処理を行う転写装置であって、前記被転写体を支持する支持機構と、前記支持機構を第１方向に駆動させる支持機構駆動手段と、エネルギー線を前記被転写体に向けて照射する照射手段と、前記照射手段及び／又は前記支持機構駆動手段を移動させる移動手段と、前記一連の転写処理の進捗に応じて、前記照射手段及び前記支持機構駆動手段の内の一方を選択的に使用位置に配置すべく前記移動手段を制御する制御手段と、を有し、前記移動手段は、前記照射手段が設置されている第１ステージと、前記支持機構駆動手段が設置されている第２ステージと、を含み、前記制御手段は、前記一連の転写処理の進捗に応じて、前記第１ステージ及び前記第２ステージの内の一方を前記使用位置に移動させる。 
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
本発明の第２の特徴による転写装置は、モールドに形成されたパターンを被転写体に転写する一連の転写処理を行う転写装置であって、前記被転写体を支持する支持機構と、前記支持機構を第１方向に駆動させる支持機構駆動手段と、エネルギー線を前記被転写体に向けて照射する照射手段と、前記照射手段及び／又は前記支持機構駆動手段を移動させる移動手段と、前記一連の転写処理の進捗に応じて、前記照射手段及び前記支持機構駆動手段の内の一方を選択的に使用位置に配置すべく前記移動手段を制御する制御手段と、を有し、前記照射手段及び前記支持機構駆動手段はステージ上に設置されており、前記制御手段は、前記照射手段及び前記支持機構駆動手段の内の一方を前記使用位置に配置させるべく前記ステージを移動させる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明の第３の特徴による転写装置は、モールドに形成されたパターンを被転写体に転写する一連の転写処理を行う転写装置であって、前記被転写体を支持する支持機構と、前記支持機構を第１方向に駆動させる支持機構駆動手段と、エネルギー線を前記被転写体に向けて照射する照射手段と、前記照射手段及び／又は前記支持機構駆動手段を移動させる移動手段と、前記一連の転写処理の進捗に応じて、前記照射手段及び前記支持機構駆動手段の内の一方を選択的に使用位置に配置すべく前記移動手段を制御する制御手段と、を有し、前記制御手段は、前記モールドと前記被転写体とのアライメント動作時には前記支持機構駆動手段を前記使用位置に配置させるべく前記移動手段を制御し、前記モールドを前記被転写体に押圧する押圧動作時には前記照射手段を前記使用位置に配置させるべく前記移動手段を制御する。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明の第４の特徴による転写装置は、モールドに形成されたパターンを被転写体に転写する一連の転写処理を行う転写装置であって、前記被転写体を支持する支持機構と、前記支持機構を第１方向に駆動させる支持機構駆動手段と、エネルギー線を前記被転写体に向けて照射する照射手段と、前記照射手段及び／又は前記支持機構駆動手段を移動させる移動手段と、前記一連の転写処理の進捗に応じて、前記照射手段及び前記支持機構駆動手段の内の一方を選択的に使用位置に配置すべく前記移動手段を制御する制御手段と、を有し、前記制御手段は、前記支持機構を前記第１方向に駆動させる場合には前記支持機構駆動手段を前記使用位置に配置させるべく前記移動手段を制御し、前記エネルギー線を前記被転写体に照射する場合には前記照射手段を前記使用位置に配置させるべく前記移動手段を制御する。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本発明の第５の特徴による転写装置は、モールドに形成されたパターンを被転写体に転写する一連の転写処理を行う転写装置であって、前記被転写体を支持する支持機構と、前記支持機構を第１方向に駆動させる支持機構駆動手段と、前記被転写体と前記モールドのアライメント用の撮影手段と、前記撮影手段及び／又は前記支持機構駆動手段を移動させる移動手段と、前記一連の転写処理の進捗に応じて、前記撮影手段及び前記支持機構駆動手段の内の一方を選択的に使用位置に配置すべく前記移動手段を制御する制御手段と、を有し、前記制御手段は、前記モールドと前記被転写体とのアライメント動作時には前記撮影手段を前記使用位置に配置させるべく前記移動手段を制御し、前記モールド及び前記被転写体の離型動作時には前記支持機構駆動手段を前記使用位置に配置させるべく前記移動手段を制御する。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明の第６の特徴による転写装置は、モールドに形成されたパターンを被転写体に転写する一連の転写処理を行う転写装置であって、前記被転写体を支持する支持機構と、前記支持機構を第１方向に駆動させる支持機構駆動手段と、前記被転写体と前記モールドのアライメント用の撮影手段と、前記撮影手段及び／又は前記支持機構駆動手段を移動させる移動手段と、前記一連の転写処理の進捗に応じて、前記撮影手段及び前記支持機構駆動手段の内の一方を選択的に使用位置に配置すべく前記移動手段を制御する制御手段と、を有し、前記制御手段は、前記支持機構を前記第１方向に駆動させる場合には前記支持機構駆動手段を前記使用位置に配置させるべく前記移動手段を制御し、前記被転写体及び／又は前記モールドの表面を撮影する場合には前記撮影手段を前記使用位置に配置させるべく前記移動手段を制御する。 
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本発明の第７の特徴による転写装置は、モールドに形成されたパターンを被転写体に転写する転写装置であって、エネルギー線を前記被転写体に向けて照射する照射手段と、前記被転写体及び前記モールドのアライメント用の撮影手段と、前記撮影手段又は前記照射手段を移動させる移動手段と、パターン転写処理の進捗に応じて、前記撮影手段及び前記照射手段の内の一方を使用位置に配置させるべく前記移動手段を制御する制御手段と、を有する。
また、本発明の第８の特徴による転写装置は、第１モールドに形成されたパターンを被転写体の第１面に転写し、且つ第２モールドに形成されたパターンを前記被転写体の第２面に転写する一連の転写処理を行う転写装置であって、前記被転写体を第一の方向から支持する第１支持機構と、前記第１支持機構を第１方向に駆動させる第１支持機構駆動手段と、エネルギー線を前記被転写体の前記第１面に向けて照射する第１照射手段と、エネルギー線を前記被転写体の前記第２面に向けて照射する第２照射手段と、前記被転写体と前記第１及び第２モールドのアライメント用の撮影手段と、前記被転写体を第二の方向から支持する第２支持機構と、前記第２支持機構を移動させる第２支持機構駆動手段と、前記撮影手段、前記第１支持機構駆動手段、又は前記第１照射手段を移動させる第１移動手段と、前記第２支持機構駆動手段、又は前記第２照射手段を移動させる第２移動手段と、を有し、パターン転写処理の進捗に応じて、前記撮影手段、前記第１支持機構駆動手段及び前記第１照射手段の内の一方を選択的に第１使用位置に移動させるように前記第１移動手段を制御し、前記第２支持機構駆動手段及び前記第２照射手段の内の一方を選択的に第２使用位置に移動するように前記第２移動手段を制御する制御手段を有する。
また、本発明の第９の特徴による転写装置は、モールドに形成されたパターンを被転写体に転写する一連の転写処理を行う転写装置であって、前記被転写体を支持する支持機構を第１方向に駆動させる支持機構駆動手段、及びエネルギー線を前記被転写体に向けて照射する照射手段が夫々設置されているスライドテーブルと、前記支持機構駆動手段及び前記照射手段の内の一方を使用位置に配置させるべく前記スライドテーブルを移動させる移動制御手段と、からなるデバイスステーションを備える。
また、本発明の第１０の特徴による転写装置は、モールドに形成されたパターンを被転写体に転写する一連の転写処理を行う転写装置であって、前記被転写体を支持する支持機構を第１方向に駆動させる支持機構駆動手段、及び前記被転写体と前記モールドのアライメント用の撮影手段が夫々設置されているスライドテーブルと、前記支持機構駆動手段及び前記撮影手段の内の一方を使用位置に配置させるべく前記スライドテーブルを移動させる移動制御手段と、からなるデバイスステーションを備える。
また、本発明の第１１の特徴による転写装置は、モールドに形成されたパターンを被転写体に転写する一連の転写処理を行う転写装置であって、前記被転写体と前記モールドのアライメント用の撮影手段、及びエネルギー線を前記被転写体に向けて照射する照射手段が夫々設置されているスライドテーブルと、前記撮影手段及び前記照射手段の内の一方を使用位置に配置させるべく前記スライドテーブルを移動させる移動制御手段と、からなるデバイスステーションを備える。
【国際調査報告】
2010082300.tif 000008
2010082300.tif 000009
2010082300.tif 000010
2010082300.tif 000011