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　特願２０１８−５１３２１２「ターゲット、ターゲットの製造方法、及び中性子発生装置」拒絶査定不服審判事件〔平成２９年１０月２６日国際公開、ＷＯ２０１７／１８３６９３〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
第１　手続の経緯 
　本願は、２０１７年（平成２９年）４月２０日（優先権主張　平成２８年４月２１日）を国際出願日とする出願であって、その手続の経緯の概要は以下のとおりである。 
　平成３０年　８月　６日　　：手続補正書の提出 
　令和　元年　６月２７日付け：拒絶理由通知書 
　令和　元年　８月１９日　　：意見書、手続補正書の提出 
　令和　元年　９月２６日付け：拒絶査定 
　令和　元年１１月　５日　　：審判請求書、手続補正書の提出 
第２　令和元年１１月５日にされた手続補正についての補正の却下の決定 
［補正の却下の決定の結論］ 
　令和元年１１月５日にされた手続補正（以下「本件補正」という。）を却下する。 
［理由］ 
１　本件補正について（補正の内容） 
（１）本件補正後の特許請求の範囲の記載 
　本件補正により、特許請求の範囲の請求項１、５の記載は、次のとおり補正された（下線部は、補正箇所である。）。 
「【請求項１】
　少なくとも、ベリリウム材料またはリチウム材料から構成される金属膜と、グラファイト膜から構成される基板と、を有し、加速された陽子を前記金属膜及び前記基板の面に衝突させて中性子を発生させるためのターゲットであって、
　前記グラファイト膜の膜面方向の熱伝導度は、１５００Ｗ／（ｍ・Ｋ）以上であり、膜面方向の熱伝導度が膜厚方向の熱伝導度の１００倍以上であり、
　前記グラファイト膜の厚さは、１μｍ以上、１００μｍ以下であ
り、
　
前記金属膜の厚さは、２０μｍ以上、０．５ｍｍ以下であ
「【請求項５】
　前記基板は、前記グラファイト膜が複数枚積層されたグラファイト積層体から構成され、
　前記基板の厚さは、１００μｍ以上、２０ｍｍ以下であることを特徴とする請求項１〜４の何れか１項に記載のターゲット。」
（２）本件補正前の特許請求の範囲の記載 
　本件補正前の、令和元年８月１９日の手続補正により補正された特許請求の範囲の請求項１、５の記載は次のとおりである。 
「【請求項１】
　少なくとも、ベリリウム材料またはリチウム材料から構成される金属膜と、グラファイト膜から構成される基板と、を有し、加速された陽子を前記金属膜及び前記基板の面に衝突させて中性子を発生させるためのターゲットであって、
　前記グラファイト膜の膜面方向の熱伝導度は、１５００Ｗ／（ｍ・Ｋ）以上であり、膜面方向の熱伝導度が膜厚方向の熱伝導度の１００倍以上であり、
　前記グラファイト膜の厚さは、１μｍ以上、１００μｍ以下であることを特徴とするターゲット。」
「【請求項５】
　前記基板は、前記グラファイト膜が複数枚積層されたグラファイト積層体から構成され、
　前記基板の厚さは、１００μｍ以上、２０ｍｍ以下であることを特徴とする請求項１〜４の何れか１項に記載のターゲット。」
２　補正の適否 
　本件補正は、本件補正前の請求項１に記載された発明を特定するために必要な事項である「金属膜」について、「
前記金属膜の厚さは、２０μｍ以上、０．５ｍｍ以下であ
　そこで、本件補正後の請求項１に記載される発明（以下「本件補正発明１」という。）又は請求項５に記載される発明（以下「本件補正発明５」という。）が特許法第１７条の２第６項において準用する同法第１２６条第７項の規定に適合するか（特許出願の際独立して特許を受けることができるものであるか）について、以下に検討する。 
（１）本件補正発明１、５ 
　本件補正発明１、５は、上記１（１）に記載したとおりのものである。 
（２）引用文献の記載事項 
ア　原査定の拒絶の理由で引用された優先日前に頒布された又は電気通信回線を通じて公衆に利用可能となった「特開２０１３−５４８８９号公報」（以下「引用文献」という。）には、図面とともに、次の記載がある（下線は、当審で付した。以下同様。）。 
「【請求項１】
　
陽子を衝突させて中性子を発生させるためのターゲットが、ベリリウム材料及びリチウム材料のいずれか一つの材料と結晶配向性炭素材料を重ね合わせて成る複合体であることを特徴とする複合型ターゲット。
「【００３０】
　・・・（中略）・・・上記本発明における
結晶配向性炭素材料の
単結晶黒鉛は、通常、グラファイト面における熱伝導率の値が、1500Ｗｍ-1Ｋ-1
である。
「【００３６】
　本発明において、ターゲットをベリリウム材料（又はリチウム材料）と結晶配向性炭素材料を重ね合わせて成る複合体とする理由は、ターゲットで発生する熱を上記結晶配向性炭素材料が持つ高い熱伝導率・熱拡散率を利用して系外に排熱するために両材料の重ね合わせが有効であるためである。例えば、
結晶配向性炭素材料として単結晶黒鉛のようなグラファイト面の熱伝導性がグラファイト面に直交する面の熱伝導性よりも桁違いに高い材料を用いる
「【００３９】
　本発明複合型ターゲットにおけるベリリウム材料（又はリチウム材料）の厚さは、陽子の衝突による中性子発生反応を結晶配向性炭素材料にも分担させることが可能なので、特に限定するものではないが、ベリリウム材料（又はリチウム材料）中での陽子の理論的飛程よりもかなり薄くすることができる。なぜなら、結晶配向性炭素材料がベリリウム材料（又はリチウム材料）の支持材及び冷却材として機能するからである。また、上記理由により各材料が負担する熱負荷を軽減されるからである。上記理論的飛程は、陽子の入射エネルギーと物質の阻止能によって計算できる。例えば、ターゲット材料がベリリウムの場合、１１MeVの陽子のベリリウム中での理論的飛程は、約０.９４ｍｍであるので、従来のベリリウムだけから構成されているターゲットの場合には、１ｍｍ以上の厚みが必要であった。しかし、本発明ターゲットにおけるベリリウムは、１ｍｍよりもかなり薄くすることが可能である。本発明ターゲットにおけるベリリウム材料がベリリウムである場合の
ベリリウムの厚さは、
０.０１ｍｍ以上であり
０.５ｍｍ以下である。
リチウムの厚さは、
０.０１ｍｍ以上、
０.５ｍｍ以下である。
【００４０】
　本発明
複合型ターゲットは、ベリリウム材料（又はリチウム材料）と結晶配向性炭素材料の厚さ方向の比率を限定するものではない。本発明複合型ターゲットは、当該比率を用いるターゲット材料や照射陽子の加速エネルギーに応じて適宜設定することが可能であり、通常は結晶配向性炭素材料の厚さをベリリウム材料（又はリチウム材料）の厚さの１０倍以上に設定する。
「【００４７】
　陽子を衝突させて中性子を発生させるための本実施形態に係る複合型ターゲットは、ベリリウム材料（又はリチウム材料）と結晶配向性炭素材料を重ね合わせて成る複合体とする複合型ターゲットである。該複合型ターゲットにおける各材料は、界面を介して接している構造を有する。このようなターゲットとしては、下記のような形状を有するターゲットが可能である。例えば、ベリリウム材料（又はリチウム材料）と結晶性配向性炭素材料を重ね合わせて成る複合体をターゲット形状に成形したターゲット、該複合体を複数個積層させて成る複合体をターゲット形状に成形したターゲット、等を例示することができるが、これらに限定するものではない。
結晶配向性炭素材料は、単一材料でもよいし、複数の結晶配向性炭素材料を複合した炭素系複合材料とすることもできる。
イ　したがって、引用文献には、次の発明（以下「引用発明」という。）が記載されていると認められる。 
「陽子を衝突させて中性子を発生させるためのターゲットが、ベリリウム材料及びリチウム材料のいずれか一つの材料と結晶配向性炭素材料を重ね合わせて成る複合体である複合型ターゲットであって、
　結晶配向性炭素材料の単結晶黒鉛は、通常、グラファイト面における熱伝導率の値が、1500Ｗｍ-1Ｋ-1であり、結晶配向性炭素材料として単結晶黒鉛のようなグラファイト面の熱伝導性がグラファイト面に直交する面の熱伝導性よりも桁違いに高い材料を用い、
　ベリリウム及びリチウムの厚さは、０.０１ｍｍ以上で０.５ｍｍ以下であり、
　複合型ターゲットは、ベリリウム材料（又はリチウム材料）と結晶配向性炭素材料の厚さ方向の比率を限定するものではなく、本発明複合型ターゲットは、当該比率を用いるターゲット材料や照射陽子の加速エネルギーに応じて適宜設定することが可能であり、通常は結晶配向性炭素材料の厚さをベリリウム材料（又はリチウム材料）の厚さの１０倍以上に設定し、
　結晶配向性炭素材料は、単一材料でもよいし、複数の結晶配向性炭素材料を複合した炭素系複合材料とすることもできる
複合型ターゲット。」
（３）本件補正発明１について
ア　引用発明との対比 
　本件補正発明１と引用発明とを対比する。 
（ア）引用発明の「ベリリウム材料及びリチウム材料のいずれか一つの材料」は、本件補正発明１の「少なくとも、ベリリウム材料またはリチウム材料から構成される金属膜」に、
　引用発明の「結晶配向性炭素材料の単結晶黒鉛」は、本件補正発明１の「グラファイト膜から構成される基板」に、
　引用発明の「陽子を衝突させて中性子を発生させるためのターゲット」は、本件補正発明１の「加速された陽子を前記金属膜及び前記基板の面に衝突させて中性子を発生させるためのターゲット」に、
　引用発明の「ベリリウム及びリチウムの厚さは、０.０１ｍｍ以上で０.５ｍｍ以下であり」は、本件補正発明１の「前記金属膜の厚さは、２０μｍ以上、０．５ｍｍ以下である」に、
　引用発明の「複合型ターゲット」は、本件補正発明１の「ターゲット」に、
それぞれ相当する。
（イ）引用発明の「結晶配向性炭素材料の単結晶黒鉛は、通常、グラファイト面における熱伝導率の値が、1500Ｗｍ-1Ｋ-1であり」は、本件補正発明１の「前記グラファイト膜の膜面方向の熱伝導度は、１５００Ｗ／（ｍ・Ｋ）以上であり」と、「前記グラファイト膜の膜面方向の熱伝導度は、１５００Ｗ／（ｍ・Ｋ）であり」の点で一致する。
（ウ）以上のことから、本件補正発明１と引用発明との一致点及び相違点は、次のとおりである。 
【一致点】 
「少なくとも、ベリリウム材料またはリチウム材料から構成される金属膜と、グラファイト膜から構成される基板と、を有し、加速された陽子を前記金属膜及び前記基板の面に衝突させて中性子を発生させるためのターゲットであって、
　前記グラファイト膜の膜面方向の熱伝導度は、１５００Ｗ／（ｍ・Ｋ）であり、
　前記金属膜の厚さは、２０μｍ以上、０．５ｍｍ以下であるターゲット。」 
【相違点１】 
　グラファイト膜について、本件補正発明１では「膜面方向の熱伝導度が膜厚方向の熱伝導度の１００倍以上であ」るのに対し、引用発明では「結晶配向性炭素材料として単結晶黒鉛のようなグラファイト面の熱伝導性がグラファイト面に直交する面の熱伝導性よりも桁違いに高い材料を用い」ている点。 
【相違点２】 
　グラファイト膜の厚さについて、本件補正発明１では「１μｍ以上、１００μｍ以下であ」るのに対し、引用発明では「ベリリウム材料（又はリチウム材料）の厚さの１０倍以上に設定し」ている点。
イ　判断 
　以下、上記相違点について検討する。 
（ア）相違点１について
ａ　膜面方向の熱伝導度が膜厚方向の熱伝導度の１００倍以上であるグラファイト膜は、周知技術（必要ならば、国際公開第２０１５−０４５６４１号（特に、[0006]参照。）、特開２０１４−１３３６６９号公報（特に、【００１８】、【００３１】参照。）を参照されたい。）である。
ｂ　そして、引用発明は「結晶配向性炭素材料として単結晶黒鉛のようなグラファイト面の熱伝導性がグラファイト面に直交する面の熱伝導性よりも桁違いに高い材料を用い」と特定されているので、上記周知技術を考慮すれば、引用発明の結晶配向性炭素材料として単結晶黒鉛もグラファイト面の熱伝導性がグラファイト面に直交する面の熱伝導性の１００倍以上である蓋然性が高い。
　そうすると、相違点１は、実質的な相違点ではない。
　仮にそこまで言えないとしても、桁違いに高い材料として１００倍以上の材料を採用することは、当業者が容易になし得た事項にすぎない。
（イ）相違点２について
ａ　まず、相違点２を判断するにあたり、本件補正発明１の「グラファイト膜の厚さは、１μｍ以上、１００μｍ以下」の技術的意義について検討する。
　本件補正発明１の従属項の本件補正発明５には「前記基板は、前記グラファイト膜が複数枚積層されたグラファイト積層体から構成され」と特定されている。そうすると、本件補正発明１のグラファイト膜は、１枚のものだけではなく、複数枚のものも含むと解される。
　そして、本願の明細書の【０００８】には「基板を厚くし、等方性グラファイトの場合では２ｍｍ〜５０ｍｍ程度の厚さの基板を用いる必要があった。」、【０００９】には「従来よりも遥かに薄いターゲット、ターゲットの製造方法、及び中性子発生装置を実現することにある。」旨、【発明が解決しようとする課題】に記載されているように、本願の【発明が解決しようとする課題】は、従来の等方性グラファイトの２ｍｍ〜５０ｍｍ程度の厚さの基板よりも薄い基板を実現することにあると認められるものの、請求項１を引用する請求項５には「前記基板の厚さは、１００μｍ以上、２０ｍｍ以下である」と記載されている。そうすると、本件補正発明１は、グラファイト膜の厚さを１μｍ以上、１００μｍ以下と特定するものの、基板の厚さが１００μｍ以上、２０ｍｍ以下のものも含むと解される。
　以上から、本件補正発明１は、グラファイト膜が複数枚のものも含み、基板の厚さが１００μｍ以上、２０ｍｍ以下のものも含むと解され、グラファイト膜の１枚毎の厚さを規定することに技術的意義あるとは解せない。
ｂ　本件補正発明１の「グラファイト膜から構成される基板」の特定において、グラファイト膜が複数枚の場合。
（ａ）本件補正発明１が、グラファイト膜が複数枚のものも含み、基板の厚さが１００μｍ以上、２０ｍｍ以下のものも含む場合であって、引用発明において、ベリリウム及びリチウムの厚さが、０.０２ｍｍ以上で０.５ｍｍ以下の場合に、引用発明の「ベリリウム及びリチウムの厚さは、０.０１ｍｍ以上で０.５ｍｍ以下であり、」「通常は結晶配向性炭素材料の厚さをベリリウム材料（又はリチウム材料）の厚さの１０倍以上に設定し」は、本件補正発明５の「前記基板の厚さは、１００μｍ以上、２０ｍｍ以下である」と、「前記基板の厚さは、２００μｍ以上、２０ｍｍ以下である」の点で一致する。
（ｂ）また、グラファイト膜において、グラファイト膜の厚さが、１μｍ以上、１００μｍ以下のものは、周知技術（必要ならば、国際公開第２０１５−０４５６４１号（特に、[0022]参照。）、特開２０１４−１３３６６９号公報（特に、【００１７】参照。）、特開２０１３−１５７５９９号公報（特に、【００９７】、【０１２６】参照。）、特開２０１０−１９５６０９号公報（特に、【０１１４】参照。）を参照されたい。）である。
（ｃ）そして、引用発明は「結晶配向性炭素材料は、」「複数の結晶配向性炭素材料を複合した炭素系複合材料とすることもできる」と特定されている。
　ここで、引用文献において、材料を複合することは、引用文献の請求項１には「ベリリウム材料及びリチウム材料のいずれか一つの材料と結晶配向性炭素材料を重ね合わせて成る複合体」と記載されているように、材料を重ね合わせて複合することとして記載されている。
（ｄ）そうすると、引用発明において、結晶配向性炭素材料の単結晶黒鉛を重ね合わせて複合した炭素系複合材料とし、結晶配向性炭素材料の単結晶黒鉛の厚さが１μｍ以上、１００μｍ以下のものを選択することは、当業者が適宜なし得た事項にすぎない。
ｃ　本件補正発明１の「グラファイト膜から構成される基板」の特定において、グラファイト膜が１枚の場合。
　引用発明において「複合型ターゲットは、ベリリウム材料（又はリチウム材料）と結晶配向性炭素材料の厚さ方向の比率を限定するものではなく、本発明複合型ターゲットは、当該比率を用いるターゲット材料や照射陽子の加速エネルギーに応じて適宜設定することが可能であり」と特定されていること、上記周知技術及び上記イ（イ）ａで説示したとおり、グラファイト膜の１枚毎の厚さを規定することに技術的な意義がない点から、結晶配向性炭素材料の単結晶黒鉛が１枚の場合においても、用いるターゲット材料や照射陽子の加速エネルギーに応じて結晶配向性炭素材料の単結晶黒鉛の厚さが１μｍ以上、１００μｍ以下のものを選択することは、当業者が適宜なし得た事項にすぎない。　
（ウ）そして、相違点を総合的に勘案しても、本件補正発明１の奏する作用効果は、引用発明及び周知技術の奏する作用効果から予測される範囲内のものにすぎず、格別顕著なものということはできない。 
（エ）したがって、本件補正発明１は、引用発明及び周知技術に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであり、特許法第２９条第２項の規定により、特許出願の際独立して特許を受けることができないものである。 
（４）本件補正発明５について
ア　引用発明との対比 
　本件補正発明５と引用発明とを対比する。 
（ア）引用発明において、ベリリウム及びリチウムの厚さが、０.０２ｍｍ以上で０.５ｍｍ以下の場合に、引用発明の「ベリリウム及びリチウムの厚さは、０.０１ｍｍ以上で０.５ｍｍ以下であり、」「通常は結晶配向性炭素材料の厚さをベリリウム材料（又はリチウム材料）の厚さの１０倍以上に設定し」は、本件補正発明５の「前記基板の厚さは、１００μｍ以上、２０ｍｍ以下である」と、「前記基板の厚さは、２００μｍ以上、２０ｍｍ以下である」の点で一致する。
（イ）以上のことから、本件補正発明５と引用発明との一致点及び相違点は、次のとおりである。 
【一致点】 
「少なくとも、ベリリウム材料またはリチウム材料から構成される金属膜と、グラファイト膜から構成される基板と、を有し、加速された陽子を前記金属膜及び前記基板の面に衝突させて中性子を発生させるためのターゲットであって、
　前記グラファイト膜の膜面方向の熱伝導度は、１５００Ｗ／（ｍ・Ｋ）であり、
　前記金属膜の厚さは、２０μｍ以上、０．５ｍｍ以下であり、
　前記基板の厚さは、２００μｍ以上、２０ｍｍ以下であるターゲット。」
【相違点１】 
　グラファイト膜について、本件補正発明５では「膜面方向の熱伝導度が膜厚方向の熱伝導度の１００倍以上であ」るのに対し、引用発明では「結晶配向性炭素材料として単結晶黒鉛のようなグラファイト面の熱伝導性がグラファイト面に直交する面の熱伝導性よりも桁違いに高い材料を用い」ている点。 
【相違点２】 
　グラファイト膜の厚さについて、本件補正発明５では「１μｍ以上、１００μｍ以下であ」るのに対し、引用発明では「ベリリウム材料（又はリチウム材料）の厚さの１０倍以上に設定し」ている点。
【相違点３】 
　基板について、本件補正発明５では「前記グラファイト膜が複数枚積層されたグラファイト積層体から構成され」ているのに対し、引用発明ではそのようなものか明らかでない点。
イ　判断 
　以下、上記相違点について検討する。 
（ア）相違点１、２について
　上記（３）イで検討したとおりである。
（イ）相違点３について
　「前記基板は、前記グラファイト膜が複数枚積層されたグラファイト積層体から構成され」については、上記（３）イ（イ）ｂで、検討したとおりである。
（ウ）そして、相違点を総合的に勘案しても、本件補正発明５の奏する作用効果は、引用発明及び周知技術の奏する作用効果から予測される範囲内のものにすぎず、格別顕著なものということはできない。 
（エ）したがって、本件補正発明５は、引用発明及び周知技術に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであり、特許法第２９条第２項の規定により、特許出願の際独立して特許を受けることができないものである。 
（５）審判請求人の主張について 
ア　審判請求人は、令和元年１１月５日付けで提出された審判請求書において、「本願の新請求項１に係る発明は、意見１および意見２にて説明いたしましたように、引用文献１から容易に想到し得ない構成を備えているが故に、意見３にて説明いたしましたように、引用文献１からは予測できない有利な効果を奏します。したがいまして、本願の新請求項１に係る発明は、進歩性を有しています。本願の新請求項２〜１１は、本願の新請求項１の従属請求項です。したがいまして、本願の新請求項２〜１１に係る発明も、本願の新請求項１に係る発明と同様に、進歩性を有しています。」旨、主張している。 
イ　上記主張について以下検討する。 
　本願の明細書の【０００８】には「基板を厚くし、等方性グラファイトの場合では２ｍｍ〜５０ｍｍ程度の厚さの基板を用いる必要があった。」、【０００９】には「従来よりも遥かに薄いターゲット、ターゲットの製造方法、及び中性子発生装置を実現することにある。」、【０１０４】には「前記基板は、前記グラファイト膜が複数枚積層されたグラファイト積層体から構成されているので、熱伝導特性を損なうことなく、より厚い基板を実現することができる。このような、複数枚のグラファイト膜からなる基板は、従来の等方性グラファイトからなる基板よりも薄いにも関わらず、十分な耐久性を有している。」旨記載されているように、本件補正発明１又は５の基板は、従来の等方性グラファイトからなる基板よりも薄ければよく、例えば、基板の厚さが、１００μｍ以上、２０ｍｍ以下である厚い基板も想定している。
　そうすると、上記（３）、（４）で検討したとおりである。
　してみれば、審判請求人の上記主張は、採用することができない。 
３　本件補正についてのむすび 
　よって、本件補正は、特許法第１７条の２第６項において準用する同法第１２６条第７項の規定に違反するので、同法第１５９条第１項の規定において読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定により却下すべきものである。 
　よって、上記補正の却下の決定の結論のとおり決定する。 
第３　本願発明について 
１　本願発明 
　令和元年１１月５日にされた手続補正は、上記のとおり却下されたので、本願の請求項に係る発明は、令和元年８月１９日にされた手続補正により補正された特許請求の範囲の請求項１ないし１１に記載された事項により特定されるものであるところ、その請求項１、５に係る発明（以下、「本願発明１」、「本願発明５」という。）は、その請求項１、５に記載された事項により特定される、前記第２［理由］１（２）に記載のとおりのものである。
２　原査定の拒絶の理由 
　原査定の拒絶の理由は、この出願の請求項１−１１に係る発明は、その優先日前に日本国内又は外国において、頒布された下記の刊行物に記載された発明又は電気通信回線を通じて公衆に利用可能となった発明に基いて、その優先日前にその発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない、というものである。 
引用文献１：特開２０１３−５４８８９号公報
３　引用文献 
　原査定の拒絶の理由で引用された引用文献１及びその記載事項は、前記第２の［理由］２（２）に記載したとおりである。 
４　対比・判断 
　本願発明１、５は、前記第２の［理由］２で検討した本件補正発明１、５の「金属膜」について、「前記金属膜の厚さは、２０μｍ以上、０．５ｍｍ以下であ」るとの限定事項を削除したものである。 
　そうすると、本願発明１、５の発明特定事項を全て含み、さらに他の事項を付加したものに相当する本件補正発明１、５が、前記第２の［理由］２（３）、（４）に記載したとおり、引用発明及び周知技術に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、本願発明１、５も、引用発明及び周知技術に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものである。 
第４　むすび 
　以上のとおり、本願発明１、５は、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないから、他の請求項に係る発明について検討するまでもなく、本願は拒絶されるべきものである。 
　よって、結論のとおり審決する。