【事件の表示】
　特許第３０５７１６５号「電子写真用感光体」の請求項１に係る特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結　論】
　訂正を認める。
　特許第３０５７１６５号の請求項１に係る特許を維持する。
【理　由】
１．手続きの経緯
　特許第３０５７１６５号の請求項１に係る発明は、平成１年２月１０日に出願され、平成１２年４月２１日にその特許の設定の登録がなされ、その後、福永秀夫より特許異議申立がなされ、取消理由通知がなされその指定期間内である平成１３年７月９日付けで訂正請求がなされたものである。　
２．訂正の適否について　
　2.1　訂正の内容　
Ａ．特許請求の範囲【請求項１】の「導電性支持体上に少なくとも有機系感光層及び表面保護層を積層した構成の電子写真用感光体において、表面保護層は炭素又は炭素を主成分とし、そのビッカース硬度Hvは該有機系感光層のビッカース硬度よりも高く、100〜2500kg/mm2の範囲にあり、かつ該表面保護層と有機系感光層とのビッカース硬度の差ΔHvが2500kg/mm2以下であることを特徴とする電子写真用感光体。」を　
　「導電性支持体上に少なくとも有機系感光層及び表面保護層を積層した構成の電子写真用感光体において、表面保護層は炭素又は炭素を主成分とし、そのビッカース硬度Hvは該有機系感光層のビッカース硬度よりも高く、100〜2500kg/mm2（但し、2000kg/mm2以上を除く）の範囲にあり、かつ該表面保護層と有機系感光層とのビッカース硬度の差ΔHvが1980kg/mm2以下であることを特徴とする電子写真用感光体。」と訂正する。　
Ｂ．特許明細書第６頁下から６行〜第７頁第１行（特許公報第４欄第２５〜３０行）の「本発明によれば、上記目的は導電性支持体上に少なくとも有機系感光層及び表面保護層を積層した構成の電子写真用感光体において、表面保護層は炭素又は炭素を主成分とし、かつ該表面保護層と有機系感光層とのビッカース硬度の差ΔHvが2500kg/mm2以下であることを特徴とする電子写真用感光体によって達成される。」を　
　「上記目的は導電性支持体上に少なくとも有機系感光層及び表面保護層を積層した構成の電子写真用感光体において、表面保護層は炭素又は炭素を主成分とし、そのビッカース硬度Hvは該有機系感光層のビッカース硬度よりも高く、100〜2500kg/mm2（但し、2000kg/mm2以上を除く）の範囲にあり、かつ該表面保護層と有機系感光層とのビッカース硬度の差ΔHvが1980kg/mm2以下であることを特徴とする電子写真用感光体によって達成される。」と訂正する。　
Ｃ．同明細書第８頁第１行及び第１０行（同公報第４欄第４８行及び第５欄第６行）「2500」を「1980」と訂正する。　
Ｄ．同明細書第８頁第７〜８行（同公報第５欄第４〜５行）「ΔＨｖを2500kg/mm2、好ましくは2000kg/mm2以下に」を、「ΔHvを1980kg/mm2以下に」と訂正する。　
Ｅ．同明細書第８頁下から３〜２行（同公報第５欄第１４行）の「2500kg/mm2」を「2500kg/mm2（但し、2000kg/mm2以上を除く）」と訂正する。　
Ｆ．同明細書第９頁下から４行（同公報第５欄第３１行）の「SuO」を「SnO」と訂正する。　
Ｇ．同明細書第１９頁第８〜９行（同公報第９欄第３〜４行）の  「100〜2500kg/mm2好ましくは500〜2000kg/mm2」を「100〜2500kg/mm2（但し、2000kg/mm2以上を除く）」と訂正する。　
Ｈ．同明細書第２９頁第１行（同公報第１３欄第４４行）の「実施例３」を「参考例１」と訂正する。　
Ｉ．同明細書第２９頁第４行（同公報第１３欄第４６〜４７行）の「実施例３」を「参考例１」と訂正する。　
Ｊ．同明細書第２９頁下から６行（同公報第１４欄第２１行）の「実施例４」を「参考例２」と訂正する。　
Ｋ．同明細書第２９頁下から３行（同公報第１４欄第２３〜２４行）の「実施例４」を「参考例２」と訂正する。　
Ｌ．同明細書第３２頁（同公報第８頁）の表−１における「実施例３」及び「実施例４」を、それぞれ「参考例１」及び「参考例２」と訂正する。　
Ｍ．同明細書第３４頁（同公報第９頁）の表−２における「実施例３」及び「実施例４」を、それぞれ「参考例１」及び「参考例２」と訂正する。　
Ｎ．同明細書第３４頁下から１１行（同公報第１７欄第１４行）の「2500」を「1980」と訂正する。　
　2.2　訂正の目的の適否、新規事項の有無及び特許請求の範囲の拡張・変更の存否
　上記訂正事項Ａは、表面保護層のビッカース硬度に関し、「但し、2000kg/mm2以上を除く」とすることにより、後述する甲第１号証に記載された発明と重複する部分を削除すると共に、該削除に伴い、願書に添付した明細書に記載された実施例１ないし３に基づいて、表面保護層と有機系感光層とのビッカース硬度の差を「2500kg/mm2」から「1980kg/mm2」にするものであるから、特許請求の範囲の減縮を目的とするものであって、また、願書に添付した明細書に記載の範囲内のものであり、かつ、実質上特許請求の範囲を拡張又は変更するものではない。　
　上記訂正事項Ｂ．〜Ｎ．は、特許請求の範囲の記載に関連する明細書を訂正するものであり、明りょうでない記載の釈明に該当し、明細書に記載した事項の範囲内のものであり、実質上特許請求の範囲を拡張し又は変更するものではない。　
　2.3　結論　
　以上のとおりであるから、上記訂正は特許法等の一部を改正する法律（平成６年法律第１１６号。以下、「平成６年改正法という。」）附則第６条第１項の規定によりなお従前の例によるとされる、特許法第１２０条の４第３項において準用する平成６年改正法による改正前の特許法第１２６条第１項ただし書き、第２項及び第３項の規定に適合するので、当該訂正を認める。３．訂正後の発明　
　訂正は認められるので、本件請求項１に係る発明は、その特許請求の範囲の請求項１に記載された次のとおりのものである。　
　「導電性支持体上に少なくとも有機系感光層及び表面保護層を積層した構成の電子写真用感光体において、表面保護層は炭素又は炭素を主成分とし、そのビッカース硬度Hvは該有機系感光層のビッカース硬度よりも高く、100〜2500kg/mm2（但し、2000kg/mm2以上を除く）の範囲にあり、かつ該表面保護層と有機系感光層とのビッカース硬度の差ΔHvが1980kg/mm2以下であることを特徴とする電子写真用感光体。」（以下、「本件発明」という。）
４．特許異議申立の概要　
　4.1　特許異議申立人　福永秀夫は、
　　本件特許請求の範囲の請求項１に係る発明は、甲第１号証（特開昭６１−２６４３５５号公報）に記載された発明であるか、又は、同号証に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第１項第３号又は同条第２項の規定に違反し、また、本件特許明細書の記載は特許法第３６条３項及び第４項の規定を満たしていないので、本件特許は取り消されるべきものであると主張する。　
　4.2　当審の判断　
　4.2.1　甲第１号証の記載　
　(a)「(1)導電性の基板上に光の照射により導電性を示す光導電性薄膜を有し、この光導電性薄膜上に炭素を主成分とする高硬度絶縁層が形成された電子写真用感光体。　
(2)絶縁層がダイヤモンド状炭素である特許請求の範囲第１項記載の電子写真用感光体。」（特許請求の範囲請求甲第１及び２項）　
　(b)「従来の電子写真感光体（以下感光体と称す）の構成例を以下に示す。・・・・・・・・・・・７は光導電体で一般に導電材を結合剤に混入して基材上に塗布形成され無機光導電体・有機光導電体に分類される。・・・・・・・・有機光導電体としてはアントラセンのような多環芳香族化合物、フタロシアニン、ポリ−Ｎ−ビニールカルバゾール等が使用されている。」（第１頁右下欄第７行〜第２頁左上欄第５行）　
　(c)「実施例　
　第１図に本発明の実施例を示す。この実施例の構成は基本的には第３図に示した従来例と同じであり、導電性の基材１の上に光の照射により導電性を示す薄膜状の光導電体が形成されている。光導電体２の上には透明で硬く長寿命な高硬度絶縁膜３が形成されている。」（第２頁左下欄第４〜１０行）
　(d)「ＰＩ−ＣＶＤ法で形成した膜は，ＳＰ３及びＳＰ２の電子配置を含むダイヤモンドに近い結合状態のアモルファス状炭素膜で、ビッカース硬さは２０００〜３０００Ｋｇ/mm2、体積抵抗率は１０１０〜１０１３Ωcmを示し、高耐摩耗、絶縁性が必要とされる電子写真用成光体の絶縁層３としては最適なものである。　
　以上のようにＰＩ−ＣＶＤ法で形成したアモルファス状炭素膜を高硬度絶縁層３に使用すると、長寿命な電子写真感光体を得ることができ、しかもその実用化は容易である。」（第３頁左上欄第１２行〜右上欄第２行）　
　4.2.2　特許法第２９条違反について　
　甲第１号証には、「導電性支持体上に有機系感光層及び表面保護層を積層した構成の電子写真用感光体において、該表面保護層は炭素又は炭素を主成分とし、そのビッカース硬度Hvが2000〜3000kg/mm2の範囲にある電子写真用感光体。」が記載され、表面保護層は、有機系感光層を保護する「高硬度絶縁層」とされているところであるから、被保護層である有機系感光層のビッカース硬度よりも高い値を示すことは明らかである。　
　そこで、本件発明と甲第１号証に記載の事項とを対比すると、　
　「導電性支持体上に有機系感光層及び表面保護層を積層した構成の電子写真用感光体において、表面保護層は炭素又は炭素を主成分とし、そのビッカース硬度は該有機系感光層のビッカース硬度よりも高い範囲にある電子写真用感光体。」である点で一致し、次の点で相違する。　
　(1)本件発明は「表面保護層のビッカース硬度Hvは100〜2500kg/mm2（但し、2000kg/mm2以上を除く）の範囲」としているのに対し甲第１号証には「表面保護層のビッカース硬度Hvが2000〜3000kg/mm2」である点。　
　(2)本件発明が、「表面保護層と有機系感光層とのビッカース硬度の差ΔHvが1980kg/mm2以下である」としているのに対し、甲第１号証にはこの硬度差についての記載はない点。　
　相違点について検討する。　
　本件発明は、表面保護層のビッカース硬度が、100〜2500kg/mm2（但し2000kg/mm2以上を除く）、すなわち、100kg/mm2〜2000kg/mm2未満であって、その表面保護層と有機系感光層とのビッカース硬度の差は1980kg/mm2以下の範囲とすることにより、クラックがなく、かつ円周方向での剥離の発生のない高品質の表面保護層を得ることができるという作用効果を奏するものである。　
　これに対して、甲第１号証に記載された発明は、有機系感光層を長寿命化するために耐摩耗性の優れた高硬度絶縁層を形成するものであって、特にビッカース硬度を特定することを要件とするものではない。　
　そして、甲第１号証に記載された実施例には、高硬度絶縁層として用いられているアモルファス状炭素膜のビッカース硬度が「2000〜3000kg/mm2」であったことが記載されてはいるが、該範囲の硬度を選定した根拠を示す記載はなく、まして、クラック、及び円周方向での剥離の発生を防止するという、本件発明の課題については何等示唆する記載もない。　
　よって、甲第１号証の記載から、上記相違点(1),(2)  即ち、甲第１号証に記載された範囲外のビッカース硬度を有し、かつ、表面保護層と有機系感光層とのビッカース硬度の差を特定の数値以下にするという構成を導き出すことは、当業者といえども容易になし得るものではない。　
　4.2.3　特許法第３６条違反について　
　異議申立人は本件明細書は次の点で特許法第３６条の規定を満たしていないと主張する。　
　(1)本件発明は表面保護層のビッカース硬度を特定することにより該保護層の剥離やクラックの発生を防止するものであるが、ビッカース硬度と剥離やクラック防止という課題の解決とがどのように関連しているのか明らかにされていない。　
　(2)本件発明の表面保護層は「炭素又は炭素を主成分とし」と請求項１に記載されているが、本件明細書の記載からみると、該保護層を構成する物質が明確に規定されているとはいえない。　
　そこで検討する。　
　(1)について、　
　本件明細書の実施例、比較例及びその他の記載からみて、表面保護層のビッカース硬度を請求項１に記載のごとく特定することにより、本件発明の課題が解決できることは当業者にとって明確に認識できるところであるので、いかなる作用機構によって課題が解決できるのか記載する必要は認められない。　
　(2)について　
　本件発明の表面保護層は、「炭素又は炭素を主成分とし、そのビッカース硬度Hvは該有機系感光層のビッカース硬度よりも高く、100〜2500kg/mm2（但し、2000kg/mm2以上を除く）の範囲にあり、かつ該表面保護層と有機系感光層とのビッカース硬度の差ΔHvが1980kg/mm2以下である」ことを要件とし、該保護膜を構成する主成分とそのビッカース硬度とによって特定するものである。　
　そして、その要件を満たしている例示された表面保護層によって本件発明の課題が解決できることは本件明細書の記載より明らかであるから、表面保護層を更に限定する必要は認められない。　
　したがって、本件明細書の記載は特許法第３６条の規定を満たしている。５．まとめ　
　以上のとおりであるから、特許異議の申立の理由及び証拠によっては、本件発明についての特許を取り消すことはできない。
　また、他に本件発明についての特許を取り消すべき理由を発見しない。　
　したがって、本件発明についての特許は拒絶の査定をしなければならない特許出願に対してされたものとは認めない。　
　よって、特許法等の一部を改正する法律（平成６年法律第１１６号）附則第１４条の規定に基づく、特許法等の一部を改正する法律の施行に伴う経過措置を定める政令（平成７年政令第２０５号）第４条第２項の規定により上記の通り決定する。　
【異議決定日】
平成１３年９月４日（２００１．９．４）
【訂正の要旨】
訂正の要旨
　特許第３０５７１６５号の明細書を次のとおり訂正する。
　（Ｉ）特許請求の範囲の減縮を目的として、次のとおり訂正する。
　Ａ．特許請求の範囲【請求項１】の「導電性支持体上に少なくとも有機系感光層及び表面保護層を積層した構成の電子写真用感光体において、表面保護層は炭素又は炭素を主成分とし、そのビッカース硬度Ｈｖは該有機系感光層のビッカース硬度よりも高く、１００〜２５００ｋｇ／ｍｍ２の範囲にあり、かつ該表面保護層と有機系感光層とのビッカース硬度の差ΔＨｖが２５００ｋｇ／ｍｍ２以下であることを特徴とする電子写真用感光体。」を
　「導電性支持体上に少なくとも有機系感光層及び表面保護層を積層した構成の電子写真用感光体において、表面保護層は炭素又は炭素を主成分とし、そのビッカース硬度Ｈｖは該有機系感光層のビッカース硬度よりも高く、１００〜２５００ｋｇ／ｍｍ２（但し、２０００ｋｇ／ｍｍ２以上を除く）の範囲にあり、かつ該表面保護層と有機系感光層とのビッカース硬度の差ΔＨｖが１９８０ｋｇ／ｍｍ２以下であることを特徴とする電子写真用感光体。」と訂正する。
　（ＩＩ）　特許請求の範囲の記載に関連して明りょうでない記載の釈明を目的として、次のとおり訂正する。
　Ｂ．特許明細書第６頁下から６行〜第７頁第１行（特許公報第４欄第２５〜３０行）の「本発明によれば、上記目的は導電性支持体上に少なくとも有機系感光層及び表面保護層を積層した構成の電子写真用感光体において、表面保護層は炭素又は炭素を主成分とし、かつ該表面保護層と有機系感光層とのビッカース硬度の差ΔＨｖが２５００ｋｇ／ｍｍ２以下であることを特徴とする電子写真用感光体によって達成される。」を
　「上記目的は導電性支持体上に少なくとも有機系感光層及び表面保護層を積層した構成の電子写真用感光体において、表面保護層は炭素又は炭素を主成分とし、そのビッカース硬度Ｈｖは該有機系感光層のビッカース硬度よりも高く、１００〜２５００ｋｇ／ｍｍ２（但し、２０００ｋｇ／ｍｍ２以上を除く）の範囲にあり、かつ該表面保護層と有機系感光層とのビッカース硬度の差ΔＨｖが１９８０ｋｇ／ｍｍ２以下であることを特徴とする電子写真用感光体によって達成される。」と訂正する。
　Ｃ．同明細書第８頁第１行及び第１０行（同公報第４欄第４８行及び第５欄第６行）「２５００」を「１９８０」と訂正する。
　Ｄ．同明細書第８頁第７〜８行（同公報第５欄第４〜５行）「ΔＨｖを２５００ｋｇ／ｍｍ２、好ましくは２０００ｋｇ／ｍｍ２以下に」を、「ΔＨｖを１９８０ｋｇ／ｍｍ２以下に」と訂正する。
　Ｅ．同明細書第８頁下から３〜２行（同公報第５欄第１４行）の「２５００ｋｇ／ｍｍ２」を「２５００ｋｇ／ｍｍ２（但し、２０００ｋｇ／ｍｍ２以上を除く）」と訂正する。
　Ｆ．同明細書第９頁下から４行（同公報第５欄第３１行）の「ＳｕＯ」を「ＳｎＯ」と訂正する。
　Ｇ．同明細書第１９頁第８〜９行（同公報第９欄第３〜４行）の「１００〜２５００ｋｇ／ｍｍ２好ましくは５００〜２０００ｋｇ／ｍｍ２」を「１００〜２５００ｋｇ／ｍｍ２（但し、２０００ｋｇ／ｍｍ２以上を除く）」と訂正する。
　Ｈ．同明細書第２９頁第１行（同公報第１３欄第４４行）の「実施例３」を「参考例１」と訂正する。
　Ｉ．同明細書第２９頁第４行（同公報第１３欄第４６〜４７行）の「実施例３」を「参考例１」と訂正する。
　Ｊ．同明細書第２９頁下から６行（同公報第１４欄第２１行）の「実施例４」を「参考例２」と訂正する。
　Ｋ．同明細書第２９頁下から３行（同公報第１４欄第２３〜２４行）の「実施例４」を「参考例２」と訂正する。
　Ｌ．同明細書第３２頁（同公報第８頁）の表−１における「実施例３」及び「実施例４」を、それぞれ「参考例１」及び「参考例２」と訂正する。
　Ｍ．同明細書第３４頁（同公報第９頁）の表−２における「実施例３」及び「実施例４」を、それぞれ「参考例１」及び「参考例２」と訂正する。
　Ｎ．同明細書第３４頁下から１１行（同公報第１７欄第１４行）の「２５００」を「１９８０」と訂正する。
（５４）【発明の名称】
電子写真用感光体
（５７）【特許請求の範囲】
（１）導電性支持体上に少なくとも有機系感光層及び表面保護層を積層した構成の電子写真感光体において、表面保護層は炭素又は炭素を主成分とし、そのビッカース硬度Ｈｖは該有機系感光層のビッカーズ硬度よりも高く、１００〜２５００Ｋｇ／ｍｍ２　
（但し、２０００Ｋｇ／ｍｍ２以上を除く）
１９８０
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
　本発明は有機系感光層上に表面保護層を有して成る電子写真用感光体に関する。
〔従来技術〕
　従来、電子写真方式に於いて使用される感光体としては、導電性支持体上にセレンないしセレン合金を主体とする光導電層を設けたもの、酸化亜鉛、硫酸カドミウムなどの無機系光導電材料をバインダー中に分散させたもの、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾールとトリニトロフルオレノンあるいはアゾ顔料などの有機光導電材料を用いたもの、及び非晶質シリコン系材料を用いたもの等が一般に知られている。
　ところで、一般に「電子写真方式」とは、光導電性の感光体をまず暗所で、例えばコロナ放電によって帯電させ、次いで像露光し、露光部のみの電荷を選択的に散逸せしめて静電潜像を得、この潜像部を染料、顔料などの着色材と高分子物質などの結合剤とから構成される検電微粒子（トナー）で現像し可視化して画像を形成する様にした画像形成法の一つである。
　この様な電子写真法に於いて感光体に要求される基本的な特性としては
（１）暗所で適当な電位に帯電できること。
（２）暗所において電荷の散逸が少ないこと。
（３）光照射によって速やかに電荷を散逸できること。
などが挙げられる。
　上記の各感光体はこれらの基本的な特性以外に実使用上それぞれ優れた特徴及び欠点を有しているが、なかでも近年は製造コストが安い、環境汚染が少ない、比較的自由な感光体設計ができる等の理由により、有機系感光体の発展が著しい。
　一般に、有機系感光体とは電荷発生材料及び電荷輸送材料を結着樹脂の中へ分散あるいは溶解して導電性支持体上に塗布したものであり、ひとつの層で電荷保持、電荷発生、電荷輸送の機能を有する単層型と電荷発生の機能を有する電荷発生層（ＣＧＬ）、帯電電荷の保持とＣＧＬから注入された電荷の輸送機能を有する電荷輸送層（ＣＴＬ）、更には必要に応じて支持体からの電荷の注入を阻止する、あるいは支持体での光の反射を防止する等の機能を有した層などを積層した構成の機能分離型とが知られている。
　これらの有機系感光体は前述のように優れた特徴を有しているが、有機材料であるがゆえに表面硬度が低く、複写プロセスでの実使用時に現像剤、転写紙、クリーニング部材等から受ける機械的な負荷によって、摩耗や傷が発生しやすいという本質的な欠点も有している。
　この感光層の摩耗は、帯電電位の減少をひきおこし、また局部的な傷はコピー上でスジ状の異常画像を発生させる原因になり、いずれも感光体寿命を左右する重要な問題である。
　この様な欠点を解消する為に有機系感光層の表面に保護層を設けて、複写機内外で受ける機械的負荷に対する耐久性を改善する方法が提案されている。
　たとえば、感光層の表面に有機フィルムを設ける方法（特公昭３８−０１５４４６）、無機酸化物を設ける方法（特公昭４３−０１４５１７）、接着層を設けた後、絶縁層を積層する方法（特公昭４３−０２７５９１）、或いはプラズマＣＶＤ法・光ＣＶＤ法等によってａ−Ｓｉ層、ｓ−Ｓｉ：Ｎ：Ｈ層、ａ−Ｓｉ：Ｏ：Ｈ層等を積層する方法（特開昭５７−１７９８５９、特開昭５９−０５８４３７）などが開示されている。また、近年、高硬度ダイアモンド状カーボン膜の保護層への応用が活発化している。
　たとえば、感光層上に無定形炭素又は硬質炭素から成る保護層を設けたもの（特開昭６０−２４９１５５）、最表面にダイヤモンド状カーボン保護層を設けたもの（特開昭６１−２５５３５２）、感光層上に炭素を主成分とする高硬度絶縁層を形成したもの（特開昭６１−２６４３５５）あるいは有機感光層上に窒素原子、酸素原子、ハロゲン原子、アルカリ金属原子等の原子を少なくとも含むプラズマ有機重合膜から成る保護層を設けたもの（特開昭６３−９７９６１〜４）、有機感光層上にカルコゲン原子、ＩＩＩ属原子、ＩＶ属原子、Ｖ属原子等の原子を少なくとも含むグロー放電により生成された非晶質炭化水素膜から成る保護層を設けたもの（特開昭６３−２２０１６６〜９）などを挙げることができる。
　これらの提案はいずれも有機系感光層の表面にイオンプロセス（スパッタリング、プラズマＣＶＤ、グロー放電分解法、光ＣＶＤ法等）により作製した炭素を主成分とする高硬度の薄膜（ｉ−カーボン膜あるいはダイヤモンド状炭素膜という総称で呼ばれるものに属する。）を形成したものである。
　このような方法で得られる感光体は有機系感光層の表面硬度が向上し、耐久性に優れたものであるが、有機系感光層というビッカース硬度が２０Ｋｇ／ｍｍ２程度の低硬度の層の上に過度に高硬度の表面保護層が積層されたものにあっては、表面保護層層の剥離が生じるという難点があることがその後の研究により明らかとなった。
〔発明が解決しようとする課題〕
　本発明は、まさにこれらの問題点を解決するためになされたものであって、その目的は有機系感光層と炭素又は炭素を主成分とした高硬度の薄膜から成る保護層とのビッカース硬度差を特定の値以下に限定することにより、保護層の剥離やクラックの発生がなく、長期に亘り優れた耐久性を示す電子写真用感光体を提供することにある。
〔課題を解決するための手段〕
　本発明によれば、上記目的は導電性支持体上に少なくとも有機系感光層及び表面保護層を積層した構成の電子写真用感光体において、表面保護層は炭素又は炭素を主成分とし、
そのビッカース硬度Ｈｖは該有機系感光層のビッカース硬度よりも高く、１００〜２５００Ｋｇ／ｍｍ２（但し、２０００Ｋｇ／ｍｍ２以上を除く）の範囲にあり、
１９８０
　一般に、有機系感光層上に表面保護層を積層した構成の電子写真用感光体の耐久性は、表面保護層の機械的強度特に硬度が大きく関与するといわれている。したがって、通常、表面保護層の硬度はできるだけ高い値の方が望ましいわけであるが、本発明者らの研究によれば、有機系感光層の上に炭素又は炭素を主成分とした表面保護層を積層したものは、意外にも保護層の剥離やクラックを生じ、必ずしもその耐久性が向上されていないことが判った。
　更に研究した結果、この原因は、ビッカース硬度が約２０Ｋｇ／ｍｍ２という低硬度の有機系感光層上に炭素又は炭素を主成分とする極めて高硬度の表面保護層が積層されると、有機系感光層と表面保護層の接着力よりも表面保護層の機械的応力の方が勝るためであることが知見された。
　この問題を解決するために、本発明者らは更に研究を進めたところ、有機系感光層とこの上に積層する表面保護層のビッカース硬度の差ΔＨｖを
１９８０
　すなわち本発明は、前記有機系感光層と表面保護層のビッカース硬度の差ΔＨｖを
１９８０
　ビッカース硬度の差Ｈｖが
１９８０
　有機系感光層と表面保護層のビッカース硬度は前記の関係を満たす範囲で任意に定めることができるが、通常、有機系感光層のビッカース硬度Ｈｖ（Ｉ）は１０〜１００Ｋｇ／ｍｍ２、好ましくは１０〜５０Ｋｇ／ｍｍ２に、表面保護層のビッカース硬度Ｈｖ（ＩＩ）は１００〜
２５００Ｋｇ／ｍｍ２（但し、２０００Ｋｇ／ｍｍ２以上を除く）、
　第１図は本発明の電子写真用感光体の模式断面図であり、導電性支持体１上に下引層２、電荷発生層３、電荷輸送層４、及び表面保護層５を順次設けた構成のものである。
　第２図（ａ）及び第２図（ｂ）は各々本発明の他の電子写真用感光体の構成例を示すものであり、第２図（ａ）は導電性支持体１上に下引層２を介して単層型の有機系感光層６を設け、その上に表面保護層５を順次設けたものであり、また第２図（ｂ）は導電性支持体１に直接電荷輸送層４を設け、更にその上に電荷発生層３、及び表面保護層５を順次設けたものである。
　本発明に使用される導電性支持体としては、導電体あるいは導電処理をした絶縁体、たとえばＡｌ、Ｎｉ、Ｆｅ、Ｃｕ、Ａｕなどの金属あるいはそれらの合金の他、ポリエステルレ、ポリカーボネート、ポリイミド、ガラス等の絶縁性基体上にＡｌ、Ａｇ、Ａｕ等の金属あるいはＩｎ２Ｏ３、
ＳｎＯ２
　導電性支持体の形状は特に制約はなく板状、ドラム状あるいはベルト状のいずれのものも使用できる。
　導電性支持体と感光層との間に必要に応じ設けられる下引層は本発明の効果をいっそう向上すると共に、接着性を向上する目的で設けられ、その材料としてはＳｉＯ、Ａｌ２Ｏ３、シランカップリング剤、チタンカップリング剤、クロムカップリング剤等の無機材料やポリアミド樹脂、アルコール可溶性ポリアミド樹脂、水溶性ポリビニルブチラール、ポリビニルブチラール、ＰＶＡ等の接着性の良いバインダー樹脂などが使用される。その他、前記接着性の良い樹脂にＺｎＯ、ＴｉＯ２、ＺｎＳ等を分散したものも使用できる。下引層の形成法としては無機材料単独の場合はスパッタリング、蒸着等の方法が、また有機材料を用いた場合は通常の塗布法が採用される。なお下引層の厚さは５μｍ以下が適当である。
　この導電性支持体上に直接あるいは下引き層を介して設けられる有機系感光層としては、前記したビーカース硬度Ｈｖ（Ｉ）を満たすものであれば、単層型あるいは機能分離型のいずれもが適用できる。
　単層型感光層の例としては、色素増感された酸化亜鉛、酸化チタン、硫酸亜鉛等の光導電性粉体、セレン粉体、無定形シリコン粉体、スクアリック塩顔料、フタロシアニン顔料、アズレニウム塩顔料、アゾ顔料等を必要に応じて結着剤樹脂及び／又は後述する電子供与性化合物と共に塗布形成されたもの、またピリリウム系染料とビスフェノールＡ系のポリカーボネートとから形成される共晶錯体に電子供与性化合物を添加した組成物を用いたもの等が挙げられる。結着樹脂としては後述する機能分離型感光層と同様のものを使用することができる。この単層型感光層の厚さは５〜３０μｍが適当である。
　一方、機能分離型感光層の例としては電荷発生層（ＣＧＬ）と電荷輸送層（ＣＴＬ）を積層したものが例示される。
　画像露光により潜像電荷を発生分離させるための電荷発生層（ＣＧＬ）としては、結晶セレン、セレン化ヒ素等の無機光導電性粉体あるいは有機系染顔料を結着剤樹脂に分散もしくは溶解させたものが用いられる。
　電荷発生物質としての有機系染顔料としては、例えば、シーアイピグメントブルー２５〔カラーインデックス（ＣＩ）２１１８０〕、シーアイピグメントレッド４１（ＣＩ２１２００）、シーアイアシッドレッド５２（ＣＩ　４５１００）、シーアイベーシックレッド３（ＣＩ　４５２１０）、さらに、ポリフィリン骨格を有するフタロシアニン系顔料、アズレニウム塩顔料、スタアリック塩顔料、カルバゾール骨格を有するアゾ顔料（特開昭５３−９５０３３号公報に記載）、スチリルスチルベン骨格を有するアゾ顔料（特開昭５３−１３８２２９号公報に記載）、トリフェニルアミン骨格を有するアゾ顔料（特開昭５３−１３２５４７号公報に記載）、ジベンゾチオフェン骨格を有するアゾ顔料（特開昭５４−２１７２８号公報に記載）、オキサジアゾール骨格を有するアゾ顔料（特開昭５４−１２７４２号公報に記載）、フルオレノン骨格を有するアゾ顔料（特開昭５４−２２８３４号公報に記載）、ビススチルベン骨格を有するアゾ顔料（特開昭５４−１７７３３号公報に記載）、ジスチリルオキサジアゾール骨格を有するアゾ顔料（特開昭５４−２１２９号公報に記載）、ジスチリルカルバゾール骨格を有するアゾ顔料（特開昭５４−１７７３４号公報に記載）、カルバゾール骨格を有するトリアゾ顔料（特開昭５７−１９５７６７号公報、同５７−１９５７６８号公報に記載）等、さらに、シーアイピグメントブルー１６（ＣＩ７４１００）等のフタロシアニン系顔料、シーアイバッドブラウン５（ＣＩ７３４１０）、シーアイバッドダイ（ＣＩ　７３０３０）等のインジゴ系顔料、アルゴスカーレットＢ（バイオレッド社製）、インダスレンスカーレットＲ（バイエル社製）等のペリレン系顔料等を使用することができる。
　これらの電荷発生物質は単独であるいは２種以上併用して用いられる。
　結着剤樹脂は、電荷発生物質１００重量部に対して０〜１００重量部用いるのが適当であり、好ましくは０〜５０重量部である。
　これら有機染顔料と併用される結着剤樹脂としてはポリアミド、ポリウレタン、ポリエステル、エポキシ樹脂、ポリカーボネート、ポリエーテルなどの縮合系樹脂並びにポリスチレン、ポリアクリレート、ポリメタクリレート、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリビニルブチラール、スチレン−ブタジエン共重合体、スチレン−アクリロニトリル共重合体等の重合体および共重合体等の接着性、絶縁性樹脂が挙げられる。
　電荷発生層は、電荷発生物質を必要ならばバインダー樹脂とともに、テトラヒドロフラン、シクロヘキサノン、ジオキサン、ジクロルエタン等の溶媒を用いてボールミル、アトライター、サンドミルなどにより分散し、分散液を過度に希釈して塗布することにより形成できる。塗布は、浸漬塗工法やスプレーコート、ビードコート法などを用いて行なうことができる。
　電荷発生層の膜厚は、０．０１〜５μｍ程度が適当であり、好ましくは０．１〜２μｍである。
　また、本発明において、電荷発生物質として結晶セレン又はセレン化ヒ素合金等の粒子を用いる場合には、電子供与性結着剤及び／又は電子供与性有機化合物とが併用される。このような電子供与性物質としてはポリビニルカルバゾールおよびその誘導体（例えばカルバゾール骨格に塩素、臭素などのハロゲン、メチル基、アミノ基などの置換基を有するもの）、ポリビニルピレン、オキサジアゾール、ピラゾリン、ヒドラゾン、ジアリールメタン、α−フェニルスチルベン、トリフェニルアミン系化合物などの窒素含有化合物およびジアリールメタン系化合物等があるが、特にポリビニルカルバゾールおよびその誘導体が好ましい。またこれらの物質は混合しても用いられるが、この場合にはポリビニルカルバゾールおよびその誘導体に他の電子供与性有機化合物を添加しておくことが好ましい。この種の無機系電荷発生物質の含有量は層全体の３０〜９０重量％が適当である。また無機系電荷発生物質を用いた場合の電荷発生層の厚さは０．２〜５μｍが適当である。
　電荷輸送層（ＣＴＬ）は帯電電荷を保持させ、かつ露光により電荷発生層で発生分離した電荷を移動させて保持していた帯電電荷と結合させることを目的とする層である。帯電電荷を保持させる目的達成のために電気抵抗が高いことが要求され、また保持した帯電電荷で高い表面電位を得る目的を達成するためには、誘電率が小さくかつ電荷移動性が良いことが要求される。
　これらの要件を満足させるための電荷輸送層は、電荷輸送物質および必要に応じて用いられるバインダー樹脂より構成される。すなわち、以上の物質を適当な溶剤に溶解ないし分散してこれを塗布乾燥することにより電荷輸送層を形成することができる。
　電荷輸送物質には、正孔輸送物質と電子輸送物質とがある。
　正孔輸送物質としては、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾールおよびその誘導体、ポリ−γ−カルバゾリルエチルグルタメートおよびその誘導体、ピレン−ホルムアルデヒド縮合物およびその誘導体、ポリビニルピレン、ポリビニルフェナントレン、オキサゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、トリフェニルアミン誘導体、９−（ｐ−ジエチルアミノスチリル）アントラセン、１，１−ビス−（４−ジベンジルアミノフェニル）プロパン、スチリルアントラセン、スチリルピラゾリン、フェニルヒドラゾン類、α−フェニルスチルベン誘導体等の電子供与性物質が挙げられる。
　電子輸送物質としては、たとえば、クロルアニル、ブロムアニル、テトラシアノエチレン、テトラシアノキノンジメタン、２，４，７−トリニトロ−９−フルオレノン、２，４，５，７−テトラニトロ−９−フルオレノン、２，４，５，７−テトラニトロキサントン、２，４，８−トリニトロチオキサントン、２，６，８−トリニトロ−４Ｈ−インデノ〔１，２−ｂ〕チオフェノン−４−オン、１，３，７−トリニトロジベンゾチオフェノン−５，５−ジオキサイドなどの電子受容物質が挙げられる。
　これらの電荷輸送物質は、単独又は２種以上混合して用いられる。
　また、必要に応じて用いられるバインダー樹脂としては、ポリスチレン、スチレン−アクリロニトリル共重合体、スチレン−ブタジエン共重合体、スチレン−無水マレイン酸共重合体、ポリエステル、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリ酢酸ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリアクリレート樹脂、フェノキシ樹脂、ポリカーボネート、酢酸セルロース樹脂、エチルセルロース樹脂、ポリビニルブチラール、ポリビニルホルマール、ポリビニルトルエン、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、アクリル樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、フェノール樹脂、アルキッド樹脂等の熱可塑性樹脂又は熱硬化性樹脂が挙げられる。
　溶剤としては、テトラヒドロフラン、ジオキサン、トルエン、モノクロルベンゼン、ジクロルエタン、塩化メチレンなどが用いられる。
　電荷輸送層の厚さは５〜１００μｍ程度が適当である。また電荷輸送層中に可塑剤やレベリング剤を添加してもよい。可塑剤としては、ジブチルフタレート，ジオクチルフタレートなど一般の樹脂の可塑剤として使用されているものがそのまま使用でき、その使用量は、バインダー樹脂に対して０〜３０重量％程度が適当である。レベリング剤としては、ジメチルシリコーンオイル、メチルフェニルシリコーンオイルなどのシリコーンオイル類が使用され、その使用量はバインダー樹脂に対して、０〜１重量％程度が適当である。
　これらのＣＧＬとＣＴＬは支持体上に支持体側からＣＧＬ、ＣＴＬの順に積層しても、ＣＴＬ、ＣＧＬの順に積層してもかまわない。
　本発明において、最表面に設けられる保護層は、炭素または炭素を主成分としたもので、前述したように、ビッカース硬度Ｈｖ（ＩＩ）を１００〜
２５００Ｋｇ／ｍｍ２（但し、２０００Ｋｇ／ｍｍ２以上を除く）
　この様な膜は一般的にスパッタリング、プラズマＣＶＤ、グロー放電分解法、光ＣＶＤ法などにより形成され、特にその製膜法は限定されるものではないが、プラズマＣＶＤ法でありながらスパッタ効果を伴わせつつ成膜させる方法によって良好な特性を有する保護層を得ることができる。この代表例としては、本発明人の出願になる特許願「炭素被膜を有する複合体及びその製造方法」（特願昭５６−１４６９２９昭和５６年９月１７日出願、特開昭５８−４９６０９）が挙げられる。
　この方法は、平行平板型プラズマＣＶＤ装置の一方の電極（カソード側）に基板を配設し、セルフバイアスを用いて平坦面の上面に堆積させる製膜法であり、マイクロ波励起方法により活性種を強く励起することによって高硬度の炭素膜を得ることができる。
　上記方法の場合は基体がシート形状のものの場合に好ましく適用されるが、たとえば第３図に示すようなプラズマＣＶＤ装置によれば、同様の保護層を支持体形状にとらわれることなく製膜することが可能である。
　図中（７）はプラズマＣＶＤ装置の真空槽であり、ゲート弁（９）によりロード／アンロード用予備室
（７’）と仕切られている。真空槽（７）内は排気系（２０）［圧力調整バルブ（２１）、ターボ分子ポンプ（２２）、ロータリーポンプ（２３）より成る］により真空排気され、また一定圧力に保たれる様になっている。真空槽（７）内には反応槽（５０）が設けられている。反応槽は第４図（Ａ）（Ｂ）に示す様な枠構造体（２）（電極側より見て四角または六角形状を有している）と、この両端の開口部を覆う様にしたフード（８）（８’）、さらにこのフード（８）（８’）に配設された一対の同一形状を有する第一及び第二の電極（３）（３’）（アルミニウム等の金属メッシュを用いている）より構成されている。（３０）は反応槽（５０）内へ導入するガスラインを示しており、下記に示す様な各種ガス容器が接続されておりそれぞれ流量計（２９）を経てノズル（２５）より反応槽（５０）の中へ導入される。
　　　　キャリアガス：Ｈ２，Ａｒ等
　　　　　　材料ガス：炭化水素気体（メタン，エチレン等）
　　　　　添加物ガス：ＮＦ３，ＮＨ３，ＰＨ３，Ｂ２Ｈ６等
　　エッチング用ガス：Ｏ２等
　枠構造体（２）中には、有機光導電層を形成した支持体（１）〔（１−１）、（１−２）、…（１−ｎ）〕が第３図（Ａ）（Ｂ）の様に配置される。なおこのそれぞれの支持体は、後述するように第三の電極として配置される。
　電極（３）（３’）にはそれぞれ第一の交番電圧を印加するための一対の電源（１５）〔（１５−１）、（１５−２）〕が用意されている。第一の交番電圧の周波数は１〜１００ＭＨｚである。
　これらの電源はそれぞれマッチングトランス（１６−１）（１６−２）とつながる。このマッチングトランスでの位相は位相調整器により調整し、互いに１８０μｍまたは０μｍずれて供給できる。すなわち対称型又は同相型の出力を有している。
マッチングトランスの一端（４）及び他端（４’）それぞれ第一及び第二の電極（３）（３’）に連結されている。またトランスの出力側中点（５）は接地レベルに保持されている。更にこの中点（５）と第三の電極すなわち支持体（１）〔（１−１）、（１−２）、…（１−ｎ）〕またはそれらに電気的に連結するホルダ（２）の間に第二の交番電圧を印加するための電源（１７）が配設されている。この第二の交番電圧の周波数は１〜５００ＫＨｚである。
　このようにして第一の交番電圧により、第一、第二の電極（３）（３’）間にプラズマが発生する。このプラズマは上下のフード（８）（８’）、枠構造体（２）により取り囲まれているため、外側の外部空間（６）には放出せず、また反応空間内でのプラズマ電位が均質になっている。ノズル（２５）を通してこの反応空間に導入された反応用ガスはプラズマのエネルギーにより分解され、第二の交番電圧により支持体に印加されている負自己バイアス（−１０〜−６００Ｖ）によって加速され、支持体上にスパッタしつつ成膜するので緻密な構造を有する被膜が得られる。
　この第一、第二の電極に印加する第一の交番電圧の出力は１３．５６ＭＨｚの周波数の場合０．１〜１ＫＷであり、第三の電極すなわち支持体に印加する第二の交番電圧の出力は１５０ＫＨｚの周波数の場合約１００Ｗである。
　また代表的に用いる反応用ガスはエチレンとＮＦ３でありその割合はＮＦ３／Ｃ２Ｈ４＝１／２０〜４／１であり、反応時の真空槽内圧力は０．００１〜１．０ｔｏｒｒである。
　このような方法によりエチレンやＮＦ３がプラズマ中で分解させて支持体上にＮとＦが添加されたダイヤモンド状薄膜（ＤＬＣともいうが、添加物が添加されたＤＬＣを含めて本発明では炭素または炭素を主成分とする被膜という。）が得られる。
　また、この製膜法は反応圧力、反応ガスの混合比等の製膜条件を変えることによって得られる被膜の物性（硬度、光透過率、比抵抗等）を比較的自由に変化させることができる。特に硬度は支持体に印加される負自己バイアス及び反応圧力によって大きく変化させることができる。加えてこの方法では支持体を特に加熱する必要はなく、１５０℃以下の低温で炭素または炭素を主成分とする被膜を形成できるため、耐熱性の低い有機系感光層上にも何ら支障なく保護層を製膜することが可能である。
　この炭素または炭素を主成分とした保護層の膜厚は１００Å〜１０μｍであり、好ましくは１０００Å〜２μｍである。
　炭素または炭素を主成分とした保護層にはフッ素のごときハロゲン元素、窒素、リン、ホウ素などの添加物を必要に応じて添加することもでき、その濃度は膜の深さ方向に対し、均一であっても勾配を設けてもかまわない。
　〔実施例〕
　以下、実施例及び比較例によって本発明を更に詳細に説明する。
　実施例１
　アルミニウム製シリンダー状支持体（外径４０ｍｍφ、長さ２５０ｍｍ）に下記組成比の混合物をボールミルで１２時間分散し調製した下引層形成液を乾燥後の膜厚が約２μｍになる様に浸漬法で塗工し下引層を形成した。
〔下引層形成液〕
　ＴｉＯ２（石原産業社製タイペーク）　　　　　　１重量部
　ポリアミド樹脂（東レ社製　ＣＭ−８０００）　　１　〃
　メタノール　　　　　　　　　　　　　　　　　２５　〃
　この下引層上に下記処方の電荷発生層塗工液を浸漬塗工し、１２０℃で１０分間乾燥させ、膜厚約０．１５μｍの電荷発生層を形成した。
〔電荷発生層塗工液〕
　下記構造のトリスアゾ顔料　　　　　３０重量部
　ポリエステル樹脂
　　（東洋紡社製バイロン２００）　　１２重量部
　シクロヘキサノン　　　　　　　　３６０　〃
　上記混合物をボールミルで７２時間分散した後、さらにシクロヘキサノン：メチルエチルケトン＝１：１（重量比）の混合溶媒５００重量部で希釈調製する。
　ついで、この電荷発生層上に下記処方の電荷輸送層塗工液を乾燥後の膜厚が約２０μｍになる様に浸漬塗工して電荷輸送層を設けた。
　〔電荷輸送層塗工液〕
　ポリカーボネート　　　　　　　　　１０　〃
　　（商品名　パンライトＣ１４００：帝人化成（株））
　シリコン油　　　　　　　　０．０００２　〃
　　（商品名　ＫＦ５０：信越シリコーン（株））
　テトラヒドロフラン　　　　　　　　８０　〃
　このようにして作製した電荷輸送層のビッカース硬度Ｈｖ（Ｉ）を測定したところ約２０Ｋｇ／ｍｍ２であった。
　更にこの電荷輸送層上に第３図に示す前述のプラズマＣＶＤ装置を用いて下記条件により炭素または炭素を主成分とする保護層を製膜した。
　〔保護層製膜条件〕
　ＮＦ３流量　　　　　　：　５０ＳＣＣＭ
　Ｃ２Ｈ４流量　　　　　：１５０ＳＣＣＭ
　反応圧力　　　　　　　：０．０２ｔｏｒｒ
　第一の交番電圧出力　　：４００Ｗ　１３．５６ＭＨｚ
　バイアス電圧（直流分）：−８０Ｖ
　このようにして得た炭素または炭素を主成分とした保護層のビッカース硬度Ｈｖ（ＩＩ）は５００ｋｇ／ｍｍ２、膜厚は１μｍであった。
　以上の操作により実施例１の電子写真用感光体を作製した。
　実施例２
　炭素または炭素を主成分とする保護層の製膜条件を下記のものに変更した以外は実施例１と全く同様にして実施例２の電子写真用感光体を作製した。
　〔保護層製膜条件〕
　　ＮＦ３流量　　　　　　：　　５０ＳＣＣＭ
　　Ｃ２Ｈ４流量　　　　　：　１５０ＳＣＣＭ
　　反応圧　　　　　　　　：０．０５ｔｏｒｒ
　　第一の交番電圧出力　　：　４００Ｗ（１３．５６ＭＨｚ）
　　バイアス電圧（直流分）：−１５０Ｖ
　この製膜条件による保護層のビッカース硬度Ｈｖ（ＩＩ）は約１５００Ｋｇ／ｍｍ２であり、膜厚は約１μｍであった。
　
参考例１
　炭素または炭素を主成分とする保護層の製膜条件を下記のものに変更した以外は実施例１と全く同様にして
参考例１
　〔保護層製膜条件〕
　　ＮＦ３流量　　　　　　：　５０ＳＣＣＭ
　　Ｃ２Ｈ４流量　　　　　：　１５０ＳＣＣＭ
　　反応圧　　　　　　　　：０．０３ｔｏｒｒ
　　第一の交番電圧出力　　：　４００Ｗ（１３．５６ＭＨｚ）
　　バイアス電圧（直流分）：−３００Ｖ
　この製膜条件による保護層のビッカース硬度Ｈｖ（ＩＩ）は約２０００Ｋｇ／ｍｍ２であり、膜厚は約１μｍであった。
　
参考例２
　炭素または炭素を主成分とする保護層の製膜条件を下記のものに変更した以外は実施例１と全く同様にして
参考例２
　〔保護層製膜条件〕
　　ＮＦ３流量　　　　　　：　　５０ＳＣＣＭ
　　Ｃ２Ｈ４流量　　　　　：　１５０ＳＣＣＭ
　　反応圧　　　　　　　　：０．０１ｔｏｒｒ
　　第一の交番電圧出力　　：　４００Ｗ（１３．５６ＭＨｚ）
　　バイアス電圧（直流分）：−５００Ｖ
　この製膜条件による保護層のビッカース硬度Ｈｖ（ＩＩ）は約２５００Ｋｇ／ｍｍ２であり、膜厚は約１μｍであった。
　比較例１
　炭素または炭素を主成分とする保護層の製膜条件を下記のものに変更した以外は実施例１と全く同様にして比較例１の電子写真用感光体を作製した。
　〔保護層製膜条件〕
　　ＮＦ３流量　　　　　　：　　５０ＳＣＣＭ
　　Ｃ２Ｈ４流量　　　　　：　１５０ＳＣＣＭ
　　反応圧　　　　　　　　：０．０５ｔｏｒｒ
　　第一の交番電圧出力　　：　４００Ｗ（１３．５６ＭＨｚ）
　　バイアス電圧（直流分）：−６００Ｖ
　この製膜条件による保護層のビッカース硬度Ｈｖ（ＩＩ）は約３０００Ｋｇ／ｍｍ２であり、膜厚は約１μｍであった。
　この様にして作製した感光体の表面保護層の接着強度を次の方法（テープ剥離テスト）で評価した。
　すなわち、粘着テープ（住友スリーエム社製、スコッチメンディングテープ８１０）を感光体表面に貼りつけた後、ひきはがし、表面保護層が剥離するかどうかを評価した。その結果を表−１に示す。
　以上の結果から明らかなように、有機系感光層と表面保護層とのビッカース硬度差ΔＨｖが２５００Ｋｇ／ｍｍ２を越えると表面保護層の接着性が低下してくることがわかる。
　更に、これらの感光体を実際の複写プロセス（レーザープリンター）に塔載し、繰り返し画像を採取した結果、比較例１の感光体は２０００枚の時点で保護層に細かいクラックを生じ、次第に円周方向で剥離が認められるようになった。また黒スジ状の異常画像の発生を伴うようになり、実用に耐えなくなった。
　一方、実施例１〜
２
　なお、２万枚時点での表面保護層の膜厚減少量を精密段差計で評価した結果、表−２のようになった。
　〔発明の効果〕
　本発明の電子写真用感光体は、有機系感光層と炭素または炭素を主成分とする保護層とのビッカース硬度の差を
１９８０
【図面の簡単な説明】
　第１図は本発明の電子写真用感光体の構成を示す模式断面図であり、第２図（ａ）及び（ｂ）は他の実施態様の構成を示す模式断面図である。第３図は表面保護層の形成の際に用いるプラズマＣＶＤ装置の１例の説明図であり、第４図はプラズマＣＶＤ装置の枠構造体（２）の平面図である。
　１…支持体、２…下引層、３…電荷発生層、４…電荷輸送層、５…表面保護層、６…感光層（単層型）。