【事件の表示】
　特許第３０５０６１５号「液晶製造用マスクのための防塵体」の請求項１に係る特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結　論】
　訂正を認める。
　特許第３０５０６１５号の請求項１に係る特許を取り消す。
【理　由】
１．手続の経緯
　特許第３０５０６１５号の発明についての出願は、平成３年２月７日に特許出願され、平成１２年３月３１日にその発明についての特許権の設定登録がなされ、その後、前島正美より特許異議の申立てがなされ、取消しの理由が通知され、その指定期間内である平成１３年６月６日に訂正請求がなされたものである。
　
２．訂正の適否についての判断
（１）訂正の内容
　ア．訂正事項ａ
　特許請求の範囲の請求項１の記載について、「光学的薄膜体を支持枠に張設してなる液晶製造用マスクの防塵体であって、かつ該支持枠の材質が工具鋼またはマルテンサイト系ステンレススチールであり、かつ少なくとも内側は黒色であることを特徴とする液晶製造用マスクのための防塵体。」とあるのを、「光学的薄膜体を支持枠に張設してなる一括露光方式の液晶製造用マスクの防塵体であって、かつ該支持枠の材質が工具鋼またはマルテンサイト系ステンレススチールであり、かつ少なくとも内側は黒色であることを特徴とする液晶製造用マスクのための防塵体。」と訂正する。
　イ．訂正事項ｂ
　明細書【０００７】の「【課題を解決するための手段】本発明は、次の液晶製造用防塵体である。好ましくは０．５μｍ〜１０μｍの範囲内の厚みを有した光学薄膜体を支持枠に張設してなる液晶製造用マスクのための防塵体であって、かつ該支持枠の材質が工具鋼またはマルテンサイト系ステンレススチールでありまたその一部あるいは全部の表面が黒色となっていることを特徴とする液晶製造用マスクのための防塵体である。」を、「【課題を解決するための手段】本発明は、次の液晶製造用防塵体である。好ましくは０．５μｍ〜１０μｍの範囲内の厚みを有した光学薄膜体を支持枠に張設してなる一括露光方式の液晶製造用マスクのための防塵体であって、かつ該支持枠の材質が工具鋼またはマルテンサイト系ステンレススチールでありまたその一部あるいは全部の表面が黒色となっていることを特徴とする液晶製造用マスクのための防塵体である。」と訂正する。
（２）訂正の目的の適否、新規事項の有無及び拡張・変更の存否
　上記訂正事項ａは、「液晶製造用マスク」を「一括露光方式の液晶製造用マスク」、に限定するものであるから、特許請求の範囲の減縮を目的としたものであり、また、上記訂正事項ｂは上記訂正事項ａと整合を図るものであるから、明りょうでない記載の釈明を目的としたものである。そして、上記訂正事項ａ、ｂは、新規事項の追加に該当せず、また、実質的に特許請求の範囲を拡張又は変更するものではない。
（３）むすび
　したがって、上記訂正は、特許法等の一部を改正する法律（平成６年法律第１１６号）附則第６条第１項の規定によりなお従前の例によるとされる、特許法第１２０条の４第３項において準用する平成６年法律第１１６号による改正前の特許法第１２６条第１項ただし書及び第２項の規定に適合するので、当該訂正を認める。
　
３．特許異議申立ての概要
　申立人前島正美は、「本件特許の請求項１に記載された発明は、本件特許出願前公知の甲第１号証〜甲第７号証の発明から当業者が容易に発明できたものであることが明らかであり、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。したがって、上記発明にかかる本件特許は、特許法第１１３条第１項第２号の規定により取り消されるべきものである。」と主張している。
　
４．本件の請求項１に係る発明
　上記２．で示したように上記訂正が認められるから、本件の請求項１に係る発明（以下、本件発明という）は、上記訂正請求に係る訂正明細書の特許請求の範囲の請求項１に記載された事項により特定されるとおりのものである。
　
５．引用刊行物記載の発明
（１）当審が通知した取消理由に引用された刊行物２（特開昭６１−２４１７５６号公報：甲第２号証）には、
・「本発明は、半導体装置の製造工程において行われる、ホトマスクに適用して有効な技術に関する。」（公報第１頁左下欄第１３〜１４行）
・「そこで、上記レチクルおよびマスク等の回路パターンを保護するためにペリクル保護が行われる。このペリクル保護は、数ｍｍの厚さのフレームの一端にニトロセルロース等からなる透明膜を取付け、他端を両面テープ等の接着手段を用いてレチクルあるいはマスクのガラス面に取付けることにより、このフレームとペリクルで囲まれた空間内に異物が侵入するのを防止し、回路パターンへの異物の付着を防止するものである。」（公報第１頁右下欄第１１〜１９行）
・「本実施例でペリクル膜６による保護を行う基板はいわゆるレチクル２であり、・・該回路パターン４を図示しないウエハ上に例えば１０：１の縮小率で多数転写するためのものである。ペリクルホルダ１は上記レチクル２の表裏面に各々一対となって取付けられており、四角形状のフレーム５の一端にニトロセルロース等からなるペリクル膜６を張設したものである。ここで、フレーム５はアルミニウムまたはステンレス等の金属あるいはフッ素樹脂等のプラスチックまたはセラミック等で形成されている。」（公報第２頁右上欄第１３行〜同左下欄第５行）
　これらの記載事項によれば、刊行物２には、
「ペリクル膜をフレームに張設してなる半導体装置製造用ホトマスクのペリクルホルダであって、かつ該フレームの材質がステンレスであることを特徴とする半導体装置製造用ホトマスクのためのペリクルホルダ。」（以下、引用発明という）が記載されていると認められる。
（２）当審が通知した取消理由に引用された刊行物４（岩波理化学事典第３版増補版（１９８１年２月２４日発行）岩波書店　Ｐ．４３１、６９１：甲第４号証）には、「工具鋼」、「ステンレス鋼」についての説明として、それぞれ、「・・工具類に使用される硬質の鋼の総称．・・」（Ｐ．４３１）、「・・普通の炭素鋼と比較してとくに耐食性の優れた特殊鋼の総称．・・組織の方からはマルテンサイト型、・・に大別できる．マルテンサイト型の・・高温から焼き入れるとマルテンサイトとなり硬化する．・・」（Ｐ．６９１）と記載されている。
（３）当審が通知した取消理由に引用された刊行物５（ＪＩＳ使い方シリーズ　鉄鋼材料選択のポイント増補改訂版（１９８５年１０月１日発行）日本規格協会　Ｐ．１２３−１２８：甲第５号証）には、種々のステンレス鋼から必要なステンレス鋼を選択する方法が記載され、ステンレス鋼の１つとして、マルテンサイト系について、「Ｎｏ．４５０及びＮｏ．４５５はともにマルテンサイト系で、析出硬化タイプである。」（Ｐ．１２３）と記載されている。
（４）当審が通知した取消理由に引用された刊行物６（株式会社神戸製鋼所　アルミニウム精密加工製品写真集（１９９０年７月発行）：甲第６号証）には、マスクペリクル用アルミフレームの少なくとも内側と外側が黒色である構成が記載されている。
（５）当審が通知した取消理由に引用された刊行物７（三井石油化学工業株式会社　メガビット時代のペリクル（１９８７年１２月発行）：甲第７号証）には、ペリクルのアルミ合金枠の内側と外側が黒色である構成が記載されている。
（６）当審が通知した取消理由に引用された刊行物８（特開平１−２７５７３３号公報）には、「投影露光装置におけるマスキングフレームは、第２図に示すようなホロー形状をしており、そのホロー部に回路パターンを組み込み、外部からの光が回路パターンに入射することを防止する。かかる機能上その色調には黒色が用いられる。」（公報第１頁右下欄第４〜８行）と記載されている。
　
６．対比・判断
　本件発明と引用発明を対比すると、引用発明の「ペリクル膜」、「フレーム」、「ホトマスク」、「ペリクルホルダ」は、それぞれ、本件発明の「光学的薄膜」、「支持枠」、「マスク」、「防塵体」に相当するから、本件発明と引用発明は、「光学的薄膜を支持枠に張設してなるマスクの防塵体。」で一致し、
（１）本件発明では一括露光方式の液晶製造用マスクであるのに対して、引用発明では半導体装置製造用ホトマスクである点、
（２）本件発明では支持枠の材質が工具鋼またはマルテンサイト系ステンレススチールであるのに対して、引用発明ではフレームの材質がステンレスである点、
（３）本件発明では支持枠の少なくとも内側が黒色であるのに対して、引用発明ではそのような構成は記載されていない点
で相違する。
・相違点（１）について
　半導体装置製造用マスクと同様のマスクを、液晶製造用マスクとして使用することは、当業者には常識程度のことにすぎない（例えば、特開昭６１−２４０２８０号公報（周知例１）参照）から、引用発明の半導体装置製造用ホトマスクを液晶製造用マスクとして使用することは、当業者においては何ら困難なものはない。同様に、半導体装置製造用マスクに使用される防塵体（ペリクルホルダ）を液晶製造用マスクに使用できることも明かである。また、液晶製造の露光方法として、一括露光方式は、例えば、周知例１、特開昭６２−１２２１２６号公報（周知例２）、特開平１−１５５３５４号公報（周知例３）に示されるように周知であるから、液晶製造の露光方法を一括露光方式と限定することに、何ら格別なものは認められない。
・相違点（２）について
　引用発明では、単に、ステンレスとのみ記載され、具体的にどのようなステンレスであるのかは不明であるが、刊行物５に示されるように、異なる特性を有する種々のステンレスの中から、必要な特性に応じて特定のステンレスを選択することは技術常識であり、引用発明のステンレスとして、マルテンサイト系ステンレスを選択することを阻害する要因はない。また、刊行物８に、マスキングフレームには精密切削するために十分な強度が必要である旨の記載があるように、フレームに高い強度を求められることもあるから、フレームの材質として、刊行物４、５に硬質であると記載されている、工具鋼またはマルテンサイト系ステンレスを選択することは、当業者には容易なことである。
・相違点（３）について
　防塵体の支持枠を黒色とすることは、刊行物６、刊行物７、刊行物８に記載されるように、当業者にはよく知られたものであるから、引用発明のフレームを黒色とすることは、当業者が容易になし得たことである。
　したがって、本件発明は、刊行物２、４〜８に記載された発明および周知技術に基づいて当業者が容易に発明できたものである。
　
７．出願人の主張について
　出願人は、特許異議意見書において、本件発明は、一括露光方式の液晶製造用マスクは、サイズが大きいものであるから、薄膜体の張設によりたわみが生じるが、支持枠の材質として工具鋼またはマルテンサイト系ステンレススチールを使用したので、たわみを少なくすることができるという格別な効果を奏する旨主張している。
　まず、「一括露光方式の液晶製造用マスクは、サイズが大きいものである」とする点について、一括露光方式の液晶製造用マスクのサイズは、露光するパターンのサイズ（製造しようとする液晶のサイズ）、投影方法（縮小投影（周知例１参照）、等倍投影（周知例３参照）、拡大投影（周知例２参照）のいずれであるか）、縮小投影あるいは拡大投影の倍率等により決まるものであり、様々なサイズとなるから、一括露光方式の液晶製造用マスクのサイズが必ずしも大きいということはできないことは明かである。
　次に、一括露光方式の液晶製造用マスクに、サイズの大きいものが含まれることも明かであるが、従来周知の支持枠に薄膜を張設した防塵体において、薄膜を張設することにより支持枠にたわみが生じることは物理的に自明のことであるから、支持枠を硬質の材料で形成した際にたわみが少なくなるという効果を奏し得ることは、当業者であれば、容易に想到し得るものである。
　
８．むすび
　以上のとおりであるから、本件発明の特許は、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　したがって、本件発明についての特許は拒絶の査定をしなければならない特許出願に対してされたものと認める。
　よって、特許法等の一部を改正する法律（平成６年法律第１１６号）附則第１４条の規定に基づく、特許法等の一部を改正する法律の施行に伴う経過措置を定める政令（平成７年政令第２０５号）第４条第２項の規定により、結論のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１３年８月１７日（２００１．８．１７）
【訂正の要旨】
訂正の要旨
（１）訂正事項ａ
　特許請求の範囲の請求項１の記載について、「光学的薄膜体を支持枠に張設してなる液晶製造用マスクの防塵体であって、かつ該支持枠の材質が工具鋼またはマルテンサイト系ステンレススチールであり、かつ少なくとも内側は黒色であることを特徴とする液晶製造用マスクのための防塵体。」とあるのを、「光学的薄膜体を支持枠に張設してなる一括露光方式の液晶製造用マスクの防塵体であって、かつ該支持枠の材質が工具鋼またはマルテンサイト系ステンレススチールであり、かつ少なくとも内側は黒色であることを特徴とする液晶製造用マスクのための防塵体。」と訂正する。
（２）訂正事項ｂ
　明細書【０００７】の「【課題を解決するための手段】本発明は、次の液晶製造用防塵体である。好ましくは０．５μｍ〜１０μｍの範囲内の厚みを有した光学薄膜体を支持枠に張設してなる液晶製造用マスクのための防塵体であって、かつ該支持枠の材質が工具鋼またはマルテンサイト系ステンレススチールでありまたその一部あるいは全部の表面が黒色となっていることを特徴とする液晶製造用マスクのための防塵体である。」を、「【課題を解決するための手段】本発明は、次の液晶製造用防塵体である。好ましくは０．５μｍ〜１０μｍの範囲内の厚みを有した光学薄膜体を支持枠に張設してなる一括露光方式の液晶製造用マスクのための防塵体であって、かつ該支持枠の材質が工具鋼またはマルテンサイト系ステンレススチールでありまたその一部あるいは全部の表面が黒色となっていることを特徴とする液晶製造用マスクのための防塵体である。」と訂正する。
（５４）【発明の名称】
液晶製造用マスクのための防塵体。
（５７）【特許請求の範囲】
　【請求項１】　光学的薄膜体を支持枠に張設してなる
一括露光方式の
【発明の詳細な説明】
　【０００１】
　【産業上の利用分野】この発明は液晶用リソグラフィー工程において使用されるフォトマスク等の透明基板（以下マスクと略す）の異物付着を防止することを目的として使用される防塵体に関する。さらに詳細には、該防塵体を支える支持枠の材質に関する。
　【０００２】
　【従来の技術】半導体リソグラフィー工程の稼働率と歩留り向上を目的として光学的薄膜を有した防塵体を装着してマスクを異物から保護する方法が取られている（例えば特公昭５４−２８７１６号公報参照）。これは次のような事情による。即ち、近年、大規模集積回路の発展にともないその画線幅も非常に微細になり、マスクの品質が半導体製造装置の稼働率や製造コストに大きく影響するものとなってきた。特に、マスクに付着する異物が歩留まりを低下させることが重要な問題である。従って、防塵体をマスクに装着して異物から保護するということが有用と認められるようになった。
　【０００３】上記事情は、近年生産量が増加してきた液晶についても同様である。半導体製造工程とは基本的に異ならないリソグラフィー工程が入る限り、液晶製造用マスクの異物からの防塵が大切になる。液晶はその大型化の傾向が著しい。この場合、リソグラフィーのワークが非常に大きくなる。従来、小分割された露光の繰り返しで、ひとつのワークを完成させるような方法が取られてきた。しかるに、この方法だとスループットが低く、量産の点で問題となっている。そこで最近、より大きなエリアで露光が出来、大きさによっては一括露光が出来る仕様の液晶用露光装置が上市された。
　【０００４】半導体製造用防塵体と液晶製造用防塵体との大きな違いは、その要求される大きさの点である。たとえば前者は長辺の長さが１２０ｍｍ程度が限度の矩形であるのに対し、後者は４４０ｍｍ程度にもなる。このような大きさの防塵体は現在のところ全くなく、たとえ一括露光方式の露光装置が上市されてもマスクの品質の関係上期待された結果は得られないことになってしまう。
　【０００５】現在、半導体製造用防塵体の支持枠には殆どジュラルミン系のアルミニウムが材質として使用されている。また防塵体を構成する光線透過率の良い光学的薄膜体として、セルロース系のポリマーが主に用いられている。これらの材料の中で特に重要なスペックとして、高い張力を有することがあげられる。防塵体として、ピンと張った状態で支持枠にたるみなく張設されていることが要求される。従来使用してきたアルミニウム製の防塵体では、光学的薄膜体が大きくなったときその張力によって、支持枠がたわむ現象が観察された。この点が防塵体を作製する上で重要な問題点である。
　【０００６】
　【発明が解決しようとする課題】液晶製造用防塵体を提供するためには、面積が大きくかつ物理的に強い光学薄膜体を張設して、それ自体のたわみもなくかつ薄膜体もゆがまず均一に張れるような支持枠の材質を提供する必要がある。光学的薄膜体の物理的な強度は膜厚みが大きな方がよいが、それだと益々たわみが問題となる。更に、液晶製造用防塵体の支持枠自体の平坦度が限度以内におさまるように比較的容易に加工できるような材質が望ましい。又、半導体製造用防塵体と同様に枠からの光に反射を防止するために、少なくとも内面は黒色の表面加工が出来る必要もある。
　【０００７】
　【課題を解決するための手段】本発明は、次の液晶製造用防塵体である。好ましくは０．５μｍ〜１０μｍの範囲内の厚みを有した光学薄膜体を支持枠に張設してなる
一括露光方式の
　【０００８】上述のような条件を満足する材料は一見すれば多くあるように思われる。例えば、一般的なステンレススチール、セラミック、樹脂特にエンジニアリングプラスチックがあげられよう。しかし、マルチンサイト系ステンレススチールを除くステンレススチール、例えば、オーステナイトステンレススチールはまずきわめて加工しにくい。枠体を平坦にすべく研磨するためのしっかりした治具を作り、細心の注意を払って行かなければならない。苦心してつくってそれに光学薄膜体を張りわたすとたるみが生じてしまう。
　【０００９】セラミックは期待通りの結果を与えるが、非常に高価になってしまい割れ易いことを含めて実用性が低い。一方プラスチックもたわみの点で不都合である。意外にも工具鋼またはマルテンサイト系ステンレススチールが良好な結果を与えた。これらは磁性を有しているので磁石により保持して加工できるので、大きなものでも平坦度を出すのは容易であった。又、均一に表面を黒色化するのにクロムメッキが適用できた。更に安価で実用性が高い。
　【００１０】工具鋼には次のようなものがある。炭素工具鋼ＳＫシリーズ、高速度工具鋼ＳＫＨシリーズ、合金工具鋼ＳＫＳシリーズ、ＳＫＤシリーズ、ＳＫＴシリーズ、等があげられる。マルテンサイト系ステンレススチールとは以下のものである。ＳＵＳ４０３、ＳＵＳ４１０、ＳＵＳ４１０Ｓ、ＳＵＳ４２０Ｊ１、ＳＵＳ４２０Ｊ２、ＳＵＳ４２９Ｊ１、ＳＵＳ４４０Ａである。これらはいずれも大型防塵体の支持枠として必要な条件を満たすことが出来る。
　【００１１】付加的要素は、このような大きな防塵体のハンドリング性の改良である。そのために支持枠の側面に溝をつけるのが望ましい態様である。該溝を設けることによって、該溝に挿入できる治具を別に作っておけば挿入後治具を持つことによって容易にハンドリングできる。防塵体を液晶製造用マスクに貼り付ける際にもこのような溝と治具の組合せは効力を発揮する。
　【００１２】更に露光時の不都合な反射を防止するために支持枠の少なくとも内側は黒色にする必要がある。本発明の材料を用いれば、黒色クロムメッキにより容易にそうした条件を満たすことが出来る。光学的薄膜体を張設する面のみはメッキをせずにしておくことも可能である。また、この張設する際接着剤を使用するのであるが、接着剤のはみだしを防止するための細工を施すことが出来る。
　【００１３】液晶製造マスク用防塵体の基本構造は、光学的薄膜体と本発明による支持枠、及びその寸法に合わせたマスクヘの貼り付けのための粘着層からなる。光学的薄膜体としては、単層のものあるいは反射防止層を有するものが使用できる。中心層を構成する膜の材料としては、石英等の無機物やポリマーが使用できる。ポリマーとしては、ポリエチレンテレフタレート、セルロースエステル類、ポリカーボネート、ポリビニルブチラール、ポリメタクリル酸メチル等の薄膜になった時透過率の高い素材が選択できる。特に一般的な素材としてニトロセルロース、セルロースアセテート、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートプロピオネートあるいはこれらの混合物が用いられる。反射防止層の材料としては、ＭｇＦ２等の無機物やポリスチレン、テフロン等のポリマーが使用できる。支持枠には粘着層を一端面に有している。この層の接着力は特に本発明に重要であるが、１，０００ｇ／２５ｍｍ以上あることが好ましい（ＪＩＳＺ０２３７に従う試験法）。
　【００１４】以下実施例により本発明を更に詳細に説明する。
　【実施例】
　【００１５】
　【実施例１】厚み５ｍｍで５００×２，０００ｍｍの矩形の工具鋼ＳＫ４をまず切断し、磁石で固定し外側ついで内側を切削した。ついで溝加工をした上下面を研磨した後ブラスト仕上げをした。黒色クロムメッキを行い上下面を再研磨した。できあがった支持枠の下面に粘着両面テープを貼り付けた。予め作成しておいたニトロセルロースよりなる厚み７μｍの光学的薄膜体を支持枠に紫外線硬化型接着剤を用いて張設した。ピンと張った状態になった。このとき支持枠のたわみはなかった。これらの作業は支持枠の側溝に治具を差し込んで行ったので不都合なく防塵体を作ることができた。
　【００１６】
　【実施例２】マルテンサイト系ステンレススチールＳＵＳ４０３を工具鋼にかえて実施例１と同様にして支持枠を作成した。これもまた実施例１同様にたわみもなく大型防塵体に要求される条件を満足していた。
　【００１７】
　【発明の効果】以上説明したように、本発明の材質の支持枠は大型の液晶製造用マスクのための防塵体を作る条件つまりたわみ等の発生しない防塵体を作成し、防塵体としての必要な条件を満足することができる。