(57)【要約】  本発明は、α，β−不飽和カルボニル化合物を選択的に不斉水素化することにより、光学活性カルボニル化合物である光学活性アルデヒド又は光学活性ケトンを製造する触媒、特に、シトラール、ゲラニアール又はネラールを選択的に不斉水素化することにより、香料として有用な光学活性シトロネラールを得るための、反応混合物に可溶性でない触媒、及び対応する光学活性カルボニル化合物の製造方法を提供することを目的とする。  本発明は、周期表における第８〜１０族金属より選ばれる少なくとも一種の金属の粉末又は第８〜１０族金属より選ばれる少なくとも一種の金属が担体に担持された金属担持物と、光学活性環状含窒素化合物と、酸とを含む、α，β−不飽和カルボニル化合物の不斉水素化用触媒に関する。【特許請求の範囲】
【請求項１】
周期表における第８〜１０族金属より選ばれる少なくとも一種の金属の粉末又は第８〜１０族金属より選ばれる少なくとも一種の金属が担体に担持された金属担持物と、光学活性環状含窒素化合物と、酸とを含むα，β−不飽和カルボニル化合物の不斉水素化用触媒。
【請求項２】
光学活性環状含窒素化合物が下記一般式（１）
【化１】
2010140636.tif 000061
（式（１）中、環Ａは３〜７員環で、置換基を有していてもよく、炭素、窒素、硫黄、酸素、及び燐からなる群より選ばれる少なくとも一種の原子を含む。環Ａは縮環構造となっていてもよい。
Ｒ１及びＲ２は、それぞれ独立して、水素原子、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有していてもよいシクロアルキル基、置換基を有してもよいアルケニル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有していてもよいアラルキル基、置換基を有していてもよいアルコキシ基、置換基を有していてもよいカルボキシル基、置換基を有していてもよいアルコキシカルボニル基、置換基を有していてもよいアミド基、置換基を有していてもよいシロキシ基、置換基を有していてもよい芳香族複素環基、又は置換基を有していてもよい脂肪族複素環基を表す。ただしＲ１とＲ２は同じ置換基になることはない。また、Ｒ１又はＲ２の一方が環Ａと結合しさらに環を形成していてもよい。＊は不斉炭素原子を表す。）
で表される化合物であることを特徴とする請求項１に記載の不斉水素化用触媒。
【請求項３】
金属がニッケル、ルテニウム、ロジウム、イリジウム、パラジウム及び白金からなる群から選ばれることを特徴とする請求項１又は２に記載の不斉水素化用触媒。
【請求項４】
下記一般式（２）
【化２】
2010140636.tif 000062
（式（２）中、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６は、それぞれ独立して、水素原子、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有していてもよいシクロアルキル基、置換基を有してもよいアルケニル基、置換基を有してもよいアリール基、又は置換基を有していてもよいアラルキル基を表す。また、Ｒ３とＲ４、Ｒ３とＲ５、Ｒ３とＲ６、Ｒ４とＲ６、又はＲ５とＲ６とで環を形成してもよい。ただし、Ｒ３とＲ４、又はＲ３とＲ５とが環を形成していない場合、Ｒ４が水素原子でないときはＲ５及びＲ６は互いに同じでも異なってもよく、Ｒ４が水素原子のときはＲ５及びＲ６は水素原子以外であり互いに異なる。）
で表されるα，β−不飽和カルボニル化合物を、請求項１〜３のいずれか１項に記載の不斉水素化用触媒を用いて不斉水素化する工程を含むことを特徴とする、下記一般式（３）
【化３】
2010140636.tif 000063
（式（３）中、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６は、式（２）の定義と同じである。２つの＊は、少なくとも一方が不斉炭素原子を表す。）
で表される光学活性カルボニル化合物の製造方法。
【請求項５】
α，β−不飽和カルボニル化合物が、ゲラニアール、ネラール又はシトラールであることを特徴とする請求項４に記載の製造方法。
【請求項６】
α，β−不飽和カルボニル化合物が、５〜１６員環のケトン類であることを特徴とする請求項４に記載の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、不斉水素化用触媒を用い、α，β−不飽和カルボニル化合物の炭素−炭素二重結合を選択的に不斉水素化することにより、光学活性カルボニル化合物である光学活性アルデヒド又は光学活性ケトンを製造する方法に関するものである。特に、ゲラニアール、ネラール又はシトラール（ゲラニアールとネラールとの混合物）のα，β−不飽和炭素−炭素二重結合を選択的に不斉水素化することにより、光学活性シトロネラールを得ることができる。光学活性シトロネラールはそれ自体が香料として有用であるばかりでなく、光学活性シトロネロール、光学活性イソプレゴール、光学活性メントールの重要な原料である。
【背景技術】
【０００２】
従来から、α，β−不飽和アルデヒドの炭素−炭素二重結合を水素ガスで不斉水素化する試みは行なわれており、特に香料として重要な光学活性シトロネラールを得るためにネラール、ゲラニアールを不斉水素化する方法は知られている（特許文献１、２）。これらの方法は、少量の均一系触媒を用い水素ガスにより炭素−炭素二重結合を水素化する方法であることから、助剤を必要としないため大量の廃棄物がでない。【０００３】
Ｐｄブラック、Ｐｄ／Ｃ又はＰｄ／ＴｉＯ２と(−)−ｄｉｈｙｄｒｏａｐｏｖｉｎｃａｍｉｃ酸エチルエステル、プロリン又はシンコニジンとを組み合わせて使用したα，β−不飽和ケトンの炭素炭素二重結合の不斉水素化が報告されている（非特許文献１〜５）。
また、有機不斉触媒とＨａｎｔｚｓｃｈエステルを用いたα，β−不飽和化合物の水素移動型不斉水素化反応が報告されている（特許文献３、非特許文献６）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】日本国特開昭５４−１４９１１号公報
【特許文献２】日本国特表２００８−５１５８４３号公報
【特許文献３】米国特許出願公開第２００６／０１６１０２４号明細書
【非特許文献】
【０００５】
【非特許文献１】Ｊｏｕｒｎａｌ  ｏｆ  Ｍｏｌｅｃｕｌａｒ  Ｃａｔａｌｙｓｉｓ  Ａ：  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  １９９９，１３８，１２３−１２７
【非特許文献２】Ｊｏｕｒｎａｌ  ｏｆ  Ｍｏｌｅｃｕｌａｒ  Ｃａｔａｌｙｓｉｓ  Ａ：  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  ２００１，１７０，１０１−１０７
【非特許文献３】Ｊｏｕｒｎａｌ  ｏｆ  Ｍｏｌｅｃｕｌａｒ  Ｃａｔａｌｙｓｉｓ  Ａ：  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  ２００２，１７９，１０１−１０６
【非特許文献４】Ｊｏｕｒｎａｌ  ｏｆ  Ｍｏｌｅｃｕｌａｒ  Ｃａｔａｌｙｓｉｓ  Ａ：  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  ２００２，１７９，１０７−１１２
【非特許文献５】Ｊｏｕｒｎａｌ  ｏｆ  Ｍｏｌｅｃｕｌａｒ  Ｃａｔａｌｙｓｉｓ  Ａ：  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  ２００３，１９２，１８９−１９４
【非特許文献６】Ａｃｃ．Ｃｈｅｍ．Ｒｅｓ．２００７，４０，１３２７−１３３９
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、特許文献１及び２の方法で使用する触媒は高価なロジウム金属等を用いた均一系触媒であり、反応溶液に溶解するため触媒の回収は難しい。
非特許文献１〜５の方法においては、実施例としてイソホロンと特殊なエキソサイクリックケトンしかなく、また、本発明の触媒系は使用されていない。
非特許文献６及び特許文献３の有機触媒を用いる方法では、原料の不飽和アルデヒド又は不飽和ケトンに対して２０ｍｏｌ％程度の触媒量が必要であることと、水素化の基質であるＨａｎｔｚｓｃｈエステルは原料の不飽和アルデヒド又はケトンに対して等量以上必要であることから、光学活性アルデヒド又は光学活性ケトンの製造方法としては経済的に不利である。
そこで、反応溶液に溶解しない固体触媒等の不均一系触媒を用いることにより、容易に触媒の回収をする方法が求められていた。
また、固体触媒等の不均一系触媒使用したα，β−不飽和アルデヒドの不斉水素化反応は知られていなかった。【０００７】
本発明の目的は、反応溶液からの分離が容易な不均一系触媒を不斉水素化用触媒として用い、α，β−不飽和カルボニル化合物の炭素−炭素二重結合を不斉水素化し対応する光学活性アルデヒド又は光学活性ケトンを得る方法に関する。特にシトラール、ゲラニアール、又はネラールを不斉水素化反応により水素化して、光学活性なシトロネラールを得る方法に関する。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明者等は上記課題を解決するために鋭意検討を行った結果、特定の金属粉末又は金属担持物、光学活性環状含窒素化合物、及び酸を用いることにより、α，β−不飽和カルボニル化合物を不斉水素化し、対応する光学活性アルデヒド又は光学活性ケトンが得られることを見いだし、本発明を完成するに到った。また、反応終了後に光学活性含窒素化合物、及び金属粉末又は金属担持物を反応系内より容易に回収することにより、再び不斉水素化用触媒として再利用ができる。【０００９】
すなわち本発明は以下の各発明を包含する。
〔１〕周期表における第８〜１０族金属より選ばれる少なくとも一種の金属の粉末又は第８〜１０族金属より選ばれる少なくとも一種の金属が担体に担持された金属担持物と、光学活性環状含窒素化合物と、酸とを含むα，β−不飽和カルボニル化合物の不斉水素化用触媒。
〔２〕光学活性環状含窒素化合物が下記一般式（１）【００１０】
【化１】
2010140636.tif 000002
【００１１】
（式（１）中、環Ａは３〜７員環で、置換基を有していてもよく、炭素、窒素、硫黄、酸素、及び燐からなる群より選ばれる少なくとも一種の原子を含む。環Ａは縮環構造となっていてもよい。
Ｒ１及びＲ２は、それぞれ独立して、水素原子、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有していてもよいシクロアルキル基、置換基を有してもよいアルケニル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有していてもよいアラルキル基、置換基を有していてもよいアルコキシ基、置換基を有していてもよいカルボキシル基、置換基を有していてもよいアルコキシカルボニル基、置換基を有していてもよいアミド基、置換基を有していてもよいシロキシ基、置換基を有していてもよい芳香族複素環基、又は置換基を有していてもよい脂肪族複素環基を表す。ただしＲ１とＲ２は同じ置換基になることはない。また、Ｒ１又はＲ２の一方が環Ａと結合しさらに環を形成していてもよい。＊は不斉炭素原子を表す。）
で表される化合物であることを特徴とする上記〔１〕に記載の不斉水素化用触媒。
〔３〕金属がニッケル、ルテニウム、ロジウム、イリジウム、パラジウム及び白金からなる群から選ばれることを特徴とする上記〔１〕又は〔２〕に記載の不斉水素化用触媒。
〔４〕下記一般式（２）【００１２】
【化２】
2010140636.tif 000003
【００１３】
（式（２）中、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６は、それぞれ独立して、水素原子、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有していてもよいシクロアルキル基、置換基を有してもよいアルケニル基、置換基を有してもよいアリール基、又は置換基を有していてもよいアラルキル基を表す。また、Ｒ３とＲ４、Ｒ３とＲ５、Ｒ３とＲ６、Ｒ４とＲ６、又はＲ５とＲ６とで環を形成してもよい。ただし、Ｒ３とＲ４、又はＲ３とＲ５とが環を形成していない場合、Ｒ４が水素原子でないときはＲ５及びＲ６は互いに同じでも異なってもよく、Ｒ４が水素原子のときはＲ５及びＲ６は水素原子以外であり互いに異なる。）
で表されるα，β−不飽和カルボニル化合物を、上記〔１〕〜〔３〕のいずれか１項に記載の不斉水素化用触媒を用いて不斉水素化する工程を含むことを特徴とする、下記一般式（３）【００１４】
【化３】
2010140636.tif 000004
【００１５】
（式（３）中、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６は、式（２）の定義と同じである。２つの＊は、少なくとも一方が不斉炭素原子を表す。）
で表される光学活性カルボニル化合物の製造方法。
〔５〕α，β−不飽和カルボニル化合物が、ゲラニアール、ネラール又はシトラールであることを特徴とする上記〔４〕に記載の製造方法。
〔６〕α，β−不飽和カルボニル化合物が、５〜１６員環のケトン類であることを特徴とする上記〔４〕に記載の製造方法。
【発明の効果】
【００１６】
本発明は上記のように、不斉水素化反応における触媒として、金属粉末又は金属担持物と共に、エナンチオ選択性に寄与する添加物として光学活性環状含窒素化合物、及び酸を用いるものである。
本発明の不斉水素化触媒は、従来の不斉水素化触媒のように、触媒を調製するための反応工程を必要としない。単に、原料化合物、光学活性環状含窒素化合物、金属粉末又は金属担持物、及び酸を混合して不斉水素化するものである。このように操作も簡便であり、また、金属粉末又は金属担持物、及び光学活性環状含窒素化合物は回収して再使用でき、工業的にも有利である。【００１７】
また、本発明の触媒を使用する際に、α，β−不飽和カルボニル化合物のα位とβ位の二重結合においてＺ配置及びＥ配置の化合物のいずれを基質として使用した場合においても、生成する光学活性カルボニル化合物の立体配置は、使用する光学活性環状含窒素化合物の立体配置に依存する。そのため、本発明では、Ｚ配置化合物とＥ配置化合物との混合物を基質として使用した場合においても、同じ立体配置の光学活性カルボニル化合物を製造することができる。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
以下、本発明について詳細に説明する。
＜基質＞
本発明においては、α，β−不飽和カルボニル化合物を基質として用い、これを本発明の触媒を使用して不斉水素化し、光学活性カルボニル化合物である光学活性アルデヒド又は光学活性ケトンを製造する。
【００１９】
基質として用いられるα，β−不飽和カルボニル化合物としては、特に限定されないが、例えば下記一般式（２）で示される化合物が挙げられる。なお、α，β−不飽和カルボニル化合物のα位とβ位の二重結合において、Ｚ配置及びＥ配置があるものは、それらの何れも含むものである。
【００２０】
下記一般式（２）
【００２１】
【化４】
2010140636.tif 000005
【００２２】
（式（２）中、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６は、それぞれ独立して、水素原子、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有していてもよいシクロアルキル基、置換基を有してもよいアルケニル基、置換基を有してもよいアリール基、又は置換基を有していてもよいアラルキル基を表す。また、Ｒ３とＲ４、Ｒ３とＲ５、Ｒ３とＲ６、Ｒ４とＲ６、又はＲ５とＲ６とで環を形成してもよい。ただし、Ｒ３とＲ４、又はＲ３とＲ５とが環を形成していない場合、Ｒ４が水素原子でないときはＲ５及びＲ６は互いに同じでも異なってもよく、Ｒ４が水素原子のときはＲ５及びＲ６は水素原子以外であり互いに異なる。）
【００２３】
前記式（２）で示される化合物すなわちα，β−不飽和アルデヒド又はα，β−不飽和ケトンを、本発明の触媒を使用して不斉水素化することにより、下記式（３）で示される光学活性カルボニル化合物である光学活性アルデヒド又は光学活性ケトンが製造される。
【００２４】
【化５】
2010140636.tif 000006
【００２５】
（式（３）中、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６は、式（２）の定義と同じである。２つの＊は、少なくとも一方が不斉炭素原子を表す。）
【００２６】
一般式（２）で示されるα，β−不飽和カルボニル化合物及び一般式（３）で表される光学活性カルボニル化合物において、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、及びＲ６で表される基である、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アリール基、及びアラルキル基について説明する。これらの基はいずれも置換基を有していてもよい。
【００２７】
アルキル基としては、鎖状又は分岐状の例えば炭素数１〜３０、好ましくは炭素数１〜１０のアルキル基が挙げられ、具体的にはメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、２−ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、２−ペンチル基、３−ペンチル基、ｔｅｒｔ−ペンチル基、２−メチルブチル基、３−メチルブチル基、２，２−ジメチルプロピル基、１，２−ジメチルプロピル基、ｎ−ヘキシル基、２−ヘキシル基、３−ヘキシル基、２−メチルペンチル基、３−メチルペンチル基、４−メチルペンチル基、１，１−ジメチルブチル基、１，２−ジメチルブチル基、１，３−ジメチルブチル基、２，２−ジメチルブチル基、２，３−ジメチルブチル基、３，３−ジメチルブチル基、２−エチルブチル基、１，１，２−トリメチルプロピル基、１，２，２−トリメチルプロピル基、１−エチル−１−メチルプロピル基、１−エチル−２−メチルプロピル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、オクタデシル基、ノナデシル基、イコシル基、ヘンイコシル基及びドコシル基等が挙げられる。
【００２８】
また、これらアルキル基は置換基を有していてもよく、該アルキル基の置換基としては、例えばアルケニル基、アルキニル基、アリール基、脂肪族複素環基、芳香族複素環基、アルコキシ基、アルキレンジオキシ基、アリールオキシ基、アラルキルオキシ基、ヘテロアリールオキシ基、置換アミノ基、ニトロ基、ニトリル基、ハロゲン原子、及びハロゲン化アルキル基等が挙げられる。
【００２９】
アルキル基の置換基としてのアルケニル基としては、直鎖状でも分岐状でもよい、例えば炭素数２〜２０、好ましくは炭素数２〜１０、より好ましくは炭素数２〜６のアルケニル基が挙げられ、具体的にはビニル基、プロペニル基、１−ブテニル基、ペンテニル基及びヘキセニル基等が挙げられる。
【００３０】
アルキル基に置換するアルキニル基としては、直鎖状でも分岐状でもよい、例えば炭素数２〜１５、好ましくは炭素数２〜１０、より好ましくは炭素数２〜６のアルキニル基が挙げられ、具体的にはエチニル基、１−プロピニル基、２−プロピニル基、１−ブチニル基、３−ブチニル基、ペンチニル基及びヘキシニル基等が挙げられる。
【００３１】
アルキル基の置換基としてのアリール基としては、例えば炭素数６〜１４のアリール基が挙げられ、具体的にはフェニル基、ナフチル基、アンスリル基、フェナンスリル基、ビフェニル基、トリル基、キシリル基、メシチル基、メトキシフェニル基、ジメトキシフェニル基及びフルオロフェニル基等が挙げられる。
【００３２】
アルキル基の置換基としての脂肪族複素環基としては、例えば炭素数２〜１４であり、異種原子として少なくとも１個、好ましくは１〜３個の例えば窒素原子、酸素原子、硫黄原子等のヘテロ原子を含んでいる基があげられる。好ましくは、５又は６員の単環の脂肪族複素環基、及び多環又は縮合環の脂肪族複素環基が挙げられる。脂肪族複素環基の具体例としては、例えば、２−オキソ−１−ピロリジニル基、ピペリジノ基、ピペラジニル基、モルホリノ基、テトラヒドロフリル基、テトラヒドロピラニル基及びテトラヒドロチエニル基等が挙げられる。
【００３３】
アルキル基の置換基としての芳香族複素環基としては、例えば炭素数２〜１５であり、異種原子として少なくとも１個、好ましくは１〜３個の窒素原子、酸素原子、硫黄原子等の異種原子を含んでいる基があげられる。好ましくは、５又は６員の単環の芳香族複素環基、及び多環又は縮合環の芳香族複素環基が挙げられる。芳香族複素環基の具体例としては、例えば、フリル基、チエニル基、ピリジル基、ピリミジニル基、ピラジニル基、ピリダジニル基、ピラゾリニル基、イミダゾリル基、オキサゾリニル基、チアゾリニル基、ベンゾフリル基、ベンゾチエニル基、キノリル基、イソキノリル基、キノキサリニル基、フタラジニル基、キナゾリニル基、ナフチリジニル基、シンノリニル基、ベンゾイミダゾリル基、ベンゾオキサゾリル基及びベンゾチアゾリル基等が挙げられる。
【００３４】
アルキル基の置換基としてのアルコキシ基としては、直鎖状又は分岐状の、例えば炭素数１〜６のアルコキシ基が挙げられ、具体的にはメトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、２−ブトキシ基、イソブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、ｎ−ペンチロキシ基、２−メチルブトキシ基、３−メチルブトキシ基、２，２−ジメチルプロポキシ基、ｎ−ヘキシロキシ基、２−メチルペンチロキシ基、３−メチルペンチロキシ基、４−メチルペンチロキシ基及び５−メチルペンチロキシ基等が挙げられる。
【００３５】
アルキル基の置換基としてのアルキレンジオキシ基としては、例えば炭素数１〜３のアルキレンジオキシ基が挙げられ、具体的にはメチレンジオキシ基、エチレンジオキシ基、プロピレンジオキシ基及びイソプロピリデンジオキシ基等が挙げられる。
【００３６】
アルキル基の置換基としてのアリールオキシ基としては、例えば炭素数６〜１４のアリールオキシ基が挙げられ、具体的にはフェノキシ基、ナフチロキシ基及びアンスリロキシ基等が挙げられる。
【００３７】
アルキル基の置換基としてのアラルキルオキシ基としては、例えば炭素数７〜１２のアラルキルオキシ基が挙げられ、具体的にはベンジルオキシ基、２−フェニルエトキシ基、１−フェニルプロポキシ基、２−フェニルプロポキシ基、３−フェニルプロポキシ基、１−フェニルブトキシ基、２−フェニルブトキシ基、３−フェニルブトキシ基、４−フェニルブトキシ基、１−フェニルペンチロキシ基、２−フェニルペンチロキシ基、３−フェニルペンチロキシ基、４−フェニルペンチロキシ基、５−フェニルペンチロキシ基、１−フェニルヘキシロキシ基、２−フェニルヘキシロキシ基、３−フェニルヘキシロキシ基、４−フェニルヘキシロキシ基、５−フェニルヘキシロキシ基及び６−フェニルヘキシロキシ基等が挙げられる。
【００３８】
アルキル基の置換基としてのヘテロアリールオキシ基としては、例えば、異種原子として少なくとも１個、好ましくは１〜３個の窒素原子、酸素原子、硫黄原子等の異種原子を含んでいる、炭素数２〜１４のヘテロアリールオキシ基が挙げられ、具体的には、２−ピリジルオキシ基、２−ピラジルオキシ基、２−ピリミジルオキシ基及び２−キノリルオキシ基等が挙げられる。
【００３９】
アルキル基の置換基としての置換アミノ基としては、例えば、Ｎ−メチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルアミノ基、Ｎ−シクロヘキシルアミノ基等のモノ又はジアルキルアミノ基；Ｎ−フェニルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジフェニルアミノ基、Ｎ−ナフチルアミノ基、Ｎ−ナフチル−Ｎ−フェニルアミノ基等のモノ又はジアリールアミノ基；Ｎ−ベンジルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジベンジルアミノ基等のモノ又はジアラルキルアミノ基等が挙げられる。
【００４０】
アルキル基に置換するハロゲン原子としては、例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子等が挙げられる。
【００４１】
アルキル基に置換するハロゲン化アルキル基としては、パーハロゲノアルキル基が好ましく、例えば、トリフロロメチル基、ペンタフロロエチル基、ヘプタフロロプロピル基、ウンデカフロロペンチル基、ヘプタデカフロロオクチル基、ウンデカフロロシクロヘキシル基、ジクロロメチル基等が挙げられる。
【００４２】
シクロアルキル基としては、例えばシクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基及びシクロヘキシル基等が挙げられる。
これらシクロアルキル基は置換基を有していてもよく、該置換基としては、前記のアルキル基の置換基の説明で述べたような置換基が挙げられる。
【００４３】
アルケニル基としては、鎖状又分岐状あるいは環状の、例えば炭素数２〜２０、好ましくは炭素数２〜１０のアルケニル基が挙げられる。具体的なアルケニル基としては、例えばビニル基、１−プロペニル基、２−プロペニル基、１−ブテニル基、２−ブテニル基、３−ブテニル基、１−ペンテニル基、２−ペンテニル基、３−ペンテニル基、４−ペンテニル基、１−シクロペンテニル基、３−シクロペンテニル基、１−ヘキセニル基、２−ヘキセニル基、３−ヘキセニル基、４−ヘキセニル基、５−ヘキセニル基、４−メチル−３−ペンテニル基、４，８−ジメチル−３，７−ノナジエニル基、１−シクロヘキセニル基及び３−シクロヘキセニル基等が挙げられる。
これらアルケニル基は置換基を有していてもよく、該置換基としては、前記のアルキル基の置換基の説明で述べたような基が挙げられる。
【００４４】
アリール基としては、例えば炭素数６〜１４のアリール基が挙げられ、具体的にはフェニル基、ナフチル基、アントリル基、フェナンスリル基、ビフェニル基等が挙げられる。これらアリール基は置換基を有していてもよく、該置換基としてはアルキル基の置換基の説明で述べたような基が挙げられる。
【００４５】
アラルキル基としては、例えば炭素数７〜１２のアラルキル基が好ましく、具体的にはベンジル基、２−フェニルエチル基、１−フェニルプロピル基、３−ナフチルプロピル基等が挙げられる。
これらアラルキル基は置換基を有していてもよく、該置換基としてはアルキル基の説明で述べたような基が挙げられる。
【００４６】
一般式（２）で表されるα，β−不飽和カルボニル化合物及び一般式（３）で表される光学活性カルボニル化合物において、Ｒ３とＲ４、Ｒ３とＲ５、Ｒ３とＲ６、Ｒ４とＲ６、又はＲ５とＲ６とで形成する環としては、例えば、シクロペンタン環、シクロヘキサン環、インダン環、テトラリン環、シクロペンテン環、シクロヘキセン環、シクロヘプテン環、インデン環、ジヒドロナフタレン環、オクタヒドロナフタレン環、デカヒドロナフタレン環等が挙げられる。これらの環は、前述したようなアルキル基、以下で説明するアシル基等で置換されていてもよい。
【００４７】
アシル基としては、例えば、アセチル基、プロパノイル基、ブタノイル基、オクタノイル基、ベンゾイル基、トルオイル基、キシロイル基、ナフトイル基、フェナンスロイル基、アントラノイル基等が挙げられる。
【００４８】
本発明において基質として用いられるα，β−不飽和アルデヒドの具体例としては、例えば以下のような化合物が挙げられる。なお、α，β−不飽和アルデヒドのα位とβ位の二重結合において、Ｚ配置及びＥ配置があるものは、それらの何れも含むものである。以下化合物中の波線は、Ｚ配置及びＥ配置、又はそれらの混合物を表す。
【００４９】
以下、化合物中、Ｍｅはメチル基を、Ｂｎはベンジル基を表す。
【００５０】
【化６】
2010140636.tif 000007
【００５１】
前記したようなα，β−不飽和アルデヒドの中でも、ゲラニアール（下記Ａ）、ネラール（下記Ｂ）及びシトラールが特に好ましいものとして挙げられる。
【００５２】
【化７】
2010140636.tif 000008
【００５３】
本発明において基質として用いられるα，β−不飽和ケトンは、５〜１６員環のケトン類が好ましい。
α，β−不飽和ケトンの具体例としては、例えば以下のような化合物が挙げられる。なお、α，β−不飽和ケトンのα位とβ位の二重結合において、Ｚ配置及びＥ配置があるものは、それらの何れも含むものである。以下、化合物中の波線は、Ｚ配置及びＥ配置、又はそれらの混合物を表す。
以下化合物中、Ｍｅはメチル基、Ｐｈはフェニル基、Ｅｔはエチル基、Ｂｕはブチル基、Ｐｒはプロピル基、Ｂｎはベンジル基を表す。
【００５４】
【化８】
2010140636.tif 000009
【００５５】
＜触媒＞
次に、本発明の触媒について説明する。
本発明の触媒は、周期表における第８〜１０族金属より選ばれる少なくとも一種の金属の粉末又は第８〜１０族金属より選ばれる少なくとも一種の金属が担体に担持された金属担持物と、光学活性環状含窒素化合物と、酸とを含むα，β−不飽和カルボニル化合物の不斉水素化用触媒である。
【００５６】
周期表における第８〜１０族金属より選ばれる少なくとも一種の金属粉末又は第８〜１０族金属より選ばれる少なくとも一種の金属が担体に担持された金属担持物について説明する。
周期表における第８〜１０族の金属としては、Ｎｉ（ニッケル）、Ｒｕ（ルテニウム）、Ｒｈ（ロジウム）、Ｉｒ（イリジウム）、Ｐｄ（パラジウム）及びＰｔ（白金）が好ましく、特に好ましい金属はＰｄである。
【００５７】
金属粉末としては、例えば、Ｐｄブラック、Ｐｔブラック等があげられる。
【００５８】
金属担持物としては、上記の金属が担体に担持されたものが用いられ、これらの金属がカーボン、シリカ、アルミナ、シリカ−アルミナ、ゼオライト、金属酸化物、金属ハロゲン化物、金属硫化物、金属スルホン酸塩、金属硝酸塩、金属炭酸塩、金属リン酸塩等の担体に担持されているものが好適に用いられる。これらの中でも、パラジウム又は白金が担体に担持されているものが好ましい。
【００５９】
具体的な金属担持物としては、ラネーニッケル、Ｒｕ／Ｃ、Ｒｈ／Ｃ、Ｐｄ／Ｃ、Ｉｒ／Ｃ、Ｐｔ／Ｃ、
Ｐｄ／Ａｌ２Ｏ３、Ｐｄ／ＳｉＯ２、Ｐｄ／ＴｉＯ２、Ｐｄ／ＺｒＯ２、Ｐｄ／ＣｅＯ２、Ｐｄ／ＺｎＯ、Ｐｄ／ＣｄＯ、Ｐｄ／ＴｉＯ２、Ｐｄ／ＳｎＯ２、Ｐｄ／ＰｂＯ、Ｐｄ／Ａｓ２Ｏ３、Ｐｄ／Ｂｉ２Ｏ３、Ｐｄ／Ｓｂ２Ｏ５、Ｐｄ／Ｖ２Ｏ５、Ｐｄ／Ｎｂ２Ｏ５、Ｐｄ／Ｃｒ２Ｏ３、Ｐｄ／ＭｏＯ３、Ｐｄ／ＷＯ３、
Ｐｄ／ＢｅＯ、Ｐｄ／ＭｇＯ、Ｐｄ／ＣａＯ、Ｐｄ／ＳｒＯ、Ｐｄ／ＢａＯ、Ｐｄ／Ｙ２Ｏ３、Ｐｄ／Ｌａ２Ｏ３、Ｐｄ／Ｎａ２Ｏ、Ｐｄ／Ｋ２Ｏ、
Ｐｄ／ＣｄＳ、Ｐｄ／ＺｎＳ、
Ｐｄ／ＭｇＳＯ４、Ｐｄ／ＣａＳＯ４、Ｐｄ／ＳｒＳＯ４、Ｐｄ／ＢａＳＯ４、Ｐｄ／ＣｕＳＯ４、Ｐｄ／ＺｎＳＯ４、Ｐｄ／ＣｄＳＯ４、Ｐｄ／Ａｌ２（ＳＯ４）３、Ｐｄ／ＦｅＳＯ４、Ｐｄ／Ｆｅ２（ＳＯ４）３、Ｐｄ／ＣｏＳＯ４、Ｐｄ／ＮｉＳＯ４、Ｐｄ／Ｃｒ２（ＳＯ４）３、Ｐｄ／ＫＨＳＯ４、Ｐｄ／Ｋ２ＳＯ４、Ｐｄ／（ＮＨ４）２ＳＯ４、
Ｐｄ／Ｚｎ（ＮＯ３）２、Ｐｄ／Ｃａ（ＮＯ３）２、Ｐｄ／Ｂｉ（ＮＯ３）３、Ｐｄ／Ｆｅ（ＮＯ３）３、
Ｐｄ／Ｎａ２ＣＯ３、Ｐｄ／Ｋ２ＣＯ３、Ｐｄ／ＫＨＣＯ３、Ｐｄ／ＫＮａＣＯ３、Ｐｄ／ＣａＣＯ３、Ｐｄ／ＳｒＣＯ３、Ｐｄ／ＢａＣＯ３、Ｐｄ／（ＮＨ４）２ＣＯ３、Ｐｄ／Ｎａ２ＷＯ４・２Ｈ２Ｏ、Ｐｄ／ＫＣＮ、
Ｐｄ／ＢＰＯ４、Ｐｄ／ＡｌＰＯ４、Ｐｄ／ＣｒＰＯ４、Ｐｄ／ＦｅＰＯ４、Ｐｄ／Ｃｕ３（ＰＯ４）２、Ｐｄ／Ｚｎ３（ＰＯ４）２、Ｐｄ／Ｍｇ３（ＰＯ４）２、Ｐｄ／Ｔｉ３（ＰＯ４）４、Ｐｄ／Ｚｒ３（ＰＯ４）４、Ｐｄ／Ｎｉ３（ＰＯ４）２、
Ｐｄ／ＡｇＣｌ、Ｐｄ／ＣｕＣｌ、Ｐｄ／ＣａＣｌ２、Ｐｄ／ＡｌＣｌ３、Ｐｄ／ＴｉＣｌ３、Ｐｄ／ＳｎＣｌ２、Ｐｄ／ＣａＦ２、Ｐｄ／ＢａＦ２、Ｐｄ／ＡｇＣｌＯ４、Ｐｄ／Ｍｇ（ＣｌＯ４）２
Ｐｄ／Ｚｅｏｌｉｔｅ、Ｐｄ／ＳｉＯ２−Ａｌ２Ｏ３、Ｐｄ／ＳｉＯ２−ＴｉＯ３、Ｐｄ／ＳｉＯ２−ＺｒＯ２、Ｐｄ／ＳｉＯ２−ＢｅＯ、Ｐｄ／ＳｉＯ２−ＭｇＯ、Ｐｄ／ＳｉＯ２−ＣａＯ、Ｐｄ／ＳｉＯ２−ＳｒＯ、Ｐｄ／ＳｉＯ２−ＢａＯ、Ｐｄ／ＳｉＯ２−ＺｎＯ、Ｐｄ／ＳｉＯ２−ＴｉＯ２、Ｐｄ／ＳｉＯ２−ＺｒＯ２、Ｐｄ／ＳｉＯ２−Ｇａ２Ｏ３、Ｐｄ／ＳｉＯ２−Ｙ２Ｏ３、Ｐｄ／ＳｉＯ２−Ｌａ２Ｏ３、Ｐｄ／ＳｉＯ２−ＭｏＯ３、Ｐｄ／ＳｉＯ２−ＷＯ３、Ｐｄ／ＳｉＯ２−Ｖ２Ｏ５、Ｐｄ／ＳｉＯ２−ＴｈＯ２、
Ｐｄ／Ａｌ２Ｏ３−ＭｇＯ、Ｐｄ／Ａｌ２Ｏ３−ＺｎＯ、Ｐｄ／Ａｌ２Ｏ３−ＣｄＯ、Ｐｄ／Ａｌ２Ｏ３−Ｂ２Ｏ３、Ｐｄ／Ａｌ２Ｏ３−ＴｈＯ２、Ｐｄ／Ａｌ２Ｏ３−ＴｉＯ２、Ｐｄ／Ａｌ２Ｏ３−ＺｒＯ２、Ｐｄ／Ａｌ２Ｏ３−Ｖ２Ｏ５、Ｐｄ／Ａｌ２Ｏ３−ＭｏＯ３、Ｐｄ／Ａｌ２Ｏ３−ＷＯ３、Ｐｄ／Ａｌ２Ｏ３−Ｃｒ２Ｏ３、Ｐｄ／Ａｌ２Ｏ３−Ｍｎ２Ｏ３、Ｐｄ／Ａｌ２Ｏ３−Ｆｅ２Ｏ３、Ｐｄ／Ａｌ２Ｏ３−Ｃｏ３Ｏ４、Ｐｄ／Ａｌ２Ｏ３−ＮｉＯ、
Ｐｄ／ＴｉＯ２−ＣｕＯ、Ｐｄ／ＴｉＯ２−ＭｇＯ、Ｐｄ／ＴｉＯ２−ＺｎＯ、Ｐｄ／ＴｉＯ２−ＣｄＯ、Ｐｄ／ＴｉＯ２−ＺｒＯ２、Ｐｄ／ＴｉＯ２−ＳｎＯ２、Ｐｄ／ＴｉＯ２−Ｂｉ２Ｏ３、Ｐｄ／ＴｉＯ２−Ｓｂ２Ｏ５、Ｐｄ／ＴｉＯ２−Ｖ２Ｏ５、Ｐｄ／ＴｉＯ２−Ｃｒ２Ｏ３、Ｐｄ／ＴｉＯ２−ＭｏＯ３、Ｐｄ／ＴｉＯ２−ＷＯ３、Ｐｄ／ＴｉＯ２−Ｍｎ２Ｏ３、Ｐｄ／ＴｉＯ２−Ｆｅ２Ｏ３、Ｐｄ／ＴｉＯ２−Ｃｏ３Ｏ４、Ｐｄ／ＴｉＯ２−ＮｉＯ、
Ｐｄ／ＺｒＯ２−ＣｄＯ、
Ｐｄ／ＺｎＯ−ＭｇＯ、Ｐｄ／ＺｎＯ−Ｆｅ２Ｏ３、
Ｐｄ／ＭｏＯ３−ＣｏＯ−Ａｌ２Ｏ３、Ｐｄ／ＭｏＯ３−ＮｉＯ−Ａｌ２Ｏ３、Ｐｄ／ＴｉＯ２−ＳｉＯ２−ＭｇＯ、Ｐｄ／ＭｏＯ３−Ａｌ２Ｏ３−ＭｇＯ、Ｐｄ／ｈｅｔｅｒｏｐｏｌｙ  ａｃｉｄｓ、
Ｐｔ／ＳｉＯ２、Ｐｔ／Ａｌ２Ｏ３、Ｐｔ／Ｚｅｏｌｉｔｅ、
Ｒｈ／Ａｌ２Ｏ３等が挙げられる。
【００６０】
続いて、本発明における触媒成分として用いられる光学活性環状含窒素化合物について説明する。
光学活性環状含窒素化合物としては、例えば、一般式（１）で表される光学活性環状含窒素化合物があげられる。
【００６１】
【化９】
2010140636.tif 000010
【００６２】
（式（１）中、環Ａは３〜７員環で、置換基を有していてもよく、炭素、窒素、硫黄、酸素、及び燐からなる群より選ばれる少なくとも一種の原子を含み、該原子から構成されることが好ましい。環Ａは縮環構造となっていてもよい。
Ｒ１及びＲ２は、それぞれ独立して、水素原子、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有していてもよいシクロアルキル基、置換基を有してもよいアルケニル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいアラルキル基、置換基を有していてもよいアルコキシ基、置換基を有していてもよいカルボキシル基、置換基を有していてもよいアルコキシカルボニル基、置換基を有していてもよいアミド基、置換基を有していてもよいシロキシ基、置換基を有していてもよい芳香族複素環基、又は置換基を有していてもよい脂肪族複素環基を表す。ただしＲ１とＲ２は同じ置換基になることはない。また、Ｒ１又はＲ２の一方が環Ａと結合しさらに環を形成していてもよい。＊は不斉炭素原子を表す。）
【００６３】
環Ａは、基本骨格としては、例えば、アジリジン骨格、アゼチジン骨格、ピロリジン骨格、ピロリン骨格、ピラゾリジン骨格、イミダゾリジン骨格、イミダゾリジノン骨格、ピラゾリン骨格、チアゾリジン骨格、ピペリジン骨格、ピペラジン骨格、モルホリン骨格、チオモルホリン骨格等が挙げられる。これらの基本骨格に置換基が存在していてもよい。
環Ａが、ベンゼン環などにより縮環構造となる場合の基本骨格としては、例えば、インドリン骨格、ジヒドロキノキサリン骨格、テトラヒドロイソキノリン骨格、ジヒドロキノキサリノン骨格等が挙げられる。これらの基本骨格に置換基が存在していてもよい。
【００６４】
置換基としては、水酸基、オキソ基、ハロゲン基、アルキル基、アルコキシ基、アミノ基、アルコキシカルボニル基、アシル基、アリール基、アラルキル基、芳香族複素環基、脂肪族複素環基が挙げられる。アルキル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アリール基、アラルキル基、芳香族複素環基、及び脂肪族複素環基としては、Ｒ１及びＲ２の説明で列挙する基が挙げられる。ハロゲン原子としては、例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子等が挙げられる。アシル基としては、例えば、アセチル基、プロパノイル基、ブタノイル基、オクタノイル基、ベンゾイル基、トルオイル基、キシロイル基、ナフトイル基、フェナンスロイル基、アントラノイル基等が挙げられる。
【００６５】
環Ａ及び縮環した環Ａとしては、これらの中でも、置換基を有してもよいピロリジン骨格、置換基を有してもよいイミダゾリジノン骨格、及び置換基を有してもよいジヒドロキノキサリノン骨格類が好ましい。
環Ａ及び縮環した環Ａの置換基の好ましい例としては、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアラルキル基、置換基を有していてもよい芳香族複素環基が挙げられる。
【００６６】
次に、Ｒ１及びＲ２で表される基である、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基、アルコキシ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アミド基、シロキシ基、芳香族複素環基、脂肪族複素環基について説明する。これらの基はいずれも置換基を有していてもよい。
【００６７】
アルキル基としては、鎖状又は分岐状の例えば炭素数１〜３０、好ましくは炭素数１〜１０のアルキル基が挙げられ、具体的にはメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、２−ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、２−ペンチル基、３−ペンチル基、ｔｅｒｔ−ペンチル基、２−メチルブチル基、３−メチルブチル基、２，２−ジメチルプロピル基、１，２−ジメチルプロピル基、ｎ−ヘキシル基、２−ヘキシル基、３−ヘキシル基、２−メチルペンチル基、３−メチルペンチル基、４−メチルペンチル基、１，１−ジメチルブチル基、１，２−ジメチルブチル基、１，３−ジメチルブチル基、２，２−ジメチルブチル基、２，３−ジメチルブチル基、３，３−ジメチルブチル基、２−エチルブチル基、１，１，２−トリメチルプロピル基、１，２，２−トリメチルプロピル基、１−エチル−１−メチルプロピル基、１−エチル−２−メチルプロピル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、オクタデシル基、ノナデシル基、イコシル基、ヘンイコシル基及びドコシル基等が挙げられる。
【００６８】
また、これらアルキル基は置換基を有していてもよく、該アルキル基の置換基としては、例えばアルケニル基、アルキニル基、アリール基、脂肪族複素環基、芳香族複素環基、アルコキシ基、トリアルキルシロキシ基、アルキレンジオキシ基、アリールオキシ基、アラルキルオキシ基、ヘテロアリールオキシ基、置換アミノ基、ハロゲン化アルキル基、シクロアルキル基、水酸基及びハロゲン原子等が挙げられる。
【００６９】
アルキル基の置換基としてのアルケニル基としては、直鎖状でも分岐状でもよい、例えば炭素数２〜２０、好ましくは炭素数２〜１０、より好ましくは炭素数２〜６のアルケニル基が挙げられ、具体的にはビニル基、プロペニル基、１−ブテニル基、ペンテニル基及びヘキセニル基等が挙げられる。
【００７０】
アルキル基に置換するアルキニル基としては、直鎖状でも分岐状でもよい、例えば炭素数２〜１５、好ましくは炭素数２〜１０、より好ましくは炭素数２〜６のアルキニル基が挙げられ、具体的にはエチニル基、１−プロピニル基、２−プロピニル基、１−ブチニル基、３−ブチニル基、ペンチニル基及びヘキシニル基等が挙げられる。
【００７１】
アルキル基の置換基としてのアリール基としては、例えば炭素数６〜２０のアリール基が挙げられ、具体的にはフェニル基、トリル基、イソプロピルフェニル基、キシリル基、ｔ−ブチルフェニル基、シクロヘキシル基、１−メチルシクロヘキシル基、アダマンチルフェニル基、トリフロロメチルフェニル基、ナフチル基、アントラニル基、フェナンスリル基、ビフェニル基、４−（２’−ｐ−トリルプロピル）フェニル基、メシチル基、メトキシフェニル基、ジメトキシフェニル基、４−（３’，４’，５’，６’，７’，８’，９’，１０’−ヘプタデカフロロデシル）フェニル基及びフルオロフェニル基等が挙げられる。
【００７２】
アルキル基の置換基としての脂肪族複素環基としては、例えば炭素数２〜１４であり、異種原子として少なくとも１個、好ましくは１〜３個の例えば窒素原子、酸素原子、又は硫黄原子等のヘテロ原子を含んでいる基があげられる。好ましくは、５又は６員の単環の脂肪族複素環基、及び多環又は縮合環の脂肪族複素環基が挙げられる。脂肪族複素環基の具体例としては、例えば、２−オキソ−１−ピロリジニル基、ピペリジノ基、ピペラジニル基、モルホリノ基、テトラヒドロフリル基、テトラヒドロピラニル基及びテトラヒドロチエニル基等が挙げられる。
【００７３】
アルキル基の置換基としての芳香族複素環基としては、例えば炭素数２〜１５であり、異種原子として少なくとも１個、好ましくは１〜３個の窒素原子、酸素原子、又は硫黄原子等の異種原子を含んでいる基があげられる。好ましくは、５又は６員の単環の芳香族複素環基、及び多環又は縮合環の芳香族複素環基が挙げられる。芳香族複素環基の具体例としては、例えば、フリル基、メチルフリル基、チエニル基、ピリジル基、ピリミジニル基、ピラジニル基、ピリダジニル基、ピラゾリニル基、イミダゾリル基、オキサゾリニル基、チアゾリニル基、ベンゾフリル基、ベンゾチエニル基、キノリル基、イソキノリル基、キノキサリニル基、フタラジニル基、キナゾリニル基、ナフチリジニル基、シンノリニル基、ベンゾイミダゾリル基、ベンゾオキサゾリル基及びベンゾチアゾリル基等が挙げられる。
【００７４】
アルキル基の置換基としてのアルコキシ基としては、直鎖状又は分岐状の、例えば炭素数１〜８のアルコキシ基が挙げられ、具体的にはメトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、２−ブトキシ基、イソブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、ｎ−ペンチロキシ基、２−メチルブトキシ基、３−メチルブトキシ基、２，２−ジメチルプロポキシ基、ｎ−ヘキシロキシ基、２−メチルペンチロキシ基、３−メチルペンチロキシ基、４−メチルペンチロキシ基、５−メチルペンチロキシ基、シクロペンチロキシ基及びシクロヘキシロキシ基等が挙げられる。
【００７５】
アルキル基の置換基としてのトリアルキルシロキシ基としては、例えばトリメチルシロキシ基、トリエチルシロキシ基、ジメチルｔｅｒｔ−ブチルシロキシ基等が挙げられる。
【００７６】
アルキル基の置換基としてのアルキレンジオキシ基としては、例えば炭素数１〜３のアルキレンジオキシ基が挙げられ、具体的にはメチレンジオキシ基、エチレンジオキシ基、プロピレンジオキシ基及びイソプロピリデンジオキシ基等が挙げられる。
【００７７】
アルキル基の置換基としてのアリールオキシ基としては、例えば炭素数６〜１５のアリールオキシ基が挙げられ、具体的にはフェノキシ基、ナフチロキシ基、アンスリロキシ基、トリルオキシ基、キシリルオキシ基、４−フェニルフェノキシ基、３，５−ジフェニルフェノキシ基、４−メシチルフェノキシ基及び３，５−ビス（トリフロロメチル）フェノキシ基等が挙げられる。
【００７８】
アルキル基の置換基としてのアラルキルオキシ基としては、例えば炭素数７〜１２のアラルキルオキシ基が挙げられ、具体的にはベンジロキシ基、２−フェニルエトキシ基、１−フェニルプロポキシ基、２−フェニルプロポキシ基、３−フェニルプロポキシ基、１−フェニルブトキシ基、２−フェニルブトキシ基、３−フェニルブトキシ基、４−フェニルブトキシ基、１−フェニルペンチロキシ基、２−フェニルペンチロキシ基、３−フェニルペンチロキシ基、４−フェニルペンチロキシ基、５−フェニルペンチロキシ基、１−フェニルヘキシロキシ基、２−フェニルヘキシロキシ基、３−フェニルヘキシロキシ基、４−フェニルヘキシロキシ基、５−フェニルヘキシロキシ基及び６−フェニルヘキシロキシ基等が挙げられる。
【００７９】
アルキル基の置換基としてのヘテロアリールオキシ基としては、例えば、異種原子として少なくとも１個、好ましくは１〜３個の窒素原子、酸素原子、硫黄原子等の異種原子を含んでいる、炭素数２〜１４のヘテロアリールオキシ基が挙げられ、具体的には、２−ピリジルオキシ基、２−ピラジルオキシ基、２−ピリミジルオキシ基及び２−キノリルオキシ基等が挙げられる。
【００８０】
アルキル基の置換基としての置換アミノ基としては、例えば、Ｎ−メチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルアミノ基、Ｎ−シクロヘキシルアミノ基、ピロリジル基、ピペリジル基及びモルホリル基等のモノ又はジアルキルアミノ基；Ｎ−フェニルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジフェニルアミノ基、Ｎ−ナフチルアミノ基、Ｎ−ナフチル−Ｎ−フェニルアミノ基等のモノ又はジアリールアミノ基；Ｎ−ベンジルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジベンジルアミノ基等のモノ又はジアラルキルアミノ基等が挙げられる。
【００８１】
アルキル基に置換するハロゲン化アルキル基としては、パーハロゲノアルキル基が好ましく、例えば、トリフロロメチル基、ペンタフロロエチル基、ヘプタフロロプロピル基、ウンデカフロロペンチル基、ヘプタデカフロロオクチル基、ウンデカフロロシクロヘキシル基、ジクロロメチル基等が挙げられる。
アルキル基に置換するシクロアルキル基としては、例えばシクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基及びシクロヘキシル基等が挙げられる。
【００８２】
アルキル基に置換するハロゲン原子としては、例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子等が挙げられる。
【００８３】
シクロアルキル基としては、例えばシクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基及びシクロヘキシル基等が挙げられる。
これらシクロアルキル基は置換基を有していてもよく、該置換基としては、前記のアルキル基の置換基の説明で述べたような置換基が挙げられる。
【００８４】
アルケニル基としては、鎖状又分岐状あるいは環状の、例えば炭素数２〜２０、好ましくは炭素数２〜１０のアルケニル基が挙げられる。具体的なアルケニル基としては、例えばビニル基、１−プロペニル基、２−プロペニル基、１−ブテニル基、２−ブテニル基、３−ブテニル基、１−ペンテニル基、２−ペンテニル基、３−ペンテニル基、４−ペンテニル基、１−シクロペンテニル基、３−シクロペンテニル基、１−ヘキセニル基、２−ヘキセニル基、３−ヘキセニル基、４−ヘキセニル基、５−ヘキセニル基、４−メチル−３−ペンテニル基、４，８−ジメチル−３，７−ノナジエニル基、１−シクロヘキセニル基及び３−シクロヘキセニル基等が挙げられる。
これらアルケニル基は置換基を有していてもよく、該置換基としては、前記のアルキル基の置換基の説明で述べたような基が挙げられる。
【００８５】
アリール基としては、例えば炭素数６〜２０のアリール基が挙げられ、具体的にはフェニル基、トリル基、イソプロピルフェニル基、キシリル基、ｔ−ブチルフェニル基、シクロヘキシル基、１−メチルシクロヘキシル基、アダマンチルフェニル基、トリフロロメチルフェニル基、ナフチル基、アントラニル基、フェナンスリル基、ビフェニル基、４−（２’−ｐ−トリルプロピル）フェニル基、メシチル基、メトキシフェニル基、ジメトキシフェニル基、４−（３’，４’，５’，６’，７’，８’，９’，１０’−ヘプタデカフロロデシル）フェニル基及びフルオロフェニル基等が挙げられる。
これらアリール基は置換基を有していてもよく、該置換基としてはアルキル基の置換基の説明で述べたような基が挙げられる。
【００８６】
アラルキル基としては、例えば炭素数７〜４５のアラルキル基が好ましく、具体的にはベンジル基、トリルメチル基、キシリルメチル基、メシチルメチル基、４−フェニルフェニルメチル基、３−フェニルフェニルメチル基、２−フェニルフェニルメチル基、４−メシチルフェニルメチル基、１−ナフチルメチル基、２−ナフチルメチル基、９−アントラニルメチル基、９−フェナントリルメチル基、３，５−ジフェニルフェニルメチル基、２−フェニルエチル基、１−フェニルプロピル基、３−ナフチルプロピル基、ジフェニルメチル基、ジトリルメチル基、ジキシリルメチル基、ジメシチルメチル基、ジ（４−フェニルフェニル）メチル基、ジ（３−フェニルフェニル）メチル基、ジ（２−フェニルフェニル）メチル基、ジ（４−メシチルフェニル）メチル基、ジ１−ナフチルメチル基、ジ２−ナフチルメチル基、ジ９−アントラニルメチル基、ジ９−フェナントリルメチル基、ビス（３，５−ジフェニルフェニル）メチル基、トリフェニルメチル基、トリトリルメチル基、トリキシリルメチル基、トリメシチルメチル基、トリ（４−フェニルフェニル）メチル基、トリ（３−フェニルフェニル）メチル基、トリ（２−フェニルフェニル）メチル基、トリ（４−メシチルフェニル）メチル基、トリ１−ナフチルメチル基、トリ２−ナフチルメチル基、トリ９−アントラニルメチル基、トリ９−フェナントリルメチル基、トリス（３，５−ジフェニルフェニル）メチル基、トリメチルシロキシフェニルメチル基、トリメチルシロキシジフェニルメチル基、トリメチルシロキシジトリルメチル基、トリメチルシロキシジ（４−ｔ−ブチルフェニル）メチル基、トリメチルシロキシジキシリルメチル基、トリメチルシロキシジ（２−フェニルフェニル）メチル基、トリメチルシロキシジ（３−フェニルフェニル）メチル基、トリメチルシロキシジ（４−フェニルフェニル）メチル基、トリメチルシロキシビス（３，５−ジフェニルフェニル）メチル基、トリメチルシロキシジ（４−メシチルフェニル）メチル基及びトリメチルシロキシビス（３，５−ジトリフロロメチルフェニル）メチル基等が挙げられる。
これらアラルキル基は置換基を有していてもよく、該置換基としてはアルキル基の説明で述べたような基が挙げられる。
【００８７】
アルコキシ基としては、たとえば炭素数１〜３０のアルコキシ基が好ましく、具体的にはメトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、２−ブトキシ基、イソブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、ｎ−ペンチロキシ基、２−メチルブトキシ基、３−メチルブトキシ基、２，２−ジメチルプロポキシ基、ｎ−ヘキシロキシ基、２−メチルペンチロキシ基、３−メチルペンチロキシ基、４−メチルペンチロキシ基、５−メチルペンチロキシ基、シクロペンチロキシ基、シクロヘキシロキシ基、ジシクロペンチルメトキシ基、ジシクロヘキシルメトキシ基、トリシクロペンチルメトキシ基、トリシクロヘキシルメトキシ基、フェニルメトキシ基、ジフェニルメトキシ基及びトリフェニルメトキシ基等が挙げられる。
これらアルコキシ基は置換基を有していてもよく、該置換基としてはアルキル基の説明で述べたような基が挙げられる。
【００８８】
カルボキシル基としては、例えば炭素数１〜３０のカルボキシル基が好ましく、具体的にはアセトキシ基、ｎ−プロパノイロキシ基、イソプロパノイロキシ基、ｎ−ブタノイロキシ基、２−ブタノイロキシ基、イソブタノイロキシ基、ｔｅｒｔ−ブタノイロキシ基、ｎ−ペンタノイロキシ基、２−メチルブタノイロキシ基、３−メチルブタノイロキシ基、２，２−ジメチルプロパノイロキシ基、ｎ−ヘキサノイロキシ基、２−メチルペンタノイロキシ基、３−メチルペンタノイロキシ基、４−メチルペンタノイロキシ基、５−メチルペンタノイロキシ基、シクロペンタノイロキシ基、シクロヘキサノイロキシ基、ジシクロペンチルアセトキシ基、ジシクロヘキシルアセトキシ基、トリシクロペンチルアセトキシ基、トリシクロヘキシルアセトキシ基、フェニルアセトキシ基、ジフェニルアセトキシ基、トリフェニルアセトキシ基、ベンゾイロキシ基、ナフトイロキシ基等が挙げられる。
これらカルボキシ基は置換基を有していてもよく、該置換基としてはアルキル基の説明で述べたような基が挙げられる。
【００８９】
アルコキシカルボニル基としては、たとえば炭素数１〜３０のアルコキシカルボニル基が好ましく、具体的にはメトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｎ−プロポキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ｎ−ブトキシカルボニル基、２−ブトキシカルボニル基、イソブトキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、ｎ−ペンチロキシカルボニル基、２−メチルブトキシカルボニル基、３−メチルブトキシカルボニル基、２，２−ジメチルプロポキシカルボニル基、ｎ−ヘキシロキシカルボニル基、２−メチルペンチロキシカルボニル基、３−メチルペンチロキシカルボニル基、４−メチルペンチロキシカルボニル基、５−メチルペンチロキシカルボニル基、シクロペンチロキシカルボニル基、シクロヘキシロキシカルボニル基、ジシクロペンチルメトキシカルボニル基、ジシクロヘキシルメトキシカルボニル基、トリシクロペンチルメトキシカルボニル基、トリシクロヘキシルメトキシカルボニル基、フェニルメトキシカルボニル基、ジフェニルメトキシカルボニル基及びトリフェニルメトキシカルボニル基等が挙げられる。
これらアルコキシカルボニル基は置換基を有していてもよく、該置換基としてはアルキル基の説明で述べたような基が挙げられる。
【００９０】
アミド基としては、例えば炭素数１〜３０のアミド基が好ましく具体的にはアセトアミド基、ｎ−プロピオンアミド基、イソプロピオンアミド基、ｎ−ブタナミド基、２−ブタナミド基、イソブタナミド基、ｔｅｒｔ−ブタナミド基、ｎ−ペンタナミド基、２−メチルブタナミド基、３−メチルブタナミド基、２，２−ジメチルプロピオンアミド基、ｎ−ヘキサナミド基、２−メチルペンタナミド基、３−メチルペンタナミド基、４−メチルペンタナミド基、５−メチルペンタナミド基、シクロペンタナミド基、シクロヘキサナミド基、ジシクロペンチルアセトアミド基、ジシクロヘキシルアセトアミド基、トリシクロペンチルアセトアミド基、トリシクロヘキシルアセトアミド基、フェニルアセトアミド基、ジフェニルアセトアミド基、トリフェニルアセトアミド基、ベンズアミド基、ナフタレンアミド基等が挙げられる。
これらアミド基は置換基を有していてもよく、該置換基としてはアルキル基の説明で述べたような基が挙げられる。
【００９１】
シロキシ基としては、例えばトリメチルシロキシ基、トリエチルシロキシ基、ジメチルｔｅｒｔ−ブチルシロキシ基等があげられる。
これらシロキシ基は置換基を有していてもよく、該置換基としてはアルキル基の説明で述べたような基が挙げられる。
【００９２】
芳香族複素環基としては、例えば炭素数２〜１５であり、異種原子として少なくとも１個、好ましくは１〜３個の窒素原子、酸素原子、又は硫黄原子等の異種原子を含んでいる基があげられる。好ましくは、５又は６員の単環の芳香族複素環基、及び多環又は縮合環の芳香族複素環基が挙げられる。芳香族複素環基の具体例としては、例えば、フリル基、メチルフリル基、チエニル基、ピリジル基、ピリミジニル基、ピラジニル基、ピリダジニル基、ピラゾリニル基、イミダゾリル基、オキサゾリニル基、チアゾリニル基、ベンゾフリル基、ベンゾチエニル基、キノリル基、イソキノリル基、キノキサリニル基、フタラジニル基、キナゾリニル基、ナフチリジニル基、シンノリニル基、ベンゾイミダゾリル基、ベンゾオキサゾリル基及びベンゾチアゾリル基等が挙げられる。
これら芳香族複素環基は置換基を有していてもよく、該置換基としてはアルキル基の説明で述べたような基が挙げられる。
【００９３】
脂肪族複素環基としては、例えば炭素数２〜１４であり、異種原子として少なくとも１個、好ましくは１〜３個の例えば窒素原子、酸素原子、又は硫黄原子等のヘテロ原子を含んでいる基があげられる。好ましくは、５又は６員の単環の脂肪族複素環基、及び多環又は縮合環の脂肪族複素環基が挙げられる。脂肪族複素環基の具体例としては、例えば、２−オキソ−１−ピロリジニル基、ピペリジノ基、ピペラジニル基、モルホリノ基、テトラヒドロフリル基、テトラヒドロピラニル基及びテトラヒドロチエニル基等が挙げられる。
これら脂肪族複素環基は置換基を有していてもよく、該置換基としてはアルキル基の説明で述べたような基が挙げられる。
【００９４】
Ｒ１及びＲ２で表される基の好ましい例としては、水素、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアラルキル基が挙げられる。
なお、本発明の光学活性環状窒素化合物としては、アミノ酸は該当しない。
【００９５】
具体的な光学活性環状含窒素化合物としては、例えば以下のような化合物が挙げられる。
以下化合物中、Ｍｅはメチル基、Ｐｈはフェニル基、Ｂｕはブチル基、Ｂｎはベンジル基、Ｅｔはエチル基、ＴＭＳはトリメチルシリル基、ｐｏｌｙｍｅｒはポリマー鎖を表す。
【００９６】
【化１０】
2010140636.tif 000011
【００９７】
【化１１】
2010140636.tif 000012
【００９８】
【化１２】
2010140636.tif 000013
【００９９】
【化１３】
2010140636.tif 000014
【０１００】
【化１４】
2010140636.tif 000015
【０１０１】
【化１５】
2010140636.tif 000016
【０１０２】
【化１６】
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【０１０３】
【化１７】
2010140636.tif 000018
【０１０４】
【化１８】
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【０１０５】
【化１９】
2010140636.tif 000020
【０１０６】
【化２０】
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【０１０７】
【化２１】
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【０１０８】
【化２２】
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【０１０９】
【化２３】
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【０１１０】
【化２４】
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【０１１１】
【化２５】
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【０１１２】
【化２６】
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【０１１３】
【化２７】
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【０１１４】
【化２８】
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【０１１５】
【化２９】
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【０１１６】
【化３０】
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【０１１７】
【化３１】
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【０１１８】
【化３２】
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【０１１９】
【化３３】
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【０１２０】
【化３４】
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【０１２１】
【化３５】
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【０１２２】
【化３６】
2010140636.tif 000037
【０１２３】
本発明で使用する光学活性環状含窒素化合物は、市販品を使用することができ、また合成することもできる。光学活性環状含窒素化合物のうち、光学活性ジアリールメチルピロリジン化合物の製造方法について説明する。
光学活性ジアリールメチルピロリジン化合物は、例えば、Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ  １９９３，４９，５１２７−５１３２、及びＴｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ：Ａｓｙｍｍｅｔｒｙ  １９９７，８，１４９−１５３に記載されている方法に従って合成することができる。該方法は、以下のＳｃｈｅｍｅ１で表すことができる。
【０１２４】
【化３７】
2010140636.tif 000038
【０１２５】
Ｓｃｈｅｍｅ１中、化合物５は、Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ  １９９３，４９，５１２７−５１３２に記載されている方法に従って合成することができる。
化合物５の合成は、（Ｒ）−又は（Ｓ）−プロリン（化合物４）と一般式Ｍ２ＣＯ３で表されるアルカリ金属化合物とを一般式Ｒ８ＯＨで表されるアルコール化合物に溶解した溶液に、一般式ＣｌＣＯ２Ｒ７で表されるクロロ炭酸エステル化合物を０〜３０℃の範囲で滴下して行うことができる。溶媒の使用量は、基質である（Ｒ）−又は（Ｓ）−プロリンの重量（ｇ）に対して例えば１０〜３０倍容量（ｍｌ）〔ｍｌ／ｇ〕、好ましくは１５〜２５倍容量（ｍｌ）〔ｍｌ／ｇ〕である。
上記のようにして得られた化合物５は、例えば抽出、再結晶、各種クロマトグラフィー等の通常用いられる操作により、単離精製を行うことができる。
【０１２６】
一般式ＣｌＣＯ２Ｒ７で表されるクロロ炭酸エステル化合物において、Ｒ７で表される基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基等の炭素数１〜８のアルキル基；シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基等の炭素数１〜８の環状アルキル基；ベンジル基、ｐ−メチルベンジル基等の炭素数７〜１０のアラルキル基等が挙げられる。
一般式Ｍ２ＣＯ３で表されるアルカリ金属化合物において、Ｍで表される金属としては、リチウム、ナトリウム、カリウム、セシウム等が挙げられる。
一般式Ｒ８ＯＨで表されるアルコール化合物において、Ｒ８で表される基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基等の炭素数１〜８のアルキル基；シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基等の炭素数１〜８の環状アルキル基；ベンジル基、ｐ−メチルベンジル基等の炭素数７〜１０のアラルキル基等が挙げられる。
【０１２７】
化合物６は、Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ：Ａｓｙｍｍｅｔｒｙ  １９９７，８，１４９−１５３に記載されている方法に従って合成することができる。
化合物６の合成は、化合物５のＴＨＦ等のエーテル溶液に、一般式ＡｒＭｇＸで表されるグリニヤ化合物のＴＨＦ等のエーテル溶液を不活性気体雰囲気下、−５〜２０℃で滴下し、反応温度を最終的に７０℃程度にまで上げ３〜６時間の範囲で保持して行われる。溶媒の使用量は、基質である化合物５の重量（ｇ）に対して例えば１〜１０倍容量（ｍｌ）〔ｍｌ／ｇ〕、好ましくは２〜３倍容量（ｍｌ）〔ｍｌ／ｇ〕である。
上記のようにして得られた化合物６は、例えば抽出、再結晶、各種クロマトグラフィー等の通常用いられる操作により、単離精製を行うことができる。
【０１２８】
一般式ＡｒＭｇＸで表されるグリニヤ化合物において、Ａｒで表されるアリール基としては、例えば炭素数６〜２０の置換基を有していても良いアリール基が挙げられる。
アリール基の具体例としては、光学活性環状含窒素化合物のＲ１及びＲ２の説明で列挙するアリール基が挙げられる。
アリール基に置換する置換基の具体例としては、光学活性環状含窒素化合物のＲ１及びＲ２の説明で列挙するアルキル基の置換基の説明で述べたような基が挙げられる。  
アリール基としては、例えばフェニル基、トリル基、イソプロピルフェニル基、キシリル基、ｔ−ブチルフェニル基、シクロヘキシル基、１−メチルシクロヘキシル基、アダマンチルフェニル基、トリフロロメチルフェニル基、ナフチル基、アントラニル基、フェナンスリル基、ビフェニル基、４−（２’−ｐ−トリルプロピル）フェニル基等が挙げられる。
一般式ＡｒＭｇＸで表されるグリニヤ化合物において、Ｘで表されるハロゲン原子としては、例えば塩素、臭素、ヨウ素が挙げられる。
【０１２９】
化合物７で表される光学活性ジアリールメチルピロリジン化合物は、Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ：Ａｓｙｍｍｅｔｒｙ  １９９７，８，１４９−１５３に記載されている方法に従って合成することができる。
化合物７の合成は、化合物６を、化合物６に対して０．１〜４０重量％のパラジウム触媒存在下、Ｒ８ＯＨで表されるアルコール溶媒、ＴＨＦ、またはこれらの混合溶媒中、２０〜８０℃で０．１ＭＰａ〜１ＭＰａ程度の水素雰囲気下で１日〜１０日、脱ベンジル化をすることによって行われる。溶媒の使用量は、基質である化合物６の重量（ｇ）に対して、例えば５〜５０倍容量（ｍｌ）〔ｍｌ／ｇ〕、好ましくは２０〜４０倍容量（ｍｌ）〔ｍｌ/ｇ〕である。
上記のようにして得られた化合物７の光学活性ジアリールメチルピロリジン化合物は、例えば抽出、再結晶、各種クロマトグラフィー等の通常用いられる操作により、単離精製を行うことができる。
【０１３０】
一般式Ｐｄ  ｃａｔ．で表されるパラジウム触媒は、Ｐｄ／Ｃのような脱ベンジル触媒から選ばれる。
なおＳｃｈｅｍｅ１中、＊は不斉炭素原子を表す。
【０１３１】
更に、本発明においてはもう一つの触媒成分として酸を含む。
酸としては有機酸又は無機酸を用いることができるが、有機酸が好ましい。
【０１３２】
具体的な有機酸の例としては、酢酸、クロロ酢酸、ジフロロ酢酸、トリフロロ酢酸、トリクロロ酢酸、トリブロモ酢酸、安息香酸、２，４−ジニトロ安息香酸、パラトルエンスルホン酸、メタンスルホン酸、Ｌ−マンデル酸、Ｄ−マンデル酸及びトリフロロメタンスルホン酸等が挙げられる。
具体的な無機酸の例としては、弗酸、塩酸、臭酸、ヨウ酸、硫酸、過塩素酸、燐酸及び硝酸等が挙げられる。
【０１３３】
＜光学活性カルボニル化合物の製造方法＞
本発明では、前記した触媒の存在下に、α，β−不飽和カルボニル化合物を不斉水素化反応させることにより、光学活性アルデヒド又は光学活性ケトンのような光学活性カルボニル化合物が得られる。
【０１３４】
本発明の触媒の成分として用いられる金属粉末及び金属担持物の使用量は、種々の反応条件により異なるが、基質であるα，β−不飽和カルボニル化合物の重量に対して、金属粉末の全重量及び金属担持物の全重量が、例えば０．０１〜１０重量％であり、好ましくは０．１〜５重量％用いることができる。
【０１３５】
本発明の触媒の成分として用いられる光学活性環状含窒素化合物の使用量は、種々の反応条件により異なるが、基質であるα，β−不飽和カルボニル化合物に対して、例えば０．０１〜２０重量％であり、好ましくは０．１〜５重量％用いることができる。
【０１３６】
本発明の触媒の成分として用いられる酸の使用量は、種々の反応条件により異なるが、光学活性環状含窒素化合物に対して、例えば、０．０１〜１０倍モルであり、好ましくは０．２〜４倍モル用いることができる。
【０１３７】
本発明の触媒を用いてα，β−不飽和カルボニル化合物を不斉水素化し光学活性カルボニル化合物を製造する際には、溶媒の存在下又は非存在下で行うことができるが、溶媒存在下で行うことが好ましい。
【０１３８】
使用される具体的な溶媒としては、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素系有機溶媒；シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の脂環式炭化水素系有機溶媒；ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素系有機溶媒；ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジオキソランなどのエーテル系有機溶媒；水；メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ターシャリーブタノール等のアルコール系有機溶媒；ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロベンゼン、ブロモトルエン等のハロゲン化炭化水素系有機溶媒；ジメチルホルムアミド、アセトニトリル等が好ましく、必要に応じこれらの溶媒の混合溶媒を用いることもできる。これら溶媒の中でも、ヘプタン、トルエン、テトラヒドロフラン、ｔ−ブタノール、含水ｔ−ブタノールが特に好ましい。
溶媒の使用量は、反応条件等により適宜選択することができるが、基質であるα，β−不飽和カルボニル化合物の重量（ｇ）に対して例えば０〜２０倍容量（ｍｌ）〔（ｍｌ／ｇ）〕、好ましくは０〜５倍容量（ｍｌ）〔（ｍｌ／ｇ）〕である。
【０１３９】
本発明の方法は、水素ガスを水素源として行うが、その水素圧は、０．０１ＭＰａ〜１０ＭＰａであり、好ましくは０．１ＭＰａ〜１ＭＰａである。反応温度は、−７８〜１００℃であり、好ましくは１０〜７０℃である。反応時間は、反応条件により異なるが、通常１〜３０時間である。
【０１４０】
上記のようにして得られた光学活性カルボニル化合物は、例えば抽出、再結晶、各種クロマトグラフィー等の通常用いられる操作により、単離精製を行うことができる。また、得られる光学活性カルボニル化合物の立体配置は、光学活性環状含窒素化合物の立体配置を適宜選択することによって、ｄ体又はｌ体（Ｒ体又はＳ体）を製造することができる。
【実施例】
【０１４１】
以下、本発明を実施例及び比較例により具体的に説明するが、本発明はこれらにより何ら限定されるものではない。【０１４２】
生成物の測定は、ガスクロマトグラフィー法（ＧＬＣ）により行った。条件は以下に述べる通りである。
使用分析機器：島津製作所製Ｇ２０１０ガスクロマトグラフ
カラム：  転化率測定  Ａｇｉｌｅｎｔ社製ＤＢ−ＷＡＸ（０．２５ｍｍ ｘ ３０ｍ）、
光学純度  スペルコ社製β−ＤＥＸ−２２５（０．２５ｍｍ ｘ ３０ｍ）、
検出器：ＦＩＤ【０１４３】
光学活性環状含窒素化合物のうち、実施例４８〜５６及び５８〜６１で使用した化合物は下記方法により合成した。それ以外の実施例ではアルドリッチ社製の化合物を使用した。【０１４４】
（合成例１）
（Ｒ）−Ｐｒｏｌｉｎｅ−Ｎ−ｅｔｈｙｌ  ｃａｒｂａｍａｔｅ  ｍｅｔｈｙｌ  ｅｓｔｅｒの合成【０１４５】
【化３８】
2010140636.tif 000039
【０１４６】
Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ，Ｖｏｌ．４９，Ｎｏ．２３，５１２７−５１３２の合成法に従って行った。
２Ｌの四つ口フラスコに、（Ｒ）−プロリン３５．５４ｇ（０．３ｍｏｌ）、無水メタノール６００ｍｌ、炭酸カリウム４１．４６ｇを投入し攪拌した。氷冷下、クロロ炭酸エチル７１．６２ｇ（０．６６ｍｍｏｌ）を２５℃以下で滴下し、０℃で１２時間攪拌した。その後、メタノールを留去し水３００ｍｌを投入し、クロロホルム４５０ｍｌで抽出、さらに水層をクロロホルム４５０ｍｌで２回抽出した。得られた有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥、ろ過後溶媒を留去し、５２．８５ｇ、８７．５％の収率で目的物を得た。【０１４７】
（合成例２）
（Ｓ）−Ｐｒｏｌｉｎｅ−Ｎ−ｅｔｈｙｌ  ｃａｒｂａｍａｔｅ  ｍｅｔｈｙｌ  ｅｓｔｅｒの合成【０１４８】
【化３９】
2010140636.tif 000040
【０１４９】
Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ，Ｖｏｌ．４９，Ｎｏ．２３，５１２７−５１３２の合成法に従って行った。
１Ｌの四つ口フラスコに、（Ｓ）−プロリン２３．０３ｇ（０．２ｍｏｌ）、無水メタノール４００ｍｌ、炭酸カリウム２７．６４ｇを投入し攪拌した。氷冷下、クロロ炭酸エチル４７．７５ｇ（０．４４ｍｍｏｌ）を２５℃以下で滴下し、０℃で１２時間攪拌した。その後、メタノールを留去し水２００ｍｌを投入し、クロロホルム３００ｍｌで抽出、さらに水層をクロロホルム３００ｍｌで２回抽出した。得られた有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥、ろ過後溶媒を留去し、３５．８５ｇ、８９．１％の収率で目的物を得た。【０１５０】
（合成例３）
（Ｒ）−２−（ｂｉｓ−（４’−ｔ−ｂｕｔｙｌｐｈｅｎｙｌ）ｍｅｔｈｙｌ）ｐｙｒｒｏｌｉｄｉｎｅの合成（実施例４８〜５３の光学活性環状含窒素化合物の合成）【０１５１】
【化４０】
2010140636.tif 000041
【０１５２】
Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ：  Ａｓｙｍｍｅｔｒｙ，Ｖｏｌ．８，Ｎｏ．１，１４９−１５３の（Ｓ）−２−（ｄｉｐｈｅｎｙｌｍｅｔｈｙｌ）ｐｙｒｒｏｌｉｄｉｎｅの合成法に従って合成した。
窒素置換した１Ｌ反応フラスコに、窒素気流下、マグネシウム１２．５５ｇ（４６９ｍｍｏｌ）、無水ＴＨＦ５０ｍｌを投入し攪拌した。室温にて４−ｔ−ブチルフェニルブロモベンゼン１００ｇ（４６９ｍｍｏｌ）のＴＨＦ５００ｍｌ溶液を滴下し、室温で１時間攪拌した（グリニア化合物の合成）。
次に、上記溶液を５℃以下に冷却し、合成例１で得られた、（Ｒ）−Ｐｒｏｌｉｎｅ−Ｎ−ｅｔｈｙｌ  ｃａｒｂａｍａｔｅ  ｍｅｔｈｙｌ  ｅｓｔｅｒ  ４７．２ｇ（２３５ｍｍｏｌ）のＴＨＦ２００ｍｌ溶液を１０℃以下にて滴下して反応させた。その後、３時間加熱還流したのち冷却し、飽和アンモニウムクロライド水溶液５００ｍｌに反応液を投入し、抽出用トルエンを５００ｍｌ投入、１時間攪拌した。分液ろうとに移し、有機層を分離、水層をトルエン５００ｍｌで２回再抽出を行い、有機層を合わせて、飽和食塩水で２回洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を留去し、得られた結晶をトルエン１２００ｍｌにて加熱溶解した。冷却後、得られた結晶をろ過し、減圧下乾燥後、６５．８ｇの（５Ｒ）−［３，３，０］−１−ａｚａ−２−ｏｘｏ−３−ｏｘａ−４，４−ｂｉｓ−（４’−ｔ−ｂｕｔｙｌｐｈｅｎｙｌ）−ｂｉｃｙｃｌｏｏｃｔａｎｅを得た。
得られた（５Ｒ）−［３，３，０］−１−ａｚａ−２−ｏｘｏ−３−ｏｘａ−４，４−ｂｉｓ−（４’−ｔ−ｂｕｔｙｌｐｈｅｎｙｌ）−ｂｉｃｙｃｌｏｏｃｔａｎｅに、メタノール４６０ｍｌ、ＴＨＦ４６０ｍｌ、１０％Ｐｄ−Ｃ  ２．６３ｇを投入し攪拌、水素置換した。そのまま１０日間室温で反応した後、Ｐｄ−Ｃをろ過にて除去、濃縮を行い、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、無色結晶の目的物を４３．６ｇ，７４．３％の収率で得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＯＤ）：δ＝１．１０〜１．５０、ｍ、１９Ｈ  δ＝１．６０〜１．８５、ｍ、３Ｈ  δ＝２．６５〜２．８０、ｍ、１Ｈ  δ＝２．８０〜２．９５、ｍ、１Ｈ  δ＝３．６５、ｄ、１Ｈ  δ＝３．７０〜３．８５、ｍ、１Ｈ  δ＝７．１０〜７．３５、ｍ、８Ｈ【０１５３】
（合成例４）
（Ｓ）−２−（ｂｉｓ−（４’−ｔ−ｂｕｔｙｌｐｈｅｎｙｌ）ｍｅｔｈｙｌ）ｐｙｒｒｏｌｉｄｉｎｅの合成（実施例５４の光学活性環状含窒素化合物の合成）【０１５４】
【化４１】
2010140636.tif 000042
【０１５５】
Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ：  Ａｓｙｍｍｅｔｒｙ，Ｖｏｌ．８，Ｎｏ．１，１４９−１５３の（Ｓ）−２−（ｄｉｐｈｅｎｙｌｍｅｔｈｙｌ）ｐｙｒｒｏｌｉｄｉｎｅの合成法に従って合成した。
窒素置換した３００ｍｌ反応フラスコに、窒素気流下、マグネシウム２．５５ｇ（１０５ｍｍｏｌ）、無水ＴＨＦ５０ｍｌを投入し攪拌した。室温にて４−ｔ−ブチルフェニルブロモベンゼン２１．３１ｇ（１００ｍｍｏｌ）のＴＨＦ３０ｍｌ溶液を滴下し、室温で１時間攪拌した（グリニア化合物の合成）。
次に、上記溶液を５℃以下に冷却し、合成例２で得られた、（Ｓ）−Ｐｒｏｌｉｎｅ−Ｎ−ｅｔｈｙｌ  ｃａｒｂａｍａｔｅ  ｍｅｔｈｙｌ  ｅｓｔｅｒ  １０．０５ｇ（５０ｍｍｏｌ）を１０℃以下にて滴下して反応させた。その後、３時間加熱還流したのち冷却し、飽和アンモニウムクロライド水溶液１００ｍｌに反応液を投入し、抽出用トルエンを１００ｍｌ投入、１時間攪拌した。分液ろうとに移し、有機層を分離、水層をトルエン１００ｍｌで２回再抽出を行い、有機層を合わせて、飽和食塩水で２回洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を留去し、得られた結晶を酢酸エチル１４０ｍｌにて加熱溶解した。冷却後、得られた結晶をろ過し、減圧下乾燥後、９．１３ｇの（５Ｓ）−［３，３，０］−１−ａｚａ−２−ｏｘｏ−３−ｏｘａ−４，４−ｂｉｓ−（４’−ｔ−ｂｕｔｙｌｐｈｅｎｙｌ）−ｂｉｃｙｃｌｏｏｃｔａｎｅを得た。
得られた（５Ｓ）−［３，３，０］−１−ａｚａ−２−ｏｘｏ−３−ｏｘａ−４，４−ｂｉｓ−（４’−ｔ−ｂｕｔｙｌｐｈｅｎｙｌ）−ｂｉｃｙｃｌｏｏｃｔａｎｅに、メタノール１００ｍｌ、ＴＨＦ１００ｍｌ、１０％Ｐｄ−Ｃ  ３６５ｍｇを投入し攪拌、水素置換した。そのまま４日間室温で反応した後、Ｐｄ−Ｃをろ過にて除去、濃縮を行い、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、無色結晶の目的物を３．４８ｇ，１９．９３％の収率で得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＯＤ）：δ＝１．１０〜１．５０、ｍ、１９Ｈ  δ＝１．６０〜１．８５、ｍ、３Ｈ  δ＝２．６５〜２．８０、ｍ、１Ｈ  δ＝２．８０〜２．９５、ｍ、１Ｈ  δ＝３．６５、ｄ、１Ｈ  δ＝３．７０〜３．８５、ｍ、１Ｈ  δ＝７．１０〜７．３５、ｍ、８Ｈ【０１５６】
（合成例５）  
（Ｓ）−２−（ｂｉｓ−（４’−ｉ−ｐｒｏｐｙｌｐｈｅｎｙｌ）ｍｅｔｈｙｌ）ｐｙｒｒｏｌｉｄｉｎｅの合成（実施例５５の光学活性環状含窒素化合物の合成）【０１５７】
【化４２】
2010140636.tif 000043
【０１５８】
Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ：  Ａｓｙｍｍｅｔｒｙ，Ｖｏｌ．８，Ｎｏ．１，１４９−１５３の（Ｓ）−２−（ｄｉｐｈｅｎｙｌｍｅｔｈｙｌ）ｐｙｒｒｏｌｉｄｉｎｅの合成法に従って合成した。
窒素置換した３００ｍｌ反応フラスコに、窒素気流下、マグネシウム２．５５ｇ（１０５ｍｍｏｌ）、無水ＴＨＦ５０ｍｌを投入し攪拌した。室温にて４−ｉ−プロピルフェニルブロモベンゼン１９．９１ｇ（１００ｍｍｏｌ）のＴＨＦ３０ｍｌ溶液を滴下し、室温で１時間攪拌した（グリニア化合物の合成）。
次に、上記溶液を５℃以下に冷却し、合成例２で得られた、（Ｓ）−Ｐｒｏｌｉｎｅ−Ｎ−ｅｔｈｙｌ  ｃａｒｂａｍａｔｅ  ｍｅｔｈｙｌ  ｅｓｔｅｒ  １０．０５ｇ（５０ｍｍｏｌ）を１０℃以下にて滴下して反応させた。その後、３時間加熱還流したのち冷却し、飽和アンモニウムクロライド水溶液１００ｍｌに反応液を投入し、抽出用トルエンを１００ｍｌ投入、１時間攪拌した。分液ろうとに移し、有機層を分離、飽和食塩水で２回洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を留去し、１６．２２ｇの（５Ｓ）−［３，３，０］−１−ａｚａ−２−ｏｘｏ−３−ｏｘａ−４，４−ｂｉｓ−（４’−ｉ−ｐｒｏｐｙｌｐｈｅｎｙｌ）−ｂｉｃｙｃｌｏｏｃｔａｎｅを得た。
得られた（５Ｓ）−［３，３，０］−１−ａｚａ−２−ｏｘｏ−３−ｏｘａ−４，４−ｂｉｓ−（４’−ｉ−ｐｒｏｐｙｌｐｈｅｎｙｌ）−ｂｉｃｙｃｌｏｏｃｔａｎｅに、メタノール１００ｍｌ、ＴＨＦ５０ｍｌ、１０％Ｐｄ−Ｃ  ６５０ｍｇを投入し攪拌、水素置換した。そのまま４日間室温で反応したのち、Ｐｄ−Ｃをろ過にて除去、濃縮を行い、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、無色結晶の目的物を２．７１ｇ，１６．８６％の収率で得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＯＤ）：δ＝１．０５〜１．２０、ｍ、１２Ｈ  δ＝１．２０〜１．３５、ｍ、１Ｈ  δ＝１．６０〜１．８０、ｍ、３Ｈ  δ＝２．６５〜２．９５、ｍ、４Ｈ  δ＝３．６０、ｄ、１Ｈ  δ＝３．７０〜３．８５、ｍ、１Ｈ  δ＝７．００〜７．３０、ｍ、８Ｈ【０１５９】
（合成例６）
（Ｒ）−２−（ｂｉｓ−（４’−（１’’−Ｍｅｔｈｙｌｃｙｃｌｏｈｅｘｙｌ）ｐｈｅｎｙｌ）ｍｅｔｈｙｌ）ｐｙｒｒｏｌｉｄｉｎｅの合成（実施例５６の光学活性環状含窒素化合物の合成）【０１６０】
【化４３】
2010140636.tif 000044
【０１６１】
（１）１−Ｍｅｔｈｙｌｃｙｃｌｏｈｅｘｙｌｂｅｎｚｅｎｅの合成
硫酸２３１ｇ (２．３６ｍｏｌ)のベンゼン溶液２２５．６ｍｌ（２．５３ｍｏｌ）に、０℃にて１−メチル−１−シクロヘキセン７５．０ｍｌ（６３２ｍｍｏｌ）と ベンゼン５６．４ｍｌ（６３２ｍｍｏｌ）の混合溶液を１．５時間かけて滴下し、０℃にて１．５時間撹拌した。反応液に水３００ｍｌを加えてクエンチし、水層を分離した。得られた有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液１００ｍｌ、水１００ｍｌおよび飽和食塩水１００ｍｌで洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥剤をろ過後、ろ液を濃縮して粗１−メチルシクロヘキシルベンゼンを得た。得られた粗１−メチルシクロヘキシルベンゼンを減圧蒸留（１１０−１１３℃/１０ｍｍＨｇ）で精製し、４０．２ｇ の目的物を得た。収率３６．５％。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ＝１．２０、ｓ、３Ｈ  δ＝１．３０〜１．７０、ｍ、８Ｈ  δ＝１．９０〜２．１０、ｍ、２Ｈ  δ＝７．１０〜７．４０、ｍ、５Ｈ【０１６２】
（２）４−（１’−Ｍｅｔｈｙｌｃｙｃｌｏｈｅｘｙｌ）ｂｒｏｍｏｂｅｎｚｅｎｅの合成
上記（１）で得られた１−メチルシクロヘキシルベンゼン２０．０ｇ(１１５ｍｍｏｌ)に鉄２７９ｍｇ(５．００ｍｍｏｌ)およびヨウ素１９８ｍｇ(０．７８ｍｍｏｌ)を加え０℃にて臭素１７．８ｇ(１１１ｍｍｏｌ)を１．５時間かけてゆっくり滴下し、その温度で１．５時間、室温で２０時間撹拌した。反応液を冷却後、飽和亜硫酸ナトリウム水溶液３０ｍｌでクエンチし、ヘキサン５０ｍｌにて３回抽出した。合わせた有機層を亜硫酸ナトリウム水溶液３０ｍｌおよび水３０ｍｌで洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥剤をろ過後、溶媒を減圧回収して粗ブロミド２７．９ｇ を得た。得られた粗ブロミドを減圧蒸留（１１７−１２０℃/２ｍｍＨｇ）で精製し、収率 ８０．３％で目的物を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ＝１．１５、ｓ、３Ｈ  δ＝１．３０〜１．７０、ｍ、８Ｈ  δ＝１．９０〜２．１０、ｍ、２Ｈ  ２Ｈ  δ＝７．１５〜７．５０、ｍ、４Ｈ【０１６３】
（３）（Ｒ）−２−（ｂｉｓ−（４’−（１’’−Ｍｅｔｈｙｌｃｙｃｌｏｈｅｘｙｌ）ｐｈｅｎｙｌ）ｍｅｔｈｙｌ）ｐｙｒｒｏｌｉｄｉｎｅの合成
Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ：  Ａｓｙｍｍｅｔｒｙ，Ｖｏｌ．８，Ｎｏ．１，１４９−１５３の（Ｓ）−２−（ｄｉｐｈｅｎｙｌｍｅｔｈｙｌ）ｐｙｒｒｏｌｉｄｉｎｅの合成法に従って合成した。
窒素置換した１００ｍｌ反応フラスコに、窒素気流下、マグネシウム５３５ｍｇ（２２．０ｍｍｏｌ）、無水ＴＨＦ４ｍｌを投入し攪拌した。室温にて、上記（２）で得られた４−（１’−メチルシクロヘキシル）ブロモベンゼン５．０６ｇ（２０ｍｍｏｌ）のＴＨＦ２５ｍｌ溶液を滴下し、室温で１時間攪拌した（グリニア化合物の合成）。
次に、上記溶液を５℃以下に冷却し、合成例１で得られた（Ｒ）−Ｐｒｏｌｉｎｅ−Ｎ−ｅｔｈｙｌ  ｃａｒｂａｍａｔｅ  ｍｅｔｈｙｌ  ｅｓｔｅｒ２．０１ｇ（１０ｍｍｏｌ）のＴＨＦ１６ｍｌ溶液を１０℃以下にて滴下して反応させた。その後、３時間加熱還流したのち冷却し、飽和アンモニウムクロライド水溶液２５ｍｌに反応液を投入し、抽出用クロロホルムを５０ｍｌ投入、１時間攪拌した。分液ろうとに移し、有機層を分離、飽和食塩水で２回洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を留去し、４．７６ｇの濃縮物を得た。酢酸エチル中から再結晶し、２．３７ｇの（５Ｒ）−［３，３，０］−１−ａｚａ−２−ｏｘｏ−３−ｏｘａ−４，４−ｂｉｓ−（４’−（１’’−Ｍｅｔｈｙｌｃｙｃｌｏｈｅｘｙｌ）ｐｈｅｎｙｌ）−ｂｉｃｙｃｌｏｏｃｔａｎｅを得た。
得られた（５Ｒ）−［３，３，０］−１−ａｚａ−２−ｏｘｏ−３−ｏｘａ−４，４−ｂｉｓ−（４’−（１’’−Ｍｅｔｈｙｌｃｙｃｌｏｈｅｘｙｌ）ｐｈｅｎｙｌ）−ｂｉｃｙｃｌｏｏｃｔａｎｅに、メタノール３５ｍｌ、ＴＨＦ３５ｍｌ、１０％Ｐｄ−Ｃ  １．１０ｇを投入し攪拌、水素置換した。５０℃で７．５時間反応した後、Ｐｄ−Ｃをろ過にて除去、濃縮を行い、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、無色結晶の目的物を１．５０ｇ，３５．０％の収率で得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ＝１．１０〜１．２０、ｓ、６Ｈ  δ＝１．２５〜２．２０、ｍ、２４Ｈ  δ＝２．７０〜３．００、ｍ、２Ｈ  δ＝３．７０〜３．９５、ｍ、２Ｈ  δ＝７．１０〜７．４０、ｍ、８Ｈ【０１６４】
（合成例７）
（Ｒ）−２−（ｂｉｓ−（ｐ−１’−ａｄａｍａｎｔｙｌｐｈｅｎｙｌ）ｍｅｔｈｙｌ）ｐｙｒｒｏｌｉｄｉｎｅの合成（実施例５８の光学活性環状含窒素化合物の合成）【０１６５】
【化４４】
2010140636.tif 000045
【０１６６】
Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ：  Ａｓｙｍｍｅｔｒｙ，Ｖｏｌ．８，Ｎｏ．１，１４９−１５３の（Ｓ）−２−（ｄｉｐｈｅｎｙｌｍｅｔｈｙｌ）ｐｙｒｒｏｌｉｄｉｎｅの合成法に従って合成した。
窒素置換した２００ｍｌ反応フラスコに、窒素気流下、マグネシウム０．５９１ｇ（２４．３ｍｍｏｌ）、無水ＴＨＦ１０ｍｌを投入し攪拌した。室温にてｐ−１−アダマンチルフェニルクロロベンゼン５．００ｇ（２０．３ｍｍｏｌ）のＴＨＦ３０ｍｌ溶液を滴下し、室温で１時間攪拌した（グリニア化合物の合成）。
次に、上記溶液を５℃以下に冷却し、合成例１で得られた（Ｒ）−Ｐｒｏｌｉｎｅ−Ｎ−ｅｔｈｙｌ  ｃａｒｂａｍａｔｅ  ｍｅｔｈｙｌ  ｅｓｔｅｒ  ２．０４ｇ（１０．１ｍｍｏｌ）を１０℃以下にて滴下して反応させた。その後、３時間加熱還流したのち冷却し、飽和アンモニウムクロライド水溶液１００ｍｌに反応液を投入し、抽出用ＴＨＦを３００ｍｌ投入、１時間攪拌した。分液ろうとに移し、有機層を分離、飽和食塩水で１回洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を留去し、２．３７ｇの（５Ｒ）−［３，３，０］−１−ａｚａ−２−ｏｘｏ−３−ｏｘａ−４，４−ｂｉｓ−（ｐ−１’−ａｄａｍａｎｔｙｌｐｈｅｎｙｌ）−ｂｉｃｙｃｌｏｏｃｔａｎｅを得た。
得られた（５Ｒ）−［３，３，０］−１−ａｚａ−２−ｏｘｏ−３−ｏｘａ−４，４−ｂｉｓ−（ｐ−１’−ａｄａｍａｎｔｙｌｐｈｅｎｙｌ）−ｂｉｃｙｃｌｏｏｃｔａｎｅに、メタノール３６ｍｌ、ＴＨＦ３６ｍｌ、１０％Ｐｄ−Ｃ  １．１８ｇを投入し攪拌、水素置換した。５０〜６０℃で７０時間反応した後、Ｐｄ−Ｃをろ過にて除去、濃縮を行い、アルミナカラムクロマトグラフィーにて精製し、無色結晶の目的物を１．４５ｇ，３１．６％の収率で得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ＝１．４０〜２．２０、ｍ、３０Ｈ  δ＝２．６０〜２．８０、ｂｒ、１Ｈ  δ＝３．０５〜３．９０、ｍ、２Ｈ  δ＝４．１０〜４．９０、ｍ、２Ｈ  δ＝７．００〜７．５０、ｍ、８Ｈ【０１６７】
（合成例８）
（Ｒ）−２−（ｂｉｓ−（４’−（２’’−ｐ−ｔｏｌｙｌｐｒｏｐｙｌ）ｐｈｅｎｙｌ）ｍｅｔｈｙｌ）ｐｙｒｒｏｌｉｄｉｎｅの合成（実施例５９の光学活性環状窒素化合物の合成）【０１６８】
【化４５】
2010140636.tif 000046
【０１６９】
（１）４−（２’−ｐ−Ｔｏｌｙｌｐｒｏｐｙｌ）ｃｈｌｏｒｏｂｅｎｚｅｎｅの合成
硫酸４４．１ｇ(４５０ｍｍｏｌ)のトルエン溶液５９．９ｍｌ（４７０ｍｍｏｌ）に、０℃にてｐ−クロロメチルスチレン２１．５ｍｌ（１５０ｍｍｏｌ）と トルエン２０ｍｌ（２８０ｍｍｏｌ）の混合溶液を１時間かけて滴下し、０℃にて２．０時間撹拌した。反応液に水１００ｍｌを加えてクエンチし、水層を分離した。得られた有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液５０ｍｌおよび水５０ｍｌで洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥剤をろ過後、ろ液を濃縮して粗クロリドを得た。得られた粗クロリドを減圧蒸留（１２０−１３０℃/１ｍｍＨｇ）で精製し、３１．８ｇ の目的物を得た。収率８６．７％。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ＝１．８０、ｓ、６Ｈ  δ＝２．４５、ｓ、３Ｈ  δ＝７．２０〜７．４５、ｍ、８Ｈ【０１７０】
（２）（Ｒ）−２−（ｂｉｓ−（４’−（２’’−ｐ−ｔｏｌｙｌｐｒｏｐｙｌ）ｐｈｅｎｙｌ）ｍｅｔｈｙｌ）ｐｙｒｒｏｌｉｄｉｎｅの合成
Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ：  Ａｓｙｍｍｅｔｒｙ，Ｖｏｌ．８，Ｎｏ．１，１４９−１５３の（Ｓ）−２−（ｄｉｐｈｅｎｙｌｍｅｔｈｙｌ）ｐｙｒｒｏｌｉｄｉｎｅの合成法に従って合成した。
窒素置換した１００ｍｌ反応フラスコに、窒素気流下、マグネシウム５３５ｍｇ（２２．０ｍｍｏｌ）、無水ＴＨＦ４ｍｌを投入し攪拌した。室温にて、上記（１）で得られた４−（２’−ｐ−トリルプロピル）クロロベンゼン４．９０ｇ（２０ｍｍｏｌ）のＴＨＦ２０ｍｌ溶液を還流条件下でゆっくり滴下し、還流条件下で６時間攪拌した（グリニア化合物の合成）。
次に、上記溶液を５℃以下に冷却し、合成例１で得られた（Ｒ）−Ｐｒｏｌｉｎｅ−Ｎ−ｅｔｈｙｌ  ｃａｒｂａｍａｔｅ  ｍｅｔｈｙｌ  ｅｓｔｅｒ  ２．０１ｇ（１０ｍｍｏｌ）のＴＨＦ１６ｍｌ溶液を１０℃以下にて滴下し反応させた。その後、３時間加熱還流したのち冷却し、飽和アンモニウムクロライド水溶液２５ｍｌに反応液を投入し、抽出用クロロホルムを５０ｍｌ投入、１時間攪拌した。分液ろうとに移し、有機層を分離、飽和食塩水で２回洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を留去し、目的物を含む濃縮物を得た。ヘキサン/酢酸エチル混合溶媒中から再結晶し、２．９０ｇの（５Ｒ）−［３，３，０］−１−ａｚａ−２−ｏｘｏ−３−ｏｘａ−４，４−ｂｉｓ−（４’−（２’’−ｐ−ｔｏｌｙｌｐｒｏｐｙｌ）ｐｈｅｎｙｌ）−ｂｉｃｙｃｌｏｏｃｔａｎｅを得た。
得られた（５Ｒ）−［３，３，０］−１−ａｚａ−２−ｏｘｏ−３−ｏｘａ−４，４−ｂｉｓ−（４’−（２’’−ｐ−ｔｏｌｙｌｐｒｏｐｙｌ）ｐｈｅｎｙｌ）−ｂｉｃｙｃｌｏｏｃｔａｎｅに、メタノール２９ｍｌ、ＴＨＦ２９ｍｌ、１０％Ｐｄ−Ｃ  １．４５ｇを投入し攪拌、水素置換した。５０℃で１５時間反応した後、Ｐｄ−Ｃをろ過にて除去、濃縮を行い、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、無色結晶の目的物を１．８６ｇ，２４．７％の収率で得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ＝１．３０〜２．００、ｍ、４Ｈ  δ＝１．６０、ｓ、１２Ｈ  δ＝２．３０、ｓ、６Ｈ  δ＝２．７０〜３．００、ｍ、２Ｈ  δ＝３．７５〜３．９０、ｍ、２Ｈ  δ＝７．００〜７．３０、ｍ、１６Ｈ【０１７１】
（合成例９）
（Ｓ）−２−（ｂｉｓ−（４’−ｔｒｉｆｌｏｒｏｍｅｔｈｙｌｐｈｅｎｙｌ）ｍｅｔｈｙｌ）ｐｙｒｒｏｌｉｄｉｎｅの合成（実施例６０の光学活性環状窒素化合物の合成）【０１７２】
【化４６】
2010140636.tif 000047
【０１７３】
Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ：  Ａｓｙｍｍｅｔｒｙ，Ｖｏｌ．８，Ｎｏ．１，１４９−１５３の（Ｓ）−２−（ｄｉｐｈｅｎｙｌｍｅｔｈｙｌ）ｐｙｒｒｏｌｉｄｉｎｅの合成法に従って合成した。
窒素置換した３００ｍｌ反応フラスコに、窒素気流下、マグネシウム２．５５ｇ（１０５ｍｍｏｌ）、無水ＴＨＦ５０ｍｌを投入し攪拌した。室温にて４−トリフルオロメチルフェニルブロモベンゼン２２．５ｇ（１００ｍｍｏｌ）のＴＨＦ３０ｍｌ溶液を滴下し、室温で１時間攪拌した（グリニア化合物の合成）。
次に、上記溶液を５℃以下に冷却し、合成例２で得られた（Ｓ）−Ｐｒｏｌｉｎｅ−Ｎ−ｅｔｈｙｌ  ｃａｒｂａｍａｔｅ  ｍｅｔｈｙｌ  ｅｓｔｅｒ  １０．０５ｇ（５０ｍｍｏｌ）を１０℃以下にて滴下し反応させた。その後、３時間加熱還流したのち冷却し、飽和アンモニウムクロライド水溶液１００ｍｌに反応液を投入し、抽出用トルエンを１００ｍｌ投入、１時間攪拌した。分液ろうとに移し、有機層を分離、飽和食塩水で２回洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を留去し、１２．８７ｇの（５Ｓ）−［３，３，０］−１−ａｚａ−２−ｏｘｏ−３−ｏｘａ−４，４−ｂｉｓ−（４’−ｔｒｉｆｌｏｒｏｍｅｔｈｙｌｐｈｅｎｙｌ）−ｂｉｃｙｃｌｏｏｃｔａｎｅを得た。
得られた（５Ｓ）−［３，３，０］−１−ａｚａ−２−ｏｘｏ−３−ｏｘａ−４，４−ｂｉｓ−（４’−ｔｒｉｆｌｏｒｏｍｅｔｈｙｌｐｈｅｎｙｌ）−ｂｉｃｙｃｌｏｏｃｔａｎｅに、メタノール１３０ｍｌ、１０％Ｐｄ−Ｃ  ５１４ｍｇを投入し攪拌、水素置換した。そのまま４日間室温で反応した後、Ｐｄ−Ｃをろ過にて除去、濃縮を行い、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、淡黄色オイル状の目的物を６．７４ｇ，３６．１１％の収率で得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＯＤ）：δ＝１．２５〜１．５０、ｍ、１Ｈ  δ＝１．７０〜１．９５、ｍ、３Ｈ  δ＝２．８０〜２．９０、ｍ、１Ｈ  δ＝２．９０〜３．０５、ｍ、１Ｈ  δ＝３．９０〜４．０５、ｍ、１Ｈ  δ＝７．４５〜７．６５、ｍ、８Ｈ【０１７４】
（合成例１０）
（Ｓ）−２−（ｂｉｓ−（ｐ−ｂｉｐｈｅｎｙｌ）ｍｅｔｈｙｌ）ｐｙｒｒｏｌｉｄｉｎｅの合成（実施例６１の光学活性環状窒素化合物の合成）【０１７５】
【化４７】
2010140636.tif 000048
【０１７６】
Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ：  Ａｓｙｍｍｅｔｒｙ，Ｖｏｌ．８，Ｎｏ．１，１４９−１５３の（Ｓ）−２−（ｄｉｐｈｅｎｙｌｍｅｔｈｙｌ）ｐｙｒｒｏｌｉｄｉｎｅの合成法に従って合成した。
窒素置換した３００ｍｌ反応フラスコに、窒素気流下、マグネシウム２．１３ｇ（８７．５ｍｍｏｌ）、無水ＴＨＦ１０ｍｌを投入し攪拌した。室温にてｐ−ブロモビフェニル１９．１ｇ（８１．９ｍｍｏｌ）のＴＨＦ５４ｍｌ溶液を滴下し、室温で１時間攪拌した（グリニア化合物の合成）。
次に、上記溶液を５℃以下に冷却し、合成例２で得られた（Ｓ）−Ｐｒｏｌｉｎｅ−Ｎ−ｅｔｈｙｌ  ｃａｒｂａｍａｔｅ  ｍｅｔｈｙｌ  ｅｓｔｅｒ  ８．００ｇ（３９．８ｍｍｏｌ）を１０℃以下にて滴下し反応させた。その後、３時間加熱還流したのち冷却し、飽和アンモニウムクロライド水溶液１００ｍｌに反応液を投入し、抽出用トルエンを１００ｍｌ投入、１時間攪拌した。分液ろうとに移し、有機層を分離、飽和食塩水で２回洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を留去し、６．７１ｇの（５Ｓ）−［３，３，０］−１−ａｚａ−２−ｏｘｏ−３−ｏｘａ−４，４−ｂｉｓ−（ｐ−ｂｉｐｈｅｎｙｌ）−ｂｉｃｙｃｌｏｏｃｔａｎｅを得た。
得られた（５Ｓ）−［３，３，０］−１−ａｚａ−２−ｏｘｏ−３−ｏｘａ−４，４−ｂｉｓ−（ｐ−ｂｉｐｈｅｎｙｌ）−ｂｉｃｙｃｌｏｏｃｔａｎｅに、メタノール１３０ｍｌ、１０％Ｐｄ−Ｃ  ３３５ｍｇを投入し攪拌、水素置換した。そのまま４日間室温で反応した後、Ｐｄ−Ｃをろ過にて除去、濃縮を行い、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、無色結晶の目的物を１．５２ｇ，２５．１％の収率で得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ＝１．４３〜１．８９、ｍ、５Ｈ  δ＝２．８６〜３．１２、ｍ、２Ｈ  δ＝３．８５〜３．８９、ｍ、２Ｈ  δ＝７．２５〜７．５６、ｍ、１８Ｈ【０１７７】
（実施例１）
１０ｍｌ反応フラスコに、ゲラニアール１ｇ（６．５７ｍｍｏｌ）、５重量％Ｐｄ−Ｃを２５ｍｇ（ゲラニアールに対して２．５重量％）、（Ｒ）−２−（ｄｉｐｈｅｎｙｌｍｅｔｈｙｌ）ｐｙｒｒｏｌｉｄｉｎｅ ２５ｍｇ（０．１１ｍｍｏｌ。ゲラニアールに対して２．５重量％）、トリフルオロ酢酸１２ｍｇ（０．１１ｍｍｏｌ）、トルエン２ｍｌをいれ攪拌し、水素雰囲気（０．１ＭＰａ（大気圧））とした。室温にて２１時間攪拌した後、触媒をろ過後、ガスクロマトグラフィ−で分析したところ、ゲラニアールからシトロネラールへの転化率は９１％で、得られたシトロネラールはｄ体であり、その光学純度は６７．６５％ｅ．ｅ．であった。【０１７８】
（実施例２〜１２）
光学活性環状含窒素化合物、酸を変更した以外は、全て実施例１と同様に反応を行なった。なお、光学活性環状含窒素化合物は２５ｍｇ、酸は光学活性環状含窒素化合物に対して同モルを使用した。結果を表１及び表２に示す。
表中、ＴＦＡはトリフルオロ酢酸、ＴＣＡはトリクロロ酢酸を表す。以下同様である。【０１７９】
【表１】
2010140636.tif 000049
【０１８０】
【表２】
2010140636.tif 000050
【０１８１】
（実施例１３〜２５）
反応基質にネラールを用い、光学活性環状含窒素化合物、酸を変更した以外は、全て実施例１と同様に反応を行なった。なお、光学活性環状含窒素化合物は２５ｍｇ、酸は光学活性環状含窒素化合物に対して同モルを使用した。結果を表３及び表４に示す。【０１８２】
【表３】
2010140636.tif 000051
【０１８３】
【表４】
2010140636.tif 000052
【０１８４】
（比較例１）
反応基質にネラールを用い、光学活性環状含窒素化合物を変更し、酸を添加しない以外は、全て実施例１と同様に反応を行なった。結果を表５に示す。【０１８５】
【表５】
2010140636.tif 000053
【０１８６】
（実施例２６〜２９）
反応基質にシトラールを用い、光学活性環状含窒素化合物、酸を変更した以外は、全て実施例１と同様に反応を行なった。なお、光学活性環状含窒素化合物は２５ｍｇ、酸は光学活性環状含窒素化合物に対して同モルを使用した。結果を表６に示す。【０１８７】
【表６】
2010140636.tif 000054
【０１８８】
（実施例３０）
１０ｍｌ反応フラスコに、ゲラニアール１ｇ（６．５７ｍｍｏｌ）、５重量％Ｐｄ−シリカ  １２．５ｍｇ（ゲラニアールに対して１．２５重量％）、（Ｒ）−２−（ｄｉｐｈｅｎｙｌｍｅｔｈｙｌ）ｐｙｒｒｏｌｉｄｉｎｅ ２５ｍｇ（０．１１ｍｏｌ。ゲラニアールに対して２．５重量％）、トリフルオロ酢酸１２ｍｇ（０．１１ｍｏｌ）、トルエン２ｍｌをいれ攪拌し、水素雰囲気（０．１ＭＰａ（大気圧））とした。室温にて２１時間攪拌した後、触媒をろ過後、ガスクロマトグラフィ−で分析したところ、ゲラニアールからシトロネラールへの転化率は４２．２８％で、得られたシトロネラールはｄ体であり、その光学純度は７０．７９％ｅ．ｅ．であった。【０１８９】
（実施例３１〜４１）
金属粉末又は金属担持物を変更した以外は、全て実施例３０と同様に反応を行なった。結果を表７に示す。【０１９０】
【表７】
2010140636.tif 000055
【０１９１】
（実施例４２〜４４）
基質にシトラールを用い、金属担持物を変更した以外は、全て実施例３０と同様に反応を行なった。結果を表８に示す。【０１９２】
【表８】
2010140636.tif 000056
【０１９３】
（実施例４５〜４７）
基質にネラールを用い、金属担持物を変更した以外は、全て実施例３０と同様に反応を行なった。結果を表９に示す。【０１９４】
【表９】
2010140636.tif 000057
【０１９５】
（実施例４８）
１０ｍｌ反応フラスコに、シトラール２ｇ（１３．１４ｍｍｏｌ）、５重量％Ｐｄ−硫酸バリウム  ２５ｍｇ（シトラールに対して１．２５重量％）、（Ｒ）−２−（ｂｉｓ−（４’−ｔ−ｂｕｔｙｌｐｈｅｎｙｌ）ｍｅｔｈｙｌ）ｐｙｒｒｏｌｉｄｉｎｅ ８０ｍｇ（０．２３ｍｍｏｌ。シトラールに対して４．０重量％）、トリフルオロ酢酸２６．１ｍｇ（０．２３ｍｍｏｌ）、１０重量％含水ｔ−ＢｕＯＨ４ｍｌをいれ攪拌し、水素雰囲気（０．１ＭＰａ（大気圧））とした。４０℃にて２１時間攪拌した後、触媒をろ過後、ガスクロマトグラフィ−で分析したところ、シトラールからシトロネラールへの転化率は５１％で、得られたシトロネラールはｄ体であり、その光学純度は８４．９１％ｅ．ｅ．であった。【０１９６】
（実施例４９〜６４）
実施例４９は２５℃での反応、実施例５０は５０℃での反応、実施例５１は６０℃での反応、実施例６１および６２は２５℃でトルエン中での反応とし、その他条件は、光学活性環状含窒素化合物、酸を変更した以外は、全て実施例４８と同様に反応を行なった。なお、光学活性環状含窒素化合物は８０ｍｇ、酸は光学活性環状含窒素化合物に対して同モルを使用した。結果を表１０〜１２に示す。【０１９７】
【表１０】
2010140636.tif 000058
【０１９８】
【表１１】
2010140636.tif 000059
【０１９９】
【表１２】
2010140636.tif 000060
【０２００】
（実施例６５）
１０ｍｌ反応フラスコに、β−メチルシンナムアルデヒド１ｇ（６．８４ｍｍｏｌ）、５重量％Ｐｄ−Ｃ  ５０ｍｇ（β−メチルシンナムアルデヒドに対して５重量％）、（Ｒ）−２−（ｄｉｐｈｅｎｙｌｍｅｔｈｙｌ）ｐｙｒｒｏｌｉｄｉｎｅ ２５ｍｇ（０．１１ｍｍｏｌ。β−メチルシンナムアルデヒドに対して２．５重量％）、トリフルオロ酢酸１２ｍｇ（０．１１ｍｍｏｌ）、トルエン２ｍｌをいれ攪拌し、水素雰囲気（０．１ＭＰａ（大気圧））とした。室温にて２１時間攪拌した後、触媒をろ過後、ガスクロマトグラフィ−で分析したところ、転化率は８９％で、得られた（Ｓ）−３−フェニルブチルアルデヒドの光学純度は３４．８８％ｅ．ｅ．であった。【０２０１】
（実施例６６）
光学活性環状含窒素化合物として（Ｒ）−２−（ｔｅｒｔ−ｂｕｔｙｌ）−３−ｍｅｔｈｙｌ−４−ｉｍｉｄａｚｏｌｉｄｉｎｏｎｅを用いた以外は実施例６５と同様に反応を行った。転化率は８２％で、得られた（Ｓ）−３−フェニルブチルアルデヒドの光学純度は２６．８１％ｅ．ｅ．であった。【０２０２】
（実施例６７）ｌ−メントールの合成
３Ｌ反応フラスコに、シトラール５００．０ｇ（３．２８ｍｏｌ）を、５重量％Ｐｄ−シリカアルミナ６．２５ｇ（シトラールに対して１．２５重量％）、（Ｒ）−２−（ｄｉｐｈｅｎｙｌｍｅｔｈｙｌ）ｐｙｒｒｏｌｉｄｉｎｅ １２．５ｇ（５２．７ｍｍｏｌ。シトラールに対して２．５重量％）、トリフルオロ酢酸６ｇ（５２．７ｍｍｏｌ）、トルエン１Ｌをいれ攪拌し、水素雰囲気（０．１ＭＰａ（大気圧））とした。室温にて２１時間攪拌した後、触媒をろ過後、ガスクロマトグラフィ−で分析したところ、シトラールからシトロネラールへの転化率は８０．４％で、その光学純度は７０．６６％ｅ．ｅ．であった。得られた粗ｄ−シトロネラールを蒸留して純度９８％のｄ−シトロネラールを３２０ｇ（２．０７ｍｏｌ、６３．１％収率）得た。【０２０３】
ｄ−シトロネラール３０８．５ｇ（２．０ｍｏｌ）に日本国特開２００２−２１２１２１号公報に記載されているトリス（２，６−ジフェニルフェノキシ）アルミニウム触媒１５．２６ｇ（２０ｍｍｏｌ）、トルエン３００ｍｌを加え、５℃で、５時間撹拌し、反応溶液を蒸留してｌ−イソプレゴール（９９．５％ｎ−体、７０．８５％ｅ．ｅ．）２８３．８ｇ（１．８４ｍｏｌ、９２％収率）を得た。【０２０４】
得られたｌ−イソプレゴール２８３．８ｇにラネーニッケル０．４５ｇを添加し、水素圧２．５ＭＰａ、７０℃で１０時間水素化を行った。反応液をろ過し、蒸留をすることによってｌ−メントール２７３．５ｇ（１．７５ｍｏｌ、７１．２４％ｅ．ｅ．）を得た。【０２０５】
本発明を詳細にまた特定の実施態様を参照して説明したが、本発明の精神と範囲を逸脱することなく様々な変更や修正を加えることができることは当業者にとって明らかである。本出願は２００９年６月３日出願の日本特許出願（特願２００９−１３４１６１）に基づくものであり、その内容はここに参照として取り込まれる。
【産業上の利用可能性】
【０２０６】
本発明において用いられる不斉水素化用触媒は、金属粉末又は金属担持物、光学活性環状含窒素化合物、及び酸を単に混合するだけで、基質であるα，β−不飽和カルボニル化合物を簡便に不斉水素化し、光学活性α，β−カルボニル化合物を製造することができる。
つまり、シトラール（ゲラニアールとネラールとの混合物）、ゲラニアール、又はネラールのα、β−炭素−炭素二重結合を選択的に不斉水素化することにより、光学活性シトロネラールを得ることができる。光学活性シトロネラールはそれ自体が香料として有用であるばかりでなく、光学活性シトロネロール、光学活性イソプレゴール、光学活性メントールの重要な原料である。
そして、本発明の触媒は、反応溶液に可溶性ではないため、反応系内から金属又は金属担持物、及び光学活性環状含窒素化合物を容易に回収して再利用でき、工業的にも有利である。
【国際調査報告】
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