Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成27年8月4日(2015.8.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
真皮層及び表皮層を有する色素含有人工皮膚であって、
該真皮層は細胞外マトリックス及び真皮繊維芽細胞を有し、
該表皮層は角化細胞及び角質層並びに基底層を有し、
該基底層は前記真皮層と接する側に載置され、
該角質層は前記基底層の前記真皮層と接する側の反対側に接して載置され、
前記基底層又は前記真皮層にメラノサイトを含む
色素含有人工皮膚。
【請求項２】
色素斑疾患モデル皮膚である請求項１又は２に記載の色素含有人工皮膚。
【請求項３】
色素斑疾患が、雀卵斑、扁平卵斑、肝斑、日光性色素斑、炎症後色素沈着症、固定薬疹、リール黒皮症、後天性真皮内メラノサイトーシス、大田母斑、及び青色母斑からなる群より選択される、少なくとも１つである請求項３に記載の色素含有人工皮膚。
【請求項４】
以下の工程１〜３を含む、請求項１〜３のいずれか１項に記載の色素含有人工皮膚の製造方法；
（１）担体と真皮線維芽細胞を混合して培養し、真皮層を作製する工程１、
（２）上記工程１にて作製した真皮層の上部に、メラノサイトを播種して培養する工程２、
（３）上記工程２の後に、真皮層の上部に表皮角化細胞を播種して培養し、表皮層を作製する工程３。
【請求項５】
請求項１〜３のいずれか１項に記載の色素含有人工皮膚の、色素斑疾患の治療方法を探索するための使用。
【請求項６】
色素斑疾患が、雀卵斑、扁平卵斑、肝斑、日光性色素斑、炎症後色素沈着症、固
定薬疹、リール黒皮症、後天性真皮内メラノサイトーシス、大田母斑、及び青色母斑からなる群より選択される、少なくとも１つである請求項５に記載の使用。
【手続補正書】
【提出日】平成27年9月25日(2015.9.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
操作可能な処置具と、
被写体を撮像する複数の撮像部であって、処置具が写っていない画像と処置具の操作に従って処置具が写っている画像とを取得する、複数の撮像部と、
前記処置具が写っている画像から処置具が写っている領域を検出する検出部と、
画像を置き換える置換領域を決定する領域決定部であって、該置換領域は前記処置具が写っている領域の少なくとも一部である、領域決定部と、
前記置換領域を前記処置具が写っていない画像で置き換える画像処理部と、
を、備える立体内視鏡装置。
【請求項２】
前記複数の撮像部は、第一の撮像部および第二の撮像部を有し、
前記画像処理部は、前記第一の撮像部により撮像された画像内の前記置換領域を、前記第一の撮像部により撮像された前記処置具が写っていない画像で置き換える、請求項１に記載の立体内視鏡装置。
【請求項３】
前記画像処理部は、前記置換領域に対応する、前記処置具が写っていない画像における対応領域を検出し、前記置換領域を前記対応領域の画像で置き換える、請求項１又は２に記載の立体内視鏡装置。
【請求項４】
前記画像処理部は、前記処置具が写っていない画像と前記処置具が写っている画像との領域ベースマッチングにより、前記対応領域を検出する、請求項３に記載の立体内視鏡装置。
【請求項５】
処置具の送り量を検出するセンサーをさらに備え、
前記検出部は、前記センサーによって検出された処置具の送り量に基づいて、前記処置具が写っている領域を検出する、請求項１乃至４のいずれか一項に記載の立体内視鏡装置。
【請求項６】
前記検出部は、予め作成された前記処置具の画像のテンプレートを用いて、前記処置具の軌跡上をテンプレートマッチングすることで、前記処置具が写っている領域を検出する、請求項１乃至４のいずれか一項に記載の立体内視鏡装置。
【請求項７】
前記領域決定部は、前記処置具を使用者に認識させるために、前記処置具が写っている領域における前記処置具の先端部以外の領域を前記置換領域として決定する、請求項１乃至６のいずれか一項に記載の立体内視鏡装置。
【請求項８】
前記置換領域は前記処置具が写っている領域の全てであり、
前記画像処理部は、前記処置具を使用者に認識させるために、置換後の画像に処置具のマーカーを配置する、請求項１乃至６のいずれか一項に記載の立体内視鏡装置。
【請求項９】
前記領域決定部は、前記処置具を使用者に認識させるために、前記複数の撮像部のうちの１つの撮像部で取得した画像でのみ、前記処置具が写っている領域における前記処置具の先端部以外の領域を前記置換領域として決定し、他の撮像部で取得した画像では、前記処置具が写っている領域の全てを前記置換領域として決定する、請求項１乃至６のいずれか一項に記載の立体内視鏡装置。
【請求項１０】
複数の撮像部で処置具が写っていない画像を取得することと、
処置具を操作することと、
前記処置具の操作に従って処置具が写っている画像を、複数の撮像部で取得することと、
前記処置具が写っている画像から処置具が写っている領域を検出することと、
前記処置具が写っている領域から画像を置換する置換領域を決定することと、
前記置換領域を前記処置具が写っていない画像で置換することと、
を含む、立体内視鏡における画像処理方法。
【請求項１１】
前記複数の撮像部は、第一の撮像部および第二の撮像部を有し、
前記置換することは、前記第一の撮像部により取得された画像内の前記置換領域を、前記第一の撮像部により取得された前記処置具が写っていない画像で置き換えることを含む、請求項１０に記載の画像処理方法。
【請求項１２】
前記置換領域に対応する、前記処置具が写っていない画像における対応領域を検出することをさらに含み、
前記置換することは、前記置換領域を前記対応領域の画像で置換することを含む、請求項１０又は１１に記載の画像処理方法。
【請求項１３】
前記対応領域を検出することは、前記処置具が写っていない画像と前記処置具が写っている画像との領域ベースマッチングにより、前記対応領域を検出することを含む、請求項１２に記載の画像処理方法。
【請求項１４】
前記処置具が写っている領域を検出することは、センサーが検出した処置具の送り量に基づいて、前記処置具が写っている画像から前記処置具が写っている領域を検出することを含む、請求項１０乃至１３のいずれか一項に記載の画像処理方法。
【請求項１５】
前記処置具が写っている領域を検出することは、予め作成された前記処置具の画像のテンプレートを用いて、前記処置具の軌跡上をテンプレートマッチングすることで、前記処置具が写っている領域を検出することを含む、請求項１０乃至１３のいずれか一項に記載の画像処理方法。
【請求項１６】
前記置換領域を決定することは、前記処置具を使用者に認識させるために、前記処置具が写っている領域における前記処置具の先端部以外の領域を前記置換領域として決定することを含む、請求項１０乃至１５のいずれか一項に記載の画像処理方法。
【請求項１７】
前記置換領域は前記処置具が写っている領域の全てであり、
前記置換することは、前記処置具を使用者に認識させるために、置換後の画像に処置具のマーカーを配置することを含む、請求項１０乃至１５のいずれか一項に記載の画像処理方法。
【請求項１８】
前記置換領域を決定することは、前記処置具を使用者に認識させるために、前記複数の撮像部のうちの１つの撮像部で取得した画像でのみ、前記処置具が写っている領域における前記処置具の先端部以外の領域を前記置換領域として決定し、他の撮像部で取得した画像では、前記処置具が写っている領域の全てを前記置換領域として決定することを含む、請求項１０乃至１５のいずれか一項に記載の画像処理方法。
【手続補正書】
【提出日】平成27年10月5日(2015.10.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５３】
動脈相対位置判定部２０ｃは、以下の式（１）により、橈骨動脈と尺骨動脈の基準面からの高さの差ΔＨを算出し、このΔＨから相対位置関係を判定する。
【手続補正書】
【提出日】平成27年6月3日(2015.6.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
上側に向かって開口する第一チャンバ部材と、
下側に向かって開口する第二チャンバ部材と、
前記第一チャンバ部材と前記第二チャンバ部材とによって閉じられた作業室内に存する空気を吸引する吸引装置と、
前記作業室内に蒸気を供給する蒸気供給装置と、
を具備してなり、
転写フィルムによって、前記作業室が前記第一チャンバ部材側となる第一室と前記第二チャンバ部材側となる第二室との二つに仕切られた後、前記吸引装置にて前記作業室内に存する空気を吸引し、前記第一室内に配置された被転写物に前記転写フィルムを密着させ、前記蒸気供給装置から前記第二室内に供給させた蒸気にて前記転写フィルムを加熱し、もって、前記被転写物に前記転写フィルムの絵柄層を熱転写する熱転写装置であって、
前記第二チャンバ部材を昇降させることによって前記作業室を開閉する昇降装置と、
前記作業室が開かれた際に、前記第二チャンバ部材を前記第一チャンバ部材上の空間から退避させ、且つ、前記作業室が閉じられる際に、前記第二チャンバ部材を前記第一チャンバ部材上の空間に進行させる進退装置と、
を具備してなることを特徴とする熱転写装置。
【請求項２】
請求項１に記載の熱転写装置において、
前記第二チャンバ部材が、ガイドレールにて支持され、
且つ、前記進退装置による前記第二チャンバ部材の進退動作が、前記ガイドレールに沿って行われる仕組みとなされてなり、
前記ガイドレールが、前記第二チャンバ部材の進行方向側に存する第一レールと、前記第二チャンバ部材の退避方向側に存する第二レールと、に分離可能となされ、
前記第一レールが、前記昇降装置によって昇降可能となされてなり、
前記作業室を閉じる際に、前記進退装置にて、前記第二チャンバ部材が前記ガイドレールに沿って進行され、前記第一レールによって支持される位置まで進行された後、前記昇降装置にて、前記第二チャンバ部材が前記第一レールと共に下降され、
前記作業室を開く際に、前記昇降装置にて、前記第二チャンバ部材が前記第一レールと共に上昇された後、前記進退装置にて、前記第二チャンバ部材が前記ガイドレールに沿って前記第一チャンバ部材上の空間から退避させられる熱転写装置。
【請求項３】
請求項１又は２のいずれか１項に記載の熱転写装置において、
前記第二室に加熱された空気を供給する加熱空気供給装置を更に具備してなる熱転写装置。
【請求項４】
請求項１ないし３のいずれか１項に記載の熱転写装置において、
前記第二チャンバ部材の開口端周縁に、フランジ部が設けられてなる熱転写装置。
【請求項５】
請求項４に記載の熱転写装置において、
前記作業室が閉じられた際に、前記フランジ部に掛止され、前記第二チャンバ部材を前記第一チャンバ部材に向かって引き下げる方向に付勢するロック装置を更に具備してなる熱転写装置。
【請求項６】
請求項１ないし５のいずれか１項に記載の熱転写装置において、
前記被転写物を保持するための被転写物ホルダを更に具備してなり、
前記被転写物の下端に存するエッジ面にも絵柄層が熱転写されるように、
前記被転写物ホルダに、前記被転写物の下端に存するエッジ面を前記作業室内に露出させるアンダーカット部が設けられてなる熱転写装置。
【請求項７】
請求項６に記載の熱転写装置において、
前記被転写物ホルダが載置されるホルダ設置台と、
前記ホルダ設置台を昇降させる設置台昇降装置と、
を更に具備してなる熱転写装置。
【請求項８】
請求項７に記載の熱転写装置において、
前記設置台昇降装置が、スクリュージャッキであり、
前記スクリュージャッキに備えられたトラベリングナット部材の上昇に応じて、前記ホルダ設置台が昇降される仕組みとなされてなり、
前記ホルダ設置台が所定の上昇位置に至った際に、前記トラベリングナット部材の下側に突出して、前記トラベリングナット部材を下支えするロックピンが備えられてなる熱転写装置。
【請求項９】
請求項１ないし８のいずれか１項に記載の熱転写装置において、
前記第二チャンバ部材が、炭素繊維強化プラスチックを素材として形成されてなり、
前記蒸気供給装置によって供給される蒸気が、過熱蒸気となされた熱転写装置。
【請求項１０】
請求項１ないし９のいずれか以降に記載の熱転写装置を用いて前記被転写体に前記転写フィルムの絵柄層を熱転写する方法であって、
前記作業室内を減圧する減圧工程と、
前記第二室内に加熱された空気を供給することによって、前記第一室内に配置された前記被転写物に前記転写フィルムを密着させる予備成型工程と、
前記第二室内に過熱蒸気を供給することによって、前記被転写物に密着させた前記転写フィルムを加熱する加熱工程と、
を実行することを特徴とする熱転写方法。
【請求項１１】
請求項１０に記載の熱転写方法において、
前記加熱工程の後、前記第二室内を減圧することによって、前記第二室内に存する水分を気化させる減圧乾燥工程を更に実行する熱転写方法。
【請求項１２】
請求項７ないし９のいずれか１項に記載の熱転写装置によって前記被転写物に絵柄層が熱転写された転写体であって、
前記被転写物の下端に存するエッジ面にも絵柄層が熱転写されてなることを特徴とする転写体。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
前記技術的課題を解決するために、本発明の熱転写装置は、上側に向かって開口する第一チャンバ部材と、下側に向かって開口する第二チャンバ部材と、前記第一チャンバ部材と前記第二チャンバ部材とによって閉じられた作業室内に存する空気を吸引する吸引装置と、前記作業室内に蒸気を供給する蒸気供給装置と、を具備してなり、転写フィルムによって、前記作業室が前記第一チャンバ部材側となる第一室と前記第二チャンバ部材側となる第二室との二つに仕切られた後、前記吸引装置にて前記作業室内に存する空気を吸引し、前記第一室内に配置された被転写物に前記転写フィルムを密着させ、前記蒸気供給装置から前記第二室内に供給させた蒸気にて前記転写フィルムを加熱し、もって、前記被転写物に前記転写フィルムの絵柄層を熱転写する熱転写装置であって、前記第二チャンバ部材を昇降させることによって前記作業室を開閉する昇降装置と、前記作業室が開かれた際に、前記第二チャンバ部材を前記第一チャンバ部材上の空間から退避させ、且つ、前記作業室が閉じられる際に、前記第二チャンバ部材を前記第一チャンバ部材上の空間に進行させる進退装置と、を具備してなることを特徴とする（以下、「本発明装置」と称する。）。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
本発明装置においては、前記第二チャンバ部材が、炭素繊維強化プラスチックを素材として形成されてなり、前記蒸気供給装置によって供給される蒸気が、過熱蒸気となされたものが好ましい態様となる。
【手続補正書】
【提出日】平成27年6月26日(2015.6.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
Ｃ：０．１〜０．６質量％、
Ｓｉ：１．０〜３．０質量％、
Ｍｎ：０．５〜１．５質量％、
Ｐ：０．０５質量％以下、
Ｓ：０．０５〜０．３質量％、
Ｃｒ：１４〜２０質量％、
Ｎｉ：９〜１６質量％、
Ｎ：０．１〜０．２質量％、
残部：鉄および不可避不純物からなるオーステナイト系耐熱鋳鋼であって、
基地組織がオーステナイト結晶粒で構成されており、フェライト相が前記オーステナイト結晶粒の粒界近傍に形成されており、前記フェライト相の面積率は、オーステナイト系耐熱鋳鋼の組織全体に対して１〜１０％の範囲にあることを特徴とするオーステナイト系耐熱鋳鋼。
【請求項２】
前記オーステナイト系耐熱鋳鋼には、１．０〜３．０質量％のＣｕをさらに含有していることを特徴とする請求項１に記載のオーステナイト系耐熱鋳鋼。
【請求項３】
Ｃ：０．１〜０．６質量％、
Ｓｉ：１．０〜３．０質量％、
Ｍｎ：０．５〜１．５質量％、
Ｐ：０．０５質量％以下、
Ｓ：０．０５〜０．３質量％、
Ｃｒ：１４〜２０質量％、
Ｎｉ：９〜１６質量％、
Ｎ：０．１〜０．２質量％、
残部：鉄および不可避不純物からなる溶湯により鋳鋼を鋳造する工程と、
該鋳鋼を、加熱温度７００℃〜８００℃、加熱時間２０〜３００時間の加熱条件で熱処理する工程と、を含むことを特徴とするオーステナイト系耐熱鋳鋼の製造方法。
【請求項４】
前記溶湯に、１．０〜３．０質量％のＣｕをさらに添加することを特徴とする請求項３に記載のオーステナイト系耐熱鋳鋼の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成26年12月22日(2014.12.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
作動温度を低下させるための潤滑組成物であって、潤滑粘度の油、チアジアゾール官能性分散剤およびポリスルフィドを含有し、該ポリスルフィドは、少なくとも２０重量％のトリスルフィドもしくはより高次のスルフィドを含み、
ここで、該潤滑粘度の油が、ＡＰＩ  Ｇｒｏｕｐ  ＩＩ基油、ＡＰＩ  Ｇｒｏｕｐ  ＩＩＩ基油、ＡＰＩ  Ｇｒｏｕｐ  ＩＶ基油のうちの少なくとも１つ、またはこれらの混合物を含む、
潤滑組成物。
【請求項２】
前記ポリスルフィドが、少なくとも３０重量％のトリスルフィドもしくはより高次のスルフィドを含む、請求項１に記載の潤滑組成物。
【請求項３】
前記ポリスルフィド分子のうちの少なくとも５０重量％が、トリスルフィドとテトラスルフィドとの混合物を含む、請求項１に記載の潤滑組成物。
【請求項４】
前記ポリスルフィドが、３０重量％未満、または４０重量％未満のジスルフィドを含む、請求項１に記載の潤滑組成物。
【請求項５】
前記ポリスルフィドが、０．５重量％〜５重量％、または１重量％〜３重量％の硫黄を前記潤滑組成物に提供する、請求項１に記載の潤滑組成物。
【請求項６】
前記ポリスルフィドが、前記潤滑組成物の０．０１重量％〜１０重量％、または０．２５重量％〜６重量％で存在する、請求項１に記載の潤滑組成物。
【請求項７】
前記チアジアゾール官能性分散剤が、チアジアゾール化合物と分散剤基材とを加熱すること、反応させること、および複合体形成させることからなる群より選択される方法によって調製される、請求項１に記載の潤滑組成物。
【請求項８】
前記分散剤基材が、スクシンイミド分散剤、マンニッヒ分散剤、エステル含有分散剤、脂肪ヒドロカルビルモノカルボン酸アシル化剤とアミンもしくはアンモニアとの縮合生成物、アルキルアミノフェノール分散剤、ヒドロカルビルアミン分散剤、ポリエーテル分散剤、ポリエーテルアミン分散剤、分散剤官能基を含む粘度調整剤、またはこれらの混合物を含む、請求項７に記載の潤滑組成物。
【請求項９】
前記分散剤基材が、スクシンイミド分散剤、エステル含有分散剤またはマンニッヒ分散剤を含む、請求項８に記載の潤滑組成物。
【請求項１０】
前記分散剤基材が、スクシンイミド分散剤を含み、そして該スクシンイミド分散剤分子のうちの０ｍｏｌ％〜５０ｍｏｌ％未満、または０ｍｏｌ％〜３０ｍｏｌ％未満が、炭素環式環を含む、請求項８に記載の潤滑組成物。
【請求項１１】
前記チアジアゾール化合物が、ジメルカプトチアジアゾール、２，５−ジメルカプト−［１，３，４］−チアジアゾール、３，５−ジメルカプト−［１，２，４］−チアジアゾール、３，４−ジメルカプト−［１，２，５］−チアジアゾール、または４−５−ジメルカプト−［１，２，３］−チアジアゾールを含む、請求項７に記載の潤滑組成物。
【請求項１２】
前記チアジアゾール化合物に対する分散剤基材の量が、０．１より大きく９まで、または０．１より大きく５未満の範囲である、請求項７に記載の潤滑組成物。
【請求項１３】
前記チアジアゾール官能性分散剤が、前記潤滑組成物の０．１重量％〜８重量％、または０．３５重量％〜２重量％で存在する、請求項１に記載の潤滑組成物。
【請求項１４】
前記チアジアゾール官能性分散剤が、前記潤滑組成物の０．１重量％〜８重量％、または０．３５重量％〜２重量％で存在し、そして前記ポリスルフィドが、該潤滑組成物の０．０１重量％〜１０重量％、または０．２５重量％〜６重量％で存在する、請求項１に記載の潤滑組成物。
【請求項１５】
リン含有酸、塩もしくはエステルの耐磨耗剤をさらに含有し、該リン含有酸、塩もしくはエステルの耐磨耗剤が、（ｉ）非イオン性リン化合物；（ｉｉ）リン化合物のアミン塩；（ｉｉｉ）リン化合物のアンモニウム塩；（ｉｖ）リン化合物の一価金属塩；または（ｖ）（ｉ）、（ｉｉ）、（ｉｉｉ）もしくは（ｉｖ）の混合物を含み、そして該リン含有酸、塩もしくはエステルの耐磨耗剤が、前記潤滑組成物の０．０５重量％〜１０重量％で存在する、請求項１に記載の潤滑組成物。
【請求項１６】
動力伝達装置デバイスを潤滑する方法であって、該方法は、該デバイスに、潤滑粘度の油、チアジアゾール官能性分散剤およびポリスルフィドを含有する請求項１に記載の潤滑組成物を供給する工程を包含し、該ポリスルフィドは、少なくとも２０重量％のトリスルフィドもしくはより高次のスルフィドを含み、
ここで、該潤滑粘度の油が、ＡＰＩ  Ｇｒｏｕｐ  ＩＩ基油、ＡＰＩ  Ｇｒｏｕｐ  ＩＩＩ基油、ＡＰＩ  Ｇｒｏｕｐ  ＩＶ基油のうちの少なくとも１つ、またはこれらの混合物を含む、
方法。
【請求項１７】
前記動力伝達装置デバイスが、手動変速機または車軸歯車からなる群より選択される、請求項１６に記載の方法。
【請求項１８】
動力伝達装置デバイスを潤滑する方法であって、該デバイスに、潤滑粘度の油、およびチアジアゾール官能性分散剤を含有する請求項１に記載の潤滑組成物を供給する工程を包含し、該分散剤は、（ｉ）エステル分散剤または（ｉｉ）スクシンイミド分散剤のいずれかを含み、該分散剤のスクシンイミドは、該スクシンイミド分散剤分子のうちの０ｍｏｌ％〜５０ｍｏｌ％未満が炭素環式環を含み、
ここで、該潤滑粘度の油が、ＡＰＩ  Ｇｒｏｕｐ  ＩＩ基油、ＡＰＩ  Ｇｒｏｕｐ  ＩＩＩ基油、ＡＰＩ  Ｇｒｏｕｐ  ＩＶ基油のうちの少なくとも１つ、またはこれらの混合物を含む、
方法。
【請求項１９】
認容可能な燃料経済、認容可能な作動温度の低下、認容可能な粘度および認容可能な磨耗保護のうちの少なくとも１つを付与するための、歯車および変速機における請求項１に記載の潤滑組成物の使用。
【請求項２０】
潤滑粘度の油およびチアジアゾール官能性分散剤を含有する作動温度を低下させるための潤滑組成物であって、該分散剤が、エステル官能基を含み、
ここで、該潤滑粘度の油が、ＡＰＩ  Ｇｒｏｕｐ  ＩＩ基油、ＡＰＩ  Ｇｒｏｕｐ  ＩＩＩ基油、ＡＰＩ  Ｇｒｏｕｐ  ＩＶ基油のうちの少なくとも１つ、またはこれらの混合物を含む、
潤滑組成物。
【請求項２１】
前記リン化合物の一価金属塩が、ジアルキルジチオリン酸金属塩もしくはジアルキルリン酸金属塩である、請求項１５に記載の潤滑組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成26年11月27日(2014.11.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
スリットが設けられた金属マスクと、前記スリットと重なる位置に蒸着作製するパターンに対応した開口部が設けられた樹脂マスクとが積層され、
前記金属マスクは、一般領域と、当該一般領域よりも厚肉な厚肉領域とから構成され、
前記一般領域の表面において、前記樹脂マスクと接する側の表面と、前記樹脂マスクと接しない側の表面は略平行であり、
前記スリットは、前記一般領域を貫通するようにして設けられていることを特徴とする蒸着マスク。
【請求項２】
前記一般領域の厚みが、５μｍ以上２５μｍ以下であることを特徴とする請求項１に記載の蒸着マスク。
【請求項３】
スリットが設けられた金属マスクと、前記スリットと重なる位置に蒸着作製するパターンに対応した開口部が設けられた樹脂マスクとが積層されてなる蒸着マスクを得るための蒸着マスク準備体であって、
樹脂板の一方の面上にスリットが設けられた金属マスクが積層されてなり、
前記金属マスクは、一般領域と、当該一般領域よりも厚肉な厚肉領域とから構成され、前記一般領域の表面において、前記樹脂マスクと接する側の表面と、前記樹脂マスクと接しない側の表面は略平行であり、前記スリットは、前記一般領域を貫通するようにして設けられていることを特徴とする蒸着マスク準備体。
【請求項４】
蒸着マスクの製造方法であって、
スリットが設けられた金属マスクと、樹脂板とを貼り合わせる工程と、
前記金属マスク側からレーザーを照射し、前記樹脂板に蒸着作製するパターンに対応した開口部を形成する工程と、
を備え、
前記金属マスクとして、前記スリットが設けられている一般領域と、当該一般領域よりも厚肉な厚肉領域とを有している金属マスクが用いられることを特徴とする蒸着マスクの製造方法。
【請求項５】
前記金属マスクが、
金属板の前記厚肉領域となる部分をマスキングし、当該金属板のマスキングがされていない領域をスリミング加工することで、前記一般領域を形成する工程と、
前記一般領域内に、前記スリットを形成する工程と、
によって得られる金属マスクであることを特徴とする請求項４に記載の蒸着マスクの製造方法。
【請求項６】
フレーム上に、前記樹脂板が貼り合わされた金属マスクを固定した後に、前記金属マスク側からレーザーを照射し、前記樹脂板に蒸着作製するパターンに対応した開口部を形成する工程が行われることを特徴とする請求項４又は５に記載の蒸着マスクの製造方法。
【請求項７】
有機半導体素子の製造方法であって、
フレームに蒸着マスクが固定されたフレーム付き蒸着マスクを用いて蒸着対象物に蒸着パターンを形成する工程を含み、
前記蒸着パターンを形成する工程において、前記フレームに固定される前記蒸着マスクが、
スリットが設けられた金属マスクと、前記スリットと重なる位置に蒸着作製するパターンに対応した開口部が設けられた樹脂マスクとが積層され、前記金属マスクは、一般領域と、当該一般領域よりも厚肉な厚肉領域とから構成され、前記一般領域の表面において、前記樹脂マスクと接する側の表面と、前記樹脂マスクと接しない側の表面は略平行であり、前記スリットは、前記一般領域を貫通するようにして設けられている蒸着マスクであることを特徴とする有機半導体素子の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成26年12月9日(2014.12.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
遊技に要する賭数を設定するためのベットスイッチ、リールの回転を開始させるためのスタートスイッチ、前記リールの回転を停止させるための複数のストップスイッチと、
遊技の進行を制御するメイン制御手段と、
遊技中における演出の出力を制御するサブ制御手段と
を備え、
前記メイン制御手段は、
前記スタートスイッチが操作されたことに基づいて役の抽選を行う役抽選手段と、
前記役抽選手段によって所定の役が当選したときに、所定の操作手順を決定可能な操作手順決定手段と、
前記操作手順決定手段によって決定された前記所定の操作手順に基づいた操作手順情報と、前記ストップスイッチが操作されたことに関する操作情報とを前記サブ制御手段に送信可能な送信手段と
を備え、
前記サブ制御手段は、
所定の遊技状態において、受信した前記操作情報により前記所定の操作手順で前記ストップスイッチが操作されたことに基づいて、遊技者にとって不利な状態であるペナルティ状態に設定可能であり、
遊技の進行に基づく所定の条件が満たされている場合は、前記操作手順情報を受信したことに基づいて、前記所定の操作手順に関する情報を報知し、
前記所定の条件が満たされていない場合は、前記所定の操作手順に関する情報を報知せず、
前記メイン制御手段は、
特定の遊技状態で、前記操作手順情報を送信した遊技において前記操作手順決定手段によって決定された前記所定の操作手順で前記ストップスイッチが操作されたことに基づいて特別遊技状態に移行させ、
前記特別遊技状態においては、前記特定の遊技状態よりも高い頻度で、遊技の進行を遅延させる所定のフリーズ演出を実行させる
ことを特徴とするスロットマシン。
【手続補正書】
【提出日】平成27年5月25日(2015.5.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
虚血を処置することにおける使用のための接着性胎盤細胞であって、三次元培養によって増殖したものである、接着性胎盤細胞。
【請求項２】
前記細胞は免疫反応を対象において抑制することができる、請求項１に記載の使用のための細胞。
【請求項３】
前記細胞の少なくとも１０％が増殖期にある、請求項１に記載の使用のための細胞。
【請求項４】
前記三次元培養が三次元バイオリアクターを含む、請求項１に記載の使用のための細胞。
【請求項５】
前記細胞の前記三次元培養における培養が灌流下で行われる、請求項１または４に記載の使用のための細胞。
【請求項６】
前記三次元培養の培養条件がポリエステルおよびポリプロピレンからなる群から選択される接着性材料を含む、請求項１、４または５に記載の使用のための細胞。
【請求項７】
前記細胞は、ＣＤ７３、ＣＤ９０、ＣＤ２９およびＣＤ１０５からなる群から選択される細胞マーカーの発現が陽性である、請求項１に記載の使用のための細胞。
【請求項８】
前記細胞は、ＣＤ３、ＣＤ４、ＣＤ４５、ＣＤ８０、ＨＬＡ−ＤＲ、ＣＤ１１ｂ、ＣＤ１４、ＣＤ１９およびＣＤ７９からなる群から選択される細胞マーカーの発現が陰性である、請求項１に記載の使用のための細胞。
【請求項９】
前記細胞は、間質幹細胞表現型を含む、請求項１に記載の使用のための細胞。
【請求項１０】
前記虚血は末梢動脈疾患（ＰＡＤ）および中枢神経系（ＣＮＳ）の虚血からなる群から選択される、請求項１に記載の使用のための細胞。
【手続補正書】
【提出日】平成26年11月19日(2014.11.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
COX-2活性を阻害することなく、選択的にSERCA活性を阻害し、CHOPの発現を上昇させ、それにより細胞の小胞体（ER）におけるストレスを誘導または悪化させて、アポトーシスを引き起こすための薬剤の製造における、ERストレス悪化剤の使用であって、
前記ERストレス悪化剤が以下の式：
【化１】
2014208663.tif 000001
ここにおいて
R1は、メチル、フルオロメチル、ジフルオロメチル、トリフルオロメチル、アルキル、フルオロアルキル、ジフルオロアルキル、トリフルオロアルキル、ポリフルオロアルキル、ヒドロキシアルキルまたはカルボキシアルキルであり；
R2は、水素、フルオロ、クロロ、ブロモ；フルオロメチル、ジフルオロメチル、トリフルオロメチル、アルキル、フルオロアルキル、ジフルオロアルキル、トリフルオロアルキル、ポリフルオロアルキル、ヒドロキシアルキルまたはカルボキシアルキルであり；
R3-R7 は、水素、フルオロ、クロロ、ブロモ、アロキシ、アルキル、フルオロアルキル、ジフルオロアルキル、トリフルオロアルキル、ポリフルオロアルキル、ヒドロキシアルキル、またはカルボキシアルキル、アリールおよびヘテロアリールからなる群より独立して選択され；
R8-R11 は水素、フルオロ、クロロ、ブロモ；フルオロメチル、ジフルオロメチル、トリフルオロメチル、アルキル、フルオロアルキル、ジフルオロアルキル、トリフルオロアルキル、ポリフルオロアルキル、ヒドロキシアルキル、カルボキシアルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、複素環式、アリールまたは ヘテロアリールからなる群より独立して選択され；および
R12 は、水素、アセチル、アシル、アルキル、フルオロアルキル、ジフルオロアルキル、トリフルオロアルキル、ポリフルオロアルキル、ヒドロキシアルキル、カルボキシアルキル；アミノアシル、アミノアルキル、シクロアルキル、複素環式、アリールまたはヘテロアリールである；
ただし、4-[5-(4-メチルフェニル)-3-(トリフルオロメチル)ピラゾール-1-イル]ベンゼンスルホンアミドは除かれる；
を有する化合物を含む使用。
【請求項２】
請求項１に記載の使用であって、前記ERストレス悪化剤がCOX-2を阻害しない１である使用。
【請求項３】
請求項１に記載の使用であって、前記ERストレス悪化剤がヒスタミン放出を引き起こさない使用。
【請求項４】
請求項１に記載の使用であって、R1がトリフルオロメチルである使用。
【請求項５】
請求項１に記載の使用であって、R2、R8-R12が水素である使用。
【請求項６】
請求項１に記載の使用であって、R4、R5およびR7が水素である使用。
【請求項７】
請求項１に記載の使用であって、R1がトリフルオロメチル、R2、R4、R5、R7− R12が水素である使用。
【請求項８】
請求項１に記載の使用であって、R3およびR6 が水素、フルオロ、クロロ、ブロモ；フルオロメチル、ジフルオロメチル、トリフルオロメチル、アルキル、アリール、ヘテロアリール、フルオロアルキル、ジフルオロアルキル、トリフルオロアルキル、ポリフルオロアルキル、ヒドロキシアルキルまたはカルボキシアルキルからなる群より選択される使用。
【請求項９】
請求項１に記載の使用であって、前記ERストレス悪化剤が4-[5-(2,5-ジメチルフェニル)-3-(トリフルオロメチル)-1H-ピラゾール-1-イル]ベンゼンスルホンアミド、4-[5-(2,5-ジ(トリフルオロメチル)フェニル)-3-(トリフルオロメチル)-1H-ピラゾール-1-イル]ベンゼンスルホンアミドおよび4-[5-(2,5-ジブロモフェニル)-3-(トリフルオロメチル)-1H-ピラゾール-1-イル]ベンゼンスルホンアミドまたはその類似体である使用。
【請求項１０】
請求項１に記載の使用であって、前記ERストレス悪化剤がSERCA阻害剤に代謝されるプロドラッグを含む使用。
【請求項１１】
請求項１に記載の使用であって、更に、前記薬剤の製造における第二のERストレス悪化剤の使用を含み、前記第二のERストレス悪化剤は、ERにおける誤って折り畳まれたまたは障害された蛋白質の濃度を増加することが可能である使用。
【請求項１２】
請求項１１に記載の使用であって、前記ERストレス悪化剤がプロテアソーム阻害剤またはプロテアーゼ阻害剤を含む使用。
【請求項１３】
請求項１２に記載の使用であって、前記プロテアソーム阻害剤がボルテゾミブまたはその類似体である使用。
【請求項１４】
請求項１２に記載の使用であって、前記プロテアソーム阻害剤がニルフィナヴィル、アタザナビル、ホサムプレナビル、リトナビル、インジナビルまたはその類似体から選択されるHIVプロテアーゼ阻害剤である使用。
【請求項１５】
請求項１に記載の使用であって、更に、前記薬剤の製造におけるアポトーシスエンハンサーの使用を含む使用。
【請求項１６】
請求項１５に記載の使用であって、前記アポトーシスエンハンサーが、CHOPの発現を上方制御し、GRP78の保護機能に打ち勝ち、カスパーゼを活性化することが可能な１である使用。
【請求項１７】
請求項１に記載の使用であって、前記化合物が以下の式：
【化２】
2014208663.tif 000002
ここにおいて
R3 およびR6 は水素、フルオロ、クロロ、ブロモ、アロキシ、アルキル、フルオロアルキル、ジフルオロアルキル、トリフルオロアルキル、ポリフルオロアルキル、ヒドロキシアルキルまたは カルボキシアルキル, アリールおよびヘテロアリールからなる群より独立して選択され;および
R12は水素、アセチル、アシル、アルキル,フルオロアルキル、ジフルオロアルキル、トリフルオロアルキル、ポリフルオロアルキル、ヒドロキシアルキル、カルボキシアルキル；アミノアシル、アミノアルキル、シクロアルキル、複素環式、アリールまたはヘテロアリールである；
を有する化合物である使用。
【請求項１８】
請求項１７に記載の使用であって、前記化合物が以下の式：
【化３】
2014208663.tif 000003
ここでR12は水素、アセチル、アシル、アルキル,フルオロアルキル、ジフルオロアルキル、トリフルオロアルキル、ポリフルオロアルキル、ヒドロキシアルキル、カルボキシアルキル；アミノアシル、アミノアルキル、シクロアルキル、複素環式、アリールまたはヘテロアリールである；
を有する化合物である使用。
【請求項１９】
請求項１８に記載の使用であって、前記化合物が以下の式：
【化４】
2014208663.tif 000004
を有する化合物である使用。
【請求項２０】
多形性グリオブラストーマ、乳癌、膵臓癌、バーケットリンパ腫、多発性骨髄腫、神経芽腫、前立腺癌、直腸癌、再発性癌、転移性乳癌、化学療法耐性腫瘍および薬物耐性癌から選択される癌に伴う細胞において、アポトーシスを引き起こすために有用な薬学的組成物であって、4-[5-(2,5-ジメチルフェニル)-3-(トリフルオロメチル)-1H-ピラゾール-1-イル] ベンゼンスルホンアミド；およびボルテゾミブを含む薬学的組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成27年6月1日(2015.6.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記のものを含む、抗細菌剤の送達および／または保持を増大させるための口腔ケア組成物：
ａ．有効量の、アルギニン、重炭酸アルギニン、リン酸アルギニン、および塩酸アルギニンから選択される、遊離または塩形の塩基性アミノ酸；
ｂ．有効量の、トリクロサン、第一スズイオン源、または亜鉛イオン源から選択される抗細菌剤；
ｃ．陰イオン性ポリマー；ならびに
ｄ．陰イオン界面活性剤および／または有効量のフッ化物源。
【請求項２】
陰イオン界面活性剤がラウリル硫酸ナトリウムである、請求項１に記載の組成物。
【請求項３】
陰イオン性ポリマーがメチルビニルエーテルと無水マレイン酸のコポリマーである、請求項１または２に記載の組成物。
【請求項４】
下記のものを含む歯磨剤である、請求項１〜３のいずれか１項に記載の組成物：
ａ．有効量の、重炭酸アルギニン、リン酸アルギニンおよび塩酸アルギニンから選択される塩基性アミノ酸塩；
ｂ．有効量の、トリクロサン、第一スズイオン源、または亜鉛イオン源から選択される抗細菌剤；
ｃ．有効量の、フッ化ナトリウムおよびモノフルオロリン酸ナトリウムから選択される可溶性フッ化物塩；
ｄ．ラウリル硫酸ナトリウムである陰イオン界面活性剤、および／または有効量のフッ化物源；ならびに
ｅ．メチルビニルエーテルと無水マレイン酸のコポリマー。
【請求項５】
さらに、キシリトールを含む、請求項１〜４のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項６】
さらに、シリカおよび炭酸カルシウムから選択される粒状物質を含む、請求項１〜５の
いずれか１項に記載の組成物。
【請求項７】
放射性象牙質研摩（ｒａｄｉｏａｃｔｉｖｅ  ｄｅｎｔｉｎ  ａｂｒａｓｉｏｎ）（ＲＤＡ）が１５０未満である、請求項１〜６のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項８】
さらに、水、研磨剤、界面活性剤、発泡剤、ビタミン、ポリマー、酵素、湿潤剤、増粘剤、抗微生物剤、保存剤、着香剤、着色剤、および／またはその組合わせのうち１以上を含む練り歯磨きの形態である、請求項１〜７のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項９】
下記のために、その必要がある対象の口腔に適用する、請求項１〜８のいずれか１項に記載の組成物：
ａ．齲歯の形成を軽減または抑制する、
ｂ．初期のエナメル質病変を軽減、修復または抑制する、
ｃ．歯の脱灰を軽減または抑制し、再石灰化を促進する、
ｄ．歯の過敏性を軽減する、
ｅ．歯肉炎を軽減または抑制する、
ｆ．口内の潰瘍または切り傷の治癒を促進する、
ｇ．酸産生細菌のレベルを低下させる、
ｈ．アルギニン分解細菌（ａｒｇｉｎｏｌｙｔｉｃ  ｂａｃｔｅｒｉａ）の相対レベルを高める、
ｉ．口腔における微生物バイオフィルムの形成を抑制する、
ｊ．糖負荷後の歯垢ｐＨを少なくともｐＨ５．５のレベルに上昇および／または維持する、
ｋ．歯垢の蓄積を軽減する、
ｌ．口内乾燥を治療、寛解または軽減する、
ｍ．歯を増白する、
ｎ．たとえば口腔組織を介した全身感染の潜在性を低下させることにより、心血管の健康状態を含めた全身の健康状態を増進する、
ｏ．歯の侵食を軽減する、
ｐ．歯を齲食原性細菌に対して免疫化または保護する、ならびに／あるいは
ｑ．歯および口腔を清浄にする。
【請求項１０】
齲歯または歯肉炎の形成を軽減または抑制するための、請求項９に記載の組成物。
【請求項１１】
対象の口腔の抗細菌処置に使用するための、遊離または塩形の塩基性アミノ酸、抗細菌剤および陰イオン性ポリマーを含む、請求項１〜１０のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項１２】
塩基性アミノ酸が全組成物重量の０．１から２０重量％までの量で存在する、請求項１〜１１のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項１３】
塩基性アミノ酸が全組成物重量の１から１０重量％までの量で存在する、請求項１２に記載の組成物。
【請求項１４】
抗細菌剤が全組成物重量の０．０１から５重量％までの量で存在する、請求項１〜１３のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項１５】
抗細菌剤が全組成物重量の０．０１から１重量％までの量で存在する、請求項１４に記載の組成物。
【請求項１６】
フッ化物源が、全組成物重量の０．０１から２重量％までの量の可溶性フッ化物塩を含
む、請求項１〜１５のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項１７】
フッ化物源が、全組成物重量中に５０〜２５，０００重量ｐｐｍのフッ化物イオンを供給する量のフッ化物イオン源を含む、請求項１〜１５のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項１８】
可溶性フッ化物塩またはフッ化物イオン源が、フッ化ナトリウム、モノフルオロリン酸ナトリウム、およびその混合物から選択される、請求項１６または請求項１７に記載の組成物。
【請求項１９】
陰イオン界面活性剤が全組成物重量の０．０１から１０重量％までの量で存在する、請求項１〜１８のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項２０】
陰イオン界面活性剤が全組成物重量の０．３から４．５重量％までの量で存在する、請求項１９に記載の組成物。
【請求項２１】
陰イオン界面活性剤が、ラウリル硫酸ナトリウム、ラウレス硫酸ナトリウム、およびその混合物から選択される、請求項１９または請求項２０に記載の組成物。
【請求項２２】
さらに研磨剤を含み、研磨剤が全組成物重量の少なくとも５重量％を構成する小粒子画分を含有し、その際、小粒子画分の粒子が５μｍ未満のｄ５０を有する、請求項１〜２１のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項２３】
小粒子画分が全組成物重量の少なくとも２０重量％を構成する、請求項２２に記載の組成物。
【請求項２４】
研磨剤が、炭酸カルシウム、シリカ、およびその混合物から選択される、請求項２２または請求項２３に記載の組成物。
【請求項２５】
研磨剤が全組成物重量の１５から７０重量％までを構成する、請求項２２〜２４のいずれか１項に記載の組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成27年3月31日(2015.3.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
Ｌ−立体配置を有する遊離または生理的に許容できる塩の形の塩基性アミノ酸、酸源、および可溶性のカルボネート塩を含む発泡性組成物であって、
塩基性アミノ酸が重炭酸アルギニンであり、
酸源がクエン酸であり、
該組成物を唾液中で溶解すると二酸化炭素を生成し、
該組成物が口内洗浄剤の形、又は粉末若しくは顆粒の形である、
前記組成物。
【請求項２】
炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムおよびそれらの組み合わせから選択される第２の塩基性塩をさらに含む、請求項１に記載の組成物。
【請求項３】
可溶性のカルボネート塩が炭酸水素カリウムである、請求項２に記載の組成物。
【請求項４】
組成物が食用である、請求項１〜３のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項５】
フッ化物イオンの源をさらに含む、請求項１〜４のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項６】
防腐剤または抗微生物化合物をさらに含む、請求項１〜５のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項７】
鎮痛剤、解熱剤、抗炎症剤、オピオイド類、およびビタミン類から選択される追加の成分をさらに含む、請求項１〜６のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項８】
口内洗浄剤の形である、請求項１〜７のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項９】
粉末または顆粒の形である、請求項１〜８のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項１０】
酸源を含む構成要素および可溶性カルボネート塩を含む構成要素が別々の区画の中に包装されているが一緒に分配されるような二重の構成要素の製品である、請求項１〜９のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項１１】
水分の少ないまたは水分の無い組成物である、請求項１０に記載の組成物。
【請求項１２】
使用の際にカプセルの包みが壊れて酸源および可溶性カルボネート塩が反応して二酸化炭素が放出されるように酸源または可溶性カルボネート塩のどちらかがカプセルに包まれている、請求項１０に記載の組成物。
【請求項１３】
請求項１〜１２のいずれか１項に記載の組成物であって：（ｉ）齲食形成の低減または抑制用、（ｉｉ）例えば定量的光誘導蛍光法（ＱＬＦ）または電気伝導度測定（ＥＣＭ）により検出されるエナメル質の前齲食病変の低減、修復または抑制用、（ｉｉｉ）歯の脱灰の低減または抑制による再石灰化の促進用、（ｉｖ）歯の過敏性の低減用、（ｖ）歯肉炎の低減または抑制用、（ｖｉ）口の中の潰瘍または切り傷の治癒の促進用、（ｖｉｉ）酸を産生する細菌のレベルの低減用、（ｖｉｉｉ）アルギノ分解性細菌の相対的なレベルの増大用、（ｉｘ）口腔中での微生物のバイオフィルムの形成抑制用、（ｘ）プラークのｐＨの少なくともｐＨ５．５のレベルへの上昇、および／または維持用、（ｘｉ）プラークの蓄積の低減用、（ｘｉｉ）歯および口腔の清浄化用、（ｘｉｉｉ）齲食原性細菌に対する免疫性の歯への付与用、（ｘｉｖ）酸食の低減用、（ｘｖ）全身の健康の増進用、および／または（ｘｖｉ）口内乾燥の処置または抑制用の組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成27年5月11日(2015.5.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ＣＰＵと、ＲＯＭと、ＲＡＭと、を有する制御部を備える遊技機において、
ＣＰＵは、ＲＯＭに書き込まれたプログラムに基づき、ＲＡＭをワークエリアとして使用し、
外部電圧が遮断されたときに、ＲＡＭの内容を保持するＲＡＭバックアップ機能を備え、
電源投入時にＲＡＭクリアスイッチの操作があった場合は、ＲＡＭクリア信号に基づきＲＡＭの内容を消去するように構成され、
ＲＡＭクリアスイッチは、抵抗を介しＣＰＵに電気的に接続されていることを特徴とする遊技機。
【請求項２】
請求項１に記載の遊技機において、
電源投入に基づいて外部電圧を受電し、制御部に対して電圧を供給する分電部と、外部電圧の受電を遮断可能な第１遮断部と、を備えることを特徴とする遊技機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００２】
一般に、パチンコ機等の遊技機においてはコンピュータ制御が採り入れられており、遊技機の電源投入時から通常の遊技時に至るまで、ＣＰＵにおいて遊技制御に必要な信号が生成され、各種遊技装置の制御が行なわれている。このようなＣＰＵを含む制御部は、制御の効率化及び構成の単純化のために２以上に分けて構成される場合が多く、例えば遊技の制御を司る主制御部と、該主制御部に従って作動する複数の副制御部とに分けて構成されている。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
本発明の課題は、電源立上げ時の動作不良の発生を抑制することが可能な遊技機を提供することにある。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
上記課題を解決するために、本発明の遊技機は、
ＣＰＵと、ＲＯＭと、ＲＡＭと、を有する制御部を備える遊技機において、
ＣＰＵは、ＲＯＭに書き込まれたプログラムに基づき、ＲＡＭをワークエリアとして使用し、
外部電圧が遮断されたときに、ＲＡＭの内容を保持するＲＡＭバックアップ機能を備え、
電源投入時にＲＡＭクリアスイッチの操作があった場合は、ＲＡＭクリア信号に基づきＲＡＭの内容を消去するように構成され、
ＲＡＭクリアスイッチは、抵抗を介しＣＰＵに電気的に接続されていることを特徴とする。
また、電源投入に基づいて外部電圧を受電し、制御部に対して電圧を供給する分電部と、外部電圧の受電を遮断可能な第１遮断部と、を備えることを特徴とする。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
また、本明細書において参考的に開示する参考発明の遊技機は、遊技の制御を司る主制御部と、該主制御部に従って作動する副制御部と、これら制御部に対して電源電圧を出力するための電源電圧出力部とを有し、前記電源電圧出力部は、前記副制御部からの信号に基づいて、前記主制御部に対して前記電源電圧を出力する制御を行う出力制御手段と、前記電源電圧出力部において前記副制御部からの信号を所定のタイミングで受信できなかった場合に、エラーと判断するエラー検出手段と、を備え、前記エラーの検出があった場合にエラー報知を行なうを備えることを特徴とする。
このような遊技機によると、主制御部を作動させるための電源電圧が、副制御部からの信号に基づいて出力されるため、主制御部が作動する前に副制御部が作動するものとなり、例えば主制御部が作動した後における主制御部からの制御信号を副制御部側で取りこぼす等の問題が生じ難くなり得る。さらに電源電圧出力部（出力制御手段）において、副制御部からの信号が所定のタイミングで受信されない場合、もしくは所定の信号と異なる信号を受信した場合等はエラー検出することも可能となり、一層確実に電源出力時（電源投入時）の制御を行うことが可能となり得る。なお、報知手段を当該遊技機に設け、エラー検出があった場合には該報知手段によりエラーの旨を報知するものとすることもできる。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
また、本明細書において参考的に開示する参考発明の遊技機は、遊技の制御を司る主制御部と、該主制御部に従って作動する複数の副制御部と、これら制御部に対して電源電圧を出力するための電源電圧出力部とを有し、前記副制御部は、その作動の立ち上がりを示す作動生起信号を出力可能とされており、前記電源電圧出力部は、当該電源電圧の投入時に、前記副制御部に前記電源電圧を出力した後、前記複数の副制御部からの作動生起信号をそれぞれ受信した場合に前記電源電圧を前記主制御部に出力する制御を行う出力制御手段を備えることを特徴とする。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
以下、本発明の遊技機において、付加可能な構成について説明する。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
電源立上げ時の動作不良の発生を抑制することが可能である。