【事件の表示】
　特願２０１７−１１７６６６「反射防止フィルムおよびその製造方法、ならびに反射防止層付き偏光板」拒絶査定不服審判事件〔平成２９年１２月２８日出願公開、特開２０１７−２２７８９８、請求項の数（１４）〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　原査定を取り消す。
　本願の発明は、特許すべきものとする。
【理　由】
第１　手続の経緯
　本願は、平成２９年６月１５日（先の出願に基づく優先権主張　平成２８年６月１７日）の出願であって、平成３０年１２月２１日付で拒絶理由が通知され、平成３１年３月６日に意見書の提出とともに手続補正がなされ、令和元年５月２１日付で拒絶査定（以下、「原査定」という。）がされ、これに対して、同年８月２７日に拒絶査定不服審判の請求と同時に手続補正（以下、「本件補正」という。）がなされたものである。
第２　原査定の概要
　原査定の拒絶理由の概要は、本願の請求項１〜１４に係る発明は、先の出願前に日本国内又は外国において、頒布された以下の引用文献２、５及び６、又は、引用文献４〜６に記載された発明に基づいて、その出願前にその発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者（以下、「当業者」という。）が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない、というものである。
　なお、原査定の拒絶理由の引用文献は、次のとおりであり、引用文献２又は引用文献４を主引用発明が記載された文献として引用し、引用文献５及び引用文献６は、周知技術を示す文献として引用している。
　　引用文献２：特開２００９−２８２２１９号公報
　　引用文献４：特開２００８−２３３６６７号公報
　　引用文献５：特開２００６−２２０９０６号公報
　　引用文献６：特開２０１３−１７８５３４号公報
第３　本件発明
　本願の請求項１〜１４に係る発明（以下、「本件発明１」〜「本件発明１４」という。）は、本件補正により補正された特許請求の範囲の請求項１〜１４に記載された事項により特定される、次のとおりの発明である。
「　　【請求項１】
　透明フィルム基材の一方の主面に、屈折率が異なる複数の薄膜からなる反射防止層を備える反射防止フィルムであって、
　透湿度が２０〜１０００ｇ／ｍ２・２４ｈであり、
　反射防止層表面の押込弾性率が２０〜１００ＧＰａであり、算術平均粗さＲａが１．３ｎｍ以下である、反射防止フィルム。
　　【請求項２】
　前記透明フィルム基材は、前記反射防止層の形成面側にハードコート層を備える、請求項１に記載の反射防止フィルム。
　　【請求項３】
　前記ハードコート層がアクリルウレタン系樹脂を含む、請求項２に記載の反射防止フィルム。
　　【請求項４】
　前記ハードコート層は、樹脂マトリクス中に微粒子が分散している防眩性ハードコート層である、請求項２または３に記載の反射防止フィルム。
　　【請求項５】
　前記反射防止層上に防汚層を備える、請求項１〜４のいずれか１項に記載の反射防止フィルム。
　　【請求項６】
　前記反射防止層は、酸化ニオブ薄膜と酸化シリコン薄膜との交互積層体である、請求項１〜５のいずれか１項に記載の反射防止フィルム。
　　【請求項７】
　偏光子の一方の面に、請求項１〜６のいずれか１項に記載の反射防止フィルムを備える反射防止層付き偏光板。
　　【請求項８】
　請求項１〜５のいずれか１項に記載の反射防止フィルムを製造する方法であって、
　反射防止層を構成する薄膜が、スパッタ法により成膜される、反射防止フィルムの製造方法。
　　【請求項９】
　反射防止層を構成する薄膜のスパッタ成膜時の圧力が０．４Ｐａ以上である、請求項８に記載の反射防止フィルムの製造方法。
　　【請求項１０】
　反射防止層を構成する薄膜が、成膜室内に不活性ガスおよび反応性ガスを導入しながら反応性スパッタにより成膜される、請求項８または９に記載の反射防止フィルムの製造方法。
　　【請求項１１】
　反応性スパッタによる成膜が遷移領域となるように、前記反応性ガスの導入量の制御が行われる、請求項１０に記載の反射防止フィルムの製造方法。
　　【請求項１２】
　放電のプラズマ発光強度を検知し、プラズマ発光強度に基づいて、前記反応性ガスの導入量の制御が行われる、請求項１０または１１に記載の反射防止フィルムの製造方法。
　　【請求項１３】
　放電電圧を検知し、放電電圧に基づいて、前記反応性ガスの導入量の制御が行われる、請求項１０または１１に記載の反射防止フィルムの製造方法。
　　【請求項１４】
　反射防止層を構成する薄膜のスパッタ成膜時のターゲット表面の磁束密度が２０ｍＴ以上である、請求項８〜１３のいずれか１項に記載の反射防止フィルムの製造方法。」
第４　引用文献の記載事項及び引用文献に記載された発明
１　引用文献２
（１）引用文献２の記載事項
　原査定の拒絶理由において主引用発明が記載された文献として引用され、先の出願前の平成２１年１２月３日に頒布された刊行物である特開２００９−２８２２１９号公報（以下、「引用文献２」という。）には、以下の記載事項がある。なお、合議体が発明の認定等に用いた箇所に下線を付した。他の文献についても同様である。
ア　「【技術分野】
【０００１】
　本発明は、反射防止フィルム及び反射防止フィルムを有する偏光板に関する。特に、後工程により発生する外観不良が少ないため、収率が良く、高密度かつ機械強度が強く、更に偏光板保護フィルムの外観不良や加水分解等の劣化の少ない環境耐久性に優れた反射防止フィルム及び反射防止フィルムを有する偏光板に関する。
　　　　　　　　　　　　　　　（中略）
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
　本発明は、収率が良く、緻密かつ耐擦傷性機械特性が強く、さらに透湿度及び揮発ガスの透過度が高く、高湿熱耐久性の高い反射防止フィルム及び反射防止フィルムを有する偏光板を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
　本発明の請求項１に係る発明は、透明基材フィルムと、透明基材フィルムの一方の面上に形成されたハードコート層と、ハードコート層上に形成された反射防止層と、を順次積層してなる反射防止フィルムであって、反射防止フィルムは、温度２３℃、乾燥状態でのアルゴンガスの気体透過度が、５．０×１０−１６ｍｏｌ／ｍ２・ｓ・Ｐａ以上であることを特徴とする反射防止フィルムとしたものである。
【０００９】
　本発明の請求項２に係る発明は、反射防止層は、酸化ニオブを有する高屈折率透明薄膜層と酸化シリコンを有する低屈折率透明薄膜層とを４層以上交互に積層させ、反射防止層の最外層が低屈折率透明薄膜層であることを特徴とする反射防止フィルムとしたものである。
【００１０】
　本発明の請求項３に係る発明は、ハードコート層と反射防止層との間に、金属、または、２種類以上の金属からなる合金、または、金属化合物、または、それらの混合物よりなり、１層以上からなるプライマー層を設けたことを特徴とする請求項１または２に記載の反射防止フィルムとしたものである。
【００１１】
　本発明の請求項４に係る発明は、反射防止層上に防汚層を形成したことを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の反射防止フィルムとしたものである。
【００１２】
　本発明の請求項５に係る発明は、防汚層の表面の算術平均粗さＲａが、１．０ｎｍ以上５．０ｎｍ以下であることを特徴とする請求項４に記載の反射防止フィルムとしたものである。
　　　　　　　　　　　　　　　（中略）
【００１４】
　本発明の請求項７に係る発明は、反射防止フィルムは温度４０℃、相対湿度９０％ＲＨにおける水蒸気透過度が、１０ｇ／ｍ２／ｄａｙ以上であることを特徴とする請求項１乃至６のいずれかに記載の反射防止フィルムとしたものである。
【００１５】
　本発明の請求項８に係る発明は、請求項１乃至７のいずれかに記載の反射防止フィルムを有することを特徴とする偏光板としたものである。
【発明の効果】
【００１６】
　本発明によれば、成膜時の生産安定性が高く、後工程における外観不良の発生の少ない、非常に収率の高い生産性を有し、耐擦傷性試験、鉛筆硬度試験などの機械特性に優れ、さらに適度なガス透過度、透湿性を有することから、高温環境下での耐久性に優れた反射防止フィルム及び反射防止フィルムを有する偏光板を提供することができる。」
イ　「【００１８】
　図１に示すように、本発明の実施の形態に係る反射防止フィルム１００は、透明基材フィルム１、ハードコート層２、プライマー層３、反射防止層４が順次積層されている。さらに反射防止層４上に防汚層５が積層されている。
【００１９】
　本発明の実施の形態に係る透明基材フィルム１としては、偏光子を吸着させたポリビニルアルコールフィルムの表面保護層となる基材を用いることができる。
　　　　　　　　　　　　　　　（中略）
【００２０】
　透明基材フィルム１上に、反射防止層４（後述する）の機械強度を十分に発揮させるためにハードコート層２を設けることができる。本発明の実施の形態に係るハードコート層２の材料は、電離線や紫外線硬化型の樹脂、あるいは、熱硬化性樹脂を使用することができ、例えば紫外線硬化型のアクリル酸エステル類、アクリルアミド類、メタクリル酸エステル類、メタクリルアミド等のアクリル系樹脂や有機珪素系樹脂やポリシロキサン樹脂を用いることができる。これらの材料の中には、硬化性を向上させるために、重合開始剤を添加してもよい。ハードコート層２の厚みとしては、物理膜厚０．５μｍ以上、好ましくは、３μｍ以上２０μｍ以下である。また、ハードコート層２には、平均粒子０．０１μｍ以上３μｍ以下の透明微粒子を分散させて、防眩処理を施すことができる。
　　　　　　　　　　　　　　　（中略）
【００２３】
　ハードコート層２上に、プライマー層３を設けることができる。本発明の実施の形態に係るプライマー層３の材料は、例えば、シリコン、ニッケル、クロム、錫、金、銀、白金、亜鉛、チタン、タングステン、アルミニウム、ジルコニウム、パラジウム等の金属、または、これら金属の２種類以上を有する合金、または、これらの酸化物、弗化物、硫化物、窒化物などが挙げられ、これは混合物であってもよい。また、プライマー層３は２層以上を積層した構成であってもよい。
　　　　　　　　　　　　　　　（中略）
【００２５】
　本発明の実施の形態に係る反射防止層４としては、波長５５０ｎｍにおける光の屈折率が１．６未満でかつ波長５５０ｎｍにおける光の消衰係数が０．５以下の低屈折率透明薄膜層単層からなるものや、波長５５０ｎｍにおける光の屈折率が１．９以上の高屈折率透明薄膜層、光の屈折率１．６未満の低屈折率透明薄膜層、光の屈折率１．６〜１．９程度の中屈折率透明薄膜層などの屈折率の異なる光学薄膜を積層した複数層からなるものなどが挙げられる。複数層からなる反射防止層４は反射率がきわめて低く、反射防止性能が高いため好ましい。複数層からなる反射防止層４としては、透明基材フィルム１側より順番に、高屈折率透明薄膜層、低屈折率透明薄膜層、高屈折率透明薄膜層、低屈折率透明薄膜層とを積層した構成のものが挙げられる。
【００２６】
　これらの光学薄膜層からなる反射防止層４は、スパッタリング法、反応性スパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法、化学気相成長（ＣＶＤ）法などのドライコーティング方法で形成できる。膜厚均一性が高く、ピンホール等の欠陥が少ないため、視認性に優れ、緻密であり、耐擦傷性などの機械特性に優れた薄膜の形成が可能であるスパッタリング法を用いることが好ましい。中でも、より高い成膜速度と高い放電安定性により高生産性を得ることができることから、中周波領域の電圧印加により成膜を行うデュアル・マグネトロン・スパッタリング（ＤＭＳ）法が最適である。
【００２７】
　反射防止層４として用いられる高屈折率透明薄膜層の材料としては、インジウム、錫、チタン、シリコン、亜鉛、ジルコニウム、ニオブ、マグネシウム、ビスマス、セリウム、タンタル、アルミニウム、ゲルマニウム、カリウム、アンチモン、ネオジウム、ランタン、トリウム、ハフニウム等の金属、あるいは、これら金属の２種類以上からなる合金、これらの酸化物、弗化物、硫化物、窒化物などが挙げられる。具体的には、酸化チタン、酸化ニオブ、酸化ジルコニウム、酸化タンタル、酸化亜鉛、酸化インジウム、酸化セリウム等が挙げられるがこれに限られるものではない。また、複数積層する場合、必ずしも同じ材料を選択する必要はなく、目的にあわせて、適宜選択すればよい。中でも、スパッタリング法を用いる場合は、作製した薄膜のピンホールの少なさから、酸化ニオブが適している。
【００２８】
　反射防止層４として用いられる低屈折率透明薄膜層の材料としては、例えば、酸化シリコン、窒化チタン、弗化マグネシウム、弗化バリウム、弗化カルシウム、弗化ハフニウム、弗化ランタン等の材料が、挙げられるが本発明ではこれらに限定されるものではない。更に、複数積層する場合、必ずしも同じ材料を選択する必要がなく、目的にあわせて、適宜選択すればよい。特に、光学特性、機械強度、コスト、成膜適正などの面などから、酸化シリコンが最適な材料である。
【００２９】
　ここで、本発明の実施の形態で用いられるスパッタリング法においては、膜厚の均一制御性に優れ、ピンホール等の欠陥が少ないため、視認性が高く、更に後工程における外観不良も少ない、全生産段階において収率が高い利点を有する。更に、非常に緻密な膜を形成できるため、耐擦傷性等の機械特性に優れた反射防止層４の形成ができるという大きな利点を有する。一方で、このスパッタリング法を用いて成膜で形成した薄膜は、その膜の高密度性から、他の成膜方法に比べて、水蒸気のバリア性能が高いという特徴を持つ。
【００３０】
　必要に応じて、反射防止層４上の最表面層に防汚層５を設けることができる。
　　　　　　　　　　　　　　　（中略）
【００３１】
　
反射防止層４の最表面層上に防汚層５を設けた場合には、防汚層５表面の算術平均粗さＲａは１．０ｎｍ以上５．０ｎｍ以下であることが好ましい。防汚層５表面の算術平均粗さＲａは、下層の反射防止層４の膜の密度に反映したパラメーターとすることができ、防汚層５表面の算術平均粗さＲａが１．０ｎｍ未満であると、下層である反射防止層４の膜の密度が高いため、反射防止フィルム１００の温度２３℃、乾燥状態でのアルゴンガスの気体透過度を５．０×１０−１６ｍｏｌ／ｍ２・ｓ・Ｐａ以上とすることが困難となる。一方、防汚層５表面の算術平均粗さＲａが５．０ｎｍを超えると、反射防止層４の膜の密度が低く、十分な耐擦傷性や密着性等の機械特性を得ることができなくなる場合がある。
　　　　　　　　　　　　　　　（中略）
【００４０】
　偏光板１０１の表面保護膜として汎用されているトリアセチルセルロースフィルム（透明基材フィルム１）の場合、厚さ１００μｍの水蒸気透過速度は温度２５℃相対湿度９０％で１２０ｇ／ｍ２／ｄａｙ以上１６０ｇ／ｍ２／ｄａｙ以下、温度４０℃相対湿度９０％で３８０ｇ／ｍ２／ｄａｙとなる。このトリアセチルセルロースフィルム上に、様々な層を積層することで、水蒸気はトリアセチルセルロースフィルムを透過しにくくなる。特に、優れた機械特性を有し、緻密な膜を積層してなる反射防止層４の水蒸気透過速度は、ほぼゼロに近く、優れた水蒸気バリア性能を示す。特に、スパッタリング法で作製した膜は、緻密な膜が形成されるため、水蒸気バリア性能の高い膜が形成される。
【００４１】
　この時、反射防止層４の水蒸気バリア性能が高すぎると、反射防止フィルム１００内部の水分が外部への逃げ道をなくし、反射防止フィルム１００内部に滞り、耐久性を低下させる一要因となることから、環境耐久性を必要とする用途においては、反射防止フィルム１００全体の水蒸気透過速度を適度に速めるように性能を改善する必要がある。
【００４２】
　本発明の実施の形態に係る反射防止フィルム１００は、適度な透湿性を保持し、かつ、良好な密着性を有するために、温度４０℃、相対湿度９０％ＲＨにおける水蒸気透過度が、１０ｇ／ｍ２／ｄａｙ以上であることが好ましく、３５ｇ／ｍ２／ｄａｙ以上２５０ｇ／ｍ２／ｄａｙ以下であることがさらに好ましい。」
ウ　「【実施例】
【００４３】
　以下、本発明を実施例および比較例によりさらに説明するが、本発明は下記実施例に限定されるものではない。
【００４４】
　図１に示すように、
透明基材フィルム１に厚さ８０μｍのトリアセチルセルロースを用いた。透明基材フィルム１上に紫外線硬化型アクリル系樹脂を塗布し、乾燥・紫外線硬化させて５μｍのハードコート層２を設けた後、４０℃の１．５Ｎ−ＮａＯＨ溶液にフィルムを２分間浸漬し、水洗し乾燥させた。次に、鹸化処理を施したハードコート層２上に、グロープラズマ処理を施し、プライマー層３として、スパッタリング法を用いて、ＳｉＯ層を、膜厚３ｎｍで成膜した。
【００４５】
　
次に、反射防止層４はスパッタリング法を用いて、
層構成をハードコート層３側からＮｂ２Ｏ５／ＳｉＯ２／Ｎｂ２Ｏ５／ＳｉＯ２、各層の膜厚は、それぞれ１５ｎｍ／２５ｎｍ／１０５ｎｍ／８５ｎｍとなるように成膜を行った。反射防止層４を積層した後、気体透過度測定、水蒸気透過度測定、反射防止層表面の算術平均粗さＲａを測定した。
【００４６】
［実施例１］
　
反射防止層４の成膜条件を、ＳｉＯ２成膜時に導入されるＡｒ流量とＯ２の流量比をＡｒ流量／Ｏ２流量＝８．２〜１１．７の間とし、Ｎｂ２Ｏ５成膜時に導入されるＡｒ流量とＯ２の流量比をＡｒ流量／Ｏ２流量＝４．３〜１１．７の間とし、反射防止層４を形成した。
【００４７】
［実施例２］
　反射防止層４の成膜条件を、ＳｉＯ２成膜時に導入されるＡｒ流量とＯ２の流量比をＡｒ流量／Ｏ２流量＝１３．０〜１８．６の間とし、Ｎｂ２Ｏ５成膜時に導入されるＡｒ流量とＯ２の流量比をＡｒ流量／Ｏ２流量＝６．８〜１８．６の間とし、反射防止層４を形成した。
【００４８】
［比較例１］
　反射防止層４の成膜条件を、ＳｉＯ２成膜時に導入されるＡｒ流量とＯ２の流量比とをＡｒ流量／Ｏ２流量＝３．０〜４．３の間とし、Ｎｂ２Ｏ５成膜時に導入されるＡｒ流量とＯ２の流量比をＡｒ流量／Ｏ２流量＝１．６〜４．３の間とし、反射防止層４を形成した。
【００４９】
　このように、作製した反射防止フィルム１００の裏面（ハードコート層２が形成されていない面）に、図２に示すように、ヨウ素により染色した厚さ２５μｍの偏光膜（ポリビニルアルコールフィルム）１０、厚さ８０μｍの透明基材フィルム１を貼り合わせ、反射防止機能付きの偏光板１０１を作製し、外観不良を目視にて確認した。
【００５０】
［評価］
　実施例１、２及び比較例１で得られたサンプルを以下の方法で評価した。結果は表１に示す。
　　　　　　　　　　　　　　　（中略）
【００５２】
（２）機械強度
　スチールウール＃００００を擦傷試験機に固定し、５００ｇｆの荷重をかけて、１０往復の擦傷試験を各サンプルの反射防止層に対して行い、サンプルの磨耗状態（傷本数）を目視で観測した。判定基準を以下に示す。
◎：傷無し
○：傷１０本未満
×：傷１０本以上
　　　　　　　　　　　　　　　（中略）
【００５４】
（４）耐湿熱性試験
　実施例１、２及び比較例１で作製した偏光板１０１を、粘着フィルムを介して、ガラスに貼り付け、温度６０℃、相対湿度９５％のドライ環境の条件下に設定した恒温恒湿槽内に５００時間、保持し、耐久性の評価を行った。トリアセチルセルロースフィルムの加水分解などの劣化の有無を、目視にて及び酢酸臭の確認及び赤外分光測定におけるカルボニル基の吸収スペクトルの変化により判断した。
◎：劣化なし
○：一部劣化あり
×：劣化大
　　　　　　　　　　　　　　　（中略）
【００５７】
（７）水蒸気透過度
　それぞれ、偏光膜１０を貼り付ける前の、反射防止フィルム１００において、温度４０℃、相対湿度９０％Ｒｈの環境下における、水蒸気透過度を測定した。水蒸気透過度の測定は、ＪＩＳ　Ｚ０２０８に順ずる方法を用いて測定した。
【００５８】
（８）算術平均粗さ測定
　反射防止フィルム１００表面の算術平均粗さ測定（ＪＩＳ　Ｂ　０６０１）を、原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）ＮａｎｏｓｃｏｐｅＩＩＩａ（Ｄｉｇｉｔａｌ　Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ社）を用いて行った。測定エリアは、１μｍ×１μｍとした。
【００５９】
【表１】
【００６０】
　
実施例１、２で作製した反射防止フィルム
（２）引用文献２に記載された発明
　引用文献２の記載事項ウの表１（段落【００５９】）からは、実施例１で作製した反射防止フィルムの水蒸気透過度が３５ｇ／ｍ２／ｄａｙであり、算術平均粗さが１．９ｎｍであったことがわかる。そうすると、引用文献２の記載事項ウに基づけば、引用文献２には、実施例１の反射防止フィルムとして、次の発明（以下、「引用発明２」という。）が記載されていると認められる。
「透明基材フィルムに厚さ８０μｍのトリアセチルセルロースを用い、透明基材フィルム上に紫外線硬化型アクリル系樹脂を塗布し、乾燥・紫外線硬化させて５μｍのハードコート層を設けた後、４０℃の１．５Ｎ−ＮａＯＨ溶液にフィルムを２分間浸漬し、水洗し乾燥させ、次に、鹸化処理を施したハードコート層上に、グロープラズマ処理を施し、プライマー層として、スパッタリング法を用いて、ＳｉＯ層を、膜厚３ｎｍで成膜し、次に、反射防止層の成膜条件を、ＳｉＯ２成膜時に導入されるＡｒ流量とＯ２の流量比をＡｒ流量／Ｏ２流量＝８．２〜１１．７の間とし、Ｎｂ２Ｏ５成膜時に導入されるＡｒ流量とＯ２の流量比をＡｒ流量／Ｏ２流量＝４．３〜１１．７の間とし、層構成をハードコート層側からＮｂ２Ｏ５／ＳｉＯ２／Ｎｂ２Ｏ５／ＳｉＯ２、各層の膜厚は、それぞれ１５ｎｍ／２５ｎｍ／１０５ｎｍ／８５ｎｍとなるように積層して反射防止層を形成して作製した、水蒸気透過度が３５ｇ／ｍ２／ｄａｙであり、反射防止層表面の算術平均粗さＲａが１．９ｎｍである、反射防止フィルム。」
２　引用文献４
（１）引用文献４の記載事項
　原査定の拒絶理由に主引用発明が記載された文献として引用され、先の出願前の平成２０年１０月２日に頒布された刊行物である特開２００８−２３３６６７号公報（以下、「引用文献４」という。）には、以下の記載事項がある。
ア　「【技術分野】
【０００１】
　本発明は、高密度で機械強度が強く、更に偏光板保護フィルムの加水分解等の劣化の少ない高耐久性の反射防止フィルムおよびこれを用いた偏光板に関する。
　　　　　　　　　　　　　　　（中略）
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
　上記の通り、スパッタリング法においては、膜厚の均一制御性に優れ、ピンホール等の欠陥が少ないため、視認性が高く、生産段階においては収率が高い利点を有する。更に、非常に緻密な膜を形成できるため、耐擦傷性等の機械特性に優れた反射防止膜層の形成が可能であるという大きな利点を有する。
【０００８】
　一方で、このスパッタリング成膜で形成した薄膜は、その膜の高密度性から、他の成膜方法に比べて、水蒸気のバリア性能が高いという特徴を持つ。従って、本発明は、緻密かつ耐擦傷性機械特性が強く、さらに透湿度が高く、高湿熱耐久性の高い反射防止フィルムおよびこれを有する偏光板の提供を目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
　請求項１に記載の発明は、透明基材フィルム上に、ハードコート層、２層以上のプライマー層、反射防止層を順次積層した反射防止フィルムであって、該２層以上のプライマー層が、金属あるいは金属化合物単体もしくは混合物よりなり、かつ、該２層以上のプライマー層が、異なる組成であることを特徴とする反射防止フィルムである。
　請求項２に記載の発明は、前記反射防止層が、屈折率の異なる光学薄膜層を複数積層してなることを特徴とする請求項１に記載の反射防止フィルムである。
　請求項３に記載の発明は、前記反射防止層が、スパッタリング法を用いて形成されたことを特徴とする請求項１または２に記載の反射防止フィルムである。
　請求項４に記載の発明は、前記ハードコート層と接する第一プライマー層が、表面に微小な凹凸を有しており、前記反射防止層と接する第二プライマー層と前記第一プライマー層の組成が異なることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の反射防止フィルムである。
　請求項５に記載の発明は、前記透明基材フィルムが、トリアセチルセルロースフィルムであることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の反射防止フィルムである。
　請求項６に記載の発明は、前記２層以上のプライマー層を形成する前に、前記ハードコート層を設けた透明基材フィルムにアルカリ鹸化処理を施したことを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の反射防止フィルムである。
　請求項７に記載の発明は、前記アルカリ鹸化処理を施した後に、前記ハードコート層表面に低温プラズマ表面処理を施したことを特徴とする請求項６に記載の反射防止フィルムである。
　請求項８に記載の発明は、前記第二プライマー層の膜厚が１０ｎｍ以下であり、かつ、前記第一プライマー層の膜厚が前記第二プライマー層の膜厚よりも薄いことを特徴とする請求項１〜７のいずれかに記載の反射防止フィルムである。
　請求項９に記載の発明は、前記反射防止層上に防汚層を積層したことを特徴とする請求項１〜８のいずれかに記載の反射防止フィルムである。
　請求項１０に記載の発明は、温度４０℃、相対湿度９０％ＲＨにおける水蒸気透過度が、２０ｇ／ｍ２／ｄａｙ以上であることを特徴とする請求項１〜９のいずれかに記載の反射防止フィルムである。
　請求項１１に記載の発明は、請求項１〜１０のいずれかに記載の反射防止フィルムを有することを特徴とする偏光板である。
【発明の効果】
【００１０】
　本発明によれば、耐擦傷性などの機械特性に優れ、高湿熱耐久性の高い反射防止フィルムおよびこれを有する偏光板が提供される。」
イ　「【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
　以下、本発明の実施の形態について説明する。図１は、本発明の反射防止フィルムの一実施形態の断面図である。
　図１において、本発明の反射防止フィルム１００は、透明基材フィルム１上に、ハードコート層２、第一プライマー層３、第２プライマー層４、反射防止層５が順次積層されている。さらに反射防止層５上に防汚層６が積層されている。
　透明基材フィルム１としては、偏光子を吸着させたポリビニルアルコールフィルムの表面保護層となる基材を適用する。
　　　　　　　　　　　　　　　（中略）
【００１２】
　透明基材フィルム１上に、反射防止層５の機械強度を十分に発揮させるためのハードコート層２を設けてもよい。このハードコート層２としては、電離線や紫外線硬化型の樹脂あるいは、熱硬化性樹脂が使用され、紫外線硬化型のアクリル酸エステル類、アクリルアミド類、メタクリル酸エステル類、メタクリルアミド等のアクリル系樹脂や有機珪素系樹脂やポリシロキサン樹脂が最適である。これらの材料の中には、硬化性を向上させるために、重合開始剤を添加してもよい。ハードコート層２の厚みとしては、物理膜厚０．５μｍ以上、好ましくは、３〜２０μｍである。また、ハードコート層２には、平均粒子０．０１〜３μｍの透明微粒子を分散させて、防眩処理を施しても良い。
　　　　　　　　　　　　　　　（中略）
【００１５】
　この後、ハードコート層２に、第一プライマー層３、第二プライマー層４を順番に設ける。プライマー層の材料としては、例えば、シリコン、ニッケル、クロム、錫、金、銀、白金、亜鉛、チタン、タングステン、ジルコニウム、パラジウム等の金属、あるいは、これら金属の２種類以上からなる合金、これらの酸化物、弗化物、硫化物、窒化物などの金属化合物が挙げられ、これは混合物であってもよい。このとき、第一プライマー層３と第二プライマー層４は異なる組成の膜を形成することが望ましい。
　　　　　　　　　　　　　　　（中略）
【００１９】
　反射防止層５としては、波長５５０ｎｍにおける光の屈折率が１．６未満でかつ波長５５０ｎｍにおける光の消衰係数が０．５以下の低屈折率透明薄膜層からなるものや、波長５５０ｎｍにおける光の屈折率が１．９以上の高屈折率透明薄膜層、光の屈折率１．６未満の低屈折率透明薄膜層、光の屈折率１．６〜１．９程度の中屈折率透明薄膜層などの屈折率の異なる光学薄膜を複数積層した物などが挙げられる。例えば、高屈折率透明薄膜層、低屈折率透明薄膜層を交互に積層したものとして、基材側より順番に、高屈折率透明薄膜層、低屈折率透明薄膜層、高屈折率透明薄膜層、低屈折率透明薄膜層と構成したものが挙げられる。
【００２０】
　高屈折率透明薄膜層の材料としては、インジウム、錫、チタン、シリコン、亜鉛、ジルコニウム、ニオブ、マグネシウム、ビスマス、セリウム、タンタル、アルミニウム、ゲルマニウム、カリウム、アンチモン、ネオジウム、ランタン、トリウム、ハフニウム無等の金属、あるいは、これら金属の２種類以上からなる合金、これらの酸化物、弗化物、硫化物、窒化物などが挙げられる。具体的には、酸化チタン、酸化ニオブ、酸化ジルコニウム、酸化タンタル、酸化亜鉛、酸化インジウム、酸化セリウム等が挙げられるがこれに限られるものではない。また、複数積層する場合、必ずしも同じ材料を選択する必要なく、目的にあわせて、適宜選択すればよい。
【００２１】
　低屈折率透明薄膜層の材料としては、例えば、酸化シリコン、窒化チタン、弗化マグネシウム、弗化バリウム、弗化カルシウム、弗化ハフニウム、弗化ランタン等の材料が、挙げられるがこれに限られるものでなく、更に、複数積層する場合、必ずしも同じ材料を選択する必要なく、目的にあわせて、適宜選択すればよい。
【００２２】
　中屈折率透明薄膜層としては、例えば、酸化アルミニウム、弗化セリウムなどが挙げられる。
【００２３】
　これらの光学薄膜層からなる反射防止層５は、スパッタリング法、反応性スパッタリング法、蒸着法、イオンプレーティング法、化学蒸着（ＣＶＤ）法などのドライコーティング方法で形成できる。膜厚均一性が高く、ピンホール等の欠陥が少ないため、より視認性に優れた薄膜の形成が可能であり、緻密な膜の形成が可能であることから、耐擦傷性などの機械特性に優れた薄膜の形成が可能であることからスパッタリング法を用いることが好ましい。中でも、より高い成膜速度と高い放電安定性により高生産性を得ることができることから、中周波領域の電圧印加により成膜を行うデュアル・マグネトロン・スパッタリング（ＤＭＳ）法が最適である。
【００２４】
　必要に応じて、反射防止層５の上、最表面層に防汚層６を設けても良い。
　　　　　　　　　　　　　　　（中略）
【００２７】
　反射防止層５は複数の無機化合物を積層させているが、少なくともどれか１層が優れた水蒸気バリア性があると、そのフィルム全体の水蒸気バリア性能は高くなる。どれか一層フィルム内部からの水分の抜けは少なくなるため、全体の水蒸気透過度が速くなるように性能を改善する必要がある。
【００２８】
　すなわち、本発明においては、反射防止層５の水蒸気透過度を調整するとともに、ハードコート層２と反射防止層５との間に、薄膜成長方向を不規則にする第一プライマー層３、密着性を付与する第二プライマー層４を挟む事で、例えばスパッタリング法の大きな利点である緻密な膜の形成が可能な特徴を有したまま、緻密な膜ゆえの特徴であった低い透湿性を改善し、適度な透湿性かつ密着性が良い高耐久性能を有した反射防止膜の形成が可能とした。
【００２９】
　本発明の反射防止フィルムは、温度４０℃、相対湿度９０％ＲＨにおける水蒸気透過度が、２０ｇ／ｍ２／ｄａｙ以上が好ましく、４０〜２５０ｇ／ｍ２／ｄａｙがさらに好ましい。」
ウ　「【実施例】
【００３１】
　以下、本発明を実施例および比較例によりさらに説明するが、本発明は下記例に限定されるものではない。
【００３２】
［実施例１］
　
透明基材フィルム１に厚さ８０μｍのトリアセチルセルロースを用い、紫外線硬化型アクリル系樹脂を塗布し、乾燥・紫外線硬化させて５μｍのハードコート層２を設けた後、４０℃の１．５Ｎ−ＮａＯＨ溶液にフィルムを２分間浸漬し、水洗し乾燥させた。
【００３３】
　
鹸化処理を施したハードコート層２上に、グロープラズマ処理を施し、第一プライマー層３として、Ａｌ２Ｏ３膜を、スパッタリング法により成膜した。成膜は、電力７ｋＷ、アルゴンガス流量１３００ｓｃｃｍの条件で２秒間成膜した。第二プライマー層４として、ＳｉＯ層を、電力２．０ｋＷ、アルゴンガス流量３００ｓｃｃｍの条件で、光学膜厚６ｎｍ成膜した。その後、反射防止層５として、成膜順に、ＴｉＯ２／ＳｉＯ２／ＴｉＯ２／ＳｉＯ２の４層設けた。ＴｉＯ２の成膜は、電力２．５ｋＷ、アルゴンガス流量３００ｓｃｃｍ、酸素ガス流量４０ｓｃｃｍ、ＳｉＯ２の成膜は、電力２．０ｋＷ、アルゴンガス流量３００ｓｃｃｍ、酸素ガス流量２０ｓｃｃｍ、それぞれ成膜中の真空層内の圧力は、０．５Ｐａで行った。
【００３４】
　
反射防止層各層の光学膜厚は、光学式の膜厚モニターにより、光量値を監視し、反射防止層の光学膜厚が、高屈折率透明薄膜層（ＴｉＯ２）、低屈折率透明薄膜層（ＳｉＯ２）、高屈折率透明薄膜層（ＴｉＯ２）、低屈折率透明薄膜層（ＳｉＯ２）として、それぞれ６０ｎｍ／４４ｎｍ／１０５ｎｍ／１４５ｎｍとなるように成膜時間を設定した。
【００３５】
　
このように、作成した反射防止フィルム１００
【００３６】
［実施例２］
　第一プライマー層３として、ＳｉＯ２膜を用いた以外は、実施例１と同じ条件で反射防止機能付きの偏光板を形成した。
　　　　　　　　　　　　　　　（中略）
【００４１】
［評価］
　実施例、比較例で得られたサンプルを以下の方法で評価した。結果は表１に示す。
【００４２】
（１）スチールウール擦傷試験
　スチールウール＃００００を擦傷試験機に固定し、５００ｇｆの荷重をかけて、１０往復の擦傷試験を各サンプルの反射防止層に対して行い、サンプルの磨耗状態（傷本数）を目視で観測した。
　　　　　　　　　　　　　　　（中略）
【００４４】
（３）耐湿熱性試験
　実施例および比較例で作成した偏光板を、粘着フィルムを介して、ガラスに貼り付け、温度６０℃、相対湿度９５％のドライ環境の条件下に設定した恒温恒湿槽内に保持し、耐久性の評価を行った。セルロースフィルムの加水分解などの劣化の有無を、目視にて及び酢酸臭の確認、及び赤外分光測定におけるカルボニル基の吸収スペクトルの変化により判断した。
【００４５】
（４）水蒸気透過度
　それぞれ、偏光板を貼り付ける前の、反射防止フィルムにおいて、温度４０℃、相対湿度９０％Ｒｈの環境下における、水蒸気透過度を測定した。水蒸気透過度の測定は、ＪＩＳ　Ｚ０２０８に順ずる方法を用いて測定した。
【００４６】
【表１】
【００４７】
　実施例１から２で作成した反射防止フィルムを備えた偏光板においては、耐擦傷性性能が良好なことから、密着性が良く、さらに、耐熱性および耐湿熱性において、１０００時間以上偏光板や偏光板の保護フィルムに変質のない優れた耐久性を有していることが確認できる。一方、比較例１の第一プライマー層のみでは、密着性が弱いことが、比較例２の第二プライマー層のみでは、密着性は良いものの、耐熱および耐湿熱試験、特に耐熱試験においては、２５０時間程度で加水分解反応が起こっていることが確認できた。」
（２）引用文献４に記載された発明
　引用文献４の記載事項ウの表１（段落【００４６】）には、実施例１で作成した反射防止フィルムの水蒸気透過度が５５．３ｇ／ｍ２／ｄａｙであったことがわかる。そうすると、引用文献４の記載事項ウに基づけば、引用文献４には、実施例１の反射防止フィルムとして、次の発明（以下、「引用発明４」という。）が記載されていると認められる。
「透明基材フィルムに厚さ８０μｍのトリアセチルセルロースを用い、紫外線硬化型アクリル系樹脂を塗布し、乾燥・紫外線硬化させて５μｍのハードコート層を設けた後、４０℃の１．５Ｎ−ＮａＯＨ溶液にフィルムを２分間浸漬し、水洗し乾燥させ、鹸化処理を施したハードコート層上に、グロープラズマ処理を施し、第一プライマー層として、Ａｌ２Ｏ３膜を、スパッタリング法により、電力７ｋＷ、アルゴンガス流量１３００ｓｃｃｍの条件で２秒間成膜し、第二プライマー層として、ＳｉＯ層を、電力２．０ｋＷ、アルゴンガス流量３００ｓｃｃｍの条件で、光学膜厚６ｎｍに成膜し、その後、反射防止層として、成膜順に、ＴｉＯ２／ＳｉＯ２／ＴｉＯ２／ＳｉＯ２の４層の成膜を、ＴｉＯ２の成膜は、電力２．５ｋＷ、アルゴンガス流量３００ｓｃｃｍ、酸素ガス流量４０ｓｃｃｍ、ＳｉＯ２の成膜は、電力２．０ｋＷ、アルゴンガス流量３００ｓｃｃｍ、酸素ガス流量２０ｓｃｃｍ、それぞれ成膜中の真空層内の圧力は、０．５Ｐａで行い、反射防止層各層の光学膜厚は、高屈折率透明薄膜層（ＴｉＯ２）、低屈折率透明薄膜層（ＳｉＯ２）、高屈折率透明薄膜層（ＴｉＯ２）、低屈折率透明薄膜層（ＳｉＯ２）として、それぞれ６０ｎｍ／４４ｎｍ／１０５ｎｍ／１４５ｎｍとなるように成膜時間を設定して作成した、水蒸気透過度が５５．３ｇ／ｍ２／ｄａｙである、反射防止フィルム。」
３　引用文献５の記載事項
　原査定の拒絶理由に周知技術を示す文献として引用され、先の出願前の平成１８年８月２４日に頒布された刊行物である特開２００６−２２０９０６号公報（以下、「引用文献５」という。）には、以下の記載事項がある。
「【００３２】
　これら微粒子を含有させることにより、低屈折率層（ｄ）の表面は、微粒子に由来する凹凸を有する。この凹凸により、干渉による反射防止だけでなく、散乱による反射防止効果も加わることで、波長４００〜７００ｎｍにおける表面反射スペクトルを全体に低反射率化させることが可能となる。
低屈折率層（ｄ）の表面粗さは、中心線平均粗さＲａが０．５〜１５．０ｎｍが好ましく、さらに最大高さＲｍａｘが５〜１５０ｎｍが好ましい。ＲａおよびＲｍａｘがこの範囲より低いと散乱による反射防止効果が少なくなり、逆にこの範囲を超えると、ヘイズや耐擦傷性が悪くなり、また指紋が拭き取りにくくなるので好ましくない。
第５　対比・判断
１　引用発明２に基づく判断
（１）本件発明１について
ア　対比
　本件発明１と引用発明２とを対比する。
（ア）透明フィルム基材
　引用発明２の「透明基材フィルム」は、技術的にみて、本件発明１の「透明フィルム基材」に相当する。
（イ）反射防止層
　引用発明２の「反射防止層」は、その「層構成をハードコート層側からＮｂ２Ｏ５／ＳｉＯ２／Ｎｂ２Ｏ５／ＳｉＯ２、各層の膜厚は、それぞれ１５ｎｍ／２５ｎｍ／１０５ｎｍ／８５ｎｍとなるように積層して」形成されたものである。そして、「Ｎｂ２Ｏ５」及び「ＳｉＯ２」の各層は、技術的にみて、屈折率が異なる層であるといえる（引用文献２の段落【００２７】及び段落【００２８】の記載からも明らかである。）。したがって、引用発明２の「反射防止層」は、本件発明１の「屈折率が異なる複数の薄膜からなる反射防止層」に相当する。
（ウ）反射防止フィルム
　引用発明２の「反射防止フィルム」は、前記（ア）の「透明基材フィルム」上に、「ハードコート層」を設けた後、「プライマー層」を成膜し、次に前記（イ）の「反射防止層」を形成して作製したものである。そうすると、引用発明２の「反射防止フィルム」は、本件発明１の「反射防止フィルム」に相当し、本件発明１の「透明フィルム基材の一方の主面に、屈折率が異なる複数の薄膜からなる反射防止層を備える」とする要件を満たしている。
（エ）透湿度
　引用発明２の「反射防止フィルム」は、「水蒸気透過度が３５ｇ／ｍ２／ｄａｙ」である。そうすると、引用発明２の「反射防止フィルム」は、本件発明１の「透湿度が２０〜１０００ｇ／ｍ２・２４ｈ」であるとする要件を満たしている。
（オ）一致点及び相違点
　以上より、本件発明１と引用発明２とは、
「透明フィルム基材の一方の主面に、屈折率が異なる複数の薄膜からなる反射防止層を備える反射防止フィルムであって、
　透湿度が２０〜１０００ｇ／ｍ２・２４ｈである、反射防止フィルム。」である点で一致し、以下の点で相違する。
［相違点１−１］「反射防止層」が、本件発明１は「表面の押込弾性率が２０〜１００ＧＰａ」であるのに対し、引用発明２は、これが明らかでない点。
［相違点１−２］「反射防止層表面の算術平均粗さＲａ」が、本件発明１は「１．３ｎｍ以下」であるのに対し、引用発明２は「１．９ｎｍ」である点。
イ　判断
　事案に鑑みて、［相違点１−２］について検討する。
　引用文献２の記載事項イには、「反射防止層４の最表面層上に防汚層５を設けた場合には、防汚層５表面の算術平均粗さＲａは１．０ｎｍ以上５．０ｎｍ以下であることが好ましい。防汚層５表面の算術平均粗さＲａは、下層の反射防止層４の膜の密度に反映したパラメーターとすることができ、防汚層５表面の算術平均粗さＲａが１．０ｎｍ未満であると、下層である反射防止層４の膜の密度が高いため、反射防止フィルム１００の温度２３℃、乾燥状態でのアルゴンガスの気体透過度を５．０×１０−１６ｍｏｌ／ｍ２・ｓ・Ｐａ以上とすることが困難となる。一方、防汚層５表面の算術平均粗さＲａが５．０ｎｍを超えると、反射防止層４の膜の密度が低く、十分な耐擦傷性や密着性等の機械特性を得ることができなくなる場合がある。」（段落【００３１】）と記載されている。当該記載は、直接「反応防止層」の算術平均粗さに関する記載ではないものの、反射防止フィルムの最表面の算術平均粗さＲａについて、十分な耐擦傷性や密着性等の機械特性を得るために、５．０ｎｍ以下とすることが示唆されているといえる。また、引用文献５における「低屈折率層（ｄ）の表面粗さは、中心線平均粗さＲａが０．５〜１５．０ｎｍが好ましく、さらに最大高さＲｍａｘが５〜１５０ｎｍが好ましい。ＲａおよびＲｍａｘがこの範囲より低いと散乱による反射防止効果が少なくなり、逆にこの範囲を超えると、ヘイズや耐擦傷性が悪くなり、また指紋が拭き取りにくくなるので好ましくない。」との記載に基づけば、ヘイズや耐擦傷性が悪くなり、また指紋が拭き取りにくくなることを避けるため、中心線平均粗さＲａが１５．０ｎｍを超えないように設定することが示唆されているといえる。
（当合議体注：中心線平均粗さＲａは、算術平均粗さＲａとＪＩＳの版が異なるが、同一視することができる。）
　しかしながら、「透湿度」を「２０〜１０００ｇ／ｍ２・２４ｈ」としつつ、反射防止層表面の算術平均粗さＲａを「１．３ｎｍ以下」とすることについては、いずれの文献にも記載も示唆もされていない。引用文献２の記載事項ウには、反射防止層表面の算術平均粗さが「１．３ｎｍ」である実験例が記載されているが、比較例とされており、水蒸気透過度についての要件を満たさないものである。また、引用文献５にも、算術平均粗さＲａが「１．３ｎｍ以下」である実施例は開示されておらず、他に、先の出願前において、「透湿度」を「２０〜１０００ｇ／ｍ２・２４ｈ」としつつ、算術平均粗さＲａを「１．３ｎｍ以下」とすることが、当業者に知られていたことを示す根拠を見いだすことができない。
（当合議体注：引用文献２の【００３１】には、防汚層表面の算術平均粗さＲａの下限値として、１．０ｎｍが記載されている。しかしながら、引用発明２において、反射防止層表面の算術平均粗さＲａを「１．３ｎｍ以下」とした場合には、透湿度が本件発明１の要件を満たさなくなり、結局、本件発明１の構成に到らない、というのが引用文献２の記載から理解される事項である。）
　そして、本願の明細書には、「反射防止層５表面の算術平均粗さＲａは、３ｎｍ以下が好ましく、１．８ｎｍ以下がより好ましく、１．５ｎｍ以下がさらに好ましく、１．３ｎｍ以下が特に好ましい。算術平均粗さを小さくすることにより、耐擦傷性が向上する傾向がある。特に、反射防止層５表面の算術平均粗さが１．５ｎｍ以下であれば、皮脂等の汚れが付着した際の拭き取り性が向上する傾向がある。一方、反射防止層５表面の算術平均粗さが過度に小さいと、フィルム製造時等のロール搬送が困難となる傾向があるため、反射防止層５の表面の算術平均粗さは、０．３ｎｍ以上が好ましく、０．５ｎｍ以上がより好ましい。」（段落【００４１】）と記載されており、算術平均粗さＲａを「１．３ｎｍ以下」とすることによって、耐擦傷性の向上に加えて、皮脂等の汚れが付着した際の拭き取り性も向上することが記載されている。そして、本願の実施例及び比較例を参酌すれば、算術平均粗さＲａを「１．３ｎｍ以下」とすることによって、顕著な効果の差異が生じることは明らかである。
　したがって、当業者であっても、引用発明２の算術平均粗さＲａについて「１．３ｎｍ以下」とすることが、容易になし得たということはできない。
ウ　小括
　以上のとおりであるから、［相違点１−１］について検討するまでもなく、本件発明１は、当業者であっても、引用発明２、引用文献２及び引用文献５の記載に基づいて容易に発明できたものではない。
（２）本件発明２〜１４について
　本件発明２〜１４は、本件発明１と同じ「算術平均粗さＲａが１．３ｎｍ以下」とする要件を具備している。そうすると、本件発明２〜１４も、本件発明１と同じ理由により、当業者であっても、引用発明２、引用文献２及び引用文献５の記載事項に基づいて容易に発明できたものとはいえない。
２　引用発明４に基づく判断
（１）本件発明１について
ア　対比
　本件発明１と引用発明４とを対比する。
（ア）透明フィルム基材
　引用発明４の「透明基材フィルム」は、技術的にみて、本件発明１の「透明フィルム基材」に相当する。
（イ）反射防止層
　引用発明４の「反射防止層」は、「成膜順に、ＴｉＯ２／ＳｉＯ２／ＴｉＯ２／ＳｉＯ２の４層」の成膜を、「高屈折率透明薄膜層（ＴｉＯ２）、低屈折率透明薄膜層（ＳｉＯ２）、高屈折率透明薄膜層（ＴｉＯ２）、低屈折率透明薄膜層（ＳｉＯ２）として、それぞれ６０ｎｍ／４４ｎｍ／１０５ｎｍ／１４５ｎｍ」となるように設定して作成されたものである。したがって、引用発明４の「反射防止層」は、本件発明１の「屈折率が異なる複数の薄膜からなる反射防止層」に相当する。
（ウ）反射防止フィルム
　引用発明４の「反射防止フィルム」は、前記（ア）の「透明基材フィルム」に、「ハードコート層」を設けた後、「第一プライマー層」及び「第二プライマー層」を成膜し、その後、前記（イ）の「反射防止層」を作成してものである。そうすると、引用発明４の「反射防止フィルム」は、本件発明１の「反射防止フィルム」に相当し、本件発明１の「透明フィルム基材の一方の主面に、屈折率が異なる複数の薄膜からなる反射防止層を備える」とする要件を満たしている。
（エ）透湿度
　引用発明４の「反射防止フィルム」は、「水蒸気透過度が５５．３ｇ／ｍ２／ｄａｙ」である。そうすると、引用発明４の「反射防止フィルム」は、本件発明１の「透湿度が２０〜１０００ｇ／ｍ２・２４ｈ」であるとする要件を満たしている。
（オ）一致点及び相違点
　以上より、本件発明１と引用発明４とは、
「透明フィルム基材の一方の主面に、屈折率が異なる複数の薄膜からなる反射防止層を備える反射防止フィルムであって、
　透湿度が２０〜１０００ｇ／ｍ２・２４ｈである、反射防止フィルム。」である点で一致し、以下の点で相違する。
［相違点２−１］「反射防止層」が、本件発明１は「表面の押込弾性率が２０〜１００ＧＰａ」であるのに対し、引用発明４は、これが明らかでない点。
［相違点２−２］「反射防止層表面の算術平均粗さＲａ」が、本件発明１は「１．３ｎｍ以下」であるのに対し、引用発明４は、これが明らかでない点。
イ　判断
　事案に鑑みて［相違点２−２］について検討する。
　引用文献５には、前記１（１）イに記載したとおり、ヘイズや耐擦傷性が悪くなり、また指紋が拭き取りにくくなることを避けるため、中心線平均粗さＲａが１５．０を超えないように設定することが示唆されているといえる。しかしながら、算術平均粗さＲａを「１．３ｎｍ以下」とすることについては、引用文献４及び引用文献５のいずれの文献にも記載も示唆もされていない。他に、先の出願前において、算術平均粗さＲａを「１．３ｎｍ以下」とすることが、当業者に知られていたことを示す根拠を見いだすこともできない。
　そして、本願の明細書には、算術平均粗さＲａを「１．３ｎｍ以下」とすることによって、耐擦傷性の向上に加えて、皮脂等の汚れが付着した際の拭き取り性も向上することが記載されており、本願の実施例及び比較例を参酌すれば、算術平均粗さＲａを「１．３ｎｍ以下」とすることによって、顕著な効果の差異が生じることは明らかである。
　したがって、当業者であっても、引用発明４の算術平均粗さＲａについて「１．３ｎｍ以下」とすることが、容易になし得たということはできない。
（当合議体注：引用文献５の【００３２】には、低屈折率層表面の中心線平均粗さ（算術平均粗さ）Ｒａの下限値として、０．５ｎｍが記載されている。しかしながら、この場合に、本件補正後発明１の「透湿度が２０〜１０００ｇ／ｍ２・２４ｈであり」という要件を満たしつつ、算術平均粗さＲａを「１．３ｎｍ以下」とすることができるとまではいえない。）
ウ　小括
　以上のとおりであるから、［相違点２−１］について検討するまでもなく、本件発明１は、当業者であっても、引用発明４、引用文献４及び引用文献５の記載に基づいて容易に発明できたものではない。
（２）本件発明２〜１４について
　本件発明２〜１４は、本件発明１と同じ「算術平均粗さＲａが１．３ｎｍ以下」とする要件を具備している。そうすると、本件発明２〜１４も、本件発明１と同じ理由により、当業者であっても、引用発明４、引用文献４及び引用文献５の記載事項に基づいて容易に発明できたものとはいえない。
第６　むすび
　以上のとおりであるから、原査定の理由によって、本願を拒絶することはできない。
　また、他に本願を拒絶すべき理由を発見しない。
　よって、結論のとおり審決する。