【手続補正書】
【提出日】平成27年7月21日(2015.7.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板の第一の面と反対側の第二の面側から前記第一の面までドライエッチングを行うことにより貫通口を形成する貫通口含有基板の製造方法であって、
（ａ）前記基板の前記第一の面における前記貫通口を形成する領域の周囲に溝を形成する工程と、
（ｂ）前記基板の前記第一の面における前記貫通口を形成する領域上及び前記溝内にエッチングストップ層を形成する工程と、
（ｃ）前記第二の面側から前記ドライエッチングを行うことにより、前記ドライエッチングによるエッチング面を前記領域上のエッチングストップ層に到達させ、前記貫通口を形成する工程と、
をこの順で有し、
前記溝内に形成するエッチングストップ層は、前記領域上に形成するエッチングストップ層よりも、前記第二の面に近い位置に位置することを特徴とする貫通口含有基板の製造方法。
【請求項２】
前記工程（ｃ）において、前記ドライエッチングによるエッチング面が前記領域上のエッチングストップ層に到達した後にオーバーエッチングを行うことにより、前記貫通口の前記第一の面側の開口部を前記溝まで広げさせる請求項１に記載の貫通口含有基板の製造方法。
【請求項３】
前記工程（ｃ）の後に、前記領域上のエッチングストップ層のうち少なくとも前記貫通口の前記第一の面側の開口部に相当する部分を除去する工程を有する請求項１又は２に記載の貫通口含有基板の製造方法。
【請求項４】
前記ドライエッチングはボッシュプロセスによるエッチングである請求項１乃至３のいずれか１項に記載の貫通口含有基板の製造方法。
【請求項５】
前記溝内に形成するエッチングストップ層と、前記領域上に形成するエッチングストップ層とは、連続的に形成された層である請求項１乃至４のいずれか１項に記載の貫通口含有基板の製造方法。
【請求項６】
請求項１乃至５のいずれか１項に記載の貫通口含有基板の製造方法を用いて液体供給口を形成することを特徴とする液体吐出ヘッド用基板の製造方法。
【請求項７】
液体を吐出するためのエネルギーを発生する吐出エネルギー発生素子を第一の面に有する基板と、該基板の前記第一の面側に、前記液体を吐出する液体吐出口及び該液体吐出口に連通する液体流路を構成する流路形成部材と、を備え、前記基板は前記液体流路に前記液体を供給する液体供給口を有する液体吐出ヘッドの製造方法であって、
（ａ）前記基板の前記第一の面における前記液体供給口を形成する領域の周囲に溝を形成する工程と、
（ｂ）前記基板の前記第一の面における前記液体供給口を形成する領域上及び前記溝内にエッチングストップ層を形成する工程と、
（ｃ）前記第一の面と反対側の第二の面側からドライエッチングを行うことにより、前記ドライエッチングによるエッチング面を前記領域上のエッチングストップ層に到達させ、前記液体供給口を形成する工程と、
をこの順で有し、
前記溝内に形成するエッチングストップ層は、前記領域上に形成するエッチングストップ層よりも、前記第二の面に近い位置に位置することを特徴とする液体吐出ヘッドの製造方法。
【請求項８】
前記工程（ｃ）において、前記ドライエッチングによるエッチング面が前記領域上のエッチングストップ層に到達した後にオーバーエッチングを行うことにより、前記液体供給口の前記第一の面側の開口部を前記溝まで広げさせる請求項７に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
【請求項９】
前記領域上のエッチングストップ層は前記液体流路の流路型材を兼ねる請求項７又は８に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
【請求項１０】
前記工程（ｂ）において、前記液体流路に相当する部分、前記液体供給口を形成する領域及び前記溝内に、溶解可能な樹脂を用いて前記流路型材を形成することにより、前記領域上及び前記溝内のエッチングストップ層を形成する請求項９に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
【請求項１１】
前記工程（ｃ）の後、前記流路型材を溶解除去する工程を有する請求項１０に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
【請求項１２】
前記領域上のエッチングストップ層は前記吐出エネルギー発生素子上の絶縁層を兼ねる請求項７又は８に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
【請求項１３】
前記工程（ｂ）において、前記絶縁層を、前記基板上であって、前記吐出エネルギー発生素子の上、前記液体供給口を形成する領域の上及び前記溝内に形成することにより、前記領域上及び前記溝内のエッチングストップ層を形成する請求項１２に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
【請求項１４】
前記工程（ｃ）の後、前記領域上のエッチングストップ層のうち少なくとも前記液体供給口の前記第一の面側の開口部に連通する部分を除去する工程を有する請求項１３に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
【請求項１５】
前記ドライエッチングはボッシュプロセスによるエッチングである請求項７乃至１４のいずれか１項に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
【請求項１６】
前記溝の深さは１〜３０μｍである請求項７乃至１５のいずれか１項に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
【請求項１７】
前記溝内に形成するエッチングストップ層と、前記領域上に形成するエッチングストップ層とは、連続的に形成された層である請求項７乃至１６のいずれか１項に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
本発明の一は、
基板の第一の面と反対側の第二の面側から前記第一の面までドライエッチングを行うことにより貫通口を形成する貫通口含有基板の製造方法であって、
（ａ）前記基板の前記第一の面における前記貫通口を形成する領域の周囲に溝を形成する工程と、
（ｂ）前記基板の前記第一の面における前記貫通口を形成する領域上及び前記溝内にエッチングストップ層を形成する工程と、
（ｃ）前記第二の面側から前記ドライエッチングを行うことにより、前記ドライエッチングによるエッチング面を前記領域上のエッチングストップ層に到達させ、前記貫通口を形成する工程と、
をこの順で有し、
前記溝内に形成するエッチングストップ層は、前記領域上に形成するエッチングストップ層よりも、前記第二の面に近い位置に位置することを特徴とする貫通口含有基板の製造方法である。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
また、本発明の一は、
液体を吐出するためのエネルギーを発生する吐出エネルギー発生素子を第一の面に有する基板と、該基板の前記第一の面側に、前記液体を吐出する液体吐出口及び該液体吐出口に連通する液体流路を構成する流路形成部材と、を備え、前記基板は前記液体流路に前記液体を供給する液体供給口を有する液体吐出ヘッドの製造方法であって、
（ａ）前記基板の前記第一の面における前記液体供給口を形成する領域の周囲に溝を形成する工程と、
（ｂ）前記基板の前記第一の面における前記液体供給口を形成する領域上及び前記溝内にエッチングストップ層を形成する工程と、
（ｃ）前記第一の面と反対側の第二の面側からドライエッチングを行うことにより、前記ドライエッチングによるエッチング面を前記領域上のエッチングストップ層に到達させ、前記液体供給口を形成する工程と、
をこの順で有し、
前記溝内に形成するエッチングストップ層は、前記領域上に形成するエッチングストップ層よりも、前記第二の面に近い位置に位置することを特徴とする液体吐出ヘッドの製造方法である。