【手続補正書】
【提出日】平成27年4月7日(2015.4.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
砥粒と水とを含有するスラリーであって、
前記砥粒が、４価金属元素の水酸化物を含み、且つ、該砥粒の含有量を１．０質量％に調整した水分散液において波長４００ｎｍの光に対して吸光度１．５０以上を与えるものであり、且つ、前記砥粒の含有量を１．０質量％に調整した水分散液において波長５００ｎｍの光に対して光透過率５０％／ｃｍ以上を与えるものであり、
前記スラリーのｐＨが２．０〜９．０である、スラリー。
【請求項２】
砥粒と水とを含有するスラリーであって、
前記砥粒が、４価金属元素の水酸化物を含み、且つ、該砥粒の含有量を１．０質量％に調整した水分散液において波長４００ｎｍの光に対して吸光度１．５０以上を与えるものであり、且つ、前記砥粒の含有量を１．０質量％に調整した水分散液において波長５００ｎｍの光に対して光透過率５０％／ｃｍ以上を与えるものであり、
前記砥粒の平均二次粒子径が１〜２００ｎｍである、スラリー。
【請求項３】
砥粒と水とを含有するスラリーであって、
前記砥粒が、４価金属元素の水酸化物を含み、且つ、該砥粒の含有量を０．００６５質量％に調整した水分散液において波長２９０ｎｍの光に対して吸光度１．０００以上を与えるものであり、且つ、前記砥粒の含有量を１．０質量％に調整した水分散液において波長５００ｎｍの光に対して光透過率５０％／ｃｍ以上を与えるものであり、
前記スラリーのｐＨが２．０〜９．０である、スラリー。
【請求項４】
砥粒と水とを含有するスラリーであって、
前記砥粒が、４価金属元素の水酸化物を含み、且つ、該砥粒の含有量を０．００６５質量％に調整した水分散液において波長２９０ｎｍの光に対して吸光度１．０００以上を与えるものであり、且つ、前記砥粒の含有量を１．０質量％に調整した水分散液において波長５００ｎｍの光に対して光透過率５０％／ｃｍ以上を与えるものであり、
前記砥粒の平均二次粒子径が１〜２００ｎｍである、スラリー。
【請求項５】
前記砥粒が、該砥粒の含有量を１．０質量％に調整した水分散液において波長４００ｎｍの光に対して吸光度１．５０以上を与えるものである、請求項３又は４に記載のスラリー。
【請求項６】
前記４価金属元素の水酸化物が、４価金属元素の塩とアルカリ液とを混合して得られるものである、請求項１〜５のいずれか一項に記載のスラリー。
【請求項７】
前記４価金属元素が４価セリウムである、請求項１〜６のいずれか一項に記載のスラリー。
【請求項８】
砥粒と水とを含有するスラリーであって、
前記砥粒が、４価金属元素の水酸化物を含み、且つ、該砥粒の含有量を１．０質量％に調整した水分散液において波長４００ｎｍの光に対して吸光度１．５０以上を与えるものであり、且つ、前記砥粒の含有量を１．０質量％に調整した水分散液において波長５００ｎｍの光に対して光透過率５０％／ｃｍ以上を与えるものであり、
前記４価金属元素の水酸化物が、Ｍ（ＳＯ４）２、Ｍ（ＮＨ４）２（ＮＯ３）６、及び、Ｍ（ＮＨ４）４（ＳＯ４）４から選択される少なくとも一種の４価金属元素の塩（Ｍは金属である）と、アルカリ液と、を混合して得られるものである、スラリー。
【請求項９】
砥粒と水とを含有するスラリーであって、
前記砥粒が、４価金属元素の水酸化物を含み、且つ、該砥粒の含有量を０．００６５質量％に調整した水分散液において波長２９０ｎｍの光に対して吸光度１．０００以上を与えるものであり、且つ、前記砥粒の含有量を１．０質量％に調整した水分散液において波長５００ｎｍの光に対して光透過率５０％／ｃｍ以上を与えるものであり、
前記４価金属元素の水酸化物が、Ｍ（ＳＯ４）２、Ｍ（ＮＨ４）２（ＮＯ３）６、及び、Ｍ（ＮＨ４）４（ＳＯ４）４から選択される少なくとも一種の４価金属元素の塩（Ｍは金属である）と、アルカリ液と、を混合して得られるものである、スラリー。
【請求項１０】
前記砥粒が、該砥粒の含有量を１．０質量％に調整した水分散液において波長４００ｎｍの光に対して吸光度１．５０以上を与えるものである、請求項９に記載のスラリー。
【請求項１１】
前記金属Ｍがセリウムである、請求項８〜１０のいずれか一項に記載のスラリー。
【請求項１２】
前記アルカリ液のアルカリ源のｐＫａが１２未満である、請求項８〜１１のいずれか一項に記載のスラリー。
【請求項１３】
前記アルカリ源が、アンモニア及びイミダゾールから選択される少なくとも一種である、請求項１２に記載のスラリー。
【請求項１４】
前記砥粒が、該砥粒の含有量を０．００６５質量％に調整した水分散液において波長４５０〜６００ｎｍの光に対して吸光度０．０１０以下を与えるものである、請求項１〜１３のいずれか一項に記載のスラリー。
【請求項１５】
第１の液と第２の液とを混合して研磨液となるように該研磨液の構成成分が前記第１の液と前記第２の液とに分けて保存され、前記第１の液が請求項１〜１４のいずれか一項に記載のスラリーであり、前記第２の液が添加剤と水とを含む、研磨液セット。
【請求項１６】
前記添加剤が、ビニルアルコール重合体及び当該ビニルアルコール重合体の誘導体から選択される少なくとも一種である、請求項１５に記載の研磨液セット。
【請求項１７】
前記添加剤の含有量が研磨液全質量基準で０．０１質量％以上である、請求項１５又は１６に記載の研磨液セット。
【請求項１８】
砥粒と添加剤と水とを含有する研磨液であって、
前記砥粒が、４価金属元素の水酸化物を含み、且つ、該砥粒の含有量を１．０質量％に調整した水分散液において波長４００ｎｍの光に対して吸光度１．５０以上を与えるものであり、且つ、前記砥粒の含有量を１．０質量％に調整した水分散液において波長５００ｎｍの光に対して光透過率５０％／ｃｍ以上を与えるものであり、
前記研磨液のｐＨが２．０〜９．０である、研磨液。
【請求項１９】
砥粒と添加剤と水とを含有する研磨液であって、
前記砥粒が、４価金属元素の水酸化物を含み、且つ、該砥粒の含有量を１．０質量％に調整した水分散液において波長４００ｎｍの光に対して吸光度１．５０以上を与えるものであり、且つ、前記砥粒の含有量を１．０質量％に調整した水分散液において波長５００ｎｍの光に対して光透過率５０％／ｃｍ以上を与えるものであり、
前記砥粒の平均二次粒子径が１〜２００ｎｍである、研磨液。
【請求項２０】
砥粒と添加剤と水とを含有する研磨液であって、
前記砥粒が、４価金属元素の水酸化物を含み、且つ、該砥粒の含有量を０．００６５質量％に調整した水分散液において波長２９０ｎｍの光に対して吸光度１．０００以上を与えるものであり、且つ、前記砥粒の含有量を１．０質量％に調整した水分散液において波長５００ｎｍの光に対して光透過率５０％／ｃｍ以上を与えるものであり、
前記研磨液のｐＨが２．０〜９．０である、研磨液。
【請求項２１】
砥粒と添加剤と水とを含有する研磨液であって、
前記砥粒が、４価金属元素の水酸化物を含み、且つ、該砥粒の含有量を０．００６５質量％に調整した水分散液において波長２９０ｎｍの光に対して吸光度１．０００以上を与えるものであり、且つ、前記砥粒の含有量を１．０質量％に調整した水分散液において波長５００ｎｍの光に対して光透過率５０％／ｃｍ以上を与えるものであり、
前記砥粒の平均二次粒子径が１〜２００ｎｍである、研磨液。
【請求項２２】
前記砥粒が、該砥粒の含有量を１．０質量％に調整した水分散液において波長４００ｎｍの光に対して吸光度１．５０以上を与えるものである、請求項２０又は２１に記載の研磨液。
【請求項２３】
前記４価金属元素の水酸化物が、４価金属元素の塩とアルカリ液とを混合して得られるものである、請求項１８〜２２のいずれか一項に記載の研磨液。
【請求項２４】
前記４価金属元素が４価セリウムである、請求項１８〜２３のいずれか一項に記載の研磨液。
【請求項２５】
砥粒と添加剤と水とを含有する研磨液であって、
前記砥粒が、４価金属元素の水酸化物を含み、且つ、該砥粒の含有量を１．０質量％に調整した水分散液において波長４００ｎｍの光に対して吸光度１．５０以上を与えるものであり、且つ、前記砥粒の含有量を１．０質量％に調整した水分散液において波長５００ｎｍの光に対して光透過率５０％／ｃｍ以上を与えるものであり、
前記４価金属元素の水酸化物が、Ｍ（ＳＯ４）２、Ｍ（ＮＨ４）２（ＮＯ３）６、及び、Ｍ（ＮＨ４）４（ＳＯ４）４から選択される少なくとも一種の４価金属元素の塩（Ｍは金属である）と、アルカリ液と、を混合して得られるものである、研磨液。
【請求項２６】
砥粒と添加剤と水とを含有する研磨液であって、
前記砥粒が、４価金属元素の水酸化物を含み、且つ、該砥粒の含有量を０．００６５質量％に調整した水分散液において波長２９０ｎｍの光に対して吸光度１．０００以上を与えるものであり、且つ、前記砥粒の含有量を１．０質量％に調整した水分散液において波長５００ｎｍの光に対して光透過率５０％／ｃｍ以上を与えるものであり、
前記４価金属元素の水酸化物が、Ｍ（ＳＯ４）２、Ｍ（ＮＨ４）２（ＮＯ３）６、及び、Ｍ（ＮＨ４）４（ＳＯ４）４から選択される少なくとも一種の４価金属元素の塩（Ｍは金属である）と、アルカリ液と、を混合して得られるものである、研磨液。
【請求項２７】
前記砥粒が、該砥粒の含有量を１．０質量％に調整した水分散液において波長４００ｎｍの光に対して吸光度１．５０以上を与えるものである、請求項２６に記載の研磨液。
【請求項２８】
前記金属Ｍがセリウムである、請求項２５〜２７のいずれか一項に記載の研磨液。
【請求項２９】
前記アルカリ液のアルカリ源のｐＫａが１２未満である、請求項２５〜２８のいずれか一項に記載の研磨液。
【請求項３０】
前記アルカリ源が、アンモニア及びイミダゾールから選択される少なくとも一種である、請求項２９に記載の研磨液。
【請求項３１】
前記砥粒が、該砥粒の含有量を０．００６５質量％に調整した水分散液において波長４５０〜６００ｎｍの光に対して吸光度０．０１０以下を与えるものである、請求項１８〜３０のいずれか一項に記載の研磨液。
【請求項３２】
前記添加剤が、ビニルアルコール重合体及び当該ビニルアルコール重合体の誘導体から選択される少なくとも一種である、請求項１８〜３１のいずれか一項に記載の研磨液。
【請求項３３】
前記添加剤の含有量が研磨液全質量基準で０．０１質量％以上である、請求項１８〜３２のいずれか一項に記載の研磨液。
【請求項３４】
表面に被研磨膜を有する基板の該被研磨膜を研磨パッドに対向するように配置する工程と、
前記研磨パッドと前記被研磨膜との間に請求項１〜１４のいずれか一項に記載のスラリーを供給しながら、前記被研磨膜の少なくとも一部を研磨する工程と、を有する、基板の研磨方法。
【請求項３５】
表面に被研磨膜を有する基板の該被研磨膜を研磨パッドに対向するように配置する工程と、
請求項１５〜１７のいずれか一項に記載の研磨液セットにおける前記第１の液と前記第２の液とを混合して前記研磨液を得る工程と、
前記研磨パッドと前記被研磨膜との間に前記研磨液を供給しながら、前記被研磨膜の少なくとも一部を研磨する工程と、を有する、基板の研磨方法。
【請求項３６】
表面に被研磨膜を有する基板の該被研磨膜を研磨パッドに対向するように配置する工程と、
請求項１５〜１７のいずれか一項に記載の研磨液セットにおける前記第１の液と前記第２の液とをそれぞれ前記研磨パッドと前記被研磨膜との間に供給しながら、前記被研磨膜の少なくとも一部を研磨する工程と、を有する、基板の研磨方法。
【請求項３７】
表面に被研磨膜を有する基板の該被研磨膜を研磨パッドに対向するように配置する工程と、
前記研磨パッドと前記被研磨膜との間に請求項１８〜３３のいずれか一項に記載の研磨液を供給しながら、前記被研磨膜の少なくとも一部を研磨する工程と、を有する、基板の研磨方法。
【請求項３８】
前記被研磨膜が酸化ケイ素を含む、請求項３４〜３７のいずれか一項に記載の研磨方法。
【請求項３９】
前記被研磨膜の表面が凹凸を有する、請求項３４〜３８のいずれか一項に記載の研磨方法。
【請求項４０】
請求項３４〜３９のいずれか一項に記載の研磨方法により研磨された、基板。