【手続補正書】
【提出日】平成27年8月18日(2015.8.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】Ｘ線光学装置及びその調整方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
上記課題を解決するために、本発明は、Ｘ線源と、
間隔を空けて並べて配置された少なくとも３枚のＸ線反射基板からなり、前記Ｘ線反射基板に両側を挟まれた複数のＸ線通路にそれぞれ入射したＸ線が、各Ｘ線通路の両側のＸ線反射基板で反射され平行化されて前記各Ｘ線通路から出射されるＸ線反射構造体と、
前記Ｘ線反射構造体から出射したＸ線を検出するＸ線検出器と、を備え、
前記Ｘ線反射構造体の一端面をＸ線の入口、他端面をＸ線の出口としたときに、前記出口のＸ線反射基板のピッチの方が前記入口のピッチよりも広くなっているＸ線光学装置の調整方法であって、
前記各Ｘ線通路から出射されたＸ線によって形成され前記Ｘ線検出器において検出される半影量を小さくするように前記Ｘ線源と前記Ｘ線反射構造体の相対位置を調整することを特徴とするＸ線光学装置の調整方法を提供するものである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
また、本発明は、Ｘ線源と、
間隔を空けて並べて配置された少なくとも３枚のＸ線反射基板からなり、前記Ｘ線反射基板に両側を挟まれた複数のＸ線通路にそれぞれ入射したＸ線が、各Ｘ線通路の両側のＸ線反射基板で反射され平行化されて前記各Ｘ線通路から出射されるＸ線反射構造体と、
前記Ｘ線反射構造体から出射したＸ線を検出するＸ線検出器と、を備え、
前記Ｘ線反射構造体の一端面をＸ線の入口、他端面をＸ線の出口としたときに、前記出口のＸ線反射基板のピッチの方が前記入口のピッチよりも広くなっているＸ線光学装置であって、
前記Ｘ線反射基板の配置方向における前記Ｘ線源と前記反射構造体の相対位置を変化させる駆動機構と、
前記Ｘ線反射構造体と前記Ｘ線検出器との間に配置される半影形成用被写体と、
少なくとも前記Ｘ線反射基板の配置方向に前記半影形成用被写体を移動させる駆動機構と、を有することを特徴とするＸ線光学装置を提供するものである。
また本発明は、Ｘ線源と、
間隔を空けて並べて配置された少なくとも３枚のＸ線反射基板からなり、前記Ｘ線反射基板に両側を挟まれた複数のＸ線通路にそれぞれ入射したＸ線が、各Ｘ線通路の両側のＸ線反射基板で反射され平行化されて前記各Ｘ線通路から出射されるＸ線反射構造体と、
前記Ｘ線反射構造体から出射したＸ線を検出するＸ線検出器と、を備え、
前記Ｘ線反射構造体の一端面をＸ線の入口、他端面をＸ線の出口としたときに、前記出口のＸ線反射基板のピッチの方が前記入口のピッチよりも広くなっているＸ線光学装置であって、
前記Ｘ線反射基板の配置方向における前記Ｘ線源と前記反射構造体の相対位置を変化させる駆動機構と、
前記Ｘ線反射構造体と前記Ｘ線検出器との間に配置される一次元格子と、
少なくとも前記Ｘ線反射基板の配置方向に前記一次元格子を移動させる駆動機構と、を有することを特徴とするＸ線光学装置を提供するものである。
さらに、本発明は、Ｘ線源と、
間隔を空けて並べて配置された少なくとも３枚のＸ線反射基板からなり、前記Ｘ線反射基板に両側を挟まれた複数のＸ線通路にそれぞれ入射したＸ線が、各Ｘ線通路の両側のＸ線反射基板で反射され平行化されて前記各Ｘ線通路から出射されるＸ線反射構造体と、
前記Ｘ線反射構造体から出射したＸ線を検出するＸ線検出器と、を備え、
前記Ｘ線反射構造体の一端面をＸ線の入口、他端面をＸ線の出口としたときに、前記出口のＸ線反射基板のピッチの方が前記入口のピッチよりも広くなっているＸ線光学装置であって、
前記Ｘ線反射基板の配置方向における前記Ｘ線源と前記反射構造体の相対位置を変化させる駆動機構と、
前記Ｘ線反射構造体と前記Ｘ線検出器との間に配置される第１の一次元格子と、
前記第１の一次元格子と前記Ｘ線検出器との間に配置される第２の一次元格子と、
少なくとも前記Ｘ線反射基板の配置方向に前記第１及び第２の一次元格子を移動させる駆動機構と、を有することを特徴とするＸ線光学装置を提供するものである。
またさらに、本発明は、Ｘ線源と、
間隔を空けて並べて配置された少なくとも３枚のＸ線反射基板からなり、前記Ｘ線反射基板に両側を挟まれた複数のＸ線通路にそれぞれ入射したＸ線が、各Ｘ線通路の両側のＸ線反射基板で反射され平行化されて前記各Ｘ線通路から出射されるＸ線反射構造体と、
前記Ｘ線反射構造体から出射したＸ線を検出するＸ線検出器と、を備え、
前記Ｘ線反射構造体の一端面をＸ線の入口、他端面をＸ線の出口としたときに、前記出口のＸ線反射基板のピッチの方が前記入口のピッチよりも広くなっているＸ線光学装置であって、
前記Ｘ線反射基板の配置方向における前記Ｘ線源と前記反射構造体の相対位置を変化させる駆動機構と、
前記Ｘ線反射構造体と前記Ｘ線検出器との間に配置されるソーラースリットと、を有することを特徴とするＸ線光学装置を提供するものである。
また、本発明は、Ｘ線源と、
間隔を空けて並べて配置された少なくとも３枚のＸ線反射基板からなり、前記Ｘ線反射基板に両側を挟まれた複数のＸ線通路にそれぞれ入射したＸ線が、各Ｘ線通路の両側のＸ線反射基板で反射され平行化されて前記各Ｘ線通路から出射されるＸ線反射構造体と、
前記Ｘ線反射構造体から出射したＸ線を検出するＸ線検出器と、を備え、
前記Ｘ線反射構造体の一端面をＸ線の入口、他端面をＸ線の出口としたときに、前記出口のＸ線反射基板のピッチの方が前記入口のピッチよりも広くなっているＸ線光学装置であって、
前記Ｘ線反射基板の配置方向における前記Ｘ線源と前記反射構造体の相対位置を変化させる駆動機構と、
前記Ｘ線源と前記Ｘ線反射構造体との間に配置される一次元格子と、を有することを特徴とするＸ線光学装置を提供するものである。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４０】
本実施形態ではスリットレンズ３を通過してきたＸ線２によって像を投影したときの分解能を計測する手段として、スリットレンズ３とＸ線検出器４の間に半影形成用被写体３１を配置し、半影形成用被写体３１がＸ線検出器４に形成する半影量を計測する。半影形成用被写体３１はＸ線を遮蔽する目的で使用されるため、その素材は金、白金、鉛など入射したＸ線を吸収する素材であることが望ましい。スリットレンズ３を固定した状態で、Ｘ線源１の位置をｙ方向に移動させながら（ステップ１）、Ｘ線検出器４上に形成される半影量の変化を計測（ステップ２）する。半影量が最小となる位置、即ち分解能が最も高くなる光源位置（Ｘ線源１の位置）を導出（ステップ３）し、その位置に光源位置を調整する（ステップ４）。このように、半影量を小さくするように光源位置を調整することで分解能を高くすることができる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４１】
図７（ａ）において、Ｘ線源１から放射されたＸ線２はスリットレンズ３のＸ線通路を反射しながら進み、Ｘ線通路から出射されＸ線検出器４で検出される。スリットレンズ３とＸ線検出器４の間には半影形成用被写体３１が配置されている。半影形成用被写体３１は駆動機構３２により少なくともｙ軸方向の任意の位置に移動可能な構成となっている。半影形成用被写体３１はＸ線源１とスリットレンズ３の位置調整の際に光路内の任意の位置まで駆動され、位置調整終了後に光路外に退避させる。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４５】
図７（ｂ）に示すように、半影形成用被写体３１はその先端がスリット間の光路上に位置するように配置されている。不図示のＸ線源１から放射されたＸ線がスリットレンズ３を通過し、半影形成用被写体３１によってその一部が遮蔽されることで、スリットレンズ３の下流に位置する平面Ｃ上では半影形成用被写体３１の半影が現れる。実線３３はＸ線源１とスリットレンズ３の相対位置が合っているときのＸ線の様子を、破線３４はＸ線源１とスリットレンズ３の相対位置がずれているときのＸ線の様子を示している。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４６】
Ｘ線源１の強度に分布がなく均一である場合における平面Ｃのｙ方向のＸ線強度分布を、図９を用いて説明する。横軸に平面Ｃのｙ方向位置を、縦軸にＸ線強度を示す。Ｘ線源１とスリットレンズ３の相対位置が合っているとき、位置ｙ１２以下の領域では、スリットレンズ３を通過したＸ線は半影形成用被写体３１によって全て遮蔽され、強度は０となる。位置ｙ１１以上の領域では、Ｘ線は半影形成用被写体３１によって遮蔽されることなくＸ線検出器４に到達する。ｙ１１とｙ１２の間の領域が、Ｘ線源１が大きさを持つことによって生じるボケ、即ち半影量であり、その大きさはｙ１１−ｙ１２で表される。光源位置がｙ方向にずれたときの半影量を考えると、上記式４及び式５より、Ｘ線源１の位置ずれは発散角θoutを増大させる。このため、Ｘ線検出器上の強度分布は破線のように、位置ｙ２２以下では強度０となり、位置ｙ２１以上では遮蔽されることなくＸ線検出器４に到達する。このときの半影量はｙ２１−ｙ２２となる。
【手続補正８】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
Ｘ線源と、
間隔を空けて並べて配置された少なくとも３枚のＸ線反射基板からなり、前記Ｘ線反射基板に両側を挟まれた複数のＸ線通路にそれぞれ入射したＸ線が、各Ｘ線通路の両側のＸ線反射基板で反射され平行化されて前記各Ｘ線通路から出射されるＸ線反射構造体と、
前記Ｘ線反射構造体から出射したＸ線を検出するＸ線検出器と、を備え、
前記Ｘ線反射構造体の一端面をＸ線の入口、他端面をＸ線の出口としたときに、前記出口のＸ線反射基板のピッチの方が前記入口のピッチよりも広くなっているＸ線光学装置の調整方法であって、
前記各Ｘ線通路から出射されたＸ線によって形成され前記Ｘ線検出器において検出される半影量を小さくするように前記Ｘ線源と前記Ｘ線反射構造体の相対位置を調整することを特徴とするＸ線光学装置の調整方法。
【請求項２】
前記半影量は、前記Ｘ線通路から出射されたＸ線を半影形成用被写体に照射したときに、前記半影形成用被写体により形成される半影量であることを特徴とする請求項１に記載のＸ線光学装置の調整方法。
【請求項３】
前記半影量は、前記Ｘ線通路から出射されたＸ線を一次元格子に照射したときに、前記一次元格子により形成される半影量であることを特徴とする請求項１に記載のＸ線光学装置の調整方法。
【請求項４】
前記Ｘ線通路から出射されたＸ線を、前記Ｘ線反射構造体の出口側から順に配置した第１の一次元格子、第２の一次元格子に照射したときに、前記２つの一次元格子により形成されるＸ線のモアレ縞間隔に基づいて前記半影量を推定することを特徴とする請求項１に記載のＸ線光学装置の調整方法。
【請求項５】
前記Ｘ線通路から出射されたＸ線をソーラースリットに照射したときに、前記ソーラースリットを通過したＸ線の強度に基づいて前記半影量を推定することを特徴とする請求項１に記載のＸ線光学装置の調整方法。
【請求項６】
前記Ｘ線源と前記Ｘ線反射構造体の間に特定の前記Ｘ線通路のみにＸ線を入射させる一次元格子を配置した状態で、前記特定の前記Ｘ線通路から出射されたＸ線の大きさに基づいて前記半影量を推定することを特徴とする請求項１に記載のＸ線光学装置の調整方法。
【請求項７】
Ｘ線源と、
間隔を空けて並べて配置された少なくとも３枚のＸ線反射基板からなり、前記Ｘ線反射基板に両側を挟まれた複数のＸ線通路にそれぞれ入射したＸ線が、各Ｘ線通路の両側のＸ線反射基板で反射され平行化されて前記各Ｘ線通路から出射されるＸ線反射構造体と、
前記Ｘ線反射構造体から出射したＸ線を検出するＸ線検出器と、を備え、
前記Ｘ線反射構造体の一端面をＸ線の入口、他端面をＸ線の出口としたときに、前記出口のＸ線反射基板のピッチの方が前記入口のピッチよりも広くなっているＸ線光学装置であって、
前記Ｘ線反射基板の配置方向における前記Ｘ線源と前記反射構造体の相対位置を変化させる駆動機構と、
前記Ｘ線反射構造体と前記Ｘ線検出器との間に配置される半影形成用被写体と、
少なくとも前記Ｘ線反射基板の配置方向に前記半影形成用被写体を移動させる駆動機構と、を有することを特徴とするＸ線光学装置。
【請求項８】
Ｘ線源と、
間隔を空けて並べて配置された少なくとも３枚のＸ線反射基板からなり、前記Ｘ線反射基板に両側を挟まれた複数のＸ線通路にそれぞれ入射したＸ線が、各Ｘ線通路の両側のＸ線反射基板で反射され平行化されて前記各Ｘ線通路から出射されるＸ線反射構造体と、
前記Ｘ線反射構造体から出射したＸ線を検出するＸ線検出器と、を備え、
前記Ｘ線反射構造体の一端面をＸ線の入口、他端面をＸ線の出口としたときに、前記出口のＸ線反射基板のピッチの方が前記入口のピッチよりも広くなっているＸ線光学装置であって、
前記Ｘ線反射基板の配置方向における前記Ｘ線源と前記反射構造体の相対位置を変化させる駆動機構と、
前記Ｘ線反射構造体と前記Ｘ線検出器との間に配置される一次元格子と、
少なくとも前記Ｘ線反射基板の配置方向に前記一次元格子を移動させる駆動機構と、を有することを特徴とするＸ線光学装置。
【請求項９】
Ｘ線源と、
間隔を空けて並べて配置された少なくとも３枚のＸ線反射基板からなり、前記Ｘ線反射基板に両側を挟まれた複数のＸ線通路にそれぞれ入射したＸ線が、各Ｘ線通路の両側のＸ線反射基板で反射され平行化されて前記各Ｘ線通路から出射されるＸ線反射構造体と、
前記Ｘ線反射構造体から出射したＸ線を検出するＸ線検出器と、を備え、
前記Ｘ線反射構造体の一端面をＸ線の入口、他端面をＸ線の出口としたときに、前記出口のＸ線反射基板のピッチの方が前記入口のピッチよりも広くなっているＸ線光学装置であって、
前記Ｘ線反射基板の配置方向における前記Ｘ線源と前記反射構造体の相対位置を変化させる駆動機構と、
前記Ｘ線反射構造体と前記Ｘ線検出器との間に配置される第１の一次元格子と、
前記第１の一次元格子と前記Ｘ線検出器との間に配置される第２の一次元格子と、
少なくとも前記Ｘ線反射基板の配置方向に前記第１及び第２の一次元格子を移動させる駆動機構と、を有することを特徴とするＸ線光学装置。
【請求項１０】
Ｘ線源と、
間隔を空けて並べて配置された少なくとも３枚のＸ線反射基板からなり、前記Ｘ線反射基板に両側を挟まれた複数のＸ線通路にそれぞれ入射したＸ線が、各Ｘ線通路の両側のＸ線反射基板で反射され平行化されて前記各Ｘ線通路から出射されるＸ線反射構造体と、
前記Ｘ線反射構造体から出射したＸ線を検出するＸ線検出器と、を備え、
前記Ｘ線反射構造体の一端面をＸ線の入口、他端面をＸ線の出口としたときに、前記出口のＸ線反射基板のピッチの方が前記入口のピッチよりも広くなっているＸ線光学装置であって、
前記Ｘ線反射基板の配置方向における前記Ｘ線源と前記反射構造体の相対位置を変化させる駆動機構と、
前記Ｘ線反射構造体と前記Ｘ線検出器との間に配置されるソーラースリットと、を有することを特徴とするＸ線光学装置。
【請求項１１】
Ｘ線源と、
間隔を空けて並べて配置された少なくとも３枚のＸ線反射基板からなり、前記Ｘ線反射基板に両側を挟まれた複数のＸ線通路にそれぞれ入射したＸ線が、各Ｘ線通路の両側のＸ線反射基板で反射され平行化されて前記各Ｘ線通路から出射されるＸ線反射構造体と、
前記Ｘ線反射構造体から出射したＸ線を検出するＸ線検出器と、を備え、
前記Ｘ線反射構造体の一端面をＸ線の入口、他端面をＸ線の出口としたときに、前記出口のＸ線反射基板のピッチの方が前記入口のピッチよりも広くなっているＸ線光学装置であって、
前記Ｘ線反射基板の配置方向における前記Ｘ線源と前記反射構造体の相対位置を変化させる駆動機構と、
前記Ｘ線源と前記Ｘ線反射構造体との間に配置される一次元格子と、を有することを特徴とするＸ線光学装置。