Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成27年5月1日(2015.5.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
転写用マスクを作製するために用いられるものであり、基板上に、前記基板側から第１の膜と第２の膜が順に積層した構造を有するマスクブランクであって、
前記第１の膜は、フッ素系ガスによるドライエッチングが可能な材料からなり、
前記第２の膜は、下層と上層の積層構造からなり、
前記下層は、モリブデンおよびタングステンの少なくとも一方を含有し、ケイ素の含有量が０ａｔ％以上１０ａｔ％未満である材料からなり、
前記上層は、クロムと酸素を含有し、クロムの含有量が５０ａｔ％未満であり、酸素の含有量が２５ａｔ％以上である材料からなることを特徴とするマスクブランク。
【請求項２】
前記下層は、モリブデンおよびタングステンの少なくとも一方を含有し、ケイ素を含有しない材料からなることを特徴とする請求項１記載のマスクブランク。
【請求項３】
前記下層は、さらに窒素を含有する材料からなることを特徴とする請求項１または２に記載のマスクブランク。
【請求項４】
前記下層は、酸素の含有量が３０ａｔ％以下である材料からなることを特徴とする請求項１から３のいずれかに記載のマスクブランク。
【請求項５】
前記第２の膜は、塩素系ガスと酸素ガスとの混合ガスによるドライエッチングが可能な材料からなることを特徴とする請求項１から４のいずれかに記載のマスクブランク。
【請求項６】
前記第１の膜は、ケイ素を含有する材料、またはケイ素と遷移金属を含有する材料であって、遷移金属の含有量よりもケイ素の含有量の方が多い材料からなることを特徴とする請求項１から５のいずれかに記載のマスクブランク。
【請求項７】
前記第１の膜は、第２の膜側の表層に酸化層が形成されていることを特徴とする請求項１から６のいずれかに記載のマスクブランク。
【請求項８】
前記上層の表面に接してレジスト膜が１００ｎｍ以下の膜厚で形成されていることを特徴とする請求項１から７のいずれかに記載のマスクブランク。
【請求項９】
前記第１の膜と第２の膜の積層構造は、ＡｒＦ露光光に対する光学濃度が２．８以上であることを特徴とする請求項１から８のいずれかに記載のマスクブランク。
【請求項１０】
前記第１の膜は、ＡｒＦ露光光に対する透過率が１％以上の光半透過膜であることを特徴とする請求項１から９のいずれかに記載のマスクブランク。
【請求項１１】
基板上に、前記基板側から第１のパターンを有する第１の膜と第２のパターンを有する第２の膜が順に積層した転写用マスクであって、
前記第１の膜は、フッ素系ガスによるドライエッチングが可能な材料からなり、
前記第２の膜は、下層と上層の積層構造からなり、
前記下層は、モリブデンおよびタングステンの少なくとも一方を含有し、ケイ素の含有量が０ａｔ％以上１０ａｔ％未満である材料からなり、
前記上層は、クロムと酸素を含有し、クロムの含有量が５０ａｔ％未満であり、酸素の含有量が２５ａｔ％以上である材料からなることを特徴とする転写用マスク。
【請求項１２】
前記下層は、モリブデンおよびタングステンの少なくとも一方を含有し、ケイ素を含有しない材料からなることを特徴とする請求項１１記載の転写用マスク。
【請求項１３】
前記下層は、さらに窒素を含有する材料からなることを特徴とする請求項１１または１２に記載の転写用マスク。
【請求項１４】
前記下層は、酸素の含有量が３０ａｔ％以下である材料からなることを特徴とする請求項１１から１３のいずれかに記載の転写用マスク。
【請求項１５】
前記第２の膜は、塩素系ガスと酸素ガスとの混合ガスによるドライエッチングが可能な材料からなることを特徴とする請求項１１から１４のいずれかに記載の転写用マスク。
【請求項１６】
前記第１の膜は、ケイ素を含有する材料、またはケイ素と遷移金属を含有する材料であって、遷移金属の含有量よりもケイ素の含有量の方が多い材料からなることを特徴とする請求項１１から１５のいずれかに記載の転写用マスク。
【請求項１７】
前記第１の膜は、第２の膜側の表層に酸化層が形成されていることを特徴とする請求項１１から１６のいずれかに記載の転写用マスク。
【請求項１８】
前記第１の膜と第２の膜の積層構造は、ＡｒＦ露光光に対する光学濃度が２．８以上であることを特徴とする請求項１１から１７のいずれかに記載の転写用マスク。
【請求項１９】
前記第１の膜は、ＡｒＦ露光光に対する透過率が１％以上の光半透過膜であることを特徴とする請求項１１から１８のいずれかに記載の転写用マスク。
【請求項２０】
請求項１から１０のいずれかに記載のマスクブランクを用いる転写用マスクの製造方法であって、
前記第２の膜の表面に接して第１のパターンを有するレジスト膜を形成し、塩素系ガスと酸素ガスとの混合ガスを用いるドライエッチングによって、前記第２の膜に第１のパターンを形成する工程と、
前記第１のパターンを有するレジスト膜を剥離した後、第１のパターンを有する第２の膜をマスクとして、フッ素系ガスを用いるドライエッチングによって、第１の膜に第１のパターンを形成する工程と、
前記第２の膜の表面に接して第２のパターンを有するレジスト膜を形成し、塩素系ガスと酸素ガスとの混合ガスを用いるドライエッチングによって、前記第２の膜に第２のパターンを形成する工程と
を備えることを特徴とする転写用マスクの製造方法。
【請求項２１】
前記第１のパターンを有するレジスト膜は、膜厚が１００ｎｍ以下であることを特徴とする請求項２０に記載の転写用マスクの製造方法。
【請求項２２】
請求項１１から１９のいずれかに記載の転写用マスクを用い、半導体基板上のレジスト膜に第１のパターンを露光転写する工程を有することを特徴とする半導体デバイスの製造方法。
【請求項２３】
請求項２０または２１に記載の転写用マスクの製造方法で製造された転写用マスクを用い、半導体基板上のレジスト膜に第１のパターンを露光転写する工程を有することを特徴とする半導体デバイスの製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成27年6月24日(2015.6.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明の一実施形態の駆動装置は、リードスクリューを含む駆動部と、前記リードスクリューと一体的に回転する回転部材と、前記回転部材の回転を検出する検出手段と、を備え、前記リードスクリューは、前記駆動部から突出形成されており、前記リードスクリューは、スクリュー部と前記回転部材が固定される固定部とを含み、前記固定部は、前記駆動部とスクリュー部との間に形成されており、前記固定部の外径は、前記スクリュー部の外径より大きく形成されており、前記回転部材は、前記検出手段に検出される被検出部と前記被検出部から前記リードスクリューの軸に沿って延伸される壁部とを含み、前記回転部材が前記固定部に固定されると、前記壁部が前記リードスクリューの一部を囲む。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
リードスクリューを含む駆動部と、
前記リードスクリューと一体的に回転する回転部材と、
前記回転部材の回転を検出する検出手段と、
を備え、
前記リードスクリューは、前記駆動部から突出形成されており、
前記リードスクリューは、スクリュー部と前記回転部材が固定される固定部とを含み、
前記固定部は、前記駆動部とスクリュー部との間に形成されており、
前記固定部の外径は、前記スクリュー部の外径より大きく形成されており、
前記回転部材は、前記検出手段に検出される被検出部と前記被検出部から前記リードスクリューの軸に沿って延伸される壁部とを含み、
前記回転部材が前記固定部に固定されると、前記壁部が前記リードスクリューの一部を囲む
ことを特徴とする駆動装置。
【請求項２】
前記リードスクリューは、前記スクリュー部と前記固定部との間に形成されるストレート部を含み、
前記回転部材が前記固定部に固定されると、前記壁部が前記ストレート部を囲む
ことを特徴とする請求項１に記載の駆動装置。
【請求項３】
前記回転部材が前記固定部に固定されると、前記壁部が前記スクリュー部を囲む
ことを特徴とする請求項１に記載の駆動装置。
【請求項４】
前記駆動部が固定されるフランジ部材
をさらに備え、
前記フランジ部は、穴部を有し、
前記穴部の外径は、前記固定部の外径より大きく形成されている
ことを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の駆動装置。
【請求項５】
前記検出手段を保持する保持部材
をさらに備え、
前記保持部材は、穴部を有し、
前記穴部の外径は、前記固定部の外径より大きく形成されている
ことを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の駆動装置。
【請求項６】
請求項１乃至５のいずれか１項に記載の駆動装置を備えるレンズ鏡筒。
【請求項７】
請求項１乃至５のいずれか１項に記載の駆動装置を備える撮像装置。
【手続補正書】
【提出日】平成27年6月23日(2015.6.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
駆動部と、
前記駆動部の被写体側に固定されるフランジ部と、
前記駆動部の軸上に設けられて前記フランジ部を貫通し、前記駆動部によって回転駆動することを通じて、撮像光学系のレンズを光軸方向に進退させるリードスクリューと、
前記リードスクリューの前記駆動部側の根元部に設けられ、前記リードスクリューと一体的に回転する回転部材と、
前記回転部材の回転を検出する検出手段を保持する保持部材とを備え、
前記フランジ部に切り欠き部が設けられており、
前記保持部材が前記切り欠き部に挿入され、前記フランジ部と前記保持部材とが前記光軸と垂直な方向から見て重複している
ことを特徴とするレンズ鏡筒。
【請求項２】
前記切り欠き部に前記保持部材が挿入され、
前記フランジ部と、前記保持部材に保持された前記検出手段とが前記光軸と直交する方向から見て重複している
ことを特徴とする請求項１に記載のレンズ鏡筒。
【請求項３】
前記保持部材には穴部が設けられ、前記検出手段は、前記穴部に挿入される
ことを特徴とする請求項１または請求項２に記載のレンズ鏡筒。
【請求項４】
前記検出手段を複数備え、
前記複数の検出手段は、前記駆動部の軸を中心として放射方向に配置され、隣接する前記検出手段同士のなす角度は、前記回転部材の回転によって前記リードスクリューの回転方向が検出できる角度である
ことを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載のレンズ鏡筒。
【請求項５】
前記複数の検出手段を電気接続するフレキシブル基板を備え、
前記フレキシブル基板は、各々の前記検出手段を並列接続する
ことを特徴とする請求項４に記載のレンズ鏡筒。
【請求項６】
前記フレキシブル基板は、前記駆動部の端子部と各々の前記検出手段と電気接続する
ことを特徴とする請求項５に記載のレンズ鏡筒。
【請求項７】
請求項１乃至６のいずれか１項に記載のレンズ鏡筒を備える撮像装置。
【請求項８】
撮像光学系をなすレンズが前記撮像光学系の光軸方向に移動する撮像装置であって、
前記レンズを駆動するための駆動部と、
前記駆動部の被写体側に固定されるフランジ部と、
前記駆動部の軸上に設けられて前記フランジ部を貫通し、前記駆動部によって回転駆動することを通じて、撮像光学系のレンズを光軸方向に進退させるリードスクリューと、
前記リードスクリューの前記駆動部側の根元部に設けられ、前記リードスクリューと一体的に回転する回転部材と、
前記回転部材の回転を検出する検出手段を保持する保持部材とを備え、
前記フランジ部に切り欠き部が設けられており、
前記保持部材が前記切り欠き部に挿入され、前記フランジ部と前記保持部材とが前記光軸と直交する方向から見て重複する
ことを特徴とする撮像装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明は、限られたスペース内でレンズ移動範囲の自由度を上げたレンズ鏡筒の提供を目的とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明の一実施形態のレンズ鏡筒は、駆動部と、前記駆動部の被写体側に固定されるフランジ部と、前記駆動部の軸上に設けられて前記フランジ部を貫通し、前記駆動部によって回転駆動することを通じて、撮像光学系のレンズを光軸方向に進退させるリードスクリューと、前記リードスクリューの前記駆動部側の根元部に設けられ、前記リードスクリューと一体的に回転する回転部材と、前記回転部材の回転を検出する検出手段を保持する保持部材とを備える。前記フランジ部に切り欠き部が設けられており、前記保持部材が前記切り欠き部に挿入され、前記フランジ部と前記保持部材とが前記光軸と直交する方向から見て重複する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本発明によれば、限られたスペース内でレンズ移動範囲の自由度を上げた撮像装置を提供することができる。
【手続補正書】
【提出日】平成27年6月18日(2015.6.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明は、駆動量検出の安定性を確保し、かつ、限られたスペース内でレンズ移動範囲の自由度を上げたレンズ鏡筒の提供を目的とする。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明の一実施形態のレンズ鏡筒は、駆動部と、前記駆動部の軸上に設けられ、前記駆動部によって回転駆動するリードスクリューと、前記リードスクリューの前記駆動部側の根元部に設けられ、前記リードスクリューと一体的に回転する回転部材と、前記回転部材の信号を検出する検出手段と、前記リードスクリューと螺合し、前記リードスクリューの前記回転駆動に伴って、撮像光学系の光軸方向に進退する直進部材と、前記撮像光学系の一部をなすレンズを保持し、前記直進部材と係合して前記光軸方向に進退するレンズ保持枠と、を備え、前記レンズ保持枠が前記駆動部側に繰り込んだ時に、前記回転部材と、前記レンズ保持枠または前記レンズとが前記光軸と直交する方向から見て重複する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本発明によれば、駆動量検出の安定性を確保し、且つ限られたスペース内でレンズ移動範囲の自由度を上げた撮像装置を提供することができる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
駆動部と、
前記駆動部の軸上に設けられ、前記駆動部によって回転駆動するリードスクリューと、
前記リードスクリューの前記駆動部側の根元部に設けられ、前記リードスクリューと一体的に回転する回転部材と、
前記回転部材の信号を検出する検出手段と、
前記リードスクリューと螺合し、前記リードスクリューの前記回転駆動に伴って、撮像光学系の光軸方向に進退する直進部材と、
前記撮像光学系の一部をなすレンズを保持し、前記直進部材と係合して前記光軸方向に進退するレンズ保持枠と、を備え、
前記レンズ保持枠が前記駆動部側に繰り込んだ時に、前記回転部材と、前記レンズ保持枠または前記レンズとが前記光軸と直交する方向から見て重複する
ことを特徴とするレンズ鏡筒。
【請求項２】
前記レンズ保持枠が前記駆動部側に繰り込んだときに、前記検出手段と、前記レンズ保持枠または前記レンズとが前記光軸と直交する方向から見て重複する
ことを特徴とする請求項１に記載のレンズ鏡筒。
【請求項３】
駆動部と、
前記駆動部の軸上に設けられ、前記駆動部によって回転駆動するリードスクリューと、
前記リードスクリューの前記駆動部側の根元部に設けられ、前記リードスクリューと一体的に回転する回転部材と、
前記回転部材の回転を検出する検出手段と、
前記リードスクリューと螺合し、前記リードスクリューの前記回転駆動に伴って、撮像光学系の光軸方向に進退する直進部材と、
前記撮像光学系の一部をなすレンズを保持し、前記直進部材と係合して前記光軸方向に進退するレンズ保持枠と、を備え、
前記レンズ保持枠が前記駆動部側に繰り込んだときに、前記検出手段と前記レンズ保持枠または前記検出手段と前記レンズとが前記光軸と直交する方向から見て重複する
ことを特徴とするレンズ鏡筒。
【請求項４】
前記検出手段を保持する保持部材をさらに備え、
前記検出手段が複数備えられるときは、前記駆動部の軸を中心として、隣接する前記検出手段同士が所定の角度をなすように放射方向に配置されるよう、前記保持部材が前記検出手段を保持する
ことを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載のレンズ鏡筒。
【請求項５】
前記駆動部の端子部と前記検知手段とを電気的に接続するフレキシブル基板を備え、
前記駆動部と、前記リードスクリューと、前記回転部材と、前記保持部材と、前記フレキシブル基板とが、構成部品としてユニット化している
ことを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載のレンズ鏡筒。
【請求項６】
前記駆動部が有するフランジ部と前記リードスクリューの先端側の軸受けとを一体的に繋ぐコの字形状の板金部材と、
前記ユニット化された構成部品を内包する固定筒と、を備え、
前記板金部材の立ち曲げ部と前記検知手段とを前記光軸と垂直な平面に投影した場合に、前記板金部材の立ち曲げ部と前記検知手段とは、前記固定筒の内周寄りの半円内に配置される
ことを特徴とする請求項５に記載のレンズ鏡筒。
【請求項７】
前記板金部材の立ち曲げ部と前記検知手段とを前記光軸と垂直な平面に投影した場合に、前記板金部材の前記立ち上げ部は、前記検知手段が複数備えられるときに、前記隣接する前記検知手段の間に配置される
ことを特徴とする請求項６に記載のレンズ鏡筒。
【請求項８】
請求項１乃至７のいずれか１項に記載のレンズ鏡筒を備える撮像装置。
【請求項９】
撮像光学系をなすレンズが前記撮像光学系の光軸方向に移動する撮像装置であって、
前記レンズを駆動するための駆動部と、
前記駆動部の軸上に設けられ、前記駆動部によって回転駆動するリードスクリューと、
前記リードスクリューの前記駆動部側の根元部に設けられ、前記リードスクリューと一体的に回転する回転部材と、
前記回転部材の信号を検出する検出手段と、
前記リードスクリューと螺合し、前記リードスクリューの前記回転駆動に伴って、撮像光学系の光軸方向に進退する直進部材と、
前記撮像光学系の一部をなすレンズを保持し、前記直進部材と係合して前記光軸方向に進退するレンズ保持枠と、を備え、
前記レンズ保持枠が前記駆動部側に繰り込んだときに、前記回転部材と、前記レンズ保持枠または前記レンズとが前記光軸と直交する方向から見て重複する
ことを特徴とする撮像装置。
【請求項１０】
撮像光学系をなすレンズが前記撮像光学系の光軸方向に移動する撮像装置であって、
前記レンズを駆動するための駆動部と、
前記駆動部の軸上に設けられ、前記駆動部によって回転駆動するリードスクリューと、
前記リードスクリューの前記駆動部側の根元部に設けられ、前記リードスクリューと一体的に回転する回転部材と、
前記回転部材の回転を検出する検出手段と、
前記リードスクリューと螺合し、前記リードスクリューの前記回転駆動に伴って、撮像光学系の光軸方向に進退する直進部材と、
前記撮像光学系の一部をなすレンズを保持し、前記直進部材と係合して前記光軸方向に進退するレンズ保持枠と、を備え、
前記レンズ保持枠が前記駆動部側に繰り込んだときに、前記検出手段と前記レンズ保持枠または前記検出手段と前記レンズとが前記光軸と直交する方向から見て重複する
ことを特徴とする撮像装置。
【手続補正書】
【提出日】平成27年6月18日(2015.6.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
画像表示領域と側面との間に第１端子が配置された素子基板と、
前記素子基板と対向配置され、前記素子基板側の面である第１面に前記第１端子と電気的に接続する第２端子が配置されたフレキシブル配線基板と、
前記フレキシブル配線基板の前記第１面に前記素子基板の前記側面から離間した位置で接するように配置された第１保持部材と、
前記フレキシブル配線基板の前記第１面とは反対側の面である第２面側に配置され、前記第２面に接するように配置された第２保持部材と、を有し、
前記フレキシブル配線基板は、前記素子基板の前記第１端子から前記側面へ向かう方向である引き出し方向へ向かって引き出され、
前記第１保持部材の前記第１面に接する部分は、前記素子基板の前記第１端子が配置された面よりも第２保持部材側に位置し、
前記第２保持部材の前記第２面に接する部分は、少なくとも一部が前記第１保持部材の前記第１面に接する部分と前記第１端子と前記第２端子とが接続した部分である接続部分のうち前記引き出し方向側の端縁との間に配置されていることを特徴とする電気光学モジュール。
【請求項２】
前記第２保持部材は、前記引き出し方向において前記側面より前記接続部分側で前記フレキシブル配線基板に接していることを特徴とする請求項１に記載の電気光学モジュール。
【請求項３】
前記第１保持部材は、前記フレキシブル配線基板の前記第１面に対向する第１板状部と、該第１板状部から前記フレキシブル配線基板に向けて突出した第１凸部と、を備え、
当該第１凸部が前記フレキシブル配線基板に接していることを特徴とする請求項１または２に記載の電気光学モジュール。
【請求項４】
前記第２保持部材は、前記フレキシブル配線基板の前記第２面に対向する第２板状部と、該第２板状部から前記フレキシブル配線基板に向けて突出した第２凸部と、を備え、
当該第２凸部が前記フレキシブル配線基板に接していることを特徴とする請求項１乃至３の何れか一項に記載の電気光学モジュール。
【請求項５】
前記第２凸部の前記フレキシブル配線基板に接する部分の前記素子基板からの高さは、前記フレキシブル配線基板の第２面のうち前記接続部分と重なる部分の前記素子基板からの高さよりも低いことを特徴とする請求項４に記載の電気光学モジュール。
【請求項６】
前記第２凸部は、前記フレキシブル配線基板を貫通する貫通部に嵌って当該貫通部の内縁に接していることを特徴とする請求項４に記載の電気光学モジュール。
【請求項７】
前記第１保持部材の一部は、前記素子基板の前記第１端子が配置された面とは反対側の面側に前記素子基板と重なるように配置され、
前記第２保持部材の一部は、前記素子基板の前記第１端子が配置された面側に前記素子基板と重なるように配置され、
前記素子基板は、前記第１保持部材と前記第２保持部材とで保持されていることを特徴とする請求項１乃至６の何れか一項に記載の電気光学モジュール。
【請求項８】
前記第１端子と前記第２端子とが異方性導電材を介して電気的に接続していることを特徴とする請求項１乃至７の何れか一項に記載の電気光学モジュール。
【請求項９】
前記素子基板の前記第１端子が配置された面に対向する対向基板を有し、
前記第１端子は、前記素子基板のうち前記素子基板と前記対向基板とが重なる部分とは異なる部分に配置されていることを特徴とする請求項１乃至８の何れか一項に記載の電気光学モジュール。
【請求項１０】
請求項１乃至９の何れか一項に記載の電気光学モジュールを備えていることを特徴とする電子機器。
【請求項１１】
前記電気光学モジュールに供給される光を出射する光源部と、
前記電気光学モジュールによって変調された光を投射する投射光学系と、
を有していることを特徴とする請求項１０に記載の電子機器。
【手続補正書】
【提出日】平成27年6月1日(2015.6.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材上に形成された高屈折率層と、該高屈折率層上に形成された低屈折率層とからなる反射防止膜付基材の製造方法であって、（ａ）基材上に、塩基性窒素化合物を１〜１０００ｐｐｍ含む、屈折率が１．５０〜２．４０の金属酸化物粒子の分散液を塗布する工程、
（ｂ）前記塩基性窒素化合物の沸点未満の温度で前記分散液の分散媒を除去する工程、
（ｃ）低屈折率層形成成分分散液を塗布する工程、
（ｄ）前記低屈折率層形成成分分散液の分散媒を除去する工程
（ｅ）前記基材を１２０〜７００℃で加熱する工程、を順に備える反射防止膜付基材の製造方法。
【請求項２】
前記低屈折率層形成成分がシリカ前駆体または、シリカ前駆体およびシリカゾルであることを特徴とする請求項１に記載の反射防止膜付基材の製造方法。
【請求項３】
前記シリカ前駆体が有機ケイ素化合物の部分加水分解物、加水分解物、加水分解縮重合物、ポリシラザン、ポリシラン、酸性珪酸液から撰ばれる少なくとも１種であることを特徴とする請求項２に記載の反射防止膜付基材の製造方法。
【請求項４】
前記低屈折率層形成成分分散液の濃度が、固形分として０．５〜１０重量％の範囲にあることを特徴とする請求項１に記載の反射防止膜付基材の製造方法。
【請求項５】
前記塩基性窒素化合物の沸点が４０〜２５０℃の範囲にあることを特徴とする請求項１に記載の反射防止膜付基材の製造方法。
【請求項６】
前記金属酸化物微粒子がＴｉＯ2、ＺｒＯ2、Ａｌ2Ｏ3、ＺｎＯ、ＳｎＯ2、Ｓｂ2Ｏ5、Ｉｎ2Ｏ3、Ｎｂ2Ｏ5から撰ばれる１種以上の金属酸化物、これらの混合物、複合酸化物からなることを特徴とする請求項１に記載の反射防止膜付基材の製造方法。
【請求項７】
前記金属酸化物粒子の平均粒子径が５〜１００ｎｍの範囲にあることを特徴とする請求項６に記載の反射防止膜付基材の製造方法。
【請求項８】
前記塩基性窒素化合物を含む金属酸化物粒子分散液中の金属酸化物微粒子の濃度が固形分として０．５〜２０重量％の範囲にあることを特徴とする請求項１に記載の反射防止膜付基材の製造方法。
【請求項９】
前記塩基性窒素化合物を含む金属酸化物粒子分散液がさらにマトリックス形成成分を含み、マトリックス形成成分の濃度が固形分として０．１〜４重量％の範囲にあることを特徴とする請求項１に記載の反射防止膜付基材の製造方法。
【請求項１０】
前記基材が表面に凹凸を有し、表面粗さ（ＲａA）が３０ｎｍ〜１μｍの範囲にあることを特徴とする請求項１に記載の反射防止膜付基材の製造方法。
【請求項１１】
前記基材がガラス基材であることを特徴とする請求項１に記載の反射防止膜付基材の製造方法。
【請求項１２】
請求項１〜１１のいずれかに記載の製造方法によって得られてなり、基材と、高屈折率層と、低屈折率層とが、積層されてなることを特徴とする反射防止膜付基材。
【請求項１３】
前記高屈折率層の平均厚みが５０〜２００ｎｍの範囲にあることを特徴とする請求項１２に記載の反射防止膜付基材。
【請求項１４】
前記低屈折率層の平均厚みが３０〜２００ｎｍの範囲にあることを特徴とする請求項１２に記載の反射防止膜付基材。
【請求項１５】
反射防止膜付基材の鉛筆硬度が７Ｈ以上であることを特徴とする請求項１２に記載の反射防止膜付基材。
【請求項１６】
請求項１２〜１５のいずれかに記載の反射防止膜付基材を前面に備えた光電気セル。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
このような状況のもと、本発明者らは、上記問題点を解決すべく鋭意検討した結果、基材上に、酸化チタン微粒子（高屈折率の金属酸化物微粒子）と塩基性窒素化合物を含む分散液を塗布し、乾燥し、ついで、シリカ前駆体を含む低屈折率層形成成分分散液を塗布し、ついで加熱したところ、得られる反射防止膜の硬度が著しく向上することを見出して本発明を完成するに至った。
具体的には、この反射防止膜付基材は、基材上に、塩基性窒素化合物を１〜１０００ｐｐｍ含む、屈折率が１．５０〜２．４０の金属酸化物粒子の分散液を塗布する工程、塩基性窒素化合物の沸点未満の温度で分散媒を除去する工程、低屈折率層形成成分分散液を塗布する工程、前記低屈折率層形成成分分散液の分散媒を除去し、ついで、１２０〜７００℃で加熱する工程を備えた製造方法によって得られる。
この製造方法によって作成された、基材上に形成された高屈折率層と、該高屈折率層上に形成された低屈折率層とが、積層されている反射防止膜付基材は、光電気セルの前面に使用することができる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６７】
ここで、表面に凹凸を有する低屈折率層の平均厚みは、反射防止膜（高屈折率層と低屈折率層）付基材重量から高屈折率層付基材の重量を減じ、これを低屈折率層の比重で除して求めることができる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６９】
反射防止膜の硬度（鉛筆硬度）は７Ｈ以上、さらには８Ｈ以上であることが好ましい。
反射防止膜の硬度（鉛筆硬度）が６Ｈ以下の場合は、電子デバイス、太陽電池として長期に使用した際に傷が入り、光透過率が不十分となる場合がある。このため、太陽電池に使用した場合は、光電変換効率が徐々に低下する場合がある。
［反射防止膜付基材］
本発明の反射防止膜付基材は、前記製造方法によって得られてなり、前記基材と、高屈折率層と、低屈折率層とが、積層されてなる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８８】
前記電極層（１）上、または必要に応じて設ける酸化チタン薄膜（１）上に多孔質金属酸化物半導体膜が形成されている。多孔質金属酸化物半導体膜（１）は、平均細孔径が１０〜４０ｎｍの範囲にあり、細孔容積が０．２５〜０．８ｍｌ／ｇの範囲にあればよい。多孔質金属酸化物半導体としては、特に制限はなく、酸化チタン、酸化ランタン、酸化ジルコニウム、酸化ニオビウム、酸化タングステン、酸化ストロンチウム、酸化亜鉛、酸化スズ、酸化インジウムの１種または２種以上の金属酸化物からなることが好ましい。なかでも結晶性の酸化チタン、たとえば、アナタース型酸化チタン、ブルッカイト型酸化チタン、ルチル型酸化チタンは好適に用いることができる。また、多孔質金属酸化物半導体膜（１）の膜厚は０．１〜５０μｍの範囲にあることが好ましい。
【手続補正書】
【提出日】平成27年6月10日(2015.6.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ビデオコンテンツを蓄積するコンテンツ蓄積部と、
前記コンテンツ蓄積部が蓄積したビデオコンテンツから特徴となる画像または音声を抽出し、抽出した画像または音声から単語情報を得る特徴抽出処理部と、
カメラが撮影した画像から識別した単語情報をクラスタリング処理して得られた分類された単語情報を取得する単語情報取得部と、
前記単語情報取得部が取得した分類された単語情報と、前記特徴抽出処理部が取得した単語情報とに基づいて、前記コンテンツ蓄積部が蓄積したビデオコンテンツから関連するビデオコンテンツを検索するコンテンツ検索部とを備えた
情報処理装置。
【請求項２】
前記特徴抽出処理部は、ビデオコンテンツの画像に含まれる字幕またはテロップから単語情報を取得する
請求項１記載の情報処理装置。
【請求項３】
前記特徴抽出処理部は、さらにビデオコンテンツの付加情報に含まれるテキスト情報から単語情報を取得する
請求項１または２記載の情報処理装置。
【請求項４】
前記単語情報取得部は、カメラが撮影した画像の文字認識処理で取得した単語情報をクラスタリング処理して分類された単語情報を取得する
請求項１〜３のいずれか１項に記載の情報処理装置。
【請求項５】
前記単語情報取得部は、カメラが撮影した画像中の物体の形状から、その物体名としての単語情報を取得する
請求項１〜３のいずれか１項に記載の情報処理装置。
【請求項６】
前記単語情報取得部が取得する単語情報は、カメラが撮影した画像から文字認識処理で得られた単語の数と、カメラが撮影した画像中の形状から認識された物体の数とを比較して、主たる情報として決定した単語情報である
請求項１〜３のいずれか１項に記載の情報処理装置。
【請求項７】
カメラ部を有するカメラ付き端末装置と、該カメラ付き端末装置と通信が可能で、ビデオコンテンツを蓄積するコンテンツ蓄積部を有するビデオ記録装置とよりなり、
前記カメラ付き端末装置のカメラ部が撮影した画像から単語情報を得る画像認識部と、
前記画像認識部が得た単語情報をクラスタリングして分類された単語情報を得るクラスタリング処理部と、
前記コンテンツ蓄積部が蓄積したビデオコンテンツから特徴となる画像または音声を抽出し、抽出した画像または音声から単語情報を得る特徴抽出処理部と、
前記クラスタリング処理部で得られた分類された単語情報と、前記特徴抽出処理部が取得した単語情報とに基づいて、前記コンテンツ蓄積部が蓄積したビデオコンテンツから関連するビデオコンテンツを検索するコンテンツ検索部を、
前記カメラ付き端末装置と前記ビデオ記録装置の何れか一方が備えた
情報処理システム。
【請求項８】
コンテンツ蓄積部が蓄積したビデオコンテンツから特徴となる画像または音声を抽出し、抽出した画像または音声から単語情報を得る特徴抽出処理と、
カメラが撮影した画像から単語情報を得る画像認識処理と、
前記画像認識処理で得た単語情報をクラスタリングして分類された単語情報を得るクラスタリング処理と、
前記クラスタリング処理で得た分類された単語情報と、前記特徴抽出処理で取得された単語情報とに基づいて、前記コンテンツ蓄積部が蓄積したビデオコンテンツから関連するビデオコンテンツを検索するコンテンツ検索処理とを含む
情報処理方法。
【請求項９】
コンテンツ蓄積部が蓄積したビデオコンテンツから特徴となる画像または音声を抽出し、抽出した画像または音声から単語情報を得る特徴抽出手順と、
カメラが撮影した画像から単語情報を得る画像認識手順と、
前記画像認識手順で得た単語情報をクラスタリングして分類された単語情報を得るクラスタリング手順と、
前記クラスタリング手順で得た分類された単語情報と、前記特徴抽出手順で取得された単語情報とに基づいて、前記コンテンツ蓄積部が蓄積したビデオコンテンツから関連するビデオコンテンツを検索するコンテンツ検索手順を、
コンピュータに実行させるためのプログラムを記録した
記録媒体。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】情報処理装置、情報処理システム、情報処理方法および記録媒体
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本開示は、蓄積されたビデオコンテンツを使った処理を行う情報処理装置、情報処理システム、情報処理方法および記録媒体に関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本開示の目的は、情報処理装置が蓄積したコンテンツを検索する処理が適切に行える情報処理装置、情報処理システム、情報処理方法および記録媒体を提供することにある。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本開示の情報処理装置は、ビデオコンテンツを蓄積するコンテンツ蓄積部と、特徴抽出処理部と、単語情報取得部と、コンテンツ検索部とを備える。
特徴抽出処理部は、コンテンツ蓄積部が蓄積したビデオコンテンツから特徴となる画像または音声を抽出し、抽出した画像または音声から単語情報を得る。
単語情報取得部は、カメラが撮影した画像から識別した単語情報をクラスタリング処理して得られた分類された単語情報を取得する。
コンテンツ検索部は、単語情報取得部が取得した分類された単語情報と、特徴抽出処理部が取得した単語情報とに基づいて、コンテンツ蓄積部が蓄積したビデオコンテンツから関連するビデオコンテンツを検索する。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
本開示の一実施の形態に係る情報処理装置、情報処理システム、情報処理方法および記録媒体の例を、図面を参照しながら、以下の順で説明する。
１．システム全体の構成例（図１）
２．ビデオ記録装置の構成例（図２）
３．カメラ付き端末装置の構成例（図３）
４．処理の流れの例（図４〜図８）
５．変形例１（図９〜図１１）
６．変形例２（図１２〜図１３）
７．その他の変形例
【手続補正書】
【提出日】平成27年6月5日(2015.6.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
フレーム画像から物体を検出する物体検出手段と、
前記物体検出手段により物体が検出された領域に対して特定物体の検出処理を行う特定物体検出手段と、
前記物体検出手段により第１フレーム画像から物体が検出された複数の領域のうち、前記特定物体検出手段により特定物体が検出された領域に対する前記特定物体検出手段による特定物体の検出頻度が、前記物体検出手段により前記第１フレーム画像から物体が検出された前記複数の領域のうち、前記特定物体検出手段により前記特定物体が検出されない領域に対する前記特定物体検出手段による特定物体の検出頻度よりも低くなるように、前記第１フレーム画像よりも後の第２フレーム画像に対する特定物体の検出処理を制御する制御手段と、
を備えることを特徴とする映像処理装置。
【請求項２】
前記物体検出手段により複数のフレーム画像から検出された物体を対応付ける対応付け手段を有し、
前記制御手段は、前記第２フレーム画像から前記検出手段により検出された物体の領域のうち、前記第１フレーム画像から前記特定物体検出手段により検出された特定物体に前記対応付け手段により対応付けられた物体の領域に対して、前記特定物体検出手段が特定物体の検出処理を行なわないように制御することを特徴とする請求項１に記載の映像処理装置。
【請求項３】
前記制御手段は、前記物体検出手段により所定の期間に対応する複数のフレーム画像から検出され、前記対応付け手段により対応付けられた複数の物体の領域から前記特定物体が検出された頻度に応じて、前記検出頻度を制御することを特徴とする請求項２に記載の映像処理装置。
【請求項４】
前記制御手段は、前記物体検出手段により所定の期間に対応する複数のフレーム画像から検出され、前記対応付け手段により対応付けられた複数の物体の領域から前記特定物体が検出された頻度に応じて、前記第２フレーム画像内の複数の物体の領域に対する前記特定物体検出手段による検出処理の順序を制御することを特徴とする請求項２に記載の映像処理装置。
【請求項５】
前記制御手段は、所定の期間に対応するフレーム画像における前記特定物体の検出処理の回数が所定値を上回る場合もしくは所定の期間に対応するフレーム画像おける前記特定物体の検出処理の負荷が所定値を上回る場合に、前記特定物体検出手段による前記特定物体の検出処理の実行を中止するように制御することを特徴とする請求項１乃至４の何れか１項に記載の映像処理装置。
【請求項６】
前記物体検出手段は、予め取得された背景画像とフレーム画像との差分に基づいて物体を検出し、
前記特定物体検出手段は、前記物体検出手段により検出された物体の領域に対するパターンマッチング処理により、前記特定物体として人物、顔、動物及び車のうち少なくとも何れか１つを特定することを特徴とする請求項１乃至５のうち何れか１項に記載の映像処理装置。
【請求項７】
フレーム画像から物体を検出する物体検出工程と、
前記物体検出工程により物体が検出された領域に対して特定物体の検出処理を行う特定物体検出工程と、
前記物体検出工程により第１フレーム画像から物体が検出された複数の領域のうち、前記特定物体検出工程により特定物体が検出された領域に対する特定物体の検出頻度が、前記物体検出工程により前記第１フレーム画像から物体が検出された前記複数の領域のうち、前記特定物体検出工程により特定物体が検出されない領域に対する特定物体の検出頻度よりも低くなるように、前記第１フレーム画像よりも後の第２フレーム画像に対する特定物体の検出処理を制御する制御工程と、
を有することを特徴とする映像処理方法。
【請求項８】
前記物体検出工程により複数のフレーム画像から検出された物体を対応付ける対応付け工程を有し、
前記制御工程は、前記第２フレーム画像から前記検出工程により検出された物体の領域のうち、前記第１フレーム画像から前記特定物体検出工程により検出された特定物体に前記対応付け工程により対応付けられた物体の領域に対して、前記特定物体検出工程が特定物体の検出処理を行なわないように制御することを特徴とする請求項７に記載の映像処理方法。
【請求項９】
前記制御工程は、前記物体検出工程により所定の期間に対応する複数のフレーム画像から検出され、前記対応付け工程により対応付けられた複数の物体の領域から前記特定物体が検出された頻度に応じて、前記検出頻度を制御することを特徴とする請求項８に記載の映像処理方法。
【請求項１０】
コンピュータを、請求項１乃至６の何れか１項に記載の映像処理装置の各手段として機能させるためのプログラム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
上記の目的を達成する本発明に係る映像処理装置は、
フレーム画像から物体を検出する物体検出手段と、
前記物体検出手段により物体が検出された領域に対して特定物体の検出処理を行う特定物体検出手段と、
前記物体検出手段により第１フレーム画像から物体が検出された複数の領域のうち、前記特定物体検出手段により特定物体が検出された領域に対する前記特定物体検出手段による特定物体の検出頻度が、前記物体検出手段により前記第１フレーム画像から物体が検出された前記複数の領域のうち、前記特定物体検出手段により前記特定物体が検出されない領域に対する前記特定物体検出手段による特定物体の検出頻度よりも低くなるように、前記第１フレーム画像よりも後の第２フレーム画像に対する特定物体の検出処理を制御する制御手段と、
を備えることを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】映像処理装置、映像処理方法、およびプログラム
【手続補正書】
【提出日】平成27年6月2日(2015.6.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】半導体集積回路、半導体集積回路のレジスタブロック制御方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
本発明の半導体集積回路のレジスタブロックは、１つの減算器と、データを記憶する複数の記憶素子と、前記複数の記憶素子の特定の１つを選択する選択回路と、データを前記選択回路により選択された前記複数の記憶素子の特定の１つに書き込む際に、前記減算器でマイナス１して書き込むか、そのまま書き込むか、を切り換える切り換え回路と、を備える。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
なお、１つの加算器を更に備え、複数の記憶素子の中で、減算器でデータをマイナス１して書き込まれた記憶素子から、データの読み出しを行う際は、記憶されているデータを加算器でプラス１して出力する、ことが望ましい。
【手続補正４】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
外部ハードウェアとバスインターフェースで接続されるレジスタブロックを備える半導体集積回路において、
前記レジスタブロックは、
１つの減算器と、
データを記憶する複数の記憶素子と、
前記複数の記憶素子の特定の１つを選択する選択回路と、
データを前記選択回路により選択された前記複数の記憶素子の特定の１つに書き込む際に、前記減算器でマイナス１して書き込むか、そのまま書き込むか、を切り換える切り換え回路と、
を備えたことを特徴とする半導体集積回路。
【請求項２】
１つの加算器を更に備え、
前記複数の記憶素子の中で、前記減算器でデータをマイナス１して書き込まれた記憶素子から、データの読み出しを行う際は、記憶されているデータを前記加算器でプラス１して出力することを特徴とする請求項１に記載の半導体集積回路。
【請求項３】
外部ハードウェアとバスインターフェースで接続されるレジスタブロックを備える半導体集積回路のレジスタブロック制御方法であって、
前記レジスタブロックは、
１つの減算器と、データを記憶する複数の記憶素子と、前記複数の記憶素子の特定の１つを選択する選択回路と、を備え、
データを前記選択回路により選択された前記複数の記憶素子の特定の１つに書き込む際に、前記減算器でマイナス１して書き込むか、そのまま書き込むか、を切り換えることを特徴とする半導体集積回路のレジスタブロック制御方法。
【手続補正書】
【提出日】平成27年6月10日(2015.6.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
コンピュータの電源のハイバネーション処理時に、
揮発性の第１の記憶装置上のデータにスワップアウト処理により、前記揮発性の第１の記憶装置上のデータのうち、優先度の低いデータを、ハードディスクドライブである外部記憶装置に保存し、
前記第１の記憶装置上のデータのうち、優先度の高いデータを、前記第１の記憶装置以上の記憶容量を有する不揮発性の第２の記憶装置に保存することを特徴とするコンピュータのメモリ管理方法。
【請求項２】
請求項１において、
前記コンピュータの電源のハイバネーション処理時に、前記優先度の高いデータを、非圧縮で前記第２の記憶装置に保存することを特徴とするコンピュータのメモリ管理方法。
【請求項３】
請求項１において、
前記コンピュータの電源のハイバネーション処理時に、前記優先度の高いデータを、圧縮して前記第２の記憶装置に保存することを特徴とするコンピュータのメモリ管理方法。
【手続補正書】
【提出日】平成27年2月23日(2015.2.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１１４】
図２１は、キャッシュデータメモリへの登録を説明するための図である。
入出力制御部２１０は、シフタ６１を含み、シフタ６１は、分岐先命令のアドレスＪＡＤＤＲの下位３ビットの値だけ、命令メモリ８から読みだされた１２８ビットの読出しデータをシフトして、６４ビット幅のキャッシュラインに出力する。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１１８】
図２２は、キャッシュデータメモリからの読出しを説明するための図である。
入出力制御部２１０は、シフタ６２を含み、シフタ６２は、分岐先命令アドレスメモリ２１１に記憶されている分岐先命令の下位３ビット（Ａ０〜Ａ２）の値だけ、キャッシュデータメモリ２０９から読みだされた６４ビットのデータをシフトして、ＣＰＵコア４へ出力する。
【手続補正書】
【提出日】平成27年4月28日(2015.4.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３０】
顔輪郭画像特定部６ｆは、特徴情報抽出部６ｄにより抽出された特徴情報に対応する顔輪郭画像Ｐ２を特定する。
即ち、顔輪郭画像特定部６ｆは、第２取得手段として、画像記録部５に顔の特徴情報と対応付けて記録されている顔輪郭画像Ｐ２から、特徴情報抽出部６ｄにより抽出された特徴情報に対応する顔輪郭画像Ｐ２を特定する。具体的には、顔輪郭画像特定部６ｆは、画像記録部５に記録されている所定数の顔の輪郭の形状を規定する楕円形と、特徴情報抽出部６ｄにより抽出された顔の輪郭Ｗ１の形状を規定する楕円形とを比較して、一致度が所定値よりも高い楕円形を特定する。そして、顔輪郭画像特定部６ｆは、特定された楕円形と対応付けられている顔輪郭画像Ｐ２の画像データを特定する。
なお、顔輪郭画像特定部６ｆは、一致度が所定値よりも高い楕円形を複数特定し、当該複数の楕円形の中で、ユーザによる操作入力部９の所定操作に基づいて選択されたユーザ所望の楕円形を特定しても良い。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５４】
例えば、図８（ａ）に示す似顔絵画像生成部６ｊにより生成された似顔絵画像Ｐ６では、顔輪郭画像Ｐ２の顎の先端ＰＳ４が、顔微細部画像Ｐ４において特定された顎の先端ＰＳ２と（図６（ｂ）参照）、一致しているので、より自然な似顔絵となっている。
一方、図８（ｂ）は、顔輪郭画像変形部６ｉにより顔輪郭画像Ｐ２の変形を行わなかった場合の似顔絵画像であり、顎幅の中央部分である顔輪郭画像Ｐ２の顎の先端ＰＳ５が、顔微細部画像Ｐ４において特定された顎の先端ＰＳ２と（図６（ｂ）参照）、一致していないので、顔の輪郭と配置された目、鼻、口、眉等の各顔構成部のパーツ画像とのバランスが不自然になっている。
【手続補正書】
【提出日】平成27年5月18日(2015.5.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
画像内で主要被写体と該主要被写体以外の背景を領域分割する装置であって、
前記画像内の各画素に付与する前記主要被写体または前記背景を示す領域ラベルを更新しながら、該領域ラベルと前記各画素の画素値に基づき、前記主要被写体を示す画像から算出した前記画素値ごとの第１のヒストグラムの値が大きいほど値が小さくなるコスト項と、前記背景を示す画像から算出した前記画素値ごとの第２のヒストグラムの値が大きいほど値が小さくなるコスト項を含むエネルギー関数の最小化処理により、前記画像内で前記主要被写体と前記背景を領域分割する領域分割手段と、
前記領域分割手段での処理の後、処理が終了した前記画像内で、前記主要被写体を示す領域から前記画素値ごとの第３のヒストグラムと、前記背景を示す領域から前記画素値ごとの第４のヒストグラムを、それぞれ算出する新規ヒストグラム算出手段と、
前記第３のヒストグラムで、度数値が所定閾値以上となる画素値を特定画素値として抽出する特定画素値抽出手段と、
前記第１および第３のヒストグラムを前記画素値ごとに混合して前記第１のヒストグラムを更新し、前記第２および第４のヒストグラムを前記特定画素値以外の前記画素値ごとに混合して前記第２のヒストグラムを更新するヒストグラム更新手段と、
を備えることを特徴とする画像領域分割装置。
【請求項２】
前記ヒストグラム更新手段は、前記第２および第４のヒストグラムの各度数値を前記特定画素値以外の前記画素値ごとに所定の割合ずつ加算して得た度数値と、前記特定画素値ごとの前記第２のヒストグラムの度数値とから、更新された前記第２のヒストグラムを算出する、
ことを特徴とする請求項１に記載の画像領域分割装置。
【請求項３】
前記第１のヒストグラムの初期値は、学習用の複数枚の前記主要被写体を示す画像の前記画素値ごとのヒストグラムとして算出し、
前記第２のヒストグラムの初期値は、学習用の複数枚の前記背景を示す画像の前記画素値ごとのヒストグラムとして算出する、
ことを特徴とする請求項１または２のいずれかに記載の画像領域分割装置。
【請求項４】
前記領域分割手段は、Ｇｒａｐｈ  Ｃｕｔｓ法により前記エネルギー関数の最小化処理を実行する、
ことを特徴とする請求項１ないし３のいずれかに記載の画像領域分割装置。
【請求項５】
画像内で主要被写体と該主要被写体以外の背景を領域分割する方法であって、
前記画像内の各画素に付与する前記主要被写体または前記背景を示す領域ラベルを更新しながら、該領域ラベルと前記各画素の画素値に基づき、前記主要被写体を示す画像から算出した前記画素値ごとの第１のヒストグラムの値が大きいほど値が小さくなるコスト項と、前記背景を示す画像から算出した前記画素値ごとの第２のヒストグラムの値が大きいほど値が小さくなるコスト項を含むエネルギー関数の最小化処理により、前記画像内で前記主要被写体と前記背景を領域分割する領域分割ステップと、
前記領域分割処理の後、処理が終了した前記画像内で、前記主要被写体を示す領域から前記画素値ごとの第３のヒストグラムと、前記背景を示す領域から前記画素値ごとの第４のヒストグラムを、それぞれ算出する新規ヒストグラム算出ステップと、
前記第３のヒストグラムで、度数値が所定閾値以上となる画素値を特定画素値として抽出する特定画素値抽出ステップと、
前記第１および第３のヒストグラムを前記画素値ごとに混合して前記第１のヒストグラムを更新し、前記第２および第４のヒストグラムを前記特定画素値以外の前記画素値ごとに混合して前記第２のヒストグラムを更新するヒストグラム更新ステップと、
を備えることを特徴とする画像領域分割方法。
【請求項６】
画像内で指定された画像範囲内の主要オブジェクトの前景と、該主要オブジェクト以外の背景をコスト関数最適化により領域分割する方法であって、
前記画像内で、前記指定された画像範囲内の前記主要オブジェクトの領域を設定するステップを有し、
コスト関数最適化の繰り返しにより、前記主要オブジェクトの領域を切り抜くときに、イタレーションごとに背景ヒストグラムの更新を行う際、前記主要オブジェクトの領域で前景領域となり、発生頻度の高かった色は、背景ヒストグラムの更新に用いないようにすることを特徴とする画像領域分割方法。
【請求項７】
前記主要オブジェクトの領域は矩形枠で表されることを特徴とする請求項６記載の画像領域分割方法。
【請求項８】
画像内で主要被写体と該主要被写体以外の背景を領域分割するコンピュータに、
前記画像内の各画素に付与する前記主要被写体または前記背景を示す領域ラベルを更新しながら、該領域ラベルと前記各画素の画素値に基づき、前記主要被写体を示す画像から算出した前記画素値ごとの第１のヒストグラムの値が大きいほど値が小さくなるコスト項と、前記背景を示す画像から算出した前記画素値ごとの第２のヒストグラムの値が大きいほど値が小さくなるコスト項を含むエネルギー関数の最小化処理により、前記画像内で前記主要被写体と前記背景を領域分割する領域分割ステップと、
前記領域分割処理の後、処理が終了した前記画像内で、前記主要被写体を示す領域から前記画素値ごとの第３のヒストグラムと、前記背景を示す領域から前記画素値ごとの第４のヒストグラムを、それぞれ算出する新規ヒストグラム算出ステップと、
前記第３のヒストグラムで、度数値が所定閾値以上となる画素値を特定画素値として抽出する特定画素値抽出ステップと、
前記第１および第３のヒストグラムを前記画素値ごとに混合して前記第１のヒストグラムを更新し、前記第２および第４のヒストグラムを前記特定画素値以外の前記画素値ごとに混合して前記第２のヒストグラムを更新するヒストグラム更新ステップと、
を実行させるためのプログラム。