(57)【要約】  ０．４５ＭＨｚの高周波の下で、温度３７〜４１℃の範囲の温度調節部を備え、かつ１回当たりの温熱処理時間を１分〜６０分に設定する温熱処理時間調節部を備えた温熱投与手段を備えた第１次脂肪滴・セルライト抑制装置と、被施術部に適用するプロビタミンＣ剤と、電流値が１．２ｍＡから２．４ｍＡの範囲の断続平流の矩形波・積分波を主にしたＥｌｌｉｐｔｉｃ  Ｒ波形で、周波数が５０００Ｈｚから１５０００Ｈｚの投入手段を備え、前記断続平流の矩形波・積分波を主にしたＥｌｌｉｐｔｉｃ  Ｒ波形が一方の極性において複数回の繰り返し後、該断続平流の矩形波・積分波を主にしたＥｌｌｉｐｔｉｃ  Ｒ波形と同等の逆極性の波形を１回印加する関係を交互に繰返す印加手段を備えた第２次脂肪滴・セルライト抑制装置とを組み合わせてなることを特徴とする脂肪滴・セルライト抑制装置。
2014068698.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被施術部位に当接するためのエレクトロードと、該エレクトロードに当接する被施術対象体の背後に設置する戻し電極であるレジスティブを備え、かつ０．４５ＭＨｚの高周波の下で、温度３７〜４１℃の範囲の温度調節部を備えるとともに１回当たりの温熱処理時間を１分〜６０分に設定する温熱処理時間調節部を備えた温熱投与手段を備えた第１次脂肪滴・セルライト抑制装置と、
前記第１次脂肪滴・セルライト抑制装置の適用後に被施術部に適用するプロビタミンＣ剤と、
電流値が１．２ｍＡから２．４ｍＡの範囲の断続平流の矩形波・積分波を主にしたＥｌｌｉｐｔｉｃ  Ｒ波形で、周波数が５０００Ｈｚから１５０００Ｈｚの範囲の投入手段を備え、前記断続平流の矩形波・積分波を主にしたＥｌｌｉｐｔｉｃ  Ｒ波形が一方の極性において複数回の繰り返し後、該断続平流の矩形波・積分波を主にしたＥｌｌｉｐｔｉｃ  Ｒ波形と同等の逆極性の波形を１回印加する関係を交互に繰返す印加手段を備えるとともに、導入側電極端子と対側電極端子を備え、該２つの電極端子を標的体部と対側体部にそれぞれ装着可能に形成したイオン導入器である第２次脂肪滴・セルライト抑制装置とを、
組み合わせてなることを特徴とする脂肪滴・セルライト抑制装置。
【請求項２】
脂肪滴・セルライト抑制装置におけるイオン導入器は、電流値が１．２ｍＡから２．４ｍＡの範囲の断続平流の矩形波・積分波を主にしたＥｌｌｉｐｔｉｃ  Ｒ波形で、周波数を１００００Ｈｚに固定した投入手段を備えていることを特徴とする請求項１記載の脂肪滴・セルライト抑制装置。
【請求項３】
脂肪滴・セルライト抑制装置におけるイオン導入器は、電流値が２．４ｍＡの断続平流の矩形波・積分波を主にしたＥｌｌｉｐｔｉｃ  Ｒ波形で、周波数を５０００Ｈｚから１５０００Ｈｚの範囲の投入手段を備えていることを特徴とする請求項１記載の脂肪滴・セルライト抑制装置。
【請求項４】
脂肪滴・セルライト抑制装置におけるイオン導入器は、電流値が２．４ｍＡの断続平流の矩形波・積分波を主にしたＥｌｌｉｐｔｉｃ  Ｒ波形で、周波数を１００００Ｈｚに固定した投入手段を備えていることを特徴とする請求項１記載の脂肪滴・セルライト抑制装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は高周波温熱手段とプロビタミンＣ剤とイオン導入手段を組み合わせることにより、脂肪滴抑制効果・セルライト抑制の大幅な向上を可能ならしめる脂肪滴・セルライト抑制装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
本発明者らは、先に、下記に記載の特許発明（特許文献１）を行った。プロビタミンＣ剤の標的体部への投与手段と、被施術部位に当接するためのエレクトロードと、該エレクトロードに当接する被施術対象体の背後に設置する戻し電極であるレジスティブを備え、かつ０．４５ＭＨｚの高周波の下で、温度３７〜４１℃の範囲の温度調節部を備えるとともに１回当たりの温熱処理時間を１分〜３０分に設定する温熱処理時間調節部を備え、合計で６時間〜１週間のインターバルを置いた温熱投与手段を備える脂肪滴・セルライト抑制装置である。【０００３】
また、従来の携帯用イオン導入器として、下記の特許発明（特許文献２）が存在する。ポケット型に形成した携帯用イオン導入器本体を肩・腰・背中・太股の群から選ばれる一つまたはそれ以上の体部からベルトで吊るす等の体部への取付手段にて携帯型に形成し、該携帯用イオン導入器本体は断続平流の矩形波・積分波を主にしたＥｌｌｉｐｔｉｃ  Ｒ波形で、周波数が１５００から１５５０Ｈｚの投入手段を備え、前記断続平流の矩形波・積分波を主にしたＥｌｌｉｐｔｉｃ  Ｒ波形が一方の極性において複数回の繰り返し後、該断続平流の矩形波・積分波を主にしたＥｌｌｉｐｔｉｃ  Ｒ波形と同等の逆極性の波形を１回印加する関係を交互に繰返す印加手段を備えるとともに、導入側電極端子と対側電極端子を備え、該２つの電極端子を標的体部と対側体部にそれぞれ装着可能に形成したことを特徴とする携帯用イオン導入器である。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特許第４８７２０２８号
【特許文献２】特許第４２１７９８４号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
上記特許文献１によれば、温熱処理装置の単独使用よりも、温熱に加えて、各種プロビタミンＣ剤を併用したことにより、相乗効果として、脂肪滴とセルライトの抑制が顕著になることが判明した。また、温熱を一定期間のインターバルを置いて温熱処理する手段と、各温熱処理手段の適用に際して本発明で見いだした特定プロビタミンＣ剤を特定濃度で標的体部に投与する併用手段が脂肪滴・セルライト抑制に著効を示すことが本発明によって見いだされた点が記載されている（明細書段落００１６参照）。【０００６】
しかしながら、上記特許文献１のように、プロビタミンＣ剤と高周波温熱処理装置を併用しただけでは、ヒト皮膚３次元モデルに対するプロビタミンＣ剤の表皮から真皮への導入が未だ十分ではなく、また表皮から真皮への導入過程においてプロビタミンＣ剤から変換されたアスコルビン酸の還元力保持が未だ十分なものであるとは言えなかった。【０００７】
また、上記特許文献２の発明においては、携帯用イオン導入器の電流として断続平流を用い、波形は矩形波・積分波を主にしたＥｌｌｉｐｔｉｃ  Ｒ波を用いてイオン導入を行っていたが、その携帯用イオン導入器で使用する電流値は０．３ｍＡから１．０ｍＡの範囲で行っていたに過ぎない。このため皮膚の表面に塗布したプロビタミンＣ剤が表皮から真皮に移行する過程において変換されるアスコルビン酸の還元力保持が未だ十分なものであるとは言えなかった。さらに、特許文献２の発明において使用した携帯用イオン導入器であるＨｉｇｈ  Ｖｉｔａｌｉｏｎｔ（（株）インディバ・ジャパン製）の周波数が５００Ｈｚ〜１５３０Ｈｚで３段階（モード１・モード２・モード３）に変更が可能な周波数で、かつ電流値は設定値１．０ｍＡで実測値０．９９ｍＡでの設定値が被施術者の不快感のない最大の電流値であった（明細書段落００３４参照）が、本発明者らは、その後の研究によって、更に５０００Ｈｚから１５０００Ｈｚの範囲の高い周波数で、かつ電流値も１．２ｍＡから２．４ｍＡの範囲に設定しても被施術者に不快感を与えない上に、プロビタミンＣ剤が表皮を経由して真皮に導入されるアスコルビン酸の還元力保持が大幅に増加することも判明した。【０００８】
本発明は上記従来技術の問題点に鑑み、プロビタミンＣ剤(以下、ＡＰＳという)を被施術部位に塗布する前に、被施術部位の温熱処理による血行促進を図り、イオン導入効果を高めるための前処理段階である高周波温熱装置と、ＡＰＳの被施術部位への適用と、従来の携帯用イオン導入器では採用されなかった出力電流領域及び周波数帯域の改良に伴う新型のイオン導入器との組合せによって、被施術部位に適用したＡＰＳが表皮を経由して真皮に導入されるアスコルビン酸の還元力保持が大幅に増加することが実証された脂肪滴・セルライト抑制装置を提供することを目的とする。【０００９】
また、本発明の他の目的はイオン導入器において、被施術部位に対する電流値が１．２ｍＡから２．４ｍＡの範囲の断続平流の矩形波・積分波を主にしたＥｌｌｉｐｔｉｃ  Ｒ波形で、周波数が５０００Ｈｚから１５０００Ｈｚの投入手段によって、ＡＰＳが表皮を経由して真皮に移行する過程においてアスコルビン酸の還元力保持が大幅に増加することが判明しただけではなく、上記電流値範囲及び周波数帯域の設定範囲において被施術者に対するピリピリ感が無く安心して施術を提供できるという脂肪滴・セルライト抑制装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
被施術部位に当接するためのエレクトロードと、該エレクトロードに当接する被施術対象体の背後に設置する戻し電極であるレジスティブを備え、かつ０．４５ＭＨｚの高周波の下で、温度３７〜４１℃の範囲の温度調節部を備えるとともに１回当たりの温熱処理時間を１分〜６０分に設定する温熱処理時間調節部を備えた温熱投与手段を備えた第１次脂肪滴・セルライト抑制装置と、
前記第１次脂肪滴・セルライト抑制装置の適用後に被施術部に適用するＡＰＳと、
電流値が１．２ｍＡから２．４ｍＡの範囲の断続平流の矩形波・積分波を主にしたＥｌｌｉｐｔｉｃ  Ｒ波形で、周波数が５０００Ｈｚから１５０００Ｈｚの範囲の投入手段を備え、前記断続平流の矩形波・積分波を主にしたＥｌｌｉｐｔｉｃ  Ｒ波形が一方の極性において複数回の繰り返し後、該断続平流の矩形波・積分波を主にしたＥｌｌｉｐｔｉｃ  Ｒ波形と同等の逆極性の波形を１回印加する関係を交互に繰返す印加手段を備えるとともに、導入側電極端子と対側電極端子を備え、該２つの電極端子を標的体部と対側体部にそれぞれ装着可能に形成したイオン導入器である第２次脂肪滴・セルライト抑制装置とを、
組み合わせてなることを特徴とする脂肪滴・セルライト抑制装置である。【００１１】
請求項１記載の脂肪滴・セルライト抑制装置におけるイオン導入器は電流値が１．２ｍＡから２．４ｍＡの範囲の断続平流の矩形波・積分波を主にしたＥｌｌｉｐｔｉｃ  Ｒ波形で、周波数を１００００Ｈｚに固定した投入手段を備えていることを特徴とする。【００１２】
請求項１記載の脂肪滴・セルライト抑制装置におけるイオン導入器は電流値が２．４ｍＡの断続平流の矩形波・積分波を主にしたＥｌｌｉｐｔｉｃ  Ｒ波形で、周波数を５０００Ｈｚから１５０００Ｈｚの範囲の投入手段を備えていることを特徴とする。【００１３】
請求項１記載の脂肪滴・セルライト抑制装置におけるイオン導入器は電流値が２．４ｍＡの断続平流の矩形波・積分波を主にしたＥｌｌｉｐｔｉｃ  Ｒ波形で、周波数を１００００Ｈｚに固定した投入手段を備えていることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１４】
本発明は高周波温熱装置である第１次脂肪滴・セルライト抑制装置により被施術部位の温熱処理による血行促進を図り、イオン導入効果を高めるための前処理段階である高周波温熱装置と、被施術部位に適用するＡＰＳと、従来の携帯用イオン導入器では採用されなかった特定の出力電流領域及び特定の周波数帯域においてのイオン導入器との組合せによって、血行促進効果が図られた状態下でＡＰＳが被施術部の表皮から真皮への移行に際して従来の携帯型イオン導入器では得られなかった電流値が１．２ｍＡから２．４ｍＡの範囲の断続平流の矩形波・積分波を主にしたＥｌｌｉｐｔｉｃ  Ｒ波形で、周波数が５０００Ｈｚから１５０００Ｈｚの範囲の投入手段を備えることにより、被施術部位に塗布したＡＰＳが表皮を経由して真皮に導入されるアスコルビン酸の還元力保持が大幅に増加することが判明した。【００１５】
また、本発明は被施術部位に対する電流値が１．２ｍＡから２．４ｍＡの範囲の断続平流の矩形波・積分波を主にしたＥｌｌｉｐｔｉｃ  Ｒ波形で、周波数が５０００Ｈｚから１５０００Ｈｚの投入手段を備えていても被施術者に対するピリピリ感が無く被施術者は安心して施術を受けられる。上記イオン導入器において、周波数が５０００Ｈｚ未満であると、電流値を２．４ｍＡに上げることができない。また、周波数が１５０００Ｈｚを超えると、ＡＰＳによるイオン導入効果が得られず、被施術者にピリピリ感を与えることになり適切でない。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】本発明の構成要素である高周波温熱機器（商品名：ＭＤ５３０インディバＣＲｅｔ  Ｓｙｓｔｅｍ）である第１次脂肪滴・セルライト抑制制装置の正面図である。
【図２】本発明の構成要素である高周波温熱機器（商品名：ＭＤ５３０インディバＣＲｅｔ  Ｓｙｓｔｅｍ）である第１次脂肪滴・セルライト抑制制装置の前面に表示されるコントロール類の表示部の説明図である。
【図３】キャパシティブエレクトリックトランスファーシステムにおける電流の動きを示す説明図である。
【図４】本発明の構成要素であるイオン導入器（商品名：ＳＵＰＥＲ  ＶＩＴＡＬＩＯＮＴ（（株）インディバ・ジャパン製）を示す平面図である。
【図５】本発明の構成要素であるイオン導入器のイオン導入の波形である。
【図６】皮膚組織内のＡＰＳ量を示すグラフである。
【図７】皮膚組織内のビタミンＣ，ＡＰＳ量を示すグラフである。
【図８】皮膚組織内のビタミンＣ，ＡＰＳ量を示すＨＰＬＣクロマトグラムである。
【図９】皮膚組織内のビタミンＣ，ＡＰＳ量を示すグラフである。
【図１０】皮膚組織内のビタミンＣ，ＡＰＳ量を示すグラフである。
【図１１】皮膚組織内のビタミンＣ，ＡＰＳ量を示すグラフである。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
本発明で使用する第１次脂肪滴・セルライト抑制装置は、ＭＤ５３０型で、０．５ＭＨｚ±５％の高周波温熱機器であり、施術箇所への循環を通じて人体細胞の深部加温を行い、後述するＡＰＳが施術部位に対し、より効率良く投入できる要素となる。このため、前記高周波温熱機器の施術部位への適用時には、ＡＰＳは適用されない。
【００１８】
キャパシティブ用エレクトロードとレジスティブ用エレクトロードを使用し、深部加温を行う。キャパシティブモードを採用する場合、ステンレス製のエレクトロードの円形盤の表面は人の肌に直接触れないようにプラスチックで表面をコーティングしている。エレクトロードは、細胞に高周波エネルギーを透過するコンデンサーの役割をし、施術部位を加温する。透過された高周波エネルギーは、板型戻し電極に向って透過される。他方、レジスティブモードでは、直接、施術箇所に置かれたＲＥＳ用エレクトロード（ステンレス製）を通して人体細胞へ高周波電流を流す。この電流は戻し電極に電導する。高周波エネルギーが細胞内に透過されたとき、細胞が抵抗体となり組織の温度を集中的に上昇させ、深部加温が行われる。本機器では、被施術者に流れる電流の強さ、被施術者に加えられる皮相電力（キャパシティブモード）、アクティブパワー（レジスティブモード）及びエレクトロードと被施術者の抵抗を測定し、モニタリングができる。
【００１９】
図１はＭＤ５３０の正面図で、１はＬＣＤ画面、２はキーパッド、３はキャパシティブ用出力、４は戻し電極用出力、５はレジスティブ用出力をそれぞれ示す。図２はＭＤ５３０の前面に表示されるコントロール類の表示部の説明図で、６はスタンバイインジケータランプ、７はＯＮ／ＯＦＦキー、８はメニューキー、９はキャパシティブモードキー、１０はレジスティブモードキー、１１はリセットキー、１２はスタート／ストップキー、１３は時間増キー、１４は時間減キー、１５は出力増／減ダイヤルノブをそれぞれ示す。
【００２０】
キャパシティブモードの出力に対するインピーダンスは、皮膚組織上に置かれたエレクトロードのインピーダンス（１０００オーム）に相応するように計算されている。この方法により多容量のエネルギーの透過を実現できる。エレクトロードを通じての組織への循環高周波エネルギーの行方は、図３に示す。ＭＤ５３０からのエネルギーは、金属軸Ａを通してＢの先端（エレクトロードの最下部）へ伝わる。そのエネルギーは，Ｃの絶縁体部分により組織と隔てられるため低下し、エレクトロード全表面、容量的に組織に伝達される。組織Ｄは、合計で１０００オームとなる複数の無限大の抵抗を定着させ、そのコンデンサーの性質により第二のプレートのような働きをする。図３の点線Ｅが第二のプレートとして定義され、コンデンサーとしての働きがなされる。１０００オーム相当の抵抗は、実際はＢ点とＥ点の間で発生し、その部分で温度上昇が起こり、その強深度は、本機器のパワー（レベル調整に対応）・エレクトロードの大きさ・施術部位の組織の特質・施術時間により決まる。特に本発明では、被施術者にとって温熱による苦痛を感じることが無く穏やかな温熱処理、すなわち３７〜４１℃の範囲の温度設定により温熱処理を行うことができる点にある。
【００２１】
本発明で採用するＡＰＳは、アスコルビン酸−２−０−フォスフェート・アスコルビン酸−２−０−α−Ｄ−グルコシド・アスコルビン酸−２−０−フォスフェート−６−０−パルミチン酸エステル・アスコルビン酸−２−０−フォスフェート−６−０−（２−ヘキシルデカン酸）エステル・アスコルビン酸−２，３，５，６−０−（２’−ヘキシルデカン酸）テトラエステル、アスコルビン酸−６−０−パルミチン酸エステル、アスコルビン酸−６−０−ステアリン酸エステルからなる群から選ばれた一つまたは二つ以上が採用される。
【００２２】
本発明を構成する第２次脂肪滴・セルライト抑制装置であるイオン導入器（ＳＵＰＥＲ  ＶＩＴＡＬＩＯＮＴは、電流値が１．２ｍＡから２．４ｍＡの範囲の断続平流の矩形波・積分波を主にしたＥｌｌｉｐｔｉｃ Ｒ波形で、周波数が５０００Ｈｚから１５０００Ｈｚの投入手段を備え、前記断続平流の矩形波・積分波を主にしたＥｌｌｉｐｔｉｃ  Ｒ波形が一方の極性において複数回の繰り返し後、該断続平流の矩形波・積分波を主にしたＥｌｌｉｐｔｉｃ  Ｒ波形と同等の逆極性の波形を１回印加する関係を交互に繰返す印加手段を備えるとともに、導入側電極端子と対側電極端子を備え、該２つの電極端子を標的体部と対側体部にそれぞれ装着可能に形成したものである。
【００２３】
図４はイオン導入器（ＳＵＰＥＲ  ＶＩＴＡＬＩＯＮＴ）の平面図である。図において、１６はイオン導入器本体、１７は＋、−を示すＰＯＬＡＲＩＴＹ（極性）、１８はパワーで、ＯＮ又はＯＦＦが表示される。１９はタイマーで、時間設定の表示がされる。出力電流は可変で、Ｌｏｗは０から１．２ｍＡで、Ｈｉｇｈは１．３から２．４ｍＡである。周波数は５０００Ｈｚから１５０００Ｈｚであり、好ましくは１００００Ｈｚである。波形は矩形波・積分波を主にしたＥｌｌｉｐｔｉｃ  Ｒ波、電流は断続平流とする。極性は＋・−を極性調整ボタン１７で切り替えを行う。該イオン導入器内には内蔵タイマー１９を有し、設定時間の確認を画面２０上で行うことができる。電源は全世界対応で、電源から供給する。体の各部位、もしくは組織に貼付使用する薬剤含浸パッドを備えた導入側電極端子と対側電極端子を有する。該イオン導入器は定電流回路を採用し、抵抗値に関係なく、一定の断続平流の電流を流せるようにする。抵抗値は条件によるが、１０ｋΩまで有効である。
【００２４】
本発明で言う断続平流の電流とは、例えば図５に示すように極性がマイナスの波形を７つ与えた後、極性がプラスの波形を１つ与え、以後これを繰返すような場合をいう。断続平流とすることとしたのは、皮膚に帯電するのを防止し、効率良く患部に薬剤を配送できるようにするためである。
【００２５】
使用方法としては、臓器・器官・組織の内部に浸透させ臨床薬理効果が発現増強される薬剤を含浸させた薬剤含浸パッドを創傷・炎症・病変部位の皮厚の薄い皮膚及び粘膜、例えば外耳、歯肉、口腔、心臓、肺・気管・鼻腔、膣・子宮・睾丸・肛門等に宛がい、その上部に上記イオン導入器の電極端子の一方を導入側電極端子として宛がう。次いで上記イオン導入器の他方の電極端子を対側電極端子として該臓器・器官・組織を挟んで導入側電極端子の反対側に宛がい、両端子を粘着テープ等で固定する。
【００２６】
使用方法として、上記イオン導入器によりイオン導入させる血管として、肘窩、前手根部、頚動脈、頸部及び前頸部、脇、心臓、臍、肛門、鼠頸部、大腿内側部、膝窩、足根部、内果後部及び外果後部の群れから選ばれる一つもしくはそれ以上の血管とし、その近辺の皮厚の薄い皮膚に上記と同様の方法で薬剤含浸パッド及び電極端子を宛がう。
【００２７】
該イオン導入器によるイオン導入に用いる薬剤としては、例えばビタミンＣ、ＡＰＳ、ビタミンＥ、プロビタミンＥ、抗がん剤、がん転移抑制剤、発がん防止剤、免疫増強剤、インスリン・ハイドロコルチゾン、プロゲステロン、エストラジオール、テストステロン等とする。
【００２８】
もしくは、該イオン導入器によるイオン導入に用いる薬剤として応急性・用時適用を要する薬剤、例えば避妊薬、歯科麻酔・鎮痛薬、痔治療薬、救急創傷治療薬、消炎鎮痛薬、心臓発作抑制薬、喘息発作抑制薬等を用いる。
【００２９】
本発明の上記イオン導入器の開発において、最良のモードを特定するためにイオン導入器の設定モードとして直流電流、断続平流のＥｌｌｉｐｔｉｃ  Ｒ波を採用し、周波数を５０００Ｈｚから１５０００Ｈｚの範囲に特定するとともに、電流値の範囲を１．２ｍＡから２．４ｍＡに特定した。本例では１００００Ｈｚで試験を行った。イオン導入の薬品としてＡＰＳを用い、イオン導入の対象としてヒト摘出皮膚小片を培養したものを用いた。
【００３０】
実験の結果、最も良好なＡＰＳの導入をもたらすモードは、電流値をいろいろ振っても、総合すると周波数１００００Ｈｚ、波形は矩形波・積分波を主にしたＥｌｌｉｐｔｉｃ  Ｒ波である。表皮／真皮ともに良好なイオン導入効果は、周波数１００００Ｈｚ、波形は矩形波・積分波を主にしたＥｌｌｉｐｔｉｃ  Ｒ波で実測値１．２ｍＡ〜２．４ｍＡであった。また、この設定値が被施術者の不快感のない最大の電流値であった。
【００３１】
実施例１
上記イオン導入器によるＡＰＳの３次元皮膚組織モデルへの浸透試験を行った。ローラー導子を使用して、イオン導入の最適出力値を決める試験である。その試験内容は次の通りである。
上記イオン導入器により、従来行なわれていない範囲の電流値で４通りの出力レベルにて試験をした。Ｌｏｗの最大出力である１．２ｍＡと、Ｈｉｇｈのランプます目３個に相当する１．５ｍＡと、Ｈｉｇｈのランプます目８個に相当する２．０ｍＡと、Ｈｉｇｈの最大出力である２．４ｍＡの出力の下で行った。また、３次元皮膚組織モデルの塗布の場合と塗布しない場合について行った。通電時間は８分導入した後、１分休憩し、その後、８分再導入を行った。使用する皮膚組織は１８枚重ねで、ヒト皮膚３次元組織モデル（以下、皮膚という）で行った。ガーゼに試薬を湿らせ、試薬の量は統一し、ガーゼを垂直にぶら下げて、液が滴下しない程度にたっぷり含ませるような量とした状態で皮膚にのせ、イオン導入を行った。塗布試薬は３０％水溶性スキンパウダー（超純水で溶解したもの。）を使用した。イオン導入後の皮膚培養時間は１．５時間で、試薬を塗布したガーゼを外した。皮膚組織を表皮と真皮に分け、それぞれの酸化型と還元型ＶＣ量をＨＰＬＣで測定した。
【００３２】
試験の流れは次の通りである。
１日目（２０１２年７月３日）
（１）ヒト皮膚３次元組織モデル製品を受け入れ、６ｗｅｌｌ／ｐｌａｔｅに３０℃で保管した。
２日目（２０１２年７月４日）
（２）ヒト皮膚３次元組織モデルのＷｅｌｌ底面より、メスでポリカーボネート膜ごとＷｅｌｌ周縁に沿って組織を切り抜いた。
（３）切り抜いた皮膚組織を縁取り、実験皮膚装置を作成し、培地を浸したガーゼの入った６０ｍｍディッシュに置き、３７℃に設定したインキュベーターで保管した。
３日目（２０１２年７月５日）
（４）皮膚の表皮側に試薬（３０％水溶性スキンパウダー／超純水）を浸したガーゼ（量は統一し、ガーゼを垂直にぶら下げて、液が滴下しない程度にたっぷり含ませるような量＝０．１mL）をのせ、イオン導入処理（８分導入後、１分休憩した後、８分再導入）した。電流計で電流の流れを確認した。
（５）６０ｍｍディッシュに培地（４ｍL）を入れ、ガーゼ４枚重ねを置き、その上に処理した組織をのせた。
（６）ＣＯ２インキュベーターで１．５時間培養し、試薬を塗布したガーゼは外した。
（７）１．５時間培養後、組織表面を５０μM  ＤＴＴ／ＰＢＳで２回リンスを行い、組織のメサ部をバイオプシーパンチで切除した。表皮と真皮を分離した。２４ｗｅｌｌ  ｐｌａｔｅを用意した。トリプシン処理を行った（５％トリプシン／０．４％ＥＤＴＡ／３０μM  ＤＴＴ ｉｎ  ＰＢＳ（−））。インキュベートした。処理時間は短いほうがいいので、剥がれ次第終了した。１０分おき位に様子を見たが、１０分で統一した。真皮側をピンセットでつまんではさみ、揺らして表皮と真皮の間にトリプシンを浸透させた。リンスは５０μM  ＤＴＴ／ＰＢＳ（−）で、ＤＴＴ（試薬の酸化を防ぐ）を使用した。
（８）薬紙の上に取り出し、水気を取り除いた。
（９）真皮と表皮をそれぞれ秤量した。
（１０）５０μM  ＤＴＴ／エイコムＢｕｆｆｅｒが１ｍＬ入ったエッペンチューブ（１８×２＝３６個）に組織を投入し、手術用ハサミで細断した（ハサミは毎回、超純水でよく洗って拭いた）。
（１１）組織サンプルを−３０℃で凍結、保存した。
4日目（２０１２年７月６日）以降は以下の通り。
（１２）凍結サンプルを流水で解凍した。
（１３）超音波ホモジナイザー（強度：５０％、棒の太さ：小）を３０秒×２回で皮膚組織を徹底的に破砕した。氷水の入った５０ｍＬ遠沈管内にサンプル入りのエッペンチューブを入れ作業を行った。
（１４）遠心処理で破砕細胞片を沈殿させた（４℃、１万回転、５分）。
（１５）上清を摂取した。
（１６）ウルトラフィルターでタンパクを除去し（氷中、遮光で作業）、ユニットの下にサンプル名を記入した。サンプル注入後１０ｍＬシリンジで加圧した。
（１７）エッペンチューブへ回収した。
（１８）ＨＰＬＣ（ＥＣＤ−１Ｖ、ＵＶ−１Ｖ）で検量した。３０分×サンプル数を作成し、代表例をクロマトグラムで表示した。ろ過後のサンプル液（サンプル液はＨＰＬＣ（ＥＣＤ−１Ｖ、ＵＶ−１Ｖ）の設定範囲を超える場合は希釈する）で還元型ＶＣ量を測定した。ろ過後のサンプル液と５０μＭ  ＤＴＴ／エイコムＢｕｆｆｅｒの比は３：１であった。これにより、トータルＶＣ量の測定を行った。
（１９）検量線を計った。Ａｓｃ、ＡＰＳ、サーモスターチ試薬をエイコムＢｕｆｆｅｒで溶解し、ＹＭＣフィルターでろ過したのち各濃度に希釈した。
【００３３】
ＳＵＰＥＲ  ＶＩＴＡＬＩＯＮＴイオン導入器において、１．２ｍＡ、１．５ｍＡ、２．０ｍＡ、２．４ｍＡ（最大出力）の４通りのうち、どの出力レベルが最適かについて試験した。試験条件として、ヒト皮膚３次元組織モデルの表皮に、３０％水溶性スキンパウダー／超純水溶液を０．１ｍＬ塗布し、その後、上記４通りのいずれかの出力レベルで、通電時間８分導入後、１分休憩した後、８分再導入のモードで試験した。１．５時間後に皮膚を回収し、表皮と真皮に分離し、各々のＡＰＳ・総ビタミンＣ・還元型ビタミンＣの各含量をＯＤＳ逆相ＨＰＬＣ／クーロメトリックＥＣＤ法で計測した結果、次の項目が明らかになった。
（１）ＯＤＳ逆相ＨＰＬＣ法で得られたクロマトグラムによると、表皮中のＡＰＳ含量が最大なのは、１．２ｍＡで３０７０ｎｍｏｌ／ｇ組織だった。イオン導入器なしの場合の３．６２倍だった。次いで、最大出力レベルの２．４ｍＡで２０８０ｎｍｏｌ／ｇ組織で、イオン導入なしの場合の２．１９倍だった（図６参照）。
（２）表皮中の総ビタミンＣ含量が最大なのは、優劣順序が入れ替わり、２．４ｍＡで、１２７０ｎｍｏｌ／ｇ組織だった。次いで、１．２ｍＡでは、９３０ｎｍｏｌ／ｇ組織だった（図７参照）。
（３）総ビタミンＣ量に占める還元型ビタミンＣ量の比率は皮膚内導入されたビタミンＣの安定性に関わる指標であるが、表皮において、イオン導入なしでＡＰＳ塗布では９２．０％であるのに対して、イオン導入１．２ｍＡと２．４ｍＡで各々８７．１％と８６．２％であり、ＡＰＳから変換されたアスコルビン酸の還元力保持に良好な環境をイオン導入器がもたらしていると推定される（図８、９、１０、１１参照）。
（４）上記（１）、（２）の結果は、イオン導入後１．５時間でのデータであることに鑑みて、強い出力レベルの２．４ｍＡでは、ＡＰＳが速やかに皮膚深部へ浸透して、アスコルビン酸変換を受けるため、その分、ＡＰＳ減少とアスコルビン酸増加が起こっていると考えられる。
【産業上の利用可能性】
【００３４】
本発明は、エステティック美容業界、各種医療分野あるいは医療装置、美容装置産業等に多大の貢献をすることができる。
【符号の説明】
【００３５】
１    ＬＣＤ画面
２    キーパッド
３    キャパシティブ用出力
４    戻し電極用出力
５    レジスティブ用出力
６    スタンバイインジケータランプ
７    ＯＮ／ＯＦＦキー
８    メニューキー
９    キャパシティブモードキー
１０    レジスティブモードキー
１１    リセットキー
１２    スタート／ストップキー
１３    時間増キー
１４    時間減キー
１５    出力増／減ダイヤルノブ
１６    イオン導入器本体
１７    ＰＯＬＡＲＩＴＹ（極性）
１８    パワー
１９    タイマー
２０    画面
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【国際調査報告】
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