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【手続補正書】
【提出日】平成26年12月1日(2014.12.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基体と、
基体の一方の主面に形成された導電部とを有し、
前記導電部は、それぞれ第１方向に延在し、且つ、前記第１方向と直交する第２方向に配列された金属細線による２以上の導電パターンを有し、
前記導電パターンは、２以上の小格子が組み合わされて構成され、
各前記小格子は、それぞれひし形状を有し、
各前記小格子における少なくとも１つの辺と前記第１方向とのなす角が３０°〜４４°又は、４６°〜６０°であり、
各小格子の少なくとも１つの頂角は、前記１つの辺と前記第１方向とのなす角の２倍であることを特徴とする導電性フイルム。
【請求項２】
請求項１記載の導電性フイルムにおいて、
各前記小格子における少なくとも１つの辺と前記第１方向とのなす角が３２°〜３９°であることを特徴とする導電性フイルム。
【請求項３】
請求項１記載の導電性フイルムにおいて、
各前記小格子における少なくとも１つの辺と前記第１方向とのなす角が５１°〜５８°であることを特徴とする導電性フイルム。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか１項に記載の導電性フイルムにおいて、
前記導電パターンは、２以上の大格子が前記第１方向に直列に接続されて構成され、
各前記大格子は、それぞれ２以上の前記小格子が組み合わされて構成されていることを特徴とする導電性フイルム。
【請求項５】
基体と、
基体の一方の主面に形成された第１導電部と、
基体の他方の主面に形成された第２導電部とを有し、
前記第１導電部は、それぞれ第１方向に延在し、且つ、前記第１方向と直交する第２方向に配列された２以上の第１導電パターンを有し、
前記第２導電部は、それぞれ第２方向に延在し、且つ、前記第１方向に配列された２以上の第２導電パターンを有し、
前記第１導電パターン及び前記第２導電パターンは、それぞれ２以上の小格子が組み合わされて構成され、
各前記小格子は、それぞれひし形状を有し、
各前記小格子における少なくとも１つの辺と前記第１方向とのなす角が３０°〜４４°又は、４６°〜６０°であり、
各小格子の少なくとも１つの頂角は、前記１つの辺と前記第１方向とのなす角の２倍であることを特徴とする導電性フイルム。
【請求項６】
請求項５記載の導電性フイルムにおいて、
各前記小格子における少なくとも１つの辺と前記第１方向とのなす角が３２°〜３９°であることを特徴とする導電性フイルム。
【請求項７】
請求項５記載の導電性フイルムにおいて、
各前記小格子における少なくとも１つの辺と前記第１方向とのなす角が５１°〜５８°であることを特徴とする導電性フイルム。
【請求項８】
請求項５〜７のいずれか１項に記載の導電性フイルムにおいて、
前記第１導電パターンは、２以上の第１大格子が前記第１方向に直列に接続されて構成され、
前記第２導電パターンは、２以上の第２大格子が前記第２方向に直列に接続されて構成され、
各前記第１大格子及び各前記第２大格子は、それぞれ２以上の前記小格子が組み合わされて構成されていることを特徴とする導電性フイルム。
【請求項９】
請求項１又は５記載の導電性フイルムにおいて、
各前記小格子の一辺の長さが１００〜４００μｍであることを特徴とする導電性フイルム。
【請求項１０】
請求項１又は５記載の導電性フイルムにおいて、
各前記金属細線の線幅が３０μｍ以下であることを特徴とする導電性フイルム。
【請求項１１】
基体と、
基体の一方の主面に形成された導電部とを有し、
前記導電部は、メッシュパターンから構成されており、当該メッシュパターンの開口部はひし形状を有し、そのひし形状の頂角部は６０°〜１２０°であることを特徴とする導電性フイルム。
【請求項１２】
表示パネル上に設置された導電性フイルムを備える表示装置であって、
前記導電性フイルムは、
基体と、
基体の一方の主面に形成された導電部とを有し、
前記表示装置の画素の配列方向を第１方向としたとき、
前記導電部は、それぞれ第１方向に延在し、且つ、前記第１方向と直交する第２方向に配列された金属細線による２以上の導電パターンを有し、
前記導電パターンは、２以上の小格子が組み合わされて構成され、
各前記小格子は、それぞれひし形状を有し、
各前記小格子における少なくとも１つの辺と前記第１方向とのなす角が３０°〜４４°又は、４６°〜６０°であり、
各小格子の少なくとも１つの頂角は、前記１つの辺と前記第１方向とのなす角の２倍であることを特徴とする表示装置。
【請求項１３】
表示パネル上に設置された導電性フイルムを備える表示装置であって、
前記導電性フイルムは、
基体と、
基体の一方の主面に形成された第１導電部と、
基体の他方の主面に形成された第２導電部とを有し、
前記表示装置の画素の配列方向を第１方向としたとき、
前記第１導電部は、それぞれ第１方向に延在し、且つ、前記第１方向と直交する第２方向に配列された２以上の第１導電パターンを有し、
前記第２導電部は、それぞれ第２方向に延在し、且つ、前記第１方向に配列された２以上の第２導電パターンを有し、
前記第１導電パターン及び前記第２導電パターンは、それぞれ２以上の小格子が組み合わされて構成され、
各前記小格子は、それぞれひし形状を有し、
各前記小格子における少なくとも１つの辺と前記第１方向とのなす角が３０°〜４４°又は、４６°〜６０°であり、
各小格子の少なくとも１つの頂角は、前記１つの辺と前記第１方向とのなす角の２倍であることを特徴とする表示装置。
【請求項１４】
請求項１２又は１３記載の表示装置において、
各前記小格子の一辺の長さが１００〜４００μｍであることを特徴とする表示装置。
【請求項１５】
請求項１２又は１３記載の表示装置において、
各前記金属細線の線幅が３０μｍ以下であることを特徴とする表示装置。
【請求項１６】
表示パネル上に設置された導電性フイルムを備える表示装置であって、
前記導電性フイルムは、
基体と、
基体の一方の主面に形成された導電部とを有し、
前記導電部は、メッシュパターンから構成されており、当該メッシュパターンの開口部はひし形状を有し、そのひし形状の頂角部は６０°〜１２０°であることを特徴とする表示装置。
【手続補正書】
【提出日】平成27年2月2日(2015.2.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
現象における変数の影響を決定する方法であって、
モデルの成分と、前記モデルの成分に関連する階級を表す少なくとも１つの階級ノードと、前記現象を経験するシステム内の物理データを表す複数の変数ノードとを含む、グラフ形状の混合モデルを提供するステップと、
前記複数の変数ノードのうちの少なくとも１つの変数ノードを選択するステップと、
前記複数の変数ノードのうちの前記選択された少なくとも１つの変数ノード以外の前記複数の変数ノードにエビデンスを設定することによって、前記グラフ形状において演算を実施するステップと、
周辺化して新しいグラフを生成することによって、前記複数の変数ノードのうちの前記選択された１つの変数ノード、および前記少なくとも１つの階級ノードに対して結合分布を計算するステップであって、前記新しいグラフが、ｆ：Ｐ（Ｘ1，Ｉ｜ｅX-Xj，ｅS）→Ｐ（Ｘ1’，Ｉ’）によって記載される変換であり、ここで、Ｉが前記モデルの成分を表し、Ｘが前記変数を表し、Ｓが階級全体にわたる状態または分布を表し、ｅがエビデンスを示す、ステップと、
前記新しいグラフから、前記複数の変数ノードのうちの前記選択された１つの変数ノードに対して変数影響指標を計算するステップと、
前記複数の変数ノードのうちの他の選択された変数ノードに対して、選択するステップ、実施するステップ、および計算するステップを繰り返すステップと、
互いに関連する前記複数の変数ノードに対する前記変数影響指標の大きさを評価するステップとを含む、方法。
【請求項２】
前記変数影響指標が、前記変数ノードの値における方向変化を表す、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記選択するステップが用途によって決まる、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記選択するステップが、前記複数の変数ノードの部分集合を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記実施するステップが、変数影響指標の種類を決定するために、パターンによってかつ優先順位付けによってエビデンスを設定するステップを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記システムが航空機エンジンであり、前記混合モデルが前記航空機エンジンの性能を表す、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
前記変数ノードが、連続パラメータを表す複数の第１の変数ノードを含み、複数の第２の変数ノードが、前記階級内の変数に関連する値または分布を表し、前記選択するステップが、前記第１の変数ノードのうちの１つの変数ノードを選択するステップを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項８】
前記結合分布が、前記第１および前記第２の変数ノードに対して計算される、請求項１記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成26年12月5日(2014.12.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】半導体装置の作製方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の導電層と、前記第１の導電層上の第１の絶縁層と、前記第１の絶縁層上の半導体層とを有する第１の積層を形成し、
第１のフォトマスクを用いた前記第１の積層に対する第１のフォトリソグラフィ工程により、ゲート電極と、前記ゲート電極上のゲート絶縁層と、前記ゲート絶縁層上の島状の半導体層と、を形成し、
前記島状の半導体層上に第２の絶縁層を形成し、
第２のフォトマスクを用いた前記第２の絶縁層に対する第２のフォトリソグラフィ工程により、前記島状の半導体層の一部を露出するコンタクトホールを、前記第２の絶縁層に形成し、
前記コンタクトホール及び前記第２の絶縁層上に、第３の導電層と前記第３の導電層上の第４の導電層を有する第２の積層を形成し、
第３のフォトマスクを用いた前記第２の積層に対する第３のフォトリソグラフィ工程により、ソース電極と、ドレイン電極と、画素電極とを形成し、
前記ソース電極と、前記ドレイン電極と、前記画素電極とは、それぞれ、前記コンタクトホールを介して、前記島状の半導体層と電気的に接続されることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項２】
画素部と、端子部とを有し、
前記画素部は、ゲート電極と、前記ゲート電極上のゲート絶縁層と、前記ゲート絶縁層上の島状の半導体層と、前記島状の半導体層と電気的に接続するソース電極及びドレイン電極と、前記島状の半導体層と電気的に接続する画素電極と、を有し、
前記端子部は、配線と、配線上の第１電極と、前記第１電極上の第２電極とを有する半導体装置の作製方法であって、
第１の導電層と、前記第１の導電層上の第１の絶縁層と、前記第１の絶縁層上の半導体層を有する第１の積層を形成し、
第１のフォトマスクを用いた前記第１の積層に対する第１のフォトリソグラフィ工程により、前記ゲート電極と、前記ゲート絶縁層と、前記島状の半導体層と、前記配線とを形成し、
前記島状の半導体層上及び前記配線上に第２の絶縁層を形成し、
第２のフォトマスクを用いた前記第２の絶縁層に対する第２のフォトリソグラフィ工程により、前記島状の半導体層の一部を露出する第１のコンタクトホールと、前記配線の一部を露出する第２のコンタクトホールとを、前記第２の絶縁層に形成し、
前記第１及び前記第２のコンタクトホール並びに前記第２の絶縁層上に、第３の導電層と前記第３の導電層上の第４の導電層を有する第２の積層を形成し、
第３のフォトマスクを用いた前記第２の積層に対する第３のフォトリソグラフィ工程により、前記ソース電極と、前記ドレイン電極と、前記画素電極と、前記第１電極と、前記第２電極とを形成し、
前記ソース電極と、前記ドレイン電極と、前記画素電極とは、それぞれ、前記第１のコンタクトホールを介して、前記島状の半導体層と電気的に接続され、
前記第１電極と前記第２電極とは、それぞれ、前記第２のコンタクトホールを介して、前記配線と電気的に接続されることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項３】
請求項１または請求項２において、
前記第３のフォトマスクを残存させて、スペーサとすることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項４】
請求項１乃至請求項３のいずれか一において、
前記島状の半導体層は、酸化物半導体を有することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【手続補正書】
【提出日】平成26年12月9日(2014.12.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
圧電体層と前記圧電体層を挟む電極とを備えた圧電素子であって、
前記圧電体層は、ビスマス及び鉄を含むペロブスカイト型構造を有する複合酸化物からなり、ナトリウム、カリウム、カルシウム及びストロンチウムからなる群から選択される少なくとも一種の第１ドープ元素と、マンガン、チタン、バナジウム、ニオブ及びスズからなる群から選択される少なくとも一種の第２ドープ元素と、を含むことを特徴とする圧電素子。
【請求項２】
前記ビスマス及び前記第１ドープ元素はＡサイトに含まれており、前記鉄及び第２ドープ元素はＢサイトに含まれていることを特徴とする請求項１に記載の圧電素子。
【請求項３】
前記複合酸化物は、ペロブスカイト型構造のＡサイトに欠損を有し、かつＢサイトにビスマスを有することを特徴とする請求項２に記載の圧電素子。
【請求項４】
前記複合酸化物は、ビスマス及び鉄に加えて、チタン酸バリウムをさらに含むことを特徴とする請求項１〜３の何れか一項に記載の圧電素子。
【請求項５】
請求項１〜４の何れか一項に記載の圧電素子を具備することを特徴とする液体噴射ヘッド。
【請求項６】
請求項５に記載の液体噴射ヘッドを具備することを特徴とする液体噴射装置。
【請求項７】
請求項１〜４の何れか一項に記載の圧電素子を具備することを特徴とする超音波デバイス。
【請求項８】
請求項１〜４の何れか一項に記載の圧電素子を具備することを特徴とするセンサー。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】圧電素子、液体噴射ヘッド、液体噴射装置、超音波デバイス及びセンサー
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
上記課題を解決する本発明の態様は、圧電体層と前記圧電体層を挟む電極とを備えた圧電素子であって、前記圧電体層は、ビスマス及び鉄を含むペロブスカイト型構造を有する複合酸化物からなり、ナトリウム、カリウム、カルシウム及びストロンチウムからなる群から選択される少なくとも一種の第１ドープ元素と、マンガン、チタン、バナジウム、ニオブ及びスズからなる群から選択される少なくとも一種の第２ドープ元素とを含むことを特徴とする圧電素子にある。
かかる態様では、リーク電流が抑制されて高絶縁性の圧電素子となり、耐久性に優れたものとすることができる。また、鉛を含有していないため、環境への負荷を低減できる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
また、前記複合酸化物は、ビスマス及び鉄に加えて、チタン酸バリウムをさらに含むことが好ましい。これによれば、さらに高い圧電特性（歪み量）を有する圧電素子を有する圧電素子となる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
本発明の他の態様は、上記圧電素子を具備することを特徴とする液体噴射ヘッド、及び当該液体噴射ヘッドを具備することを特徴とする液体噴射装置にある。
かかる態様では、リーク電流が抑制されて絶縁性に優れた圧電素子を具備し、耐久性に優れた液体噴射ヘッド及び液体噴射装置を実現することができる。また、鉛を含有していないため、環境への負荷を低減できる。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
本発明の他の態様は、上記圧電素子を具備することを特徴とする超音波デバイス、あるいは、上記圧電素子を具備するセンサーにある。
かかる態様では、リーク電流が抑制されて絶縁性に優れた圧電素子を具備し、耐久性に優れた超音波デバイス、あるいは、センサーを実現することができる。また、鉛を含有していないため、環境への負荷を低減できる。
【手続補正書】
【提出日】平成27年2月9日(2015.2.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
多層３次元構造を製造するための方法において、この方法は、
（ｉ）少なくとも１つの犠牲材料および少なくとも１つの構成材料からなる第１層を基板上に形成し、前記犠牲材料および前記構成材料は少なくとも１つの平坦化処理によって共通の高さを有しており、
（ｉｉ）先に形成された複数の層に隣接し、且つ、接着するように複数の追加の層を形成し、各層は少なくとも１つの犠牲材料および少なくとも１つの構成材料からなり、前記犠牲材料および前記構成材料は少なくとも１つの平坦化処理によって共通の高さを有しており、
（ｉｉｉ）前記複数の追加の層を形成した後、複数の層において、前記少なくとも１つの構成材料から少なくとも１つの犠牲材料をエッチングにより除去することを含み、
前記第１層または前記複数の追加の層からなるグループから選択された１つの所定の層の形成中に、前記少なくとも１つの構成材料のうちの１つまたは前記少なくとも１つの犠牲材料のうちの１つの堆積によって分けられた少なくとも２つの連続する平坦化処理を含んだ複数の平坦化処理が実行される。
【請求項２】
多層３次元構造を製造するための方法において、この方法は、
（ｉ）少なくとも１つの犠牲材料および少なくとも１つの構成材料からなる第１層を基板上に形成し、前記犠牲材料および前記構成材料は少なくとも１つの平坦化処理によって共通の高さを有しており、
（ｉｉ）先に形成された複数の層に隣接し、且つ、接着するように複数の追加の層を形成し、各層は少なくとも１つの犠牲材料および少なくとも１つの構成材料からなり、前記犠牲材料および前記構成材料は少なくとも１つの平坦化処理によって共通の高さを有しており、
（ｉｉｉ）前記複数の追加の層を形成した後、複数の層において、前記少なくとも１つの構成材料から少なくとも１つの犠牲材料をエッチングにより除去することを含み、
前記構造は、前記複数の層の製造中にアッセンブルされない複数の部品を含み、前記複数の部品の中で少なくとも１つの部品は、アッセンブル後に前記少なくとも１つの部品を他の部品に保持するための１つ以上の保持クリップを含み、前記複数の部品は、前記複数の層の形成後、且つ前記犠牲材料の少なくとも部分的な除去後にアッセンブルされる。
【請求項３】
多層３次元構造を製造するための方法において、この方法は、
（ｉ）少なくとも１つの犠牲材料および少なくとも１つの構成材料からなる第１層を基板上に形成し、前記犠牲材料および前記構成材料は少なくとも１つの平坦化処理によって共通の高さを有しており、
（ｉｉ）先に形成された複数の層に隣接し、且つ、接着するように複数の追加の層を形成し、各層は少なくとも１つの犠牲材料および少なくとも１つの構成材料からなり、前記犠牲材料および前記構成材料は少なくとも１つの平坦化処理によって共通の高さを有しており、
（ｉｉｉ）前記複数の追加の層を形成した後、複数の層において、前記少なくとも１つの構成材料から少なくとも１つの犠牲材料をエッチングにより除去することを含み、
前記複数の層から形成された前記構造は、複数の部品と少なくとも１つの取り付け具を含み、前記取り付け具は、前記複数の追加の層の形成後、且つ前記複数の層から前記少なくとも１つの犠牲材料の少なくとも部分的な除去後に、前記複数の部品をアッセンブルするために用いられる。
【手続補正書】
【提出日】平成27年4月22日(2015.4.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
横断面を含んでいて、少なくとも前記横断面の１番目の領域に弾性ポリウレタンまたはポリウレタン尿素またはこれらの混合物が含まれており、かつ、弾性ポリウレタンまたはポリウレタン尿素またはこれらの混合物および少なくとも１種の融合性向上用添加剤が含まれている２番目の領域も含む繊維であって、
前記１番目の領域と前記２番目の領域は、境界を有する組成の異なる領域であることを特徴とする繊維。
【請求項２】
モノフィラメント構造または多フィラメント構造を含む請求項１記載の繊維。
【請求項３】
前記１番目の領域と前記２番目の領域が各フィラメントの中に並列で存在する請求項２記載の繊維。
【請求項４】
前記融合性向上用添加剤が融点が１８０℃未満の少なくとも１種の低温溶融ポリウレタンを含有する請求項１から３のいずれかに記載の繊維。
【請求項５】
前記低温溶融ポリウレタンが示す融点が５０℃から１５０℃である請求項４記載の繊維。
【請求項６】
前記低温溶融ポリウレタンが示す融点が１２０℃未満である請求項４又は５記載の繊維。
【請求項７】
前記２番目の領域が前記１番目の領域に隣接して位置するか或は少なくともそれをある程度取り巻いている請求項１から６のいずれかに記載の繊維。
【請求項８】
前記１番目の領域は、１９０℃から２５０℃の高い融点を示す弾性ポリウレタンにより構成される請求項１から７のいずれかに記載の繊維。
【請求項９】
前記１番目の領域に２４０℃より高い融点を示すポリウレタン尿素が含まれている請求項１から７のいずれかに記載の繊維。
【請求項１０】
前記２番目の領域が前記繊維の１１から６０重量％を構成している請求項７から９のいずれかに記載の繊維。
【請求項１１】
前記２番目の領域が前記繊維の５から３０重量％を構成している請求項７から９のいずれかに記載の繊維。
【請求項１２】
前記１番目の領域が芯でありそして前記２番目の領域が鞘である請求項１から１１のいずれかに記載の繊維。
【請求項１３】
前記繊維が示す蒸気によるセット効率が５０％以上である請求項１から１２のいずれかに記載の繊維。
【請求項１４】
前記繊維が示す融合強度が０．１５ｃＮ／デシテックスより高い請求項１から１３のいずれかに記載の繊維。
【請求項１５】
請求項１から１４のいずれかに記載の繊維を含有する布。
【請求項１６】
前記繊維が被覆されている請求項１５記載の布。
【請求項１７】
前記繊維がポリアミド（ナイロン）、綿、ポリエステルまたはこれらの組み合わせで被覆されている請求項１６記載の布。
【請求項１８】
編、織または不織構造を含む請求項１５から１７のいずれかに記載の布。
【請求項１９】
靴下、レッグウエア、シャツ地、女性用下着、水着、下半身に着る服および衛生用不織構造物を構成している請求項１５から１８のいずれかに記載の布。
【請求項２０】
繊維の製造方法であって、
（ａ）１番目と２番目の重合体溶液を準備し、
（ｂ）前記溶液を分配板およびオリフィスに通して一緒にすることで横断面を有するフィラメントを生じさせ、
（ｃ）前記フィラメントを共通の毛細管に通して押出し、
（ｄ）前記フィラメントから溶媒を除去する、
ことを含み、
前記１番目および２番目の重合体溶液の各々に独立して弾性ポリウレタン、ポリウレタン尿素またはこれらの混合物が入っており、
前記２番目の重合体溶液に融合性向上用添加剤が入っており、
前記１番目の重合体溶液が前記横断面の１番目の領域に相当し、前記２番目の重合体溶液が前記横断面の２番目の領域に相当し、
前記横断面が、前記１番目の領域と前記２番目の領域との間の境界を含む、
方法。
【手続補正書】
【提出日】平成27年3月30日(2015.3.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
液体溶液供給チャンバと反応チャンバとを備える内蔵型水素生成機構であって、前記反応チャンバは、反応燃料物質を備え、前記液体供給チャンバは、液体溶液を含み、前記機構は、加圧液体供給デバイスを使用して、前記反応チャンバ中の前記反応燃料物質に、前記液体溶液を液圧により導入するように構成され、前記機構は、前記加圧液体供給デバイスによってもたらされる圧力を用いて、前記液体溶液と前記反応燃料物質との間の反応中に前記反応チャンバ中に生成される圧力を均衡させることが可能である、内蔵型水素生成機構。
【請求項２】
前記反応燃料物質は、ナトリウムシリサイド、またはナトリウムシリカゲルを含む、請求項１に記載の内蔵型水素生成機構。
【請求項３】
前記加圧液体供給デバイスはバネによって加圧される、請求項１に記載の内蔵型水素生成機構。
【請求項４】
前記バネは、すべての液体が前記反応燃料物質に供給されるときに液圧を維持するように構成され、かつ、液体供給期間中に液圧内の変化を排除するようにさらに構成される、逆先細円錐バネである、請求項３に記載の内蔵型水素生成機構。
【請求項５】
前記内蔵型水素生成機構は、使い捨て反応器および再利用可能な液体供給アセンブリに分離可能なカートリッジアセンブリである、請求項１に記載の内蔵型水素生成機構。
【請求項６】
前記再利用可能な液体供給アセンブリは、別のデバイスによって、統合されるか、拘束されるか、または収容されるかのうちの少なくとも１つである、請求項５に記載の内蔵型水素生成機構。
【請求項７】
前記液体流動を制限するように構成され、かつ過渡条件中に水素生成速度を減退させるようにさらに構成される、液体制限機構をさらに備える、請求項１に記載の内蔵型水素生成機構。
【請求項８】
前記液体制限機構は、弁または開口部のうちの少なくとも１つを含む、請求項７に記載の内蔵型水素生成機構。
【請求項９】
前記反応燃料物質と前記加圧液体供給デバイスとを分離する、制御弁または逆止弁のうちの少なくとも１つをさらに備え、制御弁または逆止弁のうちの前記少なくとも１つは、過渡条件下に水素圧で前記バネが逆加圧されることを防止するように構成される、請求項３に記載の内蔵型水素生成機構。
【請求項１０】
水素生成期間中に、逆転するバネ移動を防止するように構成される、制御デバイスをさらに備える、請求項３に記載の内蔵型水素生成機構。
【請求項１１】
反応器容積と液体供給容積との間で容積を交換するように構成される、容積交換デバイスをさらに備える、請求項１に記載の内蔵型水素生成機構。
【請求項１２】
前記容積交換デバイスは、ピストン、またはバッグアセンブリのうちの少なくとも１つを含む、請求項１１に記載の内蔵型水素生成機構。
【請求項１３】
生成された水素圧は水圧の発生に寄与しない、請求項１２に記載の内蔵型水素生成機構。
【請求項１４】
前記生成された水素圧は機械的手段によって減退させられる、請求項１３に記載の内蔵型水素生成機構。
【請求項１５】
前記水送達圧力の発生は弁または調節器のうちの少なくとも１つによって制御される、請求項１３に記載の内蔵型水素生成機構。
【請求項１６】
前記内蔵型水素生成機構は封止可能であるように構成される、請求項５に記載の内蔵型水素生成機構。
【請求項１７】
前記内蔵型水素生成機構が非動作期間にあるときに液体供給を防止するための停止機構をさらに備え、前記停止機構は、ラッチ、プラグ、閉塞、ラチェット、弁、またはトグルのうちの少なくとも１つである、請求項１に記載の内蔵型水素生成機構。
【請求項１８】
前記液体溶液は水を含む、請求項１に記載の内蔵型水素生成機構。
【請求項１９】
液体流動を開始するためにユーザ操作を必要とするように構成される弁をさらに備える、請求項１に記載の内蔵型水素生成機構。
【請求項２０】
ハンドルが引張されたときに、液体供給デバイスと係合して、液体を引き入れ、前記バネを再加圧するように構成されるハンドルをさらに備える、請求項４に記載の内蔵型水素生成機構。
【請求項２１】
請求項１に記載の内蔵型水素生成デバイス内で水素を生成する方法であって、
液体供給デバイスを加圧することと、
前記液体供給デバイスを使用して、液体溶液と反応燃料物質とを組み合わせて、水素を生成することと、を含む、方法。
【請求項２２】
前記内蔵型水素生成デバイスは、前記液体供給デバイスの洗浄または再利用のうちの少なくとも１つのために液体供給を受容する、請求項２１に記載の内蔵型水素生成デバイス内で水素を生成する方法。
【手続補正書】
【提出日】平成27年9月17日(2015.9.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記工程を含む血液凝固能測定方法：
血漿検体と、血液凝固活性化剤と、アミノグアニジン又はその酸付加塩とを含有する反応液を調製する工程；及び
反応液の濁度変化を検出することにより血液凝固時間を測定する工程。
【請求項２】
前記濁度変化が散乱光量検出法により検出される、請求項１記載の方法。
【請求項３】
前記アミノグアニジン又はその酸付加塩が血液凝固能測定用検体希釈液とともに前記反応液に添加される、請求項１又は２記載の方法。
【請求項４】
前記検体希釈液がフィブリノゲン測定用検体希釈液である請求項３記載の方法。
【請求項５】
血液凝固活性化剤がトロンビンである請求項４記載の方法。
【請求項６】
血液凝固能測定がフィブリノゲン測定法による血液凝固能測定である、請求項４又は５記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成27年8月14日(2015.8.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
アダリムマブを発現する培養哺乳類細胞の発酵収集物質から、アダリムマブを精製する方法であって、
（ａ）発現したアダリムマブを、プロテインＡに結合させるステップと、
（ｂ）結合したアダリムマブを、２．５から４の溶出ｐＨで溶出させるステップと、
（ｃ）溶出物を１時間から３時間に亘って酸性環境下に置くステップと
を含み、
前記置くステップの後のアダリムマブ単量体のレベルが、９２．３％以上であり、
精製されたアダリムマブが、残留量のプロテインＡを保持する
ことを特徴とする、方法。
【請求項２】
前記溶出させるステップの前記溶出ｐＨが、２．５、２．８、３．０、３．２、３．６、３．７、３．８、または４．０である、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記溶出させるステップの前記溶出ｐＨが３．２であり、前記置くステップの後のアダリムマブ単量体のレベルが９６．１％以上である、請求項１または２に記載の方法。
【請求項４】
前記溶出させるステップの前記溶出ｐＨが３．６であり、前記置くステップの後のアダリムマブ単量体のレベルが９７．９％以上である、請求項１または２に記載の方法。
【請求項５】
前記溶出させるステップの前記溶出ｐＨが４．０であり、前記置くステップの後のアダリムマブ単量体のレベルが９８．２％以上である、請求項１または２に記載の方法。
【請求項６】
前記置くステップの後にさらに、
深層濾過法、イオン交換クロマトグラフィー、疎水性相互作用クロマトグラフィー、またはそれらの組み合わせを含んだ一回以上のクロマトグラフィー分離工程に、アダリムマブをかけるステップ
を含む、請求項１から５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項７】
前記置くステップの後にさらに、
アダリムマブを深層濾過フィルターにかけるステップ
を含む、請求項１から６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項８】
前記置くステップの後にさらに、
アダリムマブをイオン交換クロマトグラフィーにかけるステップ
を含む、請求項１から７のいずれか一項に記載の方法。
【請求項９】
前記イオン交換クロマトグラフィーが陰イオン交換クロマトグラフィーである、請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
前記イオン交換クロマトグラフィーが陽イオン交換クロマトグラフィーである、請求項８に記載の方法。
【請求項１１】
前記置くステップの後にさらに、
アダリムマブを疎水性相互作用クロマトグラフィーにかけるステップ
を含む、請求項１から１０のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１２】
アダリムマブがまず深層濾過フィルターにかけられ、次いで陰イオン交換クロマトグラフィーにかけられ、その後に疎水性相互作用クロマトグラフィーにかけられる、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
さらに
上記方法により精製されたアダリムマブの単量体レベルを決定するステップ
を含む、請求項１から１２のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１４】
さらに
上記方法により得られたプロテインＡレベルの残留量を決定するステップ
を含む、請求項１から１３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１５】
前記培養哺乳類細胞が、ＣＨＯ（Chinese Hamster Ovary）細胞である、請求項１から１４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１６】
精製されたアダリムマブが医薬品グレードである、請求項１から１５のいずれか一項に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成27年3月10日(2015.3.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】有機化合物
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式（Ｇ１）で表される有機化合物。
【化１】
2015042636.tif 000001
（式中、Ａｒ１およびＡｒ２は、それぞれ独立に、置換または無置換の環を形成する炭素数が６〜１３のアリール基を表し、Ｒ１〜Ｒ８は、それぞれ独立に、水素、置換または無置換の炭素数１〜６のアルキル基、置換または無置換の炭素数１〜６のアルコキシ基、シアノ基、ハロゲン、置換または無置換の炭素数１〜６のハロアルキル基、もしくは置換または無置換の炭素数６〜１０のアリール基を表す。Ｘ１およびＸ２は、それぞれ独立に、置換または無置換のベンゾ［ｂ］ナフト［１，２−ｄ］フラニル基を表す。）
【請求項２】
請求項１において、
式（Ｇ１）における窒素原子は、それぞれ独立に、前記ベンゾ［ｂ］ナフト［１，２−ｄ］フラニル基の６位または８位と結合する有機化合物。
【請求項３】
式（Ｇ２）で表される有機化合物。
【化２】
2015042636.tif 000002
（式中、Ａｒ１およびＡｒ２は、それぞれ独立に、置換または無置換の環を形成する炭素数が６〜１３のアリール基を表し、Ｒ１〜Ｒ１７およびＲ１９〜Ｒ２７は、それぞれ独立に、水素、置換または無置換の炭素数１〜６のアルキル基、置換または無置換の炭素数１〜６のアルコキシ基、シアノ基、ハロゲン、置換または無置換の炭素数１〜６のハロアルキル基、もしくは置換または無置換の炭素数６〜１０のアリール基を表す。）
【請求項４】
式（Ｇ３）で表される有機化合物。
【化３】
2015042636.tif 000003
（式中、Ａｒ１およびＡｒ２は、それぞれ独立に、置換または無置換の環を形成する炭素数が６〜１３のアリール基を表し、Ｒ１〜Ｒ８、Ｒ１０〜Ｒ１８およびＲ２０〜Ｒ２８は、それぞれ独立に、水素、置換または無置換の炭素数１〜６のアルキル基、置換または無置換の炭素数１〜６のアルコキシ基、シアノ基、ハロゲン、置換または無置換の炭素数１〜６のハロアルキル基、もしくは置換または無置換の炭素数６〜１０のアリール基を表す。）
【請求項５】
式（Ｇ４）で表される有機化合物。
【化４】
2015042636.tif 000004
（式中、Ｒ１〜Ｒ８およびＲ２９〜Ｒ３８は、それぞれ独立に、水素、置換または無置換の炭素数１〜６のアルキル基、置換または無置換の炭素数１〜６のアルコキシ基、シアノ基、ハロゲン、置換または無置換の炭素数１〜６のハロアルキル基、もしくは置換または無置換の炭素数６〜１０のアリール基を表す。）
【請求項６】
式（Ｇ５）で表される有機化合物。
【化５】
2015042636.tif 000005
（式中、Ｒ１〜Ｒ８およびＲ２９〜Ｒ３８は、それぞれ独立に、水素、置換または無置換の炭素数１〜６のアルキル基、置換または無置換の炭素数１〜６のアルコキシ基、シアノ基、ハロゲン、置換または無置換の炭素数１〜６のハロアルキル基、もしくは置換または無置換の炭素数６〜１０のアリール基を表す。）
【請求項７】
式（１００）で表される有機化合物。
【化６】
2015042636.tif 000006
【請求項８】
式（１０１）で表される有機化合物。
【化７】
2015042636.tif 000007
【手続補正書】
【提出日】平成27年4月7日(2015.4.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
グリセリン含有ゲル中に、炭素数が３〜３０のグリコール、非ステロイド系消炎鎮痛剤（インドメタシンを除く）、並びにパラオキシ安息香酸エステル、ヒマシ油、及びｌ−メントールから選ばれる少なくとも１つの成分を含むグリコール溶液を分散させてなる貼付剤用の粘着基剤であって、ゲル中の炭素数が３〜３０のグリコール量が２〜２０重量％であって、ゲル中のグリセリン量が１０〜４０重量％である、粘着基剤。
【請求項２】
非ステロイド系消炎鎮痛剤がイブプロフェン、ケトプロフェン、スプロフェン、ロキソプロフェンナトリウム、フェノプロフェン、フルルビプロフェン、ジクロフェナクナトリウム、又はピロキシカムである、請求項１に記載の粘着基剤。
【請求項３】
炭素数が３〜３０のグリコールがポリエチレングリコール２００、ポリエチレングリコール３００、ポリエチレングリコール４００、ポリエチレングリコール６００、プロピレングリコール、及び１，３ブチレングリコールから選ばれる、請求項１又は２に記載の粘着基剤。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか１項に記載の粘着基剤を用いて製造される貼付剤。
【請求項５】
請求項１〜３のいずれか１項に記載の粘着基剤を支持体上に展延し、さらに粘着基剤表面をプラスチックフィルムで被覆することを特徴とする、貼付剤の製造法。
【手続補正書】
【提出日】平成27年3月17日(2015.3.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下式（Ｉ）で示されるフラノン誘導体またはその薬学的に許容される塩。
【化１】
2015042663.tif 000001
（式中、Ａは、水素原子を表わし、Ｒ２およびＲ３は同一または異なって、水素原子、置換基を有してもよい炭化水素基、置換基を有してもよいフェニル基、置換基を有してもよい複素環、置換基を有してもよい複素環式縮合環を表す。Ｒ４は、水素原子を表す。）
【手続補正書】
【提出日】平成26年12月26日(2014.12.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
（Ａ）酸価（ｍｇＫＯＨ／ｇ）１１０以上のアルカリ溶解性熱可塑性樹脂（但し、不飽和脂肪酸重合体においては酸価８０以上、不飽和脂肪酸／脂肪族不飽和化合物共重合体においては酸価５０以上）、（Ｂ）溶剤、及び（Ｃ）半田粉末を含み、且つ活性剤を含まない、ことを特徴とする半田バンプ形成用樹脂組成物。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】  即ち、本願第１発明は、（Ａ）酸価（ｍｇＫＯＨ／ｇ）１１０以上のアルカリ溶解性熱可塑性樹脂（但し、不飽和脂肪酸重合体においては酸価８０以上、不飽和脂肪酸／脂肪族不飽和化合物共重合体においては酸価５０以上）、（Ｂ）溶剤、及び（Ｃ）半田粉末を含み、且つ活性剤を含まない、ことを特徴とする半田バンプ形成用樹脂組成物、を提供する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】  本発明に係る半田バンプ形成用樹脂組成物は、（Ａ）酸価１１０以上のアルカリ溶解性熱可塑性樹脂（但し、アルカリ溶解性熱可塑性樹脂の内、不飽和脂肪酸重合体については酸価８０以上、不飽和脂肪酸／脂肪族不飽和化合物共重合体においては酸価５０以上）、（Ｂ）溶剤、及び（Ｃ）半田粉末を含み、且つ活性剤を含まない、ことを特徴とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７５】  表に示す結果から、以下のことが明らかである。
アルカリ溶解性樹脂を用いた場合、その樹脂構造に係わりなく、良好な基本特性（レジスト除去性、半田接合性）を発揮できる（実施例１〜１８）。一方、非アルカリ現像性樹脂を用いた場合、良好な基本特性を発揮できない（比較例１）。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７６】  アルカリ溶解性樹脂の酸価が所定値以上である場合、良好なレジスト除去性を発揮できる（実施例１〜１８）。図４には、実施例１５における、リフロー後とドライフィルム除去後の、各写真（ａ）及び（ｂ）を示す。これに示すように、樹脂の酸価が所定値以上である場合、ドライフィルムの除去後にも残渣が観察されなかった。一方、アルカリ溶解性樹脂の酸価が所定値未満である場合、良好なレジスト除去性を発揮できない（比較例２、３）。図５には、比較例３における、リフロー後とドライフィルム除去後の、各写真（ａ）及び（ｂ）を示す。これに示すように、樹脂の酸価が所定値未満である場合、ドライフィルム除去後に残渣が観察された。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７８】  アルカリ溶解性樹脂の各樹脂種において、酸価が大き過ぎる場合（実施例３、１０、１１、１４、１８）、ドライフィルムの密着性が低下し、半田がドライフィルムの下に潜り込んでしまうことがわかった。図６には、実施例１０における、リフロー後及びドライフィルム除去後の、各写真（ａ）及び（ｂ）を示す。図６に示すように、例えばＡＳ樹脂について、酸価が大き過ぎるもの（実施例１０及び１１）を用いた場合、リフロー後及びドライフィルム除去後に半田潜りが観察された。一方、各樹脂種において、酸価が大き過ぎない場合（上記以外の実施例）、図４に示すように、ドライフィルムの密着性に全く影響せず、更に半田がドライフィルムの下に潜り込むこともなく、良好な半田バンプを形成できることが分かった。
【手続補正書】
【提出日】平成27年6月2日(2015.6.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
治療処置システムであって、該治療処置システムは、
ガス入口とガス出口とを有する送達デバイスであって、該送達デバイスは、患者に呼吸ガス混合物を送達するように適合されている、送達デバイスと、
該送達デバイスの該ガス出口付近に位置付けられている注入デバイスであって、該注入デバイスは、凍結水氷粒子の供給源に結合されている、注入デバイスと、
該送達デバイスおよび該注入デバイスに結合されている制御システムと
を備え、
該制御システムは、該呼吸ガス混合物中に該凍結水氷粒子を解放することにより、冷却された該呼吸ガス混合物中に凍結水氷粒子のミストを形成するように、該注入デバイスを制御するように適合されている、
治療処置システム。
【請求項２】
前記送達デバイスは、患者に前記呼吸ガス混合物を送達するように適合されている気管内チューブを備える、請求項１に記載の治療処置システム。
【請求項３】
前記送達デバイスは、患者に前記呼吸ガス混合物を送達するように適合されている鼻カニューレを備える、請求項１に記載の治療処置システム。
【請求項４】
前記送達デバイスは、患者の咽喉に前記呼吸ガス混合物を送達するようにサイズ決定されたチューブを備える、請求項１に記載の治療処置システム。
【請求項５】
前記送達デバイスは、前記呼吸ガス混合物を送達するように適合されている呼吸マスクを備える、請求項１に記載の治療処置システム。
【請求項６】
前記注入デバイスは、凍結水氷粒子送達チューブを備える、請求項１に記載の治療処置システム。
【請求項７】
前記注入デバイスは、前記凍結水氷粒子送達チューブの出口に配置された散乱装置をさらに備える、請求項６に記載の治療処置システム。
【手続補正書】
【提出日】平成27年3月10日(2015.3.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
照明された医学的システムであって、
開創器ブレード；および
照明ブレードを備え、
該照明ブレードは、内面、外面、近位領域および遠位領域を有し、ここで、該照明ブレードは、光をその該近位領域から該遠位領域へ伝導するように構成され、そして該照明ブレードが該外面上に配置された出力領域を備え、それが該光を制御しそして該照明ブレードから手術野に伝導し;
ここで、該照明ブレードは、本質的にシクロオレフィンコポリマーまたはシクロオレフィンポリマーから構成され；そして
ここで、該照明ブレードは、係合要素により該開創器ブレードに結合され、ここで、空隙が、該開創器と該照明ブレードとの間で維持される、
システム。
【請求項２】
請求項１に記載のシステムであって、ここで、前記照明ブレードの前記近位領域がネックを備え、そして該照明ブレードの遠位端が出力ブレードを備え、ここで、該出力ブレードの断面が、該ネックの断面よりも広くかつ薄い、システム。
【請求項３】
請求項２に記載のシステムであって、ここで、前記光を制御しそして前記照明ブレードの前記遠位端から前記手術野に伝導する活性出力端を前記出力ブレードが備える、システム。
【請求項４】
請求項２に記載のシステムであって、ここで、前記照明ブレードの前記近位端が入力領域を備え、該入力領域は前記ネックの近位に配置される、システム。
【請求項５】
請求項４に記載のシステムであって、さらに、取り外し可能に前記入力領域に係合するカラーを備える、システム。
【請求項６】
請求項３に記載のシステムであって、ここで、前記空隙が前記開創器と前記照明ブレードの前記ネックとの間に維持される、システム。
【請求項７】
請求項１に記載のシステムであって、ここで、前記出力領域が複数の微小学的構造を備える、システム。
【請求項８】
請求項１に記載のシステムであって、ここで、前記微小光学的構造が小面である、システム。
【請求項９】
請求項１に記載のシステムであって、ここで、前記照明ブレードが複数の出力領域を備え、ここで、第１の出力領域中の複数の微小光学的構造が、第２の出力領域中の複数の微小光学的坑道と異なる寸法を有する、システム。
【請求項１０】
請求項１に記載のシステムであって、ここで、前記手術野の照明の領域の位置を調整するために、前記照明ブレードは、前記開創器ブレードの長さに沿って調整され得る、システム。
【請求項１１】
請求項１に記載のシステムであって、さらに、
前記光を前記照明ブレードに提供する照明光源；および
該照明ブレードの前記入力領域および該照明光源に光学的に結合された照明導管を備え、
該照明導管は、光を該照明光源から該照明ブレードに伝導するように構成される、
システム。
【手続補正書】
【提出日】平成27年7月3日(2015.7.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
非侵襲的な患者の監視システムであって、
患者のプレチスモグラフパラメータを検出し、患者のプレチスモグラフ信号を生成するように構成されるパルスオキシメータと、
患者の呼吸パラメータを検出し、患者の呼吸信号を生成するように構成される呼吸センサと、
前記患者の呼吸信号に基づき、患者の覚醒が生じたか否かを判断するように構成されるプロセッサとを備え、
患者の覚醒が生じたと判断した場合、前記患者の覚醒に関連する呼吸イベントを、前記患者のプレチスモグラフ信号に基づき識別する、非侵襲的な患者の監視システム。
【請求項２】
前記患者の覚醒に関連する呼吸イベントが、前記患者のプレチスモグラフ信号から導出される患者の呼吸努力信号に基づき識別される、請求項１に記載の非侵襲的な患者の監視システム。
【請求項３】
患者の呼吸努力の測定が、前記プレチスモグラフ信号の振幅またはベースラインの変化に基づいて導出される、請求項２に記載の非侵襲的な患者の監視システム。
【請求項４】
前記患者の呼吸努力の測定が、前記患者のプレチスモグラフ信号のピーク間振幅の変動に基づいて判断される、請求項３に記載の非侵襲的な患者の監視システム。
【請求項５】
前記プロセッサが、開放性および閉塞性の無呼吸を区別すること、高気道抵抗を判断すること、呼吸の相対的仕事量を判断すること、流れ発生器のための制御アルゴリズムを強化すること、過剰換気を判断すること、睡眠開始を判断すること、および睡眠状態を判断することのうちの少なくとも１つを前記患者のプレチスモグラフ信号および前記患者の呼吸信号に基づき行うように構成される、請求項１から４のいずれか一項に記載の非侵襲的な患者の監視システム。
【請求項６】
睡眠状態が、睡眠、覚醒、およびノンレム睡眠のうちの１つとして識別される、請求項５に記載の非侵襲的な患者の監視システム。
【請求項７】
前記呼吸センサが、流れセンサまたは圧センサを備える、請求項１から６のいずれか一項に記載の非侵襲的な患者の監視システム。
【請求項８】
前記検出された患者の呼吸パラメータが、流れ、圧力、体積、および換気のうちの少なくとも１つに関連付けられる、請求項１から７に記載のいずれか一項に記載の非侵襲的な患者の監視システム。
【請求項９】
加圧されたガスの流れを生成するための流れ生成器をさらに備える、請求項１から８のいずれか一項に記載の非侵襲的な患者の監視システム。
【請求項１０】
前記プロセッサが、前記患者の呼吸努力信号および前記患者の呼吸信号に基づき、前記流れ生成器の動作を制御するように構成される、請求項９に記載の非侵襲的な患者の監視システム。
【請求項１１】
非侵襲的な患者の監視システムであって、
治療のための患者への、持続気道内陽圧（ＣＰＡＰ）または呼気終末圧（ＥＥＰ）で特徴づけられる２段階の圧補助を提供するように動作する制御可能な流れ発生器と、
前記患者の呼気流を示す気流信号を生成するように動作する気流メータと、
治療期間中の患者の呼吸努力に対応する呼吸努力信号を生成するように構成されるパルスオキシメータであって、前記患者の呼吸努力が、前記パルスオキシメータによって測定される動脈圧波形におけるピーク間振幅である、パルスオキシメータと、
（ａ）前記気流信号が正常な範囲内でなく、前記患者の呼吸努力が高いと判断される場合に、前記提供されるＣＰＡＰまたはＥＥＰを増加させ、（ｂ）前記患者の気流／換気が正常であると前記気流メータが示す場合、または前記患者の気流／換気が正常でないと前記気流メータが示す場合でも前記患者の呼吸努力が高くないと前記パルスオキシメータが示す場合に、前記ＣＰＡＰまたはＥＥＰを維持するように、前記制御可能な流れ発生器に命令するように動作する制御部と
を備えた非侵襲的な患者の監視システム。
【請求項１２】
前記パルスオキシメータが、静脈性うっ血を示す信号を生成するようにさらに構成され、前記制御部は、前記パルスオキシメータによって生成される静脈性うっ血を示す前記信号が、静脈性うっ血が悪化していることを示す場合に、ＣＰＡＰまたはＥＥＰが増加された後、前記患者への前記ＣＰＡＰを元に戻すように、前記制御可能な流れ発生器に命令するようにさらに動作する請求項１１に記載の非侵襲的な患者の監視システム。
【請求項１３】
前記パルスオキシメータが、ＳｐＯ２および心拍数を監視するようにさらに構成される請求項１１または１２に記載の非侵襲的な患者の監視システム。
【請求項１４】
動脈圧波形におけるピーク間振幅が１０ｍｍＨｇより大きい場合、患者の呼吸努力が高いとする請求項１１から１３のいずれか一項に記載の非侵襲的な患者の監視システム。
【手続補正書】
【提出日】平成27年8月11日(2015.8.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ライナーをベースにした保管システムであって：
オーバーパックと；
超高純度液体の閉じ込めおよび分配のために構成されたライナーであって、該ライナーは、該ライナーの内部空洞部を規定する実質的に剛性のライナー壁を備え、該剛性のライナー壁は、０．１ｍｍ〜１．０ｍｍの範囲の厚さを有するポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）を含み、該ライナーは、該内部空洞部内から流体を分配するために、３ｐｓｉ〜約２０ｐｓｉの範囲の圧力でつぶれることが可能である、ライナーと、を備え、
ここで、該ライナーは、半球状である底部を含み、
ここで、該流体は、該オーバーパックと該ライナーとの間に圧力を加えることによって該内部空洞部から圧力分配され、
ここで、該ライナーの分配能力が９０％を超える、
ライナーをベースにした保管システム。
【請求項２】
前記ライナーが、ブロー成形される、請求項１に記載のライナーをベースにした保管システム。
【請求項３】
前記ライナーが、前記実質的に剛性のライナー壁に１つ以上の折り目または凹み目を備えて、前記内部空洞内からの流体の分配の間に該ライナー壁のつぶれるパターンを制御する、請求項１に記載のライナーをベースにした保管システム。
【請求項４】
前記実質的に剛性のライナー壁の前記１つ以上の折り目または凹み目が、前記つぶれるパターンを制御し、前記内部空洞部から流体を分配するために該内部空洞部内にチャネルを提供して、チョークオフを実質的に排除する、請求項３に記載のライナーをベースにした保管システム。
【請求項５】
前記１つ以上の折り目または凹み目が複数の折り目または凹み目であり、該複数の折り目または凹み目が互いに交差する、請求項３に記載のライナーをベースにした保管システム。
【請求項６】
前記ライナーは、前記内部空洞部内からの流体の分配の間に該ライナーが所定のパターンでつぶれるように、前記実質的に剛性のライナー壁に１つ以上の折り目または凹み目を備える、請求項１に記載のライナーをベースにした保管システム。
【請求項７】
さらに、浸漬管を備える、請求項１に記載のライナーをベースにした保管システム。
【請求項８】
さらに、前記ライナーの略底部にあるサンプエリアを備えて、分配能力を増加する、請求項１に記載のライナーをベースにした保管システム。
【請求項９】
前記ライナーがさらに、チョークオフ防止手段を備える、請求項１に記載のライナーをベースにした保管システム。
【請求項１０】
前記ライナー壁が金属を含む、請求項１に記載のライナーをベースにした保管システム。
【請求項１１】
前記ライナーが、前記実質的に剛性のライナー壁の１つ以上の折り目または凹み目を備えて、前記内部空洞部内からの流体の分配の間に該ライナーのランダムなつぶれを防止する、請求項１に記載のライナーをベースにした保管システム。
【請求項１２】
前記オーバーパックが、２つの操作可能に接続可能な部分から形成される、請求項１に記載のライナーをベースにした保管システム。
【請求項１３】
前記２つの操作可能に接続可能な部分が、スナップフィットによって接続される、請求項１２に記載のライナーをベースにした保管システム。
【請求項１４】
３次元ライナーが、所望のライナーのネガティブ像を有する容器にブロー成形される、請求項１２に記載のライナーをベースにした保管システム。
【請求項１５】
前記ライナー壁が、３ｍｍより薄い厚さを有する、請求項１に記載のライナーをベースにした保管システム。
【請求項１６】
前記ライナー壁が、バリア増強材料の層を備える、請求項１に記載のライナーをベースにした保管システム。
【請求項１７】
前記超高純度液体がフォトレジストである、請求項１に記載のライナーをベースにした保管システム。
【請求項１８】
前記ライナーが、３次元ライナーである、請求項１に記載のライナーをベースにした保管システム。