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【手続補正書】
【提出日】平成27年10月19日(2015.10.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
測定対象物に取り付けられている複数のモーションセンサーからの出力信号を比較する信号比較部と、
前記信号比較部の比較結果に基づいて、前記測定対象物への前記モーションセンサーの取付位置を判定する取付位置判定部と、
を備えていることを特徴とする運動解析システム。
【請求項２】
請求項１において、
前記信号比較部は、前記複数のモーションセンサーの出力信号が表す角速度又は角度についての最大値又は最小値を比較することを特徴とする運動解析システム。
【請求項３】
請求項１又は２において、
前記信号比較部は、前記複数のモーションセンサーの出力信号が表す加速度についての最大値又は最小値を比較することを特徴とする運動解析システム。
【請求項４】
請求項１乃至３のいずれか一項において、
前記モーションセンサーの取付位置を判定するために用いられる位置判定情報を含み、
前記位置判定情報は、
前記複数のモーションセンサーについて規定された規定順位と、
前記規定順位に対応する取付位置と、
の情報を含み、
前記取付位置判定部は、
前記信号比較部の比較結果に基づく前記複数のモーションセンサーの比較順位と、
前記位置判定情報に含まれる前記規定順位と、
を照合することによって取付位置を判定することを特徴とする運動解析システム。
【請求項５】
請求項４において、
前記位置判定情報は、運動解析の対象となる運動の種類に応じた情報を含むことを特徴とする運動解析システム。
【請求項６】
請求項４又は５において、
前記位置判定情報は、前記複数のモーションセンサーの個数の情報を含み、
前記取付位置判定部は、前記個数の情報に基づいて、前記測定対象物に取り付けられる前記モーションセンサーの個数を検証することを特徴とする運動解析システム。
【請求項７】
請求項４乃至６のいずれか一項において、
前記位置判定情報は、前記複数のモーションセンサーの出力信号が表す測定値の適正な範囲を示す情報を含み、
前記取付位置判定部は、前記適正な範囲を示す情報に基づいて、前記測定対象物に取り付けられる前記モーションセンサーの出力信号が表す測定値を検証することを特徴とする運動解析システム。
【請求項８】
請求項１乃至７のいずれか一項において、
前記取付位置判定部によって判定された前記測定対象物への前記モーションセンサーの取付位置を出力する判定結果出力部と、
前記測定対象物への前記モーションセンサーの取付位置の変更を受け付ける受付部と、
を含むことを特徴とする運動解析システム。
【請求項９】
測定対象物に取り付けられている複数のモーションセンサーの出力信号を比較する信号比較工程と、
前記信号比較工程における比較結果に基づいて、前記測定対象物への前記モーションセンサーの取付位置を判定する取付位置判定工程と、
を含むことを特徴とする運動解析方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
本発明は、上述の課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態又は適用例として実現することが可能である。
本発明のある形態に係る運動解析システムは、測定対象物に取り付けられている複数のモーションセンサーからの出力信号を比較する信号比較部と、前記信号比較部の比較結果に基づいて、前記測定対象物への前記モーションセンサーの取付位置を判定する取付位置判定部と、を備えていることを特徴とする。
本発明のある別の形態に係る運動解析システムは、前記信号比較部は、前記複数のモーションセンサーの出力信号が表す角速度又は角度についての最大値又は最小値を比較することを特徴とする。
本発明のある別の形態に係る運動解析システムは、前記信号比較部は、前記複数のモーションセンサーの出力信号が表す加速度についての最大値又は最小値を比較することを特徴とする。
本発明のある別の形態に係る運動解析システムは、前記モーションセンサーの取付位置を判定するために用いられる位置判定情報を含み、前記位置判定情報は、前記複数のモーションセンサーについて規定された規定順位と、前記規定順位に対応する取付位置と、の情報を含み、前記取付位置判定部は、前記信号比較部の比較結果に基づく前記複数のモーションセンサーの比較順位と、前記位置判定情報に含まれる前記規定順位と、を照合することによって取付位置を判定することを特徴とする。
本発明のある別の形態に係る運動解析システムは、前記位置判定情報は、運動解析の対象となる運動の種類に応じた情報を含むことを特徴とする。
本発明のある別の形態に係る運動解析システムは、前記位置判定情報は、前記複数のモーションセンサーの個数の情報を含み、前記取付位置判定部は、前記個数の情報に基づいて、前記測定対象物に取り付けられる前記モーションセンサーの個数を検証することを特徴とする。
本発明のある別の形態に係る運動解析システムは、前記位置判定情報は、前記複数のモーションセンサーの出力信号が表す測定値の適正な範囲を示す情報を含み、前記取付位置判定部は、前記適正な範囲を示す情報に基づいて、前記測定対象物に取り付けられる前記モーションセンサーの出力信号が表す測定値を検証することを特徴とする。
本発明のある別の形態に係る運動解析システムは、前記取付位置判定部によって判定された前記測定対象物への前記モーションセンサーの取付位置を出力する判定結果出力部と、前記測定対象物への前記モーションセンサーの取付位置の変更を受け付ける受付部と、を含むことを特徴とする。
本発明のある別の形態に係る運動解析方法は、測定対象物に取り付けられている複数のモーションセンサーの出力信号を比較する信号比較工程と、前記信号比較工程における比較結果に基づいて、前記測定対象物への前記モーションセンサーの取付位置を判定する取付位置判定工程と、を含むことを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成27年11月6日(2015.11.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光源と、光源から出射された出射光によって被検眼眼底上の局所領域をＸ及びＹ方向の少なくとも１方向に走査するための光スキャナと、前記局所領域における各走査位置に関して前記眼底からの光を検出するための検出器と、を有し、前記局所領域を撮像するための眼底撮像光学系と、
前記眼底撮像光学系の光路中に配置され前記出射光を偏向する光偏向手段を有し、前記眼底撮像光学系によって撮像される前記局所領域の撮像位置を前記眼底上で変更する撮像位置変更手段と、
前記各走査位置における前記検出器からの受光信号を処理して前記局所領域における第１眼底画像を取得する画像処理手段と、
を備え、
前記画像処理手段は、前記撮像位置変更手段によって変更される前記撮像位置に応じて前記第１眼底画像の歪みを補正することを特徴とする眼底撮影装置。
【請求項２】
前記画像処理手段は、
前記第１眼底画像の歪みを補正する際、
前記第１眼底画像における各画素の座標を変位させることにより前記第１眼底画像の歪みを補正する画像処理手段であって、
前記各画素の座標の変位量は、
前記眼底撮像光学系に配置された少なくとも１つの光学部材による歪が生じていないと仮定した場合の前記第１眼底画像の座標位置と、実際に取得された前記第１眼底画像の座標位置との変位量に基づいて、前記撮像位置における前記光スキャナの各走査位置に関してそれぞれ設定されている請求項１の眼底撮影装置。
【請求項３】
前記画像処理手段は、
前記眼底撮像光学系の光軸から前記撮像位置までの距離に応じて、前記第１眼底画像の歪みを補正する請求項１又は２の眼底撮影装置。
【請求項４】
前記画像処理手段は、前記撮像位置に応じた歪補正パターンを用いて、前記第１眼底画像における各画素の座標を変位させることにより前記第１眼底画像の歪みを補正する請求項１〜３のいずれかの眼底撮影装置。
【請求項５】
光源と、光源から出射された出射光によって被検眼眼底上の局所領域をＸ及びＹ方向の少なくとも１方向に走査するための光スキャナと、前記局所領域における各走査位置に関して前記眼底からの光を検出するための検出器と、を有し、前記局所領域を撮像するための眼底撮像光学系と、
前記眼底撮像光学系の光路中に配置され前記出射光を偏向する光偏向手段を有し、前記眼底撮像光学系によって撮像される前記局所領域の撮像位置を前記眼底上で変更する撮像位置変更手段と、
を備えた眼底撮影装置から、各走査位置における前記検出器からの受光信号を取得し、取得した前記受光信号を処理して前記局所領域における第１眼底画像を取得する眼底画像処理装置において実行される眼底画像処理プログラムであって、
前記眼底画像処理装置のプロセッサによって実行されることで、
前記撮像位置変更手段によって変更される前記撮像位置に応じて、前記第１眼底画像の歪みを補正する歪み補正ステップ
を前記眼底画像処理装置に実行させることを特徴とする眼底画像処理プログラム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
（１）  光源と、光源から出射された出射光によって被検眼眼底上の局所領域をＸ及びＹ方向の少なくとも１方向に走査するための光スキャナと、前記局所領域における各走査位置に関して前記眼底からの光を検出するための検出器と、を有し、前記局所領域を撮像するための眼底撮像光学系と、前記眼底撮像光学系の光路中に配置され前記出射光を偏向する光偏向手段を有し、前記眼底撮像光学系によって撮像される前記局所領域の撮像位置を前記眼底上で変更する撮像位置変更手段と、前記各走査位置における前記検出器からの受光信号を処理して前記局所領域における第１眼底画像を取得する画像処理手段と、を備え、前記画像処理手段は、前記撮像位置変更手段によって変更される前記撮像位置に応じて前記第１眼底画像の歪みを補正することを特徴とする。
（２）  前記画像処理手段は、前記第１眼底画像の歪みを補正する際、前記第１眼底画像における各画素の座標を変位させることにより前記第１眼底画像の歪みを補正する画像処理手段であって、前記各画素の座標の変位量は、前記眼底撮像光学系に配置された少なくとも１つの光学部材による歪が生じていないと仮定した場合の前記第１眼底画像の座標位置と、実際に取得された前記第１眼底画像の座標位置との変位量に基づいて、前記撮像位置における前記光スキャナの各走査位置に関してそれぞれ設定されている（１）の眼底撮影装置。
（３）  前記画像処理手段は、前記眼底撮像光学系の光軸から前記撮像位置までの距離に応じて、前記第１眼底画像の歪みを補正する（１）又は（２）の眼底撮影装置。
（４）  前記画像処理手段は、前記撮像位置に応じた歪補正パターンを用いて、前記第１眼底画像における各画素の座標を変位させることにより前記第１眼底画像の歪みを補正する（１）〜（３）のいずれかの眼底撮影装置。
（５）  光源と、光源から出射された出射光によって被検眼眼底上の局所領域をＸ及びＹ方向の少なくとも１方向に走査するための光スキャナと、前記局所領域における各走査位置に関して前記眼底からの光を検出するための検出器と、を有し、前記局所領域を撮像するための眼底撮像光学系と、前記眼底撮像光学系の光路中に配置され前記出射光を偏向する光偏向手段を有し、前記眼底撮像光学系によって撮像される前記局所領域の撮像位置を前記眼底上で変更する撮像位置変更手段と、を備えた眼底撮影装置から、各走査位置における前記検出器からの受光信号を取得し、取得した前記受光信号を処理して前記局所領域における第１眼底画像を取得する眼底画像処理装置において実行される眼底画像処理プログラムであって、前記眼底画像処理装置のプロセッサによって実行されることで、前記撮像位置変更手段によって変更される前記撮像位置に応じて、前記第１眼底画像の歪みを補正する歪み補正ステップを前記眼底画像処理装置に実行させることを特徴とする眼底画像処理プログラム。
【手続補正書】
【提出日】平成27年11月2日(2015.11.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項７】
請求項６に記載の超音波振動子ユニットにおいて、回路基板に形成された溝は、回路基板とアレイ振動子の接合に用いる接着剤により埋められている、超音波振動子ユニット。
【手続補正書】
【提出日】平成27年4月20日(2015.4.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
所定の処理を行う第１の制御部と、前記第１の制御部と暗号通信可能な第２の制御部と、のうちの少なくとも前記第１の制御部を備え、遊技機に対応して設けられ、当該対応する遊技機を動作させるための遊技用装置であって、
前記第１の制御部は、所定の情報に基づいて前記暗号通信で使用する暗号鍵を生成する暗号鍵生成手段と、前記第２の制御部において前記暗号通信で使用する暗号鍵を生成させるために前記所定の情報を前記第２の制御部に送信する送信手段と、を備え、
前記所定の情報は、前記第１の制御部の外部から前記第１の制御部に供給される情報であり、
前記第１の制御部は、前記第２の制御部の認証を行う認証手段と、前記認証手段による認証が失敗した場合に前記暗号鍵生成手段が生成した前記暗号鍵を使用した前記暗号通信を開始せず、前記認証手段による認証が成功した場合に前記暗号鍵生成手段が生成した前記暗号鍵を使用した前記暗号通信を開始する暗号通信手段と、をさらに備える、
ことを特徴とする遊技用装置。
【請求項２】
前記遊技用装置は、前記第２の制御部を備え、
前記第１の制御部と前記第２の制御部とは遊技用装置が有する同じ基板上に設けられている、
ことを特徴とする請求項１に記載の遊技用装置。
【請求項３】
前記所定の情報は、前記遊技用装置が配置される遊技場の外の供給装置が、当該遊技場の中に配置されて前記遊技用装置を管理する管理装置が復号できないように暗号化して、当該管理装置を介して前記第１の制御部に供給する情報である、
ことを特徴とする請求項１又は２に記載の遊技用装置。
【請求項４】
請求項１から３のいずれか１項に記載の遊技用装置と、
前記所定の情報を前記遊技用装置の外部から供給する供給装置と、
を備えることを特徴とする遊技用システム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
（１）上記目的を達成するため、本発明に係る遊技用装置は、
所定の処理を行う第１の制御部（例えば、セキュリティチップ２２など）と、前記第１の制御部と暗号通信可能な第２の制御部（例えば、ステップＣ２４以降で暗号通信する通信制御ＩＣ２３など）と、のうちの少なくとも前記第１の制御部を備え、遊技機に対応して設けられ、当該対応する遊技機を動作させるための遊技用装置（例えば、カードユニット２０、セキュリティチップ２２と通信制御ＩＣ２３とが実装されたセキュリティ基板２４など）であって、
前記第１の制御部は、所定の情報（例えば、更新情報など）に基づいて前記暗号通信で使用する暗号鍵を生成する暗号鍵生成手段（例えば、ステップＣ１６で更新情報から暗号情報Ａ２を生成する処理部２２ａ）と、前記第２の制御部において前記暗号通信で使用する暗号鍵（例えば、暗号鍵Ａ２など）を生成させる（例えば、ステップＣ１９で更新情報から暗号情報Ａ２を生成するなど）ために前記所定の情報を前記第２の制御部に送信する送信手段（例えば、ステップＣ１８で更新情報を送信する処理部２２ａ）と、を備え、
前記所定の情報は、前記第１の制御部の外部（例えば、鍵管理センターサーバ３１０など）から前記第１の制御部に供給される情報であり（例えば、ステップＣ１０、Ｃ１１、Ｃ１５で送信される更新情報など）、
前記第１の制御部は、前記第２の制御部の認証を行う認証手段（例えば、ステップＣ２１の処理を行う処理部２２ａ）と、前記認証手段による認証が失敗した場合に前記暗号鍵生成手段が生成した前記暗号鍵を使用した前記暗号通信を開始せず、前記認証手段による認証が成功した場合に前記暗号鍵生成手段が生成した前記暗号鍵を使用した前記暗号通信を開始する暗号通信手段（例えば、ステップＣ２４で暗号鍵Ａ２での暗号通信を開始する処理部２２ａ）と、をさらに備える、
ことを特徴とする。
（２）上記（１）の遊技用装置において、
前記遊技用装置（例えば、カードユニット２０、セキュリティチップ２２と通信制御ＩＣ２３とが実装されたセキュリティ基板２４など）は、前記第２の制御部を備え（例えば、図２参照）、
前記第１の制御部と前記第２の制御部とは遊技用装置が有する同じ基板上に設けられている（例えば、セキュリティ基板２４にセキュリティチップ２２と通信制御ＩＣ２３とが実装されているなど）、
ようにしてもよい。
（３）上記（１）又は（２）の遊技用装置において、
前記所定の情報は、前記遊技用装置が配置される遊技場の外の供給装置（例えば、鍵管理センターサーバ３１０など）が、当該遊技場の中に配置されて前記遊技用装置を管理する管理装置（例えば、上位サーバ５１０など）が復号できないように暗号化して、当該管理装置を介して前記第１の制御部に供給する情報である（例えば、ステップＣ１０で更新情報を秘匿鍵Ｂで暗号化して送信し、上位サーバ５１０を介して暗号化されたままセキュリティチップ２２に供給されるなど）、
ようにしてもよい。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
（４）上記目的を達成するため、本発明に係る遊技用システムは、
上記（１）から（３）のいずれかの遊技用装置と、
前記所定の情報を前記遊技用装置の外部から供給する供給装置（例えば、鍵管理センターサーバ３１０など）と、
を備えることを特徴とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
（５）上記（１）から（４）のいずれかの遊技用装置又は遊技用システムにおいて、
前記所定の情報は、前記外部から、暗号化されたままの状態で所定の装置（例えば、ＣＵ制御部２１や上位サーバ５１０など）に中継されて前記第１の制御部に供給され（例えば、ＣＵ制御部２１や上位サーバ５１０は更新情報を復号できないなど）、
前記第１の制御部は、予め記憶している復号鍵を用いて前記所定の情報を復号化する復号化手段（例えば、ステップＣ１６で更新情報を復号化する処理部２２ａなど）を備える、
ようにしてもよい。
【手続補正書】
【提出日】平成27年3月5日(2015.3.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明絶縁基板とその下面に形成された半導体層とを有するＬＥＤダイとを備えたＬＥＤ装置の製造方法において、
蛍光体を含有する樹脂をシート状に加工した大判蛍光体シートと、複数の前記ＬＥＤダイとを準備する準備工程と、
前記大判蛍光体シートと前記透明絶縁基板とが接するようにして、前記大判蛍光体シートに前記ＬＥＤダイを配列し、前記大判蛍光体シートと前記ＬＥＤダイとを接着する素子配列工程と、
前記大判蛍光体シートと前記ＬＥＤダイの接着部及びその周辺部を残すようにして前記蛍光体シートを切除する除去工程と、
前記ＬＥＤダイ及び前記蛍光体シートの側部に反射性微粒子を含有する白色反射部材を充填し硬化させる白色反射部材充填工程と、
前記蛍光体シートの側面の前記白色反射部材を残ようにして前記大判蛍光体シート及び前記白色反射部材を切断し前記ＬＥＤ装置に個片化する個片化工程と
を備えることを特徴とするＬＥＤ装置の製造方法。
【請求項２】
透明絶縁基板とその下面に形成された半導体層とを有するＬＥＤダイとを備えたＬＥＤ装置の製造方法において、
個片化するとサブマウント基板又はリードとなる大判サブマウント基板又はリードフレームと、複数の前記ＬＥＤダイとを準備する準備工程と、
前記大判サブマウント基板又は前記リードフレームと前記ＬＥＤダイの前記半導体層側が接するようにして、前記大判サブマウント基板又は前記リードフレームに前記ＬＥＤダイを配列し、前記大判サブマウント基板又はリードフレームと前記ＬＥＤダイとを接続する素子配列工程と、
前記透明絶縁基板に蛍光体微粒子を含有する樹脂をシート状に加工した大判蛍光体シートを前記ＬＥＤダイの上面に貼り付ける大判蛍光体シート貼付工程と、
前記大判蛍光体シートと前記ＬＥＤダイの接着部及びその周辺部を残すようにして前記蛍光体シートを切除する除去工程と、
前記ＬＥＤダイ及び前記蛍光体シートの側部に反射性微粒子を含有する白色反射部材を充填し硬化させる白色反射部材充填工程と、
前記蛍光体シートの側面の前記白色反射部材を残ようにして前記大判サブマウント基板又は前記リードフレーム及び前記白色反射部材を切断し前記ＬＥＤ装置に個片化する個片
化工程と
を備えることを特徴とするＬＥＤ装置の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】ＬＥＤ装置の製造方法
【手続補正書】
【提出日】平成27年8月27日(2015.8.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４０】
境界領域ＢＤＲにおいて、トランジスタ形成領域ＴＲＲおよびゲート電極層ＧＥは、ともに半導体基板ＳＵＢの主表面に沿い、かつ垂直信号線ＳＧＬの延在する方向に交差する方向（図５（Ａ）の左右方向）に延在するように配置されている。なお図５においてはトランジスタ形成領域ＴＲＲおよびゲート電極層ＧＥはこれらが延在する図の左右方向に関する端部において途切れているが、このように途切れておらず、図示された領域の全体において一体として延在する構成であってもよい。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４１】
図５においては、それぞれの垂直信号線ＳＧＬから見たトランジスタ形成領域ＴＲＲおよびゲート電極層ＧＥの相対的な位置がすべて同じである。すなわちトランジスタ形成領域ＴＲＲおよびゲート電極層ＧＥは、複数の垂直信号線ＳＧＬのすべてと平面的に重なるように配置されており、かつこれらは、それぞれの垂直信号線ＳＧＬの平面視における互いに同一の領域と重なるように配置される。トランジスタ形成領域ＴＲＲおよびゲート電極層ＧＥについても金属層Ｍ２と同様に、平面視においてトランジスタ形成領域ＴＲＲおよびゲート電極層ＧＥの延在する方向は、垂直信号線ＳＧＬの延在する方向にほぼ直交する方向である。このため上記の金属層Ｍ２と同様の観点から、各垂直信号線ＳＧＬから見たトランジスタ形成領域ＴＲＲおよびゲート電極層ＧＥが重なっている領域の相対的な位置はすべて同じになり、各垂直信号線ＳＧＬとトランジスタ形成領域ＴＲＲおよびゲート電極層ＧＥとが重なっている領域の面積はすべて同じになる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８７】
カラム領域ＣＭＮの垂直信号線ＳＧＬは、半導体基板ＳＵＢの主表面（すなわち金属層Ｍ１よりも下側）に形成されたトランジスタＴＲのたとえばドレイン領域ＤＲと電気的に接続される。すなわち図１２においては垂直信号線ＳＧＬがドレイン領域ＤＲと（両者の間に導電層を挟まずコンタクトＣＮＴにより）直接接続されている。すなわち垂直信号線ＳＧＬは、ここでもカラム領域ＣＭＮのＡＤ変換回路ＡＤＣに存在するトランジスタＴＲにまで延びるように配置されており、垂直信号線ＳＧＬからＡＤ変換回路ＡＤＣ（トランジスタＴＲ）に電気信号が入力する構成となっている。
【手続補正書】
【提出日】平成27年11月4日(2015.11.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
金属層と絶縁層を含む積層板を、前記金属層を第１の支持体に対向させて前記積層板を前記第１の支持体に接着する工程と、
前記絶縁層を貫通するビアと、前記絶縁層上に前記ビアと接続する第１配線層を形成する工程と、
前記第１の支持体を除去し、前記金属層と前記絶縁層と前記第１配線層とからなる構造体を得る工程と、
第２の支持体に対して前記第１配線層を対向させて前記構造体を前記第２の支持体に接着する工程と、
前記構造体から前記金属層を除去する工程と、
前記絶縁層の前記金属層を除去した面上に、前記ビアと接続する第２配線層を形成する工程と、
前記第２配線層を形成する工程の後に、前記構造体から前記第２の支持体を除去する工程と、
を有する配線基板の製造方法。
【請求項２】
前記金属層と対向する前記第１の支持体の主面の端部に第１の接着層が形成され、前記第１の接着層を介して前記第１の支持体に前記積層板を接着すること、
を特徴とする請求項１記載の配線基板の製造方法。
【請求項３】
前記第１配線層と対向する前記第２の支持体の主面の端部に第２の接着層が形成され、前記第２の接着層を介して前記第２の支持体に前記構造体を接着すること、
を特徴とする請求項１又は２に記載の配線基板の製造方法。
【請求項４】
前記第１配線層と前記第２配線層は、セミアディティブ法により形成されてなること、を特徴とする請求項１〜３のうちの何れか一項に記載の配線基板の製造方法。
【請求項５】
前記絶縁層は、有機樹脂からなること、
を特徴とする請求項１〜４のうちの何れか一項に記載の配線基板の製造方法。
【請求項６】
前記絶縁層は、複数の絶縁層により形成されてなること、
を特徴とする請求項１〜５のうちの何れか一項に記載の配線基板の製造方法。
【請求項７】
前記第２の支持体を除去する工程の前に、前記第２配線層上に、絶縁層と配線層とを積層してなる配線部を形成すること、
を特徴とする請求項１〜６のうちの何れか一項に記載の配線基板の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
本発明の一観点によれば、金属層と絶縁層を含む積層板を、前記金属層を第１の支持体に対向させて前記積層板を前記第１の支持体に接着する工程と、前記絶縁層を貫通するビアと、前記絶縁層上に前記ビアと接続する第１配線層を形成する工程と、前記第１の支持体を除去し、前記金属層と前記絶縁層と前記第１配線層とからなる構造体を得る工程と、第２の支持体に対して前記第１配線層を対向させて前記構造体を前記第２の支持体に接着する工程と、前記構造体から前記金属層を除去する工程と、前記絶縁層の前記金属層を除去した面上に、前記ビアと接続する第２配線層を形成する工程と、前記第２配線層を形成する工程の後に、前記構造体から前記第２の支持体を除去する工程とを有する。
【手続補正書】
【提出日】平成27年9月14日(2015.9.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
鉛蓄電池であって、
負極板は、負極活物質中に、平均粒子径が１μｍ以下である活性炭を含有していることを特徴とする鉛蓄電池。
【請求項２】
前記活性炭の化成後の負極活物質中における含有量は、０．５〜１０質量％である請求項１記載の鉛蓄電池。
【手続補正書】
【提出日】平成27年7月3日(2015.7.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
順送り金型装置１９が起動すると、図３に示す各工程がフープ材Ｗに順次施されることで連結薄板２０が製造される。
（１）第１工程・・・パイロット穴３５を穿孔する。
（２）第２工程・・・連結部２１となる部位に対する長円形抜穴２８を穿孔する。なお、長円形抜穴２８を穿孔するパンチは、カム機構等によって図示しない上型から出没し、フープ材Ｗに対して長円形抜穴２８の穿孔を行わないようにすることもできる。
（３）第３工程・・・連結部２１となる部位に対する扇状抜穴２７を穿孔する。なお、扇状抜穴２７を穿孔するパンチも、カム機構等によって図示しない上型から出没し、フープ材Ｗに対して扇状抜穴２７の穿孔を行わないようにすることもできる。
（４）第４工程は、後述する全形鉄心薄板１１のスロット３２を穿孔するためのものであり、連結薄板２０の製造時においては上型にパンチが没するために実施されない。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
全形鉄心薄板１１の製造にあたっては、図５に示す工程がフープ材Ｗに順次施される。
（１）第１工程・・・パイロット穴３５を穿孔する。
（４）第４工程・・・環状部３およびティース４の輪郭を形成するスロット３２を穿孔する。なお、スロット３２を穿孔するパンチは、カム機構等によって図示しない上型から出没し、フープ材Ｗに対してスロット３２の穿孔を行わないようにすることもできる。
（９）第９工程・・・環状部３およびティース４の磁極部５にそれぞれかしめ部２４'，２５'を形成する。なお、第９工程のストリップレイアウトは、連結薄板２０と同様であるため、図５には示さない。
（１０）第１０工程・・・外形打抜パンチ４１によって全形鉄心薄板１１を外形打抜ダイ４２およびスクイズリング４３内に打ち抜く。
【手続補正３】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図５】
2014110732.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成27年7月21日(2015.7.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】珪藻土他を用いた植物の生長促進方法及び花芽と結実数の増加方法並びに有害成分作用の緩和方法
【手続補正書】
【提出日】平成26年11月28日(2014.11.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
蛍光発光材料、
並びに、
三重項受容繰り返し単位および式（Ｉ）：
【化１】
2014110427.tif 000001
（式中、Ａは二価基である、Ｒ１は各存在において独立して置換基である、各存在におけるＲ２はＨもしくは置換基である、ならびにｘは各存在において独立して０、１、２もしくは３である）
の繰り返し単位を含む三重項受容コポリマーを含有する発光組成物。
【請求項２】
Ａは、Ｏ、Ｓ、−ＮＲ２−および−ＣＲ２２−から成る群より選択される、請求項１に記載の発光組成物。
【請求項３】
各Ｒ２は、独立してＨおよびＣ１−４０ヒドロカルビルから成る群から選択される、請求項１または２に記載の発光組成物。
【請求項４】
各Ｒ２は、独立してＨおよびＣ１−２０アルキルから成る群から選択される、請求項３に記載の発光組成物。
【請求項５】
各Ｒ１は、存在する場合は、独立してＣ１−４０ヒドロカルビルから選択される、請求項１〜４のいずれかに記載の発光組成物。
【請求項６】
前記三重項受容繰り返し単位は、非置換もしくは１つ以上の置換基で置換されていてよい多環式芳香族共繰り返し単位を含む、請求項１〜５のいずれかに記載の発光組成物。
【請求項７】
前記三重項受容繰り返し単位は、それらの各々が非置換もしくは１つ以上の置換基で置換されていてよいアントラセンおよびピレンから選択される、請求項６に記載の発光組成物。
【請求項８】
前記三重項受容繰り返し単位は、式（ＩＩ）および（ＩＩＩ）：
【化２】
2014110427.tif 000002
（式中、各存在におけるＲ４は、独立して置換基である、各ａは、独立して０、１もしくは２である、各ｂは、独立して０、１もしくは２である、および各ｃは、０、１、２、３もしくは４である）
の繰り返し単位から選択される、請求項７に記載の発光組成物。
【請求項９】
前記式（ＩＩ）の繰り返し単位は式（ＩＩａ）：
【化３】
2014110427.tif 000003
を有する、請求項８に記載の発光組成物。
【請求項１０】
少なくとも１つのａおよび／または少なくとも１つのｂは少なくとも１であり、各Ｒ４は、独立してＣ１−４０ヒドロカルビルから選択される、請求項８または９に記載の発光組成物。
【請求項１１】
少なくとも１つのａおよび／または少なくとも１つのｂは少なくとも１であり、各Ｒ４は、Ｃ１−２０アルキルから独立して選択され、このとき前記Ｃ１−２０アルキルの非隣接Ｃ原子は、Ｏ、Ｓ、Ｃ＝Ｏ、ＣＯＯもしくはＮＲ１１（式中、Ｒ１１は、置換基である）によって置換されてよい、請求項８または９に記載の発光組成物。
【請求項１２】
前記蛍光発光材料は、ポリマーである、請求項１〜１１のいずれかに記載の発光組成物。
【請求項１３】
前記蛍光発光ポリマーは、式（ＩＸ）：
【化４】
2014110427.tif 000004
（式中、各存在におけるＡｒ８およびＡｒ９は、独立して置換もしくは非置換アリールもしくはヘテロアリールから選択される、ｇは１以上である、Ｒ１３は、Ｈもしくは置換基である、ならびにｃおよびｄは各々独立して１、２もしくは３である、ならびに同一Ｎ原子に直接結合したＡｒ８、Ａｒ９およびＲ１３のいずれか２つは、直接結合または二価結合基によって結合し環を形成することができる）
の繰り返し単位を含む、請求項１２に記載の発光組成物。
【請求項１４】
前記蛍光発光ポリマーは、それらの各々が非置換もしくは１つ以上の置換基で置換されていてよいフェニレン、フルオレンおよびジヒドロフェナントレン繰り返し単位から選択される１つ以上の共繰り返し単位を含む、請求項１２または１３に記載の発光組成物。
【請求項１５】
前記蛍光発光材料：三重項受容ポリマーの質量比は９９．５：０．５〜約７０：３０の範囲内にある、請求項１〜１４のいずれかに記載の発光組成物。
【請求項１６】
本質的に蛍光発光材料および請求項１〜１５のいずれかに記載の三重項受容ポリマーから成る発光組成物。
【請求項１７】
請求項１〜１６のいずれかに記載の組成物および少なくとも１つの溶媒を含む調製物。
【請求項１８】
アノード、カソードならびに前記アノードおよび前記カソードの間の発光層を含む有機発光デバイスであって、前記発光層は、請求項１〜１６のいずれかに記載の組成物を含む、有機発光デバイス。
【請求項１９】
請求項１８に記載の有機発光デバイスを形成する方法であって、前記アノードおよびカソードの１つの上方に前記発光層を形成する工程、および前記発光層の上方に前記アノードおよびカソードの他方を形成する工程を含む方法。
【請求項２０】
前記発光層は、請求項１７に記載の前記調製物を前記アノードおよびカソードの一方の上方に堆積させる工程、および前記少なくとも１つの溶媒を蒸発させる工程によって形成される、請求項１９に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成27年8月28日(2015.8.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材と、
第１主面及び前記第１主面とは反対側の第１裏面を有しており、前記第１裏面が前記基材と対向するように前記基材上に搭載された第１半導体チップと、
前記第１半導体チップの前記第１主面上に搭載された第２半導体チップと、
前記第１半導体チップと前記第２半導体チップとを電気的に接続する導電性部材と、
を備え、
前記第１半導体チップは、前記第１主面に、第１回路を有する第１回路形成領域、及び前記第１回路よりも発熱量が小さい第２回路を有する第２回路形成領域を有しており、
前記第２半導体チップは、前記導電性部材を介して前記第１半導体チップに接続する温度検出回路を有しており、
平面視において、前記温度検出回路は前記第１回路形成領域に重なっている半導体装置。
【請求項２】
請求項１に記載の半導体装置において、
前記第１半導体チップは、前記第１回路及び前記第２回路とは異なる他の回路を少なくとも一つ有しており、
前記第１回路は、前記他の回路よりも発熱量が多い半導体装置。
【請求項３】
請求項１に記載の半導体装置において、
前記第２半導体チップは、前記温度検出回路を有する第２主面、及び前記第２主面とは反対側の第２裏面を有しており、前記第２裏面が前記第１半導体チップの前記第１主面と対向するように前記第１主面上に搭載されている半導体装置。
【請求項４】
請求項１に記載の半導体装置において、
前記第２半導体チップは、前記温度検出回路を有する第２主面を有しており、前記第２主面が前記第１半導体チップの前記第１主面と対向するように前記第１主面上に搭載されている半導体装置。
【請求項５】
請求項１に記載の半導体装置において、
平面視において、前記第１回路形成領域は、前記第１半導体チップの中心とは重なっていない半導体装置。
【請求項６】
請求項１に記載の半導体装置において、
駆動時において、前記第１主面のうち前記第１回路の上に位置する領域の温度は、前記第１主面のうち前記第２回路の上に位置する領域の温度よりも１０℃以上高い半導体装置。
【請求項７】
請求項１に記載の半導体装置において、
平面視において、前記第２半導体チップの外形サイズは前記第１回路形成領域の外形サイズよりも小さく、かつ前記第１回路形成領域の内側に位置している半導体装置。
【請求項８】
基材と、
第１主面及び前記第１主面とは反対側の第１裏面を有しており、前記第１裏面が前記基材と対向するように前記基材上に搭載された第１半導体チップと、
前記第１半導体チップの前記第１主面上に搭載された第２半導体チップと、
前記第１半導体チップと前記第２半導体チップとを電気的に接続する導電性部材と、
を備え、
前記第１半導体チップは、前記第１主面に、電流を制御する第１回路を有する第１回路形成領域、及び信号を処理する第２回路を有する第２回路形成領域を有しており、
前記第２半導体チップは、前記導電性部材を介して前記第１半導体チップに接続する温度検出回路を有しており、
平面視において、前記温度検出回路は前記第１回路形成領域の内側に位置している半導体装置。
【請求項９】
請求項８に記載の半導体装置において、
前記第２半導体チップは、前記温度検出回路を有する第２主面、及び前記第２主面とは反対側の第２裏面を有しており、前記第２裏面が前記第１半導体チップの前記第１主面と対向するように前記第１主面上に搭載されている半導体装置。
【請求項１０】
請求項８に記載の半導体装置において、
前記第２半導体チップは、前記温度検出回路を有する第２主面を有しており、前記第２主面が前記第１半導体チップの前記第１主面と対向するように前記第１主面上に搭載されている半導体装置。
【請求項１１】
請求項８に記載の半導体装置において、
平面視において、前記第１回路形成領域は、前記第１半導体チップの中心とは重なっていない半導体装置。
【請求項１２】
請求項８に記載の半導体装置において、
駆動時において、前記第１主面のうち前記第１回路の上に位置する領域の温度は、前記第１主面のうち前記第２回路の上に位置する領域の温度よりも１０℃以上高い半導体装置。
【請求項１３】
請求項８に記載の半導体装置において、
平面視において、前記第２半導体チップの外形サイズは前記第１回路形成領域の外形サイズよりも小さく、かつ前記第１回路形成領域の内側に位置している半導体装置。
【請求項１４】
請求項１に記載の半導体装置において、
前記温度検出回路は、前記導電性部材および前記第２回路を介して前記第１回路と電気的に接続されている半導体装置。
【請求項１５】
請求項８に記載の半導体装置において、
前記温度検出回路は、前記導電性部材および前記第２回路を介して前記第１回路と電気的に接続されている半導体装置。
【手続補正書】
【提出日】平成27年11月6日(2015.11.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
直交周波数分割多重方式のサブキャリアを使用する送信装置および受信装置で構成された無線通信システムにおいて、
前記送信装置は、所定の数のサブキャリアをサブキャリアグループにまとめるサブキャリアグループ生成手段と、前記サブキャリアグループを送信に使用するか不使用とするかを前記サブキャリグループ毎に選択するサブキャリアグループ制御手段と、前記サブキャリアグループ制御手段による選択結果をＳＣグループ使用情報として送信フレームに付加するサブキャリアグループ情報付加手段と、前記サブキャリグループ毎に１つのパイロットサブキャリアを設けるパイロット付加手段と、を備え、
前記受信装置は、前記パイロットサブキャリアの抽出手段と、前記ＳＣグループ使用情報の取得手段と、取得した前記サブキャリアグループ使用情報から、隣接するパイロットサブキャリアをチャネル応答の推定に使用するか否かを判定する手段と、互いに隣接する前記パイロットサブキャリア間を周波数内挿することで送受信間のチャネル応答を推定する手段と、を備え、
前記推定する手段は、前記ＳＣグループ使用情報が使用を示すような１つのサブキャリアグループのパイロットサブキャリアとそれに隣接するパイロットサブキャリアとの間で前記周波数内挿する際に、前記隣接するパイロットサブキャリアのサブキャリアグループが使用を示すときは、前記隣接するパイロットサブキャリアとの間で補間を行ったチャネル応答推定値を選択し、不使用を示すときは、前記１つのパイロットサブキャリアを代表値として０次ホールドを行ったチャネル応答推定値を選択することを特徴とする無線通信システム。
【手続補正書】
【提出日】平成27年8月27日(2015.8.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項４】
請求項２又は請求項３に記載の電磁操作機構の手動開放装置において、
前記電磁操作機構を収容する盤側に着脱可能に取り付けられる固定板と、前記リンク機構及び前記レバーを収容する本体ケースとを有し、前記固定板に前記本体ケースが組み合わされて固定ピンで結合されるように構成したことを特徴とする電磁操作機構の手動開放装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
図４の状態になると、電磁操作機構３は、永久磁石６の磁束により開放状態を保持するように作用する。また、駆動板１８が開放完了後も延長ロッド１２を開放方向へ押しつづけるため、延長ロッド１２の跳ね返りを防ぎ、開閉器１が半投入状態へ陥るのを防ぐ効果を有している。
また、開放操作の途中、コイルばね２０の放勢が開始される図３の位置まで操作棒１６を回動させると、その後、駆動板１８はコイルばね２０の放勢力のみで回動し始めるので、駆動板１８の係合ピン２４とレバー２３との係合は図４に示すように離れるため、コイルばね２０の放勢力はレバー２３には伝わらず、操作者はコイルばね２０の放勢力に起因する操作棒１６の急な動き等の危害を受けることなく、操作者の安全性が確保される。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
手動開放操作が終われば、固定ピン１５を抜き、本体ケース１４側を取り外し、電磁操作機構３の操作ロッド４の連結体９に連結した延長ロッド１２を取り外し、更に固定板１３をフェースプレート１０から取り外す。この状態で手動開放装置１１を保管しておけば、次回の開放操作時に備えることができる。
このように、本願発明の手動開放装置は、操作棒を回動操作させる一動作だけで、且つ、小さな力で開放操作を容易に行うことができる。
【手続補正書】
【提出日】平成26年11月28日(2014.11.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式Ｒ１‐Ｘ‐Ｚ‐Ｒ２
｛式中、
Ｒ１が、Ｈ、Ｃ１‐４アルキル、アセチル、ホルミル、ベンゾイル又はトリフルオロアセチルであり；
Ｒ２が、ＯＨ又はＮＨ２であり；
Ｘが、以下の式（Ｉ）：
Ｈｉｓ‐Ｓｅｒ‐Ｇｌｎ‐Ｇｌｙ‐Ｔｈｒ‐Ｐｈｅ‐Ｔｈｒ‐Ｓｅｒ‐Ａｓｐ‐Ｔｙｒ‐Ｓｅｒ‐Ｌｙｓ‐Ｔｙｒ‐Ｌｅｕ‐Ａｓｐ‐Ｓｅｒ‐Ｌｙｓ‐Ａｌａ‐Ａｌａ‐Ｈｉｓ‐Ａｓｐ‐Ｐｈｅ‐Ｖａｌ‐Ｇｌｕ‐Ｔｒｐ‐Ｌｅｕ‐Ｌｅｕ‐Ａｓｎ‐Ｔｈｒ
を有するペプチドであるか；又は式（Ｉ）と異なる場合には、以下の：
１７位の残基が：Ｌｅｕであり；
２０位の残基が：Ｇｌｎであり；
２４位の残基が：Ｇｌｎであり；及び
２７位の残基が：Ｍｅｔであり；
のうちの最大３ヶ所によって式（Ｉ）と異なっているペプチドであり；そして
Ｚが、存在しないか、又は４、５、６又は７個の連続したリジン残基である。｝を有する化合物、又は医薬的に許容し得るその塩。
【請求項２】
前記Ｘが、以下の配列：
ＨＳＱＧＴＦＴＳＤＹＳＫＹＬＤＳＫＡＡＨＤＦＶＥＷＬＭＮＴ（配列番号１０）；
ＨＳＱＧＴＦＴＳＤＹＳＫＹＬＤＳＫＡＡＱＤＦＶＱＷＬＭＮＴ（配列番号１５）又は
ＨＳＱＧＴＦＴＳＤＹＳＫＹＬＤＳＬＡＡＱＤＦＶＱＷＬＬＮＴ（配列番号１４）
を有する、請求項２に記載の化合物。
【請求項３】
前記Ｒ１がＨである、請求項１〜２のいずれか１項に記載の化合物。
【請求項４】
前記Ｒ２がＮＨ２である、請求項１〜３のいずれか１項に記載の化合物。
【請求項５】
前記Ｚが存在しない、請求項１〜４のいずれか１項に記載の化合物。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれか１項に記載の化合物であって、そのアミノ酸側鎖のうちの１つ又は複数、例えばペプチドＸを、親油性置換基又は重合体部分に結合させる前記化合物。
【請求項７】
請求項１〜５のいずれか１項に記載の化合物をコードする核酸。
【請求項８】
請求項７に記載の核酸を含んでなる発現ベクター。
【請求項９】
請求項７に記載の核酸又は請求項８に記載の発現ベクターを含んでいる宿主細胞。
【請求項１０】
請求項１〜５のいずれか１項に記載の化合物、核酸、発現ベクター又は宿主細胞を、医薬的に許容し得る担体との混合物の状態で含んでなる医薬組成物。
【請求項１１】
体重増加を予防するためか、体重減少を促進するためか、あるいは病的な肥満、肥満に関係する炎症、肥満に関係する胆嚢疾患及び肥満誘発性睡眠時無呼吸症を含めた過剰体重若しくは肥満により引き起こされた又はそれらに関連する身体状態の処置のためのか、あるいはインスリン抵抗性、耐糖能異常、２型糖尿病、高血圧症、アテローム形成性脂質異常症、アテローム性動脈硬化症、動脈硬化症、冠動脈性心疾患又は脳卒中の処置のための医薬品の調製における、請求項１〜５のいずれか１項に記載の化合物、核酸、発現ベクター又は宿主細胞の使用。
【請求項１２】
体重増加を予防するか、体重減少を促進するか、あるいは病的な肥満、肥満に関係する炎症、肥満に関係する胆嚢疾患及び肥満誘発性睡眠時無呼吸症を含めた過剰体重若しくは肥満により引き起こされたか又はそれらに関連する身体状態の処置のためか、あるいはインスリン抵抗性、耐糖能異常、２型糖尿病、高血圧症、アテローム形成性脂質異常症、アテローム性動脈硬化症、動脈硬化症、冠動脈性心疾患又は脳卒中の処置のための方法における、請求項１〜５のいずれか１項に記載の化合物を含む、医薬組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成27年2月2日(2015.2.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数個の図柄が配置された複数のリールを回転させる図柄表示ゲームを開始して、複数のリールに対応して設けられた停止スイッチが、役の抽選で内部当選した押し順役に応じた操作順序で操作されると、対応する図柄列を停止させて押し順役を構成する特定役を入賞させると共に、特別ゲーム中に該特定役を入賞させる為の操作順序を報知することが可能な遊技機において、
操作手段が操作されたことを検出する操作検出手段と、
前記操作手段を操作する操作ゲームを制御する操作ゲーム制御手段と、
規定回数を設定する規定回数設定手段と、
前記操作手段が前記規定回数操作されると、復活条件を成立させる復活条件成立手段と、
前記操作ゲームで前記復活条件が成立すると、前記特別ゲームを復活させる復活手段と、
を具備し、
前記操作ゲーム制御手段は、所定条件の成立により前記操作ゲームを開始して、前記操作手段の操作を有効にした状態において、前記操作手段が操作されたことを、前記操作検出手段が検出すると、前記操作ゲームを継続するか又は終了するかの何れかを、前記操作手段の操作１回毎に抽選により決定し、
前記復活手段は、前記操作ゲーム制御手段が前記操作ゲームを終了させることなく、前記復活条件が成立すると、前記特別ゲームを復活させること、
を特徴とする遊技機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
請求項１に係る本発明の遊技機は、上記の目的を達成する為に、複数個の図柄が配置された複数のリールを回転させる図柄表示ゲームを開始して、複数のリールに対応して設けられた停止スイッチが、役の抽選で内部当選した押し順役に応じた操作順序で操作されると、対応する図柄列を停止させて押し順役を構成する特定役を入賞させると共に、特別ゲーム中に該特定役を入賞させる為の操作順序を報知することが可能な遊技機において、操作手段が操作されたことを検出する操作検出手段と、前記操作手段を操作する操作ゲームを制御する操作ゲーム制御手段と、規定回数を設定する規定回数設定手段と、前記操作手段が前記規定回数操作されると、復活条件を成立させる復活条件成立手段と、前記操作ゲームで前記復活条件が成立すると、前記特別ゲームを復活させる復活手段と、を具備し、前記操作ゲーム制御手段は、所定条件の成立により前記操作ゲームを開始して、前記操作手段の操作を有効にした状態において、前記操作手段が操作されたことを、前記操作検出手段が検出すると、前記操作ゲームを継続するか又は終了するかの何れかを、前記操作手段の操作１回毎に抽選により決定し、前記復活手段は、前記操作ゲーム制御手段が前記操作ゲームを終了させることなく、前記復活条件が成立すると、前記特別ゲームを復活させることを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成27年6月5日(2015.6.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
上記目的を達成するため、本発明のガス系消火設備用の消音機能を有する噴射ヘッドは、消火剤ガスを使用するガス系消火設備において消火対象区画に消火剤ガスを放出するために設置される消音手段を備えた噴射ヘッドであって、前記消音手段を、消火剤ガスが供給される配管に螺合して接続された噴射ヘッドに備えた、オリフィスと、該オリフィスの出口部に配設されることによって、消火剤ガスが一方の端面から流入し、他方の端面から大気中に放出されるようにした形状保持性能を有する円柱状の多孔性の気流の乱れをなくす材料とからなり、該多孔性の気流の乱れをなくす材料が、噴射ヘッドを構成する円筒状の筐体内に収容されるとともに、その他方の端面が、中心部に円形の開口部を形成した筐体の蓋部の環状の外周縁のみによって保持されるようにしたことを特徴とする。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
なお、多孔性の材料の空隙の孔径を、気体が流通する方向に変化させること、例えば、多孔性の材料の空隙の孔径を、気体が流通する方向に小さくすることができる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
また、前記消音手段を、オリフィスの出口部に配設した気体が流通可能な多孔性の材料で構成することにより、消音手段を簡易な構造とし、噴射ヘッドをコンパクトに構成でき、既存の設備にもそのまま適用することができる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
なお、多孔性の材料の空隙の孔径を、気体が流通する方向に変化させること、例えば、多孔性の材料の空隙の孔径を、気体が流通する方向に小さくすることにより、大きな消音効果を得ることができる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
消火剤ガスを使用するガス系消火設備において消火対象区画に消火剤ガスを放出するために設置される消音手段を備えた噴射ヘッドであって、前記消音手段を、消火剤ガスが供給される配管に螺合して接続された噴射ヘッドに備えた、オリフィスと、該オリフィスの出口部に配設されることによって、消火剤ガスが一方の端面から流入し、他方の端面から大気中に放出されるようにした形状保持性能を有する円柱状の多孔性の気流の乱れをなくす材料とからなり、該多孔性の気流の乱れをなくす材料が、噴射ヘッドを構成する円筒状の筐体内に収容されるとともに、その他方の端面が、中心部に円形の開口部を形成した筐体の蓋部の環状の外周縁のみによって保持されるようにしたことを特徴とするガス系消火設備用の消音機能を有する噴射ヘッド。
【手続補正書】
【提出日】平成26年12月9日(2014.12.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００２】
上掲の軟質のプラスチック製積層フィルムからなるセルフシール逆止機能つきのフィルム状逆止ノズルおよびそれを備えるフレキシブル包装袋としては、発明者らの提案に係る特許文献１、２に開示されたものがある。
【特許文献１】特開２００５−１５０２９号公報
【特許文献２】特開２００５−５９９５８号公報
【手続補正書】
【提出日】平成27年9月1日(2015.9.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
熱可塑性樹脂と、
錫ドープ酸化インジウム粒子と、
酸化タングステン粒子と、
フタロシアニン化合物、ナフタロシアニン化合物及びアントラシアニン化合物の内の少なくとも１種の化合物とを含む、合わせガラス用中間膜。
【請求項２】
前記錫ドープ酸化インジウム粒子の含有量が０.０００１重量％以上、１重量％以下である、請求項１に記載の合わせガラス用中間膜。
【請求項３】
前記酸化タングステン粒子の含有量が０．００００１重量％以上、０．１重量％以下である、請求項１又は２に記載の合わせガラス用中間膜。
【請求項４】
フタロシアニン化合物、ナフタロシアニン化合物及びアントラシアニン化合物の内の少なくとも１種である前記化合物の含有量が０．０００００１重量％以上、０．０５重量％以下である、請求項１〜３のいずれかに記載の合わせガラス用中間膜。
【請求項５】
フタロシアニン化合物、ナフタロシアニン化合物及びアントラシアニン化合物の内の少なくとも１種である前記化合物が、フタロシアニン化合物である、請求項１〜４のいずれかに記載の合わせガラス用中間膜。
【請求項６】
フタロシアニン化合物、ナフタロシアニン化合物及びアントラシアニン化合物の内の少なくとも１種である前記化合物が、バナジウム原子を含有するフタロシアニン化合物である、請求項５に記載の合わせガラス用中間膜。
【請求項７】
前記熱可塑性樹脂が、ポリビニルアセタール樹脂である、請求項１〜６のいずれか１項に記載の合わせガラス用中間膜。
【請求項８】
可塑剤を含む、請求項１〜７のいずれか１項に記載の合わせガラス用中間膜。
【請求項９】
紫外線遮蔽剤を含む、請求項１〜８のいずれか１項に記載の合わせガラス用中間膜。
【請求項１０】
アルカリ金属塩及びアルカリ土類金属塩の内の少なくとも１種の金属塩を含む、請求項１〜９のいずれか１項に記載の合わせガラス用中間膜。
【請求項１１】
第１の合わせガラス部材と、
第２の合わせガラス部材と、
請求項１〜１０のいずれか１項に記載の合わせガラス用中間膜とを備え、
前記第１の合わせガラス部材と前記第２の合わせガラス部材との間に、前記合わせガラス用中間膜が配置されている、合わせガラス。