(57)【要約】  耐スパッタ性、耐熱性、およびネガティブＣプレートとの密着性が良好なポジティブＡプレートを形成できる光重合性液晶組成物、これを用いた光学補償膜、光学補償積層膜、電極基板、液晶装置用基板および液晶装置の提供。  正の一軸異方性を示す光学補償膜形成用であり、１つの光重合反応性基を有する単官能光重合性液晶（Ａ）と、２つの光重合反応性基を有する二官能光重合性液晶（Ｂ）とを含む光重合性液晶組成物。光学補償積層膜１２は、負の一軸異方性を示す光学補償膜１２Ａと、上記組成物を用いて製造された正の一軸異方性を示す光学補償膜１２Ｂとを備える。
2014073578.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
正の一軸異方性を示す光学補償膜形成用の光重合性液晶組成物であって、
１つの光重合反応性基を有する単官能光重合性液晶（Ａ）と、２つの光重合反応性基を有する二官能光重合性液晶（Ｂ）とを含むことを特徴とする、光重合性液晶組成物。
【請求項２】
前記単官能光重合性液晶（Ａ）と前記二官能光重合性液晶（Ｂ）とを、質量比が９５／５〜３０／７０で含有する、請求項１に記載の光重合性液晶組成物。
【請求項３】
単官能光重合性液晶（Ａ）は下式（１−１）で表される、請求項１または２に記載の光重合性液晶組成物。
ＣＨ２＝ＣＲ１１−ＣＯＯ−（Ｅ１１）ｍ１−Ｃｙ−Ｙ１−Ｃｙ−Ｅ１２−Ｒ１２・・・（１−１）
（ただし、Ｒ１１：水素原子またはメチル基。Ｒ１２：炭素数１〜８のアルキル基。Ｙ１：−ＯＣＯ−または−ＣＯＯ−。ｍ１：０または１。Ｅ１１およびＥ１２：それぞれ独立に１，４−フェニレン基またはトランス−１，４−シクロヘキシレン基。Ｃｙ：トランス−１，４−シクロヘキシレン基。ただし、前記の１，４−フェニレン基およびトランス−１，４−シクロヘキシレン基は、基中の水素原子が、フッ素原子、塩素原子またはメチル基で置換されていてもよい。）
【請求項４】
単官能光重合性液晶（Ａ）は下式（１−２）で表される、請求項１または２に記載の光重合性液晶組成物。
ＣＨ２＝ＣＲ２１−ＣＯＯ−（Ｌ２）ｋ２−Ｅ２１−Ｅ２２−Ｅ２３−Ｅ２４−Ｒ２２・・・（１−２）
（ただし、Ｒ２１：水素原子またはメチル基。Ｒ２２：炭素数１〜８のアルキル基またはフッ素原子。ｋ２：０または１。Ｌ２：−(ＣＨ２)ｐ２Ｏ−または−(ＣＨ２)ｑ２−（ただし、ｐ２およびｑ２は、それぞれ独立に２〜８の整数。）。Ｅ２１：１，４−フェニレン基。Ｅ２２、Ｅ２３およびＥ２４：それぞれ独立に１，４−フェニレン基またはトランス−１，４−シクロヘキシレン基であり、かつＥ２２およびＥ２３の少なくとも一方はトランス−１，４−シクロヘキシレン基である。ただし、前記の１，４−フェニレン基およびトランス−１，４−シクロヘキシレン基は、該基中の炭素原子に結合した水素原子がフッ素原子、塩素原子またはメチル基に置換されていてもよい。）
【請求項５】
単官能光重合性液晶（Ａ）は下式（１−３）で表される、請求項１または２に記載の光重合性液晶組成物。
ＣＨ２＝ＣＲ３１−ＣＯＯ−（Ｌ３）ｋ３−Ｅ３１−Ｅ３２−Ｅ３３−Ｒ３２・・・（１−３）
（ただし、Ｒ３１：水素原子またはメチル基。Ｒ３２：炭素数１〜８のアルキル基。ｋ３：０または１。Ｌ３：−（ＣＨ２）ｐ３Ｏ−、−Ｃｙ−ＣＯＯ−（Ｃｙはトランス−１，４−シクロヘキシレン基。）、または−Ｃｙ−ＯＣＯ−（ただし、ｐ３は２〜８の整数。）。Ｅ３１、Ｅ３２およびＥ３３：それぞれ独立に１，４−フェニレン基またはトランス−１，４−シクロヘキシレン基（ただし、Ｅ３１、Ｅ３２、およびＥ３３の少なくとも１つはトランス−１，４−シクロヘキシレン基であり、かつ、Ｌ３が−Ｃｙ−ＯＣＯ−である場合のＥ３１はトランス−１，４−シクロヘキシレン基であり、Ｌ３が−（ＣＨ２）ｐ３Ｏ−であるかまたはｋ３が０である場合の、Ｅ３１とＥ３３のそれぞれは１，４−フェニレン基であり、Ｅ３２はトランス−１，４−シクロヘキシレン基である）。ただし、前記の１，４−フェニレン基およびトランス−１，４−シクロヘキシレン基は、該基中の炭素原子に結合した水素原子がフッ素原子、塩素原子またはメチル基で置換されていてもよい。）
【請求項６】
二官能光重合性液晶（Ｂ）は下式（２）で表される、請求項１〜５のいずれかに記載の光重合性液晶組成物。
Ｑ１−Ｚ１−Ａ１−Ｚ３−Ｍ−Ｚ４−Ａ２−Ｚ２−Ｑ２・・・（２）
（ただし、Ｑ１およびＱ２：それぞれ独立に光重合反応性基。Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３およびＺ４：それぞれ独立に単結合または二価の連結基。Ａ１およびＡ２：それぞれ独立に炭素原子数２〜２０のスペーサ基。Ｍ：メソゲン基。）
【請求項７】
二官能光重合性液晶（Ｂ）は下式（２−１）で表される、請求項６に記載の光重合性液晶組成物。
ＣＨ２＝ＣＲ４１−ＣＯＯ−（Ｅ４１）ｍ４−Ｃｙ−Ｙ４−Ｃｙ−（Ｅ４２）ｎ４−ＯＯＣ−ＣＲ４２＝ＣＨ２・・・（２−１）
（ただし、Ｒ４１およびＲ４２：それぞれ独立に水素原子またはメチル基。Ｙ４：−ＯＣＯ−または−ＣＯＯ−。ｍ４およびｎ４：それぞれ独立に０または１。Ｅ４１およびＥ４２：それぞれ独立に１，４−フェニレン基またはトランス−１，４−シクロヘキシレン基。Ｃｙ：トランス−１，４−シクロヘキシレン基。ただし、前記の１，４−フェニレン基およびトランス−１，４−シクロヘキシレン基は、基中の水素原子が、フッ素原子、塩素原子またはメチル基で置換されていてもよい。）
【請求項８】
二官能光重合性液晶（Ｂ）は下式（２−２）で表される、請求項６に記載の光重合性液晶組成物。
ＣＨ２＝ＣＲ５１−ＣＯＯ−（Ｌ５）ｋ５−Ｅ５１−Ｅ５２−Ｅ５３−Ｅ５４−（Ｍ５）ｎ５−ＯＯＣ−ＣＲ５２＝ＣＨ２・・・（２−２）
（ただし、Ｒ５１およびＲ５２：それぞれ独立に水素原子またはメチル基。ｋ５およびｎ５：それぞれ独立に０または１。Ｌ５およびＭ５：それぞれ独立に−(ＣＨ２)ｐ５Ｏ−または−(ＣＨ２)ｑ５−（ただし、ｐ５およびｑ５はそれぞれ独立に２〜８の整数。）。Ｅ５１：１，４−フェニレン基。Ｅ５２、Ｅ５３およびＥ５４：それぞれ独立に１，４−フェニレン基またはトランス−１，４−シクロヘキシレン基であり、かつＥ５２よびＥ５３の少なくとも一方はトランス−１，４−シクロヘキシレン基である。ただし、前記の１，４−フェニレン基およびトランス−１，４−シクロヘキシレン基は、該基中の炭素原子に結合した水素原子がフッ素原子、塩素原子またはメチル基に置換されていてもよい。）
【請求項９】
二官能光重合性液晶（Ｂ）は下式（２−３）で表される、請求項６に記載の光重合性液晶組成物。
ＣＨ２＝ＣＲ６１−ＣＯＯ−（Ｌ６）ｋ６−Ｅ６１−Ｅ６２−Ｅ６３−（Ｍ６）ｎ６−ＣＯＯ−ＣＲ６２＝ＣＨ２・・・（２−３）
（ただし、Ｒ６１およびＲ６２：それぞれ独立に水素原子またはメチル基。ｋ６およびｎ６：それぞれ独立に０または１。Ｌ６およびＭ６：それぞれ独立に−（ＣＨ２）ｐ６Ｏ−、−Ｃｙ−ＣＯＯ−（Ｃｙはトランス−１，４−シクロヘキシレン基。）、または−Ｃｙ−ＯＣＯ−（ただし、ｐ６は２〜８の整数。）。Ｅ６１、Ｅ６２およびＥ６３：それぞれ独立に１，４−フェニレン基またはトランス−１，４−シクロヘキシレン基（ただし、Ｅ６１、Ｅ６２およびＥ６３の少なくとも１つはトランス−１，４−シクロヘキシレン基であり、かつ、Ｌ６が−Ｃｙ−ＯＣＯ−である場合のＥ６１はトランス−１，４−シクロヘキシレン基であり、Ｌ６が−（ＣＨ２）ｐ６Ｏ−であるか、またはｋ６が０である場合のＥ６１とＥ６３のそれぞれは１，４−フェニレン基であり、Ｅ６２はトランス−１，４−シクロヘキシレン基である）。ただし、前記の１，４−フェニレン基およびトランス−１，４−シクロヘキシレン基は、該基中の炭素原子に結合した水素原子がフッ素原子、塩素原子またはメチル基で置換されていてもよい。）
【請求項１０】
請求項１〜９のいずれかに記載の光重合性液晶組成物の塗布膜を光硬化してなる、正の一軸異方性を示す光学補償膜。
【請求項１１】
負の一軸異方性を示す光学補償膜と、請求項１０に記載の正の一軸異方性を示す光学補償膜とを含む、光学補償積層膜。
【請求項１２】
前記負の一軸異方性を示す光学補償膜は骨格に脂環を有するポリイミドを含む、請求項１１に記載の光学補償積層膜。
【請求項１３】
基板上に、請求項１２に記載の光学補償積層膜と、当該光学補償積層膜上に形成された電極とを有する、電極基板。
【請求項１４】
請求項１３に記載の電極基板と、当該電極基板上に形成された配向膜とを有する、液晶装置用基板。
【請求項１５】
請求項１４に記載の液晶用基板と、対向基板と、当該液晶用基板および対向基板に挟持された液晶層とを有する、液晶装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光重合性液晶組成物、ならびに、該光重合性液晶組成物を用いた光学補償膜、光学補償積層膜、電極基板、液晶装置用基板および液晶装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶装置には、視野角の拡大等のために、複屈折性を有して光の位相を制御する光学補償フィルム（位相差フィルムとも呼ばれる）が用いられる。
従来、上記光学補償フィルムおよび偏光フィルムは、液晶セルに対して外付けが一般的であり、光学補償フィルムの厚みは５０〜１５０μｍ程度である。
近年、液晶セルの内部に光学補償積層膜を設けることで、液晶装置およびこれが搭載される電子機器の薄型化が検討されている。【０００３】
光学補償積層膜の形態としては、
ポリイミド等の配向膜上に二軸プレートが積層された光学補償積層膜（i）、
ポリイミド等の配向膜上に、正の一軸異方性を示す光学補償膜（以下、ポジティブＡプレートともいう）と負の一軸異方性を示す光学補償膜（以下、ネガティブＣプレートともいう）とが順次積層された光学補償積層膜（ii）、
ネガティブＣプレート上に配向膜を介してポジティブＡプレートが積層された光学補償積層膜（iii）、
および配向膜として機能するネガティブＣプレート上にポジティブＡプレートが直接積層された光学補償積層膜（iv）等が挙げられる。【０００４】
特許文献１および２には、上記の光学補償積層膜（iii）または（iv）を備えた液晶装置用基板が開示されている。【０００５】
特許文献１の実施例１および２では、基板上にポリエステルを塗布し、得られた塗布膜に対して加熱乾燥および焼成を行った後、ラビング処理を実施して、配向膜としての機能を有するネガティブＣプレートを形成している。その後、ネガティブＣプレート上にビフェニル系光重合性液晶を塗布し、加熱乾燥した後、光重合を実施して、ポジティブＡプレートを形成している（段落００２５および００２６）。
特許文献１の実施例１および２ではいずれも、ポジティブＡプレート用材料の光重合性液晶として、１種のみの光重合性液晶が用いられている。【０００６】
特許文献２の実施例８では、基板上にポリイミドを塗布し、得られた塗布膜に対して加熱乾燥および焼成を行って、ネガティブＣプレートを形成している。このネガティブＣプレート上に配向膜を形成し、ラビング処理を実施した後、二官能光重合性液晶を塗布し、乾燥した後、光重合を実施して、ポジティブＡプレートを形成している（段落００９８〜０１００）。
特許文献２の実施例１〜１２ではいずれも、ポジティブＡプレート用材料の光重合性液晶として、二官能光重合性液晶のみが用いられている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】日本特開2010-230823号公報
【特許文献２】日本特開2009-223304号公報
【特許文献３】日本特許4725516号公報
【特許文献４】日本特許4998269号公報
【特許文献５】日本特許5012020号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
液晶セルの内部に光学補償積層膜を設ける場合、成膜後の製造プロセスにおいて、光学補償積層膜が劣化しない、またはその光学特性が変化しないことが求められる。例えば、光学補償積層膜の直上にスパッタ法によりＩＴＯ（インジウム錫酸化物）等の電極が形成される場合がある。この場合、光学補償積層膜には、直上層をスパッタ成膜しても、クラックが生じず、光学特性が変化しない耐スパッタ性が必要である。
また、配向膜として機能するネガティブＣプレート上にポジティブＡプレートが直接積層された光学補償積層膜（iv）では、膜同士の密着性が良好であることも必要である。【０００９】
本発明者が検討したところ、特許文献１および２に記載のようにポジティブＡプレート材料として１種類のみの光重合性液晶を用いる場合、耐スパッタ性、およびネガティブＣプレートとの密着性が良好なポジティブＡプレートが得られないことが分かった。【００１０】
本発明は、耐スパッタ性、およびネガティブＣプレートとの密着性が良好なポジティブＡプレートを形成できる光重合性液晶組成物、並びに該ポジティブＡプレートからなる光学補償膜の提供を目的とする。
さらに、本発明は、耐スパッタ性、およびネガティブＣプレートとポジティブＡプレートとの密着性が良好な光学補償積層膜の提供と、光学特性が良好で薄型化および低コスト化が可能な電極基板、液晶装置用基板および液晶装置の提供を目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明は、以下［１］〜［１５］の構成を有する、光重合性液晶組成物、光学補償膜、光学補償積層膜、電極基板、液晶装置用基板および液晶装置を提供する。【００１２】
［１］正の一軸異方性を示す光学補償膜形成用の光重合性液晶組成物であって、
１つの光重合反応性基を有する単官能光重合性液晶（Ａ）と、２つの光重合反応性基を有する二官能光重合性液晶（Ｂ）とを含む、光重合性液晶組成物。
［２］前記単官能光重合性液晶（Ａ）と前記二官能光重合性液晶（Ｂ）とを、質量比が９５／５〜３０／７０で含有する、上記［１］に記載の光重合性液晶組成物。【００１３】
［３］単官能光重合性液晶（Ａ）は下式（１−１）で表される、上記［１］または［２］に記載の光重合性液晶組成物。
ＣＨ２＝ＣＲ１１−ＣＯＯ−（Ｅ１１）ｍ１−Ｃｙ−Ｙ１−Ｃｙ−Ｅ１２−Ｒ１２・・・（１−１）
（ただし、Ｒ１１：水素原子またはメチル基。Ｒ１２：炭素数１〜８のアルキル基。Ｙ１：−ＯＣＯ−または−ＣＯＯ−。ｍ１：０または１。Ｅ１１およびＥ１２：それぞれ独立に１，４−フェニレン基またはトランス−１，４−シクロヘキシレン基。Ｃｙ：トランス−１，４−シクロヘキシレン基。ただし、前記の１，４−フェニレン基およびトランス−１，４−シクロヘキシレン基は、基中の水素原子が、フッ素原子、塩素原子またはメチル基で置換されていてもよい。）【００１４】
［４］単官能光重合性液晶（Ａ）は下式（１−２）で表される、上記［１］または［２］に記載の光重合性液晶組成物。
ＣＨ２＝ＣＲ２１−ＣＯＯ−（Ｌ２）ｋ２−Ｅ２１−Ｅ２２−Ｅ２３−Ｅ２４−Ｒ２２・・・（１−２）
（ただし、Ｒ２１：水素原子またはメチル基。Ｒ２２：炭素数１〜８のアルキル基またはフッ素原子。ｋ２：０または１。Ｌ２：−(ＣＨ２)ｐ２Ｏ−または−(ＣＨ２)ｑ２−（ただし、ｐ２およびｑ２は、それぞれ独立に２〜８の整数。）。Ｅ２１：１，４−フェニレン基。Ｅ２２、Ｅ２３およびＥ２４：それぞれ独立に１，４−フェニレン基またはトランス−１，４−シクロヘキシレン基であり、かつＥ２２およびＥ２３の少なくとも一方はトランス−１，４−シクロヘキシレン基である。ただし、前記の１，４−フェニレン基およびトランス−１，４−シクロヘキシレン基は、該基中の炭素原子に結合した水素原子がフッ素原子、塩素原子またはメチル基に置換されていてもよい。）【００１５】
［５］単官能光重合性液晶（Ａ）は下式（１−３）で表される、上記［１］または［２］に記載の光重合性液晶組成物。
ＣＨ２＝ＣＲ３１−ＣＯＯ−（Ｌ３）ｋ３−Ｅ３１−Ｅ３２−Ｅ３３−Ｒ３２・・・（１−３）
（ただし、Ｒ３１：水素原子またはメチル基。Ｒ３２：炭素数１〜８のアルキル基。ｋ３：０または１。Ｌ３：−（ＣＨ２）ｐ３Ｏ−、−Ｃｙ−ＣＯＯ−（Ｃｙはトランス−１，４−シクロヘキシレン基。）、または−Ｃｙ−ＯＣＯ−（ただし、ｐ３は２〜８の整数。）。Ｅ３１、Ｅ３２およびＥ３３：それぞれ独立に１，４−フェニレン基またはトランス−１，４−シクロヘキシレン基（ただし、Ｅ３１、Ｅ３２、およびＥ３３の少なくとも１つはトランス−１，４−シクロヘキシレン基であり、かつ、Ｌ３が−Ｃｙ−ＯＣＯ−である場合のＥ３１はトランス−１，４−シクロヘキシレン基であり、Ｌ３が−（ＣＨ２）ｐ３Ｏ−であるかまたはｋ３が０である場合の、Ｅ３１とＥ３３のそれぞれは１，４−フェニレン基であり、Ｅ３２はトランス−１，４−シクロヘキシレン基である）。ただし、前記の１，４−フェニレン基およびトランス−１，４−シクロヘキシレン基は、該基中の炭素原子に結合した水素原子がフッ素原子、塩素原子またはメチル基で置換されていてもよい。）【００１６】
［６］二官能光重合性液晶（Ｂ）は下式（２）で表される、上記［１］〜［５］のいずれかに記載の光重合性液晶組成物。
Ｑ１−Ｚ１−Ａ１−Ｚ３−Ｍ−Ｚ４−Ａ２−Ｚ２−Ｑ２・・・（２）
（ただし、Ｑ１およびＱ２：それぞれ独立に光重合反応性基。Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３およびＺ４：それぞれ独立に単結合または二価の連結基。Ａ１およびＡ２：それぞれ独立に炭素原子数２〜２０のスペーサ基。Ｍ：メソゲン基。）【００１７】
［７］二官能光重合性液晶（Ｂ）は下式（２−１）で表される、上記［６］に記載の光重合性液晶組成物。
ＣＨ２＝ＣＲ４１−ＣＯＯ−（Ｅ４１）ｍ４−Ｃｙ−Ｙ４−Ｃｙ−（Ｅ４２）ｎ４−ＯＯＣ−ＣＲ４２＝ＣＨ２・・・（２−１）
（ただし、Ｒ４１およびＲ４２：それぞれ独立に水素原子またはメチル基。Ｙ４：−ＯＣＯ−または−ＣＯＯ−。ｍ４およびｎ４：それぞれ独立に０または１。Ｅ４１およびＥ４２：それぞれ独立に１，４−フェニレン基またはトランス−１，４−シクロヘキシレン基。Ｃｙ：トランス−１，４−シクロヘキシレン基。ただし、前記の１，４−フェニレン基およびトランス−１，４−シクロヘキシレン基は、基中の水素原子が、フッ素原子、塩素原子またはメチル基で置換されていてもよい。）【００１８】
［８］二官能光重合性液晶（Ｂ）は下式（２−２）で表される、上記［６］に記載の光重合性液晶組成物。
ＣＨ２＝ＣＲ５１−ＣＯＯ−（Ｌ５）ｋ５−Ｅ５１−Ｅ５２−Ｅ５３−Ｅ５４−（Ｍ５）ｎ５−ＯＯＣ−ＣＲ５２＝ＣＨ２・・・（２−２）
（ただし、Ｒ５１およびＲ５２：それぞれ独立に水素原子またはメチル基。ｋ５およびｎ５：それぞれ独立に０または１。Ｌ５およびＭ５：それぞれ独立に−(ＣＨ２)ｐ５Ｏ−または−(ＣＨ２)ｑ５−（ただし、ｐ５およびｑ５はそれぞれ独立に２〜８の整数。）。Ｅ５１：１，４−フェニレン基。Ｅ５２、Ｅ５３およびＥ５４：それぞれ独立に１，４−フェニレン基またはトランス−１，４−シクロヘキシレン基であり、かつＥ５２よびＥ５３の少なくとも一方はトランス−１，４−シクロヘキシレン基である。ただし、前記の１，４−フェニレン基およびトランス−１，４−シクロヘキシレン基は、該基中の炭素原子に結合した水素原子がフッ素原子、塩素原子またはメチル基に置換されていてもよい。）【００１９】
［９］二官能光重合性液晶（Ｂ）は下式（２−３）で表される、上記［６］に記載の光重合性液晶組成物。
ＣＨ２＝ＣＲ６１−ＣＯＯ−（Ｌ６）ｋ６−Ｅ６１−Ｅ６２−Ｅ６３−（Ｍ６）ｎ６−ＣＯＯ−ＣＲ６２＝ＣＨ２・・・（２−３）
（ただし、Ｒ６１およびＲ６２：それぞれ独立に水素原子またはメチル基。ｋ６およびｎ６：それぞれ独立に０または１。Ｌ６およびＭ６：それぞれ独立に−（ＣＨ２）ｐ６Ｏ−、−Ｃｙ−ＣＯＯ−（Ｃｙはトランス−１，４−シクロヘキシレン基。）、または−Ｃｙ−ＯＣＯ−（ただし、ｐ６は２〜８の整数。）。Ｅ６１、Ｅ６２およびＥ６３：それぞれ独立に１，４−フェニレン基またはトランス−１，４−シクロヘキシレン基（ただし、Ｅ６１、Ｅ６２およびＥ６３の少なくとも１つはトランス−１，４−シクロヘキシレン基であり、かつ、Ｌ６が−Ｃｙ−ＯＣＯ−である場合のＥ６１はトランス−１，４−シクロヘキシレン基であり、Ｌ６が−（ＣＨ２）ｐ６Ｏ−であるか、またはｋ６が０である場合のＥ６１とＥ６３のそれぞれは１，４−フェニレン基であり、Ｅ６２はトランス−１，４−シクロヘキシレン基である）。ただし、前記の１，４−フェニレン基およびトランス−１，４−シクロヘキシレン基は、該基中の炭素原子に結合した水素原子がフッ素原子、塩素原子またはメチル基で置換されていてもよい。）【００２０】
［１０］上記［１］〜［９］のいずれかに記載の光重合性液晶組成物の塗布膜を光硬化してなる、正の一軸異方性を示す光学補償膜。
［１１］負の一軸異方性を示す光学補償膜と、上記［１０］に記載の正の一軸異方性を示す光学補償膜とを含む、光学補償積層膜。
［１２］前記負の一軸異方性を示す光学補償膜は骨格に脂環を有するポリイミドを含む、上記［１１］に記載の光学補償積層膜。【００２１】
［１３］基板上に、上記［１２］に記載の光学補償積層膜と、当該光学補償積層膜上に形成された電極とを有する、電極基板。
［１４］上記［１３］に記載の電極基板と、当該電極基板上に形成された配向膜とを有する、液晶装置用基板。
［１５］上記［１４］に記載の液晶用基板と、対向基板と、当該液晶用基板および対向基板に挟持された液晶層とを有する、液晶装置。
【発明の効果】
【００２２】
本発明の光重合性液晶組成物は、耐スパッタ性、およびネガティブＣプレートとの密着性が良好なポジティブＡプレート、該ポジティブＡプレートからなる光学補償膜の形成が可能である。
また、本発明のポジティブＡプレートとネガティブＣプレートとの積層からなる光学補償積層膜は、耐スパッタ性、およびネガティブＣプレートとポジティブＡプレートとの密着性が良好であり、該光学補償積層膜を備えた電極基板、液晶装置用基板および液晶装置は、光学特性および膜同士の密着性が良好で、液晶セル内に光学補償積層膜を備えているので、薄型化および低コスト化が可能である。
【図面の簡単な説明】
【００２３】
【図１】本発明に係る一実施形態の液晶装置の分解模式断面図である。
【図２】設計変更例を示す分解模式断面図である。
【図３】光学補償積層膜の構造を示す模式断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２４】
本明細書において、式（ｘ）で表される基を、単に基（ｘ）と記載することがある。
本明細書において、式（ｙ）で表される化合物を、単に化合物（ｙ）と記載することがある。
ここで、式（ｘ）、および式（ｙ）は、任意の式を示している。
また、本明細書において、光学補償積層膜の膜面に平行な面をｘ−ｙ平面とし、膜厚方向をｚ方向とし、ｘ方向、ｙ方向、およびｚ方向の屈折率をそれぞれ、ｎｘ、ｎｙ、およびｎｚとする。
ネガティブＣプレートでは、ｎｘ＝ｎｙ＞ｎｚである。
ポジティブＡプレートでは、ｎｘ＞ｎｙ＝ｎｚである。
【００２５】
以下、本発明の実施の形態を説明する。
本明細書において特に説明のない場合、「％」は質量％を表す。
【００２６】
［光重合性液晶組成物］
本発明の光重合性液晶組成物（以下、組成物（Ｙ）ということもある。）は、正の一軸異方性を示す光学補償膜（ポジティブＡプレート）形成用の材料である。
組成物（Ｙ）は、１つの光重合反応性基を含む単官能光重合性液晶（Ａ）と、２つの光重合反応性基を含む二官能光重合性液晶（Ｂ）とを含む。
【００２７】
本発明の組成物（Ｙ）は、配向膜として機能する負の一軸異方性を示す光学補償膜（ネガティブＣプレート）上に、正の一軸異方性を示す光学補償膜（ポジティブＡプレート）が積層された光学補償積層膜の作製に好適に使用できる。
【００２８】
単官能光重合性液晶（Ａ）のみを用いてポジティブＡプレートを形成する場合、直上にスパッタ法によりＩＴＯ等の電極を形成すると、ポジティブＡプレートにクラックが発生し、または光学特性が変化する恐れがある。
二官能光重合性液晶（Ｂ）のみを用いてポジティブＡプレートを形成する場合、配向膜として機能するネガティブＣプレートとポジティブＡプレートとの密着性が悪く、製造工程において、膜が剥離する恐れがある。
これに対し、単官能光重合性液晶（Ａ）と二官能光重合性液晶（Ｂ）とを併用することで、耐スパッタ性、およびネガティブＣプレートとの密着性が良好なポジティブＡプレートが得られる。
【００２９】
単官能光重合性液晶（Ａ）としては、下式（１−１）、（１−２）または（１−３）で表される化合物が好ましい。これら化合物は「背景技術」の項に挙げた特許文献３〜５に記載されており、好ましい態様および具体例等の詳細については、これらの特許文献を参照することができる。
ポジティブＡプレート材料として、これらの単官能光重合性液晶（Ａ）を使用することで、膜形成後の液晶装置製造プロセス温度に対して耐熱性を有する。例えば、ポリイミド配向膜形成時の２３０℃程度の加熱処理に対して、耐熱性を有する。
【００３０】
ＣＨ２＝ＣＲ１１−ＣＯＯ−（Ｅ１１）ｍ１−Ｃｙ−Ｙ１−Ｃｙ−Ｅ１２−Ｒ１２・・・（１−１）
式（１−１）中、Ｒ１１は水素原子またはメチル基であり、水素原子が好ましい。Ｒ１１が水素原子である場合、組成物（Ｙ）の光重合反応が速やかに進行するので好ましい。また、得られる光学補償膜が外部環境（温度等）の影響を受けにくく、レタデーション（ｒｅｔａｒｄａｔｉｏｎ）の面内分布が小さい利点もある。
Ｒ１２は炭素数１〜８のアルキル基である。このことによって組成物（Ｙ）の融点（Ｔｍ）（すなわち、結晶相−ネマチック相の相転移点）を低くできる。Ｒ１２としては、炭素数２〜６のアルキル基が好ましい。化合物（１−１）が液晶性を示す温度範囲を広くできることから、Ｒ１２は直鎖構造が好ましい。
【００３１】
Ｙ１は−ＣＯＯ−または−ＯＣＯ−である。融点（Ｔｍ）を低くできる点では−ＯＣＯ−が好ましく、光学補償膜とした場合に大きなΔｎを発現できる点からは、−ＣＯＯ−が好ましい。ここで、Δｎは異方性屈折率である。
【００３２】
ｍ１は０または１であり、Ｙ１が−ＣＯＯ−のときには０が好ましく、Ｙ１が−ＯＣＯ−のときには１が好ましい。
【００３３】
Ｅ１１およびＥ１２は、それぞれ独立して、１，４−フェニレン基（以下、Ｐｈで表す）またはトランス−１，４−シクロヘキシレン基（以下、Ｃｙで表す）である。Ｅ１１およびＥ１２が１，４−フェニレン基（Ｐｈ）である場合は、化合物（１−１）のΔｎを大きくできる。よって、大きなΔｎを示す組成物（Ｙ）の調製が容易になる。Ｅ１１およびＥ１２がトランス−１，４−シクロヘキシレン基（Ｃｙ）である場合は、他の化合物との相溶性が良好である。
【００３４】
化合物（１−１）は、少なくとも１つの１，４−フェニレン基（Ｐｈ）を有することが好ましい。ｍ＝０である場合、Ｅ１１は１，４−フェニレン基（Ｐｈ）が好ましく、ｍ＝１である場合、Ｅ１１およびＥ１２のうち少なくとも１つは、１，４−フェニレン基（Ｐｈ）が好ましい。
【００３５】
化合物（１−１）における１，４−フェニレン基（Ｐｈ）およびトランス−１，４−シクロヘキシレン基（Ｃｙ）は、非置換の基であってもよく、該基中の炭素原子に結合する水素原子が、フッ素原子、塩素原子、またはメチル基で置換された基であってもよく、非置換の基が好ましい。
【００３６】
化合物（１−１）としては、Ｒ１１が水素原子である下記化合物（１−１Ａ）（ただし、式中の記号は前記と同じ意味を示す。）が好ましい。
ＣＨ２＝ＣＨ−ＣＯＯ−（Ｅ１１）ｍ１−Ｃｙ−Ｙ１−Ｃｙ−Ｅ１２−Ｒ１２・・・（１−１Ａ）
【００３７】
化合物（１−１）の具体例としては、下記化合物が挙げられる。これらのうち、化合物（１−１Ａａ２）〜（１−１Ａａ６）、（１−１Ａｂ２）〜（１−１Ａｂ６）、（１−１Ａｃ２）〜化合物（１−１Ａｃ６）が好ましく、化合物（１−１Ａａ２）〜（１−１Ａａ６）、（１−１Ａｃ２）〜（１−１Ａｃ６）が特に好ましい。
ただし、下式中のアルキル基に構造異性の基が存在する場合は、その全ての基を含み、直鎖アルキル基が好ましい。
ＣＨ２＝ＣＨ−ＣＯＯ−Ｃｙ−ＯＣＯ−Ｃｙ−Ｐｈ−ＣＨ３・・・（１−１Ａａ１）
ＣＨ２＝ＣＨ−ＣＯＯ−Ｃｙ−ＯＣＯ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｃ２Ｈ５・・・（１−１Ａａ２）
ＣＨ２＝ＣＨ−ＣＯＯ−Ｃｙ−ＯＣＯ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｃ３Ｈ７・・・（１−１Ａａ３）
ＣＨ２＝ＣＨ−ＣＯＯ−Ｃｙ−ＯＣＯ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｃ４Ｈ９・・・（１−１Ａａ４）
ＣＨ２＝ＣＨ−ＣＯＯ−Ｃｙ−ＯＣＯ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｃ５Ｈ１１・・・（１−１Ａａ５）
ＣＨ２＝ＣＨ−ＣＯＯ−Ｃｙ−ＯＣＯ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｃ６Ｈ１３・・・（１−１Ａａ６）
ＣＨ２＝ＣＨ−ＣＯＯ−Ｃｙ−ＯＣＯ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｃ７Ｈ１５・・・（１−１Ａａ７）
ＣＨ２＝ＣＨ−ＣＯＯ−Ｃｙ−ＯＣＯ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｃ８Ｈ１７・・・（１−１Ａａ８）
ＣＨ２＝ＣＨ−ＣＯＯ−Ｃｙ−ＣＯＯ−Ｃｙ−Ｐｈ−ＣＨ３・・・（１−１Ａｂ１）
ＣＨ２＝ＣＨ−ＣＯＯ−Ｃｙ−ＣＯＯ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｃ２Ｈ５・・・（１−１Ａｂ２）
ＣＨ２＝ＣＨ−ＣＯＯ−Ｃｙ−ＣＯＯ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｃ３Ｈ７・・・（１−１Ａｂ３）
ＣＨ２＝ＣＨ−ＣＯＯ−Ｃｙ−ＣＯＯ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｃ４Ｈ９・・・（１−１Ａｂ４）
ＣＨ２＝ＣＨ−ＣＯＯ−Ｃｙ−ＣＯＯ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｃ５Ｈ１１・・・（１−１Ａｂ５）
ＣＨ２＝ＣＨ−ＣＯＯ−Ｃｙ−ＣＯＯ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｃ６Ｈ１３・・・（１−１Ａｂ６）
ＣＨ２＝ＣＨ−ＣＯＯ−Ｃｙ−ＣＯＯ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｃ７Ｈ１５・・・（１−１Ａｂ７）
ＣＨ２＝ＣＨ−ＣＯＯ−Ｃｙ−ＣＯＯ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｃ８Ｈ１７・・・（１−１Ａｂ８）
ＣＨ２＝ＣＨ−ＣＯＯ−Ｐｈ−Ｃｙ−ＯＣＯ−Ｃｙ−Ｐｈ−ＣＨ３・・・（１−１Ａｃ１）
ＣＨ２＝ＣＨ−ＣＯＯ−Ｐｈ−Ｃｙ−ＯＣＯ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｃ２Ｈ５・・・（１−１Ａｃ２）
ＣＨ２＝ＣＨ−ＣＯＯ−Ｐｈ−Ｃｙ−ＯＣＯ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｃ３Ｈ７・・・（１−１Ａｃ３）
ＣＨ２＝ＣＨ−ＣＯＯ−Ｐｈ−Ｃｙ−ＯＣＯ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｃ４Ｈ９・・・（１−１Ａｃ４）
ＣＨ２＝ＣＨ−ＣＯＯ−Ｐｈ−Ｃｙ−ＯＣＯ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｃ５Ｈ１１・・・(１−１Ａｃ５)
ＣＨ２＝ＣＨ−ＣＯＯ−Ｐｈ−Ｃｙ−ＯＣＯ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｃ６Ｈ１３・・・(１−１Ａｃ６)
ＣＨ２＝ＣＨ−ＣＯＯ−Ｐｈ−Ｃｙ−ＯＣＯ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｃ７Ｈ１５・・・(１−１Ａｃ７)
ＣＨ２＝ＣＨ−ＣＯＯ−Ｐｈ−Ｃｙ−ＯＣＯ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｃ８Ｈ１７・・・(１−１Ａｃ８）
ＣＨ２＝ＣＨ−ＣＯＯ−Ｐｈ−Ｃｙ−ＣＯＯ−Ｃｙ−Ｐｈ−ＣＨ３・・・（１−１Ａｄ１）
ＣＨ２＝ＣＨ−ＣＯＯ−Ｐｈ−Ｃｙ−ＣＯＯ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｃ２Ｈ５・・・（１−１Ａｄ２）
ＣＨ２＝ＣＨ−ＣＯＯ−Ｐｈ−Ｃｙ−ＣＯＯ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｃ３Ｈ７・・・（１−１Ａｄ３）
ＣＨ２＝ＣＨ−ＣＯＯ−Ｐｈ−Ｃｙ−ＣＯＯ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｃ４Ｈ９・・・（１−１Ａｄ４）
ＣＨ２＝ＣＨ−ＣＯＯ−Ｐｈ−Ｃｙ−ＣＯＯ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｃ５Ｈ１１・・・(１−１Ａｄ５)
ＣＨ２＝ＣＨ−ＣＯＯ−Ｐｈ−Ｃｙ−ＣＯＯ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｃ６Ｈ１３・・・(１−１Ａｄ６)
ＣＨ２＝ＣＨ−ＣＯＯ−Ｐｈ−Ｃｙ−ＣＯＯ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｃ７Ｈ１５・・・(１−１Ａｄ７)
ＣＨ２＝ＣＨ−ＣＯＯ−Ｐｈ−Ｃｙ−ＣＯＯ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｃ８Ｈ１７・・・(１−１Ａｄ８）
ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）−ＣＯＯ−Ｃｙ−ＯＣＯ−Ｃｙ−Ｐｈ−ＣＨ３・・・（１−１Ｂａ１）
ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）−ＣＯＯ−Ｃｙ−ＯＣＯ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｃ２Ｈ５・・・(１−１Ｂａ２)
ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）−ＣＯＯ−Ｃｙ−ＯＣＯ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｃ３Ｈ７・・・(１−１Ｂａ３)
ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）−ＣＯＯ−Ｃｙ−ＯＣＯ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｃ４Ｈ９・・・(１−１Ｂａ４)
ＣＨ２＝Ｃ(ＣＨ３)−ＣＯＯ−Ｃｙ−ＯＣＯ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｃ５Ｈ１１・・・(１−１Ｂａ５)
ＣＨ２＝Ｃ(ＣＨ３)−ＣＯＯ−Ｃｙ−ＯＣＯ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｃ６Ｈ１３・・・(１−１Ｂａ６)
ＣＨ２＝Ｃ(ＣＨ３)−ＣＯＯ−Ｃｙ−ＯＣＯ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｃ７Ｈ１５・・・(１−１Ｂａ７)
ＣＨ２＝Ｃ(ＣＨ３)−ＣＯＯ−Ｃｙ−ＯＣＯ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｃ８Ｈ１７・・・(１−１Ｂａ８）
【００３８】
ＣＨ２＝ＣＲ２１−ＣＯＯ−（Ｌ２）ｋ２−Ｅ２１−Ｅ２２−Ｅ２３−Ｅ２４−Ｒ２２・・・（１−２）
式（１−２）中、Ｒ２１は水素原子またはメチル基であり、水素原子が好ましい。これは、化合物（１−１）のＲ１１の場合と同様である。
Ｒ２２は炭素数１〜８のアルキル基またはフッ素原子である。このことによって組成物（Ｙ）の融点（Ｔｍ）（すなわち、結晶相−ネマチック相の相転移点）を低くできる。Ｒ２２としては、炭素数２〜６のアルキル基またはフッ素原子が好ましい。化合物（１−２）が液晶性を示す温度範囲を広くできることから、Ｒ２２は直鎖構造であることが好ましい。
【００３９】
ｋ２は０または１であり、１が好ましい。
Ｌ２は、−(ＣＨ２)ｐ２Ｏ−または−(ＣＨ２)ｑ２−（ただし、ｐ２およびｑ２はそれぞれ独立に２〜８の整数）であり、−(ＣＨ２)ｐ２Ｏ−が好ましい。
一般に、重合性液晶を重合させると、重合の前後でΔｎの値が低下する傾向があるが、Ｌ２が−(ＣＨ２)ｐ２Ｏ−および−(ＣＨ２)ｑ２−等のポリメチレン基を有する基である場合は、重合の前後におけるΔｎ値の低下を抑えることができる。
【００４０】
Ｅ２１は１，４−フェニレン基（Ｐｈ）であり、Ｅ２２、Ｅ２３およびＥ２４はそれぞれ独立して、１，４−フェニレン基（Ｐｈ）またはトランス−１，４−シクロヘキシレン基（Ｃｙ）である。
化合物（１−２）が有する環基の数は４個であり、Ｅ２２およびＥ２３のうち少なくとも一方はＣｙである。Ｅ２２、Ｅ２３およびＥ２４の少なくとも１つはＰｈが好ましい。Ｐｈを複数個含む場合は、Δｎの値を大きくできるので２つのＰｈが隣接していることが好ましい。
【００４１】
「Ｅ２１−Ｅ２２−Ｅ２３−Ｅ２４」の構造としては、「Ｐｈ−Ｐｈ−Ｃｙ−Ｐｈ」、「Ｐｈ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｐｈ」、「Ｐｈ−Ｐｈ−Ｃｙ−Ｃｙ」、「Ｐｈ−Ｃｙ−Ｃｙ−Ｐｈ」、「Ｐｈ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｃｙ」および「Ｐｈ−Ｃｙ−Ｃｙ−Ｃｙ」がある。これらのうちで化合物（１−２）のΔｎを大きくできる点からは、「Ｐｈ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｐｈ」、「Ｐｈ−Ｐｈ−Ｃｙ−Ｃｙ」、「Ｐｈ−Ｐｈ−Ｃｙ−Ｐｈ」が好ましい。このことにより大きなΔｎを示す組成物（Ｙ）の調製が容易になる。
【００４２】
化合物（１−２）としては、下記化合物（１−２Ａ）〜（１−２Ｃ）が好ましい。
ＣＨ２＝ＣＲ２１−ＣＯＯ−Ｌ２−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｃｙ−Ｃｙ−Ｒ２２ ；（１−２Ａ）
ＣＨ２＝ＣＲ２１−ＣＯＯ−Ｌ２−Ｐｈ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｒ２２ ；（１−２Ｂ）
ＣＨ２＝ＣＲ２１−ＣＯＯ−Ｌ２−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｒ２２ ；（１−２Ｃ）
上記化合物のうち、Ｒ２１が水素原子であり、Ｒ２２が炭素数２〜６の直鎖アルキル基またはフッ素原子である化合物が好ましく、更に−Ｌ２−が−(ＣＨ２)ｐ２Ｏ−（ｐ２は４〜６の整数が好ましい。）である化合物が特に好ましい。
Ｅ２１〜Ｅ２４における１，４−フェニレン基（Ｐｈ）およびトランス−１，４−シクロヘキシレン基（Ｃｙ）は、該基中の炭素原子に結合した水素原子が、フッ素原子、塩素原子またはメチル基に置換されていてもよい。
【００４３】
１，４−フェニレン基（Ｐｈ）は、非置換の基、１個のフッ素原子で置換された基、または１個のメチル基で置換された基が好ましい。１，４−フェニレン基（Ｐｈ）がこれらの置換基を有する場合、化合物（１−２）の融点を低くする効果、および粘度を低くする効果がある。置換基の位置は、２位または３位が好ましい。また、トランス−１，４−シクロへキシレン基（Ｃｙ）は非置換の基が好ましい。
【００４４】
化合物（１−２）としては以下に示す化合物が好ましく、化合物（１−２Ａ−１）、（１−２Ａ−３）、（１−２Ａ−５）、（１−２Ｂ−１）、（１−２Ｂ−３）〜（１−２Ｂ−５）、（１−２Ｃ−１）、（１−２Ｃ−２）が特に好ましい。
【００４５】
【化１】
2014073578.tif 000003
【００４６】
ＣＨ２＝ＣＲ３１−ＣＯＯ−（Ｌ３）ｋ３−Ｅ３１−Ｅ３２−Ｅ３３−Ｒ３２・・・（１−３）
式（１−３）中、Ｒ３１は水素原子またはメチル基であり、水素原子が好ましい。これは、化合物（１−１）のＲ１１の場合と同様である。
Ｒ３２は炭素数１〜８のアルキル基である。これは、化合物（１−１）のＲ１２の場合と同様である。
【００４７】
Ｌ３は、−（ＣＨ２）ｐ３Ｏ−、−Ｃｙ−ＣＯＯ−、または−Ｃｙ−ＯＣＯ−（ただし、ｐ３は２〜８の整数。）である。
ｋ３は０または１であり、１が好ましい。
Ｅ３１、Ｅ３２およびＥ３３は、それぞれ独立に１，４−フェニレン基（Ｐｈ）またはトランス−１，４−シクロヘキシレン基（Ｃｙ）である。ただし、Ｅ３１、Ｅ３２およびＥ３３の少なくとも１つはトランス−１，４−シクロヘキシレン基（Ｃｙ）である。Ｌ３が−Ｃｙ−ＯＣＯ−である場合のＥ３１はトランス−１，４−シクロヘキシレン基（Ｃｙ）であり、Ｌ３が−（ＣＨ２）ｐ３Ｏ−であるか、またはｋが０である場合のＥ３１とＥ３３のそれぞれは、１，４−フェニレン基（Ｐｈ）であり、Ｅ３２はトランス−１，４−シクロヘキシレン基（Ｃｙ）である。
【００４８】
二官能光重合性液晶（Ｂ）は、下式（２−１）、（２−２）または（２−３）で表される化合物が好ましい。
これら化合物は、単官能光重合性液晶（Ａ）の例である化合物（１−１）、（１−２）および（１−３）にそれぞれ対応している。
【００４９】
ＣＨ２＝ＣＲ４１−ＣＯＯ−（Ｅ４１）ｍ４−Ｃｙ−Ｙ４−Ｃｙ−（Ｅ４２）ｎ４−ＯＯＣ−ＣＲ４２＝ＣＨ２・・・（２−１）
式（２−１）中、Ｒ４１およびＲ４２は、それぞれ独立に水素原子またはメチル基であり、化合物（１−１）中のＲ１１と同様である。
Ｙ４は−ＯＣＯ−または−ＣＯＯ−であり、化合物（１−１）中のＹ１と同様である。ｍ４およびｎ４はそれぞれ独立に０または１であり、化合物（１−１）中のｍ１と同様である。
Ｅ４１およびＥ４２は、それぞれ独立に１，４−フェニレン基（Ｐｈ）またはトランス−１，４−シクロヘキシレン基（Ｃｙ）であり、化合物（１−１）中のＥ１１およびＥ１２と同様である。
前記の１，４−フェニレン基（Ｐｈ）およびトランス−１，４−シクロヘキシレン基（Ｃｙ）は、基中の水素原子が、フッ素原子、塩素原子またはメチル基で置換されていてもよい。
【００５０】
ＣＨ２＝ＣＲ５１−ＣＯＯ−（Ｌ５）ｋ５−Ｅ５１−Ｅ５２−Ｅ５３−Ｅ５４−（Ｍ５）ｎ５−ＯＯＣ−ＣＲ５２＝ＣＨ２・・・（２−２）
式（２−２）中、Ｒ５１およびＲ５２は、それぞれ独立に水素原子またはメチル基であり、化合物（１−２）中のＲ２１と同様である。
ｋ５およびｎ５は、それぞれ独立に０または１であり、化合物（１−２）中のｋ２と同様である。
Ｌ５およびＭ５は、それぞれ独立に−(ＣＨ２)ｐ５Ｏ−または−(ＣＨ２)ｑ５−（ただし、ｐ５およびｑ５はそれぞれ独立に２〜８の整数。）であり、化合物（１−２）中のＬ２と同様である。
Ｅ５１は１，４−フェニレン基（Ｐｈ）であり、化合物（１−２）中のＥ２１と同様である。
Ｅ５２、Ｅ５３およびＥ５４は、それぞれ独立に１，４−フェニレン基（Ｐｈ）またはトランス−１，４−シクロヘキシレン基（Ｃｙ）であり、かつＥ５２よびＥ５３の少なくとも一方はトランス−１，４−シクロヘキシレン基（Ｃｙ）である。これらは、化合物（１−２）中のＥ２２、Ｅ２３およびＥ２４と同様である。
前記の１，４−フェニレン基（Ｐｈ）およびトランス−１，４−シクロヘキシレン基（Ｃｙ）は、該基中の炭素原子に結合した水素原子が、フッ素原子、塩素原子またはメチル基に置換されていてもよい。
【００５１】
ＣＨ２＝ＣＲ６１−ＣＯＯ−（Ｌ６）ｋ６−Ｅ６１−Ｅ６２−Ｅ６３−（Ｍ６）ｎ６−ＣＯＯ−ＣＲ６２＝ＣＨ２・・・（２−３）
式（２−３）中、Ｒ６１およびＲ６２は、それぞれ独立に水素原子またはメチル基であり、化合物（１−３）中のＲ３１と同様である。
ｋ６およびｎ６はそれぞれ独立に０または１であり、化合物（１−３）中のｋ３と同様である。
Ｌ６およびＭ６は、それぞれ独立に−（ＣＨ２）ｐ６Ｏ−、−Ｃｙ−ＣＯＯ−または−Ｃｙ−ＯＣＯ−（ただし、ｐ６は２〜８の整数。）であり、化合物（１−３）中のＬ３と同様である。
Ｅ６１、Ｅ６２およびＥ６３は、それぞれ独立に１，４−フェニレン基（Ｐｈ）またはトランス−１，４−シクロヘキシレン基（Ｃｙ）（ただし、Ｅ６１、Ｅ６２およびＥ６３の少なくとも１つはトランス−１，４−シクロヘキシレン基（Ｃｙ）であり、かつ、Ｌ６が−Ｃｙ−ＯＣＯ−である場合のＥ６１はトランス−１，４−シクロヘキシレン基（Ｃｙ）であり、Ｌ６が−（ＣＨ２）ｐ６Ｏ−であるかまたはｋ６が０である場合の、Ｅ６１とＥ６３のそれぞれは１，４−フェニレン基（Ｐｈ）であり、Ｅ６２はトランス−１，４−シクロヘキシレン基（Ｃｙ）である）。これらは、化合物（１−３）中のＥ３１、Ｅ３２およびＥ３３と同様である。
前記の１，４−フェニレン基（Ｐｈ）およびトランス−１，４−シクロヘキシレン基（Ｃｙ）は、該基中の炭素原子に結合した水素原子が、フッ素原子、塩素原子またはメチル基で置換されていてもよい。
【００５２】
組成物（Ｙ）における単官能光重合性液晶（Ａ）と二官能光重合性液晶（Ｂ）の質量比は、９５／５〜３０／７０が好ましく、７０／３０〜３０／７０が特に好ましい。
【００５３】
組成物（Ｙ）は、単官能光重合性液晶（Ａ）と二官能光重合性液晶（Ｂ）以外に、公知の光重合開始剤（Ｃ）、公知の界面活性剤（Ｄ）、公知の溶媒（Ｅ）または他の任意成分を含有できる。
【００５４】
光重合開始剤（Ｃ）としては、オキシムエステル類、アセトフェノン類ベンゾフェノン類、アシルホスフィンオキサイド類、ベンゾイン類、ベンジル類、ミヒラーケトン類、ベンゾインアルキルエーテル類、ベンジルジメチルケタール類等を挙げることができ、上記から１種または２種以上を適宜選択して使用できる。
【００５５】
オキシムエステル類としては、１，２−オクタンジオン，１−［４−（フェニルチオ）−，２−（オルト−ベンゾイルオキシム）］、エタノン，１−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール-３-イル］−，１−（オルト−アセチルオキシム）が挙げられる。
【００５６】
アセトフェノン類としては、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オン、１−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−フェニル］−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン−１２−（ジメチルアミノ）−２−［（４−メチルフェニル)メチル］−１−［４−（４−モルホリニル）フェニル］−１−ブタノン、２−ヒロドキシ−１−｛４−［４−(２−ヒドロキシ−２−メチル−プロピオニル)−ベンジル］フェニル｝−２−メチル−プロパン−１−オン、２−メチル−１−(４−メチルチオフェニル)−２−モルフォリノプロパン−１−オン、２−ヒドロキシ−１−｛４−［４−（２−ヒドロキシ−２−メチル−プロピオニル）−ベンジル］−フェニル｝−２−メチル−プロパン−１−オン等が挙げられる。
【００５７】
アシルホスフィンオキサイド類としては、２，４，６−トリメチルベンゾイル-ジフェニル-ホスフィンオキサイド、ビス（２，４，６-トリメチルベンゾイル）−ジフェニル−ホスフィンオキサイド等が挙げられる。
【００５８】
界面活性剤（Ｄ）としては、ラウリル硫酸ソーダ、ラウリル硫酸アンモニウム、ラウリル硫酸トリエタノールアミン、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸塩、アルキルエーテルホスフェート、ナトリウムオレイルスクシネート、ミリスチン酸カリウム、ヤシ油脂肪酸カリウム、ナトリウムラウロイルサルコシネート等のアニオン性界面活性剤；
ポリエチレングリコールモノラウレート、ステアリン酸ソルビタン、ミリスチン酸グリセリル、ジオレイン酸グリセリル、ソルビタンステアレート、ソルビタンオレエート等のノニオン性界面活性剤；
ステアリルトリメチルアンモニウムクロリド、塩化ベヘニルトリメチルアンモニウム、塩化ステアリルジメチルベンジルアンモニウム、セチルトリメチルアンモニウムクロリド等のカオチン性界面活性剤；
ラウリルベタイン、アルキルスルホベタイン、コカミドプロピルベタイン、アルキルジメチルアミノ酢酸ベタイン等のアルキルベタイン、アルキルイミダゾリン、ラウロイルサルコシンナトリウム、ココアンホ酢酸ナトリウム等の両性界面活性剤；
ＢＹＫ−３６１、ＢＹＫ−３０６、ＢＹＫ−３０７（ビックケミージャパン社製）、フロラードＦＣ４３０（住友スリーエム社製）、メガファックＦ１７１，Ｒ０８（大日本インキ化学工業社製）等の界面活性剤；が挙げられる。
これらの界面活性剤は、何れかを単独で用いてもよいし、２種以上を併用することもできる。
【００５９】
溶媒（Ｅ）としては、シクロヘキサノン、エチルセロソルブアセテート、ブチルセロソルブアセテート、１−メトキシ−２−プロピルアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、エチルベンゼン、エチレングリコールジエチルエーテル、キシレン、エチルセロソルブ、メチル−ｎアミルケトン、プロピレングリコールモノメチルエーテル、トルエン、メチルエチルケトン、酢酸エチル、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ブタノール、イソブチルケトン等が挙げられる。これらの溶媒は、何れかを単独で用いてもよいし、２種以上を併用することもできる。
【００６０】
他の任意成分としては、酸化防止剤、紫外線吸収剤、シランカップリング剤、光安定剤等が挙げられる。
【００６１】
組成物（Ｙ）において溶媒（Ｅ）以外の合計を１００質量％とした場合、組成物（Ｙ）中の単官能光重合性液晶（Ａ）と二官能光重合性液晶（Ｂ）との合計量は８０質量％以上１００質量％未満が好ましく、９０質量％以上１００質量％未満が特に好ましい。
【００６２】
［光学補償膜］
本発明の光学補償膜は、上記の本発明の光重合性液晶組成物の塗布膜を光硬化してなる、正の一軸異方性を示す光学補償膜（ポジティブＡプレート）である。
光学補償膜の作製の工程は、以下の光学補償積層膜の形成の中で記載する。
【００６３】
［光学補償積層膜］
本発明の光学補償積層膜は、負の一軸異方性を示す光学補償膜（ネガティブＣプレート）と、上記の本発明の正の一軸異方性を示す光学補償膜（ポジティブＡプレート）との積層により得られる。
【００６４】
本発明の光学補償積層膜において、光学補償膜の積層順は限定されない。また、ネガティブＣプレートとポジティブＡプレートとの間に配向膜を設けてもよい。すなわち、本発明の光学補償膜は、上記した（ii）〜（iv）のいずれかの形態で光学補償積層膜を形成できる。なかでも、光学補償積層膜の薄膜化の観点から（iv）の形態、すなわち配向性を有するネガティブＣプレート上に直接ポジティブＡプレートを積層する形態が好ましい。
【００６５】
配向性を有するネガティブＣプレート形成用材料の組成物（以下、組成物（Ｘ）ということもある。）としては、ポリイミド（ＰＩ）またはその前駆体であるポリアミック酸（ＰＡＡ）を含むことが好ましい。熱イミド化の際に厚み方向の複屈折性が発現することから、組成物（Ｘ）はポリアミック酸（ＰＡＡ）を含むことが好ましい。
ここで、ポリイミド膜は基本的にはすべて、配向性を有する。そのため、好ましくは、液晶装置の配向膜形成用のポリイミド（ＰＩ）またはポリアミック酸（ＰＡＡ）の中で、ネガティブＣプレートとなる、すなわち厚み方向の複屈折性が発現する材料を選定する。
【００６６】
ポリイミドは、酸無水物とジアミンとの重合反応により得られる。ポリイミドの透光性を向上させる観点から、骨格中に脂環を有することが好ましい。この場合、酸無水物またはジアミンとして、骨格に脂環を有するものを選定すればよい。
酸無水物が脂環を有する場合、酸無水物としては、１，２，３，４−ブタンテトラカルボン酸二無水物、１，３−ジメチル−１，２，３，４−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、１，２，３，４−シクロペンタンテトラカルボン酸二無水物、２，３，５−トリカルボキシシクロペンチル酢酸二無水物、１，２，４，５−シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物、３，３'，４，４'−ジシクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物等が挙げられる。
ジアミンとしては２，２'−ビス(トリフルオロメチル)ベンジジン、ｐ−フェニレンジアミン等が挙げられる。
ジアミンが脂環を有する場合、酸無水物としては、３，３'，４，４'−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、２，３，３'，４'−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、１，２，５，６−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物等が挙げられる。
ジアミンとしてはトランス−１，４−ジアミノシクロヘキサン、シス−１，４−ジアミノシクロヘキサン、４，４'−ジアミノ−１、１'−ビシクロヘサキサン等が挙げられる。
【００６７】
組成物（Ｘ）は、１種若しくは２種以上の公知の溶媒、または１種若しくは２種以上の他の任意成分を含むことができる。
組成物（Ｘ）全体に対して、ポリイミド（ＰＩ）またはポリアミック酸（ＰＡＡ）の含有量は、１０〜３０質量％が好ましく、１０〜１５質量％がより好ましい。
【００６８】
配向性を有するネガティブＣプレートの形成工程は、例えば、以下のとおりである。
基板上に、好ましくはポリアミック酸（ＰＡＡ）と溶媒とを含む組成物（Ｘ）をスピンコート法等により塗布して、第１の塗布膜を形成する工程（Ｓ１）と、
１５０℃程度の加熱乾燥（プリベーク）、減圧乾燥、あるいは減圧加熱乾燥等により、第１の塗布膜中の溶媒を除去する工程（Ｓ２）と、
塗布膜中のポリアミック酸を２３０℃程度で焼成（ポストベーク）して、ポリイミド膜を生成する工程（Ｓ３）と、
ポリイミド膜に対してラビング処理を施す工程（Ｓ４）とを含む。
【００６９】
ポジティブＡプレートの形成工程は、例えば、以下のとおりである。
上記ネガティブＣプレート上に、単官能光重合性液晶（Ａ）と二官能光重合性液晶（Ｂ）とを含む、上記の本発明の光重合性液晶組成物（Ｙ）を塗布して、第２の塗布膜を形成する工程（Ｓ５）と、
８０℃程度の加熱乾燥（プリベーク）、減圧乾燥、あるいは減圧加熱乾燥等により、第２の塗布膜中の溶媒を除去する工程（Ｓ６）と、
第２の塗布膜に対して紫外光（ＵＶ）等の光を照射して、光重合性液晶（Ａ）、および（Ｂ）を光重合する工程（Ｓ７）とを含む。
光照射だけでは、未反応の光重合性液晶（Ａ）および（Ｂ）が残る場合がある。この場合、工程（Ｓ７）後に、２３０℃程度で焼成する工程（Ｓ８）を実施してもよい。
工程（Ｓ５）における塗布方法としては、スピンコート、マイクログラビアコート、ダイコート等が挙げられる。
また、溶媒を除去する工程（Ｓ６）としては、加熱乾燥、減圧乾燥、減圧下での加熱乾燥が好ましい。
更に、工程（Ｓ７）における光源は、低圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、ＵＶ−ＬＥＤ等が挙げられ、照射光の波長は１８０〜４５０ｎｍ、好ましくは２５０〜４００ｎｍであり、照射量は５００〜３００００ｍＪ/ｃｍ２、好ましくは１０００〜１００００ｍＪ/ｃｍ２である。
【００７０】
本発明の光学補償積層膜は、ＶＡ（Vertical Alignment）モードの液晶装置用として好適である。
光学補償積層膜において、ｚ方向の位相差の指標であるレタデーション（Ｒｔｈ）は１００〜５００ｎｍが好ましく、２００〜３００ｎｍが特に好ましい。
光学補償積層膜において、ｘ−ｙ平面の位相差の指標であるレタデーションＲｄは０ｎｍ超１００ｎｍ以下が好ましく、４０〜６０ｎｍが特に好ましい。
Ｒｔｈ＝Ｐ×ｄａである。
ここで、ｄａはネガティブＣプレートの厚みであり、Ｐ＝（（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ）である。
Ｒｄ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄｂである。
ここで、ｄｂはポジティブＡプレートの厚みである。
【００７１】
本発明における光学補償積層膜は、基材フィルムを不要とするため、液晶装置の薄型化が可能である。
特に、配向性を有するネガティブＣプレートと、この上に直接積層されたポジティブＡプレートとからなる光学補償積層膜では、光学補償積層膜中に配向膜が不要であるので、より一層の薄型化が図られる。また、膜数が少なければ、工程数が少なくなり、製造コストの低減が図られる。
【００７２】
本発明においては、ネガティブＣプレートおよびポジティブＡプレートの厚み、ｄａ、およびｄｂをいずれも１０μｍ未満とでき、さらに５μｍ以下とできる。特に、０．１〜４．５μｍが好ましい。そのため、光学補償積層膜の厚みｄを２０μｍ未満とでき、さらに１０μｍ以下とできる。
【００７３】
本発明の光学補償積層膜において、波長４００〜８００ｎｍの平均透過率は８０％以上が好ましく、８５％以上がより好ましく、８６〜９２％がさらに好ましい。本明細書において、「平均透過率」は、ＪＩＳＫ ７３６１−１に準じて測定した値である。
【００７４】
［液晶装置］
本発明に係る一実施形態の液晶装置は、ＶＡモードのカラー透過型ＴＦＴ液晶装置である。
本実施形態は、モノクロ液晶装置にも適用可能である。
本実施形態は、反射型あるいは半透過反射型の液晶装置にも適用可能である。
本実施形態は、ＴＦＤ液晶装置等の他のアクティブマトリクス型、あるいはパッシブマトリクス型にも適用可能である。
【００７５】
図１に示すように、本実施形態の液晶装置１は、液晶セル１Ａとその外側に取り付けられた偏光子５１、５２と、バックライトＢＬとを備える。
液晶セル１は、カラーフィルタ基板１０、対向基板であるＴＦＴ基板２０、およびこれら一対の基板に挟持された液晶層３０とを備える。
【００７６】
カラーフィルタ基板（電極基板、および液晶装置用基板）１０は、透光性基板１１と、その液晶層３０側に順次積層されたブラックマトリクス層ＢＭ、カラーフィルタ層ＣＦ、光学補償積層膜１２、共通電極１３および配向膜１４とを備える。
ＴＦＴ基板２０は、透光性基板の液晶層３０側に、複数の画素電極と、画素電極のスイッチング素子である複数のＴＦＴ（薄膜トランジスタ）とがマトリクス状に形成された画素電極基板２１と、その液晶層３０側に形成された配向膜２２とを備える。
【００７７】
カラーフィルタ基板１０およびＴＦＴ基板２０に用いられる透光性基板としては、ガラス基板が好ましい。
透過型液晶装置１において、共通電極１３および画素電極の材料としては、ＩＴＯ（インジウム錫酸化物）等の透光性導電材料が用いられる。
ブラックマトリクス層ＢＭは、互いに隣接するドット間を遮光する遮光層である。
カラーフィルタ層ＣＦは、例えば、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）および青（Ｂ）の着色層を含む。この場合、１画素に３個の画素電極と３色の着色層が形成される（１画素＝３ドット）。
光学補償積層膜１２は上記の本発明の光学補償積層膜であり、図３に示すように、ネガティブＣプレート１２ＡとポジティブＡプレート１２Ｂとの積層膜である。
本実施形態では、光学補償積層膜１２の直上に共通電極１３が形成され、その上に配向膜１４が形成されている。
【００７８】
カラーフィルタ基板１０の積層構成は適宜設計変更可能である。
例えば、図２に示す設計変更のカラーフィルタ基板４０、液晶セル２Ａおよび液晶装置２に示すように、透光性基板１１上に、光学補償積層膜１２、ブラックマトリクス層ＢＭ、カラーフィルタ層ＣＦ、共通電極１３および配向膜１４を順次設ける構成としてもよい。
【００７９】
本実施形態のカラーフィルタ基板（電極基板、液晶装置用基板）１０および液晶装置１は、光学特性および膜同士の密着性が良好である。本実施形態のカラーフィルタ基板１０および液晶装置１は、液晶セル１Ａ内に光学補償積層膜１２を備えているので、薄型化および低コスト化が可能である。
【実施例】
【００８０】
以下に、実施例に基づいて、本発明について説明するが、本発明は、これらに限定されるものではない。例１１が実施例であり、例２１が比較例である。【００８１】
（ポジティブＡプレート用塗布液（Ｙ１）の調製）
単官能光重合性液晶として、下記化合物（Ａ１）を２０．９質量％、下記化合物（Ａ２）を４７．７質量％、二官能光重合性液晶として下記化合物（Ｂ１）を２９．４質量％、光重合開始剤（Ｃ１）（Ｉｒｇａｃｕｒｅ９０７、ＢＡＳＦ社製）を１．３質量％および界面活性剤（Ｄ１）（サーフロンＳ３８２、ＡＧＣセイミケミカル社製）を０．７質量％、それぞれ秤量し混合した。その後、溶媒（Ｅ１）（シクロペンタノン）を添加混合して、塗布液全体（１００質量％）に対する成分（Ａ１）、（Ａ２）、（Ｂ１）、（Ｃ1）、および（Ｄ１）の合計の濃度が１５質量％の溶液とした。これを開口径０．５μｍのフィルタで濾過して塗布液（Ｙ１）を得た。
【化２】
2014073578.tif 000004
【００８２】
（ポジティブＡプレート用塗布液（Ｚ１）の調製）
二官能光重合性液晶として下記化合物（Ｂ２）を９７．１質量％、上記光重合開始剤（Ｃ１）を１．９質量％および上記界面活性剤（Ｄ１）を１．０質量％、それぞれ秤量し混合した。その後、溶媒（Ｅ１）を添加混合して、塗布液全体（１００質量％）に対する成分（Ｂ２）、（Ｃ１）、および（Ｄ１）の濃度が１５質量％の溶液とした。これを開口径０．５μｍのフィルタで濾過して塗布液（Ｚ１）を得た。
【化３】
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【００８３】
（ネガティブＣプレート（ＮＣＰ１）の作製）
トランス−１，４−ジアミノシクロヘキサン１．１４ｇをＮ−メチル−２−ピロリドン１７．４４ｇに溶解し、３，３'，４，４'−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物２．８３ｇとＮ−メチル−２−ピロリドン４．００ｇを加えて、６０℃で３時間撹拌した。さらに、無水フタル酸０．１２ｇを加えた後に６０℃で３時間撹拌して、ポリアミック酸（ＰＡＡ１）の溶液を得た。これを開口径０．５μｍのフィルタで濾過して、塗布液（Ｘ１）を得た。この塗布液をガラス基板上にスピンコーターで塗布し（３０００ｒｐｍ、３０ｓｅｃ）、ホットプレートにて９０℃で２分間乾燥した。さらに２３０℃で３０分間の加熱を行った後にラビング処理を行い、配向膜の機能を備えたネガティブＣプレート（ＮＣＰ１）を作製した。膜厚は３．１μｍ、厚み方向の５８９ｎｍでの複屈折率Ｐは０．０９０であり、Ｒｔｈ＝２７９ｎｍであった。【００８４】
（光学補償積層膜の作製）
＜例１１＞
上記ネガティブＣプレート（ＮＣＰ１）の上に、上記塗布液（Ｙ１）をスピンコーターで塗布し、８０℃２分間乾燥して配向を整えた。その後、基板面に対して垂直方向から紫外線を３０秒照射し、塗布膜を硬化させた。光硬化に用いた高圧水銀灯の照度は、波長３６５ｎｍで４０ｍＷ／ｃｍ２であった。さらに温度２３０℃で３０分の条件でベークすることにより、光学補償積層膜を得た。【００８５】
＜例２１＞
塗布液（Ｙ１）の代わりに上記塗布液（Ｚ１）を使用した以外は例１と同様にして、光学補償積層膜を得た。【００８６】
（光学補償積層膜の評価）
＜テープ剥離試験＞
上記各例において、得られた光学補償積層膜の表面に接着強度０．２５Ｎ／ｍｍの接着テープを貼り付けた後、ゆっくりと引き剥がすテープ剥離試験を実施した。下記基準に基づいて評価を実施した。○：接着テープに付着物がない、×：接着テープにＡプレート成分の付着がある。【００８７】
（光学補償積層膜の評価結果）
上記各例における主な製造条件と評価結果を表１に示す。表１中、％は質量％である。
ポジティブＡプレートの光重合性液晶として単官能光重合性液晶（Ａ）と二官能光重合性液晶（Ｂ）とを併用した例１１では、テープ剥離試験において接着テープに付着物がなく、ネガティブＣプレートとポジティブＡプレートとの密着性が良好であった。
ポジティブＡプレートの光重合性液晶として二官能光重合性液晶（Ｂ）のみを用いた例２１では、テープ剥離試験において接着テープに付着物が見られ、ネガティブＣプレートとポジティブＡプレートとの密着性が不良であった。【００８８】
【表１】
2014073578.tif 000006
【産業上の利用可能性】
【００８９】
本発明の光重合性液晶組成物から得られる光学補償膜、光学補償積層膜は、耐スパッタ性、耐熱性および密着性が良好であり、低コストで、光学特性に優れた、薄型の電極基板、液晶装置用基板および液晶装置としての利用が可能である。
なお、２０１２年１１月７日に出願された日本特許出願２０１２−２４５０７３号の明細書、特許請求の範囲、図面および要約書の全内容をここに引用し、本発明の明細書の開示として、取り入れるものである。
【符号の説明】
【００９０】
１、２：液晶装置、１Ａ、２Ａ：液晶セル、１０、４０：カラーフィルタ基板（電極基板、液晶装置用基板）、１１：透光性基板、１２：光学補償積層膜、１２Ａ：ネガティブＣプレート（負の一軸異方性を示す光学補償膜）、１２Ｂ：ポジティブＡプレート（正の一軸異方性を示す光学補償膜）、１３：共通電極、１４：配向膜、２０：ＴＦＴ基板、２１：画素電極基板、２２：配向膜、３０：液晶層、５１、５２：偏光子、ＢＭ：ブラックマトリクス、ＣＦ：カラーフィルタ、ＢＬ：バックライト。
【図１】
2014073578.tif 000007
【図２】
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【図３】
2014073578.tif 000009
【国際調査報告】
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2014073578.tif 000011
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