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【手続補正書】
【提出日】平成27年6月23日(2015.6.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電子信号を整流する方法であって、
（ａ）可変振幅入力信号（１２）を生成するステップと、
（ｂ）上側閾値レベルを決定するステップと、
（ｃ）下側閾値レベルを決定するステップと、
（ｄ）前記可変振幅入力信号（１２）および前記上側閾値レベルを第１の比較器（２２）に入力するステップと、
（ｅ）前記可変振幅入力信号（１２）および前記下側閾値レベルを第２の比較器（４２）に入力するステップと、
（ｆ）第１の外部ヒステリシス回路を使用して前記第１の比較器（２２）において、前記第１のヒステリシス回路で使用される第１のデジタル出力信号（２３）を生成するステップと、
（ｇ）第２の外部ヒステリシス回路を使用して前記第２の比較器（４２）において、前記第２のヒステリシス回路で使用される第２のデジタル出力信号（４３）を生成するステップと、
（ｆ）前記第１のデジタル出力信号（２３）および前記第２のデジタル出力信号（４３）を論理アレイ（６４）に入力するステップと、
（ｇ）前記可変振幅入力信号（１２）が、前記上側閾値レベルおよび前記下側閾値レベルの一方を通過したところでデジタル遷移を有するデジタルレベルパルス出力信号（７０）を、前記論理アレイ（６４）において生成するステップと、
を含み、
前記第１のデジタル出力信号（２３）を生成するステップが、
前記第１のデジタル出力信号（２３）を、第１のキャパシタを含む回路を介して、前記第１の比較器（２２）に提供するステップと、
前記第１のデジタル出力信号（２３）を、第１の抵抗と第２のキャパシタを含む回路を介して、前記第１の比較器（２２）の前記上側閾値レベル入力に提供するステップと、
を含む、
方法。
【請求項２】
前記第２のデジタル出力信号（４３）を生成するステップが、
前記第２のデジタル出力信号（４３）を、第３のキャパシタを含む回路を介して、前記第２の比較器（４２）に提供するステップと、
前記第２のデジタル出力信号（４３）を、第２の抵抗と第４のキャパシタを含む回路を介して、前記第２の比較器（４２）の前記下側閾値レベル入力に提供するステップと、
を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
可変振幅入力信号（１２）を受信し、前記可変振幅入力信号（１２）が、閾値レベルを通過するときに遷移するデジタルレベルパルス出力信号（７０）を生成するための信号整流／タイミング回路（１０）であって、
（ａ）前記可変振幅入力信号（１２）および決定された上側閾値信号（１４）を比較し、前記比較を示す第１のデジタル出力信号（２３）を生成するための第１の比較器（２２）と、
（ｂ）前記第１の比較器（２２）に結合し、前記第１のデジタル出力信号（２３）を使用する第１の外部ヒステリシス回路と、
（ｃ）前記可変振幅入力信号（１２）および決定された下側閾値信号（１６）を比較し、前記比較を示す第２のデジタル出力信号（４３）を生成するための第２の比較器（４２）と、
（ｄ）前記第２の比較器（４２）に結合し、前記第２のデジタル出力信号（４３）を使用する第２の外部ヒステリシス回路と、
（ｃ）前記第１のデジタル出力信号（２３）および前記第２のデジタル出力信号（４３）を受信し、前記可変振幅入力信号（１２）が、前記上側閾値レベルおよび前記下側閾値レベルの一方を通過するときに遷移する前記デジタルレベルパルス出力信号（７０）を生成するための論理アレイ（６４）と、
を含み、
前記第１のヒステリシス回路が、
前記第１のデジタル出力信号（２３）を前記第１の比較器（２２）に提供する第１のキャパシタと、
前記第１のデジタル出力信号（２３）を、前記第１の比較器（２２）の前記上側閾値レベル入力に提供する第１の抵抗および第２のキャパシタと、
を含む、
整流およびタイミング回路（１０）。
【請求項４】
前記第２のヒステリシス回路が、
前記第２のデジタル出力信号（４３）を前記第２の比較器（４２）に提供する第３のキャパシタと、
前記第２のデジタル出力信号（４３）を、前記第２の比較器（４２）の前記下側閾値レベル入力に提供する第２の抵抗および第４のキャパシタと、
を含む、請求項３に記載の整流およびタイミング回路（１０）。
【手続補正書】
【提出日】平成27年6月30日(2015.6.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の撮像手段に被検眼の眼底像を撮像させるとともに第２の撮像手段に前記被検眼の断層像を撮像させる撮像制御装置であって、
前記第１の撮像手段に前記眼底像よりも小さい領域に限定して前記被検眼の眼底を撮像させる制御手段と、
前記制御に応じて得られた前記領域の画像に基づいて、前記被検眼の眼底の位置ずれを検出する検出手段と、
前記検出された位置ずれに基づいて、前記第２の撮像手段による前記断層像の撮像位置を補正する補正手段と、
を有することを特徴とする撮像制御装置。
【請求項２】
第１の撮像手段により所定の領域で撮像された被検眼の眼底像から特徴点を抽出する抽出手段と、
前記特徴点を含む、前記所定の領域より小さい領域を設定する設定手段とを更に有し、
前記検出手段は、前記設定手段により設定された領域で前記第１の撮像手段によって前記被検眼の眼底像を撮像させ、撮像された前記被検眼の眼底像に基づいて前記特徴点の位置のずれを検出し、
前記検出手段により検出された前記特徴点の位置のずれに基づいて、前記補正手段は、第２の撮像手段による前記被検眼の眼底像の撮像位置を補正することを特徴とする請求項１に記載の撮像制御装置。
【請求項３】
前記制御手段は、前記第１の撮像手段に前記眼底像よりも小さい領域に限定するとともに前記眼底像の撮影に用いた光量よりも低い光量で前記被検眼の眼底を撮像させることを特徴とする請求項１又は２に記載の撮像制御装置。
【請求項４】
第１の撮像手段に被検眼の眼底像を撮像させるとともに第２の撮像手段に前記被検眼の断層像を撮像させる撮像制御装置であって、
前記第１の撮像手段に前記眼底像の撮影に用いた光量よりも低い光量で前記被検眼の眼底を撮像させる制御手段と、
前記低い光量で撮像し得られた前記被検眼の画像に基づいて、前記被検眼の眼底の位置ずれを検出する検出手段と、
前記検出された位置ずれに基づいて、前記第２の撮像手段による前記断層像の撮像位置を補正する補正手段と、
を有することを特徴とする撮像制御装置。
【請求項５】
第１の撮像手段により所定の光量で撮像された被検眼の眼底像から特徴点を抽出する抽出手段と、
前記所定の光量より低い光量を設定する設定手段とを更に有し、
前記制御手段は、前記設定手段により設定された光量で前記第１の撮像手段によって前記被検眼の眼底像を撮像させ、
前記検出手段は、前記設定された光量で撮像された前記被検眼の眼底像に基づいて前記特徴点の位置のずれを検出することを特徴とする請求項４に記載の撮像制御装置。
【請求項６】
前記検出手段により検出された前記特徴点の位置のずれに応じて、前記第１の撮像手段による撮像時のフレームレート及び光量のうちの少なくとも何れか一方を制御する第１の制御手段を更に有することを特徴とする請求項２又は５に記載の撮像制御装置。
【請求項７】
前記被検眼の反射率に応じて、前記第１の撮像手段による撮像時の光量を制御する第２の制御手段を更に有することを特徴とする請求項１乃至６の何れか１項に記載の撮像制御装置。
【請求項８】
前記検出手段は、前記被検眼の視神経乳頭の位置を、前記特徴点の位置として検出することを特徴とする請求項２又は５に記載の撮像制御装置。
【請求項９】
前記検出手段によって前記特徴点の位置を検出するための複数回の撮影処理のうちの一部の撮影処理を、前記所定の領域で前記被検眼の眼底像を撮影するための撮影処理とすることを特徴とする請求項２又は５に記載の撮像制御装置。
【請求項１０】
前記第１の撮像手段は、走査型レーザ検眼鏡であることを特徴とする請求項１乃至９の何れか１項に記載の撮像制御装置。
【請求項１１】
前記第２の撮像手段は、光干渉断層撮像装置であることを特徴とする請求項１乃至１０の何れか１項に記載の撮像制御装置。
【請求項１２】
第１の撮像手段に被検眼の画像を撮像させ第２の撮像手段に前記被検眼の断層像を撮像させる撮像制御装置であって、
前記第１の撮像手段に被検眼の画像を撮像させるとともに、指示に応じて前記第１の撮像手段に前記画像よりも小さい範囲に限定して前記被検眼の眼底を撮像させる制御手段と、
前記小さい範囲を撮像して得られる画像に基づいて前記被検眼の動きを検出する検出手段と、
前記検出された動きに基づいて前記第２の撮像手段による前記断層像の撮像位置を決定する決定手段と、
を有することを特徴とする撮像制御装置。
【請求項１３】
被検眼の眼底像を撮像する第１の撮像手段と、
前記被検眼の断層像を撮像する第２の撮像手段と、
前記第１の撮像手段に前記被検眼の眼底像を繰り返し撮像させる制御手段と、
前記撮像により得られた眼底像に基づいて前記第２の撮像手段の撮像位置を設定する設定手段と、
前記眼底像を撮像する繰り返しレートの平均値よりも小さい繰り返しレートで、前記撮像された眼底像を表示部に表示させる表示制御手段と、
を有することを特徴とする眼科撮像装置。
【請求項１４】
請求項１乃至１２の何れか１項に記載の撮像制御装置と、
前記第１の撮像手段と、
前記第２の撮像手段と、
を有することを特徴とする眼科撮像装置。
【請求項１５】
第１の撮像手段に被検眼の眼底像を撮像させるとともに第２の撮像手段に前記被検眼の断層像を撮像させる撮像制御装置によって実行される撮像制御方法であって、
前記第１の撮像手段に前記眼底像よりも小さい領域に限定して前記被検眼の眼底を撮像させる制御ステップと、
前記制御に応じて得られた前記領域の画像に基づいて、前記被検眼の眼底の位置ずれを検出する検出ステップと、
前記検出された位置ずれに基づいて、前記第２の撮像手段による前記断層像の撮像位置を補正する補正ステップと、
を有することを特徴とする撮像制御方法。
【請求項１６】
第１の撮像手段に被検眼の眼底像を撮像させるとともに第２の撮像手段に前記被検眼の断層像を撮像させる撮像制御装置によって実行される撮像制御方法であって、
前記第１の撮像手段に前記眼底像の撮影に用いた光量よりも低い光量で前記被検眼の眼底を撮像させる制御ステップと、
前記低い光量で撮像し得られた前記被検眼の画像に基づいて、前記被検眼の眼底の位置ずれを検出する検出ステップと、
前記検出された位置ずれに基づいて、前記第２の撮像手段による前記断層像の撮像位置を補正する補正ステップと、
を有することを特徴とする撮像制御方法。
【請求項１７】
請求項１５又は１６に記載の撮像制御方法をコンピュータに実行させるためのプログラム。
【手続補正書】
【提出日】平成27年7月16日(2015.7.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
イメージング・システム用のコリメータ（１１）であって、
前記イメージング・システムのＸ方向（２３）に沿って第一の一次元開口アレイを形成するように配置された複数のコリメート用プレートを含む第一の領域（１５０）と、
前記Ｘ方向（２３）に沿って第二の一次元開口アレイを形成するように配置された複数のコリメート用プレートを含む第二の領域（１５２）と
前記チャネル方向（２３）に沿って第三の一次元開口アレイを形成するように配置された複数のコリメート用プレートを含む第三の領域（１５４）と
を備えており、
前記第一の領域（１５０）の前記開口のアスペクト比が前記第二の領域（１５２）のアスペクト比よりも大きく、
第一の境界（１５６）が前記第一の領域（１５０）と前記第二の領域（１５２）との間に形成されており、
第二の境界（１５８）が前記第一の領域（１５０）と前記第三の領域（１５４）との間に形成されている、
前記第一の領域（１５０）が前記イメージング・システムのアイソセンタを通るＸ線をコリメーとするように、前記第一の領域（１５０）は、前記Ｘ方向（２３）に真中のチャネル（６６）を含み、
前記第二の領域（１５２）が前記真中のチャネル（６６）を含まず、前記イメージング・システムの前記アイソセンタから離れた位置を通るＸ線をコリメーとするように、前記第二の領域（１５２）は、前記第一の領域（１５０）から前記Ｘ方向（２３）にオフセットして配置され、
前記第一の境界（１５６）及び前記第二の境界（１５８）は、前記第一の境界（１５６）が、前記第二の境界（１５８）と前記真中のチャネル（６６）との間の距離（１６２）とは異なる前記真中のチャネル（６６）からの距離（１６０）に位置するように、前記チャネル方向（２３）に非対称に配置される、
コリメータ（１１）。
【請求項２】
前記第一の領域（１５０）は、前記第一の一次元開口アレイを有する複数の第一のモジュール（１００）を含んでおり、
前記第二の領域（１５２）は、前記第二の一次元開口アレイを有する複数の第二のモジュール（１００）を含んでいる、
請求項１に記載のコリメータ（１１）。
【請求項３】
前記第二の領域（１５２）の前記Ｘ方向（２３）における少なくとも一つの開口は、前記第一の領域（１５０）の前記Ｘ方向（２３）における前記第一の一次元開口アレイの前記開口よりも広い、請求項１または２に記載のコリメータ（１１）。
【請求項４】
前記第一及び第二の領域（１５０、１５２）の少なくとも一方の開口が、前記チャネル方向に沿って変化する高さを有する材料で形成されており、
前記高さは、計算機式断層写真法（ＣＴ）イメージング・システムのＸ線源の焦点スポットから発して当該高さを通過する一次Ｘ線（２５）に対して全体的に平行な方向に位置するように画定される、
請求項１乃至３のいずれかに記載のコリメータ（１１）。
【請求項５】
前記第一の領域（１５０）のコリメート用プレートの間隔が、前記第二及び第三の領域（１５２、１５４）の一方におけるプレートの間隔よりも小さい、請求項１乃至４のいずれかに記載のコリメータ（１１）。
【請求項６】
前記第一の一次元開口アレイはまた、前記第一の領域が二次元開口アレイで形成されるようにｚ方向（２１）に沿ってコリメート用プレートを含んでいる、請求項５に記載のコリメータ（１１）。
【請求項７】
前記第二の一次元開口アレイはまた、前記第二の領域（１５２）が二次元開口アレイで形成されるようにｚ方向（２１）に沿ってコリメート用プレートを含んでいる、請求項６に記載のコリメータ（１１）。
【請求項８】
最大のコリメート用プレート高さを有する開口が前記チャネル方向に真中のチャネル（６６）に位置する、請求項４に記載のコリメータ（１１）。
【請求項９】
前記第一の領域の前記複数のプレートの各々は、形成される各々の開口が計算機式断層写真法（ＣＴ）イメージング・システムのＸ線源の焦点スポットを全体的に指向するように互いに関して変化する角度をなして配置される、請求項１乃至８のいずれかに記載のコリメータ（１１）。
【手続補正書】
【提出日】平成27年2月12日(2015.2.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１９】
イントロデューサシースの直径を変える方法であって、
ハブアセンブリに連結されたシース本体であって、互いに連結されて、調節可能な管状構造体を囲み、反転可能な部材を形成する内側部材と外側部材を有し、前記管状構造体は、第１形態と第２形態の間を可動的で、前記第１形態では、前記管状構造体は、第１直径と軸方向の第１長さを有し、前記第２形態では、前記管状構造体は、より大きな第２直径と軸方向のより短い第２長さを有するようにされている、シース本体を提供し、
前記管状構造体に対して前記外側部材と前記内側部材を動かし、前記管状構造体が前記第１形態と前記第２形態の間で動いて、前記管状構造体の前記直径を変えるようにすることを含む、
イントロデューサシースの直径を変える方法。
【手続補正書】
【提出日】平成26年11月18日(2014.11.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
入射光を電気信号に変換して検出する光電変換素子であって、
下部電極と、
該下部電極の上に設けられた絶縁層と、
該絶縁層の上に設けられた、表面で入射光を受ける受光部と、
該受光部の表面から該絶縁層が露出するように設けられた溝状のスリットとを含み、
該スリットにより該入射光が該絶縁層を導波する表面プラズモンに変換され、該表面プラズモンを該受光部と該下部電極との間の電気信号として検出することを特徴とする光電変換素子。
【請求項２】
上記絶縁層の上面および下面は平坦であることを特徴とする請求項１に記載の光電変換素子。
【請求項３】
上記スリットの底面は、上記絶縁層の内部または上記下部電極に達していることを特徴とする請求項１に記載の光電変換素子。
【請求項４】
上記スリットの内部に、誘電体材料または絶縁体材料が充填されたことを特徴とする請求項１に記載の光電変換素子。
【請求項５】
上記スリットは、上記受光部の表面で互いに直交する２つのスリットからなることを特徴とする請求項１に記載の光電変換素子。
【請求項６】
上記スリットは、上記受光部の表面に垂直な断面が矩形、Ｖ字型、または該スリット内に向かって側壁が凸の曲面であることを特徴とする請求項１に記載の光電変換素子。
【請求項７】
上記受光部は、該受光部の表面から上記絶縁層が露出しない深さで、上記スリットに平行に設けられた溝状の反射用スリットを含むことを特徴とする請求項１に記載の光電変換素子。
【請求項８】
複数の上記反射用スリットが、上記スリットの両側に、一定の間隔で設けられたことを特徴とする請求項７に記載の光電変換素子。
【請求項９】
複数の上記反射用スリットが、上記スリットの両側に、該スリットから離れるほど間隔が大きくなるように設けられたことを特徴とする請求項７に記載の光電変換素子。
【請求項１０】
上記受光部および上記下部電極の一方が基準電位に接続され、他方が積分回路に接続され、該積分回路により上記表面プラズモンを電気信号として読み出すことを特徴とする請求項１に記載の光電変換素子。
【請求項１１】
上記受光部と上記下部電極との間にバイアス電圧が印加されることを特徴とする請求項１に記載の光電変換素子。
【請求項１２】
上記下部電極の底面が平坦であることを特徴とする請求項１に記載の光電変換素子。
【請求項１３】
請求項１に記載の複数の光電変換素子がマトリックス状に配置され、該光電変換素子から検出された上記電気信号が読み出し回路により読み出されることを特徴とする光電変換素子アレイ。
【請求項１４】
上記光電変換素子のスリットの幅、深さ、および絶縁層の厚さのうちの少なくとも１つが互いに異なる光電変換素子を含むことを特徴とする請求項１３に記載の光電変換素子アレイ。
【請求項１５】
上記受光部の電位は共通電位に維持され、上記読み出し回路は上記下部電極に接続されたことを特徴とする請求項１３に記載の光電変換素子アレイ。
【請求項１６】
上記読み出し回路は上記受光部に接続され、上記下部電極の電位は共通電位に維持されたことを特徴とする請求項１３に記載の光電変換素子アレイ。
【請求項１７】
複数の上記光電変換素子において、上記下部電極が一体の電極からなることを特徴とする請求項１６に記載の光電変換素子アレイ。
【手続補正書】
【提出日】平成27年2月26日(2015.2.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４０】
（５）  上記（４）の場合において、前記第１正電圧発生部と前記第２負電圧発生部とが対向し、且つ、前記第１負電圧発生部と前記第２正電圧発生部とが対向している。すなわち、同一構造の２つの電圧発生部を用意し、一方の電圧発生部に対して他方の電圧発生部を１８０°回転させた状態で対向配置させれば、（５）の構成を実現することができる。これにより、上述した誘導電荷及びノイズの低減効果が容易に得られる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１０６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１０６】
また、リモートコントローラ４０は、前述した作動モード選択スイッチ３８、周波数選択スイッチ３４及びイオンバランス調整スイッチ３６の機能を備えており、ユーザの操作に応じた赤外線を受光部４２に送信する。受光部４２は、受光した赤外線に応じた信号Ｓｒをコントローラ１００に出力し、コントローラ１００は、信号Ｓｂに応じた制御信号Ｓｐ１、Ｓｐ２を直流電源７６と第１高電圧電源部７０Ａ及び第２高電圧電源部７０Ｂとにそれぞれ供給する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項６】
請求項５記載の電荷発生装置において、
前記第１正電圧発生部と前記第２負電圧発生部とが対向し、且つ、前記第１負電圧発生部と前記第２正電圧発生部とが対向している
ことを特徴とする電荷発生装置。
【手続補正４】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１０】
2013214357.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成27年3月10日(2015.3.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
空気軸受領域に位置付けられ、かつデータ変換器から離された少なくとも１つの特徴を有するスライダを備え、前記少なくとも１つの特徴は、前記少なくとも１つの特徴が浮上しているか、またはデータ記憶媒体と接触している間、変調を減少させるスライダ剛性を与えるように構成される、装置。
【請求項２】
前記少なくとも１つの特徴は、空気軸受壁によって規定される周界内に連続的に曲線的な断面の突出部形状を有する変化する高さを含む、請求項１に記載の装置。
【請求項３】
空気軸受領域上にデータ変換器から離された少なくとも１つの特徴を有するスライダを設ける工程と、
前記少なくとも１つの特徴を、前記少なくとも１つの特徴が浮上しているか、またはデータ記憶媒体と接触している間、変調を減少させるスライダ剛性を生じるように構成する工程とを含む、方法。
【請求項４】
空気軸受領域上に位置付けられ、かつデータ変換器から離された少なくとも１つの特徴を有するスライダを設ける工程と、
変調を減少させる所定のスライダ剛性を与えるように、変化する側面プロファイルを有する前記少なくとも１つの特徴を構成する工程と、
前記少なくとも１つの特徴が連続的に空気軸受上を浮上し、データ記憶媒体との接触を維持する間、前記データ記憶媒体にデータを記録する工程とを含む、方法。
【請求項５】
前記少なくとも１つの特徴は、空気軸受壁によって規定される周界内に連続的に曲線的な断面の突出部形状を有する変化する高さを含む、請求項３または４に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成27年4月1日(2015.4.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
誘電体フィルムと、前記誘電体フィルムに蒸着材料を蒸着させることで形成され、前記誘電体フィルムを介して対向する正負の電極層と、を有するコンデンサ素子と、
前記コンデンサ素子の両端に形成された端面電極と、を備え、
少なくとも一方の前記電極層は、アルミニウムと、亜鉛と、マグネシウムと、を含み、
前記一方の電極層において、マグネシウムの原子濃度のピークは、亜鉛の原子濃度のピークより、蒸着により蒸着材料を付着させた前記誘電体フィルムの表面から遠い側である表層側に存在する、
フィルムコンデンサ。
【請求項２】
アルミニウムと亜鉛とマグネシウムとを含む前記一方の電極層は、
一端が一方の端面電極と接続され、
他端が他方の端面電極と絶縁され、
前記一端側のマグネシウムのアルミニウムに対する原子濃度比率は、
前記電極層の有効電極部におけるマグネシウムのアルミニウムに対する原子濃度比率より低い、請求項１に記載のフィルムコンデンサ。
【請求項３】
アルミニウムと亜鉛とマグネシウムとを含む前記電極層は、
一端が一方の端面電極と接続され、
他端が他方の端面電極と絶縁され、
前記一端側の亜鉛のアルミニウムに対する原子濃度比率は、
前記電極層の有効電極部における亜鉛のアルミニウムに対する原子濃度比率より高い、請求項１に記載のフィルムコンデンサ。
【請求項４】
アルミニウムと亜鉛とマグネシウムとを含む前記電極層は、
前記一端側から前記他端側に向けて段階的に亜鉛のアルミニウムに対する原子濃度比率が減少している、請求項３に記載のフィルムコンデンサ。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
この課題を解決するために本発明は、少なくとも一方の電極層は、アルミニウムと、亜鉛と、マグネシウムと、を含み、この電極層において、マグネシウムの原子濃度のピークは、亜鉛の原子濃度のピークより、蒸着により蒸着材料を付着させた誘電体フィルムの表面から遠い側である表層側に存在するものとした。
【手続補正書】
【提出日】平成27年3月17日(2015.3.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一導電型半導体と、
前記一導電型半導体上に上下がクラッド層によって挟まれたストライプ状の活性層と、前記活性層の両側に配置された電流狭窄構造を備える光半導体素子であって、
前記電流狭窄構造は、
前記一導電型半導体上に設けられた反対導電型電流狭窄層と、
前記反対導電型電流狭窄層上に設けられた一導電型電流狭窄層とを備え、
前記一導電型電流狭窄層の少なくとも一部は、前記反対導電型電流狭窄層よりもバンドギャップの小さいナローギャップ層で構成されてなる、光半導体素子。
【請求項２】
前記一導電型電流狭窄層は、その全てが前記ナローギャップ層で構成されてなる、請求項１に記載の光半導体素子。
【請求項３】
前記反対導電型電流狭窄層はＩｎＰを含み、前記ナローギャップ層はＩｎＧａＡｓＰを含む、請求項１または２記載の光半導体素子。
【手続補正書】
【提出日】平成27年4月3日(2015.4.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上のマークの像を検出する光学装置であって、
前記マークの像を形成する光学系と、
前記像を検出する検出器と、
前記光学系中に配置され、前記検出器の第１視野と第２視野とに対応した開口を有する絞りと、
遮光部材と、
前記第１視野及び前記第２視野のうち一方を有効にし、且つ、他方の一部を無効にするように、前記遮光部材を位置決めする駆動機構と、
を有することを特徴とする光学装置。
【請求項２】
前記絞りは、視野絞りである、ことを特徴とする請求項１に記載の光学装置。
【請求項３】
前記光学系は、前記マークの像を形成する結像光学系と、前記マークを照明する照明光学系とを含み、
前記絞りは、照明野絞りである、ことを特徴とする請求項１に記載の光学装置。
【請求項４】
前記遮光部材は、第１遮光領域と、第２遮光領域とを有し、
前記駆動機構は、
前記第１視野を有効にする場合には、前記第１遮光領域が前記第２視野の一部を無効にするように前記遮光部材を位置決めし、
前記第２視野を有効にする場合には、前記第２遮光領域が前記第１視野の一部を無効にするように前記遮光部材を位置決めする、ことを特徴とする請求項１乃至３のうちいずれか１項に記載の光学装置。
【請求項５】
前記遮光部材は、前記第１視野を有効にするように前記第１遮光領域に囲まれた第１開口領域と、前記第２視野を有効にするように前記第２遮光領域に囲まれた第２開口領域とが形成されている、ことを特徴とする請求項４に記載の光学装置。
【請求項６】
前記遮光部材は、第１遮光部材と、第２遮光部材とを有し、
前記駆動機構は、
前記第１視野を有効とする場合には、前記第１遮光部材が前記第２視野の一部を無効にするように前記第１遮光部材を位置決めし、
前記第２視野を有効とする場合には、前記第２遮光部材が前記第１視野の一部を無効にするように前記第２遮光部材を位置決めする、ことを特徴とする請求項１乃至３のうちいずれか１項に記載の光学装置。
【請求項７】
少なくとも前記駆動機構は、真空環境下に配置されている、ことを特徴とする請求項１乃至６のうちいずれか１項に記載の光学装置。
【請求項８】
基板上のマークの像を検出する請求項１乃至７のうちいずれか１項に記載の光学装置と、
前記光学装置により検出された像に基づいて前記マークの位置を求める処理部と、
を有することを特徴とする計測装置。
【請求項９】
基板をパターニングするリソグラフィ装置であって、
基板上のマークの位置を計測する請求項８に記載の計測装置と、
前記計測装置で計測された前記マークの位置に基づいて前記基板の位置決めを行う位置決め機構と、
を有することを特徴とするリソグラフィ装置。
【請求項１０】
請求項９に記載のリソグラフィ装置を用いて基板をパターニングする工程と、
前記工程でパターニングされた基板を加工する工程と、
を有することを特徴とする物品の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成27年3月25日(2015.3.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板と前記基板の少なくとも一方の表面に設けられた電極とを含む太陽電池セルと、
絶縁性基材と前記絶縁性基材の少なくとも一方の表面に設けられた配線とを含む配線シートと、
前記電極と前記配線との間に配置されて前記電極と前記配線とを電気的に接続する導電性物質と、
前記太陽電池セルと前記配線シートとの間に配置されて前記太陽電池セルと前記配線シートとを機械的に接続する固定樹脂と、を含む配線シート付き太陽電池セルを製造するための方法であって、
前記太陽電池セルの前記電極間に前記固定樹脂を設置する工程と、
前記配線シートの前記配線上に前記導電性物質を含む接合部材を設置する工程と、
前記太陽電池セルの前記電極が前記配線シートの前記配線と対向するように前記太陽電池セルと前記配線シートとを重ね合わせる工程と、
前記導電性物質を溶融する工程と、
前記固定樹脂を硬化させる工程と、を含む、配線シート付き太陽電池セルの製造方法。
【請求項２】
前記接合部材を設置する工程は、前記接合部材をスクリーン印刷法により印刷する工程を含む、請求項１に記載の配線シート付き太陽電池セルの製造方法。
【請求項３】
前記固定樹脂を設置する工程は、前記固定樹脂をスクリーン印刷法により印刷する工程を含む、請求項１または２に記載の配線シート付き太陽電池セルの製造方法。
【請求項４】
基板と前記基板の少なくとも一方の表面に設けられた電極とを含む太陽電池セルと、
絶縁性基材と前記絶縁性基材の少なくとも一方の表面に設けられた配線とを含む配線シートと、
前記電極と前記配線との間に配置されて前記電極と前記配線とを電気的に接続する導電性物質と、
前記太陽電池セルと前記配線シートとの間に配置されて前記太陽電池セルと前記配線シートとを機械的に接続する固定樹脂と、を含む配線シート付き太陽電池セルが封止材中に封止された太陽電池モジュールを製造するための方法であって、
前記太陽電池セルの前記電極間に前記固定樹脂を設置する工程と、
前記配線シートの前記配線上に前記導電性物質を含む接合部材を設置する工程と、
前記太陽電池セルの前記電極が前記配線シートの前記配線と対向するように前記太陽電池セルと前記配線シートとを重ね合わせる工程と、
前記太陽電池セルと前記配線シートとを封止材中に封止する工程と、を含む、太陽電池モジュールの製造方法。
【請求項５】
前記封止材中に封止する工程は、前記導電性物質を溶融する工程と、前記固定樹脂を硬化させる工程とを含む、請求項４に記載の太陽電池モジュールの製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成27年1月28日(2015.1.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の基板上に形成された一層または複数層のグラフェン膜と第２の基板とを、粘着性を有する樹脂層により貼り合わせる工程と、
上記第１の基板を除去する工程と、
上記グラフェン膜上に透明層を形成する工程と、
を有する積層構造体の製造方法。
【請求項２】
上記第１の基板上に形成された上記グラフェン膜と上記第２の基板とを上記樹脂層により貼り合わせた後、上記第１の基板を除去する前に、上記第１の基板と上記第２の基板とを加圧して隙間なく貼り合わせる工程をさらに有する、
請求項１に記載の積層構造体の製造方法。
【請求項３】
上記第１の基板と上記第２の基板とを加圧して隙間なく貼り合わせた後、上記第１の基板を除去する前に、上記樹脂層を硬化させる工程をさらに有する、
請求項１または請求項２に記載の積層構造体の製造方法。
【請求項４】
上記樹脂層は紫外線硬化性樹脂、熱硬化性樹脂または熱可塑性樹脂からなる、
請求項１ないし請求項３のいずれか１項に記載の積層構造体の製造方法。
【請求項５】
上記第１の基板上に形成された上記グラフェン膜上に上記樹脂層を塗布する、
請求項１ないし請求項４のいずれか１項に記載の積層構造体の製造方法。
【請求項６】
上記第２の基板が透明基板である、
請求項１ないし請求項５のいずれか１項に記載の積層構造体の製造方法。
【請求項７】
上記透明層が透明樹脂からなる、
請求項１ないし請求項６のいずれか１項に記載の積層構造体の製造方法。
【請求項８】
上記透明層上に反射防止層、アンチグレア層、ハードコート層および防汚層からなる群より選ばれた少なくとも一つを形成する工程をさらに有する、
請求項１ないし請求項７のいずれか１項に記載の積層構造体の製造方法。
【請求項９】
上記積層構造体は透明導電膜である、
請求項１ないし請求項８のいずれか１項に記載の積層構造体の製造方法。
【請求項１０】
上記積層構造体を透明基板またはディスプレイと貼り合わせる工程をさらに有する、
請求項１ないし請求項９のいずれか１項に記載の積層構造体の製造方法。
【請求項１１】
上記樹脂層の揮発成分の含有量が１重量％未満である、
請求項１ないし請求項１０のいずれか１項に記載の積層構造体の製造方法。
【請求項１２】
上記樹脂層の上記揮発成分の含有量が０．１重量％以下である、
請求項１ないし請求項１０のいずれか１項に記載の積層構造体の製造方法。
【請求項１３】
上記第１の基板上に形成された上記グラフェン膜上に揮発成分を少なくとも１重量％以上含む樹脂層を塗布した後、この樹脂層を乾燥させて揮発成分を除去することにより、揮発成分の含有量が１重量％未満で粘着性を有する上記樹脂層を形成する、
請求項１ないし請求項１０のいずれか１項に記載の積層構造体の製造方法。
【請求項１４】
上記樹脂層の厚さは１μｍ以上３０μｍ以下である、
請求項１ないし請求項１３のいずれか１項に記載の積層構造体の製造方法。
【請求項１５】
第２の基板と、
上記第２の基板上の、粘着性を有する樹脂層と、
上記樹脂層と貼り合わされた一層または複数層のグラフェン膜と、
上記グラフェン膜上の透明層と、
を有する積層構造体。
【請求項１６】
上記透明層上に反射防止層、アンチグレア層、ハードコート層および防汚層からなる群より選ばれた少なくとも一つをさらに有する、
請求項１５に記載の積層構造体。
【請求項１７】
第２の基板と、
上記第２の基板上の、粘着性を有する樹脂層と、
上記樹脂層と貼り合わされた一層または複数層のグラフェン膜と、
上記グラフェン膜上の透明層とを有する積層構造体を有する電子機器。
【請求項１８】
上記電子機器はディスプレイまたはタッチパネルである、
請求項１７に記載の電子機器。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４３】
次に、図２Ｃに示すように、グラフェン膜１２上に透明層１５を形成する。透明層１５の形成方法は、グラフェン膜１２の表面の凹凸を埋めることができる限り特に限定されない。透明層１５として樹脂層１３と同様なものを用いる場合には、樹脂層１３の形成に用いた方法と同様な方法を用いることができる。好適には、例えば、透明層１５の屈折率をｎ1、樹脂層１３の屈折率をｎ2とした場合、｜ｎ1−ｎ2｜≦０．２が満たされるように、より好適には、｜ｎ1−ｎ2｜≦０．０５が満たされるように、この透明層１５および樹脂層１３の材料が選ばれる。透明層１５は、樹脂層１３と同様なもののほか、ハードコート剤からなるものであってもよい。なお、積層構造体をデバイス化する際にはグラフェン膜１２から配線を取り出すことを考慮すると、配線と接合するグラフェン膜１２の部分は透明層１５で覆われていないことが望ましい。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５３】
次に、図５Ｂに示すように、第１の実施の形態と同様にして、第１の基板１１を除去する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６８】
〈６．第６の実施の形態〉
［ディスプレイおよびその製造方法］
図１０に示すように、第６の実施の形態においては、積層構造体の透明層１５側がディスプレイ１８のスクリーンに貼り合わされている。図１１に、グラフェン膜１２の表面の凹凸が透明層１５により埋められた様子を示す。ディスプレイ１８は、液晶ディスプレイや有機ＥＬディスプレイなどであるが、これに限定されるものではない。
【手続補正書】
【提出日】平成27年4月3日(2015.4.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
トナー像を担持する像担持体と、前記像担持体からトナー像が一次転写される移動可能な導電性の中間転写ベルトと、前記中間転写ベルトを張架する複数の張架部材と、前記張架部材の間に配置され、前記張架部材の間で前記像担持体からトナー像が転写される前記中間転写ベルトの一次転写面が形成される側で前記中間転写ベルトに接触する接触部材と、を有する画像形成装置において、
前記接触部材に接続される電圧維持素子を有し、前記接触部材は、前記中間転写ベルトの内周面に接触するものであり、前記中間転写ベルトの移動方向と直交する方向に分割された複数の回転部材によって構成されることを特徴とする画像形成装置。
【請求項２】
前記接触部材は、軸を備え、前記複数の回転部材は前記軸を中心に回転自在であることを特徴とする請求項１に記載の画像形成装置。
【請求項３】
前記複数の回転部材は、前記中間転写ベルトの移動方向と直交する方向において、中央部の回転部材の方が端部の回転部材に比べて外径が大きいことを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の画像形成装置。
【請求項４】
前記複数の回転部材は、前記中間転写ベルトと接触する部分がそれぞれ独立して前記中間転写ベルトの移動に従動して回転することを特徴とする請求項１から請求項３のいずれか一項に記載の画像形成装置。
【請求項５】
前記接触部材は、前記中間転写ベルトの移動方向と直交する方向の長さが、前記中間転写ベルトよりも長いことを特徴とする請求項１から請求項４のいずれか一項に記載の画像形成装置。
【請求項６】
前記接触部材は、前記中間転写ベルトの画像領域の範囲に位置する前記回転部材を導電部材で構成し、画像領域外の範囲に位置する前記回転部材を絶縁部材で構成することを特徴とする請求項１から請求項５のいずれか一項に記載の画像形成装置。
【請求項７】
前記導電部材は、前記中間転写ベルトの移動方向と直交する方向において中央部が端部に比べて外径が太い金属ローラであり、前記絶縁部材は前記中間転写ベルトの移動に従動して回転するコロ部材であることを特徴とする請求項６に記載の画像形成装置。
【請求項８】
前記中間転写ベルトに接触し前記中間転写ベルトに電流を供給する電流供給部材を有し、前記電圧維持素子が接続された前記接触部材は、前記電流供給部材から前記中間転写ベルトに流れる電流によって、所定電位以上に維持されることを特徴とする請求項１から請求項７のいずれか一項に記載の画像形成装置。
【請求項９】
前記電流供給部材は、前記中間転写ベルトの外周面に接触することを特徴とする請求項８に記載の画像形成装置。
【請求項１０】
前記中間転写ベルト上のトナー像を記録材に二次転写するために前記中間転写ベルトと二次転写部を形成する二次転写部材と、前記二次転写部材に電圧を印加する転写電源と、を更に有し、前記電流供給部材は前記二次転写部材であり、前記中間転写ベルトは前記二次転写部材を介して前記転写電源から電流が供給されていることを特徴とする請求項９に記載の画像形成装置。
【請求項１１】
前記二次転写部材に前記中間転写ベルトを介して対向する対向部材を有し、前記対向部材は、前記電圧維持素子に接続されていることを特徴とする請求項１０に記載の画像形成装置。
【請求項１２】
前記電圧維持素子は、ツェナーダイオードであることを特徴とする請求項１から請求項１１のいずれか一項に記載の画像形成装置。
【請求項１３】
トナー像を担持する像担持体と、前記像担持体からトナー像が一次転写される移動可能な導電性の中間転写ベルトと、前記中間転写ベルトの外周面に接触し、前記中間転写ベルトに電流を供給する電流供給部材と、前記張架部材の間に配置され、前記張架部材の間で前記像担持体からトナー像が転写される前記中間転写ベルトの一次転写面が形成される側で前記中間転写ベルトの内周面に接触する接触部材と、を有する画像形成装置において、
前記接触部材に接続される電圧維持素子を有し、前記接触部材は、前記中間転写ベルトの内周面に接触する金属部と前記中間転写ベルトの移動方向と直交する方向における前記金属部の両側に設けられた絶縁部を備えることを特徴とする画像形成装置。
【請求項１４】
前記中間転写ベルトの移動方向において、前記金属部は、前記像担持体における画像領域に対応して配置され、前記絶縁部は、前記像担持体における画像領域外に対応して配置されることを特徴とする請求項１３に記載の画像形成装置。
【請求項１５】
前記金属部は、回転軸を中心に回転可能な金属ローラを備え、前記絶縁部は、前記金属ローラの前記回転軸に支持される絶縁性の回転体を備えることを特徴とする請求項１４に記載の画像形成装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
上記目的を達成するため、本発明は、トナー像を担持する像担持体と、前記像担持体からトナー像が一次転写される移動可能な導電性の中間転写ベルトと、前記中間転写ベルトを張架する複数の張架部材と、前記張架部材の間に配置され、前記張架部材の間で前記像担持体からトナー像が転写される前記中間転写ベルトの一次転写面が形成される側で前記中間転写ベルトに接触する接触部材と、を有する画像形成装置において、前記接触部材に接続される電圧維持素子を有し、前記接触部材は、前記中間転写ベルトの内周面に接触するものであり、前記中間転写ベルトの移動方向と直交する方向に分割された複数の回転部材によって構成されることを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本発明によれば、中間転写ベルトのシワを抑制することができ、像担持体と中間転写ベルトとの安定的な接触状態を保つことができる。よって、中間転写ベルトのシワの発生による画像不良を防止することができる。
【手続補正書】
【提出日】平成27年3月26日(2015.3.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
所定面に形成された物体像を正立像とする正立像形成部材と、該正立像形成部材を介して前記物体像を観察する接眼レンズを有するファインダー光学系において、
前記接眼レンズは、物体側から観察側へ順に、負の屈折力の第１レンズ群、正の屈折力の第２レンズ群、負の屈折力の第３レンズ群を有し、
視度調節に際して隣り合うレンズ群の間隔が変化するように前記第２レンズ群が光軸方向に移動し、
ファインダー視度が−１ディオプターのときの全系の焦点距離をｆ、前記第１レンズ群の焦点距離をｆ１、前記第３レンズ群の焦点距離をｆ３とするとき、
−２．４０＜ｆ１／ｆ＜−１．１５
−１．６＜ｆ３／ｆ＜−０．８
なる条件式を満足することを特徴とするファインダー光学系。
【請求項２】
前記第１レンズ群は１枚の負レンズよりなり、該負レンズの材料のアッベ数をνｄとするとき、
νｄ＜２５
なる条件式を満足することを特徴とする請求項１に記載のファインダー光学系。
【請求項３】
前記第１レンズ群は観察側の面が凹形状の負レンズより構成され、前記第２レンズ群は両凸形状の正レンズより構成され、前記第３レンズ群は、物体側から観察側へ順に、両凸形状の正レンズと両凹形状の負レンズより構成されることを特徴とする請求項１又は２に記載のファインダー光学系。
【請求項４】
前記第１レンズ群は観察側の面が凹形状の負レンズより構成され、前記第２レンズ群は両凸形状の正レンズより構成され、前記第３レンズ群は観察側の面が凹形状の負レンズより構成されることを特徴とする請求項１又は２に記載のファインダー光学系。
【請求項５】
請求項１乃至４のいずれか１項に記載のファインダー光学系と、該ファインダー光学系で表示される物体像に相当する像を受光する撮像手段とを有することを特徴とする撮像装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
本発明のファインダー光学系は、所定面に形成された物体像を正立像とする正立像形成部材と、該正立像形成部材を介して前記物体像を観察する接眼レンズを有するファインダー光学系において、
前記接眼レンズは、物体側から観察側へ順に、負の屈折力の第１レンズ群、正の屈折力の第２レンズ群、負の屈折力の第３レンズ群を有し、
視度調節に際して隣り合うレンズ群の間隔が変化するように前記第２レンズ群が光軸方向に移動し、
ファインダー視度が−１ディオプターのときの全系の焦点距離をｆ、前記第１レンズ群の焦点距離をｆ１、前記第３レンズ群の焦点距離をｆ３とするとき、
−２．４０＜ｆ１／ｆ＜−１．１５
−１．６＜ｆ３／ｆ＜−０．８
なる条件式を満足することを特徴としている。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
６は接眼レンズであり、ファインダー光学系の一部を構成している。接眼レンズ６はペンタダハミラー５側から観察側へ負の屈折力の第１レンズ群Ｌ１、正の屈折力の第２レンズＬ２、負の屈折力の第３レンズ群Ｌ３からなっている。そして、第２レンズ群Ｌ２を接眼レンズ６（ファインダー光学系）の光軸Ｌａに沿って移動することで視度調節を行っている。即ち視度調節に際して隣り合うレンズ群の間隔が変化する。ここで各レンズ群は単一レンズ又は複数のレンズより成っている。７はアイポイントであり、観察者の眼が位置する。接眼レンズ６の最終レンズ面Ｒｂから観察側のアイポイント７までの距離がアイレリーフに相当している。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２７】
各実施例ではファインダー視度が−１ディオプターのときの全系の焦点距離をｆ、第１レンズ群Ｌ１の焦点距離をｆ１、第３レンズ群Ｌ３の焦点距離をｆ３とする。また第１レンズ群Ｌ１は１つの負レンズよりなり、負レンズの材料のアッベ数をνｄとする。このとき、次の諸条件のうち１以上を満足している。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３６】
各実施例において第１レンズ群Ｌ１は観察側の面が凹形状の負レンズより構成している。又、第２レンズ群Ｌ２は両凸形状の正レンズより構成している。第３レンズ群Ｌ３は物体側から観察側へ順に実施例１乃至７では正凸形状の正レンズと両凹形状の負レンズから構成している。また第３レンズ群Ｌ３は実施例８では観察側の面が凹形状の負レンズより構成している。尚、第１レンズ群Ｌ１と第２レンズ群Ｌ２を２つ以上のレンズより、また第３レンズ群Ｌ３を３つ以上のレンズより構成しても良い。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３９】
ｒ１は焦点板４のマット面（物体像が形成される面）に相当する。ｒ２は接眼レンズ６の物体側に設けた設計上のダミー面である。数値実施例１乃至７においてｒ３〜ｒ１０と数値実施例８においてｒ３〜ｒ８は接眼レンズ６を構成する各レンズ面の曲率半径である。最終の面はアイポン糸を示している。なお、各数値実施例において＊印は非球面を表しており、非球面形状は光軸方向にＸ軸、光軸と垂直方向にＹ軸、光の進行方向を正としＲを近軸曲率半径、Ｋを円錐係数、Ａ４、Ａ６、Ａ８、Ａ１０を非球面係数としたとき、
【手続補正書】
【提出日】平成27年3月31日(2015.3.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
本発明は、（１）結着樹脂、
（２）着色剤、
（３）エステルワックス及び、
（４）スルホン酸基、スルホン酸塩基又はスルホン酸エステル基を有するモノマーとスチレン系モノマーとアクリル酸エステル又はメタクリル酸エステルとの共重合体、
を含有するトナー粒子を有するトナーであって、
該結着樹脂はスチレン−アクリル系の樹脂であり、
該トナー粒子のＸ線光電子分光（ＸＰＳ）法による表面分析で検出される炭素原子、酸素原子、窒素原子及び硫黄原子の各元素の原子個数の和に対する、硫黄原子の個数の割合が０．０５％以上０．５０％以下であり、
粘着テープの粘着面にトナー粒子を塗布し、トナー粒子を塗布した該粘着テープをガラスに押しつけ、３０℃９５％環境下に、６０日間放置し、その後、該粘着テープをガラスから離したときにガラス上に残存するスチレン−アクリル系樹脂成分の割合（Ａ）が、該粘着テープをガラスに押し付ける際に該粘着テープに付着しているトナー粒子の量を基準として、０．３０質量％以下であり、
粘着テープの粘着面にトナー粒子を塗布し、トナー粒子を塗布した該粘着テープをガラスに押しつけ、５０℃９５％環境下に、２日間放置し、その後、該粘着テープをガラスから離したときにガラス上に残存するスチレン−アクリル系樹脂成分量の割合（Ｂ）が、該粘着テープをガラスに押し付ける際に該粘着テープに付着しているトナー粒子の量を基準として、０．２５質量％以上０．６０質量％以下である、
ことを特徴とするトナーに関する。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（１）結着樹脂、
（２）着色剤、
（３）エステルワックス及び、
（４）スルホン酸基、スルホン酸塩基又はスルホン酸エステル基を有するモノマーとスチレン系モノマーとアクリル酸エステル又はメタクリル酸エステルとの共重合体、
を含有するトナー粒子を有するトナーであって、
該結着樹脂はスチレン−アクリル系の樹脂であり、
該トナー粒子のＸ線光電子分光（ＸＰＳ）法による表面分析で検出される炭素原子、酸素原子、窒素原子及び硫黄原子の各元素の原子個数の和に対する、硫黄原子の個数の割合が０．０５％以上０．５０％以下であり、
粘着テープの粘着面にトナー粒子を塗布し、トナー粒子を塗布した該粘着テープをガラスに押しつけ、３０℃９５％環境下に、６０日間放置し、その後、該粘着テープをガラスから離したときにガラス上に残存するスチレン−アクリル系樹脂成分の割合（Ａ）が、該粘着テープをガラスに押し付ける際に該粘着テープに付着しているトナー粒子の量を基準として、０．３０質量％以下であり、
粘着テープの粘着面にトナー粒子を塗布し、トナー粒子を塗布した該粘着テープをガラスに押しつけ、５０℃９５％環境下に、２日間放置し、その後、該粘着テープをガラスから離したときにガラス上に残存するスチレン−アクリル系樹脂成分量の割合（Ｂ）が、該粘着テープをガラスに押し付ける際に該粘着テープに付着しているトナー粒子の量を基準として、０．２５質量％以上０．６０質量％以下である、
ことを特徴とするトナー。
【請求項２】
該スチレン−アクリル系樹脂成分の割合（Ａ）と（Ｂ）が、
１．７≦（Ｂ）／（Ａ）≦５．０
であることを特徴とする請求項１に記載のトナー。
【請求項３】
該トナー粒子の−４０℃以上−１０℃以下の温度範囲に動的粘弾性試験により測定した損失弾性率（Ｇ”）の極大値が存在することを特徴とする請求項１又は２に記載のトナー。
【請求項４】
該トナー粒子の温度１１０℃における溶融粘度が１．５×１０4（Ｐａ・ｓ）未満であることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載のトナー。
【請求項５】
該スルホン酸基、スルホン酸塩基又はスルホン酸エステル基を有するモノマーとスチレン系モノマーとアクリル酸エステル又はメタクリル酸エステルとの共重合体における、スルホン酸基含有アクリルアミド又はスルホン酸基含有メタクリルアミドに由来する成分の共重合割合が総量で２．０乃至２０．０質量％であることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載のトナー。
【請求項６】
該トナー粒子が、
（１）重合性単量体、
（２）着色剤、
（３）エステルワックス、
（４）スルホン酸基、スルホン酸塩基又はスルホン酸エステル基を有するモノマーとスチレン系モノマーとアクリル酸エステル又はメタクリル酸エステルとの共重合体、
を含有する重合性単量体組成物を水系媒体に加え、該水系媒体中で該重合性単量体組成物を造粒して該重合性単量体組成物の粒子を形成し、該重合性単量体組成物の該粒子に含まれる該重合性単量体を重合して得られることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載のトナー。
【請求項７】
該トナーがカルボキシル基含有スチレン系樹脂とポリエステル樹脂を含有し、該カルボキシル基含有スチレン系樹脂はテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）可溶分のゲルパーミエーションクロマトグラフィーにより測定された重量平均分子量（Ｍｗ）が、１００００乃至３００００であることを特徴とする請求項６に記載のトナー。
【請求項８】
スチレン、スチレンに溶解させた該カルボキシル基含有スチレン系樹脂、スチレンに溶解させた該ポリエステル樹脂の懸滴法による水との界面張力をそれぞれ、ＸＳｔ（ｍＮ／ｍ）、Ｘα（ｍＮ／ｍ）、Ｘβ（ｍＮ／ｍ）としたとき、
２．０≦（ＸＳｔ−Ｘα）≦１２．０
０．５≦（Ｘα−Ｘβ）≦９．０
であることを特徴とする請求項７に記載のトナー。
【請求項９】
該カルボキシル基含有スチレン系樹脂の低分子量成分（ＧＰＣクロマトグラムにおいて分子量がピーク分子量Ｍｐ未満の領域）の酸価をＣｍｇＫＯＨ／ｇ、高分子量成分（ＧＰＣクロマトグラムにおいて分子量がピーク分子量Ｍｐ以上の領域）の酸価をＤｍｇＫＯＨ／ｇとしたとき、０．８≦Ｃ／Ｄ≦１．２であることを特徴とする請求項７又は８に記載のトナー。
【請求項１０】
該水系媒体が難水溶性無機微粒子を含有し、該難水溶性無機微粒子のゼータ電位値の平均値をζｔ、造粒時温度におけるゼータ電位の平均値に対する標準偏差をσｔとしたとき、
−５．０ｍＶ≦ζｔ≦２０．０ｍＶ
５．０ｍＶ≦σｔ≦２５．０ｍＶ
であることを特徴とする請求項６に記載のトナー。
【手続補正書】
【提出日】平成27年4月1日(2015.4.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５４】
基本的レンズデータを以下の表４に示す。
【表４】
2013214010.tif 000001
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５９】
表５に実施例１〜４の条件式（１）〜（９）の値を示す。
【表５】
2013214010.tif 000002