(57)【要約】アレイ基板（２０）の液晶層（５０）側表面には、シール材に沿って延びる複数の溝（２８）が、シール材の幅方向に互いに離間して形成されている。そして、シール材の幅方向中途部よりも表示領域（Ｄ）側に形成された複数の溝の一部又は全部に配向膜（２７）が充填され、シール材と配向膜とが接触し、且つ、シール材の幅方向中途部よりも反表示領域側は配向膜を介さず、シール材とアレイ基板とが直接接触している。
2013175709.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
アレイ基板と、
上記アレイ基板に対向して配置された対向基板と、
表示領域外側に設けられ、上記アレイ基板及び対向基板を貼り合わせるシール材と、
上記アレイ基板と対向基板との間の上記シール材に囲まれた領域に設けられた液晶層と、
上記アレイ基板及び対向基板の液晶層側表面のうち表示領域を含む領域にそれぞれ設けられた配向膜と、を備えた液晶表示装置であって、
上記アレイ基板の上記液晶層側表面には、該シール材に沿って延びる複数の溝が、シール材の幅方向に互いに離間して形成され、
上記シール材の幅方向中途部よりも表示領域側に形成された上記複数の溝の一部又は全部に上記配向膜が充填され、上記シール材と該配向膜とが接触し、且つ、上記シール材の該幅方向中途部よりも反表示領域側は上記配向膜を介さず、シール材と上記アレイ基板とが直接接触している
ことを特徴とする液晶表示装置。
【請求項２】
請求項１に記載された液晶表示装置において、
上記対向基板の上記液晶層側表面には、該シール材に沿って延びる複数の溝が、シール材の幅方向に互いに離間して形成され、
上記シール材の幅方向中途部よりも表示領域側に形成された上記アレイ基板及び対向基板の複数の溝の一部又は全部に上記配向膜が充填され、上記シール材と該配向膜とが接触し、且つ、上記シール材の該幅方向中途部よりも反表示領域側は上記配向膜を介さず、シール材と上記アレイ基板及び対向基板とが直接接触していることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項３】
請求項１又は２に記載された液晶表示装置において、
上記アレイ基板を構成する絶縁膜の少なくとも一部は有機絶縁膜で構成され、
上記複数の溝は、上記有機絶縁膜が除去されて形成されたことを特徴とする液晶表示装置。
【請求項４】
請求項３に記載された液晶表示装置において、
上記複数の溝は、上記有機絶縁膜が厚さ方向に全て除去されて形成されたことを特徴とする液晶表示装置。
【請求項５】
請求項３又は４に記載された液晶表示装置において、
上記有機絶縁膜はアクリル樹脂で形成されていることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項６】
請求項２に記載された液晶表示装置において、
上記対向基板は、少なくとも表示領域及び上記シール材が設けられた領域にカラーフィルタ層が設けられ、
上記溝は、上記シール材が設けられた領域におけるカラーフィルタ層が厚さ方向に一部又は全て除去された箇所に形成されていることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項７】
請求項２に記載された液晶表示装置において、
上記対向基板は、少なくとも表示領域及びシール材が設けられた領域にオーバーコート層が設けられ、
上記溝は、上記シール材が設けられた領域におけるオーバーコート層が厚さ方向に一部又は全て除去された箇所に形成されていることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれか１項に記載された液晶表示装置において、
上記アレイ基板において、第１配線、第１絶縁膜、第２配線及び第２絶縁膜が順に積層され、平面視で上記第１配線及び上記溝が重なる領域では、上記第１絶縁膜と第２絶縁膜の間に上記第２配線と同一層からなるストッパ層が設けられていることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項９】
請求項８に記載された液晶表示装置において、
上記溝表面に、少なくとも上記ストッパ層を覆うように透明導電膜が設けられていることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項１０】
請求項１〜９のいずれか１項に記載された液晶表示装置において、
上記アレイ基板に形成された複数の溝は、２〜２０列並ぶように設けられていることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項１１】
請求項２，７及び８のいずれか１項に記載された液晶表示装置において、
上記対向基板に形成された複数の溝は、２〜２０列並ぶように設けられていることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項１２】
基板本体上に第１配線、第１絶縁膜、第２配線及び第２絶縁膜が順に積層されたアレイ基板と、
上記アレイ基板に対向して配置された対向基板と、
表示領域外側に設けられ、上記アレイ基板及び対向基板を貼り合わせる環状のシール材と、
上記アレイ基板と対向基板との間の上記シール材に囲まれた領域に設けられた液晶層と、
上記アレイ基板及び対向基板の液晶層側表面のうち表示領域を含む領域にそれぞれ設けられ、表示領域外側に延びる配向膜と、
上記シール材が設けられた領域において上記アレイ基板の上記液晶層側表面に形成され、互いにシール材の幅方向に離間して該シール材に沿って延びる複数の溝と、
を備えた液晶表示装置であって、
上記シール材の幅方向中途部よりも表示領域側が上記複数の溝の一部又は全部に充填されて上記配向膜と接触し、且つ、上記シール材の該幅方向中途部寄りの反表示領域側が上記アレイ基板と直接接触している
ことを特徴とする液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示装置に関し、特に、表示パネルの額縁領域における配向膜の塗布領域を制御するための構造に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置は、薄型化が可能で低消費電力であるため、テレビ、パーソナルコンピュータ等のＯＡ機器や携帯電話、スマートフォン等の携帯用電子機器、自動車や航空機のコックピット等のディスプレイとして広く用いられている。【０００３】
液晶表示装置は、表示パネルと、表示パネルの背面側に取り付けられたバックライトユニットとを備えている。表示パネルは、薄膜トランジスタ等のスイッチング素子を備えたアレイ基板と、アレイ基板に対向して配された対向基板と、がシール材で貼り合わされた構成を有し、両基板間に構成される空間には液晶材料が封入されている。対向基板はアレイ基板よりも一回り小さい基板が採用されており、これによって露出したアレイ基板の端子領域上に、駆動回路が実装されている。【０００４】
表示パネルは、画像表示を行う表示領域と、表示領域を囲う非表示領域とで構成されている。【０００５】
アレイ基板の液晶層に接する表面には、少なくとも表示領域を覆うように配向膜が形成されている。同様に、対向基板の液晶に接する表面には、少なくとも表示領域を覆うように配向膜が形成されている。【０００６】
配向膜は、例えば、フレキソ印刷法やインクジェット法等を用いて成膜したポリイミド等の樹脂膜の表面にラビング処理を行って形成することができる。基板上に直接描画ができる点、非接触プロセスのため低汚染である点、溶液の消費量が少ない点、作業時間が短縮できる点等で優れていることから、ポリイミド膜等の樹脂膜の成膜には、インクジェット法が好ましく用いられている。【０００７】
ところで、インクジェット法で配向膜を形成すると、フレキソ法の場合よりも、配向膜の原料として粘度の低い材料の樹脂を用いるので、印刷しようとする領域（表示領域）の周辺の領域に配向膜の原料が漏れ広がりやすい。そのため、表示領域の周囲の非表示領域が小さくて、表示領域とシール材の領域との間隔が大きく確保できない場合には、シール材の領域にまで配向膜が流出してしまう。そして、この場合には、シール材と配向膜との密着性が不十分であることから、完全に封止することができずに液晶層の液晶材料が漏れる原因となる。【０００８】
上記の問題を解決するため、特許文献１には、表示領域の外側、且つ、シール材が配置される領域の内側となる概略環状の領域に、表示領域の外周に沿った方向に長く延びる溝部を有する構成の液晶表示装置が開示されている。そして、この構成によれば、インクジェット法を用いて塗布した液状の樹脂材料が表示領域の外側に広がっても、溝部において樹脂材料の広がりを止めることができ、配向膜の表示領域の外側での濡れ広がりを抑制することができると記載されている。特許文献１には、さらに、溝部表面にＩＴＯ膜等の導電膜を形成する構成が開示されている。配向膜材料である液状の樹脂材料はＩＴＯ膜に対する濡れ性が低いので、この構成を採用することで、溝部において液状の樹脂材料の濡れ広がりを止めることができると記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００９】
【特許文献１】特開２００７−３２２６２７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
ところで、近年、特に携帯用電子機器においては、表示装置全体としての小型化と、表示領域の大型化の要求を同時に満たすため、表示領域の周縁部の額縁領域幅を狭くすることが求められている。【００１１】
特許文献１には、配向膜がシール材を形成する領域まで到達してシール材と基板との密着性が不十分となるのを防ぐため、配向膜の広がり防止構造（表示領域の外周に沿った方向に長く延びる溝部）を、シール材の領域と重ならないように設けると記載されている。しかしながら、シール領域と重ならないように配向膜の広がり防止構造を設けると、その分だけ、額縁領域が拡大してしまう。【００１２】
本発明は、表示パネルにおけるシール材の密着性を低下させることなく狭額縁化を実現した液晶表示装置を得ることを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
上記の課題を解決するための本発明の液晶表示装置は、アレイ基板と、上記アレイ基板に対向して配置された対向基板と、表示領域外側に設けられ、上記アレイ基板及び対向基板を貼り合わせるシール材と、上記アレイ基板と対向基板との間の上記シール材に囲まれた領域に設けられた液晶層と、上記アレイ基板及び対向基板の液晶層側表面のうち表示領域を含む領域にそれぞれ設けられた配向膜と、を備えたものであって、上記アレイ基板の上記液晶層側表面には、該シール材に沿って延びる複数の溝が、シール材の幅方向に互いに離間して形成され、上記シール材の幅方向中途部よりも表示領域側に形成された上記複数の溝の一部又は全部に上記配向膜が充填され、上記シール材と該配向膜とが接触し、且つ、上記シール材の該幅方向中途部よりも反表示領域側は上記配向膜を介さず、シール材と上記アレイ基板とが直接接触していることを特徴とする。【００１４】
また、本発明の液晶表示装置は、好ましくは、上記対向基板の上記液晶層側表面には、該シール材に沿って延びる複数の溝が、シール材の幅方向に互いに離間して形成され、上記シール材の幅方向中途部よりも表示領域側に形成された上記アレイ基板及び対向基板の複数の溝の一部又は全部に上記配向膜が充填され、上記シール材と該配向膜とが接触し、且つ、上記シール材の該幅方向中途部よりも反表示領域側は上記配向膜を介さず、シール材と上記アレイ基板及び対向基板とが直接接触している。【００１５】
上記の構成によれば、基板の額縁領域においてシール材が設けられたシール領域に複数の溝が形成されているので、インクジェット法を用いて配向膜材料を塗布すると、配向膜材料が基板外方に流れ出すのが溝によって規制され、シール領域の幅方向中途部まで配向膜が広がることとなる。【００１６】
ここでは、シール領域の幅方向中途部よりも表示領域側では、アレイ基板、対向基板の表面に配向膜が設けられているので、基板とシール材との接着性は配向膜がない場合と比較して劣るものの、シール領域の幅方向中途部の反表示領域側では、配向膜は存在しないので、各基板が直接シール材と接触し、各基板とシール材との間で優れた密着性が得られる。従って、アレイ基板及び対向基板がシール材で良好に接着されると共に液晶層が設けられる空間が十分に封止される。【００１７】
シール領域の幅方向中途部の反表示領域側での基板とシール材との接着状態について詳しくみると、基板は、溝のある部分では、有機絶縁材料等を経ることなくシール材に接着されている。つまり、シール材は溝のある部分では無機材料や透明導電膜等の金属からなる構成と接着されており、溝において強固に接着されていることが分かる。【００１８】
従って、上記の構成の液晶表示装置によれば、配向膜材料の流出を規制するための複数の溝をシール領域に形成することにより、基板とシール材の密着性を損なうことなく額縁領域の幅を小さくすることができる。【００１９】
上記アレイ基板を構成する絶縁膜の少なくとも一部は有機絶縁膜で構成され、上記複数の溝は、上記有機絶縁膜が除去されて形成されていることが好ましい。また、本発明の液晶表示装置は、上記複数の溝は、上記有機絶縁膜が厚さ方向に全て除去されて形成されていることがより好ましい。この場合、有機絶縁膜としてアクリル樹脂が好適に用いられる。【００２０】
上記の構成によれば、第２絶縁膜のうち少なくとも有機絶縁膜は溝によってシール領域の内周側と外周側とに完全に分断されている。そのため、外気に含まれる水分等がシール領域の反表示領域側から有機絶縁膜に浸入してきても、表示領域側の第２絶縁膜には水分は透湿することがないので、水分の透湿によって配向膜と第２絶縁膜の界面のおける密着性が劣化する虞がない。従って、シール領域の幅方向中途部の表示領域側において、配向膜が存在する領域であっても、シール材と基板の密着性が高められる。【００２１】
本発明の液晶表示装置は、上記対向基板は、少なくとも表示領域及び上記シール材が設けられた領域にカラーフィルタ層が設けられ、溝は、上記シール領域におけるカラーフィルタ層が厚さ方向に一部又は全て除去された箇所に形成されていてもよい。【００２２】
また、対向基板は、少なくとも表示領域及びシール材が設けられた領域にオーバーコート層が設けられ、溝は、上記シール領域におけるオーバーコート層が厚さ方向に一部又は全て除去された箇所に形成されていてもよい。【００２３】
本発明の液晶表示装置は、アレイ基板において、第１配線、第１絶縁膜、第２配線及び第２絶縁膜が順に積層され、平面視で上記第１配線及び上記溝が重なる領域では、第１絶縁膜と第２絶縁膜の間に上記第２配線と同一層からなるストッパ層が設けられていることが好ましい。【００２４】
上記の構成によれば、溝の形成時に第１配線が溝の表面に露出することがないので、溝表面に存在する導電性のダスト等の物体を介して隣接する第１配線同士がリークする虞もない。従って、溝が第１配線等を横切るように形成されていても、第１配線同士が短絡等する問題が抑制される。【００２５】
この場合、溝表面に、少なくとも上記ストッパ層を覆うように透明導電膜が設けられていることが好ましい。【００２６】
上記の構成によれば、ストッパ層が溝の表面に露出することがなく、ストッパ層が腐蝕して劣化するのが抑制される。【００２７】
本発明の液晶表示装置は、上記複数の溝が２〜２０列並ぶように設けられていることが好ましい。
【発明の効果】
【００２８】
本発明によれば、液晶表示装置の表示パネルにおけるシール材の密着性を低下させることなく狭額縁化を実現することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２９】
【図１】実施形態１に係る液晶表示装置の平面図である。
【図２】図１のＩＩ−ＩＩ線における断面図である。
【図３】実施形態１に係るアレイ基板の概略平面図である。
【図４】図３の領域ＡＲ１における拡大平面図である。
【図５】図４の領域ＡＲ２における拡大平面図である。
【図６】図５のＶＩ−ＶＩ線における断面図である。
【図７】図５のＶＩＩ−ＶＩＩ線における断面図である。
【図８】実施形態２に係る液晶表示装置の断面図である。
【図９】変形例１に係るアレイ基板の概略平面図である。
【図１０】変形例１に係る液晶表示装置の断面図である。
【図１１】変形例２に係る液晶表示装置の断面図である。
【図１２】変形例３に係るアレイ基板の概略平面図である。
【図１３】変形例４に係るアレイ基板の概略平面図である。
【図１４】変形例５に係るアレイ基板の概略平面図である。
【図１５】実施形態３に係るアレイ基板の概略平面図である。
【図１６】実施形態３に係る液晶表示装置の断面図である。
【図１７】変形例６に係る液晶表示装置の断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００３０】
以下、本発明の実施形態を図面に基づいて詳細に説明する。
【００３１】
＜実施形態１＞
（液晶表示装置）
図１及び２は、本実施形態に係る液晶表示装置１０の全体概略図を示す。図３は、アレイ基板２０の概略平面図であり、図４は図３の領域ＡＲ１の拡大図、及び図５は図４の領域ＡＲ２の拡大図である。また、図６は図５のＶＩ−ＶＩ線における断面を含む液晶表示装置の断面図、及び図７は図５のＶＩＩ−ＶＩＩ線における断面を含む液晶表示装置の断面図である。
【００３２】
液晶表示装置１０は、図１及び２に示すように、基板周縁部に枠状の額縁領域Ｆが規定され、額縁領域Ｆに囲まれた領域が表示領域Ｄとなっている。液晶表示装置１０は、互いに対向して配置されたアレイ基板２０及び対向基板３０を備えている。アレイ基板２０及び対向基板３０は、それらの外周縁部をシール領域ＳＬとして枠状に配置された環状のシール材４０で貼り合わされている。そして、両基板２０及び３０の間のシール材４０に囲まれた空間には液晶層５０が設けられており、表示領域Ｄを構成している。また、アレイ基板２０のうち表示領域Ｄの周囲の額縁領域Ｆの一部は、対向基板３０から突出し、実装部品などの外部接続端子を取り付けるための端子領域Ｔとなっている。
【００３３】
（アレイ基板）
アレイ基板２０は、ボトムゲート型の薄膜トランジスタを備える場合、基板本体２１上に、ゲート信号線（不図示）を含む第１導電膜（第１配線）、ゲート絶縁膜２３（第１絶縁膜）、ソース信号線（不図示）を含む第２導電膜（第２配線）、層間絶縁膜２５（第２絶縁膜）、及び画素電極２６ａを含む第３導電膜が積層形成されている（図６を参照。）。第１導電膜や第２導電膜は、例えば、チタン（Ｔｉ）膜とその上層の銅（Ｃｕ）膜とが積層されて形成されている。ゲート絶縁膜２３（第１絶縁膜）は、例えば、窒化シリコン（ＳｉＮｘ）膜で形成されている。層間絶縁膜２５（第２絶縁膜）は、例えば、パッシベーション膜としての無機絶縁膜（例えば、窒化シリコン（ＳｉＮｘ）膜）と、その上層の有機絶縁膜（例えば、アクリル樹脂膜）とが積層されて形成されている。なお、薄膜トランジスタがトップゲート型の場合には、第１導電膜の形成前にゲート絶縁膜２３を形成し、第１導電膜を覆う絶縁膜を第１絶縁膜として形成することとなる。
【００３４】
具体的には、アレイ基板２０の表示領域Ｄでは、複数のゲート信号線及び複数のソース信号線のそれぞれが互いに並行し、且つ、ゲート信号線とソース信号線とが直交するように配設されている。ゲート信号線及びソース信号線で区画された領域が単一の画素を構成し、画素毎に薄膜トランジスタが設けられ、その薄膜トランジスタに対応するように複数の画素電極２６ａが配置されている。層間絶縁膜２５は、額縁領域Ｆを含めた基板全面を覆うように設けられている。また、アレイ基板２０の額縁領域Ｆでは、ソース信号線及びゲート信号線が引き出し線（例えば、図６や７における配線２２ａ）で端子領域Ｔに引き出され、それぞれ、ゲートドライバ（不図示）やソースドライバ（不図示）に接続されている。
【００３５】
アレイ基板２０の液晶層５０側の表面には、表示領域Ｄを含む領域を覆って配向膜２７が設けられている。配向膜２７は、図５に示すように、表示領域Ｄから外側に、シール領域ＳＬの幅方向中途部にまで延びるように設けられている。配向膜２７は、例えばポリイミド樹脂等で形成されている。
【００３６】
アレイ基板２０には、図３及び４に示すように、シール領域ＳＬにおいて、表示領域Ｄを囲うように環状に溝２８が設けられている。溝２８は、互いにシール材４０の幅方向に離間してシール材４０に沿って延びるように、複数列設けられている。溝２８は、２〜２０列形成されていることが好ましい（図３〜７では６列）。溝２８は、図６及び７に示すように、層間絶縁膜２５が除去された箇所に形成されている。溝２８は、幅が２〜５０μｍ、より好ましくは４〜２０μｍとなっている。また、複数の溝２８は、例えば４〜１００μｍのピッチで並ぶように形成されている。
【００３７】
溝２８の底面となる領域には、図５及び６に示すように、配線２２ａと溝２８の交差する部分に対応して島状のストッパ層２４ａが形成されている。ストッパ層２４ａは第２導電膜で構成され、ソース信号線と同時に形成される。ストッパ層２４ａが設けられているので、溝２８の底面に位置する配線２２ａが溝２８の表面に露出することがなく、溝２８表面に存在する導電性のダスト等の物体を介して隣接する配線２２ａ同士がリークする虞もない。従って、溝２８が第１導電膜からなる配線２２ａ等を横切るように形成されていても、配線２２ａ同士が短絡等する問題は生じない。
【００３８】
ストッパ層２４ａの一部は、後述する共通電極３４に共通電位を与えるトランスファパッド（不図示）と接続されていてもよい。この場合、導電性ビーズ（不図示）等を介してストッパ層２４ａが共通電極３４と導通することがあるが、ストッパ層２４ａも共通電極３４も同じ共通電位に保持されるのみで、電流のリークに起因する表示不良等の問題は生じない。また、トランスファパッドに接続されないストッパ層２４ａはフローティング状態となるが、フローティング状態のストッパ層２４ａが共通電極３４と導通してしまっても、やはり、電流のリークに起因する表示不良等の問題は生じない。
【００３９】
配線２２ａと溝２８の交差する部分には、さらに、溝２８の表面を覆うように透明導電膜２６ｂが島状に形成されている。これにより、溝２８の底面に設けられたストッパ層２４ａが溝２８の表面に露出することがなく、ストッパ層２４ａが腐蝕して劣化するのが抑制される。透明導電膜２６ｂは第３導電膜で構成され、画素電極２６ａと同時に形成される。なお、透明導電膜２６ｂは必須の構成ではない。
【００４０】
（対向基板）
対向基板３０は、基板本体３１上に、カラーフィルタ層３２ａ及びブラックマトリクス３３、並びに共通電極３４が積層形成されており、基板外周縁部の額縁領域Ｆにおいては、ブラックマトリクス３３で遮光領域（不図示）が構成されている。具体的には、対向基板３０の表示領域Ｄでは、カラーフィルタ層３２ａは、各画素に対応するように設けられ、発光色に応じて例えば赤色、緑色及び青色に着色されている。また、ブラックマトリクス３３は、カラーフィルタ層３２ａを区画する遮光領域に設けられている。共通電極３４は、額縁領域Ｆを含めた基板全面を覆うように設けられ、シール材４０に混入された導電性ビーズ（不図示）等を介して、アレイ基板２０の額縁領域Ｆに設けられたトランスファパッド（不図示）から与えられた共通電位に保持されている。そして、対向基板３０の額縁領域Ｆでは、カラーフィルタ層３２ａを構成する材料と同一の樹脂でカラーフィルタ層３２ｂが形成されている。カラーフィルタ層３２ｂは、額縁領域Ｆのうち少なくともシール領域ＳＬに対応するように形成されている。
【００４１】
対向基板３０の液晶層５０側の表面には、表示領域Ｄを含む領域を覆って配向膜３５が設けられている。配向膜３５は、表示領域Ｄから外側に、シール領域ＳＬの幅方向中途部にまで延びるように設けられている。配向膜３５は、例えばポリイミド樹脂等で形成されている。
【００４２】
対向基板３０には、アレイ基板２０と同様に、シール領域ＳＬにおいて、表示領域Ｄを囲うように環状に溝３６が設けられている（図６及び７参照）。溝３６は、互いにシール材４０の幅方向に離間してシール材４０に沿って延びるように複数列設けられている。溝３６は、２〜２０列形成されていることが好ましい（図６では６列）。溝３６は、図６及び７に示すように、カラーフィルタ層３２ａと同一層からなるカラーフィルタ層３２ｂが除去された箇所に形成されている。溝３６は、幅が２〜５０μｍ、より好ましくは４〜２０μｍとなっている。また、複数の溝３６は、例えば４〜１００μｍのピッチで並ぶように形成されている。
【００４３】
アレイ基板２０及び対向基板３０のそれぞれにおいて、表示領域Ｄを囲うように環状に溝２８，３６が形成されているので、配向膜２７，３５の形成時に表示領域Ｄから額縁領域Ｆに向かって液状の配向膜材料が流れていくのが抑制され、配向膜材料が流れ出す面積を小さくすることができる。
【００４４】
上述のように、シール材４０は、表示領域Ｄの外側に環状に設けられ、アレイ基板２０及び対向基板３０とを貼り合わせている。図６及び図７に示すように、複数の溝２８，３６のうちの一部（図６及び７では、６つの溝２８，３６のうちの４つ）は、それぞれ配向膜２７，３５で覆われており、シール材４０のうち幅方向中途部よりも表示領域Ｄ側は、配向膜２７，３５で覆われた溝２８，３６に充填されて配向膜２７，３５と接触している。一方、シール材４０のうち当該幅方向中途部よりも表示領域の反対側（反表示領域側）は、配向膜２７，３５が存在しないので、アレイ基板２０側においては、シール材４０は層間絶縁膜２５や透明導電膜２６ｂと直接接触している。また、対向基板３０側においては、シール材４０は共通電極３４と直接接触している。
【００４５】
シール材４０には、アレイ基板２０と対向基板３０の間の距離を一定に保持するためのスペーサとして、ガラス繊維粉砕物４１が混入されている。ガラス繊維粉砕物４１は、例えば、繊維径が４〜８μｍ程度、及び長さが１０〜１００μｍ程度である。ガラス繊維粉砕物４１が溝２８や溝３６に挟まらないようにするため、ガラス繊維粉砕物４１の繊維径と長さは、好ましくは、溝２８や溝３６の幅よりも大きいものを使用する。ただし、系を大きくできない場合は長さだけでもよい。ガラス繊維粉砕物４１は、層間絶縁膜２５の表面と、カラーフィルタ層３２ｂの表面とで挟まれて、アレイ基板２０及び対向基板３０の基板間距離を一定に保持する。
【００４６】
液晶層５０は、例えば、ネマチック液晶等で形成されている。
【００４７】
上記の構成の液晶表示装置１０は、各画素において、ＴＦＴがオン状態になったときに、画素電極２６ａと共通電極３４との間で電位差が生じ、液晶層５０からなる液晶容量に所定の電圧が印加されるように構成されている。そして、液晶表示装置１０では、その印加電圧の大きさに応じて液晶分子の配向状態が変わることを利用して、外部から入射する光の透過率を調整され、所望の画像が表示される。
【００４８】
（液晶表示装置の製造方法）
次に、上記の構成の液晶表示装置の製造方法を説明する。
【００４９】
まず、公知の方法を用いて、基板本体２１上に、ゲート信号線及び配線２２ａを含む第１導電膜、ゲート絶縁膜２３、並びにソース信号線及びストッパ層２４ａを含む第２導電膜を順番に積層する。
【００５０】
次に、基板全面を覆うように無機絶縁膜として例えば窒化シリコン（ＳｉＮｘ）膜を成膜し、さらに、有機絶縁膜としてアクリル樹脂膜を成膜して、層間絶縁膜２５を形成する。そして、有機絶縁膜として感光性のアクリル樹脂膜を感光した後に現像処理を行って溝２８の部分のアクリル樹脂膜を除去し、さらに、そのアクリル樹脂膜をマスクにして窒化シリコン（ＳｉＮｘ）膜をドライエッチングして溝２８の部分の窒化シリコン膜を除去することで、溝２８を形成する。或いは、有機絶縁膜として感光性を有しないアクリル樹脂を形成した場合には、各々の層ごと或いは、２層を一括して、レジスト剤を塗布した後に現像処理を行い、さらにエッチングを行って層間絶縁膜２５を除去することで溝２８を形成する。このとき、層間絶縁膜２５を除去してできた溝２８の表面にストッパ層２４ａ又は基板本体２１が完全に露出することとなる。
【００５１】
次いで、例えばＩＴＯやＩＺＯ等の透明導電材料を用いて、画素電極２６ａ及び透明導電膜２６ｂを含む第３導電膜を積層する。
【００５２】
さらに、表示領域Ｄを覆うように、インクジェット法を用いて配向膜２７を形成する。このとき、配向膜材料である液状のポリイミドが額縁領域Ｆにまで流れてきて広がるが、溝２８がポリイミドの流出を規制するので、複数の溝２８のうちの途中部分より外周側にはポリイミド膜は形成されない。
【００５３】
一方、公知の方法を用いて、基板本体３１上に、カラーフィルタ層３２ａ、３２ｂ及びブラックマトリクス３３を形成し、カラーフィルタ層３２ｂを感光した後に現像処理を行ってカラーフィルタ層３２ｂを除去し、溝３６を設ける。カラーフィルタ層３２ｂが感光性を有しない場合には、レジスト材料を塗布した後に現像処理を行い、さらにエッチングを行ってカラーフィルタ層３２ｂを除去し、溝３６を設ける。そして、これらを覆うように共通電極３４を積層する。さらに、アレイ基板２０の配向膜２７と同様にして、配向膜３５を積層する。このとき、配向膜材料である液状のポリイミドが額縁領域Ｆにまで流れてきて広がるが、溝３６がポリイミドの流出を規制するので、複数の溝３６のうちの途中部分より外周側にはポリイミド膜は形成されない。
【００５４】
続いて、上記作製したアレイ基板２０及び対向基板３０のいずれか一方の表面にシール材４０を塗布し、シール材４０で囲まれた領域に液晶材料を滴下した後、両基板を重ね合わせてシール材４０を硬化して、両基板２０，３０を接着する。これにより、表示パネルが完成する。
【００５５】
なお、上記工程の他、毛細管現象を利用した真空注入法を用いて液晶材料を２枚の基板２０，３０間に導入してもよい。この場合、具体的には、液晶材料注入口となる開口を有するように枠状にシール材４０を塗布してから基板２０，３０を貼り合わせ、シール材４０を硬化させる。そして、基板をセルサイズに分断してから、真空雰囲気下でシール材４０の開口より液晶材料を注入し、最後に、注入口を封止材で封止する。
【００５６】
最後に、基板をセルサイズに分断した後、表示パネルに偏光板貼り付け、実装部材を実装し、バックライト装着等のモジュール化処理等を行う。こうして、液晶表示装置１０が完成する。
【００５７】
（実施形態１の効果）
本実施形態の構成の液晶表示装置１０によれば、アレイ基板２０と対向基板３０の額縁領域Ｆにおいてシール領域ＳＬに溝２８や溝３６が形成されているので、インクジェット法を用いて配向膜材料を塗布すると、配向膜材料が基板外方に流れ出すのが溝によって規制され、シール領域ＳＬの幅方向の中途部まで配向膜２７，３５が広がるように形成されることとなる（図５の斜線で示す領域を参照。）。
【００５８】
ここでは、シール領域ＳＬの幅方向中途部の内側では、アレイ基板２０、対向基板３０の表面に配向膜２７，３５が設けられているので、基板とシール材４０との接着性は配向膜がない場合と比較して劣るものの、シール領域ＳＬの幅方向中途部の外側では、配向膜２７，３５は存在しないので、各基板とシール材４０との間で優れた接着性が得られる。従って、アレイ基板２０及び対向基板３０がシール材４０で良好に接着されると共に液晶層５０が設けられる空間が十分に封止される。
【００５９】
シール領域ＳＬの幅方向中途部の外側でのアレイ基板２０とシール材４０との接着状態について詳しくみると、アレイ基板２０は、溝２８のある部分では、透明導電膜２６ｂ（図６を参照。）又は基板本体２１（図７を参照。）においてシール材４０に接着されている。つまり、シール材４０は溝２８のある部分では無機材料からなる構成と接着されており、溝２８において強固に接着されていることが分かる。
【００６０】
また、シール領域ＳＬの幅方向中途部の外側での対向基板３０とシール材４０との接着状態について詳しくみると、対向基板３０は、溝３６のある部分では、共通電極３４（図６を参照。）においてシール材４０に接着されている。つまり、シール材４０は溝３６のある部分では無機材料からなる構成と接着されており、溝３６において強固に接着されていることが分かる。
【００６１】
従って、本実施形態の液晶表示装置１０によれば、配向膜材料の流出を規制するための複数の溝２８，３６をシール領域ＳＬに形成されているので、基板の接着性を損なうことなく額縁領域Ｆの幅を小さくすることができる。
【００６２】
また、本実施形態の液晶表示装置１０によれば、アレイ基板２０において溝２８の底面にストッパ層２４ａが設けられているので、溝２８の底面においては、有機絶縁材料からなる層間絶縁膜２５は完全に除去された構成となっている。つまり、シール領域ＳＬよりも外周側に設けられた層間絶縁膜２５は、環状に設けられた溝２８によって、シール領域ＳＬの内周側の層間絶縁膜２５と完全に独立している。従って、外気にさらされた状態のシール領域ＳＬの外周側の層間絶縁膜２５から水分等が浸入してきても、内周側の層間絶縁膜２５には水分は透湿することがないので、水分の透湿によって配向膜と層間絶縁膜２５の界面のおける密着性が劣化する虞がない。
【００６３】
＜実施形態２＞
次に、実施形態２の液晶表示装置１０について説明する。なお、実施形態１と同一又は対応する構成については実施形態１と同一の参照符号を用いて説明する。
【００６４】
液晶表示装置１０は、実施形態１と同様、アレイ基板２０と対向基板３０とが対向して配置され、それらの外周縁部に配置されたシール材４０で接着され、シール材４０に囲まれた空間には、表示層として液晶層５０が設けられている。この液晶表示装置１０は、ＩＰＳ（In Plane Switching）液晶ディスプレイである点が実施形態１と異なる。すなわち、共通電極が対向基板３０ではなくアレイ基板２０上に形成され、また、画素電極２６ａが平面視で櫛歯状に設けられている点で、実施形態１と異なっている。
【００６５】
アレイ基板２０は、図８に示すように、基板本体２１上に、ゲート信号線（不図示）を含む第１導電膜、ゲート絶縁膜２３、ソース信号線（不図示）を含む第２導電膜、第１層間絶縁膜２５ａ、共通電極２９として設けられた第１透明電極、第２層間絶縁膜２５ｂ、画素電極２６ａを含む第２透明電極、及び配向膜２７が積層形成されている。第１層間絶縁膜２５ａは、例えば、窒化シリコン（ＳｉＮｘ）等の無機絶縁材料で形成されている。また、第２層間絶縁膜２５ｂは、例えば、アクリル樹脂等の有機絶縁材料で形成されている。
【００６６】
溝２８は、第１及び第２層間絶縁膜２５ａ、２５ｂが除去された箇所に形成される。溝２８の底部には、実施形態１と同様、第１層間絶縁膜２５ａの下層に設けられたストッパ層２４ａが露出し、ストッパ層２４ａを含む溝２８の表面を覆うように透明導電膜２６ｂが設けられている。第２層間絶縁膜２５ｂを感光性のアクリル樹脂で形成している場合には、感光性アクリル樹脂を感光した後に現像処理を行い、さらに、そのアクリル樹脂をマスクにして第１層間絶縁膜２５ａ（窒化シリコン膜）をドライエッチングして、層間絶縁膜２５を除去することにより、溝２８を形成する。或いは、第２層間絶縁膜２５ｂが感光性を有しないアクリル樹脂で形成されている場合には、第２層間絶縁膜２５ｂにレジスト剤を塗布した後に現像処理を行い、エッチングを行って第２層間絶縁膜２５ｂを除去し、さらに、第１層間絶縁膜２５ａにレジスト剤を塗布した後に現像処理を行い、エッチングを行って第１層間絶縁膜２５ａを除去することにより、溝２８を形成する。なお、第１層間絶縁膜２５ａと第２絶縁膜２５ｂを一括して現像処理及びエッチングを行って、溝２８を形成してもよい。また、第１層間絶縁膜２５ａ（窒化シリコン膜）を成膜した後第２層間絶縁膜２５ｂを形成する前に、先に第１層間絶縁膜２５ａのエッチングを行って溝２８部分を除去し、共通電極２９を含む第１透明電極、第２層間絶縁膜２５ｂ（感光性アクリル樹脂）を形成した後に現像処理を行って第２層間絶縁膜２５ｂの溝２８の部分を除去することで、溝２８を形成してもよい。
【００６７】
対向基板３０は、基板本体３１上に、カラーフィルタ層３２ａ及びブラックマトリクス３３、オーバーコート層３７並びに配向膜３５が積層形成されている。具体的には、オーバーコート層３７は、例えば透明アクリル樹脂からなり、カラーフィルタ層３２ａ及びブラックマトリクス３３を覆うように基板全面に設けられている。
【００６８】
溝３６は、額縁領域Ｆに設けられたオーバーコート層３７を除去された箇所に形成される。なお、溝３６は、オーバーコート層３７を感光した後に現像処理を行うことによって、或いは、オーバーコート層３７が感光性を有しない場合にはレジスト材料を塗布した後に現像処理を行い、さらにエッチングを行って、オーバーコート層３７を除去して形成する。
【００６９】
その他の構成は、実施形態１と同様又は一般に公知のＩＰＳ液晶ディスプレイの構成に準じる。
【００７０】
上記構成の液晶表示装置１０は、アレイ基板２０上の各画素電極２６ａと共通電極２９との間の液晶層５０に画素毎に所定の電圧を印加して、横方向に生じる電界によって、液晶層５０の配向状態を変化させる。これにより、表示パネル内を透過する光の透過率が調整され、所望の画像の表示が行われる。
【００７１】
上記の構成の液晶表示装置１０は、従来のＩＰＳ液晶表示装置の製造方法をベースとして、実施形態１の作製方法に準じて製造することができる。
【００７２】
上記の構成の液晶表示装置１０では、対向基板３０側には共通電極が設けられていないので、配向膜３５のない領域では基板本体３１が表面に露出している。そのため、シール材４０が、直接ガラス基板である基板本体３１と接着されることとなり、対向基板３０とシール材４０との間でより高い密着性が得られる。
【００７３】
その他の構成や効果については実施形態１に記載の通りである。
【００７４】
（変形例１）
上記の実施形態では、アレイ基板２０や対向基板３０において、複数の溝２８，３６の全てがシール領域ＳＬに形成されるとして説明しているが、特にこれに限定されない。例えば、図９及び図１０に変形例１として示すように、６列の溝２８のうち内側の２列は、シール領域ＳＬよりも内周側に形成されていてもよい。この場合でも、配向膜材料の外方への流出を規制するための溝２８のうち４列がシール領域ＳＬに形成されているので、額縁領域Ｆの幅を小さくすることができる。
【００７５】
（変形例２）
上記の実施形態では、アレイ基板２０にも対向基板３０にも溝２８，３６が６列ずつ形成されているとして説明しているが、両基板に形成される溝の数が異なっていてもよい。例えば、図１１に変形例２として示すように、アレイ基板２０側には溝２８が６列形成される一方で、対向基板３０側には溝３６が７列形成されていてもよい。この場合、アレイ基板２０と対向基板３０の溝２８，３６の位置が１対１で対応しないこととなるが、スペーサとしてシール材４０に混入するガラス繊維粉砕物４１は、アレイ基板２０及び対向基板３０で挟まれるので、問題は生じない。
【００７６】
（変形例３）
上記の実施形態では、アレイ基板２０や対向基板３０において、シール領域ＳＬに沿って枠状に溝２８，３６が形成されているとして説明したが、特にこれに限定されない。例えば、シール領域ＳＬの１つの辺のみに沿うように溝が設けられていてもよい。例えば、図１２に変形例３として示すように、アレイ基板２０の１つの辺（図１２では上辺）に沿って端子領域Ｔが設けられている場合には、上辺に沿うように溝２８が形成されていてもよい。
【００７７】
（変形例４）
また、溝２８，３６は、上記の実施形態のように連続して延びるように形成されていることに限定されない。例えば、図１３に変形例４として示すように、溝２８が非連続であって破線状に形成されていてもよい。この場合、隣接する溝２８と溝が形成されていない領域が隣接しないように、複数の溝２８を千鳥状に配列して形成すると、配向膜材料が流れるのを抑制する効果を高めることができる。
【００７８】
上記の実施形態の構成に加えて、ゲート絶縁膜２３とストッパ層２４ａとの間に、薄膜トランジスタの半導体層と同一のシリコン膜を島状に形成してもよい。配線２２ａが存在することが原因でゲート絶縁膜２３の表面に隆起がある場合でも、ストッパ層２４ａの下層にシリコン層を重ねると、より確実にリークの発生を防止することができる。
【００７９】
（変形例５）
上記の実施形態では、アレイ基板２０の溝２８の形成において、層間絶縁膜２５のうち有機絶縁膜と無機絶縁膜の両方を除去して溝２８の表面にストッパ層２４ａ又は基板本体２１を露出させるとして説明したが、層間絶縁膜２５のうち少なくとも有機絶縁膜のみが除去されていればよい。例えば、実施形態２のように、第１層間絶縁膜２５ａを窒化シリコン（ＳｉＮｘ）等の無機絶縁材料で、第２層間絶縁膜２５ｂをアクリル樹脂等の有機絶縁材料で形成したＩＰＳ方式の液晶表示装置１０の場合には、変形例５として図１４に示すように、第１層間絶縁膜２５ａを溝２８形成時のストッパ層として用いて、第２層間絶縁膜２５ｂにのみ溝２８を形成することが可能である。この場合、第１層間絶縁膜２５ａをストッパ層として用いるので、第２導電膜でストッパ層２４ａを設ける必要がない。
【００８０】
（その他の変形例）
上記の実施形態では、対向基板３０には、表示領域Ｄと額縁領域Ｆの境界にブラックマトリクス３３が設けられて遮光されているとして説明したが、対向基板３０ではなくアレイ基板２０側において、表示領域Ｄと額縁領域Ｆの境界が遮光されていてもよい。この場合、例えば第２導電膜を用いて当該領域を遮光することができる。
【００８１】
上記の実施形態ではアレイ基板２０と対向基板３０の両方に溝２８，３６がそれぞれ形成されているとして説明したが、アレイ基板２０には溝２８が形成される一方で、対向基板３０側には溝が形成されていなくてもよい。この場合、対向基板３０側においては、トランスファパッド等を設けた所定の領域において、レーザー照射等を行って配向膜３５を部分的に除去して、額縁領域をアレイ基板２０と同等の狭額縁とすることができる。
【００８２】
＜実施形態３＞
次に、実施形態３の液晶表示装置１０について説明する。なお、実施形態１と同一又は対応する構成については実施形態１や２と同一の参照符号を用いて説明する。
【００８３】
液晶表示装置１０は、実施形態１と同様、アレイ基板２０と対向基板３０とが対向して配置され、それらの外周縁部に配置されたシール材４０で接着され、シール材４０に囲まれた空間には、表示層として液晶層５０が設けられている。
【００８４】
この液晶表示装置１０は、図１５に示すように、ゲートドライバ領域ＧＤ及びソースドライバ領域ＳＤがシール領域ＳＬの内側に配置されている点で実施形態１及び２と異なっている。また、この液晶表示装置１０は、トップゲート構造のＴＦＴを備えたＦＦＳ（Fringe Field Switching）液晶ディスプレイである。すなわち、実施形態２と同様に、共通電極２９が対向基板３０ではなくアレイ基板２０上にスリット状に形成され、また、画素電極２６ａが平面視でベタ状に設けられている。
【００８５】
アレイ基板２０は、図１６に示すように、基板本体２１上に、第１無機絶縁膜２１Ｂ、半導体膜２１Ｃ、ゲート絶縁膜２３、ゲート電極２２を含む第１導電膜、第２無機絶縁膜２３Ｂ、配線層２４ａ及びソース／ドレイン電極２４ｂを含む第２導電膜、有機絶縁膜２５ａ、画素電極２６ａを含む第１透明導電膜、第３無機絶縁膜２５ｂ、共通電極２９として設けられた第２透明導電膜、及び配向膜２７が積層形成されている。第１無機絶縁膜２１Ｂ、第２無機絶縁膜２３Ｂ、第３無機絶縁膜２５ｂは、例えば、シリコン酸化膜（ＳｉＯ２）や窒化シリコン（ＳｉＮｘ）等の無機絶縁材料で形成されている。また、有機絶縁膜２５ａは、例えば、アクリル樹脂等の有機絶縁材料で形成されている。なお、半導体膜２１Ｃ、ゲート電極２２，ソース／ドレイン電極２４ｂがトップゲート構造のＴＦＴを構成している。なお、半導体膜２１Ｃとしては、例えば低温ポリシリコン（ＬＴＰＳ）膜やＣＧシリコン（連続粒界結晶シリコン）膜等が用いられる。
【００８６】
溝２８は、有機絶縁膜２５ａが除去された箇所に形成されている。溝２８には、その表面を覆うように第３無機絶縁膜２５ｂが設けられている。溝２８のうちゲートメタル２２ｂや半導体膜２１Ｃｂと重なる領域には、必要に応じストッパ層として、ソース/ドレイン電極２４ｂと同一の第２導電膜からなる配線層２４ａが設けられていてもよい。なお、ここで、溝２８と重なる半導体膜２１Ｃｂやゲートメタル２２ｂは、ゲートドライバＧＤの一部を構成するものである。感光性のアクリル樹脂で有機絶縁膜２５ａを形成している場合、感光性アクリル樹脂を感光した後に現像処理を行うことにより溝２８を形成する。あるいは、感光性を有しないアクリル樹脂で有機絶縁膜２５ａを形成している場合、有機絶縁膜２５ａにレジスト剤を塗布した後に現像処理を行い、エッチングを行って有機絶縁膜２５ａを除去し、さらに、有機絶縁膜２５ａにレジスト剤を塗布した後に現像処理を行い、エッチングを行って有機絶縁膜２５ａを除去することにより、溝２８を形成する。この場合、エッチングによって有機絶縁膜の下層の絶縁膜まで除去されないように、第２導電膜をストッパ層として溝領域に設けるとよい。
【００８７】
なお、配線層２４ａは配線として利用しているため、ゲートドライバＧＤの一部を構成する半導体膜２１Ｃｂやゲートメタル２２ｂが存在しない領域においても設けられていてもよい。また、溝２８の表面は、画素電極２６ａと同一の第１透明導電膜や共通電極２９と同一の第２透明導電膜で覆われていても良い。溝２８の表面が第１透明導電膜や第２透明導電膜で覆われていて、下層の配線層２４ａなどを配線として利用している場合は、これらの透明導電膜を介して配線間ショートが生じない設計とする必要がある。例えば、配線層２４ａと透明導電膜とが重ならないパターニング設計としたり、第２無機絶縁膜２５ｂ等を介在させる設計としたりする必要がある。
【００８８】
対向基板３０は、基板本体３１上に、カラーフィルタ層３２ａ及びブラックマトリクス３３、オーバーコート層３７並びに配向膜３５が積層形成されている。具体的には、オーバーコート層３７は、例えば透明アクリル樹脂からなり、カラーフィルタ層３２ａ及びブラックマトリクス３３を覆うように基板全面に設けられている。
【００８９】
溝３６は、額縁領域Ｆに設けられたオーバーコート層３７を除去された箇所に形成される。なお、溝３６は、オーバーコート層３７を感光した後に現像処理を行うことによって、或いは、オーバーコート層３７が感光性を有しない場合にはレジスト材料を塗布した後に現像処理を行い、さらにエッチングを行って、オーバーコート層３７を除去して形成する。
【００９０】
その他の構成は、実施形態１と同様又は一般に公知のＩＰＳ液晶ディスプレイの構成に準じる。
【００９１】
上記構成の液晶表示装置１０は、アレイ基板２０上の各画素電極２６ａと共通電極２９との間の液晶層５０に画素毎に所定の電圧を印加して、横方向に生じるフリンジ電界によって、液晶層５０の配向状態を変化させる。これにより、表示パネル内を透過する光の透過率が調整され、所望の画像の表示が行われる。
【００９２】
上記の構成の液晶表示装置１０は、従来のＩＰＳ液晶表示装置の製造方法をベースとして、実施形態１の作製方法に準じて製造することができる。
【００９３】
上記の構成の液晶表示装置１０では、シール領域ＳＬの内側にソースドライバ領域ＳＤやゲートドライバ領域ＧＤが設けられているので、ソースドライバ領域ＳＤやゲートドライバ領域ＧＤに設けられる回路を、アレイ基板２０と対向基板３０間の封止空間内に設けることができる。シール領域ＳＬには複数の溝２８が形成されており、溝２８により有機絶縁膜が内側と外側で分断されているので、封止空間外部に存在する水分や酸素等が有機絶縁膜を伝って封止空間の内部に到達するのが抑制され、画素領域の回路のみならず、ソースドライバ領域ＳＤやゲートドライバ領域ＧＤに設けられる回路についても、水分や酸素による劣化を抑制することができる。
【００９４】
また、上記の構成の液晶表示装置１０では、対向基板３０側には共通電極が設けられていないので、配向膜３５のない領域では基板本体３１が表面に露出している。そのため、シール材４０が、直接ガラス基板である基板本体３１と接着されることとなり、対向基板３０とシール材４０との間でより高い密着性が得られる。
【００９５】
その他の構成や効果については実施形態１に記載の通りである。
【００９６】
（変形例６）
実施形態３では、液晶表示装置１０のＦＦＳ液晶ディスプレイがトップゲート構造のＴＦＴを備えるとして説明したが、図１７に変形例６として示すように、ＦＦＳ液晶ディスプレイがボトムゲート構造のＴＦＴを備えていてもよい。
【００９７】
この場合、アレイ基板２０は、図１７に示すように、基板本体２１上に、ゲート電極２２を含む第１導電膜、ゲート絶縁膜２３、半導体膜２１Ｃ、配線層２４ａ及びソース／ドレイン電極２４ｂを含む第２導電膜、第１無機絶縁膜２３Ｂ、有機絶縁膜２５ａ、共通電極２９として設けられた第１透明導電膜、第２無機絶縁膜２５ｂ、画素電極２６ａを含む第２透明導電膜、及び配向膜２７が積層形成されている。第１無機絶縁膜２３Ｂ、第２無機絶縁膜２５ｂは、例えば、窒化シリコン（ＳｉＮｘ）等の無機絶縁材料で形成されている。また、有機絶縁膜２５ａは、例えば、アクリル樹脂等の有機絶縁材料で形成されている。なお、ゲート電極２２，半導体膜２１Ｃ、ソース／ドレイン電極２４ｂがボトムゲート構造のＴＦＴを構成している。なお、半導体膜２１Ｃとしては、例えばアモルファスシリコン（ａ−Ｓｉ）膜や酸化物半導体膜（例えば、Ｉｎ−Ｇａ−Ｚｎ系酸化物（ＩＧＺＯ）膜）等が用いられる。なお、ＴＦＴとしては、図１７に示すように、画素駆動用のＴＦＴとゲートドライバ領域の回路内のＴＦＴとが存在する。ゲートドライバ領域ＧＤの回路内に設けられるＴＦＴは、図１７のように溝２８と重複するように設けられていても、溝２８と重複しないように設けられていても、いずれでもよい。
【００９８】
溝２８は、有機絶縁膜２５ａが除去された箇所に形成されている。溝２８には、その表面を覆うように第２無機絶縁膜２５ｂが設けられている。感光性のアクリル樹脂で有機絶縁膜２５ａを形成している場合、感光性アクリル樹脂を感光した後に現像処理を行うことにより溝２８を形成する。あるいは、感光性を有しないアクリル樹脂で有機絶縁膜２５ａを形成している場合、有機絶縁膜２５ａにレジスト剤を塗布した後に現像処理を行い、エッチングを行って有機絶縁膜２５ａを除去し、さらに、有機絶縁膜２５ａにレジスト剤を塗布した後に現像処理を行い、エッチングを行って有機絶縁膜２５ａを除去することにより、溝２８を形成する。
【００９９】
対向基板３０やその他の構成は、実施形態３に準じる。
【０１００】
上記構成の液晶表示装置１０は、アレイ基板２０上の各画素電極２６ａと共通電極２９との間の液晶層５０に画素毎に所定の電圧を印加して、横方向に生じるフリンジ電界によって、液晶層５０の配向状態を変化させる。これにより、表示パネル内を透過する光の透過率が調整され、所望の画像の表示が行われる。
【産業上の利用可能性】
【０１０１】
本発明は、液晶表示装置について有用である。特に、表示パネルの額縁領域における配向膜の塗布領域を制御するための構造に関して有用である。
【符号の説明】
【０１０２】
１０      液晶表示装置
２０      アレイ基板
２１      基板本体
２２ａ    配線（第１配線）
２３      ゲート絶縁膜（第１絶縁膜）
２４ａ    ストッパ層（第２配線）
２５      層間絶縁膜（第２絶縁膜）
２６ｂ    透明導電膜
２７      配向膜
２８      溝
３０      対向基板
３２ａ    カラーフィルタ層
３２ｂ    カラーフィルタ層
３４      共通電極
３５      配向膜
３６      溝
３７      オーバーコート層
４０      シール材
５０      液晶層
【図１】
2013175709.tif 000003
【図２】
2013175709.tif 000004
【図３】
2013175709.tif 000005
【図４】
2013175709.tif 000006
【図５】
2013175709.tif 000007
【図６】
2013175709.tif 000008
【図７】
2013175709.tif 000009
【図８】
2013175709.tif 000010
【図９】
2013175709.tif 000011
【図１０】
2013175709.tif 000012
【図１１】
2013175709.tif 000013
【図１２】
2013175709.tif 000014
【図１３】
2013175709.tif 000015
【図１４】
2013175709.tif 000016
【図１５】
2013175709.tif 000017
【図１６】
2013175709.tif 000018
【図１７】
2013175709.tif 000019
【手続補正書】
【提出日】平成26年11月7日(2014.11.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
アレイ基板と、
上記アレイ基板に対向して配置された対向基板と、
表示領域外側に設けられ、上記アレイ基板及び対向基板を貼り合わせるシール材と、
上記アレイ基板と対向基板との間の上記シール材に囲まれた領域に設けられた液晶層と、
上記アレイ基板及び対向基板の液晶層側表面のうち表示領域を含む領域にそれぞれ設けられた配向膜と、を備えた液晶表示装置であって、
上記アレイ基板の上記液晶層側表面には、該シール材に沿って延びる複数の溝が、シール材の幅方向に互いに離間して形成され、
上記シール材の幅方向中途部よりも表示領域側に形成された上記複数の溝の一部又は全部に上記配向膜が充填され、上記シール材と該配向膜とが接触し、且つ、上記シール材の該幅方向中途部よりも反表示領域側は上記配向膜を介さず、シール材と上記アレイ基板とが直接接触している
ことを特徴とする液晶表示装置。
【請求項２】
請求項１に記載された液晶表示装置において、
上記対向基板の上記液晶層側表面には、該シール材に沿って延びる複数の溝が、シール材の幅方向に互いに離間して形成され、
上記シール材の幅方向中途部よりも表示領域側に形成された上記アレイ基板及び対向基板の複数の溝の一部又は全部に上記配向膜が充填され、上記シール材と該配向膜とが接触し、且つ、上記シール材の該幅方向中途部よりも反表示領域側は上記配向膜を介さず、シール材と上記アレイ基板及び対向基板とが直接接触していることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項３】
請求項１又は２に記載された液晶表示装置において、
上記アレイ基板を構成する絶縁膜の少なくとも一部は有機絶縁膜で構成され、
上記複数の溝は、上記有機絶縁膜が除去されて形成されたことを特徴とする液晶表示装置。
【請求項４】
請求項３に記載された液晶表示装置において、
上記複数の溝は、上記有機絶縁膜が厚さ方向に全て除去されて形成されたことを特徴とする液晶表示装置。
【請求項５】
請求項３又は４に記載された液晶表示装置において、
上記有機絶縁膜はアクリル樹脂で形成されていることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項６】
請求項２に記載された液晶表示装置において、
上記対向基板は、少なくとも表示領域及び上記シール材が設けられた領域にカラーフィルタ層が設けられ、
上記溝は、上記シール材が設けられた領域におけるカラーフィルタ層が厚さ方向に一部又は全て除去された箇所に形成されていることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項７】
請求項２に記載された液晶表示装置において、
上記対向基板は、少なくとも表示領域及びシール材が設けられた領域にオーバーコート層が設けられ、
上記溝は、上記シール材が設けられた領域におけるオーバーコート層が厚さ方向に一部又は全て除去された箇所に形成されていることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれか１項に記載された液晶表示装置において、
上記アレイ基板において、第１配線、第１絶縁膜、第２配線及び第２絶縁膜が順に積層され、平面視で上記第１配線及び上記溝が重なる領域では、上記第１絶縁膜と第２絶縁膜の間に上記第２配線と同一層からなるストッパ層が設けられていることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項９】
請求項８に記載された液晶表示装置において、
上記溝表面に、少なくとも上記ストッパ層を覆うように透明導電膜が設けられていることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項１０】
請求項１〜９のいずれか１項に記載された液晶表示装置において、
上記アレイ基板に形成された複数の溝は、２〜２０列並ぶように設けられていることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項１１】
請求項２，７及び８のいずれか１項に記載された液晶表示装置において、
上記対向基板に形成された複数の溝は、２〜２０列並ぶように設けられていることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項１２】
基板本体上に第１配線、第１絶縁膜、第２配線及び第２絶縁膜が順に積層されたアレイ基板と、
上記アレイ基板に対向して配置された対向基板と、
表示領域外側に設けられ、上記アレイ基板及び対向基板を貼り合わせる環状のシール材と、
上記アレイ基板と対向基板との間の上記シール材に囲まれた領域に設けられた液晶層と、
上記アレイ基板及び対向基板の液晶層側表面のうち表示領域を含む領域にそれぞれ設けられ、表示領域外側に延びる配向膜と、
上記シール材が設けられた領域において上記アレイ基板の上記液晶層側表面に形成され、互いにシール材の幅方向に離間して該シール材に沿って延びる複数の溝と、
を備えた液晶表示装置であって、
上記シール材の幅方向中途部よりも表示領域側が上記複数の溝の一部又は全部に充填されて上記配向膜と接触し、且つ、上記シール材の該幅方向中途部よりも反表示領域側が上記アレイ基板と直接接触している
ことを特徴とする液晶表示装置。
［補正の理由等］
本願に対応する国際特許出願であるＰＣＴ／ＪＰ２０１３／００２６９８についての国際調査機関の見解書で指摘された不備を解消するために、請求項１２において、「上記シール材の該幅方向中途部寄りの反表示領域側が上記アレイ基板と直接接触している」の「寄りの」という誤記を「よりも」に修正する補正を行いました。なお、この補正事項は、国際出願時の明細書の段落番号［００１３］に基づいています。
【国際調査報告】
2013175709.tif 000020
2013175709.tif 000021