Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成27年4月30日(2015.4.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
レジスタとコンパレータとモード制御部とを含んで構成される入力制御部と、該入力制御部に接続される連想メモリブロックと、
を含み、
上記連想メモリブロックの各ワード回路は、上記入力制御部のサーチライン１に接続されるｋビットの第１段サブワードと、上記入力制御部のサーチライン２に接続されるｎ−ｋビット（ここで、ｎ−ｋ＞ｋである）の第２段サブワードと、からなり、  上記ｋビットの第１段サブワードと上記ｎ−ｋビットの第２段サブワードとは、セグメント化回路を介して接続されており、
上記第２段サブワード回路は、さらに分割されたサブ−サブワード回路と、各該サブ−サブワード回路に接続されるローカル一致回路と、該サブ−サブワード回路全体のグローバル一致回路とからなり、
上記各サブ−サブワード回路には、上記入力制御部から検索するワードが並列に送出され、該ワードと上記各サブ−サブワード回路において記憶されているワードとの一致が上記ローカル一致回路で判定され、
上記ローカル一致回路の全ての出力は、上記グローバル一致回路に入力される、半導体記憶装置。
【請求項２】
前記サブ−サブワード回路はｋビットである、請求項１に記載の半導体記憶装置。
【請求項３】
前記入力制御部は、高速モード及び低速モードで動作する、請求項１又は２に記載の半導体記憶装置。
【請求項４】
前記入力制御部は、前記ｋビットの第１段サブワードが検索ワードと一致しないと判定した場合には、異なる入力に対して連続的に一致動作を続けるように前記高速モードで動作する、請求項３に記載の半導体記憶装置。
【請求項５】
前記入力制御部は、前記ｋビットの第１段サブワードが検索ワードと一致すると判定した場合には、前記低速モードで動作する、請求項３又は４に記載の半導体記憶装置。
【請求項６】
前記連想メモリブロックの検索において、各ワード回路は次の検索を行う前にマッチ線が充電され、該ワード回路内において一致したマッチ線だけが、該ワード回路内で生成された局所的制御信号により充電される、請求項１〜５の何れかに記載の半導体記憶装置。
【請求項７】
前記連想メモリブロックの検索において、各ワード回路は次の検索を行う前にマッチ線が充電され、該ワード回路のグローバル一致回路の動作の後で該ワード回路のマッチ線が充電される、請求項１〜５の何れかに記載の半導体記憶装置。
【請求項８】
前記一致回路は、ワード毎に非同期又は同期して制御される、請求項１〜７の何れかに記載の半導体記憶装置。
【請求項９】
前記入力制御部は、同期信号又は非同期信号により駆動される、請求項１〜８の何れかに記載の半導体記憶装置。
【請求項１０】
前記連想メモリブロックは、２値の連想メモリセルからなる、請求項１〜９の何れかに記載の半導体記憶装置。
【請求項１１】
前記連想メモリブロックは、３値の連想メモリセルからなる、請求項１〜９の何れかにに記載の半導体記憶装置。
【請求項１２】
前記ワード回路は、自律事前充電回路を含んで構成されている、請求項６又は７に記載の半導体記憶装置。
【請求項１３】
前記一致回路を、ワード毎に非同期で制御し、
検索するワードと記憶されているワードの一致を判定する一致操作の後で、一致したワードのマッチラインを、局所的制御信号により自律事前充電し、該自律事前充電における遅延時間ＴＰＡを、連想メモリブロックのサイクルタイムＴＣＡに影響しないように動作させる、請求項８に記載の半導体記憶装置。
【手続補正書】
【提出日】平成27年5月1日(2015.5.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３４】
次に、第１縮小回路３０１が、画像信号からＲ、Ｇ１、Ｇ２及びＢの色毎に画像を水平、垂直とも１／２サイズに縮小する。このとき元々の画像のサイズ（画素数）をＮ×Ｍ（Ｎ、Ｍは任意の整数）とすると、縮小後のサイズは（Ｎ／２）×（Ｍ／２）となる。サイズの縮小方法は、例えば面積平均法などによることができる。第２ノイズ抑圧回路３０３は、第１縮小回路３０１で縮小された各色の色信号に対してノイズ抑圧処理を行う。ここでのノイズ抑圧処理は上記第１ノイズ抑圧回路３０２によるノイズ抑圧処理と同様である。ノイズ抑圧処理後の画像に対して、拡大回路３０４は、補間処理等により画像サイズを水平・垂直方向にそれぞれ２倍に拡大する。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
画像信号を色毎に帯域分割した複数の色信号に対してノイズ抑圧処理を行うノイズ抑圧手段と、
前記ノイズ抑圧手段で前記ノイズ抑圧処理が施された前記複数の色信号から、画素毎に１つの信号を有する１プレーン画像を生成する１プレーン化手段と、
前記１プレーン画像に対して周波数特性が変化する画像処理を行う処理手段と、
前記画像信号からノイズ成分を抽出するノイズ抽出手段と、
前記ノイズ抽出手段により抽出された前記ノイズ成分を、前記処理手段で得られた信号に加算して出力する加算手段と、
を備え、
前記ノイズ抑圧手段は、
前記複数の色信号の各色の色信号について、前記ノイズ抑圧処理を行う第１ノイズ抑圧手段と、
前記複数の色信号のサイズを縮小する第１縮小手段と、
前記サイズが縮小された複数の色信号について前記ノイズ抑圧処理を行う第２ノイズ抑圧手段と、
前記第２ノイズ抑圧手段における前記ノイズ抑圧処理が行われた複数の色信号のサイズを、前記縮小がなされる前のサイズに拡大する拡大手段と、
前記第１ノイズ抑圧手段から出力される複数の色信号と、前記拡大手段から出力される複数の色信号とを色毎に合成する合成手段と
を備えることを特徴とする画像処理装置。
【請求項２】
前記１プレーン化手段は、前記ノイズ抑圧手段で前記ノイズ抑圧処理が施された前記複数の色信号から、前記画像信号のカラー配列と同じカラー配列となるようにサンプリングすることにより１プレーン画像を生成するか、または、前記ノイズ抑圧手段で前記ノイズ抑圧処理が施された前記複数の色信号に係数を掛けて加算することにより、輝度信号からなる１プレーン画像を生成することを特徴とする請求項１に記載の画像処理装置。
【請求項３】
前記処理手段は、前記１プレーン画像に補間処理を行う補間処理手段、および、前記１プレーン画像にフィルタ処理を行うフィルタ手段の少なくともいずれかであることを特徴とする請求項１または２に記載の画像処理装置。
【請求項４】
前記補間処理手段は、前記１プレーン画像を色毎に補間することで、画素毎に複数の色信号を持たせるものであることを特徴とする請求項３に記載の画像処理装置。
【請求項５】
前記フィルタ手段は、前記１プレーン画像に対してエッジ強調を行うものであることを特徴とする請求項３に記載の画像処理装置。
【請求項６】
前記ノイズ抑圧処理では、前記色信号における注目画素と、該注目画素の近傍画素のうち該注目画素との画素値の差分が所定値以内の近傍画素との平均値により前記注目画素が置き換えられることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の画像処理装置。
【請求項７】
前記合成手段は、前記第１ノイズ抑圧手段から出力された前記複数の色信号についてエッジ抽出を行い、エッジの強度がより強い画素について前記第１ノイズ抑圧手段から出力された前記複数の色信号を用いるように合成比率を決定し、前記合成を行うことを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項に記載の画像処理装置。
【請求項８】
前記画像信号を色毎に帯域分割した複数の色信号のサイズを縮小する第２縮小手段を更に備え、
前記ノイズ抑圧手段は、前記第２縮小手段から出力された前記サイズが縮小された複数の色信号を用いて前記ノイズ抑圧処理を行い、
前記ノイズ抽出手段は、前記第２縮小手段から出力された前記サイズが縮小された複数の色信号を用いて前記ノイズ成分を抽出する
ことを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１項に記載の画像処理装置。
【請求項９】
ノイズ抑圧手段が、画像信号を色毎に帯域分割した複数の色信号に対してノイズ抑圧処理を行うノイズ抑圧工程と、
１プレーン化手段が、前記ノイズ抑圧手段で前記ノイズ抑圧処理が施された前記複数の色信号から、画素毎に１つの信号を有する１プレーン画像を生成する１プレーン化工程と、
処理手段が、前記１プレーン画像に対して周波数特性が変化する画像処理を行う処理工程と、
ノイズ抽出手段が、前記画像信号からノイズ成分を抽出するノイズ抽出工程と、
加算手段が、前記ノイズ抽出工程において抽出された前記ノイズ成分を、前記処理手段で得られた画像に加算して出力する加算工程と、
を備える画像処理装置の制御方法であって、
前記ノイズ抑圧工程は、
前記複数の色信号の各色の色信号について、前記ノイズ抑圧処理を行う第１ノイズ抑圧工程と、
前記複数の色信号のサイズを縮小する第１縮小工程と、
前記サイズが縮小された複数の色信号について前記ノイズ抑圧処理を行う第２ノイズ抑圧工程と、
前記第２ノイズ抑圧工程における前記ノイズ抑圧処理が行われた複数の色信号のサイズを、前記縮小がなされる前のサイズに拡大する拡大工程と、
前記第１ノイズ抑圧工程で生成された複数の色信号と、前記拡大工程で生成された複数の色信号とを色毎に合成する合成工程と
を備えることを特徴とする画像処理装置の制御方法。
【請求項１０】
コンピュータを請求項１乃至８のいずれか１項に記載の画像処理装置の各手段として機能させるためのプログラム。
【手続補正書】
【提出日】平成27年4月6日(2015.4.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
この画像表示システムによっても、例えばユーザーが表示に用いる画像データの選択等の操作を行う画像データ送信装置と、画像の表示を行う画像表示装置が異なる装置として構成されるため、それらの装置の配置などの自由度が増す。その際、指示体に付与されている権限を示す態様データは画像データ送信装置に記憶され、画像表示装置はどの指示体にどの権限が付与されているか、という点を管理する必要がないため、場合によっては望ましい。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４４】
画像表示装置１１２は、撮像手段１１２１、軌跡データ生成手段１１２２、記憶手段１１２３、態様特定手段１１２４、送信手段１１２５、受信手段１１２６、画像表示手段１１２７、及び制御手段１１２９を備えている。
撮像手段１１２１は、スクリーン１０に向けて配置された撮像部（イメージセンサー等）を含み、当該撮像部により所定の時間間隔（例えば、０．１秒毎）で撮像を行い、スクリーン１０に表示された画像およびデバイス１２から発せられた光を示す撮像データを生成する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７３】
なお、画像表示装置１１２が画像データ送信装置１１１から受信する合成画像データがエンコードされている場合、画像表示手段１１２７はデコード手段（図２において図示略）によりその合成画像データをデコードする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１３２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１３２】
記憶手段２２３は、デバイス１２を識別するデバイスＩＤと、デバイス１２に付与されている権限を示す態様データを記憶する。
操作子２２４は、ユーザーによる操作を受け付け、操作に応じた信号を生成して態様データ変更手段２２５に引き渡す。
態様データ変更手段２２５は、操作子２２４から引き渡される信号に応じて、記憶手段２２３に記憶されている態様データを変更する。
表示手段２２６は、デバイス１２に付与されている権限を表示する。
送信手段２２７は、態様データを電波信号として送信する。
受信手段２２８は、画像表示装置１１２から送信されてくる、デバイス１２の権限の変更を指示する変更指示データを受信する。
【手続補正５】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図９】
2013235416.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成27年4月22日(2015.4.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
車両に搭載され、撮像画像から他車両の光源を検出する車両光源検出装置（１０）であって、
自車両の進行方向を撮像した撮像画像を取得する画像取得手段（Ｓ１１０）と、
前記撮像画像中から光源を抽出する光源抽出手段（Ｓ１４０）と、
前記光源に関するパラメータを表す光源パラメータに基づいて前記光源が車両に由来する光源を表す車両光源である確度を演算する確度演算手段と（Ｓ１５０）、
前記光源の下方にある周囲よりも暗い部位を表す暗部を抽出する暗部抽出手段（Ｓ２２０）と、
前記暗部が抽出された光源に対して前記車両光源である確度をより高く設定する確度設定手段（Ｓ２４０）と、
予め設定された基準値以上の確度を有する光源を車両の光源として推定する車両光源推定手段（Ｓ２５０）と、
を備えたことを特徴とする車両光源検出装置。
【請求項２】
請求項１に記載の車両光源検出装置において、
前記光源と類似する色であってかつ車両の光源の色として予め設定された色を有し、前記光源の下方にある別の光源を表す類似色光源、を抽出する類似色光源抽出手段（Ｓ２１０）、を備え、
前記確度設定手段は、前記類似色光源が抽出された光源に対して前記車両光源である確度をより高く設定すること
を特徴とする車両光源検出装置。
【請求項３】
請求項２に記載の車両光源検出装置において、
前記確度設定手段は、前記光源から前記類似色光源までの距離に応じて前記光源が前記車両光源である確度を設定すること
を特徴とする車両光源検出装置。
【請求項４】
請求項１〜請求項３の何れか１項に記載の車両光源検出装置において、
前記光源からテールランプに類似する色の光源を表すテール光源を抽出するテール光源抽出手段（Ｓ１６０）と、を備え、
前記光源の左右の領域にある、周囲よりも明るい領域を表す明部を抽出する明部抽出手段（Ｓ２３０）と、
前記確度設定手段は、前記明部が対応する光源が前記テール光源である光源に対して前記車両光源である確度をより高く設定すること
を特徴とする車両光源検出装置。
【請求項５】
車両に搭載され、撮像画像から他車両の光源を検出する車両光源検出装置（１０）であって、
自車両の進行方向を撮像した撮像画像を取得する画像取得手段と、
前記撮像画像中から光源を抽出する光源抽出手段と、
前記光源に関するパラメータを表す光源パラメータに基づいて前記光源が車両に由来する光源を表す車両光源である確度を演算する確度演算手段と、
前記光源の下方にある前記光源と類似する色の別の光源を表す類似色光源を抽出する類似色光源抽出手段と、
前記類似色光源が抽出された光源に対して前記車両光源である確度をより高く設定する確度設定手段と、
を備えたことを特徴とする車両光源検出装置。
【請求項６】
車両に搭載され、撮像画像から他車両の光源を検出する車両光源検出装置（１０）であって、
自車両の進行方向を撮像した撮像画像を取得する画像取得手段と、
前記撮像画像中から光源を抽出する光源抽出手段と、
前記光源に関するパラメータを表す光源パラメータに基づいて前記光源が車両に由来する光源を表す車両光源である確度を演算する確度演算手段と、
前記光源からテールランプに類似する色の光源を表すテール光源を抽出するテール光源抽出手段と、
前記光源の左右の領域にある、周囲よりも明るい領域を表す明部を抽出する明部抽出手段とを備え、
前記明部が対応する光源が前記テール光源である光源に対して前記車両光源である確度をより高く設定する確度設定手段と、
を備えたことを特徴とする車両光源検出装置。
【請求項７】
コンピュータを請求項１〜請求項６の何れか１項に記載の車両光源検出装置を構成する各手段として機能させるための車両光源検出プログラム。
【手続補正書】
【提出日】平成27年5月8日(2015.5.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
周辺機器が接続された周辺機器サーバとＵＳＢホストコントローラ搭載機器とをネットワーク接続させ，当該ＵＳＢホストコントローラ搭載機器から当該周辺機器を利用させることができる装置であって，
前記装置は，
（１）前記周辺機器サーバとネットワーク接続するネットワークインタフェースと，
（２）前記ＵＳＢホストコントローラ搭載機器と接続する周辺機器インタフェースと，
（３）前記ネットワークインタフェースと前記周辺機器インタフェースとの間の通信を相互に変換するカプセル処理手段と，
（４）所定の周辺機器のインタフェース特性であって，当該所定の周辺機器の転送タイプ，転送方向および論理アドレスが含まれるインタフェース特性（第１のインタフェース特性）を備える第１の周辺機器コントローラと，
（５）前記周辺機器サーバに接続された前記周辺機器が備える第２の周辺機器コントローラが有するインタフェース特性であって，当該周辺機器の転送タイプ，転送方向および論理アドレスが含まれるインタフェース特性（第２のインタフェース特性）を取得するインタフェース特性取得手段と，
（６）前記第１のインタフェース特性と前記インタフェース特性取得手段が取得した前記第２のインタフェース特性とを比較するインタフェース特性比較手段と，を備え，
前記インタフェース特性比較手段による比較の結果，少なくとも転送タイプおよび転送方向が一致していた場合，
前記第１の周辺機器コントローラと前記周辺機器インタフェースとを接続し，
前記第１のインタフェース特性と前記第２のインタフェース特性の論理アドレスを１対１に対応付け，この対応に基づき，前記カプセル処理手段が前記ＵＳＢホストコントローラ搭載機器と前記周辺機器サーバに接続された前記周辺機器との間で行われる通信を双方向に変換する，
ことを特徴とする装置。
【請求項２】
ＵＳＢデバイスが接続されたデバイスサーバとＵＳＢホストコントローラ搭載機器とをネットワーク接続させ，当該ＵＳＢホストコントローラ搭載機器から当該ＵＳＢデバイスを利用させることができる装置であって，
前記装置は，
（１）前記デバイスサーバとネットワーク接続するネットワークインタフェースと，
（２）前記ＵＳＢホストコントローラ搭載機器と接続するＵＳＢインタフェースと，
（３）前記ネットワークインタフェースと前記ＵＳＢインタフェースとの間の通信を相互に変換するカプセル処理手段と，
（４）所定のＵＳＢデバイスのエンドポイント特性（第１のエンドポイント特性）を備える第１のＵＳＢペリフェラルコントローラと，
（５）前記デバイスサーバに接続された前記ＵＳＢデバイスが備える第２のＵＳＢペリフェラルコントローラが有するエンドポイント特性（第２のエンドポイント特性）を取得するエンドポイント特性取得手段と，
（６）前記第１のエンドポイント特性と前記エンドポイント特性取得手段が取得した前記第２のエンドポイント特性とを比較するＵＳＢペリフェラルコントローラ比較手段と，を備え，
前記ＵＳＢペリフェラルコントローラ比較手段による比較の結果，少なくとも転送タイプおよび転送方向が一致していた場合，
前記第１のＵＳＢペリフェラルコントローラと前記ＵＳＢインタフェースとを接続し，
前記第１のエンドポイント特性と前記第２のエンドポイント特性のエンドポイントアドレスを１対１に対応付け，この対応に基づき，前記カプセル処理手段が前記ＵＳＢホストコントローラ搭載機器と前記デバイスサーバに接続された前記ＵＳＢデバイスとの間で行われる通信を双方向に変換する，
ことを特徴とする装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
サーバ接続手段４０７は，ＰＣ１０１のユーザにより指定されたデバイスサーバ１０２に接続するものである。その際，記憶手段４０５に記憶されているＩＰアドレスおよびＵＳＢポートの識別子を参照する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３８】
ＵＳＢドライバ４１５は，前述のＵＳＢペリフェラルコントローラ４１４を制御するソフトウェアであり，実際にＵＳＢインタフェースＢ４０１のパケットを入出力するものである。
【手続補正書】
【提出日】平成27年1月13日(2015.1.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
この発明に係る高電圧部ポッティング構造は、トランスと、このトランスを取り囲んだ筒状の第１不織布と、少なくとも一方の面に複数の突起部分を有する基板と、この基板の側面及び前記突起部分を取り囲んだ筒状の第２不織布と、前記トランス及び前記基板を支持するシャーシと、前記第１不織布を含む前記トランス及び前記第２不織布を含む前記基板の周囲に充填され、前記トランス及び前記基板を封止したポッティング材とを備えたことを特徴とするものである。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
また、トランスと、このトランスの周囲に巻かれ、前記トランスを取り囲んだ筒状の第１不織布と、少なくとも一方の面に複数の突起部分を有する基板と、この基板の側面に巻かれ、前記突起部分を取り囲んだ筒状の第２不織布と、前記トランス及び前記基板を支持するシャーシと、前記第１不織布を含む前記トランス及び前記第２不織布を含む前記基板の周囲に充填され、前記トランス及び前記基板を封止したポッティング材とを備えたことを特徴とするものである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
さらに、トランスと、このトランスが差し込まれている筒状の第１不織布と、少なくとも一方の面に複数の突起部分を有する基板と、この基板が差し込まれて、前記基板の側面及び前記突起部分を取り囲む筒状の第２不織布と、前記トランス及び前記基板を支持するシャーシと、前記第１不織布を含む前記トランス及び前記第２不織布を含む前記基板の周囲に充填され、前記トランス及び前記基板を封止したポッティング材とを備えたことを特徴とするものである。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
この発明に係る高電圧部のポッティング方法は、トランスの周囲に第１不織布を巻きつける、又は、前記トランスを筒状の前記第１不織布に挿入する、第１不織布層形成工程と、少なくとも一方の面に複数の突起部分を有する基板の側面に第２不織布を巻きつけ、前記第２不織布に前記突起部分を取り囲ませる、又は、前記基板を筒状の前記第２不織布に挿入し、筒状の前記第２不織布が前記基板の側面及び前記突起部分を取り囲み、筒状の前記第２不織布の底面に前記基板を配置する、第２不織布層形成工程と、前記第１不織布を含む前記トランス及び前記第２不織布を含む前記基板の周囲にポッティング材を充填し、前記トランス及び前記基板を封止するポッティング工程とを備えたことを特徴とするものである。
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
また、トランスの周囲に第１不織布を巻きつける、又は、前記トランスを筒状の前記第１不織布に挿入する、第１不織布層形成工程と、少なくとも一方の面に複数の突起部分を有する基板の前記突起部分の周囲に第３不織布を巻きつける、又は、前記突起部分を筒状の前記第３不織布に挿入する、第３不織布層形成工程と、前記第１不織布を含む前記トランス及び前記第３不織布を含む前記基板の周囲にポッティング材を充填し、前記トランス及び前記基板を封止するポッティング工程とを備えたことを特徴とするものである。
【手続補正１６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
さらに、トランスと少なくとも一方の面に複数の突起部分を有する基板とをシャーシに支持させる支持工程と、前記トランス及び前記基板の周囲に、不織布片が混入又は混練されたポッティング材を充填し、前記トランス及び前記基板を封止するポッティング工程とを備えたことを特徴とするものである。
【手続補正１７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２６】
以上のように、この発明に係る高電圧部ポッティング構造によれば、ポッティング材（硬化後のポッティング材）にクラックが生じた場合でも、トランス及び基板へのクラックの進展を防ぐことができる。
【手続補正１８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正２０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正２１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正２２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正２３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正２４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正２５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３４】
この発明に係る高電圧部のポッティング方法によれば、ポッティング材（特に、ポッティング材の硬化後）にクラックが生じた場合でも、トランス及び基板へのクラックの進展を防ぐことができる。
【手続補正２６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正２７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３６
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正２８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３７
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正２９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正３０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成27年5月7日(2015.5.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板と、
前記基板に、第１クラッド層、第１活性層、第２クラッド層、第３クラッド層、第２活性層、第４クラッド層、の順で積層された積層体と、
前記第１クラッド層と電気的に接続された第１電極と、
前記第２クラッド層および前記第３クラッド層と電気的に接続された第２電極と、
前記第４クラッド層に電気的に接続された第３電極と、
を含み、
前記第１電極、前記第２電極、および前記第３電極は、前記積層体の前記基板側とは反対側の面上に位置し、
前記第１活性層は、前記第１電極と前記第２電極とによって電流が注入されて第１の光を発生し、
前記第２活性層は、前記第２電極と前記第３電極とによって電流が注入されて第２の光を発生し、
前記積層体の積層方向と直交する前記第１活性層の側面には、前記第１の光を出射する出射部が設けられ、
前記積層体の積層方向と直交する前記第２活性層の側面には、前記第２の光を出射する出射部が設けられる、ことを特徴とする発光装置。
【請求項２】
前記第１活性層は、電流が注入されて前記第１の光を発生する第１利得領域を有し、
前記第１利得領域は、
前記第１活性層の第１側面に設けられた第１出射部および前記第１活性層の第２側面に設けられた第１反射部の間に位置する第１利得部分と、
前記第１反射部および前記第１活性層の第３側面に設けられた第２反射部の間に位置する第２利得部分と、
前記第２反射部および前記第１側面に設けられた第２出射部の間に位置する第３利得部分と、
を備え、
前記第２活性層は、電流が注入されて前記第２の光を発生する第２利得領域を有し、
前記第２利得領域は、
前記第２活性層の第４側面に設けられた第３出射部および前記第２活性層の第５側面に設けられた第３反射部の間に位置する第４利得部分と、
前記第３反射部および前記第２活性層の第６側面に設けられた第４反射部の間に位置する第５利得部分と、
前記第４反射部および前記第４側面に設けられた第４出射部の間に位置する第６利得部分と、
を備え、
前記第１側面および前記第４側面は、前記積層体の前記積層方向と直交する法線を有する側面の一部を構成する、ことを特徴とする請求項１に記載の発光装置。
【請求項３】
前記第１出射部から出射される前記第１の光、前記第２出射部から出射される前記第１の光、前記第３出射部から出射される前記第２の光、および前記第４出射部から出射される前記第２の光は、同じ方向に出射される、ことを特徴とする請求項２に記載の発光装置。
【請求項４】
前記第１利得領域および前記第２利得領域は、前記積層体の前記積層方向から見て、コの字型の形状を有する、ことを特徴とする請求項２または３に記載の発光装置。
【請求項５】
前記第１の光の波長は、４３５ｎｍ以上４８５ｎｍ以下であり、
前記第２の光の波長は、４８５ｎｍ以上５７０ｎｍ以下である、ことを特徴とする請求項２ないし４のいずれか１項に記載の発光装置。
【請求項６】
前記積層体の前記積層方向から見て、前記第１利得領域と前記第２利得領域とは、重なっていない、ことを特徴とする請求項２ないし５のいずれか１項に記載の発光装置。
【請求項７】
前記第１利得領域の前記第２利得部分は、該第２利得部分が分断された間隙部を有し、
前記第２利得領域の前記第４利得部分は、前記積層体の前記積層方向から見て、前記間隙部を通って設けられている、請求項２ないし６のいずれか１項に記載の発光装置。
【請求項８】
前記第１利得領域は、前記積層体の前記積層方向から見て、前記第２利得領域および前記第１側面に囲まれている、ことを特徴とする請求項２ないし６のいずれか１項に記載の発光装置。
【請求項９】
前記第２電極は、前記積層体の前記積層方向から見て、前記第１利得領域よりも大きな面を有して前記第１利得領域を覆い、
前記第３電極は、前記積層体の前記積層方向から見て、前記第２利得領域よりも大きな面を有して前記第２利得領域を覆い、
前記第１利得領域は、前記第２電極の前記第２利得領域側の端部の下方に位置し、
前記第２利得領域は、前記第３電極の前記第１利得領域側の端部の下方に位置している、ことを特徴とする請求項２ないし８のいずれか１項に記載の発光装置。
【請求項１０】
請求項１ないし９のいずれか１項に記載の発光装置と、
前記発光装置から出射された光を、画像情報に応じて変調する光変調装置と、
前記光変調装置によって形成された画像を投射する投射装置と、
を含む、ことを特徴とするプロジェクター。
【請求項１１】
基板と、
前記基板に、第１クラッド層、第１活性層、第２クラッド層、第３クラッド層、第２活性層、第４クラッド層、の順で積層された積層体と、
前記第１クラッド層と電気的に接続された第１電極と、
前記第２クラッド層および前記第３クラッド層と電気的に接続された第２電極と、
前記第４クラッド層に電気的に接続された第３電極と、
を含み、
前記第１電極、前記第２電極、および前記第３電極は、前記積層体の前記基板側とは反対側の面上に位置し、
前記第１活性層は、前記第１電極と前記第２電極とによって電流が注入されて第１の光を発生し、
前記第２活性層は、前記第２電極と前記第３電極とによって電流が注入されて第２の光を発生する、ことを特徴とするスーパールミネッセントダイオード。
【請求項１２】
請求項１１に記載のスーパールミネッセントダイオードと、
前記スーパールミネッセントダイオードから出射された光を、画像情報に応じて変調する光変調装置と、
前記光変調装置によって形成された画像を投射する投射装置と、
を含む、ことを特徴とするプロジェクター。
【手続補正書】
【提出日】平成27年5月11日(2015.5.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板に対してパターンの形成を行うリソグラフィー装置であって、
前記基板を保持して移動可能な保持部と、
前記基板上の複数の計測位置に関して計測を行うために前記保持部とともに移動される前記基板の該移動の方向に沿った複数の計測位置にそれぞれ投光する複数の投光部と、前記複数の投光部によりそれぞれ投光されて前記基板で反射された複数の光を受光する受光部とを有し、前記受光部の出力に基づいて前記基板の面位置を計測する面位置計測器と、
前記複数の計測位置それぞれに関して前記受光部の出力が許容範囲内になるように前記面位置計測器の計測条件を設定する制御部と、を有し、
前記制御部は、
前記複数の計測位置のそれぞれに関する、前記保持部の移動中における複数のタイミングのうち対応する一のタイミングでの、前記複数の投光部のうちの対応する投光部の投光による前記受光部の出力に基づいて、前記計測条件を調整し、
前記複数のタイミングのうち一のタイミングにおいて前記受光部の出力が許容範囲内にある場合、前記複数のタイミングのうち以降のタイミングでの調整を行わずに、前記計測条件を設定する、
ことを特徴とするリソグラフィー装置。
【請求項２】
前記制御部は、前記一のタイミングにおいて前記受光部の出力が前記許容範囲内にない場合、前記受光部の出力に基づき前記計測条件を調整して前記複数のタイミングのうち次のタイミングで前記受光部の出力を行わせることを特徴とする請求項１に記載のリソグラフィー装置。
【請求項３】
前記制御部は、前記パターンの形成を開始する前に前記調整を行うことを特徴とする請求項１または２に記載のリソグラフィー装置。
【請求項４】
前記制御部は、前記保持部の移動を伴う前記パターンの形成と並行して前記調整を行うことを特徴とする請求項１または２に記載のリソグラフィー装置。
【請求項５】
前記制御部は、前記計測条件を設定するタイミングを設定可能に構成されていることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載のリソグラフィー装置。
【請求項６】
前記制御部は、前記計測条件として、前記複数の投光部の出力値に関する条件を設定することを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載のリソグラフィー装置。
【請求項７】
前記制御部は、前記計測条件として、前記受光部の出力値に関する条件を設定することを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載のリソグラフィー装置。
【請求項８】
請求項１乃至７のうちいずれか１項に記載のリソグラフィー装置を用いて基板に対してパターンの形成を行う工程と、
前記工程でパターンの形成が行われた前記基板を処理する工程と、
を有することを特徴とする物品製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
上記の目的を達成する本発明の一つの側面に係るリソグラフィー装置は、基板に対してパターンの形成を行うリソグラフィー装置であって、
前記基板を保持して移動可能な保持部と、
前記基板上の複数の計測位置に関して計測を行うために前記保持部とともに移動される前記基板の該移動の方向に沿った複数の計測位置にそれぞれ投光する複数の投光部と、前記複数の投光部によりそれぞれ投光されて前記基板で反射された複数の光を受光する受光部とを有し、前記受光部の出力に基づいて前記基板の面位置を計測する面位置計測器と、
前記複数の計測位置それぞれに関して前記受光部の出力が許容範囲内になるように前記面位置計測器の計測条件を設定する制御部と、を有し、
前記制御部は、
前記複数の計測位置のそれぞれに関する、前記保持部の移動中における複数のタイミングのうち対応する一のタイミングでの、前記複数の投光部のうちの対応する投光部の投光による前記受光部の出力に基づいて、前記計測条件を調整し、
前記複数のタイミングのうち一のタイミングにおいて前記受光部の出力が許容範囲内にある場合、前記複数のタイミングのうち以降のタイミングでの調整を行わずに、前記計測条件を設定する、ことを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成27年9月16日(2015.9.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】リチウム二次電池用負極及びリチウム二次電池
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
集電体と、負極活物質層と、を有し、
前記集電体は、基礎部と、前記基礎部の表面に対して実質的に垂直方向に延びた複数の突起部と、を有し、
前記複数の突起部及び前記基礎部は、チタンを含む共通の材料からなり、
前記複数の突起部の上面及び側面、並びに前記基礎部の上面は前記負極活物質層に覆われていることを特徴とするリチウム二次電池用負極。
【請求項２】
集電体と、負極活物質層と、を有し、
前記集電体は、基礎部と、前記基礎部の表面に対して実質的に垂直方向に延びた複数の突起部と、を有し、
前記複数の突起部及び前記基礎部は、チタンを含む共通の材料からなり、
前記複数の突起部の上面及び側面、並びに前記基礎部の上面は前記負極活物質層に覆われており、
前記負極活物質層は、グラフェンに覆われていることを特徴とするリチウム二次電池用負極。
【請求項３】
集電体と、導電層と、負極活物質層と、を有し、
前記集電体は、基礎部と、前記基礎部の表面に対して実質的に垂直方向に延びた複数の突起部と、を有し、
前記複数の突起部の上面及び側面、並びに前記基礎部の上面は前記導電層に覆われており、
前記導電層は、チタンを含む材料からなり、
前記導電層は、前記負極活物質層に覆われていることを特徴とするリチウム二次電池用負極。
【請求項４】
請求項１乃至３のいずれか一項において、
前記負極活物質層は、非晶質シリコン、微結晶シリコン、多結晶シリコン又はこれらの組み合わせからなることを特徴とするリチウム二次電池用負極。
【請求項５】
請求項１乃至４のいずれか一項において、
前記突起部の先端に保護層が設けられていることを特徴とするリチウム二次電池用負極。
【請求項６】
請求項１乃至５のいずれか一項に記載のリチウム二次電池用負極を有するリチウム二次電池。
【手続補正書】
【提出日】平成27年4月28日(2015.4.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の軸周りに揺動可能な可動部と、
前記第１の軸に交差する第２の軸周りに揺動可能な枠体部と、
前記可動部を前記枠体部に対して前記第１の軸周りに揺動可能に支持する第１軸部と、
前記枠体部に配置された永久磁石と、を有し、
前記可動部は、基部と、前記基部に設けられ、光を反射する光反射板とを有し、
前記枠体部は、前記基部を板厚方向からみて前記基部を囲んで設けられ、
前記第１軸部は、一端部が前記基部に接続され、他端部が前記枠体部に接続され、
前記光反射板は、前記第１軸部に対して前記光反射板の板厚方向に離間して設けられ、
前記永久磁石は、前記枠体部の前記光反射板側の面に設けられていることを特徴とする光学デバイス。
【請求項２】
前記基部、前記枠体部、前記第１軸部は、ＳＯＩ基板のデバイス層を用いて形成され、
前記光反射板は、前記ＳＯＩ基板のハンドル層側に設けられている請求項１に記載の光学デバイス。
【請求項３】
前記光反射板と前記基部との間に前記光反射板と前記基部とを離間させるスペーサーとを有し、
前記永久磁石は、前記光反射板の板厚方向からみたとき、前記スペーサーに重ならないように設けられている請求項１または２に記載の光学デバイス。
【請求項４】
前記永久磁石は、前記スペーサーを挟んで２つ配置されている請求項３に記載の光学デバイス。
【請求項５】
前記枠体部の前記光反射板側から突出するリブが形成されている請求項１ないし４のいずれかに記載の光学デバイス。
【請求項６】
前記永久磁石は、前記リブの前記光反射板と対向する面に設けられている請求項５に記載の光学デバイス。
【請求項７】
前記リブは、前記枠体部の板厚方向からみたとき、前記永久磁石と重ならない領域に形成されている請求項５に記載の光学デバイス。
【請求項８】
前記リブは、前記枠体部の板厚方向に対して垂直な方向の前記永久磁石の移動を規制するように形成されている請求項７に記載の光学デバイス。
【請求項９】
前記光反射板は、前記光反射板の板厚方向からみたときに前記第１軸部の少なくとも一部と重なって設けられている請求項１ないし８のいずれかに記載の光学デバイス。
【請求項１０】
前記光反射板は、前記光反射板の板厚方向からみたときに、前記第１軸部の全体を覆うように形成されている請求項９に記載の光学デバイス。
【請求項１１】
前記光反射板は、前記光反射板の板厚方向からみたときに、前記枠体部の全体を覆うように形成されている請求項１０に記載の光学デバイス。
【請求項１２】
前記枠体部に接続され、前記枠体部を前記第２の軸周りに揺動可能に支持する第２軸部を有し、
前記光反射板は、前記光反射板の板厚方向からみたときに、前記第２軸部の全体を覆うように形成されている請求項１１に記載の光学デバイス。
【請求項１３】
前記枠体部に対向して配置されたコイルと、前記コイルに電圧を印加する電圧印加手段とを有し、
前記永久磁石は、前記枠体部の板厚方向からみたとき、一方の磁極と他方の磁極とが前記第２の軸を挟んで配置されるとともに、前記一方の磁極と前記他方の磁極を結ぶ線とが前記第１の軸および第２の軸に対して傾いている請求項１ないし１２のいずれかに記載の光学デバイス。
【請求項１４】
前記永久磁石は、長手形状をなし、その長手方向に磁化され、
前記枠体部の板厚方向からみたとき、前記永久磁石の一方の端部が前記第１の軸上に配置されている請求項１３に記載の光学デバイス。
【請求項１５】
第１の軸周りに揺動可能な可動部と、前記第１の軸に交差する第２の軸周りに揺動可能な枠体部と、前記可動部を前記枠体部に対して前記第１の軸周りに揺動可能に支持する第１軸部と、前記枠体部に配置された永久磁石と、を備える光学スキャナーであって、
前記可動部は、基部と、前記基部に設けられ、光を反射する光反射板とを有し、
前記枠体部は、前記基部を囲んで設けられ、
前記第１軸部は、一端部が前記基部に接続され、他端部が前記枠体部に接続され、
前記光反射板は、前記第１軸部に対して前記光反射板の板厚方向に離間して設けられ、
前記永久磁石は、前記枠体部の前記光反射板側の面に設けられていることを特徴とする光スキャナー。
【請求項１６】
第１の軸周りに揺動可能な可動部と、前記第１の軸に交差する第２の軸周りに揺動可能な枠体部と、前記可動部を前記枠体部に対して前記第１の軸周りに揺動可能に支持する第１軸部と、前記枠体部に配置された永久磁石と、を備える画像表示装置であって、
前記可動部は、基部と、前記基部に設けられ、光を反射する光反射板とを有し、
前記枠体部は、前記基部を囲んで設けられ、
前記第１軸部は、一端部が前記基部に接続され、他端部が前記枠体部に接続され、
前記光反射板は、前記第１軸部に対して前記光反射板の板厚方向に離間して設けられ、
前記永久磁石は、前記枠体部の前記光反射板側の面に設けられていることを特徴とする画像表示装置。
【手続補正書】
【提出日】平成27年5月7日(2015.5.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に、第１配線と第２配線と、前記第１配線と前記第２配線とを電気的に接続する第１共通配線とを含む、第１配線層を形成する工程と、
前記第１配線層上に、第１絶縁層を形成する工程と、
前記第１絶縁層上に、第３配線と第４配線と、前記第３配線と前記第４配線とを電気的に接続する第２共通配線とを含む、第２配線層を形成する工程と、
前記第１共通配線を切断する工程と、
前記第２配線層上に、第２絶縁層を形成する工程と、
前記第２絶縁層上に、第５配線と第６配線と、前記第５配線と前記第６配線とを電気的に接続する第３共通配線とを含む、第３配線層を形成する工程と、
前記第２共通配線を切断する工程と、を含む
ことを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項２】
基板上に、第１配線と第２配線と、前記第１配線と前記第２配線とを電気的に接続する第１共通配線とを含む、第１配線層を形成する工程と、
前記第１配線層上に、第１絶縁層を形成する工程と、
前記第１絶縁層に、前記第１配線の一部を露出する第１コンタクトホールと、前記第２配線の一部を露出する第２コンタクトホールを形成する工程と、
前記第１絶縁層上に、前記第１コンタクトホールを介して前記第１配線と電気的に接続された第３配線と、前記第２コンタクトホールを介して前記第２配線と電気的に接続された第４配線と、前記第３配線と前記第４配線とを電気的に接続する第２共通配線とを含む、第２配線層を形成する工程と、
前記第１共通配線を切断する工程と、
前記第２配線層上に、第２絶縁層を形成する工程と、
前記第２絶縁層に、前記第３配線の一部を露出する第３コンタクトホールと、前記第４配線の一部を露出する第４コンタクトホールを形成する工程と、
前記第２絶縁層上に、前記第３コンタクトホールを介して前記第３配線と電気的に接続された第５配線と、前記第４コンタクトホールを介して前記第４配線と電気的に接続された第６配線と、前記第５配線と前記第６配線とを電気的に接続する第３共通配線とを含む、第３配線層を形成する工程と、
前記第２共通配線を切断する工程と、
ことを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項３】
前記第３配線層上に、第３絶縁層を形成する工程と、
前記第３絶縁層に、前記第５配線の一部を露出する第５コンタクトホールと、前記第６配線の一部を露出する第６コンタクトホールを形成する工程と、をさらに含み、
前記第５コンタクトホールと前記第６コンタクトホールとを形成する工程は、前記第２共通配線を切断する工程を含み、
前記第２共通配線を切断する工程は、前記第３絶縁層と前記第２絶縁層とを貫き前記第２共通配線を切断する切断ホールを形成する工程と、を含む
ことを特徴とする請求項２に記載の電気光学装置の製造方法。
【請求項４】
前記第２配線層を形成する工程では、前記第２共通配線をシリコン系の材料で形成し、
前記第２絶縁層を形成する工程では、前記第２絶縁層をシリコン系の材料で形成し、
前記第３絶縁層を形成する工程では、前記第３絶縁層をシリコン系の材料で形成し、
前記第２共通配線を切断する工程では、前記第３絶縁層と前記第２絶縁層との前記第２共通配線に重なる部位にエッチング処理を施すことによって、前記第３絶縁層と前記第２絶縁層とともに前記第２共通配線の少なくとも一部を除去する、
ことを特徴とする請求項３に記載の電気光学装置の製造方法。
【請求項５】
前記第３配線層を形成する工程は、
金属系の材料で前記第２絶縁層を覆う膜を形成する工程と、
前記膜にエッチング処理を施すことによって、前記膜から前記第５配線と第６配線と前記第３共通配線とにパターニングする工程と、を含む、
ことを特徴とする請求項２乃至４のいずれか一項に記載の電気光学装置の製造方法。
【請求項６】
前記第２配線を形成する工程では、前記第２共通配線をシリコン系の材料で形成し、
前記第２絶縁層を形成する工程では、前記第２絶縁層をシリコン系の材料で形成し、
前記第２共通配線を切断する工程では、前記第２絶縁層の前記第２共通配線に重なる部位にエッチング処理を施すことによって、前記第２絶縁層とともに前記第２共通配線の少なくとも一部を除去する、
ことを特徴とする請求項１に記載の電気光学装置の製造方法。
【請求項７】
基板と、
前記基板上の第１配線層に設けられた第１配線、第２配線、及び、前記第１配線と前記第２配線との間に配置された第１共通配線と、
前記第１配線層上に設けられた第１絶縁層と、
前記第１絶縁層に設けられ、前記第１配線の一部を露出する第１コンタクトホール、前記第２配線の一部を露出する第２コンタクトホール、及び、前記第１共通配線を前記第１配線と前記第２配線との間で分断する第１切断ホールと、
前記第１絶縁層上の第２配線層に設けられ、前記第１コンタクトホールを介して前記第１配線と電気的に接続された第３配線、前記第２コンタクトホールを介して前記第２配線と電気的に接続された第４配線、及び、前記第３配線と前記第４配線との間に配置された第２共通配線と、
前記第２配線層上に設けられた第２絶縁層と、
前記第２絶縁層に設けられ、前記第３配線の一部を露出する第３コンタクトホール、前記第４配線の一部を露出する第４コンタクトホール、及び、前記第２共通配線を前記第３配線と第４配線との間で分断する第２切断ホールと、
前記第２絶縁層上の第３配線層に設けられ、前記第３コンタクトホールを介して前記第３配線と電気的に接続された第５配線、及び、前記第４コンタクトホールを介して前記第４配線と電気的に接続された第６配線と
を備えたことを特徴とする電気光学装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】電気光学装置の製造方法、及び、電気光学装置