【手続補正書】
【提出日】平成27年7月6日(2015.7.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上のインプリント材に型を用いてパターンを形成するインプリント装置であって、
前記型を保持する型保持手段と、
前記基板を保持する基板保持手段と、
前記型のパターン部と前記基板上に既に形成されているショットとの形状の違いに関する情報を取得する第１の取得手段とを有し、
前記型と前記インプリント材が接触している状態において、前記第１の取得手段により取得した前記形状の違いに関する情報に基づいて前記型と前記基板との間隔を調整する調整手段を有することを特徴とするインプリント装置。
【請求項２】
前記インプリント装置は、前記型と前記基板との間隔に関する情報を取得する第２の取得手段を含み、
前記調整手段は、前記第２の取得手段により取得した前記間隔に関する情報に基づき、前記型保持部と前記基板保持部の少なくとも一方を制御して前記型と前記基板との間隔を調整することを特徴とする請求項１に記載のインプリント装置。
【請求項３】
前記間隔に関する情報は、前記型と前記基板の距離を計測した値と、前記型と前記インプリント材とが接触している状態で前記型と前記基板の間に生じる力の値との少なくとも一方であることを特徴とする請求項２に記載のインプリント装置。
【請求項４】
前記形状の違いに関する情報は、前記型のパターン部に形成されている複数のマークと、前記ショットに形成されている複数のマークとの相対位置の情報であることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか一項に記載のインプリント装置。
【請求項５】
前記型保持手段は、前記型に対して力を加えることで前記型のパターン部を変形させる変形機構を含み、
前記形状の違いに関する情報に基づく前記変形機構による前記型のパターン部の変形を行うことを特徴とする請求項１乃至４のいずれか一項に記載のインプリント装置。
【請求項６】
前記変形機構が前記型のパターン部を変形させた状態で、前記型のパターン部と前記既に形成されているショットとの形状の違いを低減するように、前記型保持部と前記基板保持部の少なくとも一方を制御することを特徴とする請求項５に記載のインプリント装置。
【請求項７】
前記調整手段が前記型と前記基板の間隔を調整して前記型のパターン部を変形させた状態で、前記型のパターン部と前記既に形成されているショットとの形状の違いを低減するように、前記変形機構が前記型のパターン部を変形させることを特徴とする請求項５に記載のインプリント装置。
【請求項８】
前記変形機構は、前記型と前記基板の間隔を調整する方向に対して垂直な面における互いに直交する２つの方向から前記型の側面に対して力を加える機構であり、
前記型を変形させるために前記型のパターン部が形成されている面の裏面の圧力を調整する圧力調整機構を有し、
前記圧力調整機構は、前記形状の違いに関する情報に基づき圧力を調整することを特徴とする請求項５乃至７のいずれか一項に記載のインプリント装置。
【請求項９】
前記第１の取得手段は、前記形状の違いに関する情報に基づく前記変形機構の制御、前記形状の違いに関する情報と前記間隔に関する情報に基づく前記型保持部と前記基板保持部の少なくとも一方の制御、および前記形状の違いに関する情報に基づく前記圧力調整機構の制御うちのいずれか一つの制御を行うことで前記型のパターン部を変形させた状態で、前記型のパターン部と前記既に形成されているショットとの形状の違いを取得することを特徴とする請求項８に記載のインプリント装置。
【請求項１０】
前記形状は倍率を含み、前記形状差は前記型のパターン部の倍率と、前記基板上に形成されたショットの倍率の差であることを特徴とする請求項１乃至９のいずれか一項に記載のインプリント装置。
【請求項１１】
基板上のインプリント材に型を用いてパターンを形成するインプリント装置であって、
前記型を保持する型保持手段と、
前記基板を保持する基板保持手段と、
前記型のパターン部と前記基板上に既に形成されているショットとの形状の違いに関する情報を取得する第１の取得手段とを有し、
前記型と前記インプリント材が接触している状態において、前記第１の取得手段により取得した前記形状の違いに関する情報に基づいて前記型と前記基板との傾きを調整する調整手段を有することを特徴とするインプリント装置。
【請求項１２】
前記インプリント装置は、前記型と前記基板との傾きに関する情報を取得する第２の取得手段を含み、
前記調整手段は、前記第２の取得手段により取得した前記傾きに関する情報に基づき、前記型保持部と前記基板保持部の少なくとも一方を制御して前記型と前記基板との傾きを調整することを特徴とする請求項１１に記載のインプリント装置。
【請求項１３】
請求項１乃至１２のうちいずれか１項に記載のインプリント装置を用いて基板上にパターンを形成するステップと、
前記ステップで前記パターンを形成された前記基板を加工するステップと、
を有することを特徴とする物品の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
上記の課題を考慮してなされた本発明の一側面としてのインプリント装置では、基板上のインプリント材に型を用いてパターンを形成するインプリント装置であって、前記型を保持する型保持手段と、前記基板を保持する基板保持手段と、前記型のパターン部と前記基板上に既に形成されているショットとの形状の違いに関する情報を取得する第１の取得手段とを有し、前記型と前記インプリント材が接触している状態において、前記第１の取得手段により取得した前記形状の違いに関する情報に基づいて前記型と前記基板との間隔を調整する調整手段を有することを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
モールドステージ１４はモールド３のパターン部Ｐに形成されている凹凸パターンを基板２に転写する際に基板２とモールド３との間隔を位置決めするための駆動系であり、Ｚ軸方向に駆動する。また、モールドステージ１４は、モールド３の傾きを決めるための駆動系であっても良く、ωｘ（Ｘ軸周りの回転）方向、ωｙ（Ｙ軸周りの回転）方向に駆動しても良い。このように、モールドステージ１４はパターン転写時には高精度な位置決めが要求されるため、粗動駆動系と微動駆動系など複数の駆動系（調整手段）から構成されていても良い。さらに、Ｚ軸方向だけでなく、Ｘ軸方向、Ｙ軸方向、またはθ（Ｚ軸周りの回転）方向位置調整機能、モールド３の傾きを補正するためのチルト機能を有していても良い。例えば、モールドステージ１４はＺ方向に駆動する複数のアクチュエータを有することによって、各々のアクチュエータの駆動量から、Ｚ軸方向の駆動量と傾きを制御することができる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
基板ステージ１７は、基板２とモールド３の位置合わせをするためのＸ軸方向及びＹ軸方向に駆動する駆動系（調整手段）である。また、Ｘ軸方向とＹ軸方向の駆動系は、粗動駆動系と微動駆動系など複数の駆動系から構成されていてもよい。さらに、Ｚ軸方向の位置調整のための駆動系や、基板２のθ（Ｚ軸周りの回転）方向位置調整機能、基板２の傾きを補正するためのチルト機能を有していても良い。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３０】
本実施形態においては、モールド保持ユニット５や基板保持ユニット６をＺ軸方向に駆動する駆動系、のうち少なくとも一つを間隔調整機構（調整手段）と呼ぶ。当然、モールド保持ユニット５や基板保持ユニット６の両方により基板２とモールド３の間隔を調整するものであっても良い。また、モールド保持ユニット５や基板保持ユニット６の傾きを調整するための駆動系、のうち少なくとも一つを傾き調整機構と呼ぶことにする。同じく、モールド保持ユニット５や基板保持ユニット６の両方により基板２とモールド３の傾きを調整するものであっても良い。また、間隔調整機構に傾きを調整する機能を持たせても良い。