Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成27年5月1日(2015.5.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
１又はそれ以上の周波数バンドを使用してアクセスをサポートするワイヤレス・ローカル・エリア・ネットワーク（ＷＬＡＮ）アクセス・ポイントであって、当該ＷＬＡＮアクセス・ポイントが、ワイヤレス・デバイスの当該ＷＬＡＮアクセス・ポイントとの連携の前に、前記１又はそれ以上の周波数バンドの内１つを使用して問合せを前記ワイヤレス・デバイスから受信し、前記問合せに応答して前記１又はそれ以上の周波数バンドについての指標を前記ワイヤレス・デバイスに送信するように構成され、
当該ＷＬＡＮアクセス・ポイントが更に、アクセスをサポートするために使用される前記１又はそれ以上の周波数バンドの内少なくとも１つの好適な周波数バンドを示す優先度指標を送信するように構成されることを特徴とする、ＷＬＡＮアクセス・ポイント。
【請求項２】
請求項１に記載のＷＬＡＮアクセス・ポイントであって、更に、アクセスをサポートするために使用される前記１又はそれ以上の周波数バンドのそれぞれについてビーコンを送信するように構成される、ＷＬＡＮアクセス・ポイント。
【請求項３】
請求項１に記載のＷＬＡＮアクセス・ポイントにおいて、前記優先度指標が、更に、前記１又はそれ以上の周波数バンドの内少なくともいくつかについてのランキングを示し、該ランキングが、それぞれの前記周波数バンドを使用して前記アクセス・ポイントにアクセスするために相対的で好適なステータスを特定する、ＷＬＡＮアクセス・ポイント。
【請求項４】
請求項１に記載のＷＬＡＮアクセス・ポイントであって、更に、当該ＷＬＡＮアクセス・ポイントの動作特性に基づいて前記優先度指標を決定するように構成される、ＷＬＡＮアクセス・ポイント。
【請求項５】
請求項４に記載のＷＬＡＮアクセス・ポイントにおいて、前記動作特性が当該ＷＬＡＮアクセス・ポイントに対する負荷を含む、ＷＬＡＮアクセス・ポイント。
【請求項６】
請求項４に記載のＷＬＡＮアクセス・ポイントにおいて、前記動作特性が、アクセスをサポートするために使用される前記１又はそれ以上の周波数バンドに関して検出される干渉レベルを含む、ＷＬＡＮアクセス・ポイント。
【請求項７】
請求項１に記載のＷＬＡＮアクセス・ポイントであって、更に、前記ワイヤレス・デバイスの特性に基づいて前記優先度指標を決定するように構成され、前記ワイヤレス・デバイスから前記問合せを受信する、ＷＬＡＮアクセス・ポイント。
【請求項８】
請求項１に記載のＷＬＡＮアクセス・ポイントにおいて、当該ＷＬＡＮアクセス・ポイントが優先度指標を要求する前記ワイヤレス・デバイスからの第２の問合せに応答して、前記優先度指標を送信するように構成される、ＷＬＡＮアクセス・ポイント。
【請求項９】
請求項１に記載のＷＬＡＮアクセス・ポイントにおいて、アクセスをサポートするのに使用される前記１又はそれ以上の周波数バンドについての前記指標が複数のインジケータを含み、各インジケータが、アクセスをサポートするのに使用される前記１又はそれ以上の周波数バンドのそれぞれ１つを特定する、ＷＬＡＮアクセス・ポイント。
【請求項１０】
ワイヤレス・ローカル・エリア・ネットワーク（ＷＬＡＮ）デバイスであって、当該ＷＬＡＮデバイスのＷＬＡＮアクセス・ポイントとの連携の前に、問合せを前記ＷＬＡＮアクセス・ポイントに送信するように構成され、前記問合せが、アクセスをサポートするために、前記ＷＬＡＮアクセス・ポイントによって使用される１又はそれ以上の周波数バンドの指標を要求し、
ＷＬＡＮデバイスが更に、前記ＷＬＡＮアクセス・ポイントから優先度指標を受信するように構成され、該優先度指標が、アクセスをサポートするために前記ＷＬＡＮアクセス・ポイントによって使用される前記１又はそれ以上の周波数バンドの内少なくとも１つの好適な周波数バンドを示すことを特徴とする、ＷＬＡＮデバイス。
【請求項１１】
請求項１０に記載のＷＬＡＮデバイスであって、更に、第１の周波数バンドを使用して前記ＷＬＡＮアクセス・ポイントからビーコンを受信するように構成され、前記問合せが
前記ビーコンの受信に続いて、前記第１周波数バンドを使用して送信される、ＷＬＡＮデバイス。
【請求項１２】
請求項１０に記載のＷＬＡＮデバイスであって、更に、前記受信した優先度指標に基づいて周波数バンドを選択し、該選択された周波数バンドを使用して前記ＷＬＡＮアクセス・ポイントへのアクセスを開始するように構成される、ＷＬＡＮデバイス。
【請求項１３】
１又はそれ以上の周波数バンドを使用してアクセスをサポートするワイヤレス・ローカル・エリア・ネットワーク（ＷＬＡＮ）アクセス・ポイントを動作させる方法であって、
ワイヤレス・デバイスの前記ＷＬＡＮアクセス・ポイントとの連携の前に、前記１又はそれ以上の周波数バンドの内１つを使用して１つのワイヤレス・デバイスから問合せを受信するステップと、
前記問合せに応答して、前記１又はそれ以上の周波数バンドについての指標を前記ワイヤレス・デバイスへ送信するステップと、
前記ワイヤレス・デバイスに優先度指標を送信するステップであって、該優先度指標が、アクセスをサポートするために使用される前記１又はそれ以上の周波数バンドの内少なくとも１つの好適な周波数バンドを示す、ステップと
を含む、方法。
【請求項１４】
プロセッサによって動作されると、請求項１３に記載の方法を実行するように構成される、コンピュータ・プログラム。
【手続補正書】
【提出日】平成27年3月26日(2015.3.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
中心部にシャフトと結合されるホールを含むローターコアと、
前記ローターコアと結合され、離隔して位置する一対の第１永久磁石、及び前記第１永久磁石の一端を互いに連結する第１連結部を含むモジュールと、
を含むローター。
【請求項２】
前記第１連結部は、
前記一対の第１永久磁石のローターコアの内側方向に位置する部分を互いに連結する請求項１に記載のローター。
【請求項３】
前記第１連結部は、
前記ローターコアの内側面と離隔して位置する、
請求項１又は２に記載のローター。
【請求項４】
前記モジュールは、
前記一対の第１永久磁石と離隔して位置する第２永久磁石と、
前記一対の第２永久磁石の一端を連結する第２連結部と、
を含む請求項１乃至３のいずれか１項に記載のローター。
【請求項５】
前記モジュールは、
前記一対の第１永久磁石の間に位置し、前記ローターコアの外側面側に位置する第３永久磁石を含む、
請求項１乃至４のいずれか１項に記載のローター。
【請求項６】
前記モジュールは、偶数個であり、前記偶数個のモジュールは、相互離隔して前記ローターコアに位置し、前記ローターコアの内側面と離隔して位置する、
請求項１乃至５のいずれか１項に記載のローター。
【請求項７】
前記モジュールは、
前記ローターコアに埋設される、
請求項１乃至６のいずれか１項に記載のローター。
【請求項８】
前記第１連結部のうちの中心部分は、永久磁石で構成され、その他の部分は、非磁性物質または空気で構成される、
請求項１乃至７のいずれか１項に記載のローター。
【請求項９】
前記第１連結部は、非磁性物質または空気で構成され、
前記ローターコアは、ソフト磁性材料で構成される、
請求項１乃至８のいずれか１項に記載のローター。
【請求項１０】
請求項１乃至９のいずれか１項に記載のロータと、
前記ローターから離隔して位置し、コイルが巻かる少なくとも１つのスロットを含むステータと、
を有するモータ。
【手続補正書】
【提出日】平成27年4月14日(2015.4.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５９】
本発明は上記の具体例に限定されない。この例は説明のためのものであり、発明の範囲を限定するものではない。ここに記載の方法、装置、組成等は例示であり、発明の範囲を限定するものではない。本発明の範囲は特許請求の範囲により規定される。本発明の実施態様の一部を以下の項目［１］−［９］に記載する。
［１］
複数の結晶粒及び粒界を有する熱電材料の製造方法であって、
熱電材料用に調査される材料組成を決定すること、
現状の製造技術を用いてその材料組成に得られるマトリックス粒度及びマトリックス粒界障壁高さの値の範囲を決定すること、
粒度及び粒界障壁高さの値の範囲の関数として、その材料組成の複数のジーベック係数を計算すること、
粒度及び粒界障壁高さの値の範囲の関数として、その材料組成の複数の電気抵抗値を計算すること、
粒度及び粒界障壁高さの値の範囲の関数として、その材料組成の複数の熱伝導値を計算すること、
計算したジーベック係数、計算した電気抵抗値及び計算した熱伝導値の関数として、その材料組成の性能指数値の範囲を計算すること、
粒度及び粒界障壁高さの値の関数として、その材料組成の性能指数値の一般最大範囲を決定すること、
性能指数値の最大範囲に相当する平均粒度及び粒界障壁高さ及び材料組成を有する熱電材料を製造することを含む方法。
［２］
材料組成がマトリックス熱電材料組成である、項目１記載の方法。
［３］
材料組成がナノ複合熱電材料組成である、項目１記載の方法。
［４］
マトリックス粒度の値が５〜１００ナノメートルである、項目１記載の方法。
［５］
粒界障壁高さの値が１０〜３００meVである、項目１記載の方法。
［６］
製造された熱電材料のマトリックス粒度が、マトリックス粒度にほぼ等しい平均直径を有する複数のナノ粒子を固めることにより得られる、項目１記載の方法。
［７］
製造された熱電材料の粒界障壁高さが、熱電材料のドープにより得られる、項目１記載の方法。
［８］
製造された熱電材料の粒界障壁高さが、熱電材料の製造に用いられる複数のナノ粒子の表面を変えることにより得られる、項目１記載の方法。
［９］
複数のナノ粒子の表面を変えることが、複数のナノ粒子の表面にコーティングを適用することを含む、項目８記載の方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の結晶粒及び粒界を有する熱電材料の製造方法であって、
熱電材料用に調査される材料組成を決定すること、
現状の製造技術を用いてその材料組成に得られるマトリックス粒度及びマトリックス粒界障壁高さの値の範囲を決定すること、
粒度及び粒界障壁高さの得られる値の範囲の関数として、その材料組成の複数のジーベック係数、電気抵抗値及び熱伝導値を計算すること、
計算したジーベック係数、計算した電気抵抗値及び計算した熱伝導値の関数として、その材料組成の性能指数値の範囲を計算すること、
粒度及び粒界障壁高さの値の決定された範囲の関数として、その材料組成の性能指数値の範囲を決定すること、
調査された材料組成を有する粉末を提供すること、ここでこの粉末は、性能指数の決定された範囲内にある性能指数を与える粒度以下の平均直径を有する、
粉末を固め、性能指数値の決定された範囲内の性能指数を与える粒度、粒界障壁高さ及び決定された材料組成を有する熱電材料を製造することを含む方法。
【請求項２】
材料組成がマトリックス熱電材料組成である、請求項１記載の方法。
【請求項３】
材料組成がナノ複合熱電材料組成である、請求項１記載の方法。
【請求項４】
マトリックス粒度の値が５〜１００ナノメートルである、請求項１記載の方法。
【請求項５】
粒界障壁高さの値が１０〜３００meVである、請求項１記載の方法。
【請求項６】
製造された熱電材料のマトリックス粒度が、マトリックス粒度にほぼ等しい平均直径を有する複数のナノ粒子を固めることにより得られる、請求項１記載の方法。
【請求項７】
製造された熱電材料の粒界障壁高さが、熱電材料のドープにより得られる、請求項１記載の方法。
【請求項８】
製造された熱電材料の粒界障壁高さが、熱電材料の製造に用いられる複数のナノ粒子の表面を変えることにより得られる、請求項１記載の方法。
【請求項９】
複数のナノ粒子の表面を変えることが、複数のナノ粒子の表面にコーティングを適用することを含む、請求項８記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成27年1月30日(2015.1.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】半導体装置の作製方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
絶縁表面上に、第１のゲート電極を形成し、
前記第１のゲート電極上に、第１の絶縁層を形成し、
前記第１の絶縁層を介して前記第１のゲート電極と重なる領域を有する半導体層を形成し、
ハーフトーンマスクを用いることによって、第１の領域と第２の領域を有し前記第１の領域が前記第２の領域より薄く、且つ、貫通する開口を有する第２の絶縁層を形成し、
前記第２の絶縁層上に、前記第１の領域を介して前記半導体層と重なる領域を有する第２のゲート電極と、前記第２の領域と重なる領域を有し、且つ前記貫通する開口において下方の配線または電極と接する画素電極と、を形成することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項２】
絶縁表面上に、第１のゲート電極を形成し、
前記第１のゲート電極上に、第１の絶縁層を形成し、
前記第１の絶縁層を介して前記第１のゲート電極と重なる領域を有する酸化物半導体層を形成し、
ハーフトーンマスクを用いることによって、第１の領域と第２の領域を有し前記第１の領域が前記第２の領域より薄く、且つ、貫通する開口を有する第２の絶縁層を形成し、
前記第２の絶縁層上に、前記第１の領域を介して前記酸化物半導体層と重なる領域を有する第２のゲート電極と、前記第２の領域と重なる領域を有し、且つ前記貫通する開口において下方の配線または電極と接する画素電極と、を形成することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項３】
請求項１または請求項２において、
前記第１の領域と重なるように前記第２のゲート電極上に第３の絶縁層と、前記貫通する開口と重なるように前記画素電極上に第４の絶縁層と、を形成することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【手続補正書】
【提出日】平成27年1月23日(2015.1.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
互いに対応するように配置された第１及び第２光源部と、
前記第１光源部が配置された第１ケースと、
前記第２光源部が配置された第２ケースと、
一方の側面が前記第１ケースに連結され、他方の側面が前記第２ケースに連結され、前記第１及び第２光源部からの光が入射される光学板と
を備え、
前記光学板は、第１光学板と第２光学板とを備え、
前記第１光学板と前記第２光学板とは、互いに対応するように配置され、
前記第１光学板と前記第２光学板とは、反射率又は透過率が互いに異なる照明モジュール。
【請求項２】
前記第１光源部と前記第２光源部との間に配置された導光板をさらに備え、
前記第１光学板は前記導光板の下面に配置され、前記第２光学板は前記導光板の上面に配置されている、請求項１に記載の照明モジュール。
【請求項３】
前記第１及び第２光学板は、前記導光板に印刷されている、請求項２に記載の照明モジュール。
【請求項４】
前記導光板は所定のパターンを有する、請求項２又は３に記載の照明モジュール。
【請求項５】
前記所定のパターンは、前記導光板の内部に配置されるか、前記導光板の上面又は下面のいずれか一面にさらに近く配置されている、請求項４に記載の照明モジュール。
【請求項６】
前記導光板の内部に配置された前記所定のパターンは、円、楕円及びスロット形状のうちの少なくとも１つである、請求項５に記載の照明モジュール。
【請求項７】
前記導光板の上面又は下面のいずれか一面に配置された前記所定のパターンは、半円、半楕円及び半スロット形状のうち少なくとも１つである、請求項５に記載の照明モジュール。
【請求項８】
前記パターンの密度は、前記導光板の両側面から前記導光板の中心に行くにつれて大きくなる、請求項４乃至７のいずれかに記載の照明モジュール。
【請求項９】
前記導光板と前記第１光源部との間に配置されて、前記第１光源部からの光の波長と異なる波長を有する光を放出する光励起フィルムをさらに備える、請求項２乃至８のいずれかに記載の照明モジュール。
【請求項１０】
前記導光板の上面と下面のうち少なくとも一面に配置された拡散板をさらに備える、請求項２乃至９のいずれかに記載の照明モジュール。
【請求項１１】
前記第１及び第２光源部は、基板と前記基板に配置された発光素子を有し、
前記第１光源部の発光素子と前記第２光源部の発光素子とは、互いに対応するように配置されている、請求項１乃至１０のいずれかに記載の照明モジュール。
【請求項１２】
前記第１ケースは、前記第１光源部の基板が配置されるベース部と、前記第１光源部の基板の両側面を支持する延長部とを有する、請求項１１に記載の照明モジュール。
【請求項１３】
前記第１ケースは、下部ケースと上部ケースとを有し、
前記下部ケースは、前記第１光源部が配置される第１ベース部と、前記第１ベース部の一端から延長された第１延長部とを有し、
前記上部ケースは、前記第１ベース部が配置される第２ベース部と、前記第２ベース部の一端から延長された第２延長部とを有し、
前記第１延長部と前記第２延長部は、前記第１光源部の基板の両側をそれぞれ支持する、請求項１１に記載の照明モジュール。
【請求項１４】
前記下部ケースの第１延長部の延長長さは、前記上部ケースの第２延長部の延長長さと互いに異なる、請求項１３に記載の照明モジュール。
【請求項１５】
前記第１光学板と前記第２光学板のうち少なくとも１つはホールを有する、請求項１乃至１４のいずれかに記載の照明モジュール。
【請求項１６】
前記第１光学板のホールの形状と、前記第２光学板のホールの形状とは互いに異なる、請求項１５に記載の照明モジュール。
【請求項１７】
前記第１光学板及び前記第２光学板は複数のホールを有し、
前記第１光学板のホールの密度と、前記第２光学板のホールの密度とは互いに異なる、請求項１５又は１６に記載の照明モジュール。
【請求項１８】
前記第１光学板は、前記ホールを複数有し、
前記複数のホールは、前記第１光学板の中心部と外郭部のうち少なくともいずれか１ヶ所に配置されている、請求項１５に記載の照明モジュール。
【請求項１９】
前記第１光学板は、前記複数のホールよりも小さい複数の補助ホールを有し、
前記複数のホールは前記第１光学板の中心部に配置され、前記複数の補助ホールは、前記第１光学板の外郭部に配置されている、請求項１８に記載の照明モジュール。
【請求項２０】
前記第１光学板と前記第２光学板のうち少なくとも１つは、前記第１及び第２光源部からの光の波長と異なる波長を有する光を放出する、請求項１乃至１９のいずれかに記載の照明モジュール。
【請求項２１】
前記第１光学板と前記第２光学板のうち少なくとも１つは、前記第１及び第２光源部からの光を拡散させるための拡散物質を有する、請求項１乃至２０のいずれかに記載の照明モジュール。
【手続補正書】
【提出日】平成27年3月31日(2015.3.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
プログラミング装置（２４）により自動化システム（１０）へアクセスする方法において、
前記自動化システム（１０）および前記プログラミング装置（２４）の現在地から空間的に離れた会議サーバ（２６）を介して、前記プログラミング装置（２４）と、前記自動化システム（１０）に含まれる少なくとも１つの自動化装置（１４）との間で間接的な接続が成立し、
前記会議サーバ（２６）は前記プログラミング装置（２４）での操作行為に依存してエンジニアリングデータ（３６）を少なくとも１つの前記自動化装置（１４）へ伝送し、ここに、
前記会議サーバ（２６）が、エンジニアリングソフトウェア（３４）を有する少なくとも１つのバーチャルマシン（２８〜３２）へのアクセス権を有していて、
前記プログラミング装置（２４）による前記バーチャルマシン（２８〜３２）の遠隔実行を可能とし、
少なくともそれぞれの前記バーチャルマシン（２８〜３２）のスクリーン出力を、前記プログラミング装置（２４）へ伝送する
ことを特徴とする、プログラミング装置により自動化システムへアクセスする方法。
【請求項２】
請求項１に記載の方法において、
一方では前記プログラミング装置（２４）と前記会議サーバ（２６）の間で、および他方では、前記会議サーバ（２６）と少なくとも１つの前記自動化装置（１４）の間で、通信接続が成立する
ことを特徴とする方法。
【請求項３】
請求項２に記載の方法において、
前記会議サーバ（２６）と、それぞれの少なくとも１つの前記バーチャルマシン（２８〜３２）のためのデータベースを有する１つまたは複数の装置との間で別の通信接続が成立する
ことを特徴とする方法。
【請求項４】
請求項１から３のいずれか１項に記載の方法において、
前記エンジニアリングソフトウェア（３４）は複数のバーチャルマシン（２８〜３２）によって冗長的に提供される
ことを特徴とする方法。
【請求項５】
請求項４に記載の方法において、
複数の冗長的なバーチャルマシン（２８〜３２）は場所的に分散して提供される
ことを特徴とする方法。
【請求項６】
請求項４または５に記載の方法において、
それぞれエンジニアリングソフトウェアを有する冗長的なバーチャルマシン（２８〜３２）の場所的に分散した提供が、自動的に保証される
ことを特徴とする方法。
【請求項７】
プログラミング装置（２４）と、自動化システム（１０）の少なくとも１つの自動化装置（１４）と、会議サーバ（２６）と、エンジニアリングソフトウェア（３４）を有する少なくとも１つのバーチャルマシン（２８〜３２）とを含むシステムにおいて、
一方では前記プログラミング装置（２４）と前記会議サーバ（２６）の間で、および他方では少なくとも１つの前記自動化装置（１４）と前記会議サーバの間でバーチャルな通信接続が成立しており、およびこれに伴って前記プログラミング装置（２４）と少なくとも１つの前記自動化装置（１４）の間で間接的な接続が成立しており、
前記会議サーバ（２６）とエンジニアリングソフトウェア（３４）を有する前記バーチャルマシン（２８〜３２）との間にはバーチャルな通信接続が成立しており、およびこれに伴って一方では前記プログラミング装置（２４）と前記バーチャルマシン（２８〜３２）の間で、および他方では少なくとも１つの前記自動化装置（１４）と前記バーチャルマシン（２８〜３２）の間で間接的な接続が成立しており、
前記プログラミング装置（２４）と前記バーチャルマシン（２８〜３２）の間の間接的な接続は前記プログラミング装置（２４）による前記バーチャルマシン（２８〜３２）の遠隔実行を可能にするとともに、少なくともそれぞれの前記バーチャルマシン（２８〜３２）のスクリーン出力の前記プログラミング装置（２４）への伝送を可能にし、
前記会議サーバ（２６）を介して前記プログラミング装置（２４）での操作行為に依存してエンジニアリングデータ（３６）を前記バーチャルマシン（２８〜３２）から少なくとも１つの前記自動化装置（１４）へ伝送可能である
ことを特徴とするシステム。
【請求項８】
プログラミング装置（２４）、会議サーバ（２６）、および自動化装置（１４）のうちの少なくとも１つでプログラムが実行されるときに、請求項１から６のうちの１つの項に記載のすべてのステップを実施するために用いられるプログラムコード手段を有する
ことを特徴とするコンピュータプログラム。
【請求項９】
プログラミング装置（２４）、会議サーバ（２６）、および自動化装置（１４）のうちの適合する少なくとも１つにおいて請求項１から６のうちの１つの項に記載の各ステップを実施するためのプログラムコードが、コンピュータで読み取り可能なデータ担体に保存されている
ことを特徴とするコンピュータプログラム。
【請求項１０】
請求項１から６のいずれか１項に記載の方法の実施のために、プログラミング装置（２４）、会議サーバ（２６）、および自動化装置（１４）のうちの少なくとも１つと連動して電子的に読み出し可能な制御信号を有する
ことを特徴とするデジタル記憶媒体。
【手続補正書】
【提出日】平成27年8月17日(2015.8.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
運動器具のグリップエンドに取り付けられ、加速度を検出する第１のセンサー及び角速度を検出する第２のセンサーの出力データに基づいて、前記運動器具におけるインパクトの位置を推定することを特徴とするスイング分析装置。
【請求項２】
請求項１において、
前記出力データに加えて、前記運動器具に発生する振動に基づいて、前記位置を推定することを特徴とするスイング分析装置。
【請求項３】
請求項２において、
前記振動により発生する角速度の大きさに基づいて、前記インパクトのタイミングを検出することを特徴とするスイング分析装置。
【請求項４】
請求項１乃至３のいずれか一項において、
前記出力データに基づいて、前記運動器具におけるスイング速度を推定することを特徴とするスイング分析装置。
【請求項５】
請求項１乃至４のいずれか一項において、
前記出力データに基づいて、前記運動器具におけるインパクトの状態を判定することを特徴とするスイング分析装置。
【請求項６】
請求項５において、
前記インパクトの状態を複数のレベルで判定することを特徴とするスイング分析装置。
【請求項７】
運動器具のグリップエンドに取り付けられ、加速度を検出する第１のセンサー及び角速度を検出する第２のセンサーの出力データに基づいて、前記運動器具におけるインパクトの位置を推定する手順を含むことを特徴とするスイング分析方法。
【請求項８】
請求項７において、
前記出力データに加えて、前記運動器具に発生する振動に基づいて、前記位置を推定することを特徴とするスイング分析方法。
【請求項９】
請求項８において、
前記振動により発生する角速度の大きさに基づいて、前記インパクトのタイミングを検出する手順を含むことを特徴とするスイング分析方法。
【請求項１０】
請求項７乃至９のいずれか一項において、
前記出力データに基づいて、前記運動器具におけるスイング速度を推定する手順を含むことを特徴とするスイング分析方法。
【請求項１１】
請求項７乃至１０のいずれか一項において、
前記出力データに基づいて、前記運動器具におけるインパクトの状態を判定する手順を含むことを特徴とするスイング分析方法。
【請求項１２】
請求項１１において、
前記インパクトの状態を複数のレベルで判定することを特徴とするスイング分析方法。
【請求項１３】
運動器具のグリップエンドに取り付けられ、加速度を検出する第１のセンサー及び角速度を検出する第２のセンサーの出力データに基づいて、前記運動器具におけるインパクトの位置を推定する手順をコンピューターに実行させることを特徴とするスイング分析プログラム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】スイング分析装置、スイング分析方法およびスイング分析プログラム
【手続補正書】
【提出日】平成27年10月28日(2015.10.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
担体及び担体表面に塗布した触媒活性材料から成り、その際活性材料を結合剤により担体表面に接着させる、触媒の製造において、活性材料が、
−  元素Ｍｏ及びＶを含有する少なくとも１種の微細複合元素酸化物、及び
−  ９８質量％以上がＭｏ及びＯで構成されている物質のモリブデン酸化物である、少なくとも１種の微細物質Ｓ
から成る微細な混合物であることを特徴とする、担体及び担体表面に塗布した触媒活性材料から成る触媒の製法。
【請求項２】
微細物質ＳがＭｏＯ３であることを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
微細物質Ｓの比表面積ＯＭが０．１ｍ２／ｇ以上かつ５ｍ２／ｇ以下であることを特徴とする、請求項１又は２に記載の方法。
【請求項４】
微細物質Ｓの粒径ｄ５０が１μｍ以上かつ２００μｍ以下であることを特徴とする、請求項１から３までのいずれか１項に記載の方法。
【請求項５】
活性材料を層厚１００〜３００μｍで担体表面上に塗布することを特徴とする、請求項１から４までのいずれか１項に記載の方法。
【請求項６】
活性材料が、Ｍｏ及びＶを含有する微細複合元素酸化物の全量に対して１質量％以上かつ３０質量％以下の微細物質Ｓを含有することを特徴とする、請求項１から５までのいずれか１項に記載の方法。
【請求項７】
結合剤が、水２０〜９０質量％及び有機化合物１０〜８０質量％から成る溶液であることを特徴とする、請求項１から６までのいずれか１項に記載の方法。
【請求項８】
微細な混合物が、微細複合元素酸化物を粉砕し、次いで粉砕した微細複合元素酸化物に微細物質Ｓを加えることによって製造されることを特徴とする、請求項１から７までのいずれか１項に記載の方法。
【請求項９】
請求項１から８までのいずれか１項に記載の方法により得られる、アクロレインからアクリル酸への不均一系触媒作用による部分気相酸化に用いられる触媒。
【請求項１０】
担体及び担体表面に塗布した触媒活性材料から成るか、或いは担体及び担体表面に塗布した触媒活性材料及び結合剤から成り、その際、触媒活性材料が、
−  元素Ｍｏ及びＶを含有する少なくとも１種の微細複合元素酸化物、及び
−  モリブデンの酸化物及び高めた温度及び分子酸素の作用下でモリブデンの酸化物を生成するモリブデンの化合物から成る群から選択した少なくとも１種の微細物質Ｓ
から成る微細な混合物である、アクロレインからアクリル酸への不均一系触媒作用による部分気相酸化に用いるための触媒。
【請求項１１】
少なくとも１種の微細物質Ｓが、９８質量％以上が、Ｍｏ及びＯで構成されている物質のモリブデンの酸化物である、請求項１０に記載の触媒。
【請求項１２】
触媒が請求項９から１１までのいずれか１項に記載の触媒であることを特徴とする、アクロレインからアクリル酸への不均一系触媒作用による部分気相酸化の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成27年9月18日(2015.9.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
２００ｍｇのナプロキセンと、細砕マトリクスと、促進剤とを含む医薬組成物の単位剤型であって、
ナプロキセンの粒子の粒子体積に基づいて測定される中央粒径が、５，０００ｎｍより大きくなく、かつ、２５ｎｍより小さくなく、
攪拌速度５０ｒｐｍのＵＳＰ装置ＩＩ（パドル）を用いて、温度３７℃にてｐＨ５の０．１Ｍのリン酸ナトリウムバッファの０．３％ラウリル硫酸ナトリウム（ＳＬＳ）溶液９００ｍＬ中で試験したときの前記単位剤型の溶解率が、ナプロキセンの少なくとも９９質量％が６０分間までに放出される溶解率であることを特徴とする医薬組成物の単位剤型。
【請求項２】
単位剤型が、ナプロキセンの少なくとも９８質量％が４５分間までに放出される溶解率を有する請求項１に記載の単位剤型。
【請求項３】
単位剤型が、ナプロキセンの少なくとも９０質量％が２０分間までに放出される溶解率を有する請求項１に記載の単位剤型。
【請求項４】
単位剤型が、ナプロキセンの少なくとも７７質量％が１５分間までに放出される溶解率を有する請求項１に記載の単位剤型。
【請求項５】
単位剤型が、ナプロキセンの少なくとも５３質量％が１０分間までに放出される溶解率を有する請求項１に記載の単位剤型。
【請求項６】
細砕マトリクスが、ラクトース一水和物、無水ラクトース、及びマンニトールの少なくともいずれかである請求項１から５のいずれかに記載の単位剤型。
【請求項７】
促進剤が、界面活性剤である請求項１から６のいずれかに記載の単位剤型。
【請求項８】
界面活性剤が、ラウリル硫酸ナトリウムである請求項７に記載の単位剤型。
【請求項９】
単位剤型が、硬質ゼラチンカプセルである請求項１に記載の単位剤型。
【請求項１０】
単位剤型が、更に、結合剤、潤滑剤、及び崩壊剤を含む請求項１に記載の単位剤型。
【請求項１１】
単位剤型が、更に、微結晶性セルロース、クロスカルメロースナトリウム、及びステアリルフマル酸ナトリウムを含む請求項１０に記載の単位剤型。
【請求項１２】
粒子体積に基づいて測定される粒径分布のＤｘが、５，０００ｎｍ以下、４，０００ｎｍ以下、３，０００ｎｍ以下、２，０００ｎｍ以下、１，９００ｎｍ以下、１，８００ｎｍ以下、及び１，７００ｎｍ以下からなる群より選択され；ｘが、５０以上である請求項１に記載の単位剤型。
【請求項１３】
単位剤型が、ヒト患者への経口投与時に、５時間未満、４．５時間未満、４時間未満、３．５時間未満、３時間未満、２．５時間未満、２時間未満、１．７５時間未満、１．５時間未満、１．２５時間未満、１．０時間未満、４０分間未満、及び３０分間未満からなる群より選択されるＴｍａｘの中央値を提供する請求項１に記載の単位剤型。
【請求項１４】
単位投与量を投与されたヒト患者における最初の知覚可能な疼痛緩和までの時間が、ナプロキセンの標準的な従来の投与量である５００ｍｇを投与されたヒト患者における最初の知覚可能な疼痛緩和までの時間より短い請求項１に記載の単位剤型。
【請求項１５】
単位投与量を投与されたヒト患者におけるピーク疼痛緩和までの時間が、ナプロキセンの標準的な従来の投与量である５００ｍｇを投与されたヒト患者におけるピーク疼痛緩和までの時間より短い請求項１に記載の単位剤型。
【請求項１６】
請求項１から１５のいずれかに記載の単位剤型の製造方法であって、
少なくとも部分的に粉砕された細砕マトリクスに分散された、５，０００ｎｍより大きくなく、かつ、２５ｎｍより小さくない粒子体積に基づいて測定される中央粒径を有するナプロキセンの粒子を含む固体の分散体を作製するのに十分な時間、粉砕機内で、ナプロキセンと、促進剤と、粉砕可能な細砕マトリクスとを含む組成物を乾式粉砕する工程と、
前記固体の分散体と、薬学的に許容できる担体又は希釈剤とを合わせて、医薬組成物を作製する工程と、
前記医薬組成物を単位剤型に加工する工程と、を含むことを特徴とする方法。
【請求項１７】
粉砕機が、複数の粉砕体を含む請求項１６に記載の方法。
【請求項１８】
細砕マトリクスが、ラクトース一水和物、無水ラクトース、及びマンニトールの少なくともいずれかである請求項１６から１７のいずれかに記載の方法。
【請求項１９】
促進剤が、界面活性剤である請求項１６から１７のいずれかに記載の方法。
【請求項２０】
界面活性剤が、ラウリル硫酸ナトリウムである請求項１９に記載の方法。
【請求項２１】
所定の時点における粉砕機内のナプロキセン、細砕マトリクス、及び促進剤の総量が、２００ｇ、５００ｇ、１ｋｇ、２ｋｇ、５ｋｇ、１０ｋｇ、２０ｋｇ、３０ｋｇ、５０ｋｇ、７５ｋｇ、１００ｋｇ、１５０ｋｇ、２００ｋｇ、５００ｋｇ、１，０００ｋｇ、１，５００ｋｇ、及び２，０００ｋｇからなる群より選択される質量以上である請求項１６から２０のいずれかに記載の方法。
【請求項２２】
少なくとも部分的に粉砕された細砕マトリクスに分散されたナプロキセンの粒子の固体の分散体を作製するのに十分な時間、粉砕機内で、ナプロキセンと、促進剤と、粉砕可能な細砕マトリクスとを乾式粉砕する工程と、
治療有効量の前記固体の分散体と、薬学的に許容できる担体又は賦形剤とを合わせて、医薬組成物を作製する工程と、を含み、
前記粉砕可能な細砕マトリクスの粒子径が前記乾式粉砕によって低下し、
ナプロキセンの粒子の粒子数に基づいて測定される平均粒径又は粒子体積に基づいて測定される中央粒径が、５，０００ｎｍより大きくなく、かつ、２５ｎｍより小さくなく、
所定の時点における前記粉砕機内のナプロキセン、前記細砕マトリクス、及び前記促進剤の総量が、２００ｇ、５００ｇ、１ｋｇ、２ｋｇ、５ｋｇ、１０ｋｇ、２０ｋｇ、３０ｋｇ、５０ｋｇ、７５ｋｇ、１００ｋｇ、１５０ｋｇ、２００ｋｇ、５００ｋｇ、１，０００ｋｇ、１，５００ｋｇ、及び２，０００ｋｇからなる群より選択される質量以上であることを特徴とする医薬組成物の調製方法。
【請求項２３】
粉砕機が、更に複数の粉砕体を含む請求項２２に記載の方法。
【請求項２４】
細砕マトリクスが、ラクトース一水和物、無水ラクトース、及びマンニトールの少なくともいずれかである請求項２２から２３のいずれかに記載の方法。
【請求項２５】
促進剤が、ラウリル硫酸ナトリウムである請求項２２から２３のいずれかに記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成27年10月9日(2015.10.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ワイヤーロープを磁化し発生する磁束を検出することにより前記ワイヤーロープの損傷の有無を検査するロープ探傷装置において、
前記ワイヤーロープの移動方向に所定の間隔で設置され、正負一対の磁極を形成して前記ワイヤーロープを磁化するための複数の磁石と、
前記複数の磁石を両端で固定して磁気的に連結するヨークと、
前記複数の磁石の間に設置され前記磁束を検出する検出コイルと、
前記検出コイルを固定するとともに、前記複数の磁石および前記ヨークを有し、全体として磁気回路を構成して前記ワイヤーロープを磁化する磁化装置と、
前記検出コイルと前記磁化装置を覆うように配設され、前記ワイヤーロープの摺動をガイドするガイド部と、
前記ガイド部の両端部に取付けられ、前記ワイヤーロープが摺動する摺動位置を保持してロープ振動を抑制するロープ振動抑制治具と、
を備えたことを特徴とするロープ探傷装置。
【請求項２】
前記ガイド部は、前記ワイヤーロープが摺動するガイド面の断面形状がＶ字型であることを特徴とする請求項１に記載のロープ探傷装置。
【請求項３】
前記ロープ振動抑制治具は、前記ガイド部のガイド面の底面より高い位置で前記ワイヤーロープが摺動する摺動位置を保持することを特徴とする請求項１または請求項２に記載のロープ探傷装置。
【請求項４】
前記ロープ振動抑制治具は、前記ワイヤーロープが摺動する摺動部の断面形状がＶ字型であることを特徴とする請求項１から３のいずれか１項に記載のロープ探傷装置。
【請求項５】
前記ロープ振動抑制治具は、前記ワイヤーロープと接する面の端部に面取りが形成されていることを特徴とする請求項１から４のいずれか１項に記載のロープ探傷装置。
【請求項６】
前記ロープ振動抑制治具を構成する２つのガイド間のピッチをストランドピッチに合わせたことを特徴とする請求項１から５のいずれか１項に記載のロープ探傷装置。
【手続補正書】
【提出日】平成26年11月13日(2014.11.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
機械監視システム（１００）であって、
機械（１０６）の表面（１０８）に取り付けられたハウジング（１０２）と、
前記機械の状態を示す前記機械のパラメータを監視し、個別の出力信号（２０２）を生成するように構成された複数のセンサ（１１０）と、
前記ハウジング内に配置された、前記個別の出力信号を受信し、前記個別の出力信号に基づいて補正済みの出力（２０６）を生成するように構成されたボーティグモジュール（１１６）と、
前記ハウジング内に配置された、前記機械の構造に関する手動入力関数（２１０）を格納するように構成された格納場所を有するメモリ装置（１１８）と、
前記ハウジング内に配置された、前記ボーティグモジュール及び前記メモリ装置に通信可能に結合された寿命計算器（１２０）であって、前記補正済みの出力及び前記手動入力関数を使用して前記機械の残存寿命を判定するように構成された寿命計算器と、
前記ハウジング内に配置された、前記機械の前記残存寿命を表示する（２１４）ように構成されたディスプレイ（１２２）と、
を有するシステム。
【請求項２】
前記機械（１０６）の前記状態は、前記機械（１０６）の残存寿命に関連付け可能である、請求項１に記載のシステム（１００）。
【請求項３】
前記複数のセンサ（１１０）が、前記機械（１０６）の温度を監視するように構成された、請求項１または２に記載のシステム（１００）。
【請求項４】
前記複数のセンサ（１１０）どうしが、約１２０度だけ周方向に離間している、請求項１乃至３のいずれかに記載のシステム（１００）。
【請求項５】
前記機械（１０６）の構造に関する前記手動入力関数（２１０）が、巻線の絶縁タイプ及び冷却タイプのうち少なくとも一方を含む、請求項１乃至４のいずれかに記載のシステム（１００）。
【請求項６】
前記寿命計算器（１２０）が、前記生成された個別の出力信号（２０２）の百分率値を判定するように構成された、請求項１乃至５のいずれかに記載のシステム（１００）。
【請求項７】
前記寿命計算器（１２０）が、所定時間にわたる前記生成された個別の出力信号（２０２）の平均値の百分率値を判定するように構成された、請求項１乃至６のいずれかに記載のシステム（１００）。
【請求項８】
前記寿命計算器（１２０）が、所定時間にわたる前記生成された個別の出力信号（２０２）の平均値の百分率値を使用して残存寿命出力を判定する（２１２）ように構成された、請求項１乃至７のいずれかに記載のシステム（１００）。
【請求項９】
前記寿命計算器（１２０）が、前記パラメータが所定の閾値範囲を超過したことを判定し、前記超過を示す出力を生成するように構成された、請求項１乃至８のいずれかに記載のシステム（１００）。
【請求項１０】
前記寿命計算器（１２０）が、プロセッサ（１１４）を有し、前記寿命計算器が、前記システムの外部への将来の出力と前記システム上のディスプレイへの将来の出力のうち少なくとも一方のために、算出された出力を前記システム上に格納するように構成された、請求項１乃至９のいずれかに記載のシステム（１００）。
【手続補正書】
【提出日】平成26年11月25日(2014.11.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
背面プレート（２１）および側壁（２２）を有する支持構造と、
物品の電気的測定用のプローブ（３０）と、
前記プローブ（３０）を前記背面プレート（２１）に支持可能に連結するように配置された弾性基部（４０）と、
を備え、
前記プローブ（３０）が通常は前記背面プレート（２１）から離れる方向で前記側壁（２２）の遠位側縁部（２４）を越えて突出し、
前記支持構造の構成要素が前記物品に接触するようにして前記プローブ（３０）が電気的測定のために前記物品に当てられると、印加される力の増加に関係なく所定の負荷が前記弾性基部（４０）に一貫して加えられ、
側壁に沿って配列し、前記背面プレートから離れる方向に突出し、前記背面プレートからの前記側壁の遠位側縁部の高さと均一な高さを確立する頂点を有するねじ頭をさらに備える、
電気的測定用の力補償プローブ（１０）。
【請求項２】
前記背面プレート（２１）および前記側壁（２２）がほぼ長方形の形状を有する、請求項１に記載の力補償プローブ（１０）。
【請求項３】
背面プレート（２１）および前記背面プレート（２１）の周りに延在する側壁（２２）を有して、前記背面プレート（２１）から前記側壁（２２）の遠位側縁部（２４）までで画定されるエンクロージャを形成するエンクロージャ（２０）と、
物品の電気的測定用のプローブ（３０）と、
前記プローブ（３０）を前記背面プレート（２１）に支持可能に連結するように前記エンクロージャ（２０）内に配置された弾性基部（４０）と、
を備え、
前記プローブ（３０）が通常は前記背面プレート（２１）から離れる方向で前記側壁（２２）の前記遠位側縁部（２４）を越えて突出し、
前記エンクロージャ（２０）および前記プローブ（３０）が電気的測定のために前記物品に当てられると、印加される力の増加に関係なく所定の負荷が前記弾性基部（４０）に一貫して加えられ、
側壁に沿って配列し、前記背面プレートから離れる方向に突出し、前記背面プレートからの前記側壁の遠位側縁部の高さと均一な高さを確立する頂点を有するねじ頭をさらに備える、
電気的測定用の力補償プローブ（１０）。
【請求項４】
前記エンクロージャに連結されたハンドル（５０）をさらに備える、請求項３に記載の力補償プローブ（１０）。
【請求項５】
前記側壁（２２）のうち１つに画定された貫通穴を介して前記プローブ（３０）に電気的に連結された電気的コネクタ（６０）をさらに備える、請求項３に記載の力補償プローブ（１０）。
【請求項６】
前記プローブ（３０）が前記物品の電気インピーダンスを測定する、請求項３に記載の力補償プローブ（１０）。
【請求項７】
前記弾性基部（４０）が、
案内プレート（４１）と、
前記案内プレート（４１）と前記背面プレート（２１）の間で支持可能に介在する弾性要素（４２）と、
を備える、請求項３に記載の力補償プローブ（１０）。
【請求項８】
前記弾性基部（４０）の荷重負荷および荷重除去と関連した前記案内プレート（４１）の移動を抑制するため、前記案内プレート（４１）が、前記背面プレート（２１）に画定された案内スロット（４１３１）を通して延在可能な突出部（４１３）を備える、請求項７に記載の力補償プローブ（１０）。
【請求項９】
前記案内プレート（４１）がキャビティ（４２１）を画定するように形成され、前記プローブ（３０）の部分が前記キャビティ（４２１）を通して露出するように支持される補助プレート（４４０）を含む、請求項７に記載の力補償プローブ（１０）。
【請求項１０】
前記プローブ（３０）を保護するように覆うカバー（３０２）をさらに備える、請求項３に記載の力補償プローブ（１０）。
【手続補正書】
【提出日】平成26年11月25日(2014.11.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
全出力コンバータ・アセンブリ（１０２）に対する試験装置（２００／３００／４００／５００）であって、
公共送電網電力供給装置（２０２／２０４）と、
前記公共送電網電力供給装置に結合された整流装置と、
前記整流装置に結合された電力送電網シミュレーション・デバイス（２１８／２２４）と、
前記電力送電網シミュレーション・デバイスに直接結合され、シミュレートされた機械負荷として構成された可変周波数駆動デバイス（２０８／３０６）と、
前記電力送電網シミュレーション・デバイスに結合された全出力コンバータ・アセンブリ試験接続部（１２６／１２８）と、を備える試験装置（２００／３００／４００／５００）。
【請求項２】
前記公共送電網電力供給装置（２０２／２０４）は変動率変圧器（２０４）を備える、請求項１に記載の試験装置（２００／３００／４００／５００）。
【請求項３】
前記電力送電網シミュレーション・デバイス（２１８／２２４）はアクティブ・フロント・エンド周波数制御デバイス（２１８）を備える、請求項１に記載の試験装置（２００／３００／４００／５００）。
【請求項４】
前記電力送電網シミュレーション・デバイス（２１８／２２４）はロー・パス・フィルタ（２２４）を備える、請求項１に記載の試験装置（２００／３００／４００／５００）。
【請求項５】
誘導型高周波結合デバイス（１３０）と、
誘導型低周波結合デバイス（３１６／４０２）と、
モーター発電機ユニット（５０２）と、
のうちの少なくとも１つをさらに備える、請求項１に記載の試験装置（２００／３００／４００／５００）。
【手続補正書】
【提出日】平成26年11月14日(2014.11.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも１つのプリンタプロセッサを有するプリンタシステム内でプロセッサを用いて顧客交換可能ユニットを認証するための方法であって、
前記顧客交換可能ユニットのプロセッサにおいて、前記顧客交換可能ユニットに対してだけ妥当な第１の認証コードを生成することと、
前記少なくとも１つのプリンタプロセッサにおいて、前記顧客交換可能ユニットに関連する第２の認証コードを生成することと、
前記第１の認証コードと前記第２の認証コードとが一致する場合には前記顧客交換可能ユニットを前記プリンタシステム内で使用するために認証し、前記第１の認証コードと前記第２の認証コードが一致しない場合には前記第１の認証コードと前記第２の認証コードが一致するまで顧客交換可能ユニットの認証プロセスを繰り返し行うことと、を含む、
方法。
【請求項２】
前記顧客交換可能ユニットには前記顧客交換可能ユニットに関連したデータ値が少なくとも１つ保存されている、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記顧客交換可能ユニット上に保存された少なくとも１つのデータ値が、前記顧客交換可能ユニットと、ランダムに生成された値と、マーケット指示子コードとに関連するＩＤ情報からなる群から選択される、請求項２に記載の方法。
【請求項４】
前記少なくとも１つのプリンタプロセッサにおいて、前記第１の認証コードと前記少なくとも１つのデータ値とを前記顧客交換可能ユニットから受け取ることをさらに含む、請求項３に記載の方法。
【請求項５】
前記顧客交換可能ユニットから受け取った前記データ値によって生成された第２の認証コードと前記第１の認証コードを比較して前記顧客交換可能ユニットの認証を行うことをさらに含む、請求項４に記載の方法。
【請求項６】
前記少なくとも１つのプリンタプロセッサにおいて、前記少なくとも１つのデータ値に基づいて前記顧客交換可能ユニットが前記印刷システムに適合するかどうかを判断することをさらに含む、請求項５に記載の方法。
【請求項７】
無認可の顧客交換可能ユニットから印刷システムを守るためのシステムであって、
顧客交換可能ユニットプロセッサにより生成され、その後、前記印刷システム内の前記顧客交換可能ユニットからプリンタに伝達される少なくとも１つのデータ値と第１の認証コードとを提供するための顧客交換可能ユニットインタフェースと、
第２の認証コードを生成することと、
前記第１の認証コードと前記第２の認証コードとに基づき前記顧客交換可能ユニットを認証することと、
前記第１の認証コードと前記第２の認証コードが一致する場合には前記プリンタシステムにおける前記顧客交換可能ユニットの使用を認可し、前記第１の認証コードと前記第２の認証コードが一致しない場合には前記顧客交換可能ユニットを不合格と判定することとにより、
認可サービスを処理するための命令を実行するためのプリンタプロセッサと、を含む、システム。
【請求項８】
前記顧客交換可能ユニットが、前記顧客交換可能ユニットに関連する少なくとも１つのデータ値を生成する、請求項７に記載のシステム。
【請求項９】
前記顧客交換可能ユニット上で生成された少なくとも１つのデータ値が、前記顧客交換可能ユニットと、ランダムに生成されたコードキーと、マーケット指示子コードとに関連するＩＤ情報からなる群から選択される、請求項８に記載のシステム。
【請求項１０】
前記第１の認証コードが、前記少なくとも１つのデータ値を用いて前記顧客交換可能ユニット内の乱数を含むキーコード作成アルゴリズムにより生成される、請求項９に記載のシステム。
【手続補正書】
【提出日】平成26年11月14日(2014.11.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
中間転写部材を再生する方法であって、
前記中間転写部材の外側層をアルコールではがすことと、
ポリマー、導電性粒子、溶媒の混合物で、つなぎ目のない中間転写部材の外側表面をコーティングすることと、
この混合物を加熱し、前記中間転写ベルトの外側表面の層を作成することと、を含む、方法。
【請求項２】
中間転写部材を再生する装置であって、
中間転写ベルトを回転させ、引っ張るための駆動機構と、
前記中間転写ベルトにオーバーコート溶液を塗布するためのフローコーティング分注部材と、を備え、前記フローコーティング分注部材が、前記中間転写ベルトの回転方向に平行および垂直の両方向に移動することができる、装置。
【請求項３】
中間転写部材を再生するための方法であって、
前記中間転写部材の外側層をイソプロパノールではがすことと、
ポリマー、導電性粒子、溶媒の混合物で、つなぎ目のない中間転写部材の外側表面をフローコーティングすることと、
前記混合物を加熱し、前記中間転写ベルトの前記外側表面の表面層を作成することと、を含み、ここで、前記表面層が、１０ミクロン〜１５０ミクロンの厚みを有し、表面抵抗が、１０９オーム／スクエア〜１０１３オーム／スクエアである、方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】中間転写部材の再生方法および再生装置