【手続補正書】
【提出日】平成27年6月12日(2015.6.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
試料がプラズマ処理されるプラズマ処理室と、前記プラズマ処理室内にプラズマを生成させるための第一の高周波電力を供給する第一の高周波電源と、前記試料が載置される試料台と、前記試料台に第二の高周波電力を供給する第二の高周波電源と、前記試料台に印加にされた電圧と電流を検出する検出手段と、前記第一の高周波電源と前記第二の高周波電源とを制御する制御装置とを備えるプラズマ処理装置において、
前記制御装置は、前記検出手段により検出された電流波形のデータに基づいて前記第一の高周波電力を制御するとともに前記検出手段により検出された電圧波形のデータに基づいて前記第二の高周波電力を制御することを特徴とするプラズマ処理装置。
【請求項２】
試料がプラズマ処理されるプラズマ処理室と、前記プラズマ処理室内にプラズマを生成させるための第一の高周波電力を供給する第一の高周波電源と、前記試料が載置される試料台と、前記試料台に第二の高周波電力を供給する第二の高周波電源と、前記試料台に印加にされた電圧と電流を検出する検出手段と、前記第一の高周波電源と前記第二の高周波電源とを制御する制御装置とを備えるプラズマ処理装置において、
前記検出手段は、検出された電圧波形と検出された電流波形との位相差を求め、
前記制御装置は、前記検出手段により検出された電流波形のデータと前記位相差に基づいて前記第一の高周波電力を制御するとともに前記検出手段により検出された電圧波形のデータに基づいて前記第二の高周波電力を制御することを特徴とするプラズマ処理装置。
【請求項３】
請求項１または請求項２に記載のプラズマ処理装置において、
前記検出された電流波形のデータは、前記検出された電流波形の最大振幅値から最小振幅値を減じた値であり、
前記検出された電圧波形のデータは、前記検出された電圧波形の最大振幅値から最小振幅値を減じた値であることを特徴とするプラズマ処理装置。
【請求項４】
請求項１または請求項２に記載のプラズマ処理装置において、
前記検出された電流波形のデータは、前記第二の高周波電源の周波数と同じ周波数成分の電流波形であり、
前記検出された電圧波形のデータは、前記第二の高周波電源の周波数と同じ周波数成分の電圧波形であることを特徴とするプラズマ処理装置。
【請求項５】
請求項１または請求項２に記載のプラズマ処理装置において、
前記検出された電流波形のデータは、前記第二の高周波電源の周波数に対して５倍から１０倍の範囲における周波数の電流波形であり、
前記検出された電圧波形のデータは、前記第二の高周波電源の周波数に対して５倍から１０倍の範囲における周波数の電圧波形であることを特徴とするプラズマ処理装置。
【請求項６】
試料がプラズマ処理されるプラズマ処理室と、前記プラズマ処理室内にプラズマを生成させるための第一の高周波電力を供給する第一の高周波電源と、前記試料が載置される試料台と、前記試料台に第二の高周波電力を供給する第二の高周波電源と、前記試料台に印加にされた電圧と電流を検出する第一の検出手段と、プラズマ発光を検出する第二の検出手段と、前記第一の高周波電源と前記第二の高周波電源とを制御する制御装置とを備えるプラズマ処理装置において、
前記制御装置は、前記第一の検出手段により検出された電流波形のデータと前記第二の検出手段により検出されたプラズマ発光データに基づいて前記第一の高周波電力を制御するとともに前記第一の検出手段により検出された電圧波形のデータに基づいて前記第二の高周波電力を制御することを特徴とするプラズマ処理装置。
【請求項７】
請求項６に記載のプラズマ処理装置において、
前記第一の検出手段により検出された電流波形のデータは、前記第一の検出手段により検出された電流波形の最大振幅値から最小振幅値を減じた値であり、
前記第一の検出手段により検出された電圧波形のデータは、前記第一の検出手段により検出された電圧波形の最大振幅値から最小振幅値を減じた値であることを特徴とするプラズマ処理装置。
【請求項８】
請求項６に記載のプラズマ処理装置において、
前記第一の検出手段により検出された電流波形のデータは、前記第二の高周波電源の周波数と同じ周波数成分の電流波形であり、
前記第一の検出手段により検出された電圧波形のデータは、前記第二の高周波電源の周波数と同じ周波数成分の電圧波形であることを特徴とするプラズマ処理装置。
【請求項９】
請求項６に記載のプラズマ処理装置において、
前記第一の検出手段により検出された電流波形のデータは、前記第二の高周波電源の周波数に対して５倍から１０倍の範囲における周波数の電流波形であり、
前記第一の検出手段により検出された電圧波形のデータは、前記第二の高周波電源の周波数に対して５倍から１０倍の範囲における周波数の電圧波形であることを特徴とするプラズマ処理装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
本発明は、試料がプラズマ処理されるプラズマ処理室と、前記プラズマ処理室内にプラズマを生成させるための第一の高周波電力を供給する第一の高周波電源と、前記試料が載置される試料台と、前記試料台に第二の高周波電力を供給する第二の高周波電源と、前記試料台に印加にされた電圧と電流を検出する検出手段と、前記第一の高周波電源と前記第二の高周波電源とを制御する制御装置とを備えるプラズマ処理装置において、前記制御装置は、前記検出手段により検出された電流波形のデータに基づいて前記第一の高周波電力を制御するとともに前記検出手段により検出された電圧波形のデータに基づいて前記第二の高周波電力を制御することを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
また、本発明は、試料がプラズマ処理されるプラズマ処理室と、前記プラズマ処理室内にプラズマを生成させるための第一の高周波電力を供給する第一の高周波電源と、前記試料が載置される試料台と、前記試料台に第二の高周波電力を供給する第二の高周波電源と、前記試料台に印加にされた電圧と電流を検出する検出手段と、前記第一の高周波電源と前記第二の高周波電源とを制御する制御装置とを備えるプラズマ処理装置において、前記検出手段は、検出された電圧波形と検出された電流波形との位相差を求め、前記制御装置は、前記検出手段により検出された電流波形のデータと前記位相差に基づいて前記第一の高周波電力を制御するとともに前記検出手段により検出された電圧波形のデータに基づいて前記第二の高周波電力を制御することを特徴とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
また、本発明は、試料がプラズマ処理されるプラズマ処理室と、前記プラズマ処理室内にプラズマを生成させるための第一の高周波電力を供給する第一の高周波電源と、前記試料が載置される試料台と、前記試料台に第二の高周波電力を供給する第二の高周波電源と、前記試料台に印加にされた電圧と電流を検出する第一の検出手段と、プラズマ発光を検出する第二の検出手段と、前記第一の高周波電源と前記第二の高周波電源とを制御する制御装置とを備えるプラズマ処理装置において、前記制御装置は、前記第一の検出手段により検出された電流波形のデータと前記第二の検出手段により検出されたプラズマ発光データに基づいて前記第一の高周波電力を制御するとともに前記第一の検出手段により検出された電圧波形のデータに基づいて前記第二の高周波電力を制御することを特徴とする。