Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成27年7月9日(2015.7.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
車両のボディ外面に設置され、アンテナ（１１０Ａ、１１０Ｂ）と、前記アンテナを介した無線通信を行う無線通信部（１９０）と、この無線通信部の温度を検出する温度センサ（１９２）とを備えるアンテナモジュール（１００、１００Ａ）と、
前記車両の内部に設置され、前記無線通信部の温度が異常であるか否かを判定するとともに、前記無線通信部の制御を行う通信ＥＣＵ（２００、２００Ａ）と、
前記アンテナモジュールと前記通信ＥＣＵとの間で通信する装置内通信部（２０）とを備え、
前記通信ＥＣＵは、前記無線通信部の環境温度に影響する環境温度変化パラメータである日照量、車速、外気温の少なくとも一つを取得し、取得した前記環境温度変化パラメータに基づいて異常判定閾値を設定し、設定した異常判定閾値と、前記温度センサが検出した無線通信部の温度との比較に基づいて前記無線通信部の温度が異常であるか否かを判定することを特徴とする車両用無線通信装置（１、１Ａ）。
【請求項２】
車両のボディ外面に設置され、アンテナ（１１０Ａ、１１０Ｂ）と、前記アンテナを介した無線通信を行う無線通信部（１９０）と、この無線通信部の温度を検出する温度センサ（１９２）とを備えるアンテナモジュール（１００、１００Ａ）と、
前記車両の内部に設置され、前記無線通信部の温度が異常であるか否かを判定するとともに、前記無線通信部の制御を行う通信ＥＣＵ（２００、２００Ａ）と、
前記アンテナモジュールと前記通信ＥＣＵとの間で通信する装置内通信部（２０）とを備え、
前記通信ＥＣＵは、正常状態である前記無線通信部の温度変化に影響する温度変化パラメータを取得し、取得した温度変化パラメータに基づいて異常判定閾値を設定し、設定した異常判定閾値と、前記温度センサが検出した無線通信部の温度との比較に基づいて前記無線通信部の温度が異常であるか否かを判定するとともに、異常であると判定する場合には、複数に区分した異常レベルのうちのいずれであるかも判定し、前記異常レベルが最も高い場合には無線送信を停止し、前記異常レベルが最も高いレベルよりも低い場合には、異常レベルに対応して予め設定された、送信電力を低減する制御を行うことを特徴とする車両用無線通信装置（１、１Ａ）。
【請求項３】
請求項２において、
前記通信ＥＣＵは、前記温度変化パラメータとして、前記無線通信部の環境温度に影響
する環境温度変化パラメータを取得することを特徴とする車両用無線通信装置。
【請求項４】
請求項３において、
前記環境温度変化パラメータは、日照量、車速、外気温の少なくとも一つであることを
特徴とする車両用無線通信装置。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか１項において、
前記通信ＥＣＵは、前記温度変化パラメータとして、前記無線通信部の送信電力に関連する送信電力関連パラメータを取得することを特徴とする車両用無線通信装置。
【請求項６】
請求項５において、
前記送信電力関連パラメータは、送信デューティ比および最大送信電力の少なくとも一方であることを特徴とする車両用無線通信装置。
【請求項７】
請求項２において、
前記通信ＥＣＵは、
異常レベルを３つに区分して前記無線通信部の異常判定を行い、
前記異常レベルが最も異常であることを示すレベルの場合には無線送信を停止し、
前記異常レベルが最も低いレベルの場合には、送信デューティ比を正常時よりも低くし、
前記異常レベルが中間レベルの場合には、送信デューティ比を正常時よりも低くし、且つ、最大送信電力を正常時よりも低くすることを特徴とする車両用無線通信装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
その目的を達成するための第１発明は、車両のボディ外面に設置され、アンテナ（１１０Ａ、１１０Ｂ）と、前記アンテナを介した無線通信を行う無線通信部（１９０）と、この無線通信部の温度を検出する温度センサ（１９２）とを備えるアンテナモジュール（１００、１００Ａ）と、前記車両の内部に設置され、前記無線通信部の温度が異常であるか否かを判定するとともに、前記無線通信部の制御を行う通信ＥＣＵ（２００、２００Ａ）と、前記アンテナモジュールと前記通信ＥＣＵとの間で通信する装置内通信部（２０）とを備え、前記通信ＥＣＵは、前記無線通信部の環境温度に影響する環境温度変化パラメータである日照量、車速、外気温の少なくとも一つを取得し、取得した前記環境温度変化パラメータに基づいて異常判定閾値を設定し、設定した異常判定閾値と、前記温度センサが検出した無線通信部の温度との比較に基づいて前記無線通信部の温度が異常であるか否かを判定することを特徴とする車両用無線通信装置（１、１Ａ）である。
また、その目的を達成するための第２発明は、車両のボディ外面に設置され、アンテナ（１１０Ａ、１１０Ｂ）と、前記アンテナを介した無線通信を行う無線通信部（１９０）と、この無線通信部の温度を検出する温度センサ（１９２）とを備えるアンテナモジュール（１００、１００Ａ）と、前記車両の内部に設置され、前記無線通信部の温度が異常であるか否かを判定するとともに、前記無線通信部の制御を行う通信ＥＣＵ（２００、２００Ａ）と、前記アンテナモジュールと前記通信ＥＣＵとの間で通信する装置内通信部（２０）とを備え、前記通信ＥＣＵは、正常状態である前記無線通信部の温度変化に影響する温度変化パラメータを取得し、取得した温度変化パラメータに基づいて異常判定閾値を設定し、設定した異常判定閾値と、前記温度センサが検出した無線通信部の温度との比較に基づいて前記無線通信部の温度が異常であるか否かを判定するとともに、異常であると判定する場合には、複数に区分した異常レベルのうちのいずれであるかも判定し、前記異常レベルが最も高い場合には無線送信を停止し、前記異常レベルが最も高いレベルよりも低い場合には、異常レベルに対応して予め設定された、送信電力を低減する制御を行うことを特徴とする車両用無線通信装置（１、１Ａ）である。
【手続補正書】
【提出日】平成27年10月6日(2015.10.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
有機ＥＬ発光層と、前記有機ＥＬ発光層を含む表示領域とを備える第１基板と、
前記第１基板と対向して配置される第２基板と、
前記表示領域の外側に位置し、前記第１基板と前記第２基板とを貼り合せ、前記表示領域の外縁の全体に沿って配置されず、前記外縁の一部のみに沿って配置されるダム材と、
前記第１基板と前記第２基板との空間に、前記ダム材と接して充填された充填材と、を有することを特徴とする表示装置。
【請求項２】
前記第１基板は、前記ダム材によって前記表示領域から隔てられた領域に、端子部を備えることを特徴とする請求項１に記載の表示装置。
【請求項３】
前記表示領域は矩形状であり、前記ダム材は前記表示領域の外縁の一辺のみに沿って配置されることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の表示装置。
【請求項４】
前記表示領域は矩形状であり、前記ダム材は前記表示領域の外縁の対向する二辺のみに沿って配置されることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の表示装置。
【請求項５】
前記ダム材及び前記充填材は、それぞれ透明な樹脂であり、前記ダム材は前記充填材よりも硬化前の粘度が高い樹脂であることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか一項に記載の表示装置。
【請求項６】
有機ＥＬ発光層と、前記有機ＥＬ発光層を含む表示領域とを備える第１基板と、
前記第１基板と対向して配置される第２基板と、
前記表示領域の外側に位置し、前記第１基板と前記第２基板とを貼り合せ、前記表示領域の外縁の全体に沿って配置されず、前記外縁の一部のみに沿って配置されるダム材と、
前記第１基板と前記第２基板との空間に、前記ダム材と接して充填された充填材と、を有し、
前記ダム材は、前記表示領域の第１の辺に隣接する位置に、前記第１の辺の延長方向と同じ方向に線状に延びる第１の線状部を有することを特徴とする表示装置。
【請求項７】
前記第１基板は、前記ダム材の前記第１の線状部によって前記表示領域から隔てられた領域に、端子部を備えることを特徴とする請求項６に記載の表示装置。
【請求項８】
前記表示領域は、前記第１の辺と対向する第２の辺を有し、
前記ダム材は、前記第２の辺に隣接する位置に、前記第２の辺の延長方向と同じ方向に線状に延びる第２の線状部を有し、
前記ダム材は、前記第１の線状部と前記第２の線状部のみからなることを特徴とする請求項６に記載の表示装置。
【請求項９】
前記充填材は、前記第１の辺の延長方向に位置する前記第１基板の端から端まで前記表示領域を覆って配置されることを特徴とする請求項８に記載の表示装置。
【請求項１０】
前記表示領域は、前記第１の辺と前記第２の辺との両方に交差する第３の辺を有し、
前記第１基板は、前記第３の辺と対向する第１の端部を有し、
前記充填材は、前記第３の辺を覆うと共に、前記表示領域から前記第１の端部まで延在して配置されていることを特徴とする請求項８に記載の表示装置。
【請求項１１】
前記表示領域は、前記第１の辺と対向する第２の辺を有し、
前記ダム材は、前記第２の辺に隣接して配置されていないことを特徴とする請求項６に記載の表示装置。
【請求項１２】
前記第１基板は、前記第２の辺と対向する第２の端部を有し、
前記充填材は、前記第２の辺を覆うと共に、前記表示領域から前記第２の端部まで延在して配置されていることを特徴とする請求項１１に記載の表示装置。
【請求項１３】
前記表示領域は、前記第１の辺と前記第２の辺との両方に交差する第３の辺と、前記第１の辺と前記第２の辺との両方に交差し、前記第３の辺と対向する第４の辺と、を有し、
前記第１基板は、前記第３の辺と対向する第３の端部と、前記第４の辺と対向する第４の端部と、を有し、
前記充填材は、前記第３の辺及び前記第４の辺を覆うと共に、前記第３の端部から前記表示領域を介して前記第４の端部まで延在して配置されていることを特徴とする請求項１１又は請求項１２に記載の表示装置。
【請求項１４】
第１基板上に、画像を表示する表示領域を含む複数の有機ＥＬ発光層を所定の間隔を空けてマトリクス状に形成し、前記複数の表示領域の第１方向に隣接する位置に前記表示領域にそれぞれ対応する複数の端子部を形成し、
前記複数の有機ＥＬ発光層及び前記複数の端子部の形成された前記第１基板上に封止膜を形成し、
前記封止膜上に、前記表示領域と前記端子部との間を通過して前記第１方向に垂直な第２方向に延び、前記第２方向に隣接して配置された前記複数の表示領域を囲む複数のダム材を形成し、
前記複数のダム材の内側にそれぞれ充填材を形成し、
前記ダム材及び前記充填材を介して、前記第１基板上に第２基板を貼り合わせた後、前記ダム材及び前記充填材を硬化させて前記第１基板と前記第２基板とを接合し、
前記接合された前記第１基板及び前記第２基板を切断して前記表示領域及び前記端子部をそれぞれ含む複数の表示装置を形成することを含み、
前記第１基板及び前記第２基板との切断は、前記複数のダム材の内側において前記第２方向に切断すること含むことを特徴とする表示装置の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成27年2月4日(2015.2.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
所定レーンの交通量を計測することが不可能な計測不能時間を検出する検出部と、
前記所定レーンの計測可能時間における交通量を計測交通量として計測する対象量計測部と、
前記計測不能時間に基づいて、前記所定レーンの前記計測不能時間における交通量を推定交通量として推定する推定部と、
を備える、交通量推定装置。
【請求項２】
前記交通量推定装置は、
撮像部に最も近いレーンの交通量を基準交通量として計測する基準量計測部をさらに備え、
前記推定部は、前記計測不能時間と前記基準交通量とに基づいて、前記推定交通量を推定する、
請求項１に記載の交通量推定装置。
【請求項３】
前記推定部は、前記基準交通量の計測に要した時間に対する前記計測不能時間の割合を、前記基準交通量に対して乗じることにより、前記推定交通量を推定する、
請求項２に記載の交通量推定装置。
【請求項４】
前記基準量計測部は、前記撮像部に最も近いレーンに対応する領域に生じた車両が検出された領域の速度に基づいて、当該レーンを走行する車両の速度を基準速度として算出し、
前記推定部は、前記基準速度に基づいて、前記所定レーンを走行する車両の計測不能時間における速度を推定速度として特定する、
請求項２に記載の交通量推定装置。
【請求項５】
前記推定部は、前記計測不能時間と前記計測交通量とに基づいて、前記推定交通量を推定する、
請求項１に記載の交通量推定装置。
【請求項６】
前記推定部は、前記計測交通量の計測に要した時間に対する前記計測不能時間の割合を、前記計測交通量に対して乗じることにより、前記推定交通量を推定する、
請求項５に記載の交通量推定装置。
【請求項７】
前記対象量計測部は、前記所定レーンに対応する領域に生じた車両が検出された領域の計測可能時間における速度に基づいて、前記所定レーンを走行する車両の計測可能時間における速度を計測速度として算出し、
前記推定部は、前記計測速度に基づいて、前記所定レーンを走行する車両の計測不能時間における速度を推定速度として特定する、
請求項１に記載の交通量推定装置。
【請求項８】
前記交通量推定装置は、
撮像部に最も近いレーンの交通量を基準交通量として計測する基準量計測部を備え、
前記対象量計測部は、前記所定レーンに対応する領域に生じた車両が検出された領域の計測可能時間における速度に基づいて、前記所定レーンを走行する車両の計測可能時間における速度を計測速度として算出し、
前記基準量計測部は、前記撮像部に最も近いレーンに対応する領域に生じた車両が検出された領域の速度に基づいて、当該レーンを走行する車両の速度を基準速度として算出し、
前記推定部は、前記計測不能時間と前記基準交通量と前記計測速度と前記基準速度とに基づいて、前記推定交通量を推定する、
請求項１に記載の交通量推定装置。
【請求項９】
前記推定部は、前記基準交通量の計測に要した時間に対する前記計測不能時間の割合と前記基準速度に対する前記計測速度の割合と前記基準交通量とを乗じることにより、前記推定交通量を推定する、
請求項８に記載の交通量推定装置。
【請求項１０】
前記交通量推定装置は、
前記計測交通量と前記推定交通量とを統合することにより統合交通量を算出する統合部を備える、
請求項１に記載の交通量推定装置。
【請求項１１】
前記交通量推定装置は、
前記統合交通量に対する前記推定交通量の割合を推定率として出力させる出力制御部を備える、
請求項１０に記載の交通量推定装置。
【請求項１２】
前記交通量推定装置は、
複数のレーンそれぞれの計測交通量に基づいて、あらかじめ登録されているモデルを選択する選択部を備え、
前記推定部は、前記モデルに基づいて前記複数のレーンそれぞれの計測不能時間における交通量を推定交通量として推定する、
請求項１に記載の交通量推定装置。
【請求項１３】
前記対象量計測部は、撮像部によって撮像された撮像画像において前記所定レーンに対応する領域に前記所定レーンの計測可能時間に生じた車両が検出された領域の数をカウントすることによって前記計測交通量を計測する、
請求項１に記載の交通量推定装置。
【請求項１４】
前記検出部は、撮像部によって撮像された撮像画像において前記所定レーンを基準として前記撮像部に１つ近づいたレーンから所定のレーン数だけ近づいたレーンまでのいずれかに対応する領域に車両が検出された領域が生じている時間を前記計測不能時間として検出する、
請求項１に記載の交通量推定装置。
【請求項１５】
前記検出部は、前記所定レーンを基準として撮像部に１つ近づいたレーンから所定のレーン数だけ近づいたレーンまでのいずれかに対応する領域に生じた車両が検出された領域と前記所定レーンに対応する領域に生じた車両が検出された領域との速度差が閾値を下回る時間を前記計測不能時間として検出する、
請求項１に記載の交通量推定装置。
【請求項１６】
前記検出部は、前記撮像部の高さに基づいて、前記所定のレーン数を算出する、
請求項１５に記載の交通量推定装置。
【請求項１７】
所定レーンの交通量を計測することが不可能な計測不能時間を検出するステップと、
前記所定レーンの計測可能時間における交通量を計測交通量として計測するステップと、
前記計測不能時間に基づいて、前記所定レーンの前記計測不能時間における交通量を推定交通量として推定するステップと、
を含む、交通量推定方法。
【請求項１８】
コンピュータを、
所定レーンの交通量を計測することが不可能な計測不能時間を検出する検出部と、
前記所定レーンの計測可能時間における交通量を計測交通量として計測する対象量計測部と、
前記計測不能時間に基づいて、前記所定レーンの前記計測不能時間における交通量を推定交通量として推定する推定部と、
を備える交通量推定装置として機能させるためのプログラム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】交通量推定装置、交通量推定方法およびプログラム
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、交通量推定装置、交通量推定方法およびプログラムに関するものである。
【手続補正書】
【提出日】平成27年6月25日(2015.6.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
車両と、前記車両と所定の通信回線を介して接続されたデータベースとを備えた人物探索システムであって、
前記車両は、
運転席の前方に設けられた車載カメラと、
前記車両のハンドルの操舵角を検出する操舵角検出手段と、
前記操舵角が前記車両の直進方向を含む所定範囲内である場合に、前記車載カメラで運転者の顔画像を撮影することによって運転者顔画像情報を生成する生成手段と、
前記車両の位置情報を取得する位置情報取得手段と、
前記運転者顔画像情報および前記位置情報を前記データベースへ送信する送信手段と
を備え、
前記データベースは、
探索対象者の顔画像に基づく探索者顔画像情報を記憶する探索対象者記憶手段と、
前記送信手段によって送信された前記運転者顔画像情報を前記探索者顔画像情報と照合する照合手段と、
前記照合手段による照合の結果、前記運転者顔画像情報が前記探索対象者情報に一致したら、前記探索対象者に対応付けて前記送信手段によって送信された前記位置情報を記憶する位置情報記憶手段と
を備える人物探索システム。
【請求項２】
請求項１に記載の人物探索システムであって、
前記生成手段は、前記車両の走行が開始されると前記運転者顔画像情報を生成する手段である人物探索システム。
【請求項３】
請求項１または請求項２に記載の人物探索システムであって、
前記送信手段は、新たに生成された前記運転者顔画像情報と該運転者顔画像情報より前に生成された前記運転者顔画像情報とが異なる場合に、前記新たに生成された運転者顔画像情報を前記データベースに送信する手段である人物探索システム。
【請求項４】
車両と、前記車両と所定の通信回線を介して接続されたデータベースとを用いた人物探索方法であって、
前記車両にて、ハンドルの操舵角を検出する工程と、
前記操舵角が前記車両の直進方向を含む所定範囲内である場合に、前記車両にて、運転席の前方に設けられた車載カメラで運転者の顔画像を撮影することによって運転者顔画像情報を生成する工程と、
前記車両にて、前記車両の位置情報を取得する工程と、
前記運転者顔画像情報と前記位置情報とを前記車両から前記データベースへ送信する工程と、
前記データベースにて、前記車両から送信された前記運転者顔画像情報を、探索対象者の顔画像に基づく探索者顔画像情報と照合する工程と、
前記データベースにて、前記運転者顔画像情報が前記探索対象者情報に一致したら、前記探索者顔画像情報に対応付けて前記位置情報を記憶する工程と
を備える人物探索方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
上述した課題を解決するために、本発明の人物探索システムおよび人物探索方法は、ハンドルの操舵角が車両の直進方向を含む所定範囲内である場合に、運転席の前方に設けられた車載カメラで、車両の走行中に運転者の顔画像を撮影する。そして運転者の顔画像から運転者顔画像情報を生成し、該運転者顔画像情報および車両の位置情報をデータベースへ送信する。データベースは、探索対象者の顔画像に基づく探索者顔画像情報を予め記憶しており、該探索者顔画像情報に運転者顔画像情報が一致したら、探索対象者に対応付けて車両から送信された車両の位置情報を記憶する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
車載カメラは、運転席の前方で、しかも運転席の比較的近距離（例えば１メートル）に設けられているので、運転者の鮮明な顔画像を得ることができ、精度の良い運転者顔画像情報を得ることができる。また、車載カメラは、どのような車両であっても、同じような角度で、且つ、同じような距離で運転者の顔画像を撮影するので、均質な運転者顔画像情報を得ることができる。しかも、ハンドルの操舵角が所定範囲内であって車両の進行方向が直進に近い状態にあると考えられるときは、運転者は前方を見ながら運転している可能性が高い。このため、このような時に顔画像を撮影して運転者顔画像情報を生成すれば、高い確率で運転者の正面からの鮮明な顔画像を撮影して、運転者顔画像情報を生成することができる。そして、データベースは、このように精度が良く、しかも均質な顔画像情報を探索者顔画像情報と照合するので、容易に且つ高い精度で探索対象者を見つけ出すことができる。また、車両は運転者顔画像情報だけでなく位置情報も（同時にまたは別々に）データベースに送信するので、該探索対象者を見つけ出した場合は該探索対象者の位置を特定することができる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成27年5月27日(2015.5.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１のトランジスタと、第２のトランジスタと、第１の導電層と、第２の導電層と、第３の導電層と、第４の導電層と、第５の導電層と、第６の導電層と、絶縁膜と、保持容量と、画素電極と、を有し、
前記第１の導電層と、前記第１のトランジスタのゲート電極と、前記第２のトランジスタのゲート電極とは、タンタル、タングステン、モリブデン、ニオブ、及びチタンのいずれかを有し、
前記絶縁膜は、前記第１の導電層の上方、前記第１のトランジスタのゲート電極の上方、及び、前記第２のトランジスタのゲート電極の上方に設けられており、
前記第２の導電層と、前記第３の導電層と、前記第４の導電層と、前記第５の導電層とは、前記絶縁膜の上方に設けられ、
前記第１の導電層は、映像信号を伝達することができる機能を有し、
前記第１の導電層は、第１の方向に延びて配置され、
前記第２の導電層は、前記第１の導電層と、前記第１のトランジスタのソース又はドレインの一方とを、電気的に接続することができる機能を有し、
前記第３の導電層は、前記第２のトランジスタのゲート電極と、前記第１のトランジスタのソース又はドレインの他方とを、電気的に接続することができる機能を有し、
前記第４の導電層は、前記第２のトランジスタのソース又はドレインの一方と、前記画素電極とを、電気的に接続することができる機能を有し、
前記第１のトランジスタのゲート電極は、前記第５の導電層と電気的に接続され、
前記第５の導電層は、前記第１のトランジスタのオン又はオフを選択する信号を伝達することができる機能を有し、
前記第５の導電層は、前記第１の方向と交差する第２の方向に延びて配置され、
前記第２のトランジスタのソース又はドレインの他方は、前記第６の導電層と電気的に接続され、
前記第６の導電層は、前記第２のトランジスタを介して、前記画素電極に電流を供給することができる機能を有し、
前記保持容量の一対の電極のうちの一方は、前記第２のトランジスタの半導体層とひと続きの半導体層を有し、
前記保持容量の一対の電極のうちの他方は、前記第２のトランジスタのゲート電極とひと続きの導電層を有することを特徴とする表示装置。
【請求項２】
請求項１において、
画素部において、前記第１の導電層は、前記画素電極と重なる領域を有し、
画素部において、前記第６の導電層は、前記画素電極と重なる領域を有し、
画素部において、前記第５の導電層は、前記画素電極と重ならないことを特徴とする表示装置。
【手続補正書】
【提出日】平成27年7月9日(2015.7.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
（３）上記形態の電極において、さらに、前記窒化チタン（ＴｉＮ）層と前記絶縁体との間において、前記窒化チタン（ＴｉＮ）層に接して配置されているチタン（Ｔｉ）層を備えてもよい。この形態の電極によれば、電極が絶縁体と接する際に、絶縁体と窒化チタン（ＴｉＮ）層との間にチタン（Ｔｉ）層が配置されるので、チタン（Ｔｉ）層を利用して絶縁層と窒化チタン（ＴｉＮ）層との接着性を向上できる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３３】
Ｂ２．第２実施例：
上述した実施形態に基づき、５種類の電極（後述の試料ｓ９、ｓ１０、ｓ１１、ｓ１２およびｓ１３）を製造した。これらの５種類の電極（試料ｓ９〜ｓ１３）は、互いに厚み割合が異なる。具体的には、試料ｓ９の厚み割合は、３．００であった。また、試料ｓ１０の厚み割合は４．００であり、試料ｓ１１の厚み割合は６．００であり、試料ｓ１２の厚み割合は８．５７であり、試料ｓ１３の厚み割合は１２．００であった。
【手続補正書】
【提出日】平成27年8月19日(2015.8.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電荷供給部、電荷注入調節部、センシング部、障壁部及びフローティングディフュージョン部を備えてなるユニットの複数が同一の基板に形成されている検出装置を用いて微量な蛋白を検出する検出方法であって、
前記センシング部は凹所の底面に存在し、蛋白抗体を植立した磁性材料を含む複数の微小粒体を前記凹所へ稠密に充填するステップであって、前記センシング部を前記微小粒体が分散した分散液に接触させるステップと、前記分散液中の微小粒体が前記センシング部側へ移動する方向に磁場を印加するステップと、を含む充填ステップと、
前記微小粒体の前記蛋白抗体に蛋白を補足させるステップと、
前記蛋白が捕捉された微小粒体を前記凹所へ稠密に充填した状態で、前記センシング部の電位変化を測定する測定ステップと、を含む蛋白量の検出方法。
【請求項２】
前記測定ステップにおいて、前記蛋白が捕捉された微小粒体を前記凹所へ稠密に充填した後、前記磁場を外し、前記センシング部の電位変化を測定する、請求項１に記載の検出方法。
【請求項３】
前記充填ステップは、更に、前記センサ面において前記凹所に充填されない前記微小粒体を除去するステップを含む、請求項２に記載の検出方法。
【請求項４】
前記センシング部の電位変化測定後、前記凹所に充填された微小粒体を該凹所から脱離するステップが更に含まれる請求項１〜３のいずれかに記載の検出方法。
【請求項５】
前記微小粒体に前記蛋白を補足させた後に、該微小粒体を前記凹所へ稠密に充填する、請求項１〜４のいずれかに記載の検出方法。
【請求項６】
前記センシング部はイオン感応膜を含み、前記微小粒体には抗アミロイド蛋白Ａβ４０抗体が植立され、前記蛋白はアミロイド蛋白Ａβ４０である、請求項１〜５のいずれかに記載の検出方法。
【請求項７】
電荷供給部、電荷注入調節部、センシング部、障壁部及びフローティングディフュージョン部を備えてなるユニットの複数が同一の基板に形成され、微量のアミロイド蛋白Ａβ４０を検出する検出装置であって、前記センシング部は凹所に存在し、
前記アミロイド蛋白Ａβ４０を補足可能な抗アミロイド蛋白Ａβ４０抗体を植立した複数の磁性材料を含む微小粒体が前記センシング部に稠密に充填されている、検出装置。
【請求項８】
電荷供給部、電荷注入調節部、センシング部、障壁部及びフローティングディフュージョン部を備えてなるユニットの複数が同一の基板に形成されている検出装置を用いて検出対象を検出する検出方法であって、
前記センシング部は凹所の底面に存在し、前記検出対象を補足した複数の磁性材料を含む微小粒体を前記凹所へ稠密に充填するステップであって、前記センシング部を前記微小粒体が分散した分散液に接触させるステップと、前記分散液中の微小粒体が前記センシング部側へ移動する方向に磁場を印加するステップと、を含む充填ステップと、
前記微小粒体に前記検出対象を補足させるステップと、
前記検出対象が捕捉された微小粒体を前記凹所へ稠密に充填した状態で、前記センシング部の電位変化を測定する測定ステップと、を含む検出方法。
【請求項９】
前記測定ステップにおいて、前記検出対象が捕捉された微小粒体を前記凹所へ稠密に充填した後、前記磁場を外し、前記センシング部の電位変化を測定する、請求項８に記載の検出方法。
【手続補正書】
【提出日】平成27年10月22日(2015.10.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
【図１】本発明の一実施例である質量分析用測定基板の概略斜視図(a)及び断面図(b)。
【図２】高配向性グラファイトシートの上面表面(a)及び断面(b)の拡大図。
【図３】高配向性グラファイトシートの面内方向（横方向）熱伝導率と面外方向（縦方向）熱伝導率の差異を示す説明図。
【図４】本発明の別の実施例である質量分析用測定基板の概略斜視図。
【図５】従来の測定基板と本発明の第１実施例の測定基板を用いた場合のイオン生成量を比較したグラフ。
【図６】ベース板と高配向性グラファイトシートの間に薄い良導電板を介挿した場合の効果を示すグラフ。
【図７】ベース板の背面に穴を設けた場合に、高配向性グラファイトシートを貼付することによる効果を示すグラフ。
【図８】ACTHをMALDI質量分析装置で測定した場合のマススペクトルであり、(a)が従来のSUSベース板上にターゲットサンプルを載置した場合、(b)が該SUSベース板上に高配向性グラファイトシートを貼付し、その上にターゲットサンプルを載置した場合の測定結果。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
本実施例の質量分析用測定基板がどのように作用するかを説明する。
本実施例の測定基板が対象とする質量分析装置は、ターゲットサンプルを測定基板上に載せてレーザ照射を行い、発生した熱エネルギーによりサンプルの一部をイオン化させる。この基本的な仕組みはマトリクス支援レーザ脱離イオン化質量分析（MALDI-MS）やソフトレーザ脱離イオン化質量分析法として広く知られているものであり、基本的な動作は次のようなものである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
ターゲットサンプルにレーザ照射を行った際、レーザエネルギーはマトリクス物質において熱エネルギーに変換され、照射点の温度を上昇させる。ターゲットサンプルはこの熱上昇の過程で固体から気体へ昇華し、同時にマトリクス物質が持っている一部のH+イオン(＝陽子）がサンプルへ移動することで、サンプルがイオン化する。この反応はマトリクス物質が変換する熱エネルギー下で行われているため、マトリクス物質が変換した熱エネルギーが一部の領域に滞留すると熱エネルギー分布が不均一となり、イオン化効率に不均一性が生じる恐れがある。このため、マトリクス物質が変換した熱エネルギーは一部領域に滞留することなく速やかに周辺領域へ伝達されるべきである。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
ここではマトリクス物質がH+をサンプルへ受け渡す例を示したが、別途カチオン物質やアニオン物質を添加した場合には、これらの物質から受け取ったイオンによりサンプルがイオン化するが、これらの反応も同じく熱エネルギーの下で行われるため、ターゲットサンプル中の熱エネルギー分布は同様に重要である。
なお、上記の質量分析装置の動作手順はMALDI-TOF法の一例によるものであり、本発明の使用装置・方法の範囲を限定するものではない。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２９】
次に、本発明に係る質量分析用測定基板が、従来の測定基板よりも外乱に対して頑強（robust）であることを示す試験結果を示す。図７は、上記同様の従来のSUS製のベース板（SUS）と、背面に穴を設けたSUSベース板にカーボンシートを貼付したもの（PGS hole＋）、その粘着層の内部に銅板を介挿したもの（PGS-Cu hole＋）、そして、穴を設けないSUSベース板に銅板とカーボンシートを積層したもの（PGS-Cu hole−）について、サンプル量と生成イオン量を測定したものである。これによると、カーボンシートを貼付したものは、ベース板背面の穴の有り無しにかかわらず、高いイオン生成率を示している。従来の質量分析用測定基板では、測定基板に変形や傷等が存在すると、ベース板と対向電極の間に印加される電圧による電場が歪み、測定基板からイオンが正常に放出されないという問題があったが、本発明に係る高配向性グラファイトシートを貼付した測定基板は、ベース板の状態にかかわらず、良好なイオン化を行うことができることが示された。これも、ターゲットサンプルにスポット的に入射されたレーザエネルギーを効率よくその全体に伝達するという高配向性グラファイトシートの効果によるものであり、全体としてイオン化効率が高い上、該高配向性グラファイトシートの下に存在するベース板の状態に大きく影響されることがないという特長につながっている。
【手続補正書】
【提出日】平成27年3月12日(2015.3.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
粒子および液体を含む分散液中の粒子質量濃度を求める方法であって、
測定セル（ＭＺ）内の分散液に、可変の周波数を有する交流場を印加し、該交流場によって前記分散液中の前記粒子を振動させ、前記分散液中の前記粒子に音圧波を形成し、
音圧波振幅（ＥＳＡ）を前記周波数に基づいて測定し、前記音圧波の最大振幅を検出し、該最大振幅に対応する周波数を前記音圧波の共振周波数として求め、
初期測定過程において決定される、共振周波数と質量濃度（ＴＫ）との関数関係により、求められた前記共振周波数から、前記分散液中の前記粒子の質量濃度（ＴＫ）を求める
ことを特徴とする分散液中の粒子質量濃度を求める方法。
【請求項２】
前記交流場を、設定可能な周波数を有する交流電圧によって形成する、
請求項１記載の分散液中の粒子質量濃度を求める方法。
【請求項３】
前記交流場を、光音響効果を用いて形成する、
請求項１記載の分散液中の粒子質量濃度を求める方法。
【請求項４】
前記共振周波数と前記質量濃度（ＴＫ）との前記関数関係を、前記初期測定過程において、所定の温度（Ｔ）のもとで前記測定セル（ＭＺ）に既知の質量濃度（ＴＫ）を有する分散液を充填し、かつ、該充填された分散液の共振周波数を検出して、該共振周波数と質量濃度（ＴＫ）との関数関係をテーブルに記述することにより、決定し、
別の分散液で測定された共振周波数により、前記テーブルから、前記別の分散液中の粒子の質量濃度（ＴＫ）を読み出す、
請求項１または２記載の分散液中の粒子質量濃度を求める方法。
【請求項５】
前記分散液は、トナー粒子と支持液とを含み、かつ、電子写真式印刷機での電荷画像の現像に用いられる現像液である、
請求項１から４までのいずれか１項記載の分散液中の粒子質量濃度を求める方法。
【請求項６】
前記測定セル（ＭＺ）内で、前記音圧波振幅（ＥＳＡ）を前記周波数に依存して測定し、測定値を制御ユニット（ＳＴ）へ供給し、
該制御ユニット（ＳＴ）から前記測定値をプロセッサユニット（ＰＲ）へ供給し、該プロセッサユニットにより前記測定値から前記共振周波数を求め、前記共振周波数に基づいて質量濃度（ＴＫ）を求めて出力側へ出力する、
請求項１から５までのいずれか１項記載の分散液中の粒子質量濃度を求める方法。
【請求項７】
前記制御ユニット（ＳＴ）により、前記質量濃度（ＴＫ）と、前記音圧波振幅（ＥＳＡ）と、分散液の液体中の音速の既知の分散パラメータ（ｃ）と、分散液中の粒子と液体とのあいだの密度差（Δρ）とから、分散液中の粒子のダイナミック電気泳動度（μｄ）を求める、
請求項６記載の分散液中の粒子質量濃度を求める方法。
【請求項８】
前記ダイナミック電気泳動度μｄを、式
μｄ＝ＥＳＡ／ｃ＊Δρ＊ＴＫ＊Ｇ
によって求め、ここで、ｃは音速であり、Δρは粒子と液体とのあいだの密度差であり、ＴＫは質量濃度であり、Ｇは周波数に依存する較正係数である、
請求項７記載の分散液中の粒子質量濃度を求める方法。
【請求項９】
前記質量濃度（ＴＫ）および前記ダイナミック電気泳動度（μｄ）を１回の測定過程で同時に求める、
請求項８記載の分散液中の粒子質量濃度を求める方法。
【手続補正書】
【提出日】平成27年3月20日(2015.3.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被処理材を保持するキャリアと、
該キャリアを多角形状の搬送路に沿って搬送する搬送装置と、
前記被処理材に対して所定の真空処理を行うよう搬送路に沿って配置された複数のプロセスチャンバと、
前記多角形状の搬送路の角の部分に配置され、前記キャリアの向きを転換する方向転換チャンバとを有する真空処理装置であって、
複数の前記方向転換チャンバ内で、前記キャリアに未処理の前記被処理材を移載され、若しくは、前記キャリアから処理済みの前記被処理材を取り外されることを特徴とする真空処理装置。
【請求項２】
前記被処理材を供給し、又は所定の真空処理後の前記被処理材が排出されるロードロックチャンバをさらに有し、
前記ロードロックチャンバはゲートバルブを介して前記方向転換チャンバに連結されることを特徴とする請求項１に記載の真空処理装置。
【請求項３】
前記キャリアを往復移動させながら前記被処理材を処理することを特徴とする請求項１または２に記載の真空処理装置。
【手続補正書】
【提出日】平成26年11月24日(2014.11.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ゲート電極と、
前記ゲート電極を覆って設けられたゲート絶縁層と、
前記ゲート絶縁層上に設けられ、前記ゲート電極と重なる領域を有する半導体層と、
前記半導体層上に接して設けられ、互いに離間して設けられたソース電極及びドレイン電極と、を有し、
前記ソース電極及びドレイン電極の一方は画素電極を兼ねることを特徴とする表示装置。
【請求項２】
ゲート電極と、
前記ゲート電極を覆って設けられたゲート絶縁層と、
前記ゲート絶縁層上に設けられ、前記ゲート電極と重なる領域を有する半導体層と、
前記半導体層上に接して設けられ、互いに離間して設けられたソース電極及びドレイン電極と、
前記ソース電極及びドレイン電極の一方の上に導電層と、を有し、
前記ソース電極及びドレイン電極の前記一方は信号線を兼ね、
前記ソース電極及びドレイン電極の他方は画素電極を兼ね、
前記導電層の抵抗は、前記ソース電極の抵抗及び前記ドレイン電極の抵抗より低いことを特徴とする表示装置。
【請求項３】
基板上に第１の導電膜を形成し、
前記第１の導電膜上に第１のエッチングマスクを形成し、
前記第１のエッチングマスクを用いて前記第１の導電膜を加工してゲート電極を形成し、
前記第１のエッチングマスクを除去し、
前記ゲート電極上にゲート絶縁層を形成し、
前記ゲート絶縁層上に半導体膜を形成し、
前記半導体膜上に第２のエッチングマスクを形成し、
前記第２のエッチングマスクを用いて前記半導体膜を加工して半導体層を形成し、
前記第２のエッチングマスクを除去し、
前記ゲート絶縁層上に前記半導体層を覆って透明導電膜を形成し、
前記透明導電膜上に第３のエッチングマスクを形成し、
前記第３のエッチングマスクを用いて前記透明導電膜を加工して、第１の電極及び第２の電極を形成し、
前記第３のエッチングマスクを除去し、
前記第１の電極は、ソース電極又はドレイン電極の一方としての機能と、信号線としての機能と、を有し、
前記第２の電極は、ソース電極又はドレイン電極の他方としての機能と、画素電極としての機能を有することを特徴とする表示装置の作製方法。
【請求項４】
請求項３において、
前記第３のエッチングマスクを除去した後に、
前記ゲート絶縁層上、前記半導体層上、前記第１の電極上、及び前記第２の電極上にサイドウォール絶縁膜を形成し、
前記第１の電極及び前記第２の電極を露出させるように前記サイドウォール絶縁膜にエッチバック処理を行ってサイドウォール絶縁層を形成し、
前記サイドウォール絶縁層を形成後、前記第２の電極上に、電気メッキ法を用いて導電層を形成し、
前記導電層の抵抗は、前記第１の電極の抵抗及び前記第２の電極の抵抗より低いことを特徴とする表示装置の作製方法。
【請求項５】
基板上に第１の導電膜を形成し、
前記第１の導電膜上に第１のエッチングマスクを形成し、
前記第１のエッチングマスクを用いて前記第１の導電膜を加工してゲート電極を形成し、
前記第１のエッチングマスクを除去し、
前記ゲート電極上にゲート絶縁層を形成し、
前記ゲート絶縁層上に半導体膜を形成し、
前記半導体膜上に第２のエッチングマスクを形成し、
前記第２のエッチングマスクを用いて前記半導体膜を加工して半導体層を形成し、
前記第２のエッチングマスクを除去し、
前記ゲート絶縁層上に前記半導体層を覆って透明導電膜を形成し、
前記透明導電膜上に第３のエッチングマスクを形成し、
前記第３のエッチングマスクを用いて前記透明導電膜を加工して、第１の電極及び第２の電極を形成し、
前記第３のエッチングマスクを除去し、
前記第１の電極上にのみ導電層を形成し、
前記第１の電極は、ソース電極又はドレイン電極の一方としての機能と、信号線としての機能と、を有し、
前記第２の電極は、ソース電極又はドレイン電極の他方としての機能と、画素電極としての機能を有し、
前記導電層の抵抗は、前記第１の電極の抵抗及び前記第２の電極の抵抗より低いことを特徴とする表示装置の作製方法。
【請求項６】
請求項５において、
前記低抵抗な導電層を、電気メッキ法を用いて形成することを特徴とする表示装置の作製方法。
【請求項７】
請求項５において、
前記第３のエッチングマスクを除去した後に、
前記導電層を形成する領域以外の部分に、インクジェット法を用いて保護マスクを形成し、
前記第１の電極上及び前記保護マスク上に導電膜を形成し、
前記保護マスクをリフトオフして、前記導電層を形成することを特徴とする表示装置の作製方法。
【請求項８】
請求項５において、
前記第３のエッチングマスクを除去した後に低抵抗な導電膜を形成し、
前記低抵抗な導電膜上において、低抵抗な導電層を形成する領域に第４のエッチングマスクをインクジェット法により形成し、
前記第４のエッチングマスクを用いて低抵抗な導電膜を加工して、低抵抗な導電層を形成し、
前記第４のエッチングマスクを除去することを特徴とする表示装置の作製方法。
【請求項９】
請求項３乃至請求項８のいずれか一に記載の作製方法の後に、前記第１の電極と前記第２の電極に対しエッチングを行うことを特徴とする表示装置の作製方法。
【手続補正書】
【提出日】平成26年11月21日(2014.11.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板に塗布された未硬化樹脂とモールドのパターン面とを接触させることによってパターンを形成するインプリント装置であって、
前記モールドを保持する保持手段と、
前記基板における前記樹脂のパターンを形成するインプリント領域に異物が存在するかどうかを検査する異物検査手段と、
前記インプリント領域に前記未硬化樹脂を塗布する塗布手段と、
前記保持手段に対して前記インプリント領域を相対的に移動させる移動手段と、
前記保持手段、前記異物検査手段、前記塗布手段、及び前記移動手段の動作を制御する制御手段と、
を備え、
前記移動手段は、前記異物検査手段による検査位置、前記塗布手段による塗布位置、及び前記保持手段による押印位置のそれぞれに前記インプリント領域を移動可能であり、
前記制御手段は、前記移動手段による前記インプリント領域の動きと連動させて、前記異物検査手段に対して前記インプリント領域の検査を実施させることを特徴とするインプリント装置。
【請求項２】
前記異物検査手段、及び前記塗布手段は、前記保持手段の設置位置を基準として、前記インプリント領域の移動方向と同軸上に、それぞれ少なくとも１つ設置され、
前記制御手段は、前記塗布手段による前記未硬化樹脂の塗布の前で、かつ、前記移動手段による前記インプリント領域の移動の間に、前記検査を実施させることを特徴とする請求項１に記載のインプリント装置。
【請求項３】
前記異物検査手段は、前記同軸上で、前記保持手段と前記塗布手段との間に設置され、
前記制御手段は、前記インプリント領域を前記押印位置から前記塗布位置に向けて移動させる間に、検査を実施させることを特徴とする請求項２に記載のインプリント装置。
【請求項４】
前記制御手段は、前記インプリント領域を前記押印位置から前記塗布位置に向けて移動させた場合に、その移動方向のままで前記インプリント領域を前記検査位置まで移動させて、検査を実施させることを特徴とする請求項２に記載のインプリント装置。
【請求項５】
前記異物検査手段は、前記同軸上で、前記塗布手段を挟んで設置され、
前記制御手段は、前記検査が終了した後、前記インプリント領域を前記移動方向とは反対の方向へ移動させて、再度、前記インプリント領域の検査を実施させることを特徴とする請求項４に記載のインプリント装置。
【請求項６】
前記異物検査手段、及び前記塗布手段は、前記保持手段の設置位置を基準として、前記インプリント領域の移動方向と同軸上で、＋側と−側とにそれぞれ１つずつ設置され、
前記基板上に前記インプリント領域が複数ある場合には、
前記制御手段は、前記＋側に配置される第１異物検査手段、及び第２塗布手段と、前記−側に配置される第２異物検査手段、及び第２塗布手段とにより、前記複数のインプリント領域に対して交互に前記検査、及び前記樹脂の塗布を実施させることを特徴とする請求項３又は４に記載のインプリント装置。
【請求項７】
前記制御手段は、前記複数のインプリント領域のうち、前記検査、及び前記樹脂の塗布が完了したインプリント領域に対して、前記保持手段により前記未硬化樹脂と前記モールドとを押し付けている間に、前記異物検査手段により、前記塗布手段による前記未硬化樹脂の塗布の前のインプリント領域に対して検査を実施させることを特徴とする請求項６に記載のインプリント装置。
【請求項８】
前記異物検査手段は、前記移動手段の移動と同期し、前記移動手段と同じタイミング、かつ、前記移動手段と異なる速度で平行に移動可能であることを特徴とする請求項１〜７のいずれか１項に記載のインプリント装置。
【請求項９】
前記塗布手段は、前記保持手段の設置位置を基準として、前記インプリント領域の移動方向と同軸上に少なくとも１つ設置され、かつ、
前記異物検査手段、前記保持手段の設置位置を基準として、前記インプリント領域の移動方向とは直交する軸上に少なくとも１つ設置され、
前記基板上に前記インプリント領域が複数ある場合には、
前記制御手段は、前記複数のインプリント領域のうち、前記検査、及び前記樹脂の塗布が完了したインプリント領域に対して、前記保持手段により前記未硬化樹脂と前記モールドとを押し付けている間に、前記異物検査手段により、前記塗布手段による前記未硬化樹脂の塗布の前のインプリント領域に対して検査を実施させることを特徴とする請求項２に記載のインプリント装置。
【請求項１０】
前記異物検査手段は、前記保持手段に対して、前記インプリント領域の移動方向、又は該移動方向と直交する方向に単体で移動可能であることを特徴とする請求項９に記載のインプリント装置。
【請求項１１】
前記制御手段は、前記異物検査手段が前記異物を検出した場合、
前記異物が存在する前記インプリント領域にて、前記樹脂の塗布、及び前記未硬化樹脂と前記モールドとを押し付けを回避する、
前記異物が存在する前記インプリント領域にて、前記樹脂の塗布を実施し、前記押し付けを回避する、又は、
前記基板上の全てのインプリント領域にて、前記樹脂の塗布、及び前記押し付けを停止する、
のいずれか１つを実行することを特徴とする請求項１〜１０のいずれか１項に記載のインプリント装置。
【請求項１２】
基板に塗布された未硬化樹脂とモールドのパターン面とを接触させることによってパターンを形成するインプリント装置であって、
前記基板を搭載して移動する移動手段と、
前記基板に前記未硬化樹脂を塗布する塗布手段と、
前記基板の複数のインプリント領域のうちの第１インプリント領域に前記パターン面を接触させている間、または、前記第１インプリント領域に前記パターンを形成した後に、前記第１インプリント領域とは異なるインプリント領域に前記未硬化樹脂を塗布するために前記基板を移動している間に、前記第１インプリント領域とは異なるインプリント領域に異物が存在するかどうかを検査する異物検査手段と、
を備えることを特徴とするインプリント装置。
【請求項１３】
基板に塗布された未硬化樹脂とモールドのパターン面とを接触させることによってパターンを形成するインプリント装置であって、
前記モールドを保持する保持手段と、
前記基板における前記樹脂のパターンを形成するインプリント領域に異物が存在するかどうかを検査する異物検査手段と、
前記インプリント領域に前記未硬化樹脂を塗布する塗布手段と、
前記保持手段に対して前記インプリント領域を相対的に移動させる移動手段と、
前記保持手段、前記異物検査手段、前記塗布手段、及び前記移動手段の動作を制御する制御手段と、を備え、
前記移動手段は、前記塗布手段による塗布位置、及び前記保持手段による押印位置のそれぞれに前記インプリント領域を移動可能であり、
前記異物検査手段は、前記インプリント領域が前記塗布位置と前記押印位置との間を移動する際の移動経路の上方に配置されていることを特徴とするインプリント装置。
【請求項１４】
前記移動経路は、前記塗布位置と前記押印位置とを直線で結ぶ経路であることを特徴とする請求項１３に記載のインプリント装置。
【請求項１５】
請求項１〜１４のいずれか１項に記載のインプリント装置を用いて基板上に樹脂のパターンを形成する工程と、
前記工程で前記パターンを形成された基板を加工する工程と、
を有することを特徴とする物品の製造方法。