【事件の表示】
　特願２０１７−　９５３５４「流れ分配器を備える輸送容器、そのような容器を含むシステム、及びそのような容器を使用する方法」拒絶査定不服審判事件〔平成２９年１１月３０日出願公開、特開２０１７−２１０６８３、請求項の数（２６）〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　原査定を取り消す。
　本願の発明は、特許すべきものとする。
【理　由】
第１　手続の経緯
　本願は、平成２９年　５月１２日（パリ条約による優先権主張　２０１６年　５月１２日　米国（ＵＳ）　２０１７年　５月　４日　米国（ＵＳ））を出願日とする出願であって、平成３０年　６月２１日付けで拒絶理由が通知され、同年１２月２０日付けで意見書及び手続補正書が提出され、平成３１年　２月２８日付けで拒絶査定（以下「原査定」という。）がされ、令和　１年　７月　５日付けで本件拒絶査定不服審判の請求がされるとともに手続補正書が提出され、令和　２年　６月　３日付けで上申書が提出されたものである。
第２　本願発明
　本願請求項１〜２６に係る発明（以下、それぞれ「本願発明１」〜「本願発明２６」という。）は、平成３０年１２月２０日付け手続補正書により補正された特許請求の範囲の請求項１〜２６に記載された事項により特定される、以下のとおりのものである。
「【請求項１】
　側壁、
　基部、
　平坦な表面を有する蓋、
　インレットチューブ、
　噴出口として複数の小さい開口部を含む流れ分配器であって、前記蓋に対して平行に延在する連結された中空棒、中空シャワーヘッド、及びこれらの組み合わせからなる群から選択される構造を有する流れ分配器、及び
　前記蓋を貫通するアウトレットを備え、
前記インレットチューブが前記蓋を貫通して前記流れ分配器中に張り出し、かつ、前記流れ分配器と流体連通し、
前記噴出口が前記蓋に対して６０〜９０°の範囲の角度で前記基部に面し、
各噴出口の等価直径が０．０１インチ（０．０２５ｃｍ）〜０．２５インチ（０．６４ｃｍ）の範囲である、化学前駆体を処理ツールに輸送するための容器。
【請求項２】
　前記容器が、円筒状、直方体、立方体、長方形の箱、矩形六面体、直角矩形柱、矩形平行六面体、及びこれらの組み合わせからなる群から選択される形状を有し、前記流れ分配器の断面形状が、チューブ、円、四角、矩形、及びこれらの組み合わせからなる群から選択される、請求項１に記載の容器。
【請求項３】
　前記中空シャワーヘッドの断面形状が、チューブ、円、四角、矩形、及びこれらの組み合わせからなる群から選択される、請求項１に記載の容器。
【請求項４】
　前記流れ分配器が、連結された中空棒構造を有し、前記中空棒の等価内径が１／８インチ〜１インチの範囲であり、前記中空棒の各噴出口の等価直径が０．０１インチ（０．０２５ｃｍ）〜０．０５インチ（０．１２５ｃｍ）の範囲である、請求項１に記載の容器。
【請求項５】
　前記流れ分配器が、共通の中心にて交差し、前記共通の中心から前記蓋と平行に延在し、かつ、側面で封止された２〜１６本の中空棒を有し、前記流れ分配器の等価内径が１／８インチ〜１インチの範囲であり、前記中空棒の各噴出口の等価直径が０．０１インチ（０．０２５ｃｍ）〜０．０５インチ（０．１２５ｃｍ）の範囲である、請求項１に記載の容器。
【請求項６】
　前記流れ分配器が、前記蓋に対して平行な前記容器の断面積の３０％〜９０％の範囲の前記蓋に平行な断面積を有する、高さ１／８インチ〜１インチの中空シャワーヘッド構造を有し、前記中空シャワーヘッドの各噴出口の等価直径が０．０１インチ（０．０２５ｃｍ）〜０．０５インチ（０．１２５ｃｍ）の範囲である、請求項１に記載の容器。
【請求項７】
　前記流れ分配器が、中空棒及び中空シャワーヘッドを有し、前記中空シャワーヘッドは１／８インチ〜１インチの高さを有し、かつ、前記蓋に対して平行な前記中空シャワーヘッドから伸びた前記中空棒と共に前記流れ分配器の中心に配置されており、前記中空シャワーヘッドは前記中空棒と流体連通し、前記中空棒は１／８インチ〜１インチの範囲の等価内径を有し、かつ、側面で封止されており、前記流れ分配器の各噴出口の等価直径は０．０１インチ（０．０２５ｃｍ）〜０．０５インチ（０．１２５ｃｍ）の範囲である、請求項１に記載の容器。
【請求項８】
　化学前駆体を処理ツールに輸送するためのシステムであって、
　金属ハロゲン化物、金属β−ジケトネート、金属β−ジケトエステラート、金属β−ケトイミナート、金属β−ジイミナート、金属アルキル、金属カルボニル、アルキル金属カルボニル、金属シクロペンタジエニル、金属シクロペンタジエニルカルボニル、金属ピロリル、金属イミダゾリル、金属アミジナート、金属アルコキシド、及びこれらの組み合わせからなる群から選択される化学前駆体であって、
前記金属が、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｙ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｓｍ、Ｔｂ、Ｅｒ、Ｙｂ、Ｌｕ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｒｕ、Ｉｒ、Ｒｈ、Ｃｕ、Ａｌ、Ｓｎ、Ｐｂ、Ｓｂ、Ｂｉ、Ｔｅ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｔａ及びＷからなる群から選択される化学前駆体と、
　前記化学前駆体を収容する容器であって、
　側壁、
　基部、
　平坦な表面を有する蓋、
　インレットチューブ、
　噴出口として複数の小さい開口部を含む流れ分配器であって、前記蓋に対して平行に延在する連結された中空棒、中空シャワーヘッド、及びこれらの組み合わせからなる群から選択される構造を有する流れ分配器、及び
　前記蓋を貫通するアウトレットを備え、
前記インレットチューブが前記蓋を貫通して前記流れ分配器中に張り出し、かつ、前記流れ分配器と流体連通し、
前記噴出口が、前記蓋に対して６０〜９０°の範囲の角度で前記基部に面し、
各噴出口の先端が、前記噴出口が面している化学前駆体から０．５インチ以上の距離に設けられ、
各噴出口の等価直径が０．０１インチ（０．０２５ｃｍ）〜０．２５インチ（０．６４ｃｍ）の範囲である容器と
を含むシステム。
【請求項９】
　前記化学前駆体が、六塩化タングステン、五塩化タングステン、五塩化タンタル、五塩化モリブデン、四塩化ハフニウム、四塩化ジルコニウム、ジコバルトヘキサカルボニルｔｅｒｔ−ブチルアセチレン（ＣＣＴＢＡ）、水素化シクロペンタジエニルタングステントリカルボニル（ＣｐＷ（ＣＯ）3Ｈ））、二水素化ビス（イソプロピルシクロペンタジエニル）タングステン（ｉＰｒＣｐ）2ＷＨ2、二水素化ビス（アルキルシクロペンタジエニル）タングステン（ＲＣｐ）ＷＨ2、Ｎｉ（ＩＩ）Ｎ，Ｎ’−ジ−ターシャリー−ブチルアミジナート（Ｎｉ（ＩＩ）（ｔＢｕ−ＡＭＤ）2）、Ｎｉ（ＩＩ）Ｎ，Ｎ’−ジ−イソプロピルアミジナート（Ｎｉ（ＩＩ）（ｉＰｒ−ＡＭＤ）2）、Ｎｉ（ＩＩ）Ｎ，Ｎ’−ジ−エチルアミジナート（Ｎｉ（ＩＩ）（Ｅｔ−ＡＭＤ）2）、Ｎｉ（ＩＩ）Ｎ，Ｎ’−ジ−メチルアミジナート（Ｎｉ（ＩＩ）（Ｍｅ−ＡＭＤ）2）、Ｃｏ（ＩＩ）Ｎ，Ｎ’−ジ−ターシャリー−ブチルアミジナート（Ｃｏ（ＩＩ）（ｔＢｕ−ＡＭＤ）2）、Ｃｏ（ＩＩ）Ｎ，Ｎ’−ジ−イソプロピルアミジナート（Ｃｏ（ＩＩ）（ｉＰｒ−ＡＭＤ）2）、テトラキス（ジメチルアミド）ハフニウム（ＴＤＭＡＨ）、ｔｅｒｔ−ブチルイミノ−トリス（ジエチルアミノ）タンタル（ＴＢＴＤＥＴ）、ｔｅｒｔ−ブチルイミド−トリス（メチルエチルアミノ）タンタル（ＴＢＴＥＭＴ）、ペンタキス（ジメチルアミノ）タンタル、ビス（ｔｅｒｔ−ブチルイミノ）ビス（ジメチルアミノ）タングステン（ＢＴＢＭＷ）、ビス（ｔｅｒｔ−ブチルイミノ）ビス（ジエチルアミノ）タングステン、ビス（ｔｅｒｔ−ブチルイミノ）ビス（エチルメチルアミノ）タングステン、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−３，５−ヘプタンジオナト）ストロンチウム、及びこれらの組み合わせからなる群から選択される、請求項８に記載のシステム。
【請求項１０】
　前記化学前駆体が、五塩化タングステン、ジコバルトヘキサカルボニルｔｅｒｔ−ブチルアセチレン（ＣＣＴＢＡ）、五塩化タンタル、六塩化タングステン、五塩化モリブデン、ペンタキス（ジメチルアミノ）タンタル、及びこれらの組み合わせからなる群から選択される、請求項８に記載のシステム。
【請求項１１】
　前記容器の形状が、円筒状、直方体、立方体、長方形の箱、矩形六面体、直角矩形柱、矩形平行六面体、及びこれらの組み合わせからなる群から選択され、前記流れ分配器の断面形状が、チューブ、四角、矩形、及びこれらの組み合わせからなる群から選択される、請求項８に記載のシステム。
【請求項１２】
　前記中空シャワーヘッドの断面形状が、チューブ、円、四角、矩形、及びこれらの組み合わせからなる群から選択される、請求項８に記載のシステム。
【請求項１３】
　前記流れ分配器が、前記蓋に対して平行に延在する連結された中空棒を有し、
前記中空棒の等価内径が１／８インチ〜１インチの範囲であり、前記中空棒が、任意選択的に共通の中心にて交差し、前記共通の中心から前記蓋と平行に延在し、かつ、側面で封止されており、
前記中空棒の各噴出口の等価直径は０．０１インチ（０．０２５ｃｍ）〜０．０５インチ（０．１２５ｃｍ）の範囲であり、
　前記化学前駆体が、五塩化タングステン、ジコバルトヘキサカルボニルｔｅｒｔ−ブチルアセチレン（ＣＣＴＢＡ）、五塩化タンタル、六塩化タングステン、五塩化モリブデン、ペンタキス（ジメチルアミノ）タンタル、及びこれらの組み合わせからなる群から選択される、請求項８に記載のシステム。
【請求項１４】
　前記流れ分配器が、チューブ、円、四角、矩形、及びこれらの組み合わせからなる群から選択される断面形状を有する、高さ１／８インチ〜１インチの中空シャワーヘッドを有し、
　前記中空シャワーヘッドが、前記蓋に対して平行な前記容器の断面積の３０％〜９０％の範囲の前記蓋に対して平行な断面積を有し、
　前記中空シャワーヘッドの各噴出口の等価直径が０．０１インチ（０．０２５ｃｍ）〜０．０５インチ（０．１２５ｃｍ）の範囲であり、
　前記化学前駆体が、五塩化タングステン、ジコバルトヘキサカルボニルｔｅｒｔ−ブチルアセチレン（ＣＣＴＢＡ）、五塩化タンタル、六塩化タングステン、五塩化モリブデン、ペンタキス（ジメチルアミノ）タンタル、及びこれらの組み合わせからなる群から選択される、請求項８に記載のシステム。
【請求項１５】
　前記流れ分配器が、中空棒及び中空シャワーヘッドの組み合わせを有し、前記中空シャワーヘッドは前記蓋に対して平行な前記中空シャワーヘッドから伸びた前記中空棒と共に前記流れ分配器の中心に配置され、前記中空シャワーヘッドは１／８インチ〜１インチの高さを有し、かつ、前記中空棒と流体連通し、前記中空棒は１／８インチ〜１インチの範囲の等価内径を有し、かつ、側面で封止されており、前記流れ分配器の各噴出口の等価直径は０．０１インチ（０．０２５ｃｍ）〜０．０５インチ（０．１２５ｃｍ）の範囲であり、
　前記化学前駆体が、五塩化タングステン、ジコバルトヘキサカルボニルｔｅｒｔ−ブチルアセチレン（ＣＣＴＢＡ）、五塩化タンタル、六塩化タングステン、五塩化モリブデン、ペンタキス（ジメチルアミノ）タンタル、及びこれらの組み合わせからなる群から選択される、請求項８に記載のシステム。
【請求項１６】
　化学前駆体を処理ツールに輸送するための方法であって、
　金属ハロゲン化物、金属β−ジケトネート、金属β−ジケトエステラート、金属β−ケトイミナート、金属β−ジイミナート、金属アルキル、金属カルボニル、アルキル金属カルボニル、金属シクロペンタジエニル、金属シクロペンタジエニルカルボニル、金属ピロリル、金属イミダゾリル、金属アミジナート、金属アルコキシド、及びこれらの組み合わせからなる群から選択される化学前駆体であって、
前記金属が、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｙ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｓｍ、Ｔｂ、Ｅｒ、Ｙｂ、Ｌｕ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｒｕ、Ｉｒ、Ｒｈ、Ｃｕ、Ａｌ、Ｓｎ、Ｐｂ、Ｓｂ、Ｂｉ、Ｔｅ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｔａ及びＷからなる群から選択される化学前駆体を提供することと、
　前記化学前駆体を収容する容器であって、
　側壁、
　基部、
　平坦な表面を有する蓋、
　インレットチューブ、
　噴出口として複数の小さい開口部を含む流れ分配器であって、前記蓋に対して平行に延在する連結された中空棒、中空シャワーヘッド、及びこれらの組み合わせからなる群から選択される構造を有する流れ分配器、及び
　前記蓋を貫通するアウトレットを備え、
前記インレットチューブが前記蓋を貫通して前記流れ分配器中に張り出し、かつ、前記流れ分配器と流体連通し、
前記噴出口が、前記蓋に対して６０〜９０°の範囲の角度で前記基部に面し、
各噴出口の先端が、前記噴出口が面している化学前駆体から０．５インチ以上の距離に設けられ、
各噴出口が０．０１インチ（０．０２５ｃｍ）〜０．２５インチ（０．６４ｃｍ）の範囲の等価直径を有する容器を提供することと、
　キャリアガスが前記噴出口を通過すること、及び化学前駆体の表面に衝突することにより、キャリアガスと混合される化学前駆体の蒸気を製造して前駆体を含む流体ストリームを形成することと、
　前駆体を含む流体ストリームを前記容器の前記アウトレットを通して処理ツールに移動させて、化学前駆体の高い昇華速度を与えることとを含み、
前記噴出口の先端が、化学前駆体の表面から０．５インチ以上の距離に設けられ、
昇華速度が、前記容器内の前駆体格納レベルが初期の充填高さから初期の充填高さの２０％に減少した際に、＜２５％減少するか、または増加する方法。
【請求項１７】
　前記化学前駆体が、六塩化タングステン、五塩化タングステン、五塩化タンタル、五塩化モリブデン、四塩化ハフニウム、四塩化ジルコニウム、ジコバルトヘキサカルボニルｔｅｒｔ−ブチルアセチレン（ＣＣＴＢＡ）、水素化シクロペンタジエニルタングステントリカルボニル（ＣｐＷ（ＣＯ）3Ｈ））、二水素化ビス（イソプロピルシクロペンタジエニル）タングステン（ｉＰｒＣｐ）2ＷＨ2、二水素化ビス（アルキルシクロペンタジエニル）タングステン（ＲＣｐ）ＷＨ2、Ｎｉ（ＩＩ）Ｎ，Ｎ’−ジ−ターシャリー−ブチルアミジナート（Ｎｉ（ＩＩ）（ｔＢｕ−ＡＭＤ）2）、Ｎｉ（ＩＩ）Ｎ，Ｎ’−ジ−イソプロピルアミジナート（Ｎｉ（ＩＩ）（ｉＰｒ−ＡＭＤ）2）、Ｎｉ（ＩＩ）Ｎ，Ｎ’−ジ−エチルアミジナート（Ｎｉ（ＩＩ）（Ｅｔ−ＡＭＤ）2）、Ｎｉ（ＩＩ）Ｎ，Ｎ’−ジ−メチルアミジナート（Ｎｉ（ＩＩ）（Ｍｅ−ＡＭＤ）2）、Ｃｏ（ＩＩ）Ｎ，Ｎ’−ジ−ターシャリー−ブチルアミジナート（Ｃｏ（ＩＩ）（ｔＢｕ−ＡＭＤ）2）、Ｃｏ（ＩＩ）Ｎ，Ｎ’−ジ−イソプロピルアミジナート（Ｃｏ（ＩＩ）（ｉＰｒ−ＡＭＤ）2）、テトラキス（ジメチルアミド）ハフニウム（ＴＤＭＡＨ）、ｔｅｒｔ−ブチルイミノ−トリス（ジエチルアミノ）タンタル（ＴＢＴＤＥＴ）、ｔｅｒｔ−ブチルイミド−トリス（メチルエチルアミノ）タンタル（ＴＢＴＥＭＴ）、ペンタキス（ジメチルアミノ）タンタル、ビス（ｔｅｒｔ−ブチルイミノ）ビス（ジメチルアミノ）タングステン（ＢＴＢＭＷ）、ビス（ｔｅｒｔ−ブチルイミノ）ビス（ジエチルアミノ）タングステン、ビス（ｔｅｒｔ−ブチルイミノ）ビス（エチルメチルアミノ）タングステン、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−３，５−ヘプタンジオナト）ストロンチウム、及びこれらの組み合わせからなる群から選択される、請求項１６に記載の方法。
【請求項１８】
　前記化学前駆体が、五塩化タングステン、ジコバルトヘキサカルボニルｔｅｒｔ−ブチルアセチレン（ＣＣＴＢＡ）、五塩化タンタル、六塩化タングステン、五塩化モリブデン、ペンタキス（ジメチルアミノ）タンタル、及びこれらの組み合わせからなる群から選択される、請求項１６に記載の方法。
【請求項１９】
　前記容器の形状が、円筒状、直方体、立方体、長方形の箱、矩形六面体、直角矩形柱、矩形平行六面体、及びこれらの組み合わせからなる群から選択され、前記流れ分配器の断面形状が、チューブ、円、四角、矩形、及びこれらの組み合わせからなる群から選択される、請求項１６に記載の方法。
【請求項２０】
　前記中空シャワーヘッドの断面形状が、チューブ、円、四角、矩形、及びこれらの組み合わせからなる群から選択される、請求項１６に記載の方法。
【請求項２１】
　前記流れ分配器が、前記蓋に対して平行に延在する連結された中空棒を有し、前記中空棒の等価内径が１／８インチ〜１インチの範囲であり、前記中空棒が、任意選択的に共通の中心にて交差し、前記共通の中心から前記蓋と平行に延在し、かつ、側面で封止されており、
　前記中空棒の各噴出口の等価直径は０．０１インチ（０．０２５ｃｍ）〜０．０５インチ（０．１２５ｃｍ）の範囲であり、
　前記化学前駆体が、五塩化タングステン、ジコバルトヘキサカルボニルｔｅｒｔ−ブチルアセチレン（ＣＣＴＢＡ）、五塩化タンタル、六塩化タングステン、五塩化モリブデン、ペンタキス（ジメチルアミノ）タンタル、及びこれらの組み合わせからなる群から選択され、
　昇華速度が、前記容器内の前駆体格納レベルが減少した際に＜５％減少する、請求項１６に記載の方法。
【請求項２２】
　昇華速度が、前記容器内の前駆体格納レベルが減少した際に＜３％減少する、請求項２１に記載の方法。
【請求項２３】
　前記流れ分配器が、チューブ、円、四角、矩形、及びこれらの組み合わせからなる群から選択される断面形状を有する、高さ１／８インチ〜１インチの中空シャワーヘッドを有し、
　前記中空シャワーヘッドが、１／８インチ〜１インチの高さ、及び前記蓋に対して平行な前記容器の断面積の３０％〜９０％の範囲の前記蓋に対して平行な断面積を有し、
　前記中空シャワーヘッドの各噴出口の等価直径が０．０１インチ（０．０２５ｃｍ）〜０．０５インチ（０．１２５ｃｍ）の範囲であり、
　前記化学前駆体が、五塩化タングステン、ジコバルトヘキサカルボニルｔｅｒｔ−ブチルアセチレン（ＣＣＴＢＡ）、五塩化タンタル、六塩化タングステン、五塩化モリブデン、ペンタキス（ジメチルアミノ）タンタル、及びこれらの組み合わせからなる群から選択され、
昇華速度が、前記容器内の前駆体格納レベルが減少した際に＜５％減少する、請求項１６に記載の方法。
【請求項２４】
　昇華速度が、前記容器内の前駆体充填レベルが減少した際に＜３％減少する、請求項２３に記載の方法。
【請求項２５】
　前記流れ分配器が、中空棒及び中空シャワーヘッドの組み合わせを有し、前記中空シャワーヘッドは前記蓋に対して平行な中空シャワーヘッドから均等に伸びた前記中空棒と共に前記流れ分配器の中心に配置され、前記中空シャワーヘッドは１／８インチ〜１インチの高さを有し、かつ、前記中空棒と流体連通し、前記中空棒は１／８インチ〜１インチの範囲の等価内径を有し、かつ、側面で封止されており、前記流れ分配器の各噴出口の等価直径は０．０１インチ（０．０２５ｃｍ）〜０．０５インチ（０．１２５ｃｍ）の範囲であり、
　前記化学前駆体が、五塩化タングステン、ジコバルトヘキサカルボニルｔｅｒｔ−ブチ
ルアセチレン（ＣＣＴＢＡ）、五塩化タンタル、六塩化タングステン、五塩化モリブデン、ペンタキス（ジメチルアミノ）タンタル、及びこれらの組み合わせからなる群から選択され、
　昇華速度が、前記容器内の前駆体格納レベルが減少した際に＜５％減少する、請求項１６に記載の方法。
【請求項２６】
　昇華速度が、前記容器内の前駆体格納レベルが減少した際に＜３％減少する、請求項２５に記載の方法。」
第３　原査定の拒絶の理由の概要
　原査定の拒絶の理由の概要は、本願発明１〜２６は、引用文献１に記載された発明及び引用文献１〜２に記載された事項に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない、というものである。
　引用文献１：特開２０１２−２５１１７９号公報
　引用文献２：特開昭６３−１４８５６号公報
第４　当審の判断
１　各引用文献の記載事項等
（１）引用文献１の記載事項及び引用文献１に記載された発明
（ア）引用文献１には、以下（１ａ）〜（１ｆ）の記載がある（当審注：下線は当審が付与した。また、「…」は記載の省略を表す。以下、同様である。）。
（１ａ）「【特許請求の範囲】
【請求項１】
　容器内の固体の原料から原料ガスを発生させる原料ガス発生装置において、
　前記原料ガスを搬送するためのキャリアガスを前記容器内に導入する導入部材と、
　前記原料の上方において、前記容器内に導入された前記キャリアガスを拡散し、拡散した前記キャリアガスを開口部から鉛直下方向に噴出する拡散部材と、
　前記原料ガスを前記キャリアガスとともに前記原料の上方から前記容器の外に排出する排出部材と
　を備えることを特徴とする原料ガス発生装置。」
（１ｂ）「【００２７】
＜１．第１の実施の形態＞
［原料ガス発生装置１０１の構成例］
　図３は、本発明を適用した原料ガス発生装置の第１の実施の形態である原料ガス発生装置１０１の構成例を模式的に示す断面図である。
【００２８】
　
原料ガス発生装置１０１は、容器１１１内に入れた固体原料１０２を加熱し、ＣＶＤ加工用の原料ガスを発生させる装置である。
【００２９】
　
原料ガス発生装置１０１は、円筒形の容器１１１、円板上の蓋１１２、通気管１１３，バルブ１１４、ガス拡散部材１１５、通気管１１６、および、バルブ１１７を含むように構成される。
【００３０】
　
容器１１１は、図示せぬ加熱手段により、適切な温度に設定され、容器１１１の熱により固体原料１０２が昇華し、原料ガスが発生する。
【００３１】
　
蓋１１２は、容器１１１に対して着脱自在であり、
【００３２】
　また、
蓋１１２には、垂直方向に貫通するように通気管１１３および通気管１１６が設けられている。
【００３３】
　
通気管１１３は、原料ガスを搬送するためのキャリアガスを容器１１１内に導入するために用いられる。
【００３４】
　また、通気管１１３には、バルブ１１４が設けられており、キャリアガスを流したり、遮断したりすることができる。
【００３５】
　さらに、通気管１１３の先端には、ガス拡散部材１１５が設けられている。このガス拡散部材１１５は、拡散体１３１および枠１３２により構成される。
【００３６】
　拡散体１３１は、例えば、焼結金属により構成され、通気管１１３の先端の開口部１１３Ａを塞ぐように設けられている。従って、通気管１１３の開口部１１３Ａから排出されたキャリアガスは、全て拡散体１３１に流入し、拡散体１３１により拡散される。
【００３７】
　また、拡散体１３１は、上面の通気管１１３の開口部１１３Ａを塞ぐ部分、および、下面以外は枠１３２に覆われている。従って、拡散体１３１により拡散されたキャリアガスは、拡散体１３１の下面から排出され、枠１３２により形成されるガス拡散部材１１５の開口部１１５Ａから、鉛直下方向に噴出する。
【００３８】
　
通気管１１６は、気密継ぎ手等によりＣＶＤ加工を行うレーザ加工装置（不図示）に接続されており、原料ガスおよびキャリアガス（すなわち、供給ガス）を、容器１１１から搬出し、レーザ加工装置に供給する。
【００３９】
［原料ガス発生装置１０１におけるガスの流れ］
　ここで、原料ガス発生装置１０１におけるガスの流れについて説明する。
【００４０】
　
通気管１１３を介して容器１１１内に導入されたキャリアガスは、通気管１１３の開口部１１３Ａから排出された後、ガス拡散部材１１５の拡散体１３１を通過することにより拡散され、開口部１１５Ａから鉛直下方向に噴出される。ガス拡散部材１１５から噴出されたキャリアガスは、固体原料１０２の表面までほぼ鉛直下方向に下降し、固体原料１０２の表面に吹き付けられて、固体原料１０２の表面を容器１１１の内壁方向に拡散する。そして、キャリアガスは、容器１１１の内壁に沿って上昇する。
【００４１】
　
このキャリアガスの流れにより、固体原料１０２から発生する原料ガスが、通気管１１６の開口部１１６Ａまで搬送され、キャリアガスとともに通気管１１６に流入する。そして、原料ガスおよびキャリアガス（すなわち、供給ガス）は、通気管１１６を介してＣＶＤ加工装置に供給される。
…
【００４９】
＜２．第２の実施の形態＞
［原料ガス発生装置２０１の構成例］
　図５は、本発明を適用した原料ガス発生装置の第２の実施の形態である原料ガス発生装置２０１の構成例を模式的に示す断面図である。なお、図中、図３と対応する部分には、同じ符号を付してある。
【００５０】
　原料ガス発生装置２０１は、図３の原料ガス発生装置１０１と比較して、通気管１１３およびガス拡散部材１１５の配置が異なる。すなわち、原料ガス発生装置２０１では、通気管１１３およびガス拡散部材１１５が、容器１１１の水平方向の略中央に配置されている。
【００５１】
　なお、原料ガス発生装置２０１におけるガスの流れは、ガス拡散部材１１５から噴出されたキャリアガスが、固体原料１０２の表面のほぼ中央に吹き付けられる以外は、原料ガス発生装置１０１とほぼ同じである。従って、原料ガス発生装置２０１では、固体原料１０２の消費に伴い、図６に示されるように、固体原料１０２の表面のほぼ中央に凹みが生じる。
…
【００５４】
　従って、原料ガス発生装置２０１の方が、原料ガス発生装置１０１と比較して、固体原料１０２の消費が進んだ時点において、固体原料１０２の表面積が大きくなるため、原料ガスの濃度の低下を抑制することができる。」
（１ｃ）「【００５７】
＜３．第３の実施の形態＞
［原料ガス発生装置３０１の構成例］
　図８は、本発明を適用した原料ガス発生装置の第３の実施の形態である原料ガス発生装置３０１の構成例を模式的に示す断面図である。なお、図中、図５と対応する部分には、同じ符号を付してある。
【００５８】
　原料ガス発生装置３０１は、図５の原料ガス発生装置２０１と比較して、
通気管１１３の先端に、
ガス拡散部材３１１が設けられている
【００５９】
　ガス拡散部材３１１は、ガス拡散部材１１５と比較して、拡散体の数が異なっている。具体的には、
ガス拡散部材３１１は、拡散体３３１ａ乃至３３１ｄ（ただし、拡散体３３１ｂおよび３３１ｄは不図示）、および、枠３３２により構成される。
【００６０】
　図９は、ガス拡散部材３１１を下から見た図である。
ガス拡散部材３１１の下面には、中心軸Ｃを中心に略対称になるように、枠３３２により形成される開口部３１１Ａ乃至３１１Ｄが設けられている。従って、ガス拡散部材３１１が容器１１１の水平方向の略中央に配置されているので、開口部３１１Ａ乃至３１１Ｄは、容器１１１の水平方向の中央を中心に略対称に配置されることになる。
開口部３１１Ａ乃至３１１Ｄの上部には、拡散体３３１ａ乃至３３１ｄがそれぞれ設けられている。
【００６１】
　また、
枠３３２は、通気管１１３の開口部１１３Ａから排出されたキャリアガスが、拡散体３３１ａ乃至３３１ｄの上面に流入し、下面から排出される経路を形成している。従って、ガス拡散部材３１１に流入したキャリアガスは、拡散体３３１ａ乃至３３１ｄにより拡散され、拡散体３３１ａ乃至３３１ｄの下面から排出され、開口部３１１Ａ乃至３１１Ｄから、鉛直下方向に噴出する。
【００６２】
　これにより、原料ガス発生装置３０１では、原料ガス発生装置１０１および原料ガス発生装置２０１と比較して、キャリアガスが固体原料１０２の表面に、より均等に吹き付けられる。そのため、固体原料１０２の表面に生じる凹みの大きさおよび深さが小さくなる。
【００６３】
　従って、固体原料１０２の表面で発生した原料ガスを、より効率よくキャリアガスにより通気管１１６の開口部１１６Ａまで搬送することができ、容器１１１内の上下方向の原料ガスの濃度の差を小さくすることができる。その結果、供給原料ガス濃度の低下をより効果的に抑制することができる。
【００６４】
　なお、開口部３１１Ａ乃至３１１Ｄおよび拡散体３３１ａ乃至３３１ｄの位置は、ガス拡散部材１１５の中心軸Ｃを中心に略対称になるような他の配置にすることができる。
【００６５】
　例えば、図１０に示されるように、開口部３１１Ａをガス拡散部材３１１の中心軸Ｃ上に配置し、開口部３１１Ｂ乃至３１１Ｄおよび拡散体３３１ａ乃至３３１ｄ（不図示）を、中心軸Ｃを中心に略対称となるように配置するようにしてもよい。
【００６６】
　また、開口部（拡散体）の数は、１または４に限定されるものではなく、任意の数に設定することができる。なお、開口部（拡散体）を複数設ける場合には、図９および図１０の例のように、ガス拡散部材の中心軸を中心に略対称に配置するようにすることが望ましい。
【００６７】
　さらに、ガス拡散部材の開口部の口径および数量は、キャリアガスの流量、容器１１１の大きさ等に基づいて最適な値に設定することが望ましい。」
（１ｄ）「
　　　　　　　　　　　　　　　」
（１ｅ）「
　　　　　　　　　　　　　　　」
（１ｆ）「
　　　　　　　　　　　　　　　」
（イ）前記（ア）（１ａ）によれば、引用文献１には、容器内の固体の原料から原料ガスを発生させる「原料ガス発生装置」が記載されており、同（１ｂ）〜（１ｆ）、特に第３の実施の形態に注目すると、当該「原料ガス発生装置」は、円筒形の容器、円板上の蓋、通気管１１３（以下、「第１の通気管」という。）、バルブ１１４（以下、「第１のバルブ」という。）、ガス拡散部材、通気管１１６（以下、「第２の通気管」という。）、および、バルブ１１７（以下、「第２のバルブ」という。）を含むように構成され、固体原料を加熱し、ＣＶＤ加工用の原料ガスを発生させるものであり、固体原料は、例えば、金属カルボニルなど、室温から５０℃付近で、１ｈＰａ程度の比較的高い飽和蒸気圧を持つ粉末状の物質からなるものである。
　また、前記「原料ガス発生装置」の容器は、加熱手段により適切な温度に設定され、容器の熱により固体原料が昇華し、原料ガスが発生するものであり、蓋は、容器に対して着脱自在であり、また、蓋には、垂直方向に貫通するように第１の通気管および第２の通気管が設けられており、第１の通気管は、原料ガスを搬送するためのキャリアガスを容器内に導入するために用いられ、第２の通気管は、気密継ぎ手等によりＣＶＤ加工を行うレーザ加工装置に接続されており、原料ガスおよびキャリアガスを、容器から搬出し、レーザ加工装置に供給するものである。
　そして、第１の通気管を介して容器内に導入されたキャリアガスは、当該第１の通気管の開口部から排出された後、ガス拡散部材の拡散体を通過することにより拡散され、開口部から鉛直下方向に噴出されるものであり、ガス拡散部材から噴出されたキャリアガスは、固体原料の表面までほぼ鉛直下方向に下降し、固体原料の表面に吹き付けられて、固体原料の表面を容器の内壁方向に拡散し、内壁に沿って上昇するものであり、このキャリアガスの流れにより、固体原料から発生する原料ガスが、第２の通気管の開口部まで搬送され、キャリアガスとともに第２の通気管に流入し、原料ガスおよびキャリアガスは、第２の通気管を介してＣＶＤ加工装置に供給されるものである。
　更に、第１の通気管の先端にはガス拡散部材が設けられており、当該ガス拡散部材は、拡散体および枠により構成され、ガス拡散部材の下面には、中心軸を中心に略対称になるように、枠により形成される開口部が設けられ、ガス拡散部材が容器の水平方向の略中央に配置されているので、開口部は、容器の水平方向の中央を中心に略対称に配置されるものであり、開口部の上部には、拡散体がそれぞれ設けられ、枠は、第１の通気管の開口部から排出されたキャリアガスが、拡散体の上面に流入し、下面から排出される経路を形成しており、従って、ガス拡散部材に流入したキャリアガスは、拡散体により拡散され、拡散体の下面から排出され、開口部から、鉛直下方向に噴出するものである。
（ウ）前記（イ）によれば、引用文献１には、以下の発明が記載されているといえる（以下、「引用発明１」という）。
「円筒形の容器、円板上の蓋、第１の通気管、第１のバルブ、ガス拡散部材、第２の通気管、および、第２のバルブを含むように構成され、固体原料を加熱し、ＣＶＤ加工用の原料ガスを発生させる原料ガス発生装置において、
　前記原料ガス発生装置の容器は、加熱手段により適切な温度に設定され、容器の熱により固体原料が昇華し、原料ガスが発生するものであり、蓋は、容器に対して着脱自在であり、また、蓋には、垂直方向に貫通するように第１の通気管および第２の通気管が設けられており、第１の通気管は、原料ガスを搬送するためのキャリアガスを容器内に導入するために用いられ、第２の通気管は、気密継ぎ手等によりＣＶＤ加工を行うレーザ加工装置に接続されており、原料ガスおよびキャリアガスを、容器から搬出し、レーザ加工装置に供給するものであり、
　第１の通気管を介して容器内に導入されたキャリアガスは、当該第１の通気管の開口部から排出された後、ガス拡散部材の拡散体を通過することにより拡散され、開口部から鉛直下方向に噴出されるものであり、ガス拡散部材から噴出されたキャリアガスは、固体原料の表面までほぼ鉛直下方向に下降し、固体原料の表面に吹き付けられて、固体原料の表面を容器の内壁方向に拡散し、内壁に沿って上昇するものであり、このキャリアガスの流れにより、固体原料から発生する原料ガスが、第２の通気管の開口部まで搬送され、キャリアガスとともに第２の通気管に流入し、原料ガスおよびキャリアガスは、第２の通気管を介してＣＶＤ加工装置に供給されるものであり、
　第１の通気管の先端にはガス拡散部材が設けられており、当該ガス拡散部材は、拡散体および、枠により構成され、ガス拡散部材の下面には、中心軸を中心に略対称になるように、枠により形成される開口部が設けられ、ガス拡散部材が容器の水平方向の略中央に配置されているので、開口部は、容器の水平方向の中央を中心に略対称に配置されるものであり、
　開口部の上部には、拡散体がそれぞれ設けられ、枠は、第１の通気管の開口部から排出されたキャリアガスが、拡散体の上面に流入し、下面から排出される経路を形成しており、従って、ガス拡散部材に流入したキャリアガスは、拡散体により拡散され、拡散体の下面から排出され、開口部から、鉛直下方向に噴出する、原料ガス発生装置の容器。」
（２）引用文献２の記載事項
　引用文献２には、以下（２ａ）〜（２ｃ）の記載がある。
（２ａ）「…
（２）アルミナ等の耐火物粉末と炭化物、窒化物、炭窒化物または固溶体形成元素を含む金属またはこれらの合金粉末とからなる処理剤の流動層中において被処理材の表面に表面処理層を形成させるための炉本体と、該炉本体に併設した加熱炉とからなるとともに、該炉本体内には上記流動層の下方に開口する多数の孔を有するハロゲン化物ガス噴出用管を配置し、該ハロゲン化物ガス噴出用管は炉本体外部に連通させたハロゲン化物供給用管に接続してなることを特徴とする表面処理用装置。」（特許請求の範囲）
（２ｂ）「実施例１
　第１図に示す流動層式炉を用いて，本発明の炭化物被覆処理を行った。流動層式炉は，炉本体１の下部に，流動化用アルゴンガスのガス供給通路１１が開口し，開口部の直上に，炉内を二つに仕切るガス分散板１２が設けられている。炉本体１の頂部には，取りはずし自在の蓋５がかぶせられ，蓋５の一部には，廃ガスをトラップするスクラバーに結給したガス排出通路５１が開口している。
…
　上記流動層式炉のガス分散板１２上には，処理剤粉末１Ｋｇを置いた。その処理剤中の各成分の配合割合は，６０％のアルミナ粉末（８０〜１００メッシュ），４０％のフェロバナジウム粉末（７０％バナジウム含有，１００〜２００メッシュ）であった。ついで，流動化ガスとしてアルゴンガスを圧力１．５Ｋｇ／ｃｍ２，流速１４０ｃｍ／分で上記ガス供給通路１１より炉本体１内に送入した。これにより，処理剤粉末は流動化し，流動層４が形成された。この流動層内の下部には，ガス分散板上部に第２図，第３図に示したような，８本の活性剤ガス噴出用管７が活性剤供給用管６と接続して設けられている。活性剤の供給用管６の内径は９ｍｍであり，活性剤ガス噴出用管７の内径は３ｍｍである。また，夫々のガス噴出用管７の下面には直径０．５ｍｍのガス噴出用小孔７１が３ヶ所に開けられている。」（５頁左下欄１２行〜右下欄最終行）
（２ｃ）「
　　　　　　　　　　　　　　　　　」
２　対比・判断
（１）本願発明１について
（１−１）対比
（ア）本願発明１と引用発明１とを対比すると、引用発明１における「原料ガス発生装置の容器」は、「円筒形の容器」であって、「加熱手段により適切な温度に設定され、容器の熱により固体原料が昇華し、原料ガスが発生」し、「ＣＶＤ加工装置に供給」するものであるから、本願発明１における、「側壁、基部」「を備え」る、「化学前駆体を処理ツールに輸送するための容器」に相当し、引用発明１における「円板上の蓋」、「第１の通気管」及び「蓋」に「垂直方向に貫通するように」設けられた「第２の通気管」は、ぞれぞれ、本願発明１における「平坦な表面を有する蓋」、「インレットチューブ」及び「前記蓋を貫通するアウトレット」に相当する。
　また、引用発明１において、「ガス拡散部材」の下面に、中心軸を中心に略対称になるように、「枠」により形成される「開口部」は、本願発明１における「噴出口」としての「複数の小さい開口部」に相当し、引用発明１における「枠」の、「第１の通気管の開口部から排出されたキャリアガスが、拡散体の上面に流入し、下面から排出される経路を形成」する構造は、本願発明１における、「中空シャワーヘッド」の「構造」に相当し、引用発明１における「ガス拡散部材」は、本願発明１における、「噴出口として複数の小さい開口部を含む流れ分配器であって、前記蓋に対して平行に延在する連結された中空棒、中空シャワーヘッド、及びこれらの組み合わせからなる群から選択される構造を有する流れ分配器」に相当する。
　更に、引用発明１において、「蓋には、垂直方向に貫通するように第１の通気管および第２の通気管が設けられており、第１の通気管は、原料ガスを搬送するためのキャリアガスを容器内に導入するために用いられるものであり」、「第１の通気管を介して容器内に導入されたキャリアガスは、当該第１の通気管の開口部から排出された後、ガス拡散部材の拡散体を通過することにより拡散され、開口部から鉛直下方向に噴出される」、との構成は、本願発明１において、「前記インレットチューブが前記蓋を貫通して前記流れ分配器中に張り出し、かつ、前記流れ分配器と流体連通し、前記噴出口が前記蓋に対して６０〜９０°の範囲の角度で前記基部に面」する、との構成に相当する。
（イ）すると、本願発明１と引用発明１とは、
「側壁、基部、平坦な表面を有する蓋、インレットチューブ、噴出口として複数の小さい開口部を含む流れ分配器であって、前記蓋に対して平行に延在する連結された中空棒、中空シャワーヘッド、及びこれらの組み合わせからなる群から選択される構造を有する流れ分配器、及び前記蓋を貫通するアウトレットを備え、前記インレットチューブが前記蓋を貫通して前記流れ分配器中に張り出し、かつ、前記流れ分配器と流体連通し、前記噴出口が前記蓋に対して６０〜９０°の範囲の角度で前記基部に面する、化学前駆体を処理ツールに輸送するための容器。」
の点で一致し、以下の点で相違する。
・相違点１：本願発明１は、「化学前駆体を処理ツールに輸送するための容器」における「流れ分配器」の「各噴出口の等価直径が０．０１インチ（０．０２５ｃｍ）〜０．２５インチ（０．６４ｃｍ）の範囲である」、との発明特定事項を有するのに対して、引用発明１は、前記発明特定事項を有することが記載されていない点。
（１−２）判断
（ア）以下、前記（１−１）（イ）の相違点１について検討すると、引用発明１は、固体原料を加熱し、ＣＶＤ加工用の原料ガスを発生させるものであって、前記１（１）（ア）（１ｃ）（【００６７】）によれば、引用発明１においては、「流れ分配器」の「噴出口」としての「複数の小さい開口部」の口径および数量は、キャリアガスの流量、容器の大きさ等に基づいて最適な値に設定することが望ましいものである。
（イ）一方、引用発明１における「噴出口」としての「複数の小さい開口部」は、「中空シャワーヘッド」の構造を有する「流れ分配器」の「枠により形成される」ものである。
　そして、前記１（１）（ア）（１ｂ）〜（１ｆ）によれば、前記「枠」は、キャリアガスの全てが流入して拡散される「拡散体」の、上面の「インレットチューブ」の開口部を塞ぐ部分、および、下面以外を覆うことで、「拡散体」により拡散されたキャリアガスが、「拡散体」の下面から排出されて、「噴出口」としての「複数の小さい開口部」から、鉛直下方向に噴出するようにするものであり、前記「噴出口」としての「複数の小さい開口部」は、それぞれ、概略、前記「拡散体」と同程度の等価直径を有するべきものといえる。
　ところが、前記（１ｂ）、（１ｄ）、（１ｅ）によれば、前記「拡散体」は、第１の実施の形態、第２の実施の形態のように、「インレットチューブ」の先端の開口部を塞ぐように設けることを想定したものであり、「インレットチューブ」の先端の開口部の直径を「０．０１インチ（０．０２５ｃｍ）〜０．２５インチ（０．６４ｃｍ）」まで小さくすることは技術常識からみて考え難いので、前記「拡散体」の等価直径を「０．０１インチ（０．０２５ｃｍ）〜０．２５インチ（０．６４ｃｍ）」まで小さくすることは、そもそも想定されない。
　更に、前記（１ｃ）、（１ｆ）によれば、引用発明１における「拡散体」は、第１の実施の形態、第２の実施の形態と比較して、その数及び配置が異なるに過ぎず、「拡散体」として、特段、第１の実施の形態、第２の実施の形態とは異なるものを用いるものではないから、引用発明１においても、第１の実施の形態、第２の実施の形態と同様、その等価直径を「０．０１インチ（０．０２５ｃｍ）〜０．２５インチ（０．６４ｃｍ）」まで小さくすることがそもそも想定されない「拡散体」が用いられると解するのが妥当である。
　してみれば、引用発明１における「流れ分配器」の「噴出口」としての「複数の小さい開口部」の口径および数量は、キャリアガスの流量、容器の大きさ等に基づいて最適な値に設定することが望ましいものであるとしても、引用発明１において、等価直径を「０．０１インチ（０．０２５ｃｍ）〜０．２５インチ（０．６４ｃｍ）」まで小さくすることがそもそも想定されない「拡散体」と同程度の等価直径を有するべきものである「各噴出口の等価直径」を「０．０１インチ（０．０２５ｃｍ）〜０．２５インチ（０．６４ｃｍ）の範囲」とすることは、当業者が容易になし得るものとはいえないのであり、このことは、引用文献２の記載事項に左右されるものではない。
（ウ）なお、前記（１ｂ）（【００３６】）によれば、前記「拡散体」は、例えば焼結金属により構成されるものであり、当該「拡散体」も「噴出口」としての「複数の小さい開口部」を有するものといえ、前記「拡散体」における「各噴出口の等価直径」を「０．０１インチ（０．０２５ｃｍ）〜０．２５インチ（０．６４ｃｍ）の範囲」とする余地がないとはいえない。
　ところが、本願発明１における「流れ分配器」は「中空シャワーヘッド」の構造を有するものである一方、前記「拡散体」は「中空シャワーヘッド」の構造を有するものではなく、前記「拡散体」における「噴出口」としての「複数の小さい開口部」は、「中空シャワーヘッド」の構造を有する「流れ分配器」における「噴出口」としての「複数の小さい開口部」には相当しない。
　すると、仮に、前記「拡散体」における「各噴出口の等価直径」を「０．０１インチ（０．０２５ｃｍ）〜０．２５インチ（０．６４ｃｍ）の範囲」とする余地がないとはいえないとしても、前記「拡散体」における「噴出口」としての「複数の小さい開口部」は、「中空シャワーヘッド」の構造を有する「流れ分配器」における「噴出口」としての「複数の小さい開口部」には相当しないから、引用発明１において、「中空シャワーヘッド」の構造を有する「流れ分配器」の「各噴出口の等価直径」を「０．０１インチ（０．０２５ｃｍ）〜０．２５インチ（０．６４ｃｍ）の範囲」とすることを、当業者が容易になし得るとはいえない。
（エ）前記（イ）〜（ウ）によれば、引用発明１において、「化学前駆体を処理ツールに輸送するための容器」における「流れ分配器」の「各噴出口の等価直径が０．０１インチ（０．０２５ｃｍ）〜０．２５インチ（０．６４ｃｍ）の範囲である」、との前記相違点１に係る本願発明１の発明特定事項を有するものとすることを、引用文献１〜２に記載された事項に基いて当業者が容易になし得るとはいえないから、本願発明１を、引用文献１に記載された発明及び引用文献１〜２に記載された事項に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたとはいえない。
（２）本願発明２〜７について
　本願発明２〜７は、いずれも本願発明１を引用するものであって、本願発明２〜７と引用発明１とを対比した場合、少なくとも前記（１）（１−１）（イ）の相違点１の点で相違する。
　そうすると、前記（１）（１−２）（エ）に記載したのと同様の理由により、本願発明２〜７を、引用文献１に記載された発明及び引用文献１〜２に記載された事項に基づいて当業者が容易に発明をすることができたとはいえない。
（３）本願発明８〜１５について
　本願発明８及び本願発明８を引用する本願発明９〜１５は、いずれも、本願発明１に係る「容器」の発明特定事項を全て有する「化学前駆体を処理ツールに輸送するためのシステム」に係るものである。
　一方、前記１（１）（ア）（１ａ）〜（１ｆ）によれば、引用文献１には、引用発明１の発明特定事項を全て有する「原料ガス発生装置」に係る発明が記載されているといえ、前記（１）（１−１）（ア）と同様にして、本願発明８〜１５に係る「化学前駆体を処理ツールに輸送するためのシステム」と引用文献１に記載された「原料ガス発生装置」とを対比した場合、いずれの場合であっても、少なくとも前記（１）（１−１）（イ）の相違点１と同じ点で相違する。
　そうすると、前記（１）（１−２）（エ）に記載したのと同様の理由により、本願発明８〜１５を、引用文献１に記載された発明及び引用文献１〜２に記載された事項に基づいて当業者が容易に発明をすることができたとはいえない。
（４）本願発明１６〜２６について
　本願発明１６及び本願発明１６を直接的又は間接的に引用する本願発明１７〜２６は、本願発明１に係る「容器」の発明特定事項を全て有する「化学前駆体を処理ツールに輸送するための方法」に係るものである。
　一方、前記１（１）（ア）（１ａ）〜（１ｆ）によれば、引用文献１には、引用発明１の発明特定事項を全て有する「原料ガス発生方法」に係る発明が記載されているといえ、前記（１）（１−１）（ア）と同様にして、本願発明１６〜２６に係る「化学前駆体を処理ツールに輸送するための方法」と引用文献１に記載された「原料ガス発生方法」とを対比した場合、いずれの場合であっても、少なくとも前記（１）（１−１）（イ）の相違点１と同じ点で相違する。
　そうすると、前記（１）（１−２）（エ）に記載したのと同様の理由により、本願発明１６〜２６を、引用文献１に記載された発明及び引用文献１〜２に記載された事項に基づいて当業者が容易に発明をすることができたとはいえない。
（５）小括
　したがって、本願発明１〜２６を、引用文献１に記載された発明及び引用文献１〜２に記載された事項に基づいて当業者が容易に発明をすることができたとはいえないので、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないということはできない。
　なお、本願優先日当時の周知技術を示す文献である特開２０１６−３６０１１号公報（【００３７】〜【００４１】、【図１】〜【図２】）、特開２００３−１９７５４２号公報（請求項１、【図１】〜【図２】）によれば、中空シャワーはガスを拡散、噴出させる器具として本願優先日当時に周知のものといえるが、前記（１）（１−２）（イ）〜（ウ）の事項は係る周知技術にも左右されないので、同（エ）に記載したのと同様の理由により、本願発明１〜２６を、引用文献１に記載された発明、引用文献１〜２に記載された事項及び本願優先日当時の周知技術に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたとはいえない。
第５　むすび
　以上のとおり、原査定の理由によっては、本願を拒絶することはできない。
　また、他に本願を拒絶すべき理由を発見しない。
　よって、結論のとおり審決する。