(57)【要約】  本発明の課題は、良好な偏光度を有する薄い偏光板とその製造方法及び当該偏光板を用いた画像表示装置を提供することである。  本発明の偏光板は、偏光子上にハードコート層が直接積層されている偏光板において、その偏光子の膜厚が、０．５μｍ以上１０μｍ以下であり、ハードコート層の鉛筆硬度が、Ｂ以上Ｈ以下であることを特徴とする。
2013191010.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
偏光子上にハードコート層が直接積層されている偏光板であって、
前記偏光子の膜厚が、０．５μｍ以上１０μｍ以下であり、
前記ハードコート層の鉛筆硬度が、Ｂ以上Ｈ以下であることを特徴とする偏光板。
【請求項２】
前記偏光子における前記ハードコート層が積層された面とは反対面側に、位相差フィルムが配設されたことを特徴とする請求項１に記載の偏光板。
【請求項３】
前記偏光子の一方の面側が二色性色素で染色されており、その染色された面に前記ハードコート層が積層されていることを特徴とする請求項１又は２に記載の偏光板。
【請求項４】
前記偏光子の膜厚が、０．５μｍ以上５μｍ未満であることを特徴とする請求項１〜３の何れか一項に記載の偏光板。
【請求項５】
樹脂基材上に親水性高分子層を塗布により形成する工程と、
前記親水性高分子層を延伸して、０．５μｍ以上１０μｍ以下の厚さにする延伸処理を施す工程と、
前記親水性高分子層を二色性色素で染色する染色処理を施す工程と、を含み、
前記親水性高分子層に前記延伸処理と前記染色処理を任意の順に施してなる偏光子上に、「鉛筆硬度がＢ以上Ｈ以下の」ハードコート層を塗布によって形成する工程を有することを特徴とする偏光板の製造方法。
【請求項６】
請求項１〜４の何れか一項に記載の偏光板又は請求項５に記載の偏光板の製造方法によって得られた偏光板を具備することを特徴とする画像表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、偏光板、偏光板の製造方法及び画像表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、液晶パネルや有機エレクトロルミネッセンスパネルを利用した薄型ディスプレイ市場が急速に伸長している。特にスマートフォンやタブレットと呼ばれる中小型モバイル機器市場の伸長が著しい。中小型モバイル機器には、表示画像のコントラスト向上とともに、機器の薄型化や軽量化が求められている。そのため機器を構成する各部材の薄肉化が検討されている。【０００３】
例えば、モバイル機器を構成する偏光板を薄肉化するために、基材層と親水性高分子層の積層体を延伸して偏光板を製造する技術が開示されている（例えば、特許文献１参照。）。
特許文献１の技術によれば、延伸した親水性高分子層を二色性物質で染色して偏光子として機能させることができ、従来では厚さが２０μｍ以上であった偏光子に対して、１０μｍ以下の薄膜の偏光子を得ることができるとされている。
しかしながら、偏光板を作製する際には、偏光子の表面を保護する目的で透明な保護層を設ける必要がある。通常、偏光板に用いる保護層の厚さは６０〜１００μｍであるので、上記のように偏光子のみを薄膜化しても、偏光板全体の薄膜化には効果が少ないのが現状である。【０００４】
また、偏光板を薄肉化するため、偏光子上に硬化性樹脂を直接塗布して保護層を形成する技術が開示されている（例えば、特許文献２参照。）。
特許文献２の技術によれば、偏光子に接着剤を介して保護フィルムを積層することに比べて、薄い保護層を設けることができ、偏光板の薄肉化を図ることが可能とされている。この技術では、偏光板表面の傷付きを防止するため、鉛筆硬度４Ｈという高い硬度の保護層を形成している。
しかしながら、硬化性樹脂を塗布する方法によって偏光子上に高い硬度を有する保護層を形成した場合、厚さ２０μｍ以上の偏光子との組み合わせでは、偏光度が悪化するような問題は発生しないが、例えば、１０μｍ以下の薄い偏光子との組み合わせでは、偏光子と保護層の界面に生じる応力によって、その界面に亀裂が生じたり、偏光子に大きな歪みが発生したりするなどして、偏光度が悪化してしまうことがあった。また、薄い偏光子との組み合わせの場合、製造プロセスにおいてロール状に巻き取った状態の偏光板に経時劣化による色ムラが発生してしまうことがあった。
つまり、偏光板を薄肉化するために、薄膜の偏光子上に硬化性樹脂からなる保護層を塗布によって形成する方法を単純に適用しても、薄くて優れた偏光板を得ることができなかった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２０１１−１００１６１号公報
【特許文献２】特開２０１１−２２１１８５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は、上記問題に鑑みてなされたものであり、その解決課題は、良好な偏光度を有する薄い偏光板とその製造方法及び当該偏光板を用いた画像表示装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明者らは鋭意検討を重ねた結果、通常、ハードコート層は最表面に使用され、傷を生じ難くするために鉛筆硬度を４Ｈなどと硬くして使用している所を、偏光子を薄膜化した場合には鉛筆硬度範囲をＢ〜Ｈとすることで取り扱いや耐久性による偏光度劣化を小さく出来ることを見出した。また、ハードコート層の硬度がＢ未満でより低い場合は、液晶パネル製造時において、偏光板の貼り合わせプロセスや、パネル搬送時に発生する偏光板表面の擦り傷を防止することができなかった。すなわち、課題を解決する手段として、以下の本発明を提供するに至った。【０００８】
請求項１に記載の発明は、
偏光子上にハードコート層が直接積層されている偏光板であって、
前記偏光子の膜厚が、０．５μｍ以上１０μｍ以下であり、
前記ハードコート層の鉛筆硬度が、Ｂ以上Ｈ以下であることを特徴とする。【０００９】
請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の偏光板において、
前記偏光子における前記ハードコート層が積層された面とは反対面側に、位相差フィルムが配設されていることを特徴とする。【００１０】
請求項３に記載の発明は、請求項１又は２に記載の偏光板において、
前記偏光子の一方の面側が二色性色素で染色されており、その染色された面に前記ハードコート層が積層されていることを特徴とする。【００１１】
請求項４に記載の発明は、請求項１〜３の何れか一項に記載の偏光板において、
前記偏光子の膜厚が、０．５μｍ以上５μｍ未満であることを特徴とする。【００１２】
請求項５に記載の発明は、偏光板の製造方法であって、
樹脂基材上に親水性高分子層を塗布により形成する工程と、
前記親水性高分子層を延伸して、０．５μｍ以上１０μｍ以下の厚さにする延伸処理を施す工程と、
前記親水性高分子層を二色性色素で染色する染色処理を施す工程と、を含み、
前記親水性高分子層に前記延伸処理と前記染色処理を任意の順に施してなる偏光子上に、「鉛筆硬度がＢ以上Ｈ以下の」ハードコート層を塗布によって形成する工程を有することを特徴とする。【００１３】
請求項６に記載の発明は、画像表示装置であって、
請求項１〜４の何れか一項に記載の偏光板又は請求項５に記載の偏光板の製造方法によって得られた偏光板を具備することを特徴とする。
【発明の効果】
【００１４】
本発明によれば、良好な偏光度を有する薄い偏光板とその製造方法、またその偏光板を用いた画像表示装置を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１Ａ】本発明に係る基本的な偏光板を示す概略図
【図１Ｂ】本発明に係る位相差フィルム付きの偏光板を示す概略図
【図２Ａ】本発明に係る偏光板の、延伸基材を利用した塗布方式による製造方法の工程図
【図２Ｂ】本発明に係る偏光板の、延伸基材を利用しない製造方法の工程図
【図３】画像表示装置としてのタッチパネル付き有機ＥＬ表示装置の一例を示す概略図
【図４】画像表示装置としてのタッチパネル付きＩＰＳ型液晶表示装置の一例を示す概略図
【図５】画像表示装置としてのＶＡ型液晶表示装置の一例を示す概略図
【図６】画像表示装置としてのタッチパネル付きＶＡ型液晶表示装置の一例を示す概略図
【発明を実施するための形態】
【００１６】
本発明の偏光板は、偏光子上にハードコート層が直接積層されている偏光板であって、偏光子の膜厚が、０．５μｍ以上１０μｍ以下であり、ハードコート層の鉛筆硬度が、Ｂ以上Ｈ以下であることを特徴とし、優れた偏光度を有する薄い偏光板を実現することができる。この特徴は、請求項１から請求項４に係る発明に共通する技術的特徴である。
【００１７】
本発明の実施態様としては、本発明の目的とする効果をより発現できる観点から、偏光子におけるハードコート層が積層された面とは反対面側に、位相差フィルムが配設されていることが好ましい。
また、偏光子の一方の面側が二色性色素で染色されており、その染色された面にハードコート層が積層されていることが好ましい。
また、偏光子の膜厚が、０．５μｍ以上５μｍ未満であれば、より好ましい。
【００１８】
また、本発明の偏光板の製造方法においては、樹脂基材上に親水性高分子層を塗布により形成する工程と、親水性高分子層を延伸して、０．５μｍ以上１０μｍ以下の厚さにする延伸処理を施す工程と、親水性高分子層を二色性色素で染色する染色処理を施す工程と、を含み、親水性高分子層に延伸処理と染色処理を任意の順に施してなる偏光子上に、ハードコート層を塗布によって形成する工程を有することを特徴としている。
【００１９】
以下に、本発明を実施するための最良の形態について図面を用いて説明する。ただし、以下に述べる実施形態には、本発明を実施するために技術的に好ましい種々の限定が付されているが、発明の範囲を以下の実施形態及び図示例に限定するものではない。
なお、本実施形態において示す「〜」は、その前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味で使用する。
【００２０】
（１）偏光板の構成概要
本発明に係る偏光板の構成を、図１Ａ及び図１Ｂを用いて説明する。
偏光板１０は、図１Ａに示すように、偏光子１と、偏光子１上に直接積層されたハードコート層２を備えている。
また、偏光板１１は、図１Ｂに示すように、偏光子１と、偏光子１上に直接積層されたハードコート層２と、そのハードコート層２とは反対面側に配設された位相差フィルム３を備えている。
ここで、偏光板における偏光子１の一方の面側が二色性色素で染色されており、その染色された面にハードコート層２が積層されている。ただし偏光子１の厚さによっては、その染色域が他方の面にまで達するので、偏光子１全体が染色されていることもある。
なお、偏光板１１は、偏光板１０に位相差フィルム３を貼り合わせたものである。偏光板１０に位相差フィルム３を貼り合わせる場合、偏光子１の吸収軸と位相差フィルム３の遅層軸とが直交するように配することが好ましい。（偏光子１の延伸方向と、位相差フィルム３の延伸方向とが直交する向きに配することが好ましい。）
【００２１】
（２）偏光子
偏光子１は、例えば、親水性高分子からなる薄膜である。
偏光子１は、熱可塑性樹脂基材上に親水性高分子層を塗布方式で積層した後に、熱可塑性樹脂基材ごと親水性高分子層に延伸処理を施して形成される。また、親水性高分子膜単体に延伸処理を施して、偏光子１を形成するようにしてもよい。
この偏光子１の膜厚は、０．５μｍ以上１０μｍ以下である。好ましくは、０．５μｍ以上５μｍ未満である。
【００２２】
（２−１）熱可塑性樹脂基材
熱可塑性樹脂基材は、親水性高分子層を形成するための樹脂基材であり、その親水性高分子層を延伸するための延伸基材として機能する。
熱可塑性樹脂基材に用いる熱可塑性樹脂としては、例えば、トリアセチルセルロース等のセルロース樹脂、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリカーボネート樹脂、ナイロンや芳香族ポリアミド等のポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン・プロピレン共重合体等のポリオレフィン樹脂、シクロ系又はノルボルネン構造を有する環状ポリオレフィン樹脂（ノルボルネン系樹脂）、（メタ）アクリル樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、及びこれらの混合物が挙げられ、特に制限なく適用することができる。中でも、熱可塑性樹脂基材として、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリプロピレンフィルム、トリアセチルセルロースフィルムを好ましく用いることができる。
この熱可塑性樹脂基材の厚さは、５〜６０μｍの範囲であることが好ましい。
【００２３】
（２−２）親水性高分子層
親水性高分子層は、親水性高分子を主成分として含有する層である。
親水性高分子層を構成する親水性高分子については、特に制限はないが、ポリビニルアルコール系材料が好ましく例示される。ポリビニルアルコール系材料としては、例えば、ポリビニルアルコール及びその誘導体が挙げられる。ポリビニルアルコールの誘導体としては、ポリビニルホルマール、ポリビニルアセタール等が挙げられるほか、エチレン、プロピレン等のオレフィン、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸等の不飽和カルボン酸やそのアルキルエステル、アクリルアミド等で変性したものが挙げられる。また、上記のほか、親水性高分子としては、エチレン・酢酸ビニル共重合体系部分ケン化物、ポリビニルアルコールの脱水処理物やポリ塩化ビニルの脱塩酸処理物等が挙げられる。
親水性高分子としては、ポリビニルアルコール系材料のなかでも、ポリビニルアルコールを用いることが好ましい。
ポリビニルアルコールの重合度は、１００〜１００００程度が好ましく、１０００〜１００００がより好ましい。ケン化度は８０〜１００モル％程度のものが一般に用いられる。
【００２４】
また、親水性高分子層は、上述した親水性高分子に加えて、可塑剤、界面活性剤等の添加剤を含有してもよい。可塑剤としては、ポリオール及びその縮合物等が挙げられ、例えば、グリセリン、ジグリセリン、トリグリセリン、エチレングリコール、プロピレングリコール、ポリエチレングリコール等が挙げられる。可塑剤等の使用量は特に制限されないが、親水性高分子層の全量１００質量％に対して２０質量％以下とするのが好ましい。
【００２５】
この親水性高分子層に、延伸処理と、二色性色素による染色処理を施すことで、親水性高分子層が偏光子として機能するようになる。なお、親水性高分子層に施す延伸処理と染色処理の順は問わない。
【００２６】
（２−３）二色性色素
親水性高分子層を染色するために用いる二色性色素としては、例えば、ヨウ素含有化合物や有機染料等が挙げられる。染色処理は、例えば、二色性色素を溶媒に溶解した染色溶液に親水性高分子層を浸漬することにより行う。染色溶液の溶媒には、水が一般的に使用されるが、水と相溶性のある有機溶媒が添加されてもよい。
【００２７】
有機染料としては、例えば、レッドＢＲ、レッドＬＲ、レッドＲ、ピンクＬＢ、ルビンＢＬ、ボルドーＧＳ、スカイブルーＬＧ、レモンイエロー、ブルーＢＲ、ブルー２Ｒ、ネイビーＲＹ、グリーンＬＧ、バイオレットＬＢ、バイオレットＢ、ブラックＨ、ブラックＢ、ブラックＧＳＰ、エロー３Ｇ、エローＲ、オレンジＬＲ、オレンジ３Ｒ、スカーレットＧＬ、スカーレットＫＧＬ、コンゴーレッド、ブリリアントバイオレットＢＫ、スプラブルーＧ、スプラブルーＧＬ、スプラオレンジＧＬ、ダイレクトスカイブルー、ダイレクトファーストオレンジＳ、ファーストブラック、等を用いることができる。
特に、水溶性、染色効率、工程適性という観点からは、ヨウ素にヨウ化物を添加したヨウ素含有化合物を用いることが好ましい。ヨウ化物としては、例えば、ヨウ化カリウム、ヨウ化リチウム、ヨウ化ナトリウム、ヨウ化亜鉛、ヨウ化アルミニウム、ヨウ化鉛、ヨウ化銅、ヨウ化バリウム、ヨウ化カルシウム、ヨウ化スズ、ヨウ化チタン等が挙げられる。これらヨウ化物の添加割合は、染色溶液において、０．０１〜１０質量％であることが好ましく、０．１〜５質量％であることがより好ましい。なかでも、ヨウ化カリウムを添加することが好ましく、ヨウ素とヨウ化カリウムの割合（質量比）は、１：５〜１：１００の範囲にあることが好ましく、１：６〜１：８０の範囲にあることがより好ましく、１：７〜１：７０の範囲にあることが特に好ましい。
【００２８】
染色処理において、染色溶液へ親水性高分子層を浸漬する時間は、特に限定されないが、通常は、１５秒〜５分間の範囲であることが好ましく、１〜３分間であることがより好ましい。また、染色溶液の温度は、１０〜６０℃の範囲にあることが好ましく、２０〜４０℃の範囲にあることがより好ましい。
染色処理は、親水性高分子層に二色性色素を吸着させて、二色性色素を配向させる。この染色処理は、親水性高分子層の延伸処理の前、同時又は後に施すことができるが、親水性高分子層に吸着させた二色性色素を良好に配向させる点から、染色処理は、親水性高分子層に延伸処理を施した後に行うことが好ましい。
また、染色処理に引き続き前記二色性色素を吸着させた親水性高分子層は、例えば、ホウ酸、ホウ砂等のホウ素化合物や、グリオキザール、グルタルアルデヒドなどを含む架橋剤溶液に浸漬して架橋処理を行うことが好ましい。
【００２９】
（３）ハードコート層
ハードコート層２は、偏光子１が損傷しないように設けられた保護層であり、偏光板表面の耐傷性を高めており、紫外線や電子線のような活性線（活性エネルギー線ともいう。）照射により、架橋反応を経て硬化する活性線硬化樹脂を主たる成分とする層である。
このハードコート層２の鉛筆硬度は、Ｂ以上Ｈ以下である。
ハードコート層の鉛筆硬度は、ＪＩＳ  Ｋ  ５６００  ５−４に従い測定することができる。
【００３０】
活性線硬化樹脂としては、エチレン性不飽和二重結合を有するモノマーを含む成分が好ましく用いられ、紫外線や電子線のような活性線を照射することによって硬化させてハードコート層２が形成される。活性線硬化樹脂としては紫外線硬化性樹脂や電子線硬化性樹脂等が代表的なものとして挙げられるが、紫外線照射によって硬化する樹脂が機械的膜強度に優れる点から好ましい。紫外線硬化性樹脂としては、例えば、紫外線硬化型アクリレート系樹脂、紫外線硬化型ウレタンアクリレート系樹脂、紫外線硬化型ポリエステルアクリレート系樹脂、紫外線硬化型エポキシアクリレート系樹脂、紫外線硬化型ポリオールアクリレート系樹脂、又は紫外線硬化型エポキシ樹脂等が好ましく用いられる。中でも紫外線硬化型アクリレート系樹脂が好ましい。
【００３１】
紫外線硬化型アクリレート系樹脂としては、多官能アクリレートが好ましい。該多官能アクリレートとしては、例えば、ペンタエリスリトール多官能アクリレート、ジペンタエリスリトール多官能アクリレート、ペンタエリスリトール多官能メタクリレート、及びジペンタエリスリトール多官能メタクリレートよりなる群から選ばれることが好ましい。ここで、多官能アクリレートとは、分子中に２個以上のアクリロイルオキシ基又はメタクロイルオキシ基を有する化合物である。多官能アクリレートのモノマーとしては、例えばエチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールエタントリアクリレート、テトラメチロールメタントリアクリレート、テトラメチロールメタンテトラアクリレート、ペンタグリセロールトリアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールトリ／テトラアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、エトキシ化ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、グリセリントリアクリレート、ジペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、トリス（アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、エチレングリコールジメタクリレート、ジエチレングリコールジメタクリレート、１，６−ヘキサンジオールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、トリメチロールエタントリメタクリレート、テトラメチロールメタントリメタクリレート、テトラメチロールメタンテトラメタクリレート、ペンタグリセロールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールジメタクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、グリセリントリメタクリレート、ジペンタエリスリトールトリメタクリレート、ジペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールペンタメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート、活性エネルギー線硬化型のイソシアヌレート誘導体等が好ましく挙げられる。
活性エネルギー線硬化型のイソシアヌレート誘導体としては、イソシアヌル酸骨格に１個以上のエチレン性不飽和基が結合した構造を有する化合物であればよく、特に制限はないが、同一分子内に３個以上のエチレン性不飽和基及び１個以上のイソシアヌレート環を有する化合物が好ましい。
【００３２】
これらの市販品としては、例えば、アデカオプトマーＮシリーズ（（株）ＡＤＥＫＡ製）；サンラッドＨ−６０１、ＲＣ−７５０、ＲＣ−７００、ＲＣ−６００、ＲＣ−５００、ＲＣ−６１１、ＲＣ−６１２（以上、三洋化成工業（株）製）；ＳＰ−１５０９、ＳＰ−１５０７、アロニックスＭ−６１００、Ｍ−８０３０、Ｍ−８０６０、アロニックスＭ−２１５、アロニックスＭ−３１５、アロニックスＭ−３１３、アロニックスＭ−３２７（以上、東亞合成（株）製）、ＮＫ−エステルＡ−ＴＭＭ−３Ｌ、ＮＫ−エステルＡＤ−ＴＭＰ、ＮＫ−エステルＡＴＭ−３５Ｅ、ＮＫ−エステルＡＴＭ−４Ｅ、ＮＫエステルＡ−ＤＯＧ、ＮＫエステルＡ−ＩＢＤ−２Ｅ、Ａ−９３００、Ａ−９３００−１ＣＬ（以上、新中村化学工業（株））、ライトアクリレートＴＭＰ−Ａ、ＰＥ−３Ａ（以上、共栄社化学）などが挙げられる。
【００３３】
また、紫外線硬化型アクリレート系樹脂として、単官能アクリレートを用いてもよい。単官能アクリレートとしては、イソボロニルアクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピルアクリレート、イソステアリルアクリレート、ベンジルアクリレート、エチルカルビトールアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、ラウリルアクリレート、イソオクチルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、ベヘニルアクリレート、４−ヒドロキシブチルアクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、シクロヘキシルアクリレートなどが挙げられる。このような単官能アクリレートは、日本化成工業株式会社、新中村化学工業株式会社、大阪有機化学工業株式会社等から入手できる。
単官能アクリレートを用いる場合には、多官能アクリレートと単官能アクリレートの含有質量比で、多官能アクリレート：単官能アクリレート＝７０：３０〜９８：２の範囲内で含有することが好ましい。
【００３４】
また、ハードコート層２には活性線硬化樹脂の硬化促進のため、光重合開始剤を含有することが好ましい。光重合開始剤量としては、質量比で、光重合開始剤：活性線硬化樹脂＝２０：１００〜０．０１：１００の範囲内で含有することが好ましい。光重合開始剤としては、具体的には、アルキルフェノン系、アセトフェノン、ベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、ミヒラーケトン、α−アミロキシムエステル、チオキサントン等、及びこれらの誘導体を挙げることができるが、特にこれらに限定されるものではない。
このような光重合開始剤は市販品を用いてもよく、例えば、ＢＡＳＦジャパン（株）製のイルガキュア１８４、イルガキュア９０７、イルガキュア６５１などが好ましい例示化合物として挙げられる。
【００３５】
また、ハードコート層２には、帯電防止性を付与するために導電剤が含まれていてもよい。好ましい導電剤としては、π共役系導電性ポリマーが挙げられる。また、イオン液体も導電性化合物として好ましく用いられる。
また、ハードコート層２には、塗布性の観点から、アクリル共重合物、シリコーン系界面活性剤、フッ素系界面活性剤、アニオン界面活性剤、あるいはフッ素−シロキサングラフト化合物を含有させてもよい。フッ素−シロキサングラフト化合物とは、少なくともフッ素系樹脂に、シロキサン又はオルガノシロキサン単体を含むポリシロキサン又はオルガノポリシロキサンをグラフト化させて得られる共重合体の化合物をいう。
また、ハードコート層２は、ＨＬＢ値が３〜１８の化合物を含有してもよい。ＨＬＢ値とは、Ｈｙｄｒｏｐｈｉｌｅ−Ｌｉｐｏｐｈｉｌｅ−Ｂａｌａｎｃｅ、親水性−親油性−バランスのことであり、化合物の親水性又は親油性の大きさを示す値である。ＨＬＢ値が小さいほど親油性が高く、値が大きいほど親水性が高くなる。
【００３６】
ハードコート層２は、ハードコート層に含まれ得る上記した成分を、溶剤で希釈してなるハードコート層組成物（以下、ハードコート層塗布組成物とも言う）を、偏光子１上に塗布し乾燥した後、硬化させて設けることができる。
溶剤としては、ケトン類（例えば、メチルエチルケトン、アセトン、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトン等）、エステル類（例えば、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸プロピル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等）、アルコール類（例えば、エタノール、メタノール、ブタノール、ｎ−プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、ジアセトンアルコール等）、炭化水素類（例えば、トルエン、キシレン、ベンゼン、シクロヘキサン等）、グリコールエーテル類（例えば、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコールモノプロピルエーテル等）などを好ましく用いることができる。また、これら溶剤の中でもケトン類、エステル類、グリコールエーテル類あるいはアルコール類が好ましく、より好ましくはグリコールエーテル類あるいはアルコール類である。
なお、活性線硬化樹脂１００質量部に対して、２０〜２００質量部の範囲で溶剤を用いることで、ハードコート層塗布組成物を偏光子１上に塗布後に、ハードコート層塗布組成物の溶剤が蒸発しながらハードコート層を形成していく過程で、樹脂の対流が生じやすくなり、良好なハードコート層２を形成することができるので好ましい。
【００３７】
ハードコート層２を形成する際の、ハードコート層塗布組成物の塗布量は、ウェット膜厚として０．１〜４０μｍの範囲が適当で、好ましくは、０．５〜３０μｍの範囲である。また、ドライ膜厚としては平均膜厚で０．０５〜２０μｍの範囲であり、好ましくは１〜１０μｍの範囲である。
ハードコート層塗布組成物の塗布方法は、グラビアコーター、ディップコーター、リバースコーター、ワイヤーバーコーター、ダイコーター、インクジェット法等の公知の湿式塗布方法を用いることができる。これら塗布方法を用いてハードコート層となるハードコート層組成物を塗布し、塗布後に乾燥して、活性線を照射（ＵＶ硬化処理ともいう）し、更に必要に応じて、ＵＶ硬化後に加熱処理することで形成できる。ＵＶ硬化後の加熱処理温度としては８０℃以上が好ましく、更に好ましくは１００℃以上であり、特に好ましくは１２０℃以上である。このような高温でＵＶ硬化後の加熱処理を行うことで、膜強度に優れたハードコート層を得ることができる。
【００３８】
ＵＶ硬化処理の光源としては、紫外線を発生する光源であれば制限なく使用できる。例えば、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ等を用いることができる。
照射条件はそれぞれのランプによって異なるが、活性線の照射量は、通常５０〜１０００ｍＪ／ｃｍ２、好ましくは５０〜５００ｍＪ／ｃｍ２の範囲内である。
【００３９】
また、ハードコート層２には、紫外線吸収剤を含有してもよい。紫外線吸収剤は４００ｎｍ以下の紫外線を吸収することで、偏光板の耐久性を向上させることを目的としている。特に、波長３７０ｎｍでの透過率が３０％以下であることが好ましく、より好ましくは２０％以下であり、特に好ましくは１０％以下である。
本発明に用いられる紫外線吸収剤は特に限定されないが、例えば、オキシベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、トリアジン系化合物、ニッケル錯塩系化合物、無機粉体等が挙げられる。
紫外線吸収剤の使用量は、紫外線吸収剤の種類、使用条件等により一様ではないが、ハードコート層２に対して０．５〜１０質量％の範囲内で添加することが好ましく、０．６〜４質量％の範囲内であることが更に好ましい。
本発明において、ハードコート層の鉛筆硬度をＢ〜Ｈにする方法は特に限定されるものではないが、好ましくは、ハードコート層は前記紫外線硬化型アクリレート系樹脂から構成され、そのうちトリアクリレート樹脂（３官能樹脂）とテトラアクリレート樹脂（４官能樹脂）の質量が、全樹脂質量のうちの４０質量％以上９０質量％以下であり、より好ましくは５０質量％以上８０質量％以下の割合で含まれることが好ましい。
またハードコート層への活性線の照射量は、硬化性塗布液の組成及びランプによって異なるが、好ましくは３００〜９００ｍＪ／ｃｍ２の範囲内で照射すれば、目的の硬度範囲とすることができる。
【００４０】
（３−１）ハードコート層への防眩性の付与
ハードコート層２には、下記に記載の方法に従って防眩性を付与してもよい。ここでいう防眩性とは、ハードコート層表面に反射した像の輪郭をぼかすことによって反射像の視認性を低下させる機能であり、液晶ディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ、プラズマディスプレイといった画像表示装置の表示画面に、反射像の映り込みが気にならないようにするためのものである。
〈１〉ロールや原盤に目的とする形状のネガ型を形成しておき、エンボスにて形状を付与する方法。
〈２〉ロールや原盤に目的とする形状のネガ型を形成しておき、熱硬化性樹脂をネガ型に充填し、加熱硬化後ネガ型から剥離する方法。
〈３〉ロールや原盤に目的とする形状のネガ型を形成しておき、紫外線又は電子線硬化樹脂を塗布し凹部に充填後、樹脂液を介して凹版上に透明フィルム基材を被覆したまま紫外線又は電子線を照射し、硬化させた樹脂とそれが接着した透明フィルム基材とをネガ型から剥離する方法。
〈４〉目的とする形状のネガ型を流延ベルトに形成しておき、キャスティング時に目的とする形状を付与する溶剤キャスト法。
〈５〉光又は加熱により硬化する樹脂を透明基板に凸版印刷し、光又は加熱により硬化して凹凸を形成する方法。
〈６〉ハードコート層表面に光又は加熱して硬化する樹脂をインクジェット法により印刷し、光又は加熱により硬化して透明フィルム基材表面を凹凸形状にする方法。
〈７〉ハードコート層表面に光又は加熱して硬化する樹脂をインクジェット法により印刷し、光又は加熱により硬化して凹凸形状を形成し、更に透明樹脂層にて被覆する方法。
〈８〉ハードコート層表面を工作機械等で切削加工する方法。
〈９〉球体、多角体等各種形状の粒子を、ハードコート層表面に半ば埋没する程度に押し込んで一体化し、ハードコート層表面を凹凸形状にする方法。
〈１０〉球体、多角体等各種形状の粒子を少量のバインダーに分散したものをハードコート層表面に塗布し、ハードコート層表面を凹凸形状にする方法。
〈１１〉ハードコート層表面に、バインダーを塗布し、その上に球、多角体等各種形状の粒子を散布し、ハードコート層表面を凹凸形状にする方法。
〈１２〉ハードコート層表面に鋳型を押し当てて凹凸を形成する方法。具体的には特開２００５−１５６６１５公報記載の方法。
上記したハードコート層表面に凹凸形状を形成する方法の中でも、ネガ型を形成する方法やインクジェット法を併用する方法が、防眩性を付与するうえで効果的である。
【００４１】
（３−２）透光性微粒子による防眩性の付与
ハードコート層２に防眩性を付与するため、ハードコート層形成時に透光性微粒子を活性線硬化樹脂に添加するようにしてもよい。
【００４２】
透光性微粒子は２種類以上の微粒子から構成されることが、内部ヘイズ、表面ヘイズを達成しやすい点から好ましい。２種類以上の微粒子の構成としては、平均粒径が、０．０１〜１μｍの第１の透光性微粒子と、平均粒径が２〜６μｍの第２の透光性微粒子との組み合わせが好ましい。
第１の透光性微粒子の平均粒径は０．０１〜１μｍの範囲内であることが好ましく、より好ましくは０．０５〜１μｍの範囲内である。また、第２の透光性微粒子の平均粒径は２〜６μｍの範囲内が好ましく、より好ましくは３〜６μｍの範囲内である。
第１の透光性微粒子の平均粒径を０．０１〜１μｍの範囲内とすることで、内部ヘイズをコントロールしやすく、またオゾン暴露条件下での膜強度の低下抑制効果がより良く発揮される。第２の透光性微粒子の平均粒径は、２〜６μｍの範囲内とすることで、光の散乱角度分布が良好で、ディスプレイの文字ボケを引き起こす心配もない。また、防眩層の膜厚も厚くならないためカールが大きくならず、素材コストも抑えることができる。なお、これら平均粒子径は、例えば、レーザー回折式粒度分布測定装置により測定することができる。
【００４３】
平均粒径が２〜６μｍの第２の透光性微粒子としては、アクリル系粒子、スチレン系粒子又はアクリル−スチレン系粒子、メラミン系粒子、ベンゾグアナミン系粒子、シリカを主成分とする無機粒子が挙げられ、例えばフッ素含有アクリル樹脂微粒子、ポリ（（メタ）アクリレート）粒子、架橋ポリ（（メタ）アクリレート）粒子、ポリスチレン粒子、架橋ポリスチレン粒子、架橋ポリ（アクリル−スチレン）粒子が好ましく挙げられる。中でも、フッ素含有アクリル樹脂微粒子が好ましい。
【００４４】
フッ素含有アクリル樹脂微粒子としては、例えば、フッ素含有のアクリル酸エステルあるいはメタクリル酸エステルのモノマー又はポリマーから形成された微粒子である。フッ素含有のアクリル酸エステルあるいはメタクリル酸エステルの具体例としては、１Ｈ，１Ｈ，３Ｈ−テトラフルオロプロピル（メタ）アクリレート、１Ｈ，１Ｈ，５Ｈ−オクタフルオロペンチル（メタ）アクリレート、１Ｈ，１Ｈ，７Ｈ−ドデカフルオロヘプチル（メタ）アクリレート、１Ｈ，１Ｈ，９Ｈ−ヘキサデカフルオロノニル（メタ）アクリレート、２，２，２−トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロブチル）エチル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロヘキシル）エチル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロオクチル）エチル）（メタ）アクリレート、２−パーフルオロデシルエチル（メタ）アクリレート、３−パーフルオロブチル−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、３−パーフルオロヘキシル−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、３−パーフルオロオクチル−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロ−３−メチルブチル）エチル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロ−５−メチルヘキシル）エチル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロ−７−メチルオクチル）エチル（メタ）アクリレート、３−（パーフルオロ−３−メチルブチル−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、３−（パーフルオロ−５−メチルヘキシル）−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、３−（パーフルオロ−７−メチルオクチル）−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、１Ｈ−１−（トリフルオロメチル）トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、１Ｈ，１Ｈ，３Ｈ−ヘキサフルオロブチル（メタ）アクリレート、トリフルオロエチルメタクリレート、テトラフルオロプロピルメタクリレート、パーフルオロオクチルエチルアクリレート、２−（パーフルオロブチル）エチル−α−フルオロアクリレートが挙げられる。
【００４５】
また、フッ素含有アクリル樹脂微粒子の中でも、２−（パーフルオロブチル）エチル−α−フルオロアクリレートからなる微粒子、フッ素含有ポリメチルメタクリレート微粒子、フッ素含有メタアクリル酸を架橋剤の存在下にビニル単量体と共重合させた微粒子が好ましく、更に好ましくはフッ素含有ポリメチルメタクリレート微粒子である。
フッ素含有（メタ）アクリル酸と共重合可能なビニル単量体としては、ビニル基を有するものであればよく、具体的にはメタクリル酸メチル、メタクリル酸ブチル等のメタクリル酸アルキルエステル、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル等のアクリル酸アルキルエステル、及びスチレン、α−メチルスチレン等のスチレン類等が挙げられ、これらは単独で又は混合して用いることができる。重合反応の際に用いられる架橋剤としては、特に限定されないが、２個以上の不飽和基を有するものを用いることが好ましく、例えば、エチレングリコールジメタクリレート、ポリエチレングリコールジメタクリレート等の２官能性ジメタクリレートや、トリメチロールプロパントリメタクリレート、ジビニルベンゼン等が挙げられる。
なお、フッ素含有ポリメチルメタクリレート微粒子を製造するための重合反応は、ランダム共重合及びブロック共重合のいずれでもよい。具体的には、例えば、特開２０００−１６９６５８号公報に記載の方法なども挙げることができる。
【００４６】
フッ素含有アクリル樹脂微粒子の市販品としては、根上工業社製のＭＦ−００４３等が挙げられる。なお、これらのフッ素含有アクリル樹脂微粒子は、単独で用いてもよいが、２種以上を組み合わせて用いてもよい。また、これらのフッ素含有アクリル樹脂微粒子の状態は、粉体あるいはエマルジョン等、どのような状態で加えられても良い。
また、特開２００４−８３７０７号公報の段落番号［００２８］〜［００５５］に記載のフッ素含有架橋微粒子を用いても良い。
【００４７】
また、ポリスチレン粒子としては、例えば、綜研化学社製のＳＸ−１３０Ｈ、ＳＸ−２００Ｈ、ＳＸ−３５０Ｈ）、積水化成品工業社製のＳＢＸシリーズ（ＳＢＸ−６、ＳＢＸ−８）等の市販品を挙げられる。
【００４８】
また、メラミン系粒子としては、例えば、日本触媒社製のベンゾグアナミン・メラミン・ホルムアルデヒド縮合物（商品名：エポスター、グレード；Ｍ３０、商品名：エポスターＧＰ、グレード；Ｈ４０〜Ｈ１１０）、日本触媒社製のメラミン・ホルムアルデヒド縮合物（商品名：エポスター、グレード；Ｓ１２、Ｓ６、Ｓ、ＳＣ４）等の市販品を挙げられる。また、コアがメラミン系樹脂からなり、シェルがシリカで充填されたコア−シェル型の球状複合硬化メラミン樹脂粒子等も挙げられる。具体的には、特開２００６−１７１０３３号公報に記載の方法で作製することができ、日産化学工業社製のメラミン樹脂・シリカ複合粒子（商品名；オプトビーズ）等の市販品を挙げられる。
【００４９】
また、ポリ（（メタ）アクリレート）粒子、架橋ポリ（（メタ）アクリレート）粒子としては、例えば、綜研化学社製のＭＸ１５０、ＭＸ３００、日本触媒社製のエポスターＭＡ、グレード；ＭＡ１００２、ＭＡ１００４、ＭＡ１００６、ＭＡ１０１０、エポスターＭＸ（エマルジョン）、グレード；ＭＸ０２０Ｗ、ＭＸ０３０Ｗ、ＭＸ０５０Ｗ、ＭＸ１００Ｗ）、積水化成品工業社製のＭＢＸシリーズ（ＭＢＸ−８、ＭＢＸ１２）等の市販品を挙げられる。
また、架橋ポリ（アクリル−スチレン）粒子の具体例としては、例えば、日本ペイント社製のＦＳ−２０１、ＭＧ−３５１等の市販品が挙げられる。ベンゾグアナミン系粒子としては、例えば、日本触媒社製のベンゾグアナミン・ホルムアルデヒド縮合物（商品名：エポスター、グレード；Ｌ１５、Ｍ０５、ＭＳ、ＳＣ２５）等が挙げられる。
【００５０】
平均粒子径が０．０１〜１μｍの第１の透光性微粒子としては、アクリル系粒子、シリカを主成分とする無機粒子が挙げられる。シリカ粒子としては、日本アエロジル社製のアエロジル２００、２００Ｖ、３００、デグサ製、アエロジルＯＸ５０、ＴＴ６００等、日本触媒社製のＫＥＰ−１０，ＫＥＰ−５０，ＫＥＰ−１００等の商品名が挙げられる。また、コロイダルシリカを用いても良い。コロイダルシリカとは、二酸化ケイ素をコロイド状に水又は有機溶媒に分散させたものであり、特に限定はされないが球状、針状又は数珠状である。このようなコロイダルシリカは市販されており、例えば、日産化学工業社製のスノーテックスシリーズ、触媒化成工業社製のカタロイド−Ｓシリーズ、バイエル社製のレバシルシリーズ等が挙げられる。また、アルミナゾルや水酸化アルミニウムでカチオン変性したコロイダルシリカやシリカの一次粒子を２価以上の金属イオンで粒子間を結合し数珠状に連結した数珠状コロイダルシリカも好ましく用いられる。数珠状コロイダルシリカは、日産化学工業社製のスノーテックス−ＡＫシリーズ、スノーテックス−ＰＳシリーズ、スノーテックス−ＵＰシリーズ等が挙げられ、具体的には、ＩＰＳ−ＳＴ−Ｌ（イソプロパノールシリカゾル、粒子径４０〜５０ｎｍ、シリカ濃度３０％）、ＭＥＫ−ＳＴ−ＭＳ（メチルエチルケトンシリカゾル、粒子径１７〜２３ｎｍ、シリカ濃度３５％）等、ＭＥＫ−ＳＴ（メチルエチルケトンシリカゾル、粒子径１０〜１５ｎｍ、シリカ濃度３０％）、ＭＥＫ−ＳＴ−Ｌ（メチルエチルケトンシリカゾル、粒子径４０〜５０ｎｍ、シリカ濃度３０％）、ＭＥＫ−ＳＴ−ＵＰ（メチルエチルケトンシリカゾル、粒子径９〜１５ｎｍ（鎖状構造）、シリカ濃度２０％）等が挙げられる。
【００５１】
アクリル系粒子としては、フッ素含有アクリル樹脂微粒子が挙げられ、例えば、日本ペイント社製のＦＳ−７０１等の市販品が挙げられる。また、アクリル粒子として、例えば、日本ペイント社製のＳ−４０００、アクリル−スチレン粒子として、例えば、日本ペイント社製のＳ−１２００、ＭＧ−２５１等が挙げられる。
これら平均粒子径が０．０１〜１μｍの第１の透光性微粒子のなかでもフッ素含有アクリル樹脂微粒子が好ましい。
【００５２】
平均粒径が２〜６μｍの第２の透光性微粒子は、防眩性を付与するハードコート層塗布液の安定性及び分散液の分散性から、含有量としては、活性線硬化樹脂１００質量部に対して、０．０１〜５００質量部が好ましく、更に好ましくは０．１〜１００質量部、特に好ましくは１〜６０質量部である。
平均粒子径が０．０１〜１μｍの第１の透光性微粒子は、防眩性を付与するハードコート層塗布液の安定性及び分散液の分散性から、含有量としては、活性線硬化樹脂１００質量部に対して、０．０１〜５００質量部の範囲内が好ましく、更に好ましくは０．１〜１００質量部の範囲内である。
【００５３】
また、第１の透光性微粒子と第２の透光性微粒子の含有比率は、第１の透光性微粒子：第２の透光性微粒子＝１．０：１．０〜３．０：１．０の範囲内であることが好ましい。２種類の粒径が異なる微粒子を用い、かつ上記のような含有比率にすることで、オゾン暴露等の耐久試験後の膜強度の低下抑制に対してより良く効果を発揮する。
また、透光性微粒子は、粉体あるいはエマルジョン等どのような状態で加えられてもよい。また、透光性微粒子の密度は、好ましくは１０〜１０００ｍｇ／ｍ２、より好ましくは１００〜７００ｍｇ／ｍ２の範囲内である。
【００５４】
また、ハードコート層２に防眩性を付与するため、更に、シリコーン系樹脂粉末、ポリスチレン系樹脂粉末、ポリカーボネート樹脂粉末、ポリオレフィン系樹脂粉末、ポリエステル系樹脂粉末、ポリアミド系樹脂粉末、ポリイミド系樹脂粉末、又はポリ弗化エチレン系樹脂粉末等紫外線硬化性樹脂組成物を加えてもよい。また、必要に応じて更に特開２０００−２４１８０７号公報に記載の微粒子を加えてもよい。
【００５５】
透光性微粒子の屈折率は、１．４５〜１．７０であることが好ましく、より好ましくは１．４５〜１．６５である。なお、透光性微粒子の屈折率は、屈折率の異なる２種類の溶媒の混合比を変化させて屈折率を変化させた溶媒中に透光性微粒子を等量分散して濁度を測定し、濁度が極小になった時の溶媒の屈折率をアッベ屈折計で測定することで測定できる。
また、透光性微粒子と透光性を有する活性線硬化樹脂（透光性樹脂）との屈折率の差（透光性微粒子の屈折率−透光性樹脂の屈折率）は、絶対値として０．００１〜０．１００で、好ましくは０．００１〜０．０５０であり、より好ましくは０．００１〜０．０４０、更に好ましくは０．００１〜０．０３０、特に好ましくは０．００１〜０．０２０、最適には０．００１〜０．０１５である。屈折率を上記した範囲とするには、透光性樹脂及び透光性微粒子の種類及び量割合を適宜選択すればよい。どのように選択するかは、あらかじめ実験的に決めることが好ましい。上記範囲内であれば、フィルム文字ボケ、暗室コントラストの低下、表面の白濁等の問題が生じることもない。
具体的には、ハードコート層形成用の透光性樹脂の硬化後の屈折率が１．５０〜１．５３の硬化型アクリレート系樹脂とアクリル系透光性微粒子の組合せが好ましく、特に透光性樹脂の硬化後の屈折率が１．５０〜１．５３の硬化型アクリレート系樹脂とアクリル系透光性微粒子と架橋ポリ（スチレン−アクリル）共重合体からなる透光性微粒子（屈折率が１．４８〜１．５４）との組合せ、透光性樹脂の硬化後の屈折率が１．５０〜１．５３の硬化型アクリレート系樹脂とアクリル系透光性微粒子とフッ素含有アクリル樹脂微粒子（屈折率が１．４５〜１．４７）との組合せが好ましい。
【００５６】
《反射防止層》
ハードコート層２の上には、低屈折率層、高屈折率層などの反射防止層を設けてもよい。
例えば、低屈折率層は、外殻層を有し内部が多孔質又は空洞となっている中空シリカ系微粒子を含有する低屈折率層塗布液をコーティングすることが好ましい。
なお、低屈折率層、高屈折率層等の詳細については、国際公開ＷＯ２００８／０５０５７６号公報の段落［０１８７］〜［０２６６］に記載されている。
【００５７】
（４）位相差フィルム
偏光子１におけるハードコート層２が積層された面とは反対面側に、位相差フィルム３が配設されていることが好ましい。
位相差フィルム３は、液晶表示の視野角度によるコントラスト及び色味の変化を、光学的に補償する役割を有するが、液晶表示モードにより求められる位相差が異なる。適用される液晶表示装置に応じて適宜に選択できる。
【００５８】
例えば、ＶＡ（ＶｅｒｔｉｃａｌＡｌｉｇｎｍｅｎｔ，ＭＶＡ，ＰＶＡを含む）の場合は、偏光板の少なくとも片方（セル側）の透明保護フィルムが位相差を有している方が望ましい。具体的な位相差として、Ｒｅ＝０〜２４０ｎｍ、Ｒｔｈ＝０〜５００ｎｍの範囲である事が望ましい。三次元屈折率でいうと、ｎｘ＞ｎｙ＝ｎｚ、ｎｘ＞ｎｙ＞ｎｚ、ｎｘ＞ｎｚ＞ｎｙ、ｎｘ＝ｎｙ＞ｎｚ（一軸，二軸，Ｚ化，ネガティブＣプレート）の場合が望ましい。液晶セルの上下に偏光板を使用する際、液晶セルの上下共に、位相差を有している、又は上下いずれかの透明保護フィルムが位相差を有していてもよい。
但し、ｎｘは、フィルムの面内方向において屈折率が最大になる方向ｘにおける屈折率を表す。ｎｙは、フィルムの面内方向において、前記方向ｘと直交する方向ｙにおける屈折率を表す。ｎｚは、フィルムの厚さ方向ｚにおける屈折率を表す。
【００５９】
例えば、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌaｎe Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ，ＦＦＳを含む）の場合、偏光板の片方の透明保護フィルムが位相差を有している場合、有していない場合のいずれも使用できる。例えば、位相差を有していない場合は、液晶セルの上下（セル側）ともに位相差を有していない場合が望ましい。位相差を有している場合は、液晶セルの上下ともに位相差を有している場合、上下のいずれかが位相差を有している場合が望ましい（例えば、上側にＺ化、下側に位相差なしの場合や、上側にＡプレート、下側にポジティブＣプレートの場合）。位相差を有している場合、Ｒｅ＝−５００〜５００ｎｍ、Ｒｔｈ＝−５００〜５００ｎｍの範囲が望ましい。三次元屈折率でいうと、ｎｘ＞ｎｙ＝ｎｚ、ｎｘ＞ｎｚ＞ｎｙ、ｎｚ＞ｎｘ＝ｎｙ、ｎｚ＞ｎｘ＞ｎｙ（一軸，Ｚ化，ポジティブＣプレート、ポジティブＡプレート）が望ましい。
【００６０】
なお、位相差を有するフィルムは、位相差を有しない透明保護フィルムに、別途フィルムを貼り合わせて上記機能を付与することができる。
【００６１】
本発明の偏光板はＶＡモードに用いられることが好ましく、位相差フィルム３は、下式（１）で規定する条件を満たすことが好ましい。
式（１）
７．５×１０−４≦（ｎｘ−ｎｙ）≦４．５×１０−３
（但し、ｎｘは、フィルムの面内方向において屈折率が最大になる方向ｘにおける屈折率を表す。ｎｙは、フィルムの面内方向において、前記方向ｘと直交する方向ｙにおける屈折率を表す。）
【００６２】
なお、フィルムの複屈折、リターデーション値は自動複屈折率測定装置（王子計測機器（株）製の商品名ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ）を用いて測定できるが、これに限定されるものではない。
【００６３】
位相差フィルム３の材料としては、例えば、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）等のセルロース系樹脂や、ポリエステル系、ポリカーボネート系、ノルボルネン系、ポリアミド系、ポリイミド系、ポリエーテルスルホン系、ポリスルホン系、ポリスチレン系、アクリル系、アセテート系、ポリオレフィン系等の樹脂等のポリマーフィルムを延伸処理した複屈折性フィルム、液晶ポリマーの配向フィルム、液晶ポリマーの配向層をフィルムで支持した積層体等が挙げられる。
位相差フィルム３は所定の条件を満たしていれば特に限定されないが、セルロース樹脂、ポリカーボネート樹脂、環状ポリオレフィン樹脂及び（メタ）アクリル樹脂から選ばれるいずれか少なくとも１つを用いるのが好ましい。より好ましくはセルロース樹脂である。
【００６４】
また、位相差フィルム３の種類は、例えば、１／２λ板や１／４λ板等の各種波長板、液晶層の複屈折による着色の補償や視野角拡大等の視角の補償を目的としたもの等、使用目的に応じた位相差を有するものでよい。
【００６５】
さらに、位相差フィルム３は、偏光子との接着性を上げるために、例えば、その表面が、アルカリ等によってケン化処理されてもよい。あるいは、表面に適切なプライマー処理を行ってもよい。ウレタン系のプライマーやシリコン系のプライマーでの処理が好ましく行われる。
【００６６】
位相差フィルム３の厚さは、例えば、１〜５００μｍの範囲であり、好ましくは、５〜２００μｍの範囲であり、より好ましくは、１０〜１５０μｍの範囲である。また、位相差フィルム３の波長５９０ｎｍにおける透過率は、好ましくは、９０％以上である。
特に本発明に好ましい位相差フィルムは、特開２０１０−２１５８７９号公報の段落［００３０］〜［０２３２］に記載されているセルロースエステルフィルムである。
【００６７】
（５）偏光板の製造方法
次に、偏光板の製造方法について説明する。図２Ａは、延伸基材を利用した塗布方式による偏光板の製造工程の一例を示す説明図であり、図２Ｂは、延伸基材を利用せずにＰＶＡ原反を用いる偏光板の製造工程の一例を示す説明図である。
【００６８】
（５−１）延伸基材を利用した偏光板の製造方法
偏光子１を塗布方式によって形成する場合には、延伸基材を用いる（図２Ａ参照）。
まず、延伸基材（１）としての熱可塑性樹脂基材Ｂの表面に、コロナ処理を施す。熱可塑性樹脂基材Ｂは、ポリエチレンテレフタレート、ポリプロピレン、トリアセチルセルロースなどからなる。
次いで、（２）延伸基材としての熱可塑性樹脂基材Ｂ上に、例えば、ポリビニルアルコール水溶液を塗布し乾燥させて、親水性高分子層１ａを形成する。
【００６９】
次いで、（３）熱可塑性樹脂基材Ｂ上に親水性高分子層１ａが積層された積層体に延伸処理を施し、親水性高分子層１ａを例えば２〜７倍に延伸して、０．５μｍ以上１０μｍ以下の厚さにする。ここでは、熱可塑性樹脂基材Ｂと親水性高分子層１ａの積層体を、その搬送方向（ＭＤ方向）に自由端延伸する延伸処理を好ましい手法として適用できるが、積層体を幅方向（ＴＤ方向）にテンターによって延伸するなど、任意の手法で延伸処理してもよい。
次いで、（４）熱可塑性樹脂基材Ｂ上の親水性高分子層１ａを、二色性色素の染色溶液に浸漬して、親水性高分子層１ａを二色性色素で染色する染色処理を施す。ここで、親水性高分子層１ａが二色性色素で染色される染色域の厚さは、例えば０．５〜２μｍである。
なお、親水性高分子層１ａに施す延伸処理と染色処理の順は任意であり、親水性高分子層１ａに延伸処理を施した後に染色処理を施しても、親水性高分子層１ａに染色処理を施した後に延伸処理を施してもよい。
そして、延伸処理と染色処理が施された親水性高分子層１ａは、偏光子１として機能するようになる。
【００７０】
次いで、（５）偏光子１における二色性色素で染色された面に、活性線硬化樹脂を含有しているハードコート層塗布組成物を塗布し乾燥させて、ハードコート層塗膜２ａを形成する。
さらに、（６）そのハードコート層塗膜２ａに活性線であるＵＶ光を照射して、膜厚が１〜５μｍで、鉛筆硬度がＢ〜Ｈのハードコート層２を形成する。
そして、（７）熱可塑性樹脂基材Ｂを偏光子１の裏面から剥離することで、偏光板１０が製造される。また、その偏光板１０におけるハードコート層２とは反対面側に位相差フィルム３を貼り合わせることで、偏光板１１を製造できる。
【００７１】
（５−２）延伸基材を利用しない偏光板の製造方法
延伸基材を用いずに偏光子１を形成する場合には、例えばＰＶＡ原反などの親水性高分子膜（親水性高分子層）を用いる（図２Ｂ参照）。（１）親水性高分子膜は、例えば、ポリビニルアルコールを主成分として形成された高分子フィルムである。
（２）その親水性高分子膜１ａに延伸処理を施し、親水性高分子膜１ａを例えば２〜７倍に延伸して、０．５μｍ以上１０μｍ以下の厚さにする。ここでは、親水性高分子膜１ａを、その搬送方向（ＭＤ方向）に自由端延伸する延伸処理を好ましい手法として適用できるが、親水性高分子膜１ａを幅方向（ＴＤ方向）にテンターによって延伸するなど、任意の手法で延伸処理してもよい。
次いで、（３）親水性高分子膜１ａを、二色性色素の染色溶液に浸漬して、親水性高分子膜１ａを二色性色素で染色する染色処理を施す。ここで、親水性高分子膜１ａが二色性色素で染色される染色域の厚さは、例えば０．５〜２μｍである。
なお、親水性高分子膜１ａに施す延伸処理と染色処理の順は任意であり、親水性高分子膜１ａに延伸処理を施した後に染色処理を施しても、親水性高分子膜１ａに染色処理を施した後に延伸処理を施してもよい。
そして、延伸処理と染色処理が施された親水性高分子膜１ａは、偏光子１として機能するようになる。
【００７２】
次いで、（４）偏光子１における二色性色素で染色された面に、活性線硬化樹脂を含有しているハードコート層塗布組成物を塗布し乾燥させて、ハードコート層塗膜２ａを形成する。
さらに、そのハードコート層塗膜２ａに活性線であるＵＶ光を照射して、膜厚が１〜５μｍで、鉛筆硬度がＢ〜Ｈのハードコート層２を形成する。
そして、（５）ＵＶ光照射処理を終えることで、（６）偏光板１０が製造される。また、その偏光板１０におけるハードコート層２とは反対面側に位相差フィルム３を貼り合わせることで、偏光板１１を製造できる。
【００７３】
（６）画像表示装置の概要
次に、偏光板１０又は偏光板１１を具備する画像表示装置の概要について説明する。
例えば、本発明に係る偏光板１０，１１を画像表示装置に組み込むことによって、種々の視認性に優れた画像表示装置を作製することができる。
【００７４】
図３は、画像表示装置１０１である、タッチパネル付き有機ＥＬ表示装置の一例を示す概略図である。
画像表示装置１０１は、有機ＥＬ素子１２に配設されたタッチパネル１３上に粘着剤１４によって貼着された偏光板１０を備えている。この偏光板１０の偏光子１には位相差フィルム（λ／４板）３が貼付されている。また、偏光板１０のハードコート層２側には粘着剤１４によってカバーグラス１５が貼着されている。
【００７５】
図４は、画像表示装置１０２である、タッチパネル付きＩＰＳ型液晶表示装置の一例を示す概略図である。
画像表示装置１０２は、ＩＰＳ型液晶パネル２０の両面に配された偏光板１０を備えており、一方の偏光板１０のハードコート層２側に粘着剤１４によってタッチパネル１３が配設された構成をとっている。また、他方の偏光板１０側にバックライトユニットＢＬが設けられている。
【００７６】
図５は、画像表示装置１０３である、ＶＡ型液晶表示装置の一例を示す概略図である。
画像表示装置１０３は、ＶＡ型液晶パネル２１の両面に配された偏光板１１と、バックライトユニットＢＬを備えた構成をとっている。
【００７７】
図６は、画像表示装置１０４である、タッチパネル付きＶＡ型液晶表示装置の一例を示す概略図である。
画像表示装置１０４は、ＶＡ型液晶パネル２１の両面に配された偏光板１１を備えており、一方の偏光板１１のハードコート層２側に粘着剤１４によってタッチパネル１３が配設された構成をとっている。また、他方の偏光板１１側にバックライトユニットＢＬが設けられている。
【００７８】
本発明の画像表示装置では、本発明の偏光板は鉛筆硬度がＢ〜Ｈであるため、耐擦傷が求められる最表面に使用することは好ましくない。光源側の偏光板として使用することが好ましい。また、視認側の偏光板として使用する場合には、図３、４、６の様に触れる面に別部材を使用する画像表示装置の構成とすることが好ましい。
【実施例】
【００７９】
以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、実施例において「％」の表示を用いるが、特に断りがない限り「質量％」を表す。【００８０】
１．偏光子の作製
（製造例１、偏光子Ｎｏ．１の製造）
厚さ３０μｍのポリビニルアルコールフィルムを、乾式、１２５℃で、搬送方向（ＭＤ方向）に延伸倍率５．７倍で一軸延伸した。
延伸後のポリビニルアルコールフィルムに一定のテンションを加えたまま、当該フィルムを、水１００質量部あたり０．０５質量部のヨウ素と５質量部のヨウ化カリウムとを含有する水溶液に、温度２８℃で６０秒間浸漬した。次いで、得られたフィルムに一定のテンションを加えたまま、当該フィルムを、水１００質量部あたり７．５質量部のホウ酸と６質量部のヨウ化カリウムとを含有するホウ酸水溶液に、温度７３℃で３００秒間浸漬した。その後、得られたフィルムを１５℃の純水で１０秒間洗浄し、そのフィルムに一定のテンションを加えたまま、当該フィルムを７０℃で３００秒間乾燥させた。次いで、得られたフィルムの端部を切り落として、幅１３００ｍｍの偏光子Ｎｏ．１（偏光フィルム）を得た。偏光子Ｎｏ．１（偏光フィルム）の厚さは１０μｍであった。【００８１】
（製造例２、偏光子Ｎｏ．２の製造）
〈塗布工程〉
帯電防止処理が施された、厚さ１２０μｍの非晶性ポリエチレンテレフタレートフィルムの表面をコロナ処理して、基材フィルムとした。
一方、ポリビニルアルコール粉末（日本酢ビ・ポバール（株）製、平均重合度２５００、ケン化度９９．０モル％以上、商品名：ＪＣ−２５）を、９５℃の熱水中に溶解させて、濃度８質量％のポリビニルアルコール水溶液を調製した。
得られたポリビニルアルコール水溶液を、基材フィルム上にリップコーターにて塗工し、８０℃で２０分間乾燥させた。それにより、基材フィルム（樹脂基材）とポリビニルアルコール樹脂層（親水性高分子層）との積層体を得た。積層体におけるポリビニルアルコール系樹脂層の厚さは２０．１μｍであった。
〈延伸工程〉
得られた積層体を、１６０℃で、搬送方向（ＭＤ方向）に延伸倍率５．３倍で自由端一軸延伸した。延伸後の積層体におけるポリビニルアルコール樹脂層の厚さは１０μｍであった。
〈染色工程〉
延伸後の積層体を、６０℃の温水浴に６０秒間浸漬した後、水１００質量部あたり０．０５質量部のヨウ素と５質量部のヨウ化カリウムとを含有する水溶液に、温度２８℃で６０秒間浸漬した。次いで、得られた積層体に一定のテンションを加えたまま、当該積層体を、水１００質量部あたり７．５質量部のホウ酸と６質量部のヨウ化カリウムとを含有するホウ酸水溶液に、温度７３℃で３００秒間浸漬した。その後、得られた積層体を、１５℃の純水で１０秒間洗浄し、その積層体に一定のテンションを加えたまま、当該積層体を７０℃で３００秒間乾燥させて、基材フィルムと偏光子Ｎｏ．２の積層体を得た。偏光子Ｎｏ．２の厚さは１０μｍであった。【００８２】
（製造例３、偏光子Ｎｏ．３の製造）
基材フィルム（樹脂基材）とポリビニルアルコール樹脂層（親水性高分子層）との積層体におけるポリビニルアルコール系樹脂層の厚さを９．８μｍとした以外は製造例２と同様にして偏光子Ｎｏ．３を得た。偏光子Ｎｏ．３の厚さは４μｍであった。【００８３】
（製造例４、偏光子Ｎｏ．４の製造）
基材フィルム（樹脂基材）とポリビニルアルコール樹脂層（親水性高分子層）との積層体におけるポリビニルアルコール系樹脂層の厚さを１２．０μｍとした以外は製造例２と同様にして偏光子Ｎｏ．４を得た。偏光子Ｎｏ．４の厚さは５μｍであった。【００８４】
（製造例５、偏光子Ｎｏ．５の製造）
基材フィルム（樹脂基材）とポリビニルアルコール樹脂層（親水性高分子層）との積層体におけるポリビニルアルコール系樹脂層の厚さを１．５μｍとした以外は製造例２と同様にして偏光子Ｎｏ．５を得た。偏光子Ｎｏ．５の厚さは０．５μｍであった。【００８５】
（製造例６、偏光子Ｎｏ．６の製造）
基材フィルム（樹脂基材）とポリビニルアルコール樹脂層（親水性高分子層）との積層体におけるポリビニルアルコール系樹脂層の厚さを７．５μｍとした以外は製造例２と同様にして偏光子Ｎｏ．６を得た。偏光子Ｎｏ．６の厚さは４μｍであった。【００８６】
（製造例７、偏光子Ｎｏ．７の製造）
基材フィルム（樹脂基材）とポリビニルアルコール樹脂層（親水性高分子層）との積層体におけるポリビニルアルコール系樹脂層の厚さを０．４μｍとした以外は製造例２と同様にして偏光子Ｎｏ．７を得た。偏光子Ｎｏ．７の厚さは０．２μｍであった。【００８７】
（製造例８、偏光子Ｎｏ．８の製造）
偏光子Ｎｏ．１の作製において、厚さ７５μｍのポリビニルアルコールフィルム（クラレ社製、ビニロン＃７５００）とし、乾式、１２５℃で、搬送方向（ＭＤ方向）に延伸倍率５．２倍で一軸延伸した以外は同様にして、偏光子Ｎｏ．８を得た。偏光子Ｎｏ．８の厚さは３０μｍであった。【００８８】
［実施例１］
《偏光板Ｎｏ．１０１の作製》
下記の方法に従って、偏光板Ｎｏ．１０１を作製した。【００８９】
上記作製した偏光子Ｎｏ．１上に、孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過して調製した下記ハードコート層塗布液「１」を、ダイコーターにより塗布し、ハードコート層となる塗膜を形成した。その塗膜を７０℃で乾燥後、酸素濃度が１．０体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら、紫外線ランプを用い、照射部の照度が３００ｍＷ／ｃｍ２、照射量を０．３Ｊ／ｃｍ２として塗膜を硬化させ、さらに加熱処理ゾーンにおいて、１３０℃で５分間、搬送張力３００Ｎ／ｍで加熱処理し、偏光子Ｎｏ．１上にドライ膜厚１５．０μｍのハードコート層を形成し、偏光板Ｎｏ．１０１を作製して巻き取った。【００９０】
（ハードコート層塗布液「１」の調製）
下記の各構成材料を混合、撹拌、溶解して、ハードコート層塗布液「１」を調製した（表１参照）。
・ハードコート層塗布液「１」
ペンタエリスリトールテトラアクリレート                ３０質量部
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート                ６０質量部
ジペンタエリスリトールペンタアクリレート                ５０質量部
イルガキュア１８４（ＢＡＳＦ社製）                        ５質量部
イルガキュア９０７（ＢＡＳＦ社製）                        ５質量部
フッ素−シロキサングラフトポリマーＩ（３５質量％、下記参照）                                                                              ５質量部
シーホスターＫＥＰ−５０（粉体のシリカ粒子、平均粒径０．４７〜０．６１μｍ、日本触媒株式会社製）                        ２４．３質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル                  ２０質量部
酢酸メチル                                              ４０質量部
メチルエチルケトン                                      ６０質量部【００９１】
〈フッ素−シロキサングラフトポリマーＩの調整材料〉
以下、フッ素−シロキサングラフトポリマーＩの調製に用いた素材の市販品名を示す。
１）ラジカル重合性フッ素樹脂（Ａ）：セフラルコートＣＦ−８０３（ヒドロキシ基価６０、数平均分子量１５０００；セントラル硝子（株）製）
以下に、ラジカル重合性フッ素樹脂（Ａ）の合成方法を示す。
械式撹拌装置、温度計、コンデンサー及び乾燥窒素ガス導入口を備えたガラス製反応器に、セフラルコートＣＦ−８０３（１５５４質量部）、キシレン（２３３質量部）、及び２−イソシアナトエチルメタクリレート（６．３質量部）を入れ、乾燥窒素雰囲気下で８０℃に加熱した。８０℃で２時間反応し、サンプリング物の赤外吸収スペクトルによりイソシアネートの吸収が消失したことを確認した後、反応混合物を取り出し、ウレタン結合を介して５０質量％のラジカル重合性フッ素樹脂（Ａ）を得た。
２）片末端ラジカル重合性ポリシロキサン（Ｂ）：サイラプレーンＦＭ−０７２１（数平均分子量５０００；チッソ（株）製）
３）ラジカル重合開始剤：パーブチルＯ（ｔ−ブチルパーオキシ−２−エチルヘキサノエート；日本油脂（株）製）
４）硬化剤：スミジュールＮ３２００（ヘキサメチレンジイソシアネートのビウレット型プレポリマー；住化バイエルウレタン（株）製）【００９２】
〈フッ素−シロキサングラフトポリマーＩの調製〉
機械式撹拌装置、温度計、コンデンサー及び乾燥窒素ガス導入口を備えたガラス製反応器に、上記合成したラジカル重合性フッ素樹脂（Ａ）（２６．１質量部）、キシレン（１９．５質量部）、酢酸ｎ−ブチル（１６．３質量部）、メチルメタクリレート（２．４質量部）、ｎ−ブチルメタクリレート（１．８質量部）、ラウリルメタクリレート（１．８質量部）、２−ヒドロキシエチルメタクリレート（１．８質量部）、片末端ラジカル重合性ポリシロキサン（Ｂ）：ＦＭ−０７２１（５．２質量部）、及びラジカル重合開始剤：パーブチルＯ（０．１質量部）を入れ、窒素雰囲気中で９０℃まで加熱した後、９０℃で２時間保持した。パーブチルＯ（０．１部）を追加し、更に９０℃で５時間保持することによって、重量平均分子量が１７１０００である３５質量％フッ素−シロキサングラフトポリマーＩの溶液を得た。重量平均分子量はＧＰＣにより求めた。また、フッ素−シロキサングラフトポリマーＩの質量％はＨＰＬＣ（液体クロマトグラフィー）により求めた。【００９３】
【表１】
2013191010.tif 000003
【００９４】
《偏光板Ｎｏ．１０２の作製》
上記作製した基材フィルムと偏光子Ｎｏ．２の積層体における偏光子上に、表１記載の構成材料を有するハードコート層塗布液「２」を塗布し、表２記載の紫外線照射量にてハードコート層を硬化させた以外は偏光板Ｎｏ．１０１と同様にして、偏光子Ｎｏ．２上にハードコート層を形成した。得られた積層体から基材フィルムを剥離して、偏光板Ｎｏ．１０２を作製して巻き取った。偏光板Ｎｏ．１０２のハードコート層のドライ膜厚は１０．０μｍであった。なお、基材フィルムは容易に剥離することができた。【００９５】
《偏光板Ｎｏ．１０３の作製》
上記作製した偏光子Ｎｏ．１上に、表１記載の構成材料を有するハードコート層塗布液「３」を塗布し、表２記載の紫外線照射量にてハードコート層を硬化させた以外は偏光板Ｎｏ．１０１と同様にして、偏光子Ｎｏ．１上にハードコート層を形成し、偏光板Ｎｏ．１０３を作製した。偏光板Ｎｏ．１０３のハードコート層のドライ膜厚は１０．０μｍであった。【００９６】
《偏光板Ｎｏ．１０４の作製》
上記作製した基材フィルムと偏光子Ｎｏ．３の積層体における偏光子上に、表１記載の構成材料を有するハードコート層塗布液「４」を塗布し、表２記載の紫外線照射量にてハードコート層を硬化させた以外は偏光板Ｎｏ．１０２と同様にして、偏光子Ｎｏ．３上にハードコート層を形成し、偏光板Ｎｏ．１０４を作製した。偏光板Ｎｏ．１０４のハードコート層のドライ膜厚は１０．０μｍであった。【００９７】
《偏光板Ｎｏ．１０５の作製》
上記作製した基材フィルムと偏光子Ｎｏ．３の積層体における偏光子上に、表１記載の構成材料を有するハードコート層塗布液「５」を塗布し、表２記載の紫外線照射量にてハードコート層を硬化させた以外は偏光板Ｎｏ．１０２と同様にして、偏光子Ｎｏ．３上にハードコート層を形成し、偏光板Ｎｏ．１０５を作製した。偏光板Ｎｏ．１０５のハードコート層のドライ膜厚は１０．０μｍであった。【００９８】
《偏光板Ｎｏ．１０６の作製》
上記作製した基材フィルムと偏光子Ｎｏ．３の積層体における偏光子上に、表１記載の構成材料を有するハードコート層塗布液「４」を塗布し、表２記載の紫外線照射量にてハードコート層を硬化させた以外は偏光板Ｎｏ．１０２と同様にして、偏光子Ｎｏ．３上にハードコート層を形成し、偏光板Ｎｏ．１０６を作製した。偏光板Ｎｏ．１０６のハードコート層のドライ膜厚は４．０μｍであった。【００９９】
《偏光板Ｎｏ．１０７の作製》
上記作製した基材フィルムと偏光子Ｎｏ．３の積層体における偏光子上に、表１記載の構成材料を有するハードコート層塗布液「４」を塗布し、表２記載の紫外線照射量にてハードコート層を硬化させた以外は偏光板Ｎｏ．１０２と同様にして、偏光子Ｎｏ．３上にハードコート層を形成し、偏光板Ｎｏ．１０７を作製した。偏光板Ｎｏ．１０７のハードコート層のドライ膜厚は４．０μｍであった。【０１００】
《偏光板Ｎｏ．１０８の作製》
上記作製した基材フィルムと偏光子Ｎｏ．４の積層体における偏光子上に、表１記載の構成材料を有するハードコート層塗布液「４」を塗布し、表２記載の紫外線照射量にてハードコート層を硬化させた以外は偏光板Ｎｏ．１０２と同様にして、偏光子Ｎｏ．４上にハードコート層を形成し、偏光板Ｎｏ．１０８を作製した。偏光板Ｎｏ．１０８のハードコート層のドライ膜厚は４．０μｍであった。【０１０１】
《偏光板Ｎｏ．１０９の作製》
上記作製した基材フィルムと偏光子Ｎｏ．５の積層体における偏光子上に、表１記載の構成材料を有するハードコート層塗布液「４」を塗布し、表２記載の紫外線照射量にてハードコート層を硬化させた以外は偏光板Ｎｏ．１０２と同様にして、偏光子Ｎｏ．５上にハードコート層を形成し、偏光板Ｎｏ．１０９を作製した。偏光板Ｎｏ．１０９のハードコート層のドライ膜厚は４．０μｍであった。【０１０２】
《偏光板Ｎｏ．１１０の作製》
上記作製した基材フィルムと偏光子Ｎｏ．６の積層体における偏光子上に、マスキングフィルム（日東電工製表面保護材Ｅ−ＭＡＳＫ  ＨＲ６０３０）を貼り合わせた後、基材フィルムを剥離した。その後、マスキングフィルムと偏光子の積層物における、偏光子の表面（ヨウ素で染色されていない面）に、表１記載の構成材料を有するハードコート層塗布液「４」を塗布し、表２記載の紫外線照射量にてハードコート層を硬化させた後に、マスキングフィルムを剥離して、偏光板１１０を作製した。偏光板Ｎｏ．１１０のハードコート層のドライ膜厚は４．０μｍであった。【０１０３】
《偏光板Ｎｏ．１１１の作製》
上記作製した基材フィルムと偏光子Ｎｏ．７の積層体における偏光子上に、表１記載の構成材料を有するハードコート層塗布液「４」を塗布し、表２記載の紫外線照射量にてハードコート層を硬化させた以外は偏光板Ｎｏ．１０２と同様にして、偏光子Ｎｏ．７上にハードコート層を形成し、偏光板Ｎｏ．１１１を作製した。偏光板Ｎｏ．１１１のハードコート層のドライ膜厚は４．０μｍであった。【０１０４】
《偏光板Ｎｏ．１１２の作製》
上記作製した基材フィルムと偏光子Ｎｏ．４の積層体における偏光子上に、表１記載の構成材料を有するハードコート層塗布液「６」を塗布し、表２記載の紫外線照射量にてハードコート層を硬化させた以外は偏光板Ｎｏ．１０２と同様にして、偏光子Ｎｏ．４上にハードコート層を形成し、偏光板Ｎｏ．１１２を作製した。偏光板Ｎｏ．１１２のハードコート層のドライ膜厚は４．０μｍであった。【０１０５】
《偏光板Ｎｏ．１１３の作製》
上記作製した偏光子Ｎｏ．８上に、表１記載の構成材料を有するハードコート層塗布液「４」を塗布し、表２記載の紫外線照射量にてハードコート層を硬化させた以外は偏光板Ｎｏ．１０１と同様にして、偏光子Ｎｏ．８上にハードコート層を形成し、偏光板Ｎｏ．１１３を作製した。偏光板Ｎｏ．１１３のハードコート層のドライ膜厚は４．０μｍであった。【０１０６】
《偏光板の評価》
上記作製した各偏光板（Ｎｏ．１０１〜１１３）について、下記の評価を行った。【０１０７】
（表面物性：ハードコート層の鉛筆硬度の測定）
得られた各偏光板を５０ｍｍ×１５０ｍｍのサイズに切り出し、２５℃、６５％ＲＨ環境下で測定試料同士が重なり合わない条件で２４時間調湿した後、偏光板におけるハードコート層の鉛筆硬度をＪＩＳ  Ｋ  ５６００  ５−４に従い荷重１ｋｇにて測定した。【０１０８】
（即性能：偏光度の測定）
得られた各偏光板を、４２インチ液晶パネルサイズ（９３０ｍｍ×５２０ｍｍ）に切り出し、２３℃、相対湿度５５％の環境下で２４時間放置した。次いで、切り出した偏光板を、２５μｍの両面接着テープ（リンテック社製  基材レステープ  ＭＯ−３００５Ｃ）を介し、表面を予めエタノールで洗浄したガラス板（厚さ１．２ｍｍ）の片面に、偏光板の偏光子形成面がガラス面と向き合うように貼合し、ガラス板貼合偏光板を作製した。
得られたガラス板貼合偏光板の対角線の中心点（ρ０）での偏光度Ｃ（０）を測定した。偏光度の測定は、自動偏光フィルム測定装置  ＶＡＰ−７０７０（日本分光株式会社製）及び専用プログラムを用いて行った。
偏光度Ｃ（０）を即性能として、下記の基準に従って評価した。
◎：即性能が９９．９９０％以上である
○：即性能が９９．９６０％以上９９．９９０％未満である
△：即性能が９９．９３０％以上９９．９６０％未満である
×：即性能が９９．９００％以上９９．９３０％未満である【０１０９】
（耐久性評価１：高温多湿下での保存による偏光度劣化の測定）
上記ガラス板貼合偏光板を、温度６０℃、相対湿度９０％の高温多湿環境下で３００時間放置した。その後、得られた偏光板の対角線の中心点（ρ０）での偏光度Ｃ’（０）を測定した。
Δ偏光度＝偏光度Ｃ（０）−偏光度Ｃ’（０）とし、耐久性を下記の基準に従って評価した。
◎：Δ偏光度が０．１％未満である
○：Δ偏光度が０．１％以上０．２％未満である
△：Δ偏光度が０．２％以上０．５％未満である
×：Δ偏光度が０．５％以上である【０１１０】
（耐久性評価２：高温多湿下で保存後の偏光度の面内バラツキ）
上記ガラス板貼合偏光板を、温度６０℃、相対湿度９０％の高温多湿環境下で３００時間放置した。その後、得られた偏光板の対角線の中心点（ρ０）での偏光度Ｃ’（０）及び対角線上の中心から２５％の点（ρ２５）での偏光度Ｃ’（２５）、５０％の点（ρ５０）での偏光度Ｃ’（５０）、７５％の点（ρ７５）での偏光度Ｃ’（７５）点の合計１３点（３点×４と中心の１点）を測定した。そのうち、最大偏光度と最小偏光度の差を求め、その差の平均偏光度（測定した１３点の偏光度の平均）に対する割合を偏光度バラツキ（％）として求めた。
偏光度バラツキ（％）を下記の基準に従って評価した。
◎：偏光度バラツキが１．０％未満である
○：偏光度バラツキが１．０％以上２．０％未満である
△：偏光度バラツキが２．０％以上５．０％未満である
×：偏光度バラツキが５．０％以上である【０１１１】
これら鉛筆硬度、偏光度Ｃ（０）、Δ偏光度、偏光度バラツキの評価結果を、表２に示す。【０１１２】
【表２】
2013191010.tif 000004
【０１１３】
表２に示す結果から明らかなように、本発明で規定する構成からなる偏光板（Ｎｏ．１０３〜１１０）は、比較例に対し、偏光度に優れ、また高温高湿環境下で保存した際の耐久性に優れていることが分かる。【０１１４】
［実施例２］
（位相差フィルム付き偏光板）【０１１５】
《位相差フィルムＲ−１の作製》
〈微粒子分散液の調製〉
微粒子（アエロジル  Ｒ９７２Ｖ  日本アエロジル（株）製）                                                                    １１質量部
エタノール                                              ８９質量部
以上の材料をディゾルバーで５０分間撹拌混合した後、マントンゴーリン分散機を用いて分散し、微粒子分散液を調製した。【０１１６】
〈微粒子添加液の調製〉
溶解タンクに入れたメチレンクロライドを十分に撹拌しながら、上記微粒子分散液をゆっくりと添加した。なお、メチレンクロライドと微粒子分散液は、下記の割合で配合した。次いで、二次粒子の粒径が所定の大きさとなるようにアトライターを用いて分散した。次いで、日本精線（株）製のファインメットＮＦで濾過し、微粒子添加液を調製した。
メチレンクロライド                                      ９９質量部
微粒子分散液                                              ５質量部【０１１７】
〈主ドープの調製〉
下記組成の主ドープを調製した。
まず、加圧溶解タンクに、溶剤としてメチレンクロライドとエタノールを添加した。各溶剤の入った加圧溶解タンクにセルロースアセテート等を撹拌しながら投入した。これを加熱し、撹拌しながら、完全に溶解し、安積濾紙（株）製の安積濾紙Ｎｏ．２４４を使用して濾過し、主ドープを調製した。
メチレンクロライド                                    ３４０質量部
エタノール                                              ６４質量部
アセチル基置換度が２．４５のセルロースアセテート（Ｍｎ；５３０００）                                                                  １００質量部
糖エステル化合物（１）                              １０．０質量部
位相差上昇剤（表３参照）                              ２．５質量部
微粒子添加液                                          １．０質量部
なお、糖エステル化合物（１）は、下記の一般式（１）で表される化合物である。
また、位相差フィルムＲ−１の位相差上昇剤には、下記の一般式（Ａ）の化合物を用いた。【０１１８】
【化１】
2013191010.tif 000005
【０１１９】
【化２】
2013191010.tif 000006
【０１２０】
〈製膜〉
次いで、無端ベルト流延装置を用い、上記主ドープを温度３３℃、２０００ｍｍ幅で、ステンレスベルト支持体上に均一に流延した。ステンレスベルトの温度は３０℃に制御した。
そのステンレスベルト支持体上で、流延（キャスト）したフィルム中の残留溶媒量が７５％になるまで溶媒を蒸発させ、次いで剥離張力１３０Ｎ／ｍで、ステンレスベルト支持体上からフィルムを剥離した。
その後、テンターでウェブ両端部を把持し、延伸温度１７０℃にて、幅手（ＴＤ）方向の延伸倍率が１．３５倍となるように延伸し、その幅を維持したまま数秒間保持し、幅方向の張力を緩和させた後、幅保持を解放し、更に１２５℃に設定された第３乾燥ゾーンで３０分間搬送させて乾燥を行った。なお、延伸開始時の残留溶媒は３０％であった。
次いで、乾燥ゾーンを多数のローラーで搬送させながら乾燥を終了させた。乾燥温度は１３０℃で、搬送張力は１００Ｎ／ｍとした。
以上のようにして、幅１３００ｍｍ、かつ端部に幅１ｃｍ、高さ８μｍのナーリングを有し、乾燥膜厚が６５μｍで、ｎｘ−ｎｙ＝６．５×１０−４の位相差フィルムＲ−１を得た。【０１２１】
《位相差フィルムＲ−２〜Ｒ−６の作製》
位相差フィルムＲ−１の作製において、延伸温度、延伸倍率、位相差上昇剤、乾燥膜厚を表３記載のように変えた以外は同様にして、位相差フィルムＲ−２〜Ｒ−６を作製した。なお、各位相差フィルムの位相差上昇剤には、上記の一般式（Ａ）〜（Ｄ）の化合物の何れかを用いた（表３参照）。【０１２２】
《位相差フィルムＲ−７の作製》
環状ポリオレフィンからなる、厚さ１００μｍの光学的に等方性のフィルム（日本ゼオン社製、商品名「ゼオノアフィルムＺＦ１４」）を、テンター延伸機を使用して延伸温度１３８℃、縦延伸倍率１．４１倍、横延伸倍率１．４１倍で同時二軸延伸を行い、さらに、そのフィルムの片面をコロナ処理（該フィルムの片面を、高周波発信機（春日電機社製  高周波電源ＡＧＩ−０２４）を用いて、出力０．８ＫＷでコロナ放電処理）して、２３℃における接触角は３２°、厚さ５０μｍの位相差フィルムＲ−７を作製した。【０１２３】
（位相差フィルム付き偏光板Ｎｏ．２０１の作製）
下記工程１〜５に従って、偏光板Ｎｏ．１０７と位相差フィルムＲ−１を貼り合わせて位相差フィルム付き偏光板Ｎｏ．２０１を作製した。
工程１：位相差フィルムＲ−１を６０℃の２モル／Ｌの水酸化ナトリウム溶液に９０秒間浸漬し、次いで水洗し乾燥して、鹸化した位相差フィルムＲ−１を得た。
工程２：偏光板Ｎｏ．１０７の偏光子面に固形分２質量％のポリビニルアルコール接着剤を塗布した。
工程３：工程２で偏光板Ｎｏ．１０７のポリビニルアルコール接着剤を塗布した面に、工程１で処理した位相差フィルムＲ−１を配置した。
工程４：工程３で積層した位相差フィルムＲ−１と偏光板Ｎｏ．１０７を圧力２０〜３０Ｎ／ｃｍ２、搬送スピードは約２ｍ／分で貼合した。
工程５：８０℃の乾燥機中で、工程４で作製した偏光板を２分間乾燥し、ロール状の位相差フィルム付き偏光板Ｎｏ．２０１を作製した。【０１２４】
（位相差フィルム付き偏光板Ｎｏ．２０２〜Ｎｏ．２０６の作製）
偏光板Ｎｏ．２０１の作製において、位相差フィルムを表３記載のフィルム（Ｒ−２〜Ｒ−６）に変えた以外は同様にして、ロール状の位相差フィルム付き偏光板Ｎｏ．２０２〜Ｎｏ．２０６を作製した。【０１２５】
（位相差フィルム付き偏光板Ｎｏ．２０７の作製）
特開２０１２−５２０００号公報に記載の活性エネルギー硬化型樹脂組成物（ａ）を準備し、位相差フィルムＲ−７のコロナ処理を施した面に塗布した。同特許の実施例１と同様の製造条件にて、偏光板Ｎｏ．１０７と位相差フィルムＲ−７を貼り合せ、ロール状の位相差フィルム付き偏光板Ｎｏ．２０７を作製した。【０１２６】
以上のようにして、ロール状の位相差フィルム付き偏光板Ｎｏ．２０１〜Ｎｏ．２０７を作製した。なお、これらの偏光板に関し、偏光子の吸収軸は搬送方向にあり、位相差フィルムの遅相軸は幅手方向にあり、両者は直交する関係にある。【０１２７】
《位相差フィルム付き偏光板の評価》
上記作製した各位相差フィルム付き偏光板（Ｎｏ．２０１〜２０７）について、下記の評価を行った。【０１２８】
（耐久性評価１：高温多湿下での保存による偏光度劣化の測定）
得られた位相差フィルム付き偏光板のロール体から偏光板を巻き出して、巻外から（長手方向）５００ｍの位置の幅方向中央部を、４２インチ液晶パネルサイズ（９３０ｍｍ×５２０ｍｍ）に切り出した。切り出した偏光板の耐久性評価１を、前述と同様にして測定・評価した。【０１２９】
（耐久性評価３：ロール体を高温多湿下で保存後の偏光度のムラ）
得られた位相差フィルム付き偏光板のロール体を、室温６０℃、相対湿度９０％の高温多湿環境下で１週間放置した。その後、得られたロール体の最外周側の偏光板について、幅方向に一方の端部から全幅の２５％の点、５０％の点、７５％の点での偏光度をそれぞれ測定した。次いで、偏光板の長手方向に、ロール体の巻外側から巻芯側への５００ｍの範囲について、１０ｍおきに同様の測定を繰り返し、計１５０点（３点×５０）の偏光度を測定した。そして、全測定点の平均値を１００としたときの、全測定点における偏光度の最大値と最小値の差の割合（％）を「偏光度１のバラツキ」として求めた。偏光度の測定は、自動偏光フィルム測定装置  ＶＡＰ−７０７０（日本分光株式会社製）及び専用プログラムを用いて行った。【０１３０】
同様にして、高温多湿下で保存していない、製造直後の偏光板のロール体についても、合計１５０点の偏光度を測定した。そして、全測定点の平均値を１００としたときの、全測定点における偏光度の最大値と最小値の差の割合（％）を「偏光度２のバラツキ」として求めた。
そして、得られた偏光度１のバラツキと偏光度２のバラツキを以下の式に当てはめて、偏光度のバラツキの増大幅を求めた。
バラツキの増大幅（％）＝偏光度１のバラツキ（％）−偏光度２のバラツキ（％）
そして、ロール体を高温多湿下で保存後の偏光度のムラを、下記の基準に従って評価した。
◎：バラツキの増大幅が１．０％未満である
○：バラツキの増大幅が１．０％以上２．０％未満である
△：バラツキの増大幅が２．０％以上５．０％未満である
×：バラツキの増大幅が５．０％以上である【０１３１】
得られた評価結果を、表３に示す。【０１３２】
【表３】
2013191010.tif 000007
【０１３３】
表３に示す結果から明らかなように、本発明で規定する構成からなる偏光板（Ｎｏ．２０１〜Ｎｏ，２０７）は、ロール状に巻かれて、高温高湿環境下で保存された際の偏光度劣化耐性に優れ、また偏光度バラツキ耐性にも優れていることが分かる。【０１３４】
［実施例３］
（有機ＥＬ表示装置；画像表示装置の視認性）【０１３５】
〈円偏光板の作製〉
実施例１で作製した偏光板Ｎｏ．１０１〜Ｎｏ．１１０のハードコート層側とは反対の面に、芳香族ポリカーボネート系λ／４板（帝人化成（株）製、ピュアエースＷＲ、Ｒ（４５０）＝１１５ｎｍ、Ｒ（５５０）＝１３８ｎｍ、Ｒ（５９０）＝１４２ｎｍ、Ｒ（４５０）／Ｒ（５９０）＝０．８１）を、厚さ２０μｍのアクリル系粘着剤層を介して貼り合わせて、円偏光板を得た。偏光板（Ｎｏ．１０１〜Ｎｏ．１１０）とλ／４板との貼り合わせは、偏光子の吸収軸と、λ／4板の遅相軸との交差角が４５°±２°となるように行った。【０１３６】
《有機ＥＬ表示装置Ｎｏ．３０１〜Ｎｏ．３１０の作製》
有機ＥＬ型表示装置（画像表示装置）として、サムスン電子（株）製のギャラクシーＳを準備した。この有機ＥＬ型表示装置を分解し、タッチパネル上に配置された偏光板を取り除いて、該タッチパネルのガラス表面を洗浄した。
そして、得られた上記円偏光板の各々について、λ／４板が有機ＥＬ発光素子側となるように、厚さ２０μｍのアクリル粘着剤層を介して貼り合わせて、有機ＥＬ表示装置Ｎｏ．３０１〜Ｎｏ．３１０を得た（図３参照）。【０１３７】
こうして得られた有機ＥＬ表示装置Ｎｏ．３０１〜Ｎｏ．３１０の正面輝度ムラ、反射率ムラを下記の方法で測定した。【０１３８】
（正面輝度ムラの評価）
得られた有機ＥＬ表示装置（Ｎｏ．３０１〜Ｎｏ．３１０）を、６０℃、相対湿度９０％の高温多湿環境下で１５００時間保存した後、２５℃、相対湿度６０％の環境下で２０時間調湿した。
次いで、表示画面の対角線の中心点、対角線上の中心から２５％の点、５０％の点、７５％の点の合計１３点（３点×４と中心の１点）における正面輝度を測定した。そのうち、最大輝度と最小輝度の差を求め、その差の平均輝度（測定した１３点の輝度の平均）に対する割合をΔ輝度（％）として求めた。そして、正面輝度ムラを、下記の基準に従って評価した。
なお、輝度の測定は、分光放射輝度計ＣＳ−１０００（コニカミノルタセンシング製）を用いて、表示画面の法線方向（正面方向）からの発光輝度（具体的には、法線に対して２°傾斜した角度からの輝度）を測定した。
◎：Δ輝度が１．０％未満である
○：Δ輝度が１．０％以上２．０％未満である
△：Δ輝度が２．０％以上５．０％未満である
×：Δ輝度が５．０％以上である【０１３９】
（反射率ムラの評価）
得られた有機ＥＬ表示装置（Ｎｏ．３０１〜Ｎｏ．３１０）を、６０℃、相対湿度９０％の高温多湿環境下で１５００時間保存した後、２５℃、相対湿度６０％の環境下で２０時間調湿した。
次いで、表示画面の対角線の中心点、対角線上の中心から２５％の点、５０％の点、７５％点の合計１３点（３点×４と中心の１点）における反射率を測定した。そのうち、最大反射率と最小反射率の差を求め、その差の平均反射率（測定した１３点の反射率の平均）に対する割合をΔ反射率（％）として求めた。そして、反射率ムラを、下記の基準に従って評価した。
なお、反射率の測定は、分光測色計ＣＭ２５００ｄ（コニカミノルタセンシング製）を用いて、波長５５０ｎｍにおける反射率を測定した。
◎：Δ反射率が０．３％未満である
○：Δ反射率が０．３％以上０．５％未満である
△：Δ反射率が０．５％以上１．０％未満である
×：Δ反射率が１．０％以上である【０１４０】
得られた評価結果を、表４に示す。【０１４１】
【表４】
2013191010.tif 000008
【０１４２】
表４に示す結果から明らかなように、本発明の偏光板を具備する画像表示装置は、比較例の画像表示装置よりも、高温多湿環境下で長期間に保存した後でも、正面輝度のムラや、反射率のムラが少なく、視認性が良好であることがわかる。【０１４３】
［実施例４］
（液晶表示装置；画像表示装置の視認性）【０１４４】
《液晶表示装置Ｎｏ．４０１の作製》
ＶＡモード型液晶表示装置（画像表示装置）として、ＳＯＮＹ製ＢＲＡＶＩＡＶ１、４０インチ型を準備した。この液晶表示装置の両面に予め貼合されていた偏光板を剥がして液晶パネルの両面のガラス面をエタノールで洗浄した後、上記作製した偏光板２０１を液晶パネルの両面（上下面）に貼合して、液晶表示装置Ｎｏ．４０１を作製した（図５参照）。
その際、位相差フィルムが液晶パネル側で、ハードコート層が液晶パネルの反対側になるように偏光板を配し、また予め貼合されていた偏光板と同一の方向に吸収軸が向くように偏光板を配置した。【０１４５】
《液晶表示装置Ｎｏ．４０２〜Ｎｏ．４０７の作製》
液晶表示装置Ｎｏ．４０１の作製において、上下の偏光板を表５記載の偏光板に替えた以外は同様にして、液晶表示装置Ｎｏ．４０２〜Ｎｏ．４０７を作製した（図５参照）。【０１４６】
こうして得られた液晶表示装置Ｎｏ．４０１〜Ｎｏ．４０７のコンストラスト劣化、画像表示ムラを下記の方法で測定した。【０１４７】
（コントラスト劣化の評価）
得られた液晶表示装置（Ｎｏ．４０１〜Ｎｏ．４０７）を、２５℃、相対湿度６０％の環境下で２０時間調湿した後、各々の液晶表示装置のバックライトを１週間連続点灯した後にコントラストの測定を行った。この測定にはＥＬＤＩＭ社製ＥＺ−Ｃｏｎｔｒａｓｔ１６０Ｄを用いて、液晶表示装置における白表示と黒表示の表示画面の法線方向の輝度を測定し、その比（白表示輝度/黒表示輝度）をコントラストＣＲ１とした。
また、液晶表示装置（Ｎｏ．４０１〜Ｎｏ．４０７）を、６０℃、相対湿度９０％の環境下で１５００時間処理した後、２５℃、相対湿度６０％の環境下で２０時間調湿した後に、同様にコントラストの測定を行った。得られたコントラストをＣＲ２とした。
そして、コントラスト劣化（ΔＣＲ）を、以下の式により求め、以下の基準に従って評価した。
ΔＣＲ＝（ＣＲ１−ＣＲ２）/（ＣＲ１）×１００（％）
◎：コントラスト劣化が５％未満である                
○：コントラスト劣化が５％以上１０％未満である
△：コントラスト劣化が１０％以上２０％未満である
×：コントラスト劣化が２０％以上である【０１４８】
（画像表示ムラの評価）
得られた液晶表示装置（Ｎｏ．４０１〜Ｎｏ．４０７）を、６０℃、相対湿度９０％の高温多湿環境下で１５００時間保存した後、２５℃、相対湿度６０％の環境下で２０時間調湿した。
次いで、表示画面の対角線の中心点、対角線上の中心から２５％の点、５０％の点、７５％の点の合計１３点（３点×４と中心の１点）におけるコントラストを測定した。そのうち、最大コントラストと最小コントラストの差を求め、その差の平均コントラスト（測定した１３点のコントラストの平均）に対する割合を画像表示ムラ（％）として求めた。そして、画像表示ムラを、下記の基準に従って評価した。
◎：画像表示ムラが５％未満である
○：画像表示ムラが５％以上１０％未満である
△：画像表示ムラが１０％以上２０％未満である
×：画像表示ムラが２０％以上である【０１４９】
得られた評価結果を、表５に示す。【０１５０】
【表５】
2013191010.tif 000009
【０１５１】
表５に示す結果から明らかなように、本発明の偏光板を具備する液晶表示装置は、高温高湿環境下で保存した後でも、コントラスト劣化耐性及び画像表示ムラ耐性に優れており、視認性が良好であることがわかる。【０１５２】
なお、本発明の適用は上述した実施形態に限定されることなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で適宜変更可能である。
【産業上の利用の可能性】
【０１５３】
本発明の偏光板は、良好な偏光度を有する薄い偏光板であることから、コントラストや画像表示ムラのない優れた画質のＶＡ型液晶表示装置や、ＩＰＳ型液晶表示装置を提供することができる。
【符号の説明】
【０１５４】
１    偏光子
２    ハードコート層
３    位相差フィルム
１０、１１  偏光板
１２  有機ＥＬ素子
１３  タッチパネル
１４  粘着剤
１５  カバーグラス
２０  ＩＰＳ型液晶パネル
２１  ＶＡ型液晶パネル
１０１〜１０４  画像表示装置
【図１Ａ】
2013191010.tif 000010
【図１Ｂ】
2013191010.tif 000011
【図２Ａ】
2013191010.tif 000012
【図２Ｂ】
2013191010.tif 000013
【図３】
2013191010.tif 000014
【図４】
2013191010.tif 000015
【図５】
2013191010.tif 000016
【図６】
2013191010.tif 000017
【国際調査報告】
2013191010.tif 000018
2013191010.tif 000019
2013191010.tif 000020
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