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【手続補正書】
【提出日】平成27年7月31日(2015.7.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
真空容器内部の処理室内に配置された試料台の上面を構成する載置面上に載置されたウエハを、前記試料台内の電極に高周波電力を印加しつつ前記処理室内で生成したプラズマを用いて処理するプラズマ処理装置であって、
前記載置面の外周側に載せられてこの上面を囲んで配置され前記プラズマに面する誘電体製リングと、この誘電体製リングの裏側の表面上にリング状に配置された金属膜と、この金属膜を覆って配置された第一の誘電体膜とを備え、
前記金属膜は、その内周端が前記試料台上面に載せられた前記ウエハの外周縁より前記試料台の中心側に位置するとともに前記電極からの前記高周波電力が印加されるものであって、
前記第一の誘電体膜は、溶射により前記誘電体製リングの前記裏側の表面上に形成された後に、所定の厚さまたは表面の粗さに調整されたプラズマ処理装置。
【請求項２】
請求項１に記載のプラズマ処理装置であって、
前記金属膜の内周端は前記誘電体製リングの内周端より外周側に位置し、前記第一の誘電体膜が前記金属膜の前記内周端よりも前記試料台の中心側の位置まで前記誘電体製リングの裏面の表面を被覆したプラズマ処理装置。
【請求項３】
請求項１または２に記載のプラズマ処理装置であって、
前記第一の誘電体膜は溶射により前記誘電体製リングの前記裏側の表面上に形成された後に、前記高周波電力が前記金属膜に伝達可能であってこの誘電体製リングが載せられた前記載置面の外周側の前記試料台の上面との間への前記プラズマの進入を防止できる所定の厚さまたは表面の粗さに調整されたプラズマ処理装置。
【請求項４】
請求項１または２に記載のプラズマ処理装置であって、
前記試料台が前記載置面の外周側であって前記誘電体製リングがその上に載せられる上面を覆う第二の誘電体膜を有し、
前記第一の誘電体膜は溶射により前記誘電体製リングの前記裏側の表面上に形成された後に、前記高周波電力が前記金属膜に伝達可能であってこの誘電体製リングが載せられた前記第二の誘電体膜上面との間への前記プラズマの進入を防止できる所定の厚さまたは表面の粗さに調整されたプラズマ処理装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
上記目的は、真空容器内部の処理室内に配置された試料台の上面を構成する載置面上に載置されたウエハを、前記試料台内の電極に高周波電力を印加しつつ前記処理室内で生成したプラズマを用いて処理するプラズマ処理装置であって、前記載置面の外周側に載せられてこの上面を囲んで配置され前記プラズマに面する誘電体製リングと、この誘電体製リングの裏側の表面上にリング状に配置された金属膜と、この金属膜を覆って配置された第一の誘電体膜とを備え、前記金属膜は、その内周端が前記試料台上面に載せられた前記ウエハの外周縁より前記試料台の中心側に位置するとともに前記電極からの前記高周波電力が印加されるものであって、前記第一の誘電体膜は、溶射により前記誘電体製リングの前記裏側の表面上に形成された後に、所定の厚さまたは表面の粗さに調整されたことにより達成される。
【手続補正書】
【提出日】平成27年7月31日(2015.7.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
真空容器内部の処理室内にガスを供給して形成したプラズマを用いてこの処理室内に配置した試料を処理するプラズマ処理装置であって、
前記処理室と連結されて並列に配置され内部を前記ガスが通流する３つのガス供給ラインと、これらのガス供給ライン各々の上に配置され通流する前記ガスの流量を検出しこれを設定された値となるように調節する３つの流量調節器を有し、
前記３つの流量調節器のうちで最も検出可能な範囲が小さい第一の流量調節器と他の流量調節器のうちの一方である第二の流量調節器とに第三の流量調節器で調節された所定の流量のガスを分岐して供給し、前記第二の流量調節器を通流する前記ガスの流量と前記所定の流量との値に基づいて前記第一の流量調節器による流量の調節の動作を検定する機能を備えたプラズマ処理装置。
【請求項２】
請求項１に記載のプラズマ処理装置であって、
前記前記第二の流量調節器を通流する前記ガスの流量を検出した結果と前記所定の流量との差を前記第一の流量調節器の流量の設定値と比較した結果に基づいて調節の動作を検定する機能を備えたプラズマ処理装置。
【請求項３】
請求項１または２に記載のプラズマ処理装置であって、
前記第一の流量調節器の前記検出可能な範囲が前記第二及び第三の流量調節器の検出可能な範囲よりも小さくかつ重ならない範囲を有し、前記第一の流量調節器の流量の設定値が当該重ならない範囲内にあるプラズマ処理装置。
【請求項４】
請求項１または２の何れかに記載のプラズマ処理装置であって、
前記第二の流量調節器の設定された流量及び前記第三の流量調節器の前記所定の流量は各々の流量調節器の検出可能な範囲内に属し、前記第一の流量調節器の流量の設定値が前記前記第二の流量調節器の設定された流量及び前記所定の流量との差に等しいプラズマ処理装置。
【請求項５】
請求項１乃至４の何れかに記載のプラズマ処理装置であって、
前記第一の流量調節器が前記処理室に導入される前記ガスのうち試料と反応してこれを処理するための反応ガスの流量を調節するものであり、前記第二の流量調節器が前記反応ガスとともに前記処理室に供給される希釈ガスの流量、及び第三の流量調節器が処理室内での処理が実施されていない時間に当該処理室内に導入される置換用ガスの流量を調節するプラズマ処理装置。
【請求項６】
真空容器内部の処理室内に配置した処理対象の試料を前記処理室内に流量調節器により流量を調節しつつ供給したガスを用いてプラズマを形成し前記試料を処理するプラズマ処理装置の診断方法であって、
前記プラズマ処理装置が前記処理室と連結されて並列に配置され内部を前記ガスが通流する３つのガス供給ラインと、これらのガス供給ライン各々の上に配置され通流する前記ガスの流量を検出しこれを設定された値となるように調節する３つの流量調節器を有し、
前記３つの流量調節器のうちで最も検出可能な範囲が小さい第一の流量調節器と他の流量調節器のうちの一方である第二の流量調節器とに第三の流量調節器で調節された所定の流量のガスを分岐して供給し、前記第二の流量調節器を通流する前記ガスの流量と前記所定の流量との値に基づいて前記第一の流量調節器による流量の調節の動作を検定するプラズマ処理装置の診断方法。
【請求項７】
請求項６に記載のプラズマ処理装置の診断方法であって、
前記前記第二の流量調節器を通流する前記ガスの流量を検出した結果と前記所定の流量との差を前記第一の流量調節器の流量の設定値と比較した結果に基づいて調節の動作を検定するプラズマ処理装置の診断方法。
【請求項８】
請求項６または７に記載のプラズマ処理装置の診断方法であって、
前記第一の流量調節器の前記検出可能な範囲が前記第二及び第三の流量調節器の検出可能な範囲よりも小さくかつ重ならない範囲を有し、前記第一の流量調節器の流量の設定値が当該重ならない範囲内にあるプラズマ処理装置の診断方法。
【請求項９】
請求項６または７の何れかに記載のプラズマ処理装置であって、
前記第二の流量調節器の設定された流量及び前記第三の流量調節器の前記所定の流量は各々の流量調節器の検出可能な範囲内に属し、前記第一の流量調節器の流量の設定値が前記前記第二の流量調節器の設定された流量及び前記所定の流量との差に等しいプラズマ処理装置。
【請求項１０】
請求項６乃至９の何れかに記載のプラズマ処理装置の診断方法であって、
前記第一の流量調節器が前記処理室に導入される前記ガスのうち試料と反応してこれを処理するための反応ガスの流量を調節するものであり、前記第二の流量調節器が前記反応ガスとともに前記処理室に供給される希釈ガスの流量、及び第三の流量調節器が処理室内での処理が実施されていない時間に当該処理室内に導入される置換用ガスの流量を調節するプラズマ処理装置の診断方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
上記目的は、真空容器内部の処理室内にガスを供給して形成したプラズマを用いてこの処理室内に配置した試料を処理するプラズマ処理装置であって、前記処理室と連結されて並列に配置され内部を前記ガスが通流する３つのガス供給ラインと、これらのガス供給ライン各々の上に配置され通流する前記ガスの流量を検出しこれを設定された値となるように調節する３つの流量調節器を有し、前記３つの流量調節器のうちで最も検出可能な範囲が小さい第一の流量調節器と他の流量調節器のうちの一方である第二の流量調節器とに第三の流量調節器で調節された所定の流量のガスを分岐して供給し、前記第二の流量調節器を通流する前記ガスの流量と前記所定の流量との値に基づいて前記第一の流量調節器による流量の調節の動作を検定する機能を備えたことにより達成される。
【手続補正書】
【提出日】平成27年7月22日(2015.7.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
封止孔を有する金属製の蓋体と、前記蓋体と共に内部空間を構成するためのものであり、かつ平面視において前記内部空間を囲んでいるメタライズ部を有するパッケージと、電子部品とを用意する準備工程と、
前記電子部品を前記パッケージに搭載する搭載工程と、
前記封止孔と前記メタライズ部とが平面視で重なるように前記蓋体を前記パッケージに載置する載置工程と、
前記封止孔を介して前記内部空間と外部側とが連通した状態を維持しつつ、平面視において前記封止孔と前記内部空間とを囲む前記蓋体の蓋面を前記パッケージに接合する第１接合工程と、
前記蓋体における前記封止孔の周囲と前記メタライズ部とを接合し前記封止孔と前記内部空間とを封止する第２接合工程と、
を含むことを特徴とする電子デバイスの製造方法。
【請求項２】
平面視において前記メタライズ部は前記内部空間を囲み、かつ前記蓋面と重なり、
前記第１接合工程では、前記メタライズ部と前記蓋体とを溶接によって接合する、ことを特徴とする請求項１に記載の電子デバイスの製造方法。
【請求項３】
前記メタライズ部は、前記封止孔が配置される位置を通る平面視幅が他の位置における平面視幅より大きい、ことを特徴とする請求項２に記載の電子デバイスの製造方法。
【請求項４】
前記蓋体は前記蓋面側の表面が金属ロウであり、
前記第２接合工程では、前記封止孔と前記メタライズ部とを前記金属ロウによって接合する、ことを特徴とする請求項１ないし３のいずれか一項に記載の電子デバイスの製造方法。
【請求項５】
前記金属ロウが、銀ロウまたは金（Ａｕ）／錫（Ｓｎ）合金ロウである、ことを特徴とする請求項４に記載の電子デバイスの製造方法。
【請求項６】
前記第２接合工程では、前記蓋体と前記メタライズ部との接合形状をフィレット状にする、ことを特徴とする請求項１ないし５のいずれか一項に記載の電子デバイスの製造方法。
【請求項７】
前記第１接合工程における前記接合はシーム溶接であり、
前記第２接合工程では、エネルギービームを前記接合する部分に照射して前記封止孔と前記内部空間とを封止する工程である、ことを特徴とする請求項１ないし６のいずれか一項に記載の電子デバイスの製造方法。
【請求項８】
前記封止孔はプレス抜き加工で形成されており、
前記載置工程では、前記蓋体の抜き加工開始側の面が前記パッケージに載置される、ことを特徴とする請求項１ないし７のいずれか一項に記載の電子デバイスの製造方法。
【請求項９】
前記第１接合工程と前記第２接合工程との間において、前記封止孔を介して前記内部空間の気体を前記外部側に排出する工程を含むこと、を特徴とする請求項１ないし８のいずれか一項に記載の電子デバイスの製造方法。
【請求項１０】
蓋体、パッケージ、および前記蓋体と前記パッケージとが接合して構成されている内部空間に電子部品を備えており、前記接合の箇所は平面視において前記内部空間を囲む部分と、さらに前記囲む部分と前記内部空間との間にある、ことを特徴とする電子デバイス。
【請求項１１】
前記パッケージは、前記接合される箇所がメタライズ部であり、
前記蓋体は金属製であり、
前記メタライズ部と前記蓋体とが溶接により接合されていることを特徴とする請求項１０に記載の電子デバイス。
【請求項１２】
前記囲む部分と前記内部空間との間にある前記接合の箇所の表面は、その周囲における前記蓋体の表面よりも前記パッケージ側に窪んでいることを特徴とする請求項１０または請求項１１に記載の電子デバイス。
【請求項１３】
請求項１０から１２のいずれか一項に記載の電子デバイスを搭載している、ことを特徴とする電子機器。
【請求項１４】
請求項１０から１２のいずれか一項に記載の電子デバイスを搭載している、ことを特徴とする移動体。
【手続補正書】
【提出日】平成27年6月25日(2015.6.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
線材(22)を巻付ける巻胴部(11c)と前記線材(22)を絡げる端子(11e)とを備えた被巻線部材(11)を把持可能なチャック(13)と、
前記被巻線部材(11)に向けて前記線材(22)を繰出すノズル(51)と、
前記ノズル(51)から繰出される前記線材(22)の端部を係止する絡げ部材(24)と、
前記絡げ部材(24)とともに前記チャック(12)を回転させて前記ノズル(51)から繰出される前記線材(22)を前記チャック(13)に把持された前記被巻線部材(11)に巻回させる巻回手段(27)と、
前記被巻線部材(11)に巻回された前記線材(22)を切断する線材切断手段(71)と、
前記被巻線部材(11)に巻回され前記線材切断手段(71)により切断された前記線材(22)の端部を前記端子(11e)に巻回させる線材絡げ手段(80)と
を備えた巻線装置であって、
前記線材絡げ手段(80)が、前記端子(11e)が挿入可能な筒状部材(81)と、前記端子(11e)を中心に前記筒状部材(81)を回転させる回転手段(82)を有し、
前記筒状部材(81)の先端の周方向の一部に先端から突出する突起(81a)が形成され、
前記突起(81a)は、前記筒状部材(81)の内周面から離れた位置に前記端子(11e)との間で前記線材(22)を挟むように形成され、断面が円形である
ことを特徴とする巻線装置。
【請求項２】
絡げられる線材(22)が落ち込む切欠き(11f)が端子(11e)に形成される請求項１記載の巻線装置。
【請求項３】
端子(11e)を有する被巻線部材(11)に巻回された線材(22)の端部を前記端子(11e)に絡げる方法であって、
前記線材(22)の端部を前記端子(11e)に沿わせ、
先端の周方向の一部に先端から突出する断面が円形の突起(81a)が形成された筒状部材(81)に前記端子(11e)が挿入されるように前記筒状部材(81)と前記端子(11e)を相対移動させ、
前記端子(11e)を中心に前記筒状部材(81)を回転させて前記突起(81a)に当接する前記線材(22)の端部を前記筒状部材(81)の内周面から離れた位置で前記端子(11e)に周回させる
ことを特徴とする線材の端子への絡げ方法。
【請求項４】
筒状部材(81)の回転とともに、端子(11e)と前記筒状部材(81)とが離れる方向に相対移動する請求項３記載の線材の端子への絡げ方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
そして、その線材絡げ手段が、端子が挿入可能な筒状部材と、端子を中心に筒状部材を回転させる回転手段を有し、筒状部材の先端の周方向の一部に先端から突出する突起が形成が形成され、その突起は、筒状部材の内周面から離れた位置に端子との間で線材を挟むように形成され、断面が円形であることを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
その特徴ある点は、線材の端部を端子に沿わせ、先端の周方向の一部に先端から突出する断面が円形の突起が形成された筒状部材に端子が挿入されるように筒状部材と端子を相対移動させ、端子を中心に筒状部材を回転させて突起に当接する線材の端部を筒状部材の内周面から離れた位置で端子に周回させるところにある。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
また、チャック１３が先端に設けられたスピンドル１２には、後述するノズル５１から繰出される線材２２の端部を一時的に係止する絡げ部材としての捨て絡げ部材２４が設けられる（図５）。この実施の形態における線材２２は、絶縁被覆導線であって、Ｃｕよりなる導線と、その導線の外周面を被覆するように形成された絶縁被覆とを有するものを示す。この捨て絡げ部材２４は、円柱状を成して形成され、その先端に直径方向に形成されて巻初めの線材２２ａが進入可能な幅を有する溝２４ａが形成される。この円柱状を成す捨て絡げ部材２４はスピンドル１２にＬ形の取付部材２５を介して設けられる。
【手続補正書】
【提出日】平成26年12月25日(2014.12.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
円筒状のコイル部の内側に、固定部が固定状態で設けられるとともに、前記コイル部の軸方向に延在するプランジャが取り付けられた可動ヨークが前記コイル部の軸方向に沿って移動可能に設けられ、前記コイル部の励磁によって前記可動ヨークが前記プランジャとともに前記固定部から離れるように前進し、前記コイル部の消磁によって前記可動ヨークが前記プランジャとともに前記固定部に近づくように後退する電磁ソレノイドにおいて、
前記固定部は、前記プランジャが前記可動ヨークとともに後退して前記固定部に衝突する際の衝撃を吸収する衝撃吸収手段を有し、
前記衝撃吸収手段は、前記固定部の内部に設けられた収容部に前記軸方向に移動可能に設けられ、かつ後退する前記プランジャの衝突を受けて当該プランジャともに後退する受け部材と、前記収容部に設けられて前記受け部材を前進する方向に付勢する付勢部材と、前進する前記受け部材を所定の位置で規制する規制部とを備え、
前記受け部材と、前記収容部に形成されて前記受け部材の後退する方向に対向する対向面との間に緩衝材が設けられ、
前記収容部は、円筒状の第１収容部と、この第１収容部の前記受け部材が後退する側に当該第１収容部と同軸に形成された第２収容部とを備え、前記第２収容部は前記第１収容部より小径に形成され、
前記受け部材は、前記第１収容部の内壁面に軸線方向に摺動可能な本体部と、前記本体部の当該受け部材が後退する側に前記本体部より小径に形成された小径部と、前記小径部の当該受け部材が後退する側に前記小径部より小径に形成された軸部と、前記本体部の当該受け部材が前進する側に前記本体部より小径に形成されて前記プランジャの衝突を受ける受け部とを備え、
前記付勢部材は、前記受け部材の前記軸部の外周側を囲むようにして設けられていることを特徴とする電磁ソレノイド。
【請求項２】
前記緩衝材は前記受け部材に取り付けられており、この緩衝材と前記収容部の前記受け部材の移動方向に沿う内壁面との間に隙間が設けられていることを特徴とする請求項１に記載の電磁ソレノイド。
【請求項３】
前記本体部の前記小径部は前記本体部より小径に形成され、当該小径部の外側に前記緩衝材が取り付けられていることを特徴とする請求項１に記載の電磁ソレノイド。
【請求項４】
前記緩衝材は、前記付勢部材と接触していないことを特徴とする請求項１から請求項３のいずれか１項に記載の電磁ソレノイド。
【手続補正書】
【提出日】平成27年6月30日(2015.6.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
信号電荷を多数キャリアとする第一導電型の第一半導体領域と、前記第一半導体領域に連続し、前記信号電荷を少数キャリアとする第二導電型の第二半導体領域と、を半導体基板の表面から裏面へ向かってこの順で有する画素が配列された画素部を備え、
前記画素の各々の前記第一半導体領域が、第二導電型の第三半導体領域で互いに分離されており、前記画素部の画素の各々の前記第二半導体領域が、前記第三半導体領域と電気的に連続し、前記第三半導体領域を介して前記第二半導体領域に基準電位を付与する基準コンタクトが前記表面に設けられた撮像装置であって、
前記画素部における前記基準コンタクトの数が、前記画素部における画素の数の１／４未満であり、
前記画素部は前記基準コンタクトの近傍に位置する第一種画素と第二種画素とを有し、
前記表面と前記第一種画素の前記第二半導体領域との距離は、前記表面と前記第二種画素の前記第二半導体領域との距離よりも小さく、
前記基準コンタクトと前記第一種画素の前記第一半導体領域との距離が、前記基準コンタクトと前記第二種画素の前記第一半導体領域との距離よりも小さいことを特徴とする撮像装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項８】
前記第一種画素の前記第一半導体領域と前記第二種画素の前記第一半導体領域との間には絶縁体が設けられていない請求項１乃至７のいずれか１項に記載の撮像装置。
【手続補正書】
【提出日】平成27年6月9日(2015.6.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
第１の面に半導体素子が形成され、第２の面側の表層部に不純物が添加された半導体基板の、前記第２の面に、半導体レーザ発振器から出射され、第１のパルス幅を有する第１のレーザパルスを入射させる工程と、
前記第１のパルス幅の１／１０以下の第２のパルス幅を有する第２のレーザパルスを、前記第１のレーザパルスの入射領域に重ねて入射させる工程と
を有し、
前記第１のレーザパルス及び前記第２のレーザパルスの入射によって上昇する前記第１の面の温度が、予め決められている許容上限値を超えないように、前記第１のレーザパルスの立下り時刻と、前記第２のレーザパルスの立上り時刻との時間軸上の相対位置関係が設定されている半導体装置の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本発明の一観点によると、
第１の面に半導体素子が形成され、第２の面側の表層部に不純物が添加された半導体基板の、前記第２の面に、半導体レーザ発振器から出射され、第１のパルス幅を有する第１のレーザパルスを入射させる工程と、
前記第１のパルス幅の１／１０以下の第２のパルス幅を有する第２のレーザパルスを、前記第１のレーザパルスの入射領域に重ねて入射させる工程と
を有し、
前記第１のレーザパルス及び前記第２のレーザパルスの入射によって上昇する前記第１の面の温度が、予め決められている許容上限値を超えないように、前記第１のレーザパルスの立下り時刻と、前記第２のレーザパルスの立上り時刻との時間軸上の相対位置関係が設定されている半導体装置の製造方法が提供される。
【手続補正書】
【提出日】平成27年8月10日(2015.8.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
以下、まず、本発明のリチウム二次電池用正極活物質の有効成分である多硫化チタンについて具体的に説明する。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
多硫化チタン
本発明のリチウム二次電池用正極活物質は、組成式：ＴｉＳｎ（式中、２＜ｎ＜１０である）で表される平均組成を有する非晶質状態の多硫化チタンの微粉末からなり、CuKα線によるＸ線回折図における回折角２θ＝１０°〜６０°の範囲内において、ＴｉＳ２結晶に基づく回折ピークが認められるものである。具体的には、ＴｉＳ２結晶の（００１）面に基づく回折角２θ＝１５．５±１°の回折ピーク、（０１１）面に基づく２θ＝３４±１°の回折ピーク、（１０２）面に基づく２θ＝４４±１°の回折ピーク、（１１０）面に基づく２θ＝５４±１°の回折ピークの内で、２θ＝３４±１°の回折ピークを含む少なくとも２ヶ所に回折ピークが認められ、２θ＝３４±１°の回折ピークの半値幅が０．３°〜２．５°の範囲内であることを特徴とするものである。
【手続補正書】
【提出日】平成27年10月28日(2015.10.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
アルカリ金属元素の少なくとも１つと、
リン（Ｐ）元素と、硫黄（Ｓ）元素と、
Ｉ，Ｃｌ，Ｂｒ及びＦから選択される１以上であって、かつ少なくともＢｒを含むハロゲン元素と、を少なくとも含み、
示差走査熱量測定（乾燥窒素雰囲気下、昇温速度１０℃／ｍｉｎ、２０〜６００℃）において、１５０℃〜３５０℃の範囲に互いに分離した２つの発熱ピークを有する固体電解質ガラスの製造方法であって、
下記（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）及び（Ｄ）を原料とし、前記原料（Ａ）、（Ｂ）及び（Ｃ）の合計に対し、下記原料（Ｄ）を１〜５モル％添加する固体電解質ガラスの製造方法。
（Ａ）アルカリ金属硫化物
（Ｂ）Ｍ’ｍＳｎで表される化合物
（Ｃ）Ｍ”ｗＸｙで表される化合物
（Ｄ）Ｌｉ２ＳＯ３
（式中、Ｍ’はＢ，Ａｌ，Ｓｉ，Ｐ又はＧｅであり、Ｍ”はＬｉ，Ｎａ，Ｂ，Ａｌ，Ｓｉ，Ｐ，Ｓ，Ｇｅ，Ａｓ，Ｓｅ，Ｓｎ，Ｓｂ，Ｔｅ，Ｐｂ又はＢｉを示し、ＸはＢｒを示す。ｗは１〜２の整数を示し、ｍ，ｎ，ｙは１〜１０の整数を示す。）
【請求項２】
前記２つの発熱ピークのピークトップ位置の温度差が２０℃以上１０６℃以下である請求項１に記載の固体電解質ガラスの製造方法。
【請求項３】
前記原料（Ａ）及び（Ｂ）を反応させ、その後、原料（Ｃ）を加えて前記原料（Ａ）及び（Ｂ）の反応物と反応させる請求項１又は２に記載の固体電解質ガラスの製造方法。
【請求項４】
酸素濃度が１９〜２１％の雰囲気中で反応させる請求項１〜３のいずれかに記載の固体電解質ガラスの製造方法。
【請求項５】
前記原料（Ａ）が、硫化リチウム又は硫化ナトリウムである請求項１〜４のいずれかに記載の固体電解質ガラスの製造方法。
【請求項６】
前記原料（Ｂ）が、Ｐ２Ｓ３（三硫化二リン）、Ｐ２Ｓ５（五硫化二リン）、ＳｉＳ２（硫化珪素）、Ａｌ２Ｓ３（硫化アルミニウム）、ＧｅＳ２（硫化ゲルマニウム）、及びＢ２Ｓ３（三硫化二砒素）から選択される１以上である請求項１〜５のいずれかに記載の固体電解質ガラスの製造方法。
【請求項７】
前記原料（Ｃ）が、ＬｉＢｒである請求項１〜６のいずれかに記載の固体電解質ガラスの製造方法。
【請求項８】
前記原料（Ｃ）のＭ”がリン以外のとき、原料（Ａ）：（Ｂ）のモル比が６５：３５〜８５：１５であって、原料（Ａ）及び（Ｂ）のモル量の合計と原料（Ｃ）のモル比が５０：５０〜９９：１であり、
前記原料（Ｃ）のＭ”がリンのとき、原料（Ａ）：（Ｂ）のモル比が６０：４０〜９０：１０であって、原料（Ａ）及び（Ｂ）のモル量の合計と原料（Ｃ）のモル比が、５０：５０〜９９：１である請求項１〜７のいずれかに記載の固体電解質ガラスの製造方法。
【請求項９】
請求項１〜８のいずれかに記載の固体電解質ガラスの製造方法を用いて固体電解質ガラスを製造し、前記固体電解質ガラスを前記２つの発熱ピークの間の温度で熱処理して固体電解質ガラスセラミックを製造する、固体電解質ガラスセラミックの製造方法。
【請求項１０】
前記固体電解質ガラスセラミックのイオン伝導度が１×１０−３Ｓ／ｃｍ以上である請求項９に記載の固体電解質ガラスセラミックの製造方法。
【請求項１１】
下記式（１’）で示す組成を有する固体電解質ガラス。
ＬａＭｂＰｃＳｄＸｅＯｆ…（１’）
（式中、Ｌはアルカリ金属を示し、ＭはＢ，Ａｌ，Ｓｉ，Ｇｅ，Ａｓ，Ｓｅ，Ｓｎ，Ｓｂ，Ｔｅ，Ｐｂ及びＢｉから選択させる１以上の元素を示し、ＸはＩ，Ｃｌ，Ｂｒ及びＦから選択される１以上のハロゲン元素を示し、かつＸは少なくともＢｒを含む。
ａ〜ｅは、それぞれ下記式を満たす。
０＜ａ≦１２、０≦ｂ≦０．２、ｃ＝１、０＜ｄ≦９、０＜ｅ≦９、０＜ｆ≦９）
【請求項１２】
Ｌが、Ｌｉである請求項１１に記載の固体電解質ガラス。
【請求項１３】
ｂが、０である請求項１１又は１２に記載の固体電解質ガラス。
【請求項１４】
示差走査熱量測定（乾燥窒素雰囲気下、昇温速度１０℃／ｍｉｎ、２０〜６００℃）において、１５０℃〜３５０℃の範囲に互いに分離した２つの発熱ピークを有する、請求項１１〜１３のいずれかに記載の固体電解質ガラス。
【請求項１５】
前記２つの発熱ピークのピークトップ位置の温度差が２０℃以上１０６℃以下である、請求項１４に記載の固体電解質ガラス。
【請求項１６】
請求項１１〜１５のいずれかに記載の固体電解質ガラスと、正極活物質と、を含む正極合材。
【請求項１７】
請求項１１〜１５のいずれかに記載の固体電解質ガラスと、負極活物質と、を含む負極合材。
【請求項１８】
請求項１１〜１５のいずれかに記載の固体電解質ガラスを含有する固体電解質層を備える全固体電池。
【手続補正書】
【提出日】平成27年2月12日(2015.2.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
二次電池と、前記二次電池の発する熱を吸収する吸熱部材と、を備えた電池パックであって、
前記吸熱部材は、鉛直方向に延びる流路を有し、
前記流路の流入口は、前記流路の排出口よりも鉛直方向下方に設けられることを特徴とする電池パック。
【請求項２】
前記流路は、単一の部材に形成された貫通孔であることを特徴とする請求項１に記載の電池パック。
【請求項３】
前記吸熱部材は、第１の吸熱部材と前記第１の吸熱部材に固定された第２の吸熱部材とを含み、
前記流路は、前記第１の吸熱部材と前記第２の吸熱部材で囲まれる領域に形成されていることを特徴とする請求項１に記載の電池パック。
【請求項４】
前記二次電池は、前記吸熱部材に固定されていることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の電池パック。
【請求項５】
前記流入口は鉛直方向下方に向けて開口し、前記排出口は鉛直方向上方に向けて開口することを特徴とする請求項１〜請求項４のうちいずれか一項に記載の電池パック。
【請求項６】
請求項１〜請求項５に記載のうちいずれか一項に記載の電池パックを搭載したことを特徴とする産業車両。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】電池パック及び産業車両
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、吸熱部材によって二次電池の冷却が行われる電池パック及び産業車両に関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
ところで、バッテリの温度が高くなると、バッテリの劣化が促進されるため、バッテリを効率よく冷却することが望まれている。
本発明は、このような従来技術の問題点に鑑みてなされたものであり、その目的は、二次電池を効率よく冷却することができる電池パック及び産業車両を提供することにある。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の電池パックであって、前記流路は、単一の部材に形成された貫通孔であることを要旨とする。
これによれば、複数の部材を組み合わせて流路を形成する必要がなく、流路を形成しやすい。
請求項３に記載の発明は、請求項１に記載の電池パックであって、前記吸熱部材は、第１の吸熱部材と前記第１の吸熱部材に固定された第２の吸熱部材とを含み、前記流路は、前記第１の吸熱部材と前記第２の吸熱部材で囲まれる領域に形成されていることを要旨とする。
請求項４に記載の発明は、請求項１又は請求項２に記載の電池パックであって、前記二次電池は、前記吸熱部材に固定されていることを要旨とする。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
請求項５に記載の発明は、請求項１〜請求項４のうちいずれか一項に記載の電池パックであって、前記流入口は鉛直方向下方に向けて開口し、前記排出口は鉛直方向上方に向けて開口することを要旨とする。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
これによれば、流路を流れる熱媒体の流通が阻害されにくく、流路を流れる熱媒体の流速を更に速くすることができる。このため、熱媒体と吸熱部材との熱交換効率を更に向上させることができる。
上記課題を解決するため、請求項６に記載の発明は、産業車両であって、請求項１〜請求項５に記載のうちいずれか一項に記載の電池パックを搭載したことを要旨とする。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３５】
次に、上記実施形態及び別例から把握できる技術的思想について以下に追記する。
（イ）前記吸熱部材は、第１の吸熱部材と第２の吸熱部材からなり、前記流路は、前記第１の吸熱部材に形成された凹部を前記第２の吸熱部材で閉塞して形成される。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３６】
（ロ）電池パックを搭載したことを特徴とする産業車両。
【手続補正書】
【提出日】平成27年10月23日(2015.10.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項６】
請求項４又は請求項５記載のコネクタと嵌合可能な相手側コネクタであって、
前記コネクタが前記相手側コネクタと嵌合する状態において前記平板部と対応する位置に位置する平面部を有している
相手側コネクタ。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
また、本発明は、第６のコネクタとして、第４又は第５のコネクタと嵌合可能な相手側コネクタであって、
前記コネクタが前記相手側コネクタと嵌合する状態において前記平板部と対応する位置に位置する平面部を有している
相手側コネクタを提供する。
【手続補正書】
【提出日】平成27年1月21日(2015.1.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２７】
【図１】第１の実施形態に係る半導体装置の製造方法の流れを示す工程図である。
【図２】図１に示す製造方法の各工程を説明する断面図である。
【図３】図１に示す製造方法の各工程を説明する断面図である。
【図４】図１に示す製造方法の各工程を説明する断面図である。
【図５】図１に示す製造方法の各工程を説明する断面図である。
【図６】支持基板との特性を対比した図である。
【図７】図６の対比結果を示したグラフである。
【図８】第２の実施形態に係る半導体装置の製造方法の流れを示す工程図である。
【図９】図８に示す製造方法の各工程を説明する断面図である。
【図１０】図８に示す製造方法の各工程を説明する断面図である。
【図１１】図８に示す製造方法の各工程を説明する断面図である。
【図１２】図８に示す製造方法の各工程を説明する断面図である。
【図１３】図８に示す製造方法の各工程を説明する断面図である。
【図１４】図８に示す製造方法の各工程を説明する断面図である。
【図１５】高調波抑制の効果を説明する表である。
【図１６】第３実施形態に係る半導体装置の製造方法の流れを示す工程図である。
【図１７】図１６に示す製造方法の各工程を説明する断面図である
【図１８】図１６に示す製造方法の各工程を説明する断面図である
【図１９】図１６に示す製造方法の各工程を説明する断面図である
【図２０】図１６に示す製造方法の各工程を説明する断面図である
【図２１】第４実施形態に係る半導体装置の製造方法の流れを示す工程図である。
【図２２】図２１に示す製造方法の各工程を説明する断面図である。
【図２３】図２１に示す製造方法の各工程を説明する断面図である。
【図２４】図２１に示す製造方法の各工程を説明する断面図である。
【図２５】図２１に示す製造方法の各工程を説明する断面図である。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７９】
図１５は、本第２の実施形態に係る半導体装置における高調波抑制の効果を説明する表である。同図には、高周波信号（例えば、数ＧＨｚ）を３５ｄＢｍのパワーで入力したときに発生する第２高調波及び第３高調波の強度について、電子線を照射した支持基板を用いた場合と、電子線を照射しない支持基板を用いた場合とで、比較した結果を示してある。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１１０】
図２１は、本第４実施形態に係る半導体装置の製造方法の流れを示す工程図であり、図２２〜図２５は、図２１に示す製造方法の各工程を説明する断面図である。以下、図２１に示す製造方法の流れに沿って説明していく。
【手続補正書】
【提出日】平成27年11月2日(2015.11.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
原稿が載置される原稿載置ユニットと、
前記原稿載置ユニットを開閉する開閉蓋と、
前記原稿載置ユニットに載置される原稿を異なる方向から照射する照射手段と、
前記照射手段により照射された原稿からの反射光を受光し、原稿の画像を読み取る画像読取手段と、
前記開閉蓋が開かれている状態で前記照射手段の照射により、前記原稿載置ユニットに載置される原稿のサイズを検知する原稿サイズ検知手段と、
前記原稿サイズ検知手段が原稿のサイズを検知する際に前記照射手段から前記開閉蓋を操作するオペレータ側に向けて照射される照射光の強さを他の方向に向けて照射される照射光の強さより弱くする光調節手段と、を備えた、
ことを特徴とする画像読取装置。
【請求項２】
オペレータが前記開閉蓋を操作する位置を検知するオペレータ位置検知手段を備え、
前記光調節手段は前記オペレータ位置検知手段の検知結果に基づいて、
オペレータ側に照射される照射光を決定する、
ことを特徴とする請求項１に記載の画像読取装置。
【請求項３】
前記照射手段は、前記原稿載置ユニットの下方に主走査方向に直線状に配置されて、前記原稿載置ユニットの同一箇所に対して副走査方向の両側から照射可能に向き合った１対の光源である、
ことを特徴とする請求項１又は２に記載の画像読取装置。
【請求項４】
前記１対の光源は、複数の白色のＬＥＤで構成されている、
ことを特徴とする請求項３に記載の画像読取装置。
【請求項５】
前記１対の光源は、軸状の光源である、
ことを特徴とする請求項３に記載の画像読取装置。
【請求項６】
原稿の画像を読み取る画像読取装置と、
前記画像読取装置によって読み取られた原稿の画像をシートに形成する画像形成部と、
を備え、
前記画像読取装置が、請求項１乃至５のいずれか１項に記載の画像読取装置である、
ことを特徴とする画像形成装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明は、オペレータに光を眩しく感じさせることなく原稿のサイズを判別する
画像読取装置を提供することにある。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本発明の画像読取装置は、原稿が載置される原稿載置ユニットと、前記原稿載置ユニットを開閉する開閉蓋と、前記原稿載置ユニットに載置される原稿を異なる方向から照射する照射手段と、前記照射手段により照射された原稿からの反射光を受光し、原稿の画像を読み取る画像読取手段と、前記開閉蓋が開かれている状態で前記照射手段の照射により、前記原稿載置ユニットに載置される原稿のサイズを検知する原稿サイズ検知手段と、前記原稿サイズ検知手段が原稿のサイズを検知する際に前記照射手段から前記開閉蓋を操作するオペレータ側に向けて照射される照射光の強さを他の方向に向けて照射される照射光の強さより弱くする光調節手段と、を備えた、ことを特徴としている。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明の画像読取装置は、オペレータに光を眩しく感じさせることなく原稿のサイズを判別することができる。
【手続補正書】
【提出日】平成27年9月10日(2015.9.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
スピーカユニットと、
放音孔及び前記スピーカユニットを固定するためのスピーカユニット取付け部を備えた前面部キャビネットと、
側面部キャビネットと、
前記スピーカユニットの背面部が当接された背面部キャビネットと、
共鳴管壁と、
前記前面部キャビネットと前記側面部キャビネットと前記背面部キャビネットと前記共鳴管壁とからなる共鳴管と、
を有し、
前記スピーカユニット後面から発生する音の低音域成分並びに前記背面部キャビネットから発生する音の低音域成分を前記共鳴管に導き、音の低音域成分を増幅して前記放音孔より再生することを特徴とするスピーカ装置。
【請求項２】
前記スピーカユニットの背面部と前記背面部キャビネットとの間隙にスペーサをさらに備えたことを特徴とする請求項１に記載のスピーカ装置。
【請求項３】
前記放音孔に応じた開口部の前記背面部キャビネットにサウンドアブソーバをさらに備えたことを特徴とする請求項１または２に記載のスピーカ装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明は、上記課題を解決するために、以下１）〜３）に記載の手段よりなる。
すなわち、１）スピーカユニットと、放音孔及び前記スピーカユニットを固定するためのスピーカユニット取付け部を備えた前面部キャビネットと、側面部キャビネットと、前記スピーカユニットの背面部が当接された背面部キャビネットと、共鳴管壁と、前記前面部キャビネットと前記側面部キャビネットと前記背面部キャビネットと前記共鳴管壁とからなる共鳴管と、を有し、前記スピーカユニット後面から発生する音の低音域成分並びに前記背面部キャビネットから発生する音の低音域成分を前記共鳴管に導き、音の低音域成分を増幅して前記放音孔より再生することを特徴とするスピーカ装置。
２）前記スピーカユニットの背面部と前記背面部キャビネットとの間隙にスペーサをさらに備えたことを特徴とする請求項１に記載のスピーカ装置。
３）前記放音孔に応じた開口部の前記背面部キャビネットにサウンドアブソーバをさらに備えたことを特徴とする請求項１または２に記載のスピーカ装置。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
放音孔２０にいたる部分には、共鳴管壁３０と前面部キャビネット４０と側面部キャビネット４１と背面部キャビネット４２とで形成された空間である共鳴管３１が設けられている。この共鳴管３１は、音響迷路ともよばれ、スピーカユニット５０後面から発生する音の低音域成分を増幅して放音孔２０より放出するものである。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
図１（Ｂ）、図１（Ｃ）に示すように、このスピーカ装置１００は、スピーカユニット５０の磁気回路背面を背面部キャビネット４２に密着させている。これは、スピーカユニット５０後面から発生する音の低音域成分を増幅して放音孔２０より放出するに際して、スピーカユニット５０の振動を背面部キャビネット４２に伝達し背面部キャビネット４２も振動させることにより更なる音の低音域成分を増幅して放音孔２０より放出するためある。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３０】
スピーカユニット５０のスピーカユニット背面部（磁気回路背面部）５２の振動を背面部キャビネット４２に効率よく伝達し背面部キャビネット４２も振動させることにより更なる音の低音域成分を増幅して放音孔２０より放出するためある。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３７】
このとき、放音孔２０にいたる部分には、共鳴管壁３０と前面部キャビネット４０と側面部キャビネット４１と背面部キャビネット４２とで形成された空間である共鳴管３１がスピーカユニット５０後面から発生する音の低音域成分を増幅して放音孔２０より放出するように構成したので、小型薄型のスピーカ装置であってもスピーカユニット５０後面から発生する音の低音域成分を増幅して再生することが可能である。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３８】
さらには、スピーカユニット５０のスピーカユニット背面部（磁気回路背面部）５２と背面部キャビネット４２とを密着して当接する構成とすることにより、スピーカユニット５０の振動を背面部キャビネット４２に効率よく伝達し背面部キャビネット４２も振動させることにより更なる音の低音域成分を増幅して放音孔２０より再生することが可能である。
【手続補正書】
【提出日】平成27年8月11日(2015.8.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
リン酸水溶液を貯留する貯留槽と、
前記貯留槽内のリン酸水溶液に基板を浸漬させた状態で、当該基板を水平姿勢に保持する基板保持手段と、
前記基板保持手段に保持されている基板と対向する発熱部を有し、当該基板を、前記発熱部からの熱輻射および熱伝達により、前記貯留槽に貯留されている前記リン酸水溶液以上の温度まで加熱する加熱手段とを含む、基板処理装置。
【請求項２】
前記貯留槽に貯留されているリン酸水溶液に水を供給する水供給手段と、
前記水供給手段からの水の供給／供給停止を制御することにより、前記貯留槽に貯留されているリン酸水溶液の濃度を制御する濃度制御手段とを含む、請求項１記載の基板処理装置。
【請求項３】
前記水供給手段は、水の液滴を吐出する多数の吐出口を有する多孔ノズルを含む、請求項２に記載の基板処理装置。
【請求項４】
前記水供給手段は、前記貯留部にスプレー状の水を噴射するスプレーノズルを含む、請求項２に記載の基板処理装置。
【請求項５】
前記加熱手段は、前記基板保持手段に保持されている基板を、下方側から加熱する、請求項１〜４のいずれか一項に記載の基板処理装置。
【請求項６】
前記貯留槽は底面を有し、
前記貯留槽の前記底面が前記発熱部を構成している、請求項５に記載の基板処理装置。
【請求項７】
前記加熱手段は、前記基板保持手段に保持されている基板を、上方側から加熱する、請求項１〜４のいずれか一項に記載の基板処理装置。
【請求項８】
前記加熱手段は赤外線ランプを有し、
前記赤外線ランプは、前記基板保持手段に保持されている基板の表面に対向配置されて、当該表面に向けて赤外線を照射する、請求項７に記載の基板処理装置。
【請求項９】
前記基板保持手段は、前記貯留槽に対して非接触状態で、基板を支持する基板支持部を有し、
前記基板支持部に支持された基板を回転させる基板回転手段をさらに含む、請求項１〜８のいずれか一項に記載の基板処理装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
前記の目的を達成するための請求項１に記載の発明は、リン酸水溶液を貯留する貯留槽（４；２０４；４０４）と、前記貯留槽内のリン酸水溶液に基板（Ｗ）を浸漬させた状態で、当該基板を水平姿勢に保持する基板保持手段（３；４０２）と、前記基板保持手段に保持されている基板と対向する発熱部（２９；２０９；３０４Ａ；４０９）を有し、当該基板を、前記発熱部からの熱輻射および熱伝達により、前記貯留槽に貯留されている前記リン酸水溶液以上の温度まで加熱する加熱手段（４；２０３；３０３；４０４）とを含む、基板処理装置（１；１０１；２０１；３０１；４０１）である。
【手続補正書】
【提出日】平成27年2月27日(2015.2.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板（２）と、
前記基板に実装された集積回路（６、７、８）と、
前記集積回路の周囲を囲い、電波を遮断する筒状のシールド（４）と、
前記シールドの前記基板と反対側に設けられ、電波を遮断するケース（３）と、
前記シールドに向き合う前記ケースの内壁または前記基板に前記シールドと所定の隙間を開けて設けられ、前記集積回路が基板上の空間に放出した所定周波数の電波を逆位相にするチョーク部（５）と、を備え、
前記チョーク部は、前記ケースの前記シールドに対向する端面から前記シールドと反対側に凹む溝部（５１）であり、
前記チョーク部を構成する前記溝部は、前記ケースの内壁（５８）から前記基板側へ突出する筒状の内枠体（５２）と筒状の外枠体（５３）とで構成されることを特徴とする高周波モジュール。
【請求項２】
前記チョーク部は、逆位相にした電波により、前記チョーク部と前記シールドとの隙間からの電波の漏出を抑制することを特徴とする請求項１に記載の高周波モジュール。
【請求項３】
前記チョーク部の深さは、前記集積回路が基板上の空間に放出した所定周波数の電波が前記チョーク部を通過するときの波長の１／４の長さであることを特徴とする請求項１または２に記載の高周波モジュール。
【請求項４】
前記シールドは、前記チョーク部と反対側の端部が前記基板のグランド配線（４１，５７）または前記ケースに接続されることを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載の高周波モジュール。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明は、基板に実装された集積回路の周囲を囲う筒状のシールドを備えた高周波モジュールにおいて、シールドに向き合うケースの内壁または基板に設けられたチョーク部が、集積回路が基板上の空間に放出した所定周波数の電波を逆位相にする。
このチョーク部は、ケースのシールドに対向する端面からシールドと反対側に凹む溝部である。その溝部は、ケースの内壁から基板側へ突出する筒状の内枠体と筒状の外枠体とで構成される。
これにより、チョーク部によって逆位相にされた電波と、集積回路が放出した電波とが打ち消し合い、シールドの外側への電波の漏れが抑制される。そのため、集積回路で作られた信号が基板上の空間を経由し、シールドの外側に実装された受信回路に意図しない電波信号が伝わることが防がれる。したがって、受信回路の受信する信号のアイソレーションが良好になるので、高周波モジュールの出力信号の信頼性を高めることができる。
【手続補正書】
【提出日】平成27年9月24日(2015.9.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
上面視において、長手方向と、該長手方向に直交する短手方向と、を有し、
前記長手方向に並べられた２つのリードフレームと、
前記２つのリードフレームのうちの少なくとも一方の上面に載置された発光素子と、
前記２つのリードフレームと一体に成形された樹脂成形体と、を備える発光装置であって、
前記２つのリードフレームは其々、上面側及び／又は下面側に設けられた凹みにより肉薄にされ該凹みが前記樹脂成形体に被覆された第１肉薄領域を有し、且つ、他方のリードフレーム側に幅狭になって延伸する延伸部を有し、
前記延伸部は、その全部が前記第１肉薄領域内にあって、且つ、その少なくとも一部が上面視で前記短手方向において互いに対向する位置にあり、
前記２つのリードフレームのうちの前記発光素子が載置されたリードフレームとは異なるリードフレームの前記延伸部の上面と、前記発光素子がワイヤで接続されることを特徴とする発光装置。
【請求項２】
前記２つのリードフレームは其々、前記第１肉薄領域を形成する前記凹みが下面側にのみ設けられている請求項１に記載の発光装置。
【請求項３】
前記２つのリードフレームの間の離間領域は、上面視において、前記短手方向の両端部が前記短手方向に略平行に設けられている請求項２に記載の発光装置。
【請求項４】
前記２つのリードフレームは其々、前記延伸部の上面に設けられた窪みを有し、該窪みは前記樹脂成形体に埋められている請求項２又は３に記載の発光装置。
【請求項５】
前記延伸部は、該発光装置の略中央に位置している請求項１乃至４のいずれか一項に記載の発光装置。
【請求項６】
前記２つのリードフレームは其々、前記第１肉薄領域から離間して且つ前記短手方向の両端部に、下面側に設けられた凹みにより肉薄にされ該凹みが前記樹脂成形体に被覆された第２肉薄領域を有する請求項１乃至５のいずれか一項に記載の発光装置。
【請求項７】
前記２つのリードフレームは其々、前記長手方向における前記延伸部と反対の側に設けられた貫通穴を有し、該貫通穴は前記樹脂成形体に埋められている請求項１乃至６のいずれか一項に記載の発光装置。
【請求項８】
前記２つのリードフレームの最下面は、前記樹脂成形体の最下面と共に該発光装置の下面を構成している請求項１乃至７のいずれか一項に記載の発光装置。
【請求項９】
前記発光素子は、前記２つのリードフレームに１つずつ載置されている請求項１乃至８のいずれか１項に記載の発光装置。
【請求項１０】
前記延伸部は、該発光装置の略中央に位置しており、
前記発光装置は、前記２つのリードフレームのうちのいずれか一方の前記延伸部の上面に載置された保護素子を備える請求項９に記載の発光装置。