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【手続補正書】
【提出日】平成27年8月6日(2015.8.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ネットワークドメインの外部の管理ゲートウェイとして、前記ネットワークドメインとの信頼を確立するステップと、
デバイスとの接続を確立するステップと、
前記デバイスに関連するセキュリティ機能を実行するステップであって、前記セキュリティ機能を実行することは、指示に基づかず前記ネットワークドメインからそのようにすることと
を備えたことを特徴とする方法。
【請求項２】
前記デバイスに、前記ネットワークドメインとの協働および相互接続を提供するステップをさらに備えたことを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記デバイスに関連する情報を前記ネットワークドメインに報告するステップをさらに備えたことを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記報告するステップは、前記ネットワークドメインからの要求に応答することを特徴とする請求項３に記載の方法。
【請求項５】
前記セキュリティ機能を実行するステップは、前記デバイスを前記ネットワークドメインに登録し、かつ認証するステップを含むことを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記デバイスを登録し、かつ認証するステップは、ブートストラップされた証明書で実行されることを特徴とする請求項５に記載の方法。
【請求項７】
前記セキュリティ機能を実行するステップは、証明書をプロビジョニングし、かつ前記証明書を前記デバイスに移行するステップを含むことを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項８】
前記セキュリティ機能を実行するステップは、前記デバイスにセキュリティポリシをプロビジョニングするステップを含むことを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項９】
前記セキュリティ機能を実行するステップは、前記デバイスにおいて、信頼できる機能性を確立するステップを含むことを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項１０】
前記セキュリティ機能を実行するステップは、前記デバイスについてデバイス管理を提供するステップを含むことを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項１１】
前記セキュリティ機能を実行するステップは、前記デバイスについて、セキュリティ関連付け、通信チャネル、または通信リンクのうちの少なくとも１つを確立するステップを含むことを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項１２】
無線送受信ユニット（ＷＴＲＵ）であって、
ネットワークドメインの外部の管理ゲートウェイとして、前記ネットワークドメインとの信頼を確立し、
デバイスとの接続を確立し、
前記デバイスに関連するセキュリティ機能を実行することであって、前記セキュリティ機能を実行することは、指示に基づかず前記ネットワークドメインからそのようにするように構成されたことを特徴とするＷＴＲＵ。
【請求項１３】
前記ＷＴＲＵは、前記デバイスに、前記ネットワークドメインとの協働および相互接続を提供するようにさらに構成されたことを特徴とする請求項１２に記載のＷＴＲＵ。
【請求項１４】
前記ＷＴＲＵは、前記デバイスに関連する情報を前記ネットワークドメインに報告するようにさらに構成されたことを特徴とする請求項１２に記載のＷＴＲＵ。
【請求項１５】
前記ＷＴＲＵは、前記ネットワークドメインからの要求に応答して前記情報を報告するようにさらに構成されたことを特徴とする請求項１４に記載のＷＴＲＵ。
【請求項１６】
前記セキュリティ機能を実行することは、前記デバイスを前記ネットワークドメインに登録し、かつ認証することを含むことを特徴とする請求項１２に記載のＷＴＲＵ。
【請求項１７】
前記デバイスを登録し、かつ認証することは、ブートストラップされた証明書で実行されることを特徴とする請求項１６に記載のＷＴＲＵ。
【請求項１８】
前記セキュリティ機能を実行することは、証明書をプロビジョニングし、かつ前記証明書を前記デバイスに移行することを含むことを特徴とする請求項１２に記載のＷＴＲＵ。
【請求項１９】
前記セキュリティ機能を実行することは、前記デバイスにセキュリティポリシをプロビジョニングすることを含むことを特徴とする請求項１２に記載のＷＴＲＵ。
【請求項２０】
前記セキュリティ機能を実行することは、前記デバイスにおいて、信頼できる機能性を確立することを含むことを特徴とする請求項１２に記載のＷＴＲＵ。
【請求項２１】
前記セキュリティ機能を実行することは、前記デバイスについてデバイス管理を提供することを含むことを特徴とする請求項１２に記載のＷＴＲＵ。
【請求項２２】
前記セキュリティ機能を実行することは、前記デバイスについて、セキュリティ関連付け、通信チャネル、または通信リンクのうちの少なくとも１つを確立することを含むことを特徴とする請求項１２に記載のＷＴＲＵ。
【手続補正書】
【提出日】平成27年3月16日(2015.3.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
情報を出力するように構成されている送信器と、
マルチラジオ干渉に関わる情報を取得するように構成されている処理コアと、を備えている装置において、
前記処理コアは、前記マルチラジオ干渉に関わる情報に依存して、第１のラジオアクセス技術の少なくとも１つのチャネルへ、少なくとも１つの優先度を割り当てるように構成されており、
前記処理コアは、前記送信器に、前記第１のラジオアクセス技術の基地局への送信に向けて、前記少なくとも１つの優先度の指示を備えるチャネル情報を出力させるように構成されている、装置。
【手続補正書】
【提出日】平成27年6月26日(2015.6.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
送信を受信する送受信機であって、前記受信した送信はリソース割当てを示し、前記リソース割当ては無線通信媒体内のタイムスロットを示す、送受信機と、
送信対象のデータ量に少なくとも部分的に基づき前記タイムスロットの第１部分と前記タイムスロットの第２部分とを決定する制御モジュールであって、前記タイムスロットの第２部分は放棄対象である、制御モジュールと、
を有する装置であって、
前記送受信機は、前記タイムスロットの第２部分の放棄を示すメッセージをリモート装置に送信する装置。
【請求項２】
前記リモート装置は、中央コントローラ装置である、請求項１記載の装置。
【請求項３】
前記送受信機は、前記タイムスロットの第１部分の間にデータ送信を送信する、請求項１又は２記載の装置。
【請求項４】
データ送信は、ミリ波信号を含む、請求項３記載の装置。
【請求項５】
前記送受信機は、前記タイムスロットの第２部分の間にデータを送信しない、請求項３記載の装置。
【請求項６】
指向性ビームフォーミングを提供する１以上のアンテナを更に有する、請求項１記載の装置。
【請求項７】
ユーザアプリケーションの処理を実行するホストモジュールを更に有する、請求項１記載の装置。
【請求項８】
前記ユーザアプリケーションは、可変的ビットレート（ＶＢＲ）アプリケーションである、請求項７記載の装置。
【請求項９】
リモート装置にリソース割当てを付与する制御モジュールであって、前記リソース割当ては無線通信媒体内のタイムスロットを示す、制御モジュールと、
前記リモート装置から送信を受信する送受信機であって、前記送信は前記リモート装置により放棄される前記タイムスロット内の部分を示し、前記リモート装置により放棄される前記タイムスロット内の部分は前記リモート装置による送信対象のデータ量に少なくとも部分的に基づく、送受信機と、
を有する装置であって、
前記制御モジュールは、前記タイムスロットの部分を再割当てする装置。
【請求項１０】
前記制御モジュールは、前記タイムスロットの部分を更なるリモート装置に再割当てする、請求項９記載の装置。
【請求項１１】
前記制御モジュールは、前記タイムスロットの部分をローカル装置に再割当てする、請求項９記載の装置。
【請求項１２】
前記ローカル装置は、中央コントローラ装置である、請求項１１記載の装置。
【請求項１３】
前記制御モジュールは、前記リモート装置から受信されるリクエストに少なくとも部分的に基づき、前記リモート装置に前記リソース割当てを付与する、請求項９記載の装置。
【請求項１４】
前記制御モジュールは、ポーリング技術に従って前記タイムスロットの部分を再割当てする、請求項９記載の装置。
【請求項１５】
無線通信装置のリソース割当てを取得するステップであって、前記リソース割当ては無線通信媒体内のタイムスロットを有する、取得するステップと、
前記タイムスロットの第１部分を決定するステップであって、前記タイムスロットの第１部分はデータを受信又は送信するためのものである、決定するステップと、
前記タイムスロットの第２部分を決定するステップであって、前記タイムスロットの第２部分は放棄対象であり、前記タイムスロットの第２部分は前記タイムスロットの第１部分と重複しない、決定するステップと、
を有する方法であって、
前記タイムスロットの第２部分の放棄は、前記タイムスロットの第２部分を示すメッセージをリモート装置に送信することを含む方法。
【請求項１６】
前記タイムスロットの第２部分は、前記タイムスロットの最後の部分である、請求項１５記載の方法。
【請求項１７】
前記タイムスロットの第１部分の間にデータを送信するステップを更に有する、請求項１５記載の方法。
【請求項１８】
前記タイムスロットの第２部分の間にデータを送信しないステップを更に有する、請求項１５記載の方法。
【請求項１９】
無線通信装置のリソース割当てを取得するステップであって、前記リソース割当ては無線通信媒体内のタイムスロットを示す、取得するステップと、
前記タイムスロットの部分を放棄するステップと、
をコンピュータに実行させるためのコンピュータプログラムであって、
前記タイムスロットの部分を放棄するステップは、前記タイムスロットの放棄される部分を示すメッセージをリモート装置に送信することを含むコンピュータプログラム。
【請求項２０】
前記コンピュータプログラムは更に、前記コンピュータにユーザアプリケーションの処理を実行させる、請求項１９記載のコンピュータプログラム。
【手続補正書】
【提出日】平成27年9月1日(2015.9.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１導電型の第１の半導体層と、前記第１の半導体層上に形成され、前記第１導電型と逆導電型の第２導電型の第２の半導体層と、前記第２の半導体層上に形成された、前記第１導電型の第３の半導体層と、を有する半導体基板と、
前記第３の半導体層の主表面上にゲート絶縁膜を介して設けられたゲート電極と、前記第３の半導体層の前記主表面に前記ゲート電極を挟んで形成されたソース領域とドレイン領域とを有するＭＯＳトランジスタと、
前記ＭＯＳトランジスタの前記ソース領域または前記ドレイン領域の側面と接し、第１の溝内に第１の絶縁膜が埋め込まれてなる第１の分離と、
複数の前記ＭＯＳトランジスタと前記第１の分離を含む素子形成領域と、
前記素子形成領域を取り囲む第２の溝からなる第２の分離と、
前記ゲート電極の上を覆い、前記第２の溝内を埋め込む第２の絶縁膜と、
を備え、
前記第２の溝は前記第１の溝より深く、
前記第２の分離は前記第２の半導体層を貫いて前記第１の半導体層にまで達し、
前記第２の分離には中空が形成されている、半導体装置。
【請求項２】
前記第２の分離の前記中空は、前記中空の底が前記第１の半導体層の内部まで達する、請求項１記載の半導体装置。
【請求項３】
前記第２の絶縁膜上に形成された配線層と、
前記第２の絶縁膜内に形成された導電層と、
をさらに備え、
前記配線層は、前記導電層により、前記ＭＯＳトランジスタの前記ソース領域または前記ドレイン領域に接続される、請求項１記載の半導体装置。
【請求項４】
前記ゲート電極を覆い、前記第２の絶縁膜の下に形成された第３の絶縁膜をさらに備え、
前記第２の絶縁膜はＴＥＯＳ膜であり、前記第３の絶縁膜はシリコン窒化膜である、請求項３記載の半導体装置。
【請求項５】
前記第２の分離は、前記第１の分離を貫いて形成される、請求項１記載の半導体装置。
【請求項６】
（ａ）第１導電型の第１の半導体層と、
前記第１の半導体層上に形成され、前記第１導電型と逆導電型の第２導電型の第２の半導体層と、
前記第２の半導体層上に形成された、前記第１導電型の第３の半導体層と、
前記第３の半導体層の主表面にゲート絶縁膜を介して設けられたゲート電極と、前記第３の半導体層の前記主表面に前記ゲート電極を挟んで形成されたソース領域およびドレイン領域とを有するＭＯＳトランジスタと、
前記ソース領域または前記ドレイン領域の側面と接し、前記第３の半導体層の前記主表面に形成された第１の溝内を第１の絶縁膜で埋め込んだ第１の分離と、
を有する半導体基板を準備する工程と、
（ｂ）前記ＭＯＳトランジスタと前記第１の分離を含む素子形成領域を平面視において取り囲み、前記第３の半導体層および前記第２の半導体層を貫いて前記第１の半導体層の内部にまで達する第２の溝を形成する工程と、
（ｃ）前記ゲート電極の上を覆い、前記第２の溝の内部を埋め込む第２の絶縁膜を形成する工程と、
を備え、
前記第２の溝内には中空が形成される、半導体装置の製造方法。
【請求項７】
前記（ｃ）工程の後に、
（ｄ）前記第２の絶縁膜を貫いて、前記ＭＯＳトランジスタの前記ソース領域または前記ドレイン領域に到達する導電層を形成する工程と、
（ｅ）前記第２の絶縁膜上に前記導電層に接続する配線層を形成する工程と、
をさらに備えた、請求項６記載の半導体装置の製造方法。
【請求項８】
前記中空の底は、前記第１の半導体層の内部にまで達する、請求項６記載の半導体装置の製造方法。
【請求項９】
前記（ｂ）工程は、
（ｂ−１）前記ＭＯＳトランジスタを覆うマスク材を形成する工程と、
（ｂ−２）前記マスク材上に、前記第２の溝に対応する第１開口を有するレジストパターンを形成する工程と、
（ｂ−３）前記半導体基板に異方性エッチングを施し、前記マスク材、前記第１の絶縁膜、および、前記半導体基板に前記第２の溝を形成する工程と、
を有する、請求項６記載の半導体装置の製造方法。
【請求項１０】
前記（ｂ−３）工程において、前記半導体基板に前記第２の溝を形成する前記異方性エッチングの際に、前記マスク材はマスクとして機能する、請求項９記載の半導体装置の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明の一実施例による半導体装置の製造方法は以下の工程を備えている。
ＭＯＳトランジスタと第１の分離を含む素子形成領域を平面視において取り囲み、第３の半導体層および第２の半導体層を貫いて第１の半導体層の内部にまで達する第２の溝が形成される。ゲート電極の上を覆い、第２の溝の内部を埋め込む第２の絶縁膜が形成される。第２の溝内には中空が形成される。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本実施例によれば、簡易なプロセスで、高い埋め込み性を確保する必要のない半導体装置およびその製造方法を実現することができる。
【手続補正書】
【提出日】平成27年5月25日(2015.5.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板、バッファ層、ｎ型窒化物半導体層、活性層及びｐ型窒化物半導体層をこの順に備えるとともに正電極と負電極を備えた窒化物半導体発光ダイオード素子において、
前記素子内の前記基板は、サファイア基板の表面に凹部及び複数の凸部が加工された加工構造基板であり、
前記凸部の全周囲は、前記凹部に囲まれたものであることを特徴とする、窒化物半導体発光ダイオード素子。
【請求項２】
前記凸部は、前記サファイア基板表面内の少なくとも２種の方向に沿って形成されていることを特徴とする請求項１記載の窒化物半導体発光ダイオード素子。
【請求項３】
前記凸部は、前記サファイア基板表面の３種の方向に沿って形成されていることを特徴とする請求項２記載の窒化物半導体発光ダイオード素子。
【請求項４】
前記基板は、サファイア基板のＣ面上に凹部及び凸部が形成された加工基板であり、
前記方向は、サファイア基板の［１１−２０］、［−２１１０］、［１−２１０］方向のいずれかである、請求項２又は３に記載の窒化物半導体発光ダイオード素子。
【手続補正書】
【提出日】平成27年10月6日(2015.10.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
固体酸化物形燃料電池の反応抑止層を形成するための組成物であって、
少なくともセリウム酸化物とバインダと分散剤と有機溶媒とを含み、
前記セリウム酸化物の占める割合は、前記反応抑止層形成用組成物全体を１００ｗｔ％としたときに、５０ｗｔ％〜８０ｗｔ％であり、
前記分散剤が分子内に１つまたは２つ以上のカルボキシル基を有するカルボン酸であり、且つ該カルボン酸の重量平均分子量が１０００以下である、固体酸化物形燃料電池の反応抑止層形成用組成物。
【請求項２】
前記分散剤が、分子内に２つのカルボキシル基を有するジカルボン酸である、請求項１に記載の反応抑止層形成用組成物。
【請求項３】
前記分散剤が、下式（Ｉ）：
【化１】
2015122289.tif 000001
（ただし、Ｒは、水素原子もしくは炭素数１〜５の低級アルキル基であり、ｍおよびｎは、１≦ｍ≦２０、０≦ｎ≦２０、ｍ＋ｎ≦３０を満たす実数である。）；
で示されるジカルボン酸である、請求項１または２に記載の反応抑止層形成用組成物。
【請求項４】
レオメーターの測定に基づくレオロジー降伏値が１００Ｐａ以下である、請求項１から３のいずれか一項に記載の反応抑止層形成用組成物。
【請求項５】
前記分散剤の含有量が、前記反応抑止層形成用組成物全体を１００ｗｔ％としたときに、３ｗｔ％以下である、請求項１から４のいずれか一項に記載の反応抑止層形成用組成物。
【請求項６】
前記有機溶媒がα−テルピネオールであり、
前記バインダがエチルセルロースである、請求項１から５のいずれか一項に記載の反応抑止層形成用組成物。
【請求項７】
前記セリウム酸化物が、イットリア、ガドリニアまたはサマリアがドープされた酸化セリウムであり、
前記セリウム酸化物のレーザー回折・光散乱法に基づく平均粒径が０．１μｍ以上２μｍ以下である、請求項１から６のいずれか一項に記載の反応抑止層形成用組成物。
【請求項８】
アノードと固体電解質と反応抑止層とカソードとが積層されてなる固体酸化物形燃料電池の形成に用いられるグリーンシート積層体であって、
前記反応抑止層は、請求項１から７のいずれか一項に記載の反応抑止層形成用組成物からなる、グリーンシート積層体。
【請求項９】
前記反応抑止層の塗布密度が５５体積％〜７０体積％である、請求項８に記載のグリーンシート積層体。
【請求項１０】
アノードと固体電解質と反応抑止層とカソードとが積層されてなる固体酸化物形燃料電池であって、
前記反応抑止層は、請求項１から７のいずれか一項に記載の反応抑止層形成用組成物の焼成体からなる、固体酸化物形燃料電池。
【請求項１１】
前記反応抑止層の厚みが１０μｍ以下である、請求項１０に記載の固体酸化物形燃料電池。
【手続補正書】
【提出日】平成27年10月6日(2015.10.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
固体酸化物形燃料電池の形成に用いられるアノード−固体電解質グリーンシート積層体であって、
前記固体電解質は、２層またはそれ以上の多層構造からなり、
前記固体電解質を構成する各層では、主体となる酸化物イオン伝導体の種類が相互に等しい、固体酸化物形燃料電池形成用のアノード−固体電解質グリーンシート積層体。
【請求項２】
前記固体電解質全体の厚みが２０μｍ以下である、請求項１に記載のグリーンシート積層体。
【請求項３】
前記固体電解質の表面には反応抑止層を備え、
前記反応抑止層と、該反応抑止層に接する前記固体電解質層とは、少なくとも同種のバインダを含む、請求項１または２に記載のグリーンシート積層体。
【請求項４】
前記反応抑止層および該反応抑止層に接する前記固体電解質層は、バインダとして少なくともポリビニルブチラールまたはエチルセルロースを含む、請求項３に記載のグリーンシート積層体。
【請求項５】
前記反応抑止層と、該反応抑止層に接する前記固体電解質層とに含まれるバインダの含有率が実質的に等しい、請求項３または４に記載のグリーンシート積層体。
【請求項６】
前記アノードに接する固体電解質層に含まれる酸化物イオン伝導体の含有率は、該アノードに接しない固体電解質層よりも低い、請求項１から５のいずれか一項に記載のグリーンシート積層体。
【請求項７】
固体酸化物形燃料電池の形成に用いられるアノード−固体電解質グリーンシート積層体の製造方法であって；
アノード形成用シートを準備すること：
前記アノード形成用シートの表面に、少なくとも酸化物イオン伝導体とバインダと溶媒とを含む第１層形成用組成物を付与して、第１層を形成すること：および
前記第１層の表面に、少なくとも酸化物イオン伝導体とバインダと溶媒とを含む上層形成用組成物を付与して、１または２以上の上層を順次形成し、アノード−固体電解質積層体を得ること： 
を包含し、
ここで、前記第１層形成用の酸化物イオン伝導体と、前記上層形成用の酸化物イオン伝導体とは、相互に同じ種類のものを用いる、グリーンシート積層体の製造方法。
【請求項８】
前記固体電解質の形成は、該固体電解質全体の厚みが２０μｍ以下となるよう行う、請求項７に記載の製造方法。
【請求項９】
前記得られたアノード−固体電解質グリーンシート積層体の固体電解質側の最表面に、
少なくともセリウム酸化物とバインダと溶媒とを含む反応抑止層形成用組成物を付与して、反応抑止層を形成すること、をさらに包含し、
ここで、前記固体電解質の最表面を構成する最上層の形成用バインダと、前記反応抑止層の形成用バインダとは、少なくとも相互に同じ種類のものを使用する、請求項７または８に記載の製造方法。
【請求項１０】
前記最上層および前記反応抑止層形成用のバインダとして、少なくともポリビニルブチラールまたはエチルセルロースを用いる、請求項９に記載の製造方法。
【請求項１１】
前記最上層および前記反応抑止層には、実質的に等量のバインダを用いる、請求項９または１０に記載の製造方法。
【請求項１２】
前記上層および前記反応抑止層形成用の溶媒として、αーテルピネオール、ブチルセロソルブアセテート、ブチルカルビトールアセテート、ブチルジグリコールアセテートまたはイソボルニルアセテートからなる群から選択される少なくとも一種を用いる、請求項９〜１１のいずれか一項に記載の製造方法。
【請求項１３】
前記第１層の形成にはシート成形の手法を用い、
前記最上層および前記反応抑止層の形成には印刷成形の手法を用いる、請求項９から１２のいずれか一項に記載の製造方法。
【請求項１４】
前記第１層に含まれる酸化物イオン伝導体の含有率が、前記上層よりも低くなるよう調整する、請求項７から１３のいずれか一項に記載の製造方法。
【請求項１５】
請求項１から６のいずれか一項に記載のグリーンシート積層体の焼成体からなるアノード−固体電解質を備えた固体酸化物形燃料電池。
【手続補正書】
【提出日】平成27年8月13日(2015.8.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
バーコードの撮影画像を複数の水平エリアに分割し、白色のエリア幅が白線の最大幅を超えるところを区切りとして、各水平エリアの中から読み取り可能な領域をそれぞれ抽出する領域抽出部と、
上記領域抽出部により抽出された複数の領域を結合することによって上記バーコードの全体を復元する領域結合部と、
上記領域結合部により復元された上記バーコードをデコードするデコード部とを備えたことを特徴とするコード読取装置。
【請求項２】
上記領域抽出部により抽出された複数の領域の中から、上記領域結合部による結合に適した領域を選別する領域選別部をさらに備え、
上記領域結合部は、上記領域選別部により選別された領域を結合することによって上記バーコードの全体を復元することを特徴とする請求項１に記載のコード読取装置。
【請求項３】
上記領域選別部は、上記バーコードの左端を含む第１の領域および上記バーコードの右端を含む第２の領域を少なくとも選別し、上記第１の領域と上記第２の領域とに重複領域が存在しない場合は、上記第１の領域と上記第２の領域との間を繋ぐ中間の位置にある１以上の第３の領域をさらに選別することを特徴とする請求項２に記載のコード読取装置。
【請求項４】
上記領域結合部は、上記複数の領域の位置をずらしながら領域内の線分を結合させていき、上記複数の領域内の線分の合致度が最も高い位置の結合状態を採用することを特徴とする請求項１〜３の何れか１項に記載のコード読取装置。
【請求項５】
バーコードの撮影画像を複数の水平エリアに分割し、白色のエリア幅が白線の最大幅を超えるところを区切りとして、各水平エリアの中から読み取り可能な領域をそれぞれ抽出する領域抽出手段、
上記領域抽出手段により抽出された複数の領域を結合することによって上記バーコードの全体を復元する領域結合手段、および
上記領域結合手段により復元された上記バーコードをデコードするデコード手段
としてコンピュータを機能させるためのコード読取用プログラム。
【請求項６】
上記領域抽出手段により抽出された複数の領域の中から、上記領域結合手段による結合に適した領域を選別する領域選別手段を更に備え、
上記領域結合手段は、上記領域選別手段により選別された領域を結合することによって上記バーコードの全体を復元することを特徴とする請求項５に記載のコード読取用プログラム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
上記した課題を解決するために、本発明では、バーコードの撮影画像を複数の水平エリアに分割し、白色のエリア幅が白線の最大幅を超えるところを区切りとして、各水平エリアの中から読み取り可能な領域をそれぞれ抽出し、抽出した複数の領域を結合することによってバーコードの全体を復元するようにしている。
【手続補正書】
【提出日】平成27年8月20日(2015.8.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
命令のラインをプリフェッチする方法であって、
第１のキャッシュ内の第２の命令の第２のフェッチアドレスのミスを示すインジケーションを受け取ることを備え、前記第２のフェッチアドレスが、第１の命令の第１のアドレスに対して非連続的であるか連続的であるかが決定され、
前記方法はさらに、
前記インジケーションに応答して、
前記第２のフェッチアドレスが非連続的であることを条件として、
前記第２のフェッチアドレスに基づいて、第２のキャッシュから第１の命令のラインをフェッチし、前記第２のキャッシュから第２の命令のラインをプリフェッチし、
ここで、前記第２の命令のラインは、前記第１の命令のラインの次の連続キャッシュラインか、または分岐履歴テーブルもしくは分岐予測ロジックからの情報にしたがった非連続キャッシュラインであり、
前記第２のフェッチアドレスが連続的であることを条件として、
前記第２の命令のラインをプリフェッチすることなく、前記第２のフェッチアドレスに基づいて、前記第２のキャッシュから前記第１の命令のラインをフェッチする、
方法。
【請求項２】
前記第２のフェッチアドレスが非連続的であることを条件として、前記第２の命令のラインをプリフェッチすることは、前記第１の命令のラインをフェッチすることと、前記第２の命令のラインをプリフェッチすることを結合することによって長データ転送を可能にすることを備える請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記第２の命令は、前記第１の命令の後にフェッチされる請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記第２のフェッチアドレスは、前記第１のキャッシュに結合されたプロセッサ内のロジックによって、または、前記第２のフェッチアドレスを前記第１のフェッチアドレスと比較することによって、非連続的であると識別される請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記第２のフェッチアドレスに関連付けられた非連続動作は、分岐動作である請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記第２の命令のラインは、前記第１の命令のライン内の既定の閾値位置に関係する前記第１の命令のライン内の前記第２の命令の位置をさらに条件としてプリフェッチされる請求項１に記載の方法。
【請求項７】
前記第２の命令のラインは、前記第１の命令のラインに対して非連続的である請求項１に記載の方法。
【請求項８】
前記第２のフェッチアドレスに関連付けられた動作は、非連続的であり、復帰動作またはサブルーチンコール動作を含む請求項１に記載の方法。
【請求項９】
前記第２のフェッチアドレスは、連続的である場合、前記第１のフェッチアドレスに対して連続的であるメモリアクセスのターゲットであり、
前記第２のフェッチアドレスは、非連続的である場合、前記第１のフェッチアドレスに対して非連続的であるメモリアクセスのターゲットである請求項１に記載の方法。
【請求項１０】
システムであって、
第２の命令の第２のフェッチアドレスが命令キャッシュ内でミスしたという通知を生成するように構成された命令キャッシュを備え、前記第２のフェッチアドレスが、第１の命令の第２のアドレスとの関係において非連続的であるか連続的であるかが決定され、
前記システムはさらに、
前記通知に応答して、
前記第２のフェッチアドレスが非連続的であることを条件として、
前記第２のフェッチアドレスに基づいて、第２のキャッシュから第１の命令のラインをフェッチし、前記第２のキャッシュから第２の命令のラインをプリフェッチし、
ここで、前記第２の命令のラインは、前記第１の命令のラインの次の連続キャッシュラインか、または分岐履歴テーブルもしくは分岐予測ロジックからの情報にしたがった非連続キャッシュラインであり、
前記第２のフェッチアドレスが連続的であることを条件として、
前記第２のキャッシュからの前記第２の命令のラインをプリフェッチすることなく、前記第２のフェッチアドレスに基づいて、前記第２のキャッシュからの前記第１の命令のラインをフェッチするように構成された
ロジックと、
を備えるシステム。
【請求項１１】
前記第２のフェッチアドレスは、前記第１のアドレスに対して非連続的であるか否かを判定するように構成されたキャッシュ制御ユニットをさらに備え、前記第１のアドレスは、前記第２のフェッチアドレスの前の第１のフェッチアドレスを含んでいる請求項１０に記載のシステム。
【請求項１２】
前記プリフェッチされた第２の命令のラインは、前記命令キャッシュへの長データ転送において提供される請求項１０に記載のシステム。
【請求項１３】
前記第２の命令のラインは、前記第１の命令のラインに対して連続的である請求項１０に記載のシステム。
【請求項１４】
前記第２の命令のラインは、前記第１の命令のラインに対して非連続的である請求項１０に記載のシステム。
【請求項１５】
第２の命令の第２のフェッチアドレスが第１のキャッシュ内でミスしたという通知を受け取ることであって、前記第２のフェッチアドレスが、第１の命令の第１のフェッチアドレスとの関係が非連続的であるか否かが決定され、
前記通知に応答して、
前記第２のフェッチアドレスが非連続的であることに基づいて、第１の動作を実行することであって、
前記第１の動作は、前記第２のフェッチアドレスに基づいて、第２のキャッシュから第１の命令のラインをフェッチし、前記第２のキャッシュからの第２の命令のラインをプリフェッチすることを備え、
ここで、前記第２の命令のラインは、前記第１の命令のラインの次の連続キャッシュラインか、または分岐履歴テーブルもしくは分岐予測ロジックからの情報にしたがった非連続キャッシュラインであり、
前記第２のフェッチアドレスが連続的であることに基づいて、第２の動作を実行することであって、
前記第２の動作は、前記第２の命令のラインをプリフェッチすることなく、前記第２のフェッチアドレスに基づいて、前記第２のキャッシュから前記第１の命令のラインをフェッチすること
を備える方法。
【請求項１６】
前記第２の命令のラインは、前記第１の命令のラインに対して非連続的である請求項１５に記載の方法。
【請求項１７】
前記第２の命令は、前記第１の命令に関して次の命令である請求項１５に記載の方法。
【請求項１８】
前記第２のフェッチアドレスを前記第１のフェッチアドレスと比較することに基づいて、前記第２のフェッチアドレスが、非連続的な動作に関連付けられているか否かを決定することをさらに備える請求項１５に記載の方法。
【請求項１９】
前記第２のフェッチアドレスが、前記第１のフェッチアドレスに関連付けられて、非連続的であるか連続的であるか、フェッチアドレスキャッシュライン位置が閾値キャッシュライン位置を越えているか否かを決定することをさらに備える請求項１５に記載の方法。
【請求項２０】
前記第１の動作は、前記フェッチアドレスキャッシュライン位置が前記閾値キャッシュライン位置を越えていることを条件とし、
前記第２の動作は、前記フェッチアドレスキャッシュライン位置が前記閾値キャッシュライン位置を越えていないことを条件とし、
前記フェッチアドレスキャッシュライン位置は、前記第２のフェッチアドレスに関連し、前記閾値キャッシュライン位置は、前記第１の命令のラインに関連している、請求項１９に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成27年9月1日(2015.9.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
自車両前方の所定検出エリア内に存在する対象物を検出する対象物検出手段と、
前記対象物との衝突を回避するために自車両を自動制動させる自動ブレーキ制御を実行する衝突回避制御手段と、
前記自動ブレーキ制御と共に表示を出力する表示制御手段とを備え、
前記表示制御手段は、前記衝突回避制御手段による前記自動ブレーキ制御が終了した後の所定タイミングまで、前記表示を継続することを特徴とする運転支援装置。
【請求項２】
前記所定タイミングは、自車両の運転者が所定運転操作を行う時点であることを特徴とする請求項１記載の運転支援装置。
【請求項３】
前記衝突回避制御手段による前記自動ブレーキ制御が終了した以後、自車両の運転者が所定運転操作を行うか否かを判別するドライバ操作判別手段を備え、
前記表示制御手段は、
前記対象物検出手段により検出された前記対象物に自車両が衝突する可能性が所定以上に高くなった場合に、自車両の運転者に向けて前記表示を開始する表示開始手段と、
前記ドライバ操作判別手段により自車両の運転者が前記所定運転操作を行ったと判別された場合に、前記表示を終了する表示終了手段と、
を有することを特徴とする請求項１記載の運転支援装置。
【請求項４】
前記衝突回避制御手段による前記自動ブレーキ制御が終了した終了時点で自車両が走行しているか或いは停車しているかを判別する走行／停止判別手段を備え、
前記表示終了手段は、前記走行／停止判別手段により自車両が前記終了時点で停車していると判別されかつ前記ドライバ操作判別手段により自車両の運転者が前記所定運転操作を行ったと判別された場合に、前記表示を終了することを特徴とする請求項３記載の運転支援装置。
【請求項５】
前記表示終了手段は、また、前記走行／停止判別手段により自車両が前記終了時点で走行していると判別された場合に、前記表示を終了することを特徴とする請求項４記載の運転支援装置。
【請求項６】
前記対象物検出手段は、レーダ装置又はカメラを用いて前記所定検出エリアとして自車両から第１所定距離離れた位置から第２所定距離離れた位置までに存在する対象物を検出することを特徴とする請求項１乃至５の何れか一項記載の運転支援装置。
【請求項７】
前記表示は、自車両の運転者に自車両に対するブレーキ操作を促す警報表示であることを特徴とする請求項１乃至６の何れか一項記載の運転支援装置。
【請求項８】
前記衝突回避制御手段は、前記自動ブレーキ制御を開始した後、自車両が停車した場合、自車両の速度が前記対象物の速度以下になった場合、又は前記対象物が前記所定検出エリア外に出た場合に、該自動ブレーキ制御を終了することを特徴とする請求項１乃至７の何れか一項記載の運転支援装置。
【請求項９】
前記衝突回避制御手段は、自車両の速度及び加速度並びに自車両と前記対象物検出手段により検出された前記対象物との相対距離、相対速度、及び相対加速度に基づいて自車両と該対象物との衝突を回避させるための制動が必要であると判定された場合に、前記自動ブレーキ制御として自車両の自動制動を開始する自動ブレーキ開始手段を有することを特徴とする請求項１乃至８の何れか一項記載の運転支援装置。
【請求項１０】
前記衝突回避制御手段は、前記自動ブレーキ開始手段により前記自動制動が開始された後、自車両と前記対象物との衝突が回避された場合に、該自動制動を解除する自動ブレーキ解除手段を有することを特徴とする請求項９記載の運転支援装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
本発明は、上述の点に鑑みてなされたものであり、自車両と対象物との衝突を回避するための自動ブレーキ制御の終了後にも表示を継続し得るものとすることで車両の走行安全性を向上させることが可能な運転支援装置を提供することを目的とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
上記の目的は、自車両前方の所定検出エリア内に存在する対象物を検出する対象物検出手段と、前記対象物との衝突を回避するために自車両を自動制動させる自動ブレーキ制御を実行する衝突回避制御手段と、前記自動ブレーキ制御と共に表示を出力する表示制御手段とを備え、前記表示制御手段は、前記衝突回避制御手段による前記自動ブレーキ制御が終了した後の所定タイミングまで、前記表示を継続することを特徴とする運転支援装置により達成される。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明によれば、自車両と対象物との衝突を回避する自動ブレーキ制御の終了後にも表示を継続し得るものとすることで車両の走行安全性を向上させることができる。
【手続補正書】
【提出日】平成27年3月25日(2015.3.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
金属合金から鋳造製品（１８）を製造する方法であって、
キャビティ（１２）とキャビティ内部の鋳型表面（１４）に連続固体フェースコート（１６）とを有する鋳型（１０）を準備する段階であって、固体フェースコート（１６）が１５重量％以上の金属アルミニウム含有粉体及び活性剤を含む段階と、
溶融量の金属合金を鋳型（１０）のキャビティ（１２）内に導入して、溶融金属合金を固体フェースコート（１６）と接触させるとともに、活性剤を、固体フェースコート中の金属アルミニウムと反応させて揮発性アルミニウム化合物を生じさせる、段階と、
溶融量の金属合金を冷却・凝固させて金属合金の鋳造製品（１８）を形成すべく、鋳型（１０）を冷却する段階であって、冷却時に、揮発性アルミニウム化合物の少なくとも一部が、固体フェースコート（１６）と接する溶融量の金属合金及び／又は鋳造製品（１８）の表面で反応して、金属アルミニウムが鋳造製品（１８）の表面（２２）中に浸透して、鋳造製品（１８）にアルミニウム含有表面領域（２０）を形成する段階と、
鋳造製品（１８）を鋳型（１０）から取り出す段階と、
鋳造製品（１８）の表面領域（２０）の酸化により鋳造製品（１８）の表面（２２）でスケールを成長させる段階であって、スケールが、鋳造製品（１８）の表面領域（２０）のアルミニウムの酸化によるアルミナを含む段階と
を含む方法。
【請求項２】
前記固体フェースコート（１６）中の金属アルミニウム含有粉体がアルミニウム及び不可避不純物からなる、請求項１記載の方法。
【請求項３】
前記固体フェースコート（１６）中の金属アルミニウムが、ＣｒＡｌ、ＣｏＡｌ、ＮｉＡｌ、ＦｅＡｌ、ＭｏＡｌ、ＭｎＡｌ、ＡｌＺｒ及びＡｌＮｂ合金からなる群から選択されるアルミニウム合金の形態である、請求項１記載の方法。
【請求項４】
前記金属アルミニウム含有粉体が、活性剤を含有する固体バインダー相中に分散されており、前記活性剤が、固体フェースコート（１６）中の金属アルミニウムとの反応による揮発性ハロゲン化アルミニウムの形成によって表面領域（２０）への金属アルミニウムの拡散を促進するハライド活性剤であり、該揮発性ハロゲン化アルミニウムが、前記導入段階で固体フェースコート（１６）と接触する溶融合金の表面と反応し、冷却段階で鋳造製品（１８）の表面（２２）と反応する、請求項１乃至請求項３のいずれか１項記載の方法。
【請求項５】
金属アルミニウム含有粉体及び活性剤を有機ポリマーバインダー中に含むフェースコートゲル（２６）を形成する段階と、
フェースコートゲル（２６）を鋳型表面（１４）に塗工する段階と、
フェースコートゲル（２６）を加熱して、有機ポリマーバインダーを焼尽させ、活性剤によって形成された固体バインダー相中に金属アルミニウムが分散されている固体フェースコート（１６）を形成する段階と
をさらに含む、請求項１乃至請求項４のいずれか１項記載の方法。
【請求項６】
前記金属合金が１０重量％以下の合金成分を含有し、残部が鉄及び不可避不純物である、請求項１乃至請求項５のいずれか１項記載の方法。
【請求項７】
前記金属合金が１０重量％以下のクロム及び１重量％以下のニッケルを含有する、請求項１乃至請求項６のいずれか１項記載の方法。
【請求項８】
前記スケールが１２重量％以上のアルミナを含有する、請求項１乃至請求項７のいずれか１項記載の方法。
【請求項９】
前記鋳造製品（１８）の表面領域（２０）が１０重量％以上のアルミニウムを含有し、鋳造製品（１８）の表面（２２）下５０μｍ以上延在する、請求項１乃至請求項８のいずれか１項記載の方法。
【請求項１０】
前記鋳造製品（１８）がガスタービンエンジン部品である、請求項１乃至請求項９のいずれか１項記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成27年1月20日(2015.1.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
それぞれインクを吐出する複数のノズルが配列されたノズル列を有する記録ヘッドを、記録媒体に対して前記複数のノズルの配列方向を横切る向きに走査させて画像を記録するインクジェット記録装置であって、
単位領域の画像を形成するために前記記録ヘッドを前記記録媒体の共通領域に対して偶数回走査させる走査手段と、
前記偶数回の走査のそれぞれにおいて、前記複数のノズルのうちインクの吐出を許可されたノズルが、走査方向に向かって先細りとなる少なくとも一の基本ドット配置パターンを周期的に形成するように、前記複数のノズルのうちインクの吐出を許可するノズルを走査の進行に応じて制御する吐出制御手段と、を有することを特徴とするインクジェット記録装置。
【請求項２】
前記吐出制御手段は、各走査において、前記複数のノズルの配列方向において複数の前記基本ドット配置パターンを形成することを特徴とする請求項１に記載のインクジェット記録装置。
【請求項３】
前記複数の基本ドット配置パターンは、前記複数のノズルの配列方向において、互いに隣接していることを特徴とする請求項２に記載のインクジェット記録装置。
【請求項４】
前記複数の基本ドット配置パターンは、前記複数のノズルの配列方向において、互いに離隔していることを特徴とする請求項２に記載のインクジェット記録装置。
【請求項５】
前記複数の基本ドット配置パターンは、互いに形状の異なる複数の基本ドット配置パターンを含むことを特徴とする請求項２ないし４のいずれか１項に記載のインクジェット記録装置。
【請求項６】
前記基本ドット配置パターンは、三角形状を有することを特徴とする請求項２ないし５のいずれか１項に記載のインクジェット記録装置。
【請求項７】
前記基本ドット配置パターンは、前記複数のノズルの配列方向において互いに隣接する複数の第１の二等辺三角形状パターンと、隣接する前記第１の二等辺三角形状パターンの頂点を結ぶ線分を底辺にもつ第２の二等辺三角形状パターンを有することを特徴とする請求項６に記載のインクジェット記録装置。
【請求項８】
前記基本ドット配置パターンは、直角三角形状を有することを特徴とする請求項６に記載のインクジェット記録装置。
【請求項９】
前記基本ドット配置パターンは、台形状を有することを特徴とする請求項２ないし５のいずれか１項に記載のインクジェット記録装置。
【請求項１０】
前記基本ドット配置パターンは、走査方向に向かって曲線状に先細りとなることを特徴とする請求項２ないし５のいずれか１項に記載のインクジェット記録装置。
【請求項１１】
前記記録ヘッドにおいて、
近接するノズル列双方にキャリッジ走査方向に頂点を持つ二等辺三角形であるドット配置パターンが適用され、かつ該近接するノズル列同士で各々定められた二等辺三角形のドット配置がノズル列長手方向に逆位相となること
を特徴とする請求項６に記載のインクジェット記録装置。
【請求項１２】
前記記録ヘッドにおいて、
近接するノズル列双方にキャリッジ走査方向を上底、他方を下底と定義する台形において、下底より短い上底を持つ台形であるドット配置パターンが適用され、かつ該近接するノズル列同士で各々定められた二等辺三角形のドット配置がノズル列長手方向に逆位相となること
を特徴とする請求項９に記載のインクジェット記録装置。
【手続補正書】
【提出日】平成27年10月27日(2015.10.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
加工対象であるレンズを高摩擦材からなるシート材が貼着されたレンズ保持面を有するレンズホルダに保持させるレンズ保持工程であって、前記レンズの第１のレンズ面を前記シート材に当接させることにより前記レンズを前記レンズホルダに保持させるレンズ保持工程と、
前記レンズを保持した前記レンズホルダを、研削又は研磨工具が設けられた加工装置に取り付けるレンズホルダ取り付け工程と、
前記レンズの前記第１のレンズ面とは反対側の第２のレンズ面を研削又は研磨する加工工程と、
前記レンズを保持した前記レンズホルダを、前記加工装置から取り外すレンズホルダ取り外し工程と、
少なくとも前記レンズホルダと前記レンズとの当接面の外周側面から付着物を除去する付着物除去工程と、
前記付着物除去工程の後、前記レンズホルダから前記レンズを剥離するレンズ剥離工程と、
を含むことを特徴とするレンズ加工方法。
【請求項２】
前記レンズとは異なる第２のレンズを、高摩擦材からなるシート材が貼着されたレンズ保持面を有する、前記レンズホルダとは異なる第２のレンズホルダに保持させる第２レンズ保持工程であって、前記第２のレンズの第１のレンズ面を前記シート材に当接させることにより前記第２のレンズを前記第２のレンズホルダに保持させる第２レンズ保持工程と、
前記レンズホルダが取り外された後の前記加工装置に、前記第２のレンズホルダを取り付ける第２のレンズホルダ取り付け工程と、
前記第２のレンズの前記第１のレンズ面とは反対側の第２のレンズ面を研削又は研磨する第２の加工工程と、
をさらに含み、
前記付着物除去工程と前記第２の加工工程とを並行して実行することを特徴とする請求項１に記載のレンズ加工方法。
【請求項３】
前記付着物除去工程は、前記付着物を拭き取ることを特徴とする請求項１または２に記載のレンズ加工方法。
【請求項４】
前記付着物除去工程は、前記付着物を吸引することを特徴とする請求項１または２に記載のレンズ加工方法。
【請求項５】
前記付着物除去工程は、前記レンズホルダ及び該レンズホルダに保持された前記レンズを洗浄することを特徴とする請求項１または２に記載のレンズ加工方法。
【請求項６】
加工対象であるレンズを保持するレンズホルダを保持するレンズホルダ保持機構と、
研削又は研磨工具を保持する加工具保持機構と、
前記レンズホルダに保持された前記レンズに前記研削又は研磨工具を当接させ、前記レンズホルダと前記研削又は研磨工具との少なくとも一方を他方に対して回転させる回転機構と、
少なくとも前記レンズホルダと前記レンズとの当接面の外周側面から付着物を除去する付着物除去機構と、
前記レンズホルダ保持機構と前記付着物除去機構との間で、前記レンズホルダ及び該レンズホルダに保持された前記レンズを搬送する搬送機構と、
を備えることを特徴とするレンズ加工装置。
【請求項７】
前記付着物除去機構は、前記付着物を拭き取る拭き取り機構であることを特徴とする請求項６に記載のレンズ加工装置。
【請求項８】
前記付着物除去機構は、前記付着物を吸引する吸引機構であることを特徴とする請求項６に記載のレンズ加工装置。
【請求項９】
前記付着物除去機構は、前記レンズホルダ及び該レンズホルダに保持された前記レンズを洗浄する洗浄機構であることを特徴とする請求項６に記載のレンズ加工装置。 
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２９】
なお、レンズ１を加工する際には、レンズホルダ保持機構２０と研磨皿３１との少なくとも一方を他方に対して回転及び揺動させれば良く、例えば、レンズホルダ保持機構２０のみを回転させ、研磨皿３１に揺動のみさせても良いし、反対に、レンズホルダ保持機構２０を揺動させ、研磨皿３１に回転のみさせても良い。 
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３４】
続く工程Ｓ１１において、研削又は研磨工具を用いてレンズ１を加工する。詳細には、図３Ｃに示すように、加工具保持機構３０を移動させて、研磨皿３１の加工面３２をレンズ１の被加工面１ａに当接させる。そして、被加工面１ａと加工面３２との界面に加工液供給機構３３から加工液３４を供給しながら、レンズホルダ保持機構２０を回転させると共に、研磨皿３１をレンズホルダ保持機構２０とは反対方向に回転させ、さらに揺動させる。
【手続補正書】
【提出日】平成26年12月22日(2014.12.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
遊技領域に遊技媒体を発射して遊技を行う遊技機であって、
前記遊技領域に設けられた特定領域と、
特定条件が成立した後、前記特定領域に遊技媒体が進入したときに遊技者にとって有利な特定状態に制御する特定遊技制御手段と、
遊技者にとって有利な第１の状態と不利な第２の状態とに変化可能な可変入賞手段と、
前記特定状態において前記可変入賞手段を前記第１の状態に変化させる制御を行う可変入賞制御手段とを備え、
前記可変入賞手段は、前記特定領域の下流側に配置されており、
前記特定領域に進入した遊技媒体は、前記可変入賞手段の上流側の領域に放出されることを特徴とする、遊技機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、パチンコ遊技機およびコイン遊技機等の遊技機に関し、特に、遊技領域に遊技媒体を発射して遊技を行う遊技機に関する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
【特許文献１】特開２００６−０３４３５７号公報（段落番号０２３４〜０２３９、図３８）
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明の目的は、実情に鑑み考え出された遊技機を提供することである。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
遊技領域に遊技媒体を発射して遊技を行う遊技機であって、
前記遊技領域に設けられた特定領域と、
特定条件が成立した後、前記特定領域に遊技媒体が進入したときに遊技者にとって有利な特定状態に制御する特定遊技制御手段と、
遊技者にとって有利な第１の状態と不利な第２の状態とに変化可能な可変入賞手段と、
前記特定状態において前記可変入賞手段を前記第１の状態に変化させる制御を行う可変入賞制御手段とを備え、
前記可変入賞手段は、前記特定領域の下流側に配置されており、
前記特定領域に進入した遊技媒体は、前記可変入賞手段の上流側の領域に放出される。
なお、以下の構成を備えるものであってもよい。
（１）  所定条件（変動表示における大当り表示結果の表示に基づく権利発生状態）が成立した後、遊技媒体（遊技球）が打込まれる遊技領域（遊技領域７）に設けられた特定領域（第１特定ゲート６１〜第３特定ゲート６３）に遊技媒体が進入したことに基づいて、遊技状態を通常遊技状態よりも遊技者にとって有利な特定遊技状態（大入賞口の開放制御状態としての大当り遊技状態）に制御する遊技機（パチンコ遊技機１）であって、
複数の前記特定領域（第１特定ゲート６１、第２特定ゲート６２、第３特定ゲート６３）と、
該複数の特定領域のいずれかに遊技媒体が進入したときに、進入した特定領域に基づいて、複数種類の特定遊技状態（５Ｒ通常大当り、１０Ｒ通常大当り、１５Ｒ通常大当り、５Ｒ確変大当り、１０Ｒ確変大当り、１５Ｒ確変大当り）のうちいずれかの特定遊技状態に制御する特定遊技制御手段（遊技制御用マイクロコンピュータ５６０、図１５のＳ７２〜Ｓ７４、図１６のＳ１３５Ａ，Ｓ１４１、図１７のＳ４１１〜Ｓ４１５）と、
前記複数の特定領域の上流側に設けられ、遊技媒体の流下方向を調整可能な流下方向調整手段（釘８）とを備えた。