(57)【要約】  カラーフィルターや配線基板といった電子デバイスを製作するのに好適なインクジェットインクの受容層を提供する。  非吸収性基材上に塗工した紫外線硬化樹脂組成物から形成されて、インクジェットインクをインクジェット装置で吐出してパターン状の印刷模様を得るのに用いるインクジェットインクの受容層であって、紫外線硬化樹脂組成物は、（Ａ）溶剤、（Ｂ）重量平均分子量が1,000〜50,000の紫外線硬化樹脂、（Ｃ）分子内にアクリル基を三つ以上有して、重量平均分子量が150〜30,000の液状アクリルモノマー又はオリゴマー、及び（Ｄ）光重合開始剤を必須成分として含有し、該紫外線硬化樹脂組成物を基材上に塗工し、乾燥させた後、選択的に紫外線を照射して、インクジェットインクを吐出する紫外線未照射部と、紫外線照射部とを備えるようにしたインクジェットインク受容層である。【特許請求の範囲】
【請求項１】
非吸収性基材上に塗工した紫外線硬化樹脂組成物から形成されて、インクジェットインクをインクジェット装置で吐出してパターン状の印刷模様を得るのに用いるインクジェットインクの受容層であって、
紫外線硬化樹脂組成物は、（Ａ）溶剤、（Ｂ）重量平均分子量が1,000〜50,000の紫外線硬化樹脂、（Ｃ）分子内にアクリル基を三つ以上有して、重量平均分子量が150〜30,000の液状アクリルモノマー又はオリゴマー、及び（Ｄ）光重合開始剤を必須成分として含有し、該紫外線硬化樹脂組成物を基材上に塗工し、乾燥させた後、選択的に紫外線を照射して、インクジェットインクを吐出する紫外線未照射部と、紫外線照射部とを備えるようにしたことを特徴とするインクジェットインク受容層。
【請求項２】
（Ａ）溶剤、（Ｂ）紫外線硬化樹脂、（Ｃ）分子内にアクリル基を三つ以上有するアクリルモノマー又はオリゴマー、及び（Ｄ）光重合開始剤の各成分の全組成物質量に対する質量比率は、（Ａ）50〜90質量%、（Ｂ）3〜30質量%、（Ｃ）0.5〜20質量%、及び（Ｄ）0.1〜10質量%である請求項１に記載のインクジェットインク受容層。
【請求項３】
（Ｂ）紫外線硬化樹脂として、下記一般式（I-1）で表される樹脂を（Ｂ）成分中に50質量%以上含む請求項１又は２に記載のインクジェットインク受容層。
2013183445.tif 000015
（但し、Ｗは下記一般式（I-2）で表されるビスフェノール類誘導体を示し、Ｙは４価のカルボン酸残基を示す。Ｇは下記一般式（I-3）又は（I-4）で表される置換基を示し、Ｚは水素原子又は下記一般式（I-5）で表される置換基である。ｎは1〜20の数を表す。）
2013183445.tif 000016
（但し、R1、R2、R3、及びR4は、独立に水素原子、炭素数1〜6のアルキル基、ハロゲン原子又はフェニル基を示す。Ｘは−CO−、−SO2−、−C（CF3）2−、−Si（CH3）2−、−CH2−、−C（CH3）2−、−S−、−O−、9，9−フルオレンジイル基又は直結合を示し、ｍは0〜10の数を表す。）
2013183445.tif 000017
（但し、R6は炭素数2〜22の2価のアルキレンまたはアルキルアリーレン基、R7は水素原子またはメチル基、R8は炭素数2〜20の2価の脂肪族または芳香族炭化水素基、pは0〜60の数を表す。）
2013183445.tif 000018
（但し、Ｌは２又は３価のカルボン酸残基、qは1又は2である。）
【請求項４】
（Ｅ）表面調整剤としてフッ素原子を有する化合物を、全組成物質量に対する質量比率で0.001〜1質量%含有する請求項１〜３のいずれかに記載のインクジェットインク受容層。
【請求項５】
（Ａ）溶剤として、アルコール系、ケトン系、エーテル系、若しくはエステル系の有機溶剤、又は、液状アクリルモノマー、液状メタクリルモノマー、若しくは液状エポキシモノマーの反応性希釈剤を含有する請求項１〜４のいずれかに記載のインクジェットインク受容層。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、インクジェット装置で吐出したインクジェットインクからパターン状の印刷模様を得るのに適したインクジェットインクの受容層に関し、詳しくは、非吸収性基材上に塗工した紫外線硬化樹脂組成物に選択的紫外線照射を行い、紫外線未照射部にインクジェットインクを吐出して良好なパターン状の印刷模様が得られるようにしたインクジェットインクの受容層に関する。
【背景技術】
【０００２】
インクジェットプリンターなどに代表されるインクジェット法は、従来の紙媒体への出力手段としてのみならず、例えばカラーフィルターにおける各画素の形成や、導電性インキを吐出してプリント配線基板を作製するなど、近年では、半導体デバイス等の電子デバイス分野における利用も高まっている。これは、インクジェット法が、ノズルから吐出される液滴の量や、吐出位置を制御する点で優れていることに起因するものであり、今後さまざまな分野でその利用が広がることが予想される。【０００３】
インクジェットプリンターなどから吐出されるインクを支持媒体（基材）に吸着、固定を促すために受容層を利用することがあり、市販のインクジェットプリンター専用紙やインクジェットプリンター専用オーバーヘッドプロジェクターシートの印刷面などにおいても、このインクジェット受容層（インクジェットインク受容層）が形成され、それによってにじみの少ない鮮明な印刷物を作成することが出来る（例えば、特許文献１参照）。【０００４】
先にも述べた通り、インクジェット法の利用は民生用のインクジェットプリンターに留まらず、産業用途への応用も展開されている。例えば、特許文献２のように表示装置用カラーフィルターの製造を製造する技術として、インクジェット受容層の上にマトリックス状遮光層を形成し、そのマトリックス状遮光層の間にインクジェット法によりパターン状着色層を形成する方法がある。この場合、インクジェット受容層は、着色層形成用インクの固定化、狙い格子の外へのインクの拡散防止など、パターン状着色層の形成に重要な役割を果たす。【０００５】
また、特許文献３では、より画素間の混色を防ぐ技術が紹介されている。すなわち、インクジェット受容層を紫外線硬化樹脂で作成し、マトリックス状遮光層の上部に存在するインクジェット受容層のみをパターンマスクを用いて露光・硬化させることで擬似的に遮光層厚みを厚くし、着色層形成用インクの拡散防止を図っている。しかしながら、色特性向上のためにより多くの着色層形成用インクを充填しようとしても、インクジェット受容層の能力以上のインクを充填することが出来ない。【０００６】
一方で、インクジェット法により配線基板などを作成する場合、特に微細パターンを形成するのにインクジェット受容層が用いられる。特許文献４などが例として挙げられ、この場合のインクジェット受容層は基板表面のぬれ性を制御する。すなわち、受容層を備えた基板表面に深紫外線を照射して基板表面のぬれ性を制御し、ぬれ易い部分にインクジェット装置により導電性インクを吐出し、配線を形成する。しかしながら、この技術では深紫外線（波長としておよそ300nm以下）を相当量照射しなければならず、量産利用には難しい。また、この場合においても良導電性発現を目的に導電性インクの吐出量を増やすことは難しい。【０００７】
ここで、インクジェットプリンター専用紙・シートに形成されるインクジェット受容層は、バインダー成分としてポリビニルアルコールやポリエステル、ポリウレタン、アクリル系樹脂のエマルションなどを含有し、更にシリカなどの無機粒子で構成されるものが大多数である（例えば、特許文献１、特許文献２参照）。しかしながら、これらの受容層では、耐水性などが必要な場合には、その信頼性の点で電子部品への応用は難しい。【０００８】
信頼性を担保する技術として、例えば、特許文献５のように光硬化樹脂により形成されたインクジェット受容層が挙げられる。この場合、印刷・印字後に光照射することで耐水性に富んだ印刷物を作成することが出来る。しかしながら、電子部品用途では印字・印刷分野よりも高い耐熱性を求められることなどから、本技術の電子部品への応用展開は困難である。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００９】
【特許文献１】特開平１１−２１６９４５号公報
【特許文献２】特開２０００−００９９２０号公報
【特許文献３】特開２００３−８４１１５号公報
【特許文献４】特開２００５−３１０９６２号公報
【特許文献５】特開２００４−２７６３２２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
以上のように、インクジェット法による半導体デバイス等の電子デバイス分野における利用は検討段階にあるが、一般的に使用されるほどの普及期に入ったとは言いがたい。すなわち、十分な性能（例えばカラーフィルターであれば色濃度であり、配線であれば導電性であり、これらに加えて、更に電子デバイスとして必要な信頼性も兼ねる）を持ったマイクロメートル単位の微細パターンを如何に作成するかが依然として障害となっている。そこで、本発明の目的は、カラーフィルターや配線基板といった電子デバイスを製作するのに好適なインクジェットインクの受容層を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明者らは、上記課題を解決するために鋭意検討した結果、非吸収性基材上に塗工した所定の紫外線硬化樹脂組成物を選択的に紫外線照射して、紫外線未照射部にインクジェットインクを吐出することで、インク量を増しても良好なパターン状の印刷模様が得られることを見出し、本発明を完成させた。すなわち、本発明の要旨は以下のとおりである。【００１２】
（１）非吸収性基材上に塗工した紫外線硬化樹脂組成物から形成されて、インクジェットインクをインクジェット装置で吐出してパターン状の印刷模様を得るのに用いるインクジェットインクの受容層であって、
紫外線硬化樹脂組成物は、（Ａ）溶剤、（Ｂ）重量平均分子量が1,000〜50,000の紫外線硬化樹脂、（Ｃ）分子内にアクリル基を三つ以上有して、重量平均分子量が150〜30,000の液状アクリルモノマー又はオリゴマー、及び（Ｄ）光重合開始剤を必須成分として含有し、該紫外線硬化樹脂組成物を基材上に塗工し、乾燥させた後、選択的に紫外線を照射して、インクジェットインクを吐出する紫外線未照射部と、紫外線照射部とを備えるようにしたことを特徴とするインクジェットインク受容層。【００１３】
（２）（Ａ）溶剤、（Ｂ）紫外線硬化樹脂、（Ｃ）分子内にアクリル基を三つ以上有するアクリルモノマー又はオリゴマー、及び（Ｄ）光重合開始剤の各成分の全組成物質量に対する質量比率は、（Ａ）50〜90質量%、（Ｂ）3〜30質量%、（Ｃ）0.5〜20質量%、及び（Ｄ）0.1〜10質量%である（１）に記載のインクジェットインク受容層。【００１４】
（３）（Ｂ）紫外線硬化樹脂として、下記一般式（I-1）で表される樹脂を（Ｂ）成分中に50質量%以上含む（１）又は（２）に記載のインクジェットインク受容層。
2013183445.tif 000002
（但し、Ｗは下記一般式（I-2）で表されるビスフェノール類誘導体を示し、Ｙは４価のカルボン酸残基を示す。Ｇは下記一般式（I-3）又は（I-4）で表される置換基を示し、Ｚは水素原子又は下記一般式（I-5）で表される置換基である。ｎは1〜20の数を表す。）
2013183445.tif 000003
（但し、R1、R2、R3、及びR4は、独立に水素原子、炭素数1〜6のアルキル基、ハロゲン原子又はフェニル基を示す。Ｘは−CO−、−SO2−、−C（CF3）2−、−Si（CH3）2−、−CH2−、−C（CH3）2−、−S−、−O−、9，9−フルオレンジイル基又は直結合を示し、ｍは0〜10の数を表す。）
2013183445.tif 000004
（但し、R6は炭素数2〜22の2価のアルキレンまたはアルキルアリーレン基、R7は水素原子またはメチル基、R8は炭素数2〜20の2価の脂肪族または芳香族炭化水素基、pは0〜60の数を表す。）
2013183445.tif 000005
（但し、Ｌは２又は３価のカルボン酸残基、qは1又は2である。）【００１５】
（４）（Ｅ）表面調整剤としてフッ素原子を有する化合物を、全組成物質量に対する質量比率で0.001〜1質量%含有する（１）〜（３）のいずれかに記載のインクジェットインク受容層。【００１６】
（５）（Ａ）溶剤として、アルコール系、ケトン系、エーテル系、若しくはエステル系の有機溶剤、又は、液状アクリルモノマー、液状メタクリルモノマー、若しくは液状エポキシモノマーの反応性希釈剤を含有する（１）〜（４）のいずれかに記載のインクジェットインク受容層。
【発明の効果】
【００１７】
本発明における受容層によれば、インクジェット法によって電子デバイスなどを製作する場合に微細パターンの形成が可能になり、しかも、インク量を増しても良好なパターン状の印刷模様が得られるようになる。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】図１は、紫外線硬化樹脂組成物を非吸収性基材上に塗工し、乾燥させた後に、選択的紫外線照射してマトリックスパターンを形成するときの概要を示す説明図である。
【図２】図２は、マトリックスパターンを形成した後の受容層の様子を示す平面説明図である。
【図３】図３は、実施例１で得たインクジェット受容層に対して、インクジェットインクを吐出した後の状態を示す顕微鏡写真である。
【図４】図４は、比較例１で得たインクジェット受容層に対して、インクジェットインクを吐出した後の状態を示す顕微鏡写真である。
【発明を実施するための形態】
【００１９】
以降、本発明を詳細に説明する。
先ず、本発明におけるインクジェットインクの受容層を作成するのに使用する紫外線硬化樹脂組成物について説明する。
【００２０】
＜紫外線硬化樹脂組成物＞
本発明における紫外線硬化樹脂組成物は、（Ａ）溶剤、（Ｂ）紫外線硬化樹脂、（Ｃ）分子内にアクリル基を三つ以上有するアクリルモノマー又はオリゴマー、及び（Ｄ）光重合開始剤を必須成分とする。各成分の全組成物質量に対する質量比率は、（Ａ）50〜90質量%、（Ｂ）3〜30質量%、（Ｃ）0.5〜20質量%、（Ｄ）0.1〜10質量%であるのが好ましい。
【００２１】
また、上記（Ａ）〜（Ｄ）成分に加えて、（Ｅ）表面調整剤としてフッ素原子を有する化合物を全組成物重量に対する重量比率で0.001〜1質量%含有するようにしてもよい。更に、その他の成分として、必要に応じて様々なものを添加してもかまわない。例えば、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂などのバインダー樹脂や顔料や染料のような色材、硬化促進剤、熱重合禁止剤、紫外線吸収剤、可塑剤、充填材、界面活性剤、消泡剤などの添加剤などを添加することができる。
【００２２】
次に、紫外線硬化樹脂組成物を形成する（Ａ）溶剤について説明する。
【００２３】
＜（Ａ）溶剤＞
本発明における紫外線硬化樹脂組成物に使用する溶剤としては、例えば、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、エチレングリコール、プロピレングリコール等のアルコール類、α−若しくはβ−テルピネオール等のテルペン類等、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、Ｎ−メチル−２−ピロリドン等のケトン類、トルエン、キシレン、テトラメチルベンゼン等の芳香族炭化水素類、セロソルブ、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、カルビトール、メチルカルビトール、エチルカルビトール、ブチルカルビトール、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル等のグリコールエーテル類、酢酸エチル、酢酸ブチル、セロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、ブチルセロソルブアセテート、カルビトールアセテート、エチルカルビトールアセテート、ブチルカルビトールアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート等の酢酸エステル類等が挙げられる。これらの溶剤は単独で使用してもかまわないし、二種類以上を組み合わせて使用してもかまわない。
【００２４】
上述したように、（Ａ）成分の全組成物重量に対する重量比率は50〜90質量%であることが望ましい。50質量%未満の場合、組成物の粘度が高すぎるためインクジェット受容層の作成が難しい。90質量%超の場合、組成物の固形成分が少なすぎるためインクジェット受容層の作成が難しい。
【００２５】
次に、紫外線硬化樹脂組成物を形成する（Ｂ）紫外線硬化樹脂について説明する。
【００２６】
＜（Ｂ）紫外線硬化樹脂＞
本発明における紫外線硬化樹脂組成物に使用する紫外線硬化樹脂としては、分子内に重合性不飽和結合を有し、（Ｃ）成分と重合反応を起こすものであればよい。たとえば、側鎖に（メタ）アクリル酸エステル基を有する（メタ）アクリル樹脂や末端に（メタ）アクリル基を有するポリエチレン樹脂やポリウレタン樹脂、側鎖や末端にマレイミド構造を持つ樹脂などが挙げられる（ここで、（メタ）アクリルとは、メタクリルまたはアクリルを表す）。
【００２７】
さらに、（Ｂ）紫外線硬化樹脂として下記一般式（I-1）で表される樹脂を（Ｂ）成分中に50質量%以上含むことが望ましい。
2013183445.tif 000006
（但し、Ｗは下記一般式（I-2）で表されるビスフェノール類誘導体を示し、Ｙは４価のカルボン酸残基を示す。Ｇは下記一般式（I-3）または（I-4）で表される置換基を示し、Ｚは水素原子または下記一般式（I-5）で表される置換基である。nは1〜20の数を表す。）
2013183445.tif 000007
（但し、R1、R2、R3、及びR4は、独立に水素原子、炭素数1〜6のアルキル基、ハロゲン原子又はフェニル基を示す。Xは−CO−、−SO2−、−C（CF3）2−、−Si（CH3）2−、−CH2−、−C（CH3）2−、−S−、−O−、9，9−フルオレンジイル基又は直結合を示し、ｍは0〜10の数を表す。）
2013183445.tif 000008
（但し、R6は炭素数2〜22の２価のアルキレンまたはアルキルアリーレン基、R7は水素原子またはメチル基、R8は炭素数2〜20の２価の脂肪族または芳香族炭化水素基、pは0〜60の数を表す。）
2013183445.tif 000009
（但し、Lは2又は3価のカルボン酸残基、qは1又は2である。）
【００２８】
一般式（I-1）で表される紫外線硬化樹脂の好ましい製造方法について詳細に説明する。まず、一般式（I-6）で表される重合性不飽和基を有するジオール化合物を、ビスフェノール類とエピクロロヒドリン等との反応で得られる２個のグリシジルエーテル基を有するエポキシ化合物、特に好ましくは下記一般式（I-7）で表されるエポキシ化合物と、下記一般式（I-8）及び／又は（I-9）で表される末端が水酸基またはカルボキシル基である（メタ）アクリル酸誘導体とを反応さることで合成する。
2013183445.tif 000010
（但し、R1、R2、R3、及びR4は、独立に水素原子、炭素数1〜6のアルキル基、ハロゲン原子又はフェニル基を示す。Xは−CO−、−SO2−、−C（CF3）2−、−Si（CH3）2−、−CH2−、−C（CH3）2−、−S−、−O−、9，9−フルオレンジイル基又は直結合を示し、Ｇは下記一般式（I-3）または（I-4）で表される置換基を示し、ｍは0〜10の数を表す。）
2013183445.tif 000011
（但し、R6は炭素数2〜22の２価のアルキレンまたはアルキルアリーレン基、R7は水素原子またはメチル基、R8は炭素数2〜20の２価の脂肪族または芳香族炭化水素基、pは0〜60の数を表す。）
2013183445.tif 000012
（但し、R6は炭素数2〜22の２価のアルキレンまたはアルキルアリーレン基、R7は水素原子またはメチル基、R8は炭素数2〜20の２価の脂肪族または芳香族炭化水素基、pは0〜60の数を表す。）
【００２９】
このようなエポキシ化合物と（メタ）アクリル酸誘導体との反応は、公知の方法を使用することができ、例えばエポキシ化合物１モルに対し、約２モルの（メタ）アクリル酸誘導体を使用して行われることが製造上、有利である。この反応で得られる反応物は重合性不飽和基を含有するジオール化合物であり、上記一般式（I-6）で表される。
【００３０】
一般式（I-1）の紫外線硬化樹脂を与える好ましいビスフェノール類としては、次のようなものが挙げられる。ビス（４−ヒドロキシフェニル）ケトン、ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル）ケトン、ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジクロロフェニル）ケトン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルホン、ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル）スルホン、ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジクロロフェニル）スルホン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパン、ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル）ヘキサフルオロプロパン、ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジクロロフェニル）ヘキサフルオロプロパン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）ジメチルシラン、ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル）ジメチルシラン、ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジクロロフェニル）ジメチルシラン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）メタン、ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジクロロフェニル）メタン、ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジブロモフェニル）メタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジクロロフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３−クロロフェニル）プロパン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）エーテル、ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル）エーテル、ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジクロロフェニル）エーテル等である。また、Ｘが９，９−フルオレニル基である９，９−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−クロロフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−ブロモフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−フルオロフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジクロロフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジブロモフェニル）フルオレン等が好ましく挙げられる。更には、４，４’−ビフェノール、３，３’−ビフェノール等も好ましく挙げられる。
【００３１】
一般式（I-1）の紫外線硬化樹脂は、上記のようなビスフェノール類から誘導されるエポキシ化合物から得ることができるが、かかるエポキシ化合物の他にフェノールノボラック型エポキシ化合物や、クレゾールノボラック型エポキシ化合物等も２個のグリシジルエーテル基を有する化合物を有意に含むものであれば使用することができる。また、ビスフェノール類をグリシジルエーテル化する際に、上記一般式（I-7）で表されるオリゴマー単位が混入することになるが、この一般式（I-7）におけるｍの平均値が０〜１０、好ましくは０〜２の範囲であれば、本樹脂組成物の性能に問題はない。
【００３２】
次に、一般式（I-1）の紫外線硬化樹脂を与える上記一般式（I-8）及び（I-9）を由来とする上記一般式（I-3）又は（I-4）の置換基を形成する（メタ）アクリル酸誘導体について詳細に説明する。
【００３３】
一般式（I-3）、（I-4）、（I-8）及び（I-9）は重合性不飽和基と少なくとも１つ以上のエステル結合を有し、これらにおいてＲ６は炭素数２〜２２のアルキレンまたはアルキルアリーレン基を示す。アルキレンに関しては直鎖又は分岐のいずれでもよく、エチレン、プロピレン、イソプロピレン、ｎ−ブチレン、イソブチレン、ｓｅｃ−ブチレン、ｔ−ブチレン、ペンチレン、ヘキシレン、へプチレン、オクチレン、ノネン、デシレン、ウンデシレン、ドデシレン、トリデシレン、テトラデシレン、ペンタデシレン、ヘキサデシレン、ヘプタデシレン、オクタデシレン、ノナデシレン、ジデシル、ヘンイコシレン、ドコシレン基などが挙げられ、アルキルアリーレン基に関しては炭素数の範囲内であれば無置換アリーレン基でもよく、例えば、−Ｐｈ−Ｐｈ−（２，２’−ビフェニレン基）、−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｐｈ−（トリフェニレン基）、−Ｐｈ−Ｃ（ＣＨ３）２−Ｐｈ−（ビスフェノールＡ様な残基など）［Ｐｈはフェニレン基を示す］、ｏ，ｍ，ｐ−フェニレン置換されたトルイレン、クレジレン、エチルフェニレン、ｎ−プロピルフェニレン、イソプロピルフェニレン、直鎖又は分岐したブチルフェニレン、ペンチルフェニレン、ヘキシルフェニレン、ヘプチルフェニル、オクチルフェニレン、ノニルフェニレン、デシルフェニレン、ウンデシルフェニレン、ドデシルフェニレン、トリデシルフェニレン、テトラデシルフェニレン、ヘプタデシルフェニレン、ヘキサデシルフェニレン基などが挙げられ、さらに前述したアルキルアリレーン基については、炭素数の範囲を超えない限り２〜４置換されていてもよく、またさらにアルキレン部位は不飽和結合、エーテル結合、エステル結合、アミド結合又はウレタン結合により中断されていてもよい。
【００３４】
また、Ｒ８は炭素数２〜２０の脂肪族または芳香族炭化水素基を示し、例えば、脂肪族炭化水素基に関しては直鎖又は分岐のいずれでもよく、エチレン、プロピレン、イソプロピレン、ｎ−ブチレン、イソブチレン、ｓｅｃ−ブチレン、ｔ−ブチレン、ペンチレン、ヘキシレン、へプチレン、オクチレン、ノネン、デシレン、ウンデシレン、ドデシレン、トリデシレン、テトラデシレン、ペンタデシレン、ヘキサデシレン、ヘプタデシレン、オクタデシレン、ノナデシレン、ジデシル基などが挙げられ、芳香族炭化水素基に関しては炭素数の範囲内であれば無置換体でもよく、例えば、−Ｐｈ−Ｐｈ−（２，２’−ビフェニレン基）、−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｐｈ−（トリフェニレン基）、−Ｐｈ−Ｃ（ＣＨ３）２−Ｐｈ−（ビスフェノールＡ様な残基など）［Ｐｈはフェニレン基を示す］、ｏ，ｍ，ｐ−フェニレン置換されたトルイレン、クレジレン、エチルフェニレン、ｎ−プロピルフェニレン、イソプロピルフェニレン、直鎖又は分岐したブチルフェニレン、ペンチルフェニレン、ヘキシルフェニレン、ヘプチルフェニル、オクチルフェニレン、ノニルフェニレン、デシルフェニレン、ウンデシルフェニレン、ドデシルフェニレン、トリデシルフェニレン、テトラデシルフェニレン基などが挙げられるが、炭素数の範囲を超えない限り２〜４置換されていてもよく、またさらにアルキレン部位は不飽和結合、エーテル結合、エステル結合、アミド結合又はウレタン結合により中断されていてもよい。
【００３５】
また、ｐは０〜６０の数を示しているが、化合物によっては分布が広範囲になることで樹脂性能を低下させる又は硬化物として十分な硬化が付与できないことが懸念され、好ましくは０〜４０、より好ましくは０〜２０の範囲であれば本発明に使用する樹脂としての性能が確実に保持される。
【００３６】
また、上記のような一般式（I-6）で表されるジオール化合物及びそれに続く紫外線硬化樹脂の製造において使用する溶媒、触媒等の反応条件に関しては特に制限されないが、例えば、水酸基を持たず、反応温度より高い沸点を有する溶媒を反応溶媒として用いるのがよく、このような溶媒としては、例えば、エチルセロソルブアセテート、ブチルセロソルブアセテート等のセロソルブ系溶媒や、ジグライム、エチルカルビトールアセテート、ブチルカルビトールアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等の高沸点のエーテル系若しくはエステル系の溶媒や、シクロヘキサノン、ジイソブチルケトン等のケトン系溶媒等であるのがよい。また、使用する触媒としては、例えばテトラエチルアンモニウムブロマイド、トリエチルベンジルアンモニウムクロライド等のアンモニウム塩、トリフェニルホスフィン、トリス（２，６−ジメトキシフェニル）ホスフィン等のホスフィン類等の公知のものを使用することができる。
【００３７】
また、一般式（I-6）で表されるジオール化合物に反応させる酸成分としては、ジオール化合物中の水酸基と反応し得るテトラカルボン酸又はその酸二無水物およびジカルボン酸、トリカルボン酸又はそれらの酸一無水物を使用するのがよい。この酸成分は飽和又は不飽和のどちらでも効果的である。このうち、テトラカルボン酸又はその酸二無水物およびジカルボン酸、トリカルボン酸又はそれらの酸一無水物としては、飽和直鎖炭化水素テトラカルボン酸の酸一および酸二無水物や脂環式テトラカルボン酸の酸一および酸二無水物、芳香族テトラカルボン酸の酸一および酸二無水物等を使用することができる。
【００３８】
ここで、飽和直鎖炭化水素テトラカルボン酸又はその酸二無水物としては、例えば、ブタンテトラカルボン酸、ペンタンテトラカルボン酸、ヘキサンテトラカルボン酸又はその酸二無水物等を挙げることができ、更には飽和環状炭化水素が置換された飽和環状テトラカルボン酸又はその酸二無水物でもよい。
【００３９】
また、脂環式テトラカルボン酸又はその酸二無水物としては、シクロブタンテトラカルボン酸、シクロペンタンテトラカルボン酸、シクロヘキサンテトラカルボン酸、シクロへプタンテトラカルボン酸、ノルボルナンテトラカルボン酸又はその酸二無水物等を挙げることができ、更には飽和炭化水素が置換された脂環式テトラカルボン酸又はその酸二無水物でもよい。また、芳香族テトラカルボン酸又はその酸二無水物としては、ピロメリット酸、ベンゾフェノンテトラカルボン酸、ビフェニルテトラカルボン酸、ビフェニルエーテルテトラカルボン酸、ジフェニルスルホンテトラカルボン酸又はその酸二無水物等を挙げることができる。本発明における酸又はその酸二無水物として好ましくはビフェニルテトラカルボン酸、ベンゾフェノンテトラカルボン酸、ビフェニルエーテルテトラカルボン酸又はその酸二無水物であり、さらに好ましくはビフェニルテトラカルボン酸、ビフェニルエーテルテトラカルボン酸又はその酸二無水物である。これら酸又はその酸二無水物は、２種以上を併せて使用することもできる。
【００４０】
また、飽和直鎖炭化水素ジカルボン酸及びトリカルボン酸（又はそれらの酸無水物）としては、例えば、コハク酸、アセチルコハク酸、アジピン酸、アゼライン酸、シトラリンゴ酸、マロン酸、グルタル酸、クエン酸、酒石酸、オキソグルタル酸、ピメリン酸、セバシン酸、スベリン酸、ジグリコール酸（又はそれらの酸無水物）等を挙げることができ、更には、炭化水素基が置換された直鎖炭化水素ジカルボン酸及びトリカルボン酸（又はそれらの酸無水物）でもよい。また、飽和環状炭化水素ジカルボン酸及びトリカルボン酸（又はそれらの酸無水物）としては、例えば、ヘキサヒドロフタル酸、シクロブタンジカルボン酸、シクロペンタンジカルボン酸、ノルボルナンジカルボン酸、ヘキサヒドロトリメリット酸（又はそれらの酸無水物）等を挙げることができ、更には、飽和炭化水素が置換された脂環式ジカルボン酸及びトリカルボン酸（又はそれらの酸無水物）でもよい。また、不飽和ジカルボン酸及びトリカルボン酸（又はそれらの酸無水物）としては、例えば、マレイン酸、イタコン酸、フタル酸、テトラヒドロフタル酸、メチルエンドメチレンテトラヒドロフタル酸、クロレンド酸、トリメリット酸（又はそれらの酸無水物）を挙げることができる。これらのなかで、好ましくはコハク酸、イタコン酸、テトラヒドロフタル酸、ヘキサヒドロトリメリット酸、フタル酸、トリメリット酸であり、さらに好ましくはコハク酸、イタコン酸、テトラヒドロフタルである。これら酸又はその酸一無水物は、２種以上を併せて使用することもできる。
【００４１】
また、上記のジオール化合物と酸成分との反応の方法については、特に限定されるものでなく、例えば、反応温度が90〜140℃でジオール化合物とテトラカルボン酸二無水物を反応させるような公知の方法を採用することができる。好ましくは、化合物の末端がカルボン酸基となるように、一般式（I-6）で表される重合性不飽和基を有するジオール化合物（di olと短縮表記する）、テトラカルボン酸又はその酸二無水物（tetra acidと短縮表記する）、ジカルボン酸、トリカルボン酸又はその酸一無水物（tri/di acidと短縮表記する）とのモル比がdi ol：tetra acid：tri/di acid＝１：０．２〜０．５：０．２〜１．０となるように定量的に反応させることが望ましい。テトラカルボン酸又はその酸二無水物のモル比が０．２未満の場合は、未反応ジオール化合物の含有量が増大して紫外線硬化樹脂組成物の経時安定性低下が懸念される。一方、モル比が０．５超の場合は、一般式（I-6）で表される化合物の末端が酸無水物となるため、また、未反応酸二無水物の含有量が増大して異物として存在してしまうために樹脂の期待される性能が発現されない可能性がある。また、ジカルボン酸、トリカルボン酸またはその酸一無水物のモル比が０．２未満の場合は、未反応ジオール化合物の含有量が増大して紫外線硬化樹脂組成物の経時安定性低下が懸念される。一方、モル比が１．０超の場合は、一般式（I-6）で表される化合物の末端が当該酸または酸一無水物由来となり、得られる樹脂（一般式（I-1）で表される樹脂）の分子量が低くなるために樹脂の期待される性能が発現されない可能性がある。また、上記のジオール化合物と酸成分との反応温度としては、90〜130℃で仕込み原料を均一に溶解させると共に反応を行い、引き続いて40〜80℃で反応及び熟成を行うことが好ましい。尚、下記で言う（Ｃ）成分の場合を含めて、本発明で言う樹脂の分子量は、重量平均分子量を表す。また、この一般式（I-1）で表される化合物の市販品を例示すると、例えば新日鐵化学製V-259ME等が挙げられる。
【００４２】
また、（Ｂ）成分の全組成物重量に対する重量比率は3〜30質量%であることが望ましい。3質量%未満の場合、組成物に紫外線を照射した際の硬化性が低く、紫外線照射部と未照射部の溶剤吸収量の差が生まれない。30質量%超の場合、組成物の粘度が高くなるためインクジェット受容層の作成が困難になる。更に、（Ｂ）成分の分子量は1,000〜50,000の範囲であり、より好ましくは、1,000〜10,000の範囲である。この範囲より溶剤への溶解性がなくなり受容層として製膜が難しく、小さいものは受容層としての成膜性に乏しい。
【００４３】
また、上述したように、（Ｂ）成分中には一般式（I-1）で表される樹脂を（Ｂ）成分中に50質量%以上含むことが望ましい。これにより、電子部品としての使用に十分な信頼性を担保することが出来る。
【００４４】
次に、紫外線硬化樹脂組成物を形成する（Ｃ）分子内にアクリル基を三つ以上有するアクリルモノマーまたはオリゴマーについて説明する。
【００４５】
＜（Ｃ）分子内にアクリル基を三つ以上有するアクリルモノマーまたはオリゴマー＞
本発明における紫外線硬化樹脂組成物に使用するアクリルモノマーとしては、例えばトリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールエタントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、グリセリントリアクリレート、トリスアクリロイルオキシエチルフォスフェート、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート等のアクリル酸エステル類やこれらのアルキレンオキシドもしくはカプロラクトン付加物などを挙げることができる。また、アクリルオリゴマーとしては、多分岐型（ハイパーブランチ型もしくはデンドリマー型）アクリレートを指し、V#1000、V#1020、STAR-501（以上、大阪有機化学工業）、CN2302、CN2303、CN2304（以上、サートマージャパン）などが挙げられる。これらの化合物はその１種のみを単独で使用できるほか、２種以上を併用して使用することもできる。
【００４６】
（Ｃ）成分の全組成物重量に対する質量比率は0.5〜20質量%であることが望ましい。0.5質量%未満の場合、組成物に紫外線を照射した際の硬化性が低く、紫外線照射部と未照射部の溶剤吸収量の差が生まれない。20質量%超の場合、インクジェット受容層を形成した際、タック性が発現してインクジェット受容層付き基板のハンドリング性などに問題がある。また、（Ｃ）成分の重量平均分子量は150〜30,000の範囲である。この範囲より大きいと溶剤吸収能力が小さくなり、小さいものは存在しない。
【００４７】
次に、紫外線硬化樹脂組成物を形成する（Ｄ）光重合開始剤について説明する。
【００４８】
＜（Ｄ）光重合開始剤＞
本発明における紫外線硬化樹脂組成物に使用する光重合開始剤としては、ベンゾフェノン、ミヒラーケトン、N,N’-テトラメチル-4,4’-ジアミノベンゾフェノン、4-メトキシ-4’-ジメチルアミノベンゾフェノン、4,4’-ジエチルアミノベンゾフェノン、2-エチルアントラキノン、フェナントレン等の芳香族ケトン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインフェニルエーテル等のベンゾインエーテル類、メチルベンゾイン、エチルベンゾイン等のベンゾイン、2-(o-クロロフェニル)-4,5-フェニルイミダゾール2量体、2-(o-クロロフェニル)-4,5-ジ(m-メトキシフェニル)イミダゾール2量体、2-(o-フルオロフェニル)-4,5-ジフェニルイミダゾール2量体、2-(o-メトキシフェニル)-4,5-ジフェニルイミダゾール2量体、2,4,5-トリアリールイミダゾール2量体、2-ベンジル-2-ジメチルアミノ-1-(4-モルフォリノフェニル)−ブタノン、2-トリクロロメチル−5−スチリル−1,3,4−オキサジアゾール、2−トリクロロメチル-5-(p-シアノスチリル)-1,3,4-オキサジアゾール、2-トリクロロメチル-5-(p-メトキシスチリル)-1,3,4-オキサジアゾール等のハロメチルチアゾール化合物、2,4,6-トリス（トリクロロメチル）-1,3,5-トリアジン、2-メチル-4,6-ビス（トリクロロメチル）-1,3,5-トリアジン、2-フェニル-4、6-ビス（トリクロロメチル）-1,3,5-トリアジン、2-(4-クロロフェニル)-4,6-ビス（トリクロロメチル）-1,3,5-トリアジン、2-(4-メトキシフェニル)-4,6-ビス（トリクロロメチル）-1,3,5-トリアジン、2-(4-メトキシナフチル)-4,6-ビス（トリクロロRメチル）-1,3,5-トリアジン、2-(4-メトキシスチリル)-4,6-ビス（トリクロロメチル）-1,3,5-トリアジン、2-(3,4,5-トリメトキシスチリル)-4,6-ビス（トリクロロメチル）-1,3,5-トリアジン、2-(4-メチルチオスチリル)- 4,6-ビス（トリクロロメチル）-1,3,5-トリアジン等のハロメチル−Ｓ−トリアジン系化合物、2,2-ジメトキシ-1,2-ジフェニルエタン-1-オン、2-メチル-1-[4-(メチルチオ)フェニル]-2-モルフォリノプロパノン、2-ベンジル-2-ジメチルアミノ-1-[4-モルフォリノフェニル]-ブタノン-1などのアミノアルキルフェニルケトン系化合物、ビスアシルフォスフィンオキサイド類、1-ヒドロキシ-シクロヘキシル-フェニルケトンなどのヒドロキシアルキルフェニルケトン系化合物等が挙げられる。
【００４９】
これらの光重合開始剤は、単独又は２種以上を混合して使用することができる。また、それ自体では光重合開始剤や増感剤として作用しないが、上記の化合物と組み合わせて用いることにより、光重合開始剤や増感剤の能力を増大させ得るような化合物を添加することもできる。このような化合物としては、例えばベンゾフェノンと組み合わせて使用すると効果のあるトリエタノールアミン等の第３級アミンを挙げることができる。
【００５０】
（Ｄ）成分の全組成物重量に対する重量比率は0.1〜10質量%であることが望ましい。0.1質量%未満の場合、組成物に紫外線を照射した際の硬化性が低く、紫外線照射部と未照射部の溶剤吸収量の差が生まれない。10質量%超の場合、（Ｂ）成分や（Ｃ）成分の量が相対的に少なくなるため硬化反応が進み難く、熱的信頼性に欠いた受容層となる。
【００５１】
次に、紫外線硬化樹脂組成物を形成する（Ｅ）表面調整剤としてフッ素原子を有する化合物について説明する。
【００５２】
＜（Ｅ）表面調整剤としてフッ素原子を有する化合物＞
本発明における紫外線硬化樹脂組成物には、表面調整剤としてフッ素原子を有する化合物を配合すると良い。これに用いる化合物として、例えば、DIC社製のメガファックシリーズやディフェンサシリーズ、AGCセイミケミカル社製のサーフロンシリーズ、ネオス社製のフタージェントシリーズ、ダイキン社製のオプツールシリーズなどが挙げられる。これらの化合物は、二種類以上混合して使用すると異物などが発生する可能性が高く、単独での使用が望ましい。本化合物群を添加した紫外線硬化樹脂組成物より形成されたインクジェット受容層は、フッ素原子の働きにより表面が撥液化される。そのため、インクジェット印刷すると未添加の場合と比較して紫外線照射部分と未照射部分の境界線がよりクリア（鮮明）となる。
【００５３】
（Ｅ）成分の全組成物重量に対する質量比率は0.001〜1質量%であることが望ましい。0.001質量%未満の場合、上記のような添加の効果は見られない。また、必要な性能上1質量%超の添加は必要なく、（Ｅ）成分はその他の成分との相溶性も比較的悪いため多量の添加は好ましくない。
【００５４】
＜（Ｆ）その他の成分＞
本発明の受容層を形成するための紫外線硬化樹脂組成物において、必要に応じて上記（Ａ）〜（Ｅ）以外の成分を添加してもかまわない。その他の成分として、染料や顔料などの色材、ポリエステル樹脂やポリウレタン樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂などの光反応性のないバインダー樹脂、アルミナやマイカ、シリカのような充填剤、レベリング剤や消泡剤、可塑剤、カップリング剤、硬化剤、紫外線吸収剤、光安定剤、酸化防止剤、蛍光増白剤などの添加剤を適宜含有しても良い。
【００５５】
次に、本発明におけるインクジェット受容層の作成方法について説明する。本発明におけるインクジェット受容層は、（1）紫外線硬化樹脂組成物を非吸収性基材上に塗工、（2）紫外線硬化樹脂組成物の乾燥、及び（3）選択的紫外線照射を少なくとも含む工程から形成される。概略図を図１に示す。図１は選択的紫外線照射として、マトリックスパターンを作成したときの例であり、上記工程（1）、（2）、（3）を順に施した様子を示す。図２は上記工程（1）、（2）、（3）後の受容層の様子を示す平面図である。
【００５６】
次に、インクジェット受容層を形成する基材について説明する。
【００５７】
＜非吸収性基材＞
本発明における非吸収性基材とは、ポリエチレンやポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリイミド、フッ素樹脂、シリコーン樹脂などの有機基材や、ガラスやシリコンウエハー、鉄板、銅箔などの無機基材、ITO（インジウムスズ酸化物）などの薄膜がポリエチレンテレフタレートフィルム上などに形成された複合基材などが挙げられる。本基材は作成する電子デバイスなどの特性や紫外線硬化樹脂組成物の塗工方法によって選ばれるものであって、紙や布の様に紫外線硬化樹脂組成物の溶剤を吸収するものではない。
【００５８】
次に、紫外線硬化樹脂組成物を基材に塗工する方法について説明する。
【００５９】
＜塗工方法＞
紫外線硬化樹脂組成物の塗工方法には特に制限はなく、公知の方法、例えば、スピンコート法、ディップコート法、バーコート法、ブレードコート法、エアナイフコート法、ロールコート法、スクリーン印刷法などの何れの方法も採用することができ、塗工する基材、塗工厚に応じて適宜選択される。塗工厚は、乾燥膜厚に換算して1.0〜100μmが望ましい。さらに望ましくは5.0〜50μmである。塗工厚が乾燥膜厚に換算して1μm未満の場合、作成したインクジェット受容層が所望の性能を発揮しないおそれがある。また、インクジェット受容層の性能上、乾燥膜厚に換算して100μmを超える厚みまでは必要とされない。
【００６０】
次に、塗工した紫外線硬化樹脂組成物の乾燥方法について説明する。
【００６１】
＜乾燥方法＞
紫外線硬化樹脂組成物の乾燥方法には、オーブン、ホットプレート等による加熱、真空乾燥又はこれらの組み合わせることによって行われる。本発明における乾燥方法は、紫外線硬化樹脂組成物中の（Ａ）溶剤の種類や基材の種類によって適宜選択される。ただし、乾燥温度としては45〜120℃が望ましい。45℃未満の場合、乾燥膜中に溶剤が残留してしまう可能性があり、120℃超の場合、組成物中の活性基が失活してしまう可能性がある。乾燥時間としては、例えば1〜10分間程度行わればよい。
【００６２】
＜選択的紫外線照射＞
本発明において用いる紫外線とは、主に250nmから400nmの波長を含む電磁波である。本発明で使用する紫外線光源としては、高圧水銀灯やメタルハライドランプ、UV-LEDランプなどが挙げられるが、特に制限はない。次に、これら光源を用いて紫外線を紫外線硬化樹脂組成物の乾燥塗膜に選択的に照射する。ここで使用する選択的に紫外線照射を行うとは、例えば、配線形成を目的とした場合、導電性インクにより導電膜を形成しない部分、すなわち、回路配線パターンの非導電部分に対して紫外線照射を行うことであり、例えばカラーフィルターの作成を目的とした場合、着色用インクにより色画素を形成しない部分、すなわち、マトリックスパターンの隔壁部分（ブラックマトリックスが形成される部分）に紫外線照射を行うことである。選択的紫外線照射の方法としては、レンズなどを用いて紫外線を集光させこれにより直接的に行う方法やフォトマスクなどを用いる方法などが挙げられる。露光量は10〜5000mJ/cm2が望ましい。10mJ/cm2未満の場合、紫外線照射の影響が小さくインク受容層の溶剤吸収量にほとんど差が無く、反対に5000mJ/cm2超の場合、露光時間が長くなり生産性が悪くなる。
【００６３】
次に、本発明におけるインクジェット受容層に対して使用するインクジェットインクについて説明する。
【００６４】
本発明におけるインクジェット受容層に対して使用するインクジェットインクは、少なくとも液状成分としてアルコール系、ケトン系、エーテル系、エステル系の有機溶剤、又は、液状アクリルモノマー、液状メタクリルモノマー、液状エポキシモノマーの反応性希釈剤を含有するものが好適である。
【００６５】
このうち、アルコール系有機溶剤としては、例えば、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、エチレングリコール、プロピレングリコールなどが挙げられる。ケトン系有機溶剤としては、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンなどが挙げられる。エーテル系有機溶剤としては、セロソルブ、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、カルビトール、メチルカルビトール、エチルカルビトール、ブチルカルビトール、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテルなどが挙げられる。エステル系有機溶剤としては、例として、酢酸エチル、酢酸ブチル、セロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、ブチルセロソルブアセテート、カルビトールアセテート、エチルカルビトールアセテート、ブチルカルビトールアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテートなどが挙げられる。これらの有機溶剤は単独で使用してもかまわないし、二種類以上を組み合わせて使用してもかまわない。
【００６６】
また、反応性希釈剤として使用される液状アクリルモノマーとしては、例えば、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、イソアミルアクリレート、ラウリルアクリレート、ステアリルアクリレート、ブトキシエチルアクリレート、エトキシジエチレングリコールジエチレングリコールアクリレート、２−エチルヘキシル−ジグリコールアクリレート、メトキシポリエチレングリコールアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、フェノキシジエチレングリコールアクリレート、フェノキシポリエチレングリコールアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、イソボルニルアクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、２−ヒドロキシブチルアクリレート、４−ヒドロキシブチレアクリレート、トリエチレングリレールジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、３−メチル−１，５−ペンタンジオールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、１，９−ノナンジオールジアクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールアクリル酸付加物、トリメチロールプロパントリアクリレート、エトキシ変性トリメチロールプロパントリアクリレート、プロポキシ変性トリメチロールプロパントリアクリレートなどが挙げられる。反応性希釈剤として使用される液状メタクリルモノマーとしては、例えば、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、ｎ−ブチルメタクリレート、イソブチルメタクリレート、ｔｅｒｔ−ブチルメタクリレート、２−エチルヘキシルメタクリレート、ｎ−ラウリルメタクリレート、ｎ−ステアリルメタクリレート、メトキシポリエチレングリコールメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、テトラヒドロフルフリルメタクリレート、ベンジルメタクリレート、フェノキシエチルメタクリレート、イソボルニルメタクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、２−ヒドロキシプロピルメタクリレート、２−ヒドロキシブチルメタクリレート、４−ヒドロキシブチルメタクリレート、ジメチルアミノエチルメタクリレート、グリシジルメタクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、ジエチレングルコールジメタクリレート、トリエチエレングルコールジメタクリレート、ポリエチエレングルコールジメタクリレート、１，４−ブタンジオールジメタクリレート、ネオペンチルグルコールジメタクリレート、１，６−ヘキサンジオールジメタクリレート、１，９−ノナンジオールジメタクリレート、２−ヒドロキシ−３−アクリロイロキシプロピルメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレートなどが挙げられる。反応性希釈剤として使用される液状エポキシモノマーとしては、例えば、ブチルグリシジルエーテル、２−エチルヘキシルグリシジルエーテル、ｐ−ｓｅｃ−ブチルフェニルグリシジルエーテル、エチレングリコールジグリシジルエーテル、ジエチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル、ジプロピレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、１，６−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテルなどが挙げられる。これらの反応性希釈剤は単独で使用してもかまわないし、二種類以上を組み合わせて使用してもかまわない。
【００６７】
その他の成分として、染料や顔料などの色材、ポリエステル樹脂やポリウレタン樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂などのバインダー樹脂、アルミナやマイカ、シリカのような充填剤、レベリング剤や消泡剤、可塑剤、カップリング剤、硬化剤、紫外線吸収剤、光安定剤、酸化防止剤、蛍光増白剤などの添加剤を適宜含有することもできる。
【００６８】
上記のようなインクジェットインクを、基材上に作成したインクジェット受容層の紫外線未照射部に吐出することで、微細パターンの形成が可能になる。すなわち、本インクジェット受容層は紫外線照射部と未照射部で溶剤吸収量が異なり、かつ、前者の方が小さいため、紫外線未照射部が吐出されたインクジェットインクを吸収することでインクジェットインクの紫外線照射部へのぬれ広がりを抑制することが出来るため、微細パターンの形成が可能になる。
【００６９】
また、本発明における「溶剤吸収量」と表現する際に使用する「溶剤」とは、インクジェットインクに含まれる液状成分を表す。すなわち、「溶剤吸収量」と表現する際に使用する「溶剤」とは、上述したアルコール系、ケトン系、エーテル系、エステル系の有機溶剤、及び、液状アクリルモノマー、液状メタクリルモノマー、液状エポキシモノマー等の反応性希釈剤のことを示している。つまり、本発明のインクジェット受容層は、これらの「溶剤」吸収能を有する紫外線未照射部と、この紫外線未照射部よりも「溶剤」吸収能が低い紫外線照射部とを備えたものである。なお、本発明において「液状」と称するものは、その使用時に液体状態を呈するものを言う。すなわち、インクジェットインクにおける反応性希釈剤は、少なくともインクジェット装置に充填して受容層に吐出する際には液体状態を示す成分であるため、本発明において「溶剤吸収量」と表現する際の「溶剤」に該当する。
【実施例】
【００７０】
以下、実施例により本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例の内容のみに限定されるものではない。なお、特に断りの無い限り、「部」は質量部を表す。【００７１】
＜インクジェットインクの作成＞
微細化顔料（ピグメントブルー15：6）を顔料親和性官能基を有する高分子量体（高分子分散剤）の共存下、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテートを溶剤としてビーズミル中で分散を行い、青色分散液を調製した。この分散液をもとに表１に示す組成となるように各成分を混合し、混合溶液を１μｍマイクロフィルターによって加圧ろ過を行い、インクジェットインクを調製した。【００７２】
【表１】
2013183445.tif 000013
【００７３】
［実施例１］
（Ａ）プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ダイセル化学工業製）14.56部、（Ｂ）紫外線硬化樹脂（商品名V-259ME、新日鐵化学製、固形分56質量%）12.6部、（Ｃ）アクリルモノマー（商品名DPCA-120、日本化薬製）1.76部、（Ｄ）２−メチル−１−〔4−（メチルチオ）フェニル〕−２−モルフォリノプロパン−１−オン（BASFジャパン製）0.18部、（Ｅ）含フッ素オリゴマー溶液（商品名メガファックF-555（DIC製）をプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートで有効成分1%に希釈したもの）0.9部を混合し、混合溶液を１μｍマイクロフィルターによって加圧ろ過することで紫外線硬化樹脂組成物１を作成した。組成物中の（Ａ）〜（Ｅ）成分の質量比率を表２に示す。【００７４】
【表２】
2013183445.tif 000014
【００７５】
得られた紫外線硬化樹脂組成物１を、スピンコーターを用いて125mm×125mmのガラス基板上に乾燥膜厚が10μmになるように塗工した。次に、ホットプレート上で70℃、5分間の条件で紫外線硬化樹脂組成物１の乾燥を行った。その後、露光ギャップを150μmに調整し、マトリックス状のネガ型フォトマスク（xy方向共に線幅20μmライン＋100μm開口）を用い、i線照度50mW/cm2の超高圧水銀ランプで1500mJ/cm2の紫外線を照射することで選択的紫外線照射を行い、インクジェット受容層１を作成した。【００７６】
そして、コニカミノルタIJ製インクジェットヘッド（ピエゾ素子駆動型、KM512M）を用いて、上記で得られたインクジェット受容層１の紫外線未照射部分に対して、ｙ方向（図３における上下方向）にインクジェットヘッドを移動させながら、作成したインクジェットインクを打ち込むことで、インクジェット受容層の評価を行った。図３にそのときの顕微鏡写真を示す。この写真からも分かるように、インクジェット受容層１はマトリックスパターンを再現性良く描画することができた。なお、本写真は、中心の格子から見て上下方向の格子は印刷してある（紫外線未照射部分にインクジェットインクを吐出している）。一方、中心の格子から見て左右方向の格子は印刷していない。また、図中の白破線はマトリックスパターン（紫外線照射部分）を示す。つまり、液滴（インクジェットインク）が格子の枠内に収まっており、上下の格子との合体は見られない。さらに続けて、受容層全体にxy方向共に100×100μｍ、パターン間隔20μmのモザイクパターンを作成したが、上下左右とも隣接する格子との合体はみられなかった。【００７７】
［実施例２］
（Ａ）プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ダイセル化学工業製）15.12部、（Ｂ）紫外線硬化樹脂（商品名V-259ME、新日鐵化学製、固形分56質量%）11.31部、（Ｃ）アクリルモノマー（商品名DPCA-120、日本化薬製）1.58部、（Ｄ）１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン（BASFジャパン製）1.08部、（Ｅ）含フッ素オリゴマー溶液（商品名メガファックF-555（DIC製）をプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートで有効成分1%に希釈したもの）0.9部を混合し、混合溶液を１μｍマイクロフィルターによって加圧ろ過することで紫外線硬化樹脂組成物２を作成した。組成物中の（Ａ）〜（Ｅ）成分の重量比率を表２に示す。【００７８】
得られた紫外線硬化樹脂組成物２を、スピンコーターを用いて125mm×125mmのガラス基板上に乾燥膜厚が10μmになるように塗工した。次に、ホットプレート上で70℃、5分間の条件で紫外線硬化樹脂組成物２の乾燥を行った。その後、露光ギャップを150μmに調整し、マトリックス状のネガ型フォトマスク（xy方向共に線幅20μmライン+100μm開口）を用い、i線照度50mW/cm2の超高圧水銀ランプで1500mJ/cm2の紫外線を照射することで選択的紫外線照射を行い、インクジェット受容層２を作成した。【００７９】
そして、コニカミノルタIJ製インクジェットヘッド（ピエゾ素子駆動型、KM512M）を用いて、上記で得られたインクジェット受容層２の紫外線未照射部分に対して、作成したインクジェットインクを打ち込むことでインクジェット受容層の評価を行った。その結果、実施例１の場合と同様に、インクジェット受容層１はマトリックスパターンを良く再現した。【００８０】
［実施例３］
（Ａ）プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ダイセル化学工業製）16.62部、（Ｂ）紫外線硬化樹脂（商品名V-259ME、新日鐵化学製、固形分56質量%）9.45部、（Ｃ）アクリルモノマー（商品名DPCA-120、日本化薬製）1.76部、（Ｄ）２−メチル−１−〔4−（メチルチオ）フェニル〕−２−モルフォリノプロパン−１−オン（BASFジャパン製）0.18部、（Ｅ）含フッ素オリゴマー溶液（商品名メガファックF-555（DIC製）をプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートで有効成分1%に希釈したもの）0.023部、（Ｆ）アクリル系熱可塑性エラストマー（商品名LA4285、クラレ製）1.76部を混合し、混合溶液を１μｍマイクロフィルターによって加圧ろ過することで紫外線硬化樹脂組成物３を作成した。組成物中の（Ａ）〜（Ｆ）成分の重量比率を表２に示す。【００８１】
得られた紫外線硬化樹脂組成物３を、スピンコーターを用いて125mm×125mmのガラス基板上に乾燥膜厚が10μmになるように塗工した。次に、ホットプレート上で70℃、5分間の条件で紫外線硬化樹脂組成物３の乾燥を行った。その後、露光ギャップを150μmに調整し、マトリックス状のネガ型フォトマスク（xy方向共に線幅20μmライン+100μm開口）を用い、i線照度50mW/cm2の超高圧水銀ランプで1500mJ/cm2の紫外線を照射することで選択的紫外線照射を行い、インクジェット受容層３を作成した。【００８２】
そして、コニカミノルタIJ製インクジェットヘッド（ピエゾ素子駆動型、KM512M）を用いて、上記で得られたインクジェット受容層３の紫外線未照射部分に対して、作成したインクジェットインクを打ち込むことでインクジェット受容層の評価を行った。その結果、実施例１の場合と同様に、インクジェット受容層１はマトリックスパターンを良く再現した。【００８３】
［比較例１］
紫外線硬化樹脂組成物１を、スピンコーターを用いて125mm×125mmのガラス基板上に乾燥膜厚が10μmになるように塗工した。次に、ホットプレート上で70℃、5分間の条件で紫外線硬化樹脂組成物１の乾燥を行った。その後、基板全面にi線照度50mW/cm2の超高圧水銀ランプで1500mJ/cm2の紫外線を照射することでインクジェット受容層を作成した。【００８４】
そして、コニカミノルタIJ製インクジェットヘッド（ピエゾ素子駆動型、KM512M）を用いて、上記で得られたインクジェット受容層に対して、作成したインクジェットインクを用いてxy方向共に100×100μｍ、パターン間隔20μmのモザイクパターンの作成を行ったが、きれいなマトリックスパターンの作成は出来なかった（液滴がぬれ広がり全面塗工となった）。【００８５】
［比較例２］
（Ａ）プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ダイセル化学工業製）23.7部、（Ｃ）アクリルモノマー（商品名DPCA-120、日本化薬製）1.18部、（Ｄ）２−メチル−１−〔4−（メチルチオ）フェニル〕−２−モルフォリノプロパン−１−オン（BASFジャパン製）0.12部、（Ｆ）ポリエーテル変性ポリジメチルシロキサン溶液（商品名BYK333（ビックケミー・ジャパン製）をプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートで有効成分1%に希釈したもの）0.3部、（Ｆ）熱可塑性アクリル樹脂（商品名BR107、三菱レイヨン製）4.7部を混合し、混合溶液を１μｍマイクロフィルターによって加圧ろ過することで紫外線硬化樹脂組成物４を作成した。組成物中の（Ａ）〜（Ｆ）成分の重量比率を表２に示す。【００８６】
得られた紫外線硬化樹脂組成物４を、スピンコーターを用いて125mm×125mmのガラス基板上に乾燥膜厚が10μmになるように塗工した。次に、ホットプレート上で70℃、5分間の条件で紫外線硬化樹脂組成物４の乾燥を行った。その後、露光ギャップを150μmに調整し、マトリックス状のネガ型フォトマスク（xy方向共に線幅20μmライン+100μm開口）を用い、i線照度50mW/cm2の超高圧水銀ランプで1500mJ/cm2の紫外線を照射することで選択的紫外線照射を行い、インクジェット受容層を作成した。【００８７】
そして、コニカミノルタIJ製インクジェットヘッド（ピエゾ素子駆動型、KM512M）を用いて、上記で得られたインクジェット受容層の紫外線未照射部分に対して、作成した評価用インクジェットインクを打ち込むことでインクジェット受容層の評価を行った。その結果、インクジェット受容層はマトリックスパターンを良く再現しなかった。図４にそのときの顕微鏡写真を示す。図４において、上下方向にインクジェットヘッドが移動しながらインクジェットインクを打ち込んだが、上下方向のパターンが分離せずに打ち込んだインクジェットインクが連結してしまった。すなわち、液滴が格子の枠からはみ出し、上下の格子が合体していることが分かる。なお、この写真については、中心の格子から見て上下方向の格子は印刷してあるが、左右方向の格子は印刷していない。また、図中の白破線はマトリックスパターン（紫外線照射部分）を示す。
【符号の説明】
【００８８】
１：非吸収性基材
２：紫外線硬化樹脂組成物
３：乾燥樹脂層
４：紫外線照射部
５：紫外線未照射部
６：インクジェット受容層（インクジェットインクの受容層）
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【国際調査報告】
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