【手続補正書】
【提出日】平成27年8月14日(2015.8.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光半導体素子を封止、被覆、または接着するためのヒドロシリル化反応硬化性シリコーン組成物であって、非置換のベンゾトリアゾールを除くトリアゾール系化合物から選択される１種以上の化合物を含有することを特徴とする硬化性シリコーン組成物。
【請求項２】
（Ａ）一分子中に２個以上の脂肪族不飽和炭化水素基を有するオルガノポリシロキサン、
（Ｂ）一分子中に２個以上のケイ素原子結合水素原子を有するオルガノハイドロジェンポリシロキサン、
（Ｃ）非置換のベンゾトリアゾールを除くトリアゾール系化合物から選択される１種以上の化合物、および
（Ｄ）ヒドロシリル化反応用触媒を含有する、請求項１記載の硬化性シリコーン組成物。
【請求項３】
前記（Ａ）成分が、平均組成式：
（Ｒ１ＳｉＯ３/２)ａ(Ｒ２Ｒ３ＳｉＯ２/２)ｂ(Ｒ４Ｒ５Ｒ６ＳｉＯ１/２)ｃ(ＳｉＯ４/２)ｄ
（但し、式中Ｒ１〜Ｒ６はそれぞれ同一もしくは異種の一価炭化水素基を示し、その全一価炭化水素基の０.０１〜５０モル％は脂肪族不飽和炭化水素基であり、ａ、ｂ、ｃ及びｄは各シロキサン単位のモル比を示し、ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＝１.０、０≦ａ≦１．０、０≦ｂ≦１.０、０≦ｃ＜０.８３、０≦ｄ＜０.５０である。）
で表されるオルガノポリシロキサンである、請求項２記載の硬化性シリコーン組成物。
【請求項４】
前記（Ｂ）成分が、平均組成式：
Ｒ７ｅＨｆＳｉＯ[(４-ｅ-ｆ)/２]
（但し、式中Ｒ７は脂肪族不飽和炭化水素基を除く置換又は非置換の一価炭化水素基、ｅ、ｆは１.０≦ｅ≦２.０、０.１＜ｆ＜１.０、かつ１.５≦ｅ＋ｆ＜２.７を満たす。）
で表されるオルガノハイドロジェンポリシロキサンである、請求項２又は３記載の硬化性シリコーン組成物。
【請求項５】
前記トリアゾール系化合物が、Ｎ−アルキルもしくはＮ−アルキルアミノアルキル置換トリアゾール、またはアルキル、カルボキシもしくはニトロ置換ベンゾトリアゾールである、請求項１乃至４のいずれか１記載の硬化性シリコーン組成物。
【請求項６】
前記トリアゾール系化合物が、Ｎ,Ｎ−ビス(２−エチルヘキシル)−[(１,２,４−トリアゾール−１−イル)メチル]アミン、トリルトリアゾール、カルボキシベンゾトリアゾール、及びニトロベンゾトリアゾールからなる群より選択される１種以上である、請求項１乃至５のいずれか１記載の硬化性シリコーン組成物。
【請求項７】
前記トリアゾール系化合物の含有量が、本組成物中に質量単位で０.０１ｐｐｍ〜３％である、請求項１乃至６のいずれか１記載の硬化性シリコーン組成物。
【請求項８】
光半導体素子を請求項１乃至７のいずれか１項記載の硬化性シリコーン組成物により封止、被覆、または接着してなることを特徴とする光半導体装置。
【請求項９】
前記光半導体素子が、発光ダイオードである、請求項８記載の光半導体装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本発明の硬化性シリコーン組成物において、前記（Ａ）成分が、平均組成式：
（Ｒ１ＳｉＯ３/２)ａ(Ｒ２Ｒ３ＳｉＯ２/２)ｂ(Ｒ４Ｒ５Ｒ６ＳｉＯ１/２)ｃ(ＳｉＯ４/２)ｄ
（但し、式中Ｒ１〜Ｒ６はそれぞれ同一もしくは異種の一価炭化水素基を示し、その全一価炭化水素基の０.０１〜５０モル％は脂肪族不飽和炭化水素基であり、ａ、ｂ、ｃ及びｄは各シロキサン単位のモル比を示し、ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＝１.０、０≦ａ≦１．０、０≦ｂ≦１.０、０≦ｃ＜０.８３、０≦ｄ＜０.５０である。）で表されるオルガノポリシロキサンであることが好ましく、また前記（Ｂ）成分が、平均組成式：
Ｒ７ｅＨｆＳｉＯ[(４‐ｅ‐ｆ)/２]
（但し、式中Ｒ７は脂肪族不飽和炭化水素基を除く置換又は非置換の一価炭化水素基、ｅ、ｆは１.０≦ｅ≦２.０、０.１＜ｆ＜１.０、かつ１.５≦ｅ＋ｆ＜２.７を満たす。）で表されるオルガノハイドロジェンポリシロキサンであることが好ましい。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
（Ａ）成分の一分子中に２個以上の脂肪族不飽和炭化水素基を有するオルガノポリシロキサンとしては、平均組成式：
（Ｒ１ＳｉＯ３/２)ａ(Ｒ２Ｒ３ＳｉＯ２/２)ｂ(Ｒ４Ｒ５Ｒ６ＳｉＯ１/２)ｃ(ＳｉＯ４/２)ｄ
で表されるものを好適に使用できる。この平均組成式中Ｒ１〜Ｒ６は、それぞれ同一もしくは異種の一価炭化水素基を示し、その全一価炭化水素基の０.０１モル％〜５０モル％が脂肪族不飽和炭化水素基であり、好ましくは、その全一価炭化水素基の０.０５モル％〜４０モル％が脂肪族不飽和炭化水素基であり、より好ましくは、その全一価炭化水素基の０.０９モル％〜３２モル％が脂肪族不飽和炭化水素基である。また、ａ、ｂ、ｃ及びｄは各シロキサン単位のモル比を示し、ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＝１.０、０≦ａ≦１.０、０≦ｂ≦１.０、０≦ｃ＜０.８３、０≦ｄ＜０.５０である。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２６】
（Ａ）成分中の脂肪族不飽和炭化水素基は、全一価炭化水素基の０.０１モル％〜５０モル％であり、好ましくは全一価炭化水素基の０.０５モル％〜４０モル％であり、より好ましくは全一価炭化水素基の０.０９モル％〜３２モル％である。（Ａ）成分中の脂肪族不飽和炭化水素基が少なすぎると硬化物が得られないおそれがあり、また、（Ａ）成分中の脂肪族不飽和炭化水素基が多すぎると得られる硬化物の機械的特性が悪くなるおそれがある。また、（Ａ）成分中の脂肪族不飽和炭化水素基は、オルガノシロキサン分子の両末端にあることが好ましい。なお、（Ａ）成分中の全一価炭化水素基中の脂肪族不飽和炭化水素基のモル％は、例えば、フーリエ変換赤外分光光度計（ＦＴ−ＩＲ）、核磁気共鳴（ＮＭＲ）、ゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）等の分析によって測定することができる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３４】
硬化性シリコーン組成物中の（Ｃ）成分の含有量は、硬化性シリコーン組成物中に質量単位で０.０１ｐｐｍ〜３％の範囲内となる量であり、好ましくは、０.１ｐｐｍ〜１％の範囲内となる量である。（Ｃ）成分の含有量が上記範囲内であることにより、良好な耐熱衝撃性を有する硬化物を得ることができる。（Ｃ）成分の含有量が上記範囲の下限未満であると、耐熱衝撃に対する剥離やクラック発生を十分に抑制できなくなるおそれがある。また、（Ｃ）成分の含有量が上記範囲の上限を超えると、得られる硬化物の物性が低下するおそれがある。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４９】
（Ａ）成分として、次の成分を用いた。なお、粘度は２５℃における値であり、ＪＩＳ  Ｋ７１１７−１に準拠してＢ型粘度計を用いて測定した。
（ａ−１）成分：粘度１,０００ｍＰａ・ｓであり、平均式：
Ｍｅ２ＶｉＳｉＯ(ＭｅＰｈＳｉＯ)３０ＳｉＭｅ２Ｖｉ
で表されるメチルフェニルポリシロキサン（ビニル基の含有量＝１.２７質量％）
（ａ−２）成分：粘度１５,０００ｍＰａ・ｓであり、平均式：
Ｍｅ２ＶｉＳｉＯ(ＭｅＰｈＳｉＯ)１２０ＳｉＭｅ２Ｖｉ
で表されるメチルフェニルポリシロキサン（ビニル基の含有量＝０.３３質量％）
（ａ−３）成分：粘度３００ｍＰａ・ｓであり、平均式：
Ｍｅ２ＶｉＳｉＯ(Ｍｅ２ＳｉＯ)１５０ＳｉＭｅ２Ｖｉ
で表される分子鎖両末端ジメチルビニルシロキシ基封鎖ジメチルポリシロキサン（ビニル基の含有量＝０.４８質量％）
（ａ−４）成分：粘度１０,０００ｍＰａ・ｓであり、平均式：
Ｍｅ２ＶｉＳｉＯ(Ｍｅ２ＳｉＯ)５００ＳｉＭｅ２Ｖｉ
で表される分子鎖両末端ジメチルビニルシロキシ基封鎖ジメチルポリシロキサン（ビニル基の含有量＝０.１５質量％）
（ａ−５）成分：２５℃において白色固体状で、トルエン可溶性の平均単位式：
(ＰｈＳｉＯ３/２)０.７５(Ｍｅ２ＶｉＳｉＯ１/２)０.２５
で表される、一分子中に２個以上のビニル基を有するオルガノポリシロキサン（ビニル基の含有量＝５.６質量％）
（ａ−６）成分：２５℃において白色固体状で、トルエン可溶性の平均単位式：
(ＰｈＳｉＯ３/２)０.７５(ＭｅＶｉＳｉＯ２/２)０.１０(Ｍｅ２ＳｉＯ２/２)０.１５
で表される、一分子中に２個以上のビニル基を有するオルガノポリシロキサン（ビニル基の含有量＝２．３質量％）
（ａ−７）成分：２５℃において白色固体状で、トルエン可溶性である、平均単位式：
(Ｍｅ２ＶｉＳｉＯ１/２)０.１５(Ｍｅ３ＳｉＯ１/２)０.３８(ＳｉＯ４/２)０.４７(ＨＯ１/２)０.０１
で表される、一分子中に２個以上のビニル基を有するオルガノポリシロキサン（ビニル基の含有量＝４.２質量％）
（ａ−８）成分：２５℃において白色固体状で、トルエン可溶性である、平均単位式：
(Ｍｅ２ＶｉＳｉＯ１/２)０.１３(Ｍｅ３ＳｉＯ１/２)０.４５(ＳｉＯ４/２)０.４２(ＨＯ１/２)０.０１
で表される、一分子中に２個以上のビニル基を有するオルガノポリシロキサンレジン（ビニル基の含有量＝３.４質量％）