(57)【要約】半導体装置は、ヒータ、第１温度センサ及び第２温度センサを構成要素として含むガス式加速度センサを備える。半導体装置は、更に、ヒータが表面に形成された第１チップと、温度センサが表面に形成された第２チップと、それらチップ間を電気的に接続する接続部材と、を備える。第１チップと第２チップは、表面同士が対向するように、接続部材を介して積層されている。その積層方向において、ヒータ位置は、温度センサの位置と異なっている。積層方向に直交する面内方向において、第１温度センサと第２温度センサは、ヒータを挟んで対向するように配置されている。第１チップと第２チップのうち上方のキャップチップに形成されたガス式加速度センサの構成要素は、接続部材と直接接触している。
2014041648.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ヒータ、第１温度センサ及び第２温度センサを構成要素として含むガス式加速度センサと、
前記構成要素のうち前記ヒータが第１表面に形成された第１チップと、
前記構成要素のうち前記第１温度センサと前記第２温度センサが第２表面に形成された第２チップと、
前記第１チップと前記第２チップとを電気的に接続する接続部材と
を備え、
前記第１チップと前記第２チップは、前記第１表面と前記第２表面が対向するように、前記接続部材を介して積層されており、
前記第１チップと前記第２チップの積層方向において、前記ヒータの位置は、前記第１温度センサ及び前記第２温度センサの位置と異なっており、
前記積層方向に直交する第１面内方向において、前記第１温度センサと前記第２温度センサは、前記ヒータを挟んで対向するように配置されており、
前記第１チップと前記第２チップのうち一方が、ベースチップであり、
前記第１チップと前記第２チップのうち他方が、前記ベースチップ上に積層されたキャップチップであり、
前記キャップチップに形成された前記ガス式加速度センサの前記構成要素は、前記接続部材と直接接触している
半導体装置。
【請求項２】
請求項１に記載の半導体装置であって、
前記第１チップが前記キャップチップであり、
前記第２チップが前記ベースチップである
半導体装置。
【請求項３】
請求項１に記載の半導体装置であって、
前記キャップチップの半導体基板の欠陥密度は、前記ベースチップの半導体基板の欠陥密度よりも高い
半導体装置。
【請求項４】
請求項３に記載の半導体装置であって、
前記ベースチップはトランジスタを有し、
前記キャップチップはトランジスタを有さない
半導体装置。
【請求項５】
請求項１に記載の半導体装置であって、
前記接続部材はバンプである
半導体装置。
【請求項６】
請求項１に記載の半導体装置であって、
前記積層方向と直交し且つ前記第１面内方向と交差する方向は、第２面内方向であり、
前記ガス式加速度センサの前記構成要素は、前記第２面内方向に延在するように形成された金属配線である
半導体装置。
【請求項７】
請求項６に記載の半導体装置であって、
前記接続部材は、前記第２面内方向において離間して設けられた一対の接続部材を含み、
前記キャップチップに形成された前記ガス式加速度センサの前記構成要素の各々は、前記一対の接続部材と直接接触している
半導体装置。
【請求項８】
請求項１に記載の半導体装置であって、
前記ガス式加速度センサは、更に、第３温度センサと第４温度センサを前記構成要素として含み、
前記第３温度センサ及び前記第４温度センサは、前記第１チップの前記第１表面に形成されており、
前記第１面内方向において、前記第３温度センサと前記第４温度センサは、前記ヒータを挟んで対向するように配置されている
半導体装置。
【請求項９】
請求項１に記載の半導体装置であって、
前記ガス式加速度センサは、更に、他のヒータを前記構成要素として含み、
前記他のヒータは、前記第２チップの前記第２表面に形成されており、
前記第１面内方向において、前記第１温度センサと前記第２温度センサは、前記他のヒータを挟んで対向するように配置されている
半導体装置。
【請求項１０】
請求項９に記載の半導体装置であって、
前記ヒータと前記他のヒータは交互に通電される
半導体装置。
【請求項１１】
請求項１に記載の半導体装置であって、
前記ガス式加速度センサの数は複数であり、
前記複数のガス式加速度センサの各々が、前記構成要素を含んでいる
半導体装置。
【請求項１２】
請求項１１に記載の半導体装置であって、
前記複数のガス式加速度センサは、第１ガス式加速度センサと第２ガス式加速度センサとを含み、
前記第１ガス式加速度センサに関する前記第１面内方向は、前記第２ガス式加速度センサに関する前記第１面内方方向と交差している
半導体装置。
【請求項１３】
請求項１１に記載の半導体装置であって、
前記キャップチップの数は複数であり、
前記複数のキャップチップのそれぞれが前記複数のガス式加速度センサに対応している
半導体装置。
【請求項１４】
請求項１１に記載の半導体装置であって、
前記複数のガス式加速度センサ間には、前記複数のガス式加速度センサのそれぞれを隔離するパーティションが形成されている
半導体装置。
【請求項１５】
請求項１４に記載の半導体装置であって、
前記パーティションは、複数のバンプで形成されている
半導体装置。
【請求項１６】
請求項１に記載の半導体装置であって、
前記ベースチップ上と前記キャップチップ上には絶縁層が形成されており、前記ベースチップ上の絶縁層の層数は前記キャップチップ上の絶縁層の層数より多い
半導体装置。
【請求項１７】
加速度センサを構成する温度センサが配置された第１チップと、
前記加速度センサを構成するヒータが配置された第２チップと、
前記第１チップと前記第２チップとの間に配置され、前記温度センサと前記ヒータが配置される空間を区画する接続部材とを有し、
前記ヒータの両端は前記接続部材と直接接触して前記第１チップと電気的に接続される
半導体装置。
【請求項１８】
半導体装置の製造方法であって、
前記半導体装置は、ヒータ、第１温度センサ及び第２温度センサを構成要素として含むガス式加速度センサを備え、
前記製造方法は、
第１チップの第１表面上に、前記構成要素のうち前記ヒータを形成する工程と、
第２チップの第２表面上に、前記構成要素のうち前記第１温度センサと前記第２温度センサを形成する工程と、
前記第１チップと前記第２チップを、前記第１表面と前記第２表面が対向するように、接続部材を介してフリップ接続する工程と
を含み、
前記第１チップと前記第２チップの積層方向において、前記ヒータの位置は、前記第１温度センサ及び前記第２温度センサの位置と異なっており、
前記積層方向に直交する第１面内方向において、前記第１温度センサと前記第２温度センサは、前記ヒータを挟んで対向するように配置され、
前記第１チップと前記第２チップのうち一方が、ベースチップであり、
前記第１チップと前記第２チップのうち他方が、前記ベースチップ上に積層されたキャップチップであり、
前記キャップチップに形成された前記ガス式加速度センサの前記構成要素は、前記接続部材と直接接触する
半導体装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、半導体装置に関し、特に、ガス式加速度センサを搭載した半導体装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、スマートフォン、タブレットＰＣ、携帯ゲーム機などの携帯情報機器において、加速度センサが広く利用されている。代表的な加速度センサとして、静電容量式（例えば、特許文献１参照）、ピエゾ抵抗式（例えば、特許文献２参照）、ガス式（例えば、特許文献３、特許文献４、特許文献５参照）が知られている。【０００３】
静電容量式とピエゾ抵抗式は、ＭＥＭＳ（Ｍｉｃｒｏ−Ｅｌｅｃｔｒｏ  Ｍｅｃｈａｎｉｃａｌ  Ｓｙｓｔｅｍｓ）素子を用いた加速度センサである。より詳細には、ＭＥＭＳ素子を利用することにより“機械的な可動部分”が半導体チップ中に形成される。そして、半導体チップの加速による当該可動部分の移動が、容量変化やピエゾ素子を通して検出される。但し、機械的な可動部分を形成しなければならないことは、歩留まりの低下を招き、製造コストの観点から好ましくない。【０００４】
ガス式の加速度センサの場合、半導体チップ内の空間にヒータ及び温度センサが設けられ、更に、その空間にガスが封入される。半導体チップの加速により、空間内のガスが移動し、ガスの温度分布が変化する。その温度分布の変化を温度センサで検出することにより、半導体チップの加速が検知される。このガス式加速度センサの場合、“機械的な可動部”は不要であり、歩留まり及び製造コストの観点から好ましい。【０００５】
尚、一般的なセンサに関連する技術として、次のものも知られている。特許文献６には、加速度センサのパッケージ全体をプリント基板に対して垂直に実装する方式が開示されている。特許文献７には、テーパー形状の基板上に磁気センサを配置する方式が示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２０００−０４６８５９号公報
【特許文献２】特開平９−２３６６１６号公報
【特許文献３】ＵＳ特許第６１８２５０９号
【特許文献４】特開２００５−３５１８９２号公報
【特許文献５】特開２００８−３９５１９号公報
【特許文献６】特開平１１−２１１７５０号公報
【特許文献７】特開２００９−１２２０４１号公報
【発明の概要】
【０００７】
従来の加速度センサと異なり、複数方向の加速度を検知することができ、構成上及び製造上の観点からより有利な形で構成されるガス式加速度センサが望まれる。
【０００８】
その他の課題と新規な特徴は、本明細書の記述および添付図面から明らかになるだろう。
【０００９】
一実施の形態において、半導体装置が提供される。半導体装置は、ヒータ、第１温度センサ及び第２温度センサを構成要素として含むガス式加速度センサを備える。半導体装置は、更に、上記構成要素のうちヒータが第１表面に形成された第１チップと、上記構成要素のうち第１温度センサと第２温度センサが第２表面に形成された第２チップと、第１チップと第２チップとを電気的に接続する接続部材と、を備える。第１チップと第２チップは、第１表面と第２表面が対向するように、接続部材を介して積層されている。第１チップと第２チップの積層方向において、ヒータの位置は、第１温度センサ及び第２温度センサの位置と異なっている。積層方向に直交する第１面内方向において、第１温度センサと第２温度センサは、ヒータを挟んで対向するように配置されている。第１チップと第２チップのうち一方が、ベースチップであり、第１チップと第２チップのうち他方が、ベースチップ上に積層されたキャップチップである。キャップチップに形成されたガス式加速度センサの構成要素は、接続部材と直接接触している。
【００１０】
他の実施の形態において、半導体装置の製造方法が提供される。半導体装置は、ヒータ、第１温度センサ及び第２温度センサを構成要素として含むガス式加速度センサを備える。製造方法は、（Ａ）第１チップの第１表面上に、構成要素のうちヒータを形成する工程と、（Ｂ）第２チップの第２表面上に、構成要素のうち第１温度センサと第２温度センサを形成する工程と、（Ｃ）第１チップと第２チップを、第１表面と第２表面が対向するように、接続部材を介してフリップ接続する工程と、を含む。第１チップと第２チップの積層方向において、ヒータの位置は、第１温度センサ及び第２温度センサの位置と異なっている。積層方向に直交する第１面内方向において、第１温度センサと第２温度センサは、ヒータを挟んで対向するように配置される。第１チップと第２チップのうち一方が、ベースチップであり、第１チップと第２チップのうち他方が、ベースチップ上に積層されたキャップチップである。キャップチップに形成されたガス式加速度センサの構成要素は、接続部材と直接接触する。
【００１１】
構成上及び製造上の観点からより有利な形で構成されるガス式加速度センサが実現される。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】図１は、第１の実施の形態に係る半導体装置の構成を概念的に示す平面図である。
【図２Ａ】図２Ａは、図１中の線Ａ−Ａ’に沿った断面構造を概念的に示している。
【図２Ｂ】図２Ｂは、図１中の線Ｂ−Ｂ’に沿った断面構造を概念的に示している。
【図２Ｃ】図２Ｃは、第１の実施の形態に係る半導体装置の平面配置の一例を示す概念図である。
【図３】図３は、第１の実施の形態に係る半導体装置の作用を説明するための図である。
【図４Ａ】図４Ａは、第１の実施の形態に係る半導体装置の作用を説明するための図である。
【図４Ｂ】図４Ｂは、第１の実施の形態に係る半導体装置の作用を説明するための図である。
【図５Ａ】図５Ａは、第１の実施の形態に係る半導体装置の作用を説明するための図である。
【図５Ｂ】図５Ｂは、第１の実施の形態に係る半導体装置の作用を説明するための図である。
【図６】図６は、第１の実施の形態に係る半導体装置の構造の一例を示す断面図である。
【図７】図７は、第１の実施の形態に係る半導体装置のパッケージ構成の一例を示す概念図である。
【図８】図８は、第１の実施の形態に係る半導体装置のパッケージ構成の一例を示す概念図である。
【図９Ａ】図９Ａは、第１の実施の形態に係る半導体装置の製造方法の一例を示す断面図である。
【図９Ｂ】図９Ｂは、第１の実施の形態に係る半導体装置の製造方法の一例を示す断面図である。
【図９Ｃ】図９Ｃは、第１の実施の形態に係る半導体装置の製造方法の一例を示す断面図である。
【図９Ｄ】図９Ｄは、第１の実施の形態に係る半導体装置の製造方法の一例を示す断面図である。
【図９Ｅ】図９Ｅは、第１の実施の形態に係る半導体装置の製造方法の一例を示す断面図である。
【図９Ｆ】図９Ｆは、第１の実施の形態に係る半導体装置の製造方法の一例を示す断面図である。
【図９Ｇ】図９Ｇは、第１の実施の形態に係る半導体装置の製造方法の一例を示す断面図である。
【図９Ｈ】図９Ｈは、第１の実施の形態に係る半導体装置の製造方法の一例を示す断面図である。
【図９Ｉ】図９Ｉは、第１の実施の形態に係る半導体装置の製造方法の一例を示す断面図である。
【図９Ｊ】図９Ｊは、第１の実施の形態に係る半導体装置の製造方法の一例を示す断面図である。
【図９Ｋ】図９Ｋは、第１の実施の形態に係る半導体装置の製造方法の一例を示す断面図である。
【図９Ｌ】図９Ｌは、第１の実施の形態に係る半導体装置の製造方法の一例を示す断面図である。
【図１０Ａ】図１０Ａは、第１の実施の形態に係る半導体装置の製造方法の他の例を示す断面図である。
【図１０Ｂ】図１０Ｂは、第１の実施の形態に係る半導体装置の製造方法の他の例を示す断面図である。
【図１０Ｃ】図１０Ｃは、第１の実施の形態に係る半導体装置の製造方法の他の例を示す断面図である。
【図１０Ｄ】図１０Ｄは、第１の実施の形態に係る半導体装置の製造方法の他の例を示す断面図である。
【図１１】図１１は、第２の実施の形態に係る半導体装置の構成を概念的に示す平面図である。
【図１２Ａ】図１２Ａは、図１１中の線Ａ−Ａ’に沿った断面構造を概念的に示している。
【図１２Ｂ】図１２Ｂは、図１１中の線Ｂ−Ｂ’に沿った断面構造を概念的に示している。
【図１３】図１３は、第３の実施の形態に係る半導体装置の構成を概念的に示す断面図である。
【図１４】図１４は、第３の実施の形態に係る半導体装置の作用を説明するための図である。
【図１５】図１５は、第４の実施の形態に係る半導体装置の構成を概念的に示す断面図である。
【図１６】図１６は、第４の実施の形態に係る半導体装置の作用を説明するための図である。
【図１７】図１７は、第４の実施の形態に係る半導体装置の作用を説明するための図である。
【図１８】図１８は、第５の実施の形態に係る半導体装置の構成を概念的に示す平面図である。
【図１９】図１９は、第５の実施の形態に係る半導体装置の構成を概念的に示す平面図である。
【図２０】図２０は、第６の実施の形態に係る半導体装置の構成を概念的に示す平面図である。
【図２１】図２１は、第６の実施の形態に係る半導体装置の構成を概念的に示す平面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
１．第１の実施の形態
１−１．基本構成
図１は、第１の実施の形態に係る半導体装置の構成を概念的に示す平面図である。図２Ａは、図１中の線Ａ−Ａ’に沿った断面構造を概念的に示している。図２Ｂは、図１中の線Ｂ−Ｂ’に沿った断面構造を概念的に示している。
【００１４】
本実施の形態に係る半導体装置は、少なくとも２つの半導体チップを備えており、それら半導体チップが積層されている。下側の半導体チップは、以下「ベースチップ１００」と参照され、上側のチップは、以下「キャップチップ２００」と参照される。キャップチップ２００は、ベースチップ１００の上に積層されている。より詳細には、ベースチップ１００とキャップチップ２００は、ベースチップ１００の表面１０１とキャップチップ２００の表面２０１が対向するように積層されている。つまり、ベースチップ１００とキャップチップ２００は、フリップ接続されている。
【００１５】
ベースチップ１００とキャップチップ２００との間の電気的接続に用いられるのが「接続部材３００」である。典型的には、接続部材３００は、バンプ（バンプ電極）である。この接続部材３００は、ベースチップ１００とキャップチップ２００との間を電気的に接続するだけでなく、キャップチップ２００を機械的に支えるスペーサとしての役割をも果たす。つまり、ベースチップ１００とキャップチップ２００は、接続部材３００を介して積層されている。キャップチップ２００を安定的に支えるためには、３個以上の接続部材３００が設けられていればよい。また、一部の接続部材３００は、実際には電気的接続に寄与しない“ダミーの接続部材”であってもよい。
【００１６】
以下の説明において、ベースチップ１００とキャップチップ２００の積層方向は、Ｚ方向と参照される。Ｚ方向と直交する面内方向は、Ｘ方向とＹ方向である。Ｘ方向とＹ方向は、互いに直交している。
【００１７】
本実施の形態に係る半導体装置は、ガス式加速度センサ１０を備えている。ガス式加速度センサ１０は、空間４０内のガスの温度分布の変化を検出することにより、半導体装置の加速度を検知する。より詳細には、ガス式加速度センサ１０は、ヒータ２０、第１温度センサ３０−１及び第２温度センサ３０−２を構成要素として備えている。
【００１８】
ヒータ２０は、通電により熱を発生する。典型的には、ヒータ２０は、ＡｌやＣｕ等の金属配線で形成される。例えば、図１に示されるように、ヒータ２０としての金属配線は、Ｙ方向に延在するように形成されている。また、本実施の形態では、図２Ａに示されるように、ヒータ２０は、キャップチップ２００側に形成されている。より詳細には、ヒータ２０は、キャップチップ２００の表面２０１上に形成されており、空間４０に露出している。
【００１９】
第１温度センサ３０−１及び第２温度センサ３０−２は、空間４０内のガスの温度を計測するために設けられている。空間４０には、窒素、アルゴン、ヘリウム等の不活性ガス、若しくは空気が封入されている。また、典型的には、これら温度センサ３０も、ＡｌやＣｕ等の金属配線で形成される。例えば、図１に示されるように、温度センサ３０としての金属配線は、Ｙ方向に延在するように形成されている。また、本実施の形態では、図２Ａに示されるように、第１温度センサ３０−１と第２温度センサ３０−２は、ベースチップ１００側に形成されている。より詳細には、第１温度センサ３０−１と第２温度センサ３０−２は、ベースチップ１００の表面１０１上に形成されており、空間４０に露出している。
【００２０】
また、図１及び図２Ａに示されるように、第１温度センサ３０−１と第２温度センサ３０−２は、熱源であるヒータ２０の両側に配置されている。言い換えれば、Ｘ方向において、第１温度センサ３０−１と第２温度センサ３０−２は、ヒータ２０を挟んで対向するように配置されている。典型的には、第１温度センサ３０−１とヒータ２０との間隔は、第２温度センサ３０−２とヒータ２０との間隔と等しい。つまり、第１温度センサ３０−１と第２温度センサ３０−２は、ヒータ２０を中心として対称な位置に配置されている。
【００２１】
更に、Ｚ方向において、ヒータ２０の位置は、第１温度センサ３０−１及び第２温度センサ３０−２の位置と異なっている。これは、ヒータ２０がキャップチップ２００の表面２０１上に形成されている一方で、第１温度センサ３０−１及び第２温度センサ３０−２がベースチップ１００の表面１０１上に形成されているからである。
【００２２】
尚、熱を発生させるために、ヒータ２０に通電する必要がある。本実施の形態によれば、図２Ｂに示されるように、ヒータ２０は、異なる２点において、接続部材３００と直接接触している。より詳細には、一対の接続部材３００がＹ方向において離間して設けられており、ヒータ２０（金属配線）の両端がその一対の接続部材３００のそれぞれと直接接触している。一対の接続部材３００は、ベースチップ１００の表面１０１上に形成された配線５０と接触している。そして、その配線５０が、ベースチップ１００内部に形成された素子と電気的に接続されている。尚、配線５０は必ずしも必要ではなく、接続部材３００は、ベースチップ１００の表面１０１上に形成された電極パッドと接触していてもよい。
【００２３】
このように、キャップチップ２００側に形成されたヒータ２０に対しては、ベースチップ１００から接続部材３００を介して直接電流を供給することができる。キャップチップ２００側のヒータ２０が接続部材３００と直接接触していることは、そのヒータ２０が電極パッドの役割も兼ねていることを意味する。この場合、キャップチップ２００の表面２０１に電極パッドを別途形成したり、キャップチップ２００内部に配線を引き回したりする必要がない。従って、製造が容易であり、又、製造コストも削減される。
【００２４】
図２Ｃは、本実施の形態に係る半導体装置の平面配置の一例を概念的に示している。図２Ｃにおいて、キャップチップ２００の周りを囲むように、サイドフィル２５０（例：ポリイミド）が形成されている。上述の第１温度センサ３０−１、第２温度センサ３０−２及び配線５０は、そのサイドフィル２５０の外側に突出するように形成されている。また、接続部材３００（バンプ）は、ヒータ２０と接触し電流を流すバンプと、電気的接続に寄与しないダミーのバンプとを含んでいる。尚、キャップチップ２００を安定的に支えるためには、３個以上の接続部材３００（バンプ）が設けられていればよい。
【００２５】
１−２．作用、効果
図３は、半導体装置に加速がかかっていない状態（例：静止状態）での温度分布を示している。縦軸が温度を表し、横軸がＸ方向における位置を表している。この状態では、ヒータ２０の位置を中心とした対称的な温度分布が形成される。
【００２６】
図４Ａは、半導体装置に「−Ｘ方向の加速」がかかった状態を概念的に示している。図４Ｂは、図４Ａで示された状態での温度分布を示している。この場合、空間４０内のガスは、半導体装置の動きに追従できない。そのため、空間４０内においては、加速方向Ａ（−Ｘ方向）とは逆方向（＋Ｘ方向）にガスの流れ（相対的な動き）が発生する。空間４０内で＋Ｘ方向に熱いガスが流れるため、温度分布も＋Ｘ方向に偏る。結果として、第２温度センサ３０−２の位置では温度が上昇し、その一方で、第１温度センサ３０−１の位置では温度が低下する。第１温度センサ３０−１及び第２温度センサ３０−２を用いることにより、このような温度変化のパターンを検出することができる。逆に言えば、このような温度変化のパターンの検出から、「−Ｘ方向の加速」を検知することができる。
【００２７】
半導体装置に「＋Ｘ方向の加速」がかかった場合、検出される温度変化のパターンは、図４Ｂで示されたものと逆になる。従って、「−Ｘ方向の加速」と「＋Ｘ方向の加速」とを区別することができる。
【００２８】
図５Ａは、半導体装置に「−Ｚ方向の加速」がかかった状態を概念的に示している。図５Ｂは、図５Ａで示された状態での温度分布を示している。この場合、空間４０内のガスは、半導体装置の動きに追従できない。そのため、空間４０内においては、加速方向Ａ（−Ｚ方向）とは逆方向（＋Ｚ方向）にガスの流れ（相対的な動き）が発生する。空間４０内で＋Ｚ方向に熱いガスが流れるため、温度分布も＋Ｚ方向に偏る。結果として、第１温度センサ３０−１と第２温度センサ３０−２の両方の位置で温度が低下する。第１温度センサ３０−１及び第２温度センサ３０−２を用いることにより、このような温度変化のパターンを検出することができる。逆に言えば、このような温度変化のパターンの検出から、「−Ｚ方向の加速」を検知することができる。
【００２９】
半導体装置に「＋Ｚ方向の加速」がかかった場合、検出される温度変化のパターンは、図５Ｂで示されたものと逆になる。従って、「−Ｚ方向の加速」と「＋Ｚ方向の加速」とを区別することができる。
【００３０】
このように、本実施の形態のガス式加速度センサ１０によれば、簡易な構成で、Ｘ方向とＺ方向の２方向の加速度を検知することができる。Ｘ方向の加速度を検知できるのは、Ｘ方向において、第１温度センサ３０−１と第２温度センサ３０−２がヒータ２０の両側に配置されているからである。Ｚ方向の加速度を検知できるのは、Ｚ方向において、ヒータ２０の位置が、第１温度センサ３０−１及び第２温度センサ３０−２の位置と異なっているからである。
【００３１】
更に、本実施の形態によれば、キャップチップ２００側のヒータ２０が、接続部材３００と直接接触している。このことは、ヒータ２０が電極パッドの役割も兼ねていることを意味する。この場合、キャップチップ２００の表面２０１に電極パッドを別途形成したり、キャップチップ２００内部に配線を引き回したりする必要がない。従って、製造が容易であり、又、製造コストも削減される。
【００３２】
１−３．構造例
図６は、本実施の形態に係る半導体装置の構造の一例を示している。
【００３３】
ベースチップ１００において、シリコン基板１１０上にトランジスタ１２０が形成されている。シリコン基板１１０及びトランジスタ１２０を覆うように絶縁膜１３０が形成されており、その絶縁膜１３０の中には、トランジスタ１２０につながる多層配線１４０が形成されている。更に、絶縁膜１３０上に絶縁膜１５０が形成されており、その絶縁膜１５０中には、多層配線１４０につながるビア１６０が形成されている。更に、絶縁膜１５０上には、ビア１６０につながる最上層配線１７０が形成されている。その最上層配線１７０は、温度センサ３０、配線５０、電極パッド等を含んでいる。最上層配線１７０は、例えば、Ａｌで形成されている。
【００３４】
キャップチップ２００において、シリコン基板２１０上に絶縁膜２２０が形成されている。その絶縁膜２２０上には、ヒータ２０として機能する金属配線（例：Ａｌ）が形成されている。尚、上述のベースチップ１００上の絶縁層の層数は、キャップチップ２００上の絶縁層の総数よりも多い。
【００３５】
ベースチップ１００とキャップチップ２００との間には、接続部材３００としてバンプ（バンプ電極）が形成されている。バンプ３００は、ベースチップ１００とキャップチップ２００との間を電気的に接続するだけでなく、キャップチップ２００を機械的に支えるスペーサとしての役割をも果たす。また、上述の通り、本実施の形態では、キャップチップ２００側に形成されたヒータ２０が、バンプ３００と直接接触している。つまり、ヒータ２０が電極パッドの役割も兼ねている。ヒータ２０には、バンプ３００を介して直接電流を供給することができる。
【００３６】
更に、キャップチップ２００の周りを囲むように、サイドフィル２５０（例：ポリイミド）が形成されている。これにより、ベースチップ１００、キャップチップ２００及びサイドフィル２５０で囲まれた空間４０が形成される。この空間４０にはガスが密封されている。ガス式加速度センサ１０は、この空間４０内のガスの温度分布の変化を検出することにより、半導体装置の加速度を検知する。
【００３７】
尚、図６で示された例では、ベースチップ１００中にはトランジスタ１２０が形成されているが、キャップチップ２００中にはトランジスタは形成されていない。それは、ヒータ２０がバンプ３００と直接接触しており、ヒータ２０のＯＮ／ＯＦＦはベースチップ１００側から制御可能だからである。キャップチップ２００内には、ヒータ２０をＯＮ／ＯＦＦ制御するためのトランジスタや多層配線を形成する必要がない。従って、製造コストが削減される。
【００３８】
また、キャップチップ２００内にトランジスタが形成されない場合、キャップチップ２００のシリコン基板２１０としてそれほど高品質、高価なものを用いなくてもよい。つまり、キャップチップ２００のシリコン基板２１０の品質は、トランジスタ１２０が形成されるベースチップ１００のシリコン基板１１０の品質より低くてもよい。このことも、製造コストの削減に寄与する。
【００３９】
シリコン基板（半導体基板）の品質の１つの指標は、「欠陥密度」である。欠陥密度が低いほど、品質は高いと言える。図６で示された例では、キャップチップ２００のシリコン基板２１０の欠陥密度は、ベースチップ１００のシリコン基板１１０の欠陥密度より高くてもよい。尚、基板（ウエハ）表面の欠陥の測定方法としては、光散乱法が一般的である。光散乱法によれば、波長４００〜７００ｎｍの収束レーザ光が、基板（ウエハ）表面に照射される。そして、欠陥部分での散乱光が受光素子で検出される。散乱光の検出頻度や検出状態等に基づいて、欠陥密度を求めることができる。
【００４０】
尚、熱源であるヒータ２０が上側のキャップチップ２００に形成されていることは、次の点で好ましい。まず、最上部のシリコン基板２１０から上方への放熱が期待できる。また、ヒータ２０の位置がベースチップ１００中に形成されたトランジスタ１２０から遠くなるため、ヒータ２０の熱がトランジスタ１２０の動作に与える影響を抑えることができる。
【００４１】
図７及び図８は、本実施の形態に係る半導体装置のパッケージ構成の一例として、ＱＦＰ（Ｑｕａｄ  Ｆｌａｔ  Ｐａｃｋａｇｅ）を概念的に示している。ベースチップ１００の表面上の電極パッド（最上層配線１７０の一部）は、ボンディングワイヤ４００を介してリード５００に接続されている。更に、モールド樹脂６００によって半導体装置が封止されている。
【００４２】
１−４．製造方法
図９Ａ〜図９Ｌは、本実施の形態に係る半導体装置の製造方法の一例を示す断面図である。
【００４３】
まず、図９Ａに示されるように、ベースチップ１００のシリコン基板１１０、絶縁膜１３０及び絶縁膜１５０の積層構造が形成される。上述の通り、シリコン基板１１０上にはトランジスタ１２０（図示されない）が形成されている。絶縁膜１３０中には多層配線１４０（図示されない）が形成されている。絶縁膜１５０中にはビア１６０（図示されない）が形成されている。
【００４４】
次に、図９Ｂに示されるように、絶縁膜１５０の表面上に最上層配線１７０が形成される。その最上層配線１７０は、温度センサ３０、配線５０、電極パッド等を含んでいる。最上層配線１７０は、例えば、Ａｌで形成される。
【００４５】
次に、図９Ｃに示されるように、絶縁膜１５０及び最上層配線１７０を覆うようにレジスト膜３１０が形成される。更に、後にバンプ３００が形成される位置に、開口部が形成される。
【００４６】
次に、図９Ｄに示されるように、上記の開口部中の最上層配線１７０上に、Ｃｕめっき層１８０が形成される。
【００４７】
次に、図９Ｅに示されるように、上記の開口部を埋めるようにはんだ３２０が形成される。はんだ３２０は、例えば、Ｓｎ合金である。
【００４８】
次に、図９Ｆに示されるように、レジスト膜３１０が除去される。
【００４９】
続いて、はんだリフローが行われる。その結果、図９Ｇに示されるように、球状はんだ３３０が形成される。
【００５０】
キャップチップ２００も、上記のベースチップ１００の場合と同様に形成される。図９Ｈに示されるように、シリコン基板２１０上に絶縁膜２２０が形成される。そして、その絶縁膜２２０の表面上に、ヒータ２０として機能する金属配線（例：Ａｌ）が形成される。更に、ベースチップ１００の場合と同様の方法により、絶縁膜２２０上に球状はんだ３３０が形成される。尚、シリコン基板２１０上にはトランジスタは形成されていない。
【００５１】
次に、図９Ｉに示されるように、表面同士が対向するようにベースチップ１００とキャップチップ２００の重ね合わせが行われる。このとき、ベースチップ１００側の球状はんだ３３０とキャップチップ２００側の球状はんだ３３０とが接触するように重ね合わせが行われる。つまり、ベースチップ１００とキャップチップ２００は、球状はんだ３３０の分布位置が一致するように形成されており、球状はんだ３３０同士が接触するように積層される。
【００５２】
続いて、はんだリフローが行われる。その結果、図９Ｊに示されるように、球状はんだ３３０同士が混ざり合い、バンプ３００が形成される。このようにして、ベースチップ１００とキャップチップ２００は、バンプ３００を介してフリップ接続される。
【００５３】
尚、図９Ｊに示されるように、Ｘ方向において、第１温度センサ３０−１と第２温度センサ３０−２は、ヒータ２０を挟んで対向するように配置されている。また、Ｚ方向において、ヒータ２０の位置は、第１温度センサ３０−１及び第２温度センサ３０−２の位置と異なっている。更に、図示されないが、キャップチップ２００に形成されたヒータ２０は、バンプ３００と直接接触している。
【００５４】
その後、ベースチップ１００とキャップチップ２００の積層構造はリードフレーム上にマウントされる。そして、図９Ｋに示されるように、ベースチップ１００の表面上の電極パッド（最上層配線１７０の一部）が、ボンディングワイヤ４００を介してリード５００に接続される。
【００５５】
更に、図９Ｌに示されるように、モールド樹脂６００によって半導体装置が封止される。このとき、バンプ３００によってモールド樹脂６００の侵入が阻止される。また、モールド樹脂６００の封止の際、窒素、アルゴン、ヘリウム等の不活性ガス雰囲気下若しくは空気雰囲気下で封止することで、空間４０にガスを封入する。それにより、ガス式加速度センサ１０の空間４０が形成される。つまり、モールド樹脂６００が、図６で示されたサイドフィル２５０となる。
【００５６】
サイドフィル２５０の形成方法は、上記の手法に限られない。図１０Ａ〜図１０Ｄを参照して、変形例を説明する。
【００５７】
上記の図９Ｊで示された構造が得られた後、図１０Ａに示されるように、ポリイミド３５０が塗布される。このポリイミド３５０は感光性である。このとき、バンプ３００によってポリイミド３５０の侵入が阻止される。また、ポリイミド塗布の際、窒素、アルゴン、ヘリウム等の不活性ガス雰囲気下若しくは空気雰囲気下で塗布することで、空間４０にガスを封入する。それにより、ガス式加速度センサ１０の空間４０が形成される。
【００５８】
続いて、図１０Ｂに示されるように、光露光によりポリイミド３５０が部分的に除去される。具体的には、ベースチップ１００の表面上の電極パッドの部分のポリイミド３５０が除去される。また、この時、キャップチップ２００のシリコン基板２１０上のポリイミド３５０も除去される。このようにして残ったポリイミド３５０が、図６で示されたサイドフィル２５０となる。
【００５９】
その後、ベースチップ１００とキャップチップ２００の積層構造はリードフレーム上にマウントされる。そして、図１０Ｃに示されるように、ベースチップ１００の表面上の電極パッド（最上層配線１７０の一部）が、ボンディングワイヤ４００を介してリード５００に接続される。
【００６０】
更に、図１０Ｄに示されるように、モールド樹脂６００によって半導体装置が封止される。
【００６１】
２．第２の実施の形態
上記の第１の実施の形態では、ヒータ２０が上側のキャップチップ２００に形成され、温度センサ３０が下側のベースチップ１００に形成されていた。この関係は逆であってもよい。すなわち、ヒータ２０が下側のベースチップ１００に形成され、温度センサ３０が上側のキャップチップ２００に形成されてもよい。第２の実施の形態では、この場合を説明する。尚、第１の実施の形態と重複する説明は適宜省略する。
【００６２】
図１１は、第２の実施の形態に係る半導体装置の構成を概念的に示す平面図である。図１２Ａは、図１１中の線Ａ−Ａ’に沿った断面構造を概念的に示している。図１２Ｂは、図１１中の線Ｂ−Ｂ’に沿った断面構造を概念的に示している。
【００６３】
図１２Ａに示されるように、ヒータ２０は、ベースチップ１００の表面１０１上に形成されており、空間４０に露出している。一方、第１温度センサ３０−１と第２温度センサ３０−２は、キャップチップ２００の表面２０１上に形成されており、空間４０に露出している。Ｘ方向において、第１温度センサ３０−１と第２温度センサ３０−２は、ヒータ２０を挟んで対向するように配置されている。また、Ｚ方向において、ヒータ２０の位置は、第１温度センサ３０−１及び第２温度センサ３０−２の位置と異なっている。
【００６４】
また、図１２Ｂに示されるように、上側のキャップチップ２００に形成された第１温度センサ３０−１は、接続部材３００と直接接触している。より詳細には、一対の接続部材３００がＹ方向において離間して設けられており、第１温度センサ３０−１（金属配線）の両端がその一対の接続部材３００のそれぞれと直接接触している。第２温度センサ３０−２も同様である。
【００６５】
このように、キャップチップ２００側に形成された温度センサ３０に対しては、ベースチップ１００から接続部材３００を介して直接信号を送ることができる。キャップチップ２００側の温度センサ３０が接続部材３００と直接接触していることは、その温度センサ３０が電極パッドの役割も兼ねていることを意味する。この場合、キャップチップ２００の表面２０１に電極パッドを別途形成したり、キャップチップ２００内部に配線を引き回したりする必要がない。従って、製造が容易であり、又、製造コストも削減される。
【００６６】
また、キャップチップ２００内には、温度センサ３０を制御するためのトランジスタや多層配線を形成する必要がない。従って、製造コストが削減される。また、キャップチップ２００内にトランジスタが形成されない場合、キャップチップ２００のシリコン基板２１０としてそれほど高品質、高価なものを用いなくてもよい。つまり、キャップチップ２００のシリコン基板２１０の品質は、トランジスタ１２０が形成されるベースチップ１００のシリコン基板１１０の品質より低くてもよい。このことも、製造コストの削減に寄与する。
【００６７】
加速度の検知に関しても、第１の実施の形態と同様である。本実施の形態に係る構成によっても、Ｘ方向とＺ方向の２方向の加速度を検知することができる。
【００６８】
３．第３の実施の形態
図１３は、第３の実施の形態に係る半導体装置の構成を概念的に示している。第１の実施の形態（図２Ａ参照）と比較して、ガス式加速度センサ１０は、更に、第３温度センサ３０−３及び第４温度センサ３０−４を構成要素として備えている。尚、第１の実施の形態と重複する説明は適宜省略する。
【００６９】
第１温度センサ３０−１と第２温度センサ３０−２がベースチップ１００側に形成されているのに対し、第３温度センサ３０−３と第４温度センサ３０−４はキャップチップ２００側に形成されている。より詳細には、第３温度センサ３０−３と第４温度センサ３０−４は、キャップチップ２００の表面２０１上に形成されており、空間４０に露出している。
【００７０】
Ｘ方向において、第３温度センサ３０−３と第４温度センサ３０−４は、ヒータ２０を挟んで対向するように配置されている。典型的には、第３温度センサ３０−３とヒータ２０との間隔は、第４温度センサ３０−４とヒータ２０との間隔と等しい。つまり、第３温度センサ３０−３と第４温度センサ３０−４は、ヒータ２０を中心として対称な位置に配置されている。また、Ｘ方向の位置が、第１温度センサ３０−１と第３温度センサ３０−３とで同じであり、また、第２温度センサ３０−２と第４温度センサ３０−４とで同じであってもよい。つまり、第１温度センサ３０−１と第３温度センサ３０−３が対向しており、また、第２温度センサ３０−２と第４温度センサ３０−４が対向していてもよい。
【００７１】
また、ヒータ２０の場合と同様に、第３温度センサ３０−３及び第４温度センサ３０−４のそれぞれも接続部材３００に直接接触するように形成されていることが好ましい。
【００７２】
図１４は、半導体装置に「−Ｚ方向の加速」がかかった状態を概念的に示している。この場合、空間４０内のガスは、半導体装置の動きに追従できない。そのため、空間４０内においては、加速方向Ａ（−Ｚ方向）とは逆方向（＋Ｚ方向）にガスの流れ（相対的な動き）が発生する。結果として、第１温度センサ３０−１と第２温度センサ３０−２の両方の位置で温度が低下する。一方、第３温度センサ３０−３と第４温度センサ３０−４の両方の位置では温度が上昇する。このような温度変化のパターンの検出から、「−Ｚ方向の加速」を検知することができる。
【００７３】
特に、本実施の形態では、対向する第１温度センサ３０−１（第２温度センサ３０−２）と第３温度センサ３０−３（第４温度センサ３０−４）との間で測定温度の差分を取ることによって、温度変化のパターンをよりクリアに検出することが可能となる。このような絶対値ではなく差分に基づく方式によって、ガス式加速度センサ１０の感度及び精度が向上する。例えば、周辺環境の変化によりオフセット値が変動した場合であっても、差分に基づく本方式であれば、正確な加速度検知が可能となる。
【００７４】
尚、第２の実施の形態と第３の実施の形態の組み合わせも可能である。
【００７５】
４．第４の実施の形態
図１５は、第４の実施の形態に係る半導体装置の構成を概念的に示している。第１の実施の形態（図２Ａ参照）と比較して、ガス式加速度センサ１０は、２つのヒータ２０（第１ヒータ２０Ａと第２ヒータ２０Ｂ）を構成要素として備えている。尚、第１の実施の形態と重複する説明は適宜省略する。
【００７６】
第１ヒータ２０Ａは、キャップチップ２００側に形成されており、第１の実施の形態におけるヒータ２０と同じである。
【００７７】
一方、第２ヒータ２０Ｂは、ベースチップ１００側に形成されている。より詳細には、第２ヒータ２０Ｂは、ベースチップ１００の表面１０１上に形成されており、空間４０に露出している。Ｘ方向において、第１温度センサ３０−１と第２温度センサ３０−２は、第２ヒータ２０Ｂを挟んで対向するように配置されている。また、第１ヒータ２０Ａと第２ヒータ２０Ｂは対向するように設けられていてもよい。
【００７８】
図１６は、半導体装置に「−Ｚ方向の加速」がかかった状態を概念的に示している。この場合、空間４０内のガスは、半導体装置の動きに追従できない。そのため、空間４０内においては、加速方向Ａ（−Ｚ方向）とは逆方向（＋Ｚ方向）にガスの流れ（相対的な動き）が発生する。
【００７９】
ここで、本実施の形態では、図１７に示されるように、第１ヒータ２０Ａと第２ヒータ２０Ｂは、交互に通電（ＯＮ）される。つまり、第１ヒータ２０ＡがＯＮのとき、第２ヒータ２０ＢはＯＦＦであり、第１ヒータ２０ＡがＯＦＦのとき、第２ヒータ２０ＢはＯＮである。第１ヒータ２０ＡがＯＮしている場合、第１ヒータ２０Ａは温度センサ３０から離れた位置にあるため、Ｚ方向の加速が印加された際に温度センサ３０で検出される温度変化は大きい。一方、第２ヒータ２０ＢがＯＮしている場合、第２ヒータ２０Ｂは温度センサ３０の真横にあるため、Ｚ方向の加速が印加された際に温度センサ３０で検出される温度変化は小さい。
【００８０】
従って、両者の場合の測定温度の差分を取ることによって、温度変化のパターンをよりクリアに検出することが可能となる。このような絶対値ではなく差分に基づく方式によって、ガス式加速度センサ１０の感度及び精度が向上する。例えば、周辺環境の変化によりオフセット値が変動した場合であっても、差分に基づく本方式であれば、正確な加速度検知が可能となる。
【００８１】
尚、矛盾しない限りにおいて、本実施の形態を既出の実施の形態と組み合わせることも可能である。
【００８２】
５．第５の実施の形態
第５の実施の形態では、半導体装置に、複数のガス式加速度センサ１０が設けられる。ここでは、例として、２個のガス式加速度センサ１０（第１ガス式加速度センサ１０−１と第２ガス式加速度センサ１０−２）が設けられている場合を考える。尚、第１の実施の形態と重複する説明は適宜省略する。
【００８３】
図１８に示されるように、単一のベースチップ１００上に２つのキャップチップ２００（第１キャップチップ２００−１と第２キャップチップ２００−２）がマウントされている。第１キャップチップ２００−１の周囲はサイドフィル２５０−１で囲まれており、第２キャップチップ２００−２の周囲はサイドフィル２５０−２で囲まれている。これら第１キャップチップ２００−１と第２キャップチップ２００−２が、それぞれ、第１ガス式加速度センサ１０−１と第２ガス式加速度センサ１０−２に対応する。
【００８４】
より詳細には、第１ガス式加速度センサ１０−１のヒータ２０が、第１キャップチップ２００−１に形成されている。一方、第２ガス式加速度センサ１０−２のヒータ２０が、第２キャップチップ２００−２に形成されている。第１ガス式加速度センサ１０−１の温度センサ３０及び第２ガス式加速度センサ１０−２の温度センサ３０は、単一のベースチップ１００に形成されている。第１ガス式加速度センサ１０−１と第２ガス式加速度センサ１０−２のそれぞれの動作は、第１の実施の形態の場合と同じである。
【００８５】
図１８で示される例では、第１ガス式加速度センサ１０−１と第２ガス式加速度センサ１０−２の各々が、Ｘ方向とＺ方向の２方向の加速度を検知することができるように配置されている。第１ガス式加速度センサ１０−１と第２ガス式加速度センサ１０−２のそれぞれによる検知結果を用いることによって、例えば補正処理を行うことが可能となる。
【００８６】
他の例として、加速度を検知可能な方向が、第１ガス式加速度センサ１０−１と第２ガス式加速度センサ１０−２とで異なっていてもよい。図１９に示される例では、加速度を検知可能な面内方向が、第１ガス式加速度センサ１０−１と第２ガス式加速度センサ１０−２とで異なっている（交差している）。より詳細には、第１ガス式加速度センサ１０−１は、Ｘ方向とＺ方向の２方向の加速度を検知することができるように配置されている。それに対し、第２ガス式加速度センサ１０−２は、Ｙ方向とＺ方向の２方向の加速度を検知することができるように配置されている。これにより、全方向の加速度を検知することが可能となる。
【００８７】
尚、矛盾しない限りにおいて、本実施の形態を既出の実施の形態と組み合わせることも可能である。
【００８８】
６．第６の実施の形態
第６の実施の形態では、上記の第５の実施の形態と同様に、半導体装置に、複数のガス式加速度センサ１０が設けられる。但し、第５の実施の形態とは異なり、単一のベースチップ１００と単一のキャップチップ２００を用いて複数のガス式加速度センサ１０が形成される。尚、第５の実施の形態と重複する説明は適宜省略する。
【００８９】
図２０に示されるように、単一のベースチップ１００上に単一のキャップチップ２００がマウントされている。キャップチップ２００の周囲はサイドフィル２５０で囲まれている。第１ガス式加速度センサ１０−１のヒータ２０と第２ガス式加速度センサ１０−２のヒータ２０は、単一のキャップチップ２００に形成されている。第１ガス式加速度センサ１０−１の温度センサ３０及び第２ガス式加速度センサ１０−２の温度センサ３０は、単一のベースチップ１００に形成されている。
【００９０】
ここで、第１ガス式加速度センサ１０−１と第２ガス式加速度センサ１０−２のそれぞれを独立して動作させるためには、それぞれの空間４０を確保する必要がある。そのために、本実施の形態によれば、第１ガス式加速度センサ１０−１と第２ガス式加速度センサ１０−２との間に、第１ガス式加速度センサ１０−１と第２ガス式加速度センサ１０−２を隔離するための「パーティション」が形成される。
【００９１】
パーティションとして、絶縁膜が形成されてもよい。あるいは、バンプ３００を利用することによりパーティションが形成されてもよい。具体的には、図２０に示されるように、隙間なく一列に配置された複数のバンプ３００によって「バンプ列３００Ａ」が形成される。このバンプ列３００Ａがパーティションとして用いられてもよい。尚、バンプ例３００Ａは導電性であるため、バンプ列３００Ａとベースチップ１００側の温度センサ３０とが接触しないように注意する必要がある。また、バンプ列３００Ａは隣接するガス式加速度センサに影響しないのであれば、多少の隙間があるように並んでいてもよい。
【００９２】
図２０で示される例では、第１ガス式加速度センサ１０−１と第２ガス式加速度センサ１０−２の各々が、Ｘ方向とＺ方向の２方向の加速度を検知することができるように配置されている。第１ガス式加速度センサ１０−１と第２ガス式加速度センサ１０−２のそれぞれによる検知結果を用いることによって、例えば補正処理を行うことが可能となる。
【００９３】
他の例として、加速度を検知可能な方向が、第１ガス式加速度センサ１０−１と第２ガス式加速度センサ１０−２とで異なっていてもよい。図２１に示される例では、加速度を検知可能な面内方向が、第１ガス式加速度センサ１０−１と第２ガス式加速度センサ１０−２とで異なっている（交差している）。より詳細には、第１ガス式加速度センサ１０−１は、Ｘ方向とＺ方向の２方向の加速度を検知することができるように配置されている。それに対し、第２ガス式加速度センサ１０−２は、Ｙ方向とＺ方向の２方向の加速度を検知することができるように配置されている。これにより、全方向の加速度を検知することが可能となる。
【００９４】
尚、矛盾しない限りにおいて、本実施の形態を既出の実施の形態と組み合わせることも可能である。
【００９５】
以上、本発明者によってなされた発明を実施の形態に基づき具体的に説明したが、本発明は前記実施の形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能であることはいうまでもない。
【図１】
2014041648.tif 000003
【図２Ａ】
2014041648.tif 000004
【図２Ｂ】
2014041648.tif 000005
【図２Ｃ】
2014041648.tif 000006
【図３】
2014041648.tif 000007
【図４Ａ】
2014041648.tif 000008
【図４Ｂ】
2014041648.tif 000009
【図５Ａ】
2014041648.tif 000010
【図５Ｂ】
2014041648.tif 000011
【図６】
2014041648.tif 000012
【図７】
2014041648.tif 000013
【図８】
2014041648.tif 000014
【図９Ａ】
2014041648.tif 000015
【図９Ｂ】
2014041648.tif 000016
【図９Ｃ】
2014041648.tif 000017
【図９Ｄ】
2014041648.tif 000018
【図９Ｅ】
2014041648.tif 000019
【図９Ｆ】
2014041648.tif 000020
【図９Ｇ】
2014041648.tif 000021
【図９Ｈ】
2014041648.tif 000022
【図９Ｉ】
2014041648.tif 000023
【図９Ｊ】
2014041648.tif 000024
【図９Ｋ】
2014041648.tif 000025
【図９Ｌ】
2014041648.tif 000026
【図１０Ａ】
2014041648.tif 000027
【図１０Ｂ】
2014041648.tif 000028
【図１０Ｃ】
2014041648.tif 000029
【図１０Ｄ】
2014041648.tif 000030
【図１１】
2014041648.tif 000031
【図１２Ａ】
2014041648.tif 000032
【図１２Ｂ】
2014041648.tif 000033
【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【手続補正書】
【提出日】平成27年10月2日(2015.10.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ヒータ、第１温度センサ及び第２温度センサを構成要素として含むガス式加速度センサと、
前記構成要素のうち前記ヒータが第１表面に形成された第１チップと、
前記構成要素のうち前記第１温度センサと前記第２温度センサが第２表面に形成された第２チップと、
前記第１チップと前記第２チップとを電気的に接続する接続部材と
を備え、
前記第１チップと前記第２チップは、前記第１表面と前記第２表面が対向するように、前記接続部材を介して積層されており、
前記第１チップと前記第２チップの積層方向において、前記ヒータの位置は、前記第１温度センサ及び前記第２温度センサの位置と異なっており、
前記積層方向に直交する第１面内方向において、前記第１温度センサと前記第２温度センサは、前記ヒータを挟んで対向するように配置されており、
前記第１チップと前記第２チップのうち一方が、ベースチップであり、
前記第１チップと前記第２チップのうち他方が、前記ベースチップ上に積層されたキャップチップであり、
前記キャップチップに形成された前記ガス式加速度センサの前記構成要素は、前記接続部材と直接接触しており、
前記ベースチップ上と前記キャップチップ上には絶縁層が形成されており、前記ベースチップ上の絶縁層の層数は前記キャップチップ上の絶縁層の層数より多い
半導体装置。
【請求項２】
請求項１に記載の半導体装置であって、
前記第１チップが前記キャップチップであり、
前記第２チップが前記ベースチップである
半導体装置。
【請求項３】
請求項１に記載の半導体装置であって、
前記キャップチップの半導体基板の欠陥密度は、前記ベースチップの半導体基板の欠陥密度よりも高い
半導体装置。
【請求項４】
請求項３に記載の半導体装置であって、
前記ベースチップはトランジスタを有し、
前記キャップチップはトランジスタを有さない
半導体装置。
【請求項５】
請求項１に記載の半導体装置であって、
前記接続部材はバンプである
半導体装置。
【請求項６】
請求項１に記載の半導体装置であって、
前記積層方向と直交し且つ前記第１面内方向と交差する方向は、第２面内方向であり、
前記ガス式加速度センサの前記構成要素は、前記第２面内方向に延在するように形成された金属配線である
半導体装置。
【請求項７】
請求項６に記載の半導体装置であって、
前記接続部材は、前記第２面内方向において離間して設けられた一対の接続部材を含み、
前記キャップチップに形成された前記ガス式加速度センサの前記構成要素の各々は、前記一対の接続部材と直接接触している
半導体装置。
【請求項８】
請求項１に記載の半導体装置であって、
前記ガス式加速度センサは、更に、第３温度センサと第４温度センサを前記構成要素として含み、
前記第３温度センサ及び前記第４温度センサは、前記第１チップの前記第１表面に形成されており、
前記第１面内方向において、前記第３温度センサと前記第４温度センサは、前記ヒータを挟んで対向するように配置されている
半導体装置。
【請求項９】
請求項１に記載の半導体装置であって、
前記ガス式加速度センサは、更に、他のヒータを前記構成要素として含み、
前記他のヒータは、前記第２チップの前記第２表面に形成されており、
前記第１面内方向において、前記第１温度センサと前記第２温度センサは、前記他のヒータを挟んで対向するように配置されている
半導体装置。
【請求項１０】
請求項９に記載の半導体装置であって、
前記ヒータと前記他のヒータは交互に通電される
半導体装置。
【請求項１１】
請求項１に記載の半導体装置であって、
前記ガス式加速度センサの数は複数であり、
前記複数のガス式加速度センサの各々が、前記構成要素を含んでいる
半導体装置。
【請求項１２】
請求項１１に記載の半導体装置であって、
前記複数のガス式加速度センサは、第１ガス式加速度センサと第２ガス式加速度センサとを含み、
前記第１ガス式加速度センサに関する前記第１面内方向は、前記第２ガス式加速度センサに関する前記第１面内方向と交差している
半導体装置。
【請求項１３】
請求項１１に記載の半導体装置であって、
前記キャップチップの数は複数であり、
前記複数のキャップチップのそれぞれが前記複数のガス式加速度センサに対応している
半導体装置。
【請求項１４】
請求項１１に記載の半導体装置であって、
前記複数のガス式加速度センサ間には、前記複数のガス式加速度センサのそれぞれを隔離するパーティションが形成されている
半導体装置。
【請求項１５】
請求項１４に記載の半導体装置であって、
前記パーティションは、複数のバンプで形成されている
半導体装置。
【請求項１６】
半導体装置の製造方法であって、
前記半導体装置は、ヒータ、第１温度センサ及び第２温度センサを構成要素として含むガス式加速度センサを備え、
前記製造方法は、
第１チップの第１表面上に、前記構成要素のうち前記ヒータを形成する工程と、
第２チップの第２表面上に、前記構成要素のうち前記第１温度センサと前記第２温度センサを形成する工程と、
前記第１チップと前記第２チップを、前記第１表面と前記第２表面が対向するように、接続部材を介してフリップ接続する工程と
を含み、
前記第１チップと前記第２チップの積層方向において、前記ヒータの位置は、前記第１温度センサ及び前記第２温度センサの位置と異なっており、
前記積層方向に直交する第１面内方向において、前記第１温度センサと前記第２温度センサは、前記ヒータを挟んで対向するように配置され、
前記第１チップと前記第２チップのうち一方が、ベースチップであり、
前記第１チップと前記第２チップのうち他方が、前記ベースチップ上に積層されたキャップチップであり、
前記キャップチップに形成された前記ガス式加速度センサの前記構成要素は、前記接続部材と直接接触し、
前記ベースチップ上と前記キャップチップ上には絶縁層が形成されており、前記ベースチップ上の絶縁層の層数は前記キャップチップ上の絶縁層の層数より多い
半導体装置の製造方法。
【国際調査報告】
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