【手続補正書】
【提出日】平成27年4月28日(2015.4.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電離放射線硬化性を有する樹脂が含まれる塗膜を帯状の支持体上に形成し、前記支持体を搬送しつつ電離放射線を照射して前記塗膜を硬化させる塗膜硬化方法であって、
前記塗膜を、設定された加熱温度設定値に基づき加熱する加熱工程と、
前記支持体の加熱後に、電離放射線を前記塗膜に照射する電離放射線照射工程と、
前記電離放射線の照射後に、前記塗膜の表面温度を測定する表面温度測定工程と、
測定された前記表面温度に応じて、前記加熱温度設定値を変更する加熱温度制御工程と、を含む塗膜硬化方法。
【請求項２】
請求項１記載の塗膜硬化方法であって、
前記加熱工程は、前記支持体の搬送方向に直交する支持体幅方向に沿った複数箇所の加熱領域を、それぞれに設定された前記加熱温度設定値に基づき個別に加熱し、
前記表面温度測定工程は、前記支持体幅方向に沿った前記塗膜の表面温度分布を測定し、
前記加熱温度制御工程は、測定された前記表面温度分布に応じて、前記加熱領域それぞれの前記加熱温度設定値を変更する塗膜硬化方法。
【請求項３】
請求項２記載の塗膜硬化方法であって、
前記加熱温度制御工程は、前記支持体幅方向の両端部における前記加熱領域に対して、他の加熱領域より高い前記加熱温度設定値に変更する塗膜硬化方法。
【請求項４】
請求項２又は請求項３記載の塗膜硬化方法であって、
前記加熱温度制御工程は、前記塗膜に電離放射線を出射する出射窓からの前記支持体幅方向距離に応じて、前記加熱温度設定値を変更する塗膜硬化方法。
【請求項５】
請求項４記載の塗膜硬化方法であって、
前記加熱温度制御工程は、前記電離放射線の強度が相対的に高い領域に対しては前記加熱温度設定値を低くし、相対的に低い領域に対しては前記加熱温度設定値を高く変更する塗膜硬化方法。
【請求項６】
請求項１乃至請求項５のいずれか一項記載の塗膜硬化方法であって。
前記加熱工程は、前記加熱温度設定値に基づき温度制御された不活性ガスを前記塗膜に吹き付ける塗膜硬化方法。
【請求項７】
請求項６記載の塗膜硬化方法であって、
前記不活性ガスが窒素ガスである塗膜硬化方法。
【請求項８】
請求項１乃至請求項７のいずれか一項記載の塗膜硬化方法であって、
前記電離放射線は電子線である塗膜硬化方法。
【請求項９】
請求項１乃至請求項８のいずれか一項記載の塗膜硬化方法により硬化させた前記塗膜上に、磁性層を形成して磁気記録媒体を製造する磁気記録媒体製造方法。
【請求項１０】
電離放射線硬化性を有する樹脂が含まれる塗膜を帯状の支持体上に形成し、前記支持体を搬送しつつ電離放射線を照射して前記塗膜を硬化させる塗膜硬化装置であって、
前記塗膜を、設定された加熱温度設定値に基づき加熱する加熱部と、
電離放射線を前記塗膜に照射する電離放射線照射部と、
前記電離放射線の照射後における前記塗膜の表面温度を測定する表面温度測定部と、
測定された前記表面温度に応じて、前記加熱温度設定値を変更する加熱温度制御部と、を備える塗膜硬化装置。
【請求項１１】
請求項１０記載の塗膜硬化装置であって、
前記加熱部は、前記支持体の搬送方向に直交する支持体幅方向に沿った複数箇所に配置され、それぞれに設定された前記加熱温度設定値に基づき個別に加熱する分割加熱器を有し、
前記表面温度測定部は、前記支持体幅方向に沿った前記塗膜の表面温度分布を測定する温度センサを有し、
前記加熱温度制御部は、測定された前記表面温度分布に応じて、前記分割加熱器それぞれの前記加熱温度設定値を変更する塗膜硬化装置。
【請求項１２】
請求項１１記載の塗膜硬化装置であって、
前記表面温度測定部は、前記支持体幅方向の異なる位置で前記塗膜の表面温度を測定する複数の温度センサを有する塗膜硬化装置。
【請求項１３】
請求項１２記載の塗膜硬化装置であって、
前記複数の温度センサは、前記分割加熱器の前記支持体幅方向に対する各配置位置に対応して配置され、
前記加熱温度制御部は、前記分割加熱器それぞれの前記加熱温度設定値を、当該分割加熱器に対して前記支持体幅方向で対応する位置に配置された前記温度センサによる表面温度測定結果に応じて変更する塗膜硬化装置。
【請求項１４】
請求項１２又は請求項１３記載の塗膜硬化装置であって、
前記電離放射線照射部は、前記支持体幅方向に沿って、電離放射線が出射される複数の出射窓を有し、
前記出射窓の前記支持体幅方向の位置に対応して配置される前記分割加熱器を第１分割加熱器、前記第１分割加熱器同士の間に配置される前記分割加熱器を第２分割加熱器とした場合に、
前記加熱温度制御部は、前記第２分割加熱器に対する前記加熱温度設定値を、前記第１分割加熱器に対する前記加熱温度設定値より高くする塗膜硬化装置。
【請求項１５】
請求項１１乃至請求項１４のいずれか一項記載の塗膜硬化装置であって、
前記分割加熱器は、前記加熱温度設定値に基づいて不活性ガスを加熱するヒータと、前記ヒータにより加熱された不活性ガスを前記支持体に向けて噴射供給するノズルと、を有する塗膜硬化装置。
【請求項１６】
請求項１５記載の塗膜硬化装置であって、
前記不活性ガスが窒素ガスである塗膜硬化装置。
【請求項１７】
請求項１０乃至請求項１６のいずれか一項記載の塗膜硬化装置であって、
前記電離放射線照射部は、電子線を照射する塗膜硬化装置。
【請求項１８】
請求項１０乃至請求項１７のいずれか一項記載の塗膜硬化装置と、
前記支持体上に前記塗膜を形成する塗膜形成部と、
硬化させた前記塗膜上に、磁性層を形成する磁性層形成部と、を備える磁気記録媒体製造装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１１６】
以上の通り、本明細書には次の事項が開示されている。
（１）電離放射線硬化性を有する樹脂が含まれる塗膜を帯状の支持体上に形成し、上記支持体を搬送しつつ電離放射線を照射して上記塗膜を硬化させる塗膜硬化方法であって、
上記塗膜を、設定された加熱温度設定値に基づき加熱する加熱工程と、
上記支持体の加熱後に、電離放射線を上記塗膜に照射する電離放射線照射工程と、
上記電離放射線の照射後に、上記塗膜の表面温度を測定する表面温度測定工程と、
測定された上記表面温度に応じて、上記加熱温度設定値を変更する加熱温度制御工程と、を含む塗膜硬化方法。
この塗膜硬化方法によれば、酸素濃度や電離放射線の照射強度分布等の処理装置特有の影響を受けることなく、均等な硬化度の塗膜が高効率で得られる。
（２）  （１）記載の塗膜硬化方法であって、
上記加熱工程は、上記支持体の搬送方向に直交する支持体幅方向に沿った複数箇所の加熱領域を、それぞれに設定された上記加熱温度設定値に基づき個別に加熱し、
上記表面温度測定工程は、上記支持体幅方向に沿った上記塗膜の表面温度分布を測定し、
上記加熱温度制御工程は、測定された上記表面温度分布に応じて、上記加熱領域それぞれの上記加熱温度設定値を変更する塗膜硬化方法。
この塗膜硬化方法によれば、塗膜の表面温度が異なる場合に、加熱温度を補正することで塗膜の表面温度を均一にすることができ、これにより、支持体幅方向に均等な硬化度の塗膜が得られる。
（３）  （２）記載の塗膜硬化方法であって、
上記加熱温度制御工程は、上記支持体幅方向の両端部における上記加熱領域に対して、他の加熱領域より高い上記加熱温度設定値に変更する塗膜硬化方法。
この塗膜硬化方法によれば、同伴エアの影響により酸素濃度が高い支持体の幅方向両端部に対し、この支持体幅方向両端部の加熱温度を高めることで、硬化度不足を解消でき、硬化度の均等性が高められる。
（４）  （２）又は（３）記載の塗膜硬化方法であって、
上記加熱温度制御工程は、上記塗膜に電離放射線を出射する出射窓からの上記支持体幅方向距離に応じて、上記加熱温度設定値を変更する塗膜硬化方法。
この塗膜硬化方法によれば、支持体上の塗膜が、照射する電離放射線の強度分布に応じた加熱温度に加熱されることで、電離放射線の強度分布によらずに均等な硬化度となる。
（５）  （４）記載の塗膜硬化方法であって、
上記加熱温度制御工程は、上記電離放射線の強度が相対的に高い領域に対しては上記加熱温度設定値を低くし、相対的に低い領域に対しては上記加熱温度設定値を高く変更する塗膜硬化方法。
この塗膜硬化方法によれば、電離放射線の強度に応じて加熱温度を変更することで、塗膜の硬化度を支持体幅方向で均等にできる。
（６）  （１）乃至（５）のいずれか一項記載の塗膜硬化方法であって。
上記加熱工程は、上記加熱温度設定値に基づき温度制御された不活性ガスを上記塗膜に吹き付ける塗膜硬化方法。
この塗膜硬化方法によれば、加熱された不活性ガスを塗膜に吹き付けることにより、雰囲気中の酸素と塗膜中のラジカルとの反応を阻害しつつ均一に塗膜を加温させることができる。
（７）  （６）記載の塗膜硬化方法であって、
上記不活性ガスが窒素ガスである塗膜硬化方法。
この塗膜硬化方法によれば、窒素ガスを用いることで装置構成が簡単化できる。また、電離放射線照射雰囲気中の酸素濃度を増減調整する際に、空気（空気中の酸素）との混合率を制御することで済み、酸素濃度の調整が容易になる。
（８）  （１）乃至（７）のいずれか一項記載の塗膜硬化方法であって、
上記電離放射線は電子線である塗膜硬化方法。
この塗膜硬化方法によれば、非磁性塗布層に対する電離放射線のエネルギーが高いため、塗布速度を上げることができ、生産性が向上する。
（９）  （１）乃至（８）のいずれか一項記載の塗膜硬化方法により硬化させた上記塗膜上に、磁性層を形成して磁気記録媒体を製造する磁気記録媒体製造方法。
この磁気記録媒体製造方法によれば、磁気記録媒体の非磁性層膜を、安定して均等な硬化度にすることができ、これにより、磁性層を高精度に平滑化でき、高品質の磁気記録媒体を製造できる。
（１０）  電離放射線硬化性を有する樹脂が含まれる塗膜を帯状の支持体上に形成し、上記支持体を搬送しつつ電離放射線を照射して上記塗膜を硬化させる塗膜硬化装置であって、
上記塗膜を、設定された加熱温度設定値に基づき加熱する加熱部と、
電離放射線を上記塗膜に照射する電離放射線照射部と、
上記電離放射線の照射後における上記塗膜の表面温度を測定する表面温度測定部と、
測定された上記表面温度に応じて、上記加熱温度設定値を変更する加熱温度制御部と、を備える塗膜硬化装置。
この塗膜硬化装置によれば、酸素濃度や電離放射線の照射強度分布等の処理装置特有の影響を受けることなく、均等な硬化度の塗膜が高効率で得られる。
（１１）  （１０）記載の塗膜硬化装置であって、
上記加熱部は、上記支持体の搬送方向に直交する支持体幅方向に沿った複数箇所に配置され、それぞれに設定された上記加熱温度設定値に基づき個別に加熱する分割加熱器を有し、
上記表面温度測定部は、上記支持体幅方向に沿った上記塗膜の表面温度分布を測定する温度センサを有し、
上記加熱温度制御部は、測定された上記表面温度分布に応じて、上記分割加熱器それぞれの上記加熱温度設定値を変更する塗膜硬化装置。
この塗膜硬化装置によれば、塗膜の表面温度が異なる場合に、加熱温度を補正することで塗膜の表面温度を均一にすることができ、これにより、支持体幅方向に均等な硬化度の塗膜が得られる。
（１２）  （１１）記載の塗膜硬化装置であって、
上記表面温度測定部は、上記支持体幅方向の異なる位置で上記塗膜の表面温度を測定する複数の温度センサを有する塗膜硬化装置。
この塗膜硬化装置によれば、複数の温度センサを用いることで温度の測定精度が向上し、これにより塗膜の硬化度をより均等にできる。
（１３）  （１２）記載の塗膜硬化装置であって、
上記複数の温度センサは、上記分割加熱器の上記支持体幅方向に対する各配置位置に対応して配置され、
上記加熱温度制御部は、上記分割加熱器それぞれの上記加熱温度設定値を、その分割加熱器に対して上記支持体幅方向で対応する位置に配置された上記温度センサによる表面温度測定結果に応じて変更する塗膜硬化装置。
この塗膜硬化装置によれば、各分割加熱器の加熱温度設定値を、支持体幅方向に対応する位置となる温度センサの表面温度測定結果に応じて変更することで、高い応答性で簡単に温度制御が行える。
（１４）  （１２）又は（１３）記載の塗膜硬化装置であって、
上記電離放射線照射部は、上記支持体幅方向に沿って、電離放射線が出射される複数の出射窓を有し、
上記出射窓の上記支持体幅方向の位置に対応して配置される上記分割加熱器を第１分割加熱器、上記第１分割加熱器同士の間に配置される上記分割加熱器を第２分割加熱器とした場合に、
上記加熱温度制御部は、上記第２分割加熱器に対する上記加熱温度設定値を、上記第１分割加熱器に対する上記加熱温度設定値より高くする塗膜硬化装置。
この塗膜硬化装置によれば、出射窓間の電離放射線照射強度の相対的に低い部分についても、この電離放射線強度の低い部分の加熱温度を高めることで硬化度不足を解消でき、硬化度の均等性が高められる。
（１５）  （１１）乃至（１４）のいずれか一項記載の塗膜硬化装置であって、
上記分割加熱器は、上記加熱温度設定値に基づいて不活性ガスを加熱するヒータと、上記ヒータにより加熱された不活性ガスを上記支持体に向けて噴射供給するノズルと、を有する塗膜硬化装置。
この塗膜硬化装置によれば、加熱された不活性ガスを塗膜に吹き付けることにより、雰囲気中の酸素と塗膜中のラジカルとの反応を阻害しつつ均一に塗膜を加温させることができる。
（１６）  （１５）記載の塗膜硬化装置であって、
上記不活性ガスが窒素ガスである塗膜硬化装置。
この塗膜硬化装置によれば、窒素ガスを用いることで装置構成が簡単化できる。また、電離放射線照射雰囲気中の酸素濃度を調整する際に、空気（空気中の酸素）との混合率を制御することで済み、酸素濃度の調整が容易になる。
（１７）  （１０）乃至（１６）のいずれか一項記載の塗膜硬化装置であって、
上記電離放射線照射部は、電子線を照射する塗膜硬化装置。
この塗膜硬化装置によれば、非磁性塗布層に対する電離放射線のエネルギーが高いため、塗布速度を上げることができ、生産性が向上する。
（１８）  上記（１０）乃至（１７）のいずれか一項記載の塗膜硬化装置と、
上記支持体上に上記塗膜を形成する塗膜形成部と、
硬化させた上記塗膜上に、磁性層を形成する磁性層形成部と、
を備える磁気記録媒体製造装置。
この磁気記録媒体製造装置によれば、磁気記録媒体の非磁性層膜を、安定して均等な硬化度にすることができ、これにより、磁性層を高精度に平滑化でき、高品質の磁気記録媒体を製造できる。