【事件の表示】
　特願２０１７−５３００１１号「パターニングデバイス環境を有するリソグラフィ装置」拒絶査定不服審判事件〔平成２８年　７月　７日国際公開、ＷＯ２０１６／１０７７１８号、平成３０年　１月１１日国内公表、特表２０１８−５００５９６〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
第１　手続の経緯
　本願は、２０１５年１２月７日（パリ条約による優先権主張　外国庁受理　２０１４年１２月３１日、米国）を国際出願日とする出願であって、平成２９年７月３日に国際出願翻訳文（特許請求の範囲及び明細書）が提出され、平成３０年６月１３日付け（発送日　同年同月１９日）で拒絶理由が通知され、同年９月１８日付けで意見書が提出されたが、同年９月２７日付け（送達日　同年１０月１日）で拒絶査定がなされ、これに対し、平成３１年１月３１日に拒絶査定不服審判請求がなされるとともに、同時に手続補正がなされたものである
　
第２　平成３１年１月３１日になされた手続補正（以下「本件補正」という。）についての補正却下の決定
［補正却下の決定の結論］
　本件補正を却下する。
　
［理由］
１　補正の内容
　本件補正は、補正前（平成２９年７月３日に提出の国際出願翻訳文によるもの）の特許請求の範囲の請求項１につき、
「【請求項１】
　反射型パターニングデバイスを支持するように構築及び配置されたサポート構造であって、前記反射型パターニングデバイスが、照明ビームにパターンを付与してパターン付与された放射ビームを形成するように構成される、サポート構造と、
　前記反射型パターニングデバイスによって反射された前記パターン付与された放射ビームを受けるように構築及び配置され、かつ、前記パターン付与された放射ビームを基板上に投影するように構成された投影システムと、
　フレームであって、前記サポート構造が前記フレームに対して移動可能である、フレームと、
　前記フレームに結合されたガス供給ノズルであって、前記ガス供給ノズルからガスを供給するように構築及び配置され、前記反射型パターニングデバイスのパターニング領域の側部からガスを供給するように配置されたガス供給ノズルと、を備えるリソグラフィ装置。」
とあったものを、
「【請求項１】
　反射型パターニングデバイスを支持するように構築及び配置されたサポート構造であって、前記反射型パターニングデバイスが、
照明システムからの
　前記反射型パターニングデバイスによって反射された前記パターン付与された放射ビームを受けるように構築及び配置され、かつ、前記パターン付与された放射ビームを基板上に投影するように構成された投影システムと、
　フレームであって、前記サポート構造が前記フレームに対して移動可能である、フレームと、
　前記フレームに結合されたガス供給ノズルであって、前記ガス供給ノズルからガスを供給するように構築及び配置され、前記反射型パターニングデバイスのパターニング領域の側部からガスを供給するように配置され
、前記投影システムと前記サポート構造との間の空隙へと、および／または、前記照明システムと前記サポート構造との間の空隙へと突出している
、
　
前記ガス供給ノズルは、前記投影システムおよび／または前記照明システムに対して移動するように構成され
に補正する内容を含むものである（下線は請求人が付したものに基づいて当審が付したものであって、補正箇所を示すものである。）。　
　
２　新規事項について
（１）上記「１　補正の内容」によれば、本件補正は、本願補正発明において「前記ガス供給ノズルは、前記投影システムおよび／または前記照明システムに対して移動するように構成される」との構成（以下「構成Ｃ」という。）を付加する補正事項を含むものである。
　上記構成Ｃは「ガス供給ノズル」について、「投影システム」および／または「照明システム」対して「移動するように構成される」と特定する。
　本件補正発明は、上記構成Ｃとともに、「フレームであって、前記サポート構造が前記フレームに対して移動可能である、フレーム」であること（以下「構成Ａ」という。）、及び、「前記フレームに結合されたガス供給ノズル」であること（以下「構成Ｂ」という。）も発明特定事項とする。
　そうすると、本件補正発明は、「ガス供給ノズル」と「フレーム」に関して下記のとおりの事項を発明特定事項とする。
（ア）上記構成Ａから、「サポート構造」が「フレーム」に対して移動可能である。
（イ）上記構成Ｂから、「ガス供給ノズル」は「フレーム」に結合されている。
（ウ）上記構成Ｃから、「ガス供給ノズル」は「投影システム」および／または「照明システム」に対して移動するように構成される。
　
（２）請求人の主張する補正の根拠
　本件補正について、審判請求人は、平成３１年１月３１日の拒絶査定不服審判請求に係る「審判請求書」の【請求の理由】「３．本願発明が特許されるべき理由」「３−２．補正の根拠の明示」において、
「請求項１における補正事項『照明システムからの』は、請求項１３に基づいており、誤記の訂正であります。
　請求項１における補正事項『前記投影システムと前記サポート構造との間の空隙へと、および／または、前記照明システムと前記サポート構造との間の空隙へと突出しているガス供給ノズルと、を備え、
　前記ガス供給ノズルは、前記投影システムおよび／または前記照明システムに対して移動するように構成される』は、明細書段落００３５、００４３、００４４、００５１−００７９、図１等に基づいております。
　いずれも新規事項を追加するものではなく、特許法第１７条の２第５項各号に規定された要件も充足します。」、及び、　平成３０年９月１８日付けの請求人提出の意見書「【意見の内容】」「（２）理由１、２」の欄の２１〜２７行において、
「なお、本発明の『フレーム』とは、明細書段落００５２を参照しますと、『ベースフレームＢＦ』または『メトロロジーフレームＲＳ−ＭＦ』のことであります。本発明の上記下線部の構成により、本願では、明細書段落００５２に記載のように、ベースフレームＢＦまたはパターニングデバイスステージメトロロジフレームＲＳ−ＭＦのようなフレームにノズルを結合させることで、ノズルの振動が投影システムやセンサを保持する別のフレームに伝わるのを防止することができる、という有利な効果を有しております。」
と主張している。
　
（３）当初明細書等に記載された事項
　本件の出願当初の明細書、図面及び特許請求の範囲（以下「当初明細書等」という。）には、以下の事項が記載されている（下線は当審が付した。以下同じ。）。
（ア）「【００２０】
　[0034]　サポート構造ＭＴは、パターニングデバイスの向き、リソグラフィ装置の設計、及び、パターニングデバイスが真空環境内で保持されているか否かなどの他の条件に応じた態様で、パターニングデバイスＭＡを受け、かつ保持するための部分を備える。サポート構造は、機械式、真空式、静電式又はその他のクランプ技術を使って、パターニングデバイスを保持することができる。サポート構造は、例えば、必要に応じて固定又は可動式にすることができる
フレーム
投影システム
（イ）「【００３４】
　[0048]　図２に、本開示の一実施形態による装置を概略的に示す。図２の装置は、
照明システムＩＬ及び投影システムＰＳ
投影システムＰＳ
【００３５】
　[0049]　図２に、装置をどのように４つの異なる真空環境ＶＥ１からＶＥ４に分割することができるかを示す。第１のチャンバ１０１は、パターニングデバイスステージを密閉する第１の真空環境ＶＥ１を規定するが、分かり易くするために、パターニングデバイスステージのうちパターニングデバイスＭＡのみを示す。第１のチャンバ１０１は、２つのさらなる真空環境、すなわち、
照明システムＩＬ
投影システムＰＳ
投影ビームＰＢを照明システムＩＬ
投影システムＰＳ
（ウ）「【００４３】
　[0057]　図４及び図５に、それぞれ、パターニングデバイスアセンブリの概略側面図及び概略平面図をより詳細に示す。図４に示すように、一実施形態では、１つ又は複数のガス供給ノズル２００が、１つ又は複数のコネクタ２０１を介してガス供給源ＧＳに接続され、ガス供給源ＧＳから送られたガスを供給するように構築及び配置される。一実施形態では、複数のガスノズルが設けられる。ガスノズル２００のうちの少なくとも１つを、パターニングデバイスＭＡの一方の側部に配置してよい。一実施形態では、ガスノズル２００のうちの少なくとも１つがパターニングデバイスＭＡの一方の側部に配置され、ガスノズルのうちの別の少なくとも１つがパターニングデバイスＭＡの反対側の側部に配置される。すなわち、一実施形態では、ガス供給ノズル２００は、複数のガス供給ノズルのうちの少なくとも１つが反射型パターニングデバイスのパターニング領域の一方の側部にあり、複数のガス供給ノズルのうちの別の少なくとも１つがパターニング領域の反対側の側部にあるように配置される。ガス供給ノズル２００は、少なくとも１つのパターニングデバイスマスキングブレイドＲＥＢとパターニングデバイスの間の空間に、ガスを供給するように構成される。しかしながら、そのような構成における２つ（又はそれより多く）のガス供給ノズル２００の使用は、制限することを意図していないことが理解されるべきである。一実施形態によれば、単一の
ガス供給ノズル
フレームに結合して
【００４４】
　[0058]　図４の例示的実施形態では、ガスノズル２００がパターニングデバイスＭＡの両側部に設けられ、パターニングデバイスＭＡの表面に対して概ね平行な方向、すなわち図中の矢印の方向で、実質的にパターニングデバイスＭＡとブレイドＲＥＢ−Ｘ及びＲＥＢ−Ｙとの間の空間内にガス（特に、水素、ヘリウム、窒素、酸素又はアルゴン）を注入することができるように配置される。一実施形態では、ノズル２００はサポート構造ＭＴに対して水平に延在し、パターニングデバイスＭＡの表面に対して概ね水平な方向で、空間にガスを供給するように構築及び配置される。ガス供給ノズル２００は、例えば図４に示すように、少なくとも１つのパターニングデバイスマスキングブレイドＲＥＢの上方に設けることができる。」
（エ）「【００５１】
　[0065]　
ガス供給ノズル２００は、リソグラフィ装置内のフレームに結合される
フレーム
【００５２】
　[0066]　一実施形態では、
ガス供給ノズル２００は、別個のフレーム
に結合される
ガス供給ノズル２００が結合されるフレームは、パターニングデバイスステージメトロロジフレームＲＳ−ＭＦである
ガス供給ノズル２００は、ベースフレームＢＦに結合される
ガス供給ノズル２００
投影システムＰＳ
フレーム
ノズル
投影システムＰＳ
フレーム
（オ）「【００６４】
　[0078]　図８〜図１３に示す実施形態による
ガス供給ノズル２００は、リソグラフィ装置内のフレームに結合されてよい
フレーム
【００６５】
　[0079]　一実施形態では、図８〜図１３に示す
ガス供給ノズル２００は、別個のフレーム
に結合される
ガス供給ノズル２００が結合されるフレームは、パターニングデバイスステージフレームＲＳ−ＭＦである
ガス供給ノズル２００は、ベースフレームＢＦに結合される
（カ）「【００７０】
　[0084]　図面及び上記の説明は、全般に、複数のノズルを利用するシステムを図示及び説明しているが、リソグラフィ装置内で単一のノズルを実装及び使用してガスを供給してよいこともまた、本開示の範囲内である。本開示の一態様によれば、反射型パターニングデバイスを支持するように構築及び配置されたサポート構造を含むリソグラフィ装置が提供される。反射型パターニングデバイスは、照明ビームにパターンを付与してパターン付与された放射ビームを形成するように構成されている。この装置はまた、反射型パターニングデバイスによって反射されたパターン付与された放射ビームを受けるように構築及び配置され、かつこのパターン付与された放射ビームを基板上に投影するように構成された
投影システムと、フレームであって、サポート構造がこのフレームに対して移動可能である、フレームとを含む
ガス供給ノズルがフレームに結合され
（キ）図１ないし３は次のとおりである。
【図１】
　
【図２】
　
【図３】
　
（４）上記（３）によれば、構成Ｂの、「ガス供給ノズル」が結合される「フレーム」は、「パターニングデバイスステージフレームＲＳ−ＭＦ」、ないしは、「ベースフレームＢＦ」であるとされる。
（このことは、平成３０年９月１８日付けの請求人提出の意見書「【意見の内容】」「（２）理由１、２」の欄の２２〜２３行において、「なお、本発明の『フレーム』とは、明細書段落００５２を参照しますと、『ベースフレームＢＦ』または『メトロロジーフレームＲＳ−ＭＦ』のことであります。」と主張するとおりである。）
　しかしながら、上記「（３）」の記載、及び、当初明細書等の段落【００５３】〜【００６３】、【００６６】〜【００６９】、【００７１】〜【００７９】及び図２、４〜１５をみても、「メトロロジーフレームＲＳ−ＭＦ」が「投影システム」および／または「照明システム」に対して移動するように構成されることは記載されておらず、示唆する記載もない。
　また、上記「（３）」「（エ）」の段落【００５２】、及び、同「（オ）」の段落【００６５】によれば、構成Ｂの、「ガス供給ノズル」が結合される「フレーム」は、「別個のフレーム」であってもよいとされる。
　しかしながら、上記「（３）」の記載、及び、当初明細書等の段落【００５３】〜【００６３】、【００６６】〜【００６９】、【００７１】〜【００７９】及び図２、４〜１５をみても、上記「（３）」「（エ）」の段落【００５２】、及び、同「（オ）」の段落【００６５】でいうところの「別個のフレーム」が「投影システム」および／または「照明システム」に対して移動するように構成されることは記載されておらず、示唆する記載もない。
　同様に、上記「（３）」の記載、及び、当初明細書等の段落【００５３】〜【００６３】、【００６６】〜【００６９】、【００７１】〜【００７９】及び図２、４〜１５をみても、「ガス供給ノズル」が、「投影システム」および／または「照明システム」に対して移動するように構成されることは記載されておらず、示唆する記載もない。
　したがって、当初明細書等には、「前記ガス供給ノズルは、前記投影システムおよび／または前記照明システムに対して移動するように構成される」（上記「（１）」「構成Ｃ」）ことは記載されておらず、示唆する記載もないと認められる。
　
（５）以上の検討によれば、上記「前記ガス供給ノズルは、前記投影システムおよび／または前記照明システムに対して移動するように構成される」（構成Ｃ）との発明特定事項は、当初明細書等に記載されたものではない。
　よって、本件補正により追加された「前記ガス供給ノズルは、前記投影システムおよび／または前記照明システムに対して移動するように構成される」（構成Ｃ）は、当初明細書等には記載がなく、当初明細書等から自明でもないから、当初明細書等のすべての記載を総合することにより導かれる技術的事項との関係において、新たな技術的事項を導入するものである。
　したがって、本件補正は、当初明細書等に記載された事項の範囲内においてするものとはいえず、特許法１７条の２第３項に規定する要件を満たしていない。
　
３　独立特許要件について
（１）本件補正における、「前記投影システムと前記サポート構造との間の空隙へと、および／または、前記照明システムと前記サポート構造との間の空隙へと突出している」、「前記ガス供給ノズルは、前記投影システムおよび／または前記照明システムに対して移動するように構成される」は「ガス供給ノズル」について限定しており、当該補正は限定的減縮といえる。しかしながら、以下に検討するとおり、本件補正発明は、特許出願の際独立して特許を受けることができないものであるから、特許法第１７条の２第６項で準用する同法第１２６条第７項の規定に違反するものであり、同法第１５９条第１項で読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定により却下されるべきものである。
　
（２）刊行物の記載
ア　原査定の拒絶理由に引用された、本願の優先日前に頒布された刊行物である米国特許出願公開第２００７／０２８５６３２号明細書（以下「引用文献」という。）には、下記の事項が記載されている（仮訳は当審で作成した。）。
（ア）「Referring to wafer processing equipment, FIG. 1 illustrates a portion of one type of 
lithographic exposure system 50
（仮訳：ウェハ処理装置に関して、図１に
リソグラフィ露出システム５０
　
（イ）「
Reticle 52 can be mounted via a reticle chuck 56 on a reticle stage 58
Reticle stage 58 can be moveably coupled to a supporting reticle stage frame or base 60, which can be coupled to a main supporting frame 62 of lithography system 50
（仮訳：
レチクル５２はレチクルステージ５８にレチクルチャック５６を介して取り付けることができ
レチクルステージ５８は、リソグラフィ露出システム５０のメインサポートフレーム６２に取り付けられるレチクルステージ支持フレームまたはベース６０に移動可能に取り付けられ
　
（ウ）「
A projection-optical system 64 and substrate 54 can be disposed in the path of reflected patterned beam from reticle 52
Projection-optical system 64 can be coupled to a supporting projection-optical system frame 66, which can be coupled in fixed relation via vibration isolators 69 to main supporting frame 62
（仮訳：
投影光学システム６４と基板５４は、レチクル５２で反射したパターン化されたビーム光路に配置され
投影光学システム６４は、防振装置６９を介してメインサポートフレーム６２に固定された、投影光学システム支持フレーム６６に取り付けられ
　
（エ）「
On the left side of aperture frame 116, 
is a left-facing gas port 118, which emits a flow of gas 120 to the left past part of reticle 52 and skirt 114
Left-facing gas port 118 may be mounted to a reticle shield 124
（仮訳：図５における、
アパーチャーフレーム１１６の左側には、レチクル５２の左側の部分と端部１１４に向けてガスの流れ１２０を放出する左側ガスポート１１８が配置され
左側ガスポート１１８はレチクルシールド１２４に取り付け可能であ
　
（オ）「Positioning of gas ports 118 may be fixed, as when a gas port is attached to fixed reticle shield 122, or moveable, as when a gas port is attached to a retractable reticle shield 124.」（段落[0050]）
（仮訳：
ガスポート１１８の位置は、ガスポートをレチクルシールド１２２に固定して取り付ける場合は固定となり、ガスポートを伸縮自在のレチクルシールド１２４に固定して取り付ける場合は移動可能とな
　
（カ）「
The illumination beam 288 reflects from reticle 52 while acquiring an aerial image of the pattern portion defined in the illuminated portion of reticle 52
The resulting “patterned beam” is directed to an exposure-sensitive substrate 54, which upon exposure becomes imprinted with the pattern
（仮訳：
レチクル５２で反射した照明ビーム２８８は、レチクル５２上の照明した部分のパターンの空間像を得てい
結果として得られる「パターン化されたビーム」は、露光感光性の基板５４に向けられ、露光して当該パターンが焼き付けられ
　
（キ）「
Illumination beam 272 of EUV light emitted from illumination-optical system 268 may be reflected and focused by mirror 274, and reaches the reflective surface of reticle 52 via bending mirror 276
（仮訳：
照明光学システム２６８から放射されたＥＵＶ光の照明ビーム２７２は、ミラー２７４で反射するとともに焦点に集光され、曲げミラー２７６を介してレチクル５２の反射面に達
　
（ク）Ｆｉｇ．１、５及び１０は次のものである。
Ｆｉｇ．１
　
Ｆｉｇ．５
　
Ｆｉｇ．１０
　
（ケ）上記（ア）ないし（キ）の記載を踏まえて、上記（ク）の図１及び１０を見ると、レチクル５２は、投影光学システム６４とレチクルステージ５８の間に位置し、レチクル５２の反射面７４は投影光学システム６４の方向にあるとともに投影光学システム６４とレチクル５２の間に空隙があり、レチクル５２の他方の面はレチクルステージ５８に接触していて空隙がないことが見てとれる。
　また、上記（ア）ないし（キ）の記載を踏まえて、上記（ク）の図５を見ると、レチクル５２の反射面７４側の左右にはガスポート１１８があり、ガスポート１１８はレチクル５２の反射面７４の面の上にあることがみてとれる。
　
イ　引用発明
　上記アによれば、引用文献には、次の発明（以下「引用発明」という。）が記載されているものと認められる。
「レチクル５２はレチクルステージ５８にレチクルチャック５６を介して取り付けることができ、前記レチクルステージ５８は、リソグラフィ露出システム５０のメインサポートフレーム６２に取り付けられるレチクルステージ支持フレームまたはベース６０に移動可能に取り付けられ（段落[0008]）、
　投影光学システム６４と基板５４は、レチクル５２で反射したパターン化されたビーム光路に配置され、前記投影光学システム６４は、防振装置６９を介してメインサポートフレーム６２に固定された、投影光学システム支持フレーム６６に取り付けられ（段落[0009]）、
　アパーチャーフレーム１１６の左側には、レチクル５２の左側の部分と端部１１４に向けてガスの流れ１２０を放出する左側ガスポート１１８が配置され、前記左側ガスポート１１８はレチクルシールド１２４に取り付け可能であり（段落[0047]）、
　ガスポート１１８の位置は、ガスポートをレチクルシールド１２２に固定して取り付ける場合は固定となり、ガスポートを伸縮自在のレチクルシールド１２４に固定して取り付ける場合は移動可能となり（段落[0050]）、
　前記レチクル５２で反射した照明ビーム２８８は、レチクル５２上の照明した部分のパターンの空間像を得ていて、結果として得られるパターン化されたビームは、露光感光性の基板５４に向けられ、露光して当該パターンが焼き付けられ（段落[0066]）、
　照明光学システム２６８から放射されたＥＵＶ光の照明ビーム２７２は、ミラー２７４で反射するとともに焦点に集光され、曲げミラー２７６を介してレチクル５２の反射面に達し（段落[0074]）、
　前記レチクル５２は、投影光学システム６４とレチクルステージ５８の間に位置し、レチクル５２の反射面７４は投影光学システム６４の方向にあるとともに投影光学システム６４とレチクル５２の間に空間があり、レチクル５２の他方の面はレチクルステージ５８に接触していて空間がなく、前記レチクル５２の反射面７４側の左右にはガスポート１１８があり、ガスポート１１８はレチクル５２の反射面７４の面の上にある（上記「ア」「（ケ）」）、
　リソグラフィ露出システム５０（段落[0007]）。」
　
（３）対比・判断
ア　本件補正発明と引用発明とを対比する。
（ア）引用発明の「（反射したパターン化されたビーム光となす）レチクル５２」、「レチクルステージ５８」、「投影光学システム６４」、「基板５４」、「パターン化されたビーム光」、「左側ガスポート１１８」、「照明光学システム２６８から放射されたＥＵＶ光の照明ビーム２７２」及び「リソグラフィ露出システム５０」は、本願補正発明の「反射型パターニングデバイス」、「サポート構造」、「投影システム」、「基板」、「パターン付与された放射ビーム」、「ガス供給ノズル」、「照明システムからの照明ビーム」及び「リソグラフィ装置」にそれぞれ相当する。
　
（イ）引用発明の「レチクルステージ５８」は、「レチクル５２はレチクルステージ５８にレチクルチャック５６を介して取り付けることができ」るものであるから、「レチクルステージ５８」は、「レチクル５２」を「レチクルチャック５６を介して取り付ける」ものであるといえる。
　したがって、引用発明の「レチクル５２はレチクルステージ５８にレチクルチャック５６を介して取り付けることができ」る「レチクルステージ５８」は、本件補正発明の「反射型パターニングデバイスを支持するように構築及び配置されたサポート構造」に相当する。
　また、引用発明の「レチクル５２」は、「照明光学システム２６８から放射されたＥＵＶ光の照明ビーム２７２は、ミラー２７４で反射するとともに焦点に集光され、曲げミラー２７６を介してレチクル５２の反射面に達」し、「レチクル５２で反射したパターン化されたビーム光」をなすものであるから、「レチクル５２」は、「照明光学システム２６８から放射されたＥＵＶ光の照明ビーム２７２」を「パターン化されたビーム光」に形成するように構成されているといえる。
　したがって、引用発明の「照明光学システム２６８から放射されたＥＵＶ光の照明ビーム２７２は、ミラー２７４で反射するとともに焦点に集光され、曲げミラー２７６を介してレチクル５２の反射面に達」し、「レチクル５２で反射したパターン化されたビーム光」をなす「レチクル５２」は、本件補正発明の「照明システムからの照明ビームにパターンを付与してパターン付与された放射ビームを形成するように構成される」「反射型パターニングデバイス」に相当する。
　以上によれば、引用発明の「レチクル５２はレチクルステージ５８にレチクルチャック５６を介して取り付けることができ」、「照明光学システム２６８から放射されたＥＵＶ光の照明ビーム２７２は、ミラー２７４で反射するとともに焦点に集光され、曲げミラー２７６を介してレチクル５２の反射面に達」し、「レチクル５２で反射したパターン化されたビーム光」をなす、「レチクルステージ５８」は、本件補正発明の「反射型パターニングデバイスを支持するように構築及び配置されたサポート構造であって、前記反射型パターニングデバイスが、照明システムからの照明ビームにパターンを付与してパターン付与された放射ビームを形成するように構成される、サポート構造」に相当する。
　
（ウ）引用発明の「投影光学システム６４」は、「投影光学システム６４と基板５４は、レチクル５２で反射したパターン化されたビーム光路に配置され」、「前記レチクル５２で反射した照明ビーム２８８は、レチクル５２上の照明した部分のパターンの空間像を得ていて、結果として得られるパターン化されたビームは、露光感光性の基板５４に向けられ、露光して当該パターンが焼き付けられ」るものであるから、「投影光学システム６４」は、「レチクル５２で反射したパターン化されたビーム光」を受け、かつ、「反射したパターン化されたビーム光」を「基板５４」に投影するものであるといえる。
　したがって、引用発明の「投影光学システム６４と基板５４は、レチクル５２で反射したパターン化されたビーム光路に配置され」、「前記レチクル５２で反射した照明ビーム２８８は、レチクル５２上の照明した部分のパターンの空間像を得ていて、結果として得られるパターン化されたビームは、露光感光性の基板５４に向けられ、露光して当該パターンが焼き付けられ」る「投影光学システム６４」は、本件補正発明の「前記反射型パターニングデバイスによって反射された前記パターン付与された放射ビームを受けるように構築及び配置され、かつ、前記パターン付与された放射ビームを基板上に投影するように構成された投影システム」に相当する。
　
（エ）引用発明の「レチクルステージ５８」は、「前記レチクルステージ５８は、リソグラフィ露出システム５０のメインサポートフレーム６２に取り付けられるレチクルステージ支持フレームまたはベース６０に移動可能に取り付けられ」るものであるから、「レチクルステージ５８」が「メインサポートフレーム６２」及び「レチクルステージ支持フレームまたはベース６０」に対して移動可能であるといえる。
　したがって、引用発明の「前記レチクルステージ５８は、リソグラフィ露出システム５０のメインサポートフレーム６２に取り付けられるレチクルステージ支持フレームまたはベース６０に移動可能に取り付けられ」る「レチクルステージ支持フレームまたはベース６０」は、本願補正発明の「フレームであって、前記サポート構造が前記フレームに対して移動可能である、フレーム」に相当する。
　
（オ）引用発明の「左側ガスポート１１８」は、「アパーチャーフレーム１１６の左側には、レチクル５２の左側の部分と端部１１４に向けてガスの流れ１２０を放出する左側ガスポート１１８が配置され、前記左側ガスポート１１８はレチクルシールド１２４に取り付け可能であり」、「ガスポート１１８の位置は、ガスポートをレチクルシールド１２２に固定して取り付ける場合は固定となり、ガスポートを伸縮自在のレチクルシールド１２４に固定して取り付ける場合は移動可能とな」るものであるから、「左側ガスポート１１８」は、「伸縮自在のレチクルシールド１２４に固定して取り付け」られた「左側ガスポート１１８」であって、レチクル５２の左側の「左側ガスポート１１８」から「ガスの流れ１２０を放出する」ように構成され、「レチクル５２の左側の部分と端部１１４に向けてガスの流れ１２０を放出」するように配置されているといえる。
　したがって、引用発明の「アパーチャーフレーム１１６の左側には、レチクル５２の左側の部分と端部１１４に向けてガスの流れ１２０を放出する左側ガスポート１１８が配置され、前記左側ガスポート１１８はレチクルシールド１２４に取り付け可能であり」、「ガスポート１１８の位置は、ガスポートをレチクルシールド１２２に固定して取り付ける場合は固定となり、ガスポートを伸縮自在のレチクルシールド１２４に固定して取り付ける場合は移動可能とな」る「左側ガスポート１１８」は、本願補正発明の「前記ガス供給ノズルからガスを供給するように構築及び配置され、前記反射型パターニングデバイスのパターニング領域の側部からガスを供給するように配置され」る「ガス供給ノズル」に相当する。
　また、引用発明の「左側ガスポート１１８」は、「前記レチクル５２は、投影光学システム６４とレチクルステージ５８の間に位置し、レチクル５２の反射面７４は投影光学システム６４の方向にあるとともに投影光学システム６４とレチクル５２の間に空間があり、レチクル５２の他方の面はレチクルステージ５８に接触していて空間がなく、前記レチクル５２の反射面７４側の左右にはガスポート１１８があり、ガスポート１１８はレチクル５２の反射面７４の面の上にある」ものであるから、「投影光学システム６４」と「レチクルステージ５８」との空間に左右の「ガスポート１１８」が突出しているといえる。
　以上によれば、引用発明の「アパーチャーフレーム１１６の左側には、レチクル５２の左側の部分と端部１１４に向けてガスの流れ１２０を放出する左側ガスポート１１８が配置され、前記左側ガスポート１１８はレチクルシールド１２４に取り付け可能であり」、「ガスポート１１８の位置は、ガスポートをレチクルシールド１２２に固定して取り付ける場合は固定となり、ガスポートを伸縮自在のレチクルシールド１２４に固定して取り付ける場合は移動可能とな」り、「前記レチクル５２は、投影光学システム６４とレチクルステージ５８の間に位置し、レチクル５２の反射面７４は投影光学システム６４の方向にあるとともに投影光学システム６４とレチクル５２の間に空間があり、レチクル５２の他方の面はレチクルステージ５８に接触していて空間がなく、前記レチクル５２の反射面７４側の左右にはガスポート１１８があり、ガスポート１１８はレチクル５２の反射面７４の面の上にある」「左側ガスポート１１８」は、本願補正発明の「前記ガス供給ノズルからガスを供給するように構築及び配置され、前記反射型パターニングデバイスのパターニング領域の側部からガスを供給するように配置され、前記投影システムと前記サポート構造との間の空隙へと突出しているガス供給ノズル」に相当する。
　
（カ）引用発明の「ガスポート１１８」は、「左側ガスポート１１８はレチクルシールド１２４に取り付け可能であり」、「ガスポートを伸縮自在のレチクルシールド１２４に固定して取り付ける場合は移動可能とな」るものであるところ、当該「レチクルシールド１２４」の伸縮と「投影光学システム６４」が同期すべき理由はない。
　そうすると、「伸縮自在のレチクルシールド１２４に固定して取り付け」た「左側ガスポート１１８」は、「投影光学システム６４」に関係なく伸縮して移動可能なものであるといえる。
　したがって、引用発明の「左側ガスポート１１８はレチクルシールド１２４に取り付け可能であり」、「ガスポートを伸縮自在のレチクルシールド１２４に固定して取り付ける場合は移動可能とな」る「ガスポート１１８」は、本願補正発明の「前記投影システムに対して移動するように構成される」「ガス供給ノズル」に相当する
　
（キ）上記（ア）ないし（カ）によれば、本願補正発明と引用発明は、
「反射型パターニングデバイスを支持するように構築及び配置されたサポート構造であって、前記反射型パターニングデバイスが、照明システムからの照明ビームにパターンを付与してパターン付与された放射ビームを形成するように構成される、サポート構造と、
　前記反射型パターニングデバイスによって反射された前記パターン付与された放射ビームを受けるように構築及び配置され、かつ、前記パターン付与された放射ビームを基板上に投影するように構成された投影システムと、
　フレームであって、前記サポート構造が前記フレームに対して移動可能である、フレームと、
　前記ガス供給ノズルからガスを供給するように構築及び配置され、前記反射型パターニングデバイスのパターニング領域の側部からガスを供給するように配置され、前記投影システムと前記サポート構造との間の空隙へと突出しているガス供給ノズルと、を備え、
　前記ガス供給ノズルは、前記投影システムに対して移動するように構成されるリソグラフィ装置。」
の点で一致し、以下の点で相違するものと認められる。
＜相違点＞
　「ガス供給ノズル」が、本願補正発明では、「フレーム」に結合されるのに対し、引用発明では、「レチクルシールド１２４」に固定して取り付けられる点。
　
イ　判断
　上記相違点について検討する。
　引用発明の「レチクルシールド１２４」は、「リソグラフィ露出システム５０」に伸縮自在に設けられているものであるところ、「レチクルシールド１２４」が空中に浮いた状態で設けられることはあり得ず、「レチクルシールド１２４」が「リソグラフィ露出システム５０」の何らかの部材に結合した上で伸縮自在に設けられるものであることは、本願優先日当時の当業者にとって技術常識である。
　ここで、上記「（２）」「ア」「（ク）」の図５を踏まえると、「レチクルシールド１２４」は、「リソグラフィ露出システム５０」において「レチクル５２」や「メトロロジーフレーム６８」付近に配置されるものである。
　また、上記「（２）」「ア」「（ク）」の図１を踏まえると、「レチクルシールド１２４」を結合し得る部材としては、位置関係から見て、「防振装置６９」を介して「レチクルステージ支持フレームまたはベース６０」に設けられている「レチクルステージ５８」、「防振装置６９」を介して「主支持フレーム６２」に設けられている「メトロロジーフレーム６８」及び「レチクルステージ支持フレームまたはベース６０」が想定され得る。
　しかしながら、伸縮することで振動を生じ得る「レチクルシールド１２４」を結合する先としては、「防振装置６９」を介して「レチクルステージ支持フレームまたはベース６０」に設けられている「レチクルステージ５８」、あるいは、「防振装置６９」を介して「主支持フレーム６２」に設けられている「メトロロジーフレーム６８」よりも、「レチクルステージ支持フレームまたはベース６０」が適していることは当業者にとって明らかである。
　したがって、引用発明において「（左側ガスポート１１８が取り付けられた）レチクルシールド１２４」を「レチクルステージ支持フレームまたはベース６０」に結合することにより、上記相違点に係る本願補正発明の構成となすことは当業者が容易に想到し得ることである
　よって、本願補正発明は、引用発明に基いて当業者が容易に発明をすることができたものである。
　
ウ　請求人の主張
（ア）審判請求人は、審判請求書の「【請求の理由】」、「３．本願発明が特許されるべき理由」、「３−３．本願発明と引用文献との対比」の１３〜２７行において下記のとおり主張する。
「このように、本願のガス供給ノズルは、投影システム（ＰＳ）および／または照明システム（ＩＬ）に対して移動することを特徴とする構成となっております。
　これに対し、引用文献１では、審査官のご認定の通り、下の図５に示されておりますようにガスポート１１８は、レチクルシールド１２２を介してメトロロジーフレーム６８に固定されております。そして、引用文献１の図１に示されておりますように、メトロロジーフレーム６８は、投影光学システムサポートフレーム６６と、振動アイソレータ６９を介して、メインサポートフレーム６２に結合されております。さらに、引用文献１の投影光学システム６４もまた、投影光学システムサポートフレーム６６と、振動アイソレータ６９を介して、メインサポートフレーム６２に結合されております。これらを鑑みますと、引用文献１のガスポートが、投影光学システム６４等に対して移動することは物理的に不可能であると思料致します。さらに、引用文献１のガスポート１１８は、低コンダクタンスシールを提供するために、レチクル５２の近くに配置されることを前提としているため移動することはないものと考えます。このように、引用文献１のガスポートは本願のガス供給ノズルとは全く異なる構成を有しております。」
　
（イ）しかしながら、上記「ア」「（カ）」で検討したとおりであって、引用発明の「伸縮自在のレチクルシールド１２４に固定して取り付け」た「左側ガスポート１１８」は、「投影光学システム６４」に関係なく伸縮して移動可能なものであるといえるから、上記（ア）のレチクルシールド１２２に固定して取り付けたガスポート１１８についてのみ主張する請求人の主張は採用できない。
　
（４）むすび（補正の却下の決定のむすび）
　以上のとおり、本願補正発明は、引用発明に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項に該当し、特許を受けることができないから、特許出願の際独立して特許を受けることができないものである。
　
４　補正却下の決定についてのむすび
　上記２の検討によれば、本件補正は、特許法１７条の２第３項に規定する要件を満たしていないから、同法第１５９条第１項の規定において読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定により却下すべきものである。
　上記３の検討によれば、本件補正は、特許法第１７条の２第６項において準用する同法第１２６条第７項の規定に違反するものであるから、同法第１５９条第１項の規定において読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定により却下すべきものである。
　
第３　本願発明について
１　本願発明
　上記のとおり、本件補正は却下されたので、本願の特許請求の範囲の各請求項に係る発明は、平成２９年７月３日に提出の国際出願翻訳文による特許請求の範囲の請求項１ないし２９に記載されたとおりのものであるところ、その請求項１に係る発明（以下「本願発明」という。）は、前記「第２」［理由］「１　補正の内容」において、本件補正前のものとして示したとおりのものである。
　
２　刊行物の記載及び引用発明
　前記「第２」［理由］「３」「（２）」のとおりである。
　
３　対比・判断
　前記「第２」［理由］「１　補正の内容」のとおり、本件補正は、補正前の請求項１において、「照明ビーム」を「
照明システムからの
、前記投影システムと前記サポート構造との間の空隙へと、および／または、前記照明システムと前記サポート構造との間の空隙へと突出している
、
　
前記ガス供給ノズルは、前記投影システムおよび／または前記照明システムに対して移動するように構成され
　したがって、本願発明は、前記「第２」［理由］「３」「（３）」で検討した本願補正発明を特定するための事項である、「照明ビーム」に係り、「照明システムからの」との限定を省くとともに、「ガス供給ノズル」に係り、「前記投影システムと前記サポート構造との間の空隙へと、および／または、前記照明システムと前記サポート構造との間の空隙へと突出している」、及び、「前記ガス供給ノズルは、前記投影システムおよび／または前記照明システムに対して移動するように構成される」との限定を省いたものである。
　これに対して、前記「第２」［理由］「３」「（３）」で検討したとおり、本願補正発明は、引用発明に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項に該当し、特許を受けることができないから、特許出願の際独立して特許を受けることができないものである。
　そうすると、上記限定を省いた本願発明も引用発明に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項に該当し、特許を受けることができないものである。
　
４　むすび
　以上のとおり、本願発明は、引用発明に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項に該当し、特許を受けることができない。
　したがって、本願の他の請求項に係る発明について検討するまでもなく、本願は拒絶されるべきものである。
　
　よって、結論のとおり審決する。