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【手続補正書】
【提出日】平成26年12月15日(2014.12.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体デバイスパッケージを製作する方法であって、
第１の金属層に配置された誘電体膜を含む積層体を用意するステップであり、前記積層体が誘電体膜外面および第１の金属層外面を有する、ステップと、
所定のパターンに従って前記積層体を通って延在する複数のビアを形成するステップと、
半導体デバイスが取り付け後に１つまたは複数のビアと接触するように１つまたは複数の半導体デバイスを前記誘電体膜外面に取り付けるステップと、
前記第１の金属層外面および前記複数のビアの内面に導電層を配置して、前記第１の金属層および前記導電層を含む相互接続層を形成するステップと、
所定の回路構成に従って前記相互接続層をパターン形成して、パターン形成済み相互接続層を形成するステップであり、前記パターン形成済み相互接続層の一部分が、１つまたは複数のビアを通って延在し、前記半導体デバイスとの電気接点を形成する、ステップと、
を含む方法。
【請求項２】
前記パターン形成済み相互接続層が上部相互接続領域およびビア相互接続領域を含み、前記上部相互接続領域が前記ビア相互接続領域の厚さよりも大きい厚さを有する、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記ビア相互接続領域が、約１０ミクロンから約５０ミクロンの範囲の厚さを有する、請求項２に記載の方法。
【請求項４】
前記上部相互接続領域が、約５０ミクロンから約２００ミクロンの範囲の厚さを有する、請求項２に記載の方法。
【請求項５】
前記積層体が、フレームなしのものである、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
半導体デバイスパッケージを製作する方法であって、
第１の金属層と第２の金属層との間に挿入された誘電体膜を含む積層体を用意するステップであり、前記積層体が第１の金属層外面および第２の金属層外面を有する、ステップと、
所定のパターンに従って前記第２の金属層をパターン形成して、パターン形成済みの第２の金属層を形成するステップと、
所定のパターンに従って前記積層体を通って延在する複数のビアを形成するステップと、
１つまたは複数の半導体デバイスを前記パターン形成済みの第２の金属層の一部分の前記第２の金属層外面に取り付けるステップと、
前記第１の金属層外面および１つまたは複数のビアの内面に導電層を配置して、前記第１の金属層および前記導電層を含む相互接続層を形成するステップと、
所定の回路構成に従って前記相互接続層をパターン形成して、パターン形成済み相互接続層を形成するステップであり、前記パターン形成済み相互接続層の一部分が、１つまたは複数のビアを通って延在し、前記半導体デバイスとの電気接点を形成する、ステップと、
を含む方法。
【請求項７】
前記パターン形成済みの第２の金属層が、１つまたは複数のビアと整列する１つまたは複数のフィードスルー構造体をさらに含み、前記パターン形成済み相互接続層の一部分が、前記１つまたは複数のビアを通って延在し、前記１つまたは複数のフィードスルー構造体との電気接点を形成する、請求項６に記載の方法。
【請求項８】
前記複数のビアを形成する前に前記所定のビアパターンに従って前記第１の金属層をパターン形成するステップをさらに含む、請求項６に記載の方法。
【請求項９】
前記パターン形成済みの第２の金属層が複数のパターン形成済み領域をさらに含み、少なくとも２つのパターン形成済み領域が互いに異なる厚さを有する、請求項６に記載の方法。
【請求項１０】
複数の半導体デバイスを前記パターン形成済みの第２の金属層に取り付けるステップをさらに含み、少なくとも２つの半導体デバイスが互いに異なる厚さを有する、請求項６に記載の方法。
【請求項１１】
誘電体膜に配置された第１の金属層を含む積層体と、
所定のパターンに従って前記積層体を通って延在する複数のビアと、
半導体デバイスが１つまたは複数のビアと接触するように前記誘電体膜に取り付けられた１つまたは複数の半導体デバイスと、
前記誘電体膜に配置され、前記第１の金属層および導電層の１つまたは複数のパターン形成済み領域を含むパターン形成済み相互接続層であって、一部分が１つまたは複数のビアを通って延在し、前記半導体デバイスとの電気接点を形成するパターン形成済み相互接続層と、
を備え、
前記パターン形成済み相互接続層が、上部相互接続領域およびビア相互接続領域を含み、前記上部相互接続領域が、前記ビア相互接続領域の厚さよりも大きい厚さを有する、
半導体デバイスパッケージ。
【手続補正書】
【提出日】平成26年12月10日(2014.12.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の配線パターン及び第２の配線パターンを有する回路基板と、
前記回路基板上に前記第１及び第２の配線パターンにそれぞれ連結されるように実装され、隣接するＬＥＤパッケージの長辺が対向し且つ一定方向に傾斜するように並んで配列された複数の直方形ＬＥＤパッケージと
を含む、ことを特徴とするＬＥＤ光源モジュール。
【請求項２】
前記複数の直方形ＬＥＤパッケージは、実装面と反対の面に位置する光放出窓を有する、ことを特徴とする請求項１に記載のＬＥＤ光源モジュール。
【請求項３】
前記複数の直方形ＬＥＤパッケージは、その配列方向と垂直な方向に隣接するＬＥＤパッケージの光放出窓の一部が重なるように配列される、ことを特徴とする請求項２に記載のＬＥＤ光源モジュール。
【請求項４】
前記複数の直方形ＬＥＤパッケージは、それぞれ同一角度で傾斜し且つ同一間隔を有するように配列される、ことを特徴とする請求項１に記載のＬＥＤ光源モジュール。
【請求項５】
前記直方形ＬＥＤパッケージの長辺の長さは、前記回路基板の幅より短い、ことを特徴とする請求項１に記載のＬＥＤ光源モジュール。
【請求項６】
ディスプレイパネルと、
ＬＥＤ光源モジュールを備えるバックライトユニットと
を含み、
前記ＬＥＤ光源モジュールは、第１の配線パターン及び第２の配線パターンを有する回路基板と、当該回路基板上に前記第１及び第２の配線パターンにそれぞれ連結されるように実装され、隣接するＬＥＤパッケージの長辺が対向し且つ一定方向に傾斜するように並んで配列された複数の直方形ＬＥＤパッケージとを含む、ことを特徴とするディスプレイ装置。
【請求項７】
前記複数の直方形ＬＥＤパッケージは、実装面と反対の面に位置する光放出窓を有する、ことを特徴とする請求項６に記載のディスプレイ装置。
【請求項８】
前記複数の直方形ＬＥＤパッケージは、その配列方向と垂直な方向に隣接するＬＥＤパッケージの光放出窓の一部が重なるように配列される、ことを特徴とする請求項７に記載のディスプレイ装置。
【請求項９】
前記ディスプレイ装置は、前記ＬＥＤ光源モジュールを駆動するための駆動回路部をさらに含む、ことを特徴とする請求項６に記載のディスプレイ装置。
【請求項１０】
前記ディスプレイ装置は、ＬＣＤディスプレイ装置である、ことを特徴とする請求項６に記載のディスプレイ装置。
【手続補正書】
【提出日】平成26年12月1日(2014.12.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
表示装置が番組ガイドを表示できるようにするために受信機に実装された方法であって、前記番組ガイドは、チャンネルのリストおよび時間スケールを含み、前記時間スケールによって表される第１の時間期間内で受信可能な番組を表示し、前記番組は、当該番組が受信されるチャンネルに対応して表示され、
特定の番組が選択されたかどうかを確認するステップと、
番組が選択された場合、前記選択された番組の開始時刻および終了時刻が、前記時間スケールによって表される前記第１の時間期間内であるかどうかを確認するステップと、
前記選択された番組の前記開始時刻または前記終了時刻が前記第１の時間期間内でない場合、前記選択された番組の前記開始時刻および前記終了時刻が第２の時間期間内になるように前記時間スケールを前記第２の時間期間を表示するように適合させるステップと、
前記表示装置が前記適合された時間スケールを使用して前記番組ガイドを表示できるようにするステップと、
を含む、前記方法。
【請求項２】
前記番組ガイドに表示されるべき全ての情報が、前記選択された番組の前記時間スケールに従って提供されるスペース内に表示可能であるかどうかを確認するステップと、
前記選択された番組に関する全ての情報が表示可能であるとはいえない場合、前記番組ガイドに表示されるべき全ての情報が、前記選択された番組の前記時間スケールに従って提供される前記スペース内で表示可能になるように前記時間スケールを適合させるステップと、
をさらに含む、請求項１記載の方法。
【請求項３】
前記表示装置を介して、
元の時間スケールを用いた元のビューで前記番組ガイドを表示することと、
前記適合された時間スケールを使用して前記番組ガイドの一部を表すウィンドウを表示することと、
を含む、請求項１または２に記載の方法。
【請求項４】
オーディオ／ビデオデータを受信するための受信機であって、
表示装置に送信されるオーディオビジュアル信号を作成するオーディオ／ビデオ復号化ロジックと、
前記表示装置に表示されるデータを生成するための回路であって、前記回路は番組ガイドを生成するように構成され、前記番組ガイドは、チャンネルのリストおよび時間スケールを含み、前記時間スケールによって表される第１の時間期間内で受信可能な番組を表示し、前記番組は、当該番組が受信されるチャンネルに対応して表示される、前記回路と、
ユーザー入力を受信するインタフェースと、
を備え、
前記表示装置に表示されるデータを生成するための回路はさらに、
ユーザー入力に応答して特定の番組が選択されたかどうかを確認するステップと、
番組が選択された場合、前記選択された番組の開始時刻および終了時刻が、前記時間スケールによって表される第１の時間期間内であるかどうかを確認するステップと、
前記選択された番組の前記開始時刻または前記終了時刻が前記第１の時間期間内でない場合、前記選択された番組の前記開始時刻および前記終了時刻が第２の時間期間内になるように前記時間スケールを前記第２の時間期間を表示するように適合させるステップと、
前記表示装置が前記適合された時間スケールを使用して前記番組ガイドを表示できるようにするステップと、
を実行するように構成される、前記受信機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
チャンネル３の番組３ａの番組が選択された場合、時間スケールは、図４に従って動的に変更される。図２の通常ビューでは、番組３ａの番組の開始時間および停止時間は表示された時間スケール内にない。したがって、時間スケールはより長い期間を表示するように適合される。
［付記１］
番組ガイドを表示するための方法であって、前記番組ガイドは、チャンネルのリストおよび時間スケールを含み、前記時間スケールによって表される時間間隔内で受信可能な番組を表示し、前記番組は、当該番組が受信されるチャンネルに対応して表示され、
特定の番組が選択されたかどうかを確認するステップと、
番組が選択された場合、前記時間スケールが前記番組の開始時間および終了時間を含むかどうかを確認するステップと、
前記時間スケールが前記番組の前記開始時間または前記終了時間を含まない場合、前記時間スケールが前記番組の前記開始時間および前記終了時間を含むように前記時間スケールを適合させるステップと、
前記適合された時間スケールを使用して前記番組ガイドを表示するステップと、
を含む、前記番組ガイドを表示するための方法。
［付記２］
前記番組ガイドに表示されるべき全ての情報が、前記選択された番組の前記時間スケールに従って提供されるスペース内に表示可能であるかどうかを確認するステップと、
前記選択された番組に関する全ての情報が表示可能でない場合、前記番組ガイドに表示されるべき全ての情報が、前記選択された番組の前記時間スケールに従って提供される前記スペース内で表示可能になるように前記時間スケールを適合させるステップと、
をさらに含む、付記１記載の番組ガイドを表示するための方法。
［付記３］
前記表示するステップは、
元の時間スケールを用いた元のビューで前記番組ガイドを表示することと、
前記適合された時間スケールを使用して前記番組ガイドの一部を表すウィンドウを表示することと、
を含む、付記１または２に記載の番組ガイドを表示するための方法。
［付記４］
チャンネルのリストおよび時間スケールを含む電子番組ガイドであって、前記電子番組ガイドは、前記時間スケールによって表される時間内に受信可能な番組を表示しており、前記番組は、当該番組が受信されるチャンネルに対応して表示され、特定の番組が選択された場合、前記時間スケールが前記選択された番組の開始時間および終了時間を少なくとも含むように適合される、前記電子番組ガイド。
［付記５］
前記時間スケールは、前記選択された番組に関連する全てのＥＰＧ情報を表示するのに開始時間と停止時間の間のスペースが十分であることを確実にするように適合される、付記４記載の電子番組ガイド。
【手続補正書】
【提出日】平成26年11月25日(2014.11.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
画素用の第１色値を前記画素用の第１色値および第２色値に変換するための方法であって、
複数の画素用に印刷される各第１色の色値をメモリから前記メモリに動作可能に接続されたプリントエンジンで受信するステップと、
各画素用の第１色の総量を閾値と比較しかつ前記第１色の総量が前記閾値以上の各画素のための第３色の量及び第４色の量を識別することによって、組み合わされた色が各画素用に印刷されるか否かを各画素用の前記第１色の色値から判断するステップと、
前記閾値より小さい第１色の前記総量を有する前記画素用の各第１色用に前記メモリから受信された前記色値に関連して、前記閾値より小さい第１色の総量を有する前記画素用の黒色に基づいて黒ではない色の量を前記プリントエンジンで識別するステップと、
前記閾値より小さい第１色の前記総量を有する前記画素に関連付けられた第２色のための黒ではない色の総量を前記プリントエンジンで識別するステップであって、第２色のための黒ではない色の前記総量の前記識別は、黒色に基づいた黒ではない色の前記量、および、前記閾値より小さい第１色の前記総量を有する前記画素用の各第１色用に受信された前記色値に関連してなされる、前記識別するステップと、
第１色の前記総量が前記閾値より小さい前記画素に関連付けられた第２色のための黒色ではない色の前記総量に関連して第１色の前記総量が前記閾値より小さい前記画素用に印刷される色を前記プリントエンジンで割り当てて、前記割り当てられた色で第１色の前記総量が前記閾値より小さい前記画素を印刷するようにインクジェットイジェクタを動作させるための制御信号を生成することができるようにする、前記割り当てのステップと、
を含む方法。
【請求項２】
前記閾値は、単一の第１色のデータ空間の最大値の３倍である、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記閾値より小さい第１色の前記総量を有する前記画素用の第１色の総量を第２閾値と比較するステップと、
前記閾値より小さい第１色の前記総量を有する前記画素用の第１色の前記総量が前記第２閾値以上の場合に応じて、黒色に基づいた黒ではない色の前記量、および、前記閾値より小さい第１色の前記総量を有する前記画素用の第２色のための黒ではない色の前記総量を識別するステップと、
を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記第２閾値は、単一の第１色のデータ空間の最大値である、請求項３に記載の方法。
【請求項５】
画素用の第１色値を前記画素用の第１色値および第２色値に変換するための方法であって、
複数の画素用に印刷される各第１色の色値をメモリから前記メモリに動作可能に接続されたプリントエンジンで受信するステップと、
各画素用の第１色の総量を閾値と比較しかつ黒色に基づいた黒ではない色の前記量と
前記閾値より小さい第１色の前記総量を有する前記画素用の第２色のための黒ではない色の前記総量とを識別することによって、組み合わされた色が各画素用に印刷されるか否かを各画素用の前記第１色の前記色値から判断するステップと、
前記閾値より小さい第１色の前記総量を有する前記画素用の各第１色用に前記メモリから受信された前記色値に関連して、前記閾値より小さい第１色の総量を有する前記画素用の黒色に基づいて黒ではない色の量を前記プリントエンジンで識別するステップと、
前記閾値より小さい第１色の前記総量を有する前記画素に関連付けられた第２色のための黒ではない色の総量を前記プリントエンジンで識別するステップであって、第２色のための黒ではない色の前記総量の前記識別は、黒色に基づいた黒ではない色の前記量、および、前記閾値より小さい第１色の前記総量を有する前記画素用の各第１色用に受信された前記色値に関連してなされる、前記識別するステップと、
第１色の前記総量が前記閾値より小さい前記画素に関連付けられた第２色のための黒色ではない色の前記総量に関連して第１色の前記総量が前記閾値より小さい前記画素用に印刷される色を前記プリントエンジンで割り当てて、前記割り当てられた色で第１色の前記総量が前記閾値より小さい前記画素を印刷するようにインクジェットイジェクタを動作させるための制御信号を生成することができるようにする、前記割り当てのステップと、
を含む方法。
【手続補正書】
【提出日】平成26年12月1日(2014.12.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
金属ワイヤー（１２）と、
前記ワイヤーの外表面（１６）に設けたコーティング（１４）と、
有し、
前記コーティングが、ポリ（ビフェニルテトラカルボン酸二無水物−コ−フェニレンジアミン）を含有するポリイミドポリマー（１８）及び前記ポリイミドポリマーに分散した複数のアルミナナノ粒子（２０）を含有し、
前記アルミナナノ粒子の外表面には表面処理が施されており、
前記表面処理がフェニルシランを含有する、
複合マグネットワイヤー（１０）であって、
複合マグネットワイヤー（１０）は、ＡＳＴＭ Ｅ１６４１又はＡＳＴＭ Ｄ２３０７（２００５）に準じて計算した熱劣化温度指数が３００℃以上であり、
前記コーティング（１４）が、約１％〜約６％の表面処理アルミナナノ粒子（２０）を含有し、
前記外表面（１６）に設けた前記コーティング（１４）が、約２５μｍ〜約５０μｍの厚さを有し、
前記アルミナナノ粒子（２０）の平均粒径が、約１００ナノメートル（ｎｍ）未満である、
複合マグネットワイヤー（１０）。
【請求項２】
金属ワイヤーが、銅又は銅合金を含有する、請求項１に記載の複合マグネットワイヤー（１０）。
【請求項３】
前記アルミナナノ粒子（２０）の平均粒径が、約２０ｎｍ〜約５０ｎｍである、請求項１に記載の複合マグネットワイヤー（１０）。
【請求項４】
前記金属ワイヤーが、銀めっき銅ワイヤー、ニッケルめっき銅ワイヤー、ニッケルクラッド銅ワイヤー、アルミニウムワイヤー、銅クラッドアルミニウムワイヤーのうちの少なくとも１つである、請求項１に記載の複合マグネットワイヤー（１０）。
【請求項５】
前記フェニルシランが、トリメトキシフェニルシラン、トリエトキシフェニルシラン、およびこれらの混合物のうちの少なくとも１つである、請求項１に記載の複合マグネットワイヤー（１０）。
【請求項６】
金属ワイヤー（１２）と、
前記ワイヤーの外表面（１６）に設けたコーティング（１４）と、
有し、
前記金属ワイヤーが、銅ワイヤー、銅合金ワイヤー、銀めっき銅ワイヤー、ニッケルめっき銅ワイヤー、ニッケルクラッド銅ワイヤー、アルミニウムワイヤー、銅クラッドアルミニウムワイヤーのうちの少なくとも１つであり、
前記コーティングが、ポリイミドポリマー（１８）及び前記ポリイミドポリマーに分散した複数のアルミナナノ粒子（２０）を含有し、
前記アルミナナノ粒子の外表面には表面処理が施されており、
前記表面処理がフェニルシランを含有する、
複合マグネットワイヤー（１０）であって、
前記ポリイミドポリマー（１８）が、ポリ（ビフェニルテトラカルボン酸二無水物−コ−フェニレンジアミン）を含有し、
前記フェニルシランが、トリメトキシフェニルシラン、トリエトキシフェニルシラン、およびこれらの混合物のうちの少なくとも１つであり、
前記コーティング（１４）が、約１％〜約６％の表面処理アルミナナノ粒子（２０）を含有し、
前記外表面（１６）に設けた前記コーティング（１４）が、約２５μｍ〜約５０μｍの厚さを有し、
前記アルミナナノ粒子（２０）の平均粒径が、約１００ナノメートル（ｎｍ）未満であり、
前記複合マグネットワイヤー（１０）は、ＡＳＴＭ Ｅ１６４１又はＡＳＴＭ Ｄ２３０７（２００５）に準じて計算した熱劣化温度指数が３００℃以上である、
複合マグネットワイヤー（１０）。
【手続補正書】
【提出日】平成26年12月11日(2014.12.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
加速チェンバー（２０６）内部において所望の経路に沿って荷電粒子を導くように構成された電場システム（１０６）及び加速チェンバー（２０６）を横断して互いに対向した１対のポールトップ（２５２、２５４）を含む磁場システム（１０８）と、
加速チェンバー内部に配置され、前記ポールトップ（２５２、２５４）の間を延びる機械的デバイス（２８０、２８２）であって、加速チェンバー内部の別の位置まで選択的に移動されるように構成された機械的デバイスと、
その全てが前記加速チェンバー（２０６）内に配置され、前記機械的デバイスに動作可能に取り付けられたコネクタ構成要素（４５６）と該コネクタ構成要素と動作可能に結合させた圧電素子（５１２）とを備えた電気機械的（ＥＭ）モータ（２９０、２９２）であって、圧電素子を作動させたときに該コネクタ構成要素を駆動しこれにより機械的デバイスを移動させているＥＭモータと、
を備え、
前記ＥＭモータ（２９０、２９２）は、前記ポールトップ（２５２、２５４）のうちの１つに装着されるか該ポールトップのうちの１つに隣接している、
る粒子加速器（１０２）。
【請求項２】
加速チェンバー（２０６）内部において所望の経路に沿って荷電粒子を導くように構成された電場システム（１０６）及び磁場システム（１０８）と、
加速チェンバー内部に配置された機械的デバイス（２８０、２８２）であって、加速チェンバー内部の別の位置まで選択的に移動されるように構成された機械的デバイスと、
前記機械的デバイスに動作可能に取り付けられたコネクタ構成要素（４５６）と該コネクタ構成要素と動作可能に結合させた圧電素子（５１２）とを備えた電気機械的（ＥＭ）モータ（２９０、２９２）であって、圧電素子を作動させたときに該コネクタ構成要素を駆動しこれにより機械的デバイスを移動させているＥＭモータと、
を備え、
前記加速チェンバー（２０６）内の動作用磁場に対する前記ＥＭモータ（２９０、２９２）の影響が最大でも無視し得る大きさとなるように、前記ＥＭモータ（２９０、２９２）の全てが本質的に非磁性材料からなる、粒子加速器（１０２）。
【請求項３】
前記機械的デバイス（２８０、２８２）は、その上に荷電粒子が入射するように所望の経路内に移動されるように構成されている、請求項１または２に記載の粒子加速器（１０２）。
【請求項４】
前記機械的デバイス（２８０、２８２）は、荷電粒子がその上に入射されるビーム検出器（４４６）を有する診断用探触子又は引き剥がし用アセンブリ（４０２）を備える、請求項５に記載の粒子加速器（１０２）。
【請求項５】
加速チェンバー（２０６）内部において所望の経路に沿って荷電粒子を導くように構成された電場システム（１０６）及び磁場システム（１０８）と、
加速チェンバー内部に配置された機械的デバイス（２８０、２８２）であって、加速チェンバー内部の別の位置まで選択的に移動されるように構成された機械的デバイスと、
前記機械的デバイスに動作可能に取り付けられたコネクタ構成要素（４５６）と該コネクタ構成要素と動作可能に結合させた圧電素子（５１２）とを備えた電気機械的（ＥＭ）モータ（２９０、２９２）であって、圧電素子を作動させたときに該コネクタ構成要素を駆動しこれにより機械的デバイスを移動させているＥＭモータと、
を備え、
前記電場システム（１０６）は中空のディー（３４１、３４３）を含み、かつ前記機械的デバイス（２８０、２８２）は該中空のディーのうちの１つまであるいはここから移動するように構成されたキャパシタプレート（４６４）を備える、粒子加速器（１０２）。
【請求項６】
前記コネクタ構成要素（４５６）は、直線方向での移動と軸（２３６）の周りでの回転の少なくとも一方をするように構成されている、請求項１乃至５のいずれかに記載の粒子加速器（１０２）。
【請求項７】
前記ＥＭモータ（２９０、２９２）は、圧電モータまたは超音波モータである、請求項１乃至６のいずれかに記載の粒子加速器（１０２）。
【請求項８】
加速チェンバー（２０６）を有する粒子加速器（１０２）を操作する方法であって、
加速チェンバー内に荷電粒子の粒子ビーム（１１２）を提供するステップであって、該粒子ビームは所望の経路に沿って導かれる提供ステップと、
加速チェンバー内部で機械的デバイス（２８０、２８２）を選択的に移動させるステップであって、該機械的デバイスは機械的デバイスに動作可能に取り付けられたコネクタ構成要素（４５６）と該コネクタ構成要素と動作可能に結合させた圧電素子（５１２）とを備える電気機械的（ＥＭ）モータ（２９０、２９２）により移動させており、該ＥＭモータは圧電素子を作動させたときにコネクタ構成要素を駆動させている移動ステップと、
を含み、
前記機械的デバイス（２８０、２８２）が、中空のディー（３４３）からある離間距離だけ離間させているキャパシタプレート（４６４）を備え、
前記移動が、前記キャパシタプレート（４６４）を前記中空のディー（３４３）に対して移動させて前記離間距離を変化させ、これにより前記粒子加速器（１０２）の共振周波数を変化させることを含む、
方法。
【手続補正書】
【提出日】平成26年12月5日(2014.12.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
マイクロ電気機械システム（ＭＥＭＳ）装置を形成する方法であって、
（Ａ）基板（３０８）の上に除去可能な層（３３０）を形成する工程であって、基板（３０８）が、基板（３０８）から延びるアンカーを備え、アンカーが構造体を支持する、前記工程と、
（Ｂ）少なくとも５０原子％の金属成分を含む合金層（３３６）を除去可能な層（３３０）の上に成膜する工程と、
（Ｃ）除去可能な層（３３０）を除去して合金層を含む構造体を形成する工程であって、構造体が、構造体が基板（３０８）上に配置された接点から離間距離だけ離れた第１の位置と、構造体が接点と接触し機械的エネルギーを蓄積する第２の位置の間で変形可能である、前記工程と、
（Ｄ）４０℃から合金層を形成する材料のの融解温度の５０％までの温度である第１の温度で合金層をアニーリングして、合金層の融解温度の半分未満の温度で、合金層の降伏強さの約２５％以下の応力に対して１０-12ｓ-1以下である塑性歪み速度を持つ構造体を提供する工程と、
（Ｅ）構造体のアニールングに続いて、第１の温度よりも低い第２の温度で密封キャップを過熱して密封キャップを合金層に接合する工程と、
を含み、
工程（Ｄ）が工程（Ｂ）と（Ｃ）の間又は工程（Ｃ）と（Ｅ）の間に実行される、
方法。
【請求項２】
パターン化しエッチングした後、構造体が片持ち梁（１０４）の形態であり、その上に密封キャップ（３４０）を形成して構造体を気密に封止し得る、請求項１記載の方法。
【請求項３】
さらに、基板（３０８）上に接点（１０２）及び電極（１１０）の両方を形成し、合金層（３３６）を成膜する前に接点（１０２）及び電極（１１０）の両方を除去可能な層（３３０）で包囲して、除去可能な層（３３０）の除去後、合金層（３３６）に力をかけることで、合金層（３３６）の一部分が移動して接点（１０２）と物理的に接触できるようにする、請求項１または２に記載の方法。
【請求項４】
合金層（３３８）を成膜することが、基板（３０８）の上に接着層（３３２）を形成し、接着層（３３２）の上にシード層（３３４）を成膜することを含む、請求項１乃至３のいずれかに記載の方法。
【請求項５】
合金層（３３６）を電気メッキプロセスで成膜する、請求項１乃至４のいずれかに記載の方法。
【請求項６】
合金層（３３６）がＷと合金化されたＮｉを含む金属層（３３６）からなる、請求項１乃至５のいずれかに記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成26年12月16日(2014.12.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
等価抵抗を有するばね電気コネクタアセンブリを形成する方法であって、
少なくとも部分的に、導電性材料から作成されたハウジングを提供するステップと、
少なくとも部分的に、導電性材料から作成されたピストンを提供するステップと、
ワイヤから複数のコイルを形成するステップと、
前記複数のコイルを同じ傾斜方向に傾斜させるステップと、
前記複数のコイルのうちの少なくとも１つのコイル上にディンプルを形成し、不連続性を有するセクションを形成するステップと、
前記ハウジング、前記ピストン、またはそれらの両方と関連する溝を形成するステップと、
前記溝中に前記ワイヤを位置付けるステップと、
ばねコイルと前記ハウジングとの間にある接触点の第１組の数、およびばねコイルと前記ピストンとの間にある接触点の第２組の数を数えるステップと、
オームの法則、前記接触点の第１組の数、および前記接触点の第２組の数を使用し、ばねについての等価抵抗を計算するステップと、
を含む、方法。
【請求項２】
前記複数のコイルの各々の上にディンプルを形成するステップをさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
２つの端コイルを溶接し、ガータ型傾斜コイルばねを形成するステップをさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記ワイヤが銅材料から作成される、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記ワイヤがマルチ金属ワイヤから作成される、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記マルチ金属ワイヤが、銅製の内部コアおよび高引張強度の外側層を備える、請求項５に記載の方法。
【請求項７】
前記ディンプルと対向する場所において、前記少なくとも１つのコイル上に第２のディンプルを形成するステップをさらに備える、請求項１に記載の方法。
【請求項８】
前記接触点の第１組の数が１であり、かつ前記接触点の第２組の数が１である、請求項１に記載の方法。
【請求項９】
前記接触点の第１組の数または前記接触点の第２組の数が、前記溝中にＶ型の底壁を形成することにより２である、請求項１に記載の方法。
【請求項１０】
前記接触点の第１組の数または前記接触点の第２組の数が、前記コイルの上にディンプルを形成し、不連続性を有するセクションを規定することにより２である、請求項１に記載の方法。
【請求項１１】
前記ばねコイルと前記ハウジングとの間、または前記ばねコイルと前記ピストンとの間の接触が、前記コイルの弧長に沿っている、請求項１に記載の方法。
【請求項１２】
前記ハウジングと前記ピストンとの間にあるばねコイルの第１の経路長、および前記ハウジングと前記ピストンとの間にあるばねコイルの第２の経路長を決定するステップをさらに備える、請求項１に記載の方法。
【請求項１３】
オームの法則、前記接触点の第１組の数、前記接触点の第２組の数、前記ハウジングと前記ピストンとの間にあるばねコイルの第１の経路長、および前記ハウジングと前記ピストンとの間にあるばねコイルの第２の経路長を使用し、電気コネクタについての等価抵抗を計算するステップをさらに備える、請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
前記接触点の第１組の数または前記接触点の第２組の数が、底壁に関連する２つのテーパ状の側壁で前記溝を形成することにより２である、請求項１に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成26年12月2日(2014.12.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
トリップ機構（１２８）と、
電気エネルギーを蓄積し、電気エネルギーを前記トリップ機構（１２８）に供給するように構成されたコンデンサ（１４０）と、
第１の電流を測定するように構成された第１の電流センサと、
第２の電流を測定するように構成された第２の電流センサと、
前記第１及び第２の電流センサと前記コンデンサ（１４０）に通信的に結合されたコントローラ（１２６）であって、
測定された前記第１及び第２の電流に少なくとも部分的に基づいて前記コンデンサ（１４０）を流れる電流を特定し、
特定された前記コンデンサ（１４０）を流れる前記電流を第１の閾値と比較し、
前記比較を示す第１の信号を出力するように構成されたコントローラ（１２６）と
を備える、回路保護デバイス（１２２）。
【請求項２】
前記コントローラ（１２６）が、
前記特定された電流が前記第１の閾値より大きいときは前記第１の信号を出力し、
前記特定された電流を第２の閾値と比較し、
前記特定された電流が前記第２の閾値より小さいときは第２の信号を出力するように構成された、請求項１記載の回路保護デバイス（１２２）。
【請求項３】
前記コントローラ（１２６）が、前記コンデンサ（１４０）の静電容量を計算するようにさらに構成された、請求項１または２に記載の回路保護デバイス（１２２）。
【請求項４】
前記コントローラ（１２６）が、前記計算した静電容量を閾値静電容量と比較するように構成された、請求項３記載の回路保護デバイス（１２２）。
【請求項５】
前記コントローラ（１２６）が、予め選択した期間内で、前記計算した静電容量が前記閾値静電容量以上でない場合に信号を出力するように構成された、請求項４記載の回路保護デバイス（１２２）。
【請求項６】
前記コントローラ（１２６）に通信的に結合された少なくとも１つの出力デバイス（１４４）をさらに備え、前記少なくとも１つの出力デバイス（１４４）は、前記コントローラ（１２６）から前記信号を受け取り、前記信号に基づいて前記回路保護デバイス（１２２）の動作状態を示すように構成される、請求項１乃至５のいずれかに記載の回路保護デバイス（１２２）。
【請求項７】
電源を備え、
前記コントローラ（１２６）が、測定された前記第１及び第２の電流に少なくとも部分的に基づいて前記電源の状態を特定するように構成される、請求項１乃至６のいずれかに記載の回路保護デバイス（１２２）。
【請求項８】
トリップ機構（１２８）を有する回路保護デバイス（１２２）と共に用いるための試験回路（１４２）であって、
第１の電流を測定するように構成された第１の電流センサと、
第２の電流を測定するように構成された第２の電流センサと、
前記第１及び第２の電流センサ（１５６）に通信的に結合されたプロセッサ（１３４）であって、
測定された前記第１及び第２の電流に少なくとも部分的に基づいて、前記トリップ機構（１２８）によって用いられるためのエネルギーを蓄積するように構成された少なくとも１つのコンデンサ（１４０）を流れる電流を特定し、
前記特定した電流を第１の閾値電流と比較し、
前記特定した電流が前記第１の閾値電流より大きいときは第１の信号を出力するように構成されたプロセッサ（１３４）と
を備える試験回路（１４２）。
【請求項９】
前記プロセッサ（１３４）が、
前記特定した電流を第２の閾値電流と比較し、
前記特定した電流が前記第２の閾値電流より小さいときは第２の信号を出力するように構成された請求項８記載の試験回路（１４２）。
【請求項１０】
前記プロセッサ（１３４）が前記少なくとも１つのコンデンサ（１４０）の静電容量を計算し、
前記計算した静電容量を閾値静電容量と比較し、
予め選択した期間内で、前記計算した静電容量が前記閾値静電容量以上でない場合に信号を出力するように構成された、請求項８または９に記載の試験回路（１４２）。
【手続補正書】
【提出日】平成27年2月19日(2015.2.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光電変換が可能なセンサ基板と、
付活剤を含む第１の領域と、前記第１の領域の前記付活剤の濃度より低い濃度の前記付活剤を含む第２の領域とを有し、シンチレータ層の厚さ方向で前記第１及び前記第２の領域が配置されるように、かつ、前記第１の領域が、前記厚さ方向でシンチレータ層における前記センサ基板側の端部から配置されるように、前記センサ基板上に設けられたシンチレータ層と
を具備する放射線検出器。
【請求項２】
請求項１に記載の放射線検出器であって、
前記シンチレータ層の厚さは、３００μm以上８００μm以下である
放射線検出器。
【請求項３】
請求項２に記載の放射線検出器であって、
前記シンチレータ層の蛍光体材料の主剤はＣｓＩであり、前記付活剤はＴｌである
放射線検出器。
【請求項４】
請求項３に記載の放射線検出器であって、
前記第１の領域の厚さが、前記シンチレータ層の厚さの２％以上２０％以下である
放射線検出器。
【請求項５】
請求項４に記載の放射線検出器であって、
前記第１の領域の厚さが、前記シンチレータ層の厚さの５％以上１５％以下である
放射線検出器。
【請求項６】
請求項４または５に記載の放射線検出器であって、
前記第１の領域の前記付活剤の濃度は、前記第２の領域のそれの１．１倍以上１．３倍以下である
放射線検出器。
【請求項７】
請求項６に記載の放射線検出器であって、
前記第１の領域の前記付活剤の濃度は、前記第２の領域のそれの１．２倍である
放射線検出器。
【請求項８】
光電変換が可能なセンサ基板と、
前記センサ基板に対向して設けられた対向基板と、
前記センサ基板上に３００μm以上８００μm以下の厚さで前記センサ基板及び前記対向基板の間に設けられたシンチレータ層であって、付活剤を含み１０μm以上１００μm以下の厚さで設けられた第１の領域と、前記第１の領域の前記付活剤の濃度より低い濃度の前記付活剤を含む第２の領域とを有し、前記シンチレータ層の厚さ方向で前記第１及び前記第２の領域が配置されるように、かつ、前記第１の領域が前記厚さ方向で前記シンチレータ層における前記対向基板側の端部から配置されるように設けられたシンチレータ層と
を具備する放射線検出器。
【請求項９】
光電変換が可能なセンサ基板上に、付活剤を含む第１の領域を形成し、
前記形成された第１の領域上に、前記第１の濃度より高い第２の濃度の前記付活剤を含む第２の領域を形成することにより、前記第１及び前記第２の領域を含むシンチレータ層を形成する
放射線検出器の製造方法。
【請求項１０】
対向基板上に、付活剤を含み１０μm以上１００μm以下の厚さで設けられた第１の領域を形成し、
前記形成された第１の領域上に、前記第１の領域の前記付活剤の濃度より低い濃度の前記付活剤を含む第２の領域を形成することより、前記第１及び前記第２の領域でなる、３００μm以上８００μm以下の厚さを有するシンチレータ層を形成する
放射線検出器の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成27年7月3日(2015.7.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
パッケージ本体と、
前記パッケージ本体の内部に固定される基部と、前記基部から延出している可動部とを有するカンチレバーと、前記基部と前記可動部とに掛け渡されて固定された検出素子と、を有する検出器と、
前記パッケージ本体を封止するダイアフラムと、
前記ダイアフラムの変位を前記カンチレバーに伝達する伝達部と、
を備えていることを特徴とする圧力検出デバイス。
【請求項２】
前記伝達部は、前記検出器の厚み方向からの平面視において、前記検出素子の幅方向中心線の延長上の位置において前記可動部に当接していること、
を特徴とする請求項１に記載の圧力検出デバイス。
【請求項３】
前記検出素子と前記ダイアフラムとの間に前記カンチレバーが配置されていること、
を特徴とする請求項１または請求項２に記載の圧力検出デバイス。
【請求項４】
前記カンチレバーが、前記検出器の厚み方向からの平面視において前記基部と前記可動部とを囲むように配置され、且つ前記可動部から延出している枠部を有し、
前記枠部は、前記平面視において前記基部を挟んで前記可動部とは反対側に位置するバランサー部を有し、
前記基部に前記検出器の重心があると共に、前記伝達部による変位伝達位置が、前記バランサー部にあること、
を特徴とする請求項１に記載の圧力検出デバイス。
【請求項５】
前記パッケージ本体と前記ダイアフラムによって構成される空間が、減圧されていること、
を特徴とする請求項１ないし請求項４のいずれか一項に記載の圧力検出デバイス。
【請求項６】
前記ダイアフラムが、
前記パッケージ本体の周縁部に固定される固定部と、
前記伝達部の配置位置を中心とする略同心円の波型凹凸部と、
を有すること、
を特徴とする請求項１ないし請求項５のいずれか一項に記載の圧力検出デバイス。
【請求項７】
前記伝達部は、一方の端部が前記ダイアフラムに固定され、他方の端部が前記カンチレバーに当接する伝達部材であること、
を特徴とする請求項１ないし請求項６のいずれか一項に記載の圧力検出デバイス。
【請求項８】
前記伝達部材は、一方の端部が前記ダイアフラムに固定され、他方の端部が前記カンチレバーに固定されていること、
を特徴とする請求項７に記載の圧力検出デバイス。
【請求項９】
前記伝達部は、、前記ダイアフラムに形成されている凸状部分であること、
を特徴とする請求項１ないし請求項５のいずれか一項に記載の圧力検出デバイス。
【請求項１０】
前記伝達部が、前記カンチレバーに固定されていること、
を特徴とする請求項９に記載の圧力検出デバイス。
【請求項１１】
請求項１ないし請求項１０のいずれか一項に記載の圧力検出デバイスを備えていること、
を特徴とする電子機器。
【請求項１２】
請求項１ないし請求項１０のいずれか一項に記載の圧力検出デバイスを備えていること、
を特徴とする移動体。
【手続補正書】
【提出日】平成27年1月26日(2015.1.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
貯湯タンクを内蔵する貯湯タンクユニットの外郭ケースの上面を形成するケース上面板と、
前記ケース上面板の裏面に配置された複数の補強部材と、
前記ケース上面板と、外部の構造体とを連結する上部振れ止め部材と、
を備え、
前記上部振れ止め部材の一端は、前記ケース上面板と前記補強部材とに固定可能であり、前記上部振れ止め部材の他端は、前記構造体に固定可能である貯湯式給湯機の耐震構造。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明に係る貯湯式給湯機の耐震構造は、貯湯タンクを内蔵する貯湯タンクユニットの外郭ケースの上面を形成するケース上面板と、ケース上面板の裏面に配置された複数の補強部材と、ケース上面板と、外部の構造体とを連結する上部振れ止め部材と、を備え、上部振れ止め部材の一端は、ケース上面板と補強部材とに固定可能であり、上部振れ止め部材の他端は、構造体に固定可能である。
【手続補正書】
【提出日】平成27年7月9日(2015.7.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
針部材と、
前記針部材が前記一方向に揺動可能に取り付けられる第１可動部材と、前記第１可動部材に前記針部材の前記揺動方向に沿って設けられた第１磁石部と、前記針部材に設けられ、電磁力によって前記第１磁石部に沿って移動して前記針部材を揺動させる第１コイル部と、を有する前記第１駆動系と、
固定部材と、前記固定部材に前記針部材の前記一方向における揺動方向と直交する方向に揺動可能に取り付けられ、且つ前記第１駆動系の前記第１可動部材が取り付けられた第２可動部材と、前記固定部材に前記第１磁石部と直交する方向に沿って設けられた第２磁石部と、前記第２可動部材に設けられ、電磁力によって前記第２磁石部に沿って移動して前記第２可動部材を揺動させる第２コイル部と、を有する第２駆動系と、
を備えていることを特徴とする針駆動装置。
【請求項２】
請求項１に記載の針駆動装置において、前記第２駆動系は、前記第１駆動系を前記針部材の揺動方向に対して直交する方向に揺動させることを特徴とする針駆動装置。
【請求項３】
請求項１または請求項４に記載の針駆動装置において、前記第１駆動系を予め定められた位置に規制する位置規制部を備えていることを特徴とする針駆動装置。
【請求項４】
請求項１〜請求項３のいずれかに記載の針駆動装置において、前記第１駆動系は前記針部材の前記一方向における揺動位置を検出する第１位置検出部を有し、前記第２駆動系は前記第１駆動系の揺動位置を検出する第２位置検出部を有していることを特徴とする針駆動装置。
【請求項５】
請求項１〜請求項６のいずれかに記載の針駆動装置において、前記針部材を前記一方向に揺動させるメトロノームモード、および指揮者が振るタクトのように前記針部材を動作させるタクトモードのなどの複数のモードのいずれかを選択指定するモード選択部を備えていることを特徴とする針駆動装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
この発明は、針部材と、前記針部材が前記一方向に揺動可能に取り付けられる第１可動部材と、前記第１可動部材に前記針部材の前記揺動方向に沿って設けられた第１磁石部と、前記針部材に設けられ、電磁力によって前記第１磁石部に沿って移動して前記針部材を揺動させる第１コイル部と、を有する前記第１駆動系と、固定部材と、前記固定部材に前記針部材の前記一方向における揺動方向と直交する方向に揺動可能に取り付けられ、且つ前記第１駆動系の前記第１可動部材が取り付けられた第２可動部材と、前記固定部材に前記第１磁石部と直交する方向に沿って設けられた第２磁石部と、前記第２可動部材に設けられ、電磁力によって前記第２磁石部に沿って移動して前記第２可動部材を揺動させる第２コイル部と、を有する第２駆動系と、を備えていることを特徴とする針駆動装置である。
【手続補正書】
【提出日】平成27年6月16日(2015.6.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
外周部に内輪軌道面が形成された内輪と、
内周部に外輪軌道面が形成された外輪と、
前記内輪軌道面及び前記外輪軌道面との間に接触角を持って組み込まれた複数の玉と、
を有するアンギュラ玉軸受であって、
前記外輪の軸方向幅が、ＩＳＯにおける幅系列で０より大きく、
前記内輪の外周部は、前記内輪軌道面に対して軸方向一方側に形成された内輪肩部と、軸方向他方側に形成されたカウンタボアと、を有し、
前記外輪の内周部は、前記外輪軌道面を挟んだ軸方向両側に形成された一対の外輪肩部と、前記内輪肩部と対向する前記外輪肩部に対して軸方向一方側にシール部材を固定するために形成されたシール溝と、前記カウンタボアと対向する前記外輪肩部に対して軸方向他方側に他のシール部材を固定するために形成された他のシール溝と、を有し、
内部がグリースによって潤滑される
ことを特徴とするアンギュラ玉軸受。
【請求項２】
前記外輪の軸方向幅は、ＩＳＯにおける幅系列で１より大きい
ことを特徴とする請求項１に記載のアンギュラ玉軸受。
【請求項３】
前記外輪の外周部には、Ｏリングを固定するためのＯリング溝が少なくとも１つ設けられる
ことを特徴とする請求項１又は２に記載のアンギュラ玉軸受。
【請求項４】
前記外輪の外周部には、前記Ｏリング溝が２つ以上設けられる
ことを特徴とする請求項３に記載のアンギュラ玉軸受。
【請求項５】
前記外輪には、軸方向一方側から順に、前記シール溝、前記Ｏリング溝、前記外輪軌道面がオフセットして設けられる
ことを特徴とする請求項３又は４に記載のアンギュラ玉軸受。
【請求項６】
前記外輪には、軸方向一方側から順に、前記Ｏリング溝、前記シール溝、前記外輪軌道面がオフセットして設けられる
ことを特徴とする請求項３又は４に記載のアンギュラ玉軸受。
【請求項７】
前記シール溝、前記他のシール溝、及び前記Ｏリング溝は、前記玉の接触角線上に位置しない
ことを特徴とする請求項３〜６の何れか１項に記載のアンギュラ玉軸受。
【請求項８】
前記シール部材及び前記他のシール部材は、前記内輪の外周部に対向する
ことを特徴とする請求項１〜７の何れか１項に記載のアンギュラ玉軸受。
【請求項９】
前記内輪の軸方向幅は、前記外輪の軸方向幅よりも小さい
ことを特徴とする請求項１〜８の何れか１項に記載のアンギュラ玉軸受。
【請求項１０】
前記内輪の軸方向一方側端面と、前記外輪の軸方向一方側端面と、は略同一位置であることを特徴とする請求項１〜９の何れか１項に記載のアンギュラ玉軸受。
【請求項１１】
請求項１〜１０の何れか１項に記載の前記アンギュラ玉軸受を一対組合せてなる
ことを特徴とする組合せ軸受。
【請求項１２】
一対の前記アンギュラ玉軸受の内輪の軸方向における間には、間座が配置される
ことを特徴とする請求項１１に記載の組合せ軸受。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
本発明の上記目的は、下記の構成により達成される。
（１）  外周部に内輪軌道面が形成された内輪と、
内周部に外輪軌道面が形成された外輪と、
前記内輪軌道面及び前記外輪軌道面との間に接触角を持って組み込まれた複数の玉と、
を有するアンギュラ玉軸受であって、
前記外輪の軸方向幅が、ＩＳＯにおける幅系列で０より大きく、
前記内輪の外周部は、前記内輪軌道面に対して軸方向一方側に形成された内輪肩部と、軸方向他方側に形成されたカウンタボアと、を有し、
前記外輪の内周部は、前記外輪軌道面を挟んだ軸方向両側に形成された一対の外輪肩部と、前記内輪肩部と対向する前記外輪肩部に対して軸方向一方側にシール部材を固定するために形成されたシール溝と、前記カウンタボアと対向する前記外輪肩部に対して軸方向他方側に他のシール部材を固定するために形成された他のシール溝と、を有し、
内部がグリースによって潤滑される
ことを特徴とするアンギュラ玉軸受。
（２）  前記外輪の軸方向幅は、ＩＳＯにおける幅系列で１より大きい
ことを特徴とする（１）に記載のアンギュラ玉軸受。
（３）  前記外輪の外周部には、Ｏリングを固定するためのＯリング溝が少なくとも１つ設けられる
ことを特徴とする（１）又は（２）に記載のアンギュラ玉軸受。
（４）  前記外輪の外周部には、前記Ｏリング溝が２つ以上設けられる
ことを特徴とする（３）に記載のアンギュラ玉軸受。
（５）  前記外輪には、軸方向一方側から順に、前記シール溝、前記Ｏリング溝、前記外輪軌道面がオフセットして設けられる
ことを特徴とする（３）又は４に記載のアンギュラ玉軸受。
（６）  前記外輪には、軸方向一方側から順に、前記Ｏリング溝、前記シール溝、前記外輪軌道面がオフセットして設けられる
ことを特徴とする（３）又は（４）に記載のアンギュラ玉軸受。
（７）  前記シール溝、前記他のシール溝、及び前記Ｏリング溝は、前記玉の接触角線上に位置しない
ことを特徴とする（３）〜（６）の何れか１つに記載のアンギュラ玉軸受。
（８）  前記シール部材及び前記他のシール部材は、前記内輪の外周部に対向する
ことを特徴とする（１）〜（７）の何れか１つに記載のアンギュラ玉軸受。
（９）  前記内輪の軸方向幅は、前記外輪の軸方向幅よりも小さい
ことを特徴とする（１）〜（８）の何れか１つに記載のアンギュラ玉軸受。
（１０）  前記内輪の軸方向一方側端面と、前記外輪の軸方向一方側端面と、は略同一位置であることを特徴とする（１）〜（９）の何れか１つに記載のアンギュラ玉軸受。
（１１）  （１）〜（１０）の何れか１つに記載の前記アンギュラ玉軸受を一対組合せてなる
ことを特徴とする組合せ軸受。
（１２）  一対の前記アンギュラ玉軸受の内輪の軸方向における間には、間座が配置される
ことを特徴とする（１１）に記載の組合せ軸受。
【手続補正書】
【提出日】平成27年5月27日(2015.5.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
又、請求項２に記載した発明の様に、大径側内輪軌道の曲率半径をＲ３とした場合に、０．５０５≦Ｒ３／Φ１≦０．５２の関係を満たす様に、各部の寸法Ｒ３、Φ１を規制すると共に、小径側内輪軌道の曲率半径をＲ４とした場合に、０．５１≦Ｒ３／Φ２≦０．５２の関係を満たす様に、各部の寸法を規制すれば、前記各玉の転動面と、前記大径側、小径側両内輪軌道との転がり接触部分の面圧が過大になる事を防止できる事も、後述する本発明者が行ったシミュレーションの結果に基づいて明らかである。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
外輪と、内輪と、大径側保持器と、小径側保持器と、大径側玉列を構成する複数個の玉と、小径側玉列を構成する複数個の玉とを備えており、
前記外輪は、内周面の軸方向片側に大径側外輪軌道を、同じく軸方向他側にこの大径側外輪軌道よりも直径が小さい小径側外輪軌道を、それぞれ有し、この大径側外輪軌道の軸方向他側に前記大径側玉列を構成する各玉の外接円の直径寸法よりも小さい内径寸法を有する大径側溝肩部が設けられていて、前記小径側外輪軌道の軸方向他側に、前記小径側玉列を構成する各玉の外接円の直径寸法よりも小さい内径寸法を有する小径側溝肩部が設けられており、
前記内輪は、外周面の軸方向片側に大径側内輪軌道を、同じく軸方向他側にこの大径側内輪軌道よりも直径が小さい小径側内輪軌道を、それぞれ有し、この大径側内輪軌道の軸方向両側部分に、前記大径側玉列を構成する各玉の内接円の直径寸法よりも大きい外径寸法を有する大径側内輪溝肩部が設けられていて、前記小径側軌道輪の軸方向両端部に、前記小径側玉列を構成する各玉の内接円の直径寸法よりも大きい内径寸法を有する小径側内輪溝肩部が設けられており、
前記大径側保持器は、円周方向複数箇所にポケットを有する円環状であり、
前記小径側保持器は、円周方向複数箇所にポケットを有する、直径が前記大径側保持器よりも小さい円環状であり、
前記大径側玉列を構成する複数個の玉は、前記大径側保持器の各ポケット内に保持された状態で、前記大径側外輪軌道と前記大径側内輪軌道との間に転動自在に設けられており、
前記小径側玉列を構成する複数個の玉は、前記小径側保持器の各ポケット内に保持された状態で、前記小径側外輪軌道と前記小径側内輪軌道との間に転動自在に設けられており、
前記大径側玉列を構成する各玉と前記小径側玉列を構成する各玉とに、互いに同じ向きの接触角が付与されているタンデム型複列アンギュラ玉軸受に於いて、
前記大径側外輪軌道の曲率半径をＲ１とし、前記大径側玉列を構成する各玉の直径寸法をΦ１とした場合に、０．５０５≦Ｒ１／Φ１≦０．５３の関係を満たし、
前記小径側外輪軌道の曲率半径をＲ２とし、前記小径側玉列を構成する各玉の直径寸法をΦ２とした場合に、０．５３≦Ｒ２／Φ２≦０．５４の関係を満たす事を特徴とするタンデム型複列アンギュラ玉軸受。
【請求項２】
前記大径側内輪軌道の曲率半径をＲ３とした場合に、０．５０５≦Ｒ３／Φ１≦０．５２の関係を満たし、
前記小径側内輪軌道の曲率半径をＲ４とした場合に、０．５１≦Ｒ４／Φ２≦０．５２の関係を満たす、
請求項１に記載したタンデム型複列アンギュラ玉軸受。