(57)【要約】  透明導電部、非導電部及び配線を適切に保護しつつ、光学性能に優れた透明導電膜を提供する。透明導電膜２０は、透明基板２１と、透明基板の両面側に設けられる光学調整層２２及び２３と、光学調整層の上に設けられる透明導電層８及び９と、透明導電層８及び９に接続される配線１０及び１１と、透明導電層及び配線を被覆する保護層１４とを備える。保護層１４の厚みは１μｍ以上５０μｍ以下である。また、透明導電膜２０における配線１０及び１１がない部分の透過色相ｂ＊が１．５以下である。
2014045595.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明導電膜であって、
透明基板と、
前記透明基板の両面側に設けられる光学調整層と、
前記光学調整層のそれぞれの上に設けられる透明導電層と、
前記透明導電層に接続される配線と、
前記透明導電膜の少なくとも一方の面側に設けられ、前記透明導電層及び前記配線を被覆する保護層とを備え、
前記保護層の厚みが１μｍ以上５０μｍ以下であり、
前記基板層と、前記光学調整層と、前記透明導電層と、前記保護層とで第１の多層構造が構成されており、
前記第１の多層構造を透過した光の透過色相ｂ＊が１．５以下である、透明導電膜。
【請求項２】
前記透明導電膜の少なくとも一方の面側に設けられる光学粘着層と、
前記光学粘着層の上に設けられるカバーガラスと、からなる第２の多層構造を更に備え、
前記第１の多層構造及び前記第２の多層構造を透過した光の透過色相ｂ＊が２．５以下である、透明導電膜。
【請求項３】
前記透明基板の両面に設けられた前記透明導電層のパターニングにより、透明導電部と非導電部とが形成されていることを特徴する、請求項１に記載の透明導電膜。
【請求項４】
前記透明導電膜の前記保護層が、前記透明導電部、前記非導電部及び前記電極配線を覆って形成されていることを特徴とする、請求項３に記載の透明導電膜。
【請求項５】
前記光学調整層が、前記透明基板側から順に、金属酸化化合物層及び酸化ケイ素層を積層して構成されることを特徴とする、請求項１に記載の透明電極膜。
【請求項６】
前記透明基板が、フィルム基材、光学粘着層及び光学フィルムを順に積層して構成されていることを特徴とする、請求項１に記載の透明導電膜。
【請求項７】
前記電極配線の配線幅が１０μｍ以上４０μｍ以下であることを特徴とする、請求項１に記載の透明導電膜。
【請求項８】
請求項１に記載の透明導電膜を備える、タッチパネル。
【請求項９】
透明基板の両面に透明導電部を有する電極配線付き透明導電膜の製造方法であって、
前記透明基板の両面に、前記透明導電部と非導電部とを形成し、
前記透明導電部に接続される配線部を形成し、
前記透明導電膜の少なくとも一方の面側に、前記透明導電部を被覆する保護層を形成する、透明導電膜の製造方法。
【請求項１０】
前記透明導電膜の一方面側に、光学粘着層及びカバーガラスを更に貼り合わせる、請求項９に記載の透明導電膜の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、静電容量方式のタッチパネルに適した透明導電膜、該透明導電膜の製造に適した透明導電膜の製造方法、および、該透明導電膜を用いたタッチパネルに関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、入力デバイスとして、タッチパネルが用いられている。タッチパネルは、表示画面上の表示部位を触れることで機器を操作することができる入力デバイスである。タッチパネルとしては、抵抗膜方式、静電容量方式、などの形式が知られている。【０００３】
抵抗膜方式は、対向する２枚の抵抗膜を備える方式である。片方の抵抗膜に電圧をかけた状態で抵抗膜が押圧されると、押圧された抵抗膜側が対向した抵抗膜に接することで、押圧した位置に対応する電圧降下が検知される。これにより、操作した場所を検知することができる。【０００４】
静電容量方式は、指先などの静電的な導電性の部位と、導電膜との間での静電容量の変化を捉えて、指先などの位置を検出する方式である。表示画面上に透明導電部と非導電部を配置することにより、指先が透明導電部に近づくときの静電容量の変化から、指先の位置を検知することができる。また、静電容量方式では、異なる配線形状の透明導電膜を重ねることで、多点検出が可能であり、より直感的な操作の実現が可能である。【０００５】
上述のようなタッチパネルでは、意匠上の要請などから、透明導電部と非導電部の形状を目立たなくする不可視対策が求められている。また、タッチパネルの導電膜や配線の保護が求められている。その際に、全光線透過率やヘイズ、透過色相ｂ＊といった光学特性が求められる。【０００６】
例えば、静電容量式タッチパネルにおいて、視認性を向上させたタッチパネル向け透明導電膜が提案されている（特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】国際公開第ＷＯ２００６／１２６６０４号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
静電容量方式のタッチパネルとしては、透明導電部と非導電部を不可視に形成し、透明導電膜の導電部、非導電部、及び配線部を保護した両面導電膜構成のものがなかった。【０００９】
そこで、本発明は上述の問題を解決するためになされたものであり、透明導電部、非導電部、及び配線部を適切に保護しつつ、光学特性に優れた透明導電膜を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明に係る透明導電膜は、透明基板と、透明基板の両面側に設けられる光学調整層と、光学調整層のそれぞれの上に設けられる透明導電層と、透明導電層に接続される配線と、透明導電膜の少なくとも一方の面側に設けられ、透明導電層及び配線を被覆する保護層とを備える。保護層の厚みが１μｍ以上５０μｍ以下である。基板層と、光学調整層と、透明導電層と、保護層とで第１の多層構造が構成されており、第１の多層構造を透過した光の透過色相ｂ＊が１．５以下である。【００１１】
また、本発明に係るタッチパネルは、上記の透明導電膜を備える。【００１２】
本発明に係る透明導電膜の製造方法においては、透明基板の両面に、透明導電部と非導電部とを形成し、透明導電部に接続される配線部を形成し、透明導電膜の少なくとも一方の面側に、透明導電部を被覆する保護層を形成する。
【発明の効果】
【００１３】
本発明の透明導電膜は、少なくとも一方の面に保護層を形成することで、タッチパネルに用いた際に傷による断線などから保護することが出来き、かつ透過色相ｂ＊も抑えて作成することができる。よって、導電膜面が保護された静電容量方式のタッチパネルを提供することが出来る。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】図１は、実施の形態１に係る透明導電膜の一例を示す概略断面図である。
【図２】図２は、実施の形態１の変形例に係る透明導電膜の一例を示す概略断面図である。
【図３】図３は、実施の形態１に係る透明導電膜の概略平面図である。
【図４】図４は、実施の形態２に係る透明導電膜の一例を示す概略断面図である。
【図５】図５は、実施の形態２に係る透明導電膜の概略平面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
以下、実施の形態に係る透明導電膜について説明を行う。
（実施の形態１）
図１は、実施の形態１に係る透明導電膜の一例を示す概略断面図である。
【００１６】
透明導電膜２０は、透明基板２１と、透明基板２１の両面側にそれぞれに設けられる光学調整層２２、２３と、光学調整層２２、２３上にそれぞれ設けられる透明導電層８、９と、透明導電層８、９にそれぞれ接続される配線１０、１１と、透明導電膜２０の一方面側において透明導電層８及び配線１０を被覆する保護層１４とを備える。
【００１７】
本実施形態においては、透明基板２１は、基材１と、基材１の両面に設けられるハードコート層２、３とから構成されている。
【００１８】
基材１は、可視光の透過性を有する材料で形成される。基材には、例えば、（１）無機ガラス、（２）ポリオレフィン（ポリエチレン、ポリプロピレンなど）、ポリエステル（ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなど）、ポリアミド（ナイロン６、ナイロン６６など）、ポリイミド、ポリアリレート、ポリカーボネート、ポリアクリレート、ポリエーテルサルフォン、ポリサルフォンなどの透明樹脂を用いてもよい。また、基材１は、上記に例示した透明樹脂を無延伸・延伸させたプラスチックフィルムであってもよい。また、基材１は、複数の材料が積層された複合フィルムであってもよい。
【００１９】
また、基材１の厚みは、１０μｍ以上２００μｍ以下程度の範囲内にあることが好ましい。ただし、本発明の透明導電膜２０において、基材１の厚みはこの範囲に限定されるものではない。
【００２０】
また、基材１の片面または両面に表面処理を行ってもよい。表面処理を行うことにより、基材１の表面に積層される層を強固に接着することが出来る。表面処理には、例えば、易接着処理、プラズマ処理、コロナ処理、オゾン処理、などの方法を用いることができる。
【００２１】
ハードコート層２、３は、基材１の表面に設けられ、基材１の機械強度、耐擦性、などを向上させる。ハードコート層２、３に用いる材料としては、可視光の透過性を有する材料を利用できる。例えば、（１）アクリル酸エステル類、アクリルアミド類、メタクリル酸エステル類、メタクリルアミド類等のアクリル系樹脂、（２）有機珪素系樹脂、（３）熱硬化型ポリシロキサン樹脂などの透明樹脂をハードコート層２、３の材料として用いてよい。
【００２２】
ハードコート層２、３の形成方法としては、ハードコート層２、３の形成材料に応じた薄膜形成方法により行うことができる。ハードコート層２、３は、例えば、主成分となる上述したような樹脂と紫外線を吸収する材料とを溶剤に溶解させて塗液を調整し、該塗液を、ダイコーター、カーテンフローコーター、ロールコーター、リバースロールコーター、グラビアコーター、ナイフコーター、バーコーター、スピンコーター、マイクログラビアコーターなどを用いて基材に塗布し、塗膜を紫外線の照射等によって硬化させることにより形成してもよい。
【００２３】
また、ハードコート層は、基材１の両面に設けることが好ましい。その場合に、表裏のハードコート層の膜厚を調節することにより、透明導電膜２０の表裏の応力が対称となるべく調整することができる。表裏の応力を調整することにより、反りの発生などを抑制することが出来、透明電極幕２０を好適にタッチパネルに組みこむことが出来る。ただし、ハードコート層を片面にのみ設けた基材１で透明基板２１を構成してもよいし、ハードコート層を設けない基材１で透明基板２１を構成してもよい。
【００２４】
また、ハードコート層２、３の厚みは、１μｍ以上１０μｍ以下程度の範囲内にあることが好ましい。ただし、ハードコート層２、３の厚みは上記範囲に限定されるものではない。
【００２５】
透明導電層８、９は、可視光の透過性を有し、かつ、電気伝導性を有する材料で形成することができる。透明導電層８、９の材料としては、例えば、酸化インジウム錫（ＩＴＯ：Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）、酸化亜鉛、カーボンナノチューブ、グラフェン、ナノ銀、導電性高分子樹脂（イオン伝導機構を有する４級アンモニウム塩系導電性モノマー、電子伝導機構を有する導電性微粒子、π共役系導電性高分子、などを含む樹脂）などを用いてよい。
【００２６】
また、透明導電層８、９の材料としてＩＴＯを使用する場合、透明導電層８、９の光学膜厚は３０ｎｍ以上８０ｎｍ以下の範囲内にあることが好ましい。透明電極層８の光学膜厚が３０ｎｍより薄い場合、膜厚が薄く導電性能が充分に得られない。また、透明導電層８、９の光学膜厚が８０ｎｍより厚い場合、得られた薄膜の透過率が低下し、光学特性が低下する。ただし、本実施の形態に係る透明導電膜２０において、ＩＴＯの薄膜を後述するようにパターニングして透明導電層８、９を形成する場合、透明導電層８、９の光学膜厚は、上記範囲に限定されるものではない。
【００２７】
本実施の形態において、透明導電層８、９は、透明な導電性材料を用いて薄膜を形成した後、形成された薄膜を所定形状にパターニングすることによって形成される。パターニングによって、透明導電層８、９には、透明導電部１２と、隣接する透明導電部１２の間に設けられる、導電性のない非導電部１３とが形成される。透明導電部１２は、パターニング後に透明な導電性材料が残存した部分であり、非導電部１３は、パターニングにより透明な導電性材料が除去された部分である。例えば、透明導電膜２０をタッチパネルに用いる場合、透明導電層８、９は、タッチパネルの透明電極となる。この場合、透明導電層８には、所定方向に延びる縞状の透明導電部１２が設けられ、透明導電層９には、当該所定方向と直交する方向に延びる縞状の透明導電部１２が設けられる。
【００２８】
また、光学調整層２２、２３は、透明基板２１側から順に、高屈折率層４、５および低屈折率層６、７を積層して行使されている。屈折率の異なる層を積層することにより、異なる層の界面における反射光同士の位相を逆転させて打ち消すことで反射光を軽減することが出来る。このため、透明基板２１側から発せられる反射光を軽減することが出来、観察面側に近い透明導電パターン電極（透明導電層８の透明導電部１２）の視認を困難にすることが出来る。一例として、本実施の形態においては、高屈折率層４、５は、金属酸化化合物層であり、低屈折率層６、７は、酸化ケイ素層である。なお、「高屈折率層および低屈折率層」における、高屈折率および低屈折率とは、一方の層の屈折率と他方の層の屈折率とを相対的な大きさにより区別したものである。つまり、高屈折率層の屈折率が低屈折率層の屈折率より相対的に高い。また、軽減する反射光の帯域は、各層の屈折率および光学膜厚で制御できることから、各層の物理膜厚は、阻害したい帯域に応じて適宜光学設計し、決定してよい。更に、光学調整層２２、２３は、３以上の層で構成されていてもよい。
【００２９】
例えば、透明基材１とハードコート層２、３の屈折率が１．５以上１．７以下の範囲にあり、透明導電層８、９として、酸化インジウム錫の薄膜（光学膜厚：３０ｎｍ以上８０ｎｍ以下）を用いる場合、高屈折率層（屈折率：１．７以上２．６以下、光学膜厚：５ｎｍ以上２５ｎｍ以下）と、低屈折率層（屈折率：１．３以上１．５以下、光学膜厚：５０ｎｍ以上１００ｎｍ以下）とを積層することにより、可視光下における酸化インジウム錫に特有な黄色味を軽減することができる。上述の範囲を満たす高屈折率層および低屈折率層の材料の組み合わせとしては、例えば、高屈折率層：酸化ニオブ（Ｎｂ２Ｏ５）、低屈折率層：酸化ケイ素（ＳｉＯＸ「ｘは酸素原子の数」）の組み合わせなどが挙げられる。高屈折率層４、５に使用できる材料としては、Ｎｂ２Ｏ５の他に、ＺｎＯ、ＴｉＯ２、ＣｅＯ２、Ｓｂ２Ｏ５、ＳｎＯ２、Ｙ２Ｏ３、Ｌａ２Ｏ３、ＺｒＯ２、Ａｌ２Ｏ３を例示できる。
【００３０】
高屈折率層４、５および低屈折率層６、７の形成方法としては、高屈折率層および低屈折率層の形成材料に応じた薄膜形成方法により行うことができる。例えば、（１）スクリーン印刷、インクジェット印刷などの塗布法、（２）マグネトロンスパッタリング法、加速電子ビームを照射するＥＢ蒸着法などの物理真空蒸着法（ＰＶＤ）、化学気相成長法（ＣＶＤ）などの気相成膜方法、等を用いてよい。特に、気相成膜方法は、厳密に膜厚制御を行うことが出来、所望の光学膜厚に調整することが可能であることから、気相成膜方法を用いることが好ましい。
【００３１】
配線１０、１１は、透明導電膜２０の周縁部において、透明導電層８、９に接続されている。配線１０、１１は、透明導電膜２０と組み合わされる画像表示装置の画像表示領域と重ならないように、透明導電膜２０に配置される。本実施の形態の透明導電膜２０において、配線１０、１１の材料は、電気伝導性を有し、加工性に優れた材料から適宜選択して用いてよい。例えば、銅、銀、金、などの金属を配線１０、１１の材料として用いてもよい。
【００３２】
また、配線１０、１１の厚みは、０．１μｍ以上２μｍ以下程度の範囲内にあることが好ましい。ただし、配線１０、１１の厚みはこの範囲に限定されるものではない。
【００３３】
保護層１４は、透明電極膜２０の一方面側に、透明導電部１２、非導電部１３及び配線１０を覆うように設けられている。保護層１４は、透明導電部１２、非導電部１３及び配線１０を保護するためのものである。本実施形態では、透明導電膜２０の一方面側のみに保護層１４が設けられているが、透明電極膜２０の両面側に保護層１４を設けてもよい。また、保護層１４を設けることによって、透明導電部１２及び非導電部１３の光学特性の差を小さくすることができるので、透明導電部１２及び非導電部１３を視認し難くすることができる。
【００３４】
保護層１４は、絶縁性を有し、薄膜形成性に優れた材料を用いて形成される。保護層１４の材料には、例えば、（１）アクリル酸エステル類、アクリルアミド類、メタクリル酸エステル類、メタクリルアミド類等のアクリル系樹脂、（２）有機珪素系樹脂、（３）熱硬化型ポリシロキサン樹脂、（４）酸化ケイ素、などを用いてもよい。
【００３５】
保護層１４の厚みは、１μｍ以上５０μｍ以下程度であることが好ましい。また、保護層１４の透過色相ｂ＊が−１．０以上０．５以下程度の範囲内にあることが好ましい。保護層１４がない透明電極膜は、透明導電層８を構成する材料に起因して全体が黄味を帯びるため、透過色相ｂ＊が大きくなる。そこで、透過色素ｂ＊が−１．０以上０．５以下程度の範囲にあるやや青みを帯びた保護層１４を設けることによって、透明導電膜２０全体の透過色相ｂ＊（配線１０、１１のない部分の透過色相ｂ＊）を１．５以下に抑制することができ、黄味を抑えることができる。尚、透過色相ｂ＊とは、透過光の色をＬ＊ａ＊ｂ＊表色系（Ｄ６５光源、２°視野）で表したときのｂ＊のことである。ただし、保護層１４の厚みはこの範囲に限定されるものではない。また、保護層１４の透過色相ｂ＊は、−０．５以上０以下であることがより好ましい。
【００３６】
保護層１４の形成方法としては、保護層１４の形成材料に応じた薄膜形成方法により行うことができる。保護層１４は、例えば、主成分となる上述したような樹脂と紫外線を吸収する材料とを溶剤に溶解させて塗液を調整し、該塗液を、ダイコーター、カーテンフローコーター、ロールコーター、リバースロールコーター、グラビアコーター、ナイフコーター、バーコーター、スピンコーター、マイクログラビアコーターなどを用いて、保護層１４の被形成面に塗布した後、塗膜を紫外線の照射等によって硬化させることにより形成してもよい。または、ラミネート方式を採用し、保護層１４として別途形成したフィルム等を導電面に貼り合わせて使用してもよい。
【００３７】
図２は、実施の形態１に係る透明導電膜の変形例を示す概略断面図である。
【００３８】
変形例に係る透明導電膜２０は、透明基板２１の基材２４が積層体である点で、図１に示した例と異なる。変形例に係る基材２４は、フィルム基材１５と、光学粘着層１７と、フィルム基材１６とがこの順で積層された積層体である。フィルム基材１５、１６としては、上述した基材１と同じ材料で形成されたフィルムを利用できる。光学粘着層１７には、アクリル系樹脂、シリコーン系樹脂、ゴム系樹脂を利用できる。また、光学粘着層１７には、ＵＶ吸収性能を有する粘着剤や、フィルム状または液状の粘着剤を利用できる。光学粘着層１７の厚みは、１μｍ以上１５０μｍ以下程度の範囲内にあることが好ましい。この基材２４の両面にハードコート層２、３を積層することによって、透明基板２１が構成されている。尚、透明基板２１上に積層される、光学調整層２２、２３（高屈折率層４、５、低屈折率層６、７）、透明導電層８、９（透明導電部１２、非導電部１３）、配線１０及び１１、保護層１４は、図１で説明したものと同じであるので、繰り返しの説明を省略する。
【００３９】
図３に、図１及び２に示す透明導電膜の概略平面図を示す。
【００４０】
透明導電部１２、非導電部１３及び配線部１０、１１は保護層１４により、外部より遮蔽されているため、図２では破線で示す。保護層１４は、透明導電部１２、非導電部１３、配線部１０、１１を覆うように形成されている。
【００４１】
ここで、図１及び２に示した透明導電膜２０において、透明基板２１と、光学調整層２２、２３と、透明導電層８、９と、保護層１４とから構成される第１の積層構造を透過した光の透過色相ｂ＊は１．５以下である。尚、透過色相ｂ＊とは、透過光の色をＬ＊ａ＊ｂ＊表色系（Ｄ６５光源、２°視野）で表したときのｂ＊のことである。透明導電膜の第１の積層構造部分（配線１０、１１のない部分）の透過色相ｂ＊が１．５より大きい場合、透明導電膜の全体が黄味を帯びてしまう。透過色相ｂ＊が１．５より大きい透明導電膜をタッチパネルに用いると、画面が黄味を帯びてしまい、画質が悪くなる。透明電極膜２０が色味を帯びるのを抑えるため、第１の積層構造を透過した光の透過色相ｂ＊は、−３．０以上であることが好ましい。また、第１の積層構造の透過色相ｂ＊は、０以上１．０以下であることがより好ましい。この場合、透明電極膜２０が色味を帯びるのを更に抑制できる。
【００４２】
尚、透明導電膜の透過色相ｂ＊を１．５以下とするために、例えば、保護層１４が２層以上の積層体であって、かつ、干渉により青みを帯びるような構成を採用してもよい。また、保護層１４の全体が青みを帯びるような材料を含む材料で、保護層１４を形成してもよい。
【００４３】
以上説明したように、本実施形態に係る透明導電膜２０には、透明導電部１２、非導電部１３及び配線１０を保護するための保護層１４が設けられているが、第１の積層構造（すなわち、配線１０、１１が設けられていない部分）の透過色相ｂ＊が１．５以下に抑制されている。したがって、本実施形態によれば、透明導電部１２、非導電部１３及び配線１０を保護しつつ、光学特性に優れた透明電極膜を実現できる。
【００４４】
図１及び２に示した透明導電膜２０はタッチパネルの構成部材として利用できる。透明導電膜２０を用いることにより、保護層１４により耐擦傷性が向上し、高透過率・高透明性等の光学特性に優れ、更に、透明導電部８、９の目立たない、静電容量方式のタッチパネルを実現できる。
【００４５】
以下、本発明の透明導電膜の製造方法について説明を行う。
【００４６】
＜透明導電層形成工程＞
まず、透明基板２１に透明導電層８、９の形成材料の薄膜を形成し、該薄膜にパターン形成することにより、透明導電部１２と非導電部１３とを形成する。
【００４７】
透明導電層８、９の形成材料を用いた薄膜の形成は、透明導電層８、９の形成材料に応じて、適した薄膜形成方法を用いてよい。例えば、（１）スクリーン印刷、インクジェット印刷などの塗布法、（２）マグネトロンスパッタリング法、加速電子ビームを照射するＥＢ蒸着法などの物理真空蒸着法（ＰＶＤ）、化学気相成長法（ＣＶＤ）、などの気相成膜方法などを用いてよい。特に、透明導電部の材料にＩＴＯを用いる場合、気相成膜方法によりＩＴＯ薄膜を形成すると電荷密度が向上し導電性も向上する傾向があることから、気相成膜方法を用いることが好ましい。
【００４８】
透明導電層８、９の形成材料の薄膜に対するパターン形成は、透明導電層８、９の形成材料に応じて、適したパターニング方法を用いてよい。例えば、薄膜上に所望するパターンと対応するエッチャントマスクを形成し、エッチャント液に浸漬することにより、薄膜にパターン形成してもよい。他のパターニング方法としては、例えば、スクリーン印刷、フォトリソグラフィー、ナノインプリント、電子線描画、などを用いてもよい。また、エッチャント液としては、例えば、塩化第二鉄液、王水、塩酸、シュウ酸、などを用いてもよい。
【００４９】
＜配線形成工程＞
次に、配線１０、１１の形成材料の薄膜を形成し、透明導電部と接続される配線１０、１１を形成する。
【００５０】
配線１０、１１の形成材料を用いた薄膜の形成は、配線１０、１１の形成材料に応じて、適した薄膜形成方法を用いてよい。例えば、（１）スクリーン印刷、インクジェット印刷などの塗布法、（２）マグネトロンスパッタリング法、加速電子ビームを照射するＥＢ蒸着法などの物理真空蒸着法（ＰＶＤ）、化学気相成長法（ＣＶＤ）などの気相成膜方法などを用いてよい。また、配線形成材料の薄膜にパターニングを施し、一層に複数本の配線を形成してもよい。
【００５１】
配線１０、１１の形成材料の薄膜に対するパターン形成は、配線１０、１１に選択した材料に応じて、適したパターニング方法を用いてよい。例えば、薄膜上に所望するパターンと対応するエッチャントマスクを形成し、エッチャント液に浸漬することにより、薄膜にパターン形成してもよい。他のパターニング方法としては、例えば、スクリーン印刷、フォトリソグラフィー、ナノインプリント、電子線描画などを用いてもよい。また、エッチャント液としては、例えば、塩化第二鉄液、王水、塩酸、シュウ酸などを用いてもよい。
【００５２】
＜保護層形成工程＞
次に、保護層１４の形成材料の薄膜を形成し、透明導電部１２、非導電部１３及び配線１０を覆うように保護層１４を形成する。
【００５３】
保護層１４の形成材料を用いた薄膜形成は、保護層１４に選択した材料に応じて、適した薄膜形成方法を用いてよい。例えば（１）スクリーン印刷、インクジェット印刷などの塗布法、（２）ラミネート加工などの貼り合わせ法などを用いてよい。
【００５４】
尚、透明導電層及び配線は、透明基板２１の両面側に形成する必要があるので、上記の透明導電層形成工程及び配線形性工程のそれぞれにおいて、透明基板２１の両面に対して透明導電層及び配線を形成する。この場合、各工程における薄膜形成及びパターン形性の順序は、採用する薄膜形成方法及びパターニング方法に応じて適宜定められる。
【００５５】
また、光学調整層２２、２３は、公知の多層薄膜形成方法により、透明基板２１側から順に、高屈折率層４、５の薄膜と低屈折率層６、７の薄膜とを成膜することによって形成することができる。
【００５６】
また、図２の透明導電膜２０のように、２枚のフィルム基材１５、１６を貼り合わせた積層体を基材とする場合、フィルム基材１５及び１６のそれぞれにハードコート層、光学調整層、透明導電層、配線を形成した後に、光学粘着層１７を介して、フィルム基材１５及び１６を貼り合わせてもよい。この場合、保護層１４は、フィルム基材１５及び１６の貼り合わせ前に形成してもよいし、貼り合わせ後に形成してもよい。
【００５７】
（実施の形態２）
図４は、実施の形態２に係る透明導電膜の一例を示す概略断面図である。
【００５８】
本実施の形態に係る透明導電膜３０は、実施の形態１に係る透明導電膜２０における保護層１４が設けられた面と反対側の面に、更に、光学粘着層３１と、カバーガラス３２とを積層したものである。光学粘着層３１には、アクリル系樹脂、シリコーン系樹脂、ゴム系樹脂を利用できる。また、光学粘着層３１には、ＵＶ吸収性能を有する粘着剤や、フィルム状または液状の粘着剤を利用してもよい。尚、透明導電膜３０が備える透明基板２１、光学調整層２２及び２３（高屈折率層４、５、低屈折率層６、７）、透明導電層８、９（透明導電部１２、非導電部１３）、配線１０及び１１、保護層１４は、実施の形態１（図１）で説明したものと同じであるので、繰り返しの説明を省略する。
【００５９】
図５は、実施の形態２に係る透明導電膜の変形例を示す概略断面図である。
【００６０】
変形例に係る透明導電膜３０は、透明基板２１の基材として、図３で説明したものと同じ基材２４が用いられている点で、図４に示した例と異なる。この基材２４については、実施の形態１の変形例において既に説明したので、説明を省略する。
【００６１】
ここで、図４及び５に示した透明導電膜３０において、透明基板２１と、光学調整層２２、２３と、透明導電層８、９と、保護層１４とが積層された部分を第１の積層構造といい、光学粘着層３１とカバーガラス３２とが積層された部分を第２の積層構造という。図４及び５の構成においては、第１の積層構造及び第２の積層構造を透過した光の透過色相ｂ＊は２．５以下である。尚、透過色相ｂ＊とは、透過光の色をＬ＊ａ＊ｂ＊表色系（Ｄ６５光源、２°視野）で表したときのｂ＊のことである。第１の積層構造と第２の積層構造とが重なる部分（すなわち、配線１０、１１のない部分）の透過色相ｂ＊が２．５より大きい場合、透明導電膜の全体が黄味を帯びてしまう。透過色相ｂ＊が２．５より大きい透明導電膜をタッチパネルに用いると、画面が黄味を帯びてしまい、画質が悪くなる。尚、透明導電膜の透過色相ｂ＊を２．５以下とするために、例えば、保護層１４が２層以上の積層体であって、かつ、干渉により青みを帯びるような構成を採用してもよい。また、保護層１４の全体が青みを帯びるような材料を含む材料で、保護層１４を形成してもよい。透明電極膜２０が色味を帯びるのを抑えるため、第１の積層構造及び第２の積層構造を透過した光の透過色相ｂ＊は、−３．０以上であることが好ましい。また、第１の積層構造の透過色相ｂ＊は、０以上２．０以下であることがより好ましい。この場合、透明電極膜２０が色味を帯びるのを更に抑制できる。
【００６２】
尚、実施の形態２に係る透明導電膜３０は、実施の形態１で説明した製造方法に従って、透明基板２１上に、光学調整層２２及び２３、透明導電層８及び９、配線１０及び１１、保護層１４を形成した後、保護層１４とは反対側の面に、光学粘着層３１を介してカバーガラス３２を貼り合わせることによって製造することができる。
【００６３】
以上説明したように、本実施形態に係る透明導電膜３０の一方面側には、透明導電部１２、非導電部１３及び配線１０を保護するための保護層１４が設けられ、他方面側には、光学粘着層３１を介してカバーガラス３２が張り合わされている。ただし、上述した第１の積層構造及び第２の積層構造の積層部分（すなわち、配線１０、１１が設けられていない部分）の透過色相ｂ＊が２．５以下に抑制されている。したがって、本実施形態によれば、透明導電部１２、非導電部１３及び配線１０を保護しつつ、光学特性に優れた透明電極膜を実現できる。
【００６４】
図４及び５に示した透明導電膜３０はタッチパネルの構成部材として利用できる。透明導電膜３０を用いることにより、保護層１４により耐擦傷性が向上し、高透過率・高透明性等の光学特性に優れ、更に、透明導電部８、９の目立たない、静電容量方式のタッチパネルを実現できる。
【実施例】
【００６５】
＜実施例１＞
まず、基材の両面に樹脂を塗工し、下部ハードコート層および上部ハードコード層を形成した。【００６６】
基材には、厚み５０μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（ＰＥＴ）を用いた。また、下部ハードコート層の膜厚は１．５μｍであった。また、上部ハードコード層の膜厚は１．５μｍであった。【００６７】
次に、上部ハードコート層上に、高屈折率層を形成した。高屈折率層に用いる材料は、酸化ニオブ（Ｎｂ２Ｏ５）とした。また、高屈折率層の形成にはマグネトロンスパッタリングを用いた。【００６８】
次に、高屈折率層上に、低屈折率層を形成した。低屈折率層の材料には、酸化ケイ素を用いた。また、低屈折率層の形成には、マグネトロンスパッタリングを用いた。【００６９】
次に、低屈折率層上に、透明導電パターン電極を形成した。透明導電パターン電極に用いる材料は、酸化スズを５ｗｔ％含有する酸化インジウム・スズ（ＩＴＯ）とした。また、透明導電パターン電極は、マグネトロンスパッタリングにてＩＴＯの薄膜を形成し、スクリーン印刷にてパターンに応じたエッチャントマスクを形成し、エッチャント液に浸漬することにより形成した。このとき、透明導電部のパターン幅を５ｍｍとし、非導電部のパターン幅を７０μｍとした。また、エッチャント液には、塩化第二鉄液を用いた。【００７０】
次に、透明導電部と接続する配線を形成した。配線に用いる材料は、銅とした。また、下層の配線は、マグネトロンスパッタリングにて銅の薄膜を形成し、スクリーン印刷にてパターンに応じたエッチャントマスクを形成し、エッチャント液に浸漬することにより形成した。このとき、エッチャント液には、過硫酸ナトリウム水溶液を用いた。また、下層の配線の配線パターンは、透明導電部のパターンであるラインパターンと接続する配線パターンとした。【００７１】
次に、透明導電部、非導電部、配線を覆うように保護層を形成した。保護層に用いる材料は、アクリル系樹脂とした。また、保護層の形成には、マイクログラビアコーターを用い、保護層の膜厚は１．０μｍとした。【００７２】
以上の工程を経て、実施の形態１に係る透明導電膜を製造した。製造した透明導電膜はが備える高屈折率層／低屈折率層／透明導電部の各層の光学膜厚は次の通りであった。
高屈折率層：１２ｎｍ、低屈折率層：７４ｎｍ、透明導電部：４０ｎｍ【００７３】
＜比較例１＞
実施例１と同じ条件で、基材上にハードコート層、高屈折率層、低屈折率層、透明導電部、非導電部及び配線を形成したものを比較例１に係る透明導電膜とした。比較例１の透明導電膜には、保護層を設けなかった。【００７４】
＜実施例１及び比較例１の評価＞
実施例１と比較例１について、全光線透過率（ＪＩＳ−Ｋ７１０５）、Ｌ＊ａ＊ｂ＊表色系（Ｄ６５光源、視野２°）で表したときの透過色相ｂ＊、擦傷試験、鉛筆硬度試験（ＪＩＳ−Ｋ５６００）を実施した。【００７５】
実施例１の透明導電膜の導電性パターン領域（配線のない領域）の全光線透過率（ＪＩＳ−Ｋ７１０５）は９０．６％、透過色相ｂ＊は１．５であり、黄味が少なく、高透過率・高透明で、かつ、透明導電部のパターンが目立たない透明導電膜が得られた。かつ、実施例１の透明導電膜には、鉛筆硬度試験（鉛筆硬度Ｈ、５００ｇ荷重）においてもキズが確認されなかった。一方、比較例１の透明導電膜の導電性パターン領域（配線のない領域）の全光線透過率（ＪＩＳ−Ｋ７１０５）は９０．０％、透過色相ｂ＊は１．８であり、黄味を帯びていた。また、比較例の透明導電膜では、鉛筆硬度試験（鉛筆硬度Ｈ、５００ｇ荷重）においてキズが確認された。【００７６】
＜実施例２＞
実施例１と同じ条件で、基材上にハードコート層、高屈折率層、低屈折率層、透明導電部、非導電部、配線及び保護層を形成した後、保護層と反対側の面に、厚み１００μｍの光学粘着層を介して厚み５００μｍのカバーガラスを貼り合わせたものを、実施例２に係る透明導電膜とした。【００７７】
＜比較例２＞
実施例１と同じ条件で、基材上にハードコート層、高屈折率層、低屈折率層、透明導電部、非導電部及び配線を形成した後、厚み１００μｍの光学粘着層を介して厚み５００μｍのカバーガラスを貼り合わせたものを、比較例２に係る透明導電膜とした。比較例２の透明導電膜には、保護層を設けなかった。【００７８】
＜実施例２及び比較例２の評価＞
実施例２と比較例２について、全光線透過率（ＪＩＳ−Ｋ７１０５）、Ｌ＊ａ＊ｂ＊表色系（Ｄ６５光源、視野２°）で表したときの透過色相ｂ＊、擦傷試験、鉛筆硬度試験（ＪＩＳ−Ｋ５６００）を実施した。【００７９】
実施例２の透明導電膜の導電性パターン領域（配線のない領域）の全光線透過率（ＪＩＳ−Ｋ７１０５）は９０．６％、透過色相ｂ＊は２．５であり、黄味が少なく、高透過率・高透明で、かつ、透明導電部のパターンが目立たない透明導電膜が得られた。かつ、実施例１の透明導電膜には、鉛筆硬度試験（鉛筆硬度Ｈ、５００ｇ荷重）においてもキズが確認されなかった。一方、比較例１の透明導電膜の導電性パターン領域（配線のない領域）の全光線透過率（ＪＩＳ−Ｋ７１０５）は９０．０％、透過色相ｂ＊は３．０であり、黄味を帯びていた。また、比較例の透明導電膜では、鉛筆硬度試験（鉛筆硬度Ｈ、５００ｇ荷重）においてキズが確認された。
【産業上の利用可能性】
【００８０】
本発明の透明導電膜は、静電容量方式のタッチパネルを利用する広範な分野で利用できる。例えば、金融機関のＡＴＭ、電子機器（コピー機、ファックス、カーナビ、その他家電など）、携帯情報端末（携帯電話、スマートフォン、タブレットＰＣなど）、電子書籍端末、携帯ゲーム端末、携帯音楽プレーヤー、自動販売機等の操作パネルを構成するタッチパネルに利用できる。
【符号の説明】
【００８１】
１  基材
２、３  ハードコート層
４、５  高屈折率層
６、７  低屈折率層
８、９  透明導電層
１０、１１  配線
１２  透明導電部
１３  非導電部
１４  保護層
２０  透明導電膜
２１  透明基板
２２、２３  光学調整層
２４  基材
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【国際調査報告】
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