Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成27年4月27日(2015.4.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
この発明の目的は，上記の課題を解決することであり，半導体製造装置，工作機械，産業用ロボット等の各種の装置の摺動部に使用される転動体のローラタイプであって，ローラの脱落を防止する保持板を保持する保持バンドを備えた直動案内ユニットにおいて，エンドキャップのエンドシール側の端面に保持バンド溝を形成したような構造上スペースが厳しくても，エンドキャップのエンドシール側の端面に凹部を形成し，凹部に潤滑剤を含浸した多孔質成形体を嵌合配設し，エンドキャップに設けた方向転換路に開口する開口部を形成し，転動体のローラへの潤滑剤の給油を方向転換路内で行い，特に，エンドシール側からの注油器の注油針により方向転換路に給油すると共に，同時に多孔質成形体にも追加給油できるように構成し，給油手段の構成を単純化し，更に，深部の凹部に追従して体積が可及的に大きくなる形状に多孔質成形体に貯留部を形成し，エンドキャップが小形であっても多孔質成形体に十分な潤滑剤を含浸できる構造に構成し，転動体へ確実に安定的に給油を行ってメンテナンスフリーを実現し，更に追加給油を可能にし，転動体への給油を長期にわたって確実に容易に安定して達成できる直動案内ユニットを提供することである。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
また，この直動案内ユニットにおいて，エンドキャップ４に形成されたエンドシール８側に開口する凹部３１は，エンドキャップ本体５の本体部４１と該本体部４１の両側からそれぞれ延びる袖部４２に形成されており，多孔質成形体１０の貯留部２０が凹部３１にフィットして嵌入されている。多孔質成形体１０は，エンドキャップ本体５に形成された凹部３１内に嵌合する形状に形成されており，図９〜図１２に示すように，本体部４１の両側の凹部３１の深部４８に位置する第１貯留部２１，両第１貯留部２１に接続して本体部４１の中央の凹部３１の深部４８に位置する第２貯留部２２，両第１貯留部２１に接続して両側の袖部４２の凹部３１に位置する第３貯留部２３，方向転換路３０の開口部５０へと突出して先端面が開口部５０に露出する突出部２４，及び第３貯留部２３と突出部２４とを接続する連係供給部１９から形成されている。潤滑剤を多量に含浸する貯留部２０は，主として，ブロック状の形状で上部左右に形成された一対の第１貯留部２１と，一対の第１貯留部２１間に位置する平板状の第２貯留部２２，及び第１貯留部２１からそれぞれ垂下する第３貯留部２３から構成されている。連係供給部１９は，第３貯留部２３からそれぞれ垂下してエンドキャップ本体５の一対の袖部４２の凹部３１にそれぞれ嵌合されている。一対の連係供給部１９には，エンドキャップ４の方向転換路３０内を転走する転動体のローラ７に接触して潤滑剤を供給する突出部２４がそれぞれ形成されている。突出部２４は，その先端面に傾斜した接触面２５が形成されており，接触面２５は，エンドキャップ４の方向転換路３０の曲線部分に形成された開口部５０に露出するように配設されている。多孔質成形体１０は，潤滑剤の保持量を増やすために，第２貯留部２２の厚さ（即ち，容積）を大きくして，エンドキャップ４のボス部３８が切り欠かれてスリット３６が形成されるまで，ボス部３８が薄くなるように構成されている。その結果，多孔質成形体１０の第２貯留部２２の部分の容積（体積）が増加して，保持できる潤滑剤の量が増加することになる。同時に，ボス部３８での給油孔３５が切り欠かれた状態になってスリット３６が形成されることによって，潤滑剤は，給油孔３５からスリット３６を通じてスリット３６に露出している多孔質成形体１０の露出面４６に給油される。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２７】
また，この直動案内ユニットは，転動体のローラ７を保持するため摺動方向に延びる保持板２６を固定する保持バンド２７を係止するため，エンドキャップ４の端面５３（６８）には保持バンド溝３９が形成されており，エンドキャップ４に形成された凹部３１は保持バンド溝３９で開口している。また，スライダ２を構成するエンドキャップ４のエンドシール８側の端面５３に形成された凹部３１に潤滑剤を含浸した多孔質成形体１０を配設し，多孔質成形体１０から方向転換路３０に形成された開口部５０を通じて方向転換路３０を転走するローラ７に潤滑剤を給油するものである。エンドキャップ本体５の凹部３１は，エンドキャップ本体５の端面５３（６８）から形成された外側枠部４３と内側枠部４４に囲まれて形成された領域に位置しており，エンドキャップ４の左右両側に形成されているので，多孔質成形体１０は，左右両側の凹部３１に跨がって延びて嵌合されてる。この実施例では，エンドキャップ４自体が小形に形成されているので，凹部３１は，エンドキャップ本体５の本体部４１及び本体部４１の幅方向即ち摺動方向に直交する方向の左右両側の袖部４２に延びて形成されている。
【手続補正４】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１５】
2013245751.tif 000001
【手続補正５】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１６】
2013245751.tif 000002
【手続補正６】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図２３】
2013245751.tif 000003
【手続補正７】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図２４】
2013245751.tif 000004
【手続補正８】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図２５】
2013245751.tif 000005
【手続補正書】
【提出日】平成27年5月12日(2015.5.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
復水の流入口と還元口を設けた復水溜容器と、該復水溜容器に高圧操作流体の導入口と循環口を形成すると共に、水位と共に浮上降下するフロ―ト手段を配置して、該フロ―ト手段の変位に応じて上記高圧操作流体の導入口と循環口とを開閉して復水を圧送し回収するものにおいて、
前記復水の流入口を復水集合タンクと接続し、
前記復水集合タンクに大気連通管を接続し、
前記復水の還元口に復水回収管を接続し、
前記復水回収管を分岐した復水分岐管を取り付け、
前記復水分岐管を前記大気連通管と接続したこと
を特徴とする復水回収装置。
【請求項２】
前記大気連通管に感温筒を接続し、
前記感温筒は、前記大気連通管内の流体温度が所定値よりも高くなる場合に開弁して、前記復水回収管内の復水を前記大気連通管内へ噴射させる、請求項１に記載の復水回収装置。
【手続補正書】
【提出日】平成27年5月12日(2015.5.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
復水の流入口と還元口を設けた復水溜容器に、高圧操作流体の導入口と循環口を形成すると共に、水位と共に浮上降下するフロ―ト手段を配置して、前記フロ―ト手段の変位に応じて前記高圧操作流体の導入口と循環口とを開閉して復水を圧送し回収する復水回収装置であって、
前記復水の流入口を熱交換式復水集合タンクと接続し、
前記熱交換式復水集合タンクに熱交換用の冷却水供給管を接続し、
前記冷却水供給管に温度応動弁を取り付け、
前記熱交換式復水集合タンクに大気連通管を接続し、
前記大気連通管に前記温度応動弁を開閉する温度検出部材を取り付け、
温度検出部材は、前記大気連通管内の検出温度値が所定値よりも高くなると前記温度応動弁を開弁して、冷却水供給管から冷却水を供給させる、復水回収装置。
【手続補正書】
【提出日】平成27年2月6日(2015.2.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
塊鉱石表面に付着した付着粉を篩を用いて除去する方法であって、
予め、塊鉱石の銘柄ごとに、含水率と篩での付着粉の除去率との関係を測定する除去率測定工程と、該除去率測定工程で得られた前記含水率と除去率との関係に基づいて、前記含水率測定装置によって測定された塊鉱石の含水率が付着粉の粘着性により所定の除去率を得られない領域である場合には、塊鉱石に水分を添加して塊鉱石の含水率を調整する含水率調整工程と、該含水率調整工程で含水率を調整した塊鉱石の表面に付着した付着粉を篩を用いて除去する篩工程を有することを特徴とする塊鉱石付着粉の除去方法。
【請求項２】
前記篩工程では、振動篩を用いて付着粉を除去することを特徴とする請求項１に記載の塊鉱石付着粉の除去方法。
【請求項３】
前記篩工程では、傾斜スクリーンと、該傾斜スクリーンを傾斜角度を保持したまま傾斜逆方向の円運動をするような偏心駆動機構とを備えた揺動篩を用いて付着粉を除去することを特徴とする請求項１に記載の塊鉱石付着粉の除去方法。
【請求項４】
前記含水率調整工程では、前記含水率と除去率との関係に基づいて、乾燥状態と同等の付着粉残留割合となる含水率に塊鉱石の含水率を調整することを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の塊鉱石付着粉の除去方法。
【請求項５】
塊鉱石の含水率を測定する含水率測定装置と、
前記含水率測定装置によって測定された塊鉱石の含水率が付着粉の粘着性により所定の除去率を得られない領域である場合には、塊鉱石に水分を添加して、塊鉱石の含水率が付着粉の流動性により所定の除去率を得られる領域となるように塊鉱石の含水率を調整する含水率調整装置と、
該含水率調整装置で含水率を調整した塊鉱石の表面に付着した付着粉を篩を用いて除去する篩装置を有することを特徴とする塊鉱石付着粉の除去装置。
【請求項６】
前記篩装置では、振動篩を用いて付着粉を除去することを特徴とする請求項５に記載の塊鉱石付着粉の除去装置。
【請求項７】
前記篩装置では、傾斜スクリーンと、該傾斜スクリーンを傾斜角度を保持したまま傾斜逆方向の円運動をする偏心駆動機構とを備えた振動篩を用いて付着粉を除去することを特徴とする請求項５に記載の塊鉱石付着粉の除去装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】塊鉱石付着粉の除去方法および除去装置
【手続補正書】
【提出日】平成27年4月17日(2015.4.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
有機化合物を蒸着用ルツボの内壁表面全体に付着させた後、減圧下で前記蒸着用ルツボを加熱することにより、前記蒸着用ルツボの内壁表面に炭素を含む膜を形成することを特徴とする、蒸着用ルツボの製造方法。
【請求項２】
有機化合物が分散した溶媒、または前記有機化合物が溶解した溶液で蒸着用ルツボの内壁表面全体を濡らした後、減圧下で前記蒸着用ルツボを加熱することにより、前記蒸着用ルツボの内壁表面に炭素を含む膜を形成することを特徴とする、蒸着用ルツボの製造方法。
【請求項３】
請求項１または請求項２において、
前記減圧下として、前記有機化合物が昇華する温度と、前記有機化合物が熱分解する温度とが共存する圧力にすることを特徴とする、蒸着用ルツボの製造方法。
【請求項４】
請求項１乃至３のいずれか一において、
前記蒸着用ルツボとして、酸素濃度が０．１重量％以上であるルツボを用いることを特徴とする、蒸着用ルツボの製造方法。
【請求項５】
請求項１乃至４のいずれか一において、
前記有機化合物として、分子量が２００以上１５００以下であり、芳香族環を有する有機化合物を用いることを特徴とする、蒸着用ルツボの製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成27年4月22日(2015.4.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
請求項５に係る発明は、
像保持体と、
前記像保持体の表面を帯電する帯電手段と、
帯電した前記像保持体の表面に潜像を形成する潜像形成手段と、
前記像保持体の表面の潜像をトナーにより現像してトナー像を形成する現像手段と、
前記像保持体の表面に形成された前記トナー像が転写される中間転写体であって、請求項３に記載の管状体で構成された中間転写体と、
前記像保持体の表面に形成された前記トナー像を前記中間転写体の表面に一次転写する一次転写手段と、
前記中間転写体の表面に転写された前記トナー像を被転写媒体に二次転写する二次転写手段と、
前記被転写媒体に転写された前記トナー像を定着する定着手段と、
を備えた画像形成装置である。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７０】
（画像形成装置）
本実施形態に係る画像形成装置は、例えば、像保持体と、像保持体の表面を帯電する帯電手段と、帯電した像保持体の表面に潜像を形成する潜像形成手段と、像保持体の表面の潜像をトナーにより現像してトナー像を形成する現像手段と、像保持体の表面に形成された前記トナー像が転写される中間転写体と、像保持体の表面に形成された前記トナー像を中間転写体の表面に一次転写する一次転写手段と、中間転写体の表面に転写された前記トナー像を被転写媒体に二次転写する二次転写手段と、被転写媒体に転写された前記トナー像を定着する定着手段と、を備え、中間転写体が、本実施形態に係る無端ベルトが適用される。
【手続補正３】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
全末端基の７０％以上がアミノ基であるポリイミド前駆体と、
前記ポリイミド前駆体に対する含有量が１５質量％以上３０質量％以下で、ｐＨが３以上４以下であり、且つ酸性基を持つ導電材と、
溶媒と、
を含む熱硬化性溶液。
【請求項２】
前記導電材が、カーボンブラックである請求項１に記載の熱硬化性溶液。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の熱硬化性溶液の硬化層を有する管状体。
【請求項４】
請求項１又は２に記載の熱硬化性溶液の塗膜を形成する工程と、
前記塗膜を加熱硬化する工程と、
を有する管状体の製造方法。
【請求項５】
像保持体と、
前記像保持体の表面を帯電する帯電手段と、
帯電した前記像保持体の表面に潜像を形成する潜像形成手段と、
前記像保持体の表面の潜像をトナーにより現像してトナー像を形成する現像手段と、
前記像保持体の表面に形成された前記トナー像が転写される中間転写体であって、請求項３に記載の管状体で構成された中間転写体と、
前記像保持体の表面に形成された前記トナー像を前記中間転写体の表面に一次転写する一次転写手段と、
前記中間転写体の表面に転写された前記トナー像を被転写媒体に二次転写する二次転写手段と、
前記被転写媒体に転写された前記トナー像を定着する定着手段と、
を備えた画像形成装置。
【手続補正書】
【提出日】平成27年3月6日(2015.3.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
銅成分を含まないＮＡＯ材の摩擦材組成物を成型した摩擦材において、上記摩擦材組成物は、銅以外の金属単体、合金を含まず、潤滑剤として、硫化亜鉛を含有することを特徴とする摩擦材。
【請求項２】
上記硫化亜鉛を、０．５〜２．０重量％含有することを特徴とする請求項１記載の摩擦材。
【請求項３】
上記潤滑剤として、更に黒鉛を摩擦材組成物全量に対し２．０〜５．０重量％含有することを特徴とする請求項１または２に記載の摩擦材。
【手続補正書】
【提出日】平成27年4月17日(2015.4.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本出願人は、上述したような課題を解決するべく、国際出願ＰＣＴ／ＪＰ２０１２／５１８８４において、超臨界メタノール中でチタンテトライソプロポキシドとカルボン酸とを反応させる工程を備える球状多孔質酸化チタンナノ粒子の合成方法を出願している。
しかしながら、酸化チタン以外の他の無機酸化物について上述したような課題を解決した合成方法は未だ達成されていない。
【手続補正書】
【提出日】平成27年5月13日(2015.5.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
次に、ステップＳ４において、保護膜が形成される。保護膜となる膜は絶縁性膜である。この絶縁性膜は、電気的特性を評価する際に、熱的、化学的に安定であり、絶縁性能に優れた材料よって形成されることが好ましい。具体的には、フォトレジスト、絶縁性を有したシート（たとえば、ポリイミド、カプトン（登録商標）、ポリヘニルシルセスキオキサン、ポリビニルシルセスキオキサン）等であるが、これらに限られるものではない。なお、カプトンを適用する場合には、接着層を有するシート材が好ましい。
【手続補正書】
【提出日】平成27年5月18日(2015.5.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２７】
検出部３を移動アーム９により保持部２に対して相対的に移動させるときに、移動させる方向はｘｙ平面内において任意の方向とすればよいが、たとえば、保持部２の基準位置２Ｃから溝部２０に向かう方向（図４（ａ）に示す矢印Ａ）に検出部３を移動させる。このときの測定例を図４（ｂ）に示す。検出部３が半導体基板１００の表面１００Ａ上に位置するときには、表面１００Ａと検出部３との高さｈ１が検出部３により検出される。その後、検出部３が傾斜面１２０上に到達すると、検出部３は傾斜面１２０からの反射光を捕えることができず、傾斜面１２０に対する検出部３の高さは測定されない。その後、検出部３が溝部２０上に到達すると、まず上部２１の底面２０Ａに対する検出部３の高さｈ３が検出部３により検出され、続いて下部２２の底面２０Ａに対する検出部３の高さｈ４が検出部３により検出される。その後検出部３が表面２Ａ上に到達すると、表面２Ａに対する検出部３の高さｈ２が検出される。このとき、半導体基板１００の傾斜面１２０および端部１１０に対する検出部３の実際の高さ（測定は不能）と、上部２１上面（底面２０Ａの上部）に対する検出部３の高さｈ３との高さの差はｈ３−ｈ１程度であり（少なくともｈ３−ｈ２以上であり）、半導体基板１００の厚みｈ２−ｈ１よりも大きく設けられている。その結果、検出部３により、半導体基板１００の外周側から露出した上部２１の距離、つまり、保持部２（または半導体基板１００）の径方向において高さｈ３が検出される距離（図４（ｂ）中のＬ２）を高精度で測定することができる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
本工程（Ｓ２０）では、保持部２の径方向において各溝部２０を跨ぐように検出部３を移動させることにより、上部２１と下部２２との境界部と、半導体基板１００の外周から露出した上部２１の距離Ｌ２とを特定することができる。これにより、該境界部から距離Ｌ２だけ基準位置２Ｃ側に半導体基板１００の外周の端部１１０が位置していると判断することができる。同様に、他の溝部２０についても同様に測定することにより、保持部２の表面２Ａ上における半導体基板１００の位置、すなわち、保持部２の基準位置２Ｃに対する半導体基板１００の中心１００Ｃの位置を導出することができる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３１】
以上のように、本実施の形態に係る半導体装置の評価装置は、保持部２の表面２Ａ上に複数の溝部２０が形成されており、複数の該溝部２０は、表面２Ａ上に半導体基板１００を保持したときに、半導体基板１００の外周と重なるとともに一部が半導体基板１００の外周より外側に位置するように形成されている。そのため、半導体基板１００の外周の端部１１０において、半導体基板１００の外周の内側に位置する領域と、半導体基板の外周の外側に位置する領域との間で、検出部からの距離の差（高さの差）を半導体基板１００の厚さｈ２−ｈ１以上に大きくすることができる。そのため、保持部２の表面２Ａ上に溝部２０が形成されていない場合と比べて、検出部３による半導体基板１００の外周の端部１１０の検出精度を向上することができる。さらに、溝部２０において上部２１および下部２２が設けられているため、上部２１および下部２２と検出部との距離の差（高さの差）を検出することができる。これにより、溝部２０において外周側の端部が欠け等の損傷を受けている場合や該端部に異物等が付着している場合においても、上部２１と下部２２との境界部と半導体基板の外周端部との距離Ｌ２を高精度で検出することができる。その結果、保持部２上における半導体基板１００の位置確認精度を向上することができる。
【手続補正書】
【提出日】平成27年8月18日(2015.8.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
呼制御に関する情報を処理する運用系呼制御装置と、
複数プロセッサコアを含み、系切り替え後に呼制御に関する情報を処理する待機系呼制御装置と、を含み、
前記運用系呼制御装置は、呼を制御するための呼制御情報及び前記呼制御情報から生成可能な管理情報を含む呼制御データベースを有し、前記呼制御データベースを参照して前記呼制御に関する情報を処理し、
前記待機系呼制御装置は、
前記待機系呼制御装置のハードウェアリソースを監視して、前記複数プロセッサコアの情報を含む前記ハードウェアリソースの情報を取得し、
前記運用系呼制御装置から前記呼制御情報を受信し、
前記系切り替えにおいて、前記ハードウェアリソースの情報を使用して、前記呼制御情報を使用した前記呼制御データベースの再構成処理を割り当て可能なプロセッサコアの数を決定し、
前記決定した割り当て可能なプロセッサコアの数に基づき、前記呼制御データベースの再構成を行う処理単位の数を決定し、
前記決定した数の処理単位により前記呼制御データベースを再構成する、通信装置。
【請求項２】
請求項１に記載の通信装置であって、
前記待機系呼制御装置は、前記割り当て可能なプロセッサコアを決定し、
前記待機系呼制御装置は、前記決定した割り当て可能なプロセッサコアのそれぞれに前記処理単位を割り当てる、通信装置。
【請求項３】
請求項２に記載の通信装置であって、
前記待機系呼制御装置は、前記割り当て可能なプロセッサコアの数を前記処理単位の数と決定する、通信装置。
【請求項４】
請求項１、２又は３に記載の通信装置であって、
前記ハードウェアリソースの情報は、動作しているプロセッサコアのそれぞれの使用率の情報を含み、
前記待機系呼制御装置は、前記使用率の情報を使用して前記割り当て可能なプロセッサコアの数を決定する、通信装置。
【請求項５】
請求項１、２又は３に記載の通信装置であって、
前記ハードウェアリソースの情報は、キャッシュメモリを使用しているプロセッサコア数の情報と、前記キャッシュメモリのサイズの情報と、を含み、
前記待機系呼制御装置は、前記キャッシュメモリを使用しているプロセッサコア数の情報と、前記キャッシュメモリのサイズの情報とを使用して、前記割り当て可能なプロセッサコア当たりのキャッシュサイズが閾値以上となるように、前記割り当て可能なプロセッサコアの数を決定する、通信装置。
【請求項６】
請求項１、２又は３に記載の通信装置であって、
前記ハードウェアリソースの情報は、動作しているプロセッサコアのそれぞれの使用率の情報と、キャッシュメモリを共有しているプロセッサコア数の情報と、前記キャッシュメモリのサイズの情報と、を含み、
前記待機系呼制御装置は、
前記使用率の情報を使用して前記動作しているプロセッサコアにおいて前記使用率が閾値以下であるプロセッサコアの数Ｎ１を決定し、
前記キャッシュメモリを共有しているプロセッサコア数の情報と、前記キャッシュメモリのサイズの情報とを使用して、前記割り当て可能なプロセッサコア当たりのキャッシュサイズが閾値以上となるプロセッサコアの数Ｎ２を決定し、
前記Ｎ１と前記Ｎ２のうち最小値を、前記割り当て可能なプロセッサコアの数と決定する、通信装置。
【請求項７】
呼を制御するための呼制御情報及び前記呼制御情報から生成可能な管理情報を含む呼制御データベースを有し、前記呼制御データベースを参照して呼制御に関する情報を処理する運用系呼制御装置と、
複数プロセッサコアを含み、系切り替え後に呼制御に関する情報を処理する待機系呼制御装置と、を含む通信装置における、系を切り替える方法であって、
前記待機系呼制御装置が、
前記複数プロセッサコアの情報を含む前記待機系呼制御装置のハードウェアリソースの情報を取得し、
前記運用系呼制御装置から前記呼制御情報を受信し、
前記系切り替えにおいて、前記ハードウェアリソースの情報を使用して、前記呼制御データベースの再構成処理を割り当て可能なプロセッサコアの数を決定し、
前記決定した割り当て可能なプロセッサコアの数に基づき、前記呼制御情報を使用した前記呼制御データベースの再構成を行う処理単位の数を決定し、
前記決定した数の処理単位により前記呼制御データベースを再構成する、方法。
【請求項８】
請求項７に記載の方法であって、
前記待機系呼制御装置が、
前記割り当て可能なプロセッサコアを決定し、前記決定した割り当て可能なプロセッサコアのそれぞれに前記処理単位を割り当てる、方法。
【請求項９】
請求項７又は８に記載の方法であって、
前記待機系呼制御装置が、前記割り当て可能なプロセッサコアの数を前記処理単位の数と決定する、方法。
【手続補正書】
【提出日】平成27年6月24日(2015.6.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
複数同時に動作する各アプリケーションによる複数種類の表示出力を、車両に備えられた複数の映像表示手段（２０ａ，２０ｂ）に分配して表示させる表示制御手段（１１）を備え、
前記表示制御手段は、前記車両に備えられたカメラにより撮影された映像を出力するカメラ用アプリケーションであって、同じカメラに対応する複数のカメラ用アプリケーションが複数同時に動作するとき、当該複数のカメラ用アプリケーションの間で、表示出力を排他的に表示させること、
を特徴とする車両用の映像制御装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明の映像制御装置は、複数同時に動作する各アプリケーションによる複数種類の表示出力を、車両に備えられた複数の映像表示手段に分配して表示させる表示制御手段を備える。この表示制御手段は、車両に備えられたカメラにより撮影された映像を出力するカメラ用アプリケーションであって、同じカメラに対応する複数のカメラ用アプリケーションが複数同時に動作するとき、当該複数のカメラ用アプリケーションの間で、表示出力を排他的に表示させる。
【手続補正書】
【提出日】平成27年2月24日(2015.2.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電気装置及び／又は電子装置のためのコイルであって、
螺旋状のコイル構成で複数の導体対に配置された導電体であってそれぞれが線形を有する、複数の、垂直に積み重ねられた導電体を具備し、
それぞれの導体対が、第１の導体と、１つの主面において電気的絶縁材料層を備えた第２の導体と、を有し、
前記第１の導体及び前記第２の導体が、１つの導体対の前記第１の導体及び前記第２の導体の一方の露出部を前記１つの導体対から外方に伸ばして前記１つの導体対を形成するように互いに対して反転させられ、且つ、
別の導体対が、部分的に、横方向にオフセットし、且つ、隣接する導体対の積み重ねられた露出した導体部と接触する前記導体対の前記露出部と横方向で重なって、螺旋巻を形成する、コイル。
【請求項２】
２組の非導電性の柱部を更に具備し、前記導体対が、２組の前記柱部に亘り取り付けられた請求項１に記載のコイル。
【請求項３】
前記コイルにおいて、少なくとも１つの螺旋巻を形成するため、導体の積み重ねられた構成を電気接触させるための接続部であって前記柱部に取り付け可能な接続部を更に具備する請求項２に記載のコイル。
【請求項４】
前記第１の導体及び前記第２の導体が、それぞれ、長い脚部と、該長い脚部の端部から延び、角度を有して配置された短い脚部と、を有する請求項１に記載のコイル。
【請求項５】
前記第１の導体及び前記第２の導体が、それぞれ、
長い脚部及び短い脚部を有するＬ形のプレートを具備し、
前記短い脚部が、前記長い脚部の一方の端部から垂直に延びる請求項１に記載のコイル。
【請求項６】
２組の、積み重ねられ、部分的に重なり、且つ、部分的に横方向にオフセットする導体対であって、積み重ねられた当該導体対間において、中央に配置された開口部を有する１つの螺旋巻を形成する導体対を更に具備する請求項１に記載のコイル。
【請求項７】
一方の主面において電気的絶縁材料層を備える別の導体を具備する請求項１に記載のコイル。
【請求項８】
複数の前記平面導体のそれぞれが、長い脚部及び短い脚部を有するＬ形の導体を具備し、前記短い脚部が、前記長い脚部の一方の端部から垂直に延びる請求項７に記載のコイル。
【請求項９】
複数の前記平面導体とは別の導体が、複数の前記平面導体の、隣接する積み重ねられた導体に対して反転させられた請求項７に記載のコイル。
【請求項１０】
積み重ねられた導体対で構成された複数の前記平面導体を更に具備し、それぞれの導体対におけるそれぞれの導体が、それぞれの導体対における前記別の導体に対向する方向に反転され、
それぞれの導体対が、隣接する積み重ねられた導体対に対向する方向に反転された請求項７に記載のコイル。
【請求項１１】
２組の非導電性の柱部を更に具備し、前記導体対が、２組の前記柱部に亘り取り付けられた請求項１０に記載のコイル。
【請求項１２】
前記柱部の組に取り付け可能な接続部を更に具備し、前記接続部を、前記導体の積み重ねられた構成に電気接触させて、当該コイルにおいて少なくとも１つの螺旋巻を形成する、請求項１１に記載のコイル。
【手続補正書】
【提出日】平成27年6月29日(2015.6.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の項目が複数のグループに分類して記憶されており、表示画面に前記複数の項目が表示されると共に該項目が表示されるグループを変更することによって、該表示画面上で所望の項目を選択する項目選択装置であって、
所定の基準位置を有し、回転操作を受けることで該基準位置から回転する操作部と、
前記表示画面に表示された前記複数の項目の中の選択候補の項目を、他の項目とは異なる態様で表示する選択候補表示手段と、
前記操作部が前記基準位置から回転すると、前記表示画面に表示された前記選択候補の項目を、該基準位置からの回転角度に応じた速度で変更する選択候補変更手段と、
前記操作部が前記基準位置にある状態で所定の決定操作が行われると、前記選択候補の項目を、選択された項目として決定する決定手段と、
前記操作部の前記基準位置からの回転角度が所定の閾値角度を超えている場合には、前記表示画面に前記複数の項目が表示される前記グループを変更するグループ変更手段と
を備える項目選択装置。
【請求項２】
請求項１に記載の項目選択装置であって、
前記グループ変更手段は、前記操作部の前記基準位置からの回転角度が前記閾値角度を超えている場合には、前記表示画面に前記複数の項目が表示される前記グループを、他の前記グループとは異なる態様で表示する手段である項目選択装置。
【請求項３】
請求項１または請求項２に記載の項目選択装置であって、
前記グループ変更手段は、前記操作部の回転角度が前記閾値角度より大きくなるほど、前記表示画面に前記複数の項目が表示される前記グループを速い速度で変更する手段である項目選択装置。
【請求項４】
請求項１ないし請求項３の何れか一項に記載の項目選択装置であって、
前記複数の項目をスクロールさせながら前記表示画面に表示するスクロール手段を備える項目選択装置。
【請求項５】
複数の項目が複数のグループに分類して記憶されており、表示画面に前記複数の項目が表示されると共に該項目が表示されるグループを変更することによって、該表示画面上で所望の項目を選択する項目選択方法であって、
前記表示画面に表示された前記複数の項目の中の選択候補の項目を、他の項目とは異なる態様で表示する工程と、
操作部が回転操作を受けて基準位置から回転すると、前記表示画面に表示された前記選択候補の項目を、該基準位置からの回転角度に応じた速度で変更する工程と、
前記操作部が前記基準位置にある状態で所定の決定操作が行われると、前記選択候補の項目を、選択された項目として決定する工程と、
前記操作部の前記基準位置からの回転角度が所定の閾値角度を超えている場合には、前記表示画面に前記複数の項目が表示される前記グループを変更する工程と
を備える項目選択方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
上述した課題を解決するために、本発明の項目選択装置および項目選択方法は、表示画面に表示された複数の項目の中の選択候補の項目を、他の項目とは異なる態様で表示する。そして、操作部が基準位置にある状態で所定の決定操作が行われると、選択候補の項目を、選択された項目として決定する。また、操作部が基準位置から回転すると、表示画面に表示された選択候補の項目を、該基準位置からの回転角度に応じた速度で変更し、操作部の基準位置からの回転角度が所定の閾値角度を超えている場合には、表示画面に複数の項目が表示されるグループを変更する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
こうすれば、操作部の回転角度を増大させていくことにより、「選択候補の項目」の変更速度を大きくすることができ、やがて操作部の回転角度が所定の閾値角度を超えると、「表示画面に複数の項目が表示されるグループ」が変更される。従って、ユーザーは、選択候補の変更速度を大きくする操作（すなわち、操作部の回転角度を大きくする操作）を継続するだけで、他の操作を介入させることなく、変更の対象を「選択候補の項目」から「表示画面に複数の項目が表示されるグループ」に切り換えることができ、且つ、ユーザーに対して、「選択候補の項目」の変更速度を大きくしていく過程で「表示画面に複数の項目が表示されるグループ」が変更されるように感じさせることができる。この結果、「選択候補の項目」を円滑且つ直感的に変更させることができ、項目を選択するに際してのユーザーの負担を軽減することが可能となる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
また、上述した本発明の項目選択装置においては、操作部の回転角度が閾値角度を超えると、表示画面に複数の項目が表示されるグループを、他のグループとは異なる態様で表示することとしてもよい。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
また、上述した本発明の項目選択装置においては、操作部の回転角度が閾値角度より大きくなるほど、表示画面に複数の項目が表示されるグループを速い速度で変更することとしてもよい。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
こうすれば、ユーザーは、回転角度が閾値角度を超えた後も操作部の回転角度を大きくする操作を継続することで「表示画面に複数の項目が表示されるグループ」の変更速度を大きくすることができ、且つ、ユーザーに対して、「選択候補の項目」の変更速度を大きくしていく過程で「表示画面に複数の項目が表示されるグループ」が変更されるとともに該変更の速度が大きくなるように感じさせることができる。この結果、「表示画面に複数の項目が表示されるグループ」を円滑且つ直感的に変更させることができ、項目を選択するに際してのユーザーの負担を更に軽減することが可能となる。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成27年6月17日(2015.6.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２９】
ソース・ドレイン電極１７は、上述のように、酸化物半導体層１３の第２部分１３ｂに電気的に接続されている。具体的には、ソース・ドレイン電極１７は、酸化物半導体層１３の第２部分１３ｂに対向して配置されており、層間絶縁膜１６のコンタクトホールＨを介して第２部分１３ｂに接続されている。このソース・ドレイン電極１７は、トランジスタ１０Ａのソースまたはドレインとして機能するものであり、例えばアルミニウムまたは銅等の金属層の表面にモリブデンまたはチタン等のバリアメタルが形成されてなる積層膜である。ソース・ドレイン電極１７には、ゲート電極１５と同様、低抵抗金属としてアルミニウム等が用いられることが好ましく、バリアメタルとして、チタン等が用いられることがより好ましい。このような積層膜を用いることにより、配線遅延を軽減することが可能となる。また、ソース・ドレイン電極１７の表面に、ネオジウム（Ｎｄ）を含有するアルミニウム合金またはＩＴＯ等が形成されるようにしてもよい。これにより、例えばソース・ドレイン電極１７を有機ＥＬディスプレイのアノード電極（画素電極）として用いることも可能となる。このソース・ドレイン電極１７は、ゲート電極１５の直上の領域を回避して設けられていることが望ましい。ゲート電極１５とソース・ドレイン電極１７との交差領域に形成される寄生容量を低減することが可能となるからである。寄生容量が低減されることで保持容量１０Ｂをより小さなレイアウトで形成可能となり、歩留まりを向上させることができる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３４】
その後、図４Ｂに示したように、酸化物半導体層１３を例えばフォトリソグラフィ法を用いたエッチングにより、所望の形状となるようにパターニングする。酸化物半導体は酸・アルカリのいずれにも容易に溶けるためにウェットエッチングによる加工が一般的であるが、ドライエッチングでの加工も可能である。尚、酸化物半導体として、酸化亜鉛やインジウム、ガリウム、ジルコニウム、錫などから成り、インジウムや錫の比率が他の構成元素よりも高い結晶性の材料を用いる場合は、結晶化アニールを施すことでエッチング溶媒に対する耐性を付与してもよい。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４１】
［作用および効果］
本実施の形態のトランジスタ１０Ａでは、基板１１上に、第１バリア膜１２Ａが形成されると共に、この第１バリア膜１２Ａと酸化物半導体層１３の第１部分１３ａとの間に、水素バリア性を有する第２バリア膜１２Ｂが形成されている。第１バリア膜１２Ａにより、不純物による酸化物半導体層１３全体の膜質劣化が抑制されると共に、酸化物半導体層１３の第２部分１３ｂが選択的に低抵抗化されて形成される。つまり、本実施の形態では、第１バリア膜１２Ａが、基板１１側からの不純物の浸入を防ぐバリアとして機能すると共に、酸化物半導体層１３の所定の領域（第２部分１３ｂ）への水素供給源として機能する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板と、
前記基板上に形成されると共に、前記基板側からの不純物に対するバリア性と前記酸化物半導体層に対する還元性とを有する第１のバリア膜と、
前記第１のバリア膜上の選択的な領域に形成されると共に、水素に対してバリア性を有する第２のバリア膜と、
前記第２のバリア膜上に形成されると共に活性層として機能する第１部分と、前記第１のバリア膜上に形成されると共に前記第１部分よりも電気抵抗値の低い第２部分とを含む酸化物半導体層と、
前記酸化物半導体層の前記第１部分の上に、ゲート絶縁膜を介して形成されたゲート電極と、
前記酸化物半導体層の前記第２部分に電気的に接続されたソース電極またはドレイン電極と
を備えた薄膜トランジスタ。
【請求項２】
前記第１のバリア膜は、窒化シリコンおよび酸窒化シリコンのうちの少なくとも１種を含み、
前記第２のバリア膜は、酸化シリコン、酸窒化シリコン、酸化アルミニウムおよび酸化チタンのうちの少なくとも１種を含む単層膜または積層膜である
請求項１に記載の薄膜トランジスタ。
【請求項３】
前記基板は、可撓性を有する樹脂材料から構成されている
請求項１または請求項２に記載の薄膜トランジスタ。
【請求項４】
前記酸化物半導体層の前記第２部分は、前記第１のバリア膜に接して形成されている
請求項１ないし請求項３のいずれか１つに記載の薄膜トランジスタ。
【請求項５】
前記ゲート電極および前記ゲート絶縁膜は、互いに同一形状にパターニングされている
請求項１ないし請求項４のいずれか１つに記載の薄膜トランジスタ。
【請求項６】
前記酸化物半導体層の前記第２部分を利用して保持容量が形成されている
請求項１ないし請求項５のいずれか１つに記載の薄膜トランジスタ。
【請求項７】
前記ソース電極または前記ドレイン電極は、前記酸化物半導体層の前記第２部分の一部に対向して設けられている
請求項１ないし請求項６のいずれか１つに記載の薄膜トランジスタ。
【請求項８】
それぞれが薄膜トランジスタを含む複数の画素を有し、
前記薄膜トランジスタは、
基板と、
前記基板上に形成されると共に、前記基板側からの不純物に対するバリア性と前記酸化物半導体層に対する還元性とを有する第１のバリア膜と、
前記第１のバリア膜上の選択的な領域に形成されると共に、水素に対してバリア性を有する第２のバリア膜と、
前記第２のバリア膜上に形成されると共に活性層として機能する第１部分と、前記第１のバリア膜上に形成されると共に前記第１部分よりも電気抵抗値の低い第２部分とを含む酸化物半導体層と、
前記酸化物半導体層の前記第１部分の上に、ゲート絶縁膜を介して形成されたゲート電極と、
前記酸化物半導体層の前記第２部分に電気的に接続されたソース電極またはドレイン電極と
を備えた表示装置。
【請求項９】
有機電界発光表示装置である
請求項８に記載の表示装置。
【請求項１０】
それぞれが薄膜トランジスタを含む複数の画素を有する表示装置を備え、
前記薄膜トランジスタは、
基板と、
前記基板上に形成されると共に、前記基板側からの不純物に対するバリア性と前記酸化物半導体層に対する還元性とを有する第１のバリア膜と、
前記第１のバリア膜上の選択的な領域に形成されると共に、水素に対してバリア性を有する第２のバリア膜と、
前記第２のバリア膜上に形成されると共に活性層として機能する第１部分と、前記第１のバリア膜上に形成されると共に前記第１部分よりも電気抵抗値の低い第２部分とを含む酸化物半導体層と、
前記酸化物半導体層の前記第１部分の上に、ゲート絶縁膜を介して形成されたゲート電極と、
前記酸化物半導体層の前記第２部分に電気的に接続されたソース電極またはドレイン電極と
を備えた電子機器。
【手続補正５】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１０】
2014229814.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成27年2月12日(2015.2.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
シート状の光制御部材と、
前記光制御部材の向きを変更可能に支持する支持手段と、を備え、
前記光制御部材は、
当該光制御部材のシート面に沿った第１方向に配列され、且つ、各々が、前記第１方向と非平行であるとともに前記光制御部材のシート面に沿った第２方向に延びている、複数の第１部分と、
前記第１部分と前記第１方向に交互に配列され、且つ、各々が前記第２方向に延びている、複数の第２部分と、を有し、
前記光制御部材は、窓部材に対面する位置に配置され前記窓部材に対して向きを変化させる、光制御具。
【請求項２】
シート状の光制御部材と、
前記光制御部材の向きを変更可能に支持する支持手段と、を備え、
前記光制御部材は、
当該光制御部材のシート面に沿った第１方向に配列され、且つ、各々が、前記第１方向と非平行であるとともに前記光制御部材のシート面に沿った第２方向に延びている、複数の第１部分と、
前記第１部分と前記第１方向に交互に配列され、且つ、各々が前記第２方向に延びている、複数の第２部分と、を有し、
複数の光制御部材が、一方向に並べて前記支持具によって支持され、
各光制御部材は、前記一方向と直交する方向に細長状に延び、
各光制御部材は、他の光制御部材とは別の軸線を中心として回動可能に支持されている、光制御具。
【請求項３】
前記支持具は、前記光制御部材の長手方向と平行な軸線を中心として回動可能に前記光制御部材を支持する、請求項２に記載の光制御具。
【請求項４】
前記光制御部材の長手方向と、前記第２方向とが平行となっている、請求項２または３に記載の光制御具。
【請求項５】
一部の光制御部材の向きが、他の光制御部材の向きとは別個に調節可能である、請求項２〜４のいずれか一項に記載の光制御具。
【請求項６】
前記支持具は、前記第２方向と平行な軸線を中心として回動可能に前記光制御部材を支持する、請求項１または２に記載の光制御具。
【請求項７】
前記支持具は、前記第１方向と平行な軸線を中心として回動可能に前記光制御部材を支持する、請求項１または２に記載の光制御具。
【手続補正書】
【提出日】平成27年9月9日(2015.9.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
互いの間に火花放電ギャップ（１１）を形成して対向配置された中心電極（２）と接地電極（３）との少なくとも一方が、上記火花放電ギャップ（１１）に向かって突出するようにＮｉ合金からなる電極母材（２０、３０）に接合された放電チップ（４、５）を備えている、内燃機関用のスパークプラグ（１）を製造する方法であって、
上記火花放電ギャップ（１１）側に配された放電部（４１、５１）と、該放電部（４１、５１）よりも融点の低いＮｉ合金からなると共に上記電極母材（２０、３０）と接合される母材接合部（４２、５２）とを、互いに接合してなる上記放電チップ（４、５）を作製するチップ作製工程と、
抵抗溶接によって、上記放電チップ（４、５）を上記母材接合部（４２、５２）において上記電極母材（２０、３０）に仮接合する仮接合工程と、
レーザ溶接によって、上記母材接合部（４２、５２）の一部と上記電極母材（２０、３０）の一部とを溶融し、凝固させることにより、上記放電部（４１、５１）の側面（４１１、５１１）と上記電極母材（２０、３０）の表面（２２、３１）とが滑らかに繋がるようにしつつ上記放電チップ（４、５）を上記電極母材（２０、３０）に接合する本接合工程とを有し、
該接合工程においては、上記放電部（４１、５１）を溶融させず、上記母材接合部（４２、５２）の一部と上記電極母材（２０、３０）の一部とを溶融させることを特徴とする内燃機関用のスパークプラグ（１）の製造方法。
【請求項２】
上記チップ作製工程において得られる上記放電チップ（４、５）は、上記母材接合部（４２、５２）の直径が上記放電部（４１、５１）の直径よりも大きいことを特徴とする請求項１に記載の内燃機関用のスパークプラグ（１）の製造方法。
【請求項３】
上記本接合工程においては、上記放電部（４１、５１）の融点よりも低い温度にてレーザ溶接を行うことを特徴とする請求項１又は２に記載の内燃機関用のスパークプラグ（１）の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明の一態様は、互いの間に火花放電ギャップを形成して対向配置された中心電極と接地電極との少なくとも一方が、上記火花放電ギャップに向かって突出するようにＮｉ合金からなる電極母材に接合された放電チップを備えている、内燃機関用のスパークプラグを製造する方法であって、
上記火花放電ギャップ側に配された放電部と、該放電部よりも融点の低いＮｉ合金からなると共に上記電極母材と接合される母材接合部とを、互いに接合してなる上記放電チップを作製するチップ作製工程と、
抵抗溶接によって、上記放電チップを上記母材接合部において上記電極母材に仮接合する仮接合工程と、
レーザ溶接によって、上記母材接合部の一部と上記電極母材の一部とを溶融し、凝固させることにより、上記放電部の側面と上記電極母材の表面とが滑らかに繋がるようにしつつ上記放電チップを上記電極母材に接合する本接合工程とを有し、
該接合工程においては、上記放電部を溶融させず、上記母材接合部の一部と上記電極母材の一部とを溶融させることを特徴とする内燃機関用のスパークプラグの製造方法にある。
【手続補正書】
【提出日】平成27年2月23日(2015.2.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
カメラが撮影した画像データを暗号化して保存し，暗号化された画像データを，画像閲覧装置において，復号化キーにより復号化し，復号化された画像データを，閲覧権者に決められている不鮮明化処理を施して表示するカメラシステムであり，
画像の保存方法は，カメラで撮影された画像に閲覧権者の権限の強さに応じた閲覧権者に関するキーを加えてから暗号化して保存する方法であり，
画像閲覧装置は，復号化キーにより画像データを復号化し，閲覧権者に関するキーと，復号化されたデータに含まれている閲覧権者に関するキーの中で一致するものを探し，一致するものがあれば，閲覧権者に関するキーに決められている不鮮明化処理を施した画像を表示し，一致するものがなければ何も表示しないか，あるいは，予め設定された強度で不鮮明化した画像の全て，または，一部を出力することを特徴とするカメラシステム．
【請求項２】
画像閲覧装置は，閲覧権者の権限の強さに応じた閲覧権者に関するキーを備えたものであることを特徴とする請求項１に記載のカメラシステム．
【請求項３】
画像閲覧装置は，暗号化された画像データを，入力された復号化キーにより復号化し，復号化されたデータに含まれている閲覧権者に関するキーの中で，画像閲覧装置に入力された閲覧権者に関するキーと一致するものを探すことを特徴とする請求項１に記載のカメラシステム．
【請求項４】
不鮮明化処理として，モザイク化を用いることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載のカメラシステム．
【請求項５】
画像を画素よりも荒い区分で分割しその区分内で画素を暗号化キーに基づいて入れ替えることにより画像を暗号化することを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載のカメラシステム．
【請求項６】
画像を画素よりも荒い区分で分割しその区分内で画素を画像閲覧用キーに基づいて入れ替えることにより不鮮明化処理を行う特徴を有する請求項１〜５のいずれか１項に記載のカメラシステム．