Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成27年1月28日(2015.1.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２６】
この旋回軸受は，軌道溝６，７や防じん部品の組込位置を除き，外輪１の内周面８と内輪２の外周面９との間の距離ｔは，外輪１と内輪２との幅方向において等しい長さに形成されている。外側軌道溝６と内側軌道溝７との逃がし溝１９，２０は，案内面１７，１８の転走面１３，１５側に周面全周に形成されている。逃がし溝１９，２０のローラ直径方向の幅寸法は，ローラ半径Ｄａ／２よりも小さく形成されている。ローラ３が軌道路１０に組み込まれている状態で，軸受半径方向の断面位置から見た時の逃がし溝１９，２０とローラ３のローラ転動面１１とで形成される断面形状は，くさび状に形成されている。逃がし溝１９，２０の傾斜面は，図１１に示すように，案内面１７，１８に対して，ローラ端面１２との間に角度θを成すように傾斜している。即ち，外輪１と内輪２との逃がし溝１９，２０は，案内部１４，１６と転走面１３，１５とを研削加工するために，案内部１４，１６の転走面１３，１５側に断面形状くさび状で転走面１３，１５との交点位置がＲ形状に且つ案内面１７，１８よりも大きく傾斜したテーパ面４３に形成されており，ローラ３の半径Ｄａ／２以下の幅寸法に形成されている。本実施例では，角度θは１２°である。逃がし溝１９，２０と転走面１３，１５との交差位置は，図１１に示すように，円弧形状で，半径寸法Ｒｎの最大値は０. ５ｍｍになっている。案内面１７，１８に対する逃がし溝１９，２０の深さは，ローラ直径Ｄａの１０％未満の７．５％であって，０. ４５ｍｍに形成されている。この旋回軸受は，別の実施例として，複数の軌道溝が正面合せ構造でも構成することができる。また，組込孔５の軌道路１０側の開口部５Ａは，外輪１の転走面１３の全域と案内部１４の逃がし溝１９とに開口して，開口部５Ａの縁部は逃がし溝１９の範囲内に形成され，案内面１７から外れるように偏倚しており，それによって，組込孔５に蓋部材２５が嵌入された場合に，蓋部材２５の軌道路１０側の先端部がローラ端面１２に当接することがなく，ローラ３は，開口部５Ａに落ち込んだり引っ掛かったりすることがなくスムーズに転動する。
【手続補正２】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図２】
2013160309.tif 000001
【手続補正３】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図３】
2013160309.tif 000002
【手続補正４】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図６】
2013160309.tif 000003
【手続補正５】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図９】
2013160309.tif 000004
【手続補正６】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１４】
2013160309.tif 000005
【手続補正書】
【提出日】平成26年12月19日(2014.12.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
固定体に軸受手段を介して回転自在に取り付けられる回転体を含み、
前記回転体と前記固定体の隙間の一部に潤滑剤が連続的に介在するように構成される回転機器であって、
前記回転体の回転軸方向を上下方向に定義したとき、
前記軸受手段は、上下方向に延在して前記固定体に含まれるシャフトと、前記回転体に含まれ前記シャフトを環囲する回転環囲部と、を有し、
前記回転環囲部の内周面と前記シャフトの外周面の何れかには、第１ラジアル動圧発生溝及び前記第１ラジアル動圧発生溝の下側に離間して第２ラジアル動圧発生溝が設けられ、
前記回転環囲部の上端面及び前記上端面と軸方向に対向する対向面の何れかには第１スラスト動圧発生溝が設けられ、
前記回転環囲部の下端面及び前記下端面と軸方向に対向する対向面の何れかには第２スラスト動圧発生溝が設けられ、
前記回転環囲部の外周面は、前記潤滑剤の気液界面が接するように構成され、
前記回転環囲部には、前記潤滑剤の連通路であって、その一方の端が前記回転環囲部の前記上端面に開口し、他方の端が前記回転環囲部の前記外周面に開口する外周面開口連通路が設けられることを特徴とする回転機器。
【請求項２】
前記回転環囲部は、前記シャフトを環囲する円筒部及び前記円筒部の下側の端において半径方向に延在して外周面が前記円筒部の半径方向外側に張出す円盤部を有するシャフト環囲部と、前記円筒部を環囲する内周面及び前記円盤部の端面と隙間を介して回転軸方向に対向する端面を有する中間環囲部と、を含み、
前記固定体は、前記シャフトの下端が固定されるシャフト保持部と、前記中間環囲部を環囲して前記シャフト保持部に固定され、前記潤滑剤の前記気液界面が接するように構成された内周面を有する環囲部と、を含むことを特徴とする請求項１に記載の回転機器。
【請求項３】
前記第２スラスト動圧発生溝の配置領域の外縁は、半径方向において前記円筒部の外周面より外側に位置することを特徴とする請求項２に記載の回転機器。
【請求項４】
前記側面開口連通路は、前記円盤部と前記中間環囲部とが回転軸方向に対向する隙間を含むことを特徴とする請求項２または３に記載の回転機器。
【請求項５】
前記外周面開口連通路の前記他方の端は、回転軸方向において前記第２ラジアル動圧発生溝の形成領域と重複する位置に設けられることを特徴とする請求項１から４のいずれかに記載の回転機器。
【請求項６】
固定体に軸受手段を介して回転自在に取り付けられる回転体を含み、
前記回転体と前記固定体の隙間の一部に潤滑剤が連続的に介在するように構成される回転機器であって、
前記回転体の回転軸方向を上下方向に定義したとき、
前記軸受手段は、上下方向に延在して前記固定体に含まれるシャフトと、前記回転体に含まれ前記シャフトを環囲する回転環囲部と、を有し、
前記回転環囲部の内周面と前記シャフトの外周面の何れかにはラジアル動圧発生溝が設けられ、
前記回転環囲部の下端面及び前記下端面と軸方向に対向する対向面の何れかにはスラスト動圧発生溝が設けられ、
前記回転環囲部の外周面は、前記潤滑剤の気液界面が接するように構成され、
前記回転環囲部は、前記下端面を含む円盤部を有し、前記潤滑剤の連通路が設けられ、
前記連通路は、前記回転軸方向に伸びる回転軸方向通路と、前記回転軸方向通路につながり半径方向に延伸する半径方向通路と、を有し、
前記半径方向通路は、前記円盤部の上面と、前記円盤部の前記上面に対して前記回転軸方向に対向する端面と、の間の隙間に形成され、
前記回転軸方向通路は、一方の端が前記回転環囲部の前記上端面に開口し、他方の端が前記円盤部の前記上面に対して前記回転軸方向に対向する前記端面に開口するように設けられることを特徴とする回転機器。
【手続補正書】
【提出日】平成26年12月18日(2014.12.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２】
吸気ダクトの入口から取り込まれ、前記吸気ダクトを介して導かれた空気を圧縮する圧縮機、前記圧縮機で圧縮された空気に燃料を混合して燃焼させる燃焼器、および前記燃焼器で発生した燃焼ガスによって駆動されるタービンを有するガスタービンと、
前記ガスタービンにより駆動される発電機と、
吸気冷却兼加熱装置と、を備え、
前記吸気冷却兼加熱装置は、
前記発電機を冷却する媒体と熱交換する第１の熱交換器と、
前記第１の熱交換器により昇温した媒体を降温する冷凍機と、
前記冷凍機により降温した媒体と前記吸気ダクトの入口から取り込まれ前記吸気ダクトを介して前記圧縮機の吸気入口に導かれる空気とを熱交換する前記吸気ダクト内に設けられた第２の熱交換器と、
前記第１の熱交換器により昇温された媒体を前記冷凍機に導き、前記冷凍機により降温された媒体を前記第２の熱交換器に導くとともに前記第２の熱交換器により昇温された媒体を前記第１の熱交換器に導く第１の流路と、
前記第１の熱交換器において昇温した媒体を前記第２の熱交換器に導き、前記吸気ダクトの入口から取り込まれ前記吸気ダクトを介して前記圧縮機の吸気入口に導かれる空気を加熱し前記第２の熱交換器において降温した媒体を前記第１の熱交換器に導く第２の流路と、を備えたガスタービン発電設備の運転方法であって、
前記吸気ダクトの入口から取り込まれた空気の温度が第１の温度よりも高い場合、前記第１の流路を介して、前記冷凍機において降温した媒体を前記吸気ダクト内に設けられた前記第２の熱交換器に導き、前記吸気ダクトの入口から取り込まれ、前記吸気ダクトを介して前記圧縮機の吸気入口に導かれる空気を冷却し、
前記吸気ダクトの入口から取り込まれた空気の温度が前記第１の温度よりも低い第２の温度よりも低い場合、前記第２の流路を介して、前記第１の熱交換器において前記発電機を冷却する媒体と熱交換されて昇温した媒体を前記第２の熱交換器に導き、前記吸気ダクトの入口から取り込まれ、前記吸気ダクトを介して前記圧縮機の吸気入口に導かれる空気を加熱するようにしたことを特徴とするガスタービン発電設備の運転方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
なお、図７に示すように、吸気加熱装置６の代わりに抽気管４５を備えているものもある。
抽気管４５は、圧縮機１１で圧縮された吸気の一部を熱交換器３４に導く配管であり、吸気加熱装置６の代わりに抽気管４５を備えているものでは、抽気管４５を介して熱交換器３４に暖かい（熱い）吸気が供給され、抽気管４５を介して圧縮機１１から導かれた吸気と、ダクト１５の入口１５ａから取り込まれた吸気（ここでは０℃の吸気）とを熱交換させて、ダクト１５の入口１５ａから取り込まれた吸気に熱を与えて、ダクト１５の入口１５ａから取り込まれた吸気が（ここでは１０℃まで）加熱されることになる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図４】
2013160052.tif 000001
【手続補正４】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図９】
2013160052.tif 000002
【手続補正書】
【提出日】平成27年1月27日(2015.1.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
映像表示装置の画面に表示される映像を複数のミラーを用いて３次元的に表示する３次元映像表示装置において、
奥行き方向へ所定間隔かつ所定角度で平行に配置された複数のミラーを有するミラー装置を、該映像表示装置の該画面に形成される複数の映像領域に位置決めする位置決め手段と、
該映像表示装置を装着し、該位置決め手段によって位置決めされる該ミラー装置と該映像表示装置とを位置決めした状態で保持する装着手段と、
該複数のミラーが該映像表示装置の画面に対して適正に位置付けされた状態で、該映像表示装置の該複数の映像領域に表示される映像を観賞者側へ反射する、
ことを特徴とする３次元映像表示装置。
【請求項２】
前記ミラー装置は、該映像表示装置を装着する箱型形状の容器を有し、
前記位置決め手段は、該映像表示装置が該容器に適正に装着されるように位置決めする、
請求項１記載の３次元映像表示装置。
【請求項３】
前記映像表示装置の該画面に表示される操作用の表示マークが観賞者側に向けた状態で、前記位置合わせ手段が、該映像表示装置と前記ミラー装置との位置合わせをする
請求項１又は２記載の３次元映像表示装置。
【請求項４】
前記ミラー装置は、
複数のミラーが奥行き方向へ所定間隔かつ所定角度で平行に配置されたミラーケースと、
前記ミラーケースと一体的に形成され、該映像表示装置を収容する本体ケースを有して構成される、請求項１記載の３次元映像表示装置。
【請求項５】
前記位置決め手段は、前記本体ケースに設けられた突起である、請求項４記載の３次元映像表示装置。
【請求項６】
前記本体ケースに収容される該映像表示装置の幅方向を規制する左右ガイドと、高さ方向を規制する上ガイドと底ガイドを備えて構成され、
前記位置決め手段は、該ガイドの最奥部に形成された壁で構成される、
請求項４記載の３次元映像表示装置。
【請求項７】
前記ミラーケースは、前記本体ケースの奥行き方向の後部に軸を中心に回転可能に配置され、
該ミラーケースは該軸を中心にして該本体ケース側に回転して、該複数のミラーが該映像表示装置の画面に対して観賞者側に所定角度傾斜して位置付けされた状態で、該映像表示装置の該映像領域に表示される映像を反射する、請求項４記載の３次元映像表示装置。
【手続補正書】
【提出日】平成27年1月29日(2015.1.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に回折格子を有する回折光学素子の製造方法であって、
前記基板と回折格子の形状を転写する成形型との間に光学材料を充填して、前記光学材料に前記回折格子の形状を転写して前記回折格子を形成する工程と、
前記回折格子と前記成形型を離型して、前記基板上に回折格子を有する回折光学素子を形成する工程と、を有し
前記成形型は、前記回折格子の形状を転写する面の外側に土手を有し、前記回折格子の形状を転写する面と前記土手との間に、前記回折格子の形状を転写する面の最深部よりも深く、かつ、断面形状の成す角が全て鈍角である溝を有することを特徴とする、回折光学素子の製造方法。
【請求項２】
前記回折格子を形成する工程の後で、前記回折光学素子を形成する工程の前に、前記回折格子の形状が転写された前記光学材料を硬化する工程を有することを特徴とする、請求項１に記載の回折光学素子の製造方法。
【請求項３】
前記基板がレンズ基板であることを特徴とする、請求項１又は２に記載の回折光学素子の製造方法。
【請求項４】
基板上に回折格子を有する回折光学素子の製造方法であって、
前記基板と回折格子の形状を転写する成形型との間に光学材料を充填して、前記光学材料に前記回折格子の形状を転写して前記回折格子を形成する工程と、
前記回折格子と前記成形型を離型して、前記基板上に回折格子を有する回折光学素子を形成する工程と、を有し
前記成形型は、前記回折格子の形状を転写する面の外側に土手を有し、前記回折格子の形状を転写する面と前記土手との間に、前記回折格子の形状を転写する面の最深部よりも深く、かつ、断面形状が滑らかな曲線から成る溝を有することを特徴とする、回折光学素子の製造方法。
【請求項５】
前記回折格子を形成する工程の後で、前記回折光学素子を形成する工程の前に、前記回折格子の形状が転写された前記光学材料を硬化する工程を有することを特徴とする、請求項４に記載の回折光学素子の製造方法。
【請求項６】
前記基板がレンズ基板であることを特徴とする、請求項４又は５に記載の回折光学素子の製造方法。
【請求項７】
光学有効部を転写する面の外周の外側に土手を有する成形型を用い、光学材料に成形型の形状を転写する工程を有する回折光学素子の製造方法において、
前記成形型の土手と光学有効部を転写する面の最外部との間に、光学有効部の最深部よりも深く、かつ、断面形状の成す角が全て鈍角である溝を有した成形型を用いることを特徴とする、回折光学素子の製造方法。
【請求項８】
光学有効部を転写する面の外周の外側に土手を有する成形型を用い、光学材料に成形型の形状を転写する工程を有する回折光学素子の製造方法において、
前記成形型の土手と光学有効部を転写する面の最外部との間に、光学有効部の最深部よりも深く、かつ、断面形状が滑らかな曲線から成る溝を有した成形型を用いることを特徴とする、回折光学素子の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成27年1月23日(2015.1.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光学フィルターを用いて第２個数の所定の波長である計測波長の光強度を検出することによって得られた前記第２個数の光強度を有する計測スペクトルを、第１個数の所定の波長での光強度を表すスペクトルに変換する光スペクトル変換方法であって、
前記検出に用いられた光学フィルターの分光特性である計測分光特性と、基準として定められた光学フィルターである基準光学フィルターについての分光特性である基準分光特性と、を用いて、前記計測スペクトルを、前記基準光学フィルターを用いて測定される計測スペクトルである基準計測スペクトルに変換する計測スペクトル変換工程と、
前記基準計測スペクトルを前記スペクトルに変換するための変換行列を前記基準計測スペクトルに作用させることによって、前記基準計測スペクトルを前記スペクトルに変換する基準計測スペクトル変換工程と、
を備えることを特徴とする光スペクトル変換方法。
【請求項２】
請求項１に記載の光スペクトル変換方法であって、
前記基準計測スペクトル変換工程は、
前記スペクトルが既知の光である既知光についての前記基準計測スペクトルである既知光計測スペクトルに前記変換行列を作用させて得られた前記スペクトルである推定スペクトルと、前記既知光についての前記スペクトルである既知光スペクトルとの偏差が極値となる条件に基づいて決定された変換行列を前記基準計測スペクトルに作用させる工程、
を備えることを特徴とする光スペクトル変換方法。
【請求項３】
請求項１または２に記載の光スペクトル変換方法であって、
前記計測スペクトル変換工程は、
前記計測分光特性に校正行列を作用させて得られた校正分光特性と、前記基準分光特性との偏差が極値となる条件に基づいて決定された前記校正行列を前記計測スペクトルに作用させることによって前記基準計測スペクトルに変換する工程、
を備えることを特徴とする分光計測方法。
【請求項４】
請求項２に記載の分光計測方法であって、
前記基準計測スペクトル変換工程は、
前記変換行列を前記既知光スペクトルに主成分分析を行って選択された前記第１個数よりも少ない第３個数の主成分ベクトルによって構成される線形空間に線形射影することによって、修正された前記変換行列を前記基準計測スペクトルに作用させる工程、
を備えることを特徴とする光スペクトル変換方法。
【請求項５】
光学フィルターを用いて第２個数の所定の波長である計測波長の光強度を検出することによって得られた前記第２個数の光強度を有する計測スペクトルを、第１個数の所定の波長での光強度を表すスペクトルに変換する光スペクトル変換装置であって、
前記検出に用いられた光学フィルターの分光特性である計測分光特性と、基準として定められた光学フィルターである基準光学フィルターについての分光特性である基準分光特性と、を用いて、前記計測スペクトルを、前記基準光学フィルターを用いて測定される計測スペクトルである基準計測スペクトルに変換する計測スペクトル変換部と、
前記基準計測スペクトルを前記スペクトルに変換するための変換行列を前記基準計測スペクトルに作用させることによって、前記基準計測スペクトルを前記スペクトルに変換する基準計測スペクトル変換部と、
を備えることを特徴とする光スペクトル変換装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】光スペクトル変換方法、および光スペクトル変換装置
【手続補正書】
【提出日】平成27年10月16日(2015.10.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
プルーフマスおよび支持基底の第１の側面上で前記プルーフマスと前記支持基底との間に結合される第１の共振子と、
前記プルーフマスおよび前記支持基底の第２の側面上で前記プルーフマスと前記支持基底との間に結合される第２の共振子と、
前記第１の共振子の第１の共振モードに基づいて、第１の周波数において第１の駆動信号を生成するように構成された第１の発振器と、
前記第１の共振子の第２の共振モードに基づいて、第２の周波数において第２の駆動信号を生成するように構成された第２の発振器と、
前記第２の共振子の第１の共振モードに基づいて、第３の周波数において第３の駆動信号を生成するように構成された第３の発振器と、
前記第２の共振子の第２の共振モードに基づいて、第４の周波数において第４の駆動信号を生成するように構成された第４の発振器と、
前記生成された第１および第２の駆動信号に基づいて、前記第１および第２の共振モードにおいて前記第１の共振子を共振させるように構成された第１の駆動機構と、
前記生成された第３および第４の駆動信号に基づいて、前記第１および第２の共振モードにおいて前記第２の共振子を共振させるように構成された第２の駆動機構と、
前記第１および第２の共振子によって出力された信号に基づいて、加速度の値を生成するように構成された処理デバイスと、を備えるシステムであって、
前記第１および第２の共振子が両終端音叉（ＤＥＴＦ）を備える、システム。
【請求項２】
前記第１の共振子に関連する前記第１の共振モードに基づいて前記第１の共振子によって出力された前記信号をフィルタリングするように構成された第１の帯域通過フィルタと、
前記第１の共振子に関連する前記第２の共振モードに基づいて前記第１の共振子によって出力された前記信号をフィルタリングするように構成された第２の帯域通過フィルタと、
前記第２の共振子に関連する前記第１の共振モードに基づいて前記第２の共振子によって出力された前記信号をフィルタリングするように構成された第３の帯域通過フィルタと、
前記第２の共振子に関連する前記第２の共振モードに基づいて前記第２の共振子によって出力された前記信号をフィルタリングするように構成された第４の帯域通過フィルタと、
前記第１の帯域通過フィルタの出力を第１のデジタル周波数に変換するように構成された第１のアナログデジタル変換機（ＡＤＣ）およびデジタルカウンタと、
前記第２の帯域通過フィルタの出力を第２のデジタル周波数に変換するように構成された第２のアナログデジタル変換機（ＡＤＣ）およびデジタルカウンタと、
前記第３の帯域通過フィルタの出力を第３のデジタル周波数に変換するように構成された第３のアナログデジタル変換機（ＡＤＣ）およびデジタルカウンタと、
前記第４の帯域通過フィルタの出力を第４のデジタル周波数に変換するように構成された第４のアナログデジタル変換機（ＡＤＣ）およびデジタルカウンタと、をさらに備える、請求項１に記載のシステム。
【請求項３】
第１の共振モードにおいて共振するように第１の共振子を駆動する、第１の発振器を使用するステップと、
第２の共振モードにおいて共振するように前記第１の共振子を駆動する、第２の発振器を使用するステップと、
前記第１の共振モードにおいて共振するように第２の共振子を駆動する、第３の発振器を使用するステップであって、第１および第２の共振子が両終端音叉（ＤＥＴＦ）を備えるステップと、
前記第２の共振モードにおいて共振するように前記第２の共振子を駆動する、第４の発振器を使用するステップと、
処理デバイスにおいて、前記第１および第２の共振子によって出力された信号に基づいて、加速度の値を生成するステップと、
を有する、方法。
【手続補正書】
【提出日】平成27年2月2日(2015.2.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
内部が大気圧に対して負圧とされた領域と、該領域内の気圧の状態を提示する圧表示部と、が設けられたマイクロチップ。
【請求項２】
前記領域は、弾性変形による自己封止性を備える基板層を含んで形成されている、請求項１記載のマイクロチップ。
【請求項３】
前記圧表示部は、前記基板層を含んで形成されている、請求項２記載のマイクロチップ。
【請求項４】
前記圧表示部は、気体が封入され、外圧の変化により膨張又は収縮する弾性部材を備える、請求項１から３のいずれか一項に記載のマイクロチップ。
【請求項５】
前記圧表示部は、ガス及び／又は湿度の変化により色が変化する材料を有する、請求項１から３のいずれか一項に記載のマイクロチップ。
【請求項６】
前記圧表示部は、前記マイクロチップの外面に設けられている、請求項１から５のいずれか一項に記載のマイクロチップ。
【請求項７】
前記領域内に加えられた熱の履歴を提示する熱履歴表示部が設けられた、請求項１から６のいずれか一項に記載のマイクロチップ。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
ガス不透過性を備える基板層の材料は、ガラス、プラスチック類、金属類及びセラミック類などが採用できる。プラスチック類としては、ＰＭＭＡ（ポリメチルメタアクリレート：アクリル樹脂）、ＰＣ（ポリカーボネート）、ＰＳ（ポリスチレン）、ＰＰ（ポリプロピレン）、ＰＥ（ポリエチレン）、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）、ジエチレングリコールビスアリルカーボネート、ＳＡＮ樹脂（スチレン−アクリロニトリル共重合体）、ＭＳ樹脂（ＭＭＡ−スチレン共重合体）、ＴＰＸ（ポリ（４−メチルペンテン−１））、ポリオレフィン、ＳｉＭＡ（シロキサニルメタクリレートモノマー）−ＭＭＡ共重合体、ＳｉＭＡ−フッ素含有モノマー共重合体、シリコーンマクロマー（Ａ）−ＨＦＢｕＭＡ（ヘプタフルオロブチルメタクリレート）−ＭＭＡ３元共重合体、ジ置換ポリアセチレン系ポリマー等が挙げられる。金属類としては、アルミニウム、銅、ステンレス（ＳＵＳ）、ケイ素、チタン、タングステン等が挙げられる。セラミック類としては、アルミナ（Ａｌ２Ｏ３）、窒化アルミ（ＡｌＮ）、炭化ケイ素（ＳｉＣ）、酸化チタン（ＴｉＯ２）、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ２）、石英等が挙げられる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５５】
マイクロチップ１ｅに設けられた熱履歴表示部６に収容される検出材料６１には、応答温度が異なる複数の色素であっても良く、複数の色素は熱履歴表示部６内に並べても混合しても良い。検出材料６１をマイクロカプセル化した場合、多種の検出材料６１を混合しやすくなる。例えば，５℃以上で色相が赤色に変化するものと４０℃以上で色相が黒色に変化するものを混合することもできる。これにより、熱履歴表示部６は低温に保存している時には無色であり、マイクロチップ１ｅの保存状態を確認でき、熱履歴表示部６が赤色になればマイクロチップ１ｅが室温に達したことを確認できる。また、その後、マイクロチップ１ｅを加熱装置にかけ、熱履歴表示部６が黒色に変化することでマイクロチップ１ｅの温度が上昇したことも確認できる。例えば、分析のためにマイクロチップ１ｅを６０℃に加熱する工程がある場合、検出材料６１として設ける色素の応答温度を、室温から６０℃までの間に設計し調整しておけば、マイクロチップ１ｅが加熱後のものであるか不明な場合でも、その色素の色から、使用済みであることを目視で判別できる。
【手続補正書】
【提出日】平成27年1月28日(2015.1.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
上記課題を解決するために、本発明は、ダイヤモンド基板上に、電子の照射により放射線を発生するターゲット層が形成され、前記ダイヤモンド基板表面の前記ターゲット層が形成される領域において、最も多い結晶面が（１００）面であり、前記ターゲット層の厚さが、１μｍ〜１５μｍであることを特徴とするターゲット構造体を提供するものである。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
ダイヤモンド基板上に、電子の照射により放射線を発生するターゲット層が形成され、前記ダイヤモンド基板表面の前記ターゲット層が形成される領域において、最も多い結晶面が（１００）面であり、
前記ターゲット層の厚さが、１μｍ〜１５μｍであることを特徴とするターゲット構造体。
【手続補正書】
【提出日】平成27年2月6日(2015.2.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
加速度センサーから取得される検出加速度に基づいて、前記検出加速度の水平方向成分を求める水平方向成分抽出部と、
前記検出加速度の前記水平方向成分の変化量特定処理を行い、求めた前記水平方向成分の変化量の積算処理を行い、前記積算処理の結果に基づいて進行方向特定処理を行う進行方向特定部と、
を含み、
前記水平方向成分抽出部は、
前記検出加速度に基づいて、前記検出加速度の第１の座標軸成分と第２の座標軸成分とを求め、
前記進行方向特定部は、
前記変化量特定処理として、前記第１の座標軸成分の変化量である第１の変化量と前記第２の座標軸成分の変化量である第２の変化量とを求める処理を行い、
前記積算処理として、前記第１の変化量の積算処理を行って、第１の積算変化量を求め、前記第２の変化量の積算処理を行って、第２の積算変化量を求める処理を行い、
前記第１の積算変化量を前記第１の座標軸成分とし、第１の座標軸に沿ったベクトルを第１のベクトルとし、
前記第２の積算変化量を前記第２の座標軸成分とし、第２の座標軸に沿ったベクトルを第２のベクトルとした場合に、
前記進行方向特定部は、
前記進行方向特定処理として、前記第１の積算変化量と前記第２の積算変化量とに基づいて、前記第１のベクトルと前記第２のベクトルとがなす角の角度情報を求め、求めた前記角度情報に基づいて進行方向を特定する処理を行うことを特徴とする状態検出装置。
【請求項２】
請求項１において、
前記進行方向特定部は、
前回の前記進行方向特定処理において求められた前記角度情報により表される角度と、今回の前記進行方向特定処理において求められた前記角度情報により表される前記角度の平均角度を算出し、算出した前記平均角度に基づいて進行方向を特定することを特徴とする状態検出装置。
【請求項３】
請求項１又は２において、
前記検出加速度に基づいて歩行又は走行のステップ検出処理を行うステップ検出部と、
進行方向を特定するために用いる前記検出加速度の選択処理を行うサンプリング部と、
を含み、
前記サンプリング部は、
前記ステップ検出処理の結果に基づいて、異なるタイミングにおいて検出された前記検出加速度の中から、Ｎ個（Ｎは２以上の整数）の前記検出加速度を選択する前記選択処理を行い、
前記水平方向成分抽出部は、
選択されたＮ個の前記検出加速度の前記水平方向成分を求め、
前記進行方向特定部は、
求められたＮ個の前記水平方向成分に基づいて前記変化量特定処理を行い、求めた前記水平方向成分の前記変化量の前記積算処理を行って、前記進行方向を求めることを特徴とする状態検出装置。
【請求項４】
請求項３において、
前記ステップ検出部は、
前記ステップ検出処理として前記検出加速度の変化量特定処理を行い、
前記サンプリング部は、
前記選択処理として、取得された前記検出加速度の変化量が所定の閾値よりも小さくなるタイミングを選択開始タイミングとして設定し、前記選択開始タイミング以降に検出された前記検出加速度の中から、Ｎ個の前記検出加速度を選択する処理を行うことを特徴とする状態検出装置。
【請求項５】
請求項４において、
前記サンプリング部は、
前記選択処理として、取得された前記検出加速度の前記変化量がゼロになるタイミングを前記選択開始タイミングとして設定し、前記選択開始タイミング以降に検出された前記検出加速度の中から、Ｎ個の前記検出加速度を選択する処理を行うことを特徴とする状態検出装置。
【請求項６】
請求項４又は５において、
前記ステップ検出部は、
前記ステップ検出処理として、前記検出加速度を表す３軸の加速度合成ベクトルに基づいて前記変化量特定処理を行うことを特徴とする状態検出装置。
【請求項７】
請求項１乃至６のいずれかにおいて、
前記水平方向成分抽出部は、
前記加速度センサーが設けられた電子機器の姿勢情報に基づいて、前記検出加速度の座標変換処理を行い、前記座標変換処理後の前記検出加速度の前記水平方向成分を求めることを特徴とする状態検出装置。
【請求項８】
請求項１乃至７のいずれかにおいて、
前記進行方向特定部は、
前記積算処理の結果として得られる積算変化量に対してＤＣ成分抽出処理を行い、前記ＤＣ成分抽出処理によって得られた前記積算変化量のＤＣ成分に基づいて、前記進行方向特定処理を行うことを特徴とする状態検出装置。
【請求項９】
請求項１乃至８のいずれかに記載の状態検出装置を含むことを特徴とする電子機器。
【請求項１０】
加速度センサーから取得される検出加速度に基づいて、前記検出加速度の水平方向成分を求める水平方向成分抽出部と、
前記検出加速度の前記水平方向成分の変化量特定処理を行い、求めた前記水平方向成分の変化量の積算処理を行い、前記積算処理の結果に基づいて進行方向特定処理を行う進行方向特定部として、
コンピューターを機能させ、
前記水平方向成分抽出部は、
前記検出加速度に基づいて、前記検出加速度の第１の座標軸成分と第２の座標軸成分とを求め、
前記進行方向特定部は、
前記変化量特定処理として、前記第１の座標軸成分の変化量である第１の変化量と前記第２の座標軸成分の変化量である第２の変化量とを求める処理を行い、
前記積算処理として、前記第１の変化量の積算処理を行って、第１の積算変化量を求め、前記第２の変化量の積算処理を行って、第２の積算変化量を求める処理を行い、
前記第１の積算変化量を前記第１の座標軸成分とし、第１の座標軸に沿ったベクトルを第１のベクトルとし、
前記第２の積算変化量を前記第２の座標軸成分とし、第２の座標軸に沿ったベクトルを第２のベクトルとした場合に、
前記進行方向特定部は、
前記進行方向特定処理として、前記第１の積算変化量と前記第２の積算変化量とに基づいて、前記第１のベクトルと前記第２のベクトルとがなす角の角度情報を求め、求めた前記角度情報に基づいて進行方向を特定する処理を行うことを特徴とするプログラム。
【手続補正書】
【提出日】平成26年12月17日(2014.12.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６２】
このようなスリットを持つ開口板１２を用いる場合には、共焦点画像を得るのに必要な最低限のスキャン幅はスリット中心間隔（ピッチ）に等しい。つまり、スリットのピッチ分だけ開口板１２が移動すれば、光検出器群１７を構成する全ての光検出器１７ａで共焦点データが得られることになる。このため、スリットアレイ型の開口板１２を用いる場合、ピンホールアレイ型の開口板１２を用いる場合に比べて１枚の共焦点画像を得るために必要な開口板１２の移動距離は少なくすることが可能である。
【手続補正書】
【提出日】平成26年12月22日(2014.12.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】試料作製方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
試料の表面に、テーパ状の側壁と任意の深さとを有する第１縦孔を、２つ以上形成する第１工程と、
前記試料の裏面を研磨して、２つの前記第１縦孔を貫通させて、２つの第２縦孔を形成する第２工程と、
２つの前記第２縦孔において、前記試料の裏面側の前記第２縦孔の断面の面積を光学的手段を用いて求める第３工程と、
２つの前記第２縦孔の断面の面積が同等であるときは、前記試料の裏面の再研磨は行わず、２つの前記第２縦孔の断面の面積に大小関係があるときは、前記試料の裏面の再研磨を行い、前記試料の裏面側からの２つの前記第２縦孔の断面の面積が等しくなるようにする第４工程を含むことを特徴とする試料作製方法。
【請求項２】
試料の表面に、テーパ状の側壁と任意の深さとを有する第１縦孔を、２つ以上形成する第１工程と、
前記第１縦孔に導電性物質を埋め込む第２工程と、
前記試料の裏面を研磨して、２つの前記第１縦孔を貫通させて、２つの第２縦孔を形成する第３工程と、
２つの前記第２縦孔において、前記試料の裏面側の前記第２縦孔の断面の面積を光学的手段を用いて求める第４工程と、
２つの前記第２縦孔の断面の面積が同等であるときは、前記試料の裏面の再研磨は行わず、２つの前記第２縦孔の断面の面積に大小関係があるときは、前記試料の裏面の再研磨を行い、前記試料の裏面側からの２つの前記第２縦孔の断面の面積が等しくなるようにする第５工程と、を有し、
前記第３工程において、前記第１縦孔の貫通を、テスターを用いて前記導電性物質と通電するか否かで判断することを特徴とする試料作製方法。
【手続補正書】
【提出日】平成27年1月19日(2015.1.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一対の像信号を検出し、光学系が形成する光学像を光電変換する撮像素子と、
前記撮像素子によって検出された前記一対の像信号の位相差から焦点検出を行う第１の焦点検出手段と、
前記光学系が形成する前記光学像のコントラストから焦点検出を行う第２の焦点検出手段と、
前記第２の焦点検出手段が行う前記光学系のウォブリングによる像倍率変化に基づいて、前記第１の焦点検出手段または前記段２の焦点検出手段を利用して自動焦点調節を行う制御手段と、
を有することを特徴とする光学機器。
【請求項２】
前記制御手段は、前記第１の焦点検出手段が行う焦点検出の精度および前記像倍率変化に基づいて、前記第１の焦点検出手段または前記第２の焦点検出手段を利用して自動焦点調節を行うことを特徴とする請求項１に記載の光学機器。
【請求項３】
前記制御手段は、前記像倍率変化および前記光学機器の撮影モードに基づいて、前記第１の焦点検出手段または前記第２の焦点検出手段を利用して自動焦点調節を行うことを特徴とする請求項１または２に記載の光学機器。
【請求項４】
前記光学機器は、前記光学系を有する交換レンズが着脱可能に装着されるカメラ本体であることを特徴とする請求項１乃至３のうち１項に記載の光学機器。
【請求項５】
前記光学機器は、前記光学系を有する交換レンズと、前記交換レンズが着脱可能に装着されるカメラ本体と、を有することを特徴とする請求項１乃至３のうち１項に記載の光学機器。
【請求項６】
撮像素子を有する光学機器を利用して自動焦点調節を行う方法であって、
前記撮像素子を用いて、一対の像信号を検出するステップと、
前記撮像素子を用いて、光学系が形成する光学像を光電変換するステップと、
第１の焦点検出手段を用いて、前記撮像素子によって検出された前記一対の像信号の位相差から焦点検出を行うステップと、
第２の焦点検出手段を用いて、前記光学系が形成する前記光学像のコントラストから焦点検出を行うステップと、
制御手段を用いて、前記第２の焦点検出手段が行う前記光学系のウォブリングによる像倍率変化に基づいて、前記第１の焦点検出手段または前記段２の焦点検出手段を利用して自動焦点調節を行うステップと、を有することを特徴とする方法。
【請求項７】
前記制御手段を用いて、前記第１の焦点検出手段が行う焦点検出の精度および前記像倍率変化に基づいて、前記第１の焦点検出手段または前記第２の焦点検出手段を利用して自動焦点調節を行うステップを更に有することを特徴とする請求項６に記載の方法。
【請求項８】
前記制御手段を用いて、前記像倍率変化および前記光学機器の撮影モードに基づいて、前記第１の焦点検出手段または前記第２の焦点検出手段を利用して自動焦点調節を行うステップを更に有することを特徴とする請求項６または７に記載の方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】光学機器および自動焦点調節を行う方法
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明の光学機器は、一対の像信号を検出し、光学系が形成する光学像を光電変換する撮像素子と、前記撮像素子によって検出された前記一対の像信号の位相差から焦点検出を行う第１の焦点検出手段と、前記光学系が形成する前記光学像のコントラストから焦点検出を行う第２の焦点検出手段と、前記第２の焦点検出手段が行う前記光学系のウォブリングによる像倍率変化に基づいて、前記第１の焦点検出手段または前記段２の焦点検出手段を利用して自動焦点調節を行う制御手段と、を有することを特徴とする。
また、本発明の他の一側面としての自動焦点調節を行う方法は、撮像素子を有する光学機器を利用して自動焦点調節を行う方法であって、前記撮像素子を用いて、一対の像信号を検出するステップと、前記撮像素子を用いて、光学系が形成する光学像を光電変換するステップと、第１の焦点検出手段を用いて、前記撮像素子によって検出された前記一対の像信号の位相差から焦点検出を行うステップと、第２の焦点検出手段を用いて、前記光学系が形成する前記光学像のコントラストから焦点検出を行うステップと、制御手段を用いて、前記第２の焦点検出手段が行う前記光学系のウォブリングによる像倍率変化に基づいて、前記第１の焦点検出手段または前記段２の焦点検出手段を利用して自動焦点調節を行うステップと、を有することを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成26年12月10日(2014.12.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光軸に直交する方向もしくは光軸に平行な方向に予め定められた範囲を移動することで撮影時の像ぶれを軽減するための振れ補正部材と、
振れを検出する検出手段と、
前記振れに応じて前記振れ補正部材の目標位置を決定する決定手段と、
前記振れ補正部材の位置を検出する位置検出手段と、
前記振れ補正部材の位置が前記振れ補正部材の目標位置に収束するように帰還制御を行い、制御発振に対して制御安定性が高い第１の制御方法と、第１の制御方法に比べて、前記振れ補正部材の追従特性は高いが、制御発振に対して制御安定性が低い第２の制御方法とを変更可能な帰還制御手段と、
予め定められた条件を満たすときは、前記第１の制御方法から前記第２の制御方法へと変更を行う変更手段と、
を備えることを特徴とする像ぶれ補正装置。
【請求項２】
前記予め定められた条件を満たすとは、前記振れ補正部材の位置が前記予め定められた範囲内のとき、または前記予め定められた範囲の端に近づく恐れがないときであることを特徴とする請求項１に記載の像ぶれ補正装置。
【請求項３】
前記予め定められた条件を満たすとは、前記振れ補正部材の実位置あるいは、前記検出手段によって検出された振れに応じて決定された前記振れ補正部材の目標位置が、予め定められた所定位置を超えていないことを検出することであることを特徴とする請求項１に記載の像ぶれ補正装置。
【請求項４】
前記予め定められた条件を満たすとは、前記検出手段によって検出された振れが所定値よりも小さく、パンニングあるいはチルティング動作中ではないと判断されることであることを特徴とする請求項１に記載の像ぶれ補正装置。
【請求項５】
前記振れ補正部材が光軸に直交する方向に移動する場合、前記予め定められた条件を満たすとは、静止画撮影における露光時間が所定時間以内であると判断されることであることを特徴とする請求項１に記載の像ぶれ補正装置。
【請求項６】
前記振れ補正部材が光軸に直交する方向に移動する場合、前記予め定められた条件を満たすとは、動画撮影時ではないと判断されることであることを特徴とする請求項１に記載の像ぶれ補正装置。
【請求項７】
撮像装置に加わる加速度を検出する加速度検出手段をさらに備え、前記加速度検出手段の出力が所定値よりも小さい場合に前記第２の制御方法を実行し、前記所定値よりも大きい場合に前記第１の制御方法を実行することを特徴とする請求項１に記載の像ぶれ補正装置。
【請求項８】
前記帰還制御手段は、比例制御、微分制御、積分制御からなるＰＩＤ制御を実行するものであり、前記第１の制御方法では前記帰還制御手段が予め決定された積分補償係数にて積分制御を行い、前記第２の制御方法では前記第１の制御方法に比べて大きくなるような値に設定された積分補償係数に基づいて積分制御を行うことを特徴とする請求項１ないし７の何れか１項に記載の像ぶれ補正装置。
【請求項９】
前記予め定められた条件が満たされて前記第１の制御方法から前記第２の制御方法に変更する際、あるいは前記第２の制御方法から前記第１の制御方法に変更する際に、前記第１の制御方法で用いられる第１の積分補償係数と前記第２の制御方法で用いられる第２の積分補償係数の変化割合を、前記積分制御に使用される前記位置検出手段によって検出された実位置と前記決定手段によって決定された目標位置との差分の積算値に乗ずることを特徴とする請求項８に記載の像ぶれ補正装置。
【請求項１０】
前記振れ補正部材を駆動するための指令信号が、所定時間の間、所定値を超えたことを検出することにより前記振れ補正部材が駆動可能範囲を超えたことを検出する駆動限界検出手段をさらに備え、
前記駆動限界検出手段により、前記振れ補正部材が駆動限界位置にあると検出した際には、前記振れ補正部材の位置と前記目標位置との差分の積算値を０にクリアした後に前記第１の制御方法を実行することを特徴とする請求項８に記載の像ぶれ補正装置。
【請求項１１】
前記振れ補正部材は、光軸に直交する方向に予め定められた範囲を移動することで撮影時の手ぶれによる像ぶれを軽減するか、光軸に平行な方向に予め定められた範囲を移動することでフォーカスを変更することを特徴とする請求項１ないし１０の何れか１項に記載の像ぶれ補正装置。
【請求項１２】
請求項１ないし１１の何れか１項に記載の像ぶれ補正装置を備えた光学機器。
【請求項１３】
請求項１ないし１１の何れか１項に記載の像ぶれ補正装置を備えた撮像装置。
【請求項１４】
光軸に直交する方向もしくは光軸に平行な方向に予め定められた範囲を移動することで撮影時の像ぶれを軽減するための振れ補正部材を備える像ぶれ補正装置の制御方法であって、
振れを検出する検出ステップと、
前記振れに応じて前記振れ補正部材の目標位置を決定する決定ステップと、
前記振れ補正部材の位置を検出する位置検出ステップと、
前記振れ補正部材の位置が前記振れ補正部材の目標位置に収束するように帰還制御を行い、制御発振に対して制御安定性が高い第１の制御方法と、第１の制御方法に比べて、前記振れ補正部材の追従特性は高いが、制御発振に対して制御安定性が低い第２の制御方法とを変更可能な帰還制御ステップと、
予め定められた条件を満たすときは、前記第１の制御方法から前記第２の制御方法へと変更を行う変更ステップと、
を有することを特徴とする像ぶれ補正装置の制御方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本発明に係わる像ぶれ補正装置は、光軸に直交する方向もしくは光軸に平行な方向に予め定められた範囲を移動することで撮影時の像ぶれを軽減するための振れ補正部材と、振れを検出する検出手段と、前記振れに応じて前記振れ補正部材の目標位置を決定する決定手段と、前記振れ補正部材の位置を検出する位置検出手段と、前記振れ補正部材の位置が前記振れ補正部材の目標位置に収束するように帰還制御を行い、制御発振に対して制御安定性が高い第１の制御方法と、第１の制御方法に比べて、前記振れ補正部材の追従特性は高いが、制御発振に対して制御安定性が低い第２の制御方法とを変更可能な帰還制御手段と、予め定められた条件を満たすときは、前記第１の制御方法から前記第２の制御方法へと変更を行う変更手段と、を備えることを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成27年1月28日(2015.1.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
凹面が形成された第一のレンズ基材用モールドの前記凹面との距離の最小値が０．３ｍｍ以上０．７ｍｍ以下となるように、前記第一のレンズ基材用モールドの周縁部の少なくとも一部と偏光フィルムの周縁部の少なくとも一部とを接着させることと、
前記偏光フィルムを挟んで前記第一のレンズ基材用モールドと反対側に第二のレンズ基材用モールドを配置することと、
前記第一のレンズ基材用モールドと前記偏光フィルムとの間、および、前記偏光フィルムと前記第二のレンズ基材用モールドとの間にプラスチック原料組成物を注入して、第一のレンズ基材および第二のレンズ基材を形成することと、
を含む、眼鏡用偏光プラスチックレンズの製造方法。
【請求項２】
前記第一のレンズ基材用モールドの周縁部の一部と偏光フィルムの周縁部の一部とを複数箇所にて接着させ、前記第一のレンズ基材用モールドと前記偏光フィルムとの間のキャビティーと、前記第二のレンズ基材用モールドと前記偏光フィルムとの間のキャビティーとを連通させた上で、前記プラスチック原料組成物を注入する、請求項１に記載の眼鏡用偏光プラスチックレンズの製造方法。
【請求項３】
前記凹面と前記偏光フィルムとの接着の際に両者の間の距離の最小値が０．３ｍｍ以上０．７ｍｍ以下となる高さになるように接着剤を塗布して両者を接着させる、請求項１または２に記載の眼鏡用偏光プラスチックレンズの製造方法。
【請求項４】
物体側の面を有する第一のレンズ基材と、
眼球側の面を有する第二のレンズ基材と、
前記第一のレンズ基材と前記第二のレンズ基材との間に設けられる偏光フィルムと、
前記物体側の面の周縁と前記偏光フィルムの周縁との間に設けられ、かつ、前記物体側の面と前記偏光フィルムとの距離の最小値を０．３ｍｍ以上０．７ｍｍ以下とする接着剤と、
を含む、眼鏡用偏光プラスチックレンズ。