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【手続補正書】
【提出日】平成27年4月27日(2015.4.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
他方、前記ルリコナゾールにおいては、遮光性の問題以外に、１）溶剤に溶けにくい、２）高濃度溶液を爪などの表面に塗布した際に表面で結晶を析出し吸収を阻害する、３）立体異性化しやすい等の好ましくない特性があり、安定で効果の高い製剤開発の障害となっていた。特に、皮膚真菌症以上に患部への薬剤の配向量が多くなることが要求される爪真菌症を対象とする医薬製剤については、溶解度と塗布時即時結晶性の問題が大きな課題となっている（例えば、特許文献５および６を参照）し、溶剤の選択においては立体特性の維持（例えば、特許文献４を参照）が大きな課題となっている。この様な状況下、立体安定化作用を有し、且つ、爪中への薬剤配向性の高い溶剤として、Ｎ−メチル−２−ピロリドン等のＮ−アルキル−２−ピロリドン類を見出したが、かかる溶剤においては、溶解度の問題で溶かしうるルリコナゾールの量に限度があった。その為、通常の製剤系においては、３質量％未満が透明溶液製剤の限度と考えられていた。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
＜２＞医薬組成物
本発明の樹脂容器において、充填されるに好ましい医薬組成物は、上記一般式（Ｉ）に表される化合物及び／又はその塩を含有することを特徴とする。かかる一般式（Ｉ）に表される化合物としては、Ｒ１が塩素原子であり、Ｒ２が水素原子であるラノコナゾール、Ｒ１、Ｒ２ともに塩素原子であるルリコナゾールなどが好適に例示できる。これらの何れをも当該医薬組成物は含有することができる。かかる成分の製造方法は既に知られている（例えば、特開平０９−１００２７９号公報など）。かかる医薬組成物において、前記一般式（Ｉ）に表される化合物及びその塩の好ましい含有量は、０．１〜２０質量％が好ましく、０．２〜１０質量％がより好ましい。これはかかる量範囲において、安定性を維持できるからである。特に、医薬組成物を爪用の製剤として用いる場合は、透明で一様な溶液であって、一般式（Ｉ）に表される化合物の濃度が高いものが好ましく、具体的には、
Ｎ−アルキル−２−ピロリドンを溶剤とし、一般式（Ｉ）に表される化合物の医薬組成物における含有量が、総量に対して３〜８質量％であり、より好ましくは４〜６質量％である、医薬組成物が特に好ましく例示できる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２９】
本発明の医薬組成物は、好ましい態様において、有機酸を３〜６質量％、より好ましくは、４〜５質量％含有することを特徴とする。有機酸としては、α−ヒドロキシ酸が好ましく、中でも、乳酸、グリコール酸がより好ましい。かかる成分は、医薬組成物を爪の表面に塗付したときに瞬間的に結晶が析出する様な事象を抑制する働きに優れる。又、低温保存時における結晶の析出の抑制、低温保存による、塗布時の結晶析出の容易化の抑制作用も同様に発現する。これをもって、本発明の医薬組成物が、その特性を阻害されることなく、優れた組織浸透性を具現化できる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５１】
＜参考例１＞
表７に示す処方に従って、ルリコナゾールの製剤を作製した。即ち、ルリコナゾールにベンジルアルコールを加え、溶解した後、エタノール、アジピン酸ジイソプロピル、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、乳酸の順に加え、加熱可溶化し、しかる後、室温まで冷却し、透明な溶液の性状の製剤を得た。これを５℃で２週間保存したところ、結晶が析出した。この系ではベンジルアルコールの量が本発明範囲よりも多く、ルリコナゾールの配合限度は３質量％未満であることが判る。
【手続補正書】
【提出日】平成26年11月18日(2014.11.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
遊技動作を統括的に制御する主制御手段を備えた遊技機であって
遊技に対する不正行為を検知する不正検知手段と、
少なくとも前記主制御手段に電源電圧を供給する電源供給手段と、を有し、
前記電源供給手段は、電圧降下を検知すると異常値に変化する電圧異常信号を生成する電圧監視手段を有し、
前記主制御手段は、前記不正検知手段にて遊技に対する不正行為を検知すると、遊技動作の進行を停止させる遊技動作停止手段と、
各種データを記憶可能なＲＡＭと、
前記電圧監視手段にて生成された電圧異常信号を検知すると、バックアップデータを作成し前記ＲＡＭに記憶するバックアップ処理手段と、
電源投入を契機として前記ＲＡＭに記憶されたバックアップデータに基づいて前記電圧異常信号を検知する前の遊技動作へ復帰させる復帰処理手段と、
所定のタイミングで乱数値を更新する乱数更新手段とを有し、
前記乱数更新手段は、前記遊技動作停止手段にて遊技動作の進行を停止させても、所定のタイミングで乱数値を更新させてなることを特徴とする遊技機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００２】
従来の遊技機として、例えば特許文献１に記載のような遊技機が知られている。この遊技機は、不正行為を検知して不正検知信号を発信する不正検知センサを備えており、この不正検知センサによって不正を検知すると遊技動作の進行を停止するというものである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
しかしながら、上記のような遊技機には、ノイズ等の誤作動で不正を検知した場合、遊技者に不利益を与えてしまうという問題があった。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
請求項１の発明によれば、遊技動作を統括的に制御する主制御手段（主制御基板６０）を備えた遊技機であって、
遊技に対する不正行為を検知する不正検知手段（不正検知基板５０）と、
少なくとも前記主制御手段（主制御基板６０）に電源電圧を供給する電源供給手段（電源基板１３０）と、を有し、
前記電源供給手段（電源基板１３０）は、電圧降下を検知すると異常値に変化する電圧異常信号（ＡＬＡＲＭ）を生成する電圧監視手段（電圧監視部１３０１）を有し、
前記主制御手段（主制御基板６０）は、前記不正検知手段（不正検知基板５０）にて遊技に対する不正行為を検知すると、遊技動作の進行を停止させる遊技動作停止手段（遊技動作停止フラグＧＳＦ）と、
各種データを記憶可能なＲＡＭ（主制御ＲＡＭ６０２）と、
前記電圧監視手段（電圧監視部１３０１）にて生成された電圧異常信号（ＡＬＡＲＭ）を検知すると、バックアップデータを作成し前記ＲＡＭ（主制御ＲＡＭ６０２）に記憶するバックアップ処理手段（ステップＳ５９）と、
電源投入を契機として前記ＲＡＭ（主制御ＲＡＭ６０２）に記憶されたバックアップデータに基づいて前記電圧異常信号（ＡＬＡＲＭ）を検知する前の遊技動作へ復帰させる復帰処理手段（ステップＳ１２）と、
所定のタイミングで乱数値を更新する乱数更新手段（ステップＳ２３）とを有し、
前記乱数更新手段（ステップＳ２３）は、前記遊技動作停止手段（遊技動作停止フラグＧＳＦ）にて遊技動作の進行を停止させても、所定のタイミングで乱数値を更新させてなることを特徴としている。
【手続補正書】
【提出日】平成27年4月10日(2015.4.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
プラズマと接触する単一の平面型ラングミュアプローブの表面でプラズマパラメータデータを測定することを含む、プラズマ反応器のチャンバ内でプラズマを監視するための方法であって、
単一のラングミュアプローブとバイアス電源との間に接続されたバイアスコンデンサにバイアス印加を行う工程であって、バイアス電源は前記バイアス印加に適合しているようにした工程と、
続いて、前記バイアス印加の結果として生じるバイアスコンデンサの放電電流を測定し、また、放電の間に単一のプローブのプローブ電位を測定する工程とを含み、
バイアス印加を行う工程は、ＤＣバイアスを印加することを含むことを特徴とする方法。
【請求項２】
バイアス印加を行う工程は、プラズマの浮遊電位より高電位にバイアスコンデンサを充電するのに適した正のＤＣ電圧レベルを少なくとも一回印加することを含み、
測定するプラズマパラメータデータは、プラズマからプローブまでの電子束、及びプラズマからプローブまでのイオン束の少なくとも一方を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
バイアス印加を行う工程は、プラズマの浮遊電位より低電位にバイアスコンデンサを充電するのに適した負のＤＣ電圧レベルを少なくとも一回印加することを含み、
測定するプラズマパラメータデータは、プラズマからプローブまでの電子束、及びプラズマからプローブまでのイオン束の少なくとも一方を含む、請求項１又は２に記載の方法。
【請求項４】
バイアス印加を行う工程は、プラズマの浮遊電位より高電位にバイアスコンデンサを充電するのに適した正のＤＣパルスと、プラズマの浮遊電位より低電位にバイアスコンデンサを充電するのに適した負のＤＣパルスとを交互に含む信号を印加することを含み、
測定するプラズマパラメータデータは、前記正のＤＣパルスを印加する間の、プラズマからプローブまでの電子束、及び前記負のＤＣパルスを印加する間の、プラズマからプローブまでのイオン束の少なくとも一方を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
信号は、浮遊電位を基準として対称である、請求項４に記載の方法。
【請求項６】
正のＤＣパルス及び負のＤＣパルスは、後に続く正のＤＣパルスと負のＤＣパルスとの間で、放電電流及び単一のプローブの電位の測定をそれぞれ実施することができるように設定された所定の周期及びデューティサイクルをそれぞれ有する、請求項４又は５に記載の方法。
【請求項７】
ＤＣバイアスは、前記バイアス印加の開始時に、プラズマからプローブまでの電子流を制限するための正の傾斜を有する、請求項１〜６のいずれか１項に記載の方法。
【請求項８】
単一のプローブは、プラズマ反応器と共通する接地電位を有する、請求項１〜７のいずれか１項に記載の方法。
【請求項９】
シミュレーションを行ったＩ−Ｖ曲線に、測定したＩ−Ｖ曲線を適合させ、プローブ表面の誘電体膜の存在又は厚さを決定する工程をさらに含む、請求項１〜８のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１０】
プラズマ反応器のチャンバ内でプラズマを監視するための装置であって、
プラズマと接触する入射面を有するチャンバ内部の単一の平面型ラングミュアプローブと、
チャンバ外部のバイアスコンデンサであって、単一のラングミュアプローブと、該バイアスコンデンサにバイアス印加を行うためのバイアス電源との間に直列に取り付けられたバイアスコンデンサと、
前記バイアス印加の結果として生じるバイアスコンデンサの放電電流を測定し、また、放電の間に単一のプローブのプローブ電位を測定するための手段とを備え、
バイアス電源は、ＤＣバイアスを印加することに適合したＤＣバイアス電源であることを特徴とする装置。
【請求項１１】
ＤＣバイアス電源は、プラズマの浮遊電位より高電位にバイアスコンデンサを充電するのに適した正のＤＣ電圧レベルを少なくとも一回印加することに適合し、
測定手段は、プラズマからプローブまでの電子束、及びプラズマからプローブまでのイオン束の少なくとも一方を測定するために準備されている、請求項１０に記載の装置。
【請求項１２】
ＤＣバイアス電源は、プラズマの浮遊電位より低電位にバイアスコンデンサを充電するのに適した負のＤＣ電圧レベルを少なくとも一回印加することに適合し、
測定手段は、プラズマからプローブまでの電子束、及びプラズマからプローブまでのイオン束の少なくとも一方を測定するように構成されている、請求項１０又は１１に記載の装置。
【請求項１３】
ＤＣバイアス電源は、プラズマの浮遊電位より高電位にバイアスコンデンサを充電するのに適した正のＤＣパルスと、プラズマの浮遊電位より低電位にバイアスコンデンサを充電するのに適した負のＤＣパルスとを交互に含む信号を前記バイアスコンデンサに印加するように適合し、
測定手段は、前記正のＤＣパルスを印加する間にプラズマからプローブまでの電子束を測定し、また、前記負のＤＣパルスを印加する間にプラズマからプローブまでのイオン束を測定するように構成されている、請求項１０に記載の装置。
【請求項１４】
チャンバ内で少なくとも一つのプラズマパラメータの空間分布についての情報を収集するために、請求項１０〜１３のいずれか１項に記載のプラズマ監視装置を複数個備えたプラズマ反応器。
【請求項１５】
プラズマ反応器のチャンバ内部に位置し且つプラズマと接触する単一のラングミュアプローブの表面上に堆積した誘電体膜の静電容量をその場測定するための方法であって、
バイアスコンデンサを介して単一のラングミュアプローブに正のＤＣパルス及び負のＤＣパルスを交互に印加する工程であって、正のＤＣパルスはプラズマの浮遊電位より高電位にバイアスコンデンサを充電するのに適しており、負のＤＣパルスはプラズマの浮遊電位より低電位にバイアスコンデンサを充電するのに適しているような工程と、
正のＤＣパルスを印加する間に第１プローブ電位を、及び負のＤＣパルスを印加する間に第２プローブ電位を測定する工程と、
測定した第１浮遊電位と、測定した第２浮遊電位との差（ΔＶ）を計算する工程と、
計算した差（ΔＶ）、ＤＣパルスの振幅（Ｖａ）及びバイアスコンデンサの静電容量（Ｃｂｉａｓ）を使用して、誘電体膜の静電容量（Ｃｆｉｌｍ）を計算する工程とを含む方法。
【請求項１６】
誘電体膜の静電容量（Ｃｆｉｌｍ）、及び誘電体膜の既知の物理的特性を使用して、誘電体膜の厚さを決定する工程をさらに含む請求項１５に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成27年1月5日(2015.1.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
導電層を少なくとも表面に有する導電性粒子、及び該導電性粒子の表面に付着している絶縁性粒子を有する絶縁性粒子付き導電性粒子本体と、
前記絶縁性粒子付き導電性粒子本体の表面を被覆している被膜とを備え、
前記被膜が、炭素数６〜２２のアルキル基を有する化合物により形成されており、
前記被膜が、前記導電性粒子の表面を覆っている被膜部分と、前記絶縁性粒子の表面を覆っている被膜部分とを有し、
前記導電性粒子の表面を覆っている被膜部分と、前記絶縁性粒子の表面を覆っている被膜部分とが連なっている、絶縁性粒子付き導電性粒子。
【請求項２】
前記絶縁性粒子が無機粒子を含む、請求項１に記載の絶縁性粒子付き導電性粒子。
【請求項３】
前記炭素数６〜２２のアルキル基を有する化合物が、リン酸エステル又はその塩、亜リン酸エステル又はその塩、アルコキシシラン、アルキルチオール及びジアルキルジスルフィドからなる群から選択された少なくとも１種である、請求項１又は２に記載の絶縁性粒子付き導電性粒子。
【請求項４】
前記絶縁性粒子は、絶縁性粒子本体と、該絶縁性粒子本体の表面の少なくとも一部の領域を覆っており、かつ高分子化合物により形成されている層とを有する、請求項１〜３のいずれか１項に記載の絶縁性粒子付き導電性粒子。
【請求項５】
前記導電性粒子の表面の前記絶縁性粒子が付着している部分以外の部分に、前記高分子化合物が付着していない、請求項４に記載の絶縁性粒子付き導電性粒子。
【請求項６】
前記高分子化合物が、（メタ）アクリロイル基、グリシジル基及びビニル基からなる群から選択された少なくとも１種の反応性官能基を有する、請求項４又は５に記載の絶縁性粒子付き導電性粒子。
【請求項７】
前記絶縁性粒子が、前記導電性粒子の表面に、ハイブリダイゼーション法により付着されていない、請求項１〜６のいずれか１項に記載の絶縁性粒子付き導電性粒子。
【請求項８】
第１の接続対象部材と、第２の接続対象部材と、該第１，第２の接続対象部材を接続している接続部とを備え、
前記接続部が、請求項１〜７のいずれか１項に記載の絶縁性粒子付き導電性粒子により形成されているか、又は該絶縁性粒子付き導電性粒子とバインダー樹脂とを含む異方性導電材料により形成されている、接続構造体。
【手続補正書】
【提出日】平成27年2月2日(2015.2.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
画像をスーパーピクセルにセグメント化する方法であって、
頂点が枝によって連結されたグラフを構築するステップであって、各頂点は、前記画像内のピクセルに対応し、各枝は、該対応するピクセルの類似度を示す重みに関連付けられる、構築するステップと、
前記グラフ内の枝の部分集合を選択するステップであって、前記グラフを複数の部分グラフにセグメント化し、該選択することは目的関数を最大にし、該目的関数は劣モジュラであり、該目的関数は、一様なスーパーピクセルを生成するための前記グラフ上のランダムウォークのエントロピーレートと、バランス項とを含み、該バランス項は、同様のサイズのセグメントの数を最大にするセグメントのメンバーシップの分布のエントロピーコンポーネントと、セグメントの数を最小にする連結された部分グラフのコンポーネントの数とを含む、選択するステップと、
部分グラフの数が或るしきい値に等しくなるまで、最大利得を有する前記枝を前記グラフに追加するステップと、前記部分グラフの数が前記しきい値未満の場合には、前記選択するステップ及び前記追加するステップを繰り返すステップと、
を含み、
各前記ステップはプロセッサが実行する、画像をスーパーピクセルにセグメント化する方法。
【請求項２】
各部分グラフは、一様なかつ同様のサイズのスーパーピクセルを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記エントロピーレートは、劣モジュラ及び単調増加である、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記バランス項は、劣モジュラ及び単調増加である、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
無閉路グラフにおける部分グラフの数に対する制約がマトロイドである、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
目的関数は、或る制約を条件として、貪欲プロセスを用いて最大にされる、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
最適性が、前記目的関数の大域的最小値の１／２となるように保証される、請求項１に記載の方法。
【請求項８】
前記貪欲プロセスは、ヒープ構造を用いて実施される、請求項６に記載の方法。
【請求項９】
前記セグメント化は階層的に達成される、請求項１に記載の方法。
【請求項１０】
前記階層は、前記画像の複数のセグメント化を同時に形成する、請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
前記バランス項のバランスパラメータは、自動的に調節される、請求項１に記載の方法。
【請求項１２】
前記バランス項のバランスパラメータは、セグメント化をカスタマイズするようにユーザーによって変更される、請求項１に記載の方法。
【請求項１３】
前記セグメント化は、ユーザーの監視を伴って対話的に実行される、請求項１に記載の方法。
【請求項１４】
非画像領域における一般的なクラスタリング問題が解かれる、請求項１に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成27年5月22日(2015.5.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ハンドヘルド機器上で実行されるように適合化される複数のプログラム命令を格納するコンピュータ読取り可能媒体を備える前記ハンドヘルド機器であって、前記複数のプログラム命令は、前記ハンドヘルド機器に、
多機能機器におけるエラー状態を指示するデータを受信することと、
前記エラー状態に対処するために修理を行なう必要があると思われる前記多機能機器の部位を表す第１の画像を捕捉すべく前記ハンドヘルド機器を起動するようにユーザをプロンプトすることと、
前記エラー状態に対処するために修理を行なう必要があると思われる前記多機能機器の部位を表す第２の画像をメモリから取得することと、
前記ハンドヘルド機器に前記第１の画像及び前記第２の画像を同時に表示させることと、
前記エラー状態に対処するための、オーディオデータ、ビデオデータ、テキストデータおよびグラフィックデータのうちの少なくとも１つを含む複数のプログラム命令を決定することと、
前記ハンドヘルド機器に、前記複数のプログラム命令を前記第１の画像及び前記第２の画像に関連して表示させることと、
（ａ）前記ハンドヘルド機器のカメラによる画像捕捉プロセスを起動して第２の捕捉された画像を取得することをユーザに命令し、（ｂ）前記第２の捕捉された画像を前記第１の画像と比較し、（ｃ）前記第２の捕捉された画像と前記第１の画像との相違を決定し、（ｄ）前記第２の捕捉された画像および前記第１の画像間のデルタ変化を表す複数のピクセルを分離しかつこれらの分離された複数のピクセルを識別することにより前記第２の捕捉された画像と前記第１の画像との相違を、変化されたコンポーネント状態であると同一視し、（ｅ）分離されたピクセルと同一視される機器コンポーネントの同一性を決定し、（ｆ）ユーザに与えられた最新の先行命令を照会して前記機器コンポーネントが修正すべき正しいコンポーネントであったかどうかを決定することによって、ユーザが前記命令の完了を確認した後に、完了された命令を検証することと、を実行させる、
ハンドヘルド機器。
【請求項２】
前記複数のプログラム命令は、前記ハンドヘルド機器に、前記エラー状態を指示するデータを受信するために前記ハンドヘルド機器に前記多機能機器と無線通信させかつ前記エラー状態を指示する前記データを前記多機能機器から取得させる、請求項１に記載のハンドヘルド機器。
【請求項３】
前記エラー状態を指示する前記データは、エラーコード、多機能機器のタイプ、およびエラーのタイプのうちの少なくとも１つを含む、請求項１に記載のハンドヘルド機器。
【請求項４】
前記ハンドヘルド機器に統合されているカメラを用いて前記第１の画像を捕捉する、請求項１に記載のハンドヘルド機器。
【請求項５】
前記ハンドヘルド機器に、前記複数のプログラム命令を前記第１の画像及び前記第２の画像に関連して表示させる前記複数のプログラム命令は、さらに、前記第１の画像および前記第２の画像の上に前記テキストデータおよび前記グラフィックデータの少なくとも１つを重ねて表示させる、請求項４に記載のハンドヘルド機器。
【請求項６】
前記ハンドヘルド機器に、前記エラー状態に対処するために修理を行なう必要があると思われる前記多機能機器の部位を表す第２の画像をメモリから取得させる前記複数のプログラム命令は、前記ハンドヘルド機器に、前記エラー状態に対処するために修理を行なう必要があると思われる多機能機器の前記部位のグラフィック画像を、前記グラフィック画像が格納されたデータベースから検索させる、請求項１に記載のハンドヘルド機器。
【請求項７】
前記グラフィック画像は、前記第１の画像を分析し、かつ前記第１の画像に対応する前記データベース内の少なくとも１つのグラフィック画像を識別することによって検索される、請求項６に記載のハンドヘルド機器。
【請求項８】
前記グラフィック画像は、前記エラー状態を指示する前記データを使用しかつ前記エラー状態に関連づけられるグラフィック画像について前記データベースに問い合わせることによって検索される、請求項６に記載のハンドヘルド機器。
【請求項９】
前記ハンドヘルド機器に前記複数のプログラム命令を前記第１の画像及び前記第２の画像に関連して表示させるための前記複数のプログラム命令は、前記ハンドヘルド機器に、前記テキストデータおよびグラフィックデータの少なくとも一方を前記グラフィック画像上へ重ねて表示させる、請求項６に記載のハンドヘルド機器。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】多機能機器内の機能不全をトラブルシューティングするために用いられるハンドヘルド機器
【手続補正書】
【提出日】平成27年4月17日(2015.4.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ナビゲーション装置用データベース（１０）であって、前記データベース（１０）は、地形の三次元表面を定義するデジタル標高モデルデータを含み、前記データベース（１０）がタイリング（８）の複数のタイル（１１）の各タイル（１１）のために、
−それぞれのタイル（１１）のための、複数の不整三角網、ＴＩＮ（１８、１９）の頂点（ＡからＨ）の三次元座標を含む第１の配列（２３）であって、前記頂点（ＡからＨ）の各頂点に対して、それぞれの頂点がいくつかのＴＩＮ（１８、１９）の中に含まれたとしても、前記三次元座標は、前記第１の配列（２３）の中に一度だけ含まれる、第１の配列（２３）と、
−複数の第２の配列（２４、２５）であって、各第２の配列（２４、２５）がそれぞれＴＩＮ（１８、１９）の三角面を定義し、前記それぞれのＴＩＮ（１８、１９）の三角面を定義するために前記第１の配列に頂点（ＡからＨ）座標が記憶される前記頂点（ＡからＨ）の複数のインデックスを含む、複数の第２の配列（２３）と、
を記憶する、データベース。
【請求項２】
前記複数の第２の配列（２４、２５）の各第２の配列（２４、２５）が三角形の片である、請求項１に記載のデータベース（１０）。
【請求項３】
少なくとも１つの頂点（ＡからＨ）のインデックスが、異なる第２の配列（２４、２５）に含まれる、請求項２に記載のデータベース（１０）。
【請求項４】
前記データベース（１０）が、前記複数のタイル（１１）の各タイル（１１）のために、少なくとも２つの第２の配列（２４、２５）を記憶する、請求項１に記載のデータベース（１０）。
【請求項５】
前記データベース（１０）が、前記複数のタイル（１１）の各タイル（１１）のために、少なくとも６つの第２の配列を記憶する、請求項４に記載のデータベース（１０）。
【請求項６】
前記第１の配列（２３）の頂点（ＡからＨ）のためのエントリが、頂点座標のための距離メトリックに従って順序付けられ、前記第１の配列（２３）が、デルタ符号化形式で前記三次元座標を含む、請求項１に記載のデータベース（１０）。
【請求項７】
請求項１から６のどれか１つの前記データベース（１０）と、
光出力装置（４）と、
前記データベース（１０）に、および前記光出力装置（４）に結合される処理装置（２）であって、前記データベース（１０）から取り出されるデータに基づいて、三次元地形の表示を出力するために前記光出力装置（４）を制御するように構成される前記処理装置（２）と、
を備える、ナビゲーション装置（１）。
【請求項８】
前記処理装置（２）が、複数の不整三角網、ＴＩＮ（１８、１９）をレンダリングし、前記斜視図を生成するように構成され、前記処理装置（２）が、前記データベース（１０）の前記同じ第１の配列（２３）から前記複数のＴＩＮ（１８、１９）の頂点（ＡからＨ）の三次元座標を決定するように構成される、請求項７に記載のナビゲーション装置。
【請求項９】
三次元地形の表示を出力する方法であって、前記三次元地形の前記表示が、請求項１から６のどれか１つに記載のデータベース（１０）を使用して生成される方法。
【請求項１０】
複数の不整三角網、ＴＩＮ（１８、１９）がレンダリングされ、前記複数のＴＩＮ（１８、１９）の頂点（ＡからＨ）のための頂点座標が、前記データベース（１０）の前記同じ第１の配列（２３）から取り出される、請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
ナビゲーション装置（１）用のデータベース（１０）を生成する方法であって、タイリング（８）の各タイル（１１）のためにそれぞれ実行される、
−前記それぞれのタイル（８）のために定義される複数の不整三角網、ＴＩＮ（１８、１９）の頂点（ＡからＨ）の三次元頂点座標を決定するステップと、
−前記決定された頂点座標を含む第１の配列（２３）を生成するステップであって、それにより、前記頂点（ＡからＨ）の各頂点に対して、それぞれの頂点がいくつかのＴＩＮ（１８、１９）の中に含まれたとしても、前記三次元座標は、前記第１の配列（２３）の中にだけ含まれる、ステップと、
−前記複数のＴＩＮ（１８、１９）の各ＴＩＮのために第２の配列（２４、２５）を生成するステップであって、各第２の配列（２４、２５）が、頂点（ＡからＨ）座標が、前記それぞれのＴＩＮ（１８、１９）の三角面を定義するために前記第１の配列（２３）に含まれる前記頂点（ＡからＨ）の複数のインデックスを含む生成するステップと、
を含む、方法。
【請求項１２】
前記複数の第２の配列（２４、２５）の各第２の配列（２４、２５）が三角形の片として生成される、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
前記複数の第２の配列（２４、２５）が、少なくとも１つの頂点（ＡからＨ）のインデックスが異なる第２の配列（２４、２５）に含まれるように生成される、請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
前記複数のタイルの各タイル（１１）のために、少なくとも２つの第２の配列（２４、２５）が生成される、請求項１１から１３のどれか１つに記載の方法。
【請求項１５】
頂点（ＡからＨ）座標が、距離メトリックに従って前記第１の配列（２３）に含まれる頂点（ＡからＨ）の順序を決定することと、
前記第１の配列（２３）を生成するときに、前記三次元頂点座標をデルタ符号化することと、
をさらに含む、請求項１１から１３のどれか１つに記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成27年3月17日(2015.3.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
トナーとキャリアを含む現像剤が担持される現像剤担持体と、
前記現像剤担持体に供給される現像剤が攪拌を受けつつ循環する循環路と、
前記循環路に少なくともキャリアを補給するキャリア補給手段と、
前記循環路上に設けられ、循環する現像剤の一部がオーバーフローして排出される排出口と、
前記排出口と対向する循環路に回転可能に設けられた回転軸と、前記回転軸のまわりに螺旋状に形成された突起部を含む羽根部と、を備えた搬送部材とを有し、
前記搬送部材は、前記回転軸線方向に関して、少なくとも前記排出口との対向部を含む第１領域と、前記第１領域に隣接する第２領域と、を備え、前記第１領域に形成された前記羽根部は、前記第２領域に形成された前記羽根部よりも外径が小さく、かつ、前記羽根部の現像剤搬送面と前記回転軸とのなす角度の平均角度が小さくなるように形成されていることを特徴とする現像装置。
【請求項２】
前記第１領域に形成された前記羽根部は、軸線方向に複数に分割して設けられていることを特徴とする請求項１記載の現像装置。
【請求項３】
前記搬送部材の一回転を通じた前記第１領域の前記羽根部の先端の最大高さが前記排出口の下縁よりも低いことを特徴とする請求項１又は２に記載の現像装置。
【請求項４】
重力加速度をｇとし、前記搬送部材の回転中心から前記第１領域の羽根部の先端までの距離をＲとし、前記搬送部材の角速度をωとし、前記搬送部材の回転中心から前記排出口の下縁までの高さをＨｓとするとき、
０＜ｇ／Ｒω２≦１
かつ、
（ｇ／２）ω２＋（Ｒω）２／２ｇ＜Ｈｓ
の関係式を満たすことを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の現像装置。
【請求項５】
前記搬送部材の回転に伴って現像剤を押す前記第１領域における前記羽根部の面は、前記搬送部材の中心軸を含む面に対して斜めに交差する傾斜面を備えることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の現像装置。
【請求項６】
前記傾斜面と前記搬送部材の中心軸を含む面との交差角度が０度を超えて４５度以下であることを特徴とする請求項５に記載の現像装置。
【請求項７】
前記搬送部材の直径方向の稜線を挟んで交差する二つの前記傾斜面の内角が９０度以上１８０度未満であることを特徴とする請求項５又は６に記載の現像装置。
【請求項８】
前記傾斜面が前記搬送部材の回転軸を囲んで配置されることを特徴とする請求項５乃至７のいずれか１項に記載の現像装置。
【請求項９】
トナーとキャリアを含む現像剤が担持される現像剤担持体と、
前記現像剤担持体に供給される現像剤が攪拌を受けつつ循環する循環路と、
前記循環路に少なくともキャリアを補給するキャリア補給手段と、
前記循環路上に設けられ、循環する現像剤の一部がオーバーフローして排出される排出口と、
前記排出口と対向する循環路に回転可能に設けられた回転軸と、前記回転軸のまわりに螺旋状に形成された突起部を含む羽根部と、を備えた搬送部材とを有し、
前記搬送部材は、前記回転軸線方向に関して、少なくとも前記排出口との対向部を含む第１領域と、前記第１領域に隣接する第２領域と、を備え、
前記第１領域には、前記回転軸から突出するように形成され、前記回転軸と一体的に回転することで前記第１領域の現像剤を均すための均し部を備え、
前記均し部は、前記回転軸線方向から見て、前記第２領域に形成された前記羽根部の軌跡よりも内側に形成されるとともに、前記回転軸線方向の搬送力が実質的にゼロとなるように構成されていることを特徴とする現像装置。
【請求項１０】
前記第２領域は、前記第１領域に対して前記回転軸線方向に５ピッチ以内に隣接する領域であることを特徴とする請求項１乃至９のいずれか１項に記載の現像装置。
【請求項１１】
前記第１領域と前記第２領域は回転軸線方向に所定距離隔てて設けられていることを特徴とする請求項１乃至１０のいずれか１項に記載の現像装置。
【手続補正書】
【提出日】平成27年3月16日(2015.3.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１通過および第２通過で媒体シートの第１面および第２面にそれぞれ印刷する両面印刷システムであって、
前記第１通過の間に媒体シート第１端部を検出するエッジセンサと、
前記第１通過の間に媒体シートの前記第２面上に少なくとも２つのレジストレーションマーカを置くレジストレーション・マーキング・ユニットと、
前記第２通過の間に前記少なくとも２つのレジストレーションマーカのうちの少なくとも２つを検出するマーカセンサと、
媒体シートの位置を合わせるためのレジストレーション挟持部と、を備えるレジストレーションシステムであって、
前記第１通過の間の印刷用に、媒体シートの第１面を該シートの第１端部の検出に応じてレジストレーションするとともに、第２通過の間の印刷用に、該シートの第２面を該シートの第２端部に近接して置かれた少なくとも２つのレジストレーションマーカのうちの２つの検出に応じてレジストレーションし、前記少なくとも２つのレジストレーションマーカは、レジストレーション点に近接して該媒体シートを検出することを容易にするものであり、前記マーカセンサは前記少なくとも２つのレジストレーションマーカの位置を検出して前記第２面の印刷の前に前記媒体シートの傾きを検出し、前記レジストレーション挟持部が前記媒体シートの傾きを補正する、レジストレーションシステムと、
画像マーキングユニットを有し、前記第１通過の間に前記シートの前記第１面上に第１画像を印刷するとともに、前記第２通過の間に該シートの前記第２面上に第２画像を印刷する、印刷ステーションと、
前記第１通過の間に印刷した後、前記シートを前記レジストレーションシステムへ搬送して、前記第２通過の間の印刷を容易にする２重帰還とを含む、システム。
【請求項２】
前記レジストレーションシステムは、前記第１通過の間に、前記媒体シート上に前記少なくとも２つのレジストレーションマーカを置く、請求項１に記載のシステム。
【請求項３】
前記レジストレーションシステムは、前記シートの前記第２面上に前記少なくとも２つのレジストレーションマーカを置く、請求項２に記載のシステム。
【請求項４】
前記少なくとも２つのレジストレーションマーカは、不可視光域にあるマーキング材料である、請求項１に記載のシステム。
【請求項５】
前記シートの前記第１端部は、前記第１通過の間の先頭エッジであり、前記シートの前記第２端部は、前記第２通過の間の先頭エッジである、請求項１に記載のシステム。
【請求項６】
前記２重レジストレーションシステムは、前記媒体シート上に複数のレジストレーションマーカを置き、該複数のレジストレーションマーカは前記レジストレーションシステムによって使用されて、前記第２通過の間に前記媒体シートの傾きを補正する、請求項１に記載のシステム。
【請求項７】
前記２重帰還は、前記第１通過と前記第２通過との間で前記媒体シートを反転させる、請求項１に記載のシステム。
【手続補正書】
【提出日】平成27年4月8日(2015.4.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６１】
１００…液晶パネル駆動回路、
１１０…出力バッファ、
１２０…出力マックススイッチ、
１３０…チャージシェアスイッチ、
１４０…ガーベッジスイッチ、
１５０…パワーオン感知部、
１５１…電流源、
１５２…比較器、
１６０…パワーオフ感知部、
１６１…電流源、
１６２…比較器、
１７０…電源スイッチ、
Ａｎ−１，Ａｎ…出力バッファ、
ＤＬｎ−１，ＤＬｎ…データライン、
Ｌ１，Ｌ２…電源ライン、
Ｒ１，Ｒ２…抵抗成分、
ＭＰ１〜ＭＰ３，ＭＮ１〜ＭＮ３…ＭＯＳトランジスタ、
ＭＰ…ＰＭＯＳトランジスタ、
Ｃａｐ…キャパシタ、
Ｉｎｖｅｒｔｅｒ…インバータ、
ＳＷ，ＳＷ１，ＳＷ２…スイッチ。
【手続補正書】
【提出日】平成27年2月2日(2015.2.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材と、
前記基材上に形成された最外層であって、弾性材料を有するシェルによって囲まれた複数のカーボンナノチューブ（ＣＮＴ）を含む最外層と、
を備え、
前記弾性材料が、フッ化エラストマ、ペルフルオロエラストマ、シリコーン、フッ化シリコーン、多硫化物、ポリホスファゼン、及びそれらの混合物から選択され、少なくとも約３０００ｐｓｉの引張強度を前記最外層に与えるためにフッ素樹脂材料内に分散されており、少なくとも部分的に架橋されて、前記シェルを形成し、
前記フッ素樹脂材料は、前記弾性材料と異なり、テトラフルオロエチレン（ＴＦＥ）、ヘキサフルオロプロピレン（ＨＦＰ）、ペルフルオロプロピルビニルエーテル（ＰＰＶＥ）、ペルフルオロエチルビニルエーテル（ＰＥＶＥ）、ペルフルオロメチルビニルエーテル（ＰＭＶＥ）、クロロトリフルオロエチレン（ＣＴＦＥ）、フッ化ビニル（ＶＦ）、フッ化ビニリデン（ＶＤＦ）、及びそれらの組み合わせから選択されるモノマーに対応する繰り返し単位を含む、加圧部材。
【請求項２】
前記ＣＮＴの各々が、約０．５ｎｍ〜約２０ｎｍの範囲の内径と、約１ｎｍ〜約８０ｎｍの外径と、約１〜約１００００のアスペクト比を有する、請求項１記載の部材。
【請求項３】
前記弾性材料が、さらに、前記複数のＣＮＴと結合することができる官能基を含み、
前記官能基が、水酸基、カルボン酸、アジリジン、アゾメチンイリド、アリールジアゾニウム陽イオン、オキサゾリジノン、及びそれらの組み合わせから選択される、請求項１又は２記載の部材。
【請求項４】
前記フッ素樹脂材料が、ポリフルオロアルコキシポリテトラフルオロエチレン（ＰＦＡ）、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）、フッ化エチレンプロピレン共重合体（ＦＥＰ）、及びそれらの組み合わせから選択される、請求項１〜３のいずれか１項記載の部材。
【請求項５】
前記最外層は、さらに、層内に分散された１つ又はそれ以上のフィラー粒子を含み、
前記フィラー粒子が、金属酸化物と、炭化ケイ素と、窒化ホウ素と、グラファイトと、を含み、
前記金属酸化物が、酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、酸化スズ、酸化鉄、酸化マグネシウム、酸化マンガン、酸化ニッケル、酸化銅、五酸化アンチモン、インジウム酸化スズ、及びそれらの混合物から選択される、請求項１〜４のいずれか１項記載の部材。
【請求項６】
定着部材と、
接触ニップを通過する印刷媒体上にトナー像を定着するように前記定着部材と前記接触ニップを形成するように構成された加圧部材とを備える定着装置であって、
前記加圧部材が、
基材と、
前記基材上に形成された最外層であって、弾性材料を有するシェルによって囲まれた複数のカーボンナノチューブ（ＣＮＴ）を含む最外層と、
を備え、
前記弾性材料が、フッ化エラストマ、ペルフルオロエラストマ、シリコーン、フッ化シリコーン、多硫化物、ポリホスファゼン、及びそれらの混合物から選択され、少なくとも約３０００ｉｎ．‐ｌｂｓ／ｉｎ．3の靱性を前記最外層に与えるためにフッ素樹脂材料内に分散されており、少なくとも部分的に架橋されて、前記シェルを形成し、
前記フッ素樹脂材料は、前記弾性材料と異なり、テトラフルオロエチレン（ＴＦＥ）、ヘキサフルオロプロピレン（ＨＦＰ）、ペルフルオロプロピルビニルエーテル（ＰＰＶＥ）、ペルフルオロエチルビニルエーテル（ＰＥＶＥ）、ペルフルオロメチルビニルエーテル（ＰＭＶＥ）、クロロトリフルオロエチレン（ＣＴＦＥ）、フッ化ビニル（ＶＦ）、フッ化ビニリデン（ＶＤＦ）、及びそれらの組み合わせから選択されるモノマーに対応する繰り返し単位を含む、定着装置。
【請求項７】
静電潜像を受ける感光体と、
前記静電潜像を現像するように前記感光体に対してトナーを塗布し、前記感光体上に現像像を形成する現像要素と、
前記感光体から印刷媒体へと前記現像像を転写するための転写要素と、
定着部材と、接触ニップを通過する印刷媒体上にトナー像を定着するために前記定着部材との間で前記接触ニップを形成するように構成された加圧部材とを備えた定着部材と、
を備え、
前記加圧部材が、弾性材料を有するシェルによって囲まれた複数のカーボンナノチューブ（ＣＮＴ）であって、少なくとも約３０００ｐｓｉの引張強度、少なくとも約１００％の最大伸長、及び少なくとも約３０００ｉｎ．‐ｌｂｓ／ｉｎ．3の靱性を最外層に与えるために、フッ素樹脂材料内に均一に分布しているカーボンナノチューブ（ＣＮＴ）を含む最外層を備え、
前記弾性材料が、フッ化エラストマ、ペルフルオロエラストマ、シリコーン、フッ化シリコーン、多硫化物、ポリホスファゼン、及びそれらの混合物から選択され、少なくとも部分的に架橋されて、前記シェルを形成し、
前記フッ素樹脂材料は、前記弾性材料と異なり、テトラフルオロエチレン（ＴＦＥ）、ヘキサフルオロプロピレン（ＨＦＰ）、ペルフルオロプロピルビニルエーテル（ＰＰＶＥ）、ペルフルオロエチルビニルエーテル（ＰＥＶＥ）、ペルフルオロメチルビニルエーテル（ＰＭＶＥ）、クロロトリフルオロエチレン（ＣＴＦＥ）、フッ化ビニル（ＶＦ）、フッ化ビニリデン（ＶＤＦ）、及びそれらの組み合わせから選択されるモノマーに対応する繰り返し単位を含む、像形成装置。
【手続補正書】
【提出日】平成27年2月5日(2015.2.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
シート上に画像を印刷するように構成された静電写真装置であって、
前記シート上に画像を処理して記録する画像装置と、
前記画像を現像する画像現像装置と、
前記シート上に前記画像を転写する、ヒータ無し転写装置と、
前記シート上に前記画像を定着させる定着器と、を含み、
前記ヒータ無し転写装置は、セラミック基板であって、その上に取り付けられ、少なくとも２つの導電性帯板の形態を有する下部導体を有するセラミック基板と、前記下部導体の上に取り付けられた誘電体層と、前記誘電体層の上に取り付けられた上部導体であって、長手方向部分全体に間断なく伸びる少なくとも２つの細長いすき間を含む上部導体と、を含み、前記少なくとも２つの導電性帯板が前記上部電極内の前記少なくとも２つの細長いすき間の真下に位置し、これにより、前記上部および下部導体に通電するとき前記少なくとも２つの細長いすき間の中でコロナ生成が起こるようになっている、
静電写真装置。
【請求項２】
前記上部導体の前記少なくとも１つの細長いすき間の中でコロナ生成を引き起こすために、前記導体のうちの一方に供給されるＡＣ電圧を制御するために作動されるように構成された第１のスイッチと、前記導体のうちのもう一方にＡＣ電圧を供給するために作動されるように構成された第２のスイッチと、を有する回路を含む、請求項１に記載の静電写真装置。
【請求項３】
前記シート上の帯電を確立して制御するＤＣ電圧を前記上部導体に通電する、請求項２に記載の静電写真装置。
【請求項４】
セラミック基板を含み、
その上の２本の導電ラインと、誘電体層と、上端導電層であって、前記上端導電層の長さ方向に伸び、前記導電ラインと位置がそろっている３本のフィンガ部を有し、２つの細長いすき間が前記３本のフィンガ部の間に形成される、上端導電層と、を含む前記セラミック基板上の連続層を含み、前記導電ラインと前記導電層との通電により前記導電層内の前記２つの細長いすき間の中でコロナ生成を引き起こすようになっている、
ヒータ無し転写装置。
【請求項５】
前記導電ラインと前記導電層とを横切って約２．５ｋＶｐ−ｐのＡＣ電圧を印加することにより前記上端導電層の前記細長いすき間の中でコロナを生成する、請求項４に記載のヒータ無し転写装置。
【請求項６】
静電写真装置に組み込まれている、請求項４に記載のヒータ無し転写装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】静電写真装置及びヒータ無し転写装置
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
この必要性に応えて、セラミック基板と、導電ラインと、誘電体層と、下層にある導電ラインと位置がそろっている細長いすき間を有する上端導電層と、の連続層を含む制限されたオゾン発生器転写装置を以下に提供する。誘電体を横切って約２．５ｋＶｐ−ｐのＡＣ電圧を印加することにより細長いすき間内にコロナを生成する。この装置は、従来の転写装置よりも大幅に少ないオゾンしか生成しないという点で「環境に優しく」、したがって、オゾン回収システムの要件を軽くする。本発明に係る静電写真装置は、シート上に画像を印刷するように構成された静電写真装置であって、前記シート上に画像を処理して記録する画像装置と、前記画像を現像する画像現像装置と、前記シート上に前記画像を転写する、ヒータ無し転写装置と、前記シート上に前記画像を定着させる定着器と、を含み、前記ヒータ無し転写装置は、セラミック基板であって、その上に取り付けられ、少なくとも２つの導電性帯板の形態を有する下部導体を有するセラミック基板と、前記下部導体の上に取り付けられた誘電体層と、前記誘電体層の上に取り付けられた上部導体であって、長手方向部分全体に間断なく伸びる少なくとも２つの細長いすき間を含む上部導体と、を含み、前記少なくとも２つの導電性帯板が前記上部電極内の前記少なくとも２つの細長いすき間の真下に位置し、これにより、前記上部および下部導体に通電するとき前記少なくとも２つの細長いすき間の中でコロナ生成が起こるようになっている、静電写真装置である。本発明に係るヒータ無し転写装置は、セラミック基板を含み、その上の２本の導電ラインと、誘電体層と、上端導電層であって、前記上端導電層の長さ方向に伸び、前記導電ラインと位置がそろっている３本のフィンガ部を有し、２つの細長いすき間が前記３本のフィンガ部の間に形成される、上端導電層と、を含む前記セラミック基板上の連続層を含み、前記導電ラインと前記導電層との通電により前記導電層内の前記２つの細長いすき間の中でコロナ生成を引き起こすようになっている、ヒータ無し転写装置である。
【手続補正書】
【提出日】平成27年2月18日(2015.2.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ターゲット（１０４）の速度変化に応じて振幅が変化する交流差動電圧信号をセンサ（１０２）から受信するステップと、
前記交流差動電圧信号を減衰済みシングルエンデッド電圧信号に変換するステップと、
前記ターゲット（１０４）の現在の速度を示す速度信号を、前記センサとは別個の速度センサから受信するステップと、
前記減衰済みシングルエンデッド電圧信号にスケーリング係数を乗じることによって前記減衰済みシングルエンデッド電圧信号を動的にスケーリングするステップと、
を含み、
前記スケーリング係数は、少なくとも前記速度信号に基づき、前記スケーリング係数と前記減衰済みシングルエンデッド電圧信号との積が最大入力信号電圧以下となるように選択される、
方法。
【請求項２】
前記交流差動電圧信号は、最大ピークツーピーク値を有しており、前記交流差動電圧信号を減衰済みシングルエンデッド電圧信号に変換することは、前記最大ピークツーピーク値に対する減衰済み最大電圧の比を前記交流差動電圧信号に乗じることを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記交流差動電圧信号の前記最大ピークツーピーク値は、約２５０ボルトピークツーピークであり、前記減衰済みシングルエンデッド電圧信号の前記減衰済み最大電圧は、約３０ボルトピークツーピークである、請求項２に記載の方法。
【請求項４】
前記交流差動電圧信号を前記減衰済みシングルエンデッド電圧信号に変換する前記ステップは、前記減衰済みシングルエンデッド電圧信号が減衰済み最大電圧以下になるように、前記交流差動電圧信号を固定量だけ減衰させることを含む、請求項１から３のいずれかに記載の方法。
【請求項５】
ターゲット（１０４）の速度変化に応じて振幅が変化する交流差動電圧信号を発生させるように構成されたセンサ（１０２）と、
前記交流差動電圧信号を受信し、前記交流差動電圧信号を減衰済みシングルエンデッド電圧信号に変換する、第１の回路（１０６）と、
前記ターゲット（１０４）の現在の速度を示す速度信号を発生させる、前記センサ（１０２）とは別個の速度センサ（１１６）と、
前記減衰済みシングルエンデッド電圧信号にスケーリング係数を乗じることによって前記減衰済みシングルエンデッド電圧信号を動的にスケーリングする第２の回路（１０８）と、
を備え、
前記スケーリング係数は、少なくとも前記速度信号に基づき、
前記スケーリング係数は、前記スケーリング係数と前記減衰済みシングルエンデッド電圧信号との積が最大入力信号電圧以下となるように自動的に設定される、
システム。
【請求項６】
前記交流差動電圧信号は、最大ピークツーピーク値を有しており、前記第１の回路（１０６）は、前記最大ピークツーピーク値に対する減衰済み最大電圧の比を前記交流差動電圧信号に乗じるにより、前記交流差動電圧信号を減衰済みシングルエンデッド電圧信号に変換する、請求項５に記載の方法。
【請求項７】
前記交流差動電圧信号の前記最大ピークツーピーク値は、約２５０ボルトピークツーピークであり、前記減衰済みシングルエンデッド電圧信号の前記減衰済み最大電圧は、約３０ボルトピークツーピークである、請求項６に記載のシステム。
【請求項８】
前記交流差動電圧信号を前記減衰済みシングルエンデッド電圧信号に変換する前記第１の回路（１０６）は、前記減衰済みシングルエンデッド電圧信号が減衰済み最大電圧以下になるように、前記交流差動電圧信号を固定量だけ減衰させる前記第１の回路（１０６）である、請求項５から７のいずれかに記載のシステム。
【手続補正書】
【提出日】平成27年2月4日(2015.2.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光源（１３）と、
光電池（１４）と、
前記光源と前記光電池との間に挟まれ、複数のガス状副生成物を化学的に受けるメンブラン（１２）であって、当該メンブランとガス状副生成物との相互作用により、前記光源と前記光電池との間の光通信の特性を変更する、メンブラン（１２）と
を備え、前記光電池が、前記光通信の前記変更に基づいて前記ガス状副生成物の種類を特定するように構成される、電気機器内のガス状副生成物（２３）の検出に使用される装置。
【請求項２】
前記光電池（１４）からの電気信号を変換するように構成されたデジタル変換器（１５）をさらに備える、請求項１記載の装置。
【請求項３】
ガス状副生成物（２３）が検出されたことの指示を伝送するように構成された送信器（１７）をさらに備える、請求項２記載の装置。
【請求項４】
前記送信器（１７）が無線送信器である、請求項３記載の装置。
【請求項５】
前記光源（１３）が、可視光、赤外光、および紫外光の少なくとも１つである、請求項１乃至４のいずれかに記載の装置。
【請求項６】
前記光源（１３）が複数の光源である、請求項１乃至５のいずれかに記載の装置。
【請求項７】
前記ガス状副生成物（２３）が水素ガスである、請求項１乃至６のいずれかに記載の装置。
【請求項８】
電気機器のガス状副生成物を検出する方法であって、
電磁波源を提供するステップと、
前記電磁波源から放射される光を受け取るように電磁検出器を位置付けるステップと、
前記電磁検出器が、メンブランを通して伝送された前記電磁波源からの光のみを受け取るように前記電磁波源と前記電磁検出器との間に前記メンブランを位置付け、前記メンブレンが複数の種類のガスを化学的に受け取るステップと、
前記メンブレンを通る光の特性の変化を検出し、前記変化に基づくガスに関連付けられたガスの種類を特定することにより、前記複数の種類のガスの少なくとも１つを検出するステップと、
少なくとも１つのガスの検出に応答して、前記電磁検出器が信号を放射するステップと、
を含む方法。