【手続補正書】
【提出日】平成27年2月19日(2015.2.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の画素と、前記複数の画素の間の少なくとも一部に設けられた複数の第１撥液領域と、隣り合う複数の第１撥液領域の間にそれぞれ設けられた複数の第１親液領域とを有する表示領域と、
少なくとも一部に第２親液領域が形成された周辺領域と
を備えた、表示装置。
【請求項２】
前記複数の画素は格子状に配置されている、請求項１に記載の表示装置。
【請求項３】
前記第１撥液領域は、前記格子状に配置された複数の画素の間を一方向に連続して形成されている、請求項２に記載の表示装置。
【請求項４】
前記第１撥液領域の幅は、長手方向に沿って変化している、請求項１に記載の表示装置。
【請求項５】
前記第１撥液領域の前記画素に対応した領域に凸部または凹部が形成されている、請求項１に記載の表示装置。
【請求項６】
前記複数の画素は少なくとも２色に分類され、前記複数の第１撥液領域の間隔は、各色ごとに異なる、請求項１に記載の表示装置。
【請求項７】
前記第１親液領域および前記第２親液領域は連続している、請求項１に記載の表示装置。
【請求項８】
前記隣り合う第１撥液領域の一端に拡幅部を有し、前記拡幅部に狭隘領域が形成されている、請求項１に記載の表示装置。
【請求項９】
前記第１親液領域には、少なくとも１層以上の有機層が形成されている、請求項１に記載の表示装置。
【請求項１０】
前記第１親液領域に形成された有機層の表面は親液状態である、請求項９に記載の表示装置。
【請求項１１】
前記周辺領域の少なくとも一部に第２撥液領域が形成されている、請求項１に記載の表示装置。
【請求項１２】
前記第２撥液領域は、前記周辺領域に設けられた配線部と前記有機層との間に設けられている、請求項１１に記載の表示装置。
【請求項１３】
前記第１親液領域および第２親液領域は、それぞれ無機材料よりなる層によって形成され、前記第１撥液領域および第２撥液領域は、プラズマ処理によって撥液化された有機材料よりなる層によって形成されている、請求項１２に記載の表示装置。
【請求項１４】
前記無機材料は、二酸化ケイ素（ＳｉＯ2），炭化ケイ素（ＳｉＣ），窒化ケイ素（Ｓｉ3Ｎ4），インジウム錫酸化物（ＩＴＯ），インジウム亜鉛酸化物（ＩＺＯ），アルミニウム（Ａｌ），チタン（Ｔｉ）またはモリブデン（Ｍｏ）である、請求項１３に記載の表示装置。
【請求項１５】
前記有機材料は、ポリイミドまたはノボラックである、請求項１３に記載の表示装置。
【請求項１６】
前記画素の周囲にフッ素含有材料からなる隔壁を有すると共に、前記第１撥液領域は前記隔壁の上面であり、前記第１親液領域は前記隔壁の側面である、請求項１に記載の表示装置。
【請求項１７】
前記隔壁はテーパ形状を有し、前記画素の長辺方向のテーパ角は前記画素の短辺方向のテーパ角よりも大きい、請求項１６に記載の表示装置。
【請求項１８】
前記画素は発光層に所定の電圧を印加するための第１電極および第２電極と、前記第２電極の配線抵抗を低減する第３電極とを備え、前記第２電極と第３電極との接続部は前記第１撥液領域内に設けられている、請求項１に記載の表示装置。
【請求項１９】
前記接続部は、少なくとも一部の前記第１撥液領域内において一方向に連続して設けられている、請求項１８に記載の表示装置。
【請求項２０】
前記接続部は、前記第１撥液領域の複数の前記凸部の少なくとも一部に設けられている、請求項１８に記載の表示装置。
【請求項２１】
表示装置を備え、
前記表示装置は、
複数の画素と、前記複数の画素の間の少なくとも一部に設けられた複数の第１撥液領域と、隣り合う複数の第１撥液領域の間にそれぞれ設けられた複数の第１親液領域とを有する表示領域と、
少なくとも一部に第２親液領域が形成された周辺領域と
を有する、電子機器。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
表示領域２内には画素駆動回路１４０が設けられている。図４は、画素駆動回路１４０の一例を表したものである。画素駆動回路１４０は、後述するアノード電極１２の下層に形成されたアクティブ型の駆動回路である。すなわち、この画素駆動回路１４０は、駆動トランジスタＴｒ１および書き込みトランジスタＴｒ２と、これらトランジスタＴｒ１，Ｔｒ２の間のキャパシタ（保持容量）Ｃｓと、第１の電源ライン（Ｖｃｃ）および第２の電源ライン（ＧＮＤ）の間において駆動トランジスタＴｒ１に直列に接続された赤色有機ＥＬ素子１０Ｒ（または緑色有機ＥＬ素子１０Ｇ，青色有機ＥＬ素子１０Ｂ）とを有する。駆動トランジスタＴｒ１および書き込みトランジスタＴｒ２は、一般的な薄膜トランジスタ（ＴＦＴ；Thin Film Transistor）により構成され、その構成は、例えば逆スタガ構造（いわゆるボトムゲート型）でもよいしスタガ構造（トップゲート型）でもよく特に限定されない。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
（ＴＦＴ）
ＴＦＴ２０は、いわゆるボトムゲート型のＴＦＴであり、チャネル（活性層）に、例えば酸化物半導体を用いたものである。このＴＦＴ２０では、ガラス等よりなる基板１１上に、ゲート電極２１、ゲート絶縁膜（第１ゲート絶縁膜２２，第２ゲート絶縁膜２３）、酸化物半導体層２４、チャネル保護膜２５およびソース・ドレイン電極２６がこの順に形成されている。ソース・ドレイン電極２６上には、基板１１の全面に渡ってＴＦＴ２０の凹凸を平坦化させるための平坦化層２７が形成されている。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３１】
酸化物半導体層２４は、例えばインジウム（Ｉｎ），ガリウム（Ｇａ），亜鉛（Ｚｎ），スズ（Ｓｎ），Ａｌ，Ｔｉのうちの少なくとも１種の酸化物を主成分として含んでいる。この酸化物半導体層２４は、ゲート電圧の印加によりソース・ドレイン電極２６間にチャネルを形成するものである。この酸化物半導体層２４の膜厚は後述の負の電荷の影響がチャネルへ及ぶように、薄膜トランジスタのオン電流の悪化を引き起こさない程度であることが望ましく、具体的には５ｎｍ〜１００ｎｍであることが望ましい。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３２】
チャネル保護膜２５は、酸化物半導体層２４上に形成され、ソース・ドレイン電極２６形成時におけるチャネルの損傷を防止するものである。チャネル保護膜２５の厚みは、例えば１０〜３００ｎｍである。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３３】
ソース・ドレイン電極２６は、例えばＭｏ，Ａｌ，銅（Ｃｕ），Ｔｉ，ＩＴＯおよびＴｉＯ等のうち１種よりなる単層膜またはこれらのうちの２種以上よりなる積層膜である。例えば、Ｍｏ，Ａｌ，Ｍｏの順に、５０ｎｍ，５００ｎｍ，５０ｎｍの膜厚で積層した３層膜や、ＩＴＯおよび酸化チタン等の酸素を含む金属化合物のような酸素との結びつきの弱い金属または金属化合物を用いることが望ましい。これにより、酸化物半導体の電気特性を安定して保持することができる。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３８】
有機層１５は、例えば、図６に示したように、アノード電極１２側から順に、正孔注入層１５Ａ，正孔輸送層１５Ｂ，発光層１５Ｃ，電子輸送層１５Ｄおよび電子注入層１５Ｅを積層した構成を有する。有機層１５は例えば真空蒸着法やスピンコート法等によって形成される。この有機層１５の上面はカソード電極１６によって被覆されている。有機層１５を構成する各層の膜厚および構成材料等は特に限定されないが、一例を以下に示す。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４９】
第２層１６Ｂは、薄膜のＭｇＡｇ電極やＣａ電極などの光透過性を有し、且つ、導電性が良好な材料で構成されている。第３層１６Ｃは、電極の劣化を抑制するために透明なランタノイド系酸化物を用いることが好ましい。これにより、上面から光を取り出すことが可能な封止電極として用いることが可能となる。また、ボトムエミッション型の場合には、第３層１６Ｃの材料として金（Ａｕ），白金（Ｐｔ）またはＡｕＧｅ等が用いられる。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５４】
封止用基板１８は、有機ＥＬ素子１０のカソード電極１６の側に位置しており、接着層（図示せず）と共に有機ＥＬ素子１０を封止するものである。封止用基板１８は、有機ＥＬ素子１０で発生した光に対して透明なガラスなどの材料により構成されている。封止用基板１８には、例えば、カラーフィルタおよびブラックマトリクスとしての遮光膜（いずれも図示せず）が設けられており、有機ＥＬ素子１０で発生した光を取り出すと共に、各有機ＥＬ素子１０間の配線において反射された外光を吸収し、コントラストを改善するようになっている。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５８】
この表示装置１Ａでは、各画素に対して走査線駆動回路１３０から書き込みトランジスタＴｒ２のゲート電極を介して走査信号が供給されると共に、信号線駆動回路１２０から画像信号が書き込みトランジスタＴｒ２を介して保持容量Ｃｓに保持される。即ち、この保持容量Ｃｓに保持された信号に応じて駆動トランジスタＴｒ１がオンオフ制御され、これにより、有機ＥＬ素子１０に駆動電流Ｉｄが注入され、正孔と電子とが再結合して発光が起こる。この光は、下面発光（ボトムエミッション）の場合にはアノード電極１２および基板１１を透過して、上面発光（トップエミッション）の場合にはカソード電極１６，カラーフィルタ（図示せず）および封止用基板１８を透過して取り出される。
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６１】
２．第２の実施の形態
図７は、第２の実施の形態における表示装置１Ｂの表示領域２および周辺領域３の平面構成を表したものである。本実施の形態の表示装置１Ｂでは、表示領域２には、上記第１の実施の形態の表示装置１Ａと同様の形状の第１親液領域２Ａ1および第１撥液領域２Ｂ1が形成されている。これに対して、周辺領域３には、ビード形成領域４と同一形状あるいはビード形成領域４を含むように形成された第２親液領域３Ａ1と、第２親液領域３Ａ１を囲むように周辺領域３の外周部に設けられた第２撥液領域３Ｂ1が形成されている点が、第１の実施の形態と異なる。
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６４】
ここで、上記第１の実施の形態の表示装置１Ａ，本実施の形態の表示装置１Ｂおよび比較例として図８に示したように、周辺領域１０３全体に撥液領域１０３Ｂを形成した表示装置１０１Ａにおけるビードの形成、ビード幅およびＲＧＢの塗りわけについて実験結果を説明する。
【手続補正１３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６６】
【表１】
2012256587.tif 000001
【手続補正１４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６７】
表１からわかるように、周辺領域３の第２親液領域３Ａ1の外周部に第２撥液領域３Ｂ1を設けることによって、第２撥液領域３Ｂ1を形成していない表示装置１Ａと比較して、ビードの濡れ広がりが抑えられることがわかった。これに対し、周辺領域１０３の全面に撥液領域１０３Ｂが形成された表示装置１０１では、ビードが形成されない、あるいは、ビードが形成されたとしても他の表示装置におけるビードよりも濡れ広がるということがわかった。また、第１撥液領域にＣＦ４プラズマ等による撥液処理を行い、撥液性を付加することにより、ＲＧＢの塗りわけが可能であることがわかった。
【手続補正１５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７３】
なお、本実施の形態における表示装置１Ｃでは、図９（Ｂ）に示したように、第２の実施の形態と同様に、周辺領域３における第２親液領域３Ａ2（特にビード形成領域４）の外側に第２撥液領域３Ｂ2を設けてもよい。これによりビードの形成を確実に行うことができ、表示装置の信頼性が向上する。これは、以下に説明する第４〜第７の実施の形態についても同様である。
【手続補正１６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７４】
４．第４の実施の形態
図１０は、第４の実施の形態に係る表示装置１Ｄの表示領域２および周辺領域３の平面構成を表したものである。この表示装置１Ｄでは、上記第３の実施の形態と同様に、第１親液領域２Ｂ3と、第２親液領域３Ａ3とが連続している。本実施の形態では、第１親液領域２Ａ3および第２親液領域３Ａ3が連続する拡幅部６が第１撥液領域２Ｂ3の一端に形成され、更に隣り合う第１撥液領域の拡幅部６の間隔を狭めるために、第１撥液領域２Ｂ3の一端に翼片７を設けられている。これにより、拡幅部６の間隔が狭められた狭隘領域６Ａが形成されている点が、第３の実施の形態と異なる。
【手続補正１７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７６】
これに対して本実施の形態の表示装置１Ｄでは、第１親液領域２Ａ3と、第２親液領域２Ｂ3とが連続するように拡幅部６が設けられた第１撥液領域２Ａ3の一端に翼片７を設け、狭隘領域６Ａを形成するようにした。これにより、第１親液領域２Ａ3の一端に設けられた拡幅部６が狭められ、第１親液領域２Ａ3に塗布されたインクの流出が抑制される。即ち、上記第３の実施の形態の効果に加えて、塗布によって形成される有機層１５の面内における膜厚の均一性が保たれると共に、素子特性のばらつきが低減されるという効果を奏する。
【手続補正１８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７７】
５．第５の実施の形態
図１１は、第５の実施の形態に係る表示装置１Ｅの表示領域２および周辺領域３の平面構成を表したものである。この表示装置１Ｅでは、表示領域２に形成された第１撥液領域２Ａ4の幅が、長手方向に沿って変化している。具体的には、ここでは、塗布の始点側から終点側へ向けて、第１撥液領域２Ｂ4の幅が徐々に狭くなるように形成されている。
【手続補正１９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８０】
なお、本実施の形態では、第１親液領域２Ａ4の幅を、長手方向に沿って徐々に広くするようにしたが、これに限らず、ヘッドから吐出されるインクの塗布量の変化に応じて適宜第１撥液領域２Ａ4の幅を変更すればよい。例えば、塗布開始直後から徐々に塗布量が減少する場合には、本実施の形態における第１親液領域２Ａ4の幅の変化とは逆に、第１親液領域２Ａ4を長手方向い沿って徐々に狭くすることにより、膜厚の分布の発生が抑制される。
【手続補正２０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８７】
８．第８の実施の形態
図１４は、第８の実施の形態に係る表示装置１Ｈの断面構成を表したものである。この表示装置１Ｈでは、ライン状に配置された画素５（赤色画素５Ｒ，緑色画素５Ｇ，青色画素５Ｂ）を区分する第１撥液領域２Ｂ7およびインクの塗れ性を向上させるための第１親液領域２Ａ7を同一材料で形成した点が上記実施の形態と異なる。
【手続補正２１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９５】
図１９は、第６の実施の形態で説明した画素５との隣接部分が凹状に、非隣接部分が凸状にパターニングされた第１撥液領域２Ｂ8の凸部８Ｂに、カソード電極１６と補助配線１９との接続部Ｘを形成した表示装置１Ｊの平面構成を表したものである。なお、ここでは補助配線は省略している。上述した隔壁４４に溝状の接続部Ｘを設けた場合には、有機層１５となるインクが溝４４Ａ内に入ることを防ぐため第１撥液領域２Ｂ8、即ち隔壁４４の幅を十分に確保する必要がある。しかしながら、隔壁４４の幅を太くすると画素５の開口領域を狭めることになり、開口率が低下すると共にレイアウトが制限される虞がある。
【手続補正２２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９６】
これに対して、図１９に示した表示装置１Ｋでは、第１撥液領域２Ｂ9の凸部８Ｂにカソード電極１６と補助配線１９との接続部Ｘとして隔壁５４を貫通する開口５４Ａが設けられている。開口５４Ａの大きさは特に問わない。例えば、図２０に示したように、２７０μｍピッチ、画素５の短辺長を５４μｍ、長辺長を１８７μｍ、ライン状の画素５間の間隔（Ｗ1）を８２μｍとし、第１親液領域２Ａ9の幅（ＷA）を７４μｍ、第１撥液領域２Ｂ9の幅（ＷB）を１６μｍとした場合には、開口５４Ａの一辺（Ｌｘ，Ｌｙ）は８μｍ以上６２μｍ以下に形成することが好ましい。開口５４Ａが形成されている凸部の間隔（Ｍ）は８μｍ以上６２μｍとすることが好ましい。なお、開口５４Ａによって形成される隔壁５４のテーパ角（θ３，図２０（Ｂ））は、上述した溝４４Ａにおける隔壁３４のテーパ角と同様に３０°以上４０°以下とすることが好ましい。また、開口５４Ａの形状はカソード電極１６と補助配線１９との接触が図れればよく、矩形状に限らず、菱形あるいは楕円を含む円形状としてもよい。このように、カソード電極１６と補助配線１９との接続部Ｘを画素５の非隣接部に形成することにより、画素５の開口率を保ちつつカソード電極１６と補助配線１９との良好な接続を確保することが可能となる。
【手続補正２３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９７】
図２１は、ライン状に配置された画素５をそれぞれ区分する第１撥液領域２Ｂ10のうち、両端の第１撥液領域２Ｂ10に接続部Ｘを設けた表示装置１Ｌの平面構成を表したものである。上述した表示装置１Ｊおよび表示装置１Ｋにおける接続部Ｘでは、インクの塗れ性、第１撥液領域２Ｂである隔壁４４の撥液性、インクの塗布量または設計した塗布膜の膜厚等によっては、接続部Ｘにはみ出すことなく所望のインクを第１親液領域２Ａ内に塗布することが難しい場合がある。図２１に示した表示装置１Ｌはこの問題を解決するものであり、このように第１撥液領域２Ｂ10である複数の隔壁６４のうち、その両端の隔壁６４に溝６４Ａを設け、この溝６４Ａをカソード電極１６と補助配線１９との接続部Ｘとする。これにより、インクの塗布量を制限することなくカソード電極１６と補助配線１９との良好な接続を確保することが可能となる。
【手続補正２４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９９】
１０．適用例
上記表示装置１Ａ〜１Ｌは、例えば次の適用例１〜５に示した電子機器に搭載することができる。
【手続補正２５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１００
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１００】
（モジュールおよび適用例）
以下、上記第１〜第８実施の形態および変形例で説明した表示装置１Ａ〜１Ｌの適用例について説明する。上記実施の形態等の表示装置１Ａ〜１Ｌは、テレビジョン装置，デジタルカメラ，ノート型パーソナルコンピュータ、携帯電話等の携帯端末装置あるいはビデオカメラなど、外部から入力された映像信号あるいは内部で生成した映像信号を、画像あるいは映像として表示するあらゆる分野の電子機器の表示装置に適用することが可能である。
【手続補正２６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１０１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１０１】
（モジュール）
上記実施の形態等の表示装置１Ａ〜１Ｌは、例えば、図２２に示したようなモジュールとして、後述する適用例１〜５などの種々の電子機器に組み込まれる。このモジュールは、例えば、基板１１の一辺に、封止用基板３０から露出した領域２１０を設け、この露出した領域２１０に、信号線駆動回路１２０および走査線駆動回路１３０の配線を延長して外部接続端子（図示せず）を形成したものである。外部接続端子には、信号の入出力のためのフレキシブルプリント配線基板（ＦＰＣ；Flexible Printed Circuit）２２０が設けられていてもよい。
【手続補正２７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１０７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１０７】
以上、第１〜第８の実施の形態および変形例を挙げて本開示を説明したが、本開示は上記実施の形態等に限定されるものではなく、種々変形が可能である。例えば、上記第１〜第８の実施の形態および変形例における第１撥液領域２Ｂ（２Ｂ1〜２Ｂ10）をそれぞれ組み合わせて用いてもよい。例えば、第５の実施の形態における長手方向に沿って幅の変化する第１撥液領域２Ａ4に加えて、第４の実施の形態における第１撥液領域２Ａ3のような拡幅部の一端に狭隘部を形成してもよい。
【手続補正２８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１１０】
なお、本技術は以下のような構成もとることができる。
（１）複数の画素と、前記複数の画素の間の少なくとも一部に設けられた複数の第１撥液領域と、隣り合う複数の第１撥液領域の間にそれぞれ設けられた複数の第１親液領域とを有する表示領域と、少なくとも一部に第２親液領域が形成された周辺領域とを備えた、表示装置。
（２）前記複数の画素は格子状に配置されている、前記（１）に記載の表示装置。
（３）前記第１撥液領域は、前記格子状に配置された複数の画素の間を一方向に連続して形成されている、前記（２）に記載の表示装置。
（４）前記第１撥液領域の幅は、長手方向に沿って変化している、前記（１）乃至（３）のいずれか１つに記載の表示装置。
（５）前記第１撥液領域の前記画素に対応した領域に凸部または凹部が形成されている、前記（１）乃至（４）のいずれか１つに記載の表示装置。
（６）前記複数の画素は少なくとも２色に分類され、前記複数の第１撥液領域の間隔は、各色ごとに異なる、前記（１）乃至（５）のいずれかに記載の表示装置。
（７）前記第１親液領域および前記第２親液領域は連続している、前記（１）乃至（６）のいずれか１つに記載の表示装置。
（８）前記隣り合う第１撥液領域の一端に拡幅部を有し、前記拡幅部に狭隘領域が形成されている、前記（１）乃至（７）のいずれか１つに記載の表示装置。
（９）前記第１親液領域には、少なくとも１以上の有機層が形成されている、前記（１）乃至（８）のいずれか１つに記載の表示装置。
（１０）前記第１親液領域に形成された有機層の表面は親液状態である、前記（９）に記載の表示装置。
（１１）前記周辺領域の少なくとも一部に第２撥液領域が形成されている、前記（１）乃至（１０）のいずれか１つに記載の表示装置。
（１２）前記第２撥液領域は、前記周辺領域に設けられた配線部と前記有機層との間に設けられている、前記（１２）に記載の表示装置。
（１３）前記第１親液領域および第２親液領域は、それぞれ無機材料よりなる層によって形成され、前記第１撥液領域および第２撥液領域は、プラズマ処理によって撥液化された有機材料よりなる層によって形成されている、前記（１２）に記載の表示装置。
（１４）前記無機材料は、二酸化ケイ素（ＳｉＯ2），炭化ケイ素（ＳｉＣ），窒化ケイ素（Ｓｉ3Ｎ4），インジウム錫酸化物（ＩＴＯ），インジウム亜鉛酸化物（ＩＺＯ），アルミニウム（Ａｌ），チタン（Ｔｉ）またはモリブデン（Ｍｏ）である、前記（１３）に記載の表示装置。
（１５）前記有機材料は、ポリイミドまたはノボラックである、前記（１３）に記載の表示装置。
（１６）前記画素の周囲にフッ素含有材料からなる隔壁を有すると共に、前記第１撥液領域は前記隔壁の上面であり、前記第１親液領域は前記隔壁の側面である、前記（１）乃至（１２）のいずれか１に記載の表示装置。
（１７）前記隔壁はテーパ形状を有し、前記画素の長辺方向のテーパ角は前記画素の短辺方向のテーパ角よりも大きい、前記（１６）に記載の表示装置。
（１８）前記画素は発光層に所定の電圧を印加するための第１電極および第２電極と、前記第２電極の配線抵抗を低減する第３電極とを備え、前記第２電極と第３電極との接続部は前記第１撥液領域内に設けられている、前記（１）〜（１７）のいずれか１つに記載の表示装置。
（１９）前記接続部は、少なくとも一部の前記第１撥液領域内において一方向に連続して設けられている、前記（１８）に記載の表示装置。
（２０）前記接続部は、前記第１撥液領域の複数の前記凸部の少なくとも一部に設けられている、前記（１８）に記載の表示装置。
（２１）表示装置を備え、前記表示装置は、複数の画素と、前記複数の画素の間の少なくとも一部に設けられた複数の第１撥液領域と、隣り合う複数の第１撥液領域の間にそれぞれ設けられた複数の第１親液領域とを有する表示領域と、少なくとも一部に第２親液領域が形成された周辺領域とを有する、電子機器。