(57)【要約】  本発明は、支持基材の少なくとも片面に、屈折率の異なる第２層及び第１層をこの順に有し、第１層が粒子Ｘ（粒子Ｘは、少なくとも無機粒子部分を有する粒子である）を含有し、第２層が粒子Ｙ（粒子Ｙは、少なくとも無機粒子部分を有する粒子である）を含有する積層体であって、  前記粒子Ｘの無機粒子部分の数平均粒子径（以下、ＤＸとする）が、５ｎｍ以上２５ｎｍ以下であって、式１及び式２を満たすことを特徴とする積層体に関する。１．４≦（ＬＸ／ＤＸ）≦３            ・・・式１                ＳＬＸ≦７            ・・・式２  ＬＸは、第１層の表面を走査型電子顕微鏡にて観察した場合の、粒子Ｘの無機粒子部分の平均粒子中心間距離を意味する。  ＳＬＸは、第１層の表面を走査型電子顕微鏡にて観察した場合の、粒子Ｘの無機粒子部分の平均粒子中心間距離の標準偏差を意味する。
2013183487.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持基材の少なくとも片面に、屈折率の異なる第２層及び第１層をこの順に有し、第１層が粒子Ｘ（粒子Ｘは、少なくとも無機粒子部分を有する粒子である）を含有し、第２層が粒子Ｙ（粒子Ｙは、少なくとも無機粒子部分を有する粒子である）を含有する積層体であって、
前記粒子Ｘの無機粒子部分の数平均粒子径（以下、ＤＸとする）［ｎｍ］が、５ｎｍ以上２５ｎｍ以下であって、式１及び式２を満たすことを特徴とする積層体。
１．４≦（ＬＸ／ＤＸ）≦３            ・・・式１
ＳＬＸ≦７            ・・・式２
ＬＸは、第１層の表面を走査型電子顕微鏡にて観察した場合の、粒子Ｘの無機粒子部分の平均粒子中心間距離［ｎｍ］を意味する。
ＳＬＸは、第１層の表面を走査型電子顕微鏡にて観察した場合の、粒子Ｘの無機粒子部分の平均粒子中心間距離［ｎｍ］の標準偏差を意味する。
【請求項２】
前記第１層の平均膜厚が２０ｎｍ以上４０ｎｍ以下、第２層の平均膜厚が３０ｎｍ以上６５ｎｍ以下であることを特徴とする、請求項１に記載の積層体。
【請求項３】
前記第１層の表面を走査型電子顕微鏡にて観察した際に、前記ＤＸの３倍以上の内接直径を有する開口部が、４μｍ２あたり５個以下であることを特徴とする、請求項１または請求項２に記載の積層体。
【請求項４】
前記第１層と第２層とで形成される界面が、式３及び式４を満たすことを特徴とする、請求項１〜３のいずれかに記載の積層体。
０．３≦（Ａ１２／ＤＸ）≦１．１      ・・・式３
３≦（Ｆ１２／ＤＸ）≦１５        ・・・式４
Ａ１２は、第１層と第２層とで形成される界面の輪郭曲線の振幅［ｎｍ］を意味する。
Ｆ１２は、第１層と第２層とで形成される界面の輪郭曲線の波長［ｎｍ］を意味する。
【請求項５】
前記第１層の表面の、ｐＨ１０におけるゼータ電位が−６０ｍＶ以下であることを特徴とする、請求項１から４のいずれかに記載の積層体。
【請求項６】
請求項１から５のいずれかの積層体の第１層上に、導電層を有することを特徴とする、導電性積層体。
【請求項７】
請求項６に記載の導電性積層体を含むタッチパネル。
【請求項８】
フッ素化合物Ａに起因する部分を有するポリマー（以下、フッ素ポリマーＡとする）、無機粒子部分とフッ素ポリマーＡに起因する部分とを有する粒子（以下、粒子ａとする）、無機粒子部分を有し、フッ素ポリマーＡに起因する部分を有さない粒子（以下、粒子ｂとする）、バインダー原料、及び有機溶媒を含む塗料組成物であって、条件１〜３を全て満たすことを特徴とする塗料組成物。
条件１：粒子ａ中のフッ素ポリマーＡに起因する部分、フッ素化合物Ａ、及び、フッ素ポリマーＡの合計と、バインダー原料との質量比が、２５：７５〜５５：４５である。
条件２：フッ素ポリマーＡおよび粒子ａ中のフッ素ポリマーＡに起因する部分の合計と、粒子ａ中のフッ素ポリマーＡに起因する部分との質量比が、１０：９０〜８７：１３である。
条件３：フッ素ポリマーＡおよび粒子ａ中のフッ素ポリマーＡに起因する部分の合計と、フッ素ポリマーＡ中のフッ素化合物Ａに起因する部分との質量比が、２０：８０〜９２：８である。
ここでフッ素化合物Ａとは、次の一般式（１）で表される化合物を指す。
Ｒ１−Ｒ２−Ｒｆ１    ・・・一般式（１）
Ｒｆ１は、フルオロアルキル基、フルオロオキシアルキル基、フルオロアルケニル基、フルオロアルカンジイル基、及びフルオロオキシアルカンジイル基からなる群より選ばれる少なくとも１つの置換基を意味する。
Ｒ１は、反応性部分を意味する。
Ｒ２は、炭素数１から９のいずれかのアルキレン基、又は、炭素数１から９のいずれかのアルキレンエーテル基を意味する。
なお、Ｒｆ１、Ｒ１、Ｒ２は、側鎖を構造中に持っても良い。
ここでフッ素ポリマーＡとは、前記フッ素化合物Ａに起因する部分と次の一般式（２）で表される化合物Ｄに起因する部分とを有する重合体を指す。
Ｒ３−Ｒ４−ＳｉＲ５ｎ１（ＯＲ６）３−ｎ１    ・・・一般式（２）
Ｒ３は、反応性部分を意味する。
Ｒ４は、炭素数１から６のいずれかのアルキレン基、または、炭素数１から６のいずれかのアルキレンエーテル基を意味する。
Ｒ５、Ｒ６は水素、又は、炭素数が１から４のいずれかのアルキル基を意味する。
ｎ１は０から２の整数を意味する。
【請求項９】
前記フッ素化合物Ａが、次の一般式（３）で表される化合物であることを特徴とする、請求項８に記載の塗料組成物。
Ｒｆ２−Ｘ−ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ２    ・・・一般式（３）
Ｒｆ２は、炭素数４〜６のいずれかの直鎖状のパーフルオロアルキル基を意味する。
Ｘは、炭素数４〜８のいずれかのアルキレン基を意味する。
【請求項１０】
前記フッ素ポリマーＡが、さらに次の一般式(４)で表される化合物Ｅに起因する部分を有する重合体であることを特徴とする、請求項８又は９に記載の塗料組成物。
(Ｒ７)ｎ２−Ｒ８ｎ３ ・・・一般式(４)
Ｒ７は、反応性部分を意味する。
Ｒ８は、炭素数１から６のいずれかのアルキレン基、炭素数１から６のいずれかのヒドロキシアルキル基、炭素数１から６のいずれかのアルコキシ基、炭素数１から３のいずれかのアルキレンエーテル基、炭素数１から５のいずれかの多価アルコール誘導体、炭素数１から１２のいずれかのカルボン酸誘導体、炭素数１から６のいずれかのアミド誘導体、又は、ビスフェノール誘導体を意味する。ここでｎ２は１から３の整数を、ｎ３は、１から１０の整数を意味する。
【請求項１１】
前記化合物ＥのＲ８が、ラクトン環であることを特徴とする、請求項１０に記載の塗料組成物。
【請求項１２】
支持基材の少なくとも片面に、屈折率の異なる第２層及び第１層をこの順に有し、第１層が粒子Ａを含有し、第２層が粒子Ｂを含有する積層体の製造方法であって、
支持基材の少なくとも片面に、請求項８〜１１のいずれかに記載の塗料組成物を１回塗布し、次いで乾燥することによる、積層体の製造方法。
ここで、粒子ａに起因する粒子を粒子Ａ、粒子ｂに起因する粒子を粒子Ｂという。
【請求項１３】
塗料組成物を塗布する側の支持基材の面の、塗料組成物のｐＨにおけるゼータ電位が−１２ｍＶ以下で、塗料組成物を塗布する側の支持基材の面の表面自由エネルギーが５２ｍＮ／ｍ以下であること特徴とする、請求項１２に記載の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、各種電子機器に使用されるタッチパネル、タッチパネルの透明電極に使用される導電性積層体、導電性積層体の屈折率調整に用いる積層体、ならびに、塗料組成物および当該塗料組成物を用いる積層体の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、静電容量式のタッチパネルが携帯電話、携帯音楽端末などの各種モバイル機器に搭載されるケースが増えている。このような静電容量式のタッチパネルではパターニングされた導体上に誘電体層を積層した構成を有し、指などでタッチすることにより、人体の静電容量を介して接地される。この際、パターニング電極と接地点との間の抵抗値に変化が生じ、位置入力を認識する。しかしながら従来の透明導電性フィルムを用いた場合、導電層を有する部分と除去された部分での光学特性の差が大きいため、パターニングが強調され、液晶ディスプレイ等の表示体の前面に配置した際に視認性が低下するという問題があった。【０００３】
透明導電性フィルムの透過率、色目、さらに導電層のパターンが強調されないようにするため、反射防止膜等で用いられている屈折率の異なる層を積層させ光の干渉を利用する方法が提案されている。すなわち、透明導電性薄膜層と基材フィルムの間に屈折率の異なる層（インデックスマッチング層、屈折率調整層、光学機能層、光学調整層、反射防止層ともいう）を設けて光学干渉を利用した方法が提案されており、特許文献１には「透明プラスチックフィルムからなる基材上に、高屈折率層、低屈折率層及び透明導電性薄膜層をこの順に積層した構成を有し、高屈折率層の屈折率が１．７０〜２．５０、膜厚が４〜２０ｎｍの範囲にあり、低屈折率層の屈折率が１．３０〜１．６０、膜厚が２０〜５０ｎｍの範囲であることを特徴とする透明導電性積層フィルム。」が記載されている。【０００４】
前記屈折率調整層をウェットコーティングにて形成する例として、特許文献２には「有機高分子からなる基板の少なくとも一方の面の最表面に透明導電層が積層されてなる透明導電性積層体において、基板側から順に、（Ａ１）屈折率が１．７から透明導電層の屈折率＋０．３の範囲にあり膜厚が２０〜９０ｎｍの範囲にある層（Ｈ１層）、（Ｂ１）屈折率が１．３５〜１．５の範囲にあり膜厚が３０〜１１０ｎｍの範囲にある層（Ｌ１層）（Ｃ）膜厚が１２〜３０ｎｍの範囲にある透明導電層、が積層されており、（Ｄ）該３層の光学膜厚の和が１８０〜２３０ｎｍの範囲であり、（Ｆ）該透明導電層の積層面の波長４５０〜６５０ｎｍにおける平均反射率が５．５％以下であって、かつ（Ｇ）該積層体の透過光の日本工業規格Ｚ８７２９号に定めるＬ＊ａ＊ｂ＊表色系のクロマティクネス指数ｂ＊値が０〜２の範囲にあることを特徴とする透明導電性積層体」で、「Ｈ１層および／またはＬ１層が、主として金属アルコキシドを加水分解および縮合してなる層であることを特徴とする透明導電性積体」が記載されている。【０００５】
また、透明電極層の下層（下地層）の最表面形状に着目した例として、特許文献３には「基板上に、一部または全部が粒子状の酸化ケイ素を主成分とする下地層、酸化インジウムまたは酸化亜鉛を主成分とする透明導電性酸化物層を含む透明電極層がこの順に形成された透明電極付き基板であって、当該下地層の算術平均粗さ（Ｒａ）が４ｎｍ以上１０ｎｍ以下であり、かつ屈折率が１．３４〜１．６０の範囲であることを特徴とする透明電極付き基板。」が記載されている。【０００６】
また、透明導電性フィルムから導電層パターンを形成する工程は、通常、エッチング処理することにより、導電層の不要部分を除去することにより行われる。このエッチング工程ではアルカリ溶液が用いられる場合が多く、透明導電性フィルムの屈折率調整層は耐アルカリ性が求められる。この屈折率調整層のような積層体へ耐アルカリ性を付与する方法としては、前記反射防止層の耐アルカリ性に優れる例として、特許文献４には「二軸延伸ポリエチレンテレフタレートからなる基材フィルム上にハードコート層を有し、さらに前記ハードコート層上に低屈折率層を有する反射防止フィルムであって、前記ハードコート層の厚さが０．５〜５μmであり、前記ハードコート層が、分子内に２個以上の（メタ）アクリロイル基を有する多官能（メタ）アクリレート８０〜９７質量％およびＮ−ビニルカプロラクタム２０〜３質量％からなる電離放射線硬化型樹脂１００質量部に、五酸化アンチモン２００〜６００質量部を配合し、これを硬化して形成されたものであることを特徴とする反射防止フィルム。」と記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２０１０−１５８６１号公報
【特許文献２】特許３６２６６２４号公報
【特許文献３】特開２０１１−１８３５６７号公報
【特許文献４】特開２００９−５１０４５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
以上の従来技術には、下記の課題がある。【０００９】
特許文献１、２では、基材上に高屈折率層、低屈折率層及び導電層を積層しているが、特許文献１の明細書によると低屈折率層の積層方法はスパッタリング、特許文献２ではアルコキシシランの加水分解物によるもので、実施例で記載されている屈折率は１．４６程度であり、本発明者らが確認したところ、この屈折率では、透過光の着色低減効果や導電層のパターンを見えにくくする効果が不十分であり、同構成にて単純に屈折率を下げると、導電層のパターンを見えにくくする効果の面内均一性が損なわれる問題がある。【００１０】
特許文献４では、基材上に高屈折率層、低屈折率層を積層しているが、本発明者らが確認したところ耐アルカリ性が不十分であった。さらに実施例に記載の耐アルカリ性の評価方法が、前記高屈折率層、低屈折率層上に導電層を設けた場合、導電層のパターニング工程で求められる耐アルカリ性としては不十分である。【００１１】
特許文献３では、粒子状の酸化ケイ素を主成分とする下地層の上に導電層を設けているが、本発明者らが確認したところ導電層のパターンを見えにくくする効果や、透過光の着色防止効果が不十分であった。【００１２】
また、特許文献１から３のいずれも、導電層を設けた後、導電性向上のためにアニール処理を行っているが、その温度が１７０℃以上と高く、支持基材の変形、熱収縮、オリゴマー成分の析出などの問題がある。【００１３】
公知例には、以上のようにいくつかの問題があることから、本発明が解決しようとする課題は次の２つである。【００１４】
第１課題は、屈折率の異なる第１層と第２層とからなる積層膜を、支持基材の少なくとも片面に有する積層体において、積層膜の最表面に導電層を積層して導電性積層体を形成する際に、導電率と光線透過性を向上するためのアニール処理をより低い温度で行っても目標とする特性が得られる積層体、該積層体の製造方法、該積層体を製造するための塗料組成物を提供することである。【００１５】
第２課題は、積層膜の最表面に導電層を形成するとき、または、さらに導電層をエッチングにてパターニングを行った際、パターニング工程にてアルカリ溶液を用いた場合においても影響を受けない耐アルカリ性に優れる積層体、さらに透過光の着色低減効果や導電層のパターンを見えにくくする効果の面内均一性や、観察角度依存性を低減させることができる積層体、該積層体の製造方法、該積層体を製造するための塗料組成物を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１６】
上記課題を解決するために本発明者らは鋭意研究を重ねた結果、以下の発明を完成させた。すなわち、本発明は以下の通りである。【００１７】
［第１群の発明（積層体の発明）］
１）  支持基材の少なくとも片面に、屈折率の異なる第２層及び第１層をこの順に有し、第１層が粒子Ｘ（粒子Ｘは、少なくとも無機粒子部分を有する粒子である）を含有し、第２層が粒子Ｙ（粒子Ｙは、少なくとも無機粒子部分を有する粒子である）を含有する積層体であって、
前記粒子Ｘの無機粒子部分の数平均粒子径（以下、ＤＸとする）［ｎｍ］が、５ｎｍ以上２５ｎｍ以下であって、式１及び式２を満たすことを特徴とする積層体。
１．４≦（ＬＸ／ＤＸ）≦３            ・・・式１
ＳＬＸ≦７            ・・・式２
ＬＸは、第１層の表面を走査型電子顕微鏡にて観察した場合の、粒子Ｘの無機粒子部分の平均粒子中心間距離［ｎｍ］を意味する。【００１８】
ＳＬＸは、第１層の表面を走査型電子顕微鏡にて観察した場合の、粒子Ｘの無機粒子部分の平均粒子中心間距離［ｎｍ］の標準偏差を意味する。
２）  前記第１層の平均膜厚が２０ｎｍ以上４０ｎｍ以下、第２層の平均膜厚が３０ｎｍ以上６５ｎｍ以下であることを特徴とする、１）に記載の積層体。
３）  前記第１層の表面を走査型電子顕微鏡にて観察した際に、前記ＤＸの３倍以上の内接直径を有する開口部が、４μｍ２あたり５個以下であることを特徴とする、１）または２）に記載の積層体。
４）  前記第１層と第２層とで形成される界面が、式３及び式４を満たすことを特徴とする、１）〜３）のいずれかに記載の積層体。【００１９】
０．３≦（Ａ１２／ＤＸ）≦１．１      ・・・式３
３≦（Ｆ１２／ＤＸ）≦１５        ・・・式４
Ａ１２［ｎｍ］は、第１層と第２層とで形成される界面の輪郭曲線の振幅を意味する。【００２０】
Ｆ１２［ｎｍ］は、第１層と第２層とで形成される界面の輪郭曲線の波長を意味する。
５）  前記第１層の表面の、ｐＨ１０におけるゼータ電位が−６０ｍＶ以下であることを特徴とする、請求項１から４のいずれかに記載の積層体。
６）  １）から５）のいずれかの積層体の第１層上に、導電層を有することを特徴とする、導電性積層体。
７）  ６）に記載の導電性積層体を含むタッチパネル。【００２１】
［第２群の発明（塗料組成物の発明）］
８）  フッ素化合物Ａに起因する部分を有するポリマー（以下、フッ素ポリマーＡとする）、無機粒子部分とフッ素ポリマーＡに起因する部分とを有する粒子（以下、粒子ａとする）、無機粒子部分を有し、フッ素ポリマーＡに起因する部分を有さない粒子（以下、粒子ｂとする）、バインダー原料、及び有機溶媒を含む塗料組成物であって、条件１〜３を全て満たすことを特徴とする塗料組成物。【００２２】
条件１：粒子ａ中のフッ素ポリマーＡに起因する部分、フッ素化合物Ａ、及び、フッ素ポリマーＡの合計と、バインダー原料との質量比が、２５：７５〜５５：４５である。【００２３】
条件２：フッ素ポリマーＡおよび粒子ａ中のフッ素ポリマーＡに起因する部分の合計と、粒子ａ中のフッ素ポリマーＡに起因する部分との質量比が、１０：９０〜８７：１３である。【００２４】
条件３：フッ素ポリマーＡおよび粒子ａ中のフッ素ポリマーＡに起因する部分の合計と、フッ素ポリマーＡ中のフッ素化合物Ａに起因する部分との質量比が、２０：８０〜９２：８である。【００２５】
ここでフッ素化合物Ａとは、次の一般式（１）で表される化合物を指す。【００２６】
Ｒ１−Ｒ２−Ｒｆ１    ・・・一般式（１）
Ｒｆ１は、フルオロアルキル基、フルオロオキシアルキル基、フルオロアルケニル基、フルオロアルカンジイル基、及びフルオロオキシアルカンジイル基からなる群より選ばれる少なくとも１つの置換基を意味する。【００２７】
Ｒ１は、反応性部分を意味する。【００２８】
Ｒ２は、炭素数１から９のいずれかのアルキレン基、又は、炭素数１から９のいずれかのアルキレンエーテル基を意味する。【００２９】
なお、Ｒｆ１、Ｒ１、Ｒ２は、側鎖を構造中に持っても良い。【００３０】
ここでフッ素ポリマーＡとは、前記フッ素化合物Ａに起因する部分と次の一般式（２）で表される化合物Ｄに起因する部分とを有する重合体を指す。【００３１】
Ｒ３−Ｒ４−ＳｉＲ５ｎ１（ＯＲ６）３−ｎ１    ・・・一般式（２）
Ｒ３は、反応性部分を意味する。【００３２】
Ｒ４は、炭素数１から６のいずれかのアルキレン基、または、炭素数１から６のいずれかのアルキレンエーテル基を意味する。【００３３】
Ｒ５、Ｒ６は水素、又は、炭素数が１から４のいずれかのアルキル基を意味する。【００３４】
ｎ１は０から２の整数を意味する。
９）  前記フッ素化合物Ａが、次の一般式（３）で表される化合物であることを特徴とする、８）に記載の塗料組成物。【００３５】
Ｒｆ２−Ｘ−ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ２    ・・・一般式（３）
Ｒｆ２は、炭素数４〜６のいずれかの直鎖状のパーフルオロアルキル基を意味する。【００３６】
Ｘは、炭素数４〜８のいずれかのアルキレン基を意味する。
１０）前記フッ素ポリマーＡが、さらに次の一般式(４)で表される化合物Ｅに起因する部分を有する重合体であることを特徴とする、８）又は９）に記載の塗料組成物。【００３７】
(Ｒ７)ｎ２−Ｒ８ｎ３ ・・・一般式(４)
Ｒ７は、反応性部分を意味する。【００３８】
Ｒ８は、炭素数１から６のいずれかのアルキレン基、炭素数１から６のいずれかのヒドロキシアルキル基、炭素数１から６のいずれかのアルコキシ基、炭素数１から３のいずれかのアルキレンエーテル基、炭素数１から５のいずれかの多価アルコール誘導体、炭素数１から１２のいずれかのカルボン酸誘導体、炭素数１から６のいずれかのアミド誘導体、又は、ビスフェノール誘導体を意味する。ここでｎ２は１から３の整数を、ｎ３は、１から１０の整数を意味する。
１１）前記化合物ＥのＲ８が、ラクトン環であることを特徴とする、１０）に記載の塗料組成物。【００３９】
［第３群の発明（積層体の製造方法の発明）］
１２）支持基材の少なくとも片面に、屈折率の異なる第２層及び第１層をこの順に有し、第１層が粒子Ａを含有し、第２層が粒子Ｂを含有する積層体の製造方法であって、
支持基材の少なくとも片面に、前記８）〜１１）のいずれかに記載の塗料組成物を１回塗布し、次いで乾燥することによる、積層体の製造方法。【００４０】
ここで、粒子ａに起因する粒子を粒子Ａ、粒子ｂに起因する粒子を粒子Ｂという。
１３）塗料組成物を塗布する側の支持基材の面の、塗料組成物のｐＨにおけるゼータ電位が−１２ｍＶ以下で、塗料組成物を塗布する側の支持基材の面の表面自由エネルギーが５２ｍＮ／ｍ以下であること特徴とする、１２）に記載の製造方法。
【発明の効果】
【００４１】
本発明の塗料組成物、及び製造方法を用いることにより、積層膜の最表面に導電層を積層して導電性積層体を形成するとき、導電率と光線透過性を向上するためのアニール処理をより低い温度で行っても目標とする特性が得られる本発明の積層体を得ることができる。【００４２】
さらに、本発明の積層体は耐アルカリ性に優れ、本発明の積層体の積層膜側の最表面に導電層を形成するとき、またはさらに導電層をエッチングしてパターニングした際、透過光の着色低減効果や導電層のパターンを見えにくくする効果や色味の面内均一性や、観察角度依存性を低減できる。
【図面の簡単な説明】
【００４３】
【図１】本発明の好ましい積層体の１つの態様の概略断面図
【図２】従来技術の積層体の１つの態様の概略断面図
【図３】従来技術の積層体の１つの態様の概略断面図
【図４】粒子Ｘの無機粒子部分の中心間距離の説明図
【図５】開口部の説明図
【図６】界面の輪郭曲線、振幅、波長の説明図
【図７】本発明の好ましい積層体の１つの態様の界面の形態
【図８】従来技術の積層体の１つの態様の界面の形態
【図９】従来技術の積層体の１つの態様の界面の形態
【図１０】本発明の導電性積層体の１つの態様の概略断面図
【図１１】本発明の導電性積層体の１つの態様の概略断面図
【図１２】本発明の導電性積層体の１つの態様の概略断面図
【発明を実施するための形態】
【００４４】
［第１群の発明］
積層体の発明に関する第１群の発明について詳しく説明する。
【００４５】
はじめに、図１に本発明の積層体の好ましい１つの態様を示す。本発明の積層体（１）は、支持基材（２）の少なくとも片面上に積層膜（３）が積層されている。積層膜（３）は、屈折率の異なる第１層（４）と第２層（５）とからなる。ここで積層膜（３）は、第１層と第２層との屈折率が異なりさえすれば限定されないが、第１層（４）が第２層（５）よりも低い屈折率であることが好ましい。なお、第１層と第２層とで、相対的に低い屈折率を有する層を低屈折率層といい、相対的に高い屈折率を有する層を高屈折率層という。
【００４６】
また、本明細書において、「積層体」とは、支持基材の少なくとも片面に屈折率の異なる第２層及び第１層をこの順に有する部材を指す。
【００４７】
そして、本発明の積層体は、支持基材（２）の少なくとも片面に、第２層（５）、第１層（４）をこの順に有し、第１層（４）は粒子Ｘ（６）を含有し、第２層（５）は粒子Ｙ（７）を含有する。ここで、粒子Ｘは、少なくとも無機粒子部分を有する粒子であり、さらに、後述する特定の条件を満たす粒子である。また、粒子Ｙは、少なくとも無機粒子部分を有する粒子である。
【００４８】
本発明において用いられる支持基材、粒子Ｘおよび粒子Ｙについて、以下に説明する。
【００４９】
［支持基材］
本発明の積層体および、後述する第３群の発明（積層体の製造方法の発明）により得られる積層体、ならびに、それら積層体を用いてなる導電性積層体は、支持基材を有することが重要である。それらの発明において用いられる支持基材としてはガラス板よりもプラスチックフィルムの方が好ましい。プラスチックフィルムの材料の例には、セルロースエステル（例、トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、プロピオニルセルロース、ブチリルセルロース、アセチルプロピオニルセルロース、ニトロセルロース）、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリエステル（例、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリ−１，４−シクロヘキサンジメチレンテレフタレート、ポリエチレン−１，２−ジフェノキシエタン−４，４’−ジカルボキシレート、ポリブチレンテレフタレート）、ポリスチレン（例、シンジオタクチックポリスチレン）、ポリオレフィン（例、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリメチルペンテン）、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリアリレート、ポリエーテルイミド、ポリメチルメタクリレート及びポリエーテルケトンなどが含まれるが、これらの中でも特にトリアセチルセルロース、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレートおよびポリエチレンナフタレートが好ましい。
【００５０】
支持基材の光透過率は、８０％以上１００％以下であることが好ましく、８６％以上１００％以下であることがさらに好ましい。ここで光透過率とは、光を照射した際に試料を透過する光の割合のことであり、ＪＩＳ  Ｋ  ７３６１−１（１９９７）に従い測定することができる透明材料の透明性の指標である。導電性積層体としては値が大きいほど良好であり、値が小さいとヘイズ値が上昇して、画像劣化が生じることがある。ヘイズはＪＩＳ  Ｋ  ７１３６（２０００）に規定された透明材料の濁りの指標である。ヘイズは小さいほど透明性が高いことを示す。
【００５１】
支持基材のヘイズは０．０１％以上２．０％以下であることが好ましく、０．０５％以上１．０％以下であることがさらに好ましい。
【００５２】
支持基材の屈折率は１．４〜１．７であることが好ましい。なお、ここでいう屈折率とは、光が空気中からある物質中に進む時、その界面で進行方向の角度を変える割合のことであり、ＪＩＳ  Ｋ  ７１４２（１９９６）に規定されている方法により測定することができる。
【００５３】
支持基材は、赤外線吸収剤あるいは紫外線吸収剤を含有してもよい。赤外線吸収剤の含有量は、支持基材の全成分１００質量％において０．０１質量％以上２０質量％以下であることが好ましく、０．０５質量％以上１０質量％以下であることがさらに好ましい。滑り剤として、不活性無機化合物の粒子を透明支持体に含有してもよい。不活性無機化合物の例にはＳｉＯ２、ＴｉＯ２、ＢａＳＯ４、ＣａＣＯ３、タルクおよびカオリンが含まれる。更に、支持基材に表面処理を実施してもよい。
【００５４】
支持基材の表面には、各種の表面処理を施すことも可能である。表面処理の例には、薬品処理、機械的処理、コロナ放電処理、火焔処理、紫外線照射処理、高周波処理、グロー放電処理、活性プラズマ処理、レーザー処理、混酸処理およびオゾン酸化処理が含まれる。これらの中でもグロー放電処理、紫外線照射処理、コロナ放電処理および火焔処理が好ましく、グロー放電処理、コロナ放電処理と紫外線処理がさらに好ましい。
【００５５】
支持基材は、易接着層、ハードコート層、アンチブロッキング層、帯電防止層、紫外線吸収層、オリゴマーブロック層などの層（これらを機能性層と称する）を有してもよい。
【００５６】
また、特に断りのない限り、上記の支持基材の説明は、第２群および第３群の発明に対しても適用される。
【００５７】
［粒子Ｘ］
粒子Ｘは、少なくとも無機粒子部分を有し、さらに、後述する式１および式２を満たしさえすれば特に限定されない。そのため粒子Ｘは、無機粒子部分のみからなる粒子（いわゆる、通常の無機粒子）であっても、さらに他の部分を有する粒子（「有機化合物によって被覆された無機粒子」や、後述する「ポリマーに起因する部分を有する無機粒子」などが例示される）であっても構わない。
【００５８】
粒子Ｘの無機粒子部分としては、Ｓｉ，Ｎａ，Ｋ，Ｃａ，ＭｇおよびＡｌから選択される半金属元素または金属元素の酸化物、窒化物、ホウ素化物、フッ素化物、炭酸塩、硫酸塩が好ましく、シリカ粒子（ＳｉＯ２）、アルカリ金属フッ化物類（ＮａＦ，ＫＦ，ＮａＡｌＦ６など）、およびアルカリ土類金属フッ化物（ＣａＦ２、ＭｇＦ２など）がより好ましく、耐久性、屈折率、コストなどの点からシリカ粒子が特に好ましい。
【００５９】
このシリカ粒子とは、ケイ素化合物、又は無機、有機ケイ素化合物の重合（縮合）体のいずれかからなる組成物を含む粒子を指し、一般例としてＳｉＯ２などのケイ素酸化物から導出される粒子の総称である。粒子Ｘの無機粒子部分に好適な形状は、特に限定されないが、粒子Ｘの第１層での充填状態が積層体の表面形状に影響するため、球に近い形状であることが本発明の表面形状をつくるにはより好ましい。
【００６０】
また、第１群の発明に係る積層体中の第１層に含まれる粒子Ｘは、少なくとも無機粒子部分を有し、さらに無機粒子部分の数平均粒子径ＤＸが５ｎｍ以上２５ｎｍ以下であれば特に限定はされないが、粒子Ｘは、後述する粒子Ａ（粒子ａに起因する粒子）および／または粒子ａであることが好ましい。
【００６１】
特に、第１群の発明に係る積層体は第２群の発明に係る塗料組成物を用いた第３群の発明に係る製造方法によって得られることが好ましく、つまり、粒子Ｘは後述する粒子Ａ（粒子ａに起因する粒子）であることが好ましい。
【００６２】
本発明の積層体においては、粒子Ｘの無機粒子部分の数平均粒子径（ＤＸ）は、５ｎｍ以上２５ｎｍ以下であることが重要である。粒子Ｘの無機粒子部分の数平均粒子径（ＤＸ）は、８ｎｍ以上２０ｎｍ以下がより好ましく、１０ｎｍ以上２０ｎｍ以下が特に好ましい。ここで粒子Ｘの無機粒子部分の数平均粒子径（ＤＸ）は、ＪＩＳＺ８８１９−２（２００１）記載の個数基準算術平均長さ径を意味し、前記積層体の断面を透過電子顕微鏡（ＴＥＭ）によって観察して得られる値であり、その具体的な測定方法は後述する。
【００６３】
粒子Ｘの無機粒子部分の数平均粒子径（ＤＸ）が５ｎｍよりも小さい場合、後述する本発明の積層体の特定の表面形状（特定の表面形状とは、後述する式１及び式２を満たすことを意味する。）が得られなくなるため、積層膜（３）の表面に導電層を形成したときのアニール温度の低下効果が不十分になる。一方、粒子Ｘの無機粒子部分の数平均粒子径が２５ｎｍよりも大きい場合、積層体の第１層の表面の起伏が大きくなるため、透明性の低下や、積層膜（３）の表面に導電層を形成した時の導電率の低下（表面抵抗値の上昇）が起こる。
【００６４】
図２に粒子Ｘ（１３）の無機粒子部分の数平均粒子径（ＤＸ）が２５ｎｍよりも大きい、従来技術の積層体の１つの態様を示す。また、図３に、第１層に粒子Ｘが存在しない、従来技術の積層体の１つの態様を示す。
【００６５】
さらに本発明の積層体においては、次の式１及び式２を満たすことが重要である。
１．４≦（ＬＸ／ＤＸ）≦３        ・・・式１
ＳＬＸ  ≦７                      ・・・式２
本発明の積層体は、次の式１−２及び式２−２を満たすことが好ましく、式１−３及び式２−３を満たすことが特に好ましい。
１．５≦（ＬＸ／ＤＸ）≦２．８    ・・・式１−２
ＳＬＸ  ≦５                      ・・・式２−２
１．６≦（ＬＸ／ＤＸ）≦２．６    ・・・式１−３
ＳＬＸ  ≦４                      ・・・式２−３
ここでＬＸは、第１層の表面を走査型電子顕微鏡にて観察した場合の、粒子Ｘの無機粒子部分の平均粒子中心間距離を意味する。
【００６６】
図４に粒子Ｘの無機粒子部分の平均粒子中心間距離の説明図を示す。本発明における粒子中心間距離とは、粒子Ｘの無機粒子部分（２６）の中心と、隣接する粒子Ｘの無機粒子部分（２７）の中心の間の距離（２８）であり、この中心間距離を平均化したものが平均粒子中心間距離ＬＸである。詳しい算出法は後述する。
【００６７】
ＳＬＸは、第１層の表面を走査型電子顕微鏡にて観察した場合の、粒子Ｘの無機粒子部分の平均粒子中心間距離の標準偏差を意味する。詳しい算出法は後述する。
【００６８】
ＳＬＸの値は正の値で小さくなる分には問題ないが、現実的には１程度が下限である。また、７よりも大きくなると、面内での粒子Ａの存在状態が不均一になるため、導電層の密着性の低下や開口部（defect）の増大を引き起こす。
【００６９】
式１及び式２を満たすことにより、前述の第１課題、第２課題を解決することができる。式１及び式２を満たすことで、第１課題が解決できる理由は明確ではないが、積層体の第１層側の表面が粒子Ｘの無機粒子部分によって面内均一に覆われながら、微細で面内均一な凹凸構造、すなわち前述の本発明の積層体の特定の表面形状を設けることができ、この凹凸構造が積層体表面に導電層を形成した際に結晶化を促進するため、低いアニール温度でも高い導電率（低い表面低効率）と高い光線透過性が得られると考えている。
【００７０】
また、前述の第２課題が解決できる理由も明確ではないが、前述の面内均一な凹凸構造が積層体表面の導電層との界面部の微小散乱効果をもたらしていると考えている。
【００７１】
走査型電子顕微鏡での観察方法、および平均粒子間中心距離測定の具体的な方法については後述する。
【００７２】
ＬＸ／ＤＸの値が１．４よりも小さくなると、第１層中で粒子Ｘの無機粒子部分が過剰に充填した状態になり、その結果、部分的に第１層の最表面に粒子Ｘの無機粒子部分が存在しない開口部が形成され、また粒子Ｘの無機粒子部分の存在による導電層形成時のアニール温度を低下させる効果が不十分になる場合がある。ＬＸ／ＤＸの値が３よりも大きくなると、粒子Ｘの無機粒子部分の存在による導電層の密着性、導電層形成時のアニール温度を低下させる効果が不十分になる場合がある。
【００７３】
式１及び式２を満たすためには、粒子Ｘとして数平均粒子径（ＤＸ）が５ｎｍ以上２５ｎｍ以下である無機粒子部分を有する粒子を用いることに加えて、後述の第２群の発明に係る塗料組成物を用い、さらに第３群の発明に係る製造方法で製造することが好ましい。
【００７４】
［粒子Ｙ］
粒子Ｙは、少なくとも無機粒子部分を有する粒子である。そのため粒子Ｙは、無機粒子部分のみからなる粒子（いわゆる、通常の無機粒子）であっても、さらに他の部分を有する粒子（「有機化合物によって被覆された無機粒子」や、後述する「ポリマーに起因する部分を有する無機粒子」などが例示される）であっても構わない。
【００７５】
粒子Ｙの無機粒子部分は、粒子Ｘの無機粒子部分とは異なる種類の無機粒子であることが好ましい。
【００７６】
本明細書において、無機粒子部分の無機粒子の「種類」とは、無機粒子を構成する元素の種類によって決まる。例えば、酸化チタン（ＴｉＯ２）と酸化チタンの酸素の一部をアニオンである窒素で置換した窒素ドープ酸化チタン（ＴｉＯ２−ｘＮｘ）とでは、無機粒子を構成する元素が異なるために、異なる種類の無機粒子である。また、同一の元素、例えばＺｎ、Ｏのみからなる無機粒子（ＺｎＯ）であれば、その粒径が異なる粒子が複数存在しても、またＺｎとＯとの組成比が異なっていても、これらは同一種類の無機粒子である。また酸化数の異なるＺｎ粒子が複数存在しても、粒子を構成する元素が同一である限りは（この例ではＺｎ以外の元素が全て同一である限りは）、これらは同一種類の粒子である。
【００７７】
粒子Ｙの無機粒子部分は特に限定されないが、金属元素、半金属元素の酸化物、窒化物、ホウ素化物、炭酸塩、硫酸塩であることが好ましく、Ｇａ、Ｚｒ，Ｔｉ，Ａｌ，Ｉｎ，Ｚｎ，Ｓｂ，Ｓｎ，およびＣｅよりなる群から選ばれる少なくとも一つの元素の酸化物粒子であることがさらに好ましい。
【００７８】
また粒子Ｙの無機粒子部分は、粒子Ｘの無機粒子部分よりも屈折率が高い無機粒子であることが好ましい。粒子Ｙの無機粒子部分は、具体的には酸化ジルコニウム（ＺｒＯ２）、酸化チタン（ＴｉＯ２）、酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）、酸化インジウム（Ｉｎ２Ｏ３）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、酸化スズ（ＳｎＯ２）、酸化アンチモン（Ｓｂ２Ｏ３）、およびインジウムスズ酸化物から選ばれる少なくとも一つ、あるいはこれらの間の固溶体、および一部元素を置換、または一部元素が格子間に侵入、一部元素が欠損した固溶体、または種類の異なる無機粒子が接合した無機粒子である。粒子Ｙの無機粒子部分は、特に好ましくはリン含有酸化スズ（ＰＴＯ）、アンチモン含有酸化スズ（ＡＴＯ）、ガリウム含有酸化亜鉛（ＧＺＯ）や酸化チタン（ＴｉＯ２）、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ２）である。
【００７９】
粒子Ｙの無機粒子部分の屈折率は、好ましくは１．５５〜２．８０、より好ましくは１．５８〜２．５０である。粒子Ｙの無機粒子部分の屈折率が１．５５よりも小さくなると、得られる積層体の粒子Ｙを含む第２層の屈折率が低下し、粒子Ｘを含む第１層との屈折率差が小さくなるため、透過光の着色抑制効果や、導電層のパターニング抑制効果が不十分になり、粒子Ｙの無機粒子部分の屈折率が２．８０よりも大きくなると、第１層上に形成される導電層との屈折率差、及び第２層と支持基材との屈折率差が上昇するため、同様に透過光の着色抑制効果や、導電層のパターニング抑制効果が不十分になる。
【００８０】
さらに、粒子Ｘの無機粒子部分がシリカ粒子の場合は、粒子Ｙの無機粒子部分は該シリカ粒子よりも屈折率が高い無機粒子であることが特に好ましく、このような屈折率が高い無機粒子としては、数平均粒子径が２０ｎｍ以下で、かつ屈折率が１．６０から２．８０の無機化合物が好ましく用いられる。そのような無機化合物の具体例としては、アンチモン酸化物、アンチモン含有酸化亜鉛、アンチモン含有酸化スズ（ＡＴＯ）、リン含有酸化スズ（ＰＴＯ）、ガリウム含有酸化亜鉛（ＧＺＯ）、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ２）、及び／または酸化チタン（ＴｉＯ２）が挙げられ、特に屈折率が高い酸化チタン、酸化ジルコニウムがより好ましい。
【００８１】
また、第１群の発明に係る積層体中の第２層に含まれる粒子Ｙは、少なくとも無機粒子部分を有しさえすれば特に限定されないが、粒子Ｘは、後述する粒子Ａ（粒子ａに起因する粒子）および／または粒子ａであることが好ましい。
【００８２】
特に、後述するように、第１群の発明に係る積層体は、第２群の発明に係る塗料組成物を用いた第３群の発明に係る製造方法によって得られることが好ましく、つまり粒子Ｙは、後述する粒子Ｂ（粒子ｂに起因する粒子）であることが好ましい。
【００８３】
次に、本発明の積層体の第１層と第２層について説明する。
【００８４】
前記第１層と第２層の平均膜厚には好ましい範囲があり、第一層の平均膜厚は２０ｎｍ以上４０ｎｍ以下が好ましく、１５ｎｍ以上３８ｎｍ以下がより好ましく、２０ｎｍ以上３６ｎｍ以下が特に好ましい。また、第２層の平均膜厚は３０ｎｍ以上６５ｎｍ以下が好ましく、３５ｎｍ以上６３ｎｍ以下がより好ましく、４０ｎｍ以上６０ｎｍ以下が特に好ましい。
【００８５】
第１層の膜厚が２０ｎｍよりも薄い、もしくは第２層の膜厚が３０ｎｍよりも薄い場合には、本発明の積層体を導電性積層体とした際に、導電層のパターンを見えにくくする効果が不十分となることがある。また、第１層の膜厚が４０ｎｍより厚い、もしくは第２層の膜厚が６５ｎｍよりも厚い場合には、本発明の積層体の透過光の着色防止効果が不十分になることがある。
【００８６】
また、第１層の平均膜厚が２０ｎｍ以上４０ｎｍ以下である場合、粒子の直径が膜厚に近づくので、粒子に横方向（層の表面方向に平行な方向）の毛管力が作用しやすくなる。その結果、第１層において、粒子が過剰に充填された状態が形成されやすくなり、そのためＬＸ／ＤＸの値が１．４よりも小さくなることがある。したがって、第１層の平均膜厚が２０ｎｍ以上４０ｎｍ以下である場合、ＬＸ／ＤＸの値を制御し、その値を１．４以上とすることが特に重要となる。
【００８７】
この点に関して、後述の第２群の発明に係る塗料組成物を用いることにより、平均膜厚が２０ｎｍ以上４０ｎｍ以下の薄膜であっても、ＬＸ／ＤＸの値を上記の好ましい範囲に制御することが可能である。
【００８８】
次に、図５に、第１層の表面に存在する開口部（２２）の例を示す。ここで開口部（defect）とは、第１層の表面を走査型電子顕微鏡にて観察した際に、粒子Ｘの無機粒子部分（２１）がなく、窪み状に見える部分、もしくは、粒子Ｘの無機粒子部分とは構成元素が異なる無機粒子が存在するために、走査型電子顕微鏡により得られた画像の濃度が異なって見える部分を意味し、その大きさを当該部分の内接円（８０）で表したとき、内接円の直径（内接直径）（the diameter of an inscribed circle）が粒子Ｘの無機粒子部分（２１）の数平均粒子径（ＤＸ）の３倍以上のものを指す。そして本発明の積層体は、ＤＸの３倍以上の内接直径を有する開口部が、４μｍ２あたり５個以下であることが好ましく、３個以下であることがさらに好ましく、１個以下であることが特に好ましく、０であることが最も好ましい。この測定における走査型電子顕微鏡での計測方法は後述する。
【００８９】
前記ＤＸの３倍以上の内接直径を有する開口部の数が４μｍ２あたり５個を越えると、透過光の着色防止効果や導電層のパターンが見えにくくなる効果、透明性の低下、導電層の導電率の低下（表面抵抗値の上昇）が起こる。
【００９０】
本発明の積層体の第１層と第２層とで形成される界面には好ましい形態があり、次の式３及び式４を満たすことが好ましい。
【００９１】
０．３≦（Ａ１２／ＤＸ）≦１．１        ・・・式３
３≦（Ｆ１２／ＤＸ）≦１５          ・・・式４
本発明の積層体は、式３−２及び式４−２を満たすことがより好ましく、式３−３及び式４−３を満たすことが特に好ましい。
０．４≦（Ａ１２／ＤＸ）≦０．９        ・・・式３−２
４≦（Ｆ１２／ＤＸ）≦１３              ・・・式４−２
０．５≦（Ａ１２／ＤＸ）≦０．８        ・・・式３−３
５≦（Ｆ１２／ＤＸ）≦１１              ・・・式４−３
ここで、Ａ１２は、第１層と第２層とで形成される界面の輪郭曲線の振幅を意味する。Ｆ１２は、第１層と第２層とで形成される界面の輪郭曲線の波長を意味する。ここで界面の輪郭曲線とは、積層体の積層膜の第１層と第２層の境界線を意味し、界面の輪郭曲線の振幅、波長とは、輪郭曲線（図６の２９）を波形として捉え、その波動の振動の大きさの半分を振幅（図６の３０）、波動の繰り返し周期（周波数）の逆数を波長（図６の３１）とした。
【００９２】
本発明の積層体が式３及び式４を満たすことにより、前述の第２課題、特に観察角度依存性をより低減することができる。式３及び式４を満たすことで、観察角度依存性を低減できる理由は明確ではないが、第１層と第２層の間の界面部に形成された屈折率傾斜領域の制御と、界面部の微小散乱効果の制御が影響していると考えている。
【００９３】
Ａ１２／ＤＸが０．３よりも小さくなると、第１層と第２層の界面部分の粒子Ｘと粒子Ｙの厚み方向の混在領域が小さくなるため、層厚み方向の屈折率傾斜領域が小さくなり、導電層のパターンを見えにくくする効果の面内均一性が不十分になる。またＦ１２／ＤＸが３よりも小さい場合、導電層のパターンを見えにくくする効果の観察角度依存性が小さくなる。また、Ａ１２／ＤＸが１．１よりも大きい場合、または、Ｆ１２／ＤＸが１５よりも大きい場合、積層膜の透過率が低下し、積層体の透過率が低下する。
【００９４】
図７に本発明の１つの態様の界面の形態を示す。第１層と第２層とで形成される界面の輪郭曲線（３８）は直線ではなく、ゆるやかな凹凸を形成していることが好ましい。図８、図９には従来技術の積層体の１つの態様の界面の形態を示す。図８では第１層と第２層とで形成される界面の輪郭曲線（４６）の振幅Ａ１２、波長Ｆ１２がいずれも本発明の好ましい範囲よりも小さく、図９では第１層と第２層とで形成される界面の輪郭曲線（５４）の振幅Ａ１２、波長Ｆ１２がいずれも本発明の好ましい範囲よりも大きい。
【００９５】
本発明の積層体の第１層の表面の、ｐＨ１０におけるゼータ電位には好ましい範囲があり、第１層の表面のゼータ電位は−６０ｍＶ以下が好ましく、−７０ｍＶ以下が特に好ましい。
【００９６】
第１層の表面のゼータ電位の値が−６０ｍＶよりも小さいと、負の電荷を帯びたアルカリ溶液中の水酸化物イオンを第１層の表面に寄せ付けにくくなり、耐アルカリ性を向上することができると考えられる。第１層の表面のゼータ電位の値が小さい分には問題ないが、一般的にはその下限は−１５０ｍＶ程度である。第１層の表面のゼータ電位の値が−６０ｍＶよりも大きいと、第１層の表面にアルカリ溶液が浸透し易く、耐アルカリ性が不十分となることがある。
【００９７】
ここで、本発明の積層体の第１層表面のゼータ電位は、第１層中に含有される粒子Ｘのゼータ電位に影響される。つまり、第１層の表面のゼータ電位を−６０ｍＶ以下とするためには、ゼータ電位の値が負でありかつその値が小さい、粒子Ｘを選択することが好ましい。粒子Ｘのゼータ電位の値は、ｐＨ１０において、０ｍＶ以下であり、かつ、その値はできる限り小さいことが好ましい。
【００９８】
本発明の積層体の第１層の表面のゼータ電位を−６０ｍＶ以下とするための一つの方法として、粒子Ｘとして、その無機粒子部分が酸化チタン（ゼータ電位：−２０ｍＶ）である粒子と、酸化ジルコニウム（ゼータ電位：−８０ｍＶ）である粒子とを併用する方法が挙げられる。酸化チタンのようにゼータ電位の値がそれほど小さくない無機粒子部分を有する粒子であっても、酸化ジルコニウムのようにゼータ電位の値が非常に小さい無機粒子部分を有する粒子と併用することによって、第１層の表面のゼータ電位を−６０ｍＶ以下とせしめることができる。これは、粒子Ｘ全体のゼータ電位は、それぞれの粒子のゼータ電位に体積比率を乗じた値の和で表すことができるためである。すなわち、異なるゼータ電位を持つ粒子を複数用い、かつ、それらの体積比率を調整することによって、粒子Ｘ全体のゼータ電位および第１層表面のゼータ電位を好ましい値に制御することができる。
【００９９】
なお、第１群の発明に係る積層体を、後述する第２群の発明に係る塗布組成物を用いて得る場合、本発明の積層体の第１層表面のゼータ電位は、積層体を形成するために用いる塗料組成物中の粒子ｂのゼータ電位に影響される。そのため、第１層の表面のゼータ電位を−６０ｍＶ以下とするためには、塗料組成物中には、粒子ｂが少なくとも１種類以上含まれていることが好ましく、塗料組成物中にゼータ電位の異なる２種類以上の粒子ｂを含んでも良い。
【０１００】
本発明の積層体の第１層表面のゼータ電位の値は、ゼータ電位の値が負でありかつその値が小さい粒子ｂを用いることで小さくなり(−６０ｍＶ以下となりやすく)、ゼータ電位の値が負であるがその値がそれほど小さくない粒子ｂを用いることで大きくなる（−６０ｍＶより大きくなりやすい）。また、異なるゼータ電位を持つ２種類以上の粒子ｂを混合することにより、第１層表面のゼータ電位を好ましい範囲に調整することができる。
【０１０１】
本発明の積層体の第１層の表面のゼータ電位を−６０ｍＶ以下とするためには、本発明の塗料組成物中の粒子ｂとして、例えば酸化チタン（ゼータ電位：−２０ｍＶ）及び酸化ジルコニウム（ゼータ電位：−８０ｍＶ）を併用する方法が挙げられる。酸化チタンのようにゼータ電位の値が負であり、かつそれほど小さくない粒子ｂであっても、酸化ジルコニウムのようにゼータ電位の値が負であり、かつ非常に小さい粒子ｂと混合することにより、粒子ｂ全体のゼータ電位はそれぞれのゼータ電位に体積比率を乗じた値となるため、体積比率の調整によりゼータ電位を好ましい値に調整することができ、該塗料組成物を用いた積層体の第１層の表面のゼータ電位を好ましい値に調整することができる。
【０１０２】
本発明の積層体は、前述のように第１層の表面が特定の表面形状（特定の表面形状とは、前述の式１及び式２を満たすことを意味する）であることが重要であり、加えて第１層と第２層の平均膜厚、第１層の表面の開口部の単位面積当たりの数、さらに第１層と第２層の界面を特定の形態（振幅、波長）にすることによりその効果を一層高めることができる。
【０１０３】
［第１群の発明に係る積層体の製造方法］
第１群の発明の積層体を得る方法は特に限定されないが、第１群の発明の積層体は、後述する第２群の発明に係る塗料組成物を用いて製造されることによって、効率的に得ることができる。
【０１０４】
さらに、第１群の発明の積層体は、後述する第２群の発明に係る塗料組成物を用いて、第３群の発明に係る製造方法によって、より効率的に得ることができる。
【０１０５】
［第２群および第３群の発明］
第２群の発明は、塗料組成物に関する発明である。本発明の塗料組成物は、フッ素化合物Ａに起因する部分を有するポリマー（以下、フッ素ポリマーＡとする）、無機粒子部分とフッ素ポリマーＡに起因する部分とを有する粒子（以下、粒子ａとする）、無機粒子部分を有し、フッ素ポリマーＡに起因する部分を有さない粒子（以下、粒子ｂとする）、バインダー原料、及び有機溶媒を含むことが重要である。
【０１０６】
また、本発明の塗料組成物は、後述の条件１〜３を満足することが重要である。
【０１０７】
この塗料組成物を用いることにより、優れた特性を有する積層体（例えば、第１群の発明に係る積層体）を効率的に得ることができる。特に、本発明の塗料組成物を用い、かつ、後述する第３群の発明に係る製造方法（支持基材の少なくとも片面上に１回塗布後、乾燥する本発明の製造方法）を用いることにより、支持基材上に前述の特性を有する積層膜が形成された積層体（第１群の発明に係る積層体）を効率的に得ることができる。
【０１０８】
一方、第３群の発明は、第２群の発明である塗料組成物を用いてなる積層体の製造方法に関する発明である。
【０１０９】
第３群の発明である積層体の製造方法は、前述の支持基材の少なくとも片面に前述の塗料組成物（第２群の発明に係る塗布組成物）を１回のみ塗布して、次いで乾燥することにより、屈折率の異なる２層からなる積層膜を形成する方法である。より詳しくは、支持基材の少なくとも片面に、屈折率の異なる第２層及び第１層をこの順に有し、第１層が粒子Ａを含有し、第２層が粒子Ｂを含有する積層体の製造方法であって、支持基材の少なくとも片面に、第２群の発明に係る塗料組成物を１回塗布し、次いで乾燥することによる、積層体の製造方法である（ここで、粒子Ａは粒子ａに起因する粒子であり、粒子Ｂは粒子ｂに起因する粒子である）。
【０１１０】
つまり、第２群の塗布組成物や第３群の製造方法を用いることによって、塗布回数が１回であるにもかかわらず、粒子Ａまたはそれに起因する粒子ａを含む第１層と、粒子Ｂまたはそれに起因する粒子ｂを含む第２層を持つ積層膜を、支持基材上に形成せしめることができるのである。
【０１１１】
ここで、粒子ａと粒子Ａの関係、および粒子ｂと粒子Ｂの関係について説明する。
【０１１２】
第２群の発明に係る塗料組成物を用いる、第３群の発明の製造方法によって得られる積層体中の第１層に含有される粒子Ａは、塗料組成物中の粒子ａに起因する粒子である。つまり、塗料組成物中の粒子ａが、支持基材上に塗布、乾燥されることで、塗料組成物中に含まれるバインダー原料や、フッ素ポリマーＡ、および粒子ａ同士で反応して形態が変わるなどして、粒子Ａとなる。そして、粒子ａとして、バインダー原料やフッ素ポリマーＡと反応する部分を有さない粒子を用いた場合や、粒子ａがバインダー原料やフッ素ポリマーＡと反応しなかった場合には、粒子ａと粒子Ａとは完全に同一となる。しかし、後述するように、本発明にて用いられる粒子ａはフッ素ポリマーＡに起因する部分を有するため、支持基材上で乾燥する際に、バインダー原料と反応することが通常である。
【０１１３】
また、第２群の発明に係る塗料組成物を用いる、第３群の発明の製造方法によって得られる積層体中の第２層に含有される粒子Ｂは、塗料組成物中の粒子ｂに起因する粒子である。つまり、塗料組成物中の粒子ｂが、支持基材上に塗布、乾燥されることで、塗料組成物中に含まれるバインダー原料や粒子ｂ同士で反応して形態が変わるなどして、粒子Ｂとなる。そして、粒子ｂとして、バインダー原料と反応する部分を有さない粒子を用いた場合や、粒子ｂがバインダー原料と反応しなかった場合には、粒子ｂと粒子Ｂとは完全に同一となる。しかし、後述するように、粒子ｂはフッ素ポリマーＡに起因する部分を有さないため、支持基材上で乾燥する際に、バインダー原料と反応しないことが通常である。
【０１１４】
［第２群および第３群の発明に用いられる塗料組成物］
第２群および第３群の発明に用いられる塗料組成物の構成要素を以下に詳しく説明する。
【０１１５】
［フッ素ポリマーＡ］
フッ素ポリマーＡは、後述するフッ素化合物Ａに起因する部分と化合物Ｄに起因する部分とを含む重合体である。つまりフッ素ポリマーＡは、フッ素化合物Ａと化合物Ｄとを反応させることで得られる重合体である。
【０１１６】
また、本発明の塗料組成物を用いて形成した積層体における耐アルカリ性向上の面から、フッ素ポリマーＡは、さらに化合物Ｅに起因する部分を有する重合体であることが好ましい。つまり、より好ましいフッ素ポリマーＡとは、フッ素化合物Ａ、化合物Ｄ、および化合物Ｅとを反応させることで得られる重合体であり、そのようなフッ素ポリマーＡは、フッ素化合物Ａに起因する部分、化合物Ｄに起因する部分、および化合物Ｅに起因する部分とを有する重合体である。
【０１１７】
［フッ素化合物Ａ］
次にフッ素化合物Ａについて説明する。フッ素化合物Ａは次の一般式（１）で表される化合物である。
【０１１８】
フッ素化合物Ａ：  Ｒ１−Ｒ２−Ｒｆ１                                一般式（１）
ここでＲｆ１は、フルオロアルキル基、フルオロオキシアルキル基、フルオロアルケニル基、フルオロアルカンジイル基、及びフルオロオキシアルカンジイル基からなる群より選ばれる少なくとも１つの置換基を意味する。Ｒ１は、反応性部分（reaction  group）を意味する。Ｒ２は、炭素数１から９のいずれかのアルキレン基、又は、炭素数１から９のいずれかのアルキレンエーテル基を意味する。なお、Ｒｆ１、Ｒ１、Ｒ２は、側鎖を構造中に持っても良い。
【０１１９】
ここで、Ｒｆ１が示すフルオロアルキル基、フルオロオキシアルキル基、フルオロアルケニル基、フルオロアルカンジイル基、フルオロオキシアルカンジイル基とは、アルキル基、オキシアルキル基、アルケニル基、アルカンジイル基、オキシアルカンジイル基が持つ水素の一部、あるいは全てがフッ素に置き換わった置換基であり、いずれも主にフッ素原子と炭素原子から構成される置換基であり、構造中に分岐があってもよく、これらの部分が複数連結したダイマー、トリマー、オリゴマー、ポリマー構造を形成していてもよい。
【０１２０】
ここで、Ｒ１が示す反応性部分とは、熱または光などの外部エネルギーにより他の成分と反応する部分をさす。このような反応性部分として、反応性の観点からアルコキシシリル基及びアルコキシシリル基が加水分解されたシラノール基や、カルボキシル基、水酸基、エポキシ基、ビニル基、アリル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、アクリロキシ基、メタクリロキシ基などが挙げられる、反応性、ハンドリング性の観点から、アルコキシシリル基、シリルエーテル基あるいはシラノール基や、エポキシ基、アクリロイル基、メタクリロイル基、アクリロキシ基、メタクリロキシ基が好ましい。
【０１２１】
フッ素化合物Ａの具体例としては、３，３，３−トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、３，３，３−トリフルオロプロピルトリエトキシシラン、３，３，３−トリフルオロプロピルトリイソプロポキシシラン、３，３，３−トリフルオロプロピルトリクロロシラン、３，３，３−トリフルオロプロピルトリイソシアネートシラン、２−パーフルオロオクチルトリメトキシシラン、２−パーフルオロオクチルエチルトリエトキシシラン、２−パーフルオロオクチルエチルトリイソプロポキシシラン、２−パーフルオロオクチルエチルトリクロロシラン、２−パーフルオロオクチルイソシアネートシラン、２，２，２−トリフルオロエチルアクリレート、２，２，３，３，３−ペンタフロオロプロピルアクリレート、２−パーフルオロブチルエチルアクリレート、３−パーフルオロブチル−２−ヒドロキシプロピルアクリレート、２−パーフルオロヘキシルエチルアクリレート、３−パーフルオロヘキシル−２−ヒドロキシプロピルアクリレート、２−パーフルオロオクチルエチルアクリレート、３−パーフルオロオクチル−２−ヒドロキシプロピルアクリレート、２−パーフルオロデシルエチルアクリレート、２−パーフルオロ−３−メチルブチルエチルアクリレート、３−パーフルオロ−３−メトキシブチル−２−ヒドロキシプロピルアクリレート、２−パーフルオロ−５−メチルヘキシルエチルアクリレート、３−パーフルオロ−５−メチルヘキシル−２−ヒドロキシプロピルアクリレート、２−パーフルオロ−７−メチルオクチル−２−ヒドロキシプロピルアクリレート、テトラフルオロプロピルアクリレート、オクタフルオロペンチルアクリレート、ドデカフルオロヘプチルアクリレート、ヘキサデカフルオロノニルアクリレート、ヘキサフルオロブチルアクリレート、２，２，２−トリフルオロエチルメタクリレート、２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピルメタクリレート、２−パーフルオロブチルエチルメタクリレート、３−パーフルオロブチル−２−ヒドロキシプロピルメタクリレート、２−パーフルオロオクチルエチルメタクリレート、３−パーフルオロオクチル−２−ヒドロキシプロピルメタクリレート、２−パーフルオロデシルエチルメタクリレート、２−パーフルオロ−３−メチルブチルエチルメタクリレート、３−パーフルオロ−３−メチルブチル−２−ヒドロキシプロピルメタクリレート、２−パーフルオロ−５−メチルヘキシルエチルメタクリレート、３−パーフルオロ−５−メチルヘキシル−２−ヒドロキシプロピルメタクリレート、２−パーフルオロ−７−メチルオクチルエチルメタクリレート、３−パーフルオロ−７−メチルオクチルエチルメタクリレート、テトラフルオロプロピルメタクリレート、オクタフルオロペンチルメタクリレート、オクタフルオロペンチルメタクリレート、ドデカフルオロヘプチルメタクリレート、ヘキサデカフルオロノニルメタクリレート、１−トリフルオロメチルトリフルオロエチルメタクリレート、ヘキサフルオロブチルメタクリレート、トリアクリロイル−ヘプタデカフルオロノネニル−ペンタエリスリトールなどが挙げられる。
【０１２２】
さらにフッ素化合物Ａは、好ましくは後述のＰＦＯＡを環境中での分解、または代謝により生じうる可能性がないなどの環境影響の面から、一般式（１）で表される化合物であり、かつ一般式（３）で表される化合物であることが好ましい。
Ｒｆ２−Ｘ−ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ２    ・・・一般式（３）
ここで、Ｒｆ２は、炭素数４〜６のいずれかの直鎖状のパーフルオロアルキル基を意味する。Ｘは、炭素数４〜８のいずれかのアルキレン基を意味する。一般式（３）で表されるフッ素化合物Ａは、より好ましくはＲｆ２が炭素数６の直鎖状のパーフルオロアルキル基、Ｘが炭素数６の直鎖状のアルキレン基であることが好ましい。
【０１２３】
なお、ＰＦＯＡとは、ＰｅｒＦｌｕｏｒｏＯｃｔａｎｏｉｃ  Ａｃｉｄの略で、この物質は、最近の研究結果（ＥＰＡレポート“ＰＲＥＬＩＭＩＮＡＲＹ  ＲＩＳＫ  ＡＳＳＥＳＳＭＥＮＴ  ＯＦ  ＴＨＥ  ＤＥＶＥＬＯＰＭＥＮＴＡＬ  ＴＯＸＩＣＩＴＹ  ＡＳＳＯＣＩＡＴＥＤ  ＷＩＴＨ  ＥＸＰＯＳＵＲＥ  ＴＯ  ＰＥＲＦＬＵＯＲＯＯＣＴＡＮＯＩＣ  ＡＣＩＤ  ＡＮＤ  ＩＴＳ  ＳＡＬＴＳ”  （ｈｔｔｐ：／／ｗｗｗ．ｅｐａ．ｇｏｖ／ｏｐｐｔｉｎｔｒ／ｐｆｏａ／ｐｆｏａｒａ．ｐｄｆ））などから、環境への負荷の懸念が明らかとなってきており、２００３年４月１４日ＥＰＡ（米国環境保護庁）が科学的調査を強化すると発表している。
【０１２４】
一方、Ｆｅｄｅｒａｌ  Ｒｅｇｉｓｔｅｒ（ＦＲ  Ｖｏｌ．６８，Ｎｏ．７３／Ａｐｒｉｌ  １６，２００３［ＦＲＬ−２３０３−８］）（ｈｔｔｐ：／／ｗｗｗ．ｅｐａ．ｇｏｖ／ｏｐｐｔｉｎｔｒ／ｐｆｏａ／ｐｆｏａｆｒ．ｐｄｆ）やＥＰＡ  Ｅｎｖｉｒｏｎｍｅｎｔａｌ  Ｎｅｗｓ  ＦＯＲ  ＲＥＬＥＡＳＥ：  ＭＯＮＤＡＹ  ＡＰＲＩＬ  １４，  ２００３  ＥＰＡ  ＩＮＴＥＮＳＩＦＩＥＳ  ＳＣＩＥＮＴＩＦＩＣ  ＩＮＶＥＳＴＩＧＡＴＩＯＮ  ＯＦ  Ａ  ＣＨＥＭＩＣＡＬ  ＰＲＯＣＥＳＳＩＮＧ  ＡＩＤ（ｈｔｔｐ：／／ｗｗｗ．ｅｐａ．ｇｏｖ／ｏｐｐｔｉｎｔｒ／ｐｆｏａ／ｐｆｏａｐｒｓ．ｐｄｆ）やＥＰＡ  ＯＰＰＴ  ＦＡＣＴ  ＳＨＥＥＴ  Ａｐｒｉｌ  １４，  ２００３（ｈｔｔｐ：／／ｗｗｗ．ｅｐａ．ｇｏｖ／ｏｐｐｔｉｎｔｒ／ｐｆｏａ／ｐｆｏａｆａｃｔｓ．ｐｄｆ）は、ＰｅｒＦｌｕｏｒｏＯｃｔａｎｏｉｃ部分を有する「テロマー」が分解または代謝することにより、ＰＦＯＡを形成する可能性があると公表していることからも、ＰｅｒＦｌｕｏｒｏＯｃｔａｎｏｉｃ部分を有する「テロマー」を含まないことが、フッ素化合物の使用において求められているものである。
【０１２５】
一般式（１）と一般式（３）を両方満たすフッ素化合物Ａの具体例は、４−パーフルオロブチル−ブチルアクリレート、４−パーフルオロヘキシル−ブチルアクリレート、６−パーフルオロブチル−ヘキシルアクリレート、６−パーフルオロヘキシル−ヘキシルアクリレート、８−パーフルオロブチル−オクチルアクリレート、８−パーフルオロヘキシル−オクチルアクリレートなどがある。
【０１２６】
［化合物Ｄ］
次に化合物Ｄについて説明する。化合物Ｄは前述の一般式（２）で表される化合物である。また、化合物Ｄは、フッ素化合物Ａに特徴的なＲｆ１を含まず、フッ素化合物Ａと反応可能な反応性部分と、シリカ粒子などの粒子と反応可能な部分（一般式（２）中の「Ｓｉ−ＯＲ６」）とを少なくとも有する化合物を指す。
Ｒ３−Ｒ４−ＳｉＲ５ｎ１（ＯＲ６）３−ｎ１    ・・・一般式（２）
ここでＲ３は、反応性部分を意味し、その定義はＲ１と同様である。Ｒ４は、炭素数１から６のいずれかのアルキレン基、または、炭素数１から６のいずれかのアルキレンエーテル基を意味する。Ｒ５、Ｒ６は、水素、又は、炭素数１から４のいずれかのアルキル基を示す。ｎ１は０から２の整数を意味する
この化合物Ｄの具体例は、アクリロキシエチルトリメトキシシラン、アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、アクリロキシブチルトリメトキシシラン、アクリロキシペンチルトリメトキシシラン、アクリロキシヘキシルトリメトキシシラン、アクリロキシヘプチルトリメトキシシラン、メタクリロキシエチルトリメトキシシラン、メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、メタクリロキシブチルトリメトキシシラン、メタクリロキシヘキシルトリメトキシシラン、メタクリロキシヘプチルトリメトキシシラン、メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン及びこれら化合物中のメトキシ基が他のアルコキシル基及び水酸基に置換された化合物を含むものなどが挙げられる。
【０１２７】
［化合物Ｅ］
次に化合物Ｅについて説明する。化合物Ｅは一般式(４)で表される化合物である。つまり、フッ素化合物Ａと反応可能な反応性部分と、化合物Ｄと反応可能な反応性部分とを有する化合物を指す。
【０１２８】
(Ｒ７)ｎ２−（Ｒ８）ｎ３ ・・・一般式(４)
ここでＲ７は、反応性部分を意味し、その定義はＲ１と同様である。
【０１２９】
Ｒ８は、炭素数１から６のいずれかのアルキレン基、炭素数１から６のいずれかのヒドロキシアルキル基、炭素数１から６のいずれかのアルコキシ基、炭素数１から３のいずれかのアルキレンエーテル基、炭素数１から５のいずれかの多価アルコール誘導体、炭素数１から１２のいずれかのカルボン酸誘導体、炭素数１から６のいずれかのアミド誘導体、又は、ビスフェノール誘導体を意味する。ここでｎ２は１から３の整数を、ｎ３は、１から１０の整数を意味する。
【０１３０】
この化合物Ｅの具体例は、ペンタエリスリトール（モノ、ジ、トリ）（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトール（モノ、ジ、トリ）（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパン（モノ、ジ、トリ）（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレートポリプロピレングリコール（モノ、ジ）(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコール（モノ、ジ）(メタ)アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、アクリロイルモルフォリン、ジメチルアクリルアミド、ヒドロキシエチルアクリルアミド、ジエチルアクリルアミド
変性ビスフェノールＡ（Ｆ）ジ(メタ)アクリレート、２−（メタ）アクリロイロキシエチルコハク酸、２−アクリロイロキシエチルヘキサヒドロフタル酸、２−アクリロイロキシエチルフタル酸、２−アクリロイロキシエチル−２−ヒドロキシエチルフタル酸、δ−バレロラクトン（メタ）アクリレート、γ−ブチロラクトン(メタ)アクリレート、β−プロピオラクトン（メタ）アクリレート、などが挙げられる。
【０１３１】
なお、後述するように、第１群〜第３群の発明によって得られる積層体は、積層体の第１層上に導電層を形成することにより、後述の導電性積層体を得ることができる。この導電性積層体の用途は様々であるが、多くの用途では導電層を必要な形状に加工するパターニングが必要となる。一般的に導電層のパターニングは、導電性積層体の第１層上に均一に形成された導電層をエッチング処理することにより、導電層の不要部分を除去することにより行われる。このエッチング工程ではアルカリ溶液が用いられる場合が多く、そのため導電層の不要部分を除去する際には積層体の表面がアルカリ溶液中に露出される工程を経るため、積層体は耐アルカリ性が十分にあることが好ましい。
【０１３２】
これに対して本発明の塗料組成物は、前述の通りフッ素ポリマーＡ、粒子aを含んでいるため、本発明の塗料組成物を用い、本発明の製造方法にて形成された積層体は、フッ素ポリマーＡと粒子Ａが第１層内に均一分散した層を形成するため、強固な積層体が得られる。そのため、必要な耐アルカリ性は得られるが、エッチング処理プロセスの高度化に対応するには、さらなる高度の耐アルカリ性が求められる場合がある。そこで、本発明の塗料組成物は、フッ素ポリマーＡがさらに化合物Ｅに起因する部分を有する重合体であることが好ましい。
【０１３３】
また化合物Ｅは、下記に定義するアルカリ緩衝能力が、２ｍｌ以上であることが好ましい。ここでアルカリ緩衝能力とは、化合物Ｅをイソプロピルアルコール：Ｈ２Ｏ＝９：１（質量基準）の混合液を用いて５質量％に希釈した溶液１００ｇを、ＪＩＳ  Ｚ８８０２(２０１１)に記載のガラス電極を用いたｐＨ測定方法にて測定した２５℃でのｐＨを、ｐＨ９にするのに要するＮａＯＨ（０．１ｍｏｌ／ｌ）の必要量(ｍｌ)を意味する。化合物Ｅは、アルカリ緩衝能力が２ｍｌ以上であることが好ましく、３ｍｌ以上であることが特に好ましい。化合物Ｅのアルカリ緩衝能力は２ｍｌ以上であれば高い分には特に問題ないが、一般的には５０ｍｌ程度が上限である。そして、化合物Ｅのアルカリ緩衝能力が２ｍｌ以上であると、そのような化合物Ｅに起因する部分を有するフッ素ポリマーＡを含む本発明の塗料組成物から形成された本発明の塗料組成物を用いて形成した積層体に、アルカリ緩衝能を付与することができ、その結果、積層体の耐アルカリ性が向上する。
【０１３４】
なお、前記化合物Ｅの一般式（４）のＲ８は、炭素数１から１２のいずれかのカルボン酸誘導体であることが好ましく、その中でもラクトン環であることが特に好ましい。ラクトン環とは、ヒドロキシ酸が分子内に存在するカルボキシル基と水酸基との間で脱水縮合して環状エステルを形成したものである。そしてラクトン環は、アルカリ存在下で開環してヒドロキシ酸になる。そのため、化合物ＥのＲ８がラクトン環であることにより、開環時のアルカリ消費とヒドロキシ酸としての機能により高いアルカリ緩衝能力を示す。
【０１３５】
アルカリ緩衝能力が２ｍｌ以上である化合物Ｅの具体例は、ペンタエリスリトール（モノ、ジ、トリ）（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−（メタ）アクリロイロキシエチルコハク酸、２−アクリロイロキシエチルヘキサヒドロフタル酸、２−アクリロイロキシエチルフタル酸、２−アクリロイロキシエチル−２−ヒドロキシエチルフタル酸、δ−バレロラクトン（メタ）アクリレート、γ−ブチロラクトン(メタ)アクリレート、β−プロピオラクトン（メタ）アクリレート、などが挙げられ、さらに好ましい化合物Ｅの具体例は、δ−バレロラクトン（メタ）アクリレート、γ−ブチロラクトン(メタ)アクリレート、β−プロピオラクトン（メタ）アクリレート、などが挙げられる。
【０１３６】
［粒子ａおよび粒子Ａ］
粒子ａは、無機粒子部分とフッ素ポリマーＡに起因する部分とを有する粒子である。そして粒子ａの無機粒子部分としては、Ｓｉ，Ｎａ，Ｋ，Ｃａ，ＭｇおよびＡｌから選択される半金属元素または金属元素の酸化物、窒化物、ホウ素化物、フッ素化物、炭酸塩、硫酸塩が好ましく、シリカ粒子（ＳｉＯ２）、アルカリ金属フッ化物類（ＮａＦ，ＫＦ，ＮａＡｌＦ６など）、およびアルカリ土類金属フッ化物（ＣａＦ２、ＭｇＦ２など）がより好ましく、耐久性、屈折率、コストなどの点からシリカ粒子が特に好ましい。
【０１３７】
このシリカ粒子とは、ケイ素化合物、又は無機、有機ケイ素化合物の重合（縮合）体のいずれかからなる組成物を含む粒子を指し、一般例としてＳｉＯ２などのケイ素酸化物から導出される粒子の総称である。粒子ａの無機粒子部分に好適な形状は、特に限定されないが、粒子Ａ（第１群の発明であれば、粒子Ｘ）の第１層での充填状態が積層体の表面形状に影響するため、球に近い形状であることが本発明の表面形状をつくるにはより好ましい。
【０１３８】
次に本発明の塗料組成物中の粒子ａとフッ素ポリマーＡについて説明する。粒子ａは、無機粒子部分だけでなく、フッ素ポリマーＡに起因する部分を有することが重要である。そのため粒子ａは、前述の無機粒子、特にシリカなどの無機粒子に、フッ素ポリマーＡを反応させる等して、フッ素ポリマーＡに起因する部分を導入することで、得ることができる。
【０１３９】
ここで「導入」とは、フッ素ポリマーＡに起因する部分が無機粒子部分に化学結合（共有結合、水素結合、イオン結合、ファンデルワールス結合、疎水結合等を含む）や吸着（物理吸着、化学吸着を含む）している状態を指し、とくに共有結合していることが好ましい。
【０１４０】
また、粒子Ａは粒子ａに起因する粒子を意味するので、特記しない限り、粒子ａの説明は粒子Ａにも成り立つ。
【０１４１】
［フッ素ポリマーＡの製造方法、および、粒子ａの製造方法］
次にフッ素ポリマーＡの製造方法、およびフッ素ポリマーＡを無機粒子と反応させることによる粒子ａの製造方法について説明する。
【０１４２】
フッ素ポリマーＡの製造方法、および粒子ａの製造方法は、特に限定されないが、次の１）又は２）の方法、または、両者の組み合わせのいずれでもよい。
【０１４３】
１）フッ素化合物Ａと化合物Ｄとを重合してフッ素ポリマーＡを作り、このフッ素ポリマーＡを無機粒子と反応させる操作を行い、粒子ａを得る。
【０１４４】
２）無機粒子の存在下でフッ素化合物Ａと化合物Ｄとを重合してフッ素ポリマーＡを得ることで、フッ素ポリマーＡを重合しながら、同時にフッ素ポリマーＡの一部を無機粒子と反応させることで粒子ａも得る。
【０１４５】
１）の場合、フッ素化合物Ａの反応性部分と化合物Ｄの反応性部分とを、反応性部分の構造に合わせた方法により重合する。例えばフッ素化合物Ａの反応性部分と化合物Ｄの反応性部分が共に（メタ）アクリレートである場合には、ラジカル重合開始剤を用いてラジカル付加重合を行い、フッ素化合物Ａの反応性部分と化合物Ｄの反応性部分が共にアルコキシシリル基である場合には、酸またはアルカリ触媒を用いてシラノール縮合反応を行う。次いでフッ素ポリマーＡを無機粒子に導入する。具体的にはフッ素ポリマーＡ中の化合物Ｄに起因する部分が有する、粒子と反応可能な部分（すなわち、一般式（２）中の「Ｓｉ−ＯＲ６」を意味する。）を用い、適宜必要に応じて触媒を添加したり、必要に応じて機械的な分散などのプロセスを用いたりして粒子の表面に導入する。
【０１４６】
２）の場合、無機粒子の存在下でフッ素化合物Ａと化合物Ｄを重合する必要があるが、それぞれの添加順序については特に限定されない。つまり、無機粒子と化合物Ｄを反応させてから、フッ素化合物Ａを添加して反応させても良いし、フッ素化合物Ａと化合物Ｄを反応させながら、同時に無機粒子と反応させても良い。
【０１４７】
また、より好ましいフッ素ポリマーＡの製造方法、およびより好ましい粒子ａの製造方法として、例えば、次の３）又は４）の方法、または、両者の組み合わせを挙げることができる。
【０１４８】
３）フッ素化合物Ａ、化合物Ｄ、および化合物Ｅを重合してフッ素ポリマーＡを作り、このフッ素ポリマーＡを無機粒子と反応させる操作を行い、粒子ａを得る。
【０１４９】
４）無機粒子の存在下で、フッ素化合物Ａ、化合物Ｄ、および化合物Ｅを重合してフッ素ポリマーＡを得ることで、フッ素ポリマーＡを重合しながら、同時にフッ素ポリマーＡの一部を無機粒子と反応させることで粒子ａも得る。
【０１５０】
３）の場合、フッ素化合物Ａの反応性部分、化合物Ｄの反応性部分、および化合物Ｅの反応性部分を、各反応性部分の構造に合わせた方法により重合する。例えばフッ素化合物Ａの反応性部分、化合物Ｄの反応性部分、および化合物Ｅの反応性部分が、共に（メタ）アクリレートである場合には、ラジカル重合開始剤を用いてラジカル付加重合を行う方法を用いることができる。そしてフッ素化合物Ａの反応性部分、化合物Ｄの反応性部分、および化合物Ｅの反応性部分が、共にアルコキシシリル基である場合には、酸またはアルカリ触媒を用いてシラノール縮合反応を行う方法を用いることができる。また、フッ素化合物Ａ、化合物Ｄ、及び化合物Ｅは同時に反応させても良いし、先にいずれかの２つの化合物を反応させ、後に残りの化合物を反応させても良い。さらにフッ素化合物Ａの反応性部分、化合物Ｄの反応性部分、および化合物Ｅの反応性部分が、全て同一ではない場合においても、各反応性部分の構造に合わせた方法により、同時に反応させても良いし、先にいずれかの２つの化合物を反応させ、後に残りの化合物を反応させても良い。
【０１５１】
次いでフッ素ポリマーＡを無機粒子に導入する。具体的にはフッ素ポリマーＡ中の化合物Ｄに起因する部分が有する、粒子と反応可能な部分（すなわち、一般式（２）中の「Ｓｉ−ＯＲ６」を意味する。）を用い、適宜必要に応じて触媒を添加したり、必要に応じて機械的な分散などのプロセスを用いたりして粒子の表面に導入する。
【０１５２】
４）の場合、無機粒子の存在下で、フッ素化合物Ａ、化合物Ｄ、および化合物Ｅを重合する必要があるが、それぞれの添加順序については特に限定されない。つまり、無機粒子と化合物Ｄを反応させてから、フッ素化合物Ａと化合物Ｅを添加して反応させても良いし、フッ素化合物Ａ、化合物Ｄ、および化合物Ｅを反応させながら、同時に無機粒子とも反応させても良い。
【０１５３】
［粒子ｂおよび粒子Ｂ］
粒子ｂの無機粒子部分は、粒子ａの無機粒子部分とは異なる種類の無機粒子であることが好ましい。粒子ｂの無機粒子部分は特に限定されないが、金属元素、半金属元素の酸化物、窒化物、ホウ素化物、炭酸塩、硫酸塩であることが好ましく、Ｇａ、Ｚｒ，Ｔｉ，Ａｌ，Ｉｎ，Ｚｎ，Ｓｂ，Ｓｎ，およびＣｅよりなる群から選ばれる少なくとも一つの元素の酸化物粒子であることがさらに好ましい。
【０１５４】
また粒子ｂの無機粒子部分は、粒子ａの無機粒子部分よりも屈折率が高い無機粒子であることが好ましい。粒子ｂの無機粒子部分は、具体的には酸化ジルコニウム（ＺｒＯ２）、酸化チタン（ＴｉＯ２）、酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）、酸化インジウム（Ｉｎ２Ｏ３）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、酸化スズ（ＳｎＯ２）、酸化アンチモン（Ｓｂ２Ｏ３）、およびインジウムスズ酸化物から選ばれる少なくとも一つ、あるいはこれらの間の固溶体、および一部元素を置換、または一部元素が格子間に侵入、一部元素が欠損した固溶体、または種類の異なる無機粒子が接合した無機粒子である。粒子ｂは、特に好ましくはリン含有酸化スズ（ＰＴＯ）、アンチモン含有酸化スズ（ＡＴＯ）、ガリウム含有酸化亜鉛（ＧＺＯ）や酸化チタン（ＴｉＯ２）、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ２）である。
【０１５５】
粒子ｂの無機粒子部分の屈折率は、好ましくは１．５５〜２．８０、より好ましくは１．５８〜２．５０である。粒子ｂの無機粒子部分の屈折率が１．５５よりも小さくなると、得られる積層体の粒子Ｂ（第１群の発明であれば、粒子Ｙ）を含む第２層の屈折率が低下し、粒子Ｘ又は粒子Ａを含む第１層との屈折率差が小さくなるため、透過光の着色抑制効果や、導電層のパターニング抑制効果が不十分になり、粒子ｂの無機粒子部分の屈折率が２．８０よりも大きくなると、第１層上に形成される導電層との屈折率差、及び第２層と支持基材との屈折率差が上昇するため、同様に透過光の着色抑制効果や、導電層のパターニング抑制効果が不十分になる。
【０１５６】
さらに、本発明の製造方法により得られる積層体において、粒子ａの無機粒子部分がシリカ粒子の場合は、粒子ｂの無機粒子部分は該シリカ粒子よりも屈折率が高い無機粒子であることが特に好ましく、このような屈折率が高い無機粒子としては、数平均粒子径が２０ｎｍ以下で、かつ屈折率が１．６０から２．８０の無機化合物が好ましく用いられる。そのような無機化合物の具体例としては、アンチモン酸化物、アンチモン含有酸化亜鉛、アンチモン含有酸化スズ（ＡＴＯ）、リン含有酸化スズ（ＰＴＯ）、ガリウム含有酸化亜鉛（ＧＺＯ）、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ２）、及び／または酸化チタン（ＴｉＯ２）が挙げられ、特に屈折率が高い酸化チタン、酸化ジルコニウムがより好ましい。
【０１５７】
また、粒子Ｂは粒子ｂに起因する粒子を意味するので、特記しない限り、粒子ｂの説明は粒子Ｂにも成り立つ。例えば、粒子Ｂの無機粒子部分は、粒子Ａの無機粒子とは異なる種類の無機粒子であることが好ましく、粒子Ｂの無機粒子部分は、粒子Ａの無機粒子部分よりも屈折率が高い無機粒子であることが好ましい。
【０１５８】
［バインダー原料］
本発明の塗料組成物は、バインダー原料を含むことが必要である。ここで本明細書において、塗料組成物中に含まれるバインダーを「バインダー原料」、積層体の積層膜中に含まれるバインダーを「バインダー」と表すが、バインダーとしては、バインダー原料がそのままバインダーとして存在する場合もある（つまり、塗料組成物のバインダー原料が、そのままの形で積層膜中のバインダーとして存在する態様も含む。）。
【０１５９】
バインダー原料としては特に限定するものではないが、製造性の観点より、熱及び／または活性エネルギー線などにより、硬化可能なバインダー原料であることが好ましく、バインダー原料は一種類であっても良いし、二種類以上を混合して用いても良い。また粒子を膜中に保持する観点より、前述の反応性部位、つまり分子中にアルコキシシリル基及びアルコキシシリル基が加水分解されたシラノール基や、カルボキシル基、水酸基、エポキシ基、ビニル基、アリル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、アクリロキシ基、メタクリロキシ基を有しているバインダー原料であることが好ましい。
【０１６０】
このようなバインダー原料として、成分中に多官能（メタ）アクリレートを用いるのが好ましく、代表的なものを以下に例示する。１分子中に、３個以上（より好ましくは４個以上６個以下）の（メタ）アクリロキシ基を有する多官能アクリレートおよびその変性ポリマー、オリゴマー、具体的な例としては、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレートヘキサンメチレンジイソシアネートウレタンポリマーなどを用いることができる。これらの単量体は、１種または２種以上を混合して使用することができる。また、市販されている多官能アクリル系組成物としては三菱レイヨン株式会社；（商品名”ダイヤビーム”シリーズなど）、長瀬産業株式会社；（商品名”デナコール”シリーズなど）、新中村株式会社；（商品名”ＮＫエステル”シリーズなど）、大日本インキ化学工業株式会社；（商品名”ＵＮＩＤＩＣ”など）、東亞合成化学工業株式会社；（”アロニックス”シリーズなど）、日本油脂株式会社；（”ブレンマー”シリーズなど）、日本化薬株式会社；（商品名”ＫＡＹＡＲＡＤ”シリーズなど）、共栄社化学株式会社；（商品名”ライトエステル”シリーズなど）などを挙げることができ、これらの製品を利用することができる。
【０１６１】
［有機溶媒］
本発明の塗料組成物は、前述のフッ素ポリマーＡ、粒子ａ、粒子ｂ、バインダー原料に加えて、有機溶媒を含むことが必要である。有機溶媒を含むことにより、塗布時に適度な流動性を与えることで塗膜の膜厚を均一にすることができ、また粒子の運動性を確保できるため表面移行性が良化し、良好な特性を発現できるため好ましい。
【０１６２】
有機溶媒は、フッ素ポリマーＡ、粒子ａ、粒子ｂ、バインダー原料が均一に溶解、もしくは分散していれば特に限定されるものではないが、通常、常圧での沸点が２５０℃以下の有機溶媒が好ましい。具体的には、アルコール類、ケトン類、エーテル類、エステル類、炭化水素類、アミド類、含フッ素化合物類等が用いられる。これらは、１種または２種以上を組み合わせて用いることができる。
【０１６３】
アルコール類としては、例えば、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、イソブタノール、ｎ−ブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノール、エトキシエタノール、ブトキシエタノール、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ベンジルアルコール、フェニチルアルコール等を挙げることができる。ケトン類としては、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等を挙げることができる。エーテル類としては、例えば、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテートなどを挙げることができる。エステル類としては、例えば、酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸エチル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル等を挙げることができる。芳香族類としては、例えば、トルエン、キシレン等を挙げることができる。アミド類としては、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン等を挙げることができる。
【０１６４】
また、本発明の塗料組成物は、以下の条件１から条件３を全て満たすことが重要である。
【０１６５】
（条件１）：粒子ａ中のフッ素ポリマーＡに起因する部分、フッ素化合物Ａ、及び、フッ素ポリマーＡの合計と、バインダー原料との質量比が、２５：７５〜５５：４５である。
【０１６６】
なお条件１に関して、本発明の塗料組成物はフッ素化合物Ａを含んでも、また含まなくても、いずれでも良いが、塗膜のレベリングの観点から、本発明の塗料組成物はフッ素化合物Ａを含むほうが好ましい。
【０１６７】
条件１の、粒子ａ中のフッ素ポリマーＡに起因する部分、フッ素化合物Ａ、及び、フッ素ポリマーＡの合計と、バインダー原料との質量比は、２８：７２〜５３：４７であることが好ましく、３０：７０〜５１：４９であることがより好ましい。粒子ａ中のフッ素ポリマーＡに起因する部分、フッ素化合物Ａ、及び、フッ素ポリマーＡの合計が２５よりも小さいと、粒子ａと相溶する成分が少ないため、粒子ａが乾燥工程にて自発的に表面側に移動する現象（以下これを表面移行性と呼ぶ）が十分に起こらない場合がある。粒子ａ中のフッ素ポリマーＡに起因する部分、フッ素化合物Ａ、及び、フッ素ポリマーＡの合計が５５よりも大きいと、フッ素化合物Ａに起因する部分同士の凝集力により、均一な膜を十分に形成することができない場合がある。
【０１６８】
（条件２）：フッ素ポリマーＡおよび粒子ａ中のフッ素ポリマーＡに起因する部分の合計と、粒子ａ中のフッ素ポリマーＡに起因する部分との質量比が１０：９０〜８７：１３である。
【０１６９】
ここで条件２のフッ素ポリマーＡおよび粒子ａ中のフッ素ポリマーＡに起因する部分の合計と、粒子ａ中のフッ素ポリマーＡに起因する部分との質量比は、好ましくは１２：８８〜８５：１５であり、１５：８５〜８０：２０であることがより好ましい。条件２について、粒子ａ中のフッ素ポリマーＡに起因する部分の割合が１３よりも小さくなると、または粒子ａ中のフッ素ポリマーＡに起因する部分の割合が９０よりも大きくなると、表面移行性が低下する場合があり、均一な膜を十分に形成することができない場合がある。
【０１７０】
（条件３）：フッ素ポリマーＡおよび粒子ａ中のフッ素ポリマーＡに起因する部分の合計と、フッ素ポリマーＡ中のフッ素化合物Ａに起因する部分との質量比が、２０：８０〜９２：８である。
【０１７１】
ここで条件３の、フッ素ポリマーＡおよび粒子ａ中のフッ素ポリマーＡに起因する部分の合計と、フッ素ポリマーＡ中のフッ素化合物Ａに起因する部分との質量比は、好ましくは２５：７５〜８５：１５であり、３０：７０〜８２：１８であることがより好ましい。フッ素ポリマーＡ中のフッ素化合物Ａに起因する部分の割合が８よりも小さくなると、表面移行性が低下する場合がある。フッ素ポリマーＡ中のフッ素化合物Ａに起因する部分の割合が８０よりも大きくなると、粒子ａに導入されるフッ素化合物Ａが過剰となり、フッ素化合物同士の凝集が発生する場合があり、均一な膜を十分に形成することができない場合がある。
【０１７２】
また、上記（条件１）〜条件（３）において、「粒子ａ中のフッ素ポリマーＡに起因する部分」とは、塗料組成物に存在する粒子ａ中のフッ素ポリマーＡに起因する部分を示す。
また、「フッ素化合物Ａ」とは、塗料組成物中に遊離して存在しているフッ素化合物Ａを示す。
また、「フッ素ポリマーＡ」とは、塗料組成物中に遊離して存在しているフッ素ポリマーＡを示す。
また、「フッ素ポリマーＡ中のフッ素化合物Ａ」とは、「フッ素ポリマーＡ」（塗料組成物中に遊離して存在しているフッ素ポリマーＡ）中のフッ素化合物Ａに起因する部分、および「粒子ａ中のフッ素ポリマーＡに起因する部分」（塗料組成物に存在する粒子ａ中のフッ素ポリマーＡに起因する部分）中のフッ素化合物Ａに起因する部分の合計を示す。
【０１７３】
フッ素化合物Ａ、フッ素ポリマーＡの質量は、塗料組成物を調製する時の各成分の仕込み量、もしくは、塗料組成物の調製時の中間材料である、粒子ａおよびフッ素ポリマーＡを含有する混合液や、塗料組成物から粒子ａ、粒子ｂを遠心分離等にて分離し、液体成分をガスクロマトグラフィー分析することでフッ素化合物Ａの質量を求めることができ、さらに重量分析やゲルパーミエーションクロマトグラフ（ＧＰＣ）法によりフッ素ポリマーＡの質量を求めることができる。
【０１７４】
つまり、フッ素化合物Ａの質量は、以下の何れかの方法によって求めることができる。
塗料組成物を調製する時の各成分の仕込み量から、フッ素化合物Ａの質量を求める方法。
塗料組成物の調製時の中間材料である粒子ａおよびフッ素ポリマーＡを含有する混合液から、粒子ａを遠心分離等にて分離し、液体成分をガスクロマトグラフィー分析することでフッ素化合物Ａの質量を求める方法。
塗料組成物から、粒子ａおよび粒子ｂを遠心分離等にて分離し、液体成分をガスクロマトグラフィー分析することでフッ素化合物Ａの質量を求める方法。
【０１７５】
また、フッ素ポリマーＡの質量は、以下の何れかの方法によって求めることができる。
塗料組成物の調製時の中間材料である、粒子ａおよびフッ素ポリマーＡを含有する混合液から、粒子ａを遠心分離等にて分離し、液体成分の重量分析、またはゲルパーミエーションクロマトグラフ（ＧＰＣ）法によりフッ素ポリマーＡの質量を求める方法。
塗料組成物から、粒子ａおよび粒子ｂを遠心分離等にて分離し、液体成分の重量分析、またはゲルパーミエーションクロマトグラフ（ＧＰＣ）法によりフッ素ポリマーＡの質量を求める方法。
【０１７６】
さらに、粒子ａ中のフッ素ポリマーＡに起因する部分の質量は、以下の方法によって求めることができる。
塗料組成物の調製時の中間材料である粒子ａおよびフッ素ポリマーＡを含有する混合液から、粒子ａを遠心分離等にて分離し、得られた粒子ａについて蛍光Ｘ線分析（ＸＲＦ）により、構成する元素の濃度を求めることにより、フッ素ポリマーＡに起因する部分の質量を算出することができる。
【０１７７】
塗料組成物中のフッ素ポリマーＡと、粒子ａ中のフッ素ポリマーＡに起因する部分は、前述するフッ素ポリマーＡの条件を満足すること、つまり、少なくともフッ素ポリマーＡ中のフッ素化合物Ａに起因する部分と化合物Ｄに起因する部分とを有する重合体であることが重要である。
【０１７８】
また、塗料組成物中のフッ素ポリマーＡと、塗料組成物中の粒子ａ（のフッ素ポリマーＡに起因する部分）とは、いずれも同一の（分子構造の）フッ素化合物Ａを用いて得られることが好ましい。つまり、塗料組成物中のフッ素ポリマーＡと、塗料組成物中の粒子ａ（のフッ素ポリマーＡに起因する部分）とは、いずれも同一の（分子構造の）フッ素化合物Ａに起因する部分を有することが好ましい。
【０１７９】
一方で、塗料組成物中のフッ素ポリマーＡと、塗料組成物中の粒子ａを得るために用いられるフッ素ポリマーＡとは、同一の（分子構造の）フッ素化合物Ａを用いて得られることが好ましいものの、それぞれのフッ素ポリマーＡ中のフッ素化合物Ａに起因する部分の量は、特に限定されない。そのため、塗料組成物中のフッ素ポリマーＡと、塗料組成物中の粒子ａを得るために用いられるフッ素ポリマーＡとは、その数平均分子量、重量平均分子量、分子量分布が同一となる必要はなく、任意に選択することができる。
【０１８０】
フッ素ポリマーＡの数平均分子量は、５，０００以上２０，０００以下が好ましく、６，０００以上１８，０００以下がより好ましく、８，０００以上１７，０００以下が特に好ましい。フッ素ポリマーＡの数平均分子量が２０，０００を超えると、フッ素ポリマーＡが嵩高くなるため、フッ素ポリマーＡの一部を無機粒子に導入して粒子ａを得る際に、フッ素ポリマーＡと無機粒子との反応性が低下し、表面移行性が不良となることがある。さらに、フッ素ポリマーＡの数平均分子量が高くなることにより溶解性が低下することで、局所的に表面自由エネルギーの低い部分ができ、その結果開口部の数が増加する。数平均分子量が５，０００よりも小さいと、無機粒子に導入するフッ素化合物Ａに起因する部分が少量であるため（つまり、粒子ａ中のフッ素ポリマーに起因する部分が少量であるため）、表面移行性が不良となることがある。
【０１８１】
また、本発明の塗料組成物中の粒子ｂ全体のゼータ電位は、−６０ｍＶ以下が好ましく、−７０ｍＶ以下が特に好ましい。粒子ｂ全体のゼータ電位が−６０ｍｖ以下である塗料組成物を用いて得られた積層体の、第１層表面のｐＨ１０におけるゼータ電位の値は負でありかつ小さくなるため、−６０ｍｖ以下に制御することができ、負の電荷を帯びたアルカリ溶液中の水酸化物イオンを第１層の表面に寄せ付けにくくなり、耐アルカリ性を向上することができると考えられる。
【０１８２】
つまり、粒子ｂ全体のゼータ電位が−６０ｍＶ以下である塗料組成物を用いることによって、積層体の、第１層表面のｐＨ１０におけるゼータ電位の値を負であってかつ小さい値にすることできるためである。すなわち、粒子ｂ全体のゼータ電位が−６０ｍＶ以下である塗料組成物を用いることによって、積層体の、第１層表面のｐＨ１０におけるゼータ電位の値を−６０ｍＶ以下に容易に制御することができるのである。
【０１８３】
そして、積層体の、第１層表面のｐＨ１０におけるゼータ電位の値を−６０ｍＶ以下とすることによって、積層体の耐アルカリ性を向上させることができる。これは、前述したように、第１層表面のｐＨ１０におけるゼータ電位の値が−６０ｍＶ以下であると、アルカリ溶液中に存在する、負の電荷を帯びた水酸化物イオンが、積層体の第１層の表面に近づきづらくなると考えられるためである。
【０１８４】
粒子ｂ全体のゼータ電位の値が負でありかつ小さい分には問題ないが、一般的にはその下限は−１５０ｍＶ程度である。粒子ｂ全体のゼータ電位の値が−６０ｍＶよりも大きいと、第１層の表面にアルカリ溶液が浸透し易く、耐アルカリ性が不十分となることがある。
【０１８５】
本発明の塗料組成物中には、粒子ｂは少なくとも１種類以上含まれることが好ましく、ゼータ電位の異なる２種類の粒子ｂを混合して用いても良い。そして、塗料組成物中の粒子ｂが１種類の場合には、粒子ｂのゼータ電位を、粒子ｂ全体のゼータ電位とする。また、塗料組成物中に２種類以上の粒子ｂを混合して用いる場合は、２種類以上の粒子ｂそれぞれのデータ電位に体積比率を乗じた値を、粒子ｂ全体のゼータ電位とする。
【０１８６】
ゼータ電位の異なる粒子ｂの具体例としては、酸化チタン（ゼータ電位：−２０ｍＶ）、酸化ジルコニウム（ゼータ電位：−８０ｍＶ）などが挙げられる。酸化チタンのようにゼータ電位の値が負でありかつその値がそれほど小さくない粒子であっても、酸化ジルコニウムのようにゼータ電位の値が負でありかつその値が非常に小さい粒子と混合することにより、体積比率の調整によりゼータ電位を好ましい値に調整することができる。前述したように、粒子ｂ全体のゼータ電位はそれぞれのゼータ電位に体積比率を乗じた値となるためである。なお、粒子ｂ、及び粒子ｂ全体のゼータ電位の測定方法については後述する。
【０１８７】
［塗料組成物中の各成分の含有量］
本発明の塗料組成物は、粒子ａ／粒子ｂ（質量比率）が、１／３０〜１／１であることが好ましい。粒子ａ／粒子ｂ＝１／３０〜１／１とすることで、得られる積層体の第１層の厚みと第２層の厚みの比を一定にすることができる。このため１回の塗布で第１層と第２層の厚みを同時に必要な厚みとすることが容易であるため好ましい。
【０１８８】
粒子ａ／粒子ｂ（質量比率）として、１／２８〜１／１、さらに好ましくは１／２６〜１／２、特に好ましくは１／２３〜１／３である。
【０１８９】
また好ましくは、塗料組成物１００質量％において、粒子ａの含有量が０．０３質量％以上２６．３質量％以下、粒子ｂの含有量が０．０６質量％以上５７．５質量％以下、フッ素ポリマーＡの含有量が０．００３質量％以上２７．２質量％以下、バインダー原料の含有量が０．０２質量％以上４３．２質量％以下、有機溶媒の含有量が４０質量％以上９８質量％以下、開始剤、硬化剤、及び触媒などのその他の成分の含有量が０．１質量％以上２０質量％以下を含む態様である。より好ましくは、塗料組成物１００質量％において、粒子ａの含有量が、０．０４質量％以上１４質量％以下、粒子ｂの含有量が０．１８質量％以上５６．８質量％以下、フッ素ポリマーＡの含有量が０．００４質量％以上、２４．０質量％以下、バインダー原料の含有量が０．０２質量％以上４０．６質量％以下、有機溶媒の含有量が４０質量％以上９８質量％以下、開始剤、硬化剤、及び触媒などのその他の成分の含有量が１質量％以上１５質量％以下含む態様である。
【０１９０】
［塗料組成物中のその他成分］
本発明の塗料組成物は、更に重合開始剤や硬化剤を含むことが好ましい。重合開始剤及び硬化剤は、粒子とバインダー原料との反応を促進したり、バインダー原料間の反応を促進したりするために用いられる。
【０１９１】
該重合開始剤及び硬化剤は、塗料組成物に含まれるバインダー原料の反応性部位に応じて種々のものを使用できる。また、複数の重合開始剤を同時に用いても良いし、単独で用いても良い。さらに、酸性触媒や、熱重合開始剤や光重合開始剤を併用しても良い。酸性触媒の例としては、塩酸水溶液、蟻酸、酢酸などが挙げられる。熱重合開始剤の例としては、過酸化物、アゾ化合物が挙げられる。また、光重合開始剤の例としては、アルキルフェノン系化合物、含硫黄系化合物、アシルホスフィンオキシド系化合物、アミン系化合物などが挙げられるがこれらに限定されるものではないが、硬化性の点から、アルキルフェノン系化合物が好ましく、具体例としては、２．２−ジメトキシ−１．２−ジフェニルエタン−１−オン、２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルフォリノプロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−フェニル）−１−ブタン、２−（ジメチルアミノ）−２−［（４−メチルフェニル）メチル］−１−（４−フェニル）−１−ブタン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−１−ブタン、２−（ジメチルアミノ）−２−［（４−メチルフェニル）メチル］−１−［４−（４−モルフォリニル）フェニル］−１−ブタン、１−シクロヒキシル−フェニルケトン、２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−［４−（２−エトキシ）−フェニル］−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン、などが挙げられる。
【０１９２】
なお、該重合開始剤、硬化剤、触媒の含有割合は、塗料組成物中のバインダー原料１００質量部に対して０．００１質量部から３０質量部が好ましく、より好ましくは０．０５質量部から２０質量部であり更に好ましくは０．１質量部から１０質量部である。
【０１９３】
その他として、本発明の塗料組成物には更に、界面活性剤、増粘剤、レベリング剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、重合禁止剤、ｐＨ調整剤、安定化剤などの添加剤を必要に応じて適宜含有させても良い。
【０１９４】
［第３群の発明（積層体の製造方法）］
続いて本発明の製造方法について説明する。
【０１９５】
本発明の積層体の製造方法は、支持基材の少なくとも片面に、本発明（第２群の発明）の塗料組成物を１回のみ塗布し、次いで乾燥することにより、支持基材の少なくとも片面に屈折率の異なる第２層及び第１層をこの順に有し、第１層が粒子Ａを含有し、第２層が粒子Ｂを含有する積層体を形成する方法である。
【０１９６】
支持基材の少なくとも片面に塗料組成物を１回塗布するとは、支持基材に対して１回の塗布工程にて１種類の塗料組成物からなる１層の塗膜（液膜）を形成することを指す。そのため、１回の塗布工程にて複数層からなる塗膜を同時に１回塗布する多層同時塗布や、１回の塗布時に１層の塗膜を複数回の塗布、乾燥工程を有する連続逐次塗布、１回の塗布時に１層の塗膜を複数回塗布し、次いで乾燥する、ウェットオンウェット塗布などを含まない。
【０１９７】
また、乾燥するとは、支持基材上に塗布された塗料組成物に含まれる有機溶媒を減らす、もしくは除去することを指す。この乾燥のためには、対流伝熱、伝導伝熱、輻射伝熱等の方法による加熱を行うことが好ましい。
【０１９８】
なお、本発明の積層体の製造方法では、支持基材の少なくとも片面に塗料組成物を１回塗布することで形成した１層の塗膜について、加熱するなどして有機溶媒を減らす乾燥工程を経ることで、本発明の積層体を得ることができる。
【０１９９】
続いて、第３群の発明に係る製造方法の好ましい実施態様の一つを以下に例示する。
【０２００】
塗料組成物を、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法やダイコート法（米国特許２６８１２９４号明細書参照）などにより支持基材上に塗布する。
【０２０１】
次いで、支持基材上に塗布された塗膜を乾燥する。得られる積層体の積層膜中から完全に有機溶媒を除去する事に加え、塗膜中での粒子の運動を促進して表面移行性を向上させるという観点からも、乾燥工程では塗膜の加熱を伴うことが好ましい。乾燥初期においては０．１ｇ／（ｍ２．ｓ）以上１．４ｇ／（ｍ２．ｓ）以下の範囲の乾燥速度が得られるならば、特に特定の風速、温度に限定されない。
【０２０２】
さらに、乾燥工程後に形成された支持基材上の積層膜に対して、熱またはエネルギー線を照射する事によるさらなる硬化操作（硬化工程）を行ってもよい。この硬化工程は、前述の塗料組成物中のバインダー原料等の有する反応性部位間の反応を促進する工程を指す。硬化工程において、熱で硬化する場合には、支持基材の種類にもよるが、支持基材がプラスチックフィルムである場合には室温から２００℃であることが好ましく、硬化反応の活性化エネルギーの観点から、より好ましくは１００℃以上２００℃以下、さらに好ましくは１３０℃以上２００℃以下である。
【０２０３】
また、エネルギー線により硬化する場合には汎用性の点から電子線（ＥＢ線）及び／又は紫外線（ＵＶ線）であることが好ましい。また紫外線により硬化する場合は、酸素阻害を防ぐことができることから酸素分圧ができるだけ低い方が好ましく、窒素雰囲気下（窒素パージ）で硬化する方がより好ましい。
【０２０４】
硬化を熱により行う場合、乾燥工程と硬化工程とを同時におこなってもよい。
【０２０５】
上記に加えて、第３群の発明においては、表面のゼータ電位が制御された支持基材を用いることが好ましい。以下に詳しく説明する。
【０２０６】
塗料組成物を塗布する側の支持基材の面の、塗料組成物のｐＨにおけるゼータ電位（以下、支持基材のゼータ電位とする）が−１２ｍＶ以下で、塗料組成物を塗布する側の支持基材の面の表面自由エネルギー（以下、支持基材の表面自由エネルギーとする）は５２ｍＮ／ｍ以下であることが好ましい。より好ましくは、支持基材のゼータ電位が−１６ｍＶ以下であり、支持基材の表面自由エネルギーが４８ｍＮ／ｍ以下であることが好ましい。
【０２０７】
支持基材の表面自由エネルギーと支持基材のゼータ電位は、いずれも低い方が好ましいが、支持基材の表面自由エネルギーと支持基材のゼータ電位とは、完全には独立して制御することができないため、支持基材のゼータ電位を−１２ｍＶ以下として、同時に支持基材の表面自由エネルギーを５２ｍＮ／ｍ以下とするためには、支持基材の表面自由エネルギーの下限は４０ｍＮ／ｍ程度、支持基材のゼータ電位の下限は−３０ｍＶ程度である。
【０２０８】
本発明の製造方法において、支持基材のゼータ電位が−１２ｍＶより大きい、又は支持基材の表面自由エネルギーが５２ｍＮ／ｍより大きい場合には、得られる積層体の第１層と第２層との界面の形状に乱れを生じることがある。
【０２０９】
具体的には、本発明の製造方法において、支持基材の表面自由エネルギーが５２ｍＮ／ｍよりも大きくなると、塗膜乾燥過程にて、塗膜中の粒子ｂと支持基材とのｖａｎ  ｄｅｒ  Ｗａａｌｓ力による引力が過大になりすぎ、支持基材の表面で粒子ｂが拘束されることにより、粒子の均一な配列を阻害するため、得られる積層体の第１層と第２層の界面の乱れが大きくなることがある。
【０２１０】
また、本発明の製造方法において、支持基材のゼータ電位が−１２ｍＶよりも大きくなると、塗膜乾燥過程にて、塗膜中の粒子ｂと支持基材との静電斥力が小さくなり、支持基材の表面で粒子ｂが拘束されることにより粒子の均一な配列を阻害するため、得られる積層体の第１層と第２層の界面の乱れが大きくなることがある。
【０２１１】
さらに、本発明の製造方法では、支持基材の塗料組成物を塗布する側の面の算術表面粗さＲａ、および、表面自由エネルギーについても、好ましい値がある。つまり、本発明の製造方法では、支持基材の塗料組成物を塗布する側の面の算術表面粗さＲａ、表面自由エネルギー、ゼータ電位が、それぞれ、Ｒａ４０ｎｍ以下、表面自由エネルギー５２ｍＮ／ｍ以下、ゼータ電位−１２ｍＶ以下であることが好ましい。
【０２１２】
なお、支持基材が前述の機能性層を有し、前記機能性層上に本発明の塗料組成物を塗布して積層体を形成する場合には、機能性層の表面が、算術表面粗さＲａ、表面自由エネルギー、ゼータ電位の好ましい値（Ｒａ４０ｎｍ以下、表面自由エネルギー５２ｍＮ／ｍ以下、ゼータ電位−１２ｍＶ以下）であることが望ましい。
【０２１３】
前述したように、本発明の製造方法において、支持基材の塗料組成物を塗布する側の面のＪＩＳ  Ｒ  １６８３（２００７）に基づく算術平均粗さＲａは４０ｎｍ以下であることが好ましい。表面粗さは３５ｎｍ以下がさらに好ましく、３０ｎｍ以下が特に好ましい。算術表面粗さＲａが４０ｎｍよりも大きくなったりすると、粒子ａの表面移行性が不十分になって、膜中で凝集したり、第２層が第１層に浸入するなどして、透過光の着色低減効果や導電層のパターニングの視認性低下効果が得られなくなったり、積層膜上に導電層を面内均一に形成できなくなって表面抵抗値が上昇したり、塗膜の透明性が低下したりする。
【０２１４】
支持基材の積層膜を形成する側の面の表面自由エネルギーを５２ｍＮ／ｍ以下とし、さらに支持基材の積層膜を形成する側の面のゼータ電位を−１２ｍＶ以下とする方法は、特に限定されないが、支持基材の表面の機能性層の処方、すなわち機能性層を形成するための塗料組成物に含まれるオリゴマー、モノマーの種類を変えたり、前述の表面処理を施したりすることにより達成することができる。
【０２１５】
［第１〜３群の発明によって得られる積層体および積層膜］
積層体として良好な性質を示すには透明性が高いことが望ましい。透明性が低いと画像表示装置として用いた場合、画像彩度の低下などによる画質低下が生じることがある。
【０２１６】
本発明の積層体の透明性の評価にはヘイズ値、および全光線透過率を用いることができる。ヘイズはＪＩＳ−Ｋ  ７１３６（２０００）に規定された透明性材料の濁りの指標である。ヘイズは小さいほど透明性が高いことを示す。積層体のヘイズ値としては、好ましくは１．２％以下であり、より好ましくは１．０％以下、更に好ましくは０．８％以下であり、値が小さいほど透明性の点で良好であるものの、０％とすることは困難であり、現実的な下限値は０．０１％程度と思われる。ヘイズ値が２．０％以上であると、画像劣化が生じる可能性が高くなることがある。
【０２１７】
全光線透過率は、ＪＩＳ−Ｋ  ７３６１−１（１９９７）に規定された透明性材料の光透過性の指標であり、高いほど透明性が高いことを示す。積層体の全光線透過率としては、好ましくは８５％以上であり、より好ましくは８９％以上、更に好ましくは９１％以上である。現実的な上限値は９４％程度と思われる。全光線透過率が８５％以下であると、画像が暗くなることがある。
【０２１８】
また、第１群の発明に係る積層体、および、第３群の製造方法により得られる積層体の積層膜は、バインダーを含むことが好ましい。バインダー原料がそのままバインダーとして存在する場合は、好ましいバインダーの種類は［バインダー原料］の項目で記載された化合物を例示することができる。一方、バインダー原料がそのままバインダーとして存在しない場合、塗料組成物のバインダー原料として、［バインダー原料］の項目で記載された化合物を用いることが好ましい。
【０２１９】
また、第２群の発明に係る塗布組成物を用いて得られる積層体、および、第３群の発明に係る製造方法によって得られる積層体は、上記の［第１群の発明］の項目に記載された構成や特性を満足することが好ましい。
【０２２０】
そのため、例えば、第２群および第３群の発明によって得られる積層体は、第１層の表面の、ｐＨ１０におけるゼータ電位が−６０ｍＶ以下であることが好ましい。
【０２２１】
そして、積層体の第１層表面のゼータ電位は、積層体を形成するために用いる塗料組成物中の粒子ｂのゼータ電位に影響される。そのため、第１層の表面のゼータ電位を−６０ｍＶ以下とするためには、塗料組成物中には、粒子ｂが少なくとも１種類以上含まれていることが好ましく、塗料組成物中にゼータ電位の異なる２種類以上の粒子ｂを含んでも良い。
【０２２２】
本発明の積層体の第１層表面のゼータ電位は、ゼータ電位がマイナス側に大きい粒子ｂを用いることでマイナスが大きくなり(−６０ｍＶ以下となりやすく)、ゼータ電位がマイナス側に小さい粒子ｂを用いることでマイナスが小さくなる（−６０ｍＶより大きくなりやすい）。また、異なるゼータ電位を持つ２種類以上の粒子ｂを混合することにより、第１層表面のゼータ電位を好ましい範囲に調整することができる。
【０２２３】
本発明の積層体の第１層の表面のゼータ電位を−６０ｍＶ以下とするためには、本発明の塗料組成物中の粒子ｂとして、例えば酸化チタン（ゼータ電位：−２０ｍＶ）及び酸化ジルコニウム（ゼータ電位：−８０ｍＶ）を併用する方法が挙げられる。酸化チタンのようにゼータ電位がマイナス側に小さい粒子ｂであっても、酸化ジルコニウムのようにゼータ電位がマイナス側に大きい粒子ｂと混合することにより、粒子ｂ全体のゼータ電位はそれぞれのゼータ電位に体積比率を乗じた値となるため、体積比率の調整によりゼータ電位を好ましい値に調整することができ、該塗料組成物を用いた積層体の第１層の表面のゼータ電位を好ましい値に調整することができる。
【０２２４】
［第１〜３群の発明によって得られる積層体や積層体の呼称や用途］
なお、積層体を構成する支持基材がプラスチックフィルムの場合には、屈折率調整フィルム、インデックスマッチングフィルム、反射防止フィルムと呼ばれることがあり、屈折率を調整するための用途、屈折率を合わせるための用途、反射を防止するための用途に供せられる。
【０２２５】
また、支持基材上に形成される「積層膜」は、その機能からインデックスマッチング層、反射率調整層、光学機能層、光学調整層、または反射防止層とも呼ばれることがある。
【０２２６】
［第１〜３群の発明によって得られる積層体を用いてなる導電性積層体］
積層体の第１層上に導電層を形成することにより、本発明の導電性積層体を得ることができる。この導電性積層体とは、少なくとも支持基材上に第２層、第１層、及び導電層をこの順に積層した構成、すなわち、前記積層体の第１層の上に導電層を積層した構成である。
【０２２７】
この導電層は、透明導電性酸化物を含む層とすることができる。本発明における透明導電性酸化物は、酸化インジウムまたは酸化亜鉛を主成分とするものであって、酸化インジウムを主成分とするものは、酸化インジウム単独でも使用することができるが、導電性を付与する目的でドーピングをすることもできる。ドーピングには例えば、錫、亜鉛、ニオブ、タングステン、チタン、ジルコニウム、モリブデンなどがあるが、中でも錫がドーピングされたもの（ＩＴＯ）は、広く用いられている。酸化亜鉛を主成分とするものは、酸化亜鉛を単独で使用することもできるが、導電性を付与する目的でドーピングすることもできる。ドーピングには例えばインジウム、錫、アルミニウム、ホウ素、ガリウム、ケイ素などがある。これらの透明導電性酸化物層は公知の手法、例えば、スパッタリング法、有機金属化学気相堆積法（ＭＯＣＶＤ）、熱ＣＶＤ法、プラズマＣＶＤ法、分子線ビームエピタキシー法（ＭＢＥ）、またはパルスレーザー堆積法（ＰＬＤ）などが挙げられるが、大面積に均一に製膜できるという観点からスパッタリング法が好ましい。
【０２２８】
支持基材上に導電層が形成された導電性積層体は、導電性と光線透過率を上げるためにアニール処理をすることが好ましい。アニール雰囲気は真空または不活性ガス雰囲気下で行うことが好ましく、酸素雰囲気でアニールすると透明導電性酸化物が熱酸化され、導電率が低下（表面抵抗値の上昇）することがある。アニール温度は結晶性が向上する温度以上を必要とするが、一方で支持基材の観点からすれば低い温度である方が、熱収縮、シワ、カール、オリゴマーの析出、密着性の低下、着色などの観点から低いほど好ましいため、導電性、光線透過率が得られる範囲でできるだけ低い温度で行うことが好ましい。
【０２２９】
導電性積層体の用途は様々である。本発明の導電性積層体は、例えば、これを含むタッチパネルとして好適に用いることができる。タッチパネルを含む多くの用途では導電層を必要な形状に加工するパターニングが必要となる。一般的に導電層のパターニングは、導電性積層体の第１層上に均一に形成された導電層をエッチング処理することにより、導電層の不要部分を除去することにより行われる。このエッチング工程ではアルカリ溶液が用いられる場合が多く、そのため導電層の不要部分を除去する際には積層体の表面がアルカリ溶液中に露出される工程を経るため、積層体は耐アルカリ性が十分にあることが好ましい。
【０２３０】
ここで、前記耐アルカリ性とは、積層体のアルカリ溶液に対する耐久性を示すが、具体的な耐アルカリ性の評価方法については後述する。
【０２３１】
導電性積層体の表面抵抗値は用いられる用途により異なるが、特にパターニングを必要とする静電容量型タッチパネル用であれば、好ましくは５０〜５００Ω／□、更に好ましくは１００〜３００Ω／□とすることによって使用できる。表面抵抗値が５０Ω／□未満であったり、５００Ω／□を超えたりする場合、タッチパネルの認識精度が悪くなることがある。
【０２３２】
導電性積層体の導電層の膜厚は、４〜５０ｎｍの範囲が好ましく、更に好ましくは１０〜４０ｎｍである。導電層の膜厚が４ｎｍ未満の場合、連続した薄膜になりにくく、良好な導電性が得られにくくなる。一方、導電層の膜厚が５０ｎｍよりも厚い場合、透明導電性薄膜層をパターニングした際、導電層を有する部分と有しない部分の光学特性を近づけることが困難となる。
【０２３３】
ここで導電層とはその用途により異なるが、本明細書では表面抵抗値が１０６Ω／□よりも小さい層を意味する。特にその用途が本発明の主たる用途であるタッチパネル、特にパターニングを必要とする静電容量型タッチパネル用途であれば、導電層の表面抵抗値は好ましくは５０〜５００Ω／□、更に好ましくは１００〜３００Ω／□とすることによって使用できる。
【０２３４】
本発明の導電性積層体の１つの態様を図１０に示す。本発明の導電性積層体（５６）は、本発明の積層体（５７）の積層膜（５９）上に（第１層上に）、導電層（６０）を有する。さらに、図１１に本発明の導電性積層体の他の態様を示すが、この態様の導電性積層体（６３）は、部分的に導電層がある部分（６７）と、導電層が存在しないために、第１層が最表面に露出する部分（７０）とを有する。また、図１２に導電性積層体の他の態様を示すが、積層膜（７２）の導電性層（７５）を有する側とは反対側に、ハードコート層およびまたは易接着層（７８）を有し、さらに導電性積層体の導電層（７５）とは反対側にハードコート層およびまたは易接着層、アンチブロッキング層（７９）を有する支持基材（７３）を使用しても良い。
【０２３５】
［導電性積層体の製造方法］
本発明の導電性積層体は、本発明の積層体の第１層上に、真空蒸着法、スパッタリング法、ＣＶＤ法、イオンプレーティング法、スプレー法などを、必要とする膜厚に応じて、適宜用いて得ることができる。例えば、スパッタリング法の場合、酸化物ターゲットを用いた通常のスパッタリング法、あるいは、金属ターゲットを用いた反応性スパッタリング法等が用いられる。この時、反応性ガスとして、酸素、窒素、等を導入したり、オゾン添加、プラズマ照射、イオンアシスト等の手段を併用したりしてもよい。また、本発明の目的を損なわない範囲で、基板に直流、交流、高周波などのバイアスを印加してもよい。さらに、導電性、光透過性の向上のためアニール処理をおこなうことが好ましい。
【実施例】
【０２３６】
次に、実施例に基づいて本発明を説明するが、本発明は必ずしもこれらに限定されるものではない。【０２３７】
［フッ素ポリマーＡの調製］
［フッ素ポリマーＡ（１）の調製］
メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン１．９ｇとＣ６Ｆ１３−（ＣＨ２）６−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ２  ０．７５ｇ及び２，２−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）０．０９６ｇ、イソプロピルアルコール（ＩＰＡとも記す）１１ｇを加えた後、６０分間８０℃にて加熱撹拌し、固形分２５質量％のフッ素ポリマーＡ（１）とした。【０２３８】
［フッ素ポリマーＡ（２）の調製］
メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン２．１ｇとＣ６Ｆ１３−（ＣＨ２）６−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ２  １．９ｇ及び２，２−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）０．１３ｇ、イソプロピルアルコール１６．５ｇを加えた後、６０分間８０℃にて加熱撹拌し、固形分２５質量％のフッ素ポリマーＡ（２）とした。【０２３９】
［粒子ａおよびフッ素ポリマーＡを含有する混合液の調製］
［粒子ａおよびフッ素ポリマーＡを含有する混合液（１−１）の調製］
固形分２５質量％のフッ素ポリマーＡ（１）１１ｇとＩＰＡ分散コロイダルシリカ（日産化学工業株式会社製ＩＰＡ−ＳＴ：固形分濃度２０質量％、数平均粒子径１２ｎｍ）１０ｇに、１０質量％蟻酸水溶液０．１７ｇ、水０．３ｇを混合し、７０℃にて１時間撹拌した。その後、メチルエチルケトンを加え希釈し、固形分３．５質量％の「粒子ａおよびフッ素ポリマーＡを含有する混合液（１−１）」とした。調製後、後述の方法でフッ素ポリマーＡ、無機粒子、粒子ａ中のフッ素ポリマーＡに起因する部位の成分比率を調べた。これを表１に記載した。【０２４０】
［粒子ａおよびフッ素ポリマーＡを含有する混合液（２−１）の調製］
ＩＰＡ分散コロイダルシリカ（日産化学工業株式会社製コロイダルシリカゾル：固形分２０質量％、数平均粒子径１２ｎｍ）１０ｇに、メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン１．９ｇと１０質量％蟻酸水溶液０．１７ｇ、水０．３ｇを混合し、７０℃にて１時間撹拌した。ついで、Ｃ６Ｆ１３−（ＣＨ２）６−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ２  ０．７５ｇ及び２，２−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）０．０９６ｇを加えた後、６０分間８０℃にて加熱撹拌した。その後、メチルエチルケトンを加え希釈し、固形分３．５質量％の「粒子ａおよびフッ素ポリマーＡを含有する混合液（２−１）」とした。【０２４１】
［粒子ａおよびフッ素ポリマーＡを含有する混合液（２−２）〜（２−１１）、（５−１）、（６−１）〜（６−４）、（７−１）〜（７−３）の調製］
粒子ａおよびフッ素ポリマーＡを含有する混合液（２−１）と同様の方法で、表１に記載の処方で調製した。【０２４２】
［粒子ａおよびフッ素ポリマーＡを含有する混合液（３−１）の調製］
ＩＰＡ分散コロイダルシリカ（日産化学工業株式会社製コロイダルシリカゾル：固形分濃度２０質量％、数平均粒子径１２ｎｍ）１０ｇに、メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン１．９ｇと１０質量％蟻酸水溶液０．１７ｇ、水０．３ｇを混合し、７０℃にて１時間撹拌した。ついで、Ｃ６Ｆ１３−（ＣＨ２）６−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ２  ０．７５ｇ及び２，２−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）０．０２９ｇを加えた後、６０分間７０℃にて加熱撹拌した。その後、メチルエチルケトンを加え希釈し、固形分３．５質量％の「粒子ａおよびフッ素ポリマーＡを含有する混合液（３−１）」とした。【０２４３】
［粒子ａおよびフッ素ポリマーＡを含有する混合液（３−２）の調製］
粒子ａおよびフッ素ポリマーＡを含有する混合液（３−１）と同様の方法で、表１に記載の処方で調製した。【０２４４】
［粒子ａおよびフッ素ポリマーＡを含有する混合液（４−１）の調製］
ＩＰＡ分散コロイダルシリカ（日産化学工業株式会社製コロイダルシリカゾル：固形分濃度２０質量％、数平均粒子径１２ｎｍ）１０ｇに、メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン１．９ｇと１０質量％蟻酸水溶液０．１７ｇ、水０．３ｇを混合し、７０℃にて１時間撹拌した。ついで、Ｃ６Ｆ１３−（ＣＨ２）６−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ２  ０．７５ｇ及び２，２−アゾビスイソブチロニトリル０．０７５ｇを加えた後、６０分間９０℃にて加熱撹拌した。その後、メチルエチルケトンを加え希釈し、固形分３．５質量％の「粒子ａおよびフッ素ポリマーＡを含有する混合液（４−１）」とした。【０２４５】
［粒子ａおよびフッ素ポリマーＡを含有する混合液（４−２）の調製］
粒子ａおよびフッ素ポリマーＡを含有する混合液（４−１）と同様の方法で、表１に記載の処方で調製した。【０２４６】
［粒子ａおよびフッ素ポリマーＡを含有する混合液（８−１）の調製］
ＩＰＡ分散コロイダルシリカ（日産化学工業株式会社製コロイダルシリカゾル：固形分濃度２０質量％、数平均粒子径１２ｎｍ）１０ｇに、メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン１．１５ｇと１０質量％蟻酸水溶液０．１７ｇ、水０．３ｇを混合し、７０℃にて１時間撹拌した。ついで、Ｃ６Ｆ１３−（ＣＨ２）６−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ２  ０．７５ｇ及びγ−ブチロラクトンアクリレート０．７５ｇ、２，２−アゾビスイソブチロニトリル０．０９６ｇを加えた後、６０分間８０℃にて加熱撹拌した。その後、メチルエチルケトンを加え希釈し、固形分３．５質量％の「粒子ａおよびフッ素ポリマーＡを含有する混合液（８−１）」とした。【０２４７】
［粒子ａおよびフッ素ポリマーＡを含有する混合液（８−２）〜（８−１５）の調製］
粒子ａおよびフッ素ポリマーＡを含有する混合液（８−１）と同様の方法で、表１に記載の処方で調製した。【０２４８】
［粒子ａおよびフッ素ポリマーＡを含有する混合液（９−１）の調製］
ＩＰＡ分散コロイダルシリカ（日産化学工業株式会社製コロイダルシリカゾル：固形分濃度２０質量％、数平均粒子径１２ｎｍ）１０ｇに、メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン１．５３ｇと１０質量％蟻酸水溶液０．１７ｇ、水０．３ｇを混合し、７０℃にて１時間撹拌した。ついで、Ｃ６Ｆ１３−（ＣＨ２）６−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ２  ０．７５ｇ及びγ−ブチロラクトンアクリレート０．３７ｇ、２，２−アゾビスイソブチロニトリル０．０９６ｇを加えた後、６０分間８０℃にて加熱撹拌した。その後、メチルエチルケトンを加え希釈し、固形分３．５質量％の「粒子ａおよびフッ素ポリマーＡを含有する混合液（９−１）」とした。【０２４９】
［粒子ａおよびフッ素ポリマーＡを含有する混合液（９−２）、（９−３）の調製］
粒子ａおよびフッ素ポリマーＡを含有する混合液（９−１）と同様の方法で、表１に記載の処方で調製した。【０２５０】
［粒子ｂの選定］
下記材料をそれぞれ粒子ｂとした。【０２５１】
［粒子ｂ（１）］
二酸化チタン粒子分散物（粒子ｂのゼータ電位：−２０ｍＶ）
（ＥＬＣＯＭ  日揮触媒化成株式会社製：固形分３０質量％、数平均粒子径  ８ｎｍ）。【０２５２】
［粒子ｂ（２）］
酸化ジルコニウム粒子分散物（粒子ｂのゼータ電位：−８０ｍＶ）
（日産化学工業株式会社製：固形分３０質量％、数平均粒子径  １０ｎｍ）。【０２５３】
［粒子ｂ（３）］
下記材料を混合し、粒子ｂ（３）を得た。
二酸化チタン粒子分散物（粒子ｂのゼータ電位：−２０ｍＶ）    ５０．０  質量部
（ＥＬＣＯＭ  日揮触媒化成株式会社製：固形分３０質量％、数平均粒子径  ８ｎｍ）
酸化ジルコニウム粒子分散物（粒子ｂのゼータ電位：−８０ｍＶ）    ５０．０  質量部
（日産化学工業株式会社製：固形分３０質量％、数平均粒子径  １０ｎｍ）
粒子ｂ全体のゼータ電位：−５０ｍＶ。【０２５４】
［粒子ｂ（４）］
下記材料を混合し、粒子ｂ（４）を得た。
二酸化チタン粒子分散物（粒子ｂのゼータ電位：−２０ｍＶ）    ３０．０  質量部
（ＥＬＣＯＭ  日揮触媒化成株式会社製：固形分３０質量％、数平均粒子径  ８ｎｍ）
酸化ジルコニウム粒子分散物（粒子ｂのゼータ電位：−８０ｍＶ）    ７０．０  質量部
（日産化学工業株式会社製：固形分３０質量％、数平均粒子径  １０ｎｍ）
粒子ｂ全体のゼータ電位：−６２ｍＶ。【０２５５】
［塗料組成物の調製］
［塗料組成物（１）の調製］
下記材料を混合し、塗料組成物（１）を得た。【０２５６】
粒子ａおよびフッ素ポリマーＡを含有する混合液（２−１）    ５０．３  質量部
フッ素ポリマーＡ（１）（メチルエチルケトン（ＭＥＫ）にて固形分濃度３．５質量％に希釈）    ２．７  質量部
粒子ｂ（１）    ７．８  質量部
バインダー原料（ペンタエリスリトールトリアクリレート：ＰＥＴＡ）    １．５６質量部
光重合開始剤  （イルガキュア１２７：Ｉｒｇ１２７  チバスペシャリティケミカルズ社製）    ０．２６質量部
有機溶媒
メチルエチルケトン（ＭＥＫ）    ２６．４  質量部
エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート（ＥＧＭＢＡ）    １１．０  質量部。【０２５７】
［塗料組成物（２）〜（１７）、（１９）〜（２５）、（２８）、（３０）、および（３６）〜（５５）の調製］
塗料組成物（１）の調製と同様の方法で、表１に記載の処方で調製した。【０２５８】
［塗料組成物（１８）の調製］
下記材料を混合し、塗料組成物（１８）を得た。【０２５９】
粒子ａおよびフッ素ポリマーＡを含有する混合液（２−１）    ５３．０  質量部
フッ素化合物Ａ（Ｃ６Ｆ１３−（ＣＨ２）６−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ２）    ０．１５  質量部
粒子ｂ（１）    ７．８  質量部
バインダー原料（ペンタエリスリトールトリアクリレート：ＰＥＴＡ）    １．５６質量部
光重合開始剤  （イルガキュア１２７：Ｉｒｇ１２７  チバスペシャリティケミカルズ社製）    ０．２６質量部
有機溶媒  メチルエチルケトン（ＭＥＫ）    ２６．４  質量部
エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート（ＥＧＭＢＡ）    １１．０  質量部。【０２６０】
［塗料組成物（２６）の調製］
前記塗料組成物（１）に対し、バインダー原料（ＰＥＴＡ）をバインダー原料（ジペンタエリスリトールペンタアクリレート：ＤＰＰＡ）に変えた以外は同様にして、塗料組成物（２６）を得た。【０２６１】
［塗料組成物（２７）の調製］
前記塗料組成物（１）に対し、バインダー原料（ＰＥＴＡ）をバインダー原料（ウレタンアクリレートオリゴマー  ＵＡ−３０６Ｔ  共栄社化学株式会社）に変えた以外は同様にして、塗料組成物（２７）を得た。【０２６２】
［塗料組成物（２９）の調製］
下記材料を混合し、塗料組成物（２９）を得た。【０２６３】
粒子ａおよびフッ素ポリマーＡを含有する混合液（６−２）    ５０．０  質量部
フッ素化合物Ａ（Ｃ８Ｆ１７−（ＣＨ２）２−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ２）    ３．０  質量部
粒子ｂ（２）    ２７．０  質量部
バインダー原料（ペンタエリスリトールトリアクリレート：ＰＥＴＡ）    ６．７質量部
光重合開始剤  （イルガキュア１２７：Ｉｒｇ１２７  チバスペシャリティケミカルズ社製）    ０．３４質量部
有機溶媒  メチルエチルケトン（ＭＥＫ）    ７．６  質量部
エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート（ＥＧＭＢＡ）    ８．３  質量部。【０２６４】
［塗料組成物（３１）の調製］
前記塗料組成物（１）に対し、粒子ａ（２−１）を、粒子ａ（２−８）に変えた以外は同様にして、塗料組成物（３１）を得た。【０２６５】
［塗料組成物（３２）の調製］
前記塗料組成物（１）に対し、粒子ａ（２−１）を、粒子ａ（２−９）に変えた以外は同様にして、塗料組成物（３２）を得た。【０２６６】
［塗料組成物（３３）の調製］
前記塗料組成物（１）に対し、粒子ａ（２−１）を、粒子ａ（２−１０）に変えた以外は同様にして、塗料組成物（３３）を得た。【０２６７】
［塗料組成物（３４）の調製］
前記塗料組成物（１）に対し、粒子ａ（２−１）を、粒子ａ（２−１１）に変えた以外は同様にして、塗料組成物（３４）を得た。【０２６８】
［塗料組成物（３５）の調製］
前記塗料組成物（１）に対し、粒子ａ（２−１）を、粒子ａ（６−４）に変えた以外は同様にして、塗料組成物（３５）を得た。【０２６９】
［ハードコート塗料組成物１の調製］
下記材料を混合しハードコート塗料組成物１を得た。
ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ）    ３０．０質量部
イルガキュア９０７（チバスペシャリティケミカルズ社製）    １．５質量部
メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ    ７３．５質量部。【０２７０】
［ハードコート塗料組成物２の調製］
下記材料を混合しハードコート塗料組成物２を得た。
ウレタンアクリレートオリゴマー（ＥＢＥＣＲＹＬ８６５５  ダイセルサイテック社製）  ３０．０質量部
イルガキュア９０７（チバスペシャリティケミカルズ社製）    １．５質量部
メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）    ７３．５質量部。【０２７１】
［ハードコート塗料組成物３の調製］
下記材料を混合しハードコート塗料組成物３を得た。
ＰＶＡ系アクリレート（アクリル酸変性ポリビニルアルコール）    ３０．０質量部
イルガキュア９０７（チバスペシャリティケミカルズ社製）    １．５質量部
メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）    ７３．５質量部。【０２７２】
［アンチブロッキング塗料組成物の調製］
下記材料を混合しアンチブロッキング塗料組成物を得た。
アイカアイトロンＺ−７３９（アイカ工業株式会社）    ３６．４質量部
メチルエチルケトン（ＭＥＫ）    ３６．４質量部。【０２７３】
［塗料組成物の評価］
［粒子ａおよびフッ素ポリマーＡを含有する混合液を用いた粒子Ａ中の無機粒子部分、およびフッ素ポリマーＡ、および粒子ａ中のフッ素ポリマーＡに起因する部分の定量方法］
下記方法で定量を行った。【０２７４】
フッ素ポリマーＡの定量：
前記調製方法により得られた［粒子ａおよびフッ素ポリマーＡを含有する混合液］に対し、ヘキサンを大過剰添加して粒子ａを凝集させ、遠心分離機にて５０００ｒｐｍ／３０分間処理を行うことで沈降させ、沈殿物をさらにヘキサンで洗浄し、固体成分を粒子ａ、液体中に溶解している成分をフッ素ポリマーＡとして分離した。この質量比から粒子ａとフッ素ポリマーＡの比率を求めた。【０２７５】
粒子ａ中の無機粒子部分とフッ素ポリマーＡに起因する部分の定量：
前記方法で分離した粒子ａについて、波長分散型蛍光Ｘ線装置を用いて、ケイ素、フッ素、炭素、他原子の定量分析を行った。次いで、分析により得られたフッ素原子の量と使用したフッ素化合物Ａの構造から、フッ素ポリマーに起因する部分のフッ素化合物Ａの含有量を求められる。さらに分析により得られた炭素原子の量からフッ素化合物Ａ中の炭素量を引くことで、フッ素ポリマーに起因する部分の化合物Ｄの含有量を求められる。これらフッ素化合物Ａと化合物Ｄの含有量から、粒子ａ中のフッ素ポリマーＡに起因する部位の質量を求められる。無機粒子が特徴的な他の元素を含む場合には、その量から粒子Ａ中の無機粒子部分の質量を求められる。また、無機粒子がシリカの場合には、さらに分析により得られたケイ素原子の量から、化合物Ｄの構造と含有量よりもとめられる化合物Ｄ中のケイ素原子の量を引くことで、粒子Ａ中の無機粒子部分の質量を求めることができる。【０２７６】
［フッ素ポリマーＡの数平均分子量］
フッ素ポリマーＡの数平均分子量は、分子量既知の単分散ポリスチレンを標準物質として用い、以下の装置を用いて測定した。なおフッ素ポリマーＡは前述の方法により分離したものを用いることができる。
装置：島津製作所社製／ＬＣ−１０
分離カラム：Ｓｈｏｄｅｘ製：Ｋ−８０４＋Ｋ−８０５Ｌ
カラム温度：３５℃
溶媒：テトラヒドロフラン。【０２７７】
［塗料組成物のｐＨ］
後述の支持基材のゼータ電位を求めるのに必要な塗料組成物のｐＨは、ＪＩＳ  Ｚ  ８８０２（２０１１）に記載のガラス電極を用いたｐＨ測定方法に従い測定することができる。具体的には、堀場製作所製ｐＨメーターＤ５０を使用して測定した。【０２７８】
［化合物Ｅのアルカリ緩衝能力］
化合物Ｅのアルカリ緩衝能力は、化合物Ｅをイソプロピルアルコール：Ｈ２Ｏ＝９：１（質量基準）の混合液を用いて５質量％に希釈した溶液１００ｇに、ＮａＯＨ（０．１ｍｏｌ／ｌ）を添加し、ＪＩＳ  Ｚ８８０２(２０１１)に記載のガラス電極を用いたｐＨ測定方法にて測定した２５℃でのｐＨが、ｐＨ９を示すのに要するＮａＯＨ（０．１ｍｏｌ／ｌ）の消費量(ｍｌ)を測定することで得られる。具体的には、堀場製作所製ｐＨメーターＤ５０を使用して測定した。【０２７９】
［粒子ｂのゼータ電位］
粒子ｂのゼータ電位は、大塚電子株式会社製ゼータ電位・粒径測定システムＥＬＳＺ−１と、ポリスチレン製のラテックス粒子（モニター粒子：Standard particles for solid sample cell／大塚電子株式会社製）を１０ｍｍｏｌ／ｄｍ３のＮａＣｌ電解質を含む水溶液に分散させた標準粒子を用い、２５℃／ｐＨ７における電気浸透流を測定することにより求めた。【０２８０】
なお、塗料組成物中に２種類以上の粒子ｂを混合して用いる場合は、２種類以上の粒子ｂそれぞれのデータ電位に体積比率を乗じた値を、粒子ｂ全体のゼータ電位とした。【０２８１】
［支持基材の作成］  
以下、支持基材の作成方法を示す。各サンプルの構成については、表４にまとめる。【０２８２】
［支持基材１〜３の作成］
支持基材１〜３として、ＰＥＴ樹脂フィルム上に易接着層が形成されているＵ４８、Ｕ４６、Ｕ３４（東レ株式会社製）を用いた。【０２８３】
［支持基材４の作成］
支持基材１の易接着塗料が塗布されている面上に、前述のハードコート塗料組成物１をバーコーター（＃１０）を用いて塗布後、下記に示す乾燥を行った。【０２８４】
熱風温度  ７０℃
熱風風速  ３ｍ／ｓ
風向  塗布面に対して平行
乾燥時間  １．５分間。【０２８５】
次いで１６０Ｗ／ｃｍ２の高圧水銀灯ランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度６００Ｗ／ｃｍ２、積算光量８００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を、酸素濃度０．１体積％の下で照射して硬化させ、これを支持基材４とした。【０２８６】
［支持基材７の作成］
支持基材４のハードコート塗料組成物が塗布されていない面に、前述のアンチブロッキング塗料組成物をバーコーター（＃１０）を用いて塗布後、下記に示す乾燥を行った。【０２８７】
熱風温度  ７０℃
熱風風速  ３ｍ／ｓ
風向  塗布面に対して平行
乾燥時間  １．５分間。【０２８８】
次いで１６０Ｗ／ｃｍ２の高圧水銀灯ランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度６００Ｗ／ｃｍ２、積算光量８００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を、酸素濃度０．１体積％の下で照射して硬化させた。これを支持基材７とした。【０２８９】
［支持基材８の作成］
支持基材４の作製方法において、ハードコート塗料組成物１をハードコート塗料組成物２に変えた以外は同様にして、ハードコート層を作成し、次いでハードコート塗料組成物が塗布されていない面に支持基材７と同様の作成方法にてアンチブロッキング層を作成し、これを支持基材８とした。【０２９０】
［支持基材９の作成］
支持基材４の作製方法において、ハードコート塗料組成物１をハードコート塗料組成物３に変えた以外は同様にして、ハードコート層を作成し、次いでハードコート塗料組成物が塗布されていない面に支持基材７と同様の作成方法にてアンチブロッキング層を作成し、これを支持基材９とした。【０２９１】
［支持基材の評価］
支持基材について、積層膜を形成する側の面のゼータ電位と表面自由エネルギーの測定を行い、得られた結果を表に示す。特に断りのない場合を除き、測定は各実施例・比較例において１つのサンプルについて場所を変えて３回測定を行い、その平均値を用いた。【０２９２】
［支持基材のゼータ電位］
支持基材の積層膜を形成する側の面のゼータ電位は、大塚電子株式会社製ゼータ電位・粒径測定システムＥＬＳＺ−１の平板試料用ユニットを用いて、Ｎａ２ＳＯ４を緩衝剤として混合し、ＨＣｌとＮａＯＨにてｐＨを塗料組成物のｐＨに調整された水溶液を用いて測定した。【０２９３】
［支持基材の表面自由エネルギー］
支持基材の積層膜を形成する側の面の表面自由エネルギーは、水、エチレングリコール、ホルムアミド、ジヨードメタンの接触角を協和界面科学製自動接触角計ＤＭ−５０１を用いて測定し、その平均値を用いて同装置付属の解析ソフトソフト「ＦＡＭＡＳ」を用いて算出した。算出原理はＯｗｅｎｓの方法（Ｊ．Ａｐｐｌ．Ｐｏｌｙｍ．Ｓｃｉ．，１３，１７４１（１９６９）に基づくものである。測定は各サンプルについて４点行い、平均した。【０２９４】
［積層体の製造方法］
以下、積層体の作成方法を示す。各積層体の構成を表４に示す。
ハードコード層が形成されている支持基材を用いる場合にはハードコート層上に、易接着層が形成されている支持基材を用いる場合には易接着層の上に、前述の塗料組成物をバーコーター（＃３）で塗布後、下記に示す第一段階の乾燥を行い、次いで第二段階の乾燥を行った。【０２９５】
第一段階
熱風温度  ５０℃
熱風風速  １．５ｍ／ｓ
風向  塗布面に対して平行
乾燥時間  ０．５分間
第二段階
熱風温度  １００℃
熱風風速  ５ｍ／ｓ
風向  塗布面に対して垂直
乾燥時間  １分間
なお、熱風の風速は吹き出し部の動圧測定値から風速に換算した値である。【０２９６】
乾燥後、１６０Ｗ／ｃｍ２の高圧水銀灯ランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度６００Ｗ／ｃｍ２、積算光量８００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を、酸素濃度０．１体積％の下で照射して硬化させた。【０２９７】
表４に示す支持基材と塗料組成物処方の組み合わせで、実施例１〜３２、比較例１〜８の積層体を作成した。【０２９８】
［積層体の評価］
積層体について次に示す性能評価を実施し、得られた結果を表に示す。特に断りのない場合を除き、測定は各実施例・比較例において、１つのサンプルについて場所を変えて３回測定を行い、その平均値を用いた。【０２９９】
また、導電性積層体のヘイズ、導電性積層体の表面抵抗値、導電層の密着性、導電層パターニングの視認性の評価においては、下記の要領で積層体の第１層上に導電層を形成し、次いでパターニング処理を行ったサンプルにて行った。【０３００】
［第１層表面のゼータ電位］
積層体の第１層の表面のｐＨ１０におけるゼータ電位は、大塚電子株式会社製ゼータ電位・粒径測定システムＥＬＳＺ−１の平板試料用ユニットを用いて、ＮａＯＨにてｐＨ１０に調整された水溶液を電解質として用い、ポリスチレンラテックスをモニター粒子（Standard particles for solid sample cell／大塚電子株式会社製）として電気浸透流を測定することにより求めた。【０３０１】
［積層体の耐アルカリ性］
積層体の耐アルカリ性は、積層体を６０℃に加温した２質量％のＮａＯＨ水溶液中に５分間浸漬させた後、純水で洗浄し、乾燥後のアルカリ浸漬部分と、未浸漬部分とを反射分光光度計（島津製作所製、商品名：［ＵＶ−３０００］）により、２００ｎｍ〜８００ｎｍの範囲で反射率を測定し、その差を反射率差（ΔＲ）として求め、ΔＲが１．２以下（ＡおよびＢ）を合格とした。
ΔＲ  １．０以下        Ａ
ΔＲ  １．２以下        Ｂ
ΔＲ  １．３以上        Ｃ。【０３０２】
［導電層の形成］
［導電層の形成１］
前記積層体の第１層上にインジウム−スズ複合酸化物からなる導電層を成膜した。このとき、スパッタリング前の圧力を１０−５Ｐａとし、ターゲットとして酸化スズを３６質量％含有した酸化インジウム（住友金属鉱山株式会社製、密度６．９ｇ／ｃｍ３）に用いて、２Ｗ／ｃｍ２のＤＣ電力を印加した。また、Ａｒガスを１３０ｓｃｃｍ、Ｏ２ガスを表面抵抗値が最小となる流速で流し、０．６７Ｐａの雰囲気下でＤＣマグネトロンスパッタリング法を用いて成膜した。【０３０３】
ただし、通常のＤＣではなく、アーク放電を防止するために、日本イーエヌアイ製ＲＰＧ−１００を用いて５μｓ幅のパルスを５０ｋＨｚ周期で印加した。また、センターロール温度は１０℃とし、スパッタリングを行った。【０３０４】
このとき、雰囲気の酸素分圧をスパッタプロセスモニター（ＬＥＹＢＯＬＤ  ＩＮＦＩＣＯＮ社製、ＸＰＲ２）にて常時観測しながら、インジウム−スズ複合酸化物からなる導電層中の酸化度が一定になるように酸素ガスの流量計及びＤＣ電源にフィートバックした。【０３０５】
スパッタリング後、真空度０．０１Ｐａ以下、温度１６０℃の条件下で１０分間アニールを行い厚さ３０ｎｍ、屈折率１．９６のインジウム−スズ複合酸化物からなる導電層を堆積させて導電性積層体を作成した。【０３０６】
［導電層の形成２］
前記導電層の形成１に対して、アニール時温度を１３０℃に変えた以外は同様にして、導電性積層体を作成した。【０３０７】
［導電性積層体の導電層のパターニング］
前記導電層の形成１により作成した導電性積層体に、エッチングレジストを印刷した後、１Ｎ塩酸中に浸漬、次いでアルカリ浸漬により、１×３ｃｍの導電層のパターンを形成した（以下、これをパターン形成済み導電性積層体とする）。【０３０８】
［第１層、第２層の屈折率］
第１層、第２層の個々の屈折率は、積層体の積層膜に対して反射分光膜厚計（大塚電子製、商品名［ＦＥ−３０００］）により、３００〜８００ｎｍの範囲での反射率を測定し、該装置付属のソフトウェア［ＦＥ−Ａｎａｌｙｓｉｓ］を用い、大塚電子株式会社製［膜厚測定装置  総合カタログＰ６（非線形最小二乗法）］に記載の方法に従い、５５０ｎｍにおける屈折率を求めた。【０３０９】
屈折率の波長分散の近似式としてＣａｕｃｈｙの分散式（数式１）を用い最小二乗法（カーブフィッティング法）により、光学定数（Ｃ１、Ｃ２、Ｃ３）を計算し、５５０ｎｍにおける屈折率を測定した。【０３１０】
【数１】
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【０３１１】
［第１層と第２層とで形成される界面の状態］
積層体の断面を、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）を用いて観察することにより、積層膜中の第１層と第２層とで形成される界面の状態を観察した。界面状態の判断は以下の基準で行った。【０３１２】
積層膜の超薄切片に対し、ＴＥＭにより２０万倍の倍率で撮影した画像（縦８０ｎｍ、横６００ｎｍ）を、ソフトウェア（画像処理ソフトＩｍａｇｅＪ／開発元：アメリカ国立衛生研究所(ＮＩＨ)）にて、ホワイトバランスを最明部と最暗部が８ｂｉｔのトーンカーブに収まるように調整した。さらに界面が明確に見分けられるようにコントラストを調節した。  このとき１つの層と他の層との間に明確な境界を引くことができる場合を、明確な界面があるとみなし、ＡおよびＢを合格とした。
全域において明確な境界を引くことができる    Ａ
明確な境界を大半の部分で引くことができる    Ｂ
明確な境界を引くことができない部分が多い    Ｃ。【０３１３】
［第１層と第２層の平均膜厚］
透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）を用いて断面を観察することにより、支持基材上の第１層と第２層の厚みを測定した。各層の厚みは、以下の方法に従い測定した。積層膜の断面の超薄切片をＴＥＭにより２０万倍の倍率で撮影した画像から、ソフトウェア（画像処理ソフトＩｍａｇｅＪ）にて各層の厚みを読み取った。合計で３０点の層厚みを測定して求めた平均値を、平均膜厚とした。【０３１４】
［第１層表面の開口部の数］
走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）を用いて、積層体表面を観察することにより、開口部の数を以下の方法によりカウントした。
ＳＥＭにて５万倍の倍率で撮影した画像から、４μｍ２（２μｍ×２μｍ）毎に画像を切り出し、ソフトウェア（画像処理ソフトＩｍａｇｅＪ／開発元：アメリカ国立衛生研究所(ＮＩＨ)）にてホワイトバランスを最明部と最暗部が８ｂｉｔのトーンカーブに収まるように調整した。さらに表面で粒子が明確に見分けられるようにコントラストを調節した。画像認識により開口部を抽出して、内接直径を求め、それに対して後述の方法により求めた粒子Ａの数平均粒子径ＤＡの３倍以上の内接直径を有する開口部をカウントした。この評価を５視野について行い、その平均値から下記のクラス分けを行い、３点以上を合格とした。
５点    開口部の数  １以下
４点    開口部の数  １より多く  ３以下
３点    開口部の数  ３より多く  ５以下
２点    開口部の数  ５より多く  １０以下
１点    開口部の数  １０より多い。【０３１５】
［Ｌｘ、ＳＬｘの算出］
走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）を用いて、積層体表面を観察することにより、画像処理ソフトＩｍａｇｅＪを用いて粒子Ｘの座標を求め、粒子Ｘの無機粒子部分の平均粒子中心間距離［ｎｍ］を以下の方法により求めた。【０３１６】
具体的には次の手順で行った。ＳＥＭにより５万倍の倍率で撮影した画像（縦１．８μｍ、横２．５μｍ）を、ソフトウェア（画像処理ソフトＩｍａｇｅＪ／開発元：アメリカ国立衛生研究所(ＮＩＨ)）にて、ホワイトバランスを最明部と最暗部が８ｂｉｔのトーンカーブに収まるように調整し、さらに無機粒子部分が明確に見分けられるようにコントラストを調節後、画像内の各々の無機粒子部分についてその中心座標を求めた。なお、粒子Ｘの無機粒子部分の中心点（中心座標）とは、当該無機粒子部分の外接円の中心とする。【０３１７】
次いで、画像内の一つの粒子Ｘの無機粒子部分に着目し、当該無機粒子部分の中心と、当該無機粒子部分に隣接する粒子Ｘの無機粒子部分の中心との間の距離を求めた。当該中心間距離を求めるに際しては、先に求めた無機粒子部分の中心座標を用いた。【０３１８】
ここで、「隣接する無機粒子部分」とは、中心間距離を示す直線上に他の粒子が存在しないような無機粒子部分を指す。また、「隣接する無機粒子部分」は、当該無機粒子部分（着目した一つの粒子Ｘの無機粒子部分）と、接していても良いし、接していなくても良い。「隣接する無機粒子部分」について、図４を用いてさらに詳細に説明する。図４において、粒子Ｘの無機粒子部分（２６）に着目すると、粒子Ｘの無機粒子部分（２６）の中心と、粒子Ｘの無機粒子部分（２３）の中心との中心間距離を示す直線（８４）上には、他の粒子Ｘの無機粒子部分（８５）が存在している。この場合、粒子Ｘの無機粒子部分（２３）は、隣接する粒子Ｘの無機粒子部分とはならない。一方、粒子Ｘの無機粒子部分（２６）と、粒子Ｘの無機粒子部分（２７）との中心間距離を示す直線（２８）上には、他の粒子Ｘの無機粒子部分が存在しない。したがって、粒子Ｘの無機粒子部分（２７）は、粒子Ｘの無機粒子部分（２６）に隣接する無機粒子部分である。同様に、粒子Ｘの無機粒子部分（８５）、（８６）、（８７）、（８８）および（８９）も、粒子Ｘの無機粒子部分（２６）に隣接する無機粒子部分である。【０３１９】
このように、一つの無機粒子部分に対して「隣接する無機粒子部分」は複数存在し得る。そのため、複数の隣接する無機粒子部分が存在する場合は、それぞれについて中心間距離を得るものとする。例えば、図４において、粒子Ｘの無機粒子部分（２６）に着目した場合、粒子Ｘの無機粒子部分（２６）と（２７）の中心間距離、（２６）と（８５）の中心間距離、（２６）と（８６）の中心間距離、（２６）と（８７）の中心間距離、（２６）と（８８）の中心間距離、および（２６）と（８９）の中心間距離をそれぞれ得るものとする。【０３２０】
画像内に存在する全ての粒子Ｘの無機粒子部分について、同様の方法で、中心間距離を得るものとする。得られた全ての中心間距離の算術平均値を、粒子Ｘの無機粒子部分の平均粒子中心間距離Ｌｘ［ｎｍ］とする。【０３２１】
また、得られた全ての中心間距離から、Ｅｘｃｅｌ（２００３）のＳＴＤＥＶＰ関数を用いて標準偏差を求め、これをＳＬｘとする。【０３２２】
［Ｆ１２、Ａ１２の算出］
積層体の断面を、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）を用いて観察することにより、「第１層と第２層とで形成される界面の状態」の項に記した方法で区別した界面に対し、画像処理ソフトによりＩｍａｇｅＪを用いて、２層の境界部の座標を求め、それを元に波形データを作成し、これをフーリエ変換することで、輪郭曲線の周波数分布（横軸：周波数、縦軸：振幅）をとったプロット、いわゆるパワースペクトルを作成し、パワースペクトルより振幅が最も大きくなる点の振幅を輪郭曲線の振幅と、その点の周波数の逆数から輪郭曲線の波長を求めた。【０３２３】
具体的には次の手順で行った。積層膜の超薄切片をＴＥＭにより２０万倍の倍率で撮影した画像（縦８０ｎｍ、横６００ｎｍ）を、ソフトウェア（画像処理ソフトＩｍａｇｅＪ／開発元：アメリカ国立衛生研究所(ＮＩＨ)）にて、ホワイトバランスを最明部と最暗部が８ｂｉｔのトーンカーブに収まるように調整し、さらに２種類の粒子が明確に見分けられるようにコントラストを調節後、２値化を行い、次いで境界部の座標を求めた。さらにこの境界部の座標に対しフーリエ変換を行い、輪郭曲線の周波数分布（横軸：周波数、縦軸：振幅）をとったプロット、いわゆるパワースペクトルを作成し、パワースペクトルより振幅が最も大きくなる点の振幅を輪郭曲線の振幅と、その点の周波数の逆数から輪郭曲線の波長を求め、これをＡ１２、Ｆ１２とした。【０３２４】
［数平均粒子径（ＤＸ、ＤＹ）］
透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）を用いて断面を観察することにより、［第１層と第２層とで形成される界面の状態］に記載の方法で区別した第１層、第２層に対し、同画像から第１層に含まれる粒子Ｘの無機粒子部分１００個について、その外径を画像処理ソフトによって計測し、その値をＪＩＳＺ８８１９−２（２００１）記載の個数基準算術平均長さ径の計算方法に従って計算し、得られた値を粒子Ｘの数平均粒子径ＤＸとした。第２層についても同様にして、粒子Ｙの数平均粒子径ＤＹを求めた。【０３２５】
ここで外径とは、粒子の最大の径（つまり粒子の長径であり、粒子中の最も長い径を示す）を表す。【０３２６】
［積層体の透明性］
積層体の透明性はヘイズ値を測定することにより判定した。ヘイズ値の測定はＪＩＳ−Ｋ７１３６（２０００）に基づき、日本電色工業（株）製ヘイズメーターを用いて、積層体サンプルの支持基材とは反対側（積層膜側）から光を透過するように装置に置いて測定を行い、ヘイズ値が１．２％以下を合格とした。【０３２７】
［導電層の透明性］
導電性積層体の透明性は、導電層の形成１で作成した導電性積層体についてヘイズ値を測定することにより判定した。ヘイズ測定はＪＩＳ−Ｋ７１３６（２０００）に基づき、日本電色工業（株）製ヘイズメーターを用いて、導電性積層体サンプルの支持基材とは反対側（導電層側）から光を透過するように装置に置いて測定を行い、ヘイズ値が１．５％以下を合格とした。【０３２８】
［導電層の表面抵抗値、およびアニール温度低下効果］
導電層の形成１、２により得られた導電性積層体について、ＪＩＳ−Ｋ７１９４（１９９４）に準拠し、４端子法にて表面抵抗値を測定した。測定器は、ダイアインスツルメンツ製ロレスタ−ＥＰを用いた。導電性積層体の導電率は、導電層の形成１で得られた導電性積層体の表面抵抗値が１８０Ω／□以下を合格とした。また、アニール温度の低下効果については、導電層の形成２で得られた導電性積層体（１３０℃アニール品）と導電層の形成１で得られた導電性積層体（１６０℃アニール品）の差表面抵抗値の差が３０Ω／□以下を合格とした。【０３２９】
［導電層の密着性］
導電層の形成１で形成した導電性積層体に対して、常態下（２３℃、相対湿度６５％）で、導電層を有する面に１ｃｍ２のクロスカットを１００個入れ、ニチバン株式会社製セロハンテープをその上に貼り付け、ゴムローラーを用いて、荷重１９．６Ｎで３往復させ、押し付けた後、９０度方向に剥離し、導電層の残存した個数により５段階評価（５：９１個〜１００個、４：８１個〜９０個、３：７１個〜８０個、２：６１個〜７０個、１：０個〜６０個）し、３以上を合格とした。【０３３０】
［導電層のパターン視認性（正面観察）］
パターン形成済み導電性積層体の導電層とは反対側に黒色のテープを貼り付け、サンプルに対して正面から観察したときの導電層パターンの見え方を５段階で評価し、下記の判断基準で３以上を合格とした。【０３３１】
５：  パターンが全く見えない
４：  パターンがかすかに見える
３：  パターンがやや見えるが、気にならない
２：  パターンがやや見え、気になる
１：  パターンが明確に見える。【０３３２】
［導電層のパターン視認性（傾斜観察）］
パターン形成済み導電性積層体の導電層とは反対側に黒色のテープを貼り付け、サンプルに対して４０〜６０°方向から観察したときの導電層のパターンの見え方を５段階で評価し、下記の判断基準で３以上を合格とした。【０３３３】
５：  パターンが全く見えない
４：  パターンがかすかに見える
３：  パターンがやや見えるが、気にならない
２：  パターンがやや見え、気になる
１：  パターンが明確に見える。【０３３４】
［導電層パターンの面内ばらつき］
前記パターン形成済み導電層積層体の、パターンの見え具合、および色味の面内ばらつきについて、幅方向（３箇所）、巻き方向（３箇所）について行い、その差を比較し下記の判断基準で３以上を合格とした。【０３３５】
５：  いずれの場所でも導電層パターンの見え具合、色味が同じに見える
４：  導電層パターンの見え具合、色味が場所によりかすかに異なる
３：  導電層パターンの見え具合、色味が場所にやや異なるが、気にならない
２：  導電層パターンの見え具合、色味が場所に異なり、気になる
１：  導電層パターンの見え具合、色味が場所によって明確に異なる。【０３３６】
表１に粒子ａおよびフッ素ポリマーＡを含有する混合液の処方、フッ素ポリマーＡの数平均分子量、各成分の比率を、表２に塗料組成物の組成を、表３に塗料組成物中の成分比率を、表４に支持基材と積層体の構成と評価結果を、表５に導電性積層体の評価結果をまとめた。【０３３７】
評価項目において１項目でも合格とならないものについて、課題未達成と判断した。表１から５に示すように本発明の実施例は、本発明が解決しようとする第一、第二課題の両方を達成している。【０３３８】
該塗料組成物に使用しているフッ素化合物Ａが本発明の好ましい化合物から外れる実施例１１は、ＰＦＯＡに該当する化合物であるが、積層体の特性としては許容できる範囲であった。
該塗料組成物のフッ素ポリマーＡの数平均分子量が本発明の好ましい範囲よりも小さい実施例１４は、界面の状態、導電性積層体の透明性、パターンの視認性がやや劣るが、許容できる範囲であった。【０３３９】
該塗料組成物のフッ素ポリマーＡの数平均分子量が本発明の好ましい範囲よりも大きい実施例１７は、パターンの視認性がやや劣るが、許容できる範囲であった。【０３４０】
該積層体の製造方法において、支持基材のゼータ電位が本発明の好ましい範囲よりも大きい、実施例３０、３１は、積層体、および導電性積層体の透明性、パターンの視認性がやや劣るが、許容できる範囲であった。【０３４１】
該積層体の製造方法において、支持基材の表面自由エネルギーが本発明の好ましい範囲よりも大きい、実施例３１は、積層体、および導電性積層体の透明性、パターンの視認性がやや劣るが、許容できる範囲であった。【０３４２】
【表１−１−１】
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【０３４３】
【表１−１−２】
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【０３４４】
【表１−１−３】
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【０３４５】
【表１−１−４】
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【０３４６】
【表１−２−１】
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【０３４７】
【表１−２−２】
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【０３４８】
【表１−２−３】
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【０３４９】
【表１−２−４】
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【０３５０】
【表１−２−５】
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【０３５１】
【表１−３−１】
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【０３５２】
【表１−３−２】
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【０３５３】
【表１−３−３】
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【０３５４】
【表１−３−４】
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【０３５５】
【表１−３−５】
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【０３５６】
【表１−３−６】
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【０３５７】
【表２−１−１】
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【０３５８】
【表２−１−２】
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【０３５９】
【表２−２−１】
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【０３６０】
【表２−２−２】
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【０３６１】
【表３−１−１】
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【０３６２】
【表３−１−２】
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【０３６３】
【表３−２−１】
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【０３６４】
【表３−２−２】
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【０３６５】
【表４−１−１】
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【０３６６】
【表４−１−２】
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【０３６７】
【表４−２−１】
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【０３６８】
【表４−２−２】
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【０３６９】
【表４−３−１】
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【０３７０】
【表４−３−２】
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【０３７１】
【表５−１】
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【０３７２】
【表５−２】
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【符号の説明】
【０３７３】
１、８、１５、３２、４０、４８、５７、６４、７２・・・積層体  
２、９、１６、３３、４１、４９、５８、６５、７３・・・支持基材
３、１０、１７、３４、４２、５０、５９、６６、７４・・・積層膜
４、１１、１８、３５、４３、５１、６１、６８、７６・・・第１層
５、１２、１９、３６、４４、５２、６２、６９、７７・・・第２層
６、１３、２１、２３、２６、２７、３７、４５、５３、８５、８６、８７、８８、８９・・・粒子Ｘの無機粒子部分
７、１４、２０、３９、４７、５５・・・粒子Ｙの無機粒子部分
２２・・・開口部
２４・・・外接円
２５・・・外接円の中心（粒子Ｘの無機粒子部分の中心点）
２８、８４・・・粒子Ｘの無機粒子部分の中心間距離
２９、３８、４６、５４・・・界面の輪郭曲線
３０・・・界面の輪郭曲線の振幅
３１・・・界面の輪郭曲線の波長
５６、６３、７１・・・導電性積層体
６０、６７、７５・・・導電層
７０・・・第１層が最表面に露出する部分
７８・・・ハードコート層およびまたは易接着層
７９・・・ハードコート層およびまたは易接着層、アンチブロッキング層
８０・・・開口部の内接円
【図６】
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【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【国際調査報告】
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