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【手続補正書】
【提出日】平成27年8月6日(2015.8.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
当該機器において発生する事象の種別のうち、ネットワークを介して接続される情報処理装置への通知対象とされる事象の種別を記憶する記憶手段と、
当該機器において発生した事象が、前記記憶手段が記憶する種別に係る事象である場合に、当該事象に関する情報を前記情報処理装置に送信する送信手段とを有する機器と、
前記機器の事象の配信先の識別情報を記憶する配信先記憶手段と、
前記機器の事象に関する情報の受信に応じ、前記配信先記憶手段が記憶する前記識別情報に係る配信先に、該情報を送信する配信手段とを有する前記情報処理装置とを有する情報処理システム。
【請求項２】
前記機器は、ネットワークを介して受信される表示データに基づく画面を表示させる表示制御手段を有し、
前記記憶手段は、前記画面を介して選択される事象の種別を記憶する請求項１記載の情報処理システム。
【請求項３】
前記記憶手段は、前記画面に対する入力に応じて前記表示制御手段が前記表示データに含まれているスクリプトに基づいて実行する処理に応じ、前記画面を介して選択される事象の種別を記憶する請求項２記載の情報処理システム。
【請求項４】
前記配信先記憶手段は、前記配信先の識別情報に関連付けて前記事象の種別を記憶し、
前記配信手段は、前記機器の事象に関する情報の受信に応じ、当該事象の種別に関連付けて前記配信先記憶手段が記憶する前記識別情報に係る配信先に、前記情報を送信する請求項１乃至３いずれか一項記載の情報処理システム。
【請求項５】
ネットワークを介して機器に接続される情報処理装置であって、
前記機器の事象に関する情報の配信先の識別情報を記憶する配信先記憶手段と、
前記機器の事象に関する情報の受信に応じ、前記配信先記憶手段が記憶する前記識別情報に係る配信先に、該情報を送信する配信手段とを有し、
前記機器は、
当該機器において発生する事象の種別のうち、前記情報処理装置への通知対象とされる事象の種別を記憶する記憶手段と、
当該機器において発生した事象が、前記記憶手段が記憶する種別に係る事象である場合に、当該事象に関する情報を前記情報処理装置に送信する送信手段とを有する情報処理装置。
【請求項６】
機器が、
当該機器において発生する事象の種別のうち、ネットワークを介して接続される情報処理装置への通知対象とされる事象の種別を記憶手段に記憶する記憶手順と、
当該機器において発生した事象が、前記記憶手段が記憶する種別に係る事象である場合に、当該事象に関する情報を前記情報処理装置に送信する送信手順とを実行し、
前記情報処理装置が、
前記機器の事象に関する情報の配信先の識別情報を配信先記憶手段に記憶する配信先記憶手順と、
前記機器の事象に関する情報の受信に応じ、前記配信先記憶手段が記憶する前記識別情報に係る配信先に、該情報を送信する配信手順とを実行する情報処理方法。
【請求項７】
機器にネットワークを介して機器に接続される情報処理装置が、
前記機器の事象に関する情報の配信先の識別情報を配信先記憶手段に記憶する配信先記憶手順と、
前記機器の事象に関する情報の受信に応じ、前記配信先記憶手段が記憶する前記識別情報に係る配信先に、該情報を送信する配信手順とを実行し、
前記機器が、
当該機器において発生する事象の種別のうち、前記情報処理装置への通知対象とされる事象の種別を記憶手段に記憶する記憶手順と、
当該機器において発生した事象が、前記記憶手段が記憶する種別に係る事象である場合に、当該事象に関する情報を前記情報処理装置に送信する送信手順とを実行する情報処理方法。
【請求項８】
機器に、
当該機器において発生する事象の種別のうち、ネットワークを介して接続される情報処理装置への通知対象とされる事象の種別を記憶手段に記憶する記憶手順と、
当該機器において発生した事象が、前記記憶手段が記憶する種別に係る事象である場合に、当該事象に関する情報を前記情報処理装置に送信する送信手順とを実行させるプログラム。
【請求項９】
ネットワークを介して機器に接続される情報処理装置に、
前記機器の事象に関する情報の配信先の識別情報を配信先記憶手段に記憶する配信先記憶手順と、
前記機器の事象に関する情報の受信に応じ、前記配信先記憶手段が記憶する前記識別情報に係る配信先に、該情報を送信する配信手順とを実行させ、
前記機器は、
当該機器において発生する事象の種別のうち、前記情報処理装置への通知対象とされる事象の種別を記憶する記憶手段と、
当該機器において発生した事象が、前記記憶手段が記憶する種別に係る事象である場合に、当該事象に関する情報を前記情報処理装置に送信する送信手段とを有するプログラム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】情報処理システム、情報処理装置、情報処理方法、及びプログラム
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、情報処理システム、情報処理装置、情報処理方法、及びプログラムに関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明は、上記の点に鑑みてなされたものであって、機器において発生する事象をネットワークを介して検知させることのできる情報処理システム、情報処理装置、情報処理方法、及びプログラムの提供を目的とする。
【手続補正書】
【提出日】平成27年2月23日(2015.2.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
無線通信機能を備えた機器へと電力供給線を介して電力を供給する電力供給部と、
前記電力供給線を介して高周波信号を用いた負荷変調により前記機器の記憶部より前記機器の前記無線通信機能を使用する際に必要とする設定情報を読み取るリーダライタ部と
を含む電力供給装置。
【請求項２】
前記リーダライタ部を制御して、前記設定情報を前記機器の記憶部に書きこませるように制御する制御部をさらに含む
請求項１に記載の電力供給装置。
【請求項３】
前記リーダライタ部により読み出された設定情報が、自らとの無線通信に有効ではない場合、前記リーダライタ部を制御して、前記自らの無線通信と有効な設定情報を前記機器の記憶部に書き込ませるように制御する制御部をさらに含む
請求項１に記載の電力供給装置。
【請求項４】
前記リーダライタ部により読み出された前記機器の記憶部より前記機器の前記無線通信機能を使用する際に必要とする設定情報が、自らの無線通信と有効な設定情報であるか否かを判定する設定判定部をさらに含む
請求項１乃至３のいずれかに記載の電力供給装置。
【請求項５】
前記機器のユーザが、前記自らとの無線通信に必要とされる対価を課金するための課金情報の有無により、前記自らとの無線通信に必要とされる対価を課金できるか否かを判定する課金管理部をさらに含む
請求項１乃至４のいずれかに記載の電力供給装置。
【請求項６】
前記制御部は、前記リーダライタ部により読み出された設定情報が自らとの無線通信に有効ではないと、前記設定判定部により判定された場合、前記課金管理部により前記自らとの無線通信に必要とされる対価を課金できると判定されたとき、前記リーダライタ部を制御して、前記自らの無線通信と有効な設定情報を前記機器の記憶部に書き込ませるように制御する
請求項５に記載の電力供給装置。
【請求項７】
前記設定情報は、無線LAN、またはブルートゥースのSSID、WEP KEY、パスコード、またはユーザIDを含む
請求項１乃至６のいずれかに記載の電力供給装置。
【請求項８】
電力供給装置の電力供給方法において、
前記電力供給装置が、
無線通信機能を備えた機器へと電力供給線を介して電力を供給する電力供給処理し、
前記電力供給線を介して高周波信号を用いた負荷変調により前記機器の前記無線通信機能を使用する際に必要とする設定情報を読み取るリーダライタ処理する
ステップを含む電力供給方法。
【請求項９】
コンピュータを、
無線通信機能を備えた機器へと電力供給線を介して電力を供給する電力供給部と、
前記電力供給線を介して高周波信号を用いた負荷変調により前記機器の前記無線通信機能を使用する際に必要とする設定情報を読み取るリーダライタ部と
して機能させるプログラム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１３０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成27年9月10日(2015.9.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の初期の候補者の中から資格要件を満たす候補者を識別するシステムであって、
複数の候補者エンティティ及び少なくとも一の要求エンティティ、候補者エンティティ及び要求エンティティを連想させる属性、及び候補者エンティティと少なくとも一の要求エンティティの間の連想性についての情報を記憶するように構成される連想メモリであって、連想メモリは情報コンテンツにより場所を識別し、かつ、候補者エンティティの各々と少なくとも一の要求エンティティの、連想される属性の観点からエンティティを示すマトリックスを構築するように構成され、連想メモリはそれぞれの候補者エンティティとそれぞれの要求エンティティとの間の連想性を、それぞれの候補者エンティティとそれぞれの要求エンティティとの間の任意の数の共有される属性に基づき、かつ、共有される属性の唯一性にも基づいて決定する、連想メモリ、
一又は複数の質問語を受信するように構成される受信モジュール、
連想メモリによって少なくとも一の要求エンティティとの連想性を有すると決定された候補者エンティティを識別するように構成され、かつ、連想メモリにより提供される少なくとも一の要求エンティティとの連想性を有する候補者エンティティの間からの質問語に基づき、資格要件を満たす複数の候補者を識別するように構成される識別モジュール、及び
プロセッサを含み、候補者エンティティの属性に含まれる任意の数の質問語とそのそれぞれの要求エンティティにより定められ候補者エンティティの属性に含まれる相対的優先順位に基づき、複数の資格要件を満たす候補者の順位付けをするように構成される順位付けモジュールを備えるシステム。
【請求項２】
識別モジュールは、それぞれの要求エンティティを連想させ、且つ、少なくとも一の質問語を含む一又は複数の候補者エンティティを識別することにより資格要件を満たす候補者を識別するように構成される、請求項１に記載のシステム。
【請求項３】
候補者エンティティは、仕事候補者エンティティを含み、且つ、要求エンティティは仕事要求エンティティを含む、請求項１に記載のシステム。
【請求項４】
複数の初期の候補者の中から資格要件を満たす候補者を識別する方法であって、
複数の候補者エンティティ及び少なくとも一の要求エンティティ、候補者エンティティ及び要求エンティティを連想させる属性、及び候補者エンティティと少なくとも一の要求エンティティの間の連想性についての情報を記憶する連想メモリであって、連想メモリは情報コンテンツにより場所を識別し、かつ、候補者エンティティの各々と少なくとも一の要求エンティティの、連想される属性の観点からエンティティを示すマトリックスを構築するように構成され、連想メモリはそれぞれの候補者エンティティとそれぞれの要求エンティティとの間の連想性を、それぞれの候補者エンティティとそれぞれの要求エンティティとの間の任意の数の共有される属性に基づき、かつ、共有される属性の唯一性にも基づいて決定する、連想メモリを提供するステップ、
一又は複数の質問語を受信するステップ、
少なくとも一のプロセッサを含む識別モジュールにより、連想メモリによって少なくとも一の要求エンティティとの連想性を有すると決定された候補者エンティティを識別し、かつ、連想メモリにより提供される少なくとも一の要求エンティティとの連想性を有する候補者エンティティの間からの質問語に基づき、資格要件を満たす複数の候補者を識別するステップ、及び
プロセッサにおいて、候補者エンティティの属性に含まれる任意の数の質問語とそのそれぞれの要求エンティティにより定められ候補者エンティティの属性に含まれる相対的優先順位に基づき、複数の資格要件を満たす候補者の順位付けをするステップを含む方法。
【請求項５】
資格要件を満たす候補者を識別するステップは、各要求エンティティを連想させ、且つ、少なくとも一の質問語を含む一又は複数の候補者エンティティを識別するステップを含む、請求項４に記載の方法。
【請求項６】
候補者エンティティは、仕事候補者エンティティを含み、且つ、要求エンティティは仕事要求エンティティを含む、請求項４に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成27年5月26日(2015.5.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板と、前記基板の受光面に形成された複数のフィンガー電極と、前記基板の裏面を覆い、隣接するセル上の複数のフィンガー電極と導電性接着剤を介して第１のＴＡＢ線を接着することにより接続される裏面電極と、を備える太陽電池セルであって、
前記基板の前記裏面には、第２のＴＡＢ線が接続される前記受光面上の位置に対応して前記基板が露出する露出部分が設けられている、太陽電池セル。
【請求項２】
前記露出部分は、線状であり、前記第１のＴＡＢ線よりも小さい幅を有している、請求項１に記載の太陽電池セル。
【請求項３】
前記露出部分は、前記第１のＴＡＢ線の幅の２０％〜８０％の幅を有している、請求項２に記載の太陽電池セル。
【請求項４】
前記露出部分は、直線状である、請求項２又は３に記載の太陽電池セル。
【請求項５】
前記露出部分は、破線状をなしている、請求項１記載の太陽電池セル。
【請求項６】
前記露出部分は、線状であり、前記第１のＴＡＢ線の幅よりも小さな幅を有する第１の部分と、前記ＴＡＢ線の前記幅以上の幅を有する第２の部分とを有し、
前記第１の部分と前記第２の部分とは、前記露出部分に沿って交互に配置されている、請求項１に記載の太陽電池セル。
【請求項７】
前記第１の部分は、前記第２の部分の長さと同じ長さを有しており、前記基板の前記裏面の周縁部に一以上の前記第１の部分が配置されている、請求項６に記載の太陽電池セル。
【請求項８】
前記第１の部分は、前記第２の部分の長さと同じ長さを有しており、前記基板の前記裏面の周縁部に一以上の前記第２の部分が配置されている、請求項６に記載の太陽電池セル。
【請求項９】
前記第１の部分は、前記第２の部分の長さよりも大きい長さを有している、請求項６に記載の太陽電池セル。
【請求項１０】
前記第１の部分は、前記第２の部分の長さよりも小さい長さを有している、請求項６に記載の太陽電池セル。
【請求項１１】
前記露出部分は、線状であり、交互に第１の領域と第２の領域とを備え、
前記第１の領域では前記裏面は露出されており、前記第２の領域では前記裏面は前記裏面電極により覆われている、請求項１又は２に記載の太陽電池セル。
【請求項１２】
前記第１の領域は、前記第１のＴＡＢ線の幅の２０％〜２００％の幅を有している、請求項１１に記載の太陽電池セル。
【請求項１３】
前記第１の領域は、０．５ｍｍ〜３０ｍｍの長さを有している、請求項１１又は１２に記載の太陽電池セル。
【請求項１４】
前記露出部分は、前記裏面の周縁部に配置された前記裏面の露出部分により構成されている、請求項１〜１３のいずれか一項に記載の太陽電池セル。
【請求項１５】
前記露出部分は、前記裏面の周縁部に配置された切欠状の露出部分により構成されている、請求項１に記載の太陽電池セル。
【請求項１６】
基板と、前記基板の受光面に形成された複数のフィンガー電極と、前記基板の裏面を覆い、隣接するセル上の複数のフィンガー電極と導電性接着剤を介して第１のＴＡＢ線を接着することにより接続される裏面電極と、を備える太陽電池セルであって、
前記裏面電極は、前記基板が露出しない程度に前記裏面電極を省略した省略部を有し、前記省略部は前記第１のＴＡＢ線の幅よりも小さな幅を有している、太陽電池セル。
【請求項１７】
前記省略部は、複数の不連続に配置されている、請求項１６に記載の太陽電池セル。
【請求項１８】
前記省略部の少なくとも一部は、補助材料により充填されており、
前記導電性接着剤の前記補助材料に対する接着力は、前記導電性接着剤の前記基板の裏面に対する接着力よりも大きい、請求項１６又は１７に記載の太陽電池セル。
【請求項１９】
前記裏面電極には、はんだ接続のためのバスバー電極が設けられていない、請求項１〜１８のいずれか一項に記載の太陽電池セル。
【請求項２０】
前記受光面には、第２のＴＡＢ線の接続位置を示す受光面アライメントマークが設けられている、請求項１〜１９のいずれか一項に記載の太陽電池セル。
【請求項２１】
前記受光面アライメントマークは、不連続に設けられている、請求項２０に記載の太陽電池セル。
【請求項２２】
前記受光面アライメントマークの線幅は、０．０５ｍｍ以上であって、前記第２のＴＡ
Ｂ線の線幅の２０％以下である、請求項２０又は２１に記載の太陽電池セル。
【請求項２３】
請求項１〜２２のいずれか一項に記載の太陽電池セルを複数備え、
前記第１のＴＡＢ線は、前記導電性接着剤を介して前記一つの太陽電池セルの前記裏面電極に接続され、
前記第１のＴＡＢ線は、第２のＴＡＢ線として、前記複数の太陽電池セルのうちの他の太陽電池セルの前記複数のフィンガー電極に更に接続される、太陽電池モジュール。
【手続補正書】
【提出日】平成27年6月12日(2015.6.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】基板製造方法および配線基板の製造方法、並びに、基板および配線基板
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
表裏の関係にある第１面および第２面を有する板状のガラス基材に、前記第１面側を第１開口部とし、かつ前記第２面側を第２開口部とする貫通孔が形成されているガラス基板を用意する第１工程と、
前記ガラス基板の第１面側に金属のメッキ下地層を形成する第２工程と、
前記ガラス基板の第１面側に電解メッキによって金属の第１メッキ層を形成することにより、前記貫通孔の第１開口部を前記第１メッキ層によって閉塞する第３工程と、
前記ガラス基板の第２面側からの電解メッキによって前記貫通孔内に金属の第２メッキ層を堆積することにより、前記貫通孔を金属で充填する第４工程と、を含み、
前記第２工程においては、前記貫通孔の第１開口部の縁から当該貫通孔の側壁面の一部にかけて前記メッキ下地層を形成し、
前記第３工程においては、前記貫通孔の内部で前記メッキ下地層の表面から前記第１メッキ層を成長させることにより、前記貫通孔の第１開口部を前記第１メッキ層によって閉塞し、
前記第４工程においては、前記貫通孔の内部で前記第１メッキ層の表面から前記貫通孔の第２開口部に向かって前記第２メッキ層を成長させることにより、前記貫通孔を金属で充填する
ことを特徴とする基板製造方法。
【請求項２】
前記第４工程の後に、前記ガラス基板の第１面および第２面のうち少なくとも第１面を機械加工によって平坦化する第５工程を有し、
前記第２工程においては、前記第５工程で前記ガラス基板の第１面側の表層部を前記機械加工により除去した後でも前記貫通孔の第１開口部が前記メッキ下地層および前記第１メッキ層によって閉塞された状態となるように、前記第５工程で前記機械加工により除去を予定している前記ガラス基板の除去予定領域よりも貫通孔の奥側に入り込んだ位置まで前記メッキ下地層を形成しておく
ことを特徴とする請求項１に記載の基板製造方法。
【請求項３】
前記第４工程の後で、かつ前記第５工程の前に、前記ガラス基板の第１面から前記第１メッキ層および前記メッキ下地層を取り除いて当該ガラス基板の第１面を露出させる工程を有する
ことを特徴とする請求項２に記載の基板製造方法。
【請求項４】
前記第１工程において、前記貫通孔の第１開口部側の断面形状が裾広がり状の前記貫通孔が形成されているガラス基板を用意する
ことを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の基板製造方法。
【請求項５】
前記第２工程において、前記ガラス基板の第１面側にスパッタリングによって前記メッキ下地層を形成する
ことを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の基板製造方法。
【請求項６】
前記第４工程で処理された前記ガラス基板の表面を加工により平坦化する際、前記貫通孔の第１開口部の縁から当該貫通孔の側壁面の一部にかけて形成された前記メッキ下地層が前記貫通孔の内部に残存するように、前記ガラス基板の第１面側の表層部を除去する
ことを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の基板製造方法。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれかに記載の基板製造方法により、前記ガラス基板の貫通孔に金属を充填してなる基板を製造した後、前記ガラス基板の第１面および第２面のうち少なくとも一方に配線パターンを形成する
ことを特徴とする配線基板の製造方法。
【請求項８】
表裏の関係にある第１面および第２面を有する板状のガラス基材に、貫通孔が１以上形成されているガラス基板と、
前記貫通孔の第１面側の縁から当該貫通孔の側壁面の一部にかけて形成されるメッキ下地層と、
前記貫通孔の内部を充填する金属材と、を備え、
前記貫通孔の第１面側が前記メッキ下地層および前記金属材により閉塞されており、
前記金属材の露出する表面が前記ガラス基板の第１面および第２面のそれぞれと面一となるように構成される
ことを特徴とする基板。
【請求項９】
前記メッキ下地層がクロムを含む
ことを特徴とする請求項８に記載の基板。
【請求項１０】
前記貫通孔の内部を充填する金属材が、銅、ニッケル、金、銀、白金、パラジウム、アルミニウムおよびロジウムのいずれか１種から構成される金属または２種以上から構成される合金からなる
ことを特徴とする請求項８または９に記載の基板。
【請求項１１】
前記ガラス基板の第１面および第２面の少なくとも一方の面上に配線層を備える
ことを特徴とする請求項８〜１０のいずれかに記載の基板。
【請求項１２】
請求項１１に記載の基板の第１面および第２面の少なくとも一方に配線パターンが形成されている
ことを特徴とする配線基板。
【手続補正書】
【提出日】平成27年8月20日(2015.8.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】半導体装置
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の絶縁層と、
前記第１の絶縁層と同一上面を有する第１の電極層と、
前記第１の絶縁層上および前記第１の電極層上の酸化物半導体層と、
前記酸化物半導体層上のゲート絶縁層と、
前記ゲート絶縁層上のゲート電極層と、
前記ゲート電極層上の第２の絶縁層と、
前記第２の絶縁層上の第１及び第２の配線層と、を有し、
前記酸化物半導体層は、第１の低抵抗領域と、第２の低抵抗領域と、前記第１の低抵抗領域と前記第２の低抵抗領域とに挟まれたチャネル形成領域とを有し、
前記第１の低抵抗領域は、前記第１の電極層と接する領域を有し、
前記チャネル形成領域は、前記第１の電極層とは接さず、
前記第１の配線層は、第１の開口を介して前記第１の電極層と接し、
前記第２の配線層は、第２の開口を介して前記第１の低抵抗領域と接する半導体装置。
【請求項２】
第１の絶縁層と、
前記第１の絶縁層と同一上面を有する第１の電極層と、
前記第１の絶縁層と同一上面を有する第２の電極層と、
前記第１の絶縁層上、前記第１の電極層上および前記第２の電極層上の酸化物半導体層と、
前記酸化物半導体層上のゲート絶縁層と、
前記ゲート絶縁層上のゲート電極層と、
前記ゲート電極層上の第２の絶縁層と、
前記第２の絶縁層上の第１乃至第３の配線層と、を有し、
前記酸化物半導体層は、第１の低抵抗領域と、第２の低抵抗領域と、前記第１の低抵抗領域と前記第２の低抵抗領域とに挟まれたチャネル形成領域とを有し、
前記第１の低抵抗領域は、前記第１の電極層と接する領域を有し、
前記第２の低抵抗領域は、前記第２の電極層と接する領域を有し、
前記チャネル形成領域は、前記第１の電極層及び前記第２の電極層とは接さず、
前記第１の配線層は、第１の開口を介して前記第１の電極層と接し、
前記第２の配線層は、第２の開口を介して前記第１の低抵抗領域と接し、
前記第３の配線層は、第３の開口を介して前記第２の電極層と接する半導体装置。
【手続補正書】
【提出日】平成27年8月26日(2015.8.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の絶縁層と、
前記第１の絶縁層と同一上面を有する第１の電極層と、
前記第１の絶縁層と同一上面を有する第２の電極層と、
前記第１の電極層上、前記第２の電極層上及び前記第１の絶縁層上の酸化物半導体層と、
前記酸化物半導体層上のゲート絶縁層と、
前記ゲート絶縁層上のゲート電極層と、
前記ゲート電極層上の第２の絶縁層と、
前記第２の絶縁層上の第１の配線層及び第２の配線層と、を有し、
前記酸化物半導体層は、第１の低抵抗領域と、第２の低抵抗領域と、前記第１の低抵抗領域と前記第２の低抵抗領域とに挟まれたチャネル形成領域とを有し、
前記第１の低抵抗領域は、前記第１の電極層と接する領域を有し、
前記第２の低抵抗領域は、前記第２の電極層と接する領域を有し、
前記チャネル形成領域は、前記第１の絶縁層と接し、
前記第１の配線層は、第１の開口を介して前記第１の電極層と接し、
前記第２の配線層は、第２の開口を介して前記第２の電極層と接する半導体装置。
【請求項２】
第１の絶縁層と、
前記第１の絶縁層と同一上面を有する第１の電極層と、
前記第１の絶縁層と同一上面を有する第２の電極層と、
前記第１の電極層上、前記第２の電極層上及び前記第１の絶縁層上の酸化物半導体層と、
前記酸化物半導体層上のゲート絶縁層と、
前記ゲート絶縁層上のゲート電極層と、
前記ゲート電極層上の第２の絶縁層と、
前記第２の絶縁層上の第１の配線層及び第２の配線層と、を有し、
前記酸化物半導体層は、第１の低抵抗領域と、第２の低抵抗領域と、前記第１の低抵抗領域と前記第２の低抵抗領域とに挟まれたチャネル形成領域とを有し、
前記第１の低抵抗領域は、前記第１の電極層と接する領域を有し、
前記第２の低抵抗領域は、前記第２の電極層と接する領域を有し、
前記チャネル形成領域、前記第１の絶縁層と接し、
前記第１の配線層は、第１の開口を介して前記第１の低抵抗領域と接し、
前記第２の配線層は、第２の開口を介して前記第２の低抵抗領域と接する半導体装置。
【手続補正書】
【提出日】平成27年6月18日(2015.6.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
絶縁表面上に酸化物半導体膜を形成し、
前記酸化物半導体膜上にゲート絶縁膜を形成し、
前記ゲート絶縁膜を介して前記酸化物半導体膜と重畳するゲート電極を形成し、
前記ゲート電極をマスクとして前記酸化物半導体膜の一部を低抵抗化する処理を行うことで低抵抗化領域を形成した後、前記酸化物半導体膜、前記ゲート絶縁膜および前記ゲート電極を覆って層間絶縁膜を形成し、
前記層間絶縁膜を加工して、前記低抵抗化領域に達する開口部を形成し、
前記開口部において露出した前記低抵抗化領域に対して窒素プラズマ処理を行った後、前記開口部において前記低抵抗化領域と接する金属膜を形成することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項２】
絶縁表面上に凹部を形成し、
前記凹部を埋めるように電極を形成し、
前記絶縁表面上および前記電極上に、酸化物半導体膜を形成し、
前記酸化物半導体膜上にゲート絶縁膜を形成し、
前記ゲート絶縁膜を介して前記酸化物半導体膜と重畳するゲート電極を形成し、
前記ゲート電極をマスクとして前記酸化物半導体膜の一部を低抵抗化する処理を行うことで低抵抗化領域を形成した後、前記酸化物半導体膜、前記ゲート絶縁膜および前記ゲート電極を覆って層間絶縁膜を形成し、
前記層間絶縁膜を加工して、前記低抵抗化領域に達する開口部を形成し、
前記開口部において露出した前記低抵抗化領域に対して窒素プラズマ処理を行った後、前記開口部において前記低抵抗化領域と接する金属膜を形成することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項３】
請求項１または請求項２において、
前記プラズマ処理は、マイクロ波放電窒素プラズマ処理であることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項４】
絶縁表面上に設けられた酸化物半導体膜と、
前記酸化物半導体膜上に設けられたゲート絶縁膜と、
前記ゲート絶縁膜上に設けられたゲート電極と、
前記酸化物半導体膜上および前記ゲート電極上に設けられ、前記酸化物半導体膜に達する開口部を有する層間絶縁膜と、
前記層間絶縁膜上に設けられ、前記層間絶縁膜に設けられた前記開口部において前記酸化物半導体膜と接して設けられた配線と、を有し、
前記酸化物半導体膜において前記配線と接する領域は、前記酸化物半導体膜を構成する酸素の一部が窒素で置換された構成を有することを特徴とする半導体装置。
【請求項５】
絶縁表面の一部に埋め込まれるように設けられた電極と、
前記絶縁表面上および前記電極上に設けられた酸化物半導体膜と、
前記酸化物半導体膜上に設けられたゲート絶縁膜と、
前記ゲート絶縁膜上に設けられたゲート電極と、
前記酸化物半導体膜上および前記ゲート電極上に設けられ、前記酸化物半導体膜に達する開口部を有する層間絶縁膜と、
前記層間絶縁膜上に設けられ、前記層間絶縁膜に設けられた前記開口部において前記酸化物半導体膜と接して設けられた配線と、を有し、
前記酸化物半導体膜において前記配線と接する領域は、前記酸化物半導体膜を構成する酸素の一部が窒素で置換された構成を有することを特徴とする半導体装置。
【請求項６】
絶縁表面上に設けられた酸化物半導体膜と、
前記酸化物半導体膜上に設けられ、前記酸化物半導体膜に達する開口部を有する層間絶縁膜と、
前記層間絶縁膜上に設けられ、前記層間絶縁膜に設けられた前記開口部において前記酸化物半導体膜と接して設けられた配線と、を有し、
前記酸化物半導体膜において前記配線と接する領域は、前記酸化物半導体膜を構成する酸素の一部が窒素で置換された構成を有することを特徴とする半導体装置。
【手続補正書】
【提出日】平成27年7月2日(2015.7.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１のダイオードと、第２のダイオードを有し、
前記第１のダイオードは第１のトランジスタで構成され、
前記第２のダイオードは第２のトランジスタで構成され、
前記第１のトランジスタは、チャネルを形成する半導体層を挟んで対向する第１のゲートと第２のゲートと、を有し、
前記第２のトランジスタは、チャネルを形成する半導体層を挟んで対向する第３のゲートと第４のゲートと、を有し、
前記第２のゲートと前記第４のゲートは、固定電位が入力される配線と電気的に接続されたことを特徴とする保護回路。
【請求項２】
入力部と、第１のトランジスタと、第２のトランジスタと、を有し、
前記第１のトランジスタは、第１の電極と、第２の電極と、チャネルを形成する第１の半導体層を挟んで対向する第１のゲートと第２のゲートと、を有し、
前記第２のトランジスタは、第３の電極と、第４の電極と、チャネルを形成する第２の半導体層を挟んで対向する第３のゲートと第４のゲートと、を有し、
前記第１の電極は、第１の配線と電気的に接続され、
前記第２の電極と、前記第３の電極と、前記第１のゲートは、前記入力部と電気的に接続され、
前記第４の電極と前記第３のゲートは、第２の配線と電気的に接続され、
前記第２のゲートと前記第４のゲートは、第３の配線と電気的に接続され、
前記第１の配線には第１の電位が入力され、
前記第２の配線には前記第１の電位よりも低い第２の電位が入力され、
前記第３の配線には前記第１の電位よりも低い第３の電位が入力されることを特徴とする保護回路。
【請求項３】
請求項１または請求項２に記載の保護回路と、
複数の画素を備える表示部と、
前記複数の画素を駆動する駆動回路と、
外部からの信号が入力され、前記駆動回路と電気的に接続する外部入力端子と、を有することを特徴とする半導体装置。
【請求項４】
請求項３に記載の半導体装置において、
前記駆動回路と前記外部入力端子の間に、前記保護回路が電気的に接続されたことを特徴とする半導体装置。
【請求項５】
請求項３または請求項４に記載の半導体装置において、
前記表示部は、複数の走査線及び複数の信号線を備え、
前記複数の走査線の各々、または前記複数の信号線の各々、または前記複数の走査線及び前記複数の信号線の各々に、電気的に接続された複数の前記保護回路を有することを特徴とする半導体装置。
【請求項６】
請求項３乃至請求項５のいずれか一に記載の半導体装置において、
前記保護回路内の前記第２のゲート及び前記第４のゲートと電気的に接続する前記第３の配線が、前記表示部を囲って閉曲線を成して設けられたことを特徴とする半導体装置。
【請求項７】
請求項３乃至請求項６のいずれか一に記載の半導体装置において、
前記画素は、画素電極と共通電極の間に発光性の有機化合物を含む層が挟持された発光素子を備え、
前記保護回路内の前記第２のゲート及び前記第４のゲートは、前記画素電極と同一の導電膜から形成されたことを特徴とする半導体装置。
【請求項８】
請求項３乃至請求項６のいずれか一に記載の半導体装置において、
前記画素は、画素電極と共通電極と液晶を備える表示素子を有し、
前記保護回路内の前記第２のゲート及び前記第４のゲートは、前記画素電極と同一の導電膜から形成されたことを特徴とする半導体装置。
【手続補正書】
【提出日】平成26年11月28日(2014.11.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】発光装置
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１のトランジスタと、第２のトランジスタと、第３のトランジスタと、第１の容量素子と、第２の容量素子と、発光素子と、を有し、
前記第１のトランジスタは、第１のゲート電極と、第２のゲート電極と、チャネル形成領域を有する半導体層と、を有し、
前記第１のトランジスタは、前記発光素子に電流を供給する機能を有し、
前記半導体層は、前記第１のゲート電極と前記第２のゲート電極とに挟まれている領域を有し、
前記第１のゲート電極は、前記第２のトランジスタを介してデータ信号線と電気的に接続され、
前記第１のゲート電極は、前記第１の容量素子と電気的に接続され、
前記第２のゲート電極は、前記第３のトランジスタを介して電位供給線と電気的に接続され、
前記第２のゲート電極は、前記第２の容量素子と電気的に接続されることを特徴とする発光装置。
【請求項２】
請求項１において、
前記半導体層は、酸化物半導体層であることを特徴とする発光装置。
【手続補正書】
【提出日】平成27年6月29日(2015.6.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、２次元ＣＡＤデータ（平面データ）を用いた３次元ＣＡＤモデルデータ（立体データ）の作成に関し、特にユーザから指定された座標系に基づいて二次元図面を三次元空間上の平面に転記し、転記された線分から三次元モデルを生成することの可能な情報処理装置、情報処理装置の制御方法、及びプログラムに関する。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本発明は、ユーザから指定された座標系に基づいて二次元図面を三次元空間上の平面に転記し、転記された線分から三次元モデルを生成することの可能な仕組みを提供することを目的とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
上記の目的を達成するために、本発明の情報処理装置は、設計物を示す線分を含む二次元図面と、三次元モデルを表示するための三次元空間とを記憶する記憶手段と、前記記憶手段に記憶される二次元図面上にユーザから指定された第１の座標系を設定する座標系設定手段と、前記二次元図面に含まれる線分を転記するための平面であって、第２の座標系を有する平面を前記三次元空間上に設定する平面設定手段と、前記二次元図面に含まれる線分のうちユーザから指定された線分を、前記座標系設定手段で設定された第１の座標系と前記平面設定手段で設定された平面の第２の座標系とに基づいて決定される当該平面上の位置に転記する転記手段と、前記転記手段で転記された線分が構成する図形に基づいて、前記三次元空間上に三次元モデルを生成する三次元モデル生成手段とを備えることを特徴とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
本発明によれば、ユーザから指定された座標系に基づいて二次元図面を三次元空間上の平面に転記し、転記された線分から三次元モデルを生成することの可能な効果を奏する。
【手続補正５】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
設計物を示す線分を含む二次元図面と、三次元モデルを表示するための三次元空間とを記憶する記憶手段と、
前記記憶手段に記憶される二次元図面上にユーザから指定された第１の座標系を設定する座標系設定手段と、
前記二次元図面に含まれる線分を転記するための平面であって、第２の座標系を有する平面を前記三次元空間上に設定する平面設定手段と、
前記二次元図面に含まれる線分のうちユーザから指定された線分を、前記座標系設定手段で設定された第１の座標系と前記平面設定手段で設定された平面の第２の座標系とに基づいて決定される当該平面上の位置に転記する転記手段と、
前記転記手段で転記された線分が構成する図形に基づいて、前記三次元空間上に三次元モデルを生成する三次元モデル生成手段と
を備えることを特徴とする情報処理装置。
【請求項２】
前記座標系設定手段は、前記記憶手段に記憶される二次元図面上に表示されたオブジェクトを介してユーザから指定された第１の座標系を設定することを特徴とする請求項１に記載の情報処理装置。
【請求項３】
前記座標軸設定手段は、前記記憶手段に記憶される二次元図面上の線要素に基づく位置関係で第１の座標系を設定することを特徴とする請求項２に記載の情報処理装置。
【請求項４】
前記転記手段は、前記二次元図面に含まれる線分のうちユーザから指定された線分を、前記座標系設定手段で設定された第１の座標系と前記平面設定手段で設定された平面の第２の座標系とに基づいて決定される当該平面上の位置に転記すると共に、当該第１の座標系と当該第２の座標系とに基づいて決定される角度で転記することを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の情報処理装置。
【請求項５】
前記三次元モデル生成手段は、前記転記手段で転記された線分が構成する図形を所定の方向に対して押し出すことにより、前記三次元空間上に三次元モデルを生成することを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の情報処理装置。
【請求項６】
前記二次元図面及び前記三次元モデルは、ＣＡＤデータであることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の情報処理装置。
【請求項７】
設計物を示す線分を含む二次元図面と、三次元モデルを表示するための三次元空間とを記憶する記憶手段を備える情報処理装置の制御方法であって、
前記情報処理装置の座標系設定手段が、前記記憶手段に記憶される二次元図面上にユーザから指定された第１の座標系を設定する座標系設定ステップと、
前記情報処理装置の平面設定手段が、前記二次元図面に含まれる線分を転記するための平面であって、第２の座標系を有する平面を前記三次元空間上に設定する平面設定ステップと、
前記情報処理装置の転記手段が、前記二次元図面に含まれる線分のうちユーザから指定された線分を、前記座標系設定ステップで設定された第１の座標系と前記平面設定ステップで設定された平面の第２の座標系とに基づいて決定される当該平面上の位置に転記する転記ステップと、
前記情報処理装置の三次元モデル生成手段が、前記転記ステップで転記された線分が構成する図形に基づいて、前記三次元空間上に三次元モデルを生成する三次元モデル生成ステップと
を備えることを特徴とする情報処理装置の制御方法。
【請求項８】
設計物を示す線分を含む二次元図面と、三次元モデルを表示するための三次元空間とを記憶する記憶手段を備える情報処理装置の制御方法を実行可能なプログラムであって、
前記情報処理装置を、
前記記憶手段に記憶される二次元図面上にユーザから指定された第１の座標系を設定する座標系設定手段と、
前記二次元図面に含まれる線分を転記するための平面であって、第２の座標系を有する平面を前記三次元空間上に設定する平面設定手段と、
前記二次元図面に含まれる線分のうちユーザから指定された線分を、前記座標系設定手段で設定された第１の座標系と前記平面設定手段で設定された平面の第２の座標系とに基づいて決定される当該平面上の位置に転記する転記手段と、
前記転記手段で転記された線分が構成する図形に基づいて、前記三次元空間上に三次元モデルを生成する三次元モデル生成手段
として機能させることを特徴とするプログラム。
【手続補正書】
【提出日】平成27年1月23日(2015.1.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
識別情報の可変表示を行い、遊技者にとって有利な有利状態に制御可能な遊技機であって、
前記有利状態に制御するか否かを決定する決定手段と、
識別情報の可変表示が開始されてから識別情報の表示結果が導出されるまでに、前記有利状態に制御されることを予告する複数の予告演出を実行可能な予告演出実行手段と、
前記予告演出実行手段により実行可能な複数の予告演出のうち第１予告演出を選択する第１予告演出選択手段と、
前記第１予告演出選択手段により選択された前記第１予告演出と予め対応付けられた第１予告特定用データを設定する第１予告特定用データ設定手段と、
前記第１予告特定用データ設定手段により設定された第１予告特定用データに基づいて、前記予告演出実行手段により実行可能な複数の予告演出のうち第２予告演出を選択する第２予告演出選択手段と、
第１予告禁止条件が成立したときに、前記予告演出実行手段による前記第１予告演出の実行を禁止する第１予告演出禁止手段とを備え、
前記予告演出実行手段は、前記第１予告演出を実行する演出装置とは異なる演出装置により前記第２予告演出を実行し、
前記第１予告演出禁止手段により前記第１予告演出の実行が禁止されるときでも、前記第１予告演出選択手段は前記第１予告演出を選択して、当該第１予告演出と対応付けられた前記第１予告特定用データに基づいて、前記第２予告演出選択手段は前記第２予告演出を選択する、
ことを特徴とする遊技機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、パチンコ遊技機等の遊技機に係り、詳しくは、識別情報の可変表示を行い、遊技者にとって有利な有利状態に制御可能な遊技機に関する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
（１）  上記目的を達成するため、本願の請求項に係る遊技機は、識別情報（例えば特別図柄や飾り図柄など）の可変表示を行い、遊技者にとって有利な有利状態（例えば大当り遊技状態など）に制御可能な遊技機（例えばパチンコ遊技機１など）であって、前記有利状態に制御するか否かを決定する決定手段（例えばステップＳ２４０、Ｓ２４１の処理を実行する遊技制御用マイクロコンピュータ１００のＣＰＵ１０３など）と、識別情報の可変表示が開始されてから識別情報の表示結果が導出されるまでに、前記有利状態に制御されることを予告する複数の予告演出を実行可能な予告演出実行手段（例えばステップＳ４６４の処理を実行する演出制御用ＣＰＵ１２０など）と、前記予告演出実行手段により実行可能な複数の予告演出のうち第１予告演出（例えば変動開始時予告、全図柄変動中予告、図柄減速時予告、リーチ成立後予告のいずれかなど）を選択する第１予告演出選択手段（例えばステップＳ５０３〜Ｓ５０５、Ｓ５０９の処理のいずれかを実行する演出制御用ＣＰＵ１２０など）と、前記第１予告演出選択手段により選択された前記第１予告演出と予め対応付けられた第１予告特定用データ（例えば変動開始時予告のカテゴリ情報など）を設定する第１予告特定用データ設定手段（例えばステップＳ６０２の処理を実行する演出制御用ＣＰＵ１２０など）と、前記第１予告特定用データ設定手段により設定された第１予告特定用データに基づいて、前記予告演出実行手段により実行可能な複数の予告演出のうち第２予告演出（例えば全図柄変動中予告、図柄減速時予告、リーチ成立後予告、リーチ発展時予告のいずれかなど）を選択する第２予告演出選択手段（例えばステップＳ５０４、Ｓ５０５、Ｓ５０９、Ｓ５１３の処理のいずれかを実行する演出制御用ＣＰＵ１２０など）と、第１予告禁止条件が成立したときに、前記予告演出実行手段による前記第１予告演出の実行を禁止する第１予告演出禁止手段（例えばステップＳ４６２におけるＹｅｓの判定に基づいて、ステップＳ４６３、Ｓ４６４の処理を実行しない演出制御用ＣＰＵ１２０など）とを備え、前記予告演出実行手段は、前記第１予告演出を実行する演出装置とは異なる演出装置により前記第２予告演出を実行し、前記第１予告演出禁止手段により前記第１予告演出の実行が禁止されるときでも、前記第１予告演出選択手段は前記第１予告演出を選択して、当該第１予告演出と対応付けられた前記第１予告特定用データに基づいて、前記第２予告演出選択手段は前記第２予告演出を選択する（例えばステップＳ５０３〜Ｓ５０５、Ｓ５０９の処理は、変動パターンなどに基づくステップＳ４６２における判定結果にかかわらず実行される部分など）。
【手続補正書】
【提出日】平成27年1月23日(2015.1.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
識別情報の可変表示を行い、遊技者にとって有利な有利状態に制御可能な遊技機であって、
識別情報の可変表示が開始されてから識別情報の表示結果が導出されるまでに、前記有利状態に制御されることを予告する複数の予告演出を実行可能な予告演出実行手段と、
前記予告演出実行手段により実行可能な複数の予告演出のうち第１予告演出を選択する第１予告演出選択手段と、
前記第１予告演出選択手段により選択された前記第１予告演出と予め対応付けられた第１予告特定用データを設定する第１予告特定用データ設定手段と、
前記第１予告特定用データ設定手段により設定された第１予告特定用データに基づいて、前記予告演出実行手段により実行可能な複数の予告演出のうち第２予告演出を選択する第２予告演出選択手段と、
第１予告禁止条件が成立したときに、前記予告演出実行手段による前記第１予告演出の実行を禁止する第１予告演出禁止手段とを備え、
前記予告演出実行手段は、リーチ状態となるより前の第１タイミングにて前記第１予告演出を実行可能であるとともに、該リーチ状態となった後の第２タイミングにて前記第２予告演出を実行可能であり、
前記第１予告演出禁止手段により前記第１予告演出の実行が禁止されるときでも、前記第１予告演出選択手段は前記第１予告演出を選択して、前記第１予告特定用データ設定手段は該第１予告演出と対応付けられた第１予告特定用データを設定し、当該第１予告特定用データに基づいて、前記第２予告演出選択手段は前記第２予告演出を選択する、
ことを特徴とする遊技機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、パチンコ遊技機等の遊技機に係り、詳しくは、識別情報の可変表示を行い、遊技者にとって有利な有利状態に制御可能な遊技機に関する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
（１）  上記目的を達成するため、本願の請求項に係る遊技機は、識別情報（例えば特別図柄や飾り図柄など）の可変表示を行い、遊技者にとって有利な有利状態（例えば大当り遊技状態など）に制御可能な遊技機（例えばパチンコ遊技機１など）であって、識別情報の可変表示が開始されてから識別情報の表示結果が導出されるまでに、前記有利状態に制御されることを予告する複数の予告演出を実行可能な予告演出実行手段（例えばステップＳ４６４の処理を実行する演出制御用ＣＰＵ１２０など）と、前記予告演出実行手段により実行可能な複数の予告演出のうち第１予告演出（例えば変動開始時予告、全図柄変動中予告、図柄減速時予告、リーチ成立後予告のいずれかなど）を選択する第１予告演出選択手段（例えばステップＳ５０３〜Ｓ５０５、Ｓ５０９の処理のいずれかを実行する演出制御用ＣＰＵ１２０など）と、前記第１予告演出選択手段により選択された前記第１予告演出と予め対応付けられた第１予告特定用データ（例えば変動開始時予告のカテゴリ情報など）を設定する第１予告特定用データ設定手段（例えばステップＳ６０２の処理を実行する演出制御用ＣＰＵ１２０など）と、前記第１予告特定用データ設定手段により設定された第１予告特定用データに基づいて、前記予告演出実行手段により実行可能な複数の予告演出のうち第２予告演出（例えば全図柄変動中予告、図柄減速時予告、リーチ成立後予告、リーチ発展時予告のいずれかなど）を選択する第２予告演出選択手段（例えばステップＳ５０４、Ｓ５０５、Ｓ５０９、Ｓ５１３の処理のいずれかを実行する演出制御用ＣＰＵ１２０など）と、第１予告禁止条件が成立したときに、前記予告演出実行手段による前記第１予告演出の実行を禁止する第１予告演出禁止手段（例えばステップＳ４６２におけるＹｅｓの判定に基づいて、ステップＳ４６３、Ｓ４６４の処理を実行しない演出制御用ＣＰＵ１２０など）とを備え、前記予告演出実行手段は、リーチ状態となるより前の第１タイミングにて前記第１予告演出を実行可能であるとともに、該リーチ状態となった後の第２タイミングにて前記第２予告演出を実行可能であり、前記第１予告演出禁止手段により前記第１予告演出の実行が禁止されるときでも、前記第１予告演出選択手段は前記第１予告演出を選択して、前記第１予告特定用データ設定手段は該第１予告演出と対応付けられた第１予告特定用データを設定し、当該第１予告特定用データに基づいて、前記第２予告演出選択手段は前記第２予告演出を選択する（例えばステップＳ５０３〜Ｓ５０５、Ｓ５０９の処理は、変動パターンなどに基づくステップＳ４６２における判定結果にかかわらず実行される部分など）。
【手続補正書】
【提出日】平成27年6月26日(2015.6.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の色インクを射出するインクジェットの配列を有する少なくとも１つのプリントヘッドと、
クリアインクを射出するインクジェットの配列を有する少なくとも１つのプリントヘッドと、
処理用のデータを前記インクジェットプリンタに入力するためのユーザインターフェースと、
クリアインクを射出する前記少なくとも１つのプリントヘッドに動作可能に接続する少なくとも１つのアクチュエータと、
第１の色のインクを射出する前記少なくとも１つのプリントヘッド、クリアインクを射出する前記少なくとも１つのプリントヘッド、前記少なくとも１つのアクチュエータ、及び前記ユーザインターフェースと操作可能に接続する制御装置と、
を含み、
前記制御装置は、
第１の色のインクを射出する前記少なくとも１つのプリントヘッドを操作して第１の色のインクで第１のテストパターンを前記第１の色のインクを射出する前記少なくとも１つのプリントヘッドを通過して処理方向に向かって移動する記録媒体上にプリントし、前記第１のテストパターンは、前記記録媒体上に前記第１の色のインク滴で形成され、互いに少なくともクロス処理方向に１ピクセル位置離れた、複数の横列の第１の所定のマークを有し、
クリアインクを射出する前記少なくとも１つのプリントヘッドを操作して前記記録媒体が前記処理方向に向かって前記クリアインクを射出する少なくとも１つのプリントヘッドを通過するときクリアインクで第２のテストパターンを前記記録媒体上にプリントするよう構成され、前記第２のテストパターンは、前記記録媒体上に前記クリアインク滴で形成され、前記第１の色のインク滴間に配置された、複数の横列の第２の所定のマークを有し、前記第２の所定のマークは前記第１の所定のマークとは異なっており、
前記制御装置は、
クリアインクを射出する前記少なくとも１つのプリントヘッドを操作して前記第１のテストパターンの上に前記第２のテストパターンをプリントし、
前記クリアインクを射出する前記少なくとも１つのプリントヘッドの位置合わせミスを示す距離を識別するデータを前記ユーザインターフェースから受け取り、前記距離は前記記録媒体上の前記第２のテストパターンの部分の位置に対応し、
前記制御装置は、クリアインクを射出する前記少なくとも１つのプリントヘッドに動作可能に接続する前記少なくとも１つのアクチュエータを操作し、
前記制御装置は、前記位置合わせミスを識別するデータを参照して前記少なくとも１つのアクチュエータを操作して第１の色のインクを射出する前記少なくとも１つのプリントヘッドに対するクリアインクを射出する前記少なくとも１つのプリントヘッドの位置合わせを調整する、インクジェットプリンタ。
【請求項２】
前記制御装置が、前記第１の所定のマークの中心が第１の距離だけ離れた状態で前記複数の横列の前記第１の所定のマークをプリントし、前記第２の所定のマークの中心が第２の距離だけ離れた状態で前記複数の横列の前記第２の所定のマークをプリントするようさらに構成され、前記第１の距離と前記第２の距離とは異なる、請求項１に記載のインクジェットプリンタ。
【請求項３】
前記制御装置が、プリント前記第１の所定のマークをほぼ長方形としてプリントし、前記第２の所定のマークを十字としてプリントするようさらに構成された、請求項１に記載のインクジェットプリンタ。
【請求項４】
前記制御装置が、第１の色のインクを射出する前記少なくとも１つのプリントヘッドを操作して、前記第１の所定のマークを前記処理方向の複数の縦列内の前記複数の横列にプリントし、クリアインクを射出する前記少なくとも１つのプリントヘッドを操作して、前記第２の所定のマーク前記処理方向の複数の縦列内の前記複数の横列にプリントするようさらに構成された、請求項１に記載のインクジェットプリンタ。