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【手続補正書】
【提出日】平成27年1月16日(2015.1.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板の直径のほぼ全長に亘って直線状に水平に延びるロール洗浄部材と基板とを共に一方向に回転させつつ、洗浄液の存在下で、前記ロール洗浄部材と基板表面とを互いに接触させて該表面をスクラブ洗浄する基板洗浄装置において、
基板表面の前記ロール洗浄部材を挟んだ両側の複数位置に洗浄液をそれぞれ供給する複数の洗浄液供給ノズルと、
基板表面の前記ロール洗浄部材を挟んだ両側の複数位置にリンス水をそれぞれ供給する複数のリンス水供給ノズルと、
前記各洗浄液供給ノズルから基板表面に供給される洗浄液の流量をそれぞれ規制する流量制御弁と、
前記各リンス水供給ノズルから基板表面に供給されるリンス水の流量をそれぞれ規制する流量制御弁と、
前記各洗浄液供給ノズルから供給される洗浄液の流量をそれぞれ規制する流量制御弁及び前記各リンス水供給ノズルから供給されるリンス水の流量をそれぞれ規制する流量制御弁をそれぞれ制御する制御部を有することを特徴とする基板洗浄装置。
【請求項２】
前記各洗浄液供給ノズルから供給される洗浄液の流量をそれぞれ規制する流量制御弁及び前記各リンス水供給ノズルから供給されるリンス水の流量をそれぞれ規制する流量制御弁は、開閉弁であることを特徴とする請求項１に記載の基板洗浄装置。
【請求項３】
前記ロール洗浄部材の少なくとも表面部は、吸水性に富んだスポンジ素材で形成されていることを特徴とする請求項１または２に記載の基板洗浄装置。
【請求項４】
前記吸水性に富んだスポンジ素材は、ＰＶＡであることを特徴とする請求項３に記載の基板洗浄装置。
【請求項５】
前記リンス水は、純水またはガス溶存水であることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか一項に記載の基板洗浄装置。
【請求項６】
基板の直径のほぼ全長に亘って直線状に水平に延びるロール洗浄部材と基板とを共に一方向に回転させつつ、洗浄液の存在下で、前記ロール洗浄部材と基板表面とを互いに接触させて該表面をスクラブ洗浄する基板洗浄方法において、
基板表面に前記ロール洗浄部材を接触させつつ、基板表面の前記ロール洗浄部材を挟んだ両側の複数位置に洗浄液をそれぞれ供給する複数の洗浄液供給ノズルの内の任意の洗浄液供給ノズルから基板表面に洗浄液を供給して該表面を洗浄する工程と、
基板表面から前記ロール洗浄部材を離した状態で、基板表面の前記ロール洗浄部材を挟んだ両側の複数位置にリンス水を供給する複数のリンス水供給ノズルの内の任意のリンス水供給ノズルから基板表面にリンス水を供給して該表面をリンスする工程を有することを特徴とする基板洗浄方法。
【請求項７】
基板の直径のほぼ全長に亘って直線状に水平に延びるロール洗浄部材と基板とを共に一方向に回転させつつ、洗浄液の存在下で、前記ロール洗浄部材と基板表面とを互いに接触させて該表面をスクラブ洗浄する基板洗浄方法において、
基板表面から前記ロール洗浄部材を離した状態で、基板表面の前記ロール洗浄部材を挟んだ両側の複数位置にリンス水を供給する複数のリンス水供給ノズルの内の任意のリンス水供給ノズルから基板表面にリンス水を供給して該表面をリンスし、
リンス水の供給を停止し、基板表面の前記ロール洗浄部材を挟んだ両側の複数位置に洗浄液をそれぞれ供給する複数の洗浄液供給ノズルの内の任意の洗浄液供給ノズルから基板表面に洗浄液を供給して該表面のリンス水を洗浄液に置換した後、前記ロール洗浄部材を基板表面に接触させて該表面を洗浄し、
前記ロール洗浄部材を基板表面から離間させ洗浄液の供給を停止した後、基板表面の前記ロール洗浄部材を挟んだ両側の複数位置にリンス水を供給する複数のリンス水供給ノズルの内の任意のリンス水供給ノズルから基板表面にリンス水を供給して該表面をリンスすることを特徴とする基板洗浄方法。
【請求項８】
前記ロール洗浄部材を基板表面に接触させて該表面を洗浄したまま、基板表面の前記ロール洗浄部材を挟んだ両側の複数位置にリンス水を供給する複数のリンス水供給ノズルの内の任意のリンス水供給ノズルから基板表面にリンス水を供給し、しかる後、前記ロール洗浄部材を基板表面から離間させることを特徴とする請求項７に記載の基板洗浄方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
前記リンス水は、例えば純水（脱イオン水）またはガス溶存水である。ガス溶存水としては、純水に水素を溶存させた水素水や、純水に窒素を溶存させた窒素水等が挙げられる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
上部ロールホルダ１０には、円柱状で長尺状に延びる、例えばＰＶＡや発泡ポリウレタンからなる上部ロール洗浄部材（ロールスポンジ）１４が回転自在に支承されている。下部ロールホルダ１２には、円柱状で長尺状に延びる、例えばＰＶＡや発泡ポリウレタンからなる下部ロール洗浄部材（ロールスポンジ）１６が回転自在に支承されている。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３２】
右側第１〜第３リンス水供給ノズル２４ａ〜２４ｃは、リンス水供給源４０から延び、流量計４２及び主流量調整弁４４を介装したリンス水供給ライン４６から分岐した各分岐ラインに接続され、各分岐ラインには、開閉弁４８ａ〜４８ｃが介装されている。左側第１〜第３リンス水供給ノズル２６ａ〜２６ｃも、リンス水供給源４０から延び、流量計４２及び主流量調整弁４４を介装したリンス水供給ライン４６から分岐した各分岐ラインに接続され、各分岐ラインには、開閉弁５０ａ〜５０ｃが介装されている。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３３】
リンス水としては、例えば純水（脱イオン水）や、純水に水素を溶存させた水素水や、純水に窒素を溶存させた窒素水等のガス溶存水が使用される。リンス水としてガス溶存水を使用することで、リンス水への酸素の混入を防止して、基板表面が腐食しにくくすることができる。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４２】
図３は、図１及び図２に示す基板洗浄装置を使用して、例えばＣＭＰ後の基板Ｗの表面を洗浄する例をステップ順に示す。図３において、上段は、基板Ｗの表面への洗浄液供給ノズル２０ａ〜２０ｃ，２２ａ〜２２ｃからの洗浄液の供給を、下段は、基板Ｗの表面へのリンス水供給ノズル２４ａ〜２４ｃ，２６ａ〜２６ｃからのリンス水の供給をそれぞれ示している。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４７】
左側第１〜第３洗浄液供給ノズル２２ａ〜２２ｃから基板Ｗの表面に供給される洗浄液は、図５に示すように、基板Ｗの回転方向Ｅとロール洗浄部材１４の回転方向Ｆ１が互いに異なる方向（逆方向）で両者が接触する逆方向接触部に供給されてスクラブ洗浄に使用される。このため、基板Ｗとロール洗浄部材１４の相対移動速度が大きくなって、高い洗浄強度が得られるものの、スクラブ洗浄によって除去されたパーティクルは、逆方向接触部に堰き止められ滞留する。
【手続補正書】
【提出日】平成27年2月5日(2015.2.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
パターンが形成されたパターン面を有するモールドを基板上の樹脂に押し付けた状態で前記樹脂を硬化させ、硬化した前記樹脂から前記モールドを剥離することで前記基板上にパターンを転写するインプリント処理を行うインプリント装置であって、
前記モールドに第１の力を加えて前記パターン面を変形させる変形部と、
前記パターン面の変形量を測定する第１測定部と、
前記変形部により前記モールドに複数の第１の力のそれぞれを加えた複数の状態のそれぞれにおいて、前記第１測定部により前記パターン面の変形量を測定するように制御する制御部と、
前記モールドに加えられた前記複数の第１の力のそれぞれと前記複数の第１の力のそれぞれに対応する前記パターン面の変形量との関係から、前記変形部が前記モールドに加える第１の力の変化に対する前記パターン面の変形量の変化率を算出する算出部と、
前記算出部で算出された前記パターン面の変形量の変化率に基づいて、インプリント処理時の前記パターン面の変形量が目標量となるように、前記インプリント処理時における時刻と当該時刻に前記変形部が前記モールドに加えるべき第１の力との関係を表す第１制御プロファイルを校正する校正部と、
を備えることを特徴とするインプリント装置。
【請求項２】
前記モールド及び前記基板のそれぞれは、アライメントマークを有し、
前記インプリント装置は、
前記モールドに第２の力を加えて前記パターン面のディストーションを変更する変更部と、
前記モールドのアライメントマークと前記基板のアライメントマークとの相対的な位置を検出して前記パターン面のディストーションを測定する第２測定部と、
を更に備え、
前記制御部は、前記変形部により前記モールドに複数の第１の力のそれぞれを加えた複数の状態のそれぞれにおいて、前記第２測定部により前記パターン面のディストーションを測定するように更に制御し、
前記算出部は、前記モールドに加えられた前記複数の第１の力のそれぞれと前記複数の第１の力のそれぞれに対応する前記パターン面のディストーションとの関係から、前記変形部が前記モールドに加える第１の力の変化に対する前記パターン面のディストーションの変化率を更に算出し、
前記校正部は、前記算出部で算出された前記パターン面のディストーションの変化率に基づいて、前記インプリント処理時の前記パターン面のディストーションが目標量となるように、前記インプリント処理時における時刻と当該時刻に前記変更部が前記モールドに加えるべき第２の力との関係を表す第２制御プロファイルを更に校正することを特徴とする請求項１に記載のインプリント装置。
【請求項３】
前記校正部は、前記樹脂に前記モールドの前記パターンを押し付ける間における第１制御プロファイルを校正することを特徴とする請求項１又は２に記載のインプリント装置。
【請求項４】
前記校正部は、硬化した前記樹脂から前記モールドを剥離させる間における第１制御プロファイルを校正することを特徴とする請求項１乃至３のうちいずれか１項に記載のインプリント装置。
【請求項５】
前記モールドを保持する保持面を有する保持部を更に備え、
前記変形部は、前記モールドの保持面側の面と前記保持面との間の気室の圧力によって、前記パターン面を変形させることを特徴とする請求項１乃至４のうちいずれか１項に記載のインプリント装置。
【請求項６】
前記変形部は、前記校正部で校正した第１制御プロファイルに従って前記モールドに前記第１の力を加えることを特徴とする請求項１乃至５のうちいずれか１項に記載のインプリント装置。
【請求項７】
前記変更部は、前記モールドの側面に力を加えるアクチュエータによって前記パターン面のディストーションを変更することを特徴とする請求項２乃至６のうちいずれか１項に記載のインプリント装置。
【請求項８】
前記変更部は、前記校正部で校正した第２制御プロファイルに従って前記モールドに前記第２の力を加えることを特徴とする請求項２乃至７のうちいずれか１項に記載のインプリント装置。
【請求項９】
請求項１乃至８のうちいずれか１項に記載のインプリント装置を用いて樹脂のパターンを前記基板に形成するステップと、
前記ステップで形成された前記基板を加工するステップと、
を有することを特徴とする物品の製造方法。
【請求項１０】
パターンが形成されたパターン面を有するモールドを基板上の樹脂に押し付けた状態で前記樹脂を硬化させ、硬化した前記樹脂から前記モールドを剥離することで前記基板上にパターンを転写するインプリント方法であって、
前記モールドに加えられる第１の力の変化に対する前記パターン面の変形量の変化率を取得する取得工程と、
前記取得工程で取得された前記パターン面の変形量の変化率に基づいて、インプリント処理時の前記パターン面の変形量が目標量となるように、前記インプリント処理時における時刻と当該時刻に前記モールドに加えるべき第１の力との関係を表す第１制御プロファイルを校正する校正工程と、
を含むことを特徴とするインプリント方法。
【請求項１１】
前記モールドに複数の第１の力をそれぞれ加えたときの前記パターン面の変形量を測定する測定工程を更に含み、
前記取得工程では、前記測定工程における測定結果に基づいて前記第１の力と前記パターン面の変形量との関係を求め、当該関係から前記パターン面の変形量の変化率を取得する、ことを特徴とする請求項１０に記載のインプリント方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】インプリント装置、インプリント方法、及び物品の製造方法
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、インプリント装置、インプリント方法、及び物品の製造方法に関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３５】
校正部２５は、第１実施形態で説明した第１制御プロファイルに加えて、第２制御プロファイルも校正する。第２制御プロファイルとは、インプリント処理時における時刻とその時刻に変更部２６がモールド５に加えるべき第２の力との関係を表す制御プロファイルである。第２制御プロファイルの校正は、算出部２４で算出したパターン面６のディストーションの変化率に基づいて、インプリント処理時のパターン面６のディストーションが目標量となるように行われる。これにより、各モールド５の厚みが異なる場合であっても、各モールド５のパターン面６のディストーションを目標量に校正してインプリント処理を行うことが可能となる。
【手続補正書】
【提出日】平成27年2月5日(2015.2.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
磁気測定装置を収納する空間を有するシールド部と、
前記シールド部の外部の環境に存在する第１磁場に対し、当該第１磁場を打ち消す様に第２磁場を発生するキャンセル部と、
前記シールド部を消磁する消磁部と
を備え、
前記キャンセル部は、前記第１磁場に基づいて前記第２磁場を調整するフィードバック制御と、固定の駆動信号に基づいて前記第２磁場を発生させる保持信号制御と、を行い、
前記消磁部は、前記キャンセル部が前記保持信号制御を行っている際に、前記シールド部を消磁する
ことを特徴とする磁気シールド装置。
【請求項２】
前記キャンセル部は、コイルと、前記第１磁場を計測するセンサーと、前記コイルを駆動する駆動回路とを有し、
前記駆動回路は、前記フィードバック制御の結果、前記第１磁場の計測値と前記第１磁場の目標値との差が閾値以内になった際の駆動状態を保持する保持部を有し、
前記保持信号制御では、前記保持部により保持された駆動状態に基づいて前記コイルが駆動される
ことを特徴とする請求項１に記載の磁気シールド装置。
【請求項３】
前記キャンセル部は、前記消磁部による前記シールド部の消磁が終了した後に、前記フィードバック制御を再開する
ことを特徴とする請求項２に記載の磁気シールド装置。
【請求項４】
前記シールド部の外部の環境に発生した異常を検知する検知部
を備え、
前記消磁部は、消磁を行っている最中に前記検知部により前記異常が検知された場合には、前記シールド部の消磁をやり直す
ことを特徴とする請求項１に記載の磁気シールド装置。
【請求項５】
前記キャンセル部を複数備えている
ことを特徴とする請求項１から４までのいずれか１項に記載の磁気シールド装置。
【請求項６】
磁気測定装置を収納する空間を有するシールド部と、前記シールド部の外部の環境に存在する第１磁場に対し、当該第１磁場を打ち消す様に第２磁場を発生するキャンセル部と、前記シールド部を消磁する消磁部とを備え、前記キャンセル部は、コイルと、前記第１磁場を計測するセンサーと、前記コイルを駆動する駆動回路とを有する磁気シールド装置において、
前記駆動回路が、前記第１磁場の計測値と前記第１磁場の目標値との差が閾値以内になったときの駆動状態を保持するステップと、
前記駆動回路が、前記駆動状態が保持された場合に、当該駆動状態に基づいて前記コイルを駆動させるステップと、
前記消磁部が、保持された前記駆動状態に基づいて前記コイルが駆動しているときに、前記シールド部を消磁するステップと
を備えることを特徴とする磁気シールド装置の消磁方法。
【請求項７】
磁気測定装置を収納する空間を有するシールド部と、前記シールド部の外部の環境に存在する第１磁場に対し、当該第１磁場を打ち消す様に第２磁場を発生するキャンセル部と、前記シールド部を消磁する消磁部とを備え、前記キャンセル部は、コイルと、前記第１磁場を計測するセンサーと、前記コイルを駆動するコンピューターとを有する磁気シールド装置において、前記コンピューターを、
前記第１磁場の計測値と前記第１磁場の目標値との差が閾値以内になったときの駆動状態を保持する保持部と、
前記保持部において前記駆動状態が保持された場合に、当該駆動状態に基づいて前記コイルを駆動させる駆動部と、
前記保持部により保持された駆動状態に基づいて前記コイルが駆動しているときに、前記消磁部によって前記シールド部を消磁させる制御部
として機能させるためのプログラム。
【手続補正書】
【提出日】平成27年3月23日(2015.3.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
試料の状態量を測定する、水分センサから成るセンサと、
吸収性物品から成る、測定すべき試料を載せる試料台であって、前記試料をその上に置くための凸面を有する試料台と、
前記センサの、前記試料に対する接触圧がほぼ一定になるようにセンサを支持する支持機構と、
前記センサが前記試料に対して相対的に移動するように前記センサ及び前記試料の少なくとも一方を移動させる移動機構と、
前記移動機構を制御することにより、前記センサを前記試料に対して相対的に移動させながら、前記センサにより、複数箇所において試料の状態量を測定し、そしてそれにより、前記試料の状態量分布を測定する測定機構と、
を具備する状態量分布測定装置であって、
前記センサが、静電容量式の水分センサであり、前記センサと前記試料との間に配置され且つ前記試料を覆うための、前記センサとは別体の絶縁フィルムをさらに備える、
前記状態量分布測定装置。
【請求項２】
前記センサが、あらかじめ定められた間隔を隔てて平行に配置されている一対の電極を具備する、請求項１に記載の状態量分布測定装置。
【請求項３】
前記試料台の前記凸面が、円柱の側面の全部又は一部を構成する曲面である、請求項１又は２に記載の状態量分布測定装置。
【請求項４】
前記移動機構が、前記試料台を、前記円柱の中心軸線回りに回転させ、それにより、前記センサを前記試料に対して相対的に移動させる、請求項３に記載の状態量分布測定装置。
【請求項５】
前記移動機構が、前記試料台を、前記円柱の中心軸線と平行に移動させ、それにより、前記センサを前記試料に対して相対的に移動させる、請求項３又は４に記載の状態量分布測定装置。
【請求項６】
前記支持機構が、前記接触圧が鉛直方向に作用するように且つ前記センサが上下に移動できるように前記センサを保持する、請求項１〜５のいずれか一項に記載の状態量分布測定装置。
【請求項７】
前記支持機構が、天秤である、請求項６に記載の状態量分布測定装置。
【請求項８】
測定結果を表示する表示機構をさらに具備する、請求項１〜７のいずれか一項に記載の状態量分布測定装置。
【請求項９】
試料の状態量分布を測定する方法であって、
（ａ）下記を具備する状態量分布測定装置を準備するステップ、
（ｉ）試料の水分率を測定する、静電容量式の水分センサ、
（ｉｉ）吸収性物品から成る、測定すべき試料を載せる試料台であって、前記試料をその上に置くための凸面を有する試料台、
（ｉｉｉ）前記センサの、前記試料に対する接触圧がほぼ一定になるようにセンサを支持する支持機構、
（ｉｖ）前記センサが前記試料に対して相対的に移動するように前記センサ及び前記試料の少なくとも一方を移動させる移動機構、
（ｖ）測定機構、及び
（ｖｉ）前記センサと前記試料との間に配置され且つ前記試料を覆うための、前記センサとは別体の絶縁フィルム、
（ｂ）前記試料台の凸面に、前記試料を載せるステップ、
（ｃ）前記試料の上に、前記絶縁フィルムを置くステップ、
（ｄ）前記絶縁フィルムを間に挟んで、前記試料の上に、前記センサを置くステップ、そして
（ｅ）前記測定機構が、前記移動機構を制御することにより、前記センサを前記試料に対して相対的に移動させながら、前記センサにより、複数箇所において試料の状態量を測定し、そしてそれにより、前記試料の状態量分布を測定するステップ、
を含む、前記方法。
【請求項１０】
前記状態量分布測定装置が、測定結果を表示する表示機構をさらに含む、請求項９に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成27年10月19日(2015.10.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
物理量検出器と、
前記物理量検出器を保持している保持部と、
前記物理量検出器と電気的につながっている電子部品と、
前記電子部品に接続されている基板と、
前記保持部と前記基板との間にあり、熱伝導率が前記保持部よりも小さい熱伝導低減部と、
を備えている、ことを特徴とする物理量検出装置。
【請求項２】
前記保持部と前記熱伝導低減部とが接続している面では、前記保持部または前記熱伝導低減部の少なくとも一方の表面粗さＲａが０．５μｍ以上である、ことを特徴とする請求項１に記載の物理量検出装置。
【請求項３】
前記保持部は複数の面を有し、前記複数の面のうち前記熱伝導低減部が配置されている面は、前記物理量検出器が配置されている面よりも表面粗さＲａが大きい、ことを特徴とする請求項１または２に記載の物理量検出装置。
【請求項４】
前記保持部と前記熱伝導低減部との間に空隙を有している、ことを特徴とする請求項１ないし３のいずれか一項に記載の物理量検出装置。
【請求項５】
前記保持部と前記熱伝導低減部とは機械的に接続されている、ことを特徴とする請求項１ないし４のいずれか一項に記載の物理量検出装置。
【請求項６】
前記基板は、前記保持部と前記熱伝導低減部との重なる方向からの平面視で見て前記熱伝導低減部と重なる位置に形成されている開口部を有し、前記平面視で前記開口部の内部に前記電子部品が配置され、前記保持部との間に前記熱伝導低減部を挟むように配置されている、ことを特徴とする請求項１ないし５のいずれか一項に記載の物理量検出装置。
【請求項７】
前記電子部品と前記熱伝導低減部との間に前記基板の少なくとも一部がある、ことを特徴とする請求項６に記載の物理量検出装置。
【請求項８】
前記熱伝導低減部が回路基板の一部である、ことを特徴とする請求項６または７に記載の物理量検出装置。
【請求項９】
前記電子部品は、前記熱伝導低減部に接続されている、ことを特徴とする請求項１から８のいずれか一項に記載の物理量検出装置。
【請求項１０】
請求項１ないし９のいずれか一項に記載の物理量検出装置を搭載している、ことを特徴とする電子機器。
【請求項１１】
請求項１ないし９のいずれか一項に記載の物理量検出装置を搭載している、ことを特徴とする移動体。
【手続補正書】
【提出日】平成27年7月23日(2015.7.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
記録媒体に画像を形成する画像形成手段と、
前記画像形成手段により画像が形成された前記記録媒体を、表裏及び搬送方向の先端と後端とを反転させて再び前記画像形成手段に搬送する反転搬送手段と、
前記画像形成手段による画像形成前後に、前記記録媒体の搬送方向に直交する幅方向の端部位置を計測する記録媒体幅計測手段と、
前記記録媒体幅計測手段の計測結果から求められる前記記録媒体の形状変化に基づき、前記画像形成手段が後続の記録媒体に形成する画像を補正する補正手段と、を有し、
前記記録媒体幅計測手段は、前記画像形成手段による画像形成前後に、前記記録媒体の搬送方向における一端からの距離が略同一となる計測位置で、前記記録媒体の前記幅方向の端部位置を計測する
ことを特徴とする画像形成装置。
【請求項２】
前記記録媒体の搬送方向の長さを計測する記録媒体長計測手段と、
前記記録媒体の搬送経路において前記記録媒体幅計測手段及び前記記録媒体長計測手段の上流に設けられ、前記記録媒体の搬送姿勢を補正し、前記記録媒体を前記画像形成手段の画像形成タイミングに合わせて搬送するレジスト手段と、を有し、
前記記録媒体長計測手段は、
前記記録媒体を搬送する記録媒体搬送手段と、
前記記録媒体搬送手段による前記記録媒体の搬送量を計測する搬送量計測手段と、
前記記録媒体搬送手段の前記記録媒体の搬送方向下流側で、前記記録媒体を検知する下流側検知手段と、
前記記録媒体搬送手段の前記記録媒体の搬送方向上流側で、前記記録媒体を検知する上流側検知手段と、を有し、
前記記録媒体幅計測手段は、前記上流側検知手段と前記レジスト手段との間に設けられている
ことを特徴とする請求項１に記載の画像形成装置。
【請求項３】
前記記録媒体長計測手段は、
前記下流側検知手段が前記記録媒体を検知してから、前記上流側検知手段が前記記録媒体を検知するまでの間に、前記搬送量計測手段によって計測される前記搬送量に基づいて、前記記録媒体の搬送距離を算出する搬送距離算出手段を有する
ことを特徴とする請求項２に記載の画像形成装置。
【請求項４】
前記記録媒体搬送手段は、
回転駆動する駆動ローラと、前記駆動ローラとの間で前記記録媒体を挟持搬送して従動回転する従動ローラとを有する
ことを特徴とする請求項２又は３に記載の画像形成装置。
【請求項５】
前記補正手段は、前記記録媒体幅計測手段及び前記記録媒体長計測手段の計測結果から求められる前記記録媒体の形状変化に基づき、前記画像形成手段が後続の記録媒体に形成する画像サイズを補正する
ことを特徴とする請求項２から４の何れか一項に記載の画像形成装置。
【請求項６】
前記画像形成手段は、像担持体上に形成された画像を前記記録媒体に転写する転写手段を有し、
前記記録媒体幅計測手段及び前記記録媒体長計測手段は、前記記録媒体の搬送経路において前記転写手段の上流側に設けられている
ことを特徴とする請求項２から５の何れか一項に記載の画像形成装置。
【請求項７】
前記記録媒体幅計測手段は、前記記録媒体の搬送方向において前記記録媒体の先端からの距離の合計が前記記録媒体の搬送方向の長さに相当する第１計測位置及び第２計測位置で、前記記録媒体の幅方向の端部位置を計測する
ことを特徴とする請求項１から６の何れか一項に記載の画像形成装置。
【請求項８】
前記記録媒体幅計測手段は、前記記録媒体の搬送方向に直交する幅方向の端部位置を検出する少なくとも１つのラインセンサを有する
ことを特徴とする請求項１から７の何れか一項に記載の画像形成装置。
【請求項９】
前記記録媒体幅計測手段は、前記計測位置において前記記録媒体の搬送方向に直交する幅方向の端部位置を複数回計測し、計測結果の平均値を前記計測位置における前記記録媒体の前記幅方向の端部位置として求める
ことを特徴とする請求項１から８の何れか一項に記載の画像形成装置。
【手続補正書】
【提出日】平成27年10月29日(2015.10.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１のプロジェクタと、第２のプロジェクタとからなる投影システムであって、
前記第１のプロジェクタは、
投影するべき画像を取得する第１の取得手段と、
前記第１の取得手段により取得された画像を処理する第１の画像処理手段と、
前記第１の画像処理手段により処理された画像を投影面に投影する第１の投影手段と、を有し、
前記第２のプロジェクタは、
投影するべき画像を取得する第２の取得手段と、
前記第２の取得手段により取得された画像を処理する第２の画像処理手段と、
前記第２の画像処理手段により処理された画像を投影面に投影する第２の投影手段と、を有し、
前記投影システムにおいて、前記第１の投影手段により投影された画像と前記第２の投影手段により投影された画像とを前記投影面上で重畳させる場合に、
前記第１の画像処理手段は、前記第１の取得手段により取得された画像の重畳させる部分の画像の輝度を低減する輝度制限処理の実行後に、前記輝度制限処理後の画像のエッジを強調するエッジ強調処理を行い、前記エッジ強調処理が行われた画像のうち前記重畳させる部分の輝度を制限する輝度制限処理を行い、
前記第２の画像処理手段は、前記第２の取得手段により取得された画像の重畳させる部分の画像の輝度を低減する輝度低減処理の実行後に、前記輝度低減処理後の画像のエッジを強調するエッジ強調処理を行い、前記エッジ強調処理が行われた画像のうち前記重畳させる部分の輝度を制限する輝度制限処理を行う
ことを特徴とする投影システム。
【請求項２】
前記エッジ強調処理は、隣接する画素の輝度の差を大きくする処理であることを特徴とする請求項１に記載の投影システム。
【請求項３】
前記第１の画像処理手段は、前記エッジ強調処理を行う前に、前記輝度低減処理後の画像を変形する変形処理を行うことを特徴とする請求項１または２に記載の投影システム。
【請求項４】
前記第１の画像処理手段は、前記エッジ強調処理を行う前に、前記変形処理が行われた画像の高周波成分を平滑化する処理を行うことを特徴とする請求項３に記載の投影システム。
【請求項５】
画像を取得する取得手段と、
前記取得手段により取得された画像を処理する画像処理手段と、
前記画像処理手段により処理された画像を投影面に投影する投影手段と、を有し、
前記画像処理手段は、前記取得手段により取得された画像の所定の領域の画像の輝度を低減する輝度制限処理の実行後に、前記輝度制限処理後の画像のエッジを強調するエッジ強調処理を行い、前記エッジ強調処理が行われた画像のうち前記所定の領域の画像の輝度を制限する輝度制限処理を行う
ことを特徴とするプロジェクタ。
【請求項６】
前記エッジ強調処理は、隣接する画素の輝度の差を大きくする処理であることを特徴とする請求項５に記載のプロジェクタ。
【請求項７】
前記画像処理手段は、前記エッジ強調処理を行う前に、前記輝度低減処理後の画像の変形する変形処理を行うことを特徴とする請求項５または６に記載のプロジェクタ。
【請求項８】
前記画像処理手段は、前記エッジ強調処理を行う前に、前記変形処理が行われた画像の高周波成分を平滑化する処理を行うことを特徴とする請求項７に記載のプロジェクタ。
【請求項９】
画像を取得する取得工程と、
前記取得工程において取得された画像を処理する画像処理工程と、
前記画像処理工程において処理された画像を投影面に投影する投影工程と、を有し、
前記画像処理工程において、前記取得工程において取得された画像の所定の領域の画像の輝度を低減する輝度制限処理が実行された後に、前記輝度制限処理後の画像のエッジを強調するエッジ強調処理が行われ、前記エッジ強調処理が行われた画像のうち前記所定の領域の画像の輝度を制限する輝度制限処理が行われる
ことを特徴とするプロジェクタの制御方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】投影システム、プロジェクタ及び制御方法
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、投影システム、プロジェクタ及び制御方法に関し、特に複数の投影装置を用いて１つの画像を投影する技術に関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本発明は、上述の問題点に鑑みてなされたものであり、複数の投影装置の投影像を重複させて１つの画像を投影する際に、重複領域を目立ちにくくする投影システム、プロジェクタ及び制御方法を提供することを目的とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
前述の目的を達成するために、本発明の投影システムは、以下の構成を備える。
第１のプロジェクタと、第２のプロジェクタとからなる投影システムであって、第１のプロジェクタは、投影するべき画像を取得する第１の取得手段と、第１の取得手段により取得された画像を処理する第１の画像処理手段と、第１の画像処理手段により処理された画像を投影面に投影する第１の投稿手段と、を有し、第２のプロジェクタは、投影するべき画像を取得する第２の取得手段と、第２の取得手段により取得された画像を処理する第２の画像処理手段と、第２の画像処理手段により処理された画像を投影面に投影する第２の投稿手段と、を有し、投影システムにおいて、第１の投影手段により投影された画像と第２の投影手段により投影された画像とを投影面上で重畳させる場合に、第１の画像処理手段は、第１の取得手段により取得された画像の重畳させる部分の画像の輝度を低減する輝度制限処理の実行後に、輝度制限処理後の画像のエッジを強調するエッジ強調処理を行い、エッジ強調処理が行われた画像のうち重畳させる部分の輝度を制限する輝度制限処理を行い、第２の画像処理手段は、第２の取得手段により取得された画像の重畳させる部分の画像の輝度を低減する輝度低減処理の実行後に、輝度低減処理後の画像のエッジを強調するエッジ強調処理を行い、エッジ強調処理が行われた画像のうち重畳させる部分の輝度を制限する輝度制限処理を行うことを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成27年9月17日(2015.9.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
カラオケ楽曲の演奏に伴い録音した歌唱音声と、録画した歌唱動画とともに録音した歌唱音声からなるカラオケ歌唱映像とを公開可能であり、前記カラオケ歌唱映像の歌唱動画と、前記歌唱音声とを時系列に同期させて再生可能なシステムであって、歌唱音声録音手段と、歌唱動画録画手段と、カラオケ歌唱映像生成手段と、歌唱態様種別特定手段と、録画録音データ管理手段と、録画録音データ公開手段と、カラオケ歌唱映像検索手段と、録画録音データ抽出手段と、録音データ特定手段と、録画録音データ再生手段と、を備え、
前記歌唱音声録音手段は、楽曲識別情報で特定されるカラオケ楽曲の演奏に伴う歌唱音声を録音し、
前記歌唱動画録画手段は、前記カラオケ楽曲の演奏に伴う利用者の歌唱動画を録画し、
前記カラオケ歌唱映像生成手段は、前記録音した歌唱音声と前記録画した歌唱動画とを一纏めとしたカラオケ歌唱映像を生成し、
前記歌唱態様種別特定手段は、任意の利用者が前記歌唱音声を録音する際に、所定のリファレンスデータとの比較に基づき、入力された音声について、少なくとも、男声パートや女声パート等の歌唱パート、Ａメロ、Ｂメロ、サビ等の歌唱区間、主旋律やハモリパート等のボーカル種別、歌唱区間外の音声入力等からなる歌唱態様種別のいずれに該当するかを特定し、
前記録画録音データ管理手段は、少なくとも、カラオケ楽曲の楽曲識別情報と、当該カラオケ楽曲のカラオケ歌唱映像又は歌唱音声と、当該カラオケ歌唱映像に含まれる歌唱音声又は当該歌唱音声により特定された歌唱態様種別とを関連付けて、録画録音データベースに登録して管理し、
前記録画録音データ公開手段は、少なくとも、前記録画録音データベースにて管理されているカラオケ楽曲の楽曲識別情報及び歌唱態様種別を検索項目として、カラオケ歌唱映像及び歌唱音声を検索可能に公開し、
前記カラオケ歌唱映像検索手段は、前記公開されたカラオケ歌唱映像の中から、利用者により指定された楽曲識別情報と同一のカラオケ歌唱映像を検索し、
前記録画録音データ抽出手段は、前記検索されたカラオケ歌唱映像の中から、利用者により指定されたカラオケ歌唱映像と同一の歌唱態様種別を有するカラオケ歌唱映像又は歌唱音声を抽出し、
前記録音データ特定手段は、前記抽出されたカラオケ歌唱映像に含まれる歌唱音声又は前記抽出された歌唱音声の中から利用者により指定された歌唱音声を特定し、
前記録画録音データ再生手段は、前記利用者により指定されたカラオケ歌唱映像の歌唱音声を前記特定された歌唱音声に代替して、当該カラオケ歌唱映像を再生する、
ことを特徴とするカラオケ歌唱映像の歌唱音声選択システム。
【請求項２】
前記録画録音データ抽出手段は、前記検索されたカラオケ歌唱映像の中から、利用者により指定された複数のカラオケ歌唱映像毎に、それぞれ同一の歌唱態様種別を有するカラオケ歌唱映像又は歌唱音声を抽出し、
前記録音データ特定手段は、それぞれ前記抽出された各カラオケ歌唱映像に含まれる歌唱音声又は歌唱音声の中から利用者により指定された歌唱音声を特定し、
前記録画録音データ再生手段は、前記利用者により指定された複数のカラオケ歌唱映像毎に、その歌唱音声を前記特定された歌唱音声に代替して、当該複数のカラオケ歌唱映像を同時に再生する、
ことを特徴とする請求項１に記載のカラオケ歌唱映像の歌唱音声選択システム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明のカラオケ歌唱映像の歌唱音声選択システムは、上述した目的を達成するために提案されたもので、以下の特徴を有している。すなわち、本発明のカラオケ歌唱映像の歌唱音声選択システムは、カラオケ楽曲の演奏に伴い録音した歌唱音声と、録画した歌唱動画とともに録音した歌唱音声からなるカラオケ歌唱映像とを公開可能であり、カラオケ歌唱映像の歌唱動画と、歌唱音声とを時系列に同期させて再生可能なシステムであって、歌唱音声録音手段と、歌唱動画録画手段と、カラオケ歌唱映像生成手段と、歌唱態様種別特定手段と、録画録音データ管理手段と、録画録音データ公開手段と、カラオケ歌唱映像検索手段と、録画録音データ抽出手段と、録音データ特定手段と、録画録音データ再生手段とを備ええたことを特徴とするものである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
歌唱音声録音手段は、楽曲識別情報で特定されるカラオケ楽曲の演奏に伴う歌唱音声を録音するための手段である。歌唱動画録画手段は、カラオケ楽曲の演奏に伴う利用者の歌唱動画を録画するための手段である。カラオケ歌唱映像生成手段は、録音した歌唱音声と録画した歌唱動画とを一纏めとしたカラオケ歌唱映像を生成するための手段である。歌唱態様種別特定手段は、任意の利用者が歌唱音声を録音する際に、所定のリファレンスデータとの比較に基づき、入力された音声について、少なくとも、男声パートや女声パート等の歌唱パート、Ａメロ、Ｂメロ、サビ等の歌唱区間、主旋律やハモリパート等のボーカル種別、歌唱区間外の音声入力等からなる歌唱態様種別のいずれに該当するかを特定するための手段である。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
＜システムの概要＞
本発明の実施形態に係る歌唱音声選択システム１０は、カラオケ楽曲の演奏に伴い録音した歌唱音声と、録画した歌唱動画とともに録音した歌唱音声からなるカラオケ歌唱映像とを公開可能であり、カラオケ歌唱映像の歌唱動画と、歌唱音声とを時系列に同期させて再生可能なシステムである。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４１】
＜歌唱動画録画手段＞
歌唱動画録画手段６２は、楽曲識別情報で特定されるカラオケ楽曲の演奏に伴う利用者の歌唱動画を録画するためのプログラムからなる。すなわち、歌唱動画録画手段６２は、ビデオカメラ３５から入力される映像信号を受信して、歌唱動画の録画を行う。
【手続補正書】
【提出日】平成27年10月21日(2015.10.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
直動装置１０は、方形状の取付部の側面に配設された撮像装置９および吐出装置１６を一体的にＸ方向に往復移動させる装置である。直動装置１０は、Ｙ軸駆動装置４に向かって移動するＸ方向ストロークを確保した第１の位置と、当該Ｘ方向ストロークが確保されていない第２の位置とを有する。直動装置１０は、例えば、圧縮気体の作用によりピストンが駆動するエアシリンダに連結された取付部により構成することができ、取付部の側面には撮像装置９および吐出装置１６が取り付けられる。ここでは、撮像装置９の撮像中心と吐出装置１６の吐出口中心は、Ｘ方向（符号６）の同一直線上に位置するように設置されている。直動装置１０による撮像装置９および吐出装置１６の移動は、位置ずれを含まないか、含むとしても無視できるほどに小さい誤差である。直動装置１０のストロークは、撮像装置９と吐出装置１６とを設置する間隔（撮像中心と吐出口中心との間の距離）と同じ距離以上かつ駆動装置２のストロークよりも短い距離（好ましくは半分以下の距離、さらに好ましくは３分の１以下の距離）になるようにする。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
実施形態の塗布装置１は、塗布対象物１３が配置される基板１４を下から支持し、固定するステージ１５を備える。基板１４をステージ１５に固定するには、例えば、ステージ１５内部から上面へ通じる複数の孔を開け、その孔から空気を吸い込むことで基板１４を吸着固定する方法、基板１４を固定用部材で挟み込み、その部材をネジ等の固定手段でステージ１５に固定することで基板１４を固定する方法などを用いることができる。
また、液体材料を吐出するための吐出装置１６を、直動装置１０の側面に撮像装置９と並設する。一の吐出口を有する本実施形態の吐出装置１６は、直動装置１０に着脱自在に取り付けられており、メンテナンスを行うために取り外したり、他の種類の吐出装置と交換することが可能である。吐出装置１６としては、エア式、ジェット式、プランジャ式、スクリュー式など任意の方式の吐出装置を用いることができる。吐出装置１６には、本体からノズル部のみを取り外すことができるものも含まれる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４３】
カバー２６内の上奥部には、吐出装置１６の制御を行う吐出制御装置２９などを収納するための空間が設けられている。カバー２６の外面に目を向けると、カバー２６上面、すなわち天井には、塗布装置１の状態を作業員などに知らせるための表示灯３０が設けられている。
また、カバー２６左側面手前側には、制御装置１２と接続し、塗布装置１を操作するためのタッチパネル３１が設置されている。このタッチパネル３１は、制御装置１２の一部として、設定値などのデータを入力するための入力装置、撮像装置９で映した画像１８を表示する表示装置としての役割を果たす。
【手続補正書】
【提出日】平成27年10月22日(2015.10.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
画素に対応するスイッチング素子を形成するスイッチング素子形成工程と、
前記スイッチング素子の上方に、第１絶縁膜を形成する第１絶縁膜形成工程と、
前記第１絶縁膜の上面に研磨処理を施して第１平坦化膜を形成する第１平坦化膜形成工程と、
前記第１平坦化膜上に、前記第１絶縁膜よりも形成時の流動性が高い第２絶縁膜を形成する第２絶縁膜形成工程と、
前記第２絶縁膜上に反射膜を形成する反射膜形成工程と、
を有することを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項２】
請求項１に記載の電気光学装置の製造方法であって、
前記第２絶縁膜と前記反射膜との間における前記第２絶縁膜の上面に、前記第２絶縁膜より透湿性の低い第３絶縁膜を形成する第３絶縁膜形成工程を有することを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項３】
請求項２に記載の電気光学装置の製造方法であって、
前記反射膜が設けられた前記第３絶縁膜上の全体に、第４絶縁膜を形成する第４絶縁膜形成工程と、
前記第４絶縁膜上に、前記第４絶縁膜より透湿性の低い第５絶縁膜を形成する第５絶縁膜形成工程と、
を有することを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項４】
請求項１乃至請求項３のいずれか一項に記載の電気光学装置の製造方法であって、
前記第１絶縁膜は、ＮＳＧであり、
前記第２絶縁膜は、ＢＰＳＧであり、
前記第３絶縁膜は、ＮＳＧであり、
前記第４絶縁膜は、ＳｉＯ2であり、
前記第５絶縁膜は、ＳｉＮであることを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項５】
基板上に設けられた第１絶縁膜と、
前記第１絶縁膜上に設けられ、前記第１絶縁膜の上面に形成された窪みを埋めると共に、上面が平坦になった第２絶縁膜と、
前記第２絶縁膜上に設けられた反射膜と、
を備えることを特徴とする電気光学装置。
【請求項６】
請求項５に記載の電気光学装置であって、
前記第２絶縁膜と前記反射膜との間における前記第２絶縁膜の上面に、前記第２絶縁膜より透湿性の低い第３絶縁膜が設けられていることを特徴とする電気光学装置。
【請求項７】
請求項６に記載の電気光学装置であって、
前記反射膜が設けられた前記第３絶縁膜上の全体に設けられた第４絶縁膜と、
前記第４絶縁膜上に設けられた、前記第４絶縁膜より透湿性の低い第５絶縁膜と、
を備えることを特徴とする電気光学装置。
【請求項８】
請求項５乃至請求項７のいずれか一項に記載の電気光学装置を備えることを特徴とする
電子機器。
【手続補正書】
【提出日】平成27年10月22日(2015.10.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
素子と、
前記素子に対応する様に設けられた反射膜と、
前記反射膜と前記素子との間に設けられた絶縁膜と、
前記反射膜上に設けられた増反射膜と、を含み、
前記反射膜は、前記絶縁膜側からチタン膜と窒化チタン膜とアルミニウム膜とが積層されており、
前記チタン膜は、面方位がＴｉ｛００２｝の面積が５０％以上であり、
前記窒化チタン膜は、面方位がＴｉＮ｛１１１｝の面積が５０％以上であり、
前記アルミニウム膜は、面方位がＡｌ｛１１１｝の面積が５０％以上である事を特徴とする電気光学装置。
【請求項２】
前記絶縁膜は、硼素と燐とを含む酸化珪素膜である事を特徴とする請求項１に記載の電気光学装置。
【請求項３】
前記増反射膜は、酸化珪素膜と窒化珪素膜とが積層されている事を特徴とする請求項２に記載の電気光学装置。
【請求項４】
前記絶縁膜における前記硼素の重量割合は、２ｗｔ％から６ｗｔ％の範囲にある事を特徴とする請求項２に記載の電気光学装置。
【請求項５】
請求項１乃至４に記載の電気光学装置を備えた事を特徴とする電子機器。
【手続補正書】
【提出日】平成27年11月2日(2015.11.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
潜像担持体と、該潜像担持体に作用する１つ以上のプロセス手段とを筐体に収納した複数の作像ユニットであって、
上記プロセス手段として上記潜像担持体を除電する除電手段を有し、上記潜像担持体表面に潤滑剤を塗布する潤滑剤塗布手段を有さない第一の作像ユニットと、
上記プロセス手段として上記潤滑剤塗布手段を有し、上記除電手段を有さない第二の作像ユニットとを備え、
上記第一の作像ユニットの筐体と上記第二の作像ユニットの筐体を、同一の構成にしたことを特徴とする複数の作像ユニット。
【請求項２】
請求項１の複数の作像ユニットにおいて、
上記第二の作像ユニットは、上記第一の作像ユニットよりも使用頻度の高い作像ユニットであることを特徴とする複数の作像ユニット。
【請求項３】
請求項２の複数の作像ユニットにおいて、
各作像ユニットは、プロセス手段として、少なくとも潜像担持体表面を帯電させる帯電手段を備え、
上記第二の作像ユニットの帯電手段は、非接触帯電方式であり、上記第一の作像ユニットの帯電手段は、接触帯電方式の帯電手段であることを特徴とする複数の作像ユニット。
【請求項４】
請求項３の複数の作像ユニットにおいて、
非接触帯電方式の帯電手段の帯電部材には、ＤＣ電圧にＡＣ電圧を重畳したバイアスを印加し、接触帯電方式の帯電手段の帯電部材には、ＤＣ電圧のみを印加することを特徴とする複数の作像ユニット。
【請求項５】
請求項１乃至４いずれかの複数の作像ユニットにおいて、
上記除電手段は、上記潜像担持体表面に光を照射して除電する光除電方式の構成であることを特徴とする複数の作像ユニット。
【請求項６】
請求項１乃至５いずれかの複数の作像ユニットにおいて
各作像ユニットの筐体には、上記潤滑剤塗布手段の潤滑剤を収容する潤滑剤収容部を有しており、
上記第一の作像ユニットは、帯電部材にＤＣ電圧のみを印加した接触帯電方式の帯電手段を有し、上記除電手段を、上記潤滑剤収容部に設けたことを特徴とする複数の作像ユニット。
【請求項７】
請求項１乃至６いずれかの複数の作像ユニットにおいて、
上記複数の作像ユニットは、黒トナー像を作像する黒用作像ユニット、イエロートナー像を作像するＹ用作像ユニット、マゼンタトナー像を作像するＭ用作像ユニット、シアントナー像を作像するＣ用作像ユニットであって、
上記黒用作像ユニットが、上記第二の作像ユニットであり、Ｃ，Ｍ，Ｙ作像ユニットが、上記第一の作像ユニットであることを特徴とする複数の作像ユニット。
【請求項８】
請求項１乃至７いずれかの複数の作像ユニットを、装置本体に対して着脱可能に構成したことを特徴とする画像形成装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
上記目的を達成するために、請求項１の発明は、潜像担持体と、該潜像担持体に作用する１つ以上のプロセス手段とを筐体に収納した複数の作像ユニットであって、上記プロセス手段として上記潜像担持体を除電する除電手段を有し、上記潜像担持体表面に潤滑剤を塗布する潤滑剤塗布手段を有さない第一の作像ユニットと、上記プロセス手段として上記潤滑剤塗布手段を有し、上記除電手段を有さない第二の作像ユニットとを備え、上記第一の作像ユニットの筐体と上記第二の作像ユニットの筐体を、同一の構成にしたことを特徴とするものである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明においては、プロセス手段の異なる構成の第一の作像ユニットの筐体と、第二の作像ユニットの筐体とを同一の構成とした。これにより、一つの金型で、第一の作像ユニットの筐体と第二の作像ユニットの筐体を製造することができる。また、ひとつの製造ラインで、第一の作像ユニットの筐体と第二の作像ユニットの筐体とを製造することができる。よって、第一の作像ユニットの筐体と第二の作像ユニットの筐体とを互いに異ならせた場合に比べて、製造コストを下げることができる。
また、一方の作像ユニットの再利用可能な筐体を、他方の作像ユニットの筐体に再利用することできる。これにより、第一の作像ユニットに用いられた再利用可能な筐体と、第二の作像ユニットに用いられた再利用可能な筐体とを一括で管理することができ、管理コストの低減を図ることができる。また、再利用可能な筐体の在庫不足や在庫余りを抑制することができ、作像ユニットの筐体を再利用の効率を高めることができる。