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【手続補正書】
【提出日】平成27年2月23日(2015.2.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１０６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１０６】
図５（ａ）に示すように、比較例のプロジェクターの照明像は、照度ムラが生じている。これに対し、図５（ｂ）及び図５（ｃ）に示すように、実施例のプロジェクターの照明像は、いずれも照度ムラの発生が抑制されている。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１０７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１０７】
なお、本実施形態のプロジェクター１０００では、第１固体光源５２から射出された光を拡散させる拡散部材として回転拡散板７０を用いたが、拡散部材はこれに限らない。例えば、第１固体光源５２から射出された光の入射方向に対して交差する方向に振動可能な拡散板を用いてもよい。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１２５】
第１固体光源５２から射出されλ／２板６３に入射した直線偏光の偏光方向とλ／２板６３の光学軸の方向とのなす角は、回転拡散板７０の回転に伴って−９０°から９０°の間で変化する。そのため、時間積分すれば、偏光変換素子９３に入射する光はＰ偏光とＳ偏光とを概ね等しい割合で含む光となる。このため、偏光変換素子９３のいずれのいずれの射出領域Ｓ２Ａ，Ｓ２Ｂからも互いに強度が概ね等しい光が射出される。よって、照度ムラの発生を抑制することができ表示品質に優れたプロジェクター１００３を提供することができる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１２９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１２９】
図９に示すように、本実施形態に係るプロジェクター２０００は、複屈折素子としてのλ／２板が設けられていない点、第１光源アレイ１５０に２種類の固体光源１５２，１５３が配置されている点で上述の第１実施形態に係るプロジェクター１０００と異なっている。その他の点は上述の構成と同様であるので、図２と同様の要素には同一の符号を付し、詳細な説明は省略する。なお、図９においては、便宜上、第２光源アレイ１０、ダイクロイックミラー２２などの部材の図示を省略している。
【手続補正書】
【提出日】平成27年3月3日(2015.3.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
バイフェーズマーク方式によってエンコードされたデジタルオーディオ信号に同期して復調する同期復調手段と、
前記同期復調手段により復調されたデジタルオーディオ信号をオーバーサンプリングするオーバーサンプリング手段と、
前記オーバーサンプリング手段によりオーバーサンプリングされたデジタルオーディオ信号を、音源と同じサンプリングレートに変換するサンプリングレート変換手段と
を具備することを特徴とする楽音発生装置。
【請求項２】
コンピュータに、
バイフェーズマーク方式によってエンコードされたデジタルオーディオ信号に同期して復調する同期復調ステップと、
前記同期復調ステップにて復調されたデジタルオーディオ信号をオーバーサンプリングするオーバーサンプリングステップと、
前記オーバーサンプリングステップにてオーバーサンプリングされたデジタルオーディオ信号を、音源と同じサンプリングレートに変換するサンプリングレート変換ステップと
を実行させることを特徴とするプログラム。
【請求項３】
前記楽音発生装置はさらに、演奏情報を発生する鍵盤と、前記鍵盤からの演奏情報及び前記サンプリングレート変換手段によりサンプリングレートの変換されたデジタルオーディオ信号に基づいて楽音を形成する音源と、を有することを特徴とする楽音発生装置。
【手続補正書】
【提出日】平成27年2月23日(2015.2.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
飲食物の摂取量が算出される飲食管理装置であって、
前記飲食物が載せられるための器の重量を計測する重量計測部と、
前記器の重量の計測結果に基づいて重量の変化を重量変化情報として管理する重量変化情報管理部と、
前記器に載せられた前記飲食物情報を管理する飲食物情報管理部と、
前記飲食物情報と前記重量変化情報とに基づいて、前記飲食物の摂取量が算算出される摂取量算出部と、
を備えたことを特徴とする飲食管理装置。
【請求項２】
請求項１に記載の飲食管理装置において、
ＩＤタグが前記器に配置され、
前記ＩＤタグを読取るＩＤタグ読取部と、
前記ＩＤタグ読取部の読取結果に基づいてＩＤタグ情報を取得するＩＤタグ情報取得部と、
を有して、前記器が接近することを接近情報として取得する接近情報取得部を備えた、
ことを特徴とする飲食管理装置。
【請求項３】
請求項２に記載の飲食管理装置において、
前記ＩＤタグは、ＲＦＩＤタグであり、
前記ＩＤタグ読取部は、ＲＦＩＤタグリーダーである、
ことを特徴とする飲食管理装置。
【請求項４】
請求項２または３に記載の飲食管理装置において、
前記接近情報取得部が前記接近情報を取得した場合、前記摂取量算出部によって前記飲食物の摂取量が算出される、
ことを特徴とする飲食管理装置。
【請求項５】
飲食物が載せられるための器の重量を計測する工程と、
前記器の重量の計測結果に基づいて重量の変化を重量変化情報として管理する工程と、
前記器に載せられた前記飲食物情報を管理する工程と、
前記飲食物情報と前記重量変化情報とに基づいて、前記飲食物の摂取量が算算出される工程と、
を備えたことを特徴とする飲食管理方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】飲食管理装置、飲食管理方法
【手続補正書】
【提出日】平成27年2月16日(2015.2.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
道路上を走行する車両（３）の運転を支援する運転支援装置（１）であって、
前記道路における走行レーンを検出する走行レーン検出手段（５、２５）と、
前記走行レーン検出手段により前記走行レーンを検出できなかった場合、過去に検出した前記走行レーンを外挿して成る外挿走行レーンを設定する外挿手段（２５）と、
過去に検出した前記走行レーンと前記車両との間の距離、及び／又は、前記車両の横速度に基づいて、前記外挿走行レーンを設定する時間の長さを決定する外挿時間決定手段（２５）と、
予め設定された基準時間内に、前記車両が前記走行レーン検出手段により検出した走行レーン、又は前記外挿手段により設定した外挿走行レーンを逸脱するか否かを判断する逸脱判断手段（２５）と、
を備え、
前記走行レーン検出手段が前記走行レーンを検出している場合、又は前記外挿走行レーンが設定されている場合に、所定の表示を行う表示手段（１５）を備えることを特徴とする運転支援装置。
【請求項２】
前記外挿手段は、前記走行レーンを検出していた状態から、検出しない状態に変化したときに、直前に検出していた前記走行レーンを外挿して前記外挿走行レーンを設定することを特徴とする請求項１記載の運転支援装置。
【請求項３】
前記逸脱判断手段が逸脱すると判断した場合、警報を発する警報手段（１９）を備えることを特徴とする請求項１又は２記載の運転支援装置。
【請求項４】
道路上を走行する車両（３）の運転を支援する運転支援方法（１）であって、
前記道路における走行レーンを検出することを試み、
前記走行レーンを検出できなかった場合、過去に検出した前記走行レーンを外挿して成る外挿走行レーンを設定し、
過去に検出した前記走行レーンと前記車両との間の距離、及び／又は、前記車両の横速度に基づいて、前記外挿走行レーンを設定する時間の長さを決定し、
予め設定された基準時間内に、前記車両が、検出した前記走行レーン、又は、設定された外挿走行レーンを逸脱するか否かを判断し、
前記走行レーンを検出している場合、又は前記外挿走行レーンが設定されている場合に、所定の表示を行う
ステップを有することを特徴とする運転支援方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
よって、本発明の運転支援装置は、走行レーンを検出できない場合でも、外挿走行レーンを用いて運転支援を行うことができる。
また、本発明の運転支援装置は、過去に検出した走行レーンと車両との距離、及び／又は、車両の横速度に基づいて、外挿走行レーンを設定する時間の長さを決定するので、外挿走行レーンを設定する時間を適切に決定することができる。
また、本発明の運転支援装置は、走行レーン検出手段が走行レーンを検出している場合、又は外挿走行レーンが設定されている場合に、所定の表示を行う表示手段を備えるので、例えば、基本的には走行レーンを検出できている状態において、走行レーンを検出していない時間帯が短時間生じたとしても、表示手段の表示は、保たれる。よって、表示手段の表示が短い周期で変化するようなことがなく、ユーザに違和感を与えない。
【手続補正書】
【提出日】平成27年3月2日(2015.3.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
上述の１以上の問題点を解決するため、本発明の画像処理装置は以下の構成を備える。すなわち、画像の各画素に対する視点からの距離情報を入力する距離情報入力手段と、前記画像に含まれる画素のうち、前記距離情報が所定の距離範囲内にある画素を選択する画素選択手段と、前記画素選択手段により選択された画素の全てを内包する第１の領域を対象として、各画素位置での画像の変化度合いを示す値である注目度を算出する注目度計算手段と、前記注目度計算手段により計算された注目度が所定閾値以上の画素の全てを内包する第２の領域を、被写体領域を内包する領域として決定する決定手段と、を備える。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
画像の各画素に対する視点からの距離情報を入力する距離情報入力手段と、
前記画像に含まれる画素のうち、前記距離情報が所定の距離範囲内にある画素を選択する画素選択手段と、
前記画素選択手段により選択された画素の全てを内包する第１の領域を対象として、各画素位置での画像の変化度合いを示す値である注目度を算出する注目度計算手段と、
前記注目度計算手段により算出された注目度が所定閾値以上の画素の全てを内包する第２の領域を、被写体領域を内包する領域として決定する決定手段と、
を備えることを特徴とする画像処理装置。
【請求項２】
前記注目度計算手段は、前記第１の領域に対し互いに異なる２以上のガウシアンフィルタを適用し、該２以上のガウシアンフィルタそれぞれによるフィルタ結果の差分として前記注目度を算出する
ことを特徴とする請求項１に記載の画像処理装置。 
【請求項３】
前記注目度計算手段は、前記第１の領域に含まれる画素の個数に基づいて前記２以上のガウシアンフィルタそれぞれのスケールを決定するスケール決定手段を含む
ことを特徴とする請求項２に記載の画像処理装置。 
【請求項４】
前記決定手段は、前記第２の領域を矩形領域として決定するように構成され、
前記画像処理装置は、前記第２の領域から前記被写体領域を抽出する抽出手段を更に備える
ことを特徴とする請求項１乃至３の何れか一項に記載の画像処理装置。 
【請求項５】
前記注目度計算手段により算出された前記第１の領域に含まれる各画素の注目度に対し、それぞれの画素に対応する距離情報に基づく重み付けを行う重み付け手段を更に備える
ことを特徴とする請求項１乃至４の何れか一項に記載の画像処理装置。
【請求項６】
前記画像に含まれる各画素に対応する距離情報に基づいて該画像を２以上の距離レイヤに分離する分離手段を更に備え、
前記２以上の距離レイヤの各々に対して、前記画素選択手段、前記注目度計算手段、前記決定手段による処理を個別に行う
ことを特徴とする請求項１乃至５の何れか一項に記載の画像処理装置。
【請求項７】
距離情報入力手段が、画像の各画素に対する視点からの距離情報を入力する距離情報入力工程と、
画素選択手段が、前記画像に含まれる画素のうち、前記距離情報が所定の距離範囲内にある画素を選択する画素選択工程と、
注目度計算手段が、前記画素選択工程により選択された画素の全てを内包する第１の領域を対象として、各画素位置での画像の変化度合いを示す値である注目度を算出する注目度計算工程と、
決定手段が、前記注目度計算工程により算出された注目度が所定閾値以上の画素の全てを内包する第２の領域を、被写体領域を内包する領域として決定する決定工程と、
を含むことを特徴とする画像処理方法。
【請求項８】
コンピュータを、請求項１乃至６の何れか一項に記載の画像処理装置の各手段として機能させるためのプログラム。
【手続補正書】
【提出日】平成26年12月19日(2014.12.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
コンテンツの再生に同期して表示装置に表示される表示情報を配信するサーバとの間においてコネクションが確立している場合には前記配信を制御するための前記サーバからのメッセージを第１のプロトコルに従って処理するメッセージ処理部と、
前記コネクションが確立しているか否かを第２のプロトコルに従って確認する接続確認部と、
前記コネクションが確立していない場合には前記第２のプロトコルに従って前記サーバに対して前記コネクションの確立を要求する接続要求部と
を具備する通信装置。
【請求項２】
前記接続要求部は、前記制御の開始を指示する前記メッセージである開始メッセージにより前記コネクションが確立してから一定期間内に前記制御が開始されない場合または前記コネクションが確立していない場合には前記サーバに対して前記第２のプロトコルに従って前記コネクションの確立を要求する
請求項１記載の通信装置。
【請求項３】
前記接続確認部は、前記コネクションが確立しているか否かを一定間隔で前記第２のプロトコルに従って確認する
請求項１または２記載の通信装置。
【請求項４】
前記ファイルの保存場所の設定を要求する前記メッセージである保存場所設定要求メッセージに従って設定した前記保存場所から前記表示情報を含むファイルを取得するファイル取得部と、
前記取得されたファイルを前記コンテンツに対応付けて保持するファイルバッファと、
前記保持されたファイル内の表示情報のうち再生対象のコンテンツを指定する前記メッセージであるコンテンツ指定メッセージにより指定された前記コンテンツに対応する前記表示情報を送信する送信部と
をさらに具備する請求項１から３のいずれかに記載の通信装置。
【請求項５】
前記ファイル取得部は、前記表示情報に含まれる文字列を使用する言語を識別して前記ファイルを前記コンテンツおよび前記言語の組合せごとに前記ファイルバッファに保持させ
前記送信部は、前記ファイル内の表示情報のうち前記指定されたコンテンツに対応する前記表示情報を前記言語に基づいて送信する
請求項４記載の通信装置。
【請求項６】
前記表示装置は、頭部装着ディスプレイである
請求項１から５のいずれかに記載の通信装置。
【請求項７】
コンテンツの再生に同期して表示装置に表示される表示情報を配信するサーバと、
前記サーバとの間においてコネクションが確立している場合には前記配信を制御するための前記サーバからのメッセージを第１のプロトコルに従って処理するメッセージ処理部と、前記コネクションが確立しているか否かを第２のプロトコルに従って確認する接続確認部と、前記コネクションが確立していない場合には前記第２のプロトコルに従って前記サーバに対して前記コネクションの確立を要求する接続要求部とを備える通信装置と
を具備する通信システム。
【請求項８】
メッセージ処理部が、コンテンツの再生に同期して表示装置に表示される表示情報を配信するサーバとの間においてコネクションが確立している場合には前記配信を制御するための前記サーバからのメッセージを第１のプロトコルに従って処理するメッセージ処理手順と、
接続確認部が、前記コネクションが確立しているか否かを第２のプロトコルに従って確認する接続確認手順と、
接続要求部が、前記コネクションが確立していない場合には前記第２のプロトコルに従って前記サーバに対して前記コネクションの確立を要求する接続要求手順と
を具備する通信装置の制御方法。
【請求項９】
メッセージ処理部が、コンテンツの再生に同期して表示装置に表示される表示情報を配信するサーバとの間においてコネクションが確立している場合には前記配信を制御するための前記サーバからのメッセージを第１のプロトコルに従って処理するメッセージ処理手順と、
接続確認部が、前記コネクションが確立しているか否かを第２のプロトコルに従って確認する接続確認手順と、
接続要求部が、前記コネクションが確立していない場合には前記第２のプロトコルに従って前記サーバに対して前記コネクションの確立を要求する接続要求手順と
をコンピュータに実行させるためのプログラム。
【手続補正書】
【提出日】平成27年2月6日(2015.2.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
監視領域内の人物を撮影した監視画像を順次取得する撮像部と、
予め登録人物の登録顔画像を記憶する記憶部と、
前記監視画像が取得される度に当該監視画像から顔を含む顔領域画像を抽出する顔検出手段と、
順次取得される前記監視画像にて前記顔領域画像を追跡する顔追跡手段と、
前記監視画像から光源方向を推定する光源方向推定手段と、
前記顔領域画像を略同方向の前記光源方向毎に複数のグループに分類する分類手段と、
前記複数のグループのそれぞれについて、当該グループに含まれる前記顔領域画像と前記登録顔画像とが類似する度合いを表すグループ類似度を求め、当該グループ類似度が最も高いグループを選択するグループ選択手段と、
前記選択されたグループの前記グループ類似度と所定の認証閾値とを比較して、前記監視領域内の人物と前記登録人物とが同一の人物か否かを判定する判定手段と、
を有することを特徴とする顔画像認証装置。
【請求項２】
前記記憶部は、予め複数の登録人物の前記登録顔画像を記憶し、
前記グループ選択手段は、前記顔領域画像と前記複数の登録顔画像との類似度を求め、前記顔領域画像ごとに当該類似度が最も高い登録顔画像を特定し、前記グループごとに当該特定された回数が最も多い登録顔画像を選択し、当該選択された登録顔画像と当該グループに含まれる顔領域画像との類似度の平均値を前記グループ類似度とすることを特徴とした請求項１に記載の顔画像認証装置。
【請求項３】
前記記憶部は、予め複数の登録人物の前記登録顔画像を記憶し、
前記グループ選択手段は、前記グループに含まれる前記顔領域画像のそれぞれについて前記複数の登録顔画像との類似度を求め、前記顔領域画像ごとの当該類似度の平均値が最も高い登録顔画像の前記平均値を前記グループ類似度とすることを特徴とした請求項１に記載の顔画像認証装置。
【手続補正書】
【提出日】平成27年2月10日(2015.2.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
信号処理回路と、
前記信号処理回路が処理する信号の入出力を行うバッファと、
前記信号処理回路に対する電源の供給を制御するスイッチと、
前記信号処理回路の動作状態に従って前記スイッチの切り替えを行うラッチと、を有し、
前記バッファ及び前記ラッチは、トランジスタを有し、
前記トランジスタは、
酸化物半導体層にチャネル形成領域を有するｎチャネル型のトランジスタであり、
チャネル幅あたりのオフ電流が１×１０−１９Ａ／μｍ以下であり、
電源を供給する配線間に設けられていることを特徴とする半導体装置。
【請求項２】
請求項１において、
第１の導電層と、第２の導電層と、第３の導電層と、第４の導電層と、第５の導電層と、第１の絶縁層と、第２の絶縁層と、を有し、
前記第１の導電層は、前記トランジスタのゲート電極となる機能を有し、
前記第１の絶縁層は、前記第１の導電層の周辺に設けられ、
前記第１の絶縁層の上面と、前記第１の導電層の上面とは、ＣＭＰ処理によって平坦化されており、
前記第２の絶縁層は、前記第１の絶縁層上方及び前記第１の導電層上方に設けられ、前記トランジスタのゲート絶縁層となる機能を有し、
前記酸化物半導体層は、前記第２の絶縁層上方に設けられ、
前記第２の導電層及び前記第３の導電層は、前記酸化物半導体層上方に、互いに離間するように設けられ、
前記第４の導電層は、前記第２の導電層上方に設けられ、
前記第５の導電層は、前記第３の導電層上方に設けられ、
前記第２の導電層と前記第４の導電層は、前記トランジスタのソース電極又はドレイン電極の一方となる機能を有し、
前記第３の導電層と前記第５の導電層は、前記トランジスタのソース電極又はドレイン電極の他方となる機能を有し、
前記第２の導電層と前記第３の導電層の間隔は、５０ｎｍ未満であることを特徴とする半導体装置。
【手続補正書】
【提出日】平成27年3月2日(2015.3.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
境界線で互いに接する第１領域および第２領域を有する半導体装置の製造方法であって、
前記境界線に平行で前記第１領域の中に配置された第１線と前記境界線に平行で前記第２領域の中に配置された第２線とで幅が規定された境界線上ライン部を含むパターンを形成するフォトリソグラフィー工程を含み、前記フォトリソグラフィー工程は、
基板に塗布されたフォトレジストに対して、前記第１線を規定するための第１露光および前記第２線を規定するための第２露光を別個に実施する露光工程と、
前記露光工程を経た前記フォトレジストを現像する工程と、を含む、
ことを特徴とする半導体装置の製造方法。
【請求項２】
前記第１露光において、前記第１領域の中に前記境界線上ライン部に平行な複数の第１ライン部を規定するように前記フォトレジストを露光し、
前記第２露光において、前記第２領域の中に前記境界線上ライン部に平行な複数の第２ライン部を規定するように前記フォトレジストを露光する、
ことを特徴とする請求項１に記載の半導体装置の製造方法。
【請求項３】
前記複数の第１ライン部における隣り合う第１ライン部の間隔、前記複数の第１ライン部のうち前記境界線上ライン部に最も近い第１ライン部と前記境界線上ライン部との間隔、前記複数の第２ライン部における隣り合う第２ライン部の間隔、および、前記複数の第２ライン部のうち前記境界線上ライン部に最も近い第２ライン部と前記境界線上ライン部との間隔が、互いに等しい、
ことを特徴とする請求項２に記載の半導体装置の製造方法。
【請求項４】
前記境界線は、所定方向に沿った直線に平行な複数の直線部と、前記複数の直線部を連結する連結部とを含み、
前記半導体装置は、複数の前記境界線上ライン部を有し、前記複数の直線部のそれぞれに対して１つの前記境界線上ライン部が設けられている、
ことを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の半導体装置の製造方法。
【請求項５】
前記フォトレジストは、ポジ型フォトレジストである、
ことを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の半導体装置の製造方法。
【請求項６】
前記フォトレジストは、ネガ型フォトレジストである、
ことを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の半導体装置の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成27年3月2日(2015.3.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体層および導電層を有する固体撮像装置であって、
前記半導体層を貫通し、かつ前記導電層に至る開口と、
前記導電層に接続されるように前記開口の中に配置された導電体と、
前記開口を取り囲み、かつ前記半導体層を貫通した溝と、を備え、
前記導電体を取り囲むように前記開口と前記溝との間に配置された半導体からなる壁部を含み、
前記溝の中に、固体が存在しない空間が存在する、
ことを特徴とする固体撮像装置。
【請求項２】
半導体層および導電層を有する固体撮像装置であって、
前記半導体層を貫通し、かつ前記導電層に至る開口と、
前記導電層に接続されるように前記開口の中に配置された導電体と、
前記開口を取り囲み、かつ前記半導体層を貫通した溝と、を備え、前記導電体を取り囲むように前記開口と前記溝との間に配置された半導体からなる壁部を含み、
前記溝の深さが前記開口の深さと同一であるか、前記開口の深さよりも深い、
ことを特徴とする固体撮像装置。
【請求項３】
前記溝は、前記半導体層と前記導電層の間に配された層間絶縁膜を貫通する、
ことを特徴とする請求項１又は２に記載の固体撮像装置。
【請求項４】
前記溝は、前記半導体層に対して前記導電層とは反対側に配置された層を貫通する、
ことを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の固体撮像装置。
【請求項５】
前記半導体層と前記導電層との間に複数の金属配線層が設けられている、
ことを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の固体撮像装置。
【請求項６】
前記溝を取り囲むように配置された、金属で構成されたシール部、および、
前記開口と前記溝との間に配置された、金属で構成されたシール部
の少なくとも１つを更に備える、
ことを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の固体撮像装置。
【請求項７】
前記壁部の前記開口の側の側面および前記溝の側の側面を覆う保護層を更に備える、
ことを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項に記載の固体撮像装置。
【請求項８】
前記壁部の前記開口の側の側面を覆う保護層と、オンチップレンズを更に備え、
前記保護層は前記オンチップレンズと前記半導体層との間に延在する、
ことを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１項に記載の固体撮像装置。
【請求項９】
前記溝は、前記溝の深さが前記開口の深さと同一である部分と、前記溝の深さが前記開口の深さよりも深い部分と、を有する
ことを特徴とする請求項１乃至８のいずれか１項に記載の固体撮像装置。
【請求項１０】
１つの前記溝は、前記開口を含む複数の開口を取り囲んでいる、
ことを特徴とする請求項１乃至９のいずれか１項に記載の固体撮像装置。
【請求項１１】
前記導電体は、ボンディングワイヤである、
ことを特徴とする請求項１乃至１０のいずれか１項に記載の固体撮像装置。
【請求項１２】
前記導電体は、前記導電層と、前記導電層とは前記半導体層までの距離が異なる別の導電層とを接続する、
ことを特徴とする請求項１乃至１１のいずれか１項に記載の固体撮像装置。
【請求項１３】
前記半導体層の外縁に沿って前記溝と前記半導体層の外縁との間に配置され、かつ前記半導体層を貫通した溝を更に備える、
ことを特徴とする請求項１乃至１２のいずれか１項に記載の固体撮像装置。
【請求項１４】
前記開口が貫通する前記半導体層を第１半導体層として、第２半導体層を更に備え、
前記第１半導体層に光電変換部が配置されており、
前記第２半導体層にトランジスタが配置されており、
前記第１半導体層と前記第２半導体層との間に前記導電層が配置されている、
ことを特徴とする請求項１乃至１３のいずれか１項に記載の固体撮像装置。
【請求項１５】
前記開口が貫通する前記半導体層を第１半導体層として、第２半導体層を更に備え、
前記第２半導体層に光電変換部が配置されており、
前記第１半導体層と前記第２半導体層との間に前記導電層が配置されている、
ことを特徴とする請求項１乃至１３のいずれか１項に記載の固体撮像装置。
【請求項１６】
前記第１半導体層にトランジスタが配置されている、
ことを特徴とする請求項１４又は１５に記載の固体撮像装置。
【請求項１７】
請求項１乃至１６のいずれか１項に記載の固体撮像装置と、
前記固体撮像装置から出力される信号を処理する処理部と、
を備えることを特徴とするカメラ。
【請求項１８】
半導体層と導電層とが積層された部材を準備する工程と、
前記半導体層に対して前記導電層とは反対側から前記部材をエッチングすることにより、前記半導体層を貫通し、かつ前記導電層に至る開口と、前記半導体層を貫通し、かつ前記開口を取り囲む溝と、を形成する工程と、
前記導電層に接続されるように前記開口の中に導電体を形成する工程と、を
含む、
ことを特徴とする固体撮像装置の製造方法。
【請求項１９】
前記開口と前記溝とを同時に形成する、ことを特徴とする請求項１８に記載の固体撮像装置の製造方法。
【請求項２０】
前記部材を準備する工程では、
前記半導体層を有する第１部材
と、
前記導電層を有する第２部材とを結合する、
ことを特徴とする請求項１８又は１９に記載の固体撮像装置の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明の１つの側面は、半導体層および導電層を有する固体撮像装置に係り、前記固体撮像装置は、前記半導体層を貫通し、かつ前記導電層に至る開口と、前記導電層に接続されるように前記開口の中に配置された導電体と、前記開口を取り囲み、かつ前記半導体層を貫通した溝と、を備え、前記導電体を取り囲むように前記開口と前記溝との間に配置された半導体からなる壁部を含み、前記溝の中に、固体が存在しない空間が存在する。
【手続補正書】
【提出日】平成27年2月27日(2015.2.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数のフォトリソグラフィー工程を経て固体撮像装置を製造する製造方法であって、
前記複数のフォトリソグラフィー工程は、複数の第１リソグラフィー工程と、少なくとも１つの第２リソグラフィー工程とを含み、各第１リソグラフィー工程は、複数のフォトマスクを使って基板のチップ領域の互いに異なる領域を露光する分割露光工程を含み、前記少なくとも１つの第２リソグラフィー工程は、１つのフォトマスクを使って前記基板の前記チップ領域を露光する非分割露光工程を含み、
前記複数の第１リソグラフィー工程は、前記基板に活性領域を定義するためのレジストパターンを形成する工程と、電荷蓄積領域を定義するためのレジストパターンを形成するリソグラフィー工程とを含む、
ことを特徴とする固体撮像装置の製造方法。
【請求項２】
前記複数の第１リソグラフィー工程は、前記電荷蓄積領域の上に配置された半導体領域を定義するためのレジストパターンを形成するリソグラフィー工程を含み、
前記半導体領域の導電型は、前記電荷蓄積領域の導電型とは異なる、
ことを特徴とする請求項１に記載の固体撮像装置の製造方法。
【請求項３】
前記複数の第１リソグラフィー工程は、隣り合う前記電荷蓄積領域の間に配置されたポテンシャルバリア領域を定義するためのレジストパターンを形成するリソグラフィー工程を含み、前記ポテンシャルバリア領域の導電型は、前記電荷蓄積領域の導電型とは異なる、
ことを特徴とする請求項１又は２に記載の固体撮像装置の製造方法。
【請求項４】
前記複数の第１リソグラフィー工程は、素子分離領域の周囲に配置されるチャネルストップ領域を定義するためのレジストパターンを形成するリソグラフィー工程を含む、
ことを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の固体撮像装置の製造方法。
【請求項５】
前記固体撮像装置は、画素アレイ部および周辺回路部を含み、前記画素アレイ部を構成する素子は、共通のウエル領域の中に形成され、前記周辺回路部は、前記ウエル領域の外側に形成され、
前記少なくとも１つの第２リソグラフィー工程は、前記基板に前記ウエル領域を定義するためのレジストパターンを形成するリソグラフィー工程を含む、
ことを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の固体撮像装置の製造方法。
【請求項６】
前記少なくとも１つの第２リソグラフィー工程は、遮光パターンを定義するためのレジストパターンを形成するリソグラフィー工程を含む、
ことを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の固体撮像装置の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本発明の１つの側面は、複数のフォトリソグラフィー工程を経て固体撮像装置を製造する製造方法に係り、前記複数のフォトリソグラフィー工程は、複数の第１リソグラフィー工程と、少なくとも１つの第２リソグラフィー工程とを含み、各第１リソグラフィー工程は、複数のフォトマスクを使って基板のチップ領域の互いに異なる領域を露光する分割露光工程を含み、前記少なくとも１つの第２リソグラフィー工程は、１つのフォトマスクを使って前記基板の前記チップ領域を露光する非分割露光工程を含み、前記複数の第１リソグラフィー工程は、前記基板に活性領域を定義するためのレジストパターンを形成する工程と、電荷蓄積領域を定義するためのレジストパターンを形成するリソグラフィー工程とを含む。
【手続補正書】
【提出日】平成27年3月2日(2015.3.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
偏向器と、荷電粒子線を通過させるアパーチャが形成されていて且つ前記偏向器によって偏向された荷電粒子線を遮断するプレートとを有し、荷電粒子線で基板に描画を行う描画装置であって、
荷電粒子線を検出するように前記プレートに配置された検出部と、
前記プレートに配置されていて、前記検出部から出力されたアナログ信号をデジタル信号に変換するＡＤ変換器と、を備える、
ことを特徴とする描画装置。
【請求項２】
前記ＡＤ変換器から出力されたデジタル信号に基づいて、前記描画が正常であるかおよび前記描画が異常であるかの少なくとも一方の判断を行う処理部を更に備える、
ことを特徴とする請求項１に記載の描画装置。
【請求項３】
前記処理部は、前記プレートに配置されている、
ことを特徴とする請求項２に記載の描画装置。
【請求項４】
前記処理部は、
前記ＡＤ変換器から出力されたデジタル信号に基づいて前記描画の状態を示す描画状態データを生成する生成部と、
前記偏向器を制御するための描画制御データと前記描画状態データとに基づいて前記判断を行う判断部と、
を含むことを特徴とする請求項２又は３に記載の描画装置。
【請求項５】
前記処理部による前記判断は、基板への荷電粒子線の照射位置、基板への荷電粒子線の照射タイミング、基板への荷電粒子線の照射時間、基板への荷電粒子線の非照射時間、基板への荷電粒子線の照射パルス数、および、基板への荷電粒子線の照射量の少なくとも１つに関する、
ことを特徴とする請求項２乃至４のいずれか１項に記載の描画装置。
【請求項６】
前記処理部により前記描画が正常ではないと判断された場合に、基板への再描画がなされる、
ことを特徴とする請求項２乃至５のいずれか１項に記載の描画装置。
【請求項７】
前記描画装置は、複数の荷電粒子線で前記描画を行うように構成され、
前記処理部は、前記描画を正常に行うことができない荷電粒子線を特定し、
当該特定された荷電粒子線とは異なる荷電粒子線で基板への再描画がなされる、
ことを特徴とする請求項２乃至５のいずれか１項に記載の描画装置。
【請求項８】
前記処理部により前記描画が正常ではないと判断された場合に、前記描画が正常になされるように、前記偏向器を制御するための描画制御データが修正される、
ことを特徴とする請求項２乃至６のいずれか１項に記載の描画装置。
【請求項９】
前記検出部は、電荷検出素子を含む、
ことを特徴とする請求項１乃至８のいずれか１項に記載の描画装置。
【請求項１０】
前記検出部は、前記電荷検出素子から出力されるアナログ信号を増幅する増幅部を更に含む、
ことを特徴とする請求項９に記載の描画装置。
【請求項１１】
前記電荷検出素子は、光電変換素子を含む、
ことを特徴とする請求項９又は１０に記載の描画装置。
【請求項１２】
偏向器と、荷電粒子線を通過させるアパーチャが形成されていて且つ前記偏向器によって偏向された荷電粒子線を遮断するプレートとを有し、荷電粒子線で基板に描画を行う描画装置であって、
荷電粒子線を検出するように前記プレートに配置された検出部を備え、前記検出部は、光電変換素子を含む、
ことを特徴とする描画装置。
【請求項１３】
物品製造方法であって、
請求項１乃至１２のいずれか１項に記載の描画装置によって基板に描画を行う工程と、
前記工程で描画を行われた前記基板を処理する工程と、
を含むことを特徴とする物品製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明の１つの側面は、偏向器と、荷電粒子線を通過させるアパーチャが形成されていて且つ前記偏向器によって偏向された荷電粒子線を遮断するプレートとを有し、荷電粒子線で基板に描画を行う描画装置に係り、前記描画装置が、荷電粒子線を検出するように前記プレートに配置された検出部と、前記プレートに配置されていて、前記検出部から出力されたアナログ信号をデジタル信号に変換するＡＤ変換器と、を備える。
【手続補正書】
【提出日】平成27年1月26日(2015.1.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
上記目的を達成するために本発明は、上面が上方に略ドーム状で突出した突部に形成され、下面が窪部に形成されている透光板と、上記透光板の窪部に沿って重ねて配され、上面に所定方向に配列された略帯状で複数の上導電層が形成された上基板と、上記上基板の下面に沿って重ねて配され、上面に上記上導電層と直交方向に配列された略帯状で複数の下導電層が形成された下基板とを備え、上記透光板の窪部は、第１の方向に沿う断面視では上方に突出する曲線状で、上記第１の方向に対して直交関係となる第２の方向に沿う断面視では直線状になるように形状設定がされていることを特徴とする構成のタッチパネルとする。
これであれば、前後または左右いずれかの方向の透光板の厚さが均等に形成されると共に、これと直交方向の中央部と外周部の厚さの差も小さくなるため、中央部と外周部を操作した場合の容量変化の誤差を少なくできると共に、透光板下面への上基板と下基板の貼付も容易に行えるため、製作も容易で、確実な操作が可能なタッチパネルを得ることができるという作用を有する。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２７】
そして、この窪部９Ｂの屈曲方向と半径は、上面に形成された突部９Ａの前後及び左右方向の半径の小さな方と同じ方向に同じ半径で、例えば突部９Ａの前後方向の半径が１０００ｍｍで、左右方向の半径が２０００ｍｍであった場合、前後方向に半径１０００ｍｍで屈曲して設けられている。換言すると、図２や図３に示すように、窪部９Ｂは、窪部９Ｂの第１の方向側に沿った断面視では上方に弧状で突出する屈曲した曲線状で、窪部９Ｂの第１の方向に対して直交関係となる第２の方向側に沿った断面視では真直ぐな直線状になるように形状設定がされている。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３４】
また、窪部９Ｂを上面の突部９Ａの半径の小さな方と同じ方向に同じ半径で形成することによって、下面の窪部９Ｂが真直ぐとなる左右方向の、上面の突部９Ａの左右方向の半径は２０００ｍｍと大きなものとなり、透光板９の中央部と外周部の厚さの差も小さくなるため、この左右方向の中央部と外周部を操作した場合の容量変化の誤差も小さなものとすることができる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
上面が上方に略ドーム状で突出した突部に形成され、下面が窪部に形成されている透光板と、上記透光板の窪部に沿って重ねて配され、上面に所定方向に配列された略帯状で複数の上導電層が形成された上基板と、上記上基板の下面に沿って重ねて配され、上面に上記上導電層と直交方向に配列された略帯状で複数の下導電層が形成された下基板とを備え、
上記透光板の窪部は、第１の方向に沿う断面視では上方に突出する曲線状で、上記第１の方向に対して直交関係となる第２の方向に沿う断面視では直線状になるように形状設定がされていることを特徴とするタッチパネル。
【手続補正書】
【提出日】平成27年8月10日(2015.8.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
所定のスキャン画像データに応じて、細長い集光されたスキャン画像を発生させる装置であって、
２次元アレイに配列されかつ各々光変調構造と関連画像データビット値を格納する関連制御セルとを含む複数の光変調素子を含む空間光変調器であって、前記光変調構造が、一様な２次元均質光場の関連光部分を受光し且つ第１変調状態と第２変調状態との間に、前記関連画像データビット値に応じて、制御されるように、前記複数の光変調素子の各々が配置され、前記複数の光変調素子の各々の前記光変調構造が前記第１変調状態にあるとき、前記複数の光変調素子の各々は、前記受光した関連光部分を対応する所定の方向に向け、前記複数の光変調素子の各々の前記光変調構造が前記第２変調状態にあるとき、前記複数の光変調素子の各々は、前記受光した関連光部分が前記対応する所定の方向に向けられないようにする、前記空間光変調器と、
前記第１変調状態に制御された前記複数の光変調素子の各々によって方向が定められた変調光部分を含む変調光場を受光するように位置が定められ、前記受光した変調光場に応じて、関連してアナモフィックに集光された光場を発生させるように構成されるアナモフィック光学システムと、
移動可能な画像形成面を有し、前記アナモフィックに集光された光場が、前記画像形成面の上に定められた細長画像形成領域の上に、前記細長い集光されたスキャン画像を形成するように、前記アナモフィック光学システムに対して位置が定められたスキャン構造と、
前記細長い集光されたスキャン画像の画像特徴が前記画像形成面の交差スキャン移動と同じ速度で交差スキャン方向にスクロールするように、前記複数の光変調素子のうちの所定の選択された光変調素子間において前記関連画像データビット値をシフトさせることによって、前記所定のスキャン画像データに従って、前記画像形成面の前記交差スキャン移動を前記複数の光変調素子の変調状態と同期化させる同期化手段を含む画像位置コントローラと、
を含み、
前記アナモフィック光学システムは、画像を形成し且つ交差工程方向に前記細長画像形成領域の上に前記受光された前記変調光部分を投影するように構成された第１及び第２の円柱又は非円柱集束レンズを含む工程直交光学サブシステムを含み、
前記アナモフィック光学システムは、前記工程直交光学サブシステムから受光された前記変調光部分を工程方向に前記細長画像形成領域の上に集束する第３の円柱又は非円柱集束レンズを含む工程方向光学サブシステムを更に含む
ことを特徴とする装置。
【請求項２】
前記複数の光変調素子は、複数の行及び複数の列に配置され、
前記複数の列の各々は、前記複数の光変調素子の関連グループを含み、
前記アナモフィック光学システムは、前記複数の列の各々の前記複数の光変調素子の各関連グループから受光された前記変調光部分を、前記細長いスキャンライン画像の関連スキャンライン部分の上に集光するように構成され、
前記画像位置コントローラは、前記関連画像データビット値が、前記各関連グループの隣接する前記光変調素子の間で経時的にシフトされるように、前記複数の列の各々の前記複数の光変調素子の各関連グループの間で前記関連画像データビット値を書き込むためのデータ制御手段を含む、
ことを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記同期化手段は、前記複数の光変調素子の各々のための前記関連画像データビット値を含む第１のデータフレームを発生させ、前記複数の光変調素子に前記第１のデータフレームを送信し、前記複数の光変調素子の第１のグループと関連する前記関連画像データビット値の幾つかをシフトし且つ前記複数の光変調素子の第２のグループのために前記関連画像データビット値の新しいセットを、変調される前記第１のデータフレームに組み込むことにより、変調された第１のデータフレームを発生させる手段を含むことを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項４】
前記空間光変調器は、前記画像位置コントローラによって新しい関連画像データビット値が第１の光変調素子の前記関連制御セルに書き込まれたときに、前記複数の光変調素子の前記第１の光変調素子の前記関連制御セルから前記複数の光変調素子の第２の光変調素子の前記関連制御セルに前記関連画像データビット値をシフトする手段を含む少なくとも１つのシフトレジスタ回路を更に備えることを特徴とする請求項２に記載の装置。
【請求項５】
前記空間光変調器は、デジタル・マイクロミラー・デバイス、電子光学回折変調器アレイ、及び熱光学吸収素子のアレイの１つを備えることを特徴とする請求項１に記載の装置。
【手続補正書】
【提出日】平成26年12月25日(2014.12.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】撮像システム
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
この発明は、撮像システムに関する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ｎを２以上の自然数として３６０／ｎより大きい全画角：Ａ（度）を持つ結像光学系と、この結像光学系により集光された光を画像信号に変換する２次元の固体撮像素子とにより構成される撮像光学系をｎ個以上組み合わせて有する撮像システムにおいて、
個々の撮像光学系の結像光学系は、単位画角あたりの倍率が、画角：０（度）から３６０／ｎ（度）までの間において単調増加し、画角：３６０／ｎ（度）を超えてから全画角：Ａ（度）までは、上記倍率の増加率が単調減少するものであることを特徴とする全天球型撮像システム。  
【請求項２】
請求項１記載の撮像システムにおいて、  
画角：０（度）から全画角：Ａまでの領域で、像高：Ｙ、画角：θについて、条件：
（１）    ４３．３≧ｄＹ／ｄθ≧０．００７[ｍｍ／ｄｅｇ]
を満たすことを特徴とする撮像システム。
【請求項３】
請求項１または２記載の撮像システムにおいて、
全画角：Ａが１８０度より大きい結像光学系と、この結像光学系により集光された光を画像信号に変換する２次元の固体撮像素子とにより構成される撮像光学系を２個組み合わせてなる全天球型の撮像システム。
【請求項４】
請求項１〜３の任意の１に記載の撮像システムにおいて、  
隣接した撮像光学系により撮像された複数の画像を、各々の画像の内、同一像を参考に繋ぎ合わせる機能を有し、
撮像された各画像の画角：０（度）〜３６０/ｎ（度）までの画像を繋ぎ合わせ表示することを特徴とする撮像システム。
【請求項５】
請求項１〜４の任意の１に記載の撮像システムにおいて、
各撮像光学系の結像光学系が、物体側に配置された負の第１レンズ群と、像側に配置された正の第２レンズ群によりなり、第１および第２のレンズ群の少なくとも一方が非球面レンズを有することを特徴とする撮像システム。
【請求項６】
請求項５記載の撮像システムにおいて、  
結像光学系の第１レンズ群が、第２レンズ群に向かって光路を屈曲させる反射部材を有することを特徴とする撮像システム。
【請求項７】
請求項６記載の撮像システムにおいて、  
結像光学系の第１レンズ群が有する反射部材がプリズムであることを特徴とする撮像システム。
【手続補正書】
【提出日】平成26年12月5日(2014.12.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
発光素子を搭載した磁気ヘッドスライダが実装される磁気ヘッドスライダ実装領域を有するサスペンション用基板であって、
前記磁気ヘッドスライダ実装領域は、
前記発光素子が挿通する開口を有する金属基板と、
前記金属基板上に前記開口を囲んで設けられた絶縁層と、
前記絶縁層上に設けられた配線層と、を備え、
前記配線層は、複数の配線と、各配線の先端に接続され、前記開口の近傍に配置されて前記磁気ヘッドスライダに電気的に接続される端子と、を有し、
前記端子の前記発光素子側の側面及び上面は、第１金属層により覆われ、
前記第１金属層の上面に、前記第１金属層より半田の濡れ性が高い第２金属層が設けられ、
少なくとも前記発光素子側の側面側の前記第１金属層は、外方へ露出する
ことを特徴とするサスペンション用基板。
【請求項２】
前記配線層の前記端子は、前記開口上に突出し、
前記絶縁層は、前記開口上に突出すると共に前記配線層の前記端子を支持する、互いに離間する複数の突出部を有する
ことを特徴とする請求項１に記載のサスペンション用基板。
【請求項３】
前記絶縁層の突出部間が前記発光素子の光導波路となっている
ことを特徴とする請求項２に記載のサスペンション用基板。
【請求項４】
前記金属基板は、金属基板本体と、前記絶縁層の前記突出部の裏面に設けられ、前記金属基板本体に離隔した放熱金属部と、を有する
ことを特徴とする請求項２または請求項３に記載のサスペンション用基板。
【請求項５】
前記第１金属層はニッケルめっき層であり、
前記第２金属層は金めっき層である
ことを特徴とする請求項１から請求項４の何れかに記載のサスペンション用基板。
【請求項６】
発光素子を搭載した磁気ヘッドスライダが実装される磁気ヘッドスライダ実装領域を有するサスペンション用基板であって、
前記磁気ヘッドスライダ実装領域は、
前記発光素子が挿通する開口を有する金属基板と、
前記金属基板上に前記開口を囲んで設けられた絶縁層と、
前記絶縁層上に設けられた配線層と、を備え、
前記配線層は、複数の配線と、各配線の先端に接続され、前記開口の近傍に配置されて前記磁気ヘッドスライダに電気的に接続される端子と、を有し、
前記配線層の前記端子は、前記開口上に突出し、
前記絶縁層は、前記開口上に突出すると共に前記配線層の前記端子を支持する、互いに離間する複数の突出部を有し、
前記金属基板は、金属基板本体と、前記絶縁層の前記突出部の裏面に設けられ、前記金属基板本体に離隔した放熱金属部と、を有する
ことを特徴とするサスペンション用基板。
【請求項７】
ベースプレートと、
前記ベースプレートに、ロードビームを介して取り付けられた請求項１から請求項６のいずれかに記載のサスペンション用基板と、を備える
ことを特徴とするサスペンション。
【請求項８】
請求項７に記載のサスペンションと、
前記サスペンションに実装された前記磁気ヘッドスライダと、を備える
ことを特徴とするヘッド付サスペンション。
【請求項９】
請求項８に記載のヘッド付サスペンションを備える
ことを特徴とするハードディスクドライブ。
【請求項１０】
発光素子を搭載した磁気ヘッドスライダが実装される磁気ヘッドスライダ実装領域を有し、前記磁気ヘッドスライダ実装領域は、前記発光素子が挿通する開口を有する金属基板と、前記金属基板上に前記開口を囲んで設けられた絶縁層と、前記絶縁層上に設けられた配線層と、を備える、サスペンション用基板の製造方法であって、
前記配線層に、複数の配線と、各配線の先端に接続され、前記開口の近傍に配置されて前記磁気ヘッドスライダに電気的に接続される端子と、を形成する工程と、
前記端子の前記発光素子側の側面及び上面に、第１金属層を形成する工程と、
前記第１金属層の上面に、少なくとも前記発光素子側の側面側の前記第１金属層が外方へ露出するように、前記第１金属層より半田の濡れ性が高い第２金属層を形成する工程と、を備える
ことを特徴とするサスペンション用基板の製造方法。
【請求項１１】
前記第１金属層は、第３金属層と第４金属層からなり、
前記第１金属層を形成する工程は、
前記端子の前記発光素子側の側面及び上面に、前記第３金属層を形成する工程と、
前記第３金属層の上面を酸洗浄する工程と、
酸洗浄された前記第３金属層の上面に、前記第３金属層と同一材料で前記第４金属層を形成する工程と、を有する
ことを特徴とする請求項１０に記載のサスペンション用基板の製造方法。
【請求項１２】
前記第１金属層はニッケルめっき層であり、
前記第２金属層は金めっき層である
ことを特徴とする請求項１０または請求項１１に記載のサスペンション用基板の製造方法。