(57)【要約】  防塵性を有する反射防止多層膜を提供する。  反射防止多層膜（１０）は、屈折率が異なる２種類の高屈折率層（１２）と低屈折率層（１３）を交互に積層されている。高屈折率層（１２）は、五酸化タンタル等の無機材料を光学素子（１１）の表面に対して斜め方向から蒸着して形成された斜方蒸着層であり、微小な柱状構造体が蒸着方向に応じて傾斜して林立した微細内部構造を有する。低屈折率層（１３）は、等方的で稠密な層である。
2014065371.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
高屈折率の第１の誘電体からなる誘電体層と、この第１の誘電体よりも低屈折率の第２の誘電体からなる誘電体層の少なくとも２種類を交互に積層した反射防止多層膜において、
前記反射防止多層膜を構成する複数の誘電体の中で最も屈折率が高い誘電体からなる複数の誘電体層の少なくとも１層が、斜方蒸着により形成された斜方蒸着層である反射防止多層膜。
【請求項２】
前記反射防止多層膜は、２層以上の斜方蒸着層を有する請求項１に記載の反射防止多層膜。
【請求項３】
前記２層以上の斜方蒸着層は、それぞれの斜方蒸着層で発生する複屈折を他の斜方蒸着層で発生する複屈折で打ち消すように斜方蒸着層の面内での光学軸が異なったものが含まれている請求項２に記載の反射防止多層膜。
【請求項４】
垂直方向に測定した複屈折が１ｎｍ以下である請求項３に記載の反射防止多層膜。
【請求項５】
前記斜方蒸着層を構成する誘電体の屈折率が１．９以上で２．５以下である請求項１に記載の反射防止多層膜。
【請求項６】
前記第１の誘電体は、五酸化タンタル又は五酸化ニオブである請求項１に記載の反射防止多層膜。
【請求項７】
前記第２の誘電体は、不定比性の酸化ケイ素である請求項１に記載の反射防止多層膜。
【請求項８】
最上層となる前記誘電体層の上に、フッ素を含む保護層が形成されている請求項１〜７のいずれか１項に記載の反射防止多層膜。
【請求項９】
前記保護層の厚さが、１ｎｍ以上で２ｎｍ以下である請求項８に記載の反射防止多層膜。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学素子の表面に形成される反射防止多層膜に関する。
【背景技術】
【０００２】
光学機器、例えば、デジタルカメラやイメージスキャナ、液晶表示装置やプロジェクタ等では、レンズや各種光学フィルタ等の光学素子が使用されている。光学素子の形状や光学的作用は用途等に応じて様々であるが、いずれの場合も、光学素子の表面には単層又は多層の反射防止膜が設けられていることが一般的である。これは、光学素子の表面反射による損失で、光の利用効率が低下しないようにするためである。【０００３】
反射防止多層膜としては、例えば、屈折率が異なる複数の誘電体材料を積層して形成されたもの（いわゆる誘電体多層膜）が知られている（特許文献１，２）。誘電体多層膜を用いた反射防止多層膜は、使用する波長帯等に応じて、誘電体材料の組み合わせやこれらの屈折率、各誘電体層の層数や積層順序等が異なるが、例えば、２種類の誘電体材料を用いる場合には、高屈折率材料からなる誘電体層と低屈折率材料からなる誘電体層が交互に積層される。【０００４】
また、無機材料を斜め方向から蒸着して１つの斜方蒸着層を形成し、これを単層構造の反射防止膜として用いることも提案されている（特許文献３，４）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００２−１５６５０７号公報
【特許文献２】特開２００６−１１９５２５号公報
【特許文献３】特開平７−０２７９０２号公報
【特許文献４】特開昭６３−０７５７０１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
多くの光学機器では、光学素子が露出した状態で配置されているため、チリやホコリが付着しやすい。チリやホコリが付着すると、当然ながら光学性能が悪化する。また、帯電等によって光学素子自身が周辺のチリやホコリを吸い寄せてしまう場合もある。さらに、光学素子がほぼ密閉された状態で使用されていたとしても、メンテナンスを行う場合には外気に露呈され、チリやホコリ等が付着してしまう可能性がある。【０００７】
このように、光学素子の表面にチリやホコリ等が付着してしまった場合には、エアダスター等によって付着したチリやホコリを除去し、光学性能が劣化しないようにする必要があるが、一度付着してしまったチリやホコリを完全に除去することは容易ではない。例えば、エアダスターによってエアを吹き付けたとしても、細かなチリやホコリが残存してしまうことも多い。このため、光学素子の表面には、前述のように反射防止膜を設けるだけでなく、さらに、防塵性のコーティングを設けることが望ましい。【０００８】
一方、反射防止膜上にさらに防塵性のコーティングを設けると、工数が増加するので、コストアップする。また、防塵性のコーティングを設けることで反射防止膜による反射防止効果が低減してしまう場合もある。さらに、防塵性のコーティングによって光学素子の厚みが増すので、光学機器に使用する全ての光学素子に防塵性のコーティングを設けると、全体としては無視できない厚みとなって、光学機器の小型化や薄型化の妨げになることもある。【０００９】
本発明は、防塵性を有する反射防止多層膜を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記目的を達成するために、本発明の反射防止多層膜は、高屈折率の第１の誘電体からなる誘電体層と、この第１の誘電体よりも低屈折率の第２の誘電体からなる誘電体層の少なくとも２種類を交互に積層されており、かつ反射防止多層膜を構成する複数の誘電体の中で最も屈折率が高い誘電体からなる複数の誘電体層の少なくとも１層は、斜方蒸着により形成された斜方蒸着層である。【００１１】
反射防止多層膜は、２層以上の斜方蒸着層を有することが好ましい。２層以上の斜方蒸着層は、それぞれの斜方蒸着層で発生する複屈折を他の斜方蒸着層で発生する複屈折で打ち消すように斜方蒸着層の面内での光学軸が異なったものが含まれていることが好ましい。【００１２】
垂直方向に測定した複屈折が１ｎｍ以下であることが好ましい。斜方蒸着層を構成する誘電体の屈折率が１．９以上で２．５以下であることが好ましい。【００１３】
第１の誘電体は、五酸化タンタル又は五酸化ニオブであることが好ましい。第２の誘電体は、不定比性の酸化ケイ素であることが好ましい。【００１４】
最上層となる誘電体層の上に、フッ素を含む保護層が形成されていることが好ましい。この保護層の厚さは、１ｎｍ以上で２ｎｍ以下であることが好ましい。
【発明の効果】
【００１５】
本発明の反射防止多層膜は、屈折率が異なる少なくとも２種類の誘電体層を交互に積層し、かつ最も屈折率が高い誘電体からなる複数の誘電体層の少なくとも１層は、斜方蒸着により形成された斜方蒸着層とすることで、反射防止機能に加えて防塵機能を奏することができる。これにより、反射防止多層膜に、チリやホコリが付着して、光学性能が劣化するのを防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】本発明の反射防止多層膜の一例を示す断面図である。
【図２】反射防止多層膜を形成するための蒸着装置を示す説明図である。
【図３】４層で構成した反射防止多層膜を示す断面図である。
【図４】８層以上で構成した反射防止多層膜を示す断面図である。
【図５】反射防止多層膜の変形例を示す断面図である。
【図６】各斜方蒸着層の蒸着方向を示す説明図である。
【図７】図１の斜方蒸着層である高屈折率層３層の蒸着方向を示す説明図である。
【図８】耐油性コーティングを設けた反射防止多層膜を断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
図１に示すように、反射防止多層膜１０は、光学素子１１の表面に形成され、光学素子１１の表面反射を抑制して、光学素子１１への入射光量を増大させるものである。光学素子１１は、可視光の屈折等の光学機能を行うものであり、例えばガラスやプラスチック（樹脂）を基材として形成されたレンズや光学フィルタ等である。図１では、光学素子１１は、基材が露呈しているが、光学素子１１には例えばガラス等の基材の表面に偏光分離膜やダイクロイック膜等の光学機能膜を基材上に形成したものでも良い。この場合、反射防止多層膜１０は光学機能膜上に設けられる。また、図１では、光学素子１１を平面状に描いているが、光学素子１１が凸レンズ又は凹レンズの場合には曲面形状になっている。このように、本発明の反射防止多層膜１０は、各種の表面形状を有し、また表面処理が施された光学素子に形成される。
【００１８】
反射防止多層膜１０は、屈折率が異なる２種類の誘電体層（誘電体薄膜）を積層して形成された誘電体多層膜であり、例えば、光学素子１１側から高屈折率の誘電体層（以下、高屈折率層という）１２，低屈折率の誘電体層（以下、低屈折率層という）１３，高屈折率層１２，…のように、高屈折率層１２と低屈折率層１３を交互に積層して形成され、空気界面には低屈折率層１３が露呈される。反射防止多層膜１０を構成する高屈折率層１２及び低屈折率層１３の層数は任意であるが、例えば、高屈折率層１２と低屈折率層１３のスタックが３つずつ積み重ねられ、全部で６層が形成されている。高屈折率層１２及び低屈折率層１３はそれぞれ数１０ｎｍ程度の厚さで形成され、反射防止多層膜１０の全体としては例えば２００〜３００ｎｍ程度の厚さである。
【００１９】
高屈折率層１２には、低屈折率層１３を形成する材料よりも高屈折率の材料、例えば、五酸化タンタル（Ｔａ２Ｏ５）や五酸化ニオブ（Ｎｂ２Ｏ５）、酸化チタン（ＴｉＯ２）、酸化クロム（Ｃｒ２Ｏ３）、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ）、硫化亜鉛（ＺｎＳ）等の高屈折率の無機材料が用いられる。高屈折率層１２を形成する材料は、低屈折率層１３に対して高屈折率であれば任意であるが、屈折率が概ね１．９以上２．５以下の材料を用いることが好ましく、上述の各材料の中では、五酸化タンタルまたは五酸化ニオブのいずれかを用いることが好ましい。これは、他の材料を用いる場合よりも、反射防止多層膜１０に防塵性を付与しやすいからである。本実施形態では、高屈折率層１２は五酸化タンタルが用いられている。
【００２０】
また、高屈折率層１２は、上述の高屈折率の無機材料を、光学素子１１の表面に対して斜め方向から蒸着して形成されたいわゆる斜方蒸着層（斜方蒸着膜）である。このため、高屈折率層１２は、等方的ではなく、高屈折率材料からなる微小な柱状構造体が、光学素子１１の表面に対して傾斜して林立した微細内部構造を有している。
【００２１】
低屈折率層１３は、高屈折率層１２を形成する材料よりも低屈折率の材料から成る誘電体薄層であり、例えば、酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）、二酸化ケイ素（ＳｉＯ２）、不定比性の酸化ケイ素（ＳｉＯ２−Ｘ，０≦Ｘ＜１）、フッ化マグネシウム（ＭｇＦ２）等の低屈折率の無機材料が用いられている。低屈折率層１３を形成する材料は、高屈折率層１２に対して低屈折率であれば任意であるが、屈折率が概ね１．３以上１．９未満の材料を用いることが好ましく、上述の各材料の中では、特に不定比性の酸化ケイ素を用いることが好ましい。これは、他の材料を用いる場合よりも、反射防止多層膜１０に防塵性を付与しやすいからである。本実施形態では、低屈折率層１３は不定比性の酸化ケイ素が用いられている。なお、低屈折率材料の中で、フッ化マグネシウムの屈折率が最も低くて１．３８であり、また酸化ケイ素は１．４５である。
【００２２】
低屈折率層１３は、光学素子１１の表面に対して、実質的にほぼ垂直な方向から材料粒子を蒸着して形成される。このため、低屈折率層１３は、前述の高屈折率層１２のような微細な内部構造を有さず、等方的で稠密な層（いわゆるベタ層）である。
【００２３】
上述のように構成される本発明の反射防止多層膜１０の防塵性を次の実験によって確認した。まず、光学素子１１としてガラス基板（ショット社製Ｄ２６３）を２枚用意し、一方のガラス基板の表面には、本発明の反射防止多層膜１０を形成し、他方のガラス基板の表面には、高屈折率層及び低屈折率層として全て等方的で稠密な層を用いた従来の反射防止多層膜を形成した。なお、この実験で用いた本発明の反射防止多層膜１０は、五酸化タンタルからなる斜方蒸着層である高屈折率層１２と、不定比性の酸化ケイ素からなる等方的な稠密層（稠密膜）の低屈折率層１３を交互に全６層で構成したものである。なお、従来の反射防止多層膜と本発明の反射防止多層膜１０は、層数、各層の材料、各層の光学膜厚（屈折率×物理膜厚）は同じである。
【００２４】
次に、上述のように形成した本発明の反射防止多層膜１０と従来の反射防止多層膜に、それぞれ精密研磨用の研磨剤パウダー（粒度＃１２００（ＪＩＳ））を散布し、エアダスターによって散布した研磨剤パウダーを可能な限り除去した。その後、各反射防止多層膜の中央の１２８０×９６０μｍの範囲を撮影し、得られた画像から残留する研磨剤パウダーの粒子数を計数した。また、この実験は複数回行った。
【００２５】
本発明の反射防止多層膜１０の場合、残留する研磨剤パウダーは１０数個から４０個程度が残留し、平均すると約２５個の粒子が残留していた。一方、従来の反射防止多層膜の場合、計数が困難なほど多数の粒子が残留しており、従来の反射防止多層膜を製造しなおしても同様であった。
【００２６】
このことから、本発明の反射防止多層膜１０は、高屈折率層１０として斜方蒸着層を用いることにより、従来の誘電体多層膜にはない防塵性を有していることが分かる。したがって、光学素子１１の表面に反射防止多層膜１０を形成すれば、反射防止多層膜１０とは別に防塵性のコーティングを形成する必要はない。このため、反射防止多層膜１０を用いれば、低コストで反射防止作用と防塵性が得られる。また、反射防止多層膜１０が防塵性を有しているから、反射防止多層膜１０と防塵性コーティングを別々に設ける場合よりも光学素子１１の厚みの増大を抑えることができる。
【００２７】
反射防止多層膜１０は、例えば、図２に示す蒸着装置２１によって形成される。蒸着装置２１は、真空槽２２や真空ポンプ２３等を備え、真空槽２２の内部には、基材ホルダ２４、蒸着源保持部２６、電子銃２７ａ，２７ｂ、シャッタ２８ａ，２８ｂ、真空計（図示しない）、膜厚計（図示しない）等を有する。
【００２８】
基材ホルダ２４は、光学素子１１を保持する保持部材である。基材ホルダ２４は、真空槽２２の真空を破らずに、光学素子１１を面内（θ方向）に自在に回転させることができる。また、基材ホルダ２４は、光学素子１１の表面を蒸着源２６ａ，２６ｂに対して自在に傾斜させることができる。こうした基材ホルダ２４の回転機構や傾斜機構は図示しないが、ステッピングモータや歯車等を用いた公知の機械的機構を用いることができる。
【００２９】
蒸着源保持部２６はいわゆる坩堝であり、少なくとも２つの蒸着源２６ａ，２６ｂを保持する。例えば、蒸着源２６ａは高屈折率層１２を形成する高屈折率材料（五酸化タンタル等）であり、蒸着源２６ｂは低屈折率層１３を形成する低屈折率材料（二酸化ケイ素）である。蒸着源保持部２６が保持する各蒸着源２６ａ，２６ｂは、各々に対応して設けられた電子銃２７ａ，２７ｂから放出される電子線によって加熱され、溶融して、光学素子１１の方向に飛散する。これにより、蒸着源２６ａ，２７ｂの蒸着材料が光学素子１１の表面に堆積される。また、各蒸着源２６ａ，２６ｂには各々シャッタ２８ａ，２８ｂが設けられており、シャッタ２８ａ，２８ｂを開閉することで、各々の蒸着材料の飛散を任意に停止可能である。
【００３０】
蒸着装置２１によって反射防止多層膜１０を形成する場合には、まず、基材ホルダ２４に光学素子１１がセットされ、真空ポンプ２３により真空槽２２内の真空引きをする。そして、基材ホルダ２４を所定角度（φ°）傾斜させることにより光学素子１１の表面を蒸着源２６ａに対して傾斜して配置する。そして、蒸着源２６ａから高屈折率材料を飛散させ、光学素子１１の表面に斜め方向（表面の法線に対してφ°の方向）から堆積させる。このとき、基材ホルダ２４（光学素子１１）の回転は停止しておく。光学素子１１の表面には、高屈折率材料が一定方向から蒸着されるので、斜方蒸着により高屈折率層１２が形成される。
【００３１】
その後、シャッタ２８ａを閉じて高屈折材料の堆積を停止した後、基材ホルダ２４の傾斜を元に戻し（−φ°）、高屈折率層１２が堆積された光学素子１１の表面を蒸着源２６ｂに正対させる。そして、シャッタ２８ｂを開けて蒸着源２６ｂから低屈折率材料を飛散させ、高屈折率層１２上に堆積させる。このとき、基材ホルダ２４は面内方向に所定角速度で回転させておく。これにより、低屈折率材料からなる等方的で稠密な低屈折率層１３が形成される。低屈折率層１３が所定の厚みに蒸着されると、シャッタ２８ｂを閉じて低屈折率材料の堆積を停止する。
【００３２】
真空槽２２を真空にしたままで上述の高屈折率層１２と低屈折率層１３の形成を交互に繰り返すことにより、反射防止多層膜１０が効率良く形成される。
【００３３】
なお、上述の実施形態では、高屈折率層１２と低屈折率層１３とが交互に積層され、全部で６層であるが、本発明の反射防止多層膜に含まれる高屈折率層１２及び低屈折率層１３のスタックの総数は任意である。例えば、図３に示す反射防止多層膜３０のように、高屈折率層１２と低屈折率層１３を交互に、全部で４層としても良い。この４層構成の場合も、例えば、高屈折率層１２を斜方蒸着で形成し、低屈折率層１３を稠密層で形成することによって防塵性を有するようになる。また、図４に示す反射防止多層膜４０のように、高屈折率層１２と低屈折率層１３を交互に積層して、８層以上としても良い。この場合も、例えば、高屈折率層１２を斜方蒸着層にし、低屈折率層１３を稠密層で形成することで防塵性が得られる。
【００３４】
上記実施形態では、複数の高屈折率層１２の全てが斜方蒸着層であるが、斜方蒸着層は高屈折率層１２の一部でもよい。高屈折率層１２の一部を斜方蒸着層とする場合は、少なくとも１層あればよいが、複数（２層以上）であることが好ましい。
【００３５】
例えば、図５に示す反射防止多層膜５０のように、高屈折率層と低屈折率層の合計層数を８層以上にする場合、高屈折率層及び低屈折率層はそれぞれ少なくとも４層以上とする。この場合、例えば、全ての高屈折率層を斜方蒸着層にすれば、上述の実施形態のように反射防止多層膜に防塵性を持たせることができる。しかし、反射防止多層膜５０のように、全体としては高屈折率層１２（１２ａ及び１２ｂ）と低屈折率層１３を交互に積層した誘電体多層膜とし、高屈折率層１２ｂだけを斜方蒸着層とし、その他の高屈折率層１２ａを等方的で稠密な高屈折率層にしても良い。この高屈折率層１２ａは、高屈折率材料を用いて低屈折率層１３と同様に形成することができる。
【００３６】
このように、高屈折率層１２の全体ではなく、一部の高屈折率層１２ｂを斜方蒸着層とすれば、斜方蒸着の高屈折率層１２ｂが全くない従来の反射防止多層膜よりも防塵性を高めることができる。通常、斜方蒸着層を形成するよりも等方的で稠密な誘電体層を形成するほうが容易であり、短時間で層設できるので、上述のように等方的で稠密な高屈折率層１２ａを混在させる場合、高屈折率層１２の全部を斜方蒸着の高屈折率層１２ｂにする場合よりも生産効率が向上する。このため、防塵性を有する反射防止多層膜５０を低コストに得ることができる。
【００３７】
但し、反射防止多層膜５０の防塵作用は、斜方蒸着の高屈折率層１２ｂの層数に概ね比例するので、防塵性については、斜方蒸着の高屈折率層１２ｂの層数は多いほど好ましい。したがって、斜方蒸着層を１層だけとするよりも、図５に示すように全ての高屈折率層１２ｂを斜方蒸着層としたり、更には高屈折率層１２ａも斜方蒸着層としたりするのが好ましい。また、後述するように、高屈折率層１２として斜方蒸着層を用いることによって発生する位相差を低減するためには、斜方蒸着の高屈折率層１２ｂは少なくとも２層以上設けるのが良い。
【００３８】
なお、上述の実施形態では、斜方蒸着の各高屈折率層１２の向きについては言及していないが、内部構造を形成する柱状構造体の傾斜方向に応じて、斜方蒸着層には向きがある。このため、斜方蒸着層はいわゆるＯプレートとして機能し、表面に垂直に透過する光に対しても位相差を発生させる。高屈折率層１２が薄く、また、反射防止多層膜に含まれる高屈折率層１２の層数が数層程度と少ない場合には、発生する位相差をほぼ無視できる場合もあるが、斜方蒸着の高屈折率層１２が厚い場合や高屈折率層１２の層数が多い場合、特に上述の実施形態のように、高い防塵性を得るために全ての高屈折率層１２として斜方蒸着層を用いる場合には、反射防止多層膜で発生する位相差が無視できない大きさになることがある。
【００３９】
反射防止多層膜はあくまでも反射防止作用を得るためのものであり、不要な位相差を発生させることは好ましくない。反射防止多層膜が不要な位相差を発生させると、光学素子１１の光学特性が損なわれてしまう場合がある。特に光学素子１１が複屈折作用を利用するものである場合には、反射防止多層膜を設けたことによって所望の光学特性が得られなくなってしまう場合がある。上述の実施形態の反射防止多層膜１０，２０，３０，４０，５０のように、防塵性を得るために少なくとも一部の層を斜方蒸着層にする場合に、不要な位相差の発生を抑えるためには次のようにすれば良い。
【００４０】
図６に示すように、斜方蒸着の高屈折率層１２Ａは、光学素子１１の表面（ＸＹ平面）の方向６１に対して角度ψ１で、−Ｘ方向（蒸着方向）６２から斜方蒸着して形成されているとする。通常、高屈折率層１２Ａの柱状構造体６４の傾斜角度ψ２は蒸着角度ψ１よりも大きくなり、柱状構造体６４の傾斜方向は、蒸着方向６２を光学素子１１の表面に射影した矢印６６の方向になる。このように高屈折率層１２ＡはＹ方向にはほぼ等方的であるが、Ｘ方向には非等方的であるため、Ｘ方向及びＹ方向がそれぞれ遅相軸及び進相軸とする複屈折性を有し、光学素子１１の表面に対して垂直に透過する光（Ｚ方向に透過する光）に対しても位相差を発生させる。
【００４１】
この高屈折率層１２Ａの複屈折性により発生する位相差は、例えば、高屈折率層１２Ｂによってほぼ相殺することができる。高屈折率層１２Ｂは、柱状構造体６４の傾斜角度が高屈折率層１２Ａと等しく（傾斜角度ψ２）、傾斜方向が高屈折率層１２Ａとは逆向きであり、＋Ｘ方向（矢印６７の方向）である。高屈折率層１２Ｂは、例えば、高屈折率層１２Ａを層設する場合と比較して、基材ホルダ２４の傾斜（φ）を等しく、基材ホルダ２４を面内方向に１８０度回転させた状態で層設することにより形成することができる。
【００４２】
また、高屈折率層１２Ａと高屈折率層１２Ｂの柱状構造体６４はそれぞれ±Ｘ方向に傾斜しているが、高屈折率層１２Ｃと高屈折率層１２Ｄのように、柱状構造体６４の傾斜方向を矢印６８及び矢印６９で示す±Ｙ方向にすることによって、互いの位相差を補償しても良い。すなわち、柱状構造体６４の傾斜方向が逆向きになっている高屈折率層を一組にして用いれば、不要な位相差の発生を抑えることが可能であり、これらの柱状構造体６４のＸＹ平面内での向きは任意である。
【００４３】
さらに、例えば、高屈折率層１２Ａと高屈折率層１２Ｂ、高屈折率層１２Ｃと高屈折率層１２Ｄの間には他の斜方蒸着膜の高屈折率層が設けられても良い。例えば、高屈折率層１２Ｂと高屈折率層１２Ｃの配置順序を交換しても、高屈折率層１２Ａと高屈折率層１２Ｂ、及び高屈折率層１２Ｃと高屈折率層１２Ｄは、互いの位相差を補償することができる。
【００４４】
上述のことから分かるように、本発明の反射防止多層膜は、蒸着角度が等しく、蒸着方向が逆向きの２つの高屈折率層を一組にして用いることが好ましい。すなわち、任意の高屈折率層に着目した場合、この高屈折率層と蒸着角度が等しく、蒸着方向が逆向きの高屈折率層が含まれていることが好ましい。こうすれば、本発明の反射防止多層膜によって発生する位相差を抑えることができる。
【００４５】
本発明の反射防止多層膜は、上述のようにして、垂直方向から測った複屈折（反射防止多層膜を垂直に透過する光に生じる位相差）を１ｎｍ以下にしてあることが望ましい。複屈折が１ｎｍ以下であれば、光学素子１１がどのような作用をするものであっても、反射防止多層膜の複屈折の影響を概ね無視することができるからである。
【００４６】
なお、例えば全６層で反射防止多層膜１０を形成する場合（図１参照）、斜方蒸着層である高屈折率層１２は３層であるから、ペアを構成し得る２層に対して、蒸着方向を逆向きにすれば、３層とも蒸着方向が揃っている場合よりも位相差を抑えることができる。
【００４７】
また、図７に示すように、各高屈折率層１２の蒸着方向（柱状構造体６４の傾斜方向）７１，７２，７３が、面内方向で１２０°になるようにすれば、３層を一組として互いの位相差を補償することができる。同様に、斜方蒸着の高屈折率層１２がｎ層ある場合、各層の蒸着方向が３６０°／ｎの方向になるようにすれば、ｎ層を一組として互いの位相差を補償することができる。
【００４８】
なお、反射防止多層膜１０を光学素子１１の表裏にそれぞれ設ける場合、表裏の各反射防止多層膜１０には、各々の位相差が抑えられるように、各反射防止多層膜１０にそれぞれ蒸着方向が逆向きの斜方蒸着層を設けておけば良い。また、表面の反射防止多層膜１０に設ける斜方蒸着層と、裏面の反射防止多層膜１０に設ける斜方蒸着層の各蒸着方向を逆向きにしておくことで、表裏の各反射防止多層膜１０で互いの位相差を相殺しても良い。この場合、表面の反射防止多層膜１０が含む斜方蒸着層の層数と、裏面の反射防止多層膜１０が含む斜方蒸着層の層数は同数にする。
【００４９】
上述の実施形態では、反射防止多層膜１０の表面に低屈折率層１３が露呈されているが、例えば、図８に示すように、反射防止多層膜１０は、高屈折率層１２と低屈折率層１３の積層体の最表面上に、透明な保護層８１が設けられていることが好ましい。保護層８１は、例えば、撥油性あるいは撥水性のコーティングであり、フッ素を含む材料で形成される。具体的には、保護層８１にはＭｇＦ２が好適であり、撥油性や撥水性があれば樹脂材料でも良い。このように保護層８１を設けると、反射防止多層膜１０の防塵性に加えて撥油性や撥水性を加えることができるので、チリやホコリが付着しても、エアダスター等で除去しやすくなる。また、メンテナンス等で誤って表面に触れ、油脂等が付着してしまった場合でも、付着した油脂等を容易に落とすことができるようになる。各種変形例の反射防止多層膜２０，３０，４０，５０についても同様に保護層８１を含むことが好ましい。
【００５０】
但し、保護層８１の厚すぎると、反射防止多層膜１０の防塵性が得られにくくなる。このため、反射防止多層膜１０の防塵性と撥油性（撥水性）を共に得るためには、保護層８１の厚さは１ｎｍ以上５ｎｍ以下であることが好ましく、１ｎｍ以上２ｎｍ以下であることがさらに好ましい。
【００５１】
なお、上述の実施形態では、光学素子１１の表面側から、高屈折率層１２，低屈折率層１３，高屈折率層１２，…の順に積層し、光学素子１１の表面に高屈折率層１２が配置され、空気に低屈折率層１３を露呈させているが、光学素子１１の表面に接する層を低屈折率層１３にしても良いし、空気に露呈する層を高屈折率層１２にしても良い。
【００５２】
上述の実施形態では、高屈折率層１２と低屈折率層１３が同層数設けられており、反射防止多層膜１０全体の層数が偶数になっているが、高屈折率層１２が低屈折率層１３よりも１層多しても良いし、低屈折率層１３を高屈折率層１２よりも１層多く設けても良い。例えば、反射防止多層膜１０の最下層に低屈折率層１３を追加しても良いし、反射防止多層膜１０の最上層に高屈折率層１２を追加しても良い。
【００５３】
上述の実施形態では、高屈折率層１２に斜方蒸着層を用いているが、この代わりに、低屈折率層１３に斜方蒸着層を用いても良い。また、高屈折率層１２と低屈折率層１３のどちらにも斜方蒸着層を用いても良い。
【００５４】
また、上述の実施形態では、屈折率が異なる２種類の高屈折率層１２と低屈折率層１３を用いて反射防止多層膜を形成したが、３種類以上の屈折率が異なる層を１つ以上積層しても良い。３種類以上の屈折率が異なる層を用いる場合、例えば、最も屈折率が高い層、または最も屈折率が低い層のいずれかに斜方蒸着層が含まれるようにすれば防塵性を得られるが、中間の屈折率の層にも斜方蒸着層が含まれるようにしても良い。
【００５５】
さらに、３種類以上の屈折率が異なる層を積層して反射防止多層膜を形成する場合、最も屈折率が高い層には屈折率が１．９以上２．５以下の蒸着材料を用いることが好ましく、特に五酸化タンタルまたは五酸化ニオブを用いることが好ましい。また、最も低屈折率の層には、不定比性の酸化ケイ素を用いることが好ましい。これらの材料を用いることにより、高い防塵性が得られやすいからである。
【００５６】
なお、本発明の反射防止多層膜を設ける光学素子１１の種類は任意である。光学素子１１には、例えば、レンズや各種光学フィルタだけでなく、タッチパネルや液晶パネル等も含む。本発明の反射防止多層膜は、タッチパネルや液晶パネル等、外部に露呈されており、ユーザが触れる可能性が高いものに特に好適である。また、ユーザが触れる可能性が高いものに本発明の反射防止多層膜を設ける場合に、図８に示す保護層８１を形成することが好ましい。
【符号の説明】
【００５７】
１０  反射防止多層膜
１１  基材
１２  高屈折率層
１３  低屈折率層
２１  蒸着装置
６４  柱状構造体
８１  保護層
【図１】
2014065371.tif 000003
【図２】
2014065371.tif 000004
【図３】
2014065371.tif 000005
【図４】
2014065371.tif 000006
【図５】
2014065371.tif 000007
【図６】
2014065371.tif 000008
【図７】
2014065371.tif 000009
【図８】
2014065371.tif 000010
【手続補正書】
【提出日】平成26年7月17日(2014.7.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
斜方蒸着層として形成される高屈折率の第１の誘電体からなる第１の誘電体層と、
等方的な層として前記第１の誘電体層に積層され、前記第１の誘電体よりも屈折率が低い第２の誘電体からなる第２の誘電体層と、
斜方蒸着層として前記第２の誘電体層に積層され、前記第１の誘電体からなる第３の誘電体層と、
を少なくとも有する反射防止多層膜。
【請求項２】
（削除）
【請求項３】
前記斜方蒸着層として形成される前記第１の誘電体層及び前記第３の誘電体層は、それぞれ斜方蒸着層で発生する複屈折が打ち消されるように、前記斜方蒸着層の面内での光学軸が異なったものが含まれる請求項１に記載の反射防止多層膜。
【請求項４】
垂直方向に測定した複屈折が１ｎｍ以下である請求項１または３に記載の反射防止多層膜。
【請求項５】
前記斜方蒸着層として形成される前記第１の誘電体層及び前記第３の誘電体層の屈折率が１．９以上で２．５以下である請求項１または３に記載の反射防止多層膜。
【請求項６】
前記第１の誘電体は、五酸化タンタル又は五酸化ニオブである請求項１または３に記載の反射防止多層膜。
【請求項７】
前記第２の誘電体は、不定比性の酸化ケイ素である請求項１または３に記載の反射防止多層膜。
【請求項８】
最上層となる前記誘電体層の上に、フッ素を含む保護層が形成されている請求項１または請求項３〜７のいずれか１項に記載の反射防止多層膜。
【請求項９】
前記保護層の厚さが、１ｎｍ以上で２ｎｍ以下である請求項８に記載の反射防止多層膜。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００２】
発明の概要
課題が解決しようとする課題
［０００６］
多くの光学機器では、光学素子が露出した状態で配置されているため、チリやホコリが付着しやすい。チリやホコリが付着すると、当然ながら光学性能が悪化する。また、帯電等によって光学素子自身が周辺のチリやホコリを吸い寄せてしまう場合もある。さらに、光学素子がほぼ密閉された状態で使用されていたとしても、メンテナンスを行う場合には外気に露呈され、チリやホコリ等が付着してしまう可能性がある。
［０００７］
このように、光学素子の表面にチリやホコリ等が付着してしまった場合には、エアダスター等によって付着したチリやホコリを除去し、光学性能が劣化しないようにする必要があるが、一度付着してしまったチリやホコリを完全に除去することは容易ではない。例えば、エアダスターによってエアを吹き付けたとしても、細かなチリやホコリが残存してしまうことも多い。このため、光学素子の表面には、前述のように反射防止膜を設けるだけでなく、さらに、防塵性のコーティングを設けることが望ましい。
［０００８］
一方、反射防止膜上にさらに防塵性のコーティングを設けると、工数が増加するので、コストアップする。また、防塵性のコーティングを設けることで反射防止膜による反射防止効果が低減してしまう場合もある。さらに、防塵性のコーティングによって光学素子の厚みが増すので、光学機器に使用する全ての光学素子に防塵性のコーティングを設けると、全体としては無視できない厚みとなって、光学機器の小型化や薄型化の妨げになることもある。
［０００９］
本発明は、防塵性を有する反射防止多層膜を提供することを目的とする。
課題を解決するための手段
［００１０］
上記目的を達成するために、本発明の反射防止多層膜は、斜方蒸着層として形成される高屈折率の第１の誘電体からなる第１の誘電体層と、等方的な層として第１の誘電体層に積層され、第１の誘電体よりも屈折率が低い第２の誘電体からなる第２の誘電体層と、斜方蒸着層として第２の誘電体層に積層され、第１の誘電体からなる第３の誘電体層と、を少なくとも有する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００３】
［００１１］
斜方蒸着層として形成される第１の誘電体層及び第３の誘電体層は、それぞれ斜方蒸着層で発生する複屈折が打ち消されるように、斜方蒸着層の面内での光学軸が異なったものが含まれることが好ましい。
［００１２］
垂直方向に測定した複屈折が１ｎｍ以下であることが好ましい。斜方蒸着層として形成される第１の誘電体層及び第３の誘電体層の屈折率が１．９以上で２．５以下であることが好ましい。
［００１３］
第１の誘電体は、五酸化タンタル又は五酸化ニオブであることが好ましい。第２の誘電体は、不定比性の酸化ケイ素であることが好ましい。
［００１４］
最上層となる誘電体層の上に、フッ素を含む保護層が形成されていることが好ましい。この保護層の厚さは、１ｎｍ以上で２ｎｍ以下であることが好ましい。
発明の効果
［００１５］
本発明の反射防止多層膜は、屈折率が異なる少なくとも２種類の誘電体層を交互に積層し、かつ最も屈折率が高い誘電体からなる複数の誘電体層の少なくとも１層は、斜方蒸着により形成された斜方蒸着層とすることで、反射防止機能に加えて防塵機能を奏することができる。これにより、反射防止多層膜に、チリやホコリが付着して、光学性能が劣化するのを防止することができる。
図面の簡単な説明
［００１６］
［図１］本発明の反射防止多層膜の一例を示す断面図である。
［図２］反射防止多層膜を形成するための蒸着装置を示す説明図である。
［図３］４層で構成した反射防止多層膜を示す断面図である。
［図４］８層以上で構成した反射防止多層膜を示す断面図である。
［図５］反射防止多層膜の変形例を示す断面図である。
［図６］各斜方蒸着層の蒸着方向を示す説明図である。
［図７］図１の斜方蒸着層である高屈折率層３層の蒸着方向を示す説明図である
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
［００２３］
上述のように構成される本発明の反射防止多層膜１０の防塵性を次の実験によって確認した。まず、光学素子１１としてガラス基板（ショット社製Ｄ２６３）を２枚用意し、一方のガラス基板の表面には、本発明の反射防止多層膜１０を形成し、他方のガラス基板の表面には、高屈折率層及び低屈折率層として全て等方的で稠密な層を用いた従来の反射防止多層膜を形成した。なお、この実験で用いた本発明の反射防止多層膜１０は、五酸化タンタルからなる斜方蒸着層である高屈折率層１２と、不定比性の酸化ケイ素からなる等方的な稠密層（稠密膜）の低屈折率層１３を交互に全６層で構成したものである。なお、従来の反射防止多層膜と本発明の反射防止多層膜１０は、層数、各層の材料、各層の光学膜厚（屈折率×物理膜厚）は同じである。
［００２４］
次に、上述のように形成した本発明の反射防止多層膜１０と従来の反射防止多層膜に、それぞれ精密研磨用の研磨剤パウダー（粒度＃１２００（ＪＩＳ））を散布し、エアダスターによって散布した研磨剤パウダーを可能な限り除去した。その後、各反射防止多層膜の中央の１２８０×９６０μｍの範囲を撮影し、得られた画像から残留する研磨剤パウダーの粒子数を計数した。また、この実験は複数回行った。
［００２５］
本発明の反射防止多層膜１０の場合、残留する研磨剤パウダーは１０数個から４０個程度が残留し、平均すると約２５個の粒子が残留していた。一方、従来の反射防止多層膜の場合、計数が困難なほど多数の粒子が残留しており、従来の反射防止多層膜を製造しなおしても同様であった。
［００２６］
このことから、原理は不明だが、本発明の反射防止多層膜１０は、高屈折率層１０として斜方蒸着層を用いることにより、従来の誘電体多層膜にはない防塵性を有していることが分かる。したがって、光学素子１１の表面に反射防止多層膜１０を形成すれば、反射防止多層膜１０とは別に防塵性のコーティングを形成する必要はない。このため、反射防止多層膜１０を用いれば、低コストで反射防止作用と防塵性が得られる。また、反射防止多層膜１０が防塵性を有しているから、反射防止多層膜１０と防塵性コーティングを別々に設ける場合よりも光学素子１１の厚みの増大を抑えることができる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
くくなる。このため、反射防止多層膜１０の防塵性と撥油性（撥水性）を共に得るためには、保護層８１の厚さは１ｎｍ以上５ｎｍ以下であることが好ましく、１ｎｍ以上２ｎｍ以下であることがさらに好ましい。
［００５１］
なお、上述の実施形態では、光学素子１１の表面側から、高屈折率層１２，低屈折率層１３，高屈折率層１２，…の順に積層し、光学素子１１の表面に高屈折率層１２が配置され、空気に低屈折率層１３を露呈させているが、光学素子１１の表面に接する層を低屈折率層１３にしても良いし、空気に露呈する層を高屈折率層１２にしても良い。
［００５２］
上述の実施形態では、高屈折率層１２と低屈折率層１３が同層数設けられており、反射防止多層膜１０全体の層数が偶数になっているが、高屈折率層１２が低屈折率層１３よりも１層多しても良いし、低屈折率層１３を高屈折率層１２よりも１層多く設けても良い。例えば、反射防止多層膜１０の最下層に低屈折率層１３を追加しても良いし、反射防止多層膜１０の最上層に高屈折率層１２を追加しても良い。
［００５３］
［００５４］
［００５５］
さらに、３種類以上の屈折率が異なる層を積層して反射防止多層膜を形成する場合、最も屈折率が高い層には屈折率が１．９以上２．５以下の蒸着材料を用いることが好ましく、特に五酸化タンタルまたは五酸化ニオブを用いることが好ましい。また、最も低屈折率の層には、不定比性の酸化ケイ素を用いることが好ましい。これらの材料を用いることにより、高い防塵性が得
【手続補正書】
【提出日】平成27年4月30日(2015.4.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
斜方蒸着層として形成される高屈折率の第１の誘電体からなる第１の誘電体層と、
等方的な層として前記第１の誘電体層に積層され、前記第１の誘電体よりも屈折率が低い第２の誘電体からなる第２の誘電体層と、
斜方蒸着層として前記第２の誘電体層に積層され、前記第１の誘電体からなる第３の誘電体層と、
を少なくとも有する反射防止多層膜。
【請求項２】
前記斜方蒸着層として形成される前記第１の誘電体層及び前記第３の誘電体層は、それぞれ斜方蒸着層で発生する複屈折が打ち消されるように、前記斜方蒸着層の面内での光学軸が異なったものが含まれる請求項１に記載の反射防止多層膜。
【請求項３】
垂直方向に測定した複屈折が１ｎｍ以下である請求項１または２に記載の反射防止多層膜。
【請求項４】
前記斜方蒸着層として形成される前記第１の誘電体層及び前記第３の誘電体層の屈折率が１．９以上で２．５以下である請求項１または２に記載の反射防止多層膜。
【請求項５】
前記第１の誘電体は、五酸化タンタル又は五酸化ニオブである請求項１または２に記載の反射防止多層膜。
【請求項６】
前記第２の誘電体は、不定比性の酸化ケイ素である請求項１または２に記載の反射防止多層膜。
【請求項７】
最上層となる前記誘電体層の上に、フッ素を含む保護層が形成されている請求項１〜６のいずれか１項に記載の反射防止多層膜。
【請求項８】
前記保護層の厚さが、１ｎｍ以上で２ｎｍ以下である請求項７に記載の反射防止多層膜。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
図１に示すように、反射防止多層膜１０は、光学素子１１の表面に形成され、光学素子１１の表面反射を抑制して、光学素子１１への入射光量を増大させるものである。光学素子１１は、可視光の屈折等の光学機能を行うものであり、例えばガラスやプラスチック（樹脂）を基材として形成されたレンズや光学フィルタ等である。図１では、光学素子１１は、基材が露呈しているが、光学素子１１には例えばガラス等の基材の表面に偏光分離膜やダイクロイック膜等の光学機能膜を形成したものでも良い。この場合、反射防止多層膜１０は光学機能膜上に設けられる。また、図１では、光学素子１１を平面状に描いているが、光学素子１１が凸レンズ又は凹レンズの場合には曲面形状になっている。このように、本発明の反射防止多層膜１０は、各種の表面形状を有し、また表面処理が施された光学素子に形成される。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
本発明の反射防止多層膜１０の場合、研磨剤パウダーの粒子は１０数個から４０個程度が残留し、平均すると約２５個の粒子が残留していた。一方、従来の反射防止多層膜の場合、計数が困難なほど多数の粒子が残留しており、従来の反射防止多層膜を製造しなおしても同様であった。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２６】
このことから、原理は不明だが、本発明の反射防止多層膜１０は、高屈折率層１２として斜方蒸着層を用いることにより、従来の誘電体多層膜にはない防塵性を有していることが分かる。したがって、光学素子１１の表面に反射防止多層膜１０を形成すれば、反射防止多層膜１０とは別に防塵性のコーティングを形成する必要はない。このため、反射防止多層膜１０を用いれば、低コストで反射防止作用と防塵性が得られる。また、反射防止多層膜１０が防塵性を有しているから、反射防止多層膜１０と防塵性コーティングを別々に設ける場合よりも光学素子１１の厚みの増大を抑えることができる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２９】
蒸着源保持部２６はいわゆる坩堝であり、少なくとも２つの蒸着源２６ａ，２６ｂを保持する。例えば、蒸着源２６ａは高屈折率層１２を形成する高屈折率材料（五酸化タンタル等）であり、蒸着源２６ｂは低屈折率層１３を形成する低屈折率材料（二酸化ケイ素）である。蒸着源保持部２６が保持する各蒸着源２６ａ，２６ｂは、各々に対応して設けられた電子銃２７ａ，２７ｂから放出される電子線によって加熱され、溶融して、光学素子１１の方向に飛散する。これにより、蒸着源２６ａ，２６ｂの蒸着材料が光学素子１１の表面に堆積される。また、各蒸着源２６ａ，２６ｂに各々対応するシャッタ２８ａ，２８ｂが設けられており、シャッタ２８ａ，２８ｂを開閉することで、各々の蒸着材料の飛散を任意に停止可能である。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３９】
反射防止多層膜はあくまでも反射防止作用を得るためのものであり、不要な位相差を発生させることは好ましくない。反射防止多層膜が不要な位相差を発生させると、光学素子１１の光学特性が損なわれてしまう場合がある。特に光学素子１１が複屈折作用を利用するものである場合には、反射防止多層膜を設けたことによって所望の光学特性が得られなくなってしまう場合がある。上述の実施形態の反射防止多層膜１０，３０，４０，５０のように、防塵性を得るために少なくとも一部の層を斜方蒸着層にする場合に、不要な位相差の発生を抑えるためには次のようにすれば良い。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４０】
図６に示すように、斜方蒸着の高屈折率層１２Ａは、光学素子１１の表面（ＸＹ平面）の方向６１に対して角度ψ１で、−Ｘ方向（蒸着方向）６２から斜方蒸着して形成されているとする。通常、高屈折率層１２Ａの柱状構造体６４の傾斜角度ψ２は蒸着角度ψ１よりも大きくなり、柱状構造体６４の傾斜方向６３は、蒸着方向６２を光学素子１１の表面に射影した矢印６６の方向になる。このように高屈折率層１２ＡはＹ方向にはほぼ等方的であるが、Ｘ方向には非等方的であるため、Ｘ方向及びＹ方向がそれぞれ遅相軸及び進相軸とする複屈折性を有し、光学素子１１の表面に対して垂直に透過する光（Ｚ方向に透過する光）に対しても位相差を発生させる。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４８】
なお、反射防止多層膜１０を光学素子１１の表裏にそれぞれ設ける場合、表裏の各反射防止多層膜１０には、各々の位相差が抑えられるように、それぞれ蒸着方向が逆向きの斜方蒸着層を設けておけば良い。また、表面の反射防止多層膜１０に設ける斜方蒸着層と、裏面の反射防止多層膜１０に設ける斜方蒸着層の各蒸着方向を逆向きにしておくことで、表裏の各反射防止多層膜１０で互いの位相差を相殺しても良い。この場合、表面の反射防止多層膜１０が含む斜方蒸着層の層数と、裏面の反射防止多層膜１０が含む斜方蒸着層の層数は同数にする。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５０】
但し、保護層８１が厚すぎると、反射防止多層膜１０の防塵性が得られにくくなる。このため、反射防止多層膜１０の防塵性と撥油性（撥水性）を共に得るためには、保護層８１の厚さは１ｎｍ以上５ｎｍ以下であることが好ましく、１ｎｍ以上２ｎｍ以下であることがさらに好ましい。
【国際調査報告】
2014065371.tif 000011
2014065371.tif 000012