Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成27年9月28日(2015.9.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
取引操作を行う入力表示部と、
数字等を入力するテンキー入力部と、
取引操作のガイダンス音声を出力するとともに、取引操作の入力ボタンを備えるガイダンスホンと、を有する自動取引装置であって、
前記ガイダンスホンの異常を検知すると、利用者に対して前記テンキー入力部もしくは前記ガイダンスホンの入力ボタンにより連絡先を入力させる案内音声を出力することを特徴とする自動取引装置。
【請求項２】
請求項１に記載の自動取引装置であって、
前記連絡先を入力させるガイダンスに基づいて、利用者によって連絡先が入力されたことを検知すると、該連絡先情報を上位装置に送信することを特徴とする自動取引装置。
【請求項３】
請求項１または２に記載の自動取引装置であって、
前記ガイダンスホンの異常を検知すると、利用者に対して該ガイダンスホンの入力ボタンを押下させる案内音声を出力し、該ガイダンスホンの入力ボタンの押下を検知した場合、該ガイダンスホンの入力ボタンを用いて利用者の連絡先を入力させる音声案内を出力することを特徴とする自動取引装置。
【請求項４】
請求項３に記載の自動取引装置であって、
前記利用者に対する該ガイダンスホンの入力ボタンを押下させる案内音声の出力後、一定時間経過後に該ガイダンスホンの入力ボタンの押下を検知しない場合、前記テンキー入力部を用いて利用者の連絡先を入力させる音声案内を出力することを特徴とする自動取引装置。
【請求項５】
請求項２乃至４のいずれかに記載の自動取引装置であって、
前記利用者によって入力された連絡先情報に加えて、該自動取引装置の障害情報を併せて上位装置に送信することを特徴とする自動取引装置。
【手続補正書】
【提出日】平成27年7月30日(2015.7.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも正面に、ソフトエアガンにより発射された弾丸を内部に導入する開口部が形成された筐体と、
前記筐体の上側から下側に向かうに従い正面側から背面側に向かう傾斜角度で、前記筐体の内部に配置された、背後の標的をユーザに視認させる透明な標的板と、
前記筐体内における前記標的板よりも下方に配置され、前記標的板で反射した前記弾丸を収容する収容部と
を備える標的システム。
【請求項２】
前記標的板との間隔が前記筐体の正面側から背面側の下方に向かって狭まる傾斜角度で、前記筐体の内部で前記開口部よりも下方に配置された第１の反射板
をさらに備える請求項１に記載の標的システム。
【請求項３】
前記標的板と前記第１の反射板の傾斜角度は、水平に入射した前記弾丸を前記標的板が前記第１の反射板に向けて反射し、前記第１の反射板が、前記標的板により反射された前記弾丸を前記標的板に向けて反射し、前記標的板が、前記第１の反射板により反射された前記弾丸を、前記第１の反射板の下方に設けられた収容領域の入口に案内するように設定されている
請求項１または２に記載の標的システム。
【請求項４】
前記標的板またはその近傍の複数箇所に固定され、前記弾丸が前記標的板に着弾したときの衝撃波を検出する検出手段を
さらに備える請求項１乃至３のいずれかに記載の標的システム。
【請求項５】
前記標的に対応する標的画像を表示するとともに、前記検出手段により検出された衝撃波に基づいて算出される前記標的板に前記弾丸が着弾した着弾位置を前記標的画像上に表示する表示手段を
さらに備える請求項４に記載の標的システム。
【請求項６】
前記表示手段には、前記検出手段により検出された衝撃波に基づいて算出される前記標的板に前記弾丸が着弾したときの速度およびエネルギーのうちの少なくとも一方が表示される
請求項５に記載の標的システム。
【請求項７】
前記筐体の前記標的板の背面には、前記表示手段を取り付ける取付板が配置されている
請求項５に記載の標的システム。
【請求項８】
前記表示手段は前記筐体とは別体とされ、前記射的の標的が描かれた的紙が取り付けられる
請求項５に記載の標的システム。
【請求項９】
前記入口を通過した前記弾丸を、前記収容領域に向けて反射する傾斜角度で前記筐体の内部に配置された第２の反射板
をさらに備える請求項３に記載の標的システム。
【請求項１０】
前記第２の反射板の背面には、前記弾丸を反射させる際に受ける衝撃力を吸収する吸収手段が配置される
請求項９に記載の標的システム。
【請求項１１】
少なくとも正面に、ソフトエアガンにより発射された弾丸を内部に導入する開口部が形成された筐体と、
前記筐体の上側から下側に向かうに従い正面側から背面側に向かう傾斜角度で、前記筐体の内部に配置された標的板と、
前記標的板との間隔が前記筐体の正面側から背面側の下方に向かって狭まる傾斜角度で、前記筐体の内部で前記開口部よりも下方に配置された第１の反射板と、
前記筐体内における前記標的板よりも下方に配置され、前記標的板で反射した前記弾丸を収容する収容部と
を備える標的システム。
【請求項１２】
少なくとも正面に、ソフトエアガンにより発射された弾丸を内部に導入する開口部が形成された筐体と、
前記筐体の上側から下側に向かうに従い正面側から背面側に向かう傾斜角度で、前記筐体の内部に配置された、背後の標的をユーザに視認させる透明な標的板と、
前記標的板との間隔が前記筐体の正面側から背面側の下方に向かって狭まる傾斜角度で、前記筐体の内部で前記開口部よりも下方に配置された第１の反射板と
を備える標的システム。
【請求項１３】
背後の標的をユーザに視認させる透明な標的板と、
ソフトエアガンにより発射された弾丸が前記標的板に着弾したときの衝撃波を検出する検出手段と、
前記標的に対応する標的画像を表示するとともに、前記検出手段により検出された衝撃波に基づいて算出される前記標的板に前記弾丸が着弾した着弾位置を前記標的画像上に表示する表示手段と
を備え、
前記表示手段は、ユーザによる設定に従って前記着弾位置を点滅表示する
標的システム。
【手続補正書】
【提出日】平成27年7月23日(2015.7.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
開口を有するマスク部および構造基板部を備えるマスク基板と、励振電極が配置されている振動体および前記励振電極と電気的に接続している配線を備えている振動体基板とが、前記マスク基板の厚み方向からの平面視にて前記開口から前記配線の少なくとも一部が露出し、且つ前記振動体が前記構造基板部に覆われるように接合されている接合体を用意する工程と、
前記開口に対応した前記振動体基板の領域に、少なくとも一部が前記配線と重なっている導電パッドを形成する工程と、
前記マスク基板から前記マスク部を除去する工程と、
を含むことを特徴とする電子部品の製造方法。
【請求項２】
開口を有するマスク部および構造基板部を備えるマスク基板と、励振電極が配置されている振動体および前記励振電極と電気的に接続している配線を備えている振動体基板とが、前記マスク基板の厚み方向からの平面視にて前記開口から前記配線の少なくとも一部が露出し、且つ前記振動体が前記構造基板部に覆われるように接合されている接合体と、
接続電極を備えているパッケージベースと、を用意する工程と、
前記開口に対応した前記振動体基板の領域に、少なくとも一部が前記配線と重なっている導電パッドを形成する工程と、
前記マスク基板から前記マスク部を除去する工程と、
前記マスク部が除去された前記接合体を前記パッケージベースに配置する工程と、
前記構造基板側からの平面視にて前記配線と重ならない位置の前記導電パッドに前記接続電極と接続するための金属ワイヤーを配置する工程と、
を含むことを特徴とする電子モジュールの製造方法。
【請求項３】
前記導電パッドを形成する工程では、少なくとも前記構造基板部を覆うマスクを前記マスク基板上に配置する請求項１または２に記載の電子モジュールの製造方法。
【請求項４】
前記マスク基板は、前記構造基板部に接合されている面に溝を備え、
前記マスク部を除去する工程では、前記溝に沿って前記マスク基板を分断する請求項１ないし３のいずれか一項に記載の電子モジュールの製造方法。
【請求項５】
前記接合体は、前記マスク部が前記振動体基板に当接するように接合されている請求項１ないし４のいずれか一項に記載の電子モジュールの製造方法。
【請求項６】
前記振動体基板の前記マスク部と対向する領域には、前記導電パッドと重ならない位置にアライメントマークが配置されている請求項１ないし５のいずれか一項に記載の電子モジュールの製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成27年2月23日(2015.2.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】技術面では、既存及び将来発展したエネルギー技術（バッテリーやエネルギー増幅技術等々）や資源活用技術（磁力の高い形状・性質の開発やより効果的なコイルの形状・性質の開発等々）との組み合わせなどによる様々な応用・活用が期待できる。
また、発明方法（思考方法）からは、何らかの解明された原理等を基に、浮力や重力等々といったその他のエネルギーについても更なる応用・発展可能性が期待できる。
更にはエネルギー問題の解消によりもたらされる豊かさ、新たな社会・まちづくりや平和な世の中への貢献も期待できる。
なお、補正により次の補記を行った。
素人の発想で豆電球を点けることやモーターを動かすことを目指し本来別次元の技術である増幅に多大な時間を費やしたことやその結果として増幅については明言を避けることとしたことなどにより何度か補正したが、他にも存在するかも知れない永久機関の基本原理の一つとなる発見である。
【手続補正書】
【提出日】平成27年6月24日(2015.6.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
請求項１の発明の自動二輪車用内燃機関のオイルフィルタ配置構造によれば、オイルパンの両側壁側に、オイルパンを挟むように排気管とオイルフィルタとが分離して配置されたため、排気管とオイルフィルタの間の内燃機関中心位置で、オイルパンを、排気管およびオイルフィルタと干渉せずに底部を深く形成できるので、オイルパンのオイル容量を確保しながら排気管等の地上高が確保され、段差走行性能やバンク角の低下を招くおそれがなくなる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４２】
そして、メイン軸51の回転は、変速ギヤ群51ｇ、52ｇの噛合いを介してカウンタ軸52に伝達される。
カウンタ軸52は、内燃機関４の出力軸52でもあり、クランクケース40を左側方に貫通して外部に突出させた左端部に駆動スプロケット16が嵌着され、後輪13の被動スプロケット17との間にチェーン18が掛け渡されて２次減速機構が構成され、この２次減速機構を介して動力が後輪13に伝達される（図１参照）。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４６】
内燃機関４の底面を示す図６に示されるように、オイルパン８の左側壁81（図示右側）には、左側壁傾斜部81ａの後方において車幅中心に向けへこむように凹所84が形成されており、凹所84を構成し略垂直に配向される左側壁凹部81ｂに囲まれて収容されるように位置して、オイルフィルタ９がクランクケース40の下側クランクケース40Ｂの底面に着脱時自在に取付けられている。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６４】
また、オイルパン８のドレイン孔89は、オイルパン８の凹所84を構成する左側壁81の左側壁凹部81ｂにおいて、オイルフィルタ９よりも下方に配置されたので、ドレイン孔89がオイルパン８の凹所84を構成する左側壁81の左側壁凹部81ｂに設けられた場合でも、オイルの排出の際にオイルフィルタ９にかからず、オイルフィルタ９を汚すことが無い。
【手続補正書】
【提出日】平成26年12月10日(2014.12.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
液晶ポリマーと接合させるための表面を有する金属材料であり、
ＳＴＥＭで得られる前記表面の最表層１０ｎｍ以内におけるＥＤＳ（エネルギー分散型Ｘ線分析）の濃度プロファイルにおいて、Ｓｉ、Ｔｉ、Ａｌ、Ｚｒ、Ｓｎ、Ｍｇ、Ｃｅのいずれかの層の厚みが１ｎｍ以上であり、
前記表面のＳｉ、Ｔｉ、Ａｌ、Ｚｒ、Ｓｎ、Ｍｇ、Ｃｅの下方に、Ｃｕ、Ａｌ、Ｃｒ、Ａｇ、Ｎｉ、Ｉｎ、Ｓｎのいずれか１種以上の金属又はその酸化物の層を有する金属材料。
【請求項２】
ＳＴＥＭで得られる前記表面の最表層１０ｎｍ以内におけるＥＤＳ（エネルギー分散型Ｘ線分析）の濃度プロファイルにおいて、Ｓｉ、Ｔｉ、Ａｌ、Ｚｒ、Ｓｎ、Ｍｇ、Ｃｅのいずれかの層の厚みが１．５ｎｍ以上である請求項１に記載の金属材料。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の金属材料の前記表面に液晶ポリマーが接合されてなる金属−液晶ポリマー複合体。
【請求項４】
窒素を分子内に含有するシランカップリング剤、チタネートカップリング剤、アルミネートカップリング剤、ジルコニアカップリング剤、マグネシウムカップリング剤、スズカップリング剤、セリウムカップリング剤のいずれかで金属材料に表面処理を施し、前記金属材料の処理面に液晶ポリマーを圧着又は射出成形で接合させる、金属−液晶ポリマー複合体の製造方法。
【請求項５】
請求項３に記載の金属−液晶ポリマー複合体を備えた電子部品。
【請求項６】
前記金属材料が白色めっきをしたリードフレームであり、
液晶ポリマーと接合させるための前記金属材料の表面が、前記リードフレームの白色めっき表面に窒素を分子内に有するカップリング剤処理で形成されており、
前記リードフレームをケース電極とし、前記ケース電極上にＬＥＤチップが実装され、前記チップが周辺を前記液晶ポリマーからなるケースボディで覆われ、前記ケースボディ内に蛍光体を含有する封止樹脂が充填されることで構成されたＬＥＤパッケージである請求項５に記載の電子部品。
【請求項７】
前記金属材料が陰極端子、陽極端子、及び、最表層が金属ペーストで覆われたコンデンサ本体の一部または全部であり、
前記陰極端子、前記陽極端子、及び、前記コンデンサ本体が液晶ポリマーで覆われて構成された、アルミ、タンタル及びニオブのうちいずれかのコンデンサである請求項５に記載の電子部品。
【請求項８】
前記液晶ポリマーは、前記金属材料との熱膨張係数の差が±１０ｐｐｍ／℃である請求項５〜７のいずれかに記載の電子部品。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
以上の知見を基礎として完成した本発明は一側面において、液晶ポリマーと接合させるための表面を有する金属材料であり、ＳＴＥＭ（走査型電子顕微鏡）で得られる前記表面の最表層１０ｎｍ以内におけるＥＤＳ（エネルギー分散型Ｘ線分析）の濃度プロファイルにおいて、Ｓｉ、Ｔｉ、Ａｌ、Ｚｒ、Ｓｎ、Ｍｇ、Ｃｅのいずれかの層の厚みが１ｎｍ以上であり、前記表面のＳｉ、Ｔｉ、Ａｌ、Ｚｒ、Ｓｎ、Ｍｇ、Ｃｅの下方に、Ｃｕ、Ａｌ、Ｃｒ、Ａｇ、Ｎｉ、Ｉｎ、Ｓｎのいずれか１種以上の金属又はその酸化物の層を有する金属材料である。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成27年11月9日(2015.11.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（Ａ）アルキル基の炭素数がＣ４〜Ｃ１０の（メタ）アクリル酸エステルモノマーと、（Ｂ）水酸基を含有する共重合可能なモノマーと、（Ｃ）カルボキシル基を含有する共重合可能なモノマーとを含む共重合体のアクリル系ポリマーからなり、さらに、（Ｄ）融点が３０〜８０℃のイオン性化合物である帯電防止剤及び（Ｅ）３官能以上のイソシアネート化合物を含有し、前記（Ｅ）３官能以上のイソシアネート化合物が、（Ｅ−１）第１の脂肪族系のイソシアネート化合物群の中から選択された、少なくとも一種以上と、（Ｅ−２）第２の芳香族系のイソシアネート化合物群の中から選択された、少なくとも一種以上とを含むことを特徴とする粘着剤組成物。
【請求項２】
前記（Ａ）アルキル基の炭素数がＣ４〜Ｃ１０の（メタ）アクリル酸エステルモノマーの１００重量部に対して、前記（Ｂ）水酸基を含有する共重合可能なモノマーが０．１〜８．０重量部含まれ、かつ、前記（Ｂ）水酸基を含有する共重合可能なモノマーのうち、８−ヒドロキシオクチル（メタ）アクリレート、６−ヒドロキシヘキシル（メタ）アクリレート、及び４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレートの合計量が０〜０．９重量部であり、
前記（Ａ）アルキル基の炭素数がＣ４〜Ｃ１０の（メタ）アクリル酸エステルモノマーの１００重量部に対して、前記（Ｃ）カルボキシル基を含有する共重合可能なモノマーが０．３５〜１．０重量部含まれ、さらに前記共重合体の酸価が０．０１〜９．０であることを特徴とする請求項１に記載の粘着剤組成物。
【請求項３】
前記（Ｄ）のイオン性化合物である帯電防止剤の融点が３０〜４９℃であることを特徴とする請求項１又は２に記載の粘着剤組成物。
【請求項４】
前記（Ｅ）３官能以上のイソシアネート化合物が、前記共重合体の１００重量部に対して、合計して０．５〜５．０重量部含まれ、
前記粘着剤組成物に、架橋遅延剤として、ケトエノール互変異性化合物が、前記共重合体の１００重量部に対して、１．０〜５．０重量部含まれ、架橋触媒として、有機錫化合物が、前記共重合体の１００重量部に対して、０．０１〜０．５重量部含まれることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の粘着剤組成物。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれかに記載の粘着剤組成物を架橋してなる粘着剤層を、樹脂フィルムの片面または両面に形成してなることを特徴とする粘着フィルム。
【請求項６】
請求項１〜４のいずれかに記載の粘着剤組成物を架橋してなる粘着剤層を、樹脂フィルムの片面に形成してなることを特徴とする表面保護フィルム。
【請求項７】
偏光板の表面保護フィルムの用途として使用する、請求項６に記載の表面保護フィルム。
【手続補正書】
【提出日】平成27年5月13日(2015.5.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（Ａ）アルキル基の炭素数がＣ４〜Ｃ１０の（メタ）アクリル酸エステルモノマーと、（Ｂ）水酸基を含有する共重合可能なモノマーと、（Ｃ）カルボキシル基を含有する共重合可能なモノマーとを含む共重合体のアクリル系ポリマーからなり、さらに、（Ｄ）３官能以上のイソシアネート化合物を含有し、前記共重合体の酸価が０．０１〜９．０であり、前記（Ｄ）３官能以上のイソシアネート化合物が、（Ｄ−１）第１の脂肪族系のイソシアネート化合物群の中から選択された、少なくとも一種以上と、（Ｄ−２）第２の芳香族系のイソシアネート化合物群の中から選択された、少なくとも一種以上とを含むことを特徴とする粘着剤組成物。
【請求項２】
前記（Ａ）アルキル基の炭素数がＣ４〜Ｃ１０の（メタ）アクリル酸エステルモノマーの１００重量部に対して、前記（Ｂ）水酸基を含有する共重合可能なモノマーが０．１〜８．０重量部含まれ、かつ、前記（Ｂ）水酸基を含有する共重合可能なモノマーのうち、８−ヒドロキシオクチル（メタ）アクリレート、６−ヒドロキシヘキシル（メタ）アクリレート、及び４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレートの合計量が０〜０．９重量部であることを特徴とする請求項１に記載の粘着剤組成物。
【請求項３】
前記（Ａ）アルキル基の炭素数がＣ４〜Ｃ１０の（メタ）アクリル酸エステルモノマーの１００重量部に対して、前記（Ｃ）カルボキシル基を含有する共重合可能なモノマーが０．３５〜１．０重量部含まれることを特徴とする請求項１又は２に記載の粘着剤組成物。
【請求項４】
前記（Ｄ）３官能以上のイソシアネート化合物が、前記共重合体の１００重量部に対して、合計して０．５〜５．０重量部含まれることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の粘着剤組成物。
【請求項５】
前記粘着剤組成物に、架橋遅延剤として、ケトエノール互変異性化合物が、前記共重合体の１００重量部に対して、１．０〜５．０重量部含まれ、架橋触媒として、有機錫化合物が、前記共重合体の１００重量部に対して、０．０１〜０．５重量部含まれることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の粘着剤組成物。
【請求項６】
前記粘着剤組成物を架橋させてなる粘着剤層の、低速の剥離速度０．３ｍ／ｍｉｎでの粘着力が０．０５〜０．１Ｎ／２５ｍｍであり、高速の剥離速度３０ｍ／ｍｉｎでの粘着力が１．０Ｎ／２５ｍｍ以下であることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の粘着剤組成物。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれかに記載の粘着剤組成物を架橋してなる粘着剤層を、樹脂フィルムの片面または両面に形成してなることを特徴とする粘着フィルム。
【請求項８】
請求項１〜６のいずれかに記載の粘着剤組成物を架橋してなる粘着剤層を、樹脂フィルムの片面に形成してなることを特徴とする表面保護フィルム。
【請求項９】
偏光板の表面保護フィルムの用途として使用する、請求項８に記載の表面保護フィルム。
【請求項１０】
前記樹脂フィルムの前記粘着剤層が形成された側とは反対面に、帯電防止および防汚処理がされている請求項８又は９に記載の表面保護フィルム。
【手続補正書】
【提出日】平成27年10月7日(2015.10.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
着用者の手に装着可能な手袋本体と、
この手袋本体に付設され、手袋本体変形に追従して伸縮するシート状の1又は複数の歪みセンサと
を備え、
前記歪センサが、柔軟性を有する板状体から構成される基板と、この基板の一方の面側に設けられるＣＮＴ膜とを有する歪みセンサ付き手袋。
【手続補正書】
【提出日】平成27年10月7日(2015.10.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
伸縮可能な布帛本体と、この布帛本体に付設され、布帛本体の伸縮に追従可能な歪みセンサとを有する歪センサ付き布帛であって、
前記歪みセンサに電気的に接続されるとともに前記布帛本体に一体的に設けられ且つ布帛本体の伸縮に追従して変形する配線部を備え、
前記歪センサが、柔軟性を有する板状体から構成される基板と、この基板の一方の面側に設けられるＣＮＴ膜とを有することを特徴とする歪みセンサ付き布帛。
【手続補正書】
【提出日】平成27年1月22日(2015.1.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４２】
織編物において、本実施態様の仮撚低融着糸を生地おもて面層の少なくとも一部に用い、裏面層（肌面）に該仮撚低融着糸よりも吸水高さが低い繊維を配置した多層構造を有することが好ましい。おもて面層の少なくとも一部に用いる該仮撚低融着糸と裏面層の少なくとも一部に用いる繊維との繊維の吸水高さの比は１．２倍以上であることが好ましい。このことにより、運動等で発汗した場合、肌側と接する編地裏面層で吸収した汗を編地おもて面層へ移動させる吸水・透水性、編地おもて面層での拡散・蒸散・速乾性のいずれにも優れた性能を兼備することができ、激しい発汗に対してもベトツキ感を軽減し、快適な着用感を得ることができる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４５】
また、従来の融着糸はシボ（表面の凹凸、皺）や染着差などの表面感やシャリ感のあるタッチとなる特徴を有するが、本実施態様の製品ではこの特性が軽減されており、従来の融着加工糸に比べフラットな表面感とソフトな風合いを呈する。これにより、スポーツシャツ地や肌着など用途に用いることが可能となる。スポーツシャツや肌着などの用途に用いる場合でも、上記のような多層構造とおもて面のネットワーク構造にすることで、従来の融着糸を用いた製品が有していたようなシボや染着差など不要な特性をさらに軽減させることができるため好ましい。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４７】
本実施態様の多層構造織編物とは、おもて面層と裏面層（肌面）との少なくとも二層からなる多層構造体からなるものであれば、特に編組織等は限定されるものではない。例えば、丸編地であれば、シングルジャージ、ダブルジャージを使用することができる。経編地であれば、シングルトリコット、ダブルトリコット、シングルラッセル、ダブルラッセルを使用することができ、横編地であれば、シングルベルベットニット、ダブルベルベットニットを使用することができ、織物であれば、綾織や朱子織、また各種２重織やその変形組織を使用することができる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６０】
（８）吸水表裏拡散面積比
ガラス板上に、市販のインクを２倍に水で希釈したインク液を０．１ｃｃ滴下し、その上に編地を、裏面がインク液に接する下側を向くように載置した。６０秒間放置しインク液を吸収させた後、この編地を別のガラス板上に移し、ここでも裏面を下にして３分間放置した。このような操作を編地３枚について同様に行い、サンプル編地のおもて面、裏面のインク液の拡散面積を測定し、面積比（おもて面の拡散面積／裏面の拡散面積）を算出した。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６９】
【表２】
2014025189.tif 000001
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７０】
図１（ａ）に示すように、この仮撚低融着糸をおもて面層の低融着糸部分Ａに用いておもて面が市松柄のネットワーク構造を有する丸編地を編成した。また、おもて面層の低吸水高さを有する繊維部分Ｂには、８４ｄｔｅｘ、４８フィラメントの八角と丸断面の混在糸（東レ株式会社製：セオα）の仮撚糸を用い、裏面層には、８４ｄｔｅｘ、３６フィラメントの丸断面、２ヒーター仮撚糸を用いた。この丸編地を通常の染色・吸水加工方法にて加工した。得られた編地は、表面感がよく、ソフトタッチでありながらドライ感のある優れた風合いを持っていた。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７３】
［実施例４］
実施例１と同一の仮撚低融着糸を低融着糸部分Ａに、５６ｄｔｅｘ、７２フィラメントのカチオン可染糸を低吸水高さを有する繊維部分Ｂにそれぞれ用いて、８４ｄｔｅｘ、２４フィラメントのカチオン可染糸が裏側に多く配置されるよう緯糸に用い、８４ｄｔｅｘ、４８フィラメントの八角断面糸と丸断面糸の混在糸の仮撚糸の３００Ｔ／ｍ追撚糸を経糸に用い、図１（ｂ）に示すように、低融着糸部分Ａと低吸水高さを有する繊維部分Ｂのボーダー柄間隔が変化するような多重織物を作製した。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８０】
［比較例３］
ポリエチレンテレフタレートを速度２７００ｍ／ｍｉｎで溶融紡糸し、延伸後には繊度が３３ｄｔｅｘ、単糸数２４フィラメントになる、６１ｄｔｅｘ、２４フィラメントの未延伸糸を製造した。製造した未延伸糸を、図３に示す工程に準じ、表１に示す条件下で、融着仮撚加工糸に加工した。実施例１で丸編地を作成して得られた製品は、風合いが柔らかく杢感は小さいものであったが、得られた融着仮撚加工糸は、吸水速乾性はやや低く、表面感が実施例１の製品よりもシボが強い素材であり、シボ感や杢ムラ感に加工糸間差が大きい素材であった。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８１】
［比較例４］
ポリエチレンテレフタレートを紡糸速度３，２００ｍ／ｍｉｎで紡糸して作製した、自然延伸倍率（ＮＤＲ）が４０％の高配向未延伸糸１２５デニール、３６フィラメントの原糸を用いて、まず延伸工程でホットピンに接触させながら、温度８０℃、延伸倍率１．３倍、接触長６０ｍｍで延伸を行ない、糸速４００ｍ／ｍｉｎで仮撚フィード率＝１％、１ｓｔヒーター温度２４０℃で仮撚加工し、２ｎｄヒーター温度２００℃でビリ止めセット加工（残留トルクによる糸の縮れを防止するための熱処理）を施した。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８４】
Ａ：高吸水部（低融着糸部分）
Ｂ：低吸水部（低融着糸よりも低い吸水高さを有する繊維部分）
１：クリール
２：第１フィードローラー
３：ホットピン
４：第２フィードローラー
５：１ｓｔヒーター
６：仮撚ツイスター
７：ドローローラー
８：２ｎｄヒーター
９：第３フィードローラー
１０：巻き取りローラー
１１：クリール
１２：第２フィードローラー
１３：１ｓｔヒーター
１４：仮撚ツイスター
１５：解撚促進ガイド
１６：ドローローラー
１７：２ｎｄヒーター
１８：第３フィードローラー
１９：巻き取りローラー
【手続補正書】
【提出日】平成27年4月13日(2015.4.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
シード層、ＦｅＰｔ含有磁性層、およびキャップ層を順に有するハードバイアス構造と、
前記ハードバイアス構造によって水平方向にバイアス磁界が付与されたフリー層を有するＭＲセンサスタックと
を備え、
前記シード層は、１ｎｍ以上１０ｎｍ以下の厚さを有するＣｒＴｉ層と、前記ＣｒＴｉ層の上に形成され１ｎｍ以上１０ｎｍ以下の厚さを有するＦｅＣｏＭｏ層との積層構造からなるものである
ＣＰＰ−ＭＲセンサ。
【請求項２】
前記シード層は、スパッタリング法またはイオンビーム蒸着法により形成されたものである
請求項１に記載のＣＰＰ−ＭＲセンサ。
【請求項３】
前記ＦｅＣｏＭｏ層の厚さは、前記ＦｅＰｔ含有磁性層におけるＦｅおよびＰｔの組成比に応じて調整されたものである
請求項１に記載のＣＰＰ−ＭＲセンサ。
【請求項４】
前記ＦｅＰｔ含有磁性層は、５ｎｍ以上３０ｎｍ以下の厚さを有すると共にＦｅＰｔまたはＦｅＰｔＸ（ＸはＣｕもしくはＡｇ）からなる層である
請求項１に記載のＣＰＰ−ＭＲセンサ。
【請求項５】
前記ＦｅＰｔ含有磁性層は、３５原子パーセント以上７５原子パーセント以下のＦｅと、２５原子パーセント以上６５原子パーセント以下のＰｔとによって構成されている
請求項４に記載のＣＰＰ−ＭＲセンサ。
【請求項６】
前記ＦｅＰｔＸ（ＸはＣｕもしくはＡｇ）からなる層は、３５原子パーセント以上７５原子パーセント以下のＦｅと、０原子パーセントを超えて１５原子パーセント以下のＸとを含んで構成されている
請求項４に記載のＣＰＰ−ＭＲセンサ。
【請求項７】
前記ＦｅＰｔ含有磁性層は、第１のＦｅＰｔＣｕ層と、その上に形成されたＦｅＣｏＭｏ層と、その上に形成された第２のＦｅＰｔＣｕ層とを含み、
前記第１および第２のＦｅＰｔＣｕ層は、合計で１２．５ｎｍの厚さを有し、
前記ＦｅＣｏＭｏ層は、０．５ｎｍの厚さを有する
請求項１に記載のＣＰＰ−ＭＲセンサ。
【請求項８】
前記キャップ層は、スパッタリング法またはイオンビーム蒸着法により形成されたものである
請求項１に記載のＣＰＰ−ＭＲセンサ。
【請求項９】
前記キャップ層は、１ｎｍ以上１０ｎｍ以下の厚さを有し、Ｆｅ，ＦｅＣｏもしくはＦｅＣｏＭｏからなる層を複数含む
請求項１に記載のＣＰＰ−ＭＲセンサ。
【請求項１０】
前記キャップ層は、１ｎｍ以上１０ｎｍ以下の厚さを有するＣｒＴｉ層の上に、１ｎｍ以上１０ｎｍ以下の厚さを有するＦｅＣｏＭｏからなる層を含む
請求項１に記載のＣＰＰ‐ＭＲセンサ。
【請求項１１】
ＦｅＣｏＭｏ層の厚さは、前記ＦｅＰｔ含有磁性層におけるＦｅおよびＰｔの組成比に応じて調整されたものである
請求項１０に記載のＣＰＰ‐ＭＲセンサ。
【請求項１２】
ＦｅＰｔ含有磁性層とその上に設けられたキャップ層とを有するハードバイアス構造と、
前記ハードバイアス構造によって水平方向にバイアス磁界が付与されたフリー層を有するＭＲセンサスタックと
を備え、
前記キャップ層は、Ｆｅ，ＦｅＣｏもしくはＦｅＣｏＭｏを含み、１ｎｍ以上１０ｎｍ以下の厚さを有する
ＭＲセンサ。
【請求項１３】
前記キャップ層は、スパッタリング法またはイオンビーム蒸着法によって形成されたものである
請求項１２に記載のＭＲセンサ。
【請求項１４】
前記キャップ層は、
１ｎｍ以上１０ｎｍ以下の厚さを有するＦｅＣｏＭｏからなる層と、１ｎｍ以上１０ｎｍ以下の厚さを有するＣｒＴｉからなる層とが順に積層されたものである
請求項１２に記載のＭＲセンサ。
【請求項１５】
前記ＦｅＣｏＭｏからなる層の前記厚さは、前記ＦｅＰｔ含有磁性層のＦｅおよびＰｔの組成比に応じて調整されたものである
請求項１４に記載のＭＲセンサ。
【請求項１６】
前記ＦｅＰｔ含有磁性層は、５ｎｍ以上３０ｎｍ以下の厚さを有すると共にＦｅＰｔまたはＦｅＰｔＸ（ＸはＣｕもしくはＡｇ）からなる層である
請求項１２に記載のＭＲセンサ。
【請求項１７】
前記ＦｅＰｔ含有磁性層は、３５原子パーセント以上７５原子パーセント以下のＦｅと、２５原子パーセント以上６５原子パーセント以下のＰｔとによって構成されている
請求項１６に記載のＭＲセンサ。
【請求項１８】
前記ＦｅＰｔＸ（ＸはＣｕもしくはＡｇ）からなる層は、３５原子パーセント以上７５原子パーセント以下のＦｅと、０原子パーセントを超えて１５原子パーセント以下のＸとを含んで構成されている
請求項１６に記載のＭＲセンサ。
【請求項１９】
ＦｅＰｔ含有磁性層は、第１のＦｅＰｔＣｕ層と、その上に形成されたＦｅＣｏＭｏ層と、その上に形成された第２のＦｅＰｔＣｕ層とを含み、
前記第１および第２のＦｅＰｔＣｕ層は、合計で１２．５ｎｍの厚さを有し、
前記ＦｅＣｏＭｏ層は、０．５ｎｍの厚さを有する
請求項１２に記載のＣＰＰ−ＭＲセンサ。
【手続補正書】
【提出日】平成27年9月7日(2015.9.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
リチウム源を含む、少なくとも一部が固体の原料を、溶媒に含有させた状態で粉砕混合し、得られたスラリーを乾燥し、焼成する、リチウム複合酸化物の製造装置であって、
前記原料を受け入れてスラリー調整する懸濁部と、
前記懸濁部において調整したスラリーを受け入れ、これを湿式で粉砕してスラリーを排出する湿式粉砕部と、
前記湿式粉砕部から排出された粉砕後のスラリーを貯留する貯留部と、
前記貯留部からスラリーを受け入れ、これを乾燥して前駆体を形成する乾燥部と、
前記前駆体を受け入れ、これを焼成する焼成部と、
を有し、
前記貯留部から前記乾燥部までがスラリーを送液するための配管で繋がれていて、その配管は、前記貯留部側から順に、前記貯留部と繋がり水平方向に伸びる第１水平部Ｌ1と、それと繋がり垂直上方向に延びる第１垂直部Ｌ2と、それと繋がり水平方向に伸びる第２水平部Ｌ3と、それと繋がり垂直下方向に延びる第２垂直部Ｌ4と、を有しており、その配管の全長が７．０ｍ以内である、リチウム複合酸化物の製造装置。
【請求項２】
第１水平部Ｌ1の配管の長さが１．０〜１５．０ｍ、
第１垂直部Ｌ2の配管の長さが０．０５〜２．０ｍ、
第２水平部Ｌ3の配管の長さが０．２〜３．０ｍ、
第２垂直部Ｌ4の配管の長さが０．２〜３．０ｍである、請求項１に記載のリチウム複合酸化物の製造装置。
【請求項３】
前記配管の断面直径が１０〜５０ｍｍである、請求項１または２に記載のリチウム複合酸化物の製造装置。
【請求項４】
さらに、前記湿式粉砕部と前記貯留部との間に濃度調整部を有し、
前記湿式粉砕部から排出された粉砕後のスラリーを前記濃度調整部にて受け入れた後、受け入れたスラリーの固形分濃度を調整し、その後、固形分濃度を調整したスラリーを貯留部に貯留することができる、請求項１〜３のいずれかに記載のリチウム複合酸化物の製造装置。
【請求項５】
前記乾燥部が、アトマイザーを備える噴霧乾燥機であり、
前記配管における、第２水平部Ｌ3との境界からアトマイザーとの境界までが第２垂直部Ｌ4である、請求項１〜４のいずれかに記載のリチウム複合酸化物の製造装置。
【請求項６】
リチウム源を含む、少なくとも一部が固体の原料を、溶媒に含有させてスラリーを得る懸濁工程と、
前記スラリーを粉砕混合する湿式粉砕工程と、
前記湿式粉砕工程によって得られた粉砕後のスラリーを貯留する貯留工程と、
前記貯留工程において貯留されているスラリーを乾燥して前駆体を得る乾燥工程と、
前記前駆体を焼成して焼成体を得る焼成工程と、
を備え、
請求項１〜５のいずれかに記載のリチウム複合酸化物の製造装置を用いて行う、リチウム複合酸化物の製造方法。
【請求項７】
下記式（Ｉ）で表されるリチウム複合酸化物が得られる、請求項６に記載のリチウム複合酸化物の製造方法。
式（Ｉ）：Ｌｉ(x+y)Ｍ1(2-y-p)Ｍ2pＯ（4-a）
式（Ｉ）において、Ｍ1はＭｎ、Ｎｉ、Ｃｏ、Ｍｇ、Ｆｅ、ＡｌおよびＣｒからなる群から選ばれる少なくとも１つの元素であり、Ｍ2はＢ、Ｐ、Ｐｂ、Ｓｂ、ＳｉおよびＶからなる群から選ばれる少なくとも１つの元素であり、１．０≦ｘ≦２．０、０≦ｙ≦０．２、０≦ｐ≦１．０、０≦ａ≦１．０である。
【請求項８】
前記乾燥工程において、固形分濃度が１５〜３５質量％であり、固形分の平均粒子径が０．５μｍ以下に調整されたスラリーを乾燥して前駆体を得る、請求項６または７に記載のリチウム複合酸化物の製造方法。
【請求項９】
前記貯留工程が、前記貯留部においてスラリーを５０ｒｐｍ以上の撹拌速度で撹拌して行う工程である、請求項６〜８のいずれかに記載のリチウム複合酸化物の製造方法。
【請求項１０】
請求項６〜９のいずれかに記載の製造方法によってリチウム複合酸化物を得た後、それを用いて正極活物質を得る、正極活物質の製造方法。
【請求項１１】
請求項１０に記載の製造方法によって正極活物質を得た後、それを用いてリチウムイオン二次電池用正極を得る、リチウムイオン二次電池用正極の製造方法。
【請求項１２】
請求項１１に記載の製造方法によってリチウムイオン二次電池用正極を得た後、そのリチウムイオン二次電池用正極と、負極と、電解液とを用いてリチウムイオン二次電池を得る、リチウムイオン二次電池の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成27年4月14日(2015.4.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（Ａ）フッ素原子又はシリコン原子を有するラジカル重合性モノマー又はオリゴマー、（Ｂ）高分子化合物、及び、（Ｃ）ラジカル重合開始剤を含有する半導体装置製造用仮接着剤。
【請求項２】
更に、（Ｄ）前記ラジカル重合性モノマー又はオリゴマー（Ａ）とは異なる、ラジカル重合性モノマー又はオリゴマーを含有する、請求項１に記載の半導体装置製造用仮接着剤。
【請求項３】
前記ラジカル重合性モノマー又はオリゴマー（Ａ）が、２個以上のラジカル重合性官能基を有する、請求項１又は２に記載の半導体装置製造用仮接着剤。
【請求項４】
前記ラジカル重合性モノマー又はオリゴマー（Ａ）が、フッ素原子を有するモノマー又はオリゴマーである、請求項１〜３のいずれか１項に記載の半導体装置製造用仮接着剤。
【請求項５】
前記ラジカル重合開始剤（Ｃ）が、光ラジカル重合開始剤である、請求項１〜４のいずれか１項に記載の半導体装置製造用仮接着剤。
【請求項６】
前記ラジカル重合開始剤（Ｃ）として、光ラジカル重合開始剤と熱ラジカル重合開始剤とを含有する、請求項１〜５のいずれか１項に記載の半導体装置製造用仮接着剤。
【請求項７】
基板と、前記基板上に、請求項１〜６のいずれか１項に記載の半導体装置製造用仮接着剤により形成された接着性層とを有する接着性支持体。
【請求項８】
被処理部材の第１の面と基板とを、請求項１〜６のいずれか１項に記載の半導体装置製造用仮接着剤により形成された接着性層を介して接着させる工程、
前記被処理部材の前記第１の面とは異なる第２の面に対して、機械的又は化学的な処理を施し、処理済部材を得る工程、及び、
前記接着性層から前記処理済部材の第１の面を脱離する工程
を有する、前記処理済部材を有する半導体装置の製造方法。
【請求項９】
前記被処理部材の第１の面と基板とを前記接着性層を介して接着させる工程の前に、前記接着性層の、前記被処理部材の第１の面に接着される面に対して、活性光線若しくは放射線又は熱を照射する工程を更に有する、請求項８に記載の半導体装置の製造方法。
【請求項１０】
被処理部材の第１の面と基板とを前記接着性層を介して接着させる工程の後、かつ、前記被処理部材の前記第１の面とは異なる第２の面に対して、機械的又は化学的な処理を施し、処理済部材を得る工程の前に、前記接着性層を５０℃〜３００℃の温度で加熱する工程を更に有する、請求項８又は９に記載の半導体装置の製造方法。
【請求項１１】
前記接着性層から前記処理済部材の第１の面を脱離する工程が、前記接着性層に剥離液を接触させる工程を含む、請求項８〜１０のいずれか１項に記載の半導体装置の製造方法。
【請求項１２】
前記被処理部材が、被処理基材と、前記被処理基材の第１の面の上に設けられた保護層とを有してなり、
前記保護層の、前記被処理基材とは反対側の面を、前記被処理部材の前記第１の面とし、
前記被処理基材の前記第１の面とは異なる第２の面を、前記被処理部材の前記第２の面とする、請求項８〜１１のいずれか１項に記載の半導体装置の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
〔１〕
（Ａ）フッ素原子又はシリコン原子を有するラジカル重合性モノマー又はオリゴマー、（Ｂ）高分子化合物、及び、（Ｃ）ラジカル重合開始剤を含有する半導体装置製造用仮接着剤。
〔２〕
更に、（Ｄ）前記ラジカル重合性モノマー又はオリゴマー（Ａ）とは異なる、ラジカル重合性モノマー又はオリゴマーを含有する、上記〔１〕に記載の半導体装置製造用仮接着剤。
〔３〕
前記ラジカル重合性モノマー又はオリゴマー（Ａ）が、２個以上のラジカル重合性官能基を有する、上記〔１〕又は〔２〕に記載の半導体装置製造用仮接着剤。
〔４〕
前記ラジカル重合性モノマー又はオリゴマー（Ａ）が、フッ素原子を有するモノマー又はオリゴマーである、上記〔１〕〜〔３〕のいずれか１項に記載の半導体装置製造用仮接着剤。
〔５〕
前記ラジカル重合開始剤（Ｃ）が、光ラジカル重合開始剤である、上記〔１〕〜〔４〕のいずれか１項に記載の半導体装置製造用仮接着剤。
〔６〕
前記ラジカル重合開始剤（Ｃ）として、光ラジカル重合開始剤と熱ラジカル重合開始剤とを含有する、上記〔１〕〜〔５〕のいずれか１項に記載の半導体装置製造用仮接着剤。
〔７〕
基板と、前記基板上に、上記〔１〕〜〔６〕のいずれか１項に記載の半導体装置製造用仮接着剤により形成された接着性層とを有する接着性支持体。
〔８〕
被処理部材の第１の面と基板とを、上記〔１〕〜〔６〕のいずれか１項に記載の半導体装置製造用仮接着剤により形成された接着性層を介して接着させる工程、
前記被処理部材の前記第１の面とは異なる第２の面に対して、機械的又は化学的な処理を施し、処理済部材を得る工程、及び、
前記接着性層から前記処理済部材の第１の面を脱離する工程
を有する、前記処理済部材を有する半導体装置の製造方法。
〔９〕
前記被処理部材の第１の面と基板とを前記接着性層を介して接着させる工程の前に、前記接着性層の、前記被処理部材の第１の面に接着される面に対して、活性光線若しくは放射線又は熱を照射する工程を更に有する、上記〔８〕に記載の半導体装置の製造方法。
〔１０〕
被処理部材の第１の面と基板とを前記接着性層を介して接着させる工程の後、かつ、前記被処理部材の前記第１の面とは異なる第２の面に対して、機械的又は化学的な処理を施し、処理済部材を得る工程の前に、前記接着性層を５０℃〜３００℃の温度で加熱する工程を更に有する、上記〔８〕又は〔９〕に記載の半導体装置の製造方法。
〔１１〕
前記接着性層から前記処理済部材の第１の面を脱離する工程が、前記接着性層に剥離液を接触させる工程を含む、上記〔８〕〜〔１０〕のいずれか１項に記載の半導体装置の製造方法。
〔１２〕
前記被処理部材が、被処理基材と、前記被処理基材の第１の面の上に設けられた保護層とを有してなり、
前記保護層の、前記被処理基材とは反対側の面を、前記被処理部材の前記第１の面とし、
前記被処理基材の前記第１の面とは異なる第２の面を、前記被処理部材の前記第２の面とする、上記〔８〕〜〔１１〕のいずれか１項に記載の半導体装置の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成27年9月18日(2015.9.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
次の工程（１）〜（４）
工程（１）：結晶性ポリエステル（ａ）と、非晶質ポリエステル（ｂ）を、水性媒体中で、結晶性ポリエステル（ａ）の融点以上の温度で混合し、樹脂粒子（Ａ）の分散液を得る工程
工程（２）：樹脂粒子（Ａ）を凝集させて、凝集粒子（１）を得る工程
工程（３）：凝集粒子（１）の分散液に、非晶質ポリエステル（ｃ）を含有する樹脂粒子（Ｂ）を添加して凝集させて、凝集粒子（２）を得る工程
工程（４）：凝集粒子（２）を融着して、融着粒子を得る工程
を含む静電荷像現像用トナーの製造方法であって、
前記非晶質ポリエステル（ｂ）が、炭素数９以上１４以下のアルキル基を有するアルキルコハク酸及び／又は炭素数９以上１４以下のアルケニル基を有するアルケニルコハク酸を６０モル％以上９０モル％以下含有する酸成分とアルコール成分とを重縮合して得られる非晶質ポリエステル（ｂ１）を含有し、
前記樹脂粒子（Ａ）を構成する樹脂中の非晶質ポリエステル（ｂ１）の含有量が７質量％以上２０質量％以下であり、
前記樹脂粒子（Ａ）中のすべてのポリエステルのカルボン酸成分の合計量における前記アルキルコハク酸及び／又はアルケニルコハク酸の含有量が５．０モル％以上２０モル％以下である、
静電荷像現像用トナーの製造方法。
【請求項２】
結晶性ポリエステル（ａ）が、炭素数２以上１２以下のα，ω−アルカンジオールと炭素数４以上１２以下の脂肪族カルボン酸とを重縮合して得られるポリエステルを含有する、請求項１に記載の静電荷像現像用トナーの製造方法。
【請求項３】
結晶性ポリエステル（ａ）と非晶質ポリエステル（ｂ１）の質量比（結晶性ポリエステル（ａ）／非晶質ポリエステル（ｂ１））が８０／２０〜２０／８０である、請求項１又は２に記載の静電荷像現像用トナーの製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成27年11月5日(2015.11.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
イベント生成者に対して、複数のユーザを対象にするイベントの生成及びイベントの管理のためのインタフェースを提供し、
所定時間内にデータの送受信が可能であり前記イベント生成者との関係が設定されたユーザが独立してそれぞれ参加するイベントルームを、前記インタフェースを介する当該イベント生成者のリクエストに応じて生成し、
前記所定時間内において、前記イベント生成者から複数の前記ユーザにデータを送信する場合には当該データを、複数の前記イベントルームを介して前記複数のユーザに対して一度に送信し、前記ユーザからデータが送信される場合には当該ユーザの前記イベントルームを介して前記イベント生成者に送信すること、
を備えることを特徴とするオンエアサービス提供方法。
【請求項２】
前記所定時間は、前記イベントルームの生成に応じて自動的に設定されることを特徴とする請求項１に記載のオンエアサービス提供方法。
【請求項３】
前記所定時間は、前記イベント生成者により予め設定されることを特徴とする請求項１に記載のオンエアサービス提供方法。
【請求項４】
前記所定時間は、前記イベントルームを生成してから終了するまでの時間であることを特徴とする請求項１に記載のオンエアサービス提供方法。
【請求項５】
前記イベントルームには、前記イベントに関連する情報が表示されることを特徴とする請求項１に記載のオンエアサービス提供方法。
【請求項６】
前記イベント生成者のリクエストに応じて生成されたイベントルームが前記データの送受信が可能な状態であるか否かを示す情報を、当該イベント生成者に関連付けて前記ユーザの端末に表示させることを特徴とする請求項１に記載のオンエアサービス提供方法。
【請求項７】
イベント生成者に対して、複数のユーザを対象にするイベントの生成及びイベントの管理のためのインタフェースを提供し、
所定時間内にデータの送受信が可能であり前記イベント生成者との関係が設定されたユーザが独立してそれぞれ参加するイベントルームを、前記インタフェースを介する当該イベント生成者のリクエストに応じて生成し、
前記所定時間内において、前記イベント生成者から複数の前記ユーザにデータを送信する場合には当該データを、複数の前記イベントルームを介して前記複数のユーザに対して一度に送信し、前記ユーザからデータが送信される場合には当該ユーザの前記イベントルームを介して前記イベント生成者に送信すること、
をコンピュータに実行させるためのプログラム。
【請求項８】
イベント生成者に対して、複数のユーザを対象にするイベントの生成及びイベントの管理のためのインタフェースを提供するインタフェース部と、
所定時間内にデータの送受信が可能であり前記イベント生成者との関係が設定されたユーザが独立してそれぞれ参加するイベントルームを、前記インタフェースを介する当該イベント生成者のリクエストに応じて生成するイベントルーム生成部と、
前記所定時間内において、前記イベント生成者から複数の前記ユーザにデータを送信する場合には当該データを、複数の前記イベントルームを介して前記複数のユーザに対して一度に送信し、前記ユーザからデータが送信される場合には当該ユーザの前記イベントルームを介して前記イベント生成者に送信するデータ送受信部と、
を備えることを特徴とするオンエアサービス提供システム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】オンエアサービス提供方法、プログラムおよびオンエアサービス提供システム
【手続補正書】
【提出日】平成27年8月17日(2015.8.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４１】
なお、ビルプレス２６は、ビルプレス本体部４１の長手方向における一端の下方に位置検出プレート４４が設けられ、例えば光学式のポジションセンサ（図示せず）により位置検出プレート４４の位置に基づいてその位置が検出される。
【手続補正２】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１】
2014130479.tif 000001
【手続補正３】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１０】
2014130479.tif 000002
【手続補正４】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１１】
2014130479.tif 000003
【手続補正書】
【提出日】平成27年8月27日(2015.8.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３７】
例えば、内部電源電圧ＶＤＤが１．１５Ｖであって、内部電源電圧ＶＤＤ＿ＲＡＭが１．３５Ｖである場合、内部レギュレータ２６から外部レギュレータ３に向かって、内部レギュレータ２６が供給できる限界まで電流が流れ続ける。これは無駄な電力を消費させるとともに、ＶＤＤ線１５およびＶＤＤ＿ＲＡＭ線３５にエレクトロマイグレーションが発生しやすくなり、半導体装置の信頼性にも影響を及ぼす。このため、内部レギュレータ２６を常時オン状態にしておくことは現実的でない。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５４】
具体的には、制御信号ｐｓｗｏｎ＿ｖｄｄ，ｐｓｗｏｎ＿ｖｄｄ＿ｒａｍがともにＬレベルに活性化されたとき、ＰＭＯＳスイッチ４０がオンされる。これにより、ＶＤＤ線１５およびＶＤＤ＿ＲＡＭ線３５が電気的に接続される。一方、制御信号ｐｓｗｏｎ＿ｖｄｄ，ｐｓｗｏｎ＿ｖｄｄ＿ｒａｍの少なくとも一方がＨレベルに非活性化されたとき、ＰＭＯＳスイッチ４０がオフされる。これにより、ＶＤＤ線１５およびＶＤＤ＿ＲＡＭ線３５が電気的に遮断される。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５６】
ここで、ＶＣＣ電源領域２０に含まれる回路では、主として膜厚の厚い高耐圧用トランジスタが使用される。一方、ＶＤＤ電源領域１０およびＶＤＤ＿ＲＡＭ電源領域３０に含まれる回路では、主として高耐圧用トランジスタよりも膜厚の薄い低耐圧用トランジスタが使用される。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７３】
インバータ４２＿１は、システム制御回路２８（図１）から与えられる制御信号ｐｓｗｏｎ＿ｖｄｄ＿ｒａｍの反転信号をＮＡＮＤゲート４４＿１の一方入力ノードに出力する。ＮＡＮＤゲート４４＿１の他方入力ノードはＶＤＤ線１５に接続される。ＮＡＮＤゲート４４＿１は、制御信号ｐｓｗｏｎ＿ｖｄｄ＿ｒａｍの反転信号と、ＶＤＤ線１５に供給される内部電源電圧ＶＤＤとの論理積を反転させた信号をバッファ４６＿１に出力する。バッファ４６＿１は、ＮＡＮＤゲート４４＿１の出力信号に応じた制御信号をＰＭＯＳトランジスタＰ１の制御端子（ゲート端子）に出力する。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１１１】
内部レギュレータ２６は、電圧Ｖ２を基準電圧Ｖｒｅｆとして動作することにより、電圧Ｖ２に等しい内部電源電圧ＶＤＤ＿ＲＡＭをＶＤＤ＿ＲＡＭ線３５に供給する。しかしながら、上述のように、内部レギュレータ２６は出力電圧の反応が鈍いため、ＰＭＯＳスイッチ４０がオンされるタイミング（時刻ｔ１２）に、内部電源電圧ＶＤＤ＿ＲＡＭが未だ電圧Ｖ２に達していない事態が起こり得る。そのような事態が生じると、図７に示すように、ＶＤＤ＿ＲＡＭ線３５に電圧ドロップが発生し、内部電源電圧ＶＤＤ＿ＲＡＭがＳＲＡＭメモリセル３２がデータ保持可能な電圧（例えば１．１Ｖ）を下回ってしまう可能性がある。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１１５】
また、関連技術に示したように、アクティブモード時とスタンバイモード時とで電流供給能力の異なる２つのレギュレータ（外部レギュレータ３および内部レギュレータ２６）を切替えて用いる構成に対しても、図６に示されるＰＭＯＳスイッチ回路４０Ａの構成を適用することが可能であることはいうまでもない。