(57)【要約】  経済的かつ工業的製造に適した条件で、アンジオテンシンＩＩ受容体拮抗薬の中間体として有用なビアリール化合物を製造することができる、新規な製造方法を提供する。  一般式［１］の２−フェニルアゾール誘導体またはその塩と、一般式［２］のベンゼン誘導体またはその塩を、金属触媒、塩基、並びに（ａ）モノカルボン酸の金属塩、（ｂ）ジカルボン酸の金属塩、（ｃ）スルホン酸の金属塩、及び（ｄ）ＲＡｘＰ（Ｏ）（ＯＭ）ｙで表されるリン酸エステル又はリン酸アミドの金属塩からなる群より選ばれる１種以上の化合物の存在下に反応させることを特徴とする、一般式［３］のビアリール化合物又はその塩の製造方法（各式中、各記号は本明細書中で定義した通り）。2014034868.tif 000164
2014034868.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一般式［１］：
【化１】
2014034868.tif 000123
［式中、Ｒ１ないしＲ４は、それぞれ、独立して、水素原子、あるいは、それぞれ置換基を有していてもよい、アルキル基、アラルキル基又はアリール基を表し、環Ａは、置換されていてもよい含窒素複素環を表す。］
で示される２−フェニルアゾール誘導体又はその塩と、一般式［２］： 
【化２】
2014034868.tif 000124
［式中、Ｒ５は、それぞれ置換基を有していてもよい、アルキル基、アラルキル基又はアリール基を表し、ｍは、０ないし５の整数を表し、Ｘ１は脱離基を表す。］
で示されるベンゼン誘導体を、金属触媒、塩基及び下記（ａ）〜（ｄ）からなる群より選ばれる１種以上の化合物の存在下に反応させることを特徴とする、一般式［３］：
【化３】
2014034868.tif 000125
［式中、各記号は前記と同義である。］
で示されるビアリール化合物又はその塩の製造方法。
（ａ）モノカルボン酸の金属塩
（ｂ）ジカルボン酸の金属塩
（ｃ）スルホン酸の金属塩
（ｄ）ＲＡｘＰ（Ｏ）（ＯＭ）ｙ［式中、ＲＡは、Ｒ”’Ｏ又はＲ”’２Ｎを表し、ここで、Ｒ”’は、水素原子、あるいは、それぞれ窒素原子、酸素原子又は硫黄原子を含んでいてもよい、炭素数１〜２０の直鎖または分岐鎖のアルキル基、炭素数７〜１４のアラルキル基又は炭素数６〜１８のアリール基を表し、Ｍは、金属原子を表し、ｘおよびｙは、それぞれ独立して、１又は２の整数であり、かつ、ｘ＋ｙは３である。］で示されるリン酸エステル又はリン酸アミドの金属塩
【請求項２】
さらに、ホスフィン系化合物が存在する条件下で反応させることを特徴とする、請求項１記載の製造方法。
【請求項３】
請求項１記載の一般式［１］が一般式［１’］：
【化４】
2014034868.tif 000126
［式中、Ｒ６は、テトラゾリル基の保護基を表し、Ｒ１ないしＲ４は、前記と同義である。］
で示される２−フェニルテトラゾール誘導体又はその塩であり、請求項１記載の一般式［２］が一般式［２’］:
【化５】
2014034868.tif 000127
［式中、Ｒ５’は、メチル基、保護された水酸基で置換されたメチル基又は低級アルコシキカルボニル基であり、Ｘ１は前記と同義である。］
で示されるベンゼン誘導体である、請求項１または請求項２記載の製造方法。
【請求項４】
１）請求項３記載の製造方法で得られた一般式［３’］：
【化６】
2014034868.tif 000128
［式中、各記号は前記と同義である。］
で示されるビアリールテトラゾール化合物又はその塩において、
１−Ａ）（ａ）Ｒ５’が保護された水酸基で置換されたメチル基である場合は、脱保護して、
（ｂ）Ｒ５’が低級アルコキシカルボニル基である場合は、還元して、
一般式［４］：
【化７】
2014034868.tif 000129
［式中、各記号は前記と同義である。］
で示される化合物又はその塩を得、さらにハロゲン化するか；又は
１−Ｂ）一般式［３’］で示される化合物のＲ５’がメチル基である場合は、一般式［３’］で示される化合物をハロゲン化することを特徴とする、一般式［５］：
【化８】
2014034868.tif 000130
［式中、Ｘ２は、ハロゲン原子を表し、Ｒ１ないしＲ４およびＲ６は、前記と同義である。］
で示されるビアリールテトラゾール誘導体又はその塩の製造方法。
【請求項５】
１）請求項４記載の製造方法で得られた一般式［５’］：
【化９】
2014034868.tif 000131
［式中、各記号は前記と同義である。］
で示されるビアリールテトラゾール誘導体又はその塩と、一般式［６］：
【化１０】
2014034868.tif 000132
［式中、Ｒ１０は、カルボキシ基の保護基を示す。］
で示される化合物又はその塩を反応させて、一般式［７］：
【化１１】
2014034868.tif 000133
［式中、各記号は前記と同義である。］
で示される化合物又はその塩を得；
２）一般式［７］で示される化合物又はその塩のＲ６を除去して、一般式［Ｙ１］：
【化１２】
2014034868.tif 000134
［式中、記号は前記と同義である。］
で示される化合物又はその塩を得；
３）一般式［Ｙ１］で示される化合物又はその塩を、一般式［Ｙ３］：Ｒ６’−Ｘ５［式中、Ｒ６’はトリチル基を表し、Ｘ５はハロゲン原子を表す。］で示される化合物と反応させて、一般式［Ｙ２］：
【化１３】
2014034868.tif 000135
［式中、各記号は前記と同義である。］
で示される化合物又はその塩を得；
４）一般式［Ｙ２］で示される化合物又はその塩を加水分解して、一般式［８’］：
【化１４】
2014034868.tif 000136
［式中、記号は前記と同義である。］
で示される化合物又はその塩を得；
５）一般式［８’］で示される化合物又はその塩と式［９］：
【化１５】
2014034868.tif 000137
で示される化合物を反応させて、一般式［１０’］：
【化１６】
2014034868.tif 000138
［式中、記号は前記と同義である。］
で示される化合物又はその塩を得；
６）一般式［１０’］で示される化合物又はその塩のＲ６’を除去することを特徴とする、式
［１１］：
【化１７】
2014034868.tif 000139
で示される化合物又はその塩の製造方法。
【請求項６】
１）請求項４記載の製造方法で得られた一般式［５’］：
【化１８】
2014034868.tif 000140
［式中、各記号は前記と同義である。］
で示されるビアリールテトラゾール誘導体又はその塩と、式［１２］：
【化１９】
2014034868.tif 000141
で示される化合物又はその塩を反応させて、一般式［１３］：
【化２０】
2014034868.tif 000142
［式中、記号は前記と同義である。］
で示される化合物又はその塩を得；
２−Ａ）一般式［１３］で示される化合物又はその塩を還元して、一般式［１４］：
【化２１】
2014034868.tif 000143
［式中、記号は前記と同義である。］
で示される化合物又はその塩を得、さらにＲ６を除去するか；又は、
２−Ｂ）一般式［１３］で示される化合物又はその塩のＲ６を除去して、式［１５］：
【化２２】
2014034868.tif 000144
で示される化合物又はその塩を得、さらに還元することを特徴とする、式［１６］：
【化２３】
2014034868.tif 000145
で示される化合物又はその塩の製造方法。
【請求項７】
１）請求項４記載の製造方法で得られた一般式［５’］：
【化２４】
2014034868.tif 000146
［式中、各記号は前記と同義である。］
で示されるビアリールテトラゾール誘導体又はその塩と、一般式［１７］：
【化２５】
2014034868.tif 000147
［式中、Ｒ７は、カルボキシ基の保護基を表す。］
で示される化合物又はその塩を反応させて、一般式［１８］：
【化２６】
2014034868.tif 000148
［式中、各記号は前記と同義である。］
で示される化合物又はその塩を得；
２−Ａ）一般式［１８］で示される化合物又はその塩のＲ６を除去して、一般式［１９］：
【化２７】
2014034868.tif 000149
［式中、記号は前記と同義である。］
で示される化合物又はその塩を得；
３−Ａ）一般式［１９］で示される化合物又はその塩と、一般式［２０］：ＣＨ３ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＯ−Ｘ３［式中、Ｘ３は脱離基を表す。］で示される化合物を反応させて、一般式［２１］：
【化２８】
2014034868.tif 000150
［式中、記号は前記と同義である。］
で示される化合物又はその塩を得；
４−Ａ）一般式［２１］で示される化合物又はその塩のＲ７を除去するか；又は２−Ｂ）一般式［１８］で示される化合物又はその塩と、一般式［２０］で示される化合物又はその塩を反応させ、一般式［２２］：
【化２９】
2014034868.tif 000151
［式中、各記号は前記と同義である。］
で示される化合物又はその塩を得；
３−Ｂ）一般式［２２］で示される化合物又はその塩のＲ６及びＲ７を除去することを特徴とする、式［２３］：
【化３０】
2014034868.tif 000152
で示される化合物又はその塩の製造方法。
【請求項８】
請求項４記載の製造方法で得られた一般式［５’］：
【化３１】
2014034868.tif 000153
［式中、各記号は前記と同義である。］
で示されるビアリールテトラゾール誘導体又はその塩と、式［２４］：
【化３２】
2014034868.tif 000154
で示される化合物又はその塩を反応させて、一般式［２５］：
【化３３】
2014034868.tif 000155
［式中、記号は前記と同義である。］
で示される化合物又はその塩を得、さらにＲ６を除去することを特徴とする、式［２６］：
【化３４】
2014034868.tif 000156
で示される化合物又はその塩の製造方法。
【請求項９】
１）請求項４記載の製造方法で得られた一般式［５’］：
【化３５】
2014034868.tif 000157
［式中、各記号は前記と同義である。］
で示されるビアリールテトラゾール誘導体又はその塩と、一般式［Ｘ］：
【化３６】
2014034868.tif 000158
［式中、Ｒ８はカルボキシ基の保護基を表す。］
で示される化合物又はその塩を反応させて、一般式［３１］：
【化３７】
2014034868.tif 000159
［式中、各記号は前記と同義である。］
で示される化合物又はその塩を得；
２）一般式［３１］で示される化合物又はその塩のＲ８を除去して、一般式［３２］：
【化３８】
2014034868.tif 000160
［式中、記号は前記と同義である。］
で示される化合物又はその塩を得；
３）一般式［３２］で示される化合物又はその塩と、一般式［３３］：
【化３９】
2014034868.tif 000161
［式中、Ｘ４は脱離基又は水酸基を表す。］
で示される化合物又はその塩を反応させて、一般式［３４］：
【化４０】
2014034868.tif 000162
［式中、記号は前記と同義である。］
で示される化合物又はその塩を得；
４）一般式［３４］で示される化合物又はその塩のＲ６を除去することを特徴とする、式［３５］：
【化４１】
2014034868.tif 000163
で示される化合物又はその塩の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、アンジオテンシンＩＩ受容体拮抗薬の中間体として有用なビアリール化合物又はその塩の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
ロサルタン  カリウム、バルサルタン、オルメサルタン  メドキソミル、カンデサルタン  シレキセチル、テルミサルタン、イルベサルタンなどは、アンジオテンシンＩＩ受容体拮抗薬として有用である。
これらの化合物の製造方法としては、例えば、ロサルタンの合成法としてＪ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．、１９９４年、５９巻、６３９１〜６３９４頁（非特許文献１）に記載の製法が、また、バルサルタンの合成法としてＯｒｇ．Ｐｒｏｃｅｓｓ  Ｒｅｓ．Ｄｅｖ．、２００７年、１１巻、８９２〜８９８頁（非特許文献２）に記載の製法が、さらにイルベサルタンの合成法としてＪ．Ｍｅｄ．Ｃｈｅｍ．、１９９３年、３６巻、３３７１〜３３８０頁（非特許文献３）に記載の製法がそれぞれ知られている。
また、オルメサルタンの製造方法としては、特公平７−１２１９１８号（特許文献１）、特表２０１０−５０５９２６号（特許文献２）、国際公開第２００４／０８５４２８号（特許文献３）等に記載の製法が知られている。
また、ビフェニル化反応の従来法としては、例えば、Ｃｈｅｍ．Ｌｅｔｔ．、２００８年、３７巻、９号、９９４〜９９５頁（非特許文献４）に記載の方法が、Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ、２００８年、６４巻、６０５１〜６０５９頁（非特許文献５）、Ａｎｇｅｗａｎｄｔｅ  Ｃｈｅｍｉｅ  Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ  Ｅｄｉｔｉｏｎ、２００９年、４８巻、９７９２〜９８２７頁（非特許文献６）、国際公開第２０１１／０６１９９６号（特許文献４）に記載の方法が知られている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特公平７−１２１９１８号公報
【特許文献２】特表２０１０−５０５９２６号公報
【特許文献３】国際公開第２００４／０８５４２８号
【特許文献４】国際公開第２０１１／０６１９９６号
【非特許文献】
【０００４】
【非特許文献１】Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．、１９９４年、５９巻、６３９１〜６３９４頁
【非特許文献２】Ｏｒｇ．Ｐｒｏｃｅｓｓ  Ｒｅｓ．Ｄｅｖ．、２００７年、１１巻、８９２〜８９８頁
【非特許文献３】Ｊ．Ｍｅｄ．Ｃｈｅｍ．、１９９３年、３６巻、３３７１〜３３８０頁
【非特許文献４】Ｃｈｅｍ．Ｌｅｔｔ．、２００８年、３７巻、９号、９９４〜９９５頁
【非特許文献５】Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ、２００８年、６４巻、６０５１〜６０５９頁
【非特許文献６】Ａｎｇｅｗａｎｄｔｅ  Ｃｈｅｍｉｅ  Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ  Ｅｄｉｔｉｏｎ、２００９年、４８巻、９７９２〜９８２７頁
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
前記の従来技術の製造法は、高価な金属化合物が必要であったり、複数の反応ステップを含んでいたりするため、より経済的な製造法の開発が望まれている。
本発明は、経済的かつ工業的製造に適した条件で、アンジオテンシンＩＩ受容体拮抗薬の中間体として有用なビアリール化合物を製造することができる、新規な製法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明者は、上記課題を解決すべく鋭意研究した結果、触媒として安価な金属化合物を用い、さらに特定の化合物を使用することにより、経済的かつ工業的製造に適した条件で、アンジオテンシンＩＩ受容体拮抗薬の中間体として有用なビアリール化合物を製造できることを見出し、本発明を完成するに至った。
即ち、本発明は；
［１］一般式［１］：【０００７】
【化１】
2014034868.tif 000003
【０００８】
［式中、Ｒ１ないしＲ４は、それぞれ、独立して、水素原子、あるいは、それぞれ置換基を有していてもよい、アルキル基、アラルキル基又はアリール基を表し、環Ａは、置換されていてもよい含窒素複素環を表す。］
で示される２−フェニルアゾール誘導体又はその塩（２−フェニルアゾール誘導体［１］ともいう）と、一般式［２］：【０００９】
【化２】
2014034868.tif 000004
【００１０】
［式中、Ｒ５は、それぞれ置換基を有していてもよい、アルキル基、アラルキル基又はアリール基を表し、ｍは、０ないし５の整数を表し、Ｘ１は脱離基を表す。］
で示されるベンゼン誘導体（ベンゼン誘導体［２］ともいう）を、金属触媒、塩基及び下記（ａ）〜（ｄ）からなる群より選ばれる１種以上の化合物の存在下に反応させることを特徴とする、一般式［３］：【００１１】
【化３】
2014034868.tif 000005
【００１２】
［式中、各記号は前記と同義である。］
で示されるビアリール化合物又はその塩（ビアリール化合物［３］ともいう）の製造方法（以下、「製造方法１」ともいう）；
（ａ）モノカルボン酸の金属塩
（ｂ）ジカルボン酸の金属塩
（ｃ）スルホン酸の金属塩
（ｄ）ＲＡｘＰ（Ｏ）（ＯＭ）ｙ［式中、ＲＡは、Ｒ”’Ｏ又はＲ”’２Ｎを表し、ここで、Ｒ”’は、水素原子、あるいは、それぞれ、窒素原子、酸素原子又は硫黄原子を含んでいてもよい、炭素数１〜２０の直鎖または分岐鎖のアルキル基、炭素数７〜１４のアラルキル基又は炭素数６〜１８のアリール基を表す。Ｍは、金属原子を表し、ｘおよびｙは、それぞれ独立して、1又は２の整数であり、かつ、ｘ＋ｙは３である。］で表されるリン酸エステル又はリン酸アミドの金属塩；
［２］一般式［１］：【００１３】
【化４】
2014034868.tif 000006
【００１４】
［式中、Ｒ１ないしＲ４は、それぞれ、独立して、水素原子、あるいは、それぞれ置換基を有していてもよい、アルキル基、アラルキル基又はアリール基を表し、環Ａは、置換されていてもよい含窒素複素環を表す。］
で示される２−フェニルアゾール誘導体又はその塩（２−フェニルアゾール誘導体［１］ともいう）と、一般式［２］：【００１５】
【化５】
2014034868.tif 000007
【００１６】
［式中、Ｒ５は、それぞれ置換基を有していてもよい、アルキル基、アラルキル基又はアリール基を表し、ｍは、０ないし５の整数を表し、Ｘ１は脱離基を表す。］
で示されるベンゼン誘導体（ベンゼン誘導体［２］ともいう）を、金属触媒、塩基及び下記（ａ）〜（ｄ）からなる群より選ばれる１種以上の化合物の存在下に反応させることを特徴とする、一般式［３］：【００１７】
【化６】
2014034868.tif 000008
【００１８】
［式中、各記号は前記と同義である。］
で示されるビアリール化合物又はその塩（ビアリール化合物［３］ともいう）の製造方法（以下、「製造方法１’」ともいう）；
（ａ）モノカルボン酸の金属塩
（ｂ）ジカルボン酸の金属塩
（ｃ）スルホン酸の金属塩
（ｄ）（Ｒ”’Ｏ）ｘＰ（Ｏ）（ＯＭ）ｙ［式中、Ｒ”’は、水素原子、あるいは、それぞれ、窒素原子、酸素原子又は硫黄原子を含んでいてもよい、炭素数１〜２０の直鎖または分岐鎖のアルキル基、炭素数７〜１４のアラルキル基又は炭素数６〜１８のアリール基を表す。Ｍは、金属原子を表し、ｘおよびｙは、それぞれ独立して、1又は２の整数であり、かつ、ｘ＋ｙは３である。］で表されるリン酸エステルの金属塩；
［３］さらに、ホスフィン系化合物が存在する条件下で反応させることを特徴とする、上記［１］又は［２］記載の製造方法；
［４］上記［１］又は［２］記載の一般式［１］が一般式［１’］：【００１９】
【化７】
2014034868.tif 000009
【００２０】
［式中、Ｒ６は、テトラゾリル基の保護基を表し、Ｒ１ないしＲ４は、前記と同義である。］
で示される２−フェニルテトラゾール誘導体又はその塩（２−フェニルテトラゾール誘導体［１’］ともいう）であり、上記［１］又は［２］記載の一般式［２］が一般式［２’］:【００２１】
【化８】
2014034868.tif 000010
【００２２】
［式中、Ｒ５’は、メチル基、保護された水酸基で置換されたメチル基又は低級アルコシキカルボニル基であり、Ｘ１は前記と同義である。］
で示されるベンゼン誘導体（ベンゼン誘導体［２’］ともいう）である、上記［１］ないし［３］のいずれか１つに記載の製造方法；
［５］１）上記［４］記載の製造方法で得られた一般式［３’］：【００２３】
【化９】
2014034868.tif 000011
【００２４】
［式中、各記号は前記と同義である。］
で示されるビアリールテトラゾール化合物又はその塩（ビアリールテトラゾール化合物［３’］ともいう）において、
１−Ａ）（ａ）Ｒ５’が保護された水酸基で置換されたメチル基である場合は、脱保護して、
（ｂ）Ｒ５’が低級アルコキシカルボニル基である場合は、還元して、
一般式［４］：【００２５】
【化１０】
2014034868.tif 000012
【００２６】
［式中、各記号は前記と同義である。］
で示される化合物又はその塩（化合物［４］ともいう）を得、さらにハロゲン化するか；又は
１−Ｂ）一般式［３’］で示される化合物のＲ５’がメチル基である場合は、一般式［３’］で示される化合物をハロゲン化することを特徴とする、一般式［５］：【００２７】
【化１１】
2014034868.tif 000013
【００２８】
［式中、Ｘ２は、ハロゲン原子を表し、Ｒ１ないしＲ４およびＲ６は、前記と同義である。］
で示されるビアリールテトラゾール誘導体又はその塩（ビアリールテトラゾール誘導体［５］ともいう）の製造方法（以下、「製造方法２」ともいう）；
［６］１）上記［５］記載の製造方法で得られた一般式［５’］：【００２９】
【化１２】
2014034868.tif 000014
【００３０】
［式中、各記号は前記と同義である。］
で示されるビアリールテトラゾール誘導体又はその塩（ビアリールテトラゾール誘導体［５’］ともいう）と、一般式［６］：【００３１】
【化１３】
2014034868.tif 000015
【００３２】
［式中、Ｒ１０は、カルボキシ基の保護基を示す。］
で示される化合物又はその塩（化合物［６］ともいう）を反応させて、一般式［７］：【００３３】
【化１４】
2014034868.tif 000016
【００３４】
［式中、各記号は前記と同義である。］
で示される化合物又はその塩（化合物［７］ともいう）を得；
２）化合物［７］のＲ６を除去して、一般式［Ｙ１］：【００３５】
【化１５】
2014034868.tif 000017
【００３６】
［式中、記号は前記と同義である。］
で示される化合物又はその塩（化合物［Ｙ１］ともいう）を得；
３）化合物［Ｙ１］を、一般式［Ｙ３］：Ｒ６’−Ｘ５［式中、Ｒ６’はトリチル基を表し、Ｘ５はハロゲン原子を表す。］で示される化合物（化合物［Ｙ３］ともいう）と反応させて、一般式［Ｙ２］：【００３７】
【化１６】
2014034868.tif 000018
【００３８】
［式中、各記号は前記と同義である。］
で示される化合物又はその塩（化合物［Ｙ２］ともいう）を得；
４）化合物［Ｙ２］を加水分解して、一般式［８’］：【００３９】
【化１７】
2014034868.tif 000019
【００４０】
［式中、記号は前記と同義である。］
で示される化合物又はその塩（化合物［８’］ともいう）を得；
５）化合物［８’］と式［９］：【００４１】
【化１８】
2014034868.tif 000020
【００４２】
で示される化合物（化合物［９］ともいう）を反応させて、一般式［１０’］：【００４３】
【化１９】
2014034868.tif 000021
【００４４】
［式中、記号は前記と同義である。］
で示される化合物又はその塩（化合物［１０’］ともいう）を得；
６）化合物［１０’］のＲ６’を除去することを特徴とする、式［１１］：【００４５】
【化２０】
2014034868.tif 000022
【００４６】
で示される化合物又はその塩（即ち、オルメサルタン又はその塩、以下化合物［１１］ともいう）の製造方法（以下、「製造方法３’」ともいう）；
［７］１）上記［５］記載の製造方法で得られた一般式［５’］：【００４７】
【化２１】
2014034868.tif 000023
【００４８】
［式中、各記号は前記と同義である。］
で示されるビアリールテトラゾール誘導体又はその塩（ビアリールテトラゾール誘導体［５’］ともいう）と、式［６’］：【００４９】
【化２２】
2014034868.tif 000024
【００５０】
で示される化合物又はその塩（化合物［６’］ともいう）を反応させて、一般式［７’］：【００５１】
【化２３】
2014034868.tif 000025
【００５２】
［式中、記号は前記と同義である。］
で示される化合物又はその塩（化合物［７’］ともいう）を得；
２）化合物［７’］を加水分解して、一般式［８］：【００５３】
【化２４】
2014034868.tif 000026
【００５４】
［式中、記号は前記と同義である。］
で示される化合物又はその塩（化合物［８］ともいう）を得；
３）化合物［８］と式［９］：【００５５】
【化２５】
2014034868.tif 000027
【００５６】
で示される化合物（化合物［９］ともいう）を反応させて、一般式［１０］：【００５７】
【化２６】
2014034868.tif 000028
【００５８】
［式中、記号は前記と同義である。］
で示される化合物又はその塩（化合物［１０］ともいう）を得；
４）化合物［１０］のＲ６を除去することを特徴とする、式［１１］：【００５９】
【化２７】
2014034868.tif 000029
【００６０】
で示される化合物又はその塩（即ち、オルメサルタン又はその塩）の製造方法（以下、「製造方法３」ともいう）；
［８］１）上記［５］記載の製造方法で得られた一般式［５’］：【００６１】
【化２８】
2014034868.tif 000030
【００６２】
［式中、各記号は前記と同義である。］
で示されるビアリールテトラゾール誘導体又はその塩と、式［１２］：【００６３】
【化２９】
2014034868.tif 000031
【００６４】
で示される化合物又はその塩（化合物［１２］ともいう）を反応させて、一般式［１３］：【００６５】
【化３０】
2014034868.tif 000032
【００６６】
［式中、記号は前記と同義である。］
で示される化合物又はその塩（化合物［１３］ともいう）を得；
２−Ａ）化合物［１３］を還元して、一般式［１４］：【００６７】
【化３１】
2014034868.tif 000033
【００６８】
［式中、記号は前記と同義である。］
で示される化合物又はその塩（化合物［１４］ともいう）を得、さらにＲ６を除去するか；又は、
２−Ｂ）化合物［１３］のＲ６を除去して、式［１５］：【００６９】
【化３２】
2014034868.tif 000034
【００７０】
で示される化合物又はその塩（化合物［１５］ともいう）を得、さらに還元することを特徴とする、式［１６］：【００７１】
【化３３】
2014034868.tif 000035
【００７２】
で示される化合物又はその塩（即ち、ロサルタン又はその塩、以下化合物［１６］ともいう）の製造方法（以下、「製造方法４」ともいう）；
［９］１）上記［５］記載の製造方法で得られた一般式［５’］：【００７３】
【化３４】
2014034868.tif 000036
【００７４】
［式中、各記号は前記と同義である。］
で示されるビアリールテトラゾール誘導体又はその塩と、一般式［１７］：【００７５】
【化３５】
2014034868.tif 000037
【００７６】
［式中、Ｒ７は、カルボキシ基の保護基を表す。］
で示される化合物又はその塩（化合物［１７］ともいう）を反応させて、一般式［１８］：【００７７】
【化３６】
2014034868.tif 000038
【００７８】
［式中、各記号は前記と同義である。］
で示される化合物又はその塩（化合物［１８］ともいう）を得；
２−Ａ）化合物［１８］のＲ６を除去して、一般式［１９］：【００７９】
【化３７】
2014034868.tif 000039
【００８０】
［式中、記号は前記と同義である。］
で示される化合物又はその塩（化合物［１９］ともいう）を得；
３−Ａ）化合物［１９］と、一般式［２０］：ＣＨ３ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＯ−Ｘ３［式中、Ｘ３は脱離基を表す。］で示される化合物（化合物［２０］ともいう）を反応させて、一般式［２１］：【００８１】
【化３８】
2014034868.tif 000040
【００８２】
［式中、記号は前記と同義である。］
で示される化合物又はその塩（化合物［２１］ともいう）を得；
４−Ａ）化合物［２１］のＲ７を除去するか；又は
２−Ｂ）化合物［１８］と、化合物［２０］を反応させ、一般式［２２］：【００８３】
【化３９】
2014034868.tif 000041
【００８４】
［式中、各記号は前記と同義である。］
で示される化合物又はその塩（化合物［２２］ともいう）を得；
３−Ｂ）化合物［２２］のＲ６及びＲ７を除去することを特徴とする、式［２３］：【００８５】
【化４０】
2014034868.tif 000042
【００８６】
で示される化合物又はその塩（即ち、バルサルタン又はその塩、以下化合物［２３］ともいう）の製造方法（以下、「製造方法５」ともいう）；
［１０］上記［５］記載の製造方法で得られた一般式［５’］：【００８７】
【化４１】
2014034868.tif 000043
【００８８】
［式中、各記号は前記と同義である。］
で示されるビアリールテトラゾール誘導体又はその塩と、式［２４］：【００８９】
【化４２】
2014034868.tif 000044
【００９０】
で示される化合物又はその塩（化合物［２４］ともいう）を反応させて、一般式［２５］：【００９１】
【化４３】
2014034868.tif 000045
【００９２】
［式中、記号は前記と同義である。］
で示される化合物又はその塩（化合物［２５］ともいう）を得、さらにＲ６を除去することを特徴とする、式［２６］：【００９３】
【化４４】
2014034868.tif 000046
【００９４】
で示される化合物又はその塩（即ち、イルベサルタン又はその塩、以下化合物［２６］ともいう）の製造方法（以下、「製造方法６」ともいう）；
［１１］１）上記［５］記載の製造方法で得られた一般式［５’］：【００９５】
【化４５】
2014034868.tif 000047
【００９６】
［式中、各記号は前記と同義である。］
で示されるビアリールテトラゾール誘導体又はその塩と、一般式［Ｘ］：【００９７】
【化４６】
2014034868.tif 000048
【００９８】
［式中、Ｒ８はカルボキシ基の保護基を表す。］
で示される化合物又はその塩（化合物［Ｘ］ともいう）を反応させて、一般式［３１］：【００９９】
【化４７】
2014034868.tif 000049
【０１００】
［式中、各記号は前記と同義である。］
で示される化合物又はその塩（化合物［３１］ともいう）を得；
２）化合物［３１］のＲ８を除去して、一般式［３２］：【０１０１】
【化４８】
2014034868.tif 000050
【０１０２】
［式中、記号は前記と同義である。］
で示される化合物又はその塩（化合物［３２］ともいう）を得；
３）化合物［３２］と、一般式［３３］：【０１０３】
【化４９】
2014034868.tif 000051
【０１０４】
［式中、Ｘ４は脱離基又は水酸基を表す。］
で示される化合物又はその塩（化合物［３３］ともいう）を反応させて、一般式［３４］：【０１０５】
【化５０】
2014034868.tif 000052
【０１０６】
［式中、記号は前記と同義である。］
で示される化合物又はその塩（化合物［３４］）を得；
４）化合物［３４］のＲ６を除去することを特徴とする、式［３５］：【０１０７】
【化５１】
2014034868.tif 000053
【０１０８】
で示される化合物又はその塩（即ち、カンデサルタン  シレキセチル又はその塩、以下化合物［３５］ともいう）の製造方法（以下、「製造方法７’」ともいう）；
［１２］１）上記［５］記載の製造方法で得られた一般式［５’］：【０１０９】
【化５２】
2014034868.tif 000054
【０１１０】
［式中、各記号は前記と同義である。］
で示されるビアリールテトラゾール誘導体又はその塩と、一般式［２７］：【０１１１】
【化５３】
2014034868.tif 000055
【０１１２】
［式中、Ｒ８はカルボキシ基の保護基を表し、Ｒ９はアミノ基の保護基を表す。］
で示される化合物又はその塩（化合物［２７］ともいう）を反応させて、一般式［２８］：【０１１３】
【化５４】
2014034868.tif 000056
【０１１４】
［式中、各記号は前記と同義である。］
で示される化合物又はその塩（化合物［２８］ともいう）を得；
２）化合物［２８］のＲ９を除去して、一般式［２９］：【０１１５】
【化５５】
2014034868.tif 000057
【０１１６】
［式中、各記号は前記と同義である。］
で示される化合物又はその塩（化合物［２９］ともいう）を得；
３）化合物［２９］を還元して、一般式［３０］：【０１１７】
【化５６】
2014034868.tif 000058
【０１１８】
［式中、各記号は前記と同義である。］
で示される化合物又はその塩（化合物［３０］ともいう）を得；
４）化合物［３０］と、テトラエトキシメタンを反応させて、一般式［３１］：【０１１９】
【化５７】
2014034868.tif 000059
【０１２０】
［式中、各記号は前記と同義である。］
で示される化合物又はその塩（化合物［３１］ともいう）を得；
４）化合物［３１］のＲ８を除去して、一般式［３２］：【０１２１】
【化５８】
2014034868.tif 000060
【０１２２】
［式中、記号は前記と同義である。］
で示される化合物又はその塩（化合物［３２］ともいう）を得；
５）化合物［３２］と、一般式［３３］：【０１２３】
【化５９】
2014034868.tif 000061
【０１２４】
［式中、Ｘ４は脱離基又は水酸基を表す。］
で示される化合物又はその塩（化合物［３３］ともいう）を反応させて、一般式［３４］：【０１２５】
【化６０】
2014034868.tif 000062
【０１２６】
［式中、記号は前記と同義である。］
で示される化合物又はその塩（化合物［３４］ともいう）を得；
６）化合物［３４］のＲ６を除去することを特徴とする、一般式［３５］：【０１２７】
【化６１】
2014034868.tif 000063
【０１２８】
で示される化合物又はその塩（即ち、カンデサルタン  シレキセチル又はその塩）の製造方法（以下、「製造方法７」ともいう）；
に関する。
【発明の効果】
【０１２９】
本発明によれば、経済的かつ工業的製造に適した条件で、アンジオテンシンＩＩ受容体拮抗薬の中間体として有用なビアリール化合物を製造することが可能となる。【０１３０】
（発明の詳細な説明）【０１３１】
本発明において用いられる記号及び用語の定義について、以下に詳述する。【０１３２】
本明細書中、「テトラゾリル基の保護基」とは、反応の際に安定してテトラゾリル基を保護し得るものであれば特に限定されないが、具体的にはＰｒｏｔｅｃｔｉｖｅ  Ｇｒｏｕｐｓ  ｉｎ  Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ  ３ｒｄ  Ｅｄ．、Ｔ．Ｗ．Ｇｒｅｅｎｅ、Ｐ．Ｇ．Ｍ．Ｗｕｔｓ著、Ｊｏｈｎ  Ｗｉｌｅｙ  ａｎｄ  Ｓｏｎｓ，Ｉｎｃ．、１９９９年に記載のものが挙げられる。
テトラゾリル基の保護基としては、例えば、
Ｃ７−１９アラルキル基（例、ベンジル、ジフェニルメチル、トリチル等）；
置換ベンジル、置換ジフェニルメチル等の置換Ｃ７−１９アラルキル基（好ましくは、Ｃ１−６アルキル、ニトロ、Ｃ１−６アルキレンジオキシ及びＣ１−６アルコキシからなる群から選択される１〜３個の置換基で置換されたＣ７−１９アラルキル（該置換基が２個以上存在する場合は、同一又は異なっていてもよく、該置換基同士が結合して環を形成してもよい）、例、ｐ−メチルベンジル、ｐ−ニトロベンジル、２，４−ジメトキシベンジル、３，４−ジメトキシベンジル、３，４−（メチレンジオキシ）ベンジル、ｐ−メトキシベンジル、ｏ−メトキシベンジル、３，４，５−トリメトキシベンジル等）；
置換Ｃ１−６アルキル基（好ましくは、ヒドロキシ、アルコキシ（例、Ｃ１−６アルコキシ）、アリールオキシ（例、Ｃ６−１０アリールオキシ）及びジアルキルアミノ（例、ジ（Ｃ１−６アルキル）アミノ）からなる群から選択される１〜３個の置換基で置換されたＣ１−６アルキル、例、ヒドロキシメチル、アルコキシメチル、アリールオキシメチル、ジアルキルアミノメチル等）；
トリアルキルシリル基（好ましくは、トリ（Ｃ１−６アルキル）シリル）；
Ｃ１−６アルキル基（例、t−ブチル等）
等が挙げられる。【０１３３】
本明細書中、「保護された水酸基で置換されたメチル基」の水酸基の保護基として、具体的にはＰｒｏｔｅｃｔｉｖｅ  Ｇｒｏｕｐｓ  ｉｎ  Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ  ３ｒｄ  Ｅｄ．、Ｔ．Ｗ．Ｇｒｅｅｎｅ、Ｐ．Ｇ．Ｍ．Ｗｕｔｓ著、Ｊｏｈｎ  Ｗｉｌｅｙ  ａｎｄ  Ｓｏｎｓ，Ｉｎｃ．、１９９９年に記載のものが挙げられる。
水酸基の保護基としては、例えば、
アシル基（好ましくは、Ｃ１−６アルキル−カルボニル、Ｃ３−８シクロアルキル−カルボニル、Ｃ６−１０アリール−カルボニル、例、アセチル、プロピオニル、ブチリル、イソブチリル、ピバロイル、シクロヘキシルカルボニル、ベンゾイル等）、
Ｃ７−１９アラルキル基（例、ベンジル等）、
トリアルキルシリル基（好ましくは、トリ（Ｃ１−６アルキル）シリル、例、トリメチルシリル、トリエチルシリル、トリイソプロピルシリル、ｔ−ブチルジメチルシリル等）、
アルコキシカルボニル基（好ましくは、Ｃ１−６アルコキシ−カルボニル）
等が挙げられる。【０１３４】
本明細書中、「カルボキシ基の保護基」とは、反応の際に安定してカルボキシ基を保護し得るものであれば特に限定されないが、具体的にはＰｒｏｔｅｃｔｉｖｅ  Ｇｒｏｕｐｓ  ｉｎ  Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ  ３ｒｄ  Ｅｄ．、Ｔ．Ｗ．Ｇｒｅｅｎｅ、Ｐ．Ｇ．Ｍ．Ｗｕｔｓ著、Ｊｏｈｎ  Ｗｉｌｅｙ  ａｎｄ  Ｓｏｎｓ，Ｉｎｃ．、１９９９年に記載のものが挙げられる。
カルボキシ基の保護基としては、例えば、
アルキル基（好ましくは、Ｃ１−６アルキル、例、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル）、
Ｃ３−８シクロアルキル基（例、シクロヘキシル）、
Ｃ７−１９アラルキル基（例、ベンジル、ジフェニルメチル、トリチル）、
Ｃ２−６アルケニル基（例、アリル）
等が挙げられる。【０１３５】
本明細書中、「アミノ基の保護基」とは、反応の際に安定してアミノ基を保護し得るものであれば特に限定されないが、具体的にはＰｒｏｔｅｃｔｉｖｅ  Ｇｒｏｕｐｓ  ｉｎ  Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ  ３ｒｄ  Ｅｄ．、Ｔ．Ｗ．Ｇｒｅｅｎｅ、Ｐ．Ｇ．Ｍ．Ｗｕｔｓ著、Ｊｏｈｎ  Ｗｉｌｅｙ  ａｎｄ  Ｓｏｎｓ，Ｉｎｃ．、１９９９年に記載のものが挙げられる。
アミノ基の保護基としては、例えば、アシル基（好ましくは、Ｃ１−６アルキル−カルボニル、Ｃ３−８シクロアルキル−カルボニル、Ｃ６−１０アリール−カルボニル、例、アセチル、プロピオニル、ブチリル、イソブチリル、ピバロイル、シクロヘキシルカルボニル、ベンゾイル等）および低級アルコキシカルボニル基等が挙げられる。
本明細書中、「低級アルコキシカルボニル基」としては、直鎖状又は分岐鎖状のＣ１−１２アルコキシ−カルボニル基が挙げられ、好ましくは、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、ブトキシカルボニル（例、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）等が挙げられる。【０１３６】
Ｘ１の「脱離基」としては、
ハロゲン原子、
１〜３個のＣ１−６アルキル基で置換されていてもよいＣ６−１０アリールスルホニルオキシ基（例、トルエンスルホニルオキシ等）、
１〜３個のハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１−６アルキルスルホニルオキシ基（例、メタンスルホニルオキシ、トリフルオロメタンスルホニルオキシ等）
等が挙げられる。
Ｘ３の「脱離基」としては、
ハロゲン原子、
１〜３個のＣ１−６アルキル基で置換されていてもよいＣ６−１０アリールスルホニルオキシ基（例、トルエンスルホニルオキシ等）、
１〜３個のハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１−６アルキルスルホニルオキシ基（例、メタンスルホニルオキシ等）、
アルカノイルオキシ基（好ましくは、Ｃ１−６アルキル−カルボニルオキシ）、
アロイルオキシ基（好ましくは、Ｃ６−１０アリール−カルボニルオキシ）、
ジアルコキシホスホリルオキシ基（好ましくは、ジ（Ｃ１−６アルコキシ）ホスホリルオキシ）、
ジアリールオキシホスホリルオキシ基（好ましくは、ジ（Ｃ６−１０アリールオキシ）ホスホリルオキシ）
等が挙げられる。【０１３７】
本明細書中の「ハロゲン原子」としては、フッ素、塩素、臭素又はヨウ素が挙げられる。【０１３８】
本明細書中の「アルキル基」としては、特に断りのない限り、炭素数１〜１２の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基が挙げられ、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ペンチル、イソペンチル、ネオペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシルなどが挙げられる。【０１３９】
本明細書中の「アラルキル基」としては、特に断りのない限り、炭素数７〜１４のアラルキル基が挙げられ、例えば、ベンジル、フェネチル、１−メチル−２−フェニルエチル、ジフェニルメチル、１−ナフチルメチル、２−ナフチルメチル、２，２−ジフェニルエチル、３−フェニルプロピル、４−フェニルブチル、５−フェニルペンチル、２−ビフェニリルメチル、３−ビフェニリルメチル、４−ビフェニリルメチルなどが挙げられる。【０１４０】
本明細書中の「アリール基」としては、特に断りのない限り、炭素数６〜１４のアリール基が挙げられ、例えば、フェニル、１−ナフチル、２−ナフチル、２−アンスリルなどが挙げられる。該アリール基は、下記「Ｃ３−８シクロアルカン」または「Ｃ３−８シクロアルケン」と縮合していてもよく、例えば、テトラヒドロナフチルなどが挙げられる。【０１４１】
本明細書中の「含窒素複素環」としては、特に断りのない限り、例えば、環構成原子として、炭素原子および１個の窒素原子以外に、窒素原子、硫黄原子及び酸素原子から選ばれる１又は２種、１ないし３個のヘテロ原子を含んでもよい３−８員含窒素複素環（好ましくは、５又は６員含窒素芳香族複素環）が挙げられる。具体的には、例えば、ピロール環、イミダゾール環、オキサゾール環、チアゾール環、オキサジアゾール環、チアジアゾール環、トリアゾール環、テトラゾール環、ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環などが挙げられる。
本明細書中の「それぞれ置換基を有してよい、アルキル基、アラルキル基又はアリール基」、「置換されていてもよい含窒素複素環」としては、例えば、
（1）ハロゲン原子；
（2）ヒドロキシ；
（3）アミノ；
（4）ニトロ；
（5）シアノ；
（6）ハロゲン原子、ヒドロキシ、アミノ、ニトロ、シアノ、ハロゲン化されていてもよいＣ１−６アルキル、モノ−又はジ−Ｃ１−６アルキル−アミノ、Ｃ６−１４アリール、モノ−又はジ−Ｃ６−１４アリール−アミノ、Ｃ３−８シクロアルキル、Ｃ１−６アルコキシ、Ｃ１−６アルコキシ−Ｃ１−６アルコキシ、Ｃ１−６アルキルスルファニル、Ｃ１−６アルキルスルフィニル、Ｃ１−６アルキルスルホニル、エステル化されていてもよいカルボキシ、カルバモイル、チオカルバモイル、モノ−又はジ−Ｃ１−６アルキル−カルバモイル、モノ−又はジ−Ｃ６−１４アリール−カルバモイル、スルファモイル、モノ−又はジ−Ｃ１−６アルキル−スルファモイル及びモノ−又はジ−Ｃ６−１４アリール−スルファモイルから選ばれる１ないし３個の置換基で置換されていてもよい複素環基；
（7）モノ−又はジ−Ｃ１−６アルキル−アミノ；
（8）モノ−又はジ−Ｃ６−１４アリール−アミノ；
（9）モノ−又はジ−Ｃ７−１４アラルキル−アミノ；
（10）Ｎ−Ｃ１−６アルキル−Ｎ−Ｃ６−１４アリール−アミノ；
（11）Ｎ−Ｃ１−６アルキル−Ｎ−Ｃ７−１４アラルキル−アミノ；
（12）Ｃ３−８シクロアルキル；
（13）ハロゲン化されていてもよいＣ１−６アルコキシ；
（14）Ｃ１−６アルキルスルファニル；
（15）Ｃ１−６アルキルスルフィニル；
（16）Ｃ１−６アルキルスルホニル；
（17）エステル化されていてもよいカルボキシ；
（18）Ｃ１−６アルキル−カルボニル；
（19）Ｃ３−８シクロアルキル−カルボニル；
（20）Ｃ６−１４アリール−カルボニル；
（21）カルバモイル；
（22）チオカルバモイル；
（23）モノ−又はジ−Ｃ１−６アルキル−カルバモイル；
（24）モノ−又はジ−Ｃ６−１４アリール−カルバモイル；
（25）Ｎ−Ｃ１−６アルキル−Ｎ−Ｃ６−１４アリール−カルバモイル；
（26）モノ−又はジ−５ないし７員複素環−カルバモイル；
（27）カルボキシで置換されていてもよいＣ１−６アルキル−カルボニルアミノ；
（28）ハロゲン原子、ヒドロキシ、アミノ、ニトロ、シアノ、ハロゲン化されていてもよいＣ１−６アルキル、モノ−又はジ−Ｃ１−６アルキル−アミノ、Ｃ６−１４アリール、モノ−又はジ−Ｃ６−１４アリール−アミノ、Ｃ３−８シクロアルキル、Ｃ１−６アルコキシ、Ｃ１−６アルコキシ−Ｃ１−６アルコキシ、Ｃ１−６アルキルスルファニル、Ｃ１−６アルキルスルフィニル、Ｃ１−６アルキルスルホニル、エステル化されていてもよいカルボキシ、カルバモイル、チオカルバモイル、モノ−又はジ−Ｃ１−６アルキル−カルバモイル、モノ−又はジ−Ｃ６−１４アリール−カルバモイル、スルファモイル、モノ−又はジ−Ｃ１−６アルキル−スルファモイル及びモノ−又はジ−Ｃ６−１４アリール−スルファモイルから選ばれる１ないし３個の置換基で置換されていてもよいＣ６−１４アリールオキシ；
（29）ハロゲン原子、ヒドロキシ、アミノ、ニトロ、シアノ、ハロゲン化されていてもよいＣ１−６アルキル、モノ−又はジ−Ｃ１−６アルキル−アミノ、Ｃ６−１４アリール、モノ−又はジ−Ｃ６−１４アリール−アミノ、Ｃ３−８シクロアルキル、Ｃ１−６アルコキシ、Ｃ１−６アルコキシ−Ｃ１−６アルコキシ、Ｃ１−６アルキルスルファニル、Ｃ１−６アルキルスルフィニル、Ｃ１−６アルキルスルホニル、エステル化されていてもよいカルボキシ、カルバモイル、チオカルバモイル、モノ−又はジ−Ｃ１−６アルキル−カルバモイル、モノ−又はジ−Ｃ６−１４アリール−カルバモイル、スルファモイル、モノ−又はジ−Ｃ１−６アルキル−スルファモイル及びモノ−又はジ−Ｃ６−１４アリール−スルファモイルから選ばれる１ないし３個の置換基で置換されていてもよいＣ６−１４アリール；
（30）複素環−オキシ；
（31）スルファモイル；
（32）モノ−又はジ−Ｃ１−６アルキル−スルファモイル；
（33）モノ−又はジ−Ｃ６−１４アリール−スルファモイル；
（34）ハロゲン原子、ヒドロキシ、アミノ、ニトロ、シアノ、ハロゲン化されていてもよいＣ１−６アルキル、モノ−又はジ−Ｃ１−６アルキル−アミノ、Ｃ６−１４アリール、モノ−又はジ−Ｃ６−１４アリール−アミノ、Ｃ３−８シクロアルキル、Ｃ１−６アルコキシ、Ｃ１−６アルコキシ−Ｃ１−６アルコキシ、Ｃ１−６アルキルスルファニル、Ｃ１−６アルキルスルフィニル、Ｃ１−６アルキルスルホニル、エステル化されていてもよいカルボキシ、カルバモイル、チオカルバモイル、モノ−又はジ−Ｃ１−６アルキル−カルバモイル、モノ−又はジ−Ｃ６−１４アリール−カルバモイル、スルファモイル、モノ−又はジ−Ｃ１−６アルキル−スルファモイル及びモノ−又はジ−Ｃ６−１４アリール−スルファモイルから選ばれる１ないし３個の置換基で置換されていてもよいＣ７−１４アラルキルオキシ；
（35）Ｃ１−６アルキル−カルボニルオキシ；
（36）Ｃ１−６アルコキシ−カルボニル；
（37）トリＣ１−６アルキルシリルオキシ;
などから選ばれる１ないし５個の置換基をそれぞれ置換可能な位置に有していてもよい、「アルキル基」、「アラルキル基」、「アリール基」、「含窒素複素環」が挙げられる。置換基が複数存在する場合、各置換基は同一でも異なっていてもよい。【０１４２】
次に本発明の製造方法につき説明する。【０１４３】
［製造方法１］および［製造方法１’］
２−フェニルアゾール誘導体［１］及びベンゼン誘導体［２］は、市販品を用いてもよく、２−フェニルアゾール誘導体［１］は国際公開第２００９／４９３０５号に記載の方法、又はそれに準じる方法で製造してもよい。【０１４４】
（工程１）【０１４５】
【化６２】
2014034868.tif 000064
【０１４６】
ビアリール化合物［３］は、２−フェニルアゾール誘導体［１］を、金属触媒、塩基及び前記（ａ）〜（ｄ）からなる群より選ばれる１種以上の化合物の存在下に、ベンゼン誘導体［２］と反応させることにより製造することができる。本反応は溶媒を用いて行うこともできる。
金属触媒としては、ルテニウム触媒、イリジウム触媒、ロジウム触媒、パラジウム触媒を用いることができ、ルテニウム触媒としては、例えば、ジクロロトリス（トリフェニルホスフィン）ルテニウム（ＩＩ）（ＲｕＣｌ２（ＰＰｈ３）３）、ジクロロ（１，５−シクロオクタジエン）ルテニウム（ＩＩ）ポリマー（［ＲｕＣｌ２（η４−ＣＯＤ）］ｎまたはポリ［（η２，η２−シクロオクタ−１，５−ジエン）ルテニウム−ジ−μ−クロロ］と表記することもある）、［ＲｕＣｌ２（η６−Ｃ６Ｈ６）］２、ジクロロ（ｐ−シメン）ルテニウム（ＩＩ）ダイマー（［Ｒｕ（ｐ−ｃｙｍｅｎｅ）Ｃｌ２］２）、ジクロロ（メシチレン）ルテニウム（ＩＩ）ダイマー（［Ｒｕ（ｍｅｓｉｔｙｌｅｎｅ）Ｃｌ２］２）、塩化ルテニウム（ＩＩＩ）（ＲｕＣｌ３）、塩化ルテニウム（ＩＩＩ）水和物（ＲｕＣｌ３・ｘＨ２Ｏ）、ルテニウム炭素、ジピバロイルオキシ（ｐ−シメン）ルテニウム（ＩＩ）が挙げられる。好ましくは、ルテニウム触媒（例、ジクロロ（ｐ−シメン）ルテニウム（ＩＩ）ダイマー（［Ｒｕ（ｐ−ｃｙｍｅｎｅ）Ｃｌ２］２）、塩化ルテニウム（ＩＩＩ）水和物（ＲｕＣｌ３・ｘＨ２Ｏ）、ジピバロイルオキシ（ｐ−シメン）ルテニウム（ＩＩ））である。
金属触媒の使用量は、２−フェニルアゾール誘導体［１］に対して、通常０．００００１当量〜１０当量、好ましくは、０．００１当量〜０．３当量であり、より好ましくは、０．００３当量〜０．０１５当量である。
塩基としては、炭酸カリウム（Ｋ２ＣＯ３）、炭酸ナトリウム（Ｎａ２ＣＯ３）、炭酸水素ナトリウム（ＮａＨＣＯ３）、炭酸水素カリウム（ＫＨＣＯ３）、リン酸カリウム（Ｋ３ＰＯ４）、炭酸セシウム（Ｃｓ２ＣＯ３）、炭酸ルビジウム（Ｒｂ２ＣＯ３）等が挙げられる。好ましくは、炭酸カリウムである。
塩基の使用量は、２−フェニルアゾール誘導体［１］に対して、通常０．１当量〜１０当量、好ましくは、０．１当量〜３当量、より好ましくは、０．３当量〜２当量である。【０１４７】
本発明の（ａ）モノカルボン酸の金属塩としては、特に限定されないが、例えば、ＲＣＯ２Ｍで表されるカルボン酸の金属塩等が挙げられる。
Ｒは、水素原子、あるいはそれぞれ窒素原子、酸素原子又は硫黄原子を含んでいてもよい、炭素数１〜２０の直鎖または分岐鎖のアルキル基、炭素数７〜１４のアラルキル基、炭素数６〜１８のアリール基又は炭素数３〜７のシクロアルキル基であり、該アルキル基、アラルキル基、シクロアルキル基およびアリール基は、それぞれ置換基を有していてもよい。Ｒは、好ましくは、炭素数１〜１２の直鎖または分岐鎖のアルキル基（例、メチル、ｔｅｒｔ−ブチル、２−エチル−ヘキシル、ｎ−ドデシル）、炭素数７〜１０のアラルキル基、炭素数１〜６のアルキル基で置換されていてもよい炭素数６〜１２のアリール基（例、メシチル）、炭素数３〜７のシクロアルキル基（例、シクロヘキシル）であり、特に好ましくは、メチル基及びｔｅｒｔ−ブチル基である。
Ｍは、金属原子を表し、好ましくは、Ｌｉ（リチウム）、Ｎａ（ナトリウム）、Ｋ（カリウム）、Ｒｂ（ルビジウム）、Ｃｓ（セシウム）、Ｍｇ（マグネシウム）又はＺｎ（亜鉛）であり、より好ましくはアルカリ金属原子であり、特に好ましくは、Ｋである。
モノカルボン酸の金属塩の好ましい例としては、Ｒが、直鎖または分岐鎖の炭素数１〜１２のアルキル基（例、メチル、ｔｅｒｔ−ブチル、２−エチル−ヘキシル、ｎ−ドデシル）、炭素数３〜７のシクロアルキル基（例、シクロヘキシル）、又は炭素数１〜６のアルキル基で置換されていてもよい炭素数６〜１２のアリール基（例、メシチル）であるカルボン酸のカリウム塩が挙げられ、酢酸のカリウム塩又はピバリン酸のカリウム塩が特に好ましい。
本発明の（ｂ）ジカルボン酸の金属塩としては、特に限定されないが、例えば、【０１４８】
【化６３】
2014034868.tif 000065
【０１４９】
で表されるジカルボン酸の金属塩等が挙げられる。
Ｒ’は、水素原子、あるいは、それぞれ窒素原子、酸素原子又は硫黄原子を含んでいてもよい、炭素数１〜１０の直鎖または分岐鎖のアルキル基、炭素数７〜１４のアラルキル基又は炭素数６〜１８のアリール基であり、該アルキル基、アラルキル基およびアリール基は置換基を有していてもよい。Ｒ’は、好ましくは、水素原子、あるいは、炭素数１〜６の直鎖または分岐鎖のアルキル基、炭素数７〜１０のアラルキル基、又は炭素数６〜１２のアリール基であり、水素原子が特に好ましい。
ｎは、０〜１０の整数であり、好ましくは、０〜５の整数であり、特に好ましくは、０又は３である。
環Ｚは、炭素数３〜８のシクロアルキレン、炭素数３〜８のシクロアルケニレン、アリーレン、又はヘテロシクリレンを表し、好ましくは、フェニレン、ナフチレン、アントリレン、フェナントリレン等が挙げられる。
Ｍは、金属原子を表し、好ましくは、Ｌｉ（リチウム）、Ｎａ（ナトリウム）、Ｋ（カリウム）、Ｒｂ（ルビジウム）、Ｃｓ（セシウム）、Ｍｇ（マグネシウム）又はＺｎ（亜鉛）であり、より好ましくは、アルカリ金属原子であり、特に好ましくは、Ｋである。
ジカルボン酸の金属塩の好ましい例としては、Ｒ’が水素原子であり、ｎが０〜５の整数であるジカルボン酸のカリウム塩が挙げられ、シュウ酸のカリウム塩又はグルタル酸のカリウム塩が特に好ましい。
本発明の（ｃ）スルホン酸の金属塩としては、特に限定されないが、例えば、Ｒ”ＳＯ３Ｍで表されるスルホン酸金属塩等が挙げられる。
Ｒ”は、水素原子、あるいは、それぞれ窒素原子、酸素原子又は硫黄原子を含んでいてもよい、炭素数１〜１０の直鎖または分岐鎖のアルキル基、炭素数７〜１４のアラルキル基又は炭素数６〜１８のアリール基であり、これらアルキル基、アラルキル基およびアリール基は置換基を有していてもよい。好ましくは、炭素数１〜６の直鎖または分岐鎖のアルキル基、炭素数７〜１０のアラルキル基、炭素数１〜１２のアルキル基で置換されていてもよい炭素数６〜１２のアリール基（例、２，４，６−トリメチルフェニル又は４−ドデシルフェニル）であり、特に好ましくは、４−ドデシルフェニル基である。
Ｍは、金属原子を表し、好ましくは、Ｌｉ（リチウム）、Ｎａ（ナトリウム）、Ｋ（カリウム）、Ｒｂ（ルビジウム）、Ｃｓ（セシウム）、Ｍｇ（マグネシウム）又はＺｎ（亜鉛）であり、より好ましくは、アルカリ金属原子であり、特に好ましくは、Ｋである。
本発明の（ｃ）スルホン酸の金属塩の好ましい例としては、Ｒ”が炭素数１〜１２のアルキル基で置換されていてもよいフェニル基であるスルホン酸のカリウム塩が挙げられ、４−ドデシルベンゼンスルホン酸カリウムが特に好ましい。
本発明の（ｄ）ＲＡｘＰ（Ｏ）（ＯＭ）ｙ（ここで、ＲＡは、Ｒ”’ＯまたはＲ”’２Ｎを表す。）で表されるリン酸エステル又はリン酸アミドの金属塩のＲ”’は、水素原子、あるいは、それぞれ窒素原子、酸素原子又は硫黄原子を含んでいてもよい、炭素数１〜２０、好ましくは炭素数１〜１２の直鎖または分岐鎖のアルキル基、炭素数７〜１４のアラルキル基、又は炭素数６〜１８、好ましくは炭素数６〜１２のアリール基であり、これらアルキル基、アラルキル基およびアリール基は置換基を有していてもよい。また、２つのＲ”’は、分子内で環を形成していてもよい。好ましくは、炭素数１〜１２の直鎖または分岐鎖のアルキル基（例、エチル、ｎ−ブチル、ｔ−ブチル、ドデシル、２−エチル−ｎ−ヘキシル）、炭素数７〜１０のアラルキル基又は炭素数６〜１２のアリール基（例、２−ナフチル）であり、特に好ましくは、２−エチル−ｎ−へキシル基である。
ｘおよびｙは、それぞれ独立して、１又は２の整数であり、かつ、ｘ＋ｙは３である。
Ｍは、金属原子を表し、好ましくは、Ｌｉ（リチウム）、Ｎａ（ナトリウム）、Ｋ（カリウム）、Ｒｂ（ルビジウム）、Ｃｓ（セシウム）、Ｍｇ（マグネシウム）又はＺｎ（亜鉛）であり、より好ましくは、アルカリ金属原子であり、特に好ましくは、Ｋである。
本発明の（ｄ）ＲＡｘＰ（Ｏ）（ＯＭ）ｙ（ここで、ＲＡは、Ｒ”’Ｏ又はＲ”’２Ｎを表す。）で表されるリン酸エステル又はリン酸アミドの金属塩の好ましい例としては、Ｒ”’が炭素数１〜１２の直鎖または分岐鎖のアルキル基（例、エチル、ｎ−ブチル、ｔ−ブチル、ドデシル、２−エチル−ｎ−ヘキシル）又は炭素数６〜１２のアリール基（例、２−ナフチル）である、リン酸エステルのカリウム塩又はリン酸アミドのカリウム塩が挙げられ、ビス（２―エチル−ｎ−ヘキシル）リン酸カリウムが特に好ましい。
別の態様として、本発明の（ｄ）（Ｒ”’Ｏ）ｘＰ（Ｏ）（ＯＭ）ｙで表されるリン酸エステルの金属塩のＲ”’は、水素原子、あるいは、それぞれ窒素原子、酸素原子又は硫黄原子を含んでいてもよい、炭素数１〜２０、好ましくは炭素数１〜１２の直鎖または分岐鎖のアルキル基、炭素数７〜１４のアラルキル基、又は炭素数６〜１８、好ましくは炭素数６〜１２のアリール基であり、これらアルキル基、アラルキル基およびアリール基は置換基を有していてもよい。また、２つのＲ”’は、分子内で環を形成していてもよい。好ましくは、炭素数１〜１２の直鎖または分岐鎖のアルキル基（例、エチル、ｎ−ブチル、ｔ−ブチル、ドデシル、２−エチル−ｎ−ヘキシル）、炭素数７〜１０のアラルキル基又は炭素数６〜１２のアリール基（例、２−ナフチル）であり、特に好ましくは、２−エチル−ｎ−へキシル基である。
ｘおよびｙは、それぞれ独立して、１又は２の整数であり、かつ、ｘ＋ｙは３である。
Ｍは、金属原子を表し、好ましくは、Ｌｉ（リチウム）、Ｎａ（ナトリウム）、Ｋ（カリウム）、Ｒｂ（ルビジウム）、Ｃｓ（セシウム）、Ｍｇ（マグネシウム）又はＺｎ（亜鉛）であり、より好ましくは、アルカリ金属原子であり、特に好ましくは、Ｋである。
本発明の（ｄ）（Ｒ”’Ｏ）ｘＰ（Ｏ）（ＯＭ）ｙで表されるリン酸エステルの金属塩の好ましい例としては、Ｒ”’が炭素数１〜１２の直鎖または分岐鎖のアルキル基（例、エチル、ｎ−ブチル、ｔ−ブチル、ドデシル、２−エチル−ｎ−ヘキシル）又は炭素数６〜１２のアリール基（例、２−ナフチル）である、リン酸エステルのカリウム塩が挙げられ、ビス（２―エチル−ｎ−ヘキシル）リン酸カリウムが特に好ましい。
なお、収率が高くなることから、上述した（ａ）〜（ｄ）の中でも、（ｄ）ＲＡｘＰ（Ｏ）（ＯＭ）ｙを用いることが好ましく、（Ｒ”’Ｏ）ｘＰ（Ｏ）（ＯＭ）ｙで表されるリン酸エステルの金属塩を用いることがより好ましい。
（ａ）〜（ｄ）からなる群より選ばれる１種以上の化合物の使用量は、２−フェニルアゾール誘導体［１］に対して、通常０．００００１当量〜１０当量、好ましくは、０．００１当量〜８．０当量であり、より好ましくは、０．００５当量〜５．０当量である。
金属触媒、塩基、上記（ａ）〜（ｄ）からなる群より選ばれる１種以上の化合物の添加方法は、特に限定されず、塩基と上記（ａ）〜（ｄ）からなる群より選ばれる１種以上の化合物を添加した後に金属触媒を添加する方法、塩基を添加した後に金属触媒と上記（ａ）〜（ｄ）からなる群より選ばれる１種以上の化合物から調製したルテニウム触媒を添加する方法等が挙げられる。【０１５０】
好適に反応を進行させるために、さらに、ホスフィン系化合物の存在下に反応させてもよい。ホスフィン系化合物としては、一般式［Ｘ２］：ＰＲ３（式中、Ｒは、アルキル基、アラルキル基またはアリール基を示す。）で示される化合物が挙げられる。
具体的には、トリフェニルホスフィン（トリフェニルホスファンということもある）、トリ（ｔ−ブチル）ホスフィン、トリエチルホスフィン、トリシクロヘキシルホスフィン、トリ（ｏ−トリル）ホスフィン、トリ（ｐ−トリル）ホスファン、トリ（ｐ−メトキシフェニル）ホスファン、シクロヘキシルジフェニルホスファン等が挙げられ、トリフェニルホスフィンが好ましい。
ホスフィン系化合物の使用量は、２−フェニルアゾール誘導体［１］に対して、通常０．００００１当量〜１０当量、好ましくは、０．００１当量〜１当量である。
また、上記（ａ）〜（ｄ）記載の金属塩の共役酸の存在下に反応させてもよい。
共役酸の使用量は、２−フェニルアゾール誘導体［１］に対して、通常０．００００１当量〜３当量、好ましくは、０．０５当量〜１．０当量であり、より好ましくは、０．１当量〜０．５当量である。
溶媒としては、反応が進行する限り特に限定されないが、Ｎ−メチル−２−ピロリドン（ＮＭＰと略記することもある）、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦと略記することもある）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（ＤＭＡと略記することもある）、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯと略記することもある）等の極性溶媒、又はトルエン、キシレン等の非極性溶媒、さらにはこれら極性溶媒と非極性溶媒の混合物が好ましい。
溶媒の使用量は、２−フェニルアゾール誘導体［１］１ｍｍｏｌに対して、通常０ｍＬ〜１００ｍＬ、好ましくは、０．１ｍＬ〜１０ｍＬである。
反応温度は、通常２０℃〜３００℃、好ましくは、１００℃〜２００℃である。
反応時間は、通常０．０１時間〜２００時間、好ましくは、０．５時間〜２４時間である。【０１５１】
［製造方法２］【０１５２】
【化６４】
2014034868.tif 000066
【０１５３】
（工程２ａ）
ビアリールテトラゾール化合物［３’］のＲ５’が保護された水酸基で置換されたメチル基である場合、化合物［４］は、ビアリールテトラゾール化合物［３’］を、塩基または酸の存在下で、脱保護することにより製造することができる。本反応は溶媒を用いて行うこともできる。
塩基としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、ジメチルアミン、メチルアミン、アンモニア、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム等が挙げられる。塩基の使用量は、ビアリールテトラゾール化合物［３’］に対して、通常０．００１当量〜１０当量、好ましくは、０．０１当量〜１当量である。
酸としては、臭化水素酸、塩化水素等が挙げられる。酸の使用量は、ビアリールテトラゾール化合物［３’］に対して、通常１当量〜１００００当量、好ましくは、１当量〜１００当量である。
溶媒としては、反応が進行する限り特に限定されないが、メタノール、エタノール、プロパノール、テトラヒドロフラン（ＴＨＦと略記することもある）等が挙げられ、酸の存在下で脱保護する場合は、酢酸等を用いることもできる。また、これらの溶媒と水との混合溶媒を用いてもよい。溶媒の使用量は、ビアリールテトラゾール化合物［３’］１ｍｍｏｌに対して、通常０．０１ｍＬ〜１００ｍＬ、好ましくは、０．１ｍＬ〜１０ｍＬである。
反応温度は、通常−５０℃〜１００℃、好ましくは、１０℃〜４０℃である。
反応時間は、通常０．００１時間〜５０時間、好ましくは、０．１時間〜２０時間である。
水酸基の保護基が酸で脱保護される基（例えば、ベンゾイル基）であって、ハロゲン化水素またはハロゲン化水素酸を使用する場合、工程２ａ（脱保護工程）および下記工程３（ハロゲン化工程）を同時に行うこともできる。【０１５４】
（工程２ｂ）
ビアリールテトラゾール化合物［３’］のＲ５’が低級アルコキシカルボニル基である場合、化合物［４］は、ビアリールテトラゾール化合物［３’］を、還元剤の存在下で、還元することにより製造することができる。本反応は溶媒を用いて行うこともできる。
還元剤としては、水素化ホウ素ナトリウム（テトラヒドロホウ酸ナトリウムともいう）、水素化アルミニウムリチウム、ジイソブチルアルミニウムヒドリド等が挙げられる。還元剤の使用量は、ビアリールテトラゾール化合物［３’］に対して、通常１当量〜５当量、好ましくは、１当量〜２当量である。
好適に反応を進行させるために、金属塩を添加してもよい。金属塩としては、塩化カルシウム、塩化亜鉛等が挙げられる。金属塩の使用量は、ビアリールテトラゾール化合物［３’］に対して、通常０．１当量〜２当量、好ましくは、０．５当量〜１当量であるが、還元剤として水素化アルミニウムリチウム、ジイソブチルアルミニウムヒドリドを用いる場合、金属塩の非存在下で反応は進行する。
溶媒としては、反応が進行する限り特に限定されないが、エタノール、２−プロパノール、メタノール等が挙げられる。溶媒の使用量は、ビアリールテトラゾール化合物［３’］１ｍｍｏｌに対して、通常１ｍＬ〜５０ｍＬ、好ましくは、１ｍＬ〜２ｍＬである。
反応温度は、通常−５０℃〜１２０℃、好ましくは、０℃〜８０℃である。
反応時間は、通常０．１時間〜２４時間、好ましくは、３時間〜１０時間である。【０１５５】
（工程３）【０１５６】
【化６５】
2014034868.tif 000067
【０１５７】
ビアリールテトラゾール化合物［３’］のＲ５’がメチル基である場合、ビアリールテトラゾール誘導体［５］は、ビアリールテトラゾール化合物［３’］を、アゾビスイソブチロニトリル（ＡＩＢＮ）存在下ハロゲン化試薬と反応させることにより製造することができる。
ビアリールテトラゾール化合物［３’］のＲ５’が保護された水酸基で置換されたメチル基又は低級アルコキシカルボニル基である場合、ビアリールテトラゾール誘導体［５］は、化合物［４］を、ハロゲン化試薬と反応させることにより製造することができる。
これらの反応は溶媒を用いて行うこともできる。
ハロゲン化試薬としては、特に限定されるものではなく、自体公知のハロゲン化試薬を適用することができるが、例えば、三臭化リン、臭化チオニル、臭化水素酸、塩化水素、塩化チオニル、四塩化炭素／トリフェニルホスフィン、ブロモトリメチルシラン、Ｎ−ブロモスクシンイミド（ＮＢＳ）等が挙げられる。ハロゲン化試薬の使用量は、ビアリールテトラゾール化合物［３’］又は化合物［４］に対して、通常１当量〜１０当量、好ましくは、１当量〜３当量である。
溶媒としては、反応が進行する限り特に限定されないが、ＴＨＦ、トルエン、酢酸エチル、ジオキサン、メチルｔ−ブチルエーテル（ＭＴＢＥ）、クロロホルム、塩化メチレン、ジイソプロピルエーテル、アセトニトリル、酢酸等が挙げられる。溶媒の使用量は、ビアリールテトラゾール化合物［３’］又は化合物［４］１ｍｍｏｌに対して、通常０．０１ｍＬ〜１００ｍＬ、好ましくは、０．１ｍＬ〜１０ｍＬである。
反応温度は、通常−５０℃〜１５０℃、好ましくは、−２０℃〜５０℃である。
反応時間は、通常０．００１時間〜２４時間、好ましくは、０．１時間〜１０時間である。【０１５８】
［製造方法３］および［製造方法３’］(オルメサルタン製法)【０１５９】
【化６６】
2014034868.tif 000068
（オルメサルタン）【０１６０】
オルメサルタン又はその塩は、特公平７−１２１９１８号公報、特表２０１０−５０５９２６号公報等に記載されている公知の方法により、ビアリールテトラゾール誘導体［５’］から製造することができる。また、以下の方法によって製造することもできる。【０１６１】
（工程１）【０１６２】
【化６７】
2014034868.tif 000069
【０１６３】
化合物［７］は、前記の製造方法２で得られたビアリールテトラゾール誘導体［５’］を、塩基の存在下で、化合物［６］と反応させることにより製造することができる。本反応は溶媒を用いて行うこともできる。
塩基としては、特に限定されるものではなく、自体公知の塩基を適用することができるが、例えば、炭酸カリウム、炭酸セシウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデカ−７−エン（ＤＢＵ）等が挙げられる。塩基の使用量は、ビアリールテトラゾール誘導体［５’］に対して、通常１当量〜１０当量、好ましくは、１当量〜３当量である。
溶媒としては、反応が進行する限り特に限定されないが、ＤＭＡ、ＤＭＦ、ＤＭＳＯ、ＮＭＰ、アセトニトリル、トルエン、ＴＨＦ、ジオキサン、アセトン等が挙げられる。溶媒の使用量は、ビアリールテトラゾール誘導体［５’］１ｍｍｏｌに対して、通常０．００１ｍＬ〜１００ｍＬ、好ましくは、０．１ｍＬ〜１０ｍＬである。
反応温度は、通常−５０℃〜１５０℃、好ましくは、２０℃〜５０℃である。
反応時間は、通常０．１時間〜４８時間、好ましくは、０．５時間〜５時間である。
本工程における化合物［６］および化合物［７］のＲ１０は、炭素数１〜６の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基が好ましく、中でも、炭素数１〜３のアルキル基であることがより好ましく、メチル基又はエチル基であることがさらに好ましい。【０１６４】
（工程２）【０１６５】
【化６８】
2014034868.tif 000070
【０１６６】
化合物［８］は、化合物［７］を、塩基又は酸、および水溶性有機溶媒の存在下、加水分解ことにより製造することができる。
塩基としては、特に限定されるものではなく、自体公知の塩基を適用することができるが、例えば、水酸化カリウム、炭酸カリウム、水酸化ナトリウム、水素化ナトリウム等が挙げられる。また、酸としては、特に限定されるものではなく、自体公知の酸を適用することができるが、例えば、トリフルオロ酢酸、トリクロロ酢酸、トリフルオロメタンスルホン酸、メタンスルホン酸、硫酸、塩酸等が挙げられる。塩基または酸の使用量は、化合物［７］に対して、通常１当量〜１０当量、好ましくは、１当量〜３当量である。
水溶性有機溶媒としては、メタノール、エタノール、アセトン等が挙げられる。溶媒の使用量は、化合物［７］１ｍｍｏｌに対して、通常０．００１ｍＬ〜１００ｍＬ、好ましくは、０．１ｍＬ〜１０ｍＬである。
反応温度は、通常０℃〜１２０℃、好ましくは、３０℃〜１００℃である。
反応時間は、通常０．１時間〜４８時間、好ましくは、０．５時間〜１０時間である。
本工程における化合物［７］のＲ１０は、炭素数１〜６の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基が好ましく、中でも、炭素数１〜３のアルキル基であることがより好ましく、メチル基又はエチル基であることがさらに好ましい。【０１６７】
（工程２’）
（工程２）の別の態様として、以下の工程が挙げられる。【０１６８】
【化６９】
2014034868.tif 000071
【０１６９】
（工程２’−１）
化合物［Ｙ１］は、化合物［７］のＲ６を除去することにより製造することができる。本反応は溶媒を用いて行うこともできる。
Ｒ６の除去には、酸を用いることができる。酸としては、特に限定されるものではなく、自体公知の酸を適用することができるが、例えば、トリフルオロ酢酸、トリクロロ酢酸、トリフルオロメタンスルホン酸、メタンスルホン酸、硫酸、塩酸、酢酸等が挙げられる。酸の使用量は、化合物［７］に対して、通常０．１当量〜１０００当量、好ましくは、１当量〜５００当量である。
酸によるＲ６の除去は、好適には捕捉剤の存在下で行うことができる。捕捉剤としては、反応が進行する限り特に限定されないが、アニソール、メシチレン、１−オクタンチオール等のメルカプタン類等が挙げられる。捕捉剤の使用量は、化合物［７］１ｍｍｏｌに対して、通常０．００１ｍＬ〜１０ｍＬ、好ましくは、０．１ｍＬ〜５ｍＬである。
上記の酸及び捕捉剤が、本工程において溶媒として作用してもよい。
反応温度は、通常−５０℃〜１５０℃、好ましくは、１０℃〜１００℃である。
反応時間は、通常０．１時間〜４８時間、好ましくは、０．５時間〜２０時間である。【０１７０】
Ｒ６の除去には、還元（例、接触還元、ギ酸還元等）する方法も用いることができる。本反応は溶媒を用いて行うこともできる。
還元は、触媒の存在下で行うことができる。触媒としては、接触還元又はギ酸還元に用いることができれば特に限定されるものではなく、例えば、パラジウム／硫酸バリウム、パラジウム炭素、パラジウムブラック、酸化パラジウム、塩化パラジウム、酢酸パラジウム等のパラジウム触媒が挙げられる。触媒の使用量は、化合物［７］に対して、通常０．０００１当量〜１０当量、好ましくは、０．０１当量〜０．１当量である。
本反応は、ｐＨ７〜ｐＨ１４塩基性条件下、もしくはｐＨ７で実施することもできる。
接触還元の場合、水素圧は、１気圧〜１００気圧、好ましくは、１気圧〜１０気圧である。
ギ酸還元の場合、添加剤として、ギ酸、ギ酸の塩（ギ酸アンモニウム等）を添加する。
溶媒としては、反応が進行する限り特に限定されないが、イソプロピルアルコール、ｎ−プロピルアルコール、メタノール、エタノール等のアルコール、テトラヒドロフラン、塩化メチレン、酢酸エチル等、あるいは上記溶媒と水との混合溶媒が挙げられる。溶媒の使用量は、化合物［７］１ｍｍｏｌに対して、通常０．１ｍＬ〜１００ｍＬ、好ましくは、０．５ｍＬ〜１０ｍＬである。
反応温度は、通常０℃〜１５０℃、好ましくは、１０℃〜８０℃である。
反応時間は、通常０．１時間〜７２時間、好ましくは、０．５時間〜２４時間である。
本工程における化合物［７］のＲ６はベンジル基が好ましく、ギ酸アンモニウム、パラジウム触媒およびアルコールの存在下で反応させることによりＲ６を除去することが好ましい。
本工程における化合物［７］、化合物［Ｙ１］および化合物［Ｙ２］のＲ１０は、炭素数１〜６の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基が好ましく、中でも、炭素数１〜３のアルキル基であることがより好ましく、メチル基又はエチル基であることがさらに好ましい。【０１７１】
（工程２’−２）
化合物［Ｙ２］は、塩基の存在下で、化合物［Ｙ１］を化合物［Ｙ３］と反応させることにより製造することができる。本反応は溶媒を用いて行うこともできる。
塩基としては、特に限定されるものではなく、自体公知の塩基を適用することができるが、例えば、トリエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン、ルチジン、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム等が挙げられる。好ましくは、トリエチルアミンである。塩基の使用量は、化合物［Ｙ１］に対して、通常０．１当量〜１０当量、好ましくは、１当量〜５当量である。
溶媒としては、反応が進行する限り特に限定されないが、塩化メチレン、クロロホルム、トルエン、アセトン、テトラヒドロフラン、酢酸エチル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等が挙げられる。溶媒の使用量は、化合物［Ｙ１］１ｍｍｏｌに対して、通常０．０１ｍＬ〜５０ｍＬ、好ましくは、０．５ｍＬ〜５ｍＬである。
反応温度は、通常−１０℃〜５０℃、好ましくは、−５℃〜４０℃である。
反応時間は、通常０．１時間〜４８時間、好ましくは、１時間〜２４時間である。【０１７２】
（工程２’−３）
化合物［８’］は、化合物［Ｙ２］を用いて、上記工程２に記載の方法と同様にして製造することができる。
本工程は、塩基の存在下で加水分解することが好ましい。【０１７３】
（工程３）【０１７４】
【化７０】
2014034868.tif 000072
【０１７５】
化合物［１０］は、化合物［８］を、塩基の存在下、化合物［９］と反応させることにより製造することができる。
塩基としては、特に限定されるものではなく、自体公知の塩基を適用することができるが、例えば、炭酸カリウム、炭酸セシウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデカ−７−エン（ＤＢＵ）等が挙げられる。塩基の使用量は、化合物［８］に対して、通常１当量〜１０当量、好ましくは、１当量〜３当量である。
溶媒としては、反応が進行する限り特に限定されないが、ＤＭＡ、ＤＭＦ、ＤＭＳＯ、ＮＭＰ、アセトニトリル、トルエン、ＴＨＦ、ジオキサン、アセトン等が挙げられる。溶媒の使用量は、化合物［８］１ｍｍｏｌに対して、通常０．００１ｍＬ〜１００ｍＬ、好ましくは、０．１ｍＬ〜１０ｍＬである。
反応温度は、通常０℃〜１５０℃、好ましくは、３０℃〜１００℃である。
反応時間は、通常０．１時間〜４８時間、好ましくは、０．５時間〜２４時間である。【０１７６】
（工程３’）【０１７７】
【化７１】
2014034868.tif 000073
【０１７８】
化合物［１０’］は、化合物［８’］を用いて、上記工程３に記載の方法と同様にして製造することができる。【０１７９】
（工程４）【０１８０】
【化７２】
2014034868.tif 000074
【０１８１】
化合物［１１］（オルメサルタン又はその塩）は、化合物［１０］のＲ６を除去することにより製造することができる。本反応は溶媒を用いて行うこともできる。
Ｒ６の除去には、酸を用いることができる。酸としては、特に限定されるものではなく、自体公知の酸を適用することができるが、例えば、トリフルオロ酢酸、トリクロロ酢酸、トリフルオロメタンスルホン酸、メタンスルホン酸、硫酸、塩酸、酢酸等が挙げられる。酸の使用量は、化合物［１０］に対して、通常０．１当量〜１０００当量、好ましくは、１当量〜５００当量である。
酸によるＲ６の除去は、好適には捕捉剤の存在下で行うことができる。捕捉剤としては、反応が進行する限り特に限定されないが、アニソール、メシチレン、１−オクタンチオール等のメルカプタン類等が挙げられる。捕捉剤の使用量は、化合物［１０］１ｍｍｏｌに対して、通常０．００１ｍＬ〜１０ｍＬ、好ましくは、０．１ｍＬ〜５ｍＬである。
上記の酸及び捕捉剤が、本工程において溶媒として作用してもよい。
反応温度は、通常−５０℃〜１５０℃、好ましくは、１０℃〜１００℃である。
反応時間は、通常０．１時間〜４８時間、好ましくは、０．５時間〜２０時間である。【０１８２】
Ｒ６の除去には、還元（例、接触還元、ギ酸還元等）する方法も用いることができる。本反応は溶媒を用いて行うこともできる。
還元は、触媒の存在下で行うことができる。触媒としては、接触還元又はギ酸還元に用いることができれば特に限定されるものではなく、例えば、パラジウム炭素、パラジウムブラック、酸化パラジウム、塩化パラジウム、酢酸パラジウム等が挙げられる。触媒の使用量は、化合物［１０］に対して、通常０．０００１当量〜１０当量、好ましくは、０．０１当量〜０．１当量である。
本反応は、ｐＨ７〜１４塩基性条件下、もしくはｐＨ７で実施することもできる。
接触還元の場合、水素圧は、１〜１００気圧、好ましくは、１〜１０気圧である。
ギ酸還元の場合、添加剤として、ギ酸、ギ酸の塩（ギ酸アンモニウム等）を添加する。
溶媒としては、反応が進行する限り特に限定されないが、イソプロピルアルコール、ｎ−プロピルアルコール、メタノール、エタノール、テトラヒドロフラン、塩化メチレン、酢酸エチル等、あるいは上記溶媒と水との混合溶媒が挙げられる。溶媒の使用量は、化合物［１０］１ｍｍｏｌに対して、通常０．１ｍＬ〜１００ｍＬ、好ましくは、０．５ｍＬ〜１０ｍＬである。
反応温度は、通常０℃〜１５０℃、好ましくは、１０℃〜８０℃である。
反応時間は、通常０．１時間〜７２時間、好ましくは、０．５時間〜２４時間である。【０１８３】
（工程４’）【０１８４】
【化７３】
2014034868.tif 000075
【０１８５】
化合物［１１］は、化合物［１０’］を用いて、上記工程４に記載の酸を用いる方法と同様にして製造することができる。【０１８６】
［製造方法４］(ロサルタン製法)【０１８７】
（工程１）【０１８８】
【化７４】
2014034868.tif 000076
【０１８９】
化合物［１３］は、前記の製造方法２で得られたビアリールテトラゾール誘導体［５’］を、製造方法３の工程１に記載の方法と同様にして、化合物［１２］と反応させることにより製造することができる。【０１９０】
（工程２−Ａ（１））【０１９１】
【化７５】
2014034868.tif 000077
【０１９２】
化合物［１４］は、化合物［１３］を、還元剤の存在下で還元することにより製造することができる。本反応は溶媒を用いて行うこともできる。
還元剤としては、特に限定されるものではなく、自体公知の還元剤を適用することができるが、例えば、水素化ホウ素ナトリウム、水素化ホウ素リチウム、水素化ホウ素亜鉛、ナトリウムトリアセトキシボロヒドリド等が挙げられる。還元剤の使用量は、化合物［１３］に対して、通常１当量〜１０当量、好ましくは、１当量〜５当量である。
溶媒としては、反応が進行する限り特に限定されないが、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ジメトキシエタン、水等が挙げられる。溶媒の使用量は、化合物［１３］１ｍｍｏｌに対して、通常０．０１ｍＬ〜１００ｍＬ、好ましくは、０．１ｍＬ〜１０ｍＬである。
本反応には、必要に応じて塩基を用いることもできる。塩基としては、例えば水酸化ナトリウム等が挙げられる。塩基の使用量は、化合物［１３］に対して、通常０当量〜１０当量、好ましくは、１当量〜２当量である。
反応温度は、通常−５０℃〜１００℃、好ましくは、２０℃〜５０℃である。
反応時間は、通常０．０１時間〜４８時間、好ましくは、０．１時間〜５時間である。【０１９３】
（工程２−Ａ（２））【０１９４】
【化７６】
2014034868.tif 000078
【０１９５】
化合物［１６］は、化合物［１４］を用いて、上記製造方法３の工程４に記載の方法と同様にして、製造することができる。【０１９６】
（工程２−Ｂ（１））【０１９７】
【化７７】
2014034868.tif 000079
【０１９８】
化合物［１５］は、化合物［１３］を用いて、上記製造方法３の工程４に記載の方法と同様にして、製造することができる。【０１９９】
（工程２−Ｂ（２））【０２００】
【化７８】
2014034868.tif 000080
【０２０１】
化合物［１６］は、化合物［１５］を、上記工程２−Ａ（１）に記載の方法と同様にして、還元することにより製造することができる。【０２０２】
［製造方法５］(バルサルタン製法)【０２０３】
（工程１）【０２０４】
【化７９】
2014034868.tif 000081
【０２０５】
化合物［１８］は、前記の製造方法２で得られたビアリールテトラゾール誘導体［５’］を、塩基の存在下で、化合物［１７］（例えば、ｐ−トルエンスルホン酸塩、塩酸塩等）と反応させることにより製造することができる。本反応は溶媒を用いて行うこともできる。
塩基としては、特に限定されるものではなく、自体公知の塩基を適用することができるが、例えば、ジイソプロピルエチルアミン、トリエチルアミン、ピリジン、水素化ナトリウム、カリウムｔ−ブトキサイド等が挙げられる。塩基の使用量はビアリールテトラゾール誘導体［５’］に対して、通常１当量〜１０当量、好ましくは、１当量〜５当量である。
本反応には、必要に応じて触媒を用いることもでき、例えば、テトラブチルアンモニウムヨージド等が挙げられる。触媒の使用量はビアリールテトラゾール誘導体［５’］に対して、通常０．０１当量〜０．５当量、好ましくは、０．０１当量〜０．１当量である。
溶媒としては、反応が進行する限り特に限定されないが、ＤＭＦ、アセトニトリル、トルエン、ＴＨＦ、ジオキサン、クロロホルム、塩化メチレン等が挙げられる。溶媒の使用量は、ビアリールテトラゾール誘導体［５’］１ｍｍｏｌに対して、通常０．１ｍＬ〜１００ｍＬ、好ましくは、０．５ｍＬ〜５ｍＬである。
反応温度は、通常−５０℃〜１５０℃、好ましくは、５℃〜１００℃である。
反応時間は、通常０．１時間〜４８時間、好ましくは、０．５時間〜３６時間である。【０２０６】
（工程２−Ａ（１））【０２０７】
【化８０】
2014034868.tif 000082
【０２０８】
化合物［１９］は、化合物［１８］を用いて、上記製造方法３の工程４に記載の方法と同様にして、製造することができる。【０２０９】
（工程２−Ａ（２））【０２１０】
【化８１】
2014034868.tif 000083
【０２１１】
化合物［２１］は、化合物［１９］を、塩基存在下で、化合物［２０］と反応させることにより製造することができる。本反応は溶媒を用いて行うこともできる。
塩基としては、特に限定されるものではなく、例えば、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ＤＢＵ、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム、炭酸水素カリウム、リン酸カリウム、４−ジメチルアミノピリジン（ＤＭＡＰ）、ルチジン、ピリジン等が挙げられる。塩基の使用量は、化合物［１９］に対して、通常１当量〜１０当量、好ましくは、１当量〜３当量である。
溶媒としては、反応が進行する限り特に限定されないが、トルエン、キシレン、塩化メチレン、クロロホルム、アセトニトリル、ＮＭＰ、ＤＭＦ、ＤＭＳＯ、ＴＨＦ、ジメトキシエタン、ｔ−ブチルメチルエーテル（以下、ｔ−ＢＭＥともいう）、１，４−ジオキサン等が挙げられる。溶媒の使用量は、化合物［１９］１ｍｍｏｌに対して、通常０．００１ｍＬ〜１００ｍＬ、好ましくは、０．１ｍＬ〜１０ｍＬである。
反応温度は、通常−２０℃〜１５０℃、好ましくは、０℃〜１００℃である。
反応時間は、通常０．１時間〜４８時間、好ましくは、０．５時間〜５時間である。【０２１２】
（工程２−Ａ（３））【０２１３】
【化８２】
2014034868.tif 000084
【０２１４】
化合物［２３］は、化合物［２１］のＲ７を、酸の存在下、除去することにより製造することができる。
酸としては、特に限定されるものではなく、自体公知の酸を適用することができるが、例えば、トリフルオロ酢酸、トリクロロ酢酸、トリフルオロメタンスルホン酸、メタンスルホン酸、硫酸、塩酸等が挙げられる。酸の使用量は、化合物［２１］に対して、通常０．１当量〜１０００当量、好ましくは、１当量〜５００当量である。
酸による脱保護は、好適には捕捉剤の存在下で行うことができる。捕捉剤としては、反応が進行する限り特に限定されないが、アニソール、メシチレン等のメルカプタン類等が挙げられる。捕捉剤の使用量は、化合物［２１］１ｍｍｏｌに対して、通常０．００１ｍＬ〜１０ｍＬ、好ましくは、０．１ｍＬ〜５ｍＬである。
上記の酸及び捕捉剤が、本工程において溶媒として作用してもよい。
反応温度は、通常−５０℃〜１５０℃、好ましくは、１０℃〜１００℃である。
反応時間は、通常０．１時間〜４８時間、好ましくは、０．５時間〜５時間である。【０２１５】
あるいは、化合物［２３］は、化合物［２１］のＲ７を、塩基の存在下、除去することにより製造することもできる。本反応は溶媒を用いて行うこともできる。
塩基としては、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、ジメチルアミン、メチルアミン、アンモニア、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム等が挙げられる。塩基の使用量は、化合物［２１］に対して、通常０．００１当量〜１０当量、好ましくは、０．０１当量〜１当量である。
溶媒としては、反応が進行する限り特に限定されないが、メタノール、エタノール、プロパノール等が挙げられる。溶媒の使用量は、化合物［２１］１ｍｍｏｌに対して、通常０．０１ｍＬ〜１００ｍＬ、好ましくは、０．１ｍＬ〜１０ｍＬである。
反応温度は、通常−５０℃〜１００℃、好ましくは、０℃〜２０℃である。
反応時間は、通常０．００１時間〜１０時間、好ましくは、０．１時間〜５時間である。【０２１６】
あるいは、化合物［２３］は、化合物［２１］のＲ７を、還元（例、接触還元、ギ酸還元等）して除去することにより製造することもできる。本反応は溶媒を用いて行うこともできる。
還元は、触媒の存在下で行うことができる。触媒としては、接触還元又はギ酸還元に用いることができれば特に限定されるものではなく、例えば、パラジウム炭素、パラジウムブラック、酸化パラジウム、塩化パラジウム、酢酸パラジウム等が挙げられる。触媒の使用量は、化合物［２１］に対して、通常０．０００１当量〜１０当量、好ましくは、０．０１当量〜０．１当量である。
接触還元の場合、水素圧は、１気圧〜１００気圧、好ましくは、１気圧〜１０気圧である。
ギ酸還元の場合、添加剤として、ギ酸、ギ酸の塩（ギ酸アンモニウム等）を添加する。
溶媒としては、反応が進行する限り特に限定されないが、ｎ−プロピルアルコール、メタノール、エタノール、テトラヒドロフラン、塩化メチレン、酢酸エチル等、あるいは上記溶媒と水との混合溶媒が挙げられる。溶媒の使用量は、化合物［２１］１ｍｍｏｌに対して、通常０．１ｍＬ〜１００ｍＬ、好ましくは、０．５ｍＬ〜１０ｍＬである。
反応温度は、通常０℃〜１５０℃、好ましくは、１０℃〜８０℃である。
反応時間は、通常０．１時間〜７２時間、好ましくは、０．５時間〜２４時間である。【０２１７】
（工程２−Ｂ（１））【０２１８】
【化８３】
2014034868.tif 000085
【０２１９】
化合物［２２］は、化合物［１８］を用いて、上記工程２−Ａ（２）に記載の方法と同様にして、製造することができる。【０２２０】
（工程２−Ｂ（２））【０２２１】
【化８４】
2014034868.tif 000086
【０２２２】
化合物［２３］は、化合物［２２］を用いて、上記製造方法３の工程４及び上記工程２−Ａ（３）（Ｒ６及びＲ７の除去）に記載の方法と同様にして、製造することができる。【０２２３】
［製造方法６］(イルべサルタン製法)【０２２４】
（工程１）【０２２５】
【化８５】
2014034868.tif 000087
【０２２６】
化合物［２５］は、前記の製造方法２で得られたビアリールテトラゾール誘導体［５’］を、塩基又は塩基及び添加物の存在下で、化合物［２４］（例えば、塩酸塩等）と反応させることにより製造することができる。本反応は溶媒を用いて行うこともできる。
塩基としては、特に限定されるものではなく、例えば、トリエチルアミン、エチルジイソプロピルアミン、ＤＢＵ、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム、炭酸水素カリウム、リン酸カリウム、４−ジメチルアミノピリジン（ＤＭＡＰ）、ルチジンが挙げられる。塩基の使用量は、ビアリールテトラゾール誘導体［５’］に対して、通常１当量〜１０当量、好ましくは、１当量〜３当量である。
添加物としては、テトラアルキルアンモニウムハライド（例、テトラブチルアンモニウムブロミド）、テトラアルキルホスホニウムハライド等が挙げられる。添加物の使用量は、ビアリールテトラゾール誘導体［５’］に対して、通常０．０１当量〜１０当量、好ましくは、０．０５当量〜１当量である。
溶媒としては、反応が進行する限り特に限定されないが、トルエン、キシレン、塩化メチレン、クロロホルム、アセトニトリル、ＤＭＦ、ＤＭＳＯ、ＴＨＦ、ジメトキシエタン、ｔ−ＢＭＥ、１，４−ジオキサン等、あるいは上記溶媒と水との混合物が挙げられる。溶媒の使用量は、ビアリールテトラゾール誘導体［５’］１ｍｍｏｌに対して、通常０．００１ｍＬ〜１００ｍＬ、好ましくは、０．１ｍＬ〜１０ｍＬである。
反応温度は、通常−２０℃〜１５０℃、好ましくは、０℃〜１００℃である。
反応時間は、通常０．１時間〜４８時間、好ましくは、０．５時間〜１０時間である。【０２２７】
（工程２）【０２２８】
【化８６】
2014034868.tif 000088
【０２２９】
化合物［２６］は、化合物［２５］を用いて、上記製造方法３の工程４に記載の方法と同様にして、製造することができる。【０２３０】
［製造方法７］および［製造方法７’］(カンデサルタン製法)【０２３１】
（工程１）【０２３２】
【化８７】
2014034868.tif 000089
【０２３３】
化合物［３１］は、前記の製造方法２で得られたビアリールテトラゾール誘導体［５’］を、塩基の存在下で、化合物［Ｘ］と反応させることにより製造することができる。本反応は溶媒を用いて行うこともできる。
塩基としては、特に限定されるものではなく、例えば炭酸カリウム、炭酸水素カリウム、リン酸カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、水酸化カリウム、トリエチルアミン、エチルジイソプロピルアミン、ＤＢＵ、４−ジメチルアミノピリジン（ＤＭＡＰ）、ルチジン等が挙げられる。塩基の使用量は、ビアリールテトラゾール誘導体［５’］に対して、通常１当量〜１０当量、好ましくは、１当量〜３当量である。
溶媒としては、反応が進行する限り特に限定されないが、ＤＭＡ、メタノール、エタノール、プロパノール、トルエン、キシレン、塩化メチレン、クロロホルム、アセトニトリル、ＤＭＦ、ＤＭＳＯ、ＴＨＦ、ジメトキシエタン、ｔ−ＢＭＥ、１，４−ジオキサン等、またはこれらから選択される２種以上の混合溶媒が挙げられる。溶媒の使用量は、ビアリールテトラゾール誘導体［５’］１ｍｍｏｌに対して、通常０．００１ｍＬ〜１００ｍＬ、好ましくは、０．１ｍＬ〜１０ｍＬである。
反応温度は、通常−２０℃〜１５０℃、好ましくは、１０℃〜４０℃である。
反応時間は、通常０．１時間〜４８時間、好ましくは、０．５時間〜３６時間である。【０２３４】
化合物［３１］は、別の態様として、以下の工程１’−１ないし工程１’−４に記載の方法でも製造することができる。
（工程１’−１）【０２３５】
【化８８】
2014034868.tif 000090
【０２３６】
化合物［２８］は、前記の製造方法２で得られたビアリールテトラゾール誘導体［５’］を、塩基の存在下又は非存在下で、化合物［２７］と反応させることにより製造することができる。本反応は溶媒を用いて行うこともできる。
本反応は、塩基の存在下に行うことが好ましく、かかる塩基としては、水素化ナトリウムなどの金属水素化物、ｔ−ブトキシナトリウム、ｔ−ブトキシカリウムなどの金属アルコキシド類、炭酸カリウム、炭酸水素カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウムなどの炭酸塩等が挙げられるが、なかでも炭酸塩、とりわけ炭酸カリウムが好ましく用いられる。塩基の使用量は、ビアリールテトラゾール誘導体［５’］に対して、通常１当量〜５当量である。
溶媒としては、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ジメチルアセトアミドなどの非プロトン性極性溶媒類、アセトン、エチルメチルケトンなどのケトン類、テトラヒドロフラン、ジオキサンなどのエーテル類、酢酸エチルなどのエステル類、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類、塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタンなどのハロゲン化炭化水素類、アセトニトリルなどが挙げられるが、なかでもアセトニトリルが好ましく用いられる。溶媒の使用量は、ビアリールテトラゾール誘導体［５’］１ｍｍｏｌに対して、通常０．１ｍＬ〜１０ｍＬである。
反応温度は、通常７０℃〜９０℃で、反応時間は、３時間〜１０時間である。【０２３７】
（工程１’−２）【０２３８】
【化８９】
2014034868.tif 000091
【０２３９】
化合物［２９］は、化合物［２８］のＲ９を、酸の存在下で除去することにより製造することができる。
酸としては、特に限定されるものではなく、自体公知の酸を適用することができるが、例えば、ブレンステッド酸（例えば、トリフルオロメタンスルホン酸、メタンスルホン酸、リン酸、硫酸、塩酸等）あるいはルイス酸（例えば、塩化アルミニウム、塩化スズ、ボロントリフルオライドジエチルエーテル等）が挙げられる。酸の使用量は、化合物［２８］に対して、通常０．１当量〜１０００当量、好ましくは、１当量〜５００当量である。
溶媒としては、反応が進行する限り特に限定されないが、水、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン、メチルｔ−ブチルエーテル等が挙げられる。溶媒の使用量は、化合物［２８］１ｍｍｏｌに対して、通常０．０１ｍＬ〜１００ｍＬ、好ましくは、０．１ｍＬ〜１０ｍＬである。
反応温度は、通常−５０℃〜１５０℃、好ましくは、１０℃〜１００℃である。
反応時間は、通常０．１時間〜４８時間、好ましくは、０．５時間〜２０時間である。【０２４０】
（工程１’−３）【０２４１】
【化９０】
2014034868.tif 000092
【０２４２】
化合物［３０］は、化合物［２９］を、還元剤の存在下で還元することにより製造することができる。本反応は溶媒を用いて行うこともできる。
還元剤としては、特に限定されるものではなく、自体公知の還元剤を適用することができるが、例えば、塩化スズ、水素化ホウ素ナトリウム、水素化ホウ素リチウム、水素化ホウ素亜鉛、ナトリウムトリアセトキシボロヒドリド等が挙げられる。還元剤の使用量は、化合物［２９］に対して、通常１当量〜１０当量、好ましくは、１当量〜５当量である。
溶媒としては、反応が進行する限り特に限定されないが、水、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ジメトキシエタン、メチルｔ−ブチルエーテル等が挙げられる。溶媒の使用量は、化合物［２９］１ｍｍｏｌに対して、通常０．０１ｍＬ〜１００ｍＬ、好ましくは、０．１ｍＬ〜１０ｍＬである。
反応温度は、通常−５０℃〜１００℃、好ましくは、２０℃〜５０℃である。
反応時間は、通常０．０１時間〜４８時間、好ましくは、０．１時間〜５時間である。【０２４３】
（工程１’−４）【０２４４】
【化９１】
2014034868.tif 000093
【０２４５】
化合物［３１］は、化合物［３０］とテトラエトキシメタンを、溶媒の存在下又は非存在下で反応することにより製造することができる。
溶媒としては、反応が進行する限り特に限定されないが、エタノール、テトラヒドロフラン、トルエン、酢酸エチル、酢酸、ジメトキシエタン、メチルｔ−ブチルエーテル等が挙げられる。
反応温度は、通常０℃〜１２０℃、好ましくは、５０℃〜１００℃である。
反応時間は、通常０．０１時間〜４８時間、好ましくは、０．１時間〜５時間である。【０２４６】
（工程２）【０２４７】
【化９２】
2014034868.tif 000094
【０２４８】
化合物［３２］は、化合物［３１］を用いて、上記製造方法５の工程２−Ａ（３）に記載の方法と同様にして、製造することができる。【０２４９】
（工程３）【０２５０】
【化９３】
2014034868.tif 000095
【０２５１】
化合物［３４］は、化合物［３２］と化合物［３３］を、塩基の存在下反応させて製造することができる。本反応は溶媒を用いて行うこともできる。
塩基としては、特に限定されるものではなく、自体公知の塩基を適用することができるが、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、トリエチルアミン、トリブチルアミン、メチルアミン、ジメチルアミンが挙げられる。
溶媒としては、反応が進行する限り特に限定されないが、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ジメチルホルムアミド等が挙げられる。溶媒の使用量は、化合物［３２］１ｍｍｏｌに対して、通常０．０１ｍＬ〜１００ｍＬ、好ましくは、０．１ｍＬ〜１０ｍＬである。
反応温度は、通常−５０℃〜１５０℃、好ましくは、１０℃〜１００℃である。
反応時間は、通常０．１時間〜４８時間、好ましくは、０．５時間〜２０時間である。【０２５２】
（工程４）【０２５３】
【化９４】
2014034868.tif 000096
【０２５４】
化合物［３５］は、化合物［３４］を用いて、上記製造方法３の工程４に記載の方法と同様にして、製造することができる。【０２５５】
化合物［５］の塩としては、特に限定されないが、例えば、塩酸、硫酸等との塩が挙げられる。
化合物［１１］、化合物［１６］、化合物［２３］、化合物［２６］又は化合物［３５］の塩としては、薬理学的に許容されるものであれば特に限定されないが、例えば、
塩酸、硫酸、臭化水素酸、リン酸等の鉱酸との塩；
メタンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸、酢酸、シュウ酸、クエン酸、リンゴ酸、フマル酸等の有機酸との塩；
ナトリウム、カリウム等のアルカリ金属との塩；
マグネシウム等のアルカリ土類金属との塩；
アンモニア、エタノールアミン、２−アミノ−２−メチル−１−プロパノール等のアミンとの塩が挙げられる。
また、化合物［２３］の塩としては、薬理学的に許容されるものであれば特に限定されないが、例えば、
ナトリウム、カリウム等のアルカリ金属との塩；
マグネシウム等のアルカリ土類金属との塩；
アンモニア、エタノールアミン、２−アミノ−２−メチル−１−プロパノール等のアミンとの塩が挙げられる。【０２５６】
化合物［５］、化合物［１１］、化合物［１６］、化合物［２３］、化合物［２６］、化合物［３５］、又はそれらの塩は、溶媒和物を含む。溶媒和物としては、例えば、水和物、アルコール和物（例、メタノール和物、エタノール和物）が挙げられる。
【実施例】
【０２５７】
以下に参考例、実施例を挙げて、本発明を更に具体的に説明するが、これによって本発明が限定されるものではない。
以下の参考例、実施例において、「室温」とは、１５℃〜３０℃の温度をいう。
以下の参考例、実施例において、濃度及び含量における「％」は、特段の記載が無い限り、「重量％」を示す。【０２５８】
実施例における略号は、以下の化合物を表す。
ＨＢＴ  ：１−ベンジル−５−フェニル−１Ｈ−テトラゾール
ＢＡＣ  ：［２’−（１−ベンジル−１Ｈ−テトラゾール−５−イル）ビフェニル−４−イル］メチルアセタート
ＢＢＡ  ：ｐ−ブロモベンジルアセタート
ＤＢＡＣ：｛２’−［２−ベンジル−２Ｈ−テトラゾール−５−イル］−１，１’：３’，１”−ターフェニル−４，４”−ジイル｝ジメチルジアセタート
ＢＢＢ  ：ｐ−ブロモベンジルベンゾエート
ＢＢＺ  ：１−ベンジル−５−［４’−（ベンゾイルオキシメチル）ビフェニル−２−イル］−１Ｈ−テトラゾール
ＢＢＲ  ：１−ベンジル−５−［４’−（ブロモメチル）ビフェニル−２−イル］−１Ｈ−テトラゾール
ＩＭＥ  ：エチル  ４−（１−ヒドロキシ−１−メチルエチル）−２−プロピル−イミダゾール−５−カルボキシラート
ＴＢＡＢ：テトラ−ｎ−ブチルアンモニウムブロマイド
ＢＩＡ  ：エチル  ４−（１−ヒドロキシ−１−メチルエチル）−２−プロピル−１−[[２’−[２−ベンジル−２Ｈ−テトラゾール−５−イル]ビフェニル−４−イル]メチル]イミダゾール−５−カルボキシラート
ＢＩＨ  ：エチル  ４−（１−ヒドロキシ−１−メチルエチル）−２−プロピル−１−[[２’−[２Ｈ−テトラゾール−５−イル]ビフェニル−４−イル]メチル]イミダゾール−５−カルボキシラート
ＢＩＴ  ：エチル  ４−（１−ヒドロキシ−１−メチルエチル）−２−プロピル−１−[[２’−[２−（トリフェニルメチル）−２Ｈ−テトラゾール−５−イル]ビフェニル−４−イル]メチル]イミダゾール−５−カルボキシラート
ＢＩＣ  ：４−（１−ヒドロキシ−１−メチルエチル）−２−プロピル−１−[[２’−[２−（トリフェニルメチル）−２Ｈ−テトラゾール−５−イル]ビフェニル−４−イル]メチル]イミダゾール−５−カルボン酸カリウム
ＴＯＬＭ：（５−メチル−２-オキソ−１,３−ジオキソール−４−イル）メチル  ４−（１−ヒドロキシ−１−メチルエチル）−２−プロピル−１−[[２’−[２−（トリフェニルメチル）−２Ｈ−テトラゾール−５−イル]ビフェニル−４−イル]メチル]イミダゾール−５−カルボキシラート
ＯＬＭ  ＭＤＸ：（５−メチル−２-オキソ−１,３−ジオキソール−４−イル）メチル  ４−（１−ヒドロキシ−１−メチルエチル）−２−プロピル−１−[[２’−（２Ｈ−テトラゾール−５−イル）ビフェニル−４−イル]メチル]イミダゾール−５−カルボキシラート
ＢＣＬ  ：１−ベンジル−５−［４’−（クロロメチル）ビフェニル−２−イル］−１Ｈ−テトラゾール
ＶＭ    ：Ｎ−[[２’−ベンジル−１Ｈ−テトラゾール−５−イル]［１，１’−ビフェニル］−４−イル]メチル］−Ｌ−バリンメチルエステル
ＢＡＬ  ：１−ベンジル−５−［４’−（ヒドロキシメチル）ビフェニル−２−イル］−１Ｈ−テトラゾール
ＢＩＭ  ：メチル  ２−エトキシ−１Ｈ−ベンズイミダゾール−７−カルボキシラート
ＣＢＭＥ：エチル  ２−エトキシ−１−［２’−［１−ベンジル−１Ｈ−テトラゾール−５−イル］ビフェニル−４−イル］−１Ｈ−ベンズイミダゾール−７−カルボキシラート
ＣＢＣＡ：２−エトキシ−１−［２’−［１−ベンジル−１Ｈ−テトラゾール−５−イル］ビフェニル−４−イル］−１Ｈ−ベンズイミダゾール−７−カルボン酸【０２５９】
実施例１【０２６０】
【化９５】
2014034868.tif 000097
【０２６１】
トリフェニルホスフィン（０．０５ｇ，０．１９ｍｍｏｌ）、１−ベンジル−５−フェニル−１Ｈ−テトラゾール（ＨＢＴ，５ｇ，２１．２ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム（１．７６ｇ，１２．７ｍｍｏｌ）、酢酸カリウム（０．２０８ｇ、２．１２ｍｏｌ）、ｐ−ブロモベンジルアセタート（ＢＢＡ，５．３４ｇ，２３．３ｍｍｏｌ）およびＮ−メチル−２−ピロリドン（２５ｍＬ）の混合物を、窒素雰囲気下１３８℃まで加熱し、ジクロロ（ｐ−シメン）ルテニウム（ＩＩ）ダイマー（０．０６５ｇ，単量体として０．１０６ｍｍｏｌ）を加えて同温度で６時間攪拌した。反応混合物を冷却後、水（１０ｍＬ）とｔ−ブチルメチルエーテル（２０ｍＬ）と混合した。水層をｔ−ブチルメチルエーテルで抽出し（２０ｍＬｘ２）、有機層を合わせて水（２０ｍＬｘ２）およびブライン（１０ｍＬ）で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した後、減圧下濃縮し、ＢＡＣの粗生成物（９．４ｇ，理論収量の１１５．６％）を暗褐色油状物として得た。本反応の変換率は９６．２％であった［ＢＡＣ：ＤＢＡＣ＝８１：１９］。本品をシリカゲルカラム（ヘキサン：酢酸エチル＝４：１）で精製したものから下記の物性を得た。
mp 74.4℃; IR (neat): 1741 (C=O), 1603 cm-1; 1H NMR (CDCl3): δ = 7.63 (td, J = 7.6, 1.4 Hz, 1H), 7.57 (dd, J = 7.6, 1.4 Hz, 1H), 7.44 (td, J = 7.6, 1.4 Hz, 1H), 7.34 (dd, J = 7.6, 1.4 Hz, 1H), 7.27 (d, J = 8.6 Hz, 2H), 7.22 (t, J = 8.6 Hz, 1H), 7.16 (t, J = 8.6 Hz, 2H), 7.13 (d, J = 7.2 Hz, 2H), 6.76 (d, J = 7.2 Hz, 2H), 5.09 (s, 2H), 4.82 (s, 2H), 2.11 (s, 3H); 13C NMR (CDCl3): δ = 171, 155, 141, 139, 136, 133, 132, 131, 130, 129, 129, 128, 128, 122, 66, 51, 21; MS 385 [M + H]+.【０２６２】
実施例２【０２６３】
【化９６】
2014034868.tif 000098
【０２６４】
トリフェニルホスフィン（０．０３１ｇ，０．１１８ｍｍｏｌ）、１−ベンジル−５−フェニル−１Ｈ−テトラゾール（ＨＢＴ，５ｇ，２１．２ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム（２．９２ｇ，１２．７ｍｍｏｌ）、酢酸カリウム（０．２０８ｇ，２．１２ｍｍｏｌ）、ｐ−ブロモベンジルアセタート（ＢＢＡ，５．３４ｇ，２３．３ｍｍｏｌ）、Ｎ−メチル−２−ピロリドン（２５ｍＬ）およびジクロロ（ｐ−シメン）ルテニウム（ＩＩ）ダイマー（０．０５２ｇ，単量体として０．０８４ｍｍｏｌ）用いて実施例１と同じ操作を行いＢＡＣの粗生成物（９．２ｇ，理論収量の１１３．２％）を暗褐色油状物として得た。本反応の変換率は９６．７％であった［ＢＡＣ：ＤＢＡＣ＝７９：２１］。【０２６５】
実施例３【０２６６】
【化９７】
2014034868.tif 000099
【０２６７】
ジクロロ（ｐ−シメン）ルテニウム（ＩＩ）ダイマー（０．０２６ｇ，単量体として０．０４２ｍｍｏｌ）およびピバリン酸カリウム（０．０２４ｇ、０．１７ｍｍｏｌ）にＮ−メチル−２−ピロリドン（５ｍＬ）を加えて２５℃で１時間攪拌した。ここへ１−ベンジル−５−フェニル−１Ｈ−テトラゾール（ＨＢＴ，２ｇ，８．４６ｍｍｏｌ）、ｐ−ブロモベンジルアセタート（ＢＢＡ，２．１３ｇ，９．３１ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム（１．１７ｇ，８．４６ｍｍｏｌ）およびＮ−メチル−２−ピロリドン（５ｍＬ）を加えて１３８℃で５．５時間攪拌した。反応終了後、実施例１と同様の処理を行いＢＡＣの粗生成物（３．５３ｇ，理論収量の１０９％）を暗褐色油状物として得た。本反応の変換率は９５．４％であった［ＢＡＣ：ＤＢＡＣ＝７９：２１］。【０２６８】
実施例４【０２６９】
【化９８】
2014034868.tif 000100
【０２７０】
１−ベンジル−５−フェニル−１Ｈ−テトラゾール（ＨＢＴ，５ｇ，２１．２ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム（２．９２ｇ，２１．２ｍｍｏｌ）、ｐ−ブロモベンジルアセタート（ＢＢＡ，５．３４ｇ，２３．３ｍｍｏｌ）およびＮ−メチル−２−ピロリドン（２５ｍＬ）の混合物を、窒素雰囲気下１３８℃まで加熱し、ジピバロイルオキシ（ｐ−シメン）ルテニウム（ＩＩ）０．０９３ｇ，０．２１ｍｍｏｌ）を加えて同温度で６時間攪拌した。実施例１と同様の処理を行いＢＡＣの粗生成物（９．３４ｇ，理論収量の１１４．９％）を暗褐色油状物として得た。本反応の変換率は９６．２％であった［ＢＡＣ：ＤＢＡＣ＝７７：２３］。【０２７１】
実施例５【０２７２】
【化９９】
2014034868.tif 000101
【０２７３】
１−ベンジル−５−フェニル−１Ｈ−テトラゾール（ＨＢＴ，１０ｇ，４２．３ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム（５．８５ｇ，４２．３ｍｍｏｌ）、ｐ−ブロモベンジルアセタート（ＢＢＡ，１０．７ｇ，４６．６ｍｍｏｌ）、グルタル酸ジカリウム（０．８８２ｇ，４．２３ｍｍｏｌ）およびＮ−メチル−２−ピロリドン（５０ｍＬ）の混合物を、窒素雰囲気下１３８℃まで加熱し、ジクロロ（ｐ−シメン）ルテニウム（ＩＩ）ダイマー（０．１３ｇ，０．２１ｍｍｏｌ）を加えて同温度で６時間攪拌した。反応混合物を冷却後、水（５０ｍＬ）とｔ−ブチルメチルエーテル（５０ｍＬ）と混合した。水層をｔ−ブチルメチルエーテルで抽出し（５０ｍＬｘ２）、有機層を合わせて水（５０ｍＬｘ２）およびブライン（５０ｍＬ）で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した後、減圧下濃縮し、ＢＡＣの粗生成物（１８．４ｇ，理論収量の１１３．３％）を暗褐色油状物として得た。本反応の変換率は９３．４％であった［ＢＡＣ：ＤＢＡＣ＝８５：１５］。【０２７４】
実施例６【０２７５】
【化１００】
2014034868.tif 000102
【０２７６】
１−ベンジル−５−フェニル−１Ｈ−テトラゾール（ＨＢＴ，２ｇ，８．４ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム（１．１７ｇ，８．４ｍｍｏｌ）、ｐ−ブロモベンジルアセタート（ＢＢＡ，２．１３ｇ，９．３ｍｍｏｌ）、トリフェニルホスフィン（０．０７２ｇ，０．２７５ｍｍｏｌ）、４−ドデシルベンゼンスルホン酸カリウム（０．０４４ｇ、０．１２ｍｍｏｌ）およびＮ−メチル−２−ピロリドン（１０ｍＬ）の混合物を、窒素雰囲気下１３８℃まで加熱し、塩化ルテニウム（ＩＩＩ）水和物（０．０２３ｇ，０．０９５ｍｍｏｌ）を加えて同温度で６時間攪拌した。実施例１と同じ操作を行いＢＡＣの粗生成物（３．４ｇ，理論収量の１０４．５％）を暗褐色油状物として得た。本反応の変換率は８３．９％であった［ＢＡＣ：ＤＢＡＣ＝９６：４］。【０２７７】
実施例７【０２７８】
【化１０１】
2014034868.tif 000103
【０２７９】
１−ベンジル−５−フェニル−１Ｈ−テトラゾール（ＨＢＴ，２ｇ，８．４ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム（１．１７ｇ，８．４ｍｍｏｌ）、トリフェニルホスフィン（０．０５２ｇ、０．２ｍｍｏｌ）、ｐ−ブロモベンジルアセタート（ＢＢＡ，２．１３ｇ，９．３ｍｍｏｌ）、ビス（２−エチルヘキシル）リン酸カリウム（０．０４４ｇ、０．１２ｍｍｏｌ）およびＮ−メチル−２−ピロリドン（１０ｍＬ）の混合物を、窒素雰囲気下１３８℃まで加熱し、塩化ルテニウム（ＩＩＩ）水和物（０．０２３ｇ，０．０９５ｍｍｏｌ）を加えて同温度で６時間攪拌した。実施例１と同じ操作を行いＢＡＣの粗生成物（３．５７ｇ，理論収量の１０９．７％）を暗褐色油状物として得た。本反応の変換率は９１．２％であった［ＢＡＣ：ＤＢＡＣ＝９３：７］。【０２８０】
実施例８【０２８１】
【化１０２】
2014034868.tif 000104
【０２８２】
１−ベンジル−５−フェニル−１Ｈ−テトラゾール（ＨＢＴ，５ｇ，２１．２ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム（２．９３ｇ，２１．２ｍｍｏｌ）、トリフェニルホスフィン（０．１７８ｇ、０．６８ｍｍｏｌ）、ｐ−ブロモベンジルアセタート（ＢＢＡ，５．３３ｇ，２３．３ｍｍｏｌ）、ビス（２−エチルヘキシル）リン酸カリウム（０．０９９ｇ、０．２８ｍｍｏｌ）およびＮ−メチル−２−ピロリドン（２０ｍＬ）の混合物を、窒素雰囲気下１３８℃まで加熱し、塩化ルテニウム（ＩＩＩ）水和物（０．０５７ｇ，０．２４ｍｍｏｌ）を加えて同温度で５分間攪拌した後、ビス（２−エチルヘキシル）リン酸（１．４６ｇ、４．５２ｍｍｏｌ）のＮ−メチル−２−ピロリドン（５ｍＬ）を加えて６時間攪拌した。実施例１と同じ操作を行いＢＡＣの粗生成物（９．８ｇ，理論収量の１２０．５％）を暗褐色油状物として得た。本反応の変換率は８５．７％であった［ＢＡＣ：ＤＢＡＣ＝９４：６］。【０２８３】
比較例１【０２８４】
【化１０３】
2014034868.tif 000105
【０２８５】
１−ベンジル−５−フェニル−１Ｈ−テトラゾール（ＨＢＴ，２ｇ，８．４ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム（１．１７ｇ，８．４ｍｍｏｌ）、トリフェニルホスフィン（０．０５２ｇ，０．２ｍｍｏｌ）、ｐ−ブロモベンジルアセタート（ＢＢＡ，２．１３ｇ，９．３ｍｍｏｌ）、Ｎ−メチル−２−ピロリドン（１０ｍＬ）の混合物を、窒素雰囲気下１３８℃まで加熱し、塩化ルテニウム水和物（０．０２３ｇ，０．０９５ｍｍｏｌ）を加えて同温度で６時間攪拌した。実施例１と同じ操作を行いＢＡＣの粗生成物（３．５ｇ，理論収量の１０７．７％）を暗褐色油状物として得た。本反応の変換率は６６．２％であった。【０２８６】
比較例２【０２８７】
【化１０４】
2014034868.tif 000106
【０２８８】
１−ベンジル−５−フェニル−１Ｈ−テトラゾール（ＨＢＴ，２ｇ，８．４ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム（１．１７ｇ，８．４ｍｍｏｌ）、ｐ−ブロモベンジルアセタート（ＢＢＡ，２．１３ｇ，９．３ｍｍｏｌ）、Ｎ−メチル−２−ピロリドン（１０ｍＬ）の混合物を、窒素雰囲気下１３８℃まで加熱し、ジクロロ（ｐ−シメン）ルテニウム（ＩＩ）ダイマー（０．０２１ｇ，０．０３４ｍｍｏｌ）を加えて同温度で６時間攪拌した。実施例１と同じ操作を行いＢＡＣの粗生成物（３．７ｇ，理論収量の１１３．８％）を暗褐色油状物として得た。本反応の変換率は２０．３％であった。【０２８９】
実施例９【０２９０】
【化１０５】
2014034868.tif 000107
【０２９１】
１−ベンジル−５−フェニル−１Ｈ−テトラゾール（ＨＢＴ，１００ｇ，１ｅｑ）、ｐ−ブロモベンジルベンゾエート（ＢＢＢ，１３５．５ｇ，１．１ｅｑ）、炭酸カリウム（５８．５ｇ，１ｅｑ）、トリフェニルホスフィン（２．２３ｇ，Ｒｕに対して２ｅｑ）およびＮ−メチル−２−ピロリドン（３８０ｍＬ，３．８ｖｏｌ）の混合物を、５分間攪拌した。そこに、２．５％ビス（２−エチルヘキシル）リン酸カリウムのＮ−メチル−２−ピロリドン溶液（１２２ｍＬ，Ｒｕに対して２ｅｑ）を加えて５分間攪拌した。混合物にアルゴンガスを１０分間吹き込み、混合物から酸素を除去した。反応混合物を１３８℃〜１４０℃に加熱し、ジクロロ（ｐ−シメン）ルテニウム（ＩＩ）ダイマー（１．３ｇ，０．００５ｅｑ）を１３８℃〜１４０℃で加えた。さらに、反応混合物にアルゴンガスを１０分間吹き込むことにより、反応混合物から酸素を除去した。次いで、反応混合物を１３８℃〜１４０℃で８時間攪拌した。反応はＴＬＣ：薄層クロマトグラフィー（ＴＬＣ展開溶媒：３０％酢酸エチル／ヘキサン，検出法：ＵＶ）でモニターした。ＨＢＴは痕跡量となった。
反応混合物を２５℃〜３０℃まで冷却し、そこに、ｔ−ブチルメチルエーテル（５００ｍＬ，５ｖｏｌ）を加えて５分間攪拌し、次いで、セライトを敷いたフィルターで濾過した。セライト層をｔ−ブチルメチルエーテル（５００ｍＬ，５ｖｏｌ）で洗浄した。濾液および洗浄液を合わせて、そこに脱塩水（５００ｍＬ，５ｖｏｌ）を加え、１０分間攪拌後５分間静置した。分液して、水層をｔ−ブチルメチルエーテル（２ｘ５００ｍＬ，２ｘ５ｖｏｌ）で抽出した。有機層を合わせて脱塩水（５００ｍＬ，５ｖｏｌ）を加えて１０分間攪拌した。混合物を５分間静置して分液した。ｔ−ブチルメチルエーテル層に飽和食塩水（５００ｍＬ，５ｖｏｌ）を加えて１０分間攪拌した。静置後、分液し、ｔ−ブチルメチルエーテル層を硫酸ナトリウムで（５０ｇ，０．５ｗ／ｗ）乾燥した。混合物を濾過して濾液を４０℃〜４５℃で減圧濃縮しＢＢＺの粗生成物（２２０ｇ）を緑色シロップとして得た。
得られた粗生成物にｔ−ブチルメチルエーテル（４００ｍＬ，４ｖｏｌ）を加えて２５℃〜３０℃で２４時間攪拌したところ、固体が析出したので、これを濾過した。得られた固体を吸引乾燥することにより、ＢＢＺ（１４０ｇ，６８．５％）を緑色固体として得た。【０２９２】
実施例１０
（１）【０２９３】
【化１０６】
2014034868.tif 000108
【０２９４】
０℃〜５℃に冷却したＢＢＺ（１３５ｇ，１ｅｑ）に、３３％臭化水素／酢酸溶液（４０５ｍＬ，３ｖｏｌ）を０℃〜５℃で１５分間かけて加えた。反応混合物を２５℃〜３０℃で１８時間攪拌した。反応をＴＬＣ：薄層クロマトグラフィー（ＴＬＣ展開溶媒：３０％酢酸エチル／ヘキサン，検出法：ＵＶ）でチェックし、ＢＢＺが完全に無くなったことを確認した。
反応混合物を濾過し析出したＢＢＲを濾取し、得られた固体を１時間吸引乾燥し、さらに、８時間送風乾燥した。得られた固体に５０％酢酸エチル／ヘキサン（２７０ｍＬ，２ｖｏｌ）を加え、得られた懸濁液を２５℃〜３０℃で１時間攪拌した。該懸濁液を濾過することにより、ＢＢＲ（１１３ｇ，９２％）を淡黄色固体として得た。【０２９５】
（２）【０２９６】
【化１０７】
2014034868.tif 000109
【０２９７】
フラスコにＩＭＥ（５０ｇ，１ｅｑ）を仕込み、アセトン（１２５ｍＬ，２．５ｖｏｌ）を入れて５分間攪拌して溶解し、そこに、炭酸カリウム（７１．８ｇ，３ｅｑ）とＴＢＡＢ（０．６７ｇ，０．０１ｅｑ）を添加した。反応混合物を０℃〜５℃に冷却し、そこに、アセトン（１２５ｍＬ，２．５ｖｏｌ）に溶かしたＢＢＲ（９６ｇ，１．０５ｅｑ）を１５分間かけて加え、反応混合物を２５℃〜３０℃で１２時間攪拌した。反応混合物をさらに４０℃〜４５℃で８時間攪拌した。ＴＬＣで確認し、ＢＢＲが完全に消費されたことを確認した。反応混合物を２５℃〜３０℃まで冷却し、次いで、４０℃〜４５℃で減圧濃縮した。濃縮残渣に酢酸エチル（２００ｍＬ，４ｖｏｌ）と脱塩水（４００ｍＬ，８ｖｏｌ）を加えて１５分間攪拌し、分液し、水層を酢酸エチル（２００ｍＬ，４ｖｏｌ）で抽出した。有機層を合わせて脱塩水（２ｘ２００ｍＬ，２ｘ４ｖｏｌ）を加えて１０分間攪拌し、分液し、有機層に０．５％塩酸（２５０ｍＬ，５ｖｏｌ）を加えて１０分間攪拌し、さらに分液し、脱塩水（２ｘ２００ｍＬ，２ｘ４ｖｏｌ）を有機層に加えて５分間攪拌し静置し、分液した。有機層に飽和食塩水（１２５ｍＬ，５ｖｏｌ）を加えて５分間攪拌し、５分間静置した後、分液し、有機層を硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過して濾液を４０℃〜４５℃で減圧濃縮してＢＩＡの粗生成物（１１０ｇ，９３．５％）を得た。
得られたＢＩＡの粗生成物に酢酸エチル（１１０ｍＬ，粗生成物に対して１ｖｏｌ）を加えて６０℃〜６５℃に加熱し溶解した。そこに、ｎ−ヘプタン（５５０ｍＬ，粗生成物に対して５ｖｏｌ）を６０℃〜６５℃で５分間かけて加えた後、加熱を止めて２５℃〜３０℃まで徐々に冷却し、固体を析出させた。濾過することによりＢＩＡを得た。得られたＢＩＡ（１７５ｇ）に、酢酸エチル（１７５ｍＬ，１ｖｏｌ）を加えて６０℃〜６５℃で１５分間攪拌し溶解した。そこに、ｎ−ヘプタン（８７５ｍＬ，５ｖｏｌ）を１５分間かけて加えた後、加熱を止めて２５℃〜３０℃まで徐々に冷却し、固体を析出させた。濾過し、３０分間吸引乾燥を行ない、さらに、４５℃〜５０℃で３０分間乾燥することによりＢＩＡ（１６５ｇ）を得た。【０２９８】
（３）【０２９９】
【化１０８】
2014034868.tif 000110
【０３００】
ＢＩＡ（１６０ｇ，１ｅｑ）に、イソプロピルアルコール（８００ｍＬ，５ｖｏｌ）および水（４８０ｍＬ，３ｖｏｌ）を加え、さらに、蟻酸アンモニウム（８５．７６ｇ，４．８ｅｑ）および５％パラジウム／硫酸バリウム（１７．８８ｇ，３ｍｏｌ％）を加えた。反応混合物を５５℃〜６０℃で１２時間攪拌した。ＴＬＣ（薄層クロマトグラフィー）（ＴＬＣ展開溶媒：５％メタノール／塩化メチレン，検出法：ＵＶ）を用いて、ＢＩＡが完全になくなっていることを確認した。
２５℃〜３０℃まで冷却した反応混合物を、セライトを敷いたフィルターで濾過し、セライト層をイソプロピルアルコール（２ｘ１６０ｍＬ，２ｘ１ｖｏｌ）で洗浄し、濾液および洗浄液を合わせて４０℃〜４５℃で減圧濃縮した。濃縮残渣に塩化メチレン（７２０ｍＬ，４．５ｖｏｌ）および脱塩水（４４８ｍＬ，２．８ｖｏｌ）を加えて５分間攪拌した。５％塩酸を加えて、ｐＨを３〜４に調整した後、５分間攪拌し、５分間静置し、分液した。水層を塩化メチレン（２ｘ２００ｍＬ，２ｘ１．２５ｖｏｌ）で抽出し、そこに有機層を合わせて脱塩水（２ｘ３２０ｍＬ，２ｘ２ｖｏｌ）で洗浄し、分液した。有機層を飽和食塩水（２ｘ３２０ｍＬ，２ｘ２ｖｏｌ）で洗浄した。有機層を硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過し、濾液を４０℃〜４５℃で減圧濃縮することでＢＩＨ（１００ｇ，７４％）を得た。【０３０１】
（４）【０３０２】
【化１０９】
2014034868.tif 000111
【０３０３】
ＢＩＨ（１００ｇ，１ｅｑ）に、塩化メチレン（５００ｍＬ，５ｖｏｌ）を加えて溶解した。そこに、トリエチルアミン（３２．３ｍＬ，１．１ｅｑ）を加え、反応混合物を０℃〜５℃に冷却した。そこに、トリチルクロリド（６３．２２ｇ，１．０８ｅｑ）の塩化メチレン（３００ｍＬ，３ｖｏｌ）溶液を０℃〜５℃で３０分間かけてゆっくり加え、反応混合物を２５℃〜３０℃で１２時間攪拌した。トリチルクロリド（２．９２ｇ，０．０５ｅｑ）を追加し、反応混合物をさらに３時間攪拌した。ＴＬＣ（薄層クロマトグラフィー）（ＴＬＣ展開溶媒：１０％メタノール／塩化メチレン，検出法：ＵＶ）を用いて確認したところ、ＢＩＨは完全に消失していた。
反応混合物を０℃〜５℃まで冷却し、脱塩水（２７０ｍＬ，２．７ｖｏｌ）を加えた後、２５℃〜３０℃で１５分間攪拌した。混合物を静置し、分液した。水層を塩化メチレン（２００ｍＬ，２ｖｏｌ）で抽出し、そこに有機層を合わせて脱塩水（５００ｍＬ，５ｖｏｌ）で洗浄した。有機層を硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過し、濾液を４０℃〜４５℃で減圧濃縮しＢＩＴ（１３５ｇ，８９％）を得た。【０３０４】
（５）【０３０５】
【化１１０】
2014034868.tif 000112
【０３０６】
ＢＩＴ（１３０ｇ，１ｅｑ）に、２５℃〜３０℃でアセトン（６５０ｍＬ，５ｖｏｌ）を加えて溶解した。反応液を０℃〜５℃まで冷却し、水酸化カリウム（３０．５ｇ，３ｅｑ）の脱塩水（１３０ｍＬ，１ｖｏｌ）溶液を１５分間かけてゆっくり加えた後、反応温度を４０℃〜４５℃に上げ、４０℃〜４５℃で５時間攪拌した。ＴＬＣ（薄層クロマトグラフィー）（ＴＬＣ展開溶媒：１０％メタノール／塩化メチレン，検出法：ＵＶ）を用いてＢＩＴが完全に消失していることを確認した。
析出した固体を濾別し、濾液を４０℃〜４５℃で減圧濃縮した。得られた濃縮残渣に２５％食塩水（５２０ｍＬ，４ｖｏｌ）と酢酸エチル（７８０ｍＬ，６ｖｏｌ）を加えた。１０分間攪拌した後、５分間静置し、分液した。水層を酢酸エチル（２ｘ２６０ｍＬ，２ｘ２ｖｏｌ）で抽出し、有機層を合わせた。有機層に飽和重曹水（３ｘ３９０ｍＬ，３ｘ３ｖｏｌ）を加えて５分間攪拌し、静置し、分液した。有機層に、飽和食塩水（６５０ｍＬ，５ｖｏｌ）を加えて５分間攪拌後、静置し、分液した。有機層を硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過し、濾液を４０℃〜４５℃で減圧濃縮してＢＩＣの粗生成物（１１５ｇ，８７％）を白色固体として得た。粗生成物はそのまま次工程に用いた。【０３０７】
（６）【０３０８】
【化１１１】
2014034868.tif 000113
【０３０９】
ＢＩＣ（１１０ｇ，１ｅｑ）に、２５℃〜３０℃でアセトン（３８５ｍＬ，３．５ｖｏｌ）を加えて５分間攪拌し、溶解した。炭酸ナトリウム（２０．８５ｇ，１．３ｅｑ）およびヨウ化カリウム（０．２５ｇ，０．０１）を加え、混合物を１０分間攪拌した。そこに、４−クロロメチル−５−メチル−２−オキソ−１，３−ジオキソレン（３１．４５６ｇ，１．４ｅｑ）のアセトン（１６５ｍＬ，１．５ｖｏｌ）溶液を加えた。反応混合物を４５℃〜５０℃に加熱し、同温度で１２時間攪拌した。ＴＬＣ（薄層クロマトグラフィー）（ＴＬＣ展開溶媒：１０％メタノール／塩化メチレン，検出法：ＵＶ）を用いてＢＩＣが完全に消失していることを確認した。反応混合物を２５℃〜３０℃まで冷却した。次いで、反応液に含まれる溶媒を、４０℃〜４５℃で減圧留去した。得られた残渣に１０％食塩水（５５０ｍＬ，５ｖｏｌ）およびトルエン（５５０ｍＬ，５ｖｏｌ）を加えた。さらに、５％塩酸（３３ｍＬ）を加えて混合物のｐＨを７〜８に調整した後、１０分間攪拌した。５分間静置後、分液し、水層をトルエン（２ｘ３３０ｍＬ，２ｘ３ｖｏｌ）で抽出した。有機層を合わせて、１０％食塩水（５５０ｍＬ，５ｖｏｌ）を加え、５分間攪拌し、４５分間静置した後、分液し、４０℃〜４５℃で減圧濃縮してＴＯＬＭ（１１０ｇ，９０％）を得た。
得られたＴＯＬＭにアセトン（１１０ｍＬ，１ｖｏｌ）を加えて２５℃〜３０℃で３０分間攪拌した。ｎ−ヘプタン（４４０ｍＬ，４ｖｏｌ）を加えて５℃〜１０℃まで冷却し、５℃〜１０℃で３０分間攪拌したところ、固体の析出が確認された。固体（８０ｇ，６６％）を濾取し、送風乾燥を行なった。得られた固体にイソプロピルアルコール（４００ｍＬ，５ｖｏｌ）を加えて５０℃〜５５℃に加熱し、５０℃〜５５℃で１時間攪拌した。次いで、混合物を２５℃〜３０℃まで冷却し、２５℃〜３０℃で１時間攪拌した。生成した固体を濾過し、１０分間吸引濾過することにより、ＴＯＬＭ（７６ｇ，６２％）を得た。【０３１０】
（７）【０３１１】
【化１１２】
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【０３１２】
ＴＯＬＭ（７５ｇ）に、酢酸：水＝１：１（３３０ｍＬ，４．４ｖｏｌ）および濃硫酸（５．４ｍＬ，１．０８ｅｑ）を順次加えた。得られた混合物を２５℃〜３０℃で１時間攪拌した。ＴＬＣ（薄層クロマトグラフィー）（ＴＬＣ展開溶媒：１０％メタノール／塩化メチレン，検出法：ＵＶ）を用いてＴＯＬＭが完全に消失していることを確認した。
反応混合物を濾過し不溶性のトリチルアルコールを除去した。２５％炭酸ナトリウム水溶液を加えることにより、水層のｐＨを２〜３になるように調整した（反応混合物の最初のｐＨは４〜４．５であった）。反応液を５分間攪拌し、そこに塩化メチレン（２２５ｍＬ，３ｖｏｌ）を加えて５分間攪拌した。攪拌を止め、静置し、分液した。水層を塩化メチレン（２ｘ２２５ｍＬ，２ｘ３ｖｏｌ）で抽出し、有機層を合わせて、脱塩水（３７５ｍＬ，５ｖｏｌ）を加えて５分間攪拌した。攪拌を止めて、５分間静置し、分液した。有機層に飽和食塩水（３７５ｍＬ，５ｖｏｌ）を加えて５分間攪拌した後、静置し、分液した。有機層を４０℃〜４５℃で減圧濃縮して粗ＯＬＭ  ＭＤＸ（４９ｇ，９３％）を淡黄色固体として得た。【０３１３】
（８）ＯＬＭ  ＭＤＸの精製
上記（７）で得られた粗ＯＬＭ  ＭＤＸ（４９ｇ，１ｅｑ）に、アセトン（７３５ｍＬ，１５ｖｏｌ）を加えて５５℃〜６０℃で１０分間攪拌した。さらに、反応液を同温で１５分間攪拌し、アセトンを常圧で留去した。固体が析出したところで加熱を止め、２５℃〜３０℃まで冷却した。析出した固体を濾取し、３０分間吸引乾燥することによりＯＬＭ  ＭＤＸ（４１ｇ，８３％）を得た。
上述のようにして得られたＯＬＭ  ＭＤＸにイソプロピルアルコール（１６４ｍＬ，４ｖｏｌ）を加え、混合物を５５℃〜６０℃に加熱し、５５℃〜６０℃で１時間攪拌した。加熱を止めて２５℃〜３０℃まで徐々に冷却し、２５℃〜３０℃で３０分間攪拌した。析出した固体を濾過後、吸引乾燥することにより、ＯＬＭ  ＭＤＸ（４１ｇ，１００％）を得た。
上述のようにして得られたＯＬＭ  ＭＤＸ（４１ｇ）およびアセトン（約１L）を５５℃〜６０℃に加熱し、５５℃〜６０℃で２５分間攪拌した後、該混合物が濁るまでアセトンを常圧で留去し、２５℃〜３０℃まで徐々に冷却した。析出した固体を濾取し３０分間吸引乾燥することにより、ＯＬＭ  ＭＤＸ（３４ｇ，８３％）を得た。得られたＯＬＭ  ＭＤＸのＨＰＬＣ純度は９９．６６％であった。
上述のようにして得られたＯＬＭ  ＭＤＸ（４４ｇ）をアセトン（約１．２L）に溶解し、５５℃〜６０℃で１０分間攪拌した後、溶液が濁るまでアセトンを常圧で留去し、２５℃〜３０℃まで徐々に冷却した。析出した固体を濾取し、３０分間吸引乾燥後、１時間送風乾燥し、さらに４０℃〜４５℃で５時間送風乾燥を行ない、ＯＬＭ  ＭＤＸ（３６ｇ）を白色固体として得た。得られたＯＬＭ  ＭＤＸのＨＰＬＣ純度は、９９．８％であった。【０３１４】
実施例１１【０３１５】
【化１１３】
2014034868.tif 000115
【０３１６】
Ｌ−バリンメチルエステル塩酸塩（Ｌ−Ｖａｌ−ＯＭｅ・ＨＣｌ，１０ｇ，１ｅｑ）を塩化メチレンに溶かし、１０％炭酸ナトリウム水溶液を加えてｐＨ９〜１０に調整し、塩化メチレン（５０ｍＬ，５ｖｏｌ）で抽出した。有機層を硫酸ナトリウムで乾燥後、ろ過し、４０℃〜４５℃で減圧濃縮した。得られたＬ−バリンメチルエステルのうち１．４６ｇをジメチルホルムアミド（１２ｍＬ，３ｖｏｌ）に溶かした。得られた溶液にジイソプロピルエチルアミン（４．５８ｍＬ，２．５ｅｑ）を加えて５分間攪拌した。そこに、ＢＣＬ（４ｇ，１ｅｑ）およびテトラブチルアンモニウムヨージド（０．２０ｇ，０．０５ｅｑ）を加え、４５℃〜５０℃で２４時間攪拌した。反応混合物に水（４０ｍＬ，１０ｖｏｌ）を加えて反応を止め、酢酸エチル（２０ｍＬ，５ｖｏｌ）を加えて５分間攪拌した後、分液した。有機層を水（２０ｍＬ，５ｖｏｌ）で洗浄した後、飽和食塩水（２０ｍＬ，５ｖｏｌ）で洗浄した。硫酸ナトリウムで乾燥後、ろ過し、１０℃〜１５℃まで冷却し、シュウ酸（１．５ｇ，１．１ｅｑ）を加えて５℃まで冷却し、同温で３０分間攪拌した。析出した固体を濾過し、ｎ−ヘプタン（２０ｍＬ，５ｖｏｌ）で洗浄後、１０分間吸引乾燥することによりＶＭのシュウ酸塩（４．４ｇ，６８％）を得た。
得られたＶＭを原料化合物として、本明細書に記載の方法により、ＶＡＬを合成することが可能である。【０３１７】
実施例１２
（１）【０３１８】
【化１１４】
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【０３１９】
ＢＢＺ（１４０ｇ，１ｅｑ）を、ＴＨＦ（５６０ｍＬ，４ｖｏｌ）に溶解し、そこに、２０％水酸化ナトリウム水溶液（２８０ｍＬ，２ｖｏｌ）を加えて、６０℃〜６５℃で６時間攪拌した。ＴＬＣ（ＴＬＣ：３０％酢酸エチル／ヘキサン，検出法：ＵＶ）を用いて、ＢＢＺが完全に消費されていることを確認した。反応混合物を４０℃〜４５℃で減圧濃縮し、濃縮残渣にｔ−ブチルメチルエーテル（７００ｍＬ，５ｖｏｌ）を加えて５分間攪拌し、分液した。水層をｔ−ブチルメチルエーテル（７００ｍＬ，２×２．５ｖｏｌ）で抽出し、有機層を合わせた後、水（７００ｍＬ，２×２．５ｖｏｌ）で洗浄し、さらに飽和食塩水（３５０ｍＬ，２．５ｖｏｌ）で洗浄した。有機層を硫酸ナトリウムで乾燥し、４０℃〜４５℃で減圧濃縮することにより粗ＢＡＬ（１１１ｇ，１０３％）を得た。
得られた粗ＢＡＬに、ジイソプロピルエーテル（７００ｍＬ，５ｖｏｌ）を加えて６０℃〜６５℃で１時間攪拌した後、２５℃〜３０℃まで冷却した。析出した固体を濾過後、ジイソプロピルエーテル（１４０ｍＬ，１ｖｏｌ）で洗浄し、３０分間吸引乾燥した。その後、５０℃〜５５℃で２時間乾燥することによりＢＡＬ（９２．５ｇ，９２％）を得た。【０３２０】
（２）【０３２１】
【化１１５】
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【０３２２】
ＢＡＬ（９０ｇ，１ｅｑ）を、塩化メチレン（９００ｍＬ，１０ｖｏｌ）に溶解した後、０℃〜５℃に冷やし、塩化チオニル（３７．５ｍＬ，１．２ｅｑ）を０℃〜５℃で１０分間かけて加えた。反応混合物を０℃〜５℃で１時間撹拌し、２５℃〜３０℃に昇温し、さらに、２５℃〜３０℃で３時間攪拌した。ＴＬＣ（ＴＬＣ：５０％酢酸エチル／ヘキサン，検出法：ＵＶ）を用いて、ＢＡＬが完全に消費されていることを確認した。反応混合物に氷水（５４０ｍＬ，６ｖｏｌ）を加えて１０分間攪拌し、分液した。有機層を、水（２×５４０ｍＬ，２×６ｖｏｌ）、飽和重曹水（５４０ｍＬ，６ｖｏｌ）、水（５４０ｍＬ，６ｖｏｌ）、飽和食塩水（５４０ｍＬ，６ｖｏｌ）の順で洗浄した。有機層を硫酸ナトリウム（４５ｇ）で乾燥した後，４０℃〜４５℃で減圧濃縮することにより粗ＢＣＬ（１１０ｇ）を得た。
得られた粗ＢＣＬに酢酸エチル（９０ｍＬ，１ｖｏｌ）を加えて溶解し、さらに、ｎ−ヘプタン（３６０ｍＬ，４ｖｏｌ）を加えて０℃〜５℃で２時間攪拌した。析出した固体を濾過し、ｎ−ヘプタン（９０ｍＬ，１ｖｏｌ）で洗浄後、２０分間吸引乾燥した。さらに、５０℃〜５５℃で２時間乾燥することによりＢＣＬ（８９ｇ，９１％）をベージュ色固体として得た。【０３２３】
（３）【０３２４】
【化１１６】
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【０３２５】
ＢＩＭ（２０ｇ，１ｅｑ）を、ジメチルアセトアミド：メタノール［（１：４），（１００ｍＬ，５ｖｏｌ）］に溶解し、そこに炭酸カリウム（１８．８ｇ，１．５ｅｑ）を加えて、２５℃〜３０℃で１５分間攪拌した。さらに、そこに、ＢＣＬ（３４．４ｇ，１．０５ｅｑ）およびテトラブチルアンモニウムヨージド（１．６７ｇ，０．０５ｅｑ）を加えて同温で２６時間攪拌した。ＴＬＣ（ＴＬＣ：４０％酢酸エチル／ヘキサン，検出法：ＵＶ）を用いてＢＩＭが完全に消費されていることを確認した。反応混合物に水（２００ｍＬ，１０ｖｏｌ）を加えて２時間攪拌し、析出した桃色固体を濾過した。得られた固体を、水（４０ｍＬ，２ｖｏｌ）で洗浄し、１５分間吸引乾燥後、５０℃〜５５℃で４時間送風乾燥することにより粗ＣＢＭＥおよび化合物３７の混合物（４９ｇ，ＣＢＭＥ：化合物３７＝６：１（モル比））を得た。なお、粗生成物のまま次の工程（４）に用いた。【０３２６】
（４）【０３２７】
【化１１７】
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【０３２８】
上記（３）で得られた粗ＣＢＭＥ（２０ｇ，１ｅｑ）にメタノール：水［（１：１）（１６０ｍＬ）］および水酸化ナトリウム（４．４ｇ，３ｅｑ）を２５℃〜３０℃で加え、反応混合物を７５℃〜８０℃で４時間攪拌した。ＴＬＣ（ＴＬＣ：４０％酢酸エチル／ヘキサン，検出法：ＵＶ）を用いてＣＢＭＥが完全に消費されていることを確認した。反応混合物を２５℃〜３０℃まで冷却し、有機溶媒を４０℃〜４５℃で減圧留去した。濃縮残渣に水（２００ｍＬ，１０ｖｏｌ）を加えて、水層をｔ−ブチルメチルエーテル（１００ｍＬ，２×５ｖｏｌ）で洗浄した。水層に酢酸（６ｍＬ，０．３ｖｏｌ）を加えてｐＨを５．５〜６．５に調整し、得られたスラリーを２５℃〜３０℃で１時間攪拌し、析出した固体を濾過した。この固体を水（４０ｍＬ，２ｖｏｌ）で洗浄後、１５分間吸引乾燥し、さらに、５０℃〜５５℃で４時間乾燥することにより粗ＣＢＣＡ（１６ｇ）を得た。
得られた粗ＣＢＣＡ（１６ｇ）に酢酸エチル（１６０ｍＬ，１０ｖｏｌ）、ジシクロヘキシルアミン（ＤＣＨＡ）（８．２ｇ，１．５ｅｑ）を加え、２５℃〜３０℃で２時間撹拌した。析出した固体を濾過し、酢酸エチル（８０ｍＬ，５ｖｏｌ）で洗浄し、１５分間吸引乾燥した後、さらに５０℃〜５５℃で４時間送風乾燥することによりＣＢＣＡのＤＣＨＡ塩（１６ｇ）を得た。この塩にイソプロピルアルコール（１９２ｍＬ，１２ｖｏｌ）を２５℃〜３０℃で加えた後、７５℃〜８５℃に加熱することで、この塩を溶解させ、１５分間撹拌した。その後、反応液を２５℃〜３０℃まで冷却し、同温度で２時間攪拌した。析出した固体を濾過し、イソプロピルアルコール（３２ｍＬ，２ｖｏｌ）で洗浄後、１５分間吸引乾燥し、さらに、５０℃〜５５℃で４時間送風乾燥することにより純品のＣＢＣＡのＤＣＨＡ塩（１３ｇ）を得た。この塩に２５％水酸化ナトリウム水溶液（１２０ｍＬ，１０ｖｏｌ）を２５℃〜３０℃で加えて１５分間攪拌した後、酢酸（５．８ｍＬ，０．４８ｖｏｌ）を加えてｐＨを５．５〜６．５に調整し、塩化メチレン（１２０ｍＬ，２×５ｖｏｌ）で抽出した。有機層を合わせて、水（１２０ｍＬ，２×５ｖｏｌ）で洗浄後、さらに、飽和食塩水（６０ｍＬ，５ｖｏｌ）で洗浄した。有機層を硫酸ナトリウムで乾燥した後、４０℃〜４５℃で減圧濃縮することによりＣＢＣＡ（９ｇ，ＢＣＬから４７％）を得た。【０３２９】
（原料合成法）
ＨＢＴの合成
(1)  Ｎ−ベンジルベンズアミド【０３３０】
【化１１８】
2014034868.tif 000120
【０３３１】
ベンジルアミン（７５．０ｇ，０．７００ｍｏｌ）、ＴＨＦ（３００ｍＬ）およびトリエチルアミン（７０．８ｇ，１３４ｇ，０．７００ｍｏｌ）の混合物に、２℃以下で塩化ベンゾイル（９８．４ｇ，０．７００ｍｏｌ）を滴下した後、昇温し、１２℃〜３５℃で３時間攪拌した。反応の進行はＴＬＣ（展開溶媒：トルエン／酢酸エチル（４：１））で確認した。反応混合物に１６℃以下で水（１６５ｍＬ）を加えた後、酢酸エチル（６０ｍＬ）で抽出を行い、さらに水層に酢酸エチル（１５０ｍＬ）を加えて抽出した。合わせた有機層を５％クエン酸水溶液（５０ｍＬ）で２回、２０％食塩水（７５ｍＬ）で３回洗浄し、硫酸マグネシウム（２０ｇ）を加えて乾燥し、シリカゲル（１２ｇ）を加えた後、シリカゲルに通して濾過を行った。濾液を４０℃の浴を用いて減圧下析出が始まるまで濃縮した（２６３ｇ）。濃縮物に酢酸エチル（４１．５ｇ）を加え、６０℃の浴で固体を溶解した後、２時間かけて２０℃まで冷却し、酢酸エチル（４０ｍＬ）を加えた。さらに５℃まで冷却した後、結晶を濾取し、冷酢酸エチル（７５ｍＬ）で洗浄した。結晶を減圧下４０℃で乾燥することにより、Ｎ−ベンジルベンズアミド（１１６ｇ，７８．５％）を白色結晶として得た。
融点：104℃〜105℃
IR (KBr): 3328 (NH), 1642 (C=O) cm-1
1H NMR (CDCl3): δ = 7.79 (d, J = 8.0 Hz, 2H, o-Bz), 7.50 (t, J = 8.0 Hz, 1H, p-Bz), 7.43 (t, J = 8.0, 2H, m-Bz), 7.37-7.35 (m, 4H, Ph), 7.32 (m, 1H, Ph), 6.41 (br s, 1H, NH), 4.65 (d, J = 5.6 Hz, 2H, CH2)【０３３２】
(2)  １−ベンジル−５−フェニル−１Ｈ−テトラゾール（ＨＢＴ）【０３３３】
【化１１９】
2014034868.tif 000121
【０３３４】
Ｎ−ベンジルベンズアミド（６２．５ｇ，０．２９６ｍｏｌ）と塩化メチレン（５７０ｍＬ）の混合物に、−１５℃〜−８℃で五塩化リン（６７．９ｇ，０．３２６ｍｏｌ）を５回に分けて加えた。この混合物を３時間かけて２１℃まで昇温した後、２１℃以下で減圧下、０．１７Ｌまで濃縮した。この混合物に塩化メチレン（４５０ｍＬ）を加え、−８℃以下でアジドトリメチルシラン（５０．３ｇ，０．４３６ｍｏｌ）を０．５時間かけて滴下し、塩化メチレン（５ｍＬ）で洗い込んだ。反応混合物を室温へ昇温し、４時間攪拌した。ＴＬＣ（展開溶媒：トルエン／酢酸エチル（４：１））でＮ−ベンジルベンズアミドの消失を確認した。反応混合物に、１７℃以下で飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（１０００ｍＬ）を加えた。さらに飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（１３００ｍＬ）を加えて分液した。水層に塩化メチレン（４５０ｍＬ）を加えて抽出を行い、合わせた有機層を２０％食塩水（３００ｇ）で洗浄し、硫酸マグネシウム（２０ｇ）で乾燥した後、４０℃以下で減圧濃縮を行い、粗生成物（６９．８ｇ，理論収量の９９．８％）を濁りのある黄色油状物質として得た。粗生成物（６９．０ｇ）にイソプロピルアルコール（７５．９ｍＬ）を加えて加熱溶解し、熱時濾過を行い、イソプロピルアルコール（４．７ｍＬ）で洗い込んだ。濾液を７時間かけて−１℃まで冷却した。この間３８℃のときに接種を行った。結晶を濾取し、冷イソプロピルアルコール（２０ｍＬ）で洗浄した後、減圧下乾燥することにより、標題化合物（６５．４ｇ，精製収率９４．９％，主原料から９４．７％）を得た。
融点：６６．０℃〜６７．５℃
IR (KBr)：1606 cm-1
1H NMR (CDCl3): δ = 7.58 (d, J = 7.9 Hz, 2H, 5-Ph), 7.57 (t, J = 7.9 Hz, 1H, 5-Ph), 7.50 (t, J = 7.9 Hz, 2H, 5-Ph), 7.37-7.34 (m, 3H, Ph), 7.17-7.15 (m, 2H, Ph), 5.62 (s, CH2)
MS：237 (MH+)【０３３５】
ｐ−ブロモベンジル＝アセタート（ＢＢＡ）の合成【０３３６】
【化１２０】
2014034868.tif 000122
【０３３７】
ｐ−ブロモベンジルアルコール（２５０ｇ，１．３４ｍｏｌ）のＴＨＦ（１０００ｍＬ）溶液に、８℃〜９℃で無水酢酸（１６４ｇ，１．６０ｍｏｌ）およびＴＨＦ（１４ｍＬ）を加えた。この混合物にトリエチルアミン（２０３ｇ，２．０１ｍｏｌ）を５℃〜８℃で８分かけて加え、ＴＨＦ（１３ｍＬ）で洗い込んだ。この反応混合物に、６℃で４−（ジメチルアミノ）ピリジン（８．１７ｇ，６６．９ｍｍｏｌ）およびＴＨＦ（２１ｍＬ）を加えた（内温が２８℃まで上昇した）。反応はＴＬＣ（展開溶媒：ヘキサン／酢酸エチル（１：１および２：１））で確認した。反応混合物を室温で１５時間攪拌後、メタノールを２２℃〜２５℃にて加え、４５℃以下で減圧濃縮した。濃縮物に酢酸エチル（２０００ｍＬ）および冷１ｍｏｌ／Ｌ塩酸（１０００ｍＬ）を加え、分液した。有機層に４％炭酸水素ナトリウム水溶液（１０００ｍＬ）、５％炭酸水素ナトリウム水溶液（１００ｍＬ）および炭酸水素ナトリウム水溶液（５００ｍＬ）を加えて分液した。有機層を水（１０００ｍＬ）で洗浄し、硫酸マグネシウム（７７ｇ）で乾燥し、減圧下濃縮することにより、標題化合物（３０８ｇ，１００％）を得た。
1H NMR (CDCl3): δ = 7.49 (d, J = 8.2 Hz, 2H, Ar), 7.23 (d, J = 8.2 Hz, 2H, Ar), 5.05 (s, 2H, CH2), 2.10 (s, 3H, Ac) 
【手続補正書】
【提出日】平成27年12月22日(2015.12.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一般式［１’］：
【化１】
2014034868.tif 000165
［式中、Ｒ１ないしＲ４は、それぞれ、独立して、水素原子、あるいは、それぞれ置換基を有していてもよい、アルキル基、アラルキル基又はアリール基を表し、Ｒ６は、テトラゾリル基の保護基を表す。］
で示される２−フェニルテトラゾール誘導体又はその塩と、一般式［２’］： 
【化２】
2014034868.tif 000166
［式中、Ｒ５’は、メチル基、保護された水酸基で置換されたメチル基又は低級アルコシキカルボニル基であり、Ｘ１は脱離基を表す。］
で示されるベンゼン誘導体を、金属触媒、塩基及び下記（ａ）〜（ｄ）からなる群より選ばれる１種以上の化合物の存在下に反応させることを特徴とする、一般式［３’］：
【化３】
2014034868.tif 000167
［式中、各記号は前記と同義である。］
で示されるビアリールテトラゾール化合物又はその塩の製造方法。
（ａ）モノカルボン酸の金属塩
（ｂ）ジカルボン酸の金属塩
（ｃ）スルホン酸の金属塩
（ｄ）ＲＡｘＰ（Ｏ）（ＯＭ）ｙ［式中、ＲＡは、Ｒ”’Ｏ又はＲ”’２Ｎを表し、ここで、Ｒ”’は、水素原子、あるいは、それぞれ窒素原子、酸素原子又は硫黄原子を含んでいてもよい、炭素数１〜２０の直鎖または分岐鎖のアルキル基、炭素数７〜１４のアラルキル基又は炭素数６〜１８のアリール基を表し、Ｍは、金属原子を表し、ｘおよびｙは、それぞれ独立して、１又は２の整数であり、かつ、ｘ＋ｙは３である。］で示されるリン酸エステル又はリン酸アミドの金属塩
【請求項２】
さらに、ホスフィン系化合物が存在する条件下で反応させることを特徴とする、請求項１記載の製造方法。
【請求項３】
１）一般式［１’］：
【化４】
2014034868.tif 000168
［式中、Ｒ１ないしＲ４は、それぞれ、独立して、水素原子、あるいは、それぞれ置換基を有していてもよい、アルキル基、アラルキル基又はアリール基を表し、Ｒ６は、テトラゾリル基の保護基を表す。］
で示される２−フェニルテトラゾール誘導体又はその塩と、一般式［２’］：
【化５】
2014034868.tif 000169
［式中、Ｒ５’は、メチル基、保護された水酸基で置換されたメチル基又は低級アルコシキカルボニル基であり、Ｘ１は脱離基を表す。］
で示されるベンゼン誘導体を、金属触媒、塩基及び下記（ａ）〜（ｄ）からなる群より選ばれる１種以上の化合物の存在下に反応させて、一般式［３’］：
【化６】
2014034868.tif 000170
［式中、各記号は前記と同義である。］
で示されるビアリールテトラゾール化合物又はその塩を製造し、
（ａ）モノカルボン酸の金属塩
（ｂ）ジカルボン酸の金属塩
（ｃ）スルホン酸の金属塩
（ｄ）ＲＡｘＰ（Ｏ）（ＯＭ）ｙ［式中、ＲＡは、Ｒ”’Ｏ又はＲ”’２Ｎを表し、ここで、Ｒ”’は、水素原子、あるいは、それぞれ窒素原子、酸素原子又は硫黄原子を含んでいてもよい、炭素数１〜２０の直鎖または分岐鎖のアルキル基、炭素数７〜１４のアラルキル基又は炭素数６〜１８のアリール基を表し、Ｍは、金属原子を表し、ｘおよびｙは、それぞれ独立して、１又は２の整数であり、かつ、ｘ＋ｙは３である。］で示されるリン酸エステル又はリン酸アミドの金属塩；
１−Ａ）（ａ）一般式［３’］においてＲ５’が保護された水酸基で置換されたメチル基である場合は、脱保護して、
（ｂ）一般式［３’］においてＲ５’が低級アルコキシカルボニル基である場合は、還元して、
一般式［４］：
【化７】
2014034868.tif 000171
［式中、各記号は前記と同義である。］
で示される化合物又はその塩を得、さらにハロゲン化するか；又は
１−Ｂ）一般式［３’］で示される化合物のＲ５’がメチル基である場合は、一般式［３’］で示される化合物をハロゲン化することを特徴とする、一般式［５］：
【化８】
2014034868.tif 000172
［式中、Ｘ２は、ハロゲン原子を表し、Ｒ１ないしＲ４およびＲ６は、前記と同義である。］
で示されるビアリールテトラゾール誘導体又はその塩の製造方法。
【請求項４】
１）一般式［１’］：
【化９】
2014034868.tif 000173
［式中、Ｒ１ないしＲ４は、それぞれ、独立して、水素原子、あるいは、それぞれ置換基を有していてもよい、アルキル基、アラルキル基又はアリール基を表し、Ｒ６は、テトラゾリル基の保護基を表す。］
で示される２−フェニルテトラゾール誘導体又はその塩と、一般式［２’］：
【化１０】
2014034868.tif 000174
［式中、Ｒ５’は、メチル基、保護された水酸基で置換されたメチル基又は低級アルコシキカルボニル基であり、Ｘ１は脱離基を表す。］
で示されるベンゼン誘導体を、金属触媒、塩基及び下記（ａ）〜（ｄ）からなる群より選ばれる１種以上の化合物の存在下に反応させて、一般式［３’］：
【化１１】
2014034868.tif 000175
［式中、各記号は前記と同義である。］
で示されるビアリールテトラゾール化合物又はその塩を製造し、
（ａ）モノカルボン酸の金属塩
（ｂ）ジカルボン酸の金属塩
（ｃ）スルホン酸の金属塩
（ｄ）ＲＡｘＰ（Ｏ）（ＯＭ）ｙ［式中、ＲＡは、Ｒ”’Ｏ又はＲ”’２Ｎを表し、ここで、Ｒ”’は、水素原子、あるいは、それぞれ窒素原子、酸素原子又は硫黄原子を含んでいてもよい、炭素数１〜２０の直鎖または分岐鎖のアルキル基、炭素数７〜１４のアラルキル基又は炭素数６〜１８のアリール基を表し、Ｍは、金属原子を表し、ｘおよびｙは、それぞれ独立して、１又は２の整数であり、かつ、ｘ＋ｙは３である。］で示されるリン酸エステル又はリン酸アミドの金属塩；
１−Ａ）（ａ）一般式［３’］においてＲ５’が保護された水酸基で置換されたメチル基である場合は、脱保護して、
（ｂ）一般式［３’］においてＲ５’が低級アルコキシカルボニル基である場合は、還元して、一般式［４］：
【化１２】
2014034868.tif 000176
［式中、各記号は前記と同義である。］
で示される化合物又はその塩を得、さらにハロゲン化するか；又は
１−Ｂ）一般式［３’］で示される化合物のＲ５’がメチル基である場合は、一般式［３’］で示される化合物をハロゲン化することにより一般式［５’］：
【化１３】
2014034868.tif 000177
［式中、各記号は前記と同義である。］
で示されるビアリールテトラゾール誘導体又はその塩を製造し、
得られた一般式［５’］
で示されるビアリールテトラゾール誘導体又はその塩と、一般式［６］：
【化１４】
2014034868.tif 000178
［式中、Ｒ１０は、カルボキシ基の保護基を示す。］
で示される化合物又はその塩を反応させて、一般式［７］：
【化１５】
2014034868.tif 000179
［式中、各記号は前記と同義である。］
で示される化合物又はその塩を得；
２）一般式［７］で示される化合物又はその塩のＲ６を除去して、一般式［Ｙ１］：
【化１６】
2014034868.tif 000180
［式中、記号は前記と同義である。］
で示される化合物又はその塩を得；
３）一般式［Ｙ１］で示される化合物又はその塩を、一般式［Ｙ３］：Ｒ６’−Ｘ５［式中、Ｒ６’はトリチル基を表し、Ｘ５はハロゲン原子を表す。］で示される化合物と反応させて、一般式［Ｙ２］：
【化１７】
2014034868.tif 000181
［式中、各記号は前記と同義である。］
で示される化合物又はその塩を得；
４）一般式［Ｙ２］で示される化合物又はその塩を加水分解して、一般式［８’］：
【化１８】
2014034868.tif 000182
［式中、記号は前記と同義である。］
で示される化合物又はその塩を得；
５）一般式［８’］で示される化合物又はその塩と式［９］：
【化１９】
2014034868.tif 000183
で示される化合物を反応させて、一般式［１０’］：
【化２０】
2014034868.tif 000184
［式中、記号は前記と同義である。］
で示される化合物又はその塩を得；
６）一般式［１０’］で示される化合物又はその塩のＲ６’を除去することを特徴とする、式
［１１］：
【化２１】
2014034868.tif 000185
で示される化合物又はその塩の製造方法。
【請求項５】
１）一般式［１’］：
【化２２】
2014034868.tif 000186
［式中、Ｒ１ないしＲ４は、それぞれ、独立して、水素原子、あるいは、それぞれ置換基を有していてもよい、アルキル基、アラルキル基又はアリール基を表し、Ｒ６は、テトラゾリル基の保護基を表す。］
で示される２−フェニルテトラゾール誘導体又はその塩と、一般式［２’］：
【化２３】
2014034868.tif 000187
［式中、Ｒ５’は、メチル基、保護された水酸基で置換されたメチル基又は低級アルコシキカルボニル基であり、Ｘ１は脱離基を表す。］
で示されるベンゼン誘導体を、金属触媒、塩基及び下記（ａ）〜（ｄ）からなる群より選ばれる１種以上の化合物の存在下に反応させて、一般式［３’］：
【化２４】
2014034868.tif 000188
［式中、各記号は前記と同義である。］
で示されるビアリールテトラゾール化合物又はその塩を製造し、
（ａ）モノカルボン酸の金属塩
（ｂ）ジカルボン酸の金属塩
（ｃ）スルホン酸の金属塩
（ｄ）ＲＡｘＰ（Ｏ）（ＯＭ）ｙ［式中、ＲＡは、Ｒ”’Ｏ又はＲ”’２Ｎを表し、ここで、Ｒ”’は、水素原子、あるいは、それぞれ窒素原子、酸素原子又は硫黄原子を含んでいてもよい、炭素数１〜２０の直鎖または分岐鎖のアルキル基、炭素数７〜１４のアラルキル基又は炭素数６〜１８のアリール基を表し、Ｍは、金属原子を表し、ｘおよびｙは、それぞれ独立して、１又は２の整数であり、かつ、ｘ＋ｙは３である。］で示されるリン酸エステル又はリン酸アミドの金属塩；
１−Ａ）（ａ）一般式［３’］においてＲ５’が保護された水酸基で置換されたメチル基である場合は、脱保護して、
（ｂ）一般式［３’］においてＲ５’が低級アルコキシカルボニル基である場合は、還元して、一般式［４］：
【化２５】
2014034868.tif 000189
［式中、各記号は前記と同義である。］
で示される化合物又はその塩を得、さらにハロゲン化するか；又は
１−Ｂ）一般式［３’］で示される化合物のＲ５’がメチル基である場合は、一般式［３’］で示される化合物をハロゲン化することにより、一般式［５’］：
【化２６】
2014034868.tif 000190
［式中、各記号は前記と同義である。］
で示されるビアリールテトラゾール誘導体又はその塩を製造し、
得られた一般式［５’］
で示されるビアリールテトラゾール誘導体又はその塩と、式［１２］：
【化２７】
2014034868.tif 000191
で示される化合物又はその塩を反応させて、一般式［１３］：
【化２８】
2014034868.tif 000192
［式中、記号は前記と同義である。］
で示される化合物又はその塩を得；
２−Ａ）一般式［１３］で示される化合物又はその塩を還元して、一般式［１４］：
【化２９】
2014034868.tif 000193
［式中、記号は前記と同義である。］
で示される化合物又はその塩を得、さらにＲ６を除去するか；又は、
２−Ｂ）一般式［１３］で示される化合物又はその塩のＲ６を除去して、式［１５］：
【化３０】
2014034868.tif 000194
で示される化合物又はその塩を得、さらに還元することを特徴とする、式［１６］：
【化３１】
2014034868.tif 000195
で示される化合物又はその塩の製造方法。
【請求項６】
１）一般式［１’］：
【化３２】
2014034868.tif 000196
［式中、Ｒ１ないしＲ４は、それぞれ、独立して、水素原子、あるいは、それぞれ置換基を有していてもよい、アルキル基、アラルキル基又はアリール基を表し、Ｒ６は、テトラゾリル基の保護基を表す。］
で示される２−フェニルテトラゾール誘導体又はその塩と、一般式［２’］： 
【化３３】
2014034868.tif 000197
［式中、Ｒ５’は、メチル基、保護された水酸基で置換されたメチル基又は低級アルコシキカルボニル基であり、Ｘ１は脱離基を表す。］
で示されるベンゼン誘導体を、金属触媒、塩基及び下記（ａ）〜（ｄ）からなる群より選ばれる１種以上の化合物の存在下に反応させて、一般式［３’］：
【化３４】
2014034868.tif 000198
［式中、各記号は前記と同義である。］
で示されるビアリールテトラゾール化合物又はその塩を製造し、
（ａ）モノカルボン酸の金属塩
（ｂ）ジカルボン酸の金属塩
（ｃ）スルホン酸の金属塩
（ｄ）ＲＡｘＰ（Ｏ）（ＯＭ）ｙ［式中、ＲＡは、Ｒ”’Ｏ又はＲ”’２Ｎを表し、ここで、Ｒ”’は、水素原子、あるいは、それぞれ窒素原子、酸素原子又は硫黄原子を含んでいてもよい、炭素数１〜２０の直鎖または分岐鎖のアルキル基、炭素数７〜１４のアラルキル基又は炭素数６〜１８のアリール基を表し、Ｍは、金属原子を表し、ｘおよびｙは、それぞれ独立して、１又は２の整数であり、かつ、ｘ＋ｙは３である。］で示されるリン酸エステル又はリン酸アミドの金属塩；
１−Ａ）（ａ）一般式［３’］においてＲ５’が保護された水酸基で置換されたメチル基である場合は、脱保護して、
（ｂ）一般式［３’］においてＲ５’が低級アルコキシカルボニル基である場合は、還元して、一般式［４］：
【化３５】
2014034868.tif 000199
［式中、各記号は前記と同義である。］
で示される化合物又はその塩を得、さらにハロゲン化するか；又は
１−Ｂ）一般式［３’］で示される化合物のＲ５’がメチル基である場合は、一般式［３’］で示される化合物をハロゲン化することにより一般式［５’］：
【化３６】
2014034868.tif 000200
［式中、各記号は前記と同義である。］
で示されるビアリールテトラゾール誘導体又はその塩を製造し、
得られた一般式［５’］で示されるビアリールテトラゾール誘導体又はその塩と、一般式［１７］：
【化３７】
2014034868.tif 000201
［式中、Ｒ７は、カルボキシ基の保護基を表す。］
で示される化合物又はその塩を反応させて、一般式［１８］：
【化３８】
2014034868.tif 000202
［式中、各記号は前記と同義である。］
で示される化合物又はその塩を得；
２−Ａ）一般式［１８］で示される化合物又はその塩のＲ６を除去して、一般式［１９］：
【化３９】
2014034868.tif 000203
［式中、記号は前記と同義である。］
で示される化合物又はその塩を得；
３−Ａ）一般式［１９］で示される化合物又はその塩と、一般式［２０］：ＣＨ３ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＯ−Ｘ３［式中、Ｘ３は脱離基を表す。］で示される化合物を反応させて、一般式［２１］：
【化４０】
2014034868.tif 000204
［式中、記号は前記と同義である。］
で示される化合物又はその塩を得；
４−Ａ）一般式［２１］で示される化合物又はその塩のＲ７を除去するか；又は２−Ｂ）一般式［１８］で示される化合物又はその塩と、一般式［２０］で示される化合物又はその塩を反応させ、一般式［２２］：
【化４１】
2014034868.tif 000205
［式中、各記号は前記と同義である。］
で示される化合物又はその塩を得；
３−Ｂ）一般式［２２］で示される化合物又はその塩のＲ６及びＲ７を除去することを特徴とする、式［２３］：
【化４２】
2014034868.tif 000206
で示される化合物又はその塩の製造方法。
【請求項７】
１）一般式［１’］：
【化４３】
2014034868.tif 000207
［式中、Ｒ１ないしＲ４は、それぞれ、独立して、水素原子、あるいは、それぞれ置換基を有していてもよい、アルキル基、アラルキル基又はアリール基を表し、Ｒ６は、テトラゾリル基の保護基を表す。］
で示される２−フェニルテトラゾール誘導体又はその塩と、一般式［２’］：
【化４４】
2014034868.tif 000208
［式中、Ｒ５’は、メチル基、保護された水酸基で置換されたメチル基又は低級アルコシキカルボニル基であり、Ｘ１は脱離基を表す。］
で示されるベンゼン誘導体を、金属触媒、塩基及び下記（ａ）〜（ｄ）からなる群より選ばれる１種以上の化合物の存在下に反応させて、一般式［３’］：
【化４５】
2014034868.tif 000209
［式中、各記号は前記と同義である。］
で示されるビアリールテトラゾール化合物又はその塩を製造し、
（ａ）モノカルボン酸の金属塩
（ｂ）ジカルボン酸の金属塩
（ｃ）スルホン酸の金属塩
（ｄ）ＲＡｘＰ（Ｏ）（ＯＭ）ｙ［式中、ＲＡは、Ｒ”’Ｏ又はＲ”’２Ｎを表し、ここで、Ｒ”’は、水素原子、あるいは、それぞれ窒素原子、酸素原子又は硫黄原子を含んでいてもよい、炭素数１〜２０の直鎖または分岐鎖のアルキル基、炭素数７〜１４のアラルキル基又は炭素数６〜１８のアリール基を表し、Ｍは、金属原子を表し、ｘおよびｙは、それぞれ独立して、１又は２の整数であり、かつ、ｘ＋ｙは３である。］で示されるリン酸エステル又はリン酸アミドの金属塩；
１−Ａ）（ａ）一般式［３’］においてＲ５’が保護された水酸基で置換されたメチル基である場合は、脱保護して、
（ｂ）一般式［３’］においてＲ５’が低級アルコキシカルボニル基である場合は、還元して、一般式［４］：
【化４６】
2014034868.tif 000210
［式中、各記号は前記と同義である。］
で示される化合物又はその塩を得、さらにハロゲン化するか；又は
１−Ｂ）一般式［３’］で示される化合物のＲ５’がメチル基である場合は、一般式［３’］で示される化合物をハロゲン化することにより、一般式［５’］：
【化４７】
2014034868.tif 000211
［式中、各記号は前記と同義である。］
で示されるビアリールテトラゾール誘導体又はその塩を製造し、
得られた一般式［５’］で示されるビアリールテトラゾール誘導体又はその塩と、式［２４］：
【化４８】
2014034868.tif 000212
で示される化合物又はその塩を反応させて、一般式［２５］：
【化４９】
2014034868.tif 000213
［式中、記号は前記と同義である。］
で示される化合物又はその塩を得、さらにＲ６を除去することを特徴とする、式［２６］：
【化５０】
2014034868.tif 000214
で示される化合物又はその塩の製造方法。
【請求項８】
１）一般式［１’］：
【化５１】
2014034868.tif 000215
［式中、Ｒ１ないしＲ４は、それぞれ、独立して、水素原子、あるいは、それぞれ置換基を有していてもよい、アルキル基、アラルキル基又はアリール基を表し、Ｒ６は、テトラゾリル基の保護基を表す。］
で示される２−フェニルテトラゾール誘導体又はその塩と、一般式［２’］：
【化５２】
2014034868.tif 000216
［式中、Ｒ５’は、メチル基、保護された水酸基で置換されたメチル基又は低級アルコシキカルボニル基であり、Ｘ１は脱離基を表す。］
で示されるベンゼン誘導体を、金属触媒、塩基及び下記（ａ）〜（ｄ）からなる群より選ばれる１種以上の化合物の存在下に反応させて、一般式［３’］：
【化５３】
2014034868.tif 000217
［式中、各記号は前記と同義である。］
で示されるビアリールテトラゾール化合物又はその塩を製造し、
（ａ）モノカルボン酸の金属塩
（ｂ）ジカルボン酸の金属塩
（ｃ）スルホン酸の金属塩
（ｄ）ＲＡｘＰ（Ｏ）（ＯＭ）ｙ［式中、ＲＡは、Ｒ”’Ｏ又はＲ”’２Ｎを表し、ここで、Ｒ”’は、水素原子、あるいは、それぞれ窒素原子、酸素原子又は硫黄原子を含んでいてもよい、炭素数１〜２０の直鎖または分岐鎖のアルキル基、炭素数７〜１４のアラルキル基又は炭素数６〜１８のアリール基を表し、Ｍは、金属原子を表し、ｘおよびｙは、それぞれ独立して、１又は２の整数であり、かつ、ｘ＋ｙは３である。］で示されるリン酸エステル又はリン酸アミドの金属塩；
１−Ａ）（ａ）一般式［３’］においてＲ５’が保護された水酸基で置換されたメチル基である場合は、脱保護して、
（ｂ）一般式［３’］においてＲ５’が低級アルコキシカルボニル基である場合は、還元して、一般式［４］：
【化５４】
2014034868.tif 000218
［式中、各記号は前記と同義である。］
で示される化合物又はその塩を得、さらにハロゲン化するか；又は
１−Ｂ）一般式［３’］で示される化合物のＲ５’がメチル基である場合は、一般式［３’］で示される化合物をハロゲン化することにより、一般式［５’］：
【化５５】
2014034868.tif 000219
［式中、各記号は前記と同義である。］
で示されるビアリールテトラゾール誘導体又はその塩を製造し、
得られた一般式［５’］で示されるビアリールテトラゾール誘導体又はその塩と、一般式［Ｘ］：
【化５６】
2014034868.tif 000220
［式中、Ｒ８はカルボキシ基の保護基を表す。］
で示される化合物又はその塩を反応させて、一般式［３１］：
【化５７】
2014034868.tif 000221
［式中、各記号は前記と同義である。］
で示される化合物又はその塩を得；
２）一般式［３１］で示される化合物又はその塩のＲ８を除去して、一般式［３２］：
【化５８】
2014034868.tif 000222
［式中、記号は前記と同義である。］
で示される化合物又はその塩を得；
３）一般式［３２］で示される化合物又はその塩と、一般式［３３］：
【化５９】
2014034868.tif 000223
［式中、Ｘ４は脱離基又は水酸基を表す。］
で示される化合物又はその塩を反応させて、一般式［３４］：
【化６０】
2014034868.tif 000224
［式中、記号は前記と同義である。］
で示される化合物又はその塩を得；
４）一般式［３４］で示される化合物又はその塩のＲ６を除去することを特徴とする、式［３５］：
【化６１】
2014034868.tif 000225
で示される化合物又はその塩の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０２８２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０２８２】
１−ベンジル−５−フェニル−１Ｈ−テトラゾール（ＨＢＴ，５ｇ，２１．２ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム（２．９３ｇ，２１．２ｍｍｏｌ）、トリフェニルホスフィン（０．１７８ｇ、０．６８ｍｍｏｌ）、ｐ−ブロモベンジルアセタート（ＢＢＡ，５．３３ｇ，２３．３ｍｍｏｌ）、ビス（２−エチルヘキシル）リン酸カリウム（０．０９９ｇ、０．２８ｍｍｏｌ）およびＮ−メチル−２−ピロリドン（２０ｍＬ）の混合物を、窒素雰囲気下１３８℃まで加熱し、塩化ルテニウム（ＩＩＩ）水和物（０．０５７ｇ，０．２４ｍｍｏｌ）を加えて同温度で５分間攪拌した後、ビス（２−エチルヘキシル）リン酸（１．４６ｇ、４．５２ｍｍｏｌ）のＮ−メチル−２−ピロリドン（５ｍＬ）溶液を加えて６時間攪拌した。実施例１と同じ操作を行いＢＡＣの粗生成物（９．８ｇ，理論収量の１２０．５％）を暗褐色油状物として得た。本反応の変換率は８５．７％であった［ＢＡＣ：ＤＢＡＣ＝９４：６］。
【手続補正書】
【提出日】平成28年3月16日(2016.3.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一般式［１’］：
【化１】
2014034868.tif 000226
［式中、Ｒ１ないしＲ４は、それぞれ、独立して、水素原子、あるいは、それぞれ置換基を有していてもよい、アルキル基、アラルキル基又はアリール基を表し、Ｒ６は、テトラゾリル基の保護基を表す。］
で示される２−フェニルテトラゾール誘導体又はその塩と、一般式［２’］： 
【化２】
2014034868.tif 000227
［式中、Ｒ５’は、メチル基、保護された水酸基で置換されたメチル基又は低級アルコシキカルボニル基であり、Ｘ１は脱離基を表す。］
で示されるベンゼン誘導体を、金属触媒、塩基及び下記（ａ）〜（ｄ）からなる群より選ばれる１種以上の化合物の存在下に反応させることを特徴とする、一般式［３’］：
【化３】
2014034868.tif 000228
［式中、各記号は前記と同義である。］
で示されるビアリールテトラゾール化合物又はその塩の製造方法。
（ａ）モノカルボン酸の金属塩
（ｂ）ジカルボン酸の金属塩
（ｃ）スルホン酸の金属塩
（ｄ）ＲＡｘＰ（Ｏ）（ＯＭ）ｙ［式中、ＲＡは、Ｒ”’Ｏ又はＲ”’２Ｎを表し、ここで、Ｒ”’は、水素原子、あるいは、それぞれ窒素原子、酸素原子又は硫黄原子を含んでいてもよい、炭素数１〜２０の直鎖または分岐鎖のアルキル基、炭素数７〜１４のアラルキル基又は炭素数６〜１８のアリール基を表し、Ｍは、金属原子を表し、ｘおよびｙは、それぞれ独立して、１又は２の整数であり、かつ、ｘ＋ｙは３である。］で示されるリン酸エステル又はリン酸アミドの金属塩
【請求項２】
さらに、ホスフィン系化合物が存在する条件下で反応させることを特徴とする、請求項１記載の製造方法。
【請求項３】
１）一般式［１’］：
【化４】
2014034868.tif 000229
［式中、Ｒ１ないしＲ４は、それぞれ、独立して、水素原子、あるいは、それぞれ置換基を有していてもよい、アルキル基、アラルキル基又はアリール基を表し、Ｒ６は、テトラゾリル基の保護基を表す。］
で示される２−フェニルテトラゾール誘導体又はその塩と、一般式［２’］：
【化５】
2014034868.tif 000230
［式中、Ｒ５’は、メチル基、保護された水酸基で置換されたメチル基又は低級アルコシキカルボニル基であり、Ｘ１は脱離基を表す。］
で示されるベンゼン誘導体を、金属触媒、塩基及び下記（ａ）〜（ｄ）からなる群より選ばれる１種以上の化合物の存在下に反応させて、一般式［３’］：
【化６】
2014034868.tif 000231
［式中、各記号は前記と同義である。］
で示されるビアリールテトラゾール化合物又はその塩を製造し、
（ａ）モノカルボン酸の金属塩
（ｂ）ジカルボン酸の金属塩
（ｃ）スルホン酸の金属塩
（ｄ）ＲＡｘＰ（Ｏ）（ＯＭ）ｙ［式中、ＲＡは、Ｒ”’Ｏ又はＲ”’２Ｎを表し、ここで、Ｒ”’は、水素原子、あるいは、それぞれ窒素原子、酸素原子又は硫黄原子を含んでいてもよい、炭素数１〜２０の直鎖または分岐鎖のアルキル基、炭素数７〜１４のアラルキル基又は炭素数６〜１８のアリール基を表し、Ｍは、金属原子を表し、ｘおよびｙは、それぞれ独立して、１又は２の整数であり、かつ、ｘ＋ｙは３である。］で示されるリン酸エステル又はリン酸アミドの金属塩；
１−Ａ）（ａ）一般式［３’］においてＲ５’が保護された水酸基で置換されたメチル基である場合は、脱保護して、
（ｂ）一般式［３’］においてＲ５’が低級アルコキシカルボニル基である場合は、還元して、
一般式［４］：
【化７】
2014034868.tif 000232
［式中、各記号は前記と同義である。］
で示される化合物又はその塩を得、さらにハロゲン化するか；又は
１−Ｂ）一般式［３’］で示される化合物のＲ５’がメチル基である場合は、一般式［３’］で示される化合物をハロゲン化することを特徴とする、一般式［５］：
【化８】
2014034868.tif 000233
［式中、Ｘ２は、ハロゲン原子を表し、Ｒ１ないしＲ４およびＲ６は、前記と同義である。］
で示されるビアリールテトラゾール誘導体又はその塩の製造方法。
【請求項４】
１）一般式［１’］：
【化９】
2014034868.tif 000234
［式中、Ｒ１ないしＲ４は、それぞれ、水素原子を表し、Ｒ６は、テトラゾリル基の保護基を表す。］
で示される２−フェニルテトラゾール誘導体又はその塩と、一般式［２’］：
【化１０】
2014034868.tif 000235
［式中、Ｒ５’は、メチル基、保護された水酸基で置換されたメチル基又は低級アルコシキカルボニル基であり、Ｘ１は脱離基を表す。］
で示されるベンゼン誘導体を、金属触媒、塩基及び下記（ａ）〜（ｄ）からなる群より選ばれる１種以上の化合物の存在下に反応させて、一般式［３’］：
【化１１】
2014034868.tif 000236
［式中、各記号は前記と同義である。］
で示されるビアリールテトラゾール化合物又はその塩を製造し、
（ａ）モノカルボン酸の金属塩
（ｂ）ジカルボン酸の金属塩
（ｃ）スルホン酸の金属塩
（ｄ）ＲＡｘＰ（Ｏ）（ＯＭ）ｙ［式中、ＲＡは、Ｒ”’Ｏ又はＲ”’２Ｎを表し、ここで、Ｒ”’は、水素原子、あるいは、それぞれ窒素原子、酸素原子又は硫黄原子を含んでいてもよい、炭素数１〜２０の直鎖または分岐鎖のアルキル基、炭素数７〜１４のアラルキル基又は炭素数６〜１８のアリール基を表し、Ｍは、金属原子を表し、ｘおよびｙは、それぞれ独立して、１又は２の整数であり、かつ、ｘ＋ｙは３である。］で示されるリン酸エステル又はリン酸アミドの金属塩；
１−Ａ）（ａ）一般式［３’］においてＲ５’が保護された水酸基で置換されたメチル基である場合は、脱保護して、
（ｂ）一般式［３’］においてＲ５’が低級アルコキシカルボニル基である場合は、還元して、一般式［４］：
【化１２】
2014034868.tif 000237
［式中、各記号は前記と同義である。］
で示される化合物又はその塩を得、さらにハロゲン化するか；又は
１−Ｂ）一般式［３’］で示される化合物のＲ５’がメチル基である場合は、一般式［３’］で示される化合物をハロゲン化することにより一般式［５’］：
【化１３】
2014034868.tif 000238
［式中、Ｘ２は、ハロゲン原子を表し、Ｒ６は前記と同義である。］
で示されるビアリールテトラゾール誘導体又はその塩を製造し、
得られた一般式［５’］
で示されるビアリールテトラゾール誘導体又はその塩と、一般式［６］：
【化１４】
2014034868.tif 000239
［式中、Ｒ１０は、カルボキシ基の保護基を示す。］
で示される化合物又はその塩を反応させて、一般式［７］：
【化１５】
2014034868.tif 000240
［式中、各記号は前記と同義である。］
で示される化合物又はその塩を得；
２）一般式［７］で示される化合物又はその塩のＲ６を除去して、一般式［Ｙ１］：
【化１６】
2014034868.tif 000241
［式中、記号は前記と同義である。］
で示される化合物又はその塩を得；
３）一般式［Ｙ１］で示される化合物又はその塩を、一般式［Ｙ３］：Ｒ６’−Ｘ５［式中、Ｒ６’はトリチル基を表し、Ｘ５はハロゲン原子を表す。］で示される化合物と反応させて、一般式［Ｙ２］：
【化１７】
2014034868.tif 000242
［式中、各記号は前記と同義である。］
で示される化合物又はその塩を得；
４）一般式［Ｙ２］で示される化合物又はその塩を加水分解して、一般式［８’］：
【化１８】
2014034868.tif 000243
［式中、記号は前記と同義である。］
で示される化合物又はその塩を得；
５）一般式［８’］で示される化合物又はその塩と式［９］：
【化１９】
2014034868.tif 000244
で示される化合物を反応させて、一般式［１０’］：
【化２０】
2014034868.tif 000245
［式中、記号は前記と同義である。］
で示される化合物又はその塩を得；
６）一般式［１０’］で示される化合物又はその塩のＲ６’を除去することを特徴とする、式
［１１］：
【化２１】
2014034868.tif 000246
で示される化合物又はその塩の製造方法。
【請求項５】
１）一般式［１’］：
【化２２】
2014034868.tif 000247
［式中、Ｒ１ないしＲ４は、それぞれ、水素原子を表し、Ｒ６は、テトラゾリル基の保護基を表す。］
で示される２−フェニルテトラゾール誘導体又はその塩と、一般式［２’］：
【化２３】
2014034868.tif 000248
［式中、Ｒ５’は、メチル基、保護された水酸基で置換されたメチル基又は低級アルコシキカルボニル基であり、Ｘ１は脱離基を表す。］
で示されるベンゼン誘導体を、金属触媒、塩基及び下記（ａ）〜（ｄ）からなる群より選ばれる１種以上の化合物の存在下に反応させて、一般式［３’］：
【化２４】
2014034868.tif 000249
［式中、各記号は前記と同義である。］
で示されるビアリールテトラゾール化合物又はその塩を製造し、
（ａ）モノカルボン酸の金属塩
（ｂ）ジカルボン酸の金属塩
（ｃ）スルホン酸の金属塩
（ｄ）ＲＡｘＰ（Ｏ）（ＯＭ）ｙ［式中、ＲＡは、Ｒ”’Ｏ又はＲ”’２Ｎを表し、ここで、Ｒ”’は、水素原子、あるいは、それぞれ窒素原子、酸素原子又は硫黄原子を含んでいてもよい、炭素数１〜２０の直鎖または分岐鎖のアルキル基、炭素数７〜１４のアラルキル基又は炭素数６〜１８のアリール基を表し、Ｍは、金属原子を表し、ｘおよびｙは、それぞれ独立して、１又は２の整数であり、かつ、ｘ＋ｙは３である。］で示されるリン酸エステル又はリン酸アミドの金属塩；
１−Ａ）（ａ）一般式［３’］においてＲ５’が保護された水酸基で置換されたメチル基である場合は、脱保護して、
（ｂ）一般式［３’］においてＲ５’が低級アルコキシカルボニル基である場合は、還元して、一般式［４］：
【化２５】
2014034868.tif 000250
［式中、各記号は前記と同義である。］
で示される化合物又はその塩を得、さらにハロゲン化するか；又は
１−Ｂ）一般式［３’］で示される化合物のＲ５’がメチル基である場合は、一般式［３’］で示される化合物をハロゲン化することにより、一般式［５’］：
【化２６】
2014034868.tif 000251
［式中、Ｘ２は、ハロゲン原子を表し、Ｒ６は前記と同義である。］
で示されるビアリールテトラゾール誘導体又はその塩を製造し、
得られた一般式［５’］
で示されるビアリールテトラゾール誘導体又はその塩と、式［１２］：
【化２７】
2014034868.tif 000252
で示される化合物又はその塩を反応させて、一般式［１３］：
【化２８】
2014034868.tif 000253
［式中、記号は前記と同義である。］
で示される化合物又はその塩を得；
２−Ａ）一般式［１３］で示される化合物又はその塩を還元して、一般式［１４］：
【化２９】
2014034868.tif 000254
［式中、記号は前記と同義である。］
で示される化合物又はその塩を得、さらにＲ６を除去するか；又は、
２−Ｂ）一般式［１３］で示される化合物又はその塩のＲ６を除去して、式［１５］：
【化３０】
2014034868.tif 000255
で示される化合物又はその塩を得、さらに還元することを特徴とする、式［１６］：
【化３１】
2014034868.tif 000256
で示される化合物又はその塩の製造方法。
【請求項６】
１）一般式［１’］：
【化３２】
2014034868.tif 000257
［式中、Ｒ１ないしＲ４は、それぞれ、水素原子を表し、Ｒ６は、テトラゾリル基の保護基を表す。］
で示される２−フェニルテトラゾール誘導体又はその塩と、一般式［２’］： 
【化３３】
2014034868.tif 000258
［式中、Ｒ５’は、メチル基、保護された水酸基で置換されたメチル基又は低級アルコシキカルボニル基であり、Ｘ１は脱離基を表す。］
で示されるベンゼン誘導体を、金属触媒、塩基及び下記（ａ）〜（ｄ）からなる群より選ばれる１種以上の化合物の存在下に反応させて、一般式［３’］：
【化３４】
2014034868.tif 000259
［式中、各記号は前記と同義である。］
で示されるビアリールテトラゾール化合物又はその塩を製造し、
（ａ）モノカルボン酸の金属塩
（ｂ）ジカルボン酸の金属塩
（ｃ）スルホン酸の金属塩
（ｄ）ＲＡｘＰ（Ｏ）（ＯＭ）ｙ［式中、ＲＡは、Ｒ”’Ｏ又はＲ”’２Ｎを表し、ここで、Ｒ”’は、水素原子、あるいは、それぞれ窒素原子、酸素原子又は硫黄原子を含んでいてもよい、炭素数１〜２０の直鎖または分岐鎖のアルキル基、炭素数７〜１４のアラルキル基又は炭素数６〜１８のアリール基を表し、Ｍは、金属原子を表し、ｘおよびｙは、それぞれ独立して、１又は２の整数であり、かつ、ｘ＋ｙは３である。］で示されるリン酸エステル又はリン酸アミドの金属塩；
１−Ａ）（ａ）一般式［３’］においてＲ５’が保護された水酸基で置換されたメチル基である場合は、脱保護して、
（ｂ）一般式［３’］においてＲ５’が低級アルコキシカルボニル基である場合は、還元して、一般式［４］：
【化３５】
2014034868.tif 000260
［式中、各記号は前記と同義である。］
で示される化合物又はその塩を得、さらにハロゲン化するか；又は
１−Ｂ）一般式［３’］で示される化合物のＲ５’がメチル基である場合は、一般式［３’］で示される化合物をハロゲン化することにより一般式［５’］：
【化３６】
2014034868.tif 000261
［式中、Ｘ２は、ハロゲン原子を表し、Ｒ６は前記と同義である。］
で示されるビアリールテトラゾール誘導体又はその塩を製造し、
得られた一般式［５’］で示されるビアリールテトラゾール誘導体又はその塩と、一般式［１７］：
【化３７】
2014034868.tif 000262
［式中、Ｒ７は、カルボキシ基の保護基を表す。］
で示される化合物又はその塩を反応させて、一般式［１８］：
【化３８】
2014034868.tif 000263
［式中、各記号は前記と同義である。］
で示される化合物又はその塩を得；
２−Ａ）一般式［１８］で示される化合物又はその塩のＲ６を除去して、一般式［１９］：
【化３９】
2014034868.tif 000264
［式中、記号は前記と同義である。］
で示される化合物又はその塩を得；
３−Ａ）一般式［１９］で示される化合物又はその塩と、一般式［２０］：ＣＨ３ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＯ−Ｘ３［式中、Ｘ３は脱離基を表す。］で示される化合物を反応させて、一般式［２１］：
【化４０】
2014034868.tif 000265
［式中、記号は前記と同義である。］
で示される化合物又はその塩を得；
４−Ａ）一般式［２１］で示される化合物又はその塩のＲ７を除去するか；又は２−Ｂ）一般式［１８］で示される化合物又はその塩と、一般式［２０］で示される化合物又はその塩を反応させ、一般式［２２］：
【化４１】
2014034868.tif 000266
［式中、各記号は前記と同義である。］
で示される化合物又はその塩を得；
３−Ｂ）一般式［２２］で示される化合物又はその塩のＲ６及びＲ７を除去することを特徴とする、式［２３］：
【化４２】
2014034868.tif 000267
で示される化合物又はその塩の製造方法。
【請求項７】
１）一般式［１’］：
【化４３】
2014034868.tif 000268
［式中、Ｒ１ないしＲ４は、それぞれ、水素原子を表し、Ｒ６は、テトラゾリル基の保護基を表す。］
で示される２−フェニルテトラゾール誘導体又はその塩と、一般式［２’］：
【化４４】
2014034868.tif 000269
［式中、Ｒ５’は、メチル基、保護された水酸基で置換されたメチル基又は低級アルコシキカルボニル基であり、Ｘ１は脱離基を表す。］
で示されるベンゼン誘導体を、金属触媒、塩基及び下記（ａ）〜（ｄ）からなる群より選ばれる１種以上の化合物の存在下に反応させて、一般式［３’］：
【化４５】
2014034868.tif 000270
［式中、各記号は前記と同義である。］
で示されるビアリールテトラゾール化合物又はその塩を製造し、
（ａ）モノカルボン酸の金属塩
（ｂ）ジカルボン酸の金属塩
（ｃ）スルホン酸の金属塩
（ｄ）ＲＡｘＰ（Ｏ）（ＯＭ）ｙ［式中、ＲＡは、Ｒ”’Ｏ又はＲ”’２Ｎを表し、ここで、Ｒ”’は、水素原子、あるいは、それぞれ窒素原子、酸素原子又は硫黄原子を含んでいてもよい、炭素数１〜２０の直鎖または分岐鎖のアルキル基、炭素数７〜１４のアラルキル基又は炭素数６〜１８のアリール基を表し、Ｍは、金属原子を表し、ｘおよびｙは、それぞれ独立して、１又は２の整数であり、かつ、ｘ＋ｙは３である。］で示されるリン酸エステル又はリン酸アミドの金属塩；
１−Ａ）（ａ）一般式［３’］においてＲ５’が保護された水酸基で置換されたメチル基である場合は、脱保護して、
（ｂ）一般式［３’］においてＲ５’が低級アルコキシカルボニル基である場合は、還元して、一般式［４］：
【化４６】
2014034868.tif 000271
［式中、各記号は前記と同義である。］
で示される化合物又はその塩を得、さらにハロゲン化するか；又は
１−Ｂ）一般式［３’］で示される化合物のＲ５’がメチル基である場合は、一般式［３’］で示される化合物をハロゲン化することにより、一般式［５’］：
【化４７】
2014034868.tif 000272
［式中、Ｘ２は、ハロゲン原子を表し、Ｒ６は前記と同義である。］
で示されるビアリールテトラゾール誘導体又はその塩を製造し、
得られた一般式［５’］で示されるビアリールテトラゾール誘導体又はその塩と、式［２４］：
【化４８】
2014034868.tif 000273
で示される化合物又はその塩を反応させて、一般式［２５］：
【化４９】
2014034868.tif 000274
［式中、記号は前記と同義である。］
で示される化合物又はその塩を得、さらにＲ６を除去することを特徴とする、式［２６］：
【化５０】
2014034868.tif 000275
で示される化合物又はその塩の製造方法。
【請求項８】
１）一般式［１’］：
【化５１】
2014034868.tif 000276
［式中、Ｒ１ないしＲ４は、それぞれ、水素原子を表し、Ｒ６は、テトラゾリル基の保護基を表す。］
で示される２−フェニルテトラゾール誘導体又はその塩と、一般式［２’］：
【化５２】
2014034868.tif 000277
［式中、Ｒ５’は、メチル基、保護された水酸基で置換されたメチル基又は低級アルコシキカルボニル基であり、Ｘ１は脱離基を表す。］
で示されるベンゼン誘導体を、金属触媒、塩基及び下記（ａ）〜（ｄ）からなる群より選ばれる１種以上の化合物の存在下に反応させて、一般式［３’］：
【化５３】
2014034868.tif 000278
［式中、各記号は前記と同義である。］
で示されるビアリールテトラゾール化合物又はその塩を製造し、
（ａ）モノカルボン酸の金属塩
（ｂ）ジカルボン酸の金属塩
（ｃ）スルホン酸の金属塩
（ｄ）ＲＡｘＰ（Ｏ）（ＯＭ）ｙ［式中、ＲＡは、Ｒ”’Ｏ又はＲ”’２Ｎを表し、ここで、Ｒ”’は、水素原子、あるいは、それぞれ窒素原子、酸素原子又は硫黄原子を含んでいてもよい、炭素数１〜２０の直鎖または分岐鎖のアルキル基、炭素数７〜１４のアラルキル基又は炭素数６〜１８のアリール基を表し、Ｍは、金属原子を表し、ｘおよびｙは、それぞれ独立して、１又は２の整数であり、かつ、ｘ＋ｙは３である。］で示されるリン酸エステル又はリン酸アミドの金属塩；
１−Ａ）（ａ）一般式［３’］においてＲ５’が保護された水酸基で置換されたメチル基である場合は、脱保護して、
（ｂ）一般式［３’］においてＲ５’が低級アルコキシカルボニル基である場合は、還元して、一般式［４］：
【化５４】
2014034868.tif 000279
［式中、各記号は前記と同義である。］
で示される化合物又はその塩を得、さらにハロゲン化するか；又は
１−Ｂ）一般式［３’］で示される化合物のＲ５’がメチル基である場合は、一般式［３’］で示される化合物をハロゲン化することにより、一般式［５’］：
【化５５】
2014034868.tif 000280
［式中、Ｘ２は、ハロゲン原子を表し、Ｒ６は前記と同義である。］
で示されるビアリールテトラゾール誘導体又はその塩を製造し、
得られた一般式［５’］で示されるビアリールテトラゾール誘導体又はその塩と、一般式［Ｘ］：
【化５６】
2014034868.tif 000281
［式中、Ｒ８はカルボキシ基の保護基を表す。］
で示される化合物又はその塩を反応させて、一般式［３１］：
【化５７】
2014034868.tif 000282
［式中、各記号は前記と同義である。］
で示される化合物又はその塩を得；
２）一般式［３１］で示される化合物又はその塩のＲ８を除去して、一般式［３２］：
【化５８】
2014034868.tif 000283
［式中、記号は前記と同義である。］
で示される化合物又はその塩を得；
３）一般式［３２］で示される化合物又はその塩と、一般式［３３］：
【化５９】
2014034868.tif 000284
［式中、Ｘ４は脱離基又は水酸基を表す。］
で示される化合物又はその塩を反応させて、一般式［３４］：
【化６０】
2014034868.tif 000285
［式中、記号は前記と同義である。］
で示される化合物又はその塩を得；
４）一般式［３４］で示される化合物又はその塩のＲ６を除去することを特徴とする、式［３５］：
【化６１】
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で示される化合物又はその塩の製造方法。
【国際調査報告】
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