【手続補正書】
【提出日】平成27年8月18日(2015.8.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
円筒状サブストレートの内側壁に沿って円筒状サブストレートの上側エッジと下側エッジのうちの一方から上側エッジと下側エッジのうちのもう一方まで第１のヘリカル方向で実質的に平行な軌道でスパイラルしている第１の複数ワイヤ周回から構成された第１のコイル層であって、該第１の複数ワイヤ周回はサブストレートを横断し次いで円筒状サブストレートの外側壁に沿って第２のヘリカル方向で上側エッジと下側エッジのうちの該一方までスパイラルしており、これにより第１の複数ワイヤ周回内の各ワイヤ周回が円筒状サブストレートの側壁に沿ってサークルとなると共に内側壁に沿って巻かれた第１の部分及び外側壁に沿って巻かれた第２の部分を含むようにしている、第１のコイル層と、
円筒状サブストレートの内側壁に沿って円筒状サブストレートの上側エッジと下側エッジのうちの一方から上側エッジと下側エッジのうちのもう一方まで第２のヘリカル方向で実質的に平行な軌道でスパイラルしている第２の複数ワイヤ周回から構成された第２のコイル層であって、該第２の複数ワイヤ周回はサブストレートを横断し次いで円筒状サブストレートの外側壁に沿って第１のヘリカル方向で上側エッジと下側エッジのうちの該一方までスパイラルしており、これにより第２の複数ワイヤ周回内の各ワイヤ周回が円筒状サブストレートの側壁に沿ってサークルとなると共に内側壁に沿って巻かれた第１の部分及び外側壁に沿って巻かれた第２の部分を含むようにしている、第２のコイル層と、
を備える傾斜コイル。
【請求項２】
第１の複数ワイヤ周回及び第２の複数ワイヤ周回内の各ワイヤ周回の第１の部分によって傾斜コイルの主コイルが形成されており、かつ第１の複数ワイヤ周回及び第２の複数ワイヤ周回内の各ワイヤ周回の第２の部分によって傾斜コイルの遮蔽コイルが形成されている、請求項１に記載の傾斜コイル。
【請求項３】
前記第１のヘリカル方向と第２のヘリカル方向は互いに反対である、請求項１または２に記載の傾斜コイル。
【請求項４】
第１の複数ワイヤ周回及び第２の複数ワイヤ周回内の各ワイヤ周回の前記第２の部分は、サブストレートを横断すると共に、次のワイヤ周回の第１の部分に接続されている、請求項１乃至３のいずれかに記載の傾斜コイル。
【請求項５】
第１のコイル層内の電流の方向が第２のコイル層内の電流の方向と同じである、請求項１乃至４のいずれかに記載の傾斜コイル。
【請求項６】
前記第１の複数ワイヤ周回内の各ワイヤ周回の第１の部分と第２の複数ワイヤ周回内の各ワイヤ周回の第１の部分とがサブストレートの内側壁上でメッシュを形成するように重ね合わせられており、かつ第１の複数ワイヤ周回内の各ワイヤ周回の第２の部分と第２の複数ワイヤ周回内の各ワイヤ周回の第２の部分とがサブストレートの外側壁上でメッシュを形成するように重ね合わせられている、請求項１乃至５のいずれかに記載の傾斜コイル。
【請求項７】
前記第１のコイル層及び第２のコイル層は、主コイルと遮蔽コイルがサブストレートの軸方向において実質的にゼロの電流成分を有するように構成されている、請求項２に記載の傾斜コイル。
【請求項８】
前記第１のコイル層及び第２のコイル層は、主コイルと遮蔽コイルがサブストレートの側壁の円周方向において、漏れ磁場を最小化する電流成分を有するように構成されている、請求項２に記載の傾斜コイル。
【請求項９】
Ｘ傾斜コイル、Ｙ傾斜コイル及び／又は、Ｚ傾斜コイルとした請求項１乃至８のいずれかに記載の傾斜コイル。
【請求項１０】
さらに、第１及び／または第２のコイル層と同一平面にあると共に第１及び／または第２のコイル層のワイヤに対して平行なスパイラル軌道で挿入されたパッシブシムを備える請求項１乃至９のいずれかに記載の傾斜コイル。
【請求項１１】
パッシブシム用のスロットが主コイルと遮蔽コイルのワイヤ間を通っている、請求項２に記載の傾斜コイル。
【請求項１２】
その端部上に低次のパッシブシムが配置されている、請求項１乃至１１のいずれかに記載の傾斜コイル。
【請求項１３】
従来式Ｇｏｌａｙ巻き線またはクレセントコイルと組み合わせられている請求項１乃至１２のいずれかに記載の傾斜コイル。
【請求項１４】
第１のコイル層と第２のコイル層の間で導体がクロスしている、あるいは第１のコイル層と第２のコイル層の間に電気接続が作成されている、請求項１乃至１３のいずれかに記載の傾斜コイル。
【請求項１５】
サブストレートの端部までスロットを切り入れて傾斜コイルの幾つかのワイヤが該端部に達しないようにしている、請求項１乃至１４のいずれかに記載の傾斜コイル。
【請求項１６】
患者の肩を収容するようにサブストレートの端部まで切り抜きが製作されている、請求項１乃至１５のいずれかに記載の傾斜コイル。
【請求項１７】
その幾つかのワイヤが、視野域のサイズ、形状または位置を変更するために前記ワイヤの極性を切替えまたは変更可能とするように選択されている、請求項１乃至１６のいずれかに記載の傾斜コイル。
【請求項１８】
その幾つかのワイヤが、前記ワイヤを並列に駆動可能とするように選択されている、請求項１乃至１７のいずれかに記載の傾斜コイル。
【請求項１９】
前記サブストレートは、サブストレートの長さ方向で複数の傾斜コイルを直列に配列可能とするように細分されている、請求項１乃至１８のいずれかに記載の傾斜コイル。
【請求項２０】
そのワイヤが、単一線状導体、多心線状導体、中空の導体あるいは金属プレートから機械加工されたものである、請求項１乃至１９のいずれかに記載の傾斜コイル。
【請求項２１】
そのワイヤが高温または低温の超伝導材料から巻き付けられている、請求項１乃至２０のいずれかに記載の傾斜コイル。
【請求項２２】
さらに、そのワイヤの間でスパイラル構成で巻き付けられた冷却チューブを備える請求項１乃至２１のいずれかに記載の傾斜コイル。
【請求項２３】
第１の複数ワイヤ周回及び第２の複数ワイヤ周回内の各ワイヤ周回の第１の部分により区画されるアジマス角はその第２の部分により区画されるアジマス角より大きい、請求項１乃至２２のいずれかに記載の傾斜コイル。
【請求項２４】
請求項１乃至２３のいずれかに記載の傾斜コイルであるＸ傾斜コイルと、
請求項１乃至２３のいずれかに記載の傾斜コイルであるＹ傾斜コイルと、
を備えるＭＲ装置。
【請求項２５】
前記Ｙ傾斜コイルは前記Ｘ傾斜コイルと同じサブストレートを共有しており、かつ前記Ｙ傾斜のワイヤは前記Ｘ傾斜コイルのワイヤと交互配置されている、請求項２４に記載のＭＲ装置。
【請求項２６】
さらに、同じく請求項１乃至２３のいずれかに記載の傾斜コイルであるＺ傾斜コイルを備える請求項２４または２５に記載のＭＲ装置。
【請求項２７】
前記Ｚ傾斜コイルはＸ及びＹ傾斜コイルの内部に封入または部分的に封入されている、請求項２６に記載のＭＲ装置。
【請求項２８】
さらに、Ｘ及びＹ傾斜コイルの内部に封入または部分的に封入された室温シムコイルを備える請求項２４乃至２７のいずれかに記載のＭＲ装置。
【請求項２９】
前記Ｘ及びＹ傾斜コイルは、ＸＹ平面の周りで非対称な幾何学構成を有する、請求項２４乃至２８のいずれかに記載のＭＲ装置。
【請求項３０】
さらに、閉所恐怖症の軽減あるいはＲＦコイルまたは追加の撮像装置の据え付けを可能にするようにその中央部分が張り出しているボアを備え、
前記追加の撮像装置は、ＰＥＴスキャナまたは集束式超音波デバイスを含む、請求項２４乃至２９のいずれかに記載のＭＲ装置。