(57)【要約】  本発明による静電容量式タッチパネル基板１０は、透光性基板１と、透光性基板１の一方の面上に設けられた複数の第１方向透明電極単位２ａと、第１方向透明電極単位２ａ同士を接続する第１方向接続部３ａと、第１方向透明電極単位２ａと同一面に形成された複数の第２方向透明電極単位２ｂと、第２方向透明電極単位２ｂ同士を接続する第２方向接続部３ｂと、低反射層６と、を有している。第２方向接続部３ｂは、第１方向接続部３ａとは絶縁層４を介して絶縁され、反射性導電性層５を含んでいる。低反射層６は、国際照明委員会ＣＩＥによる、標準光源Ｃを用いたＹｘｙ表色系でのＹ値が、１０％以下となる低反射性を示し、透光性基板１の一方の面に垂直な方向から観察したときに、反射性導電性層５と少なくとも部分的に重なっている。
2013179955.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１面と前記第１面とは反対側の第２面とを有する透光性基板と、
前記透光性基板の前記第１面及び第２面のいずれか一方の面上に、第１方向に配列された複数の第１方向透明電極単位と、
前記第１方向透明電極単位と同一材料で同一面に形成され、前記第１方向透明電極単位同士を接続する第１方向接続部と、
前記第１方向透明電極単位と同一材料で同一面に形成され、前記第１方向透明電極単位の間に位置すると共に前記第１方向接続部の間に位置して、前記第１方向と交差する第２方向に配列された複数の第２方向透明電極単位と、
前記第２方向透明電極単位同士を接続し、前記第１方向接続部とは絶縁層を介して絶縁され、反射性導電性層を含む第２方向接続部と、
国際照明委員会ＣＩＥによる、標準光源Ｃを用いたＹｘｙ表色系でのＹ値が、１０％以下となる低反射性を示し、前記透光性基板の前記一方の面に垂直な方向から観察したときに、前記反射性導電性層の少なくとも一部と重なる低反射層と、
を有する、静電容量式タッチパネル基板。
【請求項２】
前記低反射層と前記反射性導電性層との重なる部分の面積が、前記反射性導電性層の面積の３０％以上である、請求項１に記載の静電容量式タッチパネル基板。
【請求項３】
前記透光性基板の前記一方の面に垂直な方向から観察したときの前記低反射層の外輪郭形状が、前記反射性導電性層の外輪郭形状を内側に含む、請求項１又は２に記載の静電容量式タッチパネル基板。
【請求項４】
前記第１方向透明電極単位及び第２方向透明電極単位が配列された位置検知領域の外周部であって前記透光性基板の前記一方の面上に、加飾部を有し、
前記低反射層が前記加飾部と同一材料で形成されている、請求項１〜３のいずれかに記載の静電容量式タッチパネル基板。
【請求項５】
前記第１方向透明電極単位及び第２方向透明電極単位が配列された位置検知領域の外周部であって前記透光性基板の前記一方の面上に、配線を有し、
前記反射性導電性層が前記配線と同一材料で形成されている、請求項１〜４のいずれかに記載の静電容量式タッチパネル基板。
【請求項６】
前記低反射層は、厚み方向において、前記反射性導電性層に対して前記透光性基板側に形成されている、請求項１〜５のいずれかに記載の静電容量式タッチパネル基板。
【請求項７】
前記低反射層は、前記反射性導電性層と前記透光性基板との間に形成されている、請求項６に記載の静電容量式タッチパネル基板。
【請求項８】
前記透光性基板の前記一方の面とは反対側の面は、タッチパネルの入力面として機能している、請求項１〜７のいずれかに記載の静電容量式タッチパネル基板。
【請求項９】
前記低反射層は、厚み方向において、前記反射性導電性層よりも前記透光性基板からの距離が遠い側に形成されている、請求項１〜５のいずれかに記載の静電容量式タッチパネル基板。
【請求項１０】
表示パネルと、
前記表示パネルの観察者側に配置された請求項１〜９のいずれかに記載の静電容量式タッチパネル基板と、を含む、表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、静電容量式タッチパネル基板、及び表示装置に関する。特に、２方向に配列された透明電極単位の間の接続部が目立ち難い静電容量式タッチパネル基板と、これを備えた表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、スマートフォン、タブレットＰＣ（パーソナルコンピュータ）など各種表示装置において、表示パネルと組み合わせて使用される位置入力装置として、タッチパネルが急速に普及してきている。タッチパネルは、以前から、電磁誘導式、抵抗膜式など各種方式のものが知られ、各種用途で使用されてきたが、最近その中でも特に注目されてきているのは、マルチタッチ（多点同時入力）が可能な静電容量式のタッチパネルである。【０００３】
図１１（ａ）は、従来の静電容量式タッチパネル基板２０を含むタッチパネル３０が、液晶表示パネルやＥＬパネル（電解発光パネル）などの画像を表示する表示パネル４０と、カバーガラスなどからなる表示装置用前面保護板５０との間に配置された構成を有する、従来の表示装置２００の一例を模式的に示す分解平面図である。【０００４】
図１１（ｂ）は、図１１（ａ）中の従来の静電容量式タッチパネル基板２０の透明電極単位に注目した部分拡大平面図であり、図１１（ｃ）は、図１１（ｂ）中の透明電極単位間の接続部に注目した部分拡大断面図である。図１２は、図１１（ｃ）中のＣ−Ｃ線での接続部の部分拡大断面図である。【０００５】
一般に静電容量式タッチパネル基板２０では、図１１（ｂ）及び図１１（ｃ）に示すように、図面で上下方向であるＹ方向に配列された第１方向透明電極単位２ａと、図面で左右方向であるＸ方向に配列された第２方向透明電極単位２ｂと、を有する。ここでは、Ｙ方向を第１方向とも呼び、Ｘ方向を第２方向とも呼ぶことにする。【０００６】
上記従来の静電容量式タッチパネル基板２０は、第１方向透明電極単位２ａと第２方向透明電極単位２ｂとを、透光性基板１の同一面側に形成した形態の例である（特許文献１参照）。この形態は、第１方向透明電極単位２ａと第２方向透明電極単位２ｂとの相対的位置精度を向上できる利点がある。【０００７】
すなわち、上記図面に例示する従来の静電容量式タッチパネル基板２０は、透光性基板１の第１面Ｓ１の面上に、第１方向（図面でＹ方向）に配列された第１方向透明電極単位２ａと、第１方向透明電極単位２ａと同一材料で同一面に形成され、第１方向透明電極単位間２ａ同士を接続する第１方向接続部３ａと、第１方向透明電極単位２ａと同一材料で同一面に形成され、第１方向透明電極単位２ａの間に位置すると共に第１方向接続部３ａの間に位置して、第１方向（Ｙ方向）と交差する第２方向（図面ではＸ方向）に配列された第２方向透明電極単位２ｂと、第２方向透明電極単位２ｂ同士を接続し、第１方向接続部３ａとは絶縁層４を介して絶縁された第２方向接続部３ｂと、を有する。【０００８】
このとき、第２方向接続部３ｂは、透明性が得られる点で、第１方向接続部３ａと同様に、第２方向透明電極単位２ｂと同一材料で形成する形態もあるが、各透明電極単位に比べて面積が小さいことを利用して、低コスト化が図れる形態として、第１方向透明電極単位２ａ及び第２方向透明電極単位２ｂが配列された位置検知領域の外周部に設けられる金属材料からなる配線７と、同一材料で同時形成する形態が知られている（特許文献１参照）。【０００９】
すなわち、図１２の断面図で示すように、第２方向接続部３ｂは、金属材料からなる反射性導電性層５から構成され、この反射性導電性層５は、銀合金など金属層からなり銀色の金属反射性を呈している。【００１０】
第２方向接続部３ｂは、第２方向透明電極単位２ｂと同一材料で形成しても、絶縁層４を設ける関係上、第１方向透明電極単位２ａ及び第２方向透明電極単位２ｂと共に同時形成できず、追加の１工程が必要となる。しかし、第２方向接続部３ｂを、位置検知領域の外周部の配線７と同一材料で同時形成すれば、工程数をその分減らすことができる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１１】
【特許文献１】特開２０１１−８６１２２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
しかしながら、図１２の断面図で示すように、第２方向接続部３ｂが、反射性導電性層５によって形成されていると、透明電極とは異なり、光Ｌが当たると反射するために、目立ってしまうことがある。反射性導電性層５が目立つ現象は、タッチパネルのサイズが小さくなる程、これを透して表示パネルを見る観察者、乃至はタッチパネルの操作者の目からの距離が近くなる為に、顕著になる傾向がある。【００１３】
本発明の課題は、互いに交差する２方向に配列された透明電極単位の間の接続部を目立ち難くした静電容量式タッチパネル基板を提供することである。また、これを備えた表示装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
本発明による静電容量式タッチパネル基板は第１面と前記第１面とは反対側の第２面とを有する透光性基板と、
前記透光性基板の前記第１面及び第２面のいずれか一方の面上に、第１方向に配列された複数の第１方向透明電極単位と、
前記第１方向透明電極単位と同一材料で同一面に形成され、前記第１方向透明電極単位同士を接続する第１方向接続部と、
前記第１方向透明電極単位と同一材料で同一面に形成され、前記第１方向透明電極単位の間に位置すると共に前記第１方向接続部の間に位置して、前記第１方向と交差する第２方向に配列された複数の第２方向透明電極単位と、
前記第２方向透明電極単位同士を接続し、前記第１方向接続部とは絶縁層を介して絶縁され、反射性導電性層を含む第２方向接続部と、
国際照明委員会ＣＩＥによる、標準光源Ｃを用いたＹｘｙ表色系でのＹ値が、１０％以下となる低反射性を示し、前記透光性基板の前記一方の面に垂直な方向から観察したときに、前記反射性導電性層の少なくとも一部と重なる低反射層と、
を有する。【００１５】
本発明による静電容量式タッチパネル基板において、前記低反射層と前記反射性導電性層との重なる部分の面積が、前記反射性導電性層の面積の３０％以上である、ようにしてもよい。【００１６】
本発明による静電容量式タッチパネル基板において、前記透光性基板の前記一方の面に垂直な方向から観察したときの前記低反射層の外輪郭形状が、前記反射性導電性層の外輪郭形状を内側に含む、ようにしてもよい。【００１７】
本発明による静電容量式タッチパネル基板において、前記第１方向透明電極単位及び第２方向透明電極単位が配列された位置検知領域の外周部であって前記透光性基板の前記一方の面上に、加飾部を有し、前記低反射層が前記加飾部と同一材料で形成されている、ようにしてもよい。【００１８】
本発明による静電容量式タッチパネル基板において、前記第１方向透明電極単位及び第２方向透明電極単位が配列された位置検知領域の外周部であって前記透光性基板の前記一方の面上に、配線を有し、前記反射性導電性層が前記配線と同一材料で形成されている、ようにしてもよい。【００１９】
本発明による静電容量式タッチパネル基板において、前記低反射層は、厚み方向において、前記反射性導電性層に対して前記透光性基板側に形成されている、ようにしてもよい。【００２０】
本発明による静電容量式タッチパネル基板において、前記低反射層は、前記反射性導電性層と前記透光性基板との間に形成されている、ようにしてもよい。【００２１】
本発明による静電容量式タッチパネル基板において、前記透光性基板の前記一方の面とは反対側の面は、タッチパネルの入力面として機能している、ようにしてもよい。【００２２】
本発明による静電容量式タッチパネル基板において、前記低反射層は、厚み方向において、前記反射性導電性層よりも前記透光性基板からの距離が遠い側に形成されている、ようにしてもよい。【００２３】
また、本発明による表示装置は、表示パネルと、前記表示パネルの観察者側に配置された上述の静電容量式タッチパネル基板と、を含む。
【発明の効果】
【００２４】
本発明の静電容量式タッチパネル基板によれば、互いに交差する２方向に配列された透明電極単位の間の接続部を目立ち難くすることができる。【００２５】
本発明の表示装置によれば、それが備える静電容量式タッチパネル基板が、前記効果を有する。
【図面の簡単な説明】
【００２６】
【図１】図１（ａ）は、本発明による静電容量式タッチパネル基板の一実施形態（先形成の接続部）を説明する模式的平面図であり、図１（ｂ）は、図１（ａ）中のＣ−Ｃ線での接続部の部分拡大断面図である。
【図２】図２（ａ）は、本発明による静電容量式タッチパネル基板の別の実施形態（後形成の接続部）を説明する模式的平面図であり、図２（ｂ）は、図２（ａ）中のＣ−Ｃ線での接続部の部分拡大断面図である。
【図３】図３（ａ）は、本発明による静電容量式タッチパネル基板の別の実施形態（先形成の接続部，スルーホール接続）を説明する模式的平面図であり、図３（ｂ）は、図３（ａ）中のＣ−Ｃ線での接続部の部分拡大断面図である。
【図４】図４（ａ）は、本発明による静電容量式タッチパネル基板の別の実施形態（後形成の接続部，スルーホール接続）を説明する模式的平面図であり、図４（ｂ）は、図４（ａ）中のＣ−Ｃ線での接続部の部分拡大断面図である。
【図５】図５（ａ）は、本発明による静電容量式タッチパネル基板の別の実施形態（反射性導電性層が低反射層から一部露出）を説明する模式的平面図であり、図５（ｂ）は、図５（ａ）中のＣ−Ｃ線での接続部の部分拡大断面図である。
【図６】図６（ａ）、（ｂ）は、図５の形態にて、反射性導電性層の露出状況の例をそれぞれ説明する平面図である。
【図７】図７（ａ）は、本発明による静電容量式タッチパネル基板の別の実施形態（低反射層が加飾部と同一材料）を説明する平面図であり、図７（ｂ）は、赤外透過窓の部分を示す部分拡大断面図であり、図７（ｃ）は、図１（ｂ）に対応する接続部の部分拡大断面図である。
【図８】図８は、本発明による静電容量式タッチパネル基板の別の実施形態（オーバーコート層付き）を示す（図１（ｂ）の構成に対応する）部分拡大断面図である。
【図９】図９は、本発明による表示装置の一実施形態を説明する断面図である。
【図１０】図１０は、本発明による表示装置の別の実施形態を説明する断面図である。
【図１１】図１１（ａ）は、従来の静電容量式タッチパネル基板を用いたタッチパネル、表示パネル、及び表示装置用前面保護板を備える、従来の表示装置の一例を示す分解平面図であり、図１１（ｂ）は、静電容量式タッチパネル基板の透明電極単位の一例を示す部分拡大平面図であり、図１１（ｃ）は、透明電極単位間の接続部の一例を示す部分拡大平面図である。
【図１２】図１２は、図１１（ｃ）中のＣ−Ｃ線での接続部の部分拡大断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２７】
以下、本発明の実施形態について図面を参照しながら説明する。なお、図面は概念図であり、説明上の都合に応じて適宜、構成要素の縮尺関係、縦横比等は誇張されていることがある。
【００２８】
〔Ａ〕用語の定義：
以下に、本発明において用いる主要な用語について、その定義をここで説明しておく。
【００２９】
「表側」とは、静電容量式タッチパネル基板１０或いはその他の構成要素において、静電容量式タッチパネル基板１０を表示パネル４０と組み合わせて使用したときに、表示パネル４０から表示光が出光する側であり、表示パネル４０の表示を観察する観察者の側を意味する。
【００３０】
また、「表側」とは、静電容量式タッチパネル基板１０或いはその他の構成要素において、静電容量式タッチパネル基板１０を用いたタッチパネル３０を操作する操作者の側を意味する。
【００３１】
「裏側」とは、前記「表側」とは反対側を意味し、静電容量式タッチパネル基板１０或いはその他の構成要素において、表示パネル４０の表示光が入光する側を意味する。
【００３２】
「第１面」と「第２面」とは、何れかが前記「表側」となり、何れの面が前記「表側」となるかは任意である。
【００３３】
「第１面」と「第２面」とは、何れの面が「一方の面」となり、何れの面が「他方の面」となるかは任意である。
【００３４】
ただし、本明細書においては、第１方向透明電極単位２ａ及び第２方向透明電極単位２ｂが設けられている側の面を「一方の面」と呼ぶことにしている。この「一方の面」が、前記「表側」となるか「裏側」となるかは、静電容量式タッチパネル基板１０の層構成に関係した使われ方に依存する。静電容量式タッチパネル基板１０は、その低反射層６が反射性導電性層５に対して表側になるように使われる。
【００３５】
本明細書においては、前記「一方の面」が「裏側」として使用される形態を主体に説明し、「表側」として使われる形態も説明する。
【００３６】
〔Ｂ〕静電容量式タッチパネル基板１０：
本発明による静電容量式タッチパネル基板１０を、実施形態ごとに説明する。
【００３７】
《第１の実施形態：先形成の接続部》
図１（ａ）は、本発明による静電容量式タッチパネル基板１０の第１の実施形態の模式的平面図であり、図１（ｂ）は図１（ａ）中のＣ−Ｃ線での部分拡大断面図である。
【００３８】
本実施形態は、第２方向接続部３ｂを先に形成してから、第１方向透明電極単位２ａ及び第２方向透明電極単位２ｂを形成することで得られる構造の形態である。
【００３９】
図１に示す実施形態の静電容量式タッチパネル基板１０は、
透光性基板１と、
この透光性基板１の一方の面上に、第１方向に配列された複数の第１方向透明電極単位２ａと、
第１方向透明電極単位２ａと同一材料で同一面に形成され、第１方向透明電極単位２ａ同士を接続する第１方向接続部３ａと、
第１方向透明電極単位２ａと同一材料で同一面に形成され、第１方向透明電極単位２ａの間に位置すると共に第１方向接続部３ａの間に位置して、第１方向と交差する第２方向に配列された複数の第２方向透明電極単位２ｂと、
第２方向透明電極単位２ｂ同士を接続し、第１方向接続部２ａとは絶縁層４を介して絶縁され、反射性導電性層５を含む第２方向接続部３ｂと、
国際照明委員会ＣＩＥによる、標準光源Ｃを用いたＹｘｙ表色系でのＹ値が、１０％以下となる低反射性を示し、透光性基板１の前記一方の面である第１面Ｓ１に垂直な方向から観察したときに、反射性導電性層５の少なくとも一部と重なる、構成となっている。
【００４０】
しかも、本実施形態においては、反射性導電性層５と低反射層６との前記重なりは、透光性基板１の前記一方の面である第１面Ｓ１に垂直な方向から観察したときに、低反射層６の外輪郭形状が、反射性導電性層５の外輪郭形状を内側に含むような重なり具合となっている。このことは、換言すると反射性導電性層５の面積の１００％、つまり全域で低反射層６が重なっていることでもある。
【００４１】
本実施形態においては、透光性基板１の一方の面となる第１面Ｓ１は、図１（ｂ）の断面図において図面上方の面である。したがって、静電容量式タッチパネル基板１０は、この断面図において、図面下側の第２面Ｓ２を、表側として、タッチパネルの操作者でもある表示パネルの観察者Ｖに向けて、用いられることを想定した形態である。
【００４２】
同図では、ＸＹ直交座標系において、Ｙ方向が第１方向となっており、Ｘ方向が第２方向となっている。
【００４３】
なお、本発明においては、互いに交差する第１方向と第２方向とは必ずしも直交している必要はない。
【００４４】
図１（ａ）の模式的平面図は、位置検知領域Ａｐ内で、第１方向に配列された複数の第１方向透明電極単位２ａ、及び第２方向に配列された複数の第２方向透明電極単位２ｂの全てを描いてはいない。第２方向透明電極単位２ｂ同士を接続する第２方向接続部３ｂの部分に注目し、一つの第２方向接続部３ｂとその周辺のみを代表して描いてある。また、位置検知領域Ａｐの外周部に形成された配線７も、第１方向透明電極単位２ａに接続するものとして１本のみを模式的に描いてあり、第２方向透明電極単位２ｂに接続する配線７の図示は省略してある。
【００４５】
なお、同図では、位置検知領域Ａｐの外周部において配線７に重なり接続するように、第１方向透明電極単位２ａと同一材料で同一面に同時にパターン形成された第１方向透明電極拡張部７ａが、位置検知領域Ａｐの外周部に設けられている。
【００４６】
図１（ａ）は、静電容量式タッチパネル基板１０を、反射性導電性層５、低反射層６などが形成された側の「裏側」から見た平面図である。図１（ａ）においては、第１方向透明電極単位２ａ、第２方向透明電極単位２ｂなどの透明層の向こう側に形成された絶縁層４、反射性導電性層５及び低反射層６が、当該透明層が不透明であれば本来は隠れる層的位置関係となるため、破線で描いてある。ただし、破線での表示は、あくまでも理解を容易にするためのものであり、層的位置関係を正確に表現したものではない。
【００４７】
図１（ａ）の平面図と、図１（ｂ）の部分拡大断面図との間では、図面で左右方向などの各構成要素間の寸法の大小関係は、維持されていない。
【００４８】
これらの図面表記に関することは、本発明に係る他の実施形態における図面についても同様である。
【００４９】
本実施形態においては、低反射層６は、透光性基板１の前記一方の面である第１面Ｓ１に垂直な方向から観察したときの外輪郭形状が、反射性導電性層５の外輪郭形状を内側に含んでいれば良く、同一で完全に重なり合っていてもよい。
【００５０】
図１に示す本実施形態においては、低反射層６の外輪郭形状は長方形形状であり、反射性導電性層５の外輪郭形状も長方形形状である。そして、低反射層６の外輪郭形状は、反射性導電性層５の外輪郭形状よりも大きくなっている。しかも、低反射層６の外輪郭形状は、その全周囲で、反射性導電性層５の外輪郭形状に対して外側にはみ出している。なお、本発明においては、低反射層６の外輪郭形状は任意であり長方形に限定されるものではない。反射性導電性層５も同様である。
【００５１】
低反射層６の外輪郭形状は、位置合わせ精度に多少の余裕を持たせる意味で、反射性導電性層５の外輪郭形状に対して外側に全周囲で０．５μｍ以上、好ましくは１μｍ以上、より好ましくは２μｍ以上、さらに好ましくは４μｍ以上、はみ出した大きい形状とするのが好ましい。ただ、はみ出しても、１００μｍ以下、好ましくは３０μｍ以下、より好ましくは１０μｍ以下、とするのが好ましい。はみ出し過ぎると、低反射層６の部分で、タッチパネルを透して見る表示パネルの表示をさえぎり、表示品質に悪影響することがあるからである。
【００５２】
本実施形態においては、低反射層６は、厚み方向において、反射性導電性層５に対して透光性基板１側、より具体的には、反射性導電性層５と透光性基板１との間に形成された形態である。
【００５３】
ただ、本発明においては、前記「反射性導電性層５に対して透光性基板１側」とは、透光性基板１の他方の面、つまり第２面Ｓ２上に低反射層６が形成される形態も含む。要は、本発明の静電容量式タッチパネル基板１０においては、静電容量式タッチパネル基板１０を用いたタッチパネルを操作する操作者、これは静電容量式タッチパネル基板１０が適用される表示パネル４０を観察する観察者Ｖでもあるが、この観察者Ｖに、反射性導電性層５よりも近い側に低反射層６を有する構成とする。
【００５４】
〔材料及び形成法〕
［透光性基板１］
前記透光性基板１は、公知の材料を用いることができ、代表的にはガラス板であるが、ポリエステル樹脂などの樹脂材料でもよい。
【００５５】
［第１方向透明電極単位２ａ、第２方向透明電極単位２ｂ、及び第１方向接続部３ａ］
前記第１方向透明電極単位２ａ、第２方向透明電極単位２ｂ及び第１方向接続部３ａは公知の材料、及び形成法を採用することができる。例えば、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ；インジウム錫酸化物）、ＩＺＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｚｉｎｃ Ｏｘｉｄｅ；インジウム亜鉛化物）、ＡＺＯ（Ａｌｕｍｉｎｕｍ Ｚｉｎｃ Ｏｘｉｄｅ；アルミニウム亜鉛酸化物）等の透明導電体薄膜を、フォトリソグラフィ法などによりパターン形成したものを用いることができる。
【００５６】
［第２方向接続部３ｂと反射性導電性層５］
第２方向接続部３ｂは、少なくとも反射性導電性層５を含む。
【００５７】
反射性導電性層５には、前記透明導電体薄膜以外の金属配線材料など、公知の材料及び形成法を採用することができる。例えば、反射性導電性層５には、銀、金、銅、クロム、プラチナ、アルミニウム、パラジウム、モリブデンなどの金属（含むその合金）などを用いることができる。例えば、銀、パラジウム及び銅からなる合金（ＡＰＣとも言う）の金属層としてスパッタ法により製膜後、フォトリソグラフィ法によりパターン形成したものを用いることができる。これらの金属材料で形成した反射性導電性層５は、金属特有の反射性を呈し、また、通常は不透明である。このため、光を反射して目立ち易いので、低反射層６で目立ち難くすることになる。
【００５８】
反射性導電性層５の反射性とは、反射率が可視光域（３８０〜７８０ｎｍ）の平均で５０％以上示すこととする。例えば、一般に、銀は９０％以上、アルミニウムは８０％以上、金は短波長域で５０％近くまで低下するが、平均では５０％以上を示す。
【００５９】
反射性導電性層５は、金属材料に限らず、例えば、反射性を示すなら導電性高分子でも良い。
【００６０】
本実施形態においては、反射性導電性層５は、銀、パラジウム及び銅からなる銀合金（ＡＰＣとも言う）によって、フォトリソグラフィ法によりパターン形成された金属層として形成されている。
【００６１】
本実施形態においては、反射性導電性層５と配線７とは同一材料で形成されており、しかも同一面、具体的には透光性基板１の一方の面である第１面Ｓ１に同時形成されている。
【００６２】
反射性導電性層５の外形形状の寸法は、例えば、図１に示す本実施形態においては、幅５〜２０μｍ、長さ２０〜５００μｍの長方形である。前記幅とは、第１方向（図面Ｙ方向）の寸法であり、前記長さとは、第２方向（図面Ｘ方向）の寸法である。
【００６３】
第２方向接続部３ｂは、反射性導電性層５以外に、さらに、前記したＩＴＯなどの透明導電体薄膜を含み、透明導電体薄膜が反射性導電性層５に接続するように接して積層された構造であってもよい。
【００６４】
［絶縁層４］
絶縁層４は、電気絶縁性の層であり、公知の材料及び形成法を採用することができる。絶縁層４は、例えば、樹脂層として、紫外線硬化型アクリル系樹脂を用いてフォトリソグラフィ法によりパターン形成することができる。
【００６５】
なお、本明細書において、「絶縁」及び「接続する」とは、いずれも電気的な意味での用語として用いる。
【００６６】
絶縁層４は、透明、不透明いずれでもよいが、透明であることが好ましい。静電容量式タッチパネル基板１０の透明性を低下させないためである。本実施形態においては、絶縁層４は透明な層として形成されている。
【００６７】
［低反射層６］
低反射層６は、国際照明委員会ＣＩＥによる、標準光源Ｃを用いたＪＩＳ−Ｚ８７０１に準ずるＹｘｙ表色系でのＹ値が、１０％以下となる低反射性を示す層である。なお、測定は、もちろん、低反射層６の層面２面のうち反射性導電性層５から遠い方の面が観察される側から行う。低反射層６は、同時に遮光性（不透明性）も示す。これは、反射性導電性層５からの反射光を減らすことができるからである。したがって、低反射層６は、低反射性及び遮光性を示し反射性導電性層５を隠蔽する「隠蔽層」ということもできる。低反射層６は、前記反射性導電性層５を目立たなくさせる為の層として機能することができる。
【００６８】
前記遮光性は、反射性導電性層５を目立たなくさせる観点から、透過率で言えば大きくても１０％以下（光学濃度ＯＤにて１以上）、より好ましくは透過率で１％以下（光学濃度ＯＤ２．０以上）、さらに好ましくは透過率で０．０１％以下（光学濃度ＯＤ４．０以上）が望ましい。
【００６９】
低反射層６は、カーボンブラックなどの黒色顔料を硬化性樹脂の硬化物からなる樹脂バインダ中に含む黒色など暗色を呈する層として、フォトリソグラフィ法によりパターン形成することができる。硬化性樹脂には紫外線硬化型アクリル系樹脂などの感光性樹脂を用いることができる。本実施形態においては、低反射層６、カーボンブラックを含む紫外線硬化型アクリル系樹脂を用いてフォトリソグラフィ法によりパターン形成されている。
【００７０】
低反射層６を、黒色など暗色とするには、カーボンブラック以外の、赤、黄、青、緑などの有彩色顔料を複数種類用い黒色を呈する層としても良い。例えば、赤、黄、青の３色の着色顔料を用いて黒色としても良い。暗色とは、黒色以外に、紺色、深緑色などの有彩色で明度が低く、前記Ｙが１０％以下を示す色のことを意味する。
【００７１】
したがって、低反射層６に用いる着色顔料としては、黒色顔料、白色顔料、赤色顔料、黄色顔料、青色顔料、緑色顔料、紫色顔料など１種又は２種以上用いることができる。
【００７２】
低反射層６は、酸窒化クロムなどのそれ自体が暗色を示す無機材料で形成してもよい。
【００７３】
低反射層６は、電気絶縁性であることが好ましい。低反射層６が導電性であると、層構成及びパターン形状の組み合わせによっては、絶縁性が必要となる部分の絶縁性の確保が困難になるからである。例えば、図１に示す本実施形態では問題ないが、後述する図２の第２の実施形態では、第２方向透明電極単位２ｂと第１方向接続部３ａとの絶縁性の確保が困難になる。
【００７４】
［配線７］
配線７には、公知の材料及び形成法を採用することができる。例えば、配線７には、銀、金、銅、クロム、プラチナ、アルミニウム、パラジウム、モリブデンなどの金属（含むその合金）などを用いることができる。例えば、銀、パラジウム及び銅からなる合金（ＡＰＣとも言う）の金属層としてスパッタ法により製膜後、フォトリソグラフィ法によりパターン形成したものを用いることができる。
【００７５】
本実施形態においては、配線７は、銀、パラジウム及び銅からなる銀合金（ＡＰＣとも言う）によって、金属層として形成されている。つまり、本実施形態においては、前記反射性導電性層５と配線７とは同一材料で形成されており、しかも同一面、具体的には透光性基板１の一方の面である第１面Ｓ１に同時形成されている。
【００７６】
［製造方法］
以上のような静電容量式タッチパネル基板１０は、次のようにして製造することができる。
【００７７】
先ず、透光性基板１の一方の面である第１面Ｓ１に、低反射層６が形成される。次に、第２方向接続部３ｂとしての反射性導電性層５、及び配線７が、同一材料で同時にパターン形成される。次に、絶縁層４がパターン形成される。次に、第１方向透明電極単位２ａ、第２方向透明電極単位２ｂ、及び、第１方向接続部３ａが、同一材料で同時にパターン形成される。このようにして、静電容量式タッチパネル基板１０を製造することができる。
【００７８】
［本実施形態における効果］
以上のような構成とすることで、本実施形態における静電容量式タッチパネル基板１０では、透明電極単位の間の接続部に用いた反射性導電性層５の全てを、低反射層６が隠す構造となっているので、接続部を効果的に目立ち難くすることができる。
【００７９】
しかも、本実施形態においては、反射性導電性層５は、配線７と同一材料で形成されているので、反射性導電性層５は配線７と同一工程で工程数を増やさずに設けることができるため、反射性導電性層５を目立たなくした構造を、コストをかけずに実現することができる。
【００８０】
《第２の実施形態：後形成の接続部》
図２（ａ）は、本発明による静電容量式タッチパネル基板１０の第２の実施形態の模式的平面図であり、図２（ｂ）は図２（ａ）中のＣ−Ｃ線での部分拡大断面図である。
【００８１】
本実施形態は、第１方向透明電極単位２ａ及び第２方向透明電極単位２ｂを先に形成した後に、第２方向接続部３ｂを形成することで得られる構造の形態である。
【００８２】
図２に示す実施形態の静電容量式タッチパネル基板１０は、前記図１に示した第１の実施形態に対して、次の点が異なる以外は、同じである。よって、同じ部分の説明は省略する。
【００８３】
ａ）反射性導電性層５及び配線７の形成と、第１方向透明電極単位２ａ、第２方向透明電極単位２ｂ、及び第１方向接続部３ａの形成との順序が逆になっている点。（換言すると、絶縁層４を介する表裏の層の位置関係が逆になっている。）
ｂ）上記ａ）によって、絶縁層４の形成と、第１方向透明電極単位２ａ、第２方向透明電極単位２ｂ、及び第１方向接続部３ａの形成との順序が逆になっている点、並びに、絶縁層４の形成と、反射性導電性層５及び配線７の形成との順序が逆になっている点。
【００８４】
［製造方法］
以上のような静電容量式タッチパネル基板１０は、次のようにして製造することができる。
【００８５】
先ず、透光性基板１の一方の面である第１面Ｓ１に、低反射層６が形成される。次に、第１方向透明電極単位２ａ、第２方向透明電極単位２ｂ、及び、第１方向接続部３ａが、同一材料で同時にパターン形成される。次に、絶縁層４がパターン形成される。次に、第２方向接続部３ｂとしての反射性導電性層５、及び配線７が、同一材料で同時にパターン形成される。このようにして、静電容量式タッチパネル基板１０を製造することができる。
【００８６】
［反射性導電性層５及び配線７の材料］
本実施形態では、反射性導電性層５及び配線７のパターン形成は、第１方向透明電極単位２ａ、第２方向透明電極単位２ｂ、及び、第１方向接続部３ａに対する同時パターン形成の後に行うため、反射性導電性層５及び配線７の材料には、第１方向透明電極単位２ａなどのパターン形成時のエッチング液に対する耐性を考慮する必要がないという利点も得られる。
【００８７】
このため、本実施形態では、反射性導電性層５及び配線７の材料として、モリブデン（Ｍｏ）、アルミニウム（Ａｌ）、モリブデン（Ｍｏ）の３層構造の配線材料（ＭＡＭと呼ばれている）を採用することもできる。
【００８８】
［本実施形態における効果］
以上のような構成とすることでも、本実施形態における静電容量式タッチパネル基板１０では、透明電極単位の間の接続部に用いた反射性導電性層５の全てを、低反射層６が隠す構造となっているので、接続部を効果的に目立ち難くすることができる。
【００８９】
しかも、本実施形態においては、反射性導電性層５は、配線７と同一材料で形成されているので、反射性導電性層５は配線７と同一工程で工程数を増やさずに設けることができるため、反射性導電性層５を目立たなくした構造を、コストをかけずに実現することができる。
【００９０】
《第３の実施形態：先形成の接続部、スルーホール接続》
図３（ａ）は、本発明による静電容量式タッチパネル基板１０の第３の実施形態の模式的平面図であり、図３（ｂ）は図３（ａ）中のＣ−Ｃ線での部分拡大断面図である。
【００９１】
本実施形態は、第２方向接続部３ｂを先に形成してから、スルーホール４ｈを有する絶縁層４を位置検知領域Ａｐの全域に形成し、この次に、第１方向透明電極単位２ａ及び第２方向透明電極単位２ｂを形成して、スルーホール４ｈで第２方向透明電極単位２ｂを第２方向接続部３ｂと接続することで得られる構造の形態である。
【００９２】
図３に示す実施形態の静電容量式タッチパネル基板１０は、前記図１に示した第１の実施形態に対して、次の点が異なる以外は、同じである。よって、同じ部分の説明は省略する。
【００９３】
ａ）絶縁層４が、接続部のみならず、位置検知領域Ａｐの全域に形成されるが、第２方向透明電極単位２ｂと第２方向接続部３ｂとの接続を行うスルーホール４ｈの部分は非形成とする点。
ｂ）上記ａ）によって、第２方向接続部３ｂとしての反射性導電性層５は、スルーホール４ｈの部分で、第２方向透明電極単位２ｂと接続している点。
【００９４】
［製造方法］
以上のような静電容量式タッチパネル基板１０は、絶縁層４を、パターン形成時に、スルーホール４ｈを層の非形成部として同時形成して、位置検知領域Ａｐの全域に形成すること以外は、前記第１の実施形態と同様にして製造することができる。
【００９５】
［本実施形態における効果］
以上のような構成とすることでも、本実施形態における静電容量式タッチパネル基板１０では、透明電極単位の間の接続部に用いた反射性導電性層５の全てを、低反射層６が隠す構造となっているので、接続部を効果的に目立ち難くすることができる。
【００９６】
しかも、本実施形態においては、反射性導電性層５は、配線７と同一材料で形成されているので、反射性導電性層５は配線７と同一工程で工程数を増やさずに設けることができるため、反射性導電性層５を目立たなくした構造を、コストをかけずに実現することができる。
【００９７】
《第４の実施形態：後形成の接続部、スルーホール接続》
図４（ａ）は、本発明による静電容量式タッチパネル基板１０の第４の実施形態の模式的平面図であり、図４（ｂ）は図４（ａ）中のＣ−Ｃ線での部分拡大断面図である。
【００９８】
本実施形態は、第１方向透明電極単位２ａ及び第２方向透明電極単位２ｂを先に形成した後に、スルーホール４ｈを有する絶縁層４を位置検知領域Ａｐの全域に形成し、この次に、第２方向接続部３ｂを形成して、スルーホール４ｈで第２方向透明電極単位２ｂと接続することで得られる構造の形態である。
【００９９】
図４に示す実施形態の静電容量式タッチパネル基板１０は、前記図２に示した第２の実施形態に対して、次の点が異なる以外は、同じである。よって、同じ部分の説明は省略する。
【０１００】
ａ）絶縁層４が、接続部のみならず、位置検知領域Ａｐの全域に形成されるが、第２方向透明電極単位２ｂと第２方向接続部３ｂとの接続を行うスルーホール４ｈの部分は非形成とする点。
ｂ）上記ａ）によって、第２方向接続部３ｂとしての反射性導電性層５は、スルーホール４ｈの部分で、第２方向透明電極単位２ｂと接続している点。
【０１０１】
［製造方法］
以上のような静電容量式タッチパネル基板１０は、絶縁層４を、パターン形成時に、スルーホール４ｈを層の非形成部として同時形成して、位置検知領域Ａｐの全域に形成すること以外は、前記第２の実施形態と同様にして製造することができる。
【０１０２】
［本実施形態における効果］
以上のような構成とすることでも、本実施形態における静電容量式タッチパネル基板１０では、透明電極単位の間の接続部に用いた反射性導電性層５の全てを、低反射層６が隠す構造となっているので、接続部を効果的に目立ち難くすることができる。
【０１０３】
しかも、本実施形態においては、反射性導電性層５は、配線７と同一材料で形成されているので、反射性導電性層５は配線７と同一工程で工程数を増やさずに設けることができるため、反射性導電性層５を目立たなくした構造を、コストをかけずに実現することができる。
【０１０４】
《第５の実施形態：反射性導電性層５が低反射層６から一部露出》
図５（ａ）は、本発明による静電容量式タッチパネル基板１０の第５の実施形態の模式的平面図であり、図５（ｂ）は図５（ａ）中のＣ−Ｃ線での部分拡大断面図である。
【０１０５】
本実施形態は、低反射層６が反射性導電性層５の一部と重なり、この結果、反射性導電性層５が低反射層６から一部露出して見える形態である。
【０１０６】
図５に示す実施形態の静電容量式タッチパネル基板１０は、前記図１に示した第１の実施形態に対して、次の点が異なる以外は、同じである。よって、同じ部分の説明は省略する。
【０１０７】
ａ）低反射層６が、反射性導電性層５の一部と重なり、反射性導電性層５が低反射層６から一部露出して見えている点。
【０１０８】
［低反射層６と反射性導電性層５の重なり具合］
いままで説明した各実施形態は、いずれも、低反射層６は反射性導電性層５の全域において重なり、低反射層６の外輪郭形状が反射性導電性層５の外輪郭形状の内側に含まれる形態であった。このため、反射性導電性層５はその全域で完全に低反射層６で隠蔽され、反射性導電性層５は見えることはなかった。
【０１０９】
反射性導電性層５を目立たなくさせるという点では、反射性導電性層５はその全域で低反射層６と重なっているのが好ましいが、反射性導電性層５が多少は見えたとしても、実用上、反射性導電性層５による表示品質への悪影響が軽微であれば、また、反射性導電性層５による表示品質の低下が許容され得る用途であれば、反射性導電性層５が低反射層６から一部露出した形態も可能である。
【０１１０】
例えば、低反射層６と言えども表示画面を遮るので、表示品質への悪影響を考えれば、低反射層６は可能な限り小さい方が好ましい。すなわち、低反射層６自体による表示品質への悪影響も考慮する場合、反射性導電性層５が低反射層６から一部露出した形態とすることもできる。すなわち、反射性導電性層５を完全に隠す観点では、低反射層６の最も小さい形状は反射性導電性層５と同一形状で同一寸法となる。しかしながら、多少の露出部Ｅの生成を許容するならば、低反射層６の外輪郭形状は、反射性導電性層５の外輪郭形状よりも小さくした方が、低反射層６の面積と露出部Ｅの面積の合計面積を、多少の位置ずれが生じても小さくすることが可能となる。このため、表示画面を遮る要素を小さくすることができる。
【０１１１】
また、位置合わせ精度が充分ではなく、反射性導電性層５と低反射層６との相対的位置関係の位置ずれによって、反射性導電性層５の一部が低反射層６から露出するような場合も考えられ得る。
【０１１２】
本第５の実施形態は、このような状況下などで、反射性導電性層５が低反射層６から一部露出した形態である。
【０１１３】
図５（ａ）及び図５（ｂ）では、反射性導電性層５が、低反射層６に対して図面で右方向に位置ずれした結果、反射性導電性層５が低反射層６から一部露出している露出部Ｅが生じた状況を示す。この結果、露出部Ｅは、観察者Ｖから視認可能なものとなる。同図は、反射性導電性層５はそのラインの延在方向（Ｘ軸方向）に位置ずれした場合であったが、反射性導電性層５と低反射層６との相対的位置ずれの関係は、反射性導電性層５を基準にしたとき、その線幅方向に位置ずれすることもあるし、反射性導電性層５のラインの延在方向と線幅方向との両方の方向に位置ずれすることもある。
【０１１４】
図６は、反射性導電性層５と低反射層６との相対的位置ずれの方向について、２方向の場合で例示した図である。図６（ａ）は、反射性導電性層５のラインの延在方向（同図ではＸ軸方向）の場合を示し、図６（ｂ）は、反射性導電性層５のラインの線幅方向（同図ではＹ軸方向）の場合を示す。図６（ａ）及び図６（ｂ）で両矢印で示す方向が反射性導電性層５と低反射層６との相対的位置ずれの方向である。図６（ａ）は、前記図５の位置ずれ関係に該当する。
【０１１５】
図６（ａ）は、低反射層６が反射性導電性層５に対してＸ軸方向で図面右方向に位置ずれした状況であり、反射性導電性層５の左側に露出部Ｅが生じる。図６（ｂ）は、低反射層６が反射性導電性層５に対してＹ軸方向で図面下方向に位置ずれした状況であり、反射性導電性層５の上側に露出部Ｅが生じる。これら図面では、判りやすくするために、反射性導電性層５及び低反射層６は、それぞれ外輪郭形状の内側にハッチングは施さず、露出部Ｅの部分のみにハッチングを施してある。また、低反射層６によって隠れた部分の反射性導電性層５の外輪郭線は破線で示してある。
【０１１６】
（反射性導電性層５が低反射層６で隠蔽される面積割合）
このように、低反射層６が反射性導電性層５の一部と重なり、反射性導電性層５が低反射層６から一部露出する形態では、低反射層６が反射性導電性層５に重なる部分の面積は、反射性導電性層５の面積の３０％以上、好ましくは５０％以上、より好ましくは７０％以上、さらに好ましくは８０％以上の面積割合とする。
上記面積割合が上記値未満であると、表示品質を低下させることがあるからである。
【０１１７】
図６からも判るように、反射性導電性層５が低反射層６からはみ出す寸法が、例えば１μｍなどと、はみ出す方向によらずに同じ寸法であっても、反射性導電性層５のライン方向（図面ではＸ軸方向）にはみ出したときと、線幅方向（図面ではＹ軸方向）にはみ出したときとは、反射性導電性層５が低反射層６から露出する露出部Ｅの面積の、反射性導電性層５の面積に対する面積割合は異なる。とりわけ、反射性導電性層５の露出部Ｅによる表示品質への悪影響が大きくなるのは、図６（ｂ）に示す線幅方向に位置ずれしてはみ出したときである。こうした状況においても、低反射層６によって隠蔽される上記面積割合を上記値以上とすることにより、表示品質の低下を抑えることができる。
【０１１８】
具体例を示せば、反射性導電性層５のラインの線幅１５μｍに対して、そのラインの全長で線幅方向で３μｍだけ低反射層６によって隠蔽されずにはみ出したとき、上記面積割合は｛（１５μｍ−３μｍ）／１５μｍ｝×１００＝８０％となる。
【０１１９】
［本実施形態における効果］
以上のような構成とすることでも、本実施形態における静電容量式タッチパネル基板１０では、透明電極単位の間の接続部に用いた反射性導電性層５の一部を、低反射層６が隠す構造となっているので、接続部を目立ち難くすることができる。また、低反射層６自体による表示品質への悪影響を抑制することもできる。
【０１２０】
しかも、本実施形態においては、反射性導電性層５は、配線７と同一材料で形成されているので、反射性導電性層５は配線７と同一工程で工程数を増やさずに設けることができるため、反射性導電性層５を目立たなくした構造を、コストをかけずに実現することができる。
【０１２１】
さらに、ある程度の反射性導電性層５の露出を許容することで、位置合わせ精度を緩くでき、表示品質への悪影響を抑制しつつ製造がより容易となり、より低コスト化が可能となる。
【０１２２】
《変形形態》
本発明の静電容量式タッチパネル基板１０は、上記した形態以外のその他の形態をとり得る。以下、その一部を説明する。
【０１２３】
〔反射性導電性層５が低反射層６から一部露出する形態〕
反射性導電性層５が低反射層６から一部露出する形態として説明した第５の実施形態は、第１の実施形態の変形形態でもあった。
【０１２４】
しかし本発明においては、反射性導電性層５が低反射層６から一部露出する形態は、第１の実施形態の変形形態に限定されるものではない。反射性導電性層５が低反射層６から一部露出する形態は、第２の実施形態、第３の実施形態、第４の実施形態、或いは後述する変形形態等その他の形態に対する、変形形態としてもあり得る。
【０１２５】
［露出部Ｅを反射部として利用する形態］
反射性導電性層５が低反射層６から一部露出する形態では、低反射層６から露出した反射性導電性層５の部分である露出部Ｅを、反射部として積極的に利用してもよい。
【０１２６】
例えば、射撃ゲームなどのゲーム機器において、静電容量式タッチパネル基板１０を含むタッチパネルが表示パネルの観察者側に配置された表示装置に対して、その表示画面内の任意の位置をガン型光コントローラからの光照射により指示し、このガン型光コントローラから放出された光が露出部Ｅによる反射部で反射した反射光を受光することで表示画面内の指示された位置を検知する反射位置検知手段であって、表示画面を撮影可能なＣＣＤなどの二次元イメージセンサ等による反射位置検知手段を付加することによって、この反射位置検知手段と静電容量式タッチパネル基板１０の露出部Ｅによる反射部とから光学的非接触指示位置検知手段を構成して、射撃ゲーム機器とすることが可能になる。なお、照射光に赤外光を用いると可視光との弁別を容易にすることができる。
【０１２７】
反射性導電性層５を反射部として利用する意味からは、低反射層６はむしろ設けない方が反射光強度を強くできる点でよいが、周囲環境の光が当たって反射性導電性層５が目立ち易くなる。ところが、低反射層６で反射性導電性層５の一部を隠す構成とすることによって、反射性導電性層５の本来の電気的な接続手段としての基本的電気性能、表示画面内での光学的非接触指示位置検知手段の１構成要素としての反射光強度、表示画面品質としての反射性導電性層５の目立ち難さ、反射性導電性層５と低反射層６との位置合わせ精度と関係する製造上の容易さ及びコスト、などの諸性能のバランスをより容易にとることが可能となり、設計の自由度を増すことができる。
【０１２８】
しかも、光学的非接触指示位置検知手段の一構成要素としての反射部を、反射性導電性層５とは別に独立して設ければ、その分工程数増となりコスト高となり得るが、反射性導電性層５の露出部Ｅを反射部に利用することで、反射部は反射性導電性層５と同一材料で同時形成された構成となり、工程数を増やさずに設けることができる。
【０１２９】
こうした表示画面内の光学的非接触指示位置検知手段の一構成要素としての反射部への露出部Ｅの応用は、ゲーム機器用途以外にも、表示画面内の任意位置を指示することで、その部分を中心とした画面の拡大又は縮小などの操作を行うコントローラとしての用途にも使用可能である。例えば、露出部Ｅが規則的に配列されることにより、露出部Ｅは表示画面内のグリッド線としての機能を担うことができる。
【０１３０】
なお、上記形態例において、光学的非接触指示位置検知手段の一構成要素として機能の使用は、タッチパネル機能と使用のときを分けて使用される使い方の用途では、操作者は表示画面に手が届かない位置に居るときに行い、両機能が併用される使い方の用途では、操作者は表示画面に手が届く位置に居るときに行う。
【０１３１】
〔加飾部８の付加と、表示装置用前面保護板との兼用〕
図７に例示するように、本発明において、静電容量式タッチパネル基板１０は、位置検知領域Ａｐの外周部に加飾部８を有することができる。
【０１３２】
加飾部８は、静電容量式タッチパネル基板１０を含むタッチパネル、このタッチパネルを用いた表示装置において、位置検知領域Ａｐの外周部に位置する配線７や制御回路などを、表示装置の観察者Ｖ乃至はタッチパネルの操作者から、見えないように隠して、外観が損なわれないようにすると共に、任意の意匠を表現する部分である。
【０１３３】
静電容量式タッチパネル基板１０は、位置検知領域Ａｐの外周部に加飾部８を有することで、図１１（ａ）で例示した従来の表示装置２００における、カバーガラスなど表示装置用前面保護板５０としての機能を担うことができ、表示装置用前面保護板５０と兼用させることができる。
【０１３４】
表示装置用前面保護板５０を兼用した構成の静電容量式タッチパネル基板１０は、表示装置用前面保護板一体型タッチパネル基板ということもできる。この場合、透光性基板１の第１方向透明電極２ａ及び第２方向透明電極２ｂが設けられた面（一方の面、第１面Ｓ１）とは反対側の面（他方の面、第２面Ｓ２）は、操作者の指などの外部導体がタッチパネルセンサに接触（または接近）して位置入力が行われるタッチパネルの入力面（タッチ面、接触面）として機能する。
【０１３５】
静電容量式タッチパネル基板１０は、表示装置用前面保護板５０を兼用し一体化することで、さらに、部品点数の低減、薄型化の効果が得られる。
【０１３６】
〔低反射層６と、加飾部８との材料同一化〕
静電容量式タッチパネル基板１０が加飾部８も有する形態では、その加飾部８に低反射層６と同様の低反射性及び遮光性を有する構成要素があるときは、低反射層６は、加飾部８と同一材料で形成することができる。また、低反射層６は加飾部８と同一材料で形成することが好ましい。低反射層６を加飾部８と同一材料で形成することで、低反射層６は、加飾部８と同一工程で工程数を増やさずに設けることができるため、反射性導電性層５を目立たなくした構造を、コストをかけずに実現することができるからである。もちろん、この場合、低反射層６と加飾部８とは透光性基板１の同一面上に形成されている（図７（ｃ）参照）ことで、同一工程で同時形成可能となる。なお、図７（ｃ）は、図１の形態の低反射層６が、加飾部８と同時形成された例を示しているが、他の形態の低反射層６が、加飾部８と同時形成されていても良い。
【０１３７】
加飾部８は、配線７などを隠すために、遮光性を有する遮光層８ａを少なくも有するが、この他、赤外透過窓８ｂなども通常は有する。赤外透過窓８ｂは、通話時に携帯電話を耳にあてがったときに、タッチパネルの誤作動を防ぐ必要から、また、表示パネルの表示を消して電池寿命を長くする観点などから、人肌の接近を感知する人感センサとして設ける赤外線センサの部分に設けられる。
【０１３８】
低反射層６と同一材料で形成する加飾部８の構成要素としては、例えば、遮光層８ａと、赤外透過窓８ｂの部分に形成する赤外透過層８ｂＬとがある。
【０１３９】
［遮光層８ａ］
遮光層８ａの遮光性は、要求仕様、表現色にもよるが、透過率で言えば大きくても３％以下（光学濃度ＯＤにて１．５以上）、より好ましくは透過率で１％以下（光学濃度ＯＤ２．０以上）、さらに好ましくは透過率で０．０１％以下（光学濃度ＯＤ４．０以上）が望ましい。透過率が上記を超えると、隠すべき部品などが見えてしまうことがあるからである。
【０１４０】
遮光層８ａは、公知の材料及び形成法で形成することができる。例えば、遮光層８ａは、着色顔料を硬化性樹脂の硬化物からなる樹脂バインダ中に含む層から形成することができる。硬化性樹脂としては紫外線硬化型アクリル系樹脂などの感光性樹脂を用いることができる。
【０１４１】
遮光層８ａに用いる着色顔料としては、遮光層８ａで表現する色に応じたものを用いれば良く、特に制限はない。例えば、着色顔料としては、黒色顔料、白色顔料、赤色顔料、黄色顔料、青色顔料、緑色顔料、紫色顔料などを用いることができる。着色顔料は、１種単独で用いても良いし、同種類の色、或いは異なる色の着色顔料を複数種類用いても良い。
【０１４２】
低反射層６と同一材料で形成する場合の遮光層８ａが呈する色は、白のような反射性の色ではなく、黒のような暗色の色である。また、黒色は、加飾部８で表現する意匠色としても、好ましい色の一種である。
【０１４３】
［赤外透過窓８ｂ］
図７（ａ）及び図７（ｂ）に例示するように、加飾部８には、可視光に対しては遮光性を示すと共に赤外光に対しては透過性を示す赤外透過窓８ｂとする部分に、赤外透過層８ｂＬが設けられることがある。遮光層８ａが黒色の場合、黒色顔料としてカーボンブラックを用いると、可視光のみならず赤外光に対しても遮光性となってしまうために、遮光層８ａとは材料が異なる層として赤外透過層８ｂＬが必要になることがあるからである。
【０１４４】
赤外透過窓８ｂの赤外光に対する透過性としては、要求仕様、表現色、赤外透過窓８ｂに適用する赤外線センサなどの赤外利用部品にもよるが、一例を示せば、赤外領域での透過率が７０％以上であればよい。前記透過率を７０％以上とする赤外領域は、必ずしも７８０ｎｍ以上の領域でなくてもよく、例えば８５０ｎｍ以上の領域であれば、充分に機能することができる。なお、透過率を７０％以上とする赤外領域の上限は、近赤外域、それも通常、１３００ｎｍまでを満たせばよい。
【０１４５】
赤外透過窓８ｂの可視光に対する遮光性は、要求仕様、表現色にもよるが、赤外透過窓８ｂの部分は、通常、スポット的に小さいため、必ずしも、赤外透過窓８ｂと遮光層８ａの遮光性のレベルに合わせる必要はない。このため、赤外透過窓８ｂの可視光に対する遮光性は、一例を示せば、透過率で言えば大きくても５０％以下（光学濃度ＯＤにて０．２以上）、より好ましくは透過率で２５％以下（光学濃度ＯＤ０．６以上）、さらに好ましくは透過率で１０％以下（光学濃度ＯＤ１．０以上）が望ましい。
【０１４６】
こうして、赤外透過窓８ｂは、例えば、赤外光領域に対しては、波長８５０ｎｍ以上１３００ｎｍ以下で７０％以上の透過率、可視光領域に対しては１０％以下の透過率を有する。なお、この透過率とは、平均値ではなく、各波長毎の値である。
【０１４７】
（赤外透過層８ｂＬ）
赤外透過層８ｂＬは、赤外透過窓８ｂの存在を目立たなくさせるために、通常、遮光層８ａと類似色で形成される。そして、赤外透過層８ｂＬは、可視光に対しては遮光性を示すと共に赤外光に対しては透過性を示す。
【０１４８】
低反射層６と同一材料で形成する場合の赤外透過層８ｂＬが呈する色は、白のような反射性の色ではなく、黒のような暗色の色である。また、黒色は、加飾部８で表現する意匠色としても、好ましい色の一種である。
【０１４９】
赤外透過層８ｂＬは、カーボンブラックのような黒色顔料は含有させずに、互いに色が異なる有彩色の着色顔料の複数種類、例えば、赤色、黄色、青色を含有させることで、黒色など暗色を表現した層として形成することができる。
【０１５０】
低反射層６を赤外透過層８ｂＬと同一材料で形成することで、低反射層６は、加飾部８の赤外透過層８ｂＬと同一工程で工程数を増やさずに設けることができるため、反射性導電性層５を目立たなくした構造を、コストをかけずに実現することができる。
【０１５１】
さらに、配線７も設ける場合、遮光層８ａで配線７を隠すためには、遮光層８ａと配線７との透光性基板１に対する形成順序が、静電容量式タッチパネル基板１０が用いられるときの観察者Ｖ乃至は操作者に対する表裏の向きが規制されるが、配線７が重なることがない赤外透過層８ｂＬの場合では、赤外透過層８ｂＬと配線７との透光性基板１の対する形成順序は、前記遮光層８ａの場合のような規制を受けない。たとえは、（ａ）低反射層６と遮光層８ａとを同時形成した後、遮光層８ａ上に配線７を形成してから、遮光層８ａの赤外透過窓８ｂの部分に赤外透過層８ｂＬを形成したり、これとは逆に、（ｂ）低反射層６と遮光層８ａとを同時形成した後、遮光層８ａの赤外透過窓８ｂの部分に赤外透過層８ｂＬを形成してから、遮光層８ａ上に配線７を形成することができる。この点で、低反射層６を赤外透過層８ｂＬと同一材料で形成する形態では、製品設計の自由度が阻害されない利点を有する。
【０１５２】
〔オーバーコート層９〕
静電容量式タッチパネル基板１０は、図８に例示するように、透明なオーバーコート層９を含むことができる。同図は、オーバーコート層９を、透光性基板１の一方の面である第１面Ｓ１の面上の最上層として形成した形態例である。同図は図１の形態に対して、オーバーコート層９を追加した形態であるが、他の形態にオーバーコート層９を追加しても良い。オーバーコート層９によって、信頼性を向上させることができる。
【０１５３】
オーバーコート層９には、公知の材料及び形成法を採用することができる。例えば、オーバーコート層９は、透明な樹脂、それも耐熱性の点で硬化性樹脂が好ましく、熱硬化型エポキシ樹脂、紫外線硬化型アクリル系樹脂などを用いることができる。パターン形成する場合は、フォトリソグラフィ法で形成することができる。
【０１５４】
〔Ｃ〕表示装置：
本発明による表示装置は、表示パネルと、この表示パネルの観察者側に配置された上記した静電容量式タッチパネル基板１０と、を少なくとも含む表示装置である。以下、代表的な２形態を例に説明する。
【０１５５】
《第１の実施形態》
図９に例示する本発明による表示装置１００は、表示パネル４０と、この表示パネル４０の観察者Ｖ側に、前記した静電容量式タッチパネル基板１０を含むタッチパネル３０と、カバーガラスなど表示装置用前面保護板５０とを少なくとも、この順に備える構成例である。
【０１５６】
表示パネル４０は、液晶表示パネル、電界発光（ＥＬ）パネルが代表的であるが、この他、電子ペーパーパネル、ブラウン管によるディスプレイ装置でもよく、公知の各種表示パネルでよい。
【０１５７】
タッチパネル３０は、静電容量式タッチパネル基板１０を含み、さらに、タッチパネル機能を実現する為の制御回路、コネクタなどの公知の必要な部品を含む。
【０１５８】
この構成では、タッチパネル３０とは別体の表示装置用前面保護板５０を有する形態である為に、静電容量式タッチパネル基板１０は、その反射性導電性層５に対して低反射層６が観察者Ｖに近くなる向きに配置される構成であれば良い。すなわち、反射性導電性層５と低反射層６とのどちらが、透光性基板１からの厚み方向で遠い位置にあるかは、いずれでもよく、透光性基板１の一方の面である第１面Ｓ１は、裏側とする向きの他、表側とする向きで配置することも可能となる。
【０１５９】
表示装置用前面保護板５０には、公知のものを採用することができ、例えば、化学強化ガラスなどのガラス板、アクリル樹脂などの樹脂板を透明な基材として用い、この基材の中央部は表示用領域として、この表示用領域の外周部に不透明な加飾部８を黒色など任意の色及び模様で加飾したものを採用することができる。
【０１６０】
表示装置用前面保護板５０としては、静電容量式タッチパネル基板１０を含むタッチパネル３０が、位置検知領域Ａｐの外周部に加飾部８を含む場合には、加飾部８は省略する構成もあり得る。
【０１６１】
このような構成とすることで、タッチパネル３０が備える静電容量式タッチパネル基板１０における透明電極単位の間の接続部が、目立ちにくい表示装置とすることができる。
【０１６２】
《第２の実施形態》
図１０に例示する本発明による表示装置１００は、表示パネル４０と、この表示パネル４０の観察者側に、カバーガラスなど表示装置用前面保護板５０を兼用する形態の前記した静電容量式タッチパネル基板１０を含むタッチパネル３０を少なくとも備える構成例である。
【０１６３】
このような構成とすることで、前記図９の構成による効果に加えて、部品点数の低減、薄型化の効果が得られる。
【０１６４】
また、加飾部８に形成される配線７と、反射性導電性層５とを同一材料としたり、低反射層６を加飾部８と同一材料としたりした形態では、同一材料で形成する層同士を、同一工程で工程数を増やさずに設けることができるため、反射性導電性層５を目立たなくした構造を、コストをかけずに実現することができる。
【０１６５】
《粘着シートなどの樹脂層の介在》
例えば、図８で例示した実施形態による表示装置１００では、静電容量式タッチパネル基板１０を含むタッチパネル３０と表示パネル４０との間、及び前記タッチパネル３０と表示装置用前面保護板５０との間は、空隙を有し空気層が存在する構造となっているが、本発明の表示装置１００においては、各構成部材の間は、粘着剤層など公知の樹脂層で埋め尽くしても良い。樹脂層によって部材表面での光反射が減ることで、表示をより見易くすることができる。
【０１６６】
〔Ｄ〕用途：
本発明による静電容量式タッチパネル基板１０、及び表示装置１００の用途は、特に限定されない。例えば、スマートフォンなどの携帯電話、タブレットＰＣなどの携帯情報端末、パーソナルコンピュータ、カーナビゲーション、デジタルカメラ、電子手帳、ゲーム機器、自動券売機、ＡＴＭ端末、ＰＯＳ端末、などである。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【手続補正書】
【提出日】平成26年2月6日(2014.2.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１面と前記第１面とは反対側の第２面とを有する透光性基板と、
前記透光性基板の前記第１面及び第２面のいずれか一方の面上に、第１方向に配列された複数の第１方向透明電極単位と、
前記第１方向透明電極単位と同一材料で同一面に形成され、前記第１方向透明電極単位同士を接続する第１方向接続部と、
前記第１方向透明電極単位と同一材料で同一面に形成され、前記第１方向透明電極単位の間に位置すると共に前記第１方向接続部の間に位置して、前記第１方向と交差する第２方向に配列された複数の第２方向透明電極単位と、
前記第２方向透明電極単位同士を接続し、前記第１方向接続部とは絶縁層を介して絶縁され、反射性導電性層を含む第２方向接続部と、
国際照明委員会ＣＩＥによる、標準光源Ｃを用いたＹｘｙ表色系でのＹ値が、１０％以下となる低反射性を示し、前記透光性基板の前記一方の面に垂直な方向から観察したときに、前記反射性導電性層の少なくとも一部と重なる低反射層と、
を有し、
前記第１方向透明電極単位及び第２方向透明電極単位が配列された位置検知領域の外周部であって前記透光性基板の前記一方の面上に、加飾部を有し、
前記低反射層が前記加飾部と同一材料で形成されている、静電容量式タッチパネル基板。
【請求項２】
前記低反射層と前記反射性導電性層との重なる部分の面積が、前記反射性導電性層の面積の３０％以上である、請求項１に記載の静電容量式タッチパネル基板。
【請求項３】
前記透光性基板の前記一方の面に垂直な方向から観察したときの前記低反射層の外輪郭形状が、前記反射性導電性層の外輪郭形状を内側に含む、請求項１又は２に記載の静電容量式タッチパネル基板。
【請求項４】
前記第１方向透明電極単位及び第２方向透明電極単位が配列された位置検知領域の外周部であって前記透光性基板の前記一方の面上に、配線を有し、
前記反射性導電性層が前記配線と同一材料で形成されている、請求項１〜３のいずれかに記載の静電容量式タッチパネル基板。
【請求項５】
前記低反射層は、厚み方向において、前記反射性導電性層に対して前記透光性基板側に形成されている、請求項１〜４のいずれかに記載の静電容量式タッチパネル基板。
【請求項６】
前記低反射層は、前記反射性導電性層と前記透光性基板との間に形成されている、請求項５に記載の静電容量式タッチパネル基板。
【請求項７】
前記透光性基板の前記一方の面とは反対側の面は、タッチパネルの入力面として機能している、請求項１〜６のいずれかに記載の静電容量式タッチパネル基板。
【請求項８】
前記低反射層は、厚み方向において、前記反射性導電性層よりも前記透光性基板からの距離が遠い側に形成されている、請求項１〜４のいずれかに記載の静電容量式タッチパネル基板。
【請求項９】
表示パネルと、
前記表示パネルの観察者側に配置された請求項１〜８のいずれかに記載の静電容量式タッチパネル基板と、を含む、表示装置。
【手続補正書】
【提出日】平成26年6月16日(2014.6.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１面と前記第１面とは反対側の第２面とを有する透光性基板と、
前記透光性基板の前記第１面及び第２面のいずれか一方の面上に、第１方向に配列された複数の第１方向透明電極単位と、
前記第１方向透明電極単位と同一材料で同一面に形成され、前記第１方向透明電極単位同士を接続する第１方向接続部と、
前記第１方向透明電極単位と同一材料で同一面に形成され、前記第１方向透明電極単位の間に位置すると共に前記第１方向接続部の間に位置して、前記第１方向と交差する第２方向に配列された複数の第２方向透明電極単位と、
前記第２方向透明電極単位同士を接続し、前記第１方向接続部とは絶縁層を介して絶縁され、反射性導電性層を含む第２方向接続部と、
国際照明委員会ＣＩＥによる、標準光源Ｃを用いたＹｘｙ表色系でのＹ値が、１０％以下となる低反射性を示し、前記透光性基板の前記一方の面に垂直な方向から観察したときに、前記反射性導電性層の少なくとも一部と重なる低反射層と、
を有し、
前記第１方向透明電極単位及び第２方向透明電極単位が配列された位置検知領域の外周部であって前記透光性基板の前記一方の面上に、加飾部を有し、
前記低反射層が前記加飾部と同一材料で形成され、
前記低反射層は、厚み方向において、前記第１方向接続部および前記反射性導電性層に対して前記透光性基板側に形成されている、静電容量式タッチパネル基板。
【請求項２】
前記低反射層と前記反射性導電性層との重なる部分の面積が、前記反射性導電性層の面積の３０％以上である、請求項１に記載の静電容量式タッチパネル基板。
【請求項３】
前記透光性基板の前記一方の面に垂直な方向から観察したときの前記低反射層の外輪郭形状が、前記反射性導電性層の外輪郭形状を内側に含む、請求項１又は２に記載の静電容量式タッチパネル基板。
【請求項４】
前記第１方向透明電極単位及び第２方向透明電極単位が配列された位置検知領域の外周部であって前記透光性基板の前記一方の面上に、配線を有し、
前記反射性導電性層が前記配線と同一材料で形成されている、請求項１〜３のいずれかに記載の静電容量式タッチパネル基板。
【請求項５】
前記低反射層は、前記反射性導電性層と前記透光性基板との間に形成されている、請求項１〜５に記載の静電容量式タッチパネル基板。
【請求項６】
前記透光性基板の前記一方の面とは反対側の面は、タッチパネルの入力面として機能している、請求項１〜５のいずれかに記載の静電容量式タッチパネル基板。
【請求項７】
第１面と前記第１面とは反対側の第２面とを有する透光性基板と、
前記透光性基板の前記第１面及び第２面のいずれか一方の面上に、第１方向に配列された複数の第１方向透明電極単位と、
前記第１方向透明電極単位と同一材料で同一面に形成され、前記第１方向透明電極単位同士を接続する第１方向接続部と、
前記第１方向透明電極単位と同一材料で同一面に形成され、前記第１方向透明電極単位の間に位置すると共に前記第１方向接続部の間に位置して、前記第１方向と交差する第２方向に配列された複数の第２方向透明電極単位と、
前記第２方向透明電極単位同士を接続し、前記第１方向接続部とは絶縁層を介して絶縁され、反射性導電性層を含む第２方向接続部と、
国際照明委員会ＣＩＥによる、標準光源Ｃを用いたＹｘｙ表色系でのＹ値が、１０％以下となる低反射性を示し、前記透光性基板の前記一方の面に垂直な方向から観察したときに、前記反射性導電性層の少なくとも一部と重なる低反射層と、
を有し、
前記第１方向透明電極単位及び第２方向透明電極単位が配列された位置検知領域の外周部であって前記透光性基板の前記一方の面上に、加飾部を有し、
前記低反射層が前記加飾部と同一材料で形成され、
前記低反射層は、厚み方向において、前記第１方向接続部および前記反射性導電性層よりも前記透光性基板からの距離が遠い側に形成されている、静電容量式タッチパネル基板。
【請求項８】
表示パネルと、
前記表示パネルの観察者側に配置された請求項１〜７のいずれかに記載の静電容量式タッチパネル基板と、を含む、表示装置。
【手続補正書】
【提出日】平成26年12月2日(2014.12.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１面と前記第１面とは反対側の第２面とを有する透光性基板と、
前記透光性基板の前記第１面及び第２面のいずれか一方の面上に、第１方向に配列された複数の第１方向透明電極単位と、
前記第１方向透明電極単位と同一材料で同一面に形成され、前記第１方向透明電極単位同士を接続する第１方向接続部と、
前記第１方向透明電極単位と同一材料で同一面に形成され、前記第１方向透明電極単位の間に位置すると共に前記第１方向接続部の間に位置して、前記第１方向と交差する第２方向に配列された複数の第２方向透明電極単位と、
前記第２方向透明電極単位同士を接続し、前記第１方向接続部とは絶縁層を介して絶縁され、反射性導電性層を含む第２方向接続部と、
国際照明委員会ＣＩＥによる、標準光源Ｃを用いたＹｘｙ表色系でのＹ値が、１０％以下となる低反射性を示し、前記透光性基板の前記一方の面に垂直な方向から観察したときに、前記反射性導電性層の少なくとも一部と重なる低反射層であって、前記絶縁層とは別体の低反射層と、
を有し、
前記第１方向透明電極単位及び第２方向透明電極単位が配列された位置検知領域の外周部であって前記透光性基板の前記一方の面上に、加飾部を有し、
前記低反射層が前記加飾部と同一材料で形成され、
前記低反射層は、厚み方向において、前記第１方向接続部および前記反射性導電性層に対して前記透光性基板側に形成されている、静電容量式タッチパネル基板。
【請求項２】
前記低反射層と前記反射性導電性層との重なる部分の面積が、前記反射性導電性層の面積の３０％以上である、請求項１に記載の静電容量式タッチパネル基板。
【請求項３】
前記透光性基板の前記一方の面に垂直な方向から観察したときの前記低反射層の外輪郭形状が、前記反射性導電性層の外輪郭形状を内側に含む、請求項１又は２に記載の静電容量式タッチパネル基板。
【請求項４】
前記第１方向透明電極単位及び第２方向透明電極単位が配列された位置検知領域の外周部であって前記透光性基板の前記一方の面上に、配線を有し、
前記反射性導電性層が前記配線と同一材料で形成されている、請求項１〜３のいずれかに記載の静電容量式タッチパネル基板。
【請求項５】
前記低反射層は、前記反射性導電性層と前記透光性基板との間に形成されている、請求項１〜４のいずれかに記載の静電容量式タッチパネル基板。
【請求項６】
前記透光性基板の前記一方の面とは反対側の面は、タッチパネルの入力面として機能している、請求項１〜５のいずれかに記載の静電容量式タッチパネル基板。
【請求項７】
第１面と前記第１面とは反対側の第２面とを有する透光性基板と、
前記透光性基板の前記第１面及び第２面のいずれか一方の面上に、第１方向に配列された複数の第１方向透明電極単位と、
前記第１方向透明電極単位と同一材料で同一面に形成され、前記第１方向透明電極単位同士を接続する第１方向接続部と、
前記第１方向透明電極単位と同一材料で同一面に形成され、前記第１方向透明電極単位の間に位置すると共に前記第１方向接続部の間に位置して、前記第１方向と交差する第２方向に配列された複数の第２方向透明電極単位と、
前記第２方向透明電極単位同士を接続し、前記第１方向接続部とは絶縁層を介して絶縁され、反射性導電性層を含む第２方向接続部と、
国際照明委員会ＣＩＥによる、標準光源Ｃを用いたＹｘｙ表色系でのＹ値が、１０％以下となる低反射性を示し、前記透光性基板の前記一方の面に垂直な方向から観察したときに、前記反射性導電性層の少なくとも一部と重なる低反射層であって、前記絶縁層とは別体の低反射層と、
を有し、
前記第１方向透明電極単位及び第２方向透明電極単位が配列された位置検知領域の外周部であって前記透光性基板の前記一方の面上に、加飾部を有し、
前記低反射層が前記加飾部と同一材料で形成され、
前記低反射層は、厚み方向において、前記第１方向接続部および前記反射性導電性層よりも前記透光性基板からの距離が遠い側に形成されている、静電容量式タッチパネル基板。
【請求項８】
表示パネルと、
前記表示パネルの観察者側に配置された請求項１〜７のいずれかに記載の静電容量式タッチパネル基板と、を含む、表示装置。
【国際調査報告】
2013179955.tif 000015
2013179955.tif 000016
2013179955.tif 000017
2013179955.tif 000018