【事件の表示】
　特願２０１６−１８１７６２「基板処理装置及び基板移送方法」拒絶査定不服審判事件〔平成３０年　３月２２日出願公開，特開２０１８−　４６２３６，請求項の数（１７）〕について，次のとおり審決する。
【結　論】
　原査定を取り消す。
　本願の発明は，特許すべきものとする。
【理　由】
第１　手続の経緯
　本願は，平成２８年９月１６日の特許出願であって，その手続の経緯は，概略，以下のとおりである。
　令和　元年１１月　６日付け：拒絶理由通知書
　令和　２年　１月　８日　　：意見書
　令和　２年　１月　８日　　：手続補正書
　令和　２年　１月１７日付け：拒絶査定（以下，「原査定」という。）
　令和　２年　４月１７日　　：審判請求書
　令和　２年　４月１７日　　：手続補正書
第２　原査定の概要
　原査定（令和２年１月１７日付け拒絶査定）の概要は次のとおりである。
　本願請求項１ないし１９に係る発明は，以下の引用文献１ないし３に基づいて，その発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者（以下，「当業者」という。）が容易に発明できたものであるから，特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　引用文献等一覧
１．特開２０１５−０７３０６２号公報
２．特開２０１０−１８２７４７号公報
３．特開平１１−１６８１３５号公報
第３　審判請求時の補正について
　審判請求時の補正は，特許法第１７条の２第３項から第６項までの要件に違反しているものとはいえない。
　そして，「第４　本願発明」から「第６　対比・判断」までに示すように，補正後の請求項１ないし１７に係る発明は，独立特許要件を満たすものである。
第４　本願発明
　本願請求項１ないし１７に係る発明（以下，それぞれ「本願発明１」ないし「本願発明１７」という。）は，令和２年４月１７日付けの手続補正で補正された特許請求の範囲の請求項１ないし１７に記載された事項により特定される発明であり，以下のとおりの発明である。
「【請求項１】
　第１の酸素濃度を有し，基板を露出させた状態で搬送可能な基板搬送領域と，
　該基板搬送領域に隔壁を介して隣接して設けられるとともに，前記第１の酸素濃度よりも高い第２の酸素濃度を有し，前記基板を基板保管器内に保持した状態で搬送可能な基板保管器搬送領域と，
　該基板保管器搬送領域内に設けられ，前記基板保管器を一時的に保管可能な基板保管器保管棚と，
　該基板保管器保管棚に保管された前記基板保管器の内部にパージガスを供給可能な第１のパージガス供給手段と，
　該第１のパージガス供給手段から前記基板保管器の内部に供給された前記パージガスの積算流量を取得する積算流量取得手段と，
　前記基板保管器搬送領域内で前記基板保管器を搬送可能な搬送手段と，
　前記基板保管器搬送領域内の前記隔壁と隣接した所定箇所に設けられ，前記基板保管器を前記基板搬送領域に移送するために載置する移送載置部と，
　前記移送載置部に載置された前記基板保管器の内部にパージガスを供給可能な第２のパージガス供給手段と，
　前記移送載置部に載置された前記基板保管器を前記隔壁に密着させた状態で前記基板保管器を開放し，前記基板を前記基板搬送領域内に移送する基板移送手段と，
　予め設定された前記基板保管器内の所定の酸素濃度初期値と，前記積算流量取得手段により取得された前記パージガスの積算流量と，前記第１のパージガス供給手段からの前記パージガスの供給停止時間及び前記基板保管器の前記基板保管器保管棚から前記基板搬送領域への移動時間中の前記パージガスの供給が無い時間とに基づいて前記移送載置部に載置された前記基板保管器の内部の酸素濃度を推定し，該酸素濃度が所定の閾値以下の場合には，前記基板移送手段に前記基板を前記基板搬送領域に移送させ，前記酸素濃度が前記所定の閾値を超えている場合には，前記第２のパージガス供給手段に前記基板保管器の内部に前記パージガスを供給させ，前記基板保管器の内部の前記酸素濃度が前記所定の閾値以下になってから前記基板移送手段に前記基板を前記基板搬送領域に移送させる制御手段と，を有し，
　前記制御手段は，取得した前記積算流量に基づいて，前記基板保管器保管棚に保管された前記基板保管器の内部の前記酸素濃度が所定の第２の閾値に到達したと判定したときに，前記第１のパージガス供給手段からの前記パージガスの供給を停止させる制御を行い，　前記第２の閾値は，予め測定した前記パージガスの供給を継続しても酸素濃度がそれ以上低下しない限界値に設定されている基板処理装置。
【請求項２】
　前記所定の閾値は，前記第１の酸素濃度よりも高いが，前記基板保管器を開放しても，前記基板搬送領域の前記第１の酸素濃度を，前記基板の表面に自然酸化膜が形成される濃度にまでは変化させない濃度に設定されている請求項１に記載の基板処理装置。
【請求項３】
　前記積算流量取得手段は，前記制御手段内に設けられ，
　前記制御手段は，前記第１のパージガス供給手段と，前記搬送手段の動作も制御する請求項１又は２に記載の基板処理装置。
【請求項４】
　前記基板保管器保管棚に前記基板保管器が保管されたことを検出する基板保管器保管検出手段を更に有し，
　該基板保管器保管検出手段により前記基板保管器の保管が検出されたときに，前記制御手段は，前記第１のパージガス供給手段に前記パージガスの供給を開始させる請求項３に記載の基板処理装置。
【請求項５】
　前記所定の閾値と前記第２の閾値は，同じ濃度に設定されている請求項1乃至４のいずれか一項に記載の基板処理装置。
【請求項６】
　前記移送載置部に前記基板保管器が載置されたことを検出する基板保管器載置検出手段を更に有し，
　前記制御手段は，該基板保管器載置検出手段により前記基板保管器の載置が検出されたときに，前記酸素濃度の推定を行う請求項１乃至５のいずれか一項に記載の基板処理装置。
【請求項７】
　前記制御手段は，予め測定した前記基板保管器保管棚における前記第１のパージガス供給手段からの前記パージガスの供給による酸素置換特性，前記パージガスの供給したときの酸素濃度保持特性，前記移送載置部における前記第２のパージガス供給手段からの前記パージガスの供給による酸素置換特性に基づいて，前記基板保管器の内部の前記酸素濃度を推定する請求項１乃至６のいずれか一項に記載の基板処理装置。
【請求項８】
　前記第１のパージガス供給手段からの前記パージガスの供給による酸素置換特性，前記パージガスの供給を停止したときの酸素濃度保持特性，前記移送載置部における前記第２のパージガス供給手段からの前記パージガスの供給による酸素置換特性は，横軸を時間，縦軸を酸素濃度とする特性である請求項７に記載の基板処理装置。
【請求項９】
　前記パージガスは窒素ガスである請求項１乃至８のいずれか一項に記載の基板処理装置。
【請求項１０】
　前記基板保管器保管棚は，複数個設けられている請求項１乃至９のいずれか一項に記載の基板処理装置。
【請求項１１】
　前記基板保管器は，前面に開閉可能な蓋が設けられ，複数枚の基板を収納可能なＦＯＵＰであり，
　前記基板移送手段は，該蓋を開放することにより前記基板保管器を開放する請求項１乃至１０のいずれか一項に記載の基板処理装置。
【請求項１２】
　前記基板搬送領域には，前記基板を処理する処理容器が設けられた請求項１乃至１１のいずれか一項に記載の基板処理装置。
【請求項１３】
　前記処理容器は，熱処理を行う反応管であり，
　前記基板搬送領域には，該反応管に複数の基板を保持した状態で収容可能な基板保持具が設けられ，
　前記基板移送手段は，前記基板を前記基板保管器から該基板保持具に移載するように構成された請求項１２に記載の基板処理装置。
【請求項１４】
　基板を収納した基板保管器を，基板保管器搬送領域内に設けられた基板保管器保管棚に一時的に保管する工程と，
　該基板保管器保管棚に保管された前記基板保管器の内部にパージガスを供給する工程と，
　前記基板保管器の内部に供給された該パージガスの積算流量を算出する工程と，
　前記基板を露出した状態で搬送可能な基板搬送領域に移送するため，前記基板を，前記基板搬送領域と前記基板保管器搬送領域とを仕切る隔壁に隣接して設けられた前記基板保管器搬送領域内の移送載置部に載置する工程と，
　該移送載置部に載置された前記基板保管器の内部の酸素濃度を，予め設定された前記基板保管器内の所定の酸素濃度初期値と，前記パージガスの積算流量と，前記パージガスの供給停止時間及び前記基板保管器の前記基板保管器保管棚から前記基板搬送領域への移動時間中の前記パージガスの供給が無い時間とに基づいて推定し，前記酸素濃度が所定の閾値以下の場合には，前記基板保管器を前記隔壁に密着させた状態で開放させて前記基板を前記基板搬送領域内に移送し，前記酸素濃度が前記所定の閾値を超える場合には，前記基板保管器の内部に前記パージガスを供給し，前記基板保管器の内部の前記酸素濃度が前記所定の閾値以下となってから前記基板を前記基板搬送領域に移送する工程と，を有し，
　前記基板を収納した前記基板保管器を前記基板保管器保管棚に一時的に保管する工程は，前記基板保管器保管棚に保管された前記基板保管器の内部の前記酸素濃度が所定の第２の閾値に到達したと判定したときに，前記パージガスの供給を停止する工程を含み，
　前記第２の閾値は，予め測定した前記パージガスの供給を継続しても酸素濃度がそれ以上低下しない限界値に設定されている基板移送方法。
【請求項１５】
　前記所定の閾値は，前記基板搬送領域内の酸素濃度よりも高いが，前記基板保管器を開放しても，前記基板搬送領域内の酸素濃度を，前記基板の表面に自然酸化膜が形成される濃度にまでは変化させない濃度に設定されている請求項１４に記載の基板移送方法。
【請求項１６】
　前記移送載置部に載置された前記基板保管器の内部の前記酸素濃度は，予め測定した前記基板保管器保管棚における前記パージガスの供給による酸素置換特性，前記パージガスの供給を停止したときの酸素濃度保持特性，前記移送載置部における前記パージガスの供給による酸素置換特性に基づいて推定する請求項１４又は１５に記載の基板移送方法。
【請求項１７】
　前記基板保管器保管棚における前記パージガスの供給による酸素置換特性，前記パージガスの供給を停止したときの酸素濃度保持特性，前記移送載置部における前記パージガスの供給による酸素置換特性は，横軸を時間，縦軸を酸素濃度とする特性である請求項１６に記載の基板移送方法。」
第５　引用文献，引用発明等
　１　引用文献１について
（１）原査定の拒絶の理由に引用された引用文献１には，図面とともに次の事項が記載されている。（下線は当審で付加した。以下同じ。）
「【請求項１】
　
基板を処理する処理容器と，
　前記基板が収容される基板収容器に不活性ガスを第１流量で供給する第１パージを実行する第１パージ部と，
　前記基板収容器に不活性ガスを前記第１流量よりも少ない第２流量で供給する第２パージを実行する第２パージ部と，
を有する基板処理装置
【請求項２】
　
前記基板収容器を開閉する基板収容器開閉部と，
前記基板収容器を保管する基板収容器保管棚と，
を備え，前記第１パージ部は前記基板収容器開閉部に設けられ，前記第２パージ部は前記基板収容器保管棚に設けられる請求項１に記載の基板処理装置
【請求項３】
前記基板処理装置に前記基板収容器を搬入する際に前記基板収容器が載置される基板収容器受渡し台と，
前記基板収容器を保管する基板収容器保管棚と，
を備え，前記第１パージ部は前記基板収容器受渡し台に設けられ，前記第２パージ部は前記基板収容器保管棚に設けられる請求項１に記載の基板処理装置。
【請求項４】
前記基板収容器を搬送する基板収容器搬送装置と，
　前記基板収容器を前記第１パージ部から前記第２パージ部に搬送するように前記基板収容器搬送装置を制御する搬送制御部と，
前記第１パージ部に前記基板収容器があるときに前記第１パージを実行するように前記第１パージ部を制御すると共に，前記第１パージ部から第２パージ部に前記基板収容器が搬送されたときに前記第２パージを実行するように前記第２パージ部を制御するパージ制御部と，
を備える請求項１から３のいずれかに記載の基板処理装置。」
「【技術分野】
【０００１】
　
本発明は，基板処理装置
に関する
【背景技術】
【０００２】
　大規模集積回路（Large Scale Integrated Circuit: 以下LSI）などの半導体装置を製造する処理装置では，処理する基板への自然酸化膜の形成を抑制するために，処理装置内の酸素濃度や，処理装置に搬送されるポッド内の酸素濃度を低減することが行われている。（例えば特許文献１参照）。
　・・・
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
　しかしながら，このような構成の処理装置では，最新の微細化技術が求める，自然酸化膜の形成を抑制しつつ半導体装置の品質を向上させることや，製造スループットを向上させることが困難であった。
【０００５】
　
本発明は，自然酸化膜の形成を抑制しつつ半導体装置の品質を向上させると共に，製造スループットを向上させることが可能な基板処理装置
を提供することを目的とする
「【発明を実施するための形態】
【００１２】
　本発明の一実施形態について図面を参照しながら説明する。
【００１３】
（基板処理装置の構成）
　まず，本実施形態に係る基板処理装置１００の構成について，主に図１及び図２を用いて説明する。図１は，本実施形態に係る基板処理装置１００の斜透視図である。図２は，本実施形態に係る基板処理装置１００の側面透視図である。本実施形態に係る基板処理装置では，半導体装置や半導体素子を製造する工程の内，基板に膜を形成する工程や，膜を改質する工程等が行われる。ここで，半導体装置とは，上述のＬＳＩのような集積回路，マイクロプロセッサ，半導体メモリ等である。また，半導体素子とは，ダイオード，トランジスタ，サイリスタ等である。
【００１４】
　図１及び図２に示すように，
本実施形態に係る基板処理装置１００は，耐圧容器として構成された筐体１１１を備えている
【００１５】
　
基板としてのウエハ２００を筐体１１１内外へ搬送するには，複数のウエハ２００を収納するウエハキャリア（基板収容器）としてのポッド１１０が使用される。ウエハキャリアとしては，例えば，（ＦＯＵＰ）が用いられる
【００１６】
　発明者等は，このようなウエハ２００への自然酸化膜の形成を抑制しつつ，半導体装置の品質を向上させる処理を行いつつ，製造スループットを向上させるには，後述の酸素濃度を低下させる技術が必要となることを見出した。
【００１７】
（基板収容器搬送室）
　筐体１１１内であってロードポート１１４の後方には，ポッド１１０の搬送空間となる基板収容器搬送室１５０が構成されている
【００１８】
（基板収容器搬送装置）
　筐体１１１内におけるロードポート１１４の近傍には，ポッド搬送装置（基板収容器搬送装置）１１８が設置されている
筐体１１１内のポッド搬送装置１１８のさらに奥，筐体１１１内の前後方向の略中央部における上方には，回転式ポッド棚（基板収容器載置棚）１０５が設置されている
【００１９】
　ポッド搬送装置１１８は，ポッド１１０を保持したまま昇降可能なポッドエレベータ（基板収容器昇降機構）１１８ａと，搬送機構としてのポッド搬送機構（基板収容器搬送機構）１１８ｂとで構成されている。
ポッド搬送装置１１８は，ポッドエレベータ１１８ａとポッド搬送機構１１８ｂとの連続動作により，ロードポート１１４と，後述の回転式ポッド棚１０５と，ポッドオープナ１２１との間で，ポッド１１０を相互に搬送するように構成されている
【００２０】
（第１パージ部）
　筐体１１１内であって，ロードポート１１４の近傍，例えば上方には，ポッド１１０内の雰囲気をパージし，ポッド１１０内の酸素濃度を所定管理値以下にする，第１パージ部（主載置部）としての主置換棚１６０が設けられている
主置換棚１６０には，図４に示す，主パージポートが設けられている。主パージポートには，主ガス供給口４１０と，主ガス排気口４２０が設けられている。主ガス供給口４１０には，ガス供給管４１１が接続されている。ガス供給管４１１には，主流量制御装置４１２が設けられ，後述のコントローラ２８０によって流量が制御されるように構成されている。主流量制御装置４１２は，バルブ（不図示）とマスフローコントローラ（不図示）のいずれか若しくは両方で構成されている。主ガス排気口には，ガス排気管４２１が接続されている。また，ガス排気管４２１に主排気バルブ４２２を設け，ガス排気量を調整できるように構成しても良い。また，ガス排気管４２１に，ポッド１１０内またはポッド１１０からの排気ガス中の酸素濃度を検出する酸素濃度計４２３を設けても良い。また，ポッド１１０内またはポッド１１０からの排気ガス中の湿度を検出する露点計４２４を設けても良い
【００２１】
（第２パージ部）
　
筐体１１１内であって，基板収容器搬送室１５０の後方には，第２パージ部（副載置部）としての副置換棚（ポッド棚）１０５が設けられている。ポッド棚１０５には，複数枚の棚板１１７（基板収容器載置台）が設けられ，複数個のポッド１１０が保管されるように構成されている。また，複数の棚板にはそれぞれ副パージポートが設けられており，ポッド１１０内をパージ（ガス置換）することによって，ポッド１１０内の酸素濃度を所定管理値以下にできるようになっている
副パージポートには，副ガス供給口５１０と，副ガス排気口５２０が設けられている。副ガス供給口５１０には，ガス供給管５１１が設けられている。ガス供給管５１１には副流量制御装置５１２が設けられ，後述のコントローラ２８０で流量を制御できるように構成されている。副流量制御装置５１２は，バルブ（不図示）とマスフローコントローラ（不図示）のいずれか若しくは両方で構成されている。副ガス排気口には，ガス排気管５２１が設けられている。ガス排気管５２１には，副排気バルブ５２２を設けて排気量を調整できるように構成しても良い。また，ガス排気管５２１に，ポッド１１０内または排気ガス中の酸素濃度を検出する酸素濃度計５２３を設けても良い
　上記した第１パージ部と第２パージ部により，基板処理装置１００に好適なパージ装置が構成される。
【００２２】
（所定管理値）
　酸素濃度の所定管理値として，第１管理値と第２管理値が設定されている。
好ましくは，第１管理値は，第２管理値よりも低く設定されている。より好ましくは，第１管理値は，６００ｐｐｍであり，第２管理値は６００ｐｐｍ以上１０００ｐｐｍ以下である。主載置部では，第１管理値以下になるようにパージされ，副載置部では，第２管理値以下になるようにパージされる（以下，第１管理値以下にパージすることを第１パージ，第２管理値以下にすることを第２パージと呼ぶ）
【００２３】
　なお，
第１パージする際には，主パージポートからポッド１１０内に第１流量で不活性ガスが供給される。また第２パージする際には，副パージポートからポッド１１０内に第２流量で不活性ガスが供給される。ここで第１流量は，２０ｓｌｍ〜１００ｓｌｍで例えば５０ｓｌｍである。第２流量は，０．５ｓｌｍ〜２０ｓｌｍで，例えば５ｓｌｍである
【００２４】
（ポッド内の酸素濃度調整方法）
　ポッド１１０内の酸素濃度の調整では，上述の酸素濃度計４２３，５２３を用いてポッド１１０内の酸素濃度または排気ガス中の酸素濃度を検出して，検出した酸素濃度値に基づいてフィードバック制御しても良い。また，事前に，不活性ガスの供給量と供給時間とポッド１１０内の酸素濃度の関係を求めておき，それらの関係に基づき，不活性ガスの供給量と供給時間の設定によって調整できるようにしても良い
【００２５】
　
筐体１１１内の下部には，サブ筐体１１９が，筐体１１１内の前後方向の略中央部から後端にわたって設けられている。サブ筐体１１９の正面壁１１９ａには，ウエハ２００をサブ筐体１１９内外に搬送する一対のウエハ搬入搬出口（基板搬入搬出口）１２０が，垂直方向に上下二段に並べられて設けられている。上下段のウエハ搬入搬出口１２０のそれぞれには，ポッドオープナ（基板収容器開閉部）１２１が設置されている
【００２６】
　各ポッドオープナ１２１は，ポッド１１０を載置する一対の載置台１２２と，ポッド１１０のキャップ（蓋体）を着脱するキャップ着脱機構（蓋体着脱機構）１２３とを備えている。ポッドオープナ１２１は，載置台１２２上に載置されたポッド１１０のキャップをキャップ着脱機構１２３によって着脱することにより，ポッド１１０のウエハ出し入れ口を開閉するように構成されている。
【００２７】
　
サブ筐体１１９内には，ポッド搬送装置１１８や回転式ポッド棚１０５等が設置された空間から流体的に隔絶された基板搬送室としての搬送室１２４が構成されている
搬送室１２４の前側領域にはウエハ搬送機構（基板搬送機構）１２５が設置されている
「【００５２】
（基板処理装置の動作と搬送工程）
　次に，本実施形態に係る基板処理装置１００の動作と基板収容器の搬送工程および基板の搬送工程について，主に図１，図２，図７を用いて説明する
【００５３】
（ロードポートから搬入（Ｔ１１０））
　図１及び図２に示すように，ポッド１１０がロードポート１１４に供給されると，ポッド搬入搬出口１１２がフロントシャッタ１１３によって開放される。そして，ロードポート１１４上の
ポッド１１０は，ポッド搬送装置１１８によってポッド搬入搬出口１１２から筐体１１１内部へと搬入される
【００５４】
（ウエハ枚数カウント（Ｔ１２０））
　
筐体１１１内部へと搬入されたポッド１１０は，ポッド搬送装置１１８によってポッドオープナ１２１に搬送され，ポッドオープナ１２１の載置台１２２上に搬送される
搬送室１２４内にはクリーンエア１３３が流通され，充満されている。例えば，不活性ガス等のクリーンエア１３３で搬送室１２４内が充満されることにより，搬送室１２４内の酸素濃度が例えば２０ｐｐｍ以下となり，大気雰囲気である筐体１１１内の酸素濃度よりも遥かに低くなるように設定されている
【００５５】
　
載置台１２２上に載置されたポッド１１０は，その開口側端面がサブ筐体１１９の正面壁１１９ａにおけるウエハ搬入搬出口１２０の開口縁辺部に押し付けられるとともに，そのキャップがキャップ着脱機構１２３によって取り外され，ウエハ出し入れ口が開放される。ウエハ出し入れ口が開放される際には，ポッド１１０内とポッドオープナ１２１の内部が不活性ガスでパージされる。このときのパージでは，ポッド１１０内の酸素濃度を第１管理値になるようにパージされることが好ましい。より好ましくは，２０ｐｐｍ以下にパージされる。その後，ウエハ枚数カウンタ装置によってポッド１１０内のウエハ２００の枚数のカウントやウエハ２００の状態がチェックされる。ウエハ２００の枚数がカウントされた後，キャップ着脱機構１２３によりキャップが閉じられる
【００５６】
（第２パージ（Ｔ１３０））
　
ポッドオープナ１２１でポッド１１０内のウエハ２００の枚数がカウントされた後，ポッド１１０は，ポッド棚１０５に搬送され，載置される
ポッド棚１０５に載置されたポッド１１０は，副パージポートにより，ポッド１１０内の酸素濃度が第２管理値以下になるように，第２パージされる。第２パージは，載置されている間に継続して行われても良いし，任意の時間で間欠的に行われても良い
【００５７】
（第１パージ（プリパージ）（Ｔ１４０））
　
ポッド棚１０５に載置されている複数のポッド１１０の内，成膜対象となったポッド１１０がポッド棚１０５から主置換棚１６０に搬送される
主載置棚１６０に載置されたポッド１１０は，主載置部１６０に設けられた主パージポートにより第１パージ（プリパージ）される
【００５８】
（ボートへのウエハ装填（Ｔ１５０））
　
主載置棚１６０で第１パージされたポッド１１０は，主載置棚１６０からポッドオープナ１２１に搬送され，ポッドオープナ１２１の載置台１２２上に搬送される
載置台１２２上に載置されたポッド１１０は，その開口側端面がサブ筐体１１９の正面壁１１９ａにおけるウエハ搬入搬出口１２０の開口縁辺部に押し付けられるとともに，そのキャップがキャップ着脱機構１２３によって取り外され，ウエハ出し入れ口が開放される。このときには，Ｔ１２０のようにパージが行われずに，開放される
ポッド１１０が開放されると，ウエハ搬送装置１２５ａのツイーザ１２５ｃによってウエハ出し入れ口を通じてポッド１１０内からピックアップされ，ノッチ合わせ装置にて円周方向の位置合わせがされた後，搬送室１２４の後方にある待機部１２６内へ搬入され，ボート２１７内に装填（チャージング）される
「【００７６】
（本実施形態に係る効果）
　本実施形態によれば，以下に示す１つまたは複数の効果を奏する。
【００７７】
（ａ）本実施形態によれば，ポッド内のパージを主載置部と副載置部で分けることにより，ガスシステムを簡略化させ，使用部品コストを低減することができる。
【００７８】
（ｂ）本実施形態によれば，ポッドオープナへの搬送前でプリパージを行うことで，ポッドオープナでのキャップ開閉に必要なパージ時間を省略することができ，搬送スループットを向上させることができる。」
「【００８６】
＜本発明の他の実施形態＞
　以上，本発明の実施形態を具体的に説明したが，本発明は上述の実施形態に限定されるものではなく，その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能である。
【００８７】
　例えば，搬送工程を，図１１に記すフローの様に行ってもよい。図１１に記す搬送工程を説明する。
【００８８】
（ロードポートから搬入（Ｔ３１０））
　ロードポート１１４にポッド１１０が載置されると，ポッド搬入搬出口１１２がフロントシャッタ１１３によって開放される。そして，ロードポート１１４上のポッド１１０は，ポッド搬送装置１１８によって，ポッド搬入搬出口１１２から筐体１１１の内部に搬入される。
【００８９】
（第２パージＴ３２０））
　
ロードポート１１４から筐体１１１の内部に搬入されたポッド１１０は，ポッド搬送装置１１８によってポッド棚１０５に搬送される
【００９０】
（第１パージ（Ｔ３３０））
　ポッド棚１０５に載置されたポッド１１０は，ポッド棚１０５から主載置棚１６０へ搬送され，主載置棚１６０に載置される。主載置棚１６０に載置されたポッド１１０では，上述の第１パージが行われる。
【００９１】
（ウエハ枚数カウント及びボートへのウエハ装填（Ｔ３４０））
　主載置棚１６０でポッド１１０内の酸素濃度が第１管理値以下になるパージが行われたポッド１１０は，主載置棚１６０からポッドオープナ１２１へ搬送され，ポッドオープナ１２１の載置台１２２上に載置される。載置台１２２上に載置されたポッド１１０は，その開口側端面がサブ筐体１１９の正面壁１１９ａにおけるウエハ搬入搬出口１２０の開口縁辺部に押し付けられるとともに，そのキャップがキャップ着脱機構１２３によって取り外され，ウエハ出し入れ口が開放される。このときには，Ｔ１２０のようにパージが行われずに開放される。ポッド１１０が開放されると，ウエハ枚数カウンタ装置（不図示）によってポッド１１０内のウエハ２００の枚数のカウントやウエハ２００の状態がチェックされる。ウエハ２００の枚数がカウントされた後，上述のＴ１５０の手順でウエハ２００がボート２１７に装填される。
　装填が完了すると，上述の様にボートローディングが行われる。ボートローディング後は，上述の基板処理工程が行われ，上述の基板搬出工程が行われる。」
「【０１２４】
　なお，
本発明では，第１パージ部として，主載置部を用いた例を示したが，これに限らず，ポッドオープナ１２１やロードポート１１４に同様の機能を有するように構成し，第１パージ部としても良い
【０１２５】
ポッドオープナ１２１やロードポート１１４を第１パージ部として機能させる場合は，ポッドオープナ１２１やロードポート１１４のポッド載置部に，上述の主置換棚１６０と同様な構成を設けることができる。
【０１２６】
　また，ポッドオープナ１２１を第１パージ部として機能させる場合，以下のように構成してもよい。
　図１６は，ポッドオープナ１２１の平面断面図である。図１６に示すように，載置台１２２の上面には位置決めピン２８が設けられる。この位置決めピン２８により，載置台１２２の所定位置にポッド１１０が載置される。また，ポッドオープナ１２１は，ポッドオープナ筐体４８を備える。ポッドオープナ筐体４８の内部（収容室４９）には，上記したキャップ着脱機構１２３が収容される。キャップ着脱機構１２３は，ウエハ搬入搬出口１２０の閉塞と開放を行うことができる。なお，符号５４，５５，５６は，キャップ着脱機構１２３でウエハ搬入搬出口１２０を閉塞したときの気密性を確保するためのパッキンである。」
「【０１３１】
ウエハ出し入れ口５０が閉塞した状態で，収容室４９にガス供給管５２から不活性ガスを供給する。これにより，収容室４９とポッド１１０の内部に存在した空気がガス排気管５３から排出され，収容室４９とポッド１１０の内部が不活性ガスに置換される。このときの不活性ガスの流量は，ポッド１１０の内部の酸素濃度が第１管理値以下になるように第１流量（あるいはそれよりも多い流量）に設定される。なお，
ポッドオープナ１２１による収容室４９とポッド１１０の内部の酸素濃度の調整では，上述の酸素濃度計７２を用いて収容室４９及びポッド１１０内の酸素濃度または排気ガス中の酸素濃度を検出して，検出した酸素濃度値に基づいてフィードバック制御しても良い。また，事前に，不活性ガスの供給量と供給時間と収容室４９及びポッド１１０内の酸素濃度の関係を求めておき，それらの関係に基づき，不活性ガスの供給量と供給時間のいずれか若しくは両方を設定することによって調整するようにしても良い
「
」
「
」
「
」
「
」
（２）上記記載から，引用文献１には，次の技術的事項が記載されているものと認められる。
・引用文献１に記載された技術は，本発明は，基板処理装置に関するものであり，自然酸化膜の形成を抑制しつつ半導体装置の品質を向上させると共に，製造スループットを向上させることが可能な基板処理装置を提供することを解決すべき課題とするものであること。（【０００１】，【０００５】）
　
・引用文献１に記載された技術は，
　基板収容器を開閉する基板収容器開閉部と，基板収容器を保管する基板収容器保管棚とを備えた基板処理装置において，
　前記基板収容器開閉部に，基板収容器へ不活性ガスを第１流量で供給する第１パージを実行する第１パージ部を設け，
　前記基板収容器保管棚に，前記第１流量よりも少ない第２流量で不活性ガスを供給する第２パージを実行する第２パージ部を設けることで前記課題を解決したものであること。（【請求項１】，【請求項２】）
・引用文献１の最初に記載された実施形態が，以下の構成を備えた基板処理装置であること。（【００１２】ないし【００５８】）
　ａ　基板処理装置１００が，耐圧容器として構成された筐体１１１を備えていること。
　ｂ　基板としてのウエハ２００を筐体１１１内外へ搬送するには，複数のウエハ２００を収納するウエハキャリア（基板収容器）としてのポッド１１０が使用され，ウエハキャリアとしては，例えば，（ＦＯＵＰ）が用いられること。
　ｃ　筐体１１１内には，ポッド１１０の搬送空間となる基板収容器搬送室１５０が構成されていること。
　ｄ　筐体１１１内には，ポッド搬送装置（基板収容器搬送装置）１１８が設置されていること。
　ｅ　筐体１１１内には，回転式ポッド棚（基板収容器載置棚）１０５が設置されていること。
　ｆ　ポッド搬送装置１１８は，回転式ポッド棚１０５と，ポッドオープナ１２１との間で，ポッド１１０を搬送するように構成されていること。
　ｇ　筐体１１１内には，ポッド１１０内の雰囲気をパージし，ポッド１１０内の酸素濃度を所定管理値以下にする，第１パージ部（主載置部）としての主置換棚１６０が設けられていること。
　ｈ　主置換棚１６０には，主パージポートが設けられており，当該主パージポートは，主ガス供給口４１０と，主ガス排気口４２０とを備え，主ガス供給口４１０には，ガス供給管４１１が接続され，ガス供給管４１１には，主流量制御装置４１２が設けられ，流量が制御されるように構成されており，主流量制御装置４１２は，バルブとマスフローコントローラのいずれか若しくは両方で構成され，主ガス排気口には，ガス排気管４２１が接続されており，ガス排気管４２１に，ポッド１１０内またはポッド１１０からの排気ガス中の酸素濃度を検出する酸素濃度計４２３を設けても良いこと。
　ｉ　筐体１１１内には，第２パージ部（副載置部）としての副置換棚（ポッド棚）１０５が設けられており，ポッド棚１０５には，複数枚の棚板１１７（基板収容器載置台）が設けられ，複数個のポッド１１０が保管されるように構成され，複数の棚板にはそれぞれ副パージポートが設けられており，ポッド１１０内をパージ（ガス置換）することによって，ポッド１１０内の酸素濃度を所定管理値以下にできるようになっていること。
　ｊ　副パージポートには，副ガス供給口５１０と，副ガス排気口５２０が設けられており，副ガス供給口５１０には，ガス供給管５１１が設けられ，ガス供給管５１１には副流量制御装置５１２が設けられ，コントローラ２８０で流量を制御できるように構成されており，副流量制御装置５１２は，バルブとマスフローコントローラのいずれか若しくは両方で構成され，副ガス排気口には，ガス排気管５２１が設けられており，ガス排気管５２１には，副排気バルブ５２２を設けて排気量を調整できるように構成しても良く，ガス排気管５２１に，ポッド１１０内または排気ガス中の酸素濃度を検出する酸素濃度計５２３を設けても良いこと。
　ｋ　酸素濃度の所定管理値として，第１管理値と第２管理値が設定されており，主載置部では，第１管理値以下になるようにパージされ，副載置部では，第２管理値以下になるようにパージされ，好ましくは，第１管理値は，第２管理値よりも低く，より好ましくは，第１管理値は，６００ｐｐｍであり，第２管理値は６００ｐｐｍ以上１０００ｐｐｍ以下であること。
　ｍ　第１パージする際には，主パージポートからポッド１１０内に第１流量で不活性ガスが供給され，第２パージする際には，副パージポートからポッド１１０内に第２流量で不活性ガスが供給され，ここで第１流量は，２０ｓｌｍ〜１００ｓｌｍで例えば５０ｓｌｍであり，第２流量は，０．５ｓｌｍ〜２０ｓｌｍで，例えば５ｓｌｍであること。
　ｎ　ポッド１１０内の酸素濃度の調整は，上述の酸素濃度計４２３，５２３を用いてポッド１１０内の酸素濃度または排気ガス中の酸素濃度を検出して，検出した酸素濃度値に基づいてフィードバック制御しても良く，また，事前に，不活性ガスの供給量と供給時間とポッド１１０内の酸素濃度の関係を求めておき，それらの関係に基づき，不活性ガスの供給量と供給時間の設定によって調整できるようにしても良いこと。
　ｏ　筐体１１１内には，サブ筐体１１９が，筐体１１１内の前後方向の略中央部から後端にわたって設けられており，サブ筐体１１９の正面壁１１９ａには，ウエハ２００をサブ筐体１１９内外に搬送する一対のウエハ搬入搬出口（基板搬入搬出口）１２０が，垂直方向に上下二段に並べられて設けられ，上下段のウエハ搬入搬出口１２０のそれぞれには，ポッドオープナ（基板収容器開閉部）１２１が設置されていること。
　ｐ　サブ筐体１１９内には，ポッド搬送装置１１８や回転式ポッド棚１０５等が設置された空間から流体的に隔絶された基板搬送室としての搬送室１２４が構成されており，搬送室１２４内にはクリーンエア１３３が流通され，充満されており，例えば，不活性ガス等のクリーンエア１３３で搬送室１２４内が充満されることにより，搬送室１２４内の酸素濃度が例えば２０ｐｐｍ以下となり，大気雰囲気である筐体１１１内の酸素濃度よりも遥かに低くなるように設定されていること。
　ｑ　搬送室１２４にはウエハ搬送機構（基板搬送機構）１２５が設置されていること。
　ｒ　基板処理装置１００の動作と基板収容器の搬送工程および基板の搬送工程は，以下のとおりであること。
　（ａ）ポッド１１０が，ポッド搬送装置１１８によって筐体１１１内部へと搬入される工程。
　（ｂ）筐体１１１内部へと搬入されたポッド１１０が，ポッド搬送装置１１８によってポッドオープナ１２１に搬送される工程。
　（ｃ）載置台１２２上に載置されたポッド１１０が，その開口側端面がサブ筐体１１９の正面壁１１９ａにおけるウエハ搬入搬出口１２０の開口縁辺部に押し付けられるとともに，そのキャップがキャップ着脱機構１２３によって取り外され，ウエハ出し入れ口が開放され，ウエハ出し入れ口が開放される際には，ポッド１１０内とポッドオープナ１２１の内部が不活性ガスでパージされ，このときのパージでは，ポッド１１０内の酸素濃度を第１管理値になるようにパージされることが好ましく，より好ましくは，２０ｐｐｍ以下にパージされ，その後，ウエハ枚数カウンタ装置によってポッド１１０内のウエハ２００の枚数のカウントやウエハ２００の状態がチェックされ，ウエハ２００の枚数がカウントされた後，キャップ着脱機構１２３によりキャップが閉じられる工程。
　（ｄ）ポッドオープナ１２１でポッド１１０内のウエハ２００の枚数がカウントされた後，ポッド１１０は，ポッド棚１０５に搬送され，載置される工程。
　（ｅ）ポッド棚１０５に載置されたポッド１１０が，副パージポートにより，ポッド１１０内の酸素濃度が第２管理値以下になるように，第２パージされる工程であって，第２パージは，載置されている間に継続して行われても良いし，任意の時間で間欠的に行われても良い工程。
　（ｆ）ポッド棚１０５に載置されている複数のポッド１１０の内，成膜対象となったポッド１１０がポッド棚１０５から主置換棚１６０に搬送される工程。
　（ｇ）主載置棚１６０に載置されたポッド１１０が，主載置部１６０に設けられた主パージポートにより第１パージ（プリパージ）される工程。
　（ｈ）主載置棚１６０で第１パージされたポッド１１０が，主載置棚１６０からポッドオープナ１２１に搬送され，ポッドオープナ１２１の載置台１２２上に搬送される工程。
　（ｉ）載置台１２２上に載置されたポッド１１０が，その開口側端面がサブ筐体１１９の正面壁１１９ａにおけるウエハ搬入搬出口１２０の開口縁辺部に押し付けられるとともに，そのキャップがキャップ着脱機構１２３によって取り外され，ウエハ出し入れ口が開放される工程であって，このときには，パージが行われずに，開放される工程。
　（ｊ）ポッド１１０が開放されると，ウエハ搬送装置１２５ａによってウエハ出し入れ口を通じてポッド１１０内からピックアップされ，ノッチ合わせ装置にて円周方向の位置合わせがされた後，搬送室１２４の後方にある待機部１２６内へ搬入され，ボート２１７内に装填（チャージング）される工程。
・引用文献１には，別の実施形態として，以下の態様が記載されていること。（【００８６】ないし【００９１】）
　ロードポート１１４から筐体１１１の内部に搬入されたポッド１１０を，ポッド搬送装置１１８によってポッド棚１０５に搬送してもよいこと。
・引用文献１には，さらに別の実施形態として，以下の態様が記載されていること。（【００１２４】）
　第１パージ部として，主載置部を用いず，ポッドオープナ１２１に同様の機能を有するように構成し，第１パージ部としても良いこと。
・ポッドオープナ１２１による収容室４９とポッド１１０の内部の酸素濃度の調整では，酸素濃度計７２を用いて収容室４９及びポッド１１０内の酸素濃度または排気ガス中の酸素濃度を検出して，検出した酸素濃度値に基づいてフィードバック制御しても良く，また，事前に，不活性ガスの供給量と供給時間と収容室４９及びポッド１１０内の酸素濃度の関係を求めておき，それらの関係に基づき，不活性ガスの供給量と供給時間のいずれか若しくは両方を設定することによって調整するようにしても良いこと。
（３）上記（１），（２）から，引用文献１には次の発明（以下，「引用発明」という。）が記載されていると認められる。
「耐圧容器として構成された筐体１１１を備えた基板処理装置１００であって，
　基板としてのウエハ２００の筐体１１１内外への搬送には，複数のウエハ２００を収納するウエハキャリア（基板収容器）としてのポッド１１０を使用するものであり，
　筐体１１１内には，
（ａ）回転式ポッド棚（基板収容器載置棚）１０５であって，第２パージ部（副載置部）としての副置換棚（ポッド棚）１０５となる回転式ポッド棚（基板収容器載置棚）１０５と，
（ｂ）ポッド搬送装置（基板収容器搬送装置）１１８であって，回転式ポッド棚１０５と，ポッドオープナ１２１との間で，ポッド１１０を搬送するポッド搬送装置（基板収容器搬送装置）１１８と，
（ｃ）ポッド１１０内の雰囲気をパージし，ポッド１１０内の酸素濃度を所定管理値以下にする，第１パージ部（主載置部）としての主置換棚１６０と，
（ｄ）回転式ポッド棚（基板収容器載置棚）１０５とポッド搬送装置（基板収容器搬送装置）１１８と主置換棚１６０を備えた，ポッド１１０の搬送空間となる基板収容器搬送室１５０と，
（ｅ）サブ筐体１１９であって，サブ筐体１１９内には，ポッド搬送装置１１８や回転式ポッド棚１０５等が設置された空間から流体的に隔絶された基板搬送室としての搬送室１２４が構成されており，搬送室１２４内にはクリーンエア１３３が流通され，充満されており，例えば，不活性ガス等のクリーンエア１３３で搬送室１２４内が充満されることにより，搬送室１２４内の酸素濃度が例えば２０ｐｐｍ以下となり，大気雰囲気である筐体１１１内の酸素濃度よりも遥かに低くなるように設定されたサブ筐体１１９と，
　が，設けられており，
　サブ筐体１１９の正面壁１１９ａには，ウエハ２００をサブ筐体１１９内外に搬送する一対のウエハ搬入搬出口（基板搬入搬出口）１２０が，垂直方向に上下二段に並べられて設けられ，上下段のウエハ搬入搬出口１２０のそれぞれには，ポッドオープナ（基板収容器開閉部）１２１が設置されており，
　搬送室１２４にはウエハ搬送機構（基板搬送機構）１２５が設置されており，
　ポッド棚１０５には，複数枚の棚板１１７（基板収容器載置台）が設けられ，複数個のポッド１１０が保管されるように構成され，複数の棚板にはそれぞれ副パージポートが設けられており，ポッド１１０内をパージ（ガス置換）することによって，ポッド１１０内の酸素濃度を所定管理値以下にできるようになっており，
　主置換棚１６０には，主パージポートが設けられており，当該主パージポートは，主ガス供給口４１０と，主ガス排気口４２０とを備え，主ガス供給口４１０には，ガス供給管４１１が接続され，ガス供給管４１１には，主流量制御装置４１２が設けられ，流量が制御されるように構成されており，主流量制御装置４１２は，バルブとマスフローコントローラのいずれか若しくは両方で構成され，主ガス排気口には，ガス排気管４２１が接続されており，ガス排気管４２１に，ポッド１１０内またはポッド１１０からの排気ガス中の酸素濃度を検出する酸素濃度計４２３を設けても良く，
　副パージポートには，副ガス供給口５１０と，副ガス排気口５２０が設けられており，副ガス供給口５１０には，ガス供給管５１１が設けられ，ガス供給管５１１には副流量制御装置５１２が設けられ，コントローラ２８０で流量を制御できるように構成されており，副流量制御装置５１２は，バルブとマスフローコントローラのいずれか若しくは両方で構成され，副ガス排気口には，ガス排気管５２１が設けられており，ガス排気管５２１には，副排気バルブ５２２を設けて排気量を調整できるように構成しても良く，ガス排気管５２１に，ポッド１１０内または排気ガス中の酸素濃度を検出する酸素濃度計５２３を設けても良く，
　ポッド１１０内の酸素濃度の調整は，上述の酸素濃度計４２３，５２３を用いてポッド１１０内の酸素濃度または排気ガス中の酸素濃度を検出して，検出した酸素濃度値に基づいてフィードバック制御しても良く，また，事前に，不活性ガスの供給量と供給時間とポッド１１０内の酸素濃度の関係を求めておき，それらの関係に基づき，不活性ガスの供給量と供給時間の設定によって調整できるようにしても良い基板処理装置１００。」
　２　引用文献２について
　また，原査定の拒絶の理由に引用された引用文献２には，図面とともに次の事項が記載されている。
「【００４０】
　反応管２０３とヒータ２０７との間には，処理ガス供給ノズル２２０が設けられている。処理ガス供給ノズル２２０は，反応管２０３の外壁の側部に沿うように配設されている。処理ガス供給ノズル２２０の上端（下流端）は，反応管２０３の頂部（上述した反応管２０３の上端に形成された開口）に気密に設けられている。反応管２０３の上端開口に位置する処理ガス供給ノズル２２０には，処理ガス供給孔が複数設けられている。」
「【００４５】
　ＡＰＣバルブ２３３及び圧力センサ２３２には，圧力制御部２７７が電気的に接続されている。圧力制御部２７７は，圧力センサ２３２により検出された圧力値に基づいて，処理室２０１内の圧力が所望のタイミングにて所望の圧力となるように，ＡＰＣバルブ２３３を制御するように構成されている。」
　３　引用文献３について
　また，原査定の拒絶の理由に引用された引用文献３には，図面とともに次の事項が記載されている。
「【０１１１】図８は，第２の保管方法に従い，市販のポッドを用いてウエハを保管した場合に得られるポッド内の不純物ガス濃度の経時変化例を示す。ここでは，不純物ガスとして，特にウエハ表面の酸化汚染の要因となる水（Ｈ2Ｏ）と酸素（Ｏ2）をとりあげている。縦軸はポッド内の不純物ガスの濃度（Ｃ）を，横軸は保管時間（Ｔ）を示す。なお，縦軸は対数スケールである。
【０１１２】同図中一点鎖線Ｃｏ（Ｏ2）は，密閉タイプとして使用される市販のポッドを用いて，ポッド内を一旦Ｎ2ガスで置換した後，そのままの状態で放置した場合のポッド内の酸素濃度の実測値を示す。また，点線Ｃｏ（Ｈ2Ｏ）は，同じ条件におけるポッド内の水分濃度の実測値を示す。
【０１１３】一般に市販のポッドでは，ポッドの密閉性が完全ではなく，時間の経過とともに，外気の進入による不純物ガスの進入を阻止できない。このため，保管時間の経過に伴い，酸素濃度および水分濃度が上昇する。例えば，同図に示す，実測値によれば，Ｎ2でポッド内を置換した直後の酸素濃度は１ｐｐｍ以下であるが，約３０分後には１０ｐｐｍ程度に悪化する。
【０１１４】この市販ポッドと同程度の密閉性を有するポッドと専用蓋とを用いて，上述の第２の保管方法を用いてウエハの保管を行った場合のポッド内の酸素濃度と水分濃度の予測値を実線Ｃ（Ｏ2），破線Ｃ（Ｈ2Ｏ）で示した。同図上部には，第２の保管方法における保管時間（Ｔ）に対応するガス供給バルブのバルブ開閉操作を示している。
【０１１５】第２の保管方法例を用い，ガス供給バルブの開栓と閉栓動作を所定時間（ｔ7，ｔ9）ごとに繰り返せば，同図に示すように，不純物ガスの進入を所定時間ごとに低減させることができるため，不純物ガスの濃度を一定濃度以下に保持することが可能となる。例えば，ガス供給時間ｔ7を約１５分，ガス供給停止時間ｔ9を約１０分とした場合は，酸素不純物濃度を常に５ｐｐｍ以下に保持することが可能となる。」
「
」
第６　対比・判断
　１　本願発明１について
（１）対比
　本願発明１と引用発明とを対比すると，次のことがいえる。
　ア　引用発明における「ポッド搬送装置１１８や回転式ポッド棚１０５等が設置された空間から流体的に隔絶された基板搬送室としての搬送室１２４」，「『大気雰囲気である筐体１１１内の酸素濃度よりも遥かに低くなるように設定された』『例えば２０ｐｐｍ以下』の『搬送室１２４内の酸素濃度』」は，それぞれ，本願発明１における「基板を露出させた状態で搬送可能な基板搬送領域」，「第１の酸素濃度」に相当する。
　イ　上記アから，引用発明における「『筐体１１１内』に設けられた『回転式ポッド棚（基板収容器載置棚）１０５とポッド搬送装置（基板収容器搬送装置）１１８と主置換棚１６０を備えた，ポッド１１０の搬送空間となる基板収容器搬送室１５０』」は，本願発明１の「該基板搬送領域に隔壁を介して隣接して設けられるとともに，前記第１の酸素濃度よりも高い第２の酸素濃度を有し，前記基板を基板保管器内に保持した状態で搬送可能な基板保管器搬送領域」に相当するといえる。
　ウ　引用発明の「回転式ポッド棚（基板収容器載置棚）１０５であって，第２パージ部（副載置部）としての副置換棚（ポッド棚）１０５となる回転式ポッド棚（基板収容器載置棚）１０５」は，本願発明１の「該基板保管器搬送領域内に設けられ，前記基板保管器を一時的に保管可能な基板保管器保管棚」に相当する。
　エ　引用発明の「『副ガス供給口５１０と，副ガス排気口５２０が設けられており，副ガス供給口５１０には，ガス供給管５１１が設けられ，ガス供給管５１１には副流量制御装置５１２が設けられ，コントローラ２８０で流量を制御できるように構成されており，副流量制御装置５１２は，バルブとマスフローコントローラのいずれか若しくは両方で構成され，副ガス排気口には，ガス排気管５２１が設けられており，ガス排気管５２１には，副排気バルブ５２２を設けて排気量を調整できるように構成しても良く，ガス排気管５２１に，ポッド１１０内または排気ガス中の酸素濃度を検出する酸素濃度計５２３を設けても良』い『副パージポート』」は，本願発明１の「該基板保管器保管棚に保管された前記基板保管器の内部にパージガスを供給可能な第１のパージガス供給手段」に相当する。
　オ　引用発明の「ポッド搬送装置（基板収容器搬送装置）１１８であって，回転式ポッド棚１０５と，ポッドオープナ１２１との間で，ポッド１１０を搬送するポッド搬送装置（基板収容器搬送装置）１１８」は，本願発明１の「前記基板保管器搬送領域内で前記基板保管器を搬送可能な搬送手段」に相当する。
　カ　引用発明の「『サブ筐体１１９の正面壁１１９ａ』の『ウエハ２００をサブ筐体１１９内外に搬送する一対のウエハ搬入搬出口（基板搬入搬出口）１２０』に設けられた「ポッドオープナ（基板収容器開閉部）１２１」は，本願発明１の「前記基板保管器搬送領域内の前記隔壁と隣接した所定箇所に設けられ，前記基板保管器を前記基板搬送領域に移送するために載置する移送載置部」に相当する。
　キ　引用発明の「ウエハ搬送機構（基板搬送機構）１２５」は，本願発明１の「前記移送載置部に載置された前記基板保管器を前記隔壁に密着させた状態で前記基板保管器を開放し，前記基板を前記基板搬送領域内に移送する基板移送手段」に相当する。
　したがって，本願発明１と引用発明との間には，次の一致点，相違点があるといえる。
（一致点）
「第１の酸素濃度を有し，基板を露出させた状態で搬送可能な基板搬送領域と，
　該基板搬送領域に隔壁を介して隣接して設けられるとともに，前記第１の酸素濃度よりも高い第２の酸素濃度を有し，前記基板を基板保管器内に保持した状態で搬送可能な基板保管器搬送領域と，
　該基板保管器搬送領域内に設けられ，前記基板保管器を一時的に保管可能な基板保管器保管棚と，
　該基板保管器保管棚に保管された前記基板保管器の内部にパージガスを供給可能な第１のパージガス供給手段と，
　前記基板保管器搬送領域内で前記基板保管器を搬送可能な搬送手段と，
　前記基板保管器搬送領域内の前記隔壁と隣接した所定箇所に設けられ，前記基板保管器を前記基板搬送領域に移送するために載置する移送載置部と，
　前記移送載置部に載置された前記基板保管器を前記隔壁に密着させた状態で前記基板保管器を開放し，前記基板を前記基板搬送領域内に移送する基板移送手段と，を有する
　基板処理装置。」
（相違点）
（相違点１）本願発明１は，「該第１のパージガス供給手段から前記基板保管器の内部に供給された前記パージガスの積算流量を取得する積算流量取得手段」を有し「予め設定された前記基板保管器内の所定の酸素濃度初期値と，前記積算流量取得手段により取得された前記パージガスの積算流量と，前記第１のパージガス供給手段からの前記パージガスの供給停止時間及び前記基板保管器の前記基板保管器保管棚から前記基板搬送領域への移動時間中の前記パージガスの供給が無い時間とに基づいて前記移送載置部に載置された前記基板保管器の内部の酸素濃度を推定し，該酸素濃度が所定の閾値以下の場合には，前記基板移送手段に前記基板を前記基板搬送領域に移送させ，前記酸素濃度が前記所定の閾値を超えている場合には，前記第２のパージガス供給手段に前記基板保管器の内部に前記パージガスを供給させ，前記基板保管器の内部の前記酸素濃度が前記所定の閾値以下になってから前記基板移送手段に前記基板を前記基板搬送領域に移送させる制御手段と，を有し，前記制御手段は，取得した前記積算流量に基づいて，前記基板保管器保管棚に保管された前記基板保管器の内部の前記酸素濃度が所定の第２の閾値に到達したと判定したときに，前記第１のパージガス供給手段からの前記パージガスの供給を停止させる制御を行い，前記第２の閾値は，予め測定した前記パージガスの供給を継続しても酸素濃度がそれ以上低下しない限界値に設定されている」という構成を備えるのに対し，引用発明はそのような構成を備えていない点。
（相違点２）本願発明１は，「前記移送載置部に載置された前記基板保管器の内部にパージガスを供給可能な第２のパージガス供給手段」という構成を備えるのに対し，
　引用発明は，「主置換棚１６０には，主パージポートが設けられており，当該主パージポートは，主ガス供給口４１０と，主ガス排気口４２０とを備え，主ガス供給口４１０には，ガス供給管４１１が接続され，ガス供給管４１１には，主流量制御装置４１２が設けられ，流量が制御されるように構成されており，主流量制御装置４１２は，バルブとマスフローコントローラのいずれか若しくは両方で構成され，主ガス排気口には，ガス排気管４２１が接続されており，ガス排気管４２１に，ポッド１１０内またはポッド１１０からの排気ガス中の酸素濃度を検出する酸素濃度計４２３を設けても良」いという構成を備えるものである点。
（２）相違点についての判断
　上記相違点１について検討すると，相違点１に係る本願発明１の構成は，上記引用文献２，３には記載されておらず，本願の出願時において周知技術であったとも認められない。
　したがって，上記相違点２について判断するまでもなく，本願発明１は，当業者であっても引用発明，引用文献２，３に記載された技術的事項に基づいて容易に発明できたものであるとはいえない。
　２　本願発明２ないし１３について
　本願発明２ないし１３も，本願発明１の「該第１のパージガス供給手段から前記基板保管器の内部に供給された前記パージガスの積算流量を取得する積算流量取得手段」を有し「予め設定された前記基板保管器内の所定の酸素濃度初期値と，前記積算流量取得手段により取得された前記パージガスの積算流量と，前記第１のパージガス供給手段からの前記パージガスの供給停止時間及び前記基板保管器の前記基板保管器保管棚から前記基板搬送領域への移動時間中の前記パージガスの供給が無い時間とに基づいて前記移送載置部に載置された前記基板保管器の内部の酸素濃度を推定し，該酸素濃度が所定の閾値以下の場合には，前記基板移送手段に前記基板を前記基板搬送領域に移送させ，前記酸素濃度が前記所定の閾値を超えている場合には，前記第２のパージガス供給手段に前記基板保管器の内部に前記パージガスを供給させ，前記基板保管器の内部の前記酸素濃度が前記所定の閾値以下になってから前記基板移送手段に前記基板を前記基板搬送領域に移送させる制御手段と，を有し，前記制御手段は，取得した前記積算流量に基づいて，前記基板保管器保管棚に保管された前記基板保管器の内部の前記酸素濃度が所定の第２の閾値に到達したと判定したときに，前記第１のパージガス供給手段からの前記パージガスの供給を停止させる制御を行い，前記第２の閾値は，予め測定した前記パージガスの供給を継続しても酸素濃度がそれ以上低下しない限界値に設定されている」と同一の構成を備えるものであるから，本願発明１と同じ理由により，当業者であっても，引用発明，拒絶査定において引用された引用文献２，３に記載された技術的事項及び上記周知技術に基づいて容易に発明できたものとはいえない。
　３　本願発明１４ないし１７について
　本願発明１４ないし１７は，本願発明１に対応する方法の発明であり，本願発明１の「該第１のパージガス供給手段から前記基板保管器の内部に供給された前記パージガスの積算流量を取得する積算流量取得手段」を有し「予め設定された前記基板保管器内の所定の酸素濃度初期値と，前記積算流量取得手段により取得された前記パージガスの積算流量と，前記第１のパージガス供給手段からの前記パージガスの供給停止時間及び前記基板保管器の前記基板保管器保管棚から前記基板搬送領域への移動時間中の前記パージガスの供給が無い時間とに基づいて前記移送載置部に載置された前記基板保管器の内部の酸素濃度を推定し，該酸素濃度が所定の閾値以下の場合には，前記基板移送手段に前記基板を前記基板搬送領域に移送させ，前記酸素濃度が前記所定の閾値を超えている場合には，前記第２のパージガス供給手段に前記基板保管器の内部に前記パージガスを供給させ，前記基板保管器の内部の前記酸素濃度が前記所定の閾値以下になってから前記基板移送手段に前記基板を前記基板搬送領域に移送させる制御手段と，を有し，前記制御手段は，取得した前記積算流量に基づいて，前記基板保管器保管棚に保管された前記基板保管器の内部の前記酸素濃度が所定の第２の閾値に到達したと判定したときに，前記第１のパージガス供給手段からの前記パージガスの供給を停止させる制御を行い，前記第２の閾値は，予め測定した前記パージガスの供給を継続しても酸素濃度がそれ以上低下しない限界値に設定されている」に対応する構成を備えるものであるから，本願発明１と同様の理由により，当業者であっても，引用発明，拒絶査定において引用された引用文献２，３に記載された技術的事項及び上記周知技術に基づいて容易に発明できたものとはいえない。
第７　原査定について
　審判請求時の補正により，本願発明１ないし１７は，「該第１のパージガス供給手段から前記基板保管器の内部に供給された前記パージガスの積算流量を取得する積算流量取得手段」を有し「予め設定された前記基板保管器内の所定の酸素濃度初期値と，前記積算流量取得手段により取得された前記パージガスの積算流量と，前記第１のパージガス供給手段からの前記パージガスの供給停止時間及び前記基板保管器の前記基板保管器保管棚から前記基板搬送領域への移動時間中の前記パージガスの供給が無い時間とに基づいて前記移送載置部に載置された前記基板保管器の内部の酸素濃度を推定し，該酸素濃度が所定の閾値以下の場合には，前記基板移送手段に前記基板を前記基板搬送領域に移送させ，前記酸素濃度が前記所定の閾値を超えている場合には，前記第２のパージガス供給手段に前記基板保管器の内部に前記パージガスを供給させ，前記基板保管器の内部の前記酸素濃度が前記所定の閾値以下になってから前記基板移送手段に前記基板を前記基板搬送領域に移送させる制御手段と，を有し，前記制御手段は，取得した前記積算流量に基づいて，前記基板保管器保管棚に保管された前記基板保管器の内部の前記酸素濃度が所定の第２の閾値に到達したと判定したときに，前記第１のパージガス供給手段からの前記パージガスの供給を停止させる制御を行い，前記第２の閾値は，予め測定した前記パージガスの供給を継続しても酸素濃度がそれ以上低下しない限界値に設定されている」という事項を有するものとなっており，当業者であっても，拒絶査定において引用された引用文献１ないし３に基づいて，容易に発明できたものとはいえない。したがって，原査定の理由を維持することはできない。
第８　むすび
　以上のとおり，原査定の理由によっては，本願を拒絶することはできない。
　また，他に本願を拒絶すべき理由を発見しない。
　よって，結論のとおり審決する。