(57)【要約】  機械的強度が高く、取扱いに際しての湾曲や破損が生じ難い、空隙配置構造体を提供する。  電磁波の照射により、被測定物の特性を測定するのに用いられる空隙配置構造体であって、第１の主面２ａと、第１の主面２ａと対向する第２の主面２ｂとを有し、第１の主面２ａから第２の主面２ｂに向かって貫通している複数の空隙部２ｃが空隙配置プレート２に設けられており、該空隙配置プレート２の第１の主面２ａ及び第２の主面２ｂの内少なくとも一方の主面に、少なくとも１つの空隙部２ｃを露出させる開口部もしくは切り欠き部を有するように支持基材３，４が積層されている、空隙配置構造体１。
2014050328.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電磁波の照射により被測定物の特性を測定するのに用いられる空隙配置構造体であって、
第１の主面と、第１の主面と対向する第２の主面とを有し、第１の主面から第２の主面に向かって貫通している複数の空隙部を有する空隙配置プレートと、
前記空隙配置プレートの第１の主面及び第２の主面の内の少なくとも一方の主面に積層されており、少なくとも１つの前記空隙部を露出させる開口部もしくは切り欠き部が設けられている支持基材とを備える、空隙配置構造体。
【請求項２】
前記支持基材が設けられている部分において、前記空隙配置プレートの前記空隙部が、前記支持基材または前記空隙配置プレートを構成する材質によって埋められている、請求項１に記載の空隙配置構造体。
【請求項３】
前記支持基材は、少なくとも１つの前記空隙部を挟むように配置された第１，第２の支持基材を有する、請求項１または２に記載の空隙配置構造体。
【請求項４】
前記第１の支持基材と前記第２の支持基材とが交差するように設けられている、請求項３に記載の空隙配置構造体。
【請求項５】
前記第１の支持基材及び前記第２の支持基材がそれぞれ複数設けられており、複数の第１の支持基材と、複数の第２の支持基材とが少なくとも１つの前記空隙部が臨む開口を有するように交差している、請求項４に記載の空隙配置構造体。
【請求項６】
前記複数の第１の支持基材と、前記複数の第２の支持基材とが直交する方向に交差しており、矩形の開口が形成されている、請求項４に記載の空隙配置構造体。
【請求項７】
前記第１の支持基材と前記第２の支持基材とが斜め方向に交差している、請求項４または５に記載の空隙配置構造体。
【請求項８】
前記第１の支持基材と、前記第２の支持基材とが交差している部分の角部が曲線状である、請求項４〜７のいずれか１項に記載の空隙配置構造体。
【請求項９】
前記第１の支持基材の周囲を囲むように前記第２の支持基材が設けられている、請求項３に記載の空隙配置構造体。
【請求項１０】
前記第１の空隙配置構造体が環状の形状を有し、前記第２の支持基材が、前記第１の支持基材よりも内寸の大きな環状の形状を有する、請求項９に記載の空隙配置構造体。
【請求項１１】
前記支持部材が中央部と中央部の両側に位置している第１，第２の端部とを有し、該第１，第２の端部の厚みが中央部の厚みよりも厚くされている、請求項１〜１０のいずれか１項に記載の空隙配置構造体。
【請求項１２】
前記支持部材の第１及び第２の端部を結ぶ方向に沿い、かつ該支持部材の厚み方向に沿う断面形状がアーチ型の形状である、請求項１１に記載の空隙配置構造体。
【請求項１３】
請求項１〜１２のいずれか１項に記載の空隙配置構造体の製造方法であって、
前記複数の空隙部を有する前記空隙配置プレートを用意する工程と、
前記空隙配置プレートの少なくとも一方の主面において、少なくとも１つの前記空隙部を露出させる開口部もしくは切欠部を有するように支持基材を形成する工程とを備える、空隙配置構造体の製造方法。
【請求項１４】
前記支持基材をめっき法により形成し、めっきに際し前記支持基材の一部が該支持基材により覆われる少なくとも１つの空隙部内に入り込むように前記支持基材を形成する、請求項１３に記載の空隙配置構造体の製造方法。
【請求項１５】
請求項１〜１２のいずれか１項に記載の空隙配置構造体と、
前記空隙配置構造体に電磁波を照射する電磁波照射装置と、
前記空隙配置構造体を透過した電磁波の特性を測定する電磁波検出部と備え、前記空隙配置構造体の第１もしくは第２の主面上または第１もしくは第２の主面と隙間を隔てて配置されている被測定物の存在による電磁波の特性の変化に基づき被測定物を検出する、測定装置。
【請求項１６】
請求項１〜１２のいずれか１項に記載の空隙配置構造体に、電磁波を照射し、該空隙配置構造体を透過した電磁波を検出し、基準値を得る工程と、
前記空隙配置構造体の前記第１もしくは第２の主面上または第１もしくは第２の主面と隙間を隔てて配置されている被測定物を配置し、電磁波を照射し、透過してきた電磁波を検出する測定工程と、
前記測定工程により得られた電磁波と、前記基準値を得る工程により得られた電磁波の基準値との差に基づき、被測定物の特性を検出する検出工程とを備える、測定方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、被測定物が付与された空隙配置構造体に電磁波を照射することにより、被測定物を測定するための空隙配置構造体及びその製造方法、並びに該空隙配置構造体を用いた測定装置及び測定方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、被測定物質の特性を測定するために電磁波を照射する方法が知られている。この種の方法の一例が下記の特許文献１に開示されている。特許文献１では、多数の空隙部が配置されている空隙配置構造体を用意する。この空隙配置構造体に、空隙部と直交する方向から電磁波を照射する。次に、空隙配置構造体に被測定物質を配置し電磁波を照射する。被測定物質が配置されていない場合の電磁波の透過率と、被測定物質が配置されている場合の電磁波の透過率との差により被測定物質の特性を測定する。特許文献１では、上記電磁波の透過率の他、電磁波の反射等を用いてもよい旨が記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００７−１０３６６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
特許文献１に記載の測定方法では、空隙配置構造体における空隙部の大きさを小さくしたり、空隙配置構造体の厚みすなわち空隙部に直交する方向の寸法を小さくしたことにより、測定感度を高め得る。【０００５】
しかしながら、空隙配置構造体の厚みを薄くすると、強度が低下する。その結果、被測定物質を測定するに際し、空隙配置構造体が湾曲しやすくなる。また、測定前や測定終了後に、空隙配置構造体を洗浄する場合、空隙配置構造体が破損しやすくなるという問題もあった。【０００６】
本発明の目的は、機械的強度が高く、取扱いに際しての湾曲や破損が生じ難い空隙配置構造体及びその製造方法、並びに該空隙配置構造体を用いた測定装置及び測定方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の空隙配置構造体は、電磁波の照射により被測定物の特性を測定するのに用いられる。本発明に係る空隙配置構造体は、空隙配置プレートと、支持基材とを備える。空隙配置プレートは、第１の主面と、第１の主面と対向する第２の主面とを有する。第１の主面から第２の主面に向かって貫通するように複数の空隙部が設けられている。支持基材は、空隙配置プレートの第１の主面及び第２の主面の内の少なくとも一方の主面に積層されている。支持基材は、少なくとも１つの空隙部を露出させる開口部もしくは切り欠き部を有する。【０００８】
本発明に係る空隙配置構造体のある特定の局面では、前記支持基材が設けられている部分において、前記空隙配置プレートの前記空隙部が、前記支持基材または前記空隙配置プレートを構成する材質によって埋められている。【０００９】
本発明に係る空隙配置構造体の他の特定の局面では、上記支持基材が、第１，第２の支持基材を有し、第１，第２の支持基材は、少なくとも１つの前記空隙部を挟むように配置されている。【００１０】
本発明に係る空隙配置構造体のさらに他の特定の局面では、前記第１の支持基材と前記第２の支持基材とが交差するように設けられている。【００１１】
本発明に係る空隙配置構造体の他の特定の局面では、前記第１の支持基材及び前記第２の支持基材がそれぞれ複数設けられており、複数の第１の支持基材と、複数の第２の支持基材とが少なくとも１つの前記空隙部が臨む開口を有するように交差している。好ましくは、複数の第１の支持基材と、複数の第２の支持基材とが直交する方向に交差しており、それによって矩形の開口が形成されている。【００１２】
本発明に係る空隙配置構造体の別の特定の局面では、前記第１の支持基材と前記第２の支持基材とが斜め方向に交差している。【００１３】
本発明に係る空隙配置構造体のさらに他の特定の局面では、前記第１の支持基材と、前記第２の支持基材とが交差している部分の角部が曲線状である。【００１４】
本発明に係る空隙配置構造体の他の特定の局面では、前記第１の支持基材の周囲を囲むように前記第２の支持基材が設けられている。このような形状としては例えば、前記第１の空隙配置構造体が環状の形状を有し、前記第２の支持基材が、前記第１の支持基材よりも内寸の大きな環状の形状を有する構造が挙げられる。【００１５】
本発明に係る空隙配置構造体のさらに他の特定の局面では、前記支持部材が中央部と中央部の両側に位置している第１，第２の端部とを有し、該第１，第２の端部の厚みが中央部の厚みよりも厚くされている。【００１６】
本発明に係る空隙配置構造体の別の特定の局面では、前記支持部材の第１及び第２の端部を結ぶ方向に沿い、かつ該支持部材の厚み方向に沿う断面形状がアーチ型の形状である。【００１７】
本発明に係る空隙配置構造体の製造方法は、本発明に従って構成されている空隙配置構造体を得る方法であり、下記の各工程を備える。
前記複数の空隙部を有する前記空隙配置プレートを用意する工程。
前記空隙配置プレートの少なくとも一方の主面において、少なくとも１つの前記空隙部を露出させる開口部もしくは切欠部を有するように支持基材を形成する工程。【００１８】
本発明に係る空隙配置構造体の製造方法のある特定の局面では、前記支持基材をめっき法により形成し、めっきに際し前記支持基材の一部が該支持基材により覆われる少なくとも１つの空隙部内に入り込むように前記支持基材を形成する。【００１９】
本発明に係る測定装置は、本発明に従って構成されている空隙配置構造体と、前記空隙配置構造体に電磁波を照射する電磁波照射装置と、前記空隙配置構造体を透過した電磁波の特性を測定する電磁波検出部と備え、前記空隙配置構造体の第１もしくは第２の主面上または第１もしくは第２の主面と隙間を隔てて配置されている被測定物の存在による電磁波の特性の変化に基づき被測定物を検出する。【００２０】
本発明に係る測定方法は、本発明に従って構成されている空隙配置構造体に、電磁波を照射し、該空隙配置構造体を透過した電磁波を検出し、基準値を得る工程と、前記空隙配置構造体の第１もしくは第２の主面上または第１もしくは第２の主面と隙間を隔てて配置されている被測定物を配置し、電磁波を照射し、透過してきた電磁波を検出する測定工程と、前記測定工程により得られた電磁波と、前記基準値を得る工程により得られた電磁波の基準値との差に基づき、被測定物の特性を検出する検出工程とを備える。
【発明の効果】
【００２１】
本発明に係る空隙配置構造体によれば、空隙配置プレートの第１の主面及び第２の主面の内少なくとも一方の主面に、支持基材が積層されているため、空隙配置構造体の機械的強度を効果的に高めることができる。よって、取扱いに際し空隙配置構造体の湾曲や破損が生じ難い。
【図面の簡単な説明】
【００２２】
【図１】図１は、本発明の一実施形態に係る空隙配置構造体の空隙配置プレートの外観を示す略図的斜視図である。
【図２】図２（ａ）は本発明の一実施形態に係る空隙配置構造体の要部を示す拡大正面図であり、図２（ｂ）は、本実施形態の空隙配置構造体の一部を拡大して示す断面図である。
【図３】図３（ａ）は本発明の一実施形態に係る空隙配置構造体の正面図であり、図３（ｂ）は本発明の一実施形態に係る空隙配置構造体における第１，第２の支持部材を示す模式的正面図である。
【図４】図４は、本発明の一実施形態に係る空隙配置構造体を用いて測定された電磁波の透過率と周波数との関係を示し、実線が被測定物質が存在しない場合を、破線が被測定物質が存在している場合の結果を示す。
【図５】図５は、本発明の一実施形態に係る空隙配置構造体を用いた場合の電磁波の透過率と周波数との関係を示し、破線が比較例の第１，第２の支持部材を有しない空隙配置構造体を用いた場合の結果を、実線が支持部材の格子間隔１０８μｍ、一点鎖線が支持部材の格子間隔１８０μｍ、二点鎖線が支持部材の格子間隔３６０μｍとなるように格子状の第１，第２の支持部材を設けた場合の結果を示す。
【図６】図６は、本発明の他の実施形態に係る空隙配置構造体を説明するための模式的正面図である。
【図７】図７（ａ）及び図７（ｂ）は本発明のさらに他の実施形態に係る空隙配置構造体を説明するための図であり、図７（ａ）は空隙配置構造体の正面図、図７（ｂ）は第１，第２の支持部材を示す模式的正面図である。
【図８】図８（ａ）〜図８（ｃ）は空隙部の形状の変形例を示す各正面図である。
【図９】図９は、空隙部の形状のさらに他の例を示す正面図である。
【図１０】図１０は、支持基材の第１の変形例を示す平面図である。
【図１１】図１１は、第２の変形例に係る支持基材が備えられた空隙配置構造体を示す正面図である。
【図１２】図１２は、第３の変形例に係る支持基材が備えられた空隙配置構造体を示す模式的正面図である。
【図１３】図１３は、第４の変形例に係る支持基材が備えられた空隙配置構造体を示す模式的正面図である。
【図１４】図１４は、第５の変形例に係る支持基材が備えられた空隙配置構造体を示す模式的正面図である。
【図１５】図１５は、第６の変形例に係る支持基材が備えられた空隙配置構造体を示す模式的正面図である。
【図１６】図１６は、第７の変形例に係る支持基材が備えられた空隙配置構造体の模式的断面図である。
【図１７】図１７は、支持基材の一部が空隙に入り込んでいる変形例を示す部分切欠拡大断面図である。
【図１８】図１８は、本発明の一実施形態に係る空隙配置構造体を用いた測定装置を説明するための概略構成図である。
【発明を実施するための形態】
【００２３】
以下、図面を参照しつつ、本発明の具体的な実施形態を説明することにより、本発明を明らかにする。
【００２４】
図１は、本発明の第１の実施形態に係る空隙配置構造体に用いられる空隙配置プレートの略図的斜視図である。空隙配置プレート２は、本実施形態では、矩形板状の形状を有する。空隙配置プレート２には、複数の空隙部２ｃがマトリクス状に配置されている。
【００２５】
空隙配置プレート２は、第１の主面２ａと、第１の主面２ａと反対側の第２の主面２ｂとを有する。複数の空隙部２ｃは、第１の主面２ａから第２の主面２ｂに向かって貫通している。なお、図１では、空隙配置プレート２の一つのコーナー部近傍部分が拡大して示されている。実際には、空隙配置プレート２では、複数の空隙部２ｃはより多く設けられている。すなわち、図１に示されている部分から断線で示されている部分に、さらに空隙配置プレート２が延ばされている。
【００２６】
空隙配置プレート２の要部を図３（ａ）に正面図で示す。なお、図３（ａ）に示す空隙配置プレート２の第１の主面２ａ側の形状もまた、本実施形態の空隙配置プレート２の一部を構成しているものであり、本実施形態では空隙配置プレート２は、図３（ａ）におけるｘ方向と逆方向及びｙ方向にさらに連ねられている。
【００２７】
空隙部２ｃは、本実施形態では正方形の形状とされている。もっとも、後述するように、空隙部２ｃの形状は適宜変形することができる。
【００２８】
上記空隙配置プレート２は、本実施形態では低抵抗の物質が好ましく、金属や半導体が挙げられる。さらに好ましくは金属であり、金、銀、銅、鉄、ニッケル、タングステン、種々の合金などである。
【００２９】
いま、図１のｘ，ｙ及びｚで示すように、空隙配置プレート２の図１の上下方向をｘ軸方向、横方向をｙ軸方向、空隙配置プレート２の厚み方向をｚ軸方向とする。
【００３０】
また、本実施形態の特徴は、上記空隙配置プレートの第２の主面２ｂ上に、図２（ａ）に示す複数の第１の支持基材３と、複数の第２の支持基材４とが積層されていることにある。なお、図２（ｂ）に、第１の支持基材３が貼り付けられている部分を拡大して断面図で示す。
【００３１】
図３（ａ）に示すように、空隙配置プレート２を第１の主面２ａから視た場合、すなわち正面視した場合、空隙部２ｃが上述したようにマトリクス状に配置されている。そして、図３（ｂ）に示すように、複数の第１の支持基材３は、上記ｘ方向に延びており、第２の支持基材４は、上記ｙ方向に延びている。
【００３２】
本実施形態では、複数の第１の支持基材３と複数の支持基材４とが互いに直交するように交差しており、交差部において一体化されている。従って、図３（ｂ）に示すように、一対の平行に延びる第１の支持基材３，３と、一対の平行に延びる第２の支持基材４，４とに囲まれた部分に、正方形の開口部５が形成されている。本実施形態では、正方形の複数の開口部５がマトリクス状に配置されており、それによって格子状の支持基材部が構成されている。
【００３３】
本実施形態では、上記のように、支持基材が一体化されている上記第１の支持基材３と、第２の支持基材４とを有するように構成されていた。もっとも、本発明においては、支持基材は、少なくとも１つの空隙部を露出させる開口部もしくは切り欠き部を有する限り、その形状は特に限定されるものではない。例えば、図１０に平面図で示す支持基材３１のように、シートもしくはフィルム状の部材を打ち抜くことにより形成されたものであってもよい。すなわち、打ち抜きにより複数の開口部３２が形成されている。支持基材３１を空隙配置プレート２の一方主面に積層した場合、１つの開口部３２に、少なくとも１つの空隙部が露出される。すなわち、少なくとも１つの空隙部が臨むように、開口部３２が設けられている。
【００３４】
なお、上記開口部３２を有する支持基材３１は、前述した第１，第２の支持基材を有する構造と捉えることも可能である。すなわち、開口部３２の両側に位置しており、互いに平行に延びる部分が第１の支持基材３１ａであり、互いに平行に延びる他の対の支持基材部分が第２の支持基材３１ｂを構成していると考えることもできる。
【００３５】
なお、図１０では、開口部３２が設けられていたが、一方側に開いた切り欠き部が開口部３２の代わりに設けられていてもよい。
【００３６】
上記格子状の支持基材部が、前述した空隙配置プレート２の第２の主面２ｂに貼り付けられて一体化されている。この貼り付けについては、接着剤を用いる方法、第１，第２の支持基材を空隙配置プレート２の第２の主面２ｂ上において堆積法により成膜すること等により達成し得る。
【００３７】
第１，第２の支持基材３，４の構成する材料については特に限定されず、低抵抗の物質が好ましく、金属や半導体が挙げられる。さらに好ましくは金属であり、金、銀、銅、鉄、ニッケル、タングステン、種々の合金などである。
【００３８】
上記のように、空隙配置プレート２の第２の主面２ｂに第１，第２の支持基材３，４が張り合わされている。従って、図２（ａ）に示すように、空隙配置プレート２に設けられていた複数の空隙部２ｃのうち、一部の空隙部２ｃは、第１の支持基材３または第２の支持基材４により閉成されている。本実施形態では、第１の支持基材３の幅方向及び第２の支持基材４の幅方向において、それぞれ、２個の空隙部２ｃが位置するように、第１，第２の支持基材３，４の幅方向寸法が選ばれている。もっとも、第１，第２の支持基材３，４の幅方向寸法は、これに限定されるものではない。ただ、第１の支持基材３により、一つの空隙部２ｃの一部が閉成され、残りの部分が開口部５に位置していてもよい。すなわち、第１の支持基材３の端縁は空隙部２ｃを分割する位置に設けられていてもよい。第２の支持基材４についても同様である。
【００３９】
また、本実施形態では、上記開口部５内に複数の空隙部２ｃが位置している。言い換えれば、第１の支持基材３と第２の支持基材４との間に複数の空隙部２ｃが位置している。この第１の支持基材３と第２の支持基材４との間とは図２（ａ）に示すように、第１の支持基材３と第２の支持基材４とが直交する方向、すなわち矩形の隣り合う２辺を構成している場合、該隣り合う２辺間に空隙部２ｃが配置されている態様も含む。
【００４０】
本発明においては、第１の支持基材と第２の支持基材との間に空隙部が配置されている構成は、第１の支持基材と第２の支持基材とが対向しており、対向し合っている第１の支持基材と第２の支持基材との間に空隙部２ｃが位置している形態に限られるものではない。すなわち、複数の空隙部が第１の支持基材と第２の支持基材との間に位置する全ての形態を含むものとする。
【００４１】
また、本実施形態では、第２の主面２ｂ側に第１，第２の支持基材３，４が設けられていたが、第１，第２の支持基材３，４は、第１の主面２ａ側に設けられていてもよい。また、第１の主面２ａと第２の主面２ｂの双方に支持基材３，４が設けられていてもよい。
【００４２】
また、第１の主面２ａ上に設けられている第１，第２の支持基材３，４と、第２の主面２ｂ側に設けられている支持基材の形状を異ならせてもよい。
【００４３】
上記第１，第２の支持基材３，４は、本実施形態ではニッケルからなる。もっとも、第１，第２の支持基材３，４は、ニッケルに限らず、低抵抗の物質が好ましく、金属や半導体であれば良い。好ましくは金属であり、金、銀、銅、鉄、ニッケル、タングステン、種々の合金などである。いずれにしても、これらの剛性材料により第１，第２の支持基材３，４を形成することにより、空隙配置プレート２を補強することができる。従って、空隙配置構造体１の厚みを薄くした場合であっても、湾曲が生じ難く、また洗浄などの取扱いに際しての破損も生じ難い。
【００４４】
次に、本実施形態の空隙配置構造体１において、上記第１，第２の支持基材３，４が設けられていたとしても、被測定物質を高精度に検出し得ることを示す。
【００４５】
図１８は、本実施形態の空隙配置構造体を用いた測定装置の概略構成図である。
【００４６】
本測定装置は、電磁波を照射する照射部２１と、空隙配置構造体１で散乱した電磁波を検出するための検出部２２とを備える。また、照射部２１の動作を制御する照射制御部２３と、検出部２２の検出結果を処理する解析処理部２４とを有する。解析処理部２４には、解析結果を表示する表示部２５が接続されている。
【００４７】
なお、上記「散乱」とは、前述したように、前方散乱の一形態である透過や、後方散乱の一形態である反射などを含む広義の概念を意味する。好ましくは透過あるいは反射である。より好ましくは、０次方向の透過や０次方向の反射である。
【００４８】
なお、一般的に、回折格子の格子間隔をｄ（本明細書では空隙部の間隔）、入射角をｉ、回折角をθ、波長をλとしたとき、回折格子によって回折されたスペクトルは、
ｄ（ｓｉｎ  ｉ  −ｓｉｎ  θ）＝ｎλ  …式（１）
と表すことができる。上記「０次方向」の０次とは、上記式（１）のｎが０の場合を指す。ｄおよびλは０となり得ないため、ｎ＝０が成立するのは、ｓｉｎ  ｉ−  ｓｉｎ  θ＝０の場合のみである。従って、上記「０次方向」とは、入射角と回折角が等しいとき、つまり電磁波の進行方向が変わらないような方向を意味する。
【００４９】
本実施形態の測定方法では、照射制御部２３により制御され、照射部２１から空隙配置構造体１に電磁波が照射される。空隙配置構造体１で透過した電磁波が検出部２２で検出される。検出部２２において、検出された電磁波が、電気信号に変換され、解析処理部２４に与えられる。そして、表示部２５において、透過率の周波数特性が表示される。
【００５０】
上記空隙配置構造体１により、被測定物質を測定する工程の一例を図４を参照して説明する。
【００５１】
以下の空隙配置構造体を作製した。
【００５２】
空隙配置プレート２の寸法＝直径６ｍｍの円形×厚み１．２μｍ。材料：ニッケル。
空隙部２ｃの形状：正面視正方形、寸法は１．８μｍ×１．８μｍ。空隙部２ｃ，２ｃ間の間隔は２．６μｍ。
【００５３】
また、支持基材３、４は、材料としてニッケルを用いた。幅は５．２μｍ、厚みは５μｍとした。図３（ｂ）に示す格子間隔Ａ、すなわち支持基材３，３および４、４の中心間距離を１０８μｍとした。このような支持基材を、空隙配置プレート２の第２の主面２ｂ側に設けた。
【００５４】
上記空隙配置構造体１の電磁波の透過率−周波数特性を５０ＴＨｚ近傍の周波数を含む電磁波パルスを照射し測定した。その結果、図４に破線で示す結果が得られた。次に、被測定物質として純水を上記空隙配置構造体１の第１の主面２ａ上に２μｌ量付与した。付与された純水は、複数の空隙部２ｃに跨り、かつ第１の支持基材３を超え、隣の開口部５に至っていた。このようにして、被測定物質が付着された空隙配置構造体１に、５０ＴＨｚ近傍の周波数を含む電磁波パルスを照射し、再度測定した。その結果、図４に実線で示す結果が得られた。
【００５５】
従って、図４から明らかなように、被測定物質が存在すると、透過率が減少する。従って、この透過率のピーク値における透過率の減少の割合、あるいは他の周波数位置における透過率の減少割合に基づき被測定物質の量や物性等を検出することができる。次に、上記第１，第２の支持基材３，４が設けられている以下の実施例１〜実施例３の空隙配置構造体と、比較例の空隙配置構造体を用意した。
【００５６】
実施例１：図４の実線で示す結果が得られた空隙配置構造体を実施例１とした。
【００５７】
実施例２：支持基材の格子間隔を１８０μｍに変更したことを除いては、実施例１と同様とした。
【００５８】
実施例３：支持基材の格子間隔を３６０μｍに変更したことを除いては、実施例１と同様として実施例３の空隙配置構造体を用意した。
【００５９】
比較のために上記第１，第２の支持基材が設けられていない、従って、上記空隙配置プレートのみを比較例とした。
【００６０】
上記実施例１〜３の結果を、図５に実線、一点鎖線及び二点鎖線で示す。また比較例の結果を図５に破線で示す。
【００６１】
図５から明らかなように、上記支持基材３，４を設けてなる実施例１〜３においては、比較例に比べ、透過率の値は減少するものの、比較例と同様の形の透過率−周波数特性の得られることがわかる。よって、実施例２，３においても、図４の場合と同様に、被測定物質が空隙配置構造体１に付着された場合、透過率の減少割合に基づき、あるいは透過率のピークの周波数位置のシフトの程度に基づき、被測定物の特性を検出し得ることがわかる。
【００６２】
なお、被測定物は空隙配置構造体の第１の主面または第２の主面上に付着させる必要は必ずしもない。すなわち、本発明の測定装置及び測定方法においては、検出物質は、第１の主面もしくは第２の主面と隙間を隔てて配置されていてもよい。この場合の隙間とは、被測定物を隙間を隔てて配置した場合に測定物の存在により電磁界が影響を受け得る程度の隙間をいうものとする。例えば、被測定物として、電磁界を変化させるシート状物を空隙配置構造体と微小な隙間を隔てて配置した場合に、該シート状物の特性を本発明に従って測定することができる。
【００６３】
次に、支持基材を設けた場合が、支持基材を設けられていない場合に対して、被測定物質を高精度に分析し得ることを示す。
【００６４】
実施例４；以下の空隙配置構造体を作製した。
【００６５】
空隙配置プレート２の寸法＝直径６ｍｍ×厚み０．６μｍ。材料；ニッケル
空隙部２ｃの形状；正面視正方形、寸法は１．８μｍ×１．８μｍ。空隙部２ｃ、２ｃ間の間隔＝２．６μｍ。
【００６６】
また、支持基材３は、材料としてニッケルを用いた。幅は５．２μｍ、厚みは５μｍとした。図３（ｂ）に示す格子間隔Ａ、すなわち支持基材３、３の中心間距離を４４．２μｍとした。このような支持基材を、空隙配置プレート２の第２の主面２ｂ側に設けた。
【００６７】
上記空隙配置構造体１の電磁波の透過率-周波数特性を５０ＴＨｚの周波数を含む電磁波パルスを照射し、測定した。次に被測定物として空隙配置構造体１ｍｍ２あたりの付着量が２０ｎｇおよび４０ｎｇとなるように濃度調整したタンパク質の水溶液を上記空隙配置構造体１の第１の主面２ａ上に１０μＬ滴下した。被測定物が付着された空隙配置構造体１に、５０ＴＨｚの周波数を含む電磁波パルスを照射し、再度測定した。そして、被測定物を付着させる前後での透過率のピークの周波数のシフト量を算出した。算出結果を下記の表１に示す。
【００６８】
比較例２；空隙配置プレート２の第２の主面２ｂ側に支持基材を設けないこと以外は、実施例４と同様の測定、算出を実施した。算出結果を下記の表１に示す。
【００６９】
【表１】
2014050328.tif 000003
【００７０】
表１に示すとおり、実施例４では比較例２に比べて、透過率のピークの周波数のシフト量が大きく、分析の精度が高められていることがわかる。これは、支持基材を設けたことにより、空隙配置構造体への被測定物滴下量を大きくすることができ、それによって、測定感度が向上したためと考えられる。
【００７１】
上記実施形態では複数の第１の支持基材３と複数の第２の支持基材４とが直交し、正方形の複数の開口部５がマトリクス状に配置されていた。図６は、本発明の空隙配置構造体の他の実施形態を示す模式的正面図である。本実施形態の空隙配置構造体１１では、空隙配置プレート２は第１の実施形態と同様とされている。異なるところは、第１の支持基材３Ａと第２の支持基材４Ａとが円環状の形状を有していることにある。
【００７２】
すなわち、第１の支持基材３Ａが円環状すなわちドーナツ状の形状を有している。この第１の支持基材３Ａよりも第２の支持基材４Ａは大きな内径の円環状の形状を有している。言い換えれば、第２の支持基材４Ａが第１の支持基材３Ａを囲むように設けられている。
【００７３】
本実施形態においても、第１の支持基材３Ａと第２の支持基材４Ａとの間に複数の空隙部２ｃが設けられている。従って、第１の実施形態と同様に、空隙配置プレート２を第１，第２の支持基材３Ａ，４Ａにより補強することができる。よって、取扱いに際して、空隙配置構造体１１の湾曲や破損が生じ難い。
【００７４】
なお、図６において、さらに径が異なる１以上の第３の円環状の支持基材を追加してもよい。
【００７５】
図７（ａ）及び図７（ｂ）は本発明のさらに他の実施形態に係る空隙配置構造体を説明するための図であり、図７（ａ）は空隙配置構造体の正面図であり、図７（ｂ）は空隙配置構造体の空隙配置プレートを透かして第２の主面側の第１，第２の支持基材３，４を示す模式的正面図である。
【００７６】
本実施形態の空隙配置構造体１１では、空隙配置プレート１２の第２の表面において、複数のストライプ状の第１の支持基材３Ｂと複数のストライプ状の第２の支持基材４Ｂとが交互に配置されている。ストライプ状の第１の支持基材３Ｂと、ストライプ状の第２の支持基材４Ｂとの長さ方向は上記ｘ方向である。そして、ｙ方向において、第１の支持基材３Ｂと第２の支持基材４Ｂとが対向している。このように、ストライプ状の複数の第１，第２の支持基材３Ｂ，４Ｂを間に少なくとも１つの空隙部２ｃが存在するように配置してもよい。
【００７７】
上記のように、本発明における第１，第２の支持基材の形状は特に限定されず、環状などのループ状の形状であってもよく、ストライプ状のような直線状の形状であってもよい。加えて、矩形、三角形、台形等の適宜の形状とすることができる。
【００７８】
図１１〜図１５を参照して、支持基材の第２〜第６の変形例を説明する。
図１１に示す空隙配置構造体４１では、空隙配置プレート２の第１の主面２ａ上において、第１の支持基材４２と第２の支持基材４３とが交差するように設けられている。第１の支持基材４２は、帯状の形状を有している。第２の支持基材４３も帯状の形状を有している。第１，第２の支持基材４２，４３が交差している部分では、両者は一体化されている。すなわち、交差部分の厚みは、第１，第２の支持基材４２，４３の厚みと同等である。
【００７９】
図１２に示す空隙配置構造体４５では、空隙配置プレート４６が、円環状の外周部４６ａと、外周部４６ａに囲まれた空隙配置部４６ｂがメッシュ状の形状を有し、多数の空隙部４６ｃを有する。支持基材４７は、三角形の形状を有し、上記空隙配置部４６ｂに積層されている。
【００８０】
図１３に示す空隙配置構造体５１も、空隙配置プレート４６を有する。この空隙配置プレート４６の空隙配置部４６ｂに、三角形状の第１の支持基材４７と三角形状の第２の支持基材４８とが積層されている。ここでは、第１，第２の支持基材４７，４８の交差部分は、第１，第２の支持基材４７，４８の厚みと等しく、すなわち交差部において第１，第２の支持基材４７，４８は積層されておらず、連ねられて一体化されている。
【００８１】
図１４に示す空隙配置構造体５５では、空隙配置プレート４６の空隙配置部４６ｂに、空隙配置部４６ｂの中心から放射状に延びる部分を有する支持基材５６が積層されている。
【００８２】
図１１〜図１４に示した第２〜第５の変形例のように、支持基材の形状は適宜変形することができる。また、第１の支持基材と第２の支持基材は、例えば図１３の第１の支持基材４７と第２の支持基材４８のように斜め方向に交差している部分を有していてもよい。
【００８３】
図１５に示す空隙配置構造体６１では、空隙配置プレート２の第１の主面２ａ上に、第１の支持基材６２と第２の支持基材６３とが直交する方向に交差するように設けられている。もっとも、この交差部分においても、交差部分の厚みは、第１，第２の支持基材６２，６３と同じとされている。すなわち、図１５に示す略十字状の形状を有するように第１，第２の支持基材６２，６３が一体化されている。
【００８４】
第６の変形例では、この交差している角部の外周縁が曲線状とされていることにある。すなわち、第１の支持基材６２と第２の支持基材６３とが交差している部分の角部が、曲線状部分６４を有するように丸められている。このように、交差部分の角部が丸められていてもよい。その場合には、交差部を挟むように両側から力が加わった場合、加わった力を効果的に分散させることができる。従って、機械的強度を高めることができる。よって、同じ機械的強度を得るには、支持基材の数を少なくすることができる。あるいは、支持基材の厚みや幅を小さくすることができる。
【００８５】
図１６は、第７の変形例に係る支持基材を備えた空隙配置構造体を示す模式的断面図である。この空隙配置構造体７１では、支持枠７２に、空隙配置部７３が一体化されている。この空隙配置部７３の一方面に第１の支持基材７４ａが積層されている。そして、第１の支持基材７４ａの下面に第２の支持基材７４ｂが、第２の支持基材７４ｂの下面に第３の支持基材７４ｃが積層されている。すなわち、第１〜第３の支持基材７４ａ〜７４ｃが積層され、一体化されて、一つの支持基材が構成されている。
【００８６】
第２の支持基材７４ｂは、開口７４ｄを有する。第３の支持基材７４ｃは、開口７４ｅを有する。開口７４ｅは開口７４ｄよりも大きい。また、開口７４ｄ，ｅの中心は、支持基材７４ａの中心と一致されている。
【００８７】
従って、図１６に示すように、支持基材７４ａの中心を通り、かつ支持基材７４ａの長さ方向に延びる断面において、支持基材７４ａ〜７４ｃの積層構造は、中心部分の厚みが、一方端である第１の端部と、第１の端部と反対側の第２の端部の厚みに比べて薄くされている。言い換えれば、断面視した場合、略アーチ状の形状を有している。よって、中央部分に加わった力を、このアーチ型の構造により第１の端部及び第２の端部側に分散させることができる。従って、機械的強度を高めることができる。よって、同じ機械的強度を得るには、支持基材の厚みや幅を小さくすることができる。また、支持基材の数を少なくしたりすることも可能となる。
【００８８】
図１７は、支持基材のさらに他の変形例を説明するための空隙配置構造体の部分切欠拡大断面図である。
【００８９】
本変形例では、第１の実施形態と同様の空隙配置プレート２を用意する。空隙配置プレート２は、前述したように、第１の主面２ａと第２の主面２ｂとを有する。この空隙配置構造体８１では第１の主面２ａに、支持基材４Ｘが積層されている。もっとも、支持基材４Ｘは金属からなり、めっき法により成膜されている。より具体的には、第１の主面２ａが上側となるように空隙配置プレート２を配置し、めっき法により支持基材４Ｘを形成する。その結果、支持基材４Ｘの一部が空隙部２ｃ内に入り込む。すなわち、空隙部２ｃに入り込んでいる充填部分４Ｘ１が設けられる。そのため、支持基材４Ｘは、空隙配置プレート２と強固に密着する。すなわち、充填部分４Ｘ１のアンカー効果により、支持基材４Ｘの空隙配置プレート２に対する密着強度を効果的に高めることができる。
【００９０】
また、さらに他の変形例として、空隙配置プレートの支持基材が形成される領域において、予め空隙部が埋められている平面となるように空隙配置プレートを用意してもよい。その場合には、この空隙が埋められた平面となる部分において、空隙配置プレート上に支持基材を形成すればよい。言い換えれば、空隙配置プレートの空隙部が、図１７に示したように支持基材の構成材料によって埋められていてもよく、あるいは空隙配置プレート自体を構成する材料によって埋められていてもよい。
【００９１】
上記のように空隙部が空隙配置プレートを構成する材料により埋められている構成においても、支持基材と空隙配置プレートとの接触面積を、図１７に示した変形例と同様に大きくすることができる。従って、密着強度を高めることができる。もっとも、図１７に示した変形例では、充填部分４Ｘ１のアンカー効果により、密着強度をより一層高めることができる。
【００９２】
なお、支持基材４Ｘは、上記のようなめっき法に限らず、蒸着、スパッタリング等の他の成膜方法により形成されてもよい。もっとも、好ましくは、上記のように、空隙配置プレート２を用意し、しかる後、めっき法により空隙配置プレート２の一方の主面に支持基材４Ｘを形成することが望ましい。それによって、密着強度に優れた支持基材を形成することができる。
【００９３】
また、空隙部２ｃの形状についても、上記実施形態のように正方形に限らず、図８（ａ）に示す矩形形状、図８（ｂ）に示す円形、図８（ｃ）に示す等脚台形などの適宜の形状とすることができる。さらに、正方形や円形のような等方性の形状に限らず、上記矩形や台形等の形状であってもよい。さらに、図９に示す空隙部２ｃ１のように、矩形の空隙部の一辺からより小さな矩形の突出部２ｃ２が連ねられている形状であってもよい。
【００９４】
なお、本発明において用いられる平板状の空隙配置プレートは、例えば、その主面に垂直な方向に貫通した少なくとも１つの空隙部が上記主面上の少なくとも一方向に周期的に配置された構造体であればよい。ただし、空隙部は、その全てが周期的に配置されていてもよく、本発明の効果を損なわない範囲で、一部の空隙部が周期的に配置され、他の空隙部が非周期的に配置されていてもよい。
【００９５】
空隙配置プレート２は、好ましくは準周期構造体や周期構造体である。準周期構造体とは、並進対称性は持たないが配列には秩序性が保たれている構造体のことである。準周期構造体としては、例えば、１次元準周期構造体としてフィボナッチ構造、２次元準周期構造体としてペンローズ構造が挙げられる。周期構造体とは、並進対称性に代表される様な空間対称性を持つ構造体のことであり、その対称の次元に応じて１次元周期構造体、２次元周期構造体、３次元周期構造体に分類される。１次元周期構造体は、例えば、ワイヤーグリッド構造、１次元回折格子などが挙げられる。２次元周期構造体は、例えば、メッシュフィルタ、２次元回折格子などが挙げられる。これらの周期構造体のうちでも、２次元周期構造体が好適に用いられる。
【００９６】
また、空隙配置プレート２における空隙部２ｃの寸法は、測定方法や、平板状の空隙配置構造体の材質特性、使用する電磁波の周波数等に応じて適宜設計すればよい。
【００９７】
また、空隙配置プレート２の平均的な厚みは、測定方法や、平板状の空隙配置構造体の材質特性、使用する電磁波の周波数等に応じて適宜設計されるものであり、その範囲を一般化するのは難しいが、前方散乱した電磁波を検出する場合、測定に用いる電磁波の波長の数倍以下であることが好ましい。平均的な厚みがこの範囲よりも大きくなると、前方散乱する電磁波の強度が弱くなって信号を検出することが難しくなる場合がある。
【００９８】
空隙配置構造体１の全体の寸法は、特に制限されないが、照射される電磁波のビームスポットの面積に応じて決定される。
【００９９】
なお、空隙配置構造体１に被測定物を付着させる方法は特に限定されない。空隙配置構造体１の表面と被測定物との間で化学結合などを形成させてもよい。あるいは、被測定物が粘着性等を有する場合は、該粘着性を利用して空隙配置構造体１の表面に被測定物を粘着させ、付着させてもよい。
【０１００】
また、予め空隙配置構造体１の表面に被測定物が結合されるホスト物質を空隙配置構造体１の表面に付着させておいてもよい。このようなホスト物質と被測定物の組み合わせとしては、例えば、抗原と抗体、糖鎖とタンパク質、脂質とタンパク質、リガンドとタンパク質などが挙げられる。
【０１０１】
なお、上記空隙配置プレート２の少なくとも一部の表面は導電性を有することが望ましい。このような導電性を発現する材料、すなわち導体により少なくとも一部の表面が構成されていることが望ましい。このような導体としては特に限定されず、適宜の金属や半導体を用いることができる。
【符号の説明】
【０１０２】
１…空隙配置構造体
２…空隙配置プレート
２ａ…第１の主面
２ｂ…第２の主面
２ｃ…空隙部
２ｃ１…空隙部
２ｃ２…突出部
３，４…第１，第２の支持基材
３Ａ，４Ａ…第１，第２の支持基材
３Ｂ，４Ｂ…第１，第２の支持基材
４Ｘ…支持基材
４Ｘ１…充填部分
１１…空隙配置構造体
１２…空隙配置プレート
２１…照射部
２２…検出部
２３…照射制御部
２４…解析処理部
２５…表示部
３１…支持基材
３１ａ…第１の支持基材
３１ｂ…第２の支持基材
３２…開口部
４１…空隙配置構造体
４２，４３…第１，第２の支持基材
４５…空隙配置構造体
４６…空隙配置プレート
４６ａ…外周部
４６ｂ…空隙配置部
４６ｃ…空隙部
４７，４８…第１，第２の支持基材
５１…空隙配置構造体
５５…空隙配置構造体
５６…支持基材
６１…空隙配置構造体
６２，６３…第１，第２の支持基材
６４…曲線状部分
７１…空隙配置構造体
７２…支持枠
７３…空隙配置部
７４ａ〜７４ｃ…第１〜第３の支持基材
７４ｄ，７４ｅ…開口
８１…空隙配置構造体
【図１】
2014050328.tif 000004
【図２】
2014050328.tif 000005
【図３】
2014050328.tif 000006
【図４】
2014050328.tif 000007
【図５】
2014050328.tif 000008
【図６】
2014050328.tif 000009
【図７】
2014050328.tif 000010
【図８】
2014050328.tif 000011
【図９】
2014050328.tif 000012
【図１０】
2014050328.tif 000013
【図１１】
2014050328.tif 000014
【図１２】
2014050328.tif 000015
【図１３】
2014050328.tif 000016
【図１４】
2014050328.tif 000017
【図１５】
2014050328.tif 000018
【図１６】
2014050328.tif 000019
【図１７】
2014050328.tif 000020
【図１８】
2014050328.tif 000021
【手続補正書】
【提出日】平成27年2月5日(2015.2.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電磁波の照射により被測定物の特性を測定するのに用いられる空隙配置構造体であって、
第１の主面と、第１の主面と対向する第２の主面とを有し、第１の主面から第２の主面に向かって貫通している複数の空隙部を有する空隙配置プレートと、
前記空隙配置プレートの第１の主面及び第２の主面の内の少なくとも一方の主面に積層されており、少なくとも１つの前記空隙部を露出させる複数の開口部もしくは複数の切り欠き部が設けられている支持基材とを備える、空隙配置構造体。
【請求項２】
前記支持基材が設けられている部分において、前記空隙配置プレートの前記空隙部が、前記支持基材または前記空隙配置プレートを構成する材質によって埋められている、請求項１に記載の空隙配置構造体。
【請求項３】
前記支持基材は、少なくとも１つの前記空隙部を挟むように配置された第１，第２の支持基材を有する、請求項１または２に記載の空隙配置構造体。
【請求項４】
前記第１の支持基材と前記第２の支持基材とが交差するように設けられている、請求項３に記載の空隙配置構造体。
【請求項５】
前記第１の支持基材及び前記第２の支持基材がそれぞれ複数設けられており、複数の第１の支持基材と、複数の第２の支持基材とが少なくとも１つの前記空隙部が臨む開口を有するように交差している、請求項４に記載の空隙配置構造体。
【請求項６】
前記複数の第１の支持基材と、前記複数の第２の支持基材とが直交する方向に交差しており、矩形の開口が形成されている、請求項４に記載の空隙配置構造体。
【請求項７】
前記第１の支持基材と前記第２の支持基材とが斜め方向に交差している、請求項４または５に記載の空隙配置構造体。
【請求項８】
前記第１の支持基材と、前記第２の支持基材とが交差している部分の角部が曲線状である、請求項４〜７のいずれか１項に記載の空隙配置構造体。
【請求項９】
前記第１の支持基材の周囲を囲むように前記第２の支持基材が設けられている、請求項３に記載の空隙配置構造体。
【請求項１０】
前記第１の支持基材が環状の形状を有し、前記第２の支持基材が、前記第１の支持基材よりも内寸の大きな環状の形状を有する、請求項９に記載の空隙配置構造体。
【請求項１１】
前記支持部材が中央部と中央部の両側に位置している第１，第２の端部とを有し、該第１，第２の端部の厚みが中央部の厚みよりも厚くされている、請求項１〜１０のいずれか１項に記載の空隙配置構造体。
【請求項１２】
前記支持部材の第１及び第２の端部を結ぶ方向に沿い、かつ該支持部材の厚み方向に沿う断面形状がアーチ型の形状である、請求項１１に記載の空隙配置構造体。
【請求項１３】
請求項１〜１２のいずれか１項に記載の空隙配置構造体の製造方法であって、
前記複数の空隙部を有する前記空隙配置プレートを用意する工程と、
前記空隙配置プレートの少なくとも一方の主面において、少なくとも１つの前記空隙部を露出させる複数の開口部もしくは複数の切欠部を有するように支持基材を形成する工程とを備える、空隙配置構造体の製造方法。
【請求項１４】
前記支持基材をめっき法により形成し、めっきに際し前記支持基材の一部が該支持基材により覆われる少なくとも１つの空隙部内に入り込むように前記支持基材を形成する、請求項１３に記載の空隙配置構造体の製造方法。
【請求項１５】
請求項１〜１２のいずれか１項に記載の空隙配置構造体と、
前記空隙配置構造体に電磁波を照射する電磁波照射装置と、
前記空隙配置構造体を透過した電磁波の特性を測定する電磁波検出部とを備え、前記空隙配置構造体の第１もしくは第２の主面上または第１もしくは第２の主面と隙間を隔てて配置されている被測定物の存在による電磁波の特性の変化に基づき被測定物を検出する、測定装置。
【請求項１６】
請求項１〜１２のいずれか１項に記載の空隙配置構造体に、電磁波を照射し、該空隙配置構造体を透過した電磁波を検出し、基準値を得る工程と、
前記空隙配置構造体の前記第１もしくは第２の主面上または第１もしくは第２の主面と隙間を隔てて配置されている被測定物を配置し、電磁波を照射し、透過してきた電磁波を検出する測定工程と、
前記測定工程により得られた電磁波と、前記基準値を得る工程により得られた電磁波の基準値との差に基づき、被測定物の特性を検出する検出工程とを備える、測定方法。
【手続補正書】
【提出日】平成28年4月7日(2016.4.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電磁波の照射により被測定物の特性を測定するのに用いられる空隙配置構造体であって、
第１の主面と、第１の主面と対向する第２の主面とを有し、第１の主面から第２の主面に向かって貫通している複数の空隙部を有する空隙配置プレートと、
前記空隙配置プレートの第１の主面及び第２の主面の内の少なくとも一方の主面に直接積層されており、少なくとも１つの前記空隙部を露出させる複数の開口部もしくは複数の切り欠き部が設けられている支持基材とを備える、空隙配置構造体。
【請求項２】
前記支持基材が設けられている部分において、前記空隙配置プレートの前記空隙部が前記支持基材または前記空隙配置プレートを構成する材質によって埋められている、請求項１に記載の空隙配置構造体。
【請求項３】
前記支持基材は、少なくとも１つの前記空隙部を挟むように配置された第１，第２の支持基材を有する、請求項１または２に記載の空隙配置構造体。
【請求項４】
前記第１の支持基材と前記第２の支持基材とが交差するように設けられている、請求項３に記載の空隙配置構造体。
【請求項５】
前記第１の支持基材及び前記第２の支持基材がそれぞれ複数設けられており、複数の第１の支持基材と、複数の第２の支持基材とが少なくとも１つの前記空隙部が臨む開口を有するように交差している、請求項４に記載の空隙配置構造体。
【請求項６】
前記複数の第１の支持基材と、前記複数の第２の支持基材とが直交する方向に交差しており、矩形の開口が形成されている、請求項４に記載の空隙配置構造体。
【請求項７】
前記第１の支持基材と前記第２の支持基材とが斜め方向に交差している、請求項４または５に記載の空隙配置構造体。
【請求項８】
前記第１の支持基材と、前記第２の支持基材とが交差している部分の角部が曲線状である、請求項４〜７のいずれか１項に記載の空隙配置構造体。
【請求項９】
前記第１の支持基材の周囲を囲むように前記第２の支持基材が設けられている、請求項
３に記載の空隙配置構造体。
【請求項１０】
前記第１の支持基材が環状の形状を有し、前記第２の支持基材が、前記第１の支持基材よりも内寸の大きな環状の形状を有する、請求項９に記載の空隙配置構造体。
【請求項１１】
前記支持部材が中央部と中央部の両側に位置している第１，第２の端部とを有し、該第１，第２の端部の厚みが中央部の厚みよりも厚くされている、請求項１〜１０のいずれか１項に記載の空隙配置構造体。
【請求項１２】
前記支持部材の第１及び第２の端部を結ぶ方向に沿い、かつ該支持部材の厚み方向に沿う断面形状がアーチ型の形状である、請求項１１に記載の空隙配置構造体。
【請求項１３】
請求項１〜１２のいずれか１項に記載の空隙配置構造体の製造方法であって、
前記複数の空隙部を有する前記空隙配置プレートを用意する工程と、
前記空隙配置プレートの少なくとも一方の主面において、少なくとも１つの前記空隙部を露出させる複数の開口部もしくは複数の切欠部を有するように支持基材を、前記空隙配置プレートの少なくとも一方の前記主面において、直接形成する工程とを備える、空隙配置構造体の製造方法。
【請求項１４】
前記支持基材をめっき法により形成し、めっきに際し前記支持基材の一部が該支持基材により覆われる少なくとも１つの空隙部内に入り込むように前記支持基材を形成する、請求項１３に記載の空隙配置構造体の製造方法。
【請求項１５】
請求項１〜１２のいずれか１項に記載の空隙配置構造体と、
前記空隙配置構造体に電磁波を照射する電磁波照射装置と、
前記空隙配置構造体を透過した電磁波の特性を測定する電磁波検出部とを備え、前記空隙配置構造体の第１もしくは第２の主面上または第１もしくは第２の主面と隙間を隔てて配置されている被測定物の存在による電磁波の特性の変化に基づき被測定物を検出する、測定装置。
【請求項１６】
請求項１〜１２のいずれか１項に記載の空隙配置構造体に、電磁波を照射し、該空隙配置構造体を透過した電磁波を検出し、基準値を得る工程と、
前記空隙配置構造体の前記第１もしくは第２の主面上または第１もしくは第２の主面と隙間を隔てて配置されている被測定物を配置し、電磁波を照射し、透過してきた電磁波を検出する測定工程と、
前記測定工程により得られた電磁波と、前記基準値を得る工程により得られた電磁波の基準値との差に基づき、被測定物の特性を検出する検出工程とを備える、測定方法。
【国際調査報告】
2014050328.tif 000022
2014050328.tif 000023