Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成26年11月19日(2014.11.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
筐体の内部に設けられ、記録媒体が搬送される搬送経路と、
前記記録媒体に向かってインクを噴射する液体噴射ヘッドと、
前記筐体の外部に配置されたインクタンクと、
前記液体噴射ヘッドと前記インクタンクとを接続するインク供給チューブと、
前記筐体に設けられ、前記搬送経路が露出する第１の開口部と、
前記筐体に設けられ、前記第１の開口部と区画された第２の開口部を有し、前記第２の開口部を通る前記インク供給チューブを収容する収容部と、
が備えられたことを特徴とする記録装置。
【請求項２】
請求項１に記載の記録装置であって、
前記インク供給チューブは、前記液体噴射ヘッドと接続される第１のインク供給チュー
ブと、前記インクタンクと接続される第２のインク供給チューブとを備え、
前記第１のインク供給チューブと前記第２のインク供給チューブとの間に介在する中継
部が備えられたことを特徴とする記録装置。
【請求項３】
請求項２に記載の記録装置であって、
前記収容部には、前記中継部が収容されることを特徴とす
る記録装置。
【請求項４】
請求項３に記載の記録装置であって、
前記中継部は、前記収容部に装着されたアダプターであることを特徴とする記録装置。
【請求項５】
請求項３に記載の記録装置であって、
前記中継部は、前記収容部に備えられた継手であることを特徴とする記録装置。
【請求項６】
請求項４に記載の記録装置であって、
前記アダプターは、液体を貯留する貯留部を備えた液体容器であることを特徴とする記
録装置。
【請求項７】
請求項１から請求項６のいずれか一項に記載の記録装置であって、
前記筐体は、前記インク供給チューブを係合する係合部を、前記筐体における前記第１
の開口部を除く位置に備えたことを特徴とする記録装置。
【請求項８】
請求項１から請求項７のいずれか一項に記載の記録装置であって、
前記筐体における前記第１の開口部の鉛直方向下側に、前記記録媒体を排出する排出用
開口部が備えられたことを特徴とする記録装置。
【請求項９】
請求項８に記載の記録装置であって、
前記筐体における前記排出用開口部の鉛直方向下側に、前記記録媒体を載置するカセッ
ト挿入口部が備えられたことを特徴とする記録装置。
【請求項１０】
請求項１から請求項９のいずれか一項に記載の記録装置であって、
前記第１の開口部と前記第２の開口部のうちの少なくとも一方を覆うカバーが備えられ
たことを特徴とする記録装置。
【請求項１１】
請求項１０に記載の記録装置であって、
前記カバーは前記筐体に着脱可能に備えられたことを特徴とする記録装置。
【請求項１２】
請求項１０に記載の記録装置であって、
前記カバーは、前記カバーにおける鉛直方向上端部を支点として回動可能に前記筐体に
備えられ、前記インク供給チューブは、前記カバーと前記筐体との間を通って備えられた
ことを特徴とする記録装置。
【請求項１３】
請求項１０に記載の記録装置であって、
前記カバーは、前記カバーにおける鉛直方向下端部を支点として回動可能に前記筐体に
備えられ、前記インク供給チューブは、前記カバーと前記筐体との間を通って備えられた
ことを特徴とする記録装置。
【請求項１４】
請求項１０に記載の記録装置であって、
前記カバーを前記筐体に固定する固定部材が備えられたことを特徴とする記録装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
[適用例１] 筐体の内部に設けられ、記録媒体が搬送される搬送経路と、前記記録媒体に向かってインクを噴射する液体噴射ヘッドと、前記筐体の外部に配置されたインクタンクと、前記液体噴射ヘッドと前記インクタンクとを接続するインク供給チューブと、前記筐体に設けられ、前記搬送経路が露出する第１の開口部と、前記筐体に設けられ、前記第１の開口部と区画された第２の開口部を有し、前記第２の開口部を通る前記インク供給チューブを収容する収容部と、が備えられたことを特徴とする記録装置。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
[適用例３] 前記収容部には、前記中継部が収容されることを特徴とする上記記録装置。
【手続補正書】
【提出日】平成26年11月28日(2014.11.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ねじの頭部に形成された駆動穴に係合可能な係合部に、弾性部材を装着して成ることを特徴とするドライバビット。
【請求項２】
前記弾性部材をコイルばねにしたことを特徴とする請求項１に記載のドライバビット。
【請求項３】
前記係合部の先端が前記弾性部材から突出し、その突出する長さは前記ねじの駆動穴の深さよりも小さく設定されていることを特徴とする請求項１または請求項２に記載のドライバビット。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明は、上記課題に鑑みて創成されたものであり、ねじの傾きを規制して斜め締め付けによる締結不良を低減するドライバビットの提供を目的とする。この目的を達成するために、本発明のドライバビットは、ねじの頭部に形成された駆動穴に係合可能な係合部に、弾性部材を装着して成ることを特徴とする。また、前記弾性部材をコイルばねにすることが好ましい。また、前記係合部の先端が前記弾性部材から突出し、その突出する長さは前記ねじの駆動穴の深さよりも小さく設定されていることが好ましい。
【手続補正書】
【提出日】平成26年11月19日(2014.11.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
アームと、
前記アームの角度を検出する角度センサーと、
前記アームに設けられたジャイロセンサーと、
前記アームに設けられ、被作業物を保持する保持部と、
前記保持部によって保持される前記被作業物の重量を取得する重量取得部と、を備え、
前記ジャイロセンサーの出力から演算された前記アームのタクトタイムが、前記重量に基づくタクトタイム規定値を超えた場合に、前記角度センサーの出力から演算される第１角速度と、前記ジャイロセンサーの出力から演算される第２角速度との差から演算される第３角速度にかけるゲインを減らす、
ことを特徴とするロボット装置。
【請求項２】
前記アームのオーバーシュートとオーバーシュート規定値とを比較したオーバーシュート比較結果と、前記タクトタイムと前記重量に基づく前記タクトタイム規定値とを比較した比較結果と、により前記アームを制御する、
ことを特徴とする請求項１に記載のロボット装置。
【請求項３】
前記重量取得部は、力覚センサーである、
ことを特徴とする請求項１または２に記載のロボット装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】ロボット装置
【手続補正書】
【提出日】平成26年11月19日(2014.11.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
アームと、
前記アームの角度を検出する角度センサーと、
前記アームに設けられた角速度センサーと、を備え、
前記角度センサーの出力から演算される第１角速度と、前記角速度センサーの出力から演算される第２角速度との差から第３角速度を演算し、前記第３角速度から演算される前記アームのオーバーシュートと、オーバーシュート規定値との比較結果であるオーバーシュート比較結果によって速度ループ積分ゲインを増減させる、
ことを特徴とするロボット装置。
【請求項２】
前記アームのタクトタイムとタクトタイム規定値との比較結果であるタクトタイム比較結果と、前記オーバーシュート比較結果と、により前記速度ループ積分ゲインを増減させる、
ことを特徴とする請求項１に記載のロボット装置。
【請求項３】
前記オーバーシュート、および前記タクトタイムの結果を表示する外部表示部を備える、
ことを特徴とする請求項１または２に記載のロボット装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】ロボット装置
【手続補正書】
【提出日】平成26年12月1日(2014.12.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２９】
そして、位置検出部１３が２次コイル１０を検出すると（ステップＳ２：Ｙｅｓ）、制御部１８は、充電終了フラグ＝０（ステップＳ３：Ｙｅｓ）を確認する。次に、制御部１８は、２次コイル検出フラグ＝０（ステップＳ４：Ｎｏ）であれば、ステップＳ５で２次コイル検出フラグ＝１とし、スピーカ１１からポロローン音を１回鳴らす（ステップＳ６）と共にＬＥＤ８を点灯し、ステップＳ８へ進む。制御部１８は、ステップＳ４でＮｏならば、ステップＳ８へ飛ぶ。
【手続補正書】
【提出日】平成26年11月19日(2014.11.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項７】
前記遮断器室と前記母線室を繋ぐ前記ブッシングの先端にシャッター式カバーを設けたことを特徴とする請求項２から請求項４までのいずれかに記載の金属閉鎖形スイッチギヤ。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項８】
前記遮断器室と前記母線室を繋ぐ前記ブッシングを２分割構造としたことを特徴とする請求項２から請求項４までのいずれかに記載の金属閉鎖形スイッチギヤ。
【手続補正書】
【提出日】平成26年12月12日(2014.12.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
車両に搭載される車載装置であって、
画像を表示する長辺と短辺とを有するディスプレイと、
前記ディスプレイを、前記長辺が上辺となる第一位置と、前記短辺が上辺となる第二位置との間で回転させる回転機構と、
を備え、
前記回転機構は、前記第一位置と前記第二位置とにおける前記ディスプレイの上辺を略一致させるよう前記ディスプレイを回転させることを特徴とする車載装置。
【請求項２】
請求項１に記載の車載装置において、
前記回転機構は、前記第一位置と前記第二位置とにおける前記ディスプレイの左右中心を略一致させることを特徴とする車載装置。
【請求項３】
請求項２に記載の車載装置において、
前記ディスプレイは、該ディスプレイの長辺及び短辺の双方の略中央となる位置に、前記回転機構による回転の中心となる中心軸、
を備え、
前記回転機構は、前記中心軸を上下方向に移動させることを特徴とする車載装置。
【請求項４】
請求項１または２に記載の車載装置において、
前記ディスプレイは、
前記回転機構による回転の中心となる中心軸と、
前記中心軸から所定距離だけ離間する補助軸と、
を備え、
前記回転機構は、前記中心軸を上下方向に移動させることにより、前記ディスプレイを回転させ、
前記補助軸は、前記中心軸が移動する方向に対して略直交する方向にガイドされることを特徴とする車載装置。
【請求項５】
請求項４に記載の車載装置において、
前記ディスプレイの長辺と短辺との長さをそれぞれＬ１，Ｌ２としたとき、
前記中心軸の移動距離は、
（Ｌ１−Ｌ２）／２
であり、
前記中心軸と前記補助軸との距離は、
（（Ｌ１−Ｌ２）／４）／ｃｏｓ４５［deg］
であることを特徴とする車載装置。
【請求項６】
請求項４または５に記載の車載装置において、
前記ディスプレイが前記第一位置に位置するときに所定の位置に移動し、端部に切り欠きを有する移動部材と、
前記ディスプレイに固定された固定軸と、
をさらに備え、
前記ディスプレイが前記第一位置に位置するとき、前記移動部材の前記切り欠きと前記固定軸とが嵌合することを特徴とする車載装置。
【請求項７】
請求項６に記載の車載装置において、
前記移動部材との接触を検知する検知機構、
をさらに備え、
前記ディスプレイが前記第一位置に位置するときに、前記検知機構は前記移動部材と接触することを特徴とする車載装置。
【請求項８】
請求項１ないし７のいずれかに記載の車載装置において、
前記回転機構は、前記ディスプレイを前記第一位置から前記第二位置に回転させる場合と、前記第二位置から前記第一位置に回転させる場合とで、回転力を異ならせることを特徴とする車載装置。
【請求項９】
請求項１ないし８のいずれかに記載の車載装置において、
前記ディスプレイを前記車両の車室内へ突出させる突出機構、
をさらに備え、
前記回転機構は、前記ディスプレイが所定距離以上に突出した後に、前記ディスプレイを回転させることを特徴とする車載装置。
【請求項１０】
請求項９に記載の車載装置において、
前記回転機構と前記突出機構とは、並行して前記ディスプレイを移動させることを特徴とする車載装置。
【請求項１１】
請求項１ないし１０のいずれかに記載の車載装置において、
前記ディスプレイへの物体の接近を検知する接近検知手段、
をさらに備え、
前記回転機構は、前記接近検知手段が前記物体の接近を検知すると、前記ディスプレイを回転させることを特徴とする車載装置。
【請求項１２】
請求項１ないし１１のいずれかに記載の車載装置において、
前記ディスプレイに画像を表示させる表示制御手段、
をさらに備え、
前記表示制御手段は、前記ディスプレイの位置に応じた画像を前記ディスプレイに表示させることを特徴とする車載装置。
【請求項１３】
請求項１２に記載の車載装置において、
前記表示制御手段は、前記回転機構による前記ディスプレイの回転の開始に応答して、
前記ディスプレイの回転完了後の位置に応じた画像を前記ディスプレイに表示させることを特徴とする車載装置。
【請求項１４】
車両に搭載される車載装置のディスプレイを回転する回転方法であって、
長辺と短辺とを有する前記ディスプレイへの物体の接近を検知する工程と、
前記ディスプレイを、前記物体の接近の検知に応答して、前記長辺が上辺となる第一位置から、前記短辺が上辺となる第二位置に回転させ、前記第一位置と前記第二位置とにおける前記ディスプレイの上辺を略一致させる工程と、
を備えることを特徴とする回転方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
上記課題を解決するため、請求項１の発明は、車両に搭載される車載装置であって、画像を表示する長辺と短辺とを有するディスプレイと、前記ディスプレイを、前記長辺が上辺となる第一位置と、前記短辺が上辺となる第二位置との間で回転させる回転機構と、を備え、前記回転機構は、前記第一位置と前記第二位置とにおける前記ディスプレイの上辺を略一致させるよう前記ディスプレイを回転させる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
また、請求項１４の発明は、車両に搭載される車載装置のディスプレイを回転する回転方法であって、長辺と短辺とを有する前記ディスプレイへの物体の接近を検知する工程と、前記ディスプレイを、前記物体の接近の検知に応答して、前記長辺が上辺となる第一位置から、前記短辺が上辺となる第二位置に回転させ、前記第一位置と前記第二位置とにおける前記ディスプレイの上辺を略一致させる工程と、を備える。
【手続補正書】
【提出日】平成27年8月3日(2015.8.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項８】
画像を含む印刷データを印刷する印刷装置の制御方法であって、
受信部が、印刷データを受信する受信工程と、
分割部が、前記受信工程で受信した印刷データをページ単位に分割し、複数の分割印刷データを生成する分割工程と、
管理部が、前記印刷データを解析し、前記複数の分割印刷データのうち、同一の見開きページに関する分割印刷データをまとめる管理工程と、
レンダリング部が、前記分割印刷データを受信し、複数のレンダリング装置によって前記管理工程でまとめられた分割印刷データ毎にビットマップデータへ変換するレンダリング工程と
を備えることを特徴とする印刷装置の制御方法。
【手続補正書】
【提出日】平成26年11月28日(2014.11.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ゴヨウマツ由来のリグニン配糖体を有効成分として含有する、サーチュイン１（SIRT1）遺伝子活性化剤であって、
前記リグニン配糖体は、以下の性質を有することを特徴とするサーチュイン１（SIRT1）遺伝子活性化剤（抗癌剤、抗腫瘍剤、抗菌剤、抗寄生虫剤、抗ウイルス剤、ビタミンＣとの併用剤、免疫増強剤、食品を除く。血液流動性改善剤として用いる場合は、プロアントシアニジン類およびケセルチンと併用する場合を除く。）。
（１）リグニン及び多糖類が結合
（２）分子量は８０００から１００００
（３）リグニンと多糖類の結合比は１：１〜２：１（分子比）
（４）多糖類はウロン酸１０〜２０％、中性糖８０〜９０％で構成されている。
【手続補正書】
【提出日】平成27年10月23日(2015.10.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ロータと、
前記ロータの軸方向の一方側に設けられる低圧流体作動部と、
前記ロータの軸方向の他方側に設けられる高圧流体作動部と、
前記低圧流体作動部と前記高圧流体作動部とを仕切る仕切り壁と、
前記仕切り壁の前記高圧流体作動部側に形成され、前記ロータの径方向に延在して前記仕切り壁に沿って設けられる高圧側吐出流路と、を備え、
前記仕切り壁は、
壁体と、
前記壁体と前記高圧側吐出流路との間に設けられ、前記高圧側吐出流路の変形を抑制するための流路変形抑制部材と、
前記壁体と前記流路変形抑制部材との間に設けられ、前記流路変形抑制部材を前記高圧側吐出流路側に付勢可能な付勢手段と、を有し、
前記付勢手段は、前記壁体と前記流路変形抑制部材との隙間に設けられる弾性部材であることを特徴とする遠心式流体機械。
【請求項２】
前記ロータの外周面に沿って設けられる回転軸流路と、
前記回転軸流路と、前記壁体と前記流路変形抑制部材との隙間と、を連通する吹出し流路と、をさらに備え、
前記吹出し流路は、前記隙間に流入する前記圧縮流体を前記回転軸流路へ向けて吹き出すとともに、前記圧縮流体の吹出し方向が、前記ロータの回転方向と逆の方向となるように設けられていることを特徴とする請求項１に記載の遠心式流体機械。
【請求項３】
ロータと、
前記ロータの軸方向の一方側に設けられる低圧流体作動部と、
前記ロータの軸方向の他方側に設けられる高圧流体作動部と、
前記低圧流体作動部と前記高圧流体作動部とを仕切る仕切り壁と、
前記仕切り壁の前記高圧流体作動部側に形成され、前記ロータの径方向に延在して前記仕切り壁に沿って設けられる高圧側吐出流路と、を備え、
前記仕切り壁は、
壁体と、
前記壁体と前記高圧側吐出流路との間に設けられ、前記高圧側吐出流路の変形を抑制するための流路変形抑制部材と、
前記壁体と前記流路変形抑制部材との間に設けられ、前記流路変形抑制部材を前記高圧側吐出流路側に付勢可能な付勢手段と、を有し、
前記高圧流体作動部は、前記高圧側吐出流路へ向けて圧縮流体を供給する高圧側羽根車を有し、
前記付勢手段は、前記圧縮流体の流れ方向において前記高圧側羽根車の下流側となる前記高圧側吐出流路から、前記壁体と前記流路変形抑制部材との隙間へ前記圧縮流体を流入させる流入流路を有し、
前記ロータの外周面に沿って設けられる回転軸流路と、
前記回転軸流路と、前記壁体と前記流路変形抑制部材との隙間と、を連通する吹出し流路と、をさらに備え、
前記吹出し流路は、前記隙間に流入する前記圧縮流体を前記回転軸流路へ向けて吹き出すとともに、前記圧縮流体の吹出し方向が、前記ロータの回転方向と逆の方向となるように設けられていることを特徴とする遠心式流体機械。
【請求項４】
前記高圧流体作動部は、前記高圧側吐出流路へ向けて圧縮流体を供給する高圧側羽根車を有し、
前記流路変形抑制部材は、前記ロータの径方向において、前記高圧側羽根車よりも径方向外側に配置されることを特徴とする請求項１から３のいずれか１項に記載の遠心式流体機械。
【請求項５】
前記高圧側吐出流路に設けられるディフューザを、さらに備え、
前記高圧側吐出流路は、前記流路変形抑制部材と、前記流路変形抑制部材に対向する流路形成部材とにより形成され、
前記ディフューザは、両端部が前記流路変形抑制部材及び前記流路形成部材にそれぞれ固定されることを特徴とする請求項１から４のいずれか１項に記載の遠心式流体機械。
【請求項６】
ロータと、
前記ロータの軸方向の一方側に設けられる低圧流体作動部と、
前記ロータの軸方向の他方側に設けられる高圧流体作動部と、
前記低圧流体作動部と前記高圧流体作動部とを仕切る仕切り壁と、
前記仕切り壁の前記高圧流体作動部側に形成され、前記ロータの径方向に延在して前記仕切り壁に沿って設けられる高圧側吐出流路と、
前記高圧側吐出流路に設けられるディフューザと、を備え、
前記仕切り壁は、
壁体と、
前記壁体と前記高圧側吐出流路との間に設けられ、前記高圧側吐出流路の変形を抑制するための流路変形抑制部材と、
前記壁体と前記流路変形抑制部材との間に設けられ、前記流路変形抑制部材を前記高圧側吐出流路側に付勢可能な付勢手段と、を有し、
前記高圧側吐出流路は、前記流路変形抑制部材と、前記流路変形抑制部材に対向する流路形成部材とにより形成され、
前記ディフューザは、両端部が前記流路変形抑制部材及び前記流路形成部材にそれぞれ固定されることを特徴とする遠心式流体機械。
【手続補正書】
【提出日】平成27年3月20日(2015.3.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
コンピュータによって実行可能な、関連文書を検索する方法であって、
ソース文書を受信するステップと、
前記ソース文書から抽出された意味論的実体に基づいて、前記関連文書を検索するステップと、
前記ソース文書から抽出されるいくつかの意味論的実体を指示しかつユーザによって調整された実体抽出感知を含むと共に前記ユーザによって調整された検索基準を前記ユーザから受信するステップと、
前記ソース文書から抽出される前記いくつかの意味論的実体を含みかつ前記ユーザによって調整された検索基準に基づいて、前記関連文書の検索結果を更新するステップと、
を含む、方法。
【請求項２】
前記検索基準は、
実体が前記関連文書の検索に含まれるか、あるいは、前記実体が前記関連文書の検索から除外されるかを指示する、前記実体に関する選択指示と、
前記関連文書の検索用の前記実体の重要性を指示する、前記実体に関する重みと、
前記検索結果に含まれる関連文書の数に応じた検索感知指示であって、より高く感知することによって前記検索結果により多くの関連文書が得られ、より低く感知することによって前記検索結果により少ない関連文書が得られる前記検索感知指示と、
の少なくとも１つを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
追加された１つ以上のソース文書を受信するステップと、
前記追加された１つ以上のソース文書から抽出された意味論的実体に基づいて、前記関連文書の検索結果を更新するステップと、
をさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記ユーザによる１つ以上の付加的な意味論的実体の指定を可能にするステップと、
前記ユーザによって指定された前記意味論的実体に基づいて、前記関連文書の検索結果を更新するステップと、
をさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記ユーザによって指定された前記意味論的実体は、一群の知られている実体から選択された関連する実体である、請求項４に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成27年3月26日(2015.3.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
画像の画質を予測する方法であって、
入力画像に関して、
前記入力画像に関する意味内容の情報に基づいて第一の記述子を生成する工程と、
前記入力画像から抽出される美的特徴に基づいて第二の記述子を生成する工程と、
前記第一の記述子及び前記第二の記述子に基づいて品質値を前記入力画像に割り当てるように訓練されたカテゴライザを用いて、前記第一の記述子及び前記第二の記述子に基づいて前記品質値を前記入力画像に割り当てる工程と、
前記入力画像の品質値を出力する工程と、
を含む方法。
【請求項２】
前記第一の記述子を生成する工程、前記第二の記述子を生成する工程、及び前記品質値を割り当てる工程は、コンピュータプロセッサを用いて行われる、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記第一の記述子は、前記入力画像と前記入力画像の画像データに関連する文字情報とのうちの少なくとも１つから生じる、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記文字情報は、前記入力画像に関連する文字標識と前記入力画像に組み込まれたメタデーアとのうちの少なくとも１つを含む、請求項３に記載の方法。
【請求項５】
前記第一の記述子は、複数のコンテンツカテゴリ毎に値を含む、請求項１に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成27年4月8日(2015.4.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
内容を感情に関連して分類するための感情分類器のための命令を有する非一時的コピュータ読出可能媒体であって、
前記感情分類器は、
情報の複数の態様のうちの特定の態様に関連するものとして内容を分類するように構成される共に、（ｉ）フィルタリングされた注釈付きの言語資料からの領域依存的な単語および語句の少なくとも一方と、（ｉｉ）所定の言語パターンを用いたワールド・ワイド・ウェブの検索及び返信された検索結果をフィルタリングすることを通じて取得された領域依存的な単語および語句の少なくとも一方と、（ｉｉｉ）（ｉ）及び（ｉｉ）の少なくとも一つによって得られた前記領域依存的な単語および語句の少なくとも一方で行われる辞書拡張技術を通じて取得された領域依存的な単語および語句の少なくとも一方と、により構成され且つ前記内容の分類を助けるための領域依存的な感情用語集の少なくとも一部分を有する態様分類器と、
前記態様分類器により分類された前記内容を、前記特定の態様に関する肯定的な感情及び前記特定の態様に関する否定的な感情のうちの１つを有するものとして、または、前記特定の態様に関して感情を有していないものとして分類するように構成されていると共に、前記領域依存的な感情用語集の少なくとも一部分を有する極性分類器と、
前記態様分類器によって生成された第１の予想の結果と前記極性分類器によって生成された第２の予想の結果とを受け取りかつ前記第１の予想の結果と前記第２の予想の結果とを統合するように構成された統合器と、
を含む、非一時的コピュータ読出可能媒体。
【請求項２】
前記態様分類器が汎用の感情用語集をさらに内蔵する、請求項１に記載の非一時的コピュータ読出可能媒体。
【請求項３】
前記極性分類器が汎用の感情用語集をさらに内蔵する、請求項１に記載の非一時的コピュータ読出可能媒体。
【請求項４】
前記内容は、単語および語句の少なくとも一方を持つ文章で構成されたテキストである、請求項１に記載の非一時的コピュータ読出可能媒体。
【請求項５】
前記領域依存的な感情用語集は、前記複数の態様のうちの１つの態様と関連するものとして前記領域依存的な単語および語句の少なくとも一方を分類する第１の用語集と、前記分類された１つの態様に感情を関連付ける第２の用語集と、を含む、請求項１に記載の非一時的コピュータ読出可能媒体。
【手続補正書】
【提出日】平成27年3月20日(2015.3.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第一転写操作において、それぞれがマーキング材料を中間転写構造に転写する、異なる色の複数のマーキング装置を有する文書処理システムを操作する方法であって、
ａ）あらかじめ選択された色の複数の制御パッチを取り込む工程であって、前記色は複数の静電転写バイアス設定ポイントで前記制御パッチに取り込まれる、工程と、
ｂ）前記制御パッチの濃度をセンサにより感知する工程と、
ｃ）前記それぞれ取り込まれたパッチの最も濃度の高い色を検知する工程と、
ｄ）前記検知された最も高い濃度に基づいて最適な第一転写バイアスを決定する工程であって、これにより前記文書プリントシステムの続く操作において、選択的に前記最適な第一転写バイアスが用いられる、工程と、を含み、
前記決定する工程が、
最適な第一転写バイアス＝（０．５＊（Ｒ＋Ｇ）−０．５＊（Ｍ＋Ｙ））＊Ｘ＋０．５＊（Ｍ＋Ｙ）
という関数により前記最適な第一転写バイアス（ＯＦＴＢ）を計算することを含み、
ここで、
Ｒ＝レッドのパッチの濃度が最も高いときの転写バイアス、
Ｇ＝グリーンのパッチの濃度が最も高いときの転写バイアス、
Ｍ＝マゼンタのパッチの濃度が最も高いときの転写バイアス
Ｙ＝イエローパッチの濃度が最も高いときの転写バイアスであり
Ｘ＝０から１の範囲の重みづけであり、０は単一の分離色域がより所望されることを意味し、１は混合色がより所望されることを意味する、方法。
【請求項２】
前記重みづけＸは操作者が調整可能な、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記重みづけＸは０から１の間で変更可能で、前記取り込む工程は、操作者が重みづけＸを調整した複数の第二の制御パッチを取り込むことをさらに含む、請求項２に記載の方法。
【請求項４】
前記重みづけＸの値を、グラフィカル・ユーザ・インターフェースを用いて操作者が調整できる、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記感知する工程が、前記中間転写構造上で行われる、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記取り込む工程が、第二転写で前記テストパッチを前記中間転写構造から下地に再転写することを含み、前記感知する工程が前記下地上で行われる、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
前記感知する工程が、前記中間転写構造又は前記制御パッチの転写を前記中間転写構造から受け取る下地のいずれかで前記制御パッチを感知するために選択的に配置される拡張したトナー面積カバーセンサを用いて前記制御パッチを感知することを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項８】
前記複数の静電転写バイアス設定ポイントは、公称の＋／−１０％又は＋／−２０％のうちの一方である、請求項１に記載の方法。
【請求項９】
プリント転写を制御するシステムであって、
複数の１色プリントモジュールから成り、各モジュールがプリントヘッド及び隣接するニップを含み、それぞれの１色に関連するプリンタと、
各１色に関連する少なくとも一つのセンサと、
前記センサにより集められたデータに基づいてアルゴリズムを行って前記最適な転写バイアスを計算するプロセッサと、
ユーザのデータ入力及び確認データ承認を容易にするためのグラフィカル・ユーザ・インターフェースと、を含み、
前記プロセッサが、前記センサにより集められた前記データをさらに受信し、ユーザにより入力された設定データを受け取り、前記受け取ったデータを用いて前記アルゴリズムを実行し、
前記プリンタが、計算された最適な転写バイアスに応じてプリントアウトされる少なくとも一つのテストパッチをプリントし、
前記アルゴリズムは、
最適な第一転写バイアス＝（０．５＊（Ｒ＋Ｇ）−０．５＊（Ｍ＋Ｙ））＊Ｘ＋０．５＊（Ｍ＋Ｙ）
を含み、
ここで、
Ｒ＝レッドのパッチの濃度が最も高いときの転写バイアス、
Ｇ＝グリーンのパッチの濃度が最も高いときの転写バイアス、
Ｍ＝マゼンタのパッチの濃度が最も高いときの転写バイアス
Ｙ＝イエローパッチの濃度が最も高いときの転写バイアスであり
Ｘ＝０から１の範囲の重みづけであり、０は単一の分離色域がより所望されることを意味し、１は混合色がより所望されることを意味する、システム。
【手続補正書】
【提出日】平成27年3月23日(2015.3.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
最外層が金属ジアルキルジチオホスフェート、ポリイミド、ポリシロキサン、導電性フィラー成分、及び任意成分のポリマーの混合物から構成される２層と、
金属基材と、
を備え、トナー現像された電子写真画像を光導電体から受け取る、中間転写部材。
【請求項２】
前記導電性フィラーがカーボンブラックであり、前記ポリイミドがピロメリット酸二無水物／４，４’−オキシジアニリンのポリアミド酸から調製され、前記金属ジアルキルジチオホスフェートが亜鉛ジメチルジチオホスフェートであり、前記ポリシロキサンがポリエステル改質されたポリジメチルシロキサンであり、これらの比率が約１４／８５．４５／０．５／０．０５である、請求項１に記載の中間転写部材。
【請求項３】
前記混合物の各要素として、前記ポリイミドが約７０から約９５重量％の量で存在し、前記亜鉛ジメチルジチオホスフェートが約０．１から約１０重量％の量で存在し、前記ポリシロキサンが約０．０５から約１重量％の量で存在し、前記導電性フィラーが約３から約４０重量％の量で存在し、要素全体で約１００％であり、
当該中間転写部材が前記金属基材からの自己剥離特性を有する、請求項２に記載の中間転写部材。
【請求項４】
前記ポリマーを含み、
前記ポリマーは、フッ素化エチレンプロピレンコポリマー、ポリテトラフルオロエチレン、ポリフルオロアルコキシポリテトラフルオロエチレン、フルオロシリコーン、フッ化ビニリデンとヘキサフルオロプロピレンとテトラフルオロエチレンとのターポリマー、およびこれらの混合物からなる群から選択される、請求項１に記載の中間転写部材。
【請求項５】
前記ポリイミドが熱硬化性ポリイミドであり、前記金属ジアルキルジチオホスフェートが亜鉛ジアルキルジチオホスフェートである、請求項１〜４のいずれか１項に記載の中間転写部材。
【請求項６】
前記熱硬化性ポリイミドが、約２６０℃〜約３２５℃の温度で、ビフェニルテトラカルボン酸二無水物／４，４’−オキシジアニリンのポリアミド酸およびピロメリット酸二無水物／４，４’−オキシジアニリンのポリアミド酸からなる群から選択されるポリアミド酸を硬化させて作られる、請求項５に記載の中間転写部材。
【請求項７】
前記熱硬化性ポリイミドが、ピロメリット酸二無水物／４，４’−オキシジアニリンのポリアミド酸、ピロメリット酸二無水物／フェニレンジアミンのポリアミド酸、ビフェニルテトラカルボン酸二無水物／４，４’−オキシジアニリンのポリアミド酸、ビフェニルテトラカルボン酸二無水物／フェニレンジアミンのポリアミド酸、ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物／４，４’−オキシジアニリンのポリアミド酸、ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物／４，４’−オキシジアニリン／フェニレンジアミンのポリアミド酸、及びこれらの混合物からなる群から選択される成分の硬化により生成される、請求項５に記載の中間転写部材。
【請求項８】
前記金属ジアルキルジチオホスフェートが、以下の式／構造によってあらわされ、
【化１】
2012226321.tif 000001
式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4は、独立して、アルキル基である、請求項１〜７のいずれか１項に記載の中間転写部材。
【手続補正書】
【提出日】平成26年11月19日(2014.11.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上にイオン主体のドライエッチングが可能な材料からなる転写パターンとなる薄膜を有するマスクブランクを複数枚準備する工程と、
エッチング阻害物質の濃度が異なる複数種の処理液を準備する工程と、
前記マスクブランクに対して前記処理液を用いて表面処理する工程と、
前記表面処理をしたマスクブランクに対して、前記薄膜をイオン主体のドライエッチングが可能なドライエッチングガスによりエッチングして除去した後、該エッチング後の前記基板表面の表面形態情報を取得する工程と、
前記基板表面の表面形態情報を、マスクの欠陥要因となる潜在化したマスクブランク欠陥情報とし、前記エッチング阻害物質の濃度と、前記基板表面の表面形態情報との対応関係を作成し、作成した対応関係の中から所望の仕様又は品質を満足する表面形態情報を選択して、該選択した表面形態情報に対応するエッチング阻害物質の濃度を特定する工程と、
この特定した濃度を有する処理液をマスクブランクの表面処理に使用する処理液として選定することを特徴とする処理液選定方法。
【請求項２】
前記表面形態情報の選択は、
表面形態情報を取得するために使用した前記マスクブランクとは別のマスクブランクであって前記処理液を用いて表面処理したマスクブランクを用いてマスクを作製し、該マスクの欠陥情報と、前記基板表面の表面形態情報との対応関係を作成し、作成した対応関係の中から所望の仕様又は品質を満足するマスク欠陥情報に対応する表面形態情報を選択して得られることを特徴とする請求項１記載の処理液選定方法。
【請求項３】
前記エッチング阻害物質は、ドライエッチングガスに対して耐性を有する有機又は無機の材料であることを特徴とする請求項１又は２に記載の処理液選定方法。
【請求項４】
前記エッチング阻害物質は、カルシウム、マグネシウム、鉄、銅、マンガン、アルミニウム、又はそれらの化合物から選ばれる少なくとも一つを含む材料であることを特徴とする請求項１乃至３の何れか一に記載の処理液選定方法。
【請求項５】
前記エッチング阻害物質が、カルシウム、マグネシウム、アルミニウム、またはそれらの化合物から選ばれる少なくとも一つを含む材料であることを特徴とする請求項１乃至４の何れか一に記載の処理液選定方法。
【請求項６】
前記ドライエッチングガスは、フッ素系ガス、または実質的に酸素を含まない塩素系ガスであることを特徴とする請求項１乃至５の何れか一に記載の処理液選定方法。
【請求項７】
前記薄膜は、タンタルを含有する材料からなることを特徴とする請求項１乃至６の何れか一に記載の処理液選定方法。
【請求項８】
前記薄膜は、ケイ素を含有しないことを特徴とする請求項７記載の処理液選定方法。
【請求項９】
前記薄膜は、タンタルと窒素とを含有するタンタル窒化膜と、タンタルと酸素とを含有するタンタル酸化膜と、が積層された積層膜であることを特徴とする請求項１乃至７の何れか一に記載の処理液選定方法。
【請求項１０】
前記タンタル酸化膜は、ケイ素を含有しないことを特徴とする請求項９記載の処理液選定方法。
【請求項１１】
前記処理液が洗浄液であることを特徴とする請求項１乃至１０の何れか一に記載の処理液選定方法。
【請求項１２】
基板上にイオン主体のドライエッチングが可能な材料からなる転写パターンとなる薄膜を有するマスクブランクを複数枚準備する工程と、
エッチング阻害物質の濃度が異なる複数種の処理液を準備する工程と、
前記マスクブランクに対して前記処理液を用いて表面処理する工程と、
前記表面処理をしたマスクブランクに対して、前記薄膜をイオン主体のドライエッチングが可能なドライエッチングガスによりエッチングして除去した後、該エッチング後の前記基板表面の表面形態情報を取得する工程と、
前記基板表面の表面形態情報を、マスクの欠陥要因となる潜在化したマスクブランク欠陥情報とし、前記エッチング阻害物質の濃度と、前記基板表面の表面形態情報との対応関係を作成し、作成した対応関係の中から所望の仕様又は品質を満足する表面形態情報を選択して、該選択した表面形態情報に対応するエッチング阻害物質の濃度を特定する工程と、
前記表面処理を施したマスクブランクとは別のマスクブランクを準備し、この別に準備したマスクブランクに対して、前記特定した濃度を有する処理液を用いて表面処理する表面処理工程と、を有することを特徴とするマスクブランクの製造方法。
【請求項１３】
前記表面形態情報の選択は、
表面形態情報を取得するために使用した前記マスクブランクとは別のマスクブランクであって前記処理液を用いて表面処理したマスクブランクを用いてマスクを作製し、該マスクの欠陥情報と、前記基板表面の表面形態情報との対応関係を作成し、作成した対応関係の中から所望の仕様又は品質を満足するマスク欠陥情報に対応する表面形態情報を選択して得られることを特徴とする請求項１２記載のマスクブランクの製造方法。
【請求項１４】
前記エッチング阻害物質は、ドライエッチングガスに対して耐性を有する有機又は無機の材料であることを特徴とする請求項１２又は１３に記載のマスクブランクの製造方法。
【請求項１５】
前記エッチング阻害物質は、カルシウム、マグネシウム、鉄、銅、マンガン、アルミニウム、又はそれらの化合物から選ばれる少なくとも一つを含む材料であることを特徴とする請求項１２乃至１４の何れか一に記載のマスクブランクの製造方法。
【請求項１６】
前記エッチング阻害物質が、カルシウム、マグネシウム、アルミニウム、またはそれらの化合物から選ばれる少なくとも一つを含む材料であることを特徴とする請求項１２乃至１５の何れか一に記載のマスクブランクの製造方法。
【請求項１７】
前記ドライエッチングガスは、フッ素系ガス、または実質的に酸素を含まない塩素系ガスであることを特徴とする請求項１２乃至１６の何れか一に記載のマスクブランクの製造方法。
【請求項１８】
前記薄膜は、タンタルを含有する材料からなることを特徴とする請求項１２乃至１７の何れか一に記載のマスクブランクの製造方法。
【請求項１９】
前記薄膜は、ケイ素を含有しないことを特徴とする請求項１８記載のマスクブランクの製造方法。
【請求項２０】
前記薄膜は、タンタルと窒素とを含有するタンタル窒化膜と、タンタルと酸素とを含有するタンタル酸化膜と、が積層された積層膜であることを特徴とする請求項１２乃至１８の何れか一に記載のマスクブランクの製造方法。
【請求項２１】
前記タンタル酸化膜は、ケイ素を含有しないことを特徴とする請求項２０記載のマスクブランクの製造方法。
【請求項２２】
前記処理液が洗浄液であることを特徴とする請求項１２乃至２１の何れか一に記載のマスクブランクの製造方法。
【請求項２３】
請求項１２乃至２２の何れか一に記載のマスクブランクの製造方法により製造されたマスクブランクを用いて、前記薄膜をパターニングしてマスクを製造することを特徴とするマスクの製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成27年3月17日(2015.3.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ａ）多塩基酸またはポリエステル、（ｂ）４０ｍｏｌ％〜６０ｍｏｌ％の有機ポリオール、及び（ｄ）０．１ｍｏｌ％〜１０ｍｏｌ％の生分解性ポリオールを含む、少なくとも１種類のトナーポリエステル樹脂と；
場合により、着色剤、ワックス、界面活性剤、開始剤、触媒または凝固剤のうち、１つ以上と
を含む、トナー組成物。
【請求項２】
さらにシェルを含む、請求項１に記載のトナー組成物。
【請求項３】
前記生分解性ポリオールが、糖または糖アルコールを含む、請求項１に記載のトナー組成物。
【請求項４】
前記生分解性ポリオールが、アドニトール、アラビトール、ソルビトール、マンニトール、ガラクチトール、イソマルト、イノシトール、ラクチトール、キシリトール、マルチトール、１−メチル−グルコピラノシド、エリスリトール、ジグリセロール、１−メチルガラクトピラノシド、１−メチル−マンノピラノシド、ポリグリセロール、ショ糖、グルコース、アミラーゼ、ニストース、ケストース、トレハロース、ラフィノース、ゲンチアノース、またはこれらの組み合わせを含む、請求項１に記載のトナー組成物。
【請求項５】
前記多塩基酸が、３個以上のカルボン酸基を含むか、または、前記ポリエステルが、３個以上のエステル基を含む、請求項１に記載のトナー組成物。
【請求項６】
前記多塩基酸が、アゼライン酸、コハク酸、シクロヘキサン二酸、ナフタレンジカルボン酸、ダイマー二酸、テレフタル酸、グルタミン酸、またはこれらの組み合わせを含む、請求項１に記載のトナー組成物。
【請求項７】
前記生分解性ポリオールが、３個以上のヒドロキシル基を含む、請求項１に記載のトナー組成物。
【請求項８】
前記生分解性ポリオールが直鎖である、請求項１に記載のトナー組成物。
【請求項９】
前記生分解性ポリオールがマンニトールである、請求項１に記載のトナー組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成26年11月19日(2014.11.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上にイオン主体のドライエッチングが可能な材料からなる転写パターンとなる薄膜を有するマスクブランクを複数枚準備する工程と、
エッチング阻害物質の濃度が異なる複数種の処理液を準備する工程と、
前記マスクブランクに対して前記処理液を用いて表面処理する工程と、
前記表面処理したマスクブランクの被処理面に対してレジストパターンを形成し、さらに、該レジストパターンをマスクにして前記薄膜をイオン主体のドライエッチングが可能なドライエッチングガスによるエッチングを行うことにより薄膜パターンを形成してマスクを作製し、該マスク表面の欠陥情報を取得する工程と、
前記処理液におけるエッチング阻害物質の濃度と、前記マスク表面の欠陥情報との対応関係を作成し、作成した対応関係の中から所望の仕様又は品質を満足する欠陥情報を選択して、該選択した欠陥情報に対応する処理液のエッチング阻害物質の濃度を特定する工程と、
該特定した濃度を有する処理液をマスクブランクの表面処理に使用する処理液として選定することを特徴とする処理液選定方法。
【請求項２】
前記エッチング阻害物質は、ドライエッチングガスに対して耐性を有する有機又は無機の材料であることを特徴とする請求項１記載の処理液選定方法。
【請求項３】
前記エッチング阻害物質は、カルシウム、マグネシウム、鉄、銅、マンガン、アルミニウム、又はそれらの化合物から選ばれる少なくとも一つを含む材料であることを特徴とする請求項１又は２記載の処理液選定方法。
【請求項４】
前記エッチング阻害物質が、カルシウム、マグネシウム、アルミニウム、又はそれらの化合物から選らばれる少なくとも一つを含む材料であることを特徴とする請求項１乃至３の何れか一に記載の処理液選定方法。
【請求項５】
前記ドライエッチングガスは、フッ素系ガス、または実質的に酸素を含まない塩素系ガスであることを特徴とする請求項１乃至４の何れか一に記載の処理液選定方法。
【請求項６】
前記薄膜は、タンタルを含有する材料からなることを特徴とする請求項１乃至５の何れか一に記載の処理液選定方法。
【請求項７】
前記薄膜は、ケイ素を含有しないことを特徴とする請求項６記載の処理液選定方法。
【請求項８】
前記薄膜は、タンタルと窒素とを含有するタンタル窒化膜と、タンタルと酸素とを含有するタンタル酸化膜と、が積層された積層膜であることを特徴とする請求項１乃至６の何れか一に記載の処理液選定方法。
【請求項９】
前記タンタル酸化膜は、ケイ素を含有しないことを特徴とする請求項８記載の処理液選定方法。
【請求項１０】
前記処理液が洗浄液であることを特徴とする請求項１乃至９の何れか一に記載の処理液選定方法。
【請求項１１】
基板上にイオン主体のドライエッチングが可能な材料からなる転写パターンとなる薄膜を有するマスクブランクを複数枚準備する工程と、
エッチング阻害物質の濃度が異なる複数種の処理液を準備する工程と、
前記マスクブランクに対して前記処理液を用いて表面処理する工程と、
前記表面処理したマスクブランクの被処理面に対してレジストパターンを形成し、さらに、該レジストパターンをマスクにして前記薄膜をイオン主体のドライエッチングが可能なドライエッチングガスによるエッチングを行うことにより薄膜パターンを形成してマスクを作製し、該マスク表面の欠陥情報を取得する工程と、
前記処理液におけるエッチング阻害物質の濃度と、前記マスク表面の欠陥情報との対応関係を作成し、作成した対応関係の中から所望の仕様又は品質を満足する欠陥情報を選択して、該選択した欠陥情報に対応する処理液のエッチング阻害物質の濃度を特定する工程と、
前記表面処理を施したマスクブランクとは別のマスクブランクを準備し、この別に準備したマスクブランクに対して、前記処理液のエッチング阻害物質の濃度を特定する工程により特定した濃度を有する処理液を用いて表面処理する表面処理工程と、を有することを特徴とするマスクブランクの製造方法。
【請求項１２】
前記エッチング阻害物質は、ドライエッチングガスに対して耐性を有する有機又は無機の物質であることを特徴とする請求項１１記載のマスクブランクの製造方法。
【請求項１３】
前記エッチング阻害物質は、カルシウム、マグネシウム、鉄、銅、マンガン、アルミニウム、又はそれらの化合物から選ばれる少なくとも一つを含む材料であることを特徴とする請求項１１又は１２記載のマスクブランクの製造方法。
【請求項１４】
前記エッチング阻害物質は、カルシウム、マグネシウム、またはそれらの化合物から選らばれる少なくとも一つを含む材料であることを特徴とする請求項１１乃至１３の何れか一に記載のマスクブランクの製造方法。
【請求項１５】
前記ドライエッチングガスは、フッ素系ガス、または実質的に酸素を含まない塩素系ガスであることを特徴とする請求項１１乃至１４の何れか一に記載のマスクブランクの製造方法。
【請求項１６】
前記薄膜は、タンタルを含有する材料からなることを特徴とする請求項１１乃至１５の何れか一に記載のマスクブランクの製造方法。
【請求項１７】
前記薄膜は、ケイ素を含有しないことを特徴とする請求項１６記載のマスクブランクの製造方法。
【請求項１８】
前記薄膜は、タンタルと窒素とを含有するタンタル窒化膜と、タンタルと酸素とを含有するタンタル酸化膜と、が積層された積層膜であることを特徴とする請求項１１乃至１６の何れか一に記載のマスクブランクの製造方法。
【請求項１９】
前記タンタル酸化膜は、ケイ素を含有しないことを特徴とする請求項１８記載のマスクブランクの製造方法。
【請求項２０】
前記処理液が洗浄液であることを特徴とする請求項１１乃至１９の何れか一に記載のマスクブランクの製造方法。
【請求項２１】
請求項１１乃至２０の何れか一に記載のマスクブランクの製造方法により製造されたマスクブランクを用いて、前記薄膜をパターニングしてマスクを製造することを特徴とするマスクの製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成26年11月19日(2014.11.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に転写パターンとなる薄膜を有するマスクブランクにおける薄膜の表面に処理液を用いて表面処理を行うマスクブランクの表面処理方法であって、
前記薄膜は、イオン主体のドライエッチングが可能な材料からなり、
前記処理液に含まれるエッチング阻害物質の濃度が、０．３ｐｐｂ以下であることを特徴とするマスクブランクの表面処理方法。
【請求項２】
基板上に転写パターンとなる薄膜を有するマスクブランクにおける薄膜の表面に処理液を用いて表面処理を行うマスクブランクの表面処理方法であって、
前記薄膜は、イオン主体のドライエッチングが可能な材料からなり、
前記処理液に含まれるエッチング阻害物質の濃度を、前記表面処理をしたマスクブランクに対して、前記薄膜をイオン主体のドライエッチングが可能なドライエッチングガスによりエッチングして除去した後に前記基板表面に残存する凸部の個数が、転写パターン形成領域内に２００個以下となるように設定することを特徴とするマスクブランクの表面処理方法。
【請求項３】
前記エッチング阻害物質は、ドライエッチングガスに対して耐性を有する有機又は無機の材料であることを特徴とする請求項１又は２記載のマスクブランクの表面処理方法。
【請求項４】
前記エッチング阻害物質は、カルシウム、マグネシウム、鉄、銅、マンガン、アルミニウム、又はそれらの化合物から選ばれる少なくとも一つを含む材料であることを特徴とする請求項１乃至３の何れか一に記載のマスクブランクの表面処理方法。
【請求項５】
前記エッチング阻害物質は、カルシウム、マグネシウム、アルミニウム、又はそれらの化合物から選ばれる少なくとも一つを含む材料であることを特徴とする請求項１乃至４の何れか一に記載のマスクブランクの表面処理方法。
【請求項６】
前記薄膜は、フッ素系ガス、または実質的に酸素を含まない塩素系ガスによるドライエッチングガスによりエッチング可能な材料であることを特徴とする請求項１乃至５の何れか一に記載のマスクブランクの表面処理方法。
【請求項７】
前記薄膜は、タンタルを含有する材料からなることを特徴とする請求項１乃至６の何れか一に記載のマスクブランクの表面処理方法。
【請求項８】
前記薄膜は、ケイ素を含有しないことを特徴とする請求項７記載のマスクブランクの表面処理方法。
【請求項９】
前記薄膜は、タンタルと窒素とを含有するタンタル窒化膜と、タンタルと酸素とを含有するタンタル酸化膜と、が積層された積層膜であることを特徴とする請求項１乃至７の何れか一に記載のマスクブランクの表面処理方法。
【請求項１０】
前記タンタル酸化膜は、ケイ素を含有しないことを特徴とする請求項９記載のマスクブランクの表面処理方法。
【請求項１１】
前記処理液が洗浄液であることを特徴とする請求項１乃至１０の何れか一に記載のマスクブランクの表面処理方法。
【請求項１２】
前記洗浄液は、界面活性剤を含有する洗浄液であることを特徴とする請求項１１記載のマスクブランクの表面処理方法。
【請求項１３】
前記洗浄液は、脱イオン化水であることを特徴とする請求項１１記載のマスクブランクの表面処理方法。
【請求項１４】
基板上に転写パターンとなる薄膜を有するマスクブランクを準備する工程と、
前記薄膜の表面に処理液を用いて表面処理を行う表面処理工程と、を有するマスクブランクの製造方法であって、
前記薄膜は、イオン主体のドライエッチングが可能な材料からなり、
前記表面処理工程は、請求項１乃至１３の何れか一に記載のマスクブランクの表面処理方法によって行われることを特徴とするマスクブランクの製造方法。
【請求項１５】
請求項１４記載のマスクブランクの製造方法により製造されたマスクブランクを用いて、前記薄膜をパターニングしてマスクを製造することを特徴とするマスクの製造方法。