【手続補正書】
【提出日】平成27年8月20日(2015.8.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
液体を介して露光光を基板の上面に照射する露光装置であって、
前記露光光が射出される射出面を有する光学部材と、
前記基板をリリース可能に保持する第１保持部と、上面及び該上面の外縁の一部であって前記保持される基板の端部と周方向に沿って対向するエッジ部を有する第１部材と、を含む基板保持装置と、を備え、
前記第１部材の前記エッジ部には、前記保持された基板に向けて突出する突出部が前記周方向に沿って複数並んで形成され、
前記エッジ部は、第１形状を有する突出部が配置された第１領域と、前記第１形状と異なる第２形状の突出部が配置された第２領域とを有する露光装置。
【請求項２】
前記第１領域における前記第１部材と前記基板との間の空隙量が、前記第２領域における前記第１部材と前記基板との間の空隙量よりも小さくなる請求項１に記載の露光装置。
【請求項３】
前記第１部材は、前記基板を配置可能な開口を有し、
前記開口は、前記エッジ部で規定される請求項１又は２に記載の露光装置。
【請求項４】
液体を介して露光光を基板の上面に照射する露光装置であって、
前記露光光が射出される射出面を有する光学部材と、
前記基板をリリース可能に保持する第１保持部と、前記保持される基板の端部と周方向に沿って対向するエッジ部と、を含む基板保持装置と、を備え、
前記エッジ部には、前記周方向に沿って複数の突出部が並んだ形状の第１領域と、前記第１領域とは異なる形状の第２領域とを有する露光装置。
【請求項５】
前記第１領域における突出部のピッチは、該第１領域における突出部の先端部の幅よりも小さい請求項１〜４のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項６】
前記突出部は、その先端部から、前記第１保持部に対して離れる方向に従って、下方に向かって傾斜する下面を有する請求項１から５のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項７】
液体を介して露光光を基板の上面に照射する露光装置であって、
前記露光光が射出される射出面を有する光学部材と、
前記基板をリリース可能に保持する第１保持部と、前記保持される基板の端部と周方向に沿って対向するエッジ部と、を含む基板保持装置と、を備え、
前記エッジ部には、前記周方向に沿って凹凸が繰り返される形状の第１領域と、前記第１領域とは異なる形状の第２領域とを有する露光装置。
【請求項８】
前記第１領域は、前記保持される基板の所定位置に設けられた位置情報部に対応する位置に配置される請求項１〜７のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項９】
前記第１領域は、前記周方向の異なる位置に複数配置される請求項８記載の露光装置。
【請求項１０】
前記第１領域及び前記第２領域は、露光時の走査移動方向に応じた位置に配置される請求項１から９のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項１１】
前記エッジ部は、前記第１保持部の周囲に配置される請求項１から１０のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項１２】
前記光学部材の下方において前記第１部材と間隙を介して隣接した状態で移動可能であり、液浸空間が形成可能な第２上面を有する第２部材と、をさらに備え、
前記第１部材の前記エッジ部は、前記第１保持部に保持された前記基板の端部が沿うように所定方向に延びる第１エッジ部と、前記第２部材との間隙の延在方向に延びる第２エッジ部と、を備え、
前記第２部材は、前記第２上面の外縁の一部を規定し、前記第２エッジ部と対向する第３エッジ部を備え、
前記第１部材の前記第２エッジ部と、前記第２部材の前記第３エッジ部との少なくとも一方には、他方側に向けて突出する突出部が前記延在方向に沿って形成される請求項１〜３のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項１３】
液体を介して露光光を基板の上面に照射する露光装置であって、
前記露光光が射出される射出面を有する光学部材と、
前記基板をリリース可能に保持する第１保持部と、上面及び該上面の外縁の一部を規定するエッジ部を有する第１部材と、を含む基板保持装置と、
前記光学部材の下方において前記第１部材と間隙を介して隣接した状態で移動可能であり、液浸空間が形成可能な第２上面を有する第２部材と、を備え、
前記第１部材の前記エッジ部は、前記第１保持部に保持された前記基板の端部が沿うように所定方向に延びる第１エッジ部と、前記第２部材との間隙の延在方向に延びる第２エッジ部と、を備え、
前記第２部材は、前記第２上面の外縁の一部を規定し、前記第２エッジ部と対向する第３エッジ部を備え、
前記第１部材の前記第２エッジ部と、前記第２部材の前記第３エッジ部との少なくとも一方には、他方側に向けて突出する突出部が前記延在方向に沿って形成される露光装置。
【請求項１４】
前記第２エッジ部または前記第３エッジ部との少なくとも一方に形成される前記突出部における前記第１部材と前記第２部材との間の空隙量は、前記第１部材と前記基板との間の空隙量よりも小さい請求項１２または請求項１３に記載の露光装置。
【請求項１５】
前記突出部は、その先端部から、前記第１保持部に対して離れる方向に従って、下方に向かって傾斜する下面を有する請求項１３または請求項１４に記載の露光装置。
【請求項１６】
前記第２エッジ部に前記突出部が形成され、
前記第２エッジ部の前記突出部は、その先端部から、前記第１保持部に向かうに従って、下方に向かって傾斜する下面を有する請求項１２から１５のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項１７】
前記第１部材には、計測部材が配置される開口が形成され、
前記開口には、前記配置された計測部材に向けて突出する突出部が前記開口に沿って複数並んで形成されている請求項１２〜１６のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項１８】
前記露光光の特性を計測する計測部材がその上面に形成された開口に配置される保持装置をさらに備え、
前記開口には、前記配置された計測部材に向けて突出する突出部が前記開口に沿って複数並んで形成されている請求項１〜１７のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項１９】
液体を介して露光光を基板の上面に照射する露光装置であって、
前記露光光が射出される射出面を有する光学部材と、
前記基板をリリース可能に保持する第１保持部と、上面及び該上面の外縁の一部であって、前記保持される基板の端部と周方向に沿って対向するエッジ部を有する第１部材と、を含む基板保持装置と、を備え、
前記第１部材には、計測部材が配置される開口が形成され、
前記開口には、前記配置された計測部材に向けて突出する突出部が前記開口に沿って複数並んで形成されている第２領域を有する露光装置。
【請求項２０】
前記計測部材は、前記露光光の空間像を計測する請求項１８または１９に記載の露光装置。
【請求項２１】
請求項１〜２０のいずれか一項に記載の露光装置を用いて基板を露光することと、
露光された前記基板を現像することと、を含むデバイス製造方法。
【請求項２２】
液体を介して露光光を基板の上面に照射する露光方法であって、
前記露光光が射出される射出面を有する光学部材と、前記基板をリリース可能に保持する第１保持部に保持された前記基板の上面、及び上面と該上面の外縁の一部であって前記保持される基板の端部と周方向に沿って対向するエッジ部とを有する第１部材の上面の少なくとも一方との間に、前記液体で液浸空間が形成されている状態で、前記基板を露光すること、を含み、
前記第１部材の前記エッジ部には、前記保持された基板に向けて突出する突出部が前記周方向に沿って複数並んで形成され、
前記エッジ部は、第１形状を有する突出部が配置された第１領域と、前記第１形状と異なる第２形状の突出部が配置された第２領域とを有する露光方法。
【請求項２３】
液体を介して露光光を基板の上面に照射する露光方法であって、
前記露光光が射出される射出面を有する光学部材と、前記基板をリリース可能に保持する第１保持部に保持された前記基板の上面、及び上面と該上面の外縁の一部を規定するエッジ部とを有する第１部材を、前記第１部材の第１上面の少なくとも一部が液浸空間と接触するように前記光学部材の下方で動かすことと、
前記光学部材の下方において前記第１部材と間隙を介して隣接した状態で第２部材を、前記光学部材の下方で動かすことと、を含み、
前記第１部材の前記エッジ部は、前記第１保持部に保持された前記基板の端部が沿うように所定方向に延びる第１エッジ部と、前記第２部材との間隙の延在方向に延びる第２エッジ部と、を備え、
前記第２部材は、前記液浸空間が形成可能な第２上面と、前記第２上面の外縁の一部を規定し、前記第２エッジ部と対向する第３エッジ部と、を備え、
前記第１部材の前記第２エッジ部と、前記第２部材の前記第３エッジ部との少なくとも一方には、他方側に向けて突出する突出部が前記延在方向に沿って形成される露光方法。
【請求項２４】
液体を介して露光光を基板の上面に照射する露光方法であって、
前記露光光が射出される射出面を有する光学部材と、前記基板をリリース可能に保持する第１保持部に保持された前記基板の上面、及び上面と該上面の外縁の一部であって前記保持される基板の端部と周方向に沿って対向するエッジ部とを有する第１部材の上面の少なくとも一方との間に、前記液体で液浸空間が形成されている状態で、前記基板を露光すること、を含み、
前記第１部材には、計測部材が配置される開口が形成され、
前記開口には、前記配置された計測部材に向けて突出する突出部が前記開口に沿って複数並んで形成されている第２領域を有する露光方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６７】
本実施形態において、第１保持部３１は、例えばピンチャック機構を有する。第１保持部３１は、基板ステージ２の支持面３１Ｓに配置され、基板Ｐの下面Ｐｂが対向可能な周壁部３５と、周壁部３５の内側の支持面３１Ｓに配置され、複数のピン部材を含む支持部３６と、支持面３１Ｓに配置され、流体を吸引する吸引口３７とを有する。吸引口３７は、流体吸引装置と接続される。流体吸引装置は、制御装置８に制御される。周壁部３５の上面は、基板Ｐの下面Ｐｂと対向可能である。周壁部３５は、基板Ｐの下面Ｐｂとの間の少なくとも一部に負圧空間を形成可能である。なお、支持面３１Ｓにおいて、周壁部３５は実質的に円形であり、前述、及び後述の説明において、第１保持部３１の中心は、周壁部３５の中心である。なお、本実施形態においては、ＸＹ平面内において、周壁部３５は、実質的に円形（円環状）である。制御装置８は、基板Ｐの下面Ｐｂと周壁部３５の上面とが接触された状態で、吸引口３７の吸引動作を実行することによって、周壁部３５と基板Ｐの下面Ｐｂと支持面３１Ｓとで形成される空間３１Ｈを負圧にすることができる。これにより、基板Ｐが第１保持部３１に保持される。また、吸引口３７の吸引動作が解除されることによって、基板Ｐは第１保持部３１から解放される。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７４】
また、基板Ｐとカバー部材Ｔの間隙Ｇａが例えば２００μｍの場合、第２の凸部ＧＺ２の好適な諸元としては、長さｈが０．３〜０．８ｍｍ、円弧部Ｒが０．０５〜０．１５ｍｍ、ピッチＺＰが０．３〜１．０ｍｍ、幅Ｗが０．１〜０．５ｍｍ、突出量ＺＬが０．３５〜０．９５ｍｍが挙げられる。この場合の長さｈとピッチＺＰとの好適な比は、０．３〜１．５程度となる。このように、第１の凸部ＧＺ１と第２の凸部ＧＺ２とは、少なくともピッチＺＰが異なる諸元を有することになる。また、第１、第２の凸部ＧＺ１、ＧＺ２の内面Ｔｃは、図３等を参照して上述した第１内面Ｔｄ及び傾斜面Ｔｓを有するものとなっている。
なお、図６に示すように、カバー部材Ｔの表面に撥液膜ＨＭが、例えば２０μｍの膜厚で成膜される場合には、上記の凸部ＧＺ１、ＧＺ２が当該膜厚でオフセット（加算）された形状となる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９１】
なお、第３の凸部ＧＺ３は、必ずしも第２の凸部ＧＺ２と同様の諸元を有する必要はなく、互いに異なる諸元を有しても良い。すなわち、基板Ｐとカバー部材Ｔとの間の間隙Ｇａの下方には、多孔部材８０（図３参照）が設けられ、間隙Ｇａを介して漏れた液体ＬＱを吸引して回収可能であり、また、スケール部材ＧＴ及びカバー部材Ｔの外形寸法精度と比較して基板Ｐの外形寸法精度が低いことから、カバー部材Ｔにおける第２の凸部ＧＺ２における諸元を第３の凸部ＧＺ３の諸元と異ならせ、間隙Ｇａにおける間隙量を間隙Ｇｍにおける間隙量よりも、例えば、１ｍｍ程度に大きくすることも可能である。より具体的には、第３の凸部ＧＺ３における突出量ＺＬを、第２の凸部ＧＺ２における突出量ＺＬよりも小さくしてもよい。あるいは、第３の凸部ＧＺ３におけるピッチＺＰ、第２の凸部ＧＺ２におけるピッチＺＰよりも小さな値としてもよい。これにより、基板Ｐの上面に液体ＬＱが残留することが抑制されるとともに、スケール部材ＧＴ上に液体ＬＧが残留してしまうことが抑制される。結果として、露光不良の発生を抑制できる。