【手続補正書】
【提出日】平成27年8月20日(2015.8.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
液体を介して露光光で基板を露光する露光装置であって、
前記露光光が射出される射出面を有する光学部材と、
前記射出面に対向可能な物体とギャップを介して配置される部材を有して前記光学部材下を移動可能なステージと、
前記物体と前記光学部材との間に液体を供給する第１液体供給装置と、
前記ステージに少なくとも一部が配置されて、前記ギャップに液体を供給する第２液体供給装置と、を備える露光装置。
【請求項２】
前記第２液体供給装置は、前記第１液体供給装置から供給されて前記ギャップに流入する液体を含む前記ギャップ内の液体の量の変動を減らすように、該ギャップに液体を供給する
請求項１記載の露光装置。
【請求項３】
前記第２液体供給装置は、前記第１液体供給装置から供給される液体のうち、前記ギャップに流入する液体の量の変動を相殺するように液体を供給する
請求項１または２記載の露光装置。
【請求項４】
前記第２液体供給装置は、前記ギャップ内の液体のうち前記第２液体供給装置からの液体の量が相対的に多くなるように、前記ギャップに液体を供給する
請求項１または２記載の露光装置。
【請求項５】
前記ギャップ内の液体を回収する液体回収装置を備え、
前記第２液体供給装置は、前記液体回収装置が回収した液体に基づいて、前記ギャップに供給する液体の量を調整する
請求項１〜４のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項６】
前記液体回収装置が回収した液体の量を検出する第１センサーを備え、
前記第２液体供給装置は、前記第１センサーの検出結果に応じて、前記ギャップに供給する液体の量を調整する
請求項５記載の露光装置。
【請求項７】
前記第２液体供給装置は、前記第１センサーが検出した液体の量が予め設定された範囲から外れた場合に、前記ギャップに供給する液体の量を調整する
請求項６記載の露光装置。
【請求項８】
前記液体回収装置が回収した液体の温度を検出する第２センサーを備え、
前記第２液体供給装置は、前記第２センサーの検出結果に応じて、前記ギャップに供給する液体の量を調整する
請求項５〜７のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項９】
前記第２液体供給装置は、前記第２センサーが検出した液体の温度が予め設定された範囲から外れた場合に、前記ギャップに供給する液体の量を調整する
請求項８記載の露光装置。
【請求項１０】
前記第２液体供給装置は、予め設定された数の前記基板を露光するたびに、前記ギャップに供給する液体の量を調整する
請求項１〜９のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項１１】
制御装置をさらに備え、
前記制御装置は、前記第２液体供給装置による前記ギャップへの液体供給量の調整を制御する
請求項１〜１０のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項１２】
前記制御装置は、前記ギャップ内から回収された液体に基づいて、前記第２液体供給装置を制御する
請求項１１記載の露光装置。
【請求項１３】
前記制御装置は、前記ステージの温度に基づいて、前記第２液体供給装置を制御する
請求項１１または１２記載の露光装置。
【請求項１４】
前記制御装置は、前記第１液体供給装置から供給される液体のうち、前記ギャップに流入することが推定される液体の量に基づいて、前記第２液体供給装置を制御する
請求項１１〜１３のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項１５】
前記制御装置は、前記基板の露光条件に基づいて、前記第２液体供給装置を制御する
請求項１１〜１４のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項１６】
前記基板の露光条件は、前記基板の形状と前記液体に対する撥液性との少なくともいずれか一方の条件を含む
請求項１５記載の露光装置。
【請求項１７】
前記基板の露光条件は、前記ステージの移動条件を含む
請求項１５または１６記載の露光装置。
【請求項１８】
前記ステージの移動条件は、前記基板上の露光領域の分布に応じて設定される
請求項１７記載の露光装置。
【請求項１９】
前記第２液体供給装置は、前記基板の露光の少なくとも一部において前記ギャップに液体を供給する
請求項１〜１８のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項２０】
前記第２液体供給装置は、前記基板の露光前と露光後との少なくとも一方において前記ギャップに液体を供給する
請求項１〜１９のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項２１】
前記ステージは、前記物体を保持する第１保持部と、前記部材を保持する第２保持部とを備え、
前記ギャップは、前記第１保持部および前記第２保持部との間の空間の少なくとも一部を含む
請求項１〜２０のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項２２】
前記ステージは、前記ギャップに配置された多孔部材を備え、
前記第２液体供給装置により供給された液体が前記多孔部材と接触する
請求項２１記載の露光装置。
【請求項２３】
前記第２液体供給装置は、前記ギャップに臨んで前記ステージに設けられた供給口を介して、前記ギャップに液体を供給する
請求項１〜２２のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項２４】
前記物体は、前記基板を含み、
前記部材は、前記ステージが前記基板を保持する位置を規定する規定部材を含む
請求項１〜２３のいずれか一項記載の露光装置
【請求項２５】
前記物体は、前記ステージが前記基板を保持する位置を規定する規定部材を含む
請求項１〜２３のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項２６】
前記部材は、前記ステージを計測するための計測部材を含む
請求項２５記載の露光装置。
【請求項２７】
前記部材は、前記露光光を計測するための計測部材を含む
請求項２５または２６記載の露光装置。
【請求項２８】
請求項１から２７のいずれか一項に記載の露光装置を用いて基板を露光することと、
露光された前記基板を現像することと、を含むデバイス製造方法。
【請求項２９】
液体を介して露光光で基板を露光する露光方法であって、
前記露光光が射出される射出面を有する光学部材と、前記光学部材に対向する基板との間に第１液体供給装置によって液体を供給することと、
前記光学部材の下方で、前記基板、および前記基板とギャップを介して配置された部材を移動することと、
前記移動する基板と前記光学部材との間の液体を介して前記基板を露光することと、
第２液体供給装置によって前記ギャップに液体を供給することと、
を含む露光方法。
【請求項３０】
請求項２９記載の露光方法を用いて基板を露光することと、
露光された前記基板を現像することと、を含むデバイス製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６５】
本実施形態において、第１保持部３１は、例えばピンチャック機構を有する。第１保持部３１は、基板ステージ２の支持面３１Ｓに配置され、基板Ｐの下面Ｐｂが対向可能な周壁部３５と、周壁部３５の内側の支持面３１Ｓに配置され、複数のピン部材を含む支持部３６と、支持面３１Ｓに配置され、流体を吸引する吸引口３７とを有する。吸引口３７は、流体吸引装置と接続される。流体吸引装置は、制御装置８に制御される。周壁部３５の上面は、基板Ｐの下面Ｐｂと対向可能である。周壁部３５は、基板Ｐの下面Ｐｂとの間の少なくとも一部に負圧空間を形成可能である。なお、支持面３１Ｓにおいて、周壁部３５は実質的に円形であり、前述、及び後述の説明において、第１保持部３１の中心は、周壁部３５の中心である。なお、本実施形態においては、ＸＹ平面内において、周壁部３５は、実質的に円形（円環状）である。制御装置８は、基板Ｐの下面Ｐｂと周壁部３５の上面とが接触された状態で、吸引口３７の吸引動作を実行することによって、周壁部３５と基板Ｐの下面Ｐｂと支持面３１Ｓとで形成される空間３１Ｈを負圧にすることができる。これにより、基板Ｐが第１保持部３１に保持される。また、吸引口３７の吸引動作が解除されることによって、基板Ｐは第１保持部３１から解放される。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１１６】
２…基板ステージ（ステージ）、  ８…制御装置、  １２…終端光学素子（光学部材）、  １３…射出面、  １８…液体供給装置（第１液体供給装置）、  ３１…第１保持部、  ３２…第２保持部、  ５０…液体供給装置（第２液体供給装置）、  ５１ａ…供給口、  ８０…多孔部材、  ＥＬ…露光光、  ＥＸ…露光装置、  Ｇａ、Ｇｍ、Ｇｎ…間隙（ギャップ）、  ＧＴ…スケール部材（部材、計測部材）、  ＬＱ…液体、  ＬＳ…液浸空間、  Ｐ…基板（物体）、  Ｓ…ショット領域（露光領域）、  Ｔ…カバー部材（部材、規定部材）
【手続補正４】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図４】
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