Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成27年10月7日(2015.10.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
軟骨伝導部のための音源部と、前記音源部からの音信号の大小変化に応じ、前記軟骨伝導部が発生する軟骨伝導成分と直接気導成分の混在比率を変化させる周波数特性変更部とを有することを特徴とする音信号出力装置。
【請求項２】
前記周波数特性変更部は、前記音源部からの音信号が小さくなると直接気導成分に対する軟骨伝導成分の混在比率を相対的に増加させることを特徴とする請求項１記載の音信号出力装置。
【請求項３】
前記周波数特性変更部は、音信号の時間的大小変化に応じて前記軟骨伝導部が発生する軟骨伝導成分と直接気導成分の混在比率を変化させることを特徴とする請求項１または２記載の音信号出力装置。
【請求項４】
前記周波数特性変更部は、音信号の平均的な大小に応じて前記軟骨伝導部が発生する軟骨伝導成分と直接気導成分の混在比率を変化させることを特徴とする請求項１から３のいずれかに記載の音信号出力装置。
【請求項５】
信号送信部を有し、前記周波数特性変更部の出力を前記信号送信部から外部の軟骨伝導部に送信することを特徴とする請求項１から４のいずれかに記載の音信号出力装置。
【請求項６】
携帯電話として構成されるとともに、前記外部の軟骨伝導部は携帯電話のための聴取装置であることを特徴とする請求項５記載の音信号出力装置。
【請求項７】
携帯音楽プレーヤーとして構成されるとともに、前記外部の軟骨伝導部は携帯音楽プレーヤーのための聴取装置であることを特徴とする請求項５記載の音信号出力装置。
【請求項８】
軟骨伝導部のための音声通話音源部と、前記軟骨伝導部のための楽曲音源部と、前記音声通話音源部からの音信号と前記楽曲音源部からの音信号とで前記軟骨伝導部が発生する軟骨伝導成分と直接気導成分の混在比率を変化させる周波数特性変更部とを有することを特徴とする音信号出力装置。
【請求項９】
前記周波数特性変更部は、前記音声通話音源部からの音信号よりも前記楽曲音源部からの音信号において軟骨伝導成分に対する直接気導成分の混在比率を相対的に増加させることを特徴とする請求項８記載の音信号出力装置。
【手続補正書】
【提出日】平成27年10月5日(2015.10.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
オプティカルブラック画素領域と有効画素領域を有し、所定時間間隔で繰り返し画像データを読み出すイメージセンサと、
上記イメージセンサから読み出された画像データに基づいて上記イメージセンサにおけるオプティカルブラック出力平均値を算出するＯＢ演算部と、
上記ＯＢ演算部で演算したオプティカルブラック出力平均値を格納する第１のメモリと、上記オプティカルブラック出力平均値をＯＢ減算部分と繰越部分に分けて格納する第２のメモリと、
上記イメージセンサの上記有効画素領域から読み出された画像データを順次累積加算し、加算画像を生成する画像合成部と、
を備え、
上記画像合成部は、生成した上記加算画像、もしくは上記有効画像領域から読み出された画像から、上記第２のメモリに格納されたオプティカルブラック出力平均値の上記ＯＢ減算部分を適用したＯＢ値を減算処理し、
上記ＯＢ演算部は、上記画像合成部が実施する上記累積加算の回数が２回目以後に上記減算処理を適用する上記ＯＢ値を演算する場合には、上記オプティカルブラック出力平均値に対して、上記第１のメモリに格納されたオプティカルブラック出力平均値に上記繰越部分を加算する、
ことを特徴とする撮像装置。
【請求項２】
上記ＯＢ演算部は、上記イメージセンサにおけるオプティカルブラック画素領域から読み出された画素出力の平均値をＯＢ画素出力平均値として算出し、上記ＯＢ画素出力平均値を、上記イメージセンサにおけるオプティカルブラック出力平均値とすることを特徴とする請求項１に記載の撮像装置。
【請求項３】
上記撮像装置は、
暗時露光または明時露光を指示する指示部と、
バルブ撮影にあたって、暗時露光で読み出した画像データのうち、有効画素領域から読み出した画像出力と上記オプティカルブラック画素領域から読み出した上記ＯＢ画素出力平均値の差分であるＯＢ段差を求めるＯＢ段差算出部と、を備え
上記画像合成部は、上記有効画像領域から読み出された画像データから、上記第２のメモリに格納されたオプティカル出力平均値の上記ＯＢ減算部分を適用してＯＢ値を減算処理すると共に、上記加算画像に対して、上記ＯＢ段差を減算処理することを特徴とする請求項２に記載の撮像装置。
【請求項４】
上記ＯＢ段差演算部は、上記有効画素領域から読み出した画像出力を、複数の領域に分割し、各分割領域における画像出力の平均である平均画像出力を算出し、上記平均画像出力と上記ＯＢ画素出力平均値との差分を上記ＯＢ段差とすることを特徴とする請求項３に記載の撮像装置。
【請求項５】
上記撮像装置は、上記画像合成部における加算画像の合成枚数に基づいて決まるオフセット値を求め、上記画像合成部によって生成された加算画像に対して上記オフセット値を用いて補正演算を行うことを特徴とする請求項１に記載の撮像装置。
【請求項６】
上記第２のメモリの繰越部分のビット数は、上記画像合成部によって加算される最大加算枚数をＮとすると、
繰越部分のビット数≧Ｌｏｇ２（最大加算枚数Ｎ）
であることを特徴とする請求項１に記載の撮像装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
上記目的を達成するため第１の発明に係る撮像装置は、オプティカルブラック画素領域と有効画素領域を有し、所定時間間隔で繰り返し画像データを読み出すイメージセンサと、上記イメージセンサから読み出された画像データに基づいて上記イメージセンサにおけるオプティカルブラック出力平均値を算出するＯＢ演算部と、上記ＯＢ演算部で演算したオプティカルブラック出力平均値を格納する第１のメモリと、上記オプティカルブラック出力平均値をＯＢ減算部分と繰越部分に分けて格納する第２のメモリと、上記イメージセンサの上記有効画素領域から読み出された画像データを順次累積加算し、加算画像を生成する画像合成部と、を備え、上記画像合成部は、生成した上記加算画像、もしくは上記有効画像領域から読み出された画像から、上記第２のメモリに格納されたオプティカルブラック出力平均値の上記ＯＢ減算部分を適用したＯＢ値を減算処理し、上記ＯＢ演算部は、上記画像合成部が実施する上記累積加算の回数が２回目以後に上記減算処理を適用する上記ＯＢ値を演算する場合には、上記オプティカルブラック出力平均値に対して、上記第１のメモリに格納されたオプティカルブラック出力平均値に上記繰越部分を加算する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
第２の発明に係る撮像装置は、上記第１の発明において、上記ＯＢ演算部は、上記イメージセンサにおけるオプティカルブラック画素領域から読み出された画素出力の平均値をＯＢ画素出力平均値として算出し、上記ＯＢ画素出力平均値を、上記イメージセンサにおけるオプティカルブラック出力平均値とする。
第３の発明に係る撮像装置は、上記第２の発明において、上記撮像装置は、暗時露光または明時露光を指示する指示部と、バルブ撮影にあたって、暗時露光で読み出した画像データのうち、有効画素領域から読み出した画像出力と上記オプティカルブラック画素領域から読み出した上記ＯＢ画素出力平均値の差分であるＯＢ段差を求めるＯＢ段差算出部と、を備え上記画像合成部は、上記有効画像領域から読み出された画像データから、上記第２のメモリに格納されたオプティカル出力平均値の上記ＯＢ減算部分を適用してＯＢ値を減算処理すると共に、上記加算画像に対して、上記ＯＢ段差を減算処理する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
第４の発明に係る撮像装置は、上記第３の発明において、上記ＯＢ段差演算部は、上記有効画素領域から読み出した画像出力を、複数の領域に分割し、各分割領域における画像出力の平均である平均画像出力を算出し、上記平均画像出力と上記ＯＢ画素出力平均値との差分を上記ＯＢ段差とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
第５の発明に係る撮像装置は、上記第１の発明において、上記撮像装置は、上記画像合成部における加算画像の合成枚数に基づいて決まるオフセット値を求め、上記画像合成部によって生成された加算画像に対して上記オフセット値を用いて補正演算を行う。
第６の発明に係る撮像装置は、上記第１の発明において、上記第２のメモリの繰越部分のビット数は、上記画像合成部によって加算される最大加算枚数をＮとすると、繰越部分のビット数≧Ｌｏｇ２（最大加算枚数Ｎ）である。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１０３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１０３】
まず、図１２を用いて、バブル撮影の動作について説明する。撮影を開始すると、遮光画像の読み込みを行う（Ｓ６１）。ここでは、メカシャッタ３を閉じたままで、すなわち遮光状態で、イメージセンサ４の電荷蓄積を行い、シャッタ速度ｔに相当する時間経過後に、有効画素領域４ａ（図４参照）から遮光画像信号を読み出す。
【手続補正書】
【提出日】平成27年10月21日(2015.10.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】画像処理装置及び画像処理設定方法、並びにプログラム
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
本発明の目的は、適切なレイアウトでフォーム画像を合成可能な仕組みを提供することにある。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
上記目的を達成するために、請求項１の画像処理装置は、複数の画像データを１ページに集約した集約画像を印刷することを指示する集約印刷設定をユーザから受け付ける第１の受付手段と、画像データとフォーム画像を合成した合成画像を印刷することを指示する合成印刷設定をユーザから受け付ける第２の受付手段と、前記第１の受付手段が前記集約印刷設定を受け付け、かつ、前記第２の受付手段が前記合成印刷設定を受け付けた場合に、前記集約画像に１つのフォーム画像をレイアウトする第１のレイアウト処理、及び前記複数の画像データのそれぞれにフォーム画像をレアイウトする第２のレイアウト処理のいずれかを選択する選択手段と、前記選択手段によって選択されたレイアウト処理によって生成された画像を印刷する印刷手段とを備えることを特徴とする。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
本発明によれば、適切なレイアウトでフォーム画像を合成可能な仕組みを提供することができる。
【手続補正７】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の画像データを１ページに集約した集約画像を印刷することを指示する集約印刷設定をユーザから受け付ける第１の受付手段と、
画像データとフォーム画像を合成した合成画像を印刷することを指示する合成印刷設定をユーザから受け付ける第２の受付手段と、
前記第１の受付手段が前記集約印刷設定を受け付け、かつ、前記第２の受付手段が前記合成印刷設定を受け付けた場合に、前記集約画像に１つのフォーム画像をレイアウトする第１のレイアウト処理、及び前記複数の画像データのそれぞれにフォーム画像をレアイウトする第２のレイアウト処理のいずれかを選択する選択手段と、
前記選択手段によって選択されたレイアウト処理によって生成された画像を印刷する印刷手段とを備えることを特徴とする画像処理装置。
【請求項２】
画像データを所定の範囲内で繰り返し配置して印刷することを指示するリピート印刷設定をユーザから受け付ける第１の受付手段と、
画像データとフォーム画像を合成した合成画像を印刷することを指示する合成印刷設定をユーザから受け付ける第２の受付手段と、
前記第１の受付手段が前記リピート印刷設定を受け付け、かつ、前記第２の受付手段が前記合成印刷設定を受け付けた場合に、画像データを繰り返し配置した後の画像全体に１つのフォーム画像をレイアウトする第１のレイアウト処理、及び繰り返し配置されている画像データのそれぞれにフォーム画像をレイアウトする第２のレイアウト処理のいずれかを選択する選択手段と、
前記選択手段によって選択されたレイアウト処理によって生成された画像を印刷する印刷手段とを備えることを特徴とする画像処理装置。
【請求項３】
原稿を読み取る読取手段を更に備え、
前記画像データは、前記原稿に基づいて生成される画像データであることを特徴とする請求項１又は２に記載の画像処理装置。
【請求項４】
前記選択手段は、ユーザ指示に従って、前記第１のレイアウト処理と前記第２のレイアウト処理のいずれかを選択することを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の画像処理装置。
【請求項５】
複数の画像データを１ページに集約した集約画像を印刷することを指示する集約印刷設定をユーザから受け付ける第１の受付ステップと、
画像データとフォーム画像を合成した合成画像を印刷することを指示する合成印刷設定をユーザから受け付ける第２の受付ステップと、
前記第１の受付ステップで前記集約印刷設定を受け付け、かつ、前記第２の受付ステップで前記合成印刷設定を受け付けた場合に、前記集約画像に１つのフォーム画像をレイアウトする第１のレイアウト処理、及び前記複数の画像データのそれぞれにフォーム画像をレアイウトする第２のレイアウト処理のいずれかを選択する選択ステップとを有することを特徴とする画像処理設定方法。
【請求項６】
画像データを１ページの範囲内で繰り返し配置して印刷することを指示するリピート印刷設定をユーザから受け付ける第１の受付ステップと、
画像データとフォーム画像を合成した合成画像を印刷することを指示する合成印刷設定をユーザから受け付ける第２の受付ステップと、
前記第１の受付ステップで前記リピート印刷設定を受け付け、かつ、前記第２の受付ステップで前記合成印刷設定を受け付けた場合に、画像データを繰り返し配置した後の画像全体に１つのフォーム画像をレイアウトする第１のレイアウト処理、及び繰り返し配置されている画像データのそれぞれにフォーム画像をレイアウトする第２のレイアウト処理のいずれかを選択する選択ステップとを有することを特徴とする画像処理設定方法。
【請求項７】
請求項５又は６に記載の画像処理設定方法をコンピュータに実行させるためのプログラム。
【手続補正書】
【提出日】平成27年10月16日(2015.10.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
コマンドと前記コマンドとは異なる同期識別コードとを含む入力データをシリアルに受け取る受信部と、
前記受信部から前記同期識別コードを受け取り、前記同期識別コードが所定の値と一致する場合に、前記コマンドに基づく応答処理の実行開始を指示する判定部と、
を含むシリアル通信回路。
【請求項２】
請求項１に記載のシリアル通信回路において、
前記応答処理である応答データのシリアル出力を制御する送信制御部を含み、
前記判定部は、
前記受信部から前記コマンドを受け取り、前記コマンドに基づいて、前記応答データの生成および前記応答データのシリアル出力を、前記送信制御部に指示するシリアル通信回路。
【請求項３】
請求項２に記載のシリアル通信回路において、
前記判定部は、
前記同期識別コードが前記所定の値と一致しない場合に、前記応答データとして固定値をシリアル出力することを前記送信制御部に指示するシリアル通信回路。
【請求項４】
請求項２乃至３のいずれか１項に記載のシリアル通信回路において、
前記判定部は、
前記コマンドにエラーが含まれる場合に、直前にシリアル出力された前記応答データを、前記応答データに含まれるエラーフラグを所定の値とした上で再送することを前記送信制御部に指示するシリアル通信回路。
【請求項５】
請求項２乃至４のいずれか１項に記載のシリアル通信回路において、
前記送信制御部は、
Ｍ（Ｍは２以上の整数）バイトの前記応答データを生成し、
前記受信部は、
ともにバイト単位のデータサイズを有し、合計すると前記Ｍバイトである、前記コマン
ドと前記同期識別コードとを受け取るシリアル通信回路。
【請求項６】
コマンドと、前記コマンドとは異なるコードであって所定の値と一致する場合に前記コマンドに基づく応答処理が実行される同期識別コードと、を含む入力データをシリアルに受け取る受信部を含み、
前記同期識別コードと同じビット数を有する前記コマンドの一部または全部と比較して、少なくとも２ビット以上値が異なっている前記同期識別コードを用いるシリアル通信回路。
【請求項７】
請求項６に記載のシリアル通信回路において、
前記コマンドは複数であり、
第１のコマンドと前記第１のコマンドと異なる第２のコマンドとは、少なくとも２ビット以上値が異なっている前記コマンドを用いるシリアル通信回路。
【請求項８】
請求項１乃至７のいずれか１項に記載のシリアル通信回路と、
前記シリアル通信回路が選択されたかを示すスレーブ選択信号を受け取る第１の端子と、
クロック信号を受け取る第２の端子と、
前記入力データを受け取る第３の端子と、
前記コマンドに基づくデータをシリアル出力する第４の端子と、
を含み、
前記シリアル通信回路は、
前記第１の端子が所定の値に固定される場合でも、
前記第２の端子からの前記クロック信号に基づいて、前記第３の端子からの前記入力データをシリアルに受け取り、
前記応答処理として、前記コマンドに基づくデータを前記第４の端子からシリアル出力する集積回路装置。
【請求項９】
請求項１乃至７のいずれか１項に記載のシリアル通信回路と、
所定の物理量を検出する少なくとも１つのセンサーを含むセンサー部と、
を含み、
前記シリアル通信回路は、
前記センサー部から前記コマンドが要求する検出データを受け取り、前記検出データを用いて前記応答処理を実行する物理量測定装置。
【請求項１０】
請求項９に記載の物理量測定装置を含む電子機器。
【請求項１１】
請求項１０に記載の電子機器を含む移動体。
【請求項１２】
コマンドと前記コマンドとは異なる同期識別コードとを含む入力データをシリアルに受け取るステップと、
受け取った前記同期識別コードが所定の値と一致する場合に、前記コマンドに基づく応答処理の実行開始を指示するステップと、
を含むシリアル通信方法。
【手続補正書】
【提出日】平成27年1月28日(2015.1.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電気機器から通電状態情報を受け取る通信部と、
前記電気機器の基準通電状態情報を記憶する記憶部と、
前記電気機器の前記通電状態情報と前記基準通電状態情報とを比較して、前記電気機器の状態を判定する判定部とを有する
電気機器の管理装置。
【請求項２】
前記判定部は、前記通電状態情報が前記基準通電状態情報の範囲を超えている場合には第１の状態と判定し、前記通電状態情報が前記基準通電状態情報の範囲および前記第１の状態の範囲を超えている場合には第２の状態と判定する
請求項１記載の電気機器の管理装置。
【請求項３】
前記記憶部は、第１の閾値と、前記第１の閾値と異なる第２の閾値とを記憶し、
前記判定部は、前記通電状態情報と前記基準通電状態情報との差が前記第１の閾値以上の場合には第１の状態と判定し、前記通電状態情報と前記基準通電状態情報との差が前記第２の閾値以上の場合には第２の状態と判定する
請求項１または請求項２に記載の電気機器の管理装置。
【請求項４】
前記第１の状態は、注意を払うことが必要な状態であり、前記第２の状態は、異常な状態である請求項１乃至請求項３の何れかに記載の電気機器の管理装置。
【請求項５】
前記記憶部は、前記通電状態情報が積算された積算通電状態情報を記憶し、
前記判定部は、前記通電状態情報と、前記積算通電状態情報とを組み合わせて、前記電気機器の前記状態を判定する
請求項１乃至請求項４の何れかに記載の電気機器の管理装置。
【請求項６】
前記電気機器と関連して設けられる入力装置をユーザが操作することによって前記電気機器の状態の判定を開始する
請求項１乃至請求項５の何れかに記載の電気機器の管理装置。
【請求項７】
前記基準通電状態情報は、前記電気機器の出荷時点を基準とする情報である
請求項１乃至請求項６の何れかに記載の電気機器の管理装置。
【請求項８】
前記記憶部が前記電気機器のメーカまたは前記メーカと関連して設けられたネットワーク上のサイトに備えられる
請求項１乃至請求項７の何れかに記載の電気機器の管理装置。
【請求項９】
前記判定部が前記電気機器のメーカまたは前記メーカと関連して設けられたネットワーク上のサイトに備えられる
請求項１乃至請求項８の何れかに記載の電気機器の管理装置。
【請求項１０】
前記状態の判定結果を通知する通知部を有する
請求項１乃至請求項９の何れかに記載の電気機器の管理装置。
【請求項１１】
通信によって、電気機器から通電状態情報を受け取り、
判定部によって、前記電気機器の前記通電状態情報と記憶部に記憶されている基準通電状態情報とを比較して、前記電気機器の状態を判定する
電気機器の管理方法。
【請求項１２】
通信によって、電気機器から通電状態情報を受け取り、
判定部によって、前記電気機器の前記通電状態情報と記憶部に記憶されている基準通電状態情報とを比較して、前記電気機器の状態を判定する
電気機器の管理方法をコンピュータに実行させるための管理プログラム。
【手続補正書】
【提出日】平成27年9月25日(2015.9.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板と、
前記基板上に配置され、空洞を形成する側壁と、
前記側壁上に配置され、前記空洞を覆う第１層と、
前記第１層上に形成され、平面視における前記第１層の輪郭よりも外側に配置された領域を有する第２層と、
前記第２層の前記平面視における前記第１層の輪郭よりも外側に配置された領域の下に配置された絶縁層と、
前記空洞内に配置された機能素子と、
を含む、電子装置。
【請求項２】
請求項１において、
前記第２層の前記平面視における前記第１層の輪郭よりも外側に配置された領域は、平面視において前記空洞を周回している、電子装置。
【請求項３】
請求項１又は請求項２において、
前記第１層の平面視における前記空洞の輪郭よりも外側に配置された領域と、前記第２層との間に、前記絶縁層が存在する、電子装置。
【請求項４】
請求項１ないし請求項３のいずれか１項において、
前記第１層及び前記第２層は、前記空洞に貫通する共通の貫通孔を有する、電子装置。
【請求項５】
請求項４において、
前記第２層上に形成された第３層を有し、
前記第３層は、前記貫通孔を封止している、電子装置。
【請求項６】
請求項５において、
前記第３層は、Ａｌ、Ｗ及びＣｕよりなる群から選ばれた１種又は２種以上の合金からなる層を含む、電子装置。
【請求項７】
請求項１ないし請求項６のいずれか１項において、
前記第２層は、ＴｉＮ、ＴａＮ、Ｔｉ、Ｔａ、Ｗ、Ａｕ、Ｐｔ、Ｃｏ及びＮｉよりなる群から選ばれた１種又は２種以上の合金若しくは複合窒化物からなる層を含む、電子装置。
【請求項８】
請求項１ないし請求項７のいずれか１項において、
前記第１層は、３層以上の積層構造を含み、
前記積層構造の最上層は、ＴｉＮ、Ｔｉ、Ｗ、Ａｕ、及びＰｔよりなる群から選ばれた１種又は２種以上の合金からなる層であり、
前記積層構造の最下層は、ＴｉＮ、Ｔｉ、Ｗ、Ａｕ、及びＰｔよりなる群から選ばれた１種又は２種以上の合金からなる層であり、
前記積層構造のうち少なくとも一の層は、Ａｌ−Ｃｕ合金からなる、電子装置。
【請求項９】
請求項１ないし請求項８のいずれか１項において、
前記基板の第１領域に前記機能素子が配置され、
前記基板の第２領域にトランジスターが配置されている、電子装置。
【請求項１０】
基板の第１領域に機能素子を形成する工程と、
前記基板の第２領域に、トランジスターを形成する工程と、
前記トランジスター及び前記機能素子を覆う層間絶縁層を形成する工程と、
前記層間絶縁層に、前記機能素子を囲む側壁を形成する工程と、
前記層間絶縁層を覆い、前記側壁と接続する第１層を形成する工程と、
前記第１層を覆う絶縁層を形成する工程と、
前記絶縁層の平面視における前記側壁の内側の領域を除去する工程と、
前記第１層上及び前記絶縁層上に、ＴｉＮ、ＴａＮ、Ｔｉ、Ｔａ、Ｗ、Ａｕ、Ｐｔ、Ｃｏ及びＮｉよりなる群から選ばれた１種又は２種以上の合金若しくは複合窒化物からなる第２層を形成する工程と、
前記第１領域の前記第１層及び前記第２層に貫通孔を形成する工程と、
前記貫通孔を通じて、前記側壁に囲まれた前記層間絶縁層をエッチングして除去し、前記機能素子が収容された空洞を形成する工程と、
を含み、
前記第２層は、平面視における前記第１層の輪郭よりも外側に配置された領域を有して形成され、前記絶縁層は、前記第２層の前記平面視における前記第１層の輪郭よりも外側に配置された領域の下に配置されている、電子装置の製造方法。
【請求項１１】
請求項１０において、
前記第２層上に前記貫通孔を封止する第３層を形成する工程と、
前記第２層及び前記第３層をパターニングして、前記第２領域の前記第２層及び前記第３層を除去する工程と、
前記第２領域の前記絶縁層をエッチングする工程と、
をさらに含む、電子装置の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成27年10月14日(2015.10.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電極が埋設されたガス分散板の片面に、ガスが通過する貫通孔を有するシャフトが接合され、前記貫通孔を通過してきたガスが前記ガス分散板に設けられた複数の穴を通じて外部へ放出される半導体製造装置用部材であって、
前記ガス分散板及び前記シャフトは共にセラミックス製であり、
前記シャフトは内管と外管とを備えた二重管構造となっており、前記内管の内部空間が前記貫通孔になっており、前記電極に接続された給電部材が配置される前記内管と外管の間の雰囲気は前記半導体製造装置内の雰囲気と隔離されている、半導体製造装置用部材。
【請求項２】
前記内管は、前記ガス分散板に接合される側の端部に外フランジを有し、
前記外管は、前記ガス分散板に接合される側の端部にフランジを有さず、前記ガス分散板に接合される側とは反対側の端部に内フランジを有し、該内フランジの内径は前記内管の外径よりも大きい、請求項１に記載の半導体製造装置用部材。
【請求項３】
前記内管は、前記ガス分散板に接合される側の端部に外フランジを有し、
前記外管は、前記ガス分散板に接合される側の端部に外フランジを有し、前記ガス分散板に接合される側とは反対側の端部に内フランジを有し、該内フランジの内径は前記内管の外径よりも大きい、請求項１に記載の半導体製造装置用部材。
【請求項４】
前記内管は、前記ガス分散板に接合される側の端部に外フランジを有し、
前記外管は、前記ガス分散板に接合される側の端部にフランジを有さず、前記ガス分散板に接合される側とは反対側の端部に外フランジを有し、該外フランジの内径は前記内管の外径よりも大きい、請求項１に記載の半導体製造装置用部材。
【請求項５】
前記内管は、前記ガス分散板に接合される側の端部に外フランジを有し、
前記外管は、前記ガス分散板に接合される側が大径となっている段差付きの管であり、前記ガス分散板に接合される側の端部に第１の外フランジを有し、前記ガス分散板に接合される側とは反対側の端部に第２の外フランジを有し、該第２の外フランジの内径は前記内管の外径よりも大きく、前記半導体製造装置用部材を平面視したときに前記第２の外フランジが前記第１の外フランジと干渉しない、請求項１に記載の半導体製造装置用部材。
【請求項６】
請求項１に記載の半導体製造装置用部材の製法であって、
前記ガス分散板の片面に前記内管及び前記外管を配置し、前記内管及び前記外管にそれぞれ重りを載せた状態で加熱することにより、前記内管及び前記外管を前記ガス分散板に固相接合する、半導体製造装置用部材の製法。
【請求項７】
請求項２に記載の半導体製造装置用部材の製法であって、
前記ガス分散板の片面に前記内管及び前記外管を配置し、前記内管の外フランジ及び前記外管の内フランジにそれぞれ重りを載せた状態で加熱することにより、前記内管及び前記外管を前記ガス分散板に固相接合する、半導体製造装置用部材の製法。
【請求項８】
請求項３に記載の半導体製造装置用部材の製法であって、
前記ガス分散板の片面に前記内管及び前記外管を配置し、前記内管の外フランジ及び前記外管の外フランジにそれぞれ重りを載せた状態で加熱することにより、前記内管及び前記外管を前記ガス分散板に固相接合する、半導体製造装置用部材の製法。
【請求項９】
請求項４に記載の半導体製造装置用部材の製法であって、
前記ガス分散板の片面に前記内管及び前記外管を配置し、前記内管の外フランジ及び前記外管の外フランジにそれぞれ重りを載せた状態で加熱することにより、前記内管及び前記外管を前記ガス分散板に固相接合する、半導体製造装置用部材の製法。
【請求項１０】
請求項５に記載の半導体製造装置用部材の製法であって、
前記ガス分散板の片面に前記内管及び前記外管を配置し、前記内管の外フランジ及び前記外管の第１の外フランジにそれぞれ重りを載せた状態で加熱することにより、前記内管及び前記外管を前記ガス分散板に固相接合する、半導体製造装置用部材の製法。
【手続補正書】
【提出日】平成27年10月15日(2015.10.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１波長の光を検出するための第１の画素と、前記第１波長より波長が短い第２波長の光を検出するための第２の画素とを有する固体撮像装置であって、
互いに反対の側に配された第１面及び第２面を有し、前記第１の画素および前記第２の画素のそれぞれに対応する光電変換部が形成された基板と、
前記基板の前記第１面の側に配され、前記第１の画素および前記第２の画素のそれぞれに対応するマイクロレンズを含む光学系と、
前記基板の前記第２面の側に配され、前記第１の画素および前記第２の画素のそれぞれに対応する光吸収部と、を備え、
前記固体撮像装置は、前記第１の画素に対応する前記光吸収部と前記基板との間に配された第１部分と、前記第２の画素に対応する前記光吸収部と前記基板との間に配された第２部分とをさらに備えており、前記第１部分は前記第１波長の光の反射率が前記第２部分よりも大きい、
ことを特徴とする固体撮像装置。
【請求項２】
前記第１部分は、前記基板の側から前記光吸収部の側に向かって、前記基板よりも屈折率が小さく誘電性を有する第１膜と、前記第１膜よりも屈折率が大きい第２膜と、前記第２膜よりも屈折率が小さい絶縁部分と、を含み、
前記第２部分は、前記基板の側から前記光吸収部の側に向かって、前記第１膜と前記絶縁部分とを含み、
前記第１膜の光学膜厚および前記第２膜の光学膜厚は、前記第１波長の１／４の±３０％の範囲内である、
ことを特徴とする請求項１に記載の固体撮像装置。
【請求項３】
前記第２膜はポリシリコンで構成されている
ことを特徴とする請求項２に記載の固体撮像装置。
【請求項４】
前記光吸収部は、前記基板に近い側から順に、光を吸収するための部材と導電性を有する部材とが積層されて構成されており、前記光を吸収するための部材で構成された部分は、前記導電性を有する部材で構成された部分よりも底面積が大きい、
ことを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の固体撮像装置。
【請求項５】
前記光を吸収するための部材で構成された部分は、前記導電性を有する部材で構成された部分の側面を覆っている、
ことを特徴とする請求項４に記載の固体撮像装置。
【請求項６】
前記光を吸収するための部材で構成された部分は、チタンナイトライドで構成されている
ことを特徴とする請求項４または請求項５に記載の固体撮像装置。
【請求項７】
前記前記第１の画素についての前記基板から前記光吸収部までの領域の光学膜厚と、前記前記第２の画素についての前記基板から前記光吸収部までの領域の光学膜厚とは、互いに異なる
ことを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項に記載の固体撮像装置。
【請求項８】
前記第２波長の光は、青色光である
ことを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１項に記載の固体撮像装置。
【請求項９】
請求項１乃至８のいずれか１項に記載の固体撮像装置と、
前記固体撮像装置から出力される信号を処理する処理部と、
を備えることを特徴とするカメラ。
【請求項１０】
第１波長の光を検出するための第１の画素と、前記第１波長より波長が短い第２波長の光を検出するための第２の画素とを有する固体撮像装置の製造方法であって、
前記固体撮像装置は、互いに反対の側に配された第１面及び第２面を有し、前記第１の画素および前記第２の画素のそれぞれに対応する光電変換部が形成された基板と、前記基板の前記第１面の側に配され、前記第１の画素および前記第２の画素のそれぞれに対応するマイクロレンズを含む光学系と、前記基板の前記第２面の側に配され、前記第１の画素および前記第２の画素のそれぞれに対応する光吸収部と、を備え、
前記固体撮像装置の製造方法は、
前記第１の画素および前記第２の画素のそれぞれに対して、前記基板の上に誘電性を有する第１誘電膜を形成する工程と、
前記第１の画素に対して、前記第１誘電膜の上に誘電性を有する第２誘電膜を形成する工程と、
前記第１の画素および前記第２の画素のそれぞれに対して、前記第１誘電膜および前記第２誘電膜を覆うように絶縁性を有する絶縁部分を堆積する工程と、を含み、
前記第１誘電膜は前記基板よりも屈折率が小さく、前記第２誘電膜は前記第１誘電膜よりも屈折率が大きく、前記絶縁部分は前記第２誘電膜よりも屈折率が小さく、前記第１誘電膜の光学膜厚および前記第２誘電膜の光学膜厚は、前記第１波長の１／４の±３０％の範囲内である、
ことを特徴とする固体撮像装置の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明の一つの側面は固体撮像装置にかかり、前記固体撮像装置は、第１波長の光を検出するための第１の画素と、前記第１波長より波長が短い第２波長の光を検出するための第２の画素とを有する固体撮像装置であって、互いに反対の側に配された第１面及び第２面を有し、前記第１の画素および前記第２の画素のそれぞれに対応する光電変換部が形成された基板と、前記基板の前記第１面の側に配され、前記第１の画素および前記第２の画素のそれぞれに対応するマイクロレンズを含む光学系と、前記基板の前記第２面の側に配され、前記第１の画素および前記第２の画素のそれぞれに対応する光吸収部と、を備え、前記固体撮像装置は、前記第１の画素に対応する前記光吸収部と前記基板との間に配された第１部分と、前記第２の画素に対応する前記光吸収部と前記基板との間に配された第２部分とをさらに備えており、前記第１部分は前記第１波長の光の反射率が前記第２部分よりも大きい、ことを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成27年1月9日(2015.1.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
内燃機関の燃焼室（１１２）内の圧力を検出するための燃焼室圧力センサ（１１０）であって、該燃焼室圧力センサ（１１０）が、ハウジング（１２０）と、該ハウジング（１２０）によって少なくとも部分的に包囲された内室（１２８）とを有しており、前記ハウジング（１２０）内に、圧力を検出するための少なくとも１つの機械電気式の変換エレメント（１３４）が収容されており、前記ハウジング（１２０）が少なくとも１つのハウジング開口（１４２）を有していて、該ハウジング開口（１４２）が少なくとも１つのダイヤフラム（１１６）によってシールされている形式のものにおいて、
前記ダイヤフラム（１１６）が、前記内室（１２８）に向かって凸状に湾曲する少なくとも１つの湾曲部（１５４）を有していることを特徴とする、内燃機関の燃焼室内の圧力を検出するための燃焼室圧力センサ（１１０）。
【請求項２】
前記燃焼室圧力センサ（１１０）が少なくとも１つの圧力伝達エレメント（１３６）を有しており、該圧力伝達エレメント（１３６）は、燃焼室圧力を少なくとも部分的に前記機械電気式の変換エレメント（１３４）に伝達するように調整されており、前記ダイヤフラム（１１６）が、前記ハウジング（１２０）における少なくとも１つの固定部（１４６）と、前記圧力伝達エレメント（１３６）における少なくとも１つの固定部（１５０）とを有している、請求項１記載の燃焼室圧力センサ（１１０）。
【請求項３】
前記圧力伝達エレメント（１３６）が前記ダイヤフラム（１１６）を貫通している、請求項２記載の燃焼室圧力センサ（１１０）。
【請求項４】
前記圧力伝達エレメント（１３６）が、前記燃焼室圧力センサ（１１０）の軸線（１１４）に沿って延在しており、前記ダイヤフラム（１１６）が前記圧力伝達エレメント（１３６）を環状に包囲している、請求項２又は３記載の燃焼室圧力センサ（１１０）。
【請求項５】
前記ダイヤフラム（１１６）が、前記燃焼室圧力センサ（１１０）の軸線（１１４）に対して平行な断面で見て、該軸線（１１４）の両側にそれぞれＵ字形の形状を有しており、該Ｕ字形の形状の閉じた側（１５６）が前記内室（１２８）に向いている、請求項４記載の燃焼室圧力センサ（１１０）。
【請求項６】
前記ダイヤフラム（１１６）が、前記ハウジング（１２０）に外側の固定部（１４６）を有しており、前記ダイヤフラム（１１６）が前記圧力伝達エレメント（１３６）に内側の固定部（１５０）を有しており、該内側の固定部（１５０）が前記外側の固定部（１４６）に対して、前記内室（１２８）に向かってオフセットｄｙ＞０だけずらして配置されている、請求項４又は５記載の燃焼室圧力センサ（１１０）。
【請求項７】
前記ダイヤフラム（１１６）の湾曲部（１５４）が、前記外側の固定部（１４６）を起点として、前記内側の固定部（１５０）を越えて前記内室（１２８）まで延在している、請求項６記載の燃焼室圧力センサ（１１０）。
【請求項８】
前記湾曲部（１５４）が、前記外側の固定部（１４６）を起点として、前記内室（１２８）に向かって最大で軸方向寸法Ｙだけ延在しており、比ｄｙ／Ｙが０．０５〜０．８である、請求項７記載の燃焼室圧力センサ（１１０）。
【請求項９】
前記比ｄｙ／Ｙが０．１〜０．５である、請求項８記載の燃焼室圧力センサ（１１０）。
【請求項１０】
前記比ｄｙ／Ｙが０．３〜０．４である、請求項８記載の燃焼室圧力センサ（１１０）。
【請求項１１】
前記比ｄｙ／Ｙが０．３５である、請求項８記載の燃焼室圧力センサ（１１０）。
【請求項１２】
前記外側の固定部（１４６）が、４ｍｍ〜８ｍｍの直径を有しており、前記内側の固定部（１５０）が、２ｍｍ〜４ｍｍの直径を有している、請求項８から１１までのいずれか１項記載の燃焼室圧力センサ（１１０）。
【請求項１３】
前記外側の固定部（１４６）が、５ｍｍ〜７ｍｍの直径を有している、請求項１２記載の燃焼室圧力センサ（１１０）。
【請求項１４】
前記外側の固定部（１４６）が、６．３ｍｍの直径を有している、請求項１２記載の燃焼室圧力センサ（１１０）。
【請求項１５】
前記内側の固定部（１５０）が、２．５ｍｍ〜３．５ｍｍの直径を有している、請求項１２記載の燃焼室圧力センサ（１１０）。
【請求項１６】
前記内側の固定部（１５０）が、３．０ｍｍの直径を有している、請求項１２記載の燃焼室圧力センサ（１１０）。
【請求項１７】
前記圧力伝達エレメント（１３６）が前記ハウジング開口（１４２）内に突入している、請求項２から１６までのいずれか１項記載の燃焼室圧力センサ（１１０）。
【請求項１８】
前記圧力伝達エレメント（１３６）が前記ハウジング開口（１４２）内に突入しており、前記ハウジング開口（１４２）を貫通して前記内室（１２８）から突き出している、請求項１７記載の燃焼室圧力センサ（１１０）。
【手続補正書】
【提出日】平成27年7月14日(2015.7.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
腐食センサー（２０）であって、
ａ．複数のレーザープリント導電性部分（２４）と、
ｂ．隣接するレーザープリント導電性部分（２４）間の少なくとも１つのレーザープリント非導電性部分（２６）であって、隣接するレーザープリント導電性部分（２４）間の少なくとも１つのレーザープリント非導電性部分（２６）が５００μｍ未満の寸法を有するレーザープリント非導電性部分（２６）と、
ｃ．レーザープリント導電性部分（２４）と、隣接するレーザープリント導電性部分（２４）間の少なくとも１つのレーザープリント非導電性部分（２６）との間の冶金学的接合部（２８）と
を含んでおり、導電性材料の各離散箇所の周囲の蝋付け材料が硬化されて、レーザープリント非導電性部分（２６）とレーザープリント導電性部分（２４）との間に継ぎ目のない接合部（２８）を形成する、腐食センサー（２０）。
【請求項２】
隣接するレーザープリント導電性部分（２４）間の少なくとも１つのレーザープリント非導電性部分（２６）が５μｍ未満の寸法を有する、請求項１記載の腐食センサー（２０）。
【請求項３】
複数のレーザープリント導電性部分（２４）の各々が５００μｍ未満の寸法を有する、請求項１又は請求項２記載の腐食センサー（２０）。
【請求項４】
腐食センサー（２０）の製造方法であって、
ａ．非導電性材料（５２）を基材（２２）にプリントし、
ｂ．非導電性材料（５２）上の離散箇所に導電性材料（５４）をプリントし、
ｃ．導電性材料（５４）の各離散箇所の周囲に蝋付け材料（５６）をプリントし、
ｄ．導電性材料の各離散箇所の周囲の蝋付け材料を硬化して、プリント非導電性部分（２６）とプリント導電性部分（２４）との間に継ぎ目のない接合部（２８）を形成する
ことを含む方法。
【請求項５】
さらに、離散箇所が５００μｍ未満の寸法を有するように、導電性材料（５４）をプリントすることを含む、請求項４記載の方法。
【請求項６】
さらに、導電性材料（５４）の離散箇所間の間隔が５００μｍ未満となるように、導電性材料（５４）をプリントすることを含む、請求項４又は請求項５記載の方法。
【請求項７】
さらに、導電性材料（５４）の離散箇所間の間隔が５μｍ未満となるように、導電性材料（５４）をプリントすることを含む、請求項４乃至請求項６のいずれか１項記載の方法。
【請求項８】
さらに、非導電性材料（５２）又は導電性材料（５４）の少なくとも１つを硬化させることを含む、請求項４乃至請求項７のいずれか１項記載の方法。
【請求項９】
さらに、非導電性材料（５２）を導電性材料（５４）に蝋付けすることを含む、請求項４乃至請求項８のいずれか１項記載の方法。
【請求項１０】
さらに、導電性材料（５４）の各離散箇所に電極（３２）を接続することを含む、請求項４乃至請求項９のいずれか１項記載の方法。
【請求項１１】
さらに、電極（３２）上に酸化物層（７２）を形成することを含む、請求項１０記載の方法。
【請求項１２】
さらに、導電性材料（５４）の各離散箇所に電気センサー（３４）を接続することを含む、請求項４乃至請求項１０のいずれか１項記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成26年12月1日(2014.12.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
走査線と、
前記走査線と交差する領域において、第１の電極として機能することができる領域を有する信号線と、
前記第１の電極に対向するように配置された第２の電極と、
前記第１の電極に対向するように配置された第３の電極と、
前記第２の電極と電気的に接続された第１の画素電極と、
前記第３の電極と電気的に接続された第２の画素電極と、
前記第１の電極、前記第２の電極、及び前記第３の電極と電気的に接続され、且つ前記走査線と重なる領域を有する半導体膜と、を有し、
前記第１の電極として機能することができる前記領域は、前記走査線が延在する方向に突出して配置されており、
前記走査線は、開口部を有する領域を有し、
前記第１の電極は、前記開口部と重なる領域を有することを特徴とする表示装置。
【請求項２】
請求項１において、
前記走査線と前記半導体膜との間にゲート絶縁膜を有し、
前記走査線、前記ゲート絶縁膜、前記半導体膜、前記第１の電極、及び前記第２の電極により第１の薄膜トランジスタが構成され、
前記走査線、前記ゲート絶縁膜、前記半導体膜、前記第１の電極、及び前記第３の電極により第２の薄膜トランジスタが構成されることを特徴とする表示装置。
【請求項３】
走査線と、
前記走査線と交差する領域において、第１の電極として機能することができる領域を有する信号線と、
前記第１の電極に対向するように配置された第２の電極と、
前記第１の電極に対向するように配置された第３の電極と、
前記第２の電極と電気的に接続された第１の画素電極と、
前記第３の電極と電気的に接続された第２の画素電極と、
前記第１の電極及び前記第２の電極と電気的に接続され、且つ前記走査線と重なる領域を有する第１の半導体膜と、
前記第１の電極及び前記第３の電極と電気的に接続され、且つ前記走査線と重なる領域を有する第２の半導体膜と、を有し、
前記走査線は、開口部を有する領域を有し、
前記第１の電極は、前記開口部と重なる領域を有することを特徴とする表示装置。
【請求項４】
請求項３において、
前記走査線と前記第１の半導体膜との間、及び、前記走査線と前記第２の半導体膜との間に、ゲート絶縁膜を有し、
前記走査線、前記ゲート絶縁膜、前記第１の半導体膜、前記第１の電極、及び前記第２の電極により第１の薄膜トランジスタが構成され、
前記走査線、前記ゲート絶縁膜、前記第２の半導体膜、前記第１の電極、及び前記第３の電極により第２の薄膜トランジスタが構成されることを特徴とする表示装置。
【請求項５】
請求項１乃至４のいずれか一項において、
前記表示装置を上方からみたとき、前記第１の電極は、前記第２の電極と前記第３の電極との間に配置されていることを特徴とする表示装置。
【請求項６】
請求項１乃至４のいずれか一項において、
前記表示装置を上方からみたとき、前記第２の電極及び前記第３の電極は、前記第１の電極の一方の辺側に配置されていることを特徴とする表示装置。
【請求項７】
請求項１乃至６のいずれか一項において、
前記走査線は、前記開口部を有する前記領域において、前記開口部を介して対向する第１の部分と第２の部分とを有し、
前記走査線は、前記第１の部分において第１の幅と、前記第２の部分において第２の幅と、前記領域とは異なる領域において第３の幅と、を有し、
前記第１の幅と前記第２の幅の合計は、前記第３の幅以上であることを特徴とする表示装置。
【手続補正書】
【提出日】平成26年12月25日(2014.12.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ａ．軸方向中心線（１８）を有する中心胴体（１２）と、
ｂ．前記中心胴体（１２）の少なくとも一部を円周方向に取り囲み、前記中心胴体（１２）との間に環状通路（２０）を形成するシュラウド（１４）と、
ｃ．前記環状通路（２０）内に延在する複数のベーン（１６）と、
を備え、
前記複数のベーン（１６）の各々が、
前記中心胴体（１２）から半径方向外向きに延在し、前記シュラウド（１４）の内面に固定された前縁と、
前記中心胴体（１２）から半径方向外向きに、且つ部分的に前記中心胴体（１２）と前記シュラウド（１４）との間を延在し、前記複数のベーン（１６）のそれぞれの後縁と前記シュラウド（１４）との間の半径方向の間隙を画定する、後縁と、
を備える、
ノズル（１０）。
【請求項２】
前記複数のベーン（１６）の各々が、前記軸方向中心線（１８）に対して角度がついた真っ直ぐな面を備える、請求項１に記載のノズル（１０）。
【請求項３】
前記複数のベーン（１６）の各々が湾曲面（３８）を備える、請求項１又は請求項２に記載のノズル（１０）。
【請求項４】
前記各々の複数のベーン（１６）内に少なくとも１つの燃料ポート（３６）を更に備える、請求項１乃至請求項３のいずれかに記載のノズル（１０）。
【請求項５】
前記複数のベーン（１６）の各々の前記半径方向外向き部（４０）が、シュラウド（１４）から半径方向内向きに徐々に減少する、請求項１乃至請求項４のいずれかに記載のノズル（１０）。
【請求項６】
前記複数のベーン（１６）の各々の半径方向外向き部（４０）内に開口（４２）を更に備える、請求項１乃至請求項５のいずれかに記載のノズル（１０）。
【請求項７】
前記複数のベーン（１６）の各々が、圧力側面（２６）及び真空側面（２８）を備える、請求項１乃至請求項６のいずれかに記載のノズル（１０）。
【請求項８】
前記各々の複数のベーン（１６）の前記圧力側面（２６）又は真空側面（２８）の少なくとも１つが、アパーチャ（４２）を更に備える、請求項７に記載のノズル（１０）。
【請求項９】
前記シュラウド（１４）内に複数のポート（４８）を更に備え、シュラウド（１４）内の前記複数のポート（４８）の各々が、前記複数のベーン（１６）の各々の前記真空側面（２８）に近接している、請求項７に記載のノズル（１０）。
【請求項１０】
ノズル（１０）を通る流れを強化する方法であって、
ａ．中心胴体（１２）を通って燃料（３４）を流す段階と、
ｂ．前記中心胴体（１２）と、該中心胴体（１２）の少なくとも一部を取り囲むシュラウド（１４）との間に配置されたベーン（１６）を横切って流体流（４６）を流す段階と、
ｃ．前記中心胴体（１２）から延在し、前記シュラウド（１４）の内面に接する前記ベーン（１６）の前縁を横切って前記流体流（４６）を流す段階と、
ｄ．前記前縁から、前記ベーン（１６）の半径方向外側部分と前記シュラウド（１４）との間に画定された間隙を横切って前記流体流（４６）を流す段階と、
を含む、方法。
【請求項１１】
前記ベーン（１６）の前記半径方向外向き部（４０）内の開口（４２）を通って流体流（４６）を流す段階を更に含む、請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
前記シュラウド（１４）を通って前記ベーン（１６）の真空側面（２８）に対して前記流体流（４６）を流す段階を更に含む、請求項１０又は請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
前記ベーン（１６）を通って前記燃料（３４）を流す段階を更に含む、請求項１０乃至請求項１２のいずれかに載の方法。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成26年11月21日(2014.11.21)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１７
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１７】
本発明の第１の態様によれば、作動流体用の環状経路を有する軸流ターボ機械内に配置される同様の羽根のリングの１つとして使用するためのエーロフォイル羽根であって、半径方向内側のプラットフォーム領域と、半径方向外側の先端領域と、軸方向前側の前縁と、軸方向後側の後縁とを有し、後縁が、プラットフォーム領域と先端領域の間で直線状であり、環状経路の半径方向に向きを定められ、
エーロフォイル羽根が、半径方向内側のプラットフォーム領域と半径方向外側の先端領域の間で半径方向で凸形の圧力面と、半径方向内側のプラットフォーム領域と半径方向外側の先端領域の間で半径方向で凹形の吸込面とを有し、
前縁と直線状の後縁の間の軸方向距離であるエーロフォイル羽根の軸方向幅（Ｗ）が、プラットフォーム領域および先端領域での最大軸方向幅（Ｗｍａｘ）と、プラットフォーム領域と先端領域の間の位置での最小軸方向幅（Ｗｍｉｎ）との間で放物線状に変化するエーロフォイル羽根が提供される。