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【誤訳訂正書】
【提出日】平成27年10月21日(2015.10.21)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
１種以上の銀イオン源、ヒダントイン、ヒダントイン誘導体、スクシンイミドおよびスクシンイミド誘導体から選択される１種以上の錯化剤、ジアルキルスルフィド、置換ジアルキルスルフィド、ジアルキルジスルフィドおよび置換ジアルキルジスルフィドから選択される１種以上の有機スルフィド、並びに１種以上のピリジルアクリル酸を含み、シアン化物を含まない銀電気めっき液。
【請求項２】
ピリジルアクリル酸が３−（２−ピリジル）アクリル酸、シス−３−（３−ピリジル）アクリル酸、３−（４−ピリジル）アクリル酸、３−（６−フェニル−ピリジル）アクリル酸、トランス−３−（３−ピリジル）アクリル酸およびｚ−２−フルオロ−３−（３−ピリジル）アクリル酸から選択される請求項１に記載の銀電気めっき液。
【請求項３】
ヒダントイン誘導体がヒダントイン、１−メチルヒダントイン、１，３−ジメチルヒダントイン、５，５−ジメチルヒダントイン、１−メタノール−５，５−ジメチルヒダントイン、および５，５−ジフェニルヒダントインから選択される請求項１に記載の銀電気めっき液。
【請求項４】
置換ジアルキルスルフィドがβ−チオジアルカノールである請求項１に記載の銀電気めっき液。
【請求項５】
ａ）１種以上の銀イオン源、ヒダントイン、ヒダントイン誘導体、スクシンイミドおよびスクシンイミド誘導体から選択される１種以上の錯化剤、ジアルキルスルフィド、置換ジアルキルスルフィド、ジアルキルジスルフィドおよび置換ジアルキルジスルフィドから選択される１種以上の有機スルフィド、並びに１種以上のピリジルアクリル酸を含み、シアン化物を含まない溶液を提供し；
ｂ）基体を前記溶液と接触させ；並びに
ｃ）基体上に銀を電気めっきする；
ことを含む方法。
【請求項６】
電流密度が５Ａ／ｄｍ２以上である請求項５に記載の方法。
【請求項７】
電流密度が６Ａ／ｄｍ２〜１５Ａ／ｄｍ２である請求項６に記載の方法。
【請求項８】
溶液の温度が３０℃以上である請求項５に記載の方法。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１２
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１２】
銀電気めっき水溶液は１種以上の銀イオン源を含む。銀イオン源には、限定されないが、酸化銀、硝酸銀、チオ硫酸銀ナトリウム、グルコン酸銀；銀システイン錯体のような銀アミノ酸錯体；アルキルスルホン酸銀、例えばメタンスルホン酸銀、並びに銀ヒダントインおよび銀スクシンイミド化合物錯体が挙げられる。好ましくは、銀イオン源は酸化銀および１種以上の銀ヒダントイン錯体から選択される。銀電気めっき液はシアン化物を含まないので、銀シアン化化合物はこの溶液から除かれている。銀イオン源はこの水溶液中に５ｇ／Ｌ〜１００ｇ／Ｌ、または例えば１０ｇ／Ｌ〜５０ｇ／Ｌの量で含まれる。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１５
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１５】
有機スルフィドはジアルキルスルフィドおよびジアルキルジスルフィドから選択され、より典型的には置換ジアルキルスルフィドおよび置換ジアルキルジスルフィドから選択される。典型的には、置換ジアルキルスルフィドおよび置換ジアルキルジスルフィドは以下の一般式を有するチオジアルカノールである：
【化１】
2012092434.tif 000001
式中、Ｒ１およびＲ２は独立して直鎖もしくは分岐の（Ｃ２−Ｃ８）アルキルであり、好ましくはＲ１およびＲ２はそれぞれ−ＣＨＲ３ＣＨＲ４−であり、Ｒ３およびＲ４は独立して水素、メチル基もしくはエチル基であり；並びにｘは１〜２の整数である。ｘが２の場合には、有機スルフィドはジスルフィドである。より好ましくは、Ｒ３およびＲ４は水素もしくはメチルであり、並びにｘは１である。最も好ましくは、Ｒ３およびＲ４は水素であり、並びにｘは１である。有機スルフィドは１ｇ／Ｌ〜１０ｇ／Ｌ、または例えば２ｇ／Ｌ〜８ｇ／Ｌの量で銀電気めっき液中に含まれる。
【誤訳訂正４】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２６
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２６】
２枚の真鍮クーポンが準備された。それぞれのクーポンは上記表１の銀溶液を含む別々のめっきセル内に配置された。このクーポンはカソードとして機能し、そして可溶性銀電極がアノードとして使用された。カソード、銀溶液およびアノードは従来の整流器に電気的に連絡するように接続された。それぞれの溶液の温度は６０℃に維持された。１つのクーポンが２Ａ／ｄｍ２の電流密度で銀で電気めっきされ、別のものが１２Ａ／ｄｍ２の電流密度で銀で電気めっきされた。双方のめっきセル内の溶液は攪拌された。各クーポン上に５μｍの銀堆積物が得られるまで電気めっきが行われた。銀電気めっきされたクーポンは次いで、室温で脱イオン水ですすがれて、そして空気乾燥された。各銀電気めっきされたクーポンはつや消しに見えた。
【誤訳訂正５】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２８
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２８】
真鍮クーポンが準備された。このクーポンは上記表２の銀溶液を含むめっきセル内に配置された。このクーポンはカソードとして機能し、そして可溶性銀電極がアノードとして使用された。カソード、銀溶液およびアノードは従来の整流器に電気的に連絡するように接続された。溶液の温度は６０℃に維持された。このクーポンは２Ａ／ｄｍ２の電流密度で銀で電気めっきされた。めっきセル内の溶液は攪拌された。クーポン上に５μｍの銀堆積物が得られるまで電気めっきが行われた。銀電気めっきされたクーポンは次いで、室温で脱イオン水ですすがれて、そして空気乾燥された。銀電気めっきされたクーポンはミラー光沢に見えた。
【手続補正書】
【提出日】平成27年9月4日(2015.9.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
体の中にある体内磁気物体のための体外案内装置であって、
モータ駆動式の位置決め装置（１０２）を備えており、
位置決め装置（１０２）は、体外の空間座標系における位置決め装置（１０２）の末端接続インターフェース（１０６）の並進運動のためにモータ駆動される、最大３自由度を有しており、
末端接続インターフェース（１０６）は、体外案内装置のエンドエフェクタ（１０４）が接続され、または接続可能であり、
エンドエフェクタ（１０４）は、エンドエフェクタ（１０４）の磁場発生器（１）の、好ましくは永久磁石の回転運動のためにモータ駆動される、最大２自由度を有しており、
エンドエフェクタ（１０４）の２自由度の少なくとも一方が、エフェクタ筐体（１０４ａ）内に収容されており、
エフェクタ筐体（１０４ａ）は、前記少なくとも一方の自由度が外部から遮断されており、体の外から所定の接触力が作用した場合であっても、前記少なくとも一方の自由度の作動が妨害されないように形成されている、体外案内装置。
【請求項２】
エフェクタ筐体（１０４ａ）が、実質的に閉じられた筐体壁および／または開かれたグリッド／フレーム構造の何れかからなる、請求項１の体外案内装置。
【請求項３】
位置決め装置（１０２）の３自由度が、空間座標系のＸ，Ｙ，Ｚ方向における接続インターフェース（１０６）の並進運動のみを許容し、その空間座標系では、Ｙ軸は、好ましくは実質的に重力方向に沿う方向を向いており、Ｚ軸は、水平方向における空間的な位置がホームポジション、あるいは０位置にあるときに、長手方向、すなわち磁場発生器（１）の分極軸に沿う方向を向いており、
エンドエフェクタ（１０４）の２自由度が、それぞれの軸周りでの、好ましくは空間座標系に関する磁場発生器（１）のヨーイングおよびピッチングを生じるように、空間座標系のＹ軸およびＸ軸周りでの、磁場発生器（１）のそれぞれの回転運動のみを許容する、請求項１または２の体外案内装置。
【請求項４】
位置決め装置（１０２）の３自由度が、空間座標系のＸ，Ｙ，Ｚ方向における接続インターフェース（１０６）の並進運動のみを許容し、その空間座標系では、Ｙ軸は、好ましくは実質的に重力方向に沿う方向を向いており、
エンドエフェクタ（１０４）の２自由度のそれぞれが、特に実質的に垂直軸周りの旋回と、空間座標系に関して磁場発生器（１）の分極軸のピッチングを生じるように、磁場発生器（１）の回転運動を許容する、請求項１または２の体外案内装置。
【請求項５】
磁場発生器（１）のピッチングのための、好ましくは磁場発生器（１）のＸ軸周りの回転のための、１つの回転自由度のみが収容されており、
筐体（１０４ａ）または筐体（１０４ａ，１０４ｂ）の少なくとも一部（１０４ａ）が、その内部に支持される磁場発生器（１）のヨーイングのために、好ましくは接続インターフェース（１０６）でのＹ軸周りの回転のために、旋回可能に搭載されている、請求項３または４の体外案内装置。
【請求項６】
ピッチングのための自由度とヨーイングのための自由度の両方が収容されており、
筐体（１０４ａ）が、位置決め装置（１０２）の運動とは無関係に、その空間的な方向が維持される、請求項３または４の体外案内装置。
【請求項７】
前記位置決め装置（１０２）が、複数のモータ駆動式のエクステンションまたはアーム（１０８，１１０）を含んでおり、
それらのうち選択されたエクステンションまたはアームが、対応するモータ駆動手段（１１４，１２２）に関して、重量平衡がなされており、
そのために、好ましくはそれぞれのモータ駆動手段（１１４，１２２）に実際に作用している重量荷重に対する重量平衡の動的適応を実現する、あるいは生じさせる平衡システムが設けられている、請求項１から６の何れか一項の体外案内装置。
【請求項８】
位置決め装置（１０２）が、複数のモータ駆動式のエクステンションまたはアームを備えており、
それらのうち選択されたエクステンションまたはアーム（１０８，１１０）が、対応するモータ駆動手段（１１４，１２２）に関して、好ましくはＳＣＡＲＡ型ロボットの原理によって、モータ駆動手段が、小さな重量による静的荷重のみを吸収または克服すればよい、あるいは重量による静的荷重を吸収または克服する必要がないように、支持されており、
そのために、エクステンションの運動の所定の方向が、好ましくは重力に対して実質的に直交する方向を指す、請求項１から７の何れか一項の体外案内装置。
【請求項９】
選択された自由度についてのそれぞれのモータ駆動手段が、最大出力が所期の動作荷重以上であり、衝突時における患者またはオペレータの損傷がほとんど排除されるような所定の最大荷重以下であるように、駆動力が適応されるように、駆動力に関して制限される、請求項１から８の何れか一項の体外案内装置。
【請求項１０】
選択された自由度についてのそれぞれのモータ駆動手段が、安全摩擦クラッチ、安全クラッチ、あるいは上流側での電力リミッタまたは油圧／空気圧リミッタを接続することによって、またはステップモータの使用によって、駆動力に関して制限される、請求項１から９の何れか一項の体外案内装置。
【請求項１１】
それぞれのモータ駆動手段が、電気モータ、ピエゾ素子、油圧／空気圧ピストンシリンダユニット、または電磁駆動手段を含む、請求項１から１０の何れか一項の体外案内装置。
【請求項１２】
案内装置の動作状態をモニタし、動作状態を修正するおよび／または所定の事故リスクが検出された場合に案内装置のスイッチを切るための、複数のセンサが接続されるモニタ手段を備える、請求項１から１１の何れか一項の体外案内装置。
【請求項１３】
センサが、駆動負荷を検出する力センサと、位置決め装置の磁気エンドエフェクタまたは選択されたエクステンションとオペレータまたは患者の間の接触力を検出するタッチセンサまたは力センサと、好ましくはエンドエフェクタ筐体のへこみを検出する変形検出センサと、障害物を光学的に検出する光センサと、障害物からの距離を検出する距離センサを備えるセンサのグループの中から選択される、請求項１２の体外案内装置。
【請求項１４】
位置決め装置および／または磁気エンドエフェクタに取り付けられた、プログラムされた／プログラム可能なおよび／または機械的なリミットストップ／リミットスイッチの形態の運動制限手段を備えており、それによって、位置決め装置の最大３自由度および／または磁気エンドエフェクタの最大２自由度から選択されたものが、所定の運動範囲に機械的に制限される、請求項１から１３の何れか一項の体外案内装置。
【請求項１５】
磁気エンドエフェクタ（１０４）の一方の自由度または両方の自由度が収容されている場合に、筐体（１０４ａ）の接触面が重力方向に関して常に同じ方向を向いて維持されるように、備えられているモータ駆動手段を用いて、または用いることなく、位置決め装置（１０２）および／または磁場発生器（１）の現在の運動とは無関係に、エンドエフェクタ（１０４）の筐体（１０４ａ）が、基本的に実質的に重力方向を向くように、位置決め装置（１０２）の出力／接続インターフェース（１０６）に接続されている、請求項１から１４の何れか一項の体外案内装置。
【手続補正書】
【提出日】平成27年10月16日(2015.10.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
コーティング層を製造する方法であって、
複数のフルオロプラスチック粉末と、複数のエアロゲル粒子と、フッ素系界面活性剤を含むレベリング剤とを含む粉末混合物を作成することと；
この粉末混合物を材料表面に塗布することと；
この塗布した粉末混合物を硬化させ、前記材料表面に、複数のフルオロプラスチック粉末からフルオロプラスチックコーティング層を作成することと、
を含み、複数のエアロゲル粒子は、硬化中にレベリング剤によって平らになり、フルオロプラスチックコーティング層の中に分散する、方法。
【請求項２】
前記粉末混合物を作成する工程が、
前記複数のフルオロプラスチック粉末、前記複数のエアロゲル粒子、前記レベリング剤を１種類以上の溶媒に分散させることによって、粉末を混合した組成物を作成することと；
前記粉末を混合した組成物から前記１種類以上の溶媒を除去し、粉末混合物を作成することとを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記複数のフルオロプラスチック粉末が、粉末混合物合計の約８０重量％〜約９９．９重量％の範囲の量で存在する複数のポリフルオロアルコキシポリテトラフルオロエチレン（ＰＦＡ）粉末を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記複数のフルオロプラスチック粉末が、粉末の平均粒径が約５μｍ〜約５０μｍの範囲である複数のＰＦＡ粉末を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記複数のエアロゲル粒子が、粉末混合物合計の約０．１重量％〜約１０重量％の範囲の量で存在する、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記複数のエアロゲル粒子が、約１００ｎｍ〜約３０μｍの範囲の平均粒径を有する、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
前記複数のエアロゲル粒子が、アルミナ、シリカ、炭素、ジルコニア、チタニア、炭化ケイ素、窒化ケイ素、炭化タングステン、およびこれらの組み合わせからなる群から選択される材料から作られる、請求項１に記載の方法。
【請求項８】
前記フッ素系界面活性剤が、以下の一般式を有し、
【化１】
2013094777.tif 000001
式中、ｍおよびｎは、独立して、約１〜約３００の整数をあらわし、ｐは、約１〜約２０の整数をあらわし、ｉは、約１〜約５００の整数をあらわす、請求項１に記載の方法。
【請求項９】
前記フッ素系界面活性剤が、ポリ（フルオロアクリレート）−グラフト−ポリ（メタクリル酸メチル）界面活性剤、側鎖にグリコールを有するフッ素化アクリレートコポリマー界面活性剤、ペルフルオロアルキルスルホネートを含むフッ素化アクリレートコポリマー界面活性剤、側鎖にトリフルオロエトキシ基を含むポリエーテルコポリマー界面活性剤、およびこれらの組み合わせからなる群から選択される、請求項１に記載の方法。
【請求項１０】
前記複数のＰＦＡ粉末および前記複数のエアロゲル粒子を合わせた合計に対する前記フッ素系界面活性剤の重量比が、約０．１％〜約５％の範囲である、請求項１に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成27年3月2日(2015.3.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
縦方向及びそれに直交する横方向を有し、肌対向面及びその反対側に位置する非肌対向面と、前ウエスト域と、後ウエスト域と、前記前後ウエスト域間に位置するクロッチ域と、前記前後ウエスト域を画成し、前後ウエストパネルから形成される弾性ウエストパネルと、前記弾性ウエストパネルに取り付けられて、前記前後ウエスト域の一部及び前記クロッチ域を画定し、吸液構造体を備えるクロッチパネルとを含む使い捨て着用物品において、
前記弾性ウエストパネルとは別体の臀部パネルをさらに含み、前記臀部パネルは、その外端部において前記後ウエスト域を形成する後ウエストパネルに取り付けられ、かつ、前記クロッチ域の側へ延びており、
前記臀部パネルは、少なくとも前記吸液構造体の前記横方向の両側において前記横方向へ弾性的に伸縮可能であって、
前記クロッチパネルは、その内面に位置する後接合域を介して前記後ウエストパネルの外面に取り付けられており、臀部パネルの外端部は、その内面に位置する臀部接合域を介して前記後ウエストパネル及び前記クロッチパネルに取り付けられており、前記臀部接合域は前記後接合域よりも前記クロッチ域の側へ位置することを特徴とする前記使い捨て着用物品。
【請求項２】
前記臀部パネルは、前記横方向における前記吸液構造体の両側において、前記横方向に離間対向する第１弾性域と第２弾性域とを有し、それらの間には非弾性域が画定されている請求項１に記載の使い捨て着用物品。
【請求項３】
前記臀部接合域は、少なくとも前記後接合域の中央部よりも前記クロッチ域の側に位置し、前記横方向へ直状に延びる横断接合部位を有する請求項１又は２に記載の使い捨て着用物品。
【請求項４】
前記臀部接合域は、前記臀部パネルの中央部において前記横断接合部位と交差し、かつ、さらに前記クロッチ域の側へ延びる中央接合部位を有する請求項３に記載の使い捨て着用物品。
【請求項５】
前記臀部パネルは、前記肌対向面側に位置する内層シートと、前記非肌対向面側に位置する外層シートと、前記内外層シート間に弾性的に伸縮可能に配設された弾性体とを有する請求項１〜４のいずれかに記載の使い捨て着用物品。
【請求項６】
前記臀部の弾性体はストリング状又はストランド状の弾性材料から形成されており、前記後ウエストパネルの内端縁に沿って前記横方向Ｘへ延びる上方臀部弾性体と、前記臀部パネルの内端縁に沿って前記横方向へ延びる下方臀部弾性体と、前記上下臀部弾性体間において前記横方向Ｘへ延びる中間臀部弾性体とを有し、前記下方臀部弾性体の太さが前記中間臀部弾性体のそれよりも大きく、前記中間臀部弾性体の太さが前記上方臀部弾性体のそれよりも大きい請求項１〜５のいずれかに記載の使い捨て着用物品。
【請求項７】
前記臀部の弾性体は、その中央部が前記クロッチ域の側へ向かって凸曲する湾曲状を有する請求項１に記載の使い捨て着用物品。
【請求項８】
前記後ウエストパネルは、前記横方向Ｘへ延びる複数条の弾性体を有し、前記弾性体のうちの前記臀部接合域と重なる弾性体どうしの前記縦方向における離間寸法は、他の弾性体間の前記縦方向における離間寸法よりも大きい請求項１〜７のいずれかに記載の使い捨て着用物品。
【請求項９】
前記臀部パネルの下方端部が曲状を有する請求項７に記載の使い捨て着用物品。
【手続補正書】
【提出日】平成27年10月15日(2015.10.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
タバコ加工産業の少なくとも１つの材料ストランド（１）、特にフィルタストランド内に対象物（９）を個別化して挿入するための方法において、
対象物（９）が、対象物貯蔵容積部（２２，４２，６２）から、回転軸を中心として回転する加速ホイール（１０，１０’）の外周の、吸気（１７）を作用された横に延在するエッジを有しないリング溝（１１）内に到達し、吸気（１７）によって可動に加速ホイール（１０，１０’）のリング溝（１１）内に保持された対象物（９）が、加速ホイール（１０，１０’）の回転の進行中に加速され、回転の経過中、リング溝内の対象物の速度は、加速ホイールの周速に等しくなり、対象物（９）用の不連続の対象物収容部（３２，５２，７２）を備える受取装置（３０，５０，７０）に移送され、幾つかの対象物（９）が、対象物（９）の移送経路に沿った収容区間（３６，５６，７６）内で、受取装置（３０，５０，７０）の対象物収容部（３２，５２，７２）内に収容され、収容区間（３６，５６，７６）を出た後、対象物収容部（３２，５２，７２）内で更に移送され、次いで、受取装置（３０，５０，７０）又は対象物（９）の移送方向で下流に接続された挿入装置によって、材料ストランド（１）内に挿入され、収容区間（３６，５６，７６）内で受取装置（３０，５０，７０）の対象物収容部（３２，５２，７２）内に収容されなかった過剰な対象物（９）が、収容区間（３６，５６，７６）を出た後、排出される及び／又は対象物貯蔵容積部（２２，４２，６２）に返送されること、を特徴とする方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項６】
対象物貯蔵容積部（２２，４２，６２）と、対象物（９）用の不連続な対象物収容部（３２，５２，７２）を有する受取装置（３０，５０，７０）とを有し、対象物（９）の移送経路に沿った収容区間（３６，５６，７６）が、対象物収容部（３２，５２，７２）内に対象物（９）を収容するための受取装置（３０，５０，７０）に配設され、受取装置（３０，５０，７０）が、材料ストランド（１）内に対象物（９）を挿入するために形成されている、又は、付加的に、直接的又は間接的に対象物（９）の移送方向で受取装置（３０，５０，７０）の下流に配設された、材料ストランド（１）内に対象物（９）を挿入するための挿入装置を有する、タバコ加工産業の少なくとも１つの材料ストランド（１）、特にフィルタストランド内に対象物（９）を個別化して挿入するための装置（２０，４０，６０）において、
回転する又は回転可能な加速ホイール（１０，１０’）が、対象物貯蔵容積部（２２，４２，６２）と受取装置（３０，５０，７０）間に配設され、加速ホイール（１０，１０’）が、その周囲に、吸気（１７）を作用された又は作用可能な横に延在するエッジを有しないリング溝（１１）を備え、このリング溝の幅が、対象物（９）の直径よりも大きくないか、極わずかにしか大きくなく、リング溝が、全域的に環状の対象物（９）用の座であること、を特徴とする装置（２０，４０，６０）。
【手続補正書】
【提出日】平成27年1月15日(2015.1.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
操作に用いられる画像とは異なる装飾画像を表示部に表示させる表示制御部と、
前記表示部に対するユーザの接触操作を検出する検出部と、
所定の軌跡の前記接触操作に応じた処理を実行する処理部と
を備え、
前記表示制御部は、前記装飾画像が表示されている場合において前記所定の軌跡の前記接触操作が検出されたとき、前記装飾画像から構成される、前記所定の軌跡の前記接触操作を検出したことを表すフィードバック画像を表示させる
表示制御装置。
【請求項２】
前記表示制御部は、ビジュアライザーの機能によって、画面内を動く前記装飾画像を表示させる
請求項１に記載の表示制御装置。
【請求項３】
前記表示制御部は、複数の前記装飾画像を表示し、複数の前記装飾画像の全てを用いて構成される前記フィードバック画像を表示させる
請求項２に記載の表示制御装置。
【請求項４】
前記表示制御部は、前記所定の軌跡の前記接触操作が検出されたときの位置から、複数の前記装飾画像をそれぞれ移動させて前記フィードバック画像を表示させる
請求項３に記載の表示制御装置。
【請求項５】
前記表示制御部は、複数の前記装飾画像を表示し、１つの前記装飾画像を変形させて前記フィードバック画像を表示させる
請求項２乃至５のいずれかに記載の表示制御装置。
【請求項６】
前記表示制御部は、前記装飾画像に重ねて、再生中の曲に関する情報を表示させる
請求項２に記載の表示制御装置。
【請求項７】
前記表示制御部は、前記装飾画像として前記接触操作の軌跡を表す画像を表示し、前記軌跡を表す画像を変形させて前記フィードバック画像を表示させる
請求項１に記載の表示制御装置。
【請求項８】
前記表示制御部は、前記装飾画像を、再生中の曲に関する情報に重ねて表示させる
請求項７に記載の表示制御装置。
【請求項９】
前記所定の軌跡の前記接触操作が検出された場合、所定の音を出力させる出力制御部をさらに備える
請求項１乃至８のいずれかに記載の表示制御装置。
【請求項１０】
操作に用いられる画像とは異なる装飾画像を表示部に表示させ、
前記表示部に対するユーザの接触操作を検出し、
所定の軌跡の前記接触操作に応じた処理を実行し、
前記装飾画像が表示されている場合において前記所定の軌跡の前記接触操作が検出されたとき、前記装飾画像から構成される、前記所定の軌跡の前記接触操作を検出したことを表すフィードバック画像を表示させる
ステップを含む表示制御方法。
【請求項１１】
操作に用いられる画像とは異なる装飾画像を表示部に表示させ、
前記表示部に対するユーザの接触操作を検出し、
所定の軌跡の前記接触操作に応じた処理を実行し、
前記装飾画像が表示されている場合において前記所定の軌跡の前記接触操作が検出されたとき、前記装飾画像から構成される、前記所定の軌跡の前記接触操作を検出したことを表すフィードバック画像を表示させる
ステップを含む処理をコンピュータに実行させるプログラム。
【手続補正書】
【提出日】平成27年1月27日(2015.1.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
プラントにおける同じ被計測量を第１の計測器と第２の計測器とで計測し、上記第１の計測器の計測出力と上記第２の計測器の計測出力とを比較して上記計測器の異常を判定する異常計測器判定システムであって、上記第１の計測器の計測出力の変化率と上記第２の計測器の計測出力変化率との差に依存して上記計測器の異常を判定することを特徴とする異常計測器判定システム。
【請求項２】
請求項１に記載の異常計測器判定システムにおいて、上記第１の計測器の計測出力と上記第２の計測器の計測出力との差が閾値を超えたことを検出しこの検出に基づいて上記計測器の異常を判定することを特徴とする異常計測器判定システム。
【請求項３】
請求項２に記載の異常計測器判定システムにおいて、上記閾値の大きさが上記第１の計測器の計測出力の変化率と上記第２の計測器の計測出力変化率との差に依存していることを特徴とする異常計測器判定システム。
【請求項４】
請求項１〜請求項３の何れか一に記載の異常計測器判定システムにおいて、上記第１の計測器の計測出力と上記第２の計測器の計測出力が蓄積されると共に上記第１の計測器の計測出力の変化率と上記第２の計測器の計測出力変化率との差に依存して上記計測器の異常を判定した結果が表示されるプラント監視サーバ、および上記第１の計測器の計測出力の変化率と上記第２の計測器の計測出力変化率との差に基づいて上記計測器の異常を判定する機能を有する設備情報サーバが設けられていることを特徴とする異常計測器判定システム。
【請求項５】
請求項１〜請求項４の何れか一に記載の異常計測器判定システムにおいて、上記計測器の異常を判定し当該異常が所定期間継続すると上記計測器が故障であると判定することを特徴とする異常計測器判定システム。
【請求項６】
請求項４に記載の異常計測器判定システムにおいて、上記計測器の異常を判定し当該異常が所定期間継続すると上記計測器が故障であると判定する機能を設備情報サーバが有し、上記計測器が故障であると判定した結果が上記プラント監視サーバに表示されることを特徴とする異常計測器判定システム。
【請求項７】
請求項４〜請求項６の何れか一に記載の異常計測器判定システムにおいて、上記判定の条件が、上記第１の計測器の計測出力と上記第２の計測器の計測出力が蓄積されると共に上記第１の計測器の計測出力の変化率と上記第２の計測器の計測出力変化率との差に依存して上記計測器の異常を判定した結果が表示されるプラント監視サーバから、上記第１の計測器の計測出力の変化率と上記第２の計測器の計測出力変化率との差に基づいて上記計測器の異常を判定する機能を有する設備情報サーバに設定されることを特徴とする異常計測器判定システム。
【請求項８】
請求項４〜請求項７の何れか一に記載の異常計測器判定システムにおいて、上記第１の計測器の計測出力の変化率と上記第２の計測器の計測出力変化率との差に基づいて上記計測器の異常を判定する機能を有する設備情報サーバに、上記計測器および上記計測器と同じ種類の他の計測器のそれぞれのメーカ名、型番、納入年月日の少なくとも一が設備情報として登録されていることを特徴とする異常計測器判定システム。
【請求項９】
請求項８に記載の異常計測器判定システムにおいて、上記第１の計測器の計測出力と上記第２の計測器の計測出力が蓄積されると共に上記第１の計測器の計測出力の変化率と上記第２の計測器の計測出力変化率との差に依存して上記計測器の異常を判定した結果が表示されるプラント監視サーバに、上記計測器の異常の表示と併せて上記設備情報が表示されることを特徴とする異常計測器判定システム。
【手続補正書】
【提出日】平成26年11月19日(2014.11.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
【図１】第１の実施の形態にかかる情報表示装置の構成を示すブロック図である。
【図２】タッチ操作割当データの構成例である。
【図３】情報表示装置の表示制御処理を示すフローチャートである。
【図４】タッチ操作開始前を示す画面表示例である。
【図５】タッチ操作開始時における画面表示例である。
【図６】単純拡大表示画面表示例である。
【図７】バーチャルハンド変形処理を示すフローチャートである。
【図８】表示細度と指幅との関係を示す説明図である。
【図９】操作推定範囲の特定例である。
【図１０】オブジェクト変形を含む拡大表示画面表示例である。
【図１１】第２の実施の形態にかかる情報表示装置の構成を示すブロック図である。
【図１２】変形比率調整処理を示すフローチャートである。
【図１３】変形比率調整操作の説明図である。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３８】
また、タッチ操作に表示処理を割り当てる際、表示処理による表示内容の変化と類似する内容のタッチ操作を割り当てておけばよい。例えば、画面上で表示内容が任意の方向にスライドする画面スクロールは、操作面で指を滑らせるスワイプを割り当て、スクロール方向とスワイプ方向とを一致させればよい。また、画面上で表示間隔が狭くなる画面縮小は、指の間隔が狭くなるように滑らせるピンチインを割り当て、画面上で表示間隔が広くなる画面拡大は、指の間隔が広くなるように滑らせるピンチアウトを割り当てておけばよい。
これにより、ユーザは、所望する表示内容の変化に応じたタッチ操作を直感的に連想することができ、操作マニュアルなどを参照することなく、効率よくスムーズに画面表示を操作することができる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５９】
このように、指ｉごとに操作推定範囲Ａｉを特定した場合、個別変形比率Ｒｉを求めてからバーチャルハンド全体の全体変形比率を求めることになる。個別変形比率Ｒｉは、前述と同様にして、当該指ｉの操作推定範囲Ａｉ内に存在するオブジェクトから表示細度Ｌｉ，Ｓｉを求め、いずれか小さい値Ｍｉｎ（Ｌｉ，Ｓｉ）を選択し、これら規定変形倍率Ｐを乗算して、バーチャルハンドの指幅Ｆで除算することにより求められる。
また、全体変形比率Ｒは、これら指ｉの個別変形比率Ｒｉをそれぞれの重みＷｉで積和演算することにより求められる。なお、重みＷｉは、各指の操作範囲や操作頻度が高いほど、高い値を設定しておけばよい。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６６】
［第２の実施の形態］
次に、図１１を参照して、本発明の第２の実施の形態にかかる情報表示装置１０について説明する。図１１は、第２の実施の形態にかかる情報表示装置の構成を示すブロック図である。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６８】
［第２の実施の形態の動作］
次に、図１２を参照して、本実施の形態にかかる情報表示装置の動作について説明する。図１２は、第２の実施の形態にかかる情報表示装置の変形比率調整処理を示すフローチャートである。
変形比率調整部１７Ｃは、前述した図３の表示制御処理のうち、ステップ１０３からステップ１０４へ移行する際に、図１２の変形比率調整処理を実行する。
【手続補正６】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１】
2014137668.tif 000001
【手続補正７】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図７】
2014137668.tif 000002
【手続補正８】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１１】
2014137668.tif 000003
【手続補正書】
【提出日】平成27年5月26日(2015.5.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
磁性粒子と、
前記磁性粒子を被覆し、下記一般式（Ｃ）で表される構造を有する添加剤を含む被覆樹脂層と、
を有する静電荷像現像用キャリア。
【化１】
2014137452.tif 000001
（式（Ｃ）中、Ｒ１〜Ｒ５のうちいずれか１つはＯＨ基で、他は各々独立して水素原子又はアルキル基であり、かつ、Ｒ６〜Ｒ１０のうちいずれか１つはＯＨ基で、他は各々独立して水素原子又はアルキル基である。）
【請求項２】
前記一般式（Ｃ）中、Ｒ１〜Ｒ１０のうちＯＨ基以外の少なくとも１つは前記アルキル基である請求項１に記載の静電荷像現像用キャリア。
【請求項３】
前記アルキル基がｔ−ブチル基である請求項１又は請求項２に記載の静電荷像現像用キャリア。
【請求項４】
トナーと、
請求項１〜請求項３のいずれか一項に記載の静電荷像現像用キャリアと、
を含む静電荷像現像剤。
【請求項５】
請求項４に記載の静電荷像現像剤を収容し、像保持体に形成された静電潜像を、前記静電荷像現像剤によりトナー像として現像する現像手段を備え、
画像形成装置に脱着されるプロセスカートリッジ。
【請求項６】
像保持体と、
前記像保持体を帯電する帯電手段と、
帯電した前記像保持体に静電潜像を形成する静電潜像形成手段と、
請求項４に記載の静電荷像現像剤を収容し、前記像保持体に形成された静電潜像を、前記静電荷像現像剤によりトナー像として現像する現像手段と、
前記トナー像を被転写体に転写する転写手段と、
を備える画像形成装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
上記目的を達成するため、以下の発明が提供される。
請求項１の発明は、磁性粒子と、前記磁性粒子を被覆し、下記一般式（Ｃ）で表される構造を有する添加剤を含む被覆樹脂層と、を有する静電荷像現像用キャリア。
【化１】
2014137452.tif 000002
（式（Ｃ）中、Ｒ１〜Ｒ５のうちいずれか１つはＯＨ基で、他は各々独立して水素原子又はアルキル基であり、かつ、Ｒ６〜Ｒ１０のうちいずれか１つはＯＨ基で、他は各々独立して水素原子又はアルキル基である。）
請求項２の発明は、前記一般式（Ｃ）中、Ｒ１〜Ｒ１０のうちＯＨ基以外の少なくとも１つは前記アルキル基である請求項１に記載の静電荷像現像用キャリア。
請求項３の発明は、前記アルキル基がｔ−ブチル基である請求項１又は請求項２に記載の静電荷像現像用キャリア。
請求項４の発明は、トナーと、請求項１〜請求項３のいずれか一項に記載の静電荷像現像用キャリアと、を含む静電荷像現像剤。
請求項５の発明は、請求項４に記載の静電荷像現像剤を収容し、像保持体に形成された静電潜像を、前記静電荷像現像剤によりトナー像として現像する現像手段を備え、画像形成装置に脱着されるプロセスカートリッジ。
請求項６の発明は、像保持体と、前記像保持体を帯電する帯電手段と、帯電した前記像保持体に静電潜像を形成する静電潜像形成手段と、請求項４に記載の静電荷像現像剤を収容し、前記像保持体に形成された静電潜像を、前記静電荷像現像剤によりトナー像として現像する現像手段と、前記トナー像を被転写体に転写する転写手段と、を備える画像形成装置。
【手続補正書】
【提出日】平成27年10月1日(2015.10.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
有機化学物質が溶解した水に溶媒を加え、前記有機化学物質を液液抽出により溶媒抽出する抽出工程と、
前記抽出工程後、静置し水相と溶媒相とに分離させる相分離工程と、
前記相分離工程後、溶媒相を疎水性膜に通じ、溶媒を分離回収する分離回収工程と、
を含むことを特徴とする分析試料作成方法。
【請求項２】
有機化学物質が溶解した水に溶媒を加え、液液抽出により前記有機化学物質を分離し分析試料を作成するための装置であって、
有機化学物質が溶解した水及び溶媒を収容し、液液抽出及び水相と溶媒相とに分離させる相分離を行うための抽出容器と、
水からの溶媒の分離とエマルションの除去に使用する疎水性膜と、
前記疎水性膜を支持し、疎水性膜通過液排出口を備える、前記抽出容器に着脱可能な膜カートリッジと、を有し、
前記抽出容器は、収容する液体を加圧可能な容器であることを特徴とする分析試料作成装置。
【請求項３】
前記抽出容器は、外部から荷重が加えられることで内容積を減少させ収容する液体を加圧する容器、又は外側が加圧されることで内容積を減少させ収容する液体を加圧する容器であることを特徴とする請求項２に記載の分析試料作成装置。
【請求項４】
前記膜カートリッジは、先端部に、分析用バイアルに直接疎水性膜通過液を注ぐことが可能な注出ノズルを備え、
前記注出ノズルには、使用する溶媒の比重が水よりも大きい溶媒用、使用する溶媒の比重が水よりも小さい溶媒用、全溶媒共用の３種類の注出ノズルがあり、各注出ノズルの形状が異なることを特徴とする請求項２又は３に記載の分析試料作成装置。
【請求項５】
使用する溶媒の比重が水よりも小さい溶媒用及び全溶媒共用の前記膜カートリッジの注出ノズルは、前記疎水性膜を通過した液を貯留可能なことを特徴とする請求項４に記載の分析試料作成装置。
【請求項６】
請求項２から４のいずれか１項に記載の分析試料作成装置の使用方法であり、
前記抽出容器に前記膜カートリッジを取り付けることなく、有機化学物質が溶解した水と溶媒とを充填し、又は有機化学物質が溶解した水と溶媒と内部標準物質とを充填し、又は有機化学物質が溶解した水と溶媒と内部標準物質と塩とを充填し、前記抽出容器を振とうさせ前記有機化学物質を液液抽出により溶媒抽出し、
溶媒抽出後、前記抽出容器を静置し水相と溶媒相とに相分離させた後に前記膜カートリッジを取り付け、又は溶媒抽出後、前記膜カートリッジを取り付け、前記抽出容器を静置し水相と溶媒相とに相分離させ、その後、溶媒相を疎水性膜に通じ、溶媒を分離回収することを特徴とする分析試料作成装置の使用方法。
【請求項７】
前記溶媒の比重が水の比重よりも小さいときは、請求項５に記載の分析試料作成装置を使用し、
前記抽出容器に前記膜カートリッジを取り付けることなく、有機化学物質が溶解した水と溶媒とを充填し、又は有機化学物質が溶解した水と溶媒と内部標準物質とを充填し、又は有機化学物質が溶解した水と溶媒と内部標準物質と塩とを充填し、前記抽出容器を振とうさせ前記有機化学物質を液液抽出により溶媒抽出し、
溶媒抽出後、前記抽出容器を静置し水相と溶媒相とに相分離させた後に前記膜カートリッジを取り付け、又は溶媒抽出後、前記膜カートリッジを取り付け、前記抽出容器を静置し水相と溶媒相とに相分離させ、その後、前記膜カートリッジの注出ノズルを上向きとし、抽出容器を加圧し溶媒相を疎水性膜に通じ、疎水性膜を通過した溶媒を前記注出ノズルに貯留し、その後、抽出容器への加圧を停止し、前記注出ノズルを横向き又は下向きとし貯留した溶媒を回収することを特徴とする分析試料作成装置の使用方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
本発明は、有機化学物質が溶解した水に溶媒を加え、液液抽出により前記有機化学物質を分離し分析試料を作成するための装置であって、有機化学物質が溶解した水及び溶媒を収容し、液液抽出及び水相と溶媒相とに分離させる相分離を行うための抽出容器と、水からの溶媒の分離とエマルションの除去に使用する疎水性膜と、前記疎水性膜を支持し、疎水性膜通過液排出口を備える、前記抽出容器に着脱可能な膜カートリッジと、を有し、前記抽出容器は、収容する液体を加圧可能な容器であることを特徴とする分析試料作成装置である。
また本発明の分析試料作成装置において、前記抽出容器は、外部から荷重が加えられることで内容積を減少させ収容する液体を加圧する容器、又は外側が加圧されることで内容積を減少させ収容する液体を加圧する容器であることを特徴とする。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
また本発明は、前記分析試料作成装置の使用方法であり、前記抽出容器に前記膜カートリッジを取り付けることなく、有機化学物質が溶解した水と溶媒とを充填し、又は有機化学物質が溶解した水と溶媒と内部標準物質とを充填し、又は有機化学物質が溶解した水と溶媒と内部標準物質と塩とを充填し、前記抽出容器を振とうさせ前記有機化学物質を液液抽出により溶媒抽出し、溶媒抽出後、前記抽出容器を静置し水相と溶媒相とに相分離させた後に前記膜カートリッジを取り付け、又は溶媒抽出後、前記膜カートリッジを取り付け、前記抽出容器を静置し水相と溶媒相とに相分離させ、その後、溶媒相を疎水性膜に通じ、溶媒を分離回収することを特徴とする分析試料作成装置の使用方法である。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
また本発明の分析試料作成装置の使用方法は、前記溶媒の比重が水の比重よりも小さいときは、使用する溶媒の比重が水よりも小さい溶媒用又は全溶媒用の前記膜カートリッジを備える分析試料作成装置を使用し、前記抽出容器に前記膜カートリッジを取り付けることなく、有機化学物質が溶解した水と溶媒とを充填し、又は有機化学物質が溶解した水と溶媒と内部標準物質とを充填し、又は有機化学物質が溶解した水と溶媒と内部標準物質と塩とを充填し、前記抽出容器を振とうさせ前記有機化学物質を液液抽出により溶媒抽出し、溶媒抽出後、前記抽出容器を静置し水相と溶媒相とに相分離させた後に前記膜カートリッジを取り付け、又は溶媒抽出後、前記膜カートリッジを取り付け、前記抽出容器を静置し水相と溶媒相とに相分離させ、その後、前記膜カートリッジの注出ノズルを上向きとし、抽出容器を加圧し溶媒相を疎水性膜に通じ、疎水性膜を通過した溶媒を前記注出ノズルに貯留し、その後、抽出容器への加圧を停止し、前記注出ノズルを横向き又は下向きとし貯留した溶媒を回収することを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成27年5月1日(2015.5.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透光性基板上に、ＡｒＦ露光光を１％以上の透過率で透過し、かつ透過するＡｒＦ露光光に対して１７０度以上１９０度以下の位相シフトを生じさせる機能を有する位相シフト膜が設けられたマスクブランクであって、
前記位相シフト膜は、低透過層および高透過層が積層した構造を含み、
前記低透過層および前記高透過層は、ケイ素および窒素からなる材料、または当該材料に半金属元素、非金属元素および希ガスから選ばれる１以上の元素を含有する材料で形成され、
前記低透過層は、前記高透過層に比べて窒素含有量が相対的に少ないことを特徴とするマスクブランク。
【請求項２】
前記低透過層および前記高透過層は、同じ構成元素からなることを特徴とする請求項１記載のマスクブランク。
【請求項３】
前記位相シフト膜は、１層の前記低透過層と１層の前記高透過層とからなる１組の積層構造を２組以上有することを特徴とする請求項１または２に記載のマスクブランク。
【請求項４】
前記低透過層および前記高透過層は、ケイ素および窒素からなる材料で形成されることを特徴とする請求項１から３のいずれかに記載のマスクブランク。
【請求項５】
前記低透過層は、ＡｒＦ露光光に対する屈折率ｎが２．５未満であり、かつ消衰係数ｋが１．０以上である材料で形成され、
前記高透過層は、ＡｒＦ露光光に対する屈折率ｎが２．５以上であり、消衰係数ｋが１．０未満である材料で形成されていることを特徴とする請求項１から４のいずれかに記載のマスクブランク。
【請求項６】
前記低透過層および前記高透過層は、いずれの１層の厚さが２０ｎｍ以下であることを特徴とする請求項１から５のいずれかに記載のマスクブランク。
【請求項７】
前記高透過層は、前記透光性基板に接して形成されていることを特徴とする請求項１から６のいずれかに記載のマスクブランク。
【請求項８】
前記位相シフト膜は、前記透光性基板から最も離れた位置に、ケイ素、窒素および酸素からなる材料、または当該材料に半金属元素、非金属元素および希ガスから選ばれる１以上の元素を含有する材料で形成された最上層を備えることを特徴とする請求項１から７のいずれかに記載のマスクブランク。
【請求項９】
前記最上層は、ケイ素、窒素および酸素からなる材料で形成されることを特徴とする請求項８記載のマスクブランク。
【請求項１０】
請求項１から９のいずれかに記載のマスクブランクの前記位相シフト膜に転写パターンが形成されていることを特徴とする位相シフトマスク。
【請求項１１】
透光性基板上に、ＡｒＦ露光光を１％以上の透過率で透過し、かつ透過するＡｒＦ露光光に対して１７０度以上１９０度以下の位相シフトを生じさせる機能を有する位相シフト膜が設けられたマスクブランクの製造方法であって、
前記位相シフト膜は、低透過層および高透過層が積層した構造を含み、
ケイ素ターゲットまたはケイ素に半金属元素および非金属元素から選ばれる１以上の元素を含有する材料からなるターゲットを用い、窒素系ガスと希ガスを含むスパッタリングガス中での反応性スパッタリングによって、前記透光性基板上に前記低透過層を形成する低透過層形成工程と、
ケイ素ターゲットまたはケイ素に半金属元素および非金属元素から選ばれる１以上の元素を含有する材料からなるターゲットを用い、窒素系ガスと希ガスを含むスパッタリングガスであって、前記低透過層形成工程のときよりも窒素系ガスの混合比率が高いスパッタリングガス中での反応性スパッタリングによって、前記透光性基板上に前記高透過層を形成する高透過層形成工程と
を有することを特徴とするマスクブランクの製造方法。
【請求項１２】
前記低透過層形成工程で使用されるスパッタリングガスは、成膜が不安定になる傾向を有する遷移モードとなる窒素系ガスの混合比率の範囲よりも少ない窒素系ガスの混合比率が選定され、
前記高透過層形成工程で使用されるスパッタリングガスは、前記遷移モードとなる窒素系ガスの混合比率の範囲よりも多い窒素系ガスの混合比率が選定されることを特徴とする請求項１１記載のマスクブランクの製造方法。
【請求項１３】
前記低透過層形成工程は、ケイ素ターゲットを用い、窒素ガスと希ガスからなるスパッタリングガス中での反応性スパッタリングによって前記低透過層を形成するものであり、前記高透過層形成工程は、ケイ素ターゲットを用い、窒素ガスと希ガスからなるスパッタリングガス中での反応性スパッタリングによって前記高透過層を形成するものであることを特徴とする請求項１１または１２に記載のマスクブランクの製造方法。
【請求項１４】
前記低透過層は、ＡｒＦ露光光に対する屈折率ｎが２．５未満であり、かつ消衰係数ｋが１．０以上である材料で形成され、
前記高透過層は、ＡｒＦ露光光に対する屈折率ｎが２．５以上であり、消衰係数ｋが１．０未満である材料で形成されていることを特徴とする請求項１１から１３のいずれかに記載のマスクブランクの製造方法。
【請求項１５】
前記高透過層は、前記透光性基板に接して形成されていることを特徴とする請求項１１から１４のいずれかに記載のマスクブランクの製造方法。
【請求項１６】
ケイ素ターゲットまたはケイ素に半金属元素および非金属元素から選ばれる１以上の元素を含有する材料からなるターゲットを用い、希ガスを含むスパッタリングガス中でのスパッタリングによって、前記位相シフト膜の前記透光性基板から最も離れた位置に最上層を形成する最上層形成工程を有することを特徴とする請求項１１から１５のいずれかに記載のマスクブランクの製造方法。
【請求項１７】
ケイ素ターゲットを用い、窒素ガスと希ガスからなるスパッタリングガス中での反応性スパッタリングによって、前記位相シフト膜の前記透光性基板から最も離れた位置に最上層を形成し、前記最上層の少なくとも表層を酸化させる処理を行う最上層形成工程を有することを特徴とする請求項１３記載のマスクブランクの製造方法。
【請求項１８】
請求項１１から１７のいずれかに記載のマスクブランクの製造方法によって製造されたマスクブランクの前記位相シフト膜に転写パターンを形成する工程を有することを特徴とする位相シフトマスクの製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成27年7月3日(2015.7.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
送風室と機械室とを仕切る仕切板と、
ヘッダパイプを有する熱交換器と、
前記仕切板及び前記熱交換器が載置されるベース板と、
前記ヘッダパイプの一部に取り付けられ、その部分で前記ヘッダパイプを覆う第１スペーサと、
前記第１スペーサに取り付けられ、該第１スペーサを介して前記熱交換器を固定する固定具とを備え、
前記第１スペーサは、樹脂あるいは前記熱交換器を構成する金属よりも卑な金属で構成される
ことを特徴とする空気調和機の室外機。
【請求項２】
前記固定具の断面はコ字状である
ことを特徴とする請求項１記載の空気調和機の室外機。
【請求項３】
前記ヘッダパイプには、該ヘッダパイプと内部で連通する入口配管及び出口配管が取り付けられ、
前記固定具には前記入口配管が挿通される入口配管挿通穴が形成され、
前記固定具には前記出口配管が挿通される出口配管挿通穴が形成され、
前記入口配管が前記入口配管挿通穴に挿通され、前記出口配管が前記出口配管挿通穴に挿通された状態で、前記固定具は前記第１スペーサを介して前記熱交換器を固定する
ことを特徴とする請求項１又は請求項２記載の空気調和機の室外機。
【請求項４】
前記仕切板は、複数の固定手段によって前記ベース板及び前記固定具に固定される
ことを特徴とする請求項１〜３の何れか一項に記載の空気調和機の室外機。
【請求項５】
前記ヘッダパイプは前記熱交換器の両端に一対設けられ、
前記第１スペーサは各前記ヘッダパイプの下端にそれぞれ取り付けられ、
前記熱交換器は、
一対の前記ヘッダパイプの間で前記ヘッダパイプの長さ方向に間隔を空けて平行に配置され、冷媒を流通させる複数の扁平配管と、
各前記偏平配管の両面に配置される複数のフィンと、
前記複数のフィンのうち最上段及び最下段のフィンの片側にそれぞれ配置されたサイドプレートと、を備え、
各前記サイドプレートの一部に取り付けられ、その部分で各前記サイドプレートを覆う第２スペーサがそれぞれ設けられ、
前記熱交換器は、各前記ヘッダパイプの下端にそれぞれ取り付けられた前記第１スペーサ及び前記最下段のフィンに設けられた前記サイドプレートに取り付けられた前記第２スペーサを介して前記ベース板に載置され、前記熱交換器の下端が水平に保持される
ことを特徴とする請求項１〜４の何れか一項に記載の空気調和機の室外機。
【請求項６】
モータを支持するモータ固定具と、
前記モータ固定具の前面側に設けられる前面部と、を備え、
前記モータ固定具は、
前記ベース板及び前記前面部に固定され、前記第２スペーサを介して前記熱交換器に固定される
ことを特徴とする請求項５記載の空気調和機の室外機。
【手続補正書】
【提出日】平成27年7月29日(2015.7.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明に係る空気調和機の室外機は、金属製の底板と、底板上に設置され、当該底板の材質と異なる金属製の熱交換器と、熱交換器の下端部に設けられた合成樹脂製の下支持部材とを備え、下支持部材は、熱交換器の横方向に延びて互いに対向し、熱交換器の下端部を支持する一対の側板と、一対の側板の間に設けられ、側板の長手方向に沿って一方向に下方に傾斜する傾斜板と、傾斜板の両端に設けられた排水穴とを有している。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
また、室外機の内部は、パラレル配管熱交換器１の表面と前面パネル１３との間に設けられたセパレータ１０により、送風機室５と機械室９とに分けられている。送風機室５には、パラレル配管熱交換器１の表面側に設置されたファンモータ３が設けられている。このファンモータ３には、プロペラファン２が装着されている。機械室９には、底板１２上に設置された圧縮機６、冷媒配管７、電気品８などが配置されている。前述の底板１２は、導電性を有する例えば薄鋼板よりなっている。
【手続補正３】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
金属製の底板と、
前記底板上に設置され、当該底板の材質と異なる金属製の熱交換器と、
前記熱交換器の下端部に設けられた合成樹脂製の下支持部材とを備え、
前記下支持部材は、前記熱交換器の横方向に延びて互いに対向し、前記熱交換器の下端部を支持する一対の側板と、前記一対の側板の間に設けられ、前記側板の長手方向に沿って一方向に下方に傾斜する傾斜板と、前記傾斜板の両端に設けられた排水穴とを有することを特徴とする空気調和機の室外機。
【請求項２】
前記傾斜板は、前記側板の長手方向に複数設けられていることを特徴とする請求項１記載の空気調和機の室外機。
【請求項３】
前記下支持部材と同一形状に構成され、前記下支持部材とは上下方向が反転されて、前記熱交換器の上端部に設けられた合成樹脂製の上支持部材を備えたことを特徴とする請求項１又は２記載の空気調和機の室外機。
【請求項４】
ファンモータを固定するファンモータ支持部材を備え、
前記上支持部材は、一方の側板の外側面に突出して設けられ、前記熱交換器の表面側に位置する前記ファンモータ支持部材の位置決め突出部を有していることを特徴とする請求項３記載の空気調和機の室外機。