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【手続補正書】
【提出日】平成27年6月12日(2015.6.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の第１領域を有する基板の各第１領域に含まれる複数の部分領域を個別に露光する露光装置であって、
前記基板には、各第１領域をショット領域として露光を行う工程を経てパターンが形成されており、
前記複数の部分領域は、第１部分領域と第２部分領域とを含み、
前記露光装置は、各部分領域の露光動作を制御する制御部を含み、
前記制御部は、
前記第１部分領域に形成された複数のマークの検出結果を用いて前記基板とレチクルとをアライメントしながら前記第１部分領域を露光し、
前記第２部分領域に形成された複数のマークの検出結果を用いて前記基板と前記レチクルとをアライメントしながら前記第２部分領域を露光するように露光動作を制御することを特徴とする露光装置。
【請求項２】
前記制御部は、各部分領域の露光中に前記基板および前記レチクルの移動速度を制御することを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項３】
前記レチクルのパターンを前記基板に投影する投影光学系を更に含み、
前記制御部は、各部分領域の露光中に前記投影光学系の投影倍率を制御することを特徴とする請求項１又は２に記載の露光装置。
【請求項４】
前記制御部は、前記複数の第１領域の各々における前記第１部分領域を露光した後に、前記複数の第１領域の各々における前記第２部分領域を露光するように露光動作を制御することを特徴とする請求項１乃至３のうちいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項５】
複数の第１領域を有する基板の各第１領域に含まれる複数の部分領域を個別に露光する露光方法であって、
前記基板には、各第１領域をショット領域として露光を行う工程を経てパターンが形成されており、
前記複数の部分領域は、第１部分領域と第２部分領域とを含み、
前記露光方法は、
前記第１部分領域に形成された複数のマークの検出結果を用いて前記基板とレチクルとをアライメントしながら前記第１部分領域を露光する工程と、
前記第２部分領域に形成された複数のマークの検出結果を用いて前記基板とレチクルとをアライメントしながら前記第２部分領域を露光する工程と、
を含むことを特徴とする露光方法。
【請求項６】
各工程では、各部分領域の露光中に前記基板および前記レチクルの移動速度を制御することを特徴とする請求項５に記載の露光方法。
【請求項７】
各工程では、各部分領域の露光中に、前記レチクルのパターンを前記基板に投影する前記投影光学系の投影倍率を制御することを特徴とする請求項５又は６に記載の露光方法。
【請求項８】
前記複数の第１領域の各々における前記第１部分領域を露光した後に、前記複数の第１領域の各々における前記第２部分領域を露光することを特徴とする請求項５乃至７のうちいずれか１項に記載の露光方法。
【請求項９】
請求項５乃至８のうちいずれか１項に記載の露光方法を用いて基板を露光するステップと、
前記ステップで露光された前記基板を現像するステップと、
を有することを特徴とする物品の製造方法。
【請求項１０】
複数の第１領域を有する基板の各第１領域に含まれる複数の部分領域を個別に露光する際のアライメント方法であって、
前記基板には、各第１領域をショット領域として露光を行う工程を経てパターンが形成されており、
前記複数の部分領域は、第１部分領域と第２部分領域とを含み、
前記アライメント方法は、  前記第１部分領域に形成された複数のマークの検出結果を用いて前記基板とレチクルとをアライメントする工程と、
前記第２部分領域に形成された複数のマークの検出結果を用いて前記基板と前記レチクルとをアライメントする工程と、
を含むことを特徴とするアライメント方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】露光装置、露光方法、物品の製造方法、およびアライメント方法
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、露光装置、露光方法、物品の製造方法、およびアライメント方法に関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
上記目的を達成するために、本発明の一側面としての露光装置は、複数の第１領域を有する基板の各第１領域に含まれる複数の部分領域を個別に露光する露光装置であって、前記基板には、各第１領域をショット領域として露光を行う工程を経てパターンが形成されており、前記複数の部分領域は、第１部分領域と第２部分領域とを含み、前記露光装置は、各部分領域の露光動作を制御する制御部を含み、前記制御部は、前記第１部分領域に形成された複数のマークの検出結果を用いて前記基板とレチクルとをアライメントしながら前記第１部分領域を露光し、前記第２部分領域に形成された複数のマークの検出結果を用いて前記基板と前記レチクルとをアライメントしながら前記第２部分領域を露光するように露光動作を制御することを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成27年6月9日(2015.6.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
凹部と前記凹部を露出する開口部とを有する筐体部と、
不純物が注入された半導体材料で形成され、一方の面が前記筐体部に接合されて前記開口部を覆う蓋部と、
前記筐体部の前記開口部の周囲の前記蓋部との接合面に形成される第１金属膜と、
前記蓋部の前記一方の面において、前記第１金属膜に対応する位置に形成される第２金属膜と、
前記蓋部の他方の面において、前記第２金属膜に対応する位置に形成される第３金属膜と、
前記筐体部の前記凹部の内部に配設される電子部品と
を含み、
前記第３金属膜は、前記蓋部の前記他方の面の中央部を取り囲むように、平面視で分離して配列される複数の金属膜部である、電子装置。
【請求項２】
前記複数の金属膜部のうち、前記中央部に対して対称な位置に配置される一対の金属膜部同士の間隔は、前記蓋部の厚さよりも大きい、請求項１記載の電子装置。
【請求項３】
前記複数の金属膜部のうち、相隣接する金属膜部同士の間隔は、前記蓋部の厚さよりも大きい、請求項１又は２記載の電子装置。
【請求項４】
前記開口部は平面視で矩形であり、前記第１金属膜及び前記第２金属膜は平面視で矩形環状であり、前記複数の金属膜部は、平面視で矩形環状に配置される、請求項２又は３記載の電子装置。
【請求項５】
前記第２金属膜の断面における幅は、前記第１金属膜の断面における幅よりも狭い、請求項４記載の電子装置。
【請求項６】
前記筐体部は前記蓋部と同一の半導体材料で形成される、請求項１乃至５のいずれか一項記載の電子装置。
【請求項７】
前記半導体材料はシリコンである、請求項１乃至６のいずれか一項記載の電子装置。
【請求項８】
前記筐体部の外表面及び前記凹部の内表面を覆う絶縁層をさらに含む、請求項１乃至７のいずれか一項記載の電子装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明の実施の形態の電子装置は、凹部と前記凹部を露出する開口部とを有する筐体部と、不純物が注入された半導体材料で形成され、一方の面が前記筐体部に接合されて前記開口部を覆う蓋部と、前記筐体部の前記開口部の周囲の前記蓋部との接合面に形成される第１金属膜と、前記蓋部の前記一方の面において、前記第１金属膜に対応する位置に形成される第２金属膜と、前記蓋部の他方の面において、前記第２金属膜に対応する位置に形成される第３金属膜と、前記筐体部の前記凹部の内部に配設される電子部品とを含み、前記第３金属膜は、前記蓋部の前記他方の面の中央部を取り囲むように、平面視で分離して配列される複数の金属膜部である。
【手続補正書】
【提出日】平成27年6月9日(2015.6.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
受光面を有する太陽電池パネルと、前記太陽電池パネルの縁部に設けられた枠体とを備えた太陽電池モジュールであって、
前記枠体は４個の枠からなり、
前記枠のうち少なくとも１個の枠は、前記太陽電池パネルの外側面に対向する枠片の外表面が、前記太陽電池パネルの受光面と略同じ高さであり、
前記枠片の外表面の前記太陽電池パネル側の角部と前記太陽電池パネルの反対側の角部とには、それぞれ面取部が形成されている太陽電池モジュール。
【請求項２】
前記太陽電池パネルの受光面の前記枠片側の角部に面取部が形成されている請求項１に記載の太陽電池モジュール。
【請求項３】
前記枠片は、前記太陽電池パネルの外側面の一部と接触する請求項１又は２に記載の太陽電池モジュール。
【請求項４】
前記枠体は対向する１組の長枠を有し、
前記長枠のうち少なくとも１個の枠は、前記太陽電池パネルの外側面に対向する枠片の外表面が、前記太陽電池パネルの受光面と略同じ高さであり、
前記太陽電池パネルの受光面の反対側の面に２つの補強部材が配置されており、
前記２つの補強部材は、前記対向する１組の長枠にそれぞれ接続されている請求項１から３のいずれかに記載の太陽電池モジュール。
【請求項５】
請求項１から４のいずれかに記載の太陽電池モジュールが複数接続された太陽電池システムにおいて、
前記各太陽電池モジュールは、受光面を有する太陽電池パネルと、前記太陽電池パネルの縁部に設けられた枠体とを備えるとともに、前記受光面が傾斜した状態で配置され、
前記太陽電池パネルの傾斜方向に沿った方向の下端部において、前記枠体を構成する枠の外表面は、前記太陽電池パネルの受光面と傾斜方向に沿って略同じ高さになるように配置した太陽電池システム。
【手続補正書】
【提出日】平成27年5月21日(2015.5.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
航空機適応出力熱管理システム（１２）であって、
可変冷却出力空気サイクルシステム（２７）、蒸気サイクルシステム（２９）、及びこれらの間に配置される燃料再循環ループ（６６）と、
前記空気サイクルシステム（２７）と前記燃料再循環ループ（６６）との間に動作可能に配置され、前記燃料再循環ループ（６６）から空気サイクルシステム（２７）に熱を伝達するための空気サイクルシステム熱交換器（３０）と、
前記空気サイクルシステム（２７）に備えられた中間冷却器（３６）と
を含み、
前記中間冷却器（３６）は、空気ダクトに配置されたダクト熱交換器（４０）を含み、
前記空気サイクルシステム熱交換器（３０）は、前記燃料再循環ループ（６６）の燃料を冷却するためだけに用いられる前記空気サイクルシステム（２７）の冷却空気ループに動作可能に配置され、
前記航空機適応出力熱管理システム（１２）は、更に、前記蒸気サイクルシステム（２９）から前記燃料再循環ループ（６６）に熱を伝達するために前記蒸気サイクルシステム（２９）と前記燃料再循環ループ（６６）との間に動作可能に配置される蒸気サイクル熱交換器（８７）を備え、
前記空気サイクルシステム（２７）が更に可変速度空気サイクル機械（３４）を含み、該可変速度空気サイクル機械（３４）が、機械圧縮機（５０）及び前記空気サイクル機械（３４）の冷却タービン（５２）に駆動可能に接続された出力タービン（５４）を有し、
前記中間冷却器（３６）が、前記機械圧縮機（５０）と前記冷却タービン（５２）との間に動作可能に配置され、
前記空気サイクルシステム熱交換器（３０）が、前記機械圧縮機（５０）と前記冷却タービン（５２）との間に動作可能に配置され、
前記出力タービン（５４）が、航空機ガスタービンエンジン高圧圧縮機（６４）の圧縮機段（６０）に該圧縮機段（６０）と加圧空気（５８）受け入れ関係で接続され、
前記航空機適応出力熱管理システム（１２）は、更に、 前記燃料再循環ループ（６６）における１つ又はそれ以上の航空機燃料タンク（４）を備える、
システム（１２）。
【請求項２】
前記中間冷却器（３６）に配置されたエンジン燃焼燃料空気熱交換器（４４）を更に備える、請求項１に記載のシステム（１２）。
【請求項３】
前記出力タービン（５４）と前記圧縮機段（６０）との間に動作可能に配置された燃焼器（６２）を更に備える、請求項１又は２に記載のシステム（１２）。
【請求項４】
前記圧縮機段（６０）が圧縮機吐出段（６０）である、請求項３に記載のシステム（１２）。
【請求項５】
前記エンジン燃料空気熱交換器（４４）は、前記ダクト熱交換器（４０）と、前記冷却タービン（５２）の冷却タービン入口（７４）との間に配置される、請求項２に記載のシステム（１２）。
【請求項６】
前記燃料タンク（４）のヒートシンク能力を増大させることにより航空機構成要素（１６）の１つ又はそれ以上にオンデマンド冷却を提供するよう動作可能な空気サイクル機械エンジン制御装置（７０）を更に備え、該空気サイクル機械エンジン制御装置（７０）が、前記出力タービン（５４）及び前記燃焼器（６２）への加圧空気（５８）の流量及び圧力を制御するよう動作可能である、請求項５に記載のシステム（１２）。
【請求項７】
航空機適応出力熱管理システム（１２）であって、
空気サイクル機械（３４）の冷却タービン（５２）に結合された機械圧縮機（５０）を含む空気冷却回路（８８）を備え、
前記空気冷却回路（８８）が更に、前記機械圧縮機（５０）の機械圧縮機出口（７３）と前記冷却タービン（５２）の冷却タービン入口（７４）との間に配置された中間冷却器（３６）を含み、前記空気冷却回路（８８）が更に、前記冷却タービン（５２）の冷却タービン出口（７５）と、前記機械圧縮機（５０）の機械圧縮機入り口（７２）との間で直列流れ関係で空気サイクル熱交換器（３０）を含み、
前記航空機適応出力熱管理システム（１２）が更に、１つ又はそれ以上の航空機燃料タンク（４）、前記空気サイクルシステム熱交換器（３０）、及び蒸気サイクルシステム凝縮器（３２）間で直列燃料流れ関係で冷却燃料（２１）を再循環する燃料再循環ループ（６６）を備え、
前記空気サイクルシステム熱交換器（３０）は、前記燃料再循環ループ（６６）の燃料を冷却するためだけに用いられる前記空気サイクルシステム（２７）の冷却空気ループに動作可能に配置され、
前記空気サイクルシステム熱交換器（３０）が前記１つ又はそれ以上の燃料タンク（４）と前記蒸気サイクルシステム凝縮器（３２）との間で前記燃料再循環ループ（６６）内に動作可能に配置され、
前記航空機適応出力熱管理システム（１２）が更に、
航空機構成要素（１６）に冷却を提供し、且つ直列流れ関係で前記蒸気サイクルシステム凝縮器（３２）、蒸気サイクルシステム圧縮機（８１）、及び蒸気サイクルシステム蒸発器（８２）を含む冷却ループ（８３）と、
を備え、前記中間冷却器（３６）が航空機ガスタービンエンジンＦＬＡＤＥダクト（４２）内に配置されたダクト熱交換器（４０）を含み、
前記航空機適応出力熱管理システム（１２）が更に、
前記中間冷却器（３６）において、前記ダクト熱交換器（４０）と前記冷却タービン（５２）の冷却タービン入口（７４）との間に配置されたエンジン燃焼燃料空気熱交換器（４４）と、
前記出力タービン（５４）と前記圧縮機段（６０）との間に動作可能に配置された燃焼器（６２）と、
を備える、航空機適応出力熱管理システム（１２）。
【請求項８】
前記機械圧縮機（５０）及び前記冷却タービン（５２）に駆動可能に接続され、航空機ガスタービンエンジン高圧圧縮機（６４）の圧縮機吐出段（６０）に該圧縮機吐出段（６０）と加圧空気（５８）受け入れ関係で接続された出力タービン（５４）を更に含む、請求項７に記載の航空機適応出力熱管理システム（１２）。
【手続補正書】
【提出日】平成27年5月18日(2015.5.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
重合性樹脂と、
重合性樹脂の屈折率と実質的に同様の屈折率を有する、実質的に半透明な構造フィラーであって、
3μmより大きい第1の平均粒径および≧1μmのD(10)を有する粗粒分、および
0.1μmより大きく1μmより小さい第2の平均粒径および粗粒分のD(10)以下であるD(90)を有する無機の細粒分を含み、
粗粒分対細粒分の相対比が、体積で12:1から2:1の範囲内であり、粗粒分および細粒分のそれぞれの粒径分布が、本質的に単峰性である、構造フィラーと、
100nm未満の平均粒径を有するナノフィラーと、
少なくとも1種のレオロジー調整添加剤と
を含む、歯科修復組成物。
【請求項２】
少なくとも1種の前記レオロジー調整添加剤が、無機レオロジー調整剤および有機レオロジー調整剤を含む、請求項1に記載の組成物。
【請求項３】
少なくとも1種の前記レオロジー調整添加剤が、ヒュームドシリカである無機レオロジー調整剤、および/または一般式RCONHR'(式中、Rはアルキルまたはアルキリジン基であり、R'はアルキル基である)のアルキルアミドである有機レオロジー調整剤を含む、請求項1または2に記載の組成物。
【請求項４】
前記粗粒分に関して、第1の平均粒径が4〜7μmの範囲内であり、D(10)が≧1.2μmであり、前記細粒分に関して、第2の平均粒径が0.3〜0.7μmの範囲内であり、D(90)が≦0.9μmである、請求項1または2に記載の組成物。
【請求項５】
前記構造フィラー対ナノフィラーの比が、体積で20:1から10:1の範囲内である、請求項1または2に記載の組成物。
【請求項６】
乱されない状態では粘度がペースト様であり、組成物が音波および/または超音波振動を受けるとずり減粘を起こして粘度が液体様に低減する、請求項1または2に記載の組成物。
【請求項７】
硬化すると1.8%未満の体積収縮を示す、請求項1または2に記載の組成物。
【請求項８】
重合性樹脂と、
重合性樹脂の屈折率と同様の屈折率を有する、実質的に半透明な構造フィラーであって、
RI(フィラー)-RI(樹脂)≦0.05であり、
第1の平均粒径が3μmより大きくD(10)≧1μmである、本質的に単峰性の分布を有する粗粒分、および
第2の平均粒径が0.1μmより大きく1μmより小さくD(90)≦0.9μmである、本質的に単峰性の分布を有する細粒分を含み、
粗粒分対細粒分の相対比が、体積で12:1から2:1の範囲内である、構造フィラーと、
平均粒径が100nm未満であるナノフィラーであって、構造フィラー対ナノフィラーの比が、体積で20:1から10:1の範囲内である、ナノフィラーと、
0.1から5wt%の量の、第1および第2のレオロジー調整添加剤であって、前記第1のレオロジー調整添加剤が無機レオロジー調整剤を含み、前記第2のレオロジー調整添加剤が有機レオロジー調整剤を含む、レオロジー調整添加剤と
を含み、
乱されない状態では組成物の粘度がペースト様であり、損失正接が1未満であり、組成物が音波および/または超音波振動を受ける乱された状態では組成物はずり減粘を起こして粘度が液体様に低減し、損失正接が1より大きい、
歯科修復組成物。
【請求項９】
前記第1のレオロジー調整添加剤が、ヒュームドシリカであり、前記第2のレオロジー調整添加剤が、一般式RCONHR'(式中、Rはアルキルまたはアルキリジン基であり、R'はアルキル基である)のアルキルアミドである、請求項8に記載の組成物。
【請求項１０】
前記粗粒分に関して、第1の平均粒径が4〜7μmの範囲内であり、D(10)が≧1.2μmであり、前記細粒分に関して、第2の平均粒径が0.3〜0.7μmの範囲内であり、D(90)が≦0.9μmである、請求項8に記載の組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成27年1月28日(2015.1.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガリウムを含むガリウム成分；
１，３−プロパンジチオール、ベータ−メルカプトエタノール、これらの類似体およびこれらの混合物から選択される安定化成分；
ピラジン、２−メチルピラジン、３−メチルピラゾール、メチル２−ピラジンカルボキシラート、ピラゾール、プラキサジン、ピラジンカルボキサミド、ピラジンカルボニトリル、２，５−ジメチルピラジン、２，３，５，６−テトラメチルピラジン、２−アミノピラジン、２−エチルピラジン、キノキサリン、Ｃ１−５アルキル基で置換されたキノキサリン、２−ピラジンカルボン酸、２，３−ピラジンジカルボキサミド、２，３−ピラジンジカルボニトリル、ピロリジノ−１−シクロヘキセン、ピロリジノ−１−シクロペンテン、フェナジン、Ｃ１−５アルキル基で置換されたフェナジン、イソキノリン、Ｃ１−５アルキル基で置換されたイソキノリン、インドール、Ｃ１−５アルキル基で置換されたインドール、イミダゾール、Ｃ１−５アルキル基で置換されたイミダゾール、テトラゾール、Ｃ１−５アルキル基で置換されたテトラゾール、１，５−ジアザビシクロ［４．３．０］ノナ−５−エン、および１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデカ−７−エンからなる群から選択される添加剤；並びに
液体キャリア；
を当初成分として含み、安定な分散物であるガリウムインク。
【請求項２】
液体キャリアが窒素含有溶媒および窒素含有溶媒の混和性混合物から選択される、請求項１に記載のガリウムインク。
【請求項３】
液体キャリアが式ＮＲ３、（式中、各Ｒは独立して、Ｈ、Ｃ１−１０アルキル基、Ｃ６−１０アリール基およびＣ１−１０アミノアルキル基から選択される）を有する液体アミンから選択される、請求項１に記載のガリウムインク。
【請求項４】
液体キャリアがエチレンジアミン、ジエチレントリアミン、トリス（２−アミノエチル）アミン、トリエチレンテトラミン、ｎ−ブチルアミン、ｎ−ヘキシルアミン、オクチルアミン、２−エチル−１−ヘキシルアミン、３−アミノ−１−プロパノール、１−アミノ−２−プロパノール、１，３−ジアミノプロパン、１，２−ジアミノプロパン、１，２−ジアミノシクロヘキサン、ピリジン、ピロリジン、１−メチルイミダゾール、テトラメチルグアニジン、２−メチルピラジンおよびこれらの混合物から選択される、請求項１に記載のガリウムインク。
【請求項５】
液体キャリアが、１，３−ジアミノプロパン、１，２−ジアミノプロパン、２−メチルピラジンおよびこれらの混合物から選択される、請求項１に記載のガリウムインク。
【請求項６】
ガリウムを含むガリウム成分を提供し；
１，３−プロパンジチオール、ベータ−メルカプトエタノール、これらの類似体およびこれらの混合物から選択される安定化成分を提供し；
ピラジン、２−メチルピラジン、３−メチルピラゾール、メチル２−ピラジンカルボキシラート、ピラゾール、プラキサジン、ピラジンカルボキサミド、ピラジンカルボニトリル、２，５−ジメチルピラジン、２，３，５，６−テトラメチルピラジン、２−アミノピラジン、２−エチルピラジン、キノキサリン、Ｃ１−５アルキル基で置換されたキノキサリン、２−ピラジンカルボン酸、２，３−ピラジンジカルボキサミド、２，３−ピラジンジカルボニトリル、ピロリジノ−１−シクロヘキセン、ピロリジノ−１−シクロペンテン、フェナジン、Ｃ１−５アルキル基で置換されたフェナジン、イソキノリン、Ｃ１−５アルキル基で置換されたイソキノリン、インドール、Ｃ１−５アルキル基で置換されたインドール、イミダゾール、Ｃ１−５アルキル基で置換されたイミダゾール、テトラゾール、Ｃ１−５アルキル基で置換されたテトラゾール、１，５−ジアザビシクロ［４．３．０］ノナ−５−エン、および１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデカ−７−エンからなる群から選択される添加剤を提供し；
液体キャリアを提供し；
ガリウム成分、安定化成分、添加剤および液体キャリアを一緒にし；並びに、
この一緒にしたものを攪拌しつつ不活性雰囲気下で加熱してガリウムインクを生じさせる；
ことを含む、請求項１に記載のガリウムインクを製造する方法。
【請求項７】
液体キャリアが、１，３−ジアミノプロパン、１，２−ジアミノプロパン、ピラジン、２−メチルピラジンおよびこれらの混合物から選択される、請求項６に記載の方法。
【請求項８】
基体を提供し；
請求項１に記載のガリウムインクを提供し；
ガリウムインクを基体上に適用し；
適用されたガリウムインクを加熱して、添加剤および液体キャリアを除いて、基体上にガリウムを堆積させ；並びに、
場合によって、堆積したガリウムをアニールする；
ことを含む、基体上にガリウムを堆積する方法。
【請求項９】
基体がモリブデンの層を含む請求項８に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成26年11月19日(2014.11.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】キャパシタ
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
誘電体の一つの面に接して設けられた、インジウム、錫あるいは亜鉛の少なくとも一つと窒素とを有し、仕事関数が５．０電子ボルト以上のｎ型半導体を有することを特徴とするキャパシタ。
【請求項２】
請求項１において、
前記ｎ型半導体は、窒化インジウムまたは窒化ガリウムインジウムであることを特徴とするキャパシタ。
【請求項３】
請求項１において、
前記ｎ型半導体は、窒化亜鉛であることを特徴とするキャパシタ。
【請求項４】
請求項１において、
前記ｎ型半導体は、インジウムとガリウムと亜鉛と窒素を有する酸化物であり、水素を１原子％乃至１０原子％含有していることを特徴とするキャパシタ。
【請求項５】
請求項１乃至請求項４のいずれか一項において、
前記誘電体はチタン酸ストロンチウム、チタン酸鉛、チタン酸バリウムストロンチウム、ジルコン酸鉛、ジルコン酸バリウム、酸化タンタル、ビスマスチタン酸ストロンチウム、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化ハフニウム、酸化アルミニウム、酸化イットリウム、酸化ランタン、珪酸ジルコニウム、珪酸ハフニウムから選ばれた１つ以上の材料を含むことを特徴とするキャパシタ。
【請求項６】
請求項１乃至請求項５のいずれか一項において、
前記誘電体は、ストロンチウム、チタン、バリウム、ジルコニウム、鉛、タンタル、ビスマス、ハフニウム、アルミニウム、イットリウム、ランタンから選ばれた１つ以上の元素が、誘電体を構成する金属元素のうちの５０％以上である酸化物であることを特徴とするキャパシタ。
【請求項７】
請求項１乃至請求項６のいずれか一項において、
前記ｎ型半導体は、５原子％以上５０原子％以下の濃度の窒素を有することを特徴とするキャパシタ。
【手続補正書】
【提出日】平成26年11月20日(2014.11.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ゲート電極と、
前記ゲート電極上の第１の絶縁膜と、
前記第１の絶縁膜上の酸化物半導体膜と、
前記酸化物半導体膜上の第２の絶縁膜と、
前記酸化物半導体膜と電気的に接続するソース電極及びドレイン電極と、を有し、
前記第１の絶縁膜は、酸化ハフニウム膜と酸化シリコン膜とを有し、
前記酸化ハフニウム膜は、ＡＬＤ法又はＣＶＤ法で成膜され、
前記酸化シリコン膜は、ＡＬＤ法又はＣＶＤ法で成膜され、
前記第２の絶縁膜は、酸化アルミニウム膜を有し、
前記酸化アルミニウム膜は、スパッタリング法で成膜されることを特徴とする半導体装置。
【請求項２】
ゲート電極と、
前記ゲート電極上の第１の絶縁膜と、
前記第１の絶縁膜上の酸化物半導体膜と、
前記酸化物半導体膜上の第２の絶縁膜と、
前記酸化物半導体膜と電気的に接続するソース電極及びドレイン電極と、を有し、
前記第１の絶縁膜は、酸化ハフニウム膜と酸化シリコン膜とを有し、
前記酸化ハフニウム膜は、ＡＬＤ法又はＣＶＤ法で成膜され、
前記酸化シリコン膜は、ＡＬＤ法又はＣＶＤ法で成膜され、
前記第２の絶縁膜は、酸化アルミニウム膜を有し、
前記酸化アルミニウム膜は、ＡＬＤ法で成膜されることを特徴とする半導体装置。
【請求項３】
請求項１又は請求項２において、
前記第２の絶縁膜は、加熱により酸素を放出する膜であることを特徴とする半導体装置。
【請求項４】
請求項１乃至請求項３のいずれか一において、
前記酸化物半導体膜は、ＩｎとＧａとＺｎとを有することを特徴とする半導体装置。
【手続補正書】
【提出日】平成26年12月1日(2014.12.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体基板の上に互いに異なる膜厚を有する複数の領域を含むマスクパターンを形成し、
前記マスクパターンの膜厚が互いに異なる前記複数の領域を通して前記半導体基板に第１導電型の不純物イオンを注入して、前記半導体基板の表面から不純物濃度のピーク位置までの深さが互いに異なる第１導電型の複数の不純物領域を形成し、
前記複数の不純物領域のうちの第１導電型の第１不純物領域の不純物濃度のピーク位置と前記表面との間に位置する第２導電型の第１不純物領域、および、前記複数の不純物領域のうちの第１導電型の第２不純物領域の不純物濃度のピーク位置と前記表面との間に位置し、トランジスタを構成する第２導電型の第２不純物領域を形成することを特徴とする製造方法。
【請求項２】
前記第１導電型の第１不純物領域および前記第２導電型の第１不純物領域はフォトダイオードを構成することを特徴とする請求項１項に記載の製造方法。
【請求項３】
前記表面と前記第２導電型の第１不純物領域との間に位置する第１導電型の不純物層を形成することを特徴とする請求項１または２に記載の製造方法。
【請求項４】
前記複数の不純物領域のうちの第１導電型の第３不純物領域の不純物濃度のピーク位置と前記表面との間に、前記第２導電型の第２不純物領域で構成された前記トランジスタとは閾値の異なるトランジスタを構成する第２導電型の第３不純物領域を形成することを特徴とする請求項１乃至３の何れか１項に記載の半導体装置の製造方法。
【請求項５】
前記複数の不純物領域のうちの第１導電型の第４不純物領域を、前記半導体基板のアクティブ領域を分離するための分離領域を通して形成することを特徴とする請求項１乃至４の何れか１項に記載の製造方法。
【請求項６】
光透過率が互いに異なる複数の領域を含むフォトマスクを用いて、前記半導体基板の上の無機材料からなる膜の上に塗布されたフォトレジストを露光し、
前記フォトレジストを現像して、前記フォトレジストの露光量に依存した互いに異なる膜厚を有する複数の領域を含むレジストパターンを形成し、
前記レジストパターンをマスクとして前記無機材料のエッチングを行い、前記無機材料からなる膜から、異なる膜厚を有する前記複数の領域を含む前記マスクパターンを形成することを特徴とする請求項１乃至５の何れか１項に記載の製造方法。
【請求項７】
前記マスクパターンは、酸化シリコン又は窒化シリコンからなる請求項１乃至６の何れか１項に記載の製造方法。
【請求項８】
前記複数の不純物領域の形成において、前記膜厚が互いに異なる複数の領域を通して同時に不純物イオンを注入し、
前記半導体基板に注入された前記第１導電型の不純物イオンを熱拡散することを特徴とする請求項１乃至７の何れか１項に記載の製造方法。
【請求項９】
前記複数の不純物領域の形成において、前記不純物イオンの注入は少なくとも、第１エネルギーで行われる第１注入と、前記第１エネルギーよりも低いエネルギーで行われる第２注入とを有することを特徴とする請求項１乃至８の何れか１項に記載の製造方法。
【請求項１０】
前記第１注入におけるドーズ量と、前記第２注入におけるドーズ量とは互いに異なることを特徴とする請求項９に記載の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
上記課題に鑑みて、本発明の１つの実施形態では、半導体基板の上に互いに異なる膜厚を有する複数の領域を含むマスクパターンを形成し、前記マスクパターンの膜厚が互いに異なる前記複数の領域を通して前記半導体基板に第１導電型の不純物イオンを注入して、前記半導体基板の表面から不純物濃度のピーク位置までの深さが互いに異なる第１導電型の複数の不純物領域を形成し、前記複数の不純物領域のうちの第１導電型の第１不純物領域の不純物濃度のピーク位置と前記表面との間に位置する第２導電型の第１不純物領域、および、前記複数の不純物領域のうちの第１導電型の第２不純物領域の不純物濃度のピーク位置と前記表面との間に位置し、トランジスタを構成する第２導電型の第２不純物領域を形成することを特徴とする製造方法が提供される。
【手続補正書】
【提出日】平成26年12月18日(2014.12.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】発光ユニット及びその作製方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
絶縁性を有する表面上に、第１の発光素子及び第２の発光素子を有し、
前記第１の発光素子は、島状の第１の電極と、前記第１の電極と重なる第２の電極と、前記第１の電極及び前記第２の電極の間の発光性を有する有機化合物を含む層と、を備え、
前記第１の電極の端部は、絶縁性を有する第１の隔壁に覆われ、
前記第２の発光素子は、島状の第３の電極と、前記第３の電極と重なる第４の電極と、前記第３の電極及び前記第４の電極の間の発光性を有する有機化合物を含む層と、を備え、
前記第３の電極の上に、絶縁性を有する第２の隔壁及び絶縁性を有する分離層を有し、
前記第１の電極及び前記第３の電極は、同層に設けられており、
前記第１の隔壁及び前記第２の隔壁は、同層に設けられており、
前記第２の電極及び前記第４の電極は、同層に設けられており、
前記分離層は、脚部及び前記脚部上の台部を備え、
前記台部は前記脚部と比較して前記第３の電極に対する投影面積が広くなるようにせり出して設けられ、
前記第２の隔壁の一方の端部は前記第２の発光素子の発光性を有する有機化合物を含む層に覆われ、前記第２の隔壁の他方の端部は前記分離層と接し、
前記第２の電極は、前記第１の隔壁を介して前記第１の電極の端部と交差し、且つ前記台部が重なる領域において前記第３の電極と電気的に接続することを特徴とする発光ユニット。
【請求項２】
前記分離層の断面において、前記脚部が前記第３の電極に接する点と、前記脚部からせり出した前記台部の先端とを結ぶ直線より前記脚部側に空間を有する請求項１に記載の発光ユニット。
【請求項３】
前記第１の隔壁が前記第１の電極の端部と前記第３の電極の端部を覆い、
前記第２の電極が、前記第１の隔壁を介して前記第１の電極の端部及び前記第３の電極の端部と交差し、前記台部と重なる領域の前記第３の電極と電気的に接続する請求項１又は請求項２に記載の発光ユニット。
【請求項４】
絶縁性を有する表面上に、第１の発光素子及び第２の発光素子を有し、
前記第１の発光素子は、島状の第１の電極と、前記第１の電極と重なる第２の電極と、前記第１の電極及び前記第２の電極の間の発光性を有する有機化合物を含む層と、を備え、
前記第１の電極の端部は、絶縁性を有する第１の隔壁に覆われ、
前記第２の発光素子は、島状の第３の電極と、前記第３の電極と重なる第４の電極と、前記第３の電極及び前記第４の電極の間の発光性を有する有機化合物を含む層と、を備え、
前記第３の電極の上に設けられた絶縁性を有する第２の隔壁と、
前記第３の電極と電気的に接続する補助配線と、
前記補助配線及び前記第２の隔壁と重なる分離層と、を有し、
前記第１の電極及び前記第３の電極は、同層に設けられており、
前記第１の隔壁及び前記第２の隔壁は、同層に設けられており、
前記第２の電極及び前記第４の電極は、同層に設けられており、
前記分離層は、脚部及び前記脚部上の台部を備え、
前記台部は前記脚部と比較して前記補助配線に対する投影面積が広くなるようにせり出して設けられ、
前記第２の隔壁の一方の端部は、前記第２の発光素子の発光性を有する有機化合物を含む層に覆われ、前記第２の隔壁の他方の端部は前記分離層と接し、
前記第２の電極は、前記第１の隔壁を介して前記第１の電極の端部と交差し、且つ前記台部が重なる領域において前記補助配線と電気的に接続することを特徴とする発光ユニット。
【請求項５】
前記第１の発光素子の有機化合物を含む層並びに前記第２の電極と重なる位置に、前記第１の電極と接して設けられる第１の副配線、または／および
前記第２の発光素子の有機化合物を含む層並びに前記第４の電極と重なる位置に、前記第３の電極と接して設けられる第２の副配線、を備え、
前記第１の副配線は前記第１の電極より導電率が高い金属を含み、
前記第２の副配線は前記第３の電極より導電率が高い金属を含む請求項１乃至請求項６のいずれか一項に記載の発光ユニット。
【請求項６】
絶縁性を有する表面上に、下部電極となる島状の第１の電極及び第３の電極を形成するステップと、
前記第１の電極の端部を覆う第１の隔壁、及び前記第３の電極上の第２の隔壁を形成するステップと、
前記第３の電極上に第１の感光性樹脂を成膜し、前記第１の感光性樹脂上に前記第１の感光性樹脂と異なる感度を有する第２の感光性樹脂を成膜するステップと、
前記第１の感光性樹脂及び前記第２の感光性樹脂を選択的に露光し、現像して、前記第３の電極及び前記第２の隔壁に接する脚部を前記第１の感光性樹脂から形成し、前記脚部から前記第３の電極上にせり出した台部を前記第２の感光性樹脂から形成して、前記脚部と前記台部を有する分離層を形成するステップと、
前記第３の電極の前記台部が重なる領域において回り込みを抑制して発光性を有する有機化合物を含む層を成膜するステップと、
前記第３の電極の前記台部が重なる領域において第２の電極が前記第３の電極と接続するように回り込みを促進して、前記第２の電極及び第４の電極を含む上部電極となる導電膜を成膜するステップと、を有することを特徴とする発光ユニットの作製方法。
【手続補正書】
【提出日】平成26年11月25日(2014.11.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
トランジスタを備えた圧電発振器であって、
前記トランジスタのゲートには共振回路の一端のみが接続され、
前記共振回路の他端が抵抗を介して接地され、
前記トランジスタのドレインには出力端子が設けられ、
前記トランジスタのソースには共振によって反射させる反射素子として圧電共振器のみが接続され、
前記トランジスタのソースが前記トランジスタのゲートに接続されないよう構成されており、
前記圧電共振器は、反射素子として反射特性を用いて共振して発振周波数を出力するものであり、当該圧電共振器の発振周波数が、前記共振回路で発振した共振周波数と略同じになるよう設定されていることを特徴とする圧電発振器。
【請求項２】
トランジスタのゲートと共振回路との間に第１のマッチング回路を設け、
前記トランジスタのドレインと出力端子との間に第２のマッチング回路を設け、
前記トランジスタのソースと圧電共振器との間には第３のマッチング回路を設け、
前記第１のマッチング回路及び前記第２のマッチング回路及び前記第３のマッチング回路により、前記共振回路の共振周波数を可変にし、前記圧電共振器の発振周波数に近づける調整を行うことを特徴とする請求項１記載の圧電発振器。
【請求項３】
共振回路をコイルとコンデンサの並列接続回路で構成したことを特徴とする請求項１又は２記載の圧電発振器。
【請求項４】
共振回路を圧電共振器としたことを特徴とする請求項１又は２記載の圧電発振器。
【請求項５】
反射素子と共振回路とを共に圧電共振器とし、
前記反射素子の圧電共振器と前記共振回路の圧電共振器について、１つの圧電素子に２つの電極を形成し、当該２つの電極をそれぞれ前記２つの圧電共振器の電極とする共振器で構成したことを特徴とする請求項１又は２記載の圧電発振器。
【請求項６】
マッチング回路は、可変容量素子と可変抵抗を備え、前記可変容量素子又は／及び前記可変抵抗の設定を変更し、不平衡状態を作り出し、平衡状態に戻ることを利用して周波数を可変にすることを特徴とする請求項２記載の圧電発振器。
【請求項７】
共振回路をマイクロストリップライン及び共振器で構成したことを特徴とする請求項１又は２記載の圧電発振器。
【請求項８】
出力端子の前段にフィルタを設けたことを特徴とする請求項１又は２記載の圧電発振器。
【請求項９】
トランジスタを電界効果型トランジスタとしたことを特徴とする請求項１又は２記載の圧電発振器。
【請求項１０】
トランジスタをＮＰＮ型トランジスタとしたことを特徴とする請求項１又は２記載の圧電発振器。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
上記従来例の問題点を解決するための本発明は、トランジスタを備えた圧電発振器であって、トランジスタのゲートには共振回路の一端のみが接続され、共振回路の他端が抵抗を介して接地され、トランジスタのドレインには出力端子が設けられ、トランジスタのソースには共振によって反射させる反射素子として圧電共振器のみが接続され、トランジスタのソースがトランジスタのゲートに接続されないよう構成されており、圧電共振器は、反射素子として反射特性を用いて共振して発振周波数を出力するものであり、当該圧電共振器の発振周波数が、共振回路で発振した共振周波数と略同じになるよう設定されていることを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
本発明は、上記圧電発振器において、トランジスタのゲートと共振回路との間に第１のマッチング回路を設け、トランジスタのドレインと出力端子との間に第２のマッチング回路を設け、トランジスタのソースと圧電共振器との間には第３のマッチング回路を設け、第１のマッチング回路及び第２のマッチング回路及び第３のマッチング回路により、共振回路の共振周波数を可変にし、圧電共振器の発振周波数に近づける調整を行うことを特徴とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２９】
本発明によれば、トランジスタのゲートには共振回路の一端のみが接続され、共振回路の他端が抵抗を介して接地され、トランジスタのドレインには出力端子が設けられ、トランジスタのソースには共振によって反射させる反射素子として圧電共振器のみが接続され、トランジスタのソースがトランジスタのゲートに接続されないよう構成されており、圧電共振器は、反射素子として反射特性を用いて共振して発振周波数を出力するものであり、当該圧電共振器の発振周波数が、共振回路で発振した共振周波数と略同じになるよう設定されているとしているので、高周波にて周波数を早期に安定化できる効果がある。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３０】
本発明によれば、トランジスタのゲートと共振回路との間に第１のマッチング回路を設け、トランジスタのドレインと出力端子との間に第２のマッチング回路を設け、トランジスタのソースと圧電共振器との間には第３のマッチング回路を設け、第１のマッチング回路及び第２のマッチング回路及び第３のマッチング回路により、共振回路の共振周波数を可変にし、圧電共振器の発振周波数に近づける調整を行う上記圧電発振器としているので、高周波にて周波数を早期に安定化できる効果がある。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成27年1月29日(2015.1.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
撮像装置であって、
撮像によって画像データを生成する撮像手段と、
前記画像データに対応づける所定の属性情報を取得する取得手段と、
前記撮像装置の現在の位置を示す位置情報を取得する位置取得手段と、
前記位置情報が取得された日時を示す日時情報を取得する日時取得手段と、
前記日時情報と前記位置情報との複数の組をログファイルとして記録媒体に記録するよう制御する記録制御手段と
を有し、
前記ログファイルには、前記画像データに対応づける所定の属性情報と同じ値の情報が含まれ、
前記記録制御手段は、前記撮像によって生成される画像データに対応づけられる前記所定の属性情報と同じ値の情報が含まれるログファイルが前記記録媒体に記録されていない場合、前記日時情報と前記位置情報との複数の組を新たなログファイルとして前記所定の属性情報と共に記録するよう制御することを特徴とする撮像装置。
【請求項２】
前記所定の属性情報には、前記画像データを生成した装置を一意に識別するための識別情報と、該装置における時差設定またはエリア設定が含まれることを特徴とする請求項１に記載の撮像装置。
【請求項３】
前記所定の属性情報には、前記画像データを生成した装置の使用者を識別するための情報、または、測地系に関する情報が更に含まれることを特徴とする請求項１または２に記載の撮像装置。 
【請求項４】
前記記録媒体とは異なる、着脱不可能な記録領域を更に有し、
前記記録領域には、前記日時情報と前記位置情報との複数の組が一時的に保存され、
前記記録制御手段は、ユーザからの指示に応じて、前記記録領域に保存されている前記日時情報と前記位置情報との複数の組を読み出して、前記記録媒体にログファイルとして出力することを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の撮像装置。
【請求項５】
前記記録制御手段は、ユーザから電源オフの指示を受け付けたことに応じて、前記記録領域に保存されている前記日時情報と前記位置情報との複数の組を読み出して、前記記録媒体にログファイルとして出力することを特徴とする請求項４に記載の撮像装置。
【請求項６】
前記記録制御手段は、ユーザから時計の設定変更の指示を受け付けたことに応じて、前記記録領域に保存されている前記日時情報と前記位置情報との複数の組を読み出して、前記記録媒体にログファイルとして出力することを特徴とする請求項４に記載の撮像装置。
【請求項７】
前記記録制御手段により読みだされた前記記録領域に記録されている前記日時情報と前記位置情報との複数の組は、前記ログファイルとして前記記録媒体に出力された後に、前記記録領域から削除されることを特徴とする請求項４乃至６のいずれか１項に記載の撮像装置。
【請求項８】
基地局と無線通信可能な通信手段を更に有し、
前記位置取得手段は、ＧＰＳからの信号と前記通信手段により受信した信号とに基づき位置情報を取得することを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項に記載の撮像装置。
【請求項９】
撮像装置の制御方法であって、
撮像によって画像データを生成する撮像ステップと、
前記画像データに対応づける所定の属性情報を取得する取得ステップと、
前記撮像装置の現在の位置を示す位置情報を取得する位置取得ステップと、
前記位置情報が取得された日時を示す日時情報を取得する日時取得ステップと、
前記日時情報と前記位置情報との複数の組をログファイルとして記録媒体に記録するよう制御する記録制御ステップとを有し、
前記ログファイルには、前記画像データに対応づける所定の属性情報と同じ値の情報が含まれ、
前記記録制御ステップでは、前記撮像によって生成される画像データに対応づけられる前記所定の属性情報と同じ値の情報が含まれるログファイルが前記記録媒体に記録されていない場合、前記日時情報と前記位置情報の複数の組を新たなログファイルとして前記所定の属性情報と共に記録するよう制御することを特徴とする撮像装置の制御方法。
【請求項１０】
コンピュータを、請求項１乃至８のいずれか１項に記載の撮像装置として機能させるためのコンピュータが読み取り可能なプログラム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
上記課題を解決するための本発明は、
撮像装置であって、
撮像によって画像データを生成する撮像手段と、
前記画像データに対応づける所定の属性情報を取得する取得手段と、
前記撮像装置の現在の位置を示す位置情報を取得する位置取得手段と、
前記位置情報が取得された日時を示す日時情報を取得する日時取得手段と、
前記日時情報と前記位置情報との複数の組をログファイルとして記録媒体に記録するよう制御する記録制御手段と
を有し、
前記ログファイルには、前記画像データに対応づける所定の属性情報と同じ値の情報が含まれ、
前記記録制御手段は、前記撮像によって生成される画像データに対応づけられる前記所定の属性情報と同じ値の情報が含まれるログファイルが前記記録媒体に記録されていない場合、前記日時情報と前記位置情報との複数の組を新たなログファイルとして前記所定の属性情報と共に記録するよう制御することを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成27年7月16日(2015.7.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
端子面である第１の壁と、前記第１の壁と反対側に形成された第２の壁とを含む複数の壁を有するケースと、
正極板と、負極板とをセパレータを介して積層したものを巻回してなり、前記複数の壁のうちの前記第２の壁の内面から離間した状態で前記ケース内に収容された蓄電要素と、
充放電に伴い前記蓄電要素が膨張する間も前記蓄電要素から離間した状態が保たれている前記第２の壁の、外面と接している伝熱部材と、を備える蓄電素子。
【請求項２】
前記伝熱部材は冷却部材として機能する請求項１に記載の蓄電素子。
【請求項３】
前記冷却部材は、冷媒を流通するための流通路を有する請求項２に記載の蓄電素子。
【請求項４】
前記冷却部材は、冷媒を流通するための流通路を有し、
前記冷媒は液体である請求項２に記載の蓄電素子。
【請求項５】
前記ケースは、ラジエータを有する車両に載置され、
前記冷媒はラジエータ液である請求項４に記載の蓄電素子。
【請求項６】
前記伝熱部材と接触する冷却部材を更に備える請求項１に記載の蓄電素子。
【請求項７】
前記冷却部材は、冷媒を流通するための流通路を有し、
前記冷却部材は金属製の外表面を有する請求項６に記載の蓄電素子。
【請求項８】
前記冷却部材は、冷媒を流通するための流通路を有し、
前記冷媒は液体である請求項６に記載の蓄電素子。
【請求項９】
前記ケースは、ラジエータを有する車両に載置され、
前記冷媒はラジエータ液である請求項８に記載の蓄電素子。
【請求項１０】
前記ケースは直方体形状をなし、
前記端子面は、前記蓄電要素と電気接続された電極を有し、前記第２の壁は、前記端子面とは反対側に位置する前記ケースの底面を有し、
前記ケースは更に、長側面と短側面を有し、
前記伝熱部材は前記底面と前記短側面との少なくとも一方と熱的に接している請求項１に記載の蓄電素子。
【請求項１１】
前記伝熱部材は、弾性変形するように構成され、空気より熱伝導性が高い材料からなる請求項１に記載の蓄電素子。
【請求項１２】
前記ケースは有機溶媒を含む電解液で満たされている請求項１１に記載の蓄電素子。
【請求項１３】
前記伝熱部材は絶縁材料からなる請求項１に記載の蓄電素子。
【請求項１４】
更に、液体冷媒を流通するための流通路を有する冷却部材を備え、
前記伝熱部材は、合成樹脂からなるシート形状の伝熱部材を有し、前記第２の壁と前記冷却部材との間に形成され、接着剤により前記第２の壁と前記冷却部材とに接着されている請求項１に記載の蓄電素子。
【請求項１５】
前記複数の壁の内面は、前記第１の壁と第２の壁の内面を含む請求項１に記載の蓄電素子。
【請求項１６】
前記複数の壁は更に、第３の壁と、前記第３の壁より幅が狭い第４の壁とを有し、前記第１の壁は前記第３の壁と前記第４の壁により前記第２の壁に接続され、
前記正極板および負極板は前記第４の壁と交差する軸の回りに巻回されている請求項１に記載の蓄電素子。
【請求項１７】
前記第３の壁と交差する方向に並べられた複数の蓄電要素を備える請求項１６に記載の蓄電素子。
【請求項１８】
端子面である第１の壁と、前記第１の壁と反対側に形成された第２の壁とを有するケースと、
正極板と、負極板とをセパレータを介して積層したものを巻回してなる蓄電要素であって、充放電に伴い前記蓄電要素が膨張する間も前記複数の壁のうちの前記第１の壁および第２の壁の内表面から離間した状態で前記ケース内に収容された複数の前記蓄電要素と、
液体冷媒を流通するための流通路を有する冷却部材と、
合成樹脂からなるシート形状の伝熱部材を有し、前記第２の壁と前記冷却部材との間に形成され、接着剤により前記第２の壁と前記冷却部材とに接着されている伝熱部材と、を備える蓄電素子。
【請求項１９】
請求項１から請求項１８のいずれか一項に記載された複数の蓄電素子を備え、
前記複数の蓄電素子は並べて配置されて互いに電気接続された蓄電装置。
【手続補正書】
【提出日】平成26年12月15日(2014.12.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一対の電極と、前記一対の電極に接して設けられた圧電材料を少なくとも有する圧電素子であって、前記圧電材料はチタン酸バリウムを主成分とする結晶粒の集合体からなり、前記集合体の結晶粒の中の少なくとも前記電極と接している結晶粒が、粒内に転位層を有することを特徴とする圧電素子。
【請求項２】
前記転位層を有する結晶粒のうち、前記電極に垂直方向の粒径Ｒが２μｍ以上である結晶粒において、前記転位層の厚さＤがＲ以下であることを特徴とする請求項１に記載の圧電素子。
【請求項３】
前記転位層が、同一の結晶粒の内部において同一方向に分極されていることを特徴とする請求項１または２に記載の圧電素子。
【請求項４】
前記圧電材料の前記電極と接する表面部のヤング率が、圧電材料全体のヤング率より小さいことを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の圧電素子。
【請求項５】
前記圧電材料がマンガン成分を含んでいることを特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載の圧電素子。
【請求項６】
前記圧電材料の厚さは５０μｍ以上１０ｍｍ以下であることを特徴とする請求項１乃至５のいずれかに記載の圧電素子。
【請求項７】
請求項１乃至６のいずれかに記載の圧電素子を配した振動部を備えた液室と、前記液室と連通する吐出口を有する液体吐出ヘッド。
【請求項８】
請求項１乃至６のいずれかに記載の圧電素子を配した振動体と、前記振動体と接触する移動体を有する超音波モータ。
【請求項９】
請求項１乃至６のいずれかに記載の圧電素子を配した振動体を有する塵埃除去装置。
【請求項１０】
請求項９記載の塵埃除去装置を搭載した光学デバイス。
【請求項１１】
請求項１乃至請求項５記載のいずれか一項に記載の圧電素子を備えた、超音波振動子、圧電アクチュエータ、圧電センサ、強誘電メモリ、いずれかのデバイス。