【手続補正書】
【提出日】平成27年7月23日(2015.7.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
重合性液晶材料として、一般式（a）
【化１】
2014139310.tif 000001
（式中、Z3は水素原子、ハロゲン原子、シアノ基又は炭素原子数１〜２０の炭化水素基を表し、Z4は水素原子又はメチル基を表し、W3は単結合、-O-、-COO-又は-OCO-を表し、vは０〜１８の整数を表し、uは０又は１を表し、D、E及びFはそれぞれ独立的に、1,4−フェニレン基、隣接しないCH基が窒素で置換された1,4−フェニレン基、1,4−シクロヘキシレン基、１つ又は隣接しない２つのCH2基が酸素又は硫黄原子で置換された1,4−シクロヘキシレン基、1,4−シクロヘキセニレン基を表すが、式中に存在する1,4−フェニレン基は炭素原子数１〜７のアルキル基、アルコキシ基、アルカノイル基、シアノ基又はハロゲン原子で一つ以上置換されていても良く、Y6及びY7はそれぞれ独立的に単結合、-CH2CH2-、-CH2O-、-OCH2-、-COO-、-OCO-、-C≡C-、-CH=CH-、-CF=CF-、-（CH2）4-、-CH2CH2CH2O-、-OCH2CH2CH2-、-CH=CHCH2CH2-、-CH2CH2CH=CH-、-CH=CHCOO-、-OCOCH=CH-、-CH2CH2COO-、-CH2CH2OCO-、-COO CH2CH2-、-OCOCH2CH2-、-CH=N-、-N=CH-、-N=N-又は-CH=N-N=CH-を表し、Y6及びY7の少なくとも一つは-CH=CH-、-CH=CHCOO-、-OCOCH=CH-、-CH=N-、-N=CH-、-N=N-、-CH=N-N=CH-を表し、
Y8は単結合、-O-、-COO-、-OCO-又は-CH=CHCOO-を表す。）で表される化合物、及び一般式（ｂ）
【化２】
2014139310.tif 000002
（式中、Z5、Z6はそれぞれ独立的に水素原子、又はメチル基を表し、G、H及びIはそれぞれ独立的に、1,4−フェニレン基、隣接しないCH基が窒素で置換された1,4−フェニレン基、1,4−シクロヘキシレン基、１つ又は隣接しない２つのCH2基が酸素又は硫黄原子で置換された1,4−シクロヘキシレン基、1,4−シクロヘキセニレン基を表すが、式中に存在する1,4−フェニレン基は炭素原子数１〜７のアルキル基、アルコキシ基、アルカノイル基、又はハロゲン原子で一つ以上置換されていても良く、mは０から３の整数を表し、W1及びW2はそれぞれ独立的に単結合、-O-、-COO-又は-OCO-を表し、Y1及びY2はそれぞれ独立的に単結合、-COO-、-OCO-、-CH2CH2COO-、-CH2CH2OCO-、-COO CH2CH2-、-OCOCH2CH2-、-CH=N-、-N=CH-、-N=N-、-CH=N-N=CH-又は単結合を表し、Y1及びY2のうち少なくとも一つは-CH=CH-、-CH=CHCOO-、-OCOCH=CH-、-CH=N-、-N=CH-、-N=N-、-CH=N-N=CH-を表しr及びsはそれぞれ独立的に２〜１８の整数を表すが、式中に存在する1,4−フェニレン基は炭素原子数１〜７のアルキル基、アルコキシ基、アルカノイル基、又はハロゲン原子で一つ以上置換されていても良い。）で表される化合物を含有し、一般式（a）で表される化合物のうち少なくとも１種以上Z3がシアノ基で表される化合物を含有する重合性コレステリック液晶組成物であって、シアノ基を有する3〜4量体不純物の濃度をa(ppm)、シアノ基を有する2量体不純物の濃度をb(ppm)、シアノ基を有さない3〜4量体不純物の濃度をc(ppm)、シアノ基を有さない2量体不純物の濃度をd(ppm)としたとき、式（Ｉａ）
Xa=(a+0.19b)+0.0215(c+0.19d)   (Ia)
で表されるXa値が、825以下である重合性コレステリック液晶組成物。
【請求項２】
式（Ｉａ）で表されるXa値が、605以下である請求項１記載の重合性コレステリック液晶組成物。
【請求項３】
一般式（a）で表される化合物の含有量が5％〜70％である請求項１又は２記載の重合性コレステリック液晶組成物。
【請求項４】
一般式（b）で表される化合物の含有量が5％〜90％である請求項１又は２記載の重合性コレステリック液晶組成物。
【請求項５】
重合性液晶材料を配向させた状態において活性エネルギー線硬化させて光学異方体を製造する方法において、重合性液晶材料として、一般式（a）
【化１】
2014139310.tif 000003
（式中、Z3は水素原子、ハロゲン原子、シアノ基又は炭素原子数１〜２０の炭化水素基を表し、Z4は水素原子又はメチル基を表し、W3は単結合、-O-、-COO-又は-OCO-を表し、vは０〜１８の整数を表し、uは０又は１を表し、D、E及びFはそれぞれ独立的に、1,4−フェニレン基、隣接しないCH基が窒素で置換された1,4−フェニレン基、1,4−シクロヘキシレン基、１つ又は隣接しない２つのCH2基が酸素又は硫黄原子で置換された1,4−シクロヘキシレン基、1,4−シクロヘキセニレン基を表すが、式中に存在する1,4−フェニレン基は炭素原子数１〜７のアルキル基、アルコキシ基、アルカノイル基、シアノ基又はハロゲン原子で一つ以上置換されていても良く、Y6及びY7はそれぞれ独立的に単結合、-CH2CH2-、-CH2O-、-OCH2-、-COO-、-OCO-、-C≡C-、-CH=CH-、-CF=CF-、-（CH2）4-、-CH2CH2CH2O-、-OCH2CH2CH2-、-CH=CHCH2CH2-、-CH2CH2CH=CH-、-CH=CHCOO-、-OCOCH=CH-、-CH2CH2COO-、-CH2CH2OCO-、-COO CH2CH2-、-OCOCH2CH2-、-CH=N-、-N=CH-、-N=N-又は-CH=N-N=CH-を表し、Y6及びY7の少なくとも一つは-CH=CH-、-CH=CHCOO-、-OCOCH=CH-、-CH=N-、-N=CH-、-N=N-、-CH=N-N=CH-を表し、
Y8は単結合、-O-、-COO-、-OCO-又は-CH=CHCOO-を表す。）で表される化合物、及び一般式（ｂ）
【化２】
2014139310.tif 000004
（式中、Z5、Z6はそれぞれ独立的に水素原子、又はメチル基を表し、G、H及びIはそれぞれ独立的に、1,4−フェニレン基、隣接しないCH基が窒素で置換された1,4−フェニレン基、1,4−シクロヘキシレン基、１つ又は隣接しない２つのCH2基が酸素又は硫黄原子で置換された1,4−シクロヘキシレン基、1,4−シクロヘキセニレン基を表すが、式中に存在する1,4−フェニレン基は炭素原子数１〜７のアルキル基、アルコキシ基、アルカノイル基、又はハロゲン原子で一つ以上置換されていても良く、mは０から３の整数を表し、W1及びW2はそれぞれ独立的に単結合、-O-、-COO-又は-OCO-を表し、Y1及びY2はそれぞれ独立的に単結合、-COO-、-OCO-、-CH2CH2COO-、-CH2CH2OCO-、-COO CH2CH2-、-OCOCH2CH2-、-CH=N-、-N=CH-、-N=N-、-CH=N-N=CH-又は単結合を表し、Y1及びY2のうち少なくとも一つは-CH=CH-、-CH=CHCOO-、-OCOCH=CH-、-CH=N-、-N=CH-、-N=N-、-CH=N-N=CH-を表しr及びsはそれぞれ独立的に２〜１８の整数を表すが、式中に存在する1,4−フェニレン基は炭素原子数１〜７のアルキル基、アルコキシ基、アルカノイル基、又はハロゲン原子で一つ以上置換されていても良い。）で表される化合物を含有し、一般式（a）で表される化合物のうち少なくとも１種以上Z3がシアノ基で表される化合物を含有し、シアノ基を有する3〜4量体不純物の濃度をa(ppm)、シアノ基を有する2量体不純物の濃度をb(ppm)、シアノ基を有さない3〜4量体不純物の濃度をc(ppm)、シアノ基を有さない2量体不純物の濃度をd(ppm)、重合性コレステリック液晶組成物を硬化させて得られる光学異方体の厚みをe（μｍ）としたとき、式（Ｉ）
x=[(a+0.19b)+0.0215(c+0.19d)]/e   (I)    
で表されるx値が、150以下になるように制御した重合性コレステリック液晶組成物を使用することを特徴とする製造方法。
【請求項６】
式（Ｉ）で表されるx値が、110以下である請求項５記載の製造方法。
【請求項７】
一般式（a）で表される化合物の含有量が5％〜70％である請求項５又は６記載の製造方法。
【請求項８】
一般式（b）で表される化合物の含有量が5％〜90％である請求項５又は６記載の製造方法。