【手続補正書】
【提出日】平成27年5月8日(2015.5.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ａ）硬化性組成物を供給する工程であって、前記硬化性組成物が、
ｉ）ビスフェノールベースのエポキシ樹脂と、
ｉｉ）２００ｇ／当量以下のアミン当量重量を有する、第一アミンおよび第二アミンから選択されるアミン硬化剤と、
ｉｉｉ）少なくとも１種の多エポキシ反応性希釈剤と
を含み、前記多エポキシ反応性希釈剤は、５５〜４００の間のエポキシド当量重量を有し、かつｉ）、ｉｉ）およびｉｉｉ）の総合重量に基づき０．５〜４０重量％で存在するものである、工程；
ｂ）前記硬化性組成物を支持基材上に塗布することにより層を形成する工程；
ｃ）室温〜２５０℃の範囲内の１つ以上の温度で前記層を硬化させる工程；ならびに
ｄ）工程ｃ）によりもたらされる前記層に少なくとも１つのセルを彫刻する彫刻工程
を包含する、印刷版を製造するための方法。
【請求項２】
支持基材に隣接する連続した印刷面を含む印刷版であって、前記連続した印刷面が硬化性組成物から製造された硬化エポキシ組成物であり、前記硬化性組成物が、
ｉ）ビスフェノールベースのエポキシ樹脂と、
ｉｉ）第一アミンおよび第二アミンから選択されるアミン硬化剤であって、前記アミン硬化剤が２００ｇ／当量以下のアミン当量重量を有する、アミン硬化剤と、
ｉｉｉ）多エポキシ反応性希釈剤と
を含み、
前記多エポキシ反応性希釈剤は、前記硬化性組成物の成分の総合重量に基づき０．５〜４０重量％で存在し、かつ５５〜４００の間のエポキシド当量重量を有するものである、印刷版。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１９６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１９６】
【表１２】
2012236416.tif 000001
本発明は以下の実施の態様を含むものである。
［１］ａ）硬化性組成物を供給する工程であって、前記硬化性組成物が、
ｉ）ビスフェノールベースのエポキシ樹脂と、
ｉｉ）２００ｇ／当量以下のアミン当量重量を有する、第一アミンおよび第二アミンから選択されるアミン硬化剤と、
ｉｉｉ）少なくとも１種の多エポキシ反応性希釈剤と
を含み、前記多エポキシ反応性希釈剤は、５５〜４００の間のエポキシド当量重量を有し、かつｉ）、ｉｉ）およびｉｉｉ）の総合重量に基づき０．５〜４０重量％で存在するものである、工程；
ｂ）前記硬化性組成物を支持基材上に塗布することにより層を形成する工程；
ｃ）室温〜２５０℃の範囲内の１つ以上の温度で前記層を硬化させる工程；ならびに
ｄ）工程ｃ）によりもたらされる前記層に少なくとも１つのセルを彫刻する彫刻工程
を包含する、印刷版を製造するための方法。
［２］前記層の硬化工程が、室温で行われる、前記１に記載の方法。
［３］前記層の硬化工程が、前記層を前記範囲内の１つの温度まで加熱すること、または前記層を前記範囲内の第１の温度まで加熱し、そして前記範囲内の第２の温度まで加熱することを含む、前記１に記載の方法。
［４］前記塗布工程が、スピンコーティング、ディップコーティング、スロットコーティング、ロールコーティング、押出コーティング、ブラシコーティング、リングコーティング、粉末コーティング、またはドクターブレードコーティングから選択される、前記１に記載の方法。
［５］前記塗布工程の前に、前記支持基材を室温〜４０℃の温度まで予熱する工程をさらに包含する、前記１に記載の方法。
［６］前記硬化工程の後に、前記層を５０．８〜７６２０μｍの厚さを有するように研削する工程をさらに包含する、前記１に記載の方法。
［７］彫刻工程が、電気機械彫刻工程またはレーザー彫刻工程から選択される、前記１に記載の方法。
［８］前記彫刻工程の後に、前記層の外面を研磨する工程またはフルオロポリマー組成物のコーティングを前記層上に塗布する工程から選択される、追加の工程を実施することをさらに包含する、前記１に記載の方法。
［９］前記多エポキシ反応性希釈剤が、８５〜１２５の間のエポキシド当量重量を有する、前記１に記載の方法。
［１０］前記多エポキシ反応性希釈剤が、７０〜２７５の間のエポキシド当量重量を有する、前記１に記載の方法。
［１１］前記多エポキシ反応性希釈剤が、トリグリシジルエーテルおよびテトラグリシジルエーテルからなる群から選択される、前記１に記載の方法。
［１２］前記多エポキシ反応性希釈剤が、１，１，１−トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル；トリグリシジル−ｐ−アミノフェノール；４−グリシジルオキシ−Ｎ，Ｎ−ジグリシジルアニリン；４，４’−メチレンビス（Ｎ，Ｎ−ジグリシジルアニリン）；ペンタエリトリトールテトラグリシジルエーテル、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラグリシジル−４，４’−メチレン−ビス−ベンゼンアミン、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、およびそれらの組み合わせから選択される、前記１に記載の方法。
［１３］前記硬化性組成物が、前記硬化性組成物の成分の総合重量に基づき３０重量％までのモノエポキシ反応性希釈剤をさらに含む、前記１に記載の方法。
［１４］前記硬化性組成物が、ｐ−ｔ−ブチルフェノールグリシジルエーテル、クレジルグリシジルエーテル、２−エチルヘキシルグリシジルエーテル、またはＣ8〜Ｃ14グリシジルエーテルから選択されるモノエポキシ反応性希釈剤をさらに含む、前記１に記載の方法。
［１５］前記硬化性組成物が、前記硬化性組成物の成分の総合重量に基づき４０重量％までのジエポキシ反応性希釈剤をさらに含む、前記１に記載の方法。
［１６］前記硬化性組成物が、１，４−ブタンジオールジグリシジルエーテル；ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル；およびシクロヘキサンジメタノールジグリシジルエーテルから選択されるジエポキシ反応性希釈剤をさらに含む、前記１に記載の方法。
［１７］前記アミン硬化剤が、トリエチレンテトラミン、ジエチレントリアミン、テトラエチレンペンタミン；トリス−２−アミノエチルアミン；イソホロンジアミン、１，２−ジアミノシクロヘキサン、ビス（４−アミノシクロヘキシル）メタン；脂環式アミン；フェニレンジアミン、４，４’−ジアミノジフェニルメタン、４，４’−ジアミノジフェニルスルホン、ジエチルトルエンジアミン；ｍ−キシリレンジアミン、１，３−ビス（アミノメチルシクロヘキサン）；およびこれらの組み合わせからなる群から選択される、前記１に記載の方法。
［１８］前記硬化性組成物の成分の総合重量に基づき、前記ビスフェノールベースのエポキシ樹脂が４０〜９５重量％で存在し、前記アミン硬化剤が５〜２８重量％で存在し、前記多エポキシ反応性希釈剤が０．５〜２０重量％で存在する、前記１に記載の方法。
［１９］前記ビスフェノールベースのエポキシ樹脂が、２９８〜６０００ｇ／モルの分子量を有するビスフェノールＡをベースとするエポキシ樹脂；３１０〜６０００ｇ／モルの分子量を有するビスフェノールＦをベースとするエポキシ樹脂；およびそれらの組み合わせからなる群から選択される、前記１に記載の方法。
［２０］前記ビスフェノールベースのエポキシ樹脂が、ビスフェノールＡジグリシジルエーテルおよびそのオリゴマー、
【化１】
2012236416.tif 000002
ならびにビスフェノールＦジグリシジルエーテルおよびそのオリゴマー
【化２】
2012236416.tif 000003
（式中、ｘは、０〜約１６であり得る）から選択される、前記１に記載の方法。
［２１］前記硬化性組成物が、ビスフェノールＡベースでもビスフェノールＦベースでもないエポキシ樹脂を少なくとも１種さらに含む、前記２０に記載の方法。
［２２］前記硬化性組成物が、ビスフェノールＡベースでもビスフェノールＦベースでもない、エポキシノボラック樹脂およびエポキシクレゾールノボラック樹脂から選択されるエポキシ樹脂を、少なくとも１種さらに含む、前記２０に記載の方法。
［２３］前記硬化性組成物が、５００ｎｍ未満の少なくとも１つの寸法を有するナノ粒子を３０重量％までさらに含む、前記１に記載の方法。
［２４］前記ナノ粒子が、酸化アルミニウム、コロイドシリカ、ヒュームドシリカ、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム、酸化チタン、酸化タングステン、酸化マグネシウム、炭化チタン、炭化タングステン、炭化ケイ素、窒化ホウ素、粘土、カーボンナノチューブ、カーボンブラック、炭素フィラメント、グラフェン、酸化グラフェン、およびそれらの混合物からなる群の少なくとも１つのメンバーを含む、前記２３に記載の方法。
［２５］前記粘土が、ラポナイト、ベントナイト、モンモリロナイト、ヘクトライト、カオリナイト、ジッカイト、ナクライト、ハロイサイト、サポナイト、ノントロナイト、バイデル石、ボルコンスコアイト（ｖｏｌｈｏｎｓｋｏｉｔｅ）、ソーコナイト、マガディアイト（ｍａｇａｄｉｔｅ）、メドモナイト（ｍｅｄｍｏｎｉｔｅ）、ケニヤアイト（ｋｅｎｙａｉｔｅ）、バーミキュライト、蛇紋岩、アタパルジャイト、クルケアイト、アレタイト（ａｌｌｅｔｉｔｅ）、海泡石、アロフェン、イモゴライト、およびそれらの混合物からなる群の少なくとも１つのメンバーである、前記２４に記載の方法。
［２６］前記支持基材が、シリンダーまたはプレートの形態である、前記１に記載の方法。
［２７］前記ビスフェノールベースのエポキシ樹脂が、ビスフェノールＡジグリシジルエーテルまたはビスフェノールＡジグリシジルエーテルのオリゴマーであり、２９８〜６０００ｇ／ｍｏｌの分子量を有しており；前記アミン硬化剤が、脂肪族アミンであり；そして前記多エポキシ反応性希釈剤が、トリグリシジルエーテルまたはテトラグリシジルエーテルである、前記１に記載の方法。
［２８］前記硬化性組成物が、前記硬化性組成物の成分の総合重量に基づき５０重量％までのナノ粒子をさらに含む、前記２７に記載の方法。
［２９］前記硬化性組成物が、前記硬化性組成物の成分の総合重量に基づき、および黒色珪質顔料およびカーボンブラックから選択される、２５重量％までの顔料をさらに含む、前記２７に記載の方法。
［３０］前記硬化性組成物が、酸化アルミニウム；シリカ；酸化亜鉛；酸化ジルコニウム；酸化チタン；酸化マグネシウム；炭化タングステン；炭化シリコン；炭化チタン；窒化ホウ素；二硫化モリブデン；グラファイト；ポリ（テトラフルオロエチレン）；およびそれらの混合物から選択される１種以上の充填剤をさらに含む、前記２７に記載の方法。
［３１］前記ビスフェノールベースのエポキシ樹脂が、ビスフェノールＡジグリシジルエーテルまたはビスフェノールＡジグリシジルエーテルのオリゴマーであり、かつ２９８〜６０００ｇ／モルの分子量を有しており；前記アミン硬化剤が、テトラエチレンペンタミンであり；そして前記多エポキシ反応性希釈剤が、１，１，１−トリメチロールプロパントリグリシジルエーテルである、前記１に記載の方法。
［３２］前記ビスフェノールベースのエポキシ樹脂が、ビスフェノールＡジグリシジルエーテルまたはビスフェノールＡジグリシジルエーテルのオリゴマーであり、かつ２９８〜６０００ｇ／モルの分子量を有しており；前記アミン硬化剤が、テトラエチレンペンタミンであり；そして前記多エポキシ反応性希釈剤が、４−グリシジルオキシ−Ｎ，Ｎ−ジグリシジルアニリンである、前記１に記載の方法。
［３３］前記ビスフェノールベースのエポキシ樹脂が、ビスフェノールＡジグリシジルエーテルまたはビスフェノールＡジグリシジルエーテルのオリゴマーであり、かつ２９８〜６０００ｇ／モルの分子量を有しており；前記アミン硬化剤が、テトラエチレンペンタミンであり；そして前記多エポキシ反応性希釈剤が、ペンタエリトリトールテトラグリシジルエーテルである、前記１に記載の方法。
［３４］ａ）前記１に記載の方法に従って前記硬化性組成物の硬化層に少なくとも１つの彫刻セルを有する印刷版を製造する工程；
ｂ）前記少なくとも１つのセルに溶剤インクを塗布する工程；および
ｃ）前記セルから印刷適性基材にインクを転移させる工程
を包含する、印刷版を用いた印刷のための方法であって、
前記硬化層は、前記層の重量に基づき≦１０％膨張する、方法。
［３５］支持基材に隣接する連続した印刷面を含む印刷版であって、前記連続した印刷面が硬化性組成物から製造された硬化エポキシ組成物であり、前記硬化性組成物が、
ｉ）ビスフェノールベースのエポキシ樹脂と、
ｉｉ）第一アミンおよび第二アミンから選択されるアミン硬化剤であって、前記アミン硬化剤が２００ｇ／当量以下のアミン当量重量を有する、アミン硬化剤と、
ｉｉｉ）多エポキシ反応性希釈剤と
を含み、
前記多エポキシ反応性希釈剤は、前記硬化性組成物の成分の総合重量に基づき０．５〜４０重量％で存在し、かつ５５〜４００の間のエポキシド当量重量を有するものである、印刷版。
［３６］前記ビスフェノールベースのエポキシ樹脂が、２９８〜６０００ｇ／モルの分子量を有するビスフェノールＡジグリシジルエーテルまたはビスフェノールＡジグリシジルエーテルのオリゴマーであり；前記アミン硬化剤が、脂肪族アミンであり；そして前記多エポキシ反応性希釈剤が、トリグリシジルエーテルまたはテトラグリシジルエーテルである、前記３５に記載の印刷版。
［３７］前記硬化性組成物が、前記硬化性組成物の成分の総合重量に基づき、３０重量％までのナノ粒子をさらに含む、前記３４に記載の印刷版。
［３８］前記硬化性組成物が、エポキシクレゾールノボラック樹脂またはエポキシノボラック樹脂から選択される他のエポキシ樹脂をさらに含み、前記ビスフェノールベースのエポキシ樹脂が、前記ビスフェノールベースのエポキシ樹脂および前記他のエポキシ樹脂の総合重量に基づき少なくとも５０重量％で存在する、前記３４に記載の印刷版。
［３９］前記版が、シリンダーまたはプレートの形態である、前記３４に記載の印刷版。
［４０］前記基材が、金属またはポリマーである、前記３４に記載の印刷版。
［４１］前記硬化性組成物が、前記硬化性組成物の成分の総合重量に基づき１０重量％までの触媒をさらに含む、前記３４に記載の印刷版。
［４２］前記硬化性組成物が、前記硬化性組成物中に存在する成分の総合重量に基づき、４０〜９５重量％の前記ビスフェノールベースのエポキシ樹脂と、５〜２８重量％の前記アミン硬化剤と、０．５〜４０重量％の前記多エポキシ反応性希釈剤と、０〜４０重量％の別のエポキシ樹脂と、０〜４０重量％の二官能性エポキシ反応性希釈剤と、０〜３０重量％の単官能性エポキシ反応性希釈剤と、０〜１０重量％の触媒と、０〜５０重量％のナノ粒子と、０〜１０重量％の樹脂改質剤と、０〜１５重量％の軟化成分と、０〜２５重量％の顔料と、０〜１０重量％の分散剤とを含む、前記３４に記載の印刷版。