(57)【要約】  本発明は、透明基板と、少なくとも透明基板の一方の面上に設けられ、感光性樹脂からなり、複数のマイクロレンズを形成している樹脂層と、透明基板の樹脂層が設けられていない側の面上、または、透明基板の樹脂層が設けられている側の面上であって樹脂層よりも透明基板に近い位置に形成されている、少なくとも感光性樹脂を反応させる光を反射する機能層とを有するマイクロレンズアレイに関する。
2014021232.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
撮像素子の画素アレイと組み合わせて用いられるマイクロレンズアレイであって、
透明基板と、
少なくとも前記透明基板の一方の面上に設けられ、感光性樹脂からなり、複数のマイクロレンズを形成している樹脂層と、
前記透明基板の前記樹脂層が設けられていない側の面上、または、前記透明基板の前記樹脂層が設けられている側の面上であって前記樹脂層よりも前記透明基板に近い位置に形成されている、少なくとも前記感光性樹脂を反応させる光を反射する機能層とを有する
マイクロレンズアレイ。
【請求項２】
撮像素子の画素アレイと組み合わせて用いられるマイクロレンズアレイであって、
透明基板と、
少なくとも前記透明基板の一方の面上に設けられ、光硬化性樹脂からなり、複数のマイクロレンズを形成している樹脂層と、
前記透明基板の前記樹脂層が設けられていない側の面上、または、前記透明基板の前記樹脂層が設けられている側の面上であって前記樹脂層よりも前記透明基板に近い位置に形成されている、少なくとも前記光硬化性樹脂を硬化させる光を反射する機能層とを有する
マイクロレンズアレイ。
【請求項３】
撮像素子の画素アレイと組み合わせて用いられるマイクロレンズアレイであって、
透明基板と、
少なくとも前記透明基板の一方の面上に設けられ、光可溶化性樹脂からなり、複数のマイクロレンズを形成している樹脂層と、
前記透明基板の前記樹脂層が設けられていない側の面上、または、前記透明基板の前記樹脂層が設けられている側の面上であって前記樹脂層よりも前記透明基板に近い位置に形成されている、少なくとも前記光可溶化性樹脂を可溶化させる光を反射する機能層とを有する
マイクロレンズアレイ。
【請求項４】
撮像素子の画素アレイと組み合わせて用いられるマイクロレンズアレイであって、
一方の表面に、複数のマイクロレンズが形成されているガラス製の透明基板と、
前記透明基板の前記マイクロレンズが形成されている面と反対の面上に形成されている、少なくとも紫外線波長領域の光を反射する機能層とを有する
マイクロレンズアレイ。
【請求項５】
前記機能層が、少なくとも紫外線波長領域の光を反射する誘電体多層膜からなる光反射膜である請求項１〜４のうちのいずれか１項に記載のマイクロレンズアレイ。
【請求項６】
前記透明基板が、赤外波長領域の光を吸収する赤外線吸収ガラスである
請求項１〜５のうちのいずれか１項に記載のマイクロレンズアレイ。
【請求項７】
前記透明基板に、赤外波長領域の光を吸収する赤外線吸収剤を含む赤外光吸収膜が積層されている
請求項１〜６のうちのいずれか１項に記載のマイクロレンズアレイ。
【請求項８】
所定の画素ピッチに対応して受光素子が形成されている撮像素子基板と、
前記撮像素子基板の入射面側の上方に固着される、請求項１〜７のいずれか１項に記載のマイクロレンズアレイとを備え、
前記マイクロレンズアレイに含まれる前記複数のマイクロレンズは各々、当該マイクロレンズに入射した光を前記撮像素子基板上の複数の画素に対応する受光素子に受光させ、
前記マイクロレンズアレイが、前記受光素子への紫外線および近赤外線のカット機能を有している
撮像素子パッケージ。
【請求項９】
撮像素子の画素アレイと組み合わせて用いられるマイクロレンズアレイの製造方法であって、
マイクロレンズの材料、または、前記マイクロレンズの形状を透明基板に転写するために用いるフォトレジストの材料に、光硬化性樹脂を用い、
透明基板の一方の面上に、前記光硬化性樹脂を硬化させる光を反射する機能層を設けた後で、前記透明基板の他方の面上または前記機能層の面上に、前記マイクロレンズの材料としての光硬化性樹脂または前記フォトレジストの材料としての光硬化性樹脂を塗布し、
露光装置からみて、前記機能層が前記光硬化性樹脂を塗布した面よりも背面にある状態で光を照射し、前記光硬化性樹脂を露光させる
マイクロレンズアレイの製造方法。
【請求項１０】
撮像素子の画素アレイと組み合わせて用いられるマイクロレンズアレイの製造方法であって、
マイクロレンズの材料、または、前記マイクロレンズの形状を透明基板に転写するために用いるフォトレジストの材料に、光可溶化性樹脂を用い、
透明基板の一方の面上に、前記光可溶化性樹脂を可溶化させる光を反射する機能層を設けた後で、前記透明基板の他方の面上または前記機能層の面上に、前記マイクロレンズの材料としての光可溶化性樹脂または前記フォトレジストの材料としての光可溶化性樹脂を塗布し、
露光装置からみて、前記機能層が前記光可溶化性樹脂を塗布した面よりも背面にある状態で光を照射し、前記光可溶化性樹脂を露光させる
マイクロレンズアレイの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、マイクロレンズアレイ、マイクロレンズアレイと撮像素子基板とを一体化させた撮像素子パッケージおよびマイクロレンズアレイの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
所定の画素ピッチに対応して受光素子群が設けられている撮像素子基板の入射面側の上方にマイクロレンズアレイを置き、該マイクロレンズアレイを介して受光素子に光を入射させて所望の受光信号を得る撮像装置がある。【０００３】
また、近年、ライトフィールドカメラと呼ばれる撮像装置が開発されている。ライトフィールドカメラは、ひとつのマイクロレンズが受けた光を複数の画素に受光させるとともに、各々のマイクロレンズが受光先の画素領域を一部重複させて、マイクロレンズアレイ全体で撮像素子の画素全体をカバーするように設計されたマイクロレンズを撮像素子アレイ基板の上面に配したものである。そのようなマイクロレンズアレイを通して光を撮像素子の画素アレイに入射させることで、奥行き情報を複数の画素に分散させて記録できる。そして、複数の画素に分散させて記録した奥行き情報を基に、例えば、焦点イメージを再構築して、複数の焦点画像や三次元距離画像など多様な画像を得ることができる。【０００４】
このように、マイクロレンズアレイは他の部材との組み合わせ方によって多くの効果が得られるため、様々な用途での使用が期待されている。マイクロレンズアレイの製造に要する時間が短縮されれば、それだけマイクロレンズアレイの生産性が向上するので好ましい。【０００５】
特許文献１には、マイクロレンズアレイを形成している基板の側面に遮光領域を設けることにより、マイクロレンズアレイと液晶表示パネルとの張り合わせ面に塗布された紫外線硬化型接着材の硬化速度を全面にわたって均一にしてパネルギャップ不良の発生を抑制する技術が記載されている。【０００６】
ところで、ＣＣＤ（Ｃｈａｒｇｅ  Ｃｏｕｐｌｅｄ  Ｄｅｖｉｃｅ）やＣＭＯＳイメージセンサ（Ｃｏｍｐｌｅｍｅｎｔａｒｙ  Ｍｅｔａｌ  Ｏｘｉｄｅ  Ｓｅｍｉｃｏｎｄｕｃｔｏｒ  Ｉｍａｇｅ  Ｓｅｎｓｏｒ）等の固体撮像素子を用いた撮像装置には、色調を良好に再現し、かつ鮮明な画像を得るために、各種の光学的機能を持ったフィルタ（光学フィルタ）を備えているものがある。その代表的な例が、固体撮像素子の分光感度を人の視感度に補正するために、近赤外波長領域の光を遮蔽するフィルタ（近赤外線カットフィルタ）であり、通常、撮像レンズと固体撮像素子の間に配置される。【０００７】
また、他の例は、撮像装置内の光学部材が外部から進入する紫外線による劣化を防ぐためや、固体撮像素子の紫外域の感度を補正するために、紫外波長領域またはその一部の光を遮蔽するフィルタ（紫外線カットフィルタ）であり、通常、劣化が生じやすい光学部材を有している光学部品の光入射側のなるべく当該光学部品に近い位置に配置される。【０００８】
例えば、特許文献２には、ＣＣＤカメラにおいて、ＣＣＤパッケージに赤外線カットフィルタを収納する例が示されている。また、特許文献２には、調光用にゲスト−ホスト型液晶素子からなる調光装置を備えた撮像装置において、液晶素子中に用いられる染料分子に過度に紫外線が照射されるのを防ぐために、液晶素子の光入射側に紫外線を吸収または反射するフィルタ材を配する例が記載されている。【０００９】
また、近年では固体撮像素子を用いた撮像装置の小型化が進み、携帯電話等の小型の電子機器に搭載されるようになっている。そして、電子機器自体の小型化、高機能化に伴って撮像装置においても一層の小型化が求められている。このような更なる小型化の要求に応えるため、撮像レンズや撮像素子といった特定の光学機能を実現する光学部品の光入射側の最上層等に、遮蔽したい波長の光を吸収または反射するフィルタ材を積層させて、本来の光学機能とフィルタ機能とを一体化して設けることも行われている。【００１０】
例えば、特許文献２においても、調光装置への紫外線入射を防止するために、調光装置の入射側に位置しているレンズ群の最後尾に紫外線カットフィルタを貼り付ける例が示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１１】
【特許文献１】日本国特開平０６−１４８６２２号公報
【特許文献２】日本国特開２００２−３６５６２１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
しかし、特許文献１、２に記載されている技術は、いずれもマイクロレンズアレイ自体の生産性を向上させるものではない。例えば、特許文献１、２のいずれにおいても、背面側に液晶素子を有しない場合に、あえてマイクロレンズアレイ基板の主面全体に紫外波長領域の光を反射する反射膜を設けようといったことは考慮されていない。【００１３】
そこで、本発明は、生産性に優れるマイクロレンズアレイ、撮像素子パッケージおよびマイクロレンズアレイの製造方法の提供を目的とする。【００１４】
また、本発明は、マイクロレンズアレイと組み合わせて用いられる撮像素子への近赤外カットフィルタの機能を有し、しかも生産性に優れるマイクロレンズアレイ、撮像素子パッケージおよびマイクロレンズアレイの製造方法の提供を目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
本発明によるマイクロレンズアレイは、撮像素子の画素アレイと組み合わせて用いられるマイクロレンズアレイであって、透明基板と、少なくとも前記透明基板の一方の面上に設けられ、感光性樹脂（ｐｈｏｔｏｓｅｎｓｉｔｉｖｅ  ｒｅｓｉｎ  ｃｏｍｐｏｓｉｔｉｏｎ）からなり、複数のマイクロレンズを形成している樹脂層と、透明基板の前記樹脂層が設けられていない側の面上、または、前記透明基板の樹脂層が設けられている側の面上であって樹脂層よりも透明基板に近い位置に形成されている、少なくとも感光性樹脂を反応させる光を反射する機能層とを有する。【００１６】
本発明によるマイクロレンズアレイは、撮像素子の画素アレイと組み合わせて用いられるマイクロレンズアレイであって、透明基板と、少なくとも前記透明基板の一方の面上に設けられ、光硬化性樹脂（ｐｈｏｔｏｃｕｒａｂｌｅ  ｒｅｓｉｎ  ｃｏｍｐｏｓｉｔｉｏｎ）からなり、複数のマイクロレンズを形成している樹脂層と、透明基板の樹脂層が設けられていない側の面上、または、透明基板の樹脂層が設けられている側の面上であって樹脂層よりも透明基板に近い位置に形成されている、少なくとも光硬化性樹脂を硬化させる光を反射する機能層とを有する。【００１７】
本発明によるマイクロレンズアレイは、撮像素子の画素アレイと組み合わせて用いられるマイクロレンズアレイであって、透明基板と、少なくとも前記透明基板の一方の面上に設けられ、光可溶化性樹脂（ｐｈｏｔｏｓｏｌｕｂｌｅ  ｒｅｓｉｎ  ｃｏｍｐｏｓｉｔｉｏｎ）からなり、複数のマイクロレンズを形成している樹脂層と、透明基板の樹脂層が設けられていない側の面上、または、透明基板の樹脂層が設けられている側の面上であって樹脂層よりも透明基板に近い位置に形成されている、少なくとも光可溶化性樹脂を可溶化させる光を反射する機能層とを有する。【００１８】
本発明によるマイクロレンズアレイは、撮像素子の画素アレイと組み合わせて用いられるマイクロレンズアレイであって、一方の表面に、複数のマイクロレンズが形成されているガラス製の透明基板と、透明基板のマイクロレンズが形成されている面と反対の面上に形成されている、少なくとも紫外線波長領域の光を反射する機能層とを有する。【００１９】
また、本発明によるマイクロレンズアレイは、機能層が、少なくとも紫外線波長領域の光を反射する誘電体多層膜からなる光反射膜であってもよい。【００２０】
また、本発明によるマイクロレンズアレイは、透明基板が、赤外波長領域の光を吸収する赤外線吸収ガラスであってもよい。【００２１】
また、本発明によるマイクロレンズアレイは、透明基板に、赤外波長領域の光を吸収する赤外線吸収剤を含む赤外光吸収膜が積層されていてもよい。【００２２】
本発明による撮像素子パッケージは、所定の画素ピッチに対応して受光素子が形成されている撮像素子基板と、撮像素子基板の入射面側の上方に固着される、前述したうちのいずれかのマイクロレンズアレイとを備え、マイクロレンズアレイに含まれる複数のマイクロレンズは各々、当該マイクロレンズに入射した光を撮像素子基板上の複数の画素に対応する受光素子に受光させ、マイクロレンズアレイが、受光素子への紫外線および近赤外線のカット機能を有している。【００２３】
本発明によるマイクロレンズアレイの製造方法は、撮像素子の画素アレイと組み合わせて用いられるマイクロレンズアレイの製造方法であって、マイクロレンズの材料、または、マイクロレンズの形状を透明基板に転写するために用いるフォトレジストの材料に、光硬化性樹脂を用い、透明基板の一方の面上に、光硬化性樹脂を硬化させる光を反射する機能層を設けた後で、透明基板の他方の面上または機能層の面上に、マイクロレンズの材料としての光硬化性樹脂またはフォトレジストの材料としての光硬化性樹脂を塗布し、露光装置からみて、機能層が光硬化性樹脂を塗布した面よりも背面にある状態で光を照射し、光硬化性樹脂を露光させる。【００２４】
本発明によるマイクロレンズアレイの製造方法は、撮像素子の画素アレイと組み合わせて用いられるマイクロレンズアレイの製造方法であって、マイクロレンズの材料、または、マイクロレンズの形状を透明基板に転写するために用いるフォトレジストの材料に、光可溶化性樹脂を用い、透明基板の一方の面上に、光可溶化性樹脂を可溶化させる光を反射する機能層を設けた後で、透明基板の他方の面上または機能層の面上に、マイクロレンズの材料としての光可溶化性樹脂またはフォトレジストの材料としての光可溶化性樹脂を塗布し、露光装置からみて、機能層が光可溶化性樹脂を塗布した面よりも背面にある状態で光を照射し、光可溶化性樹脂を露光させる。本発明のマイクロレンズアレイの製造方法において、フォトレジストとは、感光性樹脂により形成された、後に続くエッチングのためのマスクとなる層をいい、フォトリソプロセスに限らず、インプリントプロセスで形成されてもよい。
【発明の効果】
【００２５】
本発明によれば、生産性に優れるマイクロレンズアレイ、撮像素子パッケージおよびマイクロレンズアレイの製造方法を提供できる。また、本発明によれば、マイクロレンズアレイと組み合わせて用いられる撮像素子への近赤外カットフィルタの機能を有し、しかも生産性に優れるマイクロレンズアレイ、撮像素子パッケージおよびマイクロレンズアレイの製造方法を提供できる。
【図面の簡単な説明】
【００２６】
【図１】図１は、本発明の第１の実施形態によるマイクロレンズアレイ１０を概略的に示す断面図である。
【図２】図２（ａ）〜２（ｇ）は、本発明の第１の実施形態のマイクロレンズアレイ１０の製造方法の一例を示す説明図である。
【図３】図３（ａ）〜３（ｇ）は、本発明の第１の実施形態のマイクロレンズアレイ１０の製造方法の他の例を示す説明図である。
【図４】図４（ａ）〜４（ｇ）は、本発明の第１の実施形態のマイクロレンズアレイ１０の製造方法の他の例を示す説明図である。
【図５】図５は、光反射膜３の有無による光硬化性樹脂の硬化特性の変化を示すグラフである。
【図６】図６（ａ）〜６（ｇ）は、本発明の第１の実施形態のマイクロレンズアレイ１０の製造方法の他の例を示す説明図である。
【図７】図７（ａ）〜７（ｇ）は、本発明の第１の実施形態のマイクロレンズアレイ１０の製造方法の他の例を示す説明図である。
【図８】図８は、本発明の第１の実施形態のマイクロレンズアレイ１０の他の例を概略的に示す断面図である。
【図９】図９は、本発明の第１の実施形態のマイクロレンズアレイ１０の他の例を概略的に示す断面図である。
【図１０】図１０は、本発明の第１の実施形態のマイクロレンズアレイ１０の他の例を概略的に示す断面図である。
【図１１】図１１は、本発明の第１の実施形態のマイクロレンズアレイ１０の他の例を概略的に示す断面図である。
【図１２】図１２は、本発明の第２の実施形態によるマイクロレンズアレイ２０を概略的に示す断面図である
【図１３】図１３（ａ）〜１３（ｅ）は、本発明の第２の実施形態のマイクロレンズアレイ２０の製造方法の一例を示す説明図である。
【図１４】図１４（ａ）〜１４（ｅ）は、本発明の第２の実施形態のマイクロレンズアレイ２０の製造方法の他の例を示す説明図である。
【図１５】図１５は、本発明の第２の実施形態のマイクロレンズアレイ２０の他の例を概略的に示す断面図である。
【図１６】図１６は、本発明の第２の実施形態のマイクロレンズアレイ２０の他の例を概略的に示す断面図である。
【図１７】図１７は、本発明の第２の実施形態のマイクロレンズアレイ２０の他の例を概略的に示す断面図である。
【図１８】図１８は、本発明の第２の実施形態のマイクロレンズアレイ２０の他の例を概略的に示す断面図である。
【図１９】図１９は、本発明による撮像素子パッケージ１００の例を概略的に示す断面図である。
【図２０】図２０は、本発明による撮像素子パッケージ１００の例を概略的に示す断面図である。
【図２１】図２１は、本発明による撮像素子パッケージ１００の例を概略的に示す断面図である。
【図２２】図２２は、本発明による撮像素子パッケージ１００の例を概略的に示す断面図である。
【図２３】図２３は、本発明による撮像装置２００の例を概略的に示す断面図である。
【図２４】図２４は、本発明の一実施例で使用した赤外線吸収色素の吸収スペクトルを示す図である。
【図２５】図２５は、本発明の実施例１及び２のマイクロレンズアレイ１０の分光透過率曲線を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００２７】
（第１の実施形態）
以下、本発明の第１の実施形態について図面を参照して説明する。図１は、本発明の第１の実施形態によるマイクロレンズアレイ１０を概略的に示す断面図である。図１に示すマイクロレンズアレイ１０は、透明基板１と、この透明基板１の一方の透光面上に設けられ、表面に複数のマイクロレンズ２１が形成された樹脂層２と、この透明基板１のもう一方の透光面上に設けられた光反射膜３とを備えている。また、樹脂層２の上にさらに反射防止膜４を備えている。
【００２８】
複数のマイクロレンズ２１は、樹脂層２の表面にアレイ状に配されており、これにより、樹脂層２においてマイクロレンズアレイ構造を形成している。ここで、マイクロレンズアレイ構造とは、複数のマイクロレンズがアレイ状に配されることによって形成される構造体をいう。なお、本発明では、「マイクロレンズアレイ」といった場合には、基板上にマイクロレンズアレイ構造が設けられているものの全体を指すものとする。すなわち、基板上に一体に形成されたマイクロレンズアレイ構造を有している光学部品の総称として用いている。なお、マイクロレンズアレイ構造は、土台となる基板に直接形成されていてもよいし、図１に示すように土台となる基板に積層された樹脂層や、ＳｉＯ２、Ｔａ２Ｏ３などの無機材料層に形成されていてもよい。基板と一体に形成されていれば、たとえ間に他の機能層を有していても基板上に設けられているとみなす。
【００２９】
以下、本実施形態のマイクロレンズアレイ１０を構成する透明基板１、樹脂層２、光反射膜３および反射防止膜４について詳述する。
【００３０】
まず、本実施形態においてマイクロレンズアレイ構造を有する樹脂層２は、紫外波長領域等の光によって硬化する光硬化性樹脂によって、透明基板１の主面に形成されている。
【００３１】
光硬化性樹脂は、光によって硬化するものであって、硬化後において当該マイクロレンズアレイ１０がレンズとして透過すべき波長領域の光を通過させるものであれば特に制限されることなく使用される。例えば、紫外波長領域の光（例えば、波長が２００〜４００ｎｍの光）によって硬化する紫外線硬化樹脂や、赤外波長領域の光によって硬化する赤外線硬化樹脂などが挙げられる。なお、当該マイクロレンズアレイ１０がレンズとして透過すべき波長領域の光が可視波長領域の一部の領域に限定される場合には、それを除いた可視波長領域内の光（例えば、緑波長領域の光）によって硬化する樹脂であってもよい。
【００３２】
透明基板１は、主に光硬化性樹脂を利用してマイクロレンズアレイ構造を形成する際の土台として機能する。なお、同時に、撮像素子と張り合わされてパッケージ化された際に、撮像素子のカバーガラスの役目を果たしたり、また撮像素子への近赤外カット機能を付与、もしくは高める効果を付与することもできる。
【００３３】
透明基板１は、図１に示した構成の場合には、当該マイクロレンズアレイ１０がレンズとして透過すべき波長領域の光と、マイクロレンズアレイ構造を有する樹脂層２の材料である光硬化性樹脂を硬化させる際に使用する光とを通過させるものであればよい。以下では、当該マイクロレンズアレイ１０がレンズとして機能する際に透過すべき波長領域の光が可視波長領域の光である場合を例に説明する。
【００３４】
透明基板１の構成材料としては、ガラス、水晶、ニオブ酸リチウム、サファイヤ等の結晶、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）等のポリエステル樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン酢酸ビニル共重合体等のポリオレフィン樹脂、ノルボルネン樹脂、ポリアクリレート、ポリメチルメタクリレート等のアクリル樹脂、ウレタン樹脂、塩化ビニル樹脂、フッ素樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ポリビニルアルコール樹脂等が挙げられる。これらの材料は、赤外波長領域に対して吸収特性を有するものであってもよい。例えば、赤外線吸収ガラスや赤外線吸収剤を含んだ樹脂であってもよい。
【００３５】
ガラスは、可視波長領域で透明な材料から適宜選択して使用できる。例えば、ホウケイ酸ガラスは、加工が容易で、光学面における傷や異物等の発生を抑制できるために好ましく、アルカリ成分を含まないガラスは、接着性、耐候性等が良好なために好ましい。
【００３６】
また、ガラスとして、フツリン酸塩系ガラスやリン酸塩系ガラスにＣｕＯ等を添加した赤外波長領域に吸収を有する光吸収型のガラスも使用できる。特に、ＣｕＯを添加したフツリン酸塩系ガラスもしくはリン酸塩系ガラスは、可視波長領域の光に対し高い透過率を有するとともに、ＣｕＯが近赤外波長領域の光を十分に吸収するため、良好な近赤外線カット機能を付与できる。
【００３７】
ＣｕＯを含有するフツリン酸塩系ガラスの具体例としては、質量％で、Ｐ２Ｏ５が４６〜７０％、ＡｌＦ３が０．２〜２０％、ＭｇＦ２＋ＣａＦ２＋ＳｒＦ２＋ＢａＦ２＋ＰｂＦ２が１〜５０％、ＬｉＦ＋ＮａＦ＋ＫＦが０〜２５％（ただし、Ｆが０．５〜３２％）、Ｏが２６〜５４％を含有する基礎ガラス１００重量部に対して、ＣｕＯを０．５〜７重量部含有させたものが挙げられる。市販品としては、ＮＦ−５０ガラス（旭硝子社製  商品名）等が例示される。
【００３８】
また、ＣｕＯを含有するフツリン酸塩系ガラスの他の具体例としては、質量％で０．５〜４３％のＰ２Ｏ５、２．５〜７３％のＲＦ２（Ｒは原子価が２価の金属であるＢａ，Ｓｒ，Ｃａ，Ｍｇ，ＺｎおよびＰｂから選ばれる少なくとも１種である）、０〜２２％のＲ′Ｆ（Ｒ′は原子価が１価の金属であるＬｉ，ＮａおよびＫから選ばれる少なくとも１種である）、０〜７１％のＲ″Ｆｍ（Ｒ″は原子価が３〜５価の金属であるＬａ，Ｙ，Ｇｄ，Ｓｉ，Ｂ，Ｚｒ，ＴａおよびＹｂから選ばれる少なくとも１種であり、ｍはＲ″の原子価に相当する数である）を含有し、さらに金属酸化物を以下の式を満足するように含有する基礎ガラス１００重量部と、０．２〜１５重量部のＣｕＯとを含むものが挙げられる。市販品としては、Ｃ５０００ガラス（ＨＯＹＡ社製  商品名）等が例示される。
ｙ／（ｘ＋ｙ）＝０．０５〜０．９５
（式中ｘは金属酸化物（Ｐ２Ｏ５）を除く）の合量であり、ｙは全弗化物の合量である。）
【００３９】
また、ＣｕＯを含有するフツリン酸塩系ガラスの他の具体例としては、カチオン％表示で、Ｐ５＋が２３〜４１％、Ａｌ３＋が４〜１６％、Ｌｉ＋が１１〜４０％、Ｎａ＋が３〜１３％、Ｒ２＋が１２〜５３％（ただし、Ｒ２＋は、Ｍｇ２＋、Ｃａ２＋、Ｓｒ２＋、Ｂａ２＋およびＺｎ２＋の合計量）、およびＣｕ２＋が２．６〜４．７％を含むと共に、アニオン％表示で、Ｆ−が２５〜４８％およびＯ２−が５２〜７５％を含み、実質的にヒ素および鉛を含まず、液相温度が７５０℃以下であるものが挙げられる。市販品としては、ＣＤ５０００ガラス（ＨＯＹＡ社製  商品名）等が例示される。
【００４０】
この他にも、透明基板１の材料として、貼り合わせ先となる撮像素子基板または撮像素子パッケージ（以下、単に被貼着部という。）と同じまたはそれと近い線膨張係数を有する材料を用いると、熱膨張係数の違いによる昇温時のマイクロレンズアレイと撮像素子の画素アレイの位置ずれによる集光スポットのずれを防止でき、好ましい。
【００４１】
例えば、被貼着部の材質がシリコンであれば、線膨張係数が０．３×１０−６〜１１×１０−６／Ｋ近傍の材料が好適であり、好ましくは線膨張係数が０．３×１０−６〜６×１０−６／Ｋ近傍の材料がより好適であり、さらに好ましくは線膨張係数が２×１０−６〜４×１０−６／Ｋ近傍の材料がさらに好適である。
【００４２】
また、例えば、被貼着部の材質がゲルマニウムであれば、線膨張係数が０．３×１０−６〜１４×１０−６／Ｋ近傍の材料が好適であり、好ましくは線膨張係数が３×１０−６〜９×１０−６／Ｋ近傍の材料がより好適であり、さらに好ましくは線膨張係数が５×１０−６〜７×１０−６／Ｋ近傍の材料がさらに好適である。
【００４３】
また、例えば、被貼着部の材質がアルミナ等のセラミックスであれば、線膨張係数が０．３×１０−６〜１５×１０−６／Ｋ近傍の材料が好適であり、好ましくは線膨張係数が４×１０−６〜１０×１０−６／Ｋ近傍の材料がより好適であり、さらに好ましくは線膨張係数が６×１０−６〜８×１０−６／Ｋ近傍の材料がさらに好適である。
【００４４】
また、透明基板１の材料は、α線放出量が少ないものの方がα線に起因する撮像素子のノイズ発生、撮像素子のダメージを抑制できるため好ましい。例えば、０．０１ｃ／ｃｍ２・ｈｒ以下が好ましく、０．００５ｃ／ｃｍ２・ｈｒ以下がより好ましい。
【００４５】
透明基板１の厚みは、特に限定されないが、小型化、軽量化を図る点からは、０．１〜３ｍｍの範囲が好ましく、０．１〜１ｍｍの範囲がより好ましい。
【００４６】
光反射膜３は、主にマイクロレンズアレイ構造を有する樹脂層２の形成を促進するために設けられるものである。従って、光反射膜３は、少なくとも樹脂層２の材料である光硬化樹脂を硬化する際に使用する光を反射する効果を有していればよい。なお、同時に、近赤外線カットフィルタ機能を付与、もしくは高める効果を付与することも可能である。
【００４７】
例えば、光反射膜３を紫外・赤外光反射膜３として構成する場合には、誘電体層Ａと、誘電体層Ａが有する屈折率よりも高い屈折率を有する誘電体層Ｂとを、スパッタリング法や真空蒸着法等により、交互に積層した誘電体多層膜から構成してもよい。
【００４８】
誘電体層Ａを構成する材料としては、屈折率が１．６以下、好ましくは１．２〜１．６の材料が使用される。具体的には、シリカ（ＳｉＯ２）、アルミナ、フッ化ランタン、フッ化マグネシウム、六フッ化アルミニウムナトリウム等が使用される。また、誘電体層Ｂを構成する材料としては、屈折率が１．７以上、好ましくは１．７〜２．５の材料が使用される。具体的には、チタニア（ＴｉＯ２）、ジルコニア、五酸化タンタル、五酸化ニオブ、酸化ランタン、イットリア、酸化亜鉛、硫化亜鉛等が使用される。なお、屈折率は、波長５５０ｎｍの光に対する屈折率をいう。
【００４９】
誘電体多層膜は、前述したスパッタリング法や真空蒸着法の他、イオンビーム法、イオンプレーティング法、ＣＶＤ法等によっても形成できる。スパッタリング法やイオンプレーティング法は、いわゆるプラズマ雰囲気処理であることから、特に近赤外線吸収ガラスを用いた透明基板１に対する密着性を向上できる。
【００５０】
反射防止膜４は、当該マイクロレンズアレイ１０に入射する光の反射を防止することにより透過率を向上させ、効率良く入射光を利用する機能を有するもので、従来より知られる材料及び方法により形成できる。具体的には、反射防止膜４は、スパッタリング法、真空蒸着法、イオンビーム法、イオンプレーティング法、ＣＶＤ法等により形成したシリカ、チタニア、五酸化タンタル、フッ化マグネシウム、ジルコニア、アルミナ等の１層以上の膜や、ゾルゲル法、塗布法等により形成したシリケート系、シリコーン系、フッ化メタクリレート系等から構成される。反射防止膜４の厚みは、通常、１００〜６００ｎｍの範囲である。なお、反射防止膜４は省略してもよいが、効率よく入射光を利用するために、備えている方が好ましい。
【００５１】
なお、本発明においては、透明基板１の光反射膜３が形成される面とは反対側の面に、反射防止膜４に代えて、あるいは反射防止膜４と透明基板１との間に、少なくとも紫外波長領域の光を反射する誘電体多層膜からなる第２の光反射膜を設けてもよい。なお、第２の光反射膜は、紫外波長領域および赤外波長領域の光を反射する誘電体多層膜であってもよい。
【００５２】
第２の光反射膜を構成する誘電体多層膜は、特に限定されるものではなく、光反射膜３を構成する誘電体多層膜と、同様の材料を用いて同様の方法で形成できる。光反射膜３を、前述した入射角依存性を低減した誘電体多層膜で構成した場合には、第２の光反射膜は、次のような誘電体多層膜で構成することが好ましい。
【００５３】
すなわち、この誘電体多層膜は、屈折率が１．６以下の低屈折率の誘電体層Ａと、屈折率が２以上の高屈折率の誘電体層Ｂとからなる単位誘電体層を３層以上積層したものである。
【００５４】
次に、本実施形態のマイクロレンズアレイ１０の製造方法について説明する。図２（ａ）〜２（ｇ）は、本実施形態のマイクロレンズアレイ１０の製造方法の一例を示す説明図である。
【００５５】
図２（ａ）〜２（ｇ）に示す例では、まず透明基板１の一方の主面全体に、光反射膜３を形成する（図２（ａ））。光反射膜３として、例えば、紫外波長領域の光（例えば、波長が２００〜４００ｎｍの光全部またはその一部）を反射する誘電体多層膜を形成してもよい。光反射膜３の形成方法は既に説明したとおりである。例えば、誘電体層Ａと、誘電体層Ａが有する屈折率よりも高い屈折率を有する誘電体層Ｂとを、スパッタリング法や真空蒸着法等を用いて交互に積層することにより、形成する。
【００５６】
次いで、光反射膜３が形成されている透明基板１のもう一方の主面に、マイクロレンズアレイ構造を有する樹脂層２を形成する（図２（ｂ）〜２（ｆ））。
【００５７】
図２（ａ）〜２（ｇ）に示す方法では、予め、形成したい樹脂層２のマイクロレンズアレイ構造を有する側の表面形状に対応した透明モールド８０１を用意しておく（図２（ｂ））。このとき、透明モールド８０１の表面には、被転写型材（本例では、光硬化性樹脂）との剥離性を高めるために、離型処理として、ポリマー系のＳＡＭ（自己組織単分子モノマー）膜やＤＬＣ（ダイヤモンドライクカーボン）膜を塗布してもよい。透明モールドの材質は、ガラスや樹脂などが使用できる。
【００５８】
次に、透明基板１の光反射膜３が形成されていない側の主面上に、インプリント材料として、樹脂層２の材料である光硬化性樹脂２Ａを塗布する（図２（ｃ））。このとき、個々のマイクロレンズ２１が形成される位置に対応して、光硬化性樹脂２Ａを選択的に塗布してもよい。また、塗布に先立って、透明基板１に対する密着性を高めるために、透明基板１の表面にヘキサメチルジシラザン（ＨＭＤＳ）、シランカップリング材等によるカップリング処理を行ってもよい。
【００５９】
その後、塗布した光硬化性樹脂２Ａに透明モールド８０１を押し付けて光硬化性樹脂２Ａを透明基板１上に伸ばし広げることにより、光硬化性樹脂２Ａを透明モールド８０１の形状すなわちマイクロレンズアレイ構造を有する樹脂層２の表面形状に成形する（図２（ｄ））。なお、図２（ｄ）において、Ｆは押力を表している。
【００６０】
そして、成形された光硬化性樹脂２Ａに透明モールド８０１を介して光照射を行い、光硬化性樹脂２Ａを光硬化させる（図２（ｅ））。照射する光Ｌは、例えば、光硬化性樹脂２Ａが紫外波長領域の光によって硬化するものであれば、少なくともそのような紫外波長領域の光を含む光を照射する。本実施形態では、樹脂層２となる光硬化性樹脂２Ａが塗布された面よりも裏面側、すなわち露光装置からみて光硬化性樹脂２Ａの背面に、紫外波長領域の光を反射する誘電体多層膜からなる光反射膜３が設けられている。すると、光硬化性樹脂２Ａを硬化させる光は、光硬化性樹脂２Ａを通過した後に、光反射膜３で反射されて、再度光硬化性樹脂２Ａに戻ることになる。すなわち、光反射膜３があることにより、光硬化性樹脂２Ａの硬化に寄与でき、光硬化性樹脂２Ａを速かに硬化できる。
【００６１】
その後、透明モールド８０１を離型して、透明基板１上にマイクロレンズアレイ構造すなわちアレイ状に並んだ複数のマイクロレンズ２１を有する樹脂層２を得る（図２（ｆ））。
【００６２】
最後に、その樹脂層２のマイクロレンズアレイ構造が形成されている側の面上に反射防止膜４を形成して、マイクロレンズアレイ１０を得る（図２（ｇ））。ここで、第２の光反射膜を備える場合には、反射防止膜４に代えてまたは反射防止膜４を形成する前に、第２の光反射膜を形成してもよい。なお、反射防止膜４と透明基板１との間、例えば、透明基板１と樹脂層２との間に第２の光反射膜を設ける場合には、図２（ａ）において、透明基板１の両面に、光反射膜を形成し、一方を光反射膜３、他方を第２の光反射膜とすればよい。
【００６３】
また、本実施形態のマイクロレンズアレイ１０は、次に示す方法によっても作製できる。図３（ａ）〜３（ｇ）は、本実施形態のマイクロレンズアレイ１０の製造方法の他の例を示す説明図である。
【００６４】
図３（ａ）〜３（ｇ）に示す例においても、まず透明基板１の一方の主面全体に、光反射膜３を形成する（図３（ａ））。光反射膜３として、例えば、紫外波長領域の光（例えば、波長が２００〜４００ｎｍの光全部またはその一部）を反射する誘電体多層膜を形成してもよい。
【００６５】
次いで、光反射膜３が形成されている透明基板１のもう一方の主面に、マイクロレンズアレイ構造を有する樹脂層２を形成する（図３（ｂ）〜３（ｆ））。
【００６６】
図３（ａ）〜３（ｇ）に示す方法では、まず透明基板１の光反射膜３が形成されていない側の表面全体に、フォトリソ材料として、樹脂層２の材料である光硬化性樹脂２Ａを塗布して樹脂膜を形成する（図３（ｂ））。光硬化性樹脂の塗布方法としては、スピンコート法、バーコート法、ディップコート法、キャスト法、スプレーコート法、ビードコート法、ワイヤーバーコート法、ブレードコート法、ローラーコート法、カーテンコート法、スリットダイコート法、グラビアコート法、スリットリバースコート法、マイクログラビア法、コンマコート法等を使用できる。塗布は、複数回に分けて実施してもよい。また、塗布に先立って、透明基板１に対する密着性を高めるために、透明基板１の表面にヘキサメチルジシラザン（ＨＭＤＳ）、シランカップリング材等によるカップリング処理を行ってもよい。
【００６７】
次に、樹脂層２におけるマイクロレンズ２１に対応する位置を開口させたフォトマスク８０２を介して、光硬化性樹脂２Ａに光Ｌを照射する（図３（ｃ））。照射する光は、例えば、光硬化性樹脂２Ａが紫外波長領域の光によって硬化するものであれば、少なくともそのような紫外波長領域の光を含む光を照射する。これによって、光が照射された部分の光硬化性樹脂２Ａが硬化する。図３（ａ）〜３（ｇ）に示す例においても、露光装置からみて光硬化性樹脂２Ａの背面に、紫外波長領域の光を反射する誘電体多層膜からなる光反射膜３が設けられている。このような位置関係に光反射膜３があることにより、光硬化性樹脂２Ａの硬化に寄与でき、光硬化性樹脂２Ａを速かに硬化できる。
【００６８】
この後、未照射部の光硬化性樹脂２Ａを現像により選択的に除去することにより、透明基板１上のマイクロレンズ２１を形成したい位置に、光硬化された樹脂による断面形状が矩形のパターン（以下、その一つ一つをパターン２Ａという。）が残された状態になる（図３（ｄ））。現像は、ウエット現像、ドライ現像等が用いられる。ウエット現像の場合は、アルカリ性水溶液、水系現像液、有機溶剤等、光硬化性樹脂２Ａの種類に対応した現像液を用いて、ディップ方式、スプレー方式、パドル方式、ブラッシング、スラッピング等の公知の方法により行える。
【００６９】
次に、サーマルリフローにより、図３（ｄ）の現像工程で残された光硬化された樹脂による各パターン２Ａを溶融させ、再流動させる（図３（ｅ））。なお、図３（ｅ）において、８０３は加熱装置を表している。
【００７０】
所定時間の加熱により、透明基板１上にマイクロレンズアレイ構造すなわちアレイ状に並んだ複数のマイクロレンズ２１を有する樹脂層２を得る（図３（ｆ））。
【００７１】
なお、図３（ｃ）の露光工程から図３（ｆ）のサーマルリフロー工程完了までの一連の工程に代わって、グレースケールマスクを用いたフォトリソを行い、光硬化性樹脂２Ａに曲面形状を付与する一連の工程（後述の図４（ｃ）〜４（ｆ）に示す工程）を行うことも可能である。
【００７２】
最後に、その樹脂層２のマイクロレンズアレイ構造が形成されている側の面上に反射防止膜４を形成して、マイクロレンズアレイ１０を得る（図３（ｇ））。本例でも同様に、第２の光反射膜を備える場合には、ここで、反射防止膜４に代えてまたは反射防止膜４を形成する前に、第２の光反射膜を形成してもよい。なお、反射防止膜４と透明基板１との間、例えば、透明基板１と樹脂層２との間に第２の光反射膜を設ける場合には、図３（ａ）において、透明基板１の両面に、光反射膜を形成し、一方を光反射膜３とし、他方を第２の光反射膜とすればよい。
【００７３】
図４（ａ）〜４（ｇ）は、本実施形態のマイクロレンズアレイ１０の製造方法の他の例を示す説明図である。なお、図４（ａ），４（ｂ）および４（ｇ）の工程は、図３（ａ），３（ｂ）および３（ｇ）と同じため、説明を省略する。
【００７４】
図４（ｃ）〜４（ｆ）では、グレースケールマスクを用いたフォトリソ工程を含む一連の工程を行う。図４（ｃ）では、フォトマスク８０２として、マイクロレンズ２１の各レンズ形状を基に設計された所定の透過光量分布を有しているグレースケールのマスクを用いて、光硬化性樹脂２Ａに光Ｌを照射する。本例の場合、例えば、レンズの頂点付近に対応する位置など現像工程において残存部分を多くしたい領域ほど透過率が高く、レンズとレンズの隙間に対応する位置など現像工程において残存部分を少なくしたい領域ほど透過率が低くなるよう制御された透過光量分布を有しているグレースケールマスクを用いる。
【００７５】
次いで、未感光部の光硬化性樹脂２Ａを現像により選択的に除去する（図４（ｄ））。これにより、透明基板１上のマイクロレンズ２１を形成したい位置に、光硬化された樹脂による断面形状が凸球面形状のパターン２Ａが形成された状態になる。なお、フォトマスクの透過光量分布を制御することにより、球面形状の各パターン２Ａを隙間無く形成できる。
【００７６】
次の図４（ｅ）は、ポストベーク工程である。所定時間の加熱により、フォトレジスト中の樹脂間の反応を進め、下地との密着性やエッチング耐性を向上させる。以上の工程により、透明基板１上にマイクロレンズアレイ構造すなわちアレイ状に並んだ複数のマイクロレンズ２１を有する樹脂層２を得る（図４（ｆ））。
【００７７】
このように、本実施形態のマイクロレンズアレイ１０においては、樹脂層２のマイクロレンズアレイ構造を有する側の表面を上面としてみた場合に、その背面側に光反射膜３を備えるので、硬化に要する時間を短縮できる。従って、短時間に樹脂層２を形成でき、その結果マイクロレンズアレイ１０の生産性を向上できる。また、光反射膜３または透明基板１が赤外線を吸収または反射する場合には、製造時間の短縮化による生産性の向上効果に加えて、撮像素子への近赤外カットフィルタの機能を有するマイクロレンズアレイを提供できる。さらに、透明基板１に耐熱性や接着性、耐候性等が高いガラス材料を用いれば、マイクロレンズアレイ１０の耐久性を向上できる。
【００７８】
図５は、光反射膜３による効果を確認するために、透明基板１の一方の主面に光反射膜３を設けずに、樹脂層２を形成した場合（図５における「光反射膜なし」）と、図１に示すように、透明基板１の一方の主面に光反射膜３を設けた透明基板１の他方の表面に樹脂層２を形成した場合（図５における「光反射膜あり」）の、光硬化性樹脂２Ａに対する露光時間と、硬化した光硬化性樹脂２Ａの反応率の関係を調べた結果を示したグラフである。光硬化性樹脂２Ａへの露光量が不十分な場合、硬化する光硬化性樹脂２Ａの反応率が小さくなる。
【００７９】
グラフから明らかなように、光反射膜３を背面に有する光硬化性樹脂２Ａは短時間でも速やかに硬化しているのに対し、光反射膜３を有しない光硬化性樹脂２Ａは硬化するのに時間がかかっており、光硬化性樹脂２Ａの硬化性に対する光反射膜３の効果が確認できる。
【００８０】
なお、これまでの説明では、マイクロレンズアレイ構造を有する樹脂層２の材料に光硬化性樹脂を用いる例を示したが、マイクロレンズの材料は感光性樹脂であればよく、例えば光可溶化性樹脂を用いることも可能である。
【００８１】
フォトリソプロセスに用いられる感光性樹脂には、光で不溶化するネガ型と光で可溶化するポジ型があり、上述の光硬化性樹脂は一般にネガ型感光性樹脂組成物（ｎｅｇａｔｉｖｅ  ｐｈｏｔｏｓｅｎｓｉｔｉｖｅ  ｒｅｓｉｎ  ｃｏｍｐｏｓｉｔｉｏｎ）と呼ばれている。光硬化性樹脂の場合、露光により感光部（照射部）が硬化し、現像液で現像することにより未感光部が洗い流されて、感光部が残る。一方、光可溶化性樹脂は、ポジ型感光性樹脂組成物（ｐｏｓｉｔｉｖｅ  ｐｈｏｔｏｓｅｎｓｉｔｉｖｅ  ｒｅｓｉｎ  ｃｏｍｐｏｓｉｔｉｏｎ）とも呼ばれるもので、露光により感光部が可溶化し、現像液で現像することにより感光部が洗い流されて、未感光部が残る。
【００８２】
樹脂層２の材料としての光可溶化性樹脂は、光によって可溶化するものであって、光照射後の未感光部において、ブリーチング後にマイクロレンズアレイがレンズとして透過すべき波長領域の光を通過させるものであれば特に制限なく使用される。
【００８３】
また、光可溶化性樹脂を用いる場合、透明基板１は、当該マイクロレンズアレイ１０がレンズとして透過すべき波長領域の光と、マイクロレンズアレイ構造を有する樹脂層２の材料である光可溶化性樹脂を反応させる際に使用する光とを通過させるものとする。また、製造工程では、フォトマスク８０２として、上述したマスクに対してネガポジが反転した、より具体的には開口部分または面内の開口比率もしくは透過率の高低が反転したマスクを使用する。
【００８４】
図６（ａ）〜６（ｇ）は、樹脂層２の材料に光可溶化性樹脂を用いる場合のマイクロレンズアレイ１０の製造方法の一例を示す説明図である。なお、図６（ａ）〜６（ｇ）では、６（ｇ）以降の工程は、図３（ｆ）以降の工程と同じであるため図示省略している。また、図６（ａ）に示す工程は図３（ａ）に示す工程と同様のため、以下説明を省略する。
【００８５】
図３（ａ）と同様の方法により光反射膜３を形成すると、次いで、透明基板１の光反射膜３が形成されていない側の表面全体に、フォトリソ材料として、樹脂層２の材料である光可溶化性樹脂２Ｃを塗布して樹脂膜を形成する（図６（ｂ））。光可溶化性樹脂の塗布方法としては、光硬化性樹脂の塗布方法として示したものが同様に使用できる。
【００８６】
次に、樹脂層２におけるマイクロレンズ２１のレンズとレンズの隙間に対応する位置を開口させたフォトマスク８０２を介して、形成した樹脂膜に光Ｌを照射する（図６（ｃ））。照射する光は、例えば、光可溶化性樹脂２Ｃが紫外波長領域の光によって反応するものであれば、少なくともそのような紫外波長領域の光を含む光を照射する。これによって、光が照射された部分の光可溶化性樹脂２Ｃが可溶化する。図６（ａ）〜６（ｇ）に示す例においても、露光装置からみて光可溶化性樹脂２Ｃの背面に、紫外波長領域の光を反射する誘電体多層膜からなる光反射膜３が設けられている。このような位置関係に光反射膜３があることにより、光可溶化性樹脂２Ｃの反応に寄与でき、光可溶化性樹脂２Ｃを速かに可溶化できる。
【００８７】
この後、樹脂膜の感光部において可溶化した光可溶化性樹脂２Ｃを現像により溶解させて選択的に除去することにより、透明基板１上のマイクロレンズ２１を形成したい位置に、溶解された樹脂の残存部分による断面形状が矩形のパターン（以下、その一つ一つをパターン２Ｃという。）が残された状態になる（図６（ｄ））。現像は、ウエット現像、ドライ現像等が用いられる。ウエット現像の場合は、アルカリ性水溶液、水系現像液、有機溶剤等、光可溶化性樹脂２Ｃの種類に対応した現像液を用いて、ディップ方式、スプレー方式、パドル方式、ブラッシング、スラッピング等の公知の方法により行える。
【００８８】
次いで、各パターン２Ｃが形成されている面の全面を再度露光する（図６（ｅ））。この工程は、ブリーチングと呼ばれ、現像後に再露光することにより、未反応のＰＡＣ（Ｐｈｏｔｏ  Ａｃｔｉｖｅ  Ｃｏｍｐｏｕｎｄ）を反応させ透過率を上げる。
【００８９】
以降の工程は、図３（ａ）〜３（ｇ）と同様である。すなわち、サーマルリフローにより、現像工程で残された樹脂による各パターン２Ｃを溶融させ、再流動させて、透明基板１上にマイクロレンズアレイ構造すなわちアレイ状に並んだ複数のマイクロレンズ２１を有する樹脂層２を得る（図６（ｆ），６（ｇ））。なお、本例においても、図６（ｃ）の露光工程から図６（ｇ）のサーマルリフロー工程完了までの一連の工程に代わって、グレースケールマスクを用いたフォトリソ工程を含む一連の工程（後述の図７（ｃ）〜７（ｇ）に示す工程）を行い、光可溶化性樹脂２Ｃによる樹脂膜に球面形状を付与してもよい。
【００９０】
図７（ａ）〜７（ｇ）は、光可溶化性樹脂を用いたマイクロレンズアレイ１０の製造方法の他の例を示す説明図である。図７（ｃ）〜７（ｆ）に示す工程は、樹脂層２の材料に光可溶化性樹脂を用いていることから、図４（ｃ）〜４（ｆ）に示した工程と比べて、ネガポジが反転したフォトマスク８０２を使用している点、および現像工程（図７（ｄ））とポストベーク工程（図７（ｆ））の間にブリーチング工程（図７（ｅ））が追加されている点が異なる。なお、他の点に関しては図４（ａ）〜４（ｇ）と同様である。
【００９１】
図７（ｃ）では、フォトマスク８０２として、マイクロレンズ２１の各レンズ形状を基に設計された所定の透過光量分布を有しているグレースケールのマスクを用いて、光可溶化性樹脂２Ｃによる樹脂膜に光Ｌを照射する。本例の場合、例えば、レンズの頂点付近に対応する位置など現像工程において残存部分を多くしたい領域ほど透過率が低く、レンズとレンズの隙間に対応する位置など現像工程において残存部分を少なくしたい領域ほど透過率が高くなるよう制御された透過光量分布を有しているグレースケールマスクを用いる。
【００９２】
この後、樹脂膜の感光部において可溶化した光可溶化性樹脂２Ｃを現像により溶解させて選択的に除去することにより、透明基板１上のマイクロレンズ２１を形成したい位置に、溶解された樹脂の残存部分による断面形状が凸球面形状のパターン（以下、その一つ一つをパターン２Ｃという。）が形成された状態になる（図７（ｄ））。本例においても、フォトマスクの透過光量分布を制御することにより、球面形状の各パターン２Ｃを隙間無く形成できる。
【００９３】
このようにして球面形状のパターン２Ｃを有する樹脂層２を得ると、各パターン２Ｃが形成されている面の全面を再度露光した上で（図７（ｅ））、ポストベークを行う（図７（ｆ））。以降は、図３（ｆ）以降に示す工程と同様である。
【００９４】
また、図８〜図１１は、本実施形態のマイクロレンズアレイ１０の他の例を概略的に示す断面図である。図８に示すように、本実施形態のマイクロレンズアレイ１０は、透明基板１の一方の面上に、光反射膜３と樹脂層２とがこの順番に積層された構成であってもよい。このような構成であっても、樹脂層２のマイクロレンズアレイ構造を有する側の背面側が光反射膜３となる位置に露光装置を備えることによって、硬化または可溶化に要する時間を短縮できる。
【００９５】
なお、図８に示す構成の場合、透明基板１の材料として、紫外波長領域に対して吸収特性を有するものを使用できる。なお、透明基板１と樹脂層２の間に光反射膜３を設ける場合には、図８に示すように、樹脂層２の上だけでなく、透明基板１のもう一方の面上にも反射防止膜４（より具体的には、反射防止膜４−２）を備えた方がより好ましい。
【００９６】
また、図９に示すように、本実施形態のマイクロレンズアレイ１０は、透明基板１と反射防止膜４（より具体的には、反射防止膜４−２）との間に、赤外光吸収膜５を備えていてもよい。赤外光吸収膜５は、透明基板１と光反射膜３の間に設けられていてもよい。
【００９７】
赤外光吸収膜５は、例えば、赤外波長領域の光を吸収する赤外線吸収剤を含む透明樹脂から構成される。透明樹脂は、可視波長領域の光を透過するものであればよく、例えば、アクリル樹脂、スチレン樹脂、ＡＢＳ樹脂、ＡＳ樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリオレフィン樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、アセテート系樹脂、セルロース系樹脂、ポリエステル樹脂、アリルエステル樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミドエーテル樹脂、ポリアミドイミド樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、ウレア樹脂等が挙げられる。
【００９８】
また、赤外波長領域の光を吸収する赤外線吸収剤としては、ＩＴＯ（Ｉｎ２Ｏ３−ＴｉＯ２系）、ＡＴＯ（ＺｎＯ−ＴｉＯ２系）、ホウ化ランタン等の無機微粒子や、シアニン系化合物、フタロシアニン系化合物、ナフタロシアニン系化合物、ジチオール金属錯体系化合物、ジイモニウム系化合物、ポリメチン系化合物、フタリド化合物、ナフトキノン系化合物、アントラキノン系化合物、インドフェノール系化合物等の有機系色素が挙げられる。
【００９９】
その他、無機微粒子として、少なくともＣｕ及び／またはＰを含む酸化物の結晶子からなり、数平均凝集粒子径が５〜２００ｎｍのものであり、好ましくは、下式（１）で表わされる化合物の結晶子からなり、数平均凝集粒子径が５〜２００ｎｍのものが使用できる。
【０１００】
Ａ１／ｎＣｕＰＯ４  ・・・式（１）
（式中、Ａは、アルカリ金属（Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｒｂ、Ｃｓ）、アルカリ土類金属（Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ）及びＮＨ４からなる群より選ばれる少なくとも１種であり、添字のｎは、Ａがアルカリ金属またはＮＨ４の場合は１であり、Ａがアルカリ土類金属の場合は２である。）
【０１０１】
このような結晶子からなるものは、結晶構造に起因する赤外線吸収特性を維持でき、また、結晶子が微粒子であるため、赤外光吸収膜５中に高濃度で含有でき、単位長あたりの吸収能を大きくできることから好ましい。
【０１０２】
無機微粒子は、耐候性、耐酸性、耐水性等の向上や表面改質によるバインダ樹脂との相溶性の向上を目的に、公知の方法で表面処理がされていてもよい。
【０１０３】
また、有機系色素として、近赤外波長領域の透過率を広範囲に抑制させる色素が好ましく、上記記載の化合物が例示されるが、近赤外線吸収層において４５０〜６００ｎｍの可視波長帯域を高透過とし、６９５〜７２０ｎｍの近赤外波長帯域を低透過（遮光）とし、その境界領域を急峻にする作用を有する近赤外吸収色素（Ａ１）を含有することが好ましく、その吸収スペクトルの最大吸収ピークにおけるλｍａｘが６９５〜７２０ｎｍの領域にあり、かつ吸収スペクトルの最大吸収ピークにおける半値全幅は６０ｎｍ以下である近赤外吸収色素がより好ましい。
【０１０４】
また、近赤外吸収色素（Ａ１）としては、その吸収スペクトルが上記特徴を有する以外に、その吸収スペクトルにおいて、上記最大吸収ピーク以外に半値全幅が１００ｎｍ以下の、形状がシャープな吸収ピークを有しないことが好ましい。具体的な近赤外吸収色素(Ａ１)としては、スクアリリウム系化合物が特に優れ、その吸光特性は、近赤外線カットフィルタに求められる波長６３０〜７００ｎｍ付近の間で急峻に吸光度が変化する光学特性に合致すると共に保存安定性および光に対する安定性を確保できる点で好ましい。なお、この色素を用いる場合、透明樹脂として、波長５８９ｎｍにおける屈折率が１．５４以上の透明樹脂の使用が好ましい。
【０１０５】
赤外線吸収剤は１種を単独で使用してもよく、２種以上を混合して用いてもよい。
【０１０６】
赤外光吸収膜５における赤外線吸収剤の含有量は、例えば、前述の少なくともＣｕ及び／またはＰを含む酸化物の結晶子からなる無機微粒子の場合、２０〜６０質量％が好ましく、２０〜５０質量％がより好ましい。また、前述の近赤外吸収色素（Ａ１）の場合、０．０５〜５質量％が好ましく、０．５〜３質量％がより好ましい。各赤外線吸収剤の含有量がこれら範囲未満では、赤外波長領域の光を十分に吸収できないおそれがあり、また、範囲を超えると、可視波長領域の光の透過性が低下するおそれがある。
【０１０７】
赤外光吸収膜５を構成する透明樹脂には、赤外線吸収剤の他に、さらに、本発明の効果を阻害しない範囲で、色調補正色素、レベリング剤、帯電防止剤、熱安定剤、酸化防止剤、分散剤、難燃剤、滑剤、可塑剤等が含有されていてもよい。
【０１０８】
赤外光吸収膜５は、例えば、透明樹脂、赤外線吸収剤、及び必要に応じて配合される他の添加剤を、分散媒または溶媒に分散または溶解させて塗工液を調製し、この塗工液を透明基板１の所望の面上に塗工し、乾燥させることにより形成できる。塗工、乾燥は、複数回に分けて実施できる。また、含有成分の異なる複数の塗工液を調製し、これらを順に塗工、乾燥させてもよい。具体的には、例えば、前述の少なくともＣｕ及び／またはＰを含む酸化物の結晶子からなる無機微粒子を含む塗工液と、ＩＴＯ粒子を含む塗工液をそれぞれ個別に調製し、これらを順に塗工し、乾燥させてもよい。
【０１０９】
分散媒または溶媒としては、水、アルコール、ケトン、エーテル、エステル、アルデヒド、アミン、脂肪族炭化水素、脂環族炭化水素、芳香族炭化水素等が挙げられる。これらは、１種を単独で用いてもよく、２種以上を混合して用いてもよい。塗工液には、必要に応じて分散剤を配合できる。分散剤としては、例えば、界面活性剤、シラン化合物、シリコーンレジン、チタネート系カップリング剤、アルミニウム系カップリング剤、ジルコアルミネート系カップリング剤等が使用される。
【０１１０】
塗工液の調製には、自転・公転式ミキサー、ビーズミル、遊星ミル、超音波ホモジナイザ等の撹拌装置を使用できる。高い透明性を確保するためには、撹拌を十分に行うことが好ましい。撹拌は、連続的に行ってもよく、断続的に行ってもよい。
【０１１１】
また、塗工液の塗工には、スピンコート法、バーコート法、ディップコート法、キャスト法、スプレーコート法、ビードコート法、ワイヤーバーコート法、ブレードコート法、ローラーコート法、カーテンコート法、スリットダイコート法、グラビアコート法、スリットリバースコート法、マイクログラビア法、コンマコート法等を使用できる。
【０１１２】
赤外光吸収膜５の厚みは、０．０１〜２００μｍの範囲が好ましく、０．１〜５０μｍの範囲がより好ましい。０．０１μｍ未満では、所定の吸収能が得られないおそれがあり、また、２００μｍを超えると、乾燥時に乾燥ムラが生じるおそれがある。
【０１１３】
このように、赤外光吸収膜５を備えることによって、マイクロレンズアレイ１０に良好な近赤外線カット機能を具備できる。
【０１１４】
また、図１０に示すように、本実施形態のマイクロレンズアレイ１０は、樹脂層２のマイクロレンズアレイ構造が施されている面に対して、カバー層６を設けた構成であってもよい。カバー層６は、少なくともマイクロレンズが形成されている領域を覆う範囲に形成されていればよい。カバー層６は、例えば、樹脂を用いて形成できる。
【０１１５】
カバー層６を設けることによって、マイクロレンズアレイ構造を保護できる。また、カバー層６を設けることによって、焦点距離の制御範囲を広げることができる。曲率半径を大きくできないが焦点距離を大きくしたい場合などにカバー層６を設けるといった用法も挙げられる。すなわち、焦点距離を大きくしたい場合、レンズの高さを小さく（局率半径を大きく）する必要があるが、レンズの高さを物理的に小さくできない場合、レンズとカバー層の屈折率の差を小さくすることにより、等価的にレンズの高さを小さくすることが可能になる。また、レンズとカバー層の屈折率の大小を切り替えることにより、同じ凸レンズ形状に作製したマイクロレンズを凹レンズとして機能させる、もしくは凹レンズ形状に作製したマイクロレンズを凸レンズに機能させるなどマイクロレンズの加工自由度も向上させることができ好ましい。図１０に示すように、カバー層６の上にさらに反射防止膜４を設けてもよい。
【０１１６】
また、これまでの説明では、透明基板１の片方の面にだけマイクロレンズアレイ構造を有する樹脂層２を設ける例を示したが、図１１に示すように、透明基板１の両方の面にマイクロレンズアレイ構造を有する樹脂層２（より具体的には、樹脂層２−１，２−２）を設けることも可能である。なお、その場合には、いずれかの樹脂層２と透明基板１の間に、光反射膜３が設けられた構成であればよい。なお、樹脂層２−１、２−２よりも先に光反射膜３を形成する。また、それぞれの樹脂層２に対して、反射防止膜４（より具体的には、反射防止膜４−１，４−２）を設けることも可能である。さらに、図示省略しているが、それぞれの樹脂層２に対して、カバー層６や反射防止膜４を設けることも可能である。
【０１１７】
（第２の実施形態）
図１２は、本発明の第２の実施形態によるマイクロレンズアレイ２０を概略的に示す断面図である。なお、本実施形態以降、重複する説明を避けるため、第１の実施の形態と共通する点については説明を省略し、相違点を中心に説明する。
【０１１８】
本実施形態のマイクロレンズアレイ２０は、図１２に示すように、マイクロレンズアレイ構造が、樹脂層２ではなく、透明基板１の表面に直に形成されている。以下、透明基板１の表面に直に形成された各マイクロレンズをマイクロレンズ１１という。
【０１１９】
次に、本実施形態のマイクロレンズアレイ２０の製造方法について説明する。図１３（ａ）〜１３（ｅ）および図１４（ａ）〜１４（ｅ）は、本実施形態のマイクロレンズアレイ２０の製造方法の一例を示す説明図である。なお、図１４（ａ）〜１４（ｅ）は、使用する材料の違いから図１４（ｂ）に示す樹脂層２’の形成工程が図１３（ｂ）と異なるだけで他は同じであるので、以下では主に図１３（ａ）〜１３（ｅ）を参照して本実施形態のマイクロレンズアレイ２０の製造方法を説明する。
【０１２０】
図１３（ａ）〜１３（ｅ）に示す例においても、まず透明基板１の一方の主面全体に、光反射膜３を形成する（図１３（ａ））。光反射膜３として、例えば、紫外波長領域の光（例えば、波長が２００〜４００ｎｍの光全部またはその一部）を反射する誘電体多層膜を形成してもよい。
【０１２１】
次いで、第１の実施形態と同様の方法を用いて、マイクロレンズアレイ構造と同じ形状を有する樹脂層２’を形成する（図１３（ｂ））。本実施形態では、インプリント材料またはフォトリソ材料として、光硬化性樹脂２Ｂや光可溶化性樹脂２Ｄといった光に反応して硬化または可溶化する感光性樹脂を用いる。感光性樹脂は、光硬化性または光可溶化性を有していれば特に制限なく使用される。例えば、感光性アクリルモノマーを用いてもよい。なお、第１の実施形態で用いた光硬化性樹脂２Ａおよび光可溶化性樹脂２Ｃは、レンズ材料となるため透過性を要するが、本実施形態で用いる光硬化性樹脂２Ｂおよび光可溶化性樹脂２Ｄは、マイクロレンズの形状を透明基板に転写するために用いるフォトレジストすなわちエッチングのためのマスクの材料であるので、透光性は要しない。以下、フォトレジスト材料の光硬化性樹脂２Ｂおよび光可溶化性樹脂２Ｄを、それぞれレジスト材料２Ｂおよびレジスト材料２Ｄという。
【０１２２】
樹脂層２’の形成は、レジスト材料２Ｂを用いる場合には、例えば、図２（ｂ）〜２（ｆ）に示した金型による形成方法や、図３（ｂ）〜３（ｆ）に示したフォトマスクとサーマルリフローによる形成方法や、図４（ｂ）〜４（ｆ）に示したグレースケールのフォトマスクによる形成方法を用いてもよい。また、レジスト材料２Ｄを用いる場合には、例えば、図６（ｂ）〜６（ｇ）に示したフォトマスクとサーマルリフローによる形成方法や、図７（ｂ）〜７（ｇ）に示したグレースケールのフォトマスクによる形成方法を用いてもよい。なお、本実施形態では樹脂層２’をマスクとして使うので、図６（ｅ）や図７（ｅ）に示した透過率を上げるためのプロセスであるブリーチング工程を省略してもよい（図１３（ｂ）および図１４（ｂ）参照）。
【０１２３】
透明基板１上にマイクロレンズアレイ構造すなわちアレイ状に並んだ複数のマイクロレンズ１１と同じ形状を有する樹脂層２’を得ると、その樹脂層２’をマスクとして利用して、透明基板１のドライエッチングを行い（図１３（ｃ））、透明基板１の表面に樹脂層２’の表面形状を転写する。これにより、透明基板１の表面に、マイクロレンズアレイ構造すなわちアレイ状に並んだ複数のマイクロレンズ１１を形成する（図１３（ｄ））。
【０１２４】
最後に、その透明基板１のマイクロレンズアレイ構造が形成されている側の面上に反射防止膜４を形成する（図１３（ｅ））。
【０１２５】
尚、透明基板がエッチングしにくい材料の場合、エッチングしやすい材料を透明基板上に積層してエッチング層を形成した上で、当該エッチング層に対して同様の加工を行ってマイクロレンズアレイを形成してもよい。エッチングしやすい材料としては、ＳｉＯ２や、Ｔａ２Ｏ５などが挙げられる。エッチング層は、これらの材料をスパッタリングやＣＶＤ、蒸着などにより透明基板上に形成できる。図１５は、透明基板１にエッチング層１１を積層した場合のマイクロレンズアレイ２０の例である。本例の場合、他の部材（例えば、光反射膜３等）との関係においては、エッチング層１２も含めて透明基板１として扱えばよい。
【０１２６】
このように、本実施形態のマイクロレンズアレイ２０においても、製造過程において各マイクロレンズ１１の形状を透明基板１に転写する際にフォトレジストとして用いる樹脂層２’を形成するために、露光装置からみて背面側に光反射膜３が形成された状態で、レジスト材料２Ｂまたはレジスト材料２Ｄに対して露光を行うように各部材が構成されているので、硬化または可溶化に要する時間を短縮できる。従って、短時間に樹脂層２’を形成でき、その結果マイクロレンズアレイ１０の生産性を向上できる。なお、他の点に関しては、第１の実施形態と同様である。なお、エッチング工程における透明基材１と樹脂層２’の選択比（エッチングレートの比）を制御すると、球面の曲率半径は任意に調整できるため、樹脂層２’は必ずしもマイクロレンズアレイ構造と同じ形状で作成する必要はない。例えば、使用するガス・硝材・マスク材・装置エッチング条件により使用可能な選択比に合わせて樹脂層２’の曲率半径を調整してもよい。
【０１２７】
また、図１６〜図１８は、本実施形態のマイクロレンズアレイ２０の他の例を概略的に示す断面図である。図１６に示すように、本実施形態のマイクロレンズアレイ２０においても、光反射膜３と反射防止膜４（より具体的には反射防止膜４−２）との間または透明基板１と光反射膜３との間に、赤外光吸収膜５を備えていてもよい。
【０１２８】
また、図１７に示すように、本実施形態のマイクロレンズアレイ２０においても、透明基板１のマイクロレンズアレイ構造が施されている面に対して、カバー層６を設けた構成であってもよい。
【０１２９】
また、図１８に示すように、本実施形態においても、素子両面にマイクロレンズアレイ構造を設けることができる。例えば、図１３（ａ）〜１３（ｅ）に示した方法を用いて一方の面にマイクロレンズアレイ構造を有する透明基板１−１を形成した後、光反射膜３ともう１つの透明基板１−２とを接着剤等を用いて接着させ、その透明基板1−２の光反射膜３が設けられていない側の面に、再度同様の方法を用いてマイクロレンズアレイ構造を形成すればよい。
【０１３０】
（第３の実施形態）
本実施形態では、マイクロレンズアレイと撮像素子基板とを一体化させた撮像素子パッケージについて説明する。なお、以下では図１に示したマイクロレンズアレイ１０と撮像素子基板を一体化させた例を用いて説明するが、マイクロレンズアレイはこれまでに説明したマイクロレンズアレイのうちのいずれかであればよい。
【０１３１】
図１９〜図２３は、本発明による撮像素子パッケージ１００または撮像装置２００の例を概略的に示す断面図である。図１９に示すように、本発明による撮像素子パッケージ１００は、所定の画素ピッチに対応した受光素子アレイ１０２が形成されている撮像素子基板１０１とマイクロレンズアレイ１０とをギャップスペーサ２０１が含有された接着剤２０２を用いて直接貼り合わせたものであってもよい。
【０１３２】
接着剤２０２は、例えば、エポキシ系の熱硬化型または光硬化型の樹脂を用いてもよい。その他にも、アクリル系、シリコン系の熱硬化型または光硬化型の樹脂を用いてもよい。
【０１３３】
このように、光反射膜３を備えたマイクロレンズアレイ１０と撮像素子基板とを一体化することによって、撮像素子への紫外線カットフィルタの機能を効果的に発現できる。また、マイクロレンズアレイ１０が赤外領域の光を吸収または反射する部材を備えている場合には、撮像素子への近赤外カットフィルタの機能を効果的に発現できる。
【０１３４】
なお、図１９では、レンズ面が表（入射する側）となるように貼り合わせる例を示したが、図２０に示すように、レンズ面を裏にして撮像素子基板１０１と貼り合わせることも可能である。また、収差を抑制できる点で、両面にマイクロレンズアレイ構造が設けられているマイクロレンズアレイを組み合わせることがより好ましい。
【０１３５】
また、図２１に示すように、ギャップスペーサ２０１を用いる代わりに、マイクロレンズアレイの下側にくる表面の外周部に、フォトリソしたレジスト２０３を形成して所望の高さを作り、そのレジスト２０３と撮像素子基板１０１とを接着剤２０２により貼り合わせてもよい。なお、このレジスト２０３を形成する工程においても、レジスト材料に光硬化性樹脂または光可溶化性樹脂を用いる場合には、光反射膜３による硬化時間または可溶化時間の短縮効果が得られる。
【０１３６】
また、図２２に示すように、撮像素子基板１０１が筐体３０１内に納められている構成の場合には、その開口部にマイクロレンズアレイ１０の外周部を接着剤２０２により接着して一つのパッケージ部品としてもよい。
【０１３７】
また、図２３に示すように、筐体３０１は、撮像素子基板１０１、マイクロレンズアレイ１０、レンズ群５００を保持固定するものであってもよい。また、筐体３０１は、撮像装置２００を構成するものであってもよい。
【０１３８】
図２３に示す例では、撮像素子基板１０１、マイクロレンズアレイ１０、レンズ群５００は、光軸に沿って配置され、撮像素子基板１０１とレンズ群５００の間にマイクロレンズアレイ１０が配置される。撮像素子基板１０１には個体撮像素子がアレイ状に並び、撮像素子アレイ１０２を構成している。個々の撮像素子は、レンズ群５００及びマイクロレンズアレイ１０を通過して入射してきた光を電気信号に変換する電子部品であり、例えばＣＣＤやＣＭＯＳ等である。
【０１３９】
この撮像装置２００においては、被写体側より入射した光は、レンズ群５００、マイクロレンズアレイ１０を通って撮像素子アレイ１０２に入射する。この入射した光を各撮像素子が電気信号に変換し、画像信号として出力する。入射光は、マイクロレンズアレイ１０を通過することで、十分に紫外線や近赤外線が遮蔽された光として撮像素子アレイ１０２で受光される。
【０１４０】
また、マイクロレンズアレイと撮像素子の画素アレイとを組み合わせて用いる光学装置において、マイクロレンズアレイの透明基板１とその貼着先である撮像素子基板または撮像素子を納めた筐体との間で熱膨張係数を合わせれば、昇温時のマイクロレンズアレイと撮像素子の画素アレイの位置ずれによる集光スポットのずれを防止できる。
【０１４１】
さらに、マイクロレンズアレイの透明基板１の材料にα線放出量が低いガラスを用いれば、撮像素子でα線によるノイズが発生することや、撮像素子のダメージを防止できる。
【実施例】
【０１４２】
以下、具体的な例を用いて本発明によるマイクロレンズアレイおよび該マイクロレンズアレイを一体型のパッケージとして備える撮像素子パッケージを説明する。【０１４３】
（実施例１）
本実施例は、図１に示す構成のマイクロレンズアレイ１０の一実施例である。４０ｍｍ×４０ｍｍ×０．３ｍｍの角板状の赤外線吸収ガラス（ＮＦ−５０ガラス  旭硝子社製）である透明基板１の一方の表面に、真空蒸着法により、シリカ（ＳｉＯ２；屈折率１．４５（波長５５０ｎｍ））層とチタニア（ＴｉＯ２；屈折率２．３２（波長５５０ｎｍ））層とを交互に積層して、以下の表１に示すような構成からなる誘電体多層膜（３４層）の光反射膜３を形成する。【０１４４】
【表１】
2014021232.tif 000003
【０１４５】
次いで、その光反射膜３を形成した透明基板１の他方の面に、フォトリソ材料として樹脂層２（より具体的には、マイクロレンズアレイ構造）の材料である光硬化性樹脂２Ａを１３００ｒｐｍにてスピン塗布し、１００℃で加熱して膜厚１．７μmの樹脂膜を形成する。ここでは、光硬化性樹脂として、屈折率が１．５２の紫外線硬化型アクリレート系樹脂を用いる。【０１４６】
次いで、得られた光硬化性樹脂２Ａによる樹脂膜に対して、マイクロレンズ２１に対応する位置を開口させたフォトマスクを介在させた状態で高圧水銀ランプにより１００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射し硬化させる。その後、０．０４質量％水酸化カリウム水溶液を用いて未露光部分を除去する。すると、透明基板１上に、光硬化された樹脂による直径３１μm、高さ１．７μｍの円柱が、３２μmピッチで配列したパターン２Ａを得る。【０１４７】
次いで、得られた円柱のパターン２Ａを２００℃で加熱し、溶融させて、曲率半径６２．４μmの凸球面状のマイクロレンズ２１にする。その結果、赤外線吸収ガラスである透明基板上に、３２μmピッチで配列して並んだマイクロレンズ２１を有する樹脂層２を得る。【０１４８】
次いで、その樹脂層２の上に、以下の表２に示すような構成からなる３層の反射防止膜４を形成する。【０１４９】
【表２】
2014021232.tif 000004
【０１５０】
そのようにして作製されたマイクロレンズアレイ１０の樹脂層２は十分に硬化している。得られたマイクロレンズアレイ１０の分光透過率曲線（入射角度０度）を図２５に併せ示す。【０１５１】
（比較例１）
誘電体多層膜による光反射膜３を形成せず、赤外線吸収ガラス（ＮＦ−５０ガラス）の一方の表面に樹脂層２を形成した以外は、実施例１と同様にして、マイクロレンズアレイを製造すると、１００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線の照射では、レジスト材料として用いた光硬化樹脂２Ａを十分に硬化できない。【０１５２】
（実施例２）
赤外線吸収ガラス（ＮＦ−５０ガラス）に代えて、厚さ０．３ｍｍのソーダガラス板を用いた以外は、実施例１と同様にして、マイクロレンズアレイ１０を製造する。【０１５３】
形成された樹脂層２は十分に硬化する。得られた近赤外線カットフィルタの分光透過率曲線（入射角度０度）を図２５に併せ示す。【０１５４】
（実施例３）
本実施例は、図９に示す構成のマイクロレンズアレイ１０の一実施例である。本実施例では、４０ｍｍ×４０ｍｍ×０．３ｍｍの角板状のソーダガラスの一方の面に厚さ８μｍの赤外光吸収膜５を形成し、他方の面に以下の表３に示す構成からなる誘電体多層膜（６８層）の光反射層３を形成する。【０１５５】
【表３】
2014021232.tif 000005
【０１５６】
さらに、赤外吸収膜５の表面に以下の表４に示す構成からなる反射防止層４を形成する。【０１５７】
【表４】
2014021232.tif 000006
【０１５８】
その後、誘電体多層膜の光反射層３の表面に、実施例１と同様の方法により、マイクロレンズアレイ構造を有する樹脂層２を形成する。さらに、その樹脂層２のマイクロレンズアレイ構造が施されている側の面上に上述の表４に示す構成からなる反射防止層４を形成して、マイクロレンズアレイ１０を作製する。赤外光吸収膜５の形成方法は次のとおりである。【０１５９】
アセトンに溶解して測定される波長領域４００〜１０００ｎｍの光の吸収スペクトルが図２４に示されるパターンを有する赤外線吸収色素と、アクリル樹脂の５０質量％溶液とを、アクリル樹脂１００質量部に対して赤外線吸収色素が０．８質量部となるような割合で混合した後、室温で撹拌溶解して塗工液を得る。得られた塗工液を、厚さ１ｍｍのソーダガラス板上にギャップ３０μｍのアプリケータを用いてダイコート法により塗布し、１００℃で５分間加熱乾燥する。その後、塗膜に波長３６５ｎｍの紫外線を３６０ｍＪ／ｃｍ２照射して硬化させ、厚さ８μｍの赤外光吸収膜５を形成する。【０１６０】
形成された赤外光吸収膜５は十分に硬化している。【０１６１】
（実施例４）
本実施例は、図１５に示す構成のマイクロレンズアレイ２０の一実施例である。すなわち、透明基板１の表面上（より具体的には透明基板１の表面上に形成されたエッチング層１２上）にマイクロレンズアレイ構造が形成される例である。本実施例では、まず、４０ｍｍ×４０ｍｍ×０．３ｍｍの角板状の赤外線吸収ガラス（ＮＦ−５０ガラス  旭硝子社製）である透明基板１の一方の表面に、真空蒸着法により、シリカ（ＳｉＯ２；屈折率１．４５（波長５５０ｎｍ））層とチタニア（ＴｉＯ２；屈折率２．３２（波長５５０ｎｍ））層とを交互に積層して、上述の表１に示す構成からなる誘電体多層膜（３４層）の光反射膜３を形成する。【０１６２】
次いで、その光反射膜３を形成した透明基板１の他方の面に、エッチング層１２としてスパッタリングにより厚さ２．５μｍのＳｉＯ２の膜を成膜する。成膜したＳｉＯ２膜１２の上にレジスト材料２Ｂを１３００ｒｐｍにてスピン塗布し、１００℃で加熱して膜厚１．７μmのレジスト膜を形成する。【０１６３】
次いで、得られたレジスト材料２Ｂによるレジスト膜に対してフォトマスクを介在させた状態で高圧水銀ランプにより１００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射し硬化させる。ここで作製されたレジスト膜は十分に硬化している。その後現像液を用いて未露光部分を除去し、透明基板１上に、直径３１μm、高さ１．７μｍの円柱が、３２μmピッチで配列したレジストパターンを得る。【０１６４】
次いで、得られた円柱のレジストパターンを２００℃で加熱し、溶融させてマイクロレンズアレイ構造と同じ形状になるよう成形した後、フッ素系ガスでＳｉＯ２膜１２をドライエッチングし、曲率半径６２．４μmの凸球面状のマイクロレンズ１１が３２μmピッチで配列されているＳｉＯ２層１２（エッチング層１２）を有する透明基板１を得る。【０１６５】
次いで、そのＳｉＯ２層１２の上に、上述の表２に示す構成からなる３層反射防止膜４を形成する。このようにして、赤外線吸収ガラス基板上にマイクロレンズアレイ構造が形成されているマイクロレンズアレイ２０を得る。【０１６６】
本実施例によれば、光反射膜３を形成しない場合と比較して、マイクロレンズ１１の形状を透明基板１のエッチング層１２に転写するために用いるフォトレジストの材料の硬化時間を短縮できるので、その結果、マイクロレンズアレイ２０の作成時間が短縮できる。【０１６７】
（実施例５）
本実施例は、図１２に示す構成のマイクロレンズアレイ２０の一実施例である。すなわち、透明基板１の表面に直にマイクロレンズアレイ構造が形成される例である。本実施例では、透明基板１として赤外線吸収ガラス（ＮＦ−５０ガラス）に代えて、厚さ０．３mmのソーダガラス板を用いる。ソーダガラスを用いる点、およびそれによってエッチング層１２を設けなくてもよい点以外は、実施例４と同様の方法である。すなわち、本実施例では、４０ｍｍ×４０ｍｍ×０．３ｍｍの角板状のソーダガラスの一方の面に、真空蒸着法により、シリカ（ＳｉＯ２；屈折率１．４５（波長５５０ｎｍ））層とチタニア（ＴｉＯ２；屈折率２．３２（波長５５０ｎｍ））層とを交互に積層して、上述の表１に示す構成からなる誘電体多層膜（３４層）の光反射膜３を形成する。【０１６８】
次いで、その光反射膜３を形成した透明基板１の他方の面に、レジスト材料２Ｂを１３００ｒｐｍにてスピン塗布し、１００℃で加熱して膜厚１．７μmのレジスト膜を形成する。【０１６９】
次いで、得られたレジスト材料２Ｂによるレジスト膜に対してフォトマスクを介在させた状態で高圧水銀ランプにより１００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射し硬化させる。ここで作製されたレジスト膜は十分に硬化している。その後現像液を用いて未露光部分を除去し、透明基板１上に、直径３１μm、高さ１．７μｍの円柱が、３２μmピッチで配列したレジストパターンを得る。【０１７０】
次いで、得られた円柱のレジストパターンを２００℃で加熱し、溶融させてマイクロレンズアレイ構造と同じ形状になるよう成形した後、フッ素系ガスでソーダガラスをドライエッチングし、曲率半径６２．４μmの凸球面状のマイクロレンズ１１が３２μmピッチで配列されている透明基板１を得る。【０１７１】
次いで、そのマイクロレンズ１１が形成されている透明基板１の面上に、上述の表２に示す構成からなる３層の反射防止膜４を形成する。このようにして、ソーダガラス板上にマイクロレンズアレイ構造が形成されているマイクロレンズアレイ２０を得る。【０１７２】
本実施例によれば、光反射膜３を形成しない場合と比較して、マイクロレンズ１１の形状を透明基板１に転写するために用いるフォトレジストの材料の硬化時間を短縮できるので、その結果、マイクロレンズアレイ２０の作成時間が短縮できる。【０１７３】
（実施例６）
本実施例は、図１に示す構成のマイクロレンズアレイ１０の一実施例である。本実施例では、実施例１における光硬化性樹脂２Ａによる樹脂層２に代えて、光可溶化性樹脂２Ｃによる樹脂層２を用いる。【０１７４】
まず、実施例１と同様の方法により、赤外線吸収ガラス（ＮＦ−５０ガラス  旭硝子社製）である透明基板１の一方の表面に、表１に示す構成からなる誘電体多層膜（３４層）の光反射膜３を形成する。【０１７５】
次いで、その光反射膜３を形成した透明基板１の他方の面に、フォトリソ材料として樹脂層２の材料である光可溶化性樹脂２Ｃを３５００ｒｐｍにてスピン塗布し、９０℃で加熱して膜厚１．４μmの樹脂膜を形成する。ここでは、光可溶化性樹脂として、屈折率が１．５０の紫外線可溶化型アクリレート系樹脂を用いる。【０１７６】
次いで、得られた光可溶化性樹脂２Ｃによる樹脂膜に対して、マイクロレンズ２１のレンズとレンズの隙間に対応する位置を開口させたフォトマスクを介在させた状態で高圧水銀ランプにより１００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射し反応させる。その後、２．３８質量％水酸化テトラメチルアンモニウム水溶液を用いて露光部分を除去する。すると、透明基板１上に、露光部分が除去された樹脂による直径３１μm、高さ１．４μｍの円柱が、３２μmピッチで配列したパターン２Ｃを得る。【０１７７】
次いで、得られたパターン２Ｃに対して、高圧水銀ランプにより２００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射し、樹脂層２中の未反応のＰＡＣを反応させブリーチングを行う。【０１７８】
次いで、ブリーチング後のパターン２Ｃを１７０℃で加熱し、溶融させて、曲率半径６０．０μmの凸球面状のマイクロレンズ２１にする。その結果、赤外線吸収ガラスである透明基板上に、３２μmピッチで配列して並んだマイクロレンズ２１を有する樹脂層２を得る。【０１７９】
そのようにして作製されたマイクロレンズアレイ１０のレンズとレンズの隙間には樹脂の残渣は無く十分に溶解・除去されている。【０１８０】
（実施例７）
本実施例では、赤外線吸収ガラス（ＮＦ−５０ガラス）に代えて、厚さ０．３ｍｍの無アルカリガラス板を用いた以外は、実施例６と同様にして、マイクロレンズアレイ１０を製造する。【０１８１】
形成された樹脂層２の隙間は残渣無く十分に溶解・除去されている。【０１８２】
（実施例８）
本実施例は、図９に示す構成のマイクロレンズアレイ１０の一実施例である。本実施例では、実施例３における光硬化性樹脂２Ａによる樹脂層２に代えて、光可溶化性樹脂２Ｃによる樹脂層２を形成する。その際、透明基板１として、ソーダガラスに代えて４０ｍｍ×４０ｍｍ×０．３ｍｍの角板状の無アルカリガラスを用いる。透明基板１が無アルカリガラスである点および光可溶化性樹脂による樹脂層２を形成する点以外は、実施例３と同様にして、マイクロレンズアレイ１０を製造する。なお、可溶化性樹脂による樹脂層２を形成する方法は、実施例６と同様の方法を用いる。【０１８３】
作製されたマイクロレンズアレイ１０のレンズとレンズの隙間には樹脂の残渣は無く十分に溶解・除去されている。【０１８４】
（実施例９）
本実施例は、図１５に示す構成のマイクロレンズアレイ２０の一実施例である。本実施例では、実施例４においてマイクロレンズの形状を透明基板に転写するためのフォトレジストの材料として、レジスト材料２Ｂに代えてレジスト材料２Ｄを用いる。なお、他の点に関しては実施例４と同様である。【０１８５】
本実施例では、成膜したＳｉＯ２膜１２の上にレジスト材料２Ｄを２３００ｒｐｍにてスピン塗布し、９０℃で加熱して膜厚１．７μmのレジスト膜を形成する。得られたレジスト膜に対してフォトマスクを介在させた状態で高圧水銀ランプにより１００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射し反応させる。その後現像液を用いて露光部分を除去し、赤外線吸収ガラス（ＮＦ−５０ガラス  旭硝子社製）基板上に、未感光部のレジスト材料２Ｄによる直径３１μm、高さ１．７μｍの円柱が、３２μmピッチで配列したレジストパターンを得る。【０１８６】
得られたレジストパターンを１７０℃で加熱し、溶融させてマイクロレンズアレイ構造と同じ形状になるよう成形した後、フッ素系ガスでＳｉＯ２膜１２をドライエッチングし、曲率半径６２．４μmの凸球面状のマイクロレンズ１１が３２μmピッチで配列されているＳｉＯ２層１２（エッチング層１２）を有する透明基板１を得る。次いで、そのＳｉＯ２層１２の上に、上述の表２に示す構成からなる３層反射防止膜４を形成する。このようにして、赤外線吸収ガラス基板上にマイクロレンズアレイ構造が形成されているマイクロレンズアレイ２０を得る。【０１８７】
本実施例によれば、光反射膜３を形成しない場合と比較して、マイクロレンズ１１の形状を透明基板１のエッチング層１２に転写するために用いるフォトレジストの材料の露光時間を短縮できるので、その結果、マイクロレンズアレイ２０の作成時間が短縮できる。【０１８８】
（実施例１０）
本実施例は、図１２に示す構成のマイクロレンズアレイ２０の一実施例である。本実施例では、実施例５においてマイクロレンズの形状を透明基板に転写するためのフォトレジストの材料として、レジスト材料２Ｂに代えてレジスト材料２Ｄを用いる。また、透明基板１として、ソーダガラスに代えて４０ｍｍ×４０ｍｍ×０．３ｍｍの角板状の無アルカリガラスを用いる。透明基板１が無アルカリガラスである点および光可溶化性樹脂を用いてフォトレジストを形成する点以外は、実施例５と同様にして、マイクロレンズアレイ２０を製造する。なお、光可溶化性樹脂を材料にレンズ形状を模したフォトレジストを形成する方法は、実施例９と同様である。ただし、透明基板１として、無アルカリガラスを用いるため、フッ素系と塩素系ガスの混合ガスでドライエッチングする点は、実施例９と異なる。【０１８９】
本実施例によっても、光反射膜３を形成しない場合と比較して、マイクロレンズ１１の形状を透明基板１に転写するために用いるフォトレジストの材料の露光時間を短縮できるので、その結果、マイクロレンズアレイ２０の作成時間が短縮できる。【０１９０】
（実施例１１）
本実施例は、図１に示す構成のマイクロレンズアレイ１０の一実施例である。グレースケールのフォトマスクを用いて光可溶化性樹脂２Ｃによる樹脂層２を形成する点以外は、実施例６と同様にして、マイクロレンズアレイ１０を製造する。【０１９１】
本実施例では、表１に示す構成からなる誘電多層膜の光反射膜３が形成された赤外線吸収ガラス（ＮＦ−５０ガラス  旭硝子社製）である透明基板１の他方の表面に、フォトリソ材料として樹脂層２の材料である光可溶化性樹脂２Ｃを１２００ｒｐｍにてスピン塗布し、１００℃で加熱して膜厚２．１μmの樹脂膜を形成する。ここでは、光可溶化性樹脂として、屈折率が１．５０の紫外線可溶化型シロキサン系樹脂を用いる。【０１９２】
次いで、得られた光可溶化性樹脂２Ｃによる樹脂膜に対して、マイクロレンズ２１に対応する透過光量分布を持ったフォトマスク８０２を介在させた状態で高圧水銀ランプにより３００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射し反応させる。その後、２．３８質量％水酸化テトラメチルアンモニウム水溶液を用いて感光部を除去して、赤外線吸収ガラスである透明基板上に、曲率半径６０．０μmの凸球面が３２μｍピッチで配列したパターン２Ｃを有する樹脂層２を得る。【０１９３】
得られた樹脂層２のパターン２Ｃに対して、高圧水銀ランプにより３００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射し、樹脂層２中の未反応のＰＡＣを反応させブリーチングを行う。ブリーチング後のパターン２Ｃを１００℃で加熱し、樹脂層２中の樹脂間の反応を進める。以降の３層反射防止膜４の形成方法等は実施例１と同様である。【０１９４】
そのようにして作製されたマイクロレンズアレイ１０の表面には余分な樹脂の残渣は無く十分に溶解・除去されている。【０１９５】
（実施例１２）
赤外線吸収ガラス（ＮＦ−５０ガラス）に代えて、厚さ０．３ｍｍの無アルカリガラス板を用いた以外は、実施例１１と同様にして、マイクロレンズアレイ１０を製造する。【０１９６】
形成された樹脂層２の隙間は残渣無く十分に溶解・除去されている。【０１９７】
（実施例１３）
本実施例は、図９に示す構成のマイクロレンズアレイ１０の一実施例である。グレースケールのフォトマスクを用いて光可溶化性樹脂２Ｃによる樹脂層２を形成する点以外は、実施例８と同様にして、マイクロレンズアレイ１０を製造する。なお、グレースケールのフォトマスクを用いて可溶化性樹脂２Ｃによる樹脂層２を形成する方法は、実施例１１と同様の方法を用いる。【０１９８】
作製されたマイクロレンズアレイ１０の表面には余分な樹脂の残渣は無く十分に溶解・除去されている。【０１９９】
（実施例１４）
本実施例は、図１５に示す構成のマイクロレンズアレイ２０の一実施例である。本実施例では、実施例９においてマイクロレンズの形状を透明基板に転写するためのフォトレジストを、バイナリマスクに代わってグレースケールのフォトマスクを用いて形成する点以外は、実施例９と同様にして、マイクロレンズアレイ２０を製造する。なお、グレースケールのフォトマスクを用いて、レジスト材料２Ｄからレンズ形状を模したフォトレジストを形成する方法は、実施例１１において光可溶化性樹脂２Ｃからレンズ形状を模した樹脂層２を形成する方法でよい。【０２００】
具体的には、表１に示す構成からなる誘電多層膜の光反射膜３が形成された赤外線吸収ガラス（ＮＦ−５０ガラス  旭硝子社製）である透明基板１の他方の表面にエッチング層１２として厚さ２．５μｍのＳｉＯ２の膜が形成された状態で、そのＳｉＯ２膜１２の上にレジスト材料２Ｄを１２００ｒｐｍにてスピン塗布し、１００℃で加熱して膜厚２．１μmのレジスト膜を形成する。得られたレジスト材料２Ｄによるレジスト膜に対してマイクロレンズ２１に対応する透過光量分布を持ったフォトマスクを介在させた状態で高圧水銀ランプにより３００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射し反応させる。その後現像液を用いて感光部を除去し、マイクロレンズアレイ構造と同じ形状になるよう成形する。そのようにして得られた未感光部のレジスト材料２Ｄによるレジストパターンに対して、紫外線を照射し、樹脂層２中の未反応のＰＡＣを反応させ、次いで、加熱によりフォトレジスト中の樹脂間の反応を進める。以降の工程は、実施例９と同様である。【０２０１】
本実施例によっても、光反射膜３を形成しない場合と比較して、マイクロレンズ１１の形状を透明基板１のエッチング層１２に転写するために用いるフォトレジストの材料の露光時間を短縮できるので、その結果、マイクロレンズアレイ２０の作成時間が短縮できる。【０２０２】
（実施例１５）
本実施例は、図１２に示す構成のマイクロレンズアレイ２０の一実施例である。本実施例では、実施例１０においてマイクロレンズの形状を透明基板に転写するためのフォトレジストを、バイナリマスクに代わってグレースケールのフォトマスクを用いて形成する点以外は、実施例１０と同様にして、マイクロレンズアレイ２０を製造する。なお、グレースケールのフォトマスクを用いて、レジスト材料２Ｄからレンズ形状を模したレジストパターンを形成する方法は、実施例１４と同様の方法を用いる。ただし、透明基板１として、無アルカリガラスを用いフッ素系ガスと塩素系ガスの混合ガスでドライエッチングする点およびそれによってエッチング層１２を設けなくてもよい点は、実施例１４と異なる。【０２０３】
本実施例によっても、光反射膜３を形成しない場合と比較して、マイクロレンズ１１の形状を透明基板１に転写するために用いるフォトレジストの材料の露光時間を短縮できるので、その結果、マイクロレンズアレイ２０の作成時間が短縮できる。【０２０４】
本発明を詳細に、また特定の実施態様を参照して説明したが、本発明の範囲と精神を逸脱することなく、様々な修正や変更を加えることができることは、当業者にとって明らかである。
本出願は、２０１２年７月３１日出願の日本特許出願２０１２−１６９５４１に基づくものであり、その内容はここに参照として取り込まれる。
【産業上の利用可能性】
【０２０５】
本発明は、マイクロレンズアレイ構造を有する樹脂層またはマイクロレンズの形状を透明基板に転写するために用いるレジストパターンの形成時間を短縮できるとともに、紫外線・赤外線カットフィルタの機能を付与することができる。このため、マイクロレンズアレイ自体の生産性を向上できるだけでなく、撮像装置の生産性と信頼性とを向上できることから、デジタルスチルカメラ、デジタルビデオカメラ、携帯電話、ノート型パーソナルコンピュータ、ＰＤＡ等の情報機器に組み込まれる小型カメラ等の撮像装置に好適に適用可能である。
【符号の説明】
【０２０６】
１０，２０  マイクロレンズアレイ
１  透明基板
２  樹脂層
１１，２１  マイクロレンズ
１２  エッチング層
３  光反射膜
４  反射防止膜
５  赤外光吸収膜
６  カバー層
１００  撮像素子パッケージ
２００  撮像装置
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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【国際調査報告】
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