(57)【要約】固体電解コンデンサ１は、陽極１０と、誘電体層１４と、シランカップリング層１５と、導電性高分子層１６と、陰極層１７とを備える。誘電体層１４は、陽極１０の上に設けられている。シランカップリング層１５は、誘電体層１４の上に設けられている。導電性高分子層１６は、シランカップリング層１５の上に設けられている。陰極層１７は、導電性高分子層１６の上に設けられている。シランカップリング層１５は、第１のシランカップリング層１５ａと、第２のシランカップリング層１５ｂとを有する。第１のシランカップリング層１５ａは、誘電体層１４の導電性高分子層１６側の表面の一部を覆う。第２のシランカップリング層１５ｂは、誘電体層１４の導電性高分子層１６側の表面において、第１のシランカップリング層１５ａから露出する部分の少なくとも一部を覆う。
2014002828.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
陽極と、
前記陽極の上に設けられた誘電体層と、
前記誘電体層の上に設けられたシランカップリング層と、
前記シランカップリング層の上に設けられた導電性高分子層と、
前記導電性高分子層の上に設けられた陰極層と、
を備え、
前記シランカップリング層は、
前記誘電体層の前記導電性高分子層側の表面の一部を覆う第１のシランカップリング層と、
前記誘電体層の前記導電性高分子層側の表面において、前記第１のシランカップリング層から露出する部分の少なくとも一部を覆う第２のシランカップリング層と、
を有する、固体電解コンデンサ。
【請求項２】
前記第２のシランカップリング層は、前記第１のシランカップリング層の少なくとも一部をさらに覆う、請求項１に記載の固体電解コンデンサ。
【請求項３】
前記第２のシランカップリング層は、前記誘電体層の前記導電性高分子層側の表面において、前記第１のシランカップリング層から露出する部分の一部を覆い、
前記シランカップリング層は、前記誘電体層の前記導電性高分子層側の表面において、前記第１及び第２のシランカップリング層から露出する部分の少なくとも一部を覆う第３のシランカップリング層をさらに有する、請求項１または２に記載の固体電解コンデンサ。
【請求項４】
前記第３のシランカップリング層は、前記第１及び第２のシランカップリング層の少なくとも一部をさらに覆う、請求項３に記載の固体電解コンデンサ。
【請求項５】
陽極の上に誘電体層を形成する工程と、
前記誘電体層の表面の一部分の上に第１のシランカップリング層を形成すると共に、前記誘電体層の表面の前記第１のシランカップリング層からの露出部の少なくとも一部の上に第２のシランカップリング層を形成する工程と、
前記第１及び第２のシランカップリング層の上に導電性高分子層を形成する工程と、
前記導電性高分子層の上に陰極層を形成する工程と、
を備える、固体電解コンデンサの製造方法。
【請求項６】
前記第１のシランカップリング層を形成するためのシランカップリング剤を塗布した後に、前記第２のシランカップリング層を形成するためのシランカップリング剤を塗布する前に、前記誘電体層の表面の前記第１のシランカップリング層からの露出部に水酸基を形成する工程をさらに備える、請求項５に記載の固体電解コンデンサの製造方法。
【請求項７】
前記第１のシランカップリング層が表面上に形成された誘電体層を、酸溶液中に浸漬することにより前記水酸基を形成する、請求項６に記載の固体電解コンデンサの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、固体電解コンデンサ及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、電子機器の小型化に伴って、小型かつ大容量の高周波用途コンデンサに対するニーズが高まってきている。このようなコンデンサとして、タンタル、ニオブ、チタン、アルミニウムなどの弁作用金属の焼結体からなる陽極と、陽極の表面が酸化されてなる誘電体層と、誘電体層の上に設けられており、導電性高分子により構成された固体電解質層とを備える固体電解コンデンサが提案されている。固体電解質層を導電性高分子により構成することにより、固体電解コンデンサの等価直列抵抗（Ｅｑｕｉｖａｌｅｎｔ  Ｓｅｒｉｅｓ  Ｒｅｓｉｓｔａｎｃｅ：ＥＳＲ）を低くし得る。しかしながら、無機材料により構成された誘電体層と、有機材料により構成された導電性高分子層とが十分に強固に密着しない虞がある。【０００３】
そこで、特許文献１においては、誘電体層の表面をシランカップリング剤により表面処理することにより、誘電体層と導電性高分子層との密着性を向上することが提案されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開平２−７４０２１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
誘電体層と導電性高分子層との密着性をさらに改善したいという要望がある。【０００６】
本発明の主な目的は、誘電体層と導電性高分子層との密着性が高く、長時間使用後において容量が低下しにくい固体電解コンデンサを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明に係る固体電解コンデンサは、陽極と、誘電体層と、シランカップリング層と、導電性高分子層と、陰極層とを備える。誘電体層は、陽極の上に設けられている。シランカップリング層は、誘電体層の上に設けられている。導電性高分子層は、シランカップリング層の上に設けられている。陰極層は、導電性高分子層の上に設けられている。シランカップリング層は、第１のシランカップリング層と、第２のシランカップリング層とを有する。第１のシランカップリング層は、誘電体層の導電性高分子層側の表面の一部を覆う。第２のシランカップリング層は、誘電体層の導電性高分子層側の表面において、第１のシランカップリング層から露出する部分の少なくとも一部を覆う。【０００８】
本発明に係る固体電解コンデンサの製造方法では、陽極の上に誘電体層を形成する。誘電体層の表面の一部分の上に第１のシランカップリング層を形成すると共に、誘電体層の表面の第１のシランカップリング層からの露出部の少なくとも一部の上に第２のシランカップリング層を形成する。第１及び第２のシランカップリング層の上に導電性高分子層を形成する。導電性高分子層の上に陰極層を形成する。【０００９】
本発明では、誘電体層の導電性高分子層側の表面において、第１のシランカップリング層から露出する部分の少なくとも一部を覆うように第２のシランカップリング層を設ける。このため、誘電体層の導電性高分子側の表面のシランカップリング層による被覆率を高めることができる。その結果、誘電体層と導電性高分子層との密着性が高く、長時間使用後において容量が低下しにくい固体電解コンデンサを提供することができる。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、誘電体層と導電性高分子層との密着性が高く、長時間使用後において容量が低下しにくい固体電解コンデンサを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】本発明の一実施形態における固体電解コンデンサの模式的断面図である。
【図２】図１の部分ＩＩを拡大した略図的断面図である。
【図３】第１のシランカップリング層を形成する前の誘電体層を表す模式的断面図である。
【図４】第１のシランカップリング層及び誘電体層の模式的断面図である。
【図５】第２のシランカップリング層を形成する前の誘電体層を表す模式的断面図である。
【図６】第１及び第２のシランカップリング層並びに誘電体層の模式的断面図である。
【図７】第１の変形例におけるシランカップリング層を説明するための模式的断面図である。
【図８】第２の変形例におけるシランカップリング層を説明するための模式的断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
以下、本発明を実施した好ましい形態の一例について説明する。但し、下記の実施形態は、単なる例示である。本発明は、下記の実施形態に何ら限定されない。
【００１３】
また、実施形態等において参照する各図面において、実質的に同一の機能を有する部材は同一の符号で参照することとする。また、実施形態等において参照する図面は、模式的に記載されたものである。図面に描画された物体の寸法の比率などは、現実の物体の寸法の比率などとは異なる場合がある。図面相互間においても、物体の寸法比率等が異なる場合がある。具体的な物体の寸法比率等は、以下の説明を参酌して判断されるべきである。
【００１４】
（固体電解コンデンサ１の構成）
図１及び図２に示されるように、固体電解コンデンサ１は、陽極１０を備えている。陽極１０は、弁作用金属を含む。陽極１０は、実質的に弁作用金属からなるものであってもよいし、弁作用金属を含む合金からなるものであってもよい。陽極１０の構成材料として好ましく用いられる弁作用金属の具体例としては、例えば、タンタル、ニオブ、チタン、アルミニウム、ハフニウム、ジルコニウム、亜鉛、タングステン、ビスマス、アンチモン等が挙げられる。これらのなかでも、酸化物の誘電率が高く、原料の入手が容易な、タンタル、ニオブ、チタン、アルミニウムがより好ましく用いられる。弁作用金属を含む合金としては、例えば、タンタルとニオブとを含む合金などが挙げられる。弁作用金属を含む合金は、弁作用金属を５０原子％以上含む、弁作用金属を主成分とする合金であることが好ましい。
【００１５】
本実施形態では、図２に示されるように、陽極１０は、複数の内部空孔を有する多孔質体により構成されている。陽極１０は、例えば、弁作用金属を含む材料の粉末を成形することにより得られた成形体を焼結させることにより作製することができる。陽極１０の外形は、略直方体状である。
【００１６】
なお、本発明において、陽極が多孔質体により構成されている必要は必ずしもない。陽極は、例えば、弁作用金属を含む金属箔により構成されていてもよい。金属箔は、巻回または多重に折り重ねられていることが好ましい。
【００１７】
図１に示されるように、陽極１０には、陽極リード１１が電気的に接続されている。陽極リード１１は、棒状である。陽極リード１１の一方側の部分１１ａは、陽極１０内に埋設されている。陽極リード１１は、この部分１１ａにおいて陽極１０に電気的に接続されている。陽極リード１１の他方側の部分１１ｂは、陽極１０の端面から突出している。陽極リード１１の他方側の部分１１ｂは、陽極端子１２に電気的に接続されている。陽極端子１２は、後述する樹脂外装体１３の外部にまで引き出されている。
【００１８】
陽極１０の上には、誘電体層１４が設けられている。この誘電体層１４により陽極１０の表面が覆われている。図１においては、誘電体層１４が陽極１０の外表面の上にのみ設けられているように模式的に描画されているが、具体的には、図２に示されるように、誘電体層１４は、陽極１０の外表面の上のみならず、陽極１０の内表面の上にも設けられている。すなわち、誘電体層１４は、陽極１０の内部空孔を構成している内表面の上にも設けられている。このような誘電体層１４は、例えば、陽極１０を陽極酸化（化成処理）することにより形成することができる。陽極１０の陽極酸化は、例えば、陽極１０の表面をリン酸水溶液等に接触させることにより行うことができる。
【００１９】
誘電体層１４の上には、シランカップリング層１５が設けられている。シランカップリング層１５の上には、導電性高分子層１６と、陰極層１７とがこの順番で設けられている。
【００２０】
シランカップリング層１５は、誘電体層１４の外表面の上のみならず、誘電体層１４の内表面の上にも設けられている。このシランカップリング層１５により誘電体層１４の外表面及び内表面を含めた実質的に全体が覆われている。
【００２１】
シランカップリング層１５は、誘電体層１４と導電性高分子層１６との間の密着性を向上させるための層である。シランカップリング層１５は、誘電体層１４の上にシランカップリング剤を含む溶液を塗布することにより形成される。
【００２２】
シランカップリング層１５は、第１のシランカップリング層１５ａと、第２のシランカップリング層１５ｂとを有する。第１のシランカップリング層１５ａは、誘電体層１４の導電性高分子層１６側の表面の一部を覆っている。第２のシランカップリング層１５ｂは、誘電体層１４の導電性高分子層１６側の表面において、第１のシランカップリング層１５ａから露出する部分の少なくとも一部を覆っている。本実施形態では、第１及び第２のシランカップリング層１５ａ、１５ｂにより、誘電体層１４の導電性高分子層１６側の表面の実質的に全体が覆われている。
【００２３】
なお、第２のシランカップリング層１５ｂは、誘電体層１４の導電性高分子層１６側の表面において、第１のシランカップリング層１５ａから露出する部分の少なくとも一部を覆うと共に、第１のシランカップリング層１５ａの少なくとも一部をさらに覆っていてもよい。
【００２４】
シランカップリング層１５を構成するためのシランカップリング剤の種類は特に限定されない。シランカップリング層１５を構成するために好ましく用いられるシランカップリング剤の例としては、例えば、アルコキシシラン基、アセトキシシラン基、もしくはハロゲン化シラン基を有するシランカップリング剤などが挙げられる。シランカップリング層１５を構成するために好ましく用いられるシランカップリング剤の具体例としては、例えば、アミノプロピルトリエトキシシラン、オクタデシルトリエトキシシラン、ｎ−プロピルトリクロロシラン、メルカプトプロピルトリメトキシシラン、ジメトキシジフェニルシラン、メチルフェニルジクロロシラン等が挙げられる。
【００２５】
第１のシランカップリング層１５ａを構成するためのシランカップリング剤と、第２のシランカップリング層１５ｂを構成するためのシランカップリング剤とは、相互に同じであってもよいし、異なっていてもよい。第１のシランカップリング層１５ａを構成するためのシランカップリング剤と、第２のシランカップリング層１５ｂを構成するためのシランカップリング剤とは、それぞれ、１種であってもよいし、複数種類であってもよい。
【００２６】
第１及び第２のシランカップリング層１５ａ、１５ｂの厚みは、それぞれ、例えば、０．５ｎｍ〜１００ｎｍの範囲内であることが好ましく、０．５ｎｍ〜１０ｎｍの範囲内であることがより好ましい。なお、シランカップリング層１５の厚みは、例えば、Ｘ線光電子分光分析や触針式段差計を用いた分析により求めることができる。
【００２７】
シランカップリング層１５の上には、導電性高分子層１６が設けられている。導電性高分子層１６は、導電性高分子を含む。導電性高分子層１６に好ましく用いられる導電性高分子の具体例としては、例えば、ポリピロール、ポリチオフェン、ポリエチレンジオキシチオフェン、ポリアニリン、ポリアセチレン、ポリチエニレンビニレン、フルオレン共重合体、ポリビニルカルバゾール、ポリビニルフェノール、ポリフルオレン及びその誘導体、ポリフェニレン及びその誘導体、フェニレン共重合体、ポリパラフェニレンビニレン及びその誘導体、フェニレンビニレン共重合体、ポリピリジン及びその誘導体、ピリジン共重合体などが挙げられる。
【００２８】
なお、導電性高分子層１６は、単一の層により構成されていてもよいし、複数の層の積層体により構成されていてもよい。
【００２９】
導電性高分子層１６の上には、陰極層１７が設けられている。陰極層１７は、カーボン層１７ａと、銀層１７ｂとを有する。カーボン層１７ａは、導電性高分子層１６の上に設けられている。カーボン層１７ａは、カーボンペーストを塗布し、乾燥させることにより形成された層である。銀層１７ｂは、カーボン層１７ａの上に設けられている。銀層１７ｂは、銀ペーストを塗布し、乾燥させることにより形成された層である。
【００３０】
図１に示されるように、陰極層１７には、陰極端子１９が電気的に接続されている。陰極端子１９と陰極層１７とは、導電性接着剤の硬化物を含む導電性接着層１８によって接着されている。陰極端子１９は、モールド樹脂外層体１３の外側にまで引き出されている。
【００３１】
陽極１０、陽極リード１１、誘電体層１４、シランカップリング層１５、導電性高分子層１６及び陰極層１７は、適宜の樹脂により構成されたモールド樹脂外層体１３により封止されている。
【００３２】
（固体電解コンデンサ１の製造方法）
次に、固体電解コンデンサ１の製造方法の一例について説明する。
【００３３】
まず、陽極リード１１の一部が埋設された陽極１０を作製する。具体的には、陽極１０は、以下の要領で作製することができる。まず、陽極１０は、例えば、弁作用金属を含む材料からなる粉末を、陽極リード１１の一部が埋設された所望の形状に成形し、成形体を得る。次に、その成形体を焼結させることによって、陽極リード１１の一部が埋設された陽極１０を作製することができる。
【００３４】
次に、陽極１０を陽極酸化（化成処理）することにより陽極１０の表面上に誘電体層１４を形成する。陽極１０の陽極酸化は、例えば、陽極１０の表面をリン酸水溶液等に接触させながら電圧を印加することにより行うことができる。その後、表面上に誘電体層１４が形成された陽極１０を、必要に応じて洗浄、乾燥する。
【００３５】
次に、誘電体層１４の上に、シランカップリング層１５を形成する。具体的には、誘電体層１４の表面の一部分の上に第１のシランカップリング層１５ａを形成すると共に、誘電体層１４の表面の第１のシランカップリング層１５ａからの露出部の少なくとも一部の上に第２のシランカップリング層１５ｂを形成する。
【００３６】
より具体的には、まず、第１のシランカップリング層１５ａを構成するためのシランカップリング剤（以下、「第１のシランカップリング剤」とする。）を水やエタノールなどの溶媒に加えた溶液（以下、「第１のシランカップリング剤溶液」とする。）中に誘電体層１４を浸漬するなどして、誘電体層１４の上に、第１のシランカップリング剤溶液を塗布する。その後、必要に応じて、乾燥、冷却、洗浄及び乾燥を適宜行うことにより、第１のシランカップリング層１５ａを形成する。具体的には、第１のシランカップリング剤溶液中において、第１のシランカップリング剤の加水分解によりシラノール基が生成される。一般的に、シラノール基は、金属酸化物からなる誘電体層１４の表面に存在する水酸基と脱水縮合反応する。これにより、第１のシランカップリング剤と誘電体層１４の表面との間に共有結合（−Ｓｉ−Ｏ−誘電体層の表面）が形成される。このため、第１のシランカップリング層１５ａは、誘電体層１４の表面のうち、水酸基が多く存在する部分の上に優先的に形成される一方、水酸基がほとんど存在しない部分の上には形成され難い。
【００３７】
なお、第１のシランカップリング剤溶液は、第１のシランカップリング剤を有機溶剤や水系溶剤に溶解させることにより調製することができる。第１のシランカップリング剤溶液における第１のシランカップリング剤の濃度は、特に限定されないが、例えば、０．１ｍＭ（０．１ｍｍｏｌ／ｌ）〜０．５Ｍ（０．５ｍｏｌ／ｌ）の範囲内であることが好ましい。第１のシランカップリング剤溶液に誘電体層１４を浸漬する時間は、特に限定されないが、例えば、１分〜１時間程度とすることができる。塗布された第１のシランカップリング剤溶液の乾燥温度は、例えば、１００℃〜１５０℃程度とすることができる。第１のシランカップリング剤溶液において第１のシランカップリング剤の濃度を低くし、浸漬時間を短くすることにより、１分子レベルの厚みを有する第１のシランカップリング層１５ａを形成することができる。この場合、第１のシランカップリング層１５ａの厚みは０．５ｎｍ〜１ｎｍ程度となる。第１のシランカップリング剤溶液における第１のシランカップリング剤の濃度を高くし、浸漬時間を長くし、１００℃〜１５０℃程度の高温で乾燥処理することにより、第１のシランカップリング剤が加水分解することによって生成したシラノール基（Ｓｉ−ＯＨ）が縮合してシロキサン結合（Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ）を複数形成し、第１のシランカップリング層１５ａの厚みを大きくすることができる。第１のシランカップリング層１５ａの厚みは、上記のように、第１のシランカップリング剤溶液における第１のシランカップリング剤の濃度や、浸漬時間、乾燥温度などの乾燥処理条件により適宜調整することができる。
【００３８】
上述のように、一般的に、シランカップリング剤は、金属酸化物からなる誘電体層１４の表面に存在する水酸基と脱水縮合反応し、共有結合が形成される（−Ｓｉ−Ｏ−誘電体層の表面）。
【００３９】
しかしながら、誘電体層１４の表面には、水酸基が均一に分布している訳ではない。図３に模式的に示されるように、誘電体層１４の表面には、一般的に、水酸基が多く分布している部分と、水酸基がほとんど分布していない部分とが含まれる。このため、図４に示されるように、第１のシランカップリング層１５ａは、誘電体層１４の表面のうち、水酸基が多く存在する部分の上に形成される。誘電体層１４の表面に水酸基がほとんど存在しない部分が存在する場合は、当該部分の上には、第１のシランカップリング層１５ａは形成されない。
【００４０】
次に、図５に示されるように、誘電体層１４の表面の第１のシランカップリング層１５ａからの露出部に水酸基を形成する。水酸基の形成は、例えば、第１のシランカップリング層１５ａが表面上に形成された誘電体層１４を、酸溶液中に浸漬することにより行うことができる。酸溶液に浸漬した後に、必要に応じて、乾燥工程、例えばエタノールなどを用いた洗浄工程等を適宜行ってもよい。
【００４１】
なお、好ましく用いられる酸溶液としては、硫酸と過酸化水素とを混合した混合酸水溶液等が挙げられる。硫酸と過酸化水素との混合酸水溶液は、強い酸化剤として機能し、誘電体層１４の表面に水酸基を付加する。具体的には、過酸化水素が強酸である硫酸と共存することによって、ヒドロキシルラジカル（・ＯＨ）が生成し、そのヒドロキシルラジカルにより誘電体層１４の表面が酸化されることによって水酸基が導入される。
【００４２】
硫酸と過酸化水素との混合酸水溶液において、硫酸の濃度は、特に限定されないが、例えば、０．１質量％〜１０質量％程度とすることができる。硫酸と過酸化水素との混合酸水溶液において、過酸化水素の濃度は、特に限定されないが、例えば、１質量％〜３０質量％程度とすることができる。
【００４３】
誘電体層１４の酸溶液への浸漬時間は、特に限定されないが、例えば、５分〜２時間程度とすることができる。酸溶液に浸漬した後の誘電体層１４の水洗時間は、特に限定されないが、例えば、５分〜３０分程度とすることができる。その後の乾燥温度は、特に限定されないが、例えば、１００℃〜１２０℃程度とすることができる。乾燥時間は、特に限定されないが、５分〜３０分程度とすることができる。
【００４４】
また、水酸基の他の形成方法としては、例えば、メルカプトエタノールで表面処理する方法や、洗浄により誘電体層１４の表面に付着した付着物を除去し、水酸基を再露出させる方法も考えられる。
【００４５】
次に、図６に示されるように、誘電体層１４の第１のシランカップリング層１５ａから露出した部分の上に、第２のシランカップリング層１５ｂを形成する。具体的には、まず、第２のシランカップリング層１５ｂを構成するためのシランカップリング剤（以下、「第２のシランカップリング剤」とする。）を水やエタノールなどの溶媒に加えた溶液（以下、「第２のシランカップリング剤溶液」とする。）中に誘電体層１４を浸漬するなどして、誘電体層１４の上に、第２のシランカップリング剤溶液を塗布する。その後、必要に応じて、乾燥、冷却、洗浄及び乾燥を適宜行うことにより、第２のシランカップリング層１５ｂを形成する。
【００４６】
なお、第２のシランカップリング剤溶液は、第２のシランカップリング剤を有機溶剤や水系溶剤に溶解させることにより調製することができる。第２のシランカップリング剤溶液における第２のシランカップリング剤の濃度は、特に限定されないが、例えば、０．１ｍＭ（０．１ｍｍｏｌ／ｌ）〜０．５Ｍ（０．５ｍｏｌ／ｌ）の範囲内であることが好ましい。第２のシランカップリング剤溶液に誘電体層１４を浸漬する時間は、特に限定されないが、例えば、１分〜１時間程度とすることができる。塗布された第２のシランカップリング剤溶液の乾燥温度は、例えば、１００℃〜１５０℃程度とすることができる。第２のシランカップリング剤溶液において第２のシランカップリング剤の濃度を低くし、浸漬時間を短くすることにより、１分子レベルの厚みを有する第２のシランカップリング層１５ｂを形成することができる。この場合、第２のシランカップリング層１５ｂの厚みは０．５ｎｍ〜１ｎｍ程度となる。第２のシランカップリング剤溶液における第２のシランカップリング剤の濃度を高くし、浸漬時間を長くし、１００℃〜１５０℃程度の高温で乾燥処理することにより、第２のシランカップリング剤が加水分解することによって生成したシラノール基（Ｓｉ−ＯＨ）が縮合してシロキサン結合（Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ）を複数形成し、第２のシランカップリング層１５ｂの厚みを大きくすることができる。第２のシランカップリング層１５ｂの厚みは、上記のように、第２のシランカップリング剤溶液における第２のシランカップリング剤の濃度や、浸漬時間、乾燥温度などの乾燥処理条件により適宜調整することができる。尚、本実施形態において、第１のシランカップリング層１５ａと第２のシランカップリング層１５ｂとは、シロキサン結合や分子間力により部分的に結合している。これにより、第１のシランカップリング層１５ａと第２のシランカップリング層１５ｂとの密着性が高められている。
【００４７】
シランカップリング層１５を形成した後に、図１及び図２に示される導電性高分子層１６を形成する。導電性高分子層１６は、例えば、化学重合や電解重合などにより形成することができる。
【００４８】
その後、導電性高分子層１６の上に、カーボンペーストを塗布し乾燥させることにより、カーボン層１７ａを形成する。その後、カーボン層１７ａの上に、銀ペーストを塗布し、乾燥させることにより銀層１７ｂを形成する。
【００４９】
次に、銀層１７ｂの上に、導電性接着剤を介在させて陰極端子１９を配し、導電性接着剤を硬化させることにより、導電性接着層１８を形成し、陰極端子１９を銀層１７ｂに電気的に接続すると共に接着する。
【００５０】
最後に、モールドによりモールド樹脂外層体１３を形成することにより固体電解コンデンサ１を完成させることができる。
【００５１】
上述のように、第２のシランカップリング層１５ｂの形成前に、誘電体層１４の第１のシランカップリング層１５ａからの露出部に水酸基が導入されている。このため、誘電体層１４の表面の第１のシランカップリング層１５ａからの露出部の上にも第２のシランカップリング層１５ｂが好適に形成される。よって、第１のシランカップリング層１５ａに加えて第２のシランカップリング層１５ｂを設けることにより、誘電体層１４のシランカップリング層１５による被覆率を高めることができる。従って、誘電体層１４と導電性高分子層１６との密着性を改善することができる。その結果、長時間使用後においても容量が低下し難い固体電解コンデンサ１を実現することができる。また、絶縁性に優れたシランカップリング層１５による誘電体層１４の被覆率が高くなるため、固体電解コンデンサ１の耐電圧特性も改善される。
【００５２】
なお、誘電体層１４の表面の全体が、第１及び第２のシランカップリング層１５ａ、１５ｂにより完全に被覆されている必要は必ずしもない。また、第２のシランカップリング層１５ｂが、誘電体層１４の第１のシランカップリング層１５ａからの露出部の少なくとも一部を覆っていれば上記密着性及び耐電圧特性の改善効果が得られる。
【００５３】
また、第１のシランカップリング層１５ａ及び第２のシランカップリング層１５ｂの厚みを大きくすることにより耐電圧特性を改善することができる。
【００５４】
また、シランカップリング剤溶液におけるシランカップリング剤の濃度や浸漬時間、乾燥温度などの乾燥処理条件を調整することにより、第１のシランカップリング層１５ａの厚み及び第２のシランカップリング層１５ｂの厚みをそれぞれ異ならせることができる。これにより、シランカップリング層１５の表面に凹凸を形成することができ、シランカップリング層１５が導電性高分子層１６と接触する面積を増やすことができる。従って、シランカップリング層１５と導電性高分子層１６との密着性をさらに高めることができる。
【００５５】
また、異なるシランカップリング剤を用いて第１のシランカップリング層１５ａ及び第２のシランカップリング層１５ｂを形成することにより、異なる反応性官能基をシランカップリング層１５の表面に形成することができる。これにより、シランカップリング層１５の表面に複数の機能を付与することができる。例えば、濡れ性改善効果のあるシランカップリング剤と接着性改善効果のあるシランカップリング剤とを用いて第１のシランカップリング層１５ａ及び第２のシランカップリング層１５ｂを形成することにより、導電性高分子層１６の形成を容易にし、シランカップリング層１５と導電性高分子層１６との密着性もより強固なものにできる。このように、複数のシランカップリング剤を用いて上述のシランカップリング層１５を形成することにより、シランカップリング層１５と導電性高分子層１６との密着性についても高めることができる。尚、濡れ性改善効果のあるシランカップリング剤としては、３−アミノプロピルトリメトキシシラン等が挙げられる。密着性を高めるシランカップリング剤としては、３−メルカプトトリメトキシシラン等が挙げられる。
【００５６】
以下、変形例について説明する。以下の説明において、上記実施形態と実質的に共通の機能を有する部材を共通の符号で参照し、説明を省略する。
【００５７】
（第１の変形例）
上記実施形態では、第２のシランカップリング層１５ｂが、誘電体層１４の第１のシランカップリング層１５ａからの露出部の上のみに設けられている例について説明した。但し、本発明は、この構成に限定されない。
【００５８】
例えば、図７に示されるように、第２のシランカップリング層１５ｂは、誘電体層１４の第１のシランカップリング層１５ａからの露出部の少なくとも一部を覆うと共に、第１のシランカップリング層１５ａの表面の少なくとも一部を覆っていてもよい。第２のシランカップリング層１５ｂは、第１のシランカップリング層１５ａの上を含め、誘電体層１４の実質的に全体を覆っていてもよい。この場合であっても、上記実施形態と同様の効果が奏される。
【００５９】
尚、本変形例において、第１のシランカップリング層１５ａと第２のシランカップリング層１５ｂとは、シロキサン結合や分子間力により部分的に結合している。これにより、第１のシランカップリング層１５ａと第２のシランカップリング層１５ｂとの密着性が高まる。
【００６０】
また、第２のシランカップリング層１５ｂは、誘電体層１４の第１のシランカップリング層１５ａからの露出部の少なくとも一部を覆うと共に、第１のシランカップリング層１５ａの表面の少なくとも一部を覆っている。このため、シランカップリング層１５の表面に凹凸を形成することができ、シランカップリング層１５と導電性高分子層１６との接触面積を増やすことができる。従って、シランカップリング層１５と導電性高分子層１６との密着性をさらに高めることができる。
【００６１】
（第２の変形例）
上記実施形態では、シランカップリング層１５が、第１のシランカップリング層１５ａと第２のシランカップリング層１５ｂとの２層のシランカップリング層により構成されている例について説明した。もっとも、本発明において、シランカップリング層は、３層以上のシランカップリング層により構成されていてもよい。例えば、第１のシランカップリング層を形成した後に、水酸基の導入と、さらなるシランカップリング層の形成とを複数回繰り返し行ってもよい。
【００６２】
例えば、図８に示す例では、シランカップリング層１５は、第１のシランカップリング層１５ａと、第２のシランカップリング層１５ｂと、第３のシランカップリング層１５ｃとを有する。本変形例では、第２のシランカップリング層１５ｂは、誘電体層１４の導電性高分子層１６側の表面の第１のシランカップリング層１５ａから露出する部分の一部を覆っている。このため、誘電体層１４の導電性高分子層１６側の表面の一部は、第１及び第２のシランカップリング層１５ａ、１５ｂから露出している。第３のシランカップリング層１５ｃは、この誘電体層１４の導電性高分子層１６側の表面の第１及び第２のシランカップリング層１５ａ、１５ｂからの露出部の少なくとも一部を覆っている。
【００６３】
本変形例の場合、第２のシランカップリング層１５ｂを形成した後に、第３のシランカップリング層１５ｃを構成するためのシランカップリング剤を含む溶液（以下、「第３のシランカップリング剤溶液」とする。）中に誘電体層１４を浸漬するなどして、誘電体層１４の上に、第３のシランカップリング剤溶液を塗布する。その後、必要に応じて、乾燥、冷却、洗浄及び乾燥を適宜行うことにより、第３のシランカップリング層１５ｃを形成する。
【００６４】
第３のシランカップリング層１５ｃの形成は、第２のシランカップリング層１５ｂを形成した後に直ちに行ってもよいが、第２のシランカップリング層１５ｂを形成した後に水酸基の導入工程を行ってから行うことがより好ましい。
【００６５】
第３のシランカップリング層１５ｃは、誘電体層１４の表面の第１及び第２のシランカップリング層１５ａ、１５ｂからの露出部のみを覆っていてもよいし、第１及び第２のシランカップリング層１５ａ、１５ｂの少なくとも一方の少なくとも一部を覆っていてもよい。
【００６６】
本変形例のように、シランカップリング層を３層以上設けることにより、誘電体層１４の導電性高分子層１６側の表面のシランカップリング層１５による被覆率をさらに改善することができる。従って、誘電体層１４と導電性高分子層１６との密着性をさらに改善することができる。その結果、長時間使用後において容量がより低下しにくい固体電解コンデンサ１を実現することができる。また、固体電解コンデンサ１の耐電圧特性もさらに改善される。
【符号の説明】
【００６７】
１…固体電解コンデンサ
１０…陽極
１１…陽極リード
１２…陽極端子
１３…モールド樹脂外層体
１４…誘電体層
１５…シランカップリング層
１５ａ…第１のシランカップリング層
１５ｂ…第２のシランカップリング層
１５ｃ…第３のシランカップリング層
１６…導電性高分子層
１７…陰極層
１７ａ…カーボン層
１７ｂ…銀層
１８…導電性接着層
１９…陰極端子
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【国際調査報告】
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