(57)【要約】  グラビアオフセット印刷用凹版および印刷配線基材を提供する。印刷方向に連続するパターン、特に連続した細線パターンの形状の変化を防止し、高精細な配線パターンを備える印刷配線基材を安定的に供給する。  配線パターンを形成するためのパターン部を備えるグラビアオフセット印刷用凹版３１０は、そのパターン部の一部が、印刷方向に対して略垂直な方向に伸び、印刷方向に連続して並設された複数の細線状のパターン部３１１であり、複数の細線状のパターン部３１１の印刷方向の上端に、ダミーパターン部３１３を設ける。あるいは、ダミーパターン部３１３を設ける代わりに、複数の細線状のパターン部３１１のうち、印刷方向の始端に位置するパターン部の線幅を、印刷方向の終端に位置するパターン部の線幅より細くする。
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
配線パターンを形成するためのパターン部を備えるグラビアオフセット印刷用凹版であって、
前記パターン部の一部が、印刷方向に対して略垂直な方向に伸び、印刷方向に連続して並設された複数の細線状のパターン部であり、
（ａ）前記複数の細線状のパターン部の印刷方向の上端に、ダミーパターン部を設けること、
（ｂ）前記複数の細線状のパターン部のうち、印刷方向の始端に位置するパターン部の線幅が、印刷方向の終端に位置するパターン部の線幅より細いこと、
のいずれかを満たすことを特徴とするグラビアオフセット印刷用凹版。
【請求項２】
前記複数の細線状のパターン部の線幅が１０μｍ以上５ｍｍ以下であり、線と線との間の距離が１０μｍ以上１００μｍ以下であることを特徴とする請求項１に記載のグラビアオフセット印刷用凹版。
【請求項３】
グラビアオフセット印刷によって形成された配線パターンを備える印刷配線基材であって、
前記配線パターンの一部が、印刷方向に対して略垂直な方向に伸び、印刷方向に連続して並設された複数の細線状の配線パターンであり、
（ａ）前記複数の細線状の配線パターンの印刷方向の上端に、ダミーパターンを有すること、
（ｂ）前記複数の細線状の配線パターンのうち、印刷方向の始端に位置する配線パターンの線幅が、印刷方向の終端に位置する配線パターンの線幅より細いこと、
のいずれかを満たすことを特徴とする印刷配線基材。
【請求項４】
前記複数の細線状の配線パターンの線幅が１０μｍ以上５ｍｍ以下であり、線と線との間の距離が１０μｍ以上１００μｍ以下であることを特徴とする請求項３に記載の印刷配線基材。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、グラビアオフセット印刷に用いられる凹版、及びこの凹版を用いたグラビアオフセット印刷によって形成された配線パターンを備える印刷配線基材に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、建材分野、パッケージ分野、出版分野、エレクトロニクス分野など生活系、電気系、情報系さまざまな分野における工業製品の製造方法として、グラビアオフセット印刷を用いるケースが増加している。グラビアオフセット印刷とは、印刷対象物の表面に各種インキ、樹脂、導電ペーストなどの各種の粘度の高い塗布材料を用いて、広範囲に高解像力、高寸法精度のある優れた画像を安定的に印刷するための技術である。【０００３】
一般的なグラビアオフセット印刷の工程を図１に示す。グラビアオフセット印刷は、ガラス、樹脂、金属などで作製されたグラビアオフセット印刷用凹版１０１のパターン部１０４内に、ドクター、スキージまたはスクレーパー１０３によってインキ１０２を充填する工程（工程１）と、そのパターン部１０４内にインキ１０２が充填されたグラビアオフセット印刷用凹版１０１上に、表面をシリコーンなどの樹脂で形成された転写層１１２を備える転写体１１１を接触させながら回転させ、転写層１１２上にインキ皮膜１１３を転移させる工程（工程２）と、転写体１１１を被印刷体１２１に圧着し、転写層１１２上に残るインキ皮膜１１３の印刷パターン１２２を被印刷体１２１に転写する工程（工程３）を具備する転写印刷法である。このグラビアオフセット印刷は、被印刷体の表面に各種インキ、樹脂、導電ペーストなどの粘度の高い塗布材料を高解像、高寸法精度で、広範囲に印刷することが可能である。【０００４】
グラビアオフセット印刷により、ＩＣカードアンテナ（コイル状のパターン）や太陽電池バックシートの導配線、電磁波シールド、タッチパネル用の信号取出し配線等を、導電性インキ、導電性ペースト等を用いて、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、アクリル、ガラス等からなる基材上に広範囲の面積に高精細に印刷する場合、下記のような機能が要求される。
［１］広範囲に均一かつ安定した高精細な細線の印刷を可能にすること。
［２］被印刷体に印刷された細線が、断線、ショートしないこと。
［３］安定した膜厚の細線を印刷できること。【０００５】
上記の機能を有するグラビアオフセット印刷を用いて細線のパターンを量産するためには、インキ剥離性を有する転写層上に、凹版が備える所望のパターン部内部に満たされたインキを確実に転移させることが必要となる。また、無断線の細線のパターンを形成するには、予めドクター、スキージまたはスクレーパーなどで所望のパターン部内部にインキを充填し、そのパターン部内部に満たされたインキ面を平滑にし、インキ剥離性の転写層を有する転写体との圧着時に、そのインキ面が均等に転写体と接触することが必要である。【０００６】
上記の機能を達成するために、例えば、引用文献１には、厚膜印刷、特に微細画像、あるいはベタ像など、ピンホール、断線をきらうパターン形成において、オフセット方式による重ね刷りを採用することにより、細線の不連続、版の目詰まりによるピンホール、印刷パターンの伸び縮みを防止することが記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開昭５５−５８５６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかしながら、特許文献１に記載の方法では、重ね塗りをすることで工程や操作が煩雑になる。また、特許文献１には、凹版のパターン部内部に充填されたインキ面を平滑にし、そのインキ面を均等に転写体に接触させ、確実に転写層上へ転移させる手段について、具体的には開示されていない。一方、印刷しようとするパターンが印刷進行方向に対して略垂直に連続して存在する場合、凹版上に転写体を接触させながら回転させるとき、凹版の連続したパターン部内部で生じる転写層の歪み挙動が、転写体の移動方向に対して略垂直に連続して存在する凹版の連続した各パターン部内部で異なるため、転写層へ転写したインキ皮膜の形状が連続的に変化してしまうという問題が生じる。この課題は、グラビアオフセット印刷において、高精細な細線のパターンを形成しようとするほど顕著になる。【０００９】
そこで、本発明は、印刷方向に連続するパターン、特に連続した細線パターンの形状の変化を防止し、高精細な配線パターンを備える印刷配線基材を安定的に供給することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記の課題を解決するための手段として、本発明の一局面は、配線パターンを形成するためのパターン部を備えるグラビアオフセット印刷用凹版であって、パターン部の一部が、印刷方向に対して略垂直な方向に伸び、印刷方向に連続して並設された複数の細線状のパターン部であり、（ａ）複数の細線状のパターン部の印刷方向の上端に、ダミーパターン部を設けること、（ｂ）複数の細線状のパターン部のうち、印刷方向の始端に位置するパターン部の線幅が、印刷方向の終端に位置するパターン部の線幅より細いこと、のいずれかを満たすことを特徴とする。【００１１】
上記複数の細線状のパターン部の線幅が１０μｍ以上５ｍｍ以下であり、線と線との間の距離が１０μｍ以上１００μｍ以下であることが好ましい。【００１２】
また本発明の他の局面は、グラビアオフセット印刷によって形成された配線パターンを備える印刷配線基材であって、配線パターンの一部が、印刷方向に対して略垂直な方向に伸び、印刷方向に連続して並設された複数の細線状の配線パターンであり、（ａ）複数の細線状の配線パターンの印刷方向の上端に、ダミーパターンを有すること、（ｂ）複数の細線状の配線パターンのうち、印刷方向の始端に位置する配線パターンの線幅が、印刷方向の終端に位置する配線パターンの線幅より細いこと、のいずれかを満たすことを特徴とする印刷配線基材。【００１３】
上記複数の細線状の配線パターンの線幅が１０μｍ以上５ｍｍ以下であり、線と線との間の距離が１０μｍ以上１００μｍ以下であることが好ましい。
【発明の効果】
【００１４】
本発明のグラビアオフセット印刷用凹版を用いることで、印刷方向に連続する細線状の配線パターンに対して、形状の変化がなく再現度の高い印刷をすることが可能になる。特に、より細い配線パターンになるにつれて本発明のグラビアオフセット印刷用凹版の効果は顕著化するため、微細な配線パターンの形成に適している。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】図１は、本発明のグラビアオフセット印刷の工程図である。
【図２】図２は、従来の形状からなるパターン部を備えるグラビアオフセット印刷用凹版の上面図である。
【図３】図３は、本発明のグラビアオフセット印刷用凹版の一実施形態を示した上面図である。
【図４】図４は、本発明のグラビアオフセット印刷用凹版の一実施形態を示した上面図である。
【図５】図５は、実施例１に係るグラビアオフセット印刷用凹版を示した上面図である。
【図６】図６は、実施例２に係るグラビアオフセット印刷用凹版を示した上面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
以下、図面を参照しながら、本発明の実施形態について説明する。なお、本発明の実施形態は、以下に記載する実施形態に限定されうるものではなく、当業者の知識に基づいて設計の変更などの変形を加えることも可能であり、そのような変形が加えられた実施形態も本発明の実施形態の範囲に含まれうるものである。
【００１７】
［グラビアオフセット印刷用凹版について］
本発明の実施形態に係るグラビアオフセット印刷の工程について、前述の一般的なグラビアオフセット印刷の工程図である図１を参照しながら説明する。
【００１８】
まず、図１の工程１に示すように、グラビアオフセット印刷用凹版１０１上にインキ１０２を乗せ、ドクター、スキージまたはスクレーパー１０３にてインキ１０２を一定の圧力で図中の矢印の方向に転がしながらグラビアオフセット印刷用凹版１０１上を移動させることで、グラビアオフセット印刷用凹版１０１のパターン部１０４内にインキ１０２を充填する。
【００１９】
この際、グラビアオフセット印刷用凹版１０１のパターン部１０４は、幅が１０μｍから５ｍｍ程度、深さが５μｍから２０μｍ程度の溝によって形成される。また、溝と溝との間の距離は１０μｍから１００μｍ程度、好ましくは２０から５０μｍである。本発明は、特に幅が１０μｍから１００μｍ程度の溝を備え、溝と溝との間の距離が１０μｍから１００μｍ程度、さらに２０μｍから５０μｍであるグラビアオフセット印刷用凹版に対して有効であり、印刷方向に連続するパターン、特に連続する細線パターンに対して後述するダミーパターンやパターン補正を加えることで、設計したパターンの再現度の高い印刷をすることができる。
【００２０】
また、グラビアオフセット印刷用凹版１０１は、その表面が平滑であることが望ましい。これにより、凹版表面へのインキ漏れを起こすことなく印刷をすることが可能である。また、ドクターなどの欠けなども抑制することができる。ここで、グラビアオフセット印刷用凹版１０１の表面とは、グラビアオフセット印刷用凹版１０１におけるドクター、スキージまたはスクレーパー１０３と接触する表面、又は、グラビアオフセット印刷用凹版１０１のパターン部１０４（溝）の内側表面のことをいう。なお、グラビアオフセット印刷用凹版１０１の表面は、粗面研磨加工、鏡面研磨加工、超精密研磨加工（ラッピングやポリシング）によって平滑にすることができる。
【００２１】
グラビアオフセット印刷用凹版１０１のパターン部１０４の形成方法としては、エッチング法、電鋳法、サンドブラスト法などが挙げられる。これらの形成方法による加工性という点から、グラビアオフセット印刷用凹版１０１はガラス又は銅、ニッケルなどの金属であることが望ましい。また、表面にクロムやカーボンによる耐擦性皮膜を形成していることが望ましい。
【００２２】
また、ドクター、スキージまたはスクレーパー１０３には、グラビアオフセット印刷用凹版１０１のパターン部１０４内にインキ１０２を充填しかつグラビアオフセット印刷用凹版１０１上のインキ１０２を掻き取る必要があることから、ある程度のしなりが求められる。よって、ドクター、スキージまたはスクレーパー１０３は、ステンレスなどの金属、またはウレタンなどの樹脂、セラミックであることが望ましい。
【００２３】
次に、図１の工程２に示すように、転写層１１２を有する転写体１１１を、パターン部１０４にインキ１０２が充填されたグラビアオフセット印刷用凹版１０１上で回転及び移動させて、グラビアオフセット印刷用凹版１０１のパターン部１０４内のインキ１０２を転写層１１２に転写し、転写層１１２上にインキ皮膜１１３が形成される。転写層１１２を形成する材料としては、公知の材料を用いることができるが、その中でもシリコーンゴムが望ましい。
【００２４】
この際に、形状の変化がなく再現度の高い配線パターンを形成するためには、転写層１１２の表面とグラビアオフセット印刷用凹版１０１のパターン部１０４に充填されたインキ１０２面とが接触面内で均等に接している必要がある。しかしながら、印刷方向に対して略垂直な方向に伸び、印刷方向に連続して並設された複数のパターン部においては、印刷方向の始端に位置するパターン部へ転写体の転写層が大きく落ち込むため、次に接触するパターン部において転写体の転写層がパターン部内部のインキに十分に接触できず、インキを十分に転移させることができないという不具合が生じる。すなわち、パターン部内部で生じる転写体の転写層の歪み挙動が、印刷方向に連続して存在するパターン部内部で異なるため、印刷方向においてインキの移転の程度に違いが生じる。これにより、印刷方向に連続した配線パターンにおいて印刷方向の始端と終端とで同一形状の設計であっても形状が変化してしまい、設計上の配線パターンの再現度が低下する。
【００２５】
上記の現象を、図２に示した従来の形状からなるパターン部（同一形状のパターン部）を備えるグラビアオフセット印刷用凹版で説明する。図２に示すように、Ｙ方向に対して垂直な方向（Ｘ方向）に伸び、連続して並設された複数の細線状のパターン部２１１を備えるグラビアオフセット印刷用凹版２１０を用いて、パターン部２１１にインキを充填した後、Ｙ方向に転写体を回転及び移動させた場合、パターン部２１１の始端の凹部２１２に転写体の転写層が落ち込み、凹部２１２に対してＹ方向に並設されている凹部２１３や他の凹部から転移したインキ皮膜がＹ方向に向かうにつれて徐々に細くなっていくという現象が起こる。結果として、同一形状のパターン部を備えるグラビアオフセット印刷用凹版によって形成されたインキ皮膜を被印刷体に転写しでも、印刷方向の配線パターンの形状が変化してしまい、設計上の配線パターンを再現することができない。特に、凹部２１２と凹部２１２とＹ方向で隣り合う凹部２１３との形状の差異が顕著となる。
【００２６】
そこで、本発明のグラビアオフセット印刷用凹版のパターン部は、例えば、図３に示したグラビアオフセット印刷用凹版３１０のように、パターン部３１１のうちＹ方向の始端の凹部３１２より上端にダミーパターン部３１３を配置する。ダミーパターン部３１３を備えるグラビアオフセット印刷用凹版３１０を用いてＹ方向に転写体を回転及び移動させた場合、ダミーパターン部３１３に意図的に転写体の転写層を落ち込ませることで、その後のパターン部３１１への接触を安定化させることができる。そして、パターン部３１１から転移したインキ皮膜全体の線幅や形状の変化を抑え、設計に対して再現性の高い印刷物を形成することが可能となる。
【００２７】
ここで、印刷方向とは、転写体の転写層表面に転移させたインキ皮膜を被印刷体に転写するときの転写体の移動方向のことをいう。この印刷方向は、グラビアオフセット印刷用凹版のパターン部に充填されたインキを転写体の転写層表面に転移させるときの転写体の移動方向と同じである。また、グラビアオフセット印刷用凹版のパターン部の印刷方向の始端とは、転写体の移動方向の最も上流側に配置された凹部の位置のことをいう。言い換えると、転写体と最初に接触するグラビアオフセット印刷用凹版の凹部の位置のことをいう。具体的には、図２の凹部２１２や図３の凹部３１２が配置された位置のことをいう。また、グラビアオフセット印刷用凹版のパターン部の印刷方向の終端とは、転写体の移動方向の最も下流側に配置された凹部の位置のことをいう。言い換えると、転写体と最後に接触するグラビアオフセット印刷用凹版の凹部の位置のことをいう。また、グラビアオフセット印刷用凹版のパターン部の印刷方向の上端とは、転写体の移動方向の最も上流側に配置された凹部の印刷方向と反対方向の位置を指し、具体的には、図３の凹部３１２の印刷方向と反対方向で隣り合うダミーパターン部３１３の位置のことをいう。
【００２８】
ダミーパターン部は、配線パターンを形成するためのパターン部の一部として配置されていてもよく、配置されていなくてもよい。すなわち、ダミーパターン部によって形成されるパターンは導通していてもよく、導通していなくてもよい。したがって、ダミーパターン部の形状は、断線形状などでもよい。
【００２９】
本発明は、グラビアオフセット印刷用凹版のパターン部の一部が、印刷方向に対して略垂直な方向に伸び、印刷方向に連続して並設された複数の細線状のパターン部であるときに、効果が顕著化する。細線状のパターン部が印刷方向に対して略垂直な方向に伸びている場合、パターン部が転写体の幅方向と略平行になるため、パターン部への転写体の転写層の落ち込みが大きくなり、パターン部内部で生じる転写体の転写層の歪み挙動の影響を受けやすい。なお、印刷方向に対して略垂直な方向とは、パターン部がパターン部内部で生じる転写体の転写層の歪み挙動の影響を受ける程度の方向に伸びていれば、厳密に印刷方向に対して垂直な方向になっていなくてもよいという意味である。すなわち、パターン部が印刷方向に対して垂直な方向に伸びているか、おおよそ垂直な方向（具体的には印刷方向に対して６０度から１２０度程度傾斜した方向）に伸びていれば、本発明を好適に適用できる。また、細線状のパターン部が印刷方向に連続して複数並設されている場合、転写体の転写層の影響を受けるパターン部の面積（長さ）が増加するため、パターン部内部で生じる転写体の転写層の歪み挙動を受けやすい。
【００３０】
また、グラビアオフセット印刷用凹版が、ダミーパターン部を配置することが不可能な場合は、図４に示すように、グラビアオフセット印刷用凹版４１０のパターン部４１１の線幅を、印刷方向（ここではＹ方向）の始端から終端に向かって変化させる手法が有効である。例えば、図４のパターン部４１１のうち、印刷方向の始端の凹部とその近傍に位置する凹部とからなる複数の凹部４１２の線幅を、パターン部４１１全体の平均線幅（所望の配線パターンの線幅を形成するための設計上の線幅）よりも１０％細くし、パターン部４１１のうち、印刷方向の終端の凹部とその近傍に位置する凹部とからなる複数の凹部４１３の線幅を、上記平均線幅よりも１０％太くする。これにより、パターン部４１１から転移したインキ皮膜全体の線幅ばらつきを抑制することが可能である。
【００３１】
図４に示したグラビアオフセット印刷用凹版４１０のパターン部４１１は、印刷方向の始端近傍、終端近傍のパターン部（始端近傍、終端近傍のそれぞれ３箇所の凹部）の線幅を調整しているが、少なくとも、印刷方向の始端に位置するパターン部の線幅が、印刷方向の終端に位置するパターン部の線幅より細ければよい。これにより、印刷方向の始端に位置するパターン部への転写体の転写層の落ち込みによる、印刷パターンの線幅への影響を抑制することができる。
【００３２】
その他、グラビアオフセット印刷用凹版のパターン部の線幅を印刷方向の始端から終端に向かって変化させる具体的な手法としては、パターン部の線幅を始端から終端に向かって徐々に変化させる、パターン部の線幅を始端のみを平均線幅よりも細くする、などが挙げられる。
【００３３】
最後に、図１の工程３に示すように、被印刷体１２１上に転写体１１１を転がしインキ皮膜１１３を転写することで印刷パターン１２２が形成され、印刷配線基材が得られる。
【００３４】
［印刷配線基材について］
本発明の印刷配線基材は、上述の本発明のグラビアオフセット印刷用凹版を用いたグラビアオフセット印刷によって作製される。まず、本発明のグラビアオフセット印刷用凹版のパターン部に充填されたインキを転写体の転写層上に転移させる。次いで、形成されたインキ被膜を基材上に転写させることで、基材上に印刷パターンを形成する。
【００３５】
基材上に形成された印刷パターンは、その一部が印刷方向に対して略垂直な方向に伸び、印刷方向に連続して並設された複数の細線状の配線パターンである。そして、その複数の細線状の配線パターンの印刷方向の上端に、ダミーパターンが形成される。このように、本発明の印刷配線基材は、ダミーパターンが形成されているので、配線パターンの形状の変化が少ない高精細な配線パターンを備える。一方、ダミーパターンを配置することが不可能な場合は、印刷方向の始端に位置するパターンの線幅が、印刷方向の終端に位置するパターンの線幅より細い複数の細線状の配線パターンが形成される。このように、本発明の印刷配線基材は、パターンの線幅が印刷方向の始端と終端で異なっているので、配線パターンの形状の変化が少ない高精細な配線パターンを備える。なお、配線パターンの形状は、グラビアオフセット印刷用凹版のパターン部の形状に相当するから、配線パターンの線幅は、１０μｍから５ｍｍ程度、線と線との間の距離が１０μｍから１００μｍ程度、好ましくは２０μｍから５０μｍである。本発明は、特に線幅が１０μｍから１００μｍ程度であり、線と線との間の距離が１０μｍから１００μｍ程度、さらに２０μｍから５０μｍである細線状の配線パターンに対して有効である。
【実施例】
【００３６】
まず、テスト用のパターン部を備えるグラビアオフセット印刷用凹版を３種類用意した。図５に実施例１に係るグラビアオフセット印刷用凹版の概略を示す。グラビアオフセット印刷用凹版５１０は、縦が１２０ｍｍ、横が１２０ｍｍ、高さが３ｍｍのガラスを用いて、エッチングにてパターン部５１１を形成したものである。パターン部５１１の幅は３０μｍであり、細線が１５本連続した形状をしている。パターン部５１１の深さは１０μｍである。印刷方向（Ｙ方向）の上端にはダミーパターン部５１２が形成されている。【００３７】
次に、実施例２に係るグラビアオフセット印刷用凹版について図６を用いて説明する。グラビアオフセット印刷用凹版６１０は、図５に示した実施例１に係るグラビアオフセット印刷用凹版５１０と同じく、縦が１２０ｍｍ、横が１２０ｍｍ、高さが３ｍｍのガラスを用いて、エッチングにてパターン部６１１を形成したものである。パターン部６１１の印刷方向（Ｙ方向）の始端側のうち３本の凹部６１２は２７μｍ幅であり、終端側のうち３本の凹部６１３は３３μｍ幅である。【００３８】
比較例に係るグラビアオフセット印刷用凹版は、実施例１および実施例２と同様の材質、サイズであるが、ダミーパターン部や印刷方向の始端から終端に向かって変化させているパターン部は配置されておらず、一律３０μｍ幅の太さの細線からなるパターン部がエッチングにより形成されている。【００３９】
この３種類のグラビアオフセット印刷用凹版を用いて、ポリエチレンテレフタレート基材上に導電性銀ベーストによる配線パターンを形成するために、グラビアオフセット印刷を行った。【００４０】
ポリエチレンテレフタレート基材は、厚さが１８８μｍ、縦が１２０ｍｍ、横が１２０ｍｍのものを使用した。また、導電性銀ペーストとして、レオロジー測定装置を用いて測定した粘度が角速度１０ｒａｄ／秒において、９．５Ｐａ．ｓであるインキを使用した。また、インキ剥離性の転写体は、金陽社製のシリコーンゴムを主体とするゴム硬さ（ＪＩＳ  Ａ）４５°、ゴム厚さ０．６ｍｍの素材を円筒に巻いたものを使用した。また、ドクターは、ＭＤＣ社製ドクターブレードのレギュラータイプを使用した。【００４１】
グラビアオフセット印刷装置は、一般に使用されている印刷装置を使用した。印刷条件は、ドクター速度を５０ｍｍ／秒、転写体速度を５０ｍｍ／秒とし、転写体とグラビアオフセット印刷用凹版の接触幅、転写体とポリエチレンテレフタレート基材の接触幅は一律で１０ｍｍとした。【００４２】
実施例１、実施例２、比較例の印刷配線基材は、以下の工程により作製した。まず、用意したグラビアオフセット印刷用凹版のパターン部に上記導電性銀ペーストをドクターによって充填した。次に、インキが充填されたグラビアオフセット印刷用図版上で、グラビアオフセット印刷用凹版の印刷方向（Ｙ方向）に上記転写体を回転及び移動させて、シリコーンゴム上に導電性銀ベーストの皮膜を形成した。最後に、導電性銀ベーストの皮膜が形成された転写体をポリエチレンテレフタレート基材の印刷方向に回転及び移動させて、ポリエチレンテレフタレート基材上に導電性銀ペーストの皮膜を転写し、配線パターンを形成した。【００４３】
上記条件において、実施例１、実施例２、比較例に係るそれぞれのグラビアオフセット印刷用凹版にてグラビアオフセット印刷を行い、実施例１、実施例２、比較例の印刷配線基材を各２０枚作製した。実施例１の印刷配線基材の配線パターンの平均線幅と標準偏差（σ）を算出したところ、平均線幅が２８．３μｍ、σが２．５１μｍであった。また実施例２では平均線幅が２９．５μｍ、σが＝３．１μｍであった。比較例の平均線幅が２８．５μｍ、σが６．６μｍであった。なお、印刷配線基材の配線パターンの平均線幅については、顕微鏡にて各印刷配線基材の配線パターンの線幅を測定して、配線パターン全体の平均値を算出して平均線幅とした。このとき、測定は１００点行なった。【００４４】
比較例の印刷配線基材を顕微鏡にて確認したところ、配線パターンの線幅は印刷方向の始端が最も太く、そこから徐々に細くなる傾向が確認された。一方、実施例１、実施例２の配線パターンは、線幅のばらつきが完全に無くなりはしないものの、結果に示したように比較例の配線パターンの線幅のばらつきより小さく、よりその形状が安定をしていた。【００４５】
本発明のグラビアオフセット印刷用凹版を用いることで、高精細な配線パターンを形成する場合においても収率良く安定して印刷配線基材を作製することが可能である。
【符号の説明】
【００４６】
１０１    グラビアオフセット印刷用凹版
１０２    インキ
１０３    ドクター、スキージまたはスクレーパー
１０４    パターン部
１１１    転写体
１１２    転写層
１１３    インキ皮膜
１２１    被印刷体
１２２    印刷パターン
２１０    グラビアオフセット印刷用凹版
２１１    パターン部
２１２    凹部
２１３    凹部
３１０    グラビアオフセット印刷用凹版
３１１    パターン部
３１２    凹部
３１３    ダミーパターン部
４１０    グラビアオフセット印刷用凹版
４１１    パターン部
４１２    複数の凹部
４１３    複数の凹部
５１０    グラビアオフセット印刷用凹版
５１１    パターン部
５１２    凹部
５１３    ダミーパターン部
６１０    グラビアオフセット印刷用凹版
６１１    パターン部
６１２    ３本の凹部
６１３    ３本の凹部
【図１】
2014020862.tif 000003
【図２】
2014020862.tif 000004
【図３】
2014020862.tif 000005
【図４】
2014020862.tif 000006
【図５】
2014020862.tif 000007
【図６】
2014020862.tif 000008
【国際調査報告】
2014020862.tif 000009
2014020862.tif 000010
2014020862.tif 000011
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