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【手続補正書】
【提出日】平成27年1月9日(2015.1.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】防滴構造および電子機器
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
この発明は、防滴構造および電子機器に関する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
この発明が解決しようとする課題は、水滴が機器ケース内に浸入するのを防ぐことである。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
この発明は、第１ケースと、第２ケースと、前記第１ケースおよび前記第２ケースによって囲われた内部に配置された第３ケースとを有し、この第３ケースに部品を収納する収納部が前記第２ケースの開口部から外部に開放された状態で設けられ、この開放された前記収納部を蓋体が開閉可能に塞ぐ防滴構造において、
前記蓋体の周縁部と前記第２ケースの前記開口部の周縁部とが接近し合う第１接近部は、前記蓋体が前記開口部を塞いだ際に、第１防滴部材によって気密され、
前記第３ケースの前記収納部の周縁部と前記第２ケースの前記開口部の周縁部とが接近し合う第２接近部は、第２防滴部材によって密閉されていることを特徴とする防滴構造である。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
この発明によれば、水滴が機器ケース内に浸入するのを防ぐことができる。
【手続補正６】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１ケースと、第２ケースと、前記第１ケースおよび前記第２ケースによって囲われた内部に配置された第３ケースとを有し、この第３ケースに部品を収納する収納部が前記第２ケースの開口部から外部に開放された状態で設けられ、この開放された前記収納部を蓋体が開閉可能に塞ぐ防滴構造において、
前記蓋体の周縁部と前記第２ケースの前記開口部の周縁部とが接近し合う第１接近部は、前記蓋体が前記開口部を塞いだ際に、第１防滴部材によって気密され、
前記第３ケースの前記収納部の周縁部と前記第２ケースの前記開口部の周縁部とが接近し合う第２接近部は、第２防滴部材によって密閉されていることを特徴とする防滴構造。
【請求項２】
請求項１に記載の防滴構造において、前記部品は電池であり、前記収納部は前記電池を収納することを特徴とする防滴構造。
【請求項３】
請求項１または請求項２に記載の防滴構造において、前記第１接近部は、前記第２ケースの前記開口部における前記周縁部の周囲に沿って形成された凹溝と、前記蓋体の前記周縁部に沿って形成されて前記凹溝に嵌合する枠状の凸部とを有し、前記第１防滴部材は、前記第２ケースの前記凹溝内に配置されて前記蓋体の前記凸部が圧接する第１パッキンであることを特徴とする防滴構造。
【請求項４】
請求項１〜請求項３のいずれかに記載の防滴構造において、前記第２接近部は、前記収納部における前記周縁部の周囲に位置する前記第３ケースの外面と、前記第２ケースの前記開口部における前記周縁部の周囲に位置して前記第３ケースの前記外面に対面する前記第２ケースの内面とを有し、前記第２防滴部材は、前記第３ケースが前記第２ケースに締結部材によって締結された際に、前記第３ケースの前記外面と前記第２ケースの前記内面とに圧接する第２パッキンであることを特徴とする防滴構造。
【請求項５】
請求項１〜請求項４のいずれかに記載の防滴構造において、前記第３ケースと前記第１ケースとの間には、メモリカードを搭載するカード装着部が、前記収納部の底部に対応して設けられており、前記収納部の底部には、前記メモリカードが挿入するカード挿入孔が、前記カード装着部に対応して設けられており、このカード挿入孔には、カード蓋が着脱可能に取り付けられていることを特徴とする防滴構造。
【請求項６】
請求項５に記載の防滴構造において、前記カード挿入孔に対する前記カード蓋の取付部分には、防滴部が設けられており、この防滴部は、前記カード蓋の周囲に沿って設けられて前記カード挿入孔の内周面に対面する凹溝と、この凹溝内に配置されて前記カード挿入孔の内周面に圧接するカード蓋パッキンとを有していることを特徴とする防滴構造。
【請求項７】
請求項１〜請求項６のいずれかに記載の防滴構造において、前記第３ケースに設けられた前記収納部内には、その内部に収納された部品の電極が接続する接続電極が、前記第３ケースの側面部に設けられた小部屋に隔離された状態で配置されていることを特徴とする防滴構造。
【請求項８】
請求項７に記載の防滴構造において、前記小部屋は接続基板によって密閉されており、前記接続電極は前記小部屋に対応する箇所の前記接続基板に電気的に接続されていることを特徴とする防滴構造。
【請求項９】
請求項１〜請求項８のいずれかに記載された防滴構造を備えていることを特徴とする電子機器。
【手続補正書】
【提出日】平成26年12月5日(2014.12.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
放熱板と、
前記放熱板の上面に形成された絶縁層と、
前記絶縁層の上面に、互いに離間して形成された複数の配線パターンと、
前記配線パターンの上面の一部に形成され、発光素子搭載領域として隣接する前記配線パターンの一端を露出するとともに、前記隣接する配線パターンの間の前記絶縁層の上面を露出する第１開口部を有し、且つ、前記第１開口部に露出する絶縁層以外の前記絶縁層の上面を被覆する第１反射層と、
前記発光素子搭載領域内において、前記隣接する配線パターンの間の前記絶縁層の上面を被覆する第２反射層とを備え、
前記絶縁層の上面から前記第２反射層の上面までの厚さが、前記絶縁層の上面から前記第１反射層の上面までの厚さよりも薄く形成されていることを特徴とする配線基板。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項４】
前記発光素子搭載領域に発光素子がフリップチップ実装されたときに、前記発光素子の前記配線パターンに対向する面よりも前記第１反射層の上面が高くなるように形成されていることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１つに記載の配線基板。
【手続補正３】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項５】
前記第１反射層は、前記複数の配線パターンのうち、最も外側に配置された前記配線パターンの一部のみを露出し、外部接続端子用パッドとなる第２開口部をさらに有することを特徴とする請求項１〜４の何れか１つに記載の配線基板。
【手続補正４】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項６】
放熱板と、
前記放熱板の上面に形成された絶縁層と、
前記絶縁層の上面に、互いに離間して形成された複数の配線パターンと、
前記配線パターンの上面の一部に形成され、発光素子搭載領域として隣接する前記配線パターンの一端を露出するとともに、前記隣接する配線パターンの間の前記絶縁層の上面を露出する第１開口部を有し、且つ、前記第１開口部に露出する絶縁層以外の前記絶縁層の上面を被覆する第１反射層と、
前記発光素子搭載領域内において、前記隣接する配線パターンの間の前記絶縁層の上面を被覆する第２反射層と、
前記発光素子搭載領域に搭載された発光素子と、
前記発光素子を封止するように形成された封止樹脂とを備え、
前記絶縁層の上面から前記第２反射層の上面までの厚さが、前記絶縁層の上面から前記第１反射層の上面までの厚さよりも薄く形成されていることを特徴とする発光装置。
【手続補正５】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項７】
放熱板の上面に形成された絶縁層の上面に複数の配線パターンを離間して形成する工程と、
前記配線パターンの上面の一部に形成され、発光素子搭載領域として隣接する前記配線パターンの一端を露出するとともに、前記隣接する配線パターンの間の前記絶縁層の上面を露出する第１開口部を有し、且つ、前記第１開口部に露出する絶縁層以外の前記絶縁層の上面を被覆する第１反射層と、前記発光素子搭載領域内において、前記隣接する配線パターンの間の前記絶縁層の上面を被覆する第２反射層とを形成する工程と、を備え、
前記絶縁層の上面から前記第２反射層の上面までの厚さが、前記絶縁層の上面から前記第１反射層の上面までの厚さよりも薄くなるように形成されることを特徴とする配線基板の製造方法。
【手続補正６】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項８】
前記第１反射層及び前記第２反射層を形成する工程は、
前記絶縁層の上面に、スクリーン印刷法により前記第１反射層を形成する工程と、
前記第１開口部から露出された前記絶縁層の上面に、スクリーン印刷法により前記第２反射層を形成する工程と、
を有することを特徴とする請求項７に記載の配線基板の製造方法。
【手続補正７】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項９】
前記第１反射層及び前記第２反射層を形成する工程は、
前記絶縁層の上面に、前記第１反射層と、前記第１開口部から露出される前記絶縁層を被覆し、前記第１反射層と同じ厚さの第２反射層とを形成する工程と、
前記第２反射層を薄化する工程と、
を有することを特徴とする請求項７に記載の配線基板の製造方法。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
本発明の一観点によれば、放熱板と、前記放熱板の上面に形成された絶縁層と、前記絶縁層の上面に、互いに離間して形成された複数の配線パターンと、前記配線パターンの上面の一部に形成され、発光素子搭載領域として隣接する前記配線パターンの一端を露出するとともに、前記隣接する配線パターンの間の前記絶縁層の上面を露出する第１開口部を有し、且つ、前記第１開口部に露出する絶縁層以外の前記絶縁層の上面を被覆する第１反射層と、前記発光素子搭載領域内において、前記隣接する配線パターンの間の前記絶縁層の上面を被覆する第２反射層とを備え、前記絶縁層の上面から前記第２反射層の上面までの厚さが、前記絶縁層の上面から前記第１反射層の上面までの厚さよりも薄く形成されている。
【手続補正書】
【提出日】平成27年8月31日(2015.8.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】半導体装置の作製方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
酸化物半導体層上に、第１の導電膜を形成し、
前記第１の導電膜上にレジストを形成しフォトマスクを用いた露光を行った後、前記第１の導電膜を選択的にエッチングして、前記酸化物半導体層上に、第１の導電層と第２の導電層とを間隔をあけて形成し、
前記第１の導電層上と、前記第１の導電層と前記第２の導電層との間且つ前記酸化物半導体層上と、前記第２の導電層上、とに第２の導電膜を形成し、
前記第２の導電膜上にレジストを形成し電子ビームを用いた露光を行った後、前記第２の導電膜を選択的にエッチングして、前記第１の導電層上から前記第１の導電層と前記第２の導電層との間まで延びて配置される第３の導電層と、前記第２の導電層上から前記第１の導電層と前記第２の導電層との間まで延びて配置される第４の導電層と、を間隔をあけて形成することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項２】
酸化物半導体層上に、第１の導電膜を形成し、
前記第１の導電膜上にレジストを形成しフォトマスクを用いた露光を行った後、前記第１の導電膜を選択的にエッチングして、前記酸化物半導体層上に、第１の導電層と第２の導電層とを間隔をあけて形成し、
前記第１の導電層上と、前記第１の導電層と前記第２の導電層との間且つ前記酸化物半導体層上と、前記第２の導電層上と、に第２の導電膜を形成し、
前記第２の導電膜上にレジストを形成し電子ビームを用いた露光を行った後、前記第２の導電膜を選択的にエッチングして、前記第１の導電層上から前記第１の導電層と前記第２の導電層との間まで延びて配置される第３の導電層と、前記第２の導電層上から前記第１の導電層と前記第２の導電層との間まで延びて配置される第４の導電層と、を間隔をあけて形成する半導体装置の作製方法であって、
トランジスタのチャネル長は、前記第３の導電層と前記第４の導電層の間隔となることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【手続補正書】
【提出日】平成27年11月2日(2015.11.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
発光素子と、
前記発光素子が一方の面に実装される導電性の基板と、
前記基板の側面に配置され前記発光素子及び前記基板の厚さ方向に立設された立設部、及び、前記立設部から前記基板の平面方向に延設し前記基板の一方の面を保持する基板接合部、を有する基板保持部と、を含む発光素子搭載部を備え、
一の前記発光素子搭載部の前記基板保持部の前記立設部における一方の端面と、他の前記発光素子搭載部の前記基板保持部の前記立設部における他方の端面とが接するように互いに隣接し合って積層され、
一の前記発光素子搭載部の前記発光素子と、他の前記発光素子搭載部の前記基板の他方の面とが導電性の第１接合材を介して接合されている発光装置。
【請求項２】
前記基板保持部の前記基板接合部と前記基板の一方の面とは、第１接着材によって接着されている請求項１記載の発光装置。
【請求項３】
前記基板保持部の平面形状は、コの字型である請求項１又は２記載の発光装置。
【請求項４】
前記基板保持部は、前記基板を挟んで、前記基板接合部が対向するように配置されている請求項１又は２記載の発光装置。
【請求項５】
一の前記発光素子搭載部の前記立設部の前記基板の厚さ方向の一方の端面と、一の前記発光素子搭載部に隣接する他の前記発光素子搭載部の前記立設部の前記基板の厚さ方向の他方の端面とは、絶縁膜を介して接している請求項１乃至４の何れか一項記載の発光装置。
【請求項６】
発光素子と、
前記発光素子が一方の面に実装される導電性の基板と、
前記基板を複数保持する基板保持部と、を含む発光素子搭載部を備え、
前記基板保持部は、複数の貫通孔が並設された板状の部材であり、
複数の前記貫通孔はスリット状で、
複数の前記貫通孔は平行に多段配置され、
前記基板は、前記貫通孔に挿入されて前記貫通孔の内壁に接合され、
一の前記発光素子と、他の前記基板の他方の面とが導電性の第１接合材を介して接合されている発光装置。
【請求項７】
前記基板は、前記発光素子搭載部に対応する領域から延在して突出する突出部を有する請求項１乃至６の何れか一項記載の発光装置。
【請求項８】
前記突出部の端面が、第３接合材を介して配線基板に接合されている請求項７記載の発光装置。
【請求項９】
発光素子と、
前記発光素子が一方の面に実装される導電性の基板と、
前記基板を複数保持する基板保持部と、を含む発光素子搭載部を備え、
前記基板保持部の所定の面には複数の溝が並設され、
複数の前記溝はスリット状で、
複数の前記溝は平行に複数列配置され、
前記基板の前記発光素子が実装されていない部分が前記溝に挿入されて前記溝の内壁に接合され、
一の前記発光素子と、他の前記基板の他方の面とが導電性の第１接合材を介して接合されている発光装置。
【請求項１０】
発光素子が実装されていない１枚の導電性の基板を有し、
前記１枚の導電性の基板は、隣接して配置される前記基板に実装された前記発光素子と、前記第１接合材を介して接合されている請求項９記載の発光装置。
【請求項１１】
前記溝の内壁面には前記基板と導通する第１金属層が形成され、
前記所定の面の一端側には、前記一端側に最も近い前記溝に形成された前記第１金属層と導通する第２金属層が形成され、
前記所定の面の他端側には、前記他端側に最も近い前記溝に形成された前記第１金属層と導通する第３金属層が形成され、
前記第２金属層と前記第３金属層との間に、前記第１金属層及び前記基板を介して、複数の前記発光素子が直列に接続されている請求項９又は１０記載の発光装置。
【請求項１２】
前記基板保持部の前記所定の面とは反対側の面が、第３接合材を介して配線基板に接合され、
前記第２金属層及び前記第３金属層は、各々金属線を介して前記配線基板と電気的に接続されている請求項１１記載の発光装置。
【請求項１３】
前記発光素子が、第２接合材を介して前記基板の一方の面に接合されている請求項１乃至１２の何れか一項記載の発光装置。
【請求項１４】
それぞれの前記発光素子の出射光の光路上にそれぞれレンズを配置した請求項１乃至１３の何れか一項記載の発光装置。
【請求項１５】
一方の最外部に積層された前記基板から他方の最外部に積層された前記発光素子に直列に電流を流すことにより、それぞれの前記発光素子が同時に発光する請求項１乃至１４の何れか一項記載の発光装置。
【請求項１６】
前記基板保持部は、シリコン、セラミック、又はガラスからなる請求項１乃至１５の何れか一項記載の発光装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成27年1月21日(2015.1.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２６】
［ウエハ搬入］
まず、ウエハＷを周縁膜除去装置１０に搬入する。搬入に先立ち、カップ２０が下降位置に下降し、天板３０が退避位置に上昇する。この状態で、ウエハＷを保持した搬送アーム１０４が開口１５（図１にのみ表示）を介してケーシング１２内に進入し、ウエハＷを基板保持部１６上に置く。バキュームチャックとして形成された基板保持部１６がウエハＷを吸着した後、搬送アーム１０４はケーシング１２内から退出する。ウエハＷの搬入に先立ち、電力供給源５２からヒータ５１に給電がされてヒータ５１は１５０℃程度に既に加熱されており、上部周縁部材５０のガス通流空間に面する表面は高温になっている。その後、図２に示されるように、カップ２０が上昇位置に上昇するとともに天板３０が処理位置に下降する。このカップ２０および天板３０の位置はウエハ搬出の開始前まで維持される。前述したようにカップ２０の内部空間は排出口２２を介して常時吸引されているため、吸入口５５から引き込まれたエアは上部周縁部材５０により加熱されながら図２中黒塗り矢印で示すようにガス通流空間５３内を流れる。１００℃程度になったエア（第１ガス）は流出口５６から吐出され、ウエハＷの周縁部分に衝突し、ウエハＷの周縁部分を加熱する。なお、このときには、加圧ガス供給源４４から加圧された常温のＮ２ガスは供給されていない。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３１】
［スピン乾燥］
次に、リンス液ノズル６３を切除部５７内から退出させ、引き続き加圧ガス供給源４４から加圧された常温のＮ２ガスを供給するとともに、ウエハＷの回転速度を増す。これにより、ウエハＷの周縁部分が振り切り乾燥される。このとき、図２中の白抜き矢印で示す常温のＮ２ガスの流れにより、乾燥が促進される。このとき、更に乾燥効率を上げるために、加圧ガス供給源４４から加圧された常温のＮ２ガスの供給を停止することにより、第１ガス（加熱されたガス）を流出口５６からウエハＷの周縁部分に吐出させてもよい。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４１】
カバー部材３００の中央部の開口部３０１内には、加圧ガス供給源４４から、ウエハＷの中央部に向けて常温のＮ２ガス、すなわち第２ガスを供給する第２ガスノズル３１６が設けられている。第２ガスノズル３１６は、アーム３１８を介してノズル移動機構３２０に接続されている。ノズル移動機構３２０により、第２ガスノズル３１６は、ガスの吐出を行うときにウエハＷ表面近くまで下降し、ガスの吐出を行わないときにはウエハＷ表面から離れた位置（例えば、カバー部材３００より上側、若しくはカバー部材３００よりも上側かつ半径方向外側の位置）に退避することができる。なお、第２ガスノズル３１６は、カバー部材３００の中央部の開口部３０１内の所定位置（例えば図８に示す位置）に常時位置するように、カバー部材３００にアームを介して固定することもできる。
【手続補正書】
【提出日】平成26年12月24日(2014.12.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
栽培したキノコの石突部分をカットするキノコのカット装置であって、キノコを所定のカット位置にセット可能なキノコセット部と、カット位置にセットされたキノコの食用部分と石突部分間をカット可能となるように、キノコの両側の外面に対向させ、かつ山形に湾曲又は折曲させたブレード部を有する少なくとも一対のカッタ部と、各カッタ部におけるブレード部が円弧に沿って変位するように各カッタ部を進退移動可能なカッタ駆動機構部とを具備してなることを特徴とするキノコのカット装置。
【請求項２】
前記ブレード部は、半円筒形に形成し、当該半円筒形を形成する円形状には、少なくとも、真円形状，楕円形状又は多角形状を含むとともに、筒形状には、少なくとも、同一径の筒形状，テーパ状の筒形状又は半球形状を含むことを特徴とする請求項１記載のキノコのカット装置。
【請求項３】
前記カッタ駆動機構部は、前記一対のカッタ部の下部をそれぞれ回動自在に支持する回動支持部と、前記一対のカッタ部を対称方向に進退可能なカッタ駆動部とを備えることを特徴とする請求項１又は２記載のキノコのカット装置。
【請求項４】
前記カッタ駆動機構部は、少なくとも前記カッタ部の進退移動及び停止を制御するコントローラを備えることを特徴とする請求項３記載のキノコのカット装置。
【請求項５】
前記キノコには少なくともブナシメジを含むことを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載のキノコのカット装置。
【請求項６】
石突部分がカットされた一株キノコであって、
前記カット面が、中心が上方に盛り上がった山形形状に沿った形状を有することを特徴とする一株キノコ。
【請求項７】
石突部分がカットされた一株キノコであって、
カット面が、石突部分の上面形状に沿った形状を有することを特徴とする一株キノコ。
【請求項８】
石突部分がカットされた一株キノコであって、
前記一株キノコの底部から上部に向かう方向に沿った一の軸を平面内に含み、かつ、互いに直交する２つ平面を第１平面及び第２平面としたとき、
前記第１平面に沿って前記カット面を見たとき前記カット面は円弧形状を有し、
前記第２平面に沿って前記カット面を見たとき前記カット面は真円形状、楕円形状又は多角形状を有することを特徴とする請求項６又は７に記載の一株キノコ。
【手続補正書】
【提出日】平成27年2月12日(2015.2.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】手続補正書
【補正対象項目名】手続補正３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
また、上記の目的を達成する本発明に係る眼科装置は、
被検眼の第一の画像および第二の画像を取得する画像取得手段と、
前記第一の画像と、前記第二の画像とから前記被検眼の移動量を取得する情報取得手段と、
固視標パターンを表示する固視標表示手段と、
前記固視標パターンに対する前記被検眼の固視状態を示す表示形態を前記被検眼の画像とともに表示手段に表示する表示制御手段と、
前記移動量に応じて前記被検眼の固視状態を示す表示形態を変更する変更手段と、
を備えることを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成26年12月26日(2014.12.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の関心領域を取得する領域取得手段と、
前記複数の関心領域から少なくとも１つの関心領域を選択して注目領域とする選択手段と、
医用画像を取得する画像取得手段と、
前記取得された複数の関心領域の位置を表示させるとともに、前記取得された複数の関心領域に対応する前記医用画像における対応領域が存在しうる存在領域を前記医用画像上に表示させる表示制御手段と、
前記注目領域以外の関心領域の位置の表示態様と、注目領域以外の関心領域の前記存在領域の表示態様とを、前記選択に応じて異なる方法で変更する変更手段と
を備えることを特徴とする画像処理装置。
【請求項２】
前記変更手段は、前記選択手段により前記注目領域が変更されることに応じて、該変更前の注目領域の関心領域に対応する存在領域を前記医用画像上から消去する
ことを特徴とする請求項１に記載の画像処理装置。
【請求項３】
前記変更手段は、さらに、前記注目領域の存在領域と、注目領域以外の関心領域の存在領域との位置関係に基づいて、注目領域以外の関心領域の位置の表示態様を変更する
ことを特徴とする請求項１に記載の画像処理装置。
【請求項４】
前記変更手段は、前記注目領域の存在範囲から所定の距離より離れた前記関心領域について、該関心領域の位置を表示しない
ことを特徴とする請求項３に記載の画像処理装置。
【請求項５】
被検体の複数の関心領域から少なくとも１つの関心領域を選択する選択手段と、
前記複数の関心領域それぞれの位置を第一の画像上に表示させるとともに、前記選択に応じて前記被検体を撮影して得られた第二の画像における前記選択された関心領域の存在範囲を示す存在領域を前記第二の画像上に表示させる表示制御手段と
を備えることを特徴とする画像処理装置。
【請求項６】
前記表示制御手段が超音波撮影装置を用いて前記被検体を撮影し得られる超音波断層画像を前記第二の画像として表示させる場合において、
前記被検体の三次元画像における複数の関心領域の位置を取得する領域取得手段と、
前記超音波断層画像と前記三次元画像との位置合わせ誤差に基づいて前記関心領域の前記超音波断層画像における存在領域を特定する特定手段と
を更に備えることを特徴とする請求項５に記載の画像処理装置。
【請求項７】
前記表示制御手段は、前記選択手段により選択される関心領域が変更されることに応じて、前記変更前の関心領域の存在領域から前記変更後の関心領域の存在領域へと表示を切り替える
ことを特徴とする請求項５に記載の画像処理装置。
【請求項８】
前記表示制御手段は、前記複数の関心領域のうち選択されなかった関心領域についての存在領域を前記第二の画像上に表示させない制御をする
ことを特徴とする請求項５に記載の画像処理装置。
【請求項９】
前記表示制御手段は、前記選択に応じて前記第一の画像上における該選択された関心領域の位置を第一の図形で表示させるとともに、前記選択されなかった関心領域の位置を第二の図形で表示させる制御をする
ことを特徴とする請求項５に記載の画像処理装置。
【請求項１０】
前記表示制御手段は、病変の位置を模式的に示すためのボディマーク画像を前記第一の画像として表示させ、前記被検体を撮影して得られる超音波断層画像を前記第二の画像として表示させる
ことを特徴とする請求項５に記載の画像処理装置。
【請求項１１】
前記表示制御手段は、前記被検体を超音波撮影装置の超音波プローブを用いて撮影し得られる超音波断層画像を前記第二の画像として表示させるとともに、前記超音波プローブの位置を前記第一の画像上に表示させる
ことを特徴とする請求項５に記載の画像処理装置。
【請求項１２】
前記表示制御手段は、前記選択された関心領域の存在領域と前記選択されなかった関心領域の位置との位置関係に基づいて前記第一の画像上に表示される関心領域の位置の表示を制限する
ことを特徴とする請求項５に記載の画像処理装置。
【請求項１３】
請求項１乃至１２のいずれか１項に記載の画像処理装置と、
超音波断層画像を得る超音波撮影装置と、
前記表示制御手段による制御に応じて画像を表示する表示手段と
を備えることを特徴とする撮影システム。
【請求項１４】
超音波撮影装置により被検体を撮影し病変の位置を探索するためのナビゲーション表示をする装置であって、
被検体の超音波断層画像を逐次取得する画像取得手段と、
前記被検体の三次元画像において特定された複数の関心領域を取得する領域取得手段と、
前記被検体の三次元画像と前記超音波断層画像の位置合わせ誤差に基づいて前記関心領域についての存在範囲である存在領域を特定する特定手段と、
前記複数の関心領域から少なくとも１つの関心領域を選択する選択手段と、
ボディマーク画像と前記超音波断層画像を表示させ、前記ボディマーク画像上に前記複数の関心領域それぞれの位置を表示させるとともに、前記選択に応じて前記超音波断層画像上に前記選択された関心領域の前記存在領域を表示させる表示制御手段と、
前記表示制御に応じて画像を表示する表示手段と
を備えることを特徴とする装置。
【請求項１５】
被検体の複数の関心領域から少なくとも１つの関心領域を選択するステップと、
前記複数の関心領域それぞれの位置を第一の画像上に表示させるステップと、
前記選択に応じて前記被検体を撮影して得られた第二の画像上に前記選択された関心領域の存在範囲を示す存在領域を表示させるステップと
を備えることを特徴とする画像処理方法。
【請求項１６】
撮影対象を示すボディマークと、前記撮影対象の少なくとも一部を撮影装置で撮影して得られる画像と、を取得する画像取得手段と、
前記撮影対象において設定された複数の関心領域から少なくとも第一の関心領域を選択する選択手段と、
前記選択された関心領域に対応する領域が前記画像上において存在しうる範囲を示す、前記画像上における存在範囲の情報を取得する情報取得手段と、
前記ボディマークに前記設定された複数の関心領域の位置を示す表示を付し、
前記画像に前記選択された関心領域に対応する領域の前記存在範囲が含まれる場合に、前記画像に、前記画像上における前記選択された関心領域に対応する領域の存在範囲を表示させ、
前記画像に選択されていない関心領域に対応する領域の存在範囲が含まれる場合に、前記選択されていない関心領域に対応する前記領域の前記存在範囲を非表示とする、表示制御手段と
を備えることを特徴とする画像処理装置。
【請求項１７】
被写体の断層画像を取得する画像取得手段と、
前記画像取得手段により取得された前記断層画像において、対応病変部の存在領域の情報を取得する情報取得手段であって、対応病変部の夫々は病変部の夫々に対応する、情報取得手段と、
前記存在領域から一つの関心存在領域を選択する選択手段と、
前記対応病変部の存在領域を示す情報を前記情報取得手段から取得し、前記選択手段により選択されていない存在領域を示す図形が、前記選択手段により選択された存在領域を示す図形よりも目立たない表示態様となるように、前記対応病変部の存在領域を示す図形を、前記画像取得手段により取得された断層画像に重畳して描画する画像合成手段と
を備えることを特徴とする画像処理装置。
【手続補正書】
【提出日】平成27年1月26日(2015.1.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
空気中で0.7mg/h〜5.0mg/hのシンナムアルデヒドを放散することを特徴とするインフルエンザ予防用マスク。
【請求項２】
マスク本体７、鼻孔及び／又は口の接触部８、シンナムアルデヒド若しくはシンナムアルデヒドを主成分とするシナモン抽出物を塗布又は含浸可能な吸着層９を含み、シンナムアルデヒド若しくはシンナムアルデヒドを主成分とするシナモン抽出物を塗布又は含浸した吸着層９が該マスク本体７と該鼻孔及び／又は口の接触部８間に挟まれていることを特徴する請求項１のマスク。
【請求項３】
マスク本体７、鼻孔及び／又は口の接触部８、シンナムアルデヒド若しくはシンナムアルデヒドを主成分とするシナモン抽出物を収納可能な袋形状態１０を含み、シンナムアルデヒド若しくはシンナムアルデヒドを主成分とするシナモン抽出物を収納した袋形状態１０を該マスク本体７の鼻孔及び／又は口の接触部８との接触側に設置していることを特徴する請求項１のマスク。
【請求項４】
シンナムアルデヒド又はシンナムアルデヒドを主成分とするシナモン抽出物を保管する容器１、シンナムアルデヒドの揮発を促進させる加熱部２、シンナムアルデヒド放散量検出センサー３、センサーにより制御される加熱温度調整部４及び換気扇５を少なくとも備え、空気中で0.7mg/h〜5.0mg/hのシンナムアルデヒドを放散することを特徴とするインフルエンザ予防装置。
【請求項５】
空気中に0.7mg/h〜5.0mg/hのシンナムアルデヒドを放散することを特徴とするインフルエンザの予防方法。
【請求項６】
シンナムアルデヒド又はシンナムアルデヒドを主成分とするシナモン抽出物を用い、空気中に0.7mg/h〜5.0mg/hのシンナムアルデヒドを放散することを特徴とするインフルエンザの予防方法。
【手続補正書】
【提出日】平成27年1月27日(2015.1.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被検眼の断層画像を取得する取得手段と、
前記被検眼を撮影する際の撮影モードに応じて、前記被検眼の断層画像から網膜層の３次元の形状データの解析を行なう解析手段と、
前記網膜層の深さ方向に直交する平面である計測面を前記３次元の形状データに交差させることにより、前記網膜層の特徴量を取得する取得手段と、
前記特徴量を得るための３次元の形状データを表示装置に表示する表示制御手段と
を具備することを特徴とする画像処理システム。
【請求項２】
前記取得手段は、
前記網膜の所定の層に基づいて生成された前記３次元の形状データから前記特徴量を取得する
ことを特徴とする請求項１記載の画像処理システム。
【請求項３】
網膜層の中から所定の層を選択する選択手段
を更に具備し、
前記解析手段は、
前記選択された層の前記３次元の形状データを生成する
ことを特徴とする請求項２に記載の画像処理システム。
【請求項４】
被検眼を撮影する際の複数の撮影モードの中からいずれかの撮影モードを選択する撮影モード選択手段
を更に具備し、
前記撮影モード選択手段により選択された撮影モードに応じて、固視灯の位置、照射光の走査範囲、照射光の走査パターン、照射光の光軸方向に沿った撮影位置、の少なくともいずれかを変更する
ことを特徴とする請求項１から３のいずれか１項に記載の画像処理システム。
【請求項５】
前記取得手段は、
前記特徴量として、前記計測面と前記３次元の形状データの交差により設定される領域の面積と体積の少なくともいずれかを取得し、
前記表示制御手段は、
前記３次元の形状データと前記計測面との位置関係を示す指標を前記表示装置に表示する
ことを特徴とする請求項１から４のいずれか一項に記載の画像処理システム。
【請求項６】
前記指標は、
前記３次元の形状データを示すオブジェクトと前記計測面を示す模式計測面とを含んで構成される
ことを特徴とする請求項５記載の画像処理システム。
【請求項７】
前記表示制御手段は、
前記３次元の形状データと、前記指標と、前記３次元の形状解析の結果とを前記表示装置に表示する
ことを特徴とする請求項６記載の画像処理システム。
【請求項８】
前記解析手段は、
操作者が入力装置を介して、前記表示装置に表示された前記オブジェクトと前記模式計測面との位置関係を変更した場合、それに伴った領域に対して前記３次元の形状解析を行ない、
前記表示制御手段は、
前記オブジェクトと前記模式計測面との位置関係の変更に連動して、前記３次元の形状解析の結果を変更して表示する
ことを特徴とする請求項７記載の画像処理システム。
【請求項９】
前記表示制御手段は、
網膜層を所定の視点位置から参照した２次元の断層画像と前記３次元の形状データとを並べて前記表示装置に表示し、操作者が入力装置を介して前記視点位置を変更した場合、それに連動して前記２次元の断層画像と前記３次元の形状データとの視点位置を変更して表示する
ことを特徴とする請求項１から８のいずれか１項に記載の画像処理システム。
【請求項１０】
請求項１から９のいずれか１項に記載の画像処理システムによる処理をコンピュータに実行させるためのプログラム。
【請求項１１】
画像処理システムの処理方法であって、
取得手段が、被検眼の断層画像を取得する工程と、
解析手段が、前記被検眼を撮影する際の撮影モードに応じて、前記被検眼の断層画像から網膜層の３次元の形状データの解析を行なう工程と、
取得手段が、前記網膜層の深さ方向に直交する平面である計測面を前記３次元の形状データに交差させることにより、前記網膜層の特徴量を取得する工程と、
表示制御手段が、前記特徴量を得るための３次元の形状データを表示装置に表示する工程と
を含むことを特徴とする処理方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
上記課題を解決するため、本発明の一態様による画像処理システムは、被検眼の断層画像を取得する取得手段と、前記被検眼を撮影する際の撮影モードに応じて、前記被検眼の断層画像から網膜層の３次元の形状データの解析を行なう解析手段と、前記網膜層の深さ方向に直交する平面である計測面を前記３次元の形状データに交差させることにより、前記網膜層の特徴量を取得する取得手段と、前記特徴量を得るための３次元の形状データを表示装置に表示する表示制御手段とを具備する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２７】
画像処理部３３には、検出部４１と、解析部４２と、判定部４３と、位置合わせ部４７とが具備される。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３０】
解析部４２は、解析対象となる網膜層の解析を行なう。解析部４２には、判定部４３と、網膜層解析部４４と、解析結果作成部４５と、形状データ作成部４６とが設けられる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３２】
網膜層解析部４４は、判定部４３の判定結果に基づいて、解析対象となる網膜層に対して解析処理を行なう。なお、本実施形態においては、３次元の形状解析処理として、近視眼の黄斑の解析を行なう場合について説明する。解析結果作成部４５では、解析結果（網膜層の状態を示す情報）を提示するための各種データを作成する。形状データ作成部４６では、撮影により得られた複数の断層画像同士を位置合わせし、３次元の形状データを作成する。すなわち、３次元の形状データは、網膜層の層情報に基づいて作成される。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６４】
［Ｓ２０４］
画像処理装置３０は、網膜層解析部４４において、網膜層の３次元の形状解析を行なう。ここでは、形状解析の方法として、網膜層の面積と体積とを計測する手法について例を挙げて説明する。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１２３】
［Ｓ２０７］
画像処理装置３０は、網膜層解析部４４において、網膜層の検出結果に基づいて形状解析を行なう。この解析処理では、３次元の形状データ等を作成せずに、網膜層の検出結果を用いた解析が行なわれる。例えば、層厚の解析等が行なわれる。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１３７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１３７】
次に、操作者が、入力装置５４を介して、図１３で説明した断層画像観察画面４００を操作した場合について説明する。
【手続補正９】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１】
2013153882.tif 000001
【手続補正１０】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図９】
2013153882.tif 000002
【手続補正１１】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１０】
2013153882.tif 000003
【手続補正書】
【提出日】平成27年1月19日(2015.1.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被検体を載置する天板と、
前記天板を該天板の長手方向に移動させる天板移動手段と、
Ｘ線管、及び当該Ｘ線管から照射され、被検体を透過したＸ線を検出するＸ線検出手段を含む撮影手段と、
前記天板を該天板の長手方向に所定の送り量ずつ移動させる毎に前記被検体にＸ線を照射させるように前記天板移動手段及び前記撮影手段を制御することで、前記被検体における撮影領域をずらしかつ撮影させる制御手段と、
各前記撮影領域の投影データを収集する収集手段と、
スキャンの目的に対応して、隣接する前記撮影領域同士が重なり合うオーバーラップ領域を変更する制御手段と、
を有する
ことを特徴とするＸ線ＣＴ装置。
【請求項２】
前記各撮影領域の投影データに基づいて所定の再構成領域の大きさ毎に被検体の断層画像を再構成する再構成手段をさらに有し、
前記制御手段は、前記送り量に対応したスキャン制御モード、及び前記再構成領域の大きさに対応した再構成制御モードを有し、前記スキャン制御モードの指定を受けて、当該指定されたモードに対応する前記送り量を前記天板移動手段に出力するとともに、前記再構成制御モードの指定を受けて、当該指定されたモードに対応する前記再構成領域の大きさを前記再構成手段に出力することを特徴とする請求項１に記載のＸ線ＣＴ装置。
【請求項３】
前記スキャン制御モードは、前記送り量が予め定められた値、心拍数及び／または呼吸レート、心電同期撮影及び／または呼吸同期撮影、全位相撮影または部分位相撮影、及び、前記撮影領域の大きさのうちの一つまたは二以上の組み合わせに依存するものであって、前記再構成制御モードに対応し、または、前記再構成制御モードと独立するものであることを特徴とする請求項２に記載のＸ線ＣＴ装置。
【請求項４】
前記Ｘ線検出手段は、前記天板の長手方向にＸ線検出素子を多列に配置して構成され、
前記スキャン制御モードは、前記撮影領域が撮影されるときに用いられる前記Ｘ線検出素子の列数と送り量との関係テーブルを参照することを特徴とする請求項２または請求項３に記載のＸ線ＣＴ装置。
【請求項５】
前記再構成手段は、隣接する前記撮影領域同士が重なり合うオーバーラップ領域を合成し、
前記再構成制御モードは、前記オーバーラップ領域の範囲が予め定められた値、心拍数及び／または呼吸レート、心電同期撮影及び／または呼吸同期撮影、全位相撮影または部分位相撮影、及び、前記撮影領域の大きさのうちの一つまたは二以上の組み合わせに依存するものであって、前記スキャン制御モードに対応し、または、前記スキャン制御モードと独立するものであることを特徴とする請求項２に記載のＸ線ＣＴ装置。
【請求項６】
前記Ｘ線検出手段は、前記天板の長手方向にＸ線検出素子を多列に配置して構成され、
前記再構成制御モードは、前記撮影領域が撮影されるときに用いられる前記Ｘ線検出素子の列数と送り量との関係テーブルを参照することを特徴とする請求項２または請求項５に記載のＸ線ＣＴ装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
本実施形態に係るＸ線ＣＴ装置は、天板と、天板移動手段と、撮影手段と、制御手段と、収集手段と、を有する。天板は被検体を載置する。天板移動手段は、天板を天板の長手方向に移動させる。撮影手段は、Ｘ線管、及びＸ線管から照射され、被検体を透過したＸ線を検出するＸ線検出手段を含む。制御手段は、天板を天板の長手方向に所定の送り量ずつ移動させる毎に被検体にＸ線を照射させるように天板移動手段及び撮影手段を制御することで、被検体における撮影領域をずらしかつ撮影させる。収集手段は、各撮影領域の投影データを収集する。さらに、制御手段は、スキャンの目的に対応して、隣接する前記撮影領域同士が重なり合うオーバーラップ領域を変更する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４２】
再構成時のオーバーラップ領域の範囲”Ｙ”は、再構成制御モードに対応している。図２に再構成制御モードの例として式（１）’から（９）’を示す。再構成制御モードの代表的な例としては、オーバーラップ領域の範囲”Ｙ”が予め定められた値に依存し、さらに、心電同期撮影または呼吸同期撮影に依存するものであり、次式により表される。
Ｙ＝１γｋ＊Ｗ１          （１）’
式（１）’において、”１γｋ”の パラメータは、予め定められた値であって、ユーザ（技師）が操作部４４を入力することにより、（１γ１、１γ２、・・・、１γｋ、・・・、１γｎ）のうちから選択される。式（１）’によれば、非心電同期撮影または非呼吸同期撮影が指定されたとき、オーバーラップ領域の範囲”Ｙ”は、”０”となる。
【手続補正書】
【提出日】平成27年1月22日(2015.1.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
生体の第１の領域に第１の光を照射する第１の照射部と、
前記第１の領域と共通する領域を有する前記生体の第２の領域に、前記第１の光と波長の異なる第２の光を照射する第２の照射部と、
前記共通する領域の少なくとも一部で反射された前記第１の光及び前記第２の光を受け入れる開口部を有し、前記開口部により受け入れられた前記第１の光及び前記第２の光を集光する集光部と、
前記集光部により集光された前記第１の光を受光し、第１の信号に変換する第１の受光部と、
前記集光部により集光された前記第２の光を受光し、第２の信号に変換する第２の受光部と、
前記第１の信号及び第２の信号に基づいて、前記生体の脈波を検出する検出部と
を備えることを特徴とする脈波測定装置。
【請求項２】
前記集光部は、平面視において前記第１の受光部及び前記第２の受光部と重なる領域を有する反射板である
ことを特徴とする請求項１に記載の脈波測定装置。
【請求項３】
前記開口部に設けられ、前記共通する領域のうち前記開口部と対向する領域で反射された前記第１の光及び前記第２の光を通過させるスリットを有し、前記対向する領域以外の領域で反射された前記第１の光及び前記第２の光を遮断するスリット板を備える
ことを特徴とする請求項１又は２に記載の脈波測定装置。
【請求項４】
前記スリット板は、複数のスリットを有する
ことを特徴とする請求項３に記載の脈波測定装置。
【請求項５】
前記複数のスリットは、線状のスリットであり、前記スリット板の面の１の方向に沿って配列される
ことを特徴とする請求項４に記載の脈波測定装置。
【請求項６】
前記複数のスリットは、四角形又は円形のスリットである
ことを特徴とする請求項４に記載の脈波測定装置。
【請求項７】
前記第１の光の波長は、前記第２の光の波長よりも短く、
前記第１の照射部と前記第１の受光部との間の距離は、前記第２の照射部と前記第２の受光部との間の第２の距離よりも長い
ことを特徴とする請求項１から５のいずれか１項に記載の脈波測定装置。
【請求項８】
生体の第１の領域に第１の光を照射する第１の照射部と、
前記第１の領域と共通する領域を有する前記生体の第２の領域に、前記第１の光と波長の異なる第２の光を照射する第２の照射部と、
前記共通する領域の少なくとも一部で反射された前記第１の光及び前記第２の光を受け入れる開口部を有し、前記開口部により受け入れられた前記第１の光及び前記第２の光を集光する集光部と、
前記集光部により集光された前記第１の光を受光し、第１の信号に変換する第１の受光部と、
前記集光部により集光された前記第２の光を受光し、第２の信号に変換する第２の受光部と
を備えることを特徴とする検出装置。
【手続補正書】
【提出日】平成27年1月27日(2015.1.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被検眼の断層画像を取得する画像取得手段と、
前記被検眼を撮影する際の撮影モードに応じて、前記被検眼の断層画像から網膜層の３次元の形状データの解析を行なう解析手段と、
前記３次元の形状データから前記網膜層の湾曲の程度を表す情報を取得する取得手段と
を具備することを特徴とする画像処理システム。
【請求項２】
前記取得手段は、
前記網膜の所定の層情報に基づいて生成された３次元の形状データから前記湾曲の程度を表す情報を取得する
ことを特徴とする請求項１記載の画像処理システム。
【請求項３】
網膜層の中から所定の層を選択する選択手段
を更に具備し、
前記解析手段は、
前記選択された層の３次元の形状データを生成する
ことを特徴とする請求項１又は２に記載の画像処理システム。
【請求項４】
被検眼を撮影する際の複数の撮影モードの中からいずれかの撮影モードを選択する撮影モード選択手段
を更に具備し、
前記撮影モード選択手段により選択された撮影モードに応じて、固視灯の位置、照射光の走査範囲、照射光の走査パターン、照射光の光軸方向に沿った撮影位置、の少なくともいずれかを変更する
ことを特徴とする請求項１から３のいずれか１項に記載の画像処理システム。
【請求項５】
前記取得手段は、ＯＣＴであり、
前記撮影モード選択手段により近視眼解析用の撮影モードが選択された場合、前記断層画像内に黄斑部が含まれるように撮影する
ことを特徴とする請求項４記載の画像処理システム。
【請求項６】
前記解析手段は、
前記撮影モード選択手段により近視眼解析用の撮影モードが選択された場合、３次元の形状解析を行なう
ことを特徴とする請求項４又は５記載の画像処理システム。
【請求項７】
前記解析手段は、
前記撮影モード選択手段により近視眼解析用の撮影モードが選択された場合、前記断層画像内に黄斑部が撮影されているか否かを判定し、該断層画像内に黄斑部が撮影されていなければ、３次元の形状解析を行なわない
ことを特徴とする請求項４から６のいずれか１項に記載の画像処理システム。
【請求項８】
前記解析手段は、
前記断層画像内に黄斑部が撮影されているか否かを判定し、該断層画像内に黄斑部が撮影されていなければ、３次元の形状解析を行なわない
ことを特徴とする請求項１から５のいずれか１項に記載の画像処理システム。
【請求項９】
画像処理システムの処理方法であって、
画像取得手段が、被検眼の断層画像を取得する工程と、
解析手段が、前記被検眼を撮影する際の撮影モードに応じて、前記被検眼の断層画像から網膜層の３次元の形状データの解析を行なう工程と、
取得手段が、前記３次元の形状データから前記網膜層の湾曲の程度を表す情報を取得する工程と
を含むことを特徴とする処理方法。
【請求項１０】
請求項１から８のいずれか１項に記載の画像処理システムによる処理をコンピュータに実行させるためのプログラム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
上記課題を解決するため、本発明の一態様による画像処理システムは、被検眼の断層画像を取得する画像取得手段と、前記被検眼を撮影する際の撮影モードに応じて、前記被検眼の断層画像から網膜層の３次元の形状データの解析を行なう解析手段と、前記３次元の形状データから前記網膜層の湾曲の程度を表す情報を取得する取得手段とを具備する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２７】
画像処理部３３には、検出部４１と、解析部４２と、判定部４３と、位置合わせ部４７とが具備される。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３０】
解析部４２は、解析対象となる網膜層の解析を行なう。解析部４２には、判定部４３と、網膜層解析部４４と、解析結果作成部４５と、形状データ作成部４６とが設けられる。なお、解析対象となる網膜層は、例えば、操作者からの入力装置５４を介した指示等に基づいて決定（選択）される。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３２】
網膜層解析部４４は、判定部４３の判定結果に基づいて、解析対象となる網膜層に対して解析処理を行なう。なお、本実施形態においては、３次元の形状解析処理として、近視眼の黄斑の解析を行なう場合について説明する。解析結果作成部４５では、解析結果（網膜層の状態を示す情報）を提示するための各種データを作成する。形状データ作成部４６では、撮影により得られた複数の断層画像同士を位置合わせし、３次元の形状データを作成する。すなわち、３次元の形状データは、網膜層の層情報に基づいて作成される。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６４】
［Ｓ２０４］
画像処理装置３０は、網膜層解析部４４において、網膜層の３次元の形状解析を行なう。ここでは、形状解析の方法として、網膜層の面積と体積とを計測する手法について例を挙げて説明する。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１２３】
［Ｓ２０７］
画像処理装置３０は、網膜層解析部４４において、網膜層の検出結果に基づいて形状解析を行なう。この解析処理では、３次元の形状データ等を作成せずに、網膜層の検出結果を用いた解析が行なわれる。例えば、層厚の解析等が行なわれる。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１３８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１３８】
次に、操作者が、入力装置５４を介して、図１３で説明した断層画像観察画面４００を操作した場合について説明する。
【手続補正９】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１】
2013153880.tif 000001
【手続補正１０】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図９】
2013153880.tif 000002
【手続補正１１】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１０】
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