(57)【要約】本発明は、モスアイ構造をもつ膜において、反射特性の異なる領域を一部混在させて適切に視認されるようにするとともに、モスアイ構造により反射を充分に低減し、かつ透過率を充分に優れたものとすることができる反射防止構造体、転写用型、これらの製造方法、及び、表示装置を提供する。本発明の反射防止構造体は、隣接する頂点間の幅が可視光波長以下であり、透明体で構成された凹凸構造を表面に有する反射防止構造体であって、上記反射防止構造体は、上記凹凸構造を表面にもつ第１領域、及び、上記第１領域がもつ凹凸構造とは異なる、透明体で構成された構造を表面にもつ第２領域を有し、上記第２領域の平面形状は、文字、記号及び図形からなる群より選択される少なくとも１つを構成する反射防止構造体である。
2013191091.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
隣接する頂点間の幅が可視光波長以下であり、透明体で構成された凹凸構造を表面に有する反射防止構造体であって、
該反射防止構造体は、該凹凸構造を表面にもつ第１領域、及び、該第１領域がもつ凹凸構造とは異なる、透明体で構成された構造を表面にもつ第２領域を有し、
該第２領域の平面形状は、文字、記号及び図形からなる群より選択される少なくとも１つを構成する
ことを特徴とする反射防止構造体。
【請求項２】
前記第２領域は、視認性を高めて注意を喚起するために用いられるものである
ことを特徴とする請求項１に記載の反射防止構造体。
【請求項３】
前記第２領域は、ロゴ及び／又は宣伝として用いられている
ことを特徴とする請求項１又は２に記載の反射防止構造体。
【請求項４】
透明樹脂から構成される反射防止膜であることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の反射防止構造体。
【請求項５】
前記第２領域がもつ構造は、隣接する頂点間の幅が可視光波長以下である凹凸構造である
ことを特徴とする請求項４に記載の反射防止構造体。
【請求項６】
前記第２領域がもつ凹凸構造は、前記第１領域がもつ凹凸構造と、頂点の高さが異なる
ことを特徴とする請求項５に記載の反射防止構造体。
【請求項７】
前記第２領域がもつ凹凸構造は、前記第１領域がもつ凹凸構造と、形状が異なる
ことを特徴とする請求項５又は６に記載の反射防止構造体。
【請求項８】
前記第２領域がもつ構造は、隣接する頂点間の幅が可視光波長以下である凹凸構造ではない
ことを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の反射防止構造体。
【請求項９】
隣接する頂点間の幅が可視光波長以下であり、透明体で構成された凹凸構造を表面に有する反射防止構造体の製造方法であって、
該製造方法は、該凹凸構造を表面にもつ第１領域、及び、該第１領域がもつ凹凸構造とは異なる、透明体で構成された構造を表面にもつ第２領域を形成し、
該第２領域の平面形状は、文字、記号及び図形からなる群より選択される少なくとも１つを構成する
ことを特徴とする反射防止構造体の製造方法。
【請求項１０】
前記反射防止構造体の製造方法は、前記凹凸構造を形成した後、一部の領域における該凹凸構造を変形するものである
ことを特徴とする請求項９に記載の反射防止構造体の製造方法。
【請求項１１】
透明樹脂から構成される反射防止膜の製造方法であることを特徴とする請求項９又は１０に記載の反射防止構造体の製造方法。
【請求項１２】
隣接する頂点間の幅が可視光波長以下である凹凸構造を表面に有する転写用型であって、
該転写用型は、該凹凸構造を表面にもつ第１領域、及び、該第１領域がもつ凹凸構造とは異なる構造を表面にもつ第２領域を有し、
該第２領域は、文字、記号及び図形からなる群より選択される少なくとも１つを形成する平面形状を有する
ことを特徴とする転写用型。
【請求項１３】
隣接する頂点間の幅が可視光波長以下である凹凸構造を表面に有する転写用型の製造方法であって、
該製造方法は、基材の上に金属膜を形成する第１工程、
該金属膜の表面に、該凹凸構造をもつ第１領域、及び、該第１領域がもつ凹凸構造とは異なる構造をもつ第２領域を形成する第２工程を含み、
該第２領域は、文字、記号及び図形からなる群より選択される少なくとも１つを形成する平面形状を有する
ことを特徴とする転写用型の製造方法。
【請求項１４】
前記第２工程は、少なくとも陽極酸化処理により金属膜に一定の間隔で穴を形成するものである
ことを特徴とする請求項１３に記載の転写用型の製造方法。
【請求項１５】
前記第２工程は、陽極酸化処理、及び／又は、エッチング処理の、処理回数、及び／又は、処理時間を変えて第１領域と第２領域とを作り分けるものである
ことを特徴とする請求項１３又は１４に記載の転写用型の製造方法。
【請求項１６】
前記製造方法は、陽極酸化処理、及び／又は、エッチング処理にて、マスクを用いて第１領域と第２領域とを作り分けるものである
ことを特徴とする請求項１３〜１５のいずれかに記載の転写用型の製造方法。
【請求項１７】
隣接する頂点間の幅が可視光波長以下である凹凸構造を表面に有する透明体が表示面に配置された表示装置であって、
該透明体は、該凹凸構造を表面にもつ第１領域、及び、該第１領域がもつ凹凸構造とは異なる構造を表面にもつ第２領域を有し、
該第２領域の平面形状は、文字、記号及び図形からなる群より選択される少なくとも１つを構成する
ことを特徴とする表示装置。
【請求項１８】
前記第１領域の凹凸構造、及び、前記第２領域の構造は、透明樹脂から構成される
ことを特徴とする請求項１７に記載の表示装置。
【請求項１９】
前記表示装置は、液晶表示装置、プラズマディスプレイパネル、又は、有機エレクトロルミネッセンスディスプレイである
ことを特徴とする請求項１７又は１８に記載の表示装置。
【請求項２０】
前記表示装置が非表示状態の時に前記第２領域がロゴ及び／又は宣伝として用いられる
ことを特徴とする請求項１７〜１９のいずれかに記載の表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、反射防止構造体、転写用型、これらの製造方法、及び、表示装置に関する。より詳しくは、モスアイ構造を表面にもつ反射防止構造体、転写用型、これらの製造方法、及び、モスアイ構造を表示面に備える表示装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、フラットパネルディスプレイ（ＦＰＤ：Flat Panel Display）技術が目覚しく発展しており、ＦＰＤを有する液晶テレビ、スマートフォン、タブレット等の携帯情報端末等の表示装置が一般化している。ＦＰＤは、このようにテレビや携帯情報端末等に応用されていることからも明らかなように、明所において多く利用されるものであり、暗室のみでなく明所においても良好な視認性が求められる。【０００３】
ＦＰＤは、一般にガラスでできた基板を用いて作製される表示装置であるが、明所においては表示装置の表面において光が反射するため、その反射光によって画像が見にくくなるという課題を有している。これまでのＦＰＤは、表面の反射を低減する方法として低反射（ＬＲ：Low Reflection）処理及び防眩（ＡＧ：Anti Glare）処理が行われてきた。【０００４】
これに対し、近年、ＬＲ処理及びＡＧ処理とは別の手段により明所での視認性を改善する技術として、光干渉を用いずに超反射防止効果を得ることができるモスアイ（Moth-eye：蛾の目）構造が注目されてきている。モスアイ構造は、反射防止処理を行う物品の表面に、ＡＧ処理よりも微細な、光の波長以下（例えば、４００ｎｍ以下）間隔の凹凸パターンを隙間なく配列することで、外界（空気）と膜表面との境界における屈折率の変化を擬似的に連続なものとするものであり、屈折率界面に関係なく光のほぼ全てを透過させ、該物品の表面における光反射をほぼなくすことができる。【０００５】
例えば、基材上に載置されることにより基材表面での可視光の反射を低減する反射防止膜であって、該反射防止膜は、反射防止膜を透過する可視光に対して第一の波長分散を付与する波長分散構造を有し、かつ反射防止膜を透過する可視光に対して第二の波長分散を付与する波長分散材料を含有し、該反射防止膜を透過する可視光は、可視光領域内で平坦な透過波長分散を有する反射防止膜が開示されている（例えば、特許文献１参照。）。【０００６】
なお、モスアイ構造を表示装置の表面に形成する方法としては、まず、微細な凹凸パターンを有する金型を作製し、表示装置の表面に凹凸パターン形成用の膜を形成した後、その膜表面に金型を押し当てて金型の凹凸パターンを膜表面に転写する方法（例えば、特許文献２、３、５〜７参照。）、金属膜をマスクとして膜表面に対しエッチングを行って凹凸パターンを形成する方法（例えば、特許文献４参照。）等が挙げられる。また、金型の凹凸パターンを形成する方法としては、陽極酸化及びエッチングを行う方法、電子線描画法等が挙げられる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】国際公開第２０１０／０３２６１０号パンフレット
【特許文献２】特開２００４−２０５９９０号公報
【特許文献３】特開２００４−２８７２３８号公報
【特許文献４】特開２００１−２７２５０５号公報
【特許文献５】特開２００２−２８６９０６号公報
【特許文献６】特開２００３−４３２０３号公報
【特許文献７】国際公開第２００６／０５９６８６号パンフレット
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
特許文献１に記載の発明は、モスアイの持つ波長分散を、下層のフィルムに補償させるような特性を持たせてニュートラルな特性にする（例えば、従来の反射防止膜の断面模式図の一例〔図３４〕を参照。）。モスアイの持つ波長分散特性を問題にして、補正する概念を打ち出すものである。しかしながら、これら先行技術においては、表示装置表面における低反射処理にしか着目しておらず、表示装置等の一部において表示をおこなう技術について工夫や検討をおこなったものではない。【０００９】
例えば、モスアイ表面に、ロゴ（ロゴタイプ）等の文字、記号又は図形を形成し、モスアイの特性を活かしつつ表示をおこなうことができれば、種々の用途に適用することができると考えられる。
ここで、このような表示をおこなうことを目的として、例えば印刷によりインクｉをモスアイ表面上に入れる等、一部を不透明にする方法を採ったとき、その部分はモスアイ機能が消失し、表面反射が多くなるとともに透過率も低下する（図３３における領域１０１５）。表示装置の前面にこのようなモスアイを設置すれば、表示画像が見えない、又は、見え辛くなってしまうおそれがある。【００１０】
モスアイ構造は、表面反射を極端に小さくするため、印刷のインク等の不透明な成分でモスアイ構造をもつ膜の一部が埋まってしまったところは、その部分のモスアイ効果が消失して反射が大きくなるとともに、透過率が低下して非常に目立つ。すなわち、図３３では、モスアイ部分（領域１０１３）は光の透過率が高く、表面反射が小さいが、インクｉ等でモスアイが埋まると、その部分（領域１０１５）の直接反射、散乱が増え、透過率がその分更に落ちてしまい、領域１０１５が領域１０１３との対比で目立ち過ぎてしまう。ロゴ等の文字、記号又は図形を、何時でも視認されるのではなく、有る条件で認識できるようなものとする等、表示装置としての表示を妨げないものとするための工夫の余地があった。【００１１】
本発明は、上記現状に鑑みてなされたものであり、モスアイ構造をもつ膜において、反射特性の異なる領域を一部混在させて適切に視認されるようにするとともに、モスアイ構造により反射を充分に低減し、かつ透過率を充分に優れたものとすることができる反射防止構造体、転写用型、これらの製造方法、及び、表示装置を提供することを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明者らは、表示装置の表面で光が反射することを低減するモスアイ構造の反射防止膜において、モスアイが形成された領域内で、部分的に特性の異なるモスアイ領域を作ること、言い換えれば、反射特性の異なる領域を混在させる（積極的に領域を作る）ことを種々検討した。これにより、該領域をその形状でロゴ等の表現に用いたり、モスアイによる僅かな反射の色付きを利用して視認性を高めたりすることができる。そして、本発明者らは、特性の異なる領域を一部混在させた場合に、周囲の低反射のモスアイ構造の領域に対して、表面反射特性が異なることによって特定の異なる領域がこれ以外の領域から引き立って見えることに着目した。【００１３】
本発明者らは、このような課題を克服するために種々の検討をおこない、ロゴ等の文字、記号又は図形の部分に合わせて、その部分のモスアイの凹凸の高さ、又は、凹凸の形状（シェープ）を当該部分の周りと異なるようにすることや、モスアイ構造を設けない平坦形状とすることで、その部分の反射光の波長分散を好適に周りと異なるものとすることができることを見出した。【００１４】
特に、モスアイの凹凸の高さ、又は、凹凸のシェープをロゴ等の文字、記号又は図形の部分の周りと異なるようにすることにより、表面での若干の反射光に色が付きロゴ等の部分が好適に浮かび上がることとなる。この場合は、ロゴ等の部分にもモスアイ形状があるため、極端にその部分の反射率が上がることはない。従って正面からではそのロゴ等の部分は見え難いが、斜め方向では、モスアイの反射効果が異なるので、薄く見えるようになる。このように、モスアイ機能を有するモスアイ領域の中に、部分的に反射特性の異なる領域を混在させることにより、ロゴ等の文字、記号又は図形を、何時でも視認されるのではなく、有る条件で認識できるようなものとすること等により、表示装置としての表示を妨げないものとすることができる。【００１５】
図５では、一部のモスアイ構造の高さを低く設定する。その領域１５の波長分散は、可視光の赤領域の反射が増えるので、モスアイ構造の高さが高い領域１３と比べてやや赤っぽく見える。但し領域１５でも反射率は、モスアイ形状が存在しその効果で低くなっているので、図３３に示した程度に光透過率が極端に下がったり、散乱及び反射が増えたりすることはない。
このように、上記課題をみごとに解決することができることに想到し、本発明に到達したものである。【００１６】
なお、本発明は、上述した特許文献１に記載の発明とは、モスアイ形状で波長分散の異なる領域を積極的に作製したところが異なる。特許文献１に記載のように、本発明の反射防止膜等の下部に更に別の層を設ける構成を採用してもよい。また、本発明のように好適に色味を変えることができることは、これまで開示されていなかった。【００１７】
すなわち、本発明の第一の側面は、隣接する頂点間の幅が可視光波長以下であり、透明体で構成された凹凸構造を表面に有する反射防止構造体であって、上記反射防止構造体は、上記凹凸構造を表面にもつ第１領域、及び、上記第１領域がもつ凹凸構造とは異なる、透明体で構成された構造を表面にもつ第２領域を有し、上記第２領域の平面形状は、文字、記号及び図形からなる群より選択される少なくとも１つを構成する反射防止構造体である。【００１８】
上記反射防止構造体を用いて以下の（１）〜（３）の利点を得ることが考えられる。
（１）表示状態（オン）にある表示装置が背景に無い場合に、宣伝、ロゴ、標識等を表示する。例えば、表示装置等の前面に置かれたモスアイシートで、表示装置が表示状態（オフ）となっている場合に、宣伝、ロゴ表示をすることができる。また、モスアイ形状はガラス等に貼り合わされると、表面反射が極端に低くなるため、ガラスの存在が容易に視認されなくなり、このため無意識に衝突し事故に発展する場合もあるところ、一部反射が有れば、壁を認識することができ、事故を防止できる。【００１９】
（２）文字、記号又は図形部分にもモスアイ構造がある場合に優れた美観を得る。例えば、文字、記号又は図形部分にもモスアイ構造があることにより、モスアイを通して見た場合の視認性が極端に劣化することが無いため、文字、記号又は図形部分が見えすぎて煩わしくない。また、モスアイ構造を変化させることで文字、記号又は図形部分の反射特性が異なり、この部分の色味をかえることが可能であり、装飾方法として用いることができる。更に、テレビ等、非表示時にその表示部分が暗く沈むような所に用いれば、色調が強調されるので装飾効果が大きい。そして、上記部分が極端に目立つことがないため、シートの無作為の位置に文字、記号又は図形部分を持ってくることが可能である。【００２０】
（３）容易に作製できる。例えば、文字、記号及び図形が入るような所定の構造の転写用型（金型）を作れば、型から転写するだけで作製できる。【００２１】
本発明の反射防止構造体は、隣接する頂点間の幅（ピッチ）が可視光波長以下である微細凹凸構造（以下、第一の凹凸構造ないしモスアイ構造ともいう。）を表面に有する。本明細書において「可視光波長以下」とは、一般的な可視光波長域の下限である３８０ｎｍ以下をいう。好ましくは、３００ｎｍ以下であり、より好ましくは、２００ｎｍ以下である。【００２２】
本発明の反射防止構造体における第２領域は、通常、上記第１領域に対して区画されることにより、文字、記号及び図形からなる群より選択される少なくとも１つを構成し、これが好適に視認されることとなる。なお、上記文字、記号及び図形は、反射防止構造体を平面視したときには視認できず、斜め方向から見たときに視認できるものであってもよい。第２領域は、例えば、該第１領域と接し、第２領域の周囲である第１領域により囲まれることにより、文字、記号及び図形からなる群より選択される少なくとも１つを構成する。【００２３】
上記「第２領域の平面形状は、文字、記号及び図形からなる群より選択される少なくとも１つを構成する」とは、本明細書中においては通常、第１領域から区画される第２領域の形状自体が、文字、記号及び図形からなる群より選択される少なくとも１つの形状であることを言う。
なお、文字は、言語を表記するのに用いる符号を言い、記号は、文字以外の符号を言う。図形は、符号以外の、第２領域の輪郭線により特定の形状を示すものであればよい。【００２４】
本発明の反射防止構造体においては、上記第２領域は、視認性を高めて注意を喚起するために用いられるものであることが好ましい。
例えば、反射防止膜が貼られた壁の存在を認識させて衝突等の事故を防ぐためのものである。【００２５】
本発明の反射防止構造体においては、上記第２領域は、ロゴ及び／又は宣伝として用いられていることが好ましい。【００２６】
本発明の反射防止構造体においては、上記第２領域は、その周囲の第１領域と色の差として認識されることが好ましい。【００２７】
本発明の反射防止構造体は、透明樹脂から構成される反射防止膜であってもよい。上記反射防止膜は、通常、第１領域の凹凸構造、及び、第２領域の構造が、透明樹脂から構成される。上記透明樹脂としては、光硬化性樹脂、熱硬化性樹脂等の、一定の条件下で硬化性をもつ樹脂が、高精細なモスアイ構造を形成する上で好ましい。【００２８】
上記反射防止膜は、例えば、基材平面上に薄く形成されて用いられる。反射防止膜が形成される基材としては、例えば、表示装置の最表面を構成する部材である、偏光板、アクリル保護板、偏光板表面に配置されるハードコート層、偏光板表面に配置されるアンチグレア層等が挙げられる。このように表示装置の観察面側に上記反射防止膜を配置することで、反射光による像の映り込みをぼかして像を目立たなくすることができる。【００２９】
本発明の反射防止構造体の１つの好ましい形態は、上記第２領域がもつ構造は、隣接する頂点間の幅が可視光波長以下である凹凸構造である。上記第１領域の凹凸構造と第２領域の凹凸構造とは、高さやその他の形状が異なるものであればよい。これにより、モスアイによる僅かな反射の色付きを利用し、好適に第２領域を文字、記号又は図形として表示することができる。【００３０】
上記第２領域がもつ凹凸構造は、上記第１領域がもつ凹凸構造と、頂点の高さが異なることが好ましい。また、上記第２領域がもつ凹凸構造は、上記第１領域がもつ凹凸構造と、形状が異なることも好ましい。凹凸構造の形状が異なるとは、突起の高さが異なる形態の他、突起間のピッチや突起の傾斜等が異なる形態、これらの形態が組み合わされた形態を含む。【００３１】
上記第２領域がもつ構造は、隣接する頂点間の幅が可視光波長以下である凹凸構造ではないこともまた本発明の反射防止構造体における好ましい形態の１つである。
上記第２領域における、第１領域の凹凸構造とは異なる構造は、例えば、平坦な形状、隣接する頂点間の幅が可視光波長を超える凹凸構造が挙げられるが、例えば平坦な形状が好ましい。上記平坦な形状は、例えば、製造工程中において、隣接する頂点間の幅が可視光波長以下であり、透明樹脂から構成される凹凸構造（モスアイ）が設けられていないものであってもよく、製造工程中において、隣接する頂点間の幅が可視光波長以下であり、透明樹脂から構成される凹凸構造（モスアイ）が設けられたが、更に、透明樹脂が該凹凸構造を埋めて表面が平坦化された透明樹脂から構成されるものであってもよく、いずれの形態もそれぞれ好ましい。【００３２】
本発明の第二の側面は、隣接する頂点間の幅が可視光波長以下であり、透明体で構成された凹凸構造を表面に有する反射防止構造体の製造方法であって、上記製造方法は、該凹凸構造を表面にもつ第１領域、及び、該第１領域がもつ凹凸構造とは異なる、透明体で構成された構造を表面にもつ第２領域を形成し、上記第２領域の平面形状は、文字、記号及び図形からなる群より選択される少なくとも１つを構成する反射防止構造体の製造方法である。【００３３】
本発明の反射防止構造体の製造方法は、上記凹凸構造を形成した後、一部の領域における該凹凸構造を変形するものであることが好ましい。変形とは、更に透明樹脂を追加して凹凸構造の全部又は一部を埋めたり、凹凸構造を形成するための処理条件及び／又は処理回数を変更することによりその高さや形状を変えたりすることを言う。なお、上記一部の領域は、本発明に係る第２領域となる。
本発明の反射防止構造体の製造方法は、透明樹脂から構成される反射防止膜の製造方法であってもよい。上記反射防止膜の製造方法により製造される反射防止膜は、通常、第１領域がもつ凹凸構造、及び、第２領域がもつ構造が、透明樹脂から構成される。
本発明の製造方法により製造される反射防止構造体の好ましい形態は、それぞれ、上述した本発明の反射防止構造体の好ましい形態と同様である。【００３４】
本発明の第三の側面は、隣接する頂点間の幅が可視光波長以下である凹凸構造を表面に有する転写用型であって、上記転写用型は、該凹凸構造を表面にもつ第１領域、及び、該第１領域がもつ凹凸構造とは異なる構造を表面にもつ第２領域を有し、上記第２領域は、文字、記号及び図形からなる群より選択される少なくとも１つを形成する平面形状を有する転写用型である。【００３５】
本発明の第四の側面は、隣接する頂点間の幅が可視光波長以下である凹凸構造を表面に有する転写用型の製造方法であって、上記製造方法は、基材の上に金属膜を形成する第１工程、該金属膜の表面に、該凹凸構造をもつ第１領域、及び、該第１領域がもつ凹凸構造とは異なる構造をもつ第２領域を形成する第２工程を含み、該第２領域は、文字、記号及び図形からなる群より選択される少なくとも１つを形成する平面形状を有する転写用型の製造方法である。【００３６】
本発明の製造方法における上記第２工程は、少なくとも陽極酸化処理により金属膜に一定の間隔で穴を形成するものであることが好ましい。
また本発明の製造方法における上記第２工程は、陽極酸化処理、及び／又は、エッチング処理の、処理回数、及び／又は、処理時間を変えて第１領域と第２領域とを作り分けるものであることが好ましい。【００３７】
上記製造方法は、陽極酸化処理、及び／又は、エッチング処理にて、マスクを用いて第１領域と第２領域とを作り分けるものであることもまた好ましい。【００３８】
本発明の第五の側面は、隣接する頂点間の幅が可視光波長以下である凹凸構造を表面に有する透明体が表示面に配置された表示装置であって、上記透明体は、該凹凸構造を表面にもつ第１領域、及び、該第１領域がもつ凹凸構造とは異なる構造を表面にもつ第２領域を有し、上記第２領域の平面形状は、文字、記号及び図形からなる群より選択される少なくとも１つを構成する表示装置である。
本発明の表示装置における上記第１領域がもつ凹凸構造、及び、上記第２領域がもつ構造は、透明樹脂から構成されることが好ましい。【００３９】
本発明の表示装置は、本発明の反射防止構造体、又は、本発明の反射防止構造体の製造方法により得られた反射防止構造体を表示面に備えるものであることが好ましい。例えば、本発明の反射防止構造体が、表示装置の前面（観察者側の面）に設置されていること、表示装置に貼りつけられていることが好ましい。また、本発明の表示装置は、本発明の反射防止構造体の機能を前面にもつ表示装置であってもよい。【００４０】
本発明の表示装置は、液晶表示（ＬＣＤ：Liquid Crystal Display）装置、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ：Plasma Display Panel）、エレクトロルミネッセンス（ＥＬ：Electroluminescence）ディスプレイ等が好適なものとして挙げられる。エレクトロルミネッセンスディスプレイとしては、有機エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＯＥＬＤ：Organic Electroluminescence Display）が好ましい。このように、一般的に装置内部に電極、配線等の光を反射する材料が用いられる表示装置において本発明は特に好適に用いることができ、本発明の表示装置によれば、表示面（表示パネルの外側向きの面）と表示装置内部とで起こるいずれの反射に対しても、優れた低反射効果を得ることができる。
本発明の表示装置は、非表示状態の時に、上記第２領域がロゴ及び／又は宣伝として用いられることが好ましい。
本発明の表示装置における凹凸構造等の好ましい形態は、上述した本発明の反射防止構造体における凹凸構造等の好ましい形態と同様である。【００４１】
本発明の反射防止構造体、転写用型、これらの製造方法、及び、表示装置の構成としては、このような構成要素を必須として形成されるものである限り、その他の構成要素を含んでいても含んでいなくてもよく、特に限定されるものではない。例えば、本発明の反射防止構造体、転写用型、これらの製造方法、及び、表示装置が備える凹凸構造は、隣接する頂点間の幅（ピッチ）が可視光波長以下であることが必須とされるが、頂点から底点までの高さは可視光波長以下であってもよく、可視光波長以上であってもよい。【００４２】
上述した各形態は、本発明の要旨を逸脱しない範囲において適宜組み合わされてもよい。
【発明の効果】
【００４３】
本発明によれば、モスアイ構造をもつ構造体において、反射特性の異なる領域を一部混在させつつ、モスアイ構造により反射を充分に低減し、かつ透過率を充分に優れたものとすることができる。
【図面の簡単な説明】
【００４４】
【図１】実施形態１の反射防止膜の平面模式図である。
【図２】モスアイ構造における高さが異なる凸部を示す断面模式図である。
【図３】図２に示した凸部それぞれにおける波長（ｎｍ）に対する反射率（％）を示すグラフである。
【図４】実施形態１の反射防止膜のモスアイ構造の断面模式図である。
【図５】実施形態１の反射防止膜のモスアイ構造の断面模式図である。
【図６】実施形態１の変形例の反射防止膜の平面模式図である。
【図７】実施形態１の変形例の反射防止膜の断面模式図の一例である。
【図８】実施形態１の変形例の反射防止膜の断面模式図の一例である。
【図９】図７に示した反射防止膜に対して、垂直に近い状態で光を入射した場合の断面模式図である。
【図１０】図７に示した反射防止膜に対して、斜め方向から光を入射した場合の断面模式図である。
【図１１】図９及び１０に示した領域Ａにおける、面法線から５°の入射角で光を入射した場合、及び、面法線から６０°の入射角で光を入射した場合の、それぞれの波長（ｎｍ）に対する反射率（％）を示すグラフである。
【図１２】図９及び１０に示した領域Ｂにおける、面法線から５°の入射角で光を入射した場合、及び、面法線から６０°の入射角で光を入射した場合の、それぞれの波長（ｎｍ）に対する反射率（％）を示すグラフである。
【図１３】図８に示した反射防止膜に対して、垂直に近い状態で光を入射した場合の断面模式図である。
【図１４】図８に示した反射防止膜に対して、斜め方向から光を入射した場合の断面模式図である。
【図１５】入射光の入射角を変更した場合の図１３及び１４に示した領域Ａにおける波長（ｎｍ）に対する反射率（％）のグラフである。
【図１６】入射光の入射角を変更した場合の図１３及び１４に示した領域Ｂにおける波長（ｎｍ）に対する反射率（％）のグラフである。
【図１７】実施形態２の転写用型の模式図である。
【図１８】実施形態２の転写用型の製造フローを示す断面模式図である。
【図１９】実施形態２の転写用型の断面を示す写真である。
【図２０】実施形態２の転写用型の断面を示す写真である。
【図２１】実施形態２の第１変形例の転写用型の製造工程途中における断面を示す模式図である。
【図２２】実施形態２の第１変形例の転写用型の断面を示す模式図である。
【図２３】実施形態２の第２変形例の転写用型の製造工程途中における断面を示す模式図である。
【図２４】実施形態２の第２変形例の転写用型の断面を示す模式図である。
【図２５】実施形態２の第３変形例の反射防止膜の製造工程途中における断面を示す模式図である。
【図２６】実施形態２の第３変形例の反射防止膜の断面を示す模式図である。
【図２７】実施形態２の第４変形例の転写用型の製造工程途中における断面を示す模式図である。
【図２８】実施形態２の第４変形例の転写用型の断面を示す模式図である。
【図２９】実施形態２の第５変形例の転写用型の製造工程途中における断面を示す模式図である。
【図３０】実施形態２の第５変形例の転写用型の断面を示す模式図である。
【図３１】実施形態２の第６変形例の反射防止膜の製造工程途中における断面を示す模式図である。
【図３２】実施形態２の第６変形例の反射防止膜の断面を示す模式図である。
【図３３】比較例１の反射防止膜の断面模式図の一例である。
【図３４】従来の反射防止膜の断面模式図の一例である。
【発明を実施するための形態】
【００４５】
以下に実施形態を掲げ、本発明について図面を参照して更に詳細に説明するが、本発明はこれらの実施形態のみに限定されるものではない。
【００４６】
なお、本明細書では、隣接する頂点間の幅が可視光波長以下（３８０ｎｍ以下）である凹凸構造を「モスアイ構造」という。また、モスアイ構造が形成された領域の表面を「モスアイ面」という。更に、モスアイ構造を表面に有するシートであれば「モスアイシート」といい、モスアイ構造を表面に有するフィルムであれば「モスアイフィルム」という。
【００４７】
（実施形態１）
図１は、実施形態１の反射防止膜の平面模式図である。実施形態１の反射防止膜１１は、表面に、可視光波長よりも周期（隣接する頂点間の幅）の小さな、透明樹脂から構成される凹凸構造（第１のモスアイ構造）をもつ第１領域１３、及び、第１領域がもつ凹凸構造とは異なる、可視光波長よりも周期（隣接する頂点間の幅）の小さな、透明樹脂から構成される凹凸構造を表面にもつ第２領域（特性の異なる領域）１５を有する。モスアイ構造を有する第１領域１３、第２領域１５は、反射防止膜１１の表面での反射を低減するための凹凸構造が形成された領域である。実施形態１の反射防止膜１１は、モスアイシートに相当する。
【００４８】
実施形態１では、図１に示すように、反射防止膜１１の特定の位置、又は、全体的に模様が配置されるように、反射特性の異なる部分を設ける。これによって、ロゴ１５Ｌや、特定の図形１５Ｆなどが視認できるようにする。図示していないが、同様に記号も視認できるようにすることができる。実施形態１では、このような文字、記号又は図形を構成する第２領域１５は、モスアイシート上に印刷や、モスアイ構造を崩すことで形成するのではなく、予め波長分散特性が変わるように型上で異なる凹凸構造を形成しておき、これを転写して形成したものである。
【００４９】
例えば第１領域を型上に作るとともに、第１領域に対してモスアイ形状（凹凸構造の凸部）の高さが１０％〜２０％低くなるような第２領域を、文字、記号又は図形の形で型上に作っておき、これを転写することによってフィルム上にこのような文字、記号又は図形を形成する。
このように構成すると、文字、記号又は図形の部分にもモスアイが形成される。したがって、反射防止膜におけるモスアイ形状による低反射特性が大きく損なわれることは無く、充分に優れたものとすることができる。したがって、１０％〜２０％低い第２領域のモスアイは、第１領域のモスアイと組み合わせて表示装置に用いられたときに、表示性能を損うことなく充分に優れたものとすることができる上に、表示装置を非表示状態として使用しない場合等に、モスアイ形状を同様に有する第１領域との対比において、うっすらと文字、記号又は図形を認識させることができる。
これは、例えば、製品やメーカーの宣伝、及び／又は、モスアイの透明性が高いことに起因する事故を防止（ぶつかり防止）するために役立つ。または、デザイン上のアクセントとして好適に使用できる。
【００５０】
図２は、モスアイ構造における高さが異なる凸部を示す断面模式図である。図３は、図２に示した凸部それぞれにおける波長（ｎｍ）に対する反射率（％）を示すグラフである。
モスアイ形状の突起（凸部）は、２００ｎｍ以下のピッチと２００ｎｍ程度の高さが通常採られる。これは、モスアイ形状をもつ領域が、可視光領域において、充分に低く、一定した（波長により大きく反射率が変動しない）反射特性を持つように決められている。
【００５１】
例えばモスアイ形状の突起の高さが変化すれば、反射率の波長特性（波長依存性）が変化する。図２及び図３は、その様子を簡単に説明したものである。
【００５２】
可視光領域の波長３８０ｎｍ〜７８０ｎｍで、充分な低反射特性を得るために、モスアイの突起高さは２００ｎｍ以上に設定される。この高さは１７０ｎｍ位になると、可視光の赤領域から反射率が高くなる。そのためモスアイの表面は少し赤っぽく見えることになる。
【００５３】
図３のグラフは、図２に示した高さが異なるモスアイが形成された領域の反射率の波長依存性を示している。モスアイの突起の高さが高くなると、特に長波長領域に顕著な変化が見られる。
最も低い高さ１８５ｎｍでは赤領域の反射率が高くなり、モスアイ面が赤色を帯びることを示している。高さ２１０ｎｍでは、赤領域の反射は抑えられ、緑色を帯びた色に見える。最も高い高さ２８０ｎｍでは、図中の反射率を示した波形はフラットであり、可視光波長に対する極大は特になく、その反射率も可視光波長の全域で大変低く抑えられているから、モスアイ面からの反射色は、特に色はつかなく無色に近い。
このように高さによって、モスアイ面からの反射色はその色が異なって見えることが分かる。  
尚、このグラフは入射光の入射角を５°とした場合の正反射のグラフである。  
どの角度からモスアイを見るかでも反射の色味は変わり、モスアイ面に対して鉛直方向から傾くと見かけの高さが低くなることから、赤色領域の反射から増える。従って、高さ１８５ｎｍのモスアイでは斜めから見るとより赤みが強調される。
【００５４】
図４及び図５は、実施形態１の反射防止膜のモスアイ構造の断面模式図である。
モスアイ面の一部（第２領域１５）における突起を、図４、図５に両矢印で示したように、第１領域１３における突起と比較して低く作れば、例えば上述したように１８５ｎｍの高さに作り込めば、その第２領域１５のモスアイの反射光Ｒは例えば赤みを帯びたように設定可能である。一方、その他の領域つまりモスアイの高さが高い第１領域１３における突起を上述したように２８０ｎｍの高さに作れば、その領域の反射光は極めて少ないうえに、その反射光は、特定の色が強調されることはない。
このような第１領域１３との対比における第２領域１５を、図１に示したように一部に文字、記号又は図形として形成すれば、これらの文字、記号又は図形は、モスアイ面で色が変わった領域として認識される。
【００５５】
一方、実施形態１では、色づく第２領域１５もモスアイ構造を持っているため、図３のグラフに示される通り、低反射特性を保っている。したがって、このモスアイを通して見た場合に、第２領域１５の文字、記号又は図形の部分が強調されすぎることはない。  
つまり、この反射防止膜（モスアイシート）１１が表示装置の表示面に貼り合わされた場合でも、表示された画像に文字、記号又は図形が重なって見え難くなることはない。一方、表示装置が非表示状態（電源オフ）にされたような場合では、反射防止膜１１が貼り合わされた面の反射で薄く、文字、記号又は図形が浮き出るように見えるため、ロゴ等を表示して宣伝に用いることが可能である。なお、実施形態１以外の、一部の領域のモスアイ形状を他の領域のモスアイ形状と異なるものとする実施形態（実施形態２、及び、実施形態２の第４〜第６変形例）についても、同様の効果を特に顕著に発揮できる。
【００５６】
また、この反射防止膜１１がガラスに貼られた場合、図２、図３に示した高さが２８０ｎｍの反射特性の突起は、ガラス面に反射防止膜１１が貼り付けられた表面の反射率が極端に低いため、人がガラス面に気付かず、ガラス面にぶつかる等の事故が起こりうる。反射防止膜１１に第２領域１５の文字、記号又は図形を入れておけば、反射防止膜１１の視認性が上がるので、安全喚起に使用でき、事故防止にもなる。なお、例えば、高さ１８５ｎｍの突起（Ｐ１８５）の反射率（Ｙ）は、０．０５９％である。高さ２１０ｎｍの突起（Ｐ２１０）の反射率（Ｙ）は、０．０５７％である。高さ２８０ｎｍの突起（Ｐ２８０）の反射率（Ｙ）は、０．０３１％である。
なお、反射率（％）は、「ＸＹＺ表色系（ＣＩＥ１９３１表色系）」のＹ値をいう。言い換えれば、ＸＹＺ表色系における、下記式によって求められる反射による物体色のＸ値、Ｙ値、Ｚ値のうちのＹ値を言う。
【００５７】
【数１】
2013191091.tif 000003
【００５８】
なお、Ｙ値は、上記式から明らかであるが、波長３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの可視光範囲での積分値であり、特定の波長での反射率を意味するものではない。
【００５９】
（実施形態１の変形例）
図６は、実施形態１の変形例の反射防止膜の平面模式図である。図７及び図８は、実施形態１の変形例の反射防止膜の断面模式図の一例である。それぞれ、図６に示したＡ−Ｂ線に沿った断面を模式的に示している。
モスアイが形成された反射防止膜（モスアイシート）１１１に、ロゴ等の文字、記号又は図形を入れる場合、その部分（第２領域１１５）のモスアイを機能しない構造とする方法と、その部分（第２領域１１５）のモスアイの反射特性を変える方法とがある。
例えば図６のように、モスアイシートに文字「Ａ」を入れる場合、最も単純な方法は、透明樹脂から構成されるモスアイの構造を変えることなく、インク等で文字を直接プリントする方法がある。しかし、不透明なインクを用いると光まで透過出来なくなるので、向こうが見通せなくなる（不透明なインクを用いる場合は、後述する比較例１に該当する。）。
したがって、モスアイの特性を機能させない場合としては、（１）モスアイ形状をその部分に形成しない方法が挙げられる。すなわち、図７のように一部にモスアイ構造を有しない構成とすることができる。
同等の効果を得る別の方法として、モスアイを透明樹脂等の透明な材料で埋めてもよい。
【００６０】
更に別の方法として、図８のように、（２）一部の領域のモスアイ形状を変え、その部分の反射特性を変える方法がある。上述した実施形態１は、この（２）の方法を用いたものである。
これら（１）、（２）の方法は何れも、第１領域とともに、第２領域が、光透過性がある点において共通であり、モスアイを形成した反射防止膜が、表示装置の前に置かれる場合、窓や壁等を構成するガラス板に取り付けられ、反射防止膜を通して向こう側を見る場合に、形成される文字、記号又は図形が、その光透過性を大幅に犠牲にしない。
【００６１】
上記（１）の方法では、モスアイ機能を無くした場所（図７の第２領域１１５）は、その基材界面に存在する屈折率差に起因する反射が発生する。例えばモスアイ面を構成する透明樹脂の基材屈折率が１．５であり、その周りが空気であれば、モスアイ機能の無い部分は４％の反射率を持ち、モスアイ形成部（反射率約０．１％）との反射率の差が生じる。なお、本実施形態では、モスアイ機能の無い樹脂部分の基材屈折率は全て１．５である。
この反射率の差は視認されやすく、この場合正面から見たときもその写り込みの差として明確に領域が認識されやすくなる。
【００６２】
モスアイの形状に差を与えることによって反射特性を変える上記（２）の方法では、モスアイの形状による反射率特性の差によって文字、記号又は図形の表示を実現する。この場合、（１）の方法と違って第２領域２１５にモスアイ形状があるため、第２領域２１５の内外での反射率の差（第１領域２１３の反射率と、第２領域２１５の反射率との差）は、微差となる。したがって、モスアイ面を正面視したときはその第２領域２１５が明確には分かり辛くなるが、モスアイ面を斜め方向から見たときは、両領域の反射率差が広がる傾向となるため、第２領域２１５は視認されやすい。
【００６３】
図９は、図７に示した反射防止膜に対して、垂直に近い状態で光を入射した場合の断面模式図である。図１０は、図７に示した反射防止膜に対して、斜め方向から光を入射した場合の断面模式図である。図１１は、図９及び１０に示した領域Ａにおける、面法線から５°の入射角で光を入射した場合、及び、面法線から６０°の入射角で光を入射した場合の、それぞれの波長（ｎｍ）に対する反射率（％）を示すグラフである。図１２は、図９及び１０に示した領域Ｂにおける、面法線から５°の入射角で光を入射した場合、及び、面法線から６０°の入射角で光を入射した場合の、それぞれの波長（ｎｍ）に対する反射率（％）を示すグラフである。なお、図１０及び図１１中、「５°入射」は、面法線から５°の入射角で光を入射した場合のグラフを示し、「６０°入射」は、面法線から６０°の入射角で光を入射した場合のグラフを示す。
上記（１）の方法のように、一部領域（以下、領域Ｂとする。）にモスアイを形成しない場合、又はモスアイの機能を消滅させた場合では、モスアイ形成領域（以下、領域Ａとする。）とモスアイ形成しない領域（領域Ｂ）との反射率に差が生じる。
モスアイの形成媒体である透明樹脂の屈折率が１．５で、周りが空気であるとすれば、垂直に近い状態（例えば、入射角〔面法線方向からの入射角度〕が５°）で入射された光は、図１１及び図１２に示したグラフの如く、領域Ａの反射率約０．１％と、領域Ｂの反射率４％の差で、正面からでも写り込みの差が認識される。
【００６４】
また斜め方向においても、反射率差が大きいため認識できる（図１１、図１２参照）。
しかし、領域Ｂは反射率が高くても、その部分は見通せる（透光領域である）ため、表示装置の前に置いても表示装置の表示画面を視覚的に妨げることはない。
領域Ｂは、どの方向からでも見えるため、一般的にはモスアイ形状をもつ反射防止膜等によって反射率が極端に下がり、壁が有ることが視認されないことによる衝突事故が懸念されるところ、モスアイ面の一部にこのような領域Ｂを設けることで、壁が有ることが認識されるので、事故防止として特に有用である。  
【００６５】
図１３は、図８に示した反射防止膜に対して、垂直に近い状態で光を入射した場合の断面模式図である。図１４は、図８に示した反射防止膜に対して、斜め方向から光を入射した場合の断面模式図である。図１５は、入射光の入射角を変更した場合の図１３及び１４に示した領域Ａにおける波長（ｎｍ）に対する反射率（％）のグラフである。図１６は、入射光の入射角を変更した場合の図１３及び１４に示した領域Ｂにおける波長（ｎｍ）に対する反射率（％）のグラフである。
なお、図１５、図１６に示したグラフは、高さの異なるモスアイをもつモスアイ面に対して反射率を測定したものである。それぞれのグラフとも、モスアイ面の法線方向に対し、光線の入射角度を変化させて反射率を測定している。
【００６６】
モスアイ面は、垂直に近い角度で入射した光に対して、最も反射率が低くなる。入射角（モスアイ面の法線との角度差）が大きくなるにつれて、長波長側から反射率が徐々に上昇することが分かる。また、モスアイの高さが高い方（領域Ａの高さ２８０ｎｍのモスアイの方）が入射角に対して、反射率の上昇が緩やかであることが分かる。
【００６７】
図１３及び図１４のように、高さの高い（突起の高さ２８０ｎｍ）モスアイが配置された領域Ａと、高さの低い（突起の高さ１９０ｎｍ）モスアイが配置された領域Ｂとが隣り合って形成されたとすると、両方の領域ともに、垂直に近い入射角に対しては、図１５及び図１６に示したグラフから反射率は非常に低く、その差も微差であることから、境界領域は殆ど分らないか、僅かに高さの低い方（領域Ｂの方）が赤っぽい反射光を生じる領域として認識される。
入射角が大きくなり、例えば６０°になった場合、領域Ａと領域Ｂでは、反射率に約２％程の開きがあるため、両領域の違いが認識され、両領域間の境界も認識されることになる。
【００６８】
よって上記（２）の方法では、例えば文字、記号又は図形となる部分を領域Ｂの形状（突起の高さの低い方の形状）で作ることにより、正面では双方の領域の差は目立たないが、斜め方向から見たときに双方の領域の反射特性が互いに異なることで、領域Ｂが目立つことになる。よって文字、記号又は図形が認識される。
なお、このように高さを変える方が、後述するような転写用型の作製時においても、陽極酸化条件とエッチング条件を領域間で変更しなくてもよく、簡単でより確実に領域Ａ及びＢの作り分けができるので、好ましい。
【００６９】
実施形態１の反射防止膜のモスアイ構造の凹凸は、複数の微小な凸部が可視光波長よりも周期の小さな繰り返し単位をもって並んで配置されているということもできる。モスアイ構造において、凸部の頂上部が頂点であり、各凸部同士が接する点が底点である。モスアイ構造の隣接する頂点間の幅は、凸部の頂点からそれぞれ垂線を同一平面上まで下ろしたときの（モスアイ面を平面視したときの）二点間の距離で示される。また、モスアイ構造の頂点から底点までの高さは、凸部の頂点から底点の位置する平面まで垂線を下ろしたときの距離で示される。
【００７０】
実施形態１の反射防止膜において、モスアイ構造の隣接する頂点間の幅は、３８０ｎｍ以下、好ましくは３００ｎｍ以下、より好ましくは２００ｎｍ以下である。上記幅は、実質的に全体がこのような数値範囲に制御されていればよく、一部にこれらの数値範囲に制御されていない領域があってもよい。なお、図面ではモスアイ構造の単位構造が円錐状のときを示したが、当該単位構造は例えば四角錐状であってもよい。頂点及び底点が形成され、かつ上記数値範囲に幅が制御された凹凸構造であれば、その単位構造は特に限定されない。
【００７１】
ここで、実施形態１の反射防止膜がモスアイ構造によって低反射を実現することができる原理について説明する。実施形態１の反射防止膜が備えるモスアイ構造は、凸部と下地部とで構成されている。光はある媒質から異なる媒質へ進むとき、これらの媒質界面で屈折する。屈折の程度は光が進む媒質の屈折率によって決まり、例えば、空気であれば約１．０、樹脂であれば約１．５の屈折率を有する。実施形態１においては、反射防止膜の表面に形成された凹凸構造の単位構造は錐状であり、すなわち、先端方向に向かって徐々に幅が小さくなっていく形状を有している。したがって、空気層と反射防止膜との界面に位置する凸部においては、空気の屈折率である約１．０から、膜構成材料の屈折率（樹脂であれば約１．５）まで、屈折率が連続的に徐々に大きくなっているとみなすことができる。光が反射する量は媒質間の屈折率差に比例するため、このように光の屈折界面を擬似的にほぼ存在しないものとすることで、光のほとんどが反射防止膜中を通り抜けることとなり、膜表面での反射率が大きく減少することとなる。
【００７２】
実施形態１の表示装置は液晶表示装置（ＬＣＤ）であり、実施形態１の反射防止膜を表示面に備えており、表示面において、反射特性の異なる領域を一部混在させつつ、モスアイ構造により反射を充分に低減し、かつ透過率を充分に優れたものとすることができる。
【００７３】
実施形態１のＬＣＤのパネル部分は、一対の基板と該一対の基板に挟持された液晶層とで構成されている。これら一対の基板は、例えば、一方の基板をアレイ基板とし、もう一方の基板をカラーフィルタ基板とする形態が挙げられ、これら一対の基板の少なくとも一方に電極を配置して電極により発生する電界の影響により液晶層を駆動制御することができる。ただし、実施形態１においては、このほかに、一方の基板がアレイ基板及びカラーフィルタ基板の両方の役割を担う形態も挙げられ、特に限定されない。また、液晶層内の液晶分子の配向を制御する方法についても、ＴＮ（Twisted Nematic）モード、ＶＡ（Vertical Alignment）モード、ＩＰＳ（In-Plane Switching）モード等、特に限定されない。なお、アレイ基板及びカラーフィルタ基板の液晶層と反対側のそれぞれの面には、偏光板等の光制御素子が設けられる。
【００７４】
アレイ基板は、ガラス、プラスチック等の支持基板上に液晶層中の液晶分子の配向を制御するための配線、電極等が配置されて構成される。液晶の駆動方式としては、例えば、パッシブマトリクス型、アクティブマトリクス型が挙げられ、このようなマトリクス型の駆動方式の場合、配線は互いに交差して配置され、これらの配線によって囲まれた複数の領域がマトリクス形状を構成する。これら配線及び電極は、アルミニウム（Ａｌ）、銀（Ａｇ）、窒化タンタル（ＴａＮ）、窒化チタン（ＴｉＮ）、窒化モリブデン（ＭｏＮ）等の材料を用いることが機能性及び生産性の面で優れている。
【００７５】
また、アクティブマトリクス型であれば、各配線の交点には薄膜トランジスタ（ＴＦＴ：Thin Film Transistor）等の半導体スイッチング素子が配置され、各配線から送られてくる信号を制御する。ＴＦＴは、半導体層にバイアス電圧を印加するための電極を有しており、この電極材料もまた、上記配線及び電極に用いた材料が好適に用いられるため、反射性を有することとなる。
【００７６】
これら配線及びＴＦＴ上には層間絶縁膜が形成され、更に、その層間絶縁膜上には、透光性を有する材料で形成された画素電極が、上記配線によって囲まれた領域と重なるようにして配置される。画素電極は、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide：酸化インジウム錫）、ＩＺＯ（Indium Zinc Oxide：インジウム酸化亜鉛）等の透光性を有する金属酸化物で構成されている。
【００７７】
カラーフィルタ基板は、ガラス、プラスチック等の支持基板上に、カラーフィルタ層、ブラックマトリクス層等の樹脂層が配置されている。更にこれら樹脂層上に、透光性を有する材料で形成された対向電極が一面に配置される。対向電極もまた、画素電極と同様、ＩＴＯ、ＩＺＯ等の金属酸化物を用いて構成されている。実施形態１においては、カラーフィルタ基板の表示面（観察面）側に実施形態１の反射防止膜が備え付けられている。
【００７８】
実施形態１の表示装置は、このようなＬＣＤに限定されず、ＰＤＰ、ＥＬ等の表示装置のいずれにも用いることができる。
【００７９】
実施形態１においては、本発明の反射防止膜の構成及び作用効果を主に説明した。以下の実施形態２では、本発明の反射防止膜の好適な製造方法について主に説明するとともに、本発明の反射防止膜がもつ各形態について更に詳しく説明する。実施形態２の一部において、実施形態１で上述した形態についても説明する。
【００８０】
（実施形態２）
図１７は、実施形態２の転写用型の模式図である。以下に、一部の反射特性が異なるモスアイ面の作製方法について詳しく説明する。
モスアイは、表面にその雌型となるパターンを形成したロール型等の転写用型３２１による連続転写にて形成される。ここでは、一例としてロール型の転写用型３２１で反射防止膜を作製する方法を示す。
ロール型の転写用型３２１は、例えば、アルミニウム（Ａｌ）を切削することで作製されたロール型、又は、基材となる薄いスリーブ管の表面にアルミニウムの膜を形成したもの等において、これらアルミニウムの表面を陽極酸化処理とエッチング処理とを繰返しおこなうことで作製される。すなわち、アルミニウムを陽極酸化することによって可視光波長オーダー以下の微小な穴（細孔）が多数形成されたアルミナ（Ａｌ２Ｏ３）（以下、陽極酸化ポーラスアルミナともいう。）を転写用型の表面に広い範囲で作製する。最終的に陽極酸化ポーラスアルミナが有する凹凸の形状は断面視したときに三角形であり、その形状は、アルミニウムの陽極酸化による細孔形成と、陽極酸化膜のエッチングとが繰り返されることによって形成される。
【００８１】
具体的には、陽極酸化、エッチング、陽極酸化、エッチング、陽極酸化、エッチング、陽極酸化、エッチング及び陽極酸化をこの順に行うフロー（陽極酸化５回、エッチング４回）によって、金型を作製することができる。このような陽極酸化とエッチングとの繰り返し工程によれば、形成される微小な穴の形状は、金型の内部に向かって先細りの形状（テーパ形状）となる。
【００８２】
なお、転写用型は、上述した切削されたアルミニウムロール型や薄いスリーブ管上にアルミニウム膜を形成したものに限らず、ガラス基板、ＳＵＳ、Ｎｉ等の金属材料は勿論、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン、環状オレフィン系高分子（代表的には、ノルボルネン系樹脂等である製品名「ゼオノア」〔日本ゼオン株式会社製〕、製品名「アートン」〔ＪＳＲ株式会社製〕等）のポリオレフィン系樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、トリアセチルセルロース等の樹脂材料であってもよい。また、形状は、平板状であってもよい。
【００８３】
実施形態２では、図１７に示したように、陽極酸化処理前に、レジストのような樹脂を用いて、所望のパターン３２５をスタンプ等の印刷によって予め付ける。その後、陽極酸化処理、エッチング処理の表面処理を行う。
【００８４】
例えば、一回目の陽極酸化処理とエッチング処理とが終了したときに、形成したパターン３２５を溶剤で溶解させて落とす。その後、再び陽極酸化処理とエッチング処理を実施する。
これにより、パターン３２５が形成されていたところは、その周りと比較して、処理工程が少なくなる。したがって、陽極酸化処理とエッチング処理とをそれぞれ複数回実施した後では、最初にパターン３２５が有ったところは、その周りと比べて、形成された型の深さが浅く形成されている（転写用型３２１における第２領域。）。
このように形成された型で転写されたモスアイ面は、対応するパターンの所のみ、その高さが低くなる（反射防止膜における第２領域を構成する）。この第２領域は、周りの第１領域と反射特性が異なることになる。
【００８５】
次いで、転写用型の作製方法について断面図を用いて更に詳しく説明する。モスアイ形状の転写用型は次のようにして作られる。図１８は、実施形態２の転写用型の製造フローを示す断面模式図であり、（Ｐ１）〜（Ｐ４）は各製造工程を示す。図１９及び図２０は、実施形態２の転写用型の断面を示す写真である。
【００８６】
＜転写用型の作製＞
先ず、上述したように薄いスリーブ管等の基材の上にアルミニウム膜を成膜する（工程Ｐ１）。その膜厚は、例えば１．０μｍとすることができる。次に、陽極酸化を実施する（工程Ｐ２）がその条件は、シュウ酸０．６ｗｔ％、液温５℃の液中で、印加電圧８０Ｖとして陽極酸化を実施する。この陽極酸化時間を調節することで、形成される穴の大きさ（深さ）に違いが生まれる。陽極酸化時間は、例えば３０秒で実施される。この陽極酸化処理工程Ｐ２では、アルミニウム膜が酸化アルミニウム３２２ＡＯになるとともに、印加電圧に応じて、大よそ一定の間隔で穴を開けることができる。
【００８７】
次に、陽極酸化処理工程が終わった基材に対して、リン酸溶液中でエッチング処理工程（工程Ｐ３）を実施する。条件は、例えばリン酸１ｍｏｌ／ｌを用い、液温３０℃とし、この時間は、例えば３０分で実施される。このエッチング処理工程Ｐ３では、前に開けた穴が、等方的にエッチングされ、陽極酸化で出来た穴の径が広くなる（ワイドニング）。
【００８８】
更に、続いて陽極酸化処理工程Ｐ２を再度実施する。条件は前回と同じ条件で実施される。この工程では、前のエッチング処理工程で広げられた穴に更に陽極酸化穴が進行し膜厚方向に穴が進行する。引き続き、ワイドニングとしてのエッチング処理工程Ｐ３を実施する。この工程によって、前回（第２回目の陽極酸化処理工程Ｐ２）で深くあいた穴と、それ以前（第１回目の陽極酸化処理工程Ｐ２及びエッチング処理工程Ｐ３）に加工し広げられた穴共にエッチングされ更にその穴が広げられる。
【００８９】
このように陽極酸化処理とエッチング処理を複数回実施することによって、図１８の工程Ｐ４で示されるように、所望の略円錐体の細孔を形成することができる。すなわち、図１９、図２０に示した写真の通り逆コーン状の穴が転写用型の表面上に形成される。ここで、穴の形状は、陽極酸化の時間、エッチングの時間で制御される。例えば図１９に示した写真は穴を深く形成した例であり、図２０に示した写真は穴を浅く形成した例である。また、複数回実施される陽極酸化とエッチングの回数によってもコントロールされる。モスアイの一部の高さを変えるには、対応する転写用型の一領域（第２領域）の形状を、例えば浅く形成すればよい。従って、先ず型上に、レジスト等でパターンを印刷しておき、陽極酸化処理、エッチング処理を１回施し、レジストを剥離した後、全体に陽極酸化とエッチングを施すことで、レジストで覆った領域を好適に浅く形成することが可能である。
【００９０】
＜転写工程＞
次に、上記工程で作製した転写用型からモスアイ構造を作製する。この工程は例えば転写用型の表面上に、透光性を有する光重合性樹脂溶液を滴下したのち、基材を貼り合わせ、紫外（ＵＶ）光を該樹脂層に対して照射して樹脂層を硬化させ、その後硬化してできた樹脂フィルム及び基材フィルムの積層フィルムを型から剥離する方法で作製される。ここでは、コンベアー方式で送られてくる基材（例えば、ＴＡＣフィルム）上に、光重合性樹脂溶液を例えばグラビアロールによるコート法、ダイコート法等で塗布し、８０℃下で樹脂を乾燥させる。そして回転するロール状の転写用型に押し当てて、２Ｊ／ｃｍ２積算光量で露光を施した後に転写型から剥離する。これらを順次連続して実施する一般的なロール・ツー・ロール方式等で転写型の凹凸を転写してモスアイ構造をもったフィルムを作製することができる。
なお、この方法に限られず、例えば、熱プレス法（エンボス法）、射出成形法、ゾルゲル法等の複製法、又は、微細凹凸賦形シートのラミネート法、微細凹凸層の転写法等の各種方法を、反射防止物品の用途及び基材の材料等に応じて適宜選択すればよい。
【００９１】
（実施形態２の変形例）
実施形態２の変形例の反射防止膜の製造方法について、以下に詳述する。以下に示す製造方法では、まず、実施形態２の変形例の反射防止膜に凹凸を形成するための転写用型を作製し、次に、基材表面に塗布された樹脂膜の表面にその転写用型を押し当て、転写用型の凹凸形状を膜表面に転写（インプリント）し、それと同時に樹脂膜に所定の条件を加えて反射防止膜表面に転写された凹凸形状を硬化させて所定の凹凸形状を成型する。以下では、反射防止膜の作製方法として、反射防止膜を作製するための転写用型の作製方法についても言及する。
【００９２】
先ず反射防止膜の作製方法について、本発明における各種形態を項目を挙げて体系的に説明する。
方法
（１）一部のモスアイ形状を無くしてしまう（凹凸構造を無くす）。
これにより、モスアイ形状を無くした領域（第２領域）は、特に視認し易いものとなる。正面からでも写り込みの差で認識できる（実施形態１の変形例、後述する実施形態２の第１〜第３変形例）。危険防止用途にはこちらの方が良い。
（１）−ｉ：型に関する方法。
（１）−ｉ−Ａ：型の凹凸構造を埋める。
（１）−ｉ−Ｂ：型の一部にモスアイ構造を工程途中で作らない。
（１）−ｉ−Ｂ−ａ：型の一部にマスクをして、陽極酸化処理工程／エッチング処理工程（ＡＯ／Ｅｔ）が出来ないようにする。  
（１）−ｉｉ：フィルムに関する方法。具体的には、フィルムのその部分（第２領域）を埋める。
（２）一部の領域のモスアイ形状を変える。この方法は、正面からでは認識し難いため煩わしくないという利点がある。斜め方向からの方がはっきり視認できる（実施形態１、実施形態２、後述する実施形態２の第４〜第６変形例）。例えば、ロゴや宣伝を表示するのに好ましい。
（２）−ｉ：型に関する方法。具体的には、部分的に突起を低く作る。
（２）−ｉ−Ａ：ＡＯ／Ｅｔの一部を省くことで、形状を変える。
（２）−ｉ−Ａ−ａ：型の一部にマスクを行い、ＡＯ／Ｅｔを実施する。途中でマスクを剥がす。
（２）−ｉ−Ｂ：型の一部を埋める。
（２）−ｉ−Ｂ−ａ：インクジェットのような、塗出量を微小に変化して制御できる印刷で埋める。
（２）−ｉ−Ｃ：型の一部の抵抗を変えることで、形状を変える。
（２）−ｉ−Ｃ−ａ：膜厚を変える。
（２）−ｉ−Ｃ−ｂ：材料を変える。
（２）−ｉ−Ｄ：型作製の条件を一部変える。
（２）−ｉ−Ｄ−ａ：ＡＯ時の電極を文字、記号又は図形に合わせた形状にし、電極間距離を詰める。
（２）−ｉｉ：フィルムに関する方法。具体的には、フィルムのその部分（第２領域）をインクジェットのような、微小に塗出量が制御できる印刷で部分的に埋める。
【００９３】
中でも、実施し易い方法は、（１）−ｉ−Ａ、（１）−ｉ−Ｂ、（２）−ｉ−Ａ−ａである。
【００９４】
（実施形態２の第１変形例〔（１）−ｉ−Ａの例〕）
図２１は、実施形態２の第１変形例の転写用型の製造工程途中における断面を示す模式図である。図２２は、実施形態２の第１変形例の転写用型の断面を示す模式図である。
モスアイ型を一旦形成した後、その一部を埋めることで、モスアイが転写できる領域（第１領域４２３）、及び、モスアイが転写できない領域（第２領域４２５）を形成する。なお、本明細書中、転写用型におけるモスアイ構造を、モスアイ型とも言う。
【００９５】
（実施形態２の第２変形例〔（１）−ｉ−Ｂの例〕）
図２３は、実施形態２の第２変形例の転写用型の製造工程途中における断面を示す模式図である。図２４は、実施形態２の第２変形例の転写用型の断面を示す模式図である。
転写用型の製造工程中に型の一部（製造工程中の第２領域５２４）だけにマスクＭを施し、その部分（第２領域５２５）に凹凸構造を形成させない。
【００９６】
（実施形態２の第３変形例〔（１）−ｉｉの例〕）
図２５は、実施形態２の第３変形例の反射防止膜の製造工程途中における断面を示す模式図である。図２６は、実施形態２の第３変形例の反射防止膜の断面を示す模式図である。
反射防止膜（フィルム）上の一部（第２領域６１５）に透明樹脂でモスアイを埋めることでその機能を消失させる。
【００９７】
（実施形態２の第４変形例〔（２）−ｉ−Ａの例〕）
図２７は、実施形態２の第４変形例の転写用型の製造工程途中における断面を示す模式図である。図２８は、実施形態２の第４変形例の転写用型の断面を示す模式図である。
モスアイ型の作製工程である、陽極酸化（ＡＯ）／エッチング（Ｅｔ）の一部を、マスクをすることで一部スキップさせる。全てスキップさせるわけでないので、マスク部分に対応する領域（第２領域７２５）は、周りの第１領域７２３よりもモスアイ形状の高さが低い。
【００９８】
（実施形態２の第５変形例〔（２）−ｉ−Ｂの例〕）
図２９は、実施形態２の第５変形例の転写用型の製造工程途中における断面を示す模式図である。図３０は、実施形態２の第５変形例の転写用型の断面を示す模式図である。
図２９に示したようにモスアイ型を通常通り作製した後に、特定領域（第２領域８２５）を、樹脂ｒが塗布されたものとする（ホールを完全に埋めてしまわない。）。
【００９９】
（実施形態２の第６変形例〔（２）−ｉｉの例〕）
図３１は、実施形態２の第６変形例の反射防止膜の製造工程途中における断面を示す模式図である。図３２は、実施形態２の第６変形例の反射防止膜の断面を示す模式図である。
モスアイ型から転写されたフィルムの一部領域に透明樹脂を塗布する（図３２における第２領域９１５。モスアイを全て埋めない。）。
【０１００】
上述した転写用型についての実施形態は、転写用型を用いて本発明の反射防止構造体、及び、これを備える本発明の表示装置を作製することができることから、反射防止構造体、及び、表示装置についての実施形態であるとも言える。また、上述した反射防止構造体についての実施形態は、反射防止構造体を備える本発明の表示装置を作製することができることから、表示装置についての実施形態であるとも言える。
本発明の凹凸構造等の構成は、電子顕微鏡（ＳＥＭ）で観察することにより確認することができる。
【０１０１】
実施形態２の反射防止膜が備えるモスアイ構造は、実施形態１の反射防止膜が備えるモスアイ構造と同様であり、隣接する頂点間の幅が可視光波長以下となるように設計されている。その他の構成は、上述した実施形態１の構成を適宜適用することができる。
【０１０２】
（その他の実施形態）
上述した実施形態における転写用型の表面形状、反射防止膜及び表示装置の表面形状は、モスアイ構造による凹凸を除けば、表面はほぼ平坦であるが、陽極酸化処理よりも先にあらかじめサンドブラスト処理を行っておく等して、散乱凹凸構造を設けても構わない。
上述した各実施形態において反射防止膜の主成分は、モスアイ構造を精密に形成するという観点から、一定の条件で硬化する光硬化性樹脂、熱硬化性樹脂等の樹脂を用いることができる。ここで、反射防止膜の下地層（内部）等には、部分的に反射防止膜の主成分である樹脂材料の屈折率と異なる屈折率を有する材料（透明ビーズ等）を散在させてもよい。
また、実施形態２において示した陽極酸化処理工程は、シュウ酸を用いるものであったが、その他の硫酸、燐酸等の酸性電解液、又は、アルカリ性電解溶液を用いてもよい。
更に、反射防止膜に対してモスアイ構造を形成するための転写用型の製造方法について説明したが、転写用型の製造方法はこれらの手段に限定されない。上述のような陽極酸化及びエッチングを行う方法のほかに、電子線描画法、レーザー光の干渉露光を行う方法等が挙げられる。
【０１０３】
また、実施形態１では本発明の反射防止構造体として反射防止膜の一例を示したが、本発明の反射防止構造体は、反射防止膜に限定されず、例えば、窓ガラス等の建材、水槽、水中メガネといった、あらゆる視認される対象物、視認するための道具に適用できるものである。
【０１０４】
本発明の反射防止構造体は、モスアイ構造が透明体により構成されるものであるが、モスアイ構造の下に設けられる基材は透明体に限定されず、不透明体又は光透過性の低いものであってもよい。上記基材は、例えば、色のついたガラス基板、黒く着色されたアクリル基板、写真用フィルム等であってもよい。ガラス、アクリル等からなる透明基材に屈折率が同等の材料で形成されたモスアイ構造を付与すれば、透明基材の表面反射を著しく抑制し、透過視認性を上げることができるが、モスアイ構造による表面反射の低減効果は、基材が透明体で無い場合であっても得ることが可能である。
【０１０５】
黒く着色されたアクリル基板を例にとると、モスアイ構造が表面にない場合、透明体と同じ４％の光が表面で反射され、残りの光が直進してアクリル基板内で基板に吸収されることになる。この場合、残りの光が基板に吸収されるといえども、基板の表面は、見掛け上、表面反射が生じていることがはっきりと認識され、艶のある、俗にピアノ・ブラックとも呼ばれる黒光りした表面が観察されることになる。これに対して、基板の表面にモスアイ構造を付与すると、表面反射は０．１％以下程度まで下がり、９９．９％近くの光が基板に吸収されることになる。この場合、艶はあるが、より写り込みのない（反射の少ない）黒い表面となり、より深みのある色が得られる。このような表面は、装飾的に利用可能なものである。なお、アクリル基板の表面にモスアイ構造を付与する方法としては、透明な材料で形成されたモスアイ構造体を直接的に取り付けてもよいし、透明な材料で形成されたモスアイ構造体を透明基材上に取り付け、この透明基材を取り付けてもよい。
【０１０６】
また、写真の表面にモスアイ構造を付与すると、表面反射が抑制されることにより、見掛け上コントラストが向上し、より深みのある色が得られる。
【０１０７】
（比較例１）
図３３は、比較例１の反射防止膜の断面模式図の一例である。透明樹脂から構成されるモスアイの構造を変えることなく、インクｉで記号を直接プリントしている。不透明なインクｉを用いるため、光が透過出来なくなるので、向こうが見通せなくなる。
【０１０８】
上述した実施形態における各形態は、本発明の要旨を逸脱しない範囲において適宜組み合わされてもよい。
【符号の説明】
【０１０９】
１１、１１１：反射防止膜
１３、１１３、２１３、６１３、９１３：（反射防止膜の）第１領域
１５、１１５、２１５、６１５、９１５：（反射防止膜の）第２領域
１５Ｌ：ロゴ
１５Ｆ：図形
３２１：転写用型
３２２ＡＯ、３２２ＡＯＥｔ、３２３ＡＯ：酸化アルミニウム
３２２Ａｌ、３２２ＡｌＥｔ、３２３Ａｌ：アルミニウム
３２３、４２３、５２３、７２３、８２３：（転写用型の）第１領域
３２５、４２５、５２５、７２５、８２５：（転写用型の）第２領域
４２２、５２２、７２２、８２２：（製造中の転写用型の）第１領域
４２４、５２４、７２４、８２４：（製造中の転写用型の）第２領域
６１２、９１２：（製造中の反射防止膜の）第１領域
６１４、９１４：（製造中の反射防止膜の）第２領域
１０１３、１０１５：領域
ｉ：インク
Ｍ：マスク
ｒ：樹脂
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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【図２６】
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【図２７】
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【図２８】
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【図２９】
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【図３０】
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【図３１】
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【図３２】
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【図３３】
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【図３４】
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【図１９】
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【図２０】
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【手続補正書】
【提出日】平成26年12月17日(2014.12.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
隣接する頂点間の幅が可視光波長以下であり、透明体で構成された凹凸構造を表面に有する反射防止構造体であって、
該反射防止構造体は、該凹凸構造を表面にもつ第１領域、及び、該第１領域がもつ凹凸構造とは異なる、透明体で構成された構造を表面にもつ第２領域を有し、
該第２領域がもつ構造は、該凹凸構造が透明樹脂で埋められたものであり、
該第２領域の平面形状は、文字、記号及び図形からなる群より選択される少なくとも１つを構成する
ことを特徴とする反射防止構造体。
【請求項２】
前記第２領域は、視認性を高めて注意を喚起するために用いられるものである
ことを特徴とする請求項１に記載の反射防止構造体。
【請求項３】
前記第２領域は、ロゴ及び／又は宣伝として用いられている
ことを特徴とする請求項１又は２に記載の反射防止構造体。
【請求項４】
隣接する頂点間の幅が可視光波長以下であり、透明体で構成された凹凸構造を表面に有する反射防止構造体の製造方法であって、
該製造方法は、該凹凸構造を表面にもつ第１領域、及び、該第１領域がもつ凹凸構造とは異なる、透明体で構成された構造を表面にもつ第２領域を形成し、該凹凸構造を形成した後、一部の領域における該凹凸構造を変形するものであり、
該第２領域の平面形状は、文字、記号及び図形からなる群より選択される少なくとも１つを構成する
ことを特徴とする反射防止構造体の製造方法。
【請求項５】
透明樹脂から構成される反射防止膜の製造方法であることを特徴とする請求項４に記載の反射防止構造体の製造方法。
【請求項６】
隣接する頂点間の幅が可視光波長以下である凹凸構造を表面に有する転写用型であって、
該転写用型は、該凹凸構造を表面にもつ第１領域、及び、該第１領域がもつ凹凸構造とは異なる構造を表面にもつ第２領域を有し、
該第２領域がもつ構造は、該凹凸構造が埋められたものであり、
該第２領域は、文字、記号及び図形からなる群より選択される少なくとも１つを形成する平面形状を有する
ことを特徴とする転写用型。
【請求項７】
隣接する頂点間の幅が可視光波長以下である凹凸構造を表面に有する転写用型の製造方法であって、
該製造方法は、基材の上に金属膜を形成する第１工程、
該金属膜の表面に、該凹凸構造をもつ第１領域、及び、該第１領域がもつ凹凸構造とは異なる構造をもつ第２領域を形成する第２工程を含み、
該第２工程は、陽極酸化処理、及び／又は、エッチング処理の、処理回数、及び／又は、処理時間を変えて該第１領域と該第２領域とを作り分けるものであり、
該第２領域は、文字、記号及び図形からなる群より選択される少なくとも１つを形成する平面形状を有する
ことを特徴とする転写用型の製造方法。
【請求項８】
前記第２工程は、少なくとも陽極酸化処理により金属膜に一定の間隔で穴を形成するものである
ことを特徴とする請求項７に記載の転写用型の製造方法。
【請求項９】
前記製造方法は、陽極酸化処理、及び／又は、エッチング処理にて、マスクを用いて第１領域と第２領域とを作り分けるものである
ことを特徴とする請求項７又は８に記載の転写用型の製造方法。
【請求項１０】
隣接する頂点間の幅が可視光波長以下である凹凸構造を表面に有する透明体が表示面に配置された表示装置であって、
該透明体は、該凹凸構造を表面にもつ第１領域、及び、該第１領域がもつ凹凸構造とは異なる構造を表面にもつ第２領域を有し、
該第２領域の平面形状は、文字、記号及び図形からなる群より選択される少なくとも１つを構成する
ことを特徴とする表示装置。
【請求項１１】
前記第１領域の凹凸構造、及び、前記第２領域の構造は、透明樹脂から構成される
ことを特徴とする請求項１０に記載の表示装置。
【請求項１２】
前記表示装置は、液晶表示装置、プラズマディスプレイパネル、又は、有機エレクトロルミネッセンスディスプレイである
ことを特徴とする請求項１０又は１１に記載の表示装置。
【請求項１３】
前記表示装置が非表示状態の時に前記第２領域がロゴ及び／又は宣伝として用いられる
ことを特徴とする請求項１０〜１２のいずれかに記載の表示装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
上記反射防止構造体を用いて以下の（１）〜（３）の利点を得ることが考えられる。
（１）表示状態（オン）にある表示装置が背景に無い場合に、宣伝、ロゴ、標識等を表示する。例えば、表示装置等の前面に置かれたモスアイシートで、表示装置が非表示状態（オフ）となっている場合に、宣伝、ロゴ表示をすることができる。また、モスアイ形状はガラス等に貼り合わされると、表面反射が極端に低くなるため、ガラスの存在が容易に視認されなくなり、このため無意識に衝突し事故に発展する場合もあるところ、一部反射が有れば、壁を認識することができ、事故を防止できる。
【国際調査報告】
2013191091.tif 000038
2013191091.tif 000039
2013191091.tif 000040
2013191091.tif 000041