【手続補正書】
【提出日】平成27年6月17日(2015.6.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
それぞれ、基板側から第１電極、発光層を含む有機層および第２電極の順に積層された発光素子を有する複数の画素が配設された表示領域と、
前記表示領域の外縁側に設けられると共に、周辺回路を有する周辺領域と、
前記表示領域から前記周辺領域へ延在するように設けられた、下層側の第１絶縁層および上層側の第２絶縁層と、
前記表示領域と前記周辺領域との間の前記第１絶縁層に設けられた第１分離溝と、
前記第１分離溝の側面から底部を介して、周辺領域の前記第1絶縁層上に設けられた第
１導電層と、
前記第２絶縁層の少なくとも端面が前記有機層または前記第２電極によって覆われた被覆部と、
前記被覆部の外縁側に設けられると共に、前記第１導電層と前記第２電極とが積層されてなる封止部と
を備えた有機ＥＬ表示装置。
【請求項２】
前記基板と前記第１絶縁層との間に、前記基板側から第２導電層、第３絶縁層の順に設けられ、前記第１分離溝は前記第１絶縁層および前記第３絶縁層を分離し、前記第１分離溝の底部において前記第１導電層と前記第２導電層とが積層された接続部が形成されている、請求項１に記載の有機ＥＬ表示装置。
【請求項３】
前記第２電極および前記第２導電層は、前記第１導電層を介して電気的に接続されている、請求項２に記載の有機ＥＬ表示装置。
【請求項４】
前記第１電極および前記第１導電層は同一工程によって形成されている、請求項１に記載の有機ＥＬ表示装置。
【請求項５】
前記周辺領域に設けられると共に、前記第１絶縁層を内部領域側と外部領域側とに分離する第２分離溝を有する、請求項１に記載の有機ＥＬ表示装置。
【請求項６】
前記第２分離溝の壁面および底面は前記第１導電層によって被覆され、前記第２分離溝は前記第２電極によって埋め込まれている、請求項５に記載の有機ＥＬ表示装置。
【請求項７】
前記有機層と前記第２電極との間に高抵抗層を有する、請求項１に記載の有機ＥＬ表示装置。
【請求項８】
前記第１絶縁層および前記第２絶縁層は有機絶縁層であり、前記第３絶縁層は無機絶縁層である、請求項２に記載の有機ＥＬ表示装置。
【請求項９】
前記基板の端部にシール材が配設されている、請求項１に記載の有機ＥＬ表示装置。
【請求項１０】
前記周辺回路は、前記基板上において前記第３絶縁層の下層側に形成されている、請求項２に記載の有機ＥＬ表示装置。
【請求項１１】
前記発光素子は、前記基板上に、前記第１電極側から、正孔注入層、正孔輸送層、発光層、電子輸送層および電子注入層の順に設けられている、請求項１に記載の有機ＥＬ表示装置。
【請求項１２】
前記発光素子は、前記基板上に、前記第１電極側から、正孔注入層、正孔輸送層、発光層、電子輸送層、電子注入層、電荷発生層、正孔注入層、正孔輸送層、発光層、電子輸送層および電子注入層が設けられている、請求項１に記載の有機ＥＬ表示装置。
【請求項１３】
前記複数の画素は、赤色画素、緑色画素、および青色画素、または、赤色画素、緑色画素、青色画素、および白色画素からなる、請求項１に記載の有機ＥＬ表示装置。
【請求項１４】
有機ＥＬ表示装置を備え、
前記有機ＥＬ表示装置は、
それぞれ、基板側から第１電極、発光層を含む有機層および第２電極の順に積層された発光素子を有する複数の画素が配設された表示領域と、
前記表示領域の外縁側に設けられると共に、周辺回路を有する周辺領域と、
前記表示領域から前記周辺領域へ延在するように設けられた、下層側の第１絶縁層および上層側の第２絶縁層と、
前記表示領域と前記周辺領域との間の前記第１絶縁層に設けられた第１分離溝と、
前記第１分離溝の側面から底部を介して、周辺領域の前記第1絶縁層上に設けられた第
１導電層と、
前記第２絶縁層の少なくとも端面が前記有機層または前記第２電極によって覆われた被覆部と、
前記被覆部の外縁側に設けられると共に、前記第１導電層と前記第２電極とが積層されてなる封止部と
を有する電子機器。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
【図１】本開示の一実施の形態に係る有機ＥＬ表示装置の構成を表す断面図である。
【図２】図１に示した有機ＥＬ表示装置の平面図である。
【図３】図１に示した有機ＥＬ表示装置の全体構成を表す図である。
【図４】図３に示した画素駆動回路の一例を表す図である。
【図５】図１に示した有機ＥＬ表示装置を構成する有機ＥＬ素子の断面図である。
【図６】比較例に係る有機ＥＬ表示装置の構成を表す断面図である。
【図７】変形例１に係る有機ＥＬ表示装置の構成を表す断面図である。
【図８】変形例２に係る有機ＥＬ表示装置の構成の一例を表す断面図である。
【図９】変形例２に係る有機ＥＬ表示装置の構成の他の例を表す断面図である。
【図１０】変形例３に係る有機ＥＬ表示装置の構成を表す断面図である。
【図１１】変形例３に係る有機ＥＬ表示装置の構成の他の例を表す断面図である。
【図１２】変形例４に係る有機ＥＬ表示装置の構成を表す断面図である。
【図１３】変形例４に係る有機ＥＬ表示装置の構成の他の例を表す断面図である。
【図１４Ａ】上記実施の形態等の画素を用いた表示装置の適用例１の表側から見た外観を表す斜視図である。
【図１４Ｂ】上記実施の形態等の画素を用いた表示装置の適用例１の裏側から見た外観を表す斜視図である。
【図１５】適用例２の外観を表す斜視図である。
【図１６Ａ】適用例３の表側から見た外観を表す斜視図である。
【図１６Ｂ】適用例３の裏側から見た外観を表す斜視図である。
【図１７】適用例４の外観を表す斜視図である。
【図１８】適用例５の外観を表す斜視図である。
【図１９Ａ】適用例３の閉じた状態の正面図、左側面図、右側面図、上面図および下面図である。
【図１９Ｂ】適用例６の開いた状態の正面図および側面図である。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
＜実施の形態＞
（有機ＥＬ表示装置の全体構成例）
図１は、本開示の一実施の形態に係る有機ＥＬ表示装置（有機ＥＬ表示装置１）の断面構成を表したものである。この有機ＥＬ表示装置１は、有機ＥＬテレビジョン装置等として用いられるものであり、図２に示したように、基板１１上には表示領域１１０Ａおよび表示領域１１０Ａの周縁に周辺領域１１０Ｂが設けられている。有機ＥＬ表示装置１は、例えば、白色有機ＥＬ素子１０Ｗと後述するカラーフィルタ１９Ａとを用いることによってＲ（赤），Ｇ（緑），Ｂ（青）のいずれかの色光が上面（基板１１と反対側の面）側から出射される、上面発光型（いわゆるトップエミッション型）の表示装置である（図５参照）。なお、図１は、図２に示したＩ−Ｉ線における有機ＥＬ表示装置１の断面図である。図３は、図１に示した有機ＥＬ表示装置１の全体構成の一例を表したものであり、表示領域１１０Ａ内には、複数の画素２（赤色画素２Ｒ，緑色画素２Ｇ，青色画素２Ｂ）がマトリクス状に配置されている。また、表示領域１１０Ａの周辺（外縁側，外周側）に位置する周辺領域１１０Ｂには、映像表示用のドライバ（後述する周辺回路１２Ｂ）である信号線駆動回路１２０および走査線駆動回路１３０が設けられている。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
表示領域１１０Ａ内には、画素駆動回路１４０が設けられている。図３は、この画素駆動回路１４０の一例（赤色画素２Ｒ，緑色画素２Ｇ，青色画素２Ｂの画素回路の一例）を表したものである。画素駆動回路１４０は、後述する下部電極１６１Ａの下層に形成されたアクティブ型の駆動回路である。この画素駆動回路１４０は、駆動トランジスタＴｒ１および書き込みトランジスタＴｒ２と、これらトランジスタＴｒ１，Ｔｒ２の間のキャパシタ（保持容量）Ｃｓとを有している。画素駆動回路１４０はまた、第１の電源ライン（Ｖｃｃ）および第２の電源ライン（ＧＮＤ）の間において、駆動トランジスタＴｒ１に直列に接続された白色有機ＥＬ素子１０Ｗを有している。即ち、赤色画素２Ｒ，緑色画素２Ｇ，青色画素２Ｂ内にはそれぞれ、この白色有機ＥＬ素子１０Ｗが設けられている。駆動トランジスタＴｒ１および書き込みトランジスタＴｒ２は、一般的な薄膜トランジスタ（ＴＦＴ；Thin Film Transistor）により構成され、その構成は例えば逆スタガ構造（いわゆるボトムゲート型）でもよいしスタガ構造（トップゲート型）でもよく、特に限定されない。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
本実施の形態の有機ＥＬ表示装置１では、図１に示したように、表示領域１１０Ａと周辺領域１１０Ｂとの間の有機絶縁層１５１（第１絶縁層）に分離溝２１（第１分離溝）が形成されている。有機ＥＬ表示装置１は、基板１１上に画素駆動回路１２Ａ（画素駆動回路１４０に対応）、周辺回路１２Ｂおよび金属層１３Ａからなる配線層と、無機絶縁層１４と、有機絶縁層１５１と、下部電極１６１Ａ（および導電層１６１Ｂ）と、有機絶縁層１５２（第２絶縁層）と、有機層１６０と、上部電極１６２と、保護層１７と、充填剤層（接着層）１８Ａおよびシール剤１８Ｂと、カラーフィルタ１９ＡおよびＢＭ（ブラックマトリクス）層１９Ｂとがこの順に積層された積層構造を有している。また、この積層構造上には封止用基板１９が貼り合わされており、積層構造が封止されるようになっている。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
分離溝２１は、表示領域１１０Ａと周辺領域１１０Ｂとの間の有機絶縁層１５１、具体的には金属層１３Ａに対応する位置の有機絶縁層１５１に設けられており、有機絶縁層１５１を表示領域１１０Ａ側と周辺領域１１０Ｂ側とに分離するためのものである。この分離溝２１は側壁および底面が下部電極１６１Ａおよび導電層１６１Ｂによって覆われている。これら下部電極１６１Ａおよび導電層１６１Ｂは同一工程および同一材料によって形成された導電膜であり、例えば分離溝２１の表示領域１１０Ａ側の側壁に設けられた開口Ｐ１によって互いに分離され、両領域間が電気的に非導通となっている。また、本実施の形態では、分離溝２１はさらに無機絶縁層１４を貫通しており、分離溝２１の底部を覆う導電層１６１Ｂが金属層１３Ａと直接積層された接続部（後述するカソードコンタクト２１Ａ）を形成している。分離溝２１の内径は、例えば１０〜１００μｍ程度であり、分離溝２１の深さは、有機絶縁層１５１の厚さと無機絶縁層１４の厚さとを合わせたものであり、例えば５００〜５０００ｎｍ程度である。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
無機絶縁層１４は、画素駆動回路１２Ａ、周辺回路１２Ｂ、金属層１３Ａおよび基板１１の上にほぼ一様に形成されている。この無機絶縁層１４は、例えば、酸化シリコン（ＳｉＯx）、窒化シリコン（ＳｉＮx）、酸化窒化シリコン（ＳｉＮxＯy）、酸化チタン（ＴｉＯx）または酸化アルミニウム（ＡｌxＯy）等の無機材料からなる。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２７】
下部電極１６１Ａは、陽極（アノード電極）として機能するものであり、表示領域１１０Ａ内においては各色の画素２（２Ｒ，２Ｇ，２Ｂ）ごとに設けられている。また、表示領域１１０Ａの外部領域（主に周辺領域１１０Ｂ）には、この下部電極１６１Ａが延在して形成されると共に、開口Ｐ１によって切断された導電層１６１Ｂがほぼ一様に形成されている。即ち、下部電極１６１Ａおよび導電層１６１Ｂは、同一工程および同一材料によって形成されたものであり、例えば光反射率が７０％程度以上の金属材料（例えば、アルミニウム（Ａｌ）や、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide：酸化インジウム錫）と銀（Ａｇ）との積層等）によって構成されている。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２９】
有機層１６０は、図５に示したように、下部電極１６１Ａの側から順に、正孔注入層１６０Ａ、正孔輸送層１６０Ｂ、発光層１６０Ｃ、電子輸送層１６０Ｄおよび電子注入層１６０Ｅを積層した積層構造を有している。これらの層のうち、発光層１６０Ｃ以外の層は必要に応じて設ければよい。正孔注入層１６０Ａは、正孔注入効率を高めると共に、リークを防止するために設けられる。正孔輸送層１６０Ｂは、発光層１６０Ｃへの正孔輸送効率を高めるためのものである。発光層１６０Ｃは、電界をかけることにより電子と正孔との再結合が起こり、光を発生するものである。電子輸送層１６０Ｄは、発光層１６０Ｃへの電子輸送効率を高めるためのものであり、電子注入層１６０Ｅは電子注入効率を高めるためのものである。なお、有機層１６０の構成材料は、一般的な低分子または高分子有機材料であればよく、特に限定されない。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３１】
また、上部電極１６２は、上記のように周辺領域１１０Ｂにおいて導電層１６１Ｂと直接積層されることにより、上部電極１６２と金属層１３Ａとが導電層１６１Ｂを介して電気的に接続されている。即ち、表示領域１１０Ａと周辺領域１１０Ｂとの間には、有機絶縁層１５１を分離する分離溝２１が形成されると共に、上部電極１６２と金属層１３Ａとが電気的に接続された、所謂カソードコンタクト２１Ａが形成されている。このカソードコンタクト２１Ａは、図２に示したように、分離溝２１と共に表示領域１１０Ａを囲むように連続して設けられている。このように、カソードコンタクト２１Ａを、表示パネル（表示領域１１０Ａ）を囲むように設けることにより、大型化した際にパネル中央部の輝度が低下する虞を防止することができる。
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３８】
まず、上述した材料からなる基板１１上に、画素駆動回路１２Ａ（１４０）および周辺回路１２Ｂを形成する。また、それと共に、上述した材料からなる金属層１３Ａを、例えばスパッタ法により成膜した後、例えばフォトリソグラフィー法およびエッチングにより所望の形状にパターニングすることにより形成する。そののち、これら画素駆動回路１２Ａ、周辺回路１２Ｂおよび金属層１３Ａの上に、上述した材料からなる無機絶縁層１４を、例えばプラズマＣＶＤ（Chemical Vapor Deposition；化学気相成長）法を用いて形成
する。但し、このときの成膜方法としては、上記したＣＶＤ法には限られず、例えば、ＰＶＤ（Physical Vapor Deposition；物理気相成長）法やＡＬＤ（Atomic Layer Deposition；原子層堆積）法、（真空）蒸着法等を用いるようにしてもよい。次いで、表示領域１１０Ａ内のフォトリソグラフィー法によるパターングと同時に金属層１３Ａを露出させるようにパターニングし、金属層１３Ａ上の無機絶縁層をエッチングにより除去する。
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３９】
続いて、この無機絶縁層１４上に、上述した材料からなる有機絶縁層１５１を、例えばスピンコート法や液滴吐出法等の塗布法（湿式法）により形成する。そののち、分離溝２１を、例えばフォトリソグラフィー法により、表示領域１１０Ａと周辺領域１１０Ｂとの間に形成し、有機絶縁層１５１を表示領域１１０Ａ側と周辺領域１１０Ｂ側とに分離する。また、同時に、周辺領域１１０Ｂ内（周辺回路１２Ｂに対応する領域内）の一部の領域に分離溝２４を形成し、周辺領域１１０Ｂに形成されている有機絶縁層１５１をさらに内部領域側と外部領域側とに分離する。次いで、有機絶縁層１５１上に、上述した材料からなる下部電極１６１Ａおよび導電層１６１Ｂとなる金属膜を、例えばスパッタ法により成膜した後、例えばフォトリソグラフィー法により所望の形状にパターニングすることにより形成する。具体的には、図１に示したように、表示領域１１０Ａと周辺領域１１０Ｂとの境界付近において下部電極１６１Ａを切断し、両領域間が電気的にも非導通となるようにする。これにより、分離溝２１および分離溝２４の側面および底部が、それぞれ対応する下部電極１６１Ａおよび導電層１６１Ｂにより被覆される。
【手続補正１３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４８】
この比較例の有機ＥＬ表示装置１００では、上記した分離溝１０２が設けられていることにより、上記周辺領域１１０Ｂ側の有機絶縁層１５１，１５２に存在する水分が、これら有機絶縁層１５１，１５２内を通過して表示領域１１０Ａ側に浸入することが回避される。したがって、分離溝１０１によって外部から有機層１６０への水分の侵入を防ぐことが可能となるのに加え、有機表示装置１００内に取り残された水分が有機絶縁層１５１，１５２を通過することに起因した、有機層１６０の劣化を抑えることが可能となっている。
【手続補正１４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５１】
（本実施の形態）
これに対して本実施の形態の有機ＥＬ表示装置１では、上記比較例とは異なり、表示領域１１０Ａと周辺領域１１０Ｂとの間に、有機絶縁層１５１を表示領域１１０Ａ側と周辺領域１１０Ｂ側とに分離する分離溝２１が設けられている。また、有機絶縁層１５２は想定されるテーパー領域Ａ１よりも外周（外縁）側が除去され、有機絶縁層１５２の端面は有機層１６０または上部電極１６２によって覆われている。更に、有機層１６０（および有機絶縁層１５２）下部電極１６１Ａと、有機層１６０よりも上層に形成されている上部電極１６２とによって封止されている。即ち、この有機ＥＬ表示装置１では、比較例とは異なり、テーパー領域Ａ１およびマスクずれ領域Ａ２より内周側において下層側の有機絶縁層１５１を選択的に分離する。また、周辺領域１１０Ｂに設けられた有機絶縁層１５２は有機層１６０の形成領域よりも表示領域１１０Ａ側から除去され、導電層１６１Ｂおよび上部電極１６２によって有機層１６０と共に有機絶縁膜１５２が封止されている。
【手続補正１５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５５】
以上のように本実施の形態では、表示領域１１０Ａと周辺領域１１０Ｂとの間に、有機絶縁層１５１を表示領域１１０Ａ側と周辺領域１１０Ｂ側とに分離する分離溝２１を形成する。また、有機絶縁層１５２の端面が有機層１６０または上部電極１６２によって覆われる被覆部２２および有機層１６０を導電層１６１Ｂと上部電極１６２とによって封止する封止部２３を設けるようにしたので、有機層１６０への水分の浸入が回避することができる。よって、白色有機ＥＬ素子１０Ｗの劣化を抑えて信頼性を向上させることが可能となると共に、表示領域１１０Ａと周辺領域１１０Ｂとの間の距離を小さくすることができ、狭額縁化を図ることも可能となる。
【手続補正１６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６５】
このような構成の有機ＥＬ表示装置１Ｆ，１Ｇでは、有機層１６０を劣化させる水分を含む有機絶縁層１５１を周辺回路１２Ｂ上から除去し、有機絶縁層１５１の形成領域を少なくするようにしたので、上記実施の形態よりも有機層１６０への水分の浸入が回避される。即ち、白色有機ＥＬ表示素子１０Ｗの水分による劣化をより抑制することができる。
【手続補正１７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６９】
（適用例１）
図１４Ａは、スマートフォンの外観を表側から、図１４Ｂは裏側から表したものである。このスマートフォンは、例えば、表示部６１０（表示装置１）および非表示部（筐体）６２０と、操作部６３０とを備えている。操作部６３０は、図１４Ａに示したように非表示部６２０の前面に設けられていてもよいし、図１４Ｂに示したように上面に設けられていてもよい。
【手続補正１８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７０】
（適用例２）
図１５は、適用例２に係るテレビジョン装置の外観を表したものである。このテレビジョン装置は、例えば、フロントパネル２１０およびフィルターガラス２２０を含む映像表示画面部２００を有しており、映像表示画面２００が、上記表示装置に相当する。
【手続補正１９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７１】
（適用例３）
図１６Ａは、適用例３に係るデジタルカメラの外観を表側から、図１６Ｂは裏側から表したものである。このデジタルカメラは、例えば、フラッシュ用の発光部３１０、上記表示装置としての表示部３２０、メニュースイッチ３３０およびシャッターボタン３４０を有している。
【手続補正２０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７２】
（適用例４）
図１７は、適用例４に係るノート型パーソナルコンピュータの外観を表したものである。このノート型パーソナルコンピュータは、例えば、本体４１０，文字等の入力操作のためのキーボード４２０および上記表示装置としての表示部４３０を有している。
【手続補正２１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７３】
（適用例５）
図１８は、適用例５に係るビデオカメラの外観を表したものである。このビデオカメラは、例えば、本体部５１０，この本体部５１０の前方側面に設けられた被写体撮影用のレンズ５２０，撮影時のスタート／ストップスイッチ５３０および上記表示装置としての表示部５４０を有している。
【手続補正２２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７４】
（適用例６）
図１９Ａは、適用例６に係る携帯電話機の閉じた状態における正面図、左側面図、右側面図、上面図および下面図を表したものである。図１９Ｂは、携帯電話機の開いた状態における正面図および側面図を表したものである。この携帯電話機は、例えば、上側筐体７１０と下側筐体７２０とを連結部（ヒンジ部）７３０で連結したものであり、ディスプレイ７４０，サブディスプレイ７５０，ピクチャーライト７６０およびカメラ７７０を有している。ディスプレイ７４０またはサブディスプレイ７５０が、上記表示装置に相当する。
【手続補正２３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７８】
更に、上記実施の形態等では、有機ＥＬ素子の構成を具体的に挙げて説明したが、全ての層を備える必要はなく、また、他の層を更に備えていてもよい。例えば、上記実施の形態等では、有機ＥＬ素子（白色有機ＥＬ素子１０Ｗ）の有機層１６０の構成を、下部電極１６１Ａの側から順に、正孔注入層１６０Ａ、正孔輸送層１６０Ｂ、発光層１６０Ｃ、電子輸送層１６０Ｄおよび電子注入層１６０Ｅを積層した積層構造としたが、これに限らない。例えば、所謂スタック構造、具体的には、上記積層構造上に電荷発生層を形成し、この電荷発生層上に、正孔注入層１６０Ａ’、正孔輸送層１６０Ｂ’、発光層１６０Ｃ’、電子輸送層１６０Ｄ’および電子注入層１６０Ｅ’を積層した構成としてもよい。
【手続補正２４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８２】
なお、本技術は以下のような構成をとることも可能である。
（１）それぞれ、基板側から第１電極、発光層を含む有機層および第２電極の順に積層された発光素子を有する複数の画素が配設された表示領域と、前記表示領域の外縁側に設けられると共に、周辺回路を有する周辺領域と、前記表示領域から前記周辺領域へ延在するように設けられた、下層側の第１絶縁層および上層側の第２絶縁層と、前記表示領域と前記周辺領域との間の前記第１絶縁層に設けられた第１分離溝と、前記第１分離溝の側面から底部を介して、周辺領域の前記第1絶縁層上に設けられた第１導電層と、前記第２絶縁
層の少なくとも端面が前記有機層または前記第２電極によって覆われた被覆部と、前記被覆部の外縁側に設けられると共に、前記第１導電層と前記第２電極とが積層されてなる封止部とを備えた有機ＥＬ表示装置。
（２）前記基板と前記第１絶縁層との間に、前記基板側から第２導電層、第３絶縁層の順に設けられ、前記第１分離溝は前記第１絶縁層および前記第３絶縁層を分離し、前記第１分離溝の底部において前記第１導電層と前記第２導電層とが積層された接続部が形成されている、前記（１）に記載の有機ＥＬ表示装置。
（３）前記第２電極および前記第２導電層は、前記第１導電層を介して電気的に接続されている、前記（２）に記載の有機ＥＬ表示装置。
（４）前記第１電極および前記第１導電層は同一工程によって形成されている、前記（１）乃至（３）のいずれかに記載の有機ＥＬ表示装置。
（５）前記周辺領域に設けられると共に、前記第１絶縁層を内部領域側と外部領域側とに分離する第２分離溝を有する、前記（１）乃至（４）のいずれかに記載の有機ＥＬ表示装置。
（６）前記第２分離溝の壁面および底面は前記第１導電層によって被覆され、前記第２分離溝は前記第２電極によって埋め込まれている、前記（５）に記載の有機ＥＬ表示装置。
（７）前記有機層と前記第２電極との間に高抵抗層を有する、前記（１）乃至（６）のいずれかに記載の有機ＥＬ表示装置。
（８）前記第１絶縁層および前記第２絶縁層は有機絶縁層であり、前記第３絶縁層は無機絶縁層である、前記（２）乃至（７）のいずれかに記載の有機ＥＬ表示装置。
（９）前記基板の端部にシール材が配設されている、前記（１）乃至（８）のいずれかに記載の有機ＥＬ表示装置。
（１０）前記周辺回路は、前記基板上において前記第３絶縁層の下層側に形成されている、前記（２）乃至（９）のいずれかに記載の有機ＥＬ表示装置。
（１１）前記発光素子は、前記基板上に、前記第１電極側から、正孔注入層、正孔輸送層、発光層、電子輸送層および電子注入層の順に設けられている、前記（１）乃至（１０）のいずれかに記載の有機ＥＬ表示装置。
（１２）前記発光素子は、前記基板上に、前記第１電極側から、正孔注入層、正孔輸送層、発光層、電子輸送層、電子注入層、電荷発生層、正孔注入層、正孔輸送層、発光層、電子輸送層および電子注入層が設けられている、前記（１）乃至（１０）に記載の有機ＥＬ表示装置。
（１３）前記複数の画素は、赤色画素、緑色画素および青色画素、または、赤色画素、緑色画素、青色画素、および白色画素からなる、前記（１）乃至（１２）のいずれかに記載の有機ＥＬ表示装置。
（１４）有機ＥＬ表示装置を備え、前記有機ＥＬ表示装置は、それぞれ、基板側から第１電極、発光層を含む有機層および第２電極の順に積層された発光素子を有する複数の画素が配設された表示領域と、前記表示領域の外縁側に設けられると共に、周辺回路を有する周辺領域と、前記表示領域から前記周辺領域へ延在するように設けられた、下層側の第１絶縁層および上層側の第２絶縁層と、前記表示領域と前記周辺領域との間の前記第１絶縁層に設けられた第１分離溝と、前記第１分離溝の側面から底部を介して、周辺領域の前記第1絶縁層上に設けられた第１導電層と、前記第２絶縁層の少なくとも端面が前記有機層
または前記第２電極によって覆われた被覆部と、前記被覆部の外縁側に設けられると共に、前記第１導電層と前記第２電極とが積層されてなる封止部とを有する電子機器。