【手続補正書】
【提出日】平成27年8月3日(2015.8.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
画像形成面上へ工程横断方向に広がる略一次元ライン画像を発生すべく二次元光場をアナモルフィックに画像化しかつ集中させるためのアナモルフィック光学投影系であって、
前記画像形成面上へ前記二次元光場を工程横断方向に画像化するために配置される少なくとも１つの工程横断円柱／非円柱光学素子を含む工程横断サブ光学系であって、前記工程横断方向は工程方向に対して垂直である工程横断サブ光学系と、
前記画像形成面上へ前記二次元光場を工程方向に集束するために配置される少なくとも１つの工程方向円柱／非円柱光学素子を含む工程方向サブ光学系とを備え、
前記二次元光場は、前記工程横断方向へ第１の幅を有し、前記工程方向へ第１の高さを有し、前記工程方向サブ光学系は、前記略一次元ライン画像が工程方向に前記二次元光場の前記第１の高さの少なくとも３分の１以上小さい第２の高さを有するように、前記画像形成面上へ前記二次元光場を工程方向に集中させるべく成形されかつ位置決めされる少なくとも１つの円柱／非円柱レンズを備えているアナモルフィック光学投影系。
【請求項２】
画像形成面上へ工程横断方向に広がる略一次元ライン画像を発生すべく二次元光場をアナモルフィックに画像化しかつ集中させるためのアナモルフィック光学投影系であって、
前記画像形成面上へ前記二次元光場を工程横断方向に画像化するために配置される少なくとも１つの工程横断円柱／非円柱光学素子を含む工程横断サブ光学系であって、前記工程横断方向は工程方向に対して垂直である工程横断サブ光学系と、
前記画像形成面上へ前記二次元光場を工程方向に集束するために配置される少なくとも１つの工程方向円柱／非円柱光学素子を含む工程方向サブ光学系とを備え、
前記二次元光場は、前記工程横断方向へ第１の幅を有し、前記工程方向へ第１の高さを有し、前記工程方向サブ光学系は、前記略一次元ライン画像の前記工程横断方向への第２の幅が前記二次元光場の前記第１の幅に等しいかそれより大きくなるように、前記画像形成面上へ前記二次元光場を工程方向に集中させるべく成形されかつ位置決めされる少なくとも１つの円柱／非円柱鏡を備えているアナモルフィック光学投影系。
【請求項３】
前記工程方向サブ光学系は、前記工程横断サブ光学系と前記画像形成面との間に備えられている、請求項１に記載のアナモルフィック光学投影系。
【請求項４】
前記工程横断サブ光学系は、前記画像形成面上へ前記二次元光場を前記工程横断方向に画像化するために協働的に成形されかつ位置決めされる第１の円柱／非円柱レンズ及び第２の円柱／非円柱レンズを備えている、請求項３に記載のアナモルフィック光学投影系。
【請求項５】
コリメート円柱／非円柱視野レンズを更に有し、
前記円柱／非円柱視野レンズは、前記第１の円柱／非円柱レンズが、前記円柱／非円柱視野レンズと前記第２の円柱／非円柱レンズとの間に位置するように配置されており、
前記円柱／非円柱視野レンズ、前記第１の円柱／非円柱レンズ、及び前記第２の円柱／非円柱レンズは、前記画像形成面上へ前記二次元光場を前記工程横断方向に画像化するために協働的に成形されかつ位置決めされる、請求項４に記載のアナモルフィック光学投影系。
【請求項６】
前記第１の円柱／非円柱レンズと前記第２の円柱／非円柱レンズとの間に配置される開口停止装置を更に備え、
前記円柱／非円柱視野レンズ及び前記第１の円柱／非円柱レンズは、画像化された光が前記開口停止装置を介して前記工程横断方向に収束されるように協働的に成形されかつ位置決めされる、請求項５に記載のアナモルフィック光学投影系。
【請求項７】
前記工程方向サブ光学系は、前記画像形成面上へ二次元変調光場を前記工程方向に画像化するために協働的に成形されかつ位置決めされる第３の円柱／非円柱レンズ及び第４の円柱／非円柱レンズを備えている、請求項６に記載のアナモルフィック光学投影系。
【請求項８】
前記工程横断サブ光学系は、前記画像形成面上へ二次元変調光場を前記工程横断方向に画像化するために協働的に成形されかつ位置決めされる第１の円柱／非円柱レンズ、第２の円柱／非円柱レンズ、及び第３の円柱／非円柱レンズを備えている、請求項３に記載のアナモルフィック光学投影系。
【請求項９】
コリメート円柱／非円柱視野レンズを更に備え、
前記円柱／非円柱視野レンズは、前記第１の円柱／非円柱レンズが、前記円柱／非円柱視野レンズと前記第２の円柱／非円柱レンズとの間に位置するように配置されており、
前記円柱／非円柱視野レンズ、前記第１の円柱／非円柱レンズ、前記第２の円柱／非円柱レンズ、及び前記第３の円柱／非円柱レンズは、前記画像形成面上へ前記二次元変調光場を前記工程横断方向に画像化するために協働的に成形されかつ位置決めされる、請求項８に記載のアナモルフィック光学投影系。
【請求項１０】
前記第２の円柱／非円柱レンズと前記第３の円柱／非円柱レンズとの間に配置される開口停止装置を更に備え、
前記円柱／非円柱視野レンズ、前記第１の円柱／非円柱レンズ、及び前記第２の円柱／非円柱レンズは、画像化された前記二次元変調光場が前記開口停止装置を介して前記工程横断方向に収束されるように協働的に成形されかつ位置決めされる、請求項９に記載のアナモルフィック光学投影系。
【請求項１１】
前記工程方向サブ光学系は、前記画像形成面上へ前記二次元変調光場を前記工程方向に画像化するために協働的に成形されかつ位置決めされる第４の円柱／非円柱レンズを備えている、請求項１０に記載のアナモルフィック光学投影系。
【請求項１２】
前記工程方向サブ光学系は、前記工程横断サブ光学系と前記円柱／非円柱鏡との間に位置決めされる折り畳み平面鏡を更に備えている、請求項２に記載のアナモルフィック光学投影系。
【請求項１３】
前記工程方向サブ光学系は、前記画像形成面上へ前記二次元光場を前記工程方向に集中させるために協働的に成形されかつ位置決めされる第１の円柱／非円柱鏡及び第２の円柱／非円柱鏡を備えている、請求項２に記載のアナモルフィック光学投影系。
【請求項１４】
前記工程横断サブ光学系は、前記画像形成面上へ前記二次元光場を前記工程横断方向に画像化するために協働的に成形されかつ位置決めされる第１の円柱／非円柱レンズ及び第２の円柱／非円柱レンズを備えている、請求項２に記載のアナモルフィック光学投影系。
【請求項１５】
前記工程横断サブ光学系は、前記画像形成面上へ二次元変調光場を前記工程横断方向に画像化するために協働的に成形されかつ位置決めされる第１の円柱／非円柱レンズ、第２の円柱／非円柱レンズ、及び第３の円柱／非円柱レンズを備えている、請求項３に記載のアナモルフィック光学投影系。
【請求項１６】
画像形成面上へ工程横断方向に広がる略一次元ライン画像を発生すべく二次元光場をアナモルフィックに画像化しかつ集中させるためのアナモルフィック光学投影系であって、
コリメート円柱／非円柱視野レンズと、
前記画像形成面上へ前記二次元光場を工程横断方向に画像化するために前記円柱／非円柱視野レンズと共に協働的に配置される第１の円柱／非円柱レンズ素子及び第２の円柱／非円柱レンズ素子を含む工程横断サブ光学系であって、前記工程横断方向は工程方向に対して垂直であり、前記第１の円柱／非円柱レンズ素子は前記第２の円柱／非円柱レンズ素子と前記円柱／非円柱視野レンズとの間に位置決めされる工程横断サブ光学系と、
前記画像形成面上へ前記二次元光場を工程方向に集束するために配置される円柱／非円柱光学素子を含む工程方向サブ光学系であって、前記円柱／非円柱光学素子は前記第２の円柱／非円柱レンズ素子と前記画像形成面との間に位置決めされる工程方向サブ光学系とを備え、
前記二次元光場は、前記工程横断方向へ第１の幅を有し、前記工程方向へ第１の高さを有し、前記工程方向サブ光学系は、前記略一次元ライン画像の前記工程横断方向への第２の幅が前記二次元光場の前記第１の幅に等しいかそれより大きくなるように、前記画像形成面上へ前記二次元光場を工程方向に集中させるべく成形されかつ位置決めされる少なくとも１つの円柱／非円柱鏡を含む、
アナモルフィック光学投影系。
【請求項１７】
前記工程方向サブ光学系は、折り畳み平面鏡及び第２の円柱／非円柱鏡の少なくとも１つを更に備える、請求項１６に記載のアナモルフィック光学投影系。
【請求項１８】
画像形成面上へ工程横断方向に広がる略一次元ライン画像を発生すべく二次元光場をアナモルフィックに画像化しかつ集中させるためのアナモルフィック光学投影系であって、二次元変調光場は前記工程横断方向に第１の幅を有しかつ前記工程方向に第１の高さを有し、
前記略一次元ライン画像が工程横断方向に前記二次元変調光場の前記第１の幅に等しいかそれより大きい第２の幅を有するように、前記画像形成面上へ前記二次元光場を工程横断方向へ画像化するために配置される少なくとも１つの工程横断円柱／非円柱レンズ素子を含む工程横断サブ光学系と、
前記略一次元ライン画像が工程方向に前記二次元変調光場の前記第１の高さの少なくとも３分の１以上小さい第２の高さを有するように、前記工程横断サブ光学系から受信される前記画像化される光を工程方向へ画像化しかつ集束させるために配置される少なくとも１つの工程方向円柱／非円柱レンズ素子を含む工程方向サブ光学系とを備えるアナモルフィック光学投影系。