(57)【要約】  触覚により感知されるセンサ精度が良好であり、かつ干渉縞による外観の低下が抑制され、光透過性が高く、視認性に優れた触覚センサ用前面板を提供する。透明基体２上に、高抵抗層３と、電気絶縁性を有する絶縁層４とが透明基体２側からこの順で積層されてなる触覚センサ用前面板１であって、高抵抗層３は、表面抵抗値が１〜１００ＭΩ／□、屈折率が１．８〜２．５、厚さが５〜５０ｎｍであり、絶縁層４は、屈折率が１．３〜１．６、厚さが０．５〜１５μｍであり、透明基体２の高抵抗層３側の面の表面粗さＲａが０．０５〜０．５μｍであり、触覚センサ用前面板１の表面の表面粗さＲａが０．０５μｍ以下である触覚センサ用前面板１。
2014002731.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基体上に、高抵抗層と、電気絶縁性を有する絶縁層とが前記透明基体側からこの順で積層されてなる触覚センサ用前面板であって、
前記高抵抗層は、表面抵抗値が１〜１００ＭΩ／□、屈折率が１．８〜２．５、厚さが５〜５０ｎｍであり、
前記絶縁層は、屈折率が１．３〜１．６、厚さが０．５〜１５μｍであり、
前記透明基体の前記高抵抗層側の面の表面粗さＲａが０．０５〜０．５μｍであり、
前記触覚センサ用前面板の絶縁層側の表面の表面粗さＲａが０．０５μｍ以下であることを特徴とする触覚センサ用前面板。
【請求項２】
前記絶縁層が、有機樹脂を主成分とする層からなる請求項１記載の触覚センサ用前面板。
【請求項３】
前記高抵抗層が、金属酸化物を主成分とする層からなる請求項１または２記載の触覚センサ用前面板。
【請求項４】
前記透明基体と前記高抵抗層との間にバリア層が介設されてなる請求項１乃至３のいずれか１項記載の触覚センサ用前面板。
【請求項５】
前記絶縁層が、前記高抵抗層の密着処理された上面に配設されてなる請求項１乃至４のいずれか１項記載の触覚センサ用前面板。
【請求項６】
ヘイズ値が１％以下である請求項１乃至５のいずれか１項記載の触覚センサ用前面板。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ユーザの指先に触覚をフィードバックするようにした、いわゆる触覚センサを備えたタッチパネルディスプレイ装置の前面に設ける触覚センサ用前面板に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、入力装置ないし入出力装置として、指等で直接タッチパネルに触れて操作を行うタッチパネルディスプレイを備えたタッチパネルディスプレイ装置（インタフェースデバイス）が用いられている。【０００３】
入力装置ないし入出力装置として用いられるタッチパネルディスプレイ装置は、ソフトウェアによって入力画面を自由に構成できるため、機械的スイッチを用いて構成した入力装置では得られないフレキシビリティを備えており、また、軽量且つコンパクトに構成でき、機械的故障の発生頻度が低い等の数々の利点を有することから、現在では、比較的大きな各種機械の操作パネルから、非常に小さな携帯機器の入出力装置に至るまで、広く利用されている。【０００４】
多くのタッチパネルディスプレイ装置は、それを操作するユーザの指先が、平坦で滑らかな被接触面に触れるだけであるため、機械的スイッチを用いて構成した入力装置を操作するときに指先に感じるクリック感のような、触覚によるユーザへのフィードバックが存在せず、そのことが装置の操作感を頼りないものにしていた。この点を改善するために、操作するユーザの指先に触覚をフィードバックするようにした、いわゆる触覚センサを備えたタッチパネルディスプレイ装置が提案されている（例えば、特許文献１参照）。このタッチパネルディスプレイ装置は、ユーザの指先が接触するタッチパネルの表面を振動させることによって、ユーザに触覚を発生させるようにしたものである。【０００５】
このような、機械的刺激により触覚をフィードバックするものに対し、タッチパネルの前面に設ける保護膜等（以下、前面板と示す）の電荷を制御することで、電気的な感覚により利用者に触覚を与える技術も知られている（例えば、特許文献２参照）。特許文献２では、各々に絶縁体を設けた導通電極に、電圧源から所定の電気的入力を付与して導通電極と身体部分との間の領域で静電気力（容量性結合）を形成することで、電気的な感覚を発生させている。
このような構成体として、例えば非特許文献１には、ガラス基板上に積層された透明電極が、絶縁層で被覆されてなるタッチパネルが開示されている。【０００６】
特許文献２または非特許文献１に記載の装置では、具体的には、図１に示すように、表現したい触感を再現可能なパターンに電圧および周波数を制御して、不図示の制御部からタッチパネル本体１００の透明電極（不図示）に通電し、前面板１０１側に誘起された電荷を、透明基体１０２上に形成した層１０３に蓄積することで、前面板１０１を帯電させるように構成されている。このような帯電状態の前面板１０１表面に、指等の感覚受容体Ｘが接触することで、絶縁層１０４を介して両者間に働く微弱な静電気力により、凹凸感等の触覚として感覚受容体Ｘに感知されるように構成されている。【０００７】
このような、いわゆる触覚センサを備えたタッチパネルディスプレイ装置に設ける前面板としては、タッチパネル本体に設けた透明電極の動作を妨げず、かつ制御部から送り込まれた電圧や周波数に基づく帯電状態を正確に発現して、所望の触覚を再現性よく発現できるものが求められており、電荷を蓄積する層１０３としては、その抵抗値を所定の範囲に精密に制御することが求められている。このような電気的特性を満たし、かつ透明性を有するものとして、例えば酸化ニオブや酸化チタン等の、所定の金属酸化物を主成分として含む層が用いられている。【０００８】
しかしながら、このような金属酸化物からなる層１０３は、一般に、その屈折率が１．８〜２．５程度であるのに対し、その上面に設けられる絶縁層１０４は、その屈折率が１．３〜１．６程度であることから、両者間に屈折率差を生じ易い。このため、図２で示すように、層１０３と絶縁層１０４との界面において反射光Ｌ１が生じ、この反射光Ｌ１が前面板１０１表面での反射光Ｌ２と干渉することで、反射光全体が虹色の色相を呈する干渉縞とよばれる現象が生じることがある。
干渉縞が前面板１０１表面に生じると、前面板１０１の外観が低下するとともに、タッチパネル本体に映し出された画像の識別の妨げとなり、また、前面板１０１自体の揺れや傾きにより、その色相が変動するため、前面板としての視認性を低下させるものであった。【０００９】
一方、前面板は、画像が映し出されるタッチパネル本体の前面に設けられるため、視認性を確保する観点から、前面板表面での白曇り等の発生を抑制し、可視光域の光に対して高い光透過性を有することも求められる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１０】
【特許文献１】特開２００３−２８８１５８号公報
【特許文献２】特開２００９−０８７３５９号公報
【非特許文献】
【００１１】
【非特許文献１】Olivier Bau, Ivan Poupyrev, Ali Israr, and Chris Harrison（2010) "TeslaTouch: electrovibration for touch surfaces" In Proceedings of the 23nd annual ACM symposium on User interface software and technology (UIST '10). ACM, New York, NY, USA, 283-292. （DOI=10.1145/1866029.1866074）
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
本発明は、上記課題を解決するためになされたものであり、触覚により感知されるセンサ精度が良好であり、かつ干渉縞による外観の低下が抑制され、光透過性が高く、視認性に優れた触覚センサ用前面板の提供を目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
本発明の触覚センサ用前面板は、透明基体上に、高抵抗層と、電気絶縁性を有する絶縁層とが前記透明基体側からこの順で積層されてなる触覚センサ用前面板であって、前記高抵抗層は、表面抵抗値が１〜１００ＭΩ／□、屈折率が１．８〜２．５、厚さが５〜５０ｎｍであり、前記絶縁層は、屈折率が１．３〜１．６、厚さが０．５〜１５μｍであり、前記透明基体の前記高抵抗層側の面の表面粗さＲａが０．０５〜０．５μｍであり、前記触覚センサ用前面板の絶縁層側の表面の表面粗さＲａが０．０５μｍ以下であることを特徴とする。【００１４】
前記絶縁層は、有機樹脂を主成分とする層からなることが好ましい。また、前記高抵抗層は、金属酸化物を主成分とする層からなることが好ましい。また、前記透明基体と前記高抵抗層との間には、バリア層が介設されてなることが好ましい。また、前記絶縁層は、前記高抵抗層の密着処理された上面に配設されてなることが好ましい。また、前記触覚センサ用前面板は、ヘイズ値が１％以下であることが好ましい。
【発明の効果】
【００１５】
本発明によれば、透明基体上に、高抵抗層と絶縁層とが前記透明基体側からこの順で積層されてなる触覚センサ用前面板において、触覚により感知されるセンサ精度が良好であり、かつ干渉縞による外観の低下が抑制され、高い光透過性を有し、視認性に優れた触覚センサ用前面板を提供できる。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】触覚センサ用前面板を備えたタッチパネル表面に、指先が近接した状態を示す模式図。
【図２】図１に示す触覚センサ用前面板に外光が入射した状態を示す模式的断面図。
【図３】本発明の触覚センサ用前面板の一例を示す模式的断面図。
【図４】図３に示す触覚センサ用前面板の一部を拡大して示す断面図。
【図５】タッチパネル本体の上方に図３に示す触覚センサ用前面板を積層した状態を示す模式的断面図。
【図６】本発明の触覚センサ用前面板の別の一例を示す模式的断面図。
【図７】本発明の触覚センサ用前面板のさらに別の一例を示す模式的断面図。
【図８】例１の触覚センサ用前面板の分光反射率を示す図。
【図９】例３の触覚センサ用前面板の分光反射率を示す図。
【図１０】例６の触覚センサ用前面板の分光反射率を示す図。
【図１１】例１の触覚センサ用前面板の分光透過率を示す図。
【図１２】例６の触覚センサ用前面板の分光透過率を示す図。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
以下、本発明の触覚センサ用前面板の実施形態について図面を参照して説明する。ただし、本発明の触覚センサ用前面板はこれに限定されるものではない。
図３は、本発明の実施形態の触覚センサ用前面板の一例を示す模式的断面図であり、図４はその一部を拡大して示す断面図であり、図５は該触覚センサ用前面板をタッチパネル本体の上方に積層した状態を示す模式的断面図である。図６、図７は、それぞれ本発明の実施形態の触覚センサ用前面板の別の一例およびさらに別の一例を示す模式的断面図である。
【００１８】
本発明の実施形態の触覚センサ用前面板１は、透明基体２上に、高抵抗層３と、絶縁層４とがこの順で積層されている。
【００１９】
触覚センサ用前面板１は、高抵抗層３の表面抵抗値が１〜１００ＭΩ／□、屈折率が１．８〜２．５、厚さが５〜５０ｎｍであり、絶縁層４の屈折率が１．３〜１．６、厚さが０．５〜１５μｍであり、透明基体２の高抵抗層３側の面Ｓ１の表面粗さＲａが０．０５〜０．５μｍ、触覚センサ用前面板１の絶縁層４側の表面の表面粗さＲａが０．０５μｍ以下であることを特徴とする。
【００２０】
ここで、本明細書において「屈折率」とは、特に断りのない限り、２０℃において波長５５０ｎｍの光線を用いて測定される屈折率をいう。
本明細書において「表面粗さＲａ」とは、算術平均粗さＲａのことであり、算術平均粗さＲａの値は、ＪＩＳ  Ｂ０６０１（１９９４年）の３「定義された算術平均粗さの定義及び表示」によって表される。
本明細書における各層の「厚さ」は、触針式表面粗さ測定機により測定して得られた厚さである。
【００２１】
また、本明細書において、「触覚センサ用前面板１の絶縁層４側の表面」とは、触覚センサ用前面板において絶縁層側に有する最外層の表面をいい、例えば図３では、触覚センサ用前面板１の絶縁層４を含む面Ｓ２を意味する。図６のように絶縁層４上にさらに撥水層６等の機能層を有する場合は、触覚センサ用前面板１の絶縁層４側の表面とは、最外層を構成する機能層、例えば図６においては触覚センサ用前面板１の撥水層６を含む面Ｓ５となる。「触覚センサ用前面板１の絶縁層４側の表面」とは、言い換えれば、触覚センサ用前面板１の透明基体２側の面Ｓ４と反対側の面、すなわち、タッチパネルが配設される側の面（図５参照）と反対側の面をいう。本明細書において、触覚センサ用前面板の絶縁層側の表面を「触覚センサ用前面板の表面」ということもある。
【００２２】
本発明の実施形態の触覚センサ用前面板１によれば、透明基体２の高抵抗層３側の面Ｓ１の表面粗さＲａを０．０５〜０．５μｍとすることで、例えば図２に示す従来の前面板１０１において発生する、絶縁層１０４と層１０３との界面で生じる反射光と前面板１０１の表面で生じる反射光とが干渉して反射光全体が虹色の色相を呈する、いわゆる干渉縞を抑制できる。
【００２３】
また、本発明の実施形態の触覚センサ用前面板１によれば、触覚センサ用前面板１の表面の表面粗さＲａを０．０５μｍ以下とすることで、前面板１表面の白曇り等による光透過性の低下を抑制でき、視認性に優れた触覚センサ用前面板とすることができる。
【００２４】
透明基体２は、高抵抗層３側の面Ｓ１の表面粗さＲａが０．０５〜０．５μｍであり、かつ可視光領域の光を透過し得るものであれば、特に限定することなく用いることができる。なお、例えば図４に示すように、通常、透明基体２上に積層される高抵抗層３の絶縁層４側の界面Ｓ３は、透明基体２の高抵抗層３側の面Ｓ１の形状を反映した形状を有する。
【００２５】
透明基体２の高抵抗層３側の面Ｓ１の表面粗さＲａを０．０５μｍ以上とすることで、例えば図４に示すように、触覚センサ用前面板１の表面Ｓ２から入射した光Ｌ３は、透明基体２の高抵抗層３側の面Ｓ１の形状を反映する絶縁層４と高抵抗層３との界面Ｓ３において、拡散反射されて反射光Ｌ４を生じる。反射光Ｌ４は様々な方向に向かって反射する拡散反射光であるため、触覚センサ用前面板１の表面Ｓ２での反射光Ｌ５とはほとんど干渉することがなく、よって干渉縞の発生が抑制される。このため、反射光が虹色の色相を呈することのない、良好な外観を有する触覚センサ用前面板１とすることができる。
【００２６】
一方、透明基体２の高抵抗層３側の面Ｓ１の表面粗さＲａが０．５μｍを超えると、その形状を反映する高抵抗層３の絶縁層４側の界面Ｓ３において、凸部が絶縁層４側に過度に深く侵入し、絶縁破壊が生じ易く、例えば、図５に示すようにして触覚センサ用前面板１を用いた場合に、触覚センサ用前面板１の表面Ｓ２に接近した感覚受容体Ｘに、高抵抗層３に蓄積された電荷に基づく電流が直接流入するおそれがある。また、透明基体２の高抵抗層３側の面Ｓ１の表面粗さＲａが０．５μｍを超えると、透明基体２と、透明基体２の高抵抗層３側の面Ｓ１上に直接積層される層、例えば図３に示す例においては高抵抗層３との密着性が低下し、触覚センサ用前面板としての形状安定性が低下するおそれがある。透明基体２の高抵抗層３側の面Ｓ１の表面粗さＲａは好ましくは０．０７〜０．２μｍであり、より好ましくは０．０８〜０．１５μｍである。
【００２７】
透明基体２としては、具体的には、例えば、無色透明なソーダライムシリケートガラス、アルミノシリケートガラス（ＳｉＯ２−Ａｌ２Ｏ３−Ｎａ２Ｏ系ガラス）、リチウムアルミノシリケートガラス、石英ガラス、無アルカリガラス、その他の各種ガラスからなる透明ガラス板や、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、トリアセチルセルロース、ポリエーテルスルホン、ポリメチルメタクリレート、シクロオレフィンポリマー等から選ばれるプラスチック材料の単独の層からなるプラスチックフィルム、または上記から選ばれるプラスチック材料の層を二種以上積層してなる積層フィルム等のプラスチックフィルムを用いることができる。
【００２８】
上記のソーダライムシリケートガラス等からなるガラス板やプラスチックフィルムの一方の主面に対して、表面粗さＲａが０．０５〜０．５μｍとなるような表面処理、例えば、ガラス板に対するフロスト処理を行うことで、上記表面粗さＲａの範囲に表面処理された面を高抵抗層３側の面Ｓ１として有する透明基体２を得ることができる。
【００２９】
フロスト処理は、例えば、フッ化水素とフッ化アンモニウムの混合溶液に、被処理体であるガラス板を浸漬し、浸漬面を化学的に表面処理することで行うことができる。
また、このような化学的処理による方法以外にも、例えば、結晶質二酸化珪素粉、炭化珪素粉等を加圧空気でガラス板表面に吹きつけるいわゆるサンドブラスト法や、結晶質二酸化珪素粉、炭化珪素粉等を付着させたブラシを用いて、水で湿らせたもので磨く等の物理的処理による方法を用いることもできる。
特に、フッ化水素等の薬液を用いて化学的に表面処理する方法では、被処理体表面におけるマイクロクラックが生じ難く、機械的強度の低下が生じ難いため好ましい。
【００３０】
透明基体２としては、その高抵抗層３側の面Ｓ１上に直接設ける層との密着性の観点からは、ソーダライムシリケートガラス板を用いることが好ましい。また、透明基体２自体の強度の点からは、アルミノシリケートガラス板を強化処理した強化ガラス板（例えば、「ドラゴントレイル（登録商標）」等）を用いることが好ましい。
【００３１】
触覚センサ用前面板１の使用形態を考慮すると、透明基体２としては、ある程度の押圧力に耐え得る十分な強度が求められる。このような観点から、透明基体２としては、アルミノシリケートガラス板を強化処理した強化ガラス板を用いることが好ましい。
【００３２】
アルミノシリケートガラス板を構成するガラス材料としては、例えば以下の組成のガラス材料が使用される。モル％で表示した組成が、ＳｉＯ２を５０〜８０％、Ａｌ２Ｏ３を１〜２０％、Ｎａ２Ｏを６〜２０％、Ｋ２Ｏを０〜１１％、ＭｇＯを０〜１５％、ＣａＯを０〜６％およびＺｒＯ２を０〜５％含有するガラス材料。
【００３３】
アルミノシリケートガラス板を強化処理した強化ガラス板の表面には、圧縮応力層が形成されており、その圧縮応力層の厚さは好ましくは１０μｍ以上、より好ましくは３０μｍ以上である。また、圧縮応力層における表面圧縮応力は、２００ＭＰａ以上であることが好ましく、５５０ＭＰａ以上であることがより好ましい。
【００３４】
アルミノシリケートガラス板に対する強化処理としては、化学強化処理が好ましい。化学強化処理を施す方法としては、典型的には、アルミノシリケートガラス板を、ＫＮＯ３溶融塩に浸漬し、イオン交換処理した後、室温付近まで冷却する方法が挙げられる。ＫＮＯ３溶融塩の温度や浸漬時間等の処理条件は、表面圧縮応力および圧縮応力層の厚さが所望の値となるように設定すればよい。
【００３５】
透明基体２の厚さは特に限定されないが、透明基体２を上述したガラス板で構成する場合、０．1〜２ｍｍが好ましく、０．３〜１ｍｍがより好ましい。透明基体２の厚さが２ｍｍ以下の場合、触覚センサ用前面板１の表面に対する押圧力が下部のパネル本体に伝達し易くなり、操作性が良好である。透明基体２を上述したプラスチックフィルムで構成する場合、その厚さは５０〜５００μｍが好ましく、５０〜２００μｍがより好ましい。なお、透明基体２は、単一の層で構成されていてもよく、複数の層から構成されていてもよい。
【００３６】
透明基体２としては、ヘイズ値が５〜３０％であるものを用いることが好ましく、１０〜２７％であるものを用いることがより好ましい。
透明基体２のヘイズ値を３０％以下とすることで、触覚センサ用前面板１としての光透過性が十分に確保されるとともに、絶縁破壊の発生が抑制された触覚センサ用前面板１とすることができる。また、透明基体２のヘイズ値を５％以上とすることで、反射光による干渉縞の形成が抑制され、外観の良好な触覚センサ用前面板１とすることができる。
【００３７】
ここでヘイズ値とは、濁度の指標となるものであり、全透過光に対する拡散透過光の割合、すなわち、光源から試料に光を照射したときの全透過率Ｔと、試料中で散乱された光の透過率Ｓにより、ヘイズ値Ｈ＝Ｓ／Ｔ×１００として求められる。
【００３８】
高抵抗層３は、１〜１００ＭΩ／□の表面抵抗値を有し、かつ屈折率が１．８〜２．５、厚さが５〜５０ｎｍの層である。触覚センサ用前面板１は、例えば、図５に示すように、透明電極５ａを備えるタッチパネル本体５と積層して用いられる。積層は、タッチパネル本体５が有する透明電極５ａに、触覚センサ用前面板１の透明基体２側の面Ｓ４が対向するように行われる。このようにして、タッチパネル本体５と積層されて使用される触覚センサ用前面板１において高抵抗層３は、タッチパネル本体５の透明電極５ａへの通電により、触覚センサ用前面板１側に誘起された電荷を蓄積する層として機能する。
【００３９】
高抵抗層３は、上記範囲の表面抵抗値、屈折率および厚さを有する層であれば、その構成は特に限定されない。高抵抗層３は、透明基体２の上記範囲の表面粗さＲａを有する面Ｓ１上に直接（図３参照）またはバリア層７等の他の機能層を介して（図７参照）設けられる層である。いずれの場合においても、高抵抗層３の透明基体２と反対側の表面Ｓ３は、透明基体２の高抵抗層３側の面Ｓ１の表面形状を十分反映した形状を有するように形成されることが好ましい。高抵抗層３としては、金属酸化物を主成分として含む層、例えば、酸化スズおよび酸化チタンを主成分として含む層、酸化ニオブおよび酸化チタンを主成分として含む層を好適に用いることができる。
【００４０】
酸化スズおよび酸化チタンを主成分として含む層には、スズとチタンの複合酸化物が含まれていてもよい。また、酸化ニオブおよび酸化チタンを主成分として含む層には、ニオブとチタンの複合酸化物が含まれていてもよい。
なお、本明細書において、例えば「金属酸化物を主成分として含む層」とは、金属酸化物を９５質量％以上の割合で含む層をいう。
【００４１】
高抵抗層３の表面抵抗値を１ＭΩ／□以上とすることで、タッチパネル本体５の透明電極５ａへの通電時に、高抵抗層３と透明電極５ａとが電気的に作用してタッチパネル本体５の動作が妨げられるのを防止できる。また、高抵抗層３の表面抵抗値を１００ＭΩ／□以下とすることで、制御電圧や周波数に基づく帯電状態を正確に発現して、感覚受容体Ｘに所望の触覚を再現性よく発現させることができ、触覚による優れたセンサ精度が得られる。高抵抗層３の表面抵抗値は、５〜６０ＭΩ／□とすることが好ましい。
【００４２】
高抵抗層３としては、酸化スズおよび酸化チタンを主成分として含む層が、良好な視感透過率、および低視感反射率を確保しつつ、その表面抵抗値を上記所望の範囲に制御しやすいため、好適に用いられる。
【００４３】
高抵抗層３の屈折率は、既に述べたように、１．８〜２．５である。
高抵抗層３の構成材料としては、所望の抵抗値を有しかつ光透過性を有することが求められる。そして、これらの特性を満たし得る構成材料は、通常、その屈折率が１．８〜２．５である。上記の特性を満たすより好ましい構成材料は、屈折率が２．０〜２．５のものである。
【００４４】
一方、例えば図４に示す高抵抗層３と絶縁層４との界面Ｓ３における反射光Ｌ４と触覚センサ用前面板１の表面Ｓ２における反射光Ｌ５の干渉に起因する干渉縞の発生を抑制する観点からは、高抵抗層３の屈折率は、絶縁層４の屈折率と近いことが望ましい。しかしながら、前述したように、抵抗値及び光透過性の観点から高抵抗層３として選択し得る構成材料の屈折率は、上記範囲に制約されており、高抵抗層３自体の屈折率の調整により、絶縁層４と高抵抗層３との屈折率差を、干渉縞の発生を抑制できるレベルまで低減することは、事実上困難である。よって、本発明においては、上記のとおり、透明基体２の高抵抗層３側の面Ｓ１の表面粗さＲａを０．０５〜０．５μｍとすることで、この形状を高抵抗層３と絶縁層４との界面Ｓ３に反映させて、干渉縞の発生を抑制している。
【００４５】
酸化スズおよび酸化チタンを主成分として含む層や、酸化ニオブおよび酸化チタンを主成分として含む層は、酸化スズおよび酸化チタンまたは酸化ニオブおよび酸化チタンを主成分として含み、かつ高抵抗層３としての機能を損なわない範囲で、Ａｌ、Ｓｉ、Ｇａ、Ｉｎ等の他の元素が含まれていてもよい。
【００４６】
高抵抗層３は、例えばＤＣ（直流）スパッタリング、ＡＣ（交流）スパッタリング、ＲＦ（高周波）スパッタリング等のスパッタリングにより、表面粗さＲａが上記範囲となるように表面処理されたガラス板やプラスチックフィルム等からなる透明基体２の表面処理面上に形成することができる。これらの中でも、ＤＣマグネトロンスパッタリングによるスパッタ法は、プロセスが安定しており、大面積への成膜が容易であるため好適に用いられる。
【００４７】
なお、ＤＣマグネトロンスパッタリングには、パルス化（パルス波状に電圧を印加する）ＤＣマグネトロンスパッタリングが含まれる。パルス化ＤＣマグネトロンスパッタリングは、異常放電の防止に有効である。
【００４８】
高抵抗層３は、上述した酸化スズおよび酸化チタンを主成分として含む層のように、二以上の金属元素を含むものが、良好な光透過性を有しつつ、その表面抵抗値を上記所望の範囲に制御しやすいため好適である。このような高抵抗層３の形成には、単体の元素からなるターゲットを複数用いる、いわゆるコスパッタリングを用いることができる。
【００４９】
例えば、酸化スズおよび酸化チタンを主成分として含む層をコスパッタリング法により形成する場合、ターゲットとしては、スズを主成分とするもの、およびチタンを主成分とするものが用いられる。
スズを主成分とする金属ターゲットとしては、スズのみからなるもの、またはスズを主成分として含み、かつスズ以外の金属、例えばＡｌ、Ｓｉ等の公知のドーパントを本発明の特徴を損なわない範囲でドープしたものを用いることができる。
チタンを主成分とする金属ターゲットとしては、チタンのみからなるもの、またはチタンを主成分として含み、かつチタン以外の公知のドーパントを本発明の特徴を損なわない範囲でドープしたものを用いることができる。
【００５０】
例えば、酸化ニオブおよび酸化チタンを主成分として含む層をコスパッタリング法により形成する場合、ターゲットとしては、ニオブを主成分とするもの、およびチタンを主成分とするものが好適に用いられる。
ニオブを主成分とする金属ターゲットとしては、ニオブのみからなるもの、またはニオブを主成分として含み、かつニオブ以外の金属、例えばＡｌ、Ｓｉ等の公知のドーパントを本発明の特徴を損なわない範囲でドープしたものを用いることができる。
【００５１】
スパッタガスとしては、各種反応性ガスを用いることができる。具体的には、例えば、酸素ガスおよび不活性ガスの混合ガス、酸素ガス、窒素ガスおよび不活性ガスの混合ガス等を用いることができる。
不活性ガスとしては、例えば、ヘリウム、ネオン、アルゴン、クリプトン、キセノン等の希ガスが挙げられる。これらの中でも、経済性および放電のし易さの点から、アルゴンが好ましい。これらは、単独でまたは２種以上を混合して用いられる。
なお、スパッタガスには、上記窒素ガス（Ｎ２）以外にも、窒素原子を含むガスとしてＮ２Ｏ、ＮＯ、ＮＯ２、ＮＨ３等を用いることもできる。
【００５２】
スパッタガスにおける酸素ガスおよび不活性ガスや窒素原子を含むガスの分圧、ならびにスパッタガスの全圧は、特に限定されず、グロー放電が安定に行われる圧力であればよい。
【００５３】
スパッタリングを行う場合、電力密度は、０．９〜４Ｗ／ｃｍ２が好ましく、０．９〜３Ｗ／ｃｍ２がより好ましい。成膜時間は、成膜速度および所望の膜厚に応じて決定すればよい。
【００５４】
なお、コスパッタリングは、各ターゲットを同時に放電させて行うものであり、それぞれのターゲットに印加される電力密度やスパッタガスの分圧を制御することにより、所望の組成の被膜を形成することができる。
【００５５】
なお、高抵抗層３の形成は、例えば真空蒸着法、イオンビームアシスト蒸着法、イオンプレート法等のスパッタ法以外の物理気相析出法や、プラズマＣＶＤ法等の化学気相析出法等を用いて行うこともできる。大面積で均一膜厚が得られやすいため、スパッタ法が好適に用いられる。
【００５６】
高抵抗層３が、酸化スズおよび酸化チタンを主成分として含む層である場合、高抵抗層３は、ＳｎとＴｉとの合計量（１００原子％）に対して、Ｔｉを１〜３０原子％含有する層が好ましく、５〜２０原子％含有する層がより好ましい。また、高抵抗層３が、酸化ニオブおよび酸化チタンを主成分として含む層である場合、高抵抗層３は、ＮｂとＴｉとの合計量（１００原子％）に対して、Ｔｉを９０〜９９．９原子％含有する層が好ましく、９５〜９９．９原子％含有する層がより好ましい。
高抵抗層３における、原子比率を上記範囲とすることで、高抵抗層３において、上記所望の範囲の表面抵抗値を得られやすく、また上記所望の範囲の屈折率を有するものとすることができる。
【００５７】
高抵抗層３の厚さは、５ｎｍ以上５０ｎｍ以下であり、より好ましくは５ｎｍ以上３０ｎｍ以下である。高抵抗層３の厚さを５ｎｍ以上とすることで、十分な電荷保持機能が得られる。一方、高抵抗層３の厚さが５０ｎｍを超えると、透明基体２における上記範囲の表面粗さＲａを備える表面Ｓ１の形状が、高抵抗層３の透明基体２側と反対側の面すなわち絶縁層４との界面Ｓ３に十分に反映されず、該界面Ｓ３で生じる反射光Ｌ４を拡散させる効果が十分に得られない。高抵抗層３の厚さを５ｎｍ以上５０ｎｍ以下とすることで、十分な電荷保持機能を確保しつつ、干渉縞の発生が抑制された、良好な外観を有する触覚センサ用前面板１とすることができる。
【００５８】
なお、高抵抗層３の厚さは、スパッタリングを行う際の製膜速度や実質的な製膜時間により、適宜調整することができる。
【００５９】
絶縁層４は、高抵抗層３の上面に、または高抵抗層３上に他の層を介設して設けられる層であり、例えば、図５に示すようにして用いた場合に触覚センサ用前面板１の表面Ｓ２に触れる指先等の感覚受容体Ｘに、高抵抗層３に蓄積された電荷に基づく電流が直接流入するのを防止する機能を有する。
【００６０】
なお、本明細書において、絶縁層４とは、１０１０Ω・ｃｍ以上の体積抵抗値を有する層をいう。ここで、体積抵抗値は、ＪＩＳ  Ｃ２３１８（１９７５年）に準じて測定した値である。
【００６１】
絶縁層４は、屈折率が１．３〜１．６であり、絶縁層４に適用し得るより好ましい構成材料の屈折率は１．４〜１．６である。絶縁層４は、電気絶縁性、光透過性、絶縁層４の形成のし易さ等を考慮して構成材料を選択すると、その屈折率は、１．３〜１．６となる。また、絶縁層４の厚さは０．５〜１５μｍの範囲である。
【００６２】
絶縁層４は、上述した屈折率を有し、かつ上記範囲の厚さで層を形成した際に、光透過性および電気的絶縁性を有する層であれば、特に限定されない。絶縁層４としては、例えば、（Ｉ）紫外線硬化性の成分を含み、得られる硬化体で層を形成した際に絶縁層４の特性を満たすように調整された絶縁層形成用組成物（ｉ）を紫外線により硬化させた硬化体、または（II）熱硬化性の成分を含み、（Ｉ）同様に得られる硬化体で層を形成した際に絶縁層４の特性を満たすように調整された絶縁層形成用組成物（ｉｉ）を熱により硬化させた硬化体からなる層を用いることができる。
【００６３】
ここで、絶縁層形成用組成物（ｉ）、（ｉｉ）は、層を形成する際に揮発する有機溶剤のような揮発成分を含んでいてもよい。絶縁層形成用組成物（ｉ）、（ｉｉ）中で、揮発成分以外の実際に絶縁層を形成する成分を固形分という。固形分は、硬化性の成分以外に非硬化性の成分を含んでいてもよい。したがって、絶縁層形成用組成物（ｉ）、（ｉｉ）を硬化させた「硬化体」とは、該組成物が含有する固形分のみから硬化により形成された、硬化性成分の硬化物と非硬化性成分とからなるものをいう。
【００６４】
絶縁層４は、有機樹脂を主成分として含む層であることが好ましい。すなわち、絶縁層４が上記のような硬化体からなる場合、該硬化体は有機樹脂を主成分として含有することが好ましい。なお、本明細書において、「有機樹脂を主成分として含む層」とは、有機樹脂を９５質量％以上の割合で含む層をいう。
【００６５】
有機樹脂としては、アクリル系樹脂、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂等から選ばれる１種または２種以上が好ましい。これらの中でも、アクリル系樹脂が特に好ましい。アクリル系樹脂としては、例えば、アクリル樹脂、ウレタンアクリレート樹脂、エポキシアクリレート樹脂、ポリエステルアクリレート、ポリエーテルアクリレート等が挙げられる。
【００６６】
なお、絶縁層４に用いる有機樹脂としては、紫外線硬化性の成分の硬化物であってもよく、熱硬化性の成分の硬化物であってもよい。有機樹脂は好ましくは、紫外線硬化性の成分の硬化物である。よって、絶縁層形成用組成物（ｉ）が含有する紫外線硬化性の成分としては、硬化して有機樹脂、特にはアクリル系樹脂となる成分が好ましい。
また、絶縁層形成用組成物（ｉｉ）が含有する熱硬化性の成分としては、硬化して有機樹脂となる成分であってもよく、オルガノシランのような硬化によりシロキサン結合による主骨格を有する硬化物を与える成分であってもよい。
【００６７】
以下、絶縁層形成用組成物（ｉ）および絶縁層形成用組成物（ｉｉ）における含有成分および該組成物を用いた絶縁層４の形成方法について説明する。なお、以下において絶縁層形成用組成物（ｉ）については、硬化して有機樹脂、特にはアクリル系樹脂となる成分を含むものを例として、絶縁層形成用組成物（ｉｉ）については硬化によりシロキサン結合による主骨格を有する硬化物を与える成分を含むものを例として説明するが、これに限定されない。
【００６８】
［絶縁層形成用組成物（ｉ）］
絶縁層形成用組成物（ｉ）としては、例えば以下に示す、紫外線硬化性の重合性化合物（Ａ）（以下、「重合性化合物（Ａ）」という。）、紫外線吸収剤（Ｂ）および光重合開始剤（Ｃ）を含むものを用いることができる。
【００６９】
ここで、重合性化合物（Ａ）は、紫外線硬化性を有する限りにおいて、単量体であっても、その１種以上が複数個重合した（コ）オリゴマーまたはプレ（コ）ポリマーであってもよい。
【００７０】
重合性化合物（Ａ）のうち少なくとも一部は、アクリロイル基またはメタクリロイル基を１分子中に２個以上有する多官能性重合性化合物（ａ−１）（以下、重合性化合物（ａ−１）という。）からなることが好ましい。以下、アクリロイル基とメタクリロイル基の両重合性官能基を意味する用語として（メタ）アクリロル基を使用する。（メタ）アクリレート、（メタ）アクリル酸等の用語も同様である。
【００７１】
重合性官能基としては、重合性が高いこと、特に紫外線による重合性が高いこと、からアクリロイル基が好ましい。したがって、以下の（メタ）アクリロイル基を有する化合物において好ましいものはアクリロイル基を有する化合物である。同様に（メタ）アクリレート、（メタ）アクリル酸等においてもアクリロイル基を有する化合物が好ましい。２以上の（メタ）アクリロイル基を有する化合物１分子中において、重合性官能基が異なっていてもよく、すなわち、１個以上のアクリロイル基と１個以上のメタクリロイル基を含んでいてもよく、好ましくはすべての重合性官能基がアクリロイル基であるものである。
【００７２】
重合性化合物（ａ−１）以外の重合性化合物（Ａ）としては、（メタ）アクリロイル基を１分子中に１個有する単官能性重合性化合物（以下、「重合性化合物（ａ−２）」という。）や（メタ）アクリロイル基以外の紫外線硬化性の重合性官能基を１個以上有する重合性化合物が挙げられる。
【００７３】
紫外線硬化性の重合性官能基が（メタ）アクリロイル基であると、紫外線硬化性が十分であり、また入手も容易であることから、重合性化合物（ａ−１）以外の重合性化合物（Ａ）としては、重合性化合物（ａ−２）が好ましい。したがって、重合性化合物（Ａ）としては重合性化合物（ａ−１）を含め実質的にすべて（メタ）アクリロイル基を有する化合物の１種以上からなることが好ましい。以下、重合性化合物（ａ−１）を含め重合性化合物（Ａ）はすべて（メタ）アクリロイル基を有する化合物であるもの、すなわち硬化して得られる有機樹脂がアクリル系樹脂であるもの、として説明する。
【００７４】
重合性化合物（Ａ）としては、（メタ）アクリロイル基以外に種々の官能基や結合を有する化合物であってもよい。例えば、水酸基、カルボキシル基、ハロゲン原子、ウレタン結合、エーテル結合、エステル結合、チオエーテル結合、アミド結合等を有していてもよい。特に、ウレタン結合を有する（メタ）アクリロイル基含有化合物（以下、「アクリルウレタン」という。）とウレタン結合を有しない（メタ）アクリル酸エステル化合物が好ましい。
【００７５】
重合性化合物（ａ−２）は通常ウレタン結合を有しない化合物であるが、重合性化合物（ａ−２）はウレタン結合を有しない化合物に限定されない。一方、重合性化合物（ａ−１）はウレタン結合を有していても有していなくてもよい。重合性化合物（ａ−１）１分子あたり平均の（メタ）アクリロイル基の数は、特に限定されないが、２〜５０個が好ましく、特に２〜３０個が好ましい。
【００７６】
アクリルウレタンは、（メタ）アクリロイル基および水酸基を有する化合物とイソシアネート基を有する化合物との反応、（メタ）アクリロイル基およびイソシアネート基を有する化合物と（メタ）アクリロイル基を有さず２個以上の水酸基を有する化合物（以下、「水酸基含有化合物」という。）との反応、または、（メタ）アクリロイル基および水酸基を有する化合物と２個以上のイソシアネート基を有する化合物（以下、「ポリイソシアネート」という。）と水酸基含有化合物との反応、等により得られる。
【００７７】
アクリルウレタンの原料となる上記各化合物における（メタ）アクリロイル基、水酸基およびイソシアネート基はそれぞれ１分子中に２個以上存在していてもよい。これらの反応により得られるアクリルウレタンにおいては、水酸基は存在してもよいが、イソシアネート基は存在しないことが好ましい。
【００７８】
なお、水酸基含有化合物としては、多価アルコールや多価アルコールに比較して高分子量のポリオール、水酸基含有ビニルポリマー等が挙げられる。これら水酸基含有化合物は単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【００７９】
重合性化合物（ａ−１）として好ましいアクリルウレタンは、水酸基含有の（ポリ）ペンタエリスリトールポリ（メタ）アクリレートとポリイソシアネートとの反応生成物が好ましい。
上記（ポリ）ペンタエリスリトールポリ（メタ）アクリレートにおける（ポリ）ペンタエリスリトールとは、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトールのようなペンタエリスリトール多量体、またはそれらを主成分とする混合物をいい、その平均の多量化度は約１〜４、特に約１．５〜３が好ましい。また、上記（ポリ）ペンタエリスリトールポリ（メタ）アクリレートにおけるポリ（メタ）アクリレートとしては２個以上の（メタ）アクリロイル基を有するエステルであり、１分子あたり平均約３〜６個の（メタ）アクリロイル基を有する化合物が好ましい。このような上記アクリルウレタンの生成に用いる（ポリ）ペンタエリスリトールポリ（メタ）アクリレートは１分子あたり平均して約１個以上の水酸基を有する。
また、この水酸基含有（ポリ）ペンタエリスリトールポリ（メタ）アクリレートとポリイソシアネートの反応生成物であるアクリルウレタンにおける１分子あたり平均の（メタ）アクリロイル基の数は４個以上、特に８〜２０個が好ましい。
【００８０】
ウレタン結合を含まない重合性化合物（ａ−１）としては水酸基含有化合物の（メタ）アクリレートやポリエポキシドの（メタ）アクリル酸付加物が好ましい。水酸基含有化合物としては上記のような多価アルコールや高分子量ポリオール等がある。ウレタン結合を含まない重合性化合物（ａ−１）の具体例としては例えば以下のような化合物がある。
【００８１】
以下の脂肪族多価アルコールの（メタ）アクリレート。１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、炭素数１４〜１５の長鎖脂肪族ジオールのジ（メタ）アクリレート、１，３−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、グリセロールトリ（メタ）アクリレート、グリセロールジ（メタ）アクリレート、トリグリセロールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールとトリメチロールプロパンとの縮合物からなるジオールのジ（メタ）アクリレート。
【００８２】
以下の芳香核またはトリアジン環を有する多価アルコールや多価フェノールの（メタ）アクリレート。ビス（２−（メタ）アクリロイルオキシエチル）ビスフェノールＡ、ビス（２−（メタ）アクリロイルオキシエチル）ビスフェノールＳ、ビス（２−（メタ）アクリロイルオキシエチル）ビスフェノールＦ、トリス（２−（メタ）アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート。
【００８３】
以下の水酸基含有化合物−アルキレンオキシド付加物の（メタ）アクリレート、水酸基含有化合物−カプロラクトン付加物の（メタ）アクリレート、ポリオキシアルキレンポリオールの（メタ）アクリレート。以下において、ＥＯはエチレンオキシド、ＰＯはプロピレンオキシドを表し、［  ］内はポリオキシアルキレンポリオールの分子量を表す。トリメチロールプロパン−ＥＯ付加物のトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパン−ＰＯ付加物のトリ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトール−カプロラクトン付加物のヘキサ（メタ）アクリレート、トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレート−カプロラクトン付加物のトリ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコール［２００〜１０００］ジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコール［２００〜１０００］ジ（メタ）アクリレート。
【００８４】
下記（メタ）アクリロイル基を有するカルボン酸エステルやリン酸エステル。ビス（アクリロイルオキシネオペンチルグリコール）アジペート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールエステルのジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールエステル−カプロラクトン付加物のジ（メタ）アクリレート、ビス（２−（メタ）アクリロイルオキシエチル）ホスフェート、トリス（２−（メタ）アクリロイルオキシエチル）ホスフェート。
【００８５】
下記ポリエポキシドの（メタ）アクリル酸付加物（ただし、ポリエポキシドのエポキシ基１個あたり１分子の（メタ）アクリル酸が付加したもの）、およびグリシジル（メタ）アクリレートと多価アルコールもしくは多価カルボン酸との反応生成物（ただし、多価アルコール等の１分子あたりグリシジル（メタ）アクリレートの２分子以上が反応したもの）。ビスフェノールＡ−ジグリシジルエーテルの（メタ）アクリル酸付加物、ビニルシクロヘキセンジオキシド−（メタ）アクリル酸付加物、ジシクロペンタジエンジオキシド−（メタ）アクリル酸付加物、グリシジル（メタ）アクリレートとエチレングリコールの反応生成物、グリシジル（メタ）アクリレートとプロピレングリコールの反応生成物、グリシジル（メタ）アクリレートとジエチレングリコールの反応生成物、グリシジル（メタ）アクリレートと１，６−ヘキサンジオールの反応生成物、グリシジル（メタ）アクリレートとグリセロールの反応生成物、グリシジル（メタ）アクリレートとトリメチロールプロパンの反応生成物、グリシジル（メタ）アクリレートとフタル酸の反応生成物。
【００８６】
上記のような（メタ）アクリレート類でかつ未反応の水酸基を有している化合物のアルキルエーテル化物である、アルキル変性ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート。上記のような（メタ）アクリレート類でかつ未反応の水酸基を有している化合物のアルケニルエーテル化物、カルボン酸エステル化物等も「変性」の用語について同様に準ずる下記のような化合物。ビニルシクロヘキセンジオキシド−（メタ）アクリル酸付加物のアリルエーテル化物、ビニルシクロヘキセンジオキシド−（メタ）アクリル酸付加物のメチルエーテル化物、ステアリン酸変性ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート。
【００８７】
ウレタン結合を含まず２個以上の（メタ）アクリロイル基を有するポリエステルである重合性化合物（ａ−１）として好ましいものは、前記したような（ポリ）ペンタエリスリトールポリ（メタ）アクリレートである。この場合、（ポリ）ペンタエリスリトールポリ（メタ）アクリレートは１分子あたり平均２個以上の（メタ）アクリロイル基を有する化合物であり、また水酸基は有していても有していなくてもよい。また、（ポリ）ペンタエリスリトール部分の多量化度は約１〜４が好ましく、特に１．５〜３が好ましい。さらに好ましい（ポリ）ペンタエリスリトールポリ（メタ）アクリレートは、（ポリ）ペンタエリスリトールの実質的にすべての水酸基が（メタ）アクリロイルオキシ基に変換された（ポリ）ペンタエリスリトールポリ（メタ）アクリレートである。
【００８８】
重合性化合物（ａ−２）である（メタ）アクリロイル基を１分子中に１個有する単官能性重合性化合物としては、水酸基、エポキシ基等の官能基を有していてもよい。好ましい重合性化合物（ａ−２）は（メタ）アクリル酸エステル、すなわち（メタ）アクリレートである。
【００８９】
具体的な重合性化合物（ａ−２）としては例えば以下の化合物が挙げられる。メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、トリデシル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、１，４−ブチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、エトキシエチル（メタ）アクリレート、フェニルグリシジルエーテルの（メタ）アクリル酸付加物。
【００９０】
重合性化合物（ａ−１）は２種以上を併用することが好ましい場合が多い。そのうち１種以上の重合性化合物（ａ−１）は（メタ）アクリロイル基を２〜３個有する化合物であり、他の１種以上はそれに比較して多数の（メタ）アクリロイル基を有する化合物であることが好ましい。前者の重合性化合物（ａ−１）は（メタ）アクリロイル基を２個有する化合物が好ましい。
【００９１】
重合性化合物（Ａ）中における重合性化合物（ａ−１）の合計の割合は２０〜１００質量％が好ましく、特に５０〜１００質量％が好ましく、さらには７０〜１００質量％が好ましい。重合性化合物（ａ−１）の割合がこの範囲にあると耐擦傷性が十分となる。
【００９２】
紫外線吸収剤（Ｂ）の一部または全部は重合性紫外線吸収剤（ｂ−１）からなる。紫外線吸収剤（Ｂ）の量が少ない場合は通常その全量が重合性紫外線吸収剤（ｂ−１）からなる。絶縁層形成用組成物（ｉ）における、重合性化合物（Ａ）１００質量部に対する重合性紫外線吸収剤（ｂ−１）の割合は０．１質量部以上が好ましく、１質量部以上がより好ましい。その上限は５０質量部が好ましく、３０質量部がより好ましい。
【００９３】
この重合性紫外線吸収剤（ｂ−１）を使用することにより、絶縁層形成用組成物（ｉ）中に比較的多量の紫外線吸収剤（Ｂ）を配合しても紫外線吸収剤（Ｂ）の表面へのブリードや耐擦傷性等の著しい低下を伴わないという効果が発揮される。
【００９４】
重合性紫外線吸収剤（ｂ−１）としては、以下に述べる重合性ベンゾフェノン系化合物および重合性ベンゾトリアゾール系化合物から選ばれる１種以上を用いることができる。
【００９５】
紫外線吸収剤（Ｂ）として重合性紫外線吸収剤（ｂ−１）以外の紫外線吸収剤を併用しうるが、多量に使用することは好ましくない。
重合性紫外線吸収剤（ｂ−１）以外の紫外線吸収剤としては、非重合性の紫外線吸収剤（以下、「紫外線吸収剤（ｂ−２）」という。）がある。
【００９６】
紫外線吸収剤（Ｂ）における重合性紫外線吸収剤（ｂ−１）以外の紫外線吸収剤の割合は、特に限定されないが、全紫外線吸収剤（Ｂ）中０〜８０質量％が好ましく、特に０〜５０質量％が好ましい。絶縁層形成用組成物（ｉ）における、重合性紫外線吸収剤（ｂ−１）以外の紫外線吸収剤の含有量としては、重合性化合物（Ａ）１００質量部に対して２０質量部以下が好ましく、１０質量部以下がより好ましい。
【００９７】
絶縁層形成用組成物（ｉ）における、紫外線吸収剤（Ｂ）全体の含有量は重合性化合物（Ａ）１００質量部に対して好ましくは０．１〜５０質量部であり、より好ましくは１〜３０質量部である。得られる硬化体からなる層、すなわち絶縁層の厚さによっても変化するが、０．１質量部以上の場合、絶縁層自身の耐候性が良好であり、５０質量部以下の場合その全量が重合性紫外線吸収剤（ｂ−１）のみからなっていても塗膜の硬化性が良好であり物性に優れる。
【００９８】
重合性ベンゾフェノン系化合物は、（メタ）アクリロイル基を有する有機基（以下、「（メタ）アクリロイル含有基」という。）の１個以上と、ベンゾフェノン骨格の１個以上を有する化合物である。重合性ベンゾフェノン系化合物は、（メタ）アクリロイル含有基以外にベンゾフェノン骨格の２つのベンゼン環の少なくとも一方に１個以上の水酸基を有することが好ましい。この水酸基は（メタ）アクリロイル含有基が結合したベンゼン環に存在していてもよく、他のベンゼン環に存在していてもよい。この水酸基はベンゾフェノン骨格の２位に存在することが好ましい。
【００９９】
重合性ベンゾフェノン系化合物において、（メタ）アクリロイル含有基は通常１個存在する。しかし（メタ）アクリロイル含有基は２個以上存在してもよく、その場合２つのベンゼン環の一方のみに存在していてもよく両方のベンゼン環に存在していてもよい。上記水酸基は（メタ）アクリロイル含有基が存在するベンゼン環に存在していることが好ましい。また２個のベンゼン環には（メタ）アクリロイル含有基と水酸基以外に他の置換基が１個以上存在していてもよく、その置換基としてはアルキル基等の炭化水素基、アルコキシ基、ハロゲン原子等が好ましい。炭化水素基やアルコキシ基の炭素数は６以下が好ましい。
【０１００】
（メタ）アクリロイル含有基は（メタ）アクリロイルオキシ基や下記式（１）で表される有機基が好ましい。
【０１０１】
−Ｘ１−Ｒ１−Ｘ２−ＣＯ−ＣＲ＝ＣＨ２      …（１）
式（１）において、Ｒは水素原子またはメチル基を表し、Ｘ１は酸素原子、−ＯＣＯＮＨ−、−ＯＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）−または単結合を表し、Ｒ１は２価の炭化水素基を表し、Ｘ２は酸素原子、−Ｏ−（−ＣＯＣＨ２ＣＨ２Ｏ−）ｋ−（ｋは１以上の整数）、−ＮＨ−、または−ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２Ｏ−を表す。好ましくは、Ｒは水素原子、Ｘ１は酸素原子または単結合、Ｒ１は炭素数１〜６のアルキレン基、Ｘ２は酸素原子である。
【０１０２】
好ましい（メタ）アクリロイル含有基は、（メタ）アクリロイルオキシ基、（メタ）アクリロイルオキシアルキル基、（（メタ）アクリロイルオキシ）アルコキシ基であり、後２者の（メタ）アクリロイルオキシ基部分以外の炭素数は２〜４が好ましい。
【０１０３】
好ましい重合性ベンゾフェノン系化合物はヒドロキシフェニル基に（メタ）アクリロイル含有基を有する２−ヒドロキシベンゾフェノン類である。この化合物は、下記式（２）で表される。下記式（２）において、Ａは上記のような（メタ）アクリロイル含有基を表し、Ｒ２、Ｒ３は上記のような（メタ）アクリロイル含有基以外の置換基を表す。
【０１０４】
【化１】
2014002731.tif 000003
【０１０５】
具体的な重合性ベンゾフェノン系化合物の例としては以下の化合物がある。２−ヒドロキシ−４−（メタ）アクリロイルオキシベンゾフェノン、２−ヒドロキ−４−（２−（メタ）アクリロイルオキシエトキシ）ベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−（２−アクリロイルオキシプロポキシ）ベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４−（メタ）アクリロイルオキシベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４−（２−（メタ）アクリロイルオキシエトキシ）ベンゾフェノン。
【０１０６】
重合性ベンゾトリアゾール系化合物としては、１個以上の（メタ）アクリロイル含有基と１個以上のベンゾトリアゾール環を有する化合物が好ましい。通常、紫外線吸収能を有するベンゾトリアゾール系化合物はベンゾトリアゾール環の２位に１つのベンゼン環が結合している骨格、すなわち、２−フェニルベンゾトリアゾールを骨格とし、さらにこのフェニル基の２位に水酸基を有する。
【０１０７】
重合性ベンゾトリアゾール系化合物においては、このような２−フェニルベンゾトリアゾールを骨格とし、かつそのフェニル基の２位に水酸基を有するものが好ましい。（メタ）アクリロイル含有基はベンゾトリアゾール環の４〜８位に存在していてもよく、好ましくはフェニル基の３〜６位に存在する。また（メタ）アクリロイル含有基は２個以上存在していてもよく好ましくは１個存在する。
【０１０８】
ベンゾトリアゾール環の４〜８位およびフェニル基の３〜６位の（メタ）アクリロイル含有基の存在しない位置には置換基が１個以上存在していてもよく、その置換基としてはアルキル基等の炭化水素基、水酸基、アルコキシ基、ハロゲン原子等が好ましい。炭化水素基やアルコキシ基の炭素数は６以下が好ましい。
【０１０９】
（メタ）アクリロイル含有基としては、（メタ）アクリロイルオキシ基や上記式（１）で表される有機基が好ましい。より好ましい（メタ）アクリロイル含有基は、上記と同様に、（メタ）アクリロイルオキシ基、（メタ）アクリロイルオキシアルキル基、（（メタ）アクリロイルオキシ）アルコキシ基であり、後２者の（メタ）アクリロイルオキシ基部分以外の炭素数は２〜４が好ましい。
【０１１０】
好ましい重合性ベンゾトリアゾール系化合物は２−ヒドロキシフェニル基に（メタ）アクリロイル含有基を有する２−（２−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール類である。この化合物は下記式（３）で表される。下記式（３）において、Ａは前記のような（メタ）アクリロイル含有基を表し、Ｒ４、Ｒ５は上記のような（メタ）アクリロイル含有基以外の置換基を表す。
【０１１１】
【化２】
2014002731.tif 000004
【０１１２】
具体的な重合性ベンゾトリアゾール系化合物としては以下の化合物がある。２−｛２−ヒドロキシ−５−（（メタ）アクリロイルオキシ）フェニル｝ベンゾトリアゾール、２−｛２−ヒドロキシ−３−メチル−５−（（メタ）アクリロイルオキシ）フェニル｝ベンゾトリアゾール、２−｛２−ヒドロキシ−３−ｔ−ブチル−５−（（メタ）アクリロイルオキシ）フェニル｝ベンゾトリアゾール、２−｛２−ヒドロキシ−５−（２−（メタ）アクリロイルオキシエチル）フェニル｝ベンゾトリアゾール、２−｛２−ヒドロキシ−５−（３−（メタ）アクリロイルオキシプロピル）フェニル｝ベンゾトリアゾール、２−｛２−ヒドロキシ−３−ｔ−ブチル−５−（２−（メタ）アクリロイルオキシエチル）フェニル｝ベンゾトリアゾール。
【０１１３】
２−｛２−ヒドロキシ−３−ｔ−ブチル−５−（３−（メタ）アクリロイルオキシプロピル）フェニル｝ベンゾトリアゾール、２−｛２−ヒドロキシ−３−メチル−５−（２−（メタ）アクリロイルオキシエチル）フェニル｝ベンゾトリアゾール、２−｛２−ヒドロキシ−３−メチル−５−（３−（メタ）アクリロイルオキシプロピル）フェニル｝ベンゾトリアゾール、２−｛２−ヒドロキシ−５−（２−（メタ）アクリロイルオキシエチル）フェニル｝−５−クロロベンゾトリアゾール、２−｛２−ヒドロキシ−５−（２−（メタ）アクリロイルオキシエチル）フェニル｝−５−メチルベンゾトリアゾール、２−｛２−ヒドロキシ−５−（２−（２−（メタ）アクリロイルオキシエトキシカルボニル）エチル）フェニル｝ベンゾトリアゾール、２−｛２−ヒドロキシ−５−（２−（メタ）アクリロイルオキシエトキシ）フェニル｝ベンゾトリアゾール、２−｛２−ヒドロキシ−５−（２−（メタ）アクリロイルオキシプロポキシ）フェニル｝ベンゾトリアゾール。
【０１１４】
紫外線吸収剤（ｂ−２）としては、市販されている公知または周知の紫外線吸収剤を使用できる。そのような紫外線吸収剤としては、例えばベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、サリチル酸系紫外線吸収剤、フェニルトリアジン系紫外線吸収剤等がある。具体的には例えば以下のような化合物がある。
【０１１５】
オクチル３−｛３−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−５−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル｝プロピオネート、２−（３，５−ジーｔ−ペンチル−２−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−３−ｔ−ブチル−５−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、ｐ−ｔ−ブチルフェニルサリシレート。
【０１１６】
光重合開始剤（Ｃ）としては、アリールケトン系光重合開始剤（例えば、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、アルキルアミノベンゾフェノン類、ベンジル類、ベンゾイン類、ベンゾインエーテル類、ベンジルジメチルケタール類、ベンゾイルベンゾエート類、α−アシロキシムエステル類等）、含硫黄系光重合開始剤（例えば、スルフィド類、チオキサントン類等）、アシルホスフィンオキシド類（例えばアシルジアリールホスフィンオキシド等）、その他の光重合開始剤がある。光重合開始剤は単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。また、光重合開始剤はアミン類等の光増感剤と組み合わせても使用できる。具体的な光重合開始剤としては以下のような化合物がある。
【０１１７】
４−フェノキシジクロロアセトフェノン、４−ｔ−ブチル−ジクロロアセトフェノン、４−ｔ−ブチル−トリクロロアセトフェノン、ジエトキシアセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、１−（４−ドデシルフェニル）−２−メチルプロパン−１−オン、１−｛４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル｝−２−ヒドロキシ−２−メチル−プロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−１−｛４−（メチルチオ）フェニル｝−２−モルホリノプロパン−１−オン。
【０１１８】
ベンジル、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンジルジメチルケタール、ベンゾフェノン、ベンゾイル安息香酸、ベンゾイル安息香酸メチル、４−フェニルベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、アクリル化ベンゾフェノン、３，３’−ジメチル−４−メトキシベンゾフェノン、３，３’，４，４’−テトラキス（ｔ−ブチルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、９，１０−フェナントレンキノン、カンファーキノン、ジベンゾスベロン、２−エチルアントラキノン、４’，４”−ジエチルイソフタロフェノン、α−アシロキシムエステル、メチルフェニルグリオキシレート。
【０１１９】
４−ベンゾイル−４’−メチルジフェニルスルフィド、チオキサントン、２−クロロチオキサントン、２−メチルチオキサントン、２，４−ジメチルチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、２，４−ジクロロチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、２，４−ジイソプロピルチオキサントン、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド。
【０１２０】
絶縁層形成用組成物（ｉ）における光重合開始剤（Ｃ）の含有量は重合性化合物（Ａ）１００質量部に対し、０．１〜２０質量部が好ましい。
絶縁層形成用組成物（ｉ）は、紫外線照射による重合性成分の重合の度合いを調整する目的で、必要に応じて、ハイドロキノンモノメチルエーテル等の重合禁止剤の適量を含有してもよい。
【０１２１】
絶縁層形成用組成物（ｉ）には、必要に応じて、アクリル系（共）重合体等の高分子量化合物、酸化防止剤、光安定剤、熱重合防止剤等の安定剤、レベリング剤、消泡剤、増粘剤、沈降防止剤、顔料分散剤、防曇剤等の界面活性剤類、近赤外線吸収剤等を適宜配合して用いてもよい。
【０１２２】
絶縁層形成用組成物（ｉ）に、例えば、ポリメタクリル酸メチル等のアクリル系（共）重合体を配合することにより、得られる硬化体からなる絶縁層の密着性を高めたり、塗膜のレベリング性を高めたりすることができる。絶縁層形成用組成物（ｉ）における、アクリル系（共）重合体等の高分子量化合物の含有量は、重合性化合物（Ａ）１００質量部に対して２０質量部以下が好ましい。
【０１２３】
絶縁層形成用組成物（ｉ）には、さらに、得られる硬化体からなる絶縁層の耐擦傷性をより向上させる目的でコロイダルシリカ（Ｄ）を配合してもよい。コロイダルシリカ（Ｄ）は、水やメタノール等からなる分散媒中にコロイド状に分散した無水ケイ酸の超微粒子であり、コロイダルシリカ（Ｄ）の平均粒径は通常１〜１０００ｎｍ程度であり、好ましくは平均粒径１〜２００ｎｍ、特に好ましくは平均粒径１〜５０ｎｍである。
【０１２４】
なお、コロイダルシリカ（Ｄ）は、分散安定性を向上させるために粒子表面を加水分解性シラン化合物の加水分解物で修飾されたもの、すなわち、コロイダルシリカ粒子の表面の一部または全部のシラノール基にシラン化合物の加水分解物が縮合反応により結合、保持され、表面特性が改質されたものを用いることもできる。
【０１２５】
絶縁層形成用組成物（ｉ）にコロイダルシリカ（Ｄ）を配合する場合、その配合量（固形分）は重合性化合物（Ａ）１００質量部に対し５００質量部以下、特に３００質量部以下が好ましい。コロイダルシリカ（Ｄ）を配合する場合、重合性化合物（Ａ）１００質量部に対し０．１質量部以上配合することにより、その配合した効果が発揮される。
【０１２６】
また、絶縁層形成用組成物（ｉ）には、紫外線吸収剤（Ｂ）以外に光に対する安定性を向上させるために光安定剤を配合することも好ましい。光安定剤としてはヒンダードアミン系光安定剤、特に２，２，６，６−テトラメチルピペリジン残基を有するヒンダードアミン系光安定剤が好ましい。具体的には例えば、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバセート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）セバセート、メチル１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）セバセート、２−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２−ｎ−ブチルマロン酸ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）等がある。
【０１２７】
絶縁層形成用組成物（ｉ）に光安定剤を配合する場合、その配合量は重合性化合物（Ａ）１００質量部に対し１０質量部以下、特に５質量部以下が好ましい。
【０１２８】
また、絶縁層４に撥水性を付与するため、絶縁層形成用組成物（ｉ）に、下記式（４）で表される含フッ素重合性化合物（ｅ−１）を撥水性重合性化合物（Ｅ）として配合してもよい。
【０１２９】
ＣＨ２＝Ｃ（Ｒ６）ＣＯＯＸ３Ｒｆ      …（４）
（式（４）中、Ｒ６は、水素原子、メチル基またはトリフルオロメチル基、Ｘ３は炭素数１〜６の２価の有機基を示し、Ｒｆは、炭素数４〜６のパーフルオロアルキル基を示す。）
【０１３０】
上記式（４）で表される含フッ素重合性化合物（ｅ−１）の例としては、以下が挙げられる。
【０１３１】
ＣＨ２＝Ｃ（Ｒ６）ＣＯＯＲ７Ｒｆ
ＣＨ２＝Ｃ（Ｒ６）ＣＯＯＲ７ＮＲ８ＳＯ２Ｒｆ
ＣＨ２＝Ｃ（Ｒ６）ＣＯＯＲ７ＮＲ８ＣＯＲｆ
ＣＨ２＝Ｃ（Ｒ６）ＣＯＯＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）Ｒ９Ｒｆ
ここで、Ｒ７は炭素数１〜６のアルキレン基を、Ｒ８は水素原子または炭素数１〜４のアルキル基を、Ｒ９は単結合または炭素数１〜４のアルキレン基を示す。
【０１３２】
上記式（４）においてＸ３は、入手の容易さから、炭素数２〜４のアルキレン基であることが好ましい。
【０１３３】
上記式（４）で表される含フッ素重合性化合物（ｅ−１）の具体例としては、パーフルオロヘキシルエチル（メタ）アクリレート、パーフルオロブチルエチル（メタ）アクリレート等が挙げられる。
上記式（４）で表される重合性化合物は単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【０１３４】
Ｒｆが炭素数４〜６のパーフルオロアルキル基であることにより、含フッ素重合性化合物（ｅ−１）は、重合性化合物（Ａ）等の他の成分との相溶性が良好であり、絶縁層形成用組成物（ｉ）の塗膜を硬化させたときにその重合体同士が凝集することがない。したがって、硬化体としての絶縁層４が白濁することなく外観が良好であり、絶縁層４とその下層（例えば、高抵抗層３）との密着性が高くなる。Ｒｆが炭素数４以上のパーフルオロアルキル基の場合、絶縁層４の撥水性が良好である。一方、Ｒｆが炭素数６以下のパーフルオロアルキル基の場合、塗膜を硬化させたときに硬化体である絶縁層４が白濁せず、絶縁層４とその下層（例えば、高抵抗層３）との密着性が良好である。
【０１３５】
さらに、絶縁層形成用組成物（ｉ）には、塗膜の塗工性や、高抵抗層３等の下層との密着性を向上させる目的で有機溶剤を配合してもよい。有機溶剤としては、重合性化合物（Ａ）、紫外線吸収剤（Ｂ）、光重合開始剤（Ｃ）、およびその他の添加剤の溶解性に問題がなければ特に限定されず、上記性能を満足させるものであればよい。また、単独で使用してもよく、２種以上の有機溶剤を併用してもよい。絶縁層形成用組成物（ｉ）における、有機溶剤の含有量は、重合性化合物（Ａ）に対して１００倍質量以下、特に５０倍質量以下が適当である。
【０１３６】
有機溶剤としては例えば低級アルコール類、ケトン類、エーテル類、セロソルブ類等の有機溶剤がある。そのほか、ｎ−ブチルアセテート、ジエチレングリコールモノアセテート等のエステル類、ハロゲン化炭化水素類、炭化水素類等も使用できる。
【０１３７】
絶縁層形成用組成物（ｉ）の硬化体からなる絶縁層４は、透明基体２上に高抵抗層３を有する積層体の高抵抗層３側の表面、例えば、図３に示す触覚センサ用前面板１の場合においては、高抵抗層３の上面Ｓ３に、上記各成分を含む絶縁層形成用組成物（ｉ）をスピンコート法、ディップコート法、フローコート法、スプレーコート法、バーコート法、グラビアコート法、ロールコート法、ブレードコート法、エアーナイフコート法等の方法で塗布し、有機溶剤を含む組成物の場合は乾燥させた後、紫外線を照射して硬化させることで形成することができる。
【０１３８】
例えば、スピンコート法を適用して絶縁層形成用組成物（ｉ）の塗布を行う場合、透明基体２上に高抵抗層３を有する積層体の高抵抗層３側の表面に、絶縁層形成用組成物（ｉ）を滴下した後、当該積層体を載置固定するステージを所定の回転数で回転させることで、積層体の高抵抗層３側の表面に、絶縁層形成用組成物（ｉ）の均一な塗膜を形成することができる。塗膜の膜厚は、硬化後に得られる絶縁層が上記本発明の範囲の膜厚となるように、上記において絶縁層形成用組成物（ｉ）の滴下量やステージの回転数を適宜選択することで、調整される。
【０１３９】
具体的には、例えば、透明基体２上に高抵抗層３を有する積層体の上記塗布面への絶縁層形成用組成物（ｉ）の滴下量を、約１ｃｍ３程度とした場合、積層体が載置されたステージの回転を、初期回転数を２００〜２０００ｒｐｍで１０〜１５秒程度、その後最大回転数を２０００〜３０００ｒｐｍで０．１〜１秒程度行うことが好ましい。
なお、絶縁層形成用組成物（ｉ）が有機溶媒を含む場合、塗膜形成後の積層体を、例えば１００〜１５０℃の温度範囲で１０分程度保持して、有機溶媒を除去することが好ましい。
【０１４０】
紫外線照射に用いる紫外線源としては、キセノンランプ、低圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、メタルハライドランプ、カーボンアーク灯、タングステンランプ等が挙げられる。
【０１４１】
紫外線照射の照射時間、照射強度は、重合性化合物（Ａ）の種類、紫外線吸収剤（Ｂ）の種類、光重合開始剤（Ｃ）の種類、被膜厚、紫外線源等の条件により適宜変更して行うことができる。通常は１〜６０秒程度照射することにより目的が達成される。さらに硬化反応を完結させる目的で、紫外線照射後、加熱処理することもできる。
【０１４２】
紫外線照射の照射時間、照射強度は、例えば、照射光のエネルギー積算値が５００〜２０００ｍＪ／ｃｍ２程度、照射強度のピーク値が１００〜５００ｍＷ／ｃｍ２となるように、適宜調整して行うことが好ましい。
【０１４３】
上記のような絶縁層形成用組成物（ｉ）を、上述した例えば金属酸化物を主成分として含む層からなる高抵抗層３の上面Ｓ３に塗布、硬化させて絶縁層４を形成する場合には、高抵抗層３と絶縁層４との密着性を高めるため、高抵抗層３の上面Ｓ３に、絶縁層４との密着性を高めるための表面処理（以下、密着処理と示す。）を施した上で絶縁層形成用組成物（ｉ）を塗布することが好ましい。
【０１４４】
密着性向上のための表面処理には、例えば、以下に挙げるシラン系カップリング剤を用いることができる。
【０１４５】
例えば、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、３−（メタ）アクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、および３−（メタ）アクリロキシプロピルトリメトキシシランが表面処理に用いるシラン系カップリング剤として挙げられる。
【０１４６】
密着処理は、上記のシラン系カップリング剤を低級アルコール類、ケトン類、エーテル類、セロソルブ類等の有機溶剤と混合してなる組成物を、高抵抗層３の上面Ｓ３にスピンコート法、ディップコート法、フローコート法、スプレーコート法、バーコート法、グラビアコート法、ロールコート法、ブレードコート法、エアーナイフコート法等の方法で塗布し、乾燥させることで行うことができる。
【０１４７】
例えば、スピンコート法を適用して高抵抗層３の上面Ｓ３の密着処理を行う場合、透明基体２上に高抵抗層３を有する積層体を準備し、その高抵抗層３の上面Ｓ３上に、上述したシラン系カップリング剤を含む組成物を滴下した後、当該積層体を載置固定するステージを所定の回転数で回転させることで、積層体が有する高抵抗層３の上面Ｓ３上にシラン系カップリング剤を含む組成物の薄膜を形成し、密着処理を行うことができる。
【０１４８】
具体的には、例えば、シラン系カップリング剤を含む組成物の高抵抗層３の上面Ｓ３への滴下量を、約１ｃｍ３程度とした場合、積層体が載置されたステージの回転を、初期回転数を５００ｒｐｍ〜１５００ｒｐｍで５〜１５秒程度、その後最大回転数を１５００ｒｐｍ〜２５００ｒｐｍで０．１〜１秒の回転時間で行うことが好ましい。
なお、密着処理に用いた組成物が有機溶媒を含む場合、密着処理後の積層体を、１００〜１５０℃で３０分間程度保持して、当該有機溶媒を除去することが好ましい。
【０１４９】
［絶縁層形成用組成物（ｉｉ）］
絶縁層形成用組成物（ｉｉ）としては、熱硬化後に光透過性を有する硬化体を得られるものであれば、特に限定されないが、例えば、コロイダルシリカ（ｆ−１）および次式（５）で示されるオルガノアルコキシシランの部分縮合物（ｆ−２）からなる固形成分を含む水性／有機溶剤分散物（Ｆ）を含有してなるものを好適に用いることができる。なお、水性／有機溶剤分散物とは、水性媒体および／または有機溶媒に固形成分が分散した態様をいう。
【０１５０】
オルガノアルコキシシランとしては、例えば下記式（５）で示されるものを用いることができる。
【０１５１】
（Ｒ１０）ａＳｉ（ＯＲ１１）４−ａ      …（５）
（式（５）中、Ｒ１０は炭素数１〜６の一価炭化水素基、Ｒ１１は炭素数１〜６の一価炭化水素基または水素基であり、ａは０〜２の整数である。）
Ｒ１０、Ｒ１１は、炭素数１〜４のアルキル基が好ましい。
【０１５２】
上記式（５）の範囲内に包含されるオルガノアルコキシシランは、好ましくはメチルトリメトキシシラン、メチルトリヒドロキシシラン、またはそれらの混合物であり、これらは部分縮合物（ｆ−２）を形成し得るものである。上記以外に、式（５）の範囲内に包含されるオルガノトリアルコキシシランとしては、例えば、テトラエトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、ジエチルジエトキシシラン、テトラメトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、およびジメチルジメトキシシランが挙げられる。
【０１５３】
水性／有機溶剤分散物（Ｆ）としては、例えば、Ｃｌａｒｋの米国特許第３，９８６，９９７号明細書に示されているものを用いることができる。
【０１５４】
水性／有機溶剤分散物（Ｆ）としては、上述したものの他に、例えば、米国特許第３，９８６，９９７号、同第４，６２４，８７０号、同第４，６８０，２３２号および同第４，９１４，１４３号明細書に示されているものを用いることができる。
【０１５５】
水性／有機溶剤分散物（Ｆ）は、具体的には、メチルトリメトキシシランのようなトリアルコキシシランを、コロイダルシリカの水性／有機溶剤分散物に添加することによって製造できる。このようなコロイダルシリカの水性／有機溶剤分散物としては、例えば「ルドックス（Ｌｕｄｏｘ）ＨＳ」（デュポン社製）や、「ナルコ（Ｎａｌｃｏ）」１０３４Ａ（ナルコ・ケミカル社（Ｎａｌｃｏ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｃｏ．）製、「ＯＳＣＡＬ」（商品名、触媒化成工業株式会社製）、「オルガノシリカゾル」（商品名、日産化学工業株式会社製））等が挙げられる。
【０１５６】
コロイダルシリカ（ｆ−１）の水性／有機溶剤分散物としては、例えば、Ｕｂｅｒｓａｘの米国特許第４，１７７，３１５号明細書に示されているものを用いることができる。
【０１５７】
オルガノアルコキシシランの部分縮合物（ｆ−２）は、好ましくは、オルガノアルコキシシランの様々な部分縮合物の混合物からなる。
【０１５８】
水性／有機溶剤分散物（Ｆ）自体（すなわち、コロイダルシリカ（ｆ−１）とオルガノアルコキシシランの部分縮合物（ｆ−２）との組合せ）は、通常、固形分約１０質量％〜５０質量％であり、好ましくは固形分約１５質量％〜２５質量％である。
【０１５９】
絶縁層形成用組成物（ｉｉ）は、一般に塗布面、例えば高抵抗層３の透明基体２側と反対側の面Ｓ３に対する接着性を向上させるため、上記のようなオルガノアルコキシシラン、コロイダルシリカ（ｆ−１）および十分量のアルコールを含む水性／有機溶剤分散物（Ｆ）に、接着促進剤（Ｇ）を混合することが好ましい。
【０１６０】
接着促進剤（Ｇ）としては、例えば、米国特許第５４１１８０７号に記載されている（メタ）アクリレートエステルを用いることができる。（メタ）アクリレートエステルとしては、具体的には、例えば、ユニオン・カーバイド・コーティング・レジンズ(Union Carbide Coating Resins)社からＴｏｎｅモノマーとして市販されているものを接着促進剤（Ｇ）として用いることができる。
【０１６１】
（メタ）アクリレートエステルとしては、例えば、カプロラクトン（メタ）アクリレートを、接着促進剤（Ｇ）として好適に用いることができる。
【０１６２】
（メタ）アクリレートエステルは、通常、樹脂固形分１００質量部を基準として、約１質量部〜２０質量部の量で用いられる。（メタ）アクリレートエステルは、好ましくは、樹脂固形分１００質量部を基準として、約３質量部〜８質量部の量で用いることがよい。
【０１６３】
接着促進剤（Ｇ）としては、上記以外のものとして、ポリエステルポリオールを用いることができる。ポリエステルポリオールとしては、例えば、米国特許第５３４９００２号に記載されているカプロラクトン系ポリエステルポリオールを用いることができる。
【０１６４】
カプロラクトン系ポリエステルポリオールの多くは二官能性または三官能性であり、例えば、ユニオン・カーバイド社からＴｏｎｅポリオールとして市販されているものを用いることができる。具体的には、例えば、「Ｔｏｎｅ  ０２００ジオール」（商品名、ユニオン・カーバイド社製）、「Ｔｏｎｅ  ０３０１トリオール」（商品名、ユニオン・カーバイド社製）、「Ｔｏｎｅ  ０３１０トリオール」（商品名、ユニオン・カーバイド社製）等を用いることができる。
なお、Ｔｏｎｅポリオールとして市販されているもので、上記のものと分子量、ヒドロキシ価、融点、粘度等が異なる種々のものを、接着促進剤（Ｇ）として用いることも可能である。
【０１６５】
カプロラクトン系ポリエステルポリオール以外のポリエステルポリオールとしては、ウレタン変性ポリエステルポリオールまたはシリコーン変性ポリエステルポリオールを用いることができる。
【０１６６】
ポリエステルポリオールは、通常、樹脂固形分１００質量部を基準として、約１質量部〜１０質量部の量で用いることができる。
【０１６７】
接着促進剤（Ｇ）としては、上記以外のものとして、アクリルウレタンを用いることができる。アクリルウレタンとしては、例えば米国特許第５５０３９３５号に記載のものを用いることができる。アクリルウレタンは、通常、約４００〜１５００の範囲内の分子量を有しており、一般に、半固体または粘稠な性質を有し、水性／有機溶剤分散物（Ｆ）に直接添加できる。
【０１６８】
アクリルウレタンとしては、具体的には、例えば、アクリル系として「Ａｃｔｉｌａｎｅ  ＣＢ−３２」（商品名、ＳＮＰＥシミー (SNPE Chimie)社（フランス）製）、「Ｅｂｅｃｒｙｌ  ８８０４」（商品名、ラドキュア・スペシャルティーズ(Radcure Specialties) 社（ケンタッキー州ルーイビル）製）等、メタクリル系として「Ｍ−４０７」（商品名、エコー・レジンズ・アンド・ラボラトリ(Echo Resins & Laboratory)社製）等の市販品を用いることができる。なお、「Ｍ−４０７」は、イソホロンジイソシアネートと２−ヒドロキシエチルメタクリレートとの付加物であり、約４８２の分子量を有するものである。
【０１６９】
アクリルウレタンは、通常、樹脂固形分１００質量部を基準として約１質量部〜１５質量部の量で用いることができる。
【０１７０】
接着促進剤（Ｇ）としては、上記以外のものとして、反応性部位または相互作用性部位を有する数平均分子量約１０００〜約１００００のアクリル系共重合体（ｇ−１）を用いることができる。アクリル系共重合体（ｇ−１）（通常、熱硬化性のものである）としては、例えば米国特許第５５０３９３５号に記載されているものを用いることができ、これらは水性／有機溶剤分散物（Ｆ）に直接添加することができる。
【０１７１】
好ましいアクリル系共重合体（ｇ−１）は、反応性部位または相互作用性部位として、ヒドロキシル基を有しており、約３０〜１６０の範囲内のヒドロキシ価、約４未満の酸価および約１０００〜１００００の数平均分子量を有する。
アクリル系共重合体（ｇ−１）としては、例えば、Ｍａｒｋ他著の「Ｅｎｃｙｃｌｏｐｅｄｉａ  ｏｆ  Ｐｏｌｙｍｅｒ  Ｓｃｉｅｎｃｅ  ａｎｄ  Ｅｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇ，  Ｖｏｌ．４（Ｊｏｈｎ  Ｗｉｌｅｙ  ＆  Ｓｏｎｓ発行，１９８６）」３７４〜３７５頁に記載されているものを用いることができ、これらは各種コモノマーのラジカル重合で合成することができる。
【０１７２】
アクリル系共重合体（ｇ−１）は、Ｋ．Ｊ．Ｓａｕｎｄｅｒｓ著の「ＯｒｇａｎｉｃＰｏｌｙｍｅｒ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ（Ｃｈａｐｍａｎ  Ｈａｌｌ（ロンドン）発行，１９７３）」に記載されているように、複数種の単量体を用いることで、共重合体が、適当な性質を組み合わせて有するものとすることができる。
【０１７３】
例えば、アクリロニトリルやメチルメタクリレートのような単量体を用いた場合、一般には、アクリル系共重合体（ｇ−１）には硬さが与えられ、エチルアクリレートや２−エチルヘキシルアクリレートのような単量体を用いた場合、アクリル系共重合体（ｇ−１）には柔軟性が与えられる。さらに、ジメチルアミノエチルメタクリレートやアクリル酸のような単量体を用いることで、通常、重合に適した反応性部位が与えられる。
【０１７４】
接着促進剤（Ｇ）としてのアクリル系共重合体（ｇ−１）は、アミノ基、カルボキシル基、アミド結合、エポキシ基、ヒドロキシル基またはアシルオキシ基を含んでいてもよい。
【０１７５】
アクリル系共重合体（ｇ−１）としては、具体的には、例えば、アクリル系ポリオール「Ｊｏｎｃｒｙｌ（商標）」（商品名、BASF社製）、アクリロイドアクリル樹脂（ローム・アンド・ハース社(Rohm and Haas Company)製）を接着促進剤（Ｇ）として用いることができる。
【０１７６】
米国特許第５５０３９３５号に記載されているとおり、アクリル系共重合体（ｇ−１）としては、ヒドロキシアルキルアクリレート系の共重合体が、シラノール基との反応性部位または相互作用部位を有するため好ましい。アクリル系共重合体（ｇ−１）は、例えば、Ｋａｍａｔｈ他著の論文「Ｊｏｕｒｎａｌ  ｏｆ  Ｃｏａｔｉｎｇ  Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ，  Ｖｏｌ．５９，  Ｎｏ．７４６（Ｍａｒｃｈ，  １９８７）」５１〜５６頁に記載された方法を用いて製造したものを、接着促進剤（Ｇ）の好適なものとして用いることができる。
【０１７７】
アクリル系共重合体（ｇ−１）は、通常、樹脂固形分１００質量部を基準として、約１質量部〜１５質量部の量で用いることができる。
【０１７８】
水性／有機溶剤分散物（Ｆ）の製造には、例えば炭素数１〜４のアルコール、例えばメタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール；グリコールおよびグリコールエーテル、例えばプロピレングリコールメチルエーテル等の有機溶媒、およびこれらの混合物を好適に用いることができる。
【０１７９】
絶縁層形成用組成物（ｉｉ）を、上記のような水性／有機溶剤分散物（Ｆ）を含んでなるものとする場合、絶縁層形成用組成物（ｉｉ）は、コロイダルシリカ（ｆ−１）を１０〜７０質量％および式（５）で示されるオルガノアルコキシシランの部分縮合物（ｆ−２）３０〜９０質量％からなる固形分を、１０〜５０質量％の割合で含む水性／有機溶剤分散物（Ｆ）１００部に対し、アクリル系ポリオールからなる接着促進剤（Ｇ）を１〜１０質量部含有してなるものが好ましい。
【０１８０】
絶縁層形成用組成物（ｉｉ）に配合する紫外線吸収剤（Ｊ）としては、オルガノアルコキシシランと共反応し、かつ加熱硬化工程中に殆ど揮発しないものが好適である。紫外線吸収剤（Ｊ）としては、例えば、２−ヒドロキシ−４−（３−（トリメトキシシリル）プロポキシ）ベンゾフェノン、（２−ヒドロキシ−４−（３−（トリエトキシシリル）プロポキシ）ベンゾフェノンまたはそれらの混合物が好適である。紫外線吸収剤（Ｊ）は、絶縁層形成用組成物（ｉｉ）に対し、０．１〜２０質量％の濃度で配合できる。
【０１８１】
絶縁層形成用組成物（ｉｉ）には、遊離基開始剤、立体障害アミン型光安定剤、酸化防止剤、染料、流動性改良剤および均展剤または表面滑剤のような他の添加剤を配合することもできる。
【０１８２】
絶縁層形成用組成物（ｉｉ）には、硬化時間を短縮するため、触媒として、例えばテトラ−ｎ−ブチルアンモニウムアセテート（ＴＢＡＡ）またはテトラ−ｎ−ブチルアンモニウムホルメートのようなテトラブチルアンモニウムカルボキシレート触媒あるいは酢酸などの酸を配合することもできる。
【０１８３】
絶縁層形成用組成物（ｉｉ）の硬化体からなる絶縁層４は、透明基体２上に高抵抗層３を有する積層体の高抵抗層３側の表面、例えば、図３に示す触覚センサ用前面板１の場合においては、高抵抗層３の上面Ｓ３に、上記各成分を含む絶縁層形成用組成物（ｉｉ）をスピンコート法、ディップコート法、フローコート法、スプレーコート法、バーコート法、グラビアコート法、ロールコート法、ブレードコート法、エアーナイフコート法等のような周知の任意の塗布方法によって塗布した後、１００〜１５０℃で３０〜９０分程度加熱するか、または赤外線またはマイクロ波エネルギーを用いて加熱、硬化させることで形成することができる。
【０１８４】
例えば、スピンコート法を適用して絶縁層形成用組成物（ｉｉ）の塗布を行う場合、透明基体２上に高抵抗層３を有する積層体の高抵抗層３側の表面に、絶縁層形成用組成物（ｉｉ）を滴下した後、当該積層体を載置固定するステージを所定の回転数で回転させることで、積層体の高抵抗層３側の表面に、絶縁層形成用組成物（ｉｉ）の均一な塗膜を形成することができる。塗膜の膜厚は、硬化後に得られる絶縁層が上記本発明の範囲の膜厚となるように、上記において絶縁層形成用組成物（ｉｉ）の滴下量やステージの回転数を適宜選択することで、調整される。
【０１８５】
積層体を載置固定するステージの回転は、具体的には、例えば、透明基体２上に高抵抗層３を有する積層体の上記塗布面への絶縁層形成用組成物（ｉｉ）の滴下量を、約１ｃｍ３とした場合、初期回転数を１００〜３００ｒｐｍで１０〜１５秒程度、その後最大回転数を１５００〜２５００ｒｐｍ程度で０．１〜１秒の回転時間で行うことが好ましい。
【０１８６】
絶縁層４を、上記のような絶縁層形成用組成物（ｉｉ）を硬化させてなる層とすることで、例えばスパッタリング等の手法を用いる場合と比較して、絶縁層４の形成速度が高められ、触覚センサ用前面板１の製造の効率を高めることができる。
【０１８７】
絶縁層４の厚さは、０．５μｍ以上１５μｍ以下であり、好ましくは０．５μｍ以上１０μｍ以下であり、より好ましくは１μｍ以上１０μｍ以下、さらに好ましくは１μｍ以上８μｍ以下である。
絶縁層４の厚さが０．５μｍ未満であると、高抵抗層３の絶縁層４との界面Ｓ３が有する表面形状が、絶縁層４の高抵抗層３側とは反対側の表面Ｓ２に反映され易くなる、または高抵抗層３の絶縁層４との界面Ｓ３が有する凸部が部分的に絶縁層４から突出する等により、絶縁層４の高抵抗層３側とは反対側の表面形状に影響を与え、触覚センサ用前面板１の表面において表面粗さＲａが過度に高くなり、白曇り等により視認性が低下するおそれがある。
【０１８８】
絶縁層４の厚さを０．５μｍ以上とすることで、触覚センサ用前面板１の表面での白曇りが抑制され、優れた視認性を得ることができ、また十分な耐摩耗性や耐候性を得ることができる。一方、絶縁層４の厚さを１５μｍ以下とすることで、絶縁層４の深部においても硬化が十分に進行し、優れた光透過性を得ることができ、また触覚センサ用前面板１において適度な曲げ強度を得ることができる。
【０１８９】
図３に示す触覚センサ用前面板１において、絶縁層４が、上記の含フッ素重合性化合物（ｅ−１）のような撥水性を付与する成分を含有していない場合には、この絶縁層４の高抵抗層３側とは反対側の表面、すなわち触覚センサ用前面板１の表面Ｓ２に接した水分が、該表面Ｓ２に拡散、付着し易く、電荷が蓄積された高抵抗層３と、絶縁層４の表層に近接した指先等の感覚受容体Ｘとの間に働く静電引力（クーロン力）が遮蔽されるため、触覚センサとしての機能が十分に得られなくなるおそれがある。このため、撥水性を付与する成分を十分量含有しない絶縁層４の表面Ｓ２には、図６に示すように、さらに撥水層６を形成することができる。なお、この場合、触覚センサ用前面板１の表面は、撥水層６の絶縁層４側と反対側の表面Ｓ５となる。
【０１９０】
具体的には、例えば、絶縁層４が上述した含フッ素重合性化合物（ｅ−１）のような撥水性を付与する成分を含有しない絶縁層形成用組成物（ｉ）の硬化体からなる層である場合に、絶縁層４の上面Ｓ２に撥水層６を形成することが好ましい。
【０１９１】
このような構成とすることで、絶縁層４の表面Ｓ２に水分が接することなく、よって撥水層６を設けない場合に発生しやすい高抵抗層３と感覚受容体Ｘとの間に働く静電引力（クーロン力）の遮蔽を抑制でき、触覚センサ用前面板１において、触覚センサとしての機能が十分に得られる。
【０１９２】
撥水層６は、含フッ素化合物または含ケイ素化合物（以下、撥水剤（Ｈ）と示す。）を含有する撥水層形成用組成物の硬化体からなる層により形成することができる。
【０１９３】
撥水剤（Ｈ）を構成する含フッ素化合物または含ケイ素化合物としては、シランカップリング剤等が挙げられる。シランカップリング剤としては、含フッ素シランカップリング剤、アミノ基を有するシランカップリング剤、（メタ）アクリロイル基を有するシランカップリング剤、チオール基を有するシランカップリング剤、イソシアネート基を有するシランカップリング剤、オキシラニル基を有するシランカップリング剤が挙げられる。また、ＦＳ−１０（信越化学社製）等の市販品を採用することもできる。
【０１９４】
シランカップリング剤としては、撥水性等の点から、含フッ素シランカップリング剤が好ましく、フルオロアルキル基を有するシランカップリング剤が特に好ましい。フルオロアルキル基としては、パーフルオロアルキル基；パーフルオロ（ポリオキシアルキレン）鎖を含むフルオロアルキル基等が挙げられる。
【０１９５】
市販されているフルオロアルキル基を有するシランカップリング剤としては、Ｇｅｌｅｓｔ社製のＡＱＵＡＰＨＯＢＥ（登録商標）ＣＦ、３Ｍ社製のノベック（登録商標）ＥＧＣ−１７２０、ダイキン社製のオプツール（登録商標）ＤＳＸ（パーフルオロ（ポリオキシアルキレン）鎖を有するシランカップリング剤）等が挙げられる。
アミノ基を有するシランカップリング剤としては、アミノプロピルトリエトキシシラン、アミノプロピルメチルジエトキシシラン、アミノエチル−アミノプロピルトリメトキシシラン、アミノエチル−アミノプロピルメチルジメトキシシラン等が挙げられる。
【０１９６】
撥水層６は、上述した撥水剤を含有する撥水層形成用組成物を、例えば、図３に示す透明基体２、高抵抗層３、絶縁層４の順に積層された積層体の絶縁層４の高抵抗層３側とは反対側の表面Ｓ２に塗布した後加熱処理する方法、または、該積層体における絶縁層４の表面Ｓ２に、撥水剤を気相蒸着させた後加熱処理する方法により形成することができる。
【０１９７】
撥水層形成用組成物の塗布により撥水層６を形成する場合、塗布方法としては、スピンコート法、ディップコート法、キャスト法、スリットコート法、スプレーコート法等が挙げられる。加熱処理の温度は、２０〜１５０℃が好ましく、生産性の点から、７０〜１４０℃が特に好ましい。撥水剤の反応性を高めるために、加熱処理の際に湿度を制御してもよい。
【０１９８】
撥水層形成用組成物の蒸着により撥水層６を形成する場合には、例えば、上述した撥水層形成用組成物から溶媒を除去した後、真空状態で２５０〜３００℃に加熱し、撥水剤（Ｈ）を気相状態とした雰囲気下に、例えば、図３に示す透明基体２、高抵抗層３、絶縁層４の順に積層された積層体を投入し、所定時間保持することで、撥水剤（Ｈ）の気体分子を該積層体の絶縁層４の高抵抗層３側とは反対側の表面Ｓ２に付着させて、撥水剤（Ｈ）の均一な薄膜を形成することができる。
【０１９９】
触覚センサ用前面板１としては、図３または図６で示す構成に限られず、例えば図７で示すように、透明基体２と高抵抗層３との間にバリア層７を介設した構成とすることも好ましい。
【０２００】
透明基体２と高抵抗層３との間にバリア層７を介設することで、透明基体２に含まれる成分が高抵抗層３に拡散するのを抑制でき、高抵抗層３の表面抵抗値等の特性の変動を抑制することができる。また、ガラス板等の透明基体２の表面形状が触覚センサ用前面板１全体に与える影響を抑制し、全体としての形状安定化を図ることができる。
なお、バリア層７を有する触覚センサ用前面板としては、必ずしも図７で示す構成のものに限られず、例えば、透明基体２と高抵抗層３との間にバリア層７が介設されるとともに、絶縁層４の上面に、撥水層６が積層された構成のものであってもよい。
【０２０１】
バリア層７としては、例えば、ケイ素の酸化物を主成分とする層、ケイ素の酸化物および酸化インジウムを主成分とする層を主成分とする層が挙げられる。これらの中でも、ケイ素の酸化物を主成分とする層は、良好な光透過性を確保しやすいため好ましい。また、ケイ素の酸化物を主成分とする層の中でも、さらに窒素を含む層、例えば酸化窒化ケイ素（ＳｉＯＮ）を含む層は、優れた光透過性を得られるうえ、触覚センサ用前面板１としての視感反射率を低減する効果を得られるため好ましい。
【０２０２】
バリア層７は、上述した高抵抗層３の形成と同様、ＤＣ（直流）マグネトロンスパッタリング等のＤＣ（直流）スパッタリング、ＡＣ（交流）スパッタリング、ＲＦ（高周波）スパッタリング等のスパッタリングにより、透明基体２の上記表面粗さＲａを有する面Ｓ１上に形成することができる。
【０２０３】
バリア層７を、ケイ素の酸化物を主成分とする層とする場合、バリア層７の形成に用いられるターゲットとしては、ケイ素を主成分とするターゲットが用いられる。ケイ素を主成分とするターゲットとしては、ケイ素のみからなるもの、またはケイ素を主成分として含み、かつケイ素以外の元素、例えばホウ素、リン等公知のドーパントを本発明の特徴を損なわない範囲でドープしたものが挙げられる。
【０２０４】
バリア層７のスパッタリングによる形成は、上述した高抵抗層３におけるスパッタリングと同様にして、スパッタガスの圧力や製膜速度等の条件を適宜調整して行うことができる。
【０２０５】
なお、バリア層７として、ケイ素の酸化物を主成分とし、さらに窒素を含む層、例えば酸化窒化ケイ素（ＳｉＯＮ）を含む層を形成する場合には、スパッタガスとして、例えば酸素ガスおよび不活性ガスに、窒素ガス、またはＮ２Ｏ、ＮＯ、ＮＯ２、ＮＨ３等の窒素原子を含むガスを混合した混合ガスを用いて行うことができる。
【０２０６】
このような、ケイ素の酸化物等の無機酸化物からなるバリア層７の形成は、上記のようなスパッタ法に限定されず、例えば真空蒸着法、イオンビームアシスト蒸着法、イオンプレート法等のスパッタ方式以外の物理気相析出法や、プラズマＣＶＤ法等の化学気相析出法等を用いて行うことができる。
【０２０７】
バリア層７の厚さは、好ましくは１００ｎｍ以下であり、より好ましくは５０ｎｍ以下であり、さらに好ましくは３０ｎｍ以下である。バリア層７の厚さが１００ｎｍを超えると、透明基体２の上記表面粗さＲａを有する面Ｓ１における表面形状が、高抵抗層３に十分に反映されないため、高抵抗層３と絶縁層４との界面Ｓ３で生じる反射光を拡散させる効果が十分に得られないおそれがある。バリア層７の厚さを１００ｎｍ以下とすることで、干渉縞の発生が抑制された良好な外観を有するとともに、触覚センサ用前面板１全体として、適度な曲げ強度を有し、かつ十分な光透過性を有するものとすることができる。
【０２０８】
触覚センサ用前面板１において、優れた可視光透過率、可視光反射率を得る観点から、バリア層７の屈折率は、１．４〜２．２が好ましい。
【０２０９】
触覚センサ用前面板１の表面の表面粗さＲａは、０．０５μｍ以下である。触覚センサ用前面板１の表面の表面粗さＲａを０．０５μｍ以下とすることで、触覚センサ用前面板１における白曇り等による光透過性の低下が抑制され、視認性に優れたものとすることができる。触覚センサ用前面板１の表面の表面粗さＲａは、より好ましくは０．０１〜０．０３μｍである。
【０２１０】
触覚センサ用前面板１のヘイズ値は、１％以下であることが好ましく、より好ましくは０．８％以下、さらに好ましくは０．５％以下である。ヘイズ値を１％以下とすることで、触覚センサ用前面板１において十分な光透過性を得ることができ、視認性に優れたものとすることができる。
【０２１１】
触覚センサ用前面板１における視感透過率は、８５％以上である。８５％以上の視感透過率を有することで、十分な視認性を得ることができる。触覚センサ用前面板１における視感透過率は、より好ましくは８８％以上である。
また、触覚センサ用前面板１の表面における視感反射率は、１４％以下が好ましく、１０％以下がより好ましい。
なお、本明細書において、視感透過率および視感反射率は、ＪＩＳ  Ｒ３１０６(１９９８年)に従い測定した昼色光による視感透過率および視感反射率をいう。
【０２１２】
触覚センサ用前面板１の表面における静摩擦係数は、０．２以下が好ましく、０．１５以下がより好ましい。
また、触覚センサ用前面板１の表面における動摩擦係数は、０．２以下が好ましく、０．１５以下がより好ましい。
【０２１３】
触覚センサ用前面板１はその表面において、微小硬度測定試験を用いて評価した押込み弾性率が、２．５ＧＰａ以上であることが好ましく、３．０ＧＰａ以上であることがより好ましい。
ここで、「微小硬度測定試験」は、侵入深さから硬さを算出するこの試験方法であり、これにより、押込み硬さに相当する押込み弾性率（ＧＰａ）を知ることができる。この硬さは、触覚センサ用前面板１の「硬さ」、すなわち、耐擦傷性といった機械的強度を表す指針となる。
【０２１４】
触覚センサ用前面板１の表面における水に対する接触角は、８０度以上が好ましく、９０度以上がより好ましい。水に対する接触角は、接触角計を用いて測定したものである。
【０２１５】
このような触覚センサ用前面板１は、例えば図５に示すように、タッチパネル本体５の前面に設けられるものであり、表現したい触感を再現可能なパターンに制御された電圧および周波数で、不図示の制御部からタッチパネル本体５の透明電極５ａに通電し、触覚センサ用前面板１側に誘起された電荷を、高抵抗層３に蓄積することで、触覚センサ用前面板１を帯電させるように構成されている。このような帯電状態の触覚センサ用前面板１表面に、指等の感覚受容体Ｘが接触することで、絶縁層４を介して両者間に働く微弱な静電気力により、凹凸感等の触覚として感覚受容体Ｘに感知される。
【０２１６】
なお、タッチパネル本体５に透明電極５ａを設ける代わりに、触覚センサ用前面板１に透明電極が配設されていてもよい。すなわち、触覚センサ用前面板１における透明基体２の高抵抗層３が配設されたのと反対側の面Ｓ４に、透明電極が配設されていてもよい。このような構成とすることで、タッチパネル全体の構造を簡素化できるとともに、透明電極と高抵抗層３との距離が近くなるため、駆動電圧を低く抑えることが可能となり好ましい。
【０２１７】
透明電極を構成する材料としては、錫ドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）、インジウム・ガリウムドープ酸化亜鉛（ＩＧＺＯ）、ガリウムドープ酸化亜鉛（ＧＺＯ）等が挙げられる。その中でもＩＴＯが、透過性、抵抗安定性および耐久性が良好であるため好ましい。透明電極の厚さは、５０〜５００ｎｍであることが好ましく、１００〜３００ｎｍであることがより好ましい。厚さが５０ｎｍ以上であることで、十分な抵抗値が得られるうえに、抵抗値の安定性が確保できるので好ましい。５００ｎｍ以下であることで、十分な透過率を確保できるため好ましい。
【０２１８】
触覚センサ用前面板１に透明電極を配設する場合、透明電極の形成方法は、まずスパッタリング法、蒸着法等により透明電極を形成する材料の膜を透明基体２の高抵抗層３の配設面と反対側の表面Ｓ４上に形成する。そして、前記膜を、フォトリソグラフィ法、レーザーパターニング法等により所望の形状にパターニングすることにより透明電極が形成される。
【０２１９】
本発明の実施形態の触覚センサ用前面板１によれば、高抵抗層３の表面抵抗値が１〜１００ＭΩ／□とされており、使用に際して、高抵抗層３と、タッチパネル本体５または触覚センサ用前面板１自体が有する透明電極との電気的作用を生じることなく、所望の触覚を再現性よく発現でき、優れた触覚センサ精度を得られるうえ、透明基体２の高抵抗層３側の面Ｓ１の表面粗さＲａが０．０５〜０．５μｍ、触覚センサ用前面板１の表面の表面粗さＲａが０．０５μｍ以下とされており、干渉縞の発生が抑制された良好な外観を有し、かつ光透過性が高く、視認性に優れたものとすることができる。
【０２２０】
以上、本発明の触覚センサ用前面板の実施形態を、図３〜図７に示されるそれぞれ例を挙げて説明したが、本発明の触覚センサ用前面板はこれらに限定されるものではない。本発明の趣旨に反しない限度において、また必要に応じて、その構成を適宜変更できる。
【実施例】
【０２２１】
以下、実施例を参照して具体的に説明する。なお、以下の説明は本発明を限定するものではなく、本発明の趣旨に沿った形での改変が可能である。例１〜５が実施例であり、例６〜７が比較例である。
＜絶縁層形成用組成物ｂ１の調製＞
撹拌機を装着した３００ｍＬの４つ口フラスコに、酢酸ブチル１級（純正化学社製）の１６３ｇと２−プロパノールの４１ｇを入れ、ここに重合性ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤（大塚化学社製、商品名：Ｒ−ＵＶＡ９３）の２ｇ、光安定剤（ＢＡＳＦ社製、商品名：ＴＩＮＵＶＩＮ２９２）の１ｇ、レベリング剤（ビックケミー社製、商品名：ＢＹＫ３０６）の０．６５ｇ、光重合開始剤（ＢＡＳＦ社製、商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ９０７）の２．５ｇ、および重合禁止剤としてハイドロキノンモノメチルエーテル（純正化学社製）の０．１ｇを加え、溶解させて溶液を得た。【０２２２】
次いで、この溶液に、多官能アクリレート（新中村化学社製、商品名：Ｕ１５ＨＡ）の４０ｇ、多官能アクリレート（東亞合成社製、商品名：Ｍ３２５）の６０ｇ、およびメタクリル酸メチルを主成分とする高分子量体（三菱レイヨン社製、商品名：ＬＲ２４８、分子量約１５万、固形分濃度３０質量％）の３３ｇを加え、均一になるまで室温で撹拌し、溶解させて、紫外線硬化性の絶縁層形成用組成物（ｉ）に相当する絶縁層形成用組成物ｂ１を得た。【０２２３】
［例１］
ガラス基板（旭硝子社製、ソーダライムガラス、縦１００ｍｍ×横１００ｍｍ×厚さ１ｍｍ）の高抵抗層形成面を、ＨＦエッチングによりフロスト処理を行い、ガラス基板Ｑ１を得た。フロスト処理後のガラス基板Ｑ１のフロスト処理面の表面粗さＲａは０．０９３μｍ、ヘイズ値は１５．２％であった。【０２２４】
なお、ガラス基板Ｑ１の表面粗さＲａは、ガラス基板Ｑ１の表面形状をレーザー顕微鏡（株式会社キーエンス社製、製品名「VK-9700」）により５０倍の倍率で測定し、ＪＩＳ  Ｂ０６０１に則って算出した。ガラス基板Ｑ１のヘイズ値は、ヘイズメータ（スガ試験機株式会社製、製品名「HZ-1」）を用いて測定した。【０２２５】
このガラス基板Ｑ１を真空チャンバーに投入し、チャンバー内の圧力が１×１０−４Ｐａとなるまで排気した。その後、ガラス基板Ｑ１のフロスト処理面上に、下記条件でマグネトロンスパッタ方式により成膜処理を行い、バリア層Ｃ１および高抵抗層Ａ１を形成した。【０２２６】
まず、アルゴンガスに４０体積％の酸素ガスを混合した混合ガスを導入しながら、Ｓｉターゲットを用いて、圧力０．３Ｐａ、周波数２０ｋＨｚ、電力密度３．８Ｗ／ｃｍ２、反転パルス幅５μｓｅｃの条件でパルススパッタリングを行い、ガラス基板Ｑ１のフロスト処理面上に、ケイ素酸化物（屈折率：１．４６）からなる厚さ２０ｎｍのバリア層Ｃ１を形成した。【０２２７】
ついで、アルゴンガスに２体積％の酸素ガスを混合した混合ガスを導入しながら、酸化スズターゲット（ＡＧＣセラミックス社製、商品名：ＧＩＴターゲット）と酸化チタンターゲット（ＡＧＣセラミックス社製、商品名：ＴＸＯターゲット）を用いて、圧力０．１Ｐａでマグネトロンスパッタ法によりコスパッタリングを行った。
ＧＩＴターゲットは、周波数２０ｋＨｚ、電力密度３．８Ｗ／ｃｍ２、反転パルス幅５μｓｅｃの条件でパルススパッタリングを行い、ＴＸＯターゲットは、周波数２０ｋＨｚ、電力密度４Ｗ／ｃｍ２、反転パルス幅５μｓｅｃの条件でパルススパッタリングを行った。その結果、ガラス基板Ｑ１表面に、酸化スズ−酸化チタンからなる厚さ２０ｎｍの高抵抗層Ａ１が形成された。【０２２８】
この高抵抗層Ａ１の原子組成をＥＳＣＡ（Physical Electronics社製、装置名：Quantera SXM）により分析したところ、原子比率でＳｎ：Ｔｉ＝９：１であった。また、高抵抗層Ａ１の屈折率を分光透過率と反射率から計算したところ、波長５５０ｎｍで２．１であった。【０２２９】
また、上記で得られたガラス基板Ｑ１、バリア層Ｃ１、高抵抗層Ａ１の順に積層された積層体について測定装置（三菱化学アナリテック社製、装置名：ハイレスタUP(MCP-HT450型)）を用いて高抵抗層Ａ１の表面抵抗値を測定した。上記１０ｃｍ□の積層体の高抵抗層Ａ１表面の中央にプローブをあて、１０Ｖで１０秒間通電して測定したところ、表面抵抗値は５０ＭΩ／□であった。【０２３０】
次いで、高抵抗層Ａ１の上に、以下の方法で密着処理を行った。
まず、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン（信越化学製、商品名：ＫＢＭ５０３）をエタノールで０．１質量％に希釈し、この希釈液を、上記の高抵抗層Ａ１の表面に約１ｃｍ３滴下した後、スピンコーターにより、回転数１０００ｒｐｍで１０秒間、次いで２０００ｒｐｍで０．５秒間回転させて塗布した。その後、恒温槽に入れて１２０℃で３０分間保持した。こうして、高抵抗層Ａ１の上に密着処理を行った。【０２３１】
次に、以下の方法で絶縁層Ｂ１を形成した。
まず、密着処理を施した高抵抗層Ａ１の密着処理表面に、上記で得られた絶縁層形成用組成物ｂ１を約１ｃｍ３滴下し、スピンコーターにより、回転数２００ｒｐｍで１０秒間、次いで２０００ｒｐｍで０．５秒間回転させて塗膜を形成した。その後、恒温槽に入れて１２０℃で１０分間保持し、塗膜を乾燥させた。【０２３２】
次に、乾燥した塗膜が形成された積層体に対し、コンベア付ＵＶ照射装置（ウシオ電機製、装置名：UVC-02516S1）を用いて、ＵＶ照射の積算値が１０００ｍＪ／ｃｍ２、ピーク値が３７５ｍＷ／ｃｍ２となるように、搬送速度とＵＶ強度を調整しながらＵＶ照射を行って、前記乾燥した塗膜を硬化させ、絶縁層形成用組成物ｂ１の硬化体からなる絶縁層Ｂ１を形成した。絶縁層Ｂ１の厚さは１０μｍであった。また、絶縁層Ｂ１の屈折率を分光透過率と反射率から計算したところ、波長５５０ｎｍで１．５５であった。
こうして、ガラス基板Ｑ１のフロスト処理面上に、バリア層Ｃ１と高抵抗層Ａ１と絶縁層Ｂ１とが積層された触覚センサ用前面板１を得た。【０２３３】
［例２］
まず、例１と同様にしてフロスト処理を行ったガラス基板Ｑ１のフロスト処理面上に、下記条件で成膜処理を行い、高抵抗層Ａ２を形成した。【０２３４】
すなわち、アルゴンガスに２体積％の酸素ガスを混合した混合ガスを導入しながら、酸化チタンターゲット（ＡＧＣセラミックス社製、商品名：ＴＸＯターゲット）と酸化ニオブターゲット（ＡＧＣセラミックス社製、商品名：ＮＢＯターゲット）を用いて、圧力０．１Ｐａでマグネトロンスパッタ法によりコスパッタリングを行った。ＴＸＯターゲットは、周波数２０ｋＨｚ、電力密度３．８Ｗ／ｃｍ２、反転パルス幅５μｓｅｃの条件でパルススパッタリングを行い、ＮＢＯターゲットは、周波数２０ｋＨｚ、電力密度１Ｗ／ｃｍ２、反転パルス幅５μｓｅｃの条件でパルススパッタリングを行った。その結果、ガラス基板Ｑ１のフロスト処理面上に、酸化チタン−酸化ニオブからなる厚さ２０ｎｍの高抵抗層Ａ２が形成された。【０２３５】
この高抵抗層Ａ２の原子組成をＥＳＣＡ（Physical Electronics社製、装置名：Quantera SXM）により分析したところ、原子比率でＴｉ：Ｎｂ＝３３：１であった。また、高抵抗層Ａ２の屈折率を分光透過率と反射率から計算したところ、波長５５０ｎｍで２．４であった。さらに、例１と同様に測定した高抵抗層Ａ２の表面抵抗値は３０ＭΩ／□であった。【０２３６】
次に、高抵抗層Ａ２上に、例１と同様にして密着処理を施した後、例１と同様にして、厚さ１０μｍの絶縁層Ｂ１を形成した。こうして、ガラス基板Ｑ１のフロスト処理面上に、高抵抗層Ａ２、絶縁層Ｂ１が積層された触覚センサ用前面板２を得た。【０２３７】
［例３］
ガラス基板（旭硝子社製、商品名：ドラゴントレイル、縦１００ｍｍ×横１００ｍｍ×厚さ１ｍｍ）の高抵抗層形成面を、ＨＦエッチングによりフロスト処理を行い、ガラス基板Ｑ２を得た。フロスト処理後のガラス基板Ｑ２のフロスト処理面の表面粗さＲａおよびヘイズ値を、例１と同様にして測定したところ、表面粗さＲａは０．１０３μｍ、ヘイズ値は１７．８％であった。このガラス基板Ｑ２を、ガラス基板Ｑ１に代えて用いたこと以外は、例１と同様にして触覚センサ用前面板３を得た。【０２３８】
［例４］
ガラス基板（旭硝子社製、ソーダライムガラス、縦１００ｍｍ×横１００ｍｍ×厚さ１ｍｍ）の高抵抗層形成面を、ＨＦエッチングにより例１に比べてより深くエッチングされる条件でフロスト処理を行い、ガラス基板Ｑ３を得た。フロスト処理後のガラス基板Ｑ３のフロスト処理面の表面粗さＲａおよびヘイズ値を、例１と同様にして測定したところ、表面粗さＲａは０．１３３μｍ、ヘイズ値は２５．８％であった。このガラス基板Ｑ３を、ガラス基板Ｑ１に代えて用いたこと以外は、例１と同様にして触覚センサ用前面板４を得た。【０２３９】
［例５］
まず、例１と同様にしてフロスト処理を行ったガラス基板Ｑ１のフロスト処理面上に、例１と同様にしてバリア層Ｃ１、高抵抗層Ａ１を形成した。その後、高抵抗層Ａ１上に、例１と同様にして密着処理を行った。【０２４０】
次に、密着処理を施した高抵抗層Ａ１の密着処理表面に、上記で得られた絶縁層形成用組成物ｂ１を約１ｃｍ３滴下し、スピンコーターにより、回転数１０００ｒｐｍで１０秒間、次いで２０００ｒｐｍで０．５秒間回転させて塗膜を形成した。その後、恒温槽に入れて１２０℃で１０分間保持し、塗膜を乾燥させた。【０２４１】
次いで、乾燥した塗膜が形成された積層体に対し、例１と同様にして、搬送速度とＵＶ強度を調整しながらＵＶ照射を行って前記乾燥した塗膜を硬化させ、絶縁層形成用組成物ｂ１の硬化体からなる絶縁層Ｂ１を形成した。絶縁層Ｂ１の厚さは３μｍであった。
こうして、ガラス基板Ｑ１のフロスト処理面上に、バリア層Ｃ１と高抵抗層Ａ１と絶縁層Ｂ１とが積層された触覚センサ用前面板５を得た。【０２４２】
［例６］
ガラス基板Ｑ１に代えて、フロスト処理を行わないガラス基板（旭硝子社製、ソーダライムガラス、縦１００ｍｍ×横１００ｍｍ×厚さ１ｍｍ）からなるガラス基板Ｑ４を用いたこと以外は、例１と同様にして触覚センサ用前面板６を得た。用いたガラス基板Ｑ４の高抵抗層形成面の表面粗さＲａおよびヘイズ値を、例１と同様にして測定したところ、表面粗さＲａは０μｍ、ヘイズ値は０％であった。これは、いずれも測定限界以下、すなわち、表面粗さＲａは０．０１μｍ以下、ヘイズ値は０．１％以下であったという意味である。【０２４３】
［例７］
まず、例１と同様にしてフロスト処理を行ったガラス基板Ｑ１のフロスト処理面上に、例１と同様にしてバリア層Ｃ１、高抵抗層Ａ１を形成した。その後、高抵抗層Ａ１上に、例１と同様にして密着処理を行った。【０２４４】
次に、密着処理を施した高抵抗層Ａ１の密着処理表面に、上記で得られた絶縁層形成用組成物ｂ１を約１ｃｍ３滴下し、スピンコーターにより、回転数２０００ｒｐｍで１０秒間、次いで３０００ｒｐｍで０．５秒間回転させて塗膜を形成した。その後、恒温槽に入れて１２０℃で１０分間保持し、塗膜を乾燥させた。【０２４５】
次に、乾燥した塗膜が形成された積層体に対し、例１と同様にして、搬送速度とＵＶ強度を調整しながらＵＶ照射を行って前記乾燥した塗膜を硬化させ、絶縁層形成用組成物ｂ１の硬化体からなる絶縁層Ｂ１を形成した。絶縁層Ｂ１の厚さは０．４μｍであった。
こうして、ガラス基板Ｑ１のフロスト処理面上に、バリア層Ｃ１と高抵抗層Ａ１と絶縁層Ｂ１とが積層された触覚センサ用前面板７を得た。【０２４６】
［触覚センサ用前面板の評価］
例１〜７で得られた触覚センサ用前面板１〜７について、視感反射率、視感透過率、表面粗さＲａ、反射色味の角度依存性、ヘイズ値、および触覚センサの感度を、それぞれ以下に示す方法で測定した。触覚センサ用前面板１〜７の各層の構成および特性を表１に示し、触覚センサ用前面板についての上記各特性の測定結果を表２に示す。
なお、表１において各層の種類や構成については、例えば「ガラス基板Ｑ１」については「Ｑ１」というように、それぞれ略号のみを記載した。【０２４７】
（視感反射率）
分光光度計（島津製作所社製、装置名：SolidSpec3700）により、各触覚センサ用前面板の絶縁層側の表面における分光反射率を測定し、その反射率から、ＪＩＳ  Ｒ３１０６に準じ、視感反射率（％）を求めた。
このうち、例１、例３、例６の触覚センサ用前面板についての３００〜８５０ｎｍの波長域での反射率の測定結果を、それぞれ図８、図９、図１０に示す。【０２４８】
（視感透過率）
分光光度計（島津製作所社製、装置名：SolidSpec3700）を用いて、各触覚センサ用前面板の分光透過率を測定した。そして、ＪＩＳ  Ｒ３１０６に準じ、視感透過率（％）を求めた。
このうち、例１、例６の触覚センサ用前面板についての３００〜８５０ｎｍの波長域での透過率の測定結果を、それぞれ図１１、図１２に示す。【０２４９】
（表面粗さＲａ）
レーザー顕微鏡（株式会社キーエンス社製、製品名「VK-9700」）を用いて、倍率を５０倍に設定して、各触覚センサ用前面板の絶縁層側の表面の表面形状を測定し、ＪＩＳ  Ｂ０６０１に則って算出した。【０２５０】
（反射色味の角度依存性）
各触覚センサ用前面板１〜７において、ガラス基板側の表面（ガラス基板の高抵抗層形成面とは反対側の面）を黒色に塗ることで裏面反射を相殺するようにした触覚センサ用前面板を絶縁層側が上に向くようにして机上に配置した。また、机上から４０ｃｍの高さに昼色光直管蛍光灯（日本電気株式会社製、３波長形昼白色）のスタンドを配置した。
この蛍光灯による照射光の下、触覚センサ用前面板の表面（絶縁層面）を種々の角度から目視で観察し、目視する角度による、反射光の色調の変化を評価した。【０２５１】
いずれの角度から目視観察した場合も、触覚センサ用前面板の表面の色調が単色（主に青色等）であったもの、または、目視角度を１０度より超えて変化させた場合でも、色調の変化が緩やかであったものを「○」とし、目視角度を１０度以下の範囲で変化させたときに、触覚センサ用前面板の表面の色調が変化したものを「×」とした。【０２５２】
（ヘイズ値）
各触覚センサ用前面板のヘイズ値は、ヘイズメータ（スガ試験機株式会社製、製品名「HZ-1」）を用いて測定した。【０２５３】
（触覚センサの感度）
各触覚センサ用前面板１〜７において、ガラス基板側の表面の４辺に銅製の導電テープ（銅箔にポリエチレンテレフタレートフィルム（厚さ１０μｍ）を貼り付けたテープ）を貼り、周波数４００Ｈｚ前後で、２ｋＶの電圧を印加した。
このような通電状態の触覚センサ用前面板１〜７の表面（絶縁層側の表面）を指先でなぞり、指先で感知される触覚の大きさにより、触覚センサ感度を４段階で評価した。
表２中、０〜４は、それぞれ「０：全く感じない」、「１：かすかに感じるが弱い」、「２：感じる」、「３：十分感じる」状態であったことを示す。【０２５４】
なお、感度評価の印加電圧（２ｋＶ）は、以下のとおり決定した。
触覚センサ用前面板のガラス基板側の表面に設けた導電テープからの供給電圧を、印加電圧７５０Ｖ〜１００ｋＶの間で調整しながら行ったところ、約２ｋＶ程度で触覚が発現したため、この電圧値に基づいてセンサ感度の評価を行った。【０２５５】
【表１】
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【０２５６】
【表２】
2014002731.tif 000006
【０２５７】
表１、２から明らかなように、例１〜５の触覚センサ用前面板では、高抵抗層が１〜１００ＭΩ／□の表面抵抗値を有しており、良好なセンサ感度を得られていた。また、例１〜５では、各ガラス基板（透明基体）の高抵抗層側の面が０．０５〜０．５μｍの表面粗さＲａを有し、かつ触覚センサ用前面板の表面が０．０５μｍ以下の表面粗さＲａを有しており、反射色味の変動が少なく、干渉縞の無い良好な外観を有しており、ヘイズ値が１％以下と低く、視感透過率が８５％以上で、優れた視認性を有していた。【０２５８】
一方、例６では、ガラス基板（透明基体）の高抵抗層側の面の表面粗さＲａが０．０５μｍ未満であり、干渉縞による反射色味の変動が大きく、外観に劣るものであった。また、例７では、触覚センサ用前面板の表面の表面粗さが０．０５μｍを超えており、ヘイズ値が１％超と高く、また反射色味の変動が生じており、視認性、外観ともに劣るものであった。【０２５９】
また、図８、９で示されるように、ガラス基板の高抵抗層側の面の表面粗さＲａが０．０５〜０．５μｍである、例１および例３の触覚センサ用前面板では、照射光の波長の変化に伴う反射率の変動が抑制されており、干渉縞による外観の低下が生じ難いことが確認された。これに対し、図１０で示されるように、ガラス基板の高抵抗層側の面の表面粗さＲａが０．０５μｍ未満である例６の触覚センサ用前面板では、照射光の波長の変化に伴う反射率の変動が大きく、回折縞による外観の低下が生じ易いものであった。【０２６０】
また、図１１で示されるように、ガラス基板の高抵抗層側の面の表面粗さＲａが０．０５〜０．５μｍである例１の触覚センサ用前面板では、照射光の波長の変化に伴う光透過率の変動が抑制されているのに対し、図１２で示されるように、ガラス基板の高抵抗層側の面の表面粗さＲａが０．０５μｍ未満である例６の触覚センサ用前面板では、照射光の波長の変化に伴う光透過率の変動が大きく、光透過性の安定性に劣るものであった。
【符号の説明】
【０２６１】
１…触覚センサ用前面板、２，１０２…透明基体、３…高抵抗層、４，１０４…絶縁層、５，１００…タッチパネル本体、５ａ…透明電極、６…撥水層、７…バリア層、１０１…前面板、１０３…透明基体１０２上に形成した層、Ｓ１…透明基体２の高抵抗層３側の面、Ｓ２…絶縁層４の高抵抗層３側と反対側の面、Ｓ３…絶縁層４と高抵抗層３との界面、Ｓ４…触覚センサ用前面板１の透明基体２側の面、Ｓ５…撥水層６の絶縁層４側と反対側の面、Ｌ１，Ｌ２，Ｌ４，Ｌ５…反射光、Ｌ３…入射光、Ｘ…感覚受容体。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
2014002731.tif 000013
【図８】
2014002731.tif 000014
【図９】
2014002731.tif 000015
【図１０】
2014002731.tif 000016
【図１１】
2014002731.tif 000017
【図１２】
2014002731.tif 000018
【国際調査報告】
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2014002731.tif 000020
2014002731.tif 000021
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