【手続補正書】
【提出日】平成27年5月18日(2015.5.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本開示は、有機層を含む自発光型の発光素子を有する表示装置、およびそのような表示装置を備えた電子機器に関する。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
【図１】本開示の一実施の形態に係る表示装置の構成を表す図である。
【図２】図１に示した画素駆動回路の一例を表す図である。
【図３】図１に示した表示領域の構成を表す平面図である。
【図４】図１に示した表示領域の構成を表す断面図である。
【図５】図１に示した表示領域の構成を表す他の断面図である。
【図６】図４および図５に示した有機層を拡大して表す断面図である。
【図７】第１の変形例としての表示装置の要部構成を表す断面図である。
【図８】第２の変形例としての表示装置の要部構成を表す断面図である。
【図９Ａ】第３の変形例としての表示装置の要部構成を表す断面図である。
【図９Ｂ】第４の変形例としての表示装置の要部構成を表す断面図である。
【図９Ｃ】第５の変形例としての表示装置の要部構成を表す拡大断面図である。
【図１０】第６の変形例としての表示装置の要部構成を表す断面図である。
【図１１】上記実施の形態等の表示装置を含むモジュールの概略構成を表す平面図である。
【図１２】表示装置の第１の適用例としてのテレビジョン装置の外観を表す斜視図である。
【図１３Ａ】表示装置の第２の適用例としてのデジタルカメラにおける外観を表す第１の斜視図である。
【図１３Ｂ】表示装置の第２の適用例としてのデジタルカメラにおける外観を表す第２の斜視図である。
【図１４】表示装置の第３の適用例としてのノート型パーソナルコンピュータの外観を表す斜視図である。
【図１５】表示装置の第４の適用例としてのビデオカメラの外観を表す斜視図である    。
【図１６Ａ】表示装置の第５の適用例としての携帯電話機における、閉じた状態の外観を表す正面図、左側面図、右側面図、上面図、下面図である。
【図１６Ｂ】表示装置の第５の適用例としての携帯電話機における、開いた状態の正面図および側面図である。
【図１７Ａ】表示装置を用いた第６の適用例としてのタブレット型ＰＣにおける外観を表す第１の斜視図である。
【図１７Ｂ】表示装置を用いた第６の適用例としてのタブレット型ＰＣにおける外観を表す第２の斜視図である。
【図１８】第７の変形例としての表示装置の要部構成を表す断面図である。
【図１９Ａ】第８の変形例としての表示装置の要部構成を表す断面図である。
【図１９Ｂ】第９の変形例としての表示装置の要部構成を表す拡大断面図である。
【図２０】第１０の変形例としての表示装置の要部構成を表す断面図である。
【図２１Ａ】第１１の変形例としての表示装置の要部構成を表す断面図である。
【図２１Ｂ】第１２の変形例としての表示装置の要部構成を表す断面図である。
【図２２Ａ】第１３の変形例としての表示装置の要部構成を表す断面図である。
【図２２Ｂ】第１３の変形例としての表示装置の要部構成を表す他の断面図である。
【図２３】図２２Ａ，２２Ｂに示した表示装置の製造方法を説明するための斜視図である。
【図２４Ａ】第１４の変形例としての表示装置の要部構成を表す断面図である。
【図２４Ｂ】第１４の変形例としての表示装置の要部構成を表す他の断面図である。
【図２５】第１５の変形例としての表示装置の要部構成を表す断面図である。
【図２６】図２５に示した表示装置の製造方法を説明するための斜視図である。
【図２７】第１６の変形例としての表示装置の要部構成を表す断面図である。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
＜実施の形態＞
［有機ＥＬ表示装置の全体構成例］
図１は、本開示の一実施の形態に係る有機ＥＬ表示装置１（以下、単に表示装置１という。）の全体構成例を表すものである。表示装置１は、有機ＥＬテレビジョン装置などとして用いられるものであり、基板１１１の上に表示領域１１０Ａが設けられている。この表示領域１１０Ａ内には、複数のサブ画素１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂがマトリクス状に配置されている。サブ画素１０Ｒは赤色を表示し、サブ画素１０Ｇは緑色を表示し、サブ画素１０Ｂは青色を表示する。ここでは、同色を表示するサブ画素をＹ方向に一列に並べ、それをＸ方向に順に繰り返し配置するようにしている。したがって、Ｘ方向に並ぶ３つのサブ画素の組み合わせが一つの画素（ピクセル）を構成している。また、表示領域１１０Ａの周辺（外縁側，外周側）に位置する周辺領域１１０Ｂには、映像表示用のドライバ（後述する周辺回路１２Ｂ）である信号線駆動回路１２０および走査線駆動回路１３０が設けられている。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
［表示装置の平面構成例］
図３に、ＸＹ平面に広がる表示領域１１０Ａの一構成例を表す。ここでは、第２電極層１６、充填層１８および封止基板１９（いずれも後出）を取り去った状態の表示領域１１０Ａと、それを取り囲む周辺領域１１０Ｂとを、上方から眺めた平面構成を模式的に表す。図３に示したように、表示領域１１０Ａには、複数のＥＬ素子１０ＷがＸ方向およびＹ方向に並び、全体としてマトリックス状に配列されている。より詳細には、開口規定絶縁膜２４によって相互に分離され、輪郭が規定された発光部２０を各々含むＥＬ素子１０Ｗが、サブ画素１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂに対応して１つずつ配置されている。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
平坦化膜２１８の上に形成された下部電極である第１電極層１３は反射層としての機能も兼ねており、できるだけ高い反射率を有する材料によって構成することが発光効率を高める上で望ましい。そのため、第１電極層１３は、例えばアルミニウム（Ａｌ）やアルミニウムネオジウム合金（ＡｌＮｄ）などの高反射率材料によって構成される。第１電極層１３は、例えば、積層方向の厚み（以下、単に厚みと言う）が１０ｎｍ以上１０００ｎｍ以下のものである。第１電極層１３の構成材料としては、上記材料に限られず、クロム（Ｃｒ），金（Ａｕ），白金（Ｐｔ），ニッケル（Ｎｉ），銅（Ｃｕ），タングステン（Ｗ）あるいは銀（Ａｇ）などの金属元素の単体または合金でもよい。また、これらの金属元素の単体または合金よりなる金属膜と、インジウムとスズの酸化物（ＩＴＯ）、ＩｎＺｎＯ（インジウム亜鉛オキシド）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）とアルミニウム（Ａｌ）との化合物などの透明導電膜との積層構造を有していてもよい。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３１】
正孔注入層１４Ａは、発光層１４Ｃへの正孔注入効率を高めるためのものであると共に、リークを防止するためのバッファ層である。正孔注入層１４Ａの厚みは例えば５ｎｍ〜１００ｎｍであることが好ましく、より好ましくは８ｎｍ〜５０ｎｍである。正孔注入層１４Ａの構成材料は、電極や隣接する層の材料との関係で適宜選択すればよく、ポリアニリン、ポリチオフェン、ポリピロール、ポリフェニレンビニレン、ポリチエニレンビニレン、ポリキノリン、ポリキノキサリンおよびそれらの誘導体、芳香族アミン構造を主鎖又は側鎖に含む重合体などの導電性高分子、金属フタロシアニン（銅フタロシアニン等）、カーボンなどが挙げられる。正孔注入層１４Ａに用いられる材料が高分子材料である場合には、その高分子材料の重量平均分子量（Ｍｗ）は１万〜３０万の範囲であればよく、特に５０００〜２０万程度が好ましい。また、２０００〜１万程度のオリゴマーを用いてもよいが、Ｍｗが５０００未満では正孔輸送層以後の層を形成する際に、正孔注入層が溶解してしまうおそれがある。また３０万を超えると材料がゲル化し、成膜が困難になるおそれがある。正孔注入層１４Ａの構成材料として使用される典型的な導電性高分子としては、例えばポリアニリン、オリゴアニリンおよびポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）（ＰＥＤＯＴ）などのポリジオキシチオフェンが挙げられる。この他、エイチ・シー・スタルク製Nafion(商標)で市販されているポリマー、または商品名Liquion(商標)で溶解形態で市販されているポリマーや、日産化学製エルソース（商標）や、綜研化学製導電性ポリマーベラゾール（商標）などがある。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３２】
正孔輸送層１４Ｂは、発光層１４Ｃへの正孔輸送効率を高めるためのものである。正孔輸送層１４Ｂの厚みは、素子の全体構成にもよるが、例えば１０ｎｍ〜２００ｎｍであることが好ましく、さらに好ましくは１５ｎｍ〜１５０ｎｍである。正孔輸送層１４Ｂを構成する高分子材料としては、有機溶媒に可溶な発光材料、例えば、ポリビニルカルバゾール、ポリフルオレン、ポリアニリン、ポリシランまたはそれらの誘導体、側鎖または主鎖に芳香族アミンを有するポリシロキサン誘導体、ポリチオフェンおよびその誘導体、ポリピロールなどを用いることができる。正孔輸送層１４Ｂに用いられる材料が高分子材料である場合には、その重量平均分子量（Ｍｗ）は５万〜３０万であることが好ましく、特に、１０万〜２０万であることが好ましい。Ｍｗが５万未満では、発光層１４Ｃを形成するときに、高分子材料中の低分子成分が脱落し、正孔注入層１４Ａ，正孔輸送層１４Ｂにドットが生じるため、有機ＥＬ素子の初期性能が低下したり、素子の劣化を引き起こしたりするおそれがある。一方、３０万を越えると、材料がゲル化するため、成膜が困難になるおそれがある。なお、重量平均分子量（Ｍｗ）は、テトラヒドロフランを溶媒として、ゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ；Gel Permeation Chromatography）により、ポリスチレン換算の重量平均分子量を求めた値である。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３４】
また、発光層１４Ｃを構成する高分子材料に低分子材料を添加することが好ましい。発光層１４Ｃに添加する低分子材料は、低分子化合物が同じ反応または類似の反応を連鎖的に繰り返すことにより生じた高分子量の重合体または縮合体の分子からなる化合物以外のものであって、分子量が実質的に単一であるものを指す。また加熱による分子間の新たな化学結合は生じず、単分子で存在する。このような低分子材料の重量平均分子量（Ｍｗ）は５万以下であることが好ましい。これは分子量の大きい、例えば５万以上の材料に比べてある程度小さい分子量の材料のほうが多様な特性を有し、正孔または電子の移動度やバンドギャップあるいは溶媒への溶解度などを調整しやすいためである。また、低分子材料の添加量は、発光層１４Ｃに用いられる高分子材料：低分子材料の混合比率が、その重量比で１０：１以上１：２以下になるようにすることが好ましい。高分子材料：低分子材料の混合比率が１０：１未満では、低分子材料の添加による効果が低くなるためである。また、この混合比率が１：２を超える場合には、発光材料としての高分子材料が有する特性が得られにくくなるためである。このような低分子材料としては、例えば、ベンジン、スチリルアミン、トリフェニルアミン、ポルフィリン、トリフェニレン、アザトリフェニレン、テトラシアノキノジメタン、トリアゾール、イミダゾール、オキサジアゾール、ポリアリールアルカン、フェニレンジアミン、アリールアミン、オキサゾール、アントラセン、フルオレノン、ヒドラゾン、スチルベンあるいはこれらの誘導体、または、ポリシラン系化合物、ビニルカルバゾール系化合物、チオフェン系化合物あるいはアニリン系化合物等の複素環式共役系のモノマーあるいはオリゴマーを用いることができる。さらに具体的な材料としては、α−ナフチルフェニルフェニレンジアミン、ポルフィリン、金属テトラフェニルポルフィリン、金属ナフタロシアニン、ヘキサシアノアザトリフェニレン、７,７,８,８−テトラシアノキノジメタン（ＴＣＮＱ）、７,７,８,８−テトラシアノ−２，３，５，６-テトラフルオロキノジメタン（Ｆ４−ＴＣＮＱ）、テトラシアノ４、４、４−トリス（３−メチルフェニルフェニルアミノ）トリフェニルアミン、Ｎ、Ｎ、Ｎ’、Ｎ’−テトラキス（ｐ−トリル）ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ、Ｎ、Ｎ’、Ｎ’−テトラフェニル−４、４’−ジアミノビフェニル、Ｎ−フェニルカルバゾール、４−ジ−ｐ−トリルアミノスチルベン、ポリ（パラフェニレンビニレン）、ポリ（チオフェンビニレン）、ポリ（２、２’−チエニルピロール）などが挙げられるが、これらに限定されるものではない。なお、発光層１４Ｃに添加する低分子材料は１種類だけでなく、複数種類を混合して用いてもよい。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３８】
なお、有機層１４は、発光層１４Ｃと接するように、他の正孔輸送層をさらに有していてもよい。この他の正孔輸送層は蒸着法を用いて形成するため、低分子材料、特にモノマーを用いることが好ましい。オリゴマーまたは高分子材料のような重合された分子は蒸着中分解が起こるおそれがあるためである。なお、他の正孔輸送層に用いる低分子材料は分子量の異なる２種以上の材料を混合して用いてもよい。他の正孔輸送層に用いられる低分子材料としては、発光層１４Ｃにおいて説明した低分子材料と同様に、例えば、ベンジン、スチリルアミン、トリフェニルアミン、ポルフィリン、トリフェニレン、アザトリフェニレン、テトラシアノキノジメタン、トリアゾール、イミダゾール、オキサジアゾール、ポリアリールアルカン、フェニレンジアミン、アリールアミン、オキサゾール、アントラセン、フルオレノン、ヒドラゾン、スチルベンあるいはこれらの誘導体、または、ポリシラン系化合物、ビニルカルバゾール系化合物、チオフェン系化合物あるいはアニリン系化合物等の複素環式共役系のモノマー、オリゴマーまたはポリマーを用いることができる。さらに具体的な材料としては、α−ナフチルフェニルフェニレンジアミン、ポルフィリン、金属テトラフェニルポルフィリン、金属ナフタロシアニン、ヘキサシアノアザトリフェニレン、７,７,８,８−テトラシアノキノジメタン（ＴＣＮＱ）、７,７,８,８−テトラシアノ−２，３，５，６−テトラフルオロキノジメタン（Ｆ４−ＴＣＮＱ）、テトラシアノ４、４、４−トリス（３−メチルフェニルフェニルアミノ）トリフェニルアミン、Ｎ、Ｎ、Ｎ’、Ｎ’−テトラキス（ｐ−トリル）ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ、Ｎ、Ｎ’、Ｎ’−テトラフェニル−４、４’−ジアミノビフェニル、Ｎ−フェニルカルバゾール、４−ジ−ｐ−トリルアミノスチルベン、ポリ（パラフェニレンビニレン）、ポリ（チオフェンビニレン）、ポリ（２、２’−チエニルピロール）などが挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５９】
＜変形例＞
続いて、上記実施の形態の変形例（変形例１〜６）について説明する。なお、上記実施の形態における構成要素と同一のものには同一の符号を付し、適宜説明を省略する。
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６１】
［変形例２〜５］
図８，図９Ａ，図９Ｂは、それぞれ、変形例２〜４としての有機ＥＬ表示装置（以下、単に表示装置）１Ｂ，１Ｃ１，１Ｃ２の断面構成を表す。また、図９Ｃは、変形例５としての表示装置１Ｃ３の要部を拡大した断面構成を表す。本変形例２〜５は、いずれもシール部２３と対応する領域に分離溝２７を設けるようにしたものであり、他は上記実施の形態と同様の構成を有する。分離溝２７は、シール部２３と同様に、ＸＹ平面において環状をなすように表示領域１１０Ａを取り囲むように延在している。分離溝２７は、表示領域１１０Ａに設けられた開口規定絶縁膜２４および平坦化膜２１８と、周辺領域１１０Ｂに設けられた開口規定絶縁膜２４および平坦化膜２１８とを分離するものであり、その底部は保護膜２１７に到達している。分離溝２７においては、防湿膜１７（表示装置１Ｃ３では防湿膜２９）が充填されている。特に表示装置１Ｂ（変形例２）では、分離溝２７の内壁面を防湿膜１７が直接覆っている。また、表示装置１Ｃ１，１Ｃ２，１Ｃ３（変形例３〜５）では、分離溝２７における内壁面および底面を覆うように金属膜２８がさらに設けられている。なお、この金属膜２８は、図９Ｂに示した表示装置１Ｃ２のように、例えば第２電極層１６と同種の材料からなり、第２電極層１６と一体化されたものであってもよい。あるいは、図９Ａ，９Ｃにそれぞれ示した表示装置１Ｃ１，１Ｃ３のように、金属膜２８を第２電極層１６と別体として形成する場合、第２電極層１６と異なる材料を選択してもよい。また、表示装置１Ｃ３のように、表示領域１１０Ａにおける開口規定絶縁膜２４および第２電極層１６を覆う防湿膜１７とは別体として、分離溝２７の内部を充填し、かつ周辺領域１１０Ｂにおける保護膜２１７および平坦化膜２１８を覆う３層構造の防湿膜２９を設けるようにしてもよい。防湿膜２９は、保護膜２１７および平坦化膜２１８の上に、第１〜第３の層２９１〜２９３が順に積層されたものである。第１および第３の層２９１，２９３は、例えば窒化シリコン（ＳｉＮx）などからなる窒化膜であり、第２の層２９２は、例えば酸化シリコン（ＳｉＯx）などの酸化物膜である。また、表示装置１Ｂ，１Ｃ１，１Ｃ２，１Ｃ３では、分離溝２７を複数設けるようにしてもよい。
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７２】
（適用例６）
図１７Ａ，１７Ｂは、いわゆるタブレット型パーソナルコンピュータ（ＰＣ）の外観構成を表している。このタブレット型ＰＣは、例えば、表示部８１０と、それを保持する筐体などの非表示部８２０と、電源スイッチなどの操作部８３０とを備えている。なお、操作部８３０は、図１７Ａに示したように非表示部８２０の前面に設けられていてもよいし、図１７Ｂに示したように上面に設けられていてもよい。表示部８１０は、映像表示機能のほか、位置入力機能（ポインティング機能）を備えたタッチスクリーン（タッチパネル）である。
【手続補正１３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７３】
＜その他の変形例＞
以上、実施の形態およびいくつかの変形例を挙げて本技術を説明したが、本技術は上記実施の形態等に限定されるものではなく、種々変形が可能である。例えば、上記実施の形態等では、周辺領域１１０Ｂにおける平坦化膜２１８などを防湿膜１７，２９によって覆うことで、ＥＬ素子１０Ｗ内部への水分浸入を防止するようにした本開示はこれに限定されるものではない。例えば図１８に示した表示装置１Ｅのように、防湿膜１７の替わりにシール部２３と対応する領域に分離溝２７を設けると共に、シール部２３を金属材料によって形成し、シール部２３の一部が分離溝２７を充填するようにしてもよい（第７の変形例）。シール部２３に適用される金属材料としては、例えば白金（Ｐｔ），金（Ａｕ），銀（Ａｇ），クロム（Ｃｒ），タングステン（Ｗ），ニッケル（Ｎｉ），銅（Ｃｕ），鉄（Ｆｅ），コバルト（Ｃｏ），タンタル（Ｔａ），アルミニウム（Ａｌ），ネオジム（Ｎｄ）あるいはモリブデン（Ｍｏ）などの 金属元素の単体または合金が挙げられる。より具体的には、銀を主成分とし、０．３重量％〜１重量％の パラジウム（Ｐｄ）および０．３重量％〜１重量％の銅を含有するＡｇ−Ｐｄ−Ｃｕ合金や、 Ａｌ−Ｎｄ合金を用いることができる。 または、ジュメット線（鉄ニッケル合金線を心材とした銅線（銅被覆鉄ニッケル合金線））をシール部２３に適用してもよい。
【手続補正１４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７８】
また、本技術では、防湿膜１７の替わりにシール部２３と対応する領域に分離溝２７を設けると共に、その分離溝２７の内面を金属層２８と３層構造の防湿膜によって覆うようにしてもよい。そのような３層構造の防湿膜は、例えば窒化シリコン（ＳｉＮx）などからなる一対の窒化物膜、もしくは炭化シリコン（ＳｉＣx）などからなる一対の炭化物膜によって酸化シリコン（ＳｉＯx）などの酸化物膜を挟んだものである。または、酸化シリコン（ＳｉＯx）などからなる一対の酸化物膜により、窒化シリコン（ＳｉＮx）などからなる窒化物膜もしくは炭化シリコン（ＳｉＣx）などからなる炭化物膜を挟んだものである。そのような３層構造の防湿膜は、例えば窒化シリコン（ＳｉＮx）などからなる一対の窒化物膜によって酸化シリコン（ＳｉＯx）などの酸化物膜を挟んだものである。なお、その３層構造の防湿膜を周辺領域１１０Ｂにまで延在し、平坦化膜２１８などを防湿膜３４によって覆うようにすると、より防湿性能が向上するので好ましい。
【手続補正１５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８２】
また、本技術は以下のような構成を取り得るものである。
（１）
対向配置された第１および第２の基板と、
前記第１の基板上に設けられた第１の有機絶縁層と、
前記第１の有機絶縁層上における前記第２の基板と対向する表示領域に配列された複数の発光素子と、
前記第１の基板上における前記表示領域を取り囲む周辺領域において前記第１の有機絶縁層を覆う第１の防湿膜と
を有する表示装置。
（２）
前記第１の有機絶縁層の上に、前記複数の発光素子を相互に分離すると共に前記複数の発光素子における発光領域を各々画定する第２の有機絶縁層を有し、
前記第１の防湿膜は、前記周辺領域において前記第２の有機絶縁層をも覆っている
上記（１）記載の表示装置。
（３）
前記第１の防湿膜は、前記表示領域においても前記第２の有機絶縁層を覆っている
上記（２）記載の表示装置。
（４）
前記第１の防湿膜は、前記表示領域から前記周辺領域に至るまで連続的に前記第１の有機絶縁層を覆っている
上記（１）〜（３）のいずれか１つに記載の表示装置。
（５）
前記第１の有機絶縁層と前記第２の有機絶縁層との間に、第２の防湿膜を有する
上記（１）〜（４）のいずれか１つに記載の表示装置。
（６）
前記第１の基板と前記第１の有機絶縁層との間に無機絶縁層を有し、
前記無機絶縁層と前記第１の有機絶縁層との間に第３の防湿膜を有する
上記（１）〜（５）のいずれか１つに記載の表示装置。
（７）
前記第１の防湿膜は、窒化シリコン（ＳｉＮｘ）または金属材料からなる
上記（１）〜（６）のいずれか１つに記載の表示装置。
（８）
前記表示領域に設けられた前記第１の有機絶縁層と、前記周辺領域に設けられた前記第１の有機絶縁層とを分離する分離溝を有する
上記（１）〜（７）のいずれか１つに記載の表示装置。
（９）
前記分離溝の内面は、前記第１の防湿膜によって覆われている
上記（８）記載の表示装置。
（１０）
前記分離溝の内面は、金属材料層によって覆われている
上記（８）記載の表示装置。
（１１）
前記表示領域と前記周辺領域とは、前記第２の基板の、前記第１の基板と対向する対向面における周縁部に沿って設けられたシール部によって仕切られている
上記（１）〜（１０）のいずれか１つに記載の表示装置。
（１２）
前記シール部は、導電性材料からなる
上記（１１）記載の表示装置。
（１３）
前記第１の防湿膜は、
前記第１の基板の端面から前記第２の基板の端面に亘って設けられ、前記第１の基板と前記第２の基板とによって挟まれた領域を封止する
上記（１）〜（１２）のいずれか１つに記載の表示装置。
（１４）
前記第１の防湿膜は、金属材料または無機絶縁材料からなる
上記（１３）記載の表示装置。
（１５）
表示装置を備えた電子機器であって、
前記表示装置は、
対向配置された第１および第２の基板と、
前記第１の基板上に設けられた第１の有機絶縁層と、
前記第１の有機絶縁層上における前記第２の基板と対向する表示領域に配列された複数の発光素子と、
前記第１の基板上における前記表示領域を取り囲む周辺領域において前記第１の有機絶縁層を覆う防湿膜と
を有する
電子機器。
【手続補正１６】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
対向配置された第１および第２の基板と、
前記第１の基板上に設けられた第１の有機絶縁層と、
前記第１の有機絶縁層上における前記第２の基板と対向する表示領域に配列された複数の発光素子と、
前記第１の基板上における前記表示領域を取り囲む周辺領域において前記第１の有機絶縁層を覆う第１の防湿膜と
を有する表示装置。
【請求項２】
前記第１の有機絶縁層の上に、前記複数の発光素子を相互に分離すると共に前記複数の発光素子における発光領域を各々画定する第２の有機絶縁層を有し、
前記第１の防湿膜は、前記周辺領域において前記第２の有機絶縁層をも覆っている
請求項１記載の表示装置。
【請求項３】
前記第１の防湿膜は、前記表示領域においても前記第２の有機絶縁層を覆っている
請求項２記載の表示装置。
【請求項４】
前記第１の防湿膜は、前記表示領域から前記周辺領域に至るまで連続的に前記第１の有機絶縁層を覆っている
請求項１記載の表示装置。
【請求項５】
前記第１の有機絶縁層と前記第２の有機絶縁層との間に、第２の防湿膜を有する
請求項１記載の表示装置。
【請求項６】
前記第１の基板と前記第１の有機絶縁層との間に無機絶縁層を有し、
前記無機絶縁層と前記第１の有機絶縁層との間に第３の防湿膜を有する
請求項１記載の表示装置。
【請求項７】
前記第１の防湿膜は、窒化シリコン（ＳｉＮｘ）または金属材料からなる
請求項１記載の表示装置。
【請求項８】
前記表示領域に設けられた前記第１の有機絶縁層と、前記周辺領域に設けられた前記第１の有機絶縁層とを分離する分離溝を有する
請求項１記載の表示装置。
【請求項９】
前記分離溝の内面は、前記第１の防湿膜によって覆われている
請求項８記載の表示装置。
【請求項１０】
前記分離溝の内面は、金属材料層によって覆われている
請求項８記載の表示装置。
【請求項１１】
前記表示領域と前記周辺領域とは、前記第２の基板の、前記第１の基板と対向する対向面における周縁部に沿って設けられたシール部によって仕切られている
請求項１記載の表示装置。
【請求項１２】
前記シール部は、導電性材料からなる
請求項１１記載の表示装置。
【請求項１３】
前記第１の防湿膜は、
前記第１の基板の端面から前記第２の基板の端面に亘って設けられ、前記第１の基板と前記第２の基板とによって挟まれた領域を封止する
請求項１記載の表示装置。
【請求項１４】
前記第１の防湿膜は、金属材料または無機絶縁材料からなる
請求項１３記載の表示装置。
【請求項１５】
表示装置を備えた電子機器であって、
前記表示装置は、
対向配置された第１および第２の基板と、
前記第１の基板上に設けられた第１の有機絶縁層と、
前記第１の有機絶縁層上における前記第２の基板と対向する表示領域に配列された複数の発光素子と、
前記第１の基板上における前記表示領域を取り囲む周辺領域において前記第１の有機絶縁層を覆う防湿膜と
を有する
電子機器。
【手続補正１７】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図２２Ｂ
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図２２Ｂ】
2014044793.tif 000001