Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成27年4月6日(2015.4.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
軸方向に沿ってあけられた軸孔（５）を有する回転部材（７）と、
前記軸方向に延びる軸部（９）を有し、該軸部（９）に前記軸孔（５）を嵌合させて、前記回転部材（７）を回動可能に保持する固定部材（１１）と、
液体に浮かぶフロート（１３）と、
一端側に前記フロート（１３）が固定され且つ他端側が前記回転部材（７）に固定され、前記液体の液面の上下動による前記フロート（１３）の上下動を前記回転部材（７）の回転運動に変換するアーム（１５）と、
前記回転部材（７）に固定され、前記回転部材（７）と一体に、前記軸部（９）の周方向に回転するマグネット（１７）と、
前記軸部（９）に、前記マグネット（１７）の回転による変位に伴って自身を貫通する磁束の量が変化する検知部（４３）が配置され、該検知部（４３）からの信号に基づいて、前記マグネット（１７）の変位を検出する磁電変換素子（１９）と、
を備えた液面検出装置（１）であって、
前記軸方向において、前記回転部材（７）の軸孔（５）の内周面と前記軸部（９）の外周面とが対向する軸受け長さ（Ｄ）を設定するとともに、該軸受け長さ（Ｄ）内に、前記マグネット（１７）と前記検知部（４３）とを配置し、
且つ、前記マグネット（１７）の磁力の前記軸方向における中心と前記検知部（４３）とを、前記軸方向と垂直の同一平面に配置し、
更に、前記軸部（７９）の外周面に、前記検知部（８５）を球の中心として球状に形成された球状外周部（８７）を有するとともに、
前記軸孔（７３）の内周面に、前記球状外周部（８７）に沿って前記検知部（８５）を球の中心として球状に形成された球状内周部（８９）を有することを特徴とする液面検出装置。
【請求項２】
前記軸部（９）にて、前記軸方向における前記軸受け長さ（Ｄ）の中心に、前記検知部（４３）を配置したことを特徴とする請求項１に記載の液面検出装置。
【請求項３】
前記回転部材（７）にて、前記軸方向における前記軸受け長さ（Ｄ）の中心に、前記マ
グネット（１７）の磁力の中心を配置したことを特徴とする請求項１又は２に記載の液面検出装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本発明の液面検出装置は、軸方向に沿ってあけられた軸孔を有する回転部材と、前記軸方向に延びる軸部を有し、該軸部に前記軸孔を嵌合させて、前記回転部材を回動可能に保持する固定部材と、液体に浮かぶフロートと、一端側に前記フロートが固定され且つ他端側が前記回転部材に固定され、前記液体の液面の上下動による前記フロートの上下動を前記回転部材の回転運動に変換するアームと、前記回転部材に固定され、前記回転部材と一体に、前記軸部の周方向に回転するマグネットと、前記軸部に、前記マグネットの回転による変位に伴って自身を貫通する磁束の量が変化する検知部が配置され、該検知部からの信号に基づいて、前記マグネットの変位を検出する磁電変換素子と、を備えた液面検出装置であって、前記軸方向において、前記回転部材の軸孔の内周面と前記軸部の外周面とが対向する軸受け長さを設定するとともに、該軸受け長さ内に、前記マグネットと前記検知部とを配置し、且つ、前記マグネットの磁力の前記軸方向における中心と前記検知部とを、前記軸方向と垂直の同一平面に配置し、更に、前記軸部の外周面に、前記検知部を球の中心として球状に形成された球状外周部を有するとともに、前記軸孔の内周面に、前記球状外周部に沿って前記検知部を球の中心として球状に形成された球状内周部を有することを特徴としている。
【手続補正書】
【提出日】平成27年7月29日(2015.7.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
熱交換器及び送風機を備え、前記送風機により空気吸込口から熱交換１次側空間内に吸込まれた空気を前記熱交換器を通過させた後に熱交換２次側空間から空気吹出口へ吹き出すようにするとともに、
前記熱交換器の下方に、前記熱交換１次側空間と前記熱交換２次側空間にまたがって配置されて前記熱交換器からのドレン水を捕集するドレンパンを備えた空気調和機において、
前記ドレンパン内には、ドレン水に対して抗菌効果をもたらす抗菌剤を収納する抗菌剤容器が前記熱交換器の空気吸込口側に備えられており、
前記ドレンパンには、その空気吸込口側周壁の上縁部に、前記抗菌剤容器を着脱自在に支持可能な抗菌剤容器取付部が設けられ、
前記抗菌剤容器には、前記抗菌剤容器取付部に取り付け可能な支持部が設けられていることを特徴とする空気調和機。
【請求項２】
前記ドレンパンには、前記送風機のベルマウスが取り外し自在に結合されており、前記ドレンパンから前記ベルマウスを取り外すと、当該ドレンパンを取り外すことなく前記抗菌剤容器の交換が可能となることを特徴とする請求項１記載の空気調和機。
【請求項３】
前記抗菌剤容器取付部には、マグネットまたは磁性体が備えられており、
前記抗菌剤容器の支持部には、前記マグネットまたは磁性体に対向する位置に、磁性体またはマグネットが備えられていることを特徴とする請求項１又は２記載の空気調和機。
【請求項４】
前記抗菌剤容器取付部には、前記空気吸込口側周壁の上縁部との間で隙間を形成する弾性片が取り付けられており、
前記抗菌剤容器の支持部には、前記弾性片に対応する位置に、前記隙間に差し込み可能なエッジを有する切欠きが形成されていることを特徴とする請求項１又は２記載の空気調和機。
【手続補正書】
【提出日】平成27年10月1日(2015.10.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
一方、有段変速モードの実行中は、エンジン回転数ＮＥが上限回転数ＮＬＭＴ以下で、かつスロットル弁開度ＴＨの変化量ＤＴＨが所定量ＤＴＨＥＳよりも小さいとき、又は、アップシフト中で、エンジン回転数ＮＥが、車速ＶＰに応じて算出した終了回転数ＮＥＳよりも低いときに、変速モードが有段変速モードから無段変速モードに切り換えられる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５７】
ステップ１の判別結果がＹＥＳで、変速モードがＡＴモード中であるときには、そのまま本処理を終了する。一方、ステップ１の判別結果がＮＯで、変速モードがＣＶＴモード中であるときには、ステップ２に進み、スイッチ出力値ＳＷ＿ＯＵＴを読み込む。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９４】
次いで、ステップ６２に進み、変速応答補正係数ＫＴＩＰＤＮＤＲを値１に設定し、その後、ステップ６３で、係数ＫＮＳをエンジン回転数ＮＥを車速ＶＰで除算した値（ＮＥ／ＶＰ）に設定する。次に、ステップ６４で、目標回転数ＮＣＭＤを係数ＫＮＳと車速ＶＰとの積ＫＮＳ・ＶＰに設定する。
【手続補正書】
【提出日】平成27年2月25日(2015.2.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項３】
前記制限手段が前記取得手段で取得した前記座標情報の外部での利用を制限する場合は、当該事実を報知する報知手段をさらに備えている請求項２に記載の読取装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
請求項３に記載の発明は、請求項２に記載の読取装置において、前記制限手段が前記取得手段で取得した前記座標情報の外部での利用を制限する場合は、当該事実を報知する報知手段をさらに備えている。
【手続補正書】
【提出日】平成27年5月18日(2015.5.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
＜第１の実施の形態＞
（１−１．全体構成）
図１Ａは、本開示の第１の実施の形態に係るボトムゲート型（逆スタガ型）の薄膜トランジスタ（薄膜トランジスタ１０）の平面構成を表したものであり、図１Ｂは図１Ａに示したＩ−Ｉ一点破線における薄膜トランジスタ１０の断面構成を模式的に表したものである。この薄膜トランジスタ１０は、半導体膜１４として例えばポリシリコン等を用いたＴＦＴであり、例えば有機ＥＬディスプレイ等の駆動素子として用いられるものである。この薄膜トランジスタ１０では、基板１１上にゲート電極１２，ゲート絶縁膜１３，チャネル領域１４Ｃを形成する半導体膜１４および一対のソース・ドレイン電極（ソース電極１５Ａ，ドレイン電極１５Ｂ）がこの順に設けられている。本実施の形態では、半導体膜１４の側面１４Ａには絶縁膜１６が設けられている。また、半導体膜１４の面積はゲート電極１２よりも小さく、換言すると基板１１側から見て半導体膜１４はゲート電極１２に完全に覆われた状態となっている。即ち、この薄膜トランジスタ１０を、液晶表示装置に用いる場合にはバックライト等の背面から照射される光はゲート電極１２によって完全に遮蔽される（完全遮光構造）。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４９】
本実施の形態における薄膜トランジスタ３０は、例えば図８Ａ，図８Ｂに示したようにして製造することができる。なお、半導体膜１４の形成までは上記第１の実施の形態と同様のため省略する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５５】
以上のように、ゲート電極１２の面積が半導体膜１４よりも小さい部分遮光構造を有する薄膜トランジスタ（薄膜トランジスタ４０，５０）においても上記第１，第２の実施の形態の薄膜トランジスタ１０，３０と同様の作用および効果が得られる。また、絶縁膜４６を設けることにより、ゲート電極１２とソース電極１５Ａまたはドレイン電極１５Ｂとの距離が広がる（ｌ2＜ｌ1）ため、ゲート電極１２とソース電極１５Ａおよびドレイン電極１５Ｂとの間の寄生容量を抑えることが可能となる。なお、本変形例１，２のような部分遮光構造を有する薄膜トランジスタは、例えばトップエミッション型の有機ＥＬ表示装置や遮光を気にしない半導体装置に用いることが好ましい。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５７】
チャネル保護膜６９は半導体膜１４上に設けられ、ソース電極１５Ａおよびドレイン電極１５Ｂの形成時に半導体膜１４（特に、チャネル領域１４Ｃ）の損傷を防止するためのものである。チャネル保護膜６９は、例えばアルミニウム酸化膜，シリコン酸化膜またはシリコン窒化膜からなり、その厚みは１５０ｎｍ〜３００ｎｍ程度、好ましくは２００ｎｍ〜２５０ｎｍである。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５８】
チャネル保護膜６９の形成方法は、半導体膜１４上に例えば、ＤＣスパッタリング法によりアルミニウム酸化膜を成膜し、これをパターニングしてチャネル保護膜６９を形成する。次いで、半導体膜１４上のチャネル保護膜６９を含む領域に金属薄膜を、例えばスパッタリング法により成膜した後エッチングを行い、ソース電極１５Ａおよびドレイン電極１５Ｂを形成する。このとき、チャネル保護膜６９により半導体膜１４が保護されているので、エッチングにより半導体膜１４が損傷することを防ぐことができる。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６０】
＜適用例＞
上記第１、第２の実施の形態および変形例１〜３で説明した薄膜トランジスタ１０，３０（３０Ａ，３０Ｂ，３０Ｃ），４０，５０，６０Ａ〜６０Ｄを備えた半導体装置は、表示装置として好適に用いることができる。表示装置としては、例えば液晶表示装置、有機ＥＬ表示装置、電子ペーパーディスプレイ等が挙げられる。  
【手続補正７】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図３】
2014038911.tif 000001
【手続補正８】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図４】
2014038911.tif 000002
【手続補正書】
【提出日】平成27年4月10日(2015.4.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
Ｎ型半導体領域を含む第一領域と、Ｐ型半導体領域を含む第二領域と、平面視にて前記第一領域と前記第二領域とで挟まれ、前記第一領域よりドナー型元素の濃度が低く、かつ、前記二領域よりアクセプター型元素の濃度が低い第三領域と、を有する半導体層と、
少なくとも前記第三領域に重なる誘電体膜と、
前記第一領域に電気的に接続される第一電極と、
前記第二領域に電気的に接続される第二電極と、
前記誘電体膜を介して少なくとも前記第三領域に対面する第三電極と、
を備えた半導体装置に対して、
前記第一電極と前記第三電極との間又は前記第二電極と前記第三電極との間で容量電圧特性を測定する事で、前記第三領域の状態密度を計測する事を特徴とする評価方法。
【請求項２】
Ｎ型半導体領域を含む第一領域と、Ｐ電型半導体領域を含む第二領域と、平面視にて前記第一領域と前記第二領域とで挟まれまれ、前記第一領域よりドナー型元素の濃度が低く、かつ、前記二領域よりアクセプター型元素の濃度が低い第三領域と、を有する半導体層と、
少なくとも前記第三領域に重なる誘電体膜と、
前記第一領域に電気的に接続される第一電極と、
前記第二領域に電気的に接続される第二電極と、
前記誘電体膜を介して少なくとも前記第三領域に対面する第三電極と、
を備えた半導体装置に対して、
前記第三電極に振動電位を印加し、前記第一電極又は前記第二電極に流れる電流を測定する事で、前記第三領域の状態密度を計測する事を特徴とする評価方法。
【請求項３】
前記状態密度は、前記第三領域と前記誘電体膜との界面での界面捕獲準位と前記第三領域でのバルク半導体捕獲準位との和に対応する密度で有る事を特徴とする請求項１又は２に記載の評価方法。
【請求項４】
Ｎ型半導体領域とＰ型半導体領域とを含む第一領域と、Ｎ型半導体領域とＰ型半導体領域とを含む第二領域と、平面視にて前記第一領域と前記第二領域とで挟まれまれ、前記第一領域よりドナー型元素の濃度が低く、かつ、前記二領域よりアクセプター型元素の濃度が低い第三領域と、を有する半導体層と、
少なくとも前記第三領域に重なる誘電体膜と、
前記第一領域におけるＮ型半導体領域とＰ型半導体領域とに電気的に接続される第一電極と、
前記第二領域におけるＮ型半導体領域とＰ型半導体領域とに電気的に接続される第二電極と、
前記誘電体膜を介して少なくとも前記第三領域に対面する第三電極と、
を備え、
前記第一領域におけるＮ型半導体領域とＰ型半導体領域とは、平面視にて前記第三領域に接し、
前記第二領域におけるＮ型半導体領域とＰ型半導体領域とは、平面視にて前記第三領域に接する事を特徴とする半導体装置。
【請求項５】
前記第一領域におけるＮ型半導体領域と前記第二領域におけるＰ型半導体領域とが、前記第三領域を介して対向し、
前記第一領域におけるＰ型半導体領域と前記第二領域におけるＮ型半導体領域とが、前記第三領域を介して対向する事を特徴とする請求項４に記載の半導体装置。
【請求項６】
請求項４又は５に記載の半導体装置に対して、前記第一電極と前記第三電極との間又は前記第二電極と前記第三電極との間で容量電圧特性を測定する事で、前記第三領域の状態密度を計測する事を特徴とする評価方法。
【請求項７】
請求項４又は５に記載の半導体装置に対して、前記第三電極に振動電位を印加し、前記第一電極又は前記第二電極に流れる電流を測定する事で、前記第三領域の状態密度を計測する事を特徴とする評価方法。
【請求項８】
Ｎ型半導体領域を含む第一領域と、Ｐ型半導体領域を含む第二領域と、平面視にて前記第一領域と前記第二領域とで挟まれまれ、前記第一領域よりドナー型元素の濃度が低く、かつ、前記二領域よりアクセプター型元素の濃度が低い第三領域と、を有する半導体層と、
前記第三領域に断面視で上側に重なる上側誘電体膜と、前記第三領域に断面視で下側に重なる下側誘電体膜と、
前記第一領域に電気的に接続する第一電極と、
前記第二領域に電気的に接続する第二電極と、
前記上側誘電体膜を介して少なくとも前記第三領域に対面する上側第三電極と、前記下側誘電体膜を介して少なくとも前記第三領域に対面する下側第三電極と、
を備えた事を特徴とする半導体装置。
【請求項９】
請求項４又は５又は８に記載の半導体装置を備えた事を特徴とする電気光学装置。
【請求項１０】
請求項９に記載の電気光学装置を備えた事を特徴とする電子機器。
【手続補正書】
【提出日】平成27年7月17日(2015.7.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００２】
従来、１つのマイクロレンズに対して複数の光電変換部を持った撮像素子により、瞳分割像を取得し、得られた２つの瞳分割像の位相差を求めて焦点検出を行う技術が検討されている（特許文献１）。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
このような構成により、電荷が失われる事による画質の劣化を抑制することができるが、個々の光電変換部の飽和レベルが改善されることはない。また、飽和した光電変換部から漏れ出した電荷を蓄積する光電変換部は本来よりも高い出力を呈するため、位相差を求めるための瞳分割像が変形し（像崩れが発生し）、位相差（像ずれ量）の検出精度を悪化させてしまう。特に、漏れ出した電荷によって光電変換部間の出力の差が小さくなるため、瞳分割像の差が小さくなり、像ずれが見かけ上小さくなる疑似合焦が発生する可能性がある。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明は、回路規模の増大を抑制しつつ、瞳分割像が飽和による像崩れを起こした場合でも疑似合焦の発生を防ぐことが可能な画像信号処理装置およびその制御方法の提供を目的とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
このような構成により、本発明によれば、回路規模の増大を抑制しつつ、瞳分割像が飽和による像崩れを起こした場合でも疑似合焦の発生を防ぐことができる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４４】
図６（ｂ）は、図６（ａ）と同じ状況で、リミッタ回路１０４を適用した場合に算出される差分絶対値の分布を示している。図６（ａ）との比較から明らかなように、飽和部分に対応する出力差分値が上限値５０５に制限されているため、飽和していない部分の出力差分値５０４との差が小さい。そのため、相関量として得られる出力差分値の積算量における、飽和部分の出力差分値の影響が抑制され、飽和していない部分の出力差分値５０４の状況が相関量に反映されやすくなる。そのため、相関量から決定されるデフォーカス量の精度を向上することができる。
【手続補正書】
【提出日】平成27年7月17日(2015.7.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２６】
ブレ検出部１２１は振動ジャイロ等の角速度センサーであり、角速度センサー出力に基づきシステム制御部１１５は被写体像のブレ量（像ブレ量）を検出している。本実施形態では角速度センサーの出力に基づきブレ量を検出しているが、角速度センサーを用いずに、画像間の動きベクトルに基づいて被写体像のブレ量を検出してもよい。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３５】
このように、システム制御部１１５は、ＡＦ評価値監視処理を継続的に実施しながら、ＡＦ制御の内部状態を微小駆動動作と山登り動作との間で遷移させ、様々なシーンの変化に応じて合焦状態を維持するようにフォーカスレンズを制御する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４０】
次にＳ３０４でシステム制御部１１５は、現在のＡＦ評価値が（直前のＡＦ評価値＋変化閾値Ａ）より大きいか否かを判断する。ここで変化閾値Ａとは、ＡＦ評価値が明確に上昇したと判断するための閾値であり、実際のＡＦ評価値の増加量に加えノイズ成分によるばらつきを考慮して設定する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５１】
システム制御部１１５は、ＡＦ処理部１０５からＳ４００でＡＦ評価値と対応するフォーカスレンズ位置を、Ｓ４０１で合焦度をそれぞれ取得する。次にＳ４０２でシステム制御部１１５は山登り動作における、フォーカスレンズの移動速度を決定する。ここでは、フォーカスレンズの移動速度を、Ｓ４０１にて取得した合焦度に応じて、合焦位置に近づくほど遅く、合焦位置から遠ざかるほど速く決定する。これにより、微小駆動動作において安定したピント追従を実現することができる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５８】
一方、Ｓ４１３でＡＦ評価値がピークを越えて減少したと判定されない場合は、具体的には図１２（ａ）の領域Ｂにて合焦位置とは反対方向に山登り動作が実施された場合に該当する。そのためＳ４１７でシステム制御部１１５は、フォーカスレンズの移動方向を反転させ、Ｓ４１８で山登り動作の判定結果を「継続」とし、山登り動作の処理を引き続き実行する。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７０】
Ｓ８０６でシステム制御部１１５は、ＬＰＦ出力がＬＰＦ閾値よりも小さいか否かを判断する。ＬＰＦ出力がＬＰＦ閾値より小さくなれば、ブレが安定したと判定できるようにＬＰＦ閾値を設定する。ＬＰＦ出力がＬＰＦ閾値より小さい場合、システム制御部１１５はＳ８０７で、検出パターンごとに用意している安定カウントのうち、現在の検出パターンに対応した安定カウントをカウントアップし、処理をＳ８０８に進める。従って安定カウントの値は、ブレの変動が小さく、安定した期間が継続した期間を表す。
Ｓ８０６でＬＰＦ出力がＬＰＦ閾値以上の場合、システム制御部１１５はＳ８１１で現在の検出パターンに対応した安定カウントをクリアし、Ｓ８１２に処理を進める。
【手続補正７】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１】
2014038197.tif 000001
【手続補正８】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図３】
2014038197.tif 000002
【手続補正書】
【提出日】平成27年7月29日(2015.7.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第一レンズ群および第二レンズ群と、
前記第一レンズ群を光軸に沿って移動させる移動カム部材と、
前記移動カム部材の外周に配置した固定カム部材を備えたレンズ鏡筒であって、
前記固定カム部材の外周に配置され、前記固定カム部材に形成したカム溝に追従して前記移動カム部材を光軸方向に移動させる駆動環と、
前記移動カム部材と結合されて一体的に光軸方向に移動する、前記第一レンズ群に対する直進規制部材と、を具備し、
前記第二レンズ群の保持部材は前記固定カム部材により直進保持されており、前記第二レンズ群の保持部材のフォロア部が前記駆動環の内周に形成したカム溝に追従することにより光軸方向へ移動し、
前記第二レンズ群の保持部材に設けた直進ガイド部により、前記直進規制部材を直進保持することを特徴とするレンズ鏡筒。
【請求項２】
前記直進規制部材は、前記直進ガイド部と係合する被直進規制部を有することを特徴とする請求項１に記載のレンズ鏡筒。
【請求項３】
前記直進ガイド部に対して、前記被直進規制部とは反対側に光学部材の保持部材が配置されており、前記光学部材の保持部材は、外力を受けた場合に、前記直進ガイド部を内周面側から保持することを特徴とする請求項２に記載のレンズ鏡筒。
【請求項４】
前記直進規制部材は、バヨネット結合により前記移動カム部材と一体的に光軸方向へ移動可能であることを特徴とする請求項１から３のいずれか１項に記載のレンズ鏡筒。
【請求項５】
前記第二レンズ群は焦点調節用レンズを有することを特徴とする請求項１から４のいずれか１項に記載のレンズ鏡筒。
【請求項６】
前記第二レンズ群を光軸方向へ移動させる駆動手段をさらに備え、
前記第二レンズ群は、前記駆動環の回転により光軸方向へ移動し、前記駆動手段によりさらに光軸方向へ移動することを特徴とする請求項５に記載のレンズ鏡筒。
【請求項７】
前記光学部材は、手振れ補正レンズまたは光量調節用部材であることを特徴とする請求項３に記載のレンズ鏡筒。
【請求項８】
請求項１から７のいずれか１項に記載のレンズ鏡筒を備えることを特徴とする撮像装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
上記課題を解決するために、本発明に係る装置は、第一レンズ群および第二レンズ群と、前記第一レンズ群を光軸に沿って移動させる移動カム部材と、前記移動カム部材の外周に配置した固定カム部材を備えたレンズ鏡筒であって、前記固定カム部材の外周に配置され、前記固定カム部材に形成したカム溝に追従して前記移動カム部材を光軸方向に移動させる駆動環と、前記移動カム部材と結合されて一体的に光軸方向に移動する、前記第一レンズ群に対する直進規制部材と、を具備する。前記第二レンズ群の保持部材は前記固定カム部材により直進保持されており、前記第二レンズ群の保持部材のフォロア部が前記駆動環の内周に形成したカム溝に追従することにより光軸方向へ移動し、前記第二レンズ群の保持部材に設けた直進ガイド部により、前記直進規制部材を直進保持する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
図４は、レンズ鏡筒２３における直進規制機構を説明するために、移動カム環３、直進規制部材４、フォーカス群保持部材７ｃを示す斜視図である。
フォーカス群保持部材７ｃは、光軸方向に延在する複数の直進ガイド部７ｅを具備し、直進規制部材４を保持する。つまり、固定カム環９によりフォーカス群保持部材７ｃが直進ガイドされるとともに、フォーカス群保持部材７ｃの直進ガイド部７ｅにより直進規制部材４が直進ガイドされる。この直進規制部材４によって、第一レンズ群保持部材１ａ、第三レンズ群保持部材２ａ、絞りシャッタ部５、第四レンズ群保持部材６ａ、及び第一レンズ群保持部材１ａが直進ガイドされる。
移動カム環３の内周面部に設けられるカム溝の数については、移動カム環３自体の大きさにより制約を受ける。このことは、レンズ鏡筒の小型化を阻む要因となる。本実施形態では、駆動環１０にもレンズ群を移動させるためのカム溝を設けることで、より多くのレンズ群を駆動できる。
【手続補正書】
【提出日】平成27年8月17日(2015.8.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
帯電後、露光されることで静電潜像が形成される像担持体と、
前記像担持体を帯電する帯電手段と、
現像剤を担持し、前記像担持体において前記静電潜像が形成された画像部に現像剤を付着させることで前記静電潜像を現像する現像剤担持体と、
前記現像剤担持体に電圧を印加する電圧印加手段と、
前記電圧が印加されたときに前記像担持体と前記現像剤担持体との間に流れる電流を検知可能な電流検知手段と、
前記帯電手段に前記像担持体を帯電させ、前記電圧印加手段に前記現像剤担持体に対し大きさを徐々に変化させて電圧を印加させることで、帯電後の前記像担持体の表面と電圧印加後の前記現像剤担持体との電位差を徐々に変化させたときの、前記電圧印加手段が印加する印加電圧の大きさの変化に対する前記電流検知手段が検知する検知電流の大きさの変化の比率である、前記検知電流の前記印加電圧に対する傾きの変化に基づいて、現像時における前記電位差が前記像担持体の非画像部に現像剤が付着する現象が抑制される電位差となるように、現像時に前記電圧印加手段が前記現像剤担持体に印加する電圧の大きさを設定する制御手段と、
を備えることを特徴とする画像形成装置。
【請求項２】
前記制御手段は、
前記電位差が徐々に小さくなるように、前記電圧印加手段が前記現像剤担持体に印加する電圧の大きさを変化させて、前記傾きの変化が、前記電位差が小さくなるほど前記傾きが大きくなる所定の傾向を示すか否かを検知し、
前記傾向を検知したときの電圧の大きさに基づいて、現像時に前記電圧印加手段が前記現像剤担持体に印加する電圧の大きさを設定することを特徴とする請求項１に記載の画像形成装置。
【請求項３】
前記制御手段は、
前記電圧印加手段が前記現像剤担持体に印加する電圧を、前記現象が抑制される前記電位差よりも大きな前記電位差が形成される大きさから前記電位差が徐々に小さくなる大きさに徐々に変化させ、
前記傾きが、前記現象が抑制される電位差となったことを示す所定値以上となったか否
かを検知し、
前記所定値以上となったことを検知した後は、前記電圧印加手段が前記現像剤担持体に印加する電圧をさらに変化させながら、電圧の大きさを変化させたときの少なくとも３つの連続する前記傾きを比較し、前記電位差が小さくなるほど前記傾きが大きくなる傾向を示すか否かを検知することを特徴とする請求項２または３に記載の画像形成装置。
【請求項４】
前記傾向を検知した場合は、前記傾向を示した前記少なくとも３つの連続する前記傾きにそれぞれ対応する少なくとも３つの電圧のなかで、最も小さな前記電位差よりも一段大きい前記電位差を形成する大きさの電圧を、現像時に前記電圧印加手段が前記現像剤担持体に印加する電圧とすることを特徴とする請求項３に記載の画像形成装置。
【請求項５】
前記像担持体と前記現像剤担持体は、互いに当接離間可能に構成されており、
前記電流検知手段は、前記像担持体と前記現像剤担持体が離間状態における、前記現像剤担持体、前記現像剤担持体に電気的に接続された部材、前記現像剤担持体に現像剤を介して電気的に接続された部材、にそれぞれ流れる電流の総和を検知可能であることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の画像形成装置。
【請求項６】
前記像担持体を露光する露光手段をさらに備え、
前記露光手段は、現像時に前記電圧印加手段が前記現像剤担持体に印加する電圧の大きさに応じて、露光強度を調整することを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載の画像形成装置。
【請求項７】
前記制御手段は、非画像形成時に、現像時に前記電圧印加手段が前記現像剤担持体に印加する電圧の大きさを設定する制御を行うことを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載の画像形成装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
上記目的を達成するために本発明に係る画像形成装置は、
帯電後、露光されることで静電潜像が形成される像担持体と、
前記像担持体を帯電する帯電手段と、
現像剤を担持し、前記像担持体において前記静電潜像が形成された画像部に現像剤を付着させることで前記静電潜像を現像する現像剤担持体と、
前記現像剤担持体に電圧を印加する電圧印加手段と、
前記電圧が印加されたときに前記像担持体と前記現像剤担持体との間に流れる電流を検知可能な電流検知手段と、
前記帯電手段に前記像担持体を帯電させ、前記電圧印加手段に前記現像剤担持体に対し大きさを徐々に変化させて電圧を印加させることで、帯電後の前記像担持体の表面と電圧印加後の前記現像剤担持体との電位差を徐々に変化させたときの、前記電圧印加手段が印加する印加電圧の大きさの変化に対する前記電流検知手段が検知する検知電流の大きさの変化の比率である、前記検知電流の前記印加電圧に対する傾きの変化に基づいて、現像時における前記電位差が前記像担持体の非画像部に現像剤が付着する現象が抑制される電位差となるように、現像時に前記電圧印加手段が前記現像剤担持体に印加する電圧の大きさを設定する制御手段と、
を備えることを特徴とする画像形成装置。
【手続補正書】
【提出日】平成26年12月17日(2014.12.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光源部からの光が入射する入光面と、光が出射する出光面と、出光面に対向する背面とを備える導光板であって、
前記背面には、光の導光方向に略平行な方向を配列方向として背面側単位光学形状が互いに隣接して複数配列され、
前記背面側単位光学形状は、
背面側に凸となる略四角柱形状であり、頂面部と、前記頂面部を挟んで対向する位置に形成される側面である第１斜面部及び第２斜面部を有し、
前記配列方向における前記背面側単位光学形状の配列ピッチをＰ１とし、配列方向における前記頂面部の寸法をＷｃとするとき、
前記配列ピッチは一定であり、
前記配列方向において、前記入光面から離れるにつれて、比Ｗｃ／Ｐ１が小さくなり、
前記頂面部が、前記配列方向において前記背面となす角度をγとし、
前記第１斜面部及び前記第２斜面部のうち、前記配列方向において前記入光面に対向する斜面部が前記配列方向において前記背面となす角度をβとするとき、
０°≦γ≦０．５°
１°≦β≦５°
という関係を満たすこと、
を特徴とする導光板。
【請求項２】
請求項１に記載の導光板において、
前記第１斜面部及び前記第２斜面部のうち、前記配列方向において前記入光面に対向する斜面部の前記配列方向の寸法をＷｄとするとき、比Ｗｄ／Ｐ１は、
０．０５≦Ｗｄ／Ｐ１≦０．９５
という関係を満たすこと、
を特徴とする導光板。
【請求項３】
請求項１又は請求項２に記載の導光板において、
前記背面を法線方向から見たときに、前記第１斜面部及び前記第２斜面部のうち、前記配列方向において前記入光面に対向する斜面部が占める総面積をＭ１とし、前記背面をその法線方向から見たときの面積をＭ０とするとき、比Ｍ１／Ｍ０は、
０．４≦Ｍ１／Ｍ０≦０．６
という関係を満たすこと、
を特徴とする導光板。
【請求項４】
請求項１から請求項３までのいずれか１項に記載の導光板と、
前記入光面へ入射する光を発する光源部と、
前記導光板からの光を正面方向又は正面方向となす角度が小さい方向へ向ける偏向光学シートと、
を備える面光源装置。
【請求項５】
請求項４に記載の面光源装置において、
前記光源部は１つであり、
前記背面側単位光学形状内において、前記第１斜面部が前記入光面側に位置し、
前記第１斜面部は、前記背面となす角度が前記導光板と空気との界面における臨界角以上であり、前記光源部から導光する光が入射しないこと、
を特徴とする面光源装置。
【請求項６】
請求項４に記載の面光源装置において、
前記光源部は、２つであり、前記導光板の互いに対向する両側面である前記入光面に面する位置に設けられ、
前記第１斜面部が前記背面となす角度と、前記第２斜面部が前記背面となす角度とは、等しいこと、
を特徴とする面光源装置。
【請求項７】
請求項４から請求項６までのいずれか１項に記載の面光源装置と、
前記面光源装置に背面側から照明される透過型表示部と、
を備える透過型表示装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本発明は、以下のような解決手段により、前記課題を解決する。なお、理解を容易にするために、本発明の実施形態に対応する符号を付して説明するが、これに限定されるものではない。
請求項１の発明は、光源部からの光が入射する入光面（１３ａ，２３ａ，２３ｂ）と、光が出射する出光面（１３ｃ）と、出光面に対向する背面（１３ｄ，２３ｄ）とを備える導光板であって、前記背面には、光の導光方向に略平行な方向を配列方向として背面側単位光学形状（１３３，２３３）が互いに隣接して複数配列され、前記背面側単位光学形状は、背面側に凸となる略四角柱形状であり、頂面部（１３３ｃ，２３３ｃ）と、前記頂面部を挟んで対向する位置に形成される側面である第１斜面部（１３３ａ，２３３ａ）及び第２斜面部（１３３ｂ，２３３ｂ）を有し、前記配列方向における前記背面側単位光学形状の配列ピッチをＰ１とし、配列方向における前記頂面部の寸法をＷｃとするとき、前記配列ピッチは一定であり、前記配列方向において、前記入光面から離れるにつれて、比Ｗｃ／Ｐ１が小さくなり、前記頂面部（１３３ｃ，２３３ｃ）が、前記配列方向において前記背面（１３ｄ）となす角度をγとし、前記第１斜面部（１３３ａ，２３３ａ）及び前記第２斜面部（１３３ｂ，２３３ａ）のうち、前記配列方向において前記入光面に対向する斜面部（１３３ｂ，２３３ａ，２３３ｂ）が前記配列方向において前記背面となす角度をβとするとき、０°≦γ≦０．５°、１°≦β≦５°という関係を満たすこと、を特徴とする導光板（１３，２３）である。
請求項２の発明は、請求項１に記載の導光板において、前記第１斜面部（１３３ａ，２３３ａ）及び前記第２斜面部（１３３ｂ，２３３ｂ）のうち、前記配列方向において前記入光面に対向する斜面部（１３３ｂ，２３３ａ，２３３ｂ）の前記配列方向の寸法をＷｄとするとき、比Ｗｄ／Ｐ１は、０．０５≦Ｗｄ／Ｐ１≦０．９５という関係を満たすこと、を特徴とする導光板（１３，２３）である。
請求項３の発明は、請求項１又は請求項２に記載の導光板において、前記背面を法線方向から見たときに、前記第１斜面（１３３ａ，２３３ａ）部及び前記第２斜面部（１３３ｂ，２３３ｂ）のうち、前記配列方向において前記入光面に対向する斜面部（１３３ｂ，２３３ａ，２３３ｂ）が占める総面積をＭ１とし、前記背面をその法線方向から見たときの面積をＭ０とするとき、比Ｍ１／Ｍ０は、０．４≦Ｍ１／Ｍ０≦０．６という関係を満たすこと、を特徴とする導光板（１３，２３）である。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
請求項４の発明は、請求項１から請求項３までのいずれか１項に記載の導光板（１３，２３）と、前記入光面（１３ａ，２３ａ，２３ｂ）へ入射する光を発する光源部（１２，２２Ａ，２２Ｂ）と、前記導光板からの光を正面方向又は正面方向となす角度が小さい方向へ向ける偏向光学シート（１４）と、を備える面光源装置（１０，２０）である。
請求項５の発明は、請求項４に記載の面光源装置（１０）において、前記光源部（１２）は１つであり、前記背面側単位光学形状（１３３）内において、前記第１斜面部（１３３ａ）が前記入光面（１３ａ）側に位置し、前記第１斜面部は、前記背面（１３ｄ）となす角度が前記導光板と空気との界面における臨界角（θ）以上であり、前記光源部から導光する光が入射しないこと、を特徴とする面光源装置（１０）である。
請求項６の発明は、請求項４に記載の面光源装置において、前記光源部（２２Ａ，２２Ｂ）は、２つであり、前記導光板（２３）の互いに対向する両側面である前記入光面（２３ａ，２３ｂ）に面する位置に設けられ、前記第１斜面部（２３３ａ）が前記背面（２３ｄ）となす角度と、前記第２斜面部（２３３ｂ）が前記背面となす角度（β）とは、等しいこと、を特徴とする面光源装置（２０）である。
請求項７の発明は、請求項４から請求項６までのいずれか１項に記載の面光源装置（１０，２０）と、前記面光源装置に背面側から照明される透過型表示部（１１）と、を備える透過型表示装置（１，２）である。
【手続補正書】
【提出日】平成27年2月10日(2015.2.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一次荷電粒子線を試料に照射する荷電粒子光学鏡筒と、
前記荷電粒子光学鏡筒の内部を真空引きする真空ポンプと、
前記試料への前記一次荷電粒子線の照射によって得られる透過荷電粒子線を検出する検出器と、
前記検出器とは別個に本荷電粒子線装置内部に設けられた信号増幅器と、を備え、
前記試料の少なくとも一部または全部が前記検出器上に直接的または間接的に載置されることを特徴とする荷電粒子線装置。
【請求項２】
請求項１に記載の荷電粒子線装置において、
前記試料が載置された空間と前記荷電粒子光学鏡筒とを隔離するように配置され、前記一次荷電粒子線を透過または通過させる着脱可能な隔膜を備え、
前記検出器は前記試料に対して前記隔膜の反対側に載置されることを特徴とする荷電粒子線装置。
【請求項３】
請求項２に記載の荷電粒子線装置において、
前記荷電粒子線装置全体を装置設置面に対して支持し、内部が前記真空ポンプにより真空排気される第１の筐体と、
前記第１の筐体の側面、または内壁面、または前記荷電粒子光学鏡筒に位置が固定される、前記試料を内部に格納する第２の筐体と、を備え、
前記隔膜は前記第２の筐体の上面側に設けられ、
前記第２の筐体内部の圧力が前記第１の筐体内部の圧力と同等か、
前記第２の筐体内部の圧力を前記第１の筐体内部の圧力よりも高い状態に維持することを特徴とする荷電粒子線装置。
【請求項４】
請求項１に記載の荷電粒子線装置において、
前記試料は、箔、膜またはメッシュを介して前記検出器上に載置されることを特徴とする荷電粒子線装置。
【請求項５】
請求項１に記載の荷電粒子線装置において、
前記試料から前記検出器の検出素子までの距離が１ｍｍ以下であることを特徴とする荷電粒子線装置。
【請求項６】
請求項１に記載の荷電粒子線装置において、
前記検出器が前記荷電粒子線装置に対して着脱可能であることを特徴とした荷電粒子線装置。
【請求項７】
請求項１に記載の荷電粒子線装置において、
前記検出器は半導体材料で形成された検出素子を有し、前記検出素子から得られる電気信号を検出することを特徴とする荷電粒子線装置。
【請求項８】
請求項１に記載の荷電粒子線装置において、
前記検出器は前記透過荷電粒子線を光に変換するシンチレータであることを特徴とする荷電粒子線装置。
【請求項９】
請求項１に記載の荷電粒子線装置において、
前記信号増幅器と前記検出器との間の距離が、前記隔膜に対する前記検出器の位置に関らず、不変であることを特徴とする荷電粒子線装置。
【請求項１０】
請求項１に記載の荷電粒子線装置において、
前記試料を面内方向または高さ方向に移動する試料ステージを備え、
前記試料ステージ上に前記検出器が配置されることを特徴とする荷電粒子線装置。
【請求項１１】
請求項１に記載の荷電粒子線装置において、
前記試料を面内方向または高さ方向に移動する試料ステージを備え、
前記信号増幅器は前記試料ステージに設置されることを特徴とする荷電粒子線装置。
【請求項１２】
請求項３に記載の荷電粒子線装置において、
前記第２の筐体の形状が１つの側面が開放された直方体状の形状であり、
前記開放された側面を蓋う蓋部材を備え、
前記蓋部材に前記検出器を具備したステージが固定されることを特徴とする荷電粒子線装置。
【請求項１３】
請求項２に記載の荷電粒子線装置において、
少なくとも前記隔膜と前記試料との間の空間の雰囲気を空気以外のガスに置換することが可能なガス導入口を備えることを特徴とする荷電粒子線装置。
【請求項１４】
請求項２に記載の荷電粒子線装置において、
前記試料が載置された空間の雰囲気を、１０3Ｐａ以上大気圧以下の圧力に制御可能であることを特徴とする荷電粒子線装置。
【請求項１５】
荷電粒子線装置を用いて、一次荷電粒子線を試料上に照射して、前記照射により得られる透過荷電粒子信号を検出し、前記試料を観察する試料観察方法において、
前記試料に前記一次荷電粒子線を照射することによって得られる透過荷電粒子線を前記試料の少なくとも一部または全部が直接的または間接的に載置された検出器によって検出し、
前記検出器とは別個に前記荷電粒子線装置内部に設けられた信号増幅器によって前記検出器からの信号が増幅されることを特徴とする試料観察方法。
【請求項１６】
請求項１５に記載の試料観察方法において、
真空状態に保たれた荷電粒子光学鏡筒内で発生する前記一次荷電粒子線を、前記試料が載置された空間と前記荷電粒子光学鏡筒とを隔離するように配置された隔膜を透過または通過させ、
１０3Ｐａ以上大気圧以下の圧力の雰囲気に置かれた試料に前記一次荷電粒子線を照射することを特徴とする試料観察方法。
【請求項１７】
請求項１６に記載の試料観察方法において、
前記透過荷電粒子線の検出器上に直接的または間接的に試料を配置した後、前記試料が搭載された当該検出器を当該隔膜に接近させ、前記一次荷電粒子線を前記試料に照射することを特徴とする試料観察方法。
【請求項１８】
請求項１６に記載の試料観察方法において、
少なくとも前記隔膜と前記試料との間の空間の雰囲気を空気以外のガスに置換することを特徴とする試料観察方法。
【請求項１９】
請求項１５に記載の試料観察方法において、
前記検出器は前記透過荷電粒子線を光に変換するシンチレータであることを特徴とする試料観察方法。
【手続補正書】
【提出日】平成27年6月22日(2015.6.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
無端状のベルト部材と、
前記ベルト部材のループ内側に配設された状態で前記ベルト部材を自らの周面の一部に掛け回して前記ベルト部材を張架する複数の張架ローラと、
前記複数の張架ローラの１つであり、自らの回転駆動に伴って前記ベルト部材を無端移動せしめる駆動ローラと、
前記ベルト部材の前記張架ローラ上におけるローラ軸線方向の位置を光学的に検知するベルト位置検知手段とを有するベルトユニットにおいて、
前記ベルト部材の前記ローラ軸線方向の動きに連動する連動部材、及びこれに固定された清掃部材を具備し、且つ前記清掃部材を前記ベルト位置検知手段の受光部に摺擦させて前記受光部を清掃する清掃手段を設けたことを特徴とするベルトユニット。
【請求項２】
請求項１のベルトユニットにおいて、
前記複数の張架ローラの１つであり、自らのローラ軸線方向における中央部でローラ軸線に直交する方向に延在している揺動軸線を中心にして揺動可能に保持され、前記揺動軸線を中心にした揺動により、自らのローラ軸線を他の張架ローラのローラ軸線に対して傾ける姿勢をとることで、無端移動中の前記ベルト部材を前記張架ローラ上でローラ軸線方向に強制的に移動させる傾動ローラと、前記傾動ローラの傾き動作を制御することで前記ベルト部材の前記ローラ軸線方向における位置を調整する処理を実施する制御手段とを設けたことを特徴とするベルトユニット。
【請求項３】
請求項２のベルトユニットにおいて、
前記傾動ローラの傾き動作によって前記ベルト部材を前記ローラ軸線方向に移動させるのに伴って、前記連動部材に固定されている前記清掃部材を前記受光部に摺擦させて前記受光部を清掃する清掃処理を所定のタイミングで実施するように、前記制御手段を構成したことを特徴とするベルトユニット。
【請求項４】
請求項３のベルトユニットにおいて、
前記受光部による受光量に基づいて前記清掃処理の必要性を判断し、判断結果に基づいて前記清掃処理を開始する処理を実施するように、前記制御手段を構成したことを特徴とするベルトユニット。
【請求項５】
請求項３又は４のベルトユニットにおいて、
前記連動部材が所定の第１位置まで移動したときに前記受光部に対向する第１貫通開口と、前記連動部材が所定の第２位置まで移動したときに前記受光部に対向する第２貫通開口とを前記連動部材に設け、
前記連動部材が前記第１位置と前記第２位置との間の位置に移動したときに前記清掃部材を前記受光部に接触させるように、前記清掃部材を前記連動部材における前記第１貫通開口と前記第２貫通開口との間の位置に固定し、
前記連動部材を介して光源と前記受光部とを対向させ、
且つ、前記光源から発した光を前記第１貫通開口や前記第２貫通開口に通して前記受光部に受光させるようにしたことを特徴とするベルトユニット。
【請求項６】
請求項３又は４のベルトユニットにおいて、
前記ベルト位置検知手段たる第１ベルト位置検知手段とは別に、前記ベルト部材について、前記ローラ軸線方向における所定の清掃終了位置まで移動したことを検知する第２ベルト位置検知手段を設け、
前記第２ベルト検知手段による検知結果に基づいて前記清掃処理を終了させる処理を実施するように、前記制御手段を構成したことを特徴とするベルトユニット。
【請求項７】
請求項３乃至６の何れかのベルトユニットにおいて、
前記清掃処理にて、前記傾動ローラの揺動に伴って前記連動部材を往復移動させることで、前記連動部材に固定されている前記清掃部材を複数回に渡って前記受光部に摺擦させる処理を実施するように、前記制御手段を構成したことを特徴とするベルトユニット。
【請求項８】
請求項７のベルトユニットにおいて、
前記受光部による受光量に基づいて前記清掃処理の終了タイミングを判断する処理を実施するように、前記制御手段を構成したことを特徴とするベルトユニット。
【請求項９】
請求項３乃至８の何れかのベルトユニットにおいて、
前記清掃処理の実施中には、通常動作時よりも速い速度で前記ベルト部材を駆動する処理を実施するように、前記制御手段を構成したことを特徴とするベルトユニット。
【請求項１０】
複数の張架ローラによって張架している無端状のベルト部材を無端移動せしめるベルトユニットと、記録シートに可視像を形成する可視像形成手段とを備え、
可視像を形成する前、可視像を形成している最中、あるいは、可視像を形成した後の記録シートを前記ベルト部材の表面に保持して搬送する画像形成装置において、
前記ベルトユニットとして、請求項１乃至９の何れかのベルトユニットを用いたことを特徴とする画像形成装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
上記目的を達成するために、本発明は、無端状のベルト部材と、前記ベルト部材のループ内側に配設された状態で前記ベルト部材を自らの周面の一部に掛け回して前記ベルト部材を張架する複数の張架ローラと、前記複数の張架ローラの１つであり、自らの回転駆動に伴って前記ベルト部材を無端移動せしめる駆動ローラと、前記ベルト部材の前記張架ローラ上におけるローラ軸線方向の位置を光学的に検知するベルト位置検知手段とを有するベルトユニットにおいて、前記ベルト部材の前記ローラ軸線方向の動きに連動する連動部材、及びこれに固定された清掃部材を具備し、且つ前記清掃部材を前記ベルト位置検知手段の受光部に摺擦させて前記受光部を清掃する清掃手段を設けたことを特徴とするものである。