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【手続補正書】
【提出日】平成26年12月11日(2014.12.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被写体を撮像して画像データを生成する撮像手段と、
前記撮像手段によって生成された画像データから前記被写体を検出する被写体検出手段と、
前記被写体検出手段によって検出された被写体に対して、予め記憶された登録情報を参照して認証を行う認証手段と、
前記被写体検出手段によって検出された被写体の動き量を検出する動き検出手段と、
前記認証手段の認証結果と前記動き検出手段により検出された動き量とに基づいて、連続撮像の撮像間隔を変更する変更手段とを有することを特徴とする撮像装置。
【請求項２】
前記変更手段は、前記認証手段により認証された被写体の年齢に基づいて前記撮像間隔を変更することを特徴とする請求項１に記載の撮像装置。
【請求項３】
前記認証手段は、前記被写体検出手段により検出された被写体と前記登録情報とを比較し、類似度が閾値を越えた場合に登録された被写体であると認証することを特徴とする請求項１又は２に記載の撮像装置。
【請求項４】
前記変更手段は、前記認証結果に基づいて前記被写体が所定の被写体であると判定した場合に、前記所定の被写体であると判定しない場合に比べて、前記撮像間隔を狭めるように調整することを特徴とする請求項３に記載の撮像装置。
【請求項５】
前記変更手段は、連続した２枚の画像における被写体の位置又はサイズのずれが大きいほど前記撮像間隔を狭めることを特徴とする請求項１〜４の何れか１項に記載の撮像装置。
【請求項６】
前記変更手段は、ユーザーにより前記連続撮像が指示される前の前記動き量に基づいて、前記撮像間隔を変更することを特徴とする請求項１〜５の何れか１項に記載の撮像装置。
【請求項７】
前記動き検出手段により検出された動き量が大きいほど、シャッタースピードを速くするよう制御する制御手段を有することを特徴とする請求項１〜６の何れか１項に記載の撮像装置。
【請求項８】
前記撮像手段により生成された画像データに係る環境光に応じて、前記連続撮像に代えてフラッシュを用いた単独の撮像に切り替える切り替え手段をさらに有することを特徴とする請求項１〜７の何れか１項に記載の撮像装置。
【請求項９】
前記被写体検出手段は、人物の顔を検出することを特徴とする請求項１〜８の何れか１項に記載の撮像装置。
【請求項１０】
被写体を撮像して画像データを生成する撮像手段を備えた撮像装置の撮像方法であって、
前記撮像手段によって生成された画像データから前記被写体を検出する被写体検出工程と、
前記被写体検出工程において検出された被写体に対して、予め記憶された登録情報を参照して認証を行う認証工程と、
前記被写体検出工程において検出された被写体の動き量を検出する動き検出工程と、
前記認証工程における認証結果と前記動き検出工程において検出された動き量とに基づいて、連続撮像の撮像間隔を変更する変更工程とを有することを特徴とする撮像方法。
【請求項１１】
被写体を撮像して画像データを生成する撮像手段を備えた撮像装置を制御するためのプログラムであって、
前記撮像手段によって生成された画像データから前記被写体を検出する被写体検出工程と、
前記被写体検出工程において検出された被写体に対して、予め記憶された登録情報を参照して認証を行う認証工程と、
前記被写体検出工程において検出された被写体の動き量を検出する動き検出工程と、
前記認証工程における認証結果と前記動き検出工程において検出された動き量とに基づいて、連続撮像の撮像間隔を変更する変更工程とをコンピュータに実行させることを特徴とするプログラム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明の撮像装置は、被写体を撮像して画像データを生成する撮像手段と、前記撮像手段によって生成された画像データから前記被写体を検出する被写体検出手段と、前記被写体検出手段によって検出された被写体に対して、予め記憶された登録情報を参照して認証を行う認証手段と、前記被写体検出手段によって検出された被写体の動き量を検出する動き検出手段と、前記認証手段の認証結果と前記動き検出手段により検出された動き量とに基づいて、連続撮像の撮像間隔を変更する変更手段とを有することを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成27年10月30日(2015.10.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
はんだフラックスの除去におけるシス−１，１，１−トリフルオロ−３−クロロ−プロペン（シスＨＦＣＯ−１２３３ｚｄ）及び／又はトランス−１，１，１−トリフルオロ−３−クロロ−プロペン（トランスＨＦＣＯ−１２３３ｚｄ）を含む溶媒及び／又は洗浄組成物の使用。
【請求項２】
はんだフラックスの除去におけるシス−１，１，１−トリフルオロ−３−クロロ−プロペン（シスＨＦＣＯ−１２３３ｚｄ）及び／又はトランス−１，１，１−トリフルオロ−３−クロロ−プロペン（トランスＨＦＣＯ−１２３３ｚｄ）からなる溶媒及び／又は洗浄組成物の使用。
【請求項３】
前記はんだフラックスがロジンをベースとするはんだフラックスである、請求項１又は２に記載の使用。
【請求項４】
シリコーンオイルを溶解するためのシスＨＦＣＯ−１２３３ｚｄ及び／又はトランスＨＦＣＯ−１２３３ｚｄを含む溶媒及び／又は洗浄組成物の使用。
【請求項５】
溶媒及び／又は洗浄組成物がシスＨＦＣＯ−１２３３ｚｄ及び／又はトランスＨＦＣＯ−１２３３ｚｄをトランス−１，２−ジクロロエチレンと組み合わせて含む、請求項４に記載の使用。
【請求項６】
シリコーンオイルを溶解するためのシスＨＦＣＯ−１２３３ｚｄ及び／又はトランスＨＦＣＯ−１２３３ｚｄからなる溶媒及び／又は洗浄組成物の使用。
【請求項７】
溶媒及び／又は洗浄組成物がトランス−１，２−ジクロロエチレンと組み合わせてシスＨＦＣＯ−１２３３ｚｄ及び／又はトランスＨＦＣＯ−１２３３ｚｄからなる、請求項６に記載の使用。
【請求項８】
溶媒及び／又は洗浄組成物としての、シスＨＦＣＯ−１２３３ｚｄ及びトランスＨＦＣＯ−１２３３ｚｄの組合せを３０：７０〜５：９５のシス：トランス重量比で含む組成物の使用であって、前記組成物は５００以下の地球温暖化係数（ＧＷＰ）を有する、使用。
【請求項９】
溶媒及び／又は洗浄組成物としての、シスＨＦＣＯ−１２３３ｚｄ及び／又はトランスＨＦＣＯ−１２３３ｚｄ、並びにトランス−１，２−ジクロロエチレン及び炭化水素からなる群から選ばれる少なくとも１つの追加の成分を含む組成物の使用であって、前記炭化水素がイソ−ペンタン、ノルマル−ペンタン、シクロ−ペンタン、ブタン、イソ−ブタン又はこれらの組合せであり、前記組成物は５００以下の地球温暖化係数（ＧＷＰ）を有する、使用。
【請求項１０】
ＨＦＣＯ−１２３３ｚｄが５重量％〜９９重量％、好ましくは５重量％〜９５重量％の量で存在する、請求項８又は９に記載の使用。
【請求項１１】
請求項８〜１０のいずれかに記載の組成物を物品に施用することを含む物品から汚染物質を除去する方法であって、好ましくは、当該方法は蒸気脱脂すること又は溶剤洗浄することを含む、方法。
【請求項１２】
溶媒及び／又は洗浄組成物としての、シスＨＦＣＯ−１２３３ｚｄ、トランスＨＦＣＯ−１２３３ｚｄ又はこれらの組合せ、及びＣ１〜Ｃ４アルコールを含む組成物の使用。
【請求項１３】
前記組成物が、シスＨＦＣＯ−１２３３ｚｄ及びトランスＨＦＣＯ−１２３３ｚｄの組合せを３０：７０〜５：９５のシス：トランス重量比で含む、請求項１２に記載の使用。
【請求項１４】
ＨＦＣＯ−１２３３ｚｄが９５重量％〜９９重量％の量で存在する、請求項１〜１０及び１２〜１３のいずれかに記載の使用。
【請求項１５】
はんだフラックスの除去における、シスＨＦＣＯ−１２３３ｚｄ及び／又はトランスＨＦＣＯ−１２３３ｚｄ、並びに１〜１０重量％のＣ１〜Ｃ４アルコールを含む洗浄組成物の使用。
【請求項１６】
はんだフラックスの除去における、シスＨＦＣＯ−１２３３ｚｄ及び／又はトランスＨＦＣＯ−１２３３ｚｄ、並びに１〜１０重量％のＣ１〜Ｃ４アルコールからなる洗浄組成物の使用。
【請求項１７】
前記Ｃ１〜Ｃ４アルコールがメタノールである、請求項１５又は１６に記載の使用。
【請求項１８】
前記はんだフラックスがロジンをベースとするはんだフラックスである、請求項１５〜１７のいずれかに記載の使用。
【請求項１９】
シスＨＦＣＯ−１２３３ｚｄ、トランスＨＦＣＯ−１２３３ｚｄ又はこれらの組合せ、及び１〜２０重量％のメタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、イソブタノール又はｔ−ブタノールを含む組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成27年10月2日(2015.10.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材の片面または両面に、歪み量１００％における応力−歪み曲線に基づく引張強さが６Ｎ／ｃｍ２以上である粘着剤層（Ａ）を有する粘着シートであって、前記粘着剤層（Ａ）が、重量平均分子量１００万〜２２０万の範囲のアクリル重合体（ａ１）、粘着付与樹脂（ａ２）及び架橋剤（ａ３）によって形成された層であることを特徴とする粘着シート。
【請求項２】
前記粘着剤層（Ａ）が１μｍ〜１００μｍの範囲の厚さを有するものである請求項１に記載の粘着シート。
【請求項３】
前記基材が発泡体基材である請求項１または２に記載の粘着シート。
【請求項４】
前記発泡体基材が、１５００μｍ以下の厚さを有するものである請求項３に記載の粘着シート。
【請求項５】
前記アクリル重合体（ａ１）が、ビニル単量体成分を重合させて得られるものであって、前記ビニル単量体成分の全量に対する、（メタ）アクリル単量体以外のビニル単量体の含有量が合計５質量％以下、及び、ホモポリマーのガラス転移温度が１００℃以上のアルキル（メタ）アクリレートの含有割合が合計１質量％以下である請求項１〜４のいずれか１項に記載の粘着シート。
【請求項６】
前記粘着付与樹脂（ａ２）が、重合ロジンエステル系粘着付与樹脂、不均化ロジンエステル系粘着付与樹脂、石油系粘着付与樹脂及びテルペンフェノール系粘着付与樹脂からなる群より選ばれる２種以上を含有するものである請求項１〜５に記載の粘着シート。
【請求項７】
最狭部分の幅が０．５ｍｍ〜２．５ｍｍである請求項１〜６のいずれか１項に記載の粘着シート。
【請求項８】
前記粘着剤層（Ａ）の、歪み量１００％における応力−歪み曲線に基づく引張強さが７．７Ｎ／ｃｍ２以上である請求項１〜７のいずれか１項に記載の粘着シート。
【手続補正書】
【提出日】平成27年10月27日(2015.10.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
微生物夾雑物を含む被検体、ライセート試薬およびパラメトキシアニリンが結合したペプチドを接触させて、多段階反応により前記ペプチドからパラメトキシアニリンの遊離反応を生じさせる反応工程と、
前記遊離反応後の、前記被検体、前記ライセート試薬および前記ペプチドの混合物に対して、電気化学反応により測定される電流値に基づいて微生物夾雑物を定量する測定工程と
を有することを特徴とする微生物夾雑物の濃度検出方法。
【請求項２】
前記微生物夾雑物がエンドトキシンまたは（１→３）−β−Ｄ−グルカンであることを特徴とする請求項１に記載の微生物夾雑物の濃度検出方法。
【請求項３】
前記ペプチドは、一端にパラメトキシアニリンが結合し、他端にペプチドの保護基が結合したオリゴペプチドであることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の微生物夾雑物の濃度検出方法。
【請求項４】
前記電気化学反応による測定方法がアンペロメトリ法であることを特徴とする請求項１から請求項３までのいずれかに記載の微生物夾雑物の濃度検出方法。
【請求項５】
前記多段階反応および前記遊離反応時に加温することを特徴とする請求項１から請求項４までのいずれかに記載の微生物夾雑物の濃度検出方法。
【請求項６】
基板と、
前記基板上に形成され、微生物夾雑物を含む被検体を収容し得る収容部と、
前記収容部内に配置された電極と
を有し、
前記被検体を導入する導入口から前記収容部の間にパラメトキシアニリンが結合したペプチドが配置されていることを特徴とする電極チップ。
【請求項７】
一端が前記収容部に接続され、他端が前記導入口に接続された流路をさらに有することを特徴とする請求項６に記載の電極チップ。
【請求項８】
前記導入口から前記収容部の間にライセート試薬が配置されていることを特徴とする請求項６または請求項７に記載の電極チップ。
【請求項９】
一端にパラメトキシアニリンが結合し、他端にペプチドの保護基が結合していることを特徴とするオリゴペプチド。
【手続補正書】
【提出日】平成27年11月4日(2015.11.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
用紙に消色性着色剤で印刷が可能なプリンタ部と、
前記消色性着色剤にて印刷を行ったユーザーを記憶したメモリと、
前記ユーザーへリユース用紙の補充を促すメッセージを配信する配信部と、
を備えた画像形成装置。
【請求項２】
前記メモリは、前記ユーザーと対応付けて前記消色性着色剤での印刷枚数を記録し、
前記配信部は、前記印刷枚数の多い前記ユーザーへ前記メッセージを配信する請求項１記載の画像形成装置。
【請求項３】
前記メモリは、前記ユーザーのメールアドレスをさらに記憶し、
前記配信部は、前記メッセージを当該メールアドレス宛に配信する請求項１または２記載の画像形成装置。
【請求項４】
前記用紙を収納するカセット部と、
前記カセット部内の用紙が予め設定された量以下になった場合、前記配信部による前記メッセージを配信する制御部と、
をさらに備える請求項１乃至３のいずれか一項記載の画像形成装置。
【請求項５】
前記メッセージは、配信回数に応じて内容を変更する請求項１乃至４のいずれか一項記載の画像形成装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
実施形態の画像形成装置は、用紙に消色性着色剤で印刷が可能なプリンタ部と、前記消色性着色剤にて印刷を行ったユーザーを記憶したメモリと、前記ユーザーへリユース用紙の補充を促すメッセージを配信する配信部と、を備えた。
【手続補正書】
【提出日】平成27年9月30日(2015.9.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
同心円状の得点領域を有する標的と、
可視光カットフィルタを通して前記標的の画像を取得する撮像手段と、引金の動きに連動して、前記撮像手段によって取得された画像のデータを送信する送信制御手段とを備えた銃と、
前記送信制御手段から送られてくる画像のデータを受信する受信手段と、当該画像のデータから夫々の前記赤外線発光手段の光点位置を検出し、当該光点位置をもとに前記銃から前記標的までの距離と前記標的上の着弾位置とを演算する演算手段と、当該演算の結果を表示する表示手段と、を備えたデータ処理装置と、を具備する射撃システムであって、
前記標的の中心に赤外線発光手段が配置され、さらに前記標的の中心を通る仮想直線上、中心の赤外線発光手段を挟んで両側にそれぞれ赤外線発光手段が配置されており、
前記演算手段は、検出した夫々の前記赤外線発光手段の光点位置のうち、中央の赤外線発光手段の光点位置を標的の中心であると判定し、いずれか二つの赤外線発光手段の光点間隔をもとに前記銃から前記標的までの距離を演算し、当該距離と前記判定の結果をもとに着弾位置を演算することを特徴とする射撃システム。
【請求項２】
同心円状の得点領域を有する標的と、
可視光カットフィルタを通して前記標的の画像を取得する撮像手段と、引金の動きに連動して、前記撮像手段によって取得された画像のデータから夫々の前記赤外線発光手段の光点位置を検出し、当該光点位置をもとに前記銃から前記標的までの距離と前記標的上の着弾位置とを演算する演算手段と、を備えた銃と、を具備する射撃システムであって、
前記標的の中心に赤外線発光手段が配置され、さらに前記標的の中心を通る仮想直線上、中心の赤外線発光手段を挟んで両側にそれぞれ赤外線発光手段が配置されており、
前記演算手段は、検出した夫々の前記赤外線発光手段の光点位置のうち、中央の赤外線発光手段の光点位置を標的の中心であると判定し、いずれか二つの赤外線発光手段の光点間隔をもとに前記銃から前記標的までの距離を演算し、当該距離と前記判定の結果をもとに着弾位置を演算することを特徴とする射撃システム。
【請求項３】
前記演算手段は、前記演算の結果である前記銃から前記標的までの距離をもとに着弾位置の高さ方向の補正をすることを特徴とする請求項１または２に記載の射撃システム。
【請求項４】
銃から第一の位置までの距離をＭ、銃から第二の位置までの距離をＬ、撮像素子の中心から照準線までの距離をＳとしたとき、第一の位置で合わせた照準を第二の位置の射撃で使用する場合の補正値Ｈを式、Ｈ＝（Ｍ−Ｌ）・Ｓ／Ｍで求め、当該補正値Ｈを用いて着弾位置の高さ方向の補正を行うことを特徴とする請求項３に記載の射撃システム。
【請求項５】
前記撮像手段は、前記引金を引くことによって銃弾、撃針、又はストライカーが移動したときに動作するスイッチにより画像を取得することを特徴とする請求項１乃至４のいずれか一項に記載の射撃システム。
【請求項６】
前記銃は、さらに望遠レンズを備え、
前記演算手段は、前記銃から前記標的までの距離と、異なる二つの赤外線発光手段の光点間隔との対応関係を示す距離対応テーブルを備え、当該距離テーブルを参照して前記銃から前記標的までの距離を演算することを特徴とする請求項１乃至５のいずれか一項に記載の射撃システム。
【請求項７】
可視光カットフィルタを通して赤外線発光手段を備えた標的を撮像する撮像手段を備え、さらに
引金の動きに連動して動作するスイッチと、
前記スイッチが動作すると前記撮像手段によって取得された画像のデータ中の前記赤外線発光手段の光点位置をもとに標的上の着弾位置を表示手段へ表示するための送信データを生成する手段と、
を備えたことを特徴とする銃。
【請求項８】
同心円状の得点領域を有し、前記同心円の中心に赤外線発光手段が配置され、さらに前記同心円の中心を通る仮想直線上、中心の赤外線発光手段を挟んで両側にそれぞれ赤外線発光手段が配置されている標的の画像のデータから夫々の前記赤外線発光手段の光点位置を検出し、検出した夫々の前記赤外線発光手段の光点位置のうち、中央の赤外線発光手段の光点位置を標的の中心であると判定し、いずれか二つの赤外線発光手段の光点間隔をもとに前記銃から前記標的までの距離を演算し、当該距離と前記判定の結果をもとに着弾位置を演算することを特徴とするデータ処理装置。
【手続補正書】
【提出日】平成27年3月30日(2015.3.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に酸化物半導体層を形成し、
前記酸化物半導体層が形成された前記基板を処理室内に配置し、
前記処理室内にガスを導入し、
前記処理室内において１ＭＨｚ以上３ＴＨｚ以下の電磁波を発生させ、前記ガスをプラズマ化し、前記酸化物半導体層中の水素を低減することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項２】
基板上に酸化物半導体層を形成し、
前記酸化物半導体層が形成された前記基板を処理室内に配置し、
前記処理室内に、大気圧下の露点が−６０℃以下の空気を導入し、
前記処理室内において１ＭＨｚ以上３ＴＨｚ以下の電磁波を発生させ、前記空気をプラズマ化し、前記酸化物半導体層中の水素を低減することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項３】
請求項１又は請求項２において、
前記処理室内において、前記基板は支持台に配置され、
前記支持台には、バイアス電圧が印加されることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項４】
請求項１乃至請求項３のいずれか一において、
前記酸化物半導体層は、ＩｎとＧａとＺｎとを有することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項５】
請求項１乃至請求項４のいずれか一において、
前記酸化物半導体層の水素濃度は、５×１０１９／ｃｍ３以下であることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【手続補正書】
【提出日】平成27年1月28日(2015.1.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光増幅装置であって、
長辺と短辺とを有する矩形の断面を有する増幅媒質と、
２つ以上の高反射ミラーと、を備え、前記増幅媒質は前記２つ以上の高反射ミラーの間に配置されており、
前記断面の前記短辺はｘ軸に沿っており、前記長辺はｙ軸に沿っており、ｚ軸は光軸であり、ｘ軸、ｙ軸、及びｚ軸は直交座標系を構成し、
発振器から放出されるビームが、前記増幅媒質のｘｚ平面を通じる複数の横断を含む経路を形成するように前記２つ以上の高反射ミラーの各々において１回以上反射され、前記ビームは、前置増幅段における第１経路を２回通過し、出力増幅段における第２経路を１回通過し、前記第１経路と前記第２経路とは独立しており、前記増幅媒質において重なっている、光増幅装置。
【請求項２】
前記第１経路及び前記第２経路上に増幅媒質の横断が３つ以上存在する、請求項１に記載の光増幅装置。
【請求項３】
前記第２経路は、前記第１経路よりも横断が１つ以上多い、請求項１又は２に記載の光増幅装置。
【請求項４】
光増幅器は前記増幅媒質の出側に位置決めされるイメージングミラーを備え、前記ビームは前記第１経路の１回目の通過の後に前記イメージングミラーに入射し、前記イメージングミラーは、前記前置増幅段における前記２回の通過を生じさせるべく、前記第１経路に沿って前記ビームを戻すように配置されている、請求項１乃至３のいずれか一項に記載の光増幅装置。
【請求項５】
光増幅器は、前記増幅媒質の入側に位置決めされる第１レンズ及び第２レンズを備え、前記第１及び第２レンズは、倍率１の望遠鏡を形成するように配置され、前記ビームは、前記前置増幅段を出ると、前記望遠鏡を通じて前記出力増幅段への入力ビームを形成する、請求項１乃至４のいずれか一項に記載の光増幅装置。
【請求項６】
光増幅器は、複数の偏光素子を備える、請求項１乃至５のいずれか一項に記載の光増幅
装置。
【請求項７】
第１偏光素子は、前記増幅媒質の前記出側において前記イメージングミラーに近接して位置決めされる、請求項４を引用する請求項６に記載の光増幅装置。
【請求項８】
前記第１偏光素子は、１／４波長板である、請求項７に記載の光増幅装置。
【請求項９】
第２偏光素子は、前記増幅媒質の入側に位置決めされる、請求項６乃至８のいずれか一項に記載の光増幅装置。
【請求項１０】
前記第２偏光素子は偏光キューブである、請求項９に記載の光増幅装置。
【請求項１１】
前記第２偏光素子と第１レンズとは、前記発振器によって放出される入力ビームを前記前置増幅段のために前記増幅媒質中に結合させるように配置される、請求項９又は１０に記載の光増幅装置。
【請求項１２】
偏光キューブは、第１レンズと第２レンズとの間に配置される、請求項１０又は１１に記載の光増幅装置。
【請求項１３】
リターンミラーは、前記出力増幅段のために前記ビームを前記増幅媒質中に戻すように、前記第２偏光素子と前記第２レンズとの間に位置決めされる、請求項１２に記載の光増幅装置。
【請求項１４】
光増幅器は、該光増幅器への入力部に配置されるパルスピッカを備える、請求項１乃至１３のいずれか一項に記載の光増幅装置。
【請求項１５】
前記高反射ミラーは平面ミラーである、請求項１乃至１４のいずれか一項に記載の光増幅装置。
【請求項１６】
前記高反射ミラーは、球面ミラー、円筒ミラー、及び２つの直交軸に沿った曲率が異なるミラーからなる群から選択される、請求項１乃至１４のいずれか一項に記載の光増幅装置。
【請求項１７】
前記増幅媒質は、矩形の形状及び断面のスラブである、請求項１乃至１６のいずれか一項に記載の光増幅装置。
【請求項１８】
前記増幅媒質は、光励起される単結晶のスラブである、請求項１７に記載の光増幅装置。
【請求項１９】
前記スラブは、２つのドープされていない能動媒質の間にドープされた能動媒質が配置されている結晶サンドイッチ構造により形成される、請求項１８に記載の光増幅装置。
【請求項２０】
前記増幅媒質は、長辺と短辺とを有する矩形の断面を有する、スラブ放電を提供するように矩形電極間において励起させられる気体である、請求項１乃至１７のいずれか一項に記載の光増幅装置。
【手続補正書】
【提出日】平成27年5月28日(2015.5.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
絶縁層と、
前記絶縁層上の島状の酸化物半導体層と、
前記酸化物半導体層上で離間し、前記酸化物半導体層とそれぞれ電気的に接続された一対の電極と、
前記酸化物半導体層上のゲート電極と、
前記酸化物半導体層と前記ゲート電極との間のゲート絶縁層と、を有し、
前記絶縁層は、島状の突出部を有し、
前記絶縁層の前記突出部の上面は、前記酸化物半導体層の下面に接し、且つ、上方から見て前記酸化物半導体層よりも内側に位置し、
前記一対の電極と重ならない領域において、前記ゲート電極及び前記ゲート絶縁層は、前記酸化物半導体層の上面及び側面、並びに前記絶縁層の前記突出部の側面を覆うように設けられた領域を有する、半導体装置。
【請求項２】
絶縁層と、
前記絶縁層上の島状の酸化物半導体層と、
前記酸化物半導体層上で離間し、前記酸化物半導体層とそれぞれ電気的に接続された一対の電極と、
前記酸化物半導体層上のゲート電極と、
前記酸化物半導体層と前記ゲート電極との間のゲート絶縁層と、を有し、
前記絶縁層は、島状の突出部を有し、
前記絶縁層の前記突出部の上面は、前記酸化物半導体層の下面に接し、且つ、上方から見て前記酸化物半導体層よりも内側に位置し、
前記一対の電極は、前記酸化物半導体層の上面の一部及び側面の一部を覆うように設けられた領域を有し、
前記一対の電極と重ならない領域において、前記ゲート電極及び前記ゲート絶縁層は、前記酸化物半導体層の上面及び側面、並びに前記絶縁層の前記突出部の側面を覆うように設けられた領域を有する、半導体装置。
【請求項３】
絶縁層と、
前記絶縁層上の島状の酸化物半導体層と、
前記酸化物半導体層上で離間し、前記酸化物半導体層とそれぞれ電気的に接続された一対の電極と、
前記酸化物半導体層上のゲート電極と、
前記酸化物半導体層と前記ゲート電極との間のゲート絶縁層と、
前記酸化物半導体層と前記絶縁層との間の、第１の酸化物層と、
前記酸化物半導体層と前記ゲート絶縁層との間の、第２の酸化物層と、を有し、
前記第１の酸化物層は、前記酸化物半導体層が含む金属元素の少なくとも一以上を含み、
前記第２の酸化物層は、前記酸化物半導体層が含む金属元素の少なくとも一以上を含み、
前記絶縁層は、島状の突出部を有し、
前記絶縁層の前記突出部の上面は、前記第２の酸化物層の下面に接し、且つ、上方から見て、前記酸化物半導体層、前記第１の酸化物層、及び前記第２の酸化物層の少なくとも一よりも内側に位置し、
前記一対の電極と重ならない領域において、前記ゲート電極及び前記ゲート絶縁層は、前記酸化物半導体層の上面及び側面、並びに前記絶縁層の前記突出部の側面を覆うように設けられた領域を有する、半導体装置。
【請求項４】
絶縁層と、
前記絶縁層上の島状の酸化物半導体層と、
前記酸化物半導体層上で離間し、前記酸化物半導体層とそれぞれ電気的に接続された一対の電極と、
前記酸化物半導体層上のゲート電極と、
前記酸化物半導体層と前記ゲート電極との間のゲート絶縁層と、
前記酸化物半導体層と前記絶縁層との間の、第１の酸化物層と、
前記酸化物半導体層と前記ゲート絶縁層との間の、第２の酸化物層と、を有し、
前記第１の酸化物層は、前記酸化物半導体層が含む金属元素の少なくとも一以上を含み、
前記第２の酸化物層は、前記酸化物半導体層が含む金属元素の少なくとも一以上を含み、
前記絶縁層は、島状の突出部を有し、
前記絶縁層の前記突出部の上面は、前記第２の酸化物層の下面に接し、且つ、上方から見て、前記酸化物半導体層、前記第１の酸化物層、及び前記第２の酸化物層の少なくとも一よりも内側に位置し、
前記一対の電極は、前記酸化物半導体層の上面の一部及び側面の一部を覆うように設けられた領域を有し、
前記一対の電極と重ならない領域において、前記ゲート電極及び前記ゲート絶縁層は、前記酸化物半導体層の上面及び側面、並びに前記絶縁層の前記突出部の側面を覆うように設けられた領域を有する、半導体装置。
【請求項５】
請求項３又は請求項４において、
前記第１の酸化物層は、前記酸化物半導体層と上面形状が概略一致する島状の形状を有し、
前記一対の電極と重ならない領域において、前記第２の酸化物層は、前記酸化物半導体層の上面及び側面、前記第１の酸化物層の側面、並びに前記絶縁層の前記突出部の側面を覆うように設けられる領域を有する、半導体装置。
【手続補正書】
【提出日】平成27年2月12日(2015.2.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
画像を符号化した符号化ストリームを復号する画像復号方法であって、
前記画像を構成する復号対象ブロックにおいて、
前記符号化ストリームから得られる符号化モードの情報に従って、前記復号対象ブロックの周囲のブロックを含む複数の候補ブロックの動きベクトルから動きベクトルを選択し、前記動きベクトルを用いて、前記復号対象ブロックの動きベクトルを復号する第１ステップと、
前記復号対象ブロックの動きベクトルと参照画像とを用いて予測画像を生成する第２ステップとを備え、
前記第１ステップにおける動きベクトルの選択処理は、前記復号対象ブロックと同じフレームにあり前記復号対象ブロックと隣接する第１のブロックと、前記復号対象ブロックとは別のフレームの前記復号対象ブロックと同じ位置にある第２のブロックとから、候補ブロックの選択を行う処理であり、
該動きベクトルの選択処理には、
前記第１のブロックのうち、前記対象ブロックの左側に位置するブロックと前記対象ブロックの上側に位置するブロックとの動きベクトルを比較し、同じ動きベクトルを有する場合には、前記対象ブロックの上側に位置するブロックを候補ブロックから除外する第１の処理状態と、
前記第１のブロックに参照不可のブロックが含まれる場合には、前記参照不可のブロックを動きベクトルの候補ブロックから除外し、他のブロックを候補ブロックに追加する第２の処理状態とが含まれ、
前記第２の処理状態において候補ブロックに追加するブロックの数は、既に候補ブロックとして選択されているブロックの数に応じて変更することを特徴とする画像復号方法。
【手続補正書】
【提出日】平成27年6月29日(2015.6.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、３次元ＣＡＤシステムの３次元モデルを用いた２次元図面の作成に関し、特に設計物に対して作業を行う工程ごとに有する奥行き方向の寸法を表示させることの可能な情報処理装置、その制御方法、及びプログラムに関する。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
本発明の目的は、設計物に対して作業を行う工程ごとに有する奥行き方向の寸法を表示させることの可能な仕組みを提供することである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
上記の目的を達成するために、本発明の情報処理装置は、設計物の三次元モデルと対応する二次元図面を管理する情報処理装置であって、前記設計物に対して作業を行う工程ごとに、奥行き方向の寸法を算出する対象となる前記二次元図面上の第１の要素と、当該寸法を算出するための基準となる前記二次元図面上の第２の要素とを記憶する記憶手段と、任意の前記工程に対応する要素であって、前記記憶手段に記憶された第１の要素と第２の要素とに基づいて前記二次元図面に対応する前記三次元モデルにおいて算出される当該要素間の距離を、前記第１の要素の奥行き方向の寸法として表示させる表示手段とを備えることを特徴とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
本発明によれば、設計物に対して作業を行う工程ごとに有する奥行き方向の寸法を表示させることのできる効果を奏する。
【手続補正５】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
設計物の三次元モデルと対応する二次元図面を管理する情報処理装置であって、
前記設計物に対して作業を行う工程ごとに、奥行き方向の寸法を算出する対象となる前記二次元図面上の第１の要素と、当該寸法を算出するための基準となる前記二次元図面上の第２の要素とを記憶する記憶手段と、
任意の前記工程に対応する要素であって、前記記憶手段に記憶された第１の要素と第２の要素とに基づいて前記二次元図面に対応する前記三次元モデルにおいて算出される当該要素間の距離を、前記第１の要素の奥行き方向の寸法として表示させる表示手段と
を備えることを特徴とする情報処理装置。
【請求項２】
前記情報処理装置は、
前記工程ごとに、前記第１の要素と前記第２の要素との選択を前記二次元図面に対応する前記三次元モデルにおいて受け付ける受付手段と、
前記受付手段で選択を受け付けた前記第１の要素と前記第２の要素とを前記記憶手段に登録する登録手段と
を更に備えることを特徴とする請求項１に記載の情報処理装置。
【請求項３】
前記記憶手段は、前記設計物に対して作業を行う工程ごとに、奥行き方向の寸法を算出する対象となる前記二次元図面上の複数の第１の要素と、当該寸法を算出するための基準となる前記二次元図面上の第２の要素とを記憶し、
前記表示手段は、任意の前記工程に対応する要素であって、前記記憶手段に記憶された複数の第１の要素と第２の要素とに基づいて前記二次元図面に対応する前記三次元モデルにおいて算出される当該第１の要素ごとの前記距離を、当該第１の要素それぞれの奥行き方向の寸法として表示させること
を特徴とする請求項１または２に記載の情報処理装置。
【請求項４】
前記情報処理装置は、
前記工程に対する選択を受け付ける選択受付手段を更に備え、
前記表示手段は、前記選択受付手段で選択を受け付けた前記工程に対応する要素であって、前記記憶手段に記憶された第１の要素と第２の要素とに基づいて前記二次元図面に対応する前記三次元モデルにおいて算出される当該要素間の距離を、前記第１の要素の奥行き方向の寸法として表示させること
を特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の情報処理装置。
【請求項５】
前記表示手段は、前記距離を寸法線とは異なる形態で表示させることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の情報処理装置。
【請求項６】
設計物の三次元モデルと対応する二次元図面を管理する情報処理装置であって、前記設計物に対して作業を行う工程ごとに、奥行き方向の寸法を算出する対象となる前記二次元図面上の第１の要素と、当該寸法を算出するための基準となる前記二次元図面上の第２の要素とを記憶する記憶手段を備える情報処理装置の制御方法であって、
前記情報処理装置の表示手段が、任意の前記工程に対応する要素であって、前記記憶手段に記憶された第１の要素と第２の要素とに基づいて前記二次元図面に対応する前記三次元モデルにおいて算出される当該要素間の距離を、前記第１の要素の奥行き方向の寸法として表示させる表示ステップ
を備えることを特徴とする情報処理装置の制御方法。
【請求項７】
設計物の三次元モデルと対応する二次元図面を管理する情報処理装置であって、前記設計物に対して作業を行う工程ごとに、奥行き方向の寸法を算出する対象となる前記二次元図面上の第１の要素と、当該寸法を算出するための基準となる前記二次元図面上の第２の要素とを記憶する記憶手段を備える情報処理装置の制御方法を実行可能なプログラムであって、
前記情報処理装置を、
任意の前記工程に対応する要素であって、前記記憶手段に記憶された第１の要素と第２の要素とに基づいて前記二次元図面に対応する前記三次元モデルにおいて算出される当該要素間の距離を、前記第１の要素の奥行き方向の寸法として表示させる表示手段
として機能させることを特徴とするプログラム。
【手続補正書】
【提出日】平成27年2月27日(2015.2.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
レンズホルダを、光軸方向及び光軸直交方向に変位させるレンズ駆動装置において、
光軸方向に変位可能なレンズホルダをその周囲に配置された磁石と共に組み付けたアセンブリを、前記磁石とこれに対向する位置に配置されたコイルとの協働により、光軸直交方向に変位させる駆動部と、
前記アセンブリの前記光軸直交方向の変位による光軸の変位範囲より広い開口を有するベースと、
を有するレンズ駆動装置。
【請求項２】
前記ベースは、前記アセンブリから離間した位置に配置される、
請求項１に記載のレンズ駆動装置。
【請求項３】
それぞれ第１端部が前記ベースに固定されかつ第２端部が前記アセンブリに固定され、前記アセンブリを前記光軸直交方向に変位可能に支持する複数のサスペンションワイヤを有する、
請求項１又は２に記載のレンズ駆動装置。
【請求項４】
前記アセンブリは、
前記磁石を保持するマグネットホルダと、
前記マグネットホルダに取り付けられ、前記レンズホルダを、前記光軸方向に変位可能に支持する板バネとを有する、
請求項１〜３のいずれか１項に記載のレンズ駆動装置。
【請求項５】
前記アセンブリは、前記レンズホルダの周囲に配置され、前記磁石と協働して前記アセンブリを前記光軸方向に変位させる他のコイルを有する、
請求項１〜４のいずれか１項に記載のレンズ駆動装置。
【請求項６】
前記磁石と対向する位置に配置され、前記磁石の前記光軸直交方向の位置を検出するホール素子を有する、
請求項１〜５のいずれか１項に記載のレンズ駆動装置。
【請求項７】
前記アセンブリを収容する筐体を有し、
前記ベースは、前記筐体の底部を構成する、
請求項１〜６のいずれか１項に記載のレンズ駆動装置。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれか１項に記載のレンズ駆動装置と、
前記ベースに対して前記アセンブリの反対側に配置された撮像基板に配置された撮像素子と、
を有するカメラモジュール。
【請求項９】
請求項８に記載のカメラモジュールと、
前記カメラモジュールを制御する制御部と、
を有するカメラ。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】レンズ駆動装置、カメラモジュール及びカメラ
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、カメラの手振れ補正装置としての用途に適したレンズ駆動装置、並びにこのレンズ駆動装置を備えたカメラモジュール及びカメラに関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３２】
本発明の目的は、手振れ補正装置としての用途に適したレンズ駆動装置並びにこのレンズ駆動装置を備えたカメラモジュール及びカメラを提供することである。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４０】
尚、上記括弧内の参照符号は、理解を容易にするために付したものであり、一例に過ぎず、これらに限定されないのは勿論である。
また、本発明の一態様によるレンズ駆動装置は、レンズホルダを、光軸方向及び光軸直交方向に変位させるレンズ駆動装置において、光軸方向に変位可能なレンズホルダをその周囲に配置された磁石と共に組み付けたアセンブリを、前記磁石とこれに対向する位置に配置されたコイルとの協働により、光軸直交方向に変位させる駆動部と、前記アセンブリの前記光軸直交方向の変位による光軸の変位範囲より広い開口を有するベースと、を有する。
好ましくは、前記ベースは、前記アセンブリから離間した位置に配置される。
好ましくは、前記開口は、光軸を通過させる開口である。
好ましくは、前記レンズ駆動装置は、それぞれ第１端部が前記ベースに固定されかつ第２端部が前記アセンブリに固定され、前記アセンブリを前記光軸直交方向に変位可能に支持する複数のサスペンションワイヤを有する。
好ましくは、前記アセンブリは、前記磁石を保持するマグネットホルダと、前記マグネットホルダに取り付けられ、前記レンズホルダを、前記光軸方向に変位可能に支持する板バネとを有する。
好ましくは、前記アセンブリは、前記レンズホルダの周囲に配置され、前記磁石と協働して前記アセンブリを前記光軸方向に変位させる他のコイルを有する。
好ましくは、前記レンズ駆動装置は、前記磁石と対向する位置に配置され、前記磁石の前記光軸直交方向の位置を検出するホール素子を有する。
好ましくは、前記レンズ駆動装置は、前記アセンブリを収容する筐体を有し、前記ベースは、前記筐体の底部を構成する。
本発明の一態様によるカメラモジュールは、前記レンズ駆動装置と、前記ベースに対して前記アセンブリの反対側に配置された撮像基板に配置された撮像素子と、を有する。
本発明の一態様によるカメラは、前記カメラモジュールと、前記カメラモジュールを制御する制御部と、を有する。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４１】
本発明によれば、カメラの手振れ補正装置としての用途に適したレンズ駆動装置、並びにこのレンズ駆動装置を備えたカメラモジュール及びカメラを提供することができる。
【手続補正書】
【提出日】平成27年2月17日(2015.2.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
像振れを補正するために移動可能な光学系と、
装置の振れを検出し第１検出信号を出力する第１検出部と、
前記第１検出部から出力された前記第１検出信号を用いて前記光学系を目標位置に制御するための目標信号を生成する目標信号生成部と、
前記光学系の状態を検出し第２検出信号を出力する第２検出部と、
前記目標信号と前記第２検出信号とを用いて前記光学系の制御誤差の信号である制御誤差信号を生成する信号生成部と、
前記信号生成部から出力された前記制御誤差信号を用いて前記光学系の移動を制御する第１制御部と、
前記信号生成部から出力された前記制御誤差信号をカメラ本体に出力する出力部とを有するレンズ鏡筒。
【請求項２】
請求項１に記載されたレンズ鏡筒であって、
前記出力部が出力する前記制御誤差信号は、撮像部が画像を取得するフレームレートよりも速い周期の信号であるレンズ鏡筒。
【請求項３】
像振れを補正するために移動可能な光学系と、装置の振れを検出し第１検出信号を出力する第１検出部と、前記第１検出部から出力された前記第１検出信号を用いて前記光学系を目標位置に制御するための目標信号を生成する目標信号生成部と、前記光学系の状態を検出し第２検出信号を出力する第２検出部と、前記目標信号と前記第２検出信号とを用いて前記光学系の制御誤差の信号である制御誤差信号を生成する信号生成部と、前記信号生成部から出力された前記制御誤差信号を用いて前記光学系の移動を制御する第１制御部と、前記信号生成部から出力された前記制御誤差信号をカメラ本体に出力する出力部とを含むレンズ鏡筒から前記制御誤差信号を取得する取得部と、
前記制御誤差信号を用いて像振れを補正するための処理をする補正処理部とを有するカメラ本体。
【請求項４】
請求項３に記載されたカメラ本体であって、
撮像部のフレームレートの情報であるフレームレート情報を用いて、前記出力部が出力した前記制御誤差信号を間引くことにより
前記制御誤差信号よりも遅い周期の信号である間引き信号を生成する間引き信号生成部を有するカメラ本体。
【請求項５】
請求項４に記載されたカメラ本体であって、
前記補正処理部は、前記間引き信号生成部から出力された前記間引き信号を用いて前記撮像部で撮像された画像の一部を切り出すことにより像振れを補正するカメラ本体。
【請求項６】
請求項１又は請求項２に記載されたレンズ鏡筒を有することを特徴とする光学機器。
【請求項７】
請求項３から請求項５までの何れか１項に記載されたカメラ本体を有することを特徴とする光学機器。
【手続補正書】
【提出日】平成27年4月2日(2015.4.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
所定の開始タイミングから所定の終了タイミングまでの期限を示す期限情報に対応付けられた番組情報を一覧形式で表示させる表示制御部
を備え、
前記表示制御部は、前記期限情報に対応付けられた番組情報を、前記期限情報が示すタイミングに基づく順序で並べて表示させることを特徴とする表示制御装置。
【請求項２】
前記表示制御部は、所定の放送時間に対応付けられるとともに、前記期限情報に対応付けられていない番組情報については、前記所定の放送時間に基づく順序で並べて表示させることを特徴とする請求項１記載の表示制御装置。
【請求項３】
所定の開始タイミングから所定の終了タイミングまでの期限を示す期限情報に対応付けられた番組情報を一覧形式で表示させる表示制御ステップ
を有し、
前記表示制御ステップにおいて、前記期限情報に対応付けられた番組情報を、前記期限情報が示すタイミングに基づく順序で並べて表示させることを特徴とする表示制御方法。
【請求項４】
所定の開始タイミングから所定の終了タイミングまでの期限を示す期限情報に対応付けられた番組情報を一覧形式で表示させる表示制御手段、
としてコンピュータを機能させ、
前記表示制御手段は、前記期限情報に対応付けられた番組情報を、前記期限情報が示すタイミングに基づく順序で並べて表示させることを特徴とする表示制御プログラム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】表示制御装置、表示制御方法、及び表示制御プログラム
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、表示制御装置、表示制御方法、及び表示制御プログラムに関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
所定の開始タイミングから所定の終了タイミングまでの期限を示す期限情報に対応付けられた番組情報を一覧形式で表示させる表示制御部を備え、前記表示制御部は、前記期限情報に対応付けられた番組情報を、前記期限情報が示すタイミングに基づく順序で並べて表示させることを特徴とする表示制御装置を提供する。
所定の開始タイミングから所定の終了タイミングまでの期限を示す期限情報に対応付けられた番組情報を一覧形式で表示させる表示制御ステップを有し、前記表示制御ステップにおいて、前記期限情報に対応付けられた番組情報を、前記期限情報が示すタイミングに基づく順序で並べて表示させることを特徴とする表示制御方法を提供する。
所定の開始タイミングから所定の終了タイミングまでの期限を示す期限情報に対応付けられた番組情報を一覧形式で表示させる表示制御手段、としてコンピュータを機能させ、前記表示制御手段は、前記期限情報に対応付けられた番組情報を、前記期限情報が示すタイミングに基づく順序で並べて表示させることを特徴とする表示制御プログラムを提供する。
【手続補正書】
【提出日】平成27年2月5日(2015.2.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
スペクトル割付けにおいて少なくとも１つのキャリアに対応する第１の組のサブキャリアを決定し、前記スペクトル割付けにおいて残りの使用可能なサブキャリアに対応する第２の組のサブキャリアを決定し、前記第１の組のサブキャリア上の符号分割多重化（ＣＤＭ）データまたは直交周波数分割多重化（ＯＦＤＭ）データ、あるいはＣＤＭデータとＯＦＤＭデータの両方を備え、前記第２の組のサブキャリア上のＯＦＤＭデータをさらに備える出力波形を生成し、前記ＣＤＭが選択される場合チップレートで前記ＣＤＭデータを生成し、前記ＯＦＤＭが選択される場合サンプルレートで前記ＯＦＤＭデータを生成し、ＭＩＭＯ及びＳＤＭＡを含む空間技法が使用されるとき、前記ＣＤＭデータを前記ＯＦＤＭデータで置換し、使用可能なスペクトルが単一キャリアＣＤＭＡ波形の帯域幅の整数倍でないとき、前記ＯＦＤＭを使用する少なくとも１つのプロセッサと、
前記少なくとも１つのプロセッサに結合されたメモリと、
を備える装置。
【請求項２】
前記少なくとも１つのプロセッサは、前記少なくとも１つのキャリアのおのおのに対応するサブキャリア上のＣＤＭデータまたはＯＦＤＭデータを備え、前記第２の組のサブキャリア上のＯＦＤＭデータをさらに備える前記出力波形を生成する、請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記少なくとも１つのプロセッサは、オーバーヘッド期間において前記少なくとも１つのキャリアについてのオーバーヘッドデータをさらに備える前記出力波形を生成する、請求項２に記載の装置。
【請求項４】
前記少なくとも１つのプロセッサは、前記オーバーヘッド期間において残りの使用可能なサブキャリアに対応する第３の組のサブキャリアを決定し、前記オーバーヘッド期間において前記第３の組のサブキャリア上のＯＦＤＭデータをさらに備える前記出力波形を生成する、請求項３に記載の装置。
【請求項５】
前記少なくとも１つのキャリアは、複数のキャリアを備え、前記少なくとも１つのプロセッサは、前記複数のキャリアのおのおのに対応するサブキャリア上のＣＤＭデータまたはＯＦＤＭデータを備え、前記第２の組のサブキャリア上のＯＦＤＭデータをさらに備える前記出力波形を生成する、請求項１に記載の装置。
【請求項６】
前記少なくとも１つのプロセッサは、ＣＤＭデータを有するキャリアと、ＯＦＤＭデータを有する隣接するキャリアとの間の少なくとも１つのヌルサブキャリアを決定し、前記第１の組のサブキャリアは、前記複数のキャリアの間のヌルサブキャリアを除外する、請求項５に記載の装置。
【請求項７】
スペクトル割付けにおいて少なくとも１つのキャリアに対応する第１の組のサブキャリアを決定することと、
前記スペクトル割付けにおいて残りの使用可能なサブキャリアに対応する第２の組のサブキャリアを決定することと、
前記第１の組のサブキャリア上の符号分割多重化（ＣＤＭ）データまたは直交周波数分割多重化（ＯＦＤＭ）データ、あるいはＣＤＭデータとＯＦＤＭデータの両方を備え、前記第２の組のサブキャリア上のＯＦＤＭデータをさらに備える、出力波形を生成することと、
前記ＣＤＭが選択される場合チップレートで前記ＣＤＭデータを生成し、前記ＯＦＤＭが選択される場合サンプルレートで前記ＯＦＤＭデータを生成することと、
ＭＩＭＯ及びＳＤＭＡを含む空間技法が使用されるとき、前記ＣＤＭデータを前記ＯＦＤＭデータで置換することと、
使用可能なスペクトルが単一キャリアＣＤＭＡ波形の帯域幅の整数倍でないとき、前記ＯＦＤＭを使用することと
を備える方法。
【請求項８】
前記の前記出力波形を生成することは、オーバーヘッド期間において、少なくとも１つのキャリアについてのオーバーヘッドデータと、第３の組のサブキャリア上のＯＦＤＭデータと、をさらに備える前記出力波形を生成すること、を備える、請求項７に記載の方法。
【請求項９】
スペクトル割付けにおいて少なくとも１つのキャリアに対応する第１の組のサブキャリアを決定するための手段と、
前記スペクトル割付けにおいて残りの使用可能なサブキャリアに対応する第２の組のサブキャリアを決定するための手段と、
前記第１の組のサブキャリア上の符号分割多重化（ＣＤＭ）データまたは直交周波数分割多重化（ＯＦＤＭ）データ、あるいはＣＤＭデータとＯＦＤＭデータの両方を備え、前記第２の組のサブキャリア上のＯＦＤＭデータをさらに備える出力波形、を生成するための手段と、
前記ＣＤＭが選択される場合チップレートで前記ＣＤＭデータを生成し、前記ＯＦＤＭが選択される場合サンプルレートで前記ＯＦＤＭデータを生成する手段と、
ＭＩＭＯ及びＳＤＭＡを含む空間技法が使用されるとき、前記ＣＤＭデータを前記ＯＦＤＭデータで置換する手段と、
使用可能なスペクトルが単一キャリアＣＤＭＡ波形の帯域幅の整数倍でないとき、前記ＯＦＤＭを使用する手段と
を備える装置。
【請求項１０】
前記出力波形を生成するための前記手段は、オーバーヘッド期間において、少なくとも１つのキャリアについてのオーバーヘッドデータと、第３の組のサブキャリア上のＯＦＤＭデータをさらに備える前記出力波形、を生成するための手段を備える、請求項９に記載の装置。