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【手続補正書】
【提出日】平成27年7月21日(2015.7.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上のインプリント材とモールドとを接触させた状態で前記インプリント材を硬化させ、硬化したインプリント材から前記モールドを離すことで前記基板上にパターンを形成するインプリント装置であって、
前記インプリント材を吐出する吐出口を含み、前記基板上に前記インプリント材を供給する供給部と、
軟Ｘ線の照射によりイオンを生成する生成部と、
前記イオンがインプリント位置を含む空間に供給されるように気体を供給する気体供給部と、を有し、
前記吐出口は、前記軟Ｘ線が直接照射されない位置に設けられていることを特徴とするインプリント装置。
【請求項２】
前記直接照射されない位置とは、前記生成部より射出されて前記吐出口に向かう軟Ｘ線が、前記モールドを保持する保持部材および前記モールドの少なくとも一方によって遮蔽される位置であることを特徴とする請求項１に記載のインプリント装置。
【請求項３】
前記生成部の前記軟Ｘ線の射出口は、前記モールドよりも高い位置に設けられていることを特徴とする請求項２に記載のインプリント装置。
【請求項４】
前記生成部の前記軟Ｘ線の射出口は、斜め下向きに設けられていることを特徴とする請求項１乃至３のうちいずれか１項に記載のインプリント装置。
【請求項５】
前記生成部から射出されて前記吐出口に向かう軟Ｘ線を遮蔽する、遮蔽部材を更に有することを特徴とする請求項１乃至４のうちいずれか１項に記載のインプリント装置。
【請求項６】
前記供給部は、前記吐出口が形成された吐出ヘッドを含み、
前記遮蔽部材は、前記吐出ヘッドの前記吐出口が形成された面から前記基板側に突出し、かつ前記吐出口を取り囲む部分であることを特徴とする請求項５に記載のインプリント装置。
【請求項７】
前記遮蔽部材は、前記供給部に含まれる、前記吐出口を覆うことが可能な蓋部材であることを特徴とする請求項５に記載のインプリント装置。
【請求項８】
前記基板を保持して移動可能なステージを更に有し、
前記ステージは、前記ステージが前記インプリント位置から水平方向に離れた位置に位置する状態で前記吐出口を覆うことが可能な蓋部材を有することを特徴とする請求項１乃至４のうちいずれか１項に記載のインプリント装置。
【請求項９】
前記供給部は、前記吐出口に接続されており、かつインプリント材を供給する供給管を含み、
前記供給管は、前記軟Ｘ線を遮蔽するように構成されていることを特徴とする請求項１乃至７のうちいずれか１項に記載のインプリント装置。
【請求項１０】
前記供給管は、１ｍｍ以上の厚さの樹脂、又は、０．１ｍｍ以上の厚さの金属で構成されていることを特徴とする請求項９に記載のインプリント装置。
【請求項１１】
前記吐出口は、前記軟Ｘ線の照射角の外側に配置されていることを特徴とする請求項１に記載のインプリント装置。
【請求項１２】
前記インプリント位置に供給されたイオンにより、前記モールド及び前記硬化したインプリント材の少なくとも一方の除電を行うことを特徴とする請求項１乃至１１のうちいずれか１項に記載のインプリント装置。
【請求項１３】
前記気体供給部はフィルタを有し、前記インプリント位置を含む空間に前記フィルタを介して気体を供給することを特徴とする請求項１乃至１２のうちいずれか１項に記載のインプリント装置。
【請求項１４】
前記インプリント位置を含む空間とは、前記モールドを保持する保持部材の下の空間であることを特徴とする請求項１乃至１３のうちいずれか１項に記載のインプリント装置。
【請求項１５】
請求項１乃至１４のうちいずれか１項に記載のインプリント装置を用いてパターンを基板に形成する工程と、
前記工程で前記パターンを形成された前記基板を処理する工程と、
を有することを特徴とする物品の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明は、このような従来技術の課題に鑑みてなされ、インプリント位置を含む空間において除電を行うのに有利な技術を提供することを例示的目的とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
上記目的を達成するために、本発明の一側面としてのインプリント装置は、基板上のインプリント材とモールドとを接触させた状態で前記インプリント材を硬化させ、硬化したインプリント材から前記モールドを離すことで前記基板上にパターンを形成するインプリント装置であって、前記インプリント材を吐出する吐出口を含み、前記基板上に前記インプリント材を供給する供給部と、軟Ｘ線の照射によりイオンを生成する生成部と、前記イオンがインプリント位置を含む空間に供給されるように気体を供給する気体供給部と、を有し、前記吐出口は、前記軟Ｘ線が直接照射されない位置に設けられていることを特徴とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本発明によれば、例えば、インプリント位置を含む空間において除電を行うのに有利な技術を提供することができる。
【手続補正書】
【提出日】平成27年10月7日(2015.10.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電話回線に接続され、前記電話回線を介した発着呼を取り扱う親機とコードレス子機とを有する電話装置であって、
携帯型音楽プレーヤからの音声データを無線通信により受信する近接無線通信部と、
前記携帯型音楽プレーヤからの音声データを音声出力するスピーカと、
前記電話回線を介した発呼又は着呼を検知し、前記スピーカにより前記音声データを音声出力中に着呼又は発呼が検知された場合、前記携帯型音楽プレーヤに音声データの出力を一時停止させて前記コードレス子機に通話開始させ、前記コードレス子機における通話が終了したことを検知すると、前記携帯型音楽プレーヤからの音声データの出力を再開させる呼制御部と、を備え、
前記近接無線通信部、前記スピーカ及び前記呼制御部は、前記親機内に設けられる、
電話装置。
【請求項２】
電話回線に接続され、前記電話回線を介した発着呼を取扱う親機とコードレス子機とを有する電話装置における制御方法であって、
近接無線通信部により、携帯型音楽プレーヤからの音声データを無線通信により受信するステップと、
前記携帯型音楽プレーヤからの音声データを再生し、前記音声データをスピーカに出力するステップと、
呼制御部により、前記電話回線を介した発呼又は着呼を検知するステップと、
前記スピーカにより前記音声データを音声出力中に前記着呼又は前記発呼が検知された場合、前記呼制御部により、前記携帯型音楽プレーヤに音声データの出力を一時停止させて前記コードレス子機に通話開始させ、前記コードレス子機における通話が終了したことを検知すると、前記携帯型音楽プレーヤからの音声データの出力を再開させるステップと、を有し、
前記近接無線通信部、前記スピーカ及び前記呼制御部は、前記親機内に設けられる、
制御方法。
【手続補正書】
【提出日】平成27年10月14日(2015.10.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１通信事業者システムと確立し、遠隔サーバーが配分した、サービス共有を提供するユーザー身分識別情報を取得するための第１通信チャネルと、
前記ユーザー身分識別情報によって対応する第２通信事業者システムと確立し、前記第２通信事業者システムが提供したサービスを取得するための第２通信チャネルと、の少なくとも２つの通信チャネルをサポートすることを特徴とする多重チャネル通信端末。
【請求項２】
第１通信モジュールと
第２通信モジュールと、
前記第１通信モジュールによって前記第１通信チャネルを介して遠隔サーバーが配分した前記ユーザー身分識別情報を動的ロードし、前記第２通信モジュールによって前記第２通信チャネルを介して前記ユーザー身分識別情報に対応する通信事業者システムが提供したサービスを取得するための通信管理ユニットと、
を含むことを特徴とする請求項１に記載の多重チャネル通信端末。
【請求項３】
前記第１通信モジュールは、
移動通信又は固定ネットワークを介して遠隔サーバーにアクセスするモデムを含むことを特徴とする請求項２に記載の多重チャネル通信端末。
【請求項４】
前記第１通信モジュールは、
少なくとも１つのＳＩＭカードスロットと、
前記ＳＩＭカードスロットに接続されるＳＩＭカード読み書きチップと、更にを含み、
前記ＳＩＭカードスロットにユーザーのＳＩＭカードが挿入されることができることを特徴とする請求項３に記載の多重チャネル通信端末。
【請求項５】
前記第１通信モジュールは、
イントラネットで遠隔サーバーにアクセスするためのイントラネットインターフェースを更に含むことを特徴とする請求項２に記載の多重チャネル通信端末。
【請求項６】
前記第２通信チャネルを他の装置に共有して使用するためのチャネル共有インターフェースを更に含むことを特徴とする請求項２に記載の多重チャネル通信端末。
【請求項７】
前記通信管理ユニットは、
前記第１通信モジュールによって対応する第１通信事業者システムと通信して、第１通信チャネルを確立する第１通信チャネル確立ユニットと、
前記第１通信チャネルを介して遠隔サーバーへサービス要求を送信して、遠隔サーバーが配分したユーザー身分識別情報を取得するためのＳＩＭデータロードユニットと、
前記第１通信チャネルを介して前記第２通信事業者システム及び遠隔サーバーと通信し、認証結果を取得するための認証算出ユニットと、
前記配分したユーザー身分識別情報及び前記認証結果によって前記第２通信事業者システムと通信して、前記第２通信チャネルを確立するための第２通信チャネル確立ユニットと、を含み、
前記サービス要求は、多重チャネル通信端末がある位置及び要求されたサービスの種類を含むことを特徴とする請求項２に記載の多重チャネル通信端末。
【請求項８】
前記通信管理ユニットは、
遠隔サーバーが前記多重チャネル通信端末に挿入されるＳＩＭカードを呼び出す時、遠隔サーバーに認証算出結果を返し、ローカルなＳＩＭカードの共有を実現するための遠隔ＳＩＭ呼出ユニットを更に含むことを特徴とする請求項７に記載の多重チャネル通信端末。
【請求項９】
前記通信管理ユニットは、
前記第１通信チャネル、第２通信チャネルにおけるサービスの確立、交換及び中断を完成し、課金に根拠を提供するように前記サービスの使用状況を記録するための業務監視管理ユニットを更に含むことを特徴とする請求項７に記載の多重チャネル通信端末。
【手続補正書】
【提出日】平成26年12月3日(2014.12.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
Ｎ個の放射素子のネットワークを含むマルチビームアンテナのシステムであって、Ｎは整数であり、前記放射素子は伝送線路を通じて２つずつ接続される、マルチビームアンテナのシステムであって、Ｍ個の放射ソースをさらに備え、Ｍは１以上の整数であり、１つまたは複数の前記放射ソースは、距離Ｌｉが遠方界と呼ばれる場の距離より厳密に小さくなるように、前記ネットワークの中心からの距離Ｌｉでそれぞれ配置され、ｉは１からＭまで変化する、前記マルチビームアンテナのシステム。
【請求項２】
前記ネットワークの前記素子は、同じ電気長を有する伝送線路を通じて２つずつ対称に接続され、前記放射ソースの数は厳密に１より大きい、請求項１に記載のマルチビームアンテナのシステム。
【請求項３】
前記マルチビームアンテナのシステムは、放射ソースを備え、ビームの指向性は、前記伝送線路の少なくとも１つに、前記線路の位相差を変化させることを可能にする能動または受動回路を組み込むことにより得られる、請求項１に記載のマルチビームアンテナのシステム。
【請求項４】
前記能動回路は、ハイブリッドカプラまたはフィルタの中から選択される、請求項３に記載のマルチビームアンテナのシステム。
【請求項５】
前記受動回路は、受動フィルタである、請求項３に記載のマルチビームアンテナのシステム。
【請求項６】
前記ネットワークの前記放射素子は、モノポール、パッチ、スロット、またはホーンアンテナの中から選択された素子から構成される、請求項１から５のいずれか１項に記載のマルチビームアンテナのシステム。
【請求項７】
前記放射ソースは、モノポール、ダイポール、パッチ、スロット、またはホーンアンテナの中から選択されたソースから構成される、請求項１から６のいずれか１項に記載のマルチビームアンテナのシステム。
【請求項８】
前記システムがいくつかの放射ソースを有するときに、前記放射ソースの１つは、前記放射素子の前記ネットワークの対称軸に従って配置され、他のソースは、２からＭまで変化するｉを有する角度θｉでオフセットされる、請求項１から７のいずれか１項に記載のマルチビームアンテナのシステム。
【請求項９】
前記システムがいくつかの放射ソースを有するときに、前記ソースは、前記ネットワークの中心軸に対して対称であり、２からＭまで変化するｉを有する角度θｉでオフセットされる、請求項１から７のいずれか１項に記載のマルチビームアンテナのシステム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３１】
したがって、１つまたはいくつかの放射ソースの近くの電磁界内に、バンアッタ型または同様なタイプの放射素子のネットワークを関連付けることにより、特にＭＩＭＯデバイスに用いることができるマルチビームシステムを構築することが可能であり、これはネットワークの挙動が完全にレトロディレクティブでない場合でも可能である。
［付記１］
Ｎ個の放射素子（１１ａ、１１ｂ、１２ａ、１２ｂ、２１ａ、２１ｂ、２２ａ、２２ｂ）のネットワークを含むマルチビームアンテナのシステムであって、Ｎは整数であり、前記ネットワークの前記素子は伝送線路（１１、１２；２１、２２）を通じて２つずつ接続される、マルチビームアンテナのシステムであって、Ｍ個の放射ソース（Ｓ１、Ｓ２、Ｓ３；２３、２４）をさらに備え、Ｍは１以上の整数であり、１つまたは複数の前記放射ソースは、距離Ｌｉが遠方界と呼ばれる電磁界の距離より厳密に小さくなるように、前記ネットワークの中心から距離Ｌｉにそれぞれ配置され、ｉは１からＭまで変化する、前記マルチビームアンテナのシステム。
［付記２］
前記ネットワークの前記素子は、同じ電気長を有する伝送線路を通じて２つずつ対称に接続され、前記放射ソースの数は厳密に１より大きい、付記１に記載のマルチビームアンテナのシステム。
［付記３］
前記マルチビームアンテナのシステムは、放射ソースを備え、ビームの指向性は、前記伝送線路の少なくとも１つに、前記線路の位相差を変化させることを可能にする能動または受動回路を組み込むことにより得られる、付記１に記載のマルチビームアンテナのシステム。
［付記４］
前記能動回路は、ハイブリッドカプラまたはフィルタの中から選択される、付記３に記載のマルチビームアンテナのシステム。
［付記５］
前記受動回路は、受動フィルタである、付記３に記載のマルチビームアンテナのシステム。
［付記６］
前記ネットワークの前記放射素子は、モノポール、パッチ、スロット、またはホーンアンテナの中から選択された素子から構成される、付記１から５のいずれか１項に記載のマルチビームアンテナのシステム。
［付記７］
前記放射ソースは、モノポール、ダイポール、パッチ、スロット、またはホーンアンテナの中から選択されたソースから構成される、付記１から６のいずれか１項に記載のマルチビームアンテナのシステム。
［付記８］
前記システムがいくつかの放射ソースを有するときに、前記放射ソースの１つは、前記放射素子の前記ネットワークの対称軸に従って配置され、他のソースは、２からＭまで変化するｉを有する角度θｉでオフセットされる、付記１から７のいずれか１項に記載のマルチビームアンテナのシステム。
［付記９］
前記システムがいくつかの放射ソースを有するときに、前記ソースは、前記ネットワークの中心軸に対して対称であり、２からＭまで変化するｉを有する角度θｉでオフセットされる、付記１から７のいずれか１項に記載のマルチビームアンテナのシステム。
【手続補正書】
【提出日】平成26年12月5日(2014.12.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
Ｍ個の放射ソースとＮ個の放射素子によるＰ個のネットワークとを含むマルチビームアンテナシステムであって、Ｐは１より大きく、Ｎは偶数であり、前記ネットワークの放射素子は、同じ電気長の伝送線によって２つずつ接続されており、前記Ｐ個のネットワークは各ネットワークの中心を共通にして設けられ、前記Ｍ個の放射ソースは該中心から距離Ｌｉだけ離れてそれぞれ設けられ、該距離Ｌｉは遠視野であるフィールドの距離よりも小さく、ｉは１ないしＭの範囲内の値を有する、マルチビームアンテナシステム。
【請求項２】
前記Ｍ個のソースはＰ個のネットワークに共通する中心に関して対称的に設けられている、請求項１記載のマルチビームアンテナシステム。
【請求項３】
Ｎ個の放射素子によるネットワークの各々は、伝送線内に受動的又は能動的な位相シフト手段を有し、該位相シフト手段は該ネットワークの放射パターンを制御できるようにする、請求項１記載のマルチビームアンテナシステム。
【請求項４】
前記位相シフト手段は伝送線をなす複数のセクションにより形成されている、請求項３記載のマルチビームアンテナシステム。
【請求項５】
ソースと各ネットワークに共通する中心との間の距離Ｌｉは１．６λ未満であり、λは動作周波数における波長である、請求項１−４の何れか１項に記載のマルチビームアンテナシステム。
【請求項６】
前記ソースと各ネットワークに共通する前記中心との間の距離ＬｉはＭ個のソースに対して同一であり、０．３λないし０．５λの範囲内の波長である、請求項５記載のマルチビームアンテナシステム。
【請求項７】
ネットワークの２つの放射素子同士の間の距離がλ／４の倍数であり、λは動作周波数における波長である、請求項１記載のマルチビームアンテナシステム。
【請求項８】
２つの放射素子同士の間の前記距離がλ／４未満であり、λは動作周波数における波長である、請求項１記載のマルチビームアンテナシステム。
【請求項９】
ソースは、モノポール、パッチ、スロット及びホーンアンテナの中から選択されたものである、請求項１−８の何れか１項に記載のマルチビームアンテナシステム。
【請求項１０】
前記放射素子は、モノポール、パッチ、スロット及びホーンアンテナの中から選択されたものである、請求項１−９の何れか１項に記載のマルチビームアンテナシステム。
【手続補正書】
【提出日】平成26年11月20日(2014.11.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の開口（１５０）が画成されている接地母線バー（６０）と、
１以上の第１の母線バーと、
第２の開口（１４０）が画成されている母線路ハウジング（６４）であって、前記１以上の第１の母線バーの少なくとも一部が前記母線路ハウジング（６４）が規定する空間の内に配置される、前記母線路ハウジング（６４）と、
締結具（１１８）、間隔保持装置（１２０）及び少なくとも１つのシール（１３０）を含む締結具封止システム（９０）と、
を備え、
前記締結具（１１８）が、拘束部分（１５８）と、締結具本体（１６０）とを含み、
前記締結具本体（１６０）が、前記第１の開口及び前記第２の開口を通って延在するように構成され、
前記間隔保持装置（１２０）が、前記拘束部分と前記少なくとも１つのシール（１３０）との間に配置され、
前記締結具（１１８）が、前記接地母線バーを前記母線路ハウジングに結合するように構成されており、
前記接地母線バーが前記母線路ハウジングに接触して、両者間に接地接続部を形成し、
前記間隔保持装置（１２０）が、前記少なくとも１つのシール（１３０）を圧縮し且つ前記接地母線バー（６０）と前記母線路ハウジング（６４）との間の接地接続部を維持するように構成されている圧縮スペーサ（１７０）を有しており、
前記間隔保持装置（１２０）と、前記少なくとも１つのシール（１３０）が、前記母線路ハウジング（６４）の外側に配置される、
配電システム（１０）。
【請求項２】
前記少なくとも１つのシール（１３０）は前記第１の開口（１５０）及び前記第２の開口（１４０）の内の少なくとも１つを通しての汚染物の侵入を低減するように構成される、請求項１記載のシステム（１０）。
【請求項３】
前記締結具（１１８）は、前記間隔保持装置（１２０）に圧縮力を加えるように構成されている、請求項１または２に記載のシステム（１０）。
【請求項４】
前記締結具（１１８）は、ネジ山付き締結具と、該締結具に加えられるトルクを前記間隔保持装置（１２０）に加える圧縮力へ変換するように構成された協働部材（１６２）とを有している、請求項３記載のシステム（１０）。
【請求項５】
前記間隔保持装置（１２０）は、バネ座金（１７２）を有している、請求項１乃至４のいずれかに記載のシステム（１０）。
【請求項６】
前記間隔保持装置（１２０）は前記少なくとも１つのシール（１３０）にかかる圧縮力を実質的に一定に維持する、請求項５記載のシステム（１０）。
【請求項７】
各々に開口（１５０，１４０）が画成されている接地母線バー（６０）と母線路ハウジング（６４）とを結合するためのタイボルト封止システム（９０）であって、
本体（１６０）及び拘束部分（１５８）を含む締結具（１１８）であって、前記締結具本体が、前記接地母線バー及び前記母線路ハウジングに画成された前記開口を通って延在するように構成されている、当該締結具（１１８）と、
前記母線路ハウジング（６４）が規定する空間の内に配置される１以上の第１の母線バーと、
前記締結具本体の周りに少なくとも部分的に延在すると共に、前記接地母線バーに画成された前記開口内に少なくとも部分的に配置されるように構成された少なくとも１つのシール（１３０）であって、前記母線路ハウジングに画成された前記開口を封止するように構成されている当該少なくとも１つのシール（１３０）と、
前記拘束部分（１５８）と前記少なくとも１つのシール（１３０）との間に配置された少なくとも１つの間隔保持装置（１２０）と、
を備え、
前記間隔保持装置（１２０）が、前記少なくとも１つのシール（１３０）を圧縮し且つ前記接地母線バー（６０）と前記母線路ハウジング（６４）との間の接地接続部を維持するように構成されている圧縮スペーサ（１７０）を有しており、
前記間隔保持装置（１２０）と、前記少なくとも１つのシール（１３０）が、前記母線路ハウジング（６４）の外側に配置される、
タイボルト封止システム（９０）。
【請求項８】
前記間隔保持装置（１２０）が、前記拘束部分と前記接地母線バー（６０）との間に配置される、請求項８記載のシステム（９０）。
【請求項９】
前記間隔保持装置（１２０）は、バネ座金（１７２）を有している、請求項８または９に記載のシステム（９０）。
【手続補正書】
【提出日】平成26年11月26日(2014.11.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体サブストレート（１１０、３０２、５０２、７０２、９０２）と、
サブストレート（１１０、３０２、５０２、７０２、９０２）内にある第１のタイプのドーパントでドープしたサブストレート（１１０、３０２、５０２、７０２、９０２、９１２）の第１のボリュームを含んだフォトダイオードセル（１０８、３０４、５０４、７０４、９０４）と、
サブストレート（１１０、３０２、５０２、７０２、９０２）内にある第１のタイプのドーパントと反対電荷を有する第２のタイプのドーパントでドープしたサブストレート（１１０、３０２、５０２、７０２、９０２）の第２のボリュームを含んだ接地拡散領域（３１８、５１８、７１６、７１８、９１４）と、
サブストレート（１１０、３０２、５０２、７０２、９０２）内にあると共にフォトダイオードセル（１０８、３０４、５０４、７０４、９０４）の外側周囲の周りで少なくとも部分的に延びるガードバンド（３１２、３１４、５１２、５１４、７１２、７１４）であって、該ガードバンド（３１２、３１４、５１２、５１４、７１２、７１４）は第１のタイプのドーパントでドープしたサブストレート（１１０、３０２、５０２、７０２、９０２）の第３のボリュームを含んでおり、フォトダイオードセル（１０８、３０４、５０４、７０４、９０４）からサブストレート（１１０、３０２、５０２、７０２、９０２）を通ってドリフトする電子または正孔のうちの１つまたは幾つかを伝導させるために接地拡散領域（３１８、５１８、７１６、７１８、９１４）と該ガードバンド（３１２、３１４、５１２、５１４、７１２、７１４）のうちの少なくとも一方を接地基準（１１６）と伝導性に結合させており、該ガードバンド（３１２、３１４、５１２、５１４、７１２、７１４）は接地拡散領域（３１８、５１８、７１６、７１８、９１４）と比べてフォトダイオードセル（１０８、３０４、５０４、７０４、９０４）のより近くに配置されているガードバンド（３１２、３１４、５１２、５１４、７１２、７１４）と、
を備え、
前記ガードバンド（３１２、３１４、５１２、５１４、７１２、７１４）は、フォトダイオードセル（１０８、３０４、５０４、７０４、９０４）から該ガードバンド（３１２、３１４、５１２、５１４、７１２、７１４）まで連続して延びると共に第２のタイプのドーパントでドープされていないサブストレート（１１０、３０２、５０２、７０２、９０２）の分離部分（３１６）によってフォトダイオードセル（１０８、３０４、５０４、７０４、９０４）から分離されている、
フォトダイオードアセンブリ（１００、３００、５００、７００、９００）。
【請求項２】
前記ガードバンド（３１２、３１４、５１２、５１４、７１２、７１４）は、互いに対して非平行の角度に向いたサブストレート（１１０、３０２、５０２、７０２、９０２）の細長いドープ領域を含む、請求項１に記載のフォトダイオードアセンブリ（１００、３００、５００、７００、９００）。
【請求項３】
前記ガードバンド（３１２、３１４、５１２、５１４、７１２、７１４）は、フォトダイオードセル（１０８、３０４、５０４、７０４、９０４）の周り及び接地拡散領域の周りに延びたサブストレート（１１０、３０２、５０２、７０２、９０２）の細長いドープ領域を含む、請求項１または２に記載のフォトダイオードアセンブリ（１００、３００、５００、７００、９００）。
【請求項４】
前記ガードバンド（３１２、３１４、５１２、５１４、７１２、７１４）と伝導性に結合させた調整可能な電圧源（１２０）をさらに備えており、該ガードバンド（３１２、３１４、５１２、５１４、７１２、７１４）を該電圧源（１２０）からのバイアス用電圧を受け取るように構成している、請求項１乃至３のいずれかに記載のフォトダイオードアセンブリ（１００、３００、５００、７００、９００）。
【手続補正書】
【提出日】平成26年11月26日(2014.11.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体デバイスパッケージ（１０）であって、
半導体材料から構成される基板（１４）と、該基板（１４）上に形成された複数の金属接続パッド（１６）とを含み、該複数の金属接続パッド（１６）が前記基板（１４）の対向する第１及び第２の表面（１８、２０）の各々上に形成されており、前記第１及び第２の表面（１８、２０）間にエッジ（２４）が延びた半導体デバイス（１２）と、
前記基板（１４）上に形成された複数の金属接続パッド（１６）を含む前記半導体デバイス（１２）を覆うように、前記半導体デバイス（１２）上に施工された第１のパッシベーション層と、
前記半導体デバイス（１２）の第１の表面（１８）に付加され且つ前記第１のパッシベーション層（２２）よりも大きな厚みを有するベース誘電体積層シート（４２）と、
前記第１のパッシベーション層（２２）よりも大きな厚みを有し且つ前記半導体デバイスの第２の表面（２０）及び前記エッジ（２４）を覆うように前記第１のパッシベーション層（２２）及び前記半導体デバイス（１２）の上に施工される第２のパッシベーション層（３０）と、
前記半導体デバイス（１２）の複数の金属接続パッド（１６）に電気的に結合された複数の金属相互接続（３６）と、
を備え、前記複数の金属相互接続（３６）の各々が、前記第１及び第２のパッシベーション層（１８、２０）または前記ベース誘電体積層シート（４２）を通って形成されるそれぞれのビア（３４）を貫通して延びて、前記複数の金属接続パッド（１６）のうちの１つと直接金属接続を形成する、半導体デバイスパッケージ（１０）。
【請求項２】
前記第１のパッシベーション層（２２）が、窒化ケイ素及び酸化ケイ素のうちの１つを含む、請求項１に記載の半導体デバイスパッケージ（１０）。
【請求項３】
前記第２のパッシベーション層（３０）が、前記第１のパッシベーション層（２２）並びに前記半導体デバイス（１２）の第２の表面及びエッジ（２４）の上に施工され、且つ前記半導体デバイス（１２）の形状に実質的に一致するように形成された少なくとも１つの誘電体積層シートを含む、請求項１または２に記載の半導体デバイスパッケージ（１０）。
【請求項４】
前記第１のパッシベーション層（２２）と前記第２のパッシベーション層（３０）との間に位置付けられた接着層を更に備える、請求項３に記載の半導体デバイスパッケージ（１０）。
【請求項５】
前記第２のパッシベーション層（３０）が、前記半導体デバイス（１２）の形状に実質的に一致するように前記第１のパッシベーション層（２２）並びに前記半導体デバイス（１２）の第２の表面及びエッジ（２４）の上に施工され、且つスプレー施工、成形施工、及び選択的堆積施工の何れかにより施工される液体誘電体材料を含む、請求項１乃至４のいずれかに記載の半導体デバイスパッケージ（１０）。
【請求項６】
前記ベース誘電体積層シート（４２）に付加され、且つ前記半導体デバイス（１２）の周囲を過ぎて外に延びる追加の誘電体積層シート（７４）を更に備える、請求項１乃至５のいずれかに記載の半導体デバイスパッケージ（１０）。
【請求項７】
前記複数の金属相互接続（３６）が、前記半導体デバイス（１２）の周囲を過ぎて前記追加の誘電体積層シート（７４）上に延びる、請求項６に記載の半導体デバイスパッケージ（１０）。
【請求項８】
前記半導体デバイス（１２）の周囲を過ぎて外に延びた前記追加の誘電体積層シート（７４）上に形成される重ね継手（９０）を更に備え、前記重ね継手（９０）が、別の半導体デバイスパッケージ（９４）と前記半導体デバイスパッケージ（１０）を結合するよう構成される、請求項６に記載の半導体デバイスパッケージ（１０）。
【請求項９】
前記半導体デバイス（１２）が光ダイオードを含み、前記半導体デバイスパッケージ（１０）が更に、前記ベース誘電体積層シート（４２）及び前記第２のパッシベーション層（３０）のうちの１つを通って形成されて、前記光ダイオードの１つの表面を露出させるようにする光学窓（８２）を備える、請求項１乃至８のいずれかに記載の半導体デバイスパッケージ（１０）。
【請求項１０】
前記第２のパッシベーション層（３０）が、前記半導体デバイスパッケージ（１０）に対する所望の降伏電圧を提供し且つ前記半導体デバイスパッケージ（１０）に対して最小の寄生インダクタンスを更に提供する厚みを有するように構成される、請求項１乃至９のいずれかに記載の半導体デバイスパッケージ（１０）。
【手続補正書】
【提出日】平成27年9月10日(2015.9.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
断熱性を備えた原綿を積層し、これを外包材に収納した後に減圧して得られる真空断熱材において、
前記真空断熱材の一方の面に放熱用配管を収容する収容溝と、他方の面に前記収容溝に対応する隆起部とを形成し、前記収容溝の幅を前記隆起部の幅より大きく形成すると共に、前記隆起部を構成する側壁の勾配に対して、前記収容溝を構成する側壁の勾配を小さく形成するようにしたことを特徴とする真空断熱材。
【請求項２】
請求項１に記載の真空断熱材において、
前記収容溝に形成した前記側壁を前記真空断熱材の他方の面に投影した領域内に、前記隆起部に形成した前記側壁の立ち上がり点が位置するようにしたことを特徴とする真空断熱材。
【請求項３】
請求項２に記載の真空断熱材において、
前記収容溝に形成した前記側壁を前記真空断熱材の他方の面に投影した領域内に、前記隆起部に形成した前記側壁の終了点が位置するようにしたことを特徴とする真空断熱材。
【請求項４】
断熱箱体を形成する外箱と内箱の間の断熱空間に、前記外箱の内壁面に密着して放熱用配管を固定し、この放熱用配管を覆うように真空断熱材を前記外箱の内壁面に固定して前記断熱空間にポリウレタンフォームを充填した冷蔵庫において、
前記真空断熱材は、断熱性を備えた原綿を積層し、これを外包材に収納した後に減圧して得られるものであって、更に、前記真空断熱材の一方の面に放熱用配管を収容する収容溝と、他方の面に前記収容溝に対応する隆起部とを形成し、前記収容溝の幅を前記隆起部の幅より大きく形成すると共に、前記隆起部を構成する側壁の勾配に対して、前記収容溝を構成する側壁の勾配を小さく形成すると共に、
前記真空断熱材の前記収納溝が前記放熱用配管を覆うように固定して前記ポリウレタンフォームを充填したことを特徴とする冷蔵庫。
【請求項５】
請求項４に記載の冷蔵庫において、
前記放熱用配管は前記外箱の両側面に蛇行しながら固定されており、前記外箱の前面開口部側の前記放熱用配管に対応する前記真空断熱材の前記収容溝は、前記原綿の積層枚数が減らされる共に、前記隆起部が形成されていないものであることを特徴とする冷蔵庫。
【請求項６】
請求項１乃至請求項５のいずれか１項に記載の真空断熱材、或いは冷蔵庫において、
前記放熱用配管に代えて、発熱する電気部品、或いは電子部品が前記真空断熱材の前記収容溝に収納されていることを特徴とする真空断熱材、或いは冷蔵庫。
【手続補正書】
【提出日】平成27年7月21日(2015.7.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
室内の人体の位置を検出する人体検出部と、
室内の放射熱を検出する温度検出部と、を備え、
前記温度検出部は前記人体検出部で検出した人体の位置から所定の距離離れた位置の温度を検出し、前記温度に基づいて空調制御をおこなう空調制御部とを備えた
ことを特徴とする空気調和機。
【請求項２】
空調する室内の撮像画像を取得する撮像部と、
前記撮像画像と略同一の範囲の放射熱を検知して温度分布画像を取得する温度検出部と、を備え、
前記撮像画像を基に所定の画像処理がおこなわれて特定の画像位置が算定され、前記温度分布画像において前記画像位置に対応する位置の温度を制御温度とし、前記制御温度に応じて空調制御がおこなわれる
ことを特徴とする空気調和機。
【請求項３】
空調する室内の撮像画像を取得する撮像部と、
前記撮像画像と略同一の範囲の放射熱を検知して温度分布画像を取得する温度検出部と、を備え、
前記撮像画像を基に顔検出処理がおこなわれて顔位置が算定され、前記温度分布画像において前記顔位置に対応する位置から所定の距離離れた位置の温度を制御温度とし、前記制御温度により空調制御がおこなわれる
ことを特徴とする空気調和機。
【請求項４】
請求項３に記載の空気調和機において、
前記顔位置から所定の距離離れた位置は、前記顔検出された人の着衣の位置に相当する位置である
ことを特徴とする空気調和機。
【請求項５】
請求項３または請求項４に記載の空気調和機において、
さらに、前記顔位置から顔検出した人が居る方向が算出され、前記温度情報と前記人の居る方向により空調制御がおこなわれる
ことを特徴とする空気調和機。
【請求項６】
空調する室内の撮像画像を取得する撮像部と、
前記撮像画像と略同一の範囲の放射熱を検知して温度分布画像を取得する温度検出部と、を備え、
前記撮像画像を基に顔検出処理がおこなわれて複数人の顔位置が算定され、
複数人のそれぞれについて、前記温度分布画像において前記顔位置に対応する位置から所定の距離離れた位置の温度情報が取得され、
前記取得された温度情報の平均値を求めて空調制御温度とし、
前記取得された温度情報の最大値をもつ人の顔位置からその人が居る方向が算出され、
前記温度情報と前記人が居る方向により空調制御がおこなわれる
ことを特徴とする空気調和機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
上記課題を解決するために、本発明の空気調和機は、室内の人体の位置を検出する人体検出部と、室内の放射熱を検出する温度検出部と、を備え、
前記温度検出部は前記人体検出部で検出した人体の位置から所定の距離離れた位置の温度を検出し、前記温度に基づいて空調制御をおこなう空調制御部とを備えるようにした。
【手続補正書】
【提出日】平成27年9月4日(2015.9.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】印刷装置
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、印刷装置に関する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであり、排紙時の負荷を軽減してロール紙を搬送することが可能な印刷装置を提供することを目的とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
上記の目的を達成するため、本発明に係る印刷装置は、
記録媒体を機外に排出する第１の排出部と、
記録媒体の剛性を前記第１の排出部から排出されるときよりも高くして記録媒体を機外に排出する第２の排出部と、
前記第１の排出部又は前記第２の排出部を選択する排出部選択部と、を備え、
前記排出部選択部は、記録媒体がカット状の記録媒体である場合に前記第２の排出部を選択し、記録媒体が前記カット状の記録媒体よりも長尺の記録媒体である場合に前記第１の排出部を選択する、
ことを特徴とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本発明によれば、排紙時の負荷を軽減してロール紙を搬送することが可能な印刷装置を提供することができる。
【手続補正８】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
記録媒体を機外に排出する第１の排出部と、
記録媒体の剛性を前記第１の排出部から排出されるときよりも高くして記録媒体を機外に排出する第２の排出部と、
前記第１の排出部又は前記第２の排出部を選択する排出部選択部と、を備え、
前記排出部選択部は、記録媒体がカット状の記録媒体である場合に前記第２の排出部を選択し、記録媒体が前記カット状の記録媒体よりも長尺の記録媒体である場合に前記第１の排出部を選択する、
ことを特徴とする印刷装置。
【請求項２】
前記排出部選択部は、記録媒体がロール状に巻き回されていた記録媒体である場合に前記第１の排出部を選択する、
ことを特徴とする請求項１に記載の印刷装置。
【請求項３】
記録媒体の搬送方向を排出方向又は当該排出方向とは逆方向に切り替える搬送方向切替部を前記第１の排出部に備える、
ことを特徴とする請求項１又は２に記載の印刷装置。
【請求項４】
前記第２の排出部は、記録媒体を湾曲させるこし付け部を備える、
ことを特徴とする請求項１乃至３のいずれか一項に記載の印刷装置。
【請求項５】
前記第１の排出部は、前記第２の排出部よりも上部に位置している、
ことを特徴とする請求項１乃至４のいずれか一項に記載の印刷装置。
【請求項６】
記録媒体詰まりを検知する記録媒体詰まり検知部をさらに備え、
前記排出部選択部は、前記記録媒体詰まり検知部が記録媒体詰まりを検知した場合には、搬送中の記録媒体が前記カット状の記録媒体よりも長尺の記録媒体であっても前記第２の排出部を選択する、
ことを特徴とする請求項１乃至５のいずれか一項に記載の印刷装置。
【請求項７】
記録媒体を機外に排出する第１のローラ対と、
記録媒体のこし付け度合いを前記第１のローラ対により排出されるときよりも大きくして記録媒体を機外に排出する第２のローラ対と、
前記第１のローラ対による排出又は前記第２のローラ対による排出を選択する選択部と、を備え、
前記選択部は、記録媒体がカット状の記録媒体である場合に前記第２のローラ対による排出を選択し、記録媒体が前記カット状の記録媒体よりも長尺の記録媒体である場合に前記第１のローラ対による排出を選択する、
ことを特徴とする印刷装置。
【請求項８】
前記選択部は、記録媒体がロール状に巻き回されていた記録媒体である場合に前記第１のローラ対を選択する、
ことを特徴とする請求項７に記載の印刷装置。
【手続補正書】
【提出日】平成27年10月29日(2015.10.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（１）酸の作用により極性が増大して有機溶剤を含む現像液に対する溶解性が減少する樹脂を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を用いて、膜を形成する工程、
（２）前記膜を、活性光線又は放射線により露光する工程、
（３）前記膜を、有機溶剤を含む現像液を用いて現像して被処理パターンを形成する工程、及び、
（４）前記被処理パターンに対し、１級アミノ基及び２級アミノ基の少なくともいずれかを有する化合物（ｘ）を含む処理剤を作用させて、処理済パターンを得る工程を含む、パターン形成方法。
【請求項２】
前記処理剤が、有機溶剤を、前記処理剤の全量に対して３０質量％以上で含有する、請求項１に記載のパターン形成方法。
【請求項３】
前記処理剤が含有する有機溶剤が、アルコール系溶剤又はエーテル系溶剤である、請求項２に記載のパターン形成方法。
【請求項４】
前記化合物（ｘ）が、前記１級アミノ基又は前記２級アミノ基として、下式（１）で表される部分構造を有する化合物である、請求項１〜３のいずれか１項に記載のパターン形成方法。
−ＮＨＲ    （１）
上式中、Ｒは、水素原子、ヘテロ原子が含まれていてもよい脂肪族炭化水素基、又は、ヘテロ原子が含まれていてもよい芳香族炭化水素基を表し、−は結合手を表す。
【請求項５】
前記化合物（ｘ）が、樹脂である、請求項１〜４のいずれか１項に記載のパターン形成方法。
【請求項６】
前記樹脂が、１級アミノ基及び２級アミノ基の少なくともいずれかを有する繰り返し単位を、前記樹脂の全繰り返し単位に対して３０モル％以上で有する樹脂である、請求項５に記載のパターン形成方法。
【請求項７】
前記工程（４）の前に、（３’）アルカリ現像液による現像工程を更に含む、請求項１〜６のいずれか１項に記載のパターン形成方法。
【請求項８】
前記工程（４）の後に、（５）前記処理済パターンに対して、前記化合物（ｘ）を溶解可能な除去液を接触させる工程を含む、請求項１〜７のいずれか１項に記載のパターン形成方法。
【請求項９】
前記除去液が、有機溶剤を含有する、請求項８に記載のパターン形成方法。
【請求項１０】
前記工程（２）における露光が、波長２５０ｎｍ以下の光、又は、電子線による露光である、請求項１〜９のいずれか１項に記載のパターン形成方法。
【請求項１１】
請求項１〜１０のいずれか１項に記載のパターン形成方法を含む、電子デバイスの製造方法。
【請求項１２】
（１）酸の作用により極性が増大して有機溶剤を含む現像液に対する溶解性が減少する樹脂を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を用いて、膜を形成する工程、（２）前記膜を、活性光線又は放射線により露光する工程、及び、（３）前記膜を、有機溶剤を含む現像液を用いて現像して被処理パターンを形成する工程を有するパターン形成方法により得られる前記被処理パターンを処理する、１級アミノ基及び２級アミノ基の少なくともいずれかを有する化合物（ｘ）を含む処理剤。
【請求項１３】
有機溶剤を前記処理剤の全量に対して３０質量％以上で含有する、請求項１２に記載の処理剤。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本発明は、下記の構成であり、これにより本発明の上記課題が解決される。
〔１〕
（１）酸の作用により極性が増大して有機溶剤を含む現像液に対する溶解性が減少する樹脂を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を用いて、膜を形成する工程、
（２）前記膜を、活性光線又は放射線により露光する工程、
（３）前記膜を、有機溶剤を含む現像液を用いて現像して被処理パターンを形成する工程、及び、
（４）前記被処理パターンに対し、１級アミノ基及び２級アミノ基の少なくともいずれかを有する化合物（ｘ）を含む処理剤を作用させて、処理済パターンを得る工程を含む、パターン形成方法。
〔２〕
前記処理剤が、有機溶剤を、前記処理剤の全量に対して３０質量％以上で含有する、上記〔１〕に記載のパターン形成方法。
〔３〕
前記処理剤が含有する有機溶剤が、アルコール系溶剤又はエーテル系溶剤である、上記〔２〕に記載のパターン形成方法。
〔４〕
前記化合物（ｘ）が、前記１級アミノ基又は前記２級アミノ基として、下式（１）で表される部分構造を有する化合物である、上記〔１〕〜〔３〕のいずれか１項に記載のパターン形成方法。
−ＮＨＲ    （１）
上式中、Ｒは、水素原子、ヘテロ原子が含まれていてもよい脂肪族炭化水素基、又は、ヘテロ原子が含まれていてもよい芳香族炭化水素基を表し、−は結合手を表す。
〔５〕
前記化合物（ｘ）が、樹脂である、上記〔１〕〜〔４〕のいずれか１項に記載のパターン形成方法。
〔６〕
前記樹脂が、１級アミノ基及び２級アミノ基の少なくともいずれかを有する繰り返し単位を、前記樹脂の全繰り返し単位に対して３０モル％以上で有する樹脂である、上記〔５〕に記載のパターン形成方法。
〔７〕
前記工程（４）の前に、（３’）アルカリ現像液による現像工程を更に含む、上記〔１〕〜〔６〕のいずれか１項に記載のパターン形成方法。
〔８〕
前記工程（４）の後に、（５）前記処理済パターンに対して、前記化合物（ｘ）を溶解可能な除去液を接触させる工程を含む、上記〔１〕〜〔７〕のいずれか１項に記載のパターン形成方法。
〔９〕
前記除去液が、有機溶剤を含有する、上記〔８〕に記載のパターン形成方法。
〔１０〕
前記工程（２）における露光が、波長２５０ｎｍ以下の光、又は、電子線による露光である、上記〔１〕〜〔９〕のいずれか１項に記載のパターン形成方法。
〔１１〕
〔１〕〜〔１０〕のいずれか１項に記載のパターン形成方法を含む、電子デバイスの製造方法。
〔１２〕
（１）酸の作用により極性が増大して有機溶剤を含む現像液に対する溶解性が減少する樹脂を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を用いて、膜を形成する工程、（２）前記膜を、活性光線又は放射線により露光する工程、及び、（３）前記膜を、有機溶剤を含む現像液を用いて現像して被処理パターンを形成する工程を有するパターン形成方法により得られる前記被処理パターンを処理する、１級アミノ基及び２級アミノ基の少なくともいずれかを有する化合物（ｘ）を含む処理剤。
〔１３〕
有機溶剤を前記処理剤の全量に対して３０質量％以上で含有する、上記〔１２〕に記載の処理剤。
【手続補正書】
【提出日】平成27年10月21日(2015.10.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光応答性物質を配向させるための光強度に閾値を有する光応答性物質と、異方性分子と、オリゴマーおよび／またはポリマーと、を含有する光応答性組成物を有し、前記光応答性組成物の配向変化が誘起された光学素子。
【請求項２】
前記閾値以上の光強度に応じて前記光応答性組成物の配向性が変化する請求項１に記載の光学素子。
【請求項３】
前記光応答性物質が、光化学反応を起こさない異方性の物質であり、前記閾値以上の光強度を有する光を照射することにより、前記光応答性物質の長軸方向が光の振動方向に対し平行に配向する請求項１または２に記載の光学素子。
【請求項４】
前記光強度の閾値が、１０Ｗ／ｃｍ２以下である請求項１〜３のいずれか１項に記載の
光学素子。
【請求項５】
前記光応答性組成物における前記オリゴマーおよび／またはポリマーの含有量の合計が、２ｍｏｌ％以上、１３ｍｏｌ％以下である請求項１〜４のいずれか１項に記載の光学素子。
【請求項６】
前記光応答性組成物を含有する層の厚みが、３μｍ以上である請求項１〜５のいずれか１項に記載の光学素子。
【請求項７】
第一の基板および第二の基板間に前記光応答性組成物を含有する層を有し、
前記光応答性組成物は、前記第一の基板側では該第一の基板面に対して平行に配向し、前記第二の基板側では該第二の基板面に対して垂直に配向している請求項１〜６いずれか１項に記載の光学素子。
【請求項８】
光応答性物質を配向させるための光強度に閾値を有する光応答性物質と、異方性分子と、オリゴマーおよび／またはポリマーと、を含有する光応答性組成物に、前記閾値以上の光強度を有する光を照射することにより、前記光応答性組成物を配向させることを特徴とする光学素子の製造方法。
【請求項９】
前記閾値以上の光強度に応じて前記光応答性組成物の配向性が変化する請求項８に記載の光学素子の製造方法。
【請求項１０】
前記光応答性物質が、光化学反応を起こさない異方性の物質であり、前記閾値以上の光強度を有する光を照射することにより、前記光応答性物質の長軸方向を光の振動方向に対して平行に配向する請求項８または９に記載の光学素子の製造方法。
【請求項１１】
前記光応答性組成物に照射する光を、前記光応答性組成物を含有する層の法線方向に対して角度をつけて照射する請求項８〜１０のいずれか１項に記載の光学素子の製造方法。
【請求項１２】
前記角度が、前記光応答性組成物を含有する層の法線方向に対して１５度以下である請求項１１に記載の光学素子の製造方法。
【請求項１３】
前記光応答性組成物を、第一の基板および第二の基板間に挟持し、前記光応答性組成物を、前記第一の基板側では該第一の基板面に対して平行に配向させ、前記第二の基板側では該第二の基板面に対して垂直に配向させた後、前記光応答性組成物に、前記閾値以上の光強度を有する光を照射する請求項８〜１２のいずれか１項に記載の光学素子の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
すなわち、本発明は、光応答性物質を配向させるための光強度に閾値を有する光応答性物質と、異方性分子と、オリゴマーおよび／またはポリマーと、を含有する光応答性組成物を有し、前記光応答性組成物の配向変化が誘起された光学素子を提供する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
また、本発明は、光応答性物質を配向させるための光強度に閾値を有する光応答性物質と、異方性分子と、オリゴマーおよび／またはポリマーと、を含有する光応答性組成物に、前記閾値以上の光強度を有する光を照射することにより、前記光応答性組成物を配向させる光学素子の製造方法を提供する。
【手続補正書】
【提出日】平成27年3月19日(2015.3.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
金属を誘導コイルからの誘導加熱により溶解する誘導加熱炉用坩堝であって、
金属を収容する耐火物からなる容器状の内側層と、
前記内側層の少なくとも側壁部を覆い、誘導加熱により発熱する発熱体からなる外側層と、を備え、
前記外側層は、前記内側層の外周面に黒鉛シート、炭素繊維ペーパー又は炭素繊維フェルトを貼り付ける、もしくは、カーボン及び黒鉛からなる群より選ばれる少なくとも１種を主に含むスラリーを前記内側層の外周面に塗布することによって形成される誘導加熱炉用坩堝。
【請求項２】
前記耐火物が、二酸化珪素、アルミナ、マグネシア、ジルコニア、炭化珪素及び窒化珪素からなる群より選ばれる少なくとも１種を主に含む請求項１に記載の誘導加熱炉用坩堝。
【請求項３】
前記外側層の電気比抵抗値が１００×１０−３Ωｃｍ以下である請求項１又は２に記載の誘導加熱炉用坩堝。
【請求項４】
前記外側層が、前記内側層の側壁部のみを覆う円筒状に形成されている請求項１〜３のいずれかに記載の誘導加熱炉用坩堝。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明の前記目的は、誘導コイルからの誘導加熱により金属を溶解する誘導加熱炉用坩堝であって、金属を収容する耐火物からなる容器状の内側層と、前記内側層の少なくとも側壁部を覆い、誘導加熱により発熱する発熱体からなる外側層と、を備え、前記外側層は、前記内側層の外周面に黒鉛シート、炭素繊維ペーパー又は炭素繊維フェルトを貼り付ける、もしくは、カーボン及び黒鉛からなる群より選ばれる少なくとも１種を主に含むスラリーを前記内側層の外周面に塗布することによって形成される誘導加熱炉用坩堝により達成される。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】削除
【補正の内容】