(57)【要約】  本発明は、分子内に、下記繰り返し単位（Ｉ）及び（ＩＩ）を有し、繰り返し単位（Ｉ）と繰り返し単位（ＩＩ）の存在割合が、それぞれ５〜９０モル％、９５〜１０モル％である共重合体であって、塩化メチレンを溶媒とする、濃度０．５ｇ／ｄｌの溶液の２０℃における還元粘度［ηｓｐ／ｃ］が０．５５〜１．５５ｄｌ／ｇである共重合体、この共重合体の一種以上、又は、前記共重合体の一種以上と他の高分子との混合物からなる光学異方体、並びに、フィルム状の光学異方体を延伸してなる高分子配向フィルムである。2014057884.tif 000046
2014057884.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
分子内に、下記式（Ｉ）
【化１】
2014057884.tif 000042
〔式中、Ｙ１は、化学的な単結合、−Ｃ（＝Ｏ）−、又は、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−を表す。
Ａ１は、置換基を有していてもよい三価の芳香族基を表す。
Ａｘは、芳香族炭化水素環及び芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数２〜３０の有機基を表す。
Ａｙは、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜６のアルキル基、又は、芳香族炭化水素環及び芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数２〜３０の有機基を表す。
前記Ａｘ及びＡｙが有する芳香環は、置換基を有していてもよい。
また、前記ＡｘとＡｙは一緒になって、環を形成していてもよい。
Ｑ１は、水素原子、又は、置換基を有していてもよい炭素数１〜６のアルキル基を表す。
〕で示される繰り返し単位（Ｉ）と、
下記式（ＩＩ）
【化２】
2014057884.tif 000043
｛式中、Ｙ２は、化学的な単結合、−Ｃ（＝Ｏ）−、又は、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−を表す。
Ａ２は、置換基を有していてもよいナフタレンジイル基、又は、下記式（ＩＩＩ）で示される基を表す。
【化３】
2014057884.tif 000044
〔式中、Ｒ１〜Ｒ８はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、又は、炭素数１〜６の炭化水素基を表し、Ｔは、下記（Ｔ−１）〜（Ｔ−３）
【化４】
2014057884.tif 000045
（式中、Ｒ９、Ｒ１０はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のハロアルキル基、又は、置換基を有していてもよい炭素数６〜２０のアリール基を表す。）で表されるいずれかの基を表す。〕｝
で示される繰り返し単位（ＩＩ）を有し、
前記繰り返し単位（Ｉ）の存在割合が、全繰り返し単位に対して５〜９０モル％であり、前記繰り返し単位（ＩＩ）の存在割合が、全繰り返し単位に対して９５〜１０モル％である共重合体であって、
塩化メチレンを溶媒とする、濃度０．５ｇ／ｄｌの溶液の２０℃における還元粘度[ηｓｐ／ｃ]が０．３〜２．０ｄｌ／ｇであることを特徴とする共重合体。
【請求項２】
前記繰り返し単位（Ｉ）中、Ａ１が、三価の、ベンゼン環基又はナフタレン環基である請求項１に記載の共重合体。
【請求項３】
請求項１若しくは２に記載の共重合体の一種若しくは二種以上、又は、請求項１若しくは２に記載の共重合体の一種若しくは二種以上と、他の高分子との混合物からなる光学異方体。
【請求項４】
フィルム状物である請求項３に記載の光学異方体。
【請求項５】
請求項４に記載のフィルム状の光学異方体を延伸してなる高分子配向フィルム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、広い波長域において一様の偏光変換が可能で、かつ薄膜化が可能な光学フィルムを得ることができる共重合体及び光学異方体、並びに、フィルム状の光学異方体を延伸して得られる高分子配向フィルムに関する。
【背景技術】
【０００２】
フラットパネル表示装置（ＦＰＤ）は、偏光板や位相差板等の光学フィルムを用いることにより高精細な表示が可能であることから、優れた表示デバイスとして広く使用されている。【０００３】
位相差板には、直線偏光を円偏光に変換する１／４波長板や直線偏光の偏光振動面を９０度変換する１／２波長板等がある。これらの位相差板は、ある特定の単色光に対しては正確に光線波長の１／４λあるいは１／２λの位相差に変換可能なものである。
しかしながら、従来の位相差板には、位相差板を通過して出力される偏光が有色の偏光に変換されてしまうという問題があった。これは、位相差板を構成する材料が位相差について波長分散性を有し、可視光域の光線が混在する合成波である白色光に対して各波長ごとの偏光状態に分布が生じることから、全ての波長領域において正確な１／４λあるいは１／２λの位相差に調整することが不可能であることに起因する。
このような問題を解決するため、広い波長域の光に対して均一な位相差を与え得る広帯域位相差板、いわゆる逆波長分散性を有する位相差板が種々検討されている（例えば、特許文献１〜６）。
一方、モバイルパソコン、携帯電話等携帯型の情報端末の高機能化及び普及に伴い、フラットパネル表示装置の厚みを極力薄く抑えることが求められてきている。その結果、構成部材である位相差板の薄層化も求められている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開平１０−６８８１６号公報
【特許文献２】特開平１０−９０５２１号公報
【特許文献３】特開平１１−５２１３１号公報
【特許文献４】特開２０００−２８４１２６号公報（ＵＳ２００２０１５９００５Ａ１）
【特許文献５】特開２００１−４８３７号公報
【特許文献６】国際公開第２０００／０２６７０５号パンフレット
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明は、上記した従来技術の実情に鑑みてなされたものであり、広い波長域において一様の偏光変換が可能かつ薄膜化が可能な光学フィルムを得ることができる共重合体及び光学異方体、並びに、フィルム状の光学異方体を延伸して得られる高分子配向フィルムを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明者は、上記課題を解決すべく鋭意研究した結果、分子内に、下記式（Ｉ）で示される繰り返し単位（Ｉ）と、下記式（ＩＩ）で示される繰り返し単位（ＩＩ）を有し、前記繰り返し単位（Ｉ）と繰り返し単位（ＩＩ）の存在割合が特定の範囲にあり、かつ、塩化メチレンを溶媒とする、濃度０．５ｇ／ｄｌの溶液の２０℃における還元粘度[ηｓｐ／ｃ]が特定の範囲にある共重合体を用いることにより、広い波長域において一様の偏光変換が可能かつ薄膜化が可能な光学異方体を得ることができることを見出し、本発明を完成するに至った。【０００７】
かくして本発明によれば、下記（１）、（２）の共重合体、（３）、（４）の光学異方体、及び、（５）の高分子配向フィルムが提供される。
（１）分子内に、下記式（Ｉ）【０００８】
【化１】
2014057884.tif 000003
【０００９】
〔式中、Ｙ１は、化学的な単結合、−Ｃ（＝Ｏ）−、又は、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−を表す。
Ａ１は、置換基を有していてもよい三価の芳香族基を表す。
Ａｘは、芳香族炭化水素環及び芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数２〜３０の有機基を表す。
Ａｙは、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜６のアルキル基、又は、芳香族炭化水素環及び芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数２〜３０の有機基を表す。
前記Ａｘ及びＡｙが有する芳香環は置換基を有していてもよい。
また、前記ＡｘとＡｙは一緒になって、環を形成していてもよい。
Ｑ１は、水素原子、又は、置換基を有していてもよい炭素数１〜６のアルキル基を表す。
〕で示される繰り返し単位（Ｉ）と、
下記式（ＩＩ）【００１０】
【化２】
2014057884.tif 000004
【００１１】
｛式中、Ｙ２は、化学的な単結合、−Ｃ（＝Ｏ）−、又は、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−を表し、Ａ２は、置換基を有していてもよいナフタレンジイル基、又は、下記式（ＩＩＩ）で示される基を表す。【００１２】
【化３】
2014057884.tif 000005
【００１３】
〔式中、Ｒ１〜Ｒ８はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、又は、炭素数１〜６の炭化水素基を表し、Ｔは、下記（Ｔ−１）〜（Ｔ−３）【００１４】
【化４】
2014057884.tif 000006
【００１５】
（式中、Ｒ９、Ｒ１０はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のハロアルキル基、又は、置換基を有していてもよい炭素数６〜２０のアリール基を表す。）で表されるいずれかの基を表す。〕｝で示される繰り返し単位（ＩＩ）を有し、前記繰り返し単位（Ｉ）の存在割合が、全繰り返し単位に対して５〜９０モル％であり、前記繰り返し単位（ＩＩ）の存在割合が、全繰り返し単位に対して９５〜１０モル％である共重合体であって、塩化メチレンを溶媒とする、濃度０．５ｇ／ｄｌの溶液の２０℃における還元粘度[ηｓｐ／ｃ]が０．３〜２．０ｄｌ／ｇであることを特徴とする共重合体。
（２）前記繰り返し単位（Ｉ）中、Ａ１が、三価の、ベンゼン環基又はナフタレン環基である（１）に記載の共重合体。
（３）前記（１）若しくは（２）に記載の共重合体の一種若しくは二種以上、又は、（１）若しくは（２）に記載の共重合体の一種若しくは二種以上と、他の高分子との混合物からなる光学異方体。
（４）フィルム状物である（３）に記載の光学異方体。
（５）前記（４）に記載のフィルム状の光学異方体を延伸してなる高分子配向フィルム。
【発明の効果】
【００１６】
本発明によれば、広い波長域において一様の偏光変換が可能かつ薄膜化が可能な光学フィルムを得ることができる共重合体及び光学異方体、並びに、フィルム状の光学異方体を延伸して得られる高分子配向フィルムが提供される。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
以下、本発明を、１）共重合体、２）光学異方体、及び、３）高分子配向フィルムに項分けして、詳細に説明する。
１）共重合体
本発明の共重合体は、分子内に、下記式（Ｉ）で示される繰り返し単位（Ｉ）と、下記式（ＩＩ）で示される繰り返し単位（ＩＩ）とを有し、前記繰り返し単位（Ｉ）の存在割合が全繰り返し単位に対して５〜９０モル％であり、前記繰り返し単位（ＩＩ）の存在割合が全繰り返し単位に対して９５〜１０モル％である共重合体であって、塩化メチレンを溶媒とする、濃度０．５ｇ／ｄｌの溶液の２０℃における還元粘度[ηｓｐ／ｃ]が０．３〜２．０ｄｌ／ｇであることを特徴とする。
【００１８】
【化５】
2014057884.tif 000007
【００１９】
本発明の共重合体は、分子内に、上記式（Ｉ）で示される繰り返し単位（Ｉ）及び上記式（ＩＩ）で示される繰り返し単位（ＩＩ）を有する。
【００２０】
〔繰り返し単位（Ｉ）〕
前記式（Ｉ）中、Ｙ１は、化学的な単結合、−Ｃ（＝Ｏ）−、又は、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−を表し、本発明のより優れた効果を得ることができ、かつ、入手又は製造が容易であることから、Ｙ１は、＊−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−（＊はＡ１との結合部位を表す。）であるのが好ましい。
【００２１】
Ａ１は置換基を有していてもよい三価の芳香族基を表す。三価の芳香族基としては、三価の炭素環式芳香族基であっても、三価の複素環式芳香族基であってもよい。本発明の所望の効果をより良好に発現させる観点から、三価の炭素環式芳香族基が好ましく、三価のベンゼン環基又は三価のナフタレン環基がより好ましく、下記式に示す三価のベンゼン環基又は三価のナフタレン環基がさらに好ましい。
なお、下記式においては、結合状態をより明確にすべく、置換基Ｙ１及びＯを便宜上記載している（Ｙ１は前記と同じ意味を表す。以下にて同じ。）。また、下記式中、［−］は芳香環の結合手を示す（以下にて同じである。）。
【００２２】
【化６】
2014057884.tif 000008
【００２３】
これらの中でも、Ａ１としては、下記に示す式（Ａ１１）〜（Ａ２５）で表される基がより好ましく、式（Ａ１１）、（Ａ１３）、（Ａ１５）、（Ａ１９）、（Ａ２３）で表される基がさらに好ましく、式（Ａ１１）、（Ａ２３）で表される基が特に好ましい。
【００２４】
【化７】
2014057884.tif 000009
【００２５】
Ａ１の三価の芳香族基は、任意の位置に置換基を有していてもよいが、置換基を有さないものが好ましい。
Ａ１の、三価の芳香族基が有する置換基としては、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子；シアノ基；メチル基、エチル基、プロピル基等の炭素数１〜６のアルキル基；ビニル基、アリル基等の炭素数２〜６のアルケニル基；トリフルオロメチル基等の炭素数１〜６のハロアルキル基；ジメチルアミノ基等の置換アミノ基；メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基等の炭素数１〜６のアルコキシ基；ニトロ基；フェニル基、４−メチルフェニル基、２−クロロフェニル基、１−ナフチル基、２−ナフチル基等の、置換基を有していてもよいアリール基；−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ１６；−Ｃ（＝Ｏ）−ＯＲ１６；−ＳＯ２Ｒ１６；等が挙げられる。
ここで、Ｒ１６は、メチル基、エチル基、プロピル基等の炭素数１〜６のアルキル基；又は、フェニル基、１−ナフチル基、２−ナフチル基等の炭素数６〜１４のアリール基；を表す。
【００２６】
Ａｘは、芳香族炭化水素環及び芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数２〜３０の有機基を表す。
本発明において、「芳香環」は、Ｈｕｃｋｅｌ則に従う広義の芳香族性を有する環状構造、すなわち、π電子を（４ｎ＋２）個有する環状共役構造、及びチオフェン、フラン、ベンゾチアゾール等に代表される、硫黄、酸素、窒素等のヘテロ原子の孤立電子対がπ電子系に関与して芳香族性を示すものを意味する。
【００２７】
Ａｘの、芳香族炭化水素環及び芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数２〜３０の有機基は、芳香環を複数個有するものであってもよく、芳香族炭化水素環及び芳香族複素環を有するものであってもよい。
【００２８】
前記芳香族炭化水素環としては、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環等が挙げられる。前記芳香族複素環としては、ピロール環、フラン環、チオフェン環、ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環、ピラゾール環、イミダゾール環、オキサゾール環、チアゾール環等の単環の芳香族複素環；ベンゾチアゾール環、ベンゾオキサゾール環、キノリン環、フタラジン環、ベンゾイミダゾール環、ベンゾピラゾール環、ベンゾフラン環、ベンゾチオフェン環等の縮合環の芳香族複素環；等が挙げられる。
【００２９】
Ａｘが有する芳香環は置換基を有していてもよい。かかる置換基としては、前記Ａ１の、三価の芳香族基が有する置換基として列記したものと同様のものが挙げられる。
【００３０】
また、Ａｘが有する芳香環は、同一又は相異なる置換基を複数有していてもよく、隣り合った二つの置換基が一緒になって結合して環を形成していてもよい。形成される環は単環であっても、縮合多環であってもよい。
なお、Ａｘの炭素数２〜３０の有機基の「炭素数」は、置換基の炭素原子を含まない有機基全体の総炭素数を意味する（後述するＡｙにて同じである。）。
【００３１】
Ａｘの、芳香族炭化水素環及び芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数２〜３０の有機基としては、芳香族炭化水素環基；芳香族複素環基；芳香族炭化水素環基及び芳香族複素環基からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、総炭素数３〜３０のアルキル基；芳香族炭化水素環基及び芳香族複素環基からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、総炭素数４〜３０のアルケニル基；芳香族炭化水素環基及び芳香族複素環基からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、総炭素数４〜３０のアルキニル基；等が挙げられる。
なお、前記総炭素数３〜３０のアルキル基、総炭素数４〜３０のアルケニル基、及び、総炭素数４〜３０のアルキニル基の「総炭素数」は、芳香環の炭素原子、及び、アルキル基部分、アルケニル基部分又はアルキニル基部分の炭素原子を含み、置換基の炭素原子を含まない、有機基全体の総炭素数を意味する。
【００３２】
Ａｘの、芳香族炭化水素環及び芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数２〜３０の有機基の具体例を以下に示す。但し、本発明においては、Ａｘは以下に示すものに限定されるものではない。
（１）芳香族炭化水素環基
【００３３】
【化８】
2014057884.tif 000010
【００３４】
【化９】
2014057884.tif 000011
【００３５】
（２）芳香族複素環基
【００３６】
【化１０】
2014057884.tif 000012
【００３７】
【化１１】
2014057884.tif 000013
【００３８】
上記式中、Ｅは、ＮＲ１７、酸素原子又は硫黄原子を表す。ここで、Ｒ１７は、水素原子；又は、メチル基、エチル基、プロピル基等の炭素数１〜６のアルキル基を表す。
【００３９】
【化１２】
2014057884.tif 000014
【００４０】
上記式中、Ｘ、Ｙ、Ｚは、それぞれ独立して、ＮＲ１８、酸素原子、硫黄原子、−ＳＯ−、又は、−ＳＯ２−を表す（ただし、酸素原子、硫黄原子、−ＳＯ−、−ＳＯ２−が、それぞれ隣接する場合を除く。）。Ｒ１８は、前記Ｒ１７と同様の、水素原子；又は、メチル基、エチル基、プロピル基等の炭素数１〜６のアルキル基を表す。
【００４１】
（３）芳香族炭化水素環基及び芳香族複素環基からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、総炭素数３〜３０のアルキル基
【００４２】
【化１３】
2014057884.tif 000015
【００４３】
（４）芳香族炭化水素環基及び芳香族複素環基からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、総炭素数４〜３０のアルケニル基
【００４４】
【化１４】
2014057884.tif 000016
【００４５】
（４）芳香族炭化水素環基及び芳香族複素環基からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、総炭素数４〜３０のアルキニル基
【００４６】
【化１５】
2014057884.tif 000017
【００４７】
Ａｙは、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜６のアルキル基、又は、芳香族炭化水素環及び芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数２〜３０の有機基を表す。
【００４８】
Ａｙの、置換基を有していてもよい炭素数１〜６のアルキル基の炭素数１〜６のアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ｎ−へキシル基、イソヘキシル基等が挙げられる。
【００４９】
Ａｙの、置換基を有していてもよい炭素数１〜６のアルキル基の置換基としては、前記Ａ１の、三価の芳香族基が有する置換基（炭素数１〜６のアルキル基を除く）として列記したものと同様のものが挙げられる。
【００５０】
Ａｙの、芳香族炭化水素環及び芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数２〜３０の有機基としては、前記Ａｘで例示したのと同様のものが挙げられる。
Ａｙが有する芳香環は、任意の位置に置換基を有していてもよい。かかる置換基としては、前記Ａ１の、三価の芳香族基が有する置換基として列記したものと同様のものが挙げられる。
【００５１】
これらの中でも、前記Ａｘ、Ａｙとしては、下記のものが好ましく、
【００５２】
【化１６】
2014057884.tif 000018
【００５３】
（式中、Ｘ、Ｙは前記と同じ意味を表す。）
下記に示す基がさらに好ましく、
【００５４】
【化１７】
2014057884.tif 000019
【００５５】
（式中、Ｘ、Ｙは前記と同じ意味を表す。）
下記に示す基が特に好ましい。
【００５６】
【化１８】
2014057884.tif 000020
【００５７】
（式中、Ｘは前記と同じ意味を表す。）
これらの基は任意の位置に、前記Ａ１の、三価の芳香族基が有する置換基として列記したものと同様の置換基を有していてもよい。
【００５８】
また、ＡｘとＡｙは一緒になって、環を形成していてもよい。かかる環としては、単環であっても縮合環であってもよい。ＡｘとＡｙが一緒になって形成する環としては、置換基を有していてもよい炭素数４〜３０の不飽和複素環、炭素数６〜３０の不飽和炭素環が好ましい。
【００５９】
前記炭素数４〜３０の不飽和複素環、炭素数６〜３０の不飽和炭素環としては、特に制約はなく、芳香族性を有していても有していなくてもよい。例えば、下記に示す環が挙げられる。なお、下記に示す環は、式（Ｉ）中の
【００６０】
【化１９】
2014057884.tif 000021
【００６１】
として表される部分を示すものである。
【００６２】
【化２０】
2014057884.tif 000022
【００６３】
【化２１】
2014057884.tif 000023
【００６４】
【化２２】
2014057884.tif 000024
【００６５】
（式中、Ｘ、Ｙ、Ｚは、前記と同じ意味を表す。）
また、これらの環は置換基を有していてもよい。
かかる置換基としては、ハロゲン原子、シアノ基、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、ニトロ基、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ１９、−Ｃ（＝Ｏ）−ＯＲ１９、−ＳＯ２Ｒ１９等が挙げられる。ここで、Ｒ１９は、前記Ｒ１６と同様の、炭素数１〜６のアルキル基、又は炭素数６〜１４のアリール基を表す。
【００６６】
ＡｘとＡｙに含まれるπ電子の総数は、本発明の所望の効果をより良好に発現させる観点から、４以上２４以下であるのが好ましく、６以上１８以下であるのがより好ましい。
【００６７】
ＡｘとＡｙの好ましい組み合わせとしては、Ａｘが炭素数４〜３０の芳香族基で、Ａｙが水素原子、炭素数３〜８のシクロアルキル基、又は、（ハロゲン原子、シアノ基、炭素数１〜６のアルコキシ基、炭素数１〜６のアルコキシ炭素数１〜６のアルコキシ基、若しくは炭素数３〜８のシクロアルキル基）を置換基として有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基である組み合わせ、及び、ＡｘとＡｙが一緒になって不飽和複素環又は不飽和炭素環を形成しているものが挙げられる。
【００６８】
ＡｘとＡｙのより好ましい組み合わせとしては、Ａｘが下記構造を有する基のいずれかであり、Ａｙが、水素原子、炭素数３〜８のシクロアルキル基、又は、（ハロゲン原子、シアノ基、炭素数１〜６のアルコキシ基、炭素数１〜６のアルコキシ炭素数１〜６のアルコキシ基、若しくは炭素数３〜８のシクロアルキル基）を置換基として有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基である組み合わせである。
【００６９】
【化２３】
2014057884.tif 000025
【００７０】
【化２４】
2014057884.tif 000026
【００７１】
（式中、Ｘ、Ｙは、前記と同じ意味を表す。）
ＡｘとＡｙの特に好ましい組み合わせとしては、Ａｘが下記構造を有する基のいずれかであり、Ａｙが、水素原子、炭素数３〜８のシクロアルキル基、又は、（ハロゲン原子、シアノ基、炭素数１〜６のアルコキシ基、炭素数１〜６のアルコキシ炭素数１〜６のアルコキシ基、若しくは炭素数３〜８のシクロアルキル基）を置換基として有していてもよい炭素数１〜１２のアルキル基である組合せである。
【００７２】
【化２５】
2014057884.tif 000027
【００７３】
（式中、Ｘは、前記と同じ意味を表す。）
Ｑ１は、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜６のアルキル基を示す。
置換基を有していてもよい炭素数１〜６のアルキル基としては、前記Ａｙで例示したのと同様のものが挙げられる。
これらの中でも、Ｑ１は、水素原子又は炭素数１〜６のアルキル基が好ましく、水素原子及びメチル基がより好ましい。
【００７４】
本発明の共重合体において、繰り返し単位（Ｉ）の存在割合は、全繰り返し単位に対して５〜９０モル％であり、１０〜８０モル％が好ましく、２０〜７０モル％がより好ましい。
このような範囲で、繰り返し単位（Ｉ）を含有する共重合体は、薄膜化が容易である。
【００７５】
（繰り返し単位（ＩＩ））
本発明の共重合体は、分子内に、前記繰り返し単位（Ｉ）に加えて、前記式（ＩＩ）で表される繰り返し単位を有する。
分子内に、前記繰り返し単位（Ｉ）に加えて、前記式（ＩＩ）で表される繰り返し単位を有することで、得られるフィルムの位相差を変化させることが可能となり、それによって厚みを調整することも可能である。
【００７６】
式（ＩＩ）中、Ｙ２は、化学的な単結合、−Ｃ（＝Ｏ）−、又は、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−を表し、本発明のより優れた効果を得ることができ、かつ、入手容易であることから、Ｙ２は、＊−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−（＊はＡ２との結合部位を表す。）であるのが好ましい。
【００７７】
Ａ２は、置換基を有していてもよいナフタレンジイル基、又は、前記式（ＩＩＩ）で表される基を表す。
Ａ２の置換基を有していてもよいナフタレンジイル基としては、例えば、下記のものが挙げられる。
【００７８】
【化２６】
2014057884.tif 000028
【００７９】
Ａ２の置換基を有していてもよいナフタレンジイル基の置換基としては、前記Ａ１の、三価の芳香族基が有する置換基として列記したものと同様のものが挙げられる。
【００８０】
前記式（ＩＩＩ）中、Ｒ１〜Ｒ８はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、又は炭素数１〜６の炭化水素基を表す。
Ｒ１〜Ｒ８のハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等が挙げられる。
炭素数１〜６の炭化水素基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基等の炭素数１〜６のアルキル基；ビニル基、プロペニル基、アリル基等の炭素数２〜６のアルケニル基；エチニル基、プロピニル基等の炭素数２〜６のアルキニル基；シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等の炭素数３〜６のシクロアルキル基；フェニル基、１−ナフチル基、２−ナフチル基等のアリール基；等が挙げられる。
【００８１】
また、炭素数１〜６の炭化水素基は、任意の位置に置換基を有していてもよい。
かかる置換基としては、炭素数１〜６の炭化水素基が炭素数１〜６のアルキル基や炭素数２〜６のアルケニル基、炭素数２〜６のアルキニル基の場合には、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子；メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基等の炭素数１唐のアルコキシ基；フェニル基、１−ナフチル基、２−ナフチル基等のアリール基；等が挙げられる。
また、炭素数３〜６のシクロアルキル基やアリール基の場合には、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子；メチル基、エチル基等の炭素数１〜６のアルキル基；ビニル基、プロペニル基等の炭素数２〜６のアルケニル基；エチニル基、プロピニル基等の炭素数２〜６のアルキニル基；シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等の炭素数３〜６のシクロアルキル基；フェニル基、１−ナフチル基、２−ナフチル基等のアリール基；ニトロ基；等が挙げられる。
【００８２】
式(ＩＩＩ)中、Ｔは、下記（Ｔ−１）〜（Ｔ−３）のいずれかの基を表す。
【００８３】
【化２７】
2014057884.tif 000029
【００８４】
上記式（Ｔ−１）中、Ｒ９、Ｒ１０はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のハロアルキル基、又は、置換基を有していてもよい炭素数６〜２０のアリール基を表す。
【００８５】
Ｒ９、Ｒ１０の炭素数１〜６のアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基等が挙げられる。
炭素数１〜６のハロアルキル基としては、フルオロメチル基、クロロメチル基、ブロモメチル基、ジフルオロメチル基、ジクロロメチル基、ジブロモメチル基、トリフルオロメチル基、トリクロロメチル基、トリブロモメチル基、２,２,２−トリフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基等が挙げられる。
置換基を有していてもよい炭素数６〜２０のアリール基のアリール基としては、フェニル基、１−ナフチル基、２−ナフチル基等が挙げられる。
また、炭素数６〜２０のアリール基の置換基とては、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子；メチル基、エチル基等の炭素数１〜６のアルキル基；メトキシ基、エトキシ基等の炭素数１〜６のアルコキシ基；ニトロ基；シアノ基；等が挙げられる。
【００８６】
これらの中でも、Ｒ９、Ｒ１０としてはそれぞれ独立に、水素原子、メチル基、トリフルオロメチル基、及びフェニル基からなる群から選ばれる一種が好ましい。
【００８７】
本発明の共重合体において、前記式（ＩＩＩ）で表される基は、（ｉ）下記式（ＩＩＩａ）
【００８８】
【化２８】
2014057884.tif 000030
【００８９】
（式中、Ｔ、Ｒ１、Ｒ６は前記と同じ意味を表す。）
で表される基であることが好ましく、
（ｉｉ）前記式（ＩＩＩａ）で表される基であって、式（ＩＩＩａ）中、Ｔが前記と同じ意味を表し、Ｒ１、Ｒ６がそれぞれ独立に、水素原子又は炭素数１〜３のアルキル基であることがより好ましく、
（ｉｉｉ）前記式（ＩＩＩａ）で表される基であって、式（ＩＩＩａ）中、Ｔが前記と同じ意味を表し、Ｒ１、Ｒ６がそれぞれ独立に、水素原子又はメチル基であることがさらに好ましい。
【００９０】
本発明の共重合体（Ａ）は、上述のように、分子内に、繰り返し単位（Ｉ）と繰り返し単位（ＩＩ）とを特定の割合で含有する高分子であるが、繰り返し単位（Ｉ）と繰り返し単位（ＩＩ）の構造的相違により、以下の９種類が存在する。
（ｉ）共重合体（Ａ１）
前記繰り返し単位（Ｉ）において、Ｙ１が−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−であり、前記繰り返し単位（ＩＩ）において、Ｙ２が−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−である共重合体
（ｉｉ）共重合体（Ａ２）
前記繰り返し単位（Ｉ）において、Ｙ１が−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−であり、前記繰り返し単位（ＩＩ）において、Ｙ２が−Ｃ（＝Ｏ）−である共重合体
（ｉｉｉ）共重合体（Ａ３）
前記繰り返し単位（Ｉ）において、Ｙ１が−Ｃ（＝Ｏ）−であり、前記繰り返し単位（ＩＩ）において、Ｙ２が−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−である共重合体
（ｉｖ）共重合体（Ａ４）
前記繰り返し単位（Ｉ）において、Ｙ１が−Ｃ（＝Ｏ）−であり、前記繰り返し単位（ＩＩ）において、Ｙ２が−Ｃ（＝Ｏ）−である共重合体
（ｖ）共重合体（Ａ５）
前記繰り返し単位（Ｉ）において、Ｙ１が−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−であり、前記繰り返し単位（ＩＩ）において、Ｙ２が化学的な単結合である共重合体
（ｖｉ）共重合体（Ａ６）
前記繰り返し単位（Ｉ）において、Ｙ１が化学的な単結合であり、前記繰り返し単位（ＩＩ）において、Ｙ２が−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−である共重合体
（ｖｉｉ）共重合体（Ａ７）
前記繰り返し単位（Ｉ）において、Ｙ１が−Ｃ（＝Ｏ）−であり、前記繰り返し単位（ＩＩ）において、Ｙ２が化学的な単結合である共重合体
（ｖｉｉｉ）共重合体（Ａ８）
前記繰り返し単位（Ｉ）において、Ｙ１が化学的な単結合であり、前記繰り返し単位（ＩＩ）において、Ｙ２が−Ｃ（＝Ｏ）−である共重合体
（ｉｘ）共重合体（Ａ９）
前記繰り返し単位（Ｉ）において、Ｙ１が化学的な単結合であり、前記繰り返し単位（ＩＩ）において、Ｙ２が化学的な単結合である共重合体
【００９１】
これらの中でも、入手容易性等の観点から、前記繰り返し単位（Ｉ）において、Ｙ１が−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−であり、前記繰り返し単位（ＩＩ）において、Ｙ２が−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−である共重合体（Ａ１）が好ましい。
【００９２】
本発明の共重合体においては、前記繰り返し単位（ＩＩ）の存在割合は、全繰り返し単位に対して９５〜１０モル％であり、９０〜２０モル％が好ましく、８０〜３０モル％がより好ましい。
前記繰り返し単位（Ｉ）と繰り返し単位（ＩＩ）の存在割合がこの範囲にあることで、得られるフィルムの位相差を変化させることが可能となり、それによって厚みを調整することも可能である。
また、本発明の共重合体において、前記繰り返し単位（Ｉ）と繰り返し単位（ＩＩ）の存在割合をこの範囲内において適宜なものとすることで、所望の波長分散性を有する光学異方体を得ることができる。
【００９３】
〔共重合体（Ａ）の製造方法〕
本発明の共重合体（Ａ）の内、好ましく用いることができる（Ａ１）は、例えば、以下に示す方法により製造することができる。
（１）製造方法１
【００９４】
【化２９】
2014057884.tif 000031
【００９５】
共重合体（Ａ１）は、不活性溶媒中、塩基の存在下、式（３ａ）で表されるヒドラゾン化合物（ヒドラゾン化合物（３ａ））、及び、式（４ａ）で表されるジオール化合物（ジオール化合物（４ａ））と、ホスゲン類又は炭酸エステル類とを反応させることにより製造することができる。
【００９６】
＜ヒドラゾン化合物（３ａ）＞
上記反応に用いるヒドラゾン化合物（３ａ）は、例えば、次のようにして製造することが出来る。
【００９７】
【化３０】
2014057884.tif 000032
【００９８】
（上記式中、Ａ１、Ａｘ、Ａｙ、Ｑ１は、前記と同じ意味を表す。）
すなわち、適当な溶媒中、式（５ａ）で表されるカルボニル化合物（カルボニル化合物（５ａ））と、式（６）で表されるヒドラジン化合物（ヒドラジン化合物（６））とを反応させることにより、ヒドラゾン化合物（３ａ）を得ることができる。
【００９９】
上記反応に用いるカルボニル化合物（５ａ）の多くは公知の化合物であり、公知の方法により製造し、入手することが出来る。また、カルボニル化合物（５ａ）として市販されているものを、所望により精製して用いることもできる。
上記反応に用いるヒドラゾン化合物（６）は、次のようにして製造することができる。
【０１００】
【化３１】
2014057884.tif 000033
【０１０１】
（式中、Ａｘ、Ａｙは、前記と同じ意味を表す。Ｌは、ハロゲン原子、メタンスルホニルオキシ基、ｐ−トルエンスルホニルオキシ基等の脱離基を表す。）
すなわち、式（８ａ）で表される化合物とヒドラジン（７）を、アルコール系溶媒、エーテル系溶媒、又はアルコール系溶媒とエーテル系溶媒との混合溶媒等の、適当な溶媒中、（化合物（８ａ）：ヒドラジン（７））のモル比で、１：１〜１：２０、好ましくは１：２〜１：１０で反応させて、対応するヒドラジン化合物（９）を得ることができ、さらに、ヒドラジン化合物（９）と式（８ｂ）で表される化合物を反応させることで、ヒドラジン化合物（６）を得ることができる。
【０１０２】
ヒドラジン（７）としては、通常１水和物のものを用いる。ヒドラジン（１）は、市販品をそのまま使用することができる。
反応は、−１０℃から用いる溶媒の沸点までの温度範囲で円滑に進行する。各反応の反応時間は、反応規模にもよるが、通常、数分から数時間である。
【０１０３】
また、ヒドラジン化合物（６）は、次のように、従来公知の方法を用いて、ジアゾニウム塩（１０）を還元することによっても製造することができる（特開２００５−３３６１０３号公報、新実験化学講座  １９７８年  丸善株式会社発行  １４巻、実験化学講座  １９９２年  丸善株式会社発行  ２０巻、等参照）。
【０１０４】
【化３２】
2014057884.tif 000034
【０１０５】
式中、Ａｘ、Ａｙは、前記と同じ意味を表す。Ｚ−は、ジアゾニウムに対する対イオンである陰イオンを示す。Ｚ−としては、例えば、ヘキサフルオロリン酸イオン、ホウフッ化水素酸イオン、塩化物イオン、硫酸イオン等の無機陰イオン；ポリフルオロアルキルカルボン酸イオン、ポリフルオロアルキルスルホン酸イオン、テトラフェニルホウ酸イオン、芳香族カルボン酸イオン、芳香族スルホン酸イオン等の有機陰イオン；等が挙げられる。
反応に用いる溶媒としては、メチルアルコール、エチルアルコール、ｎ−プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、ｎ−ブチルアルコール、イソブチルアルコール、ｓｅｃ−ブチルアルコール、ｔ−ブチルアルコール、ｎ−ペンチルアルコール、アミルアルコール等のアルコール系溶媒；ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン、１，４−ジオキサン、シクロペンチルメチルエーテル等のエーテル系溶媒；等が挙げられる。これらの溶媒は１種単独で、あるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。
【０１０６】
溶媒の使用量は、特に限定されず、用いる化合物の種類や反応規模等を考慮して適宜定めることができるが、ヒドラジン化合物（６）１ｇに対し、通常１〜１００ｍｌである。
【０１０７】
カルボニル化合物（５ａ）とヒドラジン化合物（６）との使用割合は、〔カルボニル化合物（５ａ）：ヒドラジン化合物（６）〕のモル比で、通常１：２〜２：１、好ましくは１：１．５〜１．５：１である。
【０１０８】
また、反応は、（±）−１０−カンファースルホン酸、パラトルエンスルホン酸等の有機酸；これら有機酸の塩；塩酸、硫酸等の無機酸；等の酸触媒を添加して行うこともできる。酸触媒を添加することで反応時間が短縮され、収率が向上する場合がある。酸触媒の添加量は、カルボニル化合物（５ａ）１モルに対して、通常０．００１〜１モルである。
また、酸触媒はそのまま添加してもよいし、適当な溶媒に溶解させた溶液として添加してもよい。
【０１０９】
反応は、−１０℃から用いる溶媒の沸点までの温度範囲で円滑に進行する。反応時間は、反応規模にもよるが、通常、数分から数十時間、好ましくは３０分から１０時間である。
【０１１０】
上記反応に用いるジオール化合物（４ａ）の多くは公知の化合物であり、公知の方法により製造し、入手することが出来る。また、ジオール化合物（４ａ）として市販されているものを、所望により精製して用いることもできる。
【０１１１】
＜ジオール化合物（４ａ）＞
ジオール化合物（４ａ）の具体例を以下に示す。但し、本発明は以下の化合物に限定されるものではない。
ビス（４−ヒドロキシフェニル）メタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エタン、１，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）ブタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ブタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）オクタン、４，４−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ヘプタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１，１−ジフェニルメタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１−フェニルエタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１−フェニルメタン、１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロ−２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）エーテル、ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルフィド、ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルホン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロペンタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、２，２−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２−（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）−２−（４−ヒドロキシフェニル）−１−フェニルエタン、１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロ−２，２−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）スルフィド、ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）スルホン、ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）メタン、１，１−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、２，２−ビス（２−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、１，１−ビス（２−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ブタン、１，１−ビス（２−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）エタン、１，１−ビス（２−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロパン、１，１−ビス（２−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ブタン、１，１−ビス（２−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）イソブタン、１，１−ビス（２−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ヘプタン、１，１−ビス（２−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）−１−フェニルメタン、１，１−ビス（２−ｔｅｒｔ−アミル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ブタン、ビス（３−クロロ−４−ヒドロキシフェニル）メタン、ビス（３，５−ジブロモ−４−ヒドロキシフェニル）メタン、２，２−ビス（３−クロロ−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３−フルオロ−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３−ブロモ−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３，５−ジフルオロ−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３，５−ジクロロ−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３，５−ジブロモ−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３−ブロモ−４−ヒドロキシ−５−クロロフェニル）プロパン、２，２−ビス（３，５−ジクロロ−４−ヒドロキシフェニル）ブタン、２，２−ビス（３，５−ジブロモ−４−ヒドロキシフェニル）ブタン、１−フェニル−１，１−ビス（３−フルオロ−４−ヒドロキシフェニル）エタン、ビス（３−フルオロ−４−ヒドロキシフェニル）エーテル、１，１−ビス（３−シクロヘキシル−４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、４，４’−ジヒドロキシビフェニル、４，４’−ジヒドロキシ−３，３’−ジメチルビフェニル、４，４’−ジヒドロキシ−２，２’−ジメチルビフェニル、４，４’−ジヒドロキシ−３，３’−ジシクロヘキシルビフェニル、３，３’−ジフルオロ−４，４’−ジヒドロキシビフェニル、９，９−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フルオレン、９，９−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）フルオレン等が挙げられる。これらビスフェノール化合物は、１種単独で、あるいは２種以上を組み合わせて用いることもできる。
これらの中でも、ジオール化合物（４ａ）としては、下記のいずれかが好ましい。
【０１１２】
【化３３】
2014057884.tif 000035
【０１１３】
＜ヒドラゾン化合物（３ａ）とジオール化合物（４ａ）との反応＞
上記反応において、ヒドラゾン化合物（３ａ）とジオール化合物（４ａ）の使用量は、ヒドラゾン化合物（３ａ）とジオール化合物（４ａ）のモル比で、［ヒドラゾン化合物（３ａ）］；〔ジオール化合物（４ａ）〕＝５：９５〜９０：１０である。
【０１１４】
用いるホスゲン類としては、ホスゲン、ジホスゲン、トリホスゲン、クロロホルメート等が挙げられる。また、炭酸エステル類としては、炭酸ジメチル、炭酸ジエチル、炭酸ジフェニル等が挙げられる。ホスゲンを用いる場合には、過剰量のホスゲンガスを反応液に吹き込む方法が好ましい。ホスゲンガスを吹き込むときの温度は、０〜５０℃である。
【０１１５】
ホスゲン類、炭酸エステル類の使用量は、ヒドラゾン化合物（３ａ）とジオール化合物（４ａ）の合計モル数に対して、２倍モル以上であればよいが、好ましくは２〜１０倍モル、より好ましくは２〜５倍モルである。
【０１１６】
上記反応に用いる塩基としては、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物；水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム等のアルカリ土類金属水酸化物；トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン等の有機塩基；等が挙げられる。これらは一種単独で、あるいは二種以上を組み合わせて用いることができる。なかでも、収率よく目的物を得ることが出来ること等の理由から、アルカリ金属水酸化物、アルカリ土類金属水酸化物が好ましく、アルカリ金属水酸化物がより好ましい。
【０１１７】
塩基の使用量は、ヒドラゾン化合物（３ａ）とジオール化合物（４ａ）の合計モル数に対して、２倍モル以上であればよいが、好ましくは２〜１０倍モル、より好ましくは２〜５倍モルである。
【０１１８】
用いる溶媒としては、反応に不活性なものであれば、特に限定されないが、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素系溶媒；ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の飽和炭化水素系溶媒；シクロペンタン、シクロヘキサン、シクロオクタン、デカリン等の脂環式炭化水素類；塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素、１，２−ジクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類；ジエチルエーテル、１，２−ジメトキシエタン、シクロペンチルメチルエーテル等のエーテル系溶媒；水；等が挙げられる。
これらは一種単独で、あるいは二種以上を組み合わせて用いることができる。また、互いに混ざり合わない２種の溶媒（例えば、ハロゲン化炭化水素類と水との混合溶媒）を用いてもよい。
溶媒の使用量は、反応規模にも依存するが、ヒドラゾン化合物（３ａ）１ｇに対し、通常、０．１〜１００ｍｌである。また、ハロゲン化炭化水素類と水との混合溶媒を用いる場合には、ヒドラゾン化合物（３ａ）１ｇに対し、通常、ハロゲン化炭化水素類及び水ともに、０．１〜１００ｍｌである。
【０１１９】
上記反応においては、重合度を調節するために、反応液に分子量調節剤を添加してもよい。
用いる分子量調節剤としては、重合度調節には、フェノール、ｐ−ｔ−ブチルフェノール、p−クミルフェノール等のフェノール類等の一官能基化合物が挙げられる。
また、重縮合反応を促進するために、トリエチルアミンのような第三級アミン又は第四級アンモニウム塩等の触媒を添加して反応を行ってもよい。
さらに、所望に応じ、亜硫酸ナトリウム、ハイドロサルファイド等の酸化防止剤を少量添加してもよい。
【０１２０】
この反応は、例えば、次のようにして実施することが好ましい。
（ｉ）先ず、ジオール化合物（４ａ）と塩基との混合溶液を調製し、そこへ、ホスゲン類または炭酸エステル類を添加し、全容を攪拌することにより、重合度が２〜１０程度であり、分子末端にクロロホルメート基を有するオリゴマーの溶液を得る。
（ｉｉ）別に、ヒドラゾン化合物（３ａ）と塩基との混合溶液を調製する。
（ｉｉｉ）次いで、このものと、前記オリゴマー溶液とを混合することにより、目的とする共重合体（Ａ１）を含む反応液を得る。この際に、重合度を調節するために、反応液に分子量調節剤を添加してもよい。
（ｉｖ）得られた反応液から、常法により、目的とする共重合体（Ａ１）を単離することが出来る。
このような２段階法によれば、反応の制御が容易であり、精度の高い分子量コントロールを行なうことができる。
【０１２１】
反応は、いずれの場合も、通常０〜１５０℃、好ましくは５〜４０℃の範囲の温度で行なわれる。反応圧力は、減圧、常圧、加圧のいずれでも可能であるが、通常は、常圧若しくは反応系の自圧程度が好ましい。
反応時間は、反応温度等によって左右されるが、通常０．５分間から１０時間、好ましくは１分間から２時間である。
【０１２２】
（２）製造方法２
共重合体（Ａ１）は、ヒドラゾン化合物（３ａ）及びジオール化合物（４ａ）と、ジフェニルカーボネート等のビスアリールカーボネートとのエステル交換法によっても製造することができる。
反応形式としては、溶融重縮合法、固相重縮合法等が挙げられる。
溶融重縮合法を行なう場合は、上記２種又は３種の単量体〔ヒドラゾン化合物（３ａ）及びシオール化合物（４ａ）〕を混合し、減圧下で高温において溶融状態で反応させる。
反応は、通常１５０〜３５０℃、好ましくは２００〜３００℃の範囲の温度において行なわれる。
【０１２３】
固相重縮合法を行なう場合は、上記２種又は３種の単量体を混合し、固相状態のまま、生成ポリカーボネート系重合体の融点以下の温度に加熱して重縮合を行なう。いずれの場合においても、反応の最終段階で減圧度を好ましくは１ｍｍＨｇ以下にして、エステル交換反応により生成した上記ビスアリールカーボネートから由来するフェノール類を系外へ留去させる。
反応時間は反応温度や減圧度等によって左右されるが、通常１〜４時間程度である。反応は窒素やアルゴン等の不活性ガス雰囲気下で行なうことが好ましく、また、所望に応じて前記の分子量調節剤や酸化防止剤等を添加して反応を行なってもよい。
【０１２４】
いずれの反応においても、反応終了後は、有機合成化学における通常の後処理操作を行い、所望により、公知の分離・精製操作を行うことにより、目的物を単離することができる。
目的とする共重合体の構造は、ＮＭＲスペクトル、ＩＲスペクトル、マススペクトル等の測定、元素分析等により、同定することができる。
【０１２５】
本発明の共重合体は、塩化メチレンを溶媒とする、濃度０．５ｇ／ｄｌの溶液の２０℃における還元粘度[ηｓｐ／ｃ]が０．３〜２．０ｄｌ／ｇ、好ましくは０．４〜１．７ｄｌ／ｇ、より好ましくは０．５５〜１．５５ｄｌ／ｇ、更に好ましくは０．６〜１．２ｄｌ／ｇである。
還元粘度［ηｓｐ／ｃ］が０．３ｄｌ／ｇ未満では、脆くなり機械的強度を保てなくなるおそれがある。一方、還元粘度［ηｓｐ／ｃ］が２．０ｄｌ／ｇを超えると、溶液粘度が高すぎて、重合後の精製が困難になったり、成膜時にダイラインが発生したりすることがある。
還元粘度は、ＪＩＳ Ｋ７３６７に準拠して測定することができる。
【０１２６】
２）光学異方体
本発明の光学異方体は、本発明の共重合体の一種又は二種以上、又は、本発明の共重合体の一種又は二種以上と、他の高分子との混合物からなるものである。
本発明の光学異方体は、本発明の共重合体を構成材料としているので、広い波長域において一様の偏光変換が可能で、光学的特性に優れる。
【０１２７】
本発明の光学異方体は、より具体的には、下記の（α）〜（γ）のいずれかである。
（α）本発明の共重合体の一種からなる光学異方体
（β）本発明の共重合体の二種以上の混合物からなる光学異方体
（γ)本発明の共重合体の一種又は二種以上と、他の高分子との混合物からなる光学異方体
これらの中でも、（α）又は（β）が好ましい。
【０１２８】
前記(β)、(γ)の光学異方体においては、光学的に透明である必要があることから相溶ブレンドまたは、各々の高分子の屈折率が略等しいことが好ましい。
また、前記（γ）の光学異方体に用いる他の高分子（本発明の共重合体を除く）としては、特に制限されないが、耐熱性に優れ、光学性能が良好で、溶液製膜ができる材料、特に熱可塑性ポリマーが好ましい。
【０１２９】
用いる他の高分子としては、ポリアリレート、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリオレフィン、ポリエーテル、ポリスルフィン系共重合体、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン等から１種類又は２種類以上を適宜選択することができるが、なかでも、ポリカーボネートが好ましい。
【０１３０】
本発明の光学異方体の形状は特に制限されないが、光学用途等に用いる上では、フィルム状物が好ましい。なお、「フィルム状物」には、いわゆる「シート状物」といわれるものも含む意味である。また、本発明の光学異方体がフィルム状物の場合、長尺状であっても、短冊状であってもよい。
本発明の光学異方体がフィルム状物の場合、その厚みは、特に限定されないが、通常、１μｍ〜１０００μｍである。
【０１３１】
本発明の光学異方体は、高分子材料を従来公知の成形法により所望の形状の成形することにより製造することができる。
例えば、フィルム状の光学異方体は、公知の溶融押し出し法、溶液キャスト法、好ましくは溶液キャスト法により製造することができる。
【０１３２】
溶液キャスト法は、より具体的には、前記高分子材料を適当な溶媒に溶解させて、塗工液を調製し、この塗工液を適当な基板上に塗工して得られた塗膜を乾燥後、所望により加熱することにより、フィルム状の光学異方体を得ることができる。
【０１３３】
塗工液の調製に用いる溶媒としては、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン等のケトン系溶剤；酢酸ブチル、酢酸アミル等のエステル系溶剤；ジクロロメタン、クロロホルム、ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素系溶剤；テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、１，２−ジメトキシエタン、１，４−ジオキサン、シクロペンチルメチルエーテル、１，３−ジオキソラン等のエーテル系溶剤；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、γ−ブチロラクトン、Ｎ−メチルピロリドン等の非プロトン性極性溶剤；等が挙げられる。これらの中でも、取り扱いが容易な点から、溶媒の沸点が６０〜２００℃のものが好ましい。これらの溶剤は単独でも用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【０１３４】
また、塗工液中には、後述する高分子配向フィルムを製造する際における延伸性を向上させる目的で、公知の可塑剤であるジメチルフタレート、ジエチルフタレート、ジブチルフタレート等のフタル酸エステル、トリブチルフォスフェート等のリン酸エステル、脂肪族二塩基エステル、グリセリン誘導体、グリコール誘導体等が含有してもよい。さらに、フェニルサリチル酸、２−ヒドロキシベンゾフェノン、トリフェニルフォスフェート等の紫外線吸収剤や、色味を変えるためのブルーイング剤、酸化防止剤等を添加してもよい。
【０１３５】
添加剤等の添加量は、前記高分子材料に対して１０重量％以下が好ましく、３重量％以下がより好ましい。
【０１３６】
溶液キャスト法に用いる基板としては、有機、無機を問わず、公知慣用の材質のものを使用することができる。例えば、有機材料としてはポリシクロオレフィン〔例えば、ゼオネックス、ゼオノア（登録商標；日本ゼオン社製）、アートン（登録商標；ＪＳＲ社製）、及びアペル（登録商標；三井化学社製）〕、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリイミド、ポリアミド、ポリメタクリル酸メチル、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリテトラフルオロエチレン、セルロース、三酢酸セルロース、ポリエーテルスルホン等が挙げられ、無機材料としてはシリコン、ガラス、方解石等が挙げられ、中でも有機材料が好ましい。
基板としては、有機材料が好ましく、この有機材料をフィルムとした樹脂フィルムが更に好ましい。
また、用いる基板は、単層のものであっても、積層体であってもよく、長尺状のものであっても、短冊状のものであってもよい。
【０１３７】
前記塗工液を基板に塗工する方法としては、公知の方法を用いることができ、例えばカーテンコーティング法、押し出しコーティング法、ロールコーティング法、スピンコーティング法、ディップコーティング法、バーコーティング法、スプレーコーティング法、スライドコーティング法、印刷コーティング法等が挙げられる。
【０１３８】
前記塗工液を基板上に塗工して得られた塗膜を乾燥する温度は、通常、５０〜２００℃である。また、所望により加熱（アニール）することにより、本発明のフィルム状の光学異方体の寸法安定性を向上させることができる。加熱温度は、特に限定されないが、通常、２００〜２５０℃程度である。
【０１３９】
本発明の光学異方体は、位相差板、液晶表示素子用配向膜、偏光板、視野角拡大板、カラーフィルター、ローパスフィルター、光偏光プリズム、各種光フィルター等として有用である。
【０１４０】
３）高分子配向フィルム
本発明の高分子配向フィルムは、本発明のフィルム状の光学異方体（未延伸フィルム）を延伸により配向させたフィルムである。
延伸とは、高分子フィルムを、フィルムを構成する高分子材料のガラス移転温度（Ｔｇ）以上、融点以下の温度で、一軸又は二軸方向に引き伸ばし、鎖状高分子を延伸した方向に配向させる処理をいう。
高分子フィルム（フィルム状の光学異方体）に延伸処理を施すことにより、フィルム内の分子を引き伸ばされた方向に配向させ、フィルムの、配向方向の強度、硬性、耐衝撃強度を増加させることができる。
【０１４１】
本発明のフィルム状の光学異方体（未延伸フィルム）の延伸方法としては、特に限定されず、公知の延伸方法を使用することができる。なかでも、縦一軸延伸が好ましい。
【０１４２】
また、延伸時には、上述のフィルム製膜時に用いた有機溶剤をフィルム中に残留させ延伸してもよい。この有機溶剤の量としてはポリマー固形分対比１〜２０重量％であることが好ましい。
【０１４３】
本発明の高分子配向フィルムは透明であることが好ましく、ヘーズ値は３％以下、全光線透過率は８５％以上であることが好ましい。
【０１４４】
本発明の高分子配向フィルムは、位相差板、液晶表示素子用配向膜、偏光板、視野角拡大板、カラーフィルター、ローパスフィルター、光偏光プリズム、各種光フィルター等として有用である。
【実施例】
【０１４５】
以下、本発明を、実施例によりさらに詳細に説明する。但し、本発明は、以下の実施例により何ら限定されるものではない。【０１４６】
得られた共重合体の、塩化メチレンを溶媒とする濃度０．５ｇ／ｄｌの溶液の２０℃における還元粘度［ηｓｐ／ｃ］は、ＪＩＳ  Ｋ７３６７に準拠して測定した。【０１４７】
１）モノマーの合成
（合成例１）化合物Ｉの合成【０１４８】
【化３４】
2014057884.tif 000036
【０１４９】
温度計を備えた４つ口反応器に、窒素気流中、２，５−ジヒドロキシベンズアルデヒド５６ｇ（０．４１ｍｏｌ）、及び、２−ヒドラジノベンゾチアゾール  ６９ｇ（０．４２ｍｏｌ）をメタノール２０００ｍｌに溶解させ、全容を１時間加熱還流した。反応終了後、反応液を２０℃まで冷却し、析出した固体をろ取した。得られた固体をメタノールで洗浄し、真空乾燥機で乾燥して、淡黄色固体として、化合物Ｉを１０６ｇ得た（収率：９１．７％）。目的物の構造は１Ｈ−ＮＭＲで同定した。【０１５０】
１Ｈ−ＮＭＲスペクトルデータを下記に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６，ＴＭＳ，δｐｐｍ）：１２．１８（ｓ，１Ｈ）、９．７２（ｓ，１Ｈ）、９．００（ｓ，１Ｈ）、８．４１（ｓ，１Ｈ）、７．７７（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．５Ｈｚ）、７．４１（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．０Ｈｚ）、７．２８（ｄｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．０Ｈｚ，８．０Ｈｚ，８．０Ｈｚ）、７．１３−７．１０（ｍ，２Ｈ）、６．７８（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．５Ｈｚ）、６．７３（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝３．０Ｈｚ，８．５Ｈｚ）【０１５１】
（合成例２）  化合物ＩＩの合成【０１５２】
【化３５】
2014057884.tif 000037
【０１５３】
ステップ１：中間体Ａの合成【０１５４】
【化３６】
2014057884.tif 000038
【０１５５】
温度計を備えた４つ口反応器に、窒素気流中、２−ヒドラジノベンゾチアゾール  １００ｇ（０．６１ｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）１０００ｍｌに溶解させ、得られた溶液を０℃に冷却した。この溶液に、ヘキサメチルジシラザンリチウム（２６％ＴＨＦ溶液）４５０ｍｌ（０．７３ｍｏｌ）をゆっくり滴下した。滴下終了後、反応液を０℃で３０分間さらに撹拌した後、ヨウ化メチル４６ｍｌ（０．７３ｍｏｌ）を加え、全容を室温で３時間撹拌した。反応終了後、反応液を水５リットルに投入し、酢酸エチル５００ｍｌで２回抽出した。得られた酢酸エチル層を合わせて、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。硫酸ナトリウムをろ別した後、ロータリーエバポレーターにて酢酸エチルを減圧留去して、黄色固体を得た。この黄色固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝７０：３０（体積比））により精製して、淡黄色固体として中間体Ａを６９．３ｇ得た（収率：６３．９％）。
目的物の構造は１Ｈ−ＮＭＲで同定した。【０１５６】
１Ｈ−ＮＭＲスペクトルデータを下記に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ，δｐｐｍ）：７．６１（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．０Ｈｚ，８．０Ｈｚ）、７．５５（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．０Ｈｚ，７．５Ｈｚ）、７．２９（ｄｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．０Ｈｚ，７．５Ｈｚ，８．０Ｈｚ）、７．０８（ｄｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．０Ｈｚ，７．５Ｈｚ，７．５Ｈｚ）、４．３１（ｓ，２Ｈ）、３．４５（ｓ，３Ｈ）【０１５７】
ステップ２：化合物ＩＩの合成
温度計を備えた４つ口反応器に、窒素気流中、２，５−ジヒドロキシベンズアルデヒド３８ｇ（０．２８ｍｏｌ）、及び、中間体Ａ  ４９．３ｇ（０．２８ｍｏｌ）を１−プロパノール１０００ｍｌに溶解させ、この溶液を８０℃で１時間撹拌した。反応終了後、反応液を２０℃まで冷却し、析出した固体をろ取した。ろ取した固体を１−プロパノールで洗浄後、真空乾燥機で乾燥させて、淡黄色固体として、化合物ＩＩを６０．０ｇ得た（収率：７２．７％）。
目的物の構造は１Ｈ−ＮＭＲで同定した。【０１５８】
１Ｈ−ＮＭＲスペクトルデータを下記に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６，ＴＭＳ，δｐｐｍ）：９．４２（ｓ，１Ｈ）、８．９７（ｓ，１Ｈ）、８．０８（ｓ，１Ｈ）、７．８４（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．０Ｈｚ，８．０Ｈｚ）、７．６０（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．０Ｈｚ，８．０Ｈｚ）、７．３８（ｄｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．０Ｈｚ，７．５Ｈｚ，８．０Ｈｚ）、７．１９（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝３．０Ｈｚ）、７．１６（ｄｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．０Ｈｚ，７．５Ｈｚ，８．０Ｈｚ）、６．７７（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）、６．７０（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）、３．７０（ｓ，３Ｈ）【０１５９】
２）ポリマーの合成
（実施例１）ポリマー（Ｉ−１）の合成
２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン  ７４ｇを、６％水酸化ナトリウム水溶液５５０ｍｌに溶解した溶液に、塩化メチレン２５０ｍｌを加えた。全容を攪拌しながら、冷却下、液中にホスゲンガスを９５０ｍｌ／分の割合で１５分間吹き込んだ。次いで、この反応液を静置分離し、有機層として、重合度が２〜４であり、分子末端にクロロホルメート基を有するオリゴマーの塩化メチレン溶液を得た。得られたオリゴマーの塩化メチレン溶液に塩化メチレンを加えて、全量を４５０ｍｌとした後、先の合成例１で合成した化合物Ｉの３０ｇを、８％濃度の水酸化ナトリウム水溶液１５０ｍｌに溶解した溶液と混合し、これに分子量調節剤であるｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール  ３．０ｇを加えた。次いで、この混合溶液を激しく攪拌しながら、触媒として７％トリエチルアミン水溶液２ｍｌを加え、全容を２８℃で１．５時間攪拌した。反応終了後、反応生成物を塩化メチレン１リットルで希釈し、次いで、水１．５リットルで２回、０．０１Ｎ塩酸１リットルで１回、水１リットルで２回の順で洗浄した。得られた有機層をメタノール中に投入して、再沈殿させることにより、ポリマー（Ｉ−１）を得た。
得られたポリマー（Ｉ−１）の、塩化メチレンを溶媒とする濃度０．５ｇ／ｄｌの溶液の２０℃における還元粘度［ηｓｐ／ｃ］は、０．７４ｄｌ／ｇであった。【０１６０】
（実施例２）ポリマー（Ｉ−２）の合成
実施例１において、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン７４ｇを４９．１ｇに、化合物Ｉ  ３０ｇを化合物Ｉ  ６１．４ｇに替えた以外は、実施例１と同様に合成を行い、ポリマー（Ｉ−２）を得た。
得られたポリマー（Ｉ−２）の、塩化メチレンを溶媒とする濃度０．５ｇ／ｄｌの溶液の２０℃における還元粘度［ηｓｐ／ｃ］は、０．７６ｄｌ／ｇであった。【０１６１】
（実施例３）ポリマー（Ｉ−３）の合成
実施例１において、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン  ７４ｇを、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン  ８７ｇに替えた以外は、同様に合成を行い、ポリマー（Ｉ−３）を得た。
得られたポリマー（Ｉ−３）の、塩化メチレンを溶媒とする濃度０．５ｇ／ｄｌの溶液の２０℃における還元粘度［ηｓｐ／ｃ］は、０．７５ｄｌ／ｇであった。【０１６２】
（実施例４）ポリマー（Ｉ−４）
実施例１において、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン７４ｇを、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン  ５９ｇ、及び、９，９−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フルオレン  ２２．８ｇに替えた以外は、実施例１と同様に合成を行い、ポリマー（Ｉ−４）を得た。
得られたポリマー（Ｉ−４）の、塩化メチレンを溶媒とする濃度０．５ｇ／ｄｌの溶液の２０℃における還元粘度［ηｓｐ／ｃ］は、０．７７ｄｌ／ｇであった。【０１６３】
（実施例５）ポリマー（ＩＩ−１）の合成
実施例１において、化合物Ｉ  ３０ｇを先の合成例２で合成した化合物ＩＩ  ３１．５ｇに替えた以外は、実施例１と同様に合成を行い、ポリマー（ＩＩ−１）を得た。
得られたポリマー（ＩＩ−１）の、塩化メチレンを溶媒とする濃度０．５ｇ／ｄｌの溶液の２０℃における還元粘度［ηｓｐ／ｃ］は、０．７４ｄｌ／ｇであった。【０１６４】
（実施例６）ポリマー（ＩＩ−２）の合成
実施例１において、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン  ７４ｇを４９．１ｇに、化合物Ｉ  ３０ｇを化合物ＩＩ  ６４．４ｇに替えた以外は、実施例１と同様に合成を行い、ポリマー（ＩＩ−２）を得た。
得られたポリマー（ＩＩ−１）の、塩化メチレンを溶媒とする濃度０．５ｇ／ｄｌの溶液の２０℃における還元粘度［ηｓｐ／ｃ］は、０．７６ｄｌ／ｇであった。【０１６５】
（実施例７）ポリマー（ＩＩ−３）の合成
実施例１において、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン  ７４ｇを１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン  ８７ｇに、化合物Ｉ  ３０ｇを化合物ＩＩ  ３１．５ｇに替えた以外は、実施例１と同様に合成を行い、ポリマー（ＩＩ−３）を得た。
得られたポリマー（ＩＩ−３）の、塩化メチレンを溶媒とする濃度０．５ｇ／ｄｌの溶液の２０℃における還元粘度［ηｓｐ／ｃ］は、０．７５ｄｌ／ｇであった。【０１６６】
（参考例１）
２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン７４ｇを６％水酸化ナトリウム水溶液５５０ｍｌに溶解した溶液と、塩化メチレン２５０ｍｌとを混合して混合液を得た。得られた混合液を攪拌しながら、冷却下、液中にホスゲンガスを９５０ｍｌ／分の割合で１５分間吹き込んだ。次いで、この反応液を静置分離し、有機層を分取して、重合度が２〜４であり、分子末端にクロロホルメート基を有するオリゴマーの塩化メチレン溶液を得た。
得られたオリゴマーの塩化メチレン溶液に塩化メチレンを加えて、全量を４５０ｍｌとした後、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン２４ｇを８％濃度の水酸化ナトリウム水溶液１５０ｍｌに溶解した溶液と混合し、これに分子量調節剤であるｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール３．０ｇを加えた。次いで、この混合溶液を激しく攪拌しながら触媒として７％トリエチルアミン水溶液２ｍｌを加え、全容を２８℃で１．５時間攪拌した。
反応終了後、反応生成物を塩化メチレン１リットルで希釈し、次いで、水１．５リットルで２回、０．０１Ｎ塩酸１リットルで１回、水１リットルで２回の順で洗浄し、有機相をメタノール中に投入し再沈殿させることにより、ポリマー（Ｐ１）を得た。
得られたポリマー（Ｐ１）の、塩化メチレンを溶媒とする濃度０．５ｇ／ｄｌの溶液の２０℃における還元粘度［ηｓｐ／ｃ］は、０．６３ｄｌ／ｇであった。【０１６７】
（比較例１）
攪拌機、温度計及び還流冷却器を備えた反応器に、水酸化ナトリウム水溶液及びイオン交換水を仕込み、これに上記構造を有するモノマー、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン  １００ｇと、９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）フルオレン  ３５２ｇを溶解させ、少量のハイドロサルファイトを加えた。
次に、これに塩化メチレンを加え、２０℃でホスゲンを約６０分かけて吹き込んだ。さらに、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノールを加えて乳化させた後、トリエチルアミンを加えて３０℃で約３時間攪拌した。反応終了後、反応液を静置して分液し、有機層を分取した。得られた有機層から塩化メチレンを蒸発除去させて、ポリカーボネート共重合体（Ｐ２）を得た。
得られた共重合体の組成比は、モノマー仕込み量比とほぼ同様であった。
この共重合体を塩化メチレンに溶解させ、固形分濃度１５重量％のドープ溶液を作製した。このドープ溶液からキャストフィルムを作製し、温度２１８℃で、延伸倍率１．９倍で幅自由一軸延伸し、位相差フィルムを得た。【０１６８】
３）ポリマーのブレンド
（実施例８）
実施例４で得られたポリマー（Ｉ−４）２０ｇ、参考例１で得られたポリマー（Ｐ１）２０ｇを塩化メチレンに溶解させ、固形分濃度２０重量％の溶液とした。この溶液を小型攪拌機を用いて２５℃にて６時間攪拌し、ブレンドポリマー（Ｉ−５）からなる溶液を得た。【０１６９】
４）フィルムの作製
先のポリマーの合成で得られたポリマー（Ｉ−１）〜（Ｉ−４）及びポリマー（ＩＩ−１）〜（ＩＩ−３）をそれぞれ塩化メチレンに溶解させ、固形分濃度２０重量％の溶液をそれぞれ調製した。
次いで、これらの溶液からそれぞれのポリマーからなるキャストフィルムをそれぞれ作製した。【０１７０】
ブレンドポリマー（Ｉ−５）からなる溶液についても、上記と同様にして、この溶液を用いて、ブレンドポリマーからなるキャストフィルムを作製した。【０１７１】
５）延伸フィルムの作製（実施例９〜１６）
フィルムの作製で得られたポリマー（Ｉ−１）〜（Ｉ−４）及びポリマー（ＩＩ−１）〜（ＩＩ−３）、ブレンドポリマー（Ｉ−５）からなるそれぞれの未延伸のフィルムを表１に示す温度、倍率で幅自由一軸延伸し、位相差フィルムを得た。【０１７２】
実施例９〜１６、比較例１で用いたポリマー、ポリマーの組成比、延伸温度(℃)、延伸倍率を下記表１にまとめて示す。
表１中、ジオール化合物Ａ〜Ｄは下記のものである。
・ジオール化合物Ａ：２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン
・ジオール化合物Ｂ：１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン
・ジオール化合物Ｃ：９，９−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フルオレン
・ジオール化合物Ｄ：９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）フルオレン  【０１７３】
【表１】
2014057884.tif 000039
【０１７４】
６）未延伸フィルムの熱処理
実施例２で得られたポリマー（Ｉ−２）を窒素雰囲気下にて２２０℃で３時間アニール処理し、未延伸の位相差フィルムを得た。【０１７５】
７）位相差の測定
先の延伸フィルムの作製及び未延伸フィルムの熱処理で得られた試料につき、４００ｎｍから８００ｎｍ間の位相差を、エリプソメーター（Ｊ．Ａ．Ｗｏｏｌｌａｍ社製  Ｍ２０００Ｕ型）を用いて測定した。【０１７６】
＜波長分散の評価＞
測定した位相差を用いて、以下のように算出されるα、β値から波長分散を評価した。【０１７７】
【数１】
2014057884.tif 000040
【０１７８】
広帯域性を示す理想的な波長分散性、即ち逆波長分散性を示す場合、αは１より小となり、βは１より大となる。重合して得られた高分子膜の膜厚（μｍ）、波長５４８．５ｎｍにおける位相差（Ｒｅ）、α、βの値を、下記表２にまとめて示す。【０１７９】
【表２】
2014057884.tif 000041
【０１８０】
表２から、実施例８〜１６の位相差フィルムは、αが１より小で、βが１より大となる逆波長分散性を有していることがわかる。
【手続補正書】
【提出日】平成26年2月4日(2014.2.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（削除）
【請求項２】
（削除）
【請求項３】
分子内に、下記式（Ｉ）
【化１】
2014057884.tif 000047
〔式中、Ｙ１は、化学的な単結合、−Ｃ（＝Ｏ）−、又は、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−を表す。
Ａ１は、置換基を有していてもよい三価の芳香族基を表す。
Ａｘは、芳香族炭化水素環及び芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数２〜３０の有機基を表す。
Ａｙは、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜６のアルキル基、又は、芳香族炭化水素環及び芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数２〜３０の有機基を表す。
前記Ａｘ及びＡｙが有する芳香環は、置換基を有していてもよい。
また、前記ＡｘとＡｙは一緒になって、環を形成していてもよい。
Ｑ１は、水素原子、又は、置換基を有していてもよい炭素数１〜６のアルキル基を表す。〕で示される繰り返し単位（Ｉ）と、
下記式（ＩＩ）
【化２】
2014057884.tif 000048
｛〔式中、Ｙ２は、化学的な単結合、−Ｃ（＝Ｏ）−、又は、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−を表す。
Ａ２は、置換基を有していてもよいナフタレンジイル基、又は、下記式（ＩＩＩ）で示される基を表す。
【化３】
2014057884.tif 000049
〔式中、Ｒ１〜Ｒ８はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、又は、炭素数１〜６の炭化水素基を表し、Ｔは、下記（Ｔ−１）〜（Ｔ−３）
【化４】
2014057884.tif 000050
（式中、Ｒ９、Ｒ１０はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のハロアルキル基、又は、置換基を有していてもよい炭素数６〜２０のアリール基を表す。）で表されるいずれかの基を表す。〕｝
で示される繰り返し単位（ＩＩ）を有し、
前記繰り返し単位（Ｉ）の存在割合が、全繰り返し単位に対して５〜９０モル％であり、前記繰り返し単位（ＩＩ）の存在割合が、全繰り返し単位に対して９５〜１０モル％である共重合体であって、
塩化メチレンを溶媒とする、濃度０．５ｇ／ｄｌの溶液の２０℃における還元粘度［ηｓｐ／ｃ］が０．３〜２．０ｄｌ／ｇである共重合体の一種若しくは二種以上、又は、前記共重合体の一種若しくは二種以上と、他の高分子との混合物からなる光学異方体。
【請求項４】
前記共重合体が、前記繰り返し単位（Ｉ）中、Ａ１が、三価の、ベンゼン環基又はナフタレン環基である共重合体である請求項３に記載の光学異方体。
【請求項５】
フィルム状物である請求項３又は４に記載の光学異方体。
【請求項６】
請求項４に記載のフィルム状の光学異方体を延伸してなる高分子配向フィルム。
【国際調査報告】
2014057884.tif 000051
2014057884.tif 000052
2014057884.tif 000053
2014057884.tif 000054