【事件の表示】
　特願２０１４−１１２９６８「反射防止フィルム、偏光板、および画像表示装置」拒絶査定不服審判事件〔平成２７年１２月１７日出願公開、特開２０１５−２２７９３４、請求項の数（６）〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　原査定を取り消す。
　本願の発明は、特許すべきものとする。
【理　由】
第１　事案の概要
　１　手続等の経緯
　特願２０１４−１１２９６８号（以下「本件出願」という。）は、平成２６年５月３０日の出願であって、その手続等の経緯の概要は、以下のとおりである。
平成２９年１１月　６日付け：拒絶理由通知書
平成３０年　１月１６日付け：意見書
平成３０年　１月１６日付け：手続補正書
平成３０年　５月２１日付け：拒絶理由通知書
平成３０年　７月２４日付け：意見書
平成３０年　７月２４日付け：手続補正書
平成３０年１２月２５日付け：補正の却下の決定（平成３０年７月２４日付け手続補正の却下）
平成３０年１２月２５日付け：拒絶査定（以下「原査定」という。）
平成３１年　４月　８日付け：審判請求書
平成３１年　４月　８日付け：手続補正書
令和　元年　５月１７日付け：手続補正書（審判請求書の補正）
第２　原査定の拒絶の理由
　原査定の拒絶の理由は、概略、本件出願の請求項１〜請求項７に係る発明は、本件出願前に日本国内又は外国において頒布された刊行物に記載された発明又は電気通信回線を通じて公衆に利用可能となった発明に基づいて、本件出願前にその発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者（以下「当業者」という。）が容易に発明をすることができたものであるから、特許法２９条２項の規定により特許を受けることができない、というものである。
引用文献１：特開２０１３−２１０５８３号公報
引用文献２：国際公開第２０１２／０９６４００号
引用文献３：特開２００７−３１６２１３号公報
引用文献４：特開２０１４−７４７７９号公報
引用文献５：特開２０１４−５９３６８号公報
（当合議体注：主引用例は引用文献５であり、引用文献１〜引用文献４は、副引用例又は周知技術を示す文献である。）
第３　本願発明
　本願の請求項１〜請求項６に係る発明（以下、それぞれ「本願発明１」〜「本願発明６」という。）は、平成３１年４月８日付けの手続補正で補正された特許請求の範囲の請求項１〜請求項６に記載された事項により特定されるとおりの、以下の発明である。
「【請求項１】
　透明基材と、前記透明基材上に設けられたハードコート層と、前記ハードコート層上に設けられ、かつ前記ハードコート層よりも屈折率が低い低屈折率層（但し、中空状でない反応性シリカ微粒子を含む低屈折率層を除く）と、前記ハードコート層と前記低屈折率層との間に設けられ、かつ前記ハードコート層よりも屈折率が高い高屈折率層とを備える反射防止フィルムであって、
　前記低屈折率層が、平均一次粒径が６５ｎｍ以上８５ｎｍ以下の中空シリカ微粒子と、バインダ樹脂と、少なくとも前記低屈折率層の表面に存在する表面改質剤とを含み、
　前記表面改質剤が、架橋性ケイ素含有化合物と架橋性フッ素含有化合物とを含み、
　前記架橋性ケイ素含有化合物および／または前記架橋性フッ素含有化合物が前記バインダ樹脂と架橋しており、
　前記高屈折率層が非架橋性フッ素含有化合物を含み、
　前記低屈折率層側から測定した前記反射防止フィルムの反射Ｙ値が０．３％未満であり、
　前記低屈折率層の表面に対し、スチールウールを用いて荷重を加えながら１０往復擦る耐スチールウール試験を行った場合、前記低屈折率層の前記表面に傷が確認されない最大荷重が２００ｇ／ｃｍ２以上である、反射防止フィルム。
　【請求項２】
　前記低屈折率層の屈折率が１．２０以上１．３２以下である、請求項１に記載の反射防止フィルム。
　【請求項３】
　前記バインダ樹脂がフッ素樹脂を含む、請求項１に記載の反射防止フィルム。
　【請求項４】
　請求項１に記載の反射防止フィルムと、
　前記反射防止フィルムの前記透明基材における前記ハードコート層が形成されている面とは反対側の面に形成された偏光素子とを備えることを特徴とする、偏光板。
　【請求項５】
　画像表示装置であって、
　表示素子と、
　前記表示素子よりも観察者側に位置する請求項１に記載の反射防止フィルムとを備え、
　前記反射防止フィルムは、前記低屈折率層の前記表面が前記画像表示装置の観察者側の表面となるように配置される、画像表示装置。
　【請求項６】
　画像表示装置であって、
　表示素子と、
　前記表示素子よりも観察者側に位置する請求項４に記載の偏光板とを備え、
　前記偏光板は、前記低屈折率層の前記表面が前記画像表示装置の観察者側の表面となるように配置される、画像表示装置。」
第４　引用文献の記載事項及び引用発明
　１　引用文献５及び引用発明
　(1)　引用文献５の記載事項
　原査定の拒絶の理由に引用文献５として引用された、特開２０１４−５９３６８号公報（以下「引用文献５」という。）には、以下の事項が記載されている。なお、下線は、当合議体が付したものであり、引用発明の認定に活用した箇所を示す。
　ア　「【特許請求の範囲】
【請求項１】
光透過性基材の上に、低屈折率層を有する光学積層体であって、前記低屈折率層は、中空状シリカ微粒子を含有し、前記中空状シリカ微粒子は、平均粒子径が前記低屈折率層の厚みに対して５０％以上、１００％未満であり、かつ、前記低屈折率層の一方の界面側に整列した状態、前記低屈折率層の両方の界面側に整列した状態、及び、前記低屈折率層の両方の界面に接することなく整列した状態からなる群より選択される少なくとも１の状態で前記低屈折率層に含有されている
ことを特徴とする光学積層体。
【請求項２】
低屈折率層は、中空状シリカ微粒子の平均粒子径よりも小さな平均粒子径を有する第２の中空状シリカ微粒子を更に含有する請求項１記載の光学積層体。
【請求項３】
中空状シリカ微粒子は、低屈折率層の一方の界面側に整列した状態で含有されており、第２の中空状シリカ微粒子は、前記中空状シリカ微粒子が整列した側の界面と反対側の界面に整列した状態で含有されている請求項２記載の光学積層体。
【請求項４】
低屈折率層の光透過性基材側とは反対側の表面から、中空状シリカ微粒子又は第２の中空状シリカ微粒子が突出している請求項２又は３記載の光学積層体。
【請求項５】
中空状シリカ微粒子は、平均粒子径が７５ｎｍであり、シェルの厚みが５〜１２ｎｍである請求項１、２、３又は４記載の光学積層体。
【請求項６】
低屈折率層の屈折率が１．３５０未満である請求項１、２、３、４又は５記載の光学積層体。
【請求項７】
偏光素子を備えてなる偏光板であって、前記偏光板は、偏光素子表面に請求項１、２、３、４、５又は６記載の光学積層体を備えることを特徴とする偏光板。
【請求項８】
請求項１、２、３、４、５若しくは６記載の光学積層体、又は、請求項７記載の偏光板を備えることを特徴とする画像表示装置。」
　イ　「【０００１】
本発明は、光学積層体、偏光板及び画像表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
陰極線管表示装置（ＣＲＴ）、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）、フィールドエミッションディスプレイ（ＦＥＤ）、タッチパネル、電子ペーパー、タブレットＰＣ等の画像表示装置における画像表示面は、外部光源から照射された光線による反射を少なくし、その視認性を高めることが要求される。これに対して、光透過性基材に、反射防止層を形成した光学積層体を利用するにより、画像表示装置の画像表示面の反射を低減させ、視認性を向上させることが一般的に行われている。
【０００３】
反射防止層を有する光学積層体としては、従来、光透過性基材よりも屈折率の低い低屈折率層を最表面に設けた構造が知られている。このような低屈折率層には、光学積層体の反射防止性能を高めるために低屈折率であること、透明性等の優れた光学的特性を有すること、最表面に設けられることから傷付き防止等のために高い硬度を有することに加えて、耐溶剤性に優れること等が求められる。このような低屈折率層が最表面に形成された光学積層体としては、例えば、特許文献１等に、中空状シリカ微粒子、フッ素原子含有ポリマー及び防汚剤を含有する低屈折率層を有する光学積層体が開示されている。
【０００４】
ところが、近年、画像表示装置に要求される表示品質は非常に高いものとなってきており、合わせて光学積層体に要求される光学的特性等も非常に高いものとなってきている。しかしながら、従来の防汚性能が付与された低屈折率層を備えた従来の光学積層体では、近年の画像表示装置の高い表示品質に対する要求に充分に応えることができないものであった。
・・・（中略）・・・
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は、上記現状に鑑み、低屈折率性能に優れるとともに、耐擦傷性及び耐溶剤性にも優れた低屈折率層を備えた光学積層体、該光学積層体を用いてなる偏光板及び画像表示装置を提供することを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明は、光透過性基材の上に、低屈折率層を有する光学積層体であって、上記低屈折率層は、中空状シリカ微粒子を含有し、上記中空状シリカ微粒子は、平均粒子径が上記低屈折率層の厚みに対して５０％以上、１００％未満であり、かつ、上記低屈折率層の一方の界面側に整列した状態、上記低屈折率層の両方の界面側に整列した状態、及び、上記低屈折率層の両方の界面に接することなく整列した状態からなる群より選択される少なくとも１の状態で上記低屈折率層に含有されていることを特徴とする光学積層体である。
【０００８】
本発明の光学積層体において、上記低屈折率層は、中空状シリカ微粒子の平均粒子径よりも小さな平均粒子径を有する第２の中空状シリカ微粒子を更に含有することが好ましい。また、上記中空状シリカ微粒子は、低屈折率層の一方の界面側に整列した状態で含有されており、第２の中空状シリカ微粒子は、上記中空状シリカ微粒子が整列した側の界面と反対側の界面に整列した状態で含有されていることが好ましい。また、上記低屈折率層の光透過性基材側とは反対側の表面から、中空状シリカ微粒子又は第２の中空状シリカ微粒子が突出していることが好ましい。また、本発明の光学積層体において、上記中空状シリカ微粒子は、平均粒子径が７５ｎｍであり、シェルの厚みが５〜１２ｎｍであることが好ましい。また、上記低屈折率層の屈折率が１．３５０未満であることが好ましい。
【０００９】
本発明はまた、偏光素子を備えてなる偏光板であって、上記偏光板は、偏光素子表面に上述の光学積層体を備えることを特徴とする偏光板でもある。本発明はまた、上述の光学積層体、又は、上述の偏光板を備えることを特徴とする画像表示装置でもある。以下に、本発明を詳細に説明する。」
　ウ　「【００１７】
図１〜４は、本発明の光学積層体における低屈折率層の断面を模式的に示す断面図である。
図１に示した低屈折率層１０は、図示しない光透過性基材側の界面側に中空状シリカ微粒子１１が整列した状態で含有されており、低屈折率層１０の光透過性基材側とは反対側の界面側に第２の中空状シリカ微粒子１２が整列した状態で含有されている。また、図２に示した低屈折率層２０は、図示しない光透過性基材側とは反対側の界面側に中空状シリカ微粒子２１が整列した状態で含有されており、低屈折率層の光透過性基材側の界面側に第２の中空状シリカ微粒子２２が整列した状態で含有されている。なお、図１、２に示した第２の中空状シリカ微粒子１２、２２については後述する。また、図３に示した低屈折率層３０は、該低屈折率層３０の両方の界面側に整列した状態で中空状シリカ微粒子３１が含有されており、図４に示した低屈折率層４０は、該低屈折率層４０の両方の界面に接することなく整列した状態で中空状シリカ微粒子４１が含有されている。
ここで、図１〜３では、低屈折率層の光透過性基材側とは反対側の界面側に整列した状態で含有されている中空状シリカ微粒子又は第２の中空状シリカ微粒子は、図示したように低屈折率層の表面からその一部が突出した状態であってもよいが、低屈折率層の光透過性基材側と反対側の界面に接した状態で含有されていてもよい。
【００１８】
上記中空状シリカ微粒子が低屈折率層中で上述したような特定の状態で含有されていることで、本発明の光学積層体は、充分な低屈折率性能とともに、優れた耐擦傷性及び耐薬品性を有するものとなる。
上記中空状シリカ微粒子が上記低屈折率層の一方の界面側、例えば、図１に示したように、光透過性基材側に整列した状態で含有されていると、本発明の光学積層体の耐擦傷性をより優れたものとすることができる。これは、上記低屈折率層の光透過性基材側の界面に、硬化反応性に優れる後述するバインダー樹脂が多く存在するためであると考えられる。
また、上記中空状シリカ微粒子が、例えば、図２に示したように、上記低屈折率層の光透過性基材側とは反対側の界面側に整列した状態で含有されていると、本発明の光学積層体の耐溶剤性をより優れたものとすることができる。これは、溶剤による低屈折率層へのダメージは、通常、低屈折率層のバインダー樹脂と中空状シリカ微粒子との界面部分で生じるが、上記中空状シリカ微粒子は、上述した平均粒子径を有するものであるため、バインダー樹脂との界面が従来の低屈折率層と比較して大きく、このため、耐溶剤性がより優れたものとなると考えられる。また、上記中空状シリカ微粒子が、例えば、図３に示したように、上記低屈折率層の両方の界面側に整列した状態で含有されていると、本発明の光学積層体の低屈折率性能をより優れたものとすることができる。これは、中空状シリカ微粒子の中空部分の割合が多くなり、その結果、低屈折率層の屈折率を充分に低くできるためであると考えられる。更に、上記中空状シリカ微粒子が、例えば、図４に示したように、上記低屈折率層の両方の界面に接することなく整列した状態で含有されていると、本発明の光学積層体の耐擦傷性及び耐溶剤性の向上を図ることができる。これは、低屈折率層の表面から中空状シリカ微粒子が突出しておらずバインダー樹脂が多く存在するので耐擦傷性及び耐溶剤性が良好になり、また、低屈折率層の光透過性基材側の界面部分にもバインダー樹脂が多く存在するので、例えば、低屈折率層と光透過性基材との間に後述するハードコート層を設けた場合、該ハードコート層と低屈折率層との密着性が良好となり、これによっても耐擦傷性が良好になると考えられる。
なお、本明細書において、「低屈折率層の光透過性基材側の界面側に整列した状態」、及び、「低屈折率層の光透過性基材側とは反対側の界面側に整列した状態」とは、電子顕微鏡による上記低屈折率層の断面観察において、観察される上記中空状シリカ微粒子のうち、６０％以上が上記低屈折率層の界面に接している及び／又は突出している状態をいう。後述する第２の中空状シリカ微粒子の場合も同様である。また、「低屈折率層の両方の界面に接することなく整列した状態」とは、電子顕微鏡による上記低屈折率層の断面観察において、観察される上記中空状シリカ微粒子のうち、上記低屈折率層の界面に接している及び／又は突出している中空状シリカ微粒子が４０％未満である状態をいう。」
　エ　「【００２５】
上記低屈折率層は、更に防汚剤を含有することが好ましい。上記低屈折率層が防汚剤を更に含有することで、本発明の光学積層体は、防汚性能を有することとなり、特に低屈折率層中の中空状シリカ微粒子が光透過性基材側の界面側に整列した状態で含有されている場合、上記低屈折率層の光透過性基材側とは反対側の界面側における防汚剤の含有割合が大きくなるため、本発明の光学積層体の防汚性能は特に優れたものとなる。
なお、上記低屈折率層において、中空状シリカ微粒子が光透過性基材側とは反対側の界面側に整列した状態で含有されている場合、上記防汚剤は、上述した中空状シリカ微粒子と同様に、低屈折率層の光透過性基材側とは反対側の界面側にある程度偏在することとなり、この場合も上記防汚剤による防汚性能のある程度の向上を図ることができる。このように防汚剤が光透過性基材側とは反対側の界面側にある程度偏在する理由は明確ではないが、例えば、上記低屈折率層は、後述するように、低屈折率層用組成物を用いて塗膜を形成し、該塗膜中で中空状シリカ微粒子を光透過性基材側とは反対側の界面側に移動させることで形成されるが、この中空状シリカ微粒子の移動が影響しているものと推測される。
【００２６】
上記防汚剤としては、反応性官能基と、フッ素原子及び／又はケイ素原子とを含有する化合物であることが好ましい。このような防汚剤を含有することで、形成する低屈折率層の防汚性能をより向上させることができる。
【００２７】
上記反応性官能基とフッ素原子とを含有する化合物としては、例えば、反応性フッ素化合物、特にエチレン性不飽和結合を有するフッ素含有モノマーを広く用いることができ、より具体的には、例えば、フルオロオレフィン類（例えば、フルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、パーフルオロブタジエン、パーフルオロ−２，２−ジメチル−１，３−ジオキソール等）が挙げられる。また、例えば、２，２，２−トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロブチル）エチル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロヘキシル）エチル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロオクチル）エチル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロデシル）エチル（メタ）アクリレート、α−トリフルオロ（メタ）アクリル酸メチル等の分子中にフッ素原子を有する（メタ）アクリレート化合物；分子中にフッ素原子を少なくとも３個持つ炭素数１〜１４の、フルオロアルキル基、フルオロシクロアルキル基又はフルオロアルキレン基と、少なくとも２個の（メタ）アクリロイルオキシ基とを有する含フッ素多官能（メタ）アクリル酸エステル化合物等も挙げられる。更にまた、主鎖にフッ素化アルキレン基を有するフッ素ポリマー、オリゴマーや、主鎖及び側鎖にフッ素化アルキレン基、フッ素化アルキル基を有するフッ素化ポリマー、オリゴマー等も挙げられる。これらの中でも、特に、主鎖及び側鎖にフッ素化アルキレン基、フッ素化アルキル基を有するフッ素化ポリマーは、低屈折率層からのブリードアウトの問題が生じにくいことから特に好適に用いられる。
【００２８】
また、上記反応性官能基とケイ素原子とを含有する化合物としては、例えば、反応性シリコーン化合物が挙げられる。具体的には、例えば、（ポリ）ジメチルシロキサン、（ポリ）ジエチルシロキサン、（ポリ）ジフェニルシロキサン、（ポリ）メチルフェニルシロキサン、アルキル変性（ポリ）ジメチルシロキサン、アゾ基含有（ポリ）ジメチルシロキサン、ジメチルシリコーン、フェニルメチルシリコーン、アルキル・アラルキル変性シリコーン、フルオロシリコーン、ポリエーテル変性シリコーン、脂肪酸エステル変性シリコーン、メチル水素シリコーン、シラノール基含有シリコーン、アルコキシ基含有シリコーン、フェノール基含有シリコーン、（メタ）アクリル変性シリコーン、アミノ変性シリコーン、カルボン酸変性シリコーン、カルビノール変性シリコーン、エポキシ変性シリコーン、メルカプト変性シリコーン、フッ素変性シリコーン、ポリエーテル変性シリコーン等が挙げられる。なかでも、ジメチルシロキサン構造を有するものは、低屈折率層からのブリードアウトの問題が生じ難いことから好ましい。」
　オ　「【００７０】
本発明の光学積層体は、上記光透過性基材上に、上述した低屈折率層を有するものであるが、必要に応じて任意の層として、上述したハードコート層又は防眩層の他に、他のハードコート層、防汚染層、高屈折率層、中屈折率層等を備えてなるものであってよい。上記防汚染層、高屈折率層、中屈折率層は、一般に使用される防汚染剤、高屈折率剤、中屈折率剤、低屈折率剤や樹脂等を添加した組成物を調製し、それぞれの層を公知の方法により形成するとよい。」
　カ　図１
　キ　図２
　ク　図３
　ケ　図４
　(2)　引用発明
　引用文献５の記載事項アに基づけば、引用文献５には、請求項１を引用する請求項５をさらに引用する請求項６の光学積層体として、次の発明（以下「引用発明」という。）が記載されていると認められる。
「　光透過性基材の上に、低屈折率層を有する光学積層体であって、前記低屈折率層は、中空状シリカ微粒子を含有し、前記中空状シリカ微粒子は、平均粒子径が前記低屈折率層の厚みに対して５０％以上、１００％未満であり、かつ、前記低屈折率層の一方の界面側に整列した状態、前記低屈折率層の両方の界面側に整列した状態、及び、前記低屈折率層の両方の界面に接することなく整列した状態からなる群より選択される少なくとも１の状態で前記低屈折率層に含有され、
　中空状シリカ微粒子は、平均粒子径が７５ｎｍであり、シェルの厚みが５〜１２ｎｍであり、
　低屈折率層の屈折率が１．３５０未満である、
　光学積層体。」
　２　引用文献１
　原査定の拒絶の理由に引用文献１として引用された、特開２０１３−２１０５８３号公報（以下「引用文献１」という。）には、以下の事項が記載されている。
　ア　「【特許請求の範囲】
【請求項１】
　透明基材の少なくとも一方の面に、ハードコート層と、低屈折率層形成用塗液から形成された低屈折率層とが順次積層された反射防止フィルムにおいて、前記低屈折率層に、フッ素含有化合物およびケイ素含有化合物を含む表面調整剤が含まれ、かつ、Ｘ線光電子分光装置で測定される、前記低屈折率層表面のフッ素量（Ｆ１ｓ）とケイ素量（Ｓｉ２ｐ）との比（Ｓｉ２ｐ／Ｆ１ｓ）が、４．０〜３０．０であることを特徴とする、反射防止フィルム。」
　イ　「【０００３】
　一般に反射防止機能は、透明基材もしくはハードコート層上にそれらより屈折率の低い反射防止層を形成することで得られる。さらに、反射防止性能を向上させるために、透明基材もしくはハードコート層上に金属酸化物等の透明材料からなる高屈折率層と反射防止層との繰り返し構造による多層構造を形成する場合もある。この多層構造からなる反射防止層は、化学蒸着（ＣＶＤ）法や、物理蒸着（ＰＶＤ）法といったドライコーティング法により形成することができる（特許文献１）。」
　ウ　「【００５０】
　次に、低屈折率層１３について説明する。低屈折率層１３は、低屈折率層形成用塗液から形成され、該低屈折率層１３には、フッ素含有化合物およびケイ素含有化合物を含む表面調整剤が含まれている。
【００５１】  前記表面調整剤は、その作用に応じて、レベリング剤、消泡剤、界面張力調整剤、表面張力調整剤とも呼ばれるが、いずれも形成される塗膜の表面張力を低下させる作用を有する。この表面調整剤の添加によって、形成される塗膜において、ハジキ、ムラといった塗膜欠陥の発生を防止することができる。
【００５２】
 前記フッ素含有化合物としては、例えば、パーフルオロアルキル基またはパーフルオロアルキレンエーテル基を有する化合物等が挙げられる。
【００５３】
 前記パーフルオロアルキル基またはパーフルオロアルキレンエーテル基を有する化合物において、パーフルオロアルキル基は、式：−ＣnＦ2n+1（ｎは１以上の整数）で表される構造であり、パーフルオロアルキレンエーテル基は、式：−ＣnＦ2nＯ−（ｎは１以上の整数）で表される構造（以下の式（Ｉ））であり、疎水・疎油基として機能する。剛直で曲がりにくく、表面に整然と配列する特徴を有するので、少量で表面を覆う表面調整剤として機能することができる。このとき、親油基と組み合わせることで、さらに表面調整剤としての効果を向上させることが可能となる。なお、パーフルオロアルケニル基は、分子内にＣ＝Ｃ結合を有しているので、嵩高く、表面に配列する際にパーフルオロアルキル基に比べて密度が低下する。そのため、パーフルオロアルキル基が有するリコート性阻害を抑えることができる。
【００５４】
【化１】
 なお、前記式（Ｉ）中、Ｘは以下の（ａ）〜（ｅ）のいずれかであり、式（Ｉ）中の全てのＸが同一のものであってもよいし、複数のものがランダム状またはブロック状になっていてもよい。
【化２】
【００５５】
 前記ケイ素含有化合物としては、例えば、シリコーン骨格を有する化合物等が挙げられる。
【００５６】
 前記シリコーン骨格を有する化合物としては、シリコーン骨格と有機変性部とを分子内に含むシリコーン系化合物を好適に用いることができる。シリコーン骨格を有する化合物は、式（II）で表される構造を有しており、式（II）中の繰り返し数ｎ（１以上の数）や有機変性部の種類を変化させることで、表面張力を任意にコントロールすることができる。
【化３】
【００５７】
 前記式（II）中のｎや有機変性部の種類を変化させる一例として、例えば式（III）で表される構造（ｘ、ｙは繰り返し数を表す１以上の数、ｍは１以上の整数）が挙げられ、側鎖を付与することによりシリコーン骨格を変性させることができる。なお、式（III）中のＲ1としては、例えば、ＣＨ3、ＣＨ2−ＣＨ3、（ＣＨ2）9ＣＨ3等が挙げられる。また、Ｒ2としては、例えば、ポリエーテル基、ポリエステル基、アラルキル基等が挙げられる。さらに、式（IV）で表される構造（ｍは１以上の整数）を有する化合物も用いることが可能であり、シリコーン鎖は数個のＳｉ−Ｏ結合からなり、Ｒ3に相当する平均１個のポリエーテル鎖等を有する。このように、式（III）で表される化合物および式（IV）で表される化合物いずれにおいても、表面張力のコントロールや相溶性の調整を任意に行うことができる。
【化４】
」
　３　引用文献２
　原査定の拒絶の理由に引用文献２として引用された、国際公開第２０１２／０９６４００号（以下「引用文献２」という。）には、以下の事項が記載されている。
　ア　「［００３２］本発明の反射防止フィルムにおいて、上記低屈折率層は、上記防汚剤としてフッ素系化合物からなる防汚剤とフッ素−シリコーン系化合物からなる防汚剤とを含有する。このように２種類の防汚剤を使用することで、例えば、上記フッ素系化合物からなる防汚剤を含有することで、本発明の反射防止フィルムは、指紋付着防止性能及び指紋拭取り性能が優れたものとなる。 また、上記フッ素−シリコーン系化合物からなる防汚剤を含有することで、本発明の反射防止フィルムは、マジックはじき性能及びマジック拭取り性能、滑り性及び耐擦傷性が優れたものとなり、更に、低屈折率層に欠点が発生することを抑制できるとともに、本発明の防眩性フィルムを用いたときの表示画像の画質も優れたものとなる。
［００３３］上記フッ素系化合物としては、反応性フッ素化合物、特にエチレン性不飽和結合を有するフッ素含有モノマーであることが好ましい。具体的には、例えば、フルオロオレフィン類（例えば、フルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、パーフルオロブタジエン、パーフルオロ−２，２−ジメチル−１，３−ジオキソール等）が挙げられる。
また、例えば、２，２，２−トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロブチル）エチル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロヘキシル）エチル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロオクチル）エチル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロデシル）エチル（メタ）アクリレート、α−トリフルオロ（メタ）アクリル酸メチル等の分子中にフッ素原子を有する（メタ）アクリレート化合物；分子中にフッ素原子を少なくとも３個持つ炭素数１〜１４のフルオロアルキル基、フルオロシクロアルキル基又はフルオロアルキレン基と、少なくとも２個の（メタ）アクリロイルオキシ基とを有する含フッ素多官能（メタ）アクリル酸エステル化合物等も挙げられる。
更にまた、主鎖にフッ素化アルキレン基を有するフッ素ポリマー、オリゴマーや、主鎖及び側鎖にフッ素化アルキレン基、フッ素化アルキル基を有するフッ素化ポリマー、オリゴマー等も挙げられる。これらの中でも、特に、主鎖及び側鎖にフッ素化アルキレン基、フッ素化アルキル基を有するフッ素化ポリマーは、低屈折率層からのブリードアウトの問題が生じにくいことから特に好適に用いられる。
［００３４］上記フッ素系化合物の含有量としては特に限定されないが、上記中空シリカ微粒子と（メタ）アクリル樹脂との合計１００質量部に対して、１．０〜１０．０質量部であることが好ましい。１．０質量部未満であると、本発明の反射防止フィルムの指紋拭き取り性が不充分となることがあり、１０．０質量部を超えると、上記低屈折率層の滑り性及び硬度が低下し、本発明の反射防止フィルムの耐擦傷性が不充分となることがあり、また、マジックはじき性能にも劣ることがある。上記フッ素系化合物の含有量のより好ましい下限は２．０質量部、より好ましい上限は８．０質量部である。
［００３５］上記フッ素−シリコーン系化合物の含有量としては特に限定されないが、上記中空シリカ微粒子と（メタ）アクリル樹脂との合計１００質量部に対して、０．５〜１５．０質量部であることが好ましい。０．５質量部未満であると、上記低屈折率層の滑り性及び強度が不充分となり、本発明の反射防止フィルムの耐擦傷性が低下し、マジックはじき性能及びマジック拭き取り性能が低下することがある。一方、上記フッ素−シリコーン系化合物の含有量が１５．０質量部を超えると、上記低屈折率層の指紋拭取り性能が不充分となることがあり、また、白化を引き起こす可能性がある。更に、上記低屈折率層を形成する際に用いられる後述する低屈折率層用塗工液の塗工性が悪くなることがある。上記フッ素−シリコーン系化合物の含有量のより好ましい下限は１．０質量部、より好ましい上限は１０．０質量部である。
［００３６］また、上記低屈折率層は、本発明の効果を阻害しない範囲内で、上記フッ素系化合物、フッ素−シリコーン系化合物以外のその他の防汚剤を含有していてもよい。 上記その他の防汚剤としては、例えば、シリコーン系化合物が挙げられる。 上記シリコーン系化合物としては、例えば、（ポリ）ジメチルシロキサン、（ポリ）ジエチルシロキサン、（ポリ）ジフェニルシロキサン、（ポリ）メチルフェニルシロキサン、アルキル変性（ポリ）ジメチルシロキサン、アゾ基含有（ポリ）ジメチルシロキサン、ジメチルシリコーン、フェニルメチルシリコーン、アルキル・アラルキル変性シリコーン、フルオロシリコーン、ポリエーテル変性シリコーン、脂肪酸エステル変性シリコーン、メチル水素シリコーン、シラノール基含有シリコーン、アルコキシ基含有シリコーン、フェノール基含有シリコーン、メタクリル変性シリコーン、アクリル変性シリコーン、アミノ変性シリコーン、カルボン酸変性シリコーン、カルビノール変性シリコーン、エポキシ変性シリコーン、メルカプト変性シリコーン、ポリエーテル変性シリコーン等が挙げられる。なかでも、ジメチルシロキサン構造を有するものは、低屈折率層からのブリードアウトの問題が生じにくいことから特に好適に用いられる。」
　イ　「［００６８］本発明の反射防止フィルムは、上記光透過性基材上に、必要に応じて任意の層として、上述した防眩層の他に、他のハードコート層、帯電防止層、防汚染層、高屈折率層、中屈折率層等を備えてなるものであってよい。上記防汚染層、高屈折率層、中屈折率層は、一般に使用される防汚染剤、高屈折率剤、中屈折率剤、低屈折率剤や樹脂等を添加した組成物を調製し、それぞれの層を公知の方法により形成するとよい。」
　４　引用文献３
　原査定の拒絶の理由に引用文献３として引用された、特開２００７−３１６２１３号公報（以下「引用文献３」という。）には、以下の事項が記載されている。
「【００８９】
　低屈折率層の直下に高屈折率層を設けても良い。高屈折率層としては、例えば、チタン、ジルコニウム、亜鉛、アンチモン、インジウム、スズ、セリウム、タンタル、イットリウム、ハフニウム、アルミニウム、マグネシウムなどの金属を含む酸化物又は複合酸化物などの公知の無機微粒子を、バインダーに分散させたものが用いられる。バインダーは、低屈折率層のバインダーとして上記（１）〜（８）に列挙したものを用いることができる。その中でも好ましいのは（５）に記載の有機ポリマーのうち側鎖や末端に重合性官能基を有するもの、（６）に記載の重合性モノマー、（７）に記載の硬化性樹脂である。これらバインダーの種類と量は、目的の屈折率、強度、耐光性、黄変性などによって通常用いられるものを選択できる。高屈折率層としての屈折率は１．５５〜１．６８が反射防止性能上好ましく、特に１．５７〜１．６５が好ましい。高屈折率層の厚さは、５０ｎｍ〜３００ｎｍ、特に１２０ｎｍ〜１８０ｎｍが好ましい。厚さの制御により反射率の制御と、反射防止膜の色の制御も可能になる。」
　５　引用文献４
　原査定の拒絶の理由に引用文献４として引用された、特開２０１４−７４７７９号公報（以下「引用文献４」という。）には、以下の事項が記載されている。
　ア　「【００２９】
上記低屈折率層は、更に防汚剤を含有することが好ましい。上記低屈折率層が防汚剤を更に含有することで、本発明の光学積層体は、防汚性能を有することとなる。上記防汚剤としては、反応性官能基と、フッ素原子及び／又はケイ素原子とを含有する化合物であることが好ましい。このような防汚剤を含有することで、形成する低屈折率層の防汚性能をより向上させることができる。
【００３０】
上記反応性官能基とフッ素原子とを含有する化合物としては、例えば、反応性フッ素化合物、特にエチレン性不飽和結合を有するフッ素含有モノマーを広く用いることができ、より具体的には、例えば、フルオロオレフィン類（例えば、フルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、パーフルオロブタジエン、パーフルオロ−２，２−ジメチル−１，３−ジオキソール等）が挙げられる。また、例えば、２，２，２−トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロブチル）エチル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロヘキシル）エチル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロオクチル）エチル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロデシル）エチル（メタ）アクリレート、α−トリフルオロ（メタ）アクリル酸メチル等の分子中にフッ素原子を有する（メタ）アクリレート化合物；分子中にフッ素原子を少なくとも３個持つ炭素数１〜１４の、フルオロアルキル基、フルオロシクロアルキル基又はフルオロアルキレン基と、少なくとも２個の（メタ）アクリロイルオキシ基とを有する含フッ素多官能（メタ）アクリル酸エステル化合物等も挙げられる。更にまた、主鎖にフッ素化アルキレン基を有するフッ素ポリマー、オリゴマーや、主鎖及び側鎖にフッ素化アルキレン基、フッ素化アルキル基を有するフッ素化ポリマー、オリゴマー等も挙げられる。これらの中でも、特に、主鎖及び側鎖にフッ素化アルキレン基、フッ素化アルキル基を有するフッ素化ポリマーは、低屈折率層からのブリードアウトの問題が生じにくいことから特に好適に用いられる。
【００３１】
また、上記反応性官能基とケイ素原子とを含有する化合物としては、例えば、反応性シリコーン化合物が挙げられる。具体的には、例えば、（ポリ）ジメチルシロキサン、（ポリ）ジエチルシロキサン、（ポリ）ジフェニルシロキサン、（ポリ）メチルフェニルシロキサン、アルキル変性（ポリ）ジメチルシロキサン、アゾ基含有（ポリ）ジメチルシロキサン、ジメチルシリコーン、フェニルメチルシリコーン、アルキル・アラルキル変性シリコーン、フルオロシリコーン、ポリエーテル変性シリコーン、脂肪酸エステル変性シリコーン、メチル水素シリコーン、シラノール基含有シリコーン、アルコキシ基含有シリコーン、フェノール基含有シリコーン、（メタ）アクリル変性シリコーン、アミノ変性シリコーン、カルボン酸変性シリコーン、カルビノール変性シリコーン、エポキシ変性シリコーン、メルカプト変性シリコーン、フッ素変性シリコーン、ポリエーテル変性シリコーン等が挙げられる。なかでも、ジメチルシロキサン構造を有するものは、低屈折率層からのブリードアウトの問題が生じ難いことから好ましい。
【００３２】
また、上記反応性官能基と、フッ素原子及びケイ素原子とを含有する化合物としては、例えば、上記反応性フッ素化合物に上記反応性シリコーン化合物を反応させたシリコーン含有フッ化ビニリデン共重合体等が挙げられる。」
　イ　「【００６７】
本発明の光学積層体は、上記光透過性基材上に、上述した低屈折率層を有するものであるが、必要に応じて任意の層として、上述したハードコート層又は防眩層の他に、他のハードコート層、防汚染層、高屈折率層、中屈折率層等を備えてなるものであってよい。上記防汚染層、高屈折率層、中屈折率層は、一般に使用される防汚染剤、高屈折率剤、中屈折率剤、低屈折率剤や樹脂等を添加した組成物を調製し、それぞれの層を公知の方法により形成するとよい。」
　６　引用文献６
　補正の却下の決定の理由に引用文献６として引用された、特開２００９−２１１０６１号公報（以下「引用文献６」という。）には、以下の事項が記載されている。
　ア　「【００２８】
（高屈折率層）
　高屈折率層は、前述の透明フィルムの凹凸が形成された層の屈折率よりも高い屈折率を有する層である。本発明においては、高屈折率層の屈折率は１．６０〜１．７０であることが好ましい。高屈折率層の屈折率がこの範囲にあると、高屈折率層上に後述する低屈折率層を積層した場合に、外光の反射を抑制し、映り込みを防止することができる。  屈折率の調整は、例えば、前記高屈折率層を金属酸化物微粒子を含む材料を用いて形成する事で行う。  金属酸化物微粒子としては、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、酸化セリウム、酸化アンチモン、酸化スズ、酸化インジウム、酸化タングステン等が挙げられる。これらの金属酸化物微粒子は一種単独で、あるいは二種以上を組み合わせて用いることができる。  屈折率は、例えば、公知の分光エリプソメータを用いて測定して求めることができる。」
　イ　「【００４６】
　界面活性剤としては、フッ素系界面活性剤やシリコーン系界面活性剤が挙げられる。フッ素系の界面活性剤としては、スリーエム社製のフロラードＦＣ-４３１等のパーフルオロアルキルスルホン酸アミド基含有ノニオン、大日本インキ社製のメガファックＦ-１７１、Ｆ-１７２、Ｆ-１７３、Ｆ-１７６ＰＦ、Ｆ-４７０、Ｆ-４７１等のパーフルオロアルキル基含有オリゴマー等が挙げられる。シリコーン系界面活性剤としては、エチレングリコール、プロピレングリコール等のオリゴマー等の各種の置換基で側鎖や主鎖の末端が変性されたポリジメチルシロキサン等が挙げられる。  高屈折率層形成用組成物中に含まれる界面活性剤の含有量は、高屈折率層形成用組成物の固形分に対して０．1〜２．５重量％が好ましく、より好ましくは０．５〜２．０重量％である。」
第５　対比・判断
　１　本願発明１について
　(1)　対比
　本願発明１と引用発明を対比すると、以下のとおりとなる。
　ア　透明基材
　引用発明の「光透過性基材」は、技術的にみて本願発明１の「透明基材」に相当する。
　イ　低屈折率層
　引用発明の「低屈折率層」は、「屈折率が１．３５０未満である」ものである。
　これに対して、本願発明１の「低屈折率層」に関して、本件出願の明細書の【００７４】には、「低屈折率層１４の屈折率は、１．２０以上１．５０以下であってもよい。低屈折率層１４の屈折率の上限は、１．４９以下であってもよく、１．３２以下であってもよい。」と記載されている。
　そうしてみると、引用発明の「低屈折率層」は、本願発明１の「低屈折率層」に相当する。
　ウ　中空シリカ微粒子
　引用発明の「中空状シリカ微粒子」は、その文言が意味するとおり、中空状のシリカ微粒子であるから、本願発明１の「中空シリカ微粒子」に相当する。
　エ　低屈折率層、中空シリカ微粒子
　引用発明の「低屈折率層」は、「中空状シリカ微粒子を含有し、前記中空状シリカ微粒子は、平均粒子径が前記低屈折率層の厚みに対して５０％以上、１００％未満であり、かつ、前記低屈折率層の一方の界面側に整列した状態、前記低屈折率層の両方の界面側に整列した状態、及び、前記低屈折率層の両方の界面に接することなく整列した状態からなる群より選択される少なくとも１の状態で前記低屈折率層に含有され、中空状シリカ微粒子は、平均粒子径が７５ｎｍであり、シェルの厚みが５〜１２ｎｍであ」るものである。
　ここで、引用発明の「中空状シリカ微粒子」は、その文言が意味するとおり、中空状であって、引用発明の「低屈折率層」は、中空状でない反応性シリカ微粒子を含むものではない（このことは、引用文献５の図３、図４からも確認できる。）。
　また、引用発明の「中空状シリカ微粒子」の「平均粒子径」は、「低屈折率層の厚みに対して５０％以上、１００％未満」であることから、引用発明の「中空状シリカ微粒子」の「平均粒子径」が平均一次粒径を示すことは明らかである（このことは、引用文献５の図３、図４からも確認できる。）。
　そうしてみると、引用発明の「低屈折率層」は、本願発明の「低屈折率層」の「但し、中空状でない反応性シリカ微粒子を含むものではない」こと及び「平均一次粒径が６５ｎｍ以上８５ｎｍ以下の中空シリカ微粒子」を「含」むという要件を満たすものである。
　オ　反射防止フィルム
　引用発明は、「光透過性基材の上に、低屈折率層を有する光学積層体であって、」「低屈折率層の屈折率が１．３５０未満である、光学積層体」である。
　ここで、引用発明の「低屈折率層の屈折率が１．３５０未満である」ことから、引用発明の「低屈折率層」が反射防止性能を高める光学特性を有することは明らかである（このことは、引用文献５の【０００３】の記載からも確認できる。）。
　そうしてみると、引用発明の「光透過性基材の上に、低屈折率層を有する光学積層体」は、本願発明１の「透明基材と、低屈折率層」「とを備える反射防止フィルム」という要件を満たすものである。
　(2)　一致点及び相違点
　ア　本願発明１と引用発明は、次の構成で一致する。
（一致点）
「　透明基材と、低屈折率層（但し、中空状でない反応性シリカ微粒子を含む低屈折率層を除く）とを備える反射防止フィルムであって、
　前記低屈折率層が、平均一次粒径が６５ｎｍ以上８５ｎｍ以下の中空シリカ微粒子を含む、
　反射防止フィルム。」
　イ　本願発明１と引用発明は、次の点で相違するか、又は一応相違する。
（相違点１）
　「反射防止フィルム」が、本願発明１は、「前記透明基材上に設けられたハードコート層」を具備し、また、「低屈折率層」が、本願発明１は、「前記ハードコート層上に設けられ、かつ前記ハードコート層よりも屈折率が低い」のに対して、引用発明は、「光透過性基材の上に、低屈折率層を有する」と特定されるものにとどまる点。
（相違点２）
　「反射防止フィルム」が、本願発明１は、「前記ハードコート層と前記低屈折率層との間に設けられ、かつ前記ハードコート層よりも屈折率が高い高屈折率層」を備え、「前記高屈折率層が非架橋性フッ素含有化合物を含」むのに対して、引用発明は、「光透過性基材の上に、低屈折率層を有する」と特定されるものにとどまる点。
（相違点３）
　「低屈折率層」が、本願発明１は、「バインダ樹脂と、少なくとも前記低屈折率層の表面に存在する表面改質剤とを含み、前記表面改質剤が、架橋性ケイ素含有化合物と架橋性フッ素含有化合物とを含み、前記架橋性ケイ素含有化合物および／または前記架橋性フッ素含有化合物が前記バインダ樹脂と架橋して」いるのに対して、引用発明は、これらの構成を具備すると特定されていない点。
（相違点４）
　「反射防止フィルム」が、本願発明１は、「前記低屈折率層側から測定した前記反射防止フィルムの反射Ｙ値が０．３％未満であ」るのに対して、引用発明は、反射Ｙ値が明らかでない点。
（相違点５）
　「反射防止フィルム」が、本願発明１は、「前記低屈折率層の表面に対し、スチールウールを用いて荷重を加えながら１０往復擦る耐スチールウール試験を行った場合、前記低屈折率層の前記表面に傷が確認されない最大荷重が２００ｇ／ｃｍ２以上である」のに対して、引用発明は、耐スチールウール試験を行った場合の試験結果が明らかでない点。
　(3)　相違点についての判断
　事案に鑑みて、相違点２及び相違点３について検討する。
　ア　引用文献５の【００７０】には、「光学積層体」に「高屈折率層」を備えてもよいこと、また、【００２５】〜【００２９】には、「低屈折率層」に「防汚剤」として「反応性フッ素化合物」や「反応性シリコーン化合物」を含有することが好ましいことが、それぞれ記載されている。
　ここで、引用文献５の【００２７】には、「反応性フッ素化合物」として「含フッ素多官能（メタ）アクリル酸エステル化合物」が挙げられ、【００２８】には、「反応性シリコーン化合物」として各種変性シリコーンが挙げられていて、引用文献５には、低屈折率層が架橋性ケイ素含有化合物や架橋性フッ素含有化合物とを含むことが示唆されている。
　しかしながら、上記記載は、「反応性フッ素化合物」や「反応性シリコーン化合物」として架橋性の化合物でもよいことが示唆されているにすぎず、低屈折率層が架橋性ケイ素含有化合物と架橋性フッ素含有化合物とを含むことは記載されていない。さらに、引用文献５には、高屈折率層については具体的な記載はない。
　そうしてみると、引用文献５には、高屈折率層が非架橋性フッ素含有化合物を含み、且つ、低屈折率層が架橋性ケイ素含有化合物と架橋性フッ素含有化合物とを含むことは、記載も示唆もされていない。
　イ　引用文献１の【０００３】には、反射防止機能を高めるために「高屈折率層」を形成すること、また、【請求項１】、【００５０】〜【００５５】には、「低屈折率層」に「ケイ素含有化合物」及び「フッ素含有化合物」が含まれることが、それぞれ記載されている。
　しかしながら、引用文献１には、高屈折率層が非架橋性フッ素含有化合物を含み、且つ、低屈折率層が架橋性ケイ素含有化合物と架橋性フッ素含有化合物とを含むことは、記載も示唆もされていない。
　ウ　引用文献２の［００６８］には、反射防止フィルムに「高屈折率層」を備えてもよいこと、また、［００３２］〜［００３６］には、「低屈折率層」に防汚剤として「フッ素系化合物」や「シリコーン系化合物」を含有することが、それぞれ記載されている。
　ここで、引用文献２の［００３３］には、「反応性フッ素化合物」として「含フッ素多官能（メタ）アクリル酸エステル化合物」が挙げられ、［００３６］には、「反応性シリコーン化合物」として各種変性シリコーンが挙げられていて、引用文献２には、低屈折率層が架橋性ケイ素含有化合物や架橋性フッ素含有化合物とを含むことが示唆されている。
　しかしながら、上記記載は、「反応性フッ素化合物」や「反応性シリコーン化合物」として架橋性の化合物でもよいことが示唆されているにすぎず、低屈折率層が架橋性ケイ素含有化合物と架橋性フッ素含有化合物とを含むことは記載されていない。さらに、引用文献２には、高屈折率層については具体的な記載はない。
　そうしてみると、引用文献２には、高屈折率層が非架橋性フッ素含有化合物を含み、且つ、低屈折率層が架橋性ケイ素含有化合物と架橋性フッ素含有化合物とを含むことは、記載も示唆もされていない。
　エ　引用文献３の【００８９】には、「低屈折率層の直下に高屈折率層を設けても良い」ことが記載されている。
　しかしながら、引用文献３には、高屈折率層が非架橋性フッ素含有化合物を含み、且つ、低屈折率層が架橋性ケイ素含有化合物と架橋性フッ素含有化合物とを含むことは、記載も示唆もされていない。
　オ　引用文献４の【００６７】には、光学積層体に「高屈折率層」を備えてもよいこと、また、【００２９】〜【００３２】には、「低屈折率層」に防汚剤として「反応性フッ素化合物」や「反応性シリコーン化合物」を含有することが好ましいことが、それぞれ記載されている。
　ここで、引用文献４の【００３０】には、「反応性フッ素化合物」として「含フッ素多官能（メタ）アクリル酸エステル化合物」が挙げられ、【００３１】には、「反応性シリコーン化合物」として各種変性シリコーンが挙げられていて、引用文献４には、低屈折率層が架橋性ケイ素含有化合物や架橋性フッ素含有化合物とを含むことが示唆されている。
　しかしながら、上記記載は、「反応性フッ素化合物」や「反応性シリコーン化合物」として架橋性の化合物でもよいことが示唆されているにすぎず、低屈折率層が架橋性ケイ素含有化合物と架橋性フッ素含有化合物とを含むことは記載されていない。さらに、引用文献４には、高屈折率層については具体的な記載はない。
　そうしてみると、引用文献４には、高屈折率層が非架橋性フッ素含有化合物を含み、且つ、低屈折率層が架橋性ケイ素含有化合物と架橋性フッ素含有化合物とを含むことは、記載も示唆もされていない。
　カ　引用文献６の【００４６】には、「高屈折率層」に「フッ素系界面活性剤」として「スリーエム社製のフロラードＦＣ-４３１等のパーフルオロアルキルスルホン酸アミド基含有ノニオン」を含有することが記載されていて、「高屈折率層」が非架橋性フッ素化合物を含有することが示唆されている。
　しかしながら、引用文献６には、高屈折率層が非架橋性フッ素含有化合物を含み、且つ、低屈折率層が架橋性ケイ素含有化合物と架橋性フッ素含有化合物とを含むことは、記載も示唆もされていない。
　キ　上記カより、引用文献６には、高屈折率層が非架橋性フッ素含有化合物を含むことが示唆されている。また、上記ア、ウ、オより、引用文献５、２、４には、低屈折率層が架橋性ケイ素含有化合物や架橋性フッ素含有化合物とを含むことが示唆されている。
　しかしながら、引用文献６には、低屈折率層が架橋性ケイ素含有化合物と架橋性フッ素含有化合物とを含むことは記載されていない。また、引用文献５、２、４には、架橋性ケイ素含有化合物や架橋性フッ素含有化合物の示唆にとどまり、架橋性ケイ素含有化合物と架橋性フッ素含有化合物とを含むことまでは読み取れず、高屈折率層については具体的な記載はない。
　そうしてみると、引用発明において、前記相違点２及び相違点３に係る本願発明１の構成を全て採用することについては、引用文献５はもちろん、引用文献１〜４及び６においても、記載も示唆もされていないといえる。
　ク　ここで、本願発明１は、本件出願の明細書の【００１３】に記載された「低反射率化を実現でき、かつ良好な耐スチールウール性および防汚性を得る」という効果を奏するものである。そして、本願発明１は、前記相違点２及び相違点３に係る本願発明１の構成を全て採用することによって、本願発明１の効果のうち、特に防汚性に関して、より良好な効果が得られるものと理解される（本件出願の明細書の【０１１４】、【０１１５】）。
　これに対して、既に述べたとおり、引用文献１〜引用文献６のいずれにも、前記相違点２及び相違点３に係る本願発明１の構成を全て採用することについて、記載も示唆もなく、また、これら全ての構成を採用すると、より良好な防汚性が得られるといった知見についても、記載も示唆もない。
　そうしてみると、本願発明１の効果は、引用発明や、引用文献１〜引用文献６に記載された事項から予測し得る範囲を超えたものと認められる。
　ケ　以上のとおりであるから、相違点１、相違点４及び相違点５について判断するまでもなく、本願発明１は、当業者であっても、引用発明及び引用文献１〜引用文献６に記載された事項に基づいて容易に発明をすることができたものとはいえない。
　２　本願発明２〜本願発明６について
　本願発明２〜本願発明６は、本願発明１の「反射防止フィルム」と同じ構成を備えるものであるから、本願発明１と同じ理由により、当業者であっても、引用発明及び引用文献１〜引用文献６の記載事項に基づいて容易に発明をすることができたものとはいえない。
第６　原査定について
　上記「第５」で述べたとおりであるから、原査定の理由を維持することはできない。
第７　むすび
　以上のとおり、原査定の理由によっては、本願を拒絶することはできない。
　また、他に本件出願を拒絶すべき理由もない。
　よって、結論のとおり審決する。