【手続補正書】
【提出日】平成26年12月10日(2014.12.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
荷電粒子線を基板上で走査させて、前記基板上に描画を行う描画装置であって、
前記基板を保持して移動するステージと、
前記荷電粒子線を偏向して、前記荷電粒子線を走査する偏向器と、
前記ステージ上に配置され、前記荷電粒子線を遮蔽する端部を含む遮蔽部を有し、前記遮蔽部によって遮蔽されない前記荷電粒子線の強度を検出する検出部と、
偏向信号に基づいて前記偏向器の偏向動作を制御する制御部と、を備え、
前記検出器には、前記荷電粒子線の強度検出を開始する、第１検出開始位置、および、前記荷電粒子線の走査方向に平行な第１方向に直交する第２方向において前記第１検出開始位置と異なる第２検出開始位置が存在し、
前記遮蔽部に含まれる前記端部には、前記荷電粒子線を遮断する、前記第１方向において前記第１検出開始位置と異なり前記第２方向において前記第１検出開始位置と等しい第１遮蔽位置、および、前記第１方向において前記第２検出開始位置と異なり前記第２方向において前記第２検出開始位置と等しく前記第１方向および前記第２方向において前記第１遮蔽位置と異なる第２遮蔽位置が存在し、
前記制御部が前記偏向信号に基づいて前記偏向器の偏向動作を制御して、前記偏向器が前記荷電粒子線を前記検出器上で前記第１検出開始位置から前記第１遮蔽位置まで走査する第１検出期間内で、前記検出器は、前記荷電粒子線の強度を検出し、
前記制御部が前記偏向信号に基づいて前記偏向器の偏向動作を制御して、前記検出器が前記荷電粒子線を前記検出器上で前記第２検出開始位置から前記第２遮蔽位置まで走査する第２検出期間内で、前記検出器は、前記荷電粒子線の強度を検出し、
前記制御部は、前記第１検出期間内で検出された前記荷電粒子線の強度および前記第２検出期間内で検出された前記荷電粒子線の強度に基づいて、前記偏向信号と、該偏向信号に応じて走査される前記荷電粒子線の走査位置との関係を求める処理部を有する、
ことを特徴とする描画装置。
【請求項２】
前記制御部は、前記処理部によって求められた前記関係に基づいて、前記偏向信号および描画データの少なくとも１つを補正する、ことを特徴とする請求項１に記載の描画装置。
【請求項３】
前記第１遮蔽位置および前記第２遮蔽位置は、可変である、ことを特徴とする請求項１または請求項２に記載の描画装置。
【請求項４】
前記制御部は、前記検出部を移動させることにより、前記第１検出期間から第２検出期間に検出期間を変更する、ことを特徴とする請求項１ないし請求項３のいずれか１項に記載の描画装置。
【請求項５】
前記制御部は、前記偏向器を使用して、前記荷電粒子線を偏向することにより、前記第１検出期間から第２検出期間に検出期間を変更する、ことを特徴とする請求項１ないし請求項３のいずれか１項に記載の描画装置。
【請求項６】
前記第１の方向において、前記検出部の検出面の大きさは、前記偏向器による前記荷電粒子線の走査範囲の大きさ以上である、ことを特徴とする請求項１ないし請求項５のいずれか１項に記載の描画装置。
【請求項７】
請求項１ないし請求項６のいずれか１項に記載の描画装置を用いて基板に描画を行う工程と、
前記工程で描画を行われた基板を現像する工程と、
を含むことを特徴とする物品の製造方法。
【請求項８】
描画データに基づいて、荷電粒子線を基板上で走査させて、前記基板上に描画を行う描画装置であって、
前記基板を保持して移動するステージと、
前記荷電粒子線を偏向して、前記荷電粒子線を走査する偏向器と、
前記ステージ上に配置され、前記荷電粒子線を遮蔽する端部を含む遮蔽部を有し、前記遮蔽部によって遮蔽されない前記荷電粒子線の強度を検出する検出部と、
所定のタイミングで偏向信号に基づいて前記偏向器の偏向動作を制御し、移動信号に基づいて前記ステージの移動動作を制御する制御部と、を備え、
前記検出部には、前記荷電粒子線の強度検出を開始する、第１検出開始位置、および、前記荷電粒子線の走査方向に平行な第１方向において前記第１検出開始位置と等しく前記走査方向に直交する第２方向において前記第１検出開始位置と異なる第２検出開始位置が存在し、
前記遮蔽部に含まれる前記端部には、前記荷電粒子線を遮断する、前記第１方向において前記第１検出開始位置と異なり前記第２方向において前記第１検出開始位置と等しい第１遮蔽位置、および、前記第１方向において前記第２検出開始位置と異なり前記第２方向において前記第２検出開始位置と等しく前記第１方向および前記第２方向において前記第１遮蔽位置と異なる第２遮蔽位置が存在し、
前記制御部が前記偏向信号に基づいて前記偏向器の偏向動作を制御して、前記偏向器が前記荷電粒子線を前記検出部上で前記第１検出開始位置から前記第１遮蔽位置まで走査する第１検出期間内で、前記検出部は、前記荷電粒子線の強度を検出し、
その後、制御部は、前記荷電粒子線を前記第１遮蔽位置から前記第２検出開始位置まで移動させるための前記移動信号に基づいて、前記ステージの移動動作を制御し、
さらにその後、前記制御部が前記偏向信号に基づいて前記偏向器の偏向動作を制御して、前記偏向器が前記荷電粒子線を前記検出部上で前記第２検出開始位置から前記第２遮蔽位置まで走査する第２検出期間内で、前記検出部は、前記荷電粒子線の強度を検出し、
前記制御部は、
前記走査方向において前記第１検出開始位置と等しい位置から前記走査方向において前記第１遮断位置と等しい位置までの区間内で、前記第１検出期間内で検出された前記荷電粒子線の強度に基づいて、前記偏向信号に応じて走査される前記荷電粒子線の走査速度を求め、求められた前記荷電粒子線の走査速度に基づいて、前記偏向信号と前記偏向信号に応じて走査される前記荷電粒子線の走査位置との関係を求め、
前記走査方向において前記第１遮断位置と等しい位置から前記走査方向において前記第２遮断位置と等しい位置までの区間内で、前記第１検出期間内で検出された前記荷電粒子線の強度、および、前記第２検出期間内で検出された前記荷電粒子線の強度に基づいて、前記偏向信号に応じて走査される前記荷電粒子線の走査速度を求め、求められた前記荷電粒子線の走査速度に基づいて、前記偏向信号と前記偏向信号に応じて走査される前記荷電粒子線の走査位置との関係を求める処理部と、
前記処理部によって求められた結果に基づいて、前記描画データ、前記偏向信号および前記移動信号のうち少なくとも１つを補正する補正手段と、を有する。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
上記課題を解決するために、本発明は、荷電粒子線を基板上で走査させて、基板上に描画を行う描画装置であって、基板を保持して移動するステージと、荷電粒子線を偏向して、荷電粒子線を走査する偏向器と、ステージ上に配置され、荷電粒子線を遮蔽する端部を含む遮蔽部を有し、遮蔽部によって遮蔽されない荷電粒子線の強度を検出する検出部と、偏向信号に基づいて偏向器の偏向動作を制御する制御部と、を備え、検出器には、荷電粒子線の強度検出を開始する、第１検出開始位置、および、荷電粒子線の走査方向に平行な第１方向に直交する第２方向において第１検出開始位置と異なる第２検出開始位置が存在し、遮蔽部に含まれる端部には、荷電粒子線を遮断する、第１方向において第１検出開始位置と異なり第２方向において第１検出開始位置と等しい第１遮蔽位置、および、第１方向において第２検出開始位置と異なり第２方向において第２検出開始位置と等しく第１方向および第２方向において第１遮蔽位置と異なる第２遮蔽位置が存在し、制御部が偏向信号に基づいて偏向器の偏向動作を制御して、偏向器が荷電粒子線を検出器上で第１検出開始位置から第１遮蔽位置まで走査する第１検出期間内で、検出器は、荷電粒子線の強度を検出し、制御部が偏向信号に基づいて偏向器の偏向動作を制御して、検出器が荷電粒子線を検出器上で第２検出開始位置から第２遮蔽位置まで走査する第２検出期間内で、検出器は、荷電粒子線の強度を検出し、制御部は、第１検出期間内で検出された荷電粒子線の強度および第２検出期間内で検出された荷電粒子線の強度に基づいて、偏向信号と、該偏向信号に応じて走査される荷電粒子線の走査位置との関係を求める処理部を有する、ことを特徴とする。