【手続補正書】
【提出日】平成27年5月28日(2015.5.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
表面処理材料を気化し、該気化した表面処理材料でフォトカソード材料を電子親和力の低下処理及び／又はフォトカソードを再電子親和力の低下処理するための電子親和力の低下処理装置に用いられる活性化容器（但し、真空チャンバーを除く。）であって、
前記活性化容器は電子親和力の低下処理装置の真空チャンバー内に配置して用いられ、
前記活性化容器が、電子が通過できる孔を含む、
ことを特徴とする活性化容器。
【請求項２】
前記活性化容器（但し、真空チャンバーを除く。）が、導電性材料又は絶縁性材料から選択される材料で形成されることを特徴とする請求項１に記載の活性化容器。
【請求項３】
フォトカソードホルダーの位置を変えるための駆動手段が、前記活性化容器（但し、真空チャンバーを除く。）に形成されていることを特徴とする請求項１又は２に記載の活性化容器。
【請求項４】
気化した表面処理材料の飛散方向を制御する方向制御手段を更に含むことを特徴とする請求項１〜３の何れか一項に記載の活性化容器。
【請求項５】
表面処理材料を加熱するための加熱手段を更に含むことを特徴とする請求項１〜４の何れか一項に記載の活性化容器。
【請求項６】
気化した表面処理材料が前記活性化容器（但し、真空チャンバーを除く。）外に漏洩することを防止するためのシールドを更に含むことを特徴とする請求項１〜５の何れか一項に記載の活性化容器。
【請求項７】
前記孔が、前記フォトカソードホルダーを挿入できる大きさであることを特徴とする請求項３に記載の活性化容器。
【請求項８】
光を通過するための孔を更に含むことを特徴とする請求項１〜６の何れか一項に記載の活性化容器。
【請求項９】
請求項１〜８の何れか一項に記載の活性化容器（但し、真空チャンバーを除く。）、及び表面処理材料を含むことを特徴とする電子親和力の低下処理装置に用いられるキット。
【請求項１０】
前記表面処理材料が、加熱手段を挿通したものであることを特徴とする請求項９に記載のキット。
【請求項１１】
フォトカソード材料又はフォトカソードを貼り付けたフォトカソードホルダーを更に含むことを特徴とする請求項９又は１０に記載のキット。
【請求項１２】
気化した表面処理材料が前記活性化容器（但し、真空チャンバーを除く。）外に漏洩することを防止するためのシールドが形成されたフォトカソードロッドを更に含むことを特徴とする請求項１１に記載のキット。
【請求項１３】
前記活性化容器（但し、真空チャンバーを除く。）に対して摺動可能な蓋を更に含み、前記フォトカソード材料又はフォトカソードを貼り付けたフォトカソードホルダーが前記蓋に形成されていることを特徴とする請求項１１に記載のキット。
【請求項１４】
前記フォトカソードホルダーが、光透過性材料で作製される又は光を透過する孔を含むことを特徴とする請求項１１又は１２に記載のキット。
【請求項１５】
前記蓋及び前記フォトカソードホルダーが、光透過性材料で作製される又は光を透過する孔を含むことを特徴とする請求項１３に記載のキット。
【請求項１６】
前記フォトカソード材料又はフォトカソードと、前記フォトカソードホルダーの間に基板を含み、該基板が光透過性材料で作製される又は光を透過する孔を含むことを特徴とする請求項１１〜１５の何れか一項に記載のキット。
【請求項１７】
請求項９〜１６の何れか一項に記載のキット、真空チャンバー及び真空ポンプを含むことを特徴とする電子親和力の低下処理装置。
【請求項１８】
請求項１７に記載の電子親和力の低下処理装置、アノード及び光源を含むことを特徴とするフォトカソード電子ビーム源。
【請求項１９】
請求項１８に記載のフォトカソード電子ビーム源を含むことを特徴とする電子銃。
【請求項２０】
請求項１８に記載のフォトカソード電子ビーム源を含むことを特徴とする自由電子レーザー加速器。
【請求項２１】
請求項１８に記載のフォトカソード電子ビーム源を含むことを特徴とする透過型電子顕微鏡。
【請求項２２】
請求項１８に記載のフォトカソード電子ビーム源を含むことを特徴とする走査型電子顕微鏡。
【請求項２３】
請求項１８に記載のフォトカソード電子ビーム源を含むことを特徴とする電子線ホログラフィー顕微鏡。
【請求項２４】
請求項１８に記載のフォトカソード電子ビーム源を含むことを特徴とする電子線描画装置。
【請求項２５】
請求項１８に記載のフォトカソード電子ビーム源を含むことを特徴とする電子線回折装置。
【請求項２６】
請求項１８に記載のフォトカソード電子ビーム源を含むことを特徴とする電子線検査装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】電子親和力の低下処理装置に用いられる活性化容器及びキット、該キットを含む電子親和力の低下処理装置、フォトカソード電子ビーム源、並びに、フォトカソード電子ビーム源を含む電子銃、自由電子レーザー加速器、透過型電子顕微鏡、走査型電子顕微鏡、電子線ホログラフィー顕微鏡、電子線描画装置、電子線回折装置及び電子線検査装置
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、電子親和力の低下処理装置に用いられる活性化容器及びキット、該キットを含む電子親和力の低下処理装置、フォトカソード電子ビーム源、並びに、フォトカソード電子ビーム源を含む電子銃、自由電子レーザー加速器、透過型電子顕微鏡、走査型電子顕微鏡、電子線ホログラフィー顕微鏡、電子線描画装置、電子線回折装置及び電子線検査装置に関し、特に、従来のようにフォトカソード材料を電子親和力の低下処理及びフォトカソードを再電子親和力の低下処理するための真空チャンバーと、フォトカソードを配置し電子を放出する電子ビーム源チャンバーを別々に設けることなく、単一の真空チャンバー内でフォトカソード材料の電子親和力の低下処理及びフォトカソードの再電子親和力の低下処理を繰り返し行うことができ、且つ電子の放出を行うことができる、電子親和力の低下処理装置に用いられる活性化容器及び該活性化容器を含むキット、該キットを含む電子親和力の低下処理装置、フォトカソード電子ビーム源、並びに、フォトカソード電子ビーム源を含む電子銃、自由電子レーザー加速器、透過型電子顕微鏡、走査型電子顕微鏡、電子線ホログラフィー顕微鏡、電子線描画装置、電子線回折装置及び電子線検査装置に関するものである。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
すなわち、本発明の目的は、電子親和力の低下処理装置に用いられる活性化容器及びキット、該キットを含む電子親和力の低下処理装置（以下、単に「処理装置」と記載することもある。）、フォトカソード電子ビーム源、並びに、フォトカソード電子ビーム源を含む電子銃、自由電子レーザー加速器、透過型電子顕微鏡、走査型電子顕微鏡、電子線ホログラフィー顕微鏡、電子線描画装置、電子線回折装置及び電子線検査装置を提供することにある。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
本発明は、以下に示す、電子親和力の低下処理装置に用いられる活性化容器及びキット、処理装置、フォトカソード電子ビーム源、並びに、フォトカソード電子ビーム源を含む電子銃、自由電子レーザー加速器、透過型電子顕微鏡、走査型電子顕微鏡、電子線ホログラフィー顕微鏡、電子線描画装置、電子線回折装置及び電子線検査装置に関する。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
（１）表面処理材料を気化し、該気化した表面処理材料でフォトカソード材料を電子親和力の低下処理及び／又はフォトカソードを再電子親和力の低下処理するための電子親和力の低下処理装置に用いられる活性化容器（但し、真空チャンバーを除く。）であって、
前記活性化容器は電子親和力の低下処理装置の真空チャンバー内に配置して用いられ、
前記活性化容器が、電子が通過できる孔を含むことを特徴とする活性化容器。
（２）前記活性化容器（但し、真空チャンバーを除く。）が、導電性材料又は絶縁性材料から選択される材料で形成されることを特徴とする上記（１）に記載の活性化容器。
（３）フォトカソードホルダーの位置を変えるための駆動手段が、前記活性化容器（但し、真空チャンバーを除く。）に形成されていることを特徴とする上記（１）又は（２）に記載の活性化容器。
（４）気化した表面処理材料の飛散方向を制御する方向制御手段を更に含むことを特徴とする上記（１）〜（３）の何れか一に記載の活性化容器。
（５）表面処理材料を加熱するための加熱手段を更に含むことを特徴とする上記（１）〜（４）の何れか一に記載の活性化容器。
（６）気化した表面処理材料が前記活性化容器（但し、真空チャンバーを除く。）外に漏洩することを防止するためのシールドを更に含むことを特徴とする上記（１）〜（５）の何れか一に記載の活性化容器。
（７）前記孔が、前記フォトカソードホルダーを挿入できる大きさであることを特徴とする上記（３）に記載の活性化容器。
（８）光を通過するための孔を更に含むことを特徴とする上記（１）〜（６）の何れか一に記載の活性化容器。
（９）上記（１）〜（８）の何れか一に記載の活性化容器（但し、真空チャンバーを除く。）、及び表面処理材料を含むことを特徴とする電子親和力の低下処理装置に用いられるキット。
（１０）前記表面処理材料が、加熱手段を挿通したものであることを特徴とする上記（９）に記載のキット。
（１１）フォトカソード材料又はフォトカソードを貼り付けたフォトカソードホルダーを更に含むことを特徴とする上記（９）又は（１０）に記載のキット。
（１２）気化した表面処理材料が活性化容器（但し、真空チャンバーを除く。）外に漏洩することを防止するためのシールドが形成されたフォトカソードロッドを更に含むことを特徴とする上記（１１）に記載のキット。
（１３）前記活性化容器（但し、真空チャンバーを除く。）に対して摺動可能な蓋を更に含み、前記フォトカソード材料又はフォトカソードを貼り付けたフォトカソードホルダーが前記蓋に形成されていることを特徴とする上記（１１）に記載のキット。
（１４）前記フォトカソードホルダーが、光透過性材料で作製される又は光を透過する孔を含むことを特徴とする上記（１１）又は（１２）に記載のキット。
（１５）前記蓋及び前記フォトカソードホルダーが、光透過性材料で作製される又は光を透過する孔を含むことを特徴とする上記（１３）に記載のキット。
（１６）前記フォトカソード材料又はフォトカソードと、前記フォトカソードホルダーの間に基板を含み、該基板が光透過性材料で作製される又は光を透過する孔を含むことを特徴とする上記（１１）〜（１５）の何れか一に記載のキット。
（１７）上記（９）〜（１６）の何れか一に記載のキット、真空チャンバー及び真空ポンプを含むことを特徴とする電子親和力の低下処理装置。
（１８）上記（１７）に記載の電子親和力の低下処理装置、アノード及び光源を含むことを特徴とするフォトカソード電子ビーム源。
（１９）上記（１８）に記載のフォトカソード電子ビーム源を含むことを特徴とする電子銃。
（２０）上記（１８）に記載のフォトカソード電子ビーム源を含むことを特徴とする自由電子レーザー加速器。
（２１）上記（１８）に記載のフォトカソード電子ビーム源を含むことを特徴とする透過型電子顕微鏡。
（２２）上記（１８）に記載のフォトカソード電子ビーム源を含むことを特徴とする走査型電子顕微鏡。
（２３）上記（１８）に記載のフォトカソード電子ビーム源を含むことを特徴とする電子線ホログラフィー顕微鏡。
（２４）上記（１８）に記載のフォトカソード電子ビーム源を含むことを特徴とする電子線描画装置。
（２５）上記（１８）に記載のフォトカソード電子ビーム源を含むことを特徴とする電子線回折装置。
（２６）上記（１８）に記載のフォトカソード電子ビーム源を含むことを特徴とする電子線検査装置。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
本発明は、電子が通過できる孔を含み、表面処理材料を気化することができる活性化容器を真空チャンバー内に配置することで、単一の真空チャンバーを用いてＥＡ表面処理ができること、並びに電子ビーム源とすることができるので、ＥＡ表面処理チャンバー及びフォトカソードを搬送する搬送手段が不要となり、装置を小型化することができる。
また、フォトカソードを異なる真空チャンバー間で搬送する必要が無いことから、従来のように真空チャンバー間を搬送中にフォトカソードが脱落したり破損したりする恐れが無く、操作性が向上する。
本発明の活性化容器、キットは、従来の電子銃の電子銃チャンバーにセットすることが可能であり、また、処理装置は従来の電子銃チャンバーと置換することが可能であるので、新規に電子銃を購入することなく、既存の電子銃の操作性を向上することができる。
更に、本発明の電子ビーム源を、電子銃、自由電子レーザー加速器、透過型電子顕微鏡、走査型電子顕微鏡、電子線ホログラフィー顕微鏡、電子線描画装置、電子線回折装置及び電子線検査装置等の既存の装置の電子ビーム源として用いることができるので、前記装置の小型化、操作性の向上及び従来の電子ビーム源では得られなかった機能の向上を図ることができる。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
以下に、本発明の活性化容器、キット、処理装置、フォトカソード電子ビーム源、並びに、フォトカソード電子ビーム源を含む電子銃、自由電子レーザー加速器、透過型電子顕微鏡、走査型電子顕微鏡、電子線ホログラフィー顕微鏡、電子線描画装置、電子線回折装置及び電子線検査装置について詳しく説明する。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５２】
本発明の電子ビーム源７０は、従来の電子ビーム源に必要であった、ＥＡ表面処理チャンバー及びフォトカソードを搬送する搬送手段が不要となり、装置を小型化することができる。また、ＥＡ表面処理したフォトカソードを用いた電子ビーム源は、高輝度だけでなく、高繰返し周波数で短パルスやスピン偏極した電子ビームの生成が可能であり、高度かつ多彩な能力を持つ。したがって、従来から前記能力が必要とされる電子ビーム源を用いた機器、例えば、電子銃、自由電子レーザー加速器、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）、電子線ホログラフィー顕微鏡、電子線描画装置、電子線検査装置等の電子ビーム源として使用することができる。更に、ＥＡ表面処理と電子の取り出しを同時に行う場合には、連続操作が必要な電子線描画装置等の加工機器分野の電子ビーム源として使用することができる。