【事件の表示】
　特願２００２−１２８０８２「プラズマディスプレイパネル用焼成炉の配置方法」拒絶査定不服審判事件〔平成１５年１１月１４日出願公開、特開２００３−３２２４７２〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
第１　手続の経緯 
　本願は、平成１４年４月３０日の出願であって、平成１８年４月２８日付けで手続補正がなされ、平成１８年６月１５日付けで拒絶査定がなされ、これに対し、平成１８年７月２０日に拒絶査定に対する審判請求がなされるとともに、平成１８年８月１０日付けで手続補正がなされたものである。 
　 
第２　平成１８年８月１０日付けの手続補正についての補正の却下の決定 
　
【補正の却下の決定の結論】 
　平成１８年８月１０日付けの手続補正（以下、「本件補正」という。）を却下する。 
　　 
【決定の理由】 
（１）本件補正の内容 
　本件補正は、特許請求の範囲の記載を、次の（１−１）から次の（１−２）とする補正を含むものである。
 　 
（１−１） 
「【請求項１】　セッター上に載置されたプラズマディスプレイパネル用ガラス基板を搬送しながら焼成を行う上段通路と、当該上段通路で焼成されたプラズマディスプレイパネル用ガラス基板を焼成時とは逆方向に搬送するリターンコンベアを備えた下段通路とを有し、前記上段通路にプラズマディスプレイパネル用ガラス基板を搬入する入口と、前記下段通路から焼成後のプラズマディスプレイパネル用ガラス基板を搬出する出口とが同一の炉端部に設けられ、かつ前記入口にシャッターが設けられ、必要時以外は当該シャッターで前記入口を塞ぐように構成されたプラズマディスプレイパネル用焼成炉を、前記入口と出口のみがクリーンルーム内に接続され、炉本体はクリーンルーム外に設置されるように配置することを特徴とするプラズマディスプレイパネル用焼成炉の配置方法。
【請求項２】　前記プラズマディスプレイパネル用焼成炉が、前記リターンコンベアの搬送方向に対して直角方向にセッターを搬送することができ、前記リターンコンベア上のセッターを炉外に搬出したり、炉外から前記リターンコンベア上にセッターを搬入したりすることができる搬出搬入機構を備えるものである請求項１記載の配置方法。」　 
　
（１−２） 
「【請求項１】　セッター上に載置されたプラズマディスプレイパネル用ガラス基板を搬送しながら焼成を行う上段通路と、当該上段通路で焼成されたプラズマディスプレイパネル用ガラス基板を焼成時とは逆方向に搬送するリターンコンベアを備えた下段通路とを有し、前記上段通路にプラズマディスプレイパネル用ガラス基板を搬入する入口と、前記下段通路から焼成後のプラズマディスプレイパネル用ガラス基板を搬出する出口とが同一の炉端部に設けられ、かつ前記入口にシャッターが設けられ、必要時以外は当該シャッターで前記入口を塞ぐように構成されるとともに、前記上段通路の前記入口近傍部に排気フードが設けられたプラズマディスプレイパネル用焼成炉を、前記入口と出口のみがクリーンルーム内に接続され、炉本体はクリーンルーム外に設置されるように配置することを特徴とするプラズマディスプレイパネル用焼成炉の配置方法。
【請求項２】　前記プラズマディスプレイパネル用焼成炉が、前記リターンコンベアの搬送方向に対して直角方向にセッターを搬送することができ、前記リターンコンベア上のセッターを炉外に搬出したり、炉外から前記リターンコンベア上にセッターを搬入したりすることができる搬出搬入機構を備えるものである請求項１記載の配置方法。」 
　 
（２）当審の判断 
　本件補正は、補正前の請求項１に、「前記上段通路の前記入口近傍部に排気フードが設けられた」との記載事項を新たに付加し、排気フードが設けられた位置を新たに特定するものであるが、補正前の請求項１では、排気フードが設けられたことについては、発明を特定するために必要な事項とされていないから、いわゆる、特許請求の範囲の限定的減縮を目的とするものには該当しない。また、本件補正が、請求項の削除、誤記の訂正、または、明りょうでない記載の釈明を目的とするものに該当しないことも明らかである。　　　
（３）むすび 
　したがって、本件補正は、平成１８年法律第５５号改正附則第３条第１項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法第１７条の２第４項の規定に違反するものであるから、同法第１５９条第１項の規定によって読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定により却下すべきものである。 
　 
第３　本願発明についての審決 
　
１．本願発明 
　平成１８年８月１０日付けの手続補正は、上記第２に記載されたとおり却下されたので、本願発明は、平成１８年４月２８日付け手続補正により補正された明細書の特許請求の範囲の請求項１、２に記載された事項により特定されるものと認められるところ、そのうちの請求項１に係る発明（以下、「本願発明１」という。）は、次のとおりのものである。
　 
「セッター上に載置されたプラズマディスプレイパネル用ガラス基板を搬送しながら焼成を行う上段通路と、当該上段通路で焼成されたプラズマディスプレイパネル用ガラス基板を焼成時とは逆方向に搬送するリターンコンベアを備えた下段通路とを有し、前記上段通路にプラズマディスプレイパネル用ガラス基板を搬入する入口と、前記下段通路から焼成後のプラズマディスプレイパネル用ガラス基板を搬出する出口とが同一の炉端部に設けられ、かつ前記入口にシャッターが設けられ、必要時以外は当該シャッターで前記入口を塞ぐように構成されたプラズマディスプレイパネル用焼成炉を、前記入口と出口のみがクリーンルーム内に接続され、炉本体はクリーンルーム外に設置されるように配置することを特徴とするプラズマディスプレイパネル用焼成炉の配置方法。」 
　 
２．原査定の理由の概要  
　原査定の拒絶の理由の概要は、本願の請求項１〜２に係る発明は、その出願前日本国内又は外国において頒布された下記の刊行物１〜３に記載された発明に基いて、その出願前にその発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないというものである。　　　　　　　　　　　　　記
　　刊行物１：特開２０００−８１２８３号公報
　　刊行物２：特開２０００−２６１３１号公報 
　　刊行物３：特開平１０−１６２７４３号公報 
　 
３．引用刊行物とその主な記載事項 
　　原査定の拒絶の理由に引用された刊行物１（特開２０００−８１２８３号公報）、及び、刊行物３（特開平１０−１６２７４３号公報）には次の事項が記載されている。 
　
（１）刊行物１：特開２０００−８１２８３号公報
　
（１ａ）「【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ガラス基板に形成した構成要素を焼き固めるのに使用する焼成炉の技術分野に属し、特にプラズマディスプレイ用基板などの電子部品としてのガラス基板の焼成工程において好適に使用される焼成炉に関するものである。」
　
（１ｂ）「【０００２】
【従来の技術】従来より、この種のガラス基板上に形成された構成要素を焼き固める焼成炉としては図１に示すタイプのものが一般に使用されている。通常、ガラス基板の溶融温度は４００℃程度であるのに対し、電極やリブの焼成温度は５００〜６００℃であるため、焼成中にガラス基板は軟化する。このため、図１に示すように、焼成中でも軟化しない耐熱性のセッターＳの上にガラス基板Ｇを乗せた状態で焼成を行うようになっている。
【０００３】図１に示す焼成炉では、まず焼成炉本体１の外においてリフターコンベア２の上段位置にあるセッターＳの上にガラス基板Ｇが載せられる。そして、ガラス基板ＧはセッターＳと共に入口コンベア３により焼成炉本体１における上段通路の中に導入され、そのままセッターＳと共にローラコンベアで搬送されながら加熱部にて５００〜６００℃程度に加熱された後、徐冷部にて４００℃程度にまで冷却される。次いで、上段通路の端まで搬送されたところでガラス基板ＧはセッターＳと共にリフターコンベア４により下段通路に降下され、下段通路内をローラコンベアで逆方向に搬送されながら冷却部にて常温まで戻される。ガラス基板Ｇを載せたセッターＳが出口まで到達すると、出口コンベア５によりリフターコンベア２に移し替えられ、そこで焼成を終えたガラス基板Ｇが除去される。そして、空になったセッターＳはリフターコンベア２で上段位置に移動し、ここで次のガラス基板Ｇが載置されて焼成工程が繰り返される。」  
　
（１ｃ）「【０００７】
【発明の実施の形態】図２は本発明を適用した焼成炉の一例を示す平面図で、図１に示すのと同様な焼成炉本体１がＡラインとＢラインの２列設けられており、それぞれにリフターコンベア２と入口コンベア３及び出口コンベア５が設けられている。そして、各焼成炉本体１に出し入れするガラス基板の取扱いを自動化するため、図２に示すように、カセットステーション１０、カセットロボット２０、２つの仮置き台３０、２つのセッターロボット４０が配置されている。」
　
（１ｄ）図１及び図２には、焼成炉において、ガラス基板を搬入する入口と搬出する出口が同一の炉端部に設けれらていることが図示されている。
　
（２）刊行物３：特開平１０−１６２７４３号公報
（３ａ）「【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、表示電極を被覆する誘電体層を有したプラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）及び誘電体層の保護膜の形成方法に関する。」
　
（３ｂ）「【００１６】図４は本発明に係る成膜装置９０の構成図である。成膜装置９０は、仕込み室９１、加熱室９２、蒸着室９３、調圧室９４、スパッタリング室９５、及び取り出し室９６を順にＵ字状に配置したインライン型設備であり、ワークであるガラス基板１１の搬入口９８と搬出口９９とが隣接するように構成されている。搬入口９８、搬出口９９、及び隣接する室の間には、ゲートバルブ９７Ａ〜Ｆが設けられている。ＰＤＰ１の製造に用いるクリーンルーム１００の汚染を防止するため、成膜装置９０はクリーンルーム１００の外側に設置されて使用される。搬入口９８及び搬出口９９はクリーンルーム１００の壁面に設けられており、ワークはクリーンルーム１００の内側から成膜装置９０に搬入されて、成膜後にクリーンルーム１００へ搬出される。Ｕ字形状は、クリーンルーム１００の省スペース化に好適である。蒸着室９３とスパッタリング室９５とを水平方向に並べて調圧室９４内でワークを水平に搬送してもよいし、垂直方向に並べて調圧室９４内でワークを垂直に搬送してもよい。」
　
４．当審の判断      
（１）刊行物１発明 
　刊行物１の（１ａ）の「本発明は、ガラス基板に形成した構成要素を焼き固めるのに使用する焼成炉の技術分野に属し、特にプラズマディスプレイ用基板などの電子部品としてのガラス基板の焼成工程において好適に使用される焼成炉に関する」との記載において、「プラズマディスプレイ用基板」とは、「プラズマディスプレイパネル用基板」であることは明らかであるから、刊行物１には、「プラズマディスプレイパネル用ガラス基板の焼成炉」が記載されているといえる。
　
　そして、（１ｂ）の「従来より、この種のガラス基板上に形成された構成要素を焼き固める焼成炉としては図１に示すタイプのものが一般に使用されている。・・・図１に示す焼成炉では、まず焼成炉本体１の外においてリフターコンベア２の上段位置にあるセッターＳの上にガラス基板Ｇが載せられる。そして、ガラス基板ＧはセッターＳと共に入口コンベア３により焼成炉本体１における上段通路の中に導入され、そのままセッターＳと共にローラコンベアで搬送されながら加熱部にて５００〜６００℃程度に加熱された後、徐冷部にて４００℃程度にまで冷却される。次いで、上段通路の端まで搬送されたところでガラス基板ＧはセッターＳと共にリフターコンベア４により下段通路に降下され、下段通路内をローラコンベアで逆方向に搬送されながら冷却部にて常温まで戻される。」との記載によれば、前記プラズマディスプレイパネル用ガラス基板の焼成炉は、「セッター上に載置されたプラズマディスプレイパネル用ガラス基板を搬送しながら焼成を行う上段通路と、当該上段通路で焼成されたプラズマディスプレイパネル用ガラス基板を焼成時とは逆方向に搬送するローラコンベアを備えた下段通路とを有している」といえる。
　
　また、（１ｂ）の「ガラス基板Ｇを載せたセッターＳが出口まで到達すると、出口コンベア５によりリフターコンベア２に移し替えられ、そこで焼成を終えたガラス基板Ｇが除去される。そして、空になったセッターＳはリフターコンベア２で上段位置に移動し、ここで次のガラス基板Ｇが載置されて焼成工程が繰り返される。」との記載、（１ｃ）の「図２は本発明を適用した焼成炉の一例を示す平面図で、図１に示すのと同様な焼成炉本体１がＡラインとＢラインの２列設けられており、それぞれにリフターコンベア２と入口コンベア３及び出口コンベア５が設けられている。」との記載、及び、焼成炉において、ガラス基板を搬入する入口と搬出する出口が同一の炉端部に設けれらていることが図示されている図１、図２の記載（１ｄ参照）によれば、前記プラズマディスプレイパネル用ガラス基板の焼成炉は、「上段通路にプラズマディスプレイパネル用ガラス基板を搬入する入口と、下段通路から焼成後のプラズマディスプレイパネル用ガラス基板を搬出する出口とが同一の炉端部に設けられている」といえる。
　
　そして、プラズマディスプレイパネルの製造技術分野において、高清浄であることが求められるプラズマディスプレイパネルの性質上、その製造装置は焼成炉を含めクリーンルーム内に配置されることが技術常識であるものといえるから、刊行物１には、前記プラズマディスプレイパネル用ガラス基板の焼成炉のクリーンルーム内への配置方法が併せて記載されているものといえる。　
　以上の記載及び認定事項を、本願発明１の記載ぶりに則り整理すると、刊行物１には、次に発明が記載されているといえる。
　
「セッター上に載置されたプラズマディスプレイパネル用ガラス基板を搬送しながら焼成を行う上段通路と、当該上段通路で焼成されたプラズマディスプレイパネル用ガラス基板を焼成時とは逆方向に搬送するローラコンベアを備えた下段通路とを有し、前記上段通路にプラズマディスプレイパネル用ガラス基板を搬入する入口と、前記下段通路から焼成後のプラズマディスプレイパネル用ガラス基板を搬出する出口とが同一の炉端部に設けられたプラズマディスプレイパネル用ガラス基板の焼成炉を、クリーンルーム内へ配置するプラズマディスプレイパネル用ガラス基板の焼成炉の配置方法。」（以下、「刊行物１発明」という。）
　
（２）本願発明１と刊行物１発明との対比 
　本願発明１と刊行物１発明とを対比すると、刊行物１発明の「ローラコンベア」は、ガラス基板が搬入された入口と同一の炉端部に設置された出口に向けてガラス基板を搬送するものであるから、本願発明１の「リターンコンベア」に相当し、また、刊行物１発明の「プラズマディスプレイパネル用ガラス基板の焼成炉」は、本願発明１の「プラズマディスプレイパネル用焼成炉」に相当する。
　
　そうすると、本願発明１と刊行物１発明とは、
「セッター上に載置されたプラズマディスプレイパネル用ガラス基板を搬送しながら焼成を行う上段通路と、当該上段通路で焼成されたプラズマディスプレイパネル用ガラス基板を焼成時とは逆方向に搬送するリターンコンベアを備えた下段通路とを有し、前記上段通路にプラズマディスプレイパネル用ガラス基板を搬入する入口と、前記下段通路から焼成後のプラズマディスプレイパネル用ガラス基板を搬出する出口とが同一の炉端部に設けられたプラズマディスプレイパネル用焼成炉の配置方法。」である点で一致し、次の点で相違する。　
　
相違点１：本願発明１は、プラズマディスプレイパネル用焼成炉の「ガラス基板を搬入する前記入口にシャッターが設けられ、必要時以外は当該シャッターで前記入口を塞ぐように構成されている」のに対し、刊行物１発明は、そのようなシャッターを有するのかが不明である点。
　
相違点２：本願発明１は、プラズマディスプレイパネル用焼成炉の「入口と出口のみがクリーンルーム内に接続され、炉本体はクリーンルーム外に設置されるように配置する」のに対し、刊行物１発明は、クリーンルーム内において、そのように配置されるのかが不明である点。
　
（３）相違点についての判断         
　上記相違点１、２について検討する。
　
（３−１）相違点１について
　
　クリーンルームを備えたプラズマディスプレイパネル用焼成炉のガラス基板を搬入する入口にシャッターを設け、必要時に該シャッターを開閉することにより、クリーンルームから焼成炉内への空気の流入を極めて少なくし、焼成炉内の温度分布の変動を防止することは、本願出願前に周知の事項であるから（要すれば、例えば、特開平１１−１０８５５９号公報の【００２９】、【００３０】、【図３】を参照。）、刊行物１発明において、かかる周知技術を適用し、ガラス基板を搬入する前記入口にシャッターを設け、必要時以外は当該シャッターで前記入口を塞ぐように構成することは当業者が容易になし得る事項である。
　してみると、相違点１は、当業者が容易に想到し得たことである。
　
（３−２）相違点２について
　
　刊行物３には、（３ａ）の「本発明は、表示電極を被覆する誘電体層を有したプラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）及び誘電体層の保護膜の形成方法に関する。」との記載、及び、（３ｂ）の「成膜装置９０は、・・・ワークであるガラス基板１１の搬入口９８と搬出口９９とが隣接するように構成されている。・・・ＰＤＰ１の製造に用いるクリーンルーム１００の汚染を防止するため、成膜装置９０はクリーンルーム１００の外側に設置されて使用される。搬入口９８及び搬出口９９はクリーンルーム１００の壁面に設けられており、ワークはクリーンルーム１００の内側から成膜装置９０に搬入されて、成膜後にクリーンルーム１００へ搬出される。Ｕ字形状は、クリーンルーム１００の省スペース化に好適である。」との記載によれば、プラズマディスプレイパネル用誘電体層の保護膜の成膜装置は、ワークであるガラス基板の搬入口と搬出口のみに隣接してクリーンルーム内に接続され、装置本体はクリーンルーム外に設置されるように配置され、特に、成膜装置の構造をＵ字形状とし、入口と出口を近接させてクリーンルームの省スペース化を図るものであることが記載されているといえる。
　そして、刊行物３に記載された前記公知技術は、プラズマディスプレイパネル用の誘電体層の保護膜の成膜に関するものであり、プラズマディスプレイパネルの製造装置に関するものである点で刊行物１発明と共通の技術分野に属するものであるから、刊行物１発明に対し、刊行物３に記載された前記公知技術を適用し、クリーンルームの省スペースを図ることは当業者が容易になし得るものと認められる。
　してみると、相違点２は、当業者が容易に想到し得たことである。
　
（４）小括
　以上のとおり、上記相違点１、２は、当業者が容易に想到し得たものであるといえる。
　したがって、本願発明１は、刊行物１発明、刊行物３に記載された発明、及び、前記周知技術に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものである。
　
５．補足
　前記「第２」で述べたとおり、平成１８年８月１０日付け手続補正は、平成１８年法律第５５号改正附則第３条第１項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法第１７条の２第４項各号に掲げるいずれかの事項を目的とするものとはいえないから、同法第１５９条第１項の規定において読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定により却下すべきものであるが、仮に、当該手続補正が、特許法第１７条の２第４項第２号に掲げる特許請求の範囲の減縮を目的とするものに該当するものとしても、当該手続補正による請求項１に係る発明（以下、「本願補正発明」という。）は、以下に示すとおり、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により本願出願の際独立して特許を受けることができないものといえる。そうすると、前記補正は、平成１８年法律第５５号改正附則第３条第１項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法第１７条の２第５項において準用する同法１２６条第５項の規定に違反し、同法第１５９条第１項で読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定により却下すべきものである。
　
　以下、本願補正発明が、独立特許要件を有するものであるかについて検討する。
　
（１）本願補正発明は、本願発明に「セッター上に載置されたプラズマディスプレイパネル用ガラス基板を搬送しながら焼成を行う上段通路の前記上段通路にプラズマディスプレイパネル用ガラス基板を搬入する入口近傍部に排気フードが設けられ」ることを特定事項として付加したものである。
　
（２）そこで、本願補正発明と刊行物１発明を対比すると、両発明は、前記「第３」の「４．（２）本願発明１と刊行物１発明との対比」において示した、相違点１及び相違点２に加え、さらに、以下の点で相違するものである（以下、「相違点３」という。）。
　
相違点３：本願補正発明は、「セッター上に載置されたプラズマディスプレイパネル用ガラス基板を搬送しながら焼成を行う上段通路の前記上段通路にプラズマディスプレイパネル用ガラス基板を搬入する入口近傍部に排気フードが設けられ」ているのに対し、刊行物１発明は、そのような排気フードを有するのかが不明である点。
　
（３）相違点３に関して、クリーンルームを備えたプラズマディスプレイパネル用焼成炉の技術分野において、クリーンルームの空気の流入量と同程度の量を排気することにより、焼成炉内へクリーンルームからの空気の流入をなくし、安定した炉内温度分布を保つために、焼成炉の入り口付近に排気ファン即ち排気フードを設けることは、本願出願前に周知の事項であるから（要すれば、特開平１１−１０８５５９号公報の【００２５】、【００２６】、【図１】参照。）、刊行物１発明において、かかる周知技術を適用することは当業者が容易になし得る事項にすぎない。
　してみると、相違点３は、当業者が容易に想到し得たことである。
　
（４）また、相違点１及び相違点２については、前記「第３」の「４．（３）相違点についての判断」において述べたとおり、いずれも当業者が容易になし得たことである。
　
（５）してみると、本願補正発明は、引用発明、刊行物３、及び前記周知技術に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであり、特許法第２９条第２項の規定により、本願出願の際独立して特許を受けることができないものであるから、前記補正は、平成１８年法律第５５号改正附則第３条第１項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法第１７条の２第５項において準用する同法１２６条第５項の規定に違反し、同法第１５９条第１項で読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定により却下すべきものである。
　そして、本願発明１が、刊行物１発明、刊行物３に記載された発明、及び、周知技術に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであることは、前記「第３」の「４．当審の判断」のとおりである。
　
６．むすび 
　以上のとおり、本願発明１は、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないものであるから、その余の発明について検討するまでもなく、本願は、拒絶すべきでものである。 
　
　よって、結論のとおり審決する。