(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
感光板の両側を頂角ψ１の第１プリズムと頂角ψ２の第２プリズムとによって挟持し，第１プリズムの側から参照光を，第２プリズムの側から物体光を上記感光板に照射し，感光板上に干渉縞を形成するホログラムの製造方法であって，
上記参照光は，Ｐ偏光（電界の方向が入射面に平行に偏光）した直線偏光光であり，上記第１プリズムに入射して感光板に向かう正規の参照光と，この参照光が上記第２プリズムの大気側の表面において反射した表面反射光とのなす角度ａが直角に近い値となるように，上記頂角ψ１，ψ２と上記参照光の入射角θとの間の関係が定められており，
上記物体光もＰ偏光した直線偏光光であり，また，上記第１プリズムの大気側の表面には，反射防止処理が施されていることを特徴とするホログラムの製造方法。
【請求項２】
感光板の両側を頂角ψ１の第１プリズムと頂角ψ２の第２プリズムとによって挟持し，第１プリズムの側から参照光を，第２プリズムの側から物体光を上記感光板に照射し，感光板上に干渉縞を形成するホログラムの製造方法であって，
上記参照光は，Ｐ偏光した直線偏光光であり，上記第１プリズムに入射して感光板に向かう正規の参照光と，この参照光が上記第２プリズムの大気側の表面において反射した表面反射光とのなす角度ａが直角に近い値となるように，上記頂角ψ１，ψ２と上記参照光の入射角θとの間の関係が定められており，
上記物体光もＰ偏光した直線偏光光であり，また，上記第１プリズムの大気側の表面にはλ／４波長板が配置されており，上記参照光はこのλ／４波長板を経て円偏光からＰ偏光に変換された光であることを特徴とするホログラムの製造方法。
【請求項３】
請求項１又は請求項２において，前記第１頂角ψ１と第２頂角ψ２とは同一の角度を有しており，上記両頂角が前記感光板の同一側部に位置するよう前記プリズムを配置してあることを特徴とするホログラムの製造方法。
【請求項４】
感光板に直接入射させた参照光と，感光板を透過した上記参照光をマスタホログラムに照射し，そこで得られた再生光とによって上記感光板に干渉縞を形成し，上記マスタホログラムを複製するホログラムの製造方法であって，
上記マスタホログラムを製造するための第１プリズムと同一の頂角ψ１を有する複製用のプリズムを用意し，この複製用のプリズムの頂角を形成する第一の面に感光板を配置し，頂角を形成する第二の面に上記マスタホログラムを配置し，
上記第一の面の側から，マスタホログラムを製作したのと略同一の参照光を略同一の角度から入射し，この参照光と，上記マスタホログラムで回折，反射した再生光とによって上記感光板に干渉縞を形成する方法であり，
かつ上記マスタホログラムは，請求項１，請求項２又は請求項３記載の製造方法によって得られたホログラムであることを特徴とするホログラムの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】
本発明は，ノイズ光によって形成される。ゴーストホログラムを抑制するホログラムの製造方法に関する。
【０００２】
【従来技術】
ホログラム形成用の乾板に，物体光と参照光とを照射してホログラムを形成する際，正規の光路外から物体光や参照光が進入し，ゴーストホログラムを形成することがある。このようなゴーストホログラムを生ずる大きな要因として，屈折率が異なる外気との界面における物体光又は参照光の表面反射光がある。
【０００３】
例えば，図８に示すように，複製用乾板９１を屈折率調整液９２を介してマスタホログラム９３に接触させ，乾板９１の表面から参照光３１を入射し，その透過光３１１をマスタホログラム９３で回折，反射させ，これを物体光３２として乾板９１に干渉縞を形成する方法がある（マスタホログラムを用いた１光束法）。
【０００４】
この場合，例えば上記透過光３１１がマスタホログラム９３を透過して外気との界面９３１で再反射し，この表面反射光（図示せず）が参照光３１との間に図９に示すようなリング状の干渉縞９９を形成し，これがゴーストホログラムとなる。
あるいは，乾板９１を透過した物体光３２が外気との界面９１１で再反射し，この表面反射光（図示せず）が正規の物体光３２との間に干渉縞を形成する。
図８のマスタホログラム９３に替えて反射型の光学素子を用いた場合についても同様である。
【０００５】
また，乾板の上下両面から物体光及び参照光を入射する２光束法においても，同様に界面での表面反射光がゴーストホログラムを形成する。
そして，このようなゴーストを有するホログラムをマスタホログラムとして，ホログラムを複製すれば，複製されたホログラムには同様のゴーストホログラムが形成される。
【０００６】
このような，表面反射光によるゴーストの発生を抑制するため幾つかの提案がなされている。
例えば，図１１に示すように，表面反射光を抑制するために大気との界面に無反射コートガラス９５を配置する第１の方法が提案されている（特開平４−１９８９８１号公報参照）。
【０００７】
即ち，乾板９１の両側に屈折率調整液９２を介して反射防止膜９５を施した反射防止処理ガラス９４を配置し，物体光３２及び参照光３１の表面反射光３２２，３１２を抑制する。
また，図１０，図１２に示すように，参照光３１又は物体光３２の表面反射光３１２，３２２が乾板９１に再入射しないようにするため，光路変更用のプリズム９６１，９６２を配置する第２の方法が提案されている（特開平４−１９８９８０号公報参照）。
【０００８】
【解決しようとする課題】
しかしながら，表面反射光を抑制するための上記第１，第２の方法には次のような問題点がある。
無反射コートガラスを設ける第１の方法（図１１）では，無反射コートガラスに対する入射角θが大きくなると反射率が増大し，充分な効果が得られなくなるという問題がある。
【０００９】
また，プリズム９６１，９６２を用いて表面反射光３１２，３２２が乾板９１に再入射しないようにする第２の方法（図１０，図１２）では，プリズム９６の頂角α，βがかなり大きめになるためホログラムの製造スペースが大きくなるという問題がある。
本発明は，かかる従来の問題点に鑑みて，界面の表面反射光によるゴーストホログラムの発生を抑制することができ，かつ製造スペースの大幅な増加を招くようなことのない，ホログラムの製造方法を提供しようとするものである。
【００１０】
【課題の解決手段】
本願の第１発明は，感光板の両側を頂角ψ１  の第１プリズムと頂角ψ２  の第２プリズムとによって挟持し，第１プリズムの側から参照光を，第２プリズムの側から物体光を上記感光板に照射し，感光板上に干渉縞を形成するホログラムの製造方法であって，
上記参照光は，Ｐ偏光（電界の方向が入射面に平行）した直線偏光光であり，上記第１プリズムに入射して感光板に向かう正規の参照光と，この参照光が上記第２プリズムの大気側の表面において反射した表面反射光とのなす角度ａが直角に近い値となるように，上記頂角ψ１  ，ψ２  と上記参照光の入射角θとの間の関係が定められており，
上記物体光もＰ偏光した直線偏光光であり，また，上記第１プリズムの大気側の表面には，反射防止処理が施されていることを特徴とするホログラムの製造方法にある。
【００１１】
第１発明において最も注目すべきことは，参照光及び物体光は，共にＰ偏光した直線偏光光であること，第１プリズムに入射して感光板に向かう正規の参照光と，この参照光が第２プリズムの大気側の表面において反射した表面反射光とのなす角度ａが直角に近い値となること，そして，第１プリズムの大気側の表面には，反射防止処理が施されていることである。
【００１２】
一方，本願の第２発明は，感光板の両側を頂角ψ１  の第１プリズムと頂角ψ２  の第２プリズムとによって挟持し，第１プリズムの側から参照光を，第２プリズムの側から物体光を上記感光板に照射し，感光板上に干渉縞を形成するホログラムの製造方法であって，
上記参照光は，Ｐ偏光した直線偏光光であり，上記第１プリズムに入射して感光板に向かう正規の参照光と，この参照光が上記第２プリズムの大気側の表面において反射した表面反射光とのなす角度ａが直角に近い値となるように，上記頂角ψ１  ，ψ２  と上記参照光の入射角θとの間の関係が定められており，
上記物体光もＰ偏光した直線偏光光であり，また，上記第１プリズムの大気側の表面にはλ／４波長板が配置されており，上記参照光はこのλ／４波長板を経て円偏光からＰ偏光に変換された光であることを特徴とするホログラムの製造方法にある。
【００１３】
第２発明にかかる製造方法は，第１発明の製造方法において，反射防止処理に換えてλ／４波長板を設けると共に参照光はλ／４波長板を経て円偏光した光をＰ偏光した光に変換することである。
なお，第１発明及び第２発明における上記角度ａは，抑制しようとするノイズレベルの大きさにより決められるが，角度ａが直角に近いほど，参照光の界面反射によるゴーストの抑制効果は大きくなる。
【００１４】
なお，上記第１，第２発明において，上記２つのプリズムを，頂角の位置が感光板の同一側部に位置するよう配置すると共に，両頂角ψ１  ，ψ２  を等しくすることが好ましい（図７及び図１参照）。
その理由は以下に述べる通りである。
【００１５】
図７に示す第１プリズム２５内に入射した光（屈折光）３１１が法線となす角度をθ１  とすると，上記入射光３１１が乾板８１の法線となす角θ２  は頂角ψ１  だけシフトされ（θ２  ＝θ１  ＋ψ１  ），第２プリズム２６の界面２６１において上記入射光３１１が法線となす角度θ３  は，頂角の和（ψ１  ＋ψ２  ）だけ増加する（θ３  ＝θ１  ＋ψ１  ＋ψ２  ）。即ち，上記θ２  は頂角ψ１  だけシフトされ上記θ３  は，頂角の和（ψ１  ＋ψ２  ）だけシフトされる。
【００１６】
また，反対方向から第２プリズム内に角度θ１  ′で入射した光３２１についても同様である（頂角ψ１  とψ２  とを入れ替えて，θ２  ′＝θ１  ′＋ψ２  ，θ３  ′＝θ１  ′＋ψ１  ＋ψ２  ）。
ここで，上記のように，ψ１  ＝ψ２  とすれば，両プリズムは，乾板の上または下の一方向にのみ突出することなく乾板の両側にバランス良く配置することができるから好適である。
【００１７】
また，第１，第２発明の方法によって製作したホログラムをマスタホログラムとして，ホログラムを複製すれば，ゴーストの少ない複製ホログラムを簡素な光学系と少ないスペースにより効率的に生産することができるから好適である。
なぜならば，詳細を後述するように，上記第１，第２発明によって製造されたホログラムは，表面反射光によるゴーストの少ない良質のホログラムとなるから，このホログラムをマスタホログラムとして用いれば，良好な複製ホログラムを得ることができる。
【００１８】
そして，マスタホログラムを用いて複製ホログラムを製造する方法は，例えばレンズなどの他の光学素子を用いてホログラムを製造する場合（図１２参照）に比べて製造スペースが少なくて済み，また複雑な像を容易にホログラムに記録することができるという利点がある。
【００１９】
即ち，ホログラムは薄板であるから，レンズその他の光学素子に比べてスペースを取らず，また複雑な回折特性を備えていてもその大きさは変わらない。一方，レンズ等の光学素子は，複雑な光学特性を実現する場合には，複数の光学素子を重ね合せるなど製造装置が大型となり，また光学系が複雑となるから，良質のホログラムを狭いスペースで製造することは困難である。
【００２０】
そして，第１，第２発明によって製造されたマスタホログラムを用いて，これを１光束法によりホログラムを製造する方法には，例えば，次のような方法がある。即ち，第１，第２発明における前記第１プリズムと同一頂角ψ１  を有する複製用プリズムを用い，該複製用プリズムの頂角を形成する第１の面に複製用の感光板を配置し，頂角を形成する第２の面に上記マスタホログラムを配置し，
上記第１の面側から，上記マスタホログラムを製造したのと略同一の参照光を略同一の角度から照射し，この参照光とこの参照光をマスタホログラムで回折させた再生光とにより複製用乾板に干渉縞を形成する。
【００２１】
この方法を用いれば，第１，第２発明によりマスタホログラムを製造したのと同一の第１プリズムを複製用プリズムとして用いることができると共にマスタホログラムを製造したのと同一参照光を同一の角度から上記複製用プリズムに照射することにより複製ホログラムを製造することができる。
即ち，マスタホログラムの製造条件と複製ホログラムの製造条件とは極めて類似したものとすることができる。
【００２２】
このとき，マスタホログラムに対してはマスタホログラムを製造したのと同一の参照光が同一方向から照射されるから，マスタホログラムの再生光は，マスタホログラムの製造時の物体光と同一となる。
そして，この再生光には表面反射光によるゴーストホログラムノイズは，殆ど含まれず，極めて良質の物体光である。
従って，複製ホログラムの製造条件とマスタホログラムの製造条件とは極めて類似し，マスタホログラムと極めて類似性の高い複製ホログラムを製造することがでる。
【００２３】
なお，この一光束法による複製ホログラムの製造方法において，複製用感光板の界面（外気側）に無反射コートガラスを設けることが好ましい。
無反射コートガラスを設ければ，マスタホログラムの再生光（物体光）が上記界面で反射され，これがノイズ光となり複製ホログラム上にゴーストが形成されるのを抑制することができるからである（詳細は実施例１，２参照）。
更に，このとき，参照光としてＰ偏光した光を用いれば，界面における反射率が低下するから，一段と表面反射ノイズを抑制することができる。
【００２４】
また，無反射コートガラスに換えて複製用感光板の界面に，λ／４波長板を設けてもよい。この場合，マスタホログラムの再生光は，λ／４波長板を往復することにより偏光方向が変わる（Ｓ偏光→円偏光→Ｐ偏光，Ｐ偏光→円偏光→Ｓ偏光）ため，界面における表面反射光と再生光との間では干渉縞は形成されない。ただし，この場合には，λ／４波長板に入射する参照光は円偏光にすることが必要である。そして，λ／４波長板を通過することにより，Ｐ偏光に変化し複製用感光板に入射する。
【００２５】
また，上記一光束法による複製方法において，更にマスタホログラムの外気との界面にも，λ／４波長板を設けることが好ましい。
λ／４波長板を設けることにより，Ｐ偏光した参照光の表面反射光は，λ／４波長板を往復することになるからＳ偏光（電界方向が入射面に垂直）した光となる。その結果，上記マスタホログラムの界面での表面反射光（Ｓ偏光）と参照光（Ｐ偏光）との間で干渉縞を形成せずマスタホログラムの表面反射光によるゴーストホログラムも形成されなくなるからである。
【００２６】
あるいは，上記λ／４波長板に替えてマスタホログラムの界面（外気側）に光吸収膜を設けてもよい。
光吸収膜を設ければ，マスタホログラムを透過した参照光はマスタホログラムの界面で吸収される。その結果表面反射光は大幅に減少し，複製ホログラムにはマスタホログラムの表面反射光によるゴーストが形成されるのを抑制することができる。
【００２７】
【作用及び効果】
本発明の製造方法では，図７に示すように，ホログラムを形成する感光板８１の両側を第１，第２プリズム２５，２６が挟持する。
そして第１プリズム２５の頂角はψ１  であり，第２プリズム２６の頂角はψ２  である。
【００２８】
参照光３１は，第１プリズム２５から入射し，第１プリズム２５内を感光板８１に向かう参照光３１１の第１界面２５１における法線Ｎ１  との角度θ１  （屈折角θ１  ）とすると，感光板８１への入射角θ２  は，（θ１  ＋ψ１  ）である（第１プリズム２５の頂角を感光板の反対側部に配置した場合はψ１  を負とする）。
【００２９】
また，第２プリズム２６による第２界面２６１への入射角θ３  は，（θ２  ＋ψ２  ），即ち（θ１  ＋ψ１  ＋ψ２  ）である。
そして，第２プリズム２６における参照光３１１の表面反射光３３と参照光３１１とのなす角度ａは，２θ３  であるから，２（θ１  ＋ψ１  ＋ψ２  ）である（ａ＝２（θ１  ＋ψ１  ＋ψ２  ））。
【００３０】
そして，上記角度ａは，直角（π／２）に近いから，
（ψ１  ＋ψ２  ）≒π／４−θ１  ・・・・・・・（１）
である（なお，上記において≒は，近い値であることを示す）。
更に，参照光３１はＰ偏光である。
そして，上記のように感光板８１に向かう参照光３１１と表面反射光３３とは直角に近いから，両光３１１，３３の電界の方向は直角に近くなり，干渉縞はほとんど形成されない。即ち，参照光３１の第２プリズムでの表面反射光３３によるゴーストホログラムは，感光板８１に形成されない（第一の効果）。
なぜならば，２つのＰ偏光した光により干渉縞を形成した場合，両者の造る干渉縞のコントラスト（強度）は，両者の間の角度をΦとしたとき，ｃｏｓΦに比例するからである。
【００３１】
また，参照光３１１の感光板８１への入射角θ２  （＝ψ１  ＋θ１  ）は，通常２０°〜５０°の間にあるから，（１）式より頂角ψ２  は，−５〜２５°位であり，頂角ψ１  ，ψ２  は共に小さめの値に抑制することができる。
従って，プリズム２５，２６を設けても，製造スペースが大幅に増加するようなことはない（第二の効果）。
【００３２】
更に，第１発明の場合には第１プリズム２５の大気側の表面２５１に反射防止処理が施されており，一方，第２発明の場合には第１プリズム２５の表面２５１にλ／４波長板が設けられている。
そのため，物体光３２の第１プリズム２５の表面２５１での反射光３２２によるノイズの干渉縞（ゴーストホログラム）は，殆ど形成されることはない（第三の効果）。
即ち，第１発明の場合には，反射防止処理によって第１プリズム２５の表面２５１での反射が抑制され，第２発明の場合には，第１プリズム２５の表面２５１においてλ／４波長板を経て反射される反射光３２２はＳ偏光であるからＰ偏光である正規の物体光３２との間に干渉縞を形成しない。
【００３３】
なお，上記第１発明の反射防止処理の反射防止膜の分光特性は，撮影レーザ光波長及び撮影角度により決定する必要がある。さらに，偏光方向によっても分光特性が変化するため，Ｐ偏光として分光特性の撮影レーザ光の反射率を低減する必要がある。
【００３４】
上記のように，第１プリズムの表面での反射光によるノイズも，第２プリズムの表面での反射光によるノイズも全て抑制されるから良質のホログラムを得ることができる。
上記のように，本発明によれば，大気との界面での表面反射光によるゴーストホログラムの発生を抑制することができ，また大きな製造スペースを必要としないホログラムの製造方法を提供することができる。
【００３５】
【実施例】
実施例１
本例は，車両のヘッドアップディスプレイ４０（図２）などに用いられる凹面鏡の特性を有するホログラム４２（図２）を製造する例である。
本例は，図１に示すように，感光板８１の両側を頂角ψの第１プリズム２５と頂角ψの第２プリズム２６とによって挟持し，第１プリズム２５の側から参照光３１を，第２プリズム２６の側から物体光３２を感光板８１に照射し，感光板８１上に干渉縞を形成するホログラムの製造方法である。
【００３６】
参照光３１は，Ｐ偏光（電界の方向が入射面に平行）した直線偏光光であり，第１プリズム２５に入射して感光板８１に向かう正規の参照光３１１と，この参照光３１１が第２プリズム２６の大気側の表面２６１において反射した表面反射光３１２とのなす角度ａが直角となるように，上記頂角ψと参照光３１の入射角θとの間の関係が定められている。
そして物体光３２もＰ偏光した直線偏光光であり，また，第１プリズム２５の大気側の表面には，反射防止膜１４（又はλ／４波長板）が形成されている（なお，λ／４波長板の場合には，第１プリズム２５に入射する参照光３１は円偏光であり，λ／４波長板を透過してＰ偏光に変換される）。
【００３７】
ヘッドアップディスプレイ４０は，図２に示すように，表示器４１から放射された放射光３８を像拡大作用（凹面鏡特性）を有するホログラム４２で反射させ，この再生光３９をウインドシールド４３で再反射させ，表示像４５を観者４４に視認させるものである。上記ウインドシールド４３の表面には，反射膜などが蒸着され反射率を高めるようにしている。
そして，観者４４は，反射された上記再生光３９を視認し，ウインドシールド４３の前方に虚像としての表示像４５（例えばスピード表示等）を視認する。
本例は，上記ホログラム４２の製造方法であり，ホログラム４２には図４に示すような干渉縞５１が形成される。
【００３８】
図１において，参照光３１は，Ｐ偏光した発散光である。そして，第２プリズム２６の界面２６１で感光板８１側に反射する参照光３１の表面反射光３１２と，第１プリズム２５より入射して感光板８１に向かう参照光３１１との間の角度ａが，図３に示すように，直角となるよう，上記頂角ψと参照光３１１の入射角θとの関係を定めてある。
物体光３２は，Ｐ偏光した平行光である。また，第１プリズム２５の大気側の表面２５１には，撮影レーザ光の反射率が１％以下の反射防止膜（またはλ／４波長板）１４が形成されている。
【００３９】
感光板８１の両側には，屈折率調整液１２１，１２２を介してプリズム２５，２６が配置されている。
参照光３１は，Ｐ偏光した光であり，第１プリズム２５に入射角θで入射し，第１プリズム２５に屈折角θ１  （図７参照）で進入する。
【００４０】
そして，第１プリズム２５に進入した透過光３１１は感光板８１に入射角θ２  （＝θ１  ＋ψ）で入射し，第２プリズム２６の界面２６１に入射角θ３  （＝θ１  ＋２ψ）で入射する（図７参照）。
界面２６１で反射された表面反射光３１２は，反射角θ３  で感光板８１に向かって逆進する。
【００４１】
表面反射光３１２と参照光３１の透過光３１１との間の角度ａは，上記２θ３  に等しくその値はπ／２である。
ａ＝２θ３  ＝２（θ１  ＋２ψ）＝π／２・・・・・・・（３）
従って，
ψ＝π／８−θ１  ／２・・・・・・・（４）
である。
【００４２】
表面反射光３１２と参照光３１の透過光３１１との角度は直角であり，またＰ偏光した光であるから，感光板８１に両光３１１，１１２による干渉縞は形成されない。
即ち，表面反射光３１２によるゴーストホログラムは，感光板８１に形成されない。
【００４３】
また，本例では第１プリズム２５の大気側の表面２５１に反射防止膜（またはλ／４波長板）１４が形成されている。そのため，物体光３２の表面２５１での反射光３２０によるゴーストホログラムは感光板８１に形成されない。何故ならば，反射防止膜を設けた場合には，反射光３２０が生ぜず，一方λ／４波長板の場合には，偏光方向の差によって物体光３２（Ｐ偏光）と反射光３２０（Ｓ偏光）との間に干渉縞が形成されないからであ。
【００４４】
次に本例における第２プリズム２６の大きさを，従来の第２方法（図１０）におけるプリズムと比較する。
図１０に示すプリズム９６１の頂角をαとすると，図１０に示すように，表面反射光３１２が感光板８１に入射しないようにするための条件は，（２θ３  ＋２α）がπ以上となることである。
２θ３  ＋２α≧π・・・・・・・（５）
【００４５】
そして，図１０においてθ３  ＝θ１  ＋ψ＋αであり，図１のψは（４）式で示されるから，
α≧３／１６π−θ１  ／４・・・・・・・（６）
である。
従って，
α−ψ≧π／１６＋θ１  ／４・・・・・・（７）
即ち，α＞ψとなり，従来の第２方法におけるプリズム９６１より，本例の第２プリズム２６はより小形化することができる。
【００４６】
上記の製造方法により製造されたホログラム４２には，凹面鏡の特性を示す図４に示すような正規の干渉縞５１が形成されている。
一方，第１，第２プリズム２５，２６の表面反射光３２０，３１２によつて形成されるゴーストホログラムは，平面鏡の特性を有しており，図４に示すようなノイズ干渉縞５２，５３が形成されている。しかしながら，表面反射光３２０による第１のノイズ干渉縞５２と表面反射光３１２による第２のノイズ干渉縞５３の間にある大きな違いは，第１のノイズ干渉縞５２の法線（光軸）Ｎ１  方向が正規の干渉縞５１と同一であるのに対して，第２のノイズ干渉縞５３の法線（光軸）Ｎ２  方向は正規の干渉縞５１のそれに対して角度２ψだけ大きくずれていることである。
【００４７】
その結果，図５の如くヘッドアップディスプレイとして用いた場合に，第２のノイズ干渉縞５３によるノイズ像６４は正規の像６１（本例では立方体像）に対して角度２ψの２倍の角度４ψだけずれるため，観者４４の視域内に同時には観察されず，影響度は小さい。
それに対して，第１のノイズ干渉縞５２の場合には，正規の干渉縞５１と同一方向に形成されるため，図５に示すように，正規の像６１に重なった極めて有害なノイズ像６２，６３を形成する。
【００４８】
即ち，干渉縞５２において単純反射されたノイズ像６２は平面鏡を経た拡大されない小像として，干渉縞５２と正規の干渉縞５１の多重反射したノイズ像６３は一段と拡大された大きな像として，正規な像６１に重ね合わされることとなる。
ところが，本例のホログラムの製造方法においては，第１プリズム２５の大気側の表面に反射防止膜１４（又はλ／４波長板）を設けて上記第１干渉縞５２が形成されないようにしており，上記のような悪質なノイズ像６２，６３は形成されない。
従って，表示特性の良好なヘッドアップディスプレイ４０を得ることができる。
上記のように，本例によれば，参照光の表面反射光によるゴーストホログラムの発生を抑制することができ，かつ製造スペースの増加を招くようなことがないホログラムの製造方法を提供することができる。
【００４９】
実施例２
本例は，実施例１の製造方法により製造したホログラムをマスタホログラムとして複製ホログラムを製造するもう１つの実施例である。
本例は，図１に示したホログラムの製造方法により製造されたホログラムをマスタホログラム８３として，図６に示すように，前記第１プリズム２５（図１）と同一頂角ψを有する複製用プリズム２７を用い，プリズム２７の頂角を形成する第１の面２７１に複製用感光板８２を配置し，頂角を形成する第２の面２７２にマスタホログラム８３を配置する。
【００５０】
そして，複製用プリズム２７の第１面２７１側から，図６に示すようにマスタホログラム８３を製造したのと同一参照光３１（Ｐ偏光，あるいはＳ偏光いづれでも可能。但し複製時の表面反射ノイズを抑制する効果の点からＰ偏光が好ましい）を図１と同一の角度から照射し，この参照光３１をマスタホログラム８３で反射させた再生光３４と上記参照光３１とにより複製用感光板８２に干渉縞を形成するホログラムの製造方法である。
【００５１】
そして，上記マスタホログラム８３の界面８３１には，界面８３１における表面反射光３３３を抑制するために光吸収膜（又は無反射コートガラス）１５を配置してある。
また，プリズム２７と感光板８２及びマスタホログラム８３との間，並びにマスタホログラム８３と光吸収膜（又は無反射コートガラス）１５との間には，屈折率調整液１２１，１２２，１２３を介在させてある。
【００５２】
そして，図１と同様の参照光３１を照射するから，マスタホログラム８３の再生光３４は，図１に示す物体光３２と全く同様の再生光３４となる。
従って，図６には図１に示す製造条件とほぼ同一の製造条件が再現され，複製用感光板８２には，ゴーストホログラムの少ないマスタホログラム８３と同様のホログラムが形成される。
【００５３】
そして，光学吸収膜１５により表面反射光３３３は吸収されるから，表面反射光３３３によるゴーストホログラムを抑制することができる。
また，複製用プリズム２７は，第１又は第２プリズム２５，２６をそのまま使用することができるばかりでなく，参照光３１を照射する光学系もそっくり利用できるから，マスタホログラムの製造と複製ホログラムの製造との間には，多くの設備を共用することができる。従って，設備の利用効率が高い。
【００５４】
また，製造条件の同一性が確実に担保され，良好な複製ホログラムを得ることができる。
また，マスタホログラムを複製するから製造スペースも小さくて済む（図６に示す構成は図１，図１０，図１１に比較して大幅に省スペースである）。
上記のように，本例によれば，少ない製造スペースにおいて，マスタホログラムから極めて同一性の高い良質の複製ホログラムを製造することができる。
【００５５】
実施例３
本例は，実施例２（図６）において，マスタホログラム８３の界面８３１には，光吸収膜１５に替えてλ／４波長板を配置したもう１つの実施例である。
本例は実施例４と同様に参照光３１はＰ偏光した光であり，図６において，光吸収膜１５の代わりにλ／４波長板を設けてある。従って，表面反射光３３３はλ／４波長板を往復してＳ偏光した光となる。
【００５６】
それ故，表面反射光３３３は，Ｐ偏光である参照光３１との間に干渉膜を形成しない。
従って，表面反射光３３３によるゴーストホログラムは，複製用感光板８２に形成されない。その他については，実施例２と同様である。
【図面の簡単な説明】
【図１】実施例１のホログラムの製造方法のシステム構成図（２光束法）。
【図２】実施例１のホログラムの製造方法により得られたホログラムを用いたヘッドアップディスプレイのシステム構成図。
【図３】図１のＡ矢視部拡大図。
【図４】実施例１のホログラムの製造方法により得られるホログラムの干渉縞の模式図。
【図５】図４に示す干渉縞５１，５２，５３によってヘッドアップディスプレイに形成される像の模式図。
【図６】実施例２のホログラムの製造方法のシステム構成図（１光束法）。
【図７】本発明にかかるホログラム製造方法のシステム構成図。
【図８】従来のホログラムの製造方法の説明図。
【図９】図８の方法により製造されたゴーストホログラムの例。
【図１０】従来の改良されたホログラムの製造方法（第２方法）。
【図１１】従来の改良されたホログラムの製造方法（第１方法）。
【図１２】従来の改良されたホログラムの製造方法（他の第２方法）。
【符号の説明】
１４．．．反射防止膜（λ／４波長板）
２５．．．第１プリズム
２６．．．第２プリズム
３１，３１１，３１２．．．参照光
３２．．．物体光
８１．．．感光板
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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