(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
一対の可撓性支持体を用意し、
各可撓性支持体の少なくとも片面にポリシラザン塗工液を塗布してポリシラザン塗膜を形成し、次いで、ポリシラザン塗膜が設けられた可撓性支持体をロールに巻き取った状態において、このポリシラザン塗膜を大気中で焼成してアモルファスＳｉＯx 層を形成する、あるいは別途用意した基板上にポリシラザン塗工液を塗布してポリシラザン塗膜を形成し、このポリシラザン塗膜を大気中で焼成することにより得られたアモルファスＳｉＯx層を各可撓性支持体の表面に転写することにより各可撓性支持体上にアモルファスＳｉＯx 層を形成し、
その後、各可撓性支持体における片側の前記アモルファスＳｉＯx 層上に直接にまたはアンカーコート層を介して透明導電膜層を形成してから配向処理を行ない、しかる後、各可撓性支持体を前記透明導電膜層同士が対向する状態で配設し、この一対の可撓性支持体間に液晶材料を注入し封止することを特徴とするプラスチック基板液晶表示素子の製造方法。
【請求項２】
一対の可撓性支持体を用意し、
各可撓性支持体の少なくとも片面に有機系材料からなるハードコート層を形成し、次いで、
このハードコート層の表面または各可撓性支持体の表面にポリシラザン塗工液を塗布してポリシラザン塗膜を形成し、次いで、ポリシラザン塗膜が設けられた可撓性支持体をロールに巻き取った状態において、このポリシラザン塗膜を大気中で焼成してアモルファスＳｉＯx 層を形成する、あるいは別途用意した基板上にポリシラザン塗工液を塗布してポリシラザン塗膜を形成し、このポリシラザン塗膜を大気中で焼成することにより得られたアモルファスＳｉＯx層を前記ハードコート層の表面または各可撓性支持体の表面に転写することにより前記ハードコート層の表面または各可撓性支持体上にアモルファスＳｉＯx 層を形成し、
その後、各可撓性支持体における片側の前記アモルファスＳｉＯx 層上に直接にまたはアンカーコート層を介して透明導電膜層を形成してから配向処理を行ない、しかる後、各可撓性支持体を前記透明導電膜層同士が対向する状態で配設し、この一対の可撓性支持体間に液晶材料を注入し封止することを特徴とするプラスチック基板液晶表示素子の製造方法。
【請求項３】
一対の可撓性支持体を用意し、
各可撓性支持体の少なくとも片面にポリシラザン塗工液を塗布してポリシラザン塗膜を形成し、次いで、次いで、ポリシラザン塗膜が設けられた可撓性支持体をロールに巻き取った状態において、このポリシラザン塗膜を大気中で焼成してアモルファスＳｉＯx 層を形成する、あるいは別途用意した基板上にポリシラザン塗工液を塗布してポリシラザン塗膜を形成し、このポリシラザン塗膜を大気中で焼成することにより得られたアモルファスＳｉＯx層を各可撓性支持体の表面に転写することにより各可撓性支持体上にアモルファスＳｉＯx 層を形成し、
その後、該アモルファスＳｉＯx 層の表面または各可撓性支持体の表面に有機系材料からなるハードコート層を設け、その後、該ハードコート層の表面または前記アモルファスＳｉＯx 層の表面に直接にまたはアンカーコート層を介して透明導電膜層を形成してから配向処理を行ない、しかる後、各可撓性支持体を前記透明導電膜層同士が対向する状態で配設し、この一対の可撓性支持体間に液晶材料を注入し封止することを特徴とするプラスチック基板液晶表示素子の製造方法。
【請求項４】
それぞれの片側に透明導電膜層が配設されているとともにそれぞれ配向処理がなされている一対の可撓性支持体が前記透明導電膜層同士を対向させた状態で配設され、この一対の可撓性支持体間に液晶材料が挟持されてなるプラスチック基板液晶表示素子であって、各可撓性支持体の少なくとも片面にポリシラザンを大気中で焼成してなるアモルファスＳｉＯx 層が形成され、さらに各可撓性支持体における片面側の前記アモルファスＳｉＯx 層上に直接にまたはアンカーコート層を介して透明導電膜層が配設されており、
前記アモルファスＳｉＯx 層は、ポリシラザン塗膜が設けられた可撓性支持体をロールに巻き取った状態において、このポリシラザン塗膜を大気中で焼成して形成されたもの、あるいは別途用意した基板上にポリシラザン塗工液を塗布してポリシラザン塗膜を形成し、このポリシラザン塗膜を大気中で焼成することにより得られたアモルファスＳｉＯx層を各可撓性支持体の表面に転写することにより各可撓性支持体上に形成されたものである、
ことを特徴とするプラスチック基板液晶表示素子。
【請求項５】
それぞれの片側に透明導電膜層同士が配設されているとともにそれぞれ配向処理がなされている一対の可撓性支持体が前記透明導電膜層同士を対向させた状態で配設され、この一対の可撓性支持体間に液晶材料が挟持されてなるプラスチック基板液晶表示素子であって、各可撓性支持体の少なくとも片面に有機系材料からなるハードコート層が形成され、該ハードコート層の表面または各可撓性支持体の表面にポリシラザンを大気中で焼成してなるアモルファスＳｉＯx 層が形成され、さらに各可撓性支持体における片面側の前記アモルファスＳｉＯx 層上に直接にまたはアンカーコート層を介して透明導電膜層が配設されており、
前記アモルファスＳｉＯx 層は、ポリシラザン塗膜が設けられた可撓性支持体をロールに巻き取った状態において、このポリシラザン塗膜を大気中で焼成して形成されたもの、あるいは別途用意した基板上にポリシラザン塗工液を塗布してポリシラザン塗膜を形成し、このポリシラザン塗膜を大気中で焼成することにより得られたアモルファスＳｉＯx層を前記ハードコート層の表面または各可撓性支持体の表面に転写することにより各可撓性支持体上に形成されたものである、
ことを特徴とするプラスチック基板液晶表示素子。
【請求項６】
それぞれの片側に透明導電膜層が配設されているとともにそれぞれ配向処理がなされている一対の可撓性支持体が前記透明導電膜層同士を対向させた状態で配設され、この一対の可撓性支持体間に液晶材料が挟持されてなるプラスチック基板液晶表示素子であって、各可撓性支持体の少なくとも片面にポリシラザンを大気中で焼成してなるアモルファスＳｉＯx 層が形成され、該アモルファスＳｉＯx 層の表面または各可撓性支持体の表面に有機系材料からなるハードコート層が形成され、さらに該ハードコート層の表面または前記アモルファスＳｉＯx 層の表面に直接にまたはアンカーコート層を介して透明導電膜層が配設されており、
前記アモルファスＳｉＯx 層は、ポリシラザン塗膜が設けられた可撓性支持体をロールに巻き取った状態において、このポリシラザン塗膜を大気中で焼成して形成されたもの、あるいは別途用意した基板上にポリシラザン塗工液を塗布してポリシラザン塗膜を形成し、このポリシラザン塗膜を大気中で焼成することにより得られたアモルファスＳｉＯx層を各可撓性支持体の表面に転写することにより各可撓性支持体上に形成されたものである、ことを特徴とするプラスチック基板液晶表示素子。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】
本発明はプラスチック基板液晶表示素子に関し、特に表示用ディスプレイ等に使用されるプラスチック基板を用いた液晶表示素子に関する。
【０００２】
【従来の技術】
基板にプラスチックを用いたプラスチック基板液晶表示素子は、ガラス基板を用いた液晶表示素子に比較して軽量であるとともに可撓性を具え基板が破損しにくい等の利点を有することから、種々の用途への応用が期待されている。
【０００３】
このプラスチック基板液晶表示素子の構成としては、偏向板側から液晶材料側の順に、例えば、ハードコート層／ガスバリア層／光等方性プラスチック／ガスバリア層／アンカーコート層／ＩＴＯ膜層からなる一対の積層体をＩＴＯ膜層同士が対向する状態で配設し、この積層体間に液晶材料を注入し封止してなるものが知られている。このように、すなわち、従来のプラスチック基板液晶表示素子においては、ガラス基板に比較してバリア性の点で劣るプラスチック基板にバリア性を付与すべく、プラスチック基板上にガスバリア層を積層するのが一般的である。
【０００４】
しかも、このガスバリア層の形成材料に広く用いられているポリビニルアルコール（ＰＶＡ）やエチレンビニルアルコール共重合体（ＥＶＯＨ）は、いずれも耐湿性及び耐熱性に乏しく、また表面が柔らかいため、従来のプラスチック基板液晶表示素子においては、ガスバリア層の表面にハードコート層が設けられているのが一般的である。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、従来のプラスチック基板液晶表示素子においては、上述の通り、プラスチック基板上にガスバリア層を設け、さらにこのガスバリア層上にハードコート層を設ける必要があるため、製造工程が複雑であり、製造効率に改善の余地があるという問題がある。
【０００６】
また、従来のプラスチック基板液晶表示素子を構成するガスバリア層は、上述の通り、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）やエチレンビニルアルコール共重合体（ＥＶＯＨ）により形成されているのであるが、このような材料からなるガスバリア層はガスバリア性には優れているものの例えばイオン等の不純物に対するバリア性は期待できないという欠点がある。
【０００７】
本発明はかかる事情に基づいてなされたものであり、本発明の目的は、簡略化された工程で効率良くプラスチック基板液晶表示素子を得ることができるプラスチック基板液晶表示素子の製造方法およびその製造方法を好適に採用して製造される簡易な構造のプラスチック基板液晶表示素子を提供することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
上記の目的を達成するために本発明のプラスチック基板液晶表示素子の製造方法は、
一対の可撓性支持体を用意し、各可撓性支持体の少なくとも片面にポリシラザン塗工液を塗布してポリシラザン塗膜を形成し、次いで、このポリシラザン塗膜を大気中で焼成してアモルファスＳｉＯｘ  層を形成し、その後、各可撓性支持体における片側の前記アモルファスＳｉＯｘ  層上に直接にまたはアンカーコート層を介して透明導電膜層を形成してから配向処理を行ない、しかる後、各可撓性支持体を前記透明導電膜層同士が対向する状態で配設し、この一対の可撓性支持体間に液晶材料を注入し封止する構成とし、
一対の可撓性支持体を用意し、各可撓性支持体の少なくとも片面に有機系材料からなるハードコート層を形成し、次いで、このハードコート層の表面または各可撓性支持体の表面にポリシラザン塗工液を塗布してポリシラザン塗膜を形成し、次いで、このポリシラザン塗膜を大気中で焼成してアモルファスＳｉＯｘ  層を形成し、その後、各可撓性支持体における片側の前記アモルファスＳｉＯｘ  層上に直接にまたはアンカーコート層を介して透明導電膜層を形成してから配向処理を行ない、しかる後、各可撓性支持体を前記透明導電膜層同士が対向する状態で配設し、この一対の可撓性支持体間に液晶材料を注入し封止する構成とし、
一対の可撓性支持体を用意し、各可撓性支持体の少なくとも片面にポリシラザン塗工液を塗布してポリシラザン塗膜を形成し、次いで、このポリシラザン塗膜を大気中で焼成してアモルファスＳｉＯｘ  層を形成し、その後、該アモルファスＳｉＯｘ  層の表面または各可撓性支持体の表面に有機系材料からなるハードコート層を設け、その後、該ハードコート層の表面または前記アモルファスＳｉＯｘ  層の表面に直接にまたはアンカーコート層を介して透明導電膜層を形成してから配向処理を行ない、しかる後、各可撓性支持体を前記透明導電膜層同士が対向する状態で配設し、この一対の可撓性支持体間に液晶材料を注入し封止する構成とした。
【０００９】
また、上記の目的を達成するために、本発明のプラスチック基板液晶表示素子は、
それぞれの片側に透明導電膜層が配設されているとともにそれぞれ配向処理がなされている一対の可撓性支持体が前記透明導電膜層同士を対向させた状態で配設され、この一対の可撓性支持体間に液晶材料が挟持されてなるプラスチック基板液晶表示素子であって、各可撓性支持体の少なくとも片面にポリシラザンを大気中で焼成してなるアモルファスＳｉＯｘ  層が形成され、さらに各可撓性支持体における片面側の前記アモルファスＳｉＯｘ  層上に直接にまたはアンカーコート層を介して透明導電膜層が配設されている構成とし、
それぞれの片側に透明導電膜層同士が配設されているとともにそれぞれ配向処理がなされている一対の可撓性支持体が前記透明導電膜層同士を対向させた状態で配設され、この一対の可撓性支持体間に液晶材料が挟持されてなるプラスチック基板液晶表示素子であって、各可撓性支持体の少なくとも片面に有機系材料からなるハードコート層が形成され、該ハードコート層の表面または各可撓性支持体の表面にポリシラザンを大気中で焼成してなるアモルファスＳｉＯｘ  層が形成され、さらに各可撓性支持体における片面側の前記アモルファスＳｉＯｘ  層上に直接にまたはアンカーコート層を介して透明導電膜層が配設されている構成とし、  それぞれの片側に透明導電膜層が配設されているとともにそれぞれ配向処理がなされている一対の可撓性支持体が前記透明導電膜層同士を対向させた状態で配設され、この一対の可撓性支持体間に液晶材料が挟持されてなるプラスチック基板液晶表示素子であって、各可撓性支持体の少なくとも片面にポリシラザンを大気中で焼成してなるアモルファスＳｉＯｘ  層が形成され、該アモルファスＳｉＯｘ  層の表面または各可撓性支持体の表面に有機系材料からなるハードコート層が形成され、さらに該ハードコート層の表面または前記アモルファスＳｉＯｘ  層の表面に直接にまたはアンカーコート層を介して透明導電膜層が配設されている構成とした。
【００１０】
【作用】
本発明のプラスチック液晶表示素子の製造方法においては、先ず、一対の可撓性支持体を用意する。次いで、各可撓性支持体の少なくとも片面にポリシラザン塗工液を塗布してポリシラザン塗膜を形成し、このポリシラザン塗膜を大気中で焼成する。これによりポリシラザンは熱分解し、アモルファスＳｉＯｘ  に転化する。このようにして形成されるアモルファスＳｉＯｘ  は極めて優れたガスバリア性を有し、またイオン等の不純物に対するバリア性にも優れるのみならず、耐溶剤性、絶縁性、耐熱性、耐湿性、耐酸耐アルカリ性、耐酸化性および高表面硬度（ハードコート性）を有している。したがって、本発明のプラスチック液晶表示素子の製造方法によれば、各可撓性支持体の少なくとも片面にポリシラザン塗工液を塗布してポリシラザン塗膜を形成し、しかる後、このポリシラザン塗膜を大気中で焼成するだけで、従来のプラスチック基板液晶表示素子におけるガスバリア層とハードコート層との機能を併せもつアモルファスＳｉＯｘ  層が可撓性支持体上に形成される。それ故、このアモルファスＳｉＯｘ  層上に直接にあるいはアンカーコート層を介して透明導電膜層を形成し、さらに配向処理を行なってから透明導電膜層同士が対向するように配設された一対の可撓性支持体間に液晶材料を注入し封止することにより、ガスバリア性、耐湿性および耐熱性に優れ、安定した性能を発揮するプラスチック基板液晶表示素子を簡略化された工程で効率良く製造することができる。
【００１１】
また、本発明のプラスチック基板液晶表示素子の製造方法においては、一対の可撓性支持体のそれぞれの少なくとも片面に有機系材料からなるハードコート層を形成する。次いで、このハードコート層の表面あるいは各可撓性支持体の表面にポリシラザン塗工液を塗布してポリシラザン塗膜を形成した後、このポリシラザン塗膜を大気中で焼成してアモルファスＳｉＯｘ  層を形成する。したがって、この製造方法によれば、極めて優れたガスバリア性を有し、またイオン等の不純物に対するバリア性にも優れるのみならず、耐溶剤性、絶縁性、耐熱性、耐湿性、耐酸耐アルカリ性、耐酸化性および高表面硬度（ハードコート性）を有するアモルファスＳｉＯｘ  層と高い表面硬度を有するハードコート層とが透過性支持体上に積層されることになる。それ故、このアモルファスＳｉＯｘ  層上に直接にあるいはアンカーコート層を介して透明導電膜層を形成し、さらに配向処理を行なってから透明導電膜層同士が対向するように配設された一対の可撓性支持体間に液晶材料を注入し封止することにより、極めて優れたガスバリア性を有するのみならず、イオン等の不純物に対するバリア性にも優れるとともに、耐溶剤性、絶縁性、耐熱性、耐湿性、耐酸耐アルカリ性および耐酸化性を有し、しかも表面硬度がさらに向上していて安定した性能を発揮するプラスチック基板液晶表示素子を簡略化された工程で効率良く製造することができる。
【００１２】
さらに、本発明のプラスチック基板液晶表示素子の製造方法においては、一対の可撓性支持体を用意し、各可撓性支持体の少なくとも片面にポリシラザン塗工液を塗布してポリシラザン塗膜を形成し、次いで、このポリシラザン塗膜を大気中で焼成してアモルファスＳｉＯｘ  層を形成する。このようにして形成されるアモルファスＳｉＯｘ  は極めて優れたガスバリア性を有し、またイオン等の不純物に対するバリア性にも優れるのみならず、耐溶剤性、絶縁性、耐酸耐アルカリ性、耐熱性、耐湿性、耐酸化性および高表面硬度（ハードコート性）を有している。したがって、このような特性を有するアモルファスＳｉＯｘ  層の表面または各可撓性支持体の表面に有機系材料からなるハードコート層を設け、その後、該ハードコート層の表面またはアモルファスＳｉＯｘ  層の表面に直接にまたはアンカーコート層を介して透明導電膜層を形成してから配向処理を行ない、しかる後、各可撓性支持体を前記透明導電膜層同士が対向する状態で配設し、この一対の可撓性支持体間に液晶材料を注入し封止すれば、極めて優れたガスバリア性を有するのみならず、イオン等の不純物に対するバリア性にも優れるとともに、耐溶剤性、絶縁性、耐熱性、耐湿性、耐酸耐アルカリ性および耐酸化性を有し、しかも表面硬度がさらに向上していて安定した性能を発揮するプラスチック基板液晶表示素子を簡略化された工程で効率良く製造することができる。
【００１３】
一方、本発明のプラスチック基板液晶表示素子は、それぞれが配向処理されているとともにそれぞれの片側に透明導電膜層が配設された一対の可撓性支持体が透明導電膜層同士を対向させた状態で配設され、この一対の可撓性支持体間に液晶が挟持されてなるプラスチック基板液晶表示素子であって、各可撓性支持体の少なくとも片面にポリシラザンを大気中で焼成してなるアモルファスＳｉＯｘ  層が形成され、さらに各可撓性支持体における片面側の前記アモルファスＳｉＯｘ  層上に直接にまたはアンカーコート層を介して透明導電膜層が配設されてなるものである。ここで、アモルファスＳｉＯｘ  層は可撓性支持体上にポリシラザン塗工液を塗布して形成されるポリシラザン塗膜を大気中で焼成することにより形成され、このアモルファスＳｉＯｘ  は極めて優れたガスバリア性を有し、またイオン等の不純物に対するバリア性にも優れるのみならず、耐溶剤性、絶縁性、耐酸耐アルカリ性、耐熱性、耐酸化性および高表面硬度（ハードコート性）を有している。したがって、このプラスチック基板液晶表示素子においては、従来のプラスチック基板液晶表示素子におけるようにガスバリア層とハードコート層とを別個に設けなくてもガスバリア性、耐熱性等に優れているとともに高い表面硬度を有していて安定した性能が発揮される。
【００１４】
また、本発明のプラスチック基板液晶表示素子は、それぞれが配向処理されているとともにそれぞれの片側に透明導電膜層が配設された一対の可撓性支持体が透明導電膜層同士を対向させた状態で配設され、この一対の可撓性支持体間に液晶材料が挟持されてなり、各可撓性支持体の少なくとも片面に有機系材料からなるハードコート層が形成され、該ハードコート層の表面または各可撓性支持体の表面にポリシラザンを大気中で焼成してなるアモルファスＳｉＯｘ  層が形成され、さらに各可撓性支持体における片面側の前記アモルファスＳｉＯｘ  層上に直接にまたはアンカーコート層を介して透明導電膜層が配設されてなるものである。したがって、このプラスチック基板液晶表示素子においては、可撓性基板上に、極めて優れたガスバリア性を有し、またイオン等の不純物に対するバリア性にも優れるのみならず、耐溶剤性、絶縁性、耐熱性、耐湿性、耐酸耐アルカリ性、耐酸化性および高表面硬度（ハードコート性）を有しているアモルファスＳｉＯｘ  層と表面硬度の高いハードコート層とを有することになる。それ故、このプラスチック基板液晶表示素子は一段と安定した性能を発揮する。
【００１５】
さらに、本発明のプラスチック基板液晶表示素子は、それぞれが配向処理されているとともにそれぞれの片側に透明導電膜層が配設された一対の可撓性支持体が透明導電膜層同士を対向させた状態で配設され、この一対の可撓性支持体間に液晶材料が挟持されてなり、各可撓性支持体の少なくとも片面にポリシラザンを大気中で焼成してなるアモルファスＳｉＯｘ  層が形成され、該アモルファスＳｉＯｘ  層の表面または各可撓性支持体の表面に有機系材料からなるハードコート層が形成され、さらにこのハードコート層の表面またはアモルファスＳｉＯｘ  層の表面に直接にまたはアンカーコート層を介して透明導電膜層が配設されてなるものである。したがって、このプラスチック基板液晶表示素子においても、可撓性基板上に、極めて優れたガスバリア性を有し、またイオン等の不純物に対するバリア性にも優れるのみならず、耐溶剤性、絶縁性、耐熱性、耐湿性、耐酸耐アルカリ性、耐酸化性および高表面硬度（ハードコート性）を有しているアモルファスＳｉＯｘ  層と表面硬度の高いハードコート層とを有することになる。それ故、このプラスチック基板液晶表示素子は一段と安定した性能を発揮する。
【００１６】
【実施例】
次に本発明の実施例を示し、本発明のプラスチック基板液晶表示素子の製造方法およびプラスチック基板液晶表示素子について併せて説明する。
【００１７】
図１は本実施例のプラスチック基板液晶表示素子の層構成を模式的に示す説明図である。
図１に示すように、このプラスチック基板液晶表示素子は、一対の可撓性支持体１，１′を有し、それぞれの可撓性支持体１，１′の少なくとも片面には、ポリシラザンを大気中で焼成してなるアモルファスＳｉＯｘ  層２が形成され、さらに各可撓性支持体１，１′における片面側のアモルファスＳｉＯｘ  層２上には直接にあるいはアンカーコート層（図示せず）を介して透明導電膜層３が形成されている。
【００１８】
そして、これら一対の可撓性支持体１，１′は、それぞれの透明導電膜層３同士が対向する状態で配設され、一方の可撓性支持体１と他方の可撓性支持体１′との間には液晶材料４が注入され封止されている。すなわち、液晶材料４は可撓性支持体１，１′により挟持されている。
【００１９】
可撓性支持体１，１′の形成材料としては、光学特性、耐熱性、寸法安定性、耐溶剤性、電気絶縁性、加工性等に優れたプラスチックが好適に用いられる。具体的には、例えばポリエステル樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリカーボネート樹脂などが挙げられる。これらの樹脂は、通常、フィルムまたはシートの形態で使用に供される。
【００２０】
可撓性支持体１，１′の厚さは、通常、５０〜８００μｍ程度であり、好ましくは１００〜４００μｍ程度である。
各可撓性支持体１，１′における少なくとも片面にはアモルファスＳｉＯｘ  層２が形成されている。
【００２１】
このアモルファスＳｉＯｘ  層２は、各可撓性支持体１，１′の少なくとも片面にポリシラザン塗工液を塗布してなるポリシラザン塗膜を大気中で焼成することにより形成されている。
【００２２】
ここで、ポリシラザンとしては、次の構造式（１）で示されるペルヒドロポリシラザン〔（ＳｉＮａ  Ｈｂ  ）ｎ  ：ただし、ａ＝１〜３，ｂ＝０または１であり、ｎは正の整数である〕が挙げられる。
【００２３】
【化１】
0003585546.tif 000002
このペルヒドロポリシラザンは主鎖の（−Ｓｉ−Ｎ−）構造に側鎖として水素のみが結合しているものであり、不活性雰囲気中での熱分解では窒化けい素のアモルファス状態のセラミックスに転化し、大気中での熱分解では窒化けい素系のアモルファス状態のセラミックスに転化する。特に、大気中での熱分解では、大気及び大気中の水分から酸素を取り込むため、全体の収率としてはほぼ１００％のまま酸化けい素となる。一方、不活性雰囲気中、例えば窒素ガス中での熱分解では、セラミックス収率は約９３％である。
【００２４】
ポリシラザン塗膜の形成に用いられるポリシラザン塗工液は、分子量（Ｍｎ  ）６００〜９００のペルヒドロポリシラザン〔（ＳｉＮａ  Ｈｂ  ）ｎ  ：ただし、ａ＝１〜３，ｂ＝０または１であり、ｎは正の整数である〕を芳香族炭化水素系の溶剤に溶解してなるものである。
【００２５】
このようなポリシラザン塗工液の塗布方法としては、たとえばグラビアリバース法、マイクログラビア法、グラビアダイレクト法、ダイコート法、ディップコート法、スリットリバース法、３本リバース法、ロールコート法などが挙げられる。
【００２６】
なお、ポリシラザン塗工液の塗布は１回に限らず、多数回重ね塗りしてもよい。  多数回重ね塗りすることにより、ピンホール等の塗膜欠陥を埋めることができ、このポリシラザン塗膜を大気中で焼成して得られるアモルファスＳｉＯｘ  層２のガスバリア性等の特性を安定させることができる。
【００２７】
ポリシラザン塗膜の厚さは、通常、０．０５〜１５μｍ程度であり、好ましくは０．１〜５μｍ程度である。この厚さが０．０５μｍ未満であると、ピンホール等の塗膜欠陥が発生し易くなるとともに、そのようなポリシラザン塗膜を大気中で焼成して得られるアモルファスＳｉＯｘ  層２の厚さが充分ではなくなり、必要なガスバリア性が得られないことがある。一方、ポリシラザン塗膜の厚さが１５μｍを超えると、このポリシラザン塗膜を大気中で焼成して形成されるアモルファスＳｉＯｘ  層２にクラックが入りやすくなることがある。
【００２８】
ポリシラザン塗膜の焼成は、具体的には、次のようにして行なう。
すなわち、先ず、それぞれがフィルム状またはシート状の可撓性支持体１，１′に前述のポリシラザン塗工液を所定の厚さで塗布してなるポリシラザン塗膜を乾燥させて該塗膜を固体化する。
【００２９】
このときの乾燥温度は、通常、６０〜２００℃程度である。
次に、固体化したポリシラザン塗膜を大気中で焼成する。
焼成は、ポリシラザン塗膜が設けられたフィルム状またはシート状の可撓性支持体１，１′をロールに巻き取った状態で行なう。
【００３０】
焼成温度は、通常、６０〜４００℃の範囲であり、焼成時間は、通常、１分間〜４８時間である。
このようにして形成されるアモルファスＳｉＯｘ  層２の厚さは、通常、０．０５〜１５μｍであり、好ましくは０．１〜５μｍである。この厚さが０．０５μｍ未満であると、アモルファスＳｉＯｘ  層２が具備すべき充分なガスバリア性が得られないことがある。一方、この厚さが１５μｍを超えると、そのようなアモルファスＳｉＯｘ  層２はクラックが入りやすいものとなる。
【００３１】
なお、アモルファスＳｉＯｘ  層２は各可撓性支持体１，１′の表面に直接形成してもよいし、適当なアンカーコート層を介して各可撓性支持体１，１′上に形成してもよい。
【００３２】
また、アモルファスＳｉＯｘ  層２は、表面平滑性の優れたプラスチック基板上にポリシラザン塗工液を塗布してポリシラザン塗膜を形成し、このポリシラザン塗膜を前述のようにして大気中で焼成することにより得られたものを各可撓性支持体１，１′の表面に転写することにより形成してもよい。このようにして形成されるアモルファスＳｉＯｘ  層２は表面平滑性に極めて優れたものとなる。さらに、この転写法によれば、可撓性支持体１，１′が耐溶剤性あるいは加熱下の張力に弱い形成材料からなる場合にもそのような可撓性支持体１，１′上にアモルファスＳｉＯｘ  層２を形成することができる。
【００３３】
アモルファスＳｉＯｘ  層２は各可撓性支持体１，１′の片面または両面に設けられるが、アモルファスＳｉＯｘ  層２が各可撓性支持体１，１′の片面に設けられる場合にはそのアモルファスＳｉＯｘ  層２上に、あるいはアモルファスＳｉＯｘ  層２が各可撓性支持体１，１′の両面に設けられる場合には一方の面のアモルファスＳｉＯｘ  層２上に直接にまたはアンカーコート層を介して透明導電膜層３が形成されている。
【００３４】
アンカーコート層を設ける場合、アンカーコート剤としては、例えばエポキシ系樹脂、アクリル系樹脂、シリコーン系樹脂などが挙げられる。
透明導電膜層３としては、インジウム酸化錫膜（ＩＴＯ膜）が好適に用いられる。
【００３５】
このＩＴＯ膜は、例えばスパッタ法を好適に採用して成膜され、所望のパターンの形成にはフォトリソグラフ法が好適に採用される。
例えばＩＴＯ膜からなる透明導電膜層３の厚さは、通常、１００〜１，０００オングストローム程度である。
【００３６】
この透明導電膜層３上には、常法に従って配向膜（図示せず）が形成されている。
液晶材料４については特に制限はなく、種々のもののなかから必要に応じて適宜に選択して用いればよい。
【００３７】
このプラスチック基板液晶表示素子は、各可撓性支持体１，１′の透明導電膜層３が設けられている面とは反対側の面に偏向板が積層されて使用に供される。図２は、本発明のプラスチック基板液晶表示素子の他の一例を示す説明図である。
【００３８】
図２に示すように、このプラスチック液晶表示素子は、各可撓性支持体１，１′の少なくとも片面に有機系材料からなるハードコート層５が形成され、このハードコート層５または各可撓性支持体１，１′の表面にポリシラザンを大気中で焼成してなるアモルファスＳｉＯｘ  層２が形成され、さらに各可撓性支持体１，１′における片面側のアモルファスＳｉＯｘ  層２上に直接にまたはアンカーコート層を介して透明導電膜層３が配設されてなるものである。
【００３９】
このプラスチック基板液晶表示素子においては、各可撓性支持体１，１′の少なくとも片面にハードコート層５が設けられている。
ハードコート層５は、各可撓性支持体１，１′の少なくとも片面に高表面硬度（ハードコート性）を付与する作用乃至機能を奏する層である。
【００４０】
このような作用乃至機能を奏するハードコート層５の形成材料は有機系材料であり、例えば電離放射線硬化型樹脂が好適に用いられ、さらに具体的にはアクリレート系官能基を有するもの等が用いられる。また、ハードコート層５は光重合開始剤を併用して形成することもできる。
【００４１】
ハードコート層５の厚さは、通常、１〜１０μｍ程度である。
ハードコート層５は、例えば電離放射線硬化型樹脂を各可撓性支持体１，１′の少なくとも片面に塗布し、その後、紫外線等の電離放射線を照射して硬化させることにより形成される。
【００４２】
上述の通り、ハードコート層５は各可撓性支持体１，１′の少なくとも片面に設けられるが、ハードコート層５を各可撓性支持体１，１′の片面に設ける場合、その面はこのプラスチック基板液晶表示素子における偏向板が積層される側（外側）の面であってもよいし、液晶材料４が注入され封止される側（内側）の面であってもよい。
【００４３】
ハードコート層５を各可撓性支持体１，１′における偏向板が積層される側（外側）の面のみに設ける場合、ポリシラザンを大気中で焼成してなるアモルファスＳｉＯｘ  層２は各可撓性支持体１，１′の表面（内側）に形成され、ハードコート層５を各可撓性支持体１，１′における液晶を挟持する側（内側）の面のみに設ける場合、ポリシラザンを大気中で焼成してなるアモルファスＳｉＯｘ  層２はそのようなハードコート層５の表面に形成される。
【００４４】
アモルファスＳｉＯｘ  層２は、各可撓性支持体１，１′の少なくとも片面側に設けられるが、アモルファスＳｉＯｘ  層２を各可撓性支持体１，１′の少なくとも片面側にのみ設ける場合には、そのようなアモルファスＳｉＯｘ  層２上に直接にまたはアンカーコート層を介して透明導電膜層３が形成される。
【００４５】
一方、アモルファスＳｉＯｘ  層２を各可撓性支持体１，１′の両面側に設ける場合には、片側のアモルファスＳｉＯｘ  層２上にのみ直接にまたはアンカーコート層を介して透明導電膜層３が形成される。
【００４６】
図２に示すプラチック基板液晶表示素子を構成する各可撓性支持体１，１′の形成材料その他については図１に示すプラチック基板液晶表示素子におけるのと同様であるので説明を省略する。
【００４７】
図３は、本発明のプラスチック基板液晶表示素子の他の一例を示す説明図である。
図３に示すように、このプラスチック基板液晶表示素子は、各可撓性支持体１，１′の少なくとも片面にポリシラザンを大気中で焼成してなるアモルファスＳｉＯｘ  層２が形成され、このアモルファスＳｉＯｘ  層２の表面または各可撓性支持体の表面に有機系材料からなるハードコート層５が形成され、さらにこのハードコート層５の表面または各可撓性支持体１，１′における片面側のアモルファスＳｉＯｘ  層２の表面に直接にまたはアンカーコート層を介して透明導電膜層３が配設されてなるものである。
【００４８】
ポリシラザンを大気中で焼成してなるアモルファスＳｉＯｘ  層２は、各可撓性支持体１，１′の少なくとも片面に設けられていればよいが、アモルファスＳｉＯｘ  層２を各可撓性支持体１，１′の片面にのみ設ける場合にはそのようなアモルファスＳｉＯｘ  層２上にはハードコート層５を介してまたは介することなく透明導電膜層３が形成される。なお、ハードコート層５は各可撓性支持体１，１′における少なくとも片側に設ければよいことから、ハードコート層５はアモルファスＳｉＯｘ  層２上に設けてもよいし、各可撓性支持体１，１′の表面（アモルファスＳｉＯｘ  層２が形成されない面）に設けてもよい。
【００４９】
一方、ポリシラザンを大気中で焼成してなるアモルファスＳｉＯｘ  層２を各可撓性支持体１，１′の両面に設ける場合、各可撓性支持体１，１′の少なくとも片面側にはハードコート層５が形成される。ここで、ハードコート層５を各可撓性支持体１，１′における偏向板が積層される側（外側）にのみ設ける場合には、内側のアモルファスＳｉＯｘ  層２上に直接にまたはアンカーコート層を介して透明導電膜層３が設けられる。また、ハードコート層５を各可撓性支持体１，１′における液晶材料４を挟持する側（内側）にのみ設ける場合には、そのようなハードコート層５の表面に直接にまたはアンカーコート層を介して透明導電膜層３が設けられる。
【００５０】
図３に示すプラチック基板液晶表示素子を構成する各可撓性支持体１，１′の形成材料その他については図１に示すプラチック基板液晶表示素子におけるのと同様であるので説明を省略する。
【００５１】
次に、実験例を示し、本発明についてさらに具体的に説明する。
実験例１
厚さ１００μｍのシート状のポリエーテルスルホン（ＰＥＳ）［住友ベークライト（株）製］の一方の表面に分子量６００〜９００のポリシラザンコーティング剤［東燃（株）製］をグラビアリバース法を採用して塗布し、１２０℃〜１３０℃にて乾燥後、ポリエーテルスルホン（ＰＥＳ）［住友ベークライト（株）製］のもう一方の表面に同様にしてポリシラザンコーティング液［東燃（株）製］を塗布し、乾燥を行なった。
【００５２】
次いで、このようにして両面にポリシラザン塗膜が形成されたシート状のポリエーテルスルホン（ＰＥＳ）［住友ベークライト（株）製］をロール状に巻き取り、このロールを温度１２０℃にて３０分間熱処理することにより、それぞれの厚さが０．５μｍであるアモルファスＳｉＯｘ  層を両面に有するプラスチック基板シートを作成し、このシートを所定の長さで切断することにより一対のプラスチック基板を得た。
【００５３】
得られたプラスチック基板の酸素透過率、水蒸気透過率および鉛筆硬度を測定したところ、それぞれ次の通りであった。
酸素透過率：０．４ｃｃ／ｍ２  ・２４ｈｒ・ａｔｍ
水蒸気透過率：０．４ｇ／ｍ２  ・２４ｈｒ・ａｔｍ
鉛筆硬度：３Ｈ
その後、各プラスチック基板の片面側のアモルファスＳｉＯｘ  層上にスパッタ法を採用して厚さ５００オングストロームのインジウム酸化錫（ＩＴＯ）膜を形成し透明導電膜層とし、さらにフォトリソグラフ法を採用して所定のパターンの電極を形成した。
【００５４】
次いで、この電極面側に配向剤を塗布し、温度１３０℃にて焼成して配向処理を行なった。
このようにして得られた一対の積層体を電極面同士を対向させて一定の間隔を設けて配設し、両端部を封止剤で接着してからギャップに液晶材料を注入、封止し、さらに各積層体の外側表面に偏向板を積層して図１に示す構造のプラスチック基板液晶表示素子を得た。
実験例２
中心線平均粗さ０．０８μｍ、厚さ２５μｍのポリエステルフィルム［東洋紡績（株）製］の一方の表面に分子量６００〜９００のポリシラザンコーティング剤［東燃（株）製］をマイクログラビア法を採用して塗布し、１２０℃にて乾燥後、ポリエステルフィルムをロール状に巻き取り、このロールを温度１２０℃にて３０分間熱処理することにより、ポリエステルフィルム上に厚さ０．２μｍのアモルファスＳｉＯｘ  層を作成した。
【００５５】
次いで、アモルファスＳｉＯｘ  層の表面にポリエステルアクリレートとポリウレタンアクリレートとの混合物からなる電離放射線硬化型ハードコート剤［大日精化（株）製］を塗布、乾燥後、紫外線を照射して塗膜を硬化させることにより厚さ５μｍのハードコート層を形成した。
【００５６】
次に、このハードコート層の表面にポリエステルポリウレタン系接着剤［武田薬品工業（株）製］を塗布し、乾燥後、可撓性支持体となる厚さ４００μｍのポリカーボネート（ＰＣ）基板とドライラミネートした後、ポリエステルフィルムを剥離することにより両面に接着剤層を介してハードコート層とアモルファスＳｉＯｘ  層とをこの順に形成したポリカーボネート（ＰＣ）よりなる一対のプラスチック基板を得た。
【００５７】
得られたプラスチック基板の酸素透過率、水蒸気透過率および鉛筆硬度を測定したところ、それぞれ次の通りであった。
酸素透過率：０．７ｃｃ／ｍ２  ・２４ｈｒ・ａｔｍ
水蒸気透過率：０．７ｇ／ｍ２  ・２４ｈｒ・ａｔｍ
鉛筆硬度：５Ｈ
その後、各プラスチック基板のハードコート層上にスパッタ法を採用して厚さ５００オングストロームのインジウム酸化錫（ＩＴＯ）膜を形成し透明導電膜層とし、さらにフォトリソグラフ法を採用して所定のパターンの電極を形成した。
【００５８】
次いで、この電極面側に配向剤を塗布し、温度１３０℃にて焼成して配向処理を行なった。
このようにして得られた一対の積層体を電極面同士を対向させて一定の間隔を設けて配設し、両端部を封止剤で接着してからギャップに液晶材料を注入、封止し、さらに各積層体の外側表面に偏向板を積層して図３に示す構造のプラスチック基板液晶表示素子を得た。
【００５９】
【発明の効果】
以上に詳述したとおり、本発明のプラスチック基板液晶表示素子の製造方法は、可撓性支持体上にポリシラザン塗工液を塗布してポリシラザン塗膜を形成し、このポリシラザン塗膜を大気中で焼成することによりガスバリア層、不純物バリア層、ハードコート層および絶縁層の機能を併せもつアモルファスＳｉＯｘ  層を形成する構成としたので、本発明によれば、従来法のように単一の機能を有する層を順次個別に形成する必要がなく、したがって、簡略化された工程で効率よくプラスチック基板液晶表示素子を製造することができる。
【００６０】
また、本発明のプラスチック基板液晶表示素子は、可撓性支持体上に、ガスバリア層、不純物バリア層、ハードコート層および絶縁層の機能を併せもつアモルファスＳｉＯｘ  層を有する構成としたので、本発明によれば、構造が簡単で本発明の製造方法を好適に採用して効率良く製造することのできるプラスチック基板液晶表示素子が得られる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明のプラスチック基板液晶表示素子の一例を示す説明図である。
【図２】本発明のプラスチック基板液晶表示素子の一例を示す説明図である。
【図３】本発明のプラスチック基板液晶表示素子の一例を示す説明図である。
【符号の説明】
１，１′…可撓性支持体
２…アモルファスＳｉＯｘ  層
３…透明導電膜層
４…液晶材料
５…ハードコート層
【図１】
0003585546.tif 000003
【図２】
0003585546.tif 000004
【図３】
0003585546.tif 000005