【事件の表示】
　特願２００５−１３４３１０「ＣＯＴ構造の液晶表示装置及びその製造方法」拒絶査定不服審判事件〔平成１７年１１月１７日出願公開、特開２００５−３２１７８４〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
　
１．手続の経緯・本願発明 
　
（１）手続の経緯
　本願は、平成１７年５月２日（パリ条約による優先権主張２００４年４月３０日、韓国）の出願であって、平成１８年１１月２８日に手続補正がなされ、同年１２月１５日付けで拒絶査定がなされ、これに対し、平成１９年４月９日に拒絶査定不服審判が請求されるとともに、同年５月８日に手続補正（以下「本件補正」という。）がなされたものである。
　
（２）本願発明
　本件補正後の請求項１は、本件補正前の特許請求の範囲（平成１８年１１月２８日付け手続補正により補正された特許請求の範囲）の請求項１５が、請求項１を引用する請求項５をさらに引用する形式で記載されていたところを、独立形式で記載したものである。
　
　すると、本願の請求項１に係る発明は、本件補正後の特許請求の範囲、明細書及び図面の記載からみて、その特許請求の範囲の請求項１に記載された事項により特定される次のものである。 
　
「表示領域と、前記表示領域の周辺部に位置し、第１非表示領域、第２非表示領域、第３非表示領域、第４非表示領域を含む非表示領域とを有するアレイ基板上にカラーフィルターを構成するＣＯＴ構造の液晶表示装置用基板であって、
　前記アレイ基板は、
　前記第２非表示領域、前記第４非表示領域に平行であって、前記第２非表示領域に近接した第１ゲート配線と、前記第４非表示領域に近接した第２ゲート配線とを含む多数のゲート配線と、
　前記第１非表示領域、前記第３非表示領域に平行であって、前記多数のゲート配線と交差して、前記表示領域内に多数の画素領域を定義し、前記第１非表示領域に近接した第１データ配線を含む多数のデータ配線と、
　前記非表示領域に対応して、前記ゲート配線と前記データ配線とのうちの１つ以上と同一な層に位置し、前記第１非表示領域、前記第２非表示領域、前記第３非表示領域、前記第４非表示領域各々に対応して前記多数のゲート配線あるいは前記多数のデータ配線と同じ材料で形成される第１遮断手段、第２遮断手段、第３遮断手段、第４遮断手段を含む光遮断手段と
　を備え
　前記第１遮断手段は、前記第１データ配線から延長され、前記隣接するゲート配線間を遮る第１パターンを含み、
　前記第１パターンは、前記ゲート配線と３μｍ以下の幅で重なる
　ことを特徴とする液晶表示装置用基板。」（以下「本願発明」という。）
　
２．刊行物の記載事項
　
　原査定の拒絶の理由に引用された、本願の優先日前に頒布された刊行物である特開２００２−４９０５７号公報（以下「引用例」という。）には、図とともに次の事項が記載されている。
　
（１）「【請求項１】基板の一主面上に交差して配置された複数の信号線及び複数の走査線と、前記交差部毎に配置されたスイッチング素子と、前記信号線、前記走査線及び前記スイッチング素子の少なくとも一部を覆うように配置された着色層と、上記着色層上に重ねて配置されているとともに上記スイッチング素子にそれぞれ接続され、それぞれ画素部を形成した複数の画素電極と、を有した表示領域と、前記スイッチング素子と同時に形成された前記表示領域を駆動する駆動回路と、上記基板の主面上において上記表示領域の周囲に沿って形成された第１遮光層と、上記着色層により上記第１遮光膜と上記表示領域との隙間に重ねて設けられた第２遮光層と、を備えたアレイ基板と、
上記アレイ基板と対向して配置された対向基板と、
上記アレイ基板と上記対向基板との間に設けられ、上記アレイ基板と上記対向基板との間に所定の隙間を保持した複数の柱状スペーサと、
上記アレイ基板と上記対向基板との間に挟持された液晶層と、を具備したことを特徴とする液晶表示装置。
【請求項２】上記第１遮光層は、上記アレイ基板上に設けられた金属配線材料と同じ材料により上記金属配線と同時に形成されていることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
・・・・（略）・・・・
【請求項６】上記第１遮光層は、上記表示領域の周囲に沿って短冊状に形成され、上記第２遮光層は、上記第１遮光層と表示領域との隙間、および第１遮光層間の隙間と重なって設けられていることを特徴とする請求項１ないし５のいずれか１項に記載の液晶表示装置。」
　
（２）「【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は液晶表示装置に関し、特に、アレイ基板側に着色層が設けられた液晶表示装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】液晶表示装置は、画素電極の設けられたアレイ基板と対向電極を有した対向基板とを所定の隙間を置いて対向配置し、これら２枚の基板間に液晶層を挟持して構成されている。アレイ基板および対向基板は、シール材および封止材によって周辺領域同士が貼り合わされ、この２枚の基板間には、基板間距離を所定の値に保持するために粒状スペーサ、またはフォトリソグラフィー法により形成された樹脂からなる柱状スペーサが配置されている。液晶表示装置によりカラー表示する場合、一般に、基板の一方に赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）からなる着色層が配置されている。
【０００３】着色層をアレイ基板側に形成する場合、高い開口率を確保できるように、着色層上に画素電極を配置し、スイッチング素子を形成する遮光性金属により画素電極間の隙間を遮光する画素構造をとっている。更に、この遮光性金属の割合を少なくすることにより、一層開口率の高い製品を作る努力がなされている。
【０００４】通常、バックライトからの光漏れを防止するため、表示領域の外周において、対向基板側に額縁状のブラックマトリクス（ＢＭ）が形成されている。一般に、ＢＭ材料としてはＣｒ、ＭｏＷ等の金属薄膜や、樹脂が使用される。
【０００５】また、近年、低コスト化を図るため、着色層のみならず、対向基板のＢＭレス化が検討されている。この場合、ＢＭをアレイ基板側に形成する必要がある。このようにアレイ基板側にＢＭを形成する場合、黒の着色層でＢＭとスペーサ柱とを同時に形成する方式が検討されているが、黒の着色層はパターン形成が難しく、プロセス上難易度が高い。
【０００６】そこで、アレイ基板の裏面（ガラス面）に黒遮光層を印刷等の手法によって形成する事によりＢＭを形成する方式や、テープにより遮光する方式、液晶セルの外形に制約がなければ、ベゼル又は樹脂フレームとの合わせ精度を考慮し、バックライトの光漏れが生じない領域まで遮光パターンを配置する方式が検討されている。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】このような液晶表示装置において、アレイ基板の裏面に黒遮光層を形成した場合、製造プロセス中のハンドリング等による傷および発塵が生じ、歩留まり低下をもたらすため、黒遮光層をできるだけ後工程で形成し、偏光板等で黒遮光層を保護することが望ましい。この場合、通常のフォトマスクを使用した露光機によって黒遮光層をパターン形成することが困難となり、印刷、マーキング等の手法により形成する必要がある。
【０００８】しかしながら、この場合、アレイ基板表面側のパターンとの合わせ精度が０．２mm程度必要となり、表示領域とアレイ基板の裏面に形成した遮光用の黒遮光層との間に隙間が生じてしまい、光漏れ原因となっていた。また、仮に合わせ精度が向上し、黒遮光層を数十μｍ単位の誤差で形成可能となっても、アレイ基板裏面に形成している関係上、黒遮光層はガラスの厚み分だけアレイパターンから離れて位置する。そのため、アレイ基板に対して斜め方向の光抜けを防ぐことが困難であった。
【０００９】また、テープやベゼル又は樹脂フレームを用いて液晶表示装置の表示領域周縁を遮光する場合、更に合わせ精度が０．７ｍｍ程度まで低下してしまい、確実に遮光することが困難となる。
【００１０】この発明は以上の点に鑑みなされたもので、その目的は、表示領域周縁部を確実に遮光できるとともに製造コストの低減を図ることが可能な液晶表示装置を提供することにある。」
　
（３）「【００１４】上記のように構成された液晶表示装置によれば、アレイ基板上において、表示領域の周辺を囲むように第１遮光層を設けることにより、アレイ基板の裏面に形成された遮光膜あるいはベゼル等と合わせて、表示領域の周辺部を確実に遮光することが可能となる。そのため、対向基板に形成していた遮光膜を削除でき、製造コストの低減を図ることができる。この際、遮光膜をアレイ基板上の配線形成と同時に形成するとともに、遮光膜間の隙間を着色層からなる第２遮光層によって遮光することにより、製造工程数を増加させることなく良好な確実な遮光が可能となり、製造コストの低減を図り安価な液晶表示装置を提供することができる。」
　
（４）「【００１５】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照しながら、この発明の実施の形態に係るアクティブマトリクス型液晶表示装置について詳細に説明する。図１ないし図５に示すように、液晶表示装置１０は、カラーフィルタとしての着色層が設けられたアレイ基板１２と、このアレイ基板に所定のセルギャップを置いて対向配置された対向基板２０と、を備え、これらアレイ基板と対向基板との間に液晶層７０が挟持されている。
・・・・（略）・・・・
【００１８】アレイ基板１２は、ガラスからなる透明な絶縁基板１１上に複数の走査線１７、これと平行に設けられた補助容量配線１８、および絶縁膜２３を介してこれらと直交する複数の信号線１４が配置され、走査線と信号線の各交点近傍にはスイッチング素子として図示しないＮｃｈ型ＬＤＤ構造のＴＦＴ（薄膜トランジスタ）素子と、このスイッチング素子のソース電極と電気的に接続された補助容量の上部電極１５と、が配置されている。また、補助容量配線１８と信号線１４とで囲まれた領域には、それぞれほぼ矩形状の画素電極３０が設けられ、それぞれ画素部を構成している。
【００１９】また、アレイ基板１２の絶縁基板１１上には、スイッチング素子と同時に、図示しない液晶駆動回路が表示領域４０周辺に形成され、表示領域近傍には、この液晶駆動回路を動作させるために必要な複数の配線１６が設けられている。
【００２０】そして、スイッチング素子および液晶駆動回路を覆うように保護絶縁膜２４が設けられ、更にその上部に、それぞれＹ方向に延びたストライプ状の緑色（Ｇ）の着色層２５Ｇ、青色（Ｂ）の着色層２５Ｂ、赤色（Ｒ）の着色層２５Ｒが配置されている。そして、緑色の着色層２５Ｇの両側縁が青色着色層２５Ｂや赤色着色層２５Ｒによって覆われている。このような構成は、各着色層を加工する際に用いる遮光マスクを適合するように作製することで達成される。
・・・・（略）・・・・
【００２２】また、アレイ基板１２上には、表示領域４０の周縁を囲むように、合わせ精度が許す領域まで遮光膜３６が形成されている。第１遮光層として機能するこの遮光膜３６は、他の金属配線、例えば、信号線１４と同一の材料により信号線と同時にパターン形成されている。また、遮光膜３６は、他の配線間とのショートを防止するため、短冊状あるいは島状に形成され、仮に、一箇所がショートしても不良とならないように考慮されている。
【００２３】また、表示領域４０の最外周に設けられた配線と各遮光膜３６と隙間、および隣合う遮光膜３６間の隙間と対向する位置には、２色の着色層、例えば、青の着色層２５Ｂおよび赤の着色層２５Ｒが重ねて設けられ、これらの隙間を遮光した第２遮光層４４を構成している。」
　
（５）「【００２６】次に、上記アクティブマトリクス型の液晶表示装置の一層詳しい構成をその製造方法と併せて説明する。まず、高歪点ガラス基板や石英基板などの透光性を持った絶縁基板１１上にＣＶＤ法などによりａ−Ｓｉ膜を５０ｎｍ程度被着する。これを４５０℃で１時間炉アニールを行った後、ＸｅＣｌエキシマレーザを照射し、ａ−Ｓｉ膜を多結晶化しポリシリコン膜とする。その後に、ポリシリコン膜をフォトエッチング法によりパターンニングして、図示しない表示領域内画素部のＴＦＴ（以下、画素ＴＦＴと称する）のチャネル層、および図示しない液晶駆動回路領域のＴＦＴ（以下、回路ＴＦＴと称する）のチャネル層を形成し、更に、補助容量素子の下部電極を形成する。
【００２７】次に、ＣＶＤ法により絶縁基板１１の全面に図示しないゲート絶縁膜となるシリコン酸化膜を１００ｎｍ程度被着する。続いて、このシリコン酸化膜上全面にＴａ、Ｃｒ、Ａｌ、Ｍｏ、Ｗ、Ｃｕなどの単体又はその積層膜あるいは合金膜を４００ｎｍ程度被着し、フォトエッチング法により所定の形状にパターニングし、走査線１７と、走査線を延在して成る画素ＴＦＴのゲート電極１７ａ、補助容量配線１８、回路ＴＦＴのゲート電極、および駆動回路領域内の各種配線を形成する。この時、液晶駆動回路を駆動させるために必要となる配線１６も同時に形成する。
【００２８】続いて、イオン注入やイオンドーピング法により、ゲート電極１７ａをマスクとして上述したチャネル層に不純物の注入を行い、図示しない画素ＴＦＴのソース電極およびドレイン電極、並びに図示しないＮｃｈ型の回路ＴＦＴのソース電極およびドレイン電極を形成する。不純物の注入は、例えば加速電圧８０ｋｅＶで５×１０１５ａｔｏｍｓ／ｃｍ２のドーズ量で、ＰＨ３／Ｈ２によりリンを高濃度注入した。
【００２９】次に、図示しない画素ＴＦＴ、および駆動回路領域のＮｃｈ型の回路ＴＦＴには不純物が注入されないようにレジストで被覆した後、図示しないＰｃｈ型の回路ＴＦＴのゲート電極をそれぞれマスクとして、加速電圧８０ｋｅＶで５×１０１５ａｔｏｍｓ／ｃｍ２のドーズ量で、Ｂ２ＰＨ６／Ｈ２によりボロンを高濃度注入し、Ｐｃｈ型の回路ＴＦＴのソース電極およびドレイン電極を形成する。
【００３０】その後、図示しないＮｃｈ型ＬＤＤ（Light1y Doped Drain ）を形成するための不純物注入を行い、基板をアニールすることにより不純物を活性化する。更に、例えばＰＥＣＶＤ法を用いて絶縁基板１１の全面にシリコン酸化膜からなる層間絶縁膜２３を５００ｎｍ程度被着する。
【００３１】続いて、フォトエッチング法により、図示しない画素ＴＦＴのソース電極に至るコンタクトホール、ドレイン電極に至るコンタクトホール、図示しない回路ＴＦＴのソース電極およびドレイン電極に至るコンタクトホールをそれぞれ層間絶縁膜２３に形成する。
【００３２】次に、層間絶縁膜２３上にＴａ、Ｃｒ、Ａｌ、Ｍｏ、Ｗ、Ｃｕなどの単体又はその積層膜あるいは合金膜を５００ｎｍ程度被着し、フォトエングレイビング法により所定の形状にパターニングして、画素ＴＦＴのドレイン電極に接続された信号線１４、画素ＴＦＴのソース電極に接続された補助容量の上部電極１５、および図示しない液晶駆動回路領域内の回路ＴＦＴの各種の配線等を形成するこの際、図３ないし図５に示すように、表示領域４０周辺に信号線１４の配線材料にて遮光膜３６を同時に形成した。遮光膜３６は、配線間ショートを防ぐために、島状もしくは短冊状に形成し、一箇所がショートしても不良とならないよう配慮して配置した。島状、短冊状の遮光膜間隔は最小スペースにて配置した。
【００３３】次に、ＰＥＣＶＤ法により絶縁基板１１の全面にＳｉＮｘからなる保護絶縁膜２４を成膜し、フォトエングレイビング法により、それぞれ上部電極１５に至るコンタクトホールを形成する。
【００３４】続いて、紫外線硬化型アクリル系緑色レジスト液を、絶縁基板１１上にスピンナ塗布により２μｍ程度の膜厚で塗布する。その後、約９０℃で約５分間プリベークし、所定のマスクパターンを用いて、１５０ｍＪ／ｃｍ２の強度の紫外線により露光する。ここで用いるフォトマスクパターンは、緑色着色層２５Ｇに対応するストライプ形状パターンと、画素電極３０と上部電極１５とを接続するためのコンタクトホール２６として直径１５μｍの円形パターンと、を有している。
【００３５】続いて、約０．１重量％のＴＭＡＨ（テトラメチルアンモニウムハイドライド）水溶液を用いて約６０秒間現像し、更に水洗い後、約２０℃で１時間ほどポストベークすることによって、コンタクトホール２６を有する緑色着色層２５Ｇを形成した。
【００３６】次に、青色着色層２５Ｂ、赤色着色層２５Ｒを同様の工程にて形成する。この際、緑色着色層２５Ｇのパターン端が青色着色層２５Ｂや赤色着色層２５Ｒによって覆われる構成とした。これは、上記のように、各着色層を加工する際に用いる露光マスクを適合するように作製することで達成される。
【００３７】この際、島状あるいは短冊状に形成された遮光膜３６と表示領域４０との隙間、および遮光膜間の隙間の透過部分に、青着色層２５ｂと赤着色層２５Ｒとを重ねて第２遮光層４４を形成し、これらの隙間を遮光した。次に、透明な樹脂により柱状スペーサ３１を所定の密度で形成した。
【００３８】続いて、着色層２５Ｒ、２５Ｇ、２５Ｂ上にスパッタリング法によりインジウム・すず酸化物（ＩＴＯ）を堆積し、これをパターニングすることにより、それぞれ着色層上に位置した画素電極３０を形成する。
【００３９】その後、ポリイミドからなる配向膜材料を絶縁基板１１全面に塗布し、配向処理を施して配向膜１３を形成する。これにより、カラーフィルタを有するアレイ基板１２を得ることができる。
・・・・（略）・・・・
【００４３】以上のように構成された液晶表示装置によれば、アレイ基板１２上において、表示領域４０の周辺を囲むように、合わせ精度が許す領域まで遮光膜３６を設け、かつ、表示領域４０の最外周に設けられた配線と各遮光膜３６と隙間、および隣合う遮光膜３６間の隙間と対向する位置に、２色の着色層を重ねて第２遮光層４４を設け、これらの隙間を遮光している。従って、対向基板側にＣｒ等で遮光層を設けることなく、表示領域周辺を確実に遮光でき、良好な表示性能を得得ることができる。
【００４４】また、遮光膜３６は、アレイ基板上の他の配線と同一材料で同時にパターン形成されていることから、製造工程の増加を伴うことなく低コストで形成することができる。
【００４５】なお、この発明は上述した実施の形態に限定されることなく、この発明の範囲内で種々変形可能である。例えば、上述した実施の形態では、信号線材料により信号線形成と同時に表示領域周辺に遮光膜３６を形成したが、上部電極１５等の他の配線材料により遮光膜を形成してよく、また、信号線材料および上部電極材料の両方を使用して遮光膜３６を形成することも可能である。」
　
（６）「【００４７】
【発明の効果】以上詳述したように、この発明によれば、アレイ基板上において、表示領域の周辺を囲むように第１遮光層を設けることにより、アレイ基板の裏面に形成された遮光膜あるいはベゼル等と合わせて、表示領域の周辺部を確実に遮光することが可能となる。そのため、対向基板に形成していた遮光膜を削除でき、製造コストの低減を図ることができる。この際、遮光膜をアレイ基板上の配線形成と同時に形成するとともに、遮光膜間の隙間を着色層からなる第２遮光層によって遮光することにより、製造工程数を増加させることなく良好な確実な遮光が可能となり、製造コストの低減を図り安価な液晶表示装置を提供することができる。」
　
（７）図３から、表示領域４０周辺に配置され、遮光膜３６及び第２遮光層４４により遮光される非表示領域が見てとれるとともに、この非表示領域は、細長くて多数の走査線１７と平行な上部非表示領域及び下部非表示領域と、細長くて多数の信号線１４と平行な左部非表示領域及び右部非表示領域とから構成され、枠状であることが当業者に自明である。また、図３ないし図５から、遮光膜３６及び第２遮光層４４が協働して、非表示領域における隣接する走査線１７及び補助容量配線１８間を確実に遮光することが見てとれる。
　
（８）上記（１）〜（７）からみて、引用例には、
「基板の一主面上に、
　多結晶化したポリシリコン膜をパターンニングし同時に多数形成した、表示領域４０内の画素ＴＦＴのチャネル層、補助容量素子の下部電極、および、表示領域４０周辺に配置された液晶駆動回路ＴＦＴのチャネル層と、
　その上にゲート絶縁膜を介して被着したＴａ、Ｃｒ、Ａｌ、Ｍｏ、Ｗ、Ｃｕなどの単体又はその積層膜あるいは合金膜をパターニングし同時に多数形成した、走査線１７、走査線を延在して成る画素ＴＦＴのゲート電極１７ａ、補助容量配線１８、液晶駆動回路ＴＦＴのゲート電極、液晶駆動駆動回路領域内の各種配線、および、液晶駆動回路を駆動させるために必要となる配線１６と、
　その上に層間絶縁膜２３を介して被着したＴａ、Ｃｒ、Ａｌ、Ｍｏ、Ｗ、Ｃｕなどの単体又はその積層膜あるいは合金膜をパターニングし同時に多数形成した、前記走査線に交差して配置され画素ＴＦＴのドレイン電極に接続された信号線１４、画素ＴＦＴのソース電極に接続された補助容量の上部電極１５、液晶駆動回路ＴＦＴの各種の配線、および、いずれも細長い、前記走査線１７に平行な上部非表示領域並びに下部非表示領域、前記信号線１４と平行な左部非表示領域並びに右部非表示領域から構成され、表示領域４０周辺の枠状の非表示領域に配置され、他の配線間とのショートを防止するため島状に形成された第１遮光層と、
　その上に保護絶縁膜２４を介して形成され、前記信号線、前記走査線及び前記画素ＴＦＴを覆うように配置された着色層からなるカラーフィルタ、および、上記着色層と同時に形成された着色層によって、上記第１遮光層と上記表示領域４０との隙間並びに第１遮光層間の隙間と重ねて設けられた第２遮光層と、
　その上にＩＴＯを堆積しパターニングし同時に多数形成した画素部を構成する画素電極３０と、
　を備え、
　前記第１遮光層及び前記第２遮光層が協働して、非表示領域における隣接する走査線１７及び補助容量配線１８間を確実に遮光するようにした、
　液晶表示装置を構成する、カラーフィルタが設けられたアレイ基板。」の発明（以下「引用発明」という。）が記載されているものと認められる。
　
３．対比
　
　本願発明と引用発明とを対比する。
　
（１）引用発明の「表示領域４０」、「表示領域４０周辺」、「カラーフィルタ」、「アレイ基板」、「液晶表示装置を構成する、カラーフィルタが設けられたアレイ基板」、「枠状の非表示領域」、「『上部非表示領域』及び『下部非表示領域』」、「『左部非表示領域』及び『右部非表示領域』」、「走査線１７」、「信号線１４」及び「画素部」は、それぞれ、本願発明の「表示領域」、「表示領域の周辺部」、「カラーフィルター」、「アレイ基板」、「アレイ基板上にカラーフィルターを構成するＣＯＴ構造の液晶表示装置用基板」、「非表示領域」、「『第４非表示領域』及び『第２非表示領域』」、「『第１非表示領域』及び『第３非表示領域』」、「ゲート配線」、「データ配線」及び「画素領域」に相当する。
　
（２）引用発明の「枠状の非表示領域」は、いずれも細長い、走査線１７に平行な上部非表示領域並びに下部非表示領域、信号線１４と平行な左部非表示領域並びに右部非表示領域から構成された表示領域４０周辺の領域であるから、上記（１）に照らせば、本願発明の「非表示領域」と、「表示領域の周辺部に位置し、第１非表示領域、第２非表示領域、第３非表示領域、第４非表示領域を含む」点で一致する。また、引用発明の「『多数』の『走査線１７』」と本願発明の「多数のゲート配線」とは、「前記第２非表示領域、前記第４非表示領域に平行であって、前記第２非表示領域に近接した第１ゲート配線と、前記第４非表示領域に近接した第２ゲート配線とを含む」点で一致すること、および、引用発明の「『多数』の『信号線１４』」と本願発明の「多数のデータ配線」とは、「前記第１非表示領域、前記第３非表示領域に平行であって、前記多数のゲート配線と交差し、前記第１非表示領域に近接した第１データ配線を含む」点で一致することが明らかである。
　
（３）引用発明の「島状に形成された第１遮光層」は、Ｔａ、Ｃｒ、Ａｌ、Ｍｏ、Ｗ、Ｃｕなどの単体又はその積層膜あるいは合金膜をパターニングし、信号線１４と同時に多数形成したものであり、いずれも細長い、前記走査線１７に平行な上部非表示領域並びに下部非表示領域、前記信号線１４と平行な左部非表示領域並びに右部非表示領域から構成され、表示領域４０周辺の枠状の非表示領域に配置されているから、上記（１）に照らせば、本願発明の「光遮断手段」と、「前記非表示領域に対応して、前記データ配線と同一な層に位置し、前記第１非表示領域、前記第２非表示領域、前記第３非表示領域、前記第４非表示領域各々に対応して前記多数のデータ配線と同じ材料で形成される第１遮断手段、第２遮断手段、第３遮断手段、第４遮断手段を含む光遮断手段」である点で一致することが明らかである。
　
（４）よって、本願発明と引用発明とは、
「表示領域と、前記表示領域の周辺部に位置し、第１非表示領域、第２非表示領域、第３非表示領域、第４非表示領域を含む非表示領域とを有するアレイ基板上にカラーフィルターを構成するＣＯＴ構造の液晶表示装置用基板であって、
　前記アレイ基板は、
　前記第２非表示領域、前記第４非表示領域に平行であって、前記第２非表示領域に近接した第１ゲート配線と、前記第４非表示領域に近接した第２ゲート配線とを含む多数のゲート配線と、
　前記第１非表示領域、前記第３非表示領域に平行であって、前記多数のゲート配線と交差し、前記第１非表示領域に近接した第１データ配線を含む多数のデータ配線と、
　前記非表示領域に対応して、前記データ配線と同一な層に位置し、前記第１非表示領域、前記第２非表示領域、前記第３非表示領域、前記第４非表示領域各々に対応して前記多数のデータ配線と同じ材料で形成される第１遮断手段、第２遮断手段、第３遮断手段、第４遮断手段を含む光遮断手段と
　を備えることを特徴とする液晶表示装置用基板」の点で一致し、次の点で相違する。 
　
相違点１：
　本願発明においては、多数のデータ配線が多数のゲート配線と交差して、表示領域内に多数の画素領域を定義するのに対して、引用発明においてはそうではない点。
　
相違点２：
　本願発明においては、光遮断手段に含まれる第１遮断手段は、第１非表示領域に近接した第１データ配線から延長され、隣接するゲート配線間を遮る第１パターンを含み、前記第１パターンは、前記ゲート配線と３μｍ以下の幅で重なるのに対して、引用発明においては、光遮断手段が第１非表示領域に対応して多数のデータ配線と同じ材料で形成される第１遮断手段を備えているが、該第１遮断手段のパターン形状は島状のものであって、第１データ配線と連続していないことが明らかであり、また、該第１遮断手段のパターンは、第２遮光層のパターンと協働して、隣接するゲート配線及び補助容量配線間を確実に遮光しているから、結局、該第１遮断手段のパターンは、隣接するゲート配線間を、第２遮光層のパターン及び補助容量配線と協働して遮るものであって、前記ゲート配線とは重なっていないことが明らかである点。
　
４．判断
　
　上記相違点について検討する。
　
（１）相違点１について
　
ア．「多数のデータ配線が多数のゲート配線と交差して、表示領域内に多数の画素領域を定義する液晶表示装置用基板」は本願の優先日前に周知である（例．特開平７−１３２００号公報（段落００２１、００２４、図１及び図２参照。）、特開２００３−２８７７６２号公報（段落０００５、図１９及び図２０参照。）、以下「周知技術１」という。）。
　
イ．液晶表示装置用基板において、補助容量配線を備えるか否かは設計上の事項であるところ、引用発明において、周知技術１を、補助容量配線を備えない構造として採用し、上記相違点１に係る本願発明の構成となすことは、周知技術１に基いて当業者が適宜なし得た程度のことである。
　
（２）相違点２について
　
ア．液晶表示装置用基板の技術分野において、データ配線と同一な層に位置し、データ配線と同じ材料で形成され、かつ、データ配線から延長されたパターンを含む光遮断手段は、本願の優先日前に周知である（例．特開平５−７２５６２号公報（段落０００４〜００１２、図１、図２及び図３参照。シールド３９はデータバスライン３２の一部が拡幅され（延長され）た光遮断手段のパターンである。データバスライン３２からゲートバスライン３１上に延ばされて形成された容量電極部３５の上辺部分もゲートバスライン３１とともに光遮断の働きをしているパターンであることが明らかである。）、特開平１０−１２３５６７号公報（段落００２０、００２１、００２６、図１及び図２参照。第２遮光膜１５は信号配線３から膨出（延長）したパターンである。）、特開２００１−２７２６６２号公報（段落００５７〜００５９、図１、図２及び図５参照。図１の遮光膜２４のパターンは島状であるが、図５の遮光膜２４のパターンは信号線２２に接続さた（延長された）パターンになっている。）、上記特開２００３−２８７７６２号公報（図１５及び段落００３１参照。図１５の記載から、遮光電極１ｄの先端とゲート配線との隙間をソース配線を拡幅（延長）したパターンで光遮断していることが見てとれる。）、以下「周知技術２」という。）。
　
イ．液晶駆動回路（および、これに付随した液晶駆動回路を駆動させるために必要となる配線）を、画素の形成と並行して基板の周辺上に形成するか、外付けするか、あるいは、基板の周辺上に形成した端子から走査信号あるいは映像信号を供給する構成にするかは、設計上の事項であり（例えば、上記特開２００１−２７２６６２号公報の段落００６３〜００６５の記載参照。）、かつ、引用発明において「光遮断手段（第１の遮光層）」のパターンが島状に形成されている理由は他の配線間とのショートを防止するためであるところ、引用発明において、液晶駆動回路を基板上に搭載するのではなく、基板の周辺上に形成した端子から走査信号あるいは映像信号を供給する構成を採用した場合に、第２非表示領域及び第４非表示領域においては、光遮断手段と同じ層に複数のデータ配線が存在するから、これらの配線間とのショートを防止する必要があるが、第１非表示領域（左部非表示領域又は右部非表示領域）においては、ゲート配線（走査線１７）はデータ配線（信号線１４）と層間絶縁膜２３を介して別の層になり、重ねて配置してもショートは起きず、光遮断手段と同じ層に配置された配線はなく、かつ、多数のデータ配線のうち該第１非表示領域に隣接するものは「第１データ配線」の１本のみであることから、他の配線間とのショートを防止するために第１非表示領域の光遮断手段である第１遮断手段のパターンを島状にする必要がないことは当業者に自明である（例えば、特開平１０−３０７２９９号公報には、単純マトリクス型液晶表示装置における例であるが、図４に５ａで示された補助電極５を延設した部分、図５に５’ｂで示された補助電極５’を延設した部分は島状でなく連続した短冊状となっている。段落００２１、図１、図４及び図５参照。）。
　
ウ．また、液晶表示用基板において、光遮断手段のパターン形状は適宜決定すべき設計上の事項であるところ、上記イで述べたとおり、引用発明において、第１非表示領域においては光遮断手段である第１遮断手段のパターンを島状にする必要がないのであるから、周知技術１の採用（上記（１）イ参照。）とともに、この第１遮断手段のパターンとして周知技術２を採用して、引用発明の第１非表示領域の光遮断手段（第１遮断手段）を、第１非表示領域に近接した第１データ配線から延長され、隣接するゲート配線と重なり、該隣接するゲート配線間を遮る第１パターンとすることは、周知技術２に基いて当業者が適宜なし得た程度のことである。
　
エ．他方、対向基板にブラックマトリクスを形成して光遮断する場合には、合わせ精度が悪いため大きなマージン（例えば、５〜７μｍ）で設計する必要があったのに対して、ＴＦＴアレイ基板のデータ配線（ソース電極、ソース配線）により外光を遮光する場合には、マージンは１〜３μｍ程度で設計することができることが、本願の優先日前に周知であり（例．上記特開平７−１３２００号公報（段落００２１参照。）、上記特開２００３−２８７７６２号公報（段落００２０参照。）、以下「周知技術３」という。）、ＴＦＴアレイ基板において、データ配線とゲート配線との重なりにより生じる寄生容量が大きくなると表示特性に良くない影響を起こすから、この寄生容量を低減させることも、本願の優先日前に周知である（例．特開２０００−３５３８０８号公報（段落００１４及び００２７参照。）、特開２００１−５３２８７号公報（段落０００６〜００１３参照。）、以下「周知技術４」という。）から、引用発明において、周知技術１の採用とともに、第１遮断手段のパターンとして周知技術２を採用して、第１遮断手段を、第１非表示領域に近接した第１データ配線から延長され、隣接するゲート配線と重なり、該隣接するゲート配線間を遮る第１パターンとする（上記ウ参照。）際に、データ配線とゲート配線との重なりにより生じる寄生容量が大きくならないように、第１遮断手段が隣接するゲート配線と重なる程度を３μｍ以下の幅とすることは、周知技術３及び周知技術４に基いて当業者が容易になし得たことである。
　
（３）効果
　
　そして、本願発明の奏する効果は、引用発明の効果及び上記各周知技術の効果から当業者が予測できた程度のものである。
　
（４）まとめ
　
　以上の検討によれば、本願発明は、引用発明及び上記周知技術に基いて当業者が容易に発明をすることができたものである。
　
５．むすび 
　
　したがって、本願発明は、引用例に記載された発明及び上記周知技術に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法２９条２項の規定により、特許を受けることができない。
　
 　よって、結論のとおり審決する。