【手続補正書】
【提出日】平成27年7月28日(2015.7.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板ステージに保持された基板に対しショット領域毎に第１方向に沿って走査露光を行う露光方法であって、
前記基板のショット領域が露光光の照射領域に到達する前に前記ショット領域の面位置が計測され、
前記走査露光を行った先の第１ショット領域と、次に走査露光を行う第２ショット領域と、の配置は、前記第１方向における位置が同じで、かつ、前記第１方向に直交する第２方向に隣り合って配置されている第１配置と、前記第１方向における位置を異ならせて、かつ、前記第２方向に隣り合って配置されている第２配置と、を含み、
前記面位置の計測位置は、前記第１配置における前記第２ショット領域と、前記第２配置における前記第２ショット領域と、で共通していることを特徴とする露光方法。
【請求項２】
前記走査露光を行うショット領域を変更するための前記基板ステージの移動は、前記基板ステージが曲線状の軌跡に沿って移動する第１移動と、前記基板ステージが前記第１方向に沿って直線的に移動する第２移動と、を含み、
前記基板ステージの移動が前記第１移動である間に前記面位置が計測されることを特徴とする請求項１に記載の露光方法。
【請求項３】
前記基板ステージが前記第２方向の移動を開始する時刻をＴｘｓとし、該時刻Ｔｘｓにおける前記基板ステージの前記第２方向の位置をＸｘｓとし、前記第２ショット領域において前記面位置の計測を開始する時刻をＴｐとし、該時刻Ｔｐにおける前記基板ステージの前記第２方向の位置をＸｐとし、前記第２ショット領域において走査露光を開始する時刻をＴｅｘｐｏとし、前記露光光の照射領域と前記面位置の計測を開始する位置との前記第１方向の間隔をＹｆとし、前記基板ステージの時刻ｔにおける前記第１方向および前記第２方向の速度をそれぞれＶｙ（ｔ）及びＶｘ（ｔ）とするとき、Ｙｆ、Ｔｅｘｐｏ、Ｔｘｓ、Ｖｙ（ｔ）、Ｖｘ（ｔ）及びＸｘｓは、
2014029956.tif 000001
、及び、
2014029956.tif 000002
の両式を満たすように設定されていることを特徴とする請求項２に記載の露光方法。
【請求項４】
基板ステージに保持された基板に対しショット領域毎に第１方向に沿って走査露光を行う露光方法であって、
前記走査露光を行った先の第１ショット領域と次に走査露光を行う第２ショット領域が、前記第１方向の位置を異ならせて、かつ、前記第１方向に直交する第２方向に隣り合って、配置され、
前記第１ショット領域を露光した後、前記第２ショット領域を露光する前に、前記基板ステージが前記第２方向に移動している間に前記第２ショット領域の面位置を計測する工程と、
前記面位置を計測した結果に基づいて前記第２ショット領域を露光する工程と、
を有することを特徴とする露光方法。
【請求項５】
前記走査露光を行うショット領域を変更するための前記基板ステージの移動は、前記基板ステージが曲線状の軌跡に沿って移動する第１移動と、前記基板ステージが前記第１方向に沿って直線的に移動する第２移動と、を含み、前記基板ステージの移動が前記第１移動である間に前記面位置が計測されることを特徴とする請求項４に記載の露光方法。
【請求項６】
基板ステージに保持された基板に対しショット領域毎に第１方向に沿って走査露光を行う露光装置であって、
前記基板のショット領域が露光光の照射領域に到達する前に前記ショット領域の面位置を計測する検出器と、
前記基板ステージの移動を規定したプロファイルに従って前記基板ステージの移動を制御する制御部と、を備え、
走査露光を行うショット領域を変更するための前記基板ステージの移動は、前記基板ステージが曲線状の軌跡に沿って移動する第１移動と、前記基板ステージが前記第１方向に沿って直線的に移動する第２移動と、を含み、
前記走査露光を行った先の第１ショット領域と、次に走査露光を行う第２ショット領域と、の配置は、前記第１方向における位置が同じで、かつ、前記第１方向に直交する第２方向に隣り合って配置されている第１配置と、前記第１方向における位置を異ならせて、かつ、前記第２方向に隣り合って配置されている第２配置と、を含み、
前記プロファイルは、前記基板ステージの移動が前記第１移動である間に前記面位置が計測され、かつ、前記面位置の計測位置は、前記第１配置における前記第２ショット領域と、前記第２配置における前記第２ショット領域と、で共通するように設定されていることを特徴とする露光装置。
【請求項７】
前記プロファイルは、前記基板ステージの速度、加速度又は加加速度の時間推移として表わされていることを特徴とする請求項６に記載の露光装置。
【請求項８】
請求項１乃至請求項５のいずれか１項に記載の露光方法を用いて基板を走査露光する工程と、
前記工程で走査露光された基板を現像する工程と、
を含むデバイス製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明は、基板ステージに保持された基板に対しショット領域毎に第１方向に沿って走査露光を行う露光方法であって、前記基板のショット領域が露光光の照射領域に到達する前に前記ショット領域の面位置が計測され、前記走査露光を行った先の第１ショット領域と、次に走査露光を行う第２ショット領域と、の配置は、前記第１方向における位置が同じで、かつ、前記第１方向に直交する第２方向に隣り合って配置されている第１配置と、前記第１方向における位置を異ならせて、かつ、前記第２方向に隣り合って配置されている第２配置と、を含み、前記面位置の計測位置は、前記第１配置における前記第２ショット領域と、前記第２配置における前記第２ショット領域と、で共通していることを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
走査露光装置は、ショット領域が露光光の照射領域（露光スリット）に到達する前にショット領域の基準点の面位置を先読み（計測）するフォーカスセンサ（検出器）１８を含むオートフォーカス機構を有している。オートフォーカス機構は、フォーカスセンサ１８により投影光学系１１のショット領域内の中心またはその近傍でショット領域の面位置を先読みし、その面位置をベストフォーカス位置に合わせように基板ステージ１３の高さを調整する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
［基板ステージの移動プロファイル］
図３の（ａ）に、先のショット領域（第１ショット領域）の走査露光を終えた後、走査露光の対象を変更して次のショット領域（第２ショット領域）に移るステップ移動及び次のショット領域のスキャン移動のプロファイルを示す。本実施形態では、先のショット領域と次のショット領域とは、図３の（ｂ）に示されるように、第１方向（Ｙ方向）の位置を同じくして第１方向に直交する第２方向（Ｘ方向）に沿って隣り合って配置されている。露光動作の間、固定された露光スリットに対して基板ステージ１３が移動するが、図３の（ｂ）では、基板ステージ１３に対する露光スリットの相対的な位置の変化（軌跡）を示した。なお、マスクステージ９も基板ステージ１３と同期して駆動されるので、基板ステージ１３のプロファイルと同様のプロファイルに従って駆動される。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
本発明では、Ｘ（非走査）方向の移動を伴ってショット領域間をステップ移動する場合、次のショット領域におけるフォーカス位置の先読み位置（計測位置）は複数のショット領域間で共通している。すなわち、ショット領域のフォーカス位置の先読みを開始する時点の基板ステージ１３すなわちショット領域に対する露光スリットの中心の位置は一定である。すなわち、フォーカス位置の先読みの開始時刻Ｔｐにおける露光スリットの中心の座標を（Ｘｐ，Ｙｐ）とするとき、Ｘｐ、Ｙｐは既知の設計値であり、予め設定されて記憶部１０６に格納されている。また、本実施形態では、基板ステージ１３のＸ方向、Ｙ方向の速度プロファイルは、Ｘ方向の移動の開始時刻Ｔｘｓを除き、図３の（ａ）に示されるとおりのもので既知であるとする。