【手続補正書】
【提出日】平成27年7月16日(2015.7.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本発明の第１の態様によれば、投影光学系を介して照明光で基板を露光する露光方法であって、前記投影光学系の下方に配置されるベース上で非接触に支持され、前記基板を保持するステージを移動することと、前記ステージに格子部とヘッドとの一方が設けられ、かつ前記格子部と前記ヘッドとの他方が前記投影光学系の下端側に配置されるように前記投影光学系を支持するフレーム部材に支持されるエンコーダシステムの、前記格子部と対向する複数の前記ヘッドによって、前記ステージの位置情報を計測することと、前記格子部に起因して生じる前記エンコーダシステムの計測誤差を補償しつつ、前記エンコーダシステムで計測される位置情報に基づいて前記ステージの移動を制御することと、を含む露光方法が、提供される。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
本発明の第３の態様によれば、投影光学系を介して照明光で基板を露光する露光装置であって、前記投影光学系を支持するフレーム部材と、前記投影光学系の下方に配置されるベースと、前記ベース上に配置され、前記基板を保持するステージと、前記ベース上で非接触に支持される前記ステージを駆動する駆動系と、前記ステージに格子部とヘッドとの一方が設けられ、かつ前記格子部と前記ヘッドとの他方が前記投影光学系の下端側に配置されるように前記フレーム部材に支持されるとともに、前記格子部と対向する複数の前記ヘッドによって、前記ステージの位置情報を計測するエンコーダシステムと、前記格子部に起因して生じる前記エンコーダシステムの計測誤差を補償しつつ、前記エンコーダシステムで計測される位置情報に基づいて前記駆動系を制御する制御装置と、を備える露光装置が、提供される。
【手続補正３】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
投影光学系を介して照明光で基板を露光する露光方法であって、
前記投影光学系の下方に配置されるベース上で非接触に支持され、前記基板を保持するステージを移動することと、
前記ステージに格子部とヘッドとの一方が設けられ、かつ前記格子部と前記ヘッドとの他方が前記投影光学系の下端側に配置されるように前記投影光学系を支持するフレーム部材に支持されるエンコーダシステムの、前記格子部と対向する複数の前記ヘッドによって、前記ステージの位置情報を計測することと、
前記格子部に起因して生じる前記エンコーダシステムの計測誤差を補償しつつ、前記エンコーダシステムで計測される位置情報に基づいて前記ステージの移動を制御することと、を含む露光方法。
【請求項２】
請求項１に記載の露光方法において、
前記格子部と前記ヘッドとの他方は、前記フレーム部材から支持部材を介して吊り下げ支持される露光方法。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の露光方法において、
前記投影光学系から離れて前記フレーム部材に支持されるマーク検出系によって、前記基板のマークが検出され、
前記基板の露光動作と前記マークの検出動作とでそれぞれ、前記エンコーダシステムによって前記ステージの位置情報が計測される露光方法。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記投影光学系の下端部を取り囲むように設けられるノズルユニットによって、前記投影光学系の下に液体で液浸領域が形成されるとともに、前記投影光学系と前記液浸領域の液体とを介して前記照明光で前記基板が露光され、
前記格子部と前記ヘッドとの他方は、前記投影光学系に対して前記ノズルユニットの外側に設けられる露光方法。
【請求項５】
請求項４に記載の露光方法において、
前記フレーム部材に設けられる前記ノズルユニットによって前記液浸領域が形成される露光方法。
【請求項６】
請求項４に記載の露光方法において、
前記フレーム部材とは別のフレーム部材に設けられる前記ノズルユニットによって前記液浸領域が形成される露光方法。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記エンコーダシステムによって、前記投影光学系の光軸と垂直な所定平面内で互いに直交する第１及び第２方向と、前記第１及び第２方向と直交する第３方向と、を含む６自由度方向に関する前記ステージの位置情報が計測される露光方法。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記基板はその表面が前記ステージの上面とほぼ同一面となるように前記ステージに載置される露光方法。
【請求項９】
請求項１〜８のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記ステージはその上面の凹部内に配置されるホルダを有し、前記基板の表面が前記上面とほぼ同一面となるように前記凹部内で前記基板を保持する露光方法。
【請求項１０】
請求項１〜９のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記ステージの移動中、前記エンコーダシステムで計測に用いられる前記複数のヘッドの１つが別のヘッドに切り換えられ、
前記切換後、前記複数のヘッドのうち前記１つのヘッドを除く残りのヘッドと、前記別のヘッドと、を含む複数のヘッドによって、前記ステージの位置情報が計測される露光方法。
【請求項１１】
請求項１０に記載の露光方法において、
前記切換前、前記格子部と対向する３つの前記ヘッドによって前記ステージの位置情報が計測されるとともに、前記切換後、前記３つのヘッドのうち前記１つのヘッドを除く２つのヘッドと、前記３つのヘッドと異なる前記別のヘッドと、を含む３つのヘッドによって、前記ステージの位置情報が計測される露光方法。
【請求項１２】
請求項１１に記載の露光方法において、
前記１つのヘッドから前記別のヘッドへの切換は、前記切換前に用いられる前記３つのヘッドと前記別のヘッドとを含む４つのヘッドが前記格子部と対向している間に行なわれる露光方法。
【請求項１３】
請求項１２に記載の露光方法において、
前記格子部は、それぞれ反射型格子が形成される４つのスケール部材を有し、
前記１つのヘッドから前記別のヘッドへの切換は、前記４つのヘッドがそれぞれ前記４つのスケール部材と対向している間に行なわれる露光方法。
【請求項１４】
請求項１〜１３のいずれか一項に記載の露光方法において、
少なくとも前記基板の露光動作中、前記エンコーダシステムの３つ又は４つの前記ヘッドが前記格子部と対向するとともに、前記格子部と対向するヘッドは、前記ステージの移動によって、前記３つのヘッドと前記４つのヘッドとの一方から他方に変更される露光方法。
【請求項１５】
請求項１〜１４のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記格子部は、それぞれ反射型格子が形成される４つのスケール部材を有し、
少なくとも前記基板の露光動作中、前記４つのスケール部材の３つ又は４つとそれぞれ対向して配置される３つ又は４つの前記ヘッドによって前記ステージの位置情報が計測される露光方法。
【請求項１６】
請求項１〜１５のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記ステージの移動制御において、前記格子部の、変形、平坦性、および形成誤差の少なくとも１つに起因して生じる前記エンコーダシステムの計測誤差が補償される露光方法。
【請求項１７】
請求項１〜１６のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記ステージは、前記ヘッドが設けられ、前記基板の露光動作において前記格子部の下方で移動される露光方法。
【請求項１８】
請求項１〜１７のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記ステージの移動中、前記ヘッドに起因して生じる前記エンコーダシステムの計測誤差、前記位置情報の計測方向と異なる方向に関する前記ステージの位置に起因して生じる、前記計測方向に関する前記エンコーダシステムの計測誤差、および前記ステージの傾斜又は回転に起因して生じる前記エンコーダシステムの計測誤差の少なくとも１つも補償される露光方法。
【請求項１９】
デバイス製造方法であって、
請求項１〜１８のいずれか一項に記載の露光方法を用いて基板を露光することと、
前記露光された基板を現像することと、を含むデバイス製造方法。
【請求項２０】
投影光学系を介して照明光で基板を露光する露光装置であって、
前記投影光学系を支持するフレーム部材と、
前記投影光学系の下方に配置されるベースと、
前記ベース上に配置され、前記基板を保持するステージと、
前記ベース上で非接触に支持される前記ステージを駆動する駆動系と、
前記ステージに格子部とヘッドとの一方が設けられ、かつ前記格子部と前記ヘッドとの他方が前記投影光学系の下端側に配置されるように前記フレーム部材に支持されるとともに、前記格子部と対向する複数の前記ヘッドによって、前記ステージの位置情報を計測するエンコーダシステムと、
前記格子部に起因して生じる前記エンコーダシステムの計測誤差を補償しつつ、前記エンコーダシステムで計測される位置情報に基づいて前記駆動系を制御する制御装置と、を備える露光装置。
【請求項２１】
請求項２０に記載の露光装置において、
前記格子部と前記ヘッドとの他方は、前記フレーム部材から支持部材を介して吊り下げ支持される露光装置。
【請求項２２】
請求項２０又は２１に記載の露光装置において、
前記投影光学系から離れて前記フレーム部材に支持され、前記基板のマークを検出するマーク検出系を、さらに備え、
前記基板の露光動作と前記マークの検出動作とでそれぞれ、前記エンコーダシステムによって前記ステージの位置情報が計測される露光装置。
【請求項２３】
請求項２０〜２２のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記投影光学系の下端部を取り囲むように設けられるノズルユニットを有し、前記投影光学系の下に液体で液浸領域を形成する局所液浸装置を、さらに備え、
前記基板は、前記投影光学系と前記液浸領域の液体とを介して前記照明光で露光され、
前記格子部と前記ヘッドとの他方は、前記投影光学系に対して前記ノズルユニットの外側に設けられる露光装置。
【請求項２４】
請求項２３に記載の露光装置において、
前記ノズルユニットは、前記フレーム部材に設けられる露光装置。
【請求項２５】
請求項２３に記載の露光装置において、
前記ノズルユニットは、前記フレーム部材とは別のフレーム部材に設けられる露光装置。
【請求項２６】
請求項２０〜２５のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記エンコーダシステムによって、前記投影光学系の光軸と垂直な所定平面内で互いに直交する第１及び第２方向と、前記第１及び第２方向と直交する第３方向と、を含む６自由度方向に関する前記ステージの位置情報が計測される露光装置。
【請求項２７】
請求項２０〜２６のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記ステージはその上面と前記基板の表面とがほぼ同一面となるように前記基板を載置する露光装置。
【請求項２８】
請求項２０〜２７のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記ステージはその上面の凹部に配置されるホルダを有し、前記基板の表面が前記上面とほぼ同一面となるように前記凹部内で前記基板を保持する露光装置。
【請求項２９】
請求項２０〜２８のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記ステージの移動中、前記計測に用いられる前記複数のヘッドの１つが別のヘッドに切り換えられ、
前記切換後、前記複数のヘッドのうち前記１つのヘッドを除く残りのヘッドと、前記別のヘッドと、を含む複数のヘッドによって、前記ステージの位置情報が計測される露光装置。
【請求項３０】
請求項２９に記載の露光装置において、
前記切換前、前記格子部と対向する３つの前記ヘッドによって前記ステージの位置情報が計測されるとともに、前記切換後、前記３つのヘッドのうち前記１つのヘッドを除く２つのヘッドと、前記３つのヘッドと異なる前記別のヘッドと、を含む３つのヘッドによって、前記ステージの位置情報が計測される露光装置。
【請求項３１】
請求項３０に記載の露光装置において、
前記１つのヘッドから前記別のヘッドへの切換は、前記切換前に用いられる前記３つのヘッドと前記別のヘッドとを含む４つのヘッドが前記格子部と対向している間に行なわれる露光装置。
【請求項３２】
請求項３１に記載の露光装置において、
前記格子部は、それぞれ反射型格子が形成される４つのスケール部材を有し、
前記１つのヘッドから前記別のヘッドへの切換は、前記４つのヘッドがそれぞれ前記４つのスケール部材と対向している間に行なわれる露光装置。
【請求項３３】
請求項２０〜３２のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記エンコーダシステムは、少なくとも前記基板の露光動作中、３つ又は４つの前記ヘッドが前記格子部と対向するとともに、前記格子部と対向するヘッドは、前記ステージの移動によって、前記３つのヘッドと前記４つのヘッドとの一方から他方に変更される露光装置。
【請求項３４】
請求項２０〜３３のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記格子部は、それぞれ反射型格子が形成される４つのスケール部材を有し、
前記エンコーダシステムは、少なくとも前記基板の露光動作中、前記４つのスケール部材の３つ又は４つとそれぞれ対向して配置される３つ又は４つの前記ヘッドによって前記ステージの位置情報を計測する露光装置。
【請求項３５】
請求項２０〜３４のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記制御装置は、前記格子部の、変形、平坦性、および形成誤差の少なくとも１つに起因して生じる前記エンコーダシステムの計測誤差を補償する露光装置。
【請求項３６】
請求項２０〜３５のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記ステージは、前記ヘッドが設けられ、前記基板の露光動作において前記格子部の下方で移動される露光装置。
【請求項３７】
請求項２０〜３６のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記制御装置は、前記ステージの移動中、前記ヘッドに起因して生じる前記エンコーダシステムの計測誤差、前記位置情報の計測方向と異なる方向に関する前記ステージの位置に起因して生じる、前記計測方向に関する前記エンコーダシステムの計測誤差、および前記ステージの傾斜又は回転に起因して生じる前記エンコーダシステムの計測誤差の少なくとも１つも補償する露光装置。
【請求項３８】
デバイス製造方法であって、
請求項２０〜３７のいずれか一項に記載の露光装置を用いて基板を露光することと、
前記露光された基板を現像することと、を含むデバイス製造方法。