(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
大気を吸引する吸引ポンプが設けられ、その下流側に供給量設定用のニードルバルブ及び触媒を通してゼロガスを精製するゼロガス精製器が設けられたゼロガス供給路と、スパン校正用ガス供給路と、前記ゼロガス供給路及びスパン校正用ガス供給路の下流側に接続されて前記ゼロガスとスパン校正用ガスを所定の比で混合する混合器とを備え、この混合器の上流側で前記ゼロガス供給路における吸引ポンプとニードルバルブとの間には、前記吸引ポンプの加圧で発生した大気中の水分を排出する排出流路が接続されている希釈装置において、
前記排出流路に、ゼロガス供給路内のガス圧力が所定圧力より高くなったとき、開弁してガスを排出し前記吸引ポンプとニードルバルブとの間のゼロガス供給路にかかる圧力を一定にコントロールする調圧弁が設けられていることを特徴とする希釈装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、大気を吸引し触媒を通してゼロガスを精製し、ゼロガスとスパン校正用ガスを所定の比で混合する希釈装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来のこの種希釈装置は、例えば図３に示す構成になっている。同図において、１はゼロガス供給路であり、その上流側にフィルタ２を介して吸引ポンプ３が設けられ、その下流側にニードルバルブ４，ドライヤユニット５，ゼロガス精製器６が設けられている。なお、前記ドライヤユニット５には、例えばシリカゲルが用いられている。７はゼロガス供給路１の吸引ポンプ３とニードルバルブ４との間に接続された排出流路であり、排出流路７に、例えば内径φ０．２ｍｍ〜φ０．５ｍｍのキャピラリ８が設けられている。
９はスパン校正用ガスＳＰが収容されたボンベであり、このボンベ９に接続されたスパン校正用ガス供給路１０及び前記ゼロガス供給路１が、ゼロガス精製器６の下流側に設けられた混合器１１に接続されている。１２は混合器１１の下流側に接続された流量計である。
【０００３】
そして、分析計（図示せず）をゼロ校正する場合、吸引ポンプ３により大気Ａを吸引し、ドライヤユニット５を通して除湿し、ゼロガス精製器６により大気中の成分、例えばＳＯ2 ，ＮＯ等を除去し、ゼロガスＺＧを精製して分析計へ供給しゼロ校正を行う。
また、分析計をスパン校正する場合、前記と同様、ゼロガスＺＧを精製すると同時に、混合器１１において、ボンベ９のスパン校正用ガスＳＰとゼロガスＺＧを所定の比で混合し、得られた所定濃度のガスを分析計へ供給してスパン校正を行う。前記混合器１１での希釈比は、例えば、約１／１０００等に設定されている。
前記いずれの場合も、吸引ポンプ３の加圧で発生した大気Ａ中の水分はキャピラリ８を介して排出される。なお、吸引ポンプ３で加圧された水分は、大気Ａの水分濃度により変動する。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
前記希釈装置の場合、吸引ポンプ３の加圧で発生する大気Ａ中の水分はキャピラリ８を介して排出されるが、経年変化による汚れ等により、キャピラリ８の内壁に微粒子が付着し、キャピラリ８の目詰まりが生じるという問題がある。
そして、キャピラリ８の目詰まりにより、ニードルバルブ４までの流路の圧力が変化するため、混合器１１の希釈比が、最初に設定された値から大きく変化し、混合器１１の精度が低くなるという問題がある。
【０００５】
また、キャピラリ８の代わりにドレン排出用ポンプを用いた場合、キャピラリ８に比して、コストが倍以上高くなるとともに、メンテナンスの頻度も大きいという問題がある。
【０００６】
本発明は、上述の事柄に留意してなされたもので、その目的とするところは、ゼロガス供給路の圧力を一定にし、混合器の希釈比を安定させ、混合器の精度を向上し、メンテナンスの頻度が少なく安価な希釈装置を提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、本発明の希釈装置は、大気を吸引する吸引ポンプが設けられ、その下流側に供給量設定用のニードルバルブ及び触媒を通してゼロガスを精製するゼロガス精製器が設けられたゼロガス供給路と、スパン校正用ガス供給路と、前記ゼロガス供給路及びスパン校正用ガス供給路の下流側に接続されて前記ゼロガスとスパン校正用ガスを所定の比で混合する混合器とを備え、この混合器の上流側で前記ゼロガス供給路における吸引ポンプとニードルバルブとの間には、前記吸引ポンプの加圧で発生した大気中の水分を排出する排出流路が接続されている希釈装置において、
前記排出流路に、ゼロガス供給路内のガス圧力が所定圧力より高くなったとき、開弁してガスを排出し前記吸引ポンプとニードルバルブとの間のゼロガス供給路にかかる圧力を一定にコントロールする調圧弁が設けられていることを特徴とするものである。
【０００８】
したがって、ゼロガス供給路に接続された排出流路にゼロガス供給路にかかる圧力を一定にコントロールする調圧弁を設けたため、ゼロガス供給路の圧力を常に一定にコントロールすることができ、最初に設定された一定流量のガスを混合器に供給することができ、混合器の希釈比を安定して保持することができ、混合器の精度を向上することができる。
【０００９】
また、排出流路に設けた調圧弁は、キャピラリに比してメンテナンスの頻度が少なく、ドレン排出用ポンプに比して安価であるという利点がある。
【００１０】
【発明の実施の形態】
実施の１形態につき、図１および図２を参照して説明する。それらの図において、図３と同一符号は同一もしくは相当するものを示す。
まず、概略構成を示した図１において、図３と異なる点は、ゼロガス供給路１に接続された排出流路７に、例えば内径φ６ｍｍの調圧弁１３を設けた点である。
【００１１】
つぎに調圧弁１３の構成を示した図２において、１４は筒状の調圧弁本体であり、本体１４のガス流路１５の上側にばね受用凹部１６が形成され、下側に開閉用凹部１７が形成され、ガス流路１５の上端にガス導入口１８が形成され、下端にガス排出口１９が形成されている。２０は弁体であり、ガス流路１５に下方から挿通されて上下動自在に設けられ、弁体２０の上側の軸部２１がばね受用凹部１６内に位置し、弁体２０の下側の開閉部２２が開閉用凹部１７内に位置し、この開閉部２２の環状溝２３にＯリング２４が嵌入されている。２５はばね受用凹部１６に設けられたばね、２６は周縁部に複数個の切欠２６ａが形成された環状のばね受体であり、弁体２０の軸部２１の端部に螺合し、ばね受体２６によりばね２５が圧縮され、ばね２５により弁体２０が上方に付勢され、弁体２０の開閉部２２のシール面Ｓが本体１４の開閉用凹部１７のシール面Ｓ’に圧接し、開閉用凹部１７を気密に閉塞している。
そして、ゼロガス供給路１に接続されたガス流路１５のガス導入口１８にかかるガス圧が所定圧力より高くなると、ばね受体２６を介してばね２５が圧縮され、図２の鎖線に示すように、弁体２０が下方へ付勢されて移動し、弁体２０の開閉部２２のシール面Ｓが本体１４の開閉用凹部１７のシール面Ｓ’から離脱し、開閉用凹部１７が開放され、ガス排出口１９からガスが排出される。
【００１２】
そして、調圧弁１３により、吸引ポンプ３とニードルバルブ４との間の流路にかかる圧力が、例えば０．３ｋｇ／ｃｍ2 Ｇにコントロールされ、これにより、ニードルバルブ４にてゼロガスＺＧの混合器１１への供給量が設定され、混合器１１の希釈比が安定する。
【００１３】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明の希釈装置は、ゼロガス供給路に接続された排出流路にゼロガス供給路内のガス圧力が所定圧力より高くなったとき、開弁してガスを排出し吸引ポンプとニードルバルブとの間のゼロガス供給路にかかる圧力を一定にコントロールする調圧弁を設けたため、ゼロガス供給路の圧力を常に一定に保ち、最初に設定された一定流量のガスが混合器に供給され、混合器の希釈比を安定して保持するとともに、混合器の精度を向上することができる。
【００１４】
また、排出流路に設けた調圧弁は、キャピラリに比してメンテナンスの周期が５倍から６倍以上延長される。
さらに、調圧弁は、ドレン排出用ポンプに比して価格が１／１０で、安価である。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施の１形態の概略構成図である。
【図２】図１の調圧弁の縦断面図である。
【図３】従来例の概略構成図である。
【符号の説明】
１…ゼロガス供給路、３…吸引ポンプ、４…ニードルバルブ、７…排出流路、１０…スパン校正用ガス供給路、１１…混合器、１３…調圧弁、Ａ…大気、ＳＰ…スパン校正用ガス、ＺＧ…ゼロガス。
【図１】
0003561760.tif 000002
【図２】
0003561760.tif 000003
【図３】
0003561760.tif 000004