(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
式（１）
0003591245.tif 000006
で示されるポリエンジオール。
【請求項２】
一般式（２）
0003591245.tif 000007
（式中、Ａｒは置換基を有していてもよいアリール基、Ｒ１およびＲ２は同一または相異なり、水素原子またはアシル基を示す。）
で示されるスルホン誘導体と塩基とを反応させることを特徴とする前記一般式（１）で示されるポリエンジオールの製造法。
【請求項３】
塩基が、アルカリ金属の水酸化物、アルカリ土類金属の水酸化物、アルカリ金属の水素化物、アルカリ土類金属の水素化物、アルカリ金属のアルコキサイドまたはアルカリ土類金属のアルコキサイドである請求項２記載の製造法。
【請求項４】
塩基の使用量が、前記スルホン誘導体（２）に対して３〜２５モル倍である請求項２記載の製造法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、医薬の中間体、例えばレチノールの中間体として有用なポリエンジオールおよびその製造法に関する。
【０００２】
【従来の技術および発明が解決しようとする課題】
本発明は、新規なポリエンジオールおよびその製造法を提供しようとするものである。
【０００３】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、上記課題を解決するために鋭意検討した結果本発明に至った。
すなわち、本発明は、式（１）
0003591245.tif 000002
で示されるポリエンジオールおよびその製造法を提供するものである。
【０００４】
【発明の実施の形態】
以下、本発明について詳細に説明する。
式（１）で示されるポリエンジオールは、一般式（２）
0003591245.tif 000003
（式中、Ａｒは置換基を有していてもよいアリール基、Ｒ１およびＲ２は同一または相異なり、アシル基を示す。）
で示されるスルホン誘導体と塩基とを反応させることにより得ることができる。
【０００５】
一般式（２）で示されるスルホン誘導体のＲ１、Ｒ２は、水素原子またはアシル基を示すが、アシル基としては具体的には例えばアセチル、ピバロイル、ベンゾイル、ｐ−ニトロベンゾイルなどが挙げられる。
【０００６】
一般式（２）で示されるスルホン誘導体のＡｒは置換基を有していてもよいアリール基を示し、その置換基としては、Ｃ１からＣ５のアルキル基、Ｃ１からＣ５のアルコキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基等が挙げられる。具体的には、例えば、フェニル、ナフチル、ｏ−トリル，ｍ−トリル，ｐ−トリル、ｏ−メトキシフェニル、ｍ−メトキシフェニル、ｐ−メトキシフェニル、ｏ−クロロフェニル、ｍ−クロロフェニル、ｐ−クロロフェニル、ｏ−ブロモフェニル、ｍ−ブロモフェニル、ｐ−ブロモフェニル、ｏ−ヨードフェニル、ｍ−ヨードフェニル、ｐ−ヨードフェニル、ｏ−フルオロフェニル、ｍ−フルオロフェニル、ｐ−フルオロフェニル、ｏ−ニトロフェニル、ｍ−ニトロフェニル、ｐ−ニトロフェニル等が挙げられる。
【０００７】
上記反応に用いられる塩基としては、例えばアルカリ金属の水酸化物、アルカリ土類金属の水酸化物、アルカリ金属の水素化物、アルカリ土類金属の水素化物、アルカリ金属のアルコキサイド、アルカリ土類金属のアルコキサイド等が挙げられ、具体的には、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水素化ナトリウム、水素化カリウム、ナトリウムメトキサイド、カリウムメトキサイド、カリウムｔ−ブトキサイド等が挙げられる。
かかる塩基の使用量はスルホン誘導体（２）に対して、通常、１〜３０モル倍程度、好ましくは、３〜２５モル倍程度である。
【０００８】
上記反応には、通常、有機溶媒が用いられ、かかる溶媒としては例えば、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、アニソール等のエーテル系溶媒、ｎ−ヘキサン、シクロヘキサン、ｎ−ペンタン、トルエン、キシレン等の炭化水素系溶媒、クロロホルム、ジクロロメタン、ジクロロエタン、モノクロロベンゼン、ｏ−ジクロロベンゼン等のハロゲン系溶媒、メタノール、エタノール、ｉ−プロピルアルコール、ｔ−ブチルアルコール等のアルコール系溶媒もしくはＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホリックトリアミド等の非プロトン性極性溶媒が挙げられる。
【０００９】
反応温度は、通常、−７８℃から使用する溶媒の沸点の範囲である。なお反応初期は低温の方が好ましい。また、反応時間は、反応で用いる塩基の種類ならびに反応温度によって異なるが、通常１時間から２４時間程度の範囲で目的を達することができる。
反応後、通常の後処理操作をすることによりポリエンジオール（１）を得ることができる。さらに必要に応じて、シリカゲルクロマトグラフィー等により精製することができる。
なお、本発明の原料であるスルホン誘導体（２）はＥまたはＺ幾何異性体のいずれであっても、またその混合物であってもよい。また、ラセミ体でも光学活性体であってもよい。
【００１０】
本発明の原料化合物であるスルホン誘導体（２）は以下のスルホン類（３）とハロヒドリン誘導体（４）を反応させることにより合成することができる。
0003591245.tif 000004
（式中、Ａｒ、Ｒ１およびＲ２は、前記と同じ意味を表わす。）
また、スルホン類（３）またはハロヒドリン誘導体（４）は、ゲラニオールより合成することができる。
【００１１】
【発明の効果】
本発明のポリエンジオール（１）は、医薬、例えばレチノールの中間体として有用である。
【００１２】
【実施例】
以下、実施例により、本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はこれらにより限定されるものではない。
【００１３】
（実施例１）
フラスコに１，５−ジアセトキシ−３，７−ジメチル−９−（２，６，６−トリメチルシクロヘキセン−１−イル）−９−（４−メチルフェニルスルホニル）−ノナ−２，６−ジエン（以下、化合物（ｃ））０．２０ｇ（０．２７ｍｍｏｌ）とシクロヘキサン４０ｍｌを仕込み、攪拌下、カリウムメトキシド０．２６ｇ（３．７０ｍｍｏｌ）を添加した。４０℃で６時間攪拌後、ＴＬＣにて原料が消失しているのを確認して、反応液に飽和塩化アンモニウム水溶液を注加し、エーテルで抽出した。有機層はあわせて飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで脱水後、溶媒を留去することにより１，５−ジヒドロキシ−３，７−ジメチル−９−（２，６，６−トリメチルシクロヘキセン１−イル）−ノナ−２，６，８−トリエン（ポリエンジオール（１））を収率９５％で得た。
１Ｈ−ＮＭＲ    δ（ＣＤＣｌ３）
１．００（６Ｈ  ，  ｓ）  ，  １．７４（３Ｈ  ，  ｓ）  ，  １．８６（３Ｈ  ，  ｓ）  ，  ２．００（３Ｈ  ，  ｓ）  ，４．１５（２Ｈ  ，  ｂｒ）  ，４．６４（１Ｈ  ，  ｍ）  ，  ５．４０（１Ｈ  ，  ｄ，  Ｊ＝７Ｈｚ）  ，  ５．９９（２Ｈ  ，  ｄ，  Ｊ＝１６Ｈｚ）  ，  ６．１１（２Ｈ  ，  ｄ，  Ｊ＝１６Ｈｚ）
１３Ｃ−ＮＭＲ    δ（ＣＤＣｌ３）
１２．８，  １６．４  ，  １９．３  ，  ２１．６  ，  ２８．８  ，  ３２．９  ，  ３４．１  ，  ３９．５  ，  ４７．７  ，  ５９．０  ，  ６６．２  ，１２６．９，１２７．１，１２９．０，１３２．１，１３５．８，１３５．９，１３７．０，１３７．５
【００１４】
（参考例１）
酢酸ゲラニル４０ｇ（０．２０４ｍｏｌ）をヘキサンに溶解し、トリクロロイソシアヌル酸１７．１ｇ（０．０７１ｍｏｌ）を徐々に仕込み−１０℃〜０℃で６時間保温した。反応後、過剰のトリクロロイソシアヌール酸および副生するイソシアヌル酸は濾過により系外に除去した。濾液は炭酸水素ナトリウム及び水で順次洗浄して、無水硫酸マグネシウムで脱水した後、溶媒を留去することにより粗製物を得た。
得られた粗製物は、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、６−クロロ−３，７−ジメチル−オクタ−２，７−ジエン−１−アセテート（以下、化合物合物（ｆ））を淡黄色オイルとして、８５．５％で得た。
【００１５】
（参考例２）
乾燥した４つ口フラスコに窒素下、微粉末の水酸化ナトリウム６．８ｇ（０．１７ｍｏｌ）、トリフェニルホスフィン２．２ｇ（８．５ｍｍｏｌ）、テトラｎ−ブチルアンモニウムクロライド１．４ｇ（５．１ｍｍｏｌ）、アリルパラジウムクロライドダイマー０．６２ｇ（１．７ｍｍｏｌ），ＴＨＦ１００ｍｌを加えた。そこへ、攪拌下、化合物（ｆ）４０ｇ（０．１７ｍｏｌ）のＴＨＦ溶液１５０ｍｌを室温で１時間かけて滴下した。
室温で３日間攪拌後、ＴＬＣにて原料の消失を確認して、反応混合物を水にあけ、エーテルで抽出した。有機層は飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで脱水後、溶媒を留去することにより、粗製物を得た。得られた粗製物はシリカゲルクロマトグラフィーにて精製し、３，７−ジメチル−オクタ−２，５，７−トリエン−１−アセテート（以下、化合物（ｇ））を６５％の収率で得た。
１Ｈ−ＮＭＲ    δ（ＣＤＣｌ３）
１．７０（３Ｈ，ｓ）    ，  １．８５（３Ｈ，ｓ）    ，  ２．０８（３Ｈ，ｓ）
２．８１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ）    ，  ４．５８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ）
４．９０（２Ｈ，ｓ）    ，５．３７（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ）
５．６１（１Ｈ，ｔｄ，Ｊ＝１６、７Ｈｚ）    ，  ６．１６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５Ｈｚ）
【００１６】
（参考例３）
化合物（ｇ）２０．１ｇ（０．１ｍｏｌ）と酢酸１００ｍｌを仕込み、室温でＮ−ブロモスクシンイミド１８．３ｇ（０．１ｍｏｌ）をゆっくりと添加する。室温で１０〜１５分で反応マスは均一になり、２時間後、ＴＬＣにて原料の消失を確認後、反応混合物を水にあけ、トルエンで抽出した。有機層は無水硫酸マグネシウムで脱水後、溶媒を留去することにより、８−ブロモ−３，７−ジメチル−オクタ−２，６−ジエン−１，５−ジアセテート（以下、化合物（ｂ））と８−ブロモ−３，７−ジメチル−オクタ−２，５−ジエン−１，７−ジアセテート（以下、化合物（ｈ））の約１：１の混合物を９５％の収率で得た。得られた混合物をシリカゲルクロマトグラフィーにて分離精製し、化合物（ｈ）を淡黄色オイルとして収率２９％で、化合物（ｉ）を淡黄色オイルとして収率３０％で単離し、混合物としても収率３１％で得た。
１Ｈ−ＮＭＲ        δ  （ＣＤＣｌ３）
化合物（ｂ）
１．７７（３Ｈ，ｓ）    ，  １．８２（３Ｈ，ｓ），１．９８（（３Ｈ，ｓ）    ，  ２．０２（３Ｈ，ｓ），２．２９（２Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝３５、８、６Ｈｚ）    ，  ３．８９（２Ｈ，ｓ），４．５５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ）    ，  ５．３７（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ），５．４８〜５．６２（２Ｈ，ｍ）
化合物（ｈ）
１．６５（３Ｈ，ｓ）    ，  １．６８（３Ｈ，ｓ），２．０５（３Ｈ，ｓ）    ，  ２．０６（３Ｈ，ｓ），２．７８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６Ｈｚ）    ，  ３．７５（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２６，１１Ｈｚ），４．５７（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ）    ，  ５．３５（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ），５．６１〜５．７７（２Ｈ，ｍ）
【００１７】
（参考例４）
β−シクロゲラニルｐ−トリルスルホン（以下、化合物（ａ））０．５３ｇ（１．８ｍｍｏｌ）とＴＨＦ２０ｍｌを仕込み、溶解してから−６０℃まで冷却した。同温度でｎ−ブチルリチウムのヘキサン溶液を１．１３ｍｌ（１．８ｍｍｏｌ）をゆっくりと滴下し、３時間保温した。その後、化合物（ｂ）０．３ｇ（０．９ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液５ｍｌを１時間かけて滴下した。同温度で３時間攪拌後、ＴＬＣにて原料の一方が消失しているのを確認して、反応マスを飽和塩化アンモニウム水溶液にあけ、エーテルで抽出した。有機層は飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄して、無水硫酸マグネシウムで脱水した。溶媒を留去することにより、粗製物を得た。得られた粗製物はシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、化合物（ｃ）を淡黄色オイルとして収率７４％で単離した。（Ｒｆ値    ０．３８  ：  ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝３／１）
１Ｈ−ＮＭＲ    δ（ＣＤＣｌ３）
０．７６（６Ｈ，ｄ，  Ｊ＝１４Ｈｚ）    ，  ０．９５（６Ｈ，ｄ，  Ｊ＝１４Ｈｚ）  ，  １．３９（３Ｈ，ｓ）  ，  １．７０（３Ｈ，ｓ）
２．００（３Ｈ，ｓ）  ，    ２．０１（３Ｈ，ｓ）  ，    ２．０３（３Ｈ，ｓ）  ，  ２．４４（３Ｈ  ，ｓ）  ，  ２．６６−２．９５（２Ｈ，ｍ）
３．８２−３．８６（１Ｈ，ｍ）  ，  ４．５３（２Ｈ，ｄ，  Ｊ＝７Ｈｚ）
５．１０（１Ｈ，ｄ，  Ｊ＝９Ｈｚ）  ，  ５．２０（１Ｈ，ｄ，  Ｊ＝９Ｈｚ）
５．３４（１Ｈ，ｂｒ）  ，  ５．５６（１Ｈ，ｂｒ）  ，  ７．３３（２Ｈ，ｄ，  Ｊ＝８Ｈｚ）  ，  ７．７６（２Ｈ，ｄ  ，  Ｊ＝８Ｈｚ）
１３Ｃ−ＮＭＲ    δ（ＣＤＣｌ３）
１５．１，  １６．０  ，  １６，１  ，  １６．６  ，  １８．８  ，  ２０．８  ，  ２０．９  ，  ２１．４  ，  ２８．２  ，  ２９．０  ，  ３５．５  ，  ４０．５，  ４４．６  ，  ６０．８  ，  ６５．３  ．  ６５．５  ，  ６５．７  ，  ６８．３，  ６８．５  ，  ６８．８  ，  １２１．９  ，１２７．１  ，  １２８．３  ，  １２９．４  ，  １３０．５  ，  １３０．６  ，  １３６．２  ，  １３７．１  ，  １３７．６  ，  １３７．７  ，  １３８．４  ，  １４４．０  ，  １６９．８  ，  １７０．０  ，  １７０．７
【００１８】
以下に実施例および参考例の化合物の構造式を記す。
但し、Ｔｓは、ｐ−トリルスルホニル基を示す。
0003591245.tif 000005