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　特願２０００−１１３３６１「薄膜形成装置用部材及びその製造方法」拒絶査定不服審判事件〔平成１３年１０月２６日出願公開、特開２００１−２９５０２４〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１．手続の経緯・本願発明 
　本願は平成１２年４月１４日の出願であって、平成１７年６月９日付けで拒絶理由が通知され（発送日は同年６月２１日）、その指定期間内である同年８月１８日に意見書及び補正書が提出され、さらに、平成１８年１月２６日付けで拒絶理由が通知され（発送日は同年２月７日）、その指定期間内である同年３月１０日に意見書が提出され、同年４月１７日付けで拒絶査定され（発送日は同年４月２５日）、同年５月２４日に拒絶査定不服審判請求されたものである。
　本願請求項１〜１４に係る発明は、平成１７年８月１８日付け手続補正書により補正された特許請求の範囲第１〜１４項に記載された事項に特定されるとおりであるものと認められるところ、その請求項１に係る発明（以下、「本願発明」という。）は、次のとおりのものである。 
　
「【請求項１】　薄膜形成装置内にある部材としてのターゲットの不要な薄膜の堆積が生ずる部分にマスクエッチング加工により形成された複数の凹凸を有し、該形成された凸部は頂部平面から斜面へなだらかな曲面により接続しており、該凸部の断面における中央右半分をｙ軸ｘ軸の座標系と想定し、凸部の頂部平面から斜面になる起点をｘ１、凸部の頂部平面の延長線と斜面の接線との交点をｘ２とした場合に、ｘ２−ｘ１＞０であることを特徴とする薄膜形成装置用部材。」
　
２．引用例
２−１．原査定の拒絶の理由に引用文献１として引用された本願出願前に頒布された刊行物である特開平１０−３３０９７１号公報（以下、「引用例１」という。）には、以下の事項が記載されている。
（１）「【請求項１】　薄膜形成装置の内壁または装置内にある部材の一部の面または全面の不要な薄膜の堆積が生ずる部分に、複数の凹凸が形成されるようにマスキングし、次にこれをエッチング加工した後、前記マスキングを除去して複数の凹凸を形成することを特徴とする薄膜形成装置用部材の製造方法。」（請求項１）
（２）「【請求項２】　薄膜形成装置内にある部材の一部の面または全面におけるエッチング加工により形成された凹凸部のエッチング加工面の中心線表面粗さ（Ｒａ）が５〜１００（未満）μｍである複数の凹部または凸部を備えていることを特徴とする薄膜形成装置用部材。」（請求項２）
（３）「【請求項３】　凹凸の間隔が一定であり、規則的に配列されていることを特徴とする請求項２に記載する薄膜形成装置用部材。」（請求項３）
（４）「【請求項４】　エッチング加工面に、単位面積（１平方ｍｍ）当たり１〜１０００００個の凹部または凸部が形成されていることを特徴とする請求項２または３のそれぞれに記載する薄膜形成装置用部材。」（請求項４）
（５）「【請求項５】　個々の凹部の孔の平均径または凸部の平坦な頂部の面の平均径が３〜１０００μｍであることを特徴とする請求項２〜４のそれぞれに記載する薄膜形成装置用部材。」（請求項５）
（６）「スパッタリングなどの気相成長による薄膜の形成に際し、パ−ティクルの発生という問題が大きく取り上げられるようになってきた。このパ−ティクルはたとえばスパッタリング法においてタ−ゲット起因の物・・・・・・パ−ティクル発生の原因の一つとして薄膜形成装置の内壁や内部に存在する部材の、本来ならば膜の形成が不必要である部分への薄膜の堆積の問題が大きく上げられる。」（【０００３】〜【０００５】）
（７）「本発明は、薄膜形成装置内部を汚染させることなく、薄膜形成装置の内壁や装置の内部にある機器部材表面に形成された堆積物の剥離を効果的に防止し、、パ−ティクルの発生を抑制する薄膜形成装置用部材の製造方法および同装置用部材を提供することにある。」（【００１１】）
（８）「【発明の実施の形態】・・・・・・被処理材１に光硬化型のレジスト２を粗化する面に均一に塗布し、次いで硬化させたいレジストの部位に光を当てて硬化させる。その後、硬化させなかった部位のレジスト２を洗浄除去しする。次に、下地の素材すなわち被処理材１とレジスト材２に応じて、酸性水溶液もしくはアルカリ水溶液または反応性ガスなどのエッチング材を選択する。そしてレジスト材２を塗布した被処理材１を前記選択したエッチング雰囲気に置き、レジスト２が残存する場所以外をエッチング加工３して表面に凹凸を形成する。・・・・・・エッチング加工により形成した凹凸は、間隔が一定であり規則的に配列されている。」（【００１３】〜【００２２】）
（９）「【実施例】・・・・・・表１において凹凸のサイズとは、上記に説明した凹部の孔の平均径または凸部の平坦な頂部の面の平均径を示す。」（【００２７】）
（１０）表１の実施例７はＲａ５０μｍ、凹凸のサイズが５０μｍ、凹凸の個数が２００個／ｍｍ２、同実施例９はＲａ９０μｍ、凹凸のサイズが２５０μｍ、凹凸の個数が８個／ｍｍ２である。（【００２８】）
　
　上記記載について検討する。
（あ）上記（６）の記載によれば、パーティクルはターゲットに起因の物があり、パーティクル発生の原因の一つとして薄膜形成装置内部に存在する部材の、本来ならば膜の形成が不必要である部分への薄膜の堆積があるといえる。
（い）上記（７）の記載によれば、上記（あ）の薄膜の堆積物の剥離を防止することにより、パーティクルの発生が抑制されるといえる。
（う）上記（１）の記載によれば、薄膜形成装置に内の不要な薄膜の堆積が生じる部分は、複数の凹凸が形成されるようにマスキングし、次にこれをエッチング加工した凸部を備えているといえる。
　
　上記（あ）〜（う）の検討を踏まえ、上記（１）〜（７）の記載を本願発明の記載ぶりに則して整理すると、引用例１には、
「薄膜形成装置の内部に存在する部材の、膜の形成が不必要である、ターゲットに起因するパーティクルが原因となる薄膜の堆積が生じる部分に、複数の凹凸が形成されるようにマスキングし、エッチング加工した凸部を備えている薄膜形成装置用部材」の発明（以下、「引用発明」という。）が記載されていると認める。
　
２−２．原査定の拒絶の理由に引用文献２として引用された本願出願前に頒布された刊行物である特開平８−２７７４６０号公報（以下、「引用例２」という。）には、以下の事項が記載されている。
（１１）「本発明は成膜装置内で使用される構成部品に関するものであり、更に詳しくは、スパッタリング、ＣＶＤ、真空蒸着等の気相成長方法による成膜装置用の構成部品に関するものである。」（【０００１】）
（１２）「本発明は上記の問題に鑑みてなされ、成膜材料が厚く付着堆積しても剥離し脱落しない成膜装置用構成部品、及びその製造方法を提供することを目的とする。」（【０００９】）
（１３）「（実施例１）アルミニウム合金（・・・・・・）の平板（・・・・・・）の片面をエンドミルで機械加工して、・・・・・・凹凸を設けた。・・・・・・溝を掘り、形成される山Ｍと谷Ｎには・・・・・・丸みを付け・・・・・・母材１とした。」（【００１４】）
（１４）「剥離応力が大きいとされるＴａの付着堆積物が剥離脱落することはなかった。」（【００１６】）
（１５）「ＩＴＯはＴａやＭｏに比べて本質的に剥離応力が小さいので、凹凸の角に丸みを与えないアルミニウム合金平板を母材としても付着堆積物を剥離脱落させなかったと思考される。」（【００２２】）
（１６）「凹凸は付着堆積物の剥離応力を分散させるものであり、その形状やサイズは付着堆積する成膜材料の本質的な剥離応力の大きさに応じて決定すればよく、一概には定め得ない。又、剥離応力の大きさは付着堆積物の厚さに比例するので、本質的に剥離応力の小さい成膜材料が薄くしか付着堆積しない成膜装置用構成部品おいては、平面状の母材とすることも可能である。又、・・・・・・放電加工・・・・・・によって凹凸を設けてもよい。」（【００２９】）
　そうすると、引用例２には、
（か）気相成長方法による成膜装置の部品、すなわち、薄膜形成装置用部材において、付着した成膜材料を脱落させないために凹凸を設けるに当たり、凹凸の角に丸みを与えると付着した剥離しやすい成膜材料の剥離脱落をさせないこと、
（き）この凹凸の形状やサイズは付着する成膜材料や堆積厚さによって決まり、凹凸は小さくてもよい場合があること、
（く）この凹凸は放電加工によって設けてもよいこと、
が記載されているといえる。
　
３．対比・判断
（さ）引用発明の「薄膜形成装置の内部に存在する部材の、膜の形成が不必要である、ターゲットに起因するパーティクルが原因となる薄膜の堆積が生じる部分」は、本願発明の「薄膜形成装置内にある部材としてのターゲットの不要な薄膜の堆積が生ずる部分」に他ならない。
（し）引用発明の「マスキングし、エッチング加工」は、本願発明の「マスクエッチング加工」に相当する。
　そうすると、両者は、共に、
　「薄膜形成装置用内にある部材としてのターゲットの不要な薄膜の堆積が生じる部分にマスクエッチング加工により形成された複数の凹凸を有する薄膜形成装置用部材」である点で一致し、
　形成された凸部につき、本願発明が、「頂部平面から斜面へなだらかな曲面により接続しており、該凸部の断面における中央右半分をｙ軸ｘ軸の座標系と想定し、凸部の頂部平面から斜面になる起点をｘ１、凸部の頂部平面の延長線と斜面の接線との交点をｘ２とした場合に、ｘ２−ｘ１＞０である」のに対し、引用発明はかかる事項について言及がない点（以下、「相違点」という。）で相違している。
　
　相違点を検討するに当たり、まず、上記相違点に係る本願発明の特定事項についてみてみることにする。
「凸部の断面における中央右半分をｙ軸ｘ軸の座標系と想定し、凸部の頂部平面から斜面になる起点をｘ１」なる特定事項をみると、「本発明の凸部４（ほぼ右半分）の断面模式図である」図３において、番号６で表される「斜面」とはｘ１より右方の部分、すなわち、なだらかな曲線部分（同図において番号８で表されるもの）を含むと解される。そうすると、曲面と斜面の区別ができず、曲面部分に対して複数の接線を引くことができるから、「斜面の接線」は一意的に定めることができず、また、「凸部の頂部平面の延長線と斜面の接線との交点をｘ２」も一意的に定めることはできない。すなわち、模式図である図３を基にしてｘ２を一意的に定めることはできない。
　さらに、「凹凸を形成する（例えばエッチング加工）場合の一例を示す工程の概略説明図である」図１（Ｄ）を参照すると、「エッチング加工部３」、すなわち斜面は曲面であることが視認され、仮に、曲面と斜面が区別できたとしても、斜面が曲面であるからその接線も一意的に定めることはできず、その結果、ｘ２も一意的に定めることはできない。
　そうすると、上記相違点に係る本願発明の特定事項は、上記「凸部の断面における中央右半分をｙ軸ｘ軸の座標系と想定し、凸部の頂部平面から斜面になる起点をｘ１」なる特定事項と図１及び図３のみを参照するだけでは、凸部がどのような形状を特定したものか明りょうでなく、凸部の形状が判然としない。
　そこで、本願明細書の記載をさらにみてみることにする。
　本願明細書の【００１０】には、「凹凸の肩部からデポ膜（堆積した膜）が剥離することが認められた。これは凹凸部の肩部の形状が急峻な角度でありここに堆積する膜や層に構造の乱れが発生し、これが内部歪を誘発してデポ膜の剥離をもたらし、結果としてパーティクル発生の原因となることが分かり、本発明はこれを防止するためにさらに改良したものである。」、同【００２３】には、「凸部のエッジ部８が丸みを帯びていることが重要であり、この凸部の丸みを帯びたエッジ部の形状により膜の応力が分散し、剥離し難くなる。」と、それぞれ、記載されている。
　これらの記載によれば、凸部のエッジ部８が丸みを帯びていること、すなわち、本願発明の特定事項では「凸部は頂部平面から斜面へなだらかな曲面により接続して」いることが、堆積した膜を剥離し難くするといえる。そして、凸部から凹部に向かって斜め（傾いて）凹凸部が形成されていれば、すなわち、凸部から凹部に向かって斜面となってさえいれば、「凸部の断面における中央右半分をｙ軸ｘ軸の座標系と想定し、凸部の頂部平面から斜面になる起点をｘ１、凸部の頂部平面の延長線と斜面の接線との交点をｘ２とした場合に、ｘ２−ｘ１＞０である」ｘ１及びｘ２が少なくとも一つ定められることは明らかである。
　さらに、上記特定事項の「凸部の断面における中央右半分をｙ軸ｘ軸の座標系と想定」することは、中央右半分以外の凸部の形状を特定していないことである。しかし、上記特定事項の「凸部は頂部平面から斜面へなだらかな曲面により接続しており」や、マスクエッチング加工により複数の凹凸分を形成していること、「被処理材にエッチング加工により凹凸を形成した平面」（【００２２】）とされている図２（Ａ）を参照すると凸部の断面は平面視でほぼ円状に形成されていることが視認されるから、凸部の断面は右半分のみに存在するのではなく凸部全周にわたって存在するといえ、また、デポ膜の剥離は凸部全周にわたってし難くするべきものと解される。そうすると、中央右半分以外の凸部の断面以外の断面も、この凸部の断面における中央をｙ軸ｘ軸の座標系原点とし斜面のある方向をｘ軸正方向と想定し、凸部の頂部平面から斜面になる起点をｘ１、凸部の頂部平面の延長線と斜面の接線との交点をｘ２とした場合に、ｘ２−ｘ１＞０である、ｘ１及びｘ２が少なくとも一つ存在するものと推認される。
　以上の検討を踏まえ、上記相違点に係る本願発明の特定事項は、
「凸部は頂部平面から斜面へなだらかな曲面により接続しており、該凸部のすべての断面において、この断面の中央をｙ軸ｘ軸の座標系原点とし斜面のある方向をｘ軸正方向と想定し、凸部の頂部平面から斜面になる起点をｘ１、凸部の頂部平面の延長線と斜面の接線との交点をｘ２とした場合に、ｘ２−ｘ１＞０である、ｘ１及びｘ２が少なくとも一つ存在する」と解する。
　次に、この相違点について検討する。
　引用文献２には、上記（か）〜（く）で示した事項が記載されていると認められ、凹凸の角に丸みを設けることにより凹凸部の角からの成膜材料の剥離を防止できること、この凹凸の大きさは付着する成膜材料や堆積厚さにより放電加工によって設けてよい小さなもの（放電加工は数μｍ程度の加工が可能）が含まれるから上記丸みは小さくてもかまわないことが教示されているといえ、引用文献２に接した当業者は、引用発明において、マスクエッチングによって形成した微小な凹凸の角に丸みを設けること、すなわち、凸部が頂部平面から斜面へなだらかな曲面により接続されるようにすることは困難なくなしえたことである。
　そして、上述のとおり、凸部のエッジ部が丸みを帯びていること、すなわち、「凸部が頂部平面から斜面へなだらかな曲面により接続」されるようにすれば、凸部のすべての断面において、この断面の中央をｙ軸ｘ軸の座標系原点とし斜面のある方向をｘ軸正方向と想定し、凸部の頂部平面から斜面になる起点をｘ１、凸部の頂部平面の延長線と斜面の接線との交点をｘ２とした場合に、ｘ２−ｘ１＞０である、ｘ１及びｘ２が少なくとも一つ存在するから、上記相違点に係る本願発明の特定事項をなすことは当業者であれば容易になしえたことである。
　そして、このようにした作用・効果も当然に予想できる程度のものである。
　
　なお、上記相違点に係る本願発明の特定事項は、引用発明は明言こそないものの当然に備えているともとれなくもない。
　すなわち、
（た）上記（８）の記載によれば、引用発明は、本願発明と同じ「マスクエッチング加工により形成された複数の凹凸」を有していること
（ち）上記（１０）の実施例７、９のＲａは凹凸の高さの差とみてよいから、これらの凹凸の高さの差は本願の請求項５及び６に特定される範囲に含まれる。
（つ）上記（２）及び（８）の記載によれば、引用発明のマスクエッチング加工により形成された凹凸は、「間隔が一定であり規則的に配列されている」おり、本願の請求項２の特定事項を満足し、さらに、この規則的に配列されていることを前提に上記（１０）の実施例７、９の凹凸の間隔（周期）を上記（９）の記載を踏まえて計算すると、
実施例７：（１−５０×√２００）／（√２００−１）＋５０＝７０μｍ
実施例９：（１−２５０×√８）／（√８−１）＋２５０＝４１６μｍ
となり、本願請求項３及び４の特定事項を満足すること、
からみて、引用発明のマスクエッチング加工と本願発明のマスクエッチング加工に差がないといえ、さらに、
（せ）マスクエッチングはエッチング物質によって侵食された部分（点）が集合して（連なって）エッチング面を形成するから、拡大視すれば、全てのエッチング面は平面にならず、なだらかな曲面になっていることは技術常識に照らし明らかであること、
（そ）本願請求項１では、ｘ２−ｘ１の値は正であることを特定はしているもののその具体的な値について何等言及はされていない。すなわち、凸部の頂部平面から斜面との間がなだらかな曲面になってさえいればよく、その曲面の形状について、何等言及をしていないこと、
からみて、引用発明と本願発明は同一である可能性が極めて高い。
　
４．むすび 
　以上のとおり、本願発明は、引用文献１及び２に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることはできない。
　したがって、その余の請求項について論及するまでもなく、本願は拒絶すべきものである。
　よって、結論のとおり審決する。