(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
イソプレンの含有量が１〜４５モル％であり、数平均分子量（Ｍｎ）／重量平均分子量（Ｍｗ）の比であるＱ値が３．５以下であり、温度７０℃におけるキシレン溶媒による極限粘度［η］が０．３以上であり、下記（Ａ）と、下記（Ｂ）及び／又は下記（Ｃ）とを用いてなるオレフィン重合用触媒の存在下、α−オレフィンと共役ポリエンを重合して得られ、かつイソプレン部分の１，４結合が９３〜１００モル％であり、かつイソプレン部分のシス含量が４３〜５１モル％であるエチレン−イソプレンランダム共重合体。
（Ａ）： 下記一般式［Ｉ］〜［III］で表される遷移金属錯体のうちの少なくとも一種
0003577978.tif 000009
（上記一般式［Ｉ］〜［III］においてそれぞれ、Ｍ1は元素の周期律表の第４族の遷移金属原子を示し、Ａは元素の周期律表の第１６族の原子を示し、Ｊは元素の周期律表の第１４族の原子を示す。Ｃｐ1はシクロペンタジエン形アニオン骨格を有する基を示す。Ｘ1、Ｘ2、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5及びＲ6はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アラルキル基、アリール基、置換シリル基、アルコキシ基、アラルキルオキシ基、アリールオキシ基又は２置換アミノ基を示す。Ｘ3は元素の周期律表の第１６族の原子を示す。Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5及びＲ6は任意に結合して環を形成してもよい。二つのＭ1、Ａ、Ｊ、Ｃｐ1、Ｘ1、Ｘ2、Ｘ3、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5及びＲ6はそれぞれ同じであっても異なっていてもよい。）
（Ｂ）：下記（Ｂ１）〜（Ｂ３）から選ばれる１種以上のアルミニウム化合物  （Ｂ１）一般式  Ｅ1aＡｌＺ3-aで示される有機アルミニウム化合物
（Ｂ２）一般式  ｛−Ａｌ（Ｅ2）−Ｏ−｝bで示される構造を有する環状のアルミノキサン
（Ｂ３）一般式  Ｅ3｛−Ａｌ（Ｅ3）−Ｏ−｝cＡｌＥ32で示される構造を有する線状のアルミノキサン
（但し、Ｅ1、Ｅ2及びＥ3は、それぞれ炭化水素基であり、全てのＥ1、全てのＥ2及び全てのＥ3は同じであっても異なっていてもよい。Ｚは水素原子又はハロゲン原子を表し、全てのＺは同じであっても異なっていてもよい。ａは０＜ａ≦３を満足する数を、ｂは２以上の整数を、ｃは１以上の整数を表す。）
（Ｃ）：下記（Ｃ１）〜（Ｃ３）のいずれかのホウ素化合物
（Ｃ１）一般式  ＢＱ1Ｑ2Ｑ3で表されるホウ素化合物、
（Ｃ２）一般式  Ｇ+（ＢＱ1Ｑ2Ｑ3Ｑ4）-で表されるホウ素化合物、
（Ｃ３）一般式  （Ｌ−Ｈ）+（ＢＱ1Ｑ2Ｑ3Ｑ4）-で表されるホウ素化合物
（但し、Ｂは３価の原子価状態のホウ素原子であり、Ｑ1〜Ｑ4はハロゲン原子、炭化水素基、ハロゲン化炭化水素基、置換シリル基、アルコキシ基又は２置換アミノ基であり、それらは同じであっても異なっていてもよい。Ｇ+は無機又は有機のカチオンであり、Ｌは中性ルイス塩基であり、（Ｌ−Ｈ）+はブレンステッド酸である。）
【請求項２】
一般式［Ｉ］、［II］又は［III］におけるＡが、酸素原子である請求項１記載のエチレン−イソプレンランダム共重合体。
【請求項３】
一般式［II］又は［III］におけるＸ3が、酸素原子である請求項１記載のエチレン−イソプレンランダム共重合体。
【請求項４】
一般式［Ｉ］、［II］又は［III］におけるＲ1が、アルキル基、アラルキル基、アリール基又は置換シリル基である請求項１記載のエチレン−イソプレンランダム共重合体。
【請求項５】
一般式［Ｉ］、［II］又は［III］におけるＸ1及びＸ2が、それぞれ独立にハロゲン原子、アルキル基、アラルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基又は２置換アミノ基である請求項１記載のエチレン−イソプレンランダム共重合体。
【請求項６】
化合物（Ｂ）が、トリエチルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウム又はメチルアルミノキサンである請求項１記載のエチレン−イソプレンランダム共重合体。
【請求項７】
化合物（Ｃ）が、ジメチルアニリニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート又はトリフェニルメチルテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレートである請求項１記載のエチレン−イソプレンランダム共重合体。
【請求項８】
請求項１記載の（Ａ）と、（Ｂ）及び（Ｃ）とを用いてなるオレフィン重合用触媒の存在下、α−オレフィンと共役ポリエンを重合する請求項１〜３のうちの一の請求項記載のエチレン−イソプレンランダム共重合体。
【請求項９】
請求項１〜８のうちの一の請求項に記載のエチレン−イソプレンランダム共重合体１００重量部、無機充填剤及び／又はカーボンブラック５〜４００重量部及び架橋剤０．１〜２０重量部を含有するエラストマー組成物。
【請求項１０】
請求項９記載のエラストマー組成物を架橋して得られる架橋エラストマー組成物。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、エチレン−イソプレンランダム共重合体、エラストマー組成物及び架橋エラストマー組成物に関するものである。更に詳しくは、本発明は、加硫速度が速く、かつ加硫密度が高いという特徴を有するエチレン−イソプレンランダム共重合体、該エチレン−イソプレンランダム共重合体を用いたエラストマー組成物及び架橋エラストマー組成物に関するものである。尚、ここで言う「ランダム共重合体」とは学術的表現として「講談社  エッセンシャル高分子科学、中浜  精一等著  ２１頁」に相当する。
【０００２】
【従来の技術】
従来、エチレン−イソプレンランダム共重合体としては、特公昭４８−５６７７５号公報において、塩化バナジウム化合物を用いたエチレン−イソプレン無定形共重合体の製造方法が開示されている。また、ＤＯＮＧ−ＨＯＬＥＥ等は、Ｅｔ（Ｉｎｄ）２ＺｒＣｌ２／ＭＡＯを用いる技術を開示している（Ｅｕｒ．Ｐｏｌｙｍ．Ｊ．Ｖｏｌ．３３，Ｎｏ．４，ｐｐ４４７，１９９７）。しかしながら、加硫速度が速く、かつ加硫密度が高いという特徴を有するエチレン−イソプレンランダム共重合体は知られていなかった。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
かかる現状において、本発明が解決しようとする課題は、加硫速度が速く、かつ加硫密度が高いという特徴を有するエチレン−イソプレンランダム共重合体、該エチレン−イソプレンランダム共重合体を用いたエラストマー組成物及び架橋エラストマー組成物を提供する点に存するものである。なお、加硫速度が速いことによって加硫工程又はその後処理工程におけるコストダウンが可能となり、かつ加硫促進剤の使用量の削減も可能となる。また、加硫密度が高い場合、高発泡で高剛性のスポンジゴムを得ることができること、低温セット性及び耐油性に優れること、高充填が可能となりコストダウンが可能となること等の利点を有する。
【０００４】
【課題を解決するための手段】
すなわち、本発明のうち第一の発明は、イソプレンの含有量が１〜４５モル％であり、数平均分子量（Ｍｎ）／重量平均分子量（Ｍｗ）の比であるＱ値が３．５以下であり、温度７０℃におけるキシレン溶媒による極限粘度［η］が０．３以上であり、下記（Ａ）と、下記（Ｂ）及び／又は下記（Ｃ）とを用いてなるオレフィン重合用触媒の存在下、α−オレフィンと共役ポリエンを重合して得られ、かつイソプレン部分の１，４結合が９３〜１００モル％であり、かつイソプレン部分のシス含量が４３〜５１モル％であるエチレン−イソプレンランダム共重合体に係るものである。
（Ａ）： 下記一般式［Ｉ］〜［III］で表される遷移金属錯体のうちの少なくとも一種
0003577978.tif 000002
（上記一般式［Ｉ］〜［III］においてそれぞれ、Ｍ1は元素の周期律表の第４族の遷移金属原子を示し、Ａは元素の周期律表の第１６族の原子を示し、Ｊは元素の周期律表の第１４族の原子を示す。Ｃｐ1はシクロペンタジエン形アニオン骨
格を有する基を示す。Ｘ1、Ｘ2、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5及びＲ6はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アラルキル基、アリール基、置換シリル基、アルコキシ基、アラルキルオキシ基、アリールオキシ基又は２置換アミノ基を示す。Ｘ3は元素の周期律表の第１６族の原子を示す。Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5及びＲ6は任意に結合して環を形成してもよい。二つのＭ1、Ａ、Ｊ、Ｃｐ1、Ｘ1、Ｘ2、Ｘ3、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5及びＲ6はそれぞれ同じであっても異なっていてもよい。）
（Ｂ）：下記（Ｂ１）〜（Ｂ３）から選ばれる１種以上のアルミニウム化合物  （Ｂ１）一般式  Ｅ1aＡｌＺ3-aで示される有機アルミニウム化合物
（Ｂ２）一般式  ｛−Ａｌ（Ｅ2）−Ｏ−｝bで示される構造を有する環状のアルミノキサン
（Ｂ３）一般式  Ｅ3｛−Ａｌ（Ｅ3）−Ｏ−｝cＡｌＥ32で示される構造を有する線状のアルミノキサン
（但し、Ｅ1、Ｅ2及びＥ3は、それぞれ炭化水素基であり、全てのＥ1、全てのＥ2及び全てのＥ3は同じであっても異なっていてもよい。Ｚは水素原子又はハロゲン原子を表し、全てのＺは同じであっても異なっていてもよい。ａは０＜ａ≦３を満足する数を、ｂは２以上の整数を、ｃは１以上の整数を表す。）
（Ｃ）：下記（Ｃ１）〜（Ｃ３）のいずれかのホウ素化合物
（Ｃ１）一般式  ＢＱ1Ｑ2Ｑ3で表されるホウ素化合物、
（Ｃ２）一般式  Ｇ+（ＢＱ1Ｑ2Ｑ3Ｑ4）-で表されるホウ素化合物、
（Ｃ３）一般式  （Ｌ−Ｈ）+（ＢＱ1Ｑ2Ｑ3Ｑ4）-で表されるホウ素化合物
（但し、Ｂは３価の原子価状態のホウ素原子であり、Ｑ1〜Ｑ4はハロゲン原子、炭化水素基、ハロゲン化炭化水素基、置換シリル基、アルコキシ基又は２置換アミノ基であり、それらは同じであっても異なっていてもよい。Ｇ+は無機又は有機のカチオンであり、Ｌは中性ルイス塩基であり、（Ｌ−Ｈ）+はブレンステッド酸である。）
【０００５】
また、本発明のうち第二の発明は、上記第一の発明のエチレン−イソプレンランダム共重合体１００重量部、無機充填剤及び／又はカーボンブラック５〜４００重量部及び架橋剤０．１〜２０重量部を含有するエラストマー組成物に係るものである。
【０００６】
更に、本発明のうち第三の発明は、上記第二の発明のエラストマー組成物を架橋して得られる架橋エラストマー組成物に係るものである。
【０００７】
【発明の実施の形態】
本発明のエチレン−イソプレンランダム共重合体のうち一の共重合体は、イソプレンの含有量が１〜４５モル％であるエチレン−イソプレンランダム共重合体であり、好ましくは該含有量が１．２〜４０モル％であるエチレン−イソプレンランダム共重合体である。イソプレンの含有量が過少であると加硫が十分ではなくなり、一方イソプレンの含有量が過多であると触媒活性や分子量の低下、及び加硫密度の低下を生じる。
【０００８】
本発明のエチレン−イソプレンランダム共重合体のうち他の共重合体は、数平均分子量（Ｍｎ）／重量平均分子量（Ｍｗ）の比であるＱ値が３．５以下であるエチレン−イソプレンランダム共重合体であり、好ましくは１．８〜３．５のものであり、更に好ましくは１．８〜２．５のものである。Ｑ値が過大であると、たとえばフィルム等の用途に使用した場合には、強度の低下、ブリ−ド成分の増加、抽出成分の増加によるフィルムのべたつき等の問題が発生し、また低密度のゴムとして使用した場合には、架橋物性、たとえば圧縮永久歪み、引っ張り剛性等が劣るといったように実用物性上の問題点が発生する。
【０００９】
分子量分布はゲルパーミエイションクロマトグラフ（ＧＰＣ）法（たとえば、Ｗａｔｅｒｓ社製、１５０Ｃ／ＧＰＣ装置）により行う。溶出温度は１４０℃、使用カラムは、たとえば昭和電工社製Ｓｈｏｄｅｘ  Ｐａｃｋｅｄ  ＣｏｌｕｍｎＡ−８０Ｍ、分子量標準物質はポリスチレン（たとえば、東ソー社製、分子量６８−８，４００，０００）を用いる。得られたポリスチレン換算重量平均分子量（Ｍｗ）、数平均分子量（Ｍｎ）、更にこの比（Ｍｗ／Ｍｎ）を分子量分布とする。測定サンプルは約５ｍｇの重合体を５ｍｌのｏ−ジクロロベンゼンに溶解、約１ｍｇ／ｍｌの濃度とする。得られたサンプル溶液の４００μｌをインジェクションし、溶出溶媒流速は１．０ｍｌ／ｍｉｎとし、屈折率検出器にて検出する。
【００１０】
本発明のエチレン−イソプレンランダム共重合体は、低分子量領域から高分子量領域までの分子量分布に対するエチレンとイソプレンの含量の比はほとんど均一であって、組成分布が狭い特徴を有する。
【００１１】
本発明のα−オレフィン−共役ポリエン共重合体は、温度７０℃におけるキシレン溶媒による極限粘度［η］が０．３以上であり、好ましくは０．５以上である。該極限粘度が低すぎると、得られるエチレン−イソプレンランダム共重合体の物性及び加工性に劣る場合がある。極限粘度［η］の測定は、７０℃キシレン中でウベローデ粘度計を用いて行う。サンプルは３００ｍｇを１００ｍｌキシレンに溶解し、３ｍｇ／ｍｌの溶液を調整した。更に当該溶液を１／２、１／３、１／５に希釈し、それぞれを７０℃（±０．１℃）の恒温水槽中で測定する。それぞれの濃度で３回繰り返し測定し、得られた値を平均して用いる。
【００１２】
本発明のエチレン−イソプレンランダム共重合体は、下記（Ａ）と、下記（Ｂ）及び／又は下記（Ｃ）とを用いてなるオレフィン重合用触媒を用いて製造され得る。すなわち、ポリマー内への触媒残渣の混入が少なく、特に塩素含有量が従来のチーグラー・ナッタ触媒を使用していた時と比較して、格段に低下する。このことは、ポリマーの変色を抑制し、また食品用途等への用途拡大にも効果をおよぼし、最適に製造することを意味する。
（Ａ）： 下記一般式［Ｉ］〜［III］で表される遷移金属錯体のうちの少なくとも一種
0003577978.tif 000003
（上記一般式［Ｉ］〜［III］においてそれぞれ、Ｍ1は元素の周期律表の第４族の遷移金属原子を示し、Ａは元素の周期律表の第１６族の原子を示し、Ｊは元素の周期律表の第１４族の原子を示す。Ｃｐ1はシクロペンタジエン形アニオン骨格を有する基を示す。Ｘ1、Ｘ2、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5及びＲ6はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アラルキル基、アリール基、置換シリル基、アルコキシ基、アラルキルオキシ基、アリールオキシ基又は２置換アミノ基を示す。Ｘ3は元素の周期律表の第１６族の原子を示す。Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5及びＲ6は任意に結合して環を形成してもよい。二つのＭ1、Ａ、Ｊ、Ｃｐ1、Ｘ1、Ｘ2、Ｘ3、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5及びＲ6はそれぞれ同じであっても異なっていてもよい。）
（Ｂ）：下記（Ｂ１）〜（Ｂ３）から選ばれる１種以上のアルミニウム化合物  （Ｂ１）一般式  Ｅ1aＡｌＺ3-aで示される有機アルミニウム化合物
（Ｂ２）一般式  ｛−Ａｌ（Ｅ2）−Ｏ−｝bで示される構造を有する環状のアルミノキサン
（Ｂ３）一般式  Ｅ3｛−Ａｌ（Ｅ3）−Ｏ−｝cＡｌＥ32で示される構造を有する線状のアルミノキサン
（但し、Ｅ1、Ｅ2及びＥ3は、それぞれ炭化水素基であり、全てのＥ1、全てのＥ2及び全てのＥ3は同じであっても異なっていてもよい。Ｚは水素原子又はハロゲン原子を表し、全てのＺは同じであっても異なっていてもよい。ａは０＜ａ≦３を満足する数を、ｂは２以上の整数を、ｃは１以上の整数を表す。）
（Ｃ）：下記（Ｃ１）〜（Ｃ３）のいずれかのホウ素化合物
（Ｃ１）一般式  ＢＱ1Ｑ2Ｑ3で表されるホウ素化合物、
（Ｃ２）一般式  Ｇ+（ＢＱ1Ｑ2Ｑ3Ｑ4）-で表されるホウ素化合物、
（Ｃ３）一般式  （Ｌ−Ｈ）+（ＢＱ1Ｑ2Ｑ3Ｑ4）-で表されるホウ素化合物
（但し、Ｂは３価の原子価状態のホウ素原子であり、Ｑ1〜Ｑ4はハロゲン原子、炭化水素基、ハロゲン化炭化水素基、置換シリル基、アルコキシ基又は２置換アミノ基であり、それらは同じであっても異なっていてもよい。Ｇ+は無機又は有機のカチオンであり、Ｌは中性ルイス塩基であり、（Ｌ−Ｈ）+はブレンステッド酸である。）
【００１３】
上記の製造方法により、ポリマー内への触媒残渣の混入が少なく、特に塩素含有量が従来のチーグラー・ナッタ触媒を使用していた時と比較して、格段に低下する。このことは、ポリマーの変色を抑制し、また食品用途等への用途拡大にも効果をおよぼし、最適に製造することを意味する。
【００１４】
以下、上記の製造法について、更に詳しく説明する。
（Ａ）遷移金属錯体について説明する。
遷移金属錯体（Ａ）は一般式［Ｉ］、［ＩＩ］又は［ＩＩＩ］で表される。
一般式［Ｉ］、［ＩＩ］又は［ＩＩＩ］において、Ｍ１で示される遷移金属原子とは、元素の周期律表（ＩＵＰＡＣ無機化学命名法改訂版１９８９）の第４族の遷移金属元素を示し、たとえばチタニウム原子、ジルコニウム原子、ハフニウム原子などがあげられる。好ましくはチタニウム原子又はジルコニウム原子である。
一般式［Ｉ］、［ＩＩ］又は［ＩＩＩ］においてＡとして示される元素の周期律表の第１６族の原子としては、たとえば酸素原子、硫黄原子、セレン原子などがあげられ、好ましくは酸素原子である。
一般式［Ｉ］、［ＩＩ］又は［ＩＩＩ］においてＪとして示される元素の周期律表の第１４族の原子としては、たとえば炭素原子、ケイ素原子、ゲルマニウム原子などがあげられ、好ましくは炭素原子又はケイ素原子である。
【００１５】
置換基Ｃｐ１として示されるシクロペンタジエン形アニオン骨格を有する基としては、たとえばη５−（置換）シクロペンタジエニル基、η５−（置換）インデニル基、η５−（置換）フルオレニル基などである。具体的に例示すれば、たとえばη５−シクロぺンタジエニル基、η５−メチルシクロペンタジエニル基、η５−ジメチルシクロペンタジエニル基、η５−トリメチルシクロペンタジエニル基、η５−テトラメチルシクロペンタジエニル基、η５−エチルシクロぺンタジエニル基、η５−ｎ−プロピルシクロペンタジエニル基、η５−イソプロピルシクロペンタジエニル基、η５−ｎ−ブチルシクロペンタジエニル基、η５−ｓｅｃ−ブチルシクロペンタジエニル基、η５−ｔｅｒｔ−ブチルシクロぺンタジエニル基、η５−ｎ−ペンチルシクロぺンタジエニル基、η５−ネオペンチルシクロぺンタジエニル基、η５−ｎ−ヘキシルシクロぺンタジエニル基、η５−ｎ−オクチルシクロぺンタジエニル基、η５−フェニルシクロぺンタジエニル基、η５−ナフチルシクロぺンタジエニル基、η５−トリメチルシリルシクロぺンタジエニル基、η５−トリエチルシリルシクロぺンタジエニル基、η５−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルシクロぺンタジエニル基、η５−インデニル基、η５−メチルインデニル基、η５−ジメチルインデニル基、η５−エチルインデニル基、η５−ｎ−プロピルインデニル基、η５−イソプロピルインデニル基、η５−ｎ−ブチルインデニル基、η５−ｓｅｃ−ブチルインデニル基、η５−ｔｅｒｔ−ブチルインデニル基、η５−ｎ−ペンチルインデニル基、η５−ネオペンチルインデニル基、η５−ｎ−ヘキシルインデニル基、η５−ｎ−オクチルインデニル基、η５−ｎ−デシルインデニル基、η５−フェニルインデニル基、η５−メチルフェニルインデニル基、η５−ナフチルインデニル基、η５−トリメチルシリルインデニル基、η５−トリエチルシリルインデニル基、η５−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルインデニル基、η５−テトラヒドロインデニル基、η５−フルオレニル基、η５−メチルフルオレニル基、η５−ジメチルフルオレニル基、η５−エチルフルオレニル基、η５−ジエチルフルオレニル基、η５−ｎ−プロピルフルオレニル基、η５−ジ−ｎ−プロピルフルオレニル基、η５−イソプロピルフルオレニル基、η５−ジイソプロピルフルオレニル基、η５−ｎ−ブチルフルオレニル基、η５−ｓｅｃ−ブチルフルオレニル基、η５−ｔｅｒｔ−ブチルフルオレニル基、η５−ジ−ｎ−ブチルフルオレニル基、η５−ジ−ｓｅｃ−ブチルフルオレニル基、η５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフルオレニル基、η５−ｎ−ペンチルフルオレニル基、η５−ネオペンチルフルオレニル基、η５−ｎ−ヘキシルフルオレニル基、η５−ｎ−オクチルフルオレニル基、η５−ｎ−デシルフルオレニル基、η５−ｎ−ドデシルフルオレニル基、η５−フェニルフルオレニル基、η５−ジ−フェニルフルオレニル基、η５−メチルフェニルフルオレニル基、η５−ナフチルフルオレニル基、η５−トリメチルシリルフルオレニル基、η５−ビス−トリメチルシリルフルオレニル基、η５−トリエチルシリルフルオレニル基、η５−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルフルオレニル基などがあげられ、好ましくはη５−シクロペンタジエニル基��η５−メチルシクロペンタジエニル基、η５−ｔｅｒｔ−ブチルシクロペンタジエニル基、η５−テトラメチルシクロペンタジエニル基、η５−インデニル基、又はη５−フルオレニル基である。
【００１６】
置換基Ｘ１、Ｘ２、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５又はＲ６におけるハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などが例示され、好ましくは塩素原子又は臭素原子であり、より好ましくは塩素原子である。
【００１７】
置換基Ｘ１、Ｘ２、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５又はＲ６におけるアルキル基としては、炭素原子数１〜２０のアルキル基が好ましく、たとえばメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ネオペンチル基、アミル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−オクチル基、ｎ−デシル基、ｎ−ドデシル基、ｎ−ペンタデシル基、ｎ−エイコシル基などがあげられ、より好ましくはメチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基又はアミル基である。
【００１８】
これらのアルキル基はいずれも、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などのハロゲン原子で置換されていてもよい。ハロゲン原子で置換された炭素原子数１〜２０のアルキル基としては、たとえばフルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、クロロメチル基、ジクロロメチル基、トリクロロメチル基、ブロモメチル基、ジブロモメチル基、トリブロモメチル基、ヨードメチル基、ジヨードメチル基、トリヨードメチル基、フルオロエチル基、ジフルオロエチル基、トリフルオロエチル基、テトラフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、クロロエチル基、ジクロロエチル基、トリクロロエチル基、テトラクロロエチル基、ペンタクロロエチル基、ブロモエチル基、ジブロモエチル基、トリブロモエチル基、テトラブロモエチル基、ペンタブロモエチル基、パーフルオロプロピル基、パーフルオロブチル基、パーフルオロペンチル基、パーフルオロヘキシル基、パーフルオロオクチル基、パーフルオロドデシル基、パーフルオロペンタデシル基、パーフルオロエイコシル基、パークロロプロピル基、パークロロブチル基、パークロロペンチル基、パークロロヘキシル基、パークロロクチル基、パークロロドデシル基、パークロロペンタデシル基、パークロロエイコシル基、パーブロモプロピル基、パーブロモブチル基、パーブロモペンチル基、パーブロモヘキシル基、パーブロモオクチル基、パーブロモドデシル基、パーブロモペンタデシル基、パーブロモエイコシル基などがあげられる。
またこれらのアルキル基はいずれも、メトキシ基、エトキシ基等のアルコキシ基、フェノキシ基などのアリールオキシ基又はベンジルオキシ基などのアラルキルオキシ基などで一部が置換されていてもよい。
【００１９】
置換基Ｘ１、Ｘ２、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５又はＲ６におけるアラルキル基としては、炭素原子数７〜２０のアラルキル基が好ましく、たとえばベンジル基、（２−メチルフェニル）メチル基、（３−メチルフェニル）メチル基、（４−メチルフェニル）メチル基、（２，３−ジメチルフェニル）メチル基、（２，４−ジメチルフェニル）メチル基、（２，５−ジメチルフェニル）メチル基、（２，６−ジメチルフェニル）メチル基、（３，４−ジメチルフェニル）メチル基、（４，６−ジメチルフェニル）メチル基、（２，３，４−トリメチルフェニル）メチル基、（２，３，５−トリメチルフェニル）メチル基、（２，３，６−トリメチルフェニル）メチル基、（３，４，５−トリメチルフェニル）メチル基、（２，４，６−トリメチルフェニル）メチル基、（２，３，４，５−テトラメチルフェニル）メチル基、（２，３，４，６−テトラメチルフェニル）メチル基、（２，３，５，６−テトラメチルフェニル）メチル基、（ペンタメチルフェニル）メチル基、（エチルフェニル）メチル基、（ｎ−プロピルフェニル）メチル基、（イソプロピルフェニル）メチル基、（ｎ−ブチルフェニル）メチル基、（ｓｅｃ−ブチルフェニル）メチル基、（ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）メチル基、（ｎ−ペンチルフェニル）メチル基、（ネオペンチルフェニル）メチル基、（ｎ−ヘキシルフェニル）メチル基、（ｎ−オクチルフェニル）メチル基、（ｎ−デシルフェニル）メチル基、（ｎ−ドデシルフェニル）メチル基、（ｎ−テトラデシルフェニル）メチル基、ナフチルメチル基、アントラセニルメチル基などがあげられ、より好ましくはベンジル基である。
これらのアラルキル基はいずれも、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などのハロゲン原子、メトキシ基、エトキシ基等のアルコキシ基、フェノキシ基などのアリールオキシ基又はベンジルオキシ基などのアラルキルオキシ基などで一部が置換されていてもよい。
【００２０】
置換基Ｘ１、Ｘ２、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５又はＲ６におけるアリール基としては、炭素原子数６〜２０のアリール基が好ましく、たとえばフェニル基、２−トリル基、３−トリル基、４−トリル基、２，３−キシリル基、２，４−キシリル基、２，５−キシリル基、２，６−キシリル基、３，４−キシリル基、３，５−キシリル基、２，３，４−トリメチルフェニル基、２，３，５−トリメチルフェニル基、２，３，６−トリメチルフェニル基、２，４，６−トリメチルフェニル基、３，４，５−トリメチルフェニル基、２，３，４，５−テトラメチルフェニル基、２，３，４，６−テトラメチルフェニル基、２，３，５，６−テトラメチルフェニル基、ペンタメチルフェニル基、エチルフェニル基、ｎ−プロピルフェニル基、イソプロピルフェニル基、ｎ−ブチルフェニル基、ｓｅｃ−ブチルフェニル基、ｔｅｒｔ−ブチルフェニル基、ｎ−ペンチルフェニル基、ネオペンチルフェニル基、ｎ−ヘキシルフェニル基、ｎ−オクチルフェニル基、ｎ−デシルフェニル基、ｎ−ドデシルフェニル基、ｎ−テトラデシルフェニル基、ナフチル基、アントラセニル基などがあげられ、より好ましくはフェニル基である。
これらのアリール基はいずれも、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などのハロゲン原子、メトキシ基、エトキシ基等のアルコキシ基、フェノキシ基などのアリールオキシ基又はベンジルオキシ基などのアラルキルオキシ基などで一部が置換されていてもよい。
【００２１】
置換基Ｘ１、Ｘ２、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５又はＲ６における置換シリル基とは炭化水素基で置換されたシリル基であって、ここで炭化水素基としては、たとえばメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、イソブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、シクロヘキシル基などの炭素原子数１〜１０のアルキル基、フェニル基などのアリール基などがあげられる。かかる炭素原子数１〜２０の置換シリル基としては、たとえばメチルシリル基、エチルシリル基、フェニルシリル基などの炭素原子数１〜２０の１置換シリル基、ジメチルシリル基、ジエチルシリル基、ジフェニルシリル基などの炭素原子数２〜２０の２置換シリル基、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリ−ｎ−プロピルシリル基、トリイソプロピルシリル基、トリ−ｎ−ブチルシリル基、トリ−ｓｅｃ−ブチルシリル基、トリ−ｔｅｒｔ−ブチルシリル基、トリ−イソブチルシリル基、ｔｅｒｔ−ブチル−ジメチルシリル基、トリ−ｎ−ペンチルシリル基、トリ−ｎ−ヘキシルシリル基、トリシクロヘキシルシリル基、トリフェニルシリル基などの炭素原子数３〜２０の３置換シリル基などがあげられ、好ましくはトリメチルシリル基、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基、又はトリフェニルシリル基である。
これらの置換シリル基はいずれもその炭化水素基が、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などのハロゲン原子、メトキシ基、エトキシ基等のアルコキシ基、フェノキシ基などのアリールオキシ基又はベンジルオキシ基などのアラルキルオキシ基などで一部が置換されていてもよい。
【００２２】
置換基Ｘ１、Ｘ２、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５又はＲ６におけるアルコキシ基としては、炭素原子数１〜２０のアルコキシ基が好ましく、たとえばメトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、ｎ−ペントキシ基、ネオペントキシ基、ｎ−ヘキソキシ基、ｎ−オクトキシ基、ｎ−ドデソキシ基、ｎ−ペンタデソキシ基、ｎ−イコソキシ基などがあげられ、より好ましくはメトキシ基、エトキシ基、又はｔｅｒｔ−ブトキシ基である。
これらのアルコキシ基はいずれも、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などのハロゲン原子、メトキシ基、エトキシ基等のアルコキシ基、フェノキシ基などのアリールオキシ基又はベンジルオキシ基などのアラルキルオキシ基などで一部が置換されていてもよい。
【００２３】
置換基Ｘ１、Ｘ２、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５又はＲ６におけるアラルキルオキシ基としては、炭素原子数７〜２０のアラルキルオキシ基が好ましく、たとえばベンジルオキシ基、（２−メチルフェニル）メトキシ基、（３−メチルフェニル）メトキシ基、（４−メチルフェニル）メトキシ基、（２，３−ジメチルフェニル）メトキシ基、（２，４−ジメチルフェニル）メトキシ基、（２，５−ジメチルフェニル）メトキシ基、（２，６−ジメチルフェニル）メトキシ基、（３，４−ジメチルフェニル）メトキシ基、（３，５−ジメチルフェニル）メトキシ基、（２，３，４−トリメチルフェニル）メトキシ基、（２，３，５−トリメチルフェニル）メトキシ基、（２，３，６−トリメチルフェニル）メトキシ基、（２，４，５−トリメチルフェニル）メトキシ基、（２，４，６−トリメチルフェニル）メトキシ基、（３，４，５−トリメチルフェニル）メトキシ基、（２，３，４，５−テトラメチルフェニル）メトキシ基、（２，３，４，６−テトラメチルフェニル）メトキシ基、（２，３，５，６−テトラメチルフェニル）メトキシ基、（ペンタメチルフェニル）メトキシ基、（エチルフェニル）メトキシ基、（ｎ−プロピルフェニル）メトキシ基、（イソプロピルフェニル）メトキシ基、（ｎ−ブチルフェニル）メトキシ基、（ｓｅｃ−ブチルフェニル）メトキシ基、（ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）メトキシ基、（ｎ−ヘキシルフェニル）メトキシ基、（ｎ−オクチルフェニル）メトキシ基、（ｎ−デシルフェニル）メトキシ基、（ｎ−テトラデシルフェニル）メトキシ基、ナフチルメトキシ基、アントラセニルメトキシ基などがあげられ、より好ましくはベンジルオキシ基である。
これらのアラルキルオキシ基はいずれも、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などのハロゲン原子、メトキシ基、エトキシ基等のアルコキシ基、フェノキシ基などのアリールオキシ基又はベンジルオキシ基などのアラルキルオキシ基などで一部が置換されていてもよい。
【００２４】
置換基Ｘ１、Ｘ２、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５又はＲ６におけるアリールオキシ基としては、炭素原子数６〜２０のアリールオキシ基が好ましく、たとえばフェノキシ基、２−メチルフェノキシ基、３−メチルフェノキシ基、４−メチルフェノキシ基、２，３−ジメチルフェノキシ基、２，４−ジメチルフェノキシ基、２，５−ジメチルフェノキシ基、２，６−ジメチルフェノキシ基、３，４−ジメチルフェノキシ基、３，５−ジメチルフェノキシ基、２，３，４−トリメチルフェノキシ基、２，３，５−トリメチルフェノキシ基、２，３，６−トリメチルフェノキシ基、２，４，５−トリメチルフェノキシ基、２，４，６−トリメチルフェノキシ基、３，４，５−トリメチルフェノキシ基、２，３，４，５−テトラメチルフェノキシ基、２，３，４，６−テトラメチルフェノキシ基、２，３，５，６−テトラメチルフェノキシ基、ペンタメチルフェノキシ基、エチルフェノキシ基、ｎ−プロピルフェノキシ基、イソプロピルフェノキシ基、ｎ−ブチルフェノキシ基、ｓｅｃ−ブチルフェノキシ基、ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシ基、ｎ−ヘキシルフェノキシ基、ｎ−オクチルフェノキシ基、ｎ−デシルフェノキシ基、ｎ−テトラデシルフェノキシ基、ナフトキシ基、アントラセノキシ基などがあげられる。
これらのアリールオキシ基はいずれも、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などのハロゲン原子、メトキシ基、エトキシ基等のアルコキシ基、フェノキシ基などのアリールオキシ基又はベンジルオキシ基などのアラルキルオキシ基などで一部が置換されていてもよい。
【００２５】
置換基Ｘ１、Ｘ２、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５又はＲ６における２置換アミノ基とは２つの炭化水素基で置換されたアミノ基であって、ここで炭化水素基としては、たとえばメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、イソブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、シクロヘキシル基などの炭素原子数１〜１０のアルキル基、フェニル基などの炭素原子数６〜１０のアリール基、炭素原子数７〜１０のアラルキル基などがあげられる。かかる炭素原子数１〜１０の炭化水素基で置換された２置換アミノ基としては、たとえばジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジ−ｎ−プロピルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、ジ−ｎ−ブチルアミノ基、ジ−ｓｅｃ−ブチルアミノ基、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルアミノ基、ジ−イソブチルアミノ基、ｔｅｒｔ−ブチルイソプロピルアミノ基、ジ−ｎ−ヘキシルアミノ基、ジ−ｎ−オクチルアミノ基、ジ−ｎ−デシルアミノ基、ジフェニルアミノ基、ビストリメチルシリルアミノ基、ビス−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルアミノ基などがあげられ、好ましくはジメチルアミノ基又はジエチルアミノ基である。これらの２置換アミノ基はいずれも、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などのハロゲン原子、メトキシ基、エトキシ基等のアルコキシ基、フェノキシ基などのアリールオキシ基又はベンジルオキシ基などのアラルキルオキシ基などで一部が置換されていてもよい。
置換基Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６は、任意に結合して環を形成していてもよい。
好ましいＲ１としては、アルキル基、アラルキル基、アリール基及び置換シリル基をあげることができる。
好ましいＸ１及びＸ２としては、それぞれ独立にハロゲン原子、アルキル基、アラルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基及び２置換アミノ基をあげることができ、更に好ましいものとしては、ハロゲン原子及びアルコキシ基をあげることができる。
一般式［ＩＩ］又は［ＩＩＩ］においてＸ３として示される元素の周期律表の第１６族の原子としては、たとえば酸素原子、硫黄原子、セレン原子などがあげられ、好ましくは酸素原子である。
【００２６】
一般式［Ｉ］で表される遷移金属錯体としては、たとえばメチレン（シクロペンタジエニル）（３，５−ジメチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、メチレン（シクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、メチレン（シクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、メチレン（シクロペンタジエニル）（３−フェニル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、メチレン（シクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、メチレン（シクロペンタジエニル）（３−トリメチルシリル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、メチレン（シクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メトキシ−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、メチレン（シクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−クロロ−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、メチレン（メチルシクロペンタジエニル）（３，５−ジメチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、メチレン（メチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、メチレン（メチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、メチレン（メチルシクロペンタジエニル）（３−フェニル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、メチレン（メチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、メチレン（メチルシクロペンタジエニル）（３−トリメチルシリル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、メチレン（メチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メトキシ−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、メチレン（メチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−クロロ−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、メチレ
ン（ｔｅｒｔ−ブチルシクロペンタジエニル）（３，５−ジメチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、メチレン（ｔｅｒｔ−ブチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、メチレン（ｔｅｒｔ−ブチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、メチレン（ｔｅｒｔ−ブチルシクロペンタジエニル）（３−フェニル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、メチレン（ｔｅｒｔ−ブチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、メチレン（ｔｅｒｔ−ブチルシクロペンタジエニル）（３−トリメチルシリル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、メチレン（ｔｅｒｔ−ブチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メトキシ−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、メチレン（ｔｅｒｔ−ブチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−クロロ−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、メチレン（テトラメチルシクロペンタジエニル）（３，５−ジメチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、メチレン（テトラメチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、メチレン（テトラメチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、メチレン（テトラメチルシクロペンタジエニル）（３−フェニル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、メチレン（テトラメチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、メチレン（テトラメチルシクロペンタジエニル）（３−トリメチルシリル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、メチレン（テトラメチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メトキシ−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、メチレン（テトラメチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−クロロ−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、メチレン（トリメチルシリルシクロペンタジエニル）（３，５−ジメチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、メチレン（トリメチルシリルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、メチレン（トリメチルシリルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、メチレン（トリメチルシリルシクロペンタジエニル）（３−フェニル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、メチレン（トリメチルシリルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、メチレン（トリメチルシリルシクロペンタジエニル）（３−トリメチルシリル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、メチレン（トリメチルシリルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メトキシ−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、メチレン（トリメチルシリルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−クロロ−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、メチレン（フルオレニル）（３，５−ジメチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、メチレン（フルオレニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、メチレン（フルオレニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、メチレン（フルオレニル）（３−フェニル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、メチレン（フルオレニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、メチレン（フルオレニル）（３−トリメチルシリル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、メチレン（フルオレニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メトキシ−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、メチレン（フルオレニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−クロロ−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（シクロペンタジエニル）（３，５−ジメチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（シクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（シクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（シクロペンタジエニル）（３−フェニル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（シクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（シクロペンタジエニル）（３−トリメチルシリル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（シクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メトキシ−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（シクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−クロロ−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（メチルシクロペンタジエニル）（３，５−ジメチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（メチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（メチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（メチルシクロペンタジエニル）（３−フェニル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（メチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（メチルシクロペンタジエニル）（３−トリメチルシリル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（メチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メトキシ−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（メチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−クロロ−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（ｔｅｒｔ−ブチルシクロペンタジエニル）（３，５−ジメチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（ｔｅｒｔ−ブチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（ｔｅｒｔ−ブチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（ｔｅｒｔ−ブチルシクロペンタジエニル）（３−フェニル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（ｔｅｒｔ−ブチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（ｔｅｒｔ−ブチルシクロペンタジエニル）（３−トリメチルシリル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（ｔｅｒｔ−ブチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メトキシ−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（ｔｅｒｔ−ブチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−クロロ−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（テトラメチルシクロペンタジエニル）（３，５−ジメチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（テトラメチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（テトラメチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（テトラメチルシクロペンタジエニル）（３−フェニル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（テトラメチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（テトラメチルシクロペンタジエニル）（３−トリメチルシリル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（テトラメチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メトキシ−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（テトラメチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−クロロ−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（トリメチルシリルシクロペンタジエニル）（３，５−ジメチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（トリメチルシリルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（トリメチルシリルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（トリメチルシリルシクロペンタジエニル）（３−フェニル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（トリメチルシリルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（トリメチルシリルシクロペンタジエニル）（３−トリメチルシリル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（トリメチルシリルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メトキシ−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（トリメチルシリルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−クロロ−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（フルオレニル）（３，５−ジメチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（フルオレニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（フルオレニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（フルオレニル）（３−フェニル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（フルオレニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（フルオレニル）（３−トリメチルシリル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（フルオレニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メトキシ−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（フルオレニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−クロロ−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（シクロペンタジエニル）（３，５−ジメチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（シクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（シクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（シクロペンタジエニル）（３−フェニル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（シクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（シクロペンタジエニル）（３−トリメチルシリル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（シクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メトキシ−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（シクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−クロロ−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（メチルシクロペンタジエニル）（３，５−ジメチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（メチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（メチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（メチルシクロペンタジエニル）（３−フェニル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（メチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（メチルシクロペンタジエニル）（３−トリメチルシリル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（メチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メトキシ−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（メチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−クロロ−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（ｔｅｒｔ−ブチルシクロペンタジエニル）（３，５−ジメチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（ｔｅｒｔ−ブチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（ｔｅｒｔ−ブチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（ｔｅｒｔ−ブチルシクロペンタジエニル）（３−フェニル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（ｔｅｒｔ−ブチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（ｔｅｒｔ−ブチルシクロペンタジエニル）（３−トリメチルシリル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（ｔｅｒｔ−ブチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メトキシ−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（ｔｅｒｔ−ブチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−クロロ−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（テトラメチルシクロペンタジエニル）（３，５−ジメチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（テトラメチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（テトラメチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（テトラメチルシクロペンタジエニル）（３−フェニル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（テトラメチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（テトラメチルシクロペンタジエニル）（３−トリメチルシリル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（テトラメチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メトキシ−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（テトラメチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−クロロ−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（トリメチルシリルシクロペンタジエニル）（３，５−ジメチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（トリメチルシリルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（トリメチルシリルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（トリメチルシリルシクロペンタジエニル）（３−フェニル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（トリメチルシリルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（トリメチルシリルシクロペンタジエニル）（３−トリメチルシリル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（トリメチルシリルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メトキシ−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（トリメチルシリルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−クロロ−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（フルオレニル）（３，５−ジメチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（フルオレニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（フルオレニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（フルオレニル）（３−フェニル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（フルオレニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（フルオレニル）（３−トリメチルシリル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（フルオレニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メトキシ−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（フルオレニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−クロロ−２−フェノキシ）チタニウムジクロライドなどや、これらの化合物のチタニウムをジルコニウム、又はハフニウムに変更した化合物、ジクロライドをジブロミド、ジアイオダイド、ビス（ジメチルアミド）、ビス（ジエチルアミド）、ジ−ｎ−ブトキシド、又はジイソプロポキシドに変更した化合物、（シクロペンタジエニル）を（ジメチルシクロペンタジエニル）、（トリメチルシクロペンタジエニル）、（ｎ−ブチルシクロペンタジエニル）、（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルシクロペンタジエニル）、又は（インデニル）に変更した化合物、（３，５−ジメチル−２−フェノキシ）を（２−フェノキシ）、（３−メチル−２−フェノキシ）、（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−２−フェノキシ）、（３−フェニル−５−メチル−２−フェノキシ）、（３−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル−２−フェノキシ）、又は（３−トリメチルシリル−２−フェノキシ）に変更した化合物などといった一般式［Ｉ］におけるＪが炭素原子である遷移金属錯体ならびに、ジメチルシリル（シクロペンタジエニル）（２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリル（シクロペンタジエニル）（３−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリル（シクロペンタジエニル）（３，５−ジメチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリル（シクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリル（シクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリル（シクロペンタジエニル）（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリル（シクロペンタジエニル）（５−メチル−３−フェニル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリル（シクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリル（シクロペンタジエニル）（５−メチル−３−トリメチルシリル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリル（シクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メトキシ−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリル（シクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−クロロ−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリル（シクロペンタジエニル）（３，５−ジアミル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリル（メチルシクロペンタジエニル）（２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリル（メチルシクロペンタジエニル）（３−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリル（メチルシクロペンタジエニル）（３，５−ジメチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリル（メチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリル（メチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリル（メチルシクロペンタジエニル）（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリル（メチルシクロペンタジエニル）（５−メチル−３−フェニル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリル（メチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリル（メチルシクロペンタジエニル）（５−メチル−３−トリメチルシリル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリル（メチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メトキシ−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリル（メチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−クロロ−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリル（メチルシクロペンタジエニル）（３，５−ジアミル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリル（ｎ−ブチルシクロペンタジエニル）（２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリル（ｎ−ブチルシクロペンタジエニル）（３−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリル（ｎ−ブチルシクロペンタジエニル）（３，５−ジメチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリル（ｎ−ブチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリル（ｎ−ブチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリル（ｎ−ブチルシクロペンタジエニル）（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリル（ｎ−ブチルシクロペンタジエニル）（５−メチル−３−フェニル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリル（ｎ−ブチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリル（ｎ−ブチルシクロペンタジエニル）（５−メチル−３−トリメチルシリル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリル（ｎ−ブチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メトキシ−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリル（ｎ−ブチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−クロロ−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリル（ｎ−ブチルシクロペンタジエニル）（３，５−ジアミル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリル（ｔｅｒｔ−ブチルシクロペンタジエニル）（２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリル（ｔｅｒｔ−ブチルシクロペンタジエニル）（３−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリル（ｔｅｒｔ−ブチルシクロペンタジエニル）（３，５−ジメチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリル（ｔｅｒｔ−ブチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリル（ｔｅｒｔ−ブチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリル（ｔｅｒｔ−ブチルシクロペンタジエニル）（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリル（ｔｅｒｔ−ブチルシクロペンタジエニル）（５−メチル−３−フェニル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリル（ｔｅｒｔ−ブチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリル（ｔｅｒｔ−ブチルシクロペンタジエニル）（５−メチル−３−トリメチルシリル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリル（ｔｅｒｔ−ブチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メトキシ−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリル（ｔｅｒｔ−ブチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−クロロ−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリル（ｔｅｒｔ−ブチルシクロペンタジエニル）（３，５−ジアミル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリル（テトラメチルシクロペンタジエニル）（２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリル（テトラメチルシクロペンタジエニル）（３−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリル（テトラメチルシクロペンタジエニル）（３，５−ジメチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリル（テトラメチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリル（テトラメチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリル（テトラメチルシクロペンタジエニル）（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリル（テトラメチルシクロペンタジエニル）（５−メチル−３−フェニル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリル（テトラメチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリル（テトラメチルシクロペンタジエニル）（５−メチル−３−トリメチルシリル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリル（テトラメチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メトキシ−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリル（テトラメチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−クロロ−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリル（テトラメチルシクロペンタジエニル）（３，５−ジアミル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリル（トリメチルシリルシクロペンタジエニル）（２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリル（トリメチルシリルシクロペンタジエニル）（３−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリル（トリメチルシリルシクロペンタジエニル）（３，５−ジメチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリル（トリメチルシリルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリル（トリメチルシリルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリル（トリメチルシリルシクロペンタジエニル）（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリル（トリメチルシリルシクロペンタジエニル）（５−メチル−３−フェニル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリル（トリメチルシリルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリル（トリメチルシリルシクロペンタジエニル）（５−メチル−３−トリメチルシリル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリル（トリメチルシリルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メトキシ−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリル（トリメチルシリルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−クロロ−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリル（トリメチルシリルシクロペンタジエニル）（３，５−ジアミル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリル（インデニル）（２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリル（インデニル）（３−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリル（インデニル）（３，５−ジメチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリル（インデニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリル（インデニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリル（インデニル）（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリル（インデニル）（５−メチル−３−フェニル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリル（インデニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリル（インデニル）（５−メチル−３−トリメチルシリル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリル（インデニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メトキシ−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリル（インデニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−クロロ−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリル（インデニル）（３，５−ジアミル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリル（フルオレニル）（２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリル（フルオレニル）（３−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリル（フルオレニル）（３，５−ジメチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリル（フルオレニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリル（フルオレニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリル（フルオレニル）（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリル（フルオレニル）（５−メチル−３−フェニル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリル（フルオレニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリル（フルオレニル）（５−メチル−３−トリメチルシリル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリル（フルオレニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メトキシ−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリル（フルオレニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−クロロ−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリル（フルオレニル）（３，５−ジアミル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリル（テトラメチルシクロペンタジエニル）（１−ナフトキシ−２−イル）チタンジクロライドなどや、これらの化合物の（シクロペンタジエニル）を（ジメチルシクロペンタジエニル）、（トリメチルシクロペンタジエニル）、（エチルシクロペンタジエニル）、（ｎ−プロピルシクロペンタジエニル）、（イソプロピルシクロペンタジエニル）、（ｓｅｃ−ブチルシクロペンタジエニル）、（イソブチルシクロペンタジエニル）、（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルシクロペンタジエニル）、（フェニルシクロペンタジエニル）、（メチルインデニル）、又は（フェニルインデニル）に変更した化合物、（２−フェノキシ）を（３−フェニル２−フェノキシ）、（３−トリメチルシリル−２−フェノキシ）、又は（３−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル−２−フェノキシ）に変更した化合物、ジメチルシリルをジエチルシリル、ジフェニルシリル、又はジメトキシシリルに変更した化合物、チタニウムをジルコニウム、又はハフニウムに変更した化合物、ジクロライドをジブロミド、ジアイオダイド、ビス（ジメチルアミド）、ビス（ジエチルアミド）、ジ−ｎ−ブトキシド、又はジイソプロポキシドに変更した化合物といった一般式［Ｉ］におけるＪが炭素原子以外の元素の周期律表の第１４族の原子である遷移金属錯体があげられる。
【００２７】
一般式［ＩＩ］で表される遷移金属錯体としては、たとえば
μ−オキソビス｛イソプロピリデン（シクロペンタジエニル）（２−フェノキシ）チタニウムクロライド｝、
μ−オキソビス｛イソプロピリデン（シクロペンタジエニル）（２−フェノキシ）チタニウムメトキシド｝、
μ−オキソビス｛イソプロピリデン（シクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムクロライド｝、
μ−オキソビス｛イソプロピリデン（シクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムメトキシド｝、
μ−オキソビス｛イソプロピリデン（メチルシクロペンタジエニル）（２−フェノキシ）チタニウムクロライド｝、
μ−オキソビス｛イソプロピリデン（メチルシクロペンタジエニル）（２−フェノキシ）チタニウムメトキシド｝、
μ−オキソビス｛イソプロピリデン（メチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムクロライド｝、
μ−オキソビス｛イソプロピリデン（メチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムメトキシド｝、
μ−オキソビス｛イソプロピリデン（テトラメチルシクロペンタジエニル）（２−フェノキシ）チタニウムクロライド｝、
μ−オキソビス｛イソプロピリデン（テトラメチルシクロペンタジエニル）（２−フェノキシ）チタニウムメトキシド｝、
μ−オキソビス｛イソプロピリデン（テトラメチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムクロライド｝、
μ−オキソビス｛イソプロピリデン（テトラメチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムメトキシド｝、
μ−オキソビス｛ジメチルシリレン（シクロペンタジエニル）（２−フェノキシ）チタニウムクロライド｝、
μ−オキソビス｛ジメチルシリレン（シクロペンタジエニル）（２−フェノキシ）チタニウムメトキシド｝、
μ−オキソビス｛ジメチルシリレン（シクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムクロライド｝、
μ−オキソビス｛ジメチルシリレン（シクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムメトキシド｝、
μ−オキソビス｛ジメチルシリレン（メチルシクロペンタジエニル）（２−フェノキシ）チタニウムクロライド｝、
μ−オキソビス｛ジメチルシリレン（メチルシクロペンタジエニル）（２−フェノキシ）チタニウムメトキシド｝、
μ−オキソビス｛ジメチルシリレン（メチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムクロライド｝、
μ−オキソビス｛ジメチルシリレン（メチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムメトキシド｝、
μ−オキソビス｛ジメチルシリレン（テトラメチルシクロペンタジエニル）（２−フェノキシ）チタニウムクロライド｝、
μ−オキソビス｛ジメチルシリレン（テトラメチルシクロペンタジエニル）（２−フェノキシ）チタニウムメトキシド｝、
μ−オキソビス｛ジメチルシリレン（テトラメチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムクロライド｝、
μ−オキソビス｛ジメチルシリレン（テトラメチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムメトキシド｝、などがあげられる。
【００２８】
一般式［ＩＩＩ］で表される遷移金属錯体としては、たとえば
ジ−μ−オキソビス｛イソプロピリデン（シクロペンタジエニル）（２−フェノキシ）チタニウム｝、
ジ−μ−オキソビス｛イソプロピリデン（シクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウム｝、
ジ−μ−オキソビス｛イソプロピリデン（メチルシクロペンタジエニル）（２−フェノキシ）チタニウム｝、
ジ−μ−オキソビス｛イソプロピリデン（メチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウム｝、
ジ−μ−オキソビス｛イソプロピリデン（テトラメチルシクロペンタジエニル）（２−フェノキシ）チタニウム｝、
ジ−μ−オキソビス｛イソプロピリデン（テトラメチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウム｝、
ジ−μ−オキソビス｛ジメチルシリレン（シクロペンタジエニル）（２−フェノキシ）チタニウム｝、
ジ−μ−オキソビス｛ジメチルシリレン（シクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウム｝、
ジ−μ−オキソビス｛ジメチルシリレン（メチルシクロペンタジエニル）（２−フェノキシ）チタニウム｝、
ジ−μ−オキソビス｛ジメチルシリレン（メチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウム｝、
ジ−μ−オキソビス｛ジメチルシリレン（テトラメチルシクロペンタジエニル）（２−フェノキシ）チタニウム｝、
ジ−μ−オキソビス｛ジメチルシリレン（テトラメチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウム｝、
などがあげられる。
【００２９】
上記一般式［Ｉ］で表される遷移金属錯体は、たとえばＷＯ９７／０３９９２号公開明細書に記載の方法で製造できる。また上記一般式［ＩＩ］又は［ＩＩＩ］で表される遷移金属錯体は、上記一般式［Ｉ］で表される遷移金属錯体と１当量又は２当量の水とを反応させることにより製造できる。
【００３０】
（Ｂ）アルミニウム化合物について説明する。
アルミニウム化合物（Ｂ）としては、下記（Ｂ１）〜（Ｂ３）から選ばれる１種以上のアルミニウム化合物である。
（Ｂ１）一般式  Ｅ１ａＡｌＺ３−ａで示される有機アルミニウム化合物
（Ｂ２）一般式  ｛−Ａｌ（Ｅ２）−Ｏ−｝ｂで示される構造を有する環状のアルミノキサン
（Ｂ３）一般式  Ｅ３｛−Ａｌ（Ｅ３）−Ｏ−｝ｃＡｌＥ３２で示される構造を有する線状のアルミノキサン
（但し、Ｅ１、Ｅ２、及びＥ３は、それぞれ炭化水素基であり、全てのＥ１、全てのＥ２及び全てのＥ３は同じであっても異なっていてもよい。Ｚは水素原子又はハロゲン原子を表し、全てのＺは同じであっても異なっていてもよい。ａは０＜ａ≦３を満足する数を、ｂは２以上の整数を、ｃは１以上の整数を表す。）
Ｅ１、Ｅ２、又はＥ３における炭化水素基としては、炭素数１〜８の炭化水素基が好ましく、アルキル基がより好ましい。
【００３１】
一般式  Ｅ１ａＡｌＺ３−ａで示される有機アルミニウム化合物（Ｂ１）の具体例としては、トリメチルアルミニウム、トリエチルアルミニウム、トリプロピルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウム、トリヘキシルアルミニウム等のトリアルキルアルミニウム；ジメチルアルミニウムクロライド、ジエチルアルミニウムクロライド、ジプロピルアルミニウムクロライド、ジイソブチルアルミニウムクロライド、ジヘキシルアルミニウムクロライド等のジアルキルアルミニウムクロライド；メチルアルミニウムジクロライド、エチルアルミニウムジクロライド、プロピルアルミニウムジクロライド、イソブチルアルミニウムジクロライド、ヘキシルアルミニウムジクロライド等のアルキルアルミニウムジクロライド；ジメチルアルミニウムハイドライド、ジエチルアルミニウムハイドライド、ジプロピルアルミニウムハイドライド、ジイソブチルアルミニウムハイドライド、ジヘキシルアルミニウムハイドライド等のジアルキルアルミニウムハイドライド等を例示することができる。
好ましくは、トリアルキルアルミニウムであり、より好ましくは、トリエチルアルミニウム、又はトリイソブチルアルミニウムである。
【００３２】
一般式  ｛−Ａｌ（Ｅ２）−Ｏ−｝ｂで示される構造を有する環状のアルミノキサン（Ｂ２）、一般式  Ｅ３｛−Ａｌ（Ｅ３）−Ｏ−｝ｃＡｌＥ３２で示される構造を有する線状のアルミノキサン（Ｂ３）における、Ｅ２、Ｅ３の具体例としては、メチル基、エチル基、ノルマルプロピル基、イソプロピル基、ノルマルブチル基、イソブチル基、ノルマルペンチル基、ネオペンチル基等のアルキル基を例示することができる。ｂは２以上の整数であり、ｃは１以上の整数である。好ましくは、Ｅ２及びＥ３はメチル基、又はイソブチル基であり、ｂは２〜４０、ｃは１〜４０である。
【００３３】
上記のアルミノキサンは各種の方法で作られる。その方法については特に制限はなく、公知の方法に準じて作ればよい。たとえば、トリアルキルアルミニウム（たとえば、トリメチルアルミニウムなど）を適当な有機溶剤（ベンゼン、脂肪族炭化水素など）に溶かした溶液を水と接触させて作る。また、トリアルキルアルミニウム（たとえば、トリメチルアルミニウムなど）を結晶水を含んでいる金属塩（たとえば、硫酸銅水和物など）に接触させて作る方法が例示できる。
【００３４】
（Ｃ）ホウ素化合物について説明する。
ホウ素化合物（Ｃ）としては、（Ｃ１）一般式  ＢＱ１Ｑ２Ｑ３で表されるホウ素化合物、（Ｃ２）一般式  Ｇ＋（ＢＱ１Ｑ２Ｑ３Ｑ４）−で表されるホウ素化合物、（Ｃ３）一般式  （Ｌ−Ｈ）＋（ＢＱ１Ｑ２Ｑ３Ｑ４）−で表されるホウ素化合物のいずれかを用いることができる。
【００３５】
一般式  ＢＱ１Ｑ２Ｑ３で表されるホウ素化合物（Ｃ１）において、Ｂは３価の原子価状態のホウ素原子であり、Ｑ１〜Ｑ３はハロゲン原子、炭化水素基、ハロゲン化炭化水素基、置換シリル基、アルコキシ基又は２置換アミノ基であり、それらは同じであっても異なっていてもよい。Ｑ１〜Ｑ３は好ましくは、ハロゲン原子、１〜２０個の炭素原子を含む炭化水素基、１〜２０個の炭素原子を含むハロゲン化炭化水素基、１〜２０個の炭素原子を含む置換シリル基、１〜２０個の炭素原子を含むアルコキシ基又は２〜２０個の炭素原子を含むアミノ基であり、より好ましいＱ１〜Ｑ３はハロゲン原子、１〜２０個の炭素原子を含む炭化水素基、又は１〜２０個の炭素原子を含むハロゲン化炭化水素基である。更に好ましくはＱ１〜Ｑ４は、それぞれ少なくとも１個のフッ素原子を含む炭素原子数１〜２０のフッ素化炭化水素基であり、特に好ましくはＱ１〜Ｑ４は、それぞれ少なくとも１個のフッ素原子を含む炭素原子数６〜２０のフッ素化アリール基である。
【００３６】
化合物（Ｃ１）の具体例としては、トリス（ペンタフルオロフェニル）ボラン、トリス（２，３，５，６−テトラフルオロフェニル）ボラン、トリス（２，３，４，５−テトラフルオロフェニル）ボラン、トリス（３，４，５−トリフルオロフェニル）ボラン、トリス（２，３，４−トリフルオロフェニル）ボラン、フェニルビス（ペンタフルオロフェニル）ボラン等があげられるが、最も好ましくは、トリス（ペンタフルオロフェニル）ボランである。
【００３７】
一般式  Ｇ＋（ＢＱ１Ｑ２Ｑ３Ｑ４）−で表されるホウ素化合物（Ｃ２）において、Ｇ＋は無機又は有機のカチオンであり、Ｂは３価の原子価状態のホウ素原子であり、Ｑ１〜Ｑ４は上記の（Ｃ１）におけるＱ１〜Ｑ３と同様である。
【００３８】
一般式  Ｇ＋（ＢＱ１Ｑ２Ｑ３Ｑ４）−で表される化合物における無機のカチオンであるＧ＋の具体例としては、フェロセニウムカチオン、アルキル置換フェロセニウムカチオン、銀陽イオンなどが、有機のカチオンであるＧ＋としては、トリフェニルメチルカチオンなどがあげられる。Ｇ＋として好ましくはカルベニウムカチオンであり、特に好ましくはトリフェニルメチルカチオンである。（ＢＱ１Ｑ２Ｑ３Ｑ４）−としては、テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、テトラキス（２，３，５，６−テトラフルオロフェニル）ボレート、テトラキス（２，３，４，５−テトラフルオロフェニル）ボレート、テトラキス（３，４，５−トリフルオロフェニル）ボレート、テトラキス（２，３，４−トリフルオロフェニル）ボレート、フェニルトリス（ペンタフルオロフェニル）ボレ−ト、テトラキス（３，５−ビストリフルオロメチルフェニル）ボレートなどがあげられる。
【００３９】
これらの具体的な組み合わせとしては、フェロセニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、１，１’−ジメチルフェロセニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、銀テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリフェニルメチルテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリフェニルメチルテトラキス（３，５−ビストリフルオロメチルフェニル）ボレートなどをあげることができるが、最も好ましくは、トリフェニルメチルテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレートである。
【００４０】
また、一般式（Ｌ−Ｈ）＋（ＢＱ１Ｑ２Ｑ３Ｑ４）−で表されるホウ素化合物（Ｃ３）においては、Ｌは中性ルイス塩基であり、（Ｌ−Ｈ）＋はブレンステッド酸であり、Ｂは３価の原子価状態のホウ素原子であり、Ｑ１〜Ｑ４は上記のルイス酸（Ｃ１）におけるＱ１〜Ｑ３と同様である。
【００４１】
一般式（Ｌ−Ｈ）＋（ＢＱ１Ｑ２Ｑ３Ｑ４）−で表される化合物におけるブレンステッド酸である（Ｌ−Ｈ）＋の具体例としては、トリアルキル置換アンモニウム、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアニリニウム、ジアルキルアンモニウム、トリアリールホスホニウムなどがあげられ、（ＢＱ１Ｑ２Ｑ３Ｑ４）−としては、前述と同様のものがあげられる。
【００４２】
これらの具体的な組み合わせとしては、トリエチルアンモニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリプロピルアンモニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリ（ｎ−ブチル）アンモニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリ（ｎ−ブチル）アンモニウムテトラキス（３，５−ビストリフルオロメチルフェニル）ボレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、Ｎ，Ｎ−２，４，６−ペンタメチルアニリニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリニウムテトラキス（３，５−ビストリフルオロメチルフェニル）ボレート、ジイソプロピルアンモニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ジシクロヘキシルアンモニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリフェニルホスホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリ（メチルフェニル）ホスホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリ（ジメチルフェニル）ホスホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレートなどをあげることができるが、最も好ましくは、トリ（ｎ−ブチル）アンモニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、もしくは、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレートである。
【００４３】
共重合に際しては、遷移金属錯体（Ａ）と、上記（Ｂ）及び／又は上記（Ｃ）とを用いてなるオレフィン重合用触媒を用いる。（Ａ）、（Ｂ）２成分よりなるオレフィン重合用触媒を用いる際は、（Ｂ）としては、前記の環状のアルミノキサン（Ｂ２）及び／又は線状のアルミノキサン（Ｂ３）が好ましい。また他に好ましいオレフィン重合用触媒の態様としては、上記（Ａ）、（Ｂ）及び（Ｃ）を用いてなるオレフィン重合用触媒があげられ、その際の該（Ｂ）としては前記の（Ｂ１）が使用しやすい。
【００４４】
各成分の使用量は通常、（Ｂ）／（Ａ）のモル比が０．１〜１００００で、好ましくは５〜２０００、（Ｃ）／（Ａ）のモル比が０．０１〜１００で、好ましくは０．５〜１０の範囲にあるように、各成分を用いることが望ましい。
【００４５】
各成分を溶液状態もしくは溶媒に懸濁状態で用いる場合の濃度は、重合反応器に各成分を供給する装置の性能などの条件により、適宜選択されるが、一般に、（Ａ）が、通常０．０１〜５００μｍｏｌ／ｇで、より好ましくは、０．０５〜１００μｍｏｌ／ｇ、更に好ましくは、０．０５〜５０μｍｏｌ／ｇ、（Ｂ）が、Ａｌ原子換算で、通常０．０１〜１００００μｍｏｌ／ｇで、より好ましくは、０．１〜５０００μｍｏｌ／ｇ、更に好ましくは、０．１〜２０００μｍｏｌ／ｇ、（Ｃ）は、通常０．０１〜５００μｍｏｌ／ｇで、より好ましくは、０．０５〜２００μｍｏｌ／ｇ、更に好ましくは、０．０５〜１００μｍｏｌ／ｇの範囲にあるように各成分を用いることが望ましい。
【００４６】
化合物（Ａ）で表される遷移金属錯体及び化合物（Ｂ）、あるいは更に化合物（Ｃ）を、重合時に任意の順序で投入し使用することができるが、またそれらの任意の化合物の組合せを予め接触させて得られた反応物を用いてもよい。
【００４７】
本発明のエチレン−イソプレンランダム共重合体を製造するには、たとえば、ブタン、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素、ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素、又はメチレンジクロライド等のハロゲン化炭化水素を溶媒として用いる溶媒重合、又はスラリー重合、ガス状のモノマー中での気相重合等が可能であり、また、連続重合、回分式重合のどちらでも可能である。重合温度は、−７０〜３５０℃の範囲を取り得るが、特に−５０〜２２０℃の範囲が好ましく、更に好ましくは−２０〜１２０℃の範囲が好ましい。重合圧力は、大気圧〜３５０ＭＰａの範囲を取り得るが、好ましくは大気圧〜１００ＭＰａ、更に好ましくは大気圧〜１０ＭＰａの範囲が好ましい。重合時間は、一般的に、使用する触媒の種類、反応装置により適宜決定されるが、１分間〜２０時間の範囲を取ることができる。また、重合体の分子量を調節するために水素等の連鎖移動剤を添加することもできる。
【００４８】
次に、本発明のエラストマー組成物について説明する。本発明のエラストマー組成物は、本発明のエチレン−イソプレンランダム共重合体１００重量部、無機充填剤及び／又はカーボンブラック５〜４００重量部及び架橋剤０．１〜２０重量部を含有するエラストマー組成物である。
【００４９】
エチレン−イソプレンランダム共重合体１００重量部あたりの無機充填剤及び／又はカーボンブラックの含有量は５〜４００重量部であり、好ましくは１０〜２００重量部である。該含有量が過少であると十分な補強効果が得られずとなり、一方該含有量が過多であると組成物の粘度が上昇し、加工性に劣る。なお、上記の充填剤の量は、無機充填剤及び／又はカーボンブラックを併用した場合は、全充填剤量を基準とする。
【００５０】
無機充填剤の具体例としては、ガラスフレーク、カオリン、クレイ、シリカ、ガラスバルーン、ガラスビーズ、マイカ、タルク、炭酸カルシウム、酸化チタン、チタン酸カリウムウィスカー、硫酸バリウム、シラスバルーン、アエロジル等を例示することができる。
【００５１】
エチレン−イソプレンランダム共重合体組成物に使用され得る架橋剤としては、各種の架橋剤から用途に応じて任意に１種又は２種以上選択することが可能である。かかる架橋剤としては、硫黄系架橋剤、無機架橋剤、ポリアミン架橋剤、樹脂架橋剤、硫黄化合物系架橋剤、オキシム−ニトロソアミン系架橋剤、有機過酸化物系架橋剤、その他の架橋剤等があげられる。かかる架橋剤の具体例として、硫黄系架橋剤の具体例としては、粉末硫黄、沈降硫黄、コロイド硫黄、表面処理硫黄、不溶性硫黄、非汚染性硫黄ドナ−等をあげることができ、無機架橋剤の具体例としては、セレニウム、テルリウム、酸化マグネシウム、リサ−ジ（一酸化鉛）、亜鉛華等をあげることができ、ポリアミン架橋剤の具体例としては、ヘキサメチレンジアミン、トリエチレンテトラミン、テトラエチレンペンタミン、ヘキサメチレンジアミンカルバメ−ト、Ｎ、Ｎ’ジシンナミリデン−１，６−ヘキサンジアミン、４，４’−メチレンビス（シクロヘキシルアミン）カルバメ−ト、４，４’−メチレンビス−（２ークロロアニリン）等をあげることができ、樹脂架橋剤の具体例としてはアルキルフェノ−ルホルムアルデヒド樹脂、メラミン−ホルムアルデヒド縮合物、トリアジンホルムアルデヒド縮合物、硫化−Ｐ−第三ブチルフェノ−ル樹脂、アルキルフェノ−ルスルフィド樹脂、ヘキサメトキシメチルメラミン樹脂等をあげることができ、硫黄化合物系架橋剤の具体例としては、１塩化硫黄、２塩化硫黄、モルフォリンジスルフィド、アルキルフェノ−ルジスルフィド、高分子多硫化物、硫黄を含む加硫促進剤等をあげることができ、オキシム−ニトロソアミン系架橋剤の具体例としてはｐ−キノンジオキシム、ｐ、ｐ’−ジベンゾイルキノンジオキシム、テトラクロロ−ｐ−ベンゾキノン、ポリ−ｐ−ジニトロソベンゼン等をあげることができ、有機過酸化物系架橋剤の具体例としては、第三ブチルヒドロペルオキサイド、１，１，３，３−テトラメチルブチルヒドロペルオキサイド、ｐ−    メンタンヒドロペルオキサイド、クメンヒドロペルオキサイド、ジイソプロピルベンゼンヒドロペルオキサイド、２，５−ジメチルヘキサン２，５−ジヒドロペルオキサイド、ジ−第三ブチルペルオキサイド、ジクミルペルオキサイド、第三ブチルクミルペルオキサイド、１，１−ビス（第三ブチルペルオキシ）シクロドデカン、２，２−ビス（第三ブチルペルオキシ）オクタン、１，１−ジ−第三ブチルペルオキシシクロヘキサン、２，５−ジメチル−２，５−ジ（第三ブチルペルオキシ）ヘキサン、２，５−ジメチル−２，５−（第三ブチルペルオキシ）ヘキシン−３、１，３−ビス（第三ブチルペルオキシイソプロピル）ベンゼン、２，５−ジメチル−２，５−ジ（ベンゾイルペルオキシ）ヘキサン、１，１−ビス（第三ブチルペルオキシ）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン、ｎ−ブチル−４，４−ビス（第三ブチルペルオキシ）バレレ−ト、ベンゾイルペルオキシド、ｍ−トルイルペルオキサイド、ｐ−クロロベンゾイルペルオキサイド、２，４−ジクロロベンゾイルペルオキサイド、第三ブチルペルオキしシイソブトレ−ト、第三ブチルペルオキシ２−エチルヘキサノエ−ト、第三ブチルペルオキシベンゾエ−ト、第三ブチルペルオ��シイソプロピルカルボナ−ト、第三ブチルペルオキシアリルカルボナ−ト、アクリル系架橋剤をあげることができ、その他の架橋剤としては、エチレングリコ−ルジメタクリレ−ト、トリメチロ−ルプロパントリメタクリレ−ト、多官能性メタクリレ−トモノマ−、多価アルコ−ルメタクリレ−ト、Ｎ、Ｎ’−ｍ−フェニレンビスマレイミド、安息香酸アンモニウム、シリカ系充填剤含有モノマ−、トリアリルイソシアヌレ−ト、含金属モノマ−、メタクリル酸亜鉛、メタクリル酸マグネシウム、ジメタクリル酸亜鉛、ジメタクリル酸マグネシウム、２，４，６−トリメルカプト−Ｓ−トリアジン、Ｎ、Ｎ’−ビス（２−メチル−２−ニトロプロピル）−１，６−ヘキサンジアミン、イソシアヌル酸、チアジアゾ−ル誘導体、カチオン系活性剤、特殊混合加硫剤、高純度工業用石鹸等をあげることができる。なお、これらの架橋剤は用途に応じて任意に選択される。架橋剤の使用量も、必要とする架橋速度、架橋体の必要特性等に応じて任意に選択されるが、エチレン−イソプレンランダム共重合体１００重量部あたりの架橋剤の含有量は通常０．１〜２０重量部であり、好ましくは０．２〜１０重量部である。該含有量が過少であると架橋がほとんど進行しない場合があり、一方該含有量が過多であると加硫物の物性が損なわれる場合がある。
【００５２】
本発明のエラストマー組成物は必要に応じて公知（便覧ゴム・プラスチック配合薬品改訂第２版ラバ−ダイジェスト社編）の様々な添加剤を混合添加しておくことが可能である。かかる添加剤の例としては、加硫促進剤、加硫促進助剤、活性剤、スコ−チ防止剤、老化防止剤、酸化防止剤、オゾン劣化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、素練り促進剤、粘着付与剤、可塑剤、ゴム軟化剤、ゴム補強剤、充填剤、強化剤、発泡剤、発泡助剤、滑剤、スリップ剤、内部離型剤、防曇剤、難燃剤、練りこみ用帯電防止剤、着色剤、カップリング剤、防腐剤、防カビ剤等が例示される。以下に、公知文献（便覧ゴム・プラスチック配合薬品改訂第２版ラバ−ダイジェスト社編）に記載されている各添加剤の具体例、もしくは、分類の１部を列挙する。まず、加硫促進剤の具体例としては、グアニジン系、アルデヒド−アンモニア系、アルデヒド−アミン系、チアゾ−ル系、スルファミンアミド系、チオ尿素系、チウラム系、ジチオカルバメ−ト系、ザンテ−ト系等の分類の化合物が、加硫促進助剤−活性剤の具体例としては、金属酸化物、金属炭酸塩、脂肪酸とその誘導体、アミン類の化合物が、スコ−チ防止剤の具体例としては、有機酸、ニトロソ化合物が、老化防止剤−酸化防止剤−オゾン劣化防止剤の具体例としては、ナフチルアミン系、ジフェニルアミン系、ｐ−フェニレンジアミン系、キノリン系、ヒドロキノン誘導体、モノフェノ−ル系、ビス、トリスフェノ−ル系、チオビスフェノ−ル系、ヒンダ−ドフェノ−ル系、亜燐酸エステル系、ワックス類、銅害防止剤等が、紫外線吸収剤や光安定剤の具体例としては、サリチル酸誘導体、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾ−ル系、ヒンダ−ドアミン系等が、素練り促進剤の具体例としてはペンタクロロチオフェノ−ルと活性添加物の混合品、ペンタクロロチオフェノ−ルの亜鉛塩、混合ジアルルジスルフィド等が、粘着付与剤の具体例としては、クマロン・インデン樹脂、フェノ−ル・ホルムアルデヒド樹脂、キシレン、ホルムアルデヒド樹脂、ポリテルペン樹脂、石油系炭化水素樹脂、ロジン酸エステル等が、可塑剤の具体例としては、フタル酸誘導体、イソフタル酸誘導体、テトラヒドロフタル酸誘導体、アジピン酸誘導体、アゼライン酸誘導体、セバシン酸誘導体、ドデカン−２−酸誘導体、マレイン酸誘導体、フマル酸誘導体、トリメリット酸誘導体、ピロメリット酸誘導体、クエン酸誘導体、イタコン酸誘導体、オレイン酸誘導体、リシノ−ル酸誘導体、ステアリン酸誘導体、その他の脂肪酸誘導体、スルホン酸誘導体、燐酸誘導体、グルタ−ル酸誘導体、モノエステル系可塑剤、グリコ−ル誘導体、グリセリン誘導体、パラフィン誘導体、エポキシ誘導体、ポリエステル、ポリエ−テル、ポリ−α−メチルスチレン、低分子量ポリスチレン、液状ポリクロロプレン、解重合ゴム、等が、ゴム軟化剤の具体例としては、鉱物油系軟化剤、植物油系軟化剤、サブ（ファクチス）、脂肪酸及び脂肪酸塩、等が、ゴム補強剤の具体例としては、カ−ボンブラック、無機補強剤、有機補強剤が、充填剤や強化剤の具体例としては、無機充填剤、有機充填剤、プラスチック強化剤が、発泡剤や発泡助剤の具体例としては、無機発泡剤、ニトロソ化合物、アゾ化合物、スルホニル・ヒ���ラジド等が、滑剤やスリップ剤や内部離型剤や防曇剤や難燃剤の具体例としては、パラフィン及び炭化水素樹脂、脂肪酸、脂肪酸アミド、脂肪酸エステル、脂肪酸アルコ−ル、脂肪酸と多価アルコ−ルの部分エステルが、練り込み用帯電防止剤の具体例としては、カチオン系活性剤、第４級アンモニウム塩、ステアロアミドプロピルジメチル−β−ヒドロキシエチルアンモニウム等が、着色剤の具体例としては、無機顔料、有機顔料、有機蛍光顔料、真珠箔等が、カップリング剤の具体例としては、シラン系、アルミニウム系、チタネ−ト系のカップリング剤が例示される。これらの添加剤の添加量は、用途・目的に応じて適宜調製される為、特に制限はない。又、これらの添加剤は、通常、ブラベンダ−、バンバリ−ミキサ−、ニ−ダ−、オ−プンロ−ル等により、架橋反応前に予め混合することにより、本発明のエラストマーゴム組成物が得られる。
【００５３】
本発明のエラストマーゴム組成物は、目的に応じて押出成形機、カレンダーロール又はプレスにより意図する形状に成形され、加硫工程を経て、成形された加硫ゴム組成物とされる。加硫は、通常１２０℃以上、好ましくは１３０〜２００℃の温度、圧力大気圧〜１５ＭＰａの加熱下で約１〜６０分間一次加硫し、更に必要に応じて１３０〜２００℃の温度で１〜２０時間、２次加硫する。
【００５４】
本発明のエチレン−イソプレンランダム共重合体、エラストマー組成物及び架橋エラストマー組成物は、樹脂や他のゴム等とブレンドすることもできる。たとえは高密度ポリエチレン、中密度ポリエチレン、低密度ポリエチレン、ＬＬＤＰＥ  （直鎖状低密度ポリエチレン）等のポリエチレン系樹脂、ポリプロピレン系樹脂、ポリ−４−メチル−ペンテン−１、ポリスチレン、ポリエステル、ポリアミド、ポリフェニレンエーテル、ポリオレフィン系樹脂、エチレン−α−オレフィン共重合体ゴム、エチレン−プロピレン−非共役ジエン共重合体ゴム、エチレン−α−オレフィン−非共役ジエン共重合体ゴム、ポリブタジエン、スチレン−ブタジエンブロック共重合体ゴム、スチレン−ブタジエン−スチレンブロック共重合体ゴム、スチレン−ブタジエンランダム共重合体ゴム、部分水添スチレン−ブタジエン−スチレンブロック共重合体ゴム、部分水添スチレン−ブタジエンランダム共重合体ゴム、スチレン−イソプレンブロック共重合体ゴム、部分水添スチレン−イソプレンブロック共重合体ゴム、ポリアクリロニトリルゴム、アクリロニトリル−ブタジエン共重合体ゴム、部分水添アクリロニトリル−ブタジエン共重合体ゴム、ブチルゴム、クロロプレンゴム、フッ素ゴム、クロロスルホン化ポリエチレン、シリコンゴム、ウレタンゴム、天然ゴムなどと行ってもよい。また必要に応じて過酸化物もしくは硫黄等の架橋剤の添加により架橋反応を行うことも可能である。更に、必要に応じて、酸化防止剤、熱安定剤、紫外線吸収剤、滑剤、帯電防止剤、顔料、充填剤、難燃剤を配合してもよい。
【００５５】
本発明のエラストマーゴム組成物と樹脂や他のゴムとのブレンド物を得る方法として、各成分を、二軸押出機、バンバリーミキサーなどにより溶融混練する方法をあげることができる。
【００５６】
本発明のエチレン−イソプレンランダム共重合体、エラストマー組成物及び架橋エラストマー組成物は、上記の各所で述べたとおりの特徴を有するものであり、各種樹脂の改質材、自動車部品用途、電気部品用途、工業部品用途、建材部品用途等の分野において最適に使用され得る。
【００５７】
【実施例】
［Ｉ］測定方法
測定は、下記のとおり行った。
（１）極限粘度［η］
７０℃キシレン中でウベローデ粘度計を用いて行った。サンプルは３００ｍｇを１００ｍｌキシレンに溶解し、３ｍｇ／ｍｌの溶液を調整した。更に当該溶液を１／２、１／３、１／５に希釈し、それぞれを７０℃（±０．１℃）の恒温水槽中で測定した。それぞれの濃度で３回繰り返し測定し、得られた値を平均して用いた。
（２）分子量分布
ゲルパーミエイションクロマトグラフ（ＧＰＣ）法（Ｗａｔｅｒｓ社製、１５０Ｃ／ＧＰＣ装置）により行った。溶出温度は１４０℃、使用カラムは昭和電工社製Ｓｏｄｅｘ  Ｐａｃｋｅｄ  ＣｏｌｕｍｎＡ−８０Ｍ、分子量標準物質はポリスチレン（東ソー社製、分子量６８−８，４００，０００）を用いた。得られたポリスチレン換算重量平均分子量（Ｍｗ）、数平均分子量（Ｍｎ）、さらにこの比（Ｍｗ／Ｍｎ）を分子量分布とする。測定サンプルは約５ｍｇの重合体を５ｍｌのｏ−ジクロロベンゼンに溶解、約１ｍｇ／ｍｌの濃度とする。得られたサンプル溶液の４００μｌをインジェクションした。溶出溶媒流速は１．０ｍｌ／ｍｉｎとし、屈折率検出器にて検出した。
（３）ＧＰＣ−ＩＲの測定
ゲルパーエミッションクロマトグラフ法（ダイアインスツルメンツ（株）社製、ＣＦＣＴ−１５０Ａ装置）／フーリエ変換赤外分光測定（ニコレー（株）社製、Ｍａｇｎａ５５０  ＦＴＩＲ  装置）を用いた。溶出温度は１４０℃、使用カラムは昭和電工（株）社製、ＵＴ−８０６Ｍを２本用いて、重合体１００ｍｇを２５ｍｌのｏ−ジクロロベンゼンに溶解させ、得られたサンプル溶液の０．８ｍｌをインジェクションした。そしてその結果として生じる溶液をＦＴ−ＩＲ装置に入れ２８４２−２９８２ｃｍ−１のＣＨ伸縮振動に基づく吸収ピークを解析する。
（４）密度
ＪＩＳ  Ｋ−６７６０に従って求めた（２３℃の値）。
（５）よう素価
滴定法によって求め、その値から計算してイソプレン含量（ｍｏｌ％）を求めた。
（６）共重合体中に含まれるイソプレンの構造
核磁気共鳴スペクトルの各帰属したシグナルの面積強度から計算した。
ｔｒａｎｓ−１，４                １．６２−１．６５（３Ｈ）
ｃｉｓ−１，４                    １．７１−１．７３（３Ｈ）
１，２                            ４．９０（２Ｈ）
３，４                            ４．８１（２Ｈ）
ｔｒａｎｓ１．４＋ｃｉｓ１．４    ５．２４（２Ｈ）
【００５８】
［ＩＩ］重合用触媒の調製
（１）遷移金属錯体（ジメチルシリル（テトラメチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド）の合成
（ａ）１−ブロモ−３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−フェノールの合成
窒素雰囲気下、撹拌機を備えた５００ｍｌ４つ口フラスコ中で、２−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール２０．１ｇ（１２３ｍｍｏｌ）をトルエン１５０ｍｌに溶かし、続いてｔｅｒｔ−ブチルアミン２５．９ｍｌ（１８．０ｇ、２４６ｍｍｏｌ）を加えた。この溶液を−７０℃に冷却し、そこへ臭素１０．５ｍｌ（３２．６ｇ、２０４ｍｍｏｌ）を加えた。この溶液を−７０℃に保ち、２時間撹拌した。その後、室温まで昇温し、１回につき、１０％希塩酸１００ｍｌを加えて、３回洗浄した。洗浄後得られる有機層を、無水硫酸ナトリウムを用いて乾燥させ、エバポレーターを使用して溶媒を除去した後、シリカゲルカラムを用いて精製し、無色のオイルである１−ブロモ−３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−フェノール  １８．４ｇ（７５．７ｍｍｏｌ）を得た。収率は、６２％であった。
【００５９】
（ｂ）１−ブロモ−３−ｔｅｒｔ−ブチル−２−メトキシ−５−メチルベンゼンの合成
窒素雰囲気下、撹拌機を備えた１００ｍｌ４つ口フラスコ中で、上記（１）で合成した１−ブロモ−３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−フェノール１３．９ｇ（５７．２ｍｍｏｌ）をアセトニトリル４０ｍｌに溶かし、続いて水酸化カリウム３．８ｇ（６７．９ｍｍｏｌ）を加えた。さらに、ヨウ化メチル１７．８ｍｌ（４０．６ｇ、２８６ｍｍｏｌ）を加え、１２時間撹拌を続けた。その後、エバポレーターで溶媒を除去し、残さにヘキサン４０ｍｌを加え、ヘキサン可溶分を抽出した。抽出は３回繰り返した。抽出分から溶媒を除去し、淡黄色のオイルである１−ブロモ−３−ｔｅｒｔ−ブチル−２−メトキシ−５−メチルベンゼン  １３．８ｇ（５３．７ｍｍｏｌ）を得た。収率は、９４％であった。
【００６０】
（ｃ）（３−ｔｒｅｔ−ブチル−２−メトキシ−５−メチルフェニル）クロロジメチルシランの合成
テトラヒドロフラン（３１．５ｍｌ）、ヘキサン（１３９ｍｌ）及び上記（２）で合成した１−ブロモ−３−ｔｅｒｔ−ブチル−２−メトキシ−５−メチルベンゼン（４５ｇ）からなる溶液に、−４０℃で、ｎ−ブチルリチウムの１．６モル／リットルのヘキサン溶液（１１５ｍｌ）を２０分かけて滴下した。得られた混合物を−４０℃にて１時間保温した後、テトラヒドロフラン（３１．５ｍｌ）を滴下した。
ジクロロジメチルシラン（１３１ｇ）及びヘキサン（３０６ｍｌ）からなる溶液中に、−４０℃で、上で得た混合物を滴下した。得られた混合物を室温まで２時間かけて昇温し、更に室温にて１２時間撹拌した。
反応混合物から減圧下にて溶媒及び余剰のジクロロジメチルシランを留去し、残さからヘキサンを用いてヘキサン可溶分を抽出し、得られたヘキサン溶液から溶媒を留去して、淡黄色オイル状の（３−ｔｅｒｔ−ブチル−２−メトキシ−５−メチルフェニル）クロロジメチルシラン  ４１．９ｇを得た。収率は、８４％であった。
【００６１】
（ｄ）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−２−メトキシ−５−メチルフェニル）ジメチル（テトラメチルシクロペンタジエニル）シランの合成
上記（ｃ）で合成した（３−ｔｅｒｔ−ブチル−２−メトキシ−５−メチルフェニル）クロロジメチルシラン（５．２４ｇ）及びテトラヒドロフラン（５０ｍｌ）からなる溶液中に、−３５℃にて、テトラメチルシクロペンタジエニル  リチウム（２．７３ｇ）を添加し、２時間かけて室温まで昇温し、更に室温にて１０時間撹拌した。
得られた反応混合物から減圧下に溶媒を留去し、残さから、ヘキサンを用いてヘキサン可溶分を抽出し、得られたヘキサン溶液から減圧下に溶媒を留去して、黄色オイル状の（３−ｔｅｒｔ−ブチル−２−メトキシ−５−メチルフェニル）ジメチル（テトラメチルシクロペンタジエニル）シラン  ６．６９ｇを得た。収率は、９７％であった。
【００６２】
（ｅ）ジメチルシリル（テトラメチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライドの合成
上記（ｄ）で合成した（３−ｔｅｒｔ−ブチル−２−メトキシ−５−メチルフェニル）ジメチル（テトラメチルシクロペンタジエニル）シラン（１０．０４ｇ）とトルエン（１００ｍｌ）とトリエチルアミン（６．３０ｇ）とからなる溶液に、−７０℃で、ｎ−ブチルリチウムの１．６３モル／リットルのヘキサン溶液（１９．０ｍｌ）を滴下し、その後、２時間かけて室温まで昇温し、更に室温で１２時間保温した。
窒素雰囲気下に０℃で、四塩化チタニウム（４．８２ｇ）のトルエン溶液（５０ｍｌ）に、上で得られた混合物を滴下し、その後、１時間かけて室温まで昇温した後、１０時間加熱還流した。
反応混合物を濾過し、濾液から溶媒を留去し、残さをトルエン−ヘキサン混合溶媒から再結晶して、橙色柱状結晶のジメチルシリル（テトラメチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド  ３．４６ｇを得た。収率は、２７％であった。
スペクトルデータは次のとおりであった。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）  δ  ０．５７（ｓ，６Ｈ）、１．４１（ｓ，９Ｈ）、２．１５（ｓ，６Ｈ）、２．３４（ｓ，６Ｈ）、２．３８（ｓ，３Ｈ）、７．１５（ｓ，１Ｈ）、７．１８（ｓ，１Ｈ）
１３Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）  δ  １．２５、１４．４８、１６．２８、２２．４７、３１．２５、３６．２９、１２０．２３、１３０．６２、１３１．４７、１３３．８６、１３５．５０、１３７．３７、１４０．８２、１４２．２８、１６７．７４
マススペクトル（ＣＩ、ｍ／ｅ）４５８
0003577978.tif 000004
【００６３】
［ＩＩＩ］重合反応
実施例１
攪拌器、温度計、滴下ロート、還流冷却器を設けた容量２Ｌのセパラブルフラスコ反応器を減圧して後窒素ガスを導入し、内部を窒素ガス置換した。このフラスコに乾燥したヘキサン１Ｌを重合溶媒として導入した。ここにエチレン（８Ｌ／ｍｉｎ）を大気圧にて連続フィードし、恒温水槽を用いて溶媒の温度を０℃とした。そこへ、イソプレン（２５ｍｍｏｌ）を添加した。次いで、ＴＩＢＡのヘキサン溶液（０．５ｍｍｏｌ／Ａｌ）を重合溶媒へ添加した。続いてジメチルシリル（テトラメチルシクロペンタジエニル）（３−第３級−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライドのヘキサン溶液（０．００２ｍｍｏｌ／Ｔｉ）を重合溶媒中に添加し、トリスペンタフルオロフェニルボレートのトルエン溶液（０．０１ｍｍｏｌ／Ｂ）を添加した。３０分間攪拌した後、メタノールを添加して反応を停止させ、溶媒を回収して７．４ｇのエチレン−イソプレンランダム共重合体が得られた。得たれたエチレン−イソプレンランダム共重合体のイソプレン構造を１Ｈ  ＮＭＲから求めた結果、１，４結合は９９ｍｏｌ％以上であった。
【００６４】
実施例２〜３
実施例１において、基本的に同様操作で行った。詳細な重合条件と共重合体の評価結果を表１に示した。
【００６５】
実施例４
充分に窒素置換を行ったオートクレーブにヘキサン８００ｍｌを仕込み、これを０℃に冷却した。そこへイソプレン５０ｍｍｏｌとエチレンを２ｇ投入した。次いで、ＴＩＢＡのヘキサン溶液（１．５ｍｍｏｌ／Ａｌ）を重合溶媒へ添加した。続いてジメチルシリル（テトラメチルシクロペンタジエニル）（３−第３級−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライドのヘキサン溶液（０．００５ｍｍｏｌ／Ｔｉ）を重合溶媒中に添加し、トリスペンタフルオロフェニルボレートのトルエン溶液（０．０２５ｍｍｏｌ／Ｂ）と添加した。エチレンの圧力は重合中０．１ＭＰａ（ゲージ圧）に保った。７分間攪拌した後、メタノールを添加して反応を停止させ、溶媒を回収して４．８ｇのエチレン−イソプレンランダム共重合体が得られた。得たれたエチレン−イソプレンランダム共重合体のイソプレン構造を1Ｈ  ＮＭＲから求めた結果、１，４結合は９９ｍｏｌ％以上であった。
【００６６】
実施例５〜１１
実施例４において、基本的に同様操作で行った。詳細な重合条件と共重合体の評価結果を表１に示した。
【００６７】
比較例１
実施例５と同様な操作でモノマーとしてエチレンを使用せず、イソプレンのみを添加して、重合をおこなった。その結果、ポリマーは生成しなかった。
【００６８】
［ＩＶ］組成物の調製及び評価
次に実施例９及び実施例１２で合成したエチレン−イソプレンランダム共重合体を下記の配合で８インチオープンロールを用いて混練し、エラストマー組成物を得た。
該エラストマー組成物の加硫速度と加硫密度を東洋精機社製オシレーティングディスクレオメータを用いて１４５℃の条件にて測定した。
配合（重量部）  ポリマー：１００、ＨＡＦ−カーボンブラック：５０、芳香族系プロセスオイル：５、老化防止剤：１、酸化亜鉛：５、ステアリン酸：２、ジベンゾチアジル・ジスルフィド：０．８、テトラメチルチウラム・ジスルフィド：０．３、イオウ：２
結果から次の事がわかる。本発明の条件を充足するエチレン−イソプレンランダム共重合体は、市販のＥＰＤＭ−ＥＮＢ又は合成イソプレンラバーと比較をおこなったところ、合成イソプレンラバー並みの加硫速度を持ち、しかも加硫密度はＥＰＤＭ−ＥＮＢや合成イソプレンラバーよりもはるかに高かった。
【００６９】
【表１】
0003577978.tif 000005
【００７１】
【表２】
0003577978.tif 000006
【００７２】
【表３】
0003577978.tif 000007
【００７３】
【表４】
0003577978.tif 000008
【００７４】
【００７５】
【発明の効果】
以上説明したとおり、本発明により、加硫速度が速く、かつ加硫密度が高いという特徴を有するエチレン−イソプレンランダム共重合体、該エチレン−イソプレンランダム共重合体を用いたエラストマー組成物及び架橋エラストマー組成物を提供することができた。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明のエチレン−イソプレンランダム共重合体の製造方法の例を示すフロー図である。
【図２】実施例１１及び実施例８の共重合体についてのオッシレーティングディスクレオメータ測定結果を示す図である。
【図３】実施例５の共重合体についてのＧＰＣ−ＩＲ測定結果を示す図である。
【図４】実施例５の共重合体についての1Ｈ  ＮＭＲ測定結果を示す図である。
【図１】
0003577978.tif 000010
【図２】
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【図３】
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【図４】
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