(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
ラマン分光スペクトルにおいて、少なくとも１５００±６０ｃｍ−１と１１６０±４０ｃｍ−１にピークが存在し、ベースラインからの１１６０±４０ｃｍ−１の領域内での最大ピーク強度をＨ１、１３４０±４０ｃｍ−１の領域内での最大ピーク強度をＨ３とした時、Ｈ１／Ｈ３が０．２以上であり、かつ密度が３．１ｇ／ｃｍ３以上の硬質炭素を主体とすることを特徴とするＸ線透過材。
【請求項２】
Ｘ線透過部の厚みが１．８μｍ以下であることを特徴とする請求項１記載のＸ線透過材。
【請求項３】
前記硬質炭素を主体とし、さらに炭化ケイ素を含有することを特徴とする請求項１記載のＸ線透過材。
【請求項４】
ラマン分光スペクトルにおいて、少なくとも１５００±６０ｃｍ−１と１１６０±４０ｃｍ−１にピークが存在し、かつ密度が３．１ｇ／ｃｍ３以上の硬質炭素と、ラマン分光スペクトルにおいて、少なくとも１５００±６０ｃｍ−１と１１６０±４０ｃｍ−１にピークが存在する硬質炭素と炭化ケイ素との混合体との積層体からなることを特徴とするＸ線透過材。
【請求項５】
Ｘ線透過部の厚みが１．８μｍ以下であることを特徴とする請求項４記載のＸ線透過材。
【請求項６】
Ｘ線を透過するための窓材として用いられる請求項１乃至請求項５のいずれか記載のＸ線透過材。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、Ｘ線透過用窓やＸ線露光用マスクに用いられるＸ線透過材に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
Ｘ線の透過用として用いられるフィルム状の部材には、Ｘ線の透過特性、機械的強度に優れていることが求められる。Ｘ線の透過率は光電効果による吸収と、散乱により決定される。光電効果による吸収を別にすれば、Ｘ線の透過率向上のためには、原子番号の小さい元素を用いてトムソン散乱を抑え、かつ透過材料の密度を下げることが有効である。さらに、透過材料の厚さを薄くすることも有効となる。この為、これら部材の材料には、ベリリウム、有機フィルム、窒化ケイ素などの薄膜部材が用いられてきた。
【０００３】
しかし、ベリリウムにおいては、原子番号が小さく、密度も低いため材料自体のＸ線透過特性には優れるが、強度が低く、薄膜化することが難しいという難点がある。また、加工性も悪く、毒性等、取り扱いにも難がある。
【０００４】
有機フィルムも、やはり原子番号の小さい炭素、水素を主成分としているため、比較的高い透過率が得られる。炭素原子はベリリウムよりたかだか３倍〜５倍の線吸収係数を持つに過ぎなく、ベリリウムに比較すると、薄肉加工が容易なために使いやすい材料となる。しかし、薄い有機フィルムは熱的な耐久性に問題があり、Ｘ線吸収による温度上昇で変質や撓み、歪み等が発生してしまう。またフィルムの強度自体が低いため、Ｘ線源用、検出器窓等として片側が真空等の封止隔壁としての機能を併せ持たす場合には、フィルム破損の問題がある。
【０００５】
また、窒化ケイ素は、均一厚さの薄膜を気相成長法等の薄膜手法によって比較的容易に得られるが、膜表面の凹凸が大きく、シリコン原子の吸収端より短波長側（７Å以下）では大きな線吸収係数（ベリリウムの３０倍〜５０倍）があるために使用できず、しかも長波長側においても、透過率で炭素材料に優れるのは２０Å〜４５Åの領域のみであり、その使用が限られてしまう。また、強度も実用上不足している。
【０００６】
これらの従来材料に替わって、炭素原子で構成される、アモルファスカーボン、またはダイヤモンド薄膜をＸ線透過材料として利用する試みがなされている。
【０００７】
炭素材料は、波長１０Å以下のＸ線に対する透過率に優れ、また、吸収端となる４３．７Åより長波長のＸ線に対しても非常に優れた透過性を持つ。また、有機フィルムと異なり耐久性にも優れる。さらに、ダイヤモンド結晶薄膜は、最高の熱伝導率を持ち、機械的強度にも優れるため、物性的には非常に薄くすることが可能であり、Ｘ線透過材料として利用するメリットが大きい。
【０００８】
アモルファスカーボン（本明細書ではダイヤモンド状炭素、ＤＬＣと呼ばれるものも含む）をＸ線透過材に利用した例としては、例えば特開昭５７−１２８０３１号、特開昭６３−２６３５００号、特開平１−２８９１１４号、特開平４−１２２０１５号、特開平６−３１３８００号がある。いずれもダイヤモンド結晶構造を有しない非晶質炭素相のみの膜であり、他材料との複合や積層、またはアニール処理による応力緩和処置を行い、Ｘ線透過材料として利用する技術となっている。
【０００９】
一方、多結晶ダイヤモンド薄膜を利用したＸ線透過材としては、特開昭６３−１８６４２７号、特開平３−２７３６１１号、特開平４−３３８６２８号、特開平６−３６７１８号、特開平６−３１６４９２号で開示されている例がある。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記のアモルファスカーボンは膜形成時、例えば、化学気相成長法等によって形成した場合、膜内に非常に大きな圧縮応力が膜内に不均一に残存するという問題がある。このため、膜を基板から除去する工程で膜に反りやしわが発生し、膜の破壊が頻繁に起こり、膜単体として利用するのは不可能である。このため、他材料との複合や積層や、アニールなどの特別な後処理などが必要になってしまう。また、アモルファスカーボン膜は強度も不足している。
【００１１】
一方、多結晶ダイヤモンド薄膜を膜単体として利用するためには、一般には数μｍ以上の厚さにする必要がある。これは、多結晶ダイヤモンドの気相合成初期段階での核生成密度が低いため、粒子同士をつなげて膜化するためには一定以上の厚さが必要となってしまうためである。
【００１２】
Ｘ線透過率を上げるためには、炭素材料といえども膜厚を薄くする必要がある。密度３．１ｇ／ｃｍ３  以上の炭素材料（ダイヤモンド）において、波長１０Å以下のＸ線透過率を６０％以上とするためには、膜厚は１．８μｍ以下にすることが重要である。また、波長４５ÅのＸ線透過率を４０％以上とするには膜厚を１μｍ以下としなければならない。膜厚を１．８μｍ以下にした場合、基板除去段階で粒子間隙等の欠陥部分から膜の破壊が発生し、膜単体として自立できない。
【００１３】
また、多結晶ダイヤモンド薄膜の表面粗さは一般にＲｍａｘで０．４μｍ以上と大きい。露光用マスクの透過材として用いられる場合などには表面粗さが特に問題となるため、膜表面を研磨することが必要である。しかし、ダイヤモンドの研磨には多大な労力を要するため、実用には供し得ない。さらにアモルファスカーボン膜と同様に不均一な膜内圧縮応力が残存し、反り等が発生してしまう問題があった。
【００１４】
【課題を解決するための手段】
上記問題点を解決するために、検討を重ねた結果、ラマン分光スペクトルにおいて、少なくとも１５００±６０ｃｍ−１と１１６０±４０ｃｍ−１にピークが存在する硬質炭素からなる膜は、数十ｎｍサイズの微細な多結晶ダイヤモンド組織で大部分が構成され、かつ膜中に微量のアモルファスカーボン成分、および極微量のダイヤモンド前駆体またはポリエン構造体を含有するために、膜厚１．８μｍ以下でも反り、しわ等がなく、かつ破損の原因となる欠陥のない高密度体であることを知見し、これをＸ線透過材として用いたところ、優れた透過性を有することを見いだし、本発明に至った。
【００１５】
即ち、本発明のＸ線透過材は、ラマン分光スペクトルにおいて、少なくとも１５００±６０ｃｍ−１と１１６０±４０ｃｍ−１にピークが存在し、ベースラインからの１１６０±４０ｃｍ−１の領域内での最大ピーク強度をＨ１、１３４０±４０ｃｍ−１の領域内での最大ピーク強度をＨ３とした時、Ｈ１／Ｈ３が０．２以上であり、かつ密度が３．１ｇ／ｃｍ３以上の硬質炭素を主体とすることを特徴とするものであり、さらには、Ｘ線透過部の厚みが１．８μｍ以下であることを特徴とする。
【００１６】
また、他の構成例としては、前記硬質炭素を主体とし、さらに炭化ケイ素を含有するもの、あるいはラマン分光スペクトルにおいて、少なくとも１５００±６０ｃｍ−１と１１６０±４０ｃｍ−１にピークが存在し、かつ密度が３．１ｇ／ｃｍ３  以上の硬質炭素と、ラマン分光スペクトルにおいて、少なくとも１５００±６０ｃｍ−１と１１６０±４０ｃｍ−１にピークが存在する硬質炭素と炭化ケイ素との混合体との積層体からなるものであってもよい。
【００１７】
これら、Ｘ線透過材は、特にＸ線を透過するための窓材として用いられるものである。
【００１８】
【発明の実施の形態】
本発明におけるＸ線透過材は、ラマン分光スペクトルにおいて、１１００ｃｍ−１の測定点と１７００ｃｍ−１の測定点とを直線で結び、これをベースラインとしたとき、少なくとも１５００±６０ｃｍ−１と１１６０±４０ｃｍ−１にピークが存在し、かつ密度が３．１ｇ／ｃｍ３  以上、特に３．２ｇ／ｃｍ３  以上の範囲内にある硬質炭素膜を使用することが特徴的である。なお、密度は、実質的に炭素のみから構成される場合、３．５２ｇ／ｃｍ３  （単結晶ダイヤモンドの密度）を越えることはない。
【００１９】
この硬質炭素膜は、本質的には数十ｎｍ以下のサイズのダイヤモンド微結晶組織の集合体である。このことは該硬質炭素膜のＸ線回折でダイヤモンドの回折ピークが観測されること、ラマン分光分析により１３３３ｃｍ−１付近にピークが存在すること、および透過電子顕微鏡による観察、電子線回折からも明らかであるが、アモルファス成分を含めて定量的に示すため、膜の密度を３．１ｇ／ｃｍ３  以上とした。
【００２０】
この密度が３．１ｇ／ｃｍ３  より小さいと、アモルファスカーボン相が多くなり過ぎて、強度低下を招いたり、膜内の不均一な圧縮応力が発生し始めてしわ等の歪みが起こってしまう。ちなみに、一般にダイヤモンド状炭素（ＤＬＣ）と呼ばれている膜の密度は２ｇ／ｃｍ３  未満と極端に低く、本発明の硬質炭素膜とは全く異なるものである。
【００２１】
ラマン分光分析で観測される１５００±６０ｃｍ−１のブロードなピークはアモルファスカーボン相の存在を示し、１１６０±４０ｃｍ−１に出現するピークはダイヤモンド前駆体またはポリエン構造の存在を示すものと思われる。上記２種類の相がダイヤモンド微結晶とともに微量存在することにより、非常に緻密でかつ内部応力の無い膜の作製が可能であるため、膜厚１μｍ以下のＸ線透過窓材を提供することができるようになった。内部応力の発生が認められなくなる理由は定かではないが、アモルファス相とダイヤモンド前駆体またはポリエン構造の相が２相とも微量存在することによって、何らかの応力緩和機構が働くものと思われる。
【００２２】
また、本発明の硬質炭素膜は、上記のラマン分光スペクトルのチャートにおいて、前記ベースラインからの１１６０±４０ｃｍ−１の領域内での最大ピーク強度をＨ１、１３４０±４０ｃｍ−１の領域内での最大ピーク強度をＨ３とした時、Ｈ１／Ｈ３が０．２以上であることも特徴である。
【００２３】
なお、該硬質炭素膜は完全な結晶質ダイヤモンドではないため、可視光に対する透明度には劣るが、１μｍ以下の厚さの平滑膜（Ｒａで１０ｎｍ以下）が容易に形成できるため、波長６３３ｎｍの赤色光に対する透過率も４０％以上が確保できる。
【００２４】
なお、本発明におけるＸ線透過材は、前記硬質炭素膜単味から構成される他、前記硬質炭素と炭化珪素との混合体、あるいは前記硬質炭素膜と混合体膜との積層体であってもよい。
【００２５】
本発明におけるＸ線透過材を使用する際には、当然のことながら周囲に膜を支持する枠体が存在する。気相合成法により成長した硬質炭素膜を基体から除去し、別途用意された枠体に後付けすることも可能ではあるが、より信頼性の高い作製方法としては、枠体および／または支持グリッドの表面に直接硬質炭素膜を形成するのが望ましい。
【００２６】
例えば、Ｘ線透過窓としては、図１の概略図に示すように、硬質炭素膜１単体を基体２を支持体として取り付ける。この図１では、円板状の基体に対して、裏面に透過窓のサイズとなるマスク板を設けて、膜形成した後、マスク板をはずし、膜形成されなかった基体露出部分をエッチング除去することにより、図１のような窓部材を形成することができる。図１では、Ｘ線透過部３は、硬質炭素膜１の単体によって構成される。
【００２７】
また、図１の構成において、基体２と炭素膜１との間には、成膜時温度から室温にまで下げた状態での熱応力が残存する場合があり、硬質炭素膜が剥離することが懸念される。上記の場合の基体材種として石英、シリコン等の低熱膨張係数を有するものが望ましい。しかし、低熱膨張の基体を用いても上記熱応力は皆無ではなく、サイズが大きくなった場合は特に膜と基体間の密着性を確保することが重要となる。
【００２８】
そこで、本発明では、前記硬質炭素膜中に炭化ケイ素を含有させるか、もしくは図２に示すように、基体２と硬質炭素膜１との間に、少なくともダイヤモンドと炭化ケイ素を含有する混合体からなる中間層４を介在させることにより、極めて基体との密着性の良い硬質炭素膜を形成することができる。この場合、Ｘ線透過部３は、硬質炭素膜と硬質炭素と炭化珪素との混合体との積層体によって構成されることになる。
【００２９】
このような膜構成により硬質炭素膜と基体との密着強度が向上する理由は次のように考えられる。原子同士は電子を介在することにより結合されているが、一般に、原子間の電子が一方に存在して電気的な結び付きにより結合しているイオン結合よりも、電子を双方の原子で共有している共有結合の方が強い結合力を持つ。ダイヤモンドは炭素の共有結合により構成されているので強い結合力を有している。したがって、ダイヤモンドと異種化合物との密着強度を向上させるためには類似の結合様式である共有結合性の化合物であることが望ましいと考えられる。またダイヤモンドの成分である炭素を含む化合物の方がより整合性がよいと思われる。炭素化合物は数多く存在するがその多くはイオン性結合を主体としたものである。共有結合性炭化物としては炭化ケイ素と炭化ホウ素が挙げられる。
【００３０】
これらの化合物とダイヤモンドが混在する層を硬質炭素膜と母材との間に形成することにより、硬質炭素膜と母材との密着強度が向上する。またこのダイヤモンドと、炭化ケイ素は分離して存在しているのではなく、ダイヤモンドの周りを炭化ケイ素が取り囲むような構造、すなわち、ダイヤモンドが島状に分布させることにより、いわゆるアンカー効果が期待でき、硬質炭素膜と基体との密着強度が向上する。
【００３１】
このようなＸ線透過材の作製方法は、気相成長法において、基体の設置した反応室内に原料ガスとして水素と炭素含有ガス、およびケイ素含有ガスを導入し、励起することによりダイヤモンドと炭化ケイ素が混在する層を形成することができ、さらにケイ素含有ガスの供給を停止することにより硬質炭素膜を形成することができる。このようにガスの供給量をコントロールするだけで混合層に続いて連続的に硬質炭素膜を形成することができるので、生産性も従来と変わらず優れた部材を提供することができる。
【００３２】
前記炭素含有ガスとしては、例えば、メタン、エタン、プロパンなどのアルカン類、エチレン、プロピレンなどのアルケン類、アセチレンなどのアルキン類、ベンゼンなどの芳香族炭化水素類、シクロプロパンなどのシクロパラフィン類、シクロペンテンなどのシクロオレフィン類などが挙げられる。また一酸化炭素、二酸化炭素、メチルアルコール、エチルアルコール、アセトンなどの含酸素炭素化合物、モノ（ジ、トリ）メチルアミン、モノ（ジ、トリ）エチルアミンなどの含窒素炭素化合物なども炭素源ガスとして使用することができる。これらは一種単独で用いることもできるし、二種以上で併用することもできる。
【００３３】
前記ケイ素含有ガスとしては、四フッ化ケイ素、四塩化ケイ素、四臭化ケイ素などのハロゲン化物、二酸化ケイ素などの酸化物の他に、モノ（ジ、トリ、テトラ、ペンタ）シラン、モノ（ジ、トリ、テトラ）メチルシランなどのシラン化合物、トリメチルシラノールなどのシラノール化合物などが挙げられる。これらは一種単独で用いることもできるし、二種以上で併用することもできる。
【００３４】
なお、本発明における硬質炭素膜、および硬質炭素と炭化ケイ素の混合膜、および硬質炭素膜／硬質炭素と炭化ケイ素混合膜の積層膜のいずれにおいても、Ｘ線照射時に発生する２次電子による帯電防止策として表面に導電層されていてもよい。
【００３５】
本発明によれば、Ｘ線透過用窓やＸ線リソグラフィマスク等に用いられるＸ線透過材として、所定のラマン分光スペクトルと一定以上の密度を有する薄い硬質炭素膜を用いることにより、高い透過率を持ち、信頼性の高いＸ線透過材を得ることができる。
【００３６】
さらに、該硬質炭素と炭化ケイ素の混合膜を用いる、または該硬質膜と基体間に硬質炭素と炭化ケイ素の混合膜を介在させて用いることにより、基体と極めて密着性の良い硬質炭素膜が得られ、基体の一部を支持体として使用した場合には、支持体との密着性を高めることができ、Ｘ線透過部材としての信頼性をさらに向上させることができる。
【００３７】
【実施例】
（実施例１）
１０−４Ｐａ以下に真空排気した反応炉内にＣＨ４  １８ＳＣＣＭ、ＣＯ２  １８ＳＣＣＭ、Ｈ２  ２６４ＳＣＣＭの各ガスを導入し、反応室内圧力を６．７Ｐａに設定した。ＥＣＲプラズマＣＶＤ法により最大０．２テスラの強度の磁場を外部より印加し、周波数２．４５ＧＨｚのマイクロ波出力３．５ＫＷの条件で、直径２インチ、厚さ０．５ｍｍのシリコンウェハ基板（Ｎｏ．１）と、直径５ｃｍ、厚さ０．５ｍｍの石英基板１枚（Ｎｏ．２）上に２．５時間成膜を行った。
【００３８】
Ｎｏ．１のシリコンウェハー及びＮｏ．２の石英基板の裏側にはそれぞれ直径１ｃｍのモリブデン製のマスク板を設置し、基板裏側の直径１ｃｍの中央領域内には硬質炭素膜が成膜されないようにした。Ｎｏ．１、Ｎｏ．２ともに、成膜後マスク板を取り外した後、フッ硝酸液中に入れ基板をエッチング除去した。
【００３９】
Ｎｏ．１、Ｎｏ．２は、裏側直径１ｃｍのマスク設置部分は硬質炭素膜のみを残した開口部となり、開口部に位置する硬質炭素膜の自立部分には欠陥、歪み、撓み等はみられなかった。得られたＸ線透過窓の構造の構造の概略断面図を図１に示した。図１において、１は硬質炭素膜、２は基体であり、３がＸ線透過部である。なお、Ｘ線透過率測定の際のリファレンス用として、前記シリコンウエハからなる何ら膜の無い直径１ｃｍの開口部を有した構造物を作製した。
【００４０】
得られたＮｏ．１およびＮｏ．２における硬質炭素膜をＸ線回折により分析した結果、ダイヤモンドの存在が確認された。顕微ラマン分光法によりスペクトル測定を行ったところ、Ｎｏ．１、Ｎｏ．２ともに、図３のラマン分光スペクトルチャートに示すように、１３３３ｃｍ−１付近のダイヤモンドピークの他に、１５００ｃｍ−１付近にブロードなピークと、１１６０ｃｍ−１付近にもピークが観測された。
【００４１】
上記２サンプルのＸ線透過率はＡｌのＫα（波長８．３Å）の透過率により評価したところ、いずれも８３％の高い透過率が得られた。また、可視光の透過率測定も併せて行い、波長６００ｎｍで測定したところいずれも透過率４５％が得られた。
【００４２】
透過率測定後、膜表面の表面粗さ、膜の密度の測定、および走査型電子顕微鏡、透過型電子顕微鏡による観察を行った。表面粗さは、成膜時の基板側、成長面側の２面とも非接触表面粗さ計を用いて測定を行い、硬質炭素膜の基板側はＲａで１ｎｍ、膜成長面側はＲａで３ｎｍと、両面とも平滑な面が得られていることがわかった。
【００４３】
膜の密度については、膜単体を取り出し、ぎ酸タリウム水溶液の比重液を用いた浮沈法で測定を行った結果、３．３５〜３．４０ｇ／ｃｍ３  の範囲内であった。電子顕微鏡による観察結果から、この硬質炭素膜の膜厚は１．１μｍ、膜中の微結晶ダイヤモンドのサイズは２０ｎｍ程度であった。
【００４４】
（実施例２）
次に、実施例１の硬質炭素膜の成膜条件は全く同じにして、成膜時間のみ１．５時間、３．５時間、４．５時間及び５．５時間に変更してＮｏ．１と同様な４種類のサンプル（Ｎｏ．３〜６）の作製と実施例１と同様な評価を行った。結果は、表１に示した。
【００４５】
得られたラマン分光スペクトルは、図２のＮｏ．１、２とほとんど同様なチャートであった。また、表１の結果から明らかなように、膜厚は成膜時間が長くなるにつれ大きくなってゆき、Ｘ線及び可視光の透過率については成膜時間が長くなるにつれて減少した。
【００４６】
（実施例３）
次に、ＣＨ４  とＣＯ２  の比は一定に保ったままＣＨ４  とＣＯ２  のＨ２  に対する流量比と成膜時間を変化させてＮｏ．１と同様な形状のサンプルの作製、評価を行った（Ｎｏ．７〜１０）。評価結果は表１に示した。
【００４７】
表１の結果から明らかなように、ＣＨ４  、ＣＯ２  濃度が低すぎる（Ｎｏ．７）と、ラマン分光スペクトルにおいて１５００±６０ｃｍ−１のピークが弱くなり、１１６０±４０ｃｍ−１のピークは消失した。これらのサンプルにおいては、基体をエッチングすると硬質炭素膜単独部分にクラック等の欠陥の発生したり、膜全体が破損してしまった。一方、ＣＨ４  、ＣＯ２  濃度が高すぎる（Ｎｏ．９、Ｎｏ．１０）と、ラマン分光スペクトルの１５００±６０ｃｍ−１のブロードなピーク強度は増大し、１１６０±４０ｃｍ−１のピークは相対的に弱く、Ｎｏ．９では全く検出されなかった。これらのサンプルにおいては、基体エッチング後の硬質炭素膜単独部分に明らかにしわや、歪み、クラックが見られるようになり、Ｘ線透過材として不適当であることが判明した。膜の密度を測定すると３．１ｇ／ｃｍ３  より小さくなっていることが判った。
【００４８】
（実施例４）
実施例１の原料ガスにさらにＳｉ（ＣＨ３  ）４  を０．３ＳＣＣＭ添加し、他の条件は実施例１のＮｏ．１と同様にしてサンプルを作製、評価した。得られたサンプルの評価結果は、Ｘ線回折でダイヤモンドの存在とともに、ＳｉＣのピークが確認されたこと、及びＸ線に対する透過率が７８％になったことを除いて、実施例１のＮｏ．１とほぼ同じであった。成膜時間や、ＣＨ４  、ＣＯ２  比のＨ２  に対する流量比を変化させた場合も実施例３と同様な結果が得られた。
【００４９】
（実施例５）
実施例１のサンプルと同一条件の硬質炭素膜を形成する前段階に、Ｓｉ（ＣＨ３  ）４  とＨ２  の混合ガスによるＳｉＣと硬質炭素との混合体層の形成段階を加えた。基体材質と形状はＮｏ．１と同様であるが、膜単体となる部分（成膜時のＭｏマスク部分で、Ｘ線透過部となる領域）の寸法を直径３ｃｍと大きくした。Ｘ線透過窓の作製工程、評価方法は実施例１Ｎｏ．１と同様な方法で行い、図２に示すＸ線透過窓を作製した。この実施例における成膜時の原料ガス流量及び圧力の変化については成膜時間の経過と共に表２に示す。
【００５０】
得られた膜をＸ線回折により分析した結果、ダイヤモンドの存在とＳｉＣの存在とが確認された。顕微ラマン分光法によりスペクトル測定を行ったところ、１５００ｃｍ−１付近と１１６０ｃｍ−１にピークが確認された。Ｘ線透過率は５９％、支持基板枠との界面も全周にわたって完全に密着性が確保されており、Ｘ線透過部（膜単体部）に歪み等もみられなかった。なお、膜厚は１．４μｍで、膜の密度は３．３５〜３．４０ｇ／ｃｍ３  の範囲内であった。
【００５１】
【表１】
0003561102.tif 000002
【００５２】
【表２】
0003561102.tif 000003
【００５３】
【発明の効果】
以上、詳述したように本発明のＸ線透過材は、所定のラマン分光スペクトルと一定以上の密度を有する薄い硬質炭素膜を用いることにより、高い透過率を持ち、信頼性の高いＸ線透過材を得ることができる。これにより、Ｘ線透過用窓やＸ線リソグラフィマスク等として、その信頼性の高い製品を提供できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明のＸ線透過材として、Ｘ線透過用窓として用いた場合の構造を説明するための図である。
【図２】本発明のＸ線透過材として、Ｘ線透過用窓としての他の態様を説明するための図である。
【図３】比較品における硬質炭素膜のラマン分光スペクトルのチャートの一例（Ｎo.７）である。
【図４】本発明における硬質炭素膜のラマン分光スペクトルのチャートの一例（Ｎo.１）である。
【符号の説明】
１    硬質炭素膜
２    基体
３    Ｘ線透過部
４    硬質炭素と炭化ケイ素との混合体膜
【図１】
0003561102.tif 000004
【図２】
0003561102.tif 000005
【図３】
0003561102.tif 000006
【図４】
0003561102.tif 000007