【手続補正書】
【提出日】平成27年9月25日(2015.9.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
その少なくとも１つの表面に感光性コーティングを有する円筒形基板を提供する工程と、
前記感光性コーティングを電磁放射線のビームに選択的に露光することによって前記感光性コーティングに表面レリーフ微細構造化パターンを作り出す工程と、 
前記感光性コーティングの前記露光された部分を現像して、前記円筒形基板の表面に傾き、回転、高さ、またはサイズにおいて変化を有する個々の要素を備える微細構造化パターンを形成する工程と、
その表面に前記微細構造化パターンを備える成形型に前記微細構造化パターンを転写する工程と
を含む、成形型を製作するための方法。
【請求項２】
前記表面レリーフ微細構造化パターンを作り出す工程が、レーザによるパターン生成を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記レーザによるパターン生成が、ロードされたビットマップファイルに基づいてコンピュータシステムによって制御される、請求項２に記載の方法。
【請求項４】
前記微細構造化パターンが、プリズム、レンズ、レンチキュラー、スタンドオフ、構造用部材、平らな領域、またはアールを備える、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記表面レリーフ微細構造化パターンを作り出す工程が、電磁放射線のビームが前記円筒形基板の回転軸に沿って前記感光性コーティングを選択的に露光する際に、前記円筒形基板を回転させることを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記微細構造化パターンを転写する工程が、円筒形の成形型を形成する、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
その表面に感光性コーティングを有する円筒形基板を提供する工程と、
前記感光性コーティングを電磁放射線のビームに選択的に露光することによって前記感光性コーティングに表面レリーフ微細構造化パターンを作り出す工程と、
前記感光性コーティングの前記露光された部分を現像して、前記円筒形基板の表面に傾き、回転、高さ、またはサイズにおいて変化を有する個々の要素を備える微細構造化パターンを形成する工程と、
その表面に前記微細構造化パターンを備える成形型に前記微細構造化パターンを転写する工程と、
前記成形型から、表面に前記微細構造化パターンを含むシートを形成する工程と
を含む、シートを製作するための方法。
【請求項８】
前記表面レリーフ微細構造化パターンを作り出す工程が、レーザによるパターン生成を含む、請求項７記載の方法。
【請求項９】
前記レーザによるパターン生成が、ロードされたビットマップファイルを有するコンピュータシステムによって制御される、請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
前記微細構造化パターンが、プリズム、レンズ、レンチキュラー、スタンドオフ、構造用部材、平らな領域、またはアールを備える、請求項７に記載の方法。
【請求項１１】
前記表面レリーフ微細構造化パターンを作り出す工程が、電磁放射線のビームが前記円筒形基板の回転軸に沿って前記感光性コーティングを選択的に露光する際に、前記円筒形基板を回転させることを含む、請求項７に記載の方法。
【請求項１２】
前記微細構造化パターンを転写する工程が、円筒形の成形型を形成する、請求項７に記載の方法。
【請求項１３】
前記シートが、その表面上に前記微細構造化パターンのある継ぎ目のないシートを含む、請求項７に記載の方法。
【請求項１４】
複数の光学的部材を備える継ぎ目のないシートであって、該複数の光学的部材が継ぎ目のないシートの表面に連続的な微細構造化パターンで形成され、前記微細構造化パターンが、傾き、回転、高さ、またはサイズにおいて変化を有する個々の要素を備える、前記継ぎ目のないシート。
【請求項１５】
前記微細構造化パターンが、プリズム、レンズ、レンチキュラー、スタンドオフ、構造用部材、平らな領域、またはアールを備える、請求項１４に記載のシート。
【請求項１６】
前記複数の光学的部材が、非垂直壁を備える、請求項１４に記載のシート。
【請求項１７】
前記微細構造化パターンが、個々の光学的部材を接続する１つまたは複数の流路を備える、請求項１４に記載のシート。
【請求項１８】
複数の光学的部材を備える継ぎ目のないシートであって、該複数の光学的部材が継ぎ目のないシートの表面に連続的な微細構造化パターンで形成され、前記微細構造化パターンが、プリズム、レンズ、レンチキュラー、スタンドオフ、構造用部材、平らな領域、またはアールを備える、前記継ぎ目のないシート。
【請求項１９】
その少なくとも１つの表面に感光性コーティングを有する円筒形基板を提供する工程と、
前記感光性コーティングを電磁放射線のビームに選択的に露光することによって前記感光性コーティングに表面レリーフ微細構造化パターンを作り出す工程と、 
前記感光性コーティングの前記露光された部分を現像して、前記円筒形基板の表面にプリズム、レンズ、レンチキュラー、スタンドオフ、構造用部材、平らな領域、またはアールを備える微細構造化パターンを形成する工程と、
その表面に前記微細構造化パターンを備える成形型に前記微細構造化パターンを転写する工程と
を含む、成形型を製作するための方法。
【請求項２０】
前記表面レリーフ微細構造化パターンを作り出す工程が、レーザによるパターン生成を含む、請求項１９に記載の方法。
【請求項２１】
前記レーザによるパターン生成が、ロードされたビットマップファイルに基づいてコンピュータシステムによって制御される、請求項２０に記載の方法。
【請求項２２】
前記表面レリーフ微細構造化パターンを作り出す工程が、電磁放射線のビームが前記円筒形基板の回転軸に沿って前記感光性コーティングを選択的に露光する際に、前記円筒形基板を回転させることを含む、請求項１９に記載の方法。
【請求項２３】
前記微細構造化パターンが、傾き、回転、高さ、またはサイズにおいて変化を有する個々の要素を備える、請求項１９に記載の方法。
【請求項２４】
前記微細構造化パターンを転写する工程が、円筒形の成形型を形成する、請求項１９に記載の方法。
【請求項２５】
その表面に感光性コーティングを有する円筒形基板を提供する工程と、
前記感光性コーティングを電磁放射線のビームに選択的に露光することによって前記感光性コーティングに表面レリーフ微細構造化パターンを作り出す工程と、
前記感光性コーティングの前記露光された部分を現像して、前記円筒形基板の表面にプリズム、レンズ、レンチキュラー、スタンドオフ、構造用部材、平らな領域、またはアールを備える微細構造化パターンを形成する工程と、
その表面に前記微細構造化パターンを備える成形型に前記微細構造化パターンを転写する工程と、
前記成形型から、表面に前記微細構造化パターンを含むシートを形成する工程と
を含む、シートを製作するための方法。
【請求項２６】
前記表面レリーフ微細構造化パターンを作り出す工程が、レーザによるパターン生成を含む、請求項２５記載の方法。
【請求項２７】
前記レーザによるパターン生成が、ロードされたビットマップファイルに基づいてコンピュータシステムによって制御される、請求項２６に記載の方法。
【請求項２８】
前記表面レリーフ微細構造化パターンを作り出す工程が、電磁放射線のビームが前記円筒形基板の回転軸に沿って前記感光性コーティングを選択的に露光する際に、前記円筒形基板を回転させることを含む、請求項２５に記載の方法。
【請求項２９】
前記微細構造化パターンが、傾き、回転、高さ、またはサイズにおいて変化を有する個々の要素を備える、請求項２５に記載の方法。
【請求項３０】
前記微細構造化パターンを転写する工程が、円筒形の成形型を形成する、請求項２５に記載の方法。
【請求項３１】
前記シートが、その表面上に前記微細構造化パターンのある継ぎ目のないシートを含む、請求項２５に記載の方法。
【請求項３２】
前記微細構造化パターンが、再帰反射微細構造を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３３】
前記微細構造化パターンが、再帰反射微細構造を含む、請求項７に記載の方法。
【請求項３４】
前記微細構造化パターンが、再帰反射微細構造を含む、請求項１４に記載の継ぎ目のないシート。
【請求項３５】
前記微細構造化パターンが、再帰反射微細構造を含む、請求項１８に記載の継ぎ目のないシート。
【請求項３６】
前記微細構造化パターンが、再帰反射微細構造を含む、請求項１９に記載の方法。
【請求項３７】
前記微細構造化パターンが、再帰反射微細構造を含む、請求項２５に記載の方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】成形型および微細構造を製作するための方法およびその装置