(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
流量または圧力を調整する調整器(2)の入口側および出口側の少なくとも一方に、複数の弁(3,4)(5,6,7)よりなり複数の流路を切り換えて調整器(2)の流路に連通させる弁装置が設けられている流体制御装置において、弁装置の複数の弁(3,4)(5,6,7)は、上下に重ねられており、調整器(2)に、調整器(2)に連通する下向き開口通路(34)(35)を有する上側通路ブロック(23)(24)が前後に張り出して設けられるとともに、弁装置に、弁装置に連通する上向き開口通路(33)(36)を有する下側通路ブロック(25)(26)が設けられ、下向き開口通路(34)(35)と上向き開口通路(33)(36)とが連通するように下側通路ブロック(25)(26)の上に上側通路ブロック(23)(24)が重ねられて、上側通路ブロック(23)(24)と下側通路ブロック(25)(26)とが着脱自在に連結されていることを特徴とする流体制御装置。
【請求項２】
複数の弁(3,4)(5,6,7)の通路(31,39)(38,44,47)開口が同じ向きとされた請求項１の流体制御装置が複数列設けられるとともに、各流体制御装置の同じ高さの弁(3,4)(5,6,7)同士が継手(51,52,53,54)(55,56,57,58,59,60,62,63,64,66,67,68)およびチューブ(72)(73,74,75)を介して接続されていることを特徴とする流体制御装置。
【請求項３】
複数の弁(3,4)(5,6,7)よりなり複数の流路を切り換えて調整器(2)の流路に連通させる弁装置が流量または圧力を調整する調整器(2)の入口側および出口側の少なくとも一方に設けられることにより１列の流体制御装置が形成されるとともに、弁装置の複数の弁(3,4)(5,6,7)が通路(31,39)(38,44,47)開口が同じ向きとなるように上下に重ねられ、この流体制御装置が複数列設けられて、各流体制御装置の同じ高さの弁(3,4)(5,6,7)同士が継手(51,52,53,54)(55,56,57,58,59,60,62,63,64,66,67,68)およびチューブ(72)(73,74,75)を介して接続されていることを特徴とする流体制御装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】
この発明は、半導体の製造装置などに使用される流体制御装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
流量または圧力を調整する調整器の入口側および出口側の少なくとも一方に、複数の弁よりなり複数の流路を切り換えて調整器の流路に連通させる弁装置が設けられている流体制御装置は、従来より知られている。
【０００３】
図５および図６は、従来の流体制御装置を示し、図７は、従来の流体制御装置が２列左右方向に並べられて互いに接続された状態を示している。以下の説明において、前後左右は、流体の流れる方向に対していうものとし、図５の右側を前、左側を後、同図紙面裏側を左、表側を右とする。また、図５の上下を上下をいうものとする。
【０００４】
図５および図６に示すように、従来の流体制御装置(101) は、マスフローコントローラ（調整器）(102) と、これの入口側（後側）および出口側（前側）にそれぞれ設けられた開閉弁(103)(104)(105)(106)(107) とよりなる。開閉弁(103)(104)(105)(106)(107) は、計５つあり、入口側には、マスフローコントローラ(102) に直結されたメイン流体用開閉弁(103) およびこれの右方に直結されたパージ流体用開閉弁(104) の２つが設けられ、出口側には、マスフローコントローラ(102) に直結されたメイン通路用開閉弁(105) 、これの右方に直結された排気用開閉弁(106) およびさらにこれの右方に直結された真空吸引用開閉弁(107) の３つが設けられている。
【０００５】
メイン流体用開閉弁(103) は、プロセスガスの流入路を開閉するものであり、後方に開口した流入路(131) 、前方に開口した流出路(132) および流出路(132) に連通しかつ右方に開口したバイパス流路(133) を有する直方体状本体(108) と、流入路(131) を開閉するアクチュエータ(109) とよりなり、流入路(131) の開口縁部には、スリーブ接続用めねじ部(110) が設けられている。
【０００６】
パージ流体用開閉弁(104) は、パージ用ガスの流入路を開閉するものであり、後方に開口した流入路(134) 、メイン流体用開閉弁(103) のバイパス流路(133) に連通する流出路(135) を有する直方体状本体(111) と、流入路(134) を開閉するアクチュエータ(112) とよりなり、流入路(134) の開口縁部には、スリーブ接続用めねじ部(113) が設けられている。
【０００７】
メイン通路用開閉弁(105) は、プロセスチャンバに至る流路を開閉するものであり、後方に開口した流入路(136) 、前方に開口した流出路(137) および流入路(136) に連通し右方に開口したバイパス流路(138) を有する直方体状本体(114) と、流入路(136) を開閉するアクチュエータ(115) とよりなり、流出路(137) の開口縁部には、スリーブ接続用めねじ部(116) が設けられている。
【０００８】
排気用開閉弁(106) は、パージ用ガスの流出路を開閉するものであり、前方に開口した流出路(140) 、メイン通路用開閉弁(105) のバイパス流路(138) に連通する左方に開口した流入路(139) およびこの流入路(139) に連通し右方に開口したバイパス流路(141) を有する直方体状本体(117) と、流入路(139) を開閉するアクチュエータ(118) とよりなり、流出路(140) の開口縁部には、スリーブ接続用めねじ部(119) が設けられている。
【０００９】
真空吸引用開閉弁(107) は、真空吸引ポンプに通じる流路を開閉するもので、前方に開口した流出路(143) および排気用開閉弁(106) のバイパス流路(141) に連通する左方に開口した流入路(142) を有する直方体状本体(120) と、流入路(142) を開閉するアクチュエータ(121) とよりなり、流出路(143) の開口縁部には、スリーブ接続用めねじ部(122) が設けられている。
【００１０】
メイン流体用開閉弁(103) とパージ流体用開閉弁(104) とは、右方からねじ込まれたねじ(128) により連結されており、メイン通路用開閉弁(105) と排気用開閉弁(106) と真空吸引用開閉弁(107) とも、右方からねじ込まれたねじ(128) により連結されている。左右に隣り合う開閉弁(103)(104)(105)(106)(107) 間には、シール部(127) が設けられている。
【００１１】
このようにして、調整器(102) の入口側に、２つの開閉弁(103)(104)により構成されかつ複数の流入路(131)(134)を切り換えて調整器(102) の流入路に連通させる入口側弁装置が設けられ、同出口側に、３つの開閉弁(105)(106)(107) により構成され複数の流出路(137)(140)(143) を切り換えて調整器(102) の流出路に連通させる出口側弁装置が設けられ、流体制御装置(101) の入口側のいずれかの流入路(131)(134)に流入した流体が調整器(102) 内を通って同出口側のいずれかの流出路(137)(140)(143) から流出させられるようになされている。
【００１２】
上記の流体制御装置(101) が２列設けられる場合には、図７に示すように、左右２列とされ、隣り合う制御装置(101) の対応する弁同士、すなわち、パージ流体用開閉弁(104) 同士、メイン通路用開閉弁(105) 同士、排気用開閉弁(106) 同士および真空吸引用開閉弁(107) 同士が、継手およびチューブを介して接続される。なお、メイン流体用開閉弁(103) は、各制御装置(101)(101)のメイン流体用開閉弁(103)(103)のめねじ部(110)(110)にそれぞれスリーブ（円筒状の継手）(151)(153)が接続され、これらのスリーブ(151)(153)に、それぞれ単独でプロセスガス供給用チューブ(179)(180)が接続されており、メイン流体用開閉弁(103) 同士は接続されていない。
【００１３】
パージ流体用開閉弁(104) 同士については、左方に配置された制御装置(101) の開閉弁(104) のめねじ部(113) にスリーブ(152) が接続され、このスリーブ(152) に第１Ｌ型継手(165) が接続され、第１Ｌ型継手(165) にさらに第２Ｌ型継手(166) が接続され、右方に配置された制御装置(101) の開閉弁(104) のめねじ部(113) にスリーブ(154) が接続され、このスリーブ(154) に一端がパージガス供給用チューブ(181) に接続されたＴ型継手(161) が接続され、このＴ型継手(161) に第３Ｌ型継手(167) が接続され、第２Ｌ型継手(166) と第３Ｌ型継手(167) とがチューブ(182) で接続されている。第２Ｌ型継手(166) および第３Ｌ型継手(167) は、接続用のチューブ(182) が右方のプロセスガス供給用チューブ(180) と干渉しないようにするためのものである。
【００１４】
メイン通路用開閉弁(105) 同士については、左方に配置された制御装置(101) の開閉弁(105) のめねじ部(116) にスリーブ(155) が接続され、このスリーブ(155) に前後にのびる第１チューブ(183) が接続され、この第１チューブ(183) にＬ型継手(168) が接続され、右方に配置された制御装置(101) の開閉弁(105) のめねじ部(116) にスリーブ(158) が接続され、このスリーブ(158) に前後にのびる第２チューブ(186) が接続され、この第２チューブ(186) にＴ型継手(162) の後端が接続され、このＴ型継手(162) の左端とＬ型継手(168) とが左右にのびる第３チューブ(184) で接続され、Ｔ型継手(162) の右端に、左右にのびる第４チューブ(185) を介してスリーブ接続用めねじ部材(192) が設けられている。第１チューブ(183) および第２チューブ(186) は、他の配管との干渉を防止するためのものであり、第４チューブ(185) は、他の配管に左右長さを合わせるためのものである。
【００１５】
排気用開閉弁(106) 同士については、左方に配置された制御装置(101) の開閉弁(106) のめねじ部(119) にスリーブ(156) が接続され、このスリーブ(156) に第１Ｌ型継手(169) が接続され、この第１Ｌ型継手(169) に第２Ｌ型継手(170) が接続され、この第２Ｌ型継手(170) にさらに第３Ｌ型継手(171) が接続され、右方に配置された制御装置(101) の開閉弁(106) のめねじ部(119) にスリーブ(159) が接続され、このスリーブ(159) に第４Ｌ型継手(175) が接続され、この第４Ｌ型継手(175) に第５Ｌ型継手(176) が接続され、この第５Ｌ型継手(176) にさらにＴ型継手(163) が接続され、第３Ｌ型継手(171) とＴ型継手(163) の左端とが左右にのびる第１チューブ(187) で接続されている。Ｔ型継手(163) の右端には、左右にのびる第２チューブ(188) を介してスリーブ接続用めねじ部材(193) が設けられている。第１Ｌ型継手(169) 、第２Ｌ型継手(170) 、第４Ｌ型継手(175) および第５Ｌ型継手(176) は、他の配管との干渉を防止するためのものであり、第２チューブ(188) は、他の配管に左右長さを合わせるためのものである。
【００１６】
真空吸引用開閉弁(107) 同士については、左方に配置された制御装置(101) の開閉弁(107) のめねじ部(122) にスリーブ(157) が接続され、このスリーブ(157) に第１Ｌ型継手(172) が接続され、この第１Ｌ型継手(172) に上下にのびる第１チューブ(189) を介して第２Ｌ型継手(173) が接続され、この第２Ｌ型継手(173) にさらに第３Ｌ型継手(174) が接続され、右方に配置された制御装置(101) の開閉弁(107) のめねじ部(122) にスリーブ(160) が接続され、このスリーブ(160) に第４Ｌ型継手(177) が接続され、この第４Ｌ型継手(177) に上下にのびる第２チューブ(190) を介して第５Ｌ型継手(178) が接続され、この第５Ｌ型継手(178) にＴ型継手(164) が接続され、第３Ｌ型継手(174) とＴ型継手(164) の左端とが左右にのびるチューブ(191) で接続されている。Ｔ型継手(164) の右端にはスリーブ接続用めねじ部材(194) が直接接続されている。第１Ｌ型継手(172) 、第２Ｌ型継手(173) 、第４Ｌ型継手(177) 、第５Ｌ型継手(178) 、第１チューブ(189) および第２チューブ(190) は、他の配管との干渉を防止するためのものである。
【００１７】
このように、流体制御装置(101) を２つ並べたときの、左右の幅は、弁６個分の幅となり、前後方向の長さは、パージ流体用開閉弁(104) 同士を接続するチューブ(182) からメイン通路用開閉弁(105) 同士を接続する第３および第４チューブ(184)(185)までの距離となる。
【００１８】
【発明が解決しようとする課題】
上記従来の流体制御装置では、他の配管との干渉を防止するためまたは他の配管に左右長さを合わせるために、継手やチューブが多く使用されている。このように部品数が増加すると溶接箇所も増加し、コストが増加することはもちろんのこと、装置全体が大きくなって、半導体製造用のプロセスガスの純度を下げる流体溜り部分（デッドボリューム）も増加し、溶接箇所が多いことは、耐食性の悪化につながることにもなる。
【００１９】
この発明の目的は、継手数、溶接箇所およびチューブ数を減らし、コストダウン、流体の純度を下げる流体溜り部分（デッドボリューム）の減少および溶接に起因する耐食性の劣化や流体の汚染の問題の減少を図った流体制御装置を提供することにある。
【００２０】
【課題を解決するための手段】
この発明による流体制御装置は、流量または圧力を調整する調整器の入口側および出口側の少なくとも一方に、複数の弁よりなり複数の流路を切り換えて調整器の流路に連通させる弁装置が設けられている流体制御装置において、弁装置の複数の弁は、上下に重ねられており、調整器に、調整器に連通する下向き開口通路を有する上側通路ブロックが前後に張り出して設けられるとともに、弁装置に、弁装置に連通する上向き開口通路を有する下側通路ブロックが設けられ、下向き開口通路と上向き開口通路とが連通するように下側通路ブロックの上に上側通路ブロックが重ねられて、上側通路ブロックと下側通路ブロックとが着脱自在に連結されているものである。
【００２１】
複数の弁の通路開口が同じ向きとされた上記の流体制御装置が複数列設けられるとともに、各流体制御装置の同じ高さの弁同士が継手およびチューブを介して接続されていることがある。
【００２２】
また、この発明による流体制御装置は、複数の弁よりなり複数の流路を切り換えて調整器の流路に連通させる弁装置が流量または圧力を調整する調整器の入口側および出口側の少なくとも一方に設けられることにより１列の流体制御装置が形成されるとともに、弁装置の複数の弁が通路開口が同じ向きとなるように上下に重ねられ、この流体制御装置が複数列設けられて、各流体制御装置の同じ高さの弁同士が継手およびチューブを介して接続されていることを特徴とするものである。
【００２３】
【作用】
請求項１の発明の流体制御装置によると、この流体制御装置を２つ並列に設けるさいには、同じ高さの弁同士を継手およびチューブを介して接続するが、各接続用チューブは、弁の高さにしたがってそれぞれ異なる高さとなるから、互いに干渉することはなく、接続用チューブ同士の干渉を避けるための継手およびチューブが不要となり、継手およびチューブの数が減少する。また、請求項２および請求項３の発明の流体制御装置によると、継手およびチューブの数が減少させられた複数列の流体制御装置を得ることができる。
【００２４】
【実施例】
この発明の実施例を、以下図面を参照して説明する。以下の説明において、前後左右は、流体の流れる方向に対していうものとし、図１の右側を前、左側を後、同図紙面裏側を左、表側を右とする。また、図１の上下を上下をいうものとする。
【００２５】
図１および図２は、この発明の流体制御装置(1) を示しており、図３は、この流体制御装置(1) が２列左右方向に並べられた状態を示している。
【００２６】
図１および図２に示すように、この発明の制御装置(1) は、調整器（マスフローコントローラ）(2) と、これの入口側（後側）および出口側（前側）に設けられた開閉弁(3)(4)(5)(6)(7) とよりなる。開閉弁(3)(4)(5)(6)(7) は計５つあり、入口側には、パージ流体用開閉弁(3) およびこれの上に重ねられたメイン流体用開閉弁(4) の２つが設けられ、出口側には、真空吸引用開閉弁(5) 、これの上に重ねられた排気用開閉弁(6) およびさらにこれの上に重ねられたメイン通路用開閉弁(7) の３つが設けられている。
【００２７】
パージ流体用開閉弁(3) は、パージ用ガスの流入路を開閉するものであり、後方に開口した流入路(31)、前方に開口した流出路(32)および流出路(32)に連通しかつ上方に開口したバイパス流路(41)を有する直方体状本体(8) と、流出路(32)を開閉するアクチュエータ(9) とよりなり、流入路(31)の開口縁部には、スリーブ接続用めねじ部(10)が設けられている。
【００２８】
メイン流体用開閉弁(4) は、プロセスガスの流入路を開閉するものであり、後方に開口した流入路(39)、パージ流体用開閉弁(3) のバイパス流路(41)に連通する下方に開口した流出路(40)を有する直方体状本体(11)と、流出路(40)を開閉するアクチュエータ(12)とよりなり、流入路(39)の開口縁部には、スリーブ接続用めねじ部(13)が設けられている。
【００２９】
真空吸引用開閉弁(5) は、真空吸引ポンプに通じる流路を開閉するもので、後方に開口した流入路(37)、前方に開口した流出路(38)および流入路(37)に連通し上方に開口したバイパス流路(42)を有する直方体状本体(14)と、流入路(37)を開閉するアクチュエータ(15)とよりなり、流出路(38)の開口縁部には、スリーブ接続用めねじ部(16)が設けられている。
【００３０】
排気用開閉弁(6) は、パージ用ガスの流出路を開閉するものであり、前方に開口した流出路(44)、真空吸引用開閉弁(5) のバイパス流路(42)に連通する下方に開口した流入路(43)およびこの流入路(43)に連通し上方に開口したバイパス流路(45)を有する直方体状本体(17)と、流入路(43)を開閉するアクチュエータ(18)とよりなり、流出路(46)の開口縁部には、スリーブ接続用めねじ部(19)が設けられている。
【００３１】
メイン通路用開閉弁(7) は、プロセスチャンバに至る流路を開閉するものであり、前方に開口した流出路(47)および排気用開閉弁(6) のバイパス流路(45)に連通する下方に開口した流入路(46)を有する直方体状本体(20)と、流入路(46)を開閉するアクチュエータ(21)とよりなり、流出路(47)の開口縁部には、スリーブ接続用めねじ部(22)が設けられている。
【００３２】
調整器(2) の前後側面の下端部には、前後上側通路ブロック(24)(23)が前後に張り出して設けられている。後上側通路ブロック(23)には、後方に開口した調整器(2) の流入路に連通しかつ下方に開口した流入路（下向き開口通路）(34)が設けられており、前上側通路ブロック(24)には、前方に開口した調整器(2) の流出路に連通しかつ下方に開口した流出路（下向き開口通路）(35)が設けられている。前後上側通路ブロック(24)(23)の下方には、それぞれ前後下側通路ブロック(26)(25)が設けられている。後下側通路ブロック(25)の後面にパージ流体用開閉弁(3) の本体(8) の前面が、前下側通路ブロック(26)の前面に真空吸引用開閉弁(5) の本体(14)の後面がそれぞれ当接させられている。後下側通路ブロック(25)には、パージ流体用開閉弁(3) の流出路(32)と後上側通路ブロック(23)の流入路(34)とを連通する流入路（上向き開口通路）(33)が設けられ、前下側通路ブロック(26)には、前上側通路ブロック(24)の流出路(35)に連通しかつ真空吸引用開閉弁(5) の流入路(37)に連通した流出路（上向き開口通路）(36)が形成されている。
【００３３】
パージ流体用開閉弁(3) の本体(8) と後下側通路ブロック(25)とは、パージ流体用開閉弁(3) の本体(8) の後方よりねじ込まれたねじ(28)により連結されている。真空吸引用開閉弁(5) の本体(14)と前下側通路ブロック(26)とは、真空吸引用開閉弁(5) の本体(14)の前方よりねじ込まれたねじ(28)により連結されている。さらに、前後上側通路ブロック(24)(23)と前後下側通路ブロック(26)(25)とは、前後上側通路ブロック(24)(23)の上方よりねじ込まれたねじ(28)により連結されている。各部材同士の連結部分には、シール部(27)が設けられている。調整器(2) と前後上側通路ブロック(24)(23)とは、図示省略したが、側方からねじ込まれたねじにより固定されている。入口側の開閉弁(3)(4)同士および出口側の開閉弁(5)(6)(7) 同士は、それぞれアクチュエータ(9)(12)(15)(18)(21) を左方に向けて各本体(8)(11)(14)(17)(20) 同士が重ね合わせられ、上方からねじ込まれたねじ(28)により連結されている。
【００３４】
このようにして、調整器(2) の入口側に、２つの開閉弁(3)(4)により構成されかつ複数の流入路(31)(39)を切り換えて調整器(2) の流入路に連通させる入口側弁装置が設けられ、同出口側に、３つの開閉弁(5)(6)(7) により構成され複数の流出路(38)(44)(47)を切り換えて調整器(2) の流出路に連通させる出口側弁装置が設けられ、流体制御装置(1) の入口側のいずれかの流入路(31)(39)に流入した流体が調整器(2) 内を通って同出口側のいずれかの流出路(38)(44)(47)から流出させられるようになされている。
【００３５】
上記流体制御装置(1) では、調整器(2) またはメイン流体用開閉弁(4) が故障したときには、これを上方に取り外してそれぞれ単独で交換することが可能であり、メイン通路用開閉弁(7) または排気用開閉弁(6) が故障したときには、これらを一緒に上方に取り外して交換することが可能となる。
【００３６】
上記において、前後上側通路ブロック(24)(23)は、調整器(2) に一体的に形成されていてもよく、前後下側通路ブロック(26)(25)は、開閉弁(3)(5)の本体(8)(14) にそれぞれ一体的に形成されていてもよい。また、上側および下側通路ブロック(24)(23)(26)(25)を省略して調整器(2) と開閉弁(3)(5)とを直結してもよい。また、上記においては、入口側で下方に位置している開閉弁(3) をパージ流体用とし、上方に位置している開閉弁(4) をメイン流体用として説明したが、開閉弁(3)(4)の用途は逆にしてももちろん問題ない。同様に、出口側にある開閉弁(5)(6)(7) は、真空吸引用、排気用およびメイン通路用のいずれに使用してもよい。上記実施例のものでは、プロセスガスが流体制御装置(1) に流されるとき、プロセスガスの純度を悪化させるガスが溜っている部分はなくなり、プロセスガスの純度を高純度に維持するという点で有利となる。
【００３７】
図４は、マスフローコントローラ（ＭＦＣ）前後の流体フローのパターンを示すもので、図４（ａ）のパターンは、マスフローコントローラの入口側にメイン流体用開閉弁が、同出口側にメイン通路（Ｐ／Ｃ）用開閉弁がそれぞれ設けられているもので、最も簡単なパターンである。図４（ｂ）のパターンは、マスフローコントローラの入口側に、メイン流体用開閉弁およびパージ流体用開閉弁が、同出口側に、メイン通路用開閉弁および排気（ＶＥＮＴ）用開閉弁がそれぞれ設けられているものである。図４（ｃ）のパターンは、マスフローコントローラの入口側に、メイン流体用開閉弁およびパージ流体用開閉弁が、同出口側に、メイン通路用開閉弁、排気用開閉弁および真空吸引（Ｖａｃ）用開閉弁がそれぞれ設けられているものである。図４（ｄ）のパターンは、マスフローコントローラの入口側に、メイン流体用開閉弁およびパージ流体用開閉弁が、同出口側に、メイン通路用開閉弁および排気用開閉弁がそれぞれ設けられ、さらに、入口側開閉弁と出口側開閉弁との間に、流路切換用開閉弁が設けられているものである。図４（ｅ）のパターンは、マスフローコントローラの入口側に、メイン流体用開閉弁およびパージ流体用開閉弁が、同出口側に、メイン通路用開閉弁、排気用開閉弁および真空吸引用開閉弁がそれぞれ設けられ、さらに、入口側開閉弁と出口側開閉弁との間に、流路切換用開閉弁が設けられているものである。
【００３８】
上記の流体制御装置(1) は、図４（ｃ）のパターンのものであり、図４（ｂ）のパターンのものを得るには、上述した流体制御装置(1) の出口側の構成を、同入口側の構成と同じにするだけでよい。また、図４（ｄ）および図４（ｅ）のパターンのものは、それぞれ図４（ｂ）および図４（ｃ）のパターンのものに流路切換用開閉弁を付加することにより得ることができる。図４に示した５つのパターンは、流体制御システムにおける流体フローのパターンのほぼすべてを示すもので、これらのパターンの内、流体の置換や供給が確実に行われ、半導体の製造のプロセス上、最も優れたパターンが適宜選択・組合わせられて、制御システムが構成されるものであり、５つのパターンのうち、（ａ）を除く４つのパターンに対して、上記の流体制御装置(1) を使用することができる。なお、上記実施例では、調整器(2) の例として、マスフローコントローラを挙げたが、調整器としては、これ以外にプレッシャーレギュレータなどが使用され、これらが適宜組み合わされて流体制御装置が構成される。
【００３９】
上記の流体制御装置(1) が２列設けられる場合には、図３に示すように、左右２列とされ、隣り合う制御装置(1) の対応するもの同士、すなわち、パージ流体用開閉弁(4) 同士、真空吸引用開閉弁(5) 同士、排気用開閉弁同士(6) およびメイン通路用開閉弁(7) 同士が、継手およびチューブを介して接続される。なお、メイン流体用開閉弁(4) は、各制御装置(1) のメイン流体用開閉弁(4)(4)のめねじ部(13)(13)にそれぞれスリーブ(52)(54)が接続され、これらのスリーブ(52)(54)に、それぞれ単独でプロセスガス供給用チューブ(69)(71)が接続されており、メイン流体用開閉弁(4) 同士は接続されていない。
【００４０】
パージ流体用開閉弁(3) 同士については、左方に配置された制御装置(1) の開閉弁(3) のめねじ部(10)にスリーブ(51)が接続され、このスリーブ(51)に水平なＬ型継手(65)が接続され、右方に配置された制御装置(1) の開閉弁(3) のめねじ部(10)にスリーブ(53)が接続され、このスリーブ(53)に一端がパージガス供給用チューブ(70)に接続された水平なＴ型継手(61)が接続され、Ｔ型継手(61)とＬ型継手(65)とが左右にのびるチューブ(72)で接続されている。
【００４１】
出口側の弁(5)(6)(7) 同士については、真空吸引用開閉弁(5) 、排気用開閉弁(6) およびメイン通路用開閉弁(7) のいずれについても、左方に配置された制御装置(1) の開閉弁(5)(6)(7) の各めねじ部(16)(19)(22)にそれぞれスリーブ(55)(56)(57)が接続され、これらのスリーブ(55)(56)(57)に、それぞれ水平なＬ型継手(66)(67)(68)が接続され、右方に配置された制御装置(1) の開閉弁(5)(6)(7) の各めねじ部(16)(19)(22)にそれぞれスリーブ(58)(59)(60)が接続され、これらのスリーブ(58)(59)(60)に、それぞれ水平なＴ型継手(62)(63)(64)が接続され、各Ｌ型継手(66)(67)(68)と各Ｔ型継手(62)(63)(64)の左端とがそれぞれ左右にのびるチューブ(73)(74)(75)で接続されている。各Ｔ型継手(62)(63)(64)の右端には、それぞれスリーブ接続用めねじ部材(76)(77)(78)が直結されている。
【００４２】
この図３に示した本発明のものを図７に示した従来のものと比較した結果を表１および表２に示す。表１は、入口側すなわち弁の数が２つのときの比較であり、表２は、出口側すなわち弁の数が３つのときの比較である。
【００４３】
【表１】
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【００４４】
【表２】
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【００４５】
表１に示すように、弁の数が２つのときでは、Ｌ型継手が２つ減少し、これに伴って、溶接箇所も２か所減少しており、さらにＬ型継手２つ分の容積が減少している。左右の幅については、従来のものが弁本体２個分、この発明のものが弁本体とアクチュエータとを加えた分で、これらはほぼ等しく、幅は変わっていない。
【００４６】
表２に示すように、弁の数が３つのときでは、Ｌ型継手が８個減少し、加工が必要なチューブ数が６本減少し、これに伴って、溶接箇所も１４か所減少しており、Ｌ型継手およびチューブの数が減少した分容積も減少している。さらに、左右の幅が、従来の流体制御装置(10)が弁本体３個分に対して、この発明の流体制御装置(1) が弁本体とアクチュエータとを加えた分であることにより、流体制御装置１つに付き５０ｍｍ、トータルで１００ｍｍ狭くなっている。また、表には示していないが、前後方向の長さについても、従来の制御装置(101) においてメイン通路用開閉弁(105) を接続するさいに使用された第１および第２チューブ(183)(186)の長さ分だけ短くなっている。
【００４７】
これらの表および図３と図７との比較からわかるように、この発明の流体制御装置(1) では、従来のものに比べて、配管が非常にシンプルになっていることがわかる。したがって、コストダウンが図れるのはもちろんのこと、占有スペースおよび配管容積が減少し、配管容積の減少に伴って、流体の純度を下げる流体溜り部分（デッドボリューム）も減少し、また、溶接箇所の減少に伴って、溶接に起因する耐食性の劣化や流体の汚染の問題も減少する。なお、表１および表２からわかるように、調整器(2) の入口側および出口側のどちらか一方において、２つ以上の開閉弁が上下に重ねられていれば、表１または表２の効果が得られる。
【００４８】
【発明の効果】
この発明の流体制御装置によると、継手およびチューブの数が減少するので、これに伴って溶接箇所も減少する。したがって、コストダウンが図れるのはもちろんのこと、継手およびチューブの減少に伴って、流体の純度を下げる流体溜り部分（デッドボリューム）が減少し、また、溶接箇所の減少に伴って、溶接に起因する耐食性の劣化や流体の汚染の問題が減少する。
【図面の簡単な説明】
【図１】この発明による流体制御装置を示す一部を切欠いた側面図である。
【図２】同一部を切欠いた平面図である。
【図３】この発明による流体制御装置を並列に設けるさいの接続状態を示す斜視図である。
【図４】流体フローの５つのパターンを示す図である。
【図５】従来の流体制御装置を示す一部を切欠いた側面図である。
【図６】同一部を切欠いた平面図である。
【図７】従来の流体制御装置を並列に設けるさいの接続状態を示す斜視図である。
【符号の説明】
(2)             調整器
(3)(4)          入口側弁
(5)(6)(7)       出口側弁
(8)(11)         入口側弁本体
(14)(17)(20)    出口側弁本体
(23)(24)        上側通路ブロック
(25)(26)        下側通路ブロック
(31)(39)        入口側弁本体流入路
(33)(36)        上向き開口通路
(34)(35)        下向き開口通路
(38)(44)(47)    出口側弁本体流出路
(51,52,53,54)(55,56,57,58,59,60,62,63,64,66,67,68)  継手
(72)(73,74,75)  チューブ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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