【事件の表示】
　上記当事者間の特許第２７０８３３７号「基板端縁洗浄装置」の特許無効審判事件についてされた平成２０年　２月　５日付け審決に対し、東京高等裁判所において審決取消の判決（平成２０年（行ケ）第１００９９号平成２０年１２月１１日判決言渡）があったので、さらに審理のうえ、次のとおり審決する。
【結　論】
　平成１９年　４月　２日付け訂正請求書に添付した明細書のとおり、訂正を認める。
　本件審判の請求は、成り立たない。
　審判費用は、請求人の負担とする。
【理　由】
第１　手続の経緯及び本件審判での審理対象
１．手続の経緯
　　出願（特願平４−２７０８７５号）　　平成　４年　９月１４日
　　設定登録　　　　　　　　　　　　　　平成　９年１０月１７日
　　（特許第２７０８３３７号、請求項１〜５）
　　特許無効審判請求　　　　　　　　　　平成１８年１２月２７日
　　（請求人　株式会社　エイブル、請求項１〜３に対して）
　　答弁書、訂正請求書　　　　　　　　　平成１９年　４月　２日
　　上申書（請求人　弁駁書提出期間延長願）
　　弁駁書　　　　　　　　　　　　　　　平成１９年　５月２９日
　　被請求人　口頭審理陳述要領書　　　　平成１９年１０月１２日
　　請求人　　口頭審理陳述要領書　　　　平成１９年１０月２６日
　　第１回口頭審理調書　　　　　　　　　平成１９年１０月２６日
　　審決（以下、「１次審決」という。）　平成２０年　２月　５日
　　（訂正を認める。請求項１〜３に係る発明についての特許を無効とする。）
　　知的財産高等裁判所出訴　　　　　　　平成２０年　３月１７日
　　（平成２０年（行ケ）第１００９９号審決取消請求事件）
　　判決言渡　　　　　　　　　　　　　　平成２０年１２月１１日
　　（平成２０年２月５日にした審決を取り消す。）
　
２．審理対象
　本件無効審判請求は、請求項１ないし５に係る発明についての特許のうち、請求項１ないし３に係る発明についての特許を無効とする趣旨のものである。
　本件無効審判請求の審理の中でなされた訂正請求のうち、特許請求に範囲に係る訂正は請求項１について訂正するものであるが、請求項１について訂正がされることにより、請求項１を直接的あるいは間接的に引用する請求項４及び５に係る発明についても訂正されることとなる。そして、一次審決では、請求項４及び５は、特許法第１３４条の２第５項において読み替えて準用する、特許法等の一部を改正する法律（平成６年法律第１１６号）附則第６条第１項の規定によりなお従前の例によるものとされた同法第１条の規定による改正前の特許法（以下、「平成６年改正前特許法」という。）第１２６条第３項の規定に適合するとした。
　上記請求項４及び５に関する訂正の容認については当事者双方に争う余地がなく、審決の送達により効力を生ずるものであるから、請求項４及び５に関する訂正は確定している。
　よって、以降の審理においては、請求項１ないし３に係る発明についての特許のみを、訂正の可否を含め、審理の対象とする。
　
第２　訂正の可否についての判断 
１．訂正請求の内容 
　被請求人が平成１９年４月２日付けの訂正請求により訂正を求める訂正請求（以下、「本件訂正請求」という。）の内容は、次のとおりである。
（１）〔訂正事項１〕　本件特許出願の特許査定時の明細書又は図面（以下、「本件特許明細書等」という。）の特許請求の範囲の、
「【請求項１】　表面に薄膜が形成された角型基板を載置保持する基板保持手段と、その基板保持手段によって保持された前記角型基板の端縁の表裏両面の少なくともいずれか一方に溶剤を吐出して不要薄膜を溶解する溶剤吐出手段とを備えた基板端縁洗浄装置において、前記溶剤吐出手段に、前記角型基板の端縁に沿った複数の吐出口を備えさせるとともに、前記溶剤吐出手段を前記角型基板の端縁に沿って相対的に移動する移動手段を設けたことを特徴とする基板端縁洗浄装置。
【請求項２】　請求項１に記載の溶剤吐出手段からの溶剤によって溶解された不要薄膜をガスの吐出によって角型基板の端縁よりも外方に吹き飛ばすガスノズルを設けるとともに、前記ガスノズルを前記溶剤吐出手段とともに前記角型基板の端縁に沿って相対的に移動する移動手段を設けてある基板端縁洗浄装置。
【請求項３】　請求項２に記載の溶剤吐出手段からの溶剤やガスノズルからのガスによって吹き飛ばされた不要薄膜を吸引排出する吸引部材を設けるとともに、前記吸引部材を前記ガスノズルおよび前記溶剤吐出手段とともに角型基板の端縁に沿って相対的に移動する移動手段を設けてある基板端縁洗浄装置。」
の記載を、
「【請求項１】　表面に薄膜が形成された角型基板を載置保持する基板保持手段と、その基板保持手段によって保持された前記角型基板の端縁の表裏両面の少なくともいずれか一方に溶剤を吐出して不要薄膜を溶解する溶剤吐出手段とを備えた基板端縁洗浄装置において、前記溶剤吐出手段に、前記角型基板の端縁に沿った複数の吐出口を備えさせるとともに、前記溶剤吐出手段を前記角型基板の端縁に沿って相対的に移動する移動手段と、前記溶剤吐出手段を角型基板の大きさに応じて、その端縁に沿って直線的に移動できる位置に変位できるように、溶剤吐出手段を角型基板の端縁に対して遠近変位する位置調整手段とを備え、前記移動手段は角型基板の端縁に沿って相対的に移動する移動台を備え、前記位置調整手段は、前記移動台に設けられたガイドに沿って角型基板に対して遠近する方向に移動可能な支持部材を備え、前記溶剤吐出手段は前記支持部材に取り付けられていることを特徴とする基板端縁洗浄装置。
【請求項２】　請求項１に記載の溶剤吐出手段からの溶剤によって溶解された不要薄膜をガスの吐出によって角型基板の端縁よりも外方に吹き飛ばすガスノズルを設けるとともに、前記ガスノズルを前記溶剤吐出手段とともに前記角型基板の端縁に沿って相対的に移動する移動手段を設けてある基板端縁洗浄装置。
【請求項３】　請求項２に記載の溶剤吐出手段からの溶剤やガスノズルからのガスによって吹き飛ばされた不要薄膜を吸引排出する吸引部材を設けるとともに、前記吸引部材を前記ガスノズルおよび前記溶剤吐出手段とともに角型基板の端縁に沿って相対的に移動する移動手段を設けてある基板端縁洗浄装置。」
と訂正する。
　
（２）〔訂正事項２〕　本件特許明細書等の発明の詳細な説明欄の段落【０００６】の、
「【課題を解決するための手段】
　請求項１に係る発明の基板端縁洗浄装置は、上述のような目的を達成するために、表面に薄膜が形成された角型基板を載置保持する基板保持手段と、その基板保持手段によって保持された角型基板の端縁の表裏両面の少なくともいずれか一方に溶剤を吐出して不要薄膜を溶解する溶剤吐出手段とを備えた基板端縁洗浄装置において、溶剤吐出手段に、角型基板の端縁に沿った複数の吐出口を備えさせるとともに、溶剤吐出手段を角型基板の端縁に沿って相対的に移動する移動手段を設けて構成する。」
の記載を、
「【課題を解決するための手段】
　請求項１に係る発明の基板端縁洗浄装置は、上述のような目的を達成するために、表面に薄膜が形成された角型基板を載置保持する基板保持手段と、その基板保持手段によって保持された角型基板の端縁の表裏両面の少なくともいずれか一方に溶剤を吐出して不要薄膜を溶解する溶剤吐出手段とを備えた基板端縁洗浄装置において、溶剤吐出手段に、角型基板の端縁に沿った複数の吐出口を備えさせるとともに、溶剤吐出手段を角型基板の端縁に沿って相対的に移動する移動手段と、前記溶剤吐出手段を角型基板の大きさに応じて、その端縁に沿って直線的に移動できる位置に変位できるように、溶剤吐出手段を角型基板の端縁に対して遠近変位する位置調整手段とを備え、前記移動手段は角型基板の端縁に沿って相対的に移動する移動台を備え、前記位置調整手段は、前記移動台に設けられたガイドに沿って角型基板に対して遠近する方向に移動可能な支持部材を備え、前記溶剤吐出手段は前記支持部材に取り付けられている構成とする。」
と訂正する。
　
２．本件訂正請求の訂正の目的の適否について
（１）上記〔訂正事項１〕の訂正は、請求項１に係る発明に「前記溶剤吐出手段を角型基板の大きさに応じて、その端縁に沿って直線的に移動できる位置に変位できるように、溶剤吐出手段を角型基板の端縁に対して遠近変位する位置調整手段とを備え、前記移動手段は角型基板の端縁に沿って相対的に移動する移動台を備え、前記位置調整手段は、前記移動台に設けられたガイドに沿って角型基板に対して遠近する方向に移動可能な支持部材を備え、前記溶剤吐出手段は前記支持部材に取り付けられていること」の発明特定事項を加えることにより請求項１に係る発明を限定して、その構成を特定する訂正であるから、平成６年改正前特許法第１３４条第２項ただし書第１号に掲げる「特許請求の範囲の減縮」を目的とする訂正に該当する。
　
（２）上記〔訂正事項２〕の訂正は、本件特許明細書等の発明の詳細な説明欄の段落【０００６】の訂正前の記載を、訂正後の請求項１に係る発明の構成に整合させるための訂正であるから、平成６年改正前特許法第１３４条第２項ただし書第３号に掲げる「明りようでない記載の釈明」を目的とする訂正に該当する。
　
（３）したがって、本件訂正請求における上記〔訂正事項１〕及び〔訂正事項２〕の訂正は、いずれも平成６年改正前特許法第１３４条第２項ただし書第１号又は第３号に掲げる事項を目的とする訂正に該当する。
　
３．新規事項の有無及び実質上特許請求の範囲の拡張又は変更の存否について
（１）本件訂正請求により、本件特許明細書等の特許請求の範囲の請求項１に「前記溶剤吐出手段を角型基板の大きさに応じて、その端縁に沿って直線的に移動できる位置に変位できるように、溶剤吐出手段を角型基板の端縁に対して遠近変位する位置調整手段とを備え、前記移動手段は角型基板の端縁に沿って相対的に移動する移動台を備え、前記位置調整手段は、前記移動台に設けられたガイドに沿って角型基板に対して遠近する方向に移動可能な支持部材を備え、前記溶剤吐出手段は前記支持部材に取り付けられていること」の発明特定事項を加える上記〔訂正事項１〕の訂正及び本件特許明細書等の発明の詳細な説明の段落【０００６】の記載に「前記溶剤吐出手段を角型基板の大きさに応じて、その端縁に沿って直線的に移動できる位置に変位できるように、溶剤吐出手段を角型基板の端縁に対して遠近変位する位置調整手段とを備え、前記移動手段は角型基板の端縁に沿って相対的に移動する移動台を備え、前記位置調整手段は、前記移動台に設けられたガイドに沿って角型基板に対して遠近する方向に移動可能な支持部材を備え、前記溶剤吐出手段は前記支持部材に取り付けられている構成とする。」の事項を加える上記〔訂正事項２〕の訂正は、いずれも本件特許明細書等、すなわち本件特許出願の願書に添付した明細書又は図面に記載した事項の範囲内においてした訂正であると認める。
　したがって、本件訂正請求における上記〔訂正事項１〕及び〔訂正事項２〕の訂正は、いずれも平成６年改正前特許法第１３４条第２項ただし書の規定に適合する。
　
（２）また、本件訂正請求の上記〔訂正事項１〕及び〔訂正事項２〕の訂正は、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものでもない。
　したがって、本件訂正請求における上記〔訂正事項１〕及び〔訂正事項２〕の訂正は、いずれも特許法第１３４条の２第５項において準用する平成６年改正前特許法第１２６条第２項の規定に適合する。
　
４．むすび
　当審が本件無効審判事件における本件訂正請求について、既に訂正が確定した請求項４及び５に関する訂正を除く訂正事項を審理をした結果は以上のとおりであるので、本件特許明細書等についての本件訂正請求による訂正は、平成６年改正前特許法第１３４条第２項ただし書、同ただし書各号、及び特許法第１３４条の２第５項において準用する平成６年改正前特許法第１２６条第２項の各規定に適合する。
　よって、本件訂正請求の訂正を認める。
　
第３　無効審判請求人の主張の概要
　請求人は、平成１８年１２月２７日付け審判請求書で、本件特許の請求項１ないし３に係る発明は、本特許発明の出願前に頒布された甲第１号証ないし甲第６号証に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明することができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないものであり、その特許は特許法第１２３条第１項第２号に該当し、無効とすべきであると主張する。
　また、平成１９年５月２９日付け審判事件弁駁書で、訂正後の請求項１ないし３に係る発明についても、甲第７号証、甲第８号証を追加し、甲第１号証ないし甲第８号証に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明することができたものであると主張する。
　また、平成１９年１０月２６日付け口頭審理陳述要領書でも、弁駁書と同様の主張をしている。
　
第４　被請求人の反論の概要
　被請求人は、平成１９年４月２日付けで訂正請求書を提出するとともに、同日付けの答弁書で、本件特許の請求項１ないし３に係る発明は、本特許発明の出願前に頒布された甲第１号証ないし甲第６号証に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明することができたものではなく、甲第１号証ないし甲第６号証に記載された発明では得られない格別の効果を奏すると主張する。
　また、平成１９年１０月１２日付け口頭審理陳述要領書で、訂正後の請求項１ないし３に係る発明は、本特許発明の出願前に頒布された甲第１号証ないし甲第８号証に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明することができたものではないと主張する。
　
第５　甲号証記載事項
（１）甲第１号証〔特開平４−６５１１５号公報参照〕の記載事項 
　甲第１号証には、「不要レジスト除去装置」に関し、図面の図示とともに次の技術事項が記載されている。
「２．特許請求の範囲
（１）レジストが表面に塗付された基板を固定するための基台と、該基台に保持された基板の端面に接触可能な摺動部材と、この摺動部材を基板の端面接線方向に沿って移動させる駆動手段とを備えてなることを特徴とする不要レジスト除去装置。 
３．発明の詳細な説明
［産業上の利用分野］
　本発明は、例えば基板上にフォトレジストを塗付する工程に利用できる不要レジスト除去装置に関する。
［従来の技術］
　半導体装置の製造プロセスにおいては、フォトリソグラフィ技術によって基板表面に電極や絶縁膜、アモルファスシリコン半導体層等のパターニング（選択エッチング）を行なうため、フォトレジスト塗付工程が設けられている。このフォトレジスト塗付工程には、一般にスピンナと呼ばれる第３図に示すような回転式フォトレジスト塗付装置が使用される。
　第３図の装置では、垂直に支持された回転軸１の上端に角形の回転テーブル２が水平に固定され、この回転テーブル２の周囲を囲繞するように処理槽３が配置されている。上記処理槽３は上壁に開口部３ａを有しており、上記回転軸１は処理槽３の底壁を貫通して下方へ突出し、その下端部がスピンモータ４に接続されている。
　また、上記回転軸１には、上記回転テーブル２と適当な間隔をおき、かつ上記処理槽３内に位置するように排気フード５が固定されているとともに、処理槽３内には上記回転テーブル２および排気フード５の外側に位置するよう円筒状の廃液カバー６が配置され、この廃液カバー６の下方には円環状の廃液受皿７が配置されている。この廃液受皿７の底壁の一部には、上記処理槽３の底壁を貫通するドレイン口７ａが設けられているとともに、処理槽３の底壁には上記排気フード５に対向する位置に数個（図面には２個）の排気口８が形成されている。
　なお、上記回転テーブル２の中心上方にはレジスト供給用ノズル９が垂下されている。
　次に、上記フォトレジスト塗付装置によるガラス基板へのフォトレジストの塗付の手順を説明する。
　先ず、回転テーブル２上にガラス基板ａを載置し、図示しない真空吸着手段により回転テーブル２上にガラス基板ａを吸着させた状態でスピンモータ４を駆動して回転テーブル２を回転させる。そして、上方のノズル９からガラス基板ａ上にフォトレジストを滴下させる。すると、フォトレジストは遠心力で基板の表面全体に広がっていき、表面に薄いレジスト膜が被着されるとともに、大部分は遠心力で外側へ飛ばされて廃液カバー６にぶつかり、その内壁に沿って流下して廃液受皿７内に溜まり、ドレイン口７ａより排出される。
　また回転テーブル２が回転する際には、処理槽３内の空気が排気口８を通して順次排出される。
［発明が解決しようとする課題］
　ところが、上記フォトレジスト塗付装置においては、回転テーブル２の表面にフォトレジストが塗付されないようにするため、ガラス基板ａよりもひと回り小さな回転テーブルの上に基板を載せて回転させるようにしているので、角形の基板ａの周縁が回転テーブル２の外周側に突出したまま回転される。そのため、テーブル２の回転に伴って基板ａの周縁、角部が空気を切りながら回転し、その後に渦流を生じさせる。これにより、処理槽１の内部の空気に複雑な乱流が発生し、この乱流の影響で基板ａの端面や裏面にフォトレジストが回り込んで付着し、この結果、露光工程で位置ずれを起こしてフォトレジストのパターニングの際の寸法精度を低下させたり、搬送工程や露光工程において剥離したレジストが異物となって歩留りを低下させるという問題点があった。
　本発明は上記のような問題点に鑑みてなされたもので、その目的とするところは、基板の端面（エツジ）や裏面に回り込んだフォトレジストによるパターニングの際の精度の低下を防止し、歩留りを向上させることにある。
　上記目的を達成するためこの発明は、回転式レジスト塗付装置によってレジストを塗付した基板を、該基板を固定するための基台と、該基台に保持された基板の端面に接触可能な摺動部材と、この摺動部材を基板の端面接線方向に沿って移動させる駆動手段とを備えた不要レジスト除去装置によって処理するようにしたものである。
［作用］
　上記した手段によれば、回転式レジスト塗付装置により塗付された基板の周縁の不要レジストを確実に除去することができ、これによって露光工程での位置ずれをなくしてパターニングの際の精度を向上させ、またフォトレジスト塗付工程後の搬送工程や露光工程における不要レジストの剥離によって生じる残留物による歩留りの低下を防止することができる。
［実施例］
　第１図には本発明に係る不要レジスト除去装置の一実施例の平面図が示されている。 
　同図において、１１は中央に基板ａよりも一回り小さな基台としての固定テーブル１２を有する処理槽で、処理槽１１の各側壁には、基板ａの端面の接線延長線上にシリンダ２０がそれぞれピン１３を支点として水平面内回転可能に取り付けられている。そして、上記各エアシリンダ２０のピストンロッド２０ａの先端には、第２図に拡大して示すようなＬ字形断面を有するパッド２１ａと、これを保持するベース２１ｂとからなるクリーニングヘッド２１が、基板の側面から底面にかけて接触可能な状態で装着されている。上記パッド２１ａは、例えばブチルゴムなどの高分子材からなるスポンジゴムのような弾力性のある材料により構成されている。
　また、各パッド２１ａを保持するベース２１ｂの上面には複数のノズル２３ａを有するパイプ２３が配設されており、各ノズル２３ａはパッド２１ａの上面に、アセトンようなレジスト除去液を供給できるように先端が下向きに形成されている。なお、上記パイプ２３の先端は閉塞されているとともに、パイプ２３の始端にはフレキシブルなチューブ２４が接続されており、図示しないポンプからレジスト除去液が輸送されるようになっている。
　さらに、上記各エアシリンダ２０のシリンダ部と処理槽１１の側壁との間には、上記ピン１３を支点としてエアシリンダ２０を回動させるための第２のエアシリンダ３０がそれぞれ介挿されている。
　次に、上記不要レジスト除去装置の動作を説明する。
　第３図に示すレジスト塗付装置により表面にフォトレジストが塗付されたガラス基板ａは、第１図に２点鎖線Ａ〜Ｄで示すように、全エアシリンダ２０を外側に回転させた状態で不要レジスト除去装置の固定テーブル１２上に載置され、図示しない真空吸着手段により固定される。次に、第２のエアシリンダ３０を作動させて４つのエアシリンダ２０を第１図に実線で示されるような位置まで回動させる。それから、パイプ２３に設けられたノズル２３ａよりレジスト除去液を滴下させながら、エアシリンダ２０に圧縮空気を送ってシリンダロッド２０ａを往復動させる。すると、パッド２２ａ［当審注：「パッド２１ａ」の明らかな誤記と認める。］が基板ａの側面から底面にかけて接触したままこすられるように移動するため、基板ａの側面から底面にかけて付着した不要なレジストがパッド２２ａ［当審注：「パッド２１ａ」の明らかな誤記と認める。］によってこすりとられて脱落し、基板の周縁が清浄化される。
　レジスト除去後、第２のエアシリンダ３０が作動されてエアシリンダ２３が基板から遠ざかる方向へ回動され、２点鎖線Ａ〜Ｄの位置まで待避する。
　その後、真空吸着手段を解除して基板ａを開放し、図示しない搬送手段により固定テーブル１２上から基板を持ち上げ、処理槽１１から外部へ搬出してベーキング装置（図示省略）へ送ってレジストを焼成して、一連のフォトレジスト塗付工程が終了する。そして、続いて露光、現象、エツチング、フォトレジスト除去の各工程が行なわれる。
　以上説明したように上記実施例においては、レジストが表面に塗付された基板を固定するための基台としての固定テーブルと、該固定テーブルに保持された基板の端面に接触可能なクリーニングヘッドと、このクリーニングヘッドを基板の端面接線方向に沿って移動させるヘッド駆動手段としてのエアシリンダとにより不要レジスト除去装置を構成したので、回転式レジスト塗付装置により塗付された基板の周縁の不要レジストを確実に除去することができ、これによって露光工程での位置ずれをなくしてパターニングの際の精度を向上させ、またフォトレジスト塗付工程後の搬送工程や露光工程において不要レジストの剥離によって生じる残留物による歩留りの低下を防止することができるという効果がある。
　なお、上記実施例では、基板の周縁に接触して不要レジストを除去するヘッドを往復移動させる駆動手段や基板に向かって接近・離反させる駆動手段としてエアシリンダを用いているが、駆動手段はこれに限定されるものでなく、油圧シリンダやモータ等を用いてもよいことはいうまでもない。
　また、上記実施例ではレジスト除去液を供給するパイプ２３とノズル２３ａをクリーニングヘッド２１と一体に設けたが、パイプとノズルは予め基板の周縁上方に固定しておいたり、別の駆動機構によって接近・離反させるようにしてもよい。
　さらに、上記実施例では角形のガラス基板に塗付された不要レジストの除去装置について説明したが、本発明は円形の半導体ウェーハ等の不要レジスト除去にも利用することができる。その場合、ウェーハ端面に接触するパッドを円形とし、これを所定角度の範囲で往復回転させるように駆動機構を構成するとよい。
［発明の効果］
　この発明は、回転式レジスト塗付装置により塗付された基板の周縁の不要レジストを確実に除去することができ、これによって露光工程での位置ずれをなくしてパターニングの際の精度を向上させ、またフォトレジスト塗付工程後の搬送工程や露光工程にお肩で不要レジストの剥離によって生じる残留物にける歩留りの低下を防止することができるという効果がある。」（第１頁左下欄第４行〜第４頁左上欄第２行）
　
　そして、甲第１号証の第１図には、「処理槽１１の中央にレジストが表面に塗付された角形基板ａを固定するための基台としての角形基板ａよりも−回り小さな固定テーブル１２と、前記固定テーブル１２に保持された角形基板ａ」が図示されている。
　
　そうしてみると、上記甲第１号証の摘記事項及び第１図に図示された技術事項を総合すると、甲第１号証には、次の発明（以下、「引用発明１」という。）の記載が認められる。 
「処理槽１１の中央にレジストが表面に塗付された角形基板ａを固定するための基台としての角形基板ａよりも一回り小さな固定テーブル１２と、前記固定テーブル１２に保持された角形基板ａの側面から底面にかけて接触可能な状態で装着されレジスト除去液を供給するクリーニングヘッド２１とを備える不要レジスト除去装置において、
　前記不要レジスト除去装置は、
　前記処理槽１１の各側壁のそれぞれにピン１３を支点として水平面内回転可能に、角形基板ａの端面の接線延長線上に取り付けられて、クリーニングヘッド２１を角形基板ａの端面接線方向に沿って移動させるヘッド駆動手段としてのシリンダ２０と、
　前記シリンダ２０の各シリンダ部と処理槽１１の各側壁との間にそれぞれ介挿されて、前記ピン１３を支点としてシリンダ２０を回動させるための第２のエアシリンダ３０とを備え、
　前記シリンダ２０のピストンロッド２０ａの先端に設けられる前記クリーニングヘッド２１は、高分子材からなる弾力性のある材料により構成されＬ字形断面を有するパッド２１ａと、前記パッド２１ａを保持するベース２１ｂとを備えるとともに、前記ベース２１ｂの上面に複数のノズル２３ａを有するパイプ２３が配設され、前記パッド２１ａの上面にはレジスト除去液を供給する各ノズル２３ａの先端が下向きに形成されており、
　表面にフォトレジストが塗付された角形基板ａが、全エアシリンダ２０を外側に回転させた状態で不要レジスト除去装置の固定テーブル１２上に載置され、真空吸着手段により固定されて、第２のエアシリンダ３０を作動させて４つのエアシリンダ２０を所望の位置まで回動させた後、パイプ２３に設けられたノズル２３ａよりレジスト除去液を滴下させながら、エアシリンダ２０に圧縮空気を送ってシリンダロッド２０ａを往復動させると、パッド２１ａが角形基板ａの側面から底面にかけて接触したままこすられるように移動して、角形基板ａの側面から底面にかけて付着した不要なレジストがパッド２１ａによってこすりとられて脱落し、角形基板ａの周縁が清浄化された後、第２のエアシリンダ３０が作動されてエアシリンダ２３が角形基板ａから遠ざかる方向へ回動されて、当初の位置まで待避した後、真空吸着手段を解除して角形基板ａを開放し、搬送手段により固定テーブル１２上から角形基板ａを持ち上げ、処理槽１１から外部へ搬出するようにした不要レジスト除去装置。」
　
（２）甲第２号証〔特開平１−２９８７２０号公報参照〕の記載事項
　甲第２号証には、「ウエハ裏面への回り込みレジストの除去・乾燥方法」に関し、図面の図示とともに次の技術事項が記載されている。
「この状態でポンプ３１を駆動させ、レジスト剥離液をフィルタ３２を通してノズル１３より噴射させる。これにより、回り込みレジストの除去が開始される。」（第３頁左下欄第８〜１１行）
「弁３３を開き窒素ガスをフィルタ３４を通してノズル１４より噴射させる。
　また再びモータ１２を始動させて、ウェハ１０を５００ｒｐｍの低速Ｎ２で回転させる。
　これにより、窒素ガス噴流がウェハ１０の裏面の周囲部を繰り返し走査し、ウェハ１０に付いているレジスト剥離液を吹き飛ばすと共にウェハ１０を乾燥させる。」（第３頁左下欄第２０行〜同右下欄第７行）
　
「この装置は、第６図に示すように、ノズル１３，１４及び壁部材２６をブロック４０に取り付けてユニット化し、このユニット４１を、ウェハ１０の上方にウェハ１０を囲むように設けた環状のガイドレール４２に沿って移動可能に設けた構成である。
　レジスト洗浄除去工程は、第７図に併せて示すように、ウエハ１０は回転させずに、ノズル１３よりレジスト剥離液を噴射させながら、ユニット４１をガイドレール４２に沿って矢印Ａ方向及びＢ方向に略一周毎交互に往復移動させて行なう。
　乾燥工程もウエハ１０は回転させずに、ノズル１４より窒素ガスを噴射させるから［当審注：「噴射させながら」の誤記と認める。］、ユニット４１をガイドレール４２に沿って矢印Ａ方向及びＢ方向に略一周毎交互に往復移動させて行なう。」（第４頁左上欄第５〜１９行）
　
（３）甲第３号証〔特開昭６３−１９０６７９号公報参照〕の記載事項
　甲第３号証には、「塗布材料の塗布装置」に関し、図面の図示とともに次の技術事項が記載されている。
「次に動作について説明する。チャック３上に、吸着されたウエハ１上にレジスト吐出ノズル６よりレジストを滴下し、チャック３を回転させレジストを基板上に均一に塗布する。次にチャック３を回転させながらレジスト溶剤吐出手段５よりレジスト溶剤を吐出し、ウエハ周辺および裏面のレジストを除去する。」（第１頁右下欄第７〜１３行）
　
（４）甲第４号証〔特開昭６４−６１９１７号公報参照〕の記載事項
　甲第４号証には、「基板端部の塗布膜除去装置」に関し、図面の図示とともに次の技術事項が記載されている。
「このような問題が生じないようにするため従来基板端部に形成された塗布膜を除去する方法および装置が種々知られており、第４図および第５図に基づいてその一例を説明する。シリコン１の表面には回転塗布法によりポジ型フォトレジスト２が約１μｍの厚さに塗布されているものとする。この時前述したように基板１の表面端部には厚く盛り上がるように塗布され、かつ基板１の裏面にも囲り込みが生じている。基板１をはさみ込むように上下から２本の管３，４を約１０ｍｍの間隙５を有するように対向させて配置し、この間隙５の間に前述した厚さ０．６ｍｍの塗布済シリコン基板１を挿入し、管３，４からフォトレジスト２の溶剤６を供給して基板１の端部に形成されたフォトレジスト２を溶解して除去するようにしている。」（第２頁左上欄第１９行〜同右上欄第１３行）
　
「次に基板端部のレジスト除去について説明すると、第１、第２の管２１，２２からレジスト溶剤２８を供給し、第３の管２４は排気装置またはダクトに連結する。まず基板２７の周縁部を２ｍｍほど間隙２３内に挿入し、第１、第２の管２１，２２より溶剤２８を供給し、基板２７端部のレジスト２６を溶解させ、第３の管２４より溶剤と溶解物とを排出させるようにする。」（第３頁右上欄第６〜１３行）
　
（５）甲第５号証〔特開平３−２６３３１４号公報参照〕の記載事項
　甲第５号証には、「スピンコート膜除去方法」に関し、図面の図示とともに次の技術事項が記載されている。
「本発明において用いるスピンコータは第１図に示す如く、水平に載置されたウェーハ１を高速回転させる回転台２と、有機若しくは無機物質からなる塗料３をウェーハ１に滴下するノズル４を具え、遠心力でウェーハ１の全面に塗料３を塗布するスピンコータに、塗料３を速やかに溶解できる溶媒７が滴下される第２のノズル６と、第２のノズル６の内側からウェーハ１の外周方向に向けて、空気や窒素ガス等の気体を噴出する第３のノズル８が設けられている。なお図において５は塗料３の飛散を防ぐためのカバーである。 
　かかるスピンコータを用いて塗料３が塗布されたウェーハ１を回転させながら、ウェーハ１の外周近傍に設けられた第２のノズル６から溶媒７を滴下すると共に、ノズル６の内側に設けられた第３のノズル８からウェーハ１の外周方向に気体を噴出し、塗料３を溶解して溶媒７と共に気流の作用でウェーハエの外周方向に流動させることによって、第２図に示す如く溶媒滴下点の内側に障害の発生要因となる隆起部を形成することなく、膜厚が外側に向かって漸減するスピンコート膜を形成することができる。」（第３頁右上欄第８行〜同左下欄１０行）
 　 
（６）甲第６号証〔特開平４−２０６６２６号公報参照〕の記載事項
　甲第６号証には、「周辺レジスト除去方法」に関し、図面の図示とともに次の技術事項が記載されている。
「上記のチャンバ１内の上方周辺位置に周辺除去用のノズル６を設け、スピンチャック２を低速回転（例えば１ｒｐｍ以下）させて上記したレジスト膜の溶剤をこのノズル６より外周側に供給、例えば噴射して第１図に示した矢印７の方向に溶剤を吸引し、第３図に示すようにウエハ３周辺部のレジスト液５膜の表面層を除去して周辺のレジスト膜５の厚さを中央部の厚さより薄く減少させると共に、ウエハ３のオリフラ部３Ａの周辺部のレジスト膜も薄くできるように、オリフラ部３Ａで上記ノズル６を側縁に沿って移動させるようにしている。」（第２頁左下欄第６〜１７行）
　
「上記、第４図に示すようなレジスト膜が被着された状態のウエハ３に対して、周辺露光と現像工程を行う。具体的には、第５図に示す如くチャック８上に仮固定したウエハ３の周辺部に対して周辺露光機９を設け、チャック８を回転させながら周辺部のレジスト５Ａを露光した後に同図の矢印１０に示すように現像液を供給し、矢印１１に示す方向に現像液が流れるように吸引して、周辺部で残りの周辺レジスト５Ａを確実に除去する。この場合、上記した様に現像工程ではある程度周辺レジストの除去が進んでいるため、当然のことながら短時間のうちに周辺除去の処理が実行できる。」（第２頁右下欄第３〜１４行）
　
（７）甲第７号証〔特開平２−１３２４４４号公報参照〕の記載事項
　甲第７号証には、「半導体ウエハに液を塗布する塗布装置」に関し、図面の図示とともに次の技術事項が記載されている。
「この発明の目的は、多種類の液供給用ノズルのうちから必要な液供給用ノズルのみを選択して半導体ウェハ上に液を滴下する場合に、不要な液が半導体ウェハ上に落下することなく、必要な種類かつ量の液を滴下することができる塗布装置を提供することにある。」（第３頁左上欄末行〜右上欄第５行）
　
「第２図に示すように、基台２０上にウェハチャック４５およびノズル操作機構７３が設けられている。ウェハチャック４５上の半導体ウェハ４６を取り囲むようにカップ２１が設けられている。カップ２１は、遠心力により半導体ウェハ４６から離脱した液が周囲に飛散するのを防止するようにつくられている。更に、カップ２１の上方には半導体ウェハ４６を塗布装置に搬入搬出するための開口２２が形成されている。
　ノズル操作機構７３がカップ２１に隣接して設けられている。このノズル操作機構７３は、１対のノズル保持部材９０ａ，９０ｂと、ノズル保持部材９０ａ，９０ｂをそれぞれＸ軸，Ｙ軸，Ｚ軸に沿って移動させる機構と、非使用時に四種類のノズル３０ａ，３０ｂ，３０ｃ，３０ｄを待機させておくノズル待機容器１００と、を有する。
　ノズル保持部材９０ａ，９０ｂは移動板８８上に搭載され、更に、移動板８８は移動台８２上に搭載されている。一方のノズル保持部材９０ｂは、エアシリンダ９１のピストンロッドに連結され、Ｘ軸に沿って移動される。これにより、ノズル保持部材９０ａとノズル保持部材９０ｂの相互間隔が変化し、あたかもピンセットの如く開閉されてノズル３０がホールドされる。
　更に、移動板８８は、エアシリンダ８７のピストンロッドに連結され、Ｚ軸に沿って上下移動される。また更に、移動台８２は、ベルト８６の一部に連結され、ガイドレール７９に沿ってＸ軸方向に案内移動される。
　ガイドレール７９の両端には支持部材８０，８１が設けられ、レール７９が移動台７８上に支持されている。移動台７８上にはモータ８４が設けられ、モータ８４の駆動軸にプーリ８３が嵌め込まれている。また、一方の支持部材８１にもプーリ８５が取り付けられている。ベルト９６［当審注：「ベルト８６」の明らかな誤記と認める。］が、プーリ８３，８５の間に掛け渡される。
　更に、移動台７８は、モータ７５で回転駆動されるボールスクリュウ７６にナット（図示せず）を介して連結され、ガイドレール７４に沿ってＹ軸方向に案内移動される。ガイドレール７４およびボールスクリュウ７６は、それぞれの両端部にて１対の支持部材７７により基台２０上に支持されている。」（第３頁右下欄第１６行〜第４頁右上欄第１７行）
　
「（１０）次に、モータ７５の駆動により移動台７８をＹ軸方向に後退させた後、モータ８４の駆動により移動台８２をＸ軸方向に移動させ、部材９０ａ，９０ｂにホールドされた状態で第１ノズル９７ａを半導体ウェハ４６のセンターライン上に位置させる。
（１１）モータ７５の駆動により移動台７８をＹ軸方向に前進させて、第１ノズル９７ａを半導体ウェハ４６のセンターポジションの直上に位置させる。」（第５頁右下欄第２〜９行）
　
（８）甲第８号証〔特開昭５５−４１８６４号公報参照〕の記載事項
　甲第８号証には、「スピンコーテイング方法」に関し、図面の図示とともに次の技術事項が記載されている。 
「基板のサイズが小さいとき（例えば３〜４インチまで）、及び／あるいはある種のフオトレジスト塗布液を用いる場合は、上述のような方法で全く問題がない。ところが、基板サイズが５インチ、６インチと大きくなると、また、ある種の塗布液では基板サイズが小さくても、上述のような方法では全面にわたって均一な厚さに塗布出来ないことが判明した。」（第２頁左上欄第４〜１１行）
　
「本発明の他の目的は大きな基板へも均一な厚さに塗布できるスピンコーテイング方法を提供することにある。」（第３頁右上欄第１０〜１２行）
　
「基板１０が低速で回転されると、基板１０の回転中心上方に位置するノズル１１から塗布液の供給が開始され始める。滴下された塗布液は基板１０の回転により遠心力によって基板の周囲に拡がる。一方ノズル１１は回転する基板１０の半径方向に移動しながら塗布液を供給し続け、第４図の１１’の位置（回転する基板１２［当審注：「基板１０」の明らかな誤記と認める。］の終端）まで移動して基板のほぼ全面に塗布液を供給するのである。」（第３頁左下欄第１８行〜同右下欄第５行）
　
第６　当審の判断 
　以下においては、平成１９年４月２日付け訂正請求によって訂正された請求項１ないし３に係る発明を、それぞれ、本件発明１ないし３という。
（１）本件発明１について
ア　対比 
（ア）本件発明１と引用発明１とを対比すると、引用発明１の「レジスト」、「角形基板ａ」、「角形基板ａを固定するための基台としての角形基板ａよりも−回り小さな固定テーブル１２」、「レジスト除去液」、「前記固定テーブル１２に保持された角形基板ａの側面から底面にかけて接触可能な状態で装着されレジスト除去液を供給するクリーニングヘッド２１」及び「不要レジスト除去装置」のそれぞれが、本件発明１の「薄膜」、「角型基板」、「角型基板を載置保持する基板保持手段」、「溶剤」、「溶剤を吐出して不要薄膜を溶解する溶剤吐出手段」及び「基板端縁洗浄装置」のそれぞれに相当することは、明らかである。
　
（イ）また、引用発明１の「クリーニングヘッド２１を角形基板ａの端面接線方向に沿って移動させるヘッド駆動手段としてのシリンダ２０」が、本件発明１の「前記溶剤吐出手段を前記角型基板の端縁に沿って相対的に移動する移動手段」に相当する。
　
（ウ）そして、引用発明１では、シリンダ２０のピストンロッド２０ａの先端に設けられたクリーニングヘッド２１のベース２１ｂの上面に配設されるパイプ２３に「複数のノズル２３ａ」が設けられていて、前記「複数のノズル２３ａ」からレジスト除去液が滴下されるようになっており、しかも、前記クリーニングヘッド２１は、ヘッド駆動手段としてのシリンダ２０により、角形基板ａの端面接線方向に沿って移動されて、角形基板ａの側面から底面にかけて接触可能であること、および、甲第１号証の第２図における「複数のノズル２３ａ」の図示を参酌すると、前記「複数のノズル２３ａ」は、角形基板ａの端面接線方向に沿って配列されていることが明らかであるから、引用発明１の前記「複数のノズル２３ａ」が、本件発明１の「前記角型基板の端縁に沿った複数の吐出口」に相当するといえる。
　
（エ）さらに、引用発明１の「第２のエアシリンダ３０」は、シリンダ２０の各シリンダ部と処理槽１１の各側壁との間にそれぞれ介挿されて、ピン１３を支点としてシリンダ２０を回動させるものであり、「第２のエアシリンダ３０」の伸縮によりシリンダ２０をピン１３を支点として回動させて、前記シリンダ２０を角形基板ａの端面接線方向に対して接近させたり離隔させたりと、前記シリンダ２０のピストンロッド２０ａの先端に設けられたクリーニングヘッド２１の位置を角形基板ａの端縁に対して遠近変位する手段と認めることができる。したがって、引用発明１の「前記シリンダ２０の各シリンダ部と処理槽１１の各側壁との間にそれぞれ介挿されて、前記ピン１３を支点としてシリンダ２０を回動させるための第２のエアシリンダ３０」が、本件発明１の「溶剤吐出手段を角型基板の端縁に対して遠近変位する」「手段」に相当する。
　
（オ）そうすると、本件発明１と引用発明１とは、
「表面に薄膜が形成された角型基板を載置保持する基板保持手段と、その基板保持手段によって保持された前記角型基板の端縁の表裏両面の少なくともいずれか一方に溶剤を吐出して不要薄膜を溶解する溶剤吐出手段とを備えた基板端縁洗浄装置において、前記溶剤吐出手段に、前記角型基板の端縁に沿った複数の吐出口を備えさせるとともに、前記溶剤吐出手段を前記角型基板の端縁に沿って相対的に移動する移動手段と、溶剤吐出手段を角型基板の端縁に対して遠近変位する手段とを備える基板端縁洗浄装置」
である点で一致し、次の点で両者の構成が相違する。
　
［相違点１］：遠近変位する手段が、本件発明１では、「前記溶剤吐出手段を角型基板の大きさに応じて、その端縁に沿って直線的に移動できる位置に変位できるように、溶剤吐出手段を角型基板の端縁に対して遠近変位する位置調整手段」であるのに対し、引用発明１は、そのような構成を欠いている点。
　
［相違点２］：移動手段が、本件発明１では、「角型基板の端縁に沿って相対的に移動する移動台を備え」るのに対し、引用発明１は、そのような構成を欠いている点。
　
［相違点３］：本件発明１が、「位置調整手段は、移動台に設けられたガイドに沿って角型基板に対して遠近する方向に移動可能な支持部材を備え、前期溶剤吐出手段は前記支持部材に取り付けられてい」るのに対し、引用発明１は、そのような構成を欠いている点。
　
［相違点４］：本件発明１が、「溶剤吐出手段は支持部材に取り付けられてい」るのに対し、引用発明１は、前記構成を欠いている点。
　
イ　相違点についての検討 
（ア）相違点１について
ａ　甲第７号証には、次の技術事項（ａ）〜（ｊ）が記載されている。
（ａ）「基台２０上にウェハチャック４５およびノズル操作機構７３が設けられている。」
（ｂ）「このノズル操作機構７３は、１対のノズル保持部材９０ａ，９０ｂと、ノズル保持部材９０ａ，９０ｂをそれぞれＸ軸，Ｙ軸，Ｚ軸に沿って移動させる機構と、非使用時に四種類のノズル３０ａ，３０ｂ，３０ｃ，３０ｄを待機させておくノズル待機容器１００と、を有する。」
（ｃ）「ノズル保持部材９０ａ，９０ｂは移動板８８上に搭載され、更に、移動板８８は移動台８２上に搭載されている。」
（ｄ）「移動板８８は、エアシリンダ８７のピストンロッドに連結され、Ｚ軸に沿って上下移動される。」
（ｅ）「移動台８２は、ベルト８６の一部に連結され、ガイドレール７９に沿ってＸ軸方向に案内移動される。」
（ｆ）「レール７９が移動台７８上に支持されている。移動台７８上にはモータ８４が設けられ、モータ８４の駆動軸にプーリ８３が嵌め込まれている。」
（ｇ）「ベルト８６が、プーリ８３，８５の間に掛け渡される。」
（ｈ）「移動台７８は、モータ７５で回転駆動されるボールスクリュウ７６にナット（図示せず）を介して連結され、ガイドレール７４に沿ってＹ軸方向に案内移動される。ガイドレール７４およびボールスクリュウ７６は、それぞれの両端部にて１対の支持部材７７により基台２０上に支持されている。」
（ｉ）「モータ７５の駆動により移動台７８をＹ軸方向に後退させた後、モータ８４の駆動により移動台８２をＸ軸方向に移動させ、部材９０ａ，９０ｂにホールドされた状態で第１ノズル９７ａを半導体ウェハ４６のセンターライン上に位置させる。」
（ｊ）「モータ７５の駆動により移動台７８をＹ軸方向に前進させて、第１ノズル９７ａを半導体ウェハ４６のセンターポジションの直上に位置させる。」
　
ｂ　そうすると、前記甲第７号証の（ａ）〜（ｊ）の技術事項からみて、甲第７号証には、「ノズル保持部材９０ａ，９０ｂをそれぞれＸ軸，Ｙ軸，Ｚ軸に沿って移動させるノズル操作機構７３が基台２０上に設けられ、移動台７８上に設けられたモータ８４の駆動により、前記移動台７８上の移動台８２が、プーリ８３，８５の間に掛け渡されたベルト８６の一部に連結されて、移動台７８上に支持されているガイドレール７９に沿ってＸ軸方向に案内移動されるとともに、ガイドレール７４およびボールスクリュウ７６が基台２０上に支持されていて、前記移動台７８は、モータ７５で回転駆動されるボールスクリュウ７６にナットを介して連結され、モータ７５の駆動により移動台７８を前記ガイドレール７４に沿ってＹ軸方向に案内移動させ、ノズル保持部材９０ａ，９０ｂが搭載される移動板８８がエアシリンダ８７のピストンロッドに連結されてＺ軸に沿って上下移動されるように構成して、モータ７５の駆動により移動台７８をＹ軸方向に後退させた後、モータ８４の駆動により移動台８２をＸ軸方向に移動させ、部材９０ａ，９０ｂにホールドされた状態で第１ノズル９７ａを半導体ウェハ４６のセンターライン上に位置させたり、モータ７５の駆動により移動台７８をＹ軸方向に前進させて、第１ノズル９７ａを半導体ウェハ４６のセンターポジションの直上に位置させたりすることができるノズル操作機構７３」の記載が認められる。
　
ｃ　しかしながら、ノズル保持部材９０ａ，９０ｂは、多種類の液供給用ノズルのうちから必要な液供給用ノズルのみを選択して半導体ウェハ４６のセンターポジションの直上に位置させたりするもので、端縁に沿って直線的に移動できる位置に変位できるように、溶剤吐出手段を角型基板の端縁に対して遠近変位する位置調整手段ではない。すなわち、液供給用ノズルを角型基板の大きさに応じて、その端縁に沿ってＸ軸方向に直線的に移動できる位置に変位できるように、液供給用ノズルをＹ軸に沿って移動して、角型基板の端縁に対して遠近変位するという技術思想がないものである。
　
ｄ　甲第８号証には、大きな基板へも均一な厚さに塗布できるスピンコーテイング方法を提供するため、基板１０の回転中心上方に位置するノズル１１から塗布液の供給が開始され、ノズル１１は回転する基板１０の半径方向に移動しながら塗布液を供給し続け、第４図の１１’の位置（回転する基板１２［当審注：「基板１０」の明らかな誤記と認める。］の終端）まで移動して基板のほぼ全面に塗布液を供給する発明が記載されている。しかし、甲第８号証は、基板端縁洗浄装置に係るものではないので、溶剤吐出手段を角型基板の大きさに応じて、その端縁に沿って直線的に移動できる位置に変位できるという技術思想については何ら開示がない。
　
　他の証拠にも、上記相違点１に係る構成については、開示も示唆もされておらず、該構成を想到することは、当業者にとって容易ではない。
　
（イ）相違点２について 
ａ　前記甲第７号証には、「（ア）相違点１について」欄に前述したとおり、ノズル保持部材９０ａ，９０ｂをＸ軸に沿って移動させるノズル操作機構７３の移動台８２が記載されている。
　
ｂ　甲第７号証の移動台８２の移動は、溶剤吐出手段を角型基板の端縁に沿って直線的に移動するものではないが、引用発明と同様、基板に液を供給するノズルの移動に関するものであり、引用発明１に適用して上記相違点２に係る構成を得ることは、当業者にとって容易である。
　
（ウ）相違点３、４について 
ａ　「（ア）相違点１について　ｃ」で述べたように、甲第７号証には、角型基板の大きさに応じて、その端縁に沿って直線的に移動できる位置に変位できるように、溶剤吐出手段を角型基板の端縁に対して遠近変位する位置調整手段が開示されていない。
　
ｂ　したがって、甲第７号証のノズル保持部材９０ａ，９０ｂが移動板８８に搭載され、一見、本件発明１の「支持部材」に構成上似ているとしても、引用発明１、甲第７号証のいずれにも、角型基板の大きさに応じて、その端縁に沿って直線的に移動できる位置に変位できるように、溶剤吐出手段を角型基板の端縁に対して遠近変位する位置調整手段が開示も示唆もされていないのであるから、引用発明１、甲第７号証のものを組み合わせて上記相違点３、４に係る構成を得ることは、当業者にとって容易ではない。
　
　また、他の証拠にも、上記相違点３、４に係る構成については、開示も示唆もされておらず、該構成を想到することは、当業者にとって容易ではない。
　
　そして、本件発明１は、角型基板の大きさに応じて、角型基板の端縁を効率よくかつ良好に洗浄できる効果を奏するもので、上記各証拠にはない作用効果を奏するものである。
　
ウ　まとめ
　以上のとおりであり、本件発明１は、甲第１号証から甲第８号証に記載された発明に基いて当業者が容易に発明をすることができたものとはいえず、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない、とすることはできない。 
　
（２）本件発明２について
ア　本件発明２は、本件発明１の溶剤吐出手段に、溶剤吐出手段からの溶剤によって溶解された不要薄膜をガスの吐出によって角型基板の端縁よりも外方に吹き飛ばすガスノズルを設ける点を付加し、前記ガスノズルを前記溶剤吐出手段とともに前記角型基板の端縁に沿って相対的に移動する移動手段を設けてあるものである。
　
イ　そうすると、本件発明１が、上記「（１）本件発明１について 」で述べたように、甲第１号証から甲第８号証に記載された発明に基いて当業者が容易に発明をすることができたものとはいえないので、本件発明２も甲第１号証から甲第８号証に記載された発明に基いて当業者が容易に発明をすることができたものとはいえず、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない、とすることはできない。
　
（３）本件発明３について 
ア　本件発明３は、本件発明２に、溶剤吐出手段からの溶剤やガスノズルからのガスによって吹き飛ばされた不要薄膜を吸引排出する吸引部材を設ける点を付加し、前記吸引部材を前記ガスノズルおよび前記溶剤吐出手段とともに角型基板の端縁に沿って相対的に移動する移動手段を設けてあるものである。
　
イ　そうすると、本件発明２が、上記「（２）本件発明２について 」で述べたように、甲第１号証から甲第８号証に記載された発明に基いて当業者が容易に発明をすることができたものとはいえないので、本件発明３も甲第１号証から甲第８号証に記載された発明に基いて当業者が容易に発明をすることができたものとはいえず、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない、とすることはできない。
　
第７　むすび
　以上のとおり、平成１９年４月２日付け訂正請求によって訂正された請求項１ないし３に係る発明である本件発明１ないし本件発明３に係る特許は、特許法第２９条第２項の規定に違反してされたものではないから、請求人の主張及び証拠方法によっては、本件各発明の特許を無効とすることはできない。
　審判の総費用は、特許法第１６９条第２項の規定において準用する民事訴訟法第６１条の規定により、請求人が負担すべきものとする。
　よって、結論のとおり審決する。