(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
処理槽内の所定位置に配設された基板搬送路上を搬送方向に搬送される基板の主面に処理液を供給して所定の処理を施す基板処理装置において、上記基板搬送路の搬送方向の上手側および下手側に設けられ、かつ、基板の搬送方向に沿って処理液を吐出する上手側処理液供給手段および下手側処理液供給手段と、上手側処理液供給手段と下手側処理液供給手段との間で基板搬送路に交差した中央部仕切りローラとを備え、上記基板搬送路は、搬送方向に直交した面内で水平方向に対して傾斜するように形成され、上記上手側および下手側処理液供給手段は、搬送中の基板の主面の上位側端縁に向けて処理液を吐出するように取り付け位置が設定され、上記上手側処理液供給手段、中央部仕切りローラおよび下手側処理液供給手段は、いずれも同一の処理槽内に設けられていることを特徴とする基板処理装置。
【請求項２】
処理槽内の所定位置に配設された基板搬送路上を搬送方向に搬送される基板の主面に処理液を供給して所定の処理を施す基板処理装置において、上記基板搬送路の搬送方向の上手側および下手側に設けられ、かつ、基板の搬送方向に沿って処理液を吐出する上手側処理液供給手段および下手側処理液供給手段と、上手側処理液供給手段と下手側処理液供給手段との間で基板搬送路に交差した中央部仕切りローラとを備え、上記基板搬送路は、水平に形成され、上記上手側および下手側処理液供給手段は、搬送中の基板の主面の幅方向の中央部における上手側および下手側のそれぞれに向けて処理液を吐出するように取り付け位置が設定され、基板搬送路における上手側処理液供給手段の上手側、および基板搬送路における下手側処理液供給手段の下手側で、搬送中の基板の主面を幅方向に横断する上手側仕切りローラ、および下手側仕切りローラが設けられ、上記上手側処理液供給手段、上手側仕切りローラ、中央部仕切りローラ、下手側処理液供給手段および下手側仕切りローラは、いずれも同一の処理槽内に設けられていることを特徴とする基板処理装置。
【請求項３】
請求項１または２記載の基板処理装置において、上記処理槽は、上記中央部仕切りローラの真下にこの中央部仕切りローラと平行な仕切壁を有していることを特徴とする基板処理装置。
【請求項４】
処理槽内の所定位置に配設された基板搬送路上を搬送方向に搬送される基板の主面に処理液を供給して所定の処理を施す基板処理装置において、上記基板搬送路の搬送方向の上手側および下手側に設けられ、かつ、基板の搬送方向に沿って処理液を吐出する上手側処理液供給手段および下手側処理液供給手段と、上手側処理液供給手段と下手側処理液供給手段との間で基板搬送路に交差した仕切りローラとを備え、上手側処理液供給手段の処理液吐出域および下手側処理液供給手段の処理液吐出域の内の少なくとも一方であって、搬送方向と交差する基板の幅方向に亘って処理液を供給する第２の処理液供給手段が設けられていることを特徴とする基板処理装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、フォトレジスト塗布液、感光性ポリイミド樹脂、カラーフィルター用の染色剤等からなる薄膜が表面に形成された液晶用のガラス基板、フォトマスク用のガラス基板等を対象とし、これら基板の主面に所定の処理液を供給することによって処理する基板処理装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来、薬液供給処理が施された後、基板に、洗浄水による洗浄処理を施してから後工程に搬送するようにした基板処理装置が知られている。かかる基板処理装置は、薬液処理部、水洗部および乾燥部が直列に配設されて形成されている。これら薬液処理部、水洗部および乾燥部を貫通するように基板の搬送手段が敷設され、基板はこの搬送手段によって基板処理装置内を薬液処理部、水洗部および乾燥部の順に搬送されつつ処理される。
【０００３】
そして基板は、薬液処理部においてアルカリ洗浄液、現像液、エッチング液あるいは剥離液等の薬液が表面に供給されて所定の処理が施され、ついで水洗部において水洗処理が施され、最後に乾燥部において気体の噴射等による乾燥処理が行われるようになっている。
【０００４】
ところで、薬液処理部で薬液による所定の処理が施された基板は、その表面に薬液が付着した状態になっているため、そのまま薬液処理部から水洗部に移されると、水洗部内に薬液が持ち込まれることになり、循環使用される洗浄水が薬液の混入によって汚染され、洗浄性能の維持が図れなくなるという不都合が生じる。
【０００５】
そこで、従来、薬液処理部と水洗部との境界部分にエアーナイフが配設され、その気体吐出口から基板の表面に向けてカーテン状の気体を吹き付け、基板の表面に付着している薬液を、基板の表面が乾燥しない程度に薬液処理部内に向けて吹き戻し、これによって薬液の水洗部への持ち込みを防止するようにしていた。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、近年、基板の大型化に伴い、基板が薬液処理部で薬液の供給を受けつつ下流側が水洗部で洗浄水の供給を受けるという工程の重複が生じるようになり、たとえ薬液処理部と水洗部との境界部分でエアーナイフから基板の表面に向けて気体を噴射しても、基板の上流側の表面には薬液が、下流側の表面には洗浄水が同時に供給された状態になるため、基板の表面を通って薬液が洗浄部に入り込んだり、逆に洗浄水が薬液処理部に移動したりすることがあり、境界部分で液の確実な置換が行われなくなるという問題が発生するようになった。
【０００７】
かかる問題を解消するために、薬液処理部および水洗部の処理槽の長さを長くし、基板が薬液処理部と水洗部との境界部分に差し掛かった状態では、薬液および洗浄水のいずれもが基板に供給されないようにすることが考えられるが、このようにすると処理槽を大型化しなければならず、設備コストが嵩むという新たな問題点が発生する。
【０００８】
本発明は、上記のような問題を解決するためのものであり、同一の処理槽内で異なる種類の処理液を基板に同時に供給することができ、これによって設備の小型化と、処理効率の向上との双方を達成し得る基板処理装置を提供することを目的としている。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
請求項１記載の発明は、処理槽内の所定位置に配設された基板搬送路上を搬送方向に搬送される基板の主面に処理液を供給して所定の処理を施す基板処理装置において、上記基板搬送路の搬送方向の上手側および下手側に設けられ、かつ、基板の搬送方向に沿って処理液を吐出する上手側処理液供給手段および下手側処理液供給手段と、上手側処理液供給手段と下手側処理液供給手段との間で基板搬送路に交差した中央部仕切りローラとを備え、上記基板搬送路は、搬送方向に直交した面内で水平方向に対して傾斜するように形成され、上記上手側および下手側処理液供給手段は、搬送中の基板の主面の上位側端縁に向けて処理液を吐出するように取り付け位置が設定され、上記上手側処理液供給手段、中央部仕切りローラおよび下手側処理液供給手段は、いずれも同一の処理槽内に設けられていることを特徴とするものである。
【００１０】
この発明によれば、処理槽内において上手側処理液供給手段および下手側処理液供給手段からそれぞれ処理液を吐出させつつ基板搬送路に沿って基板を搬送することにより、基板が上手側処理液供給手段に差し掛かったときに基板の主面に上手側処理液供給手段からの処理液が供給されて処理され、ついで、下手側処理液供給手段差し掛かったときに、すでに上手側処理液供給手段からの処理液によって処理された部分が下手側処理液供給手段からの処理液によって処理され、基板の下流端が下手側処理液供給手段から外れた時点で、基板の主面は上手側処理液供給手段および下手側処理液供給手段からの二種類の処理液による処理が完了した状態になる。
【００１１】
そして、上手側処理液供給手段と、下手側処理液供給手段との間には、中央部仕切りローラが設けられているため、この中央部仕切りローラに遮られ、搬送中の基板上で上手側処理液供給手段からの処理液と、下手側処理液供給手段からの処理液とが混ざり合うことはなく、各処理液の処理性能が確保される。
【００１２】
また、上記基板搬送路は、搬送方向に直交した面内で水平方向に対して傾斜するように形成され、上記上手側および下手側処理液供給手段は、搬送中の基板の主面の上位側端縁に向けて処理液を吐出するように取り付け位置が設定されているため、上手側処理液供給手段および下手側処理液供給手段からそれぞれ吐出された処理液は、傾斜姿勢で搬送されつつある基板の傾斜に沿って流下し、これによって基板主面上での液切れが良好になる。
【００１３】
請求項２記載の発明は、処理槽内の所定位置に配設された基板搬送路上を搬送方向に搬送される基板の主面に処理液を供給して所定の処理を施す基板処理装置において、上記基板搬送路の搬送方向の上手側および下手側に設けられ、かつ、基板の搬送方向に沿って処理液を吐出する上手側処理液供給手段および下手側処理液供給手段と、上手側処理液供給手段と下手側処理液供給手段との間で基板搬送路に交差した中央部仕切りローラとを備え、上記基板搬送路は、水平に形成され、上記上手側および下手側処理液供給手段は、搬送中の基板の主面の幅方向の中央部における上手側および下手側のそれぞれに向けて処理液を吐出するように取り付け位置が設定され、基板搬送路における上手側処理液供給手段の上手側、および基板搬送路における下手側処理液供給手段の下手側で、搬送中の基板の主面を幅方向に横断する上手側仕切りローラ、および下手側仕切りローラが設けられ、上記上手側処理液供給手段、上手側仕切りローラ、中央部仕切りローラ、下手側処理液供給手段および下手側仕切りローラは、いずれも同一の処理槽内に設けられていることを特徴とするものである。
【００１４】
この発明によれば、少なくとも下手側処理液供給手段の下流側の基板主面上は、下手側仕切りローラによって仕切られているため、下手側処理液供給手段から吐出された処理液は基板主面上を下流側に液流状態で移行せず、処理液の次工程への持ち出し量が少なくなる。
【００１５】
また、上手側処理液供給手段の上流側にも上手側仕切りローラを設けることにより、上手側処理液供給手段から吐出された処理液が基板主面上でこの上手側仕切りローラに遮られて基板主面上を上流側に移行することはなく、処理液の上流側工程への流入が阻止される。
【００１６】
請求項３記載の発明は、請求項１または２記載の発明において、上記処理槽は、上記中央部仕切りローラの真下にこの中央部仕切りローラと平行な仕切壁を有していることを特徴とするものである。
【００１７】
この発明によれば、上手側処理液供給手段から吐出された処理液と、下手側処理液供給手段から吐出された処理液とは、中央部仕切りローラによって基板主面上での混合が防止された状態で各処理液は基板の幅方向の側端縁から流下し、仕切壁によって相互に混ざり合わない状態で処理槽の底部に貯留される。
【００１８】
請求項４記載の発明は、処理槽内の所定位置に配設された基板搬送路上を搬送方向に搬送される基板の主面に処理液を供給して所定の処理を施す基板処理装置において、上記基板搬送路の搬送方向の上手側および下手側に設けられ、かつ、基板の搬送方向に沿って処理液を吐出する上手側処理液供給手段および下手側処理液供給手段と、上手側処理液供給手段と下手側処理液供給手段との間で基板搬送路に交差した仕切りローラとを備え、上手側処理液供給手段の処理液吐出域および下手側処理液供給手段の処理液吐出域の内の少なくとも一方であって、搬送方向と交差する基板の幅方向に亘って処理液を供給する第２の処理液供給手段が設けられていることを特徴とするものである。
【００１９】
この発明によれば、上手側あるいは下手側処理液供給手段から吐出される処理液に加え、第２の処理液給手段からの処理液も基板の主面に供給されるため、基板の主面上での処理液の流れに乱流が生じ、乱流による混合で処理液と基板主面との接触状態が均一になり、処理液による基板主面の処理効率が向上する。また、第２の処理液供給手段を洗浄部に設けると、基板表面における処理液の衝突効果により、基板に付着したパーティクル等の余剰物がより効率よく除去される。
【００２０】
【発明の実施の形態】
図１は、本発明に係る基板処理装置の第１実施形態が適用された基板処理装置群の一実施形態を示す説明図である。基板処理装置群１は、基板の主面に所定の薬液を供給して処理する薬液処理部２、この薬液処理部２で薬液処理の施された基板Ｂを水洗する水洗部３、およびこの水洗部３で水洗処理の施された基板Ｂを乾燥する乾燥部４が直列に上流側から順次配設されて形成されている。
【００２１】
薬液処理部２および乾燥部４は、それぞれ箱型の薬液処理槽２１および乾燥槽４１を備えて形成されている。また、水洗部３は、上流側の第１水洗槽３１と下流側の第２水洗槽３２とを備えて形成されている。第１水洗槽３１内には前洗浄用の第１洗浄水Ｌ１を用いて基板Ｂを洗浄する第１洗浄空間Ｓ１と、第１洗浄水Ｌ１によって洗浄された基板Ｂに第２洗浄水Ｌ２を用いた中間洗浄を施す第２洗浄空間Ｓ２とが形成されている。また、第２水洗槽３２において基板Ｂに純水による仕上げ洗浄が施されるようになっている。また上記薬液処理部２では処理液（薬液）として洗剤の混入された洗浄液が用いられ、乾燥槽４１では乾燥用の窒素またはドライエア等の気流が用いられている。
【００２２】
各槽２１，３１，３２，４１の上流壁および下流壁には水平方向で互いに対向した基板通過口１１が開口され、この基板通過口１１を通して基板Ｂが各槽２１，３１，３２，４１に入出されるようになっている。
【００２３】
基板Ｂを各槽２１，３１，３２，４１内で搬送する搬送手段としてはローラコンベアが適用されている。このローラコンベアは、基板Ｂの搬送方向に直交する面内で水平方向に対して傾斜した支持軸を有する搬送ローラ５が搬送方向にほぼ等ピッチで並設されて形成され、図略の駆動手段の駆動により同一方向に同期回転されるようになっている。従って、基板Ｂの各槽２１，３１，３２，４１内における搬送路は、搬送方向に対して全体的に幅方向に傾斜しており、基板Ｂはこの傾斜搬送路に沿って傾斜姿勢で搬送されつつ、各槽２１，３１，３２，４１内で所定の処理が施される。本実施形態においては、基板Ｂの水平面に対する傾斜角度α（図３）は略５°に設定されている。
【００２４】
基板Ｂは、前工程から図略の上流側引継ぎ手段を介して傾斜姿勢に姿勢変更された後、薬液処理槽２１の直上流側に配設された搬送ローラ５に移載され、ついで搬送ローラ５の駆動によって基板処理装置群１内に導入され、ここで搬送ローラ５によって搬送方向（図１の右方）に向けて搬送されつつ薬液処理槽２１内において散液配管や処理液供給手段等の散液手段２２からの薬液の供給による所定の薬液処理が主面に施され、ついで第１水洗槽３１内の第１洗浄空間Ｓ１において処理液供給手段６（上手側処理液供給手段６ａ）からの第１洗浄水Ｌ１の供給を受けて前洗浄が施され、第２洗浄空間Ｓ２において処理液供給手段６（下手側処理液供給手段６ｂ）からの第２洗浄水Ｌ２の供給を受けて中間洗浄処理が施され、第２水洗槽３２において純水供給ノズル３４からの純水の供給を受けて仕上げ洗浄され、最後の乾燥槽４１においてエアナイフ４２からの窒素またはドライエア等の気体の噴射供給による乾燥処理が施された後、乾燥槽４１の直ぐ下流側に配設された図略の下流側引継ぎ手段を介して元の水平姿勢に戻され、次工程に向けて導出されるようになっている。
【００２５】
本発明に係る基板処理装置１０は、本実施形態においては上記第１水洗槽３１に適用されている。以下本発明に係る基板処理装置１０につき、第１水洗槽３１に適用された場合を例に挙げて説明する。図２は、第１水洗槽（基板処理装置）３１の第１実施形態を示す一部切欠き斜視図である。この図に示すように、第１水洗槽３１内には、上流側および下流側の基板通過口１１間に、同一高されべルで搬送方向（右方）に向かって５本の搬送ローラ５が配設され、図略の駆動手段による各搬送ローラ５の同一方向の同期回転によって、上流側の基板通過口１１から第１水洗槽３１内に導入された基板Ｂは、下流側の基板通過口１１に向けて第１水洗槽３１内を搬送されるようになっている。
【００２６】
上記搬送ローラ５は、第１水洗槽３１内の側壁間に自軸心回りに回転可能に架橋されたローラ軸５１と、このローラ軸５１の左右両側部にローラ軸５１と共回り可能に設けられた左右一対の側部ローラ５２と、ローラ軸５１の中央部に設けられた中央ローラ５３とから形成された、いわゆる部分支持型ローラが採用されている。かかる部分支持型ローラを適用することにより、搬送ローラ５と基板Ｂ裏面との接触域を少なくし、基板Ｂの裏面への洗浄水や気体の供給を良好に行い得るとともに、洗浄過程や乾燥工程での搬送ローラ５との接触による基板Ｂの裏面の汚染を最小限に抑えることが可能になる。
【００２７】
上記左右の側部ローラ５２は、各々その外方側部に側部ローラ５２と一体の鍔部５２ａを有しており、この鍔部５２ａによって各ローラ５２，５３上に載置されて搬送される基板Ｂの横ずれを防止するとともに、特に下位側の鍔部５２ａによって基板Ｂが搬送路の傾斜面に沿って滑落するのを防止している。また、各ローラ５２，５３にはゴム等の柔軟性材料からなる緩衝材としてのＯリング５４が外嵌されており、このＯリング５４の滑り止め作用によって基板Ｂの搬送を確実に行い得るようにしている。
【００２８】
第１水洗槽３１内には、搬送方向の略中央部であって、搬送ローラ５の上位側の内壁面に搬送方向に延びた支持枠体１２が設けられ、この支持枠体１２に、下方に向いたスリット状の吐出口を搬送方向に沿わせるようにして配置された前後方向一対の処理液供給手段６（上手側処理液供給手段６ａおよび下手側処理液供給手段６ｂ）が固定されている。各処理液供給手段６ａ，６ｂの前後方向の長さ寸法は、基板Ｂの長さ寸法（搬送方向に延びる寸法）の略１／４に設定されている。
【００２９】
また、図２に示すように、基板Ｂ上の上手側処理液供給手段６ａに対向する部分から下位側の側端縁に亘る部分に、上手側処理液供給手段６ａからの第１洗浄水Ｌ１の流下による第１洗浄域Ａ１が形成されているとともに、下手側処理液供給手段６ｂに対向する部分から下位側の側端縁に亘る部分に第２洗浄域Ａ２が形成されている。
【００３０】
そして、第１洗浄域Ａ１と第２洗浄域Ａ２との境界部分には、基板Ｂの幅方向の全長に亘る長さ寸法を備えた仕切りローラ７（中央部仕切りローラ７ａ）が設けられ、この中央部仕切りローラ７ａの仕切り作用によって基板Ｂ上の第１洗浄域Ａ１を流下する第１洗浄水Ｌ１と、第２洗浄域Ａ２を流下する第２洗浄水Ｌ２とが相互に混合し合わないようにしている。
【００３１】
かかる中央部仕切りローラ７ａは、第１水洗槽３１内に配設された５本の搬送ローラ５の中央のものに対向してその上方に設けられている。そして第１水洗槽３１内に搬送された基板Ｂは、中央部の搬送ローラ５と中央部仕切りローラ７ａとに挾持された状態になり、これによって中央部仕切りローラ７ａの仕切り作用が確実になるようにしている。
【００３２】
また、中央部に配設された搬送ローラ５の下方には、仕切壁３３が設けられ、この仕切壁３３によって第１水洗槽３１の底部に上手側貯留部３３ａと、下手側貯留部３３ｂとが形成されている。従って、上手側処理液供給手段６ａから吐出され、基板Ｂ上の第１洗浄域Ａ１を流下した第１洗浄水Ｌ１は、上手側貯留部３３ａに一時貯留されるとともに、下手側処理液供給手段６ｂから吐出され、基板Ｂ上の第２洗浄域Ａ２を流下した第２洗浄水Ｌ２は、下手側貯留部３３ｂに一時貯留されるようになっている。
【００３３】
一方、第１水洗槽３１の近傍には上記上手側処理液供給手段６ａに供給するための第１洗浄水Ｌ１を貯留する第１洗浄水貯槽３５と、下手側処理液供給手段６ｂに第２洗浄水Ｌ２を供給するための第２洗浄水貯槽３６とが配設されている。そして、第１洗浄水貯槽３５と上手側処理液供給手段６ａとの間に第１洗浄水管路３５ａが配設されているとともに、上手側貯留部３３ａの底部と第１洗浄水貯槽３５の頂部との間には第１洗浄水戻り管路３５ｂが配設され、これら第１洗浄水管路３５ａおよび第１洗浄水戻り管路３５ｂによって第１洗浄水貯槽３５内の第１洗浄水Ｌ１を上手側処理液供給手段６ａを介して循環させる循環管路が形成されている。
【００３４】
また、第２洗浄水貯槽３６と下手側処理液供給手段６ｂとの間に第２洗浄水管路３６ａが配設されているとともに、下手側貯留部３３ｂの底部と第２洗浄水貯槽３６の頂部との間には第２洗浄水戻り管路３６ｂが配設され、これら第２洗浄水管路３６ａおよび第２洗浄水戻り管路３６ｂによって第２洗浄水貯槽３６内の第２洗浄水Ｌ２を下手側処理液供給手段６ｂを介して循環させる循環管路が形成されている。
【００３５】
そして、第１洗浄水貯槽３５の直ぐ下流側の第１洗浄水管路３５ａには第１洗浄水ポンプ３５ｃが設けられているとともに、第１洗浄水ポンプ３５ｃの直ぐ下流側にはフィルター３５ｄが設けられている。従って、第１洗浄水ポンプ３５ｃを駆動することにより、第１洗浄水貯槽３５内の第１洗浄水Ｌ１は、第１洗浄水管路３５ａを通してまずフィルター３５ｄで異物が除去され、ついで上手側処理液供給手段６ａから搬送ローラ５上の傾斜姿勢の基板Ｂ表面の上位側端縁に向けて吐出され、基板Ｂの傾斜に沿って流下しながら前洗浄を施した後、基板Ｂの下位側端縁から上手側貯留部３３ａに落下し、第１洗浄水戻り管路３５ｂを介して第１洗浄水貯槽３５に戻され、以後、循環使用される。
【００３６】
同様に、第２洗浄水貯槽３６の直ぐ下流側の第２洗浄水管路３６ａには第２洗浄水ポンプ３６ｃが設けられているとともに、第２洗浄水ポンプ３６ｃの直ぐ下流側にはフィルター３６ｄが設けられている。従って、第２洗浄水ポンプ３６ｃを駆動することにより、第２洗浄水貯槽３６内の第２洗浄水Ｌ２は、第２洗浄水管路３６ａを通してまずフィルター３６ｄで異物が除去され、ついで下手側処理液供給手段６ｂから搬送ローラ５上の傾斜姿勢の基板Ｂ表面の上位側端縁に向けて吐出され、基板Ｂの傾斜に沿って流下しながら中間洗浄処理を施した後、基板Ｂの下位側端縁から下手側貯留部３３ｂに落下し、第２洗浄水戻り管路３６ｂを介して第２洗浄水貯槽３６に戻され、以後、循環使用される。
【００３７】
このように、第１水洗槽３１内において、基板Ｂに第１洗浄水Ｌ１による前洗浄処理が施された後、第２洗浄水Ｌ２による中間洗浄処理が施され、しかも第１洗浄水Ｌ１と第２洗浄水Ｌ２とを別系統で循環使用するのは以下の理由による。すなわち、基板Ｂは薬液処理部２（図１）において薬液処理され、表面に薬液が付着した状態で第１水洗槽３１に導入されるため、この薬液の付着した基板Ｂを洗浄する第１洗浄水Ｌ１と、中間洗浄処理用の第２洗浄水Ｌ２とを別系統にしておかないと、第２洗浄水Ｌ２が薬液で汚染され、基板Ｂが段階的に清浄化されなくなるからである。
【００３８】
図３は、処理液供給手段６の一実施形態を示す一部切欠き斜視図である。この図に示すように、処理液供給手段６は、前後方向に延びる長尺直方体状の本体６１と、この本体６１の下部から延設された先細りのノズル部６２とを備えて形成されている。上記本体６１は、内部に前後方向に延びる処理液供給管路６３を有しているとともに、頂部に雄ネジの螺設された接続筒６４を有している。この接続筒６４に洗浄水管路３５ａ，３６ａの下流端に設けられたジョイント３７が螺着されることにより、洗浄水管路３５ａ，３６ａが各処理液供給手段６ａ，６ｂの各々に接続されるようになっている。
【００３９】
また、上記ノズル部６２には、処理液供給管路６３に連通した前後方向に延びるスリット状の処理水吐出口６５が設けられており、洗浄水管路３５ａ、３５ｂを通して本体６１の処理液供給管路６３に供給された洗浄水Ｌ１，Ｌ２は、処理水吐出口６５から基板Ｂ上に供給される。
【００４０】
図４は、基板Ｂが仕切りローラ７と搬送ローラ５とに挟持された状態を示す正面図である。この図に示すように、仕切りローラ７は、基板Ｂの幅方向に延びる仕切りローラ軸７１と、この仕切りローラ軸７１の両側部に設けられたフランジ部（大径部）７２と、これらフランジ７２に挟持され、かつ、フランジ７２より若干小径の液切り部（小径部）７３とから構成されている。上記液切り部７３は、フランジ部７２が基板Ｂの幅方向の上面両縁部に当接するように長さ寸法が設定されている。従って、基板Ｂが仕切りローラ７の下部に搬送された状態で、基板Ｂの幅方向の両側部は側部ローラ５２の外周面とフランジ部７２の外周面とに挟持され、これによって基板Ｂの表面中央部と液切り部７３の外周面との間には距離ｄの隙間が形成された状態になっている。
【００４１】
上記隙間の距離ｄは、基板Ｂ上の中央部仕切りローラ７ａを挟んだ第１洗浄域Ａ１および第２洗浄域Ａ２に吐出された第１洗浄水Ｌ１および第２洗浄水Ｌ２が表面張力によって相互に混ざり合わない寸法に設定されている。本実施例では、上記隙間ｄは０．１〜１．０ｍｍに設定され、これによって、基板Ｂの表面中央部に形成された有効エリアが仕切りローラ７との接触による損傷を受けないようにしているとともに、第１および第２洗浄域Ａ１，Ａ２のそれぞれに上手側および下手側処理液供給手段６ａ，６ｂから吐出された第１および第２洗浄水Ｌ１，Ｌ２の混合が防止されるようにしている。
【００４２】
また、仕切りローラ７は、上記搬送ローラ５に対向して設けられ、これによって仕切りローラ７に到達した基板Ｂは、搬送ローラ５上にあって、かつ、幅方向の端縁が搬送ローラ５の側部ローラ５２と、仕切りローラ７のフランジ部７２とに挾持された安定した状態になり、これによって基板Ｂの撓みが抑制され、隙間ｄの一定化を確保した状態で液切り部７３による液切りが確実に行われるようにしている。
【００４３】
図５は、本発明の作用を説明するための説明図であり、（イ）は基板Ｂの搬送方向前端が第１洗浄域Ａ１に侵入した直後の状態、（ロ）は基板Ｂの後端側が第１洗浄域Ａ１に位置しているとともに、前端側が第２洗浄域Ａ２に位置している状態、（ハ）は基板Ｂが第２洗浄域Ａ２から導出された状態をそれぞれ示している。
【００４４】
まず、図５の（イ）に示すように、搬送ローラ５の駆動により上流側（左方）の基板通過口１１を介して第１水洗槽３１内に導入されて第１洗浄域Ａ１に侵入した基板Ｂは、その搬送方向前端部の上位側に上手側処理液供給手段６ａから吐出された第１洗浄水Ｌ１が供給され、基板Ｂの前端側の表面を上位側から下位側に向けて第１洗浄水Ｌ１が流下し、これによって基板Ｂの表面に第１洗浄水Ｌ１による前洗浄処理が施される。前洗浄処理後の第１洗浄水Ｌ１は基板Ｂの下位側端縁を通って第１水洗槽３３ａの底部に落下する。そして、第１洗浄水Ｌ１は基板Ｂの傾斜に沿って流下するため、第１洗浄水Ｌ１が基板Ｂの表面を伝って基板Ｂの後端縁から第１水洗槽３３ａ外に漏れ出るという不都合は回避される。
【００４５】
ついで、図５の（ロ）に示すように、搬送ローラ５の駆動によって基板Ｂの前端側が第２洗浄域Ａ２に進入し、かつ、基板Ｂの後端側が第１洗浄域Ａ１に残っている状態になると、上手側処理液供給手段６ａから吐出された第１洗浄水Ｌ１が基板Ｂ中央部の上位側端縁に供給され、これによって基板Ｂの第１洗浄域Ａ１にある部分が第１洗浄水Ｌ１によって水洗されるとともに、下手側処理液供給手段６ｂから吐出された第２洗浄水Ｌ２が基板Ｂの第２洗浄域Ａ２にある部分を洗浄処理する。
【００４６】
そして、第１洗浄域Ａ１と第２洗浄域Ａ２との間には中央部仕切りローラ７ａが設けられているため、この中央部仕切りローラ７ａによって第１洗浄水Ｌ１と第２洗浄水Ｌ２とは相互に混ざり合うことなく、それぞれが仕切壁３３によって仕切られた上手側貯留部３３ａと下手側貯留部３３ｂとに流下する。そして、第２洗浄水Ｌ２は基板Ｂの傾斜に沿って勢いよく流下し、下流側には液流となって向かわないため、下手側処理液供給手段６ｂを通過した基板Ｂの表面は、第２洗浄水Ｌ２が極めて薄い薄膜状態で残留した状態になっている。
【００４７】
さらに、図５の（ハ）に示すように、搬送ローラ５の駆動で基板Ｂが完全に第２洗浄域Ａ２から外れた状態になると、基板Ｂの表面はすでに第１洗浄水Ｌ１および第２洗浄水Ｌ２による水洗処理が完了し、かつ、基板Ｂの表面には極めて薄い薄膜状態の第２洗浄水Ｌ２が存在するのみの液切れ状態になっているため、次工程である第２水洗槽３２（図１）への第２洗浄水Ｌ２の持込み量を最小限に抑えることができるとともに、基板Ｂの表面が部分乾燥することに起因したパーティクルの発生を確実に抑制することが可能になる。
【００４８】
図６は、第１水洗槽（基板処理装置）３１０の第２実施形態を示す一部切欠き斜視図である。この図に示すように、第２実施形態の第１水洗槽３１０は、上手側処理液供給手段６ａの上流側に、基板Ｂを幅方向に横断するように上手側仕切りローラ７ｂが設けられているとともに、下手側処理液供給手段６ｂの下流側に基板Ｂを幅方向に横断するように下手側仕切りローラ７ｃが設けられている。これらの仕切りローラ７は、上記中央部仕切りローラ７ａと同様に構成されている。その他の構成は第１実施形態と同一である。
【００４９】
かかる第２実施形態の第１水洗槽３１０によれば、基板Ｂ上の第１洗浄域Ａ１に上手側処理液供給手段６ａから吐出された第１洗浄水Ｌ１は、上手側仕切りローラ７ｂの仕切り作用によって基板Ｂ上を上流側に漏出しないため、第１洗浄水Ｌ１の薬液処理槽２１内への混入が確実に防止されるとともに、下手側仕切りローラ７ｃの液切り作用によって、下手側仕切りローラ７ｃの下流側における基板Ｂ表面の残留洗浄水量を少なく抑えることが可能になり、第２水洗槽３２への第２洗浄水Ｌ２の持込み量を最小限度に抑えることが可能になる。
【００５０】
以上詳述したように、前記の実施形態は、基板Ｂを水平姿勢あるいは傾斜姿勢で搬送するに際し、基板Ｂの上位側の端縁に上手側処理液供給手段６ａおよび下手側処理液供給手段６ｂからそれぞれ異なる処理液（本実施形態では第１洗浄水Ｌ１と第２洗浄水Ｌ２）を第１洗浄域Ａ１および第２洗浄域Ａ２に向けてそれぞれ吐出するようにし、しかも、基板Ｂを傾斜姿勢で搬送するときには少なくとも第１洗浄域Ａ１と第２洗浄域Ａ２との境界部分に基板Ｂを横断するように中央部仕切りローラ７ａが配設される。また、基板Ｂを水平姿勢で搬送するときには上記中央部仕切りローラ７ａに加えて第１洗浄域Ａ１の上流側に上手側仕切りローラ７ｂを、第２洗浄域Ａ２の下流側には下手側仕切りローラ７ｃが配設される。
【００５１】
基板Ｂの水平、傾斜の搬送姿勢に拘らず、第１水洗槽３１の底部に仕切りローラ７を境にした仕切壁３３を設けてなるものであるため、仕切りローラ７の仕切り作用によって第１洗浄水Ｌ１と第２洗浄水Ｌ２とは基板Ｂ上で互いに混ざり合うことがない状態で基板Ｂの幅方向の側端縁から流下し、この流下時に基板Ｂの表面に第１洗浄水Ｌ１による前洗浄処理、引き続き第２洗浄水Ｌ２による中間洗浄処理が施される。
【００５２】
図７は、第１水洗槽（基板処理装置）３１１の第３実施形態を示す一部切欠き斜視図である。図７に示すように、第３実施形態においては、水平姿勢で搬送される基板Ｂの処理を対象にしている。そして、搬送ローラ５並びに中央部仕切りローラ７ａ、上手側仕切りローラ７ｂおよび下手側仕切りローラ７ｃはそれぞれ第１水洗槽３１１の幅方向の側壁間に水平に架橋されているとともに、これに応じて基板通過口１１も水平方向に延びるように開口されている。
【００５３】
そして基板Ｂは、この水平姿勢の搬送ローラ５によって搬送されつつ仕切りローラ７によって仕切られた第１洗浄域Ａ１および第２洗浄域Ａ２に供給される第１洗浄水Ｌ１および第２洗浄水Ｌ２によって処理されるようになっている。
【００５４】
また、第３実施形態においては、支持枠体１２０は、搬送ローラ５の上方において第１水洗槽３１１の幅方向の側壁間に差し渡された前後方向一対の側壁間梁材１２１と、各側壁間梁材１２１の幅方向の中央部に平行に架橋された一対のノズル支持梁材１２２とを備えて形成され、上記上手側処理液供給手段６ａおよび下手側処理液供給手段６ｂは、各ノズル支持梁材１２２間に挟持され、かつ、搬送方向に延びた状態で支持枠体１２０に固定されている。これによって上手側処理液供給手段６ａおよび下手側処理液供給手段６ｂから吐出された第１洗浄水Ｌ１および第２洗浄水Ｌ２は、基板Ｂ上の第１洗浄域Ａ１および第２洗浄域Ａ２の幅方向の中央部に吐出されることになる。その他は先の第２実施形態のものと同様に構成されている。
【００５５】
第３実施形態の構成によれば、各処理液供給手段６ａ，６ｂからの各洗浄水Ｌ１，Ｌ２は、搬送ローラ５によって搬送されつつある基板Ｂ上の第１洗浄域Ａ１および第２洗浄域Ａ２の幅方向の中央部に吐出され、各洗浄域Ａ１，Ａ２に吐出された各洗浄水Ｌ１，Ｌ２は、上手側仕切りローラ７ｂおよび中央部仕切りローラ７ａ、並びに中央部仕切りローラ７ａおよび下手側仕切りローラ７ｃによって各洗浄域Ａ１，Ａ２外に漏出するのが防止された状態で幅方向に左右に分かれて流れ、第１洗浄水Ｌ１は上手側貯留部３３ａに第２洗浄水Ｌ２は下手側貯留部３３ｂに流下する。
【００５６】
図８は、第１水洗槽（基板処理装置）３１２の第４実施形態を示す一部切欠き斜視図である。この実施形態においては、図２に示す第１実施形態の第１水洗槽３１がベースとして採用され、その中央部仕切りローラ７ａの上手側および下手側に、搬送中の基板を横断するように上手側散水配管（第２の処理液供給手段）６０ａおよび下手側散水配管（第２の処理液供給手段）６０ｂがそれぞれ設けられることにより第１水洗槽３１２が形成されている。各散水配管６０ａ，６０ｂは、下面部に長手方向に亘って配列された複数の散水ノズル６０１を有している。これらの散水ノズル６０１としては、コーンノズルや扇形ノズル等の通常のスプレーノズルが採用されている。
【００５７】
そして、上手側散水配管６０ａからは、散水ノズル６０１を介して第１洗浄域Ａ１の基板搬送方向の中央部に向けて第１洗浄水貯槽３５からの第１洗浄水Ｌ１が供給されるとともに、下手側散水配管６０ｂからは、第２洗浄域Ａ２の基板搬送方向の中央部に向けて第２洗浄水貯槽３６からの第２洗浄水Ｌ２が供給されるようになっている。第４実施形態の第１水洗槽３１２は、内部に上記のような散水配管６０ａ，６０ｂが設けられている以外は、第１実施形態の第１水洗槽３１と同一構成である。
【００５８】
第４実施形態の上記構成によれば、各処理液供給手段６ａ，６ｂから吐出される処理液Ｌ１，Ｌ２に加え、各散水配管６０ａ，６０ｂからも処理液Ｌ１，Ｌ２が基板Ｂ主面の各洗浄域Ａ１，Ａ２にそれぞれ供給されるため、基板Ｂの主面上での処理液Ｌ１，Ｌ２の流れに乱流が生じ、乱流による混合で処理液Ｌ１，Ｌ２と基板Ｂ主面との接触状態が均一になり、基板Ｂ主面の処理効率を向上させることができる。また処理液Ｌ１，Ｌ２の衝撃効果により、基板Ｂ主面に付着ているパーティクル等の余剰物をより効果的に洗浄することができる。
【００５９】
本発明は、以上詳述したように、第１水洗槽３１内を搬送ローラ５によって搬送される基板Ｂの主面に対向して上手側処理液供給手段６ａおよび下手側処理液供給手段６ｂを設け、これら各処理液供給手段６ａ，６ｂから吐出された第１洗浄水Ｌ１と第２洗浄水Ｌ２とが相互に混ざり合わないように仕切りローラ７が基板Ｂを横断するように設け、しかも、仕切壁３３で仕切られた各貯留部３３ａ，３３ｂにおいて各洗浄水Ｌ１，Ｌ２をそれぞれ回収するものであるため、第１洗浄水Ｌ１による第１洗浄空間Ｓ１、および第２洗浄水Ｌ２による第２洗浄空間Ｓ２（図１）を、従来のようにそれぞれ別の処理槽で形成する必要はなく、１槽で賄うことが可能になり、その分、設備コストの削減に寄与し得るとともに、基板の処理時間の短縮も実現し、処理効率を向上させる上での効果も大きい。
【００６０】
また本発明は、上記の実施形態に限定されるものではなく、以下の内容をも包含するものである。
【００６１】
（１）上記の実施形態においては、異なる種類の処理液として第１洗浄水Ｌ１および第２洗浄水Ｌ２を用い、上手側処理液供給手段６ａから第１洗浄水Ｌ１を吐出し、下手側処理液供給手段６ｂから第２洗浄水Ｌ２を吐出することによって、前洗浄処理と、中間洗浄処理とを略同時に行うようにしているが、上手側処理液供給手段６ａに薬剤を供給し、下手側処理液供給手段６ｂに洗浄水を供給するなど、まったく性状の異なる二種類の処理液を同一処理槽内で使用するようにしてもよい。
【００６２】
（２）上記の第２実施形態においては、第１水洗槽３１内の中央部仕切りローラ７ａの上流側に上手側仕切りローラ７ｂ、下流側に下手側仕切りローラ７ｃが設けているが、状況に応じて上手側仕切りローラ７ｂおよび下手側仕切りローラ７ｃの内のいずれか一方のみを採用するようにしてもよい。
【００６３】
（３）上記の第４実施形態においては、散水配管６０ａ，６０ｂは、第１実施形態の第１水洗槽３１に適用されているが、本発明は、散水配管６０ａ，６０ｂが第１実施形態の第１水洗槽３１に適用されることに限定されるものではなく、第２および第３実施形態の第１水洗層３１０，３１１にも適用可能である。
【００６４】
（４）上記の実施形態においては、処理液供給手段６から吐出される各洗浄水Ｌ１，Ｌ２によって基板Ｂの表面のみが処理されるようになっているが、本発明は、基板Ｂの表面のみを処理することに限定されるものではなく、搬送中の基板Ｂの裏面上位側に各洗浄水Ｌ１，Ｌ２を吐出する処理液供給手段を設け、この処理液供給手段からの洗浄水Ｌ１，Ｌ２の吐出によって基板Ｂの裏面をも処理するようにしてもよい。こうすることによって基板Ｂの裏面の上位側に吐出された各洗浄水Ｌ１，Ｌ２は、基板Ｂの傾斜に沿って流下するため、支障なく基板Ｂの裏面が洗浄処理される。
【００６５】
（５）上記の実施形態においては、各洗浄水Ｌ１，Ｌ２を帯状で処理液供給手段６から吐出するようにしているが、本発明は、このような処理液供給手段６を採用することに限定されるものではなく、通常のコーンノズル、扇型ノズル等から基板Ｂの上位側側縁部に向けて各洗浄水Ｌ１，Ｌ２を吐出するようにしてもよい。
【００６６】
【発明の効果】
請求項１記載の発明によれば、搬送中の基板の上手側および下手側の主面に向けて基板の搬送方向に沿うように処理液を吐出する上手側処理液供給手段および下手側処理液供給手段が設けられ、上手側処理液供給手段と下手側処理液供給手段との間に搬送中の基板の主面を横断するように設けられた中央部仕切りローラが設けられているため、処理槽内において上手側処理液供給手段および下手側処理液供給手段からそれぞれ処理液を吐出させつつ基板搬送路に沿って基板を搬送することにより、基板の主面には、中央部仕切りローラによって互いに分離された状態で上手側処理液供給手段からの処理液と、下手側処理液供給手段からの処理液とが順次供給され、異なった二種類の処理液による処理が施される。
【００６７】
従って、異なった二種類の処理液で基板を順次処理するに際し、従来のように、二種類の処理液が混ざり合うのを防止すべく処理液毎に処理槽を設ける必要はなく、一つの基板上に異なった種類の処理液を同時に供給することが可能になり、設備の簡素化および処理効率の向上を果たす上での効果が大きい。
【００６８】
また、基板搬送路は、搬送方向に直交した面内で水平方向に対して傾斜するように形成されているため、基板は傾斜姿勢で搬送されることになる。そして、上手側および下手側処理液供給手段は、搬送中の基板の主面の上位側端縁に向けて処理液を吐出するように取り付け位置が設定され、上手側処理液供給手段および下手側処理液供給手段からそれぞれ吐出された処理液は、基板の傾斜に沿って流下するため、基板主面上での処理液の液切れが良好になり、各処理液は混合されにくくなるとともに、下流側への処理液の持出し量を少なくすることが可能になる。
【００６９】
請求項２記載の発明によれば、基板搬送路は水平に形成されているため基板は水平姿勢で搬送されるが、少なくとも下手側処理液供給手段の基板搬送方向の下流側に、搬送中の基板の主面を幅方向に横断するように下手側仕切りローラが設けられているため、下手側処理液供給手段から基板の幅方向の中央部に吐出された処理液は、下手側仕切りローラによって遮られ、基板主面上を下流側に液流状態で移行することはなく、従って、処理液の次工程への持出し量を少なくした状態で基板の主面を処理することができる。
【００７０】
請求項３記載の発明によれば、処理槽内の基板搬送路の下部に、上記仕切りローラを境にしてその真下に仕切壁が備えられ、これによって上手側処理液供給手段から吐出された処理液と、下手側処理液供給手段から吐出された処理液とは、中央部仕切りローラによって基板主面上での混合が防止された状態で基板幅方向の側端縁から槽内に流下し、仕切壁によって相互に混ざり合わない状態で処理槽の底部に貯留されるため、処理槽の底部に溜った各処理液の処理性能が確保される。従って、各処理液を循環使用することができるようになる。
【００７１】
また、上手側処理液供給手段の上流側にも上手側仕切りローラを設けることにより、上手側処理液供給手段から吐出された処理液が基板主面上でこの上手側仕切りローラに遮られて基板主面上を上流側に移行することはなく、処理液の上流側工程への流入を阻止することができる。
【００７２】
請求項４記載の発明によれば、上手側あるいは下手側処理液供給手段から吐出される処理液に加え、第２の処理液給手段からの処理液も基板の主面に供給されるため、基板の主面上での処理液の流れに乱流が生じ、乱流による混合で処理液と基板主面との接触状態が均一になり、処理液による基板主面の処理効率を向上させることができる。また、第２の処理液供給手段を洗浄部に設けると、基板表面における処理液の衝突効果により、基板に付着したパーティクル等の余剰物がより効率よく除去される。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に係る基板処理装置の第１実施形態が適用された基板処理装置群の一実施形態を示す説明図である。
【図２】第１水洗槽（基板処理装置）の第１実施形態を示す一部切欠き斜視図である。
【図３】処理液供給手段の一実施形態を示す一部切欠き斜視図である。
【図４】基板が仕切りローラと搬送ローラとに挟持された状態を示す正面図である。
【図５】本発明の作用を説明するための説明図であり、（イ）は基板の搬送方向前端が第１洗浄域に侵入した直後の状態、（ロ）は基板の後端側が第１洗浄域に位置しているとともに、前端側が第２洗浄域に位置している状態、（ハ）は基板が第２洗浄域から導出された状態をそれぞれ示している。
【図６】第１水洗槽（基板処理装置）の第２実施形態を示す一部切欠き斜視図である。
【図７】第１水洗槽（基板処理装置）の第３実施形態を示す一部切欠き斜視図である。
【図８】第１水洗槽（基板処理装置）の第４実施形態を示す一部切欠き斜視図である。
【符号の説明】
１  基板処理装置群
１０  基板処理装置
２  薬液処理部
３  水洗部
３１，３１０，３１１  第１水洗槽
３３  仕切壁
３３ａ  上手側貯留部
３３ｂ  下手側貯留部
４  乾燥部
５  搬送ローラ
６  処理液供給手段
６ａ  上手側処理液供給手段
６ｂ  下手側処理液供給手段
７  仕切りローラ
７ａ  中央部仕切りローラ
７ｂ  上手側仕切りローラ
７ｃ  下手側仕切りローラ
Ｂ  基板
Ａ１  第１洗浄域
Ａ２  第２洗浄域
Ｌ１  第１洗浄水
Ｌ２  第２洗浄水
【図１】
0003581483.tif 000002
【図２】
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【図３】
0003581483.tif 000004
【図４】
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【図５】
0003581483.tif 000006
【図６】
0003581483.tif 000007
【図７】
0003581483.tif 000008
【図８】
0003581483.tif 000009