【事件の表示】
　特願２００４−３００８２２「薄膜トランジスタ・アレイ基板、その製造方法、それを利用した液晶表示装置、液晶表示装置の製造方法及び液晶表示装置の検査方法」拒絶査定不服審判事件〔平成１７年　５月１２日出願公開、特開２００５−１２２１８６〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１．手続の経緯
　本願は、平成１６年１０月１４日（パリ条約による優先権主張２００３年１０月１４日、大韓民国）の出願であって、平成１８年８月８日付けで拒絶理由が通知され、同年１１月１４日付けで手続補正がなされたが、同年１２月７日付けで拒絶査定がなされ、これに対し、平成１９年３月１２日に拒絶査定不服審判請求がなさるとともに、同年３月２０日付けで手続補正がなされたものである。
　
２．補正の目的、本願発明
　平成１９年３月２０日付けの手続補正（以下「本件補正」という。）は、
ａ．平成１８年１１月１４日付けの手続補正により補正された特許請求の範囲の請求項１を削除し、削除された請求項１を引用する請求項２を新たな請求項１とする補正
ｂ．同じく請求項８を削除し、削除された請求項８を引用する請求項９を新たな請求項７とする補正
ｃ．同じく請求項１３を削除し、削除された請求項１３を引用する請求項１４を新たな請求項１１とする補正
ｄ．同じく請求項１８を削除し、削除された請求項１８を引用する請求項１９を新たな請求項１５とする補正
ｅ．同じく請求項２７を削除し、削除された請求項２７を引用する請求項２８を新たな請求項２３とする補正
ｆ．同じく請求項３２を削除し、削除された請求項３２を引用する請求項３３を新たな請求項２７とする補正
　を含むものであるので、本件補正は、平成１８年改正前特許法１７条の２第４項１号の請求項の削除を目的とするものに該当する。
　そして、本願の請求項７に係る発明（以下「本願発明」という。）は、平成１９年３月２０日付けの手続補正により補正された特許請求の範囲の請求項７に記載された事項により特定される、以下のとおりのものである。
「　　【請求項７】
　基板の上に形成されたゲート・ラインと、前記ゲート・ラインと交差に形成されて画素領域を定義するデータ・ラインと、前記ゲート・ライン及びデータ・ラインの間に形成されるゲート絶縁膜と、前記ゲート・ライン及びデータ・ラインの交差部に形成された薄膜トランジスタと、前記画素領域に形成されて前記薄膜トランジスタと接続された画素電極と、前記ゲート・ラインと接続されたゲート・パッド、及び、前記データ・ラインと接続されたデータ・パッドを具備して、前記ゲート・パッド及びデータ・パッドの中の少なくともいずれか一つは前記基板と接続されて透明導電膜が露出されるように形成され、
　前記ゲート・パッドは前記透明導電膜、その透明導電膜が少なくとも一部露出されるように前記透明導電膜の上に形成されたゲート金属膜を含み、
　前記ゲート・ライン及びゲート電極は前記透明導電膜、その透明導電膜の上に前記透明導電膜と重畳されるように形成されたゲート金属膜を含み、
　前記ゲート・パッド及びデータ・パッドの中の少なくともいずれか一つの露出された透明導電膜の線幅は検査用のピンの対応する幅より大きいことを特徴とする薄膜トランジスタ・アレイ基板。」
　
３．引用例
　原査定の拒絶の理由に引用された刊行物である特開平３−６４７３７号公報（以下「引用例」という。）には、図面と共に、以下の事項が記載されている。
　
ａ．「２、特許請求の範囲
　表示用誘電体に電界を印加する透明導電膜を基板上で前記表示用誘電体から外方に延在し、この透明導電膜の延在した部分の上または下に金属層を形成し、この金属層を直接または透明導電膜を介して電気絶縁性被覆層で被覆し、前記透明導電膜の前記延在している部分のうち、電気絶縁性被覆層で被覆されていない部分を外部回路と接続することを特徴とする表示装置の端子構造。」（第１頁左下欄第４行〜１２行）
　
ｂ．「従来の技術
　画素電極として透明導電膜を用いる液晶やエレクトロルミネッセンスなどの表示装置では、従来この透明導電膜を用いて駆動信号伝達用配線および外部信号入力端子を形成していた。しかしながら、・・・（略）・・・駆動信号伝達用配線の抵抗が増大したりするため、上述したように透明導電膜のみで駆動信号伝達用の配線を形成すると、・・・（略）・・・問題が生じている。これに対処するため、前記透明導電膜の駆動信号伝達用配線および外部信号入力端子の上層または下層に金属層を形成する方法が採用されている。」（第１頁左下欄第１７行〜同頁右下欄第１１行）
　
ｃ．「作用
　本発明に従えば、金属層を電気絶縁性被覆層で保護するので、金属層の腐食を防止できる。このため駆動信号伝達用配線の低抵抗を維持できる。また外部信号入力端子の接続部は、耐腐食性に優れた透明導電膜を用いるため、接続抵抗の安定化が図れる。さらに外部信号入力端子の接続部のごく近傍に金属層が存在するため、導電性に優れた接続部構造を実現することができる。」（第２頁右上欄第４行〜１２行）
　
ｄ．「実施例
　本発明の一実施例を第１図から第９図を用いて説明する。第１図は、本発明の端子構造を有する液晶表示装置１４の断面図である。第１図中、１５は配向膜、１６は液晶、１７はシール部材である。・・・（略）・・・
　本発明の一実施例では、第４図に示すように表示装置の基板１にスパッタ法などを用いて透明導電膜３が形成され、その上層にスパッタ法などを用いて金属層４が形成される。透明導電膜３の上部の一部には第５図に示すように金属層４の非形成部９が設けられている。」（第２頁右上欄第１３行〜同頁左下欄第１１行）
　
ｅ．「たとえばＴＦＴアクティブマトリックス形液晶表示装置に本発明を適用する場合、ＴＦＴ素子の電気絶縁層と本発明の電気絶縁性被覆層５とを兼ねることが可能であるが、この場合にはＴＦＴ素子構成上の制約から電気絶緑性彼覆層５の厚みが規制される場合がある。」（第２頁右下欄第１６行〜第３頁左上欄第１行）
　
ｆ．「端子のパターン形状は、第３図に示した。第３図においてＢ１は１５０μｍ、Ｂ２は１１０μｍ、Ｂ３は１００μｍ、Ｂ４は５０μｍである。・・・（略）・・・なお第６図〜第９図中右上から左下へ延びる斜線で示した領域９は金属層非形成部であり、左上から右下へ延びる斜線で示した領域１０は透明導電膜露出部である。なお、第６図においてＢ５は１００μｍ、Ｂ６は４５μｍ、Ｂ７は５μｍであり、第７図においてｌ１は１０〜５０μｍ、ｌ２は５μｍであり、第９図においてＢ８は９０μｍである。」（第３頁左上欄第１８行〜同頁右上欄第１１行）
　
ｇ．上記ｅの「ＴＦＴアクティブマトリックス形液晶表示装置に本発明を適用する場合、ＴＦＴ素子の電気絶縁層と本発明の電気絶縁性被覆層５とを兼ねることが可能である」との記載から、ＴＦＴアクティブマトリックス形液晶表示装置に本発明を適用する場合に、電気絶縁性被覆層５が形成される基板である基板１にＴＦＴ素子が形成されることは明らかである。
　
ｈ．上記ｂには、従来技術として「画素電極として透明導電膜を用いる液晶やエレクトロルミネッセンスなどの表示装置では、従来この透明導電膜を用いて駆動信号伝達用配線および外部信号入力端子を形成していた。しかしながら、・・・（略）・・・駆動信号伝達用配線の抵抗が増大したりするため、上述したように透明導電膜のみで駆動信号伝達用の配線を形成すると、・・・（略）・・・問題が生じている。これに対処するため、前記透明導電膜の駆動信号伝達用配線および外部信号入力端子の上層または下層に金属層を形成する方法が採用されている。」との記載があり、上記ｄ〜ｇに記載の実施例においても、この従来技術を前提として、透明導電膜を用いた画素電極、その透明導電膜を用いた駆動信号伝達用配線及び外部信号入力端子が基板上に形成されること、並びに、駆動信号伝達用配線及び外部信号入力端子は、透明導電膜と、その上層に形成した金属層からなることが明らかである。
　
ｉ．上記ｄの「第４図に示すように表示装置の基板１にスパッタ法などを用いて透明導電膜３が形成され」との記載及び第１図又は第４図から、基板１上に透明導電膜３が形成されていることは明らかである。
　また、第１図から、基板１上において、透明導電膜３は、液晶１６が積層される部分よりも外側に延在していることが見てとれる。
　
ｊ．第３図〜第５図から、外部信号入力端子は、透明導電膜３及びその上に金属層４を有し、外部信号入力端子の一部に、前記金属層が形成されていない透明導電膜露出部１０が形成されていることが見てとれる。また、第３図及び上記ｆの記載事項から、上記透明導電膜露出部１０の幅Ｂ３が、１００μｍであることが理解できる。
　
　以上の記載事項からみて、引用例には、以下の発明が記載されていると認められる。
「ＴＦＴ素子と、
　透明導電膜を用いた画素電極と、
　基板上に形成され、前記透明導電膜を用いた駆動信号伝達用配線と、
　前記駆動信号伝達用配線を液晶が積層される部分よりも外側に延在させ、該外側に延在させた部分に形成される外部信号入力端子と
　を具備し、
　前記駆動信号伝達用配線及び外部信号入力端子は、前記透明導電膜とその上層に形成された金属層からなり、
　前記外部信号入力端子の一部に、前記金属層が形成されていない透明導電膜露出部が形成され、
　前記透明導電膜露出部は、その幅が１００μｍであって、外部回路と接続される、ＴＦＴアクティブマトリックス形液晶表示装置に用いられる基板。」（以下「引用例発明」という。）
　
４．対比
　引用例発明と本願発明とを対比すると、引用例発明の「ＴＦＴ素子」、「画素電極」、「ＴＦＴアクティブマトリックス形液晶表示装置に用いられる基板」は、本願発明の「薄膜トランジスタ」、「画素電極」、「薄膜トランジスタ・アレイ基板」にそれぞれ相当する。
　また、引用例発明の「駆動信号伝達用配線」と本願発明の「ゲート・ライン」とは、基板上に形成される「配線」である点で一致する。
　また、引用例発明の「金属層」と本願発明の「ゲート金属膜」とは、「透明導電膜の上に形成された金属膜」である点で一致する。
　したがって、引用例発明と本願発明の「配線」は「透明導電膜、その透明導電膜の上に前記透明導電膜と重畳されるように形成された金属膜を含」むものである点で一致する。
　また、引用例発明の「外部信号入力端子」と本願発明の「ゲート・ラインと接続されたゲート・パッド」とは、「端子」である点で一致する。
　そして、引用例発明の「端子」は、基板上に形成される透明導電膜と、前記透明導電膜の上に形成された金属膜からなり、前記金属膜が形成されていない透明導電膜露出部を有するものであるから、引用例発明と本願発明の「端子」は、「基板と接続されて透明導電膜が露出されるように形成」される点、及び、「透明導電膜、その透明導電膜が少なくとも一部露出されるように前記透明導電膜の上に形成された金属膜を含」む点で一致する。
　
　したがって、引用例発明と本願発明とは、
「基板の上に形成された配線と、薄膜トランジスタと、画素電極と、前記配線と接続された端子を具備して、前記端子は前記基板と接続されて透明導電膜が露出されるように形成され、
　前記端子は前記透明導電膜、その透明導電膜が少なくとも一部露出されるように前記透明導電膜の上に形成された金属膜を含み、
　前記配線は前記透明導電膜、その透明導電膜の上に前記透明導電膜と重畳されるように形成された金属膜を含む薄膜トランジスタ・アレイ基板。」
である点で一致し、次の点で相違する。
［相違点］
ｉ．本願発明の薄膜トランジスタ・アレイ基板は、「基板の上に形成されたゲート・ラインと、前記ゲート・ラインと交差に形成されて画素領域を定義するデータ・ラインと、前記ゲート・ライン及びデータ・ラインの間に形成されるゲート絶縁膜と、前記ゲート・ライン及びデータ・ラインの交差部に形成された薄膜トランジスタと、前記画素領域に形成されて前記薄膜トランジスタと接続された画素電極と、前記ゲート・ラインと接続されたゲート・パッド、及び、前記データ・ラインと接続されたデータ・パッド」及び「ゲート電極」を具備しているのに対し、引用例発明の基板は、基板に形成される要素やその具体的な構成が不明であって、基板の上に形成された配線、端子、金属膜がゲートに関するものか否か不明である点。
　
ｉｉ．本願発明のゲート・パッド及びデータ・パッドの中の少なくともいずれか一つの露出された透明導電膜の線幅は検査用のピンの対応する幅より大きいのに対し、引用例発明の透明導電膜露出部は、その幅が１００μｍである点。
　
５．判断
　上記相違点について検討する。
ア．相違点ｉについて
　ａ．基板の上に形成された透明導電膜、その透明導電膜の上に前記透明導電膜と重畳されるように形成されたゲート金属膜を含むゲート・ライン及びゲート電極
　ｂ．前記ゲート・ラインと交差に形成されて画素領域を定義するデータ・ライン
　ｃ．前記ゲート・ライン及びデータ・ラインの間に形成されるゲート絶縁膜
　ｄ．前記ゲート・ライン及びデータ・ラインの交差部に形成された薄膜トランジスタ
　ｅ．前記画素領域に形成されて前記薄膜トランジスタと接続された画素電極
　ｆ．前記ゲート・ラインと接続されたゲート・パッド、
　ｇ．前記データ・ラインと接続されたデータ・パッド
を具備する薄膜トランジスタ・アレイ基板は、液晶表示装置の分野において、本願の優先日前に周知（例えば、本願の優先日前に頒布された刊行物である特開２００１−３３９０７２号公報（【００６２】−【００６６】、図２９〜図３２）、同じく特開平６−２０８１２１号公報（【００１２】−【００２４】、図１〜図３）を参照。）であるから、引用例発明の薄膜トランジスタ・アレイ基板に、上記周知の薄膜トランジスタ・アレイ基板の構成を備え、その際、引用例発明の配線、端子、金属膜を上記周知技術における「ゲート・ライン」、「ゲート・パッド」、「ゲート金属膜」とすることは、当業者であれば容易になし得ることである。
　
イ．相違点ｉｉについて
　薄膜トランジスタ・アレイ基板の端子にピン幅５０μｍ以下の検査用ピンを接触させて検査することは、例えば、特開２００３−６６０６７号公報（【００５５】、【００５６】を参照。）、特開平３−２５７３７６号公報（第２頁左下欄第２０行〜同頁右上欄第１４行、第５頁右上欄第４〜１５行を参照。）に見られるように周知であり、引用例発明の透明導電膜露出部は、その幅が１００μｍであるので、上記周知の検査技術を用いれば、引用例発明の「検査用のピンの対応する幅より大きい」ことが明らかな透明導電膜露出部に検査用ピンを接触させて検査しうることは、当業者が容易に理解できることである。
　したがって、上記相違点ｉｉは、表現上の相違にすぎない。
　
　また、本願発明においては、検査用ピンが接触される「露出された透明導電膜の線幅」は「検査用のピンの対応する幅より大きい」と相対的に規定されているのみで、線幅の値や検査用ピンの幅の値は不明であるところ、発明の詳細な説明を踏まえれば、「露出された透明導電膜の線幅」は少なくとも２６μｍ以上であると認められ（請求項８〜９、【００５４】、【００５５】、【０１２９】を参照。）、これよりも引用例発明の「１００μｍ」は大きい値である。よって、この点からも、引用例発明は、相違点ｉｉに係る本願発明の構成を有しているものであるといえる。
　
ウ．そして、本願発明の作用効果も、引用例発明及び上記周知技術から当業者が予測できる範囲のものである。
　
エ．したがって、本願発明は、引用例発明及び上記周知技術に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条２項の規定により特許を受けることができないものである。
　
６．むすび
　以上のとおり、本願発明は、引用例に記載された発明に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条２項の規定により特許を受けることができない。
　よって、結論のとおり審決する。