【事件の表示】
　上記当事者間の特許第２７３９７２２号発明「ピストンリング」の特許無効審判事件について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
　審判費用は、請求人の負担とする。
【理　由】
Ｉ．手続の経緯　
　本件特許第２７３９７２２号は、特許法第４２条の２に基づく優先権主張を伴って平成５年４月７日（優先権主張番号：特願平４−３５８５４９号、優先日：平成４年１２月２８日）に特許出願されたものであって、平成１０年１月２３日にその設定登録がなされ、その後、当審において、以下の手続を経たものである。　
　
審判請求書　　　　　　　　　　　　　　　平成１９年１１月　５日　
審判事件答弁書　　　　　　　　　　　　　平成２０年　２月　４日　
口頭審理陳述要領書（請求人）　　　　　　平成２０年　６月１０日　
口頭審理陳述要領書（被請求人）　　　　　平成２０年　６月１０日　
口頭審理（特許庁第１審判廷）　　　　　　平成２０年　６月１０日　
上申書（請求人）　　　　　　　　　　　　平成２０年　６月３０日　
上申書（被請求人）　　　　　　　　　　　平成２０年　７月　１日　
　
ＩＩ．本件発明　
　本件請求項１及び２に係る発明（以下、必要に応じて、それぞれ、「本件第１発明」及び「本件第２発明」という。）は、平成１７年１２月１６日に訂正請求が認められた同年６月６日付けで訂正請求された、訂正明細書の特許請求の範囲に記載された次のとおりのものである。　
　【請求項１】少なくとも外周摺動面に、陰極アークプラズマ式イオンプレーティングによる皮膜の空孔率が１．５〜２０％である窒化クロムよりなり厚さが１〜８０μｍの皮膜を形成してなる内燃機関用ピストンリング。　
　【請求項２】請求項１に記載のピストンリングにおいて、前記皮膜の破断面が母材表面から皮膜の表面に向かって柱状の形態を有する内燃機関用ピストンリング。　
　
ＩＩＩ．請求人の求めた審決及び主張　
　　審判請求人は、特許第２７３９７２２号の特許を無効とする、審判費用は被請求人の負担とする、との審決を求め、証拠方法として下記の書証をもって以下に示す無効理由により本件特許は無効にされるべきであると主張する。　
　
　（証拠方法）
甲第１号証：特開平１−１５９４４９号公報　
甲第２号証：特開昭６３−２９０２５４号公報
甲第３号証：社団法人金属表面技術協会編、「金属表面技術便覧（改訂新版）」、日刊工業新聞社、昭和５４年１２月２０日、５６４〜５６９頁
甲第４号証：特開平２−２８０３１０号公報　
甲第５号証：特開平５−７８８２１号公報　
甲第６号証：特開平２−３０１６７９号公報
甲第７号証：宮田昇、「粒子分散によるセラミックスの強じん化」、セラミックス、第２１巻（１９８６）第７号、６０５〜６１２頁
甲第８号証：特開昭６０−２６２９５１号公報
参考資料１：特開平４−３６６０１９号公報
参考資料２：特公昭５７−３８２０号公報
参考資料３：実公昭５７−６７５３号公報
参考資料４：平成２０年６月３０日付け上申書に添付された図表
　
　なお、上記参考資料１〜４は、審判請求書の提出後に提示されたものであるから、上記のとおり参考資料として表示する。　
　
（無効理由）　
（１）無効理由１　
　　本件請求項１に係る発明は、本件特許の出願前に頒布された刊行物である甲第１及び同２号証に記載された発明と、従来の周知事項（甲第４〜８号証）に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであり、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないものである。したがって、その特許は特許法第１２３条第１項第２号に該当し、無効とすべきものである。　
（２）無効理由２
　本件請求項２に係る発明は、本件特許の出願前に頒布された刊行物である前記甲第１、２号証に加え、甲第３号証と、従来の周知事項（甲第４〜８号証）に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであり、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないものである。したがって、その特許は特許法第１２３条第１項第２号に該当し、無効とすべきものである。　
　
　なお、請求人は、平成２０年６月１０日付け口頭審理陳述要領書（４頁１７〜１９行）において、甲第５号証は本件優先日よりもあとに公開されたという理由により、甲第５号証に関する主張を撤回している。
　
ＩＶ．被請求人の求めた審決及び反論　
　被請求人は、本件審判請求は成り立たない、審判費用は請求人の負担とするとの審決を求め、証拠方法として下記の書証をもって本件発明の特許は上記無効理由によっては無効とすることができないと主張する。　
　
　（証拠方法）　
乙第１号証：無効審判（無効２００５−８００５５号）の審決の写し
乙第２号証：神沢淳、架谷昌信監修「多孔材料ハンドブック」、株式会社アイピーシー、昭和６３年１２月１日、５０６〜５１１頁
乙第３号証：社団法人表面技術協会編、「ＰＶＤ・ＣＶＤ皮膜の基礎と応用」　槇書店、１９９８年７月２５日、４８〜５１頁
乙第４号証：平成２０年７月１日付け上申書に添付された「イオンプレーティング法によって空孔を有するように形成した窒化クロム皮膜の断面写真」
参考資料１：平成２０年　６月１０日の口頭審理において、審判被請求人が「口頭陳述要領書における請求人の主張に対する被請求人の反論の概要」と題した表
　
Ｖ．証拠方法の記載について　
Ｖ−Ａ．甲第１号証（特開平１−１５９４４９号公報）には、第１〜５図が掲載されると共に、以下の事項が記載されている。　
（Ａ−１）「反応ガスを含む雰囲気中で蒸発物質を蒸発させて、被処理物表面に反応ガスと蒸発物質との反応生成物でなる被覆層を形成する反応性イオンプレーティング法により、反応ガスとして窒素ガスを、又蒸発物質としてクロムを採用して、ピストンリングの少なくとも外周摺動面に厚さ１０〜５０μｍのＣｒ２Ｎ型の窒化クロムでなる第１被覆相と更にＣｒＮ型の窒化クロムでなる第２被覆相からなる複合窒化層が形成されていることを特徴とするピストンリング。」（特許請求の範囲）　
（Ａ−２）「（従来技術と問題点）　
　近年、内燃機関の高性能化に伴い各機能部品に対し、益々過酷な条件が課せられると共に内燃機関の寿命の延長が強く要求されている。ピストンリングも従来にもまして高回転、高温、高面圧等の厳しい環境に曝され、その耐久性の向上が要求されており、ピストンリングの耐久性を改善する手段として摺動面に硬質クロムめっき処理や窒化処理等の耐摩耗性処理が施されている。　
　〈中　略〉　
　しかしながら、従来ピストンリングに採用されている窒化処理は、・・・・・・変形が生じやすいと共に、製造コストが上昇するという難がある。更に、・・・・・・耐久時間が短いという難点がある。又、・・・耐焼き付き性が充分とはいえず焼き付きが発生しやすいという問題点がある。　
（問題点を解決するための手段）　
　本発明は、上記の従来の窒化処理の問題点に着目してなされたものであり、過酷な使用条件下においても充分な耐摩耗性と耐焼き付き性を有する、耐久性の良好な複合窒化層を有するピストンリングを提供することを目的とする。」（１頁右下欄５行〜２頁左上欄１５行）　
（Ａ−３）「ここで、反応性イオンプレーティング法とは、反応ガス雰囲気中で蒸発物質を蒸発させ、気相状態においてイオン化し、負バイアスにされた基板面に前記反応ガスと蒸発物質イオンとの反応生成物でなる被覆層を形成させる公知の表面処理方法であって、低温において緻密な被覆層が形成される特徴を有するものである。」（２頁右上欄７〜１３行）　
（Ａ−４）「（実施例）　
　　　〈中　略〉　
　第３図に使用した反応性イオンプレーティング装置の概要を示す。本装置においては蒸発エネルギー源としてＨＣＤ型電子銃を用いたが、高周波放電を利用するイオン化機構を有する装置においては通常の電子銃を採用することもできる。　
　容器３内に収容されたピストンリング保持具４は図示しない回転装置により回転する。保持具４に保持されたピストンリング母材１はその上方に位置するヒータ５により約４００℃に加熱、保温されている。ピストンリング母材１の下方には水冷銅るつぼ６が配設され、るつぼ６内には蒸発物質となるクロム７が収容されている。容器３の側壁には雰囲気ガスを導入するガス導入管９とＨＣＤ銃１０が設けられ、ＨＣＤ銃１０からのプラズマビームを蒸発物質７に収束する収束コイル８が設けられている。尚、容器３は図示しない真空ポンプに連結され減圧可能となっている。　
　以上の装置を用いて、合金鋼ＳＵＳ４４０Ｃからなる外径８０ｍｍ×幅１．５ｍｍ×厚さ３．５ｍｍのトップリングを複数本まとめた母材１を約４００℃に昇温させ、ガス導入管９からアルゴンガスを導入して容器３内に圧力を１×１０−１ｔｏｒｒとし、ピストンリング母材１を陰極として１０分間のスパッタクリーニングを行なった後、るつぼ６内に収容されたクロム７をプラズマビームにより蒸発させ、ガス導入管９より蒸発ガスを容器３内に導入し、容器３内を３×１０−３ｔｏｒｒにして４０分間コーティングを行なって、Ｃｒ２Ｎ型の窒化クロムとＣｒＮ型の窒化クロムからなる窒化層を形成した。　
　ここで、プラズマビーム出力を約５００Ａとし、ピストンリング母材１には−３０Ｖのバイアス電圧を印加しておいた。」（２頁右下欄２行〜３頁左上欄１７行）　
（Ａ−５）「第２図より明らかなように、本発明のピストンリングの摩耗量は４μｍと比較品のクロムめっきリングの５０μｍに対して大幅に低減しており、又、従来の窒化処理リングの１８μｍに対しても１／４と少なく、且つ相手材のシリンダの摩耗量も２μｍと比較品のクロムめっきと略同程度、従来の窒化処理リングの４μｍと半分と耐摩耗性に著しく優れていることが確認された。」（３頁左下欄１９行〜同頁右下欄６行）　
（Ａ−６）「試験結果、本発明品は１５０ｋｇ／ｃｍ２で焼き付きが発生したが、比較品の従来のクロムめっき品の耐焼き付き面圧１１０ｋｇ／ｃｍ２以上であり、窒化処理品の１３０ｋｇ／ｃｍ２に対しても焼き付き性が優れていることが確認された。」（４頁右上欄１８行〜同頁左下欄２行）　
　
Ｖ−Ｂ．甲第２号証（特開昭６３−２９０２５４号公報）には、以下の事項が記載されている。　
（Ｂ−１）「高エネルギー溶射法により金属の母材表面上に緻密な溶射被膜を有する耐熱・耐摩耗性溶射被膜において、前記母材と前記緻密な被膜との間に体積密度が９０％以下である多孔質溶射被膜を有する耐熱・耐摩耗性溶射被膜。」（特許請求の範囲第１項）
（Ｂ−２）「セラミック溶射被膜に必要な性能としては・・・・・・粒子間結合力及び被膜中の気孔の有無が重要となる。・・・・・・プラズマ溶射法は・・・・・・母材表面に衝突する粒子の衝撃エネルギーが低いので粒子の圧着化が不十分となる。すなわち気孔が多く粒子間結合力が小さくなるため、セラミックス被膜の耐摩耗性は不十分となり・・・・・・酸素−アセチレンの爆発エネルギーを利用した溶射法及び超高速強化ガス溶射法等では・・・・・・溶射被膜中の気孔を少なくし、粒子間結合力を大きくすることができ、充分な耐摩耗性が得られるが、溶射された部材が加熱冷却を繰り返されると、母材との熱膨張差と熱伝導率の差により比較的脆いセラミックス内部で割れが発生し、時には剥離する。・・・・・・上記の如く、耐熱性、耐摩耗性を必要とする従来の溶射被膜では、多孔質皮膜を形成する溶射法の場合は耐摩耗性が劣り、低気孔率の緻密な被膜を形成する溶射法の場合は、耐熱性、特に耐熱衝撃性が劣り・・・・・・問題があった。
　本発明の目的は、上記の問題点を消除するとともに、溶射被膜の耐摩耗性を低下させることなく、耐熱衝撃性の優れた耐熱・耐摩耗性溶射被膜を提供することにある。」（２頁左上欄３行〜同頁左下欄２行）
（Ｂ−３）「［作用］
　高エネルギー溶射法により、母材と緻密な溶射被膜との間に体積密度が９０％以下である多孔質溶射被膜を有することにより、高温雰囲気中でこの溶射被膜に、母材と溶射被膜の熱膨張差にもとずく熱応力が生じても、この多孔質溶射被膜がその熱応力を吸収して、熱応力に対する緩衝層の役目を果たす。
　また、溶射被膜の表面層に形成された緻密な溶射被膜は、溶射被膜内の粒子間結合力が強いので、硬度が大きい。」（２頁左下欄１１行〜同頁右下欄１行）
（Ｂ−４）「本発明により形成された被膜が優れた耐熱衝撃性を示す理由は、緻密な溶射被膜の下に多孔質溶射被膜が存在するために、熱による各層及び母材の膨張、収縮が起っても中間層が多孔質であるため容易に熱応力を緩和させ、かつセラミックスの熱膨張率が金属のそれと比較して小さいため熱応力自身が小さくなるためである。また緻密な溶射被膜が、すぐれた耐摩耗性を示すのは、高エネルギーガス溶射法によって施工が行われているため、粒子間結合力が大きいので気孔が少なく、従って高度の大きい被膜を形成しているためである。」（３頁左下欄４〜１５行）
（Ｂ−５）「作製した試験材について、耐熱衝撃性試験・・・・・・を行った。耐熱衝撃性試験は、被膜の形成された試験材を８００℃に急熱し２０℃に急冷するサイクルと、１０００℃に急熱し２０℃に急冷するサイクルのそれぞれを繰返し行い、被膜が剥離するまでの回数を測定した」（３頁左上欄６〜１２行）
（Ｂ−６）「本発明において、多孔質溶射被膜を形成する溶射材料としては・・・・・・窒化物・・・・・・であればよい。」（３頁右下欄１〜４行）
　
Ｖ−Ｃ．甲第３号証（「金属表面技術便覧（改訂新版）」）には、イオンプレーティングと題し、以下の事項が記載されている。　
（Ｃ−１）「次に，スロットルバルブを調節して，イオンプレーティング室の圧力を１〜２０ｍＴｏｒｒにする。」（５６４頁１〜２行）　
（Ｃ−２）「（３）蒸発材料とサブストレート材料　
　　文献に真空蒸着しうる金属元素とその蒸発源が要領よくまとめられている。イオンプレーティングは蒸発源に関する限り真空蒸着とまったく同じである。通常イオンプレーティングされるのは，Ａｇ，Ａｌ，Ａｕ，Ｂｅ，Ｃｄ，Ｃｒ，Ｍｏ，・・・である。Ｃｕ−Ｎｉ，Ｎｉ−Ｃｒ，・・・などの合金が２蒸発源法や混合パウダーのフラッシュ蒸発によって試みられている。Ａｌ２Ｏ３，Ｃｒ２Ｏ３，・・・は酸素ガスを混合したアルゴン中で適当なサブストレート温度で生成する。ＴｉＮ，ＮｂＮ，ＶＮ，ＦｅＮ，ＣｒＮ，ＡｌＮ，ＴａＮはＮ２またはＮＨ３ガス中で，ＴｉＣ，ＺｒＣ，ＶＣ，ＴａＣはＣ２Ｈ２とアルゴンの混合ガス中で，適当なサブストレート温度および放電の条件下で，イオンプレーティングできるだろう。」（５６６頁４〜１３行）
（Ｃ−３）「（４）イオンプレーティング膜の表面と断面　
（ｉ）温度の効果　
　図９・２９は，いくつかの金属や酸化物を，堆積速度の高い値で，高真空中で加熱したサブストレート表面に，蒸着した厚膜の表面と断面の構造である。物質の融点を尺度として，その２５％のところ（Ｔ１＝０．２５Ｔｍ（Ｋ））にひとつの構造上の境界があり，５０％のところ（Ｔ２＝０．５Ｔｍ（Ｋ））に他の境界がある。この二つの境界で区別された，ゾーン１，ゾーン２，ゾーン３は，次のように異なっている。　
　ゾーン１はガサガサな密度の低い膜である。ゾーン２はバルクの密度の９０％以上のち密な膜になってくる。断面の柱状組織が特徴的である。温度が上がるにつれて，柱のサイズが太くなってくる。ゾーン３への移行は，温度に対してゆるやかであるが，ゾーン３では柱状組織は主要ではなくなり，塊状の組織になってくる。表面もそれにつれて，おのおの結晶面が明確な形をとってくる。
（ｉｉ）ガス圧力の効果　
　ガス圧力が高くなっていくと，図９・３０のように蒸着膜の構造が変化していくことを，難波が報告している。高真空蒸着では，均一な膜の得られる温度でも，ガスの圧力が高くなってくると，柱状化が起こること，および表面が荒れてくるのがわかる。」（５６６頁下から８行〜５６７頁１２行）　
（Ｃ−４）「（ｉｉｉ）膜の評価とイオンプレーティングの条件　
　Ｃａｒｍｉｃｈａｅｌ，ＣｈａｍｂｅｒｓおよびＷａｎは膜の出来ぐあいを評価するのに“Ｆｉｇｕｒｅ　ｏｆ　Ｍｅｒｉｔ　ｏｆ　Ｍｏｒｐｈｏｌｏｇｙ”（以下ＦＯＭと略する）を導入した。ＦＯＭが１００というのは，平滑で高密度の面である。ＦＯＭが０というのは，粗面である。イオンプレーティングのＦＯＭは，圧力Ｐ，イオン衝撃電力Ｗ，堆積速度Ｒ，サブストレート温度Ｔの関数であるが，サブストレート温度Ｔを一定にして，他のパラメータをかえると，図９・３１のような一般的な傾向がある。」（５６７頁１３〜２２行）
　
Ｖ−Ｄ．甲第４号証（特開平２−２８０３１０号公報）には、以下の事項が記載されている。　
（Ｄ−１）「陰極アークプラズマ蒸着法は・・・・・・真空での薄膜形成法の一種であり、蒸発粒子のイオン化率が高く、高密度・高付着力の膜を比較的低温の基材の上に形成できるという特徴を有する。この蒸着法は、Ｎ２、・・・・・・等の反応性ガス雰囲気中で・・・・・・ＣｒＮ等の化合物からなる耐摩耗性膜・・・・・・を形成する為に主に利用されており」（２頁右下欄３〜１２行）
（Ｄ−２）「陰極アークプラズマ蒸着法を適用し、反応ガス及び不活性ガスのいずれも導入しない状態で基材１表面上に金属皮膜２を形成すれば、蒸発物質１５から金属原子やイオンと共に放出されたマクロパーティクル２１が金属皮膜２に適度な凹凸を形成し、」（３頁右上欄３〜８行）
（Ｄ−３）「マクロパーティクルは膜の不均一性や表面粗度の悪化等の原因となり、好ましいものではないとされており、陰極アークプラズマ蒸着法による膜形成の欠点とされていた。そこで陰極アークプラズマ蒸着法で上記各種膜を形成するに際しては・・・・・・反応性ガスを真空容器１０内に導入して行うのが一般的であり、これによってマクロパーティクルの発生を大幅に減少し、実用上支障のない程度の均一な膜の製造が実施されてきた。」（３頁右上欄１５行〜同頁左下欄４行）
　
Ｖ−Ｅ．甲第５号証（特開平５−７８８２１号公報）
　この甲第５号証に関しては、上記記載のとおり審判請求人は、平成２０年６月１０日付け口頭審理陳述要領書において、甲第５号証に関する主張を撤回しているから、記載事項の摘示を行わない。
　
Ｖ−Ｆ．甲第６号証（特開平２−３０１６７９号公報）には、以下の事項が記載されている。
（Ｆ−１）「シリンダボア内に収納されたピストンと高ケイ素アルミニウム合金製の回転斜板との間に介装された半球状のシューを有する斜板式圧縮機において、高炭素鋼からなるシューの少なくとも斜板との摺接面にアーク式イオンプレーティング法によって被着されたセラミック膜を具備してなる斜板式圧縮機」（請求項１）
（Ｆ−２）「本発明は・・・・・・シューの回転斜板との摺接面の油膜保持性を改善するとともにその摩耗抵抗を低減し耐摩耗性や耐焼付き性を改善した斜板式圧縮機を提供する」（２頁右上欄１５〜１８行）
（Ｆ−３）「成膜後に、シュー１１の表面を所定量・・・・・・だけバフ研磨してセラミック膜２０の表面に形成される尖鋭な凸部（ドロップレット）を平坦化した。
　被着された後で表面が摩滅しない程度の量だけバフ研磨されたセラミック膜２０は深さが平均約１〜２μｍで直径が平均数μｍの孔部が１平方ｃｍ当たり数千個以上形成されている。」（３頁左下欄８〜１６行）
　
Ｖ−Ｇ．甲第７号証（セラミックス、第２１巻（１９８６）第７号）には、「粒子分散によるセラミックスの強じん化」と題し、以下の事項が記載されている。
（Ｇ−１）「４．１　クラックの湾曲（ｃｒａｃｋ　ｂｏｗｉｎｇ）
　この機構は　Ｌａｎｇｅ　及び　Ｅｖａｎｓ　により提案されたじん性向上機構で，ぜい性マトリックス中に存在する分散粒子によって主クラックの進展が一時的に阻止され，クラック前縁が粒子間で半だ円形に曲げられるときに，”線張力効果”が生じて破壊エネルギーが増加し，強度も上昇するというものである（図１）。」（６０６頁右欄９〜１６行）
（Ｇ−２）「なお“弱い”　粒子の極端な場合がマトリックスとの結合性の悪い粒子や気孔ということになるが，このような粒子がマトリックスに存在する場合にも主クラックが粒子間で湾曲し，じん性増加にその程度は小さいが寄与することが明らかにされている。」（６０７頁左欄３３〜３９行）
　
Ｖ−Ｈ．甲第８号証（特開昭６０−２６２９５１号公報）には、以下の事項が記載されている。
（Ｈ−１）「中でもエンジン用ピストンリングの滑り面のような摩耗を受ける機械の部分の上に、好ましくはプラズマ溶射法のような溶射法により全面的に、又は区切った形で被覆されている耐摩耗性被覆層」（特許請求の範囲第１項）
　
Ｖ−Ｉ．参考資料１（特開平４−３６６０１９号公報）には、以下の事項が記載されている。
（Ｉ−１）「【請求項１】基板（２）と、その基板（２）に形成されて相手部材（ｘ）との摺動面（３ａ）を持つ合金製表面層（３）とを備えた摺動部材において、前記表面層（３）は、前記基板（２）より相互に近接して延出する複数の柱状晶（４）を有し、相隣る両柱状晶（４）間に、摺動面（３ａ）に開口してオイル溜となる空洞部（７）が形成されていることを特徴とする摺動部材。」（特許請求の範囲）　
（Ｉ−２）「【産業上の利用分野】　
　　本発明は摺動部材、特に、基板と、その基板に形成されて相手部材との摺動面を持つ合金製表面層とを備えた摺動部材に関する。」（段落【０００１】）　
（Ｉ−３）「【発明が解決しようとする課題】　
　　この種すべり軸受は、エンジンにおけるクランクシャフトのジャーナル部、コンロッドの大端部等に適用されているが、エンジンが高速、且つ高出力化の傾向にある現在の状況下では、従来のすべり軸受の表面層は、潤滑能が低いため耐焼付き性が乏しく、また摩耗し易い、という問題がある。　
　　本発明は前記に鑑み、表面層の構造を特定することにより、表面層の耐焼付き性を向上させると共にその摩耗を抑制することができるようにした前記摺動部材を提供することを目的とする。」（段落【０００３】及び【０００４】）　
（Ｉ−４）「表面層３は、電気メッキ法により形成されるもので、・・・・・・、それぞれ設定される。」（段落【００１１】）　
（Ｉ−５）「図４〜図６に明示するように、表面層３は、ライニング層２２より相互に近接して延出するＰｂ合金の柱状晶４の集合体であり、各柱状晶４は柱状本体５と、その柱状本体５の先端に連なる四角錐体状先端部６とよりなり、相隣る両柱状晶４間には、摺動面３ａに開口してオイル溜となる空洞部７が形成されている。摺動面３ａにおいて、空洞部７の開口が占める面積率は０．２％以上、１０％以下が適当である。」（段落【００１３】）　
（Ｉ−６）「表２および図８から明らかなように、本発明においては、摺動面３ａにオイル溜となる多数の空洞部７が開口しているので、表面層３が優れた潤滑能を発揮し、これにより表面層３の耐焼付き性を向上させることができる。また前記潤滑能および（ｈ００）面における配向指数Ｏｅが１００％であることによる表面層３の硬度向上効果によって、表面層３の摩耗を大幅に抑制することができる。」（段落【００２７】）　
（Ｉ−７）「たゞし、摺動面３ａにおいて、空洞部７の開口が占める面積率が、０．２％未満では表面層３の潤滑能が低く、一方、１０％を超えると表面層３の強度が低下する。」（段落【００２８】）　
（Ｉ−８）「前記実施例では、表面層を電気メッキ法により形成したが、その他の表面層形成方法としては、ＰＶＤ、イオンプレーティング、ＣＶＤ、スパッタリング等の気相を介する形成方法を挙げることができる。また摺動面における角錐体状先端部等の形成に当っては、化学エッチング、電気エッチング、気相エッチング（ボンバード処理）等のエッチング法、転写、切削等の機械加工等を適用することが可能である。」（段落【００３６】）
　
Ｖ−Ｊ．参考資料２（特公昭５７−３８２０号公報）には、以下の事項が記載されている。
（Ｊ−１）「１　ピストンリングの摺動面に溶射により形成される合金耐摩耗層がその分析値で重量比にてＭｏ．３０〜７０％、Ｃｒ．２０〜５０％、Ｃ．０．３〜４．０％、その他酸素より構成され、空孔率２〜８％、高度５５（スーパーフイシヤル３０−Ｎ）以上を有する如くなしたことを特徴とするピストンリング。」（特許請求の範囲第１項）　
（Ｊ−２）「本発明は高度の耐摩耗性が要求される内燃機関用ピストンリングに関するものである。」（１頁左欄２４及び２５行）　
（Ｊ−３）「ところで摩耗特性を類別する時、アブレージヨン（高硬度異物による研削摩耗）とスカツフという現象はエンジンの性能に大きな影響を与えるものであり、従つて耐アブレージヨン性と耐スカツフ性との両者が相俟つてはじめて優れた耐摩耗性を発揮するものとなる。　
　従来、耐摩耗対策の一つとして、摺動面に溶射によりモリブデンを施したピストンリング（以下単にモリブデン溶射リングと称す）は公知である。　
　しかしながらモリブデン溶射リングは耐アブレージヨン性に難点がなり、またモリブデンは高価な為一般的ではないのが現状である。　
　かかる見地からして、上記のモリブデン溶射リングは耐アブレージヨン性と耐スカツフ性を同時に兼ね備えているとは到底言い難く、しかして耐摩耗性は未だ不充分である。
　本発明は、上記に鑑み成されたもので、耐摩耗性耐スカツフ性と耐アブレージヨン性とを同時に兼ね備えた内燃機関用ピストンリングを提供するものである。」（１頁左欄３０行〜同頁右欄１２行）　
（Ｊ−４）「空孔率は２％以下では保油性が低下しそのため耐スカツフ性能を阻害し、一方８％以上となると粒子間結合及び母材との結合力が阻害され溶射層の剥離を生ずる。」（２頁左欄１７〜２０行）
　
Ｖ−Ｋ．参考資料３（実公昭５７−６７５３号公報）には、以下の事項が記載されている。
（Ｋ−１）「（１）３本又は３本以上のリングより構成されるピストン装置に於いて、少なくとも、第一圧縮リングを鋼製リングとし、第二圧縮リングを焼結金属製リングとしたことを特徴とするピストン装置。　
（２）前記焼結製第２圧縮リングに於いて摺動面の多孔率を５．０〜２０．０％にしたことを特徴とする実用新案登録請求の範囲第（１）項記載のピストン装置。　
（３）前記鋼製薄巾第１圧縮リングに於いて、摺動面にクロムメツキを施したことを特徴とする実用新案登録請求の範囲第（１）項記載のピストン装置。
（４）前記焼結金属製第二圧縮リングに於いて、摺動面の多孔率を０．５％〜１５％にしたことを特徴とする実用新案登録請求の範囲第（３）項記載のピストン装置」（実用新案登録請求の範囲第１〜４項）　
（Ｋ−２）「本考案は、内燃機関のピストン装置に関するものである。」（１頁右欄４及び５行）　
（Ｋ−３）「最近に於いて、圧縮リングを鋼製にて構成するようになつてきた。
　鋼製リングは、強度が高くリングの薄巾化が可能になり摩耗損失を少なくする利点がある。従つてピストン装置全体の軽量化が計れるものであるが、圧縮リング全てを鋼製にて構成したピストン装置はなじみ性が悪く又耐摩耗性に劣る。
　従つて、初期なじみにくさの点から初期に於けるスカツフイングの影響により、潤滑油の消費量が過大となる傾向がある。　
　本考案は、上記ピストン装置全体の改良を計つたもので、初期におけるなじみ性及び、耐摩耗を向上し且潤滑油の消費量を減少するピストン装置を提供するものである。」（１頁右欄６〜１９行）　
（Ｋ−４）「鋼製第一圧縮リングと焼結金属製第二圧縮リングによる本考案ピストン装置に於いては、焼結金属製第二圧縮リングの多孔度が５％以下では、上記の如く鋼製第一圧縮リングの初期なじみ性及び耐摩耗性の向上が計れず、又、多孔度が２０％以上では過度の含油によりピストン装置全体の潤滑油消費量の増大をきたし、潤滑油消費量減少の効果が得られない。」（２頁左欄１３〜２０行）　
（Ｋ−５）「この場合、多孔度が０．５％以下では硬質クロムメッキ鋼製第一圧縮リングの初期におけるなじみ性の向上及び更なる耐摩耗性の向上が計れず又、多孔度が１５％以上では過度の含油によりピストン装置全体の潤滑油消費量の更なる減少効果が得られない。」（２頁右欄１６〜２１行）　　
　
Ｖ−Ｌ．参考資料４（平成２０年６月３０日付け上申書に添付されたもの）
（Ｌ−１）「ＰＶＤ被膜であれセラミックス溶射被膜であれ靭性を有さないセラミックス材において、その中に存在する空孔は、セラミックス材料中に発生した亀裂が進展に際し空孔に達して、進展が一旦停止する。新たなるスタート点から亀裂の進展が始まる迄にそのエネルギーは一時的に低下した事となるので、見かけ上、セラミックス被膜材料の靭性が向上し、耐剥離性が向上する事となる。」（「空孔の作用」の欄）
　
ＶＩ．当審の判断
ＶＩ−１．本件第１発明　
　甲第１号証の前記（Ａ−１）には、「反応性イオンプレーティング法により、ピストンリングの少なくとも外周摺動面に厚さ１０〜５０μｍのＣｒ２Ｎ型の窒化クロムでなる第１被覆相と更にＣｒＮ型の窒化クロムでなる第２被覆相からなる複合窒化層が形成されているピストンリング」に関する記載があり、かつ、そのピストンリングは、前記（Ａ−２）によれば、少なくとも、内燃機関におけるピストンリングの問題点を解決するために発明されたものであるから、内燃機関としての用途を含むものであるということができる。　
　そうすると、甲第１号証には、「ピストンリングの少なくとも外周摺動面に、反応性イオンプレーティング法による、Ｃｒ２Ｎ型の窒化クロムでなる第１被覆相と更にＣｒＮ型の窒化クロムでなる第２被覆相からなる厚さが１０〜５０μｍの複合窒化層を形成してなる内燃機関用ピストンリング」に関する発明（以下、「甲第１号証発明」という。）が記載されているということができる。　
　そこで、本件第１発明と甲第１号証発明とを対比する。　
　本件第１発明における窒化クロムよりなる皮膜については、その構成事項からみて明らかなようにその化学構造、相構造ないしは層構造につき特段限定されるものではないので、甲第１号証発明の「Ｃｒ２Ｎ型の窒化クロムでなる第１被覆相と更にＣｒＮ型の窒化クロムでなる第２被覆相からなる複合窒化層」は、本件第１発明の「窒化クロムよりなる皮膜」に含まれるものである。　
　また、甲第１号証発明の複合窒化層の厚みは本件第１発明の皮膜の厚みの１〜８０μｍと１０〜５０μｍの数値範囲で重複・一致している。
　よって、両者は、　
　「少なくとも外周摺動面に、イオンプレーティングによる窒化クロムよりなり厚さが１０〜５０μｍの皮膜を形成してなる内燃機関用ピストンリング」である点で一致し、以下の点で相違する。
　【相違点１】当該イオンプレーティングにつき、本件第１発明では、「陰極アークプラズマ式」であるとの構成事項を具備するのに対して、甲第１号証発明では「反応性イオンプレーティング法」を用いているものの、当該構成事項を具備しない点　
　【相違点２】当該皮膜につき、本件第１発明では、「イオンプレーティングによる皮膜の空孔率が１．５〜２０％である」との構成事項を具備するのに対して、甲第１号証発明では空孔率について具体的に示されず当該構成事項を具備しない点　
　
　以下、上記相違点につき検討する。
【相違点１について】　
　甲第１号証発明のイオンプレーティング法に関しては、前記（Ａ−４）によれば、蒸発物質の蒸発エネルギー源としてＨＣＤ型電子銃を用いた例が示されるものの、イオンプレーティング法につき説明する前記（Ａ−３）によれば、その蒸発エネルギー源がＨＣＤ型電子銃に限定されるものではなく、したがって、当該イオンプレーティング法の蒸発エネルギー源としては公知ないしは周知の方法を用いてもよいものである。
　そして、甲第４号証の前記（Ｄ−１）には、高密度のＣｒＮ耐摩耗性膜を陰極アークプラズマ蒸着法、すなわち、陰極アークプラズマ式イオンプレーティング法により作成することが記載されているし、また、イオンプレーティング法の技術分野において、蒸発物質の蒸発エネルギー源として、陰極アークプラズマを用いることは本件出願前に周知の事項（必要ならば、山田保之著、「ＰＶＤによる金型の表面処理」、表面技術、Ｖｏｌ．４１，Ｎｏ６，１９９０、第６０９〜６１４頁における第６１０頁左欄第８行〜第６１１頁左欄第１６行）である。　
　そうすると、甲第１号証発明のイオンプレーティング法において、その蒸発物質の蒸発エネルギー源として、周知の当該陰極アークプラズマを用いて、陰極アークプラズマ式とすることは当業者が容易に想到できるものである。　
　
【相違点２について】
　まず、本件第１発明の「空孔率」のもつ技術的意義についてみておくと、本件特許明細書には、「しかし、近年、エンジンの高出力化や高性能化に伴い、ピストンリングに要求される条件はますます苛酷なものとなり、最近の高出力エンジン用ピストンリングには、従来の表面処理では対応できない場合が生じ始めており、更に優れた耐摩耗性を有するピストンリングのための表面処理技術の開発が望まれている。例えば、窒化チタンや窒化クロム皮膜は耐摩耗特性が優れているものの最近のエンジンでは、これらセラミックスコーティング皮膜でも摺動特性が充分満足されない状況が生じている。即ち、ピストンリングの外周皮膜表面にピッチング疲労が原因と考えられる欠け状の剥離が生じる問題がある。そこで、現状の表面処理よりも耐剥離性に優れたセラミックスコーティング皮膜を被覆したピストンリングが望まれている。」（段落【０００４】）と記載されている。この記載のとおり、「ピストンリングに設けた窒化クロム皮膜ではその外周皮膜表面にピッチング疲労が原因と考えられる欠け状の剥離が生じる」という問題があったところ、本件特許明細書の段落【０００７】の「空孔率」の数値に関する記載と、段落【００１６】、【００２５】、【００２８】及び【００３１】における実施例と比較例との比較試験結果の記載を併せみれば、本件第１発明は、ピストンリングにおいて、その緻密な窒化クロムよりなる皮膜につき、「空孔率が１．５〜２０％である」との構成事項を有することにより、本件第１発明の他の構成事項と相俟って、窒化クロムよりなる皮膜が耐摩耗性が優れるだけでなく、「空孔率」が当該数値範囲よりも低いもの、すなわち、全く空孔を有しない緻密な皮膜に比べ、欠け状剥離の抑制という物理的特性についても優れるというピストンリングを提供したものであって、これにより、はじめて上記の問題を解決することができたものである。　
　このように、緻密な皮膜に空孔を導入したものである本件第１発明の「空孔率が１．５〜２０％である」陰極アークプラズマ式イオンプレーティングによる窒化クロムよりなる皮膜は、少なくとも、その空孔率が１．５％未満のものに比べて皮膜の欠け状剥離の抑制に、さらに、その空孔率が２０％超えるものに比べて皮膜の耐摩耗性に優れるというものである。　
　これに対して、甲第１号証発明では、前記（Ａ−３）で示されるように、イオンプレーティングにより緻密な複合窒化層、すなわち、緻密な窒化クロム皮膜を形成することを意図するものであるということはできても、その窒化クロム皮膜において空孔を形成することについては動機付けとなるものは何等見当たらないものである。　
　
　次に、前記相違点２に関する本件第１発明の構成事項につき、甲第２〜８号証の記載を順次検討する。
　
（１）甲第２号証について
　甲第２号証の前記（Ｂ−２）には、「気孔が多く粒子間結合力の小さ」な「セラミック被膜の耐摩耗性は不十分」であり、「溶射被膜中の気孔を少なくし粒子間結合力の大き」いセラミック溶射被膜は「充分な耐摩耗性が得られるが、溶射された部分が加熱冷却を繰り返されると、母材との熱膨張差と熱伝導差により比較的脆いセラミックス内部で割れが発生し、時には剥離」し、「耐熱性・耐摩耗性を必要とする従来の溶射被膜では、多孔質被膜を形成する溶射法の場合は耐摩耗性が劣り、低気孔率の緻密な被膜を形成する溶射の場合には、耐熱性、特に耐熱衝撃性が劣る」という問題があるとの記載がされ、この問題を解決すべく前記（Ｂ−１）には「高エネルギー溶射法により金属の母材表面上に気孔率が１〜５％の緻密な溶射被膜を有する耐熱・耐摩耗性溶射被膜において、前記母材と前記緻密な被膜との間に体積密度が９０％以下である多孔質溶射被膜を有する耐熱・耐摩耗性溶射被膜」と記載されている。この記載中の「体積密度が９０％以下」とは「気孔率（空孔率）が１０％以上」とみることができ、また、「多孔質溶射被膜」として前記（Ｂ−６）に窒化膜が挙げられている。以上の記載から、甲第２号証には「高エネルギー溶射法により金属の母材表面上に緻密な溶射被膜を有する耐熱・耐摩耗性溶射被膜において、前記母材と前記緻密な被膜との間に空孔率が１０％以上である窒化物の多孔質溶射被膜を有する耐熱・耐摩耗性溶射被膜」が記載されていると云える。
　この「耐熱・耐摩耗性溶射被膜」の「耐熱性」は前記（Ｂ−２）によれば、特に「耐熱衝撃性」であり、これは、前記（Ｂ−２）、（Ｂ−３）及び（Ｂ−４）によれば、母材と緻密な溶射被膜との熱膨張差によるセラミックたる緻密な溶射被膜内部の割れや剥離防止という物理的特性を意味するものとみることができる。そして、緻密な溶射被膜と母材との間の「多孔質溶射被膜」がこの熱膨張差に基づく熱応力を吸収して優れた耐熱衝撃性を示している。また、「耐剥離性」については「緻密な溶射被膜」が空孔が少なく硬度の大きな被膜を形成しているため優れた耐摩耗性を示しているとみることができる。
　そうすると、甲第２号証の上記した記載事項は、耐摩耗性と耐熱衝撃性（熱膨張差によるセラミックたる緻密な溶射被膜内部の割れや剥離防止）を両立させるために、耐摩耗性を有する「緻密な溶射被膜」と、緻密な溶射被膜と母材との間の耐熱衝撃性を有する「多孔質溶射被膜」とを有することを前提としたものであることは明らかであり、溶射法とイオンプレーティング法の被膜形成手段の違いを検討するまでもなく（なお、この違いについては後述する）、耐摩耗性を有する「緻密な被膜」に積極的に空孔を導入して被膜の剥離を防止するという本件第１発明の技術思想は何等記載されていないと云わざるを得ない。
　そして、以上のとおりであるから、審判請求人が、審判請求書（１４頁１７〜１９行）において、「前記（Ｂ−３）によれば、『前記セラミックス皮膜は脆く、欠けや剥離を生じてしまう』という問題を解決するための手段として『体積密度が９０％以下（つまり空孔率が１０％以上）である多孔質溶射被膜』が有効である」との主張は、多孔質溶射被膜が緻密な溶射被膜と母材との間に設けられていることから直ちに認められるものではない。
　
（１−１）ところで、この「多孔質溶射被膜」について、審判請求人は口頭陳述要領書において、「中間層（甲第２号証の『多孔質溶射被膜層』）がどのような目的・効果で用いられているかは別として当業者であれば、空孔が導入された溶射被膜は耐剥離を有していることは容易に理解でき、『空孔＝耐剥離性向上』が甲第２号証に開示されている」（６頁５行〜７頁４行）と主張しているので、この主張について検討する。
　甲第２号証を再びみてみると、優れた耐熱性、特に耐熱衝撃性は、これが、剥離の防止の物理的特性向上を目途としている以上、母材と表面溶射層の中間にある多孔質溶射被膜によってもたらされるものであるから、審判請求人の主張するように一見「空孔＝耐剥離性向上」とみることができなくもない。
　しかし、甲第２号証における空孔の導入による耐剥離性の向上は、表面溶射膜と母材との熱膨張差に基づく熱応力をその間に（中間に）多孔質溶射被膜を設けて吸収することにより達成するものである。すなわち、表面溶射膜、多孔性溶射被膜、及び母材の３つが存在して熱応力に対する耐剥離性が達成できるというものであり、前記したように本件第１発明のピッチング疲労が原因と考えられる欠け状剥離を防止するためのものでないことは明らかであるから、甲第２号証に接した当業者は、被膜への空孔の導入が熱膨張差に起因する剥離に対して有効な解決手段であるとの教示を得ても、ピッチング疲労が原因と考えられる欠け状剥離に対しても有効な解決手段であるという教示は何等得られないものである。
　そうすると、審判請求人の上記主張は、熱膨張差に起因する剥離に対してのみ当てはまるものであって、ピッチング疲労に起因する欠け状剥離に当てはめることはできず、採用することはできない。
（１−２）そして、イオンプレーティング法と溶射法との被膜形成手段の違いに関し、この違いがもたらす多孔質被膜の上述したような物理的特性、あるいは、同一の空孔率であっても被膜の物理的性質が異なることについてみてみると、
　この点に関し、審判請求人は平成２０年６月３０日付け上申書において、参考資料４を用いた説明を行い「本件特許が採用している『陰極式アークプラズマ式イオンプレーティング法』と、請求人が提出した甲第２号証に開示されている『溶射法』との間には、大きな相違点はなく、いずれの方法によって形成された被膜であっても、その中に空孔が形成されうることは明らかであり、また、被膜中に形成された空孔自体についても、何らの相違点はないと考える」（６頁７〜１２行）との主張をしているので、この主張についても検討する。
　審判請求人が前記上申書で認めるように「陰極式アークプラズマ式イオンプレーティング法」と「溶射法」とは粒状の被膜材料を被膜形成対象物に飛ばし、これを堆積させて被膜を形成する点においては同一であるが、粒子の発生方法及び粒子の大きさは相違している。
　すなわち、「陰極式アークプラズマ式イオンプレーティング法」では、被膜の原料となる金属イオンは、原子クラスタの状態でターゲットから蒸着対象物までプロセスガスと一部反応しながら飛行し、蒸着対象物表面で順次結晶化し、当該結晶が成長することにより被膜を形成するものであり、反応条件によってごく微細な空孔が存在することになる。
　この微細な空孔について、審判被請求人が平成２０年７月１日に提出した乙第４号証たる組織写真を見ると、その大きさは１０μｍよりも小さく数μｍ程度と看取ることができる。
　一方、「溶射法」の一つである「プラズマ溶射法」はプラズマ化されたガス中にセラミック粒子を添加することにより、このセラミック粒子は溶融もしくは半溶融状態となり、溶射対象物まで飛来し、その後溶射対象物に衝突して固化するものである。
　溶融もしくは半溶融状態のセラミック粒子は、溶射対象物に衝突した衝撃で扁平状になり、扁平状の粒子同士の間には空孔が形成されている。
　審判被請求人が平成２０年７月１日付けで提出した乙第２号証によれば、この扁平状の粒子同士の間の空孔の径は１０μｍ以上であり、また、扁平状の粒子自身の微視的なき裂や粒子内に径が１μｍ以下の小さな空孔を有している。
　そうすると、陰極式アークプラズマ式イオンプレーティング法により生じる空孔は径が数μｍ程度のものであるのに対し、プラズマ溶射法により生じる空孔は径が１０μｍ以上の大きなものと１μｍ以下の小さなものの２種が存在しており、両者の形成した被膜内に存在する空孔の大きさは異なっていると云える。してみると、この空孔の大きさの違いにより被膜の物理的特性に影響が生じると考えるのがごくごく自然である。
　すなわち、径が１０μｍ以上の大きなものと１μｍ以下の小さなものの２種の空孔が存在する溶射法による被膜と、径が数μｍ程度のものの空孔が存在する陰極式アークプラズマ式イオンプレーティング法による被膜とは、空孔径やその径の分布が異なっているから被膜自体の物理的特性が違うものであり、空孔が同じ物理的役割を果たすとは考えられず、同一の空孔率であれば被膜の物理的性質に何等相違がないとする審判請求人の主張は容認できないことは明らかである。
（１−３）さらに、審判請求人は「緻密なセラミック被膜を用いた場合に生じ得る「硬いが脆い」という課題は技術常識であり、当業者が甲第１号証を改良しようとすれば、甲第２号証を組み合わせるはずであり、耐摩耗性と耐剥離性がトレードオフの関係にあると考えられるから、空孔率を最適化することは容易である」と主張（審判請求書：１４頁１１〜２２行、口頭審理陳述要領書：８頁２〜１９行）しているのでさらに検討する。
　この主張はつまるところ、甲第１号証と甲第２号証の発明を組み合わせ空孔率を１．５〜２０％とすることは当業者ならば適宜なしえるというものである。しかし、前記したように、甲第２号証に記載されている事項は、耐摩耗性と耐熱衝撃性の両立のために緻密な表面層とこの表面層と母材との間に多孔質層を設けることを不可欠な構成事項としており、耐摩耗性を有する表面層に空孔を導入するということを動機付けるものは何等見当たらないから、空孔率を決定することもできず、甲第１号証と甲第２号証を組み合わせても上記相違点２に係る本件第１発明の構成事項を導き出すことはできない。
 　
　以上のことから、前記相違点２に係る本件第１発明の構成事項は甲第２号証には何等記載も示唆もされてもおらず、仮に甲第１号証に記載の発明と甲第２号証に記載されたものを組み合わせたとしても、この構成事項を導き出すことはできない。
　
（２）甲第３号証について
　甲第３号証には、前記（Ｃ−３）及び（Ｃ−４）によれば、いくつかの金属や酸化物をサブストレート（基材）に蒸着した厚膜では、サブストレートの温度条件によっては、密度の低い膜、柱状組織でバルク密度が９０％以上の緻密な膜、及び、塊状の組織の膜が形成され、また、蒸着膜は、蒸着時のガス圧が高くなると、均一な膜の得られる温度でも柱状化が起こり膜の表面が荒れてくること等が開示されている。
　しかし、甲第３号証に記載される膜の組織が変遷する等の現象は、いくつかの金属や酸化物をイオンプレーティングするときに生ずるということができるとしても、金属や酸化物とその物性が異なる窒化クロムについてまで、同様な現象が生ずるとまで推定することはできず、したがって、ここでの記載から、イオンプレーティングにより形成された窒化クロム膜のバルク密度が９０％以上である、すなわち、空孔率が１０％以下である場合が存在するとまで断定できないことはもとより、窒化クロム膜に何らかの空孔が存在することさえ断定することができないものである。 
 　そうすると、甲第３号証の記載からは、イオンプレーティング法により形成された甲第１号証発明の複合窒化層につき、その空孔率を調整又は制御しようとする動機付けが何ら教示されているとは云えないから、甲第３号証には前記相違点２に係る本件第１発明の構成事項が記載も示唆もされていない。 
　
（３）甲第４号証について
　甲第４号証の前記（Ｄ−１）によれば、「陰極アークプラズマ蒸着法、すなわち、陰極アーク式プラズマイオンプレーティング法が高密度・高付着力の膜を比較的低温の基材上の形成できるという特徴を有すること」が記載されているものの、陰極アーク式プラズマイオンプレーティング法によって形成した窒化クロム皮膜に空孔が存在することについては何等言及されておらず、さらには、空孔率を調整・制御する動機付けについても何も教示していない。
　なお、甲第４号証の前記（Ｄ−２）には、「反応ガス及び不活性ガスのいずれも導入しない状態で基材１表面に金属被膜２を形成すれば、マクロパーティクルが金属被膜２に適度な凹凸を形成」することが記載されており、マクロパーティクルの凹凸形成により金属被膜中に空孔が形成される可能性があると云える。しかし、甲第４号証の前記（Ｄ−３）には、「反応性ガスを真空容器１０内に導入して行うのが一般的であり、これによってマクロパーティクルの発生を大幅に減少し、実用上支障のない程度の均一な膜の製造が実施されてきた」と記載されており、緻密な被覆層たる複合窒化層を反応性ガスを導入して形成する甲第１号証発明にこの甲第４号証に記載のものを組み合わせるに当たって、反応性ガス及び不活性ガスのいずれも導入しないということはあり得ないから、マクロパーティクルによる凹凸形成はほとんど起こらず、皮膜中に空孔が形成されるとは云えない。
　よって、甲第４号証の記載に基づいて、上記相違点２に係る本件第１発明の構成事項を導き出すことはできない。
　
（４）甲第６号証について
　甲第６号証には、前記（Ｆ−１）、（Ｆ−２）及び（Ｆ−３）によれば、「シューの回転斜板との摺接面の油膜保持性を改善する」ために、「シューの少なくとも回転斜板との摺接面にアーク式イオンプレーティング法によって被着されたセラミック膜を具備してなる斜板式圧縮機」において、この「セラミック膜には深さが約１〜２μｍで直径が平均数μｍの孔部が１平方ｃｍ当たり数千個形成されている」との記載がなされているから、アーク式イオンプレーティング法によって被膜を形成する際、孔部が形成されていると云える。
　しかし、甲第６号証でいう「孔部」は「シューの回転斜板との摺接面の油膜保持性を改善する」ために形成されたものだから、孔部と空孔が同じものであるとしても、甲第６号証には、空孔が欠け状剥離を防止するという教示を与えるものも、アーク式イオンプレーティング法によってセラミック膜を形成するに当たって空孔率を１．５〜２０％とするための成膜条件について示唆するものも何等見当たらない。
　そうすると、甲第６号証の記載に基づいて上記相違点２に係る本件第１発明の構成事項を導き出すことはできない。
　
（５）甲第７号証について
　甲第７号証には、前記（Ｇ−１）及び（Ｇ−２）によれば、「気孔、すなわち、空孔がマトリックス中に存在する場合にも主クラックの進展が一時的に阻止され、空孔間で湾曲し、じん性増加にその程度は小さいが寄与する」ことが記載されているから、空孔が存在すると、靭性が向上することが開示されていると云える。
　本願明細書の段落【０００４】によれば、欠け状剥離はピッチング疲労が原因とされており、欠け状剥離はクラックの発生と進展が原因と推定されるところ、甲第７号証の記載を勘案すると、ピッチング疲労によるクラックも空孔により進展が一時的に阻止され、空孔間で湾曲し、程度は小さいが靭性が向上するから、欠け状剥離が抑制される可能性があると推定される。
　しかし、欠け状剥離の抑制のためには、この空孔がどの程度あれば最適なのか、すなわち、空孔率はどのくらいの範囲が最適なのかを教示する記載は甲第７号証には何等見当らず、欠け状剥離を防止する点から空孔率を調整することの示唆すらないと云えるから、甲第７号証の記載に基づいて上記相違点２に係る本件第１発明の構成事項を導き出すことはできない。
（５−１）なお、審判請求人は、参考資料４の中で「ＰＶＤ被膜であれセラミックス溶射被膜であれ靭性を有さないセラミックス材料において、その中に存在する空孔は、セラミックス材料中に発生した亀裂が進展に際し空孔に達して、進展が一旦停止する。新たなるスタート点から亀裂の進展が始まる迄にそのエネルギーは一時的に低下した事となるので、見かけ上、セラミックス被膜材料の靭性が向上し、耐剥離性が向上する事となる」との主張をしているが、被膜中に存在する空孔の大きさの異なる、陰極式アークプラズマ式イオンプレーティング法による被膜と溶射による被膜とでは、クラックを湾曲させ、亀裂の進展を停止させられるクラックの大きさ等に違いが生じるものとみることができ、これら２つの方法で形成した皮膜中の空孔の果たす役割は同一とは云えないと判断される。
　
（６）甲第８号証について
　甲第８号証の前記（Ｈ−１）によれば、「エンジンピストンリングの滑り面のような摩耗を受ける機械の部分の上にプラズマ溶射法による耐摩耗性被覆層を設ける」ことが記載されているが、この記載は、ピストンリングの耐摩耗被覆層を設ける手段として、プラズマ溶射法が用いられていることを開示するにとどまり、甲第８号証の記載に基づいて上記相違点２に係る本件第１発明の構成事項を導き出すことはできない。
（６−１）審判請求人は口頭審理陳述要領書において「ピストンリングに摺動面の皮膜の形成方法（装置、原理）が異なっていても、甲第１号証に記載の発明も甲第２号証に記載の発明も甲第８号証をみればピストンリング摺動面の皮膜の形成方法（装置、原理）として一般的に用いられているものであるから、これらを組み合わせることは困難ではない」という主張（８頁２１行〜９頁２行）しているので更に検討する。
　上記ＶＩ−１（１）で述べたように、仮に、甲第１号証と甲第２号証を組み合わせたとしても上記相違点２に係る本件第１発明の構成事項を導き出すことはできないから、この主張には無理があり、採用することはできない。
　
　したがって、本件第１発明は甲第１〜８号証に記載の発明に基づいて当業者が容易に発明できたものであるということはできない。
　
　ＶＩＩ−２．本件第２発明　
　本件第２発明は、本件第１発明に対して、更に、「前記皮膜の破断面が母材表面から皮膜の表面に向かって柱状の形態を有する」との構成事項をさらに付加するものである。　
　本件第１発明が甲第１〜８号証に記載の発明に基づいて当業者が容易に発明できたものであるということはできない理由は、前記ＶＩＩ−１．で記載したとおりである。　
　さらに、上記構成事項、すなわち、窒化クロムよりなる皮膜につき、「前記皮膜の破断面が母材表面から皮膜の表面に向かって柱状の形態を有する」ということは、甲第１〜８号証に記載の発明の何れにも示されないし、その示唆すらもない。確かに、甲第３号証の前記（Ｃ−３）には、「ガスの圧力が高くなってくると柱状化が起こる」ことが記載されているが、前記したようにこの柱状化は、いくつかの金属や酸化物をイオンプレーティングするときに生ずるということができるとしても、金属や酸化物とその物性が異なる窒化クロムについてまで、同様な現象が生ずるとまで推定することはできない。
　そして、本件特許明細書の記載（特に、段落【０００５】、【０００８】、【００１８】、及び、【００２１】の記載を参照）によれば、本件第２発明は、上記「前記皮膜の破断面が母材表面から皮膜の表面に向かって柱状の形態を有する」との構成事項を有することにより、その他の構成事項と相俟って、欠け状剥離が発生し難く同時に耐摩耗性及び密着性にも優れた皮膜を被覆したピストンリングを提供するという本件特許明細書に記載の顕著な作用・効果を奏したものである。そうすると、甲第１号証発明において、当該柱状の形態を有するとの構成事項を付け加えることは当業者が容易に想到できるものとは云えない。　
　したがって、本件第２発明は、甲第１〜８号証に記載の発明に基づいて当業者が容易に発明できたものであるということはできない。　
　
　ＶＩＩ−３．審判請求人のその他の主張について　
　審判請求人は、口頭審理陳述要領書において、「保油性などを考慮してピストンリングの外周面に形成される皮膜自体は、参考文献１〜３をみれば周知であることは明らかであり、空孔を導入する目的は別としてピストンリングの外周表面に形成される皮膜に空孔を導入する構成自体は技術常識である」という主張（７頁８〜１９行）をしているので以下に検討する。
　審判請求人が主張するように、確かに、参考文献１〜３にはピストンリングの外周面に形成される被膜に空孔を導入する構成は記載されているが、次のとおりこれらの主張には無理があり採用することはできない。
（１）参考文献１（特開平４−３６６０１９号公報）について
　参考文献１には、前記（Ｉ−１）、（Ｉ−４）、（Ｉ−５）及び（Ｉ−８）によれば、「ＰＶＤ法により基板に摺動面を有する合金製表面層を設けた摺動部材であって、その摺動面における空洞部の開口が占める面積率が０．２〜１０％である摺動部材」に関する発明が記載されている。しかし、この合金製表面層（本件第１発明の皮膜に対応）の摺動面に設けられる開口が占める面積率（本件第１発明の空孔率に対応）が０．２〜１０％であることについては、「摺動面３ａにおいて、空洞部７の開口が占める面積率が、０．２％未満では表面層３の潤滑能が低く、一方、１０％を超えると表面層３の強度が低下する」〔前記（Ｉ−７）〕等と記載されているのみで、参考文献１には、この合金製表面層の剥離を抑制する観点から空孔率を設定することにつき示唆するものは何もない。そうすると、参考文献１には上記相違点２に係る本件第１発明の構成事項を導き出すものは何等記載されていない。
（２）参考文献２（特公昭５７−３８２０号公報）について
　参考文献２には、前記（Ｊ−１）によれば、「ピストンリングの摺動面に溶射により形成される合金耐摩耗層につき、その空孔率を２〜８％とするピストンリング」に関する発明が記載され、そして、この合金耐摩耗層（本件第１発明の皮膜に対応）の空孔率２〜８％について、「空孔率は２％以下では保油性が低下しそのため耐スカツフ性能を阻害し、一方８％以上となると粒子間結合及び母材との結合力が阻害され溶射層の剥離を生ずる」〔前記（Ｊ−４）〕と記載され、ピストンリングの合金耐摩耗層（溶射層）における空孔率につき、その下限値が保油性の観点から設定され、他方、その上限値については合金製耐摩耗層の剥離を抑制する観点から設定されることが示されている。すなわち、空孔率の上限値の８％なる値は、溶射層内に空孔が多く存在するとそれだけ溶射層が剥離しやすくなるため、剥離を防止するために決定されたものとみることができるから、空孔率は低ければ低い方が、つまり０％に近い方が耐剥離性が向上するとの開示がなされていると解される。
　そうすると、参考文献２は、空孔はない方が耐剥離性が向上するということを示すものであって、さらに、被膜形成手段が陰極アークプラズマ式イオンプレーティング法でもないから、上記相違点２に係る本件第１発明の構成事項を導き出すものは何等記載されていない。
（３）参考文献３（実公昭５７−６７５３号公報）について
　参考文献３には、前記（Ｋ−１）によれば、「鋼製第一圧縮リング及び焼結金属製第二圧縮リングを含む３本以上のリングより構成されるピストン装置において、その焼結金属製第二圧縮リングの摺動面の多孔率を、５．０〜２０．０％又は０．５％〜１５％にしたピストン装置」に関する発明が記載され、そして、その焼結金属製第二圧縮リングの摺動面の多孔率について、「焼結金属製第二圧縮リングの多孔度が５％以下では、上記の如く鋼製第一圧縮リングの初期なじみ性及び耐摩耗性の向上が計れず、又、多孔度が２０％以上では過度の含油によりピストン装置全体の潤滑油消費量の増大をきたし、潤滑油消費量減少の効果が得られない」〔前記（Ｋ−４）〕等と記載されているだけであり、参考文献３には、その焼結金属製第二圧縮リングの摺動面の剥離を抑制する観点から空孔率を設定することにつき示唆するものは何もなく、さらに、被膜形成手段が陰極アークプラズマ式イオンプレーティング法でもないから、上記相違点２に係る本件第１発明の構成事項を導き出すものは何等記載されていない。
　
　ＶＩＩＩ．まとめ　
　以上のとおり、本件請求項１及び２に係る発明についての特許は、請求人の主張する理由によっては、無効とすることができない。　
　また、審判に関する費用については、特許法第１６９条第２項の規定で準用する民事訴訟法第６１条の規定により、請求人の負担すべきものとする。　
　よって、結論のとおり審決する。