(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板裏面を保持しつつ基板を回転する保持回転手段と、
前記保持回転手段により保持回転される基板表面にネガ型現像液を吐出するノズルが複数列設されたノズル集合体と、
前記ノズル集合体を囲繞すると共に、前記各ノズルより吐出されたネガ型現像液を基板表面へ通過させるための開口部を有するカバーと、
前記カバー内で前記各ノズルから吐出される現像液をカバー内雰囲気から遮蔽するように不活性ガスを噴出する手段と
前記基板表面に対して吐出されたネガ型現像液を回収して再び前記ノズルに供給する手段と
を具備し、
前記保持回転手段は、基板の裏面を保持する、昇降可能な保持部材を有し、
前記保持部材を昇降する昇降機構と、
前記保持部材により第１の高さに保持された基板に対して所定の処理をする処理手段と、
前記保持部材により第１の高さより低い第２の高さに保持された基板の表面に対して洗浄液を噴出する高圧洗浄手段と、
前記保持部材により第２の高さに保持された基板の裏面の非保持部に当接するように配置された支持ピンと
を具備することを特徴とする現像装置。
【請求項２】
基板裏面を保持しつつ基板を回転する保持回転手段と、
前記保持回転手段により保持回転される基板表面にネガ型現像液を吐出するノズルが複数列設されたノズル集合体と、
前記ノズル集合体を囲繞すると共に、前記各ノズルより吐出されたネガ型現像液を基板表面へ通過させるための開口部を有するカバーと、
前記カバー内で前記各ノズルから吐出される現像液をカバー内雰囲気から遮蔽するように不活性ガスを噴出する手段と、
前記基板表面に対して吐出されたネガ型現像液を回収して再び前記ノズルに供給する手段と
を具備し、
前記不活性ガスを噴出する手段は、
前記ノズル集合体の両側であって、前記複数のノズルが列設される方向にほぼ直行する方向に配列された不活性ガス噴出体を有し、
前記不活性ガス噴出体は、
前記複数のノズルが列設される方向に複数配列され、前記不活性ガスを噴出する噴出穴を有することを特徴とする現像装置。
【請求項３】
請求項２に記載の現像装置であって、
前記保持回転手段は、基板の裏面を保持する、昇降可能な保持部材を有し、
前記保持部材を昇降する昇降機構と、
前記保持部材により第１の高さに保持された基板に対して所定の処理をする処理手段と、
前記保持部材により第１の高さより低い第２の高さに保持された基板の表面に対して洗浄液を噴出する高圧洗浄手段と、
前記保持部材により第２の高さに保持された基板の裏面の非保持部に当接するように配置された支持ピンと
をさらに具備することを特徴とする現像装置。
【請求項４】
矩形基板裏面を保持しつつ基板を回転する保持回転手段と、
前記保持回転手段により保持回転される基板表面に現像液を吐出するノズルが複数列設され、前記複数のノズルより現像液が吐出される範囲の一方が回転される基板のほぼ角部に及び、他方が回転される基板の長辺のほぼ中央部に及ぶノズル集合体と、
前記ノズル集合体を囲繞すると共に、前記各ノズルより吐出された現像液を基板表面へ通過させるための開口部を有するカバーと、
前記カバー内で前記各ノズルから吐出される現像液をカバー内雰囲気から遮蔽するように不活性ガスを噴出する手段と
を具備することを特徴とする現像装置。
【請求項５】
請求項４に記載の現像装置であって、
前記保持回転手段は、基板の裏面を保持する、昇降可能な保持部材を有し、
前記保持部材を昇降する昇降機構と、
前記保持部材により第１の高さに保持された基板に対して所定の処理をする処理手段と、
前記保持部材により第１の高さより低い第２の高さに保持された基板の表面に対して洗浄液を噴出する高圧洗浄手段と、
前記保持部材により第２の高さに保持された基板の裏面の非保持部に当接するように配置された支持ピンと
をさらに具備することを特徴とする現像装置。
【請求項６】
請求項４または５に記載の現像装置であって、
前記不活性ガスを噴出する手段は、
前記ノズル集合体の両側であって、前記複数のノズルが列設される方向にほぼ直行する方向に配列された不活性ガス噴出体を有し、
前記不活性ガス噴出体は、
前記複数のノズルが列設される方向に複数配列され、前記不活性ガスを噴出する噴出穴を有することを特徴とする現像装置。
【請求項７】
請求項４から請求項６のうちいずれか１項に記載の現像装置であって、
前記基板表面に対して吐出された現像液を回収して再び前記ノズルに供給する手段をさらに具備することを特徴とする現像装置。
【請求項８】
請求項１から請求項７のうちいずれか１項に記載の現像装置であって、
前記ノズルが、基板表面にカーテン状に連続する流形を描くように現像液を吐出するスプレーノズルであることを特徴とする現像装置。
【請求項９】
請求項１から請求項７のうちいずれか１項に記載の現像装置であって、
前記不活性ガスが、Ｎ２ガスであることを特徴とする現像装置。
【請求項１０】
請求項１から請求項７のうちいずれか１項に記載の現像装置であって、
前記現像液の濃度が、０．１％以下であることを特徴とする現像装置。
【請求項１１】
矩形基板を回転させながらノズルから現像液を基板表面に吐出することで基板に形成された膜を現像する現像方法であって、
前記ノズルが複数列設されたノズル集合体から、一方が回転される基板のほぼ角部に及び、他方が回転される基板の長辺のほぼ中央部に及ぶ範囲に現像液を吐出させ、かつ、前記ノズル集合体を囲繞すると共に前記各ノズルより吐出された現像液を基板表面へ通過させるための開口部を有するカバー内に不活性ガスを噴出させて、前記各ノズルから吐出される現像液を不活性ガスによってカバー内雰囲気から遮蔽させながら現像液を供給することを特徴とする現像方法。
【請求項１２】
請求項１１に記載の現像方法であって、
前記基板表面に現像液を供給するときは、基板を保持しつつ基板を回転する保持回転手段で保持しながら現像液を供給して現像処理を行い、
前記基板表面に現像液を供給した後、前記基板の裏面における前記保持回転手段の非保持部を支持ピンにより支持しながら、前記基板の表面に高圧の洗浄液を噴出して洗浄処理を行うことを特徴とする現像方法。
【請求項１３】
請求項１２に記載の現像方法であって、
前記支持ピンで支持された前記基板を静止させた状態で、前記基板の短手方向を覆うように、かつ、前記基板の長手方向に走査するように、洗浄液を連続的に供給して洗浄処理を行うことを特徴とする現像方法。
【請求項１４】
請求項１３に記載の現像方法であって、
前記現像処理を行うときと前記洗浄処理を行うときとで前記矩形基板の側方に面する容器が異なることを特徴とする現像方法。
【請求項１５】
請求項１３または請求項１４に記載の現像方法であって、
前記高圧の洗浄液を噴出した後、前記回転される基板の表面に対しリンス液を供給することを特徴とする現像方法。
【請求項１６】
請求項１１から請求項１５のうちいずれか１項に記載の現像方法であって、
前記基板に対して現像液を供給する工程における現像液の供給はカーテン状に供給されることを特徴とする現像方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、例えば液晶カラーディスプレイにおけるカラーフィルタ用の基板を現像する現像装置及び洗浄装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
液晶カラーディスプレイにおけるカラーフィルタでは、ガラス基板上にＲ，Ｇ，Ｂの着色パターンを形成する必要がある。このような着色パターンは、例えばフォトリソグラフィ法によって形成される。その一例として、Ｒ，Ｇ，Ｂそれぞれについて感光性樹脂からなる着色樹脂が用いられ、塗布−露光−現像の処理工程をＲ，Ｇ，Ｂについて３回繰り返してパターンが形成される。
【０００３】
ところで、上記の現像処理工程においては、感光性樹脂のうち未露光部分を現像液で除去してパターンを形成する、ネガタイプの現像処理が行われている。このようなネガタイプの現像処理では、濃度が極薄い現像液、例えばポジタイプであれば２．３８％程度の濃度であるのに対して０．１％以下の濃度の現像液が使われている。そして、このように濃度が薄くなった場合、現像液が空気と反応して劣化する速度が非常に速くなる。従って、一度使われた現像液を回収して再利用するような場合、現像液の濃度調整のために原液が多量に必要になり、再利用するメリットがなくなる。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
そこで、従来から例えば現像処理を行うエリア全体を不活性ガス、例えばＮ２ガスでパージすることが行われているが、上記のようなカラーフィルタ用の現像装置では、ほほ基板１枚分に相当する領域にシャワー状に現像液を噴霧しておき、この領域にガラス基板を通過させるトラック方式が使われているため、パージすべき領域が広く、Ｎ２ガスの使用量が非常に多くなる、という課題がある。
【０００５】
本発明は上記のような課題を解決するためになされたもので、不活性ガスの使用量を抑えつつ現像液を有効に再利用することができる、ネガタイプの現像処理に好適な現像装置を提供することを目的としている。
【０００６】
本発明の別の目的は、高圧洗浄時に基板のたわみを防止することができる洗浄装置を提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
かかる課題を解決するため、請求項１記載に係る本発明の現像装置は、基板表面に現像液を吐出するノズルと、前記ノズルを囲繞すると共に、前記ノズルより吐出された現像液を基板表面へ通過させるための開口部を有するカバーと、前記カバー内で前記ノズルから吐出される現像液をカバー内雰囲気から遮蔽するように不活性ガスを噴出する手段とを具備するものである。
【０００８】
請求項２記載に係る本発明の現像装置は、基板裏面を保持しつつ基板を回転する保持回転手段と、前記保持回転手段により保持回転される基板表面に現像液を吐出するノズルが複数列設されたノズル集合体と、前記ノズル集合体を囲繞すると共に、前記各ノズルより吐出された現像液を基板表面へ通過させるための開口部を有するカバーと、前記カバー内で前記各ノズルから吐出される現像液をカバー内雰囲気から遮蔽するように不活性ガスを噴出する手段とを具備するものである。
【０００９】
請求項３記載に係る本発明の現像装置は、請求項１または２記載の現像装置であって、前記ノズルが、基板表面にカーテン状に連続する流形を描くように現像液を吐出するスプレーノズルであることを特徴とするものである。
【００１０】
請求項４記載に係る本発明の現像装置は、請求項１から請求項３のうちいずれか１項記載の現像装置であって、前記不活性ガスが、Ｎ２ガスであることを特徴とするものである。
【００１１】
請求項５記載に係る本発明の現像装置は、請求項１から請求項４のうちいずれか１項記載の現像装置であって、前記現像液の濃度が、０．１％以下であることを特徴とするものである。
【００１２】
請求項６記載に係る本発明の現像装置は、請求項１から請求項５のうちいずれか１項記載の現像装置であって、前記基板表面に対して吐出された現像液を回収して再び前記ノズルに供給する手段をさらに具備するものである。
【００１３】
請求項１記載に係る本発明では、ノズルをカバーで囲繞すると共に、ノズルから吐出される現像液をカバー内雰囲気から遮蔽するように不活性ガスを噴出しているので、カバーによる囲繞によって、さらには不活性ガスによるいわゆる”エアーカーテン”によって現像液が空気から遮断される。従って、現像液は空気と反応するようなことはなくなり、しかも広域に亙り不活性ガスでパージする必要がなくなるので、不活性ガスの使用量を抑えつつ現像液を有効に再利用することができる。また、現像液が周囲に飛散するようなこともなくなり、現像液によるミストの発生も抑えることができる。
【００１４】
請求項２記載に係る本発明では、ノズル集合体が複数列設されたノズルを有し、基板を回転させながら基板表面にこのノズル集合体より現像液を吐出するように構成されているので、現像液が吐出される領域が非常に狭くなる。従って、カバーにより囲繞すべき領域、さらには不活性ガスによるいわゆる”エアーカーテン”によって現像液を空気から遮断すべき領域が非常に狭くてよくなるので、不活性ガスの使用量をさらに減らすことができる。
【００１５】
請求項３記載に係る本発明では、基板表面にカーテン状に連続する流形を描くように現像液を吐出するスプレーノズルを用いているので、シャワータイプのノズルを用いた場合と比較して現像液が空気に触れる機会及びミストが発生する機会をさらに減らすことができる。また、現像液によるより強い衝撃力を基板に対して与えることができるので、現像速度を速めかつ現像不良を極力減らすことができる。
【００１６】
請求項４記載に係る本発明では、不活性ガスにＮ２ガスを用いたことにより、コスト削減を図ることができる。
【００１７】
請求項５記載に係る本発明では、現像液の濃度を０．１％以下とすることにより、ネガタイプの現像処理に好適なものとすることができる。
【００１８】
請求項６記載に係る本発明では、基板表面に対して吐出された現像液を回収して再びノズルに供給するように構成したので、現像液を有効に再利用することができる。
【００１９】
請求項７記載に係る本発明の洗浄装置は、基板の裏面を保持しつつ、基板の表面に高圧の洗浄液を噴出して洗浄を行う洗浄装置であって、前記基板の裏面の非保持部を支持ピンにより支持するようにしたことを特徴とする。
【００２０】
請求項８記載に係る本発明の洗浄装置は、基板の裏面を保持する、昇降可能な保持部材と、前記保持部材を昇降する昇降機構と、前記保持部材により第１の高さに保持された基板に対して所定の処理をする処理手段と、前記保持部材により第１の高さより低い第２の高さに保持された基板の表面に対して洗浄液を噴出する高圧洗浄手段と、前記保持部材により第２の高さに保持された基板の裏面の非保持部に当接するように配置された支持ピンとを具備する。
本発明による「洗浄」は、リンス等の用語も包含するものである。
【００２１】
本発明の洗浄装置では、高圧洗浄時に、基板の裏面の非保持部を支持ピンにより支持するように構成したので、高圧洗浄時に基板のたわみを防止することができる。
【００２２】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態を図面に基づき説明する。
図１は本発明の一実施形態に係る塗布・現像処理システムの斜視図である。
図１に示すように、この塗布・現像処理システム１の前方には、基板、例えばカラーフィルタ用のガラス基板Ｇを、塗布・現像処理システム１に対して搬出入するローダ・アンローダ部２が設けられている。このローダ・アンローダ部２には、ガラス基板Ｇを例えば２５枚ずつ収納したカセットＣを所定位置に整列させて載置させるカセット載置台３と、各カセットＣから処理すべきガラス基板Ｇを取り出し、また塗布・現像処理システム１において処理の終了したガラス基板Ｇを各カセットＣへ戻すローダ・アンローダ４が設けられている。図示のローダアンローダ４は、本体５の走行によってカセットＣの配列方向に移動し、本体５に搭載された板片状のピンセット６によって各カセットＣからガラス基板Ｇを取り出し、また各カセットＣへガラス基板Ｇを戻すようになっている。また、ピンセット６の両側には、ガラス基板Ｇの四隅を保持して位置合わせを行う基板位置合わせ部材７が設けられている。
【００２３】
塗布・現像処理システム１の中央部には、長手方向に配置された廊下状の搬送路１０、１１が第１の受け渡し部１２を介して一直線上に設けられており、この搬送路１０、１１の両側には、ガラス基板Ｇに対する各処理を行うための各種処理装置が配置されている。
【００２４】
図示の塗布・現像処理システム１にあっては、搬送路１０の一側方に、ガラス基板Ｇをブラシ洗浄するすると共に、高圧ジェット水により洗浄を施すための洗浄装置１６が並設されている。また、搬送路１０を挟んで反対側に、二基の現像装置１７が並設され、その隣りに二基の加熱装置１８が積み重ねて設けられている。
【００２５】
また、搬送路１１の一側方に、冷却用のクーリング装置２１が二個積み重ねて配置されている。また、これらクーリング装置２１の隣には加熱装置２２が二列に二個ずつ積み重ねて配置されている。また、搬送路１１を挟んで反対側に、ガラス基板Ｇに感光性樹脂からなる着色樹脂を塗布することによってガラス基板Ｇの表面に感光性樹脂からなる着色樹脂膜を形成する塗布装置２３が配置されている。図示はしないが、これら塗布装置２３の側部には、第２の受け渡し部２８を介し、ガラス基板Ｇ上に形成された感光性樹脂からなる着色樹脂膜に所定の微細パターンを露光するための露光装置等が設けられる。第２の受け渡し部２８は、ガラス基板Ｇを搬入および搬出するための搬出入ピンセット２９および受け渡し台３０を備えている。
【００２６】
以上の各処理装置１５〜１８および２０〜２３は、何れも搬送路１０、１１の両側において、ガラス基板Ｇの出入口を内側に向けて配設されている。第１の搬送装置２５がローダ・アンローダ部２、各処理装置１５〜１８および第１の受け渡し部１２との間でガラス基板Ｇを搬送するために搬送路１０上を移動し、第２の搬送装置２６が第１の受け渡し部１２、第２の受け渡し部２８および各処理装置２０〜２３との間でガラス基板Ｇを搬送するために搬送路２６上を移動するようになっている。各搬送装置２５、２６は、それぞれ上下一対のアーム２７、２７を有しており、各処理装置１５〜１８および２０〜２３にアクセスするときは、一方のアーム２７で各処理装置のチャンバから処理済みのガラス基板Ｇを搬出し、他方のアーム２７で処理前のガラス基板Ｇをチャンバ内に搬入するように構成されている。
【００２７】
図２は上記現像装置１７の正面図、図３はその平面図である。
図２及び図３に示すように、現像装置１７の中心部には、駆動モータ３１によって回転可能でかつ上下動可能に構成されたスピンチャック３２が設けられている。このスピンチャック３２の上面は、真空吸着等によってガラス基板Ｇを水平状態に吸着保持するように構成されている。
【００２８】
このスピンチャック３２の下方には下容器３３が配置されている。また、スピンチャック３２の外周を囲うように外カップ３４が配置され、下容器３３と外カップ３４の間には内カップ３５が配置されている。
【００２９】
外カップ３４と内カップ３５とは連結部材３６により連結され、これら外カップ３４及び内カップ３５は制御部３７の指令に基づき昇降シリンダ３８により昇降されるようになっている。外カップ３４及び内カップ３５の上部はそれぞれ上に行くに従って狭くなるように内側に傾斜して設けられており、外カップ３４の上端開口部の直径は内カップ３５のそれよりも大きく、かつ、これらの上端開口部の直径はガラス基板Ｇを水平状態にしたままでカップ内に下降させて収容できる大きさに形成されている。
【００３０】
下容器３３は、中心部から外に向かって下方向に傾斜する傾斜部３９と、その外周に配置された受け皿部４０とを備える。傾斜部３９には、ガラス基板Ｇの裏面を保持するための支持ピン４１が複数、例えば４本配置されている。支持ピン４１の先端の高さは、スピンチャック３２に保持されたガラス基板Ｇが最も低い位置に下降されたときに、支持ピン４１の先端がガラス基板Ｇの裏面に当接する位置とされている。また、受け皿部４０の底面には筒状の起立壁４２が設けられており、起立壁４２は外カップ３４と内カップ３５との間に介在される。また、内カップ３５の傾斜部は起立壁４２を超えて起立壁４２の外周に延在している。これにより、内カップ３５の傾斜部を流れる流体は受け皿部４０の起立壁４２で仕切られた外側室４３に流れ込むようになっている。
【００３１】
下容器３３の傾斜部３９の裏面側には、カップ内を排気するための排気口４４が設けられており、排気口４４には排気ポンプ（（図示を省略））が接続されている。受け皿部４０の起立壁４２で仕切られた内側室４５の下部には排液口４６が形成されており、外側室４３の下部にドレイン口４７が形成されている。そして、排液口４６に回収管４８を介して使用済み現像液を再生処理する再生処理機構４９が接続されている。再生処理機構４９は、気液分離する気液分離機構５０と使用済み現像液中の不純物を除去する不純物除去機構５１とで構成され、現像液収容タンク５２に接続されている。ドレイン口４７は図示しない回収タンクに接続されている。
【００３２】
カップの上部一側方にはガラス基板Ｇ表面に対し現像液を吐出するための現像液吐出機構５３が配置され、他側方にはガラス基板Ｇ表面に対して洗浄液を高圧で噴出するための高圧洗浄機構５４及びガラス基板Ｇ表面に対しリンス液を供給するためのリンス液供給機構５５が配置されている。また、カップの上部の手前及び背後には搬送用レール５６、５７が設けられている。現像液吐出機構５３及び高圧洗浄機構５４にはそれぞれ搬送用モータ５８、５９が取り付けられており、制御部３７による制御の基で搬送モータ５８、５９の駆動により現像液吐出機構５３及び高圧洗浄機構５４が搬送用レール５６、５７に沿ってカップ内上部に搬送されるようになっている。
【００３３】
現像液吐出機構５３には、制御部３７の制御の基、ポンプ６２を介して現像液収容タンク５２より現像液が供給される。現像液の濃度は、例えば０．０５％前後の濃度とされている。現像液吐出機構５３とポンプ６２との間には、現像液を加温する加温装置６３が介挿されている。加温装置６３は、例えば雰囲気が２３（°Ｃ）である場合には現像液を２５〜２７（°Ｃ）に加温する。これにより、現像速度を向上させることができる。また、現像液吐出機構５３には、制御部３７の制御の基、Ｎ２供給装置７６より供給されるようになっている。また、高圧洗浄機構５４には、制御部３７の制御の基、ポンプ６４を介して洗浄液タンク６５より洗浄液が供給される。同様に、リンス液供給機構５５にも、制御部３７の制御の基、ポンプ６６を介してリンス液タンク６７よりリンス液が供給される。
【００３４】
図４は上記現像液吐出機構５３の下側からみた斜視図であり、図５はその説明図であり、（ａ）は正面図、（ｂ）は平面的概念図である。
図２〜図５に示すように、上記現像液吐出機構５３の中央には、水平方向に配置された保持棒６８に複数、例えば５〜７個程度のスプレーノズル６９が列設されて構成されるノズル集合体７７が配置されている。また、ノズル集合体７７は、カバー７８により囲繞されている。カバー７８には、各スプレーノズル６９より吐出された現像液をガラス基板Ｇ表面へ通過させるための開口部７９が設けられている。また、このカバー７８内では、ノズル集合体７７の両側にＮ２噴出体８０が配置されている。Ｎ２噴出体８０は、ノズル集合体７７に平行する部材８１の先端部に、ノズル集合体７７と平行するように、Ｎ２供給装置７６より供給されたＮ２ガスを噴出する噴出穴８２を多数設けてなるものである。これにより、カバー７８内でノズル集合体７７から吐出される現像液が、Ｎ２ガスによってカバー内雰囲気から遮蔽されるようになっている。
【００３５】
各スプレーノズル６９は、図６に示すように、吐出口７０から水平に吐出された現像液が対向面に設けられた傾斜壁面７１に当り、下方向にカーテン状に連続する流形を描き、かつ、円錐状に広がるように現像液を吐出するものである。また、これらスプレーノズル６９より吐出された現像液が隣接するスプレーノズル６９間で相互に重なり、かつ、現像液が吐出される範囲が、一方がガラス基板Ｇのほぼ角部▲１▼に及び、他方がガラス基板Ｇの長辺のほぼ中央部▲２▼に及ぶように、スプレーノズル６９、６９間の間隔が設けられている。図５で▲３▼はＮ２噴出体８０より噴出されるＮ２ガスの噴出範囲を示している。
【００３６】
各スプレーノズル６９は、１．５〜２．５（ｋｇ／ｃｍ・ｃｍ）、より好ましくは２．０（ｋｇ／ｃｍ・ｃｍ）の吐出圧で現像液を吐出する。例えば、スプレーノズルの吐出圧が０．８（ｋｇ／ｃｍ・ｃｍ）の時には３０秒を経過してもガラス基板Ｇ全面の現像ができなかったものが、２．０（ｋｇ／ｃｍ・ｃｍ）とすることでこの時間内で全面現像が可能となった。また、各スプレーノズル６９とガラス基板Ｇとの間隔ｈは、５０〜１００（ｍｍ）、より好ましくは７５〜１００（ｍｍ）の範囲にされている。このような設定により現像速度を速めることができる。さらに、現像時には、現像液吐出機構５３はガラス基板Ｇのほぼ中央で静止し、スピンチャック３２により保持されたガラス基板Ｇは２００〜３００（ｒｐｍ）の速度で回転される。これにより、現像液によってガラス基板Ｇに対して十分な衝撃力を与えることができる。
【００３７】
図７は上記高圧洗浄機構５４の説明図であり、（ａ）は正面図、（ｂ）は平面的概念図である。
図７に示すように、高圧洗浄機構５４では、水平方向に配置された保持棒７２に複数、例えば５〜７個程度の高圧洗浄ノズル７３が取り付けられている。各高圧洗浄ノズル７３は、円錐状に広がり、かつ、高圧洗浄ノズル７３より吐出された洗浄液が隣接する高圧洗浄ノズル７３間で相互に重なりるように洗浄液を吐出するものである。
【００３８】
高圧スプレーノズル７３からは例えば５（ｋｇ／ｃｍ・ｃｍ）の吐出圧で洗浄液が吐出される。これにより、現像後のガラス基板Ｇ上の残さ等を十分に除去することができる。洗浄時に、スピンチャック３２によって保持されたガラス基板Ｇは静止状態にあり、高圧洗浄機構５４はガラス基板Ｇの長手方向に走査される。これにより、高圧洗浄機構５４を短い長さとすることができる。
【００３９】
図８は上記リンス液供給機構５５の説明図であり、（ａ）は正面図、（ｂ）は平面的概念図である。
図８に示すように、リンス液供給機構５５では、図示しない回動機構によりアーム７４が回動されることで、アーム７４の先端に取り付けられたリンス液供給ノズル７５がスピンチャック３２によって保持されたガラス基板Ｇのほぼセンタに位置するようになっている。リンス処理時に、スピンチャック３２によって保持されたガラス基板Ｇは１０００（ｒｐｍ）程度で回転され、リンス液供給ノズル７５はガラス基板Ｇのほぼセンタで静止状態にある。
【００４０】
次に動作について説明する。
図９は現像装置１７における処理フローを示している。
図１０に示すように、現像装置１７内に搬入され、スピンチャック３２によって保持されたガラス基板Ｇは支持ピン４１と当接しない位置まで下降され、外カップ３４及び内カップ３５は最も高い位置まで上昇され、現像液吐出機構５３はガラス基板Ｇのほぼ中央まで搬送されて静止する。そして、スピンチャック３２により保持されたガラス基板Ｇが回転され、現像液吐出機構５３よりガラス基板Ｇに対して現像液が吐出される（ステップ９０１）。その際、Ｎ２噴出体８０よりＮ２ガスが噴出され、吐出された現像液はこのＮ２ガスによって遮蔽される。なお、ガラス基板Ｇの外周より飛び散る現像液は内カップ３５の内側に当り排液口４６より回収され、再利用される。
【００４１】
次に、図１１に示すように、スピンチャック３２によって保持されたガラス基板Ｇは支持ピン４１と当接する位置まで下降され、外カップ３４及び内カップ３５は最も低い位置まで下降される。そして、スピンチャック３２により保持されたガラス基板Ｇが静止状態とされ、高圧洗浄機構５４がガラス基板Ｇの長手方向に走査され、かつ、高圧洗浄機構５４よりガラス基板Ｇに対して洗浄液が吐出される（ステップ９０２）。なお、ガラス基板Ｇの外周より飛び散る洗浄液は内カップ３５と外カップ３４との間を通ってドレイン口４７より廃棄される。また、高圧洗浄の際に、支持ピン４１によってガラス基板Ｇを裏面より支持しているので、ガラス基板Ｇが変形するようなことはない。
【００４２】
次に、図１２に示すように、スピンチャック３２によって保持されたガラス基板Ｇは支持ピン４１と当接しない位置まで上昇され、外カップ３４及び内カップ３５は最も低い位置まで下降して状態とされ、リンス液供給機構５５がガラス基板Ｇのほぼセンタに搬送される。そして、スピンチャック３２により保持されたガラス基板Ｇが回転され、リンス液供給機構５５よりガラス基板Ｇに対してリンス液が供給される（ステップ９０３）。なお、ガラス基板Ｇの外周より飛び散るリンス液は内カップ３５と外カップ３４との間を通ってドレイン口４７より廃棄される。
【００４３】
最後に、図１２の状態からリンス液供給機構５５がカップ外へ搬送され、スピンチャック３２によって保持されたガラス基板Ｇが高速回転されて振り切り乾燥が行われる（ステップ９０４）。
【００４４】
以上のように、この実施の形態によれば、ガラス基板Ｇを回転させながらガラス基板Ｇ表面にノズル集合体７７より現像液を吐出するように構成することで、現像液が実質的に吐出される範囲を非常に狭くする一方で、ノズル集合体７７をカバー７８で囲繞すると共に、ノズル集合体７７から吐出される現像液をカバー内雰囲気から遮蔽するようにＮ２噴出体８０よりＮ２ガスを噴出することで、カバー７８による囲繞によって、さらにはＮ２ガスによるいわゆる”エアーカーテン”によって現像液を空気から遮断している。従って、現像液は空気と反応するようなことはなくなり、しかもその遮蔽範囲は上記のように非常に狭くて良いので、Ｎ２ガスの使用量を抑えつつ現像液を有効に再利用することができる。また、現像液が周囲に飛散するようなこともなくなり、現像液によるミストの発生も抑えることができる。
【００４５】
なお、本発明は上述した実施の形態には限定されない。
例えば、上記実施の形態では、不活性ガスとしてＮ２ガスを用いていたが、Ａｒガス等の他の不活性ガスを用いることができる。
また、基板としてはカラーフィルタ用のガラス基板Ｇばかりでなく、他のＬＣＤ基板、その他現像が必要な基板についても本発明を当然適用できる。
【００４６】
【発明の効果】
以上説明したように、請求項１記載に係る本発明によれば、カバーによる囲繞によって、さらには不活性ガスによるいわゆる”エアーカーテン”によって現像液が空気から遮断されるので、現像液は空気と反応するようなことはなくなり、特に濃度の薄い現像液に対して有効であり、しかも広域に亙り不活性ガスでパージする必要がなくなるので、不活性ガスの使用量を抑えつつ現像液を有効に再利用することができる。また、現像液が周囲に飛散するようなこともなくなり、現像液によるミストの発生も抑えることができる。
【００４７】
請求項２記載に係る本発明によれば、現像液が吐出される領域が非常に狭くなるので、カバーにより囲繞すべき領域、さらには不活性ガスによるいわゆる”エアーカーテン”によって現像液を空気から遮断すべき領域が非常に狭くなり、不活性ガスの使用量をさらに減らすことができる。また、現像時に基板を回転することが可能なので、現像速度の向上と均一性を確保することもできる。
【００４８】
請求項３記載に係る本発明によれば、シャワータイプのノズルを用いた場合と比較して現像液が空気に触れる機会及びミストが発生する機会をさらに減らすことができる。また、現像液によるより強い衝撃力を基板に対して与えることができるので、現像速度を速めかつ現像不良を極力減らすことができる。
【００４９】
請求項４記載に係る本発明によれば、コスト削減を図ることができる。
【００５０】
請求項５記載に係る本発明によれば、ネガタイプの現像処理に好適なものとすることができる。
【００５１】
請求項６記載に係る本発明によれば、現像液を有効に再利用することができる。
【００５２】
請求項７、８記載に係る本発明によれば、高圧洗浄（リンス）時に基板のたわみを防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施形態に係る塗布・現像処理システムの斜視図である。
【図２】図１に示した現像装置の正面図である。
【図３】図１に示した現像装置の平面図である。
【図４】図２及び図３に示した現像液吐出機構の下側からみた斜視図である。
【図５】図２及び図３に示した現像液吐出機構の説明図である。
【図６】図５に示したスプレーノズルの断面図である。
【図７】図２及び図３に示した高圧洗浄機構の説明図である。
【図８】図２及び図３に示したリンス液供給機構の説明図である。
【図９】本実施形態での現像装置における処理フローである。
【図１０】図９に示したステップ９０１に対応する現像装置の状態図である。
【図１１】図９に示したステップ９０２に対応する現像装置の状態図である。
【図１２】図９に示したステップ９０３に対応する現像装置の状態図である。
【符号の説明】
１７    現像装置
３１    駆動モータ
３２    スピンチャック
５３    現像液吐出機構
６９    スプレーノズル
７６    Ｎ２供給装置
７７    ノズル集合体
７８    カバー
７９  開口部
８０  Ｎ２噴出体
Ｇ      ガラス基板Ｇ
【図１】
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【図２】
0003573445.tif 000003
【図３】
0003573445.tif 000004
【図４】
0003573445.tif 000005
【図５】
0003573445.tif 000006
【図６】
0003573445.tif 000007
【図７】
0003573445.tif 000008
【図８】
0003573445.tif 000009
【図９】
0003573445.tif 000010
【図１０】
0003573445.tif 000011
【図１１】
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【図１２】
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