【手続補正書】
【提出日】平成27年6月11日(2015.6.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光源からの光で光周期パターンを形成する光学素子と、前記光学素子からの光を検出する複数の画素を有する検出器と、前記検出器の検出結果に基づいて被検体を透過した光の波面の複数の位置における波面情報を算出する算出手段と、を備え、前記被検体の情報を取得する波面測定装置であって、
前記検出器は、前記光学素子からの光で形成された第１の光周期パターンと、前記光学素子からの光で形成され該第１の光周期パターンに対して位相がシフトした第２の光周期パターンと、を検出し、
前記算出手段は、
前記第１の光周期パターンの検出時に前記複数の画素のうちの第１の画素が検出した検出結果と、
前記第１の光周期パターンの検出時に前記複数の画素のうちの前記第１の画素から３画素以内に配置されている第２の画素が検出した検出結果と、
前記第２の光周期パターンの検出時に前記第１の画素が検出した検出結果と、
を用いて、前記複数の位置のうち１つの位置における前記波面情報を算出する
ことを特徴とする波面測定装置。
【請求項２】
前記算出手段は、
前記第１の光周期パターンの検出時に前記第１の画素が検出した検出結果と、
前記第１の光周期パターンの検出時に前記第２の画素が検出した検出結果と、
前記第２の光周期パターンの検出時に前記第１の画素が検出した検出結果と、
が、夫々異なる光周期パターン検出時に前記第１の画素又は前記第２の画素が検出した検出結果であるとみなして前記波面情報を算出するように構成されていることを特徴とする請求項１に記載の波面測定装置。
【請求項３】
前記算出手段は、
前記第１の光周期パターンの検出時に前記第１の画素が検出した検出結果と、
前記第１の光周期パターンの検出時に前記第２の画素が検出した検出結果と、
前記第２の光周期パターンの検出時に前記第１の画素が検出した検出結果と、
が、夫々異なる光周期パターン検出時に前記第１の画素が検出した検出結果であるとみなして前記波面情報を算出するように構成されていることを特徴とする請求項２に記載の波面測定装置。
【請求項４】
前記第１の光周期パターンの検出時に前記第１の画素が検出した検出結果と、
前記第１の光周期パターンの検出時に前記第２の画素が検出した検出結果と、
前記第２の光周期パターンの検出時に前記第１の画素が検出した検出結果と、
前記第２の光周期パターンの検出時に前記第２の画素が検出した検出結果と、を用いて前記波面情報を算出するように構成されていることを特徴とする請求項２に記載の波面測定装置。
【請求項５】
前記第１の画素と前記第２の画素とが隣接していることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の波面測定装置。
【請求項６】
前記算出手段は、
前記第１の光周期パターンの検出時に前記第１の画素が検出した検出結果と、
前記第１の光周期パターンの検出時に前記第２の画素が検出した検出結果と、
前記第２の光周期パターンの検出時に前記第１の画素が検出した検出結果と、
を有する強度分布を
フーリエ変換することで、
前記波面情報を算出するように構成されていることを特徴とする請求項１に記載の波面測定装置。
【請求項７】
前記算出手段は、
前記第１の光周期パターンの検出時に前記第１の画素が検出した検出結果と、
前記第１の光周期パターンの検出時に前記第２の画素が検出した検出結果と、
前記第２の光周期パターンの検出時に前記第１の画素が検出した検出結果と、
を用いて合成周期パターンを合成し、
前記合成周期パターン内で、
前記第１の光周期パターンの検出時に前記第１の画素が検出した検出結果と、
前記第２の光周期パターンの検出時に前記第１の画素が検出した検出結果と、
が３画素以内に配置されていることを特徴とする請求項６に記載の波面測定装置。
【請求項８】
光源からの光で２次元の光周期パターンを形成する光学素子と、前記光学素子からの光を検出する複数の画素を有する検出器と、前記検出器の検出結果に基づいて被検体を透過した光の波面の複数の位置における波面情報を算出する算出手段と、を備え、前記被検体の情報を取得する波面測定装置であって、
前記検出器は、前記光学素子からの光で形成された第１の光周期パターンと、前記光学素子からの光で形成され該第１の光周期パターンに対して位相がシフトした第２の光周期パターンと、前記光学素子からの光で形成され該第１の光周期パターンおよび該第２の光周期パターンに対して位相がシフトした第３の光周期パターンを検出し、
前記第１の光周期パターンに対する第２の光周期パターンの位相のシフト方向と、
前記第１の光周期パターンに対する第３の光周期パターンの位相のシフト方向と、が交わり、
前記算出手段は、
前記第１の光周期パターンの検出時に前記複数の画素のうちの第１の画素が検出した検出結果と、
前記第２の光周期パターンの検出時に前記第１の画素が検出した検出結果と、
前記第１の光周期パターンの検出時または前記第２の光周期パターンの検出時に前記複数の画素のうちの前記第１の画素から３画素以内に配置されている第２の画素が検出した検出結果と、
を用いて、前記複数の位置のうち１つの位置における前記波面情報を算出し、
前記第１の光周期パターンの検出時に前記複数の画素のうちの第１の画素が検出した検出結果と、
前記第３の光周期パターンの検出時に前記第１の画素が検出した検出結果と、
前記第１の光周期パターンの検出時または前記第３の光周期パターンの検出時に前記複数の画素のうちの前記第１の画素から３画素以内に配置されている第３の画素が検出した検出結果と、
を用いて、前記複数の位置のうち１つの位置における前記波面情報を算出することを特徴とする波面測定装置。
【請求項９】
前記波面情報とは、
前記被検体を透過した光の波面の、位相、微分位相、振幅、散乱の少なくともいずれか１つの情報であることを特徴とする請求項１乃至８のいずれか１項に記載の波面測定装置。
【請求項１０】
前記算出手段は、
算出した前記１つの位置における前記波面情報をマッピングすることで
前記被検体の、吸収像、散乱像、位相像、又は微分位相像を形成することを特徴とする請求項１乃至９のいずれか１項に記載の波面測定装置。
【請求項１１】
前記光周期パターンは干渉パターンまたはモアレであることを特徴とする請求項１乃至１０のいずれか１項に記載の波面測定装置。
【請求項１２】
前記光はＸ線であることを特徴とする請求項１乃至１１のいずれか１項に記載の波面測定装置。
【請求項１３】
前記波面測定装置はコンピュータ断層撮影を行うＸ線撮像装置であり、
前記算出手段は、
前記複数の位置のうち１つの位置における前記波面情報を算出することを複数回行うことで投影像の情報を算出し、
前記投影像の情報の算出を複数回行うことで複数の投影像の情報を取得し、
前記複数の投影像の情報を用いて被検体の断層像の情報を取得することを特徴とする請求項１２に記載の波面測定装置。
【請求項１４】
Ｘ線源からのＸ線で周期パターンを形成する光学素子と、前記光学素子からのＸ線を検出する検出器と、前記検出器の検出結果に基づいて被検体の断層像の情報を算出する算出手段と、を備えるＸ線コンピュータ断層撮影装置であって、
前記算出手段は、
前記被検体の複数の投影像の情報から前記断層像の情報を算出し、
前記複数の投影像の情報の夫々は、
第１の投影角度において検出した周期パターンと、
前記第１の投影角度において検出した周期パターンから算出した仮想的な周期パターンと、
前記第１の投影角度と異なる第２の投影角度において検出した周期パターンと、を用いることで算出されることを特徴とするＸ線コンピュータ断層撮影装置。
【請求項１５】
波面測定方法であって、
第１の光周期パターンと、該第１の光周期パターンに対して位相がシフトした第２の光周期パターンと、の強度情報を受け取る工程と、
前記第１の光周期パターンと前記第２の光周期パターンとの強度情報に基づいて被検体を透過した光の波面の複数の位置における波面情報を算出する工程と、を有し、
前記波面情報を算出する工程は、
前記第１の光周期パターンの検出時に前記複数の画素のうちの第１の画素が検出した検出結果と、
前記第１の光周期パターンの検出時に前記複数の画素のうちの前記第１の画素から３画素以内に配置されている第２の画素が検出した検出結果と、
前記第２の光周期パターンの検出時に前記第１の画素が検出した検出結果と、
を用いて、前記複数の位置のうち１つの位置における前記波面情報を算出する
ことを特徴とする波面測定方法。
【請求項１６】
波面測定装置に用いられるプログラムであって、
光学素子からの光を検出する複数の画素を有する検出器により、前記光学素子からの光で形成された第１の光周期パターンを検出する工程と、
前記検出器により、前記前記光学素子からの光で形成され該第１の光周期パターンに対して位相がシフトした第２の光周期パターンを検出する工程と、
前記検出器の検出結果に基づいて被検体を透過した光の波面の複数の位置における波面情報を算出する工程と、実行させ、
前記波面情報を算出する工程は、
前記第１の光周期パターンの検出時に前記複数の画素のうちの第１の画素が検出した検出結果と、
前記第１の光周期パターンの検出時に前記複数の画素のうちの前記第１の画素から３画素以内に配置されている第２の画素が検出した検出結果と、
前記第２の光周期パターンの検出時に前記第１の画素が検出した検出結果と、
を用いて、前記複数の位置のうち１つの位置における前記波面情報を算出する
ことを特徴とするプログラム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】波面測定装置、波面測定方法、及びプログラム並びにＸ線コンピュータ断層撮影装置