(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
層形成ブレード用成形型を準備し、この層形成ブレード用成形型内に、乾式シリカを含有するシリコーンゴム組成物を導入し成形して架橋硬化させ、ついでこの硬化体を脱型する層形成ブレードの製法であって、上記乾式シリカとして表面処理度が３０〜９５％の範囲となるよう表面処理されたものを用いることにより、上記硬化体の架橋密度を８．０×１０-5〜３．８×１０-4ｍｏｌ／ｃｍ3 の範囲に制御することを特徴とする層形成ブレードの製法。
【請求項２】
上記乾式シリカの表面処理が、シラノール基と反応する表面処理剤で、上記乾式シリカ表面のシラノール基をブロックすることにより行われる請求項１記載の層形成ブレードの製法。
【請求項３】
上記表面処理された乾式シリカの配合量が、上記シリコーンゴム１００重量部に対して、１０〜３０重量部の範囲に設定されている請求項１または２記載の層形成ブレードの製法。
【請求項４】
上記シリコーンゴムが、付加反応型液状シリコーンゴムである請求項１〜３のいずれか一項に記載の層形成ブレードの製法。
【請求項５】
乾式シリカを含有するシリコーンゴム組成物の成形硬化体からなる層形成ブレードであって、上記乾式シリカが表面処理度３０〜９５％の範囲となるよう表面処理され、かつ上記硬化体の架橋密度が８．０×１０-5〜３．８×１０-4ｍｏｌ／ｃｍ3 の範囲に設定されていることを特徴とする層形成ブレード。
【請求項６】
上記乾式シリカの表面処理が、シラノール基と反応する表面処理剤で、上記乾式シリカ表面のシラノール基をブロックすることにより行われる請求項５記載の層形成ブレード。
【請求項７】
上記表面処理された乾式シリカの配合量が、上記シリコーンゴム１００重量部に対して、１０〜３０重量部の範囲に設定されている請求項５または６記載の層形成ブレード。
【請求項８】
上記シリコーンゴムが、付加反応型液状シリコーンゴムである請求項５〜７のいずれか一項に記載の層形成ブレード。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、電子写真複写機、プリンター、ファクシミリ等に用いられる層形成ブレードの製法およびそれにより得られた層形成ブレードに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
一般に、電子写真複写機による複写はつぎのようにして行われる。すなわち、回転する感光ドラムに原稿像を静電潜像として形成し、これにトナーを付着させてトナー像を形成し、このトナー像を複写紙に転写することにより複写を行うものである。この場合、上記感光ドラム表面に対して静電潜像を形成させるためには、予め感光ドラム表面を帯電させ、この帯電部分に対して原稿像を光学系を介して投射し、光の当たった部分の帯電を打ち消すことにより静電潜像をつくるということが行われている。そして、感光ドラム上の静電潜像を現像し、可視像を形成する現像方法としては、その使用する現像剤の種類に応じて、従来より各種の方法が提案されている。その一例として、トナーのみを現像剤として用いる一成分現像方式が知られている。
【０００３】
上記一成分現像方式に用いられる現像装置としては、例えば、図３に示すような現像装置１が提案されている。図示の現像装置１は、一成分現像剤（トナー）２を担持する現像ロール３が、感光ドラム４と所定間隔で対設され、かつ感光ドラム４側に開口したトナーボックス５の内部に収容している。さらに、上記現像ロール３は、ポリウレタンフォーム、スポンジ等からなる発泡体を用いた弾性ロール６が当接され、この弾性ロール６のつれ回りにより、トナー２が供給されるようになっている。一方、上記トナーボックス５の開口縁部上端に、層形成ブレード７が接着されている支持ホルダー８の一端（層形成ブレード７の接着部と反対側）が固定され、かつ他端側の層形成ブレード７は、その先端部（支持ホルダー８との接着部から延びた先の部分）が現像ロール３の外周面に圧接された構成となっている。
【０００４】
このような構成の現像装置１においては、つぎのようにして感光ドラム４の外周面にトナー像が形成される。すなわち、まず現像ロール３と感光ドラム４とが図示のとおり回転するとともに、上記層形成ブレード７と現像ロール３の外周面の摩擦によりトナー２が摩擦帯電し、かつ上記現像ロール３の外周面に均一なトナー層が形成される。そして、上記トナー層のトナー２が、感光ドラム４の外周面に形成された静電潜像（上記トナー２とは逆の極性に帯電されている）の電気的吸引力によって飛翔し、静電潜像がトナー像として顕在化する。このようにして、感光ドラム４の外周面にトナー像が形成される。
【０００５】
このため、上記層形成ブレード７には、トナー２を摩擦帯電させるとともに、現像ロール３の外周面に均一なトナー層を形成させる機能が要求される。そこで、このような要求を満足するものとして、従来から、形成材料として、ステンレス等の金属製材料、ウレタンゴムやパーオキサイド架橋型のシリコーンゴムを用い、これらを適宜の成形型に導入して成形したものが用いられている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記ステンレス等の金属製材料やウレタンゴムからなる層形成ブレード７はトナー離型性に劣るため、ブレード上にトナー固着が発生し、画像に乱れを発生させやすく、加えてトナー帯電特性に劣るため、充分な画像濃度が得られないという問題がある。また、パーオキサイド架橋型のシリコーンゴムのみからなる層形成ブレード７は、成形型から脱型する際、縁部が欠けてしまったり、亀裂が生じるという強度的な問題がある。また、現像ロール３の外周面に圧接された状態で設置されているため、その変形した状態のまま長期間設置しておくと、この形態が層形成ブレード７の永久歪みとして残存し、へたり性が悪化してしまうという問題がある。しかも、このような層形成ブレード７を上記現像装置１に組み込んで使用すると、現像ロール３に対する押しつけ力が弱くなり、その結果、トナー２が充分に摩擦帯電せず画像濃度が低下したり、現像ロール３表面上に均一厚みのトナー層が形成されず白抜け等の画像不良を生じたりするという問題を生じる。
【０００７】
本発明は、このような事情に鑑みなされたもので、充分なトナー離型性、トナー帯電特性を備えつつ、成形品の強度に優れ、かつへたり性も良好である層形成ブレードの製法およびそれにより得られた層形成ブレードの提供をその目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
上記の目的を達成するため、本発明は、層形成ブレード用成形型を準備し、この層形成ブレード用成形型内に、乾式シリカを含有するシリコーンゴム組成物を導入し成形して架橋硬化させ、ついでこの硬化体を脱型する層形成ブレードの製法であって、上記乾式シリカとして表面処理度が３０〜９５％の範囲となるよう表面処理されたものを用いることにより、上記硬化体の架橋密度を８．０×１０-5〜３．８×１０-4ｍｏｌ／ｃｍ3 の範囲に制御する層形成ブレードの製法を第１の要旨とし、乾式シリカを含有するシリコーンゴム組成物の成形硬化体からなる層形成ブレードであって、上記乾式シリカが表面処理度３０〜９５％の範囲となるよう表面処理され、かつ上記硬化体の架橋密度が８．０×１０-5〜３．８×１０-4ｍｏｌ／ｃｍ3 の範囲に設定されている層形成ブレードを第２の要旨とする。
【０００９】
すなわち、本発明者らは、成形品の強度およびへたり性が良好である層形成ブレードについて、一連の研究を重ねた。その過程で、上記層形成ブレードの成形品の強度を向上させるには、乾式シリカを含有させればよいことがわかった。しかしながら、さらに研究を進める過程で、上記乾式シリカは、その表面に反応性に富むシラノール基が多く露出しているため、生ゴムのシロキサン結合や残存架橋点等と物理的・化学的に結合し、前記圧接した形態を永久歪みとして残存させてしまう主たる原因となっていることがわかった。そこで、成形品の強度を向上させるために含有させる乾式シリカを、そのままの状態で含有させるのではなく、特定割合で表面処理し、この表面処理済乾式シリカを用いて、へたり性を改善することを着想し、さらに研究を重ねた。その結果、層形成ブレード用成形型を準備し、この層形成ブレード用成形型内に、特定の表面処理済乾式シリカを含有するシリコーンゴム組成物を導入し成形して架橋硬化させることにより、硬化体の架橋密度を特定範囲に制御できることを突き止めた。そして、上記表面処理済乾式シリカにより架橋密度が特定範囲に制御された層形成ブレードは、成形品の強度が向上し、かつへたり性が良好であることを見いだし、本発明に到達した。なお、上記表面処理された乾式シリカを、上記シリコーンゴムに対して、１０〜３０重量部の範囲に設定した場合、特に優れた成形品の強度およびへたり性向上効果が得られる。
【００１０】
また、本発明において、「乾式シリカ」とは、燃焼加水分解法によって製造されたシリカであり、付着水分、結合水が少なく、水分量が全体に対して２重量％以下であるシリカという趣旨で用いている。
【００１１】
【発明の実施の形態】
つぎに、本発明の実施の形態について説明する。
【００１２】
まず、本発明に用いる層形成ブレード用成形型は、従来から層形成ブレードの製造に用いられるものであればどのようなものであっても差し支えない。
【００１３】
つぎに、本発明において、上記層形成ブレード成形型内に導入される、シリコーンゴム組成物としては、シリコーンゴムと、乾式シリカとを含有するものである。
【００１４】
上記シリコーンゴムとしては、特に限定されるものではなく、高温加硫型（ＨＴＶ）シリコーンゴムや、室温加硫型（ＲＴＶ）、低温加硫型（ＬＴＶ）の液状シリコーンゴムが用いられる。なかでも、硬化時に副生成物を生じない、付加反応型液状シリコーンゴムが好ましい。さらに、上記付加反応型液状シリコーンゴムのなかでも、下記の一般式（１）で表される構成単位を少なくとも２個有するオルガノポリシロキサンが好適である。
【００１５】
【化１】
0003580075.tif 000002
【００１６】
上記式（１）において、Ｒ１  は１価の脂肪族不飽和炭化水素基、Ｒ２  は脂肪族不飽和炭化水素基以外の１価の炭化水素基である。また、ａは１または２であり、ｂは０、１、２のいずれかである。そして、ｃは〔４−（ａ＋ｂ）〕／２である。ただし、ａ＋ｂは１、２、３のいずれかである。
【００１７】
上記式（１）中におけるＲ１  の具体例としては、ビニル基、アリル基、イソプロペニル基、ブテニル基、イソブテニル基等があげられる。なかでも、合成のしやすさや、反応効率の面から、ビニル基が好ましい。
【００１８】
上記式（１）中におけるＲ２  の具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ヘキシル基等のアルキル基や、フェニル基、トリル基等のアリール基や、ベンジル基、フェニルエチル基等のアラルキル基等の有機基、およびこの有機基の水素原子の一部または全部を、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子や、シアノ基で置換したもの（例えば、クロロメチル基、トリフルオロプロピル基）等があげられる。なかでも、合成のしやすさの面から、メチル基が好ましい。
【００１９】
上記オルガノポリシロキサンとしては、上記式（１）おけるＲ１  が、分子末端の珪素原子または分子鎖途中の珪素原子に結合されているもの、もしくは両方ともに結合されているものであってもよい。なお、上記オルガノポリシロキサンの骨格としては、直鎖状であってもよいし、分岐状であってもよい。また、これらの混合物を用いることもできる。そして、上記オルガノポリシロキサンとしては、重合度が１００〜１５０００程度が好ましい。
【００２０】
上記乾式シリカとしては、その表面が、表面処理度３０〜９５％の範囲となるよう表面処理されていなければならない。すなわち、上記表面処理度が上記範囲内に設定されていないと、乾式シリカ表面に存在するシラノール基が、マトリックス成分であるシリコーンゴムのシロキサン結合や、残存架橋点等と物理的・化学的に結合してしまい、得られる層形成ブレードのへたり性を悪化させてしまうからである。そして、上記乾式シリカ表面のシラノール基密度は、１．８ＳｉＯＨ／ｎｍ2 以下に設定されていることが好ましい。なお、上記表面処理度の測定は、以下のようにして行われる。すなわち、図１に示すように、乾式シリカに対する表面処理剤濃度を上げていくと、乾式シリカ表面の炭素含有量は増加していき、最終的に、炭素含有量は平衡状態となる。この平衡状態を表面処理度１００％とし、この時の炭素含有量を基準とする。そして、乾式シリカの表面処理度を炭素含有量から算出する。なお、上記炭素含有量は、以下のようにして測定される。すなわち、まず表面処理された乾式シリカを真空中（条件：１１０℃×２時間）に放置し、ついで酸素雰囲気中において加熱処理（１０００℃）し、そして発生した二酸化炭素ガスの濃度を測定し、この濃度から乾式シリカ表面の炭素含有量を算出する。
【００２１】
上記表面処理方法としては、特に限定されるものではなく、例えば乾式シリカを予め表面処理剤で処理してもよいし、乾式シリカと表面処理剤とをシリコーンゴム組成物中に含有させて混合時に乾式シリカ表面を処理する方法があげられる。すなわち、本発明において、乾式シリカの表面処理は、乾式シリカ表面のシラノール基の反応性を低減できる方法であればよいのである。
【００２２】
上記表面処理剤としては、ジメチルジクロルシラン、トリメチルクロルシラン、オクチルトリクロルシラン、アルコキシシラン、ヒドロキシシラン等のシラン類、アルコキシシロキサン、ヒドロキシシロキサン等のシロキサン類、ヘキサメチルシラザン等のシラザン類、シリコーンレジン類、有機酸エルテル類、多価アルコール類等があげられる。なかでも、乾式シリカ表面のシラノール基との反応性が良好である、ジメチルジクロルシランが好適である。
【００２３】
なお、上記表面処理に用いる未処理乾式シリカとしては、特に限定されるものではないが、燃焼加水分解法により得られるものが好ましい。そして、上記未処理乾式シリカの平均粒子径は、成形品の強度を向上させることを考慮して、７〜４０ｎｍの範囲に設定されていることが好ましい。すなわち、上記平均粒子径が上記範囲内であることにより、表面処理された乾式シリカがシリコーンゴムマトリックス中に均一に分散された状態で入り込んで、シリコーンゴム組成物の成形硬化体からなる層形成ブレードを補強するからである。また、上記未処理乾式シリカのＢＥＴ法比表面積は、補強効果の面から、１００ｍ２  ／ｇ以上に設定されていることが好ましい。
【００２４】
上記表面処理された乾式シリカの配合量は、シリコーンゴム１００重量部に対して、１０〜３０重量部の範囲に設定されていることが好ましい。より好ましくは、１５〜２５重量部の範囲である。すなわち、上記配合量が、１０重量部未満であると、硬化体の架橋密度を特定の範囲内に制御できず、得られる層形成ブレードの強度を向上できないおそれがあるからであり、逆に上記配合量が３０重量部を超えると、層形成ブレードの硬度が高くなりすぎて、これを現像装置に組み込んで用いた場合、現像ロールへの押しつけ力が強くなりすぎ、適当な摩擦帯電が行われないおそれがあるからである。
【００２５】
なお、上記シリコーンゴム組成物には、必要に応じて、架橋剤、白金化合物、反応抑制剤等、適宜の添加剤を含有させてもよい。
【００２６】
上記架橋剤としては、シリコーンゴムを架橋することができるものであれば特に限定されるものではないが、下記の一般式（２）で表される構成単位からなり、珪素原子に結合した水素原子を分子中に少なくとも２個有するオルガノハイドロジェンポリシロキサンが好ましい。
【００２７】
【化２】
0003580075.tif 000003
【００２８】
上記式（２）において、Ｒ３  は、１価の炭化水素基である。また、ｄは０、１、２、３のいずれかであり、ｅは０、１、２のいずれかである。そして、ｆは〔４−（ｄ＋ｅ）〕／２である。ただし、ｄ＋ｅは１、２、３のいずれかである。
【００２９】
上記式（２）中におけるＲ３  の具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ヘキシル基等のアルキル基や、フェニル基、トリル基等のアリール基や、ベンジル基、フェニルエチル基等のアラルキル基等があげられる。なかでも、合成のしやすさの面から、メチル基が好ましい。
【００３０】
なお、上記オルガノハイドロジェンポリシロキサンとしては、重合度が３〜３００程度のものが好ましい。
【００３１】
本発明において、上記各材料および層形成ブレード用成形型を用い、例えばつぎのようにして層形成ブレードを製造する。すなわち、まず、所定の層形成ブレード用成形型〔例えば、ＬＩＭ（Ｌｉｑｕｉｄ  Ｉｎｊｅｃｔｉｏｎ  Ｍｏｌｄｉｎｇ）成形法に用いることが可能な成形型〕を準備する。一方、表面処理された乾式シリカおよびシリコーンゴムと、架橋剤等の添加剤をプラネタリーミキサー等適宜の混合機で混合して、シリコーンゴム組成物を調製する。そして、上記シリコーンゴム組成物を、上記成形型に導入し、成形型を温度１５０〜２５０℃に加熱して架橋硬化させる。そして、この硬化体を成形型から取り出すことにより層形成ブレードを得ることができる。なお、このようにして得られた層形成ブレードを、適宜の方法で、支持ホルダーに接着することにより、層形成部材として供される。
【００３２】
このようにして得られた層形成ブレードの架橋密度は、８．０×１０−５〜３．８×１０−４ｍｏｌ／ｃｍ３  の範囲に制御されていなければならない。すなわち、上記架橋密度が、８．０×１０−５ｍｏｌ／ｃｍ３  未満であると、成形品の強度が不十分となり、硬化体を成形型から脱型する際、縁部に欠けや亀裂を生じてしまうからである。逆に、上記架橋密度が、３．８×１０−４ｍｏｌ／ｃｍ３  を超えると、成形品の強度に関しては優れたものとなるものの、へたり性が悪化し、複写画像の画質を低下させてしまうからである。なお、上記架橋密度は、以下のようにして測定される（膨潤圧縮法）。すなわち、まず試料片を準備し、この試料片をｎ−ヘキサンでソックスレー抽出（２４時間）し、その後真空乾燥（２４時間）する。そして、得られた試料片から２ｍｍ（縦）×２ｍｍ（横）×１ｍｍ（厚み）の直方体試料片を切り出し、この寸法を投影機で精密に測定する。なお、このようにして精密に測定された直方体試料片の厚みをＬ０  とし、断面積をＡとする。ついで、この直方体試料片をトルエン中に浸漬して〔条件：室温（２５℃）×２４時間〕膨潤させたのち、この直方体試料片を素早くＴＭＡ装置（ＴＭＡ−５０、島津製作所社製）に移し、膨潤後の厚み（Ｌｓ０）を測定する。そして、この膨潤させた直方体試料片の膨潤の大小に応じて、２５０〜３５０ｇまでの荷重を一定速度で加え、圧縮応力と歪みの関係を求め、かつ圧縮後の直方体試料片の厚み（Ｌｓ  ）を測定する。このようにして得られた測定値と、下記の数式（１）〔フローリー−レーナー（Ｆｌｏｒｙ−Ｒｈｅｎｅｒ）の理論式〕とを用いて、架橋密度を算出する。
【００３３】
【数１】
0003580075.tif 000004
【００３４】
なお、上記数式（１）において、ｋはボルツマン定数であり、Ｔは絶対温度であり、Ｖｔは架橋密度であり、αは膨潤後のサンプル圧縮比（Ｌｓ  ／Ｌｓ０）であり、Ｖ０  は直方体試料片の全容積であり、Ｖ１  は直方体試料片のシリコーンゴムの容積〔Ｖ１  ＝Ｖ０  （１−φ）、ただしφは充填剤の体積分率〕である。
【００３５】
本発明の製法によれば、シリコーンゴム組成物中に、特定割合で表面処理された乾式シリカを含有しているため、得られる硬化体の架橋密度を特定の範囲となるよう制御できる。そして、上記硬化体が特定範囲の架橋密度を有し、かつ特殊な表面処理済乾式シリカを含有することにより、強度が高くなり、成形型から硬化体を脱型する際、欠けや亀裂等の不具合を生じることがない。しかも、上記硬化体からなる層形成ブレードは、へたり性が良好であるため、この層形成ブレードを現像装置に組み込んで用いた場合、得られる複写画像は、画像濃度の低下や、白抜け等の画像不良を生じず、非常に高画質なものとなる。
【００３６】
なお、上記層形成ブレードの寸法は、特に限定されるものではないが、通常の現像装置に用いる場合、厚みが０．１〜１０ｍｍ程度で、幅が１〜２０ｍｍ程度のものが好ましい。
【００３７】
つぎに、実施例について比較例と併せて説明する。
【００３８】
まず、実施例および比較例に先立って、表面処理された乾式シリカを調製した。
【００３９】
すなわち、まず乾式シリカを準備し、これを下記の表１に示す表面処理剤で表面処理し、表面処理された乾式シリカＡ〜Ｄを得た。なお、これら乾式シリカＡ〜Ｄについて、表面処理度および表面のシラノール基密度を同表に併せて示した。
【００４０】
【表１】
0003580075.tif 000005
【００４１】
【実施例１〜６、比較例１〜５】
まず、下記の表２および表３に示す材料を用い、同表に示す配合割合で配合し、これをプラネタリーミキサーで混合して均一分散し、シリコーンゴム組成物を調製した。ついで、このシリコーンゴム組成物を層形成ブレード用成形型に導入し、成形型を温度１５０〜２５０℃に加熱して架橋硬化させた。そして、この硬化体を成形型から取り出すことにより、目的とする層形成ブレードを得た。
【００４２】
このようにして得られた実施例１品〜６品および比較例１品〜５品について、成形品の強度、架橋密度、へたり性、画像評価を測定・評価し、その結果を下記の表４および表５に示した。なお、各測定方法は以下の通りである。
【００４３】
〔成形品の強度〕
層形成ブレード成形型から脱型する際、ちぎれや亀裂等の不具合を発生する頻度で判定した。すなわち、層形成ブレード２０本中１本も不具合を発生していないものには○をつけ、層形成ブレード２０本中１本以上に不具合を発生しているものには×をつけた。
【００４４】
〔架橋密度〕
前述の方法（膨潤圧縮法）により、架橋密度を測定した。
【００４５】
〔へたり性〕
図２の（ａ）に示すように、まず幅１０ｍｍ×厚み１．５ｍｍの層形成ブレード９を、厚み２ｍｍの板金１０から１５ｍｍ延びた状態となるよう接着した短冊状試料１１を作製した。ついで、図２の（ｂ）に示すように、ゴム板１２を、層形成ブレード１０の先端（垂下した下端）に対して４５°の角度となるよう接触させた。そして、図２の（ｃ）に示すように、上記ゴム板１２を接触位置から３ｍｍ、層形成ブレード９の方向に平行移動させて短冊状試料１１の層形成ブレード９にストレスをかけた。そして、この状態で７日間放置（条件：４５℃×９０％ＲＨ）したのち、ゴム板１２を取り除いてから１時間後の曲げ変位の残存量ωを測定した〔図２の（ｄ）参照〕。このようにして得られた残存量ωと下記の数式（２）とを用いて、残存率を算出した。
【００４６】
【数２】
残存率（％）＝〔曲げ変位の残存量ω（ｍｍ）〕／（３ｍｍ）×１００…（２）
【００４７】
〔複写画像の画質評価〕
支持ホルダーとなるブレード板金を準備し、この片面にプライマー（ＸＰ８１−Ｂ００１６、東芝シリコーン社製）を塗工した。ついで、このプライマー面に層形成ブレードを接着させ、層形成部材を作製した。そして、この層形成部材をレーザービームプリンターレーザーショット４（ヒューレットパッカード社製）に、現像ロールとニップ幅が１ｍｍとなる状態で組み込み、初期の画像出しを行った。その後、その状態で７日放置（条件：４５℃×９０％ＲＨ）したのち、再度、画像出しを行った。そして、初期の画像濃度と放置後の画像濃度とを目視により判定した。すなわち、初期の画像濃度と比較して放置後の画像濃度が低下していないものには○をつけ、画像濃度が低下しているものには×をつけた。
【００４８】
【表２】
0003580075.tif 000006
【００４９】
【表３】
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【００５０】
【表４】
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【００５１】
【表５】
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【００５２】
上記実施例１品〜６品は全て、成形品の強度が良好であるため、層形成ブレードに欠けや亀裂等の不具合を生じていない。また、へたり性に関しても良好である。このため、実施例１品〜６品を現像装置に組み込んで用いると、得られる複写画像は、画像濃度の低下が生じず、品質の良好なものが得られる。これに対して、比較例１品〜５品は、成形品の強度およびへたり性の両方ともが良好ではないため、得られる複写画像は、画像濃度が低下してしまい、高品質のものが得られていない。
【００５３】
【発明の効果】
以上のように、本発明は、層形成ブレード用成形型を準備し、この層形成ブレード用成形型内に、乾式シリカを含有するシリコーンゴム組成物を導入し成形して架橋硬化させ、ついでこの硬化体を脱型する層形成ブレードの製法であって、上記乾式シリカとして表面処理度が３０〜９５％の範囲となるよう表面処理されたものを用いることにより、上記硬化体の架橋密度を８．０×１０-5〜３．８×１０-4ｍｏｌ／ｃｍ3 の範囲に制御している。このため、成形品の強度に優れ、かつへたり性が良好である層形成ブレードを得ることができる。したがって、上記層形成ブレードを現像装置に組み込んで用いると、得られる複写画像は画像濃度が低下せず、高品質なものとなり、その良好な画質を長期にわたって維持することができる。
【００５４】
特に、上記乾式シリカの表面処理を、シラノール基と反応する表面処理剤で行うことにより、乾式シリカ表面のシラノール基がブロックされるため、乾式シリカ表面がマトリックス成分のシリコーンゴムと結合せず、へたり性がより良好となる。
【００５５】
また、上記表面処理された乾式シリカを、シリコーンゴムに対して特定割合で用いることにより、成形品の強度がより良好となる。
【００５６】
さらに、上記シリコーンゴムとして、付加反応型液状シリコーンゴムを用いることにより、層形成ブレード用成形型に導入しやすく、また硬化時に副生成物を生じないため、良好な層形成ブレードを得ることができるという利点を有する。
【図面の簡単な説明】
【図１】炭素含有量と表面処理剤濃度との関係を示す説明図である。
【図２】へたり性の測定評価方法を説明する説明図である。
【図３】電子写真複写機の現像装置の一例を示す構成図である。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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