(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガラス原盤を真空吸引してチャッキングテーブル上に吸着した状態でフォトレジストをスピンコートしてフォトレジスト膜を形成した後、上記フォトレジスト膜を露光、現像して記録すべき情報信号に応じた凹凸パターンを形成する光ディスク原盤の製造方法において、
上記光ディスク原盤は、上記凹凸パターンが形成される凹凸パターン形成領域の更に内周側領域及び外周側領域が、上記チャッキングテーブルにそれぞれ半径を異にして同心円状に一定間隔を隔てて形成されるとともに、中途部に複数の切り欠き部が形成された複数の突条部によって支持され、
上記凹凸パターン形成領域が上記チャッキングテーブルに対し非接触の状態で上記チャッキングテーブルに吸着された状態でフォトレジスト膜の形成が行われることを特徴とする光ディスク原盤の製造方法。
【請求項２】
真空吸引されるガラス原盤が吸着される光ディスク原盤製造装置用のチャッキングテーブルにおいて、
中心部に中空軸部が形成され、
上記ガラス原盤が吸着される面側には、上記ガラス原盤の最外周部側を支持するリング状の閉環突条部と、
上記ガラス原盤の情報信号に応じた凹凸パターンが形成される凹凸パターン形成領域の更に内周側領域を支持する内周側突条部と、
上記閉環突条部の内周側に位置して上記凹凸パターン形成領域の更に外周側を支持する半径を異にして同心円状に一定間隔を隔てて複数形成された外周側突条部とが上記中空軸部を中心にして同心円状に形成され、
上記内周側突条部と上記外周側突条部には、それぞれ複数の切り欠き部が形成され、上記閉環突条部によって囲まれた領域を上記中空軸部に連通させたことを特徴とする光ディスク原盤製造装置用のチャッキングテーブル。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】
本発明は、光ディスク原盤の製造方法及び光ディスク原盤を製造するために用いる光ディスク原盤製造装置用のチャッキングテーブルに関する。
【０００２】
【従来の技術】
デジタルオーディオディスクやビデオディスク等の光ディスクを製造するために光ディスク原盤が製造される。
【０００３】
この種の光ディスク原盤は、次のような工程を経て製造される。
【０００４】
先ず、光ディスク原盤を製造するには、表面を研磨したガラス原盤を研磨面が上になるようにして真空チャッキング機能を有するチャッキングテーブル上に載置しこのチャッキングテーブルに吸着させる。チャッキングテーブルに吸着されたガラス原盤の研磨面上にフォトレジストをスピンコートした後、電気炉やホットプレート等の熱処理装置に搬送してフォトレジストを乾燥する。次いで、このフォトレジスト塗布膜にレーザビームによって凹凸パターンを露光し、現像を行うことによって光ディスク原盤が製造される。
【０００５】
ここで、フォトレジストをスピンコートするに際して、ガラス原盤を吸着保持するチャッキングテーブルは、図９及び図１０に示すような構成を備える。
【０００６】
チャッキングテーブル８１は、円板状に形成されたチャックベース８２を有し、チャックベース８２は、表面最外周部に閉環された断面凸状をなす突条部８３を有し、裏面中央部に中空軸部８４が突出形成されている。この中空軸部８４は吸引孔９２が真空ポンプに接続されており、この中空軸部８４を介して、突条部８３によって囲まれた領域である吸引部にある大気が真空ポンプによって排気される。吸引部には、ガラス原盤９１を載置するための複数のリング状の突条部８６が、半径を異にして同心円状に一定間隔置きに形成されている。これら同心円状に形成された複数の突条部８６には、それぞれ２箇所ずつ切り欠き部８７が設けられ、吸引部から吸引される大気の吸引通路が形成され、同心円状に形成された複数の突条部８６に囲まれた各溝部８８の大気がこの切り欠き部８７を通過して吸引排気される。チャッキングテーブル８１は、回転駆動部９０を有し、この回転駆動部９０によって回転駆動される。
【０００７】
ガラス原盤にフォトレジストをスピンコートするには、このような構成のチャッキングテーブル８１のチャックベース８２上に載置し、真空ポンプを駆動する。このとき、ガラス原盤は、チャッキングテーブル８１の回転中心に中心を一致させてチャックベース８１上に載置される。真空ポンプが駆動されると、チャッキングテーブル８１の吸引部の大気が排気されて、チャッキングベース８２にガラス原盤９１が吸着されて固定される。このようにしてガラス原盤９１をチャッキングベース８２上に固定した状態で、フォトレジストのスピンコートを行う。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
ところが、スピンコートの際に、チャッキングテーブルに設けた突条部とガラス原盤とが当接していると、モータ等の回転駆動系より発生する熱が突条部を介してガラス原盤に伝わり、フォトレジストには突条部の接触部分に対応する部分のみ高効率で熱量が供給されるようになる。そうなると、フォトレジストのリブに対応する部分と対応しない部分とで乾燥速度が異なってしまい、均一な膜厚のフォトレジスト塗布膜が形成されない。例えば、膜厚１０００Åのフォトレジスト塗布膜を形成しようとした場合には、その膜厚差は最大３０Åにも及ぶ。
【０００９】
このとき形成されるフォトレジスト塗布膜の凹凸パターン形成領域の膜厚は、後工程でフォトレジスト上に形成される凹凸の高さ寸法に直接影響する。このため、上述のように突条部がガラス原盤全域に亘って当接する構成のチャッキングテーブルを使用し、フォトレジスト塗布膜の膜厚も全域に亘って不均一となると、作製された光ディスク原盤の凹凸高さもそれに伴ってばらつき、最終的に製造される光ディスクにおいて良好な再生信号が得られないといった問題が生じる。
【００１０】
そこで、本発明は、このような従来の実情に鑑みて提案されたものであり、情報信号に応じた凹凸パターンが形成される凹凸パターン形成領域において均一な膜厚のフォトレジスト膜を形成でき、凹凸パターンの凹凸高さにばらつきのない光ディスク原盤の製造を可能となす光原盤ディスクの製造方法及び光ディスク原盤製造装置用のチャッキングテーブルを提供することを目的とする。
【００１１】
【課題を解決するための手段】
上述の目的を達成するために提案される本発明は、ガラス原盤を真空吸引してチャッキングテーブル上に吸着した状態でフォトレジストをスピンコートしてフォトレジスト膜を形成した後、上記フォトレジスト膜を露光、現像して記録すべき情報信号に応じた凹凸パターンを形成する光ディスク原盤の製造方法において、上記光ディスク原盤が、上記凹凸パターンが形成される凹凸パターン形成領域の更に内周側領域及び外周側領域が、上記チャッキングテーブルにそれぞれ半径を異にして同心円状に一定間隔を隔てて形成されるとともに、中途部に複数の切り欠き部が形成された複数の突条部によって支持され、上記凹凸パターン形成領域が上記チャッキングテーブルに対し非接触の状態で上記チャッキングテーブルに吸着された状態でフォトレジスト膜の形成が行われるようにしたものである。
【００１２】
また、本発明は、真空吸引されるガラス原盤が吸着される光ディスク原盤製造装置用のチャッキングテーブルにおいて、中心部に中空軸部が形成され、上記ガラス原盤が吸着される面側には、上記ガラス原盤の最外周部側を支持するリング状の閉環突条部と、上記ガラス原盤の情報信号に応じた凹凸パターンが形成される凹凸パターン形成領域の更に内周側領域を支持する内周側突条部と、上記閉環突条部の内周側に位置して上記凹凸パターン形成領域の更に外周側を支持する半径を異にして同心円状に一定間隔を隔てて複数形成された外周側突条部とが上記中空軸部を中心にして同心円状に形成され、上記内周側突条部と上記外周側突条部には、それぞれ複数の切り欠き部が形成され、上記閉環突条部によって囲まれた領域を上記中空軸部に連通させたものである。
【００１３】
【作用】
本発明により光ディスク原盤を作製するには、まずガラス原盤をチャッキングテーブル上に載置するとともに、チャッキングテーブルに吸着させた状態でガラス原盤上にフォトレジストをスピンコートする。
【００１４】
このとき、ガラス原盤は、凹凸パターン形成領域の更に内周側領域及び外周側領域がチャッキングテーブルに設けられた突条部によって支持され、凹凸パターン形成領域がチャッキングテーブルに対し非接触の状態でチャッキングテーブルに吸着された状態となるので、回転駆動系となるモータ等から発生する熱の影響を抑えることができ、凹凸パターン形成領域に形成されるフォトレジスト膜の膜厚の不均一化を防止できる。
【００１５】
【実施例】
以下、本発明を適用した光ディスク原盤の製造方法及びこの製造方法に用いられる光ディスク原盤製造装置用のチャッキングテーブルの具体的な実施例について図面を参照しながら説明する。
【００１６】
光ディスクを製造するには、先ず、スタンパに情報信号に応じた凹凸パターンを転写するための光ディスク原盤を作製する。
【００１７】
光ディスク原盤を作製するには、まず、フォトレジストが塗布されるガラス原盤の表面を研磨し、次いで表面に付着した塵、ゴミ等を除去するため、ガラス原盤をきわめて清浄な環境中で洗浄し、乾燥する。
【００１８】
このようにして研磨、洗浄が施されたガラス原盤を研磨面が上になるように真空チャッキング機能を有するチャッキングテーブル上に載置して吸引保持し、ポジ型のフォトレジストをスピンコートし、その後熱処理を施し、光学カッティングによる凹凸パターンの形成を行う。
【００１９】
ポジ型のフォトレジストとは、クレゾール・ノボラック樹脂に代表されるものであり、その樹脂中の反応点が光照射により有機酸となってアルカリ可溶性となる。このフォトレジストを用いた光ディスク原盤の作製は、このような光照射による有機酸生成反応を利用して行う。すなわち、フォトレジストを円盤状のガラス原盤にスピンコートしてフォトレジスト塗布膜を成膜し、所望の凹凸パターンに対応させて光照射する。これにより光照射した部分のフォトレジストが有機酸を生成してアルカリ可溶性になる。この光照射した部分がアルカリ可溶性になったところで、アルカリ溶液に曝して現像する。ここで、光照射によるフォトレジストの有機酸生成反応は、極めて精密であり、光照射部分より広い領域で反応が進むことがなく、光照射した部分のみが確実に凹部となって現像される。したがって、高い分解能（〜０．５μｍ Ｌ／Ｓ）が得られ、パターンが超微細な場合でも、忠実にそれに対応した凹凸パターンが形成されることになる。
【００２０】
このようにフォトレジストを用いた光ディスク原盤の作製においては、形成される凹部の大きさについては極めて精密であるが、高さ寸法の均一な凹凸パターンを形成するには、スピンコートによって少なくとも凹凸パターン形成領域において膜厚のばらつきのないフォトレジスト塗布膜を形成しておく必要がある。
【００２１】
そこで、本発明においては、凹凸パターン形成領域の更に内周側領域及び外周側領域、すなわち凹凸パターン形成領域以外の内外周においてガラス原盤をチャッキングテーブル上に載置し、凹凸パターン形成領域がチャッキングテーブルに対し非接触の状態とする。このようにガラス原盤の凹凸パターン形成領域をチャッキングテーブルに対し非接触の状態とすることにより、チャッキングテーブルを介して凹凸パターン形成領域に伝達される熱的影響を均一にでき、ガラス原盤に形成されるフォトレジスト塗布膜は、凹凸パターン形成領域においてある部分のみが急速に乾燥するということがなく、均一な膜厚で形成可能となる。
【００２２】
本発明に係るガラス原盤の製造方法に用いられるガラス原盤製造装置を構成するチャッキングテーブル１０は、図１及び図２に示すように形成されている。
【００２３】
すなわち、チャッキングテーブル１０は、円板状に形成されたチャックベース１を備える。チャックベース１は、ガラス原盤５が載置される面側の最外周部に閉環された断面凸状をなす閉環突条部２が形成されている。ガラス原盤５の載置面側の閉環突条部２に囲まれた領域は、チャックベース１上に載置されるガラス原盤５を吸引するための吸引部３となる。
【００２４】
また、チャックベース１の中心部には、中空軸部４が形成されている。中空軸部４は、ガラス原盤５が載置される面とは反対側の裏面側に突出されている。中空軸部４には図示はしないが真空ポンプが接続され、中空軸部４の中空部を介してガラス原盤５が載置される面側に構成された吸引部３内の大気の吸引が行われる。
【００２５】
吸引部３には、ガラス原盤５を支持するための内周側突条部６ａと外周側突条部６ｂが形成されている。内周側突条部６ａと外周側突条部６ｂは、チャックベース１の中心に中心を一致させて同心円状に形成されている。ここで、内周側突条部６ａは、チャックベース１上に載置されるガラス原盤５の情報信号に応じた凹凸パターンが形成される凹凸パターン形成領域５ａの更に内周側領域を支持するように形成され、外周側突条部６ｂは、閉環突条部２の内周側に位置して凹凸パターン形成領域５ａの更に外周側を支持する位置に形成されている。すなわち、内周側突条部６ａ及び外周側突条部６ｂは、ガラス原盤５の凹凸パターン形成領域５ａ以外の部分を支持するように形成されている。なお、外周側突条部６ｂは、複数、ここでは２条設けられている。
【００２６】
そして、内周側突条部６ａ及び外周側突条部６ｂには、それぞれ２箇所ずつ切り欠き部７が設けられている。これら切り欠き部７は、各突条部６ａ及び６ｂにおいて、周回り方向の位置をずらせて形成されている。ここでは、各突条部６ａ及び６ｂにおいて、９０°ずつ角度をずらせて形成されている。切り欠き部７は、閉環突条部２によって囲まれた吸引部３を中空軸部４の中空部に連通させるための吸引通路を構成する。すなわち、内周側突条部６ａ及び外周側突条部６ｂに切り欠き部７が設けられることにより、閉環突条部２に囲まれた領域内にあって、内周側突条部６ａ及び外周側突条部６ｂにより囲まれた領域が中空軸部４の中空部に連通され、中空軸部４に接続された真空ポンプにより吸引排気される。
【００２７】
本発明に係るチャッキングテーブル１０は、回転駆動部１１を有し、この回転駆動部１１によって回転駆動される。
【００２８】
本発明方法により、光ディスクに形成するすべき情報信号に応じた凹凸パターンが形成されるガラス原盤５にフォトレジストをスピンコートするには、上述のような構成のチャッキングテーブル１０のチャックベース１上に載置し、真空ポンプを駆動する。このとき、ガラス原盤５は、チャッキングテーブル１０の回転中心に中心を一致させてチャックベース１上に載置される。真空ポンプが駆動されると、チャッキングテーブル１０に構成された吸引部３の大気が排気されて、チャッキングベース１にガラス原盤５が吸着されて固定される。このようにしてガラス原盤５をチャッキングベース１上に固定した状態で、フォトレジストのスピンコートを行う。
【００２９】
チャッキングテーブル１０上のガラス原盤５に対しフォトレジストをスピンコートするには、ガラス原盤５上の中央部にフォトレジストを供給し、チャッキングテーブル１０を所定の回転数で回転させ、供給したフォトレジストをガラス原盤５の全面に行き亘らせる。このとき、ガラス原盤５上に形成されたフォトレジスト塗布膜（サンプル１）の半径方向における膜厚分布を、従来のチャッキングテーブル（凹凸パターン形成領域にガラス原盤を載置するためのリブを有するチャッキングテーブル）を使用して形成されたフォトレジスト塗布膜（比較サンプル１）と比較して表１及び図３に示す。なお、これら膜厚分布は膜厚を１１０ｎｍに設定したフォトレジストの塗布を行った場合のものである。
【００３０】
【表１】
0003543338.tif 000002
【００３１】
表１及び図３から、凹凸パターン形成領域にリブのないチャッキングテーブルを使用した場合には、従来のチャッキングテーブルを使用した場合に比べて、膜厚の均一なフォトレジスト塗布膜が形成されることがわかる。
【００３２】
上述したように、フォトレジスト塗布膜を形成した後、ガラス原盤をホットプレートや電気炉等の熱処理装置に搬送して熱処理を行い、フォトレジスト塗布膜を乾燥、安定化する。
【００３３】
次に、光学カッティング等の手法により凹凸パターンを形成した後、現像液に曝して凹凸パターンを顕在化する。このとき、現像液の濃度を現像の進行に応じて断続的にあるいは連続的に低下させると、現像停止処理時に確実に現像を停止でき、精密な形状の凹凸が形成できる。現像に際しては、現像の進行状況を観察しながら現像が終点レベルに達したときに確実に現像を停止する必要がある。例えば、現像の終点レベルを越えて現像を行った場合には、フォトレジストが余分にエッチングされて凹凸形状の精密性が低下する。
【００３４】
ところが、現像に亘って一定濃度の現像液を使用すると、現像液濃度が高濃度の場合には、現像が常に高速度で進行し、現像停止処理後にも引き続き現像が進行して現像停止に時間がかかり、オーバー現像となる。このとき現像液の濃度を下げたり、現像を低温環境下で行うことによって現像速度を低下させれば、停止処理によってほぼ終点レベルにおいて現像が停止できるが、現像時間が長くなるとフォトレジストに面荒れが生じ、ノイズの原因となる。
【００３５】
一方、現像工程において、供給される現像液の濃度を現像の進行に応じて断続的にあるいは連続的に低下させれば、凹凸パターンの顕在化時には高濃度の現像液によって高速で現像が行われ、現像の終点レベル付近においては、低濃度現像液によって現像が低速で進行するので、停止処理によって確実に現像を停止できるようになる。
【００３６】
現像の進行に応じて現像液濃度を低下させるのは、例えば図４に示すような現像コントロールシステムを使用することにより可能である。
【００３７】
図４に示す現像コントロールシステムは、ガラス原盤の膜面に垂直にレーザ光を入射したときの入射光量Ｉ０と一次回折光量Ｉ１の比Ｉ１／Ｉ０を現像の進行状況の指標とするものであり、高濃度現像液を貯蔵するための第１の現像液タンク３１，低濃度現像液を貯蔵するための第２の現像液タンク３２及びの入射光量Ｉ0 と一次回折光量Ｉ1 を検出する検出部３３を有している。
【００３８】
第１の現像液タンク３１と第２の現像液タンク３２には、現像液がＮ２加圧されることによって流出するパイプ３３，３４が取付けられており、これらタンク３１，３２に取付けられたパイプ３３，３４はその一端が三方弁３５の各弁３６，３７に取付けている。この三方弁の他の弁３８には一端にノズル３９を有するパイプ４０の他端が取付けられており、各弁３６，３７，３８の開閉操作により、ノズル３９より高濃度現像液，低濃度現像液がガラス原盤５に対して噴出するようになっている。
【００３９】
一方、検出部３３は、入射光量Ｉ０を検出するＩ０デテクター４１と一次回折光量Ｉ１を検出するＩ１デテクター４２よりなる。このＩ０デテクター４１とＩ１デテクター４２は現像コントロール用コンピュータ４３に接続されており、デテクター４１，４２で検出された入射光量Ｉ０及び一次回折光量Ｉ１の情報が現像コントロール用コンピュータ４３に入力される。この現像コントロール用コンピュータ４３は上記三方弁３５に接続されており、入力された入射光量Ｉ０及び一次回折光量Ｉ１の値よりＩ１／Ｉ０を算出し、このＩ１／Ｉ０の値に応じて三方弁３５の開閉をコントロールする。すなわち、現像開始時には第１の現像液タンク側の弁３６が開かれ、第２の現像液タンク側の弁３７が閉じられる。これにより、ノズル３９から高濃度現像液が噴出し、現像が高速度で進行する。そして、現像レベルが終点近くとなり、Ｉ１／Ｉ０が所定の値となったところで、今度は第１の現像液タンク側の弁３６が閉じられ、第２の現像液タンク側の弁３７が開放される。それに応じて、ノズル３９からは低濃度現像液が噴出し、現像速度が低下する。さらに現像が進んでＩ１／Ｉ０が終点レベルとなったところで、両方の弁３６，３７が閉じられる。これにより、ノズル３９からの現像液の供給が停止され、さらに停止用水供給ノズル４４から停止用水が供給され、現像が完全に停止する。
【００４０】
図５に、上述した現像コントロールシステムを使用した場合の現像のタイムコースを示す。図５中、横軸は現像時間，縦軸はＩ１／Ｉ０である。比較として、現像を通して高濃度現像液のみを使用した場合及び現像を通して低濃度現像液のみを使用した場合も合わせて図５に示す。
【００４１】
図５からわかるように、上述の現像コントロールシステムを使用した場合には、現像開始時には高速で現像が進行し、供給現像液が高濃度現像液から低濃度現像液に切り替わったところで現像速度が低下するので、現像時間が長時間となることなく、しかも現像が終点レベルに達したところで確実に現像を停止することができる。
【００４２】
これに対し、高濃度現像液のみを使用した場合には、現像開始から現像終点に亘って現像が高速で進行する。そして、停止処理後においても引き続き現像が進行して現像停止にまで時間がかかり、オーバー現像となる。一方、低濃度現像液のみを使用した場合には、現像を通して現像速度が遅く、現像終点に達するまでにかなりの時間を要する。
【００４３】
なお、上述の現像コントロールシステムにおいて低濃度現像液としては、高濃度現像液の８０％以上、１００％未満の濃度のものを使用することが好ましい。上記濃度範囲の低濃度現像液は、エッチングレートが高濃度現像液の１／２〜１／３であり、この程度のエッチングレートとすれば、現像終点時に確実に現像を停止することができる。
【００４４】
上記に例示したシステムは、ガラス原盤に供給される現像液の濃度を現像の進行状況に応じて断続的に低下させるものであるが、マスフローコントローラを用いて、供給する現像液の濃度を連続的に低下させるようにしてもよい。
【００４５】
この場合、図６に示すように高濃度現像液を貯留する現像液貯留タンク３１と、この現像液貯留タンク３１に一端が取付けられたパイプ４５と水供給源に一端が取付けられたパイプ４６と、これら両パイプの他端と連結する集合パイプ４７を用いる。上記集合パイプはパイプが連結する連結部とは反対の端にノズル４８を有しており、それぞれパイプを通過し、連結部において合わさった高濃度現像液と水とが集合パイプを通過してノズルより噴出する。また、両パイプは、それぞれ中途部にエアーバルブによって流液量をコントロールするマスフローコントローラ４９，５０が設けられており、このマスフローコントローラ４９，５０で流液量がコントロールされる。これにより、連結部において合わさる高濃度現像液と水との量比が調整され、ノズルより所望の濃度とされた現像液が噴出する。
【００４６】
上記システムによって、ガラス原盤に現像液を供給するには、現像開始時には高濃度現像液が１００％となり、現像が進行するのに伴って、徐々に高濃度現像液の量比が小さくなるとともに水の量比が大きくなるようにパイプ中を通過する高濃度現像液，水の流液量をマスフローコントローラ４９，５０によって調整すればよい。これにより、ガラス原盤５に供給される現像液の濃度は高濃度から低濃度に亘って連続的に変化する。
【００４７】
このようにして光ディスク原盤を作製した後、フォトレジスト膜表面を、無電解メッキ法あるいは真空蒸着技術等によって導体化する。次いで、導体化された表面を陰極とし、ニッケルを陽極に配して、スルファミン酸ニッケル浴液中で通電させて電鋳を行い、ガラス原盤上にスタンパとなる金属ニッケルを析出させる。この金属ニッケルが０．３ｍｍ程度の厚さとなったところで電鋳を停止して、スタンパをガラス原盤から剥離し、洗浄，乾燥を行う。
【００４８】
このように製造されたスタンパを必要な形状に加工し、このスタンパを用いて、基板上に凹凸パターンを転写する。転写方法としては、コンプレッション方式、インジェクション方式、インジェクション・コンプレッション方式、フォトポリマー方式（いわゆる２Ｐ法）等いずれであっても差し支えない。また、基板の材料についても特に制限がなく、アクリル樹脂，ポリカーボネート樹脂等，通常使用されている基板材料であればいずれでもよい。
【００４９】
さらに、凹凸パターンが転写されたディスク基板は、反射膜を成膜したり、保護層等を設けることで光ディスクとされるが、光ディスクの構成は任意であり、したがってディスク基板上に成膜される反射膜，記録膜，保護膜等は用途に応じて任意選択することができる。
【００５０】
例えば、デジタルオーディオディスクや、いわゆるＣＤ−ＲＯＭ等においては凹凸パターンが転写されたディスク基板上にＡｌ等の金属反射膜が成膜される。光磁気ディスクでは、磁気光学特性（カー効果やファラデー効果）を有する垂直磁化膜が成膜される。その他、低融点金属薄膜、相変化膜、有機色素を含有する膜等を記録層とする光ディスクにも適用可能である。これら、反射膜、記録膜は、スパッタリング，真空蒸着法等の真空薄膜形成技術によって成膜できる。
【００５１】
また、記録膜、反射膜上に形成する保護膜も、紫外線硬化樹脂層等、通常光ディスクにおいて保護膜として設けられているものであればいずれでもよい。例えば、アクリルモノマーをスピンコート、紫外線照射して重合させることによって形成される紫外線硬化樹脂層は、機械的強度が極めて高く適している。
【００５２】
なお、紫外線硬化樹脂層を形成する場合、それに先立って、ディスク面をシランカップリング剤等のカップリング剤によってカップリング処理すると、紫外線硬化樹脂とディスク面との接着性が確保され、紫外線硬化樹脂層の保護性能がより向上する。ディスク面をカップリング処理するに際しては、ディスクを回転させながら、保護膜形成面にミスト状あるいはガス状のカップリング剤を供給するようにすると、保護膜形成面以外の部分にカップリング剤を付着させることなく処理を行うことができる。
【００５３】
図７に、カップリング処理及び紫外線硬化樹脂層の形成を順次行うための保護膜形成システムを示す。
【００５４】
この保護膜形成システムは、カップリング剤供給系５１と紫外線硬化樹脂供給系５２とを有し、回転自在とされたチャッキングテーブル５９上に載置されたディスク５８の保護膜形成面に、それぞれ上記供給系５１，５２によりカップリング剤、紫外線硬化樹脂を供給することにより、カップリング処理及び紫外線硬化樹脂層の形成を順次行うようにしたものである。すなわち、カップリング剤供給系５１は、カップリング剤５３を貯留するカップリング剤タンク５４と、このカップリング剤タンク５４に取付けられたＮ２ガス導入用パイプ５５と、カップリング剤供給用パイプ５６よりなる。
【００５５】
Ｎ２ガス導入用パイプ５５は、先端５５ａがカップリング剤タンク５４内部に挿入されるとともにカップリング剤５３に浸漬されない位置となるようにカップリング剤タンクに取付けられている。一方、カップリング剤供給用パイプ５６は、先端にノズル５７を有し、ノズル５７がディスク５８の保護膜形成面近傍となり、ノズル側とは反対側の端５６ａがカップリング剤タンク５４内部に挿入されるとともにカップリング剤５３に浸漬されない位置となるようにカップリング剤タンク５４に取付けられている。また、カップリング剤供給用パイプ５６は、ノズル５７がディスク５８の径方向に沿って移動するように駆動操作されるようになっている。
【００５６】
カップリング剤供給系５１では、Ｎ２ガス導入用パイプ５５にＮ２ガスを導入すると、カップリング剤タンク５４内においてガス状のカップリング剤が発生する。ガス状のカップリング剤はカップリング剤供給用パイプ５６を通過してノズル５７より噴出する。このときチャッキングテーブル５９を回転操作するとともにノズル５７をディスク５８の径方向に沿って移動操作することにより、保護膜形成面にのみ全面にカップリング剤が付着することとなる。
【００５７】
なお、カップリング剤供給系は、ディスクに対してガス状のカップリング剤を供給するものであるが、ミスト状のカップリング剤を供給する場合には、図８に示すように先端にバブラー６１を有するＮ２ガス導入用パイプ６０を使用し、バブラー６１がカップリング剤５３中に浸漬するようにしてＮ２ガス導入用パイプ６０をカップリング剤タンク５４に取付ける。このＮ２ガス導入用パイプ６０にＮ２ガスを導入すると、バブラーによってカップリング剤がバブリングされてミスト状のカップリング剤が発生する。ミスト状のカップリング剤はカップリング剤供給用パイプ５６を通過してノズル５７より噴出する。
【００５８】
一方、紫外線硬化樹脂供給系５２は、紫外線硬化樹脂を貯留する樹脂タンク６２と、この紫外線硬化樹脂タンク６２に取付けられた樹脂供給用パイプ６３よりなる。樹脂供給用パイプ６３は、樹脂タンクに取付けられた側とは反対側の端６３ａがディスク５８の保護膜形成面の内周上部に位置しており、また、その中途部にポンプ６４を有している。したがって、ポンプ６４を作動することにより、樹脂タンク６２内の紫外線硬化樹脂が樹脂供給用パイプ６３を介してディスク５８の保護膜形成面内周部に供給されることになる。チャッキングテーブル５９を回転させて保護膜形成面内周に沿って紫外線硬化樹脂を塗布した後、紫外線硬化樹脂の供給を停止し、チャッキングテーブルを所定の回転数で回転させる。これにより、紫外線硬化樹脂を保護膜形成面全面に亘って均一に塗布され、紫外線照射ランプ６５によって紫外線硬化樹脂に紫外線を照射することにより、紫外線硬化樹脂層が形成される。
【００５９】
このようにして製造された光ディスクは、光ディスク原盤に均一な高さ寸法の凹凸が形成されているので、ピットやグルーブが精密に形成されており、良好な再生信号特性を示す。
【００６０】
【発明の効果】
上述したように、本発明は、フォトレジスト膜が形成されるガラス原盤が、凹凸パターン形成領域の更に内周側領域及び外周側領域のみをチャッキングテーブルに設けられた突条部によって支持され、凹凸パターン形成領域をチャッキングテーブルに対し非接触の状態でチャッキングテーブルに吸着されるので、凹凸パターン形成領域に、チャッキングテーブルを回転駆動するモータ等から伝達される熱の影響を抑えて凹凸パターン形成領域にフォトレジスト膜を形成することができるので、膜厚の不均一化を防止してフォトレジスト膜を形成でき、高精度に凹凸パターンを形成したガラス原盤を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の製造方法に使用するチャッキングテーブルの構成例を示す概略平面図である。
【図２】本発明の製造方法に使用するチャッキングテーブルの構成例を示す概略縦断面図である。
【図３】フォトレジスト塗布膜の半径方向の膜厚分布を示す膜厚分布図である。
【図４】現像コントロールシステムの一構成例を示す模式図である。
【図５】現像時間とＩ１／Ｉ０の関係を示す特性図である。
【図６】現像コントロールシステムに適用する現像液供給系の他の例を示す模式図である。
【図７】保護膜形成システムの一構成例を示す模式図である。
【図８】保護膜形成システムに適用するカップリング剤供給系の他の例を示す模式図である。
【図９】従来のチャッキングテーブルの構成例を示す概略縦断面図である。
【図１０】従来のチャッキングテーブルの構成例を示す概略平面図である。
【符号の説明】
１  チャッキングベース、  ３  吸引部  ４  中空軸部、  ５  ガラス原盤、６ａ  内周側突条部、  ６ｂ  外周側突条部、  ７  切り欠き部、  １０  チャッキングテーブル
【図１】
0003543338.tif 000003
【図２】
0003543338.tif 000004
【図３】
0003543338.tif 000005
【図４】
0003543338.tif 000006
【図５】
0003543338.tif 000007
【図６】
0003543338.tif 000008
【図７】
0003543338.tif 000009
【図８】
0003543338.tif 000010
【図９】
0003543338.tif 000011
【図１０】
0003543338.tif 000012