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【手続補正書】
【提出日】平成27年3月19日(2015.3.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３４】
また、第１パッド電極が形成されるべき領域２０、第１環状電極が形成されるべき領域２２、弾性表面波素子１４を個片化する際の切断領域２４にも金属層１２が形成される。ここで、切断領域２４に形成された金属層１２を、第３配線３１と呼ぶこととする。さらに、弾性表面波素子１４と領域２０の金属層１２とを接続する配線２６、領域２０の金属層１２と切断領域２４の第３配線３１とを接続する第１配線２８、領域２２の金属層１２と切断領域２４の第３配線３１とを接続する第２配線３０も、金属層１２によって形成される。切断領域２４の第３配線３１は、第１配線２８と第２配線３０との両方と電気的に接続している。後述によって明確となるが、第１配線２８と第２配線３０と第３配線３１とは、電解めっき法で使用されるめっき用給電線として用いられる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３６】
図４（ｂ）及び図６（ｂ）を参照に、金属層１２を形成した後、第１環状電極が形成されるべき領域と第１配線２８とが交差する領域であって、第１配線２８上に絶縁物３２を形成する。絶縁物３２は、第１環状電極が形成されるべき領域と第１配線２８とが交差する領域を全て覆うように、例えば交差する領域よりも大きい領域で形成することが好ましい。絶縁物３２は、例えばポリイミドを用いることができ、膜厚は例えば１μｍである。ポリイミドからなる絶縁物３２は、例えば第１環状電極が形成されるべき領域と第１配線２８とが交差する領域に開口を有するマスク層を基板１０上に形成し、この開口に埋め込まれるようにポリイミドを塗布することで形成することができる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３７】
図４（ｃ）及び図７（ａ）を参照に、弾性表面波素子１４を覆うように、基板１０上に保護膜３４を形成する。なお、図７（ａ）においては、保護膜３４を透視して図示している（図７（ｂ）及び図８においても同じ）。保護膜３４は、例えばスパッタ法により形成された酸化シリコン膜である。なお、スパッタ法の他にも、例えばＣＶＤ（Chemical Vapor Deposition）法やＡＬＤ（Atomic Layer Deposition）法を用いることができる。その後、領域２０上の保護膜３４及び第１環状電極が形成されるべき領域上の保護膜３４を除去し、領域２０の金属層１２上に、例えば金属層１２側からＴｉとＡｕが順次積層された第１パッド電極３６を形成する。また、第１環状電極が形成されるべき領域の絶縁物３２上に、例えば絶縁物３２側からＴｉとＡｕが順次積層された第１環状電極３８を形成する。これにより、基板１０上に、弾性表面波素子１４に電気的に接続する第１パッド電極３６と、２つの弾性表面波素子１４とこの２つの弾性表面波素子１４に電気的に接続する第１パッド電極３６とを完全に囲む第１環状電極３８とが形成される。第１パッド電極３６と第１環状電極３８とは、例えばスパッタ法及びエッチング法を用いて形成することができ、膜厚を同等にする観点から同時に形成される場合が好ましい。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４９】
図４（ｂ）及び図６（ｂ）のように、第１配線２８と第１環状電極３８が形成されるべき領域とが交差する領域であって、第１配線２８上に絶縁物３２を形成し、図５（ｂ）及び図７（ｂ）のように、第１環状電極３８上にシールリング４６を形成することが好ましい。即ち、第１配線２８とシールリング４６との間に絶縁物３２を形成することが好ましい。これにより、シールリング４６が弾性表面波素子１４と突起電極４４との周りを完全に囲む場合でも、弾性表面波素子１４の個片化と同時に第３配線３１を除去することで、突起電極４４とシールリング４６との電気的な分離を行うことができる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図４】
2013070347.tif 000001
【手続補正６】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図５】
2013070347.tif 000002
【手続補正７】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図６】
2013070347.tif 000003
【手続補正書】
【提出日】平成27年7月31日(2015.7.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電磁波に対する誘電率実部が負である第一の導体層と第二の導体層との間を前記電磁波が導波する導波路であって、
電磁波が出射または入射する当該導波路の部分に、テーパー構造を備え、
光軸に垂直な前記テーパー構造の空間断面が、該テーパー構造の最外部の開口面に近づくに従って、少なくとも前記光軸と直交する１つの方向に前記光軸を挟んで両側に広がることを特徴とする導波路。
【請求項２】
前記第一の導体層と前記第二の導体層とのそれぞれに接し且つ前記第一の導体層と前記第二の導体層との間に配置されている半導体部を含む積層構造のコア層を有し、
前記第一の導体層と前記第二の導体層とのそれぞれは、導波モードの電磁波に対する誘電率実部が負の負誘電率媒質を含み、
前記テーパー構造は、前記電磁波が出射または入射する、前記第一の導体層と前記第二の導体層と前記コア層とで規定される当該導波路の端に備えられており、
前記テーパー構造の前記空間断面は、該テーパー構造の最外部の開口面に近づくに従って、少なくとも前記積層構造のコア層の積層方向に該積層方向と垂直な積層面を挟んで両側に広がることを特徴とする請求項１に記載の導波路。
【請求項３】
前記コア層は電磁波利得を有し、前記第一の導体層及び前記第二の導体層のそれぞれは、発振モードの電磁波に対する誘電率実部が負であり、発振素子として構成されていることを特徴とする請求項２に記載の導波路。
【請求項４】
前記第一の導体層及び前記第二の導体層は、検出する電磁波に対する誘電率実部が負であり、検出素子として構成されていることを特徴とする請求項２に記載の導波路。
【請求項５】
前記テーパー構造は、前記コア層の積層方向に対して傾斜する第一の面と第二の面とを備え、
前記第一の面と前記第二の面とは、互いに向かい合って配置されていることを特徴とする請求項２から４の何れか１項に記載の導波路。
【請求項６】
前記第一の導体層と前記第一の面とは、電気的に接続されており、
前記第二の導体層と前記第二の面とは、電気的に接続されていることを特徴とする請求項５に記載の導波路。
【請求項７】
前記第一の導体層と接し、前記第一の面を備えた第一の基板と、
前記第二の導体層と接し、前記第二の面を備えた第二の基板と、を備え、
前記第一の基板、前記第一の導体層、前記コア層、前記第二の導体層、前記第二の基板の順に積層された構成であることを特徴とする請求項５または６に記載の導波路。
【請求項８】
前記コア層は、キャリアのサブバンド間遷移によりテラヘルツ波を発生する多重量子井戸構造を含み構成されることを特徴とする請求項２から７の何れか１項に記載の導波路。
【請求項９】
前記電磁波の波長をλ、当該導波路の等価屈折率をｎｅとして、導波モードないし発振モードの管内波長をλｇ＝λ／ｎｅと表すとき、前記第一の導体層と前記第二の導体層との距離は、導波モードないし発振モードの管内波長（λg）以下であることを特徴とする請求項１から８の何れか１項に記載の導波路。 
【請求項１０】
前記テーパー構造は、当該導波路と電気的に結合されていることを特徴とする請求項１から９の何れか１項に記載の導波路。
【請求項１１】
前記テーパー構造は、導波管の切り口を徐々に広くして自由空間に整合させるようにしたホーンアンテナであることを特徴とする請求項１から１０の何れか１項に記載の導波路。 
【請求項１２】
電磁波を発振する発振素子と、物体を透過または該物体で反射した前記電磁波を検出する検出素子と、を備える電磁波分析装置であって、
前記発振素子及び前記検出素子の少なくとも一方は、請求項１から１１の何れか１項に記載の導波路を有する、
ことを特徴とする電磁波分析装置。
【請求項１３】
導波モードの電磁波に対する誘電率実部が負の負誘電率媒質の第一の導体層と第二の導体層とからなるクラッドと、前記２つの導体層の間に配置された半導体部を含む積層構造のコア層と、を有する導波路の製造方法であって、次の（Ａ）から（Ｄ）のステップを少なくとも含むことを特徴とする製造方法、
（Ａ）第一の基板に、該基板の板厚方向に傾斜した第一の面を形成するステップ、
（Ｂ）第二の基板に、該基板の板厚方向に傾斜した第二の面を形成するステップ、
（Ｃ）前記第一の導体層と前記第一の基板を接合するステップ、
（Ｄ）前記コア層の膜厚方向において前記第一の面と前記第二の面とが向かい合うように前記第二の導体層と前記第二の基板を接合するステップ。
【請求項１４】
請求項１３に記載の製造方法により製造される導波路を用いて発振素子を製造する発振素子の製造方法であって、
前記コア層を、電磁波利得を有する半導体層として形成し、
前記導波路を、発振素子の共振器として形成することを特徴とする発振素子の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３１】
本発明は、上記構成に限定されるものでない。例えば、本実施例では、活性層１０１とし
て、ＩｎＰ基板上に成長したＩｎＧａＡｓ／ＩｎＡｌＡｓ、ＩｎＧａＡｓ／ＡｌＡｓから
なる３重障壁共鳴トンネルダイオードについて説明してきた。しかし、これらの構造や材
料系に限られることなく、他の構造や材料の組み合わせであっても本発明に係る発振素子
などの導波路を提供することができる。例えば、２重障壁量子井戸構造を有する共鳴トン
ネルダイオード、４重以上の多重障壁量子井戸を有する共鳴トンネルダイオード、量子カ
スケードレーザで知られるカスケード接続された多重量子井戸構造、ショットキーバリア
ダイオード等の整流素子、ガンダイオードなどの負性抵抗素子を用いてもよい。これらは
何れも、発振素子、検出素子、増幅素子として好適である。また材料系としては、ＧａＡ
ｓ基板上のＧａＡｓ／ＡｌＧａＡｓ／、ＧａＡｓ／ＡｌＡｓ、ＩｎＧａＡｓ／ＧａＡｓ／
ＡｌＡｓ、ＩｎＰ基板上のＩｎＧａＡｓ／ＡｌＧａＡｓＳｂ、ＩｎＡｓ基板上のＩｎＡｓ
／ＡｌＡｓＳｂ、ＩｎＡｓ／ＡｌＳｂ、Ｓｉ基板上のＳｉ／ＳｉＧｅの組み合わせ等
であってもよい。これら構造と材料は、所望される周波数などに応じて適宜選定すればよ
い。また、基板の材料は用途に応じて選定すればよく、シリコン基板、ガリウムヒ素基板
、インジウムヒ素基板、ガリウムリン基板などの半導体基板や、ガラス基板、セラミック
基板、樹脂基板などを用いてもよい。
【手続補正書】
【提出日】平成27年8月6日(2015.8.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
トランスと、
前記トランスの一次側を駆動するスイッチング部と、
前記トランスの二次側に発生する電圧を出力する出力部と、
前記スイッチング部を連続的に駆動することにより前記出力部から第一電圧を出力する第一出力状態と、
前記スイッチング部を間欠的に駆動することにより前記出力部から前記第一電圧よりも小さい第二電圧を出力する第二出力状態と、を有し、
前記第二出力状態において、前記スイッチング部が間欠的に駆動する際の駆動周期毎の前記スイッチング部のオン回数が周期的に変更されることを特徴とするスイッチング電源。
【請求項２】
前記スイッチング部のオン回数が予め定められた数、増加又は減少されることを特徴とする請求項１に記載のスイッチング電源。
【請求項３】
前記スイッチング部のオン回数は、間欠的に駆動する際の駆動周期毎の前記スイッチング部の駆動回数の平均値が所定回数になるように、変更されることを特徴とする請求項１に記載のスイッチング電源。
【請求項４】
更に、前記出力部から出力される電圧と基準電圧との差に応じた電圧を前記トランスの一次側に伝達にする伝達部と、
前記第二出力状態において、前記伝達部の出力によって前記スイッチング部のオン回数を制御することを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載のスイッチング電源。
【請求項５】
更に、前記スイッチング部のオン時間を切り換える切換部を備え、
前記第二出力状態において、前記切換部は、前記スイッチング部のオン回数に応じて、前記スイッチング部のオン時間を切り換えることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載のスイッチング電源。
【請求項６】
画像を形成するための画像形成部と、
前記画像形成部の動作を制御する制御部と、
前記制御部に電力を供給するスイッチング電源とを有し、
前記電源は、
トランスと、前記トランスの一次側を駆動するスイッチング部と、前記トランスの二次側に発生する電圧を出力する出力部と、前記スイッチング部を連続的に駆動することにより前記出力部から第一電圧を出力する第一の出力状態と、前記スイッチング部を間欠的に駆動することにより前記出力部から前記第一電圧よりも小さい第二電圧を出力する第二出力状態と、を有し、
前記第二出力状態において、前記スイッチング部が間欠的に駆動する際の駆動周期毎の前記スイッチング部のオン回数が周期的に変更されることを特徴とする画像形成装置。
【請求項７】
前記スイッチング部のオン回数が予め定められた数、増加又は減少されることを特徴とする請求項６に記載の画像形成装置。
【請求項８】
前記スイッチング部のオン回数は、間欠的に駆動する際の駆動周期毎の前記スイッチング部の駆動回数の平均値が所定回数になるように、変更されることを特徴とする請求項６に記載の画像形成装置。
【請求項９】
更に、前記出力部から出力される電圧と基準電圧との差に応じた電圧を前記トランスの一次側に伝達にする伝達部と、
前記第二出力状態において、前記伝達部の出力によって前記スイッチング部のオン回数を制御することを特徴とする請求項６乃至８のいずれか１項に記載の画像形成装置。
【請求項１０】
更に、前記スイッチング部のオン時間を切り換える切換部を備え、
前記第二出力状態において、前記切換部は、前記スイッチング部のオン回数に応じて、前記スイッチング部のオン時間を切り換えることを特徴とする請求項６乃至９のいずれか１項に記載の画像形成装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本発明のスイッチング電源は、トランスと、前記トランスの一次側を駆動するスイッチング部と、前記トランスの二次側に発生する電圧を出力する出力部と、前記スイッチング部を連続的に駆動することにより前記出力部から第一電圧を出力する第一出力状態と、
前記スイッチング部を間欠的に駆動することにより前記出力部から前記第一電圧よりも小さい第二電圧を出力する第二出力状態と、を有し、前記第二出力状態において、前記スイッチング部が間欠的に駆動する際の駆動周期毎の前記スイッチング部のオン回数が周期的に変更されることを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
画像を形成するための画像形成部と、前記画像形成部の動作を制御する制御部と、前記制御部に電力を供給するスイッチング電源とを有し、前記電源は、トランスと、前記トランスの一次側を駆動するスイッチング部と、前記トランスの二次側に発生する電圧を出力する出力部と、前記スイッチング部を連続的に駆動することにより前記出力部から第一電圧を出力する第一の出力状態と、前記スイッチング部を間欠的に駆動することにより前記出力部から前記第一電圧よりも小さい第二電圧を出力する第二出力状態と、を有し、前記第二出力状態において、前記スイッチング部が間欠的に駆動する際の駆動周期毎の前記スイッチング部のオン回数が周期的に変更されることを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成27年9月16日(2015.9.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
接触しない最小侵襲性の呼吸測定環境における呼気中の二酸化炭素濃度を画像に基づいて決定する方法であって、
二酸化炭素の赤外線吸収帯域に調整された少なくとも１つの光フィルタを有する中波赤外線カメラシステムを使用して捕捉されると共に、それぞれ測定された強度値を有する画素のアレイを部分的に備え且つ関心のある被検体の呼気流の少なくとも１つのＩＲ画像を受信すること、
前記ＩＲ画像における背景、前記被検体の鼻及び顔の領域、及び前記呼気流と関連づけられる領域の画素を隔離すると共に前記被検体の鼻及び顔の前記領域のデジタル強度値ＩＯ、前記背景のデジタル強度値ＩBＢ、及び前記呼気流のデジタル強度値ＩＣＯ2を取得するように、プロセッサが前記ＩＲ画像を処理すること、
前記デジタル強度値ＩBＢ及び前記デジタル強度値ＩＯの各々から、前記背景の放射輝度ＲＢＢ及び前記被検体の鼻及び顔の放射輝度ＲＯを決定すること、
前記放射輝度ＲＢＢ、前記放射輝度ＲＯ、前記デジタル強度値ＩＯ、前記デジタル強度値ＩBＢ、及び前記デジタル強度値ＩＣＯ2に基づいて、前記被検体の前記呼気流の放射輝度ＲＣＯ2を決定すること、
前記決定された前記放射輝度ＲＣＯ2に基づいて、前記被検体の前記呼気流の二酸化炭素濃度レベルを決定すること、
を含む、方法。
【請求項２】
前記中波赤外線カメラシステムが、二酸化炭素分子から発せられた光を回転振動放射によって収集するように設計され、
前記中波赤外線カメラシステムは、
４．０μｍ〜４．５μｍを含む感度帯域を有する赤外線カメラと、
前記二酸化炭素から発せられた前記光が前記赤外線カメラのレンズに入ることを可能にするスペクトル帯域通過フィルタと、
を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記光フィルタは、前記背景の放射輝度ＲＢＢに対する二酸化炭素のコントラストを増加させる狭帯域通過フィルタを備える、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記二酸化炭素濃度レベルを、メモリ、記録装置、グラフィカルディスプレイ、電話によるメッセージングシステム、及びコンピュータワークステーションの何れかに送信することを更に備える、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記放射輝度ＲＣＯ2は、以下の式から計算される、請求項１に記載の方法。
【数１】
2013070997.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成27年4月20日(2015.4.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
外周面に複数種類の図柄が配列されている複数のリールと、
リプレイ、小役、およびボーナスを含む複数種類の役の当否を決定する内部抽選を行う内部抽選手段と、
前記複数のリールを遊技毎に回転させ、停止操作を契機として、前記内部抽選の結果に応じた態様で回転中のリールを停止させる制御を行うリール制御手段と、
前記複数のリールが停止した状態で、役毎に予め定められた入賞形態を示す図柄組合せが有効ライン上に表示されたことに基づいて役が入賞したと判定する入賞判定手段と、
前記リプレイの入賞に基づいて遊技者の所有する遊技媒体を要さずに次回の遊技を行わせるリプレイ処理を行うリプレイ処理手段と、
前記小役の入賞に基づいて当該小役の配当に応じた数の遊技媒体を払い出す制御を行う払出制御手段と、
遊技回数によっては終了しない第１遊技状態と、遊技回数によって終了する第２遊技状態と、遊技媒体の払出数、遊技回数、または役の入賞回数によって終了するボーナス状態とを含む複数種類の遊技状態の間で遊技状態を移行させる制御を行う遊技状態移行制御手段と、
演出状態を特別演出状態に設定するか否かを前記ボーナスの当選から前記ボーナス状態の終了までの遊技区間において決定し、特別演出状態では前記小役の入賞を補助する入賞補助演出を演出装置に行わせる制御を行う演出制御手段とを備えた遊技機であって、
前記内部抽選手段が、
前記第１遊技状態および前記第２遊技状態のいずれにおいても前記ボーナスの当選によっては前記リプレイの当選確率を変動させずに、遊技状態が前記第２遊技状態から前記第１遊技状態へ移行することに伴って前記リプレイの当選確率が上昇するように内部抽選を行い、
前記遊技状態移行制御手段が、
前記ボーナスの入賞に基づいて遊技状態を前記ボーナス状態に設定し、前記ボーナス状態の終了に基づいて遊技状態を前記第２遊技状態へ移行させ、前記第２遊技状態において所定回数の遊技が行われたことに基づいて遊技状態を前記第１遊技状態へ移行させる制御を行うことを特徴とする遊技機。
【請求項２】
請求項１において、
前記ボーナス状態では前記第１遊技状態および前記第２遊技状態とは１回の遊技に要する遊技媒体の投入数である規定投入数が異なり、規定投入数に応じて前記小役の配当が設定され、前記ボーナス状態では前記第１遊技状態および前記第２遊技状態よりも前記小役の配当が低く設定されていることを特徴とする遊技機。
【請求項３】
請求項１または２において、
前記遊技状態移行制御手段が、
前記第１遊技状態および前記第２遊技状態において、前記入賞補助演出での入賞の補助対象となる小役の入賞を逃したことに基づいて、前記第２遊技状態よりも前記リプレイの当選確率が低い第３遊技状態へ移行させる制御を行うことを特徴とする遊技機。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれかにおいて、
前記演出制御手段が、前記特別演出状態に設定されている場合に前記ボーナスが入賞すると当該特別演出状態を終了させ、前記ボーナスに当選している場合には、前記特別演出状態において当該ボーナスの入賞回避を補助する入賞回避補助演出を演出装置に行わせる制御を行うことを特徴とする遊技機。
【請求項５】
外周面に複数種類の図柄が配列されている複数のリールと、
リプレイ、小役、およびボーナスを含む複数種類の役の当否を決定する内部抽選を行う内部抽選手段と、
前記複数のリールを遊技毎に回転させ、停止操作を契機として、前記内部抽選の結果に応じた態様で回転中のリールを停止させる制御を行うリール制御手段と、
前記複数のリールが停止した状態で、役毎に予め定められた入賞形態を示す図柄組合せが有効ライン上に表示されたことに基づいて役が入賞したと判定する入賞判定手段と、
前記リプレイの入賞に基づいて遊技者の所有する遊技媒体を要さずに次回の遊技を行わせるリプレイ処理を行うリプレイ処理手段と、
前記小役の入賞に基づいて当該小役の配当に応じた数の遊技媒体を払い出す制御を行う払出制御手段と、を備え、
一般中の遊技において内部抽選で前記ボーナスに当選すると、当該ボーナスが入賞するまでボーナス成立中の遊技を行わせ、一般中の遊技よりも前記リプレイの当選確率が高いボーナス成立中の遊技が存在し、ボーナス成立中の遊技において演出状態が特別演出状態に設定されている場合に前記小役の入賞を補助する入賞補助演出を演出装置に行わせる遊技機であって、
前記ボーナスの入賞に基づいて遊技媒体の払出数、遊技回数、または役の入賞回数によって終了するボーナス状態の遊技を行わせ、当該ボーナス状態では遊技者が所有する遊技媒体を増加させることが不可能となっていることを特徴とする遊技機。
【請求項６】
請求項５において、
前記ボーナス状態の遊技では前記一般中の遊技および前記ボーナス成立中の遊技とは１回の遊技に要する遊技媒体の投入数である規定投入数が異なり、規定投入数に応じて前記小役の配当が設定され、前記ボーナス状態の遊技では前記小役の配当が規定投入数と同数に設定されていることを特徴とする遊技機。
【請求項７】
請求項５において、
前記内部抽選手段が、
前記ボーナス状態の遊技では、前記一般中の遊技および前記ボーナス成立中の遊技よりも前記小役の当選確率を上昇させた内部抽選を行うことを特徴とする遊技機。
【手続補正書】
【提出日】平成27年7月31日(2015.7.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ウインドファームの作動方法であって、
該ウインドファームは、風車と、エネルギー貯蔵装置とを有しており、
該ウインドファームは外部送電系統に接続されており、
該方法は、
要求有効電力を決定するステップと、
要求無効電力を決定するステップと、
前記風車の生産電力を決定するステップと、
生産電力が要求有効電力、要求無効電力、または、要求有効電力と要求無効電力とのベクトル和を上回るときに、前記エネルギー貯蔵装置を充電するステップと、
を含む、
ことを特徴とする方法。
【請求項２】
生産電力が要求有効電力、要求無効電力、または、要求有効電力と要求無効電力とのベクトル和を下回るときに、前記エネルギー貯蔵装置を放電するステップをさらに含む、請求項１記載のウインドファームの作動方法。
【請求項３】
生産電力が風車の定格生産電力を上回るときに、生産電力を低下させるステップをさらに含む、請求項１または２記載のウインドファームの作動方法。
【請求項４】
生産電力が、要求有効電力、要求無効電力、要求有効電力と要求無効電力とのベクトル和、および、前記エネルギー貯蔵装置の定格充電電力のいずれか一つの要素に関する和を上回るときに、生産電力を低下させるステップをさらに含む、請求項１から３のいずれか１項記載のウインドファームの作動方法。
【請求項５】
生産電力が、要求有効電力、要求無効電力、または、要求有効電力と要求無効電力とのベクトル和のいずれか一つの要素に関する和を上回り、かつ、前記エネルギー貯蔵装置が完全に充電されているときに、生産電力を低下させるステップをさらに含む、請求項１から４のいずれか１項記載のウインドファームの作動方法。
【請求項６】
前記外部送電系統の電圧を求めるステップと、
前記求められた外部送電系統の電圧が予め定めた外部送電系統の電圧と異なるときに、前記エネルギー貯蔵装置により補償電圧を供給するステップと、
をさらに含む、請求項１から５のいずれか１項記載のウインドファームの作動方法。
【請求項７】
少なくとも、風車と、エネルギー貯蔵装置とを有するウインドファームのためのウインドファームコントローラであって、
該ウインドファームは外部送電系統に接続されており、
該ウインドファームコントローラは、
要求有効電力を決定し、
要求無効電力を決定し、
前記風車の生産電力を決定し、
前記生産電力が、前記要求有効電力、前記要求無効電力、または、前記要求有効電力と前記要求無効電力とのベクトル和を上回るときに、前記エネルギー貯蔵装置を充電させる
ことを特徴とするウインドファームコントローラ。
【請求項８】
前記生産電力が、前記要求有効電力、前記要求無効電力、または、前記要求有効電力と要求無効電力とのベクトル和を下回るときに、前記エネルギー貯蔵装置を放電させる、請求項７記載のウインドファームコントローラ。
【請求項９】
前記生産電力が風車の定格生産電力を上回るときに、生産電力を低下させる、請求項７または８記載のウインドファームコントローラ。
【請求項１０】
前記生産電力が、前記要求有効電力、前記要求無効電力、前記要求有効電力と要求無効電力とのベクトル和、および、前記エネルギー貯蔵装置の定格充電電力のいずれか一つの要素に関する和を上回るときに、生産電力を低下させる、請求項７から９のいずれか１項記載のウインドファームコントローラ。
【請求項１１】
前記生産電力が、前記要求有効電力、要求無効電力、または、要求有効電力と要求無効電力とのベクトル和のいずれか一つの要素に関する和を上回り、かつ、前記エネルギー貯蔵装置が完全に充電されているときに、生産電力を低下させる、請求項７から１０のいずれか１項記載のウインドファームコントローラ。
【請求項１２】
前記外部送電系統の電圧を求め、
前記求められた外部送電系統の電圧が予め定めた外部送電系統の電圧と異なるときに、前記エネルギー貯蔵装置により補償電圧を供給する、
請求項７から１１のいずれか１項記載のウインドファームコントローラ。
【請求項１３】
前記エネルギー貯蔵要素に貯蔵されたエネルギー量を示すデータを記憶するメモリをさらに有する、請求項７から１２のいずれか１項記載のウインドファームコントローラ。
【請求項１４】
風車と、エネルギー貯蔵要素と、請求項７から１３のいずれか１項記載のウインドファームコントローラとを有する、ことを特徴とするウインドファーム。
【請求項１５】
前記エネルギー貯蔵要素は、電池および／またはフライホイールおよび／または超電導磁気のエネルギー貯蔵装置を有する、請求項１４項記載のウインドファーム。
【請求項１６】
前記エネルギー貯蔵要素は瞬時電圧制御回路を有する、請求項１４または１５記載のウインドファーム。
【請求項１７】
前記エネルギー貯蔵要素はバイパススイッチを有する、請求項１４から１６のいずれか１項記載のウインドファーム。
【請求項１８】
前記エネルギー貯蔵要素はインジェクショントランスを有する、請求項１４から１７のいずれか１項記載のウインドファーム。
【請求項１９】
ウインドファームを作動するためのコンピュータプログラムであって、データプロセッサにより実行されるときに、
要求有効電力を決定するステップと、
要求無効電力を決定するステップと、
前記風車の生産電力を決定するステップと、
生産電力が要求有効電力、要求無効電力、または、要求有効電力と要求無効電力とのベクトル和を上回るときに、前記エネルギー貯蔵装置を充電するステップと、
を含む方法を制御および／または実行するために適合されている、ことを特徴とするコンピュータプログラム。
【請求項２０】
前記方法は、生産電力が要求有効電力、要求無効電力、または、要求有効電力と要求無効電力とのベクトル和を下回るときに、前記エネルギー貯蔵装置を放電するステップをさらに含む、請求項１９記載のコンピュータプログラム。
【請求項２１】
前記方法は、生産電力が風車の定格生産電力を上回るときに、生産電力を低下させるステップをさらに含む、請求項１９または２０記載のコンピュータプログラム。
【請求項２２】
前記方法は、生産電力が、要求有効電力、要求無効電力、要求有効電力と要求無効電力とのベクトル和、および、前記エネルギー貯蔵装置の定格充電電力のいずれか一つの要素に関する和を上回るときに、生産電力を低下させるステップをさらに含む、請求項１９から２１のいずれか１項記載のコンピュータプログラム。
【請求項２３】
前記方法は、生産電力が、要求有効電力、要求無効電力、または、要求有効電力と要求無効電力とのベクトル和のいずれか一つの要素に関する和を上回り、かつ、前記エネルギー貯蔵装置が完全に充電されているときに、生産電力を低下させるステップをさらに含む、請求項１９から２２のいずれか１項記載のコンピュータプログラム。
【請求項２４】
前記方法は、
前記外部送電系統の電圧を求めるステップと、
前記求められた外部送電系統の電圧が予め定めた外部送電系統の電圧と異なるときに、前記エネルギー貯蔵装置により補償電圧を供給するステップと、
をさらに含む、請求項１９から２３のいずれか１項記載のコンピュータプログラム。
【請求項２５】
請求項１９から２４のいずれか１項記載のコンピュータプログラムが保存されているコンピュータ読み取り可能媒体。
【手続補正書】
【提出日】平成27年1月8日(2015.1.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ダイアフラムにダイアフラム付着材を付着させるステップであって、前記ダイアフラムは複数の開口部を含むステップと、
前記ダイアフラムに複数の圧電素子を付着させるステップと、
誘電性充填材料を供給して、前記複数の圧電素子を封止し、前記ダイアフラムと接するステップであって、前記ダイアフラム付着材は、前記ダイアフラムの前記複数の開口部を介して前記誘電性充填材料の流量を抑制するステップと、
前記誘電性充填材料を硬化させ、前記複数の圧電素子間および前記複数の圧電素子の上面に、隙間層を形成するステップと、
前記複数の圧電素子の前記上面から前記隙間層をプラズマエッチングによって除去するステップと、を含む、インクジェット印字ヘッドの形成方法。
【請求項２】
前記ダイアフラムを貫く前記複数の開口部を覆う前記ダイアフラム付着材を付着させるステップと、
前記誘電性充填材料を硬化させるステップの後、前記ダイアフラムを貫く前記複数の開口部を覆う前記ダイアフラム付着材を除去するステップと、をさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記ダイアフラムを貫く前記複数の開口部を覆う前記ダイアフラム付着材を、レーザーアブレーションによって除去する、請求項２に記載の方法。
【請求項４】
前記ダイアフラムを貫く前記複数の開口部を覆う前記ダイアフラム付着材の除去中に、圧電素子間の前記隙間層の一部を除去するステップをさらに含む、請求項３に記載の方法。
【請求項５】
ダイアフラムにダイアフラム付着材を付着させるステップであって、前記ダイアフラムは、前記ダイアフラムを貫く複数の開口部を含むステップと、
前記ダイアフラムに複数の圧電素子を付着させるステップと、
誘電性充填材料を供給して、前記複数の圧電素子を封止し、前記ダイアフラムと接するステップであって、前記ダイアフラム付着材は、前記ダイアフラムの前記複数の開口部を介して前記誘電性充填材料の流量を抑制するステップと、
前記誘電性充填材料を硬化させ、前記複数の圧電素子間および前記複数の圧電素子の上面に、隙間層を形成するステップと、
パターニングされた接着層およびパターニングされた取外し可能な下地膜を前記隙間層の上に配置するステップであって、前記パターニングされた接着層と前記パターニングされた取外し可能な下地膜との内部の開口部は、前記圧電素子を覆う位置において前記隙間層を露出するステップと、
前記パターニングされた取外し可能な下地膜および前記パターニングされた接着層をエッチングマスクとして用いたプラズマエッチングによって、前記複数の圧電素子の上面から前記隙間層を除去するステップと、を含む、インクジェット印字ヘッドの形成方法。
【請求項６】
前記パターニングされた接着層と前記パターニングされた取外し可能な下地膜との内部の前記開口部に導体を配置するステップと、
前記開口部に前記導体を配置した後で、前記取外し可能な下地膜を除去するステップと、
前記導体を用いて前記複数の圧電素子を複数のプリント回路基板（ＰＣＢ）電極と電気的に結合するステップと、をさらに含む、請求項５に記載の方法。
【請求項７】
前記ダイアフラムにおける前記開口部から、レーザーアブレーションによって、前記ダイアフラム付着材と、前記隙間層と、前記パターニングされた接着層とをきれいにするステップをさらに含む、請求項５に記載の方法。
【請求項８】
圧電素子層を移動キャリアに付着させるステップと、
前記圧電素子層をダイスして、複数の圧電素子を形成するステップと、
前記複数の圧電素子をジェットスタックサブアセンブリのダイアフラムに付着させるステップであって、前記ジェットスタックサブアセンブリは、さらに、注入口／放出口板と、本体板と、前記ダイアフラムにおける複数の開口部と、前記ダイアフラムにおける前記複数の開口部を覆うダイアフラム付着材とを含むステップと、
誘電性充填材料を供給して、前記複数の圧電素子を封止し、前記ダイアフラムと接するステップであって、前記ダイアフラム付着材は、前記ダイアフラムにおける前記複数の開口部を介して前記誘電性充填材料の流量を抑制するステップと、
前記誘電性充填材料を硬化させ、前記複数の圧電素子間および前記複数の圧電素子の上面に隙間層を形成するステップと、
前記隙間層の上に、パターニングされた接着層およびパターニングされた取外し可能な下地膜を配置するステップであって、前記パターニングされた接着層と前記パターニングされた取外し可能な下地膜との内部の開口部が、前記圧電素子を覆う位置において前記隙間層を露出するステップと、
前記パターニングされた取外し可能な下地膜および前記パターニングされた接着層をエッチングマスクとして用いたプラズマエッチングによって、前記複数の圧電素子の上面から前記隙間層を除去するステップであって、前記プラズマエッチングは、１００ｍＴｏｒｒ〜２００ｍＴｏｒｒの平衡チャンバ圧力を提供するには十分な注入速度で、エッチングチャンバに酸素気体を導入するステップと、８００Ｗ〜１、０００Ｗの高周波電力でプラズマを燃焼させるステップとを含むステップと、
前記パターニングされた取外し可能な下地膜と前記パターニングされた接着層とにおける前記開口部内に導電性の糊状剤を配置するステップと、
前記パターニングされた取外し可能な下地膜を除去するステップと、
レーザービームを用いて、前記ダイアフラム付着材と、前記隙間層と、前記パターニングされた接着層を前記ダイアフラムにおける前記複数の開口部から切除するステップであって、前記本体板および前記注入口／放出口板は、前記レーザービームをマスクするステップと、
前記パターニングされた接着層を備えた前記隙間層にプリント回路基板（ＰＣＢ）を機械的に付着させるステップであって、前記導電性の糊状剤は、ＰＣＢ電極を前記圧電素子に電気的に結合させるステップと、
前記ＰＣＢにマニホールドを付着させるステップと含む、インクジェット印字ヘッドの形成方法。
【請求項９】
エポキシ内の圧電性構造を封止するステップと、
前記エポキシの少なくとも一部分をプラズマエッチングし、前記圧電性構造を露出させるステップと、を含む、アセンブリの形成方法。
【請求項１０】
前記プラズマエッチングは、
１００ｍＴｏｒｒ〜２００ｍＴｏｒｒの平衡チャンバ圧力を提供するには十分な注入速度で、エッチングチャンバに酸素気体を導入するステップと、
８００Ｗ〜１、０００Ｗの高周波電力でプラズマを燃焼させるステップと、を含む、請求項９に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成27年2月13日(2015.2.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
走査方向に沿って移動可能に構成されたキャリッジに搭載され、前記キャリッジのターゲットに対する走査方向の移動に伴って前記ターゲットに対して液体を噴射して記録を行う液体噴射ヘッドを備えた液体噴射装置であって、
前記キャリッジの移動領域を内部に有すると共に、その移動領域を露呈させる開口部が設けられた本体ハウジングと、
前記液体が収容された液体収容部から送られる液体を前記液体噴射ヘッドへと導き、前記キャリッジの前記移動に伴って追従変形する変形可動部を有する液体供給チューブと、
前記本体ハウジング内に回動自在に設けられ、前記液体供給チューブの前記変形可動部を規定する支持部材と
を備えたことを特徴とする液体噴射装置。
【請求項２】
請求項１記載の液体噴射装置において、
前記支持部材は、前記開口部の領域内で変位可能であることを特徴とする液体噴射装置。
【請求項３】
請求項１又は請求項２記載の液体噴射装置において、
前記支持部材は、記録実行時における前記液体供給チューブの前記変形可動部の位置を調整可能に変位することを特徴とする液体噴射装置。
【請求項４】
請求項１から請求項３のいずれか一項に記載の液体噴射装置において、
前記開口部を開閉する方向に変位する開閉部材と前記本体ハウジングとの間に介在することにより前記開閉部材と前記開口部との間に隙間を介在させるスペーサーを更に備え、
前記支持部材は、前記スペーサーに対して回動自在に取り付けられることを特徴とする液体噴射装置。
【請求項５】
請求項１から請求項３のいずれか一項に記載の液体噴射装置において、
前記本体ハウジング及び前記支持部材の一方には軸部が設けられ、
前記本体ハウジング及び前記支持部材の他方は、前記軸部に対して回動自在に取り付けられる軸受け部を有することを特徴とする液体噴射装置。
【請求項６】
請求項１から請求項３のいずれか一項に記載の液体噴射装置において、
前記本体ハウジングにはねじ穴が形成され、
前記支持部材は、前記ねじ穴に螺合する固定ねじによって、該固定ねじを軸部として前記本体ハウジングに対して回動自在に取り付けられることを特徴とする液体噴射装置。
【請求項７】
請求項１から請求項６のいずれか一項に記載の液体噴射装置において、
前記支持部材は、前記キャリッジの移動時に前記液体供給チューブが前記本体ハウジングに干渉しないように、前記本体ハウジングに対する回動角度が調整されることを特徴とする液体噴射装置。
【請求項８】
請求項１から請求項７のいずれか一項に記載の液体噴射装置において、
前記支持部材を複数備え、
前記複数の支持部材のうち少なくとも一つの支持部材は、前記本体ハウジングに対して回動自在に設けられることを特徴とする液体噴射装置。
【請求項９】
請求項１から請求項８のいずれか一項に記載の液体噴射装置において、
前記支持部材の回動位置を固定する固定部材を更に備えたことを特徴とする液体噴射装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
上記目的を達成するために、本発明の液体噴射装置は、走査方向に沿って移動可能に構成されたキャリッジに搭載され、前記キャリッジのターゲットに対する走査方向の移動に伴って前記ターゲットに対して液体を噴射して記録を行う液体噴射ヘッドを備えた液体噴射装置であって、前記キャリッジの移動領域を内部に有すると共に、その移動領域を露呈させる開口部が設けられた本体ハウジングと、前記液体が収容された液体収容部から送られる液体を前記液体噴射ヘッドへと導き、前記キャリッジの前記移動に伴って追従変形する変形可動部を有する液体供給チューブと、前記本体ハウジング内に回動自在に設けられ、前記液体供給チューブの前記変形可動部を規定する支持部材とを備えた。
【手続補正書】
【提出日】平成26年12月17日(2014.12.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
圧電体層と前記圧電体層を挟む電極とを備えた圧電素子の製造方法であって、
Ｂｉ及びＦｅ、または、Ｂａ及びＴｉを含有する第１圧電体前駆体膜を形成する工程と、
前記第１圧電体前駆体膜を加熱し結晶化して第１圧電体層を形成する工程と、
前記第１圧電体層上に、前記第１圧電体前駆体膜に含有されるＢｉ及びＦｅ、または、Ｂａ及びＴｉに加えて、さらにＬｉ、Ｂ及びＣｕから選択される少なくとも１種を含有する第２圧電体前駆体膜を形成する工程と、
前記第１圧電体層及び前記第２圧電体前駆体膜を加熱し結晶化して前記圧電体層を形成する工程と、
を具備することを特徴とする圧電素子の製造方法。
【請求項２】
請求項１に記載の圧電素子の製造方法により製造された圧電素子を具備することを特徴とする液体噴射ヘッド。
【請求項３】
請求項２に記載の液体噴射ヘッドを具備することを特徴とする液体噴射装置。
【請求項４】
請求項１に記載の圧電素子の製造方法により製造された圧電素子を具備することを特徴とする超音波デバイス。
【請求項５】
請求項１に記載の圧電素子の製造方法により製造された圧電素子を具備することを特徴とするセンサー。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】圧電素子の製造方法、液体噴射ヘッド、液体噴射装置、超音波デバイス及びセンサー
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
上記課題を解決する本発明の態様は圧電体層と前記圧電体層を挟む電極とを備えた圧電素子の製造方法であって、Ｂｉ及びＦｅ、または、Ｂａ及びＴｉを含有する第１圧電体前駆体膜を形成する工程と、前記第１圧電体前駆体膜を加熱し結晶化して第１圧電体層を形成する工程と、前記第１圧電体層上に、前記第１圧電体前駆体膜に含有されるＢｉ及びＦｅ、または、Ｂａ及びＴｉに加えて、さらにＬｉ、Ｂ及びＣｕから選択される少なくとも１種を含有する第２圧電体前駆体膜を形成する工程と、前記第１圧電体層及び前記第２圧電体前駆体膜を加熱し結晶化して前記圧電体層を形成する工程と、を具備することを特徴とする圧電素子の製造方法にある。
かかる態様では、Ｂｉ及びＦｅを含有する圧電材料やＢａ及びＴｉを含有する圧電材料からなる圧電体層を製造する際に、Ｂｉ及びＦｅ、または、Ｂａ及びＴｉを含有する第１圧電体前駆体膜を経て第１圧電体層を形成し、この第１圧電体層上に、第１圧電体前駆体膜に含有されるＢｉ及びＦｅ、または、Ｂａ及びＴｉに加えて、さらにＬｉ、Ｂ及びＣｕから選択される少なくとも１種の元素を含有する第２圧電体前駆体膜を設けて圧電体層を形成することにより、圧電体層のクラックの発生を抑制することができる。また、非鉛又は鉛の含有量を抑えられるため、環境への負荷を低減することができる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本発明の他の態様は、上記圧電素子の製造方法により製造された圧電素子を具備することを特徴とする液体噴射ヘッド、及び当該液体噴射ヘッドを具備することを特徴とする液体噴射装置にある。かかる態様では、クラックの発生が抑制された圧電体層を有するため、信頼性に優れた液体噴射ヘッド、及び液体噴射装置となる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
また、本発明の他の態様は、上記圧電素子の製造方法により製造された圧電素子を具備することを特徴とする超音波デバイス、あるいは、上記圧電素子を具備するセンサーにある。かかる態様では、クラックの発生が抑制された圧電体層を有するため、信頼性に優れた超音波デバイス、あるいは、センサーを提供できる。
【手続補正書】
【提出日】平成27年2月5日(2015.2.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
繊維長さが０．０１ｍｍ以上、２．０ｍｍ以下の長さの短繊維が５〜５０ｗｔ％の配合量でランダム配向されたシート状、フレーク状或いはペレット状の熱可塑性樹脂或いは熱硬化性樹脂とされる短繊維強化樹脂と、
熱可塑性樹脂或いは熱硬化性樹脂が含浸された一方向或いは織物の連続強化繊維プリプレグと、
を有する繊維強化プラスチック材を、外金型及び内金型を有する金型による１回のプレス成形により、前記連続強化繊維プリプレグと前記短繊維強化樹脂にて成形された連続繊維層と短繊維層の積層体から成るシェルと、前記短繊維強化樹脂にて成形された立体添加物とを有する繊維強化プラスチック成形体を成形する方法であって、
前記外金型及び前記内金型は、互いに組み合わせて成形加工状態に配置された時、互いに対向配置されて前記外金型と前記内金型との間に前記繊維強化プラスチック成形体を形成するための成形空間を形成する鍔部分を有しており、
前記鍔部分は、前記成形空間から外方へと２０ｍｍ以上、１００ｍｍ以下にて前記外金型及び前記内金型の外周辺に延在して形成されており、
対向配置された前記両金型の前記鍔部分のクリアランスを、成形しようとする前記繊維強化プラスチック成形体の前記シェルの板厚（ｔｍｍ）の０．５以上、０．７５以下に調整することによって、プレスの圧力を生じさせ、このプレスの圧力によって、樹脂を流動させることを特徴とする立体添加物付き繊維強化プラスチック成形体の成形方法。
【請求項２】
前記鍔部分のうち前記成形空間から少なくとも１５〜３０ｍｍの間には、前記クリアランスを樹脂流動方向へと０．１°以上、２０°以下の勾配をつけ徐々に狭くすることによって、プレスの圧力を前記金型内部の前記成形空間に生じさせて前記短繊維強化樹脂を流動させることを特徴とする請求項１に記載の立体添加物付き繊維強化プラスチック成形体の成形方法。
【請求項３】
前記連続強化繊維プリプレグの樹脂及び前記短繊維強化樹脂の樹脂が熱可塑性樹脂である場合、前記繊維強化プラスチック材を当該熱可塑性樹脂の融点よりも高い温度に予備加熱した後に、該融点よりも低い温度に調整した前記金型でプレス成形することを特徴とする請求項１又は２に記載の立体添加物付き繊維強化プラスチック成形体の成形方法。
【請求項４】
前記連続強化繊維プリプレグの樹脂及び前記短繊維強化樹脂の樹脂が熱硬化性樹脂である場合、前記繊維強化プラスチック材を該熱硬化性樹脂の硬化温度よりも高い温度に調整した前記金型でプレス成形することを特徴とする請求項１又は２に記載の立体添加物付き繊維強化プラスチック成形体の成形方法。
【手続補正書】
【提出日】平成27年4月3日(2015.4.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
硬化性モノマー、光重合開始剤、ゲル化剤、色材及び硬化性オリゴマーを含有する光硬化型インクジェットインクであって、
前記硬化性オリゴマーの官能基数が２〜２０の範囲内にあり、かつ、ガラス転移温度が４０℃以上であり、
前記硬化性オリゴマーの含有量は、前記インク全体の質量に対して２〜２０質量％であることを特徴とする光硬化型インクジェットインク。
【請求項２】
前記硬化性オリゴマーの官能基数が６〜２０であることを特徴とする、請求項１に記載の光硬化型インクジェットインク。
【請求項３】
前記硬化性オリゴマーが樹枝状オリゴマーであることを特徴とする、請求項１または２に記載の光硬化型インクジェットインク。
【請求項４】
前記硬化性モノマーの分子量が２８０〜１５００であることを特徴とする、請求項１〜３のいずれか一項に記載の光硬化型インクジェットインク。
【請求項５】
前記硬化性オリゴマーの２５℃における粘度が１００〜１００００ｍＰａ・ｓであることを特徴とする、請求項１〜４のいずれか一項に記載の光硬化型インクジェットインク。
【請求項６】
前記色材は黒色顔料であることを特徴とする、請求項１〜５のいずれか一項に記載の光硬化型インクジェットインク。
【請求項７】
硬化性モノマー、光重合開始剤、ゲル化剤、色材及び硬化性オリゴマーを含有する光硬化型インクジェットインクであって、
前記硬化性オリゴマーが樹枝状オリゴマーであり、
前記硬化性オリゴマーの含有量は、前記インク全体の質量に対して２〜２０質量％であることを特徴とする光硬化型インクジェットインク。
【請求項８】
前記硬化性オリゴマーの官能基数が６〜２０であることを特徴とする、請求項７に記載の光硬化型インクジェットインク。
【請求項９】
前記硬化性モノマーの分子量が２８０〜１５００であることを特徴とする、請求項７または８に記載の光硬化型インクジェットインク。
【請求項１０】
前記硬化性オリゴマーの２５℃における粘度が１００〜１００００ｍＰａ・ｓであることを特徴とする、請求項７〜９のいずれか一項に記載の光硬化型インクジェットインク。
【請求項１１】
前記色材は黒色顔料であることを特徴とする、請求項７〜１０のいずれか一項に記載の光硬化型インクジェットインク。
【請求項１２】
請求項１〜１１のいずれか一項に記載の光硬化型インクジェットインクのインク液滴を、インクジェット記録ヘッドから吐出させて記録媒体上に付着させる工程と、前記記録媒体上に着弾した液滴にＬＥＤ光源から３６０〜４１０ｎｍの波長の光を照射して硬化させる工程と、を有する画像形成方法。
【請求項１３】
前記光硬化型インクジェットインクが記録媒体上に着弾する時の前記記録媒体の温度を、前記インクのゾルゲル相転移温度よりも１０〜２０℃低い温度であることを特徴とする、請求項１２に記載の画像形成方法。
【請求項１４】
前記ＬＥＤ光源のピーク照度が３Ｗ／ｃｍ２以上であることを特徴とする、請求項１２または１３に記載の画像形成方法。
【手続補正書】
【提出日】平成27年10月29日(2015.10.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記一般式（１）で示される有機化合物を有することを特徴とする薬品封止用フィルム。
【化１】
2013173914.tif 000001
一般式（１）におけるＲは炭素数５以上１０以下の直鎖アルキレン基である。
ｎは１０以上４８０以下の整数である。
【請求項２】
前記ｎが５６以上４８０以下であることを特徴とする請求項１に記載の薬品封止用フィルム。
【請求項３】
前記ｎが５６以上９８以下であることを特徴とする請求項１または２に記載の薬品封止用フィルム。
【請求項４】
前記薬品封止用フィルムの厚さが、５μｍ以上１０００μｍ以下であることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか一項に記載の薬品封止用フィルム。
【請求項５】
前記薬品封止用フィルムの厚さが、１０μｍ以上１００μｍ以下であることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか一項に記載薬品封止用フィルム。
【請求項６】
請求項１乃至５のいずれか一項に記載のフィルムよりなるストレッチシール材。
【請求項７】
請求項１乃至５のいずれか一項に記載のフィルムよりなるトナーボトルシール材またはインクカートリッジシール材。
【請求項８】
液体を収容する容器と、前記容器が有する液体吐出口を封止するシール材を有し、
前記シール材は、請求項１乃至５のいずれか一項に記載の薬品封止用フィルムであることを特徴とする液体収容容器。
【手続補正書】
【提出日】平成26年11月28日(2014.11.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ルテニウム及びイットリア安定化ジルコニアを含有するアノード電極と、
ニッケル及びイットリア安定化ジルコニアを含有するカソード電極と、
前記アノード電極と前記カソード電極との間に設けられ、イットリア安定化ジルコニアを含有する多孔質の電解質膜と、
を有することを特徴とする電気化学反応器。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】電気化学反応器
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、電気化学反応器に関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明の目的は、人工的に二酸化炭素や一酸化炭素から炭素及び酸素を生成することができる電気化学反応器を提供することにある。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】削除
【補正の内容】