【手続補正書】
【提出日】平成27年1月7日(2015.1.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基体上に設けられた駆動用回路、
駆動用回路及び基体を覆う第１絶縁層、
第１電極、発光層を備えた有機層、及び、第２電極が積層されて成る発光部、並びに、
第１電極を覆う第２絶縁層、
を備えた発光素子が２次元マトリクス状に配列されて成る表示装置であって、
発光素子は、更に、
補助電極層、及び、
基体上に形成されたコンタクト部、
を備えており、
第１電極は、第１絶縁層上に形成されており、且つ、第１絶縁層に設けられた第１開口部に形成された第１電極延在部を介して駆動用回路に電気的に接続されており、
有機層は、少なくとも、第２絶縁層に形成された第２開口部の底部に露出した第１電極の部分の上に形成されており、
第１絶縁層には、底部にコンタクト部が露出した第３開口部が形成されており、
少なくとも第２絶縁層には、底部にコンタクト部が露出した第４開口部が形成されており、
補助電極層は、第１電極と離間して、第１絶縁層上から第３開口部内に亙り形成されており、
第２電極は、有機層上から第２絶縁層上、更には、第４開口部内に亙り形成されている表示装置。
【請求項２】
コンタクト部は、基体側から、少なくとも、第１コンタクト層及び第２コンタクト層の積層構造を有し、
第２コンタクト層を構成する材料のエッチング速度は、第１電極を構成する材料のエッチング速度よりも遅い請求項１に記載の表示装置。
【請求項３】
第２コンタクト層を構成する材料は、酸化され難い金属、又は、酸化され難い金属を含む材料から成る請求項２に記載の表示装置。
【請求項４】
第１コンタクト層を構成する材料は、第２コンタクト層を構成する材料よりも導電性の高い金属、又は、導電性の高い金属を含む材料から成る請求項２又は請求項３に記載の表示装置。
【請求項５】
駆動用回路は、ゲート電極、ゲート絶縁層、チャネル形成領域及びソース／ドレイン電極から成り、
ソース／ドレイン電極はコンタクト部と同一の構成を有する請求項１乃至請求項４のいずれか１項に記載の表示装置。
【請求項６】
補助電極層を構成する材料は、第１電極を構成する材料と同じである請求項１乃至請求項５のいずれか１項に記載の表示装置。
【請求項７】
第１絶縁層上の補助電極層の部分は、離間した状態で、第１絶縁層上に形成された第１電極を囲んでいる請求項１乃至請求項６のいずれか１項に記載の表示装置。
【請求項８】
表示装置の表示領域の縁部に位置する補助電極層の部分は、表示装置の周辺部に設けられた給電部に、基体上に形成されたコンタクト部、及び、コンタクト部から延びる配線層を介して接続されている請求項１請求項７のいずれか１項に記載の表示装置。
【請求項９】
請求項１乃至請求項８のいずれか１項に記載の表示装置を備えている電子機器。
【請求項１０】
駆動用回路、並びに、
第１電極、発光層を備えた有機層、及び、第２電極が積層されて成る発光部、
を備えた発光素子が２次元マトリクス状に配列されて成る表示装置の製造方法であって、
基体上に、駆動用回路及びコンタクト部を設けた後、
駆動用回路、コンタクト部及び基体を覆う第１絶縁層を形成し、次いで、
駆動用回路の上方に位置する第１絶縁層の部分に、底部に駆動用回路の一部が露出した第１開口部を形成し、併せて、コンタクト部の上方に位置する第１絶縁層の部分に、凹部、及び、底部にコンタクト部が露出した第３開口部を形成し、その後、
全面に導電材料層を形成した後、導電材料層をパターニングすることで、第１絶縁層上に第１電極を形成し、第１開口部内に第１電極延在部を形成し、第１絶縁層上から第３開口部内に亙り、第１電極と離間した補助電極層を形成し、併せて、凹部の底部の少なくとも一部から導電材料層を除去し、次いで、
露出した凹部の底部の部分に位置する第１絶縁層の部分を除去し、コンタクト部を露出させた後、全面に第２絶縁層を形成し、次いで、底部に第１電極が露出した第２開口部を第２絶縁層に形成し、併せて、凹部の底部の部分に露出したコンタクト部の部分に至る第４開口部を第２絶縁層に形成し、又は、
全面に第２絶縁層を形成し、次いで、凹部の上方に位置する第２絶縁層の部分を除去した後、更に、凹部の底部の部分に位置する第１絶縁層の部分を除去して、底部に第１電極が露出した第２開口部を第２絶縁層に形成し、併せて、凹部の底部の部分に露出したコンタクト部の部分に至る第４開口部を第２絶縁層及び第１絶縁層に形成した後、
第２開口部の底部に露出した第１電極の部分から第２絶縁層の一部の上に亙り有機層を形成し、その後、
有機層上から第２絶縁層上、更には、第４開口部内に亙り第２電極を形成する、
各工程から成る表示装置の製造方法。
【請求項１１】
第１絶縁層における凹部、第１開口部及び第３開口部の形成は、少なくとも、フォトリソグラフィ技術に基づき行われ、
フォトリソグラフィ技術においては、ハーフトーンマスク又はグレイトーンマスクを用いる請求項１０に記載の表示装置の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
このような問題を解決するために、第１電極が形成された絶縁層上に第２電極に接続された補助電極（補助配線）を形成する技術が、例えば、特開２００２−３１８５５６に開示されている。ここで、補助電極は、第１電極と同じ材料から構成されている。この特許公開公報に開示された技術において、第１電極及び補助電極を例えばアルミニウム（Ａｌ）やＡｌ合金から構成した場合、有機ＥＬ表示装置の製造工程において補助電極の表面が酸化され易い。そして、補助電極が酸化されると、第２電極の一部（第２電極延在部）を補助電極上に形成したとき、補助電極と第２電極との間の接触抵抗が増加する結果、電圧降下が生じる。そして、この電圧降下の増加に起因して、表示装置の消費電力が増加してしまう。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
【特許文献１】特開２００２−３１８５５６
【特許文献２】国際公開ＷＯ２００７／１４８５４０
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２６】
更には、以上に説明した好ましい形態を含む本開示の表示装置等において、表示装置の表示領域の縁部に位置する補助電極層の部分は、表示装置の周辺部に設けられた給電部に、基体上に形成されたコンタクト部、及び、コンタクト部から延びる配線層を介して接続されている形態とすることができる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３０】
一方、上面発光型の表示装置における第２電極、あるいは又、下面発光型の表示装置における第１電極（これらの電極を、便宜上、『半光透過電極』と呼ぶ場合がある）を構成する材料（半光透過材料あるいは光透過材料）として、半光透過電極をカソード電極として機能させる場合、発光光を透過し、しかも、有機層に対して電子を効率的に注入できるように仕事関数の値の小さな導電材料から構成することが望ましく、例えば、アルミニウム（Ａｌ）、銀（Ａｇ）、マグネシウム（Ｍｇ）、カルシウム（Ｃａ）、ナトリウム（Ｎａ）、ストロンチウム（Ｓｒ）、銅（Ｃｕ）、アルカリ金属又はアルカリ土類金属と銀（Ａｇ）との合金［例えば、マグネシウム（Ｍｇ）と銀（Ａｇ）との合金（Ｍｇ−Ａｇ合金）］、マグネシウム−カルシウムとの合金（Ｍｇ−Ｃａ合金）、アルミニウム（Ａｌ）とリチウム（Ｌｉ）の合金（Ａｌ−Ｌｉ合金）等の仕事関数の小さい金属あるいは合金を挙げることができ、中でも、Ｍｇ−Ａｇ合金が好ましく、マグネシウムと銀との体積比として、Ｍｇ：Ａｇ＝５：１〜３０：１を例示することができる。あるいは又、マグネシウムとカルシウムとの体積比として、Ｍｇ：Ｃａ＝２：１〜１０：１を例示することができる。半光透過電極の厚さとして、４ｎｍ乃至５０ｎｍ、好ましくは、４ｎｍ乃至２０ｎｍ、より好ましくは６ｎｍ乃至１２ｎｍを例示することができる。あるいは又、半光透過電極を、透明導電性酸化物、より具体的には、例えば、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、酸化アルミニウム・ドープの酸化亜鉛（ＡＺＯ）、ガリウム・ドープの酸化亜鉛（ＧＺＯ）、Ｉｎ−ＧａＺｎＯ4（ＩＧＺＯ）、インジウム−亜鉛複合酸化物（ＩＺＯ）、Ｆドープの酸化亜鉛（ＦＺＯ）を含む酸化亜鉛系材料；酸化インジウム（Ｉｎ2Ｏ3）、ＳｎドープのＩｎ2Ｏ3（ＩＴＯ）、フッ素ドープＳｎＯ2（ＦＴＯ）を含む酸化インジウム系材料；酸化錫（ＳｎＯ2）、アンチモンドープのＳｎＯ2（ＡＴＯ）、ＦドープのＳｎＯ2（ＦＴＯ）を含む酸化錫系材料から構成することもできる。あるいは又、半光透過電極を、有機層側から、上述した導電材料から成る第１層と、上述した透明導電性酸化物から成る第２層（例えば、厚さ３×１０-8ｍ乃至１×１０-6ｍ）との積層構造とすることもできる。積層構造とした場合、第１層の厚さを１ｎｍ乃至４ｎｍと薄くすることもできる。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５８】
表示装置１０の表示領域１０’の縁部に位置する補助電極層８１の部分は、表示装置１０の周辺部１０”に設けられた給電部（図１、図３、図４には図示せず）に、基体（第１基板）２１上に形成されたコンタクト部７１、及び、コンタクト部７１から延びる配線層（図１、図３、図４には図示せず）を介して接続されている。そして、給電部から配線層を介して、更には、補助電極層８１、コンタクト部７１を介して、第２電極６２に電圧が印加される。給電部、配線層、補助電極層８１、コンタクト部７１は、図２Ａ及び図２Ｂに示した第２電源ライン１５に含まれる。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５９】
発光部６０を構成する第１電極６１及び有機層６３は、第１絶縁層４１上に形成された第２絶縁層４２によって、隣接する発光部６０を構成する第１電極６１及び有機層６３と分離されている。第２開口部５２は、矩形の平面形状を有し、２次元マトリクス状に配列されている。また、第２絶縁層４２に形成され、コンタクト部７１が底部に露出した第４開口部５４は、上部が広く、下部が狭い形状（即ち、所謂、順テーパ形状）を有する。そして、第２電極６２と補助電極層８１とがコンタクト部７１を介して電気的に接続されている。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７１】
凹部５５の底部にあっては、第１絶縁層４１の一部４１Ａでコンタクト部７１が被覆されているので、エッチングによってコンタクト部７１がエッチングされることを防ぐことができる。また、凹部５５の底部の一部及び側壁には、補助電極層８１が形成されている。これによって、補助電極層８１の面積が増加し、補助電極層全体の低抵抗化を図ることができる。但し、凹部５５の底部の一部及び側壁に補助電極層８１を形成することは、必須ではない。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７８】
また、実施例１の表示装置の製造方法によれば、第１電極及び補助電極層を形成する際におけるエッチング工程において、コンタクト部は第１絶縁層で被覆された状態にあるので、コンタクト部がエッチングされることを防ぐことができる。しかも、コンタクト部とソース／ドレイン電極とを同一のエッチング液でエッチングすることが可能になるため、また、第１電極と補助電極層とを同一のエッチング液でエッチングすることが可能になるため、製造工程の簡素化を図ることができると共に、製造コストの低減を図ることが可能となる。また、コンタクト部を２層以上の積層構造とし、コンタクト部の頂面を耐酸化性の高い材料で構成することで、表示装置の製造時におけるコンタクト部の性能劣化を最小限に留めることができる。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９２】
実施例５においては、実施例１〜実施例４において説明した表示装置における表示領域の縁部に位置する補助電極層の部分等の説明を行う。
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９３】
図２１Ａに示すように、表示装置１０の表示領域１０’の縁部に位置する補助電極層８１の部分は、表示装置１０の周辺部１０”に設けられた給電部２３に、基体（第１基板）２１上に形成された、コンタクト部７１、及び、コンタクト部７１から延びる配線層２２を介して接続されている。これによって、給電部２３から配線層２２を介して、更には、補助電極層８１、コンタクト部７１を介して、第２電極６２に電圧が印加される。場合によっては、図２１Ｂに示すように、配線層２２の代わりに、コンタクト部７１を表示装置１０の周辺部１０”まで延在させ、コンタクト部７１の延在部を給電部としてもよい。
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１０２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１０２】
尚、本開示は、以下のような構成を取ることもできる。
［１］《表示装置》
基体上に設けられた駆動用回路、
駆動用回路及び基体を覆う第１絶縁層、
第１電極、発光層を備えた有機層、及び、第２電極が積層されて成る発光部、並びに、
第１電極を覆う第２絶縁層、
を備えた発光素子が２次元マトリクス状に配列されて成る表示装置であって、
発光素子は、更に、
補助電極層、及び、
基体上に形成されたコンタクト部、
を備えており、
第１電極は、第１絶縁層上に形成されており、且つ、第１絶縁層に設けられた第１開口部に形成された第１電極延在部を介して駆動用回路に電気的に接続されており、
有機層は、少なくとも、第２絶縁層に形成された第２開口部の底部に露出した第１電極の部分の上に形成されており、
第１絶縁層には、底部にコンタクト部が露出した第３開口部が形成されており、
少なくとも第２絶縁層には、底部にコンタクト部が露出した第４開口部が形成されており、
補助電極層は、第１電極と離間して、第１絶縁層上から第３開口部内に亙り形成されており、
第２電極は、有機層上から第２絶縁層上、更には、第４開口部内に亙り形成されている表示装置。
［２］コンタクト部は、基体側から、少なくとも、第１コンタクト層及び第２コンタクト層の積層構造を有し、
第２コンタクト層を構成する材料のエッチング速度は、第１電極を構成する材料のエッチング速度よりも遅い［１］に記載の表示装置。
［３］第２コンタクト層を構成する材料は、酸化され難い金属、又は、酸化され難い金属を含む材料から成る［２］に記載の表示装置。
［４］第１コンタクト層を構成する材料は、第２コンタクト層を構成する材料よりも導電性の高い金属、又は、導電性の高い金属を含む材料から成る［２］又は［３］に記載の表示装置。
［５］第２コンタクト層は、モリブデン又はチタンを含む材料から成り、
第１コンタクト層は、アルミニウム、銀及び銅から成る群から選択された少なくとも１種類の金属を含む材料から成る［２］乃至［４］のいずれか１項に記載の表示装置。
［６］駆動用回路は、ゲート電極、ゲート絶縁層、チャネル形成領域及びソース／ドレイン電極から成り、
ソース／ドレイン電極はコンタクト部と同一の構成を有する［１］乃至［５］のいずれか１項に記載の表示装置。
［７］コンタクト部の下には、少なくとも、ゲート電極を構成する層から成る第１層、及び、ゲート絶縁層を構成する層から成る第２層の積層構造が形成されている［６］に記載の表示装置。
［８］第４開口部は、上部が広く、下部が狭い形状を有する［１］乃至［７］のいずれか１項に記載の表示装置。
［９］第１電極は、アルミニウム又は銀を含む材料から成り、発光層からの光を反射する［１］乃至［８］のいずれか１項に記載の表示装置。
［１０］補助電極層を構成する材料は、第１電極を構成する材料と同じである［１］乃至［９］のいずれか１項に記載の表示装置。
［１１］第２電極は、発光層からの光を透過する［１］乃至［１０］のいずれか１項に記載の表示装置。
［１２］第２電極は、複数の発光素子において共通である［１］乃至［１１］のいずれか１項に記載の表示装置。
［１３］第１絶縁層上の補助電極層の部分は、離間した状態で、第１絶縁層上に形成された第１電極を囲んでいる［１］乃至［１２］のいずれか１項に記載の表示装置。
［１４］表示装置の表示領域の縁部に位置する補助電極層の部分は、表示装置の周辺部に設けられた給電部に、基体上に形成されたコンタクト部、及び、コンタクト部から延びる配線層を介して接続されている［１］乃至［１３］のいずれか１項に記載の表示装置。
［１５］《電子機器》
［１］乃至［１４］のいずれか１項に記載の表示装置を備えている電子機器。
［１６］《表示装置の製造方法》
駆動用回路、並びに、
第１電極、発光層を備えた有機層、及び、第２電極が積層されて成る発光部、
を備えた発光素子が２次元マトリクス状に配列されて成る表示装置の製造方法であって、
基体上に、駆動用回路及びコンタクト部を設けた後、
駆動用回路、コンタクト部及び基体を覆う第１絶縁層を形成し、次いで、
駆動用回路の上方に位置する第１絶縁層の部分に、底部に駆動用回路の一部が露出した第１開口部を形成し、併せて、コンタクト部の上方に位置する第１絶縁層の部分に、凹部、及び、底部にコンタクト部が露出した第３開口部を形成し、その後、
全面に導電材料層を形成した後、導電材料層をパターニングすることで、第１絶縁層上に第１電極を形成し、第１開口部内に第１電極延在部を形成し、第１絶縁層上から第３開口部内に亙り、第１電極と離間した補助電極層を形成し、併せて、凹部の底部の少なくとも一部から導電材料層を除去し、次いで、
露出した凹部の底部の部分に位置する第１絶縁層の部分を除去し、コンタクト部を露出させた後、全面に第２絶縁層を形成し、次いで、底部に第１電極が露出した第２開口部を第２絶縁層に形成し、併せて、凹部の底部の部分に露出したコンタクト部の部分に至る第４開口部を第２絶縁層に形成し、又は、
全面に第２絶縁層を形成し、次いで、凹部の上方に位置する第２絶縁層の部分を除去した後、更に、凹部の底部の部分に位置する第１絶縁層の部分を除去して、底部に第１電極が露出した第２開口部を第２絶縁層に形成し、併せて、凹部の底部の部分に露出したコンタクト部の部分に至る第４開口部を第２絶縁層及び第１絶縁層に形成した後、
第２開口部の底部に露出した第１電極の部分から第２絶縁層の一部の上に亙り有機層を形成し、その後、
有機層上から第２絶縁層上、更には、第４開口部内に亙り第２電極を形成する、
各工程から成る表示装置の製造方法。
［１７］第１絶縁層における凹部、第１開口部及び第３開口部の形成は、少なくとも、フォトリソグラフィ技術に基づき行われ、
フォトリソグラフィ技術においては、ハーフトーンマスク又はグレイトーンマスクを用いる［１６］に記載の表示装置の製造方法。