(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
フィルム表裏での分子配向状態が、入射角度４５度のゲルマニウムプリズムを内部反射エレメントに用いた偏光ＡＴＲ法にて測定した水平偏光スペクトルのＡ１１５０cm−１／Ａ１２０５cm−１吸光度比／垂直偏光スペクトルの当該吸光度比の比にて定義される配向ファクターの差に基づいて０．０３以上相違するフッ素系ポリマーフィルムからなることを特徴とするフッ素系基材。
【請求項２】
請求項１において、同じ組成の粘着層に対する接着力が１８０度ピール値に基づきフィルムの表裏で１０gf／20mm以上相違するフッ素系基材。
【請求項３】
請求項１又は２において、当該配向ファクターが０．７８未満の表面層又は裏面層を有するフッ素系基材。
【請求項４】
上記１〜３の各請求項の一において、表面層又は裏面層が分子配向状態にあるフッ素系基材。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の技術分野】
本発明は、粘着層に対する接着力が表裏で相違して粘着層の支持基材やセパレータなどに好適なフッ素系基材に関する。
【０００２】
【発明の背景】
一般に耐薬品性や耐候性等の諸物性に優れるフッ素系ポリマーからなるフィルムは、粘着層との接着力が弱く、その優れた諸物性を活かした粘着面用のセパレータとしての用途が期待されている。しかしながら、セパレータとして利用する場合には、被覆対象の粘着層の種類や使用目的などに応じて粘着層との接着力を制御し、またセパレータの表裏で接着力を相違させる必要があるが、その制御が困難な問題点があった。
【０００３】
セパレータを形成するフッ素系ポリマーの種類を代えることで粘着層との接着力を変更しうるが、かかる対策ではフッ素系ポリマーの種類数に粘着層との接着力の変更幅が制約され、要求される接着力の制御幅に充分に対処できず、またセパレータ表裏での接着力の相違化には対処できない。
【０００４】
【発明の技術的課題】
本発明は、同じフッ素系ポリマーからなるフィルムにても粘着層に対する接着力を幅広く変更でき、フィルム表裏での接着力についても相違させることができるフッ素系基材の開発を課題とする。
【０００５】
【課題の解決手段】
本発明は、フィルムの表裏における分子配向状態が配向ファクターの差に基づいて０．０３以上相違するフッ素系ポリマーフィルムからなることを特徴とするフッ素系基材を提供するものである。なお前記の配向ファクターは、入射角度４５度のゲルマニウムプリズムを内部反射エレメントに用いた偏光ＡＴＲ法にて測定した水平偏光スペクトルのＡ１１５０cm−１／Ａ１２０５cm−１吸光度比／垂直偏光スペクトルの当該吸光度比の比にて定義される。
【０００６】
【発明の効果】
フッ素系ポリマーフィルムにおける分子配向状態を相違させることにより、同じ組成の粘着層に対してもその接着力を相違させることができる。従って分子配向状態を変更することで同じフッ素系ポリマーのフィルムにても粘着層に対する接着力を幅広く変更でき、またフィルム表裏での分子配向状態を相違させることでフィルム表裏での接着力も相違させることができる。
【０００７】
また分子配向状態は、延伸処理やラビング処理等の簡単な操作で容易に制御できることより目的の基材の量産性に優れており、表面粗さに影響されにくいことより例えば表面粗さが０．２μｍ以下等の接着力を変化させにくい平滑な表面状態にても分子配向状態は変化させることができて粘着層との接着力を制御でき、剥離コートを設けることなくそのままセパレータなどとして用いることができる。
【０００８】
【発明の実施形態】
本発明によるフッ素系基材は、フッ素系ポリマーからなるフィルムよりなり、そのフィルムの表裏における分子配向状態が配向ファクターの差に基づいて０．０３以上相違するものからなる。なお配向ファクターは、入射角度４５度のゲルマニウムプリズムを内部反射エレメントに用いた偏光ＡＴＲ法にて測定した水平偏光スペクトルのＡ１１５０cm−１／Ａ１２０５cm−１吸光度比／垂直偏光スペクトルの当該吸光度比の比にて定義される。
【０００９】
フィルムを形成するフッ素系ポリマーについては、特に限定はない。ちなみにその例としては、ポリテトラフルオロエチレンやテトラフルオロエチレン・パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体、テトラフルオロエチレン・ヘキサフルオロプロピレン共重合体やエチレン・テトラフルオロエチレン共重合体、ポリクロロトリフルオロエチレンやエチレン・クロロトリフルオロエチレン共重合体、ポリビニリデンフロリドやポリビニルフロリドなどがあげられる。
【００１０】
用いるフィルムは、Ｔダイ押出し成形方式やキャスティング方式などの適宜な製膜方式で形成されたものであってよい。フィルムの形成に際しては、１種又は２種以上のフッ素系ポリマーを用いることができ、また物性の改良などを目的にフッ素系ポリマー以外の適宜なポリマーを併用でき、添加剤等を配合することもできる。
【００１１】
フィルムの厚さについては、特に限定はなく、使用目的などに応じて適宜な厚さとすることができる。一般には３ｍｍ以下、就中１μｍ〜１ｍｍ、特に３〜５００μｍとされる。なお前記したフッ素系ポリマー以外のポリマーを併用する場合、その使用量は、耐薬品性や耐候性等のフッ素系ポリマーの良特性を活かす点などよりフッ素系ポリマーの５０重量％以下、就中４０重量％以下、特に３０重量％以下とすることが好ましい。
【００１２】
フッ素系基材は、同じ組成の粘着層に対するフィルム表裏での接着力を相違させることを目的に、フィルム表裏における分子配向状態を配向ファクターの差に基づいて０．０３以上相違させたものである。その相違については、１８０度ピール値に基づいて１０gf／20mm以上相違するものが好ましいが、その分子配向状態の相違の形態については特に限定はない。従って例えば分子配向が有る状態と無い状態との組合せ、分子配向は有るがその配向の程度や方向等が相違する組合せなどの適宜な相違状態の組合せからなるものであってよい。
【００１３】
フィルム表裏での同じ組成の粘着層に対する接着力の相違化、就中１８０度ピール値に基づいて２０gf／20mm以上、特に４０gf／20mm以上相違させる点などより好ましい分子配向状態の相違は、配向ファクターに基づく差が０．０４以上、特に０．０５以上のものである。配向ファクターは、全く分子配向していない場合に１．０となり、配向度の向上と共にその値が小さくなる。
【００１４】
なお前記した配向ファクターは、入射角度４５度のゲルマニウムプリズムを内部反射エレメントに用いた偏光ＡＴＲ法にて測定した、水平偏光スペクトルのＡ１１５０ｃｍ−１／Ａ１２０５ｃｍ−１吸光度比（Ｈ）と、垂直偏光スペクトルのＡ１１５０ｃｍ−１／Ａ１２０５ｃｍ−１吸光度比（Ｖ）とのＨ／Ｖによる比にて定義される（以下同じ）。
【００１５】
上記においてフィルム表裏での分子配向状態の相違化は、ラビング法やロール摩擦法等の摩擦処理法などの適宜な処理法を適用して行うことができる。前記の摩擦処理法によれば通例、その処理面の粘着層との接着力を向上させることができる。これは、摩擦処理でフィルムを形成するフッ素系ポリマーのフッ素側鎖が表面に対して配向し、その処理表面でのフッ素側鎖の配向度の向上（配向ファクターの減少）で接着剤（粘着剤）等との濡れ性が変化することによるものと考えられる。
【００１６】
前記のロール摩擦法は、ピンチロール間にフィルムを導入して熱圧延などを施す処理法であり、フィルムに対する摩擦処理を連続的に効率よく施すことができ、またフィルムの製造工程に容易に組み込むことができて、本発明によるフッ素系基材の量産性に特に優れている。
【００１７】
なおフィルムに摩擦処理等による歪みの残留することがフッ素系基材の用途によっては好ましくない場合がある。そのような場合には、加熱ゾーンを経由させる方式などの適宜な方式の加熱処理で残留歪みの低減を図ることができる。
【００１８】
上記したように本発明によるフッ素系基材の形成に用いるフィルムは、分子配向したものであってもよいし、分子配向していないものであってもよいが、一般にはフッ素系ポリマーの結晶性に基づいて分子配向した部分を含む状態が通例である。従ってその場合には前記した摩擦処理等は、その分子配向状態を変化させるための処理ということもできる。
【００１９】
前記において本発明においてはフィルム表裏での分子配向状態を相違させる点、特に摩擦処理法にて分子配向状態を相違させる点よりは、フッ素系ポリマーの結晶性などに基づいて分子配向した状態にあるフィルムが好ましく用いうる。その場合、上記したフィルム表裏での接着力の大きい相違を達成する点より、０．７８以上、就中０．７９以上の配向ファクターを示すフィルムが好ましく用いうる。
【００２０】
前記の配向ファクターが０．７８以上のフィルムを用いることにより、その表面又は裏面に上記した摩擦処理法を適用して配向ファクターが０．７８未満、就中０．７５以下、特に０．７３以下の表面層又は裏面層を容易に形成でき、フィルム表裏での配向ファクター差が０．０３以上、就中０．０４以上、特に０．０５以上のフッ素系基材を効率よく得ることができる。なお配向ファクターの高いフィルムを得ることを目的に、一軸や二軸等の適宜な延伸処理などを施した配向フィルムとすることもできる。
【００２１】
本発明によるフッ素系基材は、粘着層に対するフィルム表裏での接着力が相違することより、フッ素系ポリマーフィルムの特性を活かした各種の粘着面に対する仮着カバー用のセパレータとして、剥離コートを設けることなくそのまま用いることができる
【００２２】
また接着力の大きい側に粘着層を付設する支持基材として用いて、その粘着テープ等を自背面に接着する方式で巻回体としても容易に巻き戻すことができ、従って各種粘着部材の支持基材などとしても好ましく用いることができる。その場合、粘着層の形成には例えばゴム系やアクリル系、シリコーン系やビニルアルキルエーテル系、ポリビニルアルコール系やポリビニルピロリドン系、ポリアクリルアミド系やセルロース系、フッ素系などの各種の粘着性物質を用いることができる。
【００２３】
なおフッ素系基材への粘着層の付設は、例えばドクターブレード法やグラビアロールコータ法等の塗工方式、カレンダーロール法等のシートラミネート方式、あるいは前記に準じセパレータ上に粘着層を形成してそれをフッ素系基材に移着する方式などの適宜な方式にて行うことができる。
【００２４】
【実施例】
実施例１
ポリテトラフルオロエチレンからなる厚さ５０μｍの長尺フィルムをピンチロール間に導入して熱圧延するロール摩擦法にて厚さ３０μｍのフィルムからなるフッ素系基材を得た。その長尺のフッ素系基材の長さ方向に対して直角な方向（幅方向）に切り出した試験片について表裏面の配向ファクターを調べたところ表面で０．８０，裏面で０．７２であった。
【００２５】
前記の配向ファクターは、１７２０Ｘ型ＦＴ−ＩＲ（パーキンエルマー社製）と赤外偏光子と角度可変型ＭＩＲ（パーキンエルマー社製）に内部反射エレメントとして角度４５度の台形ゲルマニウムプリズムを用いたＴＧＳ検出器による偏光ＡＴＲ法にて、分解能４ｃｍ−１、積算１６回の条件で同じ試験片についてＦＴＩＲ−ＡＴＲによる水平偏光スペクトルと垂直偏光スペクトルを測定し、その測定値より図１（水平偏光スペクトル）、図２（垂直偏光スペクトル）に例示の如く水平偏光スペクトルのＡ１１５０ｃｍ−１／Ａ１２０５ｃｍ−１吸光度比（Ｈ）と、垂直偏光スペクトルのＡ１１５０ｃｍ−１／Ａ１２０５ｃｍ−１吸光度比（Ｖ）を算出し、それよりＨ／Ｖ（水平偏光吸光度比／垂直偏光吸光度比）による比として求めたものである（以下同じ）。なお配向ファクターは、全く分子配向していない場合に１．０となり、配向度の向上と共にその値が小さくなる。
【００２６】
実施例２
ポリテトラフルオロエチレンからなる厚さ５０μmの長尺フィルムをピンチロール間に導入して熱圧延するロール摩擦法にて厚さ３０μmのフィルムからなり、表裏面の配向ファクターが表面で０．７７、裏面で０．７４のフッ素系基材を得た。
【００２７】
実施例３
キャスティング法にてポリテトラフルオロエチレンからなる厚さ３０μｍで表裏面での配向ファクターが０．７９のフィルムを得、その片面をベンコットンにて軽くラビングしてフッ素系基材を得た。そのラビング面の配向ファクターを調べたところ０．６０であった。
【００２８】
実施例４
キャスティング法にてポリテトラフルオロエチレンからなる厚さ３０μmで表裏面での配向ファクターが０．７８のフィルムを得、その片面をベンコットンにて軽くラビングしてラビング面の配向ファクターが０．５６のフッ素系基材を得た。
【００２９】
比較例１
表裏面の配向ファクターが表面で０．７７、裏面で０．７６のポリテトラフルオロエチレンフィルム（無処理物）を用いた。
【００３０】
比較例２
表裏面の配向ファクターが表面で０．７５、裏面で０．７６のポリテトラフルオロエチレンフィルム（無処理物）を用いた。
【００３１】
評価試験
実施例１，２、比較例１，２で得た幅２０ｍｍのフッ素系基材又はフィルムを、ステンレス板に接着した両面粘着テープ（日東電工社製、Ｎｏ．５００）の上に２ｋｇのゴムローラを１往復させる方式で圧着し、引張圧縮試験機にて１８０度ピールによる接着力（２３℃、６５％ＲＨ、剥離速度３００ｍｍ／分）をフィルムの表裏について調べ、その差を求めた。
【００３２】
前記の結果を表１に示した。
0003566574.tif 000002
【００３３】
前記に準じ、実施例３，４のフッ素系基材についてラビング処理前後における接着力を調べた。その結果を表２に示した。
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【図面の簡単な説明】
【図１】水平偏光スペクトルを示したグラフ
【図２】垂直偏光スペクトルを示したグラフ
【図１】
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【図２】
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