【事件の表示】
　特願２００３−４０７９４０「ＤＬＣ被覆工具」拒絶査定不服審判事件〔平成１７年　１月２７日出願公開、特開２００５−　２２０７３〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１　手続の経緯・本願発明
　本件出願は、特許法第４１条に基づく優先権主張を伴う平成１５年１２月５日（優先日、平成１５年６月１１日）の特許出願であって、その請求項１ないし９に係る発明は、平成１８年１０月２６日付けの手続補正書によって補正された特許請求の範囲、明細書及び図面の記載からみて、本願の特許請求の範囲の請求項１ないし９に記載された事項により特定されるとおりのものと認められるところ、その請求項１に記載された発明は、次のとおりである。（以下「本願発明」という。）
「基材と、該基材を被覆するＤＬＣ膜とを備えるＤＬＣ被覆工具であって、該ＤＬＣ膜の密度が、２．５ｇ／ｃｍ３〜３．０ｇ／ｃｍ３の範囲内であり、さらに、膜厚の１／１０以下の押し込み深さになるように制御された押し込み荷重での、前記ＤＬＣ膜に対するナノインデンテーション法による試験において、最大押し込み深さをｈｍａｘとし、荷重除荷後の押し込み深さ（圧痕深さ）をｈｆとした場合、（ｈｍａｘ−ｈｆ）／ｈｍａｘの値が０．６５〜０．９の範囲内であって、前記ＤＬＣ膜の刃先部での最大厚みが０．０１〜０．１８μｍの範囲内であることを特徴とする、ＤＬＣ被覆工具。」
　
２　引用刊行物記載の発明
　これに対して、当審での平成２０年５月２６日付けの拒絶の理由に引用された、本願の優先日前である平成１５年５月２１日に頒布された特開２００３−１４７５０８号公報（以下「引用例」という。）には、以下の発明が記載されている。
（１）特許請求の範囲の請求項１
「密度が２．８ｇ／ｃｍ３以上３．３ｇ／ｃｍ３以下であることを特徴とする炭素膜。」
（２）段落【０００１】
「【発明の属する技術分野】本発明は高硬度の炭素膜、その成膜方法、およびその炭素膜を被覆してなる部材に関し、工具、金型、機械部品、電気・電子部品あるいは光学部品などの被覆に適用される。」
（３）段落【０００９】
「本発明の目的は、上記のように、ダイヤモンド膜あるいはダイヤモンド状炭素膜にはその利用にあたって一長一短を有することから、これらに代わる新しい炭素膜とその成膜方法、およびその炭素膜で被覆してなる部材を提供しようとするものである。」
（４）段落【００２１】
「本発明の炭素膜被覆部材における炭素膜の厚みは、その対象部材などにより適宜決められるが、通常は１０ｎｍ〜３μｍ、好ましくは０．０５μｍ〜２μｍである。この膜厚が薄すぎると耐磨耗性の向上が不十分になり耐久性を付与するための満足な効果が得られない。一方、あまりに厚すぎると膜の剥離が生じやすくなり寿命の低下が起こることがある。」
（５）段落【００３１】〜【００３３】
「・・・
＜実施例９〜１１および比較例７、８＞超硬合金製平板に、プラズマＣＶＤ法（比較例７）、レーザーアブレーション法（実施例１０）、カソードアークイオンプレーティング法（実施例９、１１）および非平衡型マグネトロンスパッタリング法（比較例８）の各方法よって炭素膜を被覆した。
　得られた各炭素膜について、ピン・オン・ディスクタイプの摩擦磨耗試験機で磨耗量の比較試験を実施した。ここで、ピンには先端径Ｒ３ｍｍのＳＵＪ２を、ディスクには炭素膜を被覆した超硬合金を適用し、荷重は１０Ｎ、回転速度は１００ｍｍ／ｓｅｃ、温度は室温、雰囲気は大気とした。ディスクの磨耗量を相対値で比較した。また、リング・オン・ディスクタイプの摩擦磨耗試験機で耐久試験を実施した。ここで、相手材のリングに外径５０ｍｍのＳＵＪ２を、プレートに炭素膜を被覆した超硬合金を適用し、リングの外周の一点が常時プレートの同じ場所にあるように配置しリングを回転させて試験を行った。なお、荷重は５０Ｎ、回転速度は３０００ｍｍ／ｓｅｃ、温度は摩擦熱の温度、雰囲気は大気とした。摩擦抵抗をモニターし、抵抗値が大きく変化する時点を膜のなくなった時点と判断して寿命比較を相対値で比較した。
　さらに、同一ロットのテストピースで、密度、スピン密度、各種元素濃度、ヌープ硬度を測定した。上記の測定結果等をまとめて表４に示す。」
（６）段落【００３４】の表４
　表４には、実施例９として、カソードアークイオンプレーティング法により、密度２．９０ｇ／ｃｍ３、ヌープ硬度２８００の炭素膜を超硬合金製平板に被覆したものが記載されている。
　以上（１）〜（６）の記載事項から、引用例には、「超硬合金製工具と、カソードアークイオンプレーティング法により該工具を被覆する炭素膜からなる成膜とを備える炭素膜被覆工具であって、炭素膜の密度が２．９０ｇ／ｃｍ３であり、ヌープ硬度が２８００であり、炭素膜の厚みが０．０５μｍ〜２μｍである炭素膜被覆工具。」の発明（以下、「引用発明」という。）が記載されていると認められる。
　
３　対比
　本願発明と引用発明を対比すると、引用発明の「超硬合金製工具」は、本願発明の「基材」に相当する。また、引用発明の「炭素膜」は、「炭素からなる膜」という限りで、本願発明の「ＤＬＣ膜」と共通する。
　以上の点から、両者は「基材と、該基材を被覆する炭素からなる膜とを備える炭素からなる膜被覆工具であって、該炭素からなる膜の密度が、２．５ｇ／ｃｍ３〜３．０ｇ／ｃｍ３の範囲内である、炭素からなる膜被覆工具。」で一致し、以下の点で相違している。
＜相違点１＞
　基材を被覆する炭素からなる膜に関して、本願発明では、「ＤＬＣ膜」としているのに対して、引用発明では、「炭素膜」としている点。
＜相違点２＞
　炭素からなる膜の性質に関して、本願発明では、「膜厚の１／１０以下の押し込み深さになるように制御された押し込み荷重での、ＤＬＣ膜に対するナノインデンテーション法による試験において、最大押し込み深さをｈｍａｘとし、荷重除荷後の押し込み深さ（圧痕深さ）をｈｆとした場合、（ｈｍａｘ−ｈｆ）／ｈｍａｘの値が０．６５〜０．９の範囲内」としているのに対して、引用発明では、ヌープ硬度が２８００であるものの、ナノインデンテーション法による試験での数値は不明な点。
＜相違点３＞
　炭素からなる膜の厚みに関して、本願発明では、「刃先部での最大厚みが０．０１〜０．１８μｍの範囲内」としているのに対して、引用発明では、炭素膜の厚みを０．０５〜２μｍとしている点。
　
４　当審の判断
　上記相違点について検討する。
（１）＜相違点１＞について
　「ＤＬＣ膜」とは、「ダイヤモンド状炭素膜」の意味である。ここで、引用例の段落【００１４】に「本発明の炭素膜は、前記１）項のとおり、密度が２．８ｇ／ｃｍ３以上３．３ｇ／ｃｍ３以下であることを特徴とする。ダイヤモンドの密度は３．５２９ｇ／ｃｍ３であり、その一方で一般のダイヤモンド炭素膜の密度は１．５〜２．５ｇ／ｃｍ３程度である。本発明の炭素膜は、これらの中間領域の密度を有するものである。」と記載されていることから、引用発明は、従来のダイヤモンド状炭素膜よりも、よりダイヤモンドの密度に近づけた炭素膜である。そして、そのような炭素膜を「ダイヤモンド状炭素膜」と言い得るものであることは明らかである。すなわち、引用発明の「炭素膜」は、「ＤＬＣ膜」と呼ぶことができる。したがって、相違点１について、実質的な相違点であるとは認められない。
（２）＜相違点２＞について
　引用発明の炭素膜も、その密度は２．９０ｇ／ｃｍ３であることから、硬度の高い被膜である。ここで、炭素からなる膜の弾性定数や硬度は、例えば、特開２００２−３２２５５５号公報の段落【００１６】に「炭素層の膜密度とその中に含まれる水素との関係については、Scheibeらが報告（IEEE Tran. On Plasma Sci., vol 25(1997),p685）しているように、ＤＬＣの膜密度は弾性定数Ｅおよび膜硬度Ｈに密接に相関することが知られている。すなわち、膜密度が高いとＥおよびＨがともに大きくなり、膜密度が低いとＥおよびＨがともに低くなる。」と記載されているように、その密度に密接に相関するものであると考えられるところ、当該密度は本願発明のＤＬＣ膜の密度「２．５ｇ／ｃｍ３〜３．０ｇ／ｃｍ３」に含まれるものである。してみると、引用発明の炭素膜も、膜厚の１／１０以下の押し込み深さになるように制御された押し込み荷重での、ＤＬＣ膜に対するナノインデンテーション法による試験を行い、最大押し込み深さをｈｍａｘとし、荷重除荷後の押し込み深さ（圧痕深さ）をｈｆとした場合、（ｈｍａｘ−ｈｆ）／ｈｍａｘの値が０．６５〜０．９の範囲内となる蓋然性が高い。
　この点に関して、審判請求人は、平成２０年７月１４日付け意見書において、「さらに、本願請求項１に係る発明におきましては、本願明細書の段落［００５４］に記載されていますように、成膜後にＨｅガスを導入して急冷することによって（ｈｍａｘ−ｈｆ）／ｈｍａｘの値が０．６５〜０．９の範囲内に入るように制御していますので、本願のような製法で成膜がなされていない引用例に記載の発明は、当然に、（ｈｍａｘ−ｈｆ）／ｈｍａｘの値が０．６５〜０．９の範囲内には入ることは考えられません。」（第２頁第１５行〜第１９行）と主張した。そこで、審判合議体は平成２０年８月１１日付けで、「ＤＬＣの成膜後、急冷しない場合は、（ｈｍａｘ−ｈｆ）／ｈｍａｘの値が常に０．６５〜０．９の範囲内には入らないものとなることを、実験データ等により、明らかにされたい。」と、密度が同じでも（ｈｍａｘ−ｈｆ）／ｈｍａｘの値が０．６５〜０．９の範囲内には入らないものが存在することを明らかにするよう、審判請求人に対して審尋を行った。
　しかしながら、上記審尋に対して審判請求人は何ら応答しなかった。
　したがって、引用発明の炭素膜も、膜厚の１／１０以下の押し込み深さになるように制御された押し込み荷重での、膜に対するナノインデンテーション法による試験を行い、最大押し込み深さをｈｍａｘとし、荷重除荷後の押し込み深さ（圧痕深さ）をｈｆとした場合、（ｈｍａｘ−ｈｆ）／ｈｍａｘの値が０．６５〜０．９の範囲内となるものと判断せざるを得ない。
　よって、相違点２について、実質的な相違点とすることはできない。
（３）＜相違点３＞について
　引用発明では、炭素膜の厚みを０．０５〜２μｍとしていることから、例えば、炭素膜の厚みとして０．０５μｍを採用すれば、その刃先部の最大厚みにおいても、０．１８μｍの範囲内となる蓋然性は高い。また、刃先部の最大厚みが０．１８μｍという値については、特に臨界的意義が存在するものでもない。さらに、炭素膜の厚みの最小値が０．０５μｍであるから、刃先部においても、炭素膜の厚みが０．０１μｍ以上であることは明らかである。
　以上の点から、引用発明において、炭素膜の刃先部での最大厚みを０．０１〜０．１８μｍの範囲内とすることも、当業者が容易になし得たものであるとせざるを得ない。
　
５　むすび
　したがって、本願発明は、引用例に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができず、本願の請求項２ないし９に係る発明について検討するまでもなく、本願は拒絶されるべきものである。
　
　よって、結論のとおり審決する。