(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
光源と光学記録媒体との間に回折素子を配置した光ヘッド装置に用いられる回折素子であって、
２枚の基板間に光学異方性材料を充填されてなり、前記２枚の基板の少なくとも一方の基板の表面に格子状のガラス製凸部が形成されており、その凸部の屈折率が、光学異方性材料の常光屈折率又は異常光屈折率のいずれかにほぼ等しい屈折率である、光学異方性を有する回折素子の製造方法において、
前記ガラス製凸部を形成する方法が、ガラス基板上にガラスフリット膜を形成し、焼成した後、プレス成形する工程を備えていることを特徴とする回折素子の製造方法。
【請求項２】
光源と光学記録媒体との間に回折素子を配置した光ヘッド装置に用いられる回折素子であって、
２枚の基板間に光学異方性材料を充填されてなり、前記２枚の基板の少なくとも一方の基板の表面に格子状のガラス製凸部が形成されており、その凸部の屈折率が、光学異方性材料の常光屈折率又は異常光屈折率のいずれかにほぼ等しい屈折率である、光学異方性を有する回折素子の製造方法において、
前記ガラス製凸部を形成する方法が、ガラス基板上にゾルゲル法によりガラス質膜を形成し、そのガラス質膜をゲル状態でプレス成形し、その後焼成する工程を備えていることを特徴とする回折素子の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、ＣＤ（コンパクトディスク）、ＣＤ−ＲＯＭ、ビデオディスク等の光ディスク及び光磁気ディスク等に光学的情報を書き込んだり、光学的情報を読み取るための光ヘッド装置及びその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来、光ディスク及び光磁気ディスク等に光学的情報を書き込んだり、光学的情報を読み取る光ヘッド装置としては、ディスクの記録面から反射された信号光を検出部へ導光（ビームスプリット）する光学部品としてプリズム式ビームスプリッタを用いたものと、回折格子又はホログラム素子を用いたものとが知られていた。
【０００３】
光ヘッド装置用の回折格子又はホログラム素子は、ガラスやプラスチック基板上に、矩形の断面を有する矩形格子（レリーフ型）をドライエッチング法又は射出成形法によって形成し、これによって光を回折しビームスプリット機能を付与していた。
【０００４】
また、光の利用効率が１０％程度の等方性回折格子よりも光の利用効率を上げようとした場合、偏光を利用することが考えられる。偏光を利用しようとすると、プリズム式ビームスプリッタにλ／４板を組み合わせて、往路（光源から記録面へ向かう方向）及び復路（記録面から検出部へ向かう方向）の効率を上げて往復効率を上げる方法があった。
【０００５】
しかし、プリズム式偏光ビームスプリッタは高価であり、他の方式が模索されていた。一つの方式としてＬｉＮｂＯ3 等の複屈折結晶の平板を用い、表面に異方性回折格子を形成し偏光選択性をもたす方法が知られている。しかし、複屈折結晶自体が高価であり、生産性が悪いので、民生分野への適用は困難であった。またプロトン交換法によりＬｉＮｂＯ3 上に格子を形成しようとすると、プロトン交換液中のプロトンが基板中に拡散しやすいため、細かいピッチの格子を形成するのは困難である問題もあった。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
これを解決するために、基板に凹凸形状を形成し、これと液晶とを組合せて異方性回折格子を形成することも知られている。これは、通常基板をエッチングしたり、切削したりして基板に凹凸形状を形成することが考えられる。
【０００７】
しかし、ガラス基板はウエットエッチングでは、精密な凹凸の加工が難しく、ドライエッチングも簡単ではない。このため、本発明者らはこれを生産しやすくするために、ガラス基板上にＳｉＯ２膜やＳｉＯＮ膜を形成し、これをドライエッチングする方法も提案している。
【０００８】
このような透明な膜を形成しておきエッチングする場合も、ドライエッチングというエッチングを行う必要があるため、より生産性が高く、かつ精密な凹凸形状が容易に作成できる製造方法が望まれていた。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
本発明は、前述の問題点を解決すべくなされたものであり、光源と光学記録媒体との間に回折素子を配置した光ヘッド装置に用いられる回折素子であって、２枚の基板間に光学異方性材料を充填されてなり、その２枚の基板の少なくとも一方の基板の表面に格子状のガラス製凸部が形成されており、その凸部の屈折率が、光学異方性材料の常光屈折率又は異常光屈折率のいずれかにほぼ等しい屈折率である、光学異方性を有する回折素子の製造方法において、そのガラス製凸部を形成する方法が、ガラス基板上にガラスフリット膜を形成し、焼成した後、プレス成形する工程を備えていることを特徴とする回折素子の製造方法を提供する。
【００１０】
また、その光ヘッド装置の回折素子の基板のガラス製凸部を形成する方法が、ガラス基板上にゾルゲル法によりガラス質膜を形成し、そのガラス質膜をゲル状態でプレス成形し、その後焼成する工程を備えていることを特徴とする回折素子の製造方法を提供する。
【００１１】
【発明の実施の形態】
図１は、本発明の回折格子が用いられる光ヘッド装置の基本的な構成を示す模式図である。図１において、１は半導体レーザのような光源、２は光学異方性回折格子、３はλ／４板のような位相差素子である。４は回折素子であり、この光学異方性回折格子２と位相差素子３からなる。５は光を集光する集光レンズ、６は光学記録媒体、７は検出器である。
【００１２】
図２は、光学異方性回折格子の参考例の断面図であり、ガラス基板自体に凸部を形成した例を示す。図２において、１１は凸部を設けた第１の基板、１２は平坦な第２の基板、１３はその凸部、１４は周辺をシールするシール材、１５はその間に配置される光学異方性材料である液晶である。本発明では、この基板の凸部はガラス基板上に形成した透明材料膜の型による成形によって形成されているが、図２の参考例ではガラス基板である第１の基板１１自体の材料で凸部１３が形成されている。
【００１３】
図３は、本発明で用いられる光学異方性回折格子の他の例の断面図であり、ガラス基板上に透明材料膜による凸部を形成した例を示す。図３において、２１は凸部を設けた第１の基板、２２は平坦な第２の基板、２３はその凸部、２４は周辺をシールするシール材、２５はその間に配置される光学異方性材料である液晶である。本発明では、この基板の凸部は型による成形によって形成されており、図３の例ではガラス基板上に積層されたガラスによる透明材料層で凸部２３が形成されている。
【００１４】
図４及び図５は、別の参考例及び本発明で用いられる光学異方性回折格子の他の例の断面図であり、凸部がブレーズ形状にされた例を示す。図４はガラス基板自体に凸部を形成した参考例を、図５はガラス基板上に透明材料膜による凸部を形成した例を示す。
【００１５】
図４及び図５において、３１、４１は凸部を設けた第１の基板、３２、４２は平坦な第２の基板、３３、４３はその凸部、３４、４４は周辺をシールするシール材、３５、４５はその間に配置される光学異方性材料である液晶である。図４の参考例ではガラス基板である第１の基板３１自体の材料でブレーズ状の凸部３３が形成されている。図５の例ではガラス基板上に積層されたガラスによる透明材料層でブレーズ状の凸部４３が形成されている。
【００１６】
本発明においては、凸部はガラスで形成されており、凸部は型による成形によって形成される。具体的には、プレス成形が行われる。このプレス成形はバッチのプレスでもよく、連続したプレスでもよい。
【００１７】
第１の基板におけるガラス製の凸部は、基板の表面に、ガラス製の透明材料膜を形成してそれを凸部に形成する。本発明では、この基板と組合せて使用される光学異方性材料としては、液晶が代表的な材料として使用される。
【００１８】
基板上に形成する透明材料膜は、この基板に屈折率がほぼ等しい屈折率が１．５程度のものが用いられる。また凸部の屈折率を、液晶の異常光屈折率と一致させることもできる。通常液晶の異常光屈折率は１．６〜１．８程度であるので、基板及び透明材料膜の屈折率が異常光屈折率に合うように材料を選択する。
【００１９】
本発明の光学異方性回折格子では、この基板の表面に形成された透明材料膜を、所定の形状に加工して格子状の凸部を形成する。この場合、凸部の深さ、ピッチ、形状は目的とする回折形状に応じて決めればよい。この凸部の形成は、型による成形により行う。型による成形の方法としては、以下のものが挙げられる。
【００２０】
ガラス基板上にガラス製の透明材料膜を形成し、この透明材料膜に凸部をプレス成形する。透明材料膜は、フリットペースト法、ゾルゲル法により基板上に形成される。
【００２１】
ガラス基板を直接プレス成形する方法に比べて、フリットペースト法では、低温でのプレス成形が容易になり、型の寿命、熱変形の点で有利である。すなわち、フリットペースト法では、ガラスフリット膜を形成し、これを焼成してガラス製の透明材料膜とするので、比較的軟化点が低い透明材料膜を容易に形成でき、低温プレスが可能になる。
【００２２】
また、ゾルゲル法では、ガラス基板上にゾルゲル法によりガラス質膜を形成し、そのガラス質膜をゲル状態でプレス成形し、その後焼成して形成する。この方法では、ガラス質膜をゲル状態でプレスすることにより、ガラスフリット膜に比してさらに低温でプレス成形ができ、有利である。
【００２３】
本発明では、凸部は液晶の常光屈折率か異常光屈折率に屈折率を合わせる。ガラス基板を直接型によって成形する場合には、そのガラス基板の屈折率がそれに合っていること及び比較的低い温度で成形できることという２つの制約を受ける。そして、ガラスは量産では窯で溶解しており、組成を簡単には変えられないので、逆に液晶を選択して使用せざるをえない。
【００２４】
これに対し、このガラスフリット膜やゾルゲル法を用いる製造方法では、比較的屈折率を変化させるのが容易である。このため、液晶との屈折率のマッチングを取るのが容易になる。この場合、下地のガラス基板は、通常の液晶表示素子に用いられているようなガラス基板が使用できる。このため、安価に凸部付きの基板が得られる。
【００２５】
本発明の光学異方性回折格子は、以下のようにして作製する。
まず第１のガラス基板（第１の基板）について、前記のような型による成形法により基板上に積層した透明材料膜に凸部を形成する。前記凹凸部の長手方向に垂直な面における断面形状は、長方形、正方形等の左右対称の矩形状でもよく、階段状、のこぎり状等の左右非対称の形状でもよい。
【００２６】
この凸部が、左右非対称の形状の場合には、光学異方性回折格子による±１次回折光のうちいずれか一方の回折効率が高くなり、回折効率の高い方の回折光のみを検出すればよく、検出器が１つで高い光の利用効率が得られる。
【００２７】
本発明では、通常、第１の基板の液晶と接する側の面にポリイミド等の配向膜を形成し、この配向膜の液晶配向方向を凸部の長手方向に合わせる。この液晶の配向は、ラビングで行ってもよく、斜め蒸着等の他の方法で行ってもよいが、ラビング法で行うことが生産性がよい。
【００２８】
次に第２のガラス基板（第２の基板）を用意し、やはりその液晶と接する側の面にもポリイミド配向膜を形成し、この配向膜のラビング方向を第１の基板のラビング方向と同一方向にラビングする。
【００２９】
このように液晶配向方向を同一にして、第２のガラス基板を第１のガラス基板に積層接着する。その際、第１のガラス基板と第２のガラス基板の周辺部に、シール材を、液晶注入用の開口部以外の部分に塗布し接着する。このシール材には、エポキシ樹脂等の樹脂やガラスフリットに必要に応じてスペーサを混入したものを用いればよい。そして、真空中で前記開口部から液晶を注入し、前記開口部を封着用の樹脂で塞ぐ。
【００３０】
なお、このシール工程、液晶注入工程、開口部封止工程は、上記工程に限られず、液晶注入とシール圧着を同時に行うような工程とすることもできる。
【００３１】
本発明で用いられる液晶としては、高分子液晶、液晶モノマー、液晶組成物等が適宜使用できる。通常の液晶組成物の場合、通常のＴＮ型液晶で用いられているネマチック液晶を使用すればよい。屈折率異方性が大きい液晶を用いることが回折角を大きく取れるので好ましい。具体的には、△ｎ≧０．２、特には△ｎ≧０．２５が好ましい。
【００３２】
液晶として高分子液晶を用いる場合は、液晶モノマーを注入後、配向した状態で紫外線を照射するか加熱して液晶モノマーを重合させればよい。その場合、凸部のみによっても高分子液晶は配向できるので、液晶が特定の方向に配向していれば、配向膜は省略してもよい。なお、この高分子液晶を用いる場合には、液晶モノマーでの配向を維持して高分子化されていればよいので、高分子液晶になってからその配向が変化する必要はない。
【００３３】
このようにして製造した光学異方性回折格子に、λ／４板を代表とする位相差素子を積層して回折素子を作製する。この位相差素子は、光学異方性回折格子を通過してきた光を円偏光にする。この位相差素子は光源とは反対側に、すなわち、光学記録媒体側に配置される。この位相差素子としては、ポリカーボネート、ポリビニルアルコール等の材料からなる公知の位相差フィルムが使用できる。
【００３４】
この場合、本発明では、光学異方性回折格子は凸部を形成した第１のガラス基板が光源とは反対側にきて、この第１のガラス基板に位相差素子が積層されるようにする。
【００３５】
このように格子状の凸部（長手方向が図１の奥行き方向）が光源とは反対にあるとし、正の誘電異方性ネマチック液晶を用い、第１の基板の格子状の凸部の屈折率を液晶の常光屈折率にほぼ等しくし、これに半導体レーザからのＰ波（紙面に平行な方向の偏光を持つ）が入射した場合の動作を図１を参照しつつ説明する。
【００３６】
往路においては、半導体レーザから入射したＰ波に対して、異方性回折格子は、格子状の凸部の屈折率と液晶部の屈折率はほぼ等しいので、回折格子として機能せずにそのまま光は透過する。
【００３７】
復路においては、位相差フィルムによって偏光方向は変化し、異方性回折格子にＳ波で入射する。そのとき、Ｓ波に対応する液晶の屈折率は異常光屈折率に相当するので、格子状凸部の屈折率（ほぼ常光屈折率に等しい）とは異なり、回折格子として機能し光の回折が起こる。
【００３８】
本発明のもう一つの形態として、第１の基板の格子状の凸部の屈折率を液晶の異常光屈折率にほぼ等しくするものがある。この場合も、回折光が光検知器に到達するようにしなくてはならないので、図１で格子状の凸部の長手方向は図１の紙面に奥行き方向とされる。これにより、半導体レーザからのＳ波入力素子に、適用できる。
【００３９】
この場合も、本発明では、光学異方性回折格子は凸部を形成した第１のガラス基板が光源とは反対側にきて、この第１のガラス基板に位相差素子が積層されるようにする。
【００４０】
このように格子状の凸部（長手方向が図１の奥行き方向）が光源とは反対にあるとし、正の誘電異方性ネマチック液晶を用い、第１の基板の格子状の凸部の屈折率を液晶の異常光屈折率にほぼ等しくし、これに半導体レーザからのＳ波（紙面に垂直な方向の偏向を持つ）が入射した場合の動作を図１を参照しつつ説明する。
【００４１】
往路においては、半導体レーザから入射したＳ波に対して、異方性回折格子は、格子状の凸部の屈折率と液晶部の屈折率はほぼ等しいので、回折格子として機能せずにそのまま光は透過する。
【００４２】
復路においては、位相差フィルムによって偏光方向は変化し、異方性回折格子にＰ波で入射する。そのとき、Ｐ波に対応する液晶の屈折率は常光屈折率に相当するので、格子状凸部の屈折率（ほぼ異常光屈折率に等しい）とは異なり、回折格子として機能し光の回折が起こる。
【００４３】
本発明の回折素子は、光源側の基板表面、すなわち、第２の基板側にも他の回折格子を形成してもよく、その場合光検出器への回折と３ビーム法によるトラッキングエラー検出のための回折の両方が１個の素子で実現できる。
【００４４】
本発明における光学異方性回折格子の凸部のパターンは、光学記録媒体からの戻り光のビーム形状が所望の形状になるように、回折格子面内で曲率をつけたり、格子間隔に分布をつけたりすることもできる。
【００４５】
上記の説明では、液晶はねじれていない例について説明したが、本発明では液晶はねじれていてもよい。液晶をねじらせるには、配向膜の配向処理方向をそれに合わせて配置し、必要に応じて液晶にねじれを起こさせる成分を添加する。この場合、格子を形成する凸部の長手方向は、ねじれて伝搬してきた偏光が往路では回折を生じなく、復路で回折を生じるように、それに合わせて配置する。
【００４６】
本発明において、回折素子の光源側の面及び／又は光学記録媒体側の面に、ＵＶ硬化型アクリル樹脂等の被膜を設けた場合、λ／４板やガラス基板の表面の凹凸に起因する波面収差を低減でき好ましい。さらにこのＵＶ硬化型アクリル樹脂等の被膜の上に、平坦度のよいガラス基板やプラスチック基板等を積層することにより、格段に波面収差を低減でき好ましい。したがって、回折素子の光の入出射面が平坦化されていることにより、結果的に波面収差が低減される。
【００４７】
本発明における光源としては半導体レーザ、ＹＡＧレーザ等の固体レーザ、Ｈｅ−Ｎｅ等の気体レーザが使用でき、半導体レーザが小型軽量化、連続発振、保守点検等の点で好ましい。光源部に半導体レーザ等と非線形光学素子を組み込んだ高調波発生装置（ＳＨＧ）を使用し、青色レーザ等の短波長レーザを用いると、高密度の光記録及び読み取りが可能になる。
【００４８】
本発明の光学記録媒体は、光により情報を記録及び／又は読み取ることができる媒体である。その例としてはＣＤ、ＣＤ−ＲＯＭ、ＤＶＤ（デジタルビデオディスク）等の光ディスク、及び光磁気ディスク、相変化型光ディスク等が挙げられる。
【００４９】
【実施例】
「例１」
メチルトリメトキシシランを主成分とし、氷酢酸、コロイダルシリカ、テトライソプロピルチタネートを含む混合液を室温で８時間撹拌し、１０ｍｍ×１０ｍｍ×厚さ０．５ｍｍ、屈折率１．５２のガラス基板上に塗布した。室温で放置し、ゲル化させた後、これを４００℃でプレス成形し、４５０℃で３０分焼成した。
【００５０】
その結果、屈折率が１．５２、長手方向に垂直な面における断面形状が矩形状の格子状の凸部１３を形成した。このときの凸部のピッチは１３μｍ、深さは１．４μｍであった。その液晶に接する側の面にポリイミド配向膜を形成した。そのラビング方向が前記凸部の長手方向（図２の図に垂直方向）に沿うようにした。
【００５１】
縦１０ｍｍ×横１０ｍｍ×厚さ０．５ｍｍ、屈折率１．５２の第２のガラス基板を用意し、その液晶に接する側の面にポリイミド配向膜を形成した。そのラビング方向が前記凸部の長手方向と同一方向となるようにした。次いで、第１のガラス基板と、第２のガラス基板とを相互の配向方向が平行になる状態で重ね合わせ、周辺部を液晶注入用の開口部を除いてシールした。
【００５２】
具体的には次のようにした。８μｍの球状スペーサを含むエポキシ樹脂を第２のガラス基板の周辺部に塗布し、その上に第１のガラス基板を載置した。その後、減圧雰囲気中で液晶として混合液晶組成物（メルク社製商品名「ＢＬ００９」、ネマチック液晶、Δｎ＝０．２８、常光屈折率＝１．５２、異常光屈折率＝１．８０、固体液晶相への相転移温度≦−２０℃、アイソトロピック相への相転移温度＝１０８℃）を注入した。前記開口部を封止用の樹脂で塞ぎ、光学異方性回折格子を作製した。
【００５３】
次いで、第１のガラス基板の外面（凸部を設けた面と反対側の面）に、透明接着剤を用いてポリカーボネート製の位相差フィルムを接着した。さらにその上にＵＶ硬化型アクリル樹脂を塗布した。さらにその上に第３のガラス基板を載置し、紫外線を照射して第３のガラス基板を積層接着した。さらに素子全体について、光の入射面及び光の出射面に反射防止膜を形成し、回折素子を作製した。
【００５４】
この回折素子は、半導体レーザからの波長６５０ｎｍのＰ波（図１において紙面に平行な偏光方向の光）に対して９０％の透過率であった。光ディスクからのＳ波（紙面に垂直な偏光方向の光）に対しては、１次回折光の回折効率が２５％、−１次回折光の回折効率が２６％であった。
【００５５】
したがって往復効率は、０．９０×０．５１で計算すると４５．９％となり、実用上充分に高い効率が得られた。また透過光の波面収差は、回折素子の光の入出射面の中心部（直径２ｍｍの円形の範囲）で、０．０１５λｒｍｓ（自乗平均）以下であった。
【００５６】
「例２」
ＰｂＯを多量に含む屈折率１．７９、ガラス転移点３８０℃、屈伏点４６０℃のガラスフリットを、α−テルピネオールにエチルセルロースを溶解したバインダと混練してペースト状にし、縦１０ｍｍ×横１０ｍｍ×厚さ０．５ｍｍ、屈折率１．８０のガラス基板上に印刷した後、５５０℃で減圧、焼成し、膜厚２０μｍの透明な薄膜にした。
【００５７】
これを４００℃でプレス成形し、その結果、長手方向に垂直な面における断面形状がブレーズ状の格子状の凸部４３を形成した。このときの凸部のピッチは１３μｍ、深さは２μｍであった。その液晶に接する側の面にポリイミド配向膜を形成した。そのラビング方向が前記凸部の長手方向（図５の図に垂直方向）に沿うようにした。
【００５８】
縦１０ｍｍ×横１０ｍｍ×厚さ０．５ｍｍ、屈折率１．８０の第２のガラス基板を用いた他は例１と同様にして、配向膜を形成し、第１のガラス基板と重ね合わせシールし、同じ液晶を注入して光学異方性回折格子を作製した。さらに例１と同様に位相差フィルムを接着し、ＵＶ硬化型アクリル樹脂で第３のガラス基板を積層接着し、光の入射面及び光の出射面に反射防止膜を形成し、回折素子を作製した。
【００５９】
この回折素子は、半導体レーザからの波長６７８ｎｍのＳ波（図１において紙面に垂直な偏光方向の光）に対して９０％の透過率であった。光ディスクからのＰ波（紙面に平行な偏光方向の光）に対しては、１次回折光の回折効率が６５％、−１次回折光の回折効率が５％であった。
【００６０】
したがって往復効率は、１次回折光のみの場合は０．９０×０．６５で計算すると５８％となり、実用上充分に高い効率が得られた。また透過光の波面収差は、回折素子の光の入出射面の中心部（直径２ｍｍの円形の範囲）で、０．０１５λｒｍｓ（自乗平均）以下であった。
【００６１】
「例３（参考例）」
縦１０ｍｍ×横１０ｍｍ×厚さ０．５ｍｍ、屈折率１．７９、ガラス転移点４５５℃、屈伏点４７５℃の光学ガラス（オハラ社製「ＳＦ６」）を、４８０℃でプレス成形し、その結果、長手方向に垂直な面における断面形状がブレーズ状の格子状の凸部３３を形成した。このときの凸部のピッチは１３μｍ、深さは２μｍであった。その液晶に接する側の面にポリイミド配向膜を形成した。そのラビング方向が前記凸部の長手方向（図４の図に垂直方向）に沿うようにした。
【００６２】
縦１０ｍｍ×横１０ｍｍ×厚さ０．５ｍｍ、屈折率１．７９の第２のガラス基板を用いた他は例１と同様にして、配向膜を形成し、第１のガラス基板と重ね合わせシールし、同じ液晶を注入して光学異方性回折格子を作製した。さらに例１と同様に位相差フィルムを接着し、ＵＶ硬化型アクリル樹脂で第３のガラス基板を積層接着し、光の入射面及び光の出射面に反射防止膜を形成し、回折素子を作製した。
【００６３】
この回折素子は、半導体レーザからの波長６７８ｎｍのＳ波（図１において紙面に垂直な偏光方向の光）に対して９０％の透過率であった。光ディスクからのＰ波（紙面に平行な偏光方向の光）に対しては、１次回折光の回折効率が６３％、−１次回折光の回折効率が５％であった。
【００６４】
したがって往復効率は、１次回折光のみの場合は０．９０×０．６３で計算すると５６．７％となり、実用上充分に高い効率が得られた。また透過光の波面収差は、回折素子の光の入出射面の中心部（直径２ｍｍの円形の範囲）で、０．０１６λｒｍｓ（自乗平均）以下であった。
【００６５】
【発明の効果】
本発明では、型による成形により表面に格子状のガラス製凸部が形成された基板と光学異方性材料とを用いて光学異方性回折格子を形成しているので、精密な回折格子形状が容易に得られる。また、型による成形なので、生産性が極めて高い。さらに、ドライエッチングでは難しいブレーズ形状も容易に得られる。
【００６６】
特に、その回折素子の基板のガラス製凸部を、ガラス基板上にガラスフリット膜を形成し、焼成した後、プレス成形して形成することにより、低温で成形ができ、型の損耗が減少する。
【００６７】
また、ガラス基板上にゾルゲル法によりガラス質膜を形成し、そのガラス質膜をゲル状態でプレス成形し、その後焼成して形成することにより、より低温で成形が可能になり、型の損耗が減少する。
【００６８】
本発明は、本発明の効果を損しない範囲内で種々の応用が可能である。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の光ヘッド装置の基本的な構成を示す模式図。
【図２】光学異方性回折格子の参考例の断面図。
【図３】本発明で用いられる光学異方性回折格子の他の例の断面図。
【図４】光学異方性回折格子の他の参考例の断面図。
【図５】本発明で用いられる光学異方性回折格子の他の例の断面図。
【符号の説明】
１：光源
２：光学異方性回折格子
３：位相差素子
４：回折素子
５：集光レンズ
６：光学記録媒体
７：光検出器
１１：第１の基板
１２：第２の基板
１３：凸部
１４：シール材
１５：液晶
【図１】
0003550905.tif 000002
【図２】
0003550905.tif 000003
【図３】
0003550905.tif 000004
【図４】
0003550905.tif 000005
【図５】
0003550905.tif 000006