(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を保持する基板保持手段と、
処理液を吐出する処理液吐出ノズルと、
前記基板保持手段に静止状態で保持された基板の一方端縁の外方から基板上を通過して基板の他方端縁の外方へ前記処理液吐出ノズルを移動させる移動手段と、
前記処理液吐出ノズルが基板の中心部から基板の他方端縁を通過する間に前記処理液吐出ノズルを減速させる速度制御手段とを備え、
前記処理液吐出ノズルが基板の直径以上の幅で前記移動手段による移動方向とほぼ垂直な方向に直線状に処理液を吐出し、前記処理液吐出ノズルが前記基板上を通過した後に処理液の吐出を停止することを特徴とする基板処理装置。
【請求項２】
基板を保持する基板保持手段と、
処理液を吐出する処理液吐出ノズルと、
前記基板保持手段に静止状態で保持された基板の一方端縁の外方から基板上を通過して基板の他方端縁の外方へ前記処理液吐出ノズルを移動させる移動手段と、
前記処理液吐出ノズルを基板の中心部から基板の他方端縁に至るまでに所定の速度まで減速させた後、一定速度で基板の他方端縁を通過させる速度制御手段とを備え、
前記処理液吐出ノズルが前記基板上を通過した後に処理液の吐出を停止することを特徴とする基板処理装置。
【請求項３】
基板を保持する基板保持手段と、
処理液を吐出する処理液吐出ノズルと、
前記基板保持手段に静止状態で保持された基板の一方端縁の外方から基板上を通過して基板の他方端縁の外方へ前記処理液吐出ノズルを移動させる移動手段と、
前記処理液吐出ノズルを基板の一方端縁から中心部まで一定速度で移動させるとともに、前記処理液吐出ノズルが基板の中心部から基板の他方端縁を通過する間に前記処理液吐出ノズルを減速させる速度制御手段とを備えたことを特徴とする基板処理装置。
【請求項４】
前記速度制御手段は、前記処理液吐出ノズルを基板の中心部から基板の他方端縁に至るまでに所定の速度まで減速させた後、一定速度で基板の他方端縁を通過させることを特徴とする請求項１または３記載の基板処理装置。
【請求項５】
前記速度制御手段は、前記処理液吐出ノズルを基板の中心部から基板の他方端縁の外方に至るまで連続的または段階的に減速させることを特徴とする請求項１または３記載の基板処理装置。
【請求項６】
前記処理液吐出ノズルは、前記基板保持手段に保持される基板の直径以上の幅を有することを特徴とする請求項２または３記載の基板処理装置。
【請求項７】
静止状態で保持された基板の一方端縁の外方から基板上を通過して基板の他方端縁の外方へ処理液吐出ノズルを移動させつつ前記処理液吐出ノズルから前記基板の直径以上の幅で前記移動方向とほぼ垂直な方向に直線状に基板上に処理液を供給する基板処理方法であって、
前記処理液吐出ノズルが基板の中心部から基板の他方端縁を通過する間に前記処理液吐出ノズルを減速させ、
前記処理液吐出ノズルが前記基板上を通過した後に前記処理液吐出ノズルによる処理液の吐出を停止させることを特徴とする基板処理方法。
【請求項８】
静止状態で保持された基板の一方端縁の外方から基板上を通過して基板の他方端縁の外方へ処理液吐出ノズルを移動させつつ前記処理液吐出ノズルから基板上に処理液を供給する基板処理方法であって、
前記処理液吐出ノズルを基板の中心部から基板の他方端縁に至るまでに所定の速度まで減速させた後、一定速度で基板の他方端縁を通過させ、
前記処理液吐出ノズルが前記基板上を通過した後に前記処理液吐出ノズルによる処理液の吐出を停止させることを特徴とする基板処理方法。
【請求項９】
静止状態で保持された基板の一方端縁の外方から基板上を通過して基板の他方端縁の外方へ処理液吐出ノズルを移動させつつ前記処理液吐出ノズルから基板上に処理液を供給する基板処理方法であって、
前記処理液吐出ノズルを基板の一方端縁から中心部まで一定速度で移動させるとともに、前記処理液吐出ノズルが基板の中心部から基板の他方端縁を通過する間に前記処理液吐出ノズルを減速させることを特徴とする基板処理方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、処理液を吐出する処理液吐出ノズルを備えた基板処理装置および基板処理方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
半導体ウエハ、液晶表示装置用ガラス基板、フォトマスク用ガラス基板、光ディスク用基板等の基板上に形成された感光性膜に現像処理を行うために現像装置が用いられる。
【０００３】
例えば、回転式の現像装置は、基板を水平に保持して鉛直軸の周りで回転させる回転保持部と、基板の表面に現像液を供給する現像液吐出ノズルとを備える。現像液吐出ノズルは、水平面内で回動自在に設けられたノズルアームの先端に取り付けられており、基板の上方位置と基板外の待機位置との間を移動することができる。
【０００４】
現像処理時には、現像液吐出ノズルが待機位置から基板の上方位置に移動した後、基板上のフォトレジスト等の感光性膜に現像液を供給する。供給された現像液は、基板の回転によって基板の全面に塗り広げられ、感光性膜と接触する。表面張力により基板上に現像液を保持した状態（液盛り）で一定時間基板を静止させることにより感光性膜の現像が行われる。現像液の供給が終了すると、現像液吐出ノズルはノズルアームの回動により基板の上方から外れた待機位置に移動する。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
上記の従来の回転式の現像装置では、回転する基板に吐出開始時の現像液が当たることにより基板上の感光性膜が大きな衝撃を受ける。その衝撃で現像液中に気泡が生じ、感光性膜の表面に残留する微小な気泡が現像欠陥となる場合がある。また、吐出開始時の現像液による衝撃で感光性膜が損傷するおそれもある。
【０００６】
そこで、本発明者は、スリット状吐出口を有する現像液吐出ノズルから現像液を吐出しながら基板上の一端から他端へ現像液吐出ノズルを直線状に移動させることにより、現像液の供給の初期段階における基板上の現像液の流動を抑えつつ基板上に均一な衝撃力で現像液を供給する現像方法を提案している。
【０００７】
この現像方法においては、図１０に示すように、スリット状吐出口２３から現像液を吐出しながら現像液吐出ノズル２０を基板１００外の一方側の位置から基板１００上を通過して基板１００外の他方側の位置まで移動させることにより基板１００上に現像液を供給し、液盛りする。
【０００８】
図１１は、図１０の現像液が供給された基板の平面図である。図中矢印は現像液吐出ノズル２０の走査方向を示す。領域２１は現像液が供給されている領域であり、領域２２は現像液が供給されていない領域である。
【０００９】
上記のように、スリット状吐出口２３から基板１００上に現像液を吐出しながら現像液吐出口ノズル２０を基板１００の一方端縁から他方端縁まで走査すると、基板１００の他方端縁上に現像液が供給されていない領域２２が生じる場合があることが判明した。
【００１０】
本発明の目的は、基板の全面に処理液を均一に供給することができる基板処理装置および基板処理方法を提供することである。
【００１１】
【課題を解決するための手段および発明の効果】
本発明者は、基板上に現像液が供給されない領域が発生する原因を解明するために種々の実験および検討を行った結果、基板上に処理液を吐出しながら基板上を走査する処理液吐出ノズルが基板の端縁から離間する際に、表面張力により処理液が基板の端縁から引っ張られ、その引っ張られた処理液が破断し、基板上の処理液が破断による反動および表面張力で基板の中央部に引き戻されることにより、基板の端縁に処理液のない領域が生じるという知見を得た。上記のような知見に基づいて、本発明者は以下の発明を案出したものである。
【００１２】
第１の発明に係る基板処理装置は、基板を保持する基板保持手段と、処理液を吐出する処理液吐出ノズルと、基板保持手段に静止状態で保持された基板の一方端縁の外方から基板上を通過して基板の他方端縁の外方へ処理液吐出ノズルを移動させる移動手段と、処理液吐出ノズルが基板の中心部から基板の他方端縁を通過する間に処理液吐出ノズルを減速させる速度制御手段とを備え、処理液吐出ノズルが基板の直径以上の幅で移動手段による移動方向とほぼ垂直な方向に直線状に処理液を吐出し、処理液吐出ノズルが基板上を通過した後に処理液の吐出を停止するものである。
【００１３】
本発明に係る基板処理装置においては、処理液吐出ノズルは、基板の直径以上の幅で移動手段による移動方向とほぼ垂直な方向に直線状に処理液を吐出しつつ基板保持手段に静止状態で保持された基板の一方端縁の外方から基板上を通過して基板の他方端縁の外方まで移動する。これにより、基板上に処理液が供給される。このとき、処理液吐出ノズルは、基板の中心部から基板の他方端縁を通過する間に減速し、基板の他方端縁の外方へ到達する。
【００１４】
このように、処理液吐出ノズルが基板の中心部から基板の他方端縁を通過する間に減速するので、処理液吐出ノズルが基板の他方端縁から離間する際に、処理液吐出ノズルに引っ張られた処理液が緩やかに破断する。そのため、処理液の破断による反動が小さくなり、基板の端縁近傍の処理液が基板の中心部に引き戻される現象が生じない。その結果、基板の全面に均一に処理液が供給される。
【００１５】
また、処理液の破断による反動が小さいので、処理液吐出ノズルに引っ張られた処理液の破断の際に基板上の処理液に振動が伝わることが防止される。その結果、基板上の処理液にむらが生じない。
【００１６】
第２の発明に係る基板処理装置は、基板を保持する基板保持手段と、処理液を吐出する処理液吐出ノズルと、基板保持手段に静止状態で保持された基板の一方端縁の外方から基板上を通過して基板の他方端縁の外方へ処理液吐出ノズルを移動させる移動手段と、処理液吐出ノズルを基板の中心部から基板の他方端縁に至るまでに所定の速度まで減速させた後、一定速度で基板の他方端縁を通過させる速度制御手段とを備え、処理液吐出ノズルが基板上を通過した後に処理液の吐出を停止するものである。
【００１７】
本発明に係る基板処理装置においては、処理液吐出ノズルは、処理液を吐出しつつ基板保持手段に静止状態で保持された基板の一方端縁の外方から基板上を通過して基板の他方端縁の外方まで移動する。これにより、基板上に処理液が供給される。このとき、処理液吐出ノズルは、基板の中心部から基板の他方端縁を通過する間に減速し、基板の他方端縁の外方へ到達する。
【００１８】
このように、処理液吐出ノズルが基板の中心部から基板の他方端縁を通過する間に減速し、一定速度で基板の他方端縁を通過するので、処理液吐出ノズルが基板の他方端縁から離間する際に、処理液吐出ノズルに引っ張られた処理液が緩やかに破断する。そのため、処理液の破断による反動が小さくなり、基板の端縁近傍の処理液が基板の中心部に引き戻される現象が生じない。その結果、基板の全面に均一に処理液が供給される。
【００１９】
また、処理液の破断による反動が小さいので、処理液吐出ノズルに引っ張られた処理液の破断の際に基板上の処理液に振動が伝わることが防止される。その結果、基板上の処理液にむらが生じない。
【００２０】
第３の発明に係る基板処理装置は、基板を保持する基板保持手段と、処理液を吐出する処理液吐出ノズルと、基板保持手段に静止状態で保持された基板の一方端縁の外方から基板上を通過して基板の他方端縁の外方へ処理液吐出ノズルを移動させる移動手段と、処理液吐出ノズルを基板の一方端縁から中心部まで一定速度で移動させるとともに、処理液吐出ノズルが基板の中心部から基板の他方端縁を通過する間に処理液吐出ノズルを減速させる速度制御手段とを備えたものである。
【００２１】
本発明に係る基板処理装置においては、処理液吐出ノズルは、処理液を吐出しつつ基板保持手段に静止状態で保持された基板の一方端縁の外方から基板上を通過して基板の他方端縁の外方まで移動する。これにより、基板上に処理液が供給される。このとき、処理液吐出ノズルは、基板の一方端縁から中心部まで一定速度で移動し、基板の中心部から基板の他方端縁を通過する間に減速し、基板の他方端縁の外方へ到達する。
【００２２】
このように、処理液吐出ノズルが基板の一方端縁から中心部まで一定速度で移動し、基板の中心部から基板の他方端縁を通過する間に減速するので、処理液吐出ノズルが基板の他方端縁から離間する際に、処理液吐出ノズルに引っ張られた処理液が緩やかに破断する。そのため、処理液の破断による反動が小さくなり、基板の端縁近傍の処理液が基板の中心部に引き戻される現象が生じない。その結果、基板の全面に均一に処理液が供給される。
【００２３】
また、処理液の破断による反動が小さいので、処理液吐出ノズルに引っ張られた処理液の破断の際に基板上の処理液に振動が伝わることが防止される。その結果、基板上の処理液にむらが生じない。
【００２４】
第４の発明に係る基板処理装置は、第１または第３の発明に係る基板処理装置の構成において、速度制御手段は、処理液吐出ノズルを基板の中心部から基板の他方端縁に至るまでに所定の速度まで減速させた後、一定速度で基板の他方端縁を通過させるものである。
【００２５】
この場合、処理液吐出ノズルは基板の他方端縁に至るまでに所定の速度まで減速し、一定速度で基板の他方端縁を通過する。そのため、処理液吐出ノズルを一定の低速度で基板の他方端縁を通過させることができる。
【００２６】
第５の発明に係る基板処理装置は、第１または第３の発明に係る基板処理装置の構成において、速度制御手段は、処理液吐出ノズルを基板の中心部から基板の他方端縁の外方に至るまで連続的または段階的に減速させるものである。
【００２７】
この場合、処理液吐出ノズルは基板の他方端縁の外方に至るまで連続的または段階的に減速する。そのため、処理液吐出ノズルを減速しつつ基板の他方端縁を通過させることができる。
【００２８】
第６の発明に係る基板処理装置は、第２または第３の発明に係る基板処理装置の構成において、処理液吐出ノズルは、基板保持手段に保持される基板の直径以上の幅を有するものである。
【００２９】
この場合、処理液吐出ノズルを基板の一方端縁から他方端縁まで１回走査させることにより、基板上の全域に処理液が均一に供給される。
【００３０】
第７の発明に係る基板処理方法は、静止状態で保持された基板の一方端縁の外方から基板上を通過して基板の他方端縁の外方へ処理液吐出ノズルを移動させつつ処理液吐出ノズルから基板の直径以上の幅で移動方向とほぼ垂直な方向に直線状に基板上に処理液を供給する基板処理方法であって、処理液吐出ノズルが基板の中心部から基板の他方端縁を通過する間に処理液吐出ノズルを減速させ、処理液吐出ノズルが基板上を通過した後に処理液吐出ノズルによる処理液の吐出を停止させるものである。
【００３１】
本発明に係る基板処理方法においては、処理液吐出ノズルは、基板の直径以上の幅で移動方向とほぼ垂直な方向に直線状に処理液を吐出しつつ基板保持手段に静止状態で保持された基板の一方端縁の外方から基板上を通過して基板の他方端縁の外方まで移動する。これにより、基板上に処理液が供給される。このとき、処理液吐出ノズルは、基板の中心部から基板の他方端縁を通過する間に減速した後、基板の他方端縁の外方へ到達する。
【００３２】
このように、処理液吐出ノズルが基板の中心部から基板の他方端縁を通過する間に減速するので、処理液吐出ノズルが基板の他方端縁から離間する際に、処理液吐出ノズルに引っ張られた処理液が緩やかに破断する。そのため、処理液の破断による反動が小さくなり、基板の端縁近傍の処理液が基板の中央部に引き戻される現象が生じない。その結果、基板の全面に処理液が均一に供給される。
【００３３】
また、処理液の破断による反動が小さいので、処理液吐出ノズルに引っ張られた処理液の破断の際に基板上の処理液に振動が伝わることが防止される。その結果、基板上の処理液にむらが生じない。
【００３４】
第８の発明に係る基板処理方法は、静止状態で保持された基板の一方端縁の外方から基板上を通過して基板の他方端縁の外方へ処理液吐出ノズルを移動させつつ処理液吐出ノズルから基板上に処理液を供給する基板処理方法であって、処理液吐出ノズルを基板の中心部から基板の他方端縁に至るまでに所定の速度まで減速させた後、一定速度で基板の他方端縁を通過させ、処理液吐出ノズルが基板上を通過した後に処理液吐出ノズルによる処理液の吐出を停止させるものである。
【００３５】
本発明に係る基板処理方法においては、処理液吐出ノズルは、処理液を吐出しつつ基板保持手段に静止状態で保持された基板の一方端縁の外方から基板上を通過して基板の他方端縁の外方まで移動する。これにより、基板上に処理液が供給される。このとき、処理液吐出ノズルは、基板の中心部から基板の他方端縁を通過する間に減速した後、基板の他方端縁の外方へ到達する。
【００３６】
このように、処理液吐出ノズルが基板の中心部から基板の他方端縁を通過する間に減速し、一定速度で基板の他方端縁を通過するので、処理液吐出ノズルが基板の他方端縁から離間する際に、処理液吐出ノズルに引っ張られた処理液が緩やかに破断する。そのため、処理液の破断による反動が小さくなり、基板の端縁近傍の処理液が基板の中央部に引き戻される現象が生じない。その結果、基板の全面に処理液が均一に供給される。
【００３７】
また、処理液の破断による反動が小さいので、処理液吐出ノズルに引っ張られた処理液の破断の際に基板上の処理液に振動が伝わることが防止される。その結果、基板上の処理液にむらが生じない。
【００３８】
第９の発明に係る基板処理方法は、静止状態で保持された基板の一方端縁の外方から基板上を通過して基板の他方端縁の外方へ処理液吐出ノズルを移動させつつ処理液吐出ノズルから基板上に処理液を供給する基板処理方法であって、処理液吐出ノズルを基板の一方端縁から中心部まで一定速度で移動させるとともに、処理液吐出ノズルが基板の中心部から基板の他方端縁を通過する間に処理液吐出ノズルを減速させるものである。
【００３９】
本発明に係る基板処理方法においては、処理液吐出ノズルは、処理液を吐出しつつ基板保持手段に静止状態で保持された基板の一方端縁の外方から基板上を通過して基板の他方端縁の外方まで移動する。これにより、基板上に処理液が供給される。このとき、処理液吐出ノズルは、基板の一方端縁から中心部まで一定速度で移動し、基板の中心部から基板の他方端縁を通過する間に減速した後、基板の他方端縁の外方へ到達する。
【００４０】
このように、処理液吐出ノズルが基板の一方端縁から中心部まで一定速度で移動し、基板の中心部から基板の他方端縁を通過する間に減速するので、処理液吐出ノズルが基板の他方端縁から離間する際に、処理液吐出ノズルに引っ張られた処理液が緩やかに破断する。そのため、処理液の破断による反動が小さくなり、基板の端縁近傍の処理液が基板の中央部に引き戻される現象が生じない。その結果、基板の全面に処理液が均一に供給される。
【００４１】
また、処理液の破断による反動が小さいので、処理液吐出ノズルに引っ張られた処理液の破断の際に基板上の処理液に振動が伝わることが防止される。その結果、基板上の処理液にむらが生じない。
【００４２】
【発明の実施の形態】
以下、本発明に係る基板処理装置および基板処理方法の一例として現像装置および現像方法について説明する。
【００４３】
図１は本発明の一実施例における現像装置の平面図、図２は図１の現像装置の主要部のＸ−Ｘ線断面図、図３は図１の現像装置の主要部のＹ−Ｙ線断面図である。
【００４４】
図２および図３に示すように、現像装置は、基板１００を水平姿勢で吸引保持する基板保持部１を備える。基板保持部１は、モータ２の回転軸３の先端部に固定され、鉛直方向の軸の周りで回転可能に構成されている。基板保持部１の周囲には、基板１００を取り囲むように円形の内側カップ４が上下動自在に設けられている。また、内側カップ４の周囲には、正方形の外側カップ５が設けられている。
【００４５】
図１に示すように、外側カップ５の両側にはそれぞれ待機ポット６，７が配置され、外側カップ５の一方の側部側にはガイドレール８が配設されている。また、ノズルアーム９がアーム駆動部１０によりガイドレール８に沿って走査方向Ａおよびその逆方向に移動可能に設けられている。外側カップ５の他方の側部側には、純水を吐出する純水吐出ノズル１２が矢印Ｒの方向に回動可能に設けられている。
【００４６】
ノズルアーム９には、下端部にスリット状吐出口１５を有する現像液吐出ノズル１１がガイドレール８と垂直に取り付けられている。これにより、現像液吐出ノズル１１は、待機ポット６の位置から基板１００上を通過して待機ポット７の位置まで走査方向Ａに沿って直線状に平行移動可能となっている。
【００４７】
図２に示すように、現像液吐出ノズル１１には、現像液供給系１３により現像液が供給される。制御部１４は、モータ２の回転動作、アーム駆動部１０による現像液吐出ノズル１１の走査および現像液吐出ノズル１１からの現像液の吐出を制御する。
【００４８】
図４に示すように、スリット状吐出口１５は現像液吐出ノズル１１の走査方向Ａと垂直に配置される。スリット状吐出口１５のスリット幅ｔは０．０５〜１．０ｍｍであり、本実施例では０．２ｍｍである。また、スリット状吐出口１５の吐出幅Ｌは、処理対象となる基板１００の直径と同じかまたはそれよりも大きく設定され、直径８インチの基板１００を処理する本実施例では２１０ｍｍに設定される。
【００４９】
現像液吐出ノズル１１は、スリット状吐出口１５が基板１００の表面に対して平行な状態を保つように走査方向Ａに走査される。スリット状吐出口１５と基板１００の表面との間隔は、０．２〜５ｍｍ、より好ましくは０．５〜２ｍｍであり、本実施例では１．５ｍｍである。
【００５０】
本実施例では、基板保持部１が基板保持手段に相当し、現像液吐出ノズル１１が処理液吐出ノズルに相当し、アーム駆動部１０が移動手段に相当し、制御部１４が速度制御手段に相当する。
【００５１】
次に、図５、図６および図７を参照しながら図１の現像装置の動作を説明する。図５は図１の現像装置の動作を説明する正面図、図６は図１の現像装置の動作を説明する平面図、図７は図１の現像装置における現像液吐出ノズルの走査速度の第１の例を示す図である。図７において、横軸は時間、縦軸は走査速度を示す。
【００５２】
図５に示すように、基板１００は基板保持部１により静止状態で保持されている。待機時には、現像液吐出ノズル１１は、待機ポット６内の位置Ｐ０に待機している。
【００５３】
現像処理時には、現像液吐出ノズル１１が上昇した後、走査方向Ａに移動し、外側カップ５内の走査開始位置Ｐ１で下降する。
【００５４】
その後、図６および図７に示すように、処理液吐出ノズル１１は、走査開始位置Ｐ１から一定の走査速度Ｖ２で走査を開始する。この時点では、現像液吐出ノズル１１からまだ現像液の吐出を行わない。
【００５５】
現像液吐出ノズル１１の走査開始後、現像液吐出ノズル１１のスリット状吐出口１５が基板１００上に到達する前に、吐出開始位置Ｐ２にて所定の流量で現像液吐出ノズル１１による現像液の吐出を開始する。
【００５６】
さらに、現像液吐出ノズル１１は走査方向へ移動し、スリット状吐出口１５から現像液を基板１００上に吐出しながら基板１００の中心部の減速開始位置Ｐ２１まで走査速度Ｖ２で移動する。
【００５７】
現像液吐出ノズル１１は減速開始位置Ｐ２１から減速し始め、基板端縁位置Ｐ２３より手前の位置Ｐ２２で走査速度Ｖ１となる。その後、現像液吐出ノズル１１は一定の走査速度Ｖ１で移動し、基板端縁位置Ｐ２３を通過する。これにより、基板１００上の全面に現像液が供給される。
【００５８】
さらに、現像液吐出ノズル１１は走査速度Ｖ１で移動し、基板１００上から外れた吐出終了位置Ｐ３でスリット状吐出口１５からの現像液の吐出を終了する。
【００５９】
そして、現像液吐出ノズル１１が外側カップ５内の走査停止位置Ｐ４に到達した時点で、現像液吐出ノズル１１の走査を停止させる。
【００６０】
その後、図５に示すように、現像液吐出ノズル１１は、走査停止位置Ｐ４で上昇した後、待機ポット７の位置Ｐ５まで移動し、待機ポット７内まで下降する。
【００６１】
基板１００上に現像液が供給された状態を一定時間（例えば６０秒間）維持し、現像を進行させる。このとき、モータ２により基板保持部１を回転駆動し、基板１００を回転させてもよい。
【００６２】
その後、例えば回転数１０００ｒｐｍ程度で基板１００を回転させ、洗浄用の純水吐出ノズル１２から純水を基板１００に供給し、現像の進行を停止させるとともに純水でリンス処理を行う。
【００６３】
最後に、純水吐出ノズル１２による純水の供給を停止し、基板１００を例えば４０００ｒｐｍで回転させ、基板１００から純水を振り切り、基板１００を乾燥させる。その後、基板１００の回転を停止し、現像処理を終了する。
【００６４】
このように、本実施例の現像装置では、現像液吐出ノズル１１が減速開始位置Ｐ２１から減速し始め、走査速度Ｖ１で基板端縁位置Ｐ２３を通過するので、現像液吐出ノズル１１が基板端縁位置Ｐ２３から離間する際に、現像液吐出ノズル１１に引っ張られた現像液が緩やかに破断する。それにより、基板１００上の現像液が破断による反動および表面張力で基板１００の中央部に引き戻されることがない。したがって、基板１００上の全面に現像液が均一に供給される。
【００６５】
また、現像液吐出ノズル１１に引っ張られた現像液が緩やかに破断するため、基板１００上の現像液に振動が伝わることが抑制される。その結果、基板１００上の現像液にむらが生じない。
【００６６】
さらに、本実施例の現像装置では、現像液吐出ノズル１１が静止した基板１００上に到達する前に現像液の吐出が開始されるので、吐出開始時の現像液が基板１００に衝撃を与えることが回避される。それにより、現像液中の気泡の発生が抑制され、現像欠陥の発生が防止される。
【００６７】
また、現像液吐出ノズル１１の移動中に空気に接触するスリット状吐出口１５付近の現像液が基板１００外に廃棄され、現像液吐出ノズル１１が基板１００上に到達した時点で現像液吐出ノズル１１から新しい現像液が静止した基板１００上に供給される。それにより、変質した現像液により現像欠陥が発生することが防止されるとともに、現像液が乾燥することで発生するパーティクルが基板１００上の感光性膜の表面に付着することが防止される。
【００６８】
さらに、現像液吐出ノズル１１が静止した基板１００上をスリット状吐出口１５と基板１００の上面とが近接した状態で水平方向に直線状に平行移動し、スリット状吐出口１５に形成された帯状の現像液が基板１００の表面に連続的に接触するので、基板１００の表面に衝撃が加わることなく基板１００の全面に現像液が均一に供給される。
【００６９】
また、現像液吐出ノズル１１が基板１００上を通過するまで現像液の供給が続けられるので、吐出停止時の衝撃による液盛り中の現像液への悪影響が防止される。その結果、現像欠陥の発生が抑制されるとともに、現像後の感光性膜パターンの線幅均一性が向上する。
【００７０】
また、現像液吐出ノズル１１が基板１００上を通り過ぎた後に現像液の吐出が停止されるので、吐出停止時の現像液の液だれにより基板１００上の感光性膜に衝撃が加わることが防止される。したがって、現像欠陥の発生や感光性膜パターンの線幅均一性の劣化が防止される。
【００７１】
図８は図１の現像装置における現像液吐出ノズルの走査速度の第２の例を示す図である。
【００７２】
本例と図７の第１の例とは、減速開始位置Ｐ２１から走査停止位置Ｐ４までの現像液吐出ノズル１１の走査速度の変化が異なる。そのため、減速開始位置Ｐ２１から走査停止位置Ｐ４までを説明する。
【００７３】
図８に示すように、現像液吐出ノズル１１は減速開始位置Ｐ２１から所定の減速度で減速し始め、基板端縁位置Ｐ２３より手前の位置Ｐ２２で走査速度Ｖ３となる。さらに、現像液吐出ノズル１１は、位置Ｐ２２から減速度を低下させ、走査速度Ｖ１で基板端縁位置Ｐ２３を通過する。これにより、基板１００上の全面に現像液が供給される。
【００７４】
現像液吐出ノズル１１は、さらに走査速度を低下させながら基板１００上から外れた吐出終了位置Ｐ３まで移動し、スリット状吐出口１５からの現像液の吐出を停止する。
【００７５】
そして、現像液吐出ノズル１１が外側カップ５内の走査停止位置Ｐ４に到達した時点で現像液吐出ノズル１１の走査を停止する。
【００７６】
このように、本例では、現像液吐出ノズル１１は位置Ｐ２２から減速度を低下させ、走査速度Ｖ１で基板端縁位置Ｐ２３を通過するので、現像液吐出ノズル１１が基板端縁位置Ｐ２３から離間する際に、現像液吐出ノズル１１に引っ張られた現像液が緩やかに破断する。それにより、基板１００上の現像液が破断による反動および表面張力で基板１００の中央部に引き戻されることがない。したがって、基板１００上の全面に現像液が均一に供給される。
【００７７】
また、現像液吐出ノズル１１に引っ張られた現像液が緩やかに破断するため、基板１００上の現像液に振動が伝わることが抑制される。その結果、基板１００上の現像液にむらが生じない。
【００７８】
さらに、現像液吐出ノズル１１は、位置Ｐ２２から減速度を低下させ、基板端縁位置Ｐ２３で走査速度Ｖ１になるように制御されるので、急激な速度変化が回避される。したがって、現像液吐出ノズル１１の走査速度の制御が容易になる。
【００７９】
図９は図１の現像装置における現像液吐出ノズルの走査速度の第３の例を示す図である。
【００８０】
本例と図７の第１の例および図８の第２の例とは、減速開始位置２１から走査停止位置Ｐ４までの現像液吐出ノズル１１の走査速度の変化が異なる。そのため、減速開始位置Ｐ２１から走査停止位置Ｐ４までを説明する。
【００８１】
図９に示すように、現像液吐出ノズル１１は減速開始位置Ｐ２１から減速し始め、減速度を低下させつつ位置Ｐ２２、基板端縁位置Ｐ２３および吐出終了位置Ｐ３を通過し、走査停止位置Ｐ４で停止する。
【００８２】
現像液吐出ノズル１１は基板端縁位置Ｐ２３を走査速度Ｖ１で通過し、吐出終了位置Ｐ３でスリット状吐出口１５からの現像液の吐出を停止する。
【００８３】
このように、本例では、連続的に減速する現像液吐出ノズル１１が走査速度Ｖ１で基板端縁位置Ｐ２３を通過するので、現像液吐出ノズル１１が基板端縁位置Ｐ２３から離間する際に、現像液吐出ノズル１１に引っ張られた現像液が緩やかに破断する。それにより、基板１００上の現像液が破断および表面張力で基板１００上の中央部に引き戻されることがない。したがって、基板１００上の全面に現像液が均一に供給される。
【００８４】
また、現像液吐出ノズル１１に引っ張られた現像液が緩やかに破断するため、基板１００上の現像液に振動が伝わることが抑制される。その結果、基板１００上の現像液にむらが生じない。
【００８５】
さらに、現像液吐出ノズル１１が連続的な速度変化で減速するように制御されるので、急激な速度変化が回避される。したがって、現像液吐出ノズル１１の走査速度の制御が容易になる。
【００８６】
なお、上記実施例では、本発明をスリット状吐出口を有する現像液吐出ノズルを用いた現像装置および現像方法に適用した場合を説明したが、本発明は、他の現像液吐出ノズルを用いた現像装置および現像方法にも適用することができる。
【００８７】
また、上記実施例では、本発明を現像装置および現像方法に適用した場合を説明したが、本発明は、レジスト液等の塗布液を吐出する塗布液吐出ノズルを備えた塗布装置および塗布方法など、他の基板処理装置および基板処理方法にも適用することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施例における現像装置の平面図である。
【図２】図１の現像装置の主要部のＸ−Ｘ線断面図である。
【図３】図１の現像装置の主要部のＹ−Ｙ線断面図である。
【図４】現像液吐出ノズルのスリット状吐出口を示す図である。
【図５】図１の現像装置の動作を説明する正面図である。
【図６】図１の現像装置の動作を説明する平面図である。
【図７】図１の現像装置における現像液吐出ノズルの走査速度の第１の例を示す図である。
【図８】図１の現像装置における現像液吐出ノズルの走査速度の第２の例を示す図である。
【図９】図１の現像装置における現像液吐出ノズルの走査速度の第３の例を示す図である。
【図１０】現像装置の動作の説明図である。
【図１１】現像装置による基板上の現像液の状態を示す模式図である。
【符号の説明】
１  基板保持部
１０  アーム駆動部
１１  現像液吐出ノズル
１４  制御部
１５  スリット状吐出口
【図１】
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【図２】
0003559182.tif 000003
【図３】
0003559182.tif 000004
【図４】
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【図５】
0003559182.tif 000006
【図６】
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【図７】
0003559182.tif 000008
【図８】
0003559182.tif 000009
【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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