【事件の表示】
　平成１１年特許願第２０１９０４号「レジストパターンの形成方法、薄膜トランジスタの製造方法及び電気光学装置」拒絶査定不服審判事件〔平成１３年　２月　９日出願公開、特開２００１−　３６０８８〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
第１．手続きの経緯 
　本願は、平成１１年７月１５日の出願であって、平成１７年１１月８日に拒絶査定がなされ、これに対して、同年１２月１２日に拒絶査定に対する審判請求がなされるとともに、平成１８年１月１０日付けで手続補正がなされ、その後当審において、平成２０年１月１５日付けで審尋がなされ、それに対して、同年３月１８日付けで回答書が提出され、平成２０年５月８日付けで、平成１８年１月１０日付け手続補正が却下され、同年５月２１日付けで拒絶理由が通知され、その指定期間内の同年７月２５日に意見書及び手続補正書が提出されたものである。
　
第２．本願発明
　本願の請求項１ないし６に係る発明は、平成２０年７月２５日付け手続補正書により補正された明細書及び図面の記載から見て、その特許請求の範囲の請求項１ないし６に記載されたとおりのものであって、その請求項１に係る発明（以下、「本願発明」という。）は、その請求項１に記載された事項により特定される以下のとおりのものである。
「【請求項１】　溶融ガラスをスリットからシート状に引き出して形成され、反りやうねりによって表面に高さの差が生じた基板上にレジストパターンを形成する方法であって、
　前記基板は、該基板の表面における最大の前記高さの差が、前記スリットから引き出された方向と直交する方向よりも、前記スリットから引き出された方向の方が大きくなっており、
　前記基板上にレジストを塗布し、前記基板上で前記スリットから引き出された方向よりもこれと直交する方向に長い幅を有した照射部分をスキャンさせて露光する際に、
　前記基板上で前記スリットから引き出された方向とほぼ一致させた方向に前記照射部分をスキャンさせて露光することを特徴とするレジストパターンの形成方法。」
　
第３．当審での拒絶理由で引用した刊行物に記載の発明
ａ．特開平７−２７３０００号公報
　当審の拒絶理由において引用した、本願出願前に日本国内において頒布された特開平７−２７３０００号公報（以下、「刊行物１」という。）には、「走査型露光装置」（発明の名称）に関して、図１ないし３とともに以下の事項が記載されている。
「【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、例えば
液晶パネル等をフォトリソグラフィ工程で製造する
【０００２】
【従来の技術】例えば大型の液晶パネル（液晶表示素子）又は大面積の半導体素子等を高いスループットで製造するために、
マスク（フォトマスク又はレチクル等）上のスリット状（長方形状、円弧状等）の照明領域を照明し、その照明領域に対して短辺方向にマスクを走査し、その照明領域と共役な露光領域に対してフォトレジストが塗布されたプレート（ガラスプレート又は半導体ウエハ等）を同期して走査することにより、マスク上のパターンを逐次プレート上に露光する走査型露光装置
「【００２１】また、それら複数対の距離検出手段が、その走査方向（Ｘ方向）に交差する方向（Ｙ方向）に所定間隔でｎ対（ｎは３以上の整数）配設されている場合には、マスク（４）又は感光基板（８）がＹ方向に（ｎ−１）次関数で表される曲線を逐次Ｘ方向に連ねた形の曲面であっても、Ｙ方向のｎ点の間隔データより、その曲面の形を正確に検出できる。特に、
液晶パネルを製造する場合には、プレート（８）としてガラスプレートが使用されるが、ガラスプレートのうねりは位置の３次関数で表される場合が多い。
「【００２３】このとき、図３に示すように、間隔検出手段による感光基板（８）上の計測点（２７Ａ〜２７Ｄ）を、それら露光領域に対して走査方向に対して手前側に間隔Ｌ0(＝Ｎ・Ｌ、Ｎは１以上の整数）だけ離して設置した場合には、間隔検出手段による間隔のサンプリングを例えば感光基板（８）が走査方向にＬ移動する毎に行うようにする。これにより、間隔のサンプリングを行うタイミングでそれら露光領域（２９Ａ〜２９Ｅ）の中に間隔計測が行われた露光面が入ると共に、間隔Ｌの複数列の露光領域（２９Ａ〜２９Ｅ）の全てに間隔計測が行われた露光面が入るため、実際の計測データを用いてそれら露光領域（２９Ａ〜２９Ｅ）の全面の平均的な面を正確に結像面に合わせ込むことができる。」
「【００２５】
【実施例】以下、本発明による走査型露光装置の一実施例につき図面を参照して説明する。本実施例は、それぞれ等倍で正立正像を投影する複数の投影光学系を有する走査型露光装置に本発明を適用したものである。図１は本実施例の走査型露光装置の露光部の構成図であり、この図１において、マスク４が断面コの字型の走査ステージ６の上部ステージ６ａ上に保持され、マスク４のパターン形成面（実際には下面）上の５個の台形状の照明領域２２Ａ〜２２Ｅがそれぞれ対応する照明光学系３Ａ〜３Ｅからの露光光により照明されている。照明領域２２Ａ〜２２Ｅは、走査方向であるＸ方向に所定間隔で設定された２列に分かれ、１列目に２個の照明領域２２Ａ及び２２Ｂが配列され、２列目に３個の照明領域２２Ｃ〜２２Ｅが配列され、且つ走査方向に台形状の照明領域２２Ａ〜２２Ｅの斜辺部が重なるように配列されている。
【００２６】走査ステージ６の下部ステージ６ｂ上に、Ｚレベリングステージ７を介して被露光基板としてのフォトレジストが塗布されたプレート８が保持され、マスク４とプレート８との間に、等倍で正立正像を投影する５個の投影光学系２３Ａ〜２３Ｅが、照明領域２２Ａ〜２２Ｅと同じ配列で固定されている。投影光学系２３Ａ〜２３Ｅの光軸に平行にＺ軸を取り、Ｚ軸に垂直な面内でＸ軸（走査方向）に垂直な方向にＹ軸を取る。
【００２７】
投影光学系２３Ａ〜２３Ｅを介して照明領域２５Ａ〜２５Ｅのパターンがそれぞれ、プレート８上の台形状の露光フィールド２９Ａ〜２９Ｅ（図３参照）上に等倍の正立正像で露光される。
【００２８】図１に戻り、投影光学系２３Ａ〜２３Ｅとしては、例えば凹面鏡及び凸面鏡等を組み合わせたミラープロジェクション方式の投影光学系が使用できる。走査ステージ６を駆動してマスク４及びプレート８を一体的にＹ方向に走査することにより、マスク４上のパターン領域２１内のパターンが、プレート８上のショット領域２４上に逐次露光される。
【００２９】図２は、本実施例の光学系及びステージ系の構成を示し、この図２において、水銀ランプ１からの露光光が楕円鏡２により集光されて光ガイド３０の入射端に導かれ、光ガイド３０の５個の射出端から射出された露光光が、５個の照明光学系３Ａ〜３Ｅ（図２では２個の照明光学系３Ｂ，３Ｅのみが図示）を介してマスク４上を照明している。また、
走査ステージ６はベース３０上に駆動モータ３５を介してＸ方向に駆動できるように載置され、
「【００４１】次に、本実施例で走査露光方式で露光を行う場合の動作につき説明する。
図２において、マスク４及びプレート８は走査ステージ６を介して一体的にＸ方向に走査される。
「【００４８】更に、図３に示すように、本実施例ではプレート８上で走査方向に垂直なＹ方向に４個の計測点２７Ａ〜２７Ｄが設定され、マスク４上にもＹ方向に４個の計測点が設定されている。
これに関して、プレート８が液晶パネル製造用のガラスプレートである場合、そのプレート８の表面のＹ方向への曲がりは、経験的にほぼ位置の３次関数で表される。そして、Ｙ方向の４点でその表面の位置を計測することにより、その３次関数の４個の係数を決定できるため、本実施例の４個の計測点での計測データを用いることにより、プレート８の曲がりを正確に計測できる。その計測点の個数を増やすことにより、より複雑な曲がりをも正確に計測できるが、計測点を４点とすることにより、比較的低コストで、液晶パネル用のプレートの曲がりをほぼ正確に計測でき、結果としてプレート上の曲がりを考慮した平均的な面を合焦させることができる。
（下線は、当審において、付したものである。以下、同様。）
　
　そうすると、刊行物１には、以下の発明（以下、「刊行物発明」という）が記載されている。
「フォトレジストが塗布された、うねりによって表面高さの差が生じたガラスプレート上にマスク上のパターンを露光する方法であって、
　前記ガラスプレート上にレジストを塗布し、前記ガラスプレート上で露光フィールド２９Ａ〜２９Ｅを走査させて露光する、
前記ガラスプレート上にマスク上のパターンを露光する方法。」
　
　ｂ．実願平５−３３２８４号（実開平６−２５３３０号）のＣＤ−ＲＯＭ
　当審の拒絶理由において引用した、本願出願前に日本国内において頒布された実願平５−３３２８４号（実開平６−２５３３０号）のＣＤ−ＲＯＭ（以下、「刊行物２」という。）には、「ガラスを切断する設備」（発明の名称）に関して、図１ないし６とともに以下の事項が記載されている。
「【０００３】
  
一次工程に、すずの浴に溶融ガラスをフロートさせるか、溶融ガラス浴からガラスの薄板を引くか、の何れかにより、溶融ガラスからガラス・リボンを形成する段階が包含される。
【０００４】
  
二次工程には、任意の数の付加的ガラス板工程手順を包含させることができる。例えば、ガラス板をその最終形状に切断するに先立って、大きな板をより小さく、一層容易に取り扱い得る板に切断できる。この最終形状は、デスクトップ、グレージング・ユニット等における如く長方形であっても良く
「【００２４】
  
図１は、成形室１０を出る際のフロートガラス・リボンＧを示す。
連続的なガラス・リボンＧは溶融金属浴１２、例えば溶融すず浴、から一連のロール１４により、ガス炉床支持台１８または付加的なコンベヤ・ロール（図示せず）を包含し得るリボン支持体１６上へ、そして徐冷がま（図示せず）内へと移動される。
【００２５】
  図２および図３について説明する。
リボンＧの幅を横切って延びる加熱器２８を支持フレーム２６が支えている。加熱器２８は、後で論議するように、集中された高温の熱を高温のガラスＧに差し向けて、選定された切断線３０をその軟化温度範囲まで急速に加熱する。
この好適な実施例の場合、加熱器２８は、ガラス・リボンＧの選定された切断線３０に沿い高温の火炎を差し向ける線バーナである。
【００２６】
  線バーナ２８は切断線３０に沿って高温リボンの温度を、望ましくはその軟化温度、即ち傷つけまたは破断することなく残余のリボンからガラスを切断できながらガラスが気化する温度を下回る温度、以上に上昇させる。代表的なソーダ石灰石英フロートガラスについては、軟化温度が一般に約７１８℃〜７４６℃（１３２５°Ｆ〜１３７５°Ｆ）の範囲内にある。要すれば、リボンの厚さ全体が軟化温度まで加熱される速度を増大させるため、その熱の集中点を下側から線３０に沿って差し向けるように、ガス炉床支持材１８のスロット５４内のリボンＧの下方に、加熱器２８と平行に、第二加熱器５２を置くこともできる。下方加熱器５２にはまた、頂部および底部加熱器が線３０の温度を所望の軟化点まで高め得るほど充分な距離だけリボンＧと同じ速度で下方加熱器５２が移動できるように、構造用支持材と滑りフレームとが設けられる。本考案の好適の実施例においては、図１、図２、および図３に示す如く、頂部および底部加熱器が用いられ、それらを同時に移動できるように、両者が支持フレーム２６に取り付けられている。」
「【００２９】
  
再加熱帯域内の選定された切断線３０がその熱軟化温度まで加熱された後、そしてガラス板の残余が依然高い温度にある間に、高温のリボンＧは線３０に沿いリボン切断装置５６で切断される。
【００３０】
  ガラス・リボンＧを切断するためにフレーム２６の前進速度はわずかに低減され、従って予熱される線３０は、ブレード５８とアンビル６０との間に置かれる。切断線がブレード５８とアンビル６０との間に置かれた場合、フレーム２６はその当初の前進速度を回復し、従ってリボンＧとアンビル６０との間には相対運動が全くない。その後ブレード５８が下方へ移動し且つ／またはアンビル６０が上方へ移動して予熱された線３０に沿いリボンＧを切断する。ブレード５８および／またはアンビル６０は、適宜のいかなる方法、例えば液圧式、空気圧式、若しくは電気式の作動装置（図示せず）で、また、ブレードについてはその自重で、垂直方向に移動させても良い。好適な実施例においては、図４に示す如く、溝６２がアンビル６０に包含されている。溝６２のエッジ６４は第二ブレードとして作用し、従って切断は、ガラス板Ｇを通して溝６２内へブレード５８を移動させることにより達成される。代替方法として、図５に示す如く、アンビル６０は堅い表面６６を備えることもでき、ガラス切断は、ブレード５８をガラスに侵徹させ、表面６６に接触させることにより達成される。ブレード５８はガラスＧを完全に侵徹しなくても良いことに留意すべきである。ブレード５８はガラス板Ｇの厚さの大部分に侵徹するが、アンビル６０に接触する手前で停止して良い。その後ガラス板Ｇは、リボンがやや冷却した後、単純な折り曲げまたは「折り取り」処置により、残余のガラス・リボンから分離できる。」
「【００３４】
  
図６は代替の加熱および切断装置を示す。図１と比較すると、この構成には別別の加熱および切断フレームが用いられている。加熱器フレーム６８は、リボンＧを横切って頂部加熱器７０（および、要すれば、ガス炉床支持材１８のスロット７４内の底部加熱器７２）を支持し、ガラス・リボンＧの搬送方向に沿って滑動する。
予熱された線が切断装置７６に到達すると、切断フレーム７８がリボンＧと一緒にスロット８０内で移動し始める。移動する切断フレーム７８内に整合されると、リボンＧは、既に論議されたそれと同様の方法で切断される。
　
　ｃ．特開平１０−４５４２０号公報
　当審の拒絶理由において引用した、本願出願前に日本国内において頒布された特開平１０−４５４２０号公報（以下、「刊行物３」という。）には、「ガラス板の切断方法」（発明の名称）に関して、以下の事項が記載されている。
「【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、ガラス板の切断方法に関し、特に高い表面品位が要求される
液晶パネル等の各種ディスプレイパネルに用いられるガラス板を切断する
「【００１２】
【実施例】以下、本発明のガラス板の切断方法を実施例に基づいて詳細に説明する。
（実施例）
まず成形装置から幅８５０ｍｍ、厚み０．７４ｍｍの寸法を有するガラス板（日本電気硝子株式会社製ＯＡ−２）を連続的に成形し、このガラス板を引き出しながら、内部が１５℃に設定された冷却装置に入れ、１分間かけて冷却装置内を移動させた後、装置外部、すなわち常温下に取り出した。
【００１３】さらに
このガラス板を移動させながら、その表面の所定箇所に、超硬合金製の回転ホイールを用いて深さ２０μのスクライブ線を形成した後、スクライブ線に沿って折り割ることによって、縦４００ｍｍ、横５００ｍｍの寸法を有する液晶パネル用ガラス板を作製した。
　
第４．対比 
　本願発明と刊行物発明について、以下で対比する。
（ａ）刊行物発明の「ガラスプレート」は、刊行物１の「特に、液晶パネルを製造する場合には、プレート（８）としてガラスプレートが使用されるが、ガラスプレートのうねりは位置の３次関数で表される場合が多い。そこで、このような場合には、それら複数対の距離検出手段をＹ方向に４対設けることにより、その曲面形状を正確に検出できる。」（【００２１】）、「これに関して、プレート８が液晶パネル製造用のガラスプレートである場合、そのプレート８の表面のＹ方向への曲がりは、経験的にほぼ位置の３次関数で表される。そして、Ｙ方向の４点でその表面の位置を計測することにより、その３次関数の４個の係数を決定できるため、本実施例の４個の計測点での計測データを用いることにより、プレート８の曲がりを正確に計測できる。」（【００４８】）との記載から、うねりを有していることは明らかであるから、本願発明の「うねりによって表面に高さの差が生じた基板」に相当する。
（ｂ）刊行物発明の「フォトレジストが塗布された」「ガラスプレート上にマスク上のパターンを露光する方法」は、それぞれ本願発明の「レジストパターンを形成する方法」に相当することは明らかである。
（ｃ）刊行物発明の「露光フィールド２９Ａ〜２９Ｅ」は、本願発明の「照射部分」に相当する。また、刊行物発明の「露光フィールド２９Ａ〜２９Ｅ」は、長い幅を有することは明らかである。
　
　よって、本願発明と刊行物発明は、 
「うねりによって表面に高さの差が生じた基板上にレジストパターンを形成する方法であって、
　前記基板上にレジストを塗布し、長い幅を有した照射部分をスキャンさせて露光する際に、
　前記基板上で前記照射部分をスキャンさせて露光することを特徴とするレジストパターンの形成方法。」 
であることにおいて一致し、次の２点において相違している。 
　相違点１
　本願発明は、「溶融ガラスをスリットからシート状に引き出して形成され、反りやうねりによって表面に高さの差が生じた基板」上にレジストパターンを形成しているのに対して、刊行物発明は、「うねりによって表面に高さの差が生じたガラスプレート」上にレジストパターンを形成しているものの、ガラスプレートが、溶融ガラスをスリットからシート状に引き出して形成されること、及び反りによっても表面に高さの差が生じている点については明らかでない点。
　相違点２
　本願発明は、「前記基板は、該基板の表面における最大の前記高さの差が、前記スリットから引き出された方向と直交する方向よりも、前記スリットから引き出された方向の方が大きく」なっているのに対して、刊行物発明は、ガラスプレートの表面における最大の高さの差について、明らかでない点。
　
　相違点３
　本願発明は、「前記基板上で前記スリットから引き出された方向よりもこれと直交する方向に長い幅を有した照射部分をスキャンさせて露光」しているのに対して、刊行物発明は、長い幅を有した露光フィールド２９Ａ〜２９Ｅを走査させて露光しているものの、ガラスプレートを形成する方法に関して明らかでないために、長い幅の方向と「前記スリットから引き出された方向」との関係が明らかでない点。
　
　相違点４
　本願発明は、「前記基板上で前記スリットから引き出された方向とほぼ一致させた方向に前記照射部分をスキャンさせて露光」するのに対して、刊行物発明は、露光フィールド２９Ａ〜２９Ｅを走査させて露光しているものの、ガラスプレートを形成する方法に関して明らかでないために、走査する方向と「前記スリットから引き出された方向」との関係が明らかでない点。
　
第５．判断 
　上記相違点について検討する。 
　相違点１について
　刊行物２の「一次工程に、すずの浴に溶融ガラスをフロートさせるか、溶融ガラス浴からガラスの薄板を引くか、の何れかにより、溶融ガラスからガラス・リボンを形成する段階が包含される。」（【０００３】）との記載、及び、刊行物３の「まず成形装置から幅８５０ｍｍ、厚み０．７４ｍｍの寸法を有するガラス板（日本電気硝子株式会社製ＯＡ−２）を連続的に成形し、このガラス板を引き出しながら、内部が１５℃に設定された冷却装置に入れ、１分間かけて冷却装置内を移動させた後、装置外部、すなわち常温下に取り出した。」（【００１２】）との記載があるように、溶融ガラスを引き出して形成したガラス板は周知のものであって、また、スリットから引き出すことについては、刊行物２、３に明記されていないものの、スリットから引き出して形成すること自体も周知技術にすぎないものであるから、刊行物発明において、ガラスプレートの形成方法として、当該周知技術を採用することは当業者が適宜なし得た程度のものである。また、本願明細書の「【０００６】図１に示すように、スリット４００から熔融ガラスをシート状に引き出して形成したガラス基板４１０は、未研磨の状態では、引き出し速度や温度によって板厚が変動することなどが原因で、ガラスの引き出し方向に沿って「反り」や「うねり」を生じており、表面平坦性が失われている。　【０００７】図４にミラープロジェクション型の露光機を示す。ミラープロジェクション型の露光機では、マクス上の円弧状スリット（光源による照射部分）を、台形ミラー、凹面鏡及び凸面鏡からなる反射光学系を介して、基板上に円弧状スリット像として結像させるとともに、マクス上の円弧状スリットのスキャン（走査）に対応して、基板上の円弧状スリット像をスキャンさせる。図４に示すミラープロジェクション型の露光機で露光を行う場合、円弧状のスリットの範囲を一括して露光しつつスキャンを行うので、ガラス基板に上述したような「反り」や「うねり」が存在すると、円弧状スリットの範囲内で焦点の合う部分と合わない部分が生じ、微細パターンの形成が困難となる。具体的には、２μｍ以下の解像力をもつミラープロジェクション露光機は、焦点深度が１２μｍ以下（焦点深度は露光機のカタログや仕様書に明記されているものであり、後に示す計算式からも定まる。）となるので、例えば、低温ポリシリコンＴＦＴの２μｍルールの微細化を実現することは従来困難であった。　【０００８】先の特開昭６０−１７４２０号公報の基板を研磨して平坦化する従来技術は、現在使用されているミラープロジェクション露光法やステッピング露光法に、そのまま適用することはできない。基板の平坦度を上げるには限界があり、特にミラープロジェクション露光法で２μｍルールの微細化を実現できるレベルまで平坦度を上げるのは難しい。仮に研磨による平坦化が可能であったとしてもコスト高となり、さらに、研磨治具の「くせ」が別の形で表面に残るので、微細パターン形成の妨げとなるからである。」及び「【００２４】実施の形態１　図１に示すように、スリット４００から熔融ガラスをシート状に引き出して形成したガラス基板（３０ｃｍ×３０ｃｍ）を使用した。このガラス基板における、「反り」、「うねり」の��子を図３に示す。図３からわかるように、ガラス基板の引き出し方向Ｘに沿って、「反り」、「うねり」が生じている。、Ｘ方向に沿った高さＺの差は最大約１２μｍ以上ある。この値は、２μｍルールの露光機の焦点深度と比較するとけっして無視できない。一方、ガラス基板の引き出し方向Ｘと直交する方向Ｙの高さＺの差は、焦点深度の範囲内なので無視でき、同方向の「反り」、「うねり」は無視できる。」の記載から、スリットから引き出して形成したガラス基板には、前記ガラス基板の表面における最大の高さの差が、スリットから引き出された方向と直交する方向よりも、前記スリットから引き出された方向の方が大きくなるように、反りやうねりが生じることが示されており、これと同様に、ガラスプレートの形成方法として上記周知技術を採用することに伴い、ガラスプレートの表面には、当然反りやうねりによって表面に高さの差が生じるものである。
　したがって、刊行物発明において、上記周知技術を採用することにより、本願発明の如く、「溶融ガラスをスリットからシート状に引き出して形成され、反りやうねりによって表面に高さの差が生じた基板」とすることは当業者が容易になし得たものである。
　
　相違点２について
　上記「相違点１について」において検討したとおり、ガラスプレートの形成方法として、溶融ガラスをスリットから引き出して形成する方法を採用することは当業者が容易になし得たものであって、そのように形成したガラスプレートは、その表面における最大の高さの差が、スリットから引き出された方向と直交する方向よりも、スリットから引き出された方向の方が大きくなっているものと認められる。
　したがって、刊行物発明において、上記周知技術を採用することにより、本願発明の如く、「前記基板は、該基板の表面における最大の前記高さの差が、前記スリットから引き出された方向と直交する方向よりも、前記スリットから引き出された方向の方が大きく」することは当業者が容易になし得たものである。
　
　相違点３及び相違点４について
　刊行物１には、「露光フィールド２９Ａないし２９Ｅ」として、台形状のものが開示されており、その形状は、走査方向に対して直交する方向に長い幅を備えたものであることは明らかであり、仮に、刊行物１の台形状について、その幅が走査方向に対して直交する方向に長い幅を有することが明らかでないとしても、刊行物１の「マスク（フォトマスク又はレチクル等）上のスリット状（長方形状、円弧状等）の照明領域を照明し、その照明領域に対して短辺方向にマスクを走査し、その照明領域と共役な露光領域に対してフォトレジストが塗布されたプレート（ガラスプレート又は半導体ウエハ等）を同期して走査することにより、マスク上のパターンを逐次プレート上に露光する走査型露光装置が注目されている。」（【０００２】）との記載から明らかなように、スリットの形状として、長方形状、円弧状があること、走査方向はその短辺方向であることが記載されていることから、刊行物発明において、走査方向に対して直交する方向に長い幅を有する露光フィールド２９Ａ〜２９Ｅを用いることは当業者が適宜なし得た程度のことである。
　また、刊行物２の【０００３】及び【０００４】、【００２４】ないし【００２６】、【００２９】及び【００３０】の記載、及び刊行物３の【００１２】及び【００１３】から、ガラス板を引き出したシート状のガラスから切り出して形成することは周知技術であって、刊行物７の「リボンＧの幅を横切って延びる加熱器２８を支持フレーム２６が支えている。加熱器２８は、後で論議するように、集中された高温の熱を高温のガラスＧに差し向けて、選定された切断線３０をその軟化温度範囲まで急速に加熱する。加熱器２８は、それが、所要の集中された熱を付与し且つそれを切断線３０に沿って差し向け得る限り、商業的に入手可能な数多くの熱源の任意の一つであれば良い。本考案に限らないが、この好適な実施例の場合、加熱器２８は、ガラス・リボンＧの選定された切断線３０に沿い高温の火炎を差し向ける線バーナである。」（【００２５】）、「 再加熱帯域内の選定された切断線３０がその熱軟化温度まで加熱された後、そしてガラス板の残余が依然高い温度にある間に、高温のリボンＧは線３０に沿いリボン切断装置５６で切断される。」（【００２９】）なる記載及び図１ないし６から、長方形のガラス板の切断方向は、通常、溶融ガラスの引き出し方向に対して垂直であり、刊行物８の「まず成形装置から幅８５０ｍｍ、厚み０．７４ｍｍの寸法を有するガラス板（日本電気硝子株式会社製ＯＡ−２）を連続的に成形し、このガラス板を引き出しながら、内部が１５℃に設定された冷却装置に入れ、１分間かけて冷却装置内を移動させた後、装置外部、すなわち常温下に取り出した。」（【００１２】）、「さらにこのガラス板を移動させながら、その表面の所定箇所に、超硬合金製の回転ホイールを用いて深さ２０μのスクライブ線を形成した後、スクライブ線に沿って折り割ることによって、縦４００ｍｍ、横５００ｍｍの寸法を有する液晶パネル用ガラス板を作製した。」（【００１３】）の記載から、ガラス板の寸法からすると、引き出し方向と引き出し方向に直交する方向に切断方向があることは明らかである。
　そうすると、露光する際に、その走査方向とガラス板を形成する際の引き出し方向との関係は、スリットから引き出す方向に走査するか、或いは、スリットから引き出す方向にほぼ直交する方向に走査するかの２方向のいずれかが選択可能となるから、刊行物発明において、露光する際に、スリットから引き出す方向にほぼ直交する方向に走査することは当業者が適宜なし得た程度のことである。
　したがって、刊行物発明において、本願発明の如く、「前記基板上で前記スリットから引き出された方向よりもこれと直交する方向に長い幅を有した照射部分をスキャンさせて露光」すること、及び「前記基板上で前記スリットから引き出された方向とほぼ一致させた方向に前記照射部分をスキャンさせて露光」することは当業者が容易になし得たものである。
　
　なお、請求人は、平成２０年７月２５日付け意見書において、「刊行物１、刊行物２、刊行物３、刊行物４、刊行物５、刊行物６、刊行物７、及び刊行物８のいずれも、本願発明のように反りやうねりが生じた基板の状態を把握したうえでどの方向にフォーカスする照射部分をスキャンさせて露光するのが精度良く微細化パターンを形成するうえで効果的なのかを考慮して、基板表面の高さの差（高低差のばらつき）が小さい方向に照射部分を設定して精度よく焦点を合わせ、基板表面の高さの差（高低差のばらつき）が大きい方向（スリットから引き出された方向）に逐次スキャンして露光するものは何等見当たらないものである。従って、以上のことから明らかなように、本願発明は、刊行物１、刊行物２、刊行物３、刊行物４、刊行物５、刊行物６、刊行物７、及び刊行物８のいずれとも構成及び作用効果において相違するものであり、また、これらの各刊行物を組み合わせたとしても本願発明の作用及び効果は得られないものであり、本願発明を容易に想到し得るものではない。」と主張している。しかしながら、既に検討したように、刊行物１ないし３に記載された発明に基づいて、本願発明のように構成することは、当業者が容易になし得たものであって、このような場合に進歩性が認められるためには、作用効果が、そのような構成を有する発明において、予測あるいは発見することの困難なものであり，かつ，当該構成のものとして予測あるいは発見される効果と比較して，よほど顕著なものでなければならないが、刊行物１の【００２１】及び【００２３】、【００４８】には、そもそもガラスプレートの表面のうねりに対して焦点を合わせる作業を行う旨が示されており、しかも、露光を行って、所望のフォトレジストパターンを形成するという点で何ら相違するところはなく、露光する際に、パターンのぼやけ等がないように精度良く露光することは当業者にとって当然に達成すべき目的であって、２とおりある走査方向に対していずれにおいて露光精度があがるかは、試してみれば容易にわかることにすぎない。そうすると、請求人が主張する作用効果は、予測あるいは発見することの困難なものであり、かつ、当該構成のものとして予測あるいは発見される効果と比較して，顕著なものであるものとは認められない。よって、請求人の主張を採用することはできない。
　
　したがって、本願発明は、刊行物１ないし３に記載された発明に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。 
　 
第６．むすび　 
　以上のとおりであるから、本願は、請求項２ないし６に係る発明について検討するまでもなく、拒絶されるべきものである。 
　よって、結論のとおり審決する。