(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
極性側鎖を有するベースポリマに、第２級アミン、第３級アミン及び含窒素複素環より選ばれた塩基を１分子中に２個以上含む塩基性物質を１種又は２種以上分散させたことを特徴とする高減衰材料組成物（加硫剤を含むものを除く）であって、
前記塩基性物質は、
（ａ）  テトラエチルチウラムジスルフィド、及びテトラブチルチウラムジスルフィドより選ばれた少なくとも１種若しくは２種以上のチウラム系添加剤、
（ｂ）  １，３−ジフェニルグアニジン、及びジ−Ｏ−トリルグアニジンより選ばれた少なくとも１種若しくは２種以上のグアニジン系添加剤、
（ｃ）  ジブチルジチオカルバミン酸亜鉛からなるジチオカルバミン酸塩系添加剤、
（ｄ）  ４，４’，４”−トリスジメチルアミノトリフェニルメタン、及び２，２’−（１，２−エーテンジイル）ビス（５−メチルベンゾオキサゾール）とジシクロヘキシルフタレートのブレンドより選ばれた少なくとも１種若しくは２種以上の顔料、
（ｅ）  ２，２−ジチオジオピリジンからなるピリジン系添加剤、
（ｆ）  メチレンビス（ジブチルジチオカルバメート）からなる潤滑油添加剤、
（ｇ）  ２，４，６−トリ（ジメチルアミノメチル）フェノールからなるエポキシ樹脂硬化促進剤、
（ｈ）  ジモルホリンエーテル、Ｎ，Ｎ’，Ｎ”−トリス（ジメチルアミノプロピル）ヘキサヒドロ−Ｓ−トリアジン、Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリス（３−ジメチルアミノプロピル）アミン、及びＮ−メチル−Ｎ，Ｎ−ビス（３−ジメチルアミノプロピル）アミンより選ばれた少なくとも１種若しくは２種以上のウレタン触媒、
（ｉ）  トリアリルイソシアヌレート、トリス−（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、トリメタアリルイソシアヌレート、及びトリス−（２，３−ジブロモプロピル）イソシアヌレートより選ばれた少なくとも１種若しくは２種以上のイソシアヌル酸誘導物、並びに
（ｊ）  １，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ビペリジル／トリデシル１，２，３，４−ブタンテトラカルボキシレート、及び１，２，３，４−ブタンテトラカルボン酸と２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジノールとβ，β，β’，β’−テトラメチル−３，９−（２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５，５］ウンデカン）ジエタノールとの縮合物より選ばれた少なくとも１種若しくは２種以上のヒンダードアミン系添加剤、
より選ばれた少なくとも１種又は２種以上の材料からなり、
前記ベースポリマは、
（ａ）  天然ゴム、変性天然ゴム、グラフト天然ゴム、環化天然ゴム、塩素化天然ゴム、スチレン−ブタジエンゴム、クロロプレンゴム、アクリロニトリル−ブタジエンゴム、カルボキシル化ニトリルゴム、ニトリルゴム／塩化ビニル樹脂ブレンド、ニトリルゴム／ＥＰＤＭゴムブレンド、ブチルゴム、臭素化ブチルゴム、塩素化ブチルゴム、エチレン−酢酸ビニルゴム、アクリルゴム、エチレン−アクリルゴム、クロロスルホン化ポリエチレン、塩素化ポリエチレン、塩素化ポリプロピレン、エピクロルヒドリンゴム、エピクロルヒドリン−エチレンオキシドゴム、メチルシリコンゴム、ビニル−メチルシリコンゴム、フェニル−メチルシリコンゴム、フッ化シリコンゴム、及びフッ素ゴムより選ばれた少なくとも１種若しくは２種以上のゴム材料、
（ｂ）  ポリスチレン系熱可塑性エラストマー、ポリ塩化ビニル系熱可塑性エラストマー、ポリオレフィン系熱可塑性エラストマー、ポリウレタン系熱可塑性エラストマー、ポリエステル系熱可塑性エラストマー、及びポリアミド系熱可塑性エラストマーより選ばれた少なくとも１種若しくは２種以上の熱可塑性エラストマー材料、並びに
（ｃ）  ポリ塩化ビニル、塩素化ポリプロピレン、ポリ塩化ビニリデン、ポリ酢酸ビニル、ポリビニルアルコール、ポリふっ化ビニル、ポリふっ化ビニリデン、ポリアクリロニトリル、ポリメチルメタアクリレート、スチレン・アクリルニトリル共重合体、アクリルニトリル・ブタジエン・スチレン三元共重合体、塩ビ・酢ビ共重合体、アクリル・塩ビグラフト共重合体、エチレン・塩ビ共重合体、エチレン・ビニルアルコール、及び塩素化塩化ビニルより選ばれた少なくとも１種若しくは２種以上の樹脂材料、
より選ばれた少なくとも１種又は２種以上の材料からなることを特徴とする高減衰材料組成物。
【請求項２】
極性側鎖を有するベースポリマに、第２級アミン、第３級アミン及び含窒素複素環より選ばれた塩基を１分子中に２個以上含む塩基性物質を１種又は２種以上分散させたことを特徴とする高減衰材料組成物（加硫剤を含むものを除く）であって、
前記ベースポリマは、塩素化ポリエチレンからなり、
前記塩基性物質は、
（ａ）  ２−（Ｎ，Ｎ−ジエチルチオカルバモイルチオ）ベンゾチアゾール、若しくは２−（４’−モルホリノジチオ）ベンゾチアゾール（２−（４’−モルホリノジチオ）ベンゾチアゾールの融点より２０℃高い温度で、１０分程度溶融することにより得られるものに限る）、
（ｂ）  テトラエチルチウラムジスルフィド、若しくはテトラブチルチウラムジスルフィド、
（ｃ）  １，３−ジフェニルグアニジン、若しくはジ−Ｏ−トリルグアニジン、
（ｄ）  １−［Ｎ，Ｎ−ビス（２−エチルヘキシル）アミノメチル］ベンゾトリアゾール、（１，２，３−ベンゾトリアゾリル−１−メチル）（１，２，４−トリアゾリル−１−メチル）−２−エチルヘキシルアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（ベンゾトリアゾリルメチル）−ジアミノヘキサン、２，２’−メチレンビス｛４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−６［（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェニル］｝、Ｎ，Ｎ−ビス（ベンゾトリアゾールメチル）−２エチルヘキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ビス（ベンゾトリアゾールメチル）−ラウリルアミン、１−（２−エチルヘキシルアミノメチル）−ベンゾトリアゾール、１−（ラウリルアミノメチル）−ベンゾトリアゾール、若しくは１−（モルホリノメチル）−ベンゾトリアゾール、
（ｅ）  ジブチルジチオカルバミン酸亜鉛、
（ｆ）  ４，４’，４”−トリスジメチルアミノトリフェニルメタン、若しくは２，２’−（１，２−エーテンジイル）ビス（５−メチルベンゾオキサゾール）とジシクロヘキシルフタレートのブレンド、
（ｇ）  ２，２−ジチオジオピリジン、
（ｈ）  メチレンビス（ジブチルジチオカルバメート）、
（ｉ）  ２，４，６−トリ（ジメチルアミノメチル）フェノール、
（ｊ）  ジモルホリンエーテル、Ｎ，Ｎ’，Ｎ”−トリス（ジメチルアミノプロピル）ヘキサヒドロ−Ｓ−トリアジン、Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリス（３−ジメチルアミノプロピル）アミン、若しくはＮ−メチル−Ｎ，Ｎ−ビス（３−ジメチルアミノプロピル）アミン、
（ｋ）  トリアリルイソシアヌレート、トリス−（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、トリメタアリルイソシアヌレート、若しくはトリス−（２，３−ジブロモプロピル）イソシアヌレート、又は
（ｌ）  １，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ビペリジル／トリデシル１，２，３，４−ブタンテトラカルボキシレート、若しくは１，２，３，４−ブタンテトラカルボン酸と２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジノールとβ，β，β’，β’−テトラメチル−３，９−（２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５，５］ウンデカン）ジエタノールとの縮合物
からなる高減衰材料組成物。
【請求項３】
極性側鎖を有するベースポリマに、第２級アミン、第３級アミン及び含窒素複素環より選ばれた塩基を１分子中に２個以上含む塩基性物質を１種又は２種以上分散させたことを特徴とする高減衰材料組成物（加硫剤を含むものを除く）であって、
前記ベースポリマは、塩素化ポリエチレンからなり、
前記塩基性物質は、
（ａ）  ２−（Ｎ，Ｎ−ジエチルチオカルバモイルチオ）ベンゾチアゾール、
（ｂ）  テトラエチルチウラムジスルフィド、
（ｃ）  ２，２’−メチレンビス｛４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−６［（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェニル］｝、Ｎ，Ｎ−ビス（ベンゾトリアゾールメチル）−２エチルヘキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ビス（ベンゾトリアゾールメチル）−ラウリルアミン、１−（２−エチルヘキシルアミノメチル）−ベンゾトリアゾール、若しくは１−（モルホリノメチル）−ベンゾトリアゾール、
（ｄ）  ４，４’，４”−トリスジメチルアミノトリフェニルメタン、
（ｅ）  ２，２−ジチオジオピリジン、
（ｆ）  メチレンビス（ジブチルジチオカルバメート）、
（ｇ）  ジモルホリンエーテル、若しくはＮ，Ｎ’，Ｎ”−トリス（ジメチルアミノプロピル）ヘキサヒドロ−Ｓ−トリアジン、
（ｈ）  トリアリルイソシアヌレート、又は
（ｍ）  １，２，３，４−ブタンテトラカルボン酸と２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジノールとβ，β，β’，β’−テトラメチル−３，９−（２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５，５］ウンデカン）ジエタノールとの縮合物
からなる高減衰材料組成物。
【請求項４】
極性側鎖を有するベースポリマに、第２級アミン、第３級アミン及び含窒素複素環より選ばれた塩基を１分子中に２個以上含む塩基性物質を１種又は２種以上分散させたことを特徴とする高減衰材料組成物（加硫剤を含むものを除く）であって、
前記ベースポリマは、塩素化ポリエチレンからなり、
前記塩基性物質は、
（ａ）  ２−（Ｎ，Ｎ−ジエチルチオカルバモイルチオ）ベンゾチアゾール、
（ｂ）  テトラエチルチウラムジスルフィド、
（ｃ）  ２，２’−メチレンビス｛４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−６［（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェニル］｝、Ｎ，Ｎ−ビス（ベンゾトリアゾールメチル）−２エチルヘキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ビス（ベンゾトリアゾールメチル）−ラウリルアミン、若しくは１−（モルホリノメチル）−ベンゾトリアゾール、
（ｄ）  ４，４’，４”−トリスジメチルアミノトリフェニルメタン、
（ｅ）  ２，２−ジチオジオピリジン、
（ｆ）  メチレンビス（ジブチルジチオカルバメート）、
（ｇ）  ジモルホリンエーテル、若しくはＮ，Ｎ’，Ｎ”−トリス（ジメチルアミノプロピル）ヘキサヒドロ−Ｓ−トリアジン、
（ｈ）  トリアリルイソシアヌレート、又は
（ｍ）  １，２，３，４−ブタンテトラカルボン酸と２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジノールとβ，β，β’，β’−テトラメチル−３，９−（２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５，５］ウンデカン）ジエタノールとの縮合物
からなる高減衰材料組成物。
【請求項５】
極性側鎖を有するベースポリマに、第２級アミン、第３級アミン及び含窒素複素環より選ばれた塩基を１分子中に２個以上含む塩基性物質を１種又は２種以上分散させたことを特徴とする高減衰材料組成物（加硫剤を含むものを除く）であって、
前記ベースポリマは、塩素化ポリエチレンからなり、
前記塩基性物質は、
（ａ）  ２−（Ｎ，Ｎ−ジエチルチオカルバモイルチオ）ベンゾチアゾール、
（ｂ）  テトラエチルチウラムジスルフィド、
（ｃ）  ２，２’−メチレンビス｛４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−６［（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェニル］｝、Ｎ，Ｎ−ビス（ベンゾトリアゾールメチル）−２エチルヘキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ビス（ベンゾトリアゾールメチル）−ラウリルアミン、若しくは１−（モルホリノメチル）−ベンゾトリアゾール、
（ｄ）  ４，４’，４”−トリスジメチルアミノトリフェニルメタン、
（ｅ）  トリアリルイソシアヌレート、又は
からなる高減衰材料組成物。
【請求項６】
極性側鎖を有するベースポリマに、第２級アミン、第３級アミン及び含窒素複素環より選ばれた塩基を１分子中に２個以上含む塩基性物質を１種又は２種以上分散させたことを特徴とする高減衰材料組成物（加硫剤を含むものを除く）であって、
前記ベースポリマは、塩素化ポリプロピレン、エピクロルヒドリンゴム、エチレン・塩ビコポリマー、塩ビ・酢ビコポリマー、又はアクリル・塩ビグラフトコポリマーからなり、
前記塩基性物質は、Ｎ，Ｎ−ジシクロヘキシルベンゾチアジル−２−スルフェンアミドからなる高減衰材料組成物。
【請求項７】
前記塩基性物質の体積は、前記ベースポリマの体積に対して０．３以上の割合であることを特徴とする請求項１から６までのいずれかに記載される高減衰材料組成物。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、高減衰材料組成物に関し、さらに詳しくは、音響ルームの遮音壁、建築構造体の遮音間仕切、車両の防音壁等に適用される振動や騒音を吸収する制振材・防音材としての高減衰材料組成物に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
この種の高減衰材料組成物としての高分子系材料は、典型的な粘弾性挙動を呈するものであり、その材料微小部が何等かの原因で振動すると、夫々の材料微小部に、複素正弦歪（ε＊）が発生し、これにより複素正弦応力（σ＊）が発生する。複素弾性係数（Ｅ＊）は、次式に示したように、これらの比をとったものである。
複素弾性係数（Ｅ＊）＝複素正弦応力（σ＊）／複素正弦歪（ε＊）
【０００３】
この複素弾性係数（Ｅ＊）の実数部は、材料の弾性的な性質に係る貯蔵弾性係数（Ｅ’）と定義され、その虚数部は、材料の粘性的な性質に係る損失弾性係数（Ｅ”）と定義される。損失正接（ｔａｎδ）は、次式に示したように、これらの比をとったものである。
損失正接（ｔａｎδ）＝損失弾性係数（Ｅ”）／貯蔵弾性係数（Ｅ’）
【０００４】
この損失正接（以下、単に「ｔａｎδ」とする）は、防音・制振特性を決定する因子の一つであり、この値が高いほど力学的エネルギーを電気あるいは熱エネルギーとして吸収・放出して、優れた吸音性や制振性等の機械特性を示すことが知られている。従来、高減衰材料組成物のｔａｎδとして求められる値は、０．５以上である。
【０００５】
この従来の要求特性を満たした高減衰材料組成物として、例えば、高分子系複合材料が知られている。この高分子系複合材料はポリマーアロイ或いは高分子網目構造（ＩＰＮ技術）を有する高分子化合物をベースポリマーとしており、これに充填剤（マイカ剤等）や可塑剤を添加し、所定の製造工程を経て得られたものである。この場合に、ベースポリマーとしては各種ゴム、高分子樹脂材料の他に、エラストマー樹脂材料等が用いられている。
【０００６】
しかし、このような高分子系複合材料のｔａｎδの値は、ベースポリマーとして各種ゴム材料（硬質ゴム、ニトリルゴム、ウレタンゴム、充填ゴム）を用いた場合は、０．３〜１．０程度、ベースポリマーとして高分子樹脂材料（ポリスチレン、ポリイソブチレン、サルファイドゴム、加硫、ポリメタクリル酸メチル、可塑化ポリ塩化ビニル、ポリエステル、ポリテトラフルオロエチレン）を用いた場合は、１．０〜２．０程度である。
【０００７】
また、他の高減衰材料としては、ベースポリマーとしてポリ塩化ビニル（或いは、これを含む高分子）を用い、これに種々の添加剤、可塑剤などを配合した例がよく知られている。例えば、特開平５−６５３８２号公報に開示された高減衰材料組成物は、配合物質として縮合多環式化合物を用いており、そのｔａｎδは、０．９８〜１．７程度である。また特開平５−５９２４１号公報に開示されたものは、配合物質として、石油系樹脂及び可塑剤を用いており、そのｔａｎδは、０．９〜１．８５程度である
【０００８】
更にまた、特開平４−１１７４５５号公報、特開平４−７８３３６号公報、特開平４−５７８３５号公報、特開平４−４１５４２号公報、特開平４−１５２４５号公報等に開示された高減衰材料組成物もまた、上述と同様にＰＶＣ（ポリ塩化ビニル）をベースポリマーとし、これに種々の添加剤を配合したものであるが、そのｔａｎδは、約１．０前後のものが殆どである。
【０００９】
一方、ｔａｎδの要求特性を満たしたものとしては、このような高分子系複合材料の他、所定の製造工程を経て得られた単独材料からなる高減衰材料が知られている。従来知られた好適な例としては、塩素化ポリエチレンによるものや、上記したポリ塩化ビニルによるもの等が挙げられる。
【００１０】
塩素化ポリエチレンからなる高減衰材料は、そのｔａｎδピークは１．０であり、そのピーク温度は１０℃である。また、ポリ塩化ビニルのｔａｎδピークは１．１程度であり、そのピーク温度は９２℃前後である。
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上述した種々の高減衰材料は、従来の要求特性（ｔａｎδ≧０．５）に応えているとはいえ、それが使用される環境或いは、その用途などの要請からより優れたｔａｎδを発現できるものが望まれている。また、従来から知られている例によれば、ｔａｎδピーク値が比較的高めのものも含まれている（上述した特開平５−６５３８２号公報、特開平５−５９２４１号公報）が、そのピーク温度は、室温から著しく離れたところにある。従って、室温でのｔａｎδは低く、室温環境でこれを使用すると、所期する減衰性能が得られない。
【００１２】
また、上述した従来の高分子系複合材料（高減衰材料組成物）と、単独材料による高減衰材料とを比べてみると、高分子系複合材料は、単独品よりも飛躍的に優れたｔａｎδを発現したものとはいえない。従って、従来の手法による高減衰材料組成物では、発現できるｔａｎδに限界がある。
【００１３】
更にまた、上述した単独品は、複合材料に比べると、比較的安価かつ容易に製造できるという利点から注目されている。しかしながら、更なる高減衰性能を付与するためには、これをベースポリマーとして用いることを前提に、従来とは異なった観点から材料設計を行う必要がある。
【００１４】
ちなみに、従来の高減衰材料が、より高いｔａｎδ値を発現できない原因として、分子間の相互作用の大きさ、分子間の相互作用の均一さ及び分子の絡み合いの度合いが挙げられる。
【００１５】
図３は、上述した従来の高減衰材料組成物のミクロ構造を示したものであり、矢示されるＡに係る部分では、高分子が互いに絡み合っている。しかし、それ以外に矢示されるＢの部分のように、高分子の間にはファン・デル・ワールス力が働き、約２０〜３０個程の炭素原子の集団が結合している。
【００１６】
したがって、図４に示したように分子間ポテンシャルの分布が広くなり、緩和時間の分布幅が広くなる。ここで、緩和時間の分布幅（Ｈ）と損失弾性係数（Ｅ”）の関係は、数１で表せるので、緩和時間の分布幅（Ｈ）が広くなると、損失弾性係数Ｅ”の分布は低く広がる。また、緩和時間の分布幅（Ｈ）と貯蔵弾性係数（Ｅ’）の関係は、数２で表せるので、緩和時間の分布幅が広くなると、貯蔵弾性係数（Ｅ’）の傾きは小さくなる。つまり、緩和時間の分布が広くなるほど、ｔａｎδは小さくなる。
【００１７】
【数１】
0003575659.tif 000002
【００１８】
【数２】
0003575659.tif 000003
【００１９】
このことから、そのファン・デル・ワールス力による相互作用（矢示Ｂに係る部分）を遮断させれば、分子間相互作用を均一にすること、分子間相互作用の大きさを最適にすること及び分子間の絡み合いを減らすことができるので、より高いｔａｎδを発現させることができると推察される。
【００２０】
本発明の解決しようとする課題は、高分子系ポリマー間の相互作用を減衰性添加剤の配合により制御することにより、高いｔａｎδを発現することができる高減衰材料組成物を提供することにある。
【００２１】
【課題を解決するための手段】
この課題を解決するために本発明の高減衰材料組成物は、極性側鎖を有するベースポリマーに、第２級アミン、第３級アミン及び含窒素複素環より選ばれた塩基を１分子中に２個以上含む塩基性物質を１種又は２種以上分散させたことを要旨とするものである。この場合に、塩基性物質は、分子レベルで分散させることが望ましい。
【００２２】
このように、高分子のベースポリマー間に低分子の塩基性物質を分散させるのは、絡み合っていない部分に作用するファン・デル・ワールス力が均一になっている適切な高分子と低分子の相互作用で置き換え、分子間ポテンシャルの分布を狭め、その大きさを最適値まで持っていき、更に分子間の絡み合いを減らすためである。そうすると、貯蔵弾性係数Ｅ’の傾きが急になるとともに、損失弾性係数Ｅ”のピーク値が高くなり、ｔａｎδが高くなるからである。
【００２３】
この場合に、「極性側鎖を有するベースポリマー」としては、ゴム、熱可塑性エラストマー、あるいは、樹脂より選ばれた少なくとも１種又は２種以上のベースポリマーからなるものが好適なものとして挙げられる。この場合に、「ゴム材料」としては、天然ゴム、変性天然ゴム、グラフト天然ゴム、環化天然ゴム、塩素化天然ゴム、スチレン−ブタジエンゴム、クロロプレンゴム、アクリロニトリル−ブタジエンゴム、カルボキシル化ニトリルゴム、ニトリルゴム／塩化ビニル樹脂ブレンド、ニトリルゴム／ＥＰＤＭゴムブレンド、ブチルゴム、臭素化ブチルゴム、塩素化ブチルゴム、エチレン−酢酸ビニルゴム、アクリルゴム、エチレン−アクリルゴム、クロロスルホン化ポリエチレン、塩素化ポリエチレン、エピクロルヒドリンゴム、エピクロルヒドリン−エチレンオキシドゴム、メチルシリコンゴム、ビニル−メチルシリコンゴム、フェニル−メチルシリコンゴム、フッ化シリコンゴム、フッ素ゴムより選ばれた少なくとも１種又は２種以上のゴムが好適なものとして挙げられる。
【００２４】
また、「熱可塑性エラストマー材料」としては、ポリスチレン系熱可塑性エラストマー、ポリ塩化ビニル系熱可塑性エラストマー、ポリオレフィン系熱可塑性エラストマー、ポリウレタン系熱可塑性エラストマー、ポリエステル系熱可塑性エラストマー、ポリアミド系熱可塑性エラストマーが好適なものとして挙げられる。
【００２５】
更にまた、「樹脂材料」としては、ポリ塩化ビニル、塩素化ポリプロピレン、ポリ塩化ビニリデン、ポリ酢酸ビニル、ポリビニルアルコール、ポリふっ化ビニル、ポリフッ化ビニリデン、ポリアクリルニトリル、ポリメチルメタアクリレート、スチレン・アクリルニトリル共重合体、アクリルニトリル・ブタジエン・スチレン三元共重合体、塩ビ・酢ビ共重合体、アクリル・塩ビグラフト共重合体、エチレン・塩ビ共重合体、エチレン・ビニルアルコール、塩素化塩化ビニルより選ばれた少なくとも１種又は２種以上の樹脂が好適なものとして挙げられる。
【００２６】
この場合に、「塩基性物質」としては、第２級アミン、第３級アミン及び含窒素複素環より選ばれた塩基を１分子中に２個以上含む塩基性物質、例えばスルフェンアミド系添加剤、チアゾール系添加剤、チウラム系添加剤、グアニジン系添加剤、ベンゾトリアゾール系添加剤、ジチオカルバミン酸塩系添加剤、顔料、ピリジン系添加剤、潤滑油添加剤、エポキシ樹脂硬化促進剤、ウレタン触媒、イソシアヌル酸誘導物、ヒンダードアミン系添加剤より選ばれた少なくとも１種又は２種以上の塩基性の添加剤からなるものが好適なものとして挙げられる。
【００２７】
この場合に、「スルフェンアミド系添加剤」としては、Ｎ−シクロヘキシルベンゾチアジル−２−スルフェンアミド、Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチルベンゾチアジル−２−スルフェンアミド、Ｎ−オキシジエチレンベンゾチアジル−２−スルフェンアミド、Ｎ，Ｎ−ジシクロヘキシルベンゾチアジル−２−スルフェンアミド等が好適なものとして挙げられる。
【００２８】
「チアゾール系添加剤」としては、２−（Ｎ，Ｎ−ジエチルチオカルバモイルチオ）ベンゾチアゾール、２−（４’−モルホリノジチオ）ベンゾチアゾール等が好適なものとして挙げられるほか、「チウラム系添加剤」としては、テトラエチルチウラムジスルフィド、テトラブチルチウラムジスルフィド等が好適なものとして挙げられる。「グアニジン系添加剤」としては、１，３−ジフェニルグアニジン、ジ−Ｏ−トリルグアニジン等が好適なものとして挙げられる。
【００２９】
また、「ベンゾトリアゾール系添加剤」としては、紫外線吸収剤である２−（２−ヒドロキシ−３−（３，４，５，６−テトラ−ヒドロフタルイミド−メチル）−５−メチルフェニル）−ベンゾトリアゾール、防錆剤である１−［Ｎ，Ｎ−ビス（２−エチル−ヘキシル）アミノメチル］ベンゾトリアゾール、（１，２，３−ベンゾトリアゾリル−１−メチル）（１，２，４−トリアゾリル−１−メチル）−２−エチルヘキシルアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（ベンゾトリアゾリルメチル）−ジアミノヘキサン、光安定剤である２，２’−メチレンビス｛４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−６［（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェニル］｝、Ｎ，Ｎ−ビス（ベンゾトリアゾールメチル）−２エチルヘキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ビス（ベンゾトリアゾールメチル）−ラウリルアミン、１−（２−エチルヘキシルアミノメチル）−ベンゾトリアゾール、１−（ラウリルアミノメチル）−ベンゾトリアゾール、１−（モルホリノメチル）−ベンゾトリアゾール等が好適なものとして挙げられる。
【００３０】
「ジチオカルバミン酸塩系添加剤」としては、ジブチルジチオカルバミン酸亜鉛、ジエチルジチオカルバミン酸テルル等が好適なものとして挙げられるほか、「顔料」としては、４，４’，４”−トリスジメチルアミノトリフェニルメタン、２，２’−（１，２−エーテンジイル）ビス（５−メチルベンゾオキサゾール）とジシクロヘキシルフタレート等が好適なものとして挙げられ、「ピリジン系添加剤」としては、２，２−ジチオジオイリジンのブレンド等が好適なものとして挙げられる。
【００３１】
「潤滑油添加剤」としては、メチレンビス（ジブチルジチオカルバメート）「エポキシ樹脂硬化促進剤」としては、２，４，６−トリ（ジメチルアミノメチル）フェノールが、それぞれ好適なものとして挙げられる。
【００３２】
更にまた、「ウレタン触媒」としては、ジモルホリンエーテル、Ｎ，Ｎ’，Ｎ”−トリス（ジメチルアミノプロピル）ヘキサヒドロ−Ｓ−トリアジン、Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリス（３−ジメチルアミノプロピル）アミン、Ｎ−メチル−Ｎ，Ｎ−ビス（３−ジメチルアミノプロピル）アミン等が好適なものとして挙げられる。
【００３３】
「イソシアヌル酸誘導物」としては、不飽和樹脂架橋剤であるトリアリルイソシアヌレート、トリス−（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、トリメタアリルイソシアヌレート、トリス−（２，３−ジブロモプロピル）イソシアヌレート等が好適なものとして挙げられる。「ヒンダードアミン系添加剤」としては、１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ビペリジル／トリデシル１，２，３，４−ブタンテトラカルボキシレート、１，２，３，４−ブタンテトラカルボン酸と２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジノールとβ，β，β’，β’−テトラメチル−３，９−（２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５，５］ウンデカン）ジエタノールとの縮合物等が好適なものとして挙げられる。
【００３４】
この場合に、「塩基性物質の体積」は「ベースポリマーの体積」に対して、０．３以上の割合であることが望ましい。塩基性物質の体積比がこの範囲内にあれば、適度な割合で、この塩基性物質がベースポリマーの高分子鎖に分散し、ベースポリマーと塩基性物質との相互作用が良好になる。
【００３５】
上記構成を有する高減衰材料組成物として、減性添加剤である第２級アミン、第３級アミン及び含窒素複素環より選ばれた塩基を１分子中に２個以上有するものを配合したので、ベースポリマーの塩素基とアミンとの間に双極子−双極子相互作用が働き、緩和時間の分布が狭くなる。そのため、貯蔵弾性係数Ｅ’の傾きが急になるとともに、損失弾性係数Ｅ”のピーク値が高くなる。これにより、より高いｔａｎδが発現されることになる。従って、本発明に係る高減衰性組成材料によれば、振動や騒音が大幅に吸収されることになる。
【００３６】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施例を詳細に説明する。まず、本発明の各実施例は種々の材料組成で作製したので、これについて説明する。なお、以下の説明において「重量％」とは、ベースポリマー１００重量％に対する配合成分（減衰性添加剤）の重量％を意味するものである。
【００３７】
初めに表１は、ベースポリマーとして、塩素化ポリエチレンを用い、これに塩基性の減衰性添加剤としてスルフェンアミド系添加剤を配合した参考例１〜４の材料組成及びｔａｎδの測定結果と、塩素化ポリエチレン単独品による比較品の材料組成及びｔａｎδの測定結果とを対比して示したものである。採用した塩基性物質はいずれも、第２級アミン又は第３級アミン又は含窒素複素環から選ばれる塩基を１分子中に少なくとも２個以上有しており、減衰性添加剤として用いたものである。
【００３８】
【表１】
0003575659.tif 000004
【００３９】
参考例１〜４は、ベースポリマーとして塩素化ポリエチレン（昭和電工（株）製：商品名「エラスレン４０１Ａ」）に、塩基性の減衰性添加剤としてスルフェンアミド系添加剤を配合成分とし、所定の工程により作製されたものである。
【００４０】
参考例１〜４は減衰性添加剤としてスルフェンアミド系添加剤を配合成分としている。すなわち、参考例１が塩基性物質としてＮ−シクロヘキシルベンゾチアジル−２−スルフェンアミド（三新化学工業（株）製：商品名「サンセラーＣＭ」）、参考例２がＮ−ｔｅｒｔ−ブチルベンゾチアジル−２−スルフェンアミド（三新化学工業（株）製：商品名「サンセラーＮＳ−Ｇ」）、参考例３がＮ−オキシジエチレンベンゾチアジル−２−スルフェンアミド（三新化学工業（株）製：商品名「サンセラーＮＯＢ」）、参考例４がＮ，Ｎ−ジシクロヘキシルベンゾチアジル−２−スルフェンアミド（三新化学工業（株）製：商品名「サンセラーＤＺ」）をそれぞれ配合成分としている。
【００４１】
参考例１〜４に用いた塩基性物質の構造式を表２に示す。
【００４２】
【表２】
0003575659.tif 000005
【００４３】
次に、参考例１〜４及び比較品の作製工程について説明する。まず、上述したベースポリマー（塩素化ポリエチレン）１００重量％に、各参考例の配合成分である塩基性物質を１００重量％ずつ配合する。これを、室温で約１５〜２０分程度、２本ロールで混練する。次に、この混練材料を、熱プレス機により所定の型枠内で、添加剤の融点より２０℃高い温度で、１０分程度溶融プレス成形する。そして更に、０℃の温度条件下、これに１３０ｋｇｆ／ｃｍ２の面圧を掛けて冷却プレス成形し、これを２ｍｍシートとする。上述の配合割合では、塩基性物質の体積は、ベースポリマーの体積に対して０．３以上になっている。なお、比較品は、塩素化ポリエチレン単独品で、同様の工程で作製している。
【００４４】
次に、参考例１〜４及び比較品のｔａｎδピーク値及びそのピーク温度を測定した。この測定には、株式会社レオロジ社製のスペクトロメータを用い、その測定条件を、歪が０．０５％（一定）、周波数が１００Ｈｚ（一定）とした。
【００４５】
以下、参考例１〜４の測定結果について説明する。表１に示したように、参考例１〜４のｔａｎδピーク値は、比較品のｔａｎδピーク値より高く、要求特性（ｔａｎδ≧０．５）を遥かに超えている。参考例１、３、４は、ｔａｎδピーク値が２．０を超えており、特に参考例４は、そのピーク値が比較品のピーク値の倍程度になっている。
【００４６】
更にまた、これらは、ピーク温度が室温付近にあるため、常温での使用環境に適したものといえる。以上のことから、それぞれのサンプルについて、極めて良好なものを（◎印）、良好なものを（○印）、一応の成果を得られたものを（△印）、不良なものを（×印）の４段階に分けて評価したところ、参考例１、３，４は、ｔａｎδが非常に高かったことから極めて良好（◎印）と評価され、参考例２は、ｔａｎδが比較的高かったことから、良好（○印）と評価された。
【００４７】
次に表３は、ベースポリマーとして塩素化ポリエチレンを用い、これに減衰性添加剤として、チアゾール系添加剤、チウラム系添加剤を配合した本発明品（実施例１〜４）の材料組成及びｔａｎδの測定結果を示したものである。
【００４８】
【表３】
0003575659.tif 000006
【００４９】
実施例１〜２は、塩基性物質としてチアゾール系添加剤を配合成分としている。更に詳しくは、実施例１が塩基性物質として、２−（Ｎ，Ｎ−ジエチルチオカルバモイルチオ）ベンゾチアゾール（大内新興化学工業（株）製：商品名「ノクセラー６４」）、実施例２が２−（４’−モルホリノジチオ）ベンゾチアゾール（大内新興化学工業（株）製：商品名「ノクセラーＭＤＢ」）を配合している。
【００５０】
実施例３〜４は、塩基性物質としてチウラム系添加剤を配合成分としている。更に詳しくは、実施例３が、テトラエチルチウラムジスルフィド（大内新興化学工業（株）製：商品名「ノクセラーＴＥＴ」）を、実施例４が、テトラブチルチウラムジスルフィド（大内新興化学工業（株）製：商品名「ノクセラーＴＢＴ」）を配合している。
【００５１】
実施例１〜４に用いた減衰性添加剤の構造式を表４に示す。
【００５２】
【表４】
0003575659.tif 000007
【００５３】
これらの作製工程は参考例１〜４の場合と同様である。また、同様の方法でｔａｎδピーク値及びピーク温度を測定した。以下、その測定結果について説明する。表３に示したように、実施例１〜４のｔａｎδピーク値は、比較品のｔａｎδピークより高くなっている。特に、実施例１〜３は、ピーク値が２．０を超えた。このことから、表１に示したサンプルと同様の方法で評価したところ、実施例１，３は極めて良好（◎印）と評価され、実施例２、４は良好（○印）と評価された。
【００５４】
次に、表５は、ベースポリマーとして塩素化ポリエチレンを用い、これに塩基性物質としてグアニジン系添加剤を配合した本発明品（実施例５〜６）の材料組成及びｔａｎδの測定結果を示したものである。
【００５５】
【表５】
0003575659.tif 000008
【００５６】
本発明品（実施例５〜６）は、ベースポリマーとして塩素化ポリエチレン（昭和電工（株）製：商品名「エラスレン４０１Ａ」）に、塩基性の減衰性添加剤としてグアニジン系添加剤を配合成分とし、所定の工程により作成されたものである。
【００５７】
実施例５は、１，３−ジフェニルグアニジン（大内化学工業（株）製：「ノクセラーＤ」）を、実施例６は、ジ−Ｏ−トリルグアニジン（大内化学工業（株）製：「ノクセラーＤＴ」）をそれぞれ配合している。
【００５８】
実施例５〜６で用いた塩基性物質の構造式を表６に示す。
【００５９】
【表６】
0003575659.tif 000009
【００６０】
なお、これらの作製工程は参考例１〜４の場合と同様である。すなわち、ベースポリマー１００重量％に、各実施例の配合成分である減衰性添加剤を１００重量％ずつ配合している。
【００６１】
そして、上述と同様に、実施例５〜６のｔａｎδピーク値及びピーク温度を測定した。以下、その結果について説明する。上述と同様に４段階で評価した結果、実施例５、６はピーク値が若干低いことから、やや不良（△印）と評価された。
【００６２】
次に、表７及び８は、ベースポリマーとして塩素化ポリエチレンを用い、これに塩基性物質としてベンゾトリアゾール系添加剤を配合した参考例５及び本発明品（実施例７〜１５）の材料組成及びｔａｎδの測定結果を示したものである。
【００６３】
【表７】
0003575659.tif 000010
【００６４】
【表８】
0003575659.tif 000011
【００６５】
参考例５及び本発明品（実施例７〜１５）は、ベースポリマーとして塩素化ポリエチレン（昭和電工（株）製：商品名「エラスレン４０１Ａ」）に、塩基性の減衰性添加剤としてベンゾトリアゾール系添加剤を配合成分とし、所定の工程により作成されたものである。
【００６６】
参考例５は、紫外線吸収剤である２−（２−ヒドロキシ−３−（３，４，５，６−テトラヒドロフタルイミド−メチル）−５−メチルフェニル）−ベンゾトリアゾール（住友化学工業（株）製：商品名「スミソープ２５０」）を、実施例７は、防錆剤である１−［Ｎ，Ｎ−ビス（２−エチルヘキシル）アミノメチル］ベンゾトリアゾール（城北化学工業（株）製：商品名「ＢＴ−ＬＸ」）を、実施例８は、（１，２，３−ベンゾトリアゾリル−１−メチル）（１，２，４−トリアゾリル−１−メチル）−２−エチルヘキシルアミン、（城北化学工業（株）製：商品名「ＢＴ−ＬＸ」）を、実施例９は、Ｎ，Ｎ’−ビス（ベンゾトリアゾリルメチル）−ジアミノヘキサン、（城北化学工業（株）製：商品名「ＢＴ−ＬＸ」）を、実施例１０は、光安定剤である２，２’−メチレンビス｛４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−６［（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェニル］｝（旭電化工業（株）製：商品名「アデカスタブＬＡ３１」）をそれぞれ配合成分としている。
【００６７】
実施例１１は、Ｎ，Ｎ−ビス（ベンゾトリアゾールメチル）−２エチルヘキシルアミン（城北化学工業（株）製：商品名「ＢＴ−３９１」）を、実施例１２は、Ｎ，Ｎ−ビス（ベンゾトリアゾールメチル）−ラウリルアミン（城北化学工業（株）製：商品名「ＢＴ−４４７」）を、実施例１３は、１−（２−エチルヘキシルアミノメチル）−ベンゾトリアゾール（城北化学工業（株）製：商品名「ＢＴ−２６０」）を、実施例１４は、１−（ラウリルアミノメチル）−ベンゾトリアゾール（城北化学工業（株）製：商品名「ＢＴ−３１６」）を、実施例１５は、１−（モルホリノメチル）−ベンゾトリアゾール（城北化学工業（株）製：商品名「ＢＴ−２１８」）をそれぞれ配合成分としている。
【００６８】
参考例５及び実施例７〜１５で用いた減衰性添加剤の構造式を表９〜１０に示す。
【００６９】
【表９】
0003575659.tif 000012
【００７０】
【表１０】
0003575659.tif 000013
【００７１】
なお、これらの作製工程は参考例１〜４の場合と同様である。すなわち、ベースポリマー１００重量％に、各実施例の配合成分である減衰性添加剤を１００重量％ずつ配合している。
【００７２】
そして、上述と同様に、参考例５及び実施例７〜１５のｔａｎδピーク値及びピーク温度を測定した。以下、その結果について説明する。上述と同様に４段階で評価した結果、参考例５、実施例１０はピーク温度が若干室温から離れるもののそのピーク値が非常に高いので極めて良好（◎印）と評価された。実施例７、８はピーク値が比較的高いので良好（○印）と評価され、実施例９はピーク値が、やや低いので、やや不良（△印）と評価された。実施例１１〜１５はピーク温度が室温に近く、そのピーク値も高いので、極めて良好（◎印）と評価された。
【００７３】
次に、表１１は、ベースポリマーとして塩素化ポリエチレンを用い、これに塩基性物質としてジチオカルバミン酸塩系添加剤、顔料、及びピリジン系添加剤を配合した本発明品（実施例１６〜１９）の材料組成及びｔａｎδの測定結果を示したものである。
【００７４】
【表１１】
0003575659.tif 000014
【００７５】
本発明品（実施例１６〜１９）は、ベースポリマーとして塩素化ポリエチレン（昭和電工（株）製：商品名「エラスレン４０１Ａ」）に、塩基性の減衰性添加剤として上述の各種添加剤を配合成分とし、所定の工程により作成されたものである。
【００７６】
実施例１６〜１７は、塩基性の減衰性添加剤としてジチオカルバミン酸塩系添加剤を配合している。更に詳しくは、実施例１６はジブチルジチオカルバミン酸亜鉛（大内化学工業（株）製：商品名「ノクセラーＢＺ−Ｐ」）を、実施例１７はジエチルジチオカルバミン酸テルル（大内化学工業（株）製：商品名「ノクセラーＴＴＴＥ」）を配合している。また、実施例１８は顔料を配合している。更に詳しくは、実施例１８は、４，４’，４”−トリスジメチルアミノトリフェニルメタン（名古屋片山化学工業（株）製：商品名「ロイコクリスタルバイオレット」）を配合している。次に、実施例１９はピリジン系添加剤を配合している。更に詳しくは、実施例１９は、２，２−ジチオジオピリジン（名古屋片山化学工業（株）製）を配合している。
【００７７】
実施例１６〜１９で用いた塩基性物質の構造式を表１２に示す。
【００７８】
【表１２】
0003575659.tif 000015
【００７９】
なお、これらの作製工程は参考例１〜４の場合と同様である。すなわち、ベースポリマー１００重量％に、各実施例（実施例１９を除く）の配合成分である塩基性物質を１００重量％ずつ配合している。但し、実施例１９は塩基性物質を５０重量％を配合している。
【００８０】
そして、上述と同様に、実施例１６〜１９のｔａｎδピーク値及びピーク温度を測定した。以下、その結果について説明する。上述と同様に４段階で評価した結果、実施例１６はピーク値が比較的高いことから、良好（○印）と評価された。実施例１８、１９はピーク値が高いことから極めて良好（◎印）と評価された。
【００８１】
次に表１３は、ベースポリマーとして塩素化ポリエチレンを用い、これに塩基性物質として、潤滑油添加剤、エポキシ樹脂硬化促進剤を配合した本発明品（実施例２０〜２１）の材料組成及びｔａｎδの測定結果を示したものである。
【００８２】
【表１３】
0003575659.tif 000016
【００８３】
実施例２０は、塩基性物質として潤滑油添加剤を配合成分としている。更に詳しくは、実施例２０はメチレンビス（ジブチルジチオカルバメート）（ＶＡＮＤＥＲＢＩＬＴ社（株）製：商品名「ＶＡＮＬＵＢＥ７７２３」）を配合成分としている。実施例２１は、塩基性物質としてエポキシ樹脂硬化促進剤を配合成分としている。更に詳しくは、実施例２１は、２，４，６−トリ（ジメチルアミノメチル）フェノール（化薬ヌーリ（株）製：商品名「ＴＡＰ」）を配合成分としている。実施例２０〜２１に用いた塩基性物質の構造式を表１４に示す。
【００８４】
【表１４】
0003575659.tif 000017
【００８５】
これらの作製工程は参考例１〜４の場合と同様である。また、同様の方法でｔａｎδピーク値及びピーク温度を測定した。以下、その測定結果について説明する。表１３に示したように、実施例２０は、ピーク値が２．０を超えており、非常に高いピーク値を示したので、極めて良好（◎印）と評価された。実施例２１はピーク値が比較的高いので良好（○印）と評価された。
【００８６】
次に、表１５は、ベースポリマーとして塩素化ポリエチレンを用い、これに塩基性物質としてウレタン触媒を配合した本発明品（実施例２２〜２５）の材料組成及びｔａｎδの測定結果を示したものである。
【００８７】
【表１５】
0003575659.tif 000018
【００８８】
本発明品（実施例２２〜２５）は、ベースポリマーとして塩素化ポリエチレン（昭和電工（株）製：商品名「エラスレン４０１Ａ」）に、塩基性の減衰性添加剤としてを配合成分とし、所定の工程により作成されたものである。
【００８９】
実施例２２が特殊アミンであるジモルホリンエーテル（サンアプロ（株）製：商品名「Ｕ−ＣＡＴ２０４１」）を、実施例２３がＮ，Ｎ’，Ｎ”−トリス（ジメチルアミノプロピル）ヘキサヒドロ−Ｓ−トリアジン（サンアプロ（株）製：商品名「ＰＯＬＹＣＡＴ４１」）を、実施例２４がＮ，Ｎ，Ｎ−トリス（３−ジメチルアミノプロピル）アミン（サアプロ（株）製：商品名「ＰＯＬＹＣＡＴ９」）を、実施例２５がＮ−メチル−Ｎ，Ｎ−ビス（３−ジメチルアミノプロピル）アミン（サンアプロ（株）製：商品名「ＰＯＬＹＣＡＴ７７」）をそれぞれ配合成分としている。実施例２２〜２５で用いた塩基性物質の構造式を表１６に示す。
【００９０】
【表１６】
0003575659.tif 000019
【００９１】
なお、これらの作製工程は参考例１〜４の場合と同様である。すなわち、ベースポリマー１００重量％に、各実施例の配合成分である塩基性物質を１００重量％ずつ配合している。
【００９２】
そして、上述と同様に、実施例２２〜２５のｔａｎδピーク値及びピーク温度を測定した。以下、その結果について説明する。上述と同様に４段階で評価した結果、実施例２２、２３は、ピーク値の高さから極めて良好（◎印）と評価され、実施例２４、２５は、若干ピーク値が低いのでやや不良（△印）と評価された。
【００９３】
次に、表１７は、ベースポリマーとして塩素化ポリエチレンを用い、これに塩基性物質としてイソシアヌル酸誘導物を配合した本発明品（実施例２６〜２９）の材料組成及びｔａｎδの測定結果を示したものである。
【００９４】
【表１７】
0003575659.tif 000020
【００９５】
本発明品（実施例２６〜２９）は、ベースポリマーとして塩素化ポリエチレン（昭和電工（株）製：商品名「エラスレン４０１Ａ」）に、塩基性の減衰性添加剤としてイソシアヌル酸誘導物を配合成分とし、所定の工程により作成されたものである。
【００９６】
実施例２６は、不飽和樹脂架橋剤であるトリアリルイソシアヌレート（日本化成（株）製：商品名「ＴＡＩＣ」）を、実施例２７は、トリス−（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレート（四国化成（株）製：商品名「ＴＨＥＩＣ」）、実施例２８は、トリメタアリルイソシアヌレート（日本化成（株）製：商品名「ＴＭＡＩＣ」）、実施例２９は、トリス−（２，３−ジブロモプロピル）イソシアヌレート（日本化成（株）製：商品名「ＴＡＩＣ−６Ｂ」）をそれぞれ配合している。
【００９７】
実施例２６〜２９で用いた塩基性物質の構造式を表１８に示す。
【００９８】
【表１８】
0003575659.tif 000021
【００９９】
なお、これらの作製工程は参考例１〜４の場合と同様である。すなわち、ベースポリマー１００重量％に、各実施例の配合成分である減衰性添加剤を１００重量％ずつ配合している。
【０１００】
そして、上述と同様に、実施例２６〜２９のｔａｎδピーク値及びピーク温度を測定した。以下、その結果について説明する。上述と同様に４段階で評価した結果、実施例２６はピーク値が高いことから、極めて良好（◎印）と評価され、実施例２７はピーク値が比較的高いことから、良好（○印）と評価され、実施例２８、２９は若干ピーク値が低いことから、やや不良（△印）と評価された。
【０１０１】
次に表１９は、ベースポリマーとして塩素化ポリエチレンを用い、これに減衰性添加剤として、顔料、ヒンダードアミン系添加剤を配合した本発明品（実施例３０〜３２）の材料組成及びｔａｎδの測定結果を示したものである。
【０１０２】
【表１９】
0003575659.tif 000022
【０１０３】
実施例３０は、塩基性物質として顔料を配合成分としている。更に詳しくは、実施例３０は塩基性物質として２，２’−（１，２−エーテンジイル）ビス（５−メチルベンゾオキサゾール）とジシクロヘキシルフタレートのブレンド（シプロ化成（株）製：商品名「ＰＨ」）を配合成分としている。
【０１０４】
実施例３１〜３２は、塩基性物質としてヒンダードアミン系添加剤を配合成分としている。更に詳しくは、実施例３１が、１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ビペリジル／トリデシル１，２，３，４−ブタンテトラカルボキシレート（旭電化工業（株）製：商品名「アデカスタブＬＡ６２」）を、実施例３２が、１，２，３，４−ブタンテトラカルボン酸と２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジノールとβ，β，β’，β’−テトラメチル−３，９−（２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５，５］ウンデカン）ジエタノールとの縮合物（旭電化工業（株）製：商品名「アデカスタブＬＡ６８」）を配合成分としている。
【０１０５】
実施例３０〜３２に用いた塩基性物質の構造式を表２０〜２１に示す。
【０１０６】
【表２０】
0003575659.tif 000023
【０１０７】
【表２１】
0003575659.tif 000024
【０１０８】
これらの作製工程は参考例１〜４の場合と同様である。また、同様の方法でｔａｎδピーク値及びピーク温度を測定した。以下、その測定結果について説明する。表１９に示したように、実施例３０、３１のｔａｎδピーク値は、比較的高いので、良好（○印）と評価され、実施例３２は、ピーク値が非常に高いことから極めて良好（◎印）と評価された。
【０１０９】
次に、表２２及び表２３は、塩基性の減衰性添加剤としてＮ，Ｎ−ジシクロヘキシルベンゾチアジル−２−スルフェンアミドを用い、これをベースポリマーに配合した参考例６〜９及び本発明品（実施例３３〜３７）の材料組成及びｔａｎδの測定結果を示したものである。
【０１１０】
【表２２】
0003575659.tif 000025
【０１１１】
【表２３】
0003575659.tif 000026
【０１１２】
参考例６〜９及び本発明品（実施例３３〜３７）は、減衰性添加剤としてＮ，Ｎ−ジシクロヘキシルベンゾチアジル−２−スルフェンアミド（三新化学工業（株）製：商品名「サンセラーＤＺ」）を配合しており、ベースポリマーとして、参考例６が塩素化ポリエチレン（昭和電工（株）製：商品名「エラスレン４０１Ａ」）、実施例３３が塩素化ポリプロピレン（日本製紙（株）製：商品名「スーパークロン８０３ＬＳ」）、参考例７がクロロプレンゴム（昭和電工・デュポン（株）製：商品名「ネオプレンＳＮＤ−８」）、参考例８がニトリル・ブタジエンゴム（日本ゼオン（株）製：商品名「ニポールＤＮ−１０１Ｌ」）、実施例３４がエピクロルヒドリンゴム（ダイソー（株）製：商品名「エピクロマーＨ」）、参考例９がポリ塩化ビニル（新第一塩ビ（株）製：商品名「ゼスト１０００Ｚ」）、実施例３５がエチレン−塩ビコポリマー（大洋塩ビ（株）製：商品名「ＴＥ−２８００」）、実施例３６が塩ビ・酢ビコポリマー（大洋塩ビ（株）製：商品名「ＴＶ−８００」）、実施例３７がアクリル・塩ビグラフトコポリマー（大洋塩ビ（株）製：商品名「ＴＡ−Ｅ２３０」）を配合成分としている。
【０１１３】
そして、参考例６〜９及び実施例３３〜３７の作製工程は上述と同様である。但し、参考例６〜９及び実施例３３〜３７の測定条件は歪みが０．０５％（一定）、周波数が１５Ｈｚ（一定）とした。また同様にしてｔａｎδピーク値及びピーク温度を測定した。以下、その結果について説明する。
【０１１４】
表２２及び表２３に示したように参考例６〜９及び実施例３３〜３７は、参考例６を除く他は、全てｔａｎδピーク値が３．０を超え、極めて優れた値を示した。参考例９は、そのピーク値が５．０を若干下回った程度である。一方、各参考例及び各実施例のピーク温度には、ばらつきが認められるが、これにより、使用環境に応じた温度特性の選択が可能になる。このことから、上述と同様に４段階に分けて評価したところ、参考例６〜９及び実施例３３〜３７は極めて良好（◎印）と評価された。
【０１１５】
次に、参考例１〜５及び実施例１〜３２のピーク温度について総括的に見てみる。一番低い実施例２５から一番高い実施例６まで約１００℃の幅があり、そのピーク温度において塩素化ポリエチレン単独品のピーク値ｔａｎδ＝１．１より高いｔａｎδピークを示すことから、参考例１〜５及び本発明品（実施例１〜３２）は、使用環境に適した高減衰材料を選択することができる。
【０１１６】
また、本実施例で用いた塩基性物質には、液状のものと粉末状のものがあり、液状の添加剤はピーク温度が低く、粉末状の添加剤はその温度が高くなる傾向にあるようである。
【０１１７】
次に、参考例６〜９及び実施例３３〜３７のピーク温度について説明する。その幅は一番低い実施例３４の１．６℃から一番高い参考例９の７８℃となっており、かなり広いことがわかる。このことから参考例６〜９及び本発明品（実施例３３〜３７）は０℃以上の様々な環境において使用に適しているといえる。
【０１１８】
本発明に係る各実施例が、高いｔａｎδを示すメカニズムを図１及び図２を用いて考察する。まず、図１は、本発明に係る高減衰材料組成物のミクロ構造を概念的に示したものである。ここで、高分子とは塩素化ポリエチレン等のベースポリマーを、低分子とはＮ−シクロヘキシルベンゾチアジル−２−スルフェンアミド等の塩基性物質を表している。この低分子は、高分子に対する体積比が０．３以上であるので高分子の鎖状分子間に均等に分散している。
【０１１９】
そして、この低分子によって結ばれた高分子間には、均一な双極子−双極子相互作用が働いている。尚、この分子間相互作用は、この低分子の添加により従来の不均一なファン・デル・ワールス力を弱めている。また矢示Ａに係る部分では高分子が絡み合っているところを示している。
【０１２０】
また、図２は、図１に示した高減衰材料組成物の分子間ポテンシャルの高さと頻度との関係を示したものである。図に示したように、本発明に係る高減衰材料組成物は、減衰性添加剤の塩基性、相互作用中の分子間距離の制御をすることにより、その分子間ポテンシャルの分布が狭く、高さを最適値まで持っていき、分子間の絡み合いが減るように調節されている。これは、高分子鎖間の相互作用が小さくなり、代わりに均一な高分子と低分子の間にできた双極子−双極子相互作用ができたものと思われる。
【０１２１】
以上、本実施例を順に説明したが、要するに、本実施例に係る高減衰材料組成物は、ベースポリマーに、減衰性添加剤として第２級アミン、第３級アミン及び含窒素複素環より選ばれた塩基を１分子中に２個以上含む、例えばスルフェンアミド系添加剤、チアゾール系添加剤、チウラム系添加剤、紫外線吸収剤、防錆剤、エポキシ樹脂硬化促進剤、不飽和樹脂架橋剤、ウレタン触媒、潤滑油添加剤、グアニジン系添加剤、ベンゾトリアゾール系添加剤、ジチオカルバミン酸塩系添加剤、顔料、ピリジン系添加剤、イソシアヌル酸誘導物あるいはヒンダードアミン系添加剤のうちいずれかを配合したものであるから、ベースポリマーと塩基性物質との相互作用により、そのｔａｎδが高くなる。更に、本実施例によれば、各実施例のピーク温度と各配合成分のガラス転移温度の関係とに相関関係が認められることから、所期する温度特性を備えたものが得られる。
【０１２２】
本発明は、上記した実施例に何等限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で種々の改変が可能である。例えば、ベースポリマーとしては、塩素化ポリエチレン等に代えて、エチレン−ポリ塩化ビニル、エチレン，酢酸共重合体−ポリ塩化ビニル、ウレタン−ポリ塩化ビニルの他、変性天然ゴム、グラフト天然ゴム、環化天然ゴム、塩素化天然ゴム、カルボキシル化ニトリルゴム、ニトリルゴム／塩化ビニル樹脂ブレンド、ニトリルゴム／ＥＰＤＭゴムブレンド、臭素化ブチルゴム、塩素化ブチルゴム、エチレン−酢酸ビニルゴム、アクリルゴム、エチレン−アクリルゴム、クロロスルホン化ポリエチレン、エピクロルヒドリン−エチレンオキシドゴム、メチルシリコンゴム、ビニル−メチルシリコンゴム、フェニル−メチルシリコンゴム、フッ化シリコンゴム、フッ素ゴムや、ポリ塩化ビニル系熱可塑性エラストマー、ポリウレタン系熱可塑性エラストマー、ポリエステル系熱可塑性エラストマー、ポリアミド系熱可塑性エラストマー等極性側鎖を有するベースポリマーを適用することができる。
【０１２３】
また、塩基性物質の改変としては、本発明で用いたもの以外に、第２級アミン、第３級アミン及び含窒素複素環より選ばれた塩基を１分子中に２個以上含む塩基性物質であれば何等限定されることなく適用することができる。
【０１２４】
【発明の効果】
本発明に係る高減衰材料組成物によれば、極性側鎖を有するベースポリマーに減衰性添加剤として、第２級アミン、第３級アミン及び含窒素複素環より選ばれた塩基を１分子中に２個以上含む塩基性物質を分散、特に分子レベルで分散させたものであるから、ベースポリマーの鎖状分子間に働く分子間ポテンシャルを均一化させることができる。これにより、貯蔵弾性係数Ｅ’の傾きが急になり、損失弾性係数Ｅ”のピーク値が高くなる。したがって、本発明に係る高減衰材料組成物によれば高いｔａｎδを発現することができる。このような高減衰材料組成物及び高減衰材料は、音響ルームの遮音壁、建築構造体の遮音間仕切、車両の防音壁等、幅広い分野に適用することができるため、産業上きわめて有益なものである。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に係る高減衰材料組成物の分子鎖のミクロ構造を示した図である。
【図２】本発明に係る高減衰材料組成物の分子間ポテンシャルの分布を示した図である。
【図３】従来一般に知られる高減衰材料組成物の分子鎖のミクロ構造を示した図である。
【図４】従来一般に知られる高減衰材料組成物の分子間ポテンシャルの分布を示した図である。
【図１】
0003575659.tif 000027
【図２】
0003575659.tif 000028
【図３】
0003575659.tif 000029
【図４】
0003575659.tif 000030