【事件の表示】
　特願２００２−２８３３９８「表示装置」拒絶査定不服審判事件〔平成１６年　４月１５日出願公開、特開２００４−１１８０１５〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
第１　手続の経緯
　本願は、平成１４年（２００２年）９月２７日の出願（特願２００２−２８３３９８号）であって、平成２０年４月２１日付で拒絶査定がなされ、これに対して、平成２０年５月３０日付で拒絶査定不服審判の請求がなされたものである。
　
 第２　本願発明  
　本願の請求項１に係る発明（以下、「本願発明」という。）は、願書に添附した明細書及び図面の記載から見て、その特許請求の範囲の請求項１に記載された、以下のとおりのものである。
　
「画素回路と、画素回路を制御する表示制御回路と、画素回路の駆動に用いられる所定電圧の供給領域とを有し、
　前記画素回路、表示制御回路、および供給領域は積層プロセスによって形成されるものであり、その積層方向において、前記表示制御回路の少なくとも一部が前記供給領域と重複するよう形成されたことを特徴とする表示装置。」
　
第３　引用例
１　原査定の拒絶の理由に引用され、本願の出願前の平成１４年３月１３日に出願され、本願の出願後に公開された特許出願である特願２００２−６９２１０号（特開２００３−２７１０７５号）の願書に最初に添付した明細書及び図面（以下、「先願明細書」という。）には、次の事項が記載されている。
　
「　　【００１１】
　　【発明の実施の形態】
　以下、本発明の実施形態について、図面を参照しながら詳細に説明する。なお、各図において、同様または類似する構成要素には同一の参照符号を付し、重複する説明は省略する。
　　　【００１２】
　図１は本発明の第１の実施形態に係る有機ＥＬ表示装置を概略的に示す平面図であり、図２は図１に示す有機ＥＬ表示装置のＡ−Ａ線に沿った断面図である。また、図３は、図１及び図２に示す有機ＥＬ表示装置のアレイ基板の一例を概略的に示す平面図である。なお、図２では、図１に示す有機ＥＬ表示装置の一部のみが描かれている。
　　　【００１３】
　図１〜図３に示す有機ＥＬ表示装置１は、アレイ基板２と封止基板３とをシール層４を介して対向させた構造を有している。シール層４は封止基板３の周縁に沿って設けられており、それにより、アレイ基板２と封止基板３との間に密閉された空間を形成している。この空間は、例えば希ガスのような不活性ガスで満たされている。
　　　【００１４】
　アレイ基板２は、表示領域６と駆動回路領域７ａ，７ｂとを含んでいる。表示領域６には、表示画素８がアレイ状に配列されるとともに、表示画素の縦横の配列に沿って走査線９ａ及び信号線９ｂが配置されている。他方、駆動回路領域７ａ，７ｂには、走査線９ａに走査信号に対応した電圧を印加する走査線ドライバ１０ａ及び信号線９ｂに映像信号を印加する信号線ドライバ１０ｂがそれぞれ配置されている。以下、アレイ基板２の構造について、さらに詳しく説明する。
　　　【００１５】
　アレイ基板２は、ガラス基板のような基板１１を有している。基板１１上には、例えば、ＳｉＮxなどからなるアンダーコート層１２及びＳｉＯ2などからなるアンダーコート層１３が順次積層されている。アンダーコート層１３上には、チャネル及びソース・ドレインが形成されたポリシリコン層のような半導体層１４、ゲート絶縁膜１５、及びゲート電極１６が順次積層されており、それらはトップゲート型のＴＦＴ２０ａ〜２０ｃを構成している。なお、ＴＦＴ２０ａ，２０ｂはそれぞれｐチャネル型及びｎチャネル型のＴＦＴであり、インバータを構成している。
　　　【００１６】
　ゲート絶縁膜１５及びゲート電極１６上には、ＳｉＯ2などからなる層間絶縁膜２１が設けられている。層間絶縁膜２１上には電極配線（ここでは、陰極配線とする）２２、信号線９ｂ及びソース・ドレイン電極２３等が設けられており、それらは、ＳｉＮxなどからなるパッシベーション膜２４で埋め込まれている。なお、ソース・ドレイン電極２３は、層間絶縁膜２１に設けられたコンタクトホールを介してＴＦＴ２０ａ〜２０ｃのソース・ドレインに電気的に接続されている。
　　　【００１７】
　パッシベーション膜２４上には、第１導電層（ここでは陽極）２５及びポリイミドなどのような樹脂からなる隔壁層２６が配置されている。第１導電層２５は表示画素毎に独立島状に形成され、隔壁層２６によりそれぞれ電気的に絶縁されている。隔壁層２６には、それぞれの第１導電層２５に対応して開口が設けられており、それら開口内で露出した第１導電層２５上には、例えば、赤色、緑色、または青色の蛍光性有機化合物を含んだ薄膜である発光層２７が設けられている。隔壁層２６及び発光層２７上には各表示画素に共通に連続して配置される共通電極として第２導電層（ここでは陰極）２８が設けられており、第２導電層２８はパッシベーション膜２４及び隔壁層２６に設けられたコンタクトホールを介して電極配線２２に電気的に接続されている。それぞれの有機ＥＬ素子３０は、これら第１導電層２５，発光層２７，第２導電層２８で構成されている。
　　　【００１８】
　なお、隔壁層２６には、シール層４の位置に、底面がパッシベーション膜２４の上面で構成された溝が設けられ外部に接する隔壁層２６がシール層４によって有機ＥＬ素子と不連続となるよう構成されている。このような構造によると、水蒸気などが隔壁層２６を透過して上記空間内へと侵入するのを良好に抑制することができる。
　　　【００１９】
　本実施形態に係る有機ＥＬ表示装置１では、第２導電層２８は表示領域６だけでなく駆動回路領域７ａ，７ｂをも覆うように設けられている。そのため、駆動回路領域７ａ，７ｂ内のＴＦＴ２０ａ，２０ｂなどでなる駆動回路１０ａ、１０ｂは、第２導電層２８によって静電遮蔽される。したがって、本実施形態によると、アレイ基板２と封止基板３との貼り合わせを完了する前のいずれかの段階で、駆動回路が静電気によって破壊されるのを防止することができる。
　　　【００２０】
　また、本実施形態に係る有機ＥＬ表示装置１では、駆動回路にトップゲート型のＴＦＴ２０ａ，２０ｂを使用している。すなわち、陰極として利用する第２導電層２８とチャネルとの間にゲート電極１６を介在させている。そのため、導電層２８の電位に応じてＴＦＴ２０ａ，２０ｂの閾値電圧が変動するのを防止することができ、それゆえ、ゲート電極１６に電圧を印加していない場合においても電流が流れるのを防止することができる。したがって、本実施形態によると、不要な電力消費を抑制することが可能である。」
　
　【図２】【図３】から、表示領域６には、有機ＥＬ素子３０及びＴＦＴ２０cが含まれ、ＴＦＴ２０ｃが有機ＥＬ素子３０の駆動又はオンオフ切替をするものであることは明らかである。また、第２導電層２８が駆動回路領域７ｂのＴＦＴ２０ａ，２０ｂを覆っていることが見て取れる。
　
　上記記載事項から、先願明細書の記載事項として、
(1)「有機ＥＬ表示装置１は、アレイ基板２と封止基板３とをシール層４を介して対向させた構造を有して」（【００１３】）いて、「アレイ基板２は、表示領域６と駆動回路領域７ａ，７ｂとを含んでいる。」（【００１４】）こと、
(2)「表示領域６には、有機ＥＬ素子３０及びＴＦＴ２０cが含まれ、ＴＦＴ２０ｃが有機ＥＬ素子３０の駆動又はオンオフ切替をするものである」（【図２】【図３】）こと、
(3)「有機ＥＬ素子３０は、これら第１導電層２５，発光層２７，第２導電層２８で構成されている」（【００１７】）こと、
(4)「駆動回路領域７ａ，７ｂ内のＴＦＴ２０ａ，２０ｂなどでなる駆動回路１０ａ、１０ｂ」（【００１９】）を有すること
(5)「第２導電層２８は表示領域６だけでなく駆動回路領域７ａ，７ｂをも覆うように設けられている」（【００１９】）こと、
(6)「第２導電層２８が駆動回路領域７ｂのＴＦＴ２０ａ，２０ｂを覆っている」（【図２】）こと、
(7)「電極配線（ここでは、陰極配線とする）２２」（【００１６】）が設けられ、「第２導電層２８はパッシベーション膜２４及び隔壁層２６に設けられたコンタクトホールを介して電極配線２２に電気的に接続されている」（【００１７】）こと、
が記載事項として抽出される。
　
　上記抽出事項(5)から、第２導電層２８は、表示領域６に含まれる部分（以下、「表示領域第２導電層」という）と、駆動回路領域に含まれる部分（以下、「駆動回路領域第２導電層」という。）とからなる。
　そして、上記抽出事項(3)は、技術常識を加味して読めば、有機ＥＬ素子３０は、第１導電層２５，発光層２７，表示領域第２導電層で構成されているという意味で記載されているといえる。
　また、上記抽出事項(6)から、駆動回路領域第２導電層が「駆動回路領域７ｂのＴＦＴ２０ａ，２０ｂを覆っている」ことは明らかである。
　さらに、有機ＥＬ表示装置において、有機ＥＬ素子、ＴＦＴ、導電層、電極配線等が積層プロセスによって形成されることは、技術常識ともいえる事項であって、先願明細書においても記載されているに等しい事項であるといえる。
　
　よって、先願明細書には、
「有機ＥＬ素子３０及び有機ＥＬ素子３０の駆動又はオンオフ切替をするＴＦＴ２０ｃと、駆動回路領域７ａ，７ｂ内のＴＦＴ２０ａ，２０ｂなどでなる駆動回路１０ａ、１０ｂと、有機ＥＬ素子３０の構成要素である表示領域第２導電層と一体に形成されている駆動回路領域第２導電層及びそれに電気的に接続している陰極配線である電極配線２２とを有し、
　前記有機ＥＬ素子３０、ＴＦＴ２０ｃ、ＴＦＴ２０ａ，２０ｂ、駆動回路領域第２導電層、及び、電極配線２２は積層プロセスにより形成されものであり、駆動回路領域第２導電層が駆動回路領域７ｂのＴＦＴ２０ａ，２０ｂを覆っている有機ＥＬ表示装置」発明（以下、「引用発明」という）が記載されている。
　
第４　対比・判断
　引用発明と本願発明を対比する。
　
　本願明細書の【０００７】において、本願発明の「画素回路」について、「「画素回路」は、光学素子と、これを駆動する駆動素子と、光学素子の発光オンオフを切り替えるスイッチ素子と、を含む。」と定義されている点に留意すれば、引用発明の「有機ＥＬ素子３０及び有機ＥＬ素子３０の駆動又はオンオフ切替をするＴＦＴ２０ｃ」は、本願発明の「画素回路」に相当するといえる。
　
　引用発明の「駆動回路領域７ａ，７ｂ内のＴＦＴ２０ａ，２０ｂなどでなる駆動回路１０ａ、１０ｂ」が、本願発明の「画素回路を制御する表示制御回路」に相当することは明らかである。
　
　引用発明の「駆動回路領域第２導電層」は、陰極配線である電極配線２２から画素回路の一部である有機ＥＬ素子へ陰極電圧（所定電圧）を供給する部分であるといえる。そして、本願明細書の【００１０】において、「「所定電圧」は、光学素子のアノード側とカソード側のいずれの電圧でもよく、電源電圧に限らず、設置電圧や負電圧でもよい。」と記載されている点にかんがみれば、引用発明の「駆動回路領域第２導電層」は、本願発明の「画素回路の駆動に用いられる所定電圧の供給領域」に相当する。
　
　さらに、上記のとおり、引用発明の「有機ＥＬ素子３０」及び「ＴＦＴ２０ｃ」が、本願発明の「画素回路」に相当し、引用発明の「ＴＦＴ２０ａ，２０ｂ」が、本願発明の「表示制御回路」の少なくとも一部に相当し、引用発明の「駆動回路領域第２導電層」が、本願発明の「供給領域」に相当するから、引用発明の「前記有機ＥＬ素子３０、ＴＦＴ２０ｃ、ＴＦＴ２０ａ，２０ｂ、駆動回路領域第２導電層、及び、電極配線２２は積層プロセスにより形成されものであ」る点は、本願発明の「前記画素回路、表示制御回路、および供給領域は積層プロセスによって形成されるものであ」る点に相当する。
　
　引用発明の「駆動回路領域第２導電層」は、上記のように画素回路の一部である有機ＥＬ素子３０に陰極電圧（所定電圧）を供給する部分であって、本願発明の「供給領域」の一部であるということができ、また、引用発明の「駆動回路領域７ｂのＴＦＴ２０ａ，２０ｂ」が、本願発明の「表示制御回路の少なくとも一部」に相当するから、引用発明の「駆動回路領域第２導電層が駆動回路領域７ｂのＴＦＴ２０ａ，２０ｂを覆っている」ことは、本願発明の「その積層方向において、前記表示制御回路の少なくとも一部が前記供給領域と重複する」ことに相当する。
　
　また、引用発明の「有機ＥＬ表示装置」は、本願発明の「表示装置」に相当する。
　
　よって、技術常識を参酌すれば、本願発明と引用発明は、
「画素回路と、画素回路を制御する表示制御回路と、画素回路の駆動に用いられる所定電圧の供給領域とを有し、
　前記画素回路、表示制御回路、および供給領域は積層プロセスによって形成されるものであり、その積層方向において、前記表示制御回路の少なくとも一部が前記供給領域と重複するよう形成された表示装置。」の発明である点で一致し、発明特定事項に異なるところはない。
　　
　すなわち、本願発明は引用発明と実質的に同一である。
　
第５　むすび
　以上より、本願発明は、引用発明と実質的に同一であり、特許法第２９条の２の規定により特許を受けることができない。
　
　よって、結論のとおり審決する。