【事件の表示】
　特願２００２−５８８２３０「効率的位相欠陥部検出システムおよび方法」拒絶査定不服審判事件〔平成１４年１１月１４日国際公開、ＷＯ０２／９１０２６、平成１６年　８月２６日国内公表、特表２００４−５２６１６８〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１．手続の経緯・本件発明の認定
　本願は、２００２年５月２日（パリ条約による優先権主張外国庁受理２００１年５月４日　米国）を国際出願日とする出願であって、平成１９年２月９日付けで拒絶査定がされ、これに対し、同年５月２１日に拒絶査定不服審判の請求がされるとともに、同年６月２０日付けで手続補正がなされたものである。
　本願の請求項１〜６８に係る発明は、平成１９年６月２０日付け手続補正書の特許請求範囲の請求項１〜６８に記載されたとおりのものと認められ、その請求項５３に係る発明は手続補正による補正はなされておらず、以下のとおりである。
「前面を備えたアーティクルにより生じる光の変更に基づいて、光学系におけるアーティクルの光学的変動を検出する方法において、
　ａ）前記アーティクルによる少なくとも１つの光ビームの変更から得られる様々な位相情報を同じ近接する前面位置に含む少なくとも２つの信号の強度に関連するパラメータを取得するステップであって、前記少なくとも１つの光ビームを前記前面からいくつかの距離のところに在る異なる焦面と関連づけるステップと、
　ｂ）前記パラメータを比較して、前記アーティクル内の前記光学的変動を検出するように為すステップと、
　を有することを特徴とする方法。」（以下、「本願発明」という。）
　
２．引用刊行物記載の発明
　一方、原査定の拒絶の理由に引用された刊行物およびその記載事項は次のとおりである。
　
（１）原査定の拒絶の理由に引用され、本願の優先権主張の日前に頒布された刊行物である特開昭５８−２０８６１０号公報（以下、「引用例１」という。）には、以下の記載がある。
［１ａ］「　本発明は、偏光電磁輻射線（たとえば可視光線、赤外線または紫外線）により表面を検査することができかつ表面の性質に関する電気出力信号を発生しうる装置に関するものである。この装置は位置もしくは振動センサとして、或いはステツプ高さもしくは粗さセンサとして、或いは走査顕微鏡として使用することができ、偏光干渉測定の技術に基づくものである。」（第１頁左下欄第１６行〜同頁右下欄第５行）
［１ｂ］「　さらに、本発明によれば、表面を検査する方法は、２つの直交する偏光方向に等しい振幅の成分を有する輻射線のビームを表面に照射し、これら成分を装置の光学軸線に沿つた異なる位置に集束させ、焦点の位置間で表面の軸線方向と焦点とにおいて相対運動を生じせしめ、表面から輻射線を受入れ、前記２つの直交する偏光方向における成分の比較から表面に関する情報を得ることからなつている。」（第２頁左下欄第４〜１２行）
［１ｃ］「全体的効果は、軸線走査の一つの位置においてビームの一方の成分、たとえばＰ成分が試験表面２８に集束される一方、第２の成分が異なる距離で集束され、したがつてより大きい表面積から反射されることである。軸線走査の際、ビームは交代される。」（第３頁右上欄第１４行〜同頁左下欄第２行）
［１ｄ］「したがつて、反射器１８は２つの一致した平行化直交偏光ビームを受け、これら成分間の間の差は反射された表面の性質に関係する。」（第４頁左上欄第１２〜１５行）
［１ｅ］「２つの反射ビームは等しい振幅と位相とを有しかつ互いに干渉して第５ａ図に極図表で示したように各ビームに対し４５°の合成分Ｒを与える。変調を軸線走査により周波数Ｆで与えると（第５ｂ図）、ＰビームおよびＳビームに与えられる焦点効果の交代の作用はＰビームとＳビームとの強度および位相が変化する際、４５°方向の各側において角度±θだけ成分を揺動させる。」（第４頁右上欄第１７行〜同頁左下欄第７行）
［１ｆ］「　次いで第４図につき説明すれば、位相感受性検出器４８は変調周波数において光検出器３６からの信号のみに応答し、信号の非対称性に比例するＤ．Ｃ出力を与える。」（第４頁右下欄第９〜１２行）
［１ｇ］「　Ｄ．Ｃ信号がマイクロプロセツサ５６により記録されかつ検査する試料表面のｘ−ｙ位置に相関させれば、試料の表面輪郭が記録され、適当な形状で表示することができる。
　表面輪郭変化の振幅を得るためには、マイクロプロセツサ５６を計算（レンズ２２および２６の開孔値および倍率を使用する）または較正（公知輪郭の表面を使用する）のいずれかによつて較正することができる。
　変法において、サーボ型焦点固定は断続され、すなわち軸線走査の距離は調整されず、かつＤ．Ｃ信号が記録される。次いで、装置は位置検出器として作用する。」（第４頁右下欄第１６行〜第５頁左上欄第１０行）
　上記［１ａ］〜［１ｇ］の記載および図面によれば、引用例１には、
「２つの直交する偏光方向に等しい振幅の成分を有する輻射線のビームを試料の表面に照射し、これら成分を装置の光学軸線に沿つた異なる位置に集束させ、焦点の位置間で表面の軸線方向と焦点とにおいて相対運動を生じせしめ、表面から輻射線を受入れ、ＰビームとＳビームとの強度および位相が変化する際の揺動から、合成分の信号を得て、信号の非対称性に比例するＤ．Ｃ出力を反射された表面の性質に関係する前記２つの直交する偏光方向における成分の比較から表面に関する情報として得て、公知輪郭の表面を使用して較正し、表面輪郭変化の振幅または位置を求める、表面を検査する方法。」の発明（以下、「引用例１発明」という。）が記載されていると認められる。
　
（２）原査定の拒絶の理由に引用され、本願の優先権主張の日前に頒布された刊行物である特開平９−６１３６６号公報（以下、「引用例２」という。）には、以下の記載がある。
［２ａ］「【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は微分干渉顕微鏡及び該顕微鏡を用いた欠陥検査装置に関するものである。特に半導体や液晶基板の製造工程で使用される光遮光性の回路パターンが設けられたレチクルや位相シフター付きレチクル（光遮光性の回路パターンと位相物体の回路パターンとが混在するレチクルを含む）において、回路パターンや位相シフターの欠陥及びレチクルに付着した異物（欠陥）を観察可能な微分干渉顕微鏡に関するものであり、またこれらのレチクル上の位相シフターの欠陥や異物を検査する欠陥検査装置に関するものである。」
［２ｂ］「【００３２】検査対象のレチクルの回路パターンがクロム遮光膜のみに限定される場合には、無欠陥の回路パターンの段差を示す複素振幅透過率分布は（１５）式のみで示される。このときはアナライザの向き( アナライザ角) をφ＝π／４としたうえで、照明光の波長は任意であっても良い。また、検査対象のレチクルがハーフトーンレチクルに限定される場合には、無欠陥の回路パターンの段差を示す複素振幅透過率分布は（１４）式のみで示される。このときはφ＝φ1 がなるべくπ／４に近くなるように、照明光の波長を露光機の露光波長に略々等しい波長もしくは、該透明基板を透過する際に該位相シフターでπの整数倍の位相シフトを被る波長に近い波長に選択し、アナライザの向き( アナライザ角) φ1 を式（１７）を満たすように設定しても良い。
Ｓ＝２Ｃ｛ cos２φ1(ａ12−ｂ12) − sin２φ1２ａ1ｂ1 sinΨ1｝＝０
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　（１７）
次に上述のような原理で、位相シフターの欠陥や位相物体である光透過性の異物を検出するための具体的な装置構成、動作について説明する。
[装置構成・動作]図１は本発明の第一実施の形態による欠陥検査装置である。検査対象のレチクル８には、石英の光透過部分（ガラス部分）に位相シフター部分３０によって所定の回路パターンが描画されている。位相シフター部は例えばＳｉＯ2 等やハーフトーンレチクル用の透過率と位相を制御するような位相シフト部材である。レーザー光源１は検査対象のレチクル８の位相シフター部分３０による位相シフト量が略々πとなる波長の単色の光（検査光）を出射する。シフターが、例えば水銀灯のｉ線（波長３６５ｎｍ）用のものであるとすると、レーザ光源１からの光（検査光）の波長は３６５ｎｍ近傍の波長（例えば３６５±５０ｎｍ）であればよい。レーザ光の波長を位相シフター部分３０による位相シフト量が略々πとなる波長とすることにより、位相シフターの欠陥とレチクル上の異物（位相物体）との両方を検出することができる。また、シフターの検査のみを行う場合は、検査光の波長はどの波長の光でもよい。レーザー光源１からでた直線偏光レーザービームはコリメートレンズ２で平行光となり振動ミラー４に入射する。振動ミラー４は駆動部５０によりレーザービームを偏向可能である。レーザビームの偏光方向は紙面内であり、振動ミラー４は一次元方向にレーザービームを偏向する。駆動部５０はコンピュータ１９によって制御される。振動ミラー４によって反射されたレーザービームは第一リレーレンズ３、第二リレーレンズ１７により屈折され、ノマルスキープリズム１６を透過し、互いの偏光方向が直交する二つの直線偏光であって、わずかな相対角度をなす光線に分離され進行し、コンデンサーレンズ９により屈折され、ＸＹステージ２６に置載されたレチクル８に入射する。ノマルスキープリズム１６はコンデンサーレンズ９の瞳位置もくしはその共役位置近傍に配置されている。
【００３３】これらの光線はレチクル８の回路描画面７内でビームスポットを形成する。レチクル８上の回路描画面７内では、ノマルスキープリズム１６の働きによって、わずかに位置のずれた２つのビームスポットが形成される。これらの２つのビームスポットを形成する２つの光線は互いの偏光方向が直交する二つの直線偏光である。２つのスポットは振動ミラー４の働きによって、回路描画面７内をＸ方向に一次元走査する。同時に、ＸＹステージ２６はＹ方向にレチクル８を等速度で移動させ、これらのスポットは回路描画面７内でＸ・Ｙラスタースキャンを行い、所定の面積の領域内の欠陥検査を行う。
【００３４】この領域はＸ方向の長さが、光学系によって規制されるが、Ｙ方向には規制されないため、Ｙ方向に長い、長方形の領域とすることができる。したがって、これよりも大きな領域（前述の所定の面積の領域より大きな領域）を検査する場合には、領域がＸ方向に複数個重なるように、ＸＹステージ２６によって、Ｙ方向の等速度のステージ移動と、Ｘ方向に沿った、ステップ動作を交互に複数回行えば良い。
【００３５】ＸＹステージ２６はモータ等からなる駆動部２７によって駆動され、コンピュータ１９は駆動部２７を制御する。また、ノマルスキープリズム１６はピエゾ素子等からなるアクチュエータ２５によって、コンデンサーレンズ９の光軸と交差する方向（例えば光軸とほぼ直交する方向）に移動可能である。コンピュータ１９はアクチュエータ２５を制御する。
【００３６】レチクル８を透過した互いの偏光方向が直交する二つの直線偏光のレーザビームは、対物レンズ６で屈折され、互いの偏光方向が直交し、わずかな相対角度をなす二つの光束となって、ノマルスキープリズム５に到達する。これらの２つの光束は各々平行光である。これらの平行光束はノマルスキープリズム５の働きによって再び一つの平行光束となり、１／４波長板１０に達する。
【００３７】ノマルスキープリズム５もピエゾ素子等からなるアクチュエータ２４によって、コンデンサーレンズ９の光軸（対物レンズ６の光軸）と交差する方向（例えば光軸とほぼ直交する方向）に移動可能である。コンピュータ１９はアクチュエータ２４を制御する。１／４波長板１０直前の平行光線の偏光状態は、二つのノマルスキープリズム１６、５の挿入位置の調整によって円偏光から直線偏光まで可変である。ここで、レチクル８の回路描画面７上に回路パターンなどの段差などが全く無い、平坦なガラス部分である場合に、１／４波長板１０直前の平行光線の偏光状態が直線偏光となるように、二つのノマルスキープリズム１６、５の挿入位置が調整される。このとき、二つのノマルスキープリズム１６、５の間のたがいの偏光方向が直交する二つの直線偏光のレーザビームの相対的な位相差がπの整数倍となるように調整される。また二つのノマルスキープリズム１６、５の挿入方位は、二つのプリズムの楔の方位が一致するようにし、かつシャーする方向が紙面に対してπ／４の方位とする。１／４波長板１０は、直前の平行光束の直線偏光方向、つまり紙面に平行もしくは垂直方向に対し方位π／４で挿入されている。したがって、レチクル８の回路描画面７上に回路パターンなどの段差などが全く無い、平坦なガラス部分である場合に、１／４波長板１０を透過したレーザービームは円偏光となる。このレーザービームは光軸を回転軸として回転自在に配置された１／２波長板１１を通過したあと、コレクターレンズ２８により屈折され、検光子の作用をする偏光ビームスプリッタ１２で偏光分離される。紙面に平行な直線偏光の成分が光検出器１３によって光電変換され、垂直な直線偏光の成分が光検出器１４によって光電変換される。光検出器１４は例えば、フォトマルやＳＰＤ（シリコン・フォト・ダイオト）等で構成される。光検出器１３、１４の配置位置は、合成光学系の後ならどこでもよい。例えば、対物レンズ６の瞳共役面やレチクル８の像共役面等に配置すればよい。
【００３８】１／４波長板１０は、ピエゾ素子等からなるアクチュエータ２３によって、対物レンズ６の光軸を回転軸として回転されることより前述の方位に設定される。１／２波長板１１はピエゾ素子等からなるアクチュエータ２２によって、対物レンズ６の光軸を回転軸として回転可能である。１／２波長板１１の回転角が、前述の「原理」の項で述べたアナライザ角φの２倍に対応する。１／２波長板１１の方位角は、検光子（偏光ビームスプリッタ）のアナライザ角φが略々π／４となるように設定する。すなわち、アクチュエータ２２は１／２波長板１１をアナライザ角φが略々π／４となるように設定する。実際の検査に先立ち、被検査レチクルの無欠陥の位相シフター部分を用いて、同一のゲインに調整された光検出器１３、１４の電気信号の差異が最も小さくなるように、アクチュエータ２２は１／２波長板の方位を微調整する。この調整を行うことによって、アナライザ角φがπ／４に設定される（換言すれば異物の検出感度が最大となる）とともに、系に残存する残存誤差を影響を最小にするために光検出器１３、１４の出力のゲインが微調整される。このように固定した状態の偏光ビームスプリッタと回転可能な１／２波長板とにより、アナライザ角を可変とする偏光ビームスプリッタを構成することができる。
【００３９】上記のセットアップにより実際の検査時には、レチクル８の回路描画面内の位相シフター部分のシフト量の不良、または光透過部分（ガラス部分）に付着した位相物体の異物が存在する場合のみに、光検出器１３、１４の電気信号に差異が生じ、無欠陥の場合には差異を生じない。光検出器１３、１４によって光電変換された電気信号は差動アンプ１５で差動信号となり、プラス側とマイナス側の二つのスライスレベルを有する２値化回路である。ウインドウコンパレータ回路を有する信号処理回路１８に入力される。信号処理回路１８は２値化信号の値や、差動信号の値などを、コンピュータ１９に出力する。コンピュータ１９はこの２値化信号に基づいて欠陥の有無を検出する。信号処理回路１８のウインドウコンパレータ回路のプラス側とマイナス側の二つのスライスレベルは光学的なノイズ、電気的なノイズによって疑似欠陥を生じないレベルに設定する。コンピュータ１９は光検出器１３、１４の出力値をそのまま入力できるようにもなっている。」
［２ｃ］「【００５７】図６は本発明の第六実施の装置構成を示す図である。第六実施の形態は落射照明方法によって装置を構成した例である。図１と同様の部材には同様の符号を付して、その詳細説明は省略する。本実施の形態では反射光による欠陥検査を行っている。本実施の形態のような装置ではシフターによって与えられる検査用光源の位相シフト量はシフターの材質によって同じｉ線用のものでも様々に変化する。従って前述の実施の形態の装置（透過式）のように露光波長を用いてもアナライザ角を（１７）式によって決定しなければならない。すなわち、本実施の形態においては、使用波長は露光波長に限定されない。
【００５８】図６において、レーザ光源１から射出する光線は紙面に４５°の方位の偏波面の直線偏光とする。この光線はコリメートレンズ２によって平行光となってＸＹ走査部５１で空間的に偏向される。ＸＹ走査部５１は振動ミラー等から構成され、モータ等の駆動部５０によって、レチクル８上で紙面内１次元方向にレーザ光源１から射出する光線を走査する。ＸＹ走査部５０から射出した光線は第１リレーレンズ５２、第２リレーレンズ５３、１／２波長板６２を経て、第３リレーレンズ５４によって屈折され、ハーフミラー５５によって対物レンズ９の光軸ＡＸに沿って反射され、ノマルスキープリズム１６を通過し、互いに偏光方向が直交する２つの直線偏光であって、僅かな相対角度をなす光線に分離して進行する。この互いに偏光方向が直交する２つの直線偏光であって、僅かな相対角度をなす光線に分離して進行する２つの光は対物レンズ９によって屈折され、２値レチクル（振幅透過率を２通り有するレチクル）８ａ上にレーザスポットが形成される。２値レチクル８ａ上ではノマルスキープリズム１６の働きによりわずかに位置のずれた２つのスポットが近接して形成され、これらのスポットはＸＹ走査部５１の働きによってレチクル８ａ上を１次元走査する。１／２波長板６２は光源からの光をノマルスキープリズム１６のシャー方向に対して正確に４５°となるように微調整するものである。微調整された光がノマルスキープリズム１６に入射する。
【００５９】２値レチクル８ａで反射した光線はコンデンサーレンズ（対物レンズ）６ａに入射し、屈折され、コンデンサーレンズ６ａの瞳位置近傍に位置するノマルスキープリズム１６を再度通過し、ハーフミラー５５を透過し、１／４波長板１０、１／２波長板１１を通過し、偏光ビームスプリッタ１２に達する。偏光ビームスプリッタ１２を通過する光線は光線ｉ１となり光軸ＡＸを中心としてＸ軸に４５°の方位の直線偏光となる。偏光ビームスプリッタ１２で反射された光線は光線ｉ２となり光軸ＡＸを中心としてＸ軸に１３５°の方位の直線偏光となる。
【００６０】図６における各光学素子の光軸ＡＸを中心としたＸ軸に対する方位角は、Ｙ軸方向を正とすると、１／４波長板１０の光学軸は０°、ノマルスキープリズム１６の楔の向きは０°、偏光ビームスプリッタ１２のアナライザ角（φ）は（１７）式により決定する。実際にはレチクル８ａの無欠陥のシフターの段差での差動出力が最小となるようにアクチュエータ２２は１／２λ板を回転させる。また、２値レチクル８ａ上に２つのビーム間に位相差が生じるような回路パターンなどが全くないときに、ノマルスキープリズム１６とレチクル８ａの間で２つの光線（ノマルスキープリズム１６で分離された２つの光線）に与えられる位相差の初期値が２πの整数倍になるように（１／４波長板１０を透過する光線が円偏光となるように）ノマルスキープリズム１６を光軸ＡＸを横切る方向にアクチュエータ２５が位置調整する。アクチュエータ２５はコンピュータ１９によって制御される。
【００６１】光線ｉ１はレンズ５７によって屈折され、光電変換素子５９に入射する。光電変換素子５９は光線ｉ１を光電変換し、映像信号を出力する。光線ｉ２はレンズ５８によって屈折され、光電変換素子６０に入射する。光電変換素子６０は光線ｉ２を光電変換し、映像信号を出力する。２つの映像信号は差動アンプ１５に入力され、差動アンプ１５は振幅差動信号を出力する。この差動信号は、プラス側とマイナス側の二つのスライスレベルを有する２値化回路であるウインドウコンパレータ回路を有する信号処理回路１８に入力される。信号処理回路１８は２値化信号の値や、差動信号の値などを同期装置６１に出力する。信号処理回路１８の２つのスライスレベルは第一の実施の形態と同様にして設定する。なおスライスレベルはインターフェース２０、コンピュータ１９を介して外部より設定可能である。同期装置６１は検査実行中のＸＹ走査部５１とＸＹステージ２６の同期制御を行う。ＸＹステージ２６は駆動部２７によって、ＸＹ走査部５１による１次元走査の方向とほぼ直交する方向に移動される。ＸＹ走査部５１と駆動部２７によりレチクル８ａ上の２次元領域が検査可能となる。コンピュータ１９は、同期装置６１からのＸＹステージ２６及びＸＹ走査部の制御情報と同期して、２値化信号や差動信号及び光電変換素子５９、６０からの信号を入力し、第一の実施の形態と同様に異物マップを生成し、表示部２１に表示する。
【００６２】コンピュータ１９はアクチュエータ２５を制御し、ノマルスキープリズム１６を微調整可能であり、アクチュエータ２２を制御し、１／２波長板１１を微調整可能であり検査開始前のセットアップが自動で可能である。外部のオペレータは、インターフェース２０を介して、コンピュータ１９に対し、検査感度、検査領域、装置の初期設定の実行、検査の実行などを入力する。」
　上記［２ａ］〜［２ｃ］の記載によれば、引用例２には、
「レチクル上に、互いの偏光方向が直交する２つの直線偏光で形成される、わずかに位置のずれた、２つのビームスポットを形成し、レチクルを透過または反射した互いの偏光方向が直交する２つの直線偏光のレーザビームは、偏光ビームスプリッタで偏光分離され、それぞれ別の光検出器または光電変換素子によって光電変換され、光電変換された電気信号は差動アンプで差動信号となり、２値化し、コンピュータはこの２値化信号に基づいて欠陥の有無を検出する、微分干渉顕微鏡及び該顕微鏡を用いた欠陥または異物の検査方法。」の発明（以下、「引用例２発明」という。）が記載されていると認められる。
　
３．対比
　本願発明と引用例１発明とを対比する。
（ア）引用例１発明の「試料」の「表面」は、本願発明における「アーティクル」の「前面」に相当する。
（イ）引用例１発明の「２つの直交する偏光方向に等しい振幅の成分を有する輻射線のビームを試料の表面に照射し、これら成分を装置の光学軸線に沿つた異なる位置に集束させ」ることは、本願発明の「前記少なくとも１つの光ビームを前記前面からいくつかの距離のところに在る異なる焦面と関連づける」ことに相当する。
　また、引用例１発明の「前記２つの直交する偏光方向における成分の比較から表面に関する情報」である「Ｄ．Ｃ出力」は、強度および位相が変化する表面からの輻射線のＰビームとＳビームに基づくものであるから、引用例１発明の「２つの直交する偏光方向における成分の比較から表面に関する情報」として得られる「Ｄ．Ｃ出力」と本願発明の「前記アーティクルによる少なくとも１つの光ビームの変更から得られる様々な位相情報を同じ近接する前面位置に含む少なくとも２つの信号の強度に関連するパラメータ」とは、「前記アーティクルによる少なくとも１つの光ビームの変更から得られる様々な位相情報を同じ近接する前面位置に含む少なくとも２つの光の強度に関連するパラメータ」である点で共通する。
　そうすると、引用例１発明の「２つの直交する偏光方向に等しい振幅の成分を有する輻射線のビームを試料の表面に照射し、これら成分を装置の光学軸線に沿つた異なる位置に集束させ、焦点の位置間で表面の軸線方向と焦点とにおいて相対運動を生じせしめ、表面から輻射線を受入れ、ＰビームとＳビームとの強度および位相が変化する際の揺動から、合成分の信号を得て、信号の非対称性に比例するＤ．Ｃ出力を反射された表面の性質に関係する前記２つの直交する偏光方向における成分の比較から表面に関する情報として得」るステップと、本願発明の「前記アーティクルによる少なくとも１つの光ビームの変更から得られる様々な位相情報を同じ近接する前面位置に含む少なくとも２つの信号の強度に関連するパラメータを取得するステップであって、前記少なくとも１つの光ビームを前記前面からいくつかの距離のところに在る異なる焦面と関連づけるステップ」とは、「前記アーティクルによる少なくとも１つの光ビームの変更から得られる様々な位相情報を同じ近接する前面位置に含む少なくとも２つの光の強度に関連するパラメータを取得するステップであって、前記少なくとも１つの光ビームを前記前面からいくつかの距離のところに在る異なる焦面と関連づけるステップ」である点で共通する。
（ウ）引用例１発明の「表面輪郭変化の振幅または位置」は、試料の表面からの輻射線の強度および位相の変化から検出されるものであるから、本願発明の「前記アーティクル内の前記光学的変動」であるといえる。また、引用例１発明の「公知輪郭の表面を使用して較正」は、公知輪郭の表面の検出値と試料の表面の検出値を比較することといえるから、本願発明の「前記パラメータを比較」に相当する。
　そうすると、引用例１発明の「信号の非対称性に比例するＤ．Ｃ出力を、公知輪郭の表面を使用して較正し、表面輪郭変化の振幅または位置を求める」ステップは、本願発明の「前記パラメータを比較して、前記アーティクル内の前記光学的変動を検出するように為すステップ」に相当する。
　以上より、両者は、
「前面を備えたアーティクルにより生じる光の変更に基づいて、光学系におけるアーティクルの光学的変動を検出する方法において、前記アーティクルによる少なくとも１つの光ビームの変更から得られる様々な位相情報を同じ近接する前面位置に含む少なくとも２つの光の強度に関連するパラメータを取得するステップであって、前記少なくとも１つの光ビームを前記前面からいくつかの距離のところに在る異なる焦面と関連づけるステップと、前記パラメータを比較して、前記アーティクル内の前記光学的変動を検出するように為すステップと、を有する方法」である点で一致し、以下の点で相違している。
［相違点］パラメータが、本願発明では、少なくとも２つの信号の強度に関連するパラメータを用いるのに対し、引用例１発明では、焦点の位置間で表面の軸線方向と焦点とにおいて相対運動を生じせしめておき、２つの直交する偏光方向における成分の比較から表面に関する情報として、１つのＤ．Ｃ出力を用いる点。
　
４．判断
　上記相違点について検討すると、引用例２発明は、試料の表面から得られる偏光のレーザビームを、偏光ビームスプリッタで偏光分離し、それぞれ別に検出し、得られた信号を比較する発明といえ、このような発明は、例えば特開平５−４００２６号公報（特に段落【０００９】および【００１４】を参照）や特開昭６４−３５４５号公報（特に第３頁左上欄第１７行〜同頁左下欄第１３行参照）にも記載されているように周知である。
　引用例２発明および上記周知技術は、光を用いてレチクルやウェハ等の欠陥または異物を検査する方法であるから、引用例２発明および上記周知技術と引用例１発明とは、ともに、光を用いて表面を検査する共通の技術分野に属する発明である。そして、特に引用例２発明は、２つの直交する偏光を用いて位置のずれたビームスポットを形成し、試料であるレチクルから得られるそれぞれの偏光を検出した信号値の作動信号を求め、２値化して、レチクル上の欠陥の有無を検査するものであるから、引用例１発明と同様に、２つの輻射線のビームを試料の表面に照射し、異なった位置に集束させ、２つの直交する偏光方向における成分の比較から表面に関する情報を得て、表面を検査する点で共通している。
　したがって、引用例１発明において、焦点の位置間で表面の軸線方向と焦点とにおいて相対運動を生じせしめ、１つのＤ．Ｃ出力を用いる代わりに、２つの信号の強度に関連するパラメータを用いることは、引用例２発明および上記周知技術を適用することにより当業者が容易に相当しうることである。
　
　そして、本願発明の効果は、引用例１、引用例２に記載された発明および周知技術から当業者が予測できる範囲のものであって、格別なものであるとはいえない。
　
５．むすび
　以上のとおり、本願発明は、引用例１、引用例２に記載された発明および周知技術に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　したがって、その他の請求項に係る発明について言及するまでもなく、本願は拒絶すべきものである。
　よって、結論のとおり審決する。