Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成27年5月20日(2015.5.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
底面と側面とを有する細胞培養容器であって、
底面に、細胞を収容するためのマイクロウェルが一つ以上配置されており、
マイクロウェルが、最深部から外縁に進むに従って高くなるように形成された第１傾斜面と、第１傾斜面と接続して外縁側に、さらに外縁に進むに従って高くなるように形成された第２傾斜面とを有し、
細胞培養容器の底面に垂直な線と第１傾斜面とのなす角度θ１が９０°未満であり、
細胞培養容器の底面に垂直な線と第２傾斜面とのなす角度θ２が３°以上４５°以下であり、
θ１がθ２より大きく、
マイクロウェルの深さが０．０５ｍｍ以上０．５ｍｍ以下である、
細胞培養容器。
【請求項２】
マイクロウェルの開口部の開口幅が０．１ｍｍ以上１ｍｍ以下である、請求項１に記載の細胞培養容器。
【請求項３】
第１傾斜面と第２傾斜面とがマイクロウェル内側になす角度θ３が１００°以上１５０°以下である、請求項１または２に記載の細胞培養容器。
【請求項４】
底面に複数のマイクロウェルが形成されており、かつ複数のマイクロウェルを囲む内壁が形成されている、請求項１〜３のいずれか１項に記載の細胞培養容器。
【請求項５】
マイクロウェルの垂直切断面における、第１傾斜面と第２傾斜面の接続部の曲率および開口端の曲率が、それぞれ０．０１ｍｍ以上０．１ｍｍ以下である、請求項１〜４のいずれか１項に記載の細胞培養容器。
【請求項６】
マイクロウェルの第１傾斜面が円錐面または円錐台の側面を形成しており、第２傾斜面が円錐台の側面を形成している、請求項１〜５のいずれか１項に記載の細胞培養容器。
【手続補正書】
【提出日】平成27年4月27日(2015.4.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
図柄変動表示を実行可能な図柄表示手段と、
表示手段と、
を備えた遊技台であって、
前記表示手段は、保留アイコンの表示を実行可能な手段であり、
前記表示手段は、前記保留アイコンによって前記図柄変動表示の実行に関する保留数の報知を実行可能な手段であり、
前記表示手段は、前記保留アイコンのアニメーションを実行可能な手段であり、
前記表示手段は、変動アイコンの表示を実行可能な手段であり、
前記表示手段は、前記変動アイコンのアニメーションを実行可能な手段であり、
前記図柄変動表示の開始よりも後に前記変動アイコンの消去（以下、「第一の消去」という。）が行われるように構成され、
前記第一の消去の前に、前記変動アイコンの消去（以下、「第二の消去」という。）が行われる場合があるように構成され、
前記第二の消去が行われた場合に、前記第一の消去の前に前記変動アイコンの再表示が行われるように構成される、
ことを特徴とする遊技台。
【請求項２】
請求項１に記載の遊技台であって、
前記表示手段は、前記第二の消去から前記再表示までの間に、第一のリーチの表示を実行可能な手段である、
ことを特徴とする遊技台。
【請求項３】
請求項２に記載の遊技台であって、
前記表示手段は、第二のリーチの表示の間に、前記変動アイコンの表示を実行可能な手段である、
ことを特徴とする遊技台。
【請求項４】
請求項１乃至請求項３のいずれか一項に記載の遊技台であって、
予告を実行可能な予告手段を備え、
前記表示手段は、前記変動アイコンを複数の態様で表示可能な手段であり、
前記複数の態様のうちの一の態様による前記変動アイコンによって前記予告が実行される、
ことを特徴とする遊技台。
【請求項５】
請求項１乃至請求項４のいずれか一項に記載の遊技台であって、
装飾図柄変動表示を実行可能な第三の表示手段を備える、
ことを特徴とする遊技台。
【請求項６】
請求項１乃至請求項５のいずれか一項に記載の遊技台であって、
前記図柄変動表示の終了後に次の前記図柄変動表示の実行に関する保留が無い場合、該次の前記図柄変動表示は行われない、
ことを特徴とする遊技台。
【請求項７】
請求項１乃至請求項６のいずれか一項に記載の遊技台であって、
前記図柄変動表示の開始よりも後に消去される前記変動アイコンは、該図柄変動表示に関連したアイコンである、
ことを特徴とする遊技台。
【請求項８】
請求項１乃至請求項７のいずれか一項に記載の遊技台であって、
前記遊技台は、ぱちんこ機である、
ことを特徴とする遊技台。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明に係る遊技台は、図柄変動表示を実行可能な図柄表示手段と、表示手段と、を備えた遊技台であって、前記表示手段は、保留アイコンの表示を実行可能な手段であり、前記表示手段は、前記保留アイコンによって前記図柄変動表示の実行に関する保留数の報知を実行可能な手段であり、前記表示手段は、前記保留アイコンのアニメーションを実行可能な手段であり、前記表示手段は、変動アイコンの表示を実行可能な手段であり、前記表示手段は、前記変動アイコンのアニメーションを実行可能な手段であり、前記図柄変動表示の開始よりも後に前記変動アイコンの消去（以下、「第一の消去」という。）が行われるように構成され、前記第一の消去の前に、前記変動アイコンの消去（以下、「第二の消去」という。）が行われる場合があるように構成され、前記第二の消去が行われた場合に、前記第一の消去の前に前記変動アイコンの再表示が行われるように構成される、ことを特徴とする遊技台である。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０３２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０３２８】
このように、特図変動遊技の保留が無い場合でも特図の変動表示後に変動アイコンを表示させるように構成すれば、特図変動遊技が再び行われるように思わせることができ、保留数の特定を困難にして遊技球の打ち止めを抑止できる場合がある。
本実施例に係る遊技台は、図柄変動表示を実行可能な図柄表示手段（例えば、第１特図表示装置２１２）と、表示手段（例えば、装飾図柄表示装置２０８）と、を備えた遊技台であって、前記表示手段は、保留アイコンの表示を実行可能な手段であり、前記表示手段は、前記保留アイコンによって前記図柄変動表示の実行に関する保留数の報知を実行可能な手段であり、前記表示手段は、前記保留アイコンのアニメーションを実行可能な手段であり、前記表示手段は、変動アイコン（例えば、図５５に示す、「刀」の変動アイコン）の表示を実行可能な手段であり、前記表示手段は、前記変動アイコンのアニメーションを実行可能な手段であり、前記図柄変動表示の開始よりも後に前記変動アイコンの消去（以下、「第一の消去」という。）が行われるように構成され、前記第一の消去の前に、前記変動アイコンの消去（以下、「第二の消去」という。）が行われる場合があるように構成され、前記第二の消去が行われた場合に、前記第一の消去の前に前記変動アイコンの再表示が行われるように構成される、ことを特徴とする遊技台である。
本実施例に係る遊技台によれば、１回の図柄変動表示中に複数回変動アイコンを消去することで、１の保留の消化により、複数個の保留を消費して変動が行われたかのように遊技者を錯覚させることができ、遊技者の遊技の興趣を向上させることができる場合がある。
なお、前記表示手段は、前記第二の消去から前記再表示までの間に、第一のリーチの表示（例えば、図５５（ｅ）に示すリーチの表示）を実行可能な手段であってもよい。また、前記表示手段は、第二のリーチの表示（例えば、図５９（ｈ）に示すリーチの表示）の間に、前記変動アイコンの表示を実行可能な手段であってもよい。また、予告を実行可能な予告手段を備え、前記表示手段は、前記変動アイコンを複数の態様で表示可能な手段であり、前記複数の態様のうちの一の態様による前記変動アイコンによって前記予告が実行されるものでもよい。また、装飾図柄変動表示を実行可能な第三の表示手段（例えば、第２特図表示装置２１４）を備えてもよい。また、前記図柄変動表示の終了後に次の前記図柄変動表示の実行に関する保留が無い場合、該次の前記図柄変動表示は行われないものでもよい。また、前記図柄変動表示の開始よりも後に消去される前記変動アイコンは、該図柄変動表示に関連したアイコン（例えば、図５５に示す「刀」の変動アイコン）であってもよい。
【手続補正書】
【提出日】平成27年4月2日(2015.4.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
液保持性の吸収体並びに該吸収体の肌対向面側に配置された表面シート及び該吸収体の非肌対向面側に配置された裏面シートを具備し、着用時に着用者の排泄部に対向配置される排泄部対向部と、該排泄部対向部よりも着用者の腹側に配される前方部と、該排泄部対向部よりも着用者の背側に配される後方部とを有する吸収性本体を備え、着用者の前後方向に相当する縦方向とこれに直交する横方向とを有する吸収性物品であって、
前記吸収体は、パルプを含む吸収性シートが複数層積層されてなる積層構造を有しており、
前記吸収性シートの前記積層構造は、前記排泄部対向部に位置する中央吸収性シートと、該中央吸収性シートの周縁の少なくとも一部から外方に延出するように該中央吸収性シートと積層された本体吸収性シートとを有しており、
前記吸収体における排泄部対向部に、前記縦方向に沿って、該吸収体の厚み方向に向けて切り込まれた縦スリットが、複数、分散した状態で形成されており、
前記積層構造は、少なくとも前記排泄部対向部において、該積層構造を形成する複数層の前記吸収性シート間の一部が、前記縦スリットが形成された部位において非接合状態になっている、吸収性物品。
【請求項２】
前記積層構造は、少なくとも前記排泄部対向部において、該積層構造を形成する複数層の前記吸収性シート間の一部が、前記縦スリットが形成された部位及びその近傍の部位において非接合状態になっている、請求項１記載の吸収性物品。
【請求項３】
前記縦スリット近傍における前記吸収性シートの密度が、該縦スリットどうしの間に位置する非スリット部における該吸収性シートの密度よりも高くなっている請求項１又は２に記載の吸収性物品。
【請求項４】
前記横方向に離間した複数本の前記縦スリットからなるスリット列が前記縦方向に複数列形成され、該縦方向に隣り合うスリット列間に間隔を有さず、かつ該縦方向に隣り合うスリット列のスリットの位置が前記横方向にずれている請求項１ないし３のいずれか一項に記載の吸収性物品。  
【請求項５】
前記縦スリットが配置された排泄部スリット領域は、吸収体の横方向中央部に位置する中央スリット領域と、その横方向外側の側部スリット領域とから構成されており、前記中央スリット領域では、前記縦スリットが前記中央吸収性シート及び本体吸収性シートの積層構造を貫通している、請求項１ないし４のいずれか一項に記載の吸収性物品。
【請求項６】
前記側部スリット領域において、前記縦スリットが前記本体吸収性シートの積層構造に貫通して形成されている、請求項５に記載の吸収性物品。
【請求項７】
前記側部スリット領域において、前記積層構造を形成する前記本体吸収性シート間が、前記縦スリットが形成された部位及びその近傍の部位において非接合状態になっている、請求項６に記載の吸収性物品。
【請求項８】
前記縦スリットの前記横方向の長さを、前記吸収体の厚み方向に沿って見たとき、前記表面シート側における該長さの方が、前記裏面シート側における該長さよりも長くなっている請求項１ないし７のいずれか一項に記載の吸収性物品。
【請求項９】
前記吸収体は、前記後方部に、前記縦方向と交差する方向に延びる後方スリットを有しており、該後方スリットは、スリットの長手方向の中央部が該長手方向の両端部の位置より前記前方部側に位置する平面視形状を有し、前記縦方向に間隔を開けて複数本形成されている請求項１ないし８のいずれか一項に記載の吸収性物品。
【請求項１０】
前記積層構造は、前記後方部において、該積層構造を形成する複数層の前記吸収性シート間の一部が非接合状態になっている請求項９に記載の吸収性物品。
【手続補正書】
【提出日】平成27年2月3日(2015.2.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下着の股部に装着して使用する吸収性物品が包装シートによって包装され、
吸収性物品は下着当接面に下着固定用粘着部を有し、
下着固定用粘着部は剥離シートによって覆われており、
剥離シートは接合部によって包装シートに接合され、
吸収性物品の使用時には、包装シートの前端部と吸収性物品の前端部をつまんで反対方向に引っ張ることにより、包装シートとともに剥離シートを吸収性物品から剥がすことができる、
吸収性物品の個包装体であって、
剥離シートは幅方向中央領域と右側部領域と左側部領域を有し、
接合部は剥離シートの幅方向中央領域に配置され、
下着固定用粘着部は、剥離シートの幅方向中央領域と右側部領域と左側部領域のそれぞれに対応する吸収性物品の下着当接面の各領域に配置され、
幅方向中央領域に対応する吸収性物品の下着当接面の領域に配置された下着固定用粘着部の前端は、接合部の前端よりも後方に位置し、
右側部領域と左側部領域に対応する吸収性物品の下着当接面の各領域に配置された下着固定用粘着部の前端の少なくとも一部は、接合部の前端よりも前方に位置しているかまたは接合部の前端と略同じ前後方向位置にあり、
吸収性物品は、表面シート、裏面シートおよび表面シートと裏面シートとの間に配置された吸収体を含み、
右側部領域と左側部領域に対応する吸収性物品の下着当接面の各領域に配置された下着固定用粘着部の前端は、吸収体の前端よりも後方に位置していることを特徴とする吸収性物品の個包装体。
【請求項２】
吸収性物品が生理用ナプキン、パンティーライナーまたは失禁用パッドであることを特徴とする請求項１に記載の吸収性物品の個包装体。
【手続補正書】
【提出日】平成27年4月21日(2015.4.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
平面状に配置されたシート状パリソンを挟んで配設された一対の凹状成形型及び成形型を備え、前記シート状パリソンを所定形状に成形する第１成型手段と、
前記第１成型手段に並設されるとともに前記シート状パリソンを挟んで配設された一対の凹状成形型及び成形型を備え、前記シート状パリソンの成形された部分と異なる部分を所定形状に成形する第２成型手段と、
前記第１成型手段及び前記第２成型手段の少なくともいずれか一方において、前記凹状成形型に対向する前記成形型に設けられ、成形されたシート状パリソンに部品を固定する固定手段と、
前記シート状パリソンの、前記第１成型手段による成形部分と前記第２成型手段による成形部分との間を切断する切断手段と、
前記切断の後に、前記第１成型手段の前記凹状成形型と前記第２成型手段の前記凹状成形型とが対向し、これらの凹状成形型が型締めされるように、当該第１成型手段と当該第２成型手段とを相対移動させる移動手段と、を備え、
前記第１成型手段及び前記第２成型手段は、前記シート状パリソンを各前記凹状成形型に転写させる真空引き手段及びエアブロー手段の少なくともいずれか一方を備えることを特徴とする中空成形品の製造装置。
【請求項２】
第１成型手段の凹状成形型と成形型とで、平面状に配置されたシート状パリソンを、当該第１成型手段に設けられた真空引き手段で真空引き、又は当該第１成型手段に設けられたエアブロー手段でエアブローしながら所定形状に成形する工程と、
前記第１成型手段に併設された第２成型手段の凹状成形型と成形型とで、前記シート状パリソンの成形された部分と異なる部分を、当該第２成型手段に設けられた真空引き手段で真空引き、又は当該第２成型手段に設けられたエアブロー手段でエアブローしながら所定形状に成形する工程と、
前記第１成型手段及び前記第２成型手段の少なくともいずれか一方であり、かつ、前記凹状成形型に対向する前記成形型に設けられた固定手段により前記シート状パリソンの成形部分に部品を固定する工程と、
前記シート状パリソンの、前記第１成型手段による成形部分と前記第２成型手段による成形部分との間を切断する工程と、
前記切断する工程の後に、前記第１成型手段の前記凹状成形型と前記第２成型手段の前記凹状成形型とを対向させるとともにこれらの前記凹状成形型を型締めする工程と、を行うことを特徴とする中空成形品の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
上記課題を解決するための、本発明の中空成形品の製造装置は、平面状に配置されたシート状パリソンを挟んで配設された一対の凹状成形型及び成形型を備え、前記シート状パリソンを所定形状に成形する第１成型手段と、前記第１成型手段に並設されるとともに前記シート状パリソンを挟んで配設された一対の凹状成形型及び成形型を備え、前記シート状パリソンの成形された部分と異なる部分を所定形状に成形する第２成型手段と、前記第１成型手段及び前記第２成型手段の少なくともいずれか一方において、前記凹状成形型に対向する前記成形型に設けられ、成形されたシート状パリソンに部品を固定する固定手段と、前記シート状パリソンの、前記第１成型手段による成形部分と前記第２成型手段による成形部分との間を切断する切断手段と、前記切断の後に、前記第１成型手段の前記凹状成形型と前記第２成型手段の前記凹状成形型とが対向し、これらの凹状成形型が型締めされるように、当該第１成型手段と当該第２成型手段とを相対移動させる移動手段と、を備え、前記第１成型手段及び前記第２成型手段は、前記シート状パリソンを各前記凹状成形型に転写させる真空引き手段及びエアブロー手段の少なくともいずれか一方を備えることを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
かかる構成によれば、成形型に設けられた固定手段がシート状パリソンを介して凹状成形型に対向して配置される。このため、固定手段で、凹状成形型に転写されるシート状パリソンに部品を適正に固定することができる。また、対向する成形型の間に、従来のような大型のセンタ型が不要となるので、その分、製造装置を小型化することができる。また、大型のセンタ型が不要となるので、そのセンタ型を退避させるためのスペースも不要となる。従って、製造装置を設置する場所の省スペース化を図ることができる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
また、本発明の中空成形品の製造方法は、第１成型手段の凹状成形型と成形型とで、平面状に配置されたシート状パリソンを、当該第１成型手段に設けられた真空引き手段で真空引き、又は当該第１成型手段に設けられたエアブロー手段でエアブローしながら所定形状に成形する工程と、前記第１成型手段に併設された第２成型手段の凹状成形型と成形型とで、前記シート状パリソンの成形された部分と異なる部分を、当該第２成型手段に設けられた真空引き手段で真空引き、又は当該第２成型手段に設けられたエアブロー手段でエアブローしながら所定形状に成形する工程と、前記第１成型手段及び前記第２成型手段の少なくともいずれか一方であり、かつ、前記凹状成形型に対向する前記成形型に設けられた固定手段により前記シート状パリソンの成形部分に部品を固定する工程と、前記シート状パリソンの、前記第１成型手段による成形部分と前記第２成型手段による成形部分との間を切断する工程と、前記切断する工程の後に、前記第１成型手段の前記凹状成形型と前記第２成型手段の前記凹状成形型とを対向させるとともにこれらの前記凹状成形型を型締めする工程と、を行うことを特徴とする。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
かかる方法によれば、成形型に設けられた固定手段はシート状パリソンを介して凹状成形型に対向して配置されている。第１成型手段及び第２成型手段の少なくともいずれか一方において、固定手段で、凹状成形型に転写されるシート状パリソンに部品を適正に固定できる。この後、第１成型手段及び第２成型手段の凹状成形型同士を対向させて型締めしてシート状パリソンによる成形品を製作することができる。また、従来のような大型のセンタ型が無くても中空成形品を製造することができるので、その製造装置を小型化することができる。また、大型のセンタ型を退避させるためのスペースも不要となる。従って、製造装置を設置する場所の省スペース化を図ることができる。
【手続補正書】
【提出日】平成27年5月29日(2015.5.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
レベリングニップにおいて、基板の第１面上の放射線硬化可能なゲルインクを接触部材と接触させる接触ステップであって、前記レベリングニップは、前記接触部材と加圧部材とによって形成され、前記加圧部材は、疎水性表面を有し、前記加圧部材は、前記基材の第２面に面し且つ接触するように配置されている、接触ステップと、
前記接触部材を前記インク及び前記基板から離すステップと、
放射線硬化可能なゲルインクの画像を形成するために、インクジェットの印字ヘッドから前記基板に直接的に前記ゲルインクを噴射するステップと、
前記接触部材と前記ゲルインクを接触させる前に、前記インクを濃厚にするために前記ゲルインクを放射線にさらすステップと、を含み、
前記接触部材は親水性であり、多孔性金属酸化物マトリックスを有し、
前記加圧部材の表面は、シリコーンの表面を覆って配置されたＴＥＦＬＯＮ（登録商標）層であって、前記ＴＥＦＬＯＮ（登録商標）層が、前記シリコーンの表面を覆って配置されることにより、前記ＴＥＦＬＯＮ（登録商標）の表面は、前記ニップにおいて、前記シリコーンの表面と前記接触部材との間に入る、ＴＥＦＬＯＮ（登録商標）層と、フッ化ポリマーで被覆されたウレタン層とのうちの一方を備える、放射線硬化可能なゲルインクのレベリング方法。
【請求項２】
前記ゲルインクを硬化させるために、前記接触部材と前記ゲルインクを接触させた後に、前記ゲルインクを放射線にさらすステップ
をさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記接触部材と前記ゲルインクを接触させる前に、前記接触部材の表面に、水ベースの解放流体を添加するステップをさらに含み、前記水ベースの解放流体は界面活性剤及びポリマーのうち少なくとも一方を含む、請求項１記載の方法。
【請求項４】
加圧部材であって、前記加圧部材は、疎水性表面を有する、加圧部材と、
接触部材と、
放射線源と、を備え、
前記接触部材と前記加圧部材とは、ニップを形成し、
前記加圧部材の表面は、エラストマーと、親水性金属酸化物表面を有する前記接触部材と、シリコーン層及び前記シリコーンを覆って配置されたＴＥＦＬＯＮ（登録商標）層であって、前記ＴＥＦＬＯＮ（登録商標）層は、前記加圧部材の最も外側の層である、ＴＥＦＬＯＮ（登録商標）層と、フッ化ポリマーでスプレー被覆されるウレタン層とのうちの１つを含み、
前記放射線源は、前記放射線硬化可能なゲルインクが前記ニップにおいて前記接触部材によって接触される前に、前記ゲルインクを放射線にさらすように構成される、放射線硬化可能なゲルインクのレベリング装置。
【請求項５】
前記接触部材が、印字プロセスにおいて、前記基板上の前記ゲルインクと接触する前に、粘性を増加させるために前記ゲルインクを放射線にさらすように構成される第１のＵＶ源と、
前記接触部材が、印字プロセスにおいて、前記基板上の前記ゲルインクと接触した後に、前記ゲルインクを硬化させるように構成される第２のＵＶ源と
をさらに備える、請求項４に記載の装置。
【手続補正書】
【提出日】平成27年7月1日(2015.7.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
自動移動装置（８）に装着されたＸ線イメージング装置（１）の位置を決定するシステムであって、参照点（１７）及び前記イメージング装置に接合された少なくとも一つの機械的リンク（１６）と、前記Ｘ線イメージング装置が移動されたときに前記参照点及び前記Ｘ線イメージング装置に関する前記リンクの回転角の変化を測定する測定手段一式（２２）とを備えたことを特徴とするシステム。
【請求項２】
前記リンクは、互いに接合されている少なくとも２本の桿材（１９、２０）であって、前記参照点及び前記イメージング装置にそれぞれ接合された反対側に位置する端部（１７、１８）を有する少なくとも２本の桿材（１９、２０）を含むことを特徴とする請求項１に記載のシステム。
【請求項３】
前記第一の桿材（１９）を前記参照点にリンクする第一の接合部（１７）に装着された第一の検出手段と、前記２本の桿材（１９、２０）をリンクする第二の接合部に装着された第二の検出手段と、前記第二の桿材（２０）を前記イメージング装置にリンクする第三の接合部に装着された第三の検出手段とを含むことを特徴とする請求項２に記載のシステム。
【請求項４】
前記検出手段は各々角度エンコーダを含むことを特徴とする請求項１〜３の何れか１項に記載のシステム。
【請求項５】
前記リンクの長さ及び前記測定された角度変化から前記Ｘ線装置の位置を算出する計算手段をさらに含むことを特徴とする請求項１〜４の何れか１項に記載のシステム。
【請求項６】
前記イメージング装置の座標及び配向は次式から算出され、
Ｘ＝Ｌｃｏｓα１＋Ｌｃｏｓ（α１＋α２）
Ｙ＝Ｌｓｉｎα１＋Ｌｓｉｎ（α１＋α２）
θ＝α１＋α２＋α３
式中、
Ｘ及びＹはデカルト座標系内での前記イメージング装置の座標を示し、
θは前記Ｘ線装置の配向を示すことを特徴とする請求項５に記載のシステム。
【請求項７】
自動移動装置に装着された撮像アセンブリを備えたＸ線イメージング装置であって、参照点に関する当該Ｘ線イメージング装置の位置を決定する請求項１〜６の何れか１項に記載のシステムを備えたことを特徴とするＸ線イメージング装置。
【請求項８】
自動移動装置に装着されたＸ線イメージング装置の位置を求める方法であって、
参照点（１７）及び前記Ｘ線装置（１）に接合された機械的リンクの回転角の変化を測定するステップであって、前記回転角は、前記Ｘ線イメージング装置が移動されたときに前記参照点及び前記イメージング装置に関して測定される、測定するステップと、
前記測定された角度及び前記リンクの長さから前記Ｘ線イメージング装置の座標を算出するステップと
を備えたことを特徴とする方法。
【手続補正書】
【提出日】平成27年1月22日(2015.1.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５１】
図４を参照して、カメラボディ１０２の電源がＯＮ状態になった際の初期動作について説明する。カメラボディ１０２の電源スイッチ１８３がＯＮ状態にされると、カメラボディ１０２の各部に電力が供給される。それと同時に、カメラボディ１０２は、ボディマウント３４０およびレンズマウント３３０を通じて、交換レンズ３０１の各部に電力を供給する。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７７】
本実施形態のデジタルカメラ１００において、音響ズームは音響ワイド端と音響テレ端とが線形補間されて実現される。しかし、線形補間以外の補間方法で音響ズームが実現されてもよい。
【手続補正書】
【提出日】平成27年4月6日(2015.4.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
関連付けられたＴＵのためのデータ及び変換木を生成するためのデータ、並びに各予測単位（ＰＵ）と関連付けられた予測モード又は予測方向を得るためのデータを取得するために、ピクチャをコーディングする方法であって、
テーブルの各行が、関連付けられたインデックスと、ＴＵ内の前記データに逆変換を適用するのに用いられる変換タイプの第１のセットとを有する、前記ＴＵの可能なサイズごとのマッピングテーブルを規定するステップと、
インデックスに従って前記変換タイプの第１のセットを選択するステップと、
前記逆変換として、変換タイプの第２のセットを前記データに適用するステップであって、該変換タイプの第２のセットは、前記変換タイプの第１のセット及びトグル変換フラグ（ｔｔｆ）に従って求められ、再構成された予測残差が得られる、ステップと
を含み、
前記コーディングはコーデックにおいて実行される、
ピクチャをコーディングする方法。
【請求項２】
前記コーディングは、ビットストリームを復号化する、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記各ＰＵごとに１つのｔｔｆが存在する、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
ビットストリームから前記ｔｔｆを復号化し、トグル処理済みフラグ（ｔｐｆ）を１に設定するステップ
を更に含む、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
復号化されたデータに従って前記ｔｔｆを設定するステップ
を更に含む、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記ｔｔｆが０に設定されている場合、マッピングは変更されず、前記ｔｔｆが１に設定されている場合、前記マッピングは変更される、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
前記選択される変換タイプは、水平変換の場合と垂直変換の場合とで異なる、請求項１に記載の方法。
【請求項８】
前記選択される変換タイプは、水平変換の場合と垂直変換の場合とで同一である、請求項１に記載の方法。
【請求項９】
前記インデックスは、イントラ予測方向のサブセットについてのみ変更される、請求項１に記載の方法。
【請求項１０】
前記インデックスは、イントラ予測方向に基づいて変更される、請求項１に記載の方法。
【請求項１１】
複数のマッピングテーブルが存在し、該複数のマッピングテーブルのうちの１つが前記ｔｔｆに基づいて選択される、請求項１に記載の方法。
【請求項１２】
前記ｔｐｆは前記ＣＵと関連付けられる、請求項４に記載の方法。
【請求項１３】
前記マッピングテーブルはインター予測のために用いられる、請求項１に記載の方法。
【請求項１４】
前記ｔｔｆは各ＴＵと関連付けられる、請求項１に記載の方法。
【請求項１５】
前記マッピングテーブルは、ビットストリーム内で規定される、請求項１に記載の方法。
【請求項１６】
前記ｔｔｆは、３個以上の値を有する、請求項１に記載の方法。
【請求項１７】
前記インデックスを変更するか否かに関する判定は、前記変換木内の前記ＴＵの深さに依拠する、請求項１に記載の方法。
【請求項１８】
前記インデックスを変更する判定は、前記ＴＵの寸法に依拠する、請求項１に記載の方法。
【請求項１９】
前記ｔｔｆはビットストリームからパースされる、請求項１に記載の方法。
【請求項２０】
前記ｔｔｆの値は既に復号化されたデータに基づく、請求項１に記載の方法。
【請求項２１】
前記変換木内の前記ＴＵの深さも用いて、前記変換タイプの第１のセットが適用されるか、又は前記変換タイプの第２のセットが適用されるかが判断される、請求項１に記載の方法。
【請求項２２】
前記第１のセット内の前記変換タイプのマッピングは、適用される前記変換タイプの第２のセットを形成するように変更される、請求項１に記載の方法。
【請求項２３】
前記ＰＵは複数のＴＵを含み、所定の特性を有するＴＵは、前記所定の特性を有する第１のＴＵについてのみ前記ビットストリームにおいてシグナリングされるインジケーターと関連付けられ、前記所定の特性を有する後続の複数のＴＵは前記インジケーターを用いる、請求項１に記載の方法。
【請求項２４】
前記ＣＵは複数のＴＵを含み、所定の特性を有するＴＵは、前記所定の特性を有する第１のＴＵについてのみ前記ビットストリームにおいてシグナリングされるインジケーターと関連付けられ、前記所定の特性を有する後続の複数のＴＵは前記インジケーターを用いる、請求項１に記載の方法。
【請求項２５】
関連付けられたＴＵのためのデータ及び変換木を生成するためのデータ、並びに各予測単位（ＰＵ）と関連付けられた予測モード又は予測方向を得るためのデータを取得するために、ピクチャをコーディングする方法であって、
テーブルの各行が、関連付けられたインデックスと、ＴＵ内の前記データに逆変換を適用するのに用いられる変換タイプの第１のセットとを有する、マッピングテーブルを規定するステップと、
インデックスに従って前記変換タイプの第１のセットを選択するステップと、
前記逆変換として、変換タイプの第２のセットを前記データに適用するステップであって、該変換タイプの第２のセットは、前記変換タイプの第１のセット及びトグル変換フラグ（ｔｔｆ）に従って求められ、再構成された予測残差が得られる、ステップと
を含み、
前記コーディングはコーデックにおいて実行され、
前記インデックスを変更するか否かに関する判定は、前記変換木内の前記ＴＵの深さに依拠する、
ピクチャをコーディングする方法。
【請求項２６】
関連付けられたＴＵのためのデータ及び変換木を生成するためのデータ、並びに各予測単位（ＰＵ）と関連付けられた予測モード又は予測方向を得るためのデータを取得するために、ピクチャをコーディングする方法であって、
テーブルの各行が、関連付けられたインデックスと、ＴＵ内の前記データに逆変換を適用するのに用いられる変換タイプの第１のセットとを有する、マッピングテーブルを規定するステップと、
インデックスに従って前記変換タイプの第１のセットを選択するステップと、
前記逆変換として、変換タイプの第２のセットを前記データに適用するステップであって、該変換タイプの第２のセットは、前記変換タイプの第１のセット及びトグル変換フラグ（ｔｔｆ）に従って求められ、再構成された予測残差が得られる、ステップと
を含み、
前記コーディングはコーデックにおいて実行され、
前記インデックスを変更する判定は、前記ＴＵの寸法に依拠する、
ピクチャをコーディングする方法。
【手続補正書】
【提出日】平成27年5月15日(2015.5.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
細胞内のゲノムを改変する方法であって、
(1)細胞内のゲノムの改変に使用される核酸構築物であって、該核酸構築物によりゲノムが改変された細胞を選択するための遺伝子配列としてチミジンキナーゼをコードする遺伝子配列を含む、細胞内のゲノムの改変に使用される核酸構築物を、細胞内に導入する工程、
(2)上記(1)で得られた細胞を培養する工程、および
(3)上記(2)の工程の後、ゲノムが改変された細胞を選択する工程、
を包含する、細胞内のゲノムを改変する方法。
【請求項２】
細胞内のゲノムを改変する方法であって、
(1)細胞内のゲノムの改変に使用される核酸構築物であって、該核酸構築物によりゲノムが改変された細胞を選択するための遺伝子配列としてヒトヘルペスウイルス(human herpes simplex virus)由来チミジンキナーゼをコードする遺伝子配列を含む、細胞内のゲノムの改変に使用される核酸構築物を、細胞内に導入する工程、
(2)上記(1)で得られた細胞を培養する工程、および
(3)上記(2)の工程の後、ゲノムが改変された細胞を選択する工程、
を包含する、細胞内のゲノムを改変する方法。
【請求項３】
チミジンキナーゼをコードする遺伝子配列に加えて、ゲノムが改変された細胞を選択するための遺伝子配列として薬剤耐性タンパク質をコードする遺伝子配列を含む、請求項1または2に記載の細胞内のゲノムを改変する方法。
【請求項４】
薬剤耐性タンパク質がクロラムフェニコールアセチルトランスフェラーゼである、請求項3に記載の細胞内のゲノムを改変する方法。
【請求項５】
細胞内のゲノムを改変する方法であって、
(1)細胞内のゲノムの改変に使用される核酸構築物であって、該核酸構築物によりゲノムが改変された細胞を選択するための遺伝子配列としてヒトヘルペスウイルス(human herpes simplex virus)由来チミジンキナーゼをコードする遺伝子配列を含み、更にゲノムが改変された細胞を選択するための遺伝子配列としてクロラムフェニコールアセチルトランスフェラーゼをコードする遺伝子配列を含む、細胞内のゲノムの改変に使用される核酸構築物を、細胞内に導入する工程、
(2)上記(1)で得られた細胞を培養する工程、および
(3)上記(2)の工程の後、ゲノムが改変された細胞を選択する工程、
を包含する、細胞内のゲノムを改変する方法。
【請求項６】
細胞内のゲノムの改変に使用される核酸構築物であって、該核酸構築物によりゲノムが改変された細胞を選択するための遺伝子配列としてチミジンキナーゼをコードする遺伝子配列を含む、細胞内のゲノムの改変に使用される核酸構築物。
【請求項７】
チミジンキナーゼをコードする遺伝子配列がヒトヘルペスウイルス(human herpes simplex virus)由来チミジンキナーゼをコードする遺伝子配列である、請求項6に記載の細胞内のゲノムの改変に使用される核酸構築物。
【請求項８】
チミジンキナーゼをコードする遺伝子配列に加えて、ゲノムが改変された細胞を選択するための遺伝子配列として薬剤耐性タンパク質をコードする遺伝子配列を含む、請求項6または7に記載の細胞内のゲノムの改変に使用される核酸構築物。
【請求項９】
薬剤耐性タンパク質がクロラムフェニコールアセチルトランスフェラーゼである、請求項8に記載の細胞内のゲノムの改変に使用される核酸構築物。
【請求項１０】
細胞内のゲノムの改変に使用される核酸構築物であって、該核酸構築物によりゲノムが改変された細胞を選択するための遺伝子配列としてヒトヘルペスウイルス(human herpes simplex virus)由来チミジンキナーゼをコードする遺伝子配列を含み、さらにゲノムが改変された細胞を選択するための遺伝子配列としてクロラムフェニコールアセチルトランスフェラーゼをコードする遺伝子配列を含む、細胞内のゲノムの改変に使用される核酸構築物。
【請求項１１】
配列表の配列番号1、配列番号2、および配列番号3のいずれかに記載の塩基配列で表されるDNAからなる、細胞内のゲノムの改変に使用される発現プラスミド。
【請求項１２】
細胞が微生物である、請求項11に記載の発現プラスミドの、細胞内のゲノムの改変における使用。
【請求項１３】
細胞が大腸菌またはシアノバクテリアである、請求項12に記載の発現プラスミドの、細胞内のゲノムの改変における使用。
【手続補正書】
【提出日】平成27年4月22日(2015.4.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
栽培槽に非吸水性の粒子からなる培地を充填し、
その培地に植物の種を播くか苗を植え、
ついで前記栽培槽内に水を充填して培地を水に漬け、所定時間経過後に水を抜くことにより、培地の粒子の表面を水で濡らす植物の栽培方法。
【請求項２】
前記栽培槽に水を充填するとき、数回に１回は栽培している植物の葉が漬かる程度まで水を充填する請求項１記載の栽培方法。
【請求項３】
前記栽培槽に給水することにより水を充填し、栽培槽から排水することにより水を抜く請求項１または２記載の栽培方法。
【請求項４】
請求項１記載の栽培方法に用いる栽培槽であって、
容器本体と、その容器本体内に容器本体の底面との間に空間をあけて配置される、水を通し、かつ培地を通さない中底とを備えている栽培槽。
【請求項５】
請求項１記載の栽培方法に用いる栽培槽であって、
容器本体と、その容器本体内に配列される多数のポッドとからなり、それぞれのポッドが水を通し、かつ培地を通さない底面または側面を備えている栽培槽。
【請求項６】
請求項３記載の栽培方法に用いる栽培装置であって、
水槽と、その水槽の上部に配置される栽培槽と、前記水槽の水をポンプによって栽培槽に給水する給水装置と、前記栽培槽の水を排出する排出装置と、給水時刻と排水時刻を管理するタイマーとを備えている栽培装置。
【請求項７】
前記給水装置によって給水したときの水位が、培地が水に漬かる低い水位と、栽培している植物の葉が水に漬かる高い水位の２位置であり、数回に１度、高い水位まで給水する請求項６記載の栽培装置。
【手続補正書】
【提出日】平成26年12月16日(2014.12.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
果樹の自根苗を、根圏制御及びホルクロルフェニュロン処理を行って栽培する、果樹の栽培方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項６】
ホルクロルフェニュロン処理は、満開期に果そうに２ｐｐｍのフルメット液剤を散布する処理である、請求項１〜４のいずれか一項に記載の果樹の栽培方法。
【手続補正書】
【提出日】平成27年1月16日(2015.1.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
予測モードに対応付けられたイントラ予測方式によって、輝度および色差について予測画像を生成することで符号化データから画像を復元する画像復号装置において、
輝度予測画像生成に用いた該予測モードに基づいて色差予測画像生成を行う際、上記画像の色フォーマットが４：２：２形式である場合に予測方向を補正する色差予測手段を備え、
上記色差予測手段は、輝度予測画像生成に用いる第１の予測モードを、色差予測画像生成に用いる第２の予測モードに対応付けることを特徴とする画像復号装置。
【請求項２】
予測モードに対応付けられたイントラ予測方式によって、輝度および色差について予測画像を生成することで符号化データから画像を復元する画像復号方法であって、
輝度予測画像生成に用いた該予測モードに基づいて色差予測画像生成を行う際、上記画像の色フォーマットが４：２：２形式である場合に予測方向を補正する色差予測ステップを備え、
上記色差予測ステップは、輝度予測画像生成に用いる第１の予測モードを、色差予測画像生成に用いる第２の予測モードに対応付けることを特徴とする画像復号方法。
【手続補正書】
【提出日】平成27年1月19日(2015.1.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
画素が行列状に複数配置され、行方向の複数の画素に共通に接続する複数の駆動線が列方向に沿って並んで配置され、複数の前記画素を駆動するための駆動用回路と複数の前記駆動線とを接続するための接続用端子が前記複数の駆動線の数よりも少ない数で設けられ、複数の単位回路を有するデマルチプレクサが複数の前記接続用端子と前記複数の駆動線とを接続し、前記複数の単位回路の各々が、複数の前記接続用端子のうちの所定の接続用端子と前記複数の駆動線のうちの２以上の所定の駆動線とを接続する複数のトランジスタを有し、複数の前記トランジスタの制御電極が前記トランジスタの導通電圧及び非導通電圧を供給するための複数の制御配線に接続されるマトリクス基板であって、
前記複数の単位回路が、所定の単位回路と、前記所定の単位回路と隣り合う他の単位回路と、を含み、
前記所定の単位回路に含まれる複数の前記トランジスタのうち最も前記他の単位回路側に位置するトランジスタの制御端子と、前記他の単位回路に含まれる複数の前記トランジスタのうち最も前記所定の単位回路側に位置するトランジスタの制御端子と、が前記複数の制御配線のうちの同じ制御配線に接続され、前記所定の単位回路に含まれる複数の前記トランジスタのうち最も前記他の単位回路側に位置するトランジスタとは別のトランジスタの制御端子は、前記複数の制御配線のうちの前記同じ制御配線とは異なる他の制御配線に接続されていることを特徴とするマトリクス基板。
【請求項２】
前記デマルチプレクサは、前記複数の接続用端子のうちの所定の接続用端子に各々が接続された前記トランジスタを含む第１デマルチプレクサ回路と、前記第１デマルチプレクサ回路と前記駆動線とに接続された第２デマルチプレクサ回路と、を含み、
前記第２デマルチプレクサ回路が前記トランジスタと直列に接続された第２トランジスタを含むことを特徴とする請求項１に記載のマトリクス基板。
【請求項３】
前記単位回路は、前記駆動線の夫々に１対１で対応して設けられ前記画素を非選択状態とする第２電圧を前記駆動線に供給するための複数の第３トランジスタを更に有することを特徴とする請求項１又は２に記載のマトリクス基板。
【請求項４】
前記デマルチプレクサは、前記複数のトランジスタと並列に設けられた複数の第４トランジスタを更に有し、
前記複数の第４トランジスタの制御電極に共通に、画素加算モードにおいて前記複数の第４トランジスタの導通電圧が供給される接続用端子に電気的に接続されていることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載のマトリクス基板。
【請求項５】
前記画素は、放射線又は光を電荷に変換する変換素子によって発生した電荷に応じた電気信号を出力するスイッチ素子を含み、前記第１電圧は前記スイッチ素子の導通電圧であり、前記第２電圧は前記スイッチ素子の非導通電圧であることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載のマトリクス基板。
【請求項６】
前記変換素子は、放射線を光に変換するシンチレータと、前記光を電荷に変換する光電変換素子と、を含むことを特徴とする請求項５に記載のマトリクス基板。
【請求項７】
請求項１から６のいずれか１項に記載のマトリクス基板と、
前記駆動用回路と、
前記制御配線に、前記トランジスタの導通電圧及び非導通電圧を供給する制御用回路と、
を有する検出装置であって、
前記制御用回路は、前記画素が駆動する周波数の半分の周波数で前記トランジスタの導通電圧及び非導通電圧を前記制御配線に供給することを特徴とする検出装置。
【請求項８】
前記駆動用回路は、駆動用集積回路を有するフレキシブル配線板を複数有し、
前記デマルチプレクサは、前記駆動用集積回路と１対１で対応して複数設けられており、
前記制御配線は、前記駆動用集積回路にと１対１で対応して複数に分割され、
分割された各前記制御配線は、複数の前記フレキシブル配線板のうち対応するフレキシブル配線板に設けられた配線と電気的に接続されることを特徴とする請求項７に記載の検出装置。
【請求項９】
請求項７又は８に記載の検出装置と、
前記検出装置からの信号を処理する信号処理手段と、
前記信号処理手段からの信号を記録するための記録手段と、
前記信号処理手段からの信号を表示するための表示手段と、
前記信号処理手段からの信号を伝送するための伝送処理手段と、を具備することを特徴とする検出システム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
そこで本発明のマトリクス基板は、上記課題を鑑み、画素が行列状に複数配置され、行方向の複数の画素に共通に接続する複数の駆動線が列方向に沿って並んで配置され、複数の前記画素を駆動するための駆動用回路と前記複数の駆動線とを接続するための接続用端子が前記複数の駆動線の数よりも少ない数で設けられ、複数の単位回路を有するデマルチプレクサが複数の前記接続用端子と前記複数の駆動線とを接続し、前記複数の単位回路の各々が、複数の前記接続用端子のうちの所定の接続用端子と前記複数の駆動線のうちの所定の２以上の複数の駆動線とを接続する複数のトランジスタを有し、複数の前記トランジスタの制御電極が前記トランジスタの導通電圧及び非導通電圧を供給するための複数の制御配線に接続されるマトリクス基板であって、前記複数の単位回路が、所定の単位回路と、前記所定の単位回路と隣り合う他の単位回路と、を含み、前記所定の単位回路に含まれる複数の前記トランジスタのうち最も前記他の単位回路側に位置するトランジスタの制御端子と、前記他の単位回路に含まれる複数の前記トランジスタのうち最も前記所定の単位回路側に位置するトランジスタの制御端子と、が前記複数の制御配線のうちの同じ制御配線に接続され、前記所定の単位回路に含まれる複数の前記トランジスタのうち最も前記他の単位回路側に位置するトランジスタとは別のトランジスタの制御端子は、前記複数の制御配線のうちの前記同じ制御配線とは異なる他の制御配線に接続されていることを特徴とする。
また、本発明の検出装置は、前記マトリクス基板と、前記駆動用回路と、前記制御配線に、前記トランジスタの導通電圧及び非導通電圧を供給する制御用回路と、を有する検出装置であって、前記制御用回路は、前記画素が駆動する周波数の半分の周波数で前記トランジスタの導通電圧及び非導通電圧を前記制御配線に供給することを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成26年11月26日(2014.11.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
画像をユーザに提示するように構成された表示部と、
前記表示部を支持し、ユーザの頭部に装着可能に構成された支持部と、
前記表示部に配置されたタッチセンサを含み、前記画像を制御するための入力操作部と
を具備するヘッドマウントディスプレイ。
【請求項２】
請求項１に記載のヘッドマウントディスプレイであって、
前記入力操作部は、前記表示部の外表面に配置される
ヘッドマウントディスプレイ。
【請求項３】
請求項１または２に記載のヘッドマウントディスプレイであって、
前記表示部は、筐体と、前記筐体内に配置され前記画像を形成する表示素子と、前記画像を表示する表示面を含む光学部材と、を有する
ヘッドマウントディスプレイ。
【請求項４】
請求項３に記載のヘッドマウントディスプレイであって、
前記入力操作部は、前記筐体上に配置される
ヘッドマウントディスプレイ。
【請求項５】
請求項３または４に記載のヘッドマウントディスプレイであって、
前記入力操作部は、前記表示面に対向して配置される
ヘッドマウントディスプレイ。
【請求項６】
請求項３から５のいずれか１項に記載のヘッドマウントディスプレイであって、
前記光学部材は、前記表示素子から第１の方向へ出射された画像光を前記光学部材内へ導光するために、前記第１の方向と交差する第２の方向へ偏向させる偏向素子をさらに有する
ヘッドマウントディスプレイ。
【請求項７】
請求項６に記載のヘッドマウントディスプレイであって、
前記入力操作部は、前記偏向素子上に配置される
ヘッドマウントディスプレイ。
【請求項８】
請求項６または７に記載のヘッドマウントディスプレイであって、
前記偏向素子は、ホログラム回折格子を含む
ヘッドマウントディスプレイ。
【請求項９】
請求項１から８のいずれか１項に記載のヘッドマウントディスプレイであって、
前記タッチセンサは、前記表示部に着脱自在に配置される
ヘッドマウントディスプレイ。
【手続補正書】
【提出日】平成27年1月19日(2015.1.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の画素を有し、各画素は、光電変換素子と、前記光電変換素子で生じた信号を増幅する増幅部と、を有する撮像装置であって、
前記増幅部の入力ノードにソースもしくはドレインが電気的に接続されたクリップトランジスタを有するクリップ回路を有しており、
前記クリップ回路は、
前記画素の光信号を読み出す期間において、前記クリップトランジスタのゲートへ第１の電圧が供給される第１の動作と、
前記画素の光信号を読み出す期間において、前記クリップトランジスタのゲートへ前記第１の電圧よりも高い第２の電圧が供給される第２の動作と、を切り換え可能であることを特徴とする撮像装置。
【請求項２】
前記第１の動作において、前記光電変換素子の飽和電荷に相当する電荷が前記増幅部の入力ノードに転送された際にクリップ動作を行なわず、
前記第２の動作において、前記光電変換素子の飽和電荷に相当する電荷が前記増幅部の入力ノードに転送された際にクリップ動作を行なうことを特徴とする請求項１に記載の撮像装置。
【請求項３】
前記クリップ回路は、
前記増幅部が光信号を読み出す期間において、前記クリップトランジスタのゲートへ前記第２の電圧よりも高い第３の電圧が供給される第３の動作を切り替え可能であることを特徴とする請求項１または２のいずれかに記載の撮像装置。
【請求項４】
前記画素は、前記光電変換素子の電荷を前記増幅部の入力ノードへ転送する転送ゲートを有することを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の撮像装置。
【請求項５】
前記画素の光信号を読み出す期間は、少なくとも前記転送ゲートが前記光電変換素子の電荷を前記増幅部の入力ノードへ転送する期間であることを特徴とする請求項４に記載の撮像装置。
【請求項６】
前記第２の電圧が前記クリップトランジスのゲートに供給される期間は、前記転送ゲートが前記光電変換素子の電荷を前記増幅部の入力ノードへ転送する期間よりも長い期間であることを特徴とする請求項５に記載の撮像装置。
【請求項７】
前記画素は更に選択トランジスタを有し、
前記クリップ回路は、
前記選択トランジスタが導通状態である期間中において、前記クリップトランジスタのゲートに前記第１の電圧が供給された後、
前記転送ゲートが導通状態となり前記光電変換素子の電荷が転送されている期間において、前記クリップトランジスタのゲートに前記第２の電圧が供給され、
前記転送ゲートが非導通状態となった後に、前記クリップトランジスタのゲートに前記第１の電圧が供給されることを特徴とする請求項４〜６のいずれか１項に記載の撮像装置。
【請求項８】
複数の画素を有し、各画素は、光電変換素子と、前記光電変換素子で生じた信号を増幅する増幅部と、前記増幅部の入力ノードにソースもしくはドレインが電気的に接続されたトランジスタを有する撮像装置の駆動方法であって、
前記画素の光信号を読み出す期間に、前記トランジスタのゲートへ第１の電圧を供給する第１の動作と、
前記画素の光信号を読み出す期間において、前記トランジスタのゲートへ前記第１の電圧よりも高い第２の電圧を供給する第２の動作と、を切り換えることを特徴とする撮像装置の駆動方法。
【請求項９】
前記第１の電圧は、前記光電変換素子の飽和電荷に相当する電荷が前記増幅部の入力ノードに転送された際にクリップ動作を行なわない電圧であり、
前記第２の電圧は、前記光電変換素子の飽和電荷に相当する電荷が前記増幅部の入力ノードに転送された際にクリップ動作を行なう電圧であることを特徴とする請求項８に記載の撮像装置の駆動方法。
【請求項１０】
前記画素は更に、前記光電変換素子の電荷を前記増幅部の入力ノードへ転送する転送ゲートと選択トランジスタとを有し、
前記選択トランジスタを導通状態とする第１ステップと、
前記第１ステップの後に、前記トランジスタのゲートに前記第１の電圧を供給する第２ステップと、
前記第２ステップの後に、前記トランジスタのゲートに前記第２の電圧を供給する第３ステップと、
前記第３ステップの後に、前記トランジスタのゲートに前記第２の電圧が供給された状態で前記転送ゲートを導通状態とする第４ステップと、
前記第４ステップの後に、前記転送ゲートを非導通状態する第５ステップと、
前記トランジスタのゲートに前記第１の電圧を供給する第６ステップとを、この順で行うことを特徴とする請求項８または９のいずれかに記載の撮像装置の駆動方法。