(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記一般式（１）
【化１】
0003573619.tif 000009
（式中、Ｘ１  は水素原子又はハロゲン原子を表し、Ｒ１  は炭素数１〜３のアルキル基を表し、Ｒ２  及びＲ３  はそれぞれ水素原子、ハロゲン原子又は炭素数１〜３のアルキル基を表す）
で表されるベンゾトリアゾール誘導体。
【請求項２】
請求項１  に規定した一般式（１）で表されるベンゾトリアゾール誘導体を製造するに際して、下記一般式（２）
【化２】
0003573619.tif 000010
（式中、Ｘ１  は水素原子又はハロゲン原子を表し、Ｒ１  は炭素数１〜３のアルキル基を表す）
で表される化合物と、下記一般式（３）
【化３】
0003573619.tif 000011
（式中、Ｘ２  はハロゲン原子を表し、Ｒ２  及びＲ３  はそれぞれ水素原子、ハロゲン原子又は炭素数１〜３のアルキル基を表す）
で表される化合物とを反応させることを含む方法。
【請求項３】
請求項１に規定した一般式（１）で表されるベンゾトリアゾール誘導体を有効成分とする紫外線吸収剤。
【請求項４】
請求項１に規定した一般式（１）で表されるベンゾトリアゾール誘導体から選ばれる少なくとも１種を含む、ポリエステル繊維からなる繊維材料又はポリエステル繊維を含む複合繊維材料用処理剤。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、新規なベンゾトリアゾール誘導体、その製造方法、及びプラスチック、ゴム製品や繊維材料の耐光性向上等に使用される紫外線吸収剤に関する。本発明は、また、日光による変褪色を生じるポリエステル繊維からなる繊維材料又はポリエステル繊維を含む複合繊維材料の日光堅牢度を向上させる繊維材料用処理剤に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、太陽光や蛍光灯等から発せられる２５０〜４００ｎｍの紫外線がポリマー中の官能基等を励起させ、その結果ポリマーの劣化が生じることが明らかとなり、この現象を防止するために紫外線吸収剤が様々な分野において使用されている。例えば、日焼け止め製剤、スキンケア製品等の化粧料やプラスチックレンズ、フィルム等のプラスチック、及びゴムのような高分子化合物の分野などその用途は幅広い。
【０００３】
紫外線は長波紫外線（ＵＶ−Ａ：３２０〜４００ｎｍ）、中波紫外線（ＵＶ−Ｂ：２９０〜３２０ｎｍ）及び短波紫外線（〜２９０ｎｍ）に区分され、紫外線吸収剤は使用目的とそれ自体がもつ吸収領域によって選択して用いられる。
また、紫外線を吸収する物質としてはパラアミノ安息香酸類、サリチル酸類、メトキシ桂皮酸類、ベンゾフェノン類、ベンゾトリアゾール類、ヒンダードアミン類及びこれらの誘導体が知られており、これらの多くはＵＶ−ＢからＵＶ−Ａにかけて、すなわち２９０〜３８０ｎｍの波長の吸収領域を持っている。
【０００４】
しかしながら、これらの紫外線吸収物質は吸収領域が狭く、あるいは吸光度が小さいために、ＵＶ−Ｂ及びＵＶ−Ａの領域すべての波長を逃さず吸収しているわけではない。従って、日光のような広い領域の紫外線が照射される場合には、充分な紫外線吸収の作用を示さないものが多い。
一方、ポリエステル繊維からなる繊維材料又はポリエステル繊維を含む複合繊維材料（以下、ポリエステル系合成繊維材料と略記する）においては、高度の耐久性や高度の日光堅牢度が要求されるもの、例えば、カーシート、カーマット、シートベルト等に対しては、染色浴又は捺染糊中に紫外線吸収剤を併用して加工することが一般に行われている。併用する紫外線吸収剤として、例えば、特開昭６０−５９１８５号公報及び特開平２−４１４６８号公報には、２−（３’  −ｔ−ブチル−２’  −ヒドロキシ−５’  −メチルフェニル）−５−クロロ−ベンゾトリアゾールが開示されているが、これらは染色後の熱処理（仕上げセット）工程で１６０〜１９０℃に加熱すると紫外線吸収剤が繊維表面から昇華してしまい、セット用機械を汚染したり、日光堅牢度を低下させるといった問題を有している。また、最近開示された２−（２’  −ヒドロキシ−４’  −メトキシフェニル）−４，６−ジフェニル−１，３，５−トリアジンは耐昇華性に優れるているが、太陽光に近い波長を持っているといわれるキセノン光源での長時間照射の試験で変褪色を防止する効果がやや弱い。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、上記の如き従来技術に見られる種々の問題点を解消し、プラスチック、ゴム製品や繊維材料の耐光性向上に必要とされる紫外線吸収剤の固有吸収波長が２５０から４００ｎｍにかけての広い吸収領域を持ち、昇華性が小さく、耐熱性に優れ、ポリエステル系合成繊維材料に対する耐光性能（日光堅牢度）に優れ、工業的にも製造が容易である化合物を有効成分とする紫外線吸収剤及びこの化合物を含有するポリエステル系合成繊維材料用処理剤を提供することを目的として成されたものである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、上記課題を解決するため鋭意研究を重ねた結果、特定の構造を持つベンゾトリアゾール誘導体が広い範囲の紫外線吸収作用を有し、耐熱性に優れ、耐光性能が良いことを見出し、この知見に基づき本発明を完成させた。
すなわち、本発明は、下記一般式（１）
【０００７】
【化４】
0003573619.tif 000002
【０００８】
（式中、Ｘ１  は水素原子又はハロゲン原子を表し、Ｒ１  は炭素数１〜３のアルキル基を表し、Ｒ２  及びＲ３  はそれぞれ水素原子、ハロゲン原子又は炭素数１〜３のアルキル基を表す）
で表されるベンゾトリアゾール誘導体を提供する。
本発明は、また、上記一般式（１）で表されるベンゾトリアゾール誘導体を製造するに際して、下記一般式（２）
【０００９】
【化５】
0003573619.tif 000003
【００１０】
（式中、Ｘ１  は水素原子又はハロゲン原子を表し、Ｒ１  は炭素数１〜３のアルキル基を表す）
で表される化合物と、下記一般式（３）
【００１１】
【化６】
0003573619.tif 000004
【００１２】
（式中、Ｘ２  はハロゲン原子を表し、Ｒ２  及びＲ３  はそれぞれ水素原子、ハロゲン原子又は炭素数１〜３のアルキル基を表す）
で表される化合物とを反応させることを含む方法を提供する。
本発明は、更に、上記一般式（１）で表されるベンゾトリアゾール誘導体を有効成分とする紫外線吸収剤及びこれらの誘導体から選ばれる少なくとも１種を含む、ポリエステル繊維からなる繊維材料又はポリエステル繊維を含む複合繊維材料用処理剤を提供する。
【００１３】
【発明の実施の形態】
本発明のベンゾトリアゾール誘導体（一般式（１））は、例えば以下に示す如く、２−（２’  −ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール誘導体（一般式（２））とハロゲン化ベンゾイル誘導体（一般式（３））を反応させて、下記に示すようなエステル化合物（一般式（４））を合成し、これにルイス酸を用いて、ベンゾイル基を転位させることにより製造することができる。
【００１４】
【化７】
0003573619.tif 000005
【００１５】
（式中、Ｘ１  、Ｘ２  、Ｒ１  、Ｒ２  及びＲ３  前記規定に同一のものを表す）
更に詳しく説明すると、例えば、２−（２’  −ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール誘導体（一般式（２））とハロゲン化ベンゾイル誘導体（一般式（３））を脱塩酸剤としての炭酸カリウムの存在下に、ジメチルホルムアミド（以下、ＤＭＦと略記する）をエステル化反応溶媒として用いて、反応温度約９０℃でエステル化反応させてエステル化合物（一般式（４））を合成する。次に、このエステル化合物）を転移反応溶媒中、ルイス酸の存在下で、反応温度８０〜１５０℃にて転位反応をさせることにより目的の化合物であるベンゾトリアゾール誘導体（一般式（１））を得ることができる。
【００１６】
本発明において、エステル化合物（一般式（４））を製造する際には、２−（２’  −ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール誘導体（一般式（２））の３’  位あるいは５’  位にベンゾイル基が直接入るものも副生するが、その量は僅かであり、３’  位にベンゾイル基の入ったものは本発明の目的の化合物であり、５’  位にベンゾイル基が入ったものはその構造から紫外線吸収能は弱いものである。
【００１７】
本発明において、２−（２’  −ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール誘導体（一般式（２））、ハロゲン化ベンゾイル誘導体（一般式（３））、脱塩酸剤、エステル化反応溶媒、転移反応溶媒、ルイス酸としては以下に示すものが適しているが、これらに限定されるものでない。２−（２’  −ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール誘導体としては、２−（２’  −ヒドロキシ−５’  −メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’  −ヒドロキシ−５’  −エチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’  −ヒドロキシ−５’  −イソプロピルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’  −ヒドロキシ−５’  −メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２’  −ヒドロキシ−５’  −エチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２’  −ヒドロキシ−５’  −イソプロピルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾールなどが挙げられる。ハロゲン化ベンゾイル誘導体としては、ヨウ化ベンゾイル、塩化ベンゾイル、臭化ベンゾイル、塩化ｏ−トルオイル、塩化ｍ−トルオイル、塩化ｐ−トルオイル、３−クロロ−ｏ−トルオイルクロライド、４−クロロ−ｏ−トルオイルクロライド、５−クロロ−ｏ−トルオイルクロライド、４−クロロ−ｍ−トルオイルクロライド、５−クロロ−ｍ−トルオイルクロライド、６−クロロ−ｍ−トルオイルクロライド、２−クロロ−ｐ−トルオイルクロライド、３−クロロ−ｐ−トルオイルクロライドなどが挙げられる。脱塩酸剤としては、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、ピリジンなどが挙げられ、エステル化反応溶媒としてはＤＭＦが好ましい。転移反応溶媒としては、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、ニトロベンゼン等の芳香族炭化水素系溶媒が適している。ルイス酸としては、塩化アルミニウム、臭化アルミニウム、塩化ガリウム、塩化鉄、塩化亜鉛、臭化亜鉛、五塩化アンチモン、三塩化アンチモン、塩化ジルコニウム、塩化スズ、塩化ホウ素、フッ化ホウ素等が挙げられ、その使用量は、一般には、エステル化合物に対して１モル当量以上であるのがよく、好ましくは１．１〜２．０モル当量程度である。
【００１８】
また、本発明では、転移反応溶媒中にルイス酸を存在させておき、２−（２’  −ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール誘導体とハロゲン化ベンゾイル誘導体を反応させることにより、エステル化合物を単離することなく、アシル化反応を利用してベンゾトリアゾール誘導体を製造することもできる。この方法においても、２−（２’  −ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール誘導体（一般式（２））の５’  位にベンゾイル基が入るものも副生するが、紫外線吸収能はその構造から弱いものである。
【００１９】
本発明のベンゾトリアゾール誘導体は、１分子中にベンゾトリアゾール骨格とベンゾフェノン骨格を併せ持つことから、紫外線の吸収領域が広く、しかもこのベンゾトリアゾール誘導体を有効成分とする紫外線吸収剤は紫外線吸収作用に優れている。
本発明の紫外線吸収剤は、一般式（１）のベンゾトリアゾール誘導体を２種以上含むものであってもよく、あるいは必要に応じ従来公知の紫外線吸収剤、酸化防止剤、光安定剤などと併用して用いられてもよい。
【００２０】
ポリエステル系合成繊維材料に一般式（１）のベンゾトリアゾール誘導体を適用する方法としては、水系分散液のパディングによる連続処理、浸漬による吸着処理、捺染糊に配合して用いる印捺処理、あるいは溶剤に溶解して処理する溶液処理等の方法を用いることができるが、これらに特に限定されるものではない。これらの処理は、染色工程や捺染工程の前もしくは後に、あるいは染色工程や捺染工程と同時に行ってもよい。水系で処理する際には、前記一般式（１）のベンゾトリアゾール誘導体を水中に安定に均一分散する必要があるが、水への分散は従来公知の方法により容易に行うことができる。一般式（１）のベンゾトリアゾール誘導体は水に不溶であるので、例えば、この化合物をアニオン又はノニオン系界面活性剤を分散剤として用いて水に分散させて、５〜５０重量％の濃度の一次分散液を調製し、さらにビーズミル等を使用し、物理的に粉砕することにより、安定な微粒子水分散液が得られる。粒子の大きさは特に限定されないが、平均粒子系が２μｍ以下の大きさに粉砕した状態で使用するのが望ましい。
【００２１】
分散剤として用いるアニオン又はノニオン系界面活性剤としては下記のような界面活性剤が挙げられるが、特にこれらに限定されるものではない。
（ａ）ナフタレンスルホン酸のホルムアルデヒド縮合物。
（ｂ）炭素数８〜１２のアルキルフェノールの４〜５０モルのアルキレンオキシド付加物、その硫酸化物あるいは炭素数８〜２０の脂肪酸とのエステル化物。ここで、アルキレンオキシドとしては、エチレンオキシド、プロピレンオキシドおよびブチレンオキシドを挙げることができ、その単独付加物、２者又は３者のブロックあるいはランダム付加物のいずれでもよい。
（ｃ）３〜８モルのスチレンを付加したフェノールの４〜５０モルのアルキレンオキシド付加物、その硫酸化物あるいは炭素数８〜２０の脂肪酸とのエステル化物。ここで、アルキレンオキシドとしては、エチレンオキシド、プロピレンオキシドおよびブチレンオキシドを挙げることができ、その単独付加物、２者又は３者のブロックあるいはランダム付加物のいずれでもよい。
（ｄ）１〜２モルのスチレンを付加した、炭素数８〜１２のアルキル基を有するアルキルフェノールの４〜５０モルのアルキレンオキシド付加物、その硫酸化物あるいは炭素数８〜２０の脂肪酸とのエステル化物。ここで、アルキレンオキシドとしては、エチレンオキシド、プロピレンオキシドおよびブチレンオキシドを挙げることができ、その単独付加物、２者又は３者のブロックあるいはランダム付加物のいずれでもよい。
（ｅ）ポリオキシアルキレンオキシド、その硫酸化物あるいは炭素数８〜２０の脂肪酸とのエステル化物。ここで、アルキレンオキシドとしては、エチレンオキシド、プロピレンオキシドおよびブチレンオキシドを挙げることができ、その単独付加物、２者又は３者のブロックあるいはランダム付加物のいずれでもよい。
（ｆ）エチレンジアミン、ジエチレントリアミン等のアミン類のアルキレンオキシド付加物、その硫酸化物あるいは炭素数８〜２０の脂肪酸とのエステル化物。ここで、アルキレンオキシドとしては、エチレンオキシド、プロピレンオキシドおよびブチレンオキシドを挙げることができ、その単独付加物、２者又は３者のブロックあるいはランダム付加物のいずれでもよい。
（ｇ）炭素数８〜１２のアルキル基を有するアルキルジフェニルエーテルの硫酸化物。
（ｈ）ポリビニルアルコール。
（ｉ）アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、アクリルアミド、アクリロニトリル、酢酸ビニル等のビニル系モノマーの重合物および共重合物。
（ｊ）カルボキシメチルセルロース。
（ｋ）アルギン酸ソーダ。
（ｌ）ローカストビーンガム、グアーガム等の天然多糖類のアルキレンオキシド付加物。ここで、アルキレンオキシドは、エチレンオキシド又はプロピレンオキシドである。
【００２２】
本発明の処理剤による処理に特に適する繊維材料としては、ポリエステル繊維又はポリエステル繊維と他の繊維、例えば、綿、レーヨン、ウール、ナイロン、アセテート等との複合繊維からなる不織布、織物、編物、及びそれらの起毛品からなるカーペット、カーマット、カーシート、シートベルト等を挙げることができる。
【００２３】
実際の処理に際しては、浸染用の染色浴においては、前記一般式（１）のベンゾトリアゾール誘導体を５〜５０重量％含有する水分散液を、繊維重量に対して０．２〜１０％の重量で使用し、他に分散染料等の染料、均染剤としての界面活性剤、酢酸等のｐＨ調整剤、ＥＤＴＡ類もしくはポリアクリル酸ソーダ等のキレート剤、酸化防止剤、消泡剤等の通常の染色に用いられる薬剤が使用される。染色加工工程は、従来実施されているものと同様であってよく、繊維製品を精練し、又は精練せずに、液流染色機、ビーム染色機、チーズ染色機等の染色機中において１２０〜１４０℃で２０〜６０分間染色した後、仕上工程を実施する。
【００２４】
連続染色では、前記一般式（１）のベンゾトリアゾール誘導体を５〜５０重量％含有する水分散液を０．２〜１０重量％含み、かつ、染料、アルギン酸ソーダ、アクリル酸とアクリルアミド共重合物等のマイグレーション防止剤、及び濃染剤、均染剤、浸透剤としての界面活性剤、塩素酸ソーダ等の還元防止剤、クエン酸、リンゴ酸等のｐＨ調整剤を含む染色浴に、精練した繊維製品を浸漬し、絞り、次いで乾燥し、サーモゾール、スチーミング等の固着処理を実施する。その後、ソーピングし、仕上処理を行う。
【００２５】
また、捺染においては、繊維材料を精練せず、又は精練後、あるいは染色後に捺染糊を印捺する。捺染糊中には、０．２〜１０％重量の前記一般式（１）のベンゾトリアゾール誘導体の水分散液と、他にアルギン酸ソーダ、加工澱粉、グアーガム系糊剤、カルボキシメチルセルロース等の捺染用糊剤、ｐＨ調整用のクエン酸、リンゴ酸等の有機酸、塩素酸ソーダ等の還元防止剤、濃染剤としての界面活性剤やターペンエマルジョン、及び消泡剤等の、通常の捺染において使用される薬剤が用いられる。印捺後乾燥し、ＨＴスチーミング、サーモゾール等での固着処理を行い、次いでソーピングし、仕上処理を行う。
【００２６】
本発明に係る一般式（１）のベンゾトリアゾール誘導体は、その少なくとも１種を、一般には繊維重量に対して０．０１〜１０％、好ましくは０．１〜５％の量を、ポリエステル系合成繊維材料に吸着又は付着させることにより日光堅牢度が向上し、また耐昇華性に優れているため熱処理工程後もセット用機械の汚染や耐光性の低下を生じさせることが少なく、ポリエステル合成繊維材料用処理剤として極めて有効である。
【００２７】
【実施例】
以下に実施例を挙げて本発明を更に説明するが、本発明はこれらの実施例により何ら限定されるものではない。
例中に示す融点は、島津製作所社製の示差走差熱量計ＤＳＣ−５０の吸熱ピークより求めた。核磁気共鳴スペクトル（以下、ＮＭＲと略記する）は、日立製作所社製のＦＴ−ＮＭＲ  Ｒ−１９００を用いて重クロロホルム溶媒（テトラメチルシラン標準（δ＝０．００））にて測定した。赤外スペクトル（以下、ＩＲと略記する）は、パーキンエルマー社製のパーキンエルマー１６５０を用いて臭化カリウムペレットにて測定した。紫外吸収スペクトルは、日立製作所社製のスペクトロフォトメーターＵー３４１０を用いて１０ｐｐｍ  濃度のクロロホルム溶液で測定した。また、熱減量率は、島津製作所社製の示差熱熱重量同時測定装置ＤＴＧ−５０を用いて測定した。
【００２８】
実施例１
２−（３’  −ベンゾイル−２’  −ヒドロキシ−５’  −メチルフェニル）ベンゾトリアゾールの合成（Ｉ）
反応容器に２−（２’  −ヒドロキシ−５’  −メチルフェニル）ベンゾトリアゾール２２５ｇ（１．００ｍｏｌ  ）、炭酸カリウム１３８ｇ（１．００ｍｏｌ  ）をＤＭＦ４５０ｇに懸濁させて仕込み、９０℃にて塩化ベンゾイル１４８ｇ（１．０５ｍｏｌ  ）を約３０分かけて滴下した。その後、同温度で２時間熟成反応させた後、冷却し、内容物を約２リットルの水中に徐々に注ぎ、その後希塩酸にて中和した。析出した結晶を減圧ろ過にてろ別し、ろ滓をイソプロパノールにより再結晶し、白色結晶２７３ｇを得た。生成物の収率は８３％で、融点は１１４℃であり、ＮＭＲ分析（図１）及びＩＲ分析（図２）はいずれも２−（２’  −ベンゾイルオキシ−５’  −メチルフェニル）ベンゾトリアゾールであることを示していた。
【００２９】
この生成物を反応容器に塩化アルミニウム２２１ｇ（１．６６ｍｏｌ  ）とともにニトロベンゼン５５０ｇに懸濁させて仕込み、反応温度１１０℃にて１時間撹拌反応させた。その後冷却し、希塩酸を加えて過剰の塩化アルミニウムを分解させた後、有機層を数回水洗した。有機層にメタノール約１リットルを加え、析出した結晶を減圧ろ過にてろ別した。得られたろ滓をアセトンにより再結晶し、目的の化合物の白色結晶２０２ｇを収率７４％で得た。この化合物の融点は１６６．１℃で、紫外線極大吸収波長λｍａｘ  （εｍａｘ  ）は３４８ｎｍ（１６６００）、３０３ｎｍ（１４９００）であり、ＮＭＲ分析（図３）及びＩＲ分析（図４）はいずれも目的の化合物であることを示していた。
【００３０】
実施例２
２−（３’  −ベンゾイル−２’  −ヒドロキシ−５’  −メチルフェニル）ベンゾトリアゾールの合成（ＩＩ）
反応容器に２−（２’  −ヒドロキシ−５’  −メチルフェニル）ベンゾトリアゾール１８０ｇ（０．８０ｍｏｌ  ）、塩化アルミニウム２１３ｇ（１．６０ｍｏｌ  ）をニトロベンゼン３６０ｇに懸濁させて仕込み、１１０℃にて塩化ベンゾイル１２４ｇ（０．８８ｍｏｌ  ）を約３０分かけて滴下した。その後、同温度で２時間反応させた後、冷却し、希塩酸を加えて過剰の塩化アルミニウムを分解した後、有機層を数回水洗した。有機層にメタノール約１リットルを加え、析出した結晶を減圧ろ過にてろ別した。得られたろ滓をアセトンより再結晶し、目的の化合物の白色結晶１９５ｇを収率７４％で得た。この化合物の融点は１６６．０℃で、紫外線極大吸収波長λｍａｘ  （εｍａｘ  ）は３４８ｎｍ（１６６００）、３０３ｎｍ（１４９００）であり、ＮＭＲ分析及びＩＲ分析はいずれも実施例１と同様、目的の化合物であることを示していた。
【００３１】
実施例３
２−｛３’  −（ｐ−トルオイル）−２’  −ヒドロキシ−５’  −メチルフェニル｝ベンゾトリアゾールの合成
反応容器に２−（２’  −ヒドロキシ−５’  −メチルフェニル）ベンゾトリアゾール１８０ｇ（０．８０ｍｏｌ  ）、塩化アルミニウム２１３ｇ（１．６０ｍｏｌ  ）をニトロベンゼン３６０ｇに懸濁させて仕込み、１１０℃にて塩化ｐ−トルオイル１３６ｇ（０．８８ｍｏｌ  ）を約３０分かけて滴下した。その後、同温度にて２時間熟成反応させた後、冷却し、希塩酸を加えて過剰の塩化アルミニウムを分解した後、有機層を数回水洗した。有機層にメタノール約１リットルを加え、析出した結晶を減圧ろ過にてろ別した。得られたろ滓をアセトンにより再結晶し、目的の化合物の白色結晶２０６ｇを収率７５％で得た。この化合物の融点は１５３．４℃で、紫外線極大吸収波長λｍａｘ  （εｍａｘ  ）は３４７ｎｍ（１６２００）、２６９ｎｍ（２００００）であり、ＮＭＲ分析（図５）及びＩＲ分析（図６）はいずれも目的の化合物であることを示していた。
【００３２】
比較例１
２−（２’  −ヒドロキシ−５’  −メチルフェニル）ベンゾトリアゾール
比較例２
５−クロロ−２−（２’  −ヒドロキシ−４’  −ベンゾイルオキシフェニル）ベンゾトリアゾール
比較例３
２−（２’  −ヒドロキシ−３’  −ｔ−ブチル−５’  −メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール
比較例４
２−（２’  −ヒドロキシ−４’  −メトキシフェニル）−４，６−ジフェニル−１，３，５−トリアジン
評価試験
紫外線吸収能
実施例１及び３、比較例１及び２の化合物の紫外線吸収スペクトルをそれぞれ図７〜１０に示す。
【００３３】
本発明のベンゾトリアゾール誘導体の紫外線吸収スペクトルは短波長においても吸収が大きく、吸収領域が広いものである。
耐熱性
実施例１及び３、比較例１及び３の化合物について、空気中、昇温速度５℃／分で昇温したときの、１２０〜４００℃の熱減量率（重量％）の結果を下記の表１に示す。
【００３４】
【表１】
0003573619.tif 000006
【００３５】
実施例１及び３の化合物は、比較例に比べて熱減量率が少なく、優れた耐昇華性及び耐熱性を有していることが認められる。
耐光堅牢度試験
〔水分散液の調製〕
下記の試験に供する実施例１〜３、比較例３及び４の化合物の水分散液を次のようにして調製した。化合物１５０ｇ、リポトールＢ−１２（日華化学（株）製アニオン系界面活性剤）１００ｇ、及び水２５０ｇを撹拌機で予備分散した後、五十嵐機械製造（株）製サンドグラインダーで４時間処理して、平均粒子径約０．４μｍのそれぞれの微粒子水分散液を得た。なお、粒子径は島津製作所（株）製粒度分布測定機ＳＡＬＤ−１１００により測定した。
【００３６】
〔試験方法〕
上記で得られたそれぞれの微粒子水分散液を処理剤として用いて処理し、その性能を評価した。
（ａ）供試布
レギュラーポリエステルニットを下記の方法により処理した後、日光堅牢度試験に供した。
【００３７】
（ｂ）処理方法
下記のそれぞれの処理浴組成で、１３０℃で３０分間染色処理（テクサム技研（株）製染色機ミニカラーにて）後、８０℃で３０分間還元洗浄し、水洗し、乾燥し、グレーの染色処理布を得た。次いで、上野山鉄工（株）製ピンテンターを用い、１６０℃で２分間の乾熱処理を行った。
【００３８】
0003573619.tif 000007
（ｃ）日光堅牢度
下記の試験１及び試験２の方法で日光堅牢度を評価した結果を表２に示す。
【００３９】
試験１
上記（ｂ）の乾熱処理後のそれぞれの処理布に厚さ１ｃｍのポリウレタン製スポンジを裏打ちし、高温フェード・オ・メーター（スガ試験機（株）製）を用い、８３℃で２００時間照射した。変褪色の度合いを変褪色グレースケール（ＪＩＳ  Ｌ  ０８０４）により級数で判定した。級数が大きいほど日光堅牢度は良好である。
【００４０】
試験２
上記（ｂ）の乾熱処理後のそれぞれの処理布に厚さ１ｃｍのポリウレタン製スポンジを裏打ちし、キセノンフェード・オ・メーター（スガ試験機（株）製）を用い、７３℃で４８時間照射後、３８℃で１時間暗黒を１サイクルとして３８サイクル繰り返した。変褪色の度合いを変褪色グレースケール（ＪＩＳ  Ｌ  ０８０４）により級数で判定した。結果を下記の表２に示す。級数が大きいほど日光堅牢度は良好である。
【００４１】
【表２】
0003573619.tif 000008
【００４２】
本発明の実施例１〜３の処理剤は、日光堅牢度に優れた性能を有していることが認められる。
【００４３】
【発明の効果】
本発明によれば、広い範囲の紫外線吸収領域を持ち、耐熱性に優れたベンゾトリアゾール誘導体系の紫外線吸収剤が得られる。従って、この紫外線吸収剤を含有する繊維処理剤を用いれば、高温条件での加工や、加工製品の高温時使用での昇華を押さえることができ、日光堅牢度の低下の少ないポリエステル系合成繊維材料の染色物又は捺染物が得られる。
【図面の簡単な説明】
【図１】２−（２’  −ベンゾイルオキシ−５’  −メチルフェニル）ベンゾトリアゾールのＮＭＲチャート。
【図２】２−（２’  −ベンゾイルオキシ−５’  −メチルフェニル）ベンゾトリアゾールのＩＲチャート。
【図３】実施例１のＮＭＲチャート。
【図４】実施例１のＩＲチャート。
【図５】実施例３のＮＭＲチャート。
【図６】実施例３のＩＲチャート。
【図７】実施例１の紫外線吸収スペクトル。
【図８】実施例３の紫外線吸収スペクトル。
【図９】比較例１の紫外線吸収スペクトル。
【図１０】比較例２の紫外線吸収スペクトル。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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