Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【誤訳訂正書】
【提出日】平成27年2月20日(2015.2.20)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも１つの銅層と、
少なくとも１つのポリマー材料層と、
前記銅層と前記ポリマー材料層との間の安定化層と、
を備え、
前記安定化層は、約２５０ｎｍ以下のサイズを有する複数のグレインを備え、前記グレインは実質的に不規則に配向しており、前記銅層の表面は、約０．１４μｍＲａ以下の粗さを呈する、プリント配線板。
【請求項２】
前記グレインは２００ｎｍ以下のサイズを有することを特徴とする請求項１に記載のプリント配線板。
【請求項３】
前記グレインは１００ｎｍ以下のサイズを有することを特徴とする請求項１に記載のプリント配線板。
【請求項４】
前記安定化層が５００ｎｍ以下の厚さを有することを特徴とする請求項１に記載のプリント配線板。
【請求項５】
前記安定化層が３００ｎｍ以下の厚さを有することを特徴とする請求項１に記載のプリント配線板。
【請求項６】
前記安定化層が約１００ｎｍ〜２００ｎｍの厚さを有することを特徴とする請求項１に記載のプリント配線板。
【請求項７】
前記グレインが、一方向性グレイン成長と実質的な均一性とを呈することを特徴とする請求項１に記載のプリント配線板。
【請求項８】
前記安定化層が酸化第一銅を備えることを特徴とする請求項１に記載のプリント配線板。
【請求項９】
前記銅層は、電解銅若しくは電気メッキ銅若しくは電着銅、無電解メッキ銅、及び圧延銅、又はこれらの組み合わせを備えることを特徴とする請求項１に記載のプリント配線板。
【請求項１０】
前記ポリマー材料層は、誘電体樹脂を備えることを特徴とする請求項１に記載のプリント配線板。
【請求項１１】
前記ポリマー材料層は、エポキシ又はフィラー材料を含むエポキシを備え、前記フィラー材料は、ガラス、シリカ及びそれらの混合物を備えることを特徴とする請求項１に記載のプリント配線板。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２３
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２３】
例示的な実施形態において、銅酸化物層はグレインを有し、調整の後にはこれらグレインは２５０ナノメータ以下のサイズを有する。別の実施形態において、銅酸化物層はグレインを有し、調整の後にはこれらグレインは２００ナノメータ以下のサイズを有する。いくつかの実施形態において、銅酸化物層はグレインを有し、調整の後にはこれらグレインは実質的に不規則に配向している。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２４
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２４】
銅表面は、銅表面を酸化剤に暴露することによって安定化される。例示の実施形態において、酸化剤は亜塩素酸ナトリウム、過酸化水素、過マンガン酸塩、過塩素酸塩、過硫酸塩、オゾン、又はこれら物質の混合物のうちのいずれか１つ以上から選択される。銅表面を安定化させるステップは、室温〜約８０℃の範囲の温度で行うことができる。
【誤訳訂正４】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３７
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３７】
例示の実施形態において、銅酸化物層は非常に分散したグレイン構造を有し、調整の後にはグレインは２００ナノメータ以下のサイズを有する。別の実施形態において、銅酸化物層はグレインを有し、調整の後にはこれらグレインは１００ナノメータ以下のサイズを有する。いくつかの実施形態において、銅酸化物はグレインを有し、調整の後にはこれらグレインは実質的にランダムに配向している。
【誤訳訂正５】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００７２
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００７２】
図３Ａは、ノジュール状グレイン及び長距離秩序の結晶構造を反映する一方向性グレイン成長を有する、従来の電解銅表面（すなわち、滑らかな銅表面、若しくは言い換えると粗化されていない銅表面）の典型的なモルフォロジーを示す、５０，０００倍の例示的ＳＥＭ写真である。比較として、本発明の方法に従って処理された電解銅表面のモルフォロジーが、図３Ｂに示されている。非常に明確であるように、図３Ｂに示された、処理された銅表面上の安定化層は、グレインがより細かく、グレイン成長が一方向性ではなく、均一性がより高いモルフォロジーを示している。対照的に、図３Ｃは既存の黒色酸化物表面を示し、この表面は非常に厚く、壊れやすい繊維状構造を示している。図３Ｄは、既存のマイクロエッチされた銅表面の例示的ＳＥＭ写真であり、この表面は非常に不均一なマイクロな畝状モルフォロジーを示している。
【手続補正書】
【提出日】平成26年12月24日(2014.12.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１２】
前記液処理部に、疎水化剤が貯留される第２の供給源が設けられ、
前記第２の供給源と前記第１の供給源とが、所定の配管により接続される、請求項１１に記載のパターン形成装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３２】
カセットステーションＳ１には、カセットステージ２４と搬送アーム２２（図６）とが設けられている。カセットステージ２４には、複数枚（例えば２５枚）のウエハＷを収容可能な複数の（図示の例では４つの）カセットＣが置かれる。以下の説明において、カセットＣが並ぶ方向を、便宜上、Ｘ方向とし、これに直交する方向をＹ方向とする。
搬送アーム２２は、カセットステージ２４上のカセットＣと処理ステーションＳ２との間でウエハＷの受け渡しを行なうため、昇降可能、Ｘ方向に移動可能、Ｙ方向に伸縮可能、鉛直軸まわりに回転可能に構成されている。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４０】
薬液供給ノズル５は、図８に示すように、カップ６の外側に配置され水平回動及び昇降機能を有する移動機構２０に連結される回動・昇降アーム２５によって支持されている。移動機構２０により、薬液供給ノズル５は、カップ６の外側位置（点線で示す位置）と、ウエハＷの中央上方の位置（実線で示す位置）との間で移動可能である。また、薬液供給ノズル５は、有機溶剤を貯留する薬液供給源３９に薬液供給管３９Ｃを介して接続されており、薬液供給源３９から供給される有機溶剤をウエハＷに対して供給することができる。また、本実施形態においては、薬液供給管３９Ｃに分岐管３９Ｂが接続され、分岐管３９Ｂは添加剤供給源３９Ａに接続されている。添加剤供給源３９Ａには、例えばシリル化剤などの疎水化剤（後述）が貯留されており、図示しないバルブの切り換えにより、薬液供給源３９から供給される有機溶剤に対して疎水化剤を添加することができる。
なお、薬液供給管３９Ｃ及び分岐管３９Ｂに、有機溶剤及び疎水化剤の流量を調整する流量調整器を設けて良いことは勿論である。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５０】
サセプタ５７は、円板形状を有し内部にヒータ６８を有している。ヒータ６８は温度調整器６９と接続され、これによりサセプタ５７の温度が所定の温度に調整される。また、サセプタ５７の上面には、ウエハＷを支持する複数の（例えば３個の）支持ピン５８が設けられている。サセプタ５７は、ウエハＷと等しいか又は僅かに大きい直径を有しており、好ましくは、高い熱伝導率を有する熱伝導率、例えば炭化ケイ素（ＳｉＣ）やアルミニウムにより形成される。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５２】
また、図９に示すように、ベースプレート５５の内部には、冷却水の流水路５５ａが形成されている。そして、流水路５５ａには冷却水供給装置７０から冷却水が供給され、ベースプレート５５全体が所定の温度に冷却される。また、ベースプレート５５上に設けられサセプタ５７を支持する支柱５６は、例えばアルミニウムで形成されることが好ましい。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５７】
ウエハチャンバ５１内を不活性ガスによりパージしている間に、サセプタ５７のヒータ６８により、支持ピン５８に支持されるウエハＷが所定の温度に加熱される。所定の時間経過後、ヒータ６８への電力の供給を停止すると、ウエハＷの熱が、支持ピン５８及びサセプタ５７を通してベースプレート５５へ伝わり、ウエハＷが例えば室温（約２３℃）程度まで冷却される。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７１】
また、第２の実施形態において、液処理ユニット３１と紫外光照射ユニット４０とが組み込まれたパターン形成装置１０を説明したが、液処理ユニット３１と紫外光照射ユニット４０とは、パターン形成装置１０に組み込まれることなく、パターン形成装置１０と別体に設けられても良い。また、他の実施形態においては、液処理ユニット３１と紫外光照射ユニット４０とを一体に構成しても良い。更に別の実施形態によるパターン形成装置は、液処理ユニット３１と塗布ユニット３２と紫外光照射ユニット４０とを組み合わせることにより構成しても良い。また、紫外光照射ユニット４０のサセプタ５７はヒータ６８を有しており、紫外光照射ユニット４０内においてブロック共重合体の膜が加熱されるが、ブロック共重合体の膜を加熱する加熱部を紫外光照射ユニット４０内にではなく、紫外光照射ユニット４０と別個に設けても良い。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７２】
２１・・・膜
ＰＬ・・・フォトレジスト層
Ｓ１・・・カセットステーション
Ｓ２・・・処理ステーション
Ｓ３・・・インターフェイスステーション
３１・・・液処理ユニット
５・・・薬液供給ノズル
３２・・・塗布ユニット
３９・・・薬液供給源
３９Ａ・・・添加剤供給源
４０・・・紫外光照射ユニット
５１・・・ウエハチャンバ
５２・・・光源チャンバ
５７・・・サセプタ
５８・・・支持ピン
６８・・ヒータ
８１・・・不活性ガス供給源
ＯＳ・・・有機溶剤
ＤＳ・・・ＰＳ領域
ＤＭ・・・ＰＭＭＡ領域
Ｗ・・・ウエハ
Ｌ・・・光源
【手続補正９】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図５】
2013232621.tif 000001
【手続補正１０】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図６】
2013232621.tif 000002
【手続補正１１】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図８】
2013232621.tif 000003
【手続補正１２】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図９】
2013232621.tif 000004
【手続補正書】
【提出日】平成27年4月16日(2015.4.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
レチクルのパターンを基板に投影する投影光学系を備え、前記投影光学系及び液体を介して基板を露光する露光装置であって、
回収口に接続された回収流路を含み、前記回収流路の内部を減圧することによって前記回収口及び前記回収流路を通して前記投影光学系と前記基板との間に供給された前記液体を回収する回収部と、
前記回収流路内に配置され、前記回収口及び前記回収流路を通して回収される前記液体を加熱する加熱部と、
を有することを特徴とする露光装置。
【請求項２】
前記液体に与えるべき加熱量を時系列的に表す加熱プロファイルを記憶する記憶部を更に有し、
前記加熱部は、前記記憶部に記憶された加熱プロファイルに従って前記液体を加熱することを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項３】
前記回収部で回収される液体の温度、前記投影光学系の前記基板側の周囲の温度、及び、前記基板を保持する基板ステージが配置されるステージ空間の温度の少なくとも１つを検出する検出部と、
前記検出部で検出される温度と目標温度との差が許容範囲内となるように、前記加熱部による前記液体の加熱を制御する制御部と、
を更に有することを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項４】
前記回収口が形成されたノズル部材を更に有し、
前記回収流路は、前記ノズル部材の内部に配置された第１流路部分と、前記ノズル部材の外部に配置された第２流路部分とを含み、
前記加熱部は、前記第１流路部分及び前記第２流路部分の少なくとも一方の内部に配置されていることを特徴とする請求項１乃至３のうちいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項５】
前記加熱部は、前記液体を互いに異なる加熱量で加熱可能な複数の加熱領域を含むことを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項６】
前記基板を保持して移動するステージと、
前記ステージの加速度、速度、移動量及び移動方向の少なくとも１つに基づいて、前記回収流路で生じる温度分布が予め定められた温度分布となるように、前記複数の加熱領域のそれぞれが前記液体に与えるべき加熱量を決定する決定部と、
を更に有し、
前記加熱部は、前記決定部で決定された加熱量に従って前記複数の加熱領域のそれぞれで前記液体を加熱することを特徴とする請求項５に記載の露光装置。
【請求項７】
前記決定部は、前記基板の表面に施された撥水コート材の種類及び前記ステージの表面に施された撥水コート材の種類の少なくとも一方にも基づいて、前記回収流路で生じる温度分布が予め定められた温度分布となるように、前記複数の加熱領域のそれぞれが前記液体に与えるべき加熱量を決定する請求項６に記載の露光装置。
【請求項８】
前記回収流路で生じる温度分布を予め定められた温度分布とするために前記複数の加熱領域のそれぞれが前記液体に与えるべき加熱量を表す加熱量情報を記憶する記憶部を更に有し、
前記加熱部は、前記記憶部に記憶された加熱量情報に従って前記複数の加熱領域のそれぞれで前記液体を加熱することを特徴とする請求項５に記載の露光装置。
【請求項９】
前記基板を保持して移動するステージを更に有し、
前記記憶部は、前記ステージの移動プロファイルごとに、前記加熱量情報を記憶することを特徴とする請求項８に記載の露光装置。
【請求項１０】
前記複数の加熱領域のそれぞれが前記液体を加熱する際の加熱時間を一定時間とし、
前記加熱部は、前記回収流路で生じる温度分布が予め定められた温度分布となるように、前記複数の加熱領域のそれぞれが前記一定時間内に前記液体に与える単位時間当たりの熱量を変えることを特徴とする請求項５に記載の露光装置。
【請求項１１】
前記複数の加熱領域のそれぞれが前記液体に与える単位時間当たりの熱量を一定とし、
前記加熱部は、前記回収流路で生じる温度分布が予め定められた温度分布となるように、前記複数の加熱領域のそれぞれが前記液体を加熱する際の加熱時間を変えることを特徴とする請求項５に記載の露光装置。
【請求項１２】
前記加熱部は、シーズヒータ及びペルチェ素子の少なくとも一方を含むことを特徴とする請求項１乃至１１のうちいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項１３】
前記加熱部は、発熱体を有し、
前記発熱体は、前記回収流路において前記発熱体に接する液体を加熱することを特徴とする請求項１乃至１２のうちいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項１４】
レチクルのパターンを基板に投影する投影光学系を備え、前記投影光学系及び液体を介して基板を露光する露光装置であって、
回収口に接続された回収流路を含み、前記回収流路の内部を減圧することによって前記回収口及び前記回収流路を通して前記投影光学系と前記基板との間に供給された前記液体を回収する回収部を有し、
該回収部は、前記回収流路内の前記液体を加熱する加熱部を有することを特徴とする露光装置。
【請求項１５】
請求項１乃至１４のうちいずれか１項に記載の露光装置を用いて基板を露光するステップと、
前記ステップで露光された前記基板を現像するステップと、
を有することを特徴とするデバイスの製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
上記目的を達成するために、本発明の一側面としての露光装置は、レチクルのパターンを基板に投影する投影光学系を備え、前記投影光学系及び液体を介して基板を露光する露光装置であって、回収口に接続された回収流路を含み、前記回収流路の内部を減圧することによって前記回収口及び前記回収流路を通して前記投影光学系と前記基板との間に供給された前記液体を回収する回収部と、前記回収流路内に配置され、前記回収口及び前記回収流路を通して回収される前記液体を加熱する加熱部と、を有することを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成27年4月2日(2015.4.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
撮影レンズを介して入射する光を光電変換して電気信号を出力する、２次元に配置された複数の光電変換部を、予め決められた数ずつまとめた複数の単位領域と、
前記撮影レンズと前記複数の光電変換部との間にあり、前記単位領域それぞれについて１つの第１のマイクロレンズを配置したマイクロレンズアレイと
を有する撮像手段と、
前記単位領域それぞれを構成する前記複数の光電変換部のうち、第１の光電変換部から出力された電気信号から、静止画像を生成する生成手段と、
前記単位領域それぞれを構成する前記複数の光電変換部のうち、第２の光電変換部から出力された電気信号に基づいて、静止画像生成以外の処理を行う処理手段とを有し、
前記第１の光電変換部は、前記第１のマイクロレンズにより集光された光を受光して電気信号を出力し、前記第２の光電変換部は、前記第１のマイクロレンズにより集光されていない光を受光して電気信号を出力することを特徴とする撮像装置。
【請求項２】
前記第２の光電変換部は、前記単位領域において周辺の位置にあることを特徴とする請求項１に記載の撮像装置。
【請求項３】
前記単位領域の四隅にある光電変換部のうち少なくとも１つの光電変換部を、前記第２の光電変換部として用いることを特徴とする請求項２に記載の撮像装置。
【請求項４】
前記単位領域は、前記複数の光電変換部を行列状に配列して形成されていることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の撮像装置。
【請求項５】
前記マイクロレンズアレイは、前記入射した光が前記第２の光電変換部に集光するように、複数の前記第１のマイクロレンズの間にそれぞれ形成された、複数の第２のマイクロレンズを更に有することを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の撮像装置。
【請求項６】
前記第２のマイクロレンズは、該第２のマイクロレンズに隣接する複数の前記第１のマイクロレンズから等距離の位置に配置されることを特徴とする請求項５に記載の撮像装置。
【請求項７】
前記第２のマイクロレンズは、２行２列に配置された４つの前記第１のマイクロレンズから等距離の位置に配置されることを特徴とする請求項６に記載の撮像装置。
【請求項８】
前記第１のマイクロレンズと前記第２のマイクロレンズは、互いに形状が異なることを特徴とする請求項５乃至７のいずれか１項に記載の撮像装置。
【請求項９】
前記第１のマイクロレンズと前記第２のマイクロレンズは、互いに高さが異なることを特徴とする請求項８に記載の撮像装置。
【請求項１０】
前記第１のマイクロレンズと前記第２のマイクロレンズは、互いに曲率が異なることを特徴とする請求項８に記載の撮像装置。
【請求項１１】
表示手段を更に有し、
前記処理手段は、前記第２の光電変換部から出力された電気信号から、前記表示手段に表示するライブビュー画像を生成することを特徴とする請求項１乃至１０のいずれか１項に記載の撮像装置。
【請求項１２】
前記処理手段は、前記第２の光電変換部から出力された電気信号から、動画像を生成することを特徴とする請求項１乃至１０のいずれか１項に記載の撮像装置。
【請求項１３】
前記処理手段は、前記第２の光電変換部から出力された電気信号から、サムネイル画像を生成することを特徴とする請求項１乃至１０のいずれか１項に記載の撮像装置。
【請求項１４】
前記処理手段は、前記第２の光電変換部からの電気信号に基づいて、測光を行うことを特徴とする請求項１乃至１０のいずれか１項に記載の撮像装置。
【請求項１５】
前記処理手段は、前記第２の光電変換部からの電気信号に基づいて、焦点調節を行うことを特徴とする請求項１乃至１０のいずれか１項に記載の撮像装置。
【請求項１６】
前記第１の光電変換部を、特定の波長域の光を通すカラーフィルタでそれぞれ覆い、
前記第２の光電変換部を、透明のフィルタで覆ったことを特徴とする請求項１４または１５に記載の撮像装置。
【請求項１７】
隣接する複数の前記単位領域において同じ位置にある前記第２の光電変換部からの電気信号を加算して出力することを特徴とする請求項１乃至１６のいずれか１項に記載の撮像装置。
【請求項１８】
第１の光電変換部から出力された電気信号を用いて、任意の距離に合焦した静止画像を生成するリフォーカス処理を行うリフォーカス画像生成手段を更に有することを特徴とする請求項１乃至１７のいずれか１項に記載の撮像装置。
【請求項１９】
撮影レンズを介して入射する光を光電変換して電気信号を出力する、２次元に配置された複数の光電変換部を、予め決められた数ずつまとめた複数の単位領域と、前記撮影レンズと前記複数の光電変換部との間にあり、前記単位領域それぞれについて１つのマイクロレンズを配置したマイクロレンズアレイとを含む撮像手段を有する撮像装置の制御方法であって、
生成手段が、前記単位領域それぞれを構成する前記複数の光電変換部のうち、第１の光電変換部から出力された電気信号から、静止画像を生成する生成工程と、
処理手段が、前記単位領域それぞれを構成する前記複数の光電変換部のうち、第２の光電変換部から出力された電気信号に基づいて、ライブビュー画像の生成、動画像の生成、サムネイル画像の生成、測光、焦点調節の少なくともいずれかを行う処理工程とを有し、
前記第１の光電変換部は、前記マイクロレンズにより集光された光を受光して電気信号を出力し、前記第２の光電変換部は、前記マイクロレンズにより集光されていない光を受光して電気信号を出力することを特徴とする撮像装置の制御方法。
【手続補正書】
【提出日】平成27年4月24日(2015.4.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
同じサンプル比の複数の成分から構成される動画像信号を、成分ごとに独立して動き補償予測符号化する動画像符号化装置において、
第１の動き探索手段と、
前記第１の動き探索手段の結果に基づいて、さらに動き探索を行う第２の動き探索手段と、
前記複数の成分から、代表成分を選択または算出して、代表成分画像を生成する代表成分画像生成手段とを具備し、
前記第１の動き探索手段は、前記代表成分画像に対して動き探索をし、
前記第２の動き探索手段は、前記複数の成分の各成分ごとに動き探索をすることを特徴とする動画像符号化装置。
【請求項２】
前記複数の成分は、赤、緑、青の三原色であり、前記代表成分は緑であることを特徴とする請求項１に記載の動画像符号化装置。
【請求項３】
前記複数の成分は、赤、緑、青の三原色であり、前記代表成分は、前記三原色の重み付加算により算出され、緑の重みが大きいことを特徴とする請求項１に記載の動画像符号化装置。
【請求項４】
前記複数の成分は、赤、緑、青の三原色であり、前記代表成分は、前記三原色の重み付加算により算出された輝度であることを特徴とする請求項１に記載の動画像符号化装置。
【請求項５】
代表成分の生成方法を決定する代表成分決定手段を具備し、
前記代表成分決定手段は、符号化の過程で求められる符号化情報に基づいて代表成分の生成方法を決定し、
前記代表成分画像生成手段は、前記代表成分決定手段が決定した代表成分の生成方法に基づいて代表成分を生成することを特徴とする請求項１に記載の動画像符号化装置。
【請求項６】
前記代表成分決定手段は、動き補償の参照関係が切れるフレームで、代表成分の生成方法を変更することを特徴とする請求項５に記載の動画像符号化装置。
【請求項７】
前記代表成分画像は、縮小画像であることを特徴とする請求項１〜６の何れか１項に記載の動画像符号化装置。
【請求項８】
同じサンプル比の複数の成分から構成される動画像信号を、成分ごとに独立して動き補償予測符号化する動画像符号化方法において、
第１の動き探索工程と、
前記第１の動き探索工程の結果に基づいて、さらに動き探索を行う第２の動き探索工程と、
前記複数の成分から、代表成分を選択または算出して、代表成分画像を生成する代表成分画像生成工程とを具備し、
前記第１の動き探索工程は、前記代表成分画像に対して動き探索をし、
前記第２の動き探索工程は、前記複数の成分の各成分ごとに動き探索をすることを特徴とする動画像符号化方法。
【請求項９】
同じサンプル比の複数の成分から構成される動画像信号を、成分ごとに独立して動き補償予測符号化する動画像符号化方法の各工程をコンピュータに実行させるプログラムにおいて、
第１の動き探索工程と、
前記第１の動き探索工程の結果に基づいて、さらに動き探索を行う第２の動き探索工程と、
前記複数の成分から、代表成分を選択または算出して、代表成分画像を生成する代表成分画像生成工程とを具備し、
前記第１の動き探索工程は、前記代表成分画像に対して動き探索をし、
前記第２の動き探索工程は、前記複数の成分の各成分ごとに動き探索をするようコンピュータを制御することを特徴とするプログラム。
【請求項１０】
請求項９に記載のプログラムを記憶したことを特徴とするコンピュータ読み取り可能な記憶媒体。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明の動画像符号化装置は、同じサンプル比の複数の成分から構成される動画像信号を、成分ごとに独立して動き補償予測符号化する動画像符号化装置において、第１の動き探索手段と、前記第１の動き探索手段の結果に基づいて、さらに動き探索を行う第２の動き探索手段と、前記複数の成分から、代表成分を選択または算出して、代表成分画像を生成する代表成分画像生成手段とを具備し、前記第１の動き探索手段は、前記代表成分画像に対して動き探索をし、前記第２の動き探索手段は、前記複数の成分の各成分ごとに動き探索をすることを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成27年4月20日(2015.4.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
通信装置であって、
他の通信装置と第１の暗号鍵を共有する第１の処理を実行する第１の共有手段と、
前記第１の暗号鍵が共有された場合に、前記第１の暗号鍵を利用して前記他の通信装置と第２の暗号鍵を共有する第２の処理と、前記第１の暗号鍵を利用することなく前記他の通信装置と前記第２の暗号鍵を共有する第３の処理と、を実行する第２の共有手段と、
を有することを特徴とする通信装置。
【請求項２】
前記第２の共有手段は、前記第３の処理に失敗した場合に前記第２の処理を実行し、前記第３の処理に成功した場合には前記第２の処理を実行しない、
ことを特徴とする請求項１に記載の通信装置。
【請求項３】
前記第１の処理、前記第２の処理、及び前記第３の処理は、ユニキャスト鍵およびグループ鍵を共有するための４ウェイハンドシェークである、
ことを特徴とする請求項１または２に記載の通信装置。
【請求項４】
前記第１の処理において前記通信装置が認証側装置として動作した場合には前記第２の処理及び前記第３の処理において前記通信装置は被認証側装置として動作し、
前記第１の処理において前記通信装置が被認証側装置として動作した場合には前記第２の処理及び前記第３の処理において前記通信装置は認証側装置として動作する、
ことを特徴とする請求項１から３のいずれか１項に記載の通信装置。
【請求項５】
前記第１の処理において前記通信装置が認証側装置として動作するか、非認証装置として動作するかを判定する判定手段をさらに有する、
ことを特徴とする請求項１から４のいずれか１項に記載の通信装置。
【請求項６】
前記第３の処理は、平文を用いて前記他の通信装置と前記第２の暗号鍵を共有する処理である、
ことを特徴とする請求項１から５のいずれか１項に記載の通信装置。
【請求項７】
前記第１の処理、前記第２の処理、及び前記第３の処理は、ＩＥＥＥ８０２．１１シリーズに準拠した処理である、
ことを特徴とする請求項１から６のいずれか１項に記載の通信装置。
【請求項８】
前記第１の暗号鍵及び前記第２の暗号鍵は、ＩＥＥＥ８０２．１１シリーズに準拠したアドホックモードでの無線通信を行うための暗号鍵である、
ことを特徴とする請求項１から７のいずれか１項に記載の通信装置。
【請求項９】
通信装置の制御方法であって、
他の通信装置と第１の暗号鍵を共有する第１の処理を実行する第１の共有工程と、
前記第１の暗号鍵が共有された場合に、前記第１の暗号鍵を利用して前記他の通信装置と第２の暗号鍵を共有する第２の処理と、前記第１の暗号鍵を利用することなく前記他の通信装置と前記第２の暗号鍵を共有する第３の処理と、を実行する第２の共有工程と、
を有することを特徴とする制御方法。
【請求項１０】
コンピュータを請求項１から８のいずれか１項に記載の通信装置として動作させるためのプログラム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
上記目的を達成するため、本発明による通信装置は、他の通信装置と第１の暗号鍵を共有する第１の処理を実行する第１の共有手段と、前記第１の暗号鍵が共有された場合に、前記第１の暗号鍵を利用して前記他の通信装置と第２の暗号鍵を共有する第２の処理と、前記第１の暗号鍵を利用することなく前記他の通信装置と前記第２の暗号鍵を共有する第３の処理と、を実行する第２の共有手段と、を有する。
【手続補正書】
【提出日】平成27年1月7日(2015.1.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
構図が互いに異なる複数の補助画像を、所定の画像とともに表示する表示制御部を有する表示制御装置。
【請求項２】
前記所定の画像は、撮像部を介して取得される画像である請求項１に記載の表示制御装置。
【請求項３】
前記表示制御部は、前記撮像部を介して取得される画像に基づいて、前記複数の補助画像を生成する請求項２に記載の表示制御装置。
【請求項４】
前記表示制御部は、前記撮像部を移動する方向を示す方向情報を、前記補助画像ごとに対応付けて表示する請求項２または３に記載の表示制御装置。
【請求項５】
前記表示制御部は、所定の操作に応じて、前記複数の補助画像を生成する請求項１乃至４のいずれかに記載の表示制御装置。
【請求項６】
前記複数の補助画像のうち、一の補助画像を選択するための操作入力部を有する請求項１乃至５のいずれかに記載の表示制御装置。
【請求項７】
前記表示制御部は、前記選択される補助画像に対応する情報を、前記所定の画像に重畳して表示する請求項６に記載の表示制御装置。
【請求項８】
前記選択される補助画像に対応する情報は、該補助画像のエッジを示す情報である請求項７に記載の表示制御装置。
【請求項９】
前記選択される補助画像に対応する情報は、該補助画像の透明度を変更した画像の情報である請求項７に記載の表示制御装置。
【請求項１０】
前記表示制御部は、前記選択される補助画像に対応する情報を、切り替えるための情報を表示する請求項７に記載の表示制御装置。
【請求項１１】
前記表示制御部は、前記選択される補助画像に対応する情報の表示態様を変更するための情報を表示する請求項７乃至１０のいずれかに記載の表示制御装置。
【請求項１２】
前記表示制御部は、前記補助画像ごとの評価値に応じて、前記複数の補助画像を表示する請求項１乃至１１のいずれかに記載の表示制御装置。
【請求項１３】
前記複数の補助画像のそれぞれに含まれる所定の被写体の位置に応じて、前記評価値が決定される請求項１２に記載の表示制御装置。
【請求項１４】
前記表示制御部は、記憶部に記憶される画像に基づいて、前記複数の補助画像を生成する請求項１に記載の表示制御装置。
【請求項１５】
位置情報を取得する位置情報取得部を有し、
前記表示制御部は、前記位置情報に応じて取得される画像に基づいて、前記複数の補助画像を生成する請求項１に記載の表示制御装置。
【請求項１６】
構図が互いに異なる複数の補助画像を、所定の画像とともに表示する表示制御装置における表示制御方法。
【請求項１７】
構図が互いに異なる複数の補助画像を、所定の画像とともに表示する表示制御装置における表示制御方法を、コンピュータに実行させるプログラム。
【請求項１８】
請求項１７に記載のプログラムが記録された記録媒体。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００３】
【特許文献１】特開２００９−２３１９２２号公報
【手続補正書】
【提出日】平成27年4月17日(2015.4.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の発光素子と、当該複数の発光素子が配置される基板とを備える発光装置の製造方法であって、
前記基板上に実装された前記複数の発光素子の間に、所定の粘度を有する透光性の第１樹脂を塗布する第１樹脂塗布工程と、
前記複数の発光素子上および前記第１樹脂上に、前記第１樹脂よりも粘度が低く、かつ、蛍光体を含有する透光性の第２樹脂を、前記第１樹脂を硬化させない状態で塗布する第２樹脂塗布工程と、
前記複数の発光素子上および前記第１樹脂上に、前記第２樹脂に含有される蛍光体を沈降させる蛍光体沈降工程と、
を含むことを特徴とする発光装置の製造方法。
【請求項２】
一つの発光素子と、当該一つの発光素子が設けられた基板とを備える発光装置の製造方法であって、
前記基板上に実装された前記発光素子の周囲に、所定の粘度を有する透光性の第１樹脂を塗布する第１樹脂塗布工程と、
前記発光素子上および前記第１樹脂上に、前記第１樹脂よりも粘度が低く、かつ、蛍光体を含有する透光性の第２樹脂を、前記第１樹脂を硬化させない状態で塗布する第２樹脂塗布工程と、
前記発光素子上および前記第１樹脂上に、前記第２樹脂に含有される蛍光体を沈降させる蛍光体沈降工程と、
を含むことを特徴とする発光装置の製造方法。
【請求項３】
前記第１樹脂塗布工程において、前記第１樹脂は、少なくとも前記発光素子の上面と連なる高さまで塗布されることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の発光装置の製造方法。
【請求項４】
前記第１樹脂塗布工程において、前記第１樹脂は、前記発光素子の上面の一部を被覆するように塗布されることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の発光装置の製造方法。
【請求項５】
前記第２樹脂塗布工程において、前記第１樹脂と同じ組成の樹脂を含有する前記第２樹脂を塗布することを特徴とする請求項１から請求項４のいずれか一項に記載の発光装置の製造方法。
【請求項６】
前記複数の発光素子は、前記基板上に正方格子状または三角格子状に配置されていることを特徴とする請求項１に記載の発光装置の製造方法。
【請求項７】
請求項１から請求項６のいずれか一項に記載の方法で製造される発光装置であって、
基板上に配置された発光素子と、
前記発光素子の側面に塗布された、所定の粘度を有する第１樹脂と、
前記発光素子上および前記第１樹脂上に塗布された、前記第１樹脂よりも粘度が低い第２樹脂と、
前記第１樹脂と前記第２樹脂との境界に形成された蛍光体層と、
を備えることを特徴とする発光装置。
【請求項８】
複数の発光素子と、
前記複数の発光素子の間を充填する、蛍光体を含まない透光性の第１樹脂と、
前記複数の発光素子上および前記第１樹脂上に配置された、蛍光体を含む第２樹脂と、
前記第１樹脂と前記第２樹脂とを内壁面に接する壁部と、を備えることを特徴とする発光装置。
【請求項９】
前記発光素子は、半導体層に対して同じ面側に一対の電極が形成され、前記電極が形成された面側を実装面に向けて実装する、請求項７又は請求項８に記載の発光装置。
【請求項１０】
前記複数の発光素子は、正方格子状または三角格子状に配置されている、請求項８に記載の発光装置。
【手続補正書】
【提出日】平成27年3月25日(2015.3.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
柱状電極と、
前記柱状電極の一端に接続される前記第１パッドと、
前記柱状電極の他端にはんだによって接続される第２パッドと
を含み、前記柱状電極の高さは、前記第１パッドの幅以上であり、
前記柱状電極の幅は、前記第１パッドの幅よりも広い、接続構造体。
【請求項２】
前記柱状電極には、前記一端側から前記他端側に電子が流れる、請求項１記載の接続構造体。
【請求項３】
前記柱状電極の高さは、前記第１パッドの幅の１．３倍以下である、請求項１又は２記載の接続構造体。
【請求項４】
前記第１パッドは、平面視で円形であり、第１パッドの幅は、平面視で円形の前記第１パッドの直径である、請求項１乃至３のいずれか一項記載の接続構造体。
【請求項５】
請求項１乃至４のいずれか一項記載の接続構造体と、
前記接続構造体の前記第１パッドの一端が接続される前記配線基板とを含む、配線基板ユニット。
【請求項６】
請求項１乃至４のいずれか一項記載の接続構造体と、
前記接続構造体の前記第１パッドの一端が接続される前記電子回路部品とを含む、電子回路部品ユニット。
【請求項７】
電子回路部品と、
配線基板と、
一端が前記電子回路部品に接続され、前記電子回路部品に形成される第１パッドと、
一端が前記第１パッドの他端に接続される第１柱状電極と、
一端が前記第１柱状電極の他端にはんだによって接続される第２柱状電極と、
一端が前記第２柱状電極の他端に接続され、他端が前記配線基板に接続され、前記配線基板に形成される第２パッドと、
一端が前記配線基板に接続され、前記配線基板に形成される第３パッドと、
一端が前記第３パッドの他端に接続される第３柱状電極と、
一端が前記第３柱状電極の他端にはんだによって接続される第４柱状電極と、
一端が前記第４柱状電極の他端に接続され、他端が前記電子回路部品に接続され、前記電子回路部品に形成される第４パッドと
を含み、前記第１柱状電極の高さは、前記第１パッドの幅以上であり、前記第３柱状電極の高さは、前記第３パッドの幅以上である、電子装置。
【請求項８】
前記第１柱状電極、前記第２柱状電極、前記第３柱状電極、及び前記第４柱状電極には、前記一端側から前記他端側に電子が流れる、請求項７記載の電子装置。
【請求項９】
前記第１柱状電極の幅は、前記第２柱状電極の幅よりも広く、前記第３柱状電極の幅は、前記第４柱状電極の幅より広い、請求項７記載の電子装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明の実施の形態の接続構造体は、柱状電極と、前記柱状電極の一端に接続される前記第１パッドと、前記柱状電極の他端にはんだによって接続される第２パッドとを含み、前記柱状電極の高さは、前記第１パッドの幅以上であり、前記柱状電極の幅は、前記第１パッドの幅よりも広い。
【手続補正書】
【提出日】平成27年3月19日(2015.3.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項８】
大気圧下における前記凝縮性ガスの沸点が１５℃以上３０℃以下であることを特徴とする、請求項１乃至７のいずれか一項に記載の光硬化物の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１５】
基板と、
前記基板上に設けられ所定のパターン形状を有する部材と、を有し、
前記部材が、請求項１乃至１３のいずれか一項に記載の光硬化物の製造方法によって製造された光硬化物であることを特徴とする、光学部品。
【手続補正３】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１６】
基板と、
前記基板上に設けられる電子部材と、を有し、
前記基板が、請求項１４に記載の回路付基板の製造方法によって製造された回路付基板であることを特徴とする、電子部品。
【手続補正書】
【提出日】平成27年7月23日(2015.7.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の導体と、
第２の導体と、
接続スパンに沿って前記第１の導体と第２の導体の間に並列電気接続を形成する複数の伝導経路と
を備える装置であって、前記伝導経路の各々がそれぞれ同様な公称電気抵抗を有し、
前記第１の導体および第２の導体のそれぞれの断面積が、前記接続スパンに沿って反対方向に減少している、装置。
【請求項２】
前記複数の伝導経路が、Ｎ個の伝導経路から成り、前記第１の導体および第２の導体のそれぞれの断面積が、前記接続スパンに沿って１つの伝導経路から隣接する伝導経路に移るとき大きさＡ／Ｎだけ減少し、Ａが、前記接続スパンの端における前記第１の導体および第２の導体のそれぞれの断面積の大きさである、請求項１記載の装置。
【請求項３】
前記第１の導体および第２の導体および前記伝導経路が、電流が前記第１の導体から前記第２の導体へ選択的に流れるように電流を選択的に伝導するように構成されており、さらに、前記第１の導体の断面積が、前記接続スパンに沿って電流の流れの方向に減少し、さらに前記第２の導体の断面積が、前記接続スパンに沿って電流の流れの方向に増加している、請求項１または２に記載の装置。
【請求項４】
前記第１の導体および第２の導体の各々が、それぞれ第１および第２の抵抗率を有し、前記伝導経路の少なくとも１つの経路抵抗率が、前記第１の抵抗率の約１０倍以下でかつ前記第２の抵抗率の約１０倍以下である、請求項１乃至３のいずれかに記載の装置。
【請求項５】
前記第１の導体および第２の導体が、長さ方向に沿って細長く、前記伝導経路の各々が、前記長さ方向に直交する成分を有する方向にそれぞれ延びている、請求項１乃至４のいずれかに記載の装置。
【請求項６】
前記伝導経路の各々が、一緒に駆動されるように構成されているスイッチをそれぞれ含む、請求項１乃至５のいずれかに記載の装置。
【請求項７】
第１のトレースと、
第２のトレースと、
接続スパンに沿って前記第１のトレースと第２のトレースの間に並列電気接続を形成する複数の伝導経路と
を備える装置であって、前記伝導経路の各々がそれぞれ同様な公称電気抵抗を有し、
前記第１のトレースおよび第２のトレースのそれぞれの断面積が、前記接続スパンに沿って反対方向に減少している、装置。
【請求項８】
前記伝導経路各々が、電気的に直列に接続されかつ一緒に駆動されるように構成された一対の実質的に同様なＭＥＭＳスイッチをそれぞれ含む、請求項７記載の装置。
【請求項９】
各対のＭＥＭＳスイッチをそれぞれ相互接続する中間導体をさらに備え、前記中間導体が、より高い抵抗の領域によってそれぞれ分離されている、請求項８記載の装置。
【請求項１０】
前記ＭＥＭＳスイッチが、カンチレバーをそれぞれ含み、前記中間導体がアンカ構造を含み、このアンカ構造から前記カンチレバーが延びている、請求項９の装置。
【請求項１１】
主表面を有する基板をさらに備え、前記第１のトレースおよび第２のトレースおよび前記伝導経路が、前記主表面によって支持されている、請求項７乃至１０のいずれかに記載の装置。
【請求項１２】
前記第１のトレースおよび第２のトレースの各々が、前記主表面に平行な長さ方向に沿って細長く、前記トレースの各々が、前記主表面に対して垂直な実質的に等しい厚さを有し、さらに前記トレースが、前記主表面に対して平行でかつ前記長さ方向に対して横方向のそれぞれの幅を有し、前記幅が前記接続スパンに沿って反対方向に減少している、請求項１１記載の装置。
【請求項１３】
前記複数の伝導経路が、Ｎ個の伝導経路から成り、前記第１のトレースおよび第２のトレースの幅が、前記接続スパンに沿って１つの伝導経路から隣接する伝導経路に移るとき大きさＡ／Ｎだけ減少し、Ａが、前記接続スパンから離れた前記第１のトレースおよび第２のトレースのそれぞれの断面積の大きさである、請求項１２記載の装置。
【請求項１４】
膜を基板上に堆積させるステップと、
前記膜をパターニングして第１および第２のトレースを形成するステップと、
複数のスイッチが、接続スパンに沿って前記第１のトレースと第２のトレースの間に並列電気接続を形成するように構成されるように、前記基板上に前記複数のスイッチを同時に微差加工するステップと
を含む方法であって、
前記第１のトレースおよび第２のトレースのそれぞれの断面積が前記接続スパンに沿って反対方向に減少するように、前記膜がパターニングされる、方法。
【手続補正書】
【提出日】平成26年11月21日(2014.11.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
駐車場を管理する駐車場管理システムであって、
ユーザが車両を前記駐車場に入庫した時刻である入庫時刻と、そのユーザが車両を前記駐車場に駐車することを許可された時間である有効駐車時間とを含む情報を表す実データであってユーザが解読可能であるものを、前記ユーザが解読することはできない暗号データであって前記ユーザに提供されるものに暗号化する暗号化部と、
前記ユーザから通信機器を介して受信した前記暗号データを解読し、それにより、その暗号データを前記実データに復元する暗号解読部と
を含み、
前記暗号化部は、さらに、前記車両の実際の駐車時間が前記有効駐車時間を延長した場合に追加駐車料金が支払われると、その追加駐車料金が支払われた時刻とその追加駐車料金の額に見合う延長駐車時間の長さとを表す延長駐車用実データであってユーザが解読可能であるものを、前記ユーザが解読することはできない延長駐車用暗号データであって前記ユーザに提供されるものに暗号化し、
前記暗号解読部は、さらに、前記ユーザから前記通信機器を介して受信された前記延長駐車用暗号データを解読し、それにより、その延長駐車用暗号データを前記延長駐車用実データに復元する駐車場管理システム。
【請求項２】
請求項１に記載の暗号化部。
【請求項３】
請求項１に記載の暗号解読部。
【請求項４】
駐車場を管理する駐車場管理方法であって、
ユーザが車両を前記駐車場に入庫した時刻である入庫時刻と、そのユーザが車両を前記駐車場に駐車することを許可された時間である有効駐車時間とを含む情報を表す実データであってユーザが解読可能であるものを、前記ユーザが解読することはできない暗号データであって前記ユーザに提供されるものに暗号化する暗号化工程と、
前記ユーザから通信機器を介して受信した前記暗号データを解読し、それにより、その暗号データを前記実データに復元する暗号解読工程と
を含み、
前記暗号化工程は、さらに、前記車両の実際の駐車時間が前記有効駐車時間を延長した場合に追加駐車料金が支払われると、その追加駐車料金が支払われた時刻とその追加駐車料金の額に見合う延長駐車時間の長さとを表す延長駐車用実データであってユーザが解読可能であるものを、前記ユーザが解読することはできない延長駐車用暗号データであって前記ユーザに提供されるものに暗号化する工程を含み、
前記暗号解読工程は、さらに、前記ユーザから前記通信機器を介して受信された前記延長駐車用暗号データを解読し、それにより、その延長駐車用暗号データを前記延長駐車用実データに復元する工程を含む駐車場管理方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２７】
その課題を解決するために、本発明の第１側面によれば、駐車場を管理する駐車場管理システムであって、
ユーザが車両を前記駐車場に入庫した時刻である入庫時刻と、そのユーザが車両を前記駐車場に駐車することを許可された時間である有効駐車時間とを含む情報を表す実データであってユーザが解読可能であるものを、前記ユーザが解読することはできない暗号データであって前記ユーザに提供されるものに暗号化する暗号化部と、
前記ユーザから通信機器を介して受信した前記暗号データを解読し、それにより、その暗号データを前記実データに復元する暗号解読部と
を含み、
前記暗号化部は、さらに、前記車両の実際の駐車時間が前記有効駐車時間を延長した場合に追加駐車料金が支払われると、その追加駐車料金が支払われた時刻とその追加駐車料金の額に見合う延長駐車時間の長さとを表す延長駐車用実データであってユーザが解読可能であるものを、前記ユーザが解読することはできない延長駐車用暗号データであって前記ユーザに提供されるものに暗号化し、
前記暗号解読部は、さらに、前記ユーザから前記通信機器を介して受信された前記延長駐車用暗号データを解読し、それにより、その延長駐車用暗号データを前記延長駐車用実データに復元する駐車場管理システムが提供される。
また、本発明の第２側面によれば、駐車場を管理する駐車場管理方法であって、
ユーザが車両を前記駐車場に入庫した時刻である入庫時刻と、そのユーザが車両を前記駐車場に駐車することを許可された時間である有効駐車時間とを含む情報を表す実データであってユーザが解読可能であるものを、前記ユーザが解読することはできない暗号データであって前記ユーザに提供されるものに暗号化する暗号化工程と、
前記ユーザから通信機器を介して受信した前記暗号データを解読し、それにより、その暗号データを前記実データに復元する暗号解読工程と
を含み、
前記暗号化工程は、さらに、前記車両の実際の駐車時間が前記有効駐車時間を延長した場合に追加駐車料金が支払われると、その追加駐車料金が支払われた時刻とその追加駐車料金の額に見合う延長駐車時間の長さとを表す延長駐車用実データであってユーザが解読可能であるものを、前記ユーザが解読することはできない延長駐車用暗号データであって前記ユーザに提供されるものに暗号化する工程を含み、
前記暗号解読工程は、さらに、前記ユーザから前記通信機器を介して受信された前記延長駐車用暗号データを解読し、それにより、その延長駐車用暗号データを前記延長駐車用実データに復元する工程を含む駐車場管理方法が提供される。
本発明によって下記の各態様が得られる。各態様は、項に区分し、各項には番号を付し、必要に応じて他の項の番号を引用する形式で記載する。これは、本発明が採用し得る技術的特徴の一部およびそれの組合せの理解を容易にするためであり、本発明が採用し得る技術的特徴およびそれの組合せが以下の態様に限定されると解釈すべきではない。すなわち、下記の態様には記載されていないが本明細書には記載されている技術的特徴を本発明の技術的特徴として適宜抽出して採用することは妨げられないと解釈すべきなのである。
【手続補正書】
【提出日】平成27年6月30日(2015.6.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
また非特許文献１に記載の統計解析では、異なる試料のピーク行列データを統合する際には、上述のＴＩＣに基づく強度値の規格化が行われる。上述したように、ＴＩＣ規格化によって、試料、前処理、測定日、測定条件などが異なることに起因する、試料毎のイオン強度値のばらつきやＭＡＬＤＩイオン源による測定点毎の生成イオン量のばらつき等に起因するばらつきの影響が軽減され、有効な統計解析を行うことができる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８２】
上述のようにして測定中に圧縮した複数のイメージング質量分析データを比較した統計解析やイメージング画像の表示を行いたい場合には、処理対象のデータを読み込むのに先立って、比較したい複数の試料のイメージング質量分析データをあたかも一つのイメージング質量分析データとして取り扱うことができるように統合する処理を実行する。この場合、比較対象のデータの各測定点の圧縮マススペクトルを一旦伸張し、上述のイメージング質量分析データの統合処理を行う。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８８】
ＴＩＣの値は一つのマススペクトルに現れる全てのイオン強度値の和であるため、ＸＩＣと異なり値は一意に定まる。そのため、測定中のＣＰＵの余剰能力を利用して事前に計算しておいてもよい。その場合、測定中に、データ収集部２０で各測定点のマススペクトルデータを取得するたびに、所定の質量電荷比範囲に亘るマススペクトルに現れる全てのイオン強度値を加算してＴＩＣを算出し、その値を測定点の位置情報とともに、外部記憶装置４に格納しておく。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１１２】
即ち、まず、全測定点においてＩi×ｐiの最大値を探索する。いま、ａ番目の測定点においてこの値が最大であったとする。このとき、Ｉa×ｐaがMax_long（Max_short）になるようにリスケーリングすればよいから、各測定点の強度値に、Max_long／（Ｉa×ｐa）又はMax_short／（Ｉa×ｐa）を乗じることでリスケーリングすればよい。上記のリスケーリングに加えて、各測定点の強度値にはｐiを乗じて規格化することになるから、結局、リスケーリングと規格化とを同時に行う場合、各測定点の強度値に（Max_long×Ｐa）／（Ｉa×Ｐi）又は（Max_short×Ｐa）／（Ｉa×Ｐi）を乗じればよい。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１１６】
まず、上述した例えば図１１に示した処理により、メインメモリ２１の圧縮データ記憶領域２１１に格納されている圧縮データと規格化係数記憶領域２１３に格納されているＴＩＣ規格化係数又はＸＩＣ規格化係数とを用いて、全測定領域又は指定された関心領域における規格化された平均マススペクトル又は最大強度マススペクトルを算出する（ステップＳ５１）。次に、ピーク行列作成部２７はその平均マススペクトル又は最大強度マススペクトルに対しピーク検出を行い、検出されたピークの質量電荷比値を抽出したピークリストを作成する（ステップＳ５２）。データ伸張処理部２４は、その関心領域内の一つの測定点を選択する（ステップＳ５３）。規格化演算処理部３０はメインメモリ２１の規格化係数記憶領域２１３に格納されている該測定点に対応したＴＩＣ規格化係数又はＸＩＣ規格化係数を読み出す（ステップＳ５４）。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１１８】
次に、規格化演算処理部３０はステップＳ５４で読み出したＴＩＣ規格化係数又はＸＩＣ規格化係数を、ステップＳ５７で復元された強度値に乗じることにより強度値を修正し、これを規格化されたピーク行列の要素として、メインメモリ２１のピーク行列記憶領域２１４に保存する（ステップＳ５８）。一つの測定点についてステップＳ５５〜Ｓ５８の処理を繰り返し、全ピークについての処理が終了したならば（ステップＳ５９でＹｅｓ）、関心領域の中で未処理の測定点があるか否かを判定し（ステップ６０）、関心領域の中で未処理の測定点がある場合にはステップＳ６０からＳ５３へと戻って、今度は関心領域内の別の測定点を選択してステップＳ５４〜Ｓ５９の処理を繰り返す。これによって、最終的に、規格化されたピーク行列を得ることができるから、これを統計解析に供すればよい。