Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成26年11月27日(2014.11.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
当初成分として式Ｉで表されるアミンフラックス剤を含むアミンフラックス組成物：
【化１】
2012148337.tif 000001
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４は独立して水素、置換Ｃ１−８０アルキル基、非置換Ｃ１−８０アルキル基、置換Ｃ７−８０アリールアルキル基、および非置換Ｃ７−８０アリールアルキル基から選択され；Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４での前記置換Ｃ１−８０アルキル基および前記置換Ｃ７−８０アリールアルキル基における置換が、−ＯＨ基、−ＯＲ５基、−ＣＯＲ５−基、−ＣＯＲ５基、−Ｃ（Ｏ）Ｒ５基、−ＣＨＯ基、−ＣＯＯＲ５基、−ＯＣ（Ｏ）ＯＲ５基、−Ｓ（Ｏ）（Ｏ）Ｒ５基、−Ｓ（Ｏ）Ｒ５基、−Ｓ（Ｏ）（Ｏ）ＮＲ５２基、−ＯＣ（Ｏ）ＮＲ６２基、−Ｃ（Ｏ）ＮＲ６２基、−ＣＮ基、−Ｎ（Ｒ６）−基、および−ＮＯ２基の少なくとも１種から選択され；Ｒ５がＣ１−２８アルキル基、Ｃ３−２８シクロアルキル基、Ｃ６−１５アリール基、Ｃ７−２８アリールアルキル基、およびＣ７−２８アルキルアリール基から選択され；Ｒ６が、水素、Ｃ１−２８アルキル基、Ｃ３−２８シクロアルキル基、Ｃ６−１５アリール基、Ｃ７−２８アリールアルキル基、およびＣ７−２８アルキルアリール基から選択され；
Ｒ７およびＲ８は独立してＣ１−２０アルキル基、置換Ｃ１−２０アルキル基、Ｃ６−２０アリール基および置換Ｃ６−２０アリール基から選択されるか、またはＲ７とＲ８はそれらが結合している炭素と一緒になってＣ３−２０シクロアルキル環を形成し、場合によっては当該Ｃ３−２０シクロアルキル環はＣ１−６アルキル基で置換されている；Ｒ１０およびＲ１１は独立してＣ１−２０アルキル基、置換Ｃ１−２０アルキル基、Ｃ６−２０アリール基および置換Ｃ６−２０アリール基から選択されるか、またはＲ１０とＲ１１はそれらが結合している炭素と一緒になってＣ３−２０シクロアルキル環を形成し、場合によっては当該Ｃ３−２０シクロアルキル環はＣ１−６アルキル基で置換されている；Ｒ７、Ｒ８、Ｒ１０およびＲ１１での前記置換Ｃ１−２０アルキル基および前記置換Ｃ６−２０アリール基における置換は、−ＯＨ基、−ＯＲ１２基、−ＣＯＲ１２−基、−ＣＯＲ１２基、−Ｃ（Ｏ）Ｒ１２基、−ＣＨＯ基、−ＣＯＯＲ１２基、−ＯＣ（Ｏ）ＯＲ１２基、−Ｓ（Ｏ）（Ｏ）Ｒ１２基、−Ｓ（Ｏ）Ｒ１２基、−Ｓ（Ｏ）（Ｏ）ＮＲ１３２基、−ＯＣ（Ｏ）ＮＲ１３２基、−Ｃ（Ｏ）ＮＲ１３２基、−ＣＮ基、−Ｎ（Ｒ１３）−基、および−ＮＯ２基の少なくとも１種から選択され；Ｒ１２はＣ１−１９アルキル基、Ｃ３−１９シクロアルキル基、Ｃ６−１９アリール基、Ｃ７−１９アリールアルキル基、およびＣ７−１９アルキルアリール基から選択され；Ｒ１３は、水素、Ｃ１−１９アルキル基、Ｃ３−１９シクロアルキル基、Ｃ６−１９アリール基、Ｃ７−１９アリールアルキル基、およびＣ７−１９アルキルアリール基から選択され；並びに、
Ｒ９は水素、Ｃ１−３０アルキル基、置換Ｃ１−３０アルキル基、Ｃ６−３０アリール基および置換Ｃ６−３０アリール基から選択され；Ｒ９での前記置換Ｃ１−３０アルキル基および前記置換Ｃ６−３０アリール基における置換は、−ＯＨ基、−ＯＲ１４基、−ＣＯＲ１４−基、−ＣＯＲ１４基、−Ｃ（Ｏ）Ｒ１４基、−ＣＨＯ基、−ＣＯＯＲ１４基、−ＯＣ（Ｏ）ＯＲ１４基、−Ｓ（Ｏ）（Ｏ）Ｒ１４基、−Ｓ（Ｏ）Ｒ１４基、−Ｓ（Ｏ）（Ｏ）ＮＲ１４２基、−ＯＣ（Ｏ）ＮＲ１５２基、−Ｃ（Ｏ）ＮＲ１５２基、−ＣＮ基、−Ｎ（Ｒ１５）−基、および−ＮＯ２基の少なくとも１種から選択され；Ｒ１４はＣ１−２９アルキル基、Ｃ３−２９シクロアルキル基、Ｃ６−２９アリール基、Ｃ７−２９アリールアルキル基、およびＣ７−２９アルキルアリール基から選択され；Ｒ１５は、水素、Ｃ１−２９アルキル基、Ｃ３−２９シクロアルキル基、Ｃ６−２９アリール基、Ｃ７−２９アリールアルキル基、およびＣ７−２９アルキルアリール基から選択される）。
【請求項２】
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４が独立して水素、−ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）Ｒ１８、および−ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２−Ｏ−Ｒ１８基から選択され；Ｒ１８が水素、Ｃ１−２８アルキル基、Ｃ３−２８シクロアルキル基、Ｃ６−２８アリール基、Ｃ７−２８アリールアルキル基、およびＣ７−２８アルキルアリール基から選択され；Ｒ７およびＲ８が両方ともメチル基であり；Ｒ１０およびＲ１１が両方ともメチル基であり；並びにＲ９がメチル基およびフェニル基から選択され；Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４の０〜３つが水素である請求項１に記載のアミンフラックス組成物。
【請求項３】
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４の０〜３つが水素である請求項２に記載のアミンフラックス組成物。
【請求項４】
溶媒をさらに含み、当該溶媒が炭化水素、芳香族炭化水素、ケトン、エーテル、アルコール、エステル、アミド、グリコール、グリコールエーテル、グリコール誘導体および石油溶媒から選択される有機溶媒である、請求項１に記載のアミンフラックス組成物。
【請求項５】
無機充填剤、チキソトロープ剤および酸化防止剤の少なくとも１種をさらに含む、請求項１に記載のアミンフラックス組成物。
【請求項６】
艶消し剤、着色剤、脱泡剤、分散安定化剤、キレート化剤、熱可塑性粒子、ＵＶ不透過剤、難燃剤および還元剤から選択される添加剤をさらに含む、請求項１に記載のアミンフラックス組成物。
【請求項７】
当初成分として
０〜９５重量％の溶媒、
０〜３０重量％の増粘剤、
０〜３０重量％のチキソトロープ剤、および
０〜３０重量％の酸化防止剤
をさらに含む、請求項１に記載のアミンフラックス組成物。
【請求項８】
はんだ粉体をさらに含む請求項１に記載のアミンフラックス組成物。
【請求項９】
電気接点を提供し；
請求項１に記載のアミンフラックス組成物を提供し；
前記アミンフラックス組成物を前記電気接点に適用し；
はんだを提供し；
前記はんだを溶融させ；並びに
前記電気接点に適用された前記アミンフラックス組成物を、溶融したはんだで置き換え、前記溶融したはんだが前記電気接点との物理的接触を形成し、そして前記電気接点に結合する
ことを含む、電気接点にはんだを適用する方法。
【手続補正書】
【提出日】平成26年12月1日(2014.12.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
インク方式印刷システムの印刷運転中にポーズ機能を実行する方法において、
少なくとも１つの印刷機器（ＤＲ）を備え、プリントヘッド（５）を支持するプリントバー（４）を備えた印刷ユニット（１）が、被印刷材料ウェブ（３）に印刷し、
ポーズ機能の作動により、被印刷材料ウェブ（３）の送り速度が、印刷運転時の速度（ｖd）から、所定の時間長さにわたって、所定の速度に低下し、その際、該時間長さを、ポーズの終了時に印刷機器（ＤＲ）の印刷ユニット（１）の下側で被印刷材料ウェブ（３）が湿気および／または温度に関する適切な特性を有するように選択し、
ポーズの終了後に、被印刷材料ウェブ（３）を、再び印刷運転時の速度（ｖd）に加速し、
被印刷材料ウェブ（３）が湿度および温度に関して周辺空気に適合すると、被印刷材料ウェブ（３）が適切な特性を有することを特徴とする、ポーズ機能を実行する方法。
【請求項２】
ポーズ機能の作動後に、前工程時間（ｔv）で、被印刷材料ウェブ（３）の送り速度が、所定の速度（ｖv）に低下し、前工程時間（ｔv）が経過すると、被印刷材料ウェブ（３）が、ポーズ時間（ｔp）にわたって停止する、請求項１記載の方法。
【請求項３】
ポーズ機能の作動後に、ポーズ時間（ｔp）全体にわたって、被印刷材料ウェブ（３）の送り速度が、所定の速度（ｖs）に低下する、請求項１記載の方法。
【請求項４】
印刷ユニット（１）の上流側に配置された回転位置発信器ローラ（６）により、被印刷材料ウェブ（３）の送り運動を測定し、測定結果をプリンタ制御装置（２）に送り、
被印刷材料ウェブ（３）の、回転位置発信器ローラ（６）の上流側に位置する区分（ＢＡ１）が印刷ユニット（１）に到達するように、前工程時間（ｔv）を選択する、請求項２記載の方法。
【請求項５】
被印刷材料ウェブ（３）に印刷するために、相前後に位置する２つの印刷機器（ＤＲ１，ＤＲ２）を用い、
被印刷材料ウェブ（３）の、第１の印刷機器（ＤＲ１）内に位置する区分が第２の印刷機器（ＤＲ２）の印刷ユニット（１．２）に到達するように、前工程時間（ｔv）を選択する、請求項２記載の方法。
【請求項６】
被印刷材料ウェブ（３）に印刷するために、相前後に位置する２つの印刷機器（ＤＲ１，ＤＲ２）を用い、
ポーズ機能の作動後に、ポーズ時間（ｔp）全体にわたって、被印刷材料ウェブ（３）の送り速度が、所定の速度（ｖs）に低下する、請求項３記載の方法。
【請求項７】
各印刷機器（ＤＲ１，ＤＲ２）の印刷ユニット（１）が、ポーズ時間（ｔp）の作動後に、被印刷材料ウェブ（３）から離間する方向に移動する、請求項５または６記載の方法。
【請求項８】
各印刷機器（ＤＲ１，ＤＲ２）の印刷ユニット（１）のプリントヘッド（５）の温度が、ポーズ時間（ｔp）の作動後に、低下する、請求項５または６記載の方法。
【請求項９】
被印刷材料ウェブ（３）を、印刷機器（ＤＲ１，ＤＲ２）の間で冷却する、請求項５から８までのいずれか１項記載の方法。
【請求項１０】
当該方法により、被印刷物ウェブ（３）の膨張および収縮が補整され、これにより印刷像の欠陥が低減される、請求項１記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成27年1月8日(2015.1.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
乳化剤凝集によりトナー粒子を製造する連続式撹拌タンク反応器システムであって、
少なくとも１個の原材料供給タンクと、
凝集する樹脂を含有する少なくとも１個の反応器と、
外殻乳化剤を含有する随意選択的な少なくとも１個の反応器と、
凝集した粒子を凍結する少なくとも１個の反応器と、
キレート剤を含有する随意選択的な少なくとも１個の反応器と、
粒子の温度を上昇させる少なくとも１個の反応器と、
粒子を癒合する少なくとも１個の反応器と、を備え、
反応器を直列構成にて逐次組み立て、各反応器を機械式の撹拌機を用いて稼働させ、
前記の直列構成であって、空時収量が１０ｇ粒子／Ｌ／時〜５００ｇ粒子／Ｌ／時である反応器によってトナー粒子が製造される、連続式撹拌タンク反応器システム。
【請求項２】
各前記反応器は、外部から施される冷却と加熱により温度制御する、請求項１に記載の連続式撹拌タンク反応器システム。
【請求項３】
随意選択的に、導管を介して材料を１個の反応器から次の反応器へ流し、
随意選択的に、液体を１個の反応器から次の反応器へ連続的にポンプ給送する、請求項１または２に記載の連続式撹拌タンク反応器システム。
【請求項４】
外殻乳化剤を連続的あるいは定期的に前記プロセス内にポンプ給送し、
塩基あるいは塩基性緩衝剤を前記プロセス内に連続的あるいは定期的にポンプ給送し、
キレート剤を連続的あるいは定期的に前記プロセス内にポンプ給送し、
緩衝剤を前記プロセス内に連続的あるいは定期的にポンプ給送する、請求項１〜３のいずれか一項に記載の連続式撹拌タンク反応器システム。
【請求項５】
随意選択的に、粒子寸法と粒子寸法分布を制御すべく、前記材料を反応器ごとに独立したレートで材料を混合し、随意選択的に、反応器温度を材料流の方向に段々に昇温させる、請求項１〜４のいずれか一項に記載の連続式撹拌タンク反応器システム。
【請求項６】
各反応器への苛性溶液あるいは酸性溶液の供給速度を変えることで、各反応器内でｐＨを制御する、請求項１〜５のいずれか一項に記載の連続式撹拌タンク反応器システム。
【請求項７】
前記撹拌機の毎分回転速度と回転翼は、反応器ごとに狭い幅の粒子寸法分布を提供するよう選択する、請求項１〜６のいずれか一項に記載の連続式撹拌タンク反応器システム。
【請求項８】
トナー粒子を製造する連続式乳化剤凝集方法であって、
直列構成で逐次組み立てた複数の反応器を配設するステップと、
前記トナー粒子用原材料を連続撹拌タンク反応器システム内に導入するステップと、
第１の反応器と第２の反応器を介して凝集プロセスを進めるステップと、
第３の反応器を介して外殻材料付加プロセスを随意選択的に進めるステップと、
第４の反応器を介して凍結プロセスを進めるステップと、
第５の反応器を介してキレート化プロセスを進めるステップと、
第６の反応器を介して昇温プロセスを進めるステップと、
第７の反応器を介して癒合プロセスを進めるステップと、を含み、
前記の直列構成であって、空時収量が１０ｇ粒子／Ｌ／時〜５００ｇ粒子／Ｌ／時である反応器によってトナー粒子が製造される、方法。
【請求項９】
反応器温度は、材料の流動方向に段々と大きくし、
各反応器内の材料の滞留時間は、０．５分〜６０分であり、
ｐＨは、各反応器に対する苛性溶液あるいは酸性溶液の給送速度を変更することで、各反応器において制御する、請求項８に記載の方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】粒子生成用の連続式撹拌タンク反応器システムおよび連続式乳化剤凝集方法
【手続補正書】
【提出日】平成26年12月25日(2014.12.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４３】
図３は、高酸素濃度層の厚さと窒化物半導体層の上面の転位密度との関係、及び高酸素濃度層の酸素濃度と窒化物半導体層の上面の転位密度との関係を示すグラフである。図３の縦軸は窒化物半導体層の上面の転位密度［／ｃｍ２］を表し、横軸は高酸素濃度層の厚さ［ｎｍ］を表す。
【手続補正２】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図３】
2013089616.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成26年11月19日(2014.11.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体発光素子と前記半導体発光素子の側面及び上面を被覆する透光性樹脂と、該透光性樹脂の上部に設けられた第１の反射部材とを有する半導体発光装置において、前記透光性樹脂の上面と前記第１の反射部材の間に前記透光性樹脂より屈折率の低い低屈折率層を設け、前記半導体発光素子が突起電極を有し、前記透光性樹脂の下面に第２の反射部材を備え、該第２の反射部材から前記突起電極が露出していることを特徴とする半導体発光装置。  
【請求項２】
前記透光性樹脂には前記半導体発光素子の発光を波長変換する蛍光粒子が混入されており、前記低屈折率層は透明であることを特徴とする請求項１に記載の半導体発光装置。
【請求項３】
前記第１の反射部材が半透過反射層又は微細な貫通孔を有する反射板であることを特徴とする請求項１又は２に記載の半導体発光装置。
【請求項４】
前記反射部材は、低屈折率層の上面に金属性の反射層が蒸着またはスッパッタリングにより形成されたことを特徴とする請求項１から３のいずれか一項に記載の半導体発光装置。
【請求項５】
回路基板上に半導体発光素子を実装する実装工程と、前記回路基板上に実装された半導体発光素子の側面及び上面を蛍光粒子を混入した透光性樹脂で被覆する透光性樹脂封止工程と、前記透光性樹脂より屈折率の低い低屈折率層と反射層とが一体化した屈折率反射層を前記透光性樹脂上に接着する接着工程とを有することを特徴とする半導体発光装置の製造方法。
&#8195;
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
上記目的を達成するため本発明における半導体発光装置の構成は、下記の通りである。
半導体発光素子と前記半導体発光素子の側面及び上面を被覆する透光性樹脂と、該透光性樹脂の上部に設けられた第１の反射部材とを有する半導体発光装置において、前記透光性樹脂の上面と前記第１の反射部材の間に前記透光性樹脂より屈折率の低い低屈折率層を設け、前記半導体発光素子が突起電極を有し、前記透光性樹脂の下面に第２の反射部材を備え、該第２の反射部材から前記突起電極が露出していることを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
上記構成によれば、透光性樹脂の上面と反射部材の間に透明性樹脂より屈折率の低い低屈折率層を設けている。この低屈折率層により半導体発光素子から出射した光線が透光性樹脂から低屈折率層に入射するとき側面方向に屈折する。このため反射部材と回路基板の間での反射回数が減少し、横方向に出射する側面光が増加して横方向への光取り出し効率が改善する。また、回路基板の省略によって半導体発光装置の薄型化が可能となる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
本発明の製造方法は、回路基板上に半導体発光素子を実装する実装工程と、前記回路基板上に実装した前記半導体発光素子の側面及び上面を蛍光粒子を混入した透光性樹脂で被覆する透光性樹脂封止工程と、前記透光性樹脂より屈折率の低い低屈折率層と反射層とが一体化した屈折率反射層を前記透光性樹脂上に接着する接着工程とを有することを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成26年10月20日(2014.10.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
送受信装置、記録媒体読取装置、記録部を各複数もった前記各種機器を御製する為の御製装置を組み込んだ各種別により送受信することが可能な無線機本体と、該無線機による送受信装置において送受信する為のアンテナを有し・又前記アンテナが前記無線装置本体と、別体又は同体に形成されているとともに、前記アンテナと送受信装置とが有線又は無線手段により相互お互いに接続されている事を特徴とする前記無線装置において、各種の情報をその種類別に瞬時に区分受信し、該受信した各種内容を各種別に自動的に区分記録し管理し、前記管理した各種別情報への新規受信等により補正を各種自動的に行い、該記録した情報を自動的に目的別に処理する事が可能な機能を有する前記無線機本体の機能において、例えば躊躇な一例を挙げれば、任意に各種別に特定した或る固有情報を付した固体の移動情報を瞬時に読取り記録し、該記録した情報の移動経路を常に追尾し即時に記録部に送信し、且つ前記移動体の位置等による情報において補正すべき情報があれば瞬時に補正して且つ、更に記録し、前記補正した情報の追尾を追尾中止の送信あるまで継続追尾し、前記固有の情報を付した移動体において課金の必要があれば、定められた規定により課金し、又前記無線機本体からの位置等照合等の呼出があれば、更に即時に応答し、前記移動体に於ける前記課金における収集が必要であれば・これも予め定めた口座から課金の演算終了時点において引落行為を行い、該引落において指定した口座に課金金額の回収資金不足ある場合には、予め設定された再度の期日において前記課金金額の振替行為を繰り返し・一定の期間内において課金金額の収集が不可能であった場合には契約した規程、例えば車両であれば車体検査時に収集する事が可能な機能を有する情報読取処理システムである。
前記の情報読取は極めて高速において処理されている。又風雨時における高速走行においても極めて読取は行われ、且つＧテストも行われた。
【請求項２】
請求項１に於ける各種の情報読取処理は下記の追尾機能を有する事も可能である。例えば衛生通信、又は、ビーコン等を利用した位置の確定・探索・及び振動波、色波・音波・その他相互共通の送受信により反応を得られるシステムによる情報読取処理における前記位置の探知並に追尾等に請求項１の全て又は一部を併用してもよい。尚前記情報読取処理システムのアンテナ領域は利用別任意に定める。
【請求項３】
前記の情報読取処理システムにおいて併用することが可能な一例として、例えば任意に指定し区分した所定の位置への利用例がある。
この一例として特に躊躇な効果が期待されるのは処理範囲内の移動コントロールである。この一例を挙げれば特定の区域に本発明の情報読取処理システムを用いて能率的且つ機能的に物品の流れをコントロールする事が可能であり、その効果として物流のスピード化、出入コースの明確化、結果として時間の減縮、コスト・及び経費の削減、且つ処理スピードの効率化が得られ、加て、区分毎に課金し利用場合には利用方においては、例えば交通の緩和・又侵域における区分利用の課金の自動的収集、この効果から得られる地域的保全費の増加と税収といった効果的である。
【請求項４】
請求項１に、例えば躊躇な一例として記載した個別に固有情報を有する移動体が車両である場合には、通例として個別は車両前後のナンバープレートにより登録され表示される。この場合、車両前後のナンバープレートの位置は車両別に概ね同一の縦横の間隔により設置される。本発明の情報読取処理システムにおいても該記載において機能する固有の個別情報を前記車両、即ち移動体に車検場により定着され該ナンバープレート位置は略該間隔により前記定着する。
本発の前記情報記録部は、前記前後のナンバープレーとにより保全管理される。依って、何らかの衝撃・故意であれ・不故意であれ前記ナンバープレートの定着位置情報エリアは破壊し、該前後のナンバープレーとにおける情報記録部の正常な状況は破壊され・前記無線機本体に前記アンテナにより前記定位置破壊情報が破壊と瞬時に警報となって送信される。
該事実は故意の破壊、又は善意による事故破壊を問わない。
【手続補正書】
【提出日】平成27年9月30日(2015.9.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第２の車両に接近するように車線を変え又は前記第２の車両に接近するように車線を変えるようにステアリングを動かす第１の車両の車両データを収集し、前記車両データは、センサによって収集されかつ前記第２の車両のオンボードのスピードメータ及びブレーキシステムとともに集積されたプロセッサを介して処理され、前記車両データは、距離、速度、及び減速度の内の少なくとも１つを含み、
前記プロセッサから収集された前記車両データを解析して、前記第１の車両が、前記第２の車両と衝突する前に停止又は減速することができるか否かを、前記プロセッサを介して判定し、
前記第１の車両が高速で前記第２の車両に接近し又は前記第２の車両の近くで車線を変える準備をしていることを、前記解析されたデータが示す場合には、自動応答システムを起動して、前記第２の車両の動作及び追加の警告を制御し、
前記第１の車両が高速で前記第２の車両に接近し又は前記第１の車両が前記第２の車両の近くにいること、及び前記第２の車両のブレーキがどのくらい強く押されたのかを前記解析されたデータが示す場合、前記第１の車両のドライバに警告するために、検知された衝突危険レベルに従って変化する強度で、前記第２の車両から自動ストロボ光警告を発し、前記自動ストロボ光警告は、自動ストロボ信号を備え、前記強度は、検知された衝突危険レベルに従って前記第１の車両のドライバに警告するために、次第に明るくなりかつ早くなる自動ストロボ信号を備え、前記自動ストロボ光警告は、前記第２の車両のドライバとは独立して機能しかつ前記第１の車両のドライバの反応時間、判断、又は注意によって影響されない、
方法。
【請求項２】
前記第２の車両に関連付けられた車両の後部のセンサを介して、停止し又は減速している前記第２の車両に接近する前記第１の車両を検知することを更に含む請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記車両データは、前記第１の車両から前記第２の車両までの距離、前記第１の車両の速度、前記第１の車両の減速度、前記第２の車両の速度、及び前記第２の車両の減速度の少なくとも１つを備える請求項２に記載の方法。
【請求項４】
前記第１の車両が、増加した速度でかつ距離が短くなるように前記第２の車両に接近するとき、前記自動ストロボ光警告の強度を変化することを更に含む請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記自動ストロボ光警告とともに追加の警告を発し、前記追加の警告は、前記第２の車両の警報を発すること、前記第２の車両のブレーキを制御すること、前記第２の車両のステアリングを制御すること、及び、前記第２の車両の速度を調節することの少なくとも１つを備える請求項１に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成27年9月4日(2015.9.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
プラズマを封じ込めるプラズマ室、
前記プラズマ室内に高周波エネルギーを供給する導体、および
高周波エネルギーを供給する前記導体と前記プラズマの間の容量結合を低減させる導電性シールドであり、前記プラズマ室内に配置された導電性シールド
を含むプラズマ源と、
前記プラズマ源からの荷電粒子を前記プラズマ室外の試料に集束させる１つまたは複数の集束レンズと
を備え、前記荷電粒子のエネルギー幅が４０ｅＶ未満に維持される、荷電粒子ビーム・システム。
【請求項２】
前記導電性シールドを所望の電圧に電気的にバイアスするバイアス電極をさらに備える、請求項１に記載の荷電粒子ビーム・システム。
【請求項３】
前記導電性シールドが、前記プラズマ室の内壁を覆う層を含む、請求項１に記載の荷電粒子ビーム・システム。
【請求項４】
前記導電性シールドが、前記プラズマ室内に挿入された薄い導体箔を含む、請求項１に記載の荷電粒子ビーム・システム。
【請求項５】
前記プラズマ室の少なくとも一部分を取り囲んで熱接触している冷却流体をさらに含む、請求項１に記載の荷電粒子ビーム・システム。
【請求項６】
前記冷却流体が空気または液体を含む、請求項５に記載の荷電粒子ビーム・システム。
【請求項７】
前記導電性シールドが、プラズマ・シースの外側境界と実質的に同じ電圧に維持される、請求項１に記載の荷電粒子ビーム・システム。
【請求項８】
前記導電性シールドが電気的に絶縁されており、動作時、前記導電性シールドがプラズマ・シースの外側境界と同じ電位にある、請求項１に記載の荷電粒子ビーム・システム。
【請求項９】
前記導電性シールドが、５００Ｖから１００ｋＶの間の大きさを有するある電圧に維持される、請求項１に記載の荷電粒子ビーム・システム。
【請求項１０】
前記導電性シールドが、５０００Ｖから５００００Ｖの間の大きさを有するある電圧に維持される、請求項１に記載の荷電粒子ビーム・システム。
【請求項１１】
前記プラズマが、５００ｅＶから１００ｋｅＶの間の前記荷電粒子の入射エネルギーを生み出すある電位にバイアスされる、請求項１に記載の荷電粒子ビーム・システム。
【請求項１２】
動作時、前記プラズマ室内の前記プラズマおよび前記導電性シールドがグランド電位とは異なる電位に維持される、請求項１に記載の荷電粒子ビーム・システム。
【請求項１３】
前記導電性シールドが分割ファラデー・シールドである、請求項１に記載の荷電粒子ビーム・システム。
【請求項１４】
前記プラズマ室内で円筒形の形状を形成するために、前記分割ファラデー・シールドが巻かれている、請求項１３に記載の荷電粒子ビーム・システム。
【請求項１５】
前記プラズマ室は、前記プラズマ室内での前記導電性シールドのスパッタリングを防ぐのに十分な低い温度に維持されるプラズマの温度を生じさせることができる、請求項１に記載の荷電粒子ビーム・システム。
【請求項１６】
前記導電性シールドが、前記プラズマから前記プラズマ室の内壁に熱を分配する、請求項１に記載の荷電粒子ビーム・システム。
【請求項１７】
前記プラズマ室内に高周波エネルギーを供給する前記導体が、冷却流体を通す内部通路を含む、請求項１に記載の荷電粒子ビーム・システム。
【請求項１８】
プラズマ室を含むプラズマ源を動作させる方法であって、
前記プラズマ室内のプラズマを維持するために、少なくとも１つの導電性コイルから前記プラズマ室内に高周波エネルギーを供給するステップと、
前記高周波エネルギーの供給源と前記プラズマの間の容量結合を低減させるために、導電性シールドを前記プラズマ室内に設けるステップと、
前記プラズマおよび前記導電性シールドをグランド電位とは異なる電位に維持するステップと、
前記プラズマ室から荷電粒子を引き出すステップと、
前記荷電粒子を集束させてビームとし、前記ビームを、前記プラズマ室内外の加工物または前記加工物の近くに導くステップと
を含み、前記荷電粒子のエネルギー幅が４０ｅＶ未満に維持される、方法。
【請求項１９】
前記プラズマ室を冷却するために冷却流体を供給するステップをさらに含む、請求項１８に記載の方法。
【請求項２０】
導電性シールドを設ける前記ステップが、前記プラズマ室の内壁を導電性シールドで覆うステップを含む、請求項１８に記載の方法。
【請求項２１】
導電性シールドを設ける前記ステップが、前記プラズマ室の内部に導電材料を挿入するステップを含む、請求項１８に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成27年7月28日(2015.7.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電源部と、
前記電源部の信号が入力されるＬＥＤアレイと、
前記ＬＥＤアレイと連結されるＩＣと、
前記ＩＣで認識される出力電流を徐々に増加させる突入電流制限部と、を含み、
前記突入電流制限部は、周波数調節部及び電流調節部のうち、少なくとも１つを含み、
前記周波数調節部は、第１ＦＥＴ、第１キャパシタ、及び第１抵抗を含み、前記第１抵抗は一端が接地と連結され、他端が前記第１ＦＥＴのゲートと連結され、
前記電流調節部は、第２ＦＥＴ、第２キャパシタ、及び第２抵抗を含み、前記第２キャパシタは一端が接地と連結され、他端が前記第２ＦＥＴのゲートと連結されることを特徴とする、ＬＥＤ駆動回路。
【請求項２】
前記第１ＦＥＴは、Ｎ型ＦＥＴであることを特徴とする、請求項１に記載のＬＥＤ駆動回路。
【請求項３】
前記Ｎ型ＦＥＴのドレインに連結された抵抗を含むことを特徴とする、請求項２に記載のＬＥＤ駆動回路。
【請求項４】
前記第２ＦＥＴはＮ型ＦＥＴであることを特徴とする、請求項１に記載のＬＥＤ駆動回路。
【請求項５】
前記Ｎ型ＦＥＴのドレインに連結された抵抗を含むことを特徴とする、請求項４に記載のＬＥＤ駆動回路。
【請求項６】
前記周波数調節部及び電流調節部は同時に備えられ、前記周波数調節部及び電流調節部は並列に連結されることを特徴とする、請求項１〜５のいずれか一項に記載のＬＥＤ駆動回路。
【請求項７】
前記周波数調節部及び電流調節部は、電圧分配抵抗により分圧された電圧が入力されることを特徴とする、請求項６に記載のＬＥＤ駆動回路。
【請求項８】
前記電圧分配抵抗により分圧された電圧は直列に連結された第４抵抗を通じて電流調節部に入力され、直列に連結された第１キャパシタを通じて周波数調節部に入力されることを特徴とする、請求項７に記載のＬＥＤ駆動回路。
【請求項９】
電源部と、
前記電源部の信号が入力されるＬＥＤアレイと、
前記ＬＥＤアレイと連結されるＩＣと、
前記ＩＣで認識される出力電流を徐々に増加させる突入電流制限部と、を含み、
前記突入電流制限部は、周波数調節部及び電流調節部を含み、前記周波数調節部はＰ型ＦＥＴを含み、前記電流調節部はＮ型ＦＥＴを含み、前記Ｐ型ＦＥＴ及びＮ型ＦＥＴのゲート端には同一な電圧が入力されることを特徴とする、ＬＥＤ駆動回路。
【請求項１０】
前記電流調節部は、ＦＥＴ、キャパシタ、及び抵抗を含み、前記キャパシタは一端が接地と連結され、他端が前記ＦＥＴのゲートと連結されることを特徴とする、請求項９に記載のＬＥＤ駆動回路。
【手続補正書】
【提出日】平成27年10月7日(2015.10.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
磁気センサであって、
第１磁性層構造、第２磁性層構造、および前記第１磁性層構造と前記第２磁性層構造との間に挟まれた非磁性結合層を含む磁化固定層構造、
磁化自由層構造、
前記磁化自由層構造と前記磁化固定層構造との間に挟まれた非磁性障壁層、
を備え、
前記磁化固定層構造の前記第２磁性層構造は、第１、第２、第３および第４磁性下位層を備え、
前記第１磁性下位層がＣｏを含み、かつ前記非磁性結合層に隣接して位置しており、
前記第２磁性下位層がＣｏＦｅＢＴａを含み、かつ前記第１磁性下位層と接触しており、
前記第３磁性下位層がＣｏＦｅＢを含み、かつ前記第２磁性下位層と接触しており、
前記第４磁性下位層が前記第３磁性下位層と接触しており、かつＣｏＦｅを含む、
磁気センサ。
【請求項２】
前記磁化固定層構造の前記第２磁性層構造が前記非磁性障壁層に隣接して位置する、
請求項１記載の磁気センサ。
【請求項３】
前記磁化自由層構造が第１、第２、第３および第４自由下位層を含み、
前記第１自由下位層が前記非磁性障壁層上に形成されるとともにＣｏＦｅを含み、
前記第２自由下位層が前記第１自由下位層上に形成されるとともにＣｏＦｅＢを含み、
前記第３自由下位層が前記第２自由下位層上に形成されるとともにＣｏＨｆを含み、
前記第４自由下位層が前記第３自由下位層上に形成されるとともにＮｉＦｅｘを含み、ｘ＜１０である、
請求項１記載の磁気センサ。
【請求項４】
前記第２磁性下位層が４〜６オングストロームの厚さを有する、
請求項１記載の磁気センサ。
【請求項５】
前記第１磁性下位層が約５オングストロームの厚さを有し、前記第２磁性下位層が約５オングストロームの厚さを有し、前記第３磁性下位層が約５オングストロームの厚さを有し、前記第４磁性下位層が約４．５オングストロームの厚さを有する、
請求項１記載の磁気センサ。
【請求項６】
前記ＣｏＦｅＢＴａの層が、ある濃度の（Ｃｏ４０Ｆｅ４０Ｂ２０）１００−ＸＴａＸを有し、Ｘが４〜１０の原子パーセントである、請求項１記載の磁気センサ。
【請求項７】
前記ＣｏＦｅＢＴａの層が、ある濃度の（Ｃｏ６０Ｆｅ２０Ｂ２０）１００−ＸＴａＸを有し、Ｘが４〜１０原子パーセントである、請求項１記載の磁気センサ。
【請求項８】
前記ＣｏＦｅＢＴａの層が、ある濃度のＣｏＦｅＸＢＹＴａＺを有し、Ｘが６０原子パーセント以下であり、Ｙが３０原子パーセント以下であり、Ｚが１５原子パーセント以下である、請求項１記載の磁気センサ。
【請求項９】
前記磁化自由層構造がＣｏＦｅＢＴａの層を含む、請求項１記載の磁気センサ。
【請求項１０】
前記磁化自由層構造が第１、第２、第３および第４磁化自由下位層を含み、
前記第１磁化自由下位層が前記非磁性障壁層に隣接して位置しており、
前記第２磁化自由下位層が前記第１磁化自由下位層と接触しており、
前記第３磁化自由下位層が前記第２磁化自由下位層と接触しており、
前記第４磁化自由下位層が前記第３磁化自由下位層と接触しており、
前記第３磁化自由下位層がＣｏＦｅＢＴａを含む、
請求項１記載の磁気センサ。
【請求項１１】
前記磁化自由層構造が第１、第２、第３および第４磁化自由下位層を含み、
前記第１磁化自由下位層が前記非磁性障壁層に隣接して位置しており、
前記第２磁化自由下位層が前記第１磁化自由下位層と接触しており、
前記第３磁化自由下位層が前記第２磁化自由下位層と接触しており、
前記第４磁化自由下位層が前記第３磁化自由下位層と接触しており、
前記第１磁化自由下位層がＣｏＦｅを含み、
前記第２磁化自由下位層がＣｏＦｅＢを含み、
前記第３磁化自由下位層がＣｏＦｅＢＴａを含み、
前記第４磁化自由下位層がＮｉＦｅを含む、
請求項１記載の磁気センサ。
【請求項１２】
前記磁化固定層構造における前記ＣｏＦｅＢＴａの層が、ある濃度の（Ｃｏ４０Ｆｅ４０Ｂ２０）１００−ＸＴａＸを有し、４＜Ｘ＜１０原子パーセントであり、
前記磁化自由層構造における前記ＣｏＦｅＢＴａの層が、ある濃度の（Ｃｏ７６Ｆｅ４Ｂ２０）（１００−Ｘ）Ｔａ（Ｘ）を有し、４＜Ｘ＜１０原子パーセントである、
請求項９記載の磁気センサ。
【請求項１３】
前記磁化固定層構造における前記ＣｏＦｅＢＴａの層が、ある濃度の（Ｃｏ６０Ｆｅ２０Ｂ２０）（１００−Ｘ）Ｔａ（Ｘ）、４＜Ｘ＜１０原子パーセントを有し、
前記磁化自由層構造における前記ＣｏＦｅＢＴａの層が、ある濃度のＣｏ７６Ｆｅ４Ｂ２０）（１００−Ｘ）Ｔａ（Ｘ）を有し、４＜Ｘ＜１０原子パーセントである、
請求項９記載の磁気センサ。
【請求項１４】
前記磁化自由層構造における前記ＣｏＦｅＢＴａの層が、ある濃度のＣｏＦｅＸＢＹＴａＺを有し、Ｘが１０原子パーセント以下であり、Ｙが２５原子パーセント以下であり、Ｚが１０原子パーセント以下である、請求項９記載の磁気センサ。
【請求項１５】
磁気データ記録システムであって、
磁気メディア、
アクチュエータ、
前記磁気メディアの表面に隣接した移動のために前記アクチュエータと接続されたスライダ、
前記スライダ上に形成された磁気読み出しセンサ、
を備え、
前記磁気読み出しセンサは、
第１磁性層構造、第２磁性層構造、および前記第１磁性層構造と前記第２磁性層構造との間に挟まれた非磁性結合層を含む磁化固定層構造、
磁化自由層構造、
前記磁化自由層構造と前記磁化固定層構造との間に挟まれた非磁性障壁層、
をさらに備え、
前記磁化固定層構造の前記第２磁性層構造は、第１、第２、第３および第４磁性下位層を備え、
前記第１磁性下位層がＣｏを含み、かつ前記非磁性結合層に隣接して位置しており、
前記第２磁性下位層がＣｏＦｅＢＴａを含み、かつ前記第１磁性下位層と接触しており、
前記第３磁性下位層がＣｏＦｅＢを含み、かつ前記第２磁性下位層と接触しており、
前記第４磁性下位層が前記第３磁性下位層と接触しており、かつＣｏＦｅを含む、
磁気データ記録システム。
【請求項１６】
前記磁化自由層構造がＣｏＦｅＢＴａの層を含む、請求項１５記載の磁気データ記録システム。
【手続補正書】
【提出日】平成27年9月30日(2015.9.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２】
前記原液供給板（６）の中央に貫通する原液通路（８）と、
原液通路（８）に連通して原液供給板（６）の中央内部を下端まで貫通する給液路（９）を有し、
前後面の両端近傍の下端から所定の長さに係合溝（１７，１７）を形成した
ことを特徴とする請求項１に記載のフィルタープレスにおける原液の供給装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
特許文献２の技術は、ボルトやピンを用いずに原液供給板をろ布に止着しているが、原液供給板の給液孔上部を取付バンドの圧着力のみでろ布間に挟着しているため、圧搾・ケーキ剥離を繰り返すと原液供給板が下方へズレ、そのズレ量が大きくなると下方へ脱落する可能性がある。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
原液供給板の中央に貫通する原液通路と、原液通路に連通して原液供給板の中央内部を下端まで貫通する給液路を有し、前後面の両端近傍の下端から所定の長さに係合溝を形成しているので、給液路の排出口に掛止部材が重設せず、ろ過室への原液供給の障害とならない。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
【図１】本発明に係るフィルタープレスに使用する原液供給板を止着した一対のろ布の斜視図である。
【図２】同じく、ろ布間に原液供給板を挟持してろ板に吊設するフィルタープレスの要部側面図である。
【図３】同じく、本発明に係る原液供給板の平面図である。
【図４】同じく、原液供給板の側面図である。
【図５】同じく、ろ布の平面図である。
【図６】同じく、ろ布の縦断側面図である。
【図７】同じく、原液供給板をろ布に取り付けた状態の要部拡大図である。
【図８】同じく、図７のＡ−Ａ断面図である。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
図３及び図４は原液供給板の平面図と側面図である。原液供給板６の中央には原液通路８が前後の面にわたって貫通しており、原液通路８に連通して給液路９を設けている。給液路９は原液供給板６の中央内部を縦断して下端まで貫通している。原液供給板６の前後面の両端近傍の下端には係合溝１７，１７を設けている。係合溝１７の溝高さおよび溝深さは、掛止部材１９に応じて適宜設定する。中央内部の給液路９と両端近傍の係合溝１７，１７は幅方向で重複していない。
原液供給板６の底面は、ろ布１，１間に着脱し易いようテーパ状に構成している。
【手続補正書】
【提出日】平成27年2月20日(2015.2.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
固体を粉砕した粉体を気流搬送する固気二相流が通過することにより、粒径の小さい微粉を分級して外部へ流出させる回転式分級機をハウジング内に備えている竪型ローラミルにおいて、
前記回転式分級機は、前記ハウジング内で回転するコーン形状部材の周壁面に周方向へ等ピッチに配置した多数の板状回転羽根を備え、
前記板状回転羽根は、羽根外周側端部を接点とする回転軌跡の外側接線と直交する半径方向の線に対して半径方向内側を回転方向へ傾斜させた設置とされ、かつ、前記板状回転羽根の前記外側接線からの設置角度は、羽根上端部側の設置角度（α１）が羽根下端部側の設置角度（α２）より大きな（α１＞α２）値に設定されている竪型ローラミル。
【請求項２】
前記板状回転羽根は、前記羽根上端部側の設置角度（α１）と前記羽根下端部側の設置角度（α２）とが異なるように平板を折曲した羽根形状を有している請求項１に記載の竪型ローラミル。
【請求項３】
前記板状回転羽根は、前記羽根上端部側の設置角度（α１）と前記羽根下端部側の設置角度（α２）とが異なるように成形した３次元形状の羽根形状を有している請求項１に記載の竪型ローラミル。
【請求項４】
前記羽根上端部側の設置角度（α１）が４０〜６０度の範囲に設定され、かつ、前記羽根下端部側の設置角度（α２）が２０〜４０度の範囲に設定されている請求項１から３のいずれか１項に記載の竪型ローラミル。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
本発明は、上記の課題を解決するため、下記の手段を採用した。
本発明に係る竪型ローラミルは、固体を粉砕した粉体を気流搬送する固気二相流が通過することにより、粒径の小さい微粉を分級して外部へ流出させる回転式分級機をハウジング内に備えている竪型ローラミルにおいて、前記回転式分級機は、前記ハウジング内で回転するコーン形状部材の周壁面に周方向へ等ピッチに配置した多数の板状回転羽根を備え、前記板状回転羽根は、羽根外周側端部を接点とする回転軌跡の外側接線と直交する半径方向の線に対して半径方向内側を回転方向へ傾斜させた設置とされ、かつ、前記板状回転羽根の前記外側接線からの設置角度は、羽根上端部側の設置角度（α１）が羽根下端部側の設置角度（α２）より大きな（α１＞α２）値に設定されていることを特徴とするものである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
このような本発明の竪型ローラミルによれば、回転式分級機は、ハウジング内で回転するコーン形状部材の周壁面に周方向へ等ピッチに配置した多数の板状回転羽根を備え、この板状回転羽根は、羽根外周側端部を接点とする回転軌跡の外側接線と直交する半径方向の線に対して半径方向内側を回転方向へ傾斜させた設置とされ、かつ、板状回転羽根の前記外側接線からの設置角度は、羽根上端部側の設置角度（α１）が羽根下端部側の設置角度（α２）より大きな（α１＞α２）値に設定されているので、設置角度が羽根上端部側より小さい羽根下端部側では、板状回転羽根の気流に対する迎え角が大きくなる。このため、羽下端部側から流入しやすい粗粒子は、板状回転羽根に衝突しやすくなるので、気流の流入速度分布形成により粗粒子が流入しやすかった板状回転羽根の下端部側においては、粗粒子が下方へ弾かれて流入しにくくなる。
【手続補正書】
【提出日】平成27年10月30日(2015.10.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
クーラントを噴射するノズルと、該ノズルの回転角度を調整するモータとを備えたクーラント噴射装置において、
ハウジングと、該ハウジングに回転可能かつ液密的に挿入され、内部にクーラント通路が形成された中空シャフトと、前記中空シャフトの側壁に設けられた貫通穴と、前記ハウジングに設けられて前記貫通穴を介して前記クーラント通路に連通する入口通路とを備え、
前記中空シャフトの一端部と前記モータの出力軸とは、同軸上に配置されて連結され、
前記ノズルは、前記中空シャフトの他端部に取付けられて先端部が前記中空シャフトに対して略直角方向に向けられ、前記中空シャフトに対して回転方向に任意位置で固定する固定手段と、前記中空シャフトのクーラント通路に連通する通路と、前記ノズルの先端に開口するノズル通路とを有し、前記中空シャフトのクーラント通路に連通する通路と前記ノズル通路との接続部は、滑らかに湾曲した流路であることを特徴とするクーラント噴射装置。
【請求項２】
前記中空シャフトには、該中空シャフトの原点位置を検出する原点位置センサが設けられていることを特徴とする請求項１に記載のクーラント噴射装置。
【請求項３】
前記ノズルは、前記中空シャフトの一端部が挿入される円筒部を有し、前記固定手段は、前記中空シャフトに形成された外周溝と、前記円筒部の側壁にネジ込まれて前記外周溝に係合するセットスクリューとを含むことを特徴とする請求項１又は２に記載のクーラント噴射装置。
【請求項４】
前記モータ及び前記ハウジングを収容するケースを備え、前記ケース内にエアを供給して前記ケース内を正圧に維持するエア供給手段が設けられていることを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載のクーラント噴射装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
上記の課題を解決するために、請求項１に係る発明は、クーラントを噴射するノズルと、該ノズルの回転角度を調整するモータとを備えたクーラント噴射装置において、
ハウジングと、該ハウジングに回転可能かつ液密的に挿入され、内部にクーラント通路が形成された中空シャフトと、前記中空シャフトの側壁に設けられた貫通穴と、前記ハウジングに設けられて前記貫通穴を介して前記クーラント通路に連通する入口通路とを備え、
前記中空シャフトの一端部と前記モータの出力軸とは、同軸上に配置されて連結され、
前記ノズルは、前記中空シャフトの他端部に取付けられて先端部が前記中空シャフトに対して略直角方向に向けられ、前記中空シャフトに対して回転方向に任意位置で固定する固定手段と、前記中空シャフトのクーラント通路に連通する通路と、前記ノズルの先端に開口するノズル通路とを有し、前記中空シャフトのクーラント通路に連通する通路と前記ノズル通路との接続部は、滑らかに湾曲した流路であることを特徴とする。
請求項２の発明に係るクーラント噴射装置は、上記請求項１の構成において、前記中空シャフトには、該中空シャフトの原点位置を検出する原点位置センサが設けられていることを特徴とする。
請求項３の発明に係るクーラント噴射装置は、上記請求項１又は２の構成において、前記ノズルは、前記中空シャフトの一端部が挿入される円筒部を有し、前記固定手段は、前記中空シャフトに形成された外周溝と、前記円筒部の側壁にネジ込まれて前記外周溝に係合するセットスクリューとを含むことを特徴とする。
請求項４の発明に係るクーラント噴射装置は、上記請求項１乃至３のいずれかの構成において、前記モータ及び前記ハウジングを収容するケースを備え、前記ケース内にエアを供給して前記ケース内を正圧に維持するエア供給手段が設けられていることを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
取付部３２のボア３２Ａの底部３４は、略半球状に形成されている。ノズル部３３は、一端部が取付部３２の略半球状の底部３４に開口し、他端部がノズル部３３の先端部に開口する小径のノズル通路３５が形成されている。底部３４を略半球状に形成することにより、クーラント通路１７に連通する通路である取付部３２のボア３２Ａとノズル部３３のノズル通路３５とが滑らかに湾曲する流路によって接続されている。なお、取付部３２の底部３４の形状は、上述の半球状のほか、取付部３２のボア３２Ａとノズル通路３５をと滑らかに湾曲した流路によって接続するものであればよい。
【手続補正書】
【提出日】平成27年7月31日(2015.7.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
板状に形成されて前面側に所定の遊技領域が形成されるベース部材、前記遊技領域に設けられた遊技球が通過可能な始動入賞口を有する始動入賞装置および、前記遊技領域に設けられた開閉型入賞装置を有した遊技盤と、
前記始動入賞口への遊技球の入球に基づいて特別遊技を行うか否かの判定を行う当否判定手段および、前記特別遊技として前記開閉型入賞装置を入賞容易にした遊技を実行可能にする開閉入賞装置制御手段を有した遊技制御手段と、を備えた弾球遊技機であって、
前記開閉型入賞装置は、
遊技球が通過可能な第１の入賞口と、
前記第１の入賞口を通過した遊技球を流下させる第１の球排出通路と、
前記第１の入賞口を開閉可能な第１の入賞口開閉部材と、
前記第１の入賞口の近傍に設けられて遊技球が通過可能な第２の入賞口と、
前記第２の入賞口を通過した遊技球を流下させる第２の球排出通路と、
前記第２の入賞口を開閉可能な第２の入賞口開閉部材とを有しており、
前記第１の球排出通路および前記第２の球排出通路と別体に繋がって設けられ、前記第１の開閉入賞口および前記第１の球排出通路を通過した遊技球を流下させる第１の裏球通路および、前記第２の開閉入賞口および前記第２の球排出通路を通過した遊技球を流下させる第２の裏球通路が形成された球通路部材をさらに備え、
前記第１の裏球通路は、前記第１の裏球通路を流下する遊技球が所定の通過口もしくは排出口のいずれか一方を選択的に通過するように形成され、前記第１の裏球通路を流下する遊技球が前記通過口を通過すると、前記当否判定手段で行われる前記判定の当選確率が所定の当選確率よりも高確率である高確率抽選状態となるように構成され、
前記球通路部材に、前記通過口を通過する遊技球を検出する通過センサおよび、前記通過口を開閉可能な通過口開閉部材が設けられ、
前記通過口開閉部材は、前記通過口を閉じて前記第１の裏球通路を流下する遊技球が前記排出口を通過する閉鎖位置と、前記通過口を開いて前記第１の裏球通路を流下する遊技球が前記通過口を通過する開放位置とに変位可能に構成され、
前記球通路部材の前方に、前記第１の裏球通路における前記通過口を含む領域と、前記通過センサと、前記通過口開閉部材とを前方から視認可能な視認可能部が設けられ、
前記開閉入賞装置制御手段は、前記第１の入賞口開閉部材により前記第１の入賞口を開放して前記開閉型入賞装置を入賞容易にした前記特別遊技においては、予め定められた変位態様に基づき、前記閉鎖位置と前記開放位置とに前記通過口開閉部材を変位駆動させることが可能であり、当該特別遊技の実行終了時において前記第１の入賞口開閉部材により前記第１の入賞口を閉鎖した後、当該閉鎖した後において前記第１の球排出通路および前記第１の裏球通路に残留する遊技球が無い場合に、当該予め定められた変位態様に基づく前記通過口開閉部材の変位駆動を停止させるように構成されていることを特徴とする弾球遊技機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】弾球遊技機
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
このような目的達成のため、本発明に係る弾球遊技機は、板状に形成されて前面側に所定の遊技領域が形成されるベース部材、前記遊技領域に設けられた遊技球が通過可能な始動入賞口を有する始動入賞装置および、前記遊技領域に設けられた開閉型入賞装置を有した遊技盤と、前記始動入賞口への遊技球の入球に基づいて特別遊技を行うか否かの判定を行う当否判定手段および、前記特別遊技として前記開閉型入賞装置を入賞容易にした遊技を実行可能にする開閉入賞装置制御手段を有した遊技制御手段と、を備えた弾球遊技機であって、前記開閉型入賞装置は、遊技球が通過可能な第１の入賞口と、前記第１の入賞口を通過した遊技球を流下させる第１の球排出通路と、前記第１の入賞口を開閉可能な第１の入賞口開閉部材と、前記第１の入賞口の近傍に設けられて遊技球が通過可能な第２の入賞口と、前記第２の入賞口を通過した遊技球を流下させる第２の球排出通路と、前記第２の入賞口を開閉可能な第２の入賞口開閉部材とを有しており、前記第１の球排出通路および前記第２の球排出通路と別体に繋がって設けられ、前記第１の開閉入賞口および前記第１の球排出通路を通過した遊技球を流下させる第１の裏球通路および、前記第２の開閉入賞口および前記第２の球排出通路を通過した遊技球を流下させる第２の裏球通路が形成された球通路部材をさらに備え、前記第１の裏球通路は、前記第１の裏球通路を流下する遊技球が所定の通過口もしくは排出口のいずれか一方を選択的に通過するように形成され、前記第１の裏球通路を流下する遊技球が前記通過口を通過すると、前記当否判定手段で行われる前記判定の当選確率が所定の当選確率よりも高確率である高確率抽選状態となるように構成され、前記球通路部材に、前記通過口を通過する遊技球を検出する通過センサおよび、前記通過口を開閉可能な通過口開閉部材が設けられ、前記通過口開閉部材は、前記通過口を閉じて前記第１の裏球通路を流下する遊技球が前記排出口を通過する閉鎖位置と、前記通過口を開いて前記第１の裏球通路を流下する遊技球が前記通過口を通過する開放位置とに変位可能に構成され、前記球通路部材の前方に、前記第１の裏球通路における前記通過口を含む領域と、前記通過センサと、前記通過口開閉部材とを前方から視認可能な視認可能部が設けられ、前記開閉入賞装置制御手段は、前記第１の入賞口開閉部材により前記第１の入賞口を開放して前記開閉型入賞装置を入賞容易にした前記特別遊技においては、予め定められた変位態様に基づき、前記閉鎖位置と前記開放位置とに前記通過口開閉部材を変位駆動させることが可能であり、当該特別遊技の実行終了時において前記第１の入賞口開閉部材により前記第１の入賞口を閉鎖した後、当該閉鎖した後において前記第１の球排出通路および前記第１の裏球通路に残留する遊技球が無い場合に、当該予め定められた変位態様に基づく前記通過口開閉部材の変位駆動を停止させるように構成されている。