Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成27年3月13日(2015.3.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
中空の管体に帯状の用紙を巻回してなる印刷媒体から、当該帯状の用紙を繰り出して、サーマルヘッドとプラテンローラとからなる印字部により印刷を行った後、切断手段により切断し、枚葉状の用紙を発行する印刷装置において、
前記印刷媒体は、前記管体に備えられた、非接触でデータを読み書き可能な非接触無線タグを有し、
前記非接触無線タグは、前記巻回された印刷媒体の全長を走行距離として予め記憶し、
前記印刷装置は、前記非接触無線タグとデータ通信を行う非接触無線タグ通信部と、
前記枚葉状の用紙の発行に伴って算出された印刷媒体の走行距離と、前記非接触無線タグに予め記憶された走行距離とに基づいて算出された前記印刷媒体の残量である走行距離を、前記非接触無線タグ通信部を介して前記非接触無線タグに書き込む処理を行う制御部と、
を有することを特徴とする印刷装置。
【請求項２】
前記制御部は、前記印刷媒体から繰り出された帯状の用紙を切断手段により切断して枚葉状の用紙にする際に、前記非接触無線タグから読み出した発行情報に基づいて、次に発行する枚葉状の用紙の発行可否を判定し、判定結果が発行不可である場合、該印刷媒体の交換を要する旨を報知する報知手段を介して行うことを特徴とする請求項１に記載の印刷装置。
【請求項３】
前記制御部は、前記帯状の用紙の繰り出しから前記切断手段により前記帯状の用紙が切断されるまでの間に駆動した前記プラテンローラの回転量に基づき前記印刷媒体の走行距離を算出する
ことを特徴とする請求項１または請求項２に記載の印刷装置。
【請求項４】
前記制御部は、当該印刷装置における印刷に関わるエラーが生じた場合、前記エラーが生じた時点までに駆動した前記プラテンローラの回転量に基づき前記印刷媒体の走行距離を算出する
ことを特徴とする請求項１から請求項３のいずれかに記載の印刷装置。
【請求項５】
前記制御部は、前記非接触無線タグの固有の情報と、当該印刷装置におけるエラー情報や発行履歴等の発行情報とを関連付けて記憶させる
ことを特徴とする請求項１から請求項４のいずれかに記載の印刷装置。
【請求項６】
前記制御部は、前記印字部で印刷した印刷イメージのラベル長さと、前記帯状の用紙の繰り出しから前記切断手段により前記帯状の用紙が切断されるまでの間に駆動した前記プラテンローラの回転量に基づき算出した前記印刷媒体の走行距離とを比較し、前記印刷媒体の走行距離が正しいか否かを判定する
ことを特徴とする請求項１から請求項５のいずれかに記載の印刷装置。
【請求項７】
印刷装置で用いられる、中空の管体に帯状の用紙を巻回してなる印刷媒体であって、
前記中空の管体に設けられた、非接触でデータを読み書き可能な非接触無線タグを有し、
前記非接触無線タグは、前記巻回された印刷媒体の全長を走行距離として予め記憶し、
前記印刷装置により、前記巻回された帯状の用紙を枚葉状の用紙にして発行するのに伴って算出された印刷媒体の走行距離と、前記非接触無線タグに予め記憶された走行距離とに基づいて算出された前記印刷媒体の残量である走行距離を、印刷装置の非接触無線タグ通信部により書き込み又は読み出し可能に構成されていることを特徴とする印刷媒体。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明の印刷装置は、中空の管体に帯状の用紙を巻回してなる印刷媒体から、当該帯状の用紙を繰り出して、サーマルヘッドとプラテンローラとからなる印字部により印刷を行った後、切断手段により切断し、枚葉状の用紙を発行する印刷装置において、前記印刷媒体は、前記管体に備えられた、非接触でデータを読み書き可能な非接触無線タグを有し、前記非接触無線タグは、前記巻回された印刷媒体の全長を走行距離として予め記憶し、前記印刷装置は、前記非接触無線タグとデータ通信を行う非接触無線タグ通信部と、前記枚葉状の用紙の発行に伴って算出された印刷媒体の走行距離と、前記非接触無線タグに予め記憶された走行距離とに基づいて算出された前記印刷媒体の残量である走行距離を、前記非接触無線タグ通信部を介して前記非接触無線タグに書き込む処理を行う制御部と、を有することを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本発明の印刷媒体は、印刷装置で用いられる、中空の管体に帯状の用紙を巻回してなる印刷媒体であって、前記中空の管体に設けられた、非接触でデータを読み書き可能な非接触無線タグを有し、前記非接触無線タグは、前記巻回された印刷媒体の全長を走行距離として予め記憶し、前記印刷装置により、前記巻回された帯状の用紙を枚葉状の用紙にして発行するのに伴って算出された印刷媒体の走行距離と、前記非接触無線タグに予め記憶された走行距離とに基づいて算出された前記印刷媒体の残量である走行距離を、印刷装置の非接触無線タグ通信部により書き込み又は読み出し可能に構成されていることを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成27年5月27日(2015.5.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１３０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１３０】
つぎに、図８〜１０を参照しつつ、光スイッチ４０の動作について説明する。本実施の形態４において、光入出力ポート１を用いた光スイッチ動作（波長選択光スイッチ動作を含む）と、光入出力ポート２を用いた光スイッチ動作（波長選択光スイッチ動作を含む）とは、上述した実施の形態１と同様である。このため、以下では、光入出力ポート３を用いた光スイッチ動作について説明する。なお、これら３つの光スイッチ動作は、互いに独立して行われる。すなわち、これら３つの光スイッチ動作は、光入出力ポート１〜３間において順不同に行われる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１６１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１６１】
図１３、１４中の記号αおよびβは、それぞれ光入出力ポート１から入出力される光信号のビームスポットと、光入出力ポート２から入出力される光信号のビームスポットである。すなわち、記号αで示されるビームスポットは、アナモルフィックプリズム７ａの第１面における入出力光路の入射角度が小さい方の光入出力ポート１から入出力される光信号のビームスポットであり、記号βで示されるビームスポットは、アナモルフィックプリズム７ａの第１面における入出力光路の入射角度が大きい方の光入出力ポート２から入出力される光信号のビームスポットである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１７６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１７６】
図１５、１６に示すように、本実施の形態６にかかる光スイッチ６０は、光入出力ポート１、２と集光レンズ６との間に配置されるアナモルフィック光学系７Ａが対向する２つの光学面を有し該２つの光学面の間隔が狭くなる方向が入出力光路に対して互い違いになるように配置された４つのアナモルフィックプリズム７ａ、７ｂ、７ｃ、７ｄからなる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１７７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１７７】
図１５に示されるように、アナモルフィックプリズム７ａの光学面Ｓ１、Ｓ２は、間隔が狭くなる方向が入出力光路に対して紙面上方である。また、アナモルフィックプリズム７ｂの光学面Ｓ３、Ｓ４は、間隔が狭くなる方向が入出力光路に対して紙面下方である。また、アナモルフィックプリズム７ｃの光学面Ｓ５、Ｓ６は、間隔が狭くなる方向が入出力光路に対して紙面上方である。また、アナモルフィックプリズム７ｄの光学面Ｓ７、Ｓ８は、間隔が狭くなる方向が入出力光路に対して紙面下方である。このように、本実施の形態６におけるアナモルフィック光学系７Ａは、対向する２つの光学面の間隔が狭くなる方向が入出力光路に対して互い違いになるように配置された４つのアナモルフィックプリズム７ａ、７ｂ、７ｃ、７ｄにより構成されている。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１８０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１８０】
さらに、アナモルフィック光学系７Ａを構成する複数のアナモルフィックプリズムの配置は、光学面の間隔が狭くなる方向が互い違いになるような配置であることが好ましい。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１８８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１８８】
以下に示す（表２：ケースＡ）は、光学面の間隔が狭くなる方向が同一である配置である４つのアナモルフィックプリズムからなるアナモルフィック光学系であり、かつ、光入出力ポートがアナモルフィック光学系と互いに同一の距離に配置されている場合の光スイッチとしての挿入損失および帯域幅の劣化を示したものである。また、（表３：ケースＢ）は、光学面の間隔が狭くなる方向が同一である配置である４つのアナモルフィックプリズムからなるアナモルフィック光学系であり、かつ、アナモルフィック光学系への入射角度の小さい方の光入出力ポートの方が、アナモルフィック光学系への入射角度の大きい方の光入出力ポートよりも、アナモルフィック光学系までの距離が２０ｍｍ長い場合の光スイッチとしての挿入損失および帯域幅の劣化を示したものである。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１９２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１９２】
下記（表４：ケースＣ）は、光学面の間隔が狭くなる方向が互い違いである配置である４つのアナモルフィックプリズムからなるアナモルフィック光学系であり、かつ、アナモルフィック光学系への入射角度の小さい方の光入出力ポートの方が、アナモルフィック光学系への入射角度の大きい方の光入出力ポートよりも、アナモルフィック光学系までの距離が３．５ｍｍ長い場合の光スイッチとしての挿入損失および帯域幅を示したものである。
【手続補正書】
【提出日】平成27年9月15日(2015.9.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
表示制御部１１５は、表示部１１９に対して画像を表示させるための表示信号を出力する。ＣＰＵ１１１は、表示制御部１１５に対してプログラムに従って生成した表示制御信号を供給する。表示制御部１１５は、この表示制御信号に基づき、ＧＵＩ（Ｇｒａｐｈｉｃａｌ  Ｕｓｅｒ  Ｉｎｔｅｒｆａｃｅ）を構成するＧＵＩ画面を表示部１１９に表示させる。尚、前述のタッチパネル１１８は、この表示部１１９と一体的に構成される。タッチパネル１１８は、透明電極を用いてこの表示部１１９の表示を妨げないように構成されており、表示部１１９の画面の上層に取り付けられる。そして、ＣＰＵ１１１は、タッチパネル１１８における入力座標と、表示部１１９上の表示座標とを対応付ける。これにより、あたかもユーザが表示部１１９の画面に表示された画像を直接操作しているようなＧＵＩを構成することができる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９２】
１１２１は、ユーザが表示部１１９上に設置されたタッチパネル１１８上で、ピンチ操作を行っている手の動作を示したものである。図１１（Ｂ）におけるピンチ操作では、１１２１で示すユーザ操作の２本の指による指示点１１２２と１１２３のどちらも、機能選択ボタン１１１４〜１１１８のいずれにも触れていない。このとき、図１１（Ｂ）におけるピンチ操作は、画像全体の拡大或いは縮小指示と判断し、機能選択画面１１１１の拡大処理を行う。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９７】
図１３は、図１２（Ａ）のピンチ操作によって、実際に表示文字の拡大を行った操作画面を示す図である。図１３は、図１１（Ａ）の機能選択画面において、文字のサイズだけが大きくなっている。このため、文字以外の画面レイアウトは変更されていないので、全ての機能選択ボタンを、特別な画面遷移のための操作を必要とすることなく、選択することが可能である。
【手続補正４】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１０】
2014067194.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成27年9月10日(2015.9.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
表示部を有する情報処理装置であって、
前記表示部の表示画面に対するユーザ操作を検出する検出手段と、
前記検出手段が、前記表示画面のスクロール領域内でユーザ操作の開始点を検出した後、前記スクロール領域内でユーザ操作が継続していると検出したのに従って、前記スクロール領域に表示されているコンテンツを、前記ユーザ操作の方向に従ってスクロールさせ、前記表示画面のスクロール領域の外でユーザ操作の開始点を検出した後、前記スクロール領域内で前記ユーザ操作が継続していると検出したのに従って、前記スクロール領域に表示されているコンテンツを、前記ユーザ操作の方向に従ってスクロールさせるスクロール手段と、を有し、
前記スクロール領域は、スクロールされ得るコンテンツが表示されている領域であり、該領域内で前記コンテンツがスクロールされることを特徴とする情報処理装置。
【請求項２】
前記スクロール手段は、前記ユーザ操作の開始点から、前記スクロール領域内で当該ユーザ操作が継続していると検出した点までの距離に応じたスクロールを行うことを特徴とする請求項１に記載の情報処理装置。
【請求項３】
前記スクロール手段は、前記スクロール領域の外でユーザ操作の開始点を検出した後、前記スクロール領域内で当該ユーザ操作が継続していると検出した開始点から、前記スクロール領域内で当該ユーザ操作が継続していると検出した点までの距離に応じたスクロールを行うことを特徴とする請求項１に記載の情報処理装置。
【請求項４】
前記継続しているユーザ操作は、ムーブ操作であることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の情報処理装置。
【請求項５】
前記スクロール領域内で前記ムーブ操作を検出した後、前記検出手段が前記スクロール領域内でタッチアップを検出すると、当該タッチアップ直前の前記ムーブ操作の移動距離、速度に応じて、前記スクロール領域に表示されている前記コンテンツのスクロールを継続するかどうかを判断する判断手段を更に有し、
前記判断手段によりスクロールを継続すると判断されると、前記スクロール手段は、前記タッチアップ直前の前記ムーブ操作の移動距離、速度に応じて前記スクロール領域に表示されている前記コンテンツをスクロールすることを特徴とする請求項４に記載の情報処理装置。
【請求項６】
前記判断手段は、前記検出手段が前記スクロール領域内でのフリック操作を検出すると、前記スクロール領域に表示されている前記コンテンツのスクロールを継続すると判断することを特徴とする請求項５に記載の情報処理装置。
【請求項７】
前記検出手段が、前記表示画面のスクロール領域の外でユーザ操作の開始点を検出した位置に操作ボタンが表示されていると当該操作ボタンを押下状態にし、前記判定手段がスクロールが指示されていると判定すると、前記操作ボタンの押下状態を解除して、当該操作ボタンに対応する処理を実行しないように制御する制御手段を更に有することを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項に記載の情報処理装置。
【請求項８】
前記検出手段は、タッチパネルを含むことを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１項に記載の情報処理装置。
【請求項９】
前記スクロール領域は、ユーザの操作によりポップアップ或いはドロップダウンして表示される領域であり、前記検出手段が、前記表示画面のスクロール領域の外でユーザ操作の開始点を検出した後、前記スクロール領域内で前記ユーザ操作が継続していないと検出した場合に、前記スクロール領域を非表示にする手段を更に有することを特徴とする請求項１乃至８のいずれか１項に記載の情報処理装置。
【請求項１０】
表示部を有する情報処理装置を制御する制御方法であって、
検出手段が、前記表示部の表示画面に対するユーザ操作を検出する検出工程と、
スクロール手段が、前記検出工程が前記表示画面のスクロール領域内でユーザ操作の開始点を検出した後、前記スクロール領域内でユーザ操作が継続していると検出したのに従って、前記スクロール領域に表示されているコンテンツを、前記ユーザ操作の方向に従ってスクロールさせ、前記表示画面のスクロール領域の外でユーザ操作の開始点を検出した後、前記スクロール領域内で前記ユーザ操作が継続していると検出したのに従って、前記スクロール領域に表示されているコンテンツを、前記ユーザ操作の方向に従ってスクロールさせるスクロール工程と、を有し、
前記スクロール領域は、スクロールされ得るコンテンツが表示されている領域であり、該領域内で前記コンテンツがスクロールされることを特徴とする情報処理装置の制御方法。
【請求項１１】
コンピュータを、請求項１乃至９のいずれか１項に記載の情報処理装置の各手段として機能させるためのプログラム。
【請求項１２】
請求項１１に記載のプログラムを記憶した、コンピュータにより読み取り可能な記憶媒体。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明の目的は、ユーザが、スクロール領域でのコンテンツのスクロール操作を容易に実現できる技術を提供することにある。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
上記目的を達成するために本発明の一態様に係る情報処理装置は以下のような構成を備える。即ち、
表示部を有する情報処理装置であって、
前記表示部の表示画面に対するユーザ操作を検出する検出手段と、
前記検出手段が、前記表示画面のスクロール領域内でユーザ操作の開始点を検出した後、前記スクロール領域内でユーザ操作が継続していると検出したのに従って、前記スクロール領域に表示されているコンテンツを、前記ユーザ操作の方向に従ってスクロールさせ、前記表示画面のスクロール領域の外でユーザ操作の開始点を検出した後、前記スクロール領域内で前記ユーザ操作が継続していると検出したのに従って、前記スクロール領域に表示されているコンテンツを、前記ユーザ操作の方向に従ってスクロールさせるスクロール手段と、を有し、
前記スクロール領域は、スクロールされ得るコンテンツが表示されている領域であり、該領域内で前記コンテンツがスクロールされることを特徴とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
本発明によれば、ユーザによる、スクロール領域でのコンテンツのスクロール操作を容易に実現できるという効果がある。
【手続補正書】
【提出日】平成27年5月27日(2015.5.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３０】
グローバルビット線ＧＢＬ０は、ＮＭＯＳ１４５ａを介してメインビット線ＭＢＬ０に接続され、ＮＭＯＳ１４５ｂを介して電源線Ｖ２４に接続されている。ＮＭＯＳ１４５ａのゲートには選択信号ＳＧＴ０が入力され、ＮＭＯＳ１４５ｂのゲートには選択信号ＳＧＢ０が入力される。グローバルビット線ＧＢＬ１は、ＮＭＯＳ１４６ａを介してメインビット線ＭＢＬ０に接続され、ＮＭＯＳ１４６ｂを介して電源線Ｖ２４に接続されている。ＮＭＯＳ１４６ａのゲートには選択信号ＳＧＴ１が入力され、ＮＭＯＳ１４６ｂのゲートには選択信号ＳＧＢ１が入力される。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３５】
ＮＯＴゲート１５３には、信号ＤＩが入力される。ＮＡＮＤゲート１５４には、信号ＨＧＢＬＢと信号ＷＡＢが入力される。ＮＡＮＤゲート１５５には、信号ＨＧＢＬＢと、ＮＯＴゲート１５３の出力即ち信号ＤＩの反転信号が入力される。ＮＡＮＤゲート１５４の出力及びＮＡＮＤゲート１５５の出力は、ＮＡＮＤゲート１５６に入力され、その出力は、ＰＭＯＳ１５８のゲートに入力される。ＮＡＮＤゲート１５５の出力及び信号ＷＡＢは、ＮＯＲゲート１５７に入力され、その出力は、ＮＭＯＳ１５９のゲートに入力される。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６６】
例えば、プログラム動作において、プログラムセグメントＰＳＥＧ０−３のうち、プログラムセグメントＰＳＥＧ０を選択する場合、そのプログラムセグメントＰＳＥＧ０に設けられたソース線ＳＲＣ０が選択され、そのソース線ＳＲＣ０が電圧ＶＳＴに設定される。非選択のプログラムセグメントＰＳＥＧ１−３のソース線ＳＲＣ１−３は、電圧ＶＳＢに設定される。電圧ＶＳＢは、電圧ＶＳＴよりも高く設定され、例えば、電圧ＶＳＴは１．８Ｖ、電圧ＶＳＢは電圧２．４Ｖに設定される。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９２】
上記第１の実施の形態では、１つのメモリブロック領域１００Ａにつきビット線ＢＬが１０２４本である場合に、２５６本のビット線ＢＬ毎に、４つプログラムセグメントＰＳＥＧに分割する例を示した。分割するプログラムセグメントＰＳＥＧの数は、上記の例に限定されるものではない。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１２０】
尚、ソース線ＳＲＣ１に接続されたソース線スイッチ１６０Ｂには、信号ＵＩＯ及び信号ＣＡＢ＜３＞が入力される。ソース線ＳＲＣ２に接続されたソース線スイッチ１６０Ｂには、信号ＬＩＯ及び信号ＣＡＴ＜３＞が入力される。ソース線ＳＲＣ３に接続されたソース線スイッチ１６０Ｂには、信号ＵＩＯ及び信号ＣＡＴ＜３＞が入力される。これらのソース線スイッチ１６０Ｂにおいても、上記ソース線ＳＲＣ０に接続されたソース線スイッチ１６０Ｂと同様の流れで信号の処理が行われる。
【手続補正書】
【提出日】平成27年7月10日(2015.7.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電気絶縁材で構成され一対の電線およびアース線が接続される接続部を内部に有し、操作窓孔を有する本体と；
前記本体の一端部側から突出して設けられた接続片支持部と；
前記一対の電線が接続される接続部に一端が接続され、他端が外部に露出するように前記接続片支持部に対向して支持された一対の接続片と；
前記アース線が接続される接続部に一端が接続され、他端が外部に露出するように前記接続片支持部に支持されたアース接続片と；
係合部と支持部を有し、係合部が前記本体の外表面から出没するように支持部が前記本体内に支持されたロック部材と；
操作部が前記本体の操作窓孔から出没するように位置して設けられ外表面から前記ロック部材のロックを解除できるように前記本体に設けられたロック解除部材と；
前記本体の操作窓孔の周辺に、前記ロック解除部材の操作部が前記本体の操作窓孔から突出する高さ寸法と等しいか又は前記高さ寸法よりも高くなるように形成されたストッパー片と；
を具備していることを特徴とする電気接続器。
【請求項２】
電気絶縁部材で構成され一対の電線およびアース線が接続される接続部を内部に有し、操作窓孔を有するケース部材と、ケース部材を覆うように設けられたカバー部材を有する本体と；
前記本体の一端部側から本体の長手方向に沿うように突出して設けられた接続片支持部と；
前記一対の電線が接続される接続部に一端が接続され、他端が外部に露出するように前記接続片支持部の長手方向に沿うように対向して支持された一対の接続片と；
前記アース線が接続される接続部に一端が接続され、他端が外部に露出し、かつ前記一対
の接続片間で前記本体の長手方向中心線上に略位置するように前記接続片支持部に支持されたアース接続片と；
係合部と支持部を有し、係合部が前記アース接続片に沿う前記本体外表面から出没するように支持部が前記本体の長手方向中心線上に略位置して前記本体内に支持されたロック部材と；
操作部が前記アース接続片に沿う前記本体の操作窓孔から出没するように位置して設けられ外表面から前記ロック部材のロックを解除できるように前記本体の長手方向中心線上に略位置して前記本体に設けられたロック解除部材と；
前記本体の操作窓孔の周辺に、前記ロック解除部材の操作部が前記本体の操作窓孔から突出する高さ寸法と等しいか又は前記高さ寸法よりも高くなるように形成されたストッパー片と；
を具備していることを特徴とする電気接続器。
【請求項３】
請求項１または２に記載の一対の接続片およびアース接続片が挿入される挿入口を有する
本体と；
前記本体の挿入口に対向して本体内に収容され、前記一対の接続片およびアース接続片が挿入されることにより接続される一対の受接続片およびアース受接続片と；
前記本体の挿入口内部に形成され、前記一対の接続片およびアース接続片が挿入されて前記一対の受接続片およびアース受接続片に接続された状態で請求項１または２に記載のロック部材の係合部が係合する係合受部と；
を具備していることを特徴とする電気接続受器。
【請求項４】
請求項１または２に記載の電気接続器と；
請求項３に記載の電気接続受器と；
を具備していることを特徴とする電気接続装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本発明の実施形態における電気接続器は、本体、接続片支持部、一対の接続片、アース
接続片、ロック部材、ロック解除部材、ストッパー片を具備する。本体は、電気絶縁材で構成され一対の電線およびアース線が接続される接続部を内部に有し、操作窓孔を有する。接続片支持部は、前記本体の一端部側から突出して設けられる。一対の接続片は、前記一対の電線が接続される接続部に一端が接続され、他端が外部に露出するように前記接続片支持部に対向して支持される。アース接続片は、前記アース線が接続される接続部に一端が接続され、他端が外部に露出するように前記接続片支持部に支持される。ロック部材は、係合部と支持部を有し、係合部が前記本体の外表面から出没するように支持部が前記本体内に支持される。ロック解除部材は、操作部が前記本体の操作窓孔から出没するように位置して設けられ外表面から前記ロック部材のロックを解除できるように前記本体に設けられる。ストッパー片は、前記本体の操作窓孔の周辺に、前記ロック解除部材の操作部が前記本体の操作窓孔から突出する高さ寸法と等しいか又は前記高さ寸法よりも高くなるように形成される。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９６】
１０  電気接続器
１１  本体
１１ａ  ケース部材
１１ａ２  操作窓孔
１１ａ３  ストッパー片
１１ｂ  カバー部材
１１Ｎ、１１Ｌ、１１Ｇ  接続部
１２  接続片支持部
１３Ｎ、１３Ｌ  一対の接続片
１４Ｇ  アース接続片
１５  ロック部材
１５ａ  係合部
１５ｂ  支持部
１６  ロック解除部材
１６ａ  操作部
２０  電気接続受器
２１  本体
２２  挿入口
２３Ｎ、２３Ｌ  一対の受接続片
２４Ｇ  アース受接続片
２５  係合受部
３０  電気接続受器
４０  電気接続装置
【手続補正書】
【提出日】平成27年9月7日(2015.9.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】封止体の作製方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１基板上にフリットガラスペーストを設ける第１工程と、
前記フリットガラスペーストを加熱し、フリットガラス層を形成する第２工程と、
前記第１基板と第２基板とを対向させることにより、前記第１基板と前記第２基板との間に前記フリットガラス層を介在させる第３工程と、
前記フリットガラス層をエネルギービームにより加熱し、前記フリットガラス層により前記第１基板と前記第２基板とを接着する第４工程と、を有し、
前記第４工程において、前記第２基板の前記フリットガラス層と重なる領域の温度に従って前記エネルギービームの出力強度を調整することを特徴とする封止体の作製方法。
【請求項２】
第１基板上にフリットガラスペーストを設ける第１工程と、
前記フリットガラスペーストを加熱し、フリットガラス層を形成する第２工程と、
前記第１基板と、反射層が形成された第２基板とを対向させることにより、前記第１基板と前記第２基板との間に前記フリットガラス層と前記反射層とを介在させ、なおかつ、前記フリットガラス層に前記反射層と重なる領域を設ける第３工程と、
前記フリットガラス層をエネルギービームにより加熱し、前記フリットガラス層により前記第１基板と前記第２基板とを接着する第４工程と、を有し、
前記第４工程において、前記第２基板の前記フリットガラス層と重なる領域の温度に従って前記エネルギービームの出力強度を調整することを特徴とする封止体の作製方法。
【請求項３】
第１基板上にフリットガラスペーストを設ける第１工程と、
前記フリットガラスペーストを加熱し、フリットガラス層を形成する第２工程と、
前記第１基板と、反射層及び前記反射層上の無機絶縁層が形成された第２基板とを対向させることにより、前記第１基板と前記第２基板との間に前記フリットガラス層と前記反射層とを介在させ、なおかつ、前記フリットガラス層と前記反射層とによって前記無機絶縁層を挟む第３工程と、
前記フリットガラス層をエネルギービームにより加熱し、前記フリットガラス層により前記第１基板と前記第２基板とを接着する第４工程と、を有し、
前記第４工程において、前記第２基板の前記フリットガラス層と重なる領域の温度に従って前記エネルギービームの出力強度を調整することを特徴とする封止体の作製方法。
【請求項４】
第１基板上に、第１の領域を囲むようにフリットガラスペーストを設ける第１工程と、
前記フリットガラスペーストを加熱し、フリットガラス層を形成する第２工程と、
前記第１基板と、発光素子が形成された第２基板とを対向させることにより、前記第１基板と前記第２基板との間に前記フリットガラス層と前記発光素子とを介在させ、なおかつ、前記第１の領域に前記発光素子と重なる領域を設ける第３工程と、
前記フリットガラス層をエネルギービームにより加熱し、前記フリットガラス層により前記第１基板と前記第２基板とを接着する第４工程と、を有し、
前記第４工程において、前記第２基板の前記フリットガラス層と重なる領域の温度に従って前記エネルギービームの出力強度を調整することを特徴とする封止体の作製方法。
【請求項５】
第１基板上に、第１の領域を囲むようにフリットガラスペーストを設ける第１工程と、
前記フリットガラスペーストを加熱し、フリットガラス層を形成する第２工程と、
前記第１基板と、発光素子及び前記発光素子を囲むシール材が形成された第２基板とを対向させることにより、前記第１基板と前記第２基板との間に前記フリットガラス層と前記発光素子とを介在させ、前記第１の領域に前記発光素子と重なる領域を設け、なおかつ、前記シール材で前記フリットガラス層を囲む第３工程と、
前記フリットガラス層をエネルギービームにより加熱し、前記フリットガラス層により前記第１基板と前記第２基板とを接着する第４工程と、を有し、
前記第４工程において、前記第２基板の前記フリットガラス層と重なる領域の温度に従って前記エネルギービームの出力強度を調整することを特徴とする封止体の作製方法。
【請求項６】
前記エネルギービームがレーザ光であることを特徴とする請求項１乃至請求項５のいずれか一に記載の封止体の作製方法。
【手続補正書】
【提出日】平成27年9月18日(2015.9.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を保持する基板保持具を収容する反応管と、
前記反応管の外部に設置され、前記反応管内を加熱する加熱部と、
前記反応管外壁に当接して設置された保護管と、
前記保護管内に配置され、内部に貫通穴を有する絶縁管と、
上端に第１の熱電対素線と第２の熱電対素線を接合する熱電対接合部を有し、前記第１の熱電対素線と前記第２の熱電対素線が前記貫通穴に挿通された熱電対と、
を備える基板処理装置。
【請求項２】
前記絶縁管は、前記熱電対接合部を収容するえぐり部を有する請求項１に記載の基板処理装置。
【請求項３】
前記えぐり部の位置には、前記えぐり部を覆う蓋が設けられる請求項２に記載の基板処理装置。
【請求項４】
前記えぐり部の下方又は上方の位置には、前記蓋の水平方向の外径よりも大きい外径を有するスペーサが設けられる請求項３に記載の基板処理装置。
【請求項５】
前記絶縁管の下方に設けられた空間であって、前記絶縁管の下端から出た前記熱電対素線が熱膨張したときに拘束されることを抑制するバッファエリアを有する請求項１から４のいずれか１つに記載の基板処理装置。
【請求項６】
前記絶縁管の上端には、前記絶縁管の水平方向の外径よりも大きい外径を有するキャップが設けられ、該キャップの底面を前記保護管の上面で支持することにより、前記絶縁管が前記保護管で支持されるよう構成される請求項１から５のいずれか１つに記載の基板処理装置。
【請求項７】
前記保護管は、前記反応管外壁に設置される位置に応じて、当該保護管の熱容量が異なるように構成される請求項１から６のいずれか１つに記載の基板処理装置。
【請求項８】
基板を保持する基板保持具を収容する反応管と、前記反応管の外部に設置され、前記反応管内を加熱する加熱部と、前記反応管外壁に当接して設置された保護管と、前記保護管内に配置され、内部に貫通穴を有する絶縁管と、上端に第１の熱電対素線と第２の熱電対素線を接合する熱電対接合部を有し、前記第１の熱電対素線と前記第２の熱電対素線が前記貫通穴に挿通された熱電対と、を備える基板処理装置の製造方法であって、
前記基板保持具を前記反応管内に収容する工程と、
前記基板を処理する工程と、
を備える半導体装置の製造方法。
【請求項９】
内部を長手方向に貫く貫通穴を有する絶縁管と、
上端に第１の熱電対素線と第２の熱電対素線を接合する熱電対接合部を有し、前記第１の熱電対素線と前記第２の熱電対素線が前記絶縁管の貫通穴に挿通された熱電対とを備え、
前記絶縁管は、前記熱電対接合部を収容するえぐり部を有する熱電対支持体。
【請求項１０】
前記えぐり部の位置には、前記えぐり部を覆う蓋が設けられる請求項９に記載の熱電対支持体。
【請求項１１】
前記えぐり部の下方又は上方の位置には、前記蓋の水平方向の外径よりも大きい外径を有するスペーサが設けられる請求項１０に記載の熱電対支持体。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成27年3月18日(2015.3.18)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１５
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１５】
液体カソードは、リチウム−硫黄バッテリにおいて硫黄電極の放電中に生成される。硫黄の電気化学的な酸化は、２つの段階によって実現される。第１段階において、長鎖多硫化リチウム（非プロトン性電解質に十分に溶解性である）が大半の電解質系で非溶解性であるか、あまり溶解性でない元素硫黄の電気化学的な酸化中に産生される（式１）。
【化１】
2014067717.tif 000001
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
硫黄を減極剤として含む正極（カソード）と、金属リチウムまたはリチウム含有合金からなる陰極（アノード）と、少なくとも１つの非プロトン性溶媒による少なくとも１つの塩の溶液を含む電解質とを含む充電式リチウム硫黄電池であって、２段階放電プロセスの第１段階において電解質中に溶解性多硫化物を産生するように構成されており、カソードの第１段階放電後に電解質中の溶解性多硫化物の濃度が電解質中の多硫化物の飽和濃度の７０〜９０％であるように、減極剤中の硫黄の量および電解質の体積が選択されることを特徴とする、充電式リチウム硫黄電池。
【請求項２】
前記減極剤が硫黄、カーボンブラックおよびポリエチレンオキシドを含む、請求項１に記載の充電式リチウム硫黄電池。
【請求項３】
前記電解質が、１つまたは複数のリチウム塩を含む、請求項１または２に記載の充電式リチウム硫黄電池。
【請求項４】
前記溶媒が、ジオキソラン、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン、ジグリム、トリグリム、テトラグリム、炭酸ジアルキル、スルホランおよびブチロラクトンからなる群より選択される少なくとも１つである、請求項１または２に記載の充電式リチウム硫黄電池。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれかに記載の充電式リチウム硫黄電池を２段階で放電する方法であって、
前記充電式電池を、２段階放電プロセスの第１段階において電解質中に溶解性多硫化物を産生するように構成する工程と、
カソードの第１段階放電後に電解質中の溶解性多硫化物の濃度が電解質中の多硫化物の飽和濃度の７０〜９０％であるように、減極剤中の硫黄の量および電解質の体積を選択する工程と
を含む方法。
【請求項６】
前記放電の第１段階が、２．５〜２．４Ｖから２．１〜１．９Ｖの電圧範囲で起こり、前記放電の第２段階が、２．１〜１．９Ｖから１．８〜１．５Ｖの電圧範囲で起こる、請求項５に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成27年8月10日(2015.8.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の主面と第２の主面とを貫通する貫通孔が形成されたコア基板と、
前記貫通孔内に配置された電子部品と、
前記電子部品の接続端子に向って前記貫通孔の内面から突出するように形成された突起部と、
前記貫通孔の内面と前記電子部品との間に充填された絶縁材と、
前記コア基板の第１の主面及び前記電子部品を被覆する第１の絶縁層と、
前記コア基板の第２の主面及び前記電子部品を被覆する第２の絶縁層と
を有し、
前記電子部品は、電子部品本体と、前記電子部品本体の周囲に形成された接続端子を有し、
前記電子部品の接続端子は、前記電子部品の挿入方向に沿って延び前記突起部と係合する係合溝を有すること、
を特徴とする配線基板。
【請求項２】
前記突起部は複数形成され、前記貫通孔において対向する２つの内面にそれぞれ形成された前記突起部の先端間の距離は、前記電子部品の大きさよりも小さく、前記電子部品本体の大きさよりも大きく形成されたことを特徴とする請求項１に記載の配線基板。
【請求項３】
前記突起部は、前記第１の主面から前記第２の主面に向って連続するように形成されたことを特徴とする請求項１又は２に記載の配線基板。
【請求項４】
前記突起部は、前記突起部の先端と対向する電子部品の接続端子との間の距離が、前記第１の主面から前記第２の主面に向って徐々に変化するように形成されたことを特徴とする請求項１〜３のうちの何れか一項に記載の配線基板。
【請求項５】
前記コア基板は、補強材を含むことを特徴とする請求項１〜４のうちの何れか一項に記載の配線基板。
【請求項６】
前記絶縁材は前記第１の絶縁層及び前記第２の絶縁層と同じ熱硬化性樹脂であることを特徴とする、請求項１〜５のうちの何れか一項に記載の配線基板。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
本発明の一観点によれば、第１の主面と第２の主面とを貫通する貫通孔が形成されたコア基板と、前記貫通孔内に配置された電子部品と、前記電子部品の接続端子に向って前記貫通孔の内面から突出するように形成された突起部と、前記貫通孔の内面と前記電子部品との間に充填された絶縁材と、前記コア基板の第１の主面及び前記電子部品を被覆する第１の絶縁層と、前記コア基板の第２の主面及び前記電子部品を被覆する第２の絶縁層とを有し、前記電子部品は、電子部品本体と、前記電子部品本体の周囲に形成された接続端子を有し、前記電子部品の接続端子は、前記電子部品の挿入方向に沿って延び前記突起部と係合する係合溝を有する。
【手続補正書】
【提出日】平成27年2月17日(2015.2.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被搬送体を位置決めする第１の位置決め用ピンを有し、前記被搬送体に収納された被処理体を受け渡すための保持台と、
前記被搬送体を前記保持台に載置するために、前記被搬送体を把持するアーム部と、
前記保持台に載置された前記被搬送体を固定するための支持手段と、
を有し、
前記第１の位置決め用ピン、前記アーム部及び前記支持手段の少なくとも１つが、接地要素を有する、
搬送装置。
【請求項２】
前記第１の位置決め用ピンが接地要素を有し、
前記被搬送体は、前記第１の位置決め用ピンに係合する位置決め溝を有する、
請求項１に記載の搬送装置。
【請求項３】
前記被搬送体を位置決めする第２の位置決め用ピンを有し、前記被搬送体を搬出入する載置台と、
前記被搬送体を位置決めする第３の位置決め用ピンを有し、前記被搬送体を収納する収納棚と、
を更に有し、
前記第２の位置決め用ピン及び前記第３の位置決め用ピンの少なくとも一方は、接地要素を有する、
請求項１又は２に記載の搬送装置。
【請求項４】
前記位置決め用ピンは３本のピンであり、
前記３本のピンのいずれか１つが接地要素を有する、
請求項２又は３に記載の搬送装置。
【請求項５】
前記アーム部が接地要素を有し、
前記被搬送体は、前記アーム部が把時するフランジを有する、
請求項１に記載の搬送装置。
【請求項６】
前記支持手段が接地要素を有し、
前記保持台は移動可能であり、
前記支持手段は、前記被搬送体の上面の少なくとも一部に係合することによって、移動可能な前記保持台に載置された前記被搬送体を固定する、
請求項１に記載の搬送装置。
【請求項７】
前記被搬送体は、半導体ウエハを収納した密閉型カセットである、
請求項１乃至６のいずれか一項に記載の搬送装置。
【請求項８】
請求項１乃至７のいずれか一項に記載の搬送装置と、
前記保持台で受け渡された前記被処理体を熱処理するための熱処理装置と、
を有する、処理装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３８】
図７（ａ）及び図７（ｂ）で示されるように、本実施形態の搬送装置７は、位置決め用ピン８に接地要素Ｅが接続されている。そのため、図７（ａ）に示されるように、一体型の収納容器２０が本実施形態の搬送装置７に載置されると、ウエハＷ及び収納容器２０の帯電電荷は容易に減衰し、その電位は略ゼロ電位となる。一方、図７（ｂ）に示される組立型の収納容器２０の場合においても、ウエハＷ、支持部２７、フランジ２４、位置決め溝３０、接続部２８及び接続部３１の帯電電荷は容易に減衰し、その電位は略ゼロ電位となる。つまり、一体型又は組立型のいずれの収納容器２０を使用した場合においても、ウエハＷの表面電荷を減衰することができる。したがって、各種処理のためにウエハＷを処理装置１に搬入するとき、又は、処理を終えたウエハＷを搬出するときに、収納容器２０内のパーティクル等によりウエハＷが汚染することを抑制することができる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４９】
先ず、１種類の一体型の収納容器２０と、各々が異なる３種類の組立型の収納容器２０とを準備した。各々の収納容器２０の位置決め溝３０が、接地要素Ｅを有する位置決め用ピン８と係合するように、収納容器２０を載置した。その状態で約２１時間３０分放置し、その後、搬送装置７から収納容器２０を取り外した。得られた収納容器２０に関して、ハンディー型表面電位計（トレック・ジャパン株式会社製）を使用して、収納容器２０の複数の箇所の表面電位を測定した。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５０】
測定は、
（１）フランジ２４、
（２）支持部２７、
（３）その他の部分３２（収納容器２０の天井面における、フランジ２４から蓋体２２に対向する側）、
（４）その他の部分３２（収納容器２０の天井面における、フランジ２４から蓋体２２側）
の測定箇所で行った（図８の横軸参照）。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５１】
図８に、本実施形態に係る収納容器２０の表面電位の測定結果の例を示す。図８（ａ）は一体型の収納容器２０（以下、例１の収納容器２０と称する）に関する表面電位の測定結果の例であり、図８（ｂ）〜（ｄ）は組立型の収納容器２０（以下、各々、例２〜例４の収納容器２０と称する）に関する表面電位の測定結果の例である。なお、図８の縦軸は、ウエハＷの表面電位であり、横軸は上述の測定箇所である。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５２】
例１の収納容器２０の例では、図８（ａ）に示されるように、ウエハＷが載置される支持部２７を含む全ての測定箇所で、表面電位が略ゼロであった。一方、例２〜例３の収納容器２０の例では、図８（ｂ）〜（ｃ）に示されるように、非導電性材料で形成されるその他の部分３２が、数ｋＶ以上の表面電位を有していた。しかしながら、例２〜例４の収納容器２０の場合においても、ウエハＷが載置される支持部２７の表面電位は略ゼロであった。即ち、一体型又は組立型のいずれの収納容器の場合においても、本実施形態の接地要素Ｅを有する搬送装置７上に載置すると、支持部２７の表面電位が略ゼロになる。そのため、帯電したウエハＷを本実施形態の収納容器２０内に収納した場合、ウエハＷの表面電荷が容易に減衰し、ウエハＷの表面電位が略ゼロ電位となるため、収納容器２０内部に存在するパーティクルからのウエハＷの汚染を抑制することができる。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５５】
先ず、光散乱式異物測定装置（ＳＰ１ＴＢＩ：ＫＬＡ  Ｔｅｎｃｏｒ社製）を用いて、ウエハＷの表面に存在するパーティクル数を測定した。その後、予めクリーンルーム（クラス１０００）内に設置された接地要素Ｅを有する搬送装置７に、例１乃至例４の収納容器２０を載置した。次に、ウエハＷを＋５ｋＶに帯電し、３０分放置した。最後に、ウエハＷを取り出し、再度ウエハＷの表面に存在するパーティクル数を測定した。また、比較例として、接地要素Ｅを有さない搬送装置７に収納容器２０を載置した場合のウエハＷについても、表面に存在するパーティクル数を測定した。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５８】
一方、比較例の接地要素Ｅを有さない搬送装置７に載置したウエハＷは、パーティクル数の増加量が多く、また、使用した収納容器２０の間で、パーティクル数の増加量のばらつきが多かった。
【手続補正書】
【提出日】平成27年9月18日(2015.9.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を処理する処理室と、
該処理室に隣接する基板移載空間を構成する移載室と、
前記移載室に対し吹出口から気体を吹き出すファンとフィルタから構成される第一のクリーンユニットと、
前記第一のクリーンユニットの吹出口より下流側に配置されるファンとフィルタから構成される第二のクリーンユニットと、
前記第一のクリーンユニットと第二のクリーンユニットに接続され、前記移載室内の雰囲気を循環させる循環経路と、を備え、
前記第二のクリーンユニットから前記循環経路を通り前記気体が前記第一のクリーンユニットに戻るように構成される基板処理装置。
【請求項２】
前記第二のクリーンユニットの吹出口より下流側に配置され、前記循環経路に接続される
ファンとフィンから構成される第三のクリーンユニットを有する請求項１に記載の基板処理装置。
【請求項３】
前記第１のクリーンユニットと前記第２のクリーンユニットは前記移載室の対向する側
壁にそれぞれ設けられている請求項１または２に記載の基板処理装置。
【請求項４】
基板を処理する半導体装置の製造方法であって、
基板処理室に隣接する移載室内に対し、ファンとフィルタから構成される第一のクリーン
ユニットから気体を吹き出すステップと、
前記気体が下流側に配置されるファンとフィルタから構成される前記第二のクリーンユニ
ットを通過するステップと、
前記第一のクリーンユニットと第二のクリーンユニットに接続された循環経路によって、
前記第二のクリーンユニットから吹き出された気体が循環経路を通り前記気体が前記第一
のクリーンユニットに戻るステップと、
を有する半導体装置の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成27年8月20日(2015.8.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１配線層の上に第１絶縁層を形成する工程と、
前記第１絶縁層の上に、第１カップリング剤層、第１銅・錫合金層及び銅層が順に配置された積層体を得る工程と、
前記銅層から前記第１絶縁層までの厚み方向に、前記第１配線層に到達する第１ビアホールを形成する工程と、
前記第１ビアホールの内面及び前記銅層の上に触媒金属を付着させる工程と、
前記銅層及び前記第１ビアホール内の第１配線層をエッチングすることにより、前記銅層及び前記第１配線層の上に付着した前記触媒金属を除去し、前記第１ビアホールの側壁のみに前記触媒金属を残す工程と、
前記触媒金属を触媒とする無電解めっきにより、前記第１ビアホールの側壁に、前記第１銅・錫合金層に接続されるシード層を形成する工程と、
前記第１ビアホールを含む部分に開口部が設けられためっきレジストを前記第１銅・錫合金層の上に形成する工程と、
前記第１銅・錫合金層及び前記シード層をめっき給電層に利用する電解めっきにより、前記第１ビアホール及び前記めっきレジストの開口部に金属めっき層を形成する工程と、
前記めっきレジストを除去する工程と、
前記金属めっき層をマスクにして前記第１銅・錫合金層をエッチングすることにより、前記シード層、前記第１銅・錫合金層及び前記金属めっき層を備えた第２配線層を形成する工程とを有することを特徴とする配線基板の製造方法。
【請求項２】
前記第２配線層を形成する工程の後に、
前記第２配線層の露出面に第２銅・錫合金層を形成する工程と、
前記第２配線層の前記第２銅・錫合金層を被覆する第２カップリング剤層を形成する工程と、
前記第２カップリング剤層の上に第２絶縁層を形成する工程とをさらに有することを特徴とする請求項１に記載の配線基板の製造方法。
【請求項３】
前記第２絶縁層、前記第２カップリング剤層及び前記第２銅・錫合金層の厚み方向に、前記第２配線層の金属めっき層に到達する第２ビアホール又は開口部が形成された構造を得る工程をさらに有することを特徴とする請求項２に記載の配線基板の製造方法。
【請求項４】
前記第１配線層の上に前記第１絶縁層を形成する工程において、
前記第１配線層は上面及び側面に第３銅・錫合金層を備え、
前記第３カップリング剤層を介して前記第１絶縁層を形成し、
前記第１ビアホールを形成する工程において、
前記銅層から第３銅・錫合金層まで厚み方向に加工することを特徴とする請求項1乃至３のいずれか一項に記載の配線基板の製造方法。
【請求項５】
前記積層体を得る工程は、
支持体の上に、剥離できる状態で前記銅層及び前記第１銅・錫合金層が順に形成された構造体を用意し、前記第１銅・錫合金層の上に前記第１カップリング剤層を形成することにより金属層転写基材を得る工程と、
前記金属層転写基材の前記第１カップリング剤層の面を前記第１絶縁樹脂層の上に積層する工程と、
前記金属層転写基材から前記支持体を除去する工程とを含むことを特徴とする請求項１乃至４のいずれか一項に記載の配線基板の製造方法。
【請求項６】
前記金属層転写基材を得る工程は、
前記支持体の上に前記銅層を形成する工程と、
前記銅層の上に錫層を形成し、加熱処理することにより前記銅層から前記錫層に銅を拡散させて前記第１銅・錫合金層を得る工程とを含むことを特徴とする請求項５に記載の配線基板の製造方法。
【請求項７】
第１配線層と、
前記第１配線層の上に形成された第１絶縁層と、
前記第１絶縁層の上に形成された第１カップリング剤層と、
前記第１カップリング剤層の上に形成された第１銅・錫合金層と、
前記第１銅・錫合金層、前記第１カップリング剤層及び前記第１絶縁層に形成され、前記第１配線層に到達する第１ビアホールと、
前記第１ビアホールの側壁のみに付着した触媒金属と、
前記第１銅・錫合金層に接続され、前記触媒金属を触媒にした無電解めっきにより前記第１ビアホールの側壁のみに形成されたシード層と、
前記第１ビアホール内から前記第１銅・錫合金層の上に形成された金属めっき層とを有し、
前記シード層、前記第１銅・錫合金層及び前記金属めっき層から第２配線層が形成されることを特徴とする配線基板。
【請求項８】
前記第１ビアホールの底部の前記第１配線層に凹部が形成されており、
前記金属めっき層は前記凹部を埋め込んで形成されていること特徴とする請求項７に記載の配線基板。
【請求項９】
前記第２配線層は、上面及び側面に第２銅・錫合金層を備え、
前記第２配線層の前記第２銅・錫合金層を被覆する第２カップリング剤層と、
前記第２カップリング剤層の上に形成された第２絶縁層とをさらに有することを特徴とする請求項７又は８に記載の配線基板。
【請求項１０】
前記第２絶縁層から第２銅・錫合金層まで厚み方向に形成されて、前記第２配線層の金属めっき層に到達する第２ビアホール又は開口部を有することを特徴とする請求項９に記載の配線基板。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
以下の開示の一観点によれば、第１配線層の上に第１絶縁層を形成する工程と、前記第１絶縁層の上に、第１カップリング剤層、第１銅・錫合金層及び銅層が順に配置された積層体を得る工程と、前記銅層から前記第１絶縁層までの厚み方向に、前記第１配線層に到達する第１ビアホールを形成する工程と、前記第１ビアホールの内面及び前記銅層の上に触媒金属を付着させる工程と、前記銅層及び前記第１ビアホール内の第１配線層をエッチングすることにより、前記銅層及び前記第１配線層の上に付着した前記触媒金属を除去し、前記第１ビアホールの側壁のみに前記触媒金属を残す工程と、前記触媒金属を触媒とする無電解めっきにより、前記第１ビアホールの側壁に、前記第１銅・錫合金層に接続されるシード層を形成する工程と、前記第１ビアホールを含む部分に開口部が設けられためっきレジストを前記第１銅・錫合金層の上に形成する工程と、前記第１銅・錫合金層及び前記シード層をめっき給電層に利用する電解めっきにより、前記第１ビアホール及び前記めっきレジストの開口部に金属めっき層を形成する工程と、前記めっきレジストを除去する工程と、前記金属めっき層をマスクにして前記第１銅・錫合金層をエッチングすることにより、前記シード層、前記第１銅・錫合金層及び前記金属めっき層を備えた第２配線層を形成する工程とを有する配線基板の製造方法が提供される。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１０４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１０４】
次いで、図１１（ｂ）に示すように、第２ビアホールＶＨ２の側壁及び底部と銅層１２の表面とに、無電解めっきの触媒金属としてパラジウム（Ｐｄ）６２を付着させる。図１１（ａ）の構造体をパラジウムイオンを含むアルカリ溶液に浸漬させた後に、還元処理することにより、パラジウム６２を付着させることができる。