【事件の表示】
　特願２００１−１４２９２９号「基板処理方法及び基板処理装置」拒絶査定不服審判事件〔平成１４年２月１５日出願公開、特開２００２−５０６００号〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１．手続の経緯   
　本件に係る出願（以下「本願」という。）は、平成１３年５月１４日（優先権主張平成１２年５月１５日）の特許出願であって、平成１９年２月５日付けで手続補正がなされ、さらに同年８月２７日付けで手続補正がなされた。そして、同年８月２７日付け手続補正について、同年１１月２日付けで補正却下の決定がなされるとともに、同日付けで拒絶査定がなされた（発送日：同年１１月１３日）。これに対し、同年１２月１３日に拒絶査定不服の審判請求がなされたものである。
　
２．本願発明について
(1)本願発明
　本願の請求項１を引用する請求項４に係る発明（以下「本願発明」という。）は、平成１９年２月５日付け手続補正書により補正された明細書及び図面の記載からみて、その特許請求の範囲の請求項１及び４に記載された次の事項により特定されるとおりのものである。    
「処理槽内で少なくとも第１の処理液と第２の処理液を用いて基板を処理する方法であって、
　前記処理槽内に前記第１の処理液を充填し、前記第１の処理液中に基板を浸漬させて処理した後、前記第１の処理液とは比重が異なる前記第２の処理液を前記処理槽内に供給しつつ、前記処理槽内から前記第１の処理液を排液することにより、前記処理槽内に充填される液を前記第２の処理液にすべて置換し、前記第２の処理液中に基板を浸漬させて処理し、その後、前記処理槽の上方に基板を上昇させて基板を乾燥させることを特徴とする、基板処理方法であり、
　前記処理槽の周囲を不活性雰囲気にすることを特徴とする基板処理方法。」
　
(2)刊行物
(2-1)原査定の拒絶の理由に引用された、本願の優先権主張日前に頒布された刊行物である特開昭６３−５８８４０号公報（以下「刊行物」という。）には、図面と共に次の事項が記載されている。
ア．「しかしながら、一定洗浄時間内に洗浄液を●（●はさんずいに戸、以下同様。）過再生し、洗浄液中の粒子濃度を低くすることはフイルターの●過性能により制約され、また被洗浄物より除去された粒子は金属類であるためその比重が洗浄液よりも一般に大きく、洗浄液と共に槽上面よりオーバーフローされにくいという問題があつた。
　一方、
洗浄品質を上げるため
イ．「次に、互いに溶解しない比重の異なる２種類の洗浄液Ａ、Ｂ（比重はｄＡｄＢ）を１つの洗浄槽２に連続して供給し被洗浄物１０を洗浄する方法について説明する。
　先ずバルブ２０、２２、２３を閉じ、バルブ１９を開き、洗浄液Ａを供給口６より洗浄槽２内に供給し、被洗浄物１０を洗浄する。一定時間洗浄後、バルブ１９を閉じ、バルブ２０、２１を開いて予備タンク４内の洗浄液Ｂをポンプ２６およびフイルター２７を経て供給口７より洗浄槽２に供給する。
すると、洗浄液Ａは洗浄液Ｂより比重が小さいため第３図に示すように押し上げられてオーバーフロー槽３に溢流する。
　洗浄槽２を洗浄液Ｂで満した後、バルブ２２または２３を開、バルブ２１を閉とし、排出口８より排出されるかもしくはオーバーフロー槽３に溢流する洗浄液Ｂをポンプ２６、フイルター２７を経て●過し、再び供給ロ７より洗浄槽２に戻し循環させる。洗浄液Ｂによる一定時間洗浄後、被洗浄物１０を洗浄槽２の洗浄液排出側より供給側に移動し、しかる後引き上げる。バルブ２２又は２３、２４を開とし、予備タンク４に洗浄槽２内の洗浄液Ｂを回収する。この時ポンプ２６は停止している。そして、次の被洗浄物を洗浄するためバルブ２０、２２、２３、２４を閉、バルブ１９を開として洗浄液Ａを再び供給する。
　次に、本洗浄装置を使用してフオトマスク基板を洗浄する場合の具体例を説明する。」（第3頁左下欄第10行ないし第4頁左上欄第1行）
ウ．「
実施例２
　第１図および第３図の
洗浄液Ａとして超純水とＩＰＡ（比重０．７９）のｌ０：ｌ混合液を配管１２によつて供給口６より洗浄槽２に供給する。
フオトマスク基板１０を浸漬し、上下に揺動させながら１分間超音波洗浄を行う
　次に、フオトマスク基板１０を
混合液中に浸漬し
洗浄液Ｂ（1.1.2-トリクロル-1.2.2-トリフルオルエタン、商品名：フレオンＴＦ、比重１．５８）を、
供給ロ７より洗浄槽２に供給する。
フレオン
　
フレオンが洗浄槽２に注入されると超純水−ＩＰＡ液相は、洗浄槽２よりオ−バーフロー槽３に溢流する。
洗浄槽２を満したフレオン
この状態においてフオトマスク基板１０を上下揺動させつつ一定時間超音波洗浄し、しかる後洗浄槽２の排出側より供給側に移動して引き上げ、乾燥させる
清浄なフオトマスク基板が得られた
　上記記載事項及び図面の記載内容からみて、刊行物には、次の発明が記載されている。
「洗浄槽２に、洗浄液Ａと洗浄液Ｂとを供給し、フオトマスク基板１０を超音波洗浄する方法であつて、洗浄槽２に超純水とＩＰＡ（比重０．７９）からなる洗浄液Ａを供給口６より供給して混合液中にフオトマスク基板１０を浸漬し、上下に揺動させ超音波洗浄させ、
　次に、比重１．５８の1.1.2-トリクロル-1.2.2-トリフルオルエタン（商品名：フレオンＴＦ）からなる洗浄液Ｂを供給口７より洗浄槽２に供給し、
　フレオンが洗浄槽２に注入されると洗浄液Ａは押し上げられて洗浄槽２よりオーバーフロー槽３に溢流され、
　洗浄槽２をフレオンで満たし、
　この状態においてフオトマスク基板１０を上下揺動させ超音波洗浄し、
　しかる後、洗浄槽２より引き上げ乾燥させる
　洗浄品質を向上させたフオトマスク基板１０の洗浄方法。」
　
(3)対比
　本願発明と刊行物に記載された発明を対比する。 
　刊行物に記載された発明の「洗浄槽２」は、その構成及び機能からみて、本願発明の「処理槽」に相当し、以下同様に、
　「洗浄液Ａ」、「超純水とＩＰＡ（比重０．７９）からなる洗浄液Ａ」及び「混合液」は「第１の処理液」に、
　「洗浄液Ｂ」、「比重１．５８の1.1.2-トリクロル-1.2.2-トリフルオルエタン（商品名：フレオンＴＦ）からなる洗浄液Ｂ」及び「フレオン」は「第２の処理液」に、
　「・・・供給して・・・を浸漬し」は「・・・用いて・・・浸漬させ」に、
　「フオトマスク基板１０」は「基板」に、
　「洗浄槽２に超純水とＩＰＡ（比重０．７９）からなる洗浄液Ａを供給口６より供給し」は「処理槽内に第１の処理液を充填し」に、
　「混合液中にフオトマスク基板１０を侵漬し」は「第１の処理液中に基板を浸漬させ」に、
　「上下に揺動させ超音波洗浄させ」は、超音波洗浄処理を行う態様を示していることから「処理し」に、
　「次に、比重１．５８の・・・洗浄液Ｂを供給口７より洗浄槽２に供給し」は、洗浄液Ｂの比重１．５８と超純水（比重約１．０）とＩＰＡ（比重０．７９）からなる洗浄液Ａの比重とは異なることから「処理した後、第１の処理液とは比重が異なる第２の処理液を処理槽内に供給し」に、
　「フレオンが洗浄槽２に注入されると洗浄液Ａは押し上げられて洗浄槽２よりオーバーフロー槽３に溢流され」は「第２の処理液を前記処理槽内に供給しつつ、前記処理槽内から前記第１の処理液を排液することにより」に、
　「洗浄槽２をフレオンで満たし」は、フレオンで満たすことにより、洗浄槽内の洗浄液Ａをフレオンにすべて置き換えることから、「処理槽内に充填される液を第２の処理液にすべて置換し」に、
　「この状態においてフオトマスク基板１０を上下揺動させ、超音波洗浄し」は、フオトマスク基板１０をフレオンに浸漬したまま、超音波洗浄処理を行う態様を示していることから「第２の処理液中に基板を浸漬させて処理し」に、
　「しかる後、洗浄槽２より引き上げ乾燥させ」は「その後，処理槽の上方に基板を上昇させて基板を乾燥させ」に、それぞれ相当する。
　したがって、上記両者の一致点及び相違点は、次のとおりである。　　　［一致点］
「処理槽内で第１の処理液と第２の処理液を用いて基板を処理する方法であって，
　前記処理槽内に前記第１の処理液を充填し、前記第１の処理液中に基板を浸漬させて処理した後、前記第１の処理液とは比重が異なる前記第２の処理液を前記処理槽内に供給しつつ、前記処理槽内から前記第１の処理液を排液することにより、前記処理槽内に充填される液を前記第２の処理液にすべて置換し、前記第２の処理液中に基板を浸漬させて処理し、その後、前記処理槽の上方に基板を上昇させて基板を乾燥させる基板処理方法。」
［相違点］
　本願発明では、処理槽の周囲を不活性雰囲気にするものであるのに対して、
　刊行物に記載された発明では、この点が不明である点。
　
(4)当審の判断
　以下、上記相違点について検討する。
　半導体基板洗浄の技術分野において、基板乾燥時に、基板への水滴付着を防止するために処理槽の周囲を不活性雰囲気にし、基板を処理槽から不活性雰囲気中へ移行させることは本願の優先権主張日前に周知の技術事項である（例えば、特開平６−１６３５０８号公報の段落【0004】、【0006】、【0012】及び【図3】や、特開平６−１６３５０７号公報の段落【0004】〜【0006】、【0013】及び【図2】を参照のこと。）。
　したがって、刊行物に記載された発明の基板の乾燥方法に上記周知の技術事項を適用して、上記相違点における本願の構成に到達することは当業者にとって容易である。
　そして、本願発明の奏する効果についてみても、刊行物に記載された発明及び周知の技術事項が奏する効果から当業者が予測できた範囲内のものである。
　よって、本願発明は、刊行物に記載された発明及び周知の技術事項に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであるといえる。
　
(5)むすび  
　以上のとおりであるから、本願発明は、刊行物に記載された発明及び周知の技術事項に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであるので、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　したがって、本願のその他の請求項に係る発明について検討するまでもなく、本願は拒絶すべきものである。
　よって、結論のとおり審決する。