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【手続補正書】
【提出日】平成26年11月19日(2014.11.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
振動膜と、
前記振動膜と離間して設けられ、前記振動膜を振動させるためのアクチュエーターと、
前記振動膜と前記アクチュエーターとの間に設けられた電極対と、
前記電極対の電極間に配置され、前記電極間に電位差が生じた場合に粘度が変化する電気粘性流体と、を備え、
前記アクチュエーターは前記電気粘性流体を介して前記振動膜を振動させ、
前記電極対は、電界の方向が前記振動膜の振動方向と交差するように設けられる、触感呈示装置。
【請求項２】
請求項１に記載の触感呈示装置において、
前記電極対の電極が前記振動膜の振動方向と交差する方向に並んで配置されている、触感呈示装置。
【請求項３】
請求項１または２に記載の触感呈示装置において、
複数の前記電極対がマトリックス状に配置されている、触感呈示装置。
【請求項４】
請求項３に記載の触感呈示装置において、
複数の前記電極対に印加される電圧を制御可能な制御手段を備える、触感呈示装置。
【請求項５】
請求項１乃至４のうちいずれか一項に記載の触感呈示装置において、
前記アクチュエーターと前記電気粘性流体との間に設けられた弾性部材と、
前記振動膜を覆うように配置された板状部材と、を備え、
前記板状部材は前記振動膜の一部を露出させる開口部を有し、
前記開口部の面積よりも、前記アクチュエーターにより振動する前記弾性部材の面積のほうが大きい、触感呈示装置。
【請求項６】
請求項１乃至４のうちいずれか一項に記載の触感呈示装置において、
前記アクチュエーターと前記電気粘性流体との間に設けられた弾性部材と、
前記弾性部材と前記アクチュエーターとの間に設けられ、前記弾性部材及び前記アクチュエーターと接触可能なピストンと、
前記振動膜を覆うように配置された板状部材と、を備え、
前記板状部材は前記振動膜の一部を露出させる開口部を有し、
前記開口部の面積よりも、前記弾性部材のうち前記ピストンと接触する部分の面積のほうが大きい、触感呈示装置。
【手続補正書】
【提出日】平成27年6月26日(2015.6.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、電子メールの誤送信防止に関し、作成中の電子メールに入力されるキーワードに応じて、誤って設定された可能性のある送信先を通知する情報処理装置、その制御方法、及びプログラムに関する。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本発明は、作成中の電子メールに入力されるキーワードに応じて、誤って設定された可能性のある送信先を通知する仕組みを提供することを目的とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
上記の目的を達成するために、本発明の情報処理装置は、送信済みの電子メールの送信先ごとに、当該電子メールに含まれるキーワードを記憶する記憶手段と、電子メールの作成画面を介して、電子メールの作成を受け付ける受付手段と、作成中の電子メールに設定された送信先とは異なる送信先に対応する、前記記憶手段に記憶されるキーワードの入力を前記受付手段で受け付け、当該作成中の電子メールの送信先に関する情報を、当該電子メールを作成中の前記作成画面を介して通知する通知手段とを備えることを特徴とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本発明によれば、作成中の電子メールに入力されるキーワードに応じて、誤って設定された可能性のある送信先を通知することができる効果を奏する。
【手続補正５】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
送信済みの電子メールの送信先ごとに、当該電子メールに含まれるキーワードを記憶する記憶手段と、
電子メールの作成画面を介して、電子メールの作成を受け付ける受付手段と、
作成中の電子メールに設定された送信先とは異なる送信先に対応する、前記記憶手段に記憶されるキーワードの入力を前記受付手段で受け付け、当該作成中の電子メールの送信先に関する情報を、当該電子メールを作成中の前記作成画面を介して通知する通知手段と
を備えることを特徴とする情報処理装置。
【請求項２】
前記情報処理装置は、
前記電子メールの作成中に、当該電子メールの送信先が前記記憶手段に記憶されているか否かを判定する判定手段と、
前記第１の判定手段で当該電子メールの送信先が前記記憶手段に記憶されていると判定された場合に、当該送信先と当該電子メールに入力されたキーワードとの関係を判断し、前記第１の判定手段で当該電子メールの送信先が前記記憶手段に記憶されていないと判定された場合に、当該送信先と当該電子メールに入力されたキーワードとの関係を判断しない判断手段と
を更に備えることを特徴とする請求項１に記載の情報処理装置。
【請求項３】
前記通知手段は、作成中の電子メールに設定された送信先とは異なる送信先に対応する前記記憶手段に記憶されるキーワードの入力を前記受付手段で受け付けることにより、当該作成中の電子メールの送信先に関する情報を、前記作成画面で透過表示して通知することを特徴とする請求項１または２に記載の情報処理装置。
【請求項４】
前記通知手段は、作成中の電子メールに設定された送信先とは異なる送信先に対応する前記キーワードの入力を受け付けた数に応じて変化する透過率で当該作成中の電子メールの送信先に関する情報を、前記作成画面で透過表示して通知することを特徴とする請求項３に記載の情報処理装置。
【請求項５】
前記通知手段は、作成中の電子メールに設定された送信先とは異なる送信先に対応する所定数の前記キーワードの入力を前記受付手段で受け付けることにより、当該作成中の電子メールの送信先に関する情報を、前記作成画面を介して即時通知することを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の情報処理装置。
【請求項６】
前記記憶手段は、送信先ごとに当該送信先を示す名称を更に記憶し、
前記通知手段は、作成中の電子メールの送信先に対応する名称が前記記憶手段に記憶されている場合には、当該名称を通知し、作成中の電子メールの送信先に対応する名称が前記記憶手段に記憶されていない場合には、当該送信先を示すメールアドレスを通知することを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の情報処理装置。
【請求項７】
送信済みの電子メールの送信先ごとに、当該電子メールに含まれるキーワードを記憶する記憶手段を備える情報処理装置の制御方法であって、
前記情報処理装置の受付手段が、電子メールの作成画面を介して、電子メールの作成を受け付ける受付ステップと、
前記情報処理装置の通知手段が、作成中の電子メールに設定された送信先とは異なる送信先に対応する、前記記憶手段に記憶されるキーワードの入力を前記受付ステップで受け付け、当該作成中の電子メールの送信先に関する情報を、当該電子メールを作成中の前記作成画面を介して通知する通知ステップと
を備えることを特徴とする情報処理装置の制御方法。
【請求項８】
送信済みの電子メールの送信先ごとに、当該電子メールに含まれるキーワードを記憶する記憶手段を備える情報処理装置の制御方法を実行可能なプログラムであって、
前記情報処理装置を、
電子メールの作成画面を介して、電子メールの作成を受け付ける受付手段と、
作成中の電子メールに設定された送信先とは異なる送信先に対応する、前記記憶手段に記憶されるキーワードの入力を前記受付手段で受け付け、当該作成中の電子メールの送信先に関する情報を、当該電子メールを作成中の前記作成画面を介して通知する通知手段
として機能させることを特徴とするプログラム。
【手続補正書】
【提出日】平成27年7月21日(2015.7.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
そこで、本発明の目的は、データ上の閉領域を構成する外形線を容易に特定することの可能な仕組みを提供することである。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
上記の目的を達成するために、本発明の情報処理装置は、複数の線要素を含むデータを記憶する記憶手段を備える情報処理装置であって、前記記憶手段に記憶された前記複数の線要素から、線要素の選択を受け付ける選択受付手段と、前記選択受付手段によって選択を受け付けた前記線要素と交わる線要素を一部とする、閉領域の外形線を特定する外形線特定手段と、を備えることを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
本発明によれば、データ上の閉領域を構成する外形線を容易に特定することの可能な仕組みを提供することのできる効果を奏する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の線要素を含むデータを記憶する記憶手段を備える情報処理装置であって、
前記記憶手段に記憶された前記複数の線要素から、線要素の選択を受け付ける選択受付手段と、
前記選択受付手段によって選択を受け付けた前記線要素と交わる線要素を一部とする、閉領域の外形線を特定する外形線特定手段と、を備えることを特徴とする情報処理装置。
【請求項２】
複数の線要素を含むデータを記憶する記憶手段を備える情報処理装置の制御方法であって、
前記情報処理装置が、
前記記憶手段に記憶された前記複数の線要素から、線要素の選択を受け付ける選択受付工程と、
前記選択受付工程によって選択を受け付けた前記線要素と交わる線要素を一部とする、閉領域の外形線を特定する外形線特定工程と、を備えることを特徴とする情報処理装置の制御方法。
【請求項３】
複数の線要素を含むデータを記憶する記憶手段を備える情報処理装置で実行可能なプログラムであって、
前記情報処理装置を、
前記記憶手段に記憶された前記複数の線要素から、線要素の選択を受け付ける選択受付手段、
前記選択受付手段によって選択を受け付けた前記線要素と交わる線要素を一部とする、閉領域の外形線を特定する外形線特定手段、
として機能させることを特徴とするプログラム。
【請求項４】
前記外形線特定手段は、前記選択受付手段で選択を受け付けた前記線要素の少なくとも一部を含む閉領域の外形線も前記閉領域の外形線として特定することを特徴とする請求項３に記載のプログラム。
【請求項５】
前記選択受付手段によって選択を受け付けた前記線要素と他の線要素とが交差する交点と、前記線要素の端点とを特定する点特定手段を更に備え、
前記外形線特定手段は、前記点特定手段で特定された前記交点と前記端点とを用いて、前記閉領域の外形線を特定することを特徴とする請求項３または４に記載のプログラム。
【請求項６】
前記外形線特定手段は、前記点特定手段で特定された前記交点のうち隣接する２つの交点の間の第一の点と、前記点特定手段で特定された前記端点と当該端点に最も近い交点との間の第二の点とを用いて、前記閉領域の外形線を特定することを特徴とする請求項５に記載のプログラム。
【請求項７】
前記外形線特定手段は、前記第一の点と前記第二の点とをそれぞれ起点とした共通の抽出方法を用いて閉領域の外形線を抽出することを特徴とする請求項６に記載のプログラム。
【請求項８】
前記外形線特定手段で特定した外形線で構成される閉領域を識別表示する表示制御手段を更に備えることを特徴とする請求項３乃至７のいずれか１項に記載のプログラム。
【手続補正書】
【提出日】平成26年11月20日(2014.11.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光学機器に搭載される防振制御装置であって、
前記光学機器の振れによる画像ブレを、補正部材を移動させることにより補正する振れ補正手段と、
前記振れの角速度を検出する第１振れ検出手段と、
前記第１振れ検出手段とは異なる方法で振れを検出する第２振れ検出手段と、
前記光学機器の傾き位置を検出する姿勢検出手段と、
前記第１振れ検出手段の出力に基づく第１信号と前記第２振れ検出手段の出力に基づく第２信号と前記姿勢検出手段に基づく姿勢判定値とを用いて、前記補正部材の移動量である補正値を演算する演算手段と、
前記補正値を用いて前記第１振れ検出手段の出力を補正する出力手段とを備え、
前記演算手段は、各姿勢判定値により変化する、前記第１振れ検出手段の出力に基づく第１信号と第２振れ検出手段の出力に基づく第２信号の相関性に基づいて、振れ補正機構の駆動軸の補正値に対して重み付けを行うことを特徴とする防振制御装置。
【請求項２】
前記演算手段は、前記相関性が低いと判定される振れ補正機構の駆動軸の補正値が小さくなるよう重み付けを行うことを特徴とする請求項１に記載の防振制御装置。
【請求項３】
光学機器に搭載される防振制御装置であって、
前記光学機器の振れによる画像ブレを、補正部材を移動させることにより補正する振れ補正手段と、
前記振れの角速度を検出する第１振れ検出手段と、
前記第１振れ検出手段とは異なる方法で振れを検出する第２振れ検出手段と、
前記光学機器の傾き位置を検出する姿勢検出手段と、
前記第１振れ検出手段の出力に基づく第１信号と前記第２振れ検出手段の出力に基づく第２信号と前記姿勢検出手段に基づく姿勢判定値とを用いて、前記補正部材の移動量である補正値を演算する演算手段と、
前記第１振れ検出手段の出力に基づく第１信号と前記第２振れ検出手段の出力に基づく第２信号の相関性を判定する相関性判定手段と、
前記補正値を用いて前記第１振れ検出手段の出力を補正する出力手段とを備え、
前記演算手段は、前記相関性判定手段の判定結果に基づいて、振れ補正機構の駆動軸の補正値に対して重み付けを行うことを特徴とする防振制御装置。
【請求項４】
前記光学機器の傾き位置によって変化する、前記第１振れ検出手段の出力に基づく第１信号と前記第２振れ検出手段の出力に基づく第２信号の相関性を、前記相関性判定手段により判定し、前記相関性が低いと判定される前記振れ補正機構の駆動軸の補正値が小さくなるよう重み付けを行うことを特徴とする請求項３に記載の防振制御装置。
【請求項５】
請求項１乃至４のいずれか１項に記載の防振制御装置を備えた光学機器。
【請求項６】
請求項１乃至４のいずれか１項に記載の防振制御装置を備えた撮像装置。
【請求項７】
光学機器に搭載される防振制御装置の防振制御方法であって、
前記光学機器の振れによる画像ブレを補正部材を移動させることにより補正する振れ補正工程と、
前記振れの角速度を検出する第１振れ検出工程と、
前記第１振れ検出工程とは異なる方法で振れを検出する第２振れ検出工程と、
前記光学機器の傾き位置を検出する姿勢検出工程と、
前記第１振れ検出工程の出力に基づく第１信号と前記第２振れ検出工程の出力に基づく第２信号と前記姿勢検出工程に基づく姿勢判定値とを用いて、前記補正部材の移動量である補正値を演算する演算工程と、
前記補正値を用いて前記第１振れ検出工程の出力を補正する出力工程とを備え、
前記演算工程においては、各姿勢判定値により変化する、前記第１振れ検出工程の出力に基づく第１信号と第２振れ検出工程の出力に基づく第２信号の相関性に基づいて、振れ補正機構の駆動軸の補正値に対して重み付けを行うことを特徴とする防振制御方法。
【請求項８】
光学機器に搭載される防振制御装置の制御方法であって、
前記光学機器の振れによる画像ブレを、補正部材を移動させることにより補正する振れ補正工程と、
前記振れの角速度を検出する第１振れ検出工程と、
前記第１振れ検出工程とは異なる方法で振れを検出する第２振れ検出工程と、
前記光学機器の傾き位置を検出する姿勢検出工程と、
前記第１振れ検出工程の出力に基づく第１信号と前記第２振れ検出工程の出力に基づく第２信号と前記姿勢検出工程の出力に基づく姿勢判定値とを用いて、前記補正部材の移動量である補正値を演算する演算工程と、
前記第１振れ検出工程の出力に基づく第１信号と前記第２振れ検出工程の出力に基づく第２信号の相関性を判定する相関性判定工程と、
前記補正値を用いて前記第１振れ検出工程の出力を補正する出力工程とを備え、
前記演算工程においては、前記相関性判定工程の判定結果に基づいて、振れ補正機構の駆動軸の補正値に対して重み付けを行うことを特徴とする防振制御方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】防振制御装置、防振制御方法、光学機器、撮像装置
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
本発明に係わる防振制御装置は、光学機器に搭載される防振制御装置であって、前記光学機器の振れによる画像ブレを、補正部材を移動させることにより補正する振れ補正手段と、前記振れの角速度を検出する第１振れ検出手段と、前記第１振れ検出手段とは異なる方法で振れを検出する第２振れ検出手段と、前記光学機器の傾き位置を検出する姿勢検出手段と、前記第１振れ検出手段の出力に基づく第１信号と前記第２振れ検出手段の出力に基づく第２信号と前記姿勢検出手段に基づく姿勢判定値とを用いて、前記補正部材の移動量である補正値を演算する演算手段と、前記補正値を用いて前記第１振れ検出手段の出力を補正する出力手段とを備え、前記演算手段は、各姿勢判定値により変化する、前記第１振れ検出手段の出力に基づく第１信号と第２振れ検出手段の出力に基づく第２信号の相関性に基づいて、振れ補正機構の駆動軸の補正値に対して重み付けを行うことを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成27年10月29日(2015.10.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
液晶組成物を挟持する透光性を有する第１の基板、及び第２の基板と、
前記第１の基板と前記液晶組成物との間に設けられた、第１の電極層、第２の電極層、遮光性を有する膜、及びスペーサとを有し、
前記スペーサは前記遮光性を有する膜上方に設けられ、
前記スペーサの下面はすべて前記遮光性を有する膜の上面と重畳することを特徴とする液晶表示装置。
【請求項２】
請求項１において、前記第１の電極層、前記第２の電極層、及び前記遮光性を有する膜は同じ材料であることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項３】
液晶組成物を挟持する透光性を有する第１の基板、及び第２の基板と、
前記第１の基板と前記液晶組成物との間に、前記第１の基板側から順に設けられた遮光性を有する導電膜を含む素子層、及び絶縁膜と、
前記絶縁膜上方に第１の電極層、第２の電極層、及びスペーサとを有し、
前記スペーサは前記遮光性を有する導電膜上方に設けられ、
前記スペーサの下面はすべて前記遮光性を有する導電膜の上面と重畳することを特徴とする液晶表示装置。
【請求項４】
請求項１乃至３のいずれか一項において、前記液晶組成物はネマティック液晶、及びカイラル剤を含み、ブルー相を発現することを特徴とする液晶表示装置。
【請求項５】
請求項１乃至４のいずれか一項において、前記液晶組成物は高分子化合物を含むことを特徴とする液晶表示装置。
【請求項６】
透光性を有する第１の基板上方に、絶縁膜を形成し、
前記絶縁膜に接して、第１の電極層、第２の電極層、及び遮光性を有する膜を形成し、
前記絶縁膜及び前記遮光性を有する膜上方に、選択的に感光性樹脂層を形成し、
前記遮光性を有する膜をマスクとして、前記第１の基板側から前記感光性樹脂層に選択的に光を照射し、
前記感光性樹脂層において前記光を照射した領域を除去してスペーサを形成し、
前記絶縁膜上方に、シール材を形成し、
前記シール材の内側に、前記第１の電極層、前記第２の電極層、及び前記スペーサに接して液晶組成物を充填し、
前記シール材、及び前記スペーサと接し、前記液晶組成物を封止する第２の基板を設けることを特徴とする液晶表示装置の作製方法。
【請求項７】
請求項６において、前記第１の電極層、前記第２の電極層、及び前記遮光性を有する膜は同材料を用いて同工程により形成することを特徴とする液晶表示装置の作製方法。
【請求項８】
透光性を有する第１の基板上方に、遮光性を有する導電膜を含む素子層を形成し、
前記素子層上方に、絶縁膜を形成し、
前記絶縁膜に接して、第１の電極層、及び第２の電極層を形成し、
前記絶縁膜を介して、前記遮光性を有する導電膜上方に、選択的に感光性樹脂層を形成し、
前記遮光性を有する導電膜をマスクとして、前記第１の基板側から前記感光性樹脂層に選択的に光を照射し、
前記感光性樹脂層において前記光を照射した領域を除去してスペーサを形成し、
前記絶縁膜上方に、シール材を形成し、
前記シール材の内側に、前記第１の電極層、前記第２の電極層、及び前記スペーサに接して液晶組成物を充填し、
前記シール材、及び前記スペーサと接し、前記液晶組成物を封止する第２の基板を設けることを特徴とする液晶表示装置の作製方法。
【請求項９】
請求項６乃至８のいずれか一項において、前記液晶組成物としてネマティック液晶、及びカイラル剤を含み、ブルー相を発現する液晶組成物を用いることを特徴とする液晶表示装置の作製方法。
【請求項１０】
請求項６乃至９のいずれか一項において、前記液晶組成物は重合性モノマー、及び重合開始剤を含み、
前記液晶組成物を封止する第２の基板を設けた後、
前記液晶組成物に光を照射し重合させることを特徴とする液晶表示装置の作製方法。
【手続補正書】
【提出日】平成27年10月29日(2015.10.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
液晶組成物を挟持する第１の基板、及び第２の基板と、
前記第１の基板上方の前記液晶組成物側の面から前記液晶組成物中に突出する第１の構造体と、
前記第１の構造体の間に設けられ、前記第１の基板上方の前記液晶組成物側の面から前記液晶組成物中に突出する第２の構造体と、
前記第１の構造体上方に第１の電極層と、
前記第２の構造体上方に第２の電極層と、
前記第１の構造体又は前記第２の構造体上方にスペーサとを有し、
前記第１の構造体及び前記第２の構造体はそれぞれ連続して設けられており、
前記第１の電極層又は前記第２の電極層と、前記スペーサとは、連続して設けられた前記第１の構造体又は前記第２の構造体の上面に接して設けられることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項２】
液晶組成物を挟持する第１の基板、及び第２の基板と、
前記第１の基板上方の前記液晶組成物側の面から前記液晶組成物中に突出する複数の第１の構造体と、
前記複数の第１の構造体の間に設けられ、前記第１の基板上方の前記液晶組成物側の面から前記液晶組成物中に突出する複数の第２の構造体と、
前記複数の第１の構造体上方に第１の電極層と、
前記複数の第２の構造体上方に第２の電極層と、
前記複数の第１の構造体又は前記複数の第２の構造体の少なくとも一の上方にスペーサとを有し、
前記複数の第１の構造体又は前記複数の第２の構造体の少なくとも一において、前記第１の電極層又は前記第２の電極層と、前記スペーサとは、連続して設けられた前記複数の第１の構造体又は前記複数の第２の構造体の少なくとも一の上面に接して設けられることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項３】
請求項１又は請求項２において、前記第１の構造体及び前記第２の構造体は、側面にテーパ形状を有することを特徴とする液晶表示装置。
【請求項４】
請求項３において、前記第１の電極層及び前記第２の電極層の一部は、前記第１の構造体又は前記第２の構造体の側面を覆うことを特徴とする液晶表示装置。
【請求項５】
請求項１乃至４のいずれか一項において、前記液晶組成物はネマティック液晶、及びカイラル剤を含み、ブルー相を発現することを特徴とする液晶表示装置。
【請求項６】
請求項１乃至５のいずれか一項において、前記液晶組成物は高分子化合物を含むことを特徴とする液晶表示装置。
【請求項７】
請求項１乃至６のいずれか一項において、前記第１の電極層、及び前記第２の電極層は、前記液晶組成物に接していることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項８】
請求項１乃至７のいずれか一項において、前記第１の電極層、及び前記第２の電極層は、櫛歯状であることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項９】
請求項１乃至８のいずれか一項において、前記第１の基板と、前記第１の電極層及び前記第２の電極層との間にトランジスタが設けられ、前記第１の電極層は前記トランジスタと電気的に接続していることを特徴とする液晶表示装置。
【手続補正書】
【提出日】平成26年12月9日(2014.12.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光重合性モノマーと、光重合開始剤と、前記光重合開始剤を増感せしめる増感色素と、バインダー樹脂と、硬化剤とを含有する体積型ホログラム記録用感光性組成物であって、
前記硬化剤がイソシアネート化合物を有し、
前記バインダー樹脂が、前記イソシアネート化合物が有するイソシアネート基と反応する官能基を有する熱可塑性樹脂を含有し、前記官能基がカルボキシル基であること、
を特徴とする体積型ホログラム記録用感光性組成物。
【請求項２】
前記イソシアネート化合物がイソシアネート化合物のアダクト体であること、
を特徴とする請求項１に記載の体積型ホログラム記録用感光性組成物。
【請求項３】
前記イソシアネート化合物が、少なくとも環構造を有する環構造含有多価イソシアネート化合物を含有すること、
を特徴とする請求項１または請求項２に記載の体積型ホログラム記録用感光性組成物。
【請求項４】
請求項１から請求項３までのいずれかに記載の体積型ホログラム記録用感光性組成物を用いる体積型ホログラム積層体の製造方法であって、
前記硬化剤および前記バインダー樹脂の架橋反応工程が、干渉露光工程の後に行われること、を特徴とする体積型ホログラム積層体の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成26年11月13日(2014.11.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
熱交換容器に蒸気と冷却流体とを供給して、蒸気を冷却流体で熱交換することにより凝縮させる熱交換器であって、
前記熱交換容器内の中心部に円筒パイプ状で上下端開放状態の大気開放管を配置し、
前記大気開放管の内部下方に、上端開放状態のオーバーフロー管を配置し、
前記オーバーフロー管の上端を前記大気開放管の底部より所定距離だけ高い位置に開口し、
前記熱交換容器に外部と連通する逆止弁を取り付け、
前記逆止弁の開弁圧力を、前記オーバーフロー管の上端の所定距離の高さに相当する水頭圧とほぼ同じにしたこと
を特徴とする熱交換器。
【手続補正書】
【提出日】平成26年11月14日(2014.11.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
蒸気管路内を流下する蒸気を減圧減温する弁部材を有する蒸気加熱装置であって、
前記弁部材の出口側を二重管構造とし、前記二重管の中心部を前記弁部材からの蒸気流下部とし、
前記二重管の外周部を前記弁部材の入口側蒸気と連通して、前記蒸気流下部を流下する蒸気を加熱すること
を特徴とする蒸気加熱装置。
【手続補正書】
【提出日】平成27年10月13日(2015.10.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
粒子分離装置であって、
第１の端部及び対向する第２の端部と、
前記第１の端部に隣接する入口流路、前記第２の端部に隣接する排出流路、及び前記第２の端部に隣接するコア流路と、
前記入口流路を少なくとも部分的に定める半径方向外側の壁面と、
前記壁面の少なくとも一部に配置された１つ又はそれ以上の溝と、
を備える、粒子分離装置。
【請求項２】
前記１つ又はそれ以上の溝の各々が、前記入口流路の長さに沿って軸方向に配置される、請求項１に記載の粒子分離装置。
【請求項３】
前記１つ又はそれ以上の溝の各々が、シュラウド付き側壁及び露出側壁を含む、請求項１に記載の粒子分離装置。
【請求項４】
前記シュラウド付き側壁が、前記溝の根元を少なくとも部分的に隠し、前記根元が前記シュラウド付き側壁及び前記露出側壁の両方に接続される、請求項３に記載の粒子分離装置。
【請求項５】
前記シュラウド付き側壁及び露出側壁の少なくとも１つが、非線形外形輪郭を有する、請求項３に記載の粒子分離装置。
【請求項６】
前記非線形外形輪郭が前記長さに沿って変化する、請求項５に記載の粒子分離装置。
【請求項７】
前記１つ又はそれ以上の溝が、底面寸法及び高さ寸法を含み、前記底面寸法と前記高さ寸法との間の比が前記１つ又はそれ以上の溝の長さに沿って変化する、請求項１に記載の粒子分離装置。
【請求項８】
前記入口流路が環状である、請求項１に記載の粒子分離装置。
【請求項９】
前記入口流路が非環状である、請求項１に記載の粒子分離装置。
【請求項１０】
粒子分離装置であって、
第１の端部及び対向する第２の端部と、
前記第１の端部から前記第２の端部に延びる第１の壁面及び前記第１の端部に隣接する第２の壁面と、
前記第１の端部に隣接する入口流路、前記第２の端部に隣接する排出流路、及び前記第２の端部に隣接するコア流路と、
前記排出流路と前記コア流路との間に配置されるスプリッターと、
前記入口流路内に配置され且つ前記入口流路の半径方向外側境界の少なくとも一部を定める前記第１の壁面上に配置される１つ又はそれ以上の溝と、
を備え、
前記入口流路が、前記第１の壁面の一部によって及び前記第２の壁面によって少なくとも部分的に定められる、粒子分離装置。
【請求項１１】
前記１つ又はそれ以上の溝の各々が、前記入口流路の長さに沿って軸方向に配置される、請求項１０に記載の粒子分離装置。
【請求項１２】
前記１つ又はそれ以上の溝の各々が、非線形外形輪郭を有する側壁を含む、請求項１０に記載の粒子分離装置。
【請求項１３】
前記入口流路が環状である、請求項１０に記載の粒子分離装置。
【請求項１４】
前記入口流路が非環状である、請求項１０に記載の粒子分離装置。
【請求項１５】
粒子分離装置であって、
そこを貫通する長手方向軸線と、
外側円周方向面及び内側円周方向面によって少なくとも部分的に定められるほぼ環状の入口流路と、
ほぼ環状の排出流路及びほぼ環状のコア流路と、
前記排出流路及び前記コア流路間に配置されたほぼ円周方向のスプリッターと、
前記入口流路内で前記外側円周方向面及び内側円周方向面の少なくとも１方に配置された複数の溝と、
を備える、粒子分離装置。
【請求項１６】
前記１つ又はそれ以上の溝の各々が、軸方向に配置される、請求項１５に記載の粒子分離装置。
【請求項１７】
前記１つ又はそれ以上の溝の各々が、前記外側円周方向面上にアレイ状に軸方向に配置される、請求項１５に記載の粒子分離装置。
【手続補正書】
【提出日】平成26年11月13日(2014.11.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
エゼクタと複数の液体圧送ポンプと液体タンクとを含むエゼクタ式真空ポンプであって、
前記液体タンクと前記各液体圧送ポンプの液体流入口とを接続し、
前記エゼクタの入口と前記各液体圧送ポンプの液体流出口とを接続し、
前記エゼクタの出口と前記液体タンクの上部とを接続し、
前記各液体圧送ポンプの液体流入口をそれぞれ高低差を設けて前記液体タンク内で開口し、
前記液体タンク内の液体を前記各液体圧送ポンプで圧送することにより、前記エゼクタにて吸引力を発生させること
を特徴とするエゼクタ式真空ポンプ。
【請求項２】
前記エゼクタの出口と接続する副液体タンクを、前記エゼクタよりも高い位置に配置し、
前記エゼクタの入口と前記副液体タンクの下部とを接続し、
前記副液体タンクと前記エゼクタの入口との間に生じた水頭圧によって流下する液体を前記エゼクタの駆動流体として用いること
を特徴とするエゼクタ式真空ポンプ。
【手続補正書】
【提出日】平成27年10月7日(2015.10.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
加速度計基部（２６）と、
前記加速度計基部に可撓可能に接続されたプルーフマス（２４）と、
前記プルーフマスおよび前記加速度計基部に結合された双音叉（ＤＥＴＦ）（２０）であって、
前記加速度計基部に取り付けられた双音叉基部（３４）、
前記双音叉基部の第１の側面から延在する張出し部（３８）、および
前記双音叉基部の前記第１の側面の反対側にある、前記張出し部の側面から延在する２つの枝部（３０，３２）を備える双音叉（ＤＥＴＦ）（２０）と、
前記張出し部の異なる半分の中に対向する力を発生させ、それにより前記枝部を振動させるように構成された駆動機構（１００，１０２）と
を備え、
前記駆動機構（１００，１０２）が、
前記張出し部の第１の縁部に隣接し、金属化パッドを有する第１の構造体（１２２）と、
前記張出し部の第２の縁部に隣接し、金属化パッドを有する第２の構造体（１２４）とを有する、加速度計。
【請求項２】
前記駆動機構が、
前記張出し部の第１の半分の上部上に配置された第１のトレース（７６）と、
前記張出し部の第２の半分の前記上部上に配置された第２のトレース（７４）と、
前記張出し部の前記第１の半分の底部上に配置された第３のトレース（８２）と、
前記張出し部の前記第２の半分の前記底部上に配置された第４のトレース（８０）と、
前記張出し部の第１の半分の縁面上に配置された第５のトレース（７２）と、
前記張出し部の第２の半分の縁面上に配置された第６のトレース（７０）と、
第１の極性で前記第１のトレース、前記第３のトレースおよび前記第６のトレースに結合された第１の構成要素（１００）と、
第２の極性で前記第２のトレース、前記第４のトレースおよび前記第５のトレースに結合された第２の構成要素（１０２）と、
前記第１のトレースと前記第２のトレースとの間の前記張出し部の前記上部上に配置された第１の電気絶縁体（７８）と、
前記第３のトレースと前記第４のトレースとの間の前記張出し部の前記底部上に配置された第２の電気絶縁体（７８）と
を備える、請求項１に記載の加速度計。
【請求項３】
加速度計基部（２６）と、
前記加速度計基部に可撓可能に接続されたプルーフマス（２４）と、
前記プルーフマスおよび前記加速度計基部に結合された双音叉（ＤＥＴＦ）（２０）であって、
前記加速度計基部に取り付けられた双音叉基部（３４）、
前記双音叉基部の第１の側面から延在する張出し部（３８、４０）、
前記双音叉基部の前記第１の側面の反対側にある、前記張出し部の側面から延在する２つの枝部（３０，３２）、および
前記張出し部（３８、４０）の異なる半分の中に対向する力を発生させ、それにより枝部を振動させる駆動機構（１００，１０２）であって、前記駆動機構（１００，１０２）は、前記張出し部（３８、４０）の側面に隣接する面に配置される金属製トレース（１１２、１１４）を有し、前記金属製トレース（１１２、１１４）に付与される電気は所望の周波数の２倍の周波数で駆動される、駆動機構（１００，１０２）とを備える、加速度計。
【手続補正書】
【提出日】平成27年1月16日(2015.1.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４３】
一例としてマルチコア光ファイバの結合係数の波長依存性に関して、クロストーク分布の平均値ＸＴμと波長との関係を図４に示す。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５１】
また、クロストークの確率分布形状自体も、同様に２Ｓλｄｅｖが約４．６ｄＢ以下であれば、２Ｓλｄｅｖが０ｄＢの場合、つまり波長λ０での確率分布形状と十分一致する。図６では、２Ｓλｄｅｖの違いによる確率分布形状の違いを示す。２Ｓλｄｅｖの変化に応じて、確率分布形状が変化することがわかる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５２】
さらに、２Ｓλｄｅｖが約４．６ｄＢより大きい場合でも、測定したクロストーク値を母集団として、確率密度分布を求め、次の数式（２０）で表される確率密度関数でフィッティングすることで、ＸＴμ，λ０、すなわち、基準波長λ０でのＸＴμ＝４σ２を求めることもできる。
【数２３】
2013130558.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成27年11月5日(2015.11.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ピクセルを含む画像内の乗法性及び加法性雑音を低減するための方法であって、
前記画像内の前記ピクセルの類似のパッチをクラスタリングするステップであって、クラスターは節点及び頂点からなる類縁性ネット内の節点を形成するものと、
前記各クラスターからの辞書内の対応する原子のスパース結合によって該辞書を学習するステップであって、前記辞書のサイズがクラスター行列の階数よりもはるかに小さいときに、前記辞書は不完全であるものと、
前記辞書を用いて前記パッチを協調的に統合して、雑音を除去した画像を構成するステップと、
を含み、
前記各ステップはプロセッサにおいて実行される、ピクセルを含む画像内の乗法性及び加法性雑音を低減するための方法。
【請求項２】
前記画像は合成開口レーダー(ＳＡＲ)のものであり、雑音パターンの或るパターンはスペックル雑音及びアーティファクトである、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記学習するステップは、前記類縁性ネットに適用される択一決定プロセスを用いる、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記節点は前記パッチに対応し、前記頂点は前記節点間の類似性に対応する、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記各クラスターはクラスター行列の形をとり、前記方法は、
前記クラスター内のコヒーレント変動を最も良く表す前記辞書を学習するために、前記各クラスターを対応する前記辞書及びスパースコーディング係数の一次関数に分解するステップを更に含む、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記学習が、
前記クラスター行列の列に対する投影誤差を求めるステップと、
前記投影誤差から係数間収束を求めるステップと、
最小の投影誤差及び発散誤差を与える集合としてスパース係数を選択して、前記辞書を更新するステップと、
終了判定基準として残差を求めるステップと、
を更に含む、請求項５に記載の方法。
【請求項７】
目的関数内に係数間発散項を追加して、係数発散に対するペナルティーを科すステップを更に含む、請求項６に記載の方法。
【請求項８】
前記辞書Ｄ及び前記スパース係数Ｘは、以下の目的関数を最適化することによって求められ、
【数１】
2013130573.tif 000001
ただし、ａｒｇｍｉｎは最小値を返し、λは前記画像に対する再構成の忠実度を調節するためのスカラーであり、μは前記再構成において課せられるスパース性の量を調整するためのスカラーであり、Ｃは前記クラスター行列を表し、Ｒｉはパッチインデックス演算子であり、λ２はスパース係数間の発散を調節するためのスカラーである、請求項７に記載の方法。
【請求項９】
前記クラスターのパッチは前記クラスター行列の列として配列される、請求項５に記載の方法。
【請求項１０】
対応する前記辞書によって前記各クラスターをフィルタリングするステップを更に含む、請求項１に記載の方法。
【請求項１１】
直交マッチング追跡手順によって前記節点を再構成するステップを更に含む、請求項１に記載の方法。
【請求項１２】
単一の節点が異なるクラスターに関与することができる、請求項１に記載の方法。
【請求項１３】
幾つかの節点は特異であり、頂点を持たない、請求項１に記載の方法。
【請求項１４】
前記類縁性ネットは重み付けされたグラフであり、重みωは前記パッチ間の類似性に対応する、請求項１に記載の方法。
【請求項１５】
パッチｐｉとｐｊとの間の類縁性は以下の式のように求められ、
【数２】
2013130573.tif 000002
ただし、ｋはインデックスであり、Ｋはピクセル内の前記パッチのサイズである、請求項１に記載の方法。
【請求項１６】
前記重みωがしきい値τよりも大きいパッチのみを保持するステップを更に含む、請求項１５に記載の方法。
【請求項１７】
前記辞書は２つの原子のみを有する、請求項１に記載の方法。
【請求項１８】
前記辞書は１つの原子を有する、請求項１に記載の方法。
【請求項１９】
前記画像に対数変換を適用するステップと、
前記対数変換された画像から前記雑音の非ゼロ平均を減算するステップと、
最終的な推定値のべき指数をとって、前記雑音を除去した画像を生成するステップと、
を更に含む、請求項１に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成26年11月18日(2014.11.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
対象成分を操作するためのチップデバイスであって、
基板と、前記基板表面に形成された溝と、前記溝内にゲル相と水系液体相とが前記溝の長手方向に交互に配置され且つ相同士が互いに接するように収容されている操作用媒体とを含む操作チップと、
対象成分を捕捉し運搬すべき磁性体粒子と、
前記基板に磁場を印加することによって前記磁性体粒子を前記基板上の前記溝の長手方向に移動させることができる磁場印加手段とを含むチップデバイス。
【請求項２】
前記水系液体相のうち、前記溝の一方又は他方の端に最も近い位置に収容されている水系液体相が、前記対象成分を含む試料が最初に供給されるべき水系液体相である、請求項１に記載のチップデバイス。
【請求項３】
前記溝が、主溝と、前記主溝から分岐する分岐溝とから構成されている、請求項１又は２に記載のチップデバイス。
【請求項４】
前記溝の主溝側の端に最も近い位置に収容されている水系液体相が、前記対象成分が最初に供給されるべき水系液体相である、請求項３に記載のチップデバイス。
【請求項５】
前記溝の分岐溝側の端に最も近い位置に収容されている水系液体相が、前記対象成分が最初に供給されるべき水系液体相である、請求項３に記載のチップデバイス。
【請求項６】
前記溝が、格子状に交差した複数の溝から構成されている、請求項１又は２に記載のチップデバイス。
【請求項７】
前記溝の表面の前記ゲル相が接している部分に疎水性処理がなされている、請求項１〜６のいずれか１項に記載のチップデバイス。
【請求項８】
前記溝の表面の前記水系液体相が接している部分に親水性処理がなされている、請求項１〜７のいずれか１項に記載のチップデバイス。
【請求項９】
前記溝が、０．００５ｍｍ〜１０ｍｍ幅、及び０．００５〜５ｍｍ深さである、請求項１〜８のいずれか１項に記載のチップデバイス。
【請求項１０】
前記基板の前記溝を有する側の表面に蓋板を有する、請求項１〜９のいずれか１項に記載のチップデバイス。
【請求項１１】
前記蓋板が、前記溝の少なくとも一方の末端に位置するゲル相に通じる孔が穿設されたものである、請求項１０に記載のチップデバイス。
【請求項１２】
前記磁場印加手段が、前記基板面に略並行に一次元アレイ状又は二次元アレイ状で配置されている複数の磁石であり、前記複数の磁石が互いに引き合った状態で、前記基板面に略並行且つ前記主溝の長手方向に移動可能なものであり、前記磁石の進路上且つ前記主溝から前記分岐溝への分岐点において、前記複数の磁石を分離するための分離補助具が設けられている、請求項４及び７〜１１のいずれか１項に記載のチップデバイス。
【請求項１３】
前記水系液体相が、核酸抽出液相、核酸洗浄液相、及び核酸増幅反応液相からなる群から選ばれる相を含む、請求項１〜１２のいずれか１項に記載のチップデバイス。
【請求項１４】
請求項１〜１３のいずれか１項に記載のチップデバイスに含まれる操作チップの作製方法であって、以下の工程を含む方法：
（i）基板上に形成された溝の長手方向に、複数のゲル塊が互いに隔離されて配置されたゲル相部を調製する工程；及び
（ii）前記ゲル相部に隣接する溝内空間に水系液体を入れることによって、水系液体相部を調製する工程。
【請求項１５】
（iii）基板の前記溝を有する側の表面に蓋板を設ける工程をさらに含む、請求項１４に記載の方法。
【請求項１６】
請求項１〜１３のいずれか１項に記載のチップデバイスを用いて対象成分を操作するための方法であって、以下の工程を含む方法：
（i）前記操作チップの一方の端に位置する水系液体相において、対象成分を含む試料と磁性体粒子と水系液体とを含む水系液体混合物を得る工程；
（ii）磁場印加手段によって磁場を生じさせ、前記磁性体粒子を前記対象成分と共に、前記最も端に位置する水系液体混合物の相から前記ゲル相を介して、隣接する水系液体相中へ運搬する工程；
（iii）前記水系液体相中で所望の処理を行う工程；
（iv）磁場印加手段によって磁場を生じさせ、前記磁性体粒子を前記対象成分と共に、前記水系液体相から他の水系液体相へ運搬する工程；
（v）前記他の水系液体相中で所望の処理を行う工程；
（vi）前記の工程（iv）及び（v）を必要に応じて繰り返す工程；及び
（vii）前記磁性体粒子を対象成分と共に前記操作チップの他方の端に位置する水系液体相へ運搬する工程。
【請求項１７】
前記操作チップが複数存在し、前記複数の操作チップについて、前記磁性体粒子による運搬を同時に行う、請求項１６に記載の方法。
【請求項１８】
前記対象成分が核酸であり、
前記工程（i）において、前記一方の端に位置する相における水系液混合物に含まれる水系液体が前記核酸を遊離させ、前記磁性体粒子へ結合又は吸着させる液体であり、前記水系液体中で核酸抽出が行われ、
前記工程（ii）〜（vi）において、前記水系液体相の少なくとも１つが前記磁性体粒子の洗浄液からなり、前記洗浄液中で遊離核酸に伴う夾雑物の除去による核酸精製が行われる、請求項１６又は１７に記載の方法。
【請求項１９】
前記工程（vii）において、前記他方の端に位置する水系液体相が核酸増幅反応液からなり、前記核酸増幅反応液中で精製核酸中の標的核酸の増幅が行われる、請求項１８に記載の方法。
【請求項２０】
前記核酸増幅反応による生成物をリアルタイムで検出する、請求項１９に記載の方法。
【請求項２１】
対象成分を操作するための操作チップであって、
基板と、
前記基板表面に形成された溝と、
前記溝内にゲル相と水系液体相とが前記溝の長手方向に交互に配置され且つ相同士が互いに接するように収容されている操作用媒体とを含み、
対象成分を捕捉し運搬すべき磁性体粒子が前記溝内の前記ゲル相又は前記水系液体相中に含められ、前記基板に磁場を印加することによって前記磁性体粒子を前記基板上の前記溝の長手方向に移動させるように構成された操作チップ。
【手続補正書】
【提出日】平成26年12月1日(2014.12.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
上記目的を達成するために、本発明の撮像装置は、レンズ鏡筒と、前記レンズ鏡筒の光学系を通過した光学像を電気信号に変換する撮像素子パッケージと、前記撮像素子パッケージが取り付けられ、前記レンズ鏡筒に固定される固定部材と、を備え、前記固定部材は、前記撮像素子パッケージが取り付けられる取り付け面と、前記レンズ鏡筒に固定される固定面と、前記取り付け面と前記固定面との間に形成された段差部とを有し、前記取り付け面を前記レンズ鏡筒に当接させることで、前記固定部材の前記光軸方向の位置が決められ、前記固定面が前記レンズ鏡筒に固定され、前記固定部材は、前記段差部に形成された第１の開口を有することを特徴とする。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
レンズ鏡筒と、
前記レンズ鏡筒の光学系を通過した光学像を電気信号に変換する撮像素子パッケージと、
前記撮像素子パッケージが取り付けられ、前記レンズ鏡筒に固定される固定部材と、
を備え、
前記固定部材は、前記撮像素子パッケージが取り付けられる取り付け面と、前記レンズ鏡筒に固定される固定面と、前記取り付け面と前記固定面との間に形成された段差部とを有し、
前記取り付け面を前記レンズ鏡筒に当接させることで、前記固定部材の前記光軸方向の位置が決められ、前記固定面が前記レンズ鏡筒に固定され、
前記固定部材は、前記段差部に形成された第１の開口を有することを特徴とする撮像装置。
【請求項２】
前記取り付け面を前記レンズ鏡筒に当接させた後、前記固定面を前記レンズ鏡筒に固定する前の状態にて、前記固定面と前記レンズ鏡筒との間には、隙間が発生するように、前記取り付け面および前記固定面は形成されていることを特徴とする請求項１に記載の撮像装置。
【請求項３】
前記取り付け面には、前記撮像素子パッケージの背面を露出させる第２の開口が形成され、
前記撮像素子パッケージの背面を前記取り付け面に当接させた後、前記第２の開口に接着剤を塗布することで、前記撮像素子パッケージは前記取り付け面に接着固定される
ことを特徴とする請求項１又は２に記載の撮像装置。
【請求項４】
光軸中心に対応する位置から前記第２の開口の第１の角までの距離は、光軸中心に対応する位置から第１の開口から遠い側の前記第２の開口の第２の角までの距離より短くなるように、前記第２の開口は形成され、
前記第２の開口の第１の角は、前記第１開口から遠い側の前記第２の開口の第２の角よりも前記第１の開口に近いことを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の撮像装置。