【事件の表示】
　特願２００２−１４９１３０「超音波洗浄装置及び超音波洗浄方法」拒絶査定不服審判事件〔平成１５年１２月　２日出願公開、特開２００３−３４０３８６〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１．手続の経緯
　本願は、平成１４年　５月２３日の出願であって、平成１８年　９月１１日付けで拒絶査定がなされ（平成１８年　９月１９日発送。）、これに対し、同年１０月１９日に拒絶査定不服審判の請求がなされるとともに、同年１１月２０日付けで手続補正がなされたものである。
　　　
２．平成１８年１１月２０日付けの手続補正についての補正却下の決定
［補正却下の決定の結論］
　平成１８年１１月２０日付けの手続補正を却下する。
　　　
［理由］
（１）補正後の本願発明
　本件補正により、特許請求の範囲の請求項１は、
「　被洗浄物の被洗浄面を超音波を印加した洗浄液を用いて洗浄する超音波洗浄装置において、
　上記被洗浄物を保持する保持手段と、
　この保持手段に保持された上記被洗浄物の被洗浄面に対向配置される超音波洗浄ユニットと、
　この超音波洗浄ユニットを上記被洗浄物の被洗浄面に対して位置決めする位置決め手段とを備え、
　上記超音波洗浄ユニットは、一方の面に超音波振動子が固定され、他方の面が凸状に形成されるとともに、上記被洗浄物と対向して配置され上記超音波振動子からの超音波振動を拡散する拡散手段と、
　上記被洗浄物の被洗浄面に洗浄液を供給する洗浄液供給手段と、
　上記拡散手段と上記被洗浄面との相対距離を計測する計測手段とを有し、　上記位置決め手段は、上記計測手段の出力に基づき、上記拡散手段の凸状部分と上記被洗浄面との間を表面張力により上記洗浄液が保持された状態で洗浄が行われる所定寸法に保つように、上記超音波洗浄ユニットを位置決めする制御手段とを有していることを特徴とする超音波洗浄装置。」と補正された。
　　　
　上記補正は、請求項１に記載した発明を特定する事項である「拡散手段」の「他方の面」について「凸状に形成される」との限定を付加し、「上記拡散手段と上記被洗浄面との間」を「上記拡散手段の凸状部分と上記被洗浄面との間」と限定するものであって、平成１８年改正前特許法第１７条の２第４項第２号の特許請求の範囲の減縮を目的とするものに該当する。
　　　
　そこで、本件補正後の前記請求項１に記載された発明（以下「本願補正発明」という。）が特許出願の際独立して特許を受けることができるものであるか（平成１８年法律第５５号改正附則第３条第１項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項に適合するか）について、以下に検討する。
　　　
（２）引用例
１）原査定の拒絶の理由に引用された特開２００２−７９１７７号公報（以下「引用例１」という。）には、図面とともに以下の事項が記載されている。
　　　
ア「【発明の属する技術分野】本発明は超音波振動子及びウエット処理用ノズル並びにウエット処理装置に係わり、特に、半導体デバイス、液晶表示パネル等の製造工程における洗浄処理に用いて好適な技術に関するものである。」（段落【０００１】）
　　　
イ「本発明は、上記事情に鑑みてなされたもので、超音波振動子本体から振動部に付与した超音波振動が側壁部から逃げるのを防止できる超音波振動子を提供することを課題の１つとする。
　また、本発明は超音波振動子本体が設けられている振動部からの処理液への超音波振動の放射効率を向上できるウエット処理用ノズルを提供することを課題の１つとする。」（段落【０００８】）
　　　
ウ「また、上記の課題を解決するために、本発明のウエット処理装置は、上記の構成の本発明のウエット処理用ノズルと、被処理物の被処理面に沿って上記ウエット処理用ノズルと上記被処理物とを相対移動させることにより上記被処理物の被処理面全域を処理するためのノズル・被処理物相対移動手段とを有することを特徴とする。
　本発明のウエット処理装置では、本発明のウエット処理用ノズルと、被処理物の被処理面に沿ってウエット処理用ノズルと被処理物とを相対移動させるノズル・被処理物相対移動手段とを備えたことにより、上記本発明のウエット処理用ノズルの利点を有したまま被処理物の被処理面全域を処理することができ、また、投入電力に対する洗浄効率の高いウエット処理装置を提供できる。」（【００１８】）
　　　　　　
エ「第１の実施の形態の洗浄用ノズル１は、一端に洗浄液（処理液）２を導入するための導入口２１ａを有する導入通路（導入管）２１と一端に洗浄後の洗浄液（ウエット処理後の処理液の排出液）を外部へ排出するための排出口２２ａを有する排出通路（排出管）２２とが設けられ、これら導入通路２１と排出通路２２のそれぞれの他端が連結され、被処理基板（被処理物）Ｗに対向する連結部２３を形成するとともに、この連結部２３に導入通路２１が開口している第１の開口部２１ｂと、排出通路２２が開口している第２の開口部２２ｂが設けられたものであり、プッシュ・プル型ノズル（省流量型ノズル）と呼ばれるものである。第１と第２の開口部２１ｂ,２２ｂは、被処理基板Ｗに向けて開口している。連結部２３と被処理基板Ｗの間の空間には、ウエット処理を行う処理領域３５が形成されている。
　さらに、連結部２３には、被処理基板Ｗが洗浄されている間、処理領域３５内の洗浄液２に超音波振動を付与するための超音波振動子４０が設けられている。この超音波振動子４０は、振動板（振動部）４６と、振動板４６の主面の周縁部-から立ち上がる側板（側壁部）４７と、側板４７の内側の振動板４６の主面上に設けられ、振動板４６に超音波振動を付与する超音波振動子本体４８とが備えられてなるものである。側板４７は振動板４６と一体に形成されている。超音波振動子本体４８は、電源（図示略）に接続されている。
　振動板４６と側板４７を構成する材料としては、ステンレス鋼、石英、サファイア、アルミナ等のセラミックスなどのうちから選択されて用いられる。通常の洗浄処理に用いるウエット処理用ノズルに備えられる場合は、振動板と側板の材料としてはステンレス鋼で十分であるが、洗浄液が比較的強い酸やフッ酸である場合は、サファイア又はアルミナ等のセラミックスから構成することが、ウエット処理液に対する耐性が優れ、劣化を防止できるため、ウエット処理を行う上で好ましい。」（段落【００１９】〜【００２０】）
　　　
オ「また、圧力制御部（図示略）が、被処理基板Ｗに接触した洗浄液２が洗浄後に排出通路２２に流れるように、第１の開口部２１ｂの大気と接触している洗浄液の圧力（洗浄液の表面張力と被処理基板の被洗浄面の表面張力も含む）と大気圧との均衡がとれるように排出通路２２側に設けられている。　上記圧力制御部は排出口２２ａ側に設けられた減圧ポンプにより構成されている。したがって、排出通路２２側の圧力制御部に減圧ポンプを用いて、この減圧ポンプで連結部２３の洗浄液を吸引する力を制御して、第１の開口部２１ｂの大気と接触している洗浄液の圧力（洗浄液の表面張力と被処理基板Ｗの被洗浄面の表面張力も含む）と大気圧との均衡をとるようになっている。つまり、第１の開口部２１ｂの大気と接触している洗浄液の圧力Ｐw（洗浄液の表面張力と基板Ｗの被洗浄面の表面張力も含む）と大気圧Ｐaとの関係をＰw≒Ｐaとすることにより、第１の開口部２１ｂを通じて被処理基板Ｗに供給され、被処理基板Ｗに接触した洗浄液は、洗浄用ノズルの外部に漏れることなく、排出通路２２に排出される。すなわち、洗浄用ノズルから被処理基板Ｗ上に供給した洗浄液は、被処理基板Ｗ上の洗浄液を供給した部分（第１と第２の開口部２１ｂ,２２ｂ）以外の部分に接触することなく、基板Ｗ上から除去される。」（段落【００２４】）
　　　
カ「洗浄用ノズル１の各開口部２１ｂ,２２ｂと、被処理基板Ｗとの間の距離Ｈは、８ｍｍ以下で被処理基板Ｗと接触しない範囲がよく、好ましくは６ｍｍ以下で基板Ｗと接触しない範囲、より好ましくは３ｍｍ以下で基板Ｗと接触しない範囲とするのがよい。」（段落【００２６】）
　
　また、前記ウの「本発明のウエット処理装置は、・・・上記被処理物の被処理面全域を処理するためのノズル・被処理物相対移動手段とを有する」との記載及び【図２】下方の→からみて、明記はないものの、引用例１記載の本発明は、被処理物を保持する保持手段を具備するものと理解できる。
　　　
　さらに、前記カの「開口部２１ｂ，２２ｂと、被処理基板Ｗとの間の距離」を所定のものとすることにより、振動板４６と被処理基板Ｗとの間の距離は所定のものとなるのは、明らかである。
　　　
　そうすると、以上の記載及び図面によれば、引用例１には、
「被処理基板Ｗの被洗浄面を超音波を印加した洗浄液２を用いて洗浄するウエット処理装置において、
　上記被処理基板Ｗを保持する保持手段と、
　この保持手段に保持された上記被処理物Ｗの被洗浄面に対向配置される洗浄用ノズル１を備え、
　この洗浄用ノズル１は、一方の面に超音波振動子本体４８が固定され、他方の面から超音波振動を照射する振動板４６と、
　上記被処理基板Ｗの被洗浄面に洗浄液２を供給する導入通路２１と、を有し、
　上記振動板４６と上記被洗浄面との距離を、３ｍｍ以下で被洗浄面と接触しない範囲とするとともに、
　振動板４６と被処理基板Ｗとの間を、洗浄液の圧力（洗浄液の表面張力と被処理基板Ｗの被洗浄面の表面張力を含む）と大気圧との均衡をとるように制御しながら洗浄するウエット処理装置。」（以下「引用発明１」という。）が記載されている。
　　　
２）同じく、原査定の拒絶の理由に引用された特開平９−１９９４６３号公報（以下「引用例２」という。）には、図面とともに以下の事項が記載されている。
　　　
ア「【発明の属する技術分野】本発明は、たとえば半導体ウエハの製造プロセス等で用いられる超音波洗浄装置に関するものである。」（段落【０００１】）
　　　
イ「　したがって、このような超音波洗浄装置では、被洗浄物１の表面等に付着した塵等の微粒子を洗浄液２に付与された超音波により除去することができるが、被洗浄物１の表面を均一に洗浄するためには、圧電素子４を被洗浄物１よりも大きくし、圧電素子４から発振された超音波を被洗浄物１の表面全体に当てる必要がある。
　しかし、圧電素子４を被洗浄物１よりも大きくすると、製造コストが上昇するという問題があり、また圧電素子４を被洗浄物１よりも大きくしても洗浄槽３の角部３ａには溶接部があるため、洗浄槽３の大きさによっては圧電素子４から発振された超音波を被洗浄物１の表面全体に当てることができない場合がある。
　そこで、このような問題を解決するために、洗浄槽３の底面部３ｂに断面が凸レンズ形状の超音波拡散部材７（図７参照）を設け、この超音波拡散部材７で圧電素子４から発振された超音波を屈折させて被洗浄物１の表面全体に超音波を当てるようにした超音波洗浄装置が考案されている。」（段落【０００５】〜【０００７】）
　　　
　前記記載及び図面によると、引用例２には、
「半導体ウエハの製造プロセス等で用いられる超音波洗浄装置において、被洗浄物の表面全体を均一に洗浄するために、断面が凸レンズ形状の超音波拡散部材を設け、該部材により圧電素子から発振された超音波を屈折させて被洗浄物の表面全体に超音波を当てるようにすること。」（以下「引用発明２」という。）が記載されている。
　　　
３）同じく、原査定の理由に引用された特開平８−１３８９９１号公報（以下「引用例３」という。）には、図面とともに、以下の事項が記載されている。
　　　
ア「【産業上の利用分野】本発明は、基板を搬送もしくは所定の処理のために吸着して保持する基板保持装置に関する。」（段落【０００１】）
　　　
イ「【発明が解決しようとする課題】基板の処理を行う装置において、基板に平面歪、いわゆる反りが発生したものについては、そのプロセスにおいて排除することが好ましい。しかしながら、製造装置により反りに対する許容値のばらつきがあり、歩留りを考慮すると歪のある基板もできる限り処理して使用することが好ましい。」（段落【０００４】）
　　　
ウ「ノズル２０の相対移動方向前方側（Ｘ1 側）には、ギャップセンサ２７が設けられている。ギャップセンサ２７は、光学式センサであり、角型基板Ｗの上面から所定距離を開けて配置され、ノズル２０の下端と角型基板Ｗとの間隔を検出する。」（段落【００２０】）
　　　
エ「ステップＳ１２では、角型基板Ｗの表面上においてノズル２０を往復させ、ノズル２０の下端と角型基板Ｗの表面とのギャップをギャップセンサ２７によって検出する。ここでは、たとえば角型基板ＷをＸ，Ｙ方向に６×６のマス目に分割した場合のマス目の交点（７×７）でのギャップをそれぞれ検出する。ステップＳ１３では、アクチュエータ６が配置された９点に関して、ステップＳ１２でのギャップ検出データに基づいて角型基板Ｗの下面に保持板５が沿うようにアクチュエータ６を駆動する。ステップＳ１４では、吸着確認センサ６１がオンしたか否かを判断する。吸着確認センサがオンしない場合にはステップＳ１２に移行し、再度ギャップセンサ２７によるギャップ検出データを求める。吸着確認センサ６１がオンした場合には、ステップＳ１５に移行する。ステップＳ１５では、アクチュエータ６を駆動し、保持板５の表面が初期の平坦面になるように復帰させる。」（段落【００２９】）
　　　
オ「請求項３に記載の基板保持装置では、基板処理部と基板保持部との間隔を検出するギャップセンサにより基板の平面歪を検出することができ、確実に処理を行うことが可能となる。」（段落【００４４】）
　　　
　前記記載及び図面によると、引用例３には、
「基板の処理を行う装置において、基板の平面歪、反りが発生したものについて、基板の表面とノズル下端とのギャップをギャップセンサによって検出し、ギャップ検出データに基づいて、確実に処理を行うこと。」（以下「引用発明３」という。）が記載されている。
　　　
４）同じく、原査定の理由に引用された特開平１１−１３８１１６号公報（以下「引用例４」という。）には、図面とともに、以下の事項が記載されている。
　　
ア「【発明の属する技術分野】本発明は、ウェハやガラス基板などからなる半導体基板等の被洗浄物を超音波洗浄する超音波洗浄装置に関し、特に枚葉式超音波洗浄装置において、高周波の超音波振動子ではなく、８００ＫＨｚ以下の低周波の超音波振動子を用いて使用する洗浄液を大幅に低減して省液化が可能な超音波洗浄装置に関する。」（段落【０００１】）
　　　
イ「そこで、本発明は上記従来技術の欠点に鑑みてなされたものであって、ウェハやガラス基板などからなる半導体基板などの被洗浄物を超音波洗浄する超音波洗浄装置において、特に枚葉式超音波洗浄装置において、高周波の超音波振動子ではなく、８００ＫＨｚ以下の低周波の超音波振動子を用いて強力な超音波を照射しかつ使用する洗浄液を大幅に低減して省液化が可能な超音波洗浄装置を提供することを目的とする。」（段落【００１８】）
　　　
ウ「従って、図１に示すように、振動プレート３の折曲部３ａの長さＬを５ｍｍにして基板２０と前記折曲部３ａとの間のギャップｇを２．５ｍｍにすれば、λ／２＝７．５ｍｍの共振長を形成することができ、超音波を伝達することができる。
　このようにして前記折曲部３ａの長さをλ／２の整数倍の共振長の範囲内で適宜設定する。
　また、前記折曲部３ａの長さは、前記λ／２の整数倍の共振長の範囲内ではあるが、洗浄液２３が外部に漏れ出さないようにして超音波を伝達する媒体となればよいから、前記λ／２の整数倍の共振長の範囲内で適宜長さを調整して最適な値を設定するための調整手段を備えてもよい。この調整手段としては、例えば折曲部３ａを二重構造としてスライドする構成のものでよい。
　また、振動プレート３は、超音波振動子４から発生する超音波１７に共振して振動を伝達する作用を有するもので、石英、ステンレス、アルミニウム、タンタルなどの材料からなり、」（段落【００３７】〜【００４０】）
　　　　　
エ「図１及び図２に示す超音波洗浄装置は、超音波洗浄装置の振動プレート３の下部に媒体となる純水などの洗浄液２３が供給されなければガラス基板等の基板２０に対して超音波も伝達されないが、図３に示すように、基板２０と振動プレート３の折曲部３ａの先端との間、即ち離間距離を約２．５ｍｍ程度として基板２０を搬送手段としての複数のローラ２７により図３に矢印Ｘｂで示す搬送方向に沿って通過させ、この基板２０と振動プレート３との間に給液部材２１から純水などの洗浄液２３を矢印方向に供給すると、基板２０と振動プレート３との間に表面張力の作用により液膜ができ、この液膜を介して振動プレート３からの超音波が基板２０へ伝達される。従って、この液膜の作用により基板２０の洗浄を行うことができる。しかも、この液膜は表面張力を有するものであるから基板２０と振動プレート３との間以外には漏れにくくなり洗浄液２３の使用量を抑えることができる。」（段落【００４４】）
　　
オ「この第２実施例は、第１実施例の振動プレート３に複数の小孔３２を形成している点に特徴を有する。従って、図５及び図６に示すように、超音波洗浄装置の給液口１６から給液された液は、純水などの洗浄液２３でなり、この洗浄液２３は振動プレート３の小孔３２を通過して基板２０との間に液膜を形成する。この第２実施例も折曲部を約５ｍｍとし、基板２０と振動プレート３の折曲部３ａとの間の離間距離を約２．５ｍｍとして設定しており、基板２０を搬送手段としての複数のローラ２７により矢印Ｘｂで示す搬送方向に沿って通過させて基板２０と振動プレート３との間に表面張力の作用により液膜を形成し、この液膜を介して振動プレート３からの超音波を基板２０へ伝達するようになっている。」（段落【００５０】〜【００５１】）　　　
　以上の記載及び図面から、引用例４には、
「半導体基板等の被洗浄物を超音波洗浄する超音波洗浄装置において、超音波振動子４により超音波を照射する振動プレート３と被洗浄物２０との間に、表面張力の作用により、約２．５ｍｍの離間距離を有する、純水などの洗浄液２３の液膜を形成し、超音波を被洗浄物２０に伝達することにより、洗浄液の使用を低減すること。」（以下「引用発明４」という。）が記載されている。
　　　　
（３）対比
　そこで、本願補正発明と引用発明１とを対比すると、引用発明１の「被処理基板Ｗ」は本願補正発明の「被洗浄物」に相当し、以下同様に、「ウエット処理装置」は「超音波洗浄装置」に、「洗浄用ノズル１」は「超音波洗浄ユニット」に、「超音波振動子本体４８」は「超音波振動子」に、「備えられ」は「固定され」に、「導入通路２１」は「洗浄液供給手段」に、それぞれ相当する。
　　　
　そして、引用発明１における「振動板４６」は、超音波を照射する部材（以下、便宜上「照射部材」という。）である点で、本願補正発明の「拡散手段」と共通するものである。
　　　
　また、引用発明１は、「振動板４６」と「被洗浄面」との距離を所定の範囲にするものであることから、当然に、何らかの制御手段を具備するものと理解できる。
　　　
　さらに、引用発明１において、液膜は、減圧ポンプに接続されているとはいえ、表面張力によって、洗浄液が所定寸法に保持されるものといえる。
　　　
　加えて、引用発明１において、「洗浄液の圧力（洗浄液の表面張力と被処理基板Ｗの被洗浄面の表面張力を含む）と大気圧との均衡をとる」ものとする点は、表面張力を利用して洗浄液を保持している点で、本願補正発明と共通するものである。
　　
　そうすると、両者は、
「被洗浄物の被洗浄面を超音波を印加した洗浄液を用いて洗浄する超音波洗浄装置において、
　上記被洗浄物を保持する保持手段と、
　この保持手段に保持された上記被洗浄物の被洗浄面に対向配置される超音波洗浄ユニットとを備え、
　上記超音波洗浄ユニットは、一方の面に超音波振動子が固定され、他方の面が、上記被洗浄物と対向して配置され上記超音波振動子からの超音波振動を照射する照射部材と、
　上記被洗浄物の被洗浄面に洗浄液を供給する洗浄液供給手段と、
を有し、
　照射部材と被洗浄面との間を表面張力を利用して洗浄液が保持された状態で洗浄が行われる所定寸法を保つようにする制御手段を有する超音波洗浄装置。」である点で一致する。
　
　そして、両者は、次の点で相違している。
　　　
［相違点１］
　超音波洗浄ユニットに関し、本願補正発明では、被洗浄物の被洗浄面に対して位置決めする位置決め手段を備えるとともに、被洗浄面との相対距離を計測する計測手段を有し、位置決め手段は、計測手段の出力に基づき、超音波洗浄ユニットを位置決めする制御手段を有するものであるのに対し、引用発明１では、超音波洗浄ユニットの位置決め手段について、明記はないが、照射部材（振動板）と被洗浄面との距離を３ｍｍ以下で被洗浄面と接触しない範囲とするように制御するものである点。
　　　
［相違点２］
　本願補正発明では、照射部材の他方の面を凸状に形成して超音波振動を拡散する拡散手段とし、拡散手段の凸状部分と被洗浄面との間に洗浄液が保持された状態で洗浄を行うようにするものであるのに対し、引用発明１では、凸状部分の構成は、不明である点。
　　　
［相違点３］
　本願補正発明では、照射部材と被洗浄面との間を表面張力により洗浄液が保持された状態で洗浄を行うものであるのに対し、引用発明１では、照射部材と被洗浄面との間を、洗浄液の圧力（洗浄液の表面張力と被処理基板の被洗浄面の表面張力を含む）と大気圧との均衡をとるようにしながら洗浄するものである点。
　　　
（４）判断
　そこで、上記相違点について検討する。
　　　
[相違点１]について
　引用発明１が、「照射部材（振動板）と被洗浄面との距離を、３ｍｍ以下で被洗浄面と接触しない範囲と」するものであることから、引用発明１は、少なくとも、超音波洗浄ユニット（「洗浄用ノズル」）の上下位置を制御するものであることが窺える。
　
　ここで、引用発明３と本願補正発明とを対比すると、引用発明３の「ギャップ」は、本願補正発明の「相対距離」に相当し、「ギャップセンサ」は「計測手段」に、相当する。
　そして、引用発明３の「基板」と本願補正発明の「被洗浄物」とは、「被処理物」である点で共通である。
　
　そうすると、引用発明３は、「被処理物の処理を行う装置において、その平面歪、反りが発生したものについて、被処理物の表面とノズル下端との相対距離を計測手段によって検出し、該検出データに基づいて、確実に処理を行うこと。」と言い換えることができる。
　
　そして、引用発明１も、洗浄用ノズル１と被洗浄物（「基板Ｗ」）の被洗浄面とが接触しない範囲とすることを課題として具備するものである（「（２）１）カ」参照。）から、引用発明１に、引用発明３を適用することに困難性はない。
　　
　してみると、引用発明１において、被洗浄物の被洗浄面に対して位置決めする位置決め手段を備えるとともに、被洗浄面との相対距離を計測する計測手段を有し、位置決め手段は、計測手段の出力に基づき、超音波洗浄ユニットを位置決めする制御手段を有するものとする点は、引用発明３に基づいて、当業者であれば、容易に想到し得たことである。
　　　
［相違点２］について
　引用発明２は、半導体ウエハ等の被洗浄物の表面全体を均一に洗浄するために、超音波拡散部材を凸レンズ形状とするものである。
　　
　一方、引用発明１も、半導体デバイス等の基板を超音波洗浄する装置であって、超音波振動の放射効率向上、洗浄効率向上を課題として有するものである（「２．１）イ」参照。）。
　
　そうすると、引用発明１における照射部材の他方の面を凸状に形成し、照射部材を超音波振動を拡散する拡散手段とし、拡散手段の凸状部分と被洗浄面との間に洗浄液が保持された状態で洗浄を行うようにした点は、引用発明２に基づいて、当業者が容易に想到し得たことである。
　　　
［相違点３］について
　引用発明４と、本願補正発明とを対比すると、引用発明４の「半導体基板等の被洗浄物」は本願補正発明の「被洗浄物」に相当し、同様に、「振動プレート３」は「拡散部材（照射部材）」に、相当する。
　　　
　したがって、引用発明４は、
「被洗浄物を超音波洗浄する超音波洗浄装置において、超音波振動子により超音波を照射する拡散部材（照射部材）と被洗浄物との間に、表面張力の作用により、約２．５ｍｍの離間距離を有する、純水などの洗浄液の液膜を形成し、超音波を被洗浄物に伝達することにより、洗浄液の使用を低減すること。」と言い換えることができる。
　　　
　そして、洗浄液の使用を低減することは、当該分野において周知の課題であって、引用発明１においても、この課題を有することは明らかである。
　　　
　そうすると、引用発明１において、照射部材と被洗浄面との間を表面張力により洗浄液が保持された状態で洗浄を行うものとした点は、引用発明４に基づいて、当業者が容易に想到し得たことである。
　　　
　また、本願補正発明の奏する作用効果をみても、引用発明１ないし４及び周知の技術事項から当業者が予測できる範囲のものである。
　　　
　したがって、本願補正発明は、引用発明１ないし４及び周知の技術事項に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により、特許出願の際独立して特許を受けることができないものである。
　　　
（５）むすび
　以上のとおり、本件補正は、平成１８年法律第５５号改正附則第３条第１項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項の規定に違反するので、同法第１５９条第１項において読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定により却下すべきものである。
　　　
３．本願発明について
　平成１８年１１月２０日付けの手続補正は上記のとおり却下されたので、本願の請求項１に係る発明（以下、同項記載の発明を「本願発明」という。）は、本願の平成１７年　６月２０日付けの手続補正により補正された明細書の特許請求の範囲の請求項１に記載された事項により特定される次のとおりのものである。
「【請求項１】
　被洗浄物の被洗浄面を超音波を印加した洗浄液を用いて洗浄する超音波洗浄装置において、
　上記被洗浄物を保持する保持手段と、
　この保持手段に保持された上記被洗浄物の被洗浄面に対向配置される超音波洗浄ユニットと、
　この超音波洗浄ユニットを上記被洗浄物の被洗浄面に対して位置決めする位置決め手段とを備え、
　上記超音波洗浄ユニットは、一方の面に超音波振動子が固定され他方の面が上記被洗浄物と対向して配置され上記超音波振動子からの超音波振動を拡散する拡散手段と、
　上記被洗浄物の被洗浄面に洗浄液を供給する洗浄液供給手段と、
　上記拡散手段と上記被洗浄面との相対距離を計測する計測手段とを有し、　上記位置決め手段は、上記計測手段の出力に基づき、上記拡散手段と上記被洗浄面との間を表面張力により上記洗浄液が保持された状態で洗浄が行われる所定寸法に保つように、上記超音波洗浄ユニットを位置決めする制御手段とを有していることを特徴とする超音波洗浄装置。」
　　　
（１）引用例
　原査定の拒絶の理由に引用された引用例、及び、その記載事項は、前記「２．（２）」に記載したとおりである。
　　　
（２）対比・判断
　本願発明は、前記「２．」で検討した本願補正発明から「拡散手段」の「他方の面」についての限定事項である「凸状に形成される」との構成を省き、「上記拡散手段の凸状部分と上記被洗浄面との間」を「上記拡散手段と上記被洗浄面との間」として「凸状部分」の限定を省いたものである。
　　　
　そうすると、本願発明の構成をすべて含み、さらに他の構成を付加したものに相当する本願補正発明が、前記「２．（４）」に記載したとおり、引用発明及び周知技術に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、本願発明も、同様の理由により、引用発明１ないし４及び周知の技術事項に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものである。
　　　
（３）むすび
　以上のとおり、本願発明は、引用発明１ないし４及び周知の技術事項に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　　　
　そうすると、他の請求項に係る発明について検討するまでもなく、本願は、拒絶すべきものである。
　
　よって、結論のとおり審決する。