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【手続補正書】
【提出日】平成27年4月6日(2015.4.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電子部品と、
前記電子部品が固定されているベース基板と、
前記ベース基板とともに内部空間を構成していて、前記内部空間に前記電子部品を収容している蓋部と、
前記ベース基板上に配置され、前記ベース基板と前記蓋部とを接合している枠状のメタライズ層と、
前記ベース基板に配置されている電極と、を備え、
前記メタライズ層と前記電極とは電気的に絶縁されていることを特徴とする電子デバイス。
【請求項２】
前記メタライズ層は、ベース基板上に積層している複数の金属層を有し、
前記複数の金属層のうちの少なくとも１つの金属層は、金、銀および銅のうちの少なくとも１つを主成分とする材料を含む請求項１に記載の電子デバイス。
【請求項３】
前記複数の金属層のうちの最も前記ベース基板側の金属層は、Ｃｒ、Ｔｉ−Ｗ系合金およびＮｉ−Ｃｒ系合金のうちの少なくとも１つを主成分とする材料を含む請求項２に記載の電子デバイス。
【請求項４】
平面視において、前記最もベース基板側の金属層の幅は、他の少なくとも１つの前記金属層の幅よりも小さい請求項２または３に記載の電子デバイス。
【請求項５】
前記電極は、前記ベース基板を貫通し、前記メタライズ層から１５０μｍ以上離間している貫通電極を有している請求項１ないし４のいずれか一項に記載の電子デバイス。
【請求項６】
請求項１ないし５のいずれか一項に記載の電子デバイスを備えていることを特徴とする電子機器。
【請求項７】
一方の面に配置された電極と、他方の面に配置されて前記一方の面の電極と電気的に接続している電極と、前記一方の面に配置されて前記一方の面の電極と電気的に絶縁しかつ前記一方の面の電極を囲んでいるメタライズ層と、を備えているベース基板の製造方法であって、
前記一方の面の電極と前記メタライズ層とをめっきにより同時に形成する工程を含んでいることを特徴とするベース基板の製造方法。
【請求項８】
一方の面に配置された電極、他方の面に配置されて前記一方の面の電極と電気的に接続している電極、および、前記一方の面に配置されて前記一方の面の電極と電気的に絶縁しかつ前記一方の面の電極を囲んでいるメタライズ層を備えているベース基板と、金属製の蓋体と、を用意する工程と、
エネルギービームの照射によって前記蓋体と前記ベース基板とを接合する工程と、を含むことを特徴とする電子デバイスの製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明は、上述の課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態または適用例として実現することが可能である。
［適用例１］
本発明の電子デバイスは、電子部品と、
前記電子部品が固定されているベース基板と、
前記ベース基板とともに内部空間を構成していて、前記内部空間に前記電子部品を収容している蓋部と、
前記ベース基板上に配置され、前記ベース基板と前記蓋部とを接合している枠状のメタライズ層と、
前記ベース基板に配置されている電極と、を備え、
前記メタライズ層と前記電極とは電気的に絶縁されていることを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
［適用例５］
本発明の電子デバイスでは、前記電極は、前記ベース基板を貫通し、前記メタライズ層から１５０μｍ以上離間している貫通電極を有していることが好ましい。
これにより、貫通電極を介してメタライズ層の熱が逃げてしまうことを効果的に抑制することができる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
［適用例６］
本発明の電子機器は、本発明の電子デバイスを備えていることを特徴とする。
これにより、高い信頼性を有する電子機器が得られる。
［適用例７］
本発明のベース基板の製造方法は、一方の面に配置された電極と、他方の面に配置されて前記一方の面の電極と電気的に接続している電極と、前記一方の面に配置されて前記一方の面の電極と電気的に絶縁しかつ前記一方の面の電極を囲んでいるメタライズ層と、を備えているベース基板の製造方法であって、
前記一方の面の電極と前記メタライズ層とをめっきにより同時に形成する工程を含んでいることを特徴とする。
これにより、高い信頼性を有するベース基板を簡単に製造することができる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
［適用例８］
本発明の電子デバイスの製造方法は、一方の面に配置された電極、他方の面に配置されて前記一方の面の電極と電気的に接続している電極、および、前記一方の面に配置されて前記一方の面の電極と電気的に絶縁しかつ前記一方の面の電極を囲んでいるメタライズ層を備えているベース基板と、金属製の蓋体と、を用意する工程と、
エネルギービームの照射によって前記蓋体と前記ベース基板とを接合する工程と、を含むことを特徴とする。
これにより、高い信頼性を有する電子デバイスを簡単に製造することができる。
【手続補正書】
【提出日】平成27年4月10日(2015.4.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
接続された撮像装置における現像画像の生成に用いられる画像処理パラメータを決定し、該撮像装置に転送する情報処理装置であって、
前記撮像装置から現像画像を受信する受信手段と、
前記受信手段により受信された前記現像画像を表示する表示手段と、
前記現像画像に対する前記画像処理パラメータを決定する決定手段と、
前記決定手段により決定された前記画像処理パラメータを前記撮像装置に送信する送信手段と、
前記決定手段により決定された前記画像処理パラメータを記憶手段に保持する保持手段と、
前記撮像装置との通信接続を検出する検出手段と、を有し、
前記送信手段は、通信接続が切断された後に前記撮像装置の接続が前記検出手段により検出された場合に、前記記憶手段に保持された前記画像処理パラメータを前記撮像装置に送信する
ことを特徴とする情報処理装置。
【請求項２】
前記受信手段はさらに、前記撮像装置から前記画像処理パラメータを恒久的に保持したことを示す情報を受信し、
前記保持手段は、前記恒久的に保持したことを示す情報を受信した場合に、保持していた前記画像処理パラメータを前記記憶手段から消去する
ことを特徴とする請求項１に記載の情報処理装置。
【請求項３】
前記受信手段はさらに、前記撮像装置の機種種別あるいは個体種別の識別情報を受信し、
前記保持手段は、前記画像処理パラメータを前記識別情報に関連付けて記憶し、
前記送信手段は、通信接続が切断された後に撮像装置の接続が前記検出手段により検出された場合に、接続された撮像装置から受信した前記識別情報と同一の識別情報が関連付けられた、前記記憶手段に保持された前記画像処理パラメータを該撮像装置に送信する
ことを特徴とする請求項１または２に記載の情報処理装置。
【請求項４】
前記接続された撮像装置から受信した前記識別情報と同一の識別情報が関連付けられた前記画像処理パラメータが前記記憶手段に保持されている場合に、該画像処理パラメータを送信するか否かを該撮像装置に問い合わせる問い合わせ手段をさらに有することを特徴とする請求項３に記載の情報処理装置。
【請求項５】
前記決定手段は、前記送信手段により前記画像処理パラメータを送信した後、前記受信手段により該画像処理パラメータが適用された現像画像を受信するまでは、前記画像処理パラメータの変更を行わないことを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の情報処理装置。
【請求項６】
接続された撮像装置における現像画像の生成に用いられる画像処理パラメータを決定し、該撮像装置に転送する情報処理装置の制御方法であって、
前記情報処理装置の受信手段が、前記撮像装置から現像画像を受信する受信工程と、
前記情報処理装置の表示手段が、前記受信工程において受信された前記現像画像を表示する表示工程と、
前記情報処理装置の決定手段が、前記現像画像に対する前記画像処理パラメータを決定する決定工程と、
前記情報処理装置の送信手段が、前記決定工程において決定された前記画像処理パラメータを前記撮像装置に送信する送信工程と、
前記情報処理装置の保持手段が、前記決定工程において決定された前記画像処理パラメータを記憶手段に保持する保持工程と、
前記情報処理装置の検出手段が、前記撮像装置との通信接続を検出する検出工程と、を有し、
前記送信手段は前記送信工程において、通信接続が切断された後に前記撮像装置の接続が前記検出工程において検出された場合に、前記記憶手段に保持された前記画像処理パラメータを前記撮像装置に送信する
ことを特徴とする情報処理装置の制御方法。
【請求項７】
前記受信手段は前記受信工程においてさらに、前記撮像装置から前記画像処理パラメータを恒久的に保持したことを示す情報を受信し、
前記保持手段は前記保持工程において、前記恒久的に保持したことを示す情報を受信した場合に、保持していた前記画像処理パラメータを前記記憶手段から消去する
ことを特徴とする請求項６に記載の情報処理装置の制御方法。
【請求項８】
前記受信手段は前記受信工程においてさらに、前記撮像装置の機種種別あるいは個体種別の識別情報を受信し、
前記保持手段は前記保持工程において、前記画像処理パラメータを前記識別情報に関連付けて記憶し、
前記送信手段は前記送信工程において、通信接続が切断された後に撮像装置の接続が前記検出工程において検出された場合に、接続された撮像装置から受信した前記識別情報と同一の識別情報が関連付けられた、前記記憶手段に保持された前記画像処理パラメータを該撮像装置に送信する
ことを特徴とする請求項６または７に記載の情報処理装置の制御方法。
【請求項９】
前記情報処理装置の問い合わせ手段が、前記接続された撮像装置から受信した前記識別情報と同一の識別情報が関連付けられた前記画像処理パラメータが前記記憶手段に保持されている場合に、該画像処理パラメータを送信するか否かを該撮像装置に問い合わせる問い合わせ工程をさらに有することを特徴とする請求項８に記載の情報処理装置の制御方法。
【請求項１０】
コンピュータに、請求項６乃至９のいずれか１項に記載の情報処理装置の制御方法の各工程を実行させるためのプログラム。
【請求項１１】
撮像装置における現像画像の生成に用いられる画像処理パラメータを、該撮像装置に接続された情報処理装置において決定する撮像システムであって、
前記撮像装置は、
被写体を撮像して撮像信号を出力する撮像手段と、
前記撮像手段により出力された前記撮像信号に対して適用する画像処理パラメータを前記情報処理装置から受信する第１の受信手段と、
前記第１の受信手段により受信された前記画像処理パラメータを揮発性メモリに格納する格納手段と、
前記撮像信号に対して前記画像処理パラメータを適用して現像画像を生成する生成手段と、
前記生成手段により生成された前記現像画像を前記情報処理装置に送信する第１の送信手段と、を有し、
前記情報処理装置は、
前記撮像装置から前記現像画像を受信する第２の受信手段と、
前記第２の受信手段により受信された前記現像画像を表示する表示手段と、
前記現像画像に対する前記画像処理パラメータを決定する決定する決定手段と、
前記決定手段により決定された前記画像処理パラメータを前記撮像装置に送信する第２の送信手段と、
前記決定手段により決定された前記画像処理パラメータを記憶手段に保持する保持する保持手段と、
前記撮像装置との通信接続を検出する検出手段と、を有し、
前記第２の送信手段は、通信接続が切断された後に前記撮像装置の接続が前記検出手段により検出された場合、前記記憶手段に保持された前記画像処理パラメータを前記撮像装置に送信する
ことを特徴とする撮像システム。
【手続補正書】
【提出日】平成27年3月30日(2015.3.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
画像中に含まれる顔を検出する顔検出手段と、
撮影によって得られた画像から、テンプレート画像と類似した領域を検出する被写体検出手段と、
連続して撮影された画像について、前記被写体検出手段によって前記領域を順次検出することにより、前記テンプレート画像に設定された被写体を追尾する機能を実現する制御手段と、を有する撮像装置であって、
前記制御手段は、前記被写体の追尾中、前記被写体検出手段による検出の信頼度を判定し、前記テンプレート画像に前記顔検出手段が検出した顔が設定されている場合、前記被写体検出手段による検出の信頼度が予め定められた複数回連続して低いと判定されるまでは、前記顔検出手段によって新たに顔が検出されても前記テンプレート画像を変更しないことを特徴とする撮像装置。
【請求項２】
前記制御手段は、前記被写体の追尾中、前記テンプレート画像に前記顔検出手段が検出した顔が設定されており、かつ前記被写体検出手段による検出の信頼度が予め定められた複数回連続して低いと判定された場合、該判定時において予め定められた複数回連続して前記顔検出手段によって顔が検出されていれば、該検出されている顔で前記テンプレート画像を更新して被写体の追尾を行うことを特徴とする請求項１に記載の撮像装置。
【請求項３】
前記制御手段は、前記被写体の追尾中、前記テンプレート画像に前記顔検出手段が検出した顔が設定されており、前記被写体検出手段による検出の信頼度が予め定められた複数回連続して低いと判定された場合、該判定時において予め定められた複数回連続して前記顔検出手段によって顔が検出されていなければ、前記テンプレート画像を用いた被写体の追尾を一時的に中止することを特徴とする請求項１または請求項２に記載の撮像装置。
【請求項４】
複数の測距点について焦点状態を検出し、前記焦点状態に基づいて、合焦させる測距点を選択する焦点検出手段をさらに有し、
前記制御手段は、前記テンプレート画像が設定されていない場合、前記焦点検出手段が選択した測距点に基づいて前記テンプレート画像を設定することを特徴とする請求項１から請求項３のいずれか１項に記載の撮像装置。
【請求項５】
前記焦点検出手段は、前記被写体検出手段により被写体が検出されている場合は、前記検出された被写体の位置に基づいて前記合焦させる測距点を選択することを特徴とする請求項４に記載の撮像装置。
【請求項６】
前記顔検出手段が、前記複数の測距点のうち、少なくとも前記合焦させる測距点を表示する透過型の表示装置を通じて観察される視野の画像に基づいて前記顔の検出を行う構成を有することを特徴とする請求項４または請求項５に記載の撮像装置。
【請求項７】
画像中に含まれる顔を検出する顔検出手段と、撮影によって得られた画像から、テンプレート画像と類似した領域を検出する被写体検出手段とを有する撮像装置の制御方法であって、
制御手段が、連続して撮影された画像について、前記被写体検出手段によって前記領域を順次検出することにより、前記テンプレート画像に設定された被写体を追尾する機能を実現する制御工程を有し、
前記制御工程において前記制御手段は、前記被写体の追尾中、前記被写体検出手段による検出の信頼度を判定し、前記テンプレート画像に前記顔検出手段が検出した顔が設定されている場合、前記被写体検出手段による検出の信頼度が予め定められた複数回連続して低いと判定されるまでは、前記顔検出手段によって新たに顔が検出されても前記テンプレート画像を変更しないことを特徴とする撮像装置の制御方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
上述の目的は、画像中に含まれる顔を検出する顔検出手段と、撮影によって得られた画像から、テンプレート画像と類似した領域を検出する被写体検出手段と、連続して撮影された画像について、被写体検出手段によって領域を順次検出することにより、テンプレート画像に設定された被写体を追尾する機能を実現する制御手段と、を有する撮像装置であって、制御手段は、被写体の追尾中、被写体検出手段による検出の信頼度を判定し、テンプレート画像に顔検出手段が検出した顔が設定されている場合、被写体検出手段による検出の信頼度が予め定められた複数回連続して低いと判定されるまでは、顔検出手段によって新たに顔が検出されてもテンプレート画像を変更しないことを特徴とする撮像装置によって達成される。
【手続補正３】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図７】
2013219615.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成27年4月2日(2015.4.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
物体面から像面に至る光路に配置され、前記物体面に配置された物体の像を前記像面に投影する投影光学系の倍率およびフォーカスを調整する光学系であって、
前記投影光学系の光軸に直交する平面と前記平面の反対面に曲面とを有する第１光学素子と、
前記第１光学素子の前記曲面に対向する曲面を有する第２光学素子と、
前記投影光学系の光軸に直交する第１の方向に母線を持つシリンドリカル面を有する第３光学素子と、
前記第１の方向に母線を持ち前記第３光学素子の前記シリンドリカル面に対向するシリンドリカル面と、当該シリンドリカル面の反対面に前記投影光学系の光軸に直交する平面と、を有する第４光学素子と、
を備え、
前記第２光学素子は、前記曲面の反対面に前記第１の方向に対して勾配を持った傾斜平面を有し、
前記第３光学素子は、前記シリンドリカル面の反対面に、前記第２光学素子の傾斜平面と対向し、前記第２光学素子の前記傾斜平面に対して平行な傾斜平面を有することを特徴とする光学系。
【請求項２】
前記第１光学素子と前記第２光学素子との間隔および前記第３光学素子と前記第４光学素子との間隔のうち少なくとも一方を調整することにより、前記投影光学系の倍率を調整することを特徴とする請求項１に記載の光学系。
【請求項３】
前記第３光学素子の傾斜平面が前記第２光学素子の傾斜平面に対して平行な状態で前記第３光学素子を移動することにより、前記投影光学系のフォーカスを調整することを特徴とする請求項１または２に記載の光学系。
【請求項４】
前記第１光学素子と前記第２光学素子との間隔は、前記投影光学系の光軸方向における前記第１光学素子の移動により調整可能であり、
前記第３光学素子と前記第４光学素子との間隔は、前記投影光学系の光軸方向における前記第４光学素子の移動により調整可能であり、
前記投影光学系の倍率は、前記第１光学素子の移動および前記第４光学素子の移動により調整されることを特徴とする請求項１乃至３の何れか1項に記載の光学系。
【請求項５】
前記第３光学素子は、当該第３光学素子の傾斜平面が前記第２光学素子の傾斜平面に対して平行な方向に移動可能であり、
前記第３光学素子が移動する際に、前記第４光学素子は、前記第３光学素子と前記第４光学素子との間隔を維持するように前記投影光学系の光軸方向に移動可能であり、
前記投影光学系のフォーカスは、前記第３光学素子の移動および前記第４光学素子の移動により調整されることを特徴とする請求項１乃至４の何れか1項に記載の光学系。
【請求項６】
前記第１光学素子の前記曲面は、第１の曲率を有し、前記投影光学系の光軸方向および前記第１の方向に直交する第２の方向に母線を持つ凹型シリンドリカル面であり、
前記第２光学素子の前記曲面は、前記第１の曲率を有し、前記第２の方向に母線を持つ凸型シリンドリカル面であることを特徴とする請求項１乃至５の何れか1項に記載の光学系。
【請求項７】
前記第１光学素子の前記曲面は、第１の曲率を有する凹型の球面であり、
前記第２光学素子の前記曲面は、前記第１の曲率を有する凸型の球面であることを特徴とする請求項１乃至５の何れか1項に記載の光学系。
【請求項８】
前記第１光学素子の前記曲面は、第１の曲率を有し、前記投影光学系の光軸方向および前記第１の方向に直交する第２の方向に母線を持つ凸型シリンドリカル面であり、
前記第２光学素子の前記曲面は、前記第１の曲率を有し、前記第２の方向に母線を持つ凹型シリンドリカル面であることを特徴とする請求項１乃至５の何れか1項に記載の光学系。
【請求項９】
前記第１光学素子の前記曲面は、第１の曲率を有する凸型の球面であり、
前記第２光学素子の前記曲面は、前記第１の曲率を有する凹型の球面であることを特徴とする請求項１乃至５の何れか1項に記載の光学系。
【請求項１０】
前記第３光学素子の前記シリンドリカル面は、第２の曲率を有する凹型シリンドリカル面であり、
前記第４光学素子の前記シリンドリカル面は、前記第２の曲率を有する凸型シリンドリカル面であることを特徴とする請求項１乃至９の何れか1項に記載の光学系。
【請求項１１】
前記第３光学素子の前記シリンドリカル面は、第２の曲率を有する凸型シリンドリカル面であり、
前記第４光学素子の前記シリンドリカル面は、前記第２の曲率を有する凹型シリンドリカル面であることを特徴とする請求項１乃至９の何れか1項に記載の光学系。
【請求項１２】
マスクのパターンを基板に投影する投影光学系を有する露光装置であって、
前記投影光学系は、請求項１乃至１１の何れか１項に記載の光学系を備えていることを特徴とする露光装置。
【請求項１３】
デバイス製造方法であって、
感光剤が塗布された基板を請求項１２に記載の露光装置によって露光する工程と、
前記感光剤を現像する工程と、
を有することを特徴とするデバイス製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
上記の目的を達成する本発明の一つの側面に係る光学系は、物体面から像面に至る光路に配置され、前記物体面に配置された物体の像を前記像面に投影する投影光学系の倍率およびフォーカスを調整する光学系であって、
前記投影光学系の光軸に直交する平面と前記平面の反対面に曲面とを有する第１光学素子と、
前記第１光学素子の前記曲面に対向する曲面を有する第２光学素子と、
前記投影光学系の光軸に直交する第１の方向に母線を持つシリンドリカル面を有する第３光学素子と、
前記第１の方向に母線を持ち前記第３光学素子の前記シリンドリカル面に対向するシリンドリカル面と、当該シリンドリカル面の反対面に前記投影光学系の光軸に直交する平面と、を有する第４光学素子と、
を備え、
前記第２光学素子は、前記曲面の反対面に前記第１の方向に対して勾配を持った傾斜平面を有し、
前記第３光学素子は、前記シリンドリカル面の反対面に、前記第２光学素子の傾斜平面と対向し、前記第２光学素子の前記傾斜平面に対して平行な傾斜平面を有することを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成27年2月25日(2015.2.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体基体と、
前記半導体基体に形成され、光電変換が行われるフォトダイオードと、
前記フォトダイオードから構成される画素が配置された画素部と、
前記画素部の前記半導体基体に、コンタクト部により電気的に接続されており、第１の方向に前記画素部外まで延びて形成された、第１の配線と、
前記第１の配線とは異なる配線層から成り、前記第１の方向と異なる第２の方向に前記画素部外まで延びて形成された、第２の配線と、
前記第１の配線及び前記第２の配線を電気的に接続するコンタクト部を含む
固体撮像装置。
【請求項２】
複数個の画素において、電荷蓄積部及びトランジスタ部を共有している、請求項１に記載の固体撮像装置。
【請求項３】
前記電荷蓄積部と前記フォトダイオードとの間の転送ゲートと、前記転送ゲートに電気的に接続された制御線をさらに含み、前記複数個の画素の前記転送ゲートにそれぞれ接続された複数本の制御線の間に、同じ高さで前記第２の配線が配置されている、請求項２に記載の固体撮像装置。
【請求項４】
前記第１の配線及び前記第２の配線には、前記画素部外から接地電位が供給される、請求項１〜請求項３のいずれか１項に記載の固体撮像装置。
【請求項５】
光学系と、
請求項１〜請求項４のいずれか１項に記載の固体撮像装置と、
前記固体撮像装置の出力信号を処理する信号処理回路を備えた
電子機器。
【手続補正書】
【提出日】平成27年4月3日(2015.4.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
読取位置に配置された被写体を読み取る読取装置において、
主走査方向に複数の撮像素子が配列されたラインセンサと、
前記読取位置からの光を前記ラインセンサに導き、光路上において凹面ミラー及び平面ミラーが交互に配置され、前記読取位置側にテレセントリックな光学系と、
前記凹面ミラーを保持する第１の筺体と、
前記第１の筺体に取り付けられ、前記平面ミラーを保持する第２の筺体と
を備え、
前記凹面ミラーは、主走査方向に複数並べて配置され、
複数の前記凹面ミラーは、遮光部で主走査方向に各々区切られ、
前記平面ミラーは、複数の前記凹面ミラーで反射された複数の光を一つのミラー面で反射する読取装置。
【請求項２】
前記凹面ミラーは、前記読取位置を中心とした副走査方向に対称の位置で、前記凹面ミラーの主走査方向の長さの半分の長さだけずらして主走査方向に交互に並べて配置されていることを特徴とする請求項１に記載の読取装置。
【請求項３】
前記光路上において、前記凹面ミラーの数が、前記平面ミラーの数よりも１つ多いことを特徴とする請求項１又は２に記載の読取装置。
【請求項４】
前記凹面ミラーは、前記光路上に複数配置され、
前記光路上の前記凹面ミラーは、結合部で結合され、
前記結合部は、前記凹面ミラーのミラー面に対して凹形状をしている請求項１から３のいずれか１項に記載の読取装置。
【請求項５】
前記第２の筺体は、前記凹面ミラーを覆うように前記第１の筺体に取り付けられ、主走査方向に並べて配置された複数の窓部を有し、
前記凹面ミラーで反射された複数の光は、前記複数の窓部を各々通り、
前記平面ミラーは、前記窓部の外側に配置される請求項１から４のいずれか１項に記載の読取装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】読取装置
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
本発明に係る読取装置は、読取位置に配置された被写体を読み取る読取装置において、主走査方向に複数の撮像素子が配列されたラインセンサと、前記読取位置からの光を前記ラインセンサに導き、光路上において凹面ミラー及び平面ミラーが交互に配置され、前記読取位置側にテレセントリックな光学系と、前記凹面ミラーを保持する第１の筺体と、前記第１の筺体に取り付けられ、前記平面ミラーを保持する第２の筺体とを備え、前記凹面ミラーは、主走査方向に複数並べて配置され、複数の前記凹面ミラーは、遮光部で主走査方向に各々区切られ、前記平面ミラーは、複数の前記凹面ミラーで反射された複数の光を一つのミラー面で反射する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
本発明に係る読取装置では、簡易な構成で光学系を構成するミラーの位置精度を向上させることができる。
【手続補正書】
【提出日】平成27年7月23日(2015.7.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
同軸給電線路と、
前記同軸給電線路の先端部において外部導体が除去された所定長さの放射部と、
前記同軸給電線路に沿って、前記同軸給電線路の先端部から前記放射部の基端部に向かう方向に向けて前記同軸給電線路を覆う所定長さのスリーブと、
を含み、
前記放射部と前記スリーブとの少なくとも一方は、少なくとも一部に屈曲部を有していることを特徴とするスリーブアンテナ。
【請求項２】
請求項１に記載のスリーブアンテナにおいて、
前記屈曲部は、円弧状に屈曲される湾曲部を含むことを特徴とするスリーブアンテナ。
【請求項３】
請求項１又は２に記載のスリーブアンテナと、
筐体と、
接続端子を有し、前記筐体に収納される回路基板と、
を含み、
前記スリーブアンテナは、前記回路基板の前記接続端子に接続され、前記スリーブアンテナの前記スリーブと前記同軸給電線路との少なくとも一方が、前記回路基板と前記筐体との少なくとも一方に保持されていることを特徴とする無線通信装置。
【請求項４】
請求項３に記載の無線通信装置において、
前記筐体は孔を有し、
前記スリーブは、前記孔に一部が挿入されていることを特徴とする無線通信装置。
【請求項５】
請求項３又は４に記載の無線通信装置において、
前記スリーブアンテナを保持する保持部材を含み、
前記保持部材は、前記回路基板と前記筐体との少なくとも一方と、前記スリーブの末端部と、の間に設けられていることを特徴とする無線通信装置。
【請求項６】
請求項５に記載の無線通信装置において、
前記保持部材は、低誘電率の材料にて形成されていることを特徴とする無線通信装置。
【請求項７】
請求項３〜６のいずれか一項に記載の無線通信装置において、
前記スリーブアンテナの前記放射部の形状を維持する維持部材を含み、
前記維持部材は、前記放射部の少なくとも一部を覆うように設けられていることを特徴とする無線通信装置。
【請求項８】
請求項７に記載の無線通信装置において、
前記保持部材は、前記回路基板と前記筐体との少なくとも一方と、前記維持部材と、の間に設けられていることを特徴とする無線通信装置。
【手続補正書】
【提出日】平成27年4月13日(2015.4.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
入力される第一直流電圧をスイッチングするスイッチング素子と、
前記スイッチング素子に接続されたインダクタを有し、前記スイッチング素子によってスイッチングされて前記インダクタに供給される前記第一直流電圧を、前記第一直流電圧よりも小さい第二直流電圧に変換する変換する変換手段と、
前記変換手段により変換された前記第二直流電圧を検出するための第一抵抗素子と、
前記第一抵抗素子によって検出された前記第二直流電圧と基準電圧を比較し、比較結果に従い前記スイッチング素子の動作を制御するためのコンパレータと、
前記コンパレータの前記第二直流電圧が入力される側と前記コンパレータの出力する側の間に接続される第二抵抗素子と、を有し、
前記第二抵抗素子は、前記第一抵抗素子で検出された前記第二直流電圧を補正し、前記スイッチング素子は、前記第二抵抗素子によって補正された結果に基づいて動作が制御され、
前記第二抵抗素子の抵抗値は前記第一抵抗素子の抵抗値より大きいことを特徴とするコンバータ。
【請求項２】
前記第二抵抗素子と直接に接続され、前記コンパレータの前記第二直流電圧が入力される側と前記コンパレータの出力する側の間に接続される整流素子を有することを特徴とする請求項１に記載のコンバータ。
【請求項３】
前記整流素子は、前記第二抵抗素子から前記コンパレータの出力する側に向かう方向が、前記整流素子の順方向となるように配置されることを特徴とする請求項２に記載のコンバータ。
【請求項４】
前記整流素子は、前記コンパレータの出力する側から前記第二抵抗素子に向かう方向が、前記整流素子の順方向となるように配置されることを特徴とする請求項２に記載のコンバータ。
【請求項５】
前記スイッチング素子に流れる電流を検出する電流検出手段と、
前記電流検出手段の検出した値が規定値を超えたときに、前記スイッチング素子をオフさせる電流リミット手段と、
前記電流リミット手段の出力を規定時間保持して、前記スイッチング素子のオフ状態を規定時間継続させるタイマを有することを特徴とする請求項１乃至４のいずれかの項に記載のコンバータ。
【請求項６】
前記電流検出手段は、抵抗素子であることを特徴とする請求項５に記載のコンバータ。
【請求項７】
前記電流リミット手段は、トランジスタであって、前記トランジスタのエミッタとベースの間に、前記電流検出手段が接続されていることを特徴とする請求項５又は６に記載のコンバータ。
【請求項８】
タイマは、前記電流リミット手段の出力によって充電されるコンデンサと、
前記電流リミット手段の出力によって充電された前記コンデンサを規定時間で放電させるために設けられた抵抗素子を有することを特徴とする請求項５乃至７のいずれかの項に記載のコンバータ。
【請求項９】
画像を形成するための画像形成手段と、
コンバータとを有し、
前記コンバータは、
入力される第一直流電圧をスイッチングするスイッチング素子と、
前記スイッチング素子に接続されたインダクタを有し、前記スイッチング素子によってスイッチングされて前記インダクタに供給される前記第一直流電圧を、前記第一直流電圧よりも小さい第二直流電圧に変換する変換する変換手段と、
前記変換手段により変換された前記第二直流電圧を検出するための第一抵抗素子と、
前記第一抵抗素子によって検出された前記第二直流電圧と基準電圧を比較し、比較結果に従い前記スイッチング素子の動作を制御するためのコンパレータと、
前記コンパレータの前記第二直流電圧が入力される側と前記コンパレータの出力する側の間に接続される第二抵抗素子と、を有し、
前記第二抵抗素子は、前記第一抵抗素子で検出された前記第二直流電圧を補正し、前記スイッチング素子は、前記第二抵抗素子によって補正された結果に基づいて動作が制御され、
前記第二抵抗素子の抵抗値は前記第一抵抗素子の抵抗値より大きいことを特徴とする画像形成装置。
【請求項１０】
前記画像形成手段の動作を制御するコントローラを有し、
前記コンバータで変換された前記第二直流電圧が前記コントローラに供給されることを特徴とする請求項９に記載の画像形成装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
以上の課題を解決するための本発明のコンバータは、入力される第一直流電圧をスイッチングするスイッチング素子と、前記スイッチング素子に接続されたインダクタを有し、前記スイッチング素子によってスイッチングされて前記インダクタに供給される前記第一直流電圧を、前記第一直流電圧よりも小さい第二直流電圧に変換する変換する変換手段と、前記変換手段により変換された前記第二直流電圧を検出するための第一抵抗素子と、前記第一抵抗素子によって検出された前記第二直流電圧と基準電圧を比較し、比較結果に従い前記スイッチング素子の動作を制御するためのコンパレータと、前記コンパレータの前記第二直流電圧が入力される側と前記コンパレータの出力する側の間に接続される第二抵抗素子と、を有し、前記第二抵抗素子は、前記第一抵抗素子で検出された前記第二直流電圧を補正し、前記スイッチング素子は、前記第二抵抗素子によって補正された結果に基づいて動作が制御され、前記第二抵抗素子の抵抗値は前記第一抵抗素子の抵抗値より大きいことを特徴とする。
また、本発明の画像形成装置は、画像を形成するための画像形成手段と、
コンバータとを有し、
前記コンバータは、
入力される第一直流電圧をスイッチングするスイッチング素子と、
前記スイッチング素子に接続されたインダクタを有し、前記スイッチング素子によってスイッチングされて前記インダクタに供給される前記第一直流電圧を、前記第一直流電圧よりも小さい第二直流電圧に変換する変換する変換手段と、
前記変換手段により変換された前記第二直流電圧を検出するための第一抵抗素子と、
前記第一抵抗素子によって検出された前記第二直流電圧と基準電圧を比較し、比較結果に従い前記スイッチング素子の動作を制御するためのコンパレータと、
前記コンパレータの前記第二直流電圧が入力される側と前記コンパレータの出力する側の間に接続される第二抵抗素子と、を有し、
前記第二抵抗素子は、前記第一抵抗素子で検出された前記第二直流電圧を補正し、前記スイッチング素子は、前記第二抵抗素子によって補正された結果に基づいて動作が制御され、
前記第二抵抗素子の抵抗値は前記第一抵抗素子の抵抗値より大きいことを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成27年3月16日(2015.3.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
負荷回路の一対の入力端子が着脱自在に電気接続される一対の出力端子と、
所定の内部抵抗を有し、上記一対の出力端子に対して電圧を印加する電圧源回路と、
上記一対の出力端子の間の電圧を検出する電圧検出回路と、
上記一対の出力端子に上記負荷回路が接続されているか否かを判定する判定回路と、
上記負荷回路が接続されていると上記判定回路が判定した場合に、上記負荷回路に所定の電流を流そうとする電流源回路とを有し、
上記判定回路は、上記電圧検出回路が検出した電圧が所定の閾値より大きい場合に、上記負荷回路が接続されていないと判定する
ことを特徴とする電源装置。
【請求項２】
上記電流源回路は、
上記負荷回路が接続されていると上記判定回路が判定した場合に、オンオフを繰り返し、上記負荷回路が接続されていないと上記判定回路が判定した場合に、継続してオフになるスイッチング素子を有し、
上記電圧源回路は、
上記スイッチング素子と並列に電気接続し、上記スイッチング素子が継続してオフであるとき、上記スイッチング素子をバイパスして電流が流れる経路を形成するバイパス回路を有する
ことを特徴とする請求項１に記載の電源装置。
【請求項３】
上記バイパス回路は、
直列に電気接続した複数の抵抗と、
上記複数の抵抗の接続点の電位を略一定にする定電圧素子と
を有することを特徴とする請求項２に記載の電源装置。
【請求項４】
上記バイパス回路は、
上記バイパス回路を電流が逆流するのを阻止する整流素子を有することを特徴とする請求項２または請求項３に記載の電源装置。
【請求項５】
上記判定回路は、上記電圧検出回路が検出した電圧が、上記閾値より小さい第二の閾値より小さい場合に、上記一対の出力端子に接続されている負荷回路が異常であると判定し、
上記電流源回路は、上記負荷回路が異常であると上記判定回路が判定した場合に、動作を停止する
ことを特徴とする請求項１乃至請求項４のいずれかに記載の電源装置。
【請求項６】
上記負荷回路は、
直列に電気接続した複数の発光ダイオードまたは有機エレクトロルミネセンスと、
上記複数の発光ダイオードまたは有機エレクトロルミネセンスの直列回路と並列に電気接続した抵抗と
を有することを特徴とする請求項１乃至請求項５のいずれかに記載の電源装置。
【請求項７】
請求項１乃至請求項６のいずれかに記載の電源装置と、
上記電源装置から供給された電力により点灯する光源を有する負荷回路を、着脱自在に固定する固定部と
を有することを特徴とする照明器具。
【手続補正書】
【提出日】平成27年5月15日(2015.5.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
配線状の電源パターンが形成された電源層、及びプレーン状のグラウンドパターンが形成され、誘電体層を介して前記電源層に相対するグラウンド層を有するプリント配線板と、
前記プリント配線板に実装され、電源端子が前記電源パターンに電気的に接続され、グラウンド端子が前記グラウンドパターンに電気的に接続された半導体装置と、
前記プリント配線板に実装され、前記電源パターン及び前記グラウンドパターンを介して前記半導体装置に直流電力を供給する電源部品と、を備え、
前記プリント配線板の表面に垂直な方向から見て、前記グラウンドパターンにおいて前記電源パターンと重なるグラウンド領域のうち、前記半導体装置と重なる第１領域と、前記電源部品と重なる第２領域とを差し引いた第３領域には、欠損部が形成されており、
前記第３領域の前記欠損部を除く領域には、前記第１領域と前記第２領域とを連通させる、前記電源パターンの幅よりも幅狭の連通部分が形成されていることを特徴とするプリント回路板。
【請求項２】
前記第３領域の連通部分の前記電源パターンおよび前記グラウンドパターンを流れる高周波電流に対するインダクタンスは、前記第３領域の前記欠損部を除く領域の前記連通部分以外の領域のインダクタンスよりも高いことを特徴とする請求項１に記載のプリント回路板。
【請求項３】
前記欠損部は、前記プリント配線板の表面に垂直な方向から見て、前記半導体装置の外形の重心点と前記電源部品の外形の重心点とを結ぶ線分に交わらない位置に形成されていることを特徴とする請求項１又は２に記載のプリント回路板。
【請求項４】
前記欠損部は、前記連通部分がミアンダ形状となる形状に形成されていることを特徴とする請求項１ないし３のいずれかひとつに記載のプリント回路板。
【請求項５】
配線状の電源パターンが形成された電源層、及びプレーン状のグラウンドパターンが形成され、誘電体層を介して前記電源層に相対するグラウンド層を有するプリント配線板において、
前記プリント配線板の表面には、電源端子が前記電源パターンに電気的に接続され、グラウンド端子が前記グラウンドパターンに電気的に接続される半導体装置が実装される領域と、前記電源パターン及び前記グラウンドパターンを介して前記半導体装置に直流電力を供給する電源部品が実装される領域と、を有し、
前記プリント配線板の表面に垂直な方向から見て、前記グラウンドパターンにおいて前記電源パターンと重なるグラウンド領域のうち、前記半導体装置が実装される領域と重なる第１領域と、電源部品が実装される領域と重なる第２領域とを差し引いた第３領域には、欠損部が形成されており、
前記第３領域の前記欠損部を除く領域には、前記第１領域と前記第２領域とを連通させる、前記電源パターンの幅よりも幅狭の連通部分が形成されていることを特徴とするプリント配線板。
【請求項６】
前記第３領域の連通部分の前記電源パターンおよび前記グラウンドパターンを流れる高周波電流に対するインダクタンスは、前記第３領域の前記欠損部を除く領域の前記連通部分以外の領域のインダクタンスよりも高いことを特徴とする請求項５に記載のプリント配線板。
【請求項７】
前記欠損部は、前記プリント配線板の表面に垂直な方向から見て、前記半導体装置が実装される領域の重心点と前記電源部品が実装される領域の重心点とを結ぶ線分に交わらない位置に形成されていることを特徴とする請求項５又は６に記載のプリント配線板。
【請求項８】
前記欠損部は、前記連通部分がミアンダ形状となる形状に形成されていることを特徴とする請求項５ないし７のいずれかひとつに記載のプリント配線板。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】プリント回路板及びプリント配線板
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、プリント配線板に半導体装置を実装したプリント回路板、及び半導体装置が実装されるプリント配線板に関するものである。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
そこで、本発明は、直流に対しては電源パターン及びグラウンドパターンの電気抵抗値を低く保ちつつ、高周波領域に対してはインダクタンス値を高めることが可能なプリント回路板及びプリント配線板を提供することを目的とするものである。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明のプリント回路板は、配線状の電源パターンが形成された電源層、及びプレーン状のグラウンドパターンが形成され、誘電体層を介して前記電源層に相対するグラウンド層を有するプリント配線板と、前記プリント配線板に実装され、電源端子が前記電源パターンに電気的に接続され、グラウンド端子が前記グラウンドパターンに電気的に接続された半導体装置と、前記プリント配線板に実装され、前記電源パターン及び前記グラウンドパターンを介して前記半導体装置に直流電力を供給する電源部品と、を備え、前記プリント配線板の表面に垂直な方向から見て、前記グラウンドパターンにおいて前記電源パターンと重なるグラウンド領域のうち、前記半導体装置と重なる第１領域と、前記電源部品と重なる第２領域とを差し引いた第３領域には、欠損部が形成されており、前記第３領域の前記欠損部を除く領域には、前記第１領域と前記第２領域とを連通させる、前記電源パターンの幅よりも幅狭の連通部分が形成されていることを特徴とする。
本発明のプリント配線板は、配線状の電源パターンが形成された電源層、及びプレーン状のグラウンドパターンが形成され、誘電体層を介して前記電源層に相対するグラウンド層を有するプリント配線板において、前記プリント配線板の表面には、電源端子が前記電源パターンに電気的に接続され、グラウンド端子が前記グラウンドパターンに電気的に接続される半導体装置が実装される領域と、前記電源パターン及び前記グラウンドパターンを介して前記半導体装置に直流電力を供給する電源部品が実装される領域と、を有し、前記プリント配線板の表面に垂直な方向から見て、前記グラウンドパターンにおいて前記電源パターンと重なるグラウンド領域のうち、前記半導体装置が実装される領域と重なる第１領域と、電源部品が実装される領域と重なる第２領域とを差し引いた第３領域には、欠損部が形成されており、前記第３領域の前記欠損部を除く領域には、前記第１領域と前記第２領域とを連通させる、前記電源パターンの幅よりも幅狭の連通部分が形成されていることを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成26年12月25日(2014.12.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
板状の第１ガラス基板からなり、前記第１ガラス基板を厚さ方向に貫通する第１貫通電極を有する第１コア基板と、
板状の第２ガラス基板からなり、前記第２ガラス基板を厚さ方向に貫通し前記第１貫通電極と径が異なる第２貫通電極を有し、前記第１コア基板と平面方向に離間して並設された第２コア基板と、
前記第１コア基板及び前記第２コア基板を覆う絶縁層と、
を有することを特徴とする配線基板。
【請求項２】
前記絶縁層は、
前記第１コア基板と前記第２コア基板との間に形成された第１絶縁部材と、
前記第２コア基板の外周端部を覆うように形成された第２絶縁部材と、
前記第１コア基板及び前記第２コア基板の一方の面を覆うように形成された第１絶縁層と、
前記第１コア基板及び前記第２コア基板の他方の面を覆うように形成された第２絶縁層と、
を有することを特徴とする請求項１に記載の配線基板。
【請求項３】
前記第１絶縁層に形成され、前記第１貫通電極と電気的に接続された第１ビアと、
前記第２絶縁層に形成され、前記第１貫通電極と電気的に接続された第２ビアと、
前記第１絶縁層に形成され、前記第２貫通電極と電気的に接続された第３ビアと、
前記第２絶縁層に形成され、前記第２貫通電極と電気的に接続された第４ビアと、
を有することを特徴とする請求項２に記載の配線基板。
【請求項４】
前記第２貫通電極は、前記第１貫通電極より径が大きく形成され、
前記第２ガラス基板は、前記第１ガラス基板より厚いことを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載の配線基板。
【請求項５】
前記第２貫通電極は、前記第１貫通電極を形成したピッチよりも大きいピッチで形成されたことを特徴とする請求項１〜４のいずれか一項に記載の配線基板。
【請求項６】
前記第２コア基板は、前記第１コア基板の形状に応じた収容孔を有することを特徴とする請求項１〜５のいずれか一項に記載の配線基板。
【請求項７】
前記絶縁層に形成されたビアを介して前記第１貫通電極に接続された配線層を有し、
１つの前記ビアに対して複数の前記第１貫通電極を接続したことを特徴とする請求項１〜６のいずれか一項に記載の配線基板。
【請求項８】
板状のガラスに対し、該板状のガラスを厚さ方向に貫通する第１貫通電極を形成して第１コア基板を形成する工程と、
板状のガラスに対し、前記第１貫通電極と径が異なり該板状のガラスを厚さ方向に貫通する第２貫通電極を形成して第２コア基板を形成する工程と、
前記第１及び第２コア基板を覆う絶縁層を形成する工程と、
を含むことを特徴とする配線基板の製造方法。
【請求項９】
前記絶縁層を形成する工程は、
前記第１コア基板を前記第２コア基板の収容孔内に配置し前記第２コア基板より外形が大きい第１絶縁シートの上に前記第１及び第２コア基板を平面方向に離間して並設し、前記第１及び第２コア基板の前記第１絶縁シートと反対側の面に前記第２コア基板より外形が大きい第２絶縁シートを配置し、前記第１及び第２絶縁シートにより前記第１及び第２コア基板を挟むようにして前記第１及び第２コア基板を覆う絶縁層を形成し、前記絶縁層により前記第１コア基板と前記第２コア基板の隙間を充填する第１絶縁部材と前記第２コア基板の外周端部を覆う第２絶縁部材と前記第１コア基板および前記第２コア基板の一方の面を覆う第１絶縁層と前記第１コア基板及び前記第２コア基板の他方の面を覆う第２絶縁層とを形成する工程を含むことを特徴とする請求項８に記載の配線基板の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明の一観点によれば、板状の第１ガラス基板からなり、前記第１ガラス基板を厚さ方向に貫通する第１貫通電極を有する第１コア基板と、板状の第２ガラス基板からなり、前記第２ガラス基板を厚さ方向に貫通し前記第１貫通電極と径が異なる第２貫通電極を有し、前記第１コア基板と平面方向に離間して並設された第２コア基板と、前記第１コア基板及び前記第２コア基板を覆う絶縁層と、を有する。
【手続補正書】
【提出日】平成27年3月4日(2015.3.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
陽極と陰極と、
前記陽極と前記陰極の間に配置される有機化合物層とを有する有機発光素子であって、  前記有機化合物層が、少なくとも正孔輸送層と、発光層とを有し、
前記正孔輸送層と前記発光層とが互いに接しており、
前記正孔輸送層が、アリールアミン化合物と、芳香族炭化水素化合物とを有し、
前記芳香族炭化水素化合物が、下記（ｉ）及び（ｉｉ）の要件を満たすアルキル基を有していてよい化合物であり、
（ｉ）炭素原子及び水素原子のみで構成される化合物であること
（ｉｉ）下記一般式（ｉｉ−１）又は（ｉｉ−２）で示される部分構造を有すること
【化１】
2013219101.tif 000001
前記発光層が、ホストと、電子トラップ型ドーパントとを有し、
前記ホストと、前記電子トラップ型ドーパントとにおいて、下記式（Ａ）及び（Ｂ）の関係が成り立つことを特徴とする、有機発光素子。
｜ＥLUMO（Ｄｏｐａｎｔ）｜−｜ＥLUMO（Ｈｏｓｔ）｜＞０．１５ｅＶ        （Ａ）
｜ＥHOMO（Ｈｏｓｔ）｜＜｜ＥHOMO（Ｄｏｐａｎｔ）｜                      （Ｂ）
（式（Ａ）及び（Ｂ）において、ＥLUMO（Ｄｏｐａｎｔ）は、電子トラップ型ドーパントのＬＵＭＯエネルギーであり、ＥLUMO（Ｈｏｓｔ）は、ホストのＬＵＭＯエネルギーであり、ＥHOMO（Ｈｏｓｔ）は、ホストのＨＯＭＯエネルギーであり、ＥHOMO（Ｄｏｐａｔ）は、電子トラップ型ドーパントのＨＯＭＯエネルギーである。）
【請求項２】
前記発光層と前記陰極との間に電子輸送層がさらに配置され、
前記電子輸送層が前記発光層と接していることを特徴とする、請求項１に記載の有機発光素子。
【請求項３】
前記芳香族炭化水素化合物が、ピレン骨格を部分構造に有する炭化水素化合物であることを特徴とする、請求項１又は２に記載の有機発光素子。
【請求項４】
前記電子トラップ型ドーパントが、フルオランテン骨格を有する有機化合物であることを特徴とする、請求項１乃至３のいずれか一項に記載の有機発光素子。
【請求項５】
複数の画素を有し、
前記画素が、請求項１乃至４のいずれか一項に記載の有機発光素子と、前記有機発光素子に接続されているトランジスタとをそれぞれ有することを特徴とする、表示装置。
【請求項６】
画像を表示するための表示部と、画像情報を入力するための画像入力部とを有し、
前記表示部が複数の画素を有し、
前記複数の画素が、請求項１乃至４のいずれか一項に記載の有機発光素子と、前記有機発光素子に接続されているトランジスタとをそれぞれ有することを特徴とする、画像表示装置。
【請求項７】
請求項１乃至４のいずれか一項に記載の有機発光素子を有することを特徴とする、照明装置。
【請求項８】
露光光源を有する、電子写真方式の画像形成装置であって、
前記露光光源が、請求項１乃至４のいずれか一項に記載の有機発光素子を有することを徴とする、画像形成装置。
【請求項９】
電子写真方式の画像形成装置が有する露光光源であって、
請求項１乃至４のいずれか一項に記載の有機発光素子を有することを特徴とする、露光光源。
【手続補正書】
【提出日】平成27年4月3日(2015.4.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
形状加工方法であって、加工ツールの稼働条件を変数に持つ複数の除去量プロファイルを求める工程（工程１）と、前記複数の除去量プロファイルと設定加工量とから走査条件を算出する工程（工程２）とを有することを特徴とする形状加工方法。
【請求項２】
前記除去量プロファイルの変数が、走査方向、走査速さ、投入電力、ガス流量、ワークディスタンス、ワークと加工ツールとの相対角度の少なくとも１つであることを特徴とする請求項１記載の形状加工方法。
【請求項３】
前記走査条件と、加工中に測定したワークの温度またはエッチング生成物の発光強度に対応する加工レートとに基づきワークと加工ツールとの相対位置を制御する工程を有することを特徴とする請求項１または２記載の形状加工方法。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか一項記載の形状加工方法を用いたことを特徴とする素子の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
そこで本発明では、除去量プロファイルの、加工ツールの稼働条件による変化を反映した形状加工方法を提供することを目的とする。
また、本発明は、該形状加工方法を用いた素子の製造方法を提供することを目的とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
上述したように、本発明は、半導体ウェハー、レンズやミラー、金型等の高精度素子を製造するための形状加工方法に関する。
（実施形態１）
本発明に基づく形状加工方法の第一の実施形態について、反応性局所プラズマ加工法を例にとって説明する。