【事件の表示】
　平成１１年特許願第３１６０１４号「印刷機部材用の耐水性及び撥インク性コーティング」拒絶査定不服審判事件〔平成１２年５月２６日出願公開、特開２０００−１４４０５３〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
Ｉ．手続の経緯
　本願は、平成１１年１１月５日（パリ条約による優先権主張　１９９８年１１月５日　ドイツ連邦共和国（ＤＥ））の出願であって、平成１８年１月２０日付けで拒絶査定され、同年４月２１日付けで拒絶査定に対する審判請求がされるとともに、手続補正書が提出され、その後当審において、平成１９年２月２８日付けで拒絶理由が通知され、同年９月４日付けで、意見書及び手続補正書が提出されたものである。
　
ＩＩ．本願発明について
１．本願発明
　本願の請求項１〜７に係る発明は、平成１９年９月４日付けの手続補正書により補正された明細書の特許請求の範囲の請求項１〜７に記載される事項により特定されるものであるところ、その請求項１及び２に係る発明（以下、「本願発明１」及び「本願発明２」という。）は、次のとおりのものである。　　
「【請求項１】印刷機部材（ガイド、引き出しローラー、及び、巻き型ノーズ）であって、
　表面上に耐摩耗性及び撥インク性コーティングを有し、前記コーティングが、ＳｉＯ２からなる金属酸化物、または、ＷＣ／Ｎｉ、ＴｉＣ／Ｎｉ、ＮｉＣｒＢＳｉまたはモリブデン、あるいは、これら硬金属の混合物からなる低摩耗性硬金属である耐摩耗性物質層、及び、前記低摩耗性物質層上に形成され、１００℃から１７０℃で硬化するポリハイドロジェンメチルシロキサンからなる層からなり、抗摩耗保護するコーティングが、０．０３から１．５ｍｍの厚さであることを特徴とする、印刷機部材。
【請求項２】第１の工程において、ＳｉＯ２からなる金属酸化物、または、ＷＣ／Ｎｉ、ＴｉＣ／Ｎｉ、ＮｉＣｒＢＳｉまたはモリブデン、あるいは、これら硬金属の混合物からなる低摩耗性硬金属の層を印刷機部材上に適用し、当該層の表面を研削及び／または研磨し、その後にのみ、第２の工程において、第１工程で得られた層の上に、１００℃から１７０℃で硬化するポリハイドロジェンメチルシロキサンの層を１００℃から１７０℃の温度でのみ適用することを特徴とする、印刷機部材のコーティング方法。」
　
２．当審における拒絶理由
　当審における拒絶理由の概要は、本願発明１及び２は、その出願前日本国内または外国において頒布された刊行物である引用文献１〜５に記載された発明に基づいて、その出願前にその発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないものであるという理由を含むものである。
　
３．引用文献及びその記載事項並びに引用発明
　当審における上記拒絶理由で引用された引用文献１〜５及び各引用文献に記載された事項は次のとおりである。
　
（１）引用文献及びその記載事項
１．特開平８−１２１５１号公報
２．社団法人　日本化学会編「化学便覧　応用化学編　第５版」　丸善株式会社、平成７年３月１５日発行、Ｉ−１０５〜１０８頁、Ｉ−１１５〜１１７頁、Ｉ−５５５〜５５７頁
３．特開平７−２５２３６０号公報
４．特開平８−２１７９８０号公報
５．特開平１０−１４７７５８号公報
　
（１−１）引用文献１に記載された記載事項
（1-a）「印刷装置において、印刷要素に対して被印刷体を圧着し、その後移送する被印刷体圧着・移送系に配される被印刷体圧着・移送用ローラであって、脱脂、ブラスト処理された金属製ローラ基材上に、多孔質のセラミック溶射層と前記セラミックス溶射層の表面上及び孔部内に形成された低表面エネルギー性樹脂層とからなる複合被覆皮膜が形成されていることを特徴とする被印刷体圧着・移送用ローラ。」（【請求項１】）
（1-b）「前記低表面エネルギー性樹脂が、シリコーン系樹脂である請求項１〜４のいずれかに記載の被印刷体圧着・移送用ローラ。」（【請求項５】）
（1-c）「本発明は、またインキの付着汚染が少なくかつ洗浄の容易な耐久性の高い被印刷体圧着・移送用ローラないしは同ローラ用の被覆体を提供することを目的とするものである。・・・本発明はまた、非印刷物との耐スリップ性が良好でかつ印刷物汚れの問題の発生の少ない輪転機用ガイドローラを提供することを目的とする。」（段落【００１７】）
（1-d）「本発明の被印刷体圧着・移送用ローラを得るには、まず図３に示すように脱脂・ブラスト処理して粗面とした金属製ローラ基材１０表面上にセラミックス溶射層１２を形成する。」（段落【００３７】）
（1-e）「ここで、このセラミックス溶射層１２の上部から、例えばシリコーン系樹脂等の低表面エネルギー性樹脂を含浸コーティングして乾燥固化させると、図１および２に示すように、セラミックス溶射層の表面上および孔部内に低表面エネルギー性樹脂層１３が形成される。」（段落【００３８】）
（1-f）「そして、その上部に形成されるセラミックス溶射層との密着性を向上させるために、周知の手法により金属製ローラ基材表面に脱脂・ブラスト処理を行ない表面を粗す。」（段落【００５１】）　　　　
（1-g）「次いで、この金属製ローラ基材表面または金属溶射層表面上に、例えばプラズマジェット溶射法等の公知のセラミックス溶射法を用いることにより、セラミックス溶射層を形成する。セラミックス材料としては、Ａｌ２Ｏ３、ＴｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３−ＴｉＯ２、Ｃｒ２Ｏ３、ＺｒＯ２、ＷＣ、ＷＣ−Ｃｏ、Ｃｒ３Ｃ２、ＴｉＣ等あるいはこれらの混合物、さらには導電性をもたすためにセラミックスと金属を同時溶射した複合皮膜、サーメット類等が例示されるが、これらに限定されるものではない。」（段落【００５３】）
（1-h）「さらにこのセラミックス溶射層の厚さとしては、平均膜厚３０〜２００μｍ、より好ましくは４０〜８０μｍ程度であることが望まれる。すなわち、平均膜厚が３０μｍ未満では均一でかつ密着性、強度および耐摩耗性等の特性が十分な溶射層を得ることができない虞れがあり、一方平均膜厚が２００μｍを超えるものであるとコスト面で不利となるからである。」（段落【００５５】）
（1-i）「また、セラミックス溶射層の表面粗度は、前記したように一般にＲｍａｘ３０〜５０μｍ程度であることが望まれるが、最終製品として必要とされる最適な表面粗度は、ローラの種類によって異なり、例えばグラビア印刷機等の薄いフィルムを印刷する機械におけるガイドローラ等は、代表的なＲｍａｘ２０〜４０μｍ程度よりもより細かい５〜２０μｍ程度の最終表面粗度が・・・得られるように、必要に応じてセラミックス溶射後に軽く表面研磨を行なうことも可能である。」（段落【００５６】）
（1-j）「低表面エネルギー性樹脂としては、使用されるインキに対する濡れ性が低くかつインキ組成中等に使用される薬剤に対し安定な皮膜、望ましくは高硬度皮膜を形成できるものであれば特に限定されるものではないが、通常、シリコーン系樹脂およびフッ素原子含有樹脂が望ましく、さらにその硬度、施工性、化学的安定性等の面からシリコーン系樹脂が望ましい。」（段落【００５７】）
（1-k）「シリコーン系樹脂としては、施工後に、高分子化、三次元化してＳｉ−Ｏ−Ｓｉ結合と有機基、望ましくはメチル基および／またはフェニル基、より望ましくはメチル基を主体とする骨格構造を有し、安定な硬化皮膜を形成できるものであればよい。」（段落【００５８】）
（1-l）「なお施工時の形態は特に限定されるものではなく、例えば、オリゴマー、モノマー等の液状のもの、あるいは樹脂状のものを適当な溶媒に溶解した溶液状のものなど、例えば、シリコーンワニス、シリコーンゴム等に分類され市販される公知の各種の組成のものを適宜選択して使用することができるが、例えば、ワニス系シリコーン離型剤として市販されている組成物・・・が、施工性および得られる皮膜特性の面から好ましいものが多い。シリコーン離型剤としては、例えば、一般式（Ｉ）で示されるような構造を有するシリコーンポリマーないしコポリマーを主成分とするものが市販品として入手できる。・・・しかしながら、もちろん使用されるシリコーン系樹脂組成物としては、このようなシリコーン離型剤に何ら限定されるものではない。（段落【００５９】〜【００６１】）
（1-m）「実施例１　上記参考例１と同様な手順を行なった後、セラミックス層の上からシリコーン系樹脂離型剤（信越化学工業（株）製　ＫＳ７７６Ｌ）１００部、トルエン３００部および硬化触媒（信越化学工業（株）製　ＣＡＴ−ＰＬ８）１部を混合撹拌した溶液を、スプレー方式で含浸塗布した後、１５０℃の乾燥炉で１時間乾燥固化させてセラミックス溶射層の表面にシリコーン系樹脂皮膜を形成した。」（段落【００８６】）
　
（１−２）引用文献２に記載された記載事項
（2-a）「表３．１　構造用セラミックス（熱的・機械的機能）」の「特性」の欄に「硬質：耐摩性」と記載されたものの「おもなセラミック材料」の欄に、炭化タングステンが記載されている。（第Ｉ−１０７頁）
（2-b）「セラミックスは金属材料と比較して，○１耐熱性，○２耐食性，○３耐摩耗性に優れた性質をもっている．（○１〜○３は、丸で囲まれた数字を表す）」（第Ｉ−１０８頁左欄表３．４の下第２〜３行）
（2-c）「セラミックスなどの種々の材料のコーティング技術が必要となってきた．」（第Ｉ−５５５頁左欄下から第１１〜１０行）
　
（１−３）引用文献３に記載された記載事項
（3-a）「（Ａ）剥離改質剤、（Ｂ）１分子当たりケイ素と結合した水素原子を少なくとも３個有するオルガノシリコン化合物、（Ｃ）アルケニル基又はオキシアルケニル基とケイ素結合した水素との付加反応を促進し得るのに効果のある量の貴金属触媒、及び、（Ｄ）任意に、少なくとも２つのアルケニル機能のケイ素結合した置換基を有するジオルガノポリシロキサンからなる非溶剤系剥離組成物において、前記剥離改質剤（Ａ）が実質的に一般式ＳｉＯ２及びＲ３ＳｉＯ１／２単位からなるＭＱ樹脂からなり、式中Ｒは、炭素原子を３個まで有する一価の炭化水素基、水素原子、一般式−Ｒ’ＣＨ＝ＣＨ２からなるアルケニル基、又は、一般式−ＯＲ’ＣＨ＝ＣＨ２からなるオキシアルケニル基であり、Ｒ’は４〜１２の炭素原子を有するアルキレン基であり、ＭＱ分子当たり少なくとも１つの−Ｒ’ＣＨ＝ＣＨ２基が存在し、且つ、全てのＭ単位の５０％以下が−Ｒ’ＣＨ＝ＣＨ２基又は−ＯＲ’ＣＨ＝ＣＨ２基であることを特徴とする非溶剤系剥離組成物。」（【請求項３】）
（3-b）「基材への塗工後、シリコーン系剥離組成物を硬化させる。好ましくは、硬化は塗工された組成物に加熱を施すことにより促進させられる。通常、加熱は３００℃以下、好ましくは２００℃以下に限定されて、適当な手段で行われ得る。」（段落【００４２】
（3-c）「実施例７　剥離改質剤（ＲＭ１）組成物を、白金ベースの触媒１.８５部及び浴寿命延長剤として存在するメチルビニルシクロシロキサン１部と、実施例１のＭＱ樹脂９６.８４部とを混合することによって調製した。次いで、ＳｉＨ／Ｓｉ−アルケニル又はオキシアルケニル数比１.１５／１を与えるのに十分な、短鎖のトリメチルシロキサンで末端をブロックされたメチルハイドロジェンシロキサン樹脂及びジメチル／メチルハイドロジェンシロキサン共重合体からなる混合物を添加することにより、剥離組成物（ＲＥＬ１）を調製した。」（段落【００４７】）
（3-d）「実施例１６　剥離コーティングをグラシン（Ｇｌａｓｓｉｎｅ）（ＡＶ１００）（商標）紙に、Ｅｕｃｌｉｄ（商標）実験コーティング機を使用して塗工して、１ｇ／ｍ２被覆した。次いで、コーティングされた紙を、１２０℃又は１５０℃の炉の中に硬化するまで置き、染み、移行及び背文字すりうつしを生じないのに十分な状態（ＮＮＮ）にする。」（段落【００５２】）
　
（１−４）引用文献４に記載された記載事項
（4-a）「下記の（Ａ）成分、（Ｂ）成分、（Ｃ）成分、（Ｄ）成分および（Ｅ）成分を含む剥離用組成物。
　（Ａ）ケイ素原子に結合したアルケニル基を１分子中に２個以上有し、ケイ素原子に結合した残余の有機基がメチル基またはフェニル基であり、２５℃における粘度が５０cP以上であるポリオルガノシロキサン　１００重量部；
　（Ｂ）ケイ素原子に結合した水酸基を１分子中に１個以上有し、ケイ素原子に結合した有機基がメチル基であり、３０重量％トルエン溶液の２５℃における粘度が１０，０００cP以上のポリジメチルシロキサン　５〜３０重量部；
　（Ｃ）ケイ素原子に結合した水酸基を１分子中に１個以上有し、かつケイ素原子に結合したアリール基を６〜２０モル％含有する、２５℃における粘度が５，０００〜５００，０００cPのポリジオルガノシロキサン　０．１〜５．０重量部；
　（Ｄ）ケイ素原子に結合した水素原子を１分子中に平均少なくとも３個有し、式（Ｉ）で示される直鎖状ポリオルガノハイドロジェンシロキサン　ケイ素原子に結合した水素原子が（Ａ）成分中のアルケニル基１個に対して２．３〜４．０個となる量、
【化１】（式省略）
　（式中、Ｒ１はたがいに同一または異なっていてもよく、水素原子、メチル基またはフェニル基を表し；Ｒ２はたがいに同一または異なっていてもよく、メチル基またはフェニル基を表し；ａおよびｂはいずれも正の整数を表し；Ｓｉ−Ｈ結合含有シロキサン単位数の全シロキサン単位数に対する比が０．４５〜１．００である）；
　（Ｅ）白金または白金化合物　触媒量。」（【請求項１】）
（4-b）「請求項１記載の剥離用組成物を硬化して得られた剥離性被膜。」（【請求項２】）
（4-c）「塗布後、溶媒が存在するときは乾燥して溶媒を除去した後、加熱して硬化させ、基材表面に剥離性被膜を形成させる。加熱条件は、通常、温度１００〜１５０℃で１０〜３０秒である。」（段落【００３８】）
（4-d）「たとえば、実施例１の処理液を、次のようにして調製した。すなわち、・・・ポリメチルビニルシロキサンＡ−１を１００部；・・・ポリジメチルシロキサン（・・・）Ｂ−１を１０部；・・・ポリメチルフェニルシロキサン（・・・）Ｃ−１を２．０部；・・・ポリメチルハイドロジェンシロキサン（重合度６２）Ｄ−１を６．７６部；ならびに２−メチル−３−ブチン−２−オールを０．１部、均一に混合した後、白金−ビニルシロキサン錯体Ｅ−１を４．１２部添加して、処理液を調製した。」（段落【００４５】）　
　
（１−５）引用文献５に記載された記載事項
（5-a）「基材の少なくとも一方の表面に、
　（Ａ）（ｉ）ケイ素原子に結合したアルケニル基を分子中に少なくとも２個有し、ケイ素原子に結合した残余の有機基がメチル基である、２５℃における粘度が５０〜１，０００cPのアルケニル基含有ポリジオルガノシロキサン；
　（ii）ケイ素原子に結合した水素原子を分子中に少なくとも３個有するポリメチルハイドロジェンシロキサン　（ｉ）のアルケニル基１個に対する該水素原子の量が０．５〜２．５個になる量；および
　（iii)白金系触媒　触媒量を含む剥離剤組成物を硬化させて得られる剥離剤層を形成させ；別の基材の少なくとも一方の表面に、
　（Ｂ）・・・
を含む粘着剤組成物またはその硬化物からなる粘着剤層を形成させて、両方の基材を、（Ａ）剥離剤層と（Ｂ）粘着剤層が隣接するように組み合わせたことを特徴とする粘着用剤。」（【請求項１】）
（5-b）「剥離剤組成物を、必要に応じて溶媒の存在下に、バーコーター、ロールコーターなどの器具によって基材の表面に処理し、溶媒が存在する場合は乾燥した後、１００〜１５０℃に１〜５分間加熱して硬化させ、剥離剤層を形成させることができる。」（段落【００２４】）
　
（２）引用文献１に記載された発明
　引用文献１には、「印刷装置において、印刷要素に対して被印刷体を圧着し、その後移送する被印刷体圧着・移送系に配される被印刷体圧着・移送用ローラであって、脱脂、ブラスト処理された金属製ローラ基材上に、多孔質のセラミック溶射層と前記セラミックス溶射層の表面上及び孔部内に形成された低表面エネルギー性樹脂層とからなる複合被覆皮膜が形成されていることを特徴とする被印刷体圧着・移送用ローラ。」（摘示（1-a）））、「前記低表面エネルギー性樹脂が、シリコーン系樹脂である請求項１〜４のいずれかに記載の被印刷体圧着・移送用ローラ。」（摘示（1-b））、「本発明の被印刷体圧着・移送用ローラを得るには、まず図３に示すように脱脂・ブラスト処理して粗面とした金属製ローラ基材１０表面上にセラミックス溶射層１２を形成する。」（摘示（1-d））、「ここで、このセラミックス溶射層１２の上部から、例えばシリコーン系樹脂等の低表面エネルギー性樹脂を含浸コーティングして乾燥固化させると、図１および２に示すように、セラミックス溶射層の表面上および孔部内に低表面エネルギー性樹脂層１３が形成される。」（摘示（1-e））及び「また、セラミックス溶射層の表面粗度は、前記したように一般にＲｍａｘ３０〜５０μｍ程度であることが望まれるが、最終製品として必要とされる最適な表面粗度は、ローラの種類によって異なり、例えばグラビア印刷機等の薄いフィルムを印刷する機械におけるガイドローラ等は、代表的なＲｍａｘ２０〜４０μｍ程度よりもより細かい５〜２０μｍ程度の最終表面粗度が・・・得られるように、必要に応じてセラミックス溶射後に軽く表面研磨を行なうことも可能である。」（摘示（1-i））が記載されているから、
「印刷装置において、印刷要素に対して被印刷体を圧着し、その後移送する被印刷体圧着・移送系に配される被印刷体圧着・移送用ローラであって、脱脂、ブラスト処理された金属製ローラ基材上に、多孔質のセラミック溶射層と前記セラミックス溶射層の表面上及び孔部内に形成された低表面エネルギー性樹脂層とからなる複合被覆皮膜が形成されていることを特徴とする被印刷体圧着・移送用ローラの製造方法において、
脱脂・ブラスト処理して粗面とした金属製ローラ基材表面上にセラミックス溶射層を形成し、必要に応じてセラミックス溶射後に軽く表面研磨を行ない、セラミックス溶射層の上部から、シリコーン系樹脂等の低表面エネルギー性樹脂を含浸コーティングして乾燥固化させる被印刷体圧着・移送用ローラの製造方法。」の発明（以下、「引用発明１」という。）及びこの方法により製造された
「印刷装置において、印刷要素に対して被印刷体を圧着し、その後移送する被印刷体圧着・移送系に配される被印刷体圧着・移送用ローラであって、脱脂、ブラスト処理された金属製ローラ基材上に、多孔質のセラミック溶射層と前記セラミックス溶射層の表面上及び孔部内に形成されたシリコーン系樹脂である低表面エネルギー性樹脂層とからなる複合被覆皮膜が形成されていることを特徴とする被印刷体圧着・移送用ローラ。」
の発明（以下、「引用発明２」という。）が記載されているといえる。
　
４．本願発明と引用発明との対比及び相違点についての判断
（１）本願発明２について
（１−１）本願発明２と引用発明１との対比
　本願発明１は、本願発明２のコーティング方法により製造された印刷機部材に関わるものなので、先ず、方法の発明である本願発明２から検討することとし、本願発明２と引用発明１とを対比する。
　引用発明１においては、シリコーン系樹脂である低表面エネルギー性樹脂を含浸コーティングして乾燥固化させているが、引用文献１の摘示（1-m）に「セラミックス層の上からシリコーン系樹脂離型剤（信越化学工業（株）製　ＫＳ７７６Ｌ）１００部、トルエン３００部および硬化触媒（信越化学工業（株）製　ＣＡＴ−ＰＬ８）１部を混合撹拌した溶液を、スプレー方式で含浸塗布した後、１５０℃の乾燥炉で１時間乾燥固化させてセラミックス溶射層の表面にシリコーン系樹脂皮膜を形成した」と記載されており、硬化触媒と共にシリコーン系樹脂離型剤を加熱し乾燥固化させていることから、乾燥固化は、シリコーン系樹脂離型剤を硬化させることを意味していると解され、また、印刷装置において、「印刷要素に対して被印刷体を圧着し、その後移送する被印刷体圧着・移送系に配される被印刷体圧着・移送用ローラ」は、印刷機部材に他ならず、「複合被覆皮膜が形成されている」ことは、セラミック層の上にシリコーン系樹脂層がコーテイングされていることを意味し、一方、本願発明２におけるＳｉＯ２からなる金属酸化物は、本願明細書の段落【０００９】に記載するように酸化物セラミックスに他ならず、ポリハイドロジェンメチルシロキサンはポリオルガノシロキサンと【０００９】に記載されていることから、シリコーン系樹脂といえ、１００℃から１７０℃の温度でのみ適用するとは、硬化温度でのみ適用するものといえるから、
　本願発明２と引用発明１とを対比すると、両者は、
「第１の工程において、セラミックス層を印刷機部材上に適用し、当該層の表面を処理し、その後にのみ、第２の工程において、第１工程で得られた層の上に、加熱により硬化するシリコーン系樹脂の層をシリコーン系樹脂の硬化温度でのみ適用する、印刷機部材のコーティング方法」
の点で一致し、以下の点で相違する。
相違点１：引用発明１においては、印刷機部材が、予め脱脂、ブラスト処理されたものであるのに対し、本願発明２においては印刷機部材上に設けられる層の表面を研削及び／または研磨している点
相違点２：本願発明２においては、印刷機部材上に設けられる層が、ＳｉＯ２からなる金属酸化物、または、ＷＣ／Ｎｉ、ＴｉＣ／Ｎｉ、ＮｉＣｒＢＳｉまたはモリブデン、あるいは、これら硬金属の混合物からなる低摩耗性硬金属の層であるのに対し、引用発明１においては単にセラミックス溶射層とされているだけで、上記の特定の金属酸化物あるいは低摩耗性硬金属が明らかでない点
相違点３：本願発明２においては、シリコーン系樹脂が、１００℃〜１７０℃で硬化するポリハイドロジェンメチルシロキサンであって、１００℃〜１７０℃の温度でのみ適用するのに対し、引用発明１においては、シリコーン系樹脂の種類及び適用温度が明らかでない点
　
（１−２）本願発明２と引用発明１との相違点についての判断
（１−２−１）相違点１について
　引用発明１で、脱脂、ブラスト処理をする理由は、摘示（1-f）にあるように、上部に形成されるセラミックス溶射層との密着性を向上させるためであり、また、脱脂・ブラスト処理された金属製ローラ基材上に形成されたセラミックス溶射層について引用文献１には、「一般にＲｍａｘ３０〜５０μｍ程度であることが望まれるが、最終製品として必要とされる最適な表面粗度は、ローラの種類によって異なり、・・・代表的なＲｍａｘ２０〜４０μｍ程度よりもより細かい５〜２０μｍ程度の最終表面粗度が・・・得られるように、必要に応じてセラミックス溶射後に軽く表面研磨を行なうことも可能である」（摘示（1-i））と記載されており、金属製ローラ基材上に形成されたセラミックス溶射層について、研磨セラミックス溶射後に研磨を行うことが記載されている。してみれば、引用発明１において、印刷機部材上に設けられる層の表面を研磨することは当業者が容易になし得ることである。
　
　この点に関して、請求人は、平成１９年９月４日付けの意見書において、引用発明１においては、金属製ローラを脱脂・ブラスト処理することにより、金属製ローラの表面に凹凸を形成し、それにより、耐摩耗性セラミックス溶射層および低表面エネルギー性樹脂表面を凹凸にすることに特徴があり、引用文献１には、金属酸化物または低摩耗性硬金属の層を研削および／または研磨することは記載されていないのに対し、本願発明２においては、金属酸化物または低摩耗性硬金属の層の表面を研削および／または研磨して平らにするのであるから、本願発明２と引用発明１とは相反している旨、主張している。
　しかしながら、上記のとおり、引用文献１には、研磨セラミックス溶射後に研磨を行うことが記載されており、また、研磨セラミックス溶射層の表面粗度についても、引用文献１には、「代表的なＲｍａｘ２０〜４０μｍ程度よりもより細かい５〜２０μｍ程度の最終表面粗度が・・・得られるように、必要に応じてセラミックス溶射後に軽く表面研磨を行なうことも可能である」（摘示（1-i））と記載されているところ、本願明細書の段落【００１５】には、「摩耗に抗して保護する層の表面粗さを、対応する機能に好適なように、好ましくは１．０μｍ＜Ｒｚ＜９０μｍ、特にＲｚ＝１５〜２０μｍと設定できる」旨記載されており、摩耗に抗して保護する層、すなわち、金属酸化物または低摩耗性硬金属の層の表面粗度は、好ましくは１．０μｍ＜Ｒｚ＜９０μｍであり、特にＲｚ＝１５〜２０μｍであって、この表面粗度は引用発明１におけるセラミックス溶射層の表面粗度と実質的に異なるところはないから、請求人の出張は妥当なものではない。
　
（１−２−２）相違点２について
　引用文献１には、セラミックス材料として、「Ａｌ２Ｏ３、ＴｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３−ＴｉＯ２、Ｃｒ２Ｏ３、ＺｒＯ２、ＷＣ、ＷＣ−Ｃｏ、Ｃｒ３Ｃ２、ＴｉＣ等あるいはこれらの混合物、さらには導電性をもたすためにセラミックスと金属を同時溶射した複合皮膜、サーメット類」等が例示され、これらに限定されるものではないことが記載されている（摘示（1-g））。また引用文献２には、炭化タングステンもセラミックスであること（摘示（2-a））、そして、摘示（2-b）には、セラミックスが耐摩耗性に優れた性質をもっていることが記載されている。そうすると、耐摩耗性を高めるために、引用文献１に記載されるセラミック材料の中から、引用文献２に記載される炭化タングステン系のセラミックス（なお、炭化タングステン系のセラミックスとして、ＷＣ／Ｎｉは特開平９−２３４９７２号公報（特に段落【００２０】参照）、特開平９−１６５２７５号公報（特に段落【０００６】参照）にも見られるように周知事項である。）を用いてみることは、当業者が容易になし得ることである。また、本願発明２においては、セラミックスを選択したことにより、引用発明１において具体的に例示されているセラミックス材料に比較して格別顕著な効果を奏し得たものとも認められない。
　
（１−２−３）相違点３について
　引用文献１には、シリコーン系樹脂は、施工後に、高分子化、三次元化してＳｉ−Ｏ−Ｓｉ結合と有機基、望ましくはメチル基および／またはフェニル基、より望ましくはメチル基を主体とする骨格構造を有し、安定な硬化皮膜を形成できるものであればよいこと（摘示（1-k））、市販のシリコーン離型剤に好ましいものが多いこと（摘示（1-l））、一般式（Ｉ）をもって具体的に例示されたシリコーン離型剤に限定されるものでない（摘示（1-l））と記載される。一方、ポリハイドロジェンメチルシロキサン（引用文献３ではメチルハイドロジェンシロキサン樹脂、引用文献４及び５ではポリメチルハイドロジェンシロキサンと記載されている。）は、引用文献３〜５に記載されているように、剥離性を有し、３００℃以下、好ましくは２００℃以下、具体的には１２０℃又は１５０℃で硬化する（摘示（3-b）、（3-c）、（3-d））、あるいは１００〜１５０℃で硬化する（摘示（4-a）、（4-c）、（5-a）、（5-b））というものであるから、引用発明１における１５０℃付近で硬化するシリコーン系樹脂として、１００℃〜１７０℃で硬化するポリハイドロジェンメチルシロキサンを採用し、その硬化温度で適用することは当業者が容易になし得ることである。そして、本願発明２において、１００℃〜１７０℃で硬化するポリハイドロジェンメチルシロキサンを用い、その硬化温度を適用したたことにより、格別顕著な効果を奏し得たものとも認められない。
　
（１−２−４）本願発明２の効果について
　摘示（1-c）に記載されているように、引用発明１において製造された印刷機部材も、インキの付着汚染が少なくかつ洗浄の容易な耐久性の高いものであるから、本願発明２における印刷機部材の永久的な撥インキ性を得ると同時に印刷技術で用いられる標準的な洗浄剤に対する耐性を有するという効果も予期し得るものであって格別顕著なものではない。
　
（１−３）まとめ
　してみると、本願発明２は、引用文献１〜５に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものである。
　
（２）本願発明１について
（２−１）本願発明１と引用発明２との対比
　本願発明１と引用発明２とを対比する。
　本願発明１は、本願発明２の方法により製造された印刷機部材の発明であって、本願発明１は、本願発明２における印刷機材をさらに印刷機材（ガイド、引き出しローラー、及び、巻き型ノーズ）に限定し、抗摩耗保護するコーティングの厚さを０．０３から１．５ｍｍの厚さに限定すると共に、本願発明２における低摩耗性硬金属の層の表面を研削及び／または研磨するという事項が発明特定事項にはなっていないものである。
　
　そこで、本願発明１と引用発明２とを対比する。引用文献１には、「さらにこのセラミックス溶射層の厚さとしては、平均膜厚３０〜２００μｍ、より好ましくは４０〜８０μｍ程度であることが望まれる。すなわち、平均膜厚が３０μｍ未満では均一でかつ密着性、強度および耐摩耗性等の特性が十分な溶射層を得ることができない虞れがあり、一方平均膜厚が２００μｍを超えるものであるとコスト面で不利となるからである。」（摘示（1-h））及び、「低表面エネルギー性樹脂としては、使用されるインキに対する濡れ性が低くかつインキ組成中等に使用される薬剤に対し安定な皮膜、望ましくは高硬度皮膜を形成できるものであれば特に限定されるものではない」（摘示（1-j））ことが記載されていることから、セラミック溶射層は、耐摩耗性であり、低エネルギー性樹脂層は、使用されるインキに対する濡れ性が低いもの、すなわち、撥インキ性であることから、引用発明２における複合被覆皮膜は耐摩耗性及び撥インク性コーテイングということができ、したがって、本願発明１と引用発明２とは、
「印刷機部材であって、表面上に耐摩耗性及び撥インク性コーティングを有し、前記コーティングが、セラミックス層である耐摩耗性物質層、及び、低摩耗性物質層上に形成されたシリコーン系樹脂層からなる、印刷機部材」
の点で一致し、次の点で相違する。
相違点１：引用発明２においては、印刷機部材が、予め脱脂、ブラスト処理されたものであるのに対し、本願発明１においては印刷機部材の脱脂、ブラスト処理について特定されていない点
相違点２：本願発明１においては、印刷機部材上に設けられる層が、ＳｉＯ２からなる金属酸化物、または、ＷＣ／Ｎｉ、ＴｉＣ／Ｎｉ、ＮｉＣｒＢＳｉまたはモリブデン、あるいは、これら硬金属の混合物からなる低摩耗性硬金属の層であるのに対し、引用発明２においては単にセラミックス溶射層とされているだけで、上記の特定の金属酸化物あるいは低摩耗性硬金属が明らかでない点
相違点３：本願発明１においては、シリコーン系樹脂が、１００℃〜１７０℃で硬化するポリハイドロジェンメチルシロキサンであるのに対し、引用発明２においては、シリコーン系樹脂の種類及び適用温度が明らかでない点
相違点４：印刷機部材が、本願発明１においては、ガイド、引き出しローラー、及び、巻き型ノーズであるのに対し、引用発明２においては、被印刷体圧着・移送用ローラである点
相違点５：抗摩耗保護するコーテイングの厚さが、本願発明１においては、０．０３から１．５ｍｍであるのに対し、引用発明２においては特定されていない点
　
（２−２）本願発明１と引用発明２との相違点についての判断
　そこで、これらの相違点について検討する。
（２−２−１）相違点１〜３について
　上記「（１）本願発明２について」の「（１−２）本願発明２と引用発明１との相違点についての判断」の（１−２−１）〜（１−２−３）で述べた理由と同じ理由で、相違点１〜３については、当業者が容易に着想し得たものである。
　
（２−２−２）相違点４について
　相違点４については、摘示（1-c）に記載されているように、引用発明２における被印刷体圧着・移送用ローラーは、輪転機用ガイドローラーを含むものであるから、この点は、実質的な相違点ではない。
　
（２−２−３）相違点５について
　相違点５については、抗摩耗保護するコーティングに相当する、引用発明２のセラミックス溶射層の平均厚さは、３０〜２００μｍ（摘示（1-h））
、すなわち、０．０３〜０．２ｍｍであるから、本願発明１における厚さと重複し、この点は実質的な相違点ではない。
　
（２−２−４）本願発明１の効果について
　そして、摘示（1-c）に記載されているように、引用発明２の印刷機部材も、インキの付着汚染が少なくかつ洗浄の容易な耐久性の高いものであるから、本願発明１における印刷機部材の持続的な撥インキ性を得ると同時に印刷技術で用いられる標準的な洗浄剤に対する耐性を有するという効果も予期し得るものであって格別顕著なものではない。
　
（２−３）まとめ
　してみると、本願発明２は、引用文献１〜５に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものである。
　
ＩＩＩ．むすび
　以上のとおりであるから、本願発明１及び２は、その出願前に頒布された刊行物である引用文献１〜５に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであり、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないものであるから、その余を検討するまでもなく、本願は、拒絶すべきものである。
　よって、結論のとおり審決する。