【事件の表示】
　特願２００４−　６０３３４「機能性基体製造装置及びそれにより製造される機能性基体」拒絶査定不服審判事件〔平成１７年　９月１５日出願公開、特開２００５−２４６２４３〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
【１】手続の経緯
　本件出願は、平成１６年３月４日の出願であって、平成１８年６月２１日付けの拒絶理由の通知に対して、同年８月１７日付けで意見書及び手続補正書が提出されたが、同年１０月４日付けで拒絶査定がなされ、これに対し、同年１１月６日に拒絶査定に対する審判請求がなされ、同年１１月１４日付けの手続補正書によって特許請求の範囲及び明細書を補正する手続補正がなされるとともに同日付けで審判請求における請求の理由を補正する手続補正がなされ、平成２０年１０月７日付けで審尋がなされ、これに対し、同年１２月３日付けで回答書が提出されたものである。
　
　
【２】平成１８年１１月１４日付けの特許請求の範囲及び明細書を補正する手続補正についての補正却下の決定
　
　〔補正却下の決定の結論〕
　平成１８年１１月１４日付けの手続補正を却下する。
　
　
　［理　由］
１．本件補正の内容
　平成１８年１１月１４日付けの手続補正書による手続補正（以下、単に「本件補正」という。）は、特許請求の範囲の請求項１乃至４に関して、本件補正により補正される前の（すなわち、平成１８年８月１７日付けの手続補正書により補正された）特許請求の範囲の下記の（ｂ）に示す請求項１乃至４の記載を、下記の（ａ）に示す請求項１乃至４と補正するものを含むものである。
　
　（ａ）本件補正後の特許請求の範囲
　「【請求項１】
　基体上に配線パターン、回路パターン、電子放出素子、有機トランジスタ、有機ＥＬ素子のいずれかを形成する材料、あるいは層間絶縁膜材料である機能性材料を含有する溶液を噴射付与し、該溶液付与後の前記基体を加熱処理して溶液中の揮発成分を揮発させ、固形分を前記基体上に残留させることによって電圧を印加し機能する配線パターン、回路パターン、電子放出素子、有機トランジスタ、有機ＥＬ素子のいずれかのパターンあるいは機能性素子を形成した機能性基体を製造する機能性基体製造装置において、
　前記基体に対して機能性材料を含有した溶液
の液滴
　該噴射ヘッドに溶液付与情報を入力する情報入力手段とを有し、
　前記噴射ヘッドは、保持手段に搭載されて前記基体に相対する位置に配されるとともに、前記基体と相対移動を行いながら、前記情報入力手段により入力された前記溶液付与情報に基づいて前記基体の所望の位置に前記溶液を噴射する機能性基体製造装置であって、
　前記保持手段に前記基体上にレーザ光を照射するレーザ光照射手段を搭載して、
　該レーザ光照射手段によるレーザ光照射によって
該レーザ光のスポット径が前記液滴によるドット径以下となるように
前記液滴
　前記噴射ヘッドに備える吐出面をキャップして被うとともに吸引する信頼性維持装置を有し、
　該信頼性維持装置が前記吐出面を前記レーザ光照射手段から離間してキャップ部材を配することができるように前記レーザ光照射手段と噴射ヘッドとの間に離間空間を設けたことを特徴とする機能性基体製造装置。
　　【請求項２】
　前記信頼性維持装置は、前記吐出面をキャップして被うとともに前記レーザ光照射手段のレーザ光照射部をキャップして被い、このキャップ部材を配置することを可能とする離間空間を前記レーザ光照射手段と噴射ヘッドとの間に設けたことを特徴とする請求項１に記載の機能性基体製造装置。
　　【請求項３】
　前記信頼性維持装置を前記機能性基体の設置領域以外に設けたことを特徴とする請求項１または２に記載の機能性基体製造装置。
　　【請求項４】
　請求項１〜３のいずれか１に記載の機能性基体製造装置によって製造されることを特徴とする機能性基体。」
　
　（ｂ）本件補正前の特許請求の範囲
　「【請求項１】
　基体上に配線パターン、回路パターン、電子放出素子、有機トランジスタ、有機ＥＬ素子のいずれかを形成する材料、あるいは層間絶縁膜材料である機能性材料を含有する溶液を噴射付与し、該溶液付与後の前記基体を加熱処理して溶液中の揮発成分を揮発させ、固形分を前記基体上に残留させることによって電圧を印加し機能する配線パターン、回路パターン、電子放出素子、有機トランジスタ、有機ＥＬ素子のいずれかのパターンあるいは機能性素子を形成した機能性基体を製造する機能性基体製造装置において、
　前記基体に対して機能性材料を含有した溶液を噴射する噴射ヘッドと、
　該噴射ヘッドに溶液付与情報を入力する情報入力手段とを有し、
　前記噴射ヘッドは、保持手段に搭載されて前記基体に相対する位置に配されるとともに、前記基体と相対移動を行いながら、前記情報入力手段により入力された前記溶液付与情報に基づいて前記基体の所望の位置に前記溶液を噴射する機能性基体製造装置であって、
　前記保持手段に前記基体上にレーザ光を照射するレーザ光照射手段を搭載して、
　該レーザ光照射手段によるレーザ光照射によって前記基体表面を前処理し、該レーザ光の軌跡に沿って前記噴射ヘッドが溶液を付与し、
　前記噴射ヘッドに備える吐出面をキャップして被うとともに吸引する信頼性維持装置を有し、
　該信頼性維持装置が前記吐出面を前記レーザ光照射手段から離間してキャップ部材を配することができるように前記レーザ光照射手段と噴射ヘッドとの間に離間空間を設けたことを特徴とする機能性基体製造装置。
　　【請求項２】
　前記信頼性維持装置は、前記吐出面をキャップして被うとともに前記レーザ光照射手段のレーザ光照射部をキャップして被い、このキャップ部材を配置することを可能とする離間空間を前記レーザ光照射手段と噴射ヘッドとの間に設けたことを特徴とする請求項１に記載の機能性基体製造装置。
　　【請求項３】
　前記信頼性維持装置を前記機能性基体の設置領域以外に設けたことを特徴とする請求項１または２に記載の機能性基体製造装置。
　　【請求項４】
　請求項１〜３のいずれか１に記載の機能性基体製造装置によって製造されることを特徴とする機能性基体。」
　
　
２．補正の適否の判断
　上記本件補正が、審判請求時における特許請求の範囲の補正についての平成１８年法律第５５号改正附則第３条第１項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法第１７条の２第４項の規定に適合するかについて、検討する。
　
　本件補正後の請求項１については、本件補正前の請求項１に記載された発明の発明特定事項である「機能性材料を含有した溶液を噴射する噴射ヘッド」、「前記噴射ヘッドが溶液を付与し」及び「レーザ光照射によって前記基体表面を前処理し」を本件補正後の「機能性材料を含有した溶液
の液滴
前記液滴
該レーザ光のスポット径が前記液滴によるドット径以下となるように
　そこで、本件補正後の請求項１に記載された事項により特定される発明（以下、単に「本願補正発明」という。）が、特許出願の際独立して特許を受けることができるものであるのかどうかについて、以下に検討する。
　
　
３．刊行物記載の発明　
（１）原査定の拒絶理由で引用された、本願の出願前に頒布された刊行物である特開平１１−２０４５２９号公報（以下、「刊行物」という。）には、図１、２、３、５、７とともに次の事項が記載されている。
　
　（ア）「【請求項１】　インクジェット式記録ヘッドより所定の流動体を基板上に吐出して任意のパターンを形成するパターン形成方法であって、
前記流動体の吐出前に予め前記基板上に一定の処理を行うステップと、
前記処理をした基板上に前記インクジェット式記録ヘッドより前記流動体を吐出するステップと、を備えたことを特徴とするパターン形成方法。
　・・・（中略）・・・
【請求項１１】　前記処理は、前記基板のうち前記パターン形成領域の周囲を前記流動体に対し非親和性に表面改質する処理である請求項１に記載のパターン形成方法。
【請求項１２】　前記処理は、前記基板のうち前記パターン形成領域を前記流動体に対し親和性に表面改質する処理である請求項１に記載のパターン形成方法。
【請求項１３】　前記処理は、前記基板のうち前記パターン形成領域を、前記流動体を吸収する吸収層に表面改質する処理である請求項１に記載のパターン形成方法。
　・・・（中略）・・・
【請求項２０】　所定の流動体により基板上に任意のパターンを形成するための基板製造装置であって、
前記流動体を前記基板上に吐出可能に構成されたインクジェット式記録ヘッドと、
前記基板上に一定の処理を行う処理手段と、
前記インクジェット式記録ヘッドおよび前記処理手段と前記基板との相対位置を変更可能に構成される駆動手段と、
前記インクジェット式記録ヘッドからの前記流動体の吐出、前記処理手段による前記処理並びに前記駆動手段による駆動を制御する制御手段と、を備え、
前記制御手段は、前記処理手段による処理を前記インクジェット式記録ヘッドからの流動体の吐出に先行して行わせることが可能に構成された基板製造装置。
　・・・（中略）・・・
【請求項３０】　前記処理手段は、前記基板のうち前記パターン形成領域の周囲を前記流動体に対し非親和性に表面改質することが可能に構成される請求項２０に記載の基板製造装置。
【請求項３１】　前記処理手段は、前記基板のうち前記パターン形成領域を前記流動体に対し親和性に表面改質することが可能に構成される請求項２０に記載の基板製造装置。
【請求項３２】　前記処理手段は、前記基板のうち前記パターン形成領域を、前記流動体を吸収する吸収層に表面改質することが可能に構成される請求２０に記載のパターン形成方法。」（請求項１〜３２）
　
　（イ）「【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はインクジェット式記録ヘッドの工業的応用に係り、特にインクジェット方式によって任意のパターンを形成するための製造技術に関する。」（段落【０００１】）
　
　（ウ）「【０００５】
【発明が解決しようとする課題】ところが、超ＬＳＩほどの微細パターンまではいかなくても、μｍのオーダーのパターンを簡単に、しかも安価にかつ工場等の設備を用いることなく、製造することができるものとすれば、工業的に無限の需要が考えられる。
　・・・（中略）・・・
【０００８】しかし流動体によるパターン形成には流動体をパターンとして定着させるための関連処理が必要になるため、インクジェット式記録ヘッドから流動体を吐出可能に構成するのみではパターンを形成することができない。例えば、基板にパターンを定着させるためには、流動体から工業材料を出現させるための化学的処理、パターンの形を整えるための物理的処理、あるいはパターン形成領域にパターン材料を正しく定着させるための物理化学的処理が必要になる。
　・・・（中略）・・・
【００１１】すなわち本発明の第１の課題は、基板上に流動体が吐出される前に処理可能とすることによりパターンを形成可能とする方法およびその製造装置を提供することである。
【００１２】本発明の第２の課題は、基板上に流動体が吐出された後に処理可能とすることによりパターンを形成可能とする方法およびその製造装置を提供することである。
【００１３】本発明の第３の課題は、流動体が吐出された瞬間に処理可能とすることによりパターンを形成可能とする方法およびその製造装置を提供することである。」（段落【０００５】〜【００１３】）
　
　（エ）「【００４１】（共通構成）図１に以下の各実施形態で用いる基板製造装置の共通部分の概念構成図を示す。図１に示すように、本基板製造装置１００は、インクジェット式記録ヘッド２、処理装置３、駆動機構４および制御回路５を備えている。以下の各実施形態では、処理装置３の配置と処理内容がそれぞれ異なり、残りの構成は各実施形態にほぼ共通して使用される。
【００４２】インクジェット式記録ヘッド２には、流動体１０が入れられたインクタンク２６がパイプ２７を介して流動体１０を供給可能に接続されている。流動体１０としては、インクジェット式記録ヘッドから吐出可能な流動性を呈するものならば、親水性であると非親水性であるとを問わずあらゆるものが適用可能である。構成物全部が液状でなくともよい。例えば導電性を示す金属を微粒子として溶剤中に混入させたものでもよい。
【００４３】まずインクジェット式記録ヘッドの構造を説明する。図１８はインクジェット式記録ヘッド２の分解斜視図である。インクジェット式記録ヘッド２は、一般的なインクジェット式記録ヘッドとして任意の流動体を吐出可能に構成されていれば十分である。図１８のインクジェット式記録ヘッド２では、ノズル２１１の設けられたノズルプレート２１、および振動板２３の設けられた圧力室基板２２を、筐体２５に嵌め込んで構成される。圧力室基板２２は、例えばシリコンをエッチングして形成され、キャビティ（圧力室）２２１、側壁２２２およびリザーバ２２３等が形成されている。
　・・・（中略）・・・
【００４６】処理装置３は、基板１に対して所定の処理を施すことが可能に構成されている。処理装置３は制御回路５から供給される制御信号Ｓpに対応して処理を行う。処理装置３の機能、構造に関しては、以下の各実施形態で明らかにする。
【００４７】駆動機構４は、モータＭ１、モータＭ２および図示しない機構構造を備えており、インクジェット式記録ヘッド２および処理装置３をともに、Ｘ軸方向（図１の横方向）およびＹ軸方向（図１の奥行き方向）に搬送可能に構成されている。モータＭ１は駆動信号Ｓxに応じてインクジェット式記録ヘッド２および処理装置３をＸ軸方向に搬送可能に構成される。モータＭ２は駆動信号Ｓyに応じてインクジェット式記録ヘッド２および処理装置をＹ軸方向に搬送可能に構成される。
【００４８】なお、駆動機構４は基板１に対するインクジェット式記録ヘッド２および処理装置３の位置を相対的に変化可能な構成を備えていれば十分である。このため上記構成の他に、基板１がインクジェット式記録ヘッド２や処理装置３に対して動くものであっても、インクジェット式記録ヘッド２および処理装置３と、基板１とがともに動くものであってもよい。また、処理の形態によっては処理装置３がインクジェット式記録ヘッド２とともに搬送される必要はなく、処理装置３が別個に搬送されても、静止しているものであってもよい。
　・・・（中略）・・・
【００５０】制御信号Ｓhが供給されず、電圧を加えない状態では振動板２３の変形がない。制御信号Ｓhが供給され電圧が加えられると、同図の破線で示す位置まで振動板２３ｂや変形後２４ｂの圧電素子が変形する。キャビティ２１内の体積が変化すると、キャビティ２１に満たされた流動体１０の圧力が高まる。ノズル穴２１１には流動体１２が供給され、液滴１１が吐出される。
【００５１】（配置の態様）図２乃至図４を参照して本発明の基本的な処理の配置をそれぞれ説明する。本発明はインクジェット式記録ヘッドから吐出された流動体に行う処理装置の配置を３つに区別して考える。
【００５２】図２はインクジェット式記録ヘッドから流動体を吐出する前に基板に対して処理を行う第１の配置の概念図である。同図に示すように、インクジェット式記録ヘッド２および処理装置３は矢印搬送方向に相対的に搬送される。第１の配置の場合、処理装置３は進行方向に対してインクジェット式記録ヘッド２より前に配置される。そして基板１に対しインクジェット式記録ヘッド２から流動体の液滴１１が吐出される前に基板１に対して所定の処理７を行うものである。処理の詳細は以下の実施形態で説明する。
【００５３】図３はインクジェット式記録ヘッドから流動体を吐出した後に流動体または基板に対して処理を行う第２の配置の概念図である。同図に示すように、インクジェット式記録ヘッド２および処理装置３は矢印搬送方向に相対的に搬送される。第２の配置の場合、処理装置３は進行方向に対してインクジェット式記録ヘッド２より後に配置される。そしてインクジェット式記録ヘッド２から基板１に対し流動体の液滴１１が吐出された後に基板１に対して所定の処理７を行うものである。処理の詳細は以下の実施形態で説明する。」（段落【００４１】〜【００５３】）
　
　（オ）「【００５５】（実施形態１）本発明の実施形態１は化学的作用（溶解度低下）を流動体に及ぼす処理に関し、主に上記第１の配置および第２の配置において用いられる。
【００５６】図５に本実施形態１の処理概念を説明する側面図を示す。本実施形態１の処理装置３０１は、流動体１１が吐出される前の基板１に対して、流動体に混入している物質の溶解度を低下させ、その固形分を析出させる処理７０１を適用可能に構成されている。このような処理として、熱風の吹き付け、レーザ照射、ランプ照射等を行って流動体の溶媒成分を蒸発させるといった処理が考えられる。同図は第１の配置に適用した構成を示すが、第２の配置に適用した場合には処理装置３０１がインクジェット式記録ヘッド２の進行方向後方に配置される。
【００５７】熱風の吹き付けを行う場合、処理装置３０１は空気を吹き付けるコンプレッサおよび空気を熱するヒータ等を備える。レーザ照射を行う場合には、所定の波長のレーザ光を照射するレーザ発光用ダイオード、レーザ光を集光するためのレンズ群およびレンズ群を駆動して適正にレーザ光を基板上に集光するためのアクチュエータ装置等を備える。ランプ照射を行う場合は、キセノンランプ等の高エネルギーを放射可能なランプ、リフレクタ、レンズ群等を備える。
【００５８】前処理を行う第１の配置で上記処理装置３０１を用いる際、上記処理を流動体の液滴１１が吐出される直前の基板１に対して行う。基板に着弾した液滴は、すでに基板１が熱せられているので、着弾直後から溶媒成分が蒸発し、流動体が濃縮される結果として、固形分が残留あるいは溶解物が析出するようになる。例えば流動体が溶媒中に金属の微粒子を含んだものであれば、熱の影響で溶媒成分のみが蒸発し、金属微粒子を導電性のパターンとして基板上に残留させることができる。
　・・・（中略）・・・
【００６０】なお、上記処理の他に、局所的に減圧させたり雰囲気を変更可能に構成してもよい。このように構成すれば、流動体に対する溶解物の溶解度を低下させ、結果として溶解物を析出させることが可能となる。また基板全体を熱する等の措置も本実施形態の一変形例に加えられる。このためには基板１の載置台にヒータ装置等を設けることになる。」（段落【００５５】〜【００６０】）
　
　（カ）「【００６９】（実施形態３）本発明の実施形態３は物理化学的作用として基板の親和性を改善する処理に関し、主に上記第１の配置において用いられる。
【００７０】図７に本実施形態３の処理概念を説明する平面図を示す。本実施形態４の処理装置３０３は、流動体１１が吐出される前の基板１のパターン形成領域を、流動体に対し親和性を備えるように表面改質可能に構成されている。
【００７１】親和性を備えるように表面改質する処理としては、流動体が極性分子を含む場合（水分を含む場合等）は、シランカップリング剤を塗布する方法、酸化アルミニウムやシリカ等の多孔質膜を形成する方法、アルゴン等で逆スパッタをかける方法、コロナ放電処理、プラズマ処理、紫外線照射処理、オゾン処理、脱脂処理等、公知の種々の方法を適用する。流動体が極性分子を含まない場合には、パラフィン等を塗布する方法、ガスプラズマ処理、カップリング処理等がある。
　・・・（中略）・・・
【００７４】上記実施形態３によれば、インクジェット式記録ヘッド２からの流動体の吐出に先行して表面改質されたパターン形成領域７０３に親和性を示す膜が形成されるので、パターン形成領域に着弾した液滴１２が広がり過ぎたり分離したりするおそれが少なくなる。」（段落【００６９】〜【００７４】）
　なお、上記段落【００７０】中の「本実施形態４」は「本実施形態３」の誤記と認められる。
　
　（キ）「【０１１９】（その他の変形例）本発明は上記実施形態によらず種々に変形して適用することが可能である。すなわちインクジェット式記録ヘッドから流動体を吐出する他に、その吐出前やその吐出後に、または基板に液滴が着弾する前に処理を行うものであれば、本発明の思想の範囲に入る。例えば上記各実施形態ではパターン形成を目的としていたが、これに拘るものではない。工業的用途であると民生的用途であるとを問わず、インクジェット式記録ヘッド等からインクを吐出して特定の効果を得るものであれば種々に適用することが可能である。
【０１２０】また、上記各実施形態は独立に適用しても複数を同時に適用してもよい。特にパターン形成が複数工程によって完了する場合には、複数の処理装置により処理することは好ましい。例えば、液滴吐出前に表面改質を第１の配置の処理装置により行って液滴を基板に密着し易くし、吐出された流動体の液滴の属性を検出しその位置補正を行う処理を第３の配置の処理装置で行い、最後に基板上の液滴の濃縮を第２の配置の処理装置で行う等が考えられる。」（段落【０１１９】、【０１２０】）
　
（２）ここで、上記（１）の（ア）〜（キ）及び図１、２、３、５、７からみて、次のことがわかる。
　（ク）上記（ウ）〜（カ）及び図１、５、７からみて、インクジェット式記録ヘッド２から吐出される流動体１０は、導電性を示す金属の微粒子を溶剤中に混入させたものも含まれ、流動体１０により形成されるパターンは、導電性のパターンを含むものであることがわかる。
　また、基板製造装置１００は、導電性のパターンの形成された基板を製造する装置であることがわかる。
　
　（ケ）上記（ア）、（エ）、（オ）及び図１、５、７からみて、インクジェット式記録ヘッド２からの流動体１０の吐出、処理手段である処理装置３，３０１，３０３による処理並びに駆動手段である駆動機構４による駆動を制御する制御手段である制御回路５は、インクジェット式記録ヘッド２に流動体１０の吐出付与する情報である制御信号Ｓh等を入力していることがわかる。
　
　（コ）上記（ア）、（エ）〜（カ）及び図１、５、７からみて、駆動機構４は、モータＭ１、モータＭ２および機構構造を備えており、インクジェット式記録ヘッド２および処理装置３，３０１，３０３をともに、Ｘ軸方向およびＹ軸方向に搬送可能に構成されているので、インクジェット式記録ヘッド２および処理装置３，３０１，３０３を支持する支持手段が存在していることがわかる。
　
　（サ）上記（オ）、（カ）、（キ）及び図１、２、３、５、７からみて、処理装置３については、図７の実施形態３では、コロナ放電処理、プラズマ処理、紫外線照射処理、オゾン処理、脱脂処理等、公知の種々の方法を適用した、親和性を備えるように表面改質処理する処理装置３０３であり、図５の実施形態１では、レーザ照射等の方法を適用した、流動体の溶媒成分を蒸発させるといった処理をする処理装置３０１であることがわかる。
　また、図２の第１の配置では、処理装置３はインクジェット式記録ヘッド２より前方に配置されて処理７の前処理を行なうものであり、他方、図３の第２の配置では、処理装置３はインクジェット式記録ヘッド２より後方に配置されて処理７の後処理を行なうものであることがわかる。
　以上のことから、図７の実施形態３の場合、『主に第１の配置において用いられる』（上記（カ）の段落【００６９】参照。）ので、処理装置３は、親和性を備えるように表面改質処理する処理装置３０３として前処理を行い、他方、図５の実施形態１の場合、『主に上記第１の配置および第２の配置において用いられる』（上記（オ）の段落【００５５】参照。）ので、処理装置３は、流動体の溶媒成分を蒸発させる処理装置３０１として前処理でも後処理でも行えることがわかる。
　そうすると、『上記各実施形態は独立に適用しても複数を同時に適用してもよい』（上記（キ）の段落【０１２０】参照。）し、『例えば、液滴吐出前に表面改質を第１の配置の処理装置により行って液滴を基板に密着し易くし、・・・（中略）・・・最後に基板上の液滴の濃縮を第２の配置の処理装置で行う等が考えられる』（上記（キ）の段落【０１２０】参照。）ので、その他の変形例（上記（キ）の段落【０１２０】参照。）の一つとして、親和性を備えるように表面改質処理する処理装置３０３により前処理を行い、処理装置３０１により流動体の溶媒成分を蒸発させるといった後処理を行う実施形態が開示されていると云える。
　
　（シ）上記（カ）及び図７からみて、処理装置３０３により表面改質されたパターン形成領域７０３の幅（すなわち、処理装置３０３およびインクジェット式記録ヘッド２の進行方向に対して垂直な方向の幅）が、インクジェット式記録ヘッド２からの流動体の吐出された液滴１２の幅方向のドット径以下となっていることがわかる。
　
（３）上記（ア）〜（シ）及び図１、２、３、５、７の記載を総合すると、刊行物には、次の発明（以下、「刊行物記載の発明」という。）が記載されているものと認められる。
　
　「基板１上に導電性を示す金属の微粒子を含有する流動体１０を吐出付与し、該流動体１０付与後の前記基板１を加熱処理して流動体１０中の溶媒成分を蒸発させ、固形分を前記基板１上に残留させることによって電圧を印加し機能する導電性のパターンを形成した導電性のパターンの形成された基板を製造する基板製造装置１００において、
　前記基板１に対して導電性を示す金属の微粒子を含有した流動体１０の液滴１１，１２を吐出するインクジェット式記録ヘッド２と、
　該インクジェット式記録ヘッド２に流動体１０の吐出付与する情報である制御信号Ｓh等を入力する制御回路５とを有し、
　前記インクジェット式記録ヘッド２は、支持手段に搭載されて前記基板１に相対する位置に配されるとともに、前記基板１と相対移動を行いながら、前記制御回路５により入力された前記流動体１０の吐出付与する情報である制御信号Ｓh等に基づいて前記基板１の所望の位置に前記流動体１０を吐出する基板製造装置１００であって、
　前記支持手段に前記基板１上に表面改質の処理７，７０３を行なう処理装置３，３０３を搭載して、
　前記基板１表面を前処理し、該表面改質の処理７，７０３の軌跡に沿って前記インクジェット式記録ヘッド２が前記液滴１１，１２を付与し、
　前記処理装置３，３０３とインクジェット式記録ヘッド２との間に離間空間を設けた基板製造装置１００。」
　
　
４．対比・判断
（１）対比
　本願補正発明と刊行物記載の発明とを対比すると、刊行物記載の発明における「基板１」、「流動体１０」、「液滴１１，１２」、「導電性のパターンの形成された基板」、「基板製造装置１００」、「インクジェット式記録ヘッド２」、「流動体１０の吐出付与する情報である制御信号Ｓh等」、「制御回路５」及び「支持手段」は、それらの機能及び形状や構造からみて、本願補正発明における「基体」、「溶液」、「液滴」、「機能性基体」、「機能性基体製造装置」、「噴射ヘッド」、「溶液付与情報」、「情報入力手段」及び「保持手段」にそれぞれ相当する。
　また、刊行物記載の発明における「吐出」及び「吐出する」は、インクジェット式記録ヘッド２によりインクジェットにて流動体１０を「吐出」及び「吐出する」ことであるから、それぞれ「噴射」及び「噴射する」ことと同意味であるので、本願補正発明における「噴射」及び「噴射する」にそれぞれ相当し、刊行物記載の発明における「溶媒成分」及び「蒸発させ」は、加熱処理して流動体１０中の「気化すべき液体成分」を「気化させ」ることであるから、本願補正発明における「揮発成分」及び「揮発させ」にそれぞれ相当する。
　さらに、刊行物記載の発明における「導電性を示す金属の微粒子」及び「導電性のパターン」は、本願補正発明における「配線パターン、回路パターン、電子放出素子、有機トランジスタ、有機ＥＬ素子のいずれかを形成する材料、あるいは層間絶縁膜材料である機能性材料」及び「配線パターン、回路パターン、電子放出素子、有機トランジスタ、有機ＥＬ素子のいずれかのパターンあるいは機能性素子」にそれぞれ含まれる。
　さらにまた、刊行物記載の発明における「処理装置３，３０３」は、表面改質処理手段の限りにおいて、本願補正発明における「レーザ光照射手段」に相当し、同様に、刊行物記載の発明における「表面改質の処理７，７０３」及び「表面改質の処理７，７０３を行なう」は、表面改質処理手段による「表面改質処理」及び「表面改質処理する」の限りにおいて、本願補正発明における「レーザ光」及び「レーザ光を照射する」にそれぞれ相当する。
　
　したがって、本願補正発明と刊行物記載の発明は、
　「基体上に配線パターン、回路パターン、電子放出素子、有機トランジスタ、有機ＥＬ素子のいずれかを形成する材料、あるいは層間絶縁膜材料である機能性材料を含有する溶液を噴射付与し、該溶液付与後の前記基体を加熱処理して溶液中の揮発成分を揮発させ、固形分を前記基体上に残留させることによって電圧を印加し機能する配線パターン、回路パターン、電子放出素子、有機トランジスタ、有機ＥＬ素子のいずれかのパターンあるいは機能性素子を形成した機能性基体を製造する機能性基体製造装置において、
　前記基体に対して機能性材料を含有した溶液の液滴を噴射する噴射ヘッドと、
　該噴射ヘッドに溶液付与情報を入力する情報入力手段とを有し、
　前記噴射ヘッドは、保持手段に搭載されて前記基体に相対する位置に配されるとともに、前記基体と相対移動を行いながら、前記情報入力手段により入力された前記溶液付与情報に基づいて前記基体の所望の位置に前記溶液を噴射する機能性基体製造装置であって、
　前記保持手段に前記基体上に表面改質処理する表面改質処理手段を搭載して、
　前記基体表面を前処理し、該表面改質処理の軌跡に沿って前記噴射ヘッドが前記液滴を付与し、
　前記表面改質処理手段と噴射ヘッドとの間に離間空間を設けた機能性基体製造装置。」
である点で一致し、次の＜相違点１＞乃至＜相違点３＞で相違する。
　
　　＜相違点１＞
　表面改質処理手段及びその表面改質処理に関し、
　本願補正発明では、「レーザ光照射手段」及び「レーザ光」であるのに対し、刊行物記載の発明では、「処理装置３，３０３」及び「表面改質の処理７，７０３」である点。
　
　　＜相違点２＞
　基体表面を前処理し、表面改質処理の軌跡に沿って液滴を付与していることに関し、
　本願補正発明では、「レーザ光照射によって該レーザ光のスポット径が前記液滴によるドット径以下となるように前記基体表面を前処理し、該レーザ光の軌跡に沿って前記噴射ヘッドが前記液滴を付与し」ているのに対し、刊行物記載の発明では、「基板１」表面を前処理し、「表面改質の処理７，７０３」の軌跡に沿って「インクジェット式記録ヘッド２」が「液滴１１，１２」を付与している点。
　
　　＜相違点３＞
　表面改質処理手段と噴射ヘッドとの間に離間空間を設けたことに関し、
　本願補正発明では、「噴射ヘッドに備える吐出面をキャップして被うとともに吸引する信頼性維持装置を有し、該信頼性維持装置が前記吐出面をレーザ光照射手段から離間してキャップ部材を配することができるように前記レーザ光照射手段と噴射ヘッドとの間に離間空間を設けた」のに対し、刊行物記載の発明では、このような信頼性維持装置を有しておらず、このため、「処理装置３，３０３」と「インクジェット式記録ヘッド２」との間の離間空間でこのような信頼性維持装置のキャップ部材を配するものではない点。
　
（２）判断
　上記＜相違点１＞乃至＜相違点３＞について検討する。
　　＜相違点１＞について
　前処理を行なう塗布・印刷において、前処理として表面改質処理するために、レーザ光を照射するレーザ光照射手段を用いることは、従来周知の技術（以下、「周知技術１」という。必要があれば、例えば、原査定の拒絶理由において引用された特開２００３−２１１６５０号公報の特に請求項１、３、段落【０００１】、【０００８】〜【００１０】、【００１５】、【００５０】及び図１参照。）である。
　また、上記刊行物記載の発明も上記周知技術１もいずれも前処理を行なう塗布・印刷の技術分野に属するものである。
　そうすると、刊行物記載の発明において、表面改質処理手段及びその表面改質処理として、上記周知技術１を採用して、上記＜相違点１＞に係る本願補正発明のようにすることは、当業者が容易に想到し得る程度のことである。
　
　　＜相違点２＞について
　塗布・印刷技術一般において、前処理の範囲をカバーするように後処理の範囲を広くし、前処理の範囲をその後の塗布・印刷の範囲より小さくして、前処理の範囲の全てにわたって後処理が施されるようにすることは従来から広く行われていることである。
　そして、刊行物における図７の実施形態３を見ると、表面改質処理される前処理の範囲であるパターン形成領域７０３の進行方向に対する垂直方向の幅が塗布・印刷の範囲である液滴１２によるドット径以下となってとなっており、刊行物のものも前処理の範囲の全てにわたって後処理が施されていると云える。
　また、配線パターン等を成形品表面に付着させる装置において、表面処理を行なうレーザ光がスポット状となるようにすることは常套手段（以下、「常套手段」という。必要があれば、例えば、特開平１１−６０７３号公報の特に段落【０００１】、【００１１】、【００５７】〜【００６３】及び図４参照、特開平８−１６７７６９号公報の特に段落【０００１】、【０００７】及び図３、４参照。）である。
　そうすると、刊行物記載の発明において、表面改質処理をレーザ光で照射するレーザ光照射手段で行なう上記周知技術１を採用するに際し、上記常套手段を考慮することによって、上記＜相違点２＞に係る本願補正発明のようにすることは、当業者が容易になし得る程度のことである。
　
　　＜相違点３＞について
　インクジェット装置において、インクの目詰まり防止のため、複数の噴射ヘッドに備えるそれぞれの吐出面をキャップして被うとともに吸引するそれぞれのキャップ部材を有し、該キャップ部材の一つが対応する一つの噴射ヘッドの吐出面を隣の装置である隣の噴射ヘッドから離間してキャップ部材を配することができるように前記隣の装置である隣の噴射ヘッドと前記一つの噴射ヘッドとの間に離間空間を設けるようにすることは従来周知の技術（以下、「周知技術２」という。必要があれば、例えば、原査定の拒絶理由で例示した特開２００４−３４６６７号公報の特に請求項１、５〜７、段落【０００１】〜【０００３】、【００４９】〜【００５７】、【００６０】〜【００６４】及び図１、２、４参照。）である。
　そうすると、刊行物記載の発明において、表面改質処理をレーザ光で照射するレーザ光照射手段で行なう上記周知技術１を採用するに際し、上記周知技術２を付加することにより、溶液である流動体１０の目詰まり防止のために、インクジェット式記録ヘッド２に備える吐出面をキャップして被うとともに吸引するキャップ部材を有し、該キャップ部材が前記吐出面を隣の装置である処理装置３，３０３から離間してキャップ部材を配することができるように隣の装置である前記処理装置３，３０３とインクジェット式記録ヘッド２との間に離間空間を設けて、上記＜相違点３＞に係る本願補正発明のようにすることは、当業者が容易になし得る程度のことである。
　
（３）まとめ　
　以上のように、刊行物記載の発明、周知技術１及び周知技術２に基いて、本願補正発明のようにすることは、当業者が容易に想到し得る程度のことであり、しかも、本願補正発明は、全体構成でみても、刊行物記載の発明、周知技術１及び周知技術２から予測できる作用効果以上の顕著な作用効果を奏するものとも認められない。 
　よって、本願補正発明は、刊行物記載の発明、周知技術１及び周知技術２に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであり、特許法第２９条第２項の規定により、特許出願の際独立して特許を受けることができないものである。
　
　
５．むすび
　以上のとおり、本件補正は、平成１８年法律第５５号改正附則第３条第１項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項の規定に違反するので、同法第１５９条第１項において読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定により却下すべきものである。
　
　よって、結論のとおり決定する。
　
　
【３】本願発明について 
１．本願発明の内容 
　平成１８年１１月１４日付けの手続補正は上記のとおり却下されたので、本件出願の請求項１乃至４に係る発明は、平成１８年８月１７日付けの手続補正書により補正された特許請求の範囲、明細書及び出願当初の図面の記載からみて、その特許請求の範囲の請求項１乃至４に記載された事項により特定されるものと認められ、そのうち、請求項１に係る発明（以下、単に「本願発明」という。）は、前記【２】の［理由］の１．（ｂ）に示した請求項１に記載されたとおりのものである。
　
２．刊行物記載の発明 
　原査定の拒絶理由に引用された刊行物（特開平１１−２０４５２９号公報）の記載事項は、前記【２】の［理由］の３．に記載したとおりである。
　
３．対比・判断
　本願発明は、実質的に、前記【２】で検討した本願補正発明における発明特定事項である「機能性材料を含有した溶液
の液滴
前記液滴
該レーザ光のスポット径が前記液滴によるドット径以下となるように
　そうすると、本願発明の発明特定事項を全て含む本願補正発明が、前記【２】の［理由］の４．の（１）〜（３）に記載したとおり、刊行物記載の発明、周知技術１及び周知技術２に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、本願発明も、同様の理由により、刊行物記載の発明、周知技術１及び周知技術２に基いて当業者が容易に発明をすることができたものである。
　
４．むすび　
　以上のとおり、本願発明は、刊行物記載の発明、周知技術１及び周知技術２に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。 
　
 　よって、結論のとおり審決する。