【事件の表示】
　特願２００１−３１１９８２「超狭帯域２室式高反復率のガス放電型レーザシステム」拒絶査定不服審判事件〔平成１４年　７月１２日出願公開、特開２００２−１９８６０４〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１．手続の経緯
　本願は、平成１３年１０月９日（パリ条約による優先権主張、２０００年１０月６日、２００１年１月２３日、２００１年１月２９日、２００１年２月２７日、２００１年４月１３日、２００１年５月３日、２００１年５月１１日、２００１年８月２９日、米国）の出願であって、平成１７年１月１２日に手続補正がなされ、その後同年１２月１９日付で拒絶査定がなされ、これに対し、平成１８年４月４日に拒絶査定不服審判請求がなされたものである。
　　  
２．本願発明  
　本願の請求項に係る発明は、平成１７年１月１２日付の手続補正により補正された明細書及び図面の記載からみて、その特許請求の範囲の請求項１−５０に記載された事項により特定されるものであるところ、請求項１に係る発明は次のとおりのものである。  
　　
「【請求項１】　超狭帯域２室式高反復率のガス放電型レーザシステムであって、
Ａ）１）ａ）第１のレーザガスと、
　　ｂ）第１の放電領域を形成する、各々細長形状で間隔を空けて設けられた第１の電極対とを備える第１の放電室、
　２）毎秒４０００パルス又はそれ以上の範囲の反復率で動作する時に、各パルスの直後に、放電によって生成されたイオンの実質的に全てを、次のパルスに先立ち前記第１の放電領域から除去し得る前記第１の放電領域における前記第１のレーザガスのガス速度を作り出す第１のファン、
　３）前記第１のレーザガスから、少なくとも１６ｋｗの熱エネルギーを除去することができる第１の熱交換装置、
　４）前記第１の放電室で生成された光パルスのスペクトル帯域幅を狭小化するための線幅狭小化ユニットを備える第１のレーザユニットと、
Ｂ）１）ａ）第２のレーザガスと、
　　ｂ）第２の放電領域を形成する、各々細長形状で間隔を空けて設けられた第２の電極対とを備える第２の放電室、
　２）毎秒４０００パルス又はそれ以上の範囲の反復率で動作する時に、各パルスの直後に、放電によって生成されたイオンの実質的に全てを、次のパルスに先立ち前記第２の放電領域から除去し得る前記第２の放電領域における前記第２のレーザガスのガス速度を作り出す第２のファン、及び
　３）前記第２のレーザガスから、少なくとも１６ｋｗの熱エネルギーを除去することができる第２の熱交換装置とを備える第２のレーザユニットと、
Ｃ）約４，０００パルスの反復率で約５ｍＪの範囲内に正確に制御されたパルスエネルギーを持つレーザパルスを生成し得る電気パルスを、前記第１の電極対と前記第２の電極対に供給するようにしたパルス電力装置と、
Ｄ）前記２室式のレーザシステムによって生成されたレーザ出力パルスのパルスエネルギー、波長、及び帯域幅を測定するとともに、フィードバック制御方式で前記レーザ出力パルスを制御するためのレーザビーム測定・制御装置とを備え、
前記第１のレーザユニットは、主発振器として構成されるとともに、前記第２のレーザユニットは、
パワー増幅器
　　 
　なお、上記手続補正の請求項１には「電力増幅器」と記載されているが、第２のレーザユニットが、電力を増幅するものと解することはできず、レーザのパワー（出力）を増幅するものであると解するのが相当であるから、上記下線部のように認定した。
　　
３．引用刊行物  
　これに対し、原査定の拒絶の理由で引用された特開２０００−５８９４４号公報（以下、「引用刊行物」という。）には、図面と共に以下の事項が記載されている。  
　  
ア．「【特許請求の範囲】
【請求項１】少なくとも約１０００Ｈｚの繰り返し数で狭帯域パルスレーザビームを生成するための非常に狭帯域の高信頼性・モジュラ製造高品質高繰り返し数ＡｒＦエキシマレーザであって、
Ａ．レーザチャンバを包含する迅速に交換可能なレーザチャンバモジュールとを有し、前記レーザチャンバモジュールが、
１）２つの細長い電極と、
２）ａ）フッ素と、
ｂ）不活性ガスと、
からなるレーザガスと、
３）少なくとも２ｃｍ／ミリ秒の速度で前記電極の間で前記ガスを循環させるためのガスサーキュレータと、を備え、
Ｂ．少なくとも１つの迅速に交換可能なモジュールからなるモジュラーパルスパワーシステムとを有し、前記システムは、電源と、パルス圧縮及び増幅回路と、少なくとも約１０００Ｈｚの周波数で前記電極にわたって少なくとも１４０００ボルトの高電圧電気パルスを作り出すパルスパワー制御とを含み、
Ｃ．前記パルスパワーシステムによって提供される電圧を制御するためのレーザパルスエネルギ制御システムとを有し、前記制御システムは、レーザパルスエネルギモニタと、所望のエネルギ範囲内でパルスエネルギを有するレーザパルスを生成するのに必要な電気パルスを、歴史的なパルスエネルギデータに基づいて計算するためのアルゴリズムをプログラムされたコンピュータプロセッサとを含む、レーザ。
【請求項２】前記２つの細長い電極がカソードとアノードとを構成し、前記アノードが冷却フィンを有する、請求項１に記載のレーザ。」
　　
イ．「【０００１】
【発明の属する技術分野】・・・（中略）・・・本発明は、レーザに関し、特に狭帯域ＡｒＦエキシマレーザに関する。
【０００２】
【従来の技術】ＫｒＦエキシマレーザ
フッ化クリプトン（ＫｒＦ）エキシマレーザは、集積回路リソグラフィ産業の役に立つ光ソースに現在なっている。ＫｒＦレーザは、約２４８ｎｍの狭帯域波長を備えるレーザビームを作り出し、約１８０ｎｍと同じくらい小さい寸法の集積回路を作るのに使用される。フッ化アルゴン（ＡｒＦ）エキシマレーザは、ＫｒＦレーザと非常に似ている。主な違いは、レーザガス混合と、出力ビームのより短い波長である。基本的に、アルゴンはクリプトンを置換し、その結果、出力ビームの波長は１９３ｎｍである。このことにより、集積回路の寸法が約１２０ｎｍまで更に減少する。１５７ｎｍでのＦ2ビームによりパターン解像度の実質的な改良ができるので、Ｆ2レーザは、集積回路リソグラフィ産業において長らくＫｒＦ及びＡｒＦの後継者として認識されていた。これらのＦ2レーザは、ＫｒＦ及びＡｒＦエキシマレーザと多少の変形を伴い非常に似ており、Ｆ2レーザとして作動させるために従来技術のＫｒＦ又はＡｒＦレーザと交換することが可能である。集積回路の製造で使用される典型的な従来技術のＫｒＦエキシマレーザを、図１及び図２に示す。この従来技術のレーザのレーザチャンバの断面を図３に示す。高電圧電源３によって動力が供給されるパルスパワーシステム２は、電気的パルスを、放電チャンバ８に配置された電極６に提供する。典型的な技術水準のリソグラフィレーザは、約１０ｍＪ／パルスのパルスエネルギで約１０００Ｈｚのパルス周波数で作動する。約３気圧で（約０．１％フッ素、１．３％クリプトン、残りはバッファガスとして作用するネオンであるＫｒＦレーザ用の）レーザガスは、約１０００インチ／秒の速度で電極の間の空間を介して循環する。これは、レーザ放電チャンバに配置された垂直ブロワー１０でなされる。レーザガスは、チャンバにまた配置された熱交換器１１と、チャンバの外側に取り付けられた冷却プレート（図示せず）とで冷却される。エキシマレーザの自然のバンド幅は、線狭帯域化モジュール１８によって狭帯域化される。市販のエキシマレーザシステムは典型的には、システムの休止を妨害することなく迅速に交換されうる種々のモジュールからなる。主なモジュールは以下のものを含む：
レーザチャンバモジュール
高電圧電源モジュールを備えるパルスパワーシステム
整流子モジュール及び高電圧圧縮ヘッドモジュール
出力カプラモジュール
線狭帯域化モジュール
ウェーブメータモジュール
コンピュータ制御モジュール
ガス制御モジュール
冷却水モジュール
【０００３】電極６はカソード６Ａとアノード６Ｂとからなる。アノード６Ｂは、図３の断面に示したアノード支持バー４４によってこの従来技術の実施形態において支持される。フローは向かって時計回りである。アノード支持バー４４の一つの角及び一つの端は、電極６Ａ及び６Ｂの間に流すようにブロワー１０からの空気を強制するためのガイド羽根として役立つ。この従来技術のレーザにおける他のガイド羽根を、４６，４８及び５０で示す。穴が開けられた電流リターンプレート５２は、アノード６Ｂをチャンバ８の金属構造に接地するのを助ける。プレートは、レーザガスフローパスに配置された大きな穴（図３では図示せず）で穴が開けられており、電流リターンプレートはガスフローに実質的に影響しない。個々のキャパシタ１９のアレイからなるピークキャパシタは、パルスパワーシステム２によって各パルスの前にチャージされる。電圧がピークキャパシタにビルドアップする間、２つのプレイオン化装置５６は、電極６Ａ及び６Ｂの間でレーザガスを弱くイオン化させ、キャパシタのチャージは約１６，０００ボルトに達するとき、電極の放電は、エキシマレーザパルスを生成するように生成される。次の各パルスに関して、ブロワー１０によって生成され、約１インチ／ミリ秒の電極間のガスフローは、１ミリ秒後に生じる次のパルスに関して丁度良く電極間で新鮮なレーザガスを提供するのに十分である。
【０００４】典型的なリソグラフィエキシマレーザでは、フィードバック制御システムは、各パルスのレーザエネルギを測定し、所望のパルスエネルギからの偏差の度合いを判断し、次のパルスのエネルギが所望のエネルギに近くなるように電源電圧を調節するようにコントローラに信号を送信する。従来技術のシステムでは、このフィードバック信号は、アナログ信号であり、レーザ環境によって作り出されたノイズに曝されやすかった。このノイズによって、誤った電源電圧が提供されることになり、続いて出力レーザパルスエネルギにおける増加の変化を生じさせ得る。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】これらのエキシマレーザは、典型的には、メンテナンスのために予定されたほんの短い供給停止を伴って、１日２４時間、１週７日間、数ヶ月間、連続で作動することが要求される。これらの従来技術のレーザで経験したある問題は、過度の消耗と、ブロワベアリングの不定期の故障である。集積回路産業において、ＫｒＦ及びＡｒＦレーザでは得られない集積回路の解像度を与えることができるモジュラ、高信頼性製造ライン高品質Ｆ2レーザの必要性がある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明は、１０００乃至２０００Ｈｚ又はそれ以上の範囲における繰り返し数で、約１ｐｍ又はそれ以下の半値幅を備える１０ｍＪより大きなパルスエネルギを備えるレーザパルスを作り出すことができる、高信頼性、モジュラ、プロダクション、高品質Ｆ2エキシマレーザを提供する。本発明の好ましい実施形態は、１０乃至４０ワットの範囲におけるパワー出力を備える１０乃至５ｍＪの範囲におけるパルスエネルギを備える１０００乃至４０００Ｈｚの範囲で作動しうる。照射源としてこのレーザを使用する際、ステッパ又はスキャナ装置は、０．１μｍ又はそれ以下の集積回路解像度を作り出す。交換可能なモジュールには、レーザチャンバ、モジュラーパルスパワーシステムを含む。」
　　
ウ．「【００１０】
【発明の実施の形態】第１の好ましい実施形態
本発明の好ましい実施形態を図面を参照して記載する。
【００１１】モジュラーレーザ設計
本発明の好ましい実施形態の正面図を図４にそれぞれ示す。この図は、修理、交換及びメンテナンスのためにモジュールの非常に迅速な交換をすることができる特定の発明のモジュラー特性を強調している。この実施形態の主な特徴を、図４に示した参照番号に対応させて以下に羅列する。
２０１  レーザ遮蔽
２０２  ガスモジュール
２０３  冷却水供給モジュール
２０４  ＡＣ／ＤＣ配電モジュール
２０５  制御モジュール
２０６  線狭帯域モジュール
２０７  圧縮ヘッド
２０８  高電圧パルス電源モジュール
２０９  パルス電源供給のための整流子モジュール
２１０  フッ化金属トラップ
２１１  レーザチャンバ
２１３  波長モジュール
２１４  自動シャッタ
２１６  出力カプラ
２１７  ブロワーモータ
２１８  フッ化金属トラップ電源
２１９  ステータスランプ
２２０  ２４ボルト電源
２２１  チャンバウィンドウ
２２２  ガス制御可撓性接続
２２４  通気ボックス
【００１２】好ましい実施形態
本発明の好ましい実施形態は、図１，２及び３に記載されたレーザの改良されたバージョンである。この好ましい実施形態は以下の改良を包含する：
１）単一チューブ大型プレイオン化装置が、効果的に改良されたより良いプレイオン化と、電極の間での改良されたレーザガスフローとを提供するために、２つのチューブプレイオン化装置の従来技術の組み合わせを置換し；
２）シリコンフリー・ファンブレードが、１片加工されたブレードであり；
３）個体物理パルスパワーシステムが、より早い立ち上がり時間を作り出すために修正され、より調和したパルスを提供し、より高い電圧で改良されたレーザ効率を提供し；
４）パルス電源装置のチャージ電圧のより精密な制御と；
５）パルスエネルギ及びバーストエネルギのより改良された制御を提供する新しいアルゴリズムを備えたコンピュータ制御プログラムと；
６）電極空間が１０ｍｍまで減少された。」
　　
エ．「【００３７】レーザチャンバモジュール
約１００ｎｓ後、チャージは、レーザチャンバモジュール８０の一部として頂部に取り付けられたピークキャパシタ８２に流れはじめ、ピークキャパシタ８２の電圧は、約１４，０００ボルトに達し、電極間で放電をはじめる。最後の約５０ｎｓの放電の間、エキシマレーザの光学的共鳴チャンバ内でレイジングが生じる。光学共鳴チャンバは、図８Ａの８６として示された２つのプリズム波長セレクタ及びＲ−ｍａｘミラーと一緒に、出力カプラ８８によってこの例では包含されるライン選択パッケージ８６によって構成される。このレーザパルスは、狭帯域であり、２０乃至５０ｎｓ、約１０ｍＪの１５７ｎｍパルス、２０００パルス／秒までの繰り返し数である。パルスはレーザビーム９０を構成し、ビームのパルスは、図８Ａに全て示したようなフォトダイオード９２によってモニタされる。
【００３８】パルスエネルギの制御
フォトダイオード９２からの信号は、制御ボード１００のプロセッサ１０２に転送され、プロセッサは、このエネルギ信号と、次の及び／又は更なるパルスに関するコマンド電圧を設定するために（パルスエネルギ制御アルゴリズムと名付けられた後の項で議論するような）好ましくは他の歴史的なパルスエネルギデータとを使用する。好ましい実施形態では、レーザは（約０.１秒のデッドタイムで区切られ２０００Ｈｚで１００パルス０．５秒バーストするような）一連の短いバーストで作動し、制御ボード１００のプロセッサ１０２は、パルス間のエネルギ変化を最小にするように、また、バースト間のエネルギ変化を最小にするように次のパルスに関して制御電圧を選択するために他の歴史的パルスプロファイルデータと一緒にバーストにおける全ての前のパルスのエネルギ信号と一緒に最も近いパルスエネルギ信号を使用する特定のアルゴリズムでプログラムされる。この計算は、約３５μｓの間、このアルゴリズムを使用して制御ボード１００のプロセッサ１０２によって実行される。レーザパルスは、図８Ｆ３に示されたＩＧＢＴスイッチ４６のＴ0発火に続く約５μＳ生じ、約２０μｓはレーザパルスエネルギデータを修正するために要求される。（スイッチ４６の発火の開始をＴ0と呼ぶ。）従って、新しい制御電圧値はかくして、（２０００Ｈｚで発火期間が５００μｓである）前のパルスに関してＩＧＢＴスイッチ４６の発火の後、約７０ミリ秒（図８Ｆ１に示したように）準備される。エネルギ制御アルゴリズムの特徴を以下に記載し、米国特許出願第09/034,870号により詳細が記載されており、ここにリファンレンスとして組み入れる。」
　　
オ．「【００６４】レーザコンポーネント冷却
１０００乃至２０００Ｈｚの過剰の繰り返し数での作動に特別に役立つ本発明の好ましい実施形態は、エキシマレーザを冷却するための図１３に示した一意的な冷却技術を含む。
【００６５】レーザのコンポーネントは、図１３及び４Ａの２２４で示したような穴に取り付けられたブロワーによって作り出された僅かな真空で内側に維持された周囲２４０に包含される。キャビネットは、キャビネットの頂部付近にフィルタされた取り入れポート２４１と、ガスケットドアの周りのような小さな漏れソースとを包含し、レーザ包囲を介してルームエアーの流れは約２００立方フィート／分であり、レーザの熱生成コンポーネントによって作り出された熱を除去するのに殆ど十分ではない。（１００％装荷率でおおよそ１２ｋｗの）レーザによって作り出された不用な熱の大部分（おおよそ９０％）は、図１３に示したように冷たい水システムによって除去される。
【００６６】この実施形態では、レーザの大部分の熱ソースは、高電圧電源２０，整流子４０、圧縮ヘッド６０、及びレーザチャンバ８０である。チャンバに関して、冷却された熱交換器の水がチャンバ内に配置され、熱は循環レーザガスから冷却水による熱交換器に転換される。別の熱交換器（図示せず）がチャンバの外側表面に取り付けられる。大部分の熱生成コンポーネント冷却水の残りは、コンポーネントの位置にパイプ輸送され、１又はそれ以上のファンは、図１３に示したようなコンポーネントに水−空気熱交換器を介して空気を付勢する。圧縮ヘッドに関して、循環は示したように包含されるが、ＨＶＰＳ及び整流子に関して、次いで包囲の他の部分を介して、熱交換器に戻るように再循環する前に、他のコンポーネントをまた冷却するように循環はコンポーネント上である。分割パン２４２及び２４３は、オープン加熱矢印２４４から穴２２４によって示されるパスを介してフィルタ２４１から一般的な換気空気を案内する。
【００６７】この冷却システムは、水の供給線を除いてダクトはなく、熱交換器は内部にあり、且つレーザチャンバに取り付けられ、レーザコンポーネントに接続される水の供給線はない。（レーザチャンバではない）全てのコンポーネントが包囲内部について吹かれた空気によって冷却され、コンポーネントを取り付け交換するとき、中断させる冷却接続はない。また、ダクトの必要性の欠如が利用可能なコンポーネント及び包囲の内部の作業スペースを著しく増大させる。」
　　
カ．「【００８４】単一ライン及び狭ラインコンフィギュレーション
図１１Ａは好ましいＦ2レーザシステムに関する好ましい単一ラインを示す。この構成では、２つの大きなＦ２ラインのうちの１つが、図に示したように簡単なプリズムセレクタで選択される。図１１Ｂは、パワー発振器がマスター発振器によってシードされる好ましい線狭帯域化システムを示す。」
　　
キ．また、図１１Ｂからは、
「チャンバ、ビームエキスパンダ、グレーティング、ミラー及びウェーブメータを備えたマスター発振器と、チャンバ、２つのミラー及びウェーブメータを備えたパワー発振器とからなり、
　ビームエキスパンダ及びグレーティングにより狭帯域化されたレーザ光をマスター発振器から出力し、出力されたレーザ光をパワー発振器の一方の端部から注入し、パワー発振器の他方の端部から出力する２室式の線狭帯域化システム」が見てとれる。
　　
　上記カ及び図１１Ｂに記載された２室式の線狭帯域化システムは、「本発明の好ましい実施形態は、図１，２及び３に記載されたレーザの改良されたバージョン」（上記ウ、【００１２】参照）の１つとして記載されたものであるから、少なくとも図１−３に記載されたレーザの構成を採用することを前提とし、また、「１０乃至４０ワットの範囲におけるパワー出力を備える１０乃至５ｍＪの範囲におけるパルスエネルギを備える１０００乃至４０００Ｈｚの範囲で作動しうる」（上記イ、【０００６】参照）等の目的の範囲内において、他の「好ましい実施形態」として記載された構成を採用し得ることも明らかである。
　　
　また、「２つの細長い電極」が電極対を形成し、かつ両電極の間に放電領域を形成することも明らかである。
　　
　よって、これらを総合すると、引用刊行物には、  
「非常に狭帯域の２室式の高繰り返し数エキシマレーザであって、
　第１のレーザガスと、第１の放電領域を形成する、２つの細長い電極を間隔を空けて設けた第１の電極対とを備える第１のレーザチャンバと、
　１０００乃至４０００Ｈｚの範囲の繰り返し数でレーザパルスを生成する時に、前記第１の電極対の電極間に第１のレーザガスのガスフローを形成し、第１のレーザチャンバ内で第１のレーザガスを循環させる第１のブロワと、
　第１のレーザガスから不要な熱を除去する、第１のレーザチャンバに配置された第１の熱交換器と、第１のレーザチャンバの外側に取り付けられた第１の冷却プレートと、
　第１のレーザチャンバで生成されたレーザパルスのバンド幅を狭帯域化する線狭帯域化モジュールと、
を備えるマスター発振器と、
　第２のレーザガスと、第２の放電領域を形成する、２つの細長い電極を間隔を空けて設けた第２の電極対とを備える第１のレーザチャンバと、
　１０００乃至４０００Ｈｚの範囲の繰り返し数でレーザパルスを生成する時に、前記第２の電極対の電極間に第２のレーザガスのガスフローを形成し、第２のレーザチャンバ内で第２のレーザガスを循環させる第２のブロワと、
　第２のレーザガスから不要な熱を除去する、第２のレーザチャンバに配置された第２の熱交換器と、第２のレーザチャンバの外側に取り付けられた第２の冷却プレートと、
を備えるパワー発振器と、
　電源と、パルス圧縮及び増幅回路と、１０００乃至４０００Ｈｚの範囲の繰り返し数で作動し、１０乃至５ｍＪの範囲におけるパルスエネルギを持つレーザパルスを生成し得る高電圧電気パルスを作り出すパルスパワー制御とを含み、前記高電圧電気パルスを前記第１の電極対及び前記第２の電極対に供給するパルスパワーシステムと、
　２室式のレーザによって生成されたレーザパルスを測定するウェーブメータと、前記パルスパワーシステムによって供給される電圧を制御するために、前記レーザパルスのエネルギを測定し、次のパルスのエネルギが所望のエネルギに近くなるように電源電圧を調節するフィードバック制御システムとを備え、
　１０００Ｈｚの繰り返し数でレーザパルスを生成する時、第１のブロワ及び第２のブロワは、次のパルスに関して丁度良く電極間で新鮮なレーザガスを提供するのに十分であるガスフローを形成する、
レーザ。」
との発明（以下、「引用発明」という。）が開示されていると認められる。
　　  
４．対比、判断
４．１．対比  
　そこで、本願発明と引用発明とを以下に対比する。  
　引用発明の「第１（第２）のレーザガス」、「第１（第２）の放電領域」、「繰り返し数」、「２つの細長い電極を間隔を空けて設けた第１（第２）の電極対」、「第１（第２）のレーザチャンバ」、「第１（第２）のブロワ」、「レーザパルスのバンド幅を狭帯域化する線狭帯域化モジュール」、「高電圧電気パルス」、「パルスパワーシステム」及び「バンド幅」は、それぞれ本願発明の「第１（第２）のレーザガス」、「第１（第２）の放電領域」、「反復率」、「各々細長形状で間隔を空けて設けられた第１（第２）の電極対」、「第１（第２）の放電室」、「第１（第２）のファン」、「光パルスのスペクトル帯域幅を狭小化するための線幅狭小化ユニット」、「電気パルス」、「パルス電力装置」及び「帯域幅」に相当する。  
　　  
　引用発明の「エキシマレーザ」は、ガス放電型のものであることが明らかであるから、引用発明の「非常に狭帯域の２室式の高繰り返し数のエキシマレーザ」は、本願発明の「超狭帯域２室式高反復率のガス放電型レーザシステム」に相当する。また、両者は、「毎秒４０００パルス」（４０００Ｈｚ）の「反復率」（繰り返し数）でレーザパルスを生成する点で一致する。
　引用発明の「第１（第２）のブロワ」が、レーザパルスを生成する時に、第１（第２）の電極対の電極間に第１（第２）のレーザガスのガスフローを形成することは、本願発明の「第１（第２）のファン」が、各パルスの直後に、放電によって生成されたイオンを、前記第２の放電領域から除去し得る第１（第２）の放電領域における第１（第２）のレーザガスのガス速度を作り出すことに一致する。
　　
　引用発明の「第１（第２）の熱交換器」及び「第１（第２）の冷却プレート」は、本願発明の「第１（第２）の熱交換装置」に相当し、両者は、第１（第２）のレーザガスから熱エネルギーを除去する点で一致する。
　　
　引用発明の「マスター発振器」は、本願発明の「第１のレーザユニット」及び「主発振器」に相当する。
　引用発明の「パワー発振器」は、本願発明の「第２のレーザユニット」に相当し、また、マスター発振器から出力されたレーザ光を増幅するものであるから、上記パワー発振器が、本願発明の「パワー増幅器」であることも明らかである。
　　
　引用発明の「１０乃至５ｍＪの範囲におけるパルスエネルギを持つレーザパルス」とは、（ｉ）パルスエネルギーの最大値が１０乃至５ｍＪの範囲のレーザパルス、あるいは（ｉｉ）パルスエネルギーの最大値と最小値の差が１０乃至５ｍＪであるレーザパルス、のいずれかであると解するのが相当であるが、仮に、前記（ｉ）の場合であっても、パルスエネルギーの絶対値が５ｍＪであるときを含み、そのときの変動範囲は５ｍＪであるから、結局、前記（ｉ）又は（ｉｉ）のいずれの場合であっても、引用発明の「１０乃至５ｍＪの範囲におけるパルスエネルギを持つレーザパルス」は、その範囲が５ｍＪである点において、本願発明の「約５ｍＪの範囲内に正確に制御されたパルスエネルギーを持つレーザパルス」と一致する。
　　
　引用発明の「フィードバック制御システム」は、「レーザパルスのエネルギを測定し、次のパルスのエネルギが所望のエネルギに近くなるように電源電圧を調節する」のであるから、本願発明の「レーザビーム測定・制御装置」に相当し、両者は、「レーザ出力パルスのパルスエネルギー」を測定するとともに、「フィードバック制御方式で前記レーザ出力パルスを制御する」点において一致する。
　　
　したがって、両者は、  
「超狭帯域２室式高反復率のガス放電型レーザシステムであって、
Ａ）１）ａ）第１のレーザガスと、
　　ｂ）第１の放電領域を形成する、各々細長形状で間隔を空けて設けられた第１の電極対とを備える第１の放電室、
　２）毎秒４０００パルス又はそれ以上の範囲の反復率で動作する時に、各パルスの直後に、放電によって生成されたイオンを、前記第１の放電領域から除去し得る前記第１の放電領域における前記第１のレーザガスのガス速度を作り出す第１のファン、
　３）前記第１のレーザガスから、熱エネルギーを除去することができる第１の熱交換装置、
　４）前記第１の放電室で生成された光パルスのスペクトル帯域幅を狭小化するための線幅狭小化ユニットを備える第１のレーザユニットと、
Ｂ）１）ａ）第２のレーザガスと、
　　ｂ）第２の放電領域を形成する、各々細長形状で間隔を空けて設けられた第２の電極対とを備える第２の放電室、
　２）毎秒４０００パルス又はそれ以上の範囲の反復率で動作する時に、各パルスの直後に、放電によって生成されたイオンを、前記第２の放電領域から除去し得る前記第２の放電領域における前記第２のレーザガスのガス速度を作り出す第２のファン、及び
　３）前記第２のレーザガスから、熱エネルギーを除去することができる第２の熱交換装置とを備える第２のレーザユニットと、
Ｃ）約４，０００パルスの反復率で約５ｍＪの範囲内に正確に制御されたパルスエネルギーを持つレーザパルスを生成し得る電気パルスを、前記第１の電極対と前記第２の電極対に供給するようにしたパルス電力装置と、
Ｄ）前記２室式のレーザシステムによって生成されたレーザ出力パルスのパルスエネルギーを測定するとともに、フィードバック制御方式で前記レーザ出力パルスを制御するためのレーザビーム測定・制御装置とを備え、
前記第１のレーザユニットは、主発振器として構成されるとともに、前記第２のレーザユニットは、パワー増幅器として構成されることを特徴とするレーザシステム。」
である点で一致し、以下の点で相違する。  
　　  
［相違点］
相違点１：
　本願発明では、「第１（第２）のレーザガスのガス速度」が、毎秒４０００パルス又はそれ以上の範囲の反復率で動作する時に、放電によって生成されたイオンの「実質的に全てを、次のパルスに先立ち」第１（第２）の放電領域から除去し得るのに対し、引用発明では、「１０００Ｈｚの繰り返し数でレーザパルスを生成する時、第１のブロワ及び第２のブロワは、次のパルスに関して丁度良く電極間で新鮮なレーザガスを提供するのに十分であるガスフローを形成する」から、少なくとも１０００Ｈｚの繰り返し数でレーザパルスを生成する時には、「第１（第２）のブロワ」が、放電によって生成されたイオンの「実質的に全てを、次のパルスに先立ち」第１（第２）の放電領域から除去し得るガス速度を作り出すものといえるが、４０００Ｈｚの繰り返し数でレーザパルスを生成する時のガス速度については明らかでない点。
　　
相違点２：
　本願発明では、「第１（第２）の熱交換装置」が、第１（第２）のレーザガスから、「少なくとも１６ｋｗ」の熱エネルギーを除去するのに対し、引用発明では、「第１（第２）の熱交換器」及び「第１（第２）の冷却プレート」が除去する熱エネルギー量については明らかでない点。
　　
相違点３：
　本願発明では、「レーザビーム測定・制御装置」がレーザ出力パルスの「波長、及び帯域幅」を測定するのに対し、引用発明では、「フィードバック制御システム」がレーザパルスの波長及びバンド幅を測定することについては明らかでない点。
　　
４．２．判断
　相違点１について
　ガス放電型レーザシステムの技術分野において、レーザパルスを生成する反復率（繰り返し数）に応じてレーザガスのガス速度を設定することは周知である（特開平８−１９１１６３号公報（【０００９】）、特開平９−２２８９８６号公報（【０００４】）等参照）。
　したがって、引用発明において、４０００Ｈｚの繰り返し数でパルスレーザを生成するにあたり、第１（第２）のレーザガスのガス速度を、次のパルスに関して丁度良く電極間で新鮮なレーザガスを提供するのに十分なレーザガスのガス速度、すなわち、放電によって生成されたイオンの実質的に全てを、次のパルスに先立ち第１（第２）の放電領域から除去し得るガス速度に設定することは、当業者が前記周知技術に基づいて容易に着想できたことである。
　　
　相違点２について
　ガス放電型レーザシステムの技術分野において、レーザパルスの生成に伴って昇温したレーザガスを除熱し、ガス温度を一定に保つことは周知である（特開平１０−１２５９８１号公報（【０００６】−【０００９】）、特開平１１−３４０５４７号公報（【０００６】−【０００９】）等参照）から、熱交換器等によって除去すべきレーザガスの熱エネルギー量は、レーザパルスの生成に伴ってレーザガスに蓄積される熱エネルギー量に応じて設定されるべきものといえる。
　したがって、除去すべき熱量が「少なくとも１６ｋＷ」であるならば、引用発明においても、熱交換器及び冷却プレートで除去する熱エネルギーを少なくとも１６ｋＷと設定することは、当業者が前記周知の技術課題に基づいて容易に想到できたことである。
　　
　相違点３について、
　ガス放電型レーザシステムの技術分野において、所定の範囲内にパルスエネルギと波長を維持するために、ウエーブメータによってパルスエネルギ、波長及びバンド幅を測定し、これらの測定結果をフィードバック制御に使用することは周知である（特開２０００−７７７６２号公報（【００８５】）、特開平１１−２９８０８４号公報（【００１２】）等参照）。
　そして、引用発明は、ウエーブメータを備えるから、引用発明に前記周知技術を適用して、ウェーブメータを波長及びバンド幅を測定するものとし、フィードバック制御システムととも使用することは、当業者が容易になし得たことである。
　　
　そして、本願発明によって得られる効果は、上記引用発明及び上記各周知技術並びに上記周知の技術課題から当業者が容易に予測できた程度のものである。
　　
５．まとめ
　したがって、本願発明は、上記引用発明及び上記各周知技術並びに上記周知の技術課題に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。  
　　  
　よって、結論のとおり審決する。