【事件の表示】
　平成１１年特許願第２２０６７１号「定着ローラ」拒絶査定不服審判事件〔平成１３年　２月１６日出願公開、特開２００１−　４２６８１〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
  
第１．手続の経緯
　本願は、平成１１年８月４日の出願であって、平成１９年１１月９日付けで拒絶査定がなされ、これに対し、同年１２月２０日付けで拒絶査定に対する審判請求がなされるとともに、平成２０年１月１７日付けで明細書に係る手続補正がなされたものである。
　さらに、平成２０年２月１４日付けで審査官により作成された前置報告書について、同年１２月８日付けで審尋がなされたところ、審判請求人から同年１２月２５日付けで回答書が提出されたものである。
　
　
第２．平成２０年１月１７日付けの手続補正についての補正却下の決定
［補正却下の決定の結論］
　平成２０年１月１７日付けの手続補正（以下、「本件補正」という。）を却下する。
［理由］
１．補正の内容
　本件補正は、特許請求の範囲を補正する内容を含んでおり、本件補正により、特許請求の範囲の請求項１は、
「金属芯軸の外周に直接あるいは他の層を介してふっ素樹脂層が設けられている定着ローラ（ただし、オイル塗布型定着ローラを除く）において、
　前記ふっ素樹脂層は、ふっ素樹脂に酸素濃度１００torr以下の不活性ガス雰囲気下で、且つ該ふっ素樹脂の融点以上に加熱された状態で電離性放射線を照射線量１kGy 〜１０MGy の範囲で照射してなる改質ふっ素樹脂を含むことを特徴とする定着ローラ。」
から
「金属芯軸の外周に直接あるいは他の層を介してふっ素樹脂層が設けられている定着ローラ（ただし、オイル塗布型定着ローラを除く）において、
　前記ふっ素樹脂層は、ふっ素樹脂に酸素濃度１００torr以下の不活性ガス雰囲気下で、且つ該ふっ素樹脂の融点よりも１０〜３０℃高い温度に加熱された状態で電離性放射線を照射線量１kGy〜１０MGyの範囲で照射してなる改質ふっ素樹脂を含むことを特徴とする定着ローラ。」
に補正された。
　上記補正は、補正前の請求項１に記載した発明を特定するために必要な事項である「該ふっ素樹脂の融点以上に加熱された状態」に関して、「該ふっ素樹脂の融点以上」を「該ふっ素樹脂の融点よりも１０〜３０℃高い温度」と限定したものであって、平成１８年法律第５５号改正附則第３条第１項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法第１７条の２第４項第２号の特許請求の範囲の減縮を目的とするものに該当する。
　そこで、本件補正後の請求項１に記載された発明（以下、「本願補正発明」という。）が特許出願の際独立して特許を受けることができるものであるか（平成１８年法律第５５号改正附則第３条第１項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項の規定に適合するか）について以下に検討する。
　
２．独立特許要件について
（１）刊行物に記載された発明
（刊行物１について）
　原査定の拒絶の理由に引用された特開平１０−２１２３６０号公報（以下、「刊行物１」という。）には、図面とともに、以下の記載がある。（下線は当審にて付与した。）
　
（１−ａ）「【０００３】・・・（略）・・・近年、光学材料や各種精密機械部品などの多くの分野で、高度に表面が平滑な高分子成形体が要求されるようになっている。具体的に、
電子写真法による複写機やレーザープリンターなどの画像形成装置を例にとると、該画像装置の定着部に用いられる定着用ローラやベルトには、複写の高速化や画像のフルカラー化に伴って、従来以上に高度の表面平滑性を有することが求められるようになっている
　
（１−ｂ）「【０００４】　電子写真複写機などでは、印刷・複写の最終段階で、感光体から転写材（例、転写紙、フィルム）上に転写されたトナー（現像剤）像は、定着用ローラと加圧ローラとの間に転写材を通過させて、加圧下にトナーを加熱溶融させることにより、トナー像を転写材上に定着させている。
定着用ローラとしては、アルミニウムなどの芯金上に、フッ素樹脂層を被覆したものや、芯金上にフッ素ゴムやシリコーンゴムなどのエラストマー層を被覆し、さらにその上に、フッ素樹脂層を被覆したものが汎用されている
【０００５】このフッ素樹脂層には、通常、その表面に数１００ｎｍ〜数μｍ程度の微細な凹凸が存在する。また、フッ素樹脂層は、膜厚が薄いため、微細なピンホールが存在することがある。定着用ローラのフッ素樹脂層に、このような微細な凹凸やピンホールがあると、そこに溶融したトナーが付着してしまい、このトナーが次回以降の複写時に転写材上に転写されて、２重写りの定着画像になるオフセット現像が発生し易い。」
　
（１−ｃ）「【０００９】
【発明の実施の形態】
酸素が存在しない環境下で電離放射線を照射すると、高分子材料（ポリマー）は、重合鎖の切断や架橋が起こって、機械的性質が変化する
　
（１−ｄ）「【００１１】本発明では、表面を平滑化するために、電離放射線の照射により崩壊を受ける高分子材料から形成された成形体の表面に、５０ＫｅＶ以上のエネルギーにより加速されたイオンビームを照射する。従来、イオンを加速化して高分子成形体の表面に当てて、表面を粗面化または多孔化することは知られていたが、イオンビームの照射により表面を平滑化することは知られていなかった。イオンビームの照射エネルギー（加速電圧）は、５０ＫｅＶ以上とすることが必要である。照射エネルギーが小さすぎると、平滑化効果が不十分となる。一方、照射エネルギーが大きすぎると、平滑化よりも粗面化や多孔化、さらには、樹脂の劣化が生じやすいので、その上限は、通常、９ＭｅＶ（９，０００ＫｅＶ）とすることが好ましい。照射エネルギーは、好ましくは８０ＫｅＶ〜８ＭｅＶの範囲内である。
【００１２】イオンビームの照射量は、通常１×１０10／ｃｍ2〜１×１０17／ｃｍ2、好ましくは１×１０11／ｃｍ2〜１×１０16／ｃｍ2、より好ましくは１×１０12／ｃｍ2〜１×１０15／ｃｍ2である。照射量が小さすぎると、十分な平滑化効果を得ることが困難であり、逆に、照射量が大きすぎると、粗面化したり、樹脂の劣化が生じ易くなる。イオンビームの種類は、特に限定されないが、例えば、Ｈ+、Ｈ2+、Ｈｅ+、Ｎ+、Ｎ2+、Ａｒ+などを挙げることができる。これらの中でも、Ｈ+、Ｎ+、及びＮ2+が好ましい。イオンビームの照射は、通常、酸素の不存在下で行う。具体的には、例えば、真空状態下で照射を行う。」
　
（１−ｅ）「【００１７】
【実施例】以下に実施例及び比較例を挙げて、本発明についてより具体的に説明する。
［実施例１］
アルミニウムの芯金（外径５０ｍｍ、長さ３２０ｍｍ）に、接着剤を介して、
厚み２０μｍのフッ素樹脂層を形成した
このフッ素樹脂層の表面に、真空条件下、照射エネルギー４００ＫｅＶで、照射量１×１０
11
／ｃｍ
2
のＮ
2+
イオンビームを照射した
　
（１−ｆ）「【００２０】
【発明の効果】・・・（略）・・・
本発明の製造方法により、最外層のフッ素樹脂層が平滑化された定着用ローラまたはベルトは、離型性及び定着性に優れ、オフセット現象が発生しにくいものであり、複写の高速化や画像のフルカラー化に十分に対応することができるものである
　　
　上記の事項をまとめると、刊行物１には、以下の発明が開示されていると認められる。（以下、「刊行物１発明」という。）
　
「アルミニウムの芯金に、接着剤を介して、フッ素樹脂層を形成し、該フッ素樹脂層の表面に、真空条件下、照射エネルギー４００ＫｅＶで、照射量１×１０11／ｃｍ2のＮ2+イオンビームを照射した、定着用ローラ」　
　
（刊行物２について）
　原査定の拒絶の理由に引用された特開平７−１１８４２３号公報（以下、「刊行物２」という。）には、図面とともに、以下の記載がある。（下線は当審にて付与した。）
　
（２−ａ）「【請求項１】
ポリテトラフルオロエチレンの結晶融点以上の温度で酸素不存在下において１ｋＧｙ以上の電離性放射線を照射することにより、改質ポリテトラフルオロエチレンを製造する方法
照射線量の増大につれて、結晶融点以上の温度を保ちつつポリテトラフルオロエチレンの温度を下げることを特徴とする前記方法。」
　
（２−ｂ）「【０００７】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決すべく、本発明によれば、ポリテトラフルオロエチレンの結晶融点以上の温度で酸素不存在下において１ｋＧｙ以上の電離性放射線を照射することにより、改質ポリテトラフルオロエチレンを製造する方法であって、照射線量の増大につれて、結晶融点以上の温度を保ちつつポリテトラフルオロエチレンの温度を下げることを特徴とする前記方法が提供される。
【０００８】
放射線照射の方法は、照射時の酸化を防止するため酸素不存在下、すなわち真空中、又は不活性ガス、例えば窒素やアルゴン雰囲気において、結晶融点（３２７℃）以上の温度で電離性放射線（γ線、電子線、Ｘ線、中性子線、高エネルギーイオン、以下放射線という）を照射する
照射温度については３４０℃〜３５０℃前後の温度が望ましい
照射線量は全体で１ｋＧｙから１０ＭＧｙの範囲である
【０００９】このように、
ＰＴＦＥに、その結晶融点以上の温度で真空又は不活性ガス中で放射線を照射すると架橋する
本発明においては、照射時のＰＴＦＥの温度を、照射線量に合わせて変化させ、熱分解や解重合を抑制しつつ架橋を進める
　
（２−ｃ）「【００１２】放射線が照射されるＰＴＦＥの形状には特に制限はなく、如何なる形状のＰＴＦＥであっても改質することができる。しかしながら、電子線照射の場合、放射線を全体にわたって均一に照射できるという観点からは、シート状や板状の形状であることが好ましい。
【００１３】本発明の方法により得られた改質ＰＴＦＥは、これまで使用が不可能であった放射線環境下での工業材料として、また放射線滅菌可能な医療用具素材としての利用が可能となる。今迄は、ＰＴＦＥから成る医療用具は放射線滅菌ができなかったことから、蒸気、あるいはガス滅菌に因っているが、滅菌の確実性の点から放射線滅菌の利用が可能となる。また、得られた改質ＰＴＦＥはゴム特性も備えることから、特に、耐熱、耐薬品性を要請される機器類のシール材料やパッキング材料としての特性の著しい向上が期待できる。」
　
（２−ｄ）「【００１５】
【実施例１】
厚さ０．５ｍｍの市販のＰＴＦＥシートを真空中（０．０１トル以下）において、３４０℃に加熱して、２ＭｅＶの電子線を０．５ｋＧｙ／ｓの線量率で照射した
【００１６】これに対して、３４０℃の一点設定温度で照射を５００ｋＧｙ（照射１００秒後のＰＴＦＥ温度は３５０℃）まで行ったときのＰＴＦＥの重量は約１０％減少していた。」
　
　してみると、刊行物２には、以下の発明が開示されていると認められる。（以下、「刊行物２発明」という。）
　
「真空又は不活性ガス雰囲気において、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）に、その結晶融点以上である３４０℃〜３５０℃前後の温度で、１ｋＧｙから１０ＭＧｙの範囲の照射線量の電離性放射線を照射することにより、改質ポリテトラフルオロエチレンを製造する方法」　
　
（２）対比
　本願補正発明と刊行物１発明とを比較する。
　まず、刊行物１発明における「定着用ローラ」は、「アルミニウムの芯金に、接着剤を介して、フッ素樹脂層を形成し」たものであって、「オイル塗布型」ではないから、本願補正発明における「金属芯軸の外周に直接あるいは他の層を介してふっ素樹脂層が設けられている定着ローラ（ただし、オイル塗布型定着ローラを除く）」に相当する。
　また、「真空条件下」は、すなわち「酸素不存在下」であるから、刊行物１発明における「真空条件下」と、本願補正発明における「酸素濃度１００torr以下の不活性ガス雰囲気下」とは、「酸素濃度１００torr以下の環境下」で一致する。
　そして、刊行物１発明における「照射エネルギー４００ＫｅＶで、照射量１×１０11／ｃｍ2のＮ2+イオンビーム」は、「高エネルギーイオン」であるから、本願補正発明における「電離性放射線」に相当する。
　したがって、本願補正発明と刊行物１発明とは、
「金属芯軸の外周に直接あるいは他の層を介してふっ素樹脂層が設けられている定着ローラ（ただし、オイル塗布型定着ローラを除く）において、
　前記ふっ素樹脂層は、ふっ素樹脂に酸素濃度１００torr以下の環境下で、電離性放射線を照射してなる、定着ローラ。」
の点で一致し、以下の点で相違している。
　
［相違点１］：ふっ素樹脂層に関して、本願補正発明においては、「改質ふっ素樹脂を含む」のに対し、刊行物１発明においては、そのような特定がない点。
　
［相違点２］：電離性放射線の照射に関して、本願補正発明においては、「酸素濃度１００torr以下の不活性ガス雰囲気下で、且つ該ふっ素樹脂の融点よりも１０〜３０℃高い温度に加熱された状態で電離性放射線を照射線量１kGy〜１０MGyの範囲で照射」するのに対し、刊行物１発明においては、「真空下」で、加熱温度の特定がなく、照射線量が本願補正発明のものに該当するかどうか不明である点。
　　
（３）判断
　上記相違点について検討する。
（相違点１及び２について）
　まず、刊行物１発明は、表面の平滑化を目的として、電離性放射線を照射しており、改質が行われているかは不明であるものの、刊行物１には、「酸素が存在しない環境下で電離放射線を照射すると、高分子材料（ポリマー）は、重合鎖の切断や架橋が起こって、機械的性質が変化する。照射によって、主鎖の切断と架橋のどちらが優先するかによって、高分子材料は、崩壊型と架橋型の二つに大別される。」（段落【０００９】）と記載されているとおり、酸素不存在で電離性放射線をふっ素樹脂に照射することによって機械的性質が変化している点で、本願補正発明と共通する。
　一方、刊行物２には、「真空又は不活性ガス雰囲気において、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）に、その結晶融点以上である３４０℃〜３５０℃前後の温度で、１ｋＧｙから１０ＭＧｙの範囲の照射線量の電離性放射線を照射することにより、改質ポリテトラフルオロエチレンを製造する方法」が開示されており、ポリテトラフルオロエチレンの結晶融点は３２７℃であるから、刊行物２発明における「ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）」、「その結晶融点以上である３４０℃〜３５０℃前後の温度」、「不活性ガス雰囲気」は、それぞれ、本願補正発明における「ふっ素樹脂」、「該ふっ素樹脂の融点よりも１０〜３０℃高い温度」、「酸素濃度１００torr以下の不活性ガス雰囲気」に相当する。
　してみると、刊行物２発明は、相違点１及び２に係る構成を全て有している。
　そして、刊行物１発明と、刊行物２発明とは、ともに酸素不存在下で電離性放射線を照射することによってふっ素樹脂の機械的性質を変化させるものであり、かつ、「離型性及び定着性に優れ、・・・複写の高速化と画像のフルカラー化に十分対応することができる」（上記摘記事項（１−ｆ）参照）とする刊行物１発明においても、ふっ素樹脂層の耐摩耗性のさらなる改善は、当然の課題であるから、刊行物１発明に、刊行物２発明を適用することに格別の困難性は見出せない。
　したがって、刊行物１発明において、電離性放射線の照射条件として、刊行物２発明の「ふっ素樹脂を改質する方法」のものを採用し、ふっ素樹脂の改質を行うことは、当業者が容易に為し得たことである。
（本願補正発明が奏する効果に関して）
　そして、相違点１及び２によって、本願補正発明が奏する「優れた離型性と耐摩耗性を備えた定着ローラを実現でき、複写の高速化や画像のフルカラー化に対応する」といった効果は、刊行物１及び２に記載された事項から予測し得る程度のものであって、格別のものではない。
　
（４）請求人の主張
　請求人は、請求の理由において、「本願発明と引例１に記載の発明とは、金属芯軸の外周に直接あるいは他の層を介してふっ素樹脂層が設けられている定着ローラであって、該ふっ素樹脂層が酸素不存在下において電離性放射線の照射により処理されたものである点で一致し、該電離性放射線による処理が本願発明では『架橋による材料の強化』であるのに対し、引例１では『表面の平滑化』である点で相違しています。」、「前記したように、両者の処理はその目的及び態様が異なります。しかも、定着ローラにおけるふっ素樹脂層表面の離型性や耐摩耗性等は、表面が一定の粗さ以下に平滑化された状態で対比するのが順当と思料されます。その表面平滑化に、本願発明の実施例では『削り出し加工による研磨』を採用し、引例１では『電離性放射線の照射による研磨』を採用したに過ぎません。」と記載し、本願補正発明と刊行物１発明とは、電離性放射線による処理の目的及び態様が異なる旨、主張している。
　しかしながら、上記（３）で検討したとおり、刊行物１発明は、「表面の平滑化」を目的とするものであっても、刊行物２発明及び本願補正発明と同様に、「酸素不存在下で電離性放射線を照射することによってふっ素樹脂の機械的性質を変化させる」点で共通しており、かつ、刊行物１発明は、本願補正発明と同じく、「複写の高速化や画像のフルカラー化に対応する」定着ローラを実現するものであって、定着ローラの耐摩耗性・耐久性の改善は、刊行物１に明示がなくとも、当業者にとって自明の技術的課題である。
　したがって、電離性放射線による処理の目的及び態様が異なるとの主張は採用できない。
　
（５）まとめ
　以上のように、本願補正発明は、刊行物１及び２に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであり、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないから、本願補正発明は、特許出願の際独立して特許を受けることができない。
　
３．補正却下の決定についてのむすび
　したがって、本件補正は、平成１８年法律第５５号改正附則第３条第１項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項の規定に違反するので、同法第１５９条第１項において読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定により却下すべきものである。
　
　
第３．本願発明について
１．本願発明
　平成２０年１月１７日付けの手続補正は上記のとおり却下されたので、本願の請求項１ないし２に係る発明は、平成１８年９月２９日付けの手続補正によって補正された特許請求の範囲の請求項１ないし２に記載された事項により特定されるものであり、特に、請求項１に係る発明（以下、「本願発明」という。）は、以下のとおりである。
「金属芯軸の外周に直接あるいは他の層を介してふっ素樹脂層が設けられている定着ローラ（ただし、オイル塗布型定着ローラを除く）において、
　前記ふっ素樹脂層は、ふっ素樹脂に酸素濃度１００torr以下の不活性ガス雰囲気下で、且つ該ふっ素樹脂の融点以上に加熱された状態で電離性放射線を照射線量１kGy 〜１０MGy の範囲で照射してなる改質ふっ素樹脂を含むことを特徴とする定着ローラ。」
　
２．引用刊行物
　これに対して、原査定の拒絶の理由に引用された引用された刊行物１ないし２、及び、その記載事項は、前記第２．２．（１）で示したとおりである。
　
３．対比・判断
　本願発明は、上記第２．２．で検討した本願補正発明から、「該ふっ素樹脂の融点以上」について、「該ふっ素樹脂の融点よりも１０〜３０℃高い温度」との限定を削除したものである。
　そうすると、本願発明の特定事項を全て含み、さらに他の特定事項を付加したものに相当する本願補正発明が、上記第２．２．に記載したとおり、刊行物１及び２に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、本願発明も、同様の理由により、刊行物１及び２に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものである。
　
４．むすび
　以上のとおり、本願の請求項１に係る発明は、刊行物１及び２に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　したがって、請求項２に係る発明について検討するまでもなく、本願は拒絶すべきものである。
　なお、請求人は、当審からの審尋への回答書において、補正の用意がある旨記載しているが、特許法が補正の時期的制限を設けていることの趣旨に鑑みて、補正の機会を設けることとはしない。
　
　よって、結論のとおり審決する。