(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
各画素エリアに表示用電極が設けられた一対の対向基板を、液晶を挟んで互いに対向配置するとともに、一方の対向基板の各画素エリアにカラーフィルターを設けることに加え、前記一方の対向基板では、前記カラーフィルターの一端を基板面方向に沿って前記画素エリアの外側まで延出させるとともに、このカラーフィルターの上面の画素エリア内部から外部にわたって前記表示用電極を形成し、かつ前記画素エリア外部に位置する前記表示用電極の端部を絶縁保護膜で被覆した液晶表示装置であって、
前記絶縁保護膜は、前記画素エリアを取り囲んで対向基板に設けられた絶縁性遮光パターンの一部を前記画素エリア外部まで延出させることで構成することを特徴とする液晶表示装置。
【請求項２】
請求項１記載の液晶表示装置であって、
前記画素エリア外部に位置する前記表示用電極の端部は、電極取り出し部を除いて前記絶縁保護膜で被覆したことを特徴とする液晶表示装置。
【請求項３】
透明基板に、その画素エリア毎に表示用電極とカラーフィルターとを設けたことに加え、前記カラーフィルターの一端を基板面方向に沿って前記画素エリアの外側まで延出させるとともに、このカラーフィルターの上面の画素エリア内部から外部にわたって前記表示用電極を形成し、かつ画素エリア外部に位置する表示用電極の端部を絶縁保護膜で被覆したカラーフィルターパネルであって、
前記絶縁保護膜は、前記画素エリアを取り囲んで前記透明基板に設けられた絶縁性遮光パターンの一部を画素エリア外部まで延出させることで構成することを特徴とするカラーフィルターパネル。
【請求項４】
請求項３記載のカラーフィルターパネルであって、
前記画素エリア外部に位置する表示用電極の端部は、電極取り出し部を除いて絶縁保護膜で被覆したことを特徴とするカラーフィルターパネル。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は、多色表示が可能な液晶表示装置及び液晶表示装置に用いられるカラーフィルターパネルに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
多色表示が可能な液晶表示装置は、２枚の透明基板を相対させたうえで、これら透明基板の間隙に液晶を注入した構造を有したものがある。そして、これら透明基板の表面の各画素エリアには透明電極からなる表示用電極が形成されており、さらには、画素エリアを囲んでその周囲の透明基板表面には絶縁性遮光パターンが配設されている。
【０００３】
このような構造を有する液晶表示装置においては、いずれか一方の透明基板の画素エリアにカラーフィルターを配設して、カラーフィルターパネルとすることで多色表示を行っている。カラーフィルターパネルにおいては、絶縁性遮光パターンは画素エリアにおけるＲ、Ｇ、Ｂ各色の間やその周辺部を遮光するために設けられており、そのため、絶縁性遮光パターンは額縁状に形成されている。又、従来から表示用電極は主としてカラーフィルター上に配置されている。
【０００４】
図７に、従来の液晶表示装置を構成するカラーフィルターパネルの構成を示す。なお、図７では、説明を簡単にするために、ＲＧＢ３原色からなる１画素分の構成のみを記載しているが、液晶表示装置にはこのような１画素分の構成が無数にあるのはいうまでもない。
【０００５】
すなわち、このカラーフィルターパネルは、透明基板３０を有している。透明基板３０は、その液晶側表面に赤、緑、青の各カラーフィルター３１、３２、３３、および絶縁性遮光パターン３４が設けられている。各カラーフィルター３１、３２、３３は互いに若干の隙間を空けて透明基板３０上に並列配置されており、さらには、これらカラーフィルター３１、３２、３３を囲んでその隙間を埋めるように、絶縁性遮光パターン３４が配設されている。絶縁性遮光パターン３４は、各カラーフィルター３１、３２、３３を囲んでその額縁状に配設されている。カラーフィルター３１、３２、３３および絶縁性遮光パターン３４の上面には、平滑層３５が設けられており、この平滑層３５によりカラーフィルター３１、３２、３３および絶縁性遮光パターン３４の上方は平坦化されて、その上面に表示用電極３６が配設されている。
【０００６】
このような平滑層３５を設けて、カラーフィルター３１、３２、３３の上方を平坦化することで、表示用電極３６を形成する時に行うエッチング時に生じるサイドエッチングや、段差によるストレス等によって、表示用電極３６がカラーフィルター３１、３２、３３の端部で断線することを防止している。
【０００７】
しかしながら、このような従来のカラーフィルターパネルや液晶表示装置の構成においては、平滑層３５を設けることにより製造プロセスが増えて製造コストが高くなるうえ、平滑層３５による透過率低下で表示の品位が低下するという不都合があった。
【０００８】
また、平滑層３５を設けても、平滑層３５は、カラーフィルター３１、３２、３３や絶縁性遮光パターン３４の上方を平坦化するために設けられたものであるため、絶縁性遮光パターン３４の端部と透明基板３０との間には、絶縁性遮光パターン３４の厚みに応じた段差が生じてしまうのは避けられなかった。これに対して、表示用電極３６は、図示しない外部の液晶駆動回路等との間の接続を取る、といった理由により絶縁性遮光パターン３４より外側まで引き出す場合がある。このような場合には、平滑層３５と透明基板３０との開に生じる段差で、表示用電極３６に、サイドエッチングや段差によるストレス等に起因する断線が生じ、歩留まりの低下を生じさせていた。
【０００９】
このような不都合を解消する為に、実開平１−１４５５１５号に開示された従来の構成では、カラーフィルター３１、３２、３３の形状を、表示用電極３６の形状と同一にすることで、絶縁性遮光パターン３４の外側まで延出させる表示用電極３６の延出端の下側にカラーフィルター３１、３２、３３を配設することで、上記段部を解消している。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、このようにして段部に起因する断線を防止した従来の構成においても、表示用電極３６は、次のような構造となっている。すなわち、画素エリア内の表示用電極３６は、構造上、露出させざるを得ないものの、絶縁性遮光パターン３４より外側まで引き出された表示用電極３６の延出端３６ａ（絶縁性遮光パターン３４上の表示用電極３６を含む）が露出した状態となっている。そのため、表示用電極３６の表面が傷付きやすくこのことが歩留まりを低下させる要因となっていた。
【００１１】
この発明は上記課題を解決するためになされたものであって、カラーフィルタ上に平滑層を形成することなく表示用電極の断線を防止でき、しかも表示用電極の損傷も防止することができる液晶表示装置およびカラーフィルターパネルの提供を目的としている。
【００１２】
【課題を解決するための手段】
本発明の請求項１に記載の液晶表示装置は、各画素エリアに表示用電極が設けられた一対の対向基板を、液晶を挟んで互いに対向配置するとともに、一方の対向基板の各画素エリアにカラーフィルターを設けることに加え、前記一対の対向基板では、前記カラーフィルターの一端を基板面方向に沿って前記画素エリアの外側まで延出させるとともに、このカラーフィルターの上面の画素エリア内部から外部にわたって前記表示用電極を形成し、かつ前記画素エリア外部に位置する前記表示用電極の端部を絶縁保護膜で被覆した液晶表示装置であって、前記絶縁保護膜は、前記画素エリアを取り囲んで対向基板に設けられた絶縁性遮光パターンの一部を前記画素エリア外部まで延出させることで構成することに特徴を有しており、これにより次のような作用を有する。すなわち、画素エリア及び画素エリア外部のカラーフィルターを表示用電極の下地層として使用することにより、このカラーフィルターが表示用電極にとって平滑層として使用することになり、表示用電極の断線が防止されることに加えて、前記絶縁保護膜が、既存の絶縁性遮光パターンの一部を延出させることで構成できるので、その分、構造が簡単になって製造が容易になり製造コストを下げることができる。
【００１３】
また、画素エリア外部まで表示用電極を延出させるために、延出させた表示用電極の端部は損傷しやすくなっているが、この部分の表示用電極端部は絶縁保護膜により被覆されるので、この部分における表示用電極が損傷しにくくなっている。
【００１４】
本発明の請求項２に記載の液晶表示装置は、請求項１に係る液晶表示装置であって、前記画素エリア外部に位置する前記表示用電極の端部は、電極取り出し部を除いて絶縁保護膜で被覆したことに特徴を有しており、これにより次のような作用を有する。すなわち、電極取り出し部は絶縁保護膜で被覆されないので、この部分から容易に表示用電極を引き出すことが可能となる。
【００１５】
本発明の請求項３に記載のカラーフィルターパネルは、透明基板に、その画素エリア毎に表示用電極とカラーフィルターとを設けたことに加え、前記カラーフィルターの一端を基板面方向に沿って前記画素エリアの外側まで延出させるとともに、このカラーフィルターの上面の画素エリア内部から外部にわたって前記表示用電極を形成し、かつ画素エリア外部に位置する表示用電極の端部を絶縁保護膜で被覆したカラーフィルターパネルであって、前記絶縁保護膜は、前記画素エリアを取り囲んで前記透明基板に設けられた絶縁性遮光パターンの一部を画素エリア外部まで延出させることで構成することに特徴を有しており、これにより上述した請求項１と同様の作用を有する。
【００１６】
本発明の請求項４に記載の発明は、請求項３に係るカラーフィルターパネルであって、前記画素エリア外部に位置する表示用電極の端部は、電極取り出し部を除いて絶縁保護膜で被覆したことに特徴を有しており、これにより、上述した請求項２と同様の作用を有する。
【００１９】
【発明の実施の形態】
図１には、この発明の一実施の形態の液晶表示装置の構成が示されている。図１では、説明を簡単にするために、ＲＧＢ３原色からなる１画素分の構成のみを記載しているが、液晶表示装置にはこのような１画素分の構成が無数に存在することで構成されているのはいうまでもない。また、本発明は、このような液晶表示装置に限定的に採用可能なものではなく、どのようなタイプの液晶表示装置にも採用することができるのもいうまでもない。
【００２０】
この液晶表示装置は、２枚の透明基板１Ａ、１Ｂを相対させたうえで、これら透明基板１Ａ、１Ｂの間隙に液晶２を注入した構造を有している。透明基板１Ａ、１Ｂの液晶側表面（内面）には、ＩＴＯ等の透明電極膜からなる表示用電極３Ａ、３Ｂが設けられている。これら表示用電極３Ａ、３Ｂは、透明基板１Ａ、１Ｂの間で互いに直交して配置されている。さらには、一方の透明基板１Ａには、赤、緑、青三色の各カラーフィルター４、５、６が設けられており、これらカラーフィルター４、５、６および表示用電極３Ａを有する透明基板１Ａはカラーフィルターパネルを構成している。本実施の形態の液晶表示装置は、このカラーフィルターパネルの構造に特徴がある。
【００２１】
カラーフィルターパネルでは、図２に示すように、透明基板１Ａ上の各画素エリア７に、まず赤、緑、青の３色からなるカラーフィルター４、５、６が互いに平行にかつ若干離間して配置されている。これらカラーフィルター４、５、６の上面には、これらカラーフィルター４、５、６と同パターンに表示用電極３Ａが形成されている。
【００２２】
また、透明基板１Ａの各画素エリア７には、カラーフィルター４、５、６を取り囲むように、絶縁性遮光パターン８が設けられており、カラーフィルター４、５、６の間の隙間および各画素エリア７の周囲の透明基板１Ａ表面は、絶縁性遮光パターン８により額縁状に覆われている。
【００２３】
各カラーフィルター４、５、６の一部は、透明基板１Ａの面方向に沿って各画素エリア７の外側まで延出している。このカラーフィルター４、５、６の延出端４ａ、５ａ、６ａは、絶縁性遮光パターン８の額縁部分よりさらに外側まで延出している。各カラーフィルター４、５、６上に配設された表示用電極３Ａも、各カラーフィルター４、５、６の延出端４ａ、５ａ、６ａに沿って、各画素エリア７の外側まで延出している。さらには、絶縁性遮光パターン８もこれら表示用電極３Ａの延出端３Ａａに沿って画素エリア７の外側に延出しており、表示用電極３Ａの延出端３Ａａは、絶縁性遮光パターン８の延出端８ａにより被覆されている。ただし、表示用電極３Ａの延出端３Ａａの先端にある絶縁性遮光パターン８の延出端８ａには開口９が設けられており、この開口９の部分で延出端３Ａａは外部に露出して外部接続が可能となっている。本実施の形態では、この開口９から電極取り出し部を構成しているが、電極取り出し部は、このような開口９からのみ構成されるものではなく、延出端３Ａａの一部を露出させればどのような構成でもよいのはいうまでもない。
【００２４】
このように構成することで、画素エリア７及び画素エリア７外部のカラーフィルター４、５、６の延出端４ａ、５ａ、６ａが表示用電極３Ａの下地層となる。そのため、これらカラーフィルター４、５、６の延出端４ａ、５ａ、６ａが表示用電極３Ａにとって平滑層として機能することになり、これにより、画素エリア７の外側まで表示用電極３Ａを延出させたにもかかわらず、表示用電極３Ａの断線は防止されている。
【００２５】
また、画素エリア７の外部まで表示用電極３Ａを延出させたために、表示用電極３Ａの延出端３Ａａは損傷しやすくなっているが、延出端３Ａａを、絶縁性遮光パターン８の延出端８ａにより被覆しているので、表示用電極３Ａの延出端３Ａａは損傷しにくくなっている。
【００２６】
次に、このカラーフィルターパネルの第１の製造方法を図３を参照して説明する。まず、透明基板１Ａの上にＲ、Ｇ、Ｂ３色のカラーフィルター４、５、６をフォトリソグラフィ方法により形成する。Ｒ、Ｇ、Ｂの形成順序は任意てある。一例としてＲのカラーフィルター４の作製を挙げると、次のようになる。すなわち、洗浄と所定の前処理を行った透明基板１Ａに、例えば、富士フィルムオーリン（株）製のネガ型フォトレジストＣＲ−７００１を用いてＲ（赤）のフォトレジスト層を形成する。フォトレジスト層はフォトレジスト層形成装置を用いて形成する。
【００２７】
次にフォトマスク（図示省略）を介して露光装置により露光光をフォトレジスト層に照射することで、フォトレジスト層（ネガ型）を感光させ、さらに感光していないフォトレジスト層の領域を除去することで、Ｒ（赤）のカラーフィルター４を形成する。以上がＲ（赤）のカラーフィルター４の形成方法であるが、Ｇ（緑）、Ｂ（青）のカラーフィルター５、６も、その色のフォトレジストを用いて上述した方法と同様の方法により形成する。（図３（ａ）参照）
このとき、これらカラーフィルター４、５、６が表示用電極３Ａの延出端３Ａａの下地層となるように、カラーフィルター４、５、６も画素エリア７の外側まで延出させることで、延出端４ａ、５ａ、６ａを形成しておく。
【００２８】
次に、透明基板１Ａの全面に、カラーフィルター４、５、６のうえから、ＩＴＯ等の導電性透明薄膜１０をスパッタ法等の方法により形成し（図３（ｂ）参照）、さらに、導電性透明薄膜１０の上に、フォトレジスト層形成装置によりポジ型フォトレジスト膜１１（例えば、東京応化工業（株）製ＴＬＣＲ−Ｐ８００１）を形成する。さらに、形成したポジ型フォトレジスト膜１１上にフォトマスク１２を配置したうえで露光光を照射することで、ポジ型フォトレジスト膜１１を感光させ、さらには、感光したポジ型フォトレジスト膜１１の部分を除去することで、エッチングマスク１３を形成する。そして、作製したエッチングマスク１３を介して導電性透明薄膜１０を選択的にエッチングすることにより、表示用電極３Ａを形成する。表示用電極３Ａ形成後、エッチングマスク１３は除去する。（図３（ｃ）、（ｄ）、（ｅ）参照）
表示用電極３Ａを形成した透明基板１Ａに洗浄と種々の前処理を施したのち、黒色の絶縁性ネガ型フォトレジスト膜１４（例えば、新日鉄化学（株）製）Ｖ−２５９ＢＫＩＳ０３６Ｘ）を形成する。（図３（ｆ）参照）  そして、ネガ型フォトレジスト膜１１上にフォトマスク１５を配置したうえで露光光を照射することで、絶縁性ネガ型フォトレジスト膜１４を感光させ、さらには、感光しない絶縁性ネガ型フォトレジスト膜１４の部分（画素エリア７の部分）を除去することで、残余の絶縁性ネガ型フォトレジスト膜１４により絶縁性遮光パターン８を形成する。（図３（ｇ）参照）
絶縁性遮光パターン８は、画素エリア７を囲む額縁状とし、さらには、カラーフィルター４、５、６および表示用電極３Ａの延出端４ａ、５ａ、６ａ、および３Ａａでは、これら延出端４ａ、５ａ、６ａ、および３Ａａを被覆した形状に形成する。ただし、延出端４ａ、５ａ、６ａ、３Ａａの先端には、絶縁性遮光パターン８の延出端８ａに開口９を形成して表示用電極３ａを露出させる。
【００２９】
この製造方法では、表示用電極３Ａの下地層として、カラーフィルター４、５、６を配設するので、画素エリア７の外側に延出する表示用電極３ａに段差が生じることがない。（図２（ｂ）参照）  そのため、別途平滑層を設けるといった新たな構造を設けることなく、断線のない歩留まりの良い液晶表示装置やカラーフィルターパネルを作製することができる。
【００３０】
次に、このカラーフィルターパネルの第２の製造方法を図４を参照して説明する。
【００３１】
まず、透明基板１Ａの上に、上述した第１の製造方法と同様の方法により、Ｒ、Ｇ、Ｂのカラーフィルター４、５、６および導電性透明薄膜１０を形成する。（図４（ａ）、（ｂ）参照）
さらに、導電性透明薄膜１０の上に、フォトレジスト層形成装置によりネガ型フォトレジスト膜１６（例えば、東京応化工業（株）製ＴＦＮ−０１０ＰＬからなる）を形成する。さらに、形成したネガ型フォトレジスト膜１６上にフォトマスク１７を配置したうえで露光光を照射することで、ネガ型フォトレジスト膜１６を感光させ、さらには、感光しないネガ型フォトレジスト膜１６の部分を除去することで、表示用電極３Ａの形状に応じたエッチングマスク１８を形成する。そして、形成したエッチングマスク１８を介して導電性透明薄膜１０を選択的にエッチングすることにより、表示用電極３Ａを形成する。表示用電極３Ａ形成後、エッチングマスク１３は除去する。（図４（ｃ）、（ｄ）、（ｅ）参照）
表示用電極３Ａを形成した透明基板１Ａに第１の製造方法と同様、絶縁性ネガ型フォトレジスト膜１４の形成、およびエッチングマスク１５を用いたエッチング処理を施すことで、絶縁性遮光パターン８を形成する（図４（ｆ）、（ｇ）参照）。
【００３２】
この第２の製造方法は、上述したように、表示用電極３Ａのエッチング時に用いられるエッチングマスク１８として、ネガ型フォトレジストを用いる点に、第１の製造方法とは異なる特徴がある。
【００３３】
次に、このカラーフィルターパネルの第３の製造方法を図５を参照して説明する。まず、透明基板１Ａの上にＲ、Ｇ、Ｂのカラーフィルター４、５、６をフォトリソグラフィ方法により形成する。Ｒ、Ｇ、Ｂの形成順序は任意てある。Ｒのカラーフィルター４の作製を例に挙げると、次のようになる。すなわち、洗浄と所定の前処理を行った透明基板１Ａに、富士フィルムオーリン（株）製のドライフィルムレジストＲ用トランサー（ネガ型）を用いてＲ（赤）のフォトレジスト層を形成する。フォトレジスト層はフォトレジスト層形成装置を用いて形成する。
【００３４】
次にフォトマスク（図示省略）を介して露光装置により露光光をフォトレジスト層に照射することで、フォトレジスト層（ネガ型）を感光させ、さらに感光していないフォトレジスト層の領域を除去することで、Ｒ（赤）のカラーフィルター４を形成する。以上がＲ（赤）のカラーフィルター４の形成方法であるが、Ｇ（緑）、Ｂ（青）のカラーフィルター５、６も、その色のフォトレジストを用いて同様に形成する。（図５（ａ）参照）  なお、このとき、これらカラーフィルター４、５、６が表示用電極３Ａの延出端３Ａａの下地層となるように、カラーフィルター４、５、６にも、画素エリア７の外側まで延出させてなる延出端４ａ、５ａ、６ａを作製しておくのはいうまでもない。
【００３５】
次に、透明基板１Ａの全面に、カラーフィルター４、５、６のうえから、ＩＴＯ等の導電性透明薄膜１０をスパッタ法等の方法により形成し（図５（ｂ）参照）、さらに、導電性透明薄膜１０の上に、フォトレジスト層形成装置により、カラーフィルター４、５、６を透過しない波長の光にのみ選択的に感光するポジ型フォトレジスト膜１９（例えば、東京応化工業（株）製ＴＬＣＲ−Ｐ８０００ＰＭ）を形成する。そして、透明基板１Ａの裏面（カラーフィルター４、５、６のない面）から露光光を照射することで、カラーフィルター４、５、６形成領域以外のポジ型フォトレジスト膜１９を感光させ、さらには、感光したポジ型フォトレジスト膜１９の部分を選択的に除去することで、エッチングマスク２０を形成する。そして、このエッチングマスク２０を介して導電性透明薄膜１０を選択的にエッチングすることにより、表示用電極３Ａを形成する。表示用電極３Ａを形成した後、エッチングマスク１３は除去する。（図５（ｃ）、（ｄ）、（ｅ）参照）
表示用電極３Ａを形成した透明基板１Ａに第１の製造方法と同様、絶縁性ネガ型フォトレジスト膜１４の形成、およびエッチングマスク１５を用いたよびエッチング処理を施すことで、絶縁性遮光パターン８を形成する（図５（ｆ）、（ｇ）参照）。
【００３６】
この第３の製造方法は、上述したように、表示用電極３Ａのエッチング時に用いれるエッチングマスク２０を、フォトマスクの要らない裏面露光により作製する点に、第１、第２の製造方法とは異なる特徴がある。裏面露光はマスクの要らない露光処理であるので、マスクが要らない分、工程が簡略化されて、製造コストを低減できるという利点がある。
【００３７】
次に、このカラーフィルターパネルの第４の製造方法を図６を参照して説明する。まず、上述した第３の製造方法と同様の方法により、透明基板１Ａの上にＲ、Ｇ、Ｂ、３色のカラーフィルター４、５、６、および表示用電極３Ａを形成する（図６（ａ）、（ｂ）、（ｃ）、（ｄ）、（ｅ）参照）。
【００３８】
次に、カラーフィルター４、５、６、および表示用電極３Ａを形成した透明基板１Ａに対して洗浄処理と所定の前処理を施した後、カラーフィルター４、５、６を透過しない波長の光にのみ選択的に感光する絶縁性ネガ型フォトレジスト膜２１（例えば、富士フィルムオーリン（株）製ドライフィルムレジスト  ブラック用トランサー）を形成する。そして、透明基板１Ａの表面（カラーフィルター４、５、６のある面）にフォトマスク２２を配置する。このフォトマスク２２は、各画素エリア７の周囲を額縁状に取り囲む部分と画素エリア７の外側に対応した部分に開口２２ａが形成されたフォトマスク２２を用いる。
【００３９】
そして、透明基板１Ａの表面からフォトマスク２２を介して露光光を照射することで、絶縁性ネガフォトレジスト膜２１において、絶縁性遮光パターン８の額縁領域に相当する領域や画素エリア７の外側の領域に相当する領域を露光する。
【００４０】
次に、透明基板１Ａの裏面（カラーフィルター４、５、６のない面）から露光光を照射することで、カラーフィルター４、５、６のない領域を選択的に露光する。そして、感光しない絶縁性ネガ型フォトレジスト膜２１の部分を除去することで、絶縁性遮光パターン８を形成する。
【００４１】
この方法によれば、絶縁性ネガ型フォトレジスト膜２１のほぼすべての領域を、フォトマスクがほとんど要らない裏面露光により形成することができ、その分、製造が簡略化されて、コストダウンを図ることができる。
【００４２】
しかしながら、このカラーフィルターパネルのカラーフィルター４、５、６では、画素エリア７の外側まで延出した延出端４ａ、５ａ、６ａを有しており、さらには、これら延出端４ａ、５ａ、６ａを絶縁性遮光パターン８の延出端８ａにより被覆する必要がある。
【００４３】
これに対して、絶縁性遮光パターンの延出端８ａの下側には、カラーフィルターの延出端４ａ、５ａ、６ａが設けられるために、裏面露光により、カラーフィルターの延出端４ａ、５ａ、６ａ上に配設された絶縁性ネガ型フォトレジスト膜２１を露光することは不可能となる。そこで、カラーフィルターの延出端４ａ、５ａ、６ａ上に配設された絶縁性ネガ型フォトレジスト膜２１の領域だけを、透明基板１Ａの表面側からフォトマスク２２を介して選択的に露光することで、この領域の露光を実現している。この場合に用いるフォトマスク２２には画素エリア７の周囲を額縁状に取り囲む開口２２ａを形成しておけば、カラーフィルターの延出端４ａ、５ａ、６ａ上に配設された絶縁性ネガ型フォトレジスト膜２１の領域に対応させることができる。このような開口２２ａは、比較的粗く簡単に形成することができるので、フォトマスク２２を用意する必要があるにもかかわらず、製造コストをあまり上昇させることはない。
【００４４】
【発明の効果】
以上のように本発明によれば、画素エリア及び画素エリア外部のカラーフィルターを表示用電極の下地層として使用することにより、このカラーフィルターが表示用電極にとって平滑層として機能することになり、表示用電極の断線が防止される。さらには、画素エリア外部まで表示用電極を延出させるために、延出させた表示用電極の端部は損傷しやすくなっているが、この部分の表示用電極端部は絶縁保護膜により被覆されるので、この部分における表示用電極が損傷しにくくなっている。そのため、平滑層といった余分な構造を設けることなく、断線も、さらには損傷も生じにくい液晶表示装置やカラーフィルターパネルを提供することが可能となった。さらには、このような絶縁保護膜を絶縁性遮光パターンという既存の構造から構成すれば、さらに構造が簡略化されて製造が容易になり製造コストを下げることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施の形態に係る液晶表示装置の構成を示す要部断面図である。
【図２】実施の形態の液晶表示装置を構成するカラーフィルターパネルの平面図および、そのＡ−Ａ’線、Ｂ−Ｂ’線、Ｃ−Ｃ’線断面図である。
【図３】本発明の液晶表示装置を構成するカラーフィルターパネルの第１の製造方法の各工程をそれぞれ示す断面図である。
【図４】本発明の液晶表示装置を構成するカラーフィルターパネルの第２の製造方法の各工程をそれぞれ示す断面図である。
【図５】本発明の液晶表示装置を構成するカラーフィルターパネルの第３の製造方法の各工程をそれぞれ示す断面図である。
【図６】本発明の液晶表示装置を構成するカラーフィルターパネルの第４の製造方法の各工程をそれぞれ示す断面図である。
【図７】従来例の液晶表示装置を構成するカラーフィルターパネルの平面図および、そのＡ−Ａ’線、Ｂ−Ｂ’線断面図である。
【符号の説明】
１Ａ、１Ｂ    透明基板                    ２  液晶              ３Ａ、３Ｂ    表示用電極
４、５、６  カラーフィルター                                              ７  画素エリア
８    絶縁性遮光パターン  ８ａ  延出端                      ９    開口
１０    導電性透明薄膜      １１  ポジ型フォトレジスト膜
１２    フォトマスク          １３  エッチングマスク
１４    絶縁性ネガ型フォトレジスト膜
１５    フォトマスク          １６    ネガ型フォトレジスト膜
１７    フォトマスク      １８    エッチングマスク
１９    ポジ型フォトレジスト膜                    ２０    エッチングマスク
２１    絶縁性ネガ型フォトレジスト膜        ２２    フォトマスク
２２ａ    開口
【図１】
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【図２】
0003605612.tif 000003
【図３】
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【図４】
0003605612.tif 000005
【図５】
0003605612.tif 000006
【図６】
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【図７】
0003605612.tif 000008