【事件の表示】
　特願２００２−５９０４６２「４ＫＨｚガス放電レーザシステム」拒絶査定不服審判事件〔平成１４年１１月２１日国際公開、ＷＯ０２／９３６９９、平成１６年　８月２６日国内公表、特表２００４−５２６３３４〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
第１　手続の経緯・本願発明
　本願は、２００２年４月１５日（パリ条約による優先権主張外国庁受理２００１年５月１１日、米国、２００１年８月２９日、米国、２００１年１０月１７日、米国、２００１年１１月１４日、米国、２００１年１１月３０日、米国、２００１年１２月２１日、米国）を国際出願日とする出願であって、平成１８年１０月２４日に手続補正がなされ、平成１９年５月３０日付けで拒絶査定がなされ、これに対し、同年９月３日に拒絶査定不服審判請求がなされるとともに、同年１０月３日に手続補正がなされたものである。
　
　
第２　平成１９年１０月３日付けの手続補正についての補正却下の決定
［補正却下の決定の結論］
　平成１９年１０月３日付けの手続補正を却下する。
　
［理由］
１　補正の内容  
　平成１９年１０月３日付けの手続補正（以下「本件補正」という。）は、補正前の請求項１を、以下のように補正することを含むものである。
　
「毎秒３，０００レーザ出力パルスを超えるパルス繰返し率で作動することができる超高繰返し率ガス放電レーザシステムであって、
　Ａ）放電領域を形成し、該放電領域で発生する圧力低下の大きな割合の部分を回復させるように電極の下流側に徐々に増加する断面を備えたガス流路を含む２つの細長い電極を有する、レーザガスを包含するレーザチャンバと、
　Ｂ）毎秒４，０００ガス放電まで及びそれを超える繰返し率又はそれ以上で作動する時に、前記放電領域における各ガス放電に続いて、該放電領域から次のガス放電の前に生成された実質的に全ての放電生成イオンを取り除くために、該放電領域において前記レーザガスの十分なガス移動を生み出すための接線型ファンであって、前記２つの電極の間にある放電生成イオンを、約６７ｍ／ｓまでのガスのフローを用いて取り除くことができるファンと、
　Ｃ）熱エネルギを前記レーザガスから取り除く熱交換器システムと、
を含み、
　前記チャンバが、
　前記ファンと前記放電領域との間において前記ガスのフローの方向を該ファンの出口から該放電領域に向かって約９０度変化させる、曲げられたフローを形成する面と、
　前記放電領域の下流側において前記ガスのフローの方向を該放電領域から前記熱交換器システムに向かって約９０度変化させる、曲げられたフローを形成する面と、
を含み、
　前記ガスのフローが、前記放電領域において最も狭い部分のみに向かって狭くなっており、該放電領域の下流側において広がっており、
　前記チャンバが、
　前記放電領域の下流側において該放電領域から或る距離をおいたところから始まる断面が増加していくフロー領域を含み、
　前記放電領域と前記下流側における前記曲げられたフローを形成する面との間において、前記電極の間隔と略同一の間隔を有する初期断面を有しており、
さらに、
　Ｄ）約５ｍＪから１０ｍＪの範囲の正確に制御されたパルスエネルギにより毎秒４，０００レーザ出力パルスまで及びそれを超える繰返し数でレーザ出力パルスを生成するのに十分な電気パルスを前記電極に供給するパルスパワーシステムと、
　Ｅ）全てのパルス又は実質的に全てのパルスのパルスエネルギ、波長、及び帯域幅を測定し、レーザ出力パルスエネルギ及び波長のフィードバック制御を有するレーザビーム測定及び制御システムと、
を含むことを特徴とするレーザシステム。」
　
　本件補正は、補正前の請求項１の「チャンバ」が、「前記ファンと前記放電領域との間において前記ガスのフローの方向を該ファンの出口から該放電領域に向かって約９０度変化させる、曲げられたフローを形成する面と、前記放電領域の下流側において前記ガスのフローの方向を該放電領域から前記熱交換器システムに向かって約９０度変化させる、曲げられたフローを形成する面と、を含み、前記ガスのフローが、前記放電領域において最も狭い部分のみに向かって狭くなっており、該放電領域の下流側において広がっており」、かつ、前記「チャンバ」が、「前記放電領域の下流側において該放電領域から或る距離をおいたところから始まる断面が増加していくフロー領域を含み、前記放電領域と前記下流側における前記曲げられたフローを形成する面との間において、前記電極の間隔と略同一の間隔を有する初期断面を有しており」、との限定を行うものであるから、上記補正は、平成１８年法律第５５号改正附則第３条第１項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法第１７条の２第４項第２号の特許請求の範囲の減縮を目的とするものである。
　
２　独立特許要件 
　そこで、本件補正後の請求項１に記載された発明（以下「本願補正発明」という。）が特許出願の際独立して特許を受けることができるものであるか（平成１８年法律第５５号改正附則第３条第１項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項の規定に適合するか）について以下に検討する。
 　 
（１）引用刊行物
　本願の優先日前に頒布され、原査定の拒絶の理由に引用された刊行物である特開２０００−３４０８６９号公報（以下「引用刊行物」という。）には、図とともに以下の事項が記載されている。
　
ア　「【特許請求の範囲】
【請求項１】  少なくとも約１０００Ｈｚの反復度で狭帯域のパルスレーザービームを生成するための、非常に狭い帯域の信頼性あるモジュラー型の製造品質を備えた高反復度のＦ２エキシマレーザーにおいて、
Ａ．１）二つの細長い電極と、
２）ａ）フッ素と、ｂ）ヘリウムとネオンを含むバッファガス混合物とを含むレーザーガスと、
３）前記ガスを前記電極間に少なくとも２ｃｍ／ミリ秒の速度で循環させるためのガス循環器とを備えたレーザーチャンバを備えたレーザーチャンバモジュールと、
Ｂ．前記電極を横切り少なくとも１４，０００Ｖの高電圧電気パルスを、少なくとも約１０００Ｈｚの割合で生成するための、電源回路及びパルス圧縮回路及び増幅回路と、パルス出力制御装置とからなるパルス出力システムと、
Ｃ．前記パルス出力システムによって提供される電圧を制御するために、レーザーパルスエネルギーモニターと、所望のエネルギー範囲内のパルスエネルギーを有するレーザーパルスを生成するのに必要な電気パルスを履歴パルスエネルギーデータに基づいて計算するためのアルゴリズムによりプログラムされたコンピュータープロセッサとを備えるレーザーパルスエネルギー制御システムとを備えていることを特徴とするレーザー。」
　
イ　「【０００５】集積回路生産で使われる代表的な先行技術によるＫｒＦエキシマレーザを、図１と図２に示す。この先行技術によるレーザのレーザチャンバの断面図を図３に示す。パルスパワーシステム２はパルス高電圧電源３により駆動され、放電チャンバ８に配置された電極６に電気パルスを供給する。代表的な最新のリソグラフィレーザは、パルス速度約１０００Ｈｚ、１パルス当たり約１０ｍＪのパルスエネルギで作動する。約３気圧のレーザガス（ＫｒＦレーザの場合、０．１％のフッ素、１．３％のクリプトン、残りはバッファガスとして機能するネオン）が、電極間の空間を約１０００インチ／秒の速度で循環する。これにはレーザ放電チャンバ内に配置された接線流ブロワー１０を使用する。レーザガスの冷却には、やはり放電チャンバ内に配置された熱交換器１１と、チャンバの外側に取り付けた冷却プレート（図示せず）とを使用する。エキシマレーザの固有帯域巾は、ライン狭帯化モジュール１８により狭められる。市販のエキシマレーザシステムは、通常、システムの他の部分を妨げることなく素早く交換できる、複数のモジュールから構成される。主要なモジュールには、レーザチャンバモジュール、高電圧電源モジュール付きパルスパワーシステム、整流子モジュール及び高電圧圧縮ヘッドモジュール、出力連結モジュール、ライン狭帯化モジュール、波長計モジュール、コンピュータ制御モジュール、ガス制御モジュール、冷却水モジュールが含まれる。
【０００６】電極６は陰極６Ａと陽極６Ｂとから構成される。・・・陽極支持棒４４の一つのコーナーと一つのエッジはガイドベーンとして働き、ブロワー１０からの空気を陰極６Ａと陽極６Ｂの間に強制的に流す。・・・アレイ状の個別のコンデンサ１９から構成されたピーキングコンデンサは、各パルスを発生させる前に、パルスパワーシステム２により充電される。ピーキングコンデンサの電圧上昇の間に、二つのプレイオナイザ５６により陰極６Ａと陽極６Ｂ間でレーザガスを僅かながらイオン化し、コンデンサ１９の充電が約１６，０００Ｖに達すると、電極を横切って放電が起こり、エキシマレーザパルスが生成される。各パルスに続き、電極間に約１インチ／ミリ秒のガス流をブロワー１０で生成すれば、１ミリ秒後に起こる次のパルスに間に合うように新たなレーザガスを電極間に提供するには十分である。
【０００７】通常のリソグラフィエキシマレーザでは、フィードバック制御システムにより各パルスの出力レーザエネルギを測定し、所望パルスエネルギからの変動度合を求め、次に電源電圧を調整するために信号を制御装置に送り、後に続くパルスのエネルギを所望エネルギに近づけるようにしている。・・・」
　
ウ　「【０００８】
【発明の概要】本発明は、１，０００から２，０００Ｈｚ又はそれ以上の範囲の反復度で、１５７ｎｍの波長範囲で約１ｐｍ又はそれ以下の最大帯域幅、最大半値幅で数ｍＪ範囲のパルスエネルギを有するレーザパルスを生成できる、信頼性のあるモジュラー型で製造品質のＦ２エキシマレーザを提供する。・・・本発明の好適な実施例は、平均パワー出力を約１０から４０Ｗの範囲とし、パルスエネルギを１．０から１０ｍＪの範囲とし、１，０００から４，０００Ｈｚの範囲で作動させることができる。・・・」
　
エ　「【０１０６】図１９と２０は、調節領域が拡大した可同調Ｆ２レーザを示す。レーザ共振器は、出力連結器ミラー３２と波長同調光学機器とから成る。波長同調光学機器はビーム拡大光学サブアセンブリ３１と回折格子３８とから成る。・・・」
　
オ　「【図面の簡単な説明】
　・・・
【図６】本発明の好適な実施例のレーザチャンバの断面図である。」
　
カ　上記イ（【０００５】）の記載及び図３に照らして図６をみると、
（ア）レーザーガスを循環させるためのガス循環器として、「接線流ブロワー１０Ａ」を用いること、
（イ）レーザチャンバは、熱交換器１１Ａを備えること、
が見て取れる。
　
キ　「高圧ガス入りのレーザチャンバ３０」からのレーザービームの一部を分岐して、「エネルギ・波長・帯域巾の計測」を行うことが、図１９から見て取れる。
　
　上記摘記事項の記載を総合すると、引用刊行物には、以下の発明（以下「引用発明」という。）が記載されている、と認められる。
　
　「少なくとも約１０００Ｈｚの反復度で狭帯域のパルスレーザービームを生成するための、非常に狭い帯域の高反復度のＦ２エキシマレーザーにおいて、
　二つの細長い電極と、フッ素とヘリウムとネオンを含むバッファガス混合物とを含むレーザーガスと、前記ガスを前記電極間に少なくとも２ｃｍ／ミリ秒の速度で循環させるためのガス循環器と、熱交換器１１Ａとを備えたレーザーチャンバを備えたレーザーチャンバモジュールと、
　前記電極を横切り高電圧電気パルスを、少なくとも約１０００Ｈｚの割合で生成するための、電源回路及びパルス圧縮回路及び増幅回路と、パルス出力制御装置とからなるパルス出力システムと、
　前記パルス出力システムによって提供される電圧を制御するために、レーザーパルスエネルギーモニターと、所望のエネルギー範囲内のパルスエネルギーを有するレーザーパルスを生成するのに必要な電気パルスを履歴パルスエネルギーデータに基づいて計算するためのアルゴリズムによりプログラムされたコンピュータープロセッサとを備えるレーザーパルスエネルギー制御システムとを備えており、
　前記ガス循環器は接線流ブロワーであり、
　好適な実施例は、平均パワー出力を約１０から４０Ｗの範囲とし、パルスエネルギを１．０から１０ｍＪの範囲とし、１，０００から４，０００Ｈｚの範囲で作動させることができ、
　レーザチャンバからのレーザービームの一部を分岐して、エネルギ・波長・帯域巾の計測を行う、Ｆ２エキシマレーザー。」
　
（２）対比  
　本願補正発明と引用発明とを対比する。
　
ア　引用発明の「Ｆ２エキシマレーザー」は、「少なくとも約１０００Ｈｚの反復度で狭帯域のパルスレーザービームを生成するための、・・・高反復度の」ものであり、「好適な実施例は、・・・１，０００から４，０００Ｈｚの範囲で作動させることができ」るものであるから、
（ア）引用発明の「Ｆ２エキシマレーザー」は、本願補正発明の「（超高繰返し率ガス放電）レーザシステム」に相当するとともに、
（イ）引用発明の「Ｆ２エキシマレーザー」は、本願補正発明の「毎秒３，０００レーザ出力パルスを超えるパルス繰返し率で作動することができる」との事項を備える。
　
イ　引用発明の「レーザーチャンバ」は、「二つの細長い電極と、フッ素とヘリウムとネオンを含むバッファガス混合物とを含むレーザーガスと、・・・を備え」るから、
（ア）引用発明の「二つの細長い電極」、「フッ素とヘリウムとネオンを含むバッファガス混合物とを含むレーザーガス」及び「レーザーチャンバ」は、それぞれ、本願補正発明の「２つの細長い電極」、「レーザガス」及び「レーザチャンバ」に相当するとともに、
（イ）引用発明の「Ｆ２エキシマレーザー」は、本願補正発明の「２つの細長い電極を有する、レーザガスを包含するレーザチャンバを含み」との事項を備える。
　
ウ　引用発明の「Ｆ２エキシマレーザー」は、その「レーザーチャンバ」に「前記ガスを前記電極間に少なくとも２ｃｍ／ミリ秒の速度で循環させるためのガス循環器」を備えるとともに、「前記ガス循環器は接線流ブロワーであ」るから、引用発明の「ガス循環器」は、本願補正発明の「接線型ファン」に相当する。
　
エ　引用発明の「ガス循環器」は、「（レーザー）ガスを前記電極間に・・・循環させるための」ものであるから、該「ガス循環器」が、「レーザーチャンバ」内の「二つの細長い電極」が設けられた放電領域において、該レーザーガスの放電後に生成されたイオンを次のガス放電の前に取り除くためのものであることは明らかである。また、引用発明の「Ｆ２エキシマレーザー」は、好適な実施例が「１，０００から４，０００Ｈｚの範囲で作動させることができ」るものであり、上記「ガス循環器」は、４，０００Ｈｚまでの範囲で放電後に生成されたイオンを次のガス放電前に取り除くべきものであることは当業者において明らかであるから、
（ア）引用発明の「ガス循環器」は、本願補正発明の「毎秒４，０００ガス放電まで及びそれを超える繰返し率又はそれ以上で作動する時に、前記放電領域における各ガス放電に続いて、該放電領域から次のガス放電の前に生成された実質的に全ての放電生成イオンを取り除くために、該放電領域において前記レーザガスの十分なガス移動を生み出すための接線型ファンであって、前記２つの電極の間にある放電生成イオンを、約６７ｍ／ｓまでのガスのフローを用いて取り除くことができるファン」と、「毎秒４，０００ガス放電までの繰返し率で作動する時に、前記放電領域における各ガス放電に続いて、該放電領域から次のガス放電の前に生成された放電生成イオンを取り除くために、該放電領域において前記レーザガスのガス移動を生み出すための接線型ファンであって、前記２つの電極の間にある放電生成イオンをガスのフローを用いて取り除くことができるファン」である点で一致するとともに、
（イ）引用発明の「Ｆ２エキシマレーザー」は、「毎秒４，０００ガス放電までの繰返し率で作動する時に、前記放電領域における各ガス放電に続いて、該放電領域から次のガス放電の前に生成された放電生成イオンを取り除くために、該放電領域において前記レーザガスのガス移動を生み出すための接線型ファンであって、前記２つの電極の間にある放電生成イオンをガスのフローを用いて取り除くことができるファンを含み」との事項を備える。
　
オ　引用発明の「熱交換器１１Ａ」は、レーザーガスから熱エネルギを取り除くものであることは明らかであるから、
（ア）引用発明の「熱交換器１１Ａ」は、本願補正発明の「熱交換器システム」に相当するとともに、
（イ）引用発明の「Ｆ２エキシマレーザー」は、本願補正発明の「熱エネルギを前記レーザガスから取り除く熱交換器システムを含み」との事項を備える。
　
カ　引用発明の「Ｆ２エキシマレーザー」は、「前記電極を横切り高電圧電気パルスを、少なくとも約１０００Ｈｚの割合で生成するための、電源回路及びパルス圧縮回路及び増幅回路と、パルス出力制御装置とからなるパルス出力システムと、前記パルス出力システムによって提供される電圧を制御するために、レーザーパルスエネルギーモニターと、所望のエネルギー範囲内のパルスエネルギーを有するレーザーパルスを生成するのに必要な電気パルスを履歴パルスエネルギーデータに基づいて計算するためのアルゴリズムによりプログラムされたコンピュータープロセッサとを備えるレーザーパルスエネルギー制御システムとを備え」るものであり、好適な実施例が「・・・パルスエネルギを１．０から１０ｍＪの範囲とし、１，０００から４，０００Ｈｚの範囲で作動させることができ」るものであるから、
（ア）引用発明の「『パルス出力システム』及び『レーザーパルスエネルギー制御システム』」は、本願補正発明の「パルスパワーシステム」に相当するとともに、
（イ）引用発明の「『パルス出力システム』及び『レーザーパルスエネルギー制御システム』」は、本願補正発明の「約５ｍＪから１０ｍＪの範囲の正確に制御されたパルスエネルギにより毎秒４，０００レーザ出力パルスまで及びそれを超える繰返し数でレーザ出力パルスを生成するのに十分な電気パルスを前記電極に供給するパルスパワーシステム」と、「約５ｍＪから１０ｍＪの範囲の正確に制御されたパルスエネルギにより毎秒４，０００レーザ出力パルスまでの繰返し数でレーザ出力パルスを生成するのに十分な電気パルスを前記電極に供給するパルスパワーシステム」である点で一致し、かつ、
（ウ）引用発明の「Ｆ２エキシマレーザー」は、「約５ｍＪから１０ｍＪの範囲の正確に制御されたパルスエネルギにより毎秒４，０００レーザ出力パルスまでの繰返し数でレーザ出力パルスを生成するのに十分な電気パルスを前記電極に供給するパルスパワーシステムを含み」との事項を備える。
　
キ　引用発明の「Ｆ２エキシマレーザー」は、「パルスレーザービームを生成する」ものであり、「レーザチャンバからのパルスレーザービームの一部を分岐して、エネルギ・波長・帯域巾の計測を行う」ものであるから、引用発明の「Ｆ２エキシマレーザー」は、本願補正発明の「全てのパルス又は実質的に全てのパルスのパルスエネルギ、波長、及び帯域幅を測定し、レーザ出力パルスエネルギ及び波長のフィードバック制御を有するレーザビーム測定及び制御システム」のうち、「全てのパルス又は実質的に全てのパルスのパルスエネルギ、波長、及び帯域幅を測定するレーザビーム測定システム」を含む点で一致する、といえる。
　
　よって、本願補正発明と引用発明とは、
「毎秒３，０００レーザ出力パルスを超えるパルス繰返し率で作動することができる超高繰返し率ガス放電レーザシステムであって、
　Ａ）２つの細長い電極を有する、レーザガスを包含するレーザチャンバと、
　Ｂ）毎秒４，０００ガス放電の繰返し率で作動する時に、前記放電領域における各ガス放電に続いて、該放電領域から次のガス放電の前に生成された放電生成イオンを取り除くために、該放電領域において前記レーザガスのガス移動を生み出すための接線型ファンであって、前記２つの電極の間にある放電生成イオンを、ガスのフローを用いて取り除くことができるファンと、
　Ｃ）熱エネルギを前記レーザガスから取り除く熱交換器システムと、
を含み、
　さらに、
　Ｄ）約５ｍＪから１０ｍＪの範囲の正確に制御されたパルスエネルギにより毎秒４，０００レーザ出力パルスまでの繰返し数でレーザ出力パルスを生成するのに十分な電気パルスを前記電極に供給するパルスパワーシステムと、
　Ｅ）全てのパルス又は実質的に全てのパルスのパルスエネルギ、波長、及び帯域幅を測定するレーザビーム測定システムと、
を含むレーザシステム。」
の点で一致し、以下の各点で相違する。  
 　  
相違点
［相違点１］
　レーザチャンバが、本願補正発明では、放電領域を形成し、該放電領域で発生する圧力低下の大きな割合の部分を回復させるように電極の下流側に徐々に増加する断面を備えたガス流路を含み、前記ファンと前記放電領域との間において前記ガスのフローの方向を該ファンの出口から該放電領域に向かって約９０度変化させる、曲げられたフローを形成する面と、前記放電領域の下流側において前記ガスのフローの方向を該放電領域から前記熱交換器システムに向かって約９０度変化させる、曲げられたフローを形成する面とを含み、前記ガスのフローが、前記放電領域において最も狭い部分のみに向かって狭くなっており、該放電領域の下流側において広がっており、前記放電領域の下流側において該放電領域から或る距離をおいたところから始まる断面が増加していくフロー領域を含み、前記放電領域と前記下流側における前記曲げられたフローを形成する面との間において、前記電極の間隔と略同一の間隔を有する初期断面を有しているのに対し、引用発明では、そのようなガス流路を含んでおらず、また、上記のようにガスのフローの方向を約９０度変化させる曲げられたフローを形成する面がない点。
［相違点２］
　本願補正発明の「レーザシステム」は、放電領域における各ガス放電に続いて、該放電領域から次のガス放電の前に生成された放電生成イオンを取り除くために、該放電領域において前記レーザガスのガス移動を生み出すための接線型ファンが、毎秒４，０００ガス放電を超える繰返し率又はそれ以上で作動する時に、生成された実質的に全ての放電生成イオンを取り除くために、放電領域においてレーザガスの十分なガス移動を生み出し、２つの電極の間にある放電生成イオンを、約６７ｍ／ｓまでのガスのフローを用いて取り除くことができるファンであるとともに、電気パルスを電極に供給するパルスパワーシステムが、毎秒４，０００レーザ出力パルスを超える繰返し数でレーザ出力パルスを生成するのに十分な電気パルスを前記電極に供給するのに対し、引用発明の「Ｆ２エキシマレーザー」は、毎秒４，０００ガス放電を超える繰返し率又はそれ以上で作動するか否か不明であり、接線型ファンが、毎秒４，０００ガス放電を超える繰返し率又はそれ以上で作動する時に、生成された実質的に全ての放電生成イオンを取り除くために放電領域においてレーザガスの十分なガス移動を生み出し、２つの電極の間にある放電生成イオンを約６７ｍ／ｓまでのガスのフローを用いて取り除くか否か不明であるとともに、パルスパワーシステムが、毎秒４，０００レーザ出力パルスを超える繰返し数でレーザ出力パルスを生成するのに十分な電気パルスを電極に供給するか否か不明である点。
［相違点３］
　本願補正発明は、全てのパルス又は実質的に全てのパルスのパルスエネルギ、波長、及び帯域幅を測定し、レーザ出力パルスエネルギ及び波長のフィードバック制御を有するレーザビーム測定及び制御システムを含むのに対し、引用発明は、全てのパルス又は実質的に全てのパルスのパルスエネルギ、波長、及び帯域幅を測定するレーザビーム測定システムを含むものの、レーザ出力パルスエネルギ及び波長のフィードバック制御を有する制御システムを含むか否か明らかでない点。
　
（３）判断  
　上記相違点につき検討する。
［相違点１］について
　エキシマレーザのようなガスレーザのレーザチャンバにおいて、レーザガスを循環させるファンと放電電極対が設けられた放電領域との間に該レーザガスのフローの方向を該ファンの出口から該放電領域に向かって約９０度変化させる曲げられたフローを形成する面と、前記放電領域の下流側においてレーザガスのフローの方向を該放電領域から前記レーザガスを冷却するラジエータに向かって約９０度変化させる曲げられたフローを形成する面とを設けるものは本願の優先日前に周知であり（例えば、特開平１１−３５４８６１号公報（【００２７】、図２）、特開２０００−２５２５５５号公報（【００１２】〜【００１５】、図１）、特開平９−２１４０３１号公報（【００１９】、【００２０】、図１）、特開昭６１−９０４８５号公報（第１頁右下欄第７〜１５行、第４頁左上欄第１９行〜同頁左下欄第２行、第１０図）参照。）、また、ガスレーザのレーザチャンバに、放電を行う電極の下流側に徐々に増加する断面を備えたガス流路を設け、ガスのフローが、その放電領域の最も狭い部分に向かって狭くなり、該放電領域の下流側において広がるようにしたものは本願の優先日前に周知である（例えば、特開昭６２−２１４６８５号公報（第２頁右下欄第２行〜第３頁左上欄第７行、第１図）、特開平４−２５９２７３号公報（【０００３】、図３）、特開平３−２１７０６２号公報（第１頁右下欄第２行〜第２頁右上欄第１８行、第４図、第５図）、前記特開昭６１−９０４８５号公報（第４頁左上欄第１９行〜同頁右上欄第１２行、第６頁左上欄第２０行〜同頁右上欄第１４行、第５図）参照。）ことを考慮すると、引用発明に上記各周知技術を適用し、その際、放電領域を形成し、電極の下流側に徐々に増加する断面を備えたガス流路を、該放電領域で発生する圧力低下の大きな割合の部分を回復させるようになし、ガスのフローが放電領域において最も狭い部分のみに向かって狭くなるようになすとともに、断面が増加していくフロー領域が、放電領域の下流側において該放電領域から或る距離をおいたところから始まるようになし、放電領域と下流側における曲げられたフローを形成する面との間において電極の間隔と略同一の間隔を有する初期断面を有するようになして、本願補正発明の上記［相違点１］の構成となすことは、当業者が容易に行うことができることである。
［相違点２］について
　分子フッ素レーザ等のエキシマレーザにおいて、繰返し率を４ｋＨｚ或いはそれ以上に大きくすべきことは本願の優先日前に周知である（例えば、国際公開第０１／３１７５７号（第１頁第１２〜１５行、第３頁第２１〜３０行）、国際公開第０１／２９９４２号（特許請求の範囲５７、１０４、１０５）、米国特許第６０２８８７２号明細書（第１欄第５３〜６０行）参照。）から、引用発明に上記周知技術を適用し、引用発明の「Ｆ２エキシマレーザー」を毎秒４，０００ガス放電を超える繰返し率又はそれ以上で作動するものとなすことは、当業者が容易に想到し得ることである。そしてその際、接線型ファンが、生成された実質的に全ての放電生成イオンを取り除くために放電領域においてレーザガスの十分なガス移動を生み出すべく、２つの電極の間にある放電生成イオンを約６７ｍ／ｓまでのガスのフローを用いて取り除くことができるものとなすこと、また、電気パルスを電極に供給するパルスパワーシステムが、毎秒４，０００レーザ出力パルスを超える繰返し数でレーザ出力パルスを生成するのに十分な電気パルスを前記電極に供給するようになすことは、当業者が適宜設計的になし得ることというべきであるから、本願補正発明の上記［相違点２］の構成となすことは、当業者が容易に行うことができることである。
［相違点３］について
　引用発明も、全てのパルス又は実質的に全てのパルスのパルスエネルギ、波長、及び帯域幅を測定するレーザビーム測定システムを含むものであるところ、エキシマレーザにおいて、レーザビームのパルスエネルギ、波長及びバンド幅を測定し、これを所定の範囲内にパルスエネルギと波長を維持するためにフィードバックすることは本願の優先日前に周知である（例えば、特開２０００−７７７６２号公報（【００８５】、図１０）、特開２０００−２９４８６４号公報（【０００５】、図１）、特開平１１−２９８０８４号公報（【００１２】、図１０）参照。）から、引用発明に上記周知技術を適用して、本願補正発明の上記［相違点３］の構成となすことは、当業者が容易に行うことができることである。
　
　そして、本願補正発明によってもたらされる効果は、引用発明及び上記各周知技術から予測し得る程度のものである。  
 　  
　したがって、本願補正発明は、引用刊行物記載の発明及び周知技術から当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により、特許出願の際独立して特許を受けることができないものである。  
 　  
（４）むすび  
　以上のとおり、本件補正は、平成１８年改正前法律第５５号改正附則第３条第１項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項の規定に違反するものであるから、同法第１５９条第１項の規定において読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定により却下すべきものである。
　
　
第３　本願発明について
１　本願発明
　本件補正は上記のとおり却下されたので、本願の請求項に係る発明は、平成１８年１０月２４日付け手続補正書の特許請求の範囲の請求項１〜１３に記載された事項によって特定されるものであるところ、その請求項１に係る発明は次のとおりのものである。
　
「毎秒３，０００レーザ出力パルスを超えるパルス繰返し率で作動することができる超高繰返し率ガス放電レーザシステムであって、
　Ａ）放電領域を形成し、該放電領域で発生する圧力低下の大きな割合の部分を回復させるように電極の下流側に徐々に増加する断面を備えたガス流路を含む２つの細長い電極を有する、レーザガスを包含するレーザチャンバと、
　Ｂ）毎秒４，０００ガス放電まで及びそれを超える繰返し率又はそれ以上で作動する時に、前記放電領域における各ガス放電に続いて、該放電領域から次のガス放電の前に生成された実質的に全ての放電生成イオンを取り除くために、該放電領域において前記レーザガスの十分なガス移動を生み出すための接線型ファンであって、前記２つの電極の間にある放電生成イオンを、約６７ｍ／ｓまでのガスのフローを用いて取り除くことができるファンと、
　Ｃ）熱エネルギを前記レーザガスから取り除く熱交換器システムと、
　Ｄ）約５ｍＪから１０ｍＪの範囲の正確に制御されたパルスエネルギにより毎秒４，０００レーザ出力パルスまで及びそれを超える繰返し数でレーザ出力パルスを生成するのに十分な電気パルスを前記電極に供給するパルスパワーシステムと、
　Ｅ）全てのパルス又は実質的に全てのパルスのパルスエネルギ、波長、及び帯域幅を測定し、レーザ出力パルスエネルギ及び波長のフィードバック制御を有するレーザビーム測定及び制御システムと、
　を含むことを特徴とするレーザシステム。」（以下「本願発明」という。）
　
２　刊行物記載の発明
　本願の優先日前に頒布され、原査定の拒絶の理由に引用された引用刊行物及び引用発明は、上記第２の２（１）に記載したとおりである。
　
３　対比・判断
　本願発明は、上記第２の２（２）及び（３）で検討した本願補正発明において、「チャンバ」が、「前記ファンと前記放電領域との間において前記ガスのフローの方向を該ファンの出口から該放電領域に向かって約９０度変化させる、曲げられたフローを形成する面と、前記放電領域の下流側において前記ガスのフローの方向を該放電領域から前記熱交換器システムに向かって約９０度変化させる、曲げられたフローを形成する面と、を含み、前記ガスのフローが、前記放電領域において最も狭い部分のみに向かって狭くなっており、該放電領域の下流側において広がっており」、かつ、前記「チャンバ」が、「前記放電領域の下流側において該放電領域から或る距離をおいたところから始まる断面が増加していくフロー領域を含み、前記放電領域と前記下流側における前記曲げられたフローを形成する面との間において、前記電極の間隔と略同一の間隔を有する初期断面を有しており」、との限定を省いたものである。そうすると、本願発明の発明特定事項をすべて含み、さらに限定を付加したものに相当する本願補正発明が、上記第２の２（２）及び（３）で検討したとおり、引用刊行物に記載された発明及び周知技術に基づいて当業者が容易に発明することができたものであるから、本願発明も同様の理由により、引用刊行物に記載された発明及び周知技術に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものである。
　
４　むすび
　以上のとおり、本願発明は、引用刊行物に記載された発明及び周知技術に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　
　よって、結論のとおり審決する。