(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体基板と、
この半導体基板上に形成された第１層間絶縁膜と、
この第１層間絶縁膜上に形成された第１配線層と、
この第１配線層上に形成された絶縁層である第１バリア層と、
この第１バリア層上に形成された第２層間絶縁膜と、
この第２層間絶縁膜上に形成された第１金属層と、
この第１金属層から離間し、前記第２層間絶縁膜上に形成されたヒューズ機能を有する第２金属層と、
前記第１金属層上に形成された導電層である第２バリア層と、
この第２バリア層で周囲が囲まれ、前記第１金属層に接続され、この第１金属層の厚さよりも厚さが大きい第２配線層と、
前記第２金属層上に形成された導電層である第３バリア層と、
この第３バリア層で周囲が囲まれ、前記第２金属層に接続され、前記第２配線層と同じ厚さを有する第３配線層と、
前記第３バリア層から離間し、前記第２金属層上に形成された導電層である第４バリア層と、
この第４バリア層で周囲が囲まれ、前記第２金属層に接続され、前記第２配線層と同じ厚さを有する第４配線層と、
前記第１金属層及び第２金属層上に形成された第３層間絶縁膜と、
を有することを特徴とする半導体装置。
【請求項２】
半導体基板と、
この半導体基板上に形成された第１層間絶縁膜と、
この第１層間絶縁膜上に形成された第１配線層と、
この第１配線層上に形成された絶縁層である第１バリア層と、
この第１バリア層上に形成された第２層間絶縁膜と、
この第２層間絶縁膜上に形成された導電層である第２バリア層と、
この第２バリア層から離間し、前記第２層間絶縁膜上に形成されたヒューズ機能を有する第２金属層と、
前記第２金属層上に形成された導電層である第３バリア層と、
前記第２バリア層及び前記第３バリア層から離間し、前記第２金属層上に形成された導電層である第４バリア層と、
前記第２バリア層で周囲が囲まれ、前記第２金属層の厚さよりも厚さが大きい第２配線層と、
前記第３バリア層で周囲が囲まれ、前記第２金属層に接続され、前記第２配線層の厚さよりも厚さが小さい第３配線層と、
前記第４バリア層で周囲が囲まれ、前記第３配線層と同じ厚さを有する第４配線層と、
前記第２層間絶縁膜及び前記第２金属層上に形成された第３層間絶縁膜とを
有することを特徴とする半導体装置。
【請求項３】
半導体基板上の第１層間絶縁膜上に第１配線層を形成する工程と、
前記第１配線層上に絶縁層である第１バリア層を形成する工程と、
前記第１バリア層上に第２層間絶縁膜を形成する工程と、
この第２層間絶縁膜上に金属層を形成する工程と、
この金属層上に第１レジストを形成する工程と、
前記第１レジストをマスクとして、前記金属層を選択的に除去して、第１金属層及び前記第１金属層から離間してヒューズ機能を有する第２金属層を形成する工程と、
前記第２層間絶縁膜及び前記第１金属層及び前記第２金属層上に第３層間絶縁膜を形成する工程と、
この第３層間絶縁膜上に第２レジストを形成する工程と、
この第２レジストをマスクとして、前記第３層間絶縁膜を選択的に除去し、前記第１金属層及び前記第２金属層の一部表面を露出する工程と、
前記第２レジストを除去する工程と、
前記半導体基板上の表面に金属材料膜を形成する工程と、
この金属材料膜上に金属ダマシン配線材料膜を形成する工程と、
この金属ダマシン配線材料及び前記金属材料膜を前記第３層間絶縁膜表面が露出するまで除去し、前記第１金属層上に、導電層である第２バリア層に周囲を囲まれ、前記第１金属層より厚さが厚い第２配線層を、また、前記第２金属層上に、導電層である第３バリア層に周囲を囲まれ、前記第２配線層と同じ厚さの第３配線層及び前記第３バリア層から離間し、導電層である第４バリア層に周囲を囲まれ、前記第２配線層と同じ厚さの第４配線層を形成する工程とを
有することを特徴とする半導体装置の製造方法。
【請求項４】
半導体基板上の第１層間絶縁膜上に第１配線層を形成する工程と、
前記第１配線層上に絶縁層である第１バリア層を形成する工程と、
前記第１バリア層上に第２層間絶縁膜を形成する工程と、
この第２層間絶縁膜上に金属層を形成する工程と、
この金属層上に第１レジストを形成する工程と、
前記第１レジストをマスクとして、前記金属層を選択的に除去して、ヒューズ機能を有する第２金属層を形成する工程と、
前記第２層間絶縁膜及び前記第２金属層上に第３層間絶縁膜を形成する工程と、
この第３層間絶縁膜上に第２レジストを形成する工程と、
この第２レジストをマスクとして、前記第３層間絶縁膜を選択的に除去し、前記第２層間絶縁膜の一部表面及び前記第２金属層の一部表面を露出する工程と、
前記第２レジストを除去する工程と、
前記半導体基板上の表面に金属材料膜を形成する工程と、
この金属材料膜上に金属ダマシン配線材料膜を形成する工程と、
この金属ダマシン配線材料及び前記金属材料膜を前記第３層間絶縁膜表面が露出するまで除去し、前記第２層間絶縁膜上に、導電層である第２バリア層に周囲を囲まれ前記第２金属層よりも厚さが厚い第２配線層を、また、前記第２金属層上に、導電層である第３バリア層に周囲を囲まれ、前記第２配線層よりも厚さが薄い第３配線層及び前記第３バリア層から離間し、導電層である第４バリア層に周囲を囲まれ、前記第３配線層と厚さが同じ第４配線層を形成する工程とを
有することを特徴とする半導体装置の製造方法。
【請求項５】
前記第２配線層、前記第３配線層及び前記第４配線層を形成する工程の後に、ヒューズ機能を有する前記第２金属層を切断する工程を有することを特徴とする請求項３又は４に記載の半導体装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体装置及びその製造方法に係わり、特に、埋め込み配線技術を用いた半導体装置及びその製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来の埋め込み配線技術（以下金属ダマシン配線法という）を用いた半導体装置として、特開２０００−７７４０７号公報の図１などには、周囲の配線などとの関係に応じて、膜厚の異なる領域を適宜配置して、配線抵抗や配線間容量を低減した構造及び製造方法が記載されている。
【０００３】
従来の１本の配線中に複数の膜厚を有する配線を有する半導体装置の製造方法を図３８を用いて説明する。
【０００４】
まず、図３８（ａ）に示されるようにシリコン基板１０１上に素子（図示せず）を形成後、層間絶縁膜としてのＴＥＯＳ―ＳｉＯ２膜１０２を堆積する。この層間絶縁膜１０２は表面が平坦化される。
【０００５】
次に、層間絶縁膜１０２上にＳｉ３Ｎ４膜１０３をエッチングストッパー兼ＣＭＰストッパー用に堆積する。
【０００６】
次に、配線溝パターンが形成されたレジスト（図示せず）をマスクとして用いて、Ｓｉ３Ｎ４膜１０３及び層間絶縁膜１０２をエッチングして、配線用溝１０４を形成する。
【０００７】
次に、図３８（ｂ）に示されるように、配線溝の深みのさらに深い領域を開口パターンとするレジスト膜１０５を形成して、このレジスト膜１０５とＳｉ３Ｎ４膜１０３とをマスクにして追加エッチングを行い、配線用溝１０６を形成する。
【０００８】
次に、図３８（ｃ）に示されるように、レジスト膜１０５を剥離した後、全面に配線材料としての金属膜１０７を堆積する。
【０００９】
次に、図３８（ｄ）に示されるように、全面をＣＭＰ法を用いて研磨し、配線用溝１０６及び先に形成した配線用溝１０４に金属膜１０７を選択的に埋め込み、膜厚の薄い配線領域１０８ａ及び膜厚の厚い配線領域１０８ｂを形成する。この工程で、Ｓｉ３Ｎ４膜１０３をＣＭＰのポリッシングストッパーとして用いることができ、Ｓｉ３Ｎ４膜１０３表面よりも金属膜１０７表面がへこむように金属膜１０７を埋め込むことにより、隣接する配線間のショートを防止する。
【００１０】
次に、図３８（ｅ）に示されるように、後の工程で形成される上層配線（図示せず）との配線間容量やショートを防止するためにＳｉ３Ｎ４膜１０３を除去し、さらに層間絶縁膜（図示せず）を形成する。
【００１１】
このように同一配線中に配線層厚の厚い領域と薄い領域とを設けている。
【００１２】
近年はメモリー製品等で、製品歩留まりを向上させるために用いられるリダンダンシー用ヒューズは通常、金属配線層で形成されている。一方、高性能化の要求より金属配線といえどもより一層の低抵抗化が必要となっている。低抵抗化の手段として配線を太くする方法も有るが微細化の観点からは適しておらず、金属配線の厚膜化が有効である。
【００１３】
年々、高集積化の進む半導体装置に於いては、微細化への要求として回路設計ルールの縮小化が取り入れられている。
【００１４】
【発明が解決しようとする課題】
以上のような従来の半導体装置の製造方法では、以下の課題が生じる。
【００１５】
リダンダンシー用ヒューズの切断を行うにはヒューズの厚膜化は切断のために必要なエネルギーの増大を招き、それが影響を与える面積が増大し微細化の妨げとなる。そのためリダンダンシー用ヒューズ部分のみ薄膜化を図るか、又は切断のために必要なエネルギーが小さい金属材料を用いることが求められている。
【００１６】
またリダンダンシー用ヒューズを形成する金属配線層に銅を用いた場合には、ヒューズの切断面の腐食による悪影響が懸念されている。そのため、アルミニウムを用いてヒューズが形成されている。
【００１７】
金属配線は一般的に低抵抗ではあるが部分的にさらなる低抵抗化が要求されることがある。金属配線層の部分的な厚膜化は有効な手段であるが従来の金属配線構造では十分に対応できない場合がある。
【００１８】
すなわち、上記特許公報に記載された従来技術では、配線層の厚さが異なる部分があっても、上面は平坦化されていて、配線の下方側で層間絶縁膜中に埋め込まれた厚さが異なっている。このため、配線の形成場所によっては、配線下方にさらに別の配線がある場合などはその下方配線に接触しないようにするために厚さには制約がある。
【００１９】
本発明の目的は以上のような従来技術の課題を解決することにある。
【００２０】
特に、本発明の目的は、膜厚の薄いヒューズ領域と膜厚の厚い配線領域を備えた半導体装置を提供することにある。
【００２１】
本発明の他の目的は、少ない製造工程数で配線層厚の厚い配線層と、配線層厚の薄い配線層とを形成する半導体装置の製造方法を提供することにある。
【００２２】
【課題を解決するための手段】
本発明の第１の態様は、半導体装置として、半導体基板と、この半導体基板上に形成された第１層間絶縁膜と、この第１層間絶縁膜上に形成された第１配線層と、この第１配線層上に形成された絶縁層である第１バリア層と、この第１バリア層上に形成された第２層間絶縁膜と、この第２層間絶縁膜上に形成された第１金属層と、この第１金属層から離間し、前記第２層間絶縁膜上に形成されたヒューズ機能を有する第２金属層と、前記第１金属層上に形成された導電層である第２バリア層と、この第２バリア層で周囲が囲まれ、前記第１金属層に接続され、この第１金属層の厚さよりも厚さが大きい第２配線層と、前記第２金属層上に形成された導電層である第３バリア層と、この第３バリア層で周囲が囲まれ、前記第２金属層に接続され、前記第２配線層と同じ厚さを有する第３配線層と、前記第３バリア層から離間し、前記第２金属層上に形成された導電層である第４バリア層と、この第４バリア層で周囲が囲まれ、前記第２金属層に接続され、前記第２配線層と同じ厚さを有する第４配線層と、前記第１金属層及び第２金属層上に形成された第３層間絶縁膜とを有することを特徴とする。
【００２３】
また、本発明の第２の態様は、半導体装置として、半導体基板と、この半導体基板上に形成された第１層間絶縁膜と、この第１層間絶縁膜上に形成された第１配線層と、この第１配線層上に形成された絶縁層である第１バリア層と、この第１バリア層上に形成された第２層間絶縁膜と、この第２層間絶縁膜上に形成された導電層である第２バリア層と、この第２バリア層から離間し、前記第２層間絶縁膜上に形成されたヒューズ機能を有する第２金属層と、前記第２金属層上に形成された導電層である第３バリア層と、前記第２バリア層及び前記第３バリア層から離間し、前記第２金属層上に形成された導電層である第４バリア層と、前記第２バリア層で周囲が囲まれ、前記第２金属層の厚さよりも厚さが大きい第２配線層と、前記第３バリア層で周囲が囲まれ、前記第２金属層に接続され、前記第２配線層の厚さよりも厚さが小さい第３配線層と、前記第４バリア層で周囲が囲まれ、前記第３配線層と同じ厚さを有する第４配線層と、前記第２層間絶縁膜及び前記第２金属層上に形成された第３層間絶縁膜とを有することを特徴とする。
【００２４】
また、本発明の第３の態様は、半導体装置の製造方法として、半導体基板上の第１層間絶縁膜上に第１配線層を形成する工程と、前記第１配線層上に絶縁層である第１バリア層を形成する工程と、前記第１バリア層上に第２層間絶縁膜を形成する工程と、この第２層間絶縁膜上に金属層を形成する工程と、この金属層上に第１レジストを形成する工程と、前記第１レジストをマスクとして、前記金属層を選択的に除去して、第１金属層及び前記第１金属層から離間してヒューズ機能を有する第２金属層を形成する工程と、前記第２層間絶縁膜及び前記第１金属層及び前記第２金属層上に第３層間絶縁膜を形成する工程と、この第３層間絶縁膜上に第２レジストを形成する工程と、この第２レジストをマスクとして、前記第３層間絶縁膜を選択的に除去し、前記第１金属層及び前記第２金属層の一部表面を露出する工程と、前記第２レジストを除去する工程と、前記半導体基板上の表面に金属材料膜を形成する工程と、この金属材料膜上に金属ダマシン配線材料膜を形成する工程と、この金属ダマシン配線材料及び前記金属材料膜を前記第３層間絶縁膜表面が露出するまで除去し、前記第１金属層上に、導電層である第２バリア層に周囲を囲まれ、前記第１金属層より厚さが厚い第２配線層を、また、前記第２金属層上に、導電層である第３バリア層に周囲を囲まれ、前記第２配線層と同じ厚さの第３の配線層及び前記第３バリア層から離間し、導電層である第４バリア層に周囲を囲まれ、前記第２配線層と同じ厚さの第４の配線層を形成する工程とを有することを特徴とする。
【００２５】
また、本発明の第４の態様は、半導体装置の製造方法として、半導体基板上の第１層間絶縁膜上に第１配線層を形成する工程と、前記第１配線層上に絶縁層である第１バリア層を形成する工程と、前記第１バリア層上に第２層間絶縁膜を形成する工程と、この第２層間絶縁膜上に金属層を形成する工程と、この金属層上に第１レジストを形成する工程と、前記第１レジストをマスクとして、前記金属層を選択的に除去して、ヒューズ機能を有する第２金属層を形成する工程と、前記第２層間絶縁膜及び前記第２金属層上に第３層間絶縁膜を形成する工程と、この第３層間絶縁膜上に第２レジストを形成する工程と、この第２レジストをマスクとして前記第３層間絶縁膜を選択的に除去し、前記第２層間絶縁膜の一部表面及び前記第１バリア層の一部表面を露出する工程と、前記第２レジストを除去する工程と、前記半導体基板上の表面に金属材料膜を形成する工程と、この金属材料膜上に金属ダマシン配線材料膜を形成する工程と、この金属ダマシン配線材料及び前記金属材料膜を前記第３層間絶縁膜表面が露出するまで除去し、前記第２層間絶縁膜上に、導電層である第２バリア層に周囲を囲まれ前記第２金属層よりも厚さが厚い第２配線層を、また、前記第２金属層上に、導電層である第３バリア層に周囲を囲まれ、前記第２配線層よりも厚さが薄い第３配線層及び前記第３バリア層から離間し、導電層である第４バリア層に周囲を囲まれ、前記第３配線層と厚さが同じ第４配線層を形成する工程とを有することを特徴とする。
【００２６】
【発明の実施の形態】
次に，図面を参照して、本発明の実施の形態を説明する。以下の図面の記載において、同一又は類似の部分には、同一又は類似の符号を付している。ただし、図面は模式的なものであり，厚みと平面寸法との関係、各層の厚みの比率等は、現実のものとは異なる。従って、具体的な厚みや寸法は以下の説明を参酌して判断すべきものである。また、図面相互間においても互いの寸法の関係や比率が異なる部分が含まれている。
【００２７】
（第１の実施の形態）
図１乃至図１２を用いて本実施の形態を説明する。図１に示されるように半導体基板上（図示せず）に第１層間絶縁膜１が形成されている。
【００２８】
この第１層間絶縁膜１上に銅又はアルミニウムからなる第１配線層２が形成されている。この配線は通常使用される信号線として利用される。この第１配線層２は膜厚が約０．５μｍ程度で形成されている。
【００２９】
この第１配線層２及び第１層間絶縁膜１上にエッチングストッパーとして利用される例えば窒化シリコンからなる絶縁層である第１バリア層３が形成されている。この第１バリア層３は膜厚が約０．１〜０．１５μｍ程度で形成されている。第１バリア層３はＳｉＯ２とエッチング選択比のある材料であることが必要である。
【００３０】
この第１バリア層３上には、第２層間絶縁膜４が形成されている。この第２層間絶縁膜４はその膜厚が約１μｍ程度となるように形成されている。
【００３１】
第２層間絶縁膜４上には、第１金属層５及び第２金属層６が形成されている。第１の金属層５は、導電層である第２バリア層７に接続されている。第１金属層５及び第２金属層６はその膜厚が第１配線層２の膜厚よりも薄く形成されている。第１金属層５及び第２金属層６は例えば、Ｔａ又はその窒化物で形成され、その膜厚が約０．０２〜０．０５μｍ程度とされている。
【００３２】
この第２金属層６はヒューズとして利用される。
【００３３】
第２層間絶縁膜４、第１金属層５及び第２金属層６上には第３層間絶縁膜１１が形成されている。
【００３４】
第１金属層５上には、第２バリア層７で周囲を囲われて、第２配線層８が形成されている。
【００３５】
第２金属層６の第１の端部付近上面に導電層である第３バリア層９で周囲を囲われて、第３配線層１０が形成されている。
【００３６】
第２金属層６の第１の端部から離間した第２の端部付近上面に導電層である第４バリア層１２で周囲を囲われて、第４配線層１３が形成されている。
【００３７】
第２乃至第４配線層８，１０，１３は、その厚さが第１及び第２金属層５，６の膜厚よりも厚く形成されている。また、第２乃至第４配線層８，１０，１３は互いにその膜厚が等しく形成されている。
【００３８】
ここで、第２乃至第４配線層８，１０，１３の厚さは約１．５μｍ以下程度である。これ以上厚くする場合には、ヒューズを設けた領域において、ヒューズ上の層間絶縁膜厚が１．５μｍ以上となってしまい、レーザーでヒューズをブローする場合に、レーザーのエネルギー量をかなり大きくしなければならず、半導体基板へのダメージが発生してしまう恐れがある。
【００３９】
さらにレーザーエネルギーを大きくしない場合には、ヒューズ上に層間絶縁膜の開口を設ける必要があり、製造工程の複雑化が必要となってしまう。
【００４０】
第２乃至第４配線８，１０，１３は例えば、銅で構成されるが、配線材料は銅に限定する物ではなく例えばアルミニウム又はこれを主とする合金であってもかまわない。
【００４１】
第１乃至第３層間絶縁膜１、４、１１としては、フッ素を含有していて、誘電率を下げた材料、例えばＴＥＯＳ膜などのＳｉＯ２が用いられる。
【００４２】
第２バリア層７、第３バリア層９、及び第４バリア層１２は例えば、Ｔａ又はその窒化物で形成されている。
【００４３】
ここで、第２金属層６からなるヒューズは高融点金属から形成されていて、銅やアルミニウムと比べて抵抗率が高いが、切断時に動作信号が遮断されるヒューズに適している。
【００４４】
次に、本実施の形態の製造方法を図２乃至図１２を用いて説明する。なお、製造方法の説明においては、図１に示していない配線同士を接続するスルーホールの形成についても合わせて説明する。
【００４５】
まず、図２に示されるように半導体基板（図示せず）上に堆積した第１層間絶縁膜１中に通常使用される信号線となる第１配線層２及び第５配線層２２を例えば銅などにより、形成する。第１配線層２及び第５配線層２２はその膜厚が等しく、約０．５μｍ程度で形成されている。
【００４６】
次に、その上にエッチングストッパー兼第１配線層２及び第５配線層２２の第１バリア層３として例えば窒化シリコン膜を堆積する。
【００４７】
次に、後の工程で形成するスルーホールの深さに相当するだけ、第２層間絶縁膜４を堆積する。
【００４８】
次に、後の工程で形成される第２乃至第４配線層８、１０，１３，及び第６配線層２３のバリア層となる第１金属材料膜３０を堆積する。
【００４９】
次に、後の工程で形成される第２乃至第４配線層８、１０，１３，及び第６配線層２３部分にプラスの変換差を付けた部分から、後の工程で形成されるスルーホールを除いた部分及び第１金属材料膜３０を配線として用いる部分をそれぞれレジスト３１，３２，３３，３４で覆うようにリソグラフィーを行う。
【００５０】
ここで、プラスの変換差とは、後の工程で形成される第１乃至第３金属層５，６，２４の側壁から外側へ伸び出ている第１金属材料膜３０が存在するように形成されていることをいう。
【００５１】
ここで、第６配線層２３が形成されるコンタクトプラグ形成予定領域では、２つのレジスト３１，３２の間の開口幅は約０．５μｍ程度設けられている。また、コンタクトプラグ形成予定領域端部上のレジスト３２端から、後の工程で形成される隣接する第２配線８上のレジスト３３端までの距離となるレジスト同士の距離は約１μｍ程度で形成されている。
【００５２】
次に、図３に示されるように、レジスト３１，３２，３３，３４をマスクとし第１金属材料膜３０をエッチングし、第１乃至第３金属層５，６，２４を形成して、レジスト３１，３２，３３，３４を除去する。
【００５３】
次に、図４に示されるように後で形成する第２乃至第４配線層８、１０，１３，及び第６配線層２３の厚さに相当するだけ第３層間絶縁膜１１を堆積する。
【００５４】
次に、図５に示されるように第２乃至第４配線層８、１０，１３，及び第６配線層２３が形成される溝部に相当する部分を開口したレジスト３５，３６，３７，３８，３９を形成して、リソグラフィーを行う。
【００５５】
次に、図６に示されるようにレジスト３５，３６，３７，３８，３９をマスクとして第２乃至第４配線層８、１０，１３，及び第６配線層２３が形成される領域の第３層間絶縁膜１１を第１乃至第３金属層５，６，２４と選択比が保てるエッチング条件で除去して開口部を設ける。
【００５６】
次に、図７に示されるようにオーバーエッチングを行い、スルーホール４０内の第２層間絶縁膜４を除去する。
【００５７】
次に、図８に示されるようにレジスト３５，３６，３７，３８，３９を除去する。
【００５８】
次に、図９に示されるようにスルーホール４０底部に露出した第１バリア層３を除去して、第５配線層２２表面を露出させる。
【００５９】
次に、図１０に示されるように、第２乃至第４配線層８、１０，１３，及び第６配線層２３のバリア膜として第２金属材料膜４１として、例えばＴａ又はその窒化物を堆積する。
【００６０】
次に、図１１に示されるように金属ダマシン配線材料４２（例えば銅）を堆積する。
【００６１】
次に、図１２に示されるように、金属ダマシン配線材料４２及び第３層間絶縁膜１１上の第２金属材料膜４１を例えばＣＭＰ（化学的機械的研磨法）により除去し、第２乃至第４配線層８、１０，１３，及び第６配線層２３を形成する。ここで、第３層間絶縁膜１１表面が露出するまで、金属ダマシン配線材料４２及び第２金属材料膜４１は除去される。
【００６２】
この第２層間絶縁膜４中及び第１バリア層３中には導電体である第５バリア層２５に周囲を囲まれて、第６配線層２３が形成されている。この第６配線層２３は第５バリア層２５を介して、第５配線層２２に接続されている。第３金属層２４は第６配線層２３に接続されている。
【００６３】
ここで、この第５バリア層２５は第２層間絶縁膜４中へ形成される第６配線層２３の金属材料、例えば、銅、アルミニウムなどが拡散することを防止する機能を持つことが必要である。すなわち、第６配線層２３が銅の場合には、第５バリア層２５はタンタル、タンタル窒化物などの高融点金属が利用され、第６配線層２３がアルミニウムの場合には、第５バリア層２５はチタン、窒化チタン、ニオブなどの高融点金属が利用される。
【００６４】
さらにこの第５バリア層２５は配線として使用されるため、導電性を有することが必要である。
【００６５】
また、第６配線層２３を囲うように第３金属層２４上に導電層である第６バリア層２６が形成されている。
【００６６】
この構造及び製造方法を用いることで製造工程数を増やすことなく同一配線層内で部分的に材料が異なりかつ膜厚が薄い配線層を具備できる。
【００６７】
リダンダンシー用ヒューズを第２金属層６で形成することにより、ヒューズ膜厚を薄くすることができ、かつ腐食しにくい高融点金属又はその窒化物を用いることができる。
【００６８】
さらに、膜厚が薄いヒューズを得て、ヒューズ切断を容易としながら、電源線や接地線などの抵抗が小さいことが求められる配線層厚を厚く形成することが可能である。
【００６９】
このように同一配線層内で部分的に材料が異なりかつ膜厚が薄い配線層を実現することにより、特にリダンダンシー用ヒューズを薄膜領域とすることで、ヒューズ切断を容易にし、かつ、切断面の腐食を防ぐことができる。
【００７０】
また、電源線などの配線層厚が厚いことが求められる配線層は下方の配線の位置に関わらず、自由に配置して、上方に必要な厚さ分だけ厚く形成することが可能である。このように低抵抗配線を得つつ、配線層幅を広く取る必要がないので。高集積化が可能である。
【００７１】
このように電源線などに使用される配線層はその厚さをヒューズ上の絶縁層の膜厚の限界まで厚くすることが可能である。また、電源線として使用する配線に銅を使用した場合でも、ヒューズは銅以外の材料で形成されているので、腐食が防止されつつ、電源線は低抵抗で形成できる。
【００７２】
本実施の形態では、コンタクト形成の際に、オーバーエッチングを利用して深い開口を設けているため、複数のマスクを利用してコンタクトを開口していないため、製造工程が簡略化されている。
【００７３】
（第２の実施の形態）
本実施の形態を図１３乃至図２５を用いて説明する。
【００７４】
本実施の形態は第１の実施の形態と比べて第２配線層８及び第６配線層２３周囲の形状が異なっていて、他は同様であるため、相違点を説明する。
【００７５】
図１３に示されるように第２層間絶縁膜４上には、第２金属層６が形成されている。第２金属層６はその膜厚が第１配線層２の膜厚よりも薄く形成されている。
【００７６】
第２金属層６は例えば、Ｔａ又はその窒化物で形成され、その膜厚が約０．０２〜０．０５μｍ程度とされている。
【００７７】
第２の層間絶縁膜４上には、導電層である第２バリア層４６で周囲を囲われて、第２配線層８が形成されている。この第２バリア層４６はその膜厚が導電層である第３バリア層９、第４バリア層１２の膜厚と等しく形成されていて、第２金属層６の膜厚より薄く形成されている。
【００７８】
第２乃至第４配線層８，１０，１３は、その厚さが第２金属層６の膜厚よりも厚く形成されている。
【００７９】
ここで、第２配線層８は、その膜厚が第３配線層１０及び第４配線層１３の膜厚より厚く形成されている。すなわち、第２配線層８は第２層間絶縁層４上に第２バリア層４６を介して形成されていて、この第２バリア層４６の厚さが第３、第４配線層１０，１３が形成されている第２金属層６の厚さよりも薄いため、その分、膜厚が厚くなっている。
【００８０】
次に、本実施の形態の製造方法を図１４乃至図２５を用いて説明する。なお、製造方法の説明においては、図１３に示していない配線同士を接続するスルーホールの形成についても合わせて説明する。
【００８１】
まず、図１４に示されるように半導体基板（図示せず）上に堆積した第１層間絶縁膜１中に通常使用される信号線となる第１配線層２及び第５配線層２２を例えば銅を用いて形成する。
【００８２】
次に、その上にエッチングストッパー兼第１配線層２及び第５配線層２２の第１バリア層３として例えば窒化シリコン膜を堆積する。
【００８３】
次に、後の工程で形成するスルーホールの深さに相当するだけ、第２層間絶縁膜４を堆積する。
【００８４】
次に、後の工程で形成される第３、第４配線層１０，１３のバリア層となる第１金属材料膜３０を堆積する。
【００８５】
次に、後の工程で形成される第３、第４配線層１０，１３部分にプラスの変換差を付けた部分から、第１金属材料膜３０を配線として用いる部分をレジスト３４で覆うようにリソグラフィーを行う。
【００８６】
次に、図１５に示されるように、レジスト３４をマスクとして第１金属材料膜３０をエッチングし、第２金属層６を形成して、レジスト３４を除去する。
【００８７】
次に、図１６に示されるように後で形成する第２乃至第４配線層８、１０，１３，及び第６配線層２３の厚さに相当するだけ第３層間絶縁膜１１を堆積する。
【００８８】
次に、図１７に示されるように第６配線層２３中の第５配線層２２に接続される部分が形成される溝部に相当する部分を開口したレジスト４７を形成して、リソグラフィーを行う。ここで、第６配線層２３が形成されるコンタクトプラグ形成予定領域では、レジスト４７中の開口幅は約０．５μｍ程度設けられている。
【００８９】
次に、図１８に示されるようにレジスト４７をマスクとして、第６配線２３の第５配線２２に接続される部分が形成される領域の第３層間絶縁膜１１及び第２層間絶縁膜４を第１バリア層３と選択比が保てるエッチング条件で除去して開口部を設ける。
【００９０】
次にレジスト４７を除去する。
【００９１】
次に、図１９に示されるように第２乃至第４配線層８、１０，１３，及び第６配線層２３が形成される溝部に相当する部分を開口したレジスト４８，４９，５０，５１，５２を形成して、リソグラフィーを行う。ここで、コンタクトプラグ形成予定領域端部上のレジスト４９端から、後の工程で形成される隣接する第２配線８上のレジスト４９端までの距離となるレジスト４９の幅は約１μｍ程度で形成されている。
【００９２】
次に、図２０に示されるようにレジスト４８，４９，５０，５１，５２をマスクとして第２乃至第４配線層８、１０，１３，及び第６配線層２３が形成される領域の第３層間絶縁膜１１を第１バリア層３及び第２金属層６と選択比が保てるエッチング条件で除去してスルーホール５３を設ける。
【００９３】
次に、図２１に示されるようにレジスト４８，４９，５０，５１，５２を除去する。
【００９４】
次に、図２２に示されるようにスルーホール５３底部の第１バリア層３を除去して、第５配線層２２表面を露出する。
【００９５】
次に、図２３に示されるように、第３金属材料膜５４を堆積する。
【００９６】
次に、図２４に示されるように、金属ダマシン配線材料５５（例えば銅）を堆積する。
【００９７】
次に、図２５に示されるように金属ダマシン配線材料５５及び第３層間絶縁膜１１上の第３金属材料膜５４を例えばＣＭＰ（化学的機械的研磨法）により除去し、第２乃至第４配線層８、１０，１３，及び第６配線層２３を形成する。
【００９８】
残存した第３金属材料膜５４が第２バリア層４６、第３バリア層９、第４バリア層１２、第７バリア層４５となる。
【００９９】
第２層間絶縁膜４、第１バリア層３、第３層間絶縁膜１１中には導電体である第７バリア層４５に周囲を囲まれて、第６配線層２３が形成されている。この第６配線層２３は第７バリア層４５を介して、第５配線層２２に接続されている。
【０１００】
この第７バリア層４５は第２層間絶縁膜４中へ形成される第６配線層２３の金属材料、例えば、銅、アルミニウムなどが拡散することを防止する機能を持つことが必要である。すなわち、第６配線層２３が銅の場合には、第７バリア層４５はタンタル、タンタル窒化物などの高融点金属が利用され、第６配線層２３がアルミニウムの場合には、第７バリア層４５はチタン、窒化チタン、ニオブなどの高融点金属が利用される。
【０１０１】
さらにこの第７バリア層４５は配線の一部として使用されるため、導電性を有することが必要である。
【０１０２】
この構造及び製造方法を用いることで第１の実施の形態同様の効果を得ることができる。
【０１０３】
本実施の形態では第１の実施の形態と比較して工程数は増加するが、第２配線層８下に第１金属層５が存在しないので第２、第３配線層８、１０，及び第６配線層２３相互間のスペースを狭めることができ、微細化により向いている。
【０１０４】
すなわち、第１の実施の形態ではコンタクト径が相当程度小さく形成された場合に、第３金属層２４をコンタクト周辺に形成することがエッチングの制約上で困難になるが、本実施の形態ではそのような状態が発生しない。
【０１０５】
（第３の実施の形態）
第３の実施の形態を図２６乃至図３７を用いて説明する。本実施の形態では、第２の実施の形態の構成に加えて、配線層厚がコンタクトプラグと同程度に厚く形成された配線部分を同時に形成している。
【０１０６】
本実施の形態は第２の実施の形態と比べて膜厚の厚い配線部分が異なっていて、他は同様であるため、相違点を説明する。
【０１０７】
図２６に示されるように半導体基板（図示せず）上に第１層間絶縁膜１中に第７配線層６０が設けられ、この上方に導電層である第８バリア層６１に周囲を囲まれて、第８配線層６２が形成されている。この第８配線層６２はその厚さが第６配線層２３と同様の厚さで形成されている。
【０１０８】
この第８バリア層６１は第２層間絶縁膜４及び第３層間絶縁膜１１中へ第８配線層６２の金属材料、例えば、銅、アルミニウムなどが拡散することを防止する機能を持つことが必要である。すなわち、第８配線層６２が銅の場合には、第８バリア層６１はタンタル、タンタル窒化物などの高融点金属が利用され、第８配線層６２がアルミニウムの場合には、第８バリア層６１はチタン、窒化チタン、ニオブなどの高融点金属が利用される。
【０１０９】
第８配線層６２は例えば、銅で構成されるが、配線材料は銅に限定する物ではなく例えばアルミニウム又はこれを主とする合金であってもかまわない。
【０１１０】
さらにこの第８バリア層６１は配線の一部として使用されるため、導電性を有することが必要である。
【０１１１】
次に、本実施の形態の製造方法を図２７至図３７を用いて説明する。
【０１１２】
まず、図２７にされるように半導体基板（図示せず）上に堆積した第１層間絶縁膜１中に通常使用される信号線となる第１配線層２、第５配線層２２及び第７配線層６０を例えば銅などを用いて形成する。
【０１１３】
次に、その上にエッチングストッパー兼第１配線層２、第５配線層２２及び第７配線層６０の第１バリア層３として例えば窒化シリコン膜を堆積する。
【０１１４】
次に、後の工程で形成するスルーホールの深さに相当するだけ、第２層間絶縁膜４を堆積する。
【０１１５】
次に、後の工程で形成される第３、第４配線層１０，１３のバリア層となる第１金属材料膜３０を堆積する。
【０１１６】
次に、後の工程で形成される第３、第４配線層１０，１３部分にプラスの変換差を付けた部分から、第１金属材料膜３０を配線として用いる部分をレジスト３４で覆うようにリソグラフィーを行う。
【０１１７】
次に、図２８に示されるように、レジスト３４をマスクとし第１金属材料膜３０をエッチングし、第２金属層６を形成して、レジスト３４を除去する。
【０１１８】
次に、図２９に示されるように後で形成する第２乃至第４配線層８、１０，１３，及び第６配線層２３の厚さに相当するだけ第３層間絶縁膜１１を堆積する。
【０１１９】
次に、図３０に示されるように第６配線層２３中の第５配線層２２に接続される部分が形成される溝部に相当する部分及び第８配線層６２が形成される部分に対応して開口が設けられたレジスト６３を形成して、リソグラフィーを行う。ここで、第６配線層２３であるコンタクトプラグ形成予定領域では、レジスト６３中の開口幅は約０．５μｍ程度設けられている。
【０１２０】
次に、図３１に示されるようにレジスト６３をマスクとして第６配線層２３の第５配線層２２に接続される部分が形成される領域及び第８配線層６２が形成される領域に対応して、第３層間絶縁膜１１及び第２層間絶縁膜４を第１バリア層３と選択比が保てるエッチング条件で除去して開口部を設け、第１バリア層３を露出する。
【０１２１】
次にレジスト６３を除去する。
【０１２２】
次に、図３２に示されるように第２乃至第４配線層８、１０，１３，第６配線層２３、及び第８配線層６２が形成される溝部に相当する部分を開口したレジスト６４，６５，６６，６７，６８、６９を形成して、リソグラフィーを行う。ここで、コンタクトプラグ形成予定領域端部上のレジスト６５端から、後の工程で形成される隣接する第２配線層８上のレジスト６５端までの距離となるレジスト６５の幅は約１μｍ程度で形成されている。
【０１２３】
次に、図３３に示されるようにレジスト６４，６５，６６，６８，６９をマスクとして第２乃至第４配線層８、１０，１３，第６配線層２３、及び第８配線６２が形成される領域の第３層間絶縁膜１１を第１バリア層３及び第２金属層６と選択比が保てるエッチング条件で除去してスルーホール５３を設ける。
【０１２４】
次に、図３４に示されるようにレジスト６４，６５，６６，６８，６９を除去する。
【０１２５】
次に、図３５に示されるようにスルーホール５３底部及び第８配線６２形成予定領域の第１バリア層３を除去して、第５配線２２及び第７配線６０表面を露出する。
【０１２６】
次に、図３６に示されるように、露出した表面に第４金属材料膜７０を堆積する。
【０１２７】
次に、図３７に示されるように、金属ダマシン配線材料７１（例えば銅）を堆積する。
【０１２８】
次に、図２６に示されるように金属ダマシン配線材料７１及び第３層間絶縁膜１１上の第４金属材料膜７０を例えばＣＭＰ（化学的機械的研磨法）により除去し、第２乃至第４配線層８、１０，１３，第６配線層２３、及び第８配線６２を形成する。
【０１２９】
この構造及び製造方法を用いることで同一配線層内で部分的に膜厚が厚い配線層を具備できる。これは同一工程で形成される金属ダマシン配線内で部分的に低抵抗化を実現する手段となる。
【０１３０】
さらに、この構造及び製造方法を用いることで第１の実施の形態同様の効果を得ることができる。
【０１３１】
なお本実施例では第１配線、第５配線、及び第７配線２，２２，６０が存在するが、これらの配線が無くとも良い。
【０１３２】
本実施の形態では、極めて厚い膜厚の配線層を膜厚の薄いヒューズや他の配線層と同時に形成することで、特に抵抗が低い配線を製造工程の複雑化を招くことなく、得ることができる。また、金属配線層の部分的な厚膜化により、同一金属ダマシン配線内で回路面積の増大を招くこと無く部分的に低抵抗化を実現することができる。
【０１３３】
【発明の効果】
膜厚の薄いヒューズ領域と膜厚の厚い配線領域を備えた半導体装置を提供することにある。
【０１３４】
本発明の他の目的は、少ない製造工程数で配線層厚の厚い配線層と、配線層厚の薄い配線層とを形成する半導体装置の製造方法を提供することにある。
【図面の簡単な説明】
【図１】第１の実施の形態の半導体装置の構成を示す断面図。
【図２】第１の実施の形態の半導体装置の製造方法の一工程を示す断面図
【図３】第１の実施の形態の半導体装置の製造方法の一工程を示す断面図。
【図４】第１の実施の形態の半導体装置の製造方法の一工程を示す断面図。
【図５】第１の実施の形態の半導体装置の製造方法の一工程を示す断面図。
【図６】第１の実施の形態の半導体装置の製造方法の一工程を示す断面図。
【図７】第１の実施の形態の半導体装置の製造方法の一工程を示す断面図。
【図８】第１の実施の形態の半導体装置の製造方法の一工程を示す断面図。
【図９】第１の実施の形態の半導体装置の製造方法の一工程を示す断面図。
【図１０】第１の実施の形態の半導体装置の製造方法の一工程を示す断面図。
【図１１】第１の実施の形態の半導体装置の製造方法の一工程を示す断面図。
【図１２】第１の実施の形態の半導体装置の製造方法の一工程を示す断面図。
【図１３】第２の実施の形態の半導体装置の構成を示す断面図。
【図１４】第２の実施の形態の半導体装置の製造方法の一工程を示す断面図。
【図１５】第２の実施の形態の半導体装置の製造方法の一工程を示す断面図。
【図１６】第２の実施の形態の半導体装置の製造方法の一工程を示す断面図。
【図１７】第２の実施の形態の半導体装置の製造方法の一工程を示す断面図。
【図１８】第２の実施の形態の半導体装置の製造方法の一工程を示す断面図。
【図１９】第２の実施の形態の半導体装置の製造方法の一工程を示す断面図。
【図２０】第２の実施の形態の半導体装置の製造方法の一工程を示す断面図。
【図２１】第２の実施の形態の半導体装置の製造方法の一工程を示す断面図。
【図２２】第２の実施の形態の半導体装置の製造方法の一工程を示す断面図。
【図２３】第２の実施の形態の半導体装置の製造方法の一工程を示す断面図。
【図２４】第２の実施の形態の半導体装置の製造方法の一工程を示す断面図。
【図２５】第２の実施の形態の半導体装置の製造方法の一工程を示す断面図。
【図２６】第３の実施の形態の半導体装置の構成を示す断面図。
【図２７】第３の実施の形態の半導体装置の製造方法の一工程を示す断面図。
【図２８】第３の実施の形態の半導体装置の製造方法の一工程を示す断面図。
【図２９】第３の実施の形態の半導体装置の製造方法の一工程を示す断面図。
【図３０】第３の実施の形態の半導体装置の製造方法の一工程を示す断面図。
【図３１】第３の実施の形態の半導体装置の製造方法の一工程を示す断面図。
【図３２】第３の実施の形態の半導体装置の製造方法の一工程を示す断面図。
【図３３】第３の実施の形態の半導体装置の製造方法の一工程を示す断面図。
【図３４】第３の実施の形態の半導体装置の製造方法の一工程を示す断面図。
【図３５】第３の実施の形態の半導体装置の製造方法の一工程を示す断面図。
【図３６】第３の実施の形態の半導体装置の製造方法の一工程を示す断面図。
【図３７】第３の実施の形態の半導体装置の製造方法の一工程を示す断面図。
【図３８】（ａ）は、従来の半導体装置の製造方法の一工程を示す断面図であり、（ｂ）は、従来の半導体装置の製造方法の一工程を示す断面図であり、（ｃ）は、従来の半導体装置の製造方法の一工程を示す断面図であり、（ｄ）は、従来の半導体装置の製造方法の一工程を示す断面図であり、（ｅ）は、従来の半導体装置の構成を示す断面図である。
【符号の説明】
１  第１層間絶縁膜
２  第１配線層
３  第１バリア層
４  第２層間絶縁膜
５  第１金属層
６  第２金属層
７，４６  第２バリア層
８  第２配線層
９  第３バリア層
１０  第３配線層
１１  第３層間絶縁膜
１２  第４バリア層
１３  第４配線層
２２  第５配線層
２３  第６配線層
２４  第３金属層
２５  第５バリア層
２６  第６バリア層
３０  第１金属材料膜
３１，３２，３３，３４，３５，３６，３７，３８，３９，４７，４８，４９，５０，５１，５２，６３，６４，６５，６６，６７，６８，６９  レジスト
４０，５３  スルーホール
４１  第２金属材料膜
４２，５５，７１  金属ダマシン配線材料
４５  第７バリア層
５４  第３金属材料膜
６０  第７配線
６１  第８バリア層
６２  第８配線
７０  第４金属材料膜
【図１】
0003566203.tif 000002
【図２】
0003566203.tif 000003
【図３】
0003566203.tif 000004
【図４】
0003566203.tif 000005
【図５】
0003566203.tif 000006
【図６】
0003566203.tif 000007
【図７】
0003566203.tif 000008
【図８】
0003566203.tif 000009
【図９】
0003566203.tif 000010
【図１０】
0003566203.tif 000011
【図１１】
0003566203.tif 000012
【図１２】
0003566203.tif 000013
【図１３】
0003566203.tif 000014
【図１４】
0003566203.tif 000015
【図１５】
0003566203.tif 000016
【図１６】
0003566203.tif 000017
【図１７】
0003566203.tif 000018
【図１８】
0003566203.tif 000019
【図１９】
0003566203.tif 000020
【図２０】
0003566203.tif 000021
【図２１】
0003566203.tif 000022
【図２２】
0003566203.tif 000023
【図２３】
0003566203.tif 000024
【図２４】
0003566203.tif 000025
【図２５】
0003566203.tif 000026
【図２６】
0003566203.tif 000027
【図２７】
0003566203.tif 000028
【図２８】
0003566203.tif 000029
【図２９】
0003566203.tif 000030
【図３０】
0003566203.tif 000031
【図３１】
0003566203.tif 000032
【図３２】
0003566203.tif 000033
【図３３】
0003566203.tif 000034
【図３４】
0003566203.tif 000035
【図３５】
0003566203.tif 000036
【図３６】
0003566203.tif 000037
【図３７】
0003566203.tif 000038
【図３８】
0003566203.tif 000039