【事件の表示】
　特願２００１−５４０７９１「徐々に変化する原子面を有する二重に湾曲した光学素子」拒絶査定不服審判事件〔平成１３年　５月３１日国際公開、ＷＯ０１／３９２１１、平成１５年　５月　７日国内公表、特表２００３−５１５７２９〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
第１　手続の経緯
　本願は、平成１２年（２０００年）１２月１１日（パリ条約による優先権主張、平成１１年１１月２９日、米国）を国際出願日とする出願（特願２００１−５４０７９１号）であって、平成１８年５月１９日付で拒絶査定がなされ、これに対して、平成１８年８月２１日に拒絶査定不服審判の請求がなされ、平成１８年９月２０日付で手続補正がなされたものである。
　
第２　平成１８年９月２０日付の手続補正についての補正の却下の決定について
　
［補正の却下の決定の結論］
　平成１８年９月２０日付の手続補正（以下、「本件補正」という。）を却下する。
　
１　補正後の本願発明
　本件補正により、特許請求の範囲の請求項１については、平成１８年４月１４日付手続補正書の特許請求の範囲の請求項１に記載の、
「複数の湾曲した結晶格子の原子面（１４）であって、少なくとも一部の湾曲した原子面（１４）が間隔ｄにより隔てられているものである原子面と、
　該複数の湾曲した原子面（１４）の上に配置され、少なくとも二つの方向で曲率半径を
有している光学表面（１６）と、
　前記間隔ｄが、前記光学表面を横切って少なくとも一つの横方向で変化し、かつブラッグ方程式から決定されるものであり、ブラッグ角が前記光学表面（１６）の少なくとも一部の点のそれぞれで該光学表面（１６）に衝突する線源からのｘ線の入射角であることを特徴とする光学的に湾曲した素子（１０）。」が
　
「複数の湾曲した結晶格子の原子面（１４）であって、少なくとも一部の湾曲した原子面（１４）が間隔ｄにより隔てられているものである原子面と、
　該複数の湾曲した原子面（１４）の上に配置され、少なくとも二つの方向で曲率半径を有している光学表面（１６）とを含み、
　前記間隔ｄが、前記光学表面を横切って少なくとも一つの横方向で変化し、かつブラッグ方程式から決定されるものであり、ブラッグ角が前記光学表面（１６）の少なくとも一部の点のそれぞれで該光学表面（１６）に衝突する線源からのｘ線の入射角であることを特徴とする光学的に湾曲したｘ線反射素子（１０）。」と補正された。
　
　この補正は、「素子」を「ｘ線反射素子」と限定する補正を含むものである。そして、上記の「素子」を「ｘ線反射素子」と限定する補正は、特許請求の範囲のいわゆる限定的減縮を目的とするものに該当し、平成１８年改正前特許法第１７条の２第４項第２号に掲げる事項を目的とする補正である。
　
２　独立特許要件違反についての検討
　そこで、本件補正後の特許請求の範囲の請求項１に係る発明（以下、「本願補正発明」という。）が特許出願の際独立して特許を受けることができるものであるか（平成１８年改正前特許法第１７条の２第５項において準用する特許法第１２６条第５項の規定に適合するか）について検討する。
　
（１）本願補正発明
　本願補正発明は、平成１８年９月２０付手続補正書の特許請求の範囲の請求項１の記載で特定される、次のとおりのものである。
「複数の湾曲した結晶格子の原子面（１４）であって、少なくとも一部の湾曲した原子面（１４）が間隔ｄにより隔てられているものである原子面と、
　該複数の湾曲した原子面（１４）の上に配置され、少なくとも二つの方向で曲率半径を有している光学表面（１６）とを含み、
　前記間隔ｄが、前記光学表面を横切って少なくとも一つの横方向で変化し、かつブラッグ方程式から決定されるものであり、ブラッグ角が前記光学表面（１６）の少なくとも一部の点のそれぞれで該光学表面（１６）に衝突する線源からのｘ線の入射角であることを特徴とする光学的に湾曲したｘ線反射素子（１０）。」
　
（２）引用例
　原査定の拒絶の理由に引用され、本願の優先日前に頒布された刊行物である、玉作賢治，ＳＲＩ’９７報告　−光学系−，SPring-8　利用者情報，日本，１９９７年　９月，Vol.2　No.5，41-43（以下、「引用例１」という。）には、以下の点が記載されている。
ア　「さて光学系の大物である分光器とミラーでは、多くの興味深い発表が見られた。ＢＥＳＳＹのErko等（プログラム番号5M01）はＣＺ法によりSi１−ＸGex結晶を作成し、一方向に連続的にxを変化させて格子定数の制御を行うことに成功した。このような結晶を分光器やミラーに用いる利点として以下の事柄を挙げていた。（1）まず結晶の深さ方向にGe濃度を変化させたものは放射光による熱膨張の効果を補償できること。（２）一方表面方向に格子定数を変化させることにより、結晶を曲げることなしに光の発散を取り除いたり集光させたりできること。では実際に分光器に使う際に気になる気になる結晶の室であるが、例えばSiとSi０．０６Ge０．０４の（220）反射でのロッキングカーブの幅は共に4.5”と良質であり、Ge濃度を変化させていった時の場所依存性もx〜0.1ぐらいまでよく制御されていた。また深さ方向にxを変化させた結晶を用いたスーパーミラーは、15〜20keＶの範囲で通常のものより反射率が高くなる（R〜35％）データを示していた。」（第４１ページ左欄第１３〜３１行）
　
イ　「高圧力下での回折実験のための分光と集光を兼ねた光学素子としてSLSPのSchulze等（6PB33）は円柱型に曲げた結晶で分光器を設計した。この結晶の厚さは1mmで曲率半径が１mになるように曲げられている。使用する回折面の非対称度を適切に選び、Laueケースで用いることによりBorrmannファン内の光を全て1m離れた集光点に集めることができる。その大きさは光源のサイズで決まっており、彼等の測定では8.4μmであった。
　軟ｘ線斜入射分光器のデザインとしては、Dragon(SGM)、不等間隔、SX-700などがそれぞれの特徴に応じて採用されていた。」（第４１ページ右欄第１４〜２５行）
　
ウ　「HASYLABのSchulte-Schrepping等(5PA47)は“Torii-design”（鳥居型）のSi(111)結晶を作成し分光器に用いた。“鳥居”の中央部に水を循環させ、両翼を機械的に押すことにより水圧と熱による変形を手軽に矯正していた。その効果は500Wの負荷時で27.6″あった半値幅（＠9.5keV）を8.3″にすることができ、1000W時でも11.5″まで戻していた。」（第４２ページ左欄第１９〜２５行）
　
エ　「軟x線領域での多層膜ミラーでも明るい光源に対する熱対策がなされていた。NTTのTakenaka等(7PA04)は、Mo/Si多層膜の間に障壁を設け、Mo/C/Si/CやMo/SiC/Si/SiCとした。この障壁層により高い熱負荷のもとでも原子の拡散による多層膜の劣化を抑えることができるという。
　集光のためにミラーを曲げる方法としてESRFのSignorato(7PA02)は、ピエゾ素子による機構を提案していた。長さ150mmのピエゾ素子を２段一組にして数組を並べてミラーと裏板の間に挟み込む。ミラーの長さは第１ミラーが450mm、第２ミラーが750mmである。上段と下段のピエゾ素子の伸び縮み具合を加減することによりミラー全体を1kmから3.5kmの範囲の曲率半径で曲げることができる。この方法では曲げの機構が反射面の裏側全体に装着されているために一様にきれいに曲げることができるという。」（第４２ページ左欄第４０行〜右欄第１１行）
　
　引用例１に関して、結晶は複数の原子面が間隔をもって隔てられていること、及び、結晶を光学素子に用いる場合には、結晶の原子面上に光学表面が形成されることは当然の事項であることから、引用例１には、
「複数の結晶格子の原子面であって、少なくとも一部の原子面が間隔もって隔てられているものである原子面と、
　該複数の原子面の上に形成される光学表面とを含み、
　結晶における格子定数を、表面方向に変化させることにより、光の発散を取り除いたり集光させたりできる分光器・ミラー」の発明（以下、「引用発明」という。）が記載されているといえる。
　
（３）対比
　引用発明と本願補正発明とを対比する。
　引用発明において、格子定数を変化させることは、原子面の間隔である格子間距離を変化させることに他ならないから、引用発明において「結晶における格子定数を、表面方向に変化させること」は、本願補正発明の「前記間隔ｄが、前記光学表面を横切って少なくとも一つの横方向で変化」することに相当する。
　また、引用発明の「光の発散を取り除いたり集光させたりできる」については、そのような光は、ブラッグの条件を満たすものであることは技術常識から当然の事項（ブラッグの条件については、例えば、特開平１０−２７０２０９号公報（【００１９】）、特開平６−２７３００号公報（【０００３】）参照）であり、また、間隔ｄ並びにブラック角θは、２ｄsinθ＝ｎλというブラッグの条件を満たすことによって、そのときの原子面の間隔並びに入射角として定義される間隔並びに角であるから、引用発明の「光の発散を取り除いたり集光させたりできる」ことは、本願補正発明の「前記間隔ｄがブラッグ方程式から決定されるものであり、ブラッグ角が前記光学表面（１６）の少なくとも一部の点のそれぞれで該光学表面（１６）に衝突する線源からのｘ線の入射角であること」に相当する。
　また、光学素子の一例としてx線領域での分光器・ミラーに使用されることの記載からx線反射素子も想定されていたことが窺えること（記載事項イ、エ）を勘案すれば、引用発明の「ミラー・分光器」は、本願発明の「x線反射素子」に相当する。　
　したがって、本願補正発明と引用発明とは、
「複数の結晶格子の原子面であって、少なくとも一部の原子面が間隔により隔てられているものである原子面と、
　該複数の原子面の上に配置された光学表面とを含み、
　前記間隔が、前記光学表面を横切って少なくとも一つの横方向で変化し、かつブラッグ方程式から決定されるものであり、ブラッグ角が前記光学表面の少なくとも一部の点のそれぞれで該光学表面に衝突する線源からのｘ線の入射角であるｘ線反射素子」の発明である点で一致し、以下の点で相違する。
　
相違点；
　本願補正発明は、複数の原子面が「湾曲しており」、また、光学表面が「少なくとも二つの方向で曲率半径を有している」のに対し、引用発明においては、その点についての限定がない点。
　
（４）当審の判断
　上記の相違点について検討する。
　特開昭６３−２３６９４８号公報には、「結晶を支持基板の曲面にそわせて張り付けたＸ線結晶」（特許請求の範囲の第１〜２行）、「本発明は、Ｘ線分光あるいはｘ線リソグラフィーの分野でＸ線の分光用あるいは集光素子として用いられるＸ線湾曲結晶に関する」（第１ページ左欄第１４〜１６行）と記載されており、また、第２図及び第３図の記載から、光学表面が「少なくとも二つの方向で曲率半径を有している」ものであることは明らかである。
　よって、ｘ線の分光用の素子あるいは集光素子において、複数の原子面が「湾曲しており」、また、光学表面が「少なくとも二つの方向で曲率半径を有している」ことは、例えば、上記の特開昭６３−２３６９４８号公報にも記載されているように、周知の技術であるといえる。
　そして、引用例１には、上記引用発明のように表面で結晶格子の格子定数を変化させて形成した光学素子とともに、上記記載事項イ、エのような結晶を曲げて湾曲面を形成した光学素子も記載されていることより、両者は「Ｘ線の分光用あるいは集光素子」という同じ技術分野に属するものであって、技術的に関連していて相互に技術を適用しあえる関係にあるといえる。
　したがって、引用発明においても、「Ｘ線の分光用あるいは集光素子」という同じ技術分野に属する上記周知技術を採用し、上記相違点に係る本願の発明特定事項を得ることに格別の困難性は認められない。
　
　そして、本願補正発明によってもたらされる効果は、上記引用発明及び上記周知技術から当業者が予測し得る程度のものである。
　
　したがって、本願補正発明は、引用例１に記載された発明及び従来周知の技術事項に基づいて当業者が容易に発明することができたものである。 
　
（５）むすび
　以上のとおり、本願補正発明は、引用例１に記載された発明及び従来周知の技術事項に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　よって、本件補正は、平成１８年改正前特許法第１７条の２第５項で準用する同法第１２６条第５項の規定に違反するものであるから、特許法第１５９条第１項で読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定により却下されるべきものである。
　　
第３　本願発明について
１　本願発明
　平成１８年９月２０日付の手続補正は上記のとおり却下されたので、本願の請求項１〜１３に係る発明は、平成１８年４月１４日付手続補正書の特許請求の範囲の請求項１〜１３に記載された事項により特定されるものであるところ、その請求項１に係る発明（以下、「本願発明」という。）は、平成１８年４月１４付手続補正補の特許請求の範囲の請求項１の記載によって特定される次のとおりのものである。
　
「複数の湾曲した結晶格子の原子面（１４）であって、少なくとも一部の湾曲した原子面（１４）が間隔ｄにより隔てられているものである原子面と、
　該複数の湾曲した原子面（１４）の上に配置され、少なくとも二つの方向で曲率半径を
有している光学表面（１６）と、
　前記間隔ｄが、前記光学表面を横切って少なくとも一つの横方向で変化し、かつブラッグ方程式から決定されるものであり、ブラッグ角が前記光学表面（１６）の少なくとも一部の点のそれぞれで該光学表面（１６）に衝突する線源からのｘ線の入射角であることを特徴とする光学的に湾曲した素子（１０）。」
　　
２　引用例
　原査定の拒絶の理由に引用された刊行物の記載事項は、上記「第２　平成１８年９月２０日付の手続補正についての補正却下の決定について」の「２　独立特許要件違反についての検討」の「（２）引用例」に記載したとおりである。
　
３　対比・判断
　本願発明は、本願補正発明において「素子」を「ｘ線反射素子」と限定した補正を省いたものである。
　そうすると、本願発明の構成要件をすべて含み、さらに他の限定要件を付加したものに相当する本願補正発明が、上記「第２　平成１８年９月２０日付の手続補正についての補正の却下の決定について」の「２　独立特許要件違反についての検討」において記載したとおり、引用例１に記載された発明及び従来周知の技術事項に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、本願発明も、同様に、引用例１に記載された発明従来周知の技術事項に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものである。
　
４　むすび
　以上のとおり、本願発明は、引用例１に記載された発明及び従来周知の技術事項に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　したがって、その余の請求項について論及するまでもなく、本願は拒絶すべきものである。
　
　よって、結論のとおり審決する。