(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
一般式（１）
【化１】
0003566955.tif 000025
（XおよびYは互いに同一または異なっていてもよい、水素またはアニオン基を示し、R1およびR2は、互いに同一または異なっていてもよい、置換基を有してもよい鎖状または環状である、炭素数1から20の炭化水素基であり、R3およびR4は互いに同一または異なっていてもよい、水素または炭素数1から3の炭化水素基であり、R5、R6、R7およびR8は、互いに同一または異なっていてもよい、置換基を有してもよい炭素数１から３０の炭化水素基を示す。ただし、XおよびYが臭素であり、R1およびR2がメチル基であり、R3およびR4が水素である場合、R5、R6、R7およびR8の少なくとも１つはフェニル基ではない。また、R１およびR２がメチル基、R３およびR４が水素、R５〜R８がフェニル基である場合、XおよびYの少なくとも一方はアセチルアセトンではない。）で表される光学活性ルテニウム錯体。
【請求項２】
Ｒ１およびＲ２がメチル基であり、Ｒ３およびＲ４が互いに同一または異なっていてもよい、水素または炭素数１から３の炭化水素基であり、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７およびＲ８が互いに同一であって、フェニル基、４−トリル基、または３，５−キシリル基である、請求項１に記載のルテニウム錯体。
【請求項３】
Ｒ１およびＲ２がメチル基であり、Ｒ３およびＲ４が水素であり、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７およびＲ８が互いに同一で４−トリル基、または３，５−キシリル基である、請求項１に記載のルテニウム錯体。
【請求項４】
Ｒ１およびＲ２がフェニル基であり、Ｒ３およびＲ４が互いに同一または異なっていてもよい、水素または炭素数１から３の炭化水素基であり、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７およびＲ８が互いに同一であって、フェニル基、４−トリル基、または３，５−キシリル基である、請求項１に記載の光学活性ルテニウム錯体。
【請求項５】
一般式（２）
ＲｕＸＹＡＢ      （２）
（XおよびYは互いに同一または異なっていてもよい、水素またはアニオン基を示し、Ａは、下記一般式（３）
【化２】
0003566955.tif 000026
（式中、R1およびR2は、互いに同一または異なっていてもよい、置換基を有してもよい鎖状または環状である、炭素数1から20の炭化水素基であり、R3およびR4は互いに同一または異なっていてもよい、水素、炭素数1から3の炭化水素基であり、R5、R6、R7およびR8は、互いに同一または異なっていてもよい、置換基を有してもよい炭素数１から３０の炭化水素基。）で表される化合物であり、Ｂは、下記一般式（４）
【化３】
0003566955.tif 000027
（式中、R9、R10、R11およびR12は、互いに同一または異なっていてもよい、水素原子、置換基を有していてもよい鎖状または環状である、炭素数１から３０の炭化水素基を示し、これらの基のうち少なくとも一つは水素原子であり、R13、R14、R15およびR16は、互いに同一または異なっていてもよい、水素原子、置換基を有していてもよい鎖状または環状である、炭素数１から３０の炭化水素基を示し、Zは置換基を有してもよい鎖状または環状である、炭素数1から10の炭化水素基または単結合。）で表される化合物。）で表されるルテニウム錯体（ただし、一般式（２）中XおよびYがClであり、一般式（３）中R１およびR２がメチル基、R３およびR４が水素、R５〜R８がフェニル基であり、一般式（４）中R９〜R１３およびR１５が水素、R１４およびR１６がフェニル基、Zが単結合である錯体は除く。）。
【請求項６】
Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７およびＲ８がいずれもフェニル基である請求項５に記載のルテニウム錯体であって、Ｒ１３、Ｒ１５が水素原子、およびＲ１４、Ｒ１６がフェニル基、Ｚが単結合の場合には、Ｒ９、Ｒ１０、Ｒ１１およびＲ１２の少なくとも１つは水素ではない、前記ルテニウム錯体。
【請求項７】
Ｒ９、Ｒ１０、Ｒ１１およびＲ１２がいずれも水素原子であり、Ｒ１３が水素原子、Ｒ１４がイソプロピル基、Ｒ１５およびＲ１６が４−メトキシフェニル基であり、Ｚが単結合である、請求項６に記載のルテニウム錯体。
【請求項８】
化合物Ａが、ＴｏｌＳＫＥＷＰＨＯＳ：２，４−ビス−（ジ−４−トリルホスフィノ）ペンタン、ＸｙｌＳＫＥＷＰＨＯＳ：２，４−ビス−（ジ−３，５−キシリルホスフィノ）ペンタン、２，４−ビス−（ジフェニルホスフィノ）−３−メチルペンタン、２，４−ビス−（ジ−４−トリルホスフィノ）−３−メチルペンタン、２，４−ビス−（ジ−３，５−キシリルホスフィノ）−３−メチルペンタン、１，３−ビス−（ジフェニルホスフィノ）−１，３−ジフェニルプロパン、１，３−ビス−（ジ−４−トリルホスフィノ）−１，３−ジフェニルプロパン、１，３−ビス−（ジ−３，５−キシリルホスフィノ）−１，３−ジフェニルプロパン、１，３−ビス−（ジフェニルホスフィノ）−１，３−ジフェニル−２−メチルプロパン、１，３−ビス−（ジ−４−トリルホスフィノ）−１，３−ジフェニル−２−メチルプロパンまたは１，３−ビス−（ジ−３，５−キシリルホスフィノ）−１，３−ジフェニル−２−メチルプロパンであり、化合物Ｂが、ジフェニルエチレンジアミン、または１−イソプロピル−２，２−ジ（ｐ−メトキシフェニル）エチレンジアミンである、請求項５に記載のルテニウム錯体。
【請求項９】
アルコール化合物の製造方法であって、下記一般式（１）
【化４】
0003566955.tif 000028
（ＸおよびＹは互いに同一または異なっていてもよい、水素またはアニオン基を示し、Ｒ１およびＲ２は、互いに同一または異なっていてもよい、置換基を有してもよい鎖状または環状である、炭素数１から２０の炭化水素基であり、Ｒ３およびＲ４は互いに同一または異なっていてもよい、水素または炭素数１から３の炭化水素基であり、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７およびＲ８は、互いに同一または異なっていてもよい、置換基を有してもよい炭素数１から３０の炭化水素基を示す。ただし、ＸおよびＹが臭素であり、Ｒ１およびＲ２がメチル基であり、Ｒ３およびＲ４が水素である場合、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７およびＲ８の少なくとも１つはフェニル基ではない。）で表される光学活性ルテニウム錯体、下記一般式（４）
【化５】
0003566955.tif 000029
（式中、Ｒ９、Ｒ１０、Ｒ１１およびＲ１２は、互いに同一または異なっていてもよい、水素原子、置換基を有していてもよい鎖状または環状である、炭素数１から３０の炭化水素基を示し、これらの基のうち少なくとも一つは水素原子であり、Ｒ１３、Ｒ１４、Ｒ１５およびＲ１６は、互いに同一または異なっていてもよい、水素原子、置換基を有していてもよい鎖状または環状である、炭素数１から３０の炭化水素基を示し、Ｚは置換基を有してもよい鎖状または環状である、炭素数１から１０の炭化水素基または単結合。）で表される光学活性ジアミン化合物、および塩基（アルカリ金属もしくはアルカリ土類金属の塩または四級アンモニウム塩）の存在下において、カルボニル化合物を水素または水素を供与する化合物と反応させて還元することによって、アルコール化合物を製造する工程を含むことを特徴とする、前記製造方法。
【請求項１０】
Ｒ９、Ｒ１０、Ｒ１１およびＲ１２が水素原子であり、Ｒ１３および  Ｒ１５が水素原子、Ｒ１４およびＲ１６がフェニル基であり、Ｚが単結合であるか、またはＲ１３が水素原子、Ｒ１４がイソプロピル基、Ｒ１５およびＲ１６が４−メトキシフェニル基であり、Ｚが単結合であることを特徴とする、請求項９に記載の製造方法。
【請求項１１】
Ｒ１からＲ８が下記ａ）からｃ）：
ａ）Ｒ１およびＲ２がメチル基であり、Ｒ３およびＲ４が互いに同一または異なっていてもよい、水素または炭素数１から３の炭化水素基であり、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７およびＲ８が互いに同一であって、フェニル基、４−トリル基、または３，５−キシリル基；
ｂ）Ｒ１およびＲ２がメチル基であり、Ｒ３およびＲ４が水素であり、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７およびＲ８が互いに同一で４−トリル基、または３，５−キシリル基、または、
ｃ）Ｒ１およびＲ２がフェニル基であり、Ｒ３およびＲ４が互いに同一または異なっていてもよい、水素または炭素数１から３の炭化水素基であり、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７およびＲ８が互いに同一であって、フェニル基、４−トリル基、または３，５−キシリル基
のいずれかで表されることを特徴とする、請求項９または１０のいずれかに記載の製造方法。
【請求項１２】
アルコール化合物の製造方法であって、一般式（２）
ＲｕＸＹＡＢ      （２）
（XおよびYは互いに同一または異なっていてもよい、水素またはアニオン基を示し、Ａは、下記一般式（３）
【化６】
0003566955.tif 000030
（式中、R1およびR2は、互いに同一または異なっていてもよい、置換基を有してもよい鎖状または環状である、炭素数1から20の炭化水素基であり、R3およびR4は互いに同一または異なっていてもよい、水素、炭素数1から3の炭化水素基であり、R5、R6、R7およびR8は、互いに同一または異なっていてもよい、置換基を有してもよい炭素数１から３０の炭化水素基。）で表される化合物であり、Ｂは、下記一般式（４）
【化７】
0003566955.tif 000031
（式中、R9、R10、R11およびR12は、互いに同一または異なっていてもよい、水素原子、置換基を有していてもよい鎖状または環状である、炭素数１から３０の炭化水素基を示し、これらの基のうち少なくとも一つは水素原子であり、R13、R14、R15およびR16は、互いに同一または異なっていてもよい、水素原子、置換基を有していてもよい鎖状または環状である、炭素数１から３０の炭化水素基を示し、Zは置換基を有してもよい鎖状または環状である、炭素数1から10の炭化水素基または単結合。）で表される化合物。）で表されるルテニウム錯体（ただし、一般式（２）中XおよびYがClであり、一般式（３）中R１およびR２がメチル基、R３およびR４が水素、R５〜R８がフェニル基であり、一般式（４）中R９〜R１３およびR１５が水素、R１４およびR１６がフェニル基、Zが単結合である錯体は除く。）および塩基（アルカリ金属もしくはアルカリ土類金属の塩または四級アンモニウム塩）の存在下において、カルボニル化合物を水素または水素を供与する化合物と反応させて還元することによって、アルコール化合物を製造する工程を含むことを特徴とする、前記製造方法。
【請求項１３】
R1からR16、化合物Ａおよび化合物Ｂが下記ａ）からｃ）：
ａ）R5、R6、R7およびR8がいずれもフェニル基（ただし、R13、R15が水素原子、およびR14、R16がフェニル基、Zが単結合の場合には、R9、R10、R11およびR12の少なくとも１つは水素ではない）；
ｂ）R5、R6、R7およびR8がいずれもフェニル基であり、R9、R10、R11およびR12がいずれも水素であり、R13が水素原子、R14がイソプロピル基、R15およびR16が4-メトキシフェニル基であり、Zが単結合であるか、または
ｃ）化合物Ａが、TolSKEWPHOS：２，４−ビス−（ジ−４−トリルホスフィノ）ペンタン、XylSKEWPHOS：２，４−ビス−（ジ−３,５−キシリルホスフィノ）ペンタン、２，４−ビス−（ジフェニルホスフィノ）−３−メチルペンタン、２，４−ビス−（ジ−４−トリルホスフィノ）−３−メチルペンタン、２，４−ビス−（ジ−３,５−キシリルホスフィノ）−３−メチルペンタン、１，３−ビス−（ジフェニルホスフィノ）−１，３−ジフェニルプロパン、１，３−ビス−（ジ−４−トリルホスフィノ）−１，３−ジフェニルプロパン、１，３−ビス−（ジ−３,５−キシリルホスフィノ）−１，３−ジフェニルプロパン、１，３−ビス−（ジフェニルホスフィノ）−１，３−ジフェニル−２−メチルプロパン、１，３−ビス−（ジ−４−トリルホスフィノ）−１，３−ジフェニル−２−メチルプロパンまたは１，３−ビス−（ジ−３,５−キシリルホスフィノ）−１，３−ジフェニル−２−メチルプロパンであり、化合物Ｂが、ジフェニルエチレンジアミン、または1−イソプロピル−2，2−ジ(ｐ−メトキシフェニル)エチレンジアミン
のいずれかで表されることを特徴とする、請求項１２に記載の製造方法。
【請求項１４】
一般式（１）
【化８】
0003566955.tif 000032
（ＸおよびＹは互いに同一または異なっていてもよい、水素またはアニオン基を示し、Ｒ１およびＲ２は、互いに同一または異なっていてもよい、置換基を有してもよい鎖状または環状である、炭素数１から２０の炭化水素基であり、Ｒ３およびＲ４は互いに同一または異なっていてもよい、水素または炭素数１から３の炭化水素基であり、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７およびＲ８は、互いに同一または異なっていてもよい、置換基を有してもよい炭素数１から３０の炭化水素基を示す。ただし、ＸおよびＹが臭素であり、Ｒ１およびＲ２がメチル基であり、Ｒ３およびＲ４が水素である場合、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７およびＲ８の少なくとも１つはフェニル基ではない。）で表される光学活性ルテニウム錯体を製造するための方法であって、下記一般式（５）
ＲｕＸＹ    （５）
（ＸおよびＹは互いに同一または異なっていてもよい、水素またはアニオン基を示す。）で表される化合物と、下記一般式（３）
【化９】
0003566955.tif 000033
（式中、Ｒ１およびＲ２は、互いに同一または異なっていてもよい、置換基を有してもよい鎖状または環状である、炭素数１から２０の炭化水素基であり、Ｒ３およびＲ４は互いに同一または異なっていてもよい、水素、炭素数１から３の炭化水素基であり、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７およびＲ８は、互いに同一または異なっていてもよい、置換基を有してもよい炭素数１から３０の炭化水素基。）で表される化合物とを反応させることによって前記一般式（１）で表される化合物を得る工程を含むことを特徴とする、前記方法。
【請求項１５】
一般式（２）
ＲｕＸＹＡＢ      （２）
（ＸおよびＹは互いに同一または異なっていてもよい、水素またはアニオン基を示し、Ａは、下記一般式（３）
【化１０】
0003566955.tif 000034
（式中、Ｒ１およびＲ２は、互いに同一または異なっていてもよい、置換基を有してもよい鎖状または環状である、炭素数１から２０の炭化水素基であり、Ｒ３およびＲ４は互いに同一または異なっていてもよい、水素、炭素数１から３の炭化水素基であり、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７およびＲ８は、互いに同一または異なっていてもよい、置換基を有してもよい炭素数１から３０の炭化水素基。）で表される化合物であり、Ｂは、下記一般式（４）
【化１１】
0003566955.tif 000035
（式中、Ｒ９、Ｒ１０、Ｒ１１およびＲ１２は、互いに同一または異なっていてもよい、水素原子、置換基を有していてもよい鎖状または環状である、炭素数１から３０の炭化水素基を示し、これらの基のうち少なくとも一つは水素原子であり、Ｒ１３、Ｒ１４、Ｒ１５およびＲ１６は、互いに同一または異なっていてもよい、水素原子、置換基を有していてもよい鎖状または環状である、炭素数１から３０の炭化水素基を示し、Ｚは置換基を有してもよい鎖状または環状である、炭素数１から１０の炭化水素基または単結合。）で表される化合物。）で表されるルテニウム錯体を製造するための方法であって、下記一般式（１）
【化１２】
0003566955.tif 000036
（式中、各記号はそれぞれ前記と同様の意味を表す。）で表される化合物と、前記化合物Ｂとを反応させることによって、前記一般式（２）で表される化合物を得る工程を含むことを特徴とする、前記方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、ルテニウム錯体とこれを触媒とする光学活性アルコール化合物の製造方法に関する。さらに詳しくは、この出願の発明は、医薬、農薬，あるいは多くの汎用化学品の合成中間体等としての光学活性アルコール化合物を製造するのに有効な高効率触媒であるルテニウム錯体と、このルテニウム錯体を触媒とする光学活性アルコール化合物の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
光学活性ジホスフィン化合物を配位子をする遷移金属錯体は、不斉反応の触媒として極めて有用であり、これまで、数多くの触媒が開発されてきた。光学活性ジホスフィン化合物が触媒の性能に大きな影響を与えるため、種々の光学活性ジホスフィン化合物が開発された。例えば、ＢＩＮＡＰに代表される軸不斉ジホスフィン化合物やＤＩＯＰ等の炭素上に不斉をもつジホスフィン化合物が知られている。しかしながら、これまでに数多く検討されてきた不斉水素化あるいは不斉還元触媒は、官能基をもつオレフィンやカルボニル化合物の不斉水素化の触媒として有用であるが、官能基をもたないカルボニル化合物の反応には、十分な効率やエナンチオ選択性を示さなかった。
【０００３】
これらの問題を解決するために、最近、軸不斉のジホスフィン化合物と光学活性ジアミン化合物を配位子とする不斉ルテニウム金属錯体が開発され、カルボニル化合物の高効率かつ高立体選択的な水素化ないし還元反応が可能になった。例えば、▲１▼特開平８−２２５４６６およびＪ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．１９９５，１１７，２６７５に記載されているように、「光学活性ジホスフィン化合物を配位子とするルテニウム錯体」、「光学活性なジアミン化合物」と「塩基」からなる３成分系触媒を用いてカルボニル化合物の不斉水素化反応を実施する方法が開発された。また、▲２▼特開平１１−１８９６００、Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．１９９８，１２０，１３５２９およびＡｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．Ｉｎｔ．Ｅｄ．１９９８，３７，１７０３に記載されているように、３成分系触媒を用いる反応の煩雑さが改良され、「ジホスフィン化合物とジアミン化合物を配位子とするルテニウム錯体」と「塩基」からなる２成分系触媒を用いてカルボニル化合物の不斉水素化反応を実施する方法が報告されている。
【０００４】
上記記載の特許や論文中には、主としてＢＩＮＡＰ類（以下、ＢＩＮＡＰ、ＴｏｌＢＩＮＡＰ、ＸｙｌＢＩＮＡＰを総称してＢＩＮＡＰ類と記載する。）を配位子とする触媒の利用が報告されているが、その他の軸不斉ジホスフィン化合物を配位子とする触媒の報告例は多くない。ＢＩＮＡＰ以外の軸不斉のジホスフィン化合物を配位子とするルテニウム金属錯体を触媒に用いたカルボニル化合物の不斉水素化の例としては、▲３▼ＷＯ  ０ｌ／７４８２９およびＯｒｇ．Ｌｅｔｔ．２０００，２，２６，  ４１７３に記載されているように、光学活性ＰＨＡＮＥＰＨＯＳと光学活性ジアミン化合物を配位子とするルテニウム錯体と塩基の２成分からなる触媒が報告されている。また、▲４▼Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．１９９９，６４，２１２７には、光学活性ＢＩＣＰを配位子とするルテニウム錯体、光学活性ジアミン化合物と塩基からなる３成分系触媒を用いたカルボニル化合物の不斉水素化反応が報告されている。▲３▼の触媒では、アセトフェノンを不斉水素化して、光学純度９９％ｅｅの光学活性フェネチルアルコールを与える。▲４▼の触媒は、アセトフェノンを不斉水素化して、光学純度７６％ｅｅの光学活性フェネチルアルコールを与える。
【０００５】
一方、炭素上に不斉をもつ光学活性ジホスフィン化合物を配位子とするルテニウム金属錯体によるカルボニル化合物の不斉水素化の例は、さらに少なく、また、有効な触媒は見出されていない。例えば、▲５▼ＣＨＩＲＡＬＩＴＹ  ２０００，１２，５１４には、光学活性ＳＫＥＷＰＨＯＳと光学活性ＤＰＥＮを配位子とするルテニウム錯体と塩基からなる２成分系触媒を用いたアセトフェノンの不斉水素化が報告されており、光学純度８４％ｅｅのフェネチルアルコールが得られている。▲６▼特開平８−２２５４６６には光学活性ＣＨＩＲＡＰＨＯＳを配位子とするルテニウム錯体、光学活性ジアミン化合物と塩基の３成分からなる触媒を用いたβ−イオノンの不斉水素化が一例報告されており、対応する光学活性アルコールが５３％  ｅｅの光学純度で得られている。▲５▼、▲６▼ともに前記ＢＩＮＡＰ類を配位子とするルテニウム錯体を触媒に用いた場合に比べて光学純度は低い。▲７▼Ａｎｇｗ．Ｃｈｅｍ．Ｉｎｔ．Ｅｄ．１９９８，３７，１７０３には、光学活性ジアミン化合物と、光学活性ＤＩＯＰまたは光学活性ＣＨＩＲＡＰＨＯＳを配位子とするルテニウム錯体の合成が報告されているが、カルボニル化合物の不斉水素化の触媒としての評価は行なわれていない。
【０００６】
以上のように、ＢＩＮＡＰ類を代表例とする軸不斉の光学活性ジホスフィン化合物と光学活性ジアミン化合物を配位子とするルテニウム金属錯体および塩基からなる触媒は、広い範囲のカルボニル化合物を不斉水素化できることや、高い活性と高いエナンチオ選択性を示し、高い光学純度の光学活性アルコール化合物を与えるため、利用価値の高いものである。しかしながら、該触媒は全てのカルボニル化合物に対して必ずしも高い性能を示すとは限らないため、ＢＩＮＡＰ類以外の光学活性ジホスフィン配位子をもつ触媒の開発が望まれている。
【０００７】
さらに、軸不斉の光学活性ジホスフィン化合物は合成する上で難点がある。例えば、光学活性ＢＩＮＡＰは、光学分割により得られたビナフトールから以下に示す方法により合成される。
Ｊ．  Ｏｒｇ．  Ｃｈｅｍ．  １９９３，５８，１９４５には光学活性ビナフトールから誘導される２，２’−ビス−（トリフルオロメタンスルホニル）オキシ−１，１’−ビナフチルとジフェニルホスフィンオキシドの反応が、Ｊ．  Ｏｒｇ．  Ｃｈｅｍ．  １９９４，５９，７１８０には２，２’−ビス−（トリフルオロメタンスルホニル）オキシ−１，１’−ビナフチルとジフェニルホスフィンの反応による合成が報告されている。
【０００８】
しかしながら、上記の合成法は、あらかじめラセミ体のビナフトールから光学分割により光学活性ビナフトールを得て、さらにこの光学活性ビナフトールを上記合成法を用いて軸不斉の光学活性ジホスフィン化合物に誘導化しなければならない。
以上のように、軸不斉のジホスフィン化合物は、▲１▼合成が多段階である、▲２▼光学分割工程を要するなどの理由により、一般的に工程が煩雑な場合が多い。
【０００９】
先に述べたように、炭素上に不斉をもつ光学活性ジホスフィン化合物を配位子とするルテニウム錯体、光学活性ジアミン化合物および塩基からなる三成分系触媒や、炭素上に不斉をもつ光学活性ジホスフィン化合物と光学活性ジアミン化合物を配位子とするルテニウム金属錯体および塩基からなる二成分系触媒による不斉水素化反応は報告例も非常に少なく、また、触媒性能が満足できる錯体が未だ開発されていない。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】
したがって、本発明は、炭素上に不斉をもつ合成が容易な光学活性ジホスフィン化合物を配位子とする新規ルテニウム錯体および該錯体を触媒とする光学活性アルコール化合物の製造方法であって、軸不斉あるいは炭素上に不斉をもつ光学活性ジホスフィン化合物を配位子とする従来のルテニウム錯体触媒に比べてカルボニル化合物の不斉水素化反応における反応性、エナンチオ選択性などの点において優れた光学活性アルコール化合物の製造方法を提供することを目的とした。
【００１１】
【課題を解決するための手段】
炭素上に不斉をもつジホスフィン化合物は、光学分割工程が不要である等、容易に合成できる可能性もあり、それらを配位子とする触媒の高性能化が図れれば、ＢＩＮＡＰ類以上に有効となることに着目し、鋭意研究を進めた。
すなわち、炭素上に不斉をもつ光学活性ジホスフィン化合物として例えば、光学活性ＳＫＥＷＰＨＯＳがあるが、本発明者らは、該化合物がＪ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．１９８８，１１０，６２９に記載の方法により２，４−ペンタンジオンから得られる光学活性２，４−ペンタンジオールを原料として特願２００１−４０１１５７記載の方法により光学分割を行うことなしに簡便に合成できることに着目し、光学活性ＳＫＥＷＰＨＯＳ誘導体を配位子とする新規ルテニウム錯体を種々合成し、それらのカルボニル化合物の不斉水素化触媒としての性能について鋭意検討した。
【００１２】
その結果、本発明者らは驚くべきことに光学活性ＢＩＮＡＰ等の軸不斉ジホスフィン化合物に比べて合成が容易な炭素上に不斉をもつ光学活性ジホスフィン化合物である光学活性ＳＫＥＷＰＨＯＳ誘導体化合物を配位子とするルテニウム錯体触媒が、カルボニル化合物の不斉水素化触媒として優れた性能を有し、上記課題が解決されることを見出し、本発明を完成するに至った。
すなわち、本発明は、一般式（１）
【化１３】
0003566955.tif 000002
（ＸおよびＹは互いに同一または異なっていてもよい、水素またはアニオン基を示し、Ｒ１およびＲ２は、互いに同一または異なっていてもよい、置換基を有してもよい鎖状または環状である、炭素数１から２０の炭化水素基であり、Ｒ３およびＲ４は互いに同一または異なっていてもよい、水素または炭素数１から３の炭化水素基であり、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７およびＲ８は、互いに同一または異なっていてもよい、置換基を有してもよい炭素数１から３０の炭化水素基を示す。ただし、ＸおよびＹが臭素であり、Ｒ１およびＲ２がメチル基であり、Ｒ３およびＲ４が水素である場合、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７およびＲ８の少なくとも１つはフェニル基ではない。）で表される光学活性ルテニウム錯体に関する。
【００１３】
また、本発明は、Ｒ１およびＲ２がメチル基であり、Ｒ３およびＲ４が互いに同一または異なっていてもよい、水素または炭素数１から３の炭化水素基であり、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７およびＲ８が互いに同一であって、フェニル基、４−トリル基、または３，５−キシリル基である、前記ルテニウム錯体に関する。
さらに、本発明は、Ｒ１およびＲ２がメチル基であり、Ｒ３およびＲ４が水素であり、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７およびＲ８が互いに同一で４−トリル基、または３，５−キシリル基である、前記ルテニウム錯体に関する。
また、本発明は、Ｒ１およびＲ２がフェニル基であり、Ｒ３およびＲ４が互いに同一または異なっていてもよい、水素または炭素数１から３の炭化水素基であり、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７およびＲ８が互いに同一であって、フェニル基、４−トリル基、または３，５−キシリル基である、前記ルテニウム錯体に関する。。
【００１４】
またさらに、本発明は、  一般式（２）
ＲｕＸＹＡＢ      （２）
（ＸおよびＹは互いに同一または異なっていてもよい、水素またはアニオン基を示し、Ａは、下記一般式（３）
【化１４】
0003566955.tif 000003
（式中、Ｒ１およびＲ２は、互いに同一または異なっていてもよい、置換基を有してもよい鎖状または環状である、炭素数１から２０の炭化水素基であり、Ｒ３およびＲ４は互いに同一または異なっていてもよい、水素、炭素数１から３の炭化水素基であり、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７およびＲ８は、互いに同一または異なっていてもよい、置換基を有してもよい炭素数１から３０の炭化水素基。）で表される化合物であり、Ｂは、下記一般式（４）
【化１５】
0003566955.tif 000004
（式中、Ｒ９、Ｒ１０、Ｒ１１およびＲ１２は、互いに同一または異なっていてもよい、水素原子、置換基を有していてもよい鎖状または環状である、炭素数１から３０の炭化水素基を示し、これらの基のうち少なくとも一つは水素原子であり、Ｒ１３、Ｒ１４、Ｒ１５およびＲ１６は、互いに同一または異なっていてもよい、水素原子、置換基を有していてもよい鎖状または環状である、炭素数１から３０の炭化水素基を示し、Ｚは置換基を有してもよい鎖状または環状である、炭素数１から１０の炭化水素基または単結合。）で表される化合物。）で表されるルテニウム錯体に関する。
【００１５】
さらにまた、本発明は、  Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７およびＲ８がいずれもフェニル基である請求項５に記載のルテニウム錯体であって、Ｒ１３、Ｒ１５が水素原子、およびＲ１４、Ｒ１６がフェニル基、Ｚが単結合の場合には、Ｒ９、Ｒ１０、Ｒ１１およびＲ１２の少なくとも１つは水素ではない、前記ルテニウム錯体に関する。
そして、本発明は、Ｒ９、Ｒ１０、Ｒ１１およびＲ１２がいずれも水素原子であり、Ｒ１３が水素原子、Ｒ１４がイソプロピル基、Ｒ１５およびＲ１６が４−メトキシフェニル基であり、Ｚが炭素数０である、前記ルテニウム錯体に関する。
【００１６】
そしてまた、本発明は、化合物Ａが、ＴｏｌＳＫＥＷＰＨＯＳ：２，４−ビス−（ジ−４−トリルホスフィノ）ペンタン、ＸｙｌＳＫＥＷＰＨＯＳ：２，４−ビス−（ジ−３，５−キシリルホスフィノ）ペンタン、２，４−ビス−（ジフェニルホスフィノ）−３−メチルペンタン、２，４−ビス−（ジ−４−トリルホスフィノ）−３−メチルペンタン、２，４−ビス−（ジ−３，５−キシリルホスフィノ）−３−メチルペンタン、１，３−ビス−（ジフェニルホスフィノ）−１，３−ジフェニルプロパン、１，３−ビス−（ジ−４−トリルホスフィノ）−１，３−ジフェニルプロパン、１，３−ビス−（ジ−３，５−キシリルホスフィノ）−１，３−ジフェニルプロパン、１，３−ビス−（ジフェニルホスフィノ）−１，３−ジフェニル−２−メチルプロパン、１，３−ビス−（ジ−４−トリルホスフィノ）−１，３−ジフェニル−２−メチルプロパンまたは１，３−ビス−（ジ−３，５−キシリルホスフィノ）−１，３−ジフェニル−２−メチルプロパンであり、化合物Ｂが、ジフェニルエチレンジアミン、または１−イソプロピル−２，２−ジ（ｐ−メトキシフェニル）エチレンジアミンである、前記ルテニウム錯体に関する。
【００１７】
そしてさらに、本発明は、アルコール化合物の製造方法であって、下記一般式（１）
【化１６】
0003566955.tif 000005
（ＸおよびＹは互いに同一または異なっていてもよい、水素またはアニオン基を示し、Ｒ１およびＲ２は、互いに同一または異なっていてもよい、置換基を有してもよい鎖状または環状である、炭素数１から２０の炭化水素基であり、Ｒ３およびＲ４は互いに同一または異なっていてもよい、水素または炭素数１から３の炭化水素基であり、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７およびＲ８は、互いに同一または異なっていてもよい、置換基を有してもよい炭素数１から３０の炭化水素基を示す。ただし、ＸおよびＹが臭素であり、Ｒ１およびＲ２がメチル基であり、Ｒ３およびＲ４が水素である場合、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７およびＲ８の少なくとも１つはフェニル基ではない。）で表される光学活性ルテニウム錯体、下記一般式（４）
【化１７】
0003566955.tif 000006
（式中、Ｒ９、Ｒ１０、Ｒ１１およびＲ１２は、互いに同一または異なっていてもよい、水素原子、置換基を有していてもよい鎖状または環状である、炭素数１から３０の炭化水素基を示し、これらの基のうち少なくとも一つは水素原子であり、Ｒ１３、Ｒ１４、Ｒ１５およびＲ１６は、互いに同一または異なっていてもよい、水素原子、置換基を有していてもよい鎖状または環状である、炭素数１から３０の炭化水素基を示し、Ｚは置換基を有してもよい鎖状または環状である、炭素数１から１０の炭化水素基または単結合。）で表される光学活性ジアミン化合物、および塩基（アルカリ金属もしくはアルカリ土類金属の塩または四級アンモニウム塩）の存在下において、カルボニル化合物を水素または水素を供与する化合物と反応させて還元することによって、アルコール化合物を製造する工程を含むことを特徴とする、前記製造方法に関する。
【００１８】
また、本発明は、R9、R10、R11およびR12が水素原子であり、R13および R15が水素原子、R14およびR16がフェニル基であり、Zが単結合であるか、またはR13が水素原子、R14がイソプロピル基、R15およびR16が4-メトキシフェニル基であり、Zが単結合であることを特徴とする、前記製造方法に関する。
さらに、本発明は、R1からR8が下記ａ）からｃ）：
ａ）R1およびR2がメチル基であり、R3およびR4が互いに同一または異なっていてもよい、水素または炭素数１から３の炭化水素基であり、R5、R6、R7およびR8が互いに同一であって、フェニル基、４−トリル基、または3，5−キシリル基；
ｂ）R1およびR2がメチル基であり、R3およびR4が水素であり、R5、R6、R7およびR8が互いに同一で４−トリル基、または3，5−キシリル基、または、
ｃ）R1およびR2がフェニル基であり、R3およびR4が互いに同一または異なっていてもよい、水素または炭素数１から３の炭化水素基であり、R5、R6、R7およびR8が互いに同一であって、フェニル基、４−トリル基、または3，5−キシリル基
のいずれかで表されることを特徴とする、前記製造方法に関する。
さらにまた、本発明は、アルコール化合物の製造方法であって、一般式（２）
ＲｕＸＹＡＢ      （２）
（XおよびYは互いに同一または異なっていてもよい、水素またはアニオン基を示し、Ａは、下記一般式（３）
【化１８】
0003566955.tif 000007
（式中、R1およびR2は、互いに同一または異なっていてもよい、置換基を有してもよい鎖状または環状である、炭素数1から20の炭化水素基であり、R3およびR4は互いに同一または異なっていてもよい、水素、炭素数1から3の炭化水素基であり、R5、R6、R7およびR8は、互いに同一または異なっていてもよい、置換基を有してもよい炭素数１から３０の炭化水素基。）で表される化合物であり、Ｂは、下記一般式（４）
【化１９】
0003566955.tif 000008
（式中、R9、R10、R11およびR12は、互いに同一または異なっていてもよい、水素原子、置換基を有していてもよい鎖状または環状である、炭素数１から３０の炭化水素基を示し、これらの基のうち少なくとも一つは水素原子であり、R13、R14、R15およびR16は、互いに同一または異なっていてもよい、水素原子、置換基を有していてもよい鎖状または環状である、炭素数１から３０の炭化水素基を示し、Zは置換基を有してもよい鎖状または環状である、炭素数1から10の炭化水素基または単結合。）で表される化合物。）で表されるルテニウム錯体および塩基（アルカリ金属もしくはアルカリ土類金属の塩または四級アンモニウム塩）の存在下において、カルボニル化合物を水素または水素を供与する化合物と反応させて還元することによって、アルコール化合物を製造する工程を含むことを特徴とする、前記製造方法に関する。
【００１９】
そして本発明は、R1からR16、化合物Ａおよび化合物Ｂが下記ａ）からｃ）：
ａ）R5、R6、R7およびR8がいずれもフェニル基（ただし、R13および R15が水素原子、R14およびR16がフェニル基であり、Zが単結合である場合には、R9、R10、R11およびR12の少なくとも１つは水素ではない）；
ｂ）R5、R6、R7およびR8がいずれもフェニル基であり、R9、R10、R11、R12およびR13がいずれも水素であり、かつR14がイソプロピル基、R15およびR16が4-メトキシフェニル基であり、Zが単結合であるか、または
ｃ）化合物Ａが、TolSKEWPHOS：２，４−ビス−（ジ−４−トリルホスフィノ）ペンタン、XylSKEWPHOS：２，４−ビス−（ジ−３,５−キシリルホスフィノ）ペンタン、２，４−ビス−（ジフェニルホスフィノ）−３−メチルペンタン、２，４−ビス−（ジ−４−トリルホスフィノ）−３−メチルペンタン、２，４−ビス−（ジ−３,５−キシリルホスフィノ）−３−メチルペンタン、１，３−ビス−（ジフェニルホスフィノ）−１，３−ジフェニルプロパン、１，３−ビス−（ジ−４−トリルホスフィノ）−１，３−ジフェニルプロパン、１，３−ビス−（ジ−３,５−キシリルホスフィノ）−１，３−ジフェニルプロパン、１，３−ビス−（ジフェニルホスフィノ）−１，３−ジフェニル−２−メチルプロパン、１，３−ビス−（ジ−４−トリルホスフィノ）−１，３−ジフェニル−２−メチルプロパンまたは１，３−ビス−（ジ−３,５−キシリルホスフィノ）−１，３−ジフェニル−２−メチルプロパンであり、化合物Ｂが、ジフェニルエチレンジアミン、または1−イソプロピル−2，2−ジ(ｐ−メトキシフェニル)エチレンジアミン
のいずれかで表されることを特徴とする、前記製造方法に関する。
【００２０】
そしてまた、本発明は、一般式（１）
【化２０】
0003566955.tif 000009
（ＸおよびＹは互いに同一または異なっていてもよい、水素またはアニオン基を示し、Ｒ１およびＲ２は、互いに同一または異なっていてもよい、置換基を有してもよい鎖状または環状である、炭素数１から２０の炭化水素基であり、Ｒ３およびＲ４は互いに同一または異なっていてもよい、水素または炭素数１から３の炭化水素基であり、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７およびＲ８は、互いに同一または異なっていてもよい、置換基を有してもよい炭素数１から３０の炭化水素基を示す。ただし、ＸおよびＹが臭素であり、Ｒ１およびＲ２がメチル基であり、Ｒ３およびＲ４が水素である場合、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７およびＲ８の少なくとも１つはフェニル基ではない。）で表される光学活性ルテニウム錯体を製造するための方法であって、下記一般式（５）
ＲｕＸＹ    （５）
（ＸおよびＹは互いに同一または異なっていてもよい、水素またはアニオン基を示す。）で表される化合物と、下記一般式（３）
【化２１】
0003566955.tif 000010
（式中、Ｒ１およびＲ２は、互いに同一または異なっていてもよい、置換基を有してもよい鎖状または環状である、炭素数１から２０の炭化水素基であり、Ｒ３およびＲ４は互いに同一または異なっていてもよい、水素、炭素数１から３の炭化水素基であり、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７およびＲ８は、互いに同一または異なっていてもよい、置換基を有してもよい炭素数１から３０の炭化水素基。）で表される化合物とを反応させることによって前記一般式（１）で表される化合物を得る工程を含むことを特徴とする、前記方法に関する。
【００２１】
また、本発明は、一般式（２）
ＲｕＸＹＡＢ      （２）
（ＸおよびＹは互いに同一または異なっていてもよい、水素またはアニオン基を示し、Ａは、下記一般式（３）
【化２２】
0003566955.tif 000011
（式中、Ｒ１およびＲ２は、互いに同一または異なっていてもよい、置換基を有してもよい鎖状または環状である、炭素数１から２０の炭化水素基であり、Ｒ３およびＲ４は互いに同一または異なっていてもよい、水素、炭素数１から３の炭化水素基であり、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７およびＲ８は、互いに同一または異なっていてもよい、置換基を有してもよい炭素数１から３０の炭化水素基。）で表される化合物であり、Ｂは、下記一般式（４）
【化２３】
0003566955.tif 000012
（式中、Ｒ９、Ｒ１０、Ｒ１１およびＲ１２は、互いに同一または異なっていてもよい、水素原子、置換基を有していてもよい鎖状または環状である、炭素数１から３０の炭化水素基を示し、これらの基のうち少なくとも一つは水素原子であり、Ｒ１３、Ｒ１４、Ｒ１５およびＲ１６は、互いに同一または異なっていてもよい、水素原子、置換基を有していてもよい鎖状または環状である、炭素数１から３０の炭化水素基を示し、Ｚは置換基を有してもよい鎖状または環状である、炭素数１から１０の炭化水素基または単結合。）で表される化合物。）で表されるルテニウム錯体を製造するための方法であって、下記一般式（１）
【化２４】
0003566955.tif 000013
（式中、各記号はそれぞれ前記と同様の意味を表す。）で表される化合物と、前記化合物Ｂとを反応させることによって、前記一般式（２）で表される化合物を得る工程を含むことを特徴とする、前記方法に関する。
【００２２】
前記軸不斉ジホスフィン化合物、リン原子上に不斉を有するジホスフィン化合物および炭素上に不斉を有するジホスフィン化合物の例を下記に示す。
軸不斉ジホスフィン化合物
【化２５】
0003566955.tif 000014
【００２３】
炭素上に不斉をもつジホスフィン化合物
【化２６】
0003566955.tif 000015
【００２４】
光学活性ジアミン化合物の一つの例を下記に示す。
【化２７】
0003566955.tif 000016
【００２５】
ここで使用する略号の意味は下記の通りである。
ＢＩＣＰ        ビス（ジフェニルホスフィノ）ジシクロペンタン
ＢＩＮＡＰ        ２，２’−ビス（ジフェニルホスフィノ）−１，１’−ビナフチル
ＣＨＩＲＡＰＨＯＳ    ２，３−ビス（ジフェニルホスフィノ）ブタン
ＤＩＯＰ        ４，５−ビス（ジフェニルホスフィノメチル）−２，２−ジメチル−１，３−ジオキソラン
ＤＰＥＮ        １，２−ジフェニルエチレンジアミン
ＰＨＡＮＥＰＨＯＳ    ４，１２−ビス（ジフェニルホスフィノ）−［２．２］パラシクロファン
ＳＫＥＷＰＨＯＳ    ２，４−ビス（ジフェニルホスフィノ）ペンタン
ＴｏｌＢＩＮＡＰ    ２，２’−ビス（ジ−ｐ−トリルホスフィノ）−１，１’−ビナフチル
ＸｙｌＢＩＮＡＰ    ２，２’−ビス［ビス（３、５−ジメチルフェニル）ホスフィノ）］−１，１’−ビナフチル
【００２６】
以上のとおり、触媒として使用する一般式（１）に示したルテニウム錯体と光学活性ジアミン化合物と塩基の３成分は、不斉水素化反応が円滑に進行し、高い不斉収率を達成するためには必要不可欠の成分であり、１成分たりとも不足すると十分な反応活性で高い光学純度の光学活性アルコールは得られない。
さらに、本発明は、カルボニル化合物を、一般式（２）に示したルテニウム錯体触媒と、塩基（アルカリ金属またはアルカリ土類金属の塩もしくは四級アンモニウム塩）の存在下に、水素あるいは水素を供与する化合物と反応させて還元し、光学活性アルコール化合物を製造する方法をも提供する。
以上のとおり、触媒として使用する一般式（２）に示したルテニウム錯体と塩基の２成分は、不斉水素化反応が円滑に進行し、高い不斉収率を達成するために不可欠の成分であり、いずれか１成分が欠如しても十分な反応活性による高い光学純度の光学活性アルコールは得られない。
【００２７】
【発明の実施の形態】
この出願の発明は上記のとおりの特長を有するが、以下にさらに詳しくその実施の形態について説明する。
【００２８】
まず、本発明のルテニウム錯体を表す一般式（１）
【化２８】
0003566955.tif 000017
において、置換基Ｘ  およびＹは同じでも異なってもよく、水素原子、またはアニオン基を示す。該アニオン基としてはハロゲン原子やカルボキシル基が好適であるが、その他各種のものであってよく、例えばアルコキシ基、ヒドロキシ基などが例示される。好適なものとして水素原子、ハロゲン原子、アセトキシ基が挙げられ、特に好適にはハロゲン原子である。
【００２９】
そして、一般式（１）で表される本発明の光学活性ルテニウム錯体中の光学活性ジホスフィン化合物は、次式（３）で示される。
【化２９】
0003566955.tif 000018
【００３０】
ここで、Ｒ１およびＲ２は、互いに同一または異なっていてもよい、置換基を有してもよい鎖状または環状である、炭素数１から２０の炭化水素基であり、Ｒ３およびＲ４は互いに同一または異なっていてもよい、水素、炭素数１から３の炭化水素基であり、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７およびＲ８は、互いに同一または異なっていてもよい、置換基を有してもよい炭素数１から３０の炭化水素基を示す。
【００３１】
ここで、置換基を有してもよい鎖状または環状である、炭素数１から２０の炭化水素基であるＲ１およびＲ２は、脂肪族、脂環族の飽和または不飽和の炭化水素基、単環または多環の芳香族もしくは芳香脂肪族の炭化水素基、あるいは置換基をもつこれら炭化水素基の各種のものであってよい。例えば、アルキル、アルケニル、シクロアルキル、シクロアルケニル、フェニル、ナフチル、フェニルアルキルなどの炭化水素基とこれら炭化水素基に更にアルキル、アルケニル、シクロアルキル、アリール、アルコキシ、エステル、アシルオキシ、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基などの許容される各種の置換基を有するものが挙げられる。これらのうち好適なものはメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基および置換または無置換のフェニル基であり、特に好適なものはメチル基、フェニル基である。
【００３２】
また、炭素数１から３の炭化水素基であるＲ３およびＲ４は脂肪族の飽和炭化水素基である。具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基等が好適である。
【００３３】
ここで、同じかもしくは異なっていてもよく、水素原子または置換基を有していてもよい炭素数１から３０の炭化水素基であるＲ５、Ｒ６、Ｒ７およびＲ８は、脂肪族、脂環族の飽和または不飽和の炭化水素基、単環または多環の芳香族もしくは芳香脂肪族の炭化水素基、あるいは置換基をもつこれら炭化水素基の各種のものであってよい。例えば、アルキル、アルケニル、シクロアルキル、シクロアルケニル、フェニル、ナフチル、フェニルアルキルなどの炭化水素基とこれら炭化水素基に更にアルキル、アルケニル、シクロアルキル、アリール、アルコキシ、エステル、アシルオキシ、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基などの許容される各種の置換基を有するものが挙げられる。これらのうち好適なものはフェニル基および置換フェニル基であり、特に好適なものはフェニル基およびメチル基、エチル基またはプロピル基が１から５個置換した置換フェニル基である。
【００３４】
一般式（３）で表される光学活性ジホスフィン化合物の例としては、以下のものが挙げられる。
［１］２位、４位にジフェニルホスフィノ基を有するペンタン誘導体としては、３位に炭素数１から３の１個または２個のアルキル基置換基を有するか、又はアルキル基置換基を有しない、ＳＫＥＷＰＨＯＳ：２，４−ビス−（ジフェニルホスフィノ）ペンタン、２，４−ビス−（ジフェニルホスフィノ）−３−メチルペンタン、２，４−ビス−（ジフェニルホスフィノ）−３，３−ジメチルペンタン、２，４−ビス−（ジフェニルホスフィノ）−３−エチルペンタン、２，４−ビス−（ジフェニルホスフィノ）−３，３−ジエチルペンタン、２，４−ビス−（ジフェニルホスフィノ）−３−プロピルペンタン、２，４−ビス−（ジフェニルホスフィノ）−３，３−ジプロピルペンタン、２，４−ビス−（ジフェニルホスフィノ）−３−イソプロピルペンタン、２，４−ビス−（ジフェニルホスフィノ）−３，３−ジイソプロピルペンタン、２，４−ビス−（ジフェニルホスフィノ）−３−エチル−３−メチルペンタン、２，４−ビス−（ジフェニルホスフィノ）−３−メチル−３−プロピルペンタン、２，４−ビス−（ジフェニルホスフィノ）−３−メチル−３−イソプロピルペンタン、２，４−ビス−（ジフェニルホスフィノ）−３−エチル−３−プロピルペンタン、２，４−ビス−（ジフェニルホスフィノ）−３−エチル−３−イソプロピルペンタン、２，４−ビス−（ジフェニルホスフィノ）−３−プロピル−３−イソプロピルペンタンなどが例示される。
【００３５】
［２］２位、４位にジ−４−トリルホスフィノ基を有するペンタン誘導体としては、３位に炭素数１から３の１個または２個のアルキル基置換基を有するか、又はアルキル基置換基を有しない、ＴｏｌＳＫＥＷＰＨＯＳ：２，４−ビス−（ジ−４−トリルホスフィノ）ペンタン、２，４−ビス−（ジ−４−トリルホスフィノ）−３−メチルペンタン、２，４−ビス−（ジ−４−トリルホスフィノ）−３，３−ジメチルペンタン２，４−ビス−（ジ−４−トリルホスフィノ）−３−エチルペンタン、２，４−ビス−（ジ−４−トリルホスフィノ）−３，３−ジエチルペンタン、２，４−ビス−（ジ−４−トリルホスフィノ）−３−プロピルペンタン、２，４−ビス−（ジ−４−トリルホスフィノ）−３，３−ジプロピルペンタン、２，４−ビス−（ジ−４−トリルホスフィノ）−３−イソプロピルペンタン、２，４−ビス−（ジ−４−トリルホスフィノ）−３，３−ジイソプロピルペンタン、２，４−ビス−（ジ−４−トリルホスフィノ）−３−エチル−３−メチルペンタン、２，４−ビス−（ジ−４−トリルホスフィノ）−３−メチル−３−プロピルペンタン、２，４−ビス−（ジ−４−トリルホスフィノ）−３−メチル−３−イソプロピルペンタン、２，４−ビス−（ジ−４−トリルホスフィノ）−３−エチル−３−プロピルペンタン、２，４−ビス−（ジ−４−トリルホスフィノ）−３−エチル−３−イソプロピルペンタン、２，４−ビス−（ジ−４−トリルホスフィノ）−３−プロピル−３−イソプロピルペンタンなどが例示される。
【００３６】
［３］２位、４位にジ−３，５−キシリルホスフィノ基を有するペンタン誘導体としては、３位に炭素数１から３の１個または２個のアルキル基置換基を有するか、又はアルキル基置換基を有しない、ＸｙｌＳＫＥＷＰＨＯＳ：２，４−ビス−（ジ−３，５−キシリルホスフィノ）ペンタン、２，４−ビス−（ジ−３，５−キシリルホスフィノ）−３−メチルペンタン、２，４−ビス−（ジ−３，５−キシリルホスフィノ）−３，３−ジメチルペンタン、２，４−ビス−（ジ−３，５−キシリルホスフィノ）−３−エチルペンタン、２，４−ビス−（ジ−３，５−キシリルホスフィノ）−３，３−ジエチルペンタン、２，４−ビス−（ジ−３，５−キシリルホスフィノ）−３−プロピルペンタン、２，４−ビス−（ジ−３，５−キシリルホスフィノ）−３，３−ジプロピルペンタン、２，４−ビス−（ジ−３，５−キシリルホスフィノ）−３−イソプロピルペンタン、２，４−ビス−（ジ−３，５−キシリルホスフィノ）−３，３−ジイソプロピルペンタン、２，４−ビス−（ジ−３，５−キシリルホスフィノ）−３−エチル−３−メチルペンタン、２，４−ビス−（ジ−３，５−キシリルホスフィノ）−３−メチル−３−プロピルペンタン、２，４−ビス−（ジ−３，５−キシリルホスフィノ）−３−メチル−３−イソプロピルペンタン、２，４−ビス−（ジ−３，５−キシリルホスフィノ）−３−エチル−３−プロピルペンタン、２，４−ビス−（ジ−３，５−キシリルホスフィノ）−３−エチル−３−イソプロピルペンタン、２，４−ビス−（ジ−３，５−キシリルホスフィノ）−３−プロピル−３−イソプロピルペンタンなどが例示される。
【００３７】
［４］１位、３位にジフェニルホスフィノ基を有する１，３−ジフェニルプロパン誘導体としては、２位に炭素数１から３の１個または２個のアルキル基置換基を有する、１，３−ビス−（ジフェニルホスフィノ）−１，３−ジフェニル−２−メチルプロパン、１，３−ビス−（ジフェニルホスフィノ）−１，３−ジフェニル−２，２−ジメチルプロパン、１，３−ビス−（ジフェニルホスフィノ）−１，３−ジフェニル−２−エチルプロパン、１，３−ビス−（ジフェニルホスフィノ）−１，３−ジフェニル−２，２−ジエチルプロパン、１，３−ビス−（ジフェニルホスフィノ）−１，３−ジフェニル−２−プロピルプロパン、１，３−ビス−（ジフェニルホスフィノ）−１，３−ジフェニル−２，２−ジプロピルプロパン、１，３−ビス−（ジフェニルホスフィノ）−１，３−ジフェニル−２−イソプロピルプロパン、１，３−ビス−（ジフェニルホスフィノ）−１，３−ジフェニル−２，２−ジイソプロピルプロパン、１，３−ビス−（ジフェニルホスフィノ）−１，３−ジフェニル−２−エチル−２−メチルプロパン、１，３−ビス−（ジフェニルホスフィノ）−１，３−ジフェニル−２−メチル−２−プロピルプロパン、１，３−ビス−（ジフェニルホスフィノ）−１，３−ジフェニル−２−メチル−２−イソプロピルプロパン、１，３−ビス−（ジフェニルホスフィノ）−１，３−ジフェニル−２−エチル−２−プロピルプロパン１，３−ビス−（ジフェニルホスフィノ）−１，３−ジフェニル−２−エチル−２−イソプロピルプロパン、１，３−ビス−（ジフェニルホスフィノ）−１，３−ジフェニル−２−プロピル−２−イソプロピルプロパンなどが例示される。
【００３８】
［５］１位、３位にジ−４−トリルホスフィノ基を有する１，３−ジフェニルプロパン誘導体としては、２位に炭素数１から３の１個または２個のアルキル基置換基を有するか、又はアルキル基置換基を有しない、１，３−ビス−（ジ−４−トリルホスフィノ）−１，３−ジフェニルプロパン、１，３−ビス−（ジ−４−トリルホスフィノ）−１，３−ジフェニル−２−メチルプロパン、１，３−ビス−（ジ−４−トリルホスフィノ）−１，３−ジフェニル−２，２−ジメチルプロパン、１，３−ビス−（ジ−４−トリルホスフィノ）−１，３−ジフェニル−２−エチルプロパン、１，３−ビス−（ジ−４−トリルホスフィノ）−１，３−ジフェニル−２，２−ジエチルプロパン、１，３−ビス−（ジ−４−トリルホスフィノ）−１，３−ジフェニル−２−プロピルプロパン、１，３−ビス−（ジ−４−トリルホスフィノ）−１，３−ジフェニル−２，２−ジプロピルプロパン、１，３−ビス−（ジ−４−トリルホスフィノ）−１，３−ジフェニル−２−イソプロピルプロパン、１，３−ビス−（ジ−４−トリルホスフィノ）−１，３−ジフェニル−２，２−ジイソプロピルプロパン、１，３−ビス−（ジ−４−トリルホスフィノ）−１，３−ジフェニル−２−エチル−２−メチルプロパン、１，３−ビス−（ジ−４−トリルホスフィノ）−１，３−ジフェニル−２−メチル−２−プロピルプロパン、１，３−ビス−（ジ−４−トリルホスフィノ）−１，３−ジフェニル−２−メチル−２−イソプロピルプロパン、１，３−ビス−（ジ−４−トリルホスフィノ）−１，３−ジフェニル−２−エチル−２−プロピルプロパン、１，３−ビス−（ジ−４−トリルホスフィノ）−１，３−ジフェニル−２−エチル−２−イソプロピルプロパン、１，３−ビス−（ジ−４−トリルホスフィノ）−１，３−ジフェニル−２−プロピル−２−イソプロピルプロパンなどを例示する。
【００３９】
［６］１位、３位にジ−３，５−キシリルホスフィノ基を有する１，３−ジフェニルプロパン誘導体としては、２位に炭素数１から３の１個または２個のアルキル基置換基を有するか、又はアルキル基置換基を有しない、１，３−ビス−（ジ−３，５−キシリルホスフィノ）−１，３−ジフェニルプロパン、１，３−ビス−（ジ−３，５−キシリルホスフィノ）−１，３−ジフェニル−２−メチルプロパン、１，３−ビス−（ジ−３，５−キシリルホスフィノ）−１，３−ジフェニル−２，２−ジメチルプロパン、１，３−ビス−（ジ−３，５−キシリルホスフィノ）−１，３−ジフェニル−２−エチルプロパン、１，３−ビス−（ジ−３，５−キシリルホスフィノ）−１，３−ジフェニル−２，２−ジエチルプロパン、１，３−ビス−（ジ−３，５−キシリルホスフィノ）−１，３−ジフェニル−２−プロピルプロパン、１，３−ビス−（ジ−３，５−キシリルホスフィノ）−１，３−ジフェニル−２，２−ジプロピルプロパン、１，３−ビス−（ジ−３，５−キシリルホスフィノ）−１，３−ジフェニル−２−イソプロピルプロパン、１，３−ビス−（ジ−３，５−キシリルホスフィノ）−１，３−ジフェニル−２，２−ジイソプロピルプロパン、１，３−ビス−（ジ−３，５−キシリルホスフィノリル）−１，３−ジフェニル−２−エチル−２−メチルプロパン、１，３−ビス−（ジ−３，５−キシリルホスフィノ）−１，３−ジフェニル−２−メチル−２−プロピルプロパン、１，３−ビス−（ジ−３，５−キシリルホスフィノ）−１，３−ジフェニル−２−メチル−２−イソプロピルプロパン、１，３−ビス−（ジ−３，５−キシリルホスフィノ）−１，３−ジフェニル−２−エチル−２−プロピルプロパン、１，３−ビス−（ジ−３，５−キシリルホスフィノ）−１，３−ジフェニル−２，２−エチル−イソプロピルプロパン、１，３−ビス−（ジ−３，５−キシリルホスフィノ）−１，３−ジフェニル−２−プロピル−２−イソプロピルプロパンなどが例示される。
特にＳＫＥＷＰＨＯＳ、ＴｏｌＳＫＥＷＰＨＯＳおよびＸｙｌＳＫＥＷＰＨＯＳが好適である。しかし、もちろん本発明に用いることのできる光学活性ジホスフィン化合物は、これらに何ら限定されるものではない。
【００４０】
一般式（１）で示される光学活性ルテニウム錯体は、反応試剤である有機化合物を１ないし複数個含む場合がある。ここで、有機化合物は配位性の有機溶媒を示し、例えば、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素溶媒、ペンタン、ヘキサンなどの脂肪族炭化水素溶媒、塩化メチレンなどのハロゲン含有炭化水素溶媒、エーテル、テトラヒドロフランなどのエーテル系溶媒、メタノール、エタノール、２−プロパノール、ブタノール、ベンジルアルコールなどのアルコール系溶媒、アセトン、メチルエチルケトン、シクロへキシルケトンなどのケトン系溶媒、アセトニトリル、ＤＭＦ（ジメチルホルムアミド）、Ｎ−メチルピロリドン、ＤＭＳＯ（ジメチルスルホキシド）、トリエチルアミンなどヘテロ原子を含む有機溶媒などが例示される。
【００４１】
次に、本発明のルテニウム錯体を表す一般式（２）
ＲｕＸＹＡＢ            （２）
は、下記一般式（３）で表わされる光学活性ジホスフィン化合物
【化３０】
0003566955.tif 000019
と下記一般式（４）で表わされる光学活性ジアミン化合物
【化３１】
0003566955.tif 000020
を持つが、置換基Ｘ、Ｙ、および光学活性ジホスフィン化合物（３）は、一般式（１）と同様のもののうちから適宜に選択されたものであってよい。
【００４２】
一般式（２）で表される光学活性ルテニウム錯体の光学活性ジアミン化合物（４）においては、Ｒ９、Ｒ１０、Ｒ１１およびＲ１２は、互いに同一または異なっていてもよい、水素原子、置換基を有していてもよい鎖状または環状の炭素数１から３０の炭化水素基を示し、これらの基のうちの少なくとも一つは水素原子であり、Ｒ１３、Ｒ１４、Ｒ１５およびＲ１６は、互いに同一または異なっていてもよい、水素原子、置換基を有していてもよい鎖状または環状の炭素数１から３０の炭化水素基を示し、Ｚは置換基を有してもよい鎖状または環状の炭素数１から１０の炭化水素基または単結合を示す。ここで、前記の少なくとも一つの水素原子、置換基を有してもよい鎖状または環状の炭素数１から３０の炭化水素基であるＲ９、Ｒ１０、Ｒ１１およびＲ１２は、水素原子、脂肪族、脂環族の飽和または不飽和の炭化水素基、単環または多環の芳香族もしくは芳香脂肪族の炭化水素基、あるいは置換基をもつこれら炭化水素基の各種のものであってよい。
【００４３】
例えば、水素原子、アルキル、アルケニル、シクロアルキル、シクロアルケニル、フェニル、ナフチル、フェニルアルキルなどの炭化水素基とこれら炭化水素基に更にアルキル、アルケニル、シクロアルキル、アリール、アルコキシ、エステル、アシルオキシ、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基などの許容される各種の置換基を有するものが挙げられる。
【００４４】
これらのうち好適なものはＲ９とＲ１１が水素原子、Ｒ１０とＲ１２がアルキル基、フェニル基、フェニルアルキル基であり、特に好適なものは全てが水素原子である。ここで、前記の水素原子、置換基を有してもよい鎖状または環状の炭素数１から３０の炭化水素基であるＲ１３、Ｒ１４、Ｒ１５およびＲ１６は、水素原子、脂肪族、脂環族の飽和または不飽和の炭化水素基、単環または多環の芳香族もしくは芳香脂肪族の炭化水素基、あるいは置換基をもつこれら炭化水素基の各種のものであってよい。
【００４５】
例えば、アルキル、アルケニル、シクロアルキル、シクロアルケニル、フェニル、ナフチル、フェニルアルキルなどの炭化水素基とこれら炭化水素基に更にアルキル、アルケニル、シクロアルキル、アリール、アルコキシ、エステル、アシルオキシ、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基などの許容される各種の置換基を有するものが挙げられる。これらのうち好適なものは水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基および置換フェニル基であり、特に好適なものは水素原子、イソプロピル基、フェニル基、４−メトキシフェニル基である。
【００４６】
また、一般式（４）
【化３２】
0003566955.tif 000021
で表される光学活性ジアミン化合物は、ＤＰＥＮ：１，２−ジフェニルエチレンジアミン、１，２−シクロヘキサンジアミン、１，２−シクロヘプタンジアミン、２，３−ジメチルブタンジアミン、１−メチル−２，２−ジフェニルエチレンジアミン、１−イソブチル−２，２−ジフェニルエチレンジアミン、１−イソプロピル−２，２−ジフェニルエチレンジアミン、１−メチル−２，２−ジ（ｐ−メトキシフェニル）エチレンジアミン、１−イソブチル−２，２−ジ（ｐ−メトキシフェニル）エチレンジアミン、  ＤＡＩＰＥＮ：１−イソプロピル−２，２−ジ（ｐ−メトキシフェニル）エチレンジアミン、１−ベンジル−２，２−ジ（ｐ−メトキシフェニル）エチレンジアミン、１−メチル−２，２−ジナフチルエチレンジアミン、１−イソブチル−２，２−ジナフチルエチレンジアミン、１−イソプロピル−２，２−ジナフチルエチレンジアミン、などが例示される。特に、ＤＰＥＮおよびＤＡＩＰＥＮが好適である。
【００４７】
さらに用いることのできる光学活性ジアミン化合物は、例示した光学活性エチレンジアミン誘導体に限るものではなく光学活性なプロパンジアミン、ブタンジアミン、フェニレンジアミン、シクロヘキサンジアミン誘導体等を用いることができる。
【００４８】
一般式（１）で表される光学活性ルテニウム錯体の合成は、光学活性ジホスフィン化合物と、原料であるルテニウム錯体と反応させることにより行うことができる。また、一般式（２）で表されるルテニウム錯体の合成は、一般式（１）で表される光学活性ルテニウム錯体と、光学活性ジアミン化合物と反応させることにより行うことができる。
【００４９】
錯体合成のための出発物質であるルテニウム錯体には、０価、１価、２価、３価及びさらに高原子価のルテニウム錯体を用いることができる。０価、および１価のルテニウム錯体を用いた場合には、最終段階までにルテニウムの酸化が必要である。２価の錯体を用いた場合には、ルテニウム錯体と光学活性ジホスフィン化合物、及び、光学活性ジアミン化合物を順次もしくは逆の順で、または、同時に反応することで合成できる。３価、及び４価以上のルテニウム錯体を出発原料に用いた場合には、最終段階までに、ルテニウムの還元が必要である。
【００５０】
出発原料となるルテニウム錯体としては、塩化ルテニウム（ＩＩＩ）水和物、臭化ルテニウム（ＩＩＩ）水和物、沃化ルテニウム（ＩＩＩ）水和物等の無機ルテニウム化合物、［２塩化ルテニウム（ノルボルナジエン）］多核体、［２塩化ルテニウム（シクロオクタ−１，５−ジエン）］多核体、ビス（メチルアリル）ルテニウム（シクロオクタ−１，５ジエン）等のジエンが配位したルテニウム化合物、［２塩化ルテニウム（ベンゼン）］多核体、［２塩化ルテニウム（ｐ−シメン）］多核体、［２塩化ルテニウム（トリメチルベンゼン）］多核体、［２塩化ルテニウム（ヘキサメチルベンゼン）］多核体、等の芳香族化合物が配位したルテニウム錯体、また、ジクロロトリス（トリフェニルホスフィン）ルテニウム等のホスフィンが配位した錯体等が用いられる。その他、光学活性ジホスフィン化合物、光学活性ジアミン化合物と置換可能な配位子を有するルテニウム錯体であれば、特に、上記に限定されるものではない。例えば、ＣＯＭＰＲＥＨＥＮＳＩＶＥ  ＯＲＧＡＮＯＭＥＴＡＬＬＩＣ  ＣＨＥＭＩＳＴＲＹ  ＩＩ  ７巻  ｐ２９４−２９６（ＰＥＲＧＡＭＯＮ）に示された、種々のルテニウム錯体を出発原料として用いることができる。
【００５１】
３価のルテニウム錯体を出発原料として用いる場合には、例えば、ハロゲン化ルテニウム（ＩＩＩ）を過剰のホスフィンと反応することにより、ホスフィン−ルテニウムハライド錯体を合成することができる。次いで得られたホスフィン−ルテニウムハライド錯体を、アミンと反応することにより、目的とするアミン−ホスフィン−ルテニウムハライド錯体を得ることができる。例えば、この合成については、一例だけ文献［Ｊ．Ｍｏｌ．Ｃａｔ．，１５，  ２９７（１９８２）］に記述がある。
【００５２】
すなわち、Ｉｎｏｒｇ，Ｓｙｎｔｈ．，  ｖｏｌ  １２，  ２３７（１９７０）記載の方法により合成されたＲｕＣｌ２（ＰＰｈ３）３をベンゼン中、エチレンジアミンと反応させて、  ＲｕＣｌ２（ＰＰｈ３）２（ｅｎ）が得られている（ただし収率の記載がない）。ただ、この方法では、反応が不均一系であり、未反応の原料が残存する傾向が見られる。一方、反応溶媒を塩化メチレン、クロロホルム等の溶媒に変更する場合には、反応を均一状態で行うことができ、操作性が向上する。
【００５３】
ハロゲン化ルテニウムとホスフィン配位子との反応は、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素溶媒、ペンタン、ヘキサンなどの脂肪族炭化水素溶媒、塩化メチレンなどのハロゲン含有炭化水素溶媒、エーテル、テトラヒドロフランなどのエーテル系溶媒、メタノール、エタノール、２−プロパノール。ブタノール、ベンジルアルコールなどのアルコール系溶媒、アセトニトリル、ＤＭＦ、Ｎ−メチルピロリドン、ＤＭＳＯなどヘテロ原子を含む有機溶剤中、反応温度−１００℃から２００℃の間で行われ、ホスフィン−ルテニウムハライド錯体を得ることができる。
【００５４】
得られたホスフィン−ルテニウムハライド錯体とアミン配位子との反応は、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素溶媒、ペンタン、ヘキサンなどの脂肪族炭化水素溶媒、塩化メチレンなどのハロゲン含有炭化水素溶媒、エーテル、テトラヒドロフランなどのエーテル系溶媒、メタノール、エタノール、２−プロパノール、ブタノール、ベンジルアルコールなどのアルコール系溶媒、アセトン、メチルエチルケトン、シクロへキシルケトンなどのケトン系溶媒、アセトニトリル、DMF、N-メチルピロリドン、DMSOなどヘテロ原子を含む有機溶剤中、反応温度−100℃から200℃の間で行われ、アミン−ホスフィン−ルテニウムハライド錯体を得ることができる。
【００５５】
一方、最初から二価のルテニウム錯体を用い、これと、ホスフィン化合物、アミン化合物を順次、もしくは逆の順で、または同時に、反応する方法も用いられる。一例として、[２塩化ルテニウム（ノルボルナジエン）]多核体、[２塩化ルテニウム（シクロオクタ−1，5−ジエン）]多核体、ビス（メチルアリル）ルテニウム（シクロオクタ−１，５−ジエン）等のジエンが配位したルテニウム化合物、または、[２塩化ルテニウム（ベンゼン）]ニ核体、[２塩化ルテニウム（ｐ−シメン）]ニ核体、[２塩化ルテニウム（トリメチルベンゼン）]ニ核体、[２塩化ルテニウム（ヘキサメチルベンゼン）]ニ核体等の芳香族化合物が配位したルテニウム錯体、また、ジクロロトリス（トリフェニルホスフィン）ルテニウム等のホスフィンが配位した錯体を、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素溶媒、ペンタン、ヘキサンなどの脂肪族炭化水素溶媒、塩化メチレンなどのハロゲン含有炭化水素溶媒、エーテル、テトラヒドロフランなどのエーテル系溶媒、メタノール、エタノール、２−プロパノール、ブタノール、ベンジルアルコールなどのアルコール系溶媒、アセトニトリル、DMF、N-メチルピロリドン、DMSOなどヘテロ原子を含む有機溶媒中、反応温度−100℃から200℃の間で、ホスフィン化合物と反応し、ホスフィン−ルテニウム−メチルアリル錯体を得ることができる。
【００５６】
得られたホスフィン−ルテニウムハライド錯体とアミン化合物の反応は、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素溶媒、ペンタン、ヘキサンなどの脂肪族炭化水素溶媒、塩化メチレンなどのハロゲン含有炭化水素溶媒、エーテル、テトラヒドロフランなどのエーテル系溶媒、メタノール、エタノール、２−プロパンノール、ブタノール、ベンジルアルコールなどのアルコール系溶媒、アセトニトリル、ＤＭＦ、Ｎ−メチルピロリドン、ＤＭＳＯなどヘテロ原子を含む有機溶媒中、反応温度−１００℃から２００℃の間で、アミン配位子と反応し、アミン−ホスフィン−ルテニウム錯体を得ることができる。また、同様の条件で、［クロロルテニウム（ＢＩＮＡＰ）（ベンゼン）］クロライドなどのカチオン性ルテニウム錯体をアミン配位子と反応させて、アミン−ホスフィン−ルテニウムハライド錯体を得ることができる。
【００５７】
例えば、以上のように合成できる一般式（１）、あるいは、一般式（２）で表されるルテニウム錯体を水素化触媒として用いる場合、その使用量は反応容器や経済性によって異なるが反応基質であるカルボニル化合物に対して１／１００から１／１，０００，０００用いることができ、好ましくは１／５００から１／１００，０００の範囲でとする。
【００５８】
一般式（１）で表される光学活性ルテニウム錯体は、Ｘ、Ｙが水素の場合は、塩基を添加することなしに、一般式（４）の光学活性ジアミン化合物を添加後、カルボニル化合物と混合して、水素圧をかけるか、または、水素供与体の存在下に攪拌する。これにより、カルボニル化合物の水素化を行うことができる。触媒に対してカルボニル化合物を大過剰に用いた場合には、塩基を添加した方が望ましい場合もある。一方、Ｘ、Ｙが、水素以外の基である場合には、塩基と一般式（４）の光学活性ジアミン化合物添加後、カルボニル化合物と混合して、水素圧をかけるか、または、水素供与体の存在下に攪拌することにより、カルボニル化合物の水素化を行うことが有効でもある。
【００５９】
以上のとおり、触媒として使用する一般式（１）に示したルテニウム錯体と一般式（４）の光学活性ジアミンと塩基の３成分は、不斉水素化反応が円滑に進行し、高い不斉収率を達成するためには必要不可欠の成分であり、１成分たりとも不足すると十分な反応活性で高い光学純度の光学活性アルコールは得られない。ここで用いられる光学活性ジアミン配位子の使用量は、一般式（１）で表されるルテニウム錯体に対し、０．５から２．５等量で好ましくは１から２等量である。
【００６０】
一般式（２）で表される光学活性ルテニウム錯体は、Ｘ、Ｙが水素の場合は、塩基を添加することなしに、カルボニル化合物と混合後、水素圧をかけるか、または、水素供与体の存在下に攪拌する。これにより、カルボニル化合物の水素化を行うことができる。触媒に対してカルボニル化合物を大過剰に用いた場合には、塩基を添加した方が望ましい場合もある。一方、Ｘ、Ｙが、水素以外の基である場合には、塩基存在下、カルボニル化合物と混合後、水素圧をかけるか、または、水素供与体の存在下に攪拌することにより、カルボニル化合物の水素化を行うことが有効でもある。
【００６１】
以上のとおり、触媒として使用する一般式（２）に示した光学活性ルテニウム錯体と塩基の２成分は、不斉水素化反応が円滑に進行し、高い不斉収率を達成するためには必要不可欠の成分であり、１成分たりとも不足すると十分な反応活性で高い光学純度の光学活性アルコールは得られない。
【００６２】
また、本発明に用いられる塩基は、ＫＯＨ、ＫＯＣＨ３、ＫＯＣＨ（ＣＨ３）２、ＫＯＣ  （ＣＨ３）３、ＫＣ１０Ｈ８、ＬｉＯＨ、ＬｉＯＣＨ３、ＬｉＯＣＨ（ＣＨ３）２、ＬｉＯＣ（ＣＨ３）３等のアルカリ金属、アルカリ土類金属の塩あるいは４級アンモニウム塩等が用いられる。添加する塩基の量は、アミン−ホスフィン−ルテニウム錯体または、ホスフィン−ルテニウム錯体に対し、０．５から１００等量、好ましくは、２から４０当量である。
【００６３】
また、水素供与体とは、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノールなどの低級アルコール、およびギ酸を示す。
溶媒の量は反応基質の溶解度および経済性により判断される。例えば、２−プロパノールの場合、基質濃度は、基質によっては１％以下の低濃度から無溶媒に近い状態で反応を行うことができるが、好ましくは２０から５０重量％で用いることが望ましい。
【００６４】
そして、本発明における水素の圧力は、本触媒系が極めて高活性であることから１気圧で十分であるが、経済性を考慮すると１から２００気圧の範囲で、好ましくは３から１００気圧の範囲が望ましいが、プロセス全体の経済性を考慮して５０気圧以下でも高い活性を維持することも可能である。
【００６５】
反応温度は経済性を考慮して１５℃から１００℃で行うことが好ましいが２５から４０℃の室温付近で反応を実施することができる。しかしながら本発明においては−３０から０℃の低温でも反応が進行することを特徴としている。反応時間は反応基質濃度、温度、圧力等の反応条件によって異なるが数分から数十時間で反応は完結する。実施例で具体的に例示する。
【００６６】
なお、一般式（１）および一般式（２）で表される光学活性ルテニウム錯体中の光学活性ジホスフィン化合物は、いずれも（＋）体または（−）体のいずれかとして得られるが、その表示は省略した。また、これらの（＋）体または（−）体のいずれかを選択することにより、所望する絶対位置の光学活性アルコール体を得ることができる。また、一般式（１）で表される光学活性ルテニウム錯体中のジホスフィン化合物の絶対構造と添加する光学活性ジアミン化合物の絶対構造の組み合わせ、および一般式（２）で表される光学活性ルテニウム錯体中のジホスフィン化合物の絶対構造とジアミン化合物の絶対構造の組み合わせが、高い光学収率を得るためには重要であり後述の比較例で示す。
【００６７】
【実施例】
本発明におけるカルボニル化合物の水素化反応は、バッチ式または連続式の反応形式のいずれにおいても実施することができる。以下に実施例を示し、本発明についてさらに詳しく説明する。但し、本発明は以下の実施例によって限定されるものではない。
代表例として用いる光学活性ジホスフィン、ジアミン化合物を以下に示す。
光学活性ジホスフィン化合物
【化３３】
0003566955.tif 000022
光学活性ジアミン化合物
【化３４】
0003566955.tif 000023
なお、下記の実施例においては、反応はすべてアルゴンガスまたは窒素ガス等の不活性ガス雰囲気下で行った。また、反応に使用した溶媒は、乾燥、脱気したものを用いた。カルボニル化合物の水素化の反応は、オートクレーブ中、水素を加圧して行った。
【００６８】
なお、以下の測定には次の機器を用いた。
0003566955.tif 000024
【００６９】
〔実施例１〕  ＲｕＢｒ２［（Ｓ，Ｓ）−Ｔｏｌｓｋｅｗｐｈｏｓ］［（Ｒ）−ｄａｉｐｅｎ］の合成
（１）Ｒｕ  ［（Ｓ，Ｓ）−Ｔｏｌｓｋｅｗｐｈｏｓ］（メチルアリル）２の合成
アルゴン置換した５０ｍｌシュレンク管に  （Ｓ，Ｓ）−ＴｏｌＳＫＥＷＰＨＯＳ（５６８ｍｇ，１．１４ｍｍｏｌ）、Ｒｕ（シクロオクタ−１，５−ジエン）（メチルアリル）２（３６５ｍｇ，１．１４ｍｍｏｌ）を仕込んだ。その後、ヘキサン７ｍｌを加え７０℃で５時間攪拌した。不溶物をガラスフィルターで濾過し、溶媒留去した。
（２）ＲｕＢｒ２  ［（Ｓ，Ｓ）−Ｔｏｌｓｋｅｗｐｈｏｓ］の合成
Ｒｕ  ［（Ｓ，Ｓ）−Ｔｏｌｓｋｅｗｐｈｏｓ］（メチルアリル）２錯体（２５０ｍｇ、０．３５ｍｍｏｌ）をアセトン２４ｍｌに溶解し、０．２Ｍ−ＨＢｒメタノール溶液（３．５ｍｌ、０．７ｍｍｏｌ）を加え、脱気を行い室温で３０分攪拌した。溶媒留去後、精製せずに次の反応に用いた。
【００７０】
（３）  ＲｕＢｒ２［（Ｓ，Ｓ）−Ｔｏｌｓｋｅｗｐｈｏｓ］［（Ｒ）−ｄａｉｐｅｎ］の合成
ＲｕＢｒ２  ［（Ｓ，Ｓ）−Ｔｏｌｓｋｅｗｐｈｏｓ］錯体（３１６ｍｇ、０．３５ｍｍｏｌ）に（Ｒ）−ＤＡＩＰＥＮ（１１５ｍｇ，０．３５ｍｍｏｌ）を仕込み、アルゴン置換した。次いで、ジメチルホルムアミド（１４ｍｌ）を加え、脱気を行い室温で一晩攪拌した。反応液をシリカゲルを詰めたガラスフィルターを通して濾過後、溶媒留去した。塩化メチレン／イソプロピルエーテルから再結晶しＲｕＢｒ２［（Ｓ，Ｓ）−Ｔｏｌｓｋｅｗｐｈｏｓ］［（Ｒ）−ｄａｉｐｅｎ］２４６ｍｇ（６６％収率）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲスペクトル（Ｃ６Ｄ６）：δ６．６５−７．８８（ｍ，２４Ｈ），５．２４（ｍ，１Ｈ），５．１８（ｍ，１Ｈ），３．９５（ｔ，１Ｈ），３．３８（ｓ，３Ｈ），３．２０（ｓ，３Ｈ），２．２４（ｓ，３Ｈ），２．１７（ｓ，３Ｈ），２．０５（ｓ，３Ｈ），２．０４（ｓ，３Ｈ），１．７１（ｂｒ，１Ｈ），１．３９（ｂｒ，２Ｈ），１．０７（ｄ，３Ｈ），１．０５（ｂｒ，１Ｈ），０．５３（ｄ，３Ｈ）、残り２Ｈ分のプロトンは他のピークに重なっており帰属できない。
【００７１】
〔実施例２〕
ＲｕＢｒ２［（Ｓ，Ｓ）−Ｔｏｌｓｋｅｗｐｈｏｓ］［（Ｒ）−ｄａｉｐｅｎ］（２．１ｍｇ，０．００２ｍｍｏｌ）を１００ｍｌのガラス製オートクレーブに仕込み、アルゴン置換後、アセトフェノン（２．３ｍｌ，２０ｍｍｏｌ）、０．０１Ｍ  ＫＯＣ（ＣＨ３）３／イソプロピルアルコール溶液（８ｍｌ，０．０８ｍｍｏｌ）を添加し、脱気アルゴン置換した。水素を９気圧まで仕込み反応を開始した（２５分後、変換率８６％）。反応液を１９時間攪拌後、反応圧力を常圧に戻し、反応液のガスクロマトグラフィーにより生成物であるフェネチルアルコールの定量と光学純度を求めた。反応基質はすべて消費され、生成物の収率は９９％以上であった。また、得られたフェネチルアルコールは、（Ｒ）−体が９３．８％ｅｅで生成していた。
【００７２】
〔比較例１〕
ＲｕＢｒ２［（Ｓ，Ｓ）−Ｔｏｌｓｋｅｗｐｈｏｓ］［（Ｒ）−ｄａｉｐｅｎ］の代わりにＲｕＣｌ２［（Ｒ）−ｂｉｎａｐ］［（Ｒ）−ｄａｉｐｅｎ］を触媒に用いる以外は実施例２と同様にアセトフェノンの水素化を行い、生成物であるフェネチルアルコールを得た。生成物の収率は９９％以上で、（Ｒ）−体が８５．０％ｅｅで生成していた。
【００７３】
〔比較例２〕
ＲｕＢｒ２［（Ｓ，Ｓ）−Ｔｏｌｓｋｅｗｐｈｏｓ］［（Ｒ）−ｄａｉｐｅｎ］の代わりにＲｕＢｒ２［（Ｓ，Ｓ）−Ｔｏｌｓｋｅｗｐｈｏｓ］［（Ｓ）−ｄａｉｐｅｎ］  を触媒に用いる以外は実施例２と同様にアセトフェノンの水素化を行い、生成物であるフェネチルアルコールを得た。生成物の収率は９９％以上で、（Ｒ）−体が９０．２％ｅｅで生成していた。
【００７４】
〔実施例３〕
ＲｕＢｒ２［（Ｓ，Ｓ）−Ｔｏｌｓｋｅｗｐｈｏｓ］［（Ｒ）−ｄａｉｐｅｎ］（２．１ｍｇ，０．００２ｍｍｏｌ）を１００ｍｌのガラス製オートクレーブに仕込み、アルゴン置換後、プロピオフェノン（２．７ｍｌ，２０ｍｍｏｌ）、０．０１Ｍ  ＫＯＣ（ＣＨ３）３／イソプロピルアルコール溶液（８ｍｌ，０．０８ｍｍｏｌ）を添加し、脱気アルゴン置換した。水素を９気圧まで仕込み反応を開始した（２０分後、変換率５０％）。反応液を１９時間攪拌後、反応圧力を常圧に戻し、反応液のガスクロマトグラフィーにより生成物である１−フェニル−１−プロパノールの定量と光学純度を求めた。反応基質はすべて消費され、生成物の収率は９９％以上であった。また、得られた１−フェニル−１−プロパノールは、（Ｒ）−体が９６．８％ｅｅで生成していた。
【００７５】
〔比較例３〕
ＲｕＢｒ２［（Ｓ，Ｓ）−Ｔｏｌｓｋｅｗｐｈｏｓ］［（Ｒ）−ｄａｉｐｅｎ］の代わりにＲｕＣｌ２［（Ｒ）−ｂｉｎａｐ］［（Ｒ）−ｄａｉｐｅｎ］を触媒に用いる以外は実施例３と同様にプロピオフェノンの水素化を行い、生成物である１−フェニル−１−プロパノールを得た。生成物の収率は９９％以上で、（Ｒ）−体が９１．５％ｅｅで生成していた。
【００７６】
〔比較例４〕
ＲｕＢｒ２［（Ｓ，Ｓ）−Ｔｏｌｓｋｅｗｐｈｏｓ］［（Ｒ）−ｄａｉｐｅｎ］の代わりにＲｕＢｒ２［（Ｓ，Ｓ）−Ｔｏｌｓｋｅｗｐｈｏｓ］［（Ｓ）−ｄａｉｐｅｎ］  を触媒に用いる以外は実施例３と同様にプロピオフェノンの水素化を行い、生成物である１−フェニル−１−プロパノールを得た。生成物の収率は９９％以上で、（Ｒ）−体が９３．２％ｅｅで生成していた。
【００７７】
〔実施例４〕  ＲｕＢｒ２［（Ｓ，Ｓ）−Ｘｙｌｓｋｅｗｐｈｏｓ］［（Ｓ，Ｓ）−ｄｐｅｎ］の合成
（１）Ｒｕ  ［（Ｓ，Ｓ）−Ｘｙｌｓｋｅｗｐｈｏｓ］（メチルアリル）２の合成
アルゴン置換した５０ｍｌシュレンク管に  （Ｓ，Ｓ）−ＸｙｌＳＫＥＷＰＨＯＳ（３０１ｍｇ，０．５４５ｍｍｏｌ）、Ｒｕ（シクロオクタ−１，５−ジエン）（メチルアリル）２（１７５ｍｇ，０．５４５ｍｍｏｌ）を仕込んだ。その後、ヘキサン１３ｍｌを加え７０℃で５時間攪拌した。不溶物をガラスフィルターで濾過し、溶媒留去した。
【００７８】
（２）ＲｕＢｒ２  ［（Ｓ，Ｓ）−Ｘｙｌｓｋｅｗｐｈｏｓ］の合成
Ｒｕ  ［（Ｓ，Ｓ）−Ｘｙｌｓｋｅｗｐｈｏｓ］（メチルアリル）２錯体（４６０ｍｇ、０．５４５ｍｍｏｌ）をアセトン２４ｍｌに溶解し、０．２Ｍ−ＨＢｒメタノール溶液（５．４５ｍｌ、１．０９０ｍｍｏｌ）を加え、脱気を行い室温で４０分攪拌した。溶媒留去後、精製せずに次の反応に用いた。
【００７９】
（３）ＲｕＢｒ２［（Ｓ，Ｓ）−Ｘｙｌｓｋｅｗｐｈｏｓ］［（Ｓ，Ｓ）−ｄｐｅｎ］の合成
ＲｕＢｒ２  ［（Ｓ，Ｓ）−Ｘｙｌｓｋｅｗｐｈｏｓ］錯体（６８０ｍｇ、０．８３０ｍｍｏｌ）に（Ｓ，Ｓ）−ＤＰＥＮ（１７７ｍｇ，０．８３４ｍｍｏｌ）を仕込み、アルゴン置換した。次いで、ジメチルホルムアミド（３５ｍｌ）を加え、脱気を行い室温で一晩攪拌した。反応液をシリカゲルを詰めたガラスフィルターを通して濾過後、溶媒留去した。塩化メチレン／イソプロピルエーテルから再結晶し、ＲｕＢｒ２［（Ｓ，Ｓ）−Ｘｙｌｓｋｅｗｐｈｏｓ］［（Ｓ，Ｓ）−ｄｐｅｎ］３９０ｍｇ（３４％収率）を得た。
３１Ｐ−ＮＭＲスペクトル（Ｃ６Ｄ６）：δ６６．１１（ｄ，Ｊ＝４３Ｈｚ），４２．８５（ｄ，Ｊ＝４３Ｈｚ）。
【００８０】
〔実施例５〕
ＲｕＢｒ２［（Ｓ，Ｓ）−Ｘｙｌｓｋｅｗｐｈｏｓ］［（Ｓ，Ｓ）−ｄｐｅｎ］（２．３ｍｇ，０．００２ｍｍｏｌ）を１００ｍｌのガラス製オートクレーブに仕込み、アルゴン置換後、アセトフェノン（２．３ｍｌ，２０ｍｍｏｌ）、０．０１Ｍ  ＫＯＣ（ＣＨ３）３／イソプロピルアルコール溶液（８ｍｌ，０．０８ｍｍｏｌ）を添加し、脱気アルゴン置換した。水素を９気圧まで仕込み反応を開始した（２５分後、変換率８６％）。反応液を１９時間攪拌後、反応圧力を常圧に戻し、反応液のガスクロマトグラフィーにより生成物であるフェネチルアルコールの定量と光学純度を求めた。反応基質はすべて消費され、生成物の収率は９９％以上であった。また、得られたフェネチルアルコールは、（Ｒ）−体が９５．０％ｅｅで生成していた。
【００８１】
〔比較例５〕
ＲｕＢｒ２［（Ｓ，Ｓ）−Ｘｙｌｓｋｅｗｐｈｏｓ］［（Ｓ，Ｓ）−ｄｐｅｎ］の代わりにＲｕＣｌ２［（Ｓ）−ｂｉｎａｐ］［（Ｓ，Ｓ）−ｄｐｅｎ］を触媒に用いる以外は実施例５と同様にアセトフェノンの水素化を行い、生成物であるフェネチルアルコールを得た。生成物の収率は９９％以上で、（Ｓ）−体が８２．０％ｅｅで生成していた。
【００８２】
〔実施例６〕  ＲｕＢｒ２［（Ｓ，Ｓ）−Ｘｙｌｓｋｅｗｐｈｏｓ］［（Ｒ）−ｄａｉｐｅｎ］の合成
実施例４で得られたＲｕＢｒ２  ［（Ｓ，Ｓ）−Ｘｙｌｓｋｅｗｐｈｏｓ］錯体（６７９ｍｇ、０．８３０ｍｍｏｌ）に（Ｒ）−ＤＡＩＰＥＮ（２６１ｍｇ，０．８３０ｍｍｏｌ）を仕込み、アルゴン置換した。次いで、ジメチルホルムアミド（３５ｍｌ）を加え、脱気を行い室温で一晩攪拌した。反応液をシリカゲルを詰めたガラスフィルターを通して濾過後、溶媒留去した。粗錯体をヘキサン洗浄し、ＲｕＢｒ２［（Ｓ，Ｓ）−Ｘｙｌｓｋｅｗｐｈｏｓ］［（Ｒ）−ｄａｉｐｅｎ］６４７ｍｇ（６９％）を得た。３１Ｐ−ＮＭＲスペクトル（Ｃ６Ｄ６）：δ３８．５５（ｄ，Ｊ＝３９Ｈｚ），３３．９３（ｄ，Ｊ＝３９Ｈｚ）
【００８３】
〔実施例７〕
ＲｕＢｒ２［（Ｓ，Ｓ）−Ｘｙｌｓｋｅｗｐｈｏｓ］［（Ｒ）−ｄａｉｐｅｎ］（２．３ｍｇ，０．００２ｍｍｏｌ）を１００ｍｌのガラス製オートクレーブに仕込み、アルゴン置換後、アセトフェノン（２．３ｍｌ，２０ｍｍｏｌ）、０．０１Ｍ  ＫＯＣ（ＣＨ３）３／イソプロピルアルコール溶液（８ｍｌ，０．０８ｍｍｏｌ）を添加し、脱気アルゴン置換した。水素を９気圧まで仕込み反応を開始した。反応液を５０分間攪拌後、反応圧力を常圧に戻し、反応液のガスクロマトグラフィーにより生成物であるフェネチルアルコールの定量と光学純度を求めた。反応基質はすべて消費され、生成物の収率は９９％以上であった。また、得られたフェネチルアルコールは、（Ｒ）−体が９８．３％ｅｅで生成していた。
【００８４】
〔比較例６〕
ＲｕＢｒ２［（Ｓ，Ｓ）−Ｘｙｌｓｋｅｗｐｈｏｓ］［（Ｒ）−ｄａｉｐｅｎ］の代わりにＲｕＣｌ２［（Ｒ）−ｂｉｎａｐ］［（Ｒ）−ｄａｉｐｅｎ］を触媒に用いる以外は実施例７と同様にアセトフェノンの水素化を行い、生成物であるフェネチルアルコールを得た。生成物の収率は９９％以上で、（Ｒ）−体が８５．０％ｅｅで生成していた。
【００８５】
〔比較例７〕
ＲｕＢｒ２［（Ｓ，Ｓ）−Ｘｙｌｓｋｅｗｐｈｏｓ］［（Ｒ）−ｄａｉｐｅｎ］の代わりにＲｕＢｒ２［（Ｓ，Ｓ）−Ｘｙｌｓｋｅｗｐｈｏｓ］［（Ｓ）−ｄａｉｐｅｎ］を触媒に用いる以外は実施例７と同様にアセトフェノンの水素化を行い、生成物であるフェネチルアルコールを得た。生成物の収率は９９％以上で、（Ｒ）−体が８２．６％ｅｅで生成していた。
【００８６】
〔実施例８〕
ＲｕＢｒ２［（Ｓ，Ｓ）−Ｘｙｌｓｋｅｗｐｈｏｓ］［（Ｒ）−ｄａｉｐｅｎ］（２．３ｍｇ，０．００２ｍｍｏｌ）を１００ｍｌのガラス製オートクレーブに仕込み、アルゴン置換後、４−メチル−アセトフェノン（２．３ｍｌ，２０ｍｍｏｌ）、０．０１Ｍ  ＫＯＣ（ＣＨ３）３／イソプロピルアルコール溶液（８ｍｌ，０．０８ｍｍｏｌ）を添加し、脱気アルゴン置換した。水素を９気圧まで仕込み反応を開始した（２時間後，変換率３０％）。反応液を２２時間攪拌後、反応圧力を常圧に戻し、反応液のガスクロマトグラフィーにより生成物である４−メチル−フェネチルアルコールの定量と光学純度を求めた。反応基質はすべて消費され、生成物の収率は９９％以上であった。また、得られた４−メチル−フェネチルアルコールは、（Ｒ）−体が９１．６％ｅｅで生成していた。
【００８７】
〔比較例８〕
ＲｕＢｒ２［（Ｓ，Ｓ）−Ｘｙｌｓｋｅｗｐｈｏｓ］［（Ｒ）−ｄａｉｐｅｎ］の代わりにＲｕＣｌ２［（Ｒ）−ｂｉｎａｐ］［（Ｒ）−ｄａｉｐｅｎ］を触媒に用いる以外は実施例８と同様に４−メチル−アセトフェノンの水素化を行い、生成物である４−メチル−フェネチルアルコールを得た。生成物の収率は９９％以上で、（Ｒ）−体が８５．７％ｅｅで生成していた。
【００８８】
〔比較例９〕
ＲｕＢｒ２［（Ｓ，Ｓ）−Ｘｙｌｓｋｅｗｐｈｏｓ］［（Ｒ）−ｄａｉｐｅｎ］の代わりにＲｕＢｒ２［（Ｓ，Ｓ）−Ｘｙｌｓｋｅｗｐｈｏｓ］［（Ｓ）−ｄａｉｐｅｎ］を触媒に用いる以外は実施例８と同様に４−メチル−アセトフェノンの水素化を行い、生成物である４−メチル−フェネチルアルコールを得た。生成物の収率は９９％以上で、（Ｒ）−体が７７．７％ｅｅで生成していた。
【００８９】
〔実施例９〕
ＲｕＢｒ２［（Ｓ，Ｓ）−Ｘｙｌｓｋｅｗｐｈｏｓ］［（Ｒ）−ｄａｉｐｅｎ］（２．３ｍｇ，０．００２ｍｍｏｌ）を１００ｍｌのガラス製オートクレーブに仕込み、アルゴン置換後、プロピオフェノン（２．３ｍｌ，２０ｍｍｏｌ）、０．０１Ｍ  ＫＯＣ（ＣＨ３）３／イソプロピルアルコール溶液（８ｍｌ，０．０８ｍｍｏｌ）を添加し、脱気アルゴン置換した。水素を９気圧まで仕込み反応を開始した（２時間後、変換率４０％）。反応液を２０時間攪拌後、反応圧力を常圧に戻し、反応液のガスクロマトグラフィーにより生成物である１−フェニル−１−プロパノールの定量と光学純度を求めた。反応基質はすべて消費され、生成物の収率は９９％以上であった。また、得られた１−フェニル−１−プロパノールは、（Ｒ）−体が１００％ｅｅで生成していた。
【００９０】
〔比較例１０〕
ＲｕＢｒ２［（Ｓ，Ｓ）−Ｘｙｌｓｋｅｗｐｈｏｓ］［（Ｒ）−ｄａｉｐｅｎ］の代わりにＲｕＣｌ２［（Ｒ）−ｂｉｎａｐ］［（Ｒ）−ｄａｉｐｅｎ］を触媒に用いる以外は実施例９と同様にプロピオフェノンの水素化を行い、生成物である１−フェニル−１−プロパノールを得た。生成物の収率は９９％以上で、（Ｒ）−体が９１．５％ｅｅで生成していた。
【００９１】
〔比較例１１〕
ＲｕＢｒ２［（Ｓ，Ｓ）−Ｘｙｌｓｋｅｗｐｈｏｓ］［（Ｒ）−ｄａｉｐｅｎ］の代わりにＲｕＢｒ２［（Ｓ，Ｓ）−Ｘｙｌｓｋｅｗｐｈｏｓ］［（Ｓ）−ｄａｉｐｅｎ］を触媒に用いる以外は実施例９と同様にプロピオフェノンの水素化を行い、生成物である１−フェニル−１−プロパノールを得た。生成物の収率は９９％以上で、（Ｒ）−体が８８．７％ｅｅで生成していた。
【００９２】
〔実施例１０〕
１５０ｍｌのＳＵＳ製オートクレーブにＲｕＢｒ２［（Ｓ，Ｓ）−Ｘｙｌｓｋｅｗｐｈｏｓ］［（Ｒ）−ｄａｉｐｅｎ］（０．５８ｍｇ，０．０００５ｍｍｏｌ）とＫＯＣ（ＣＨ３）３（２２．４５ｍｇ，０．２ｍｍｏｌ）を仕込みアルゴン置換後、アセトフェノン（５．８ｍｌ，５０ｍｍｏｌ）とイソプロピルアルコール（２０ｍｌ）を添加し、脱気アルゴン置換した。水素を４０気圧まで仕込み反応を開始した。反応液を２４時間攪拌後、反応圧力を常圧に戻し、反応液のガスクロマトグラフィーにより生成物であるフェネチルアルコールの定量と光学純度を求めた。反応基質はすべて消費され、生成物の収率は９９％以上であった。また、得られたフェネチルアルコールは、（Ｒ）−体が９７．９％ｅｅで生成していた。
【００９３】
〔実施例１１〕  ＲｕＢｒ２［（Ｓ，Ｓ）−Ｘｙｌｓｋｅｗｐｈｏｓ］［（Ｒ，Ｒ）−ｄｐｐｎ］の合成
実施例４で得られたＲｕＢｒ２  ［（Ｓ，Ｓ）−Ｘｙｌｓｋｅｗｐｈｏｓ］錯体（４２１ｍｇ、０．５１４ｍｍｏｌ）に（Ｒ，Ｒ）−ＤＰＰＮ［（Ｒ，Ｒ）−１，３−ジフェニル−１，３−プロパンジアミン］（１１６ｍｇ，０．５１４ｍｍｏｌ）を仕込み、アルゴン置換した。次いで、ジメチルホルムアミド（２２ｍｌ）を加え、脱気を行い室温で一晩攪拌した。反応液をシリカゲルを詰めたガラスフィルターを通して濾過後、溶媒留去した。粗錯体をヘキサン洗浄し、ＲｕＢｒ２［（Ｓ，Ｓ）−Ｘｙｌｓｋｅｗｐｈｏｓ］［（Ｒ，Ｒ）−ｄｐｐｎ］６４７ｍｇ（６９％）を得た。
【００９４】
〔実施例１２〕
ＲｕＢｒ２［（Ｓ，Ｓ）−Ｘｙｌｓｋｅｗｐｈｏｓ］［（Ｒ，Ｒ）−ｄｐｐｎ］（２．１ｍｇ，０．００２ｍｍｏｌ）を１００ｍｌのガラス製オートクレーブに仕込み、アルゴン置換後、プロピオフェノン（２．３ｍｌ，２０ｍｍｏｌ）、０．０１Ｍ  ＫＯＣ（ＣＨ３）３／イソプロピルアルコール溶液（８ｍｌ，０．０８ｍｍｏｌ）を添加し、脱気アルゴン置換した。水素を９気圧まで仕込み反応を開始した。反応液を２１時間攪拌後に、反応圧力を常圧に戻し、反応液のガスクロマトグラフィーにより、生成物である１−フェニル−１−プロパノールの生成量と光学純度を求めた。反応基質はすべて消費され、生成物の収率は９９％以上であった。また、得られた１−フェニル−１−プロパノールは、（Ｒ）−体が９２．２％ｅｅで生成していた。
【００９５】
〔実施例１３〕
ＲｕＢｒ２［（Ｓ，Ｓ）−Ｘｙｌｓｋｅｗｐｈｏｓ］［（Ｒ）−ｄａｉｐｅｎ］（５．８ｍｇ，０．００５ｍｍｏｌ）を１００ｍｌのガラス製オートクレーブに仕込み、アルゴン置換後、２−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノアセトフェノン（１．６３ｇ，１０ｍｍｏｌ）、０．０１Ｍ  ＫＯＣ（ＣＨ３）３／イソプロピルアルコール溶液（５ｍｌ，０．０５ｍｍｏｌ）を添加し、脱気アルゴン置換した。水素を９気圧まで仕込み反応を開始した。反応液を１５時間攪拌後、反応圧力を常圧に戻し、反応液の高速液体クロマトグラフィーにより生成物である２−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノフェネチルアルコールの定量と光学純度を求めた。反応基質はすべて消費され、生成物の収率は９９％以上であった。また、得られた２−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノフェネチルアルコールは、９６．７％ｅｅで生成していた。
【００９６】
〔実施例１４〕
ＲｕＢｒ２［（Ｓ，Ｓ）−Ｘｙｌｓｋｅｗｐｈｏｓ］［（Ｒ）−ｄａｉｐｅｎ］（２．３ｍｇ，０．００２ｍｍｏｌ）を１００ｍｌのガラス製オートクレーブに仕込み、アルゴン置換後、２−アセチルチオフェン（２．１６ｍｌ，２０ｍｍｏｌ）、０．０１Ｍ  ＫＯＣ（ＣＨ３）３／イソプロピルアルコール溶液（８ｍｌ，０．０８ｍｍｏｌ）を添加し、脱気アルゴン置換した。水素を９気圧まで仕込み反応を開始した。反応液を２２時間攪拌後、反応圧力を常圧に戻し、反応液のガスクロマトグラフィーにより生成物である１−（２−チエニル）エタノールの定量と光学純度を求めた。生成物の収率は８５％であった。また、得られた１−（２−チエニル）エタノールは、（Ｒ）−体が９５．５％ｅｅで生成していた。
【００９７】
〔実施例１５〕
１００ｍｌのガラス製オートクレーブにＲｕＢｒ２［（Ｓ，Ｓ）−Ｘｙｌｓｋｅｗｐｈｏｓ］［（Ｒ）−ｄａｉｐｅｎ］（２．３ｍｇ，０．００２ｍｍｏｌ）とＫＯＣ（ＣＨ３）３（９ｍｇ，０．０８ｍｍｏｌ）を仕込みアルゴン置換後、２−アセチルフラン（１．０ｍｌ，１０ｍｍｏｌ）とイソプロピルアルコール（５ｍｌ）を添加し、脱気アルゴン置換した。水素を９気圧まで仕込み反応を開始した。反応液を１７時間攪拌後、反応圧力を常圧に戻し、反応液のガスクロマトグラフィーにより生成物である１−（２−フリル）エタノールの定量と光学純度を求めた。反応基質はすべて消費され、生成物の収率は９９％以上であった。また、得られた１−（２−フリル）エタノールは、（Ｒ）−体が９７．０％ｅｅで生成していた。
【００９８】
〔実施例１６〕
１００ｍｌのガラス製オートクレーブにＲｕＢｒ２［（Ｓ，Ｓ）−Ｘｙｌｓｋｅｗｐｈｏｓ］［（Ｒ）−ｄａｉｐｅｎ］（１１．５ｍｇ，０．０１０ｍｍｏｌ）とＫＯＣ（ＣＨ３）３（４５ｍｇ，０．４ｍｍｏｌ）を仕込みアルゴン置換後、２−アセチルピリジン（２．２４ｍｌ，２０ｍｍｏｌ）、Ｂ［ＯＣＨ（ＣＨ３）２］３（０．０４６ｍｌ，０．２０ｍｍｏｌ）とイソプロピルアルコール（８ｍｌ）を添加し、脱気アルゴン置換した。水素を９気圧まで仕込み反応を開始した。反応液を２２時間攪拌後、反応圧力を常圧に戻し、反応液の高速液体クロマトグラフィーにより生成物である１−（２−ピリジル）エタノールの定量と光学純度を求めた。反応基質はすべて消費され、生成物の収率は９９％以上であった。また、得られた１−（２−ピリジル）エタノールは、（Ｒ）−体が８３．０％ｅｅで生成していた。
【００９９】
〔実施例１７〕
ＲｕＢｒ２［（Ｓ，Ｓ）−Ｘｙｌｓｋｅｗｐｈｏｓ］［（Ｒ）−ｄａｉｐｅｎ］（２．３ｍｇ，０．００２ｍｍｏｌ）を１００ｍｌのガラス製オートクレーブに仕込み、アルゴン置換後、シクロヘキシルメチルケトン（２．７４ｍｌ，２０ｍｍｏｌ）、０．０１Ｍ  ＫＯＣ（ＣＨ３）３／イソプロピルアルコール溶液（８ｍｌ，０．０８ｍｍｏｌ）を添加し、脱気アルゴン置換した。水素を９気圧まで仕込み反応を開始した。反応液を１７時間攪拌後、反応圧力を常圧に戻し、反応液の高速液体クロマトグラフィーにより生成物である  １−シクロヘキシルエタノールの定量と光学純度を求めた。生成物の収率は９７．７％であった。また、得られた１−シクロヘキシルエタノールを塩化メチレン中、塩基共存下に（Ｒ）−ＭＴＰＡＣｌ［（Ｒ）−（−）−α−メトキシ−α−（トリフルオロメチル）フェニルアセチルクロライド］と反応し光学純度を求めた。光学純度は、９４．４％ｅｅで生成していた。
【０１００】
〔実施例１８〕
ＲｕＢｒ２［（Ｓ，Ｓ）−Ｘｙｌｓｋｅｗｐｈｏｓ］［（Ｒ）−ｄａｉｐｅｎ］（２．３ｍｇ，０．００２ｍｍｏｌ）を１００ｍｌのガラス製オートクレーブに仕込み、アルゴン置換後、ベンジルアセトン（３．０ｍｌ，２０ｍｍｏｌ）、０．０１Ｍ  ＫＯＣ（ＣＨ３）３／イソプロピルアルコール溶液（８ｍｌ，０．０８ｍｍｏｌ）を添加し、脱気アルゴン置換した。水素を９気圧まで仕込み反応を開始した。反応液を１７．５時間攪拌後、反応圧力を常圧に戻し、反応液のガスクロマトグラフィーにより生成物である１−フェニル−３−ブタノールの定量と光学純度を求めた。生成物の収率は９９．３％であった。また、得られた１−フェニル−３−ブタノールは、５３．１％ｅｅで生成していた。
【０１０１】
〔実施例１９〕
ＲｕＢｒ２［（Ｓ，Ｓ）−Ｘｙｌｓｋｅｗｐｈｏｓ］［（Ｒ）−ｄａｉｐｅｎ］（２．３ｍｇ，０．００２ｍｍｏｌ）を１００ｍｌのガラス製オートクレーブに仕込み、アルゴン置換後、４−メチル−３−ペンテン−２−オン（２．３ｍｌ，２０ｍｍｏｌ）、０．０１Ｍ  ＫＯＣ（ＣＨ３）３／イソプロピルアルコール溶液（８ｍｌ，０．０８ｍｍｏｌ）を添加し、脱気アルゴン置換した。水素を９気圧まで仕込み反応を開始した。反応液を２１時間攪拌後、反応圧力を常圧に戻し、反応液のガスクロマトグラフィーにより生成物である４−メチル−３−ペンテン−２−オールの定量と光学純度を求めた。生成物の収率は９９．５％であった。また、得られた４−メチル−３−ペンテン−２−オールは、（Ｒ）−体が９０．５％ｅｅで生成して
いた。
【０１０２】
〔実施例２０〕
ＲｕＢｒ２［（Ｓ，Ｓ）−Ｘｙｌｓｋｅｗｐｈｏｓ］［（Ｒ）−ｄａｉｐｅｎ］（１．１５ｍｇ，０．００１ｍｍｏｌ）を１００ｍｌのガラス製オートクレーブに仕込み、アルゴン置換後、２，２，２−トリフルオロアセトフェノン（１．３６ｍｌ，１０ｍｍｏｌ）、０．０１Ｍ  ＫＯＣ（ＣＨ３）３／イソプロピルアルコール溶液（４ｍｌ，０．０４ｍｍｏｌ）を添加し、脱気アルゴン置換した。水素を９気圧まで仕込み反応を開始した。反応液を１９時間攪拌後、反応圧力を常圧に戻し、反応液のガスクロマトグラフィーにより生成物である２，２，２−トリフルオロフェネチルアルコールの定量と光学純度を求めた。生成物の収率は９５％であった。また、得られた２，２，２−トリフルオロフェネチルアルコールは、（Ｒ）−体が７８．１％ｅｅで生成していた。
【０１０３】
〔実施例２１〕
アルゴン気流下、実施例１で得られたＲｕＢｒ２  ［（Ｓ，Ｓ）−Ｔｏｌｓｋｅｗｐｈｏｓ］錯体（１．５ｍｇ、０．００２ｍｍｏｌ）と（Ｒ）−ＤＡＩＰＥＮ（０．６ｍｇ，０．００２ｍｍｏｌ）を１００ｍｌのガラス製オートクレーブに仕込み、さらに、アセトフェノン（２．３ｍｌ，２０ｍｍｏｌ）、０．０１Ｍ  ＫＯＣ（ＣＨ３）３／イソプロピルアルコール溶液（８ｍｌ，０．０８ｍｍｏｌ）を添加し、脱気アルゴン置換した。水素を９気圧まで仕込み反応を開始した。反応液を２９時間攪拌後、反応圧力を常圧に戻し、反応液のガスクロマトグラフィーにより生成物であるフェネチルアルコールの定量と光学純度を求めた。反応基質はすべて消費され、生成物の収率は９９％以上であった。また、得られたフェネチルアルコールは、（Ｒ）−体が９２．１％ｅｅで生成していた。
【０１０４】
〔実施例２２〕
アルゴン気流下、実施例４で得られたＲｕＢｒ２  ［（Ｓ，Ｓ）−Ｘｙｌｓｋｅｗｐｈｏｓ］錯体（１．６ｍｇ、０．００２ｍｍｏｌ）と（Ｓ，Ｓ）−ＤＰＥＮ（０．４ｍｇ，０．００２ｍｍｏｌ）を１００ｍｌのガラス製オートクレーブに仕込み、さらに、アセトフェノン（２．３ｍｌ，２０ｍｍｏｌ）、０．０１Ｍ  ＫＯＣ（ＣＨ３）３／イソプロピルアルコール溶液（８ｍｌ，０．０８ｍｍｏｌ）を添加し、脱気アルゴン置換した。水素を９気圧まで仕込み反応を開始した。反応液を２４時間攪拌後、反応圧力を常圧に戻し、反応液のガスクロマトグラフィーにより生成物であるフェネチルアルコールの定量と光学純度を求めた。反応基質はすべて消費され、生成物の収率は９９％以上であった。また、得られたフェネチルアルコールは、（Ｒ）−体が９３．７％ｅｅで生成していた。
【０１０５】
〔実施例２３〕
アルゴン気流下、実施例４で得られたＲｕＢｒ２  ［（Ｓ，Ｓ）−Ｘｙｌｓｋｅｗｐｈｏｓ］錯体（１．６ｍｇ、０．００２ｍｍｏｌ）と（Ｒ）−ＤＡＩＰＥＮ（０．６ｍｇ，０．００２ｍｍｏｌ）を１００ｍｌのガラス製オートクレーブに仕込み、さらに、アセトフェノン（２．３ｍｌ，２０ｍｍｏｌ）、０．０１Ｍ  ＫＯＣ（ＣＨ３）３／イソプロピルアルコール溶液（８ｍｌ，０．０８ｍｍｏｌ）を添加し、脱気アルゴン置換した。水素を９気圧まで仕込み反応を開始した。反応液を２時間攪拌後、反応圧力を常圧に戻し、反応液のガスクロマトグラフィーにより生成物であるフェネチルアルコールの定量と光学純度を求めた。反応基質はすべて消費され、生成物の収率は９９％以上であった。また、得られたフェネチルアルコールは、（Ｒ）−体が９７．３％ｅｅで生成していた。
【０１０６】
〔実施例２４〕
ＲｕＢｒ２［（Ｓ，Ｓ）−３−メチル−Ｘｙｌｓｋｅｗｐｈｏｓ］［（Ｓ）−ｄａｉｐｅｎ］（２．３ｍｇ，０．００２ｍｍｏｌ）を１００ｍｌのガラス製オートクレーブに仕込み、アルゴン置換後、アセトフェノン（２．３ｍｌ，２０ｍｍｏｌ）、０．０１Ｍ  ＫＯＣ（ＣＨ３）３／イソプロピルアルコール溶液（８ｍｌ，０．０８ｍｍｏｌ）を添加し、脱気アルゴン置換した。水素を９気圧まで仕込み反応を開始した。反応液を１９時間攪拌後、反応圧力を常圧に戻し、反応液のガスクロマトグラフィーにより生成物であるフェネチルアルコールの定量と光学純度を求めた。反応基質はすべて消費され、生成物の収率は９９％以上であった。また、得られたフェネチルアルコールは、（Ｒ）−体が９４．４％ｅｅで生成していた。
【０１０７】
〔実施例２５〕
ＲｕＢｒ２［（Ｓ，Ｓ）−３−メチル−Ｘｙｌｓｋｅｗｐｈｏｓ］［（Ｓ）−ｄａｉｐｅｎ］（２．３ｍｇ，０．００２ｍｍｏｌ）を１００ｍｌのガラス製オートクレーブに仕込み、アルゴン置換後、プロピオフェノン（２．７ｍｌ，２０ｍｍｏｌ）、０．０１Ｍ  ＫＯＣ（ＣＨ３）３／イソプロピルアルコール溶液（８ｍｌ，０．０８ｍｍｏｌ）を添加し、脱気アルゴン置換した。水素を９気圧まで仕込み反応を開始した。反応液を１９時間攪拌後、反応圧力を常圧に戻し、反応液のガスクロマトグラフィーにより生成物である１−フェニル−１−プロパノールの定量と光学純度を求めた。反応基質はすべて消費され、生成物の収率は９９％以上であった。また、得られた１−フェニル−１−プロパノールは、（Ｒ）−体が９５．７％ｅｅで生成していた。
【０１０８】
〔実施例２６〕
ＲｕＢｒ２［（Ｒ，Ｒ）−１，３−ジフェニル−１，３−ビス（３，５−キシリルホスフィノ）プロパン］［（Ｓ）−ｄａｉｐｅｎ］（２．５ｍｇ，０．００２ｍｍｏｌ）を１００ｍｌのガラス製オートクレーブに仕込み、アルゴン置換後、プロピオフェノン（２．７ｍｌ，２０ｍｍｏｌ）、０．０１Ｍ  ＫＯＣ（ＣＨ３）３／イソプロピルアルコール溶液（８ｍｌ，０．０８ｍｍｏｌ）を添加し、脱気アルゴン置換した。水素を９気圧まで仕込み反応を開始した。反応液を２４時間攪拌後、反応圧力を常圧に戻し、反応液のガスクロマトグラフィーにより生成物である１−フェニル−１−プロパノールの定量と光学純度を求めた。反応基質はすべて消費され、生成物の収率は９９％以上であった。また、得られた１−フェニル−１−プロパノールは、（Ｒ）−体が８１．６％ｅｅで生成していた。
【０１０９】
【発明の効果】
以上に示したように、本発明によって、炭素上に不斉を有し、合成が容易な光学活性ジホスフィン化合物を配位子とする新規ルテニウム錯体および該錯体を触媒とする光学活性アルコール化合物の製造方法が提供される。本発明による前記新規ルテニウム錯体触媒は、従来の軸不斉あるいは炭素上に不斉をもつ光学活性ジホスフィン化合物を配位子とするルテニウム錯体触媒に比べて、カルボニル化合物の不斉水素化反応における反応性、エナンチオ選択性などの点においてより優れた、工業的利用価値が極めて高いものである。