【事件の表示】
　特願２００３−４１３１９「磁気ディスクおよびその製造方法」拒絶査定不服審判事件〔平成１６年５月２７日出願公開、特開２００４−１５２４６０〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１．手続の経緯・本願発明
　
　本願は平成１５年２月１９日（優先権主張 平成１４年９月３日）の出願であって、その請求項１〜８に係る発明は、平成１８年１１月１３日付け手続補正により補正された特許請求の範囲の請求項１〜８に記載された事項により特定されるものであるところ、その請求項１に係る発明（以下、「本願発明」という。）は次のとおりである。
　
　「【請求項１】　基板上に、少なくとも磁性層と保護層と潤滑層が順次設けられた磁気ディスクであって、
前記潤滑層が、末端基にホスファゼン環を有するパーフルオロポリエーテル化合物と、一般式（II）または（III）
【化１】
 【化２】 
（式中、ｍ、ｎ、ａ、ｂ、ｃおよびｄはそれぞれ１以上の整数を示す。）
で表される構造を有する、末端基に水酸基を有するパーフルオロポリエーテル化合物を含み、ＮＰＡＢ（負圧）スライダーを備える磁気ヘッドを有するロードアンロード方式用磁気ディスク装置に搭載されることを特徴とする磁気ディスク。」
　（なお、式(III)における「...(OCF2)b-CF2-CH2-...」は、「...(OCF2)b-O-CF2-CH2-...」の誤記と認める。）
　
２．引用例
　当審が通知した拒絶理由に引用された、本願優先権主張の日前に頒布された刊行物の記載事項は次のとおりである。（以下、
下線
　
　(1) 特開２００１−３３１９２６号公報（以下、「引用例１」という。）には、磁気記録媒体に関して、図面とともに次の事項が記載されている。
　
　ア．「【請求項１】
非磁性磁気ディスク基板上に、少なくとも磁性膜、保護膜を形成し、その表面にパーフルオロポリエーテル構造を有する液体潤滑剤を塗布してなる磁気記録媒体において、　保護膜表面の平均粗さＲａが０.８ｎｍ以下であり、保護膜がダイヤモンドライクカーボン膜であり、その保護膜の膜厚が１.５〜４.５ｎｍの範囲にあり、かつカーボン保護膜上の潤滑膜が、以下の化学式(1)に記載の構造よりなる潤滑剤成分を含むことを特徴とする磁気記録媒体
【化１】 
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　．．．．．．(1)
（ここでｐ＝５〜３６、ｑ＝４〜３０、ｘ＝１〜５である）
【請求項２】
上記カーボン保護膜上の潤滑膜が、上記化学式(1)に記載の構造よりなる潤滑剤成分を３０％以上含む
　イ．「【0004】
最近の磁気ディスク装置においては、上記間隔を出来るだけ近づけるために磁気ディスクの表面粗さを極力小さくしなければならなくなったために、従来のような磁気ディスクの回転の停止時に磁気ヘッドが接触しており、磁気ディスクが回転し始めると、その気流によって磁気ヘッドが浮上するというコンタクトスタートストップ(ＣＳＳ)方式から、磁気ディスクの停止時には磁気ヘッドが磁気ディスク上から離れたところに退避され(アンロード)、磁気ディスクが回転し始めると磁気ヘッドを磁気ディスク上にロードオンされるロードアンロード(Ｌ/ＵＬ)方式が採用されつつある。この場合、耐摺動性は若干緩和されるが、しかしロードオン時の衝撃や通常動作時でも突発的に発生し得る磁気ヘッドの姿勢異常による接触等に耐えなければならない
　ウ．「【0033】潤滑剤も２種類の潤滑剤を塗布した。比較例としてアウジモンド社で製造されたフォンブリンＺ-ＤＯＬTMを分画した平均分子量が３,０００の潤滑剤を塗布した。
実施例としては、フォンブリンＺ-ＤＯＬ
TM
を分画し平均分子量を２,０００とした潤滑剤を原料として、化学式(１)に示した潤滑剤を合成し用いた。但し、この潤滑剤は１００％が化学式(１)で示される潤滑剤ではなく、水素についてのＮＭＲ(核磁気共鳴)、フッ素についてのＮＭＲの分析でＰＦＰＥの両末端に化学式(１)で表される末端官能基が修飾されているとした場合に３０％程度が化学式(１)で表されるものである。他の７０％は原料のフォンブリンＺ-ＤＯＬ
TM
である
　エ．「【0034】これらのサンプルの信頼性、耐摩耗性の評価は、次の方法で行った。極低浮上における耐摩耗性評価のために、モータを逆回転することでヘッドを常時磁気ディスク媒体と接触する状態にして、磁気記録媒体の半径１５〜３１ｍｍの間をシークし、クラッシュする迄の時間を測定した。環境温度は６５℃、回転数は４,０００ｍｉｎ-1である。また、磁気ヘッドが磁気ディスク媒体と接触した際の振動を評価するために、磁気ヘッドとの摩擦力の測定を回転数４,０００ｍｉｎ-1の状態で試験装置内を減圧し磁気ヘッドの浮上量を４ｎｍにした時の接触摩擦力をひずみゲージを用いた摩擦力センサで測定した。次に、各サンプルについての試験結果により、本発明の有効性を説明する。」
　オ．「【0036】図から明らかな様に摩擦力は基板の粗さが小さくなるに従い、大きくなる傾向にある。また、保護膜４と化学式(１)の潤滑剤の組合せの場合が著しく小さくなっている。すなわち、磁気ディスク媒体の表面粗さが小さい場合（基板１、２に相当する面粗さ）においても保護膜４と化学式(１)で表される潤滑剤の組合せ(サンプルＢ、Ｆ)では、比較例(サンプルＡ、Ｃ、Ｇ)と比較して摩擦力が激減している。
【0037】次に、サンプルＦ、Ｇを耐摩耗試験した結果を第２図に示す。比較例Ｇではカーボン膜厚が４.０〜４.５ｎｍ以下となると極端にクラッシュ迄の時間が小さいのに比べ、実施例Fではクラッシュしていない。クラッシュまでの時間で、約１０倍以上の耐力向上が見られた。」
　
　上記記載事項によれば、引用例1には次の発明（以下、「引用例1発明」という。）が記載されている。
　
　「非磁性磁気ディスク基板上に、少なくとも磁性膜、保護膜を形成し、その表面にパーフルオロポリエーテル構造を有する液体潤滑剤を塗布してなる磁気記録媒体であって、保護膜がダイヤモンドライクカーボン膜であり、その保護膜の膜厚が１.５〜４.５ｎｍの範囲にあり、かつカーボン保護膜上の潤滑膜が、化学式(1)に記載の構造よりなる潤滑剤成分及びフォンブリンＺ-ＤＯＬTMを含む磁気記録媒体。（化学式(1)は上記（ア）に記載のとおり）」
　
　(2)特開平９−２８２６４２号公報（以下、「引用例２」という。）には、磁気記録媒体に関して、図面とともに次の事項が記載されている。
　
　カ．「【請求項１】　非磁性基板上に少なくとも強磁性薄膜層と保護膜層とを設けた磁気記録媒体において、
　保護膜層は炭素系又は酸化セラミックス系のうちから選択されるものであり、
該保護膜層の表面に化学式
【化１】 
で表される含フッ素化合物、化学式
【化２】
　で表される含フッ素化合物から選ばれる一種以上よりなる潤滑層を有することを特徴とする磁気記録媒体。」
　キ．「【0002】
【従来の技術】薄膜型の磁気記録媒体においては、強磁性金属又はその合金を、スパッタ、蒸着、無電解メッキ法等によって非磁性基板上に被着させて製造される。実際の使用時においては、しばしば磁気ヘッドと磁気記録媒体とが高速で接触摺動するので、摩耗損傷を受けたり、磁気特性の劣化を起こしたりする。そのため、磁性層上に保護膜や潤滑層を設けることによって接触摺動の際の静／動摩擦を極力低減させ、耐摩耗性を向上させることが行われている。このような保護膜層としては、炭素質膜、ＳｉＯ2、ＺｒＯ２の酸化物膜、窒化物膜、ホウ化物膜等が一般的に利用され、また潤滑層としては、一般的にパーフロロポリエーテル（Perfluoro Polyethers）化合物がディスク表面に塗布されている。上記パーフロロポリエーテル化合物としては、
【化３】
HOCH2-CF2O-(C2F4O)p-(CF2O)q-CF2-CH2OH
で表される商品名「フォンブリン　ゼットドール（FOMBLIN ZDOL）」〔アウジモント（AUSIMONT）社製〕、または、
【化４】
F-(CF2-CF2-CF2-O)n-CF2-CF2-CH2OH
で表される商品名「デムナム　エスエー（DEMNUM SA）」（ダイキン工業社製）などが知られている。」
　ク．「【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、「フォンブリン　ゼットドール」は、文献（”Degradation of perfluoropolyethers catalyzed by aluminum oxide”，Paul H.Kasai,Wing T.Tang and Patrick Wheeler,Applied Surface Science,51(1991)201〜 211）で示されているように、分子中にＯ−ＣＦ2−Ｏ単位の結合を有しているため、磁気ヘッドの構成成分である酸化アルミニウム（α−Ａｌ2Ｏ3）の存在下では２００℃程度の温度で容易に分解する。加えて、ＣＳＳ（コンタクト　スタート　ストップ）時には磁気記録媒体と磁気ヘッドの両者間の接触により局所的な瞬間温度は、９０〜４５０℃或いはそれ以上の高温となる。したがって、磁気ヘッドのスライダー部分の構成成分である酸化アルミニウムが触媒となり、「フォンブリン　ゼットドール」が分解する。
このように潤滑剤の分解が生ずると、分解した成分が揮発して潤滑層の膜厚が減少することにより、動摩擦係数が増大し、その結果、高速の接触摺動に起因する摩耗損傷や磁気特性の劣化が生じ易いという問題を生じていた
さらに、分解した成分の一部が磁気ヘッドに付着することにより、ヘッドの浮上量が増加して再生出力の低下を引き起こしたり、ヘッドが記録媒体表面に吸着する等の問題をも生じていた
【0005】一方、前記「デムナム　エスエイ」は、分子中にＯ−ＣＦ2−Ｏ単位の結合を持っていないために化学的に安定で、前述のような局所的な高熱による分解を起こさない。
　しかしながら、分子の片末端にのみＣＨ２ＯＨ基を有するに過ぎないため、保護膜層の表面との結合が十分でなく、高温中で磁気ディスクを高速回転させると潤滑剤は容易に飛散し（スピンオフテスト）、潤滑層の膜厚減少が起こる。したがって、ＣＳＳ時における動摩擦係数が大きいという問題を有していた。」
　ケ．「【0007】
【発明の実施の形態】本発明における潤滑層に用いられる
第一の含フッ素化合物及び第二の含フッ素化合物は、前記「フォンブリン　ゼットドール」と同様に分子中にＯ−ＣＦ
2
−Ｏ単位の構造を含むにも係らず、極性官能基の多座配位構造によりヘッドのスライダー部の酸化アルミニウムとの触媒反応（分解）が緩和され、化学的に安定である。また、その両末端の極性官能基が炭素系、または酸化物セラミックス系の保護膜との間に高い親和性を示し、スピンオフ性の向上に寄与するので、長期安定性、摺動耐久性に優れている。そのため、磁気記録媒体の信頼性が飛躍的に向上する
　コ．「【0009】
【実施例】
〈試験用磁気ディスクの作製〉
［実施例１］図１に、本発明に係るハードディスクの断面図を示した。アルミニウム合金基板１上に硬質下地層としてＮｉ−Ｐメッキ膜２が１３μｍ被覆され、次にスパッタリング法により下地膜層３としてＣｒを６００Å、磁気記録層（磁性膜）４としてＣｏ−Ｃｒ−Ｔａ合金を４００Å、さらに保護膜層５としてカーボンを２００Å積層した。次に、潤滑剤として化学式
【化７】
   
　　　〔ｍ、ｎは整数である。〕
で表される数平均分子量２０００の含フッ素化合物を、フッ素系溶剤〔商品名「ＰＦ５０６０」，ミネソタ　マイニング　アンド　マニュファクチュアリング社製〕中に濃度０．０２ｗｔ％となるように溶解して塗布用組成物を調製した。そして、前記保護膜層５の上面に、上記のように調製した塗布用組成物をディップ法により膜厚１５Å，２５Å（ＥＳＣＡを用いて測定）になるように塗布して潤滑層６を形成し、実施例１の磁気ディスクを得た。尚、潤滑層の膜厚が２５Åの磁気ディスクについては後述する試験２，４に用い、膜厚１５Åのものは後述する試験３に用いた。
【0010】［実施例２］潤滑剤として化学式
【化８】
HO-(CH2CH2O)ｑCH2CF2-(CF2CF2O)m-(CF2O)n-CF2CH2(OCH2CH2)q-OH　
〔式中、ｍ、ｎ、ｑは整数である。〕
で表される数平均分子量２０００の含フッ素化合物を用いた以外は前記実施例１と同様にして実施例２の磁気ディスクを得た。
【0011】
［比較例１］潤滑剤として化学式
【化９】
HOCH2-CF2O-(C2F4O)p-(CF2O)q-CF2-CH2OH
で表される数平均分子量２０００の含フッ素化合物を用いた以外は前記実施例１と同様にして比較例１の磁気ディスクを得た。
【0012】［比較例２］潤滑剤として化学式
【化１０】
　　F-(CF2-CF2-CF2-O)n-CF2-CF2-CH2OH
で表される数平均分子量２０００の含フッ素化合物を用いた以外は前記実施例１と同様にして比較例２の磁気ディスクを得た。」
　サ．「【0013】〈試験１；長期安定性テスト〉前記実施例１，２、比較例１，２に用いた各含フッ素化合物に触媒として、Ａｌ２Ｏ３を添加し、２５０℃に加熱した。表１に加熱をはじめて４時間後の重量減少量を示した。
【表１】＜省略＞
　上記表１より明らかなように、実施例１，２及び比較例２に用いた各フッ素化合物については重量減が殆ど観察されなかったのに対し、比較例１に用いた各フッ素化合物については殆どが分解して蒸発してしまった。
【0014】〈試験２；スピンオフテスト・膜厚減少量の測定〉前記実施例１，２、比較例１，２の各磁気ディスク（潤滑層の膜厚２５Å）を８０℃の温度環境のもと、回転速度７２００ｒｐｍで７２時間回転させた（スピンオフ）後の潤滑層の膜厚減少量について調べた。ＦＴ−ＩＲにより半径２０ｍｍにおける膜厚減少量を表１に示した。前記表１より明らかなように、比較例２の磁気ディスクでは高速回転により潤滑剤が飛散するため膜厚減少が顕著に表れたが、実施例１，２及び比較例１の各磁気ディスクについては膜厚は安定していた。」
　シ．「【0019】
【発明の効果】以上説明したように本発明の磁気記録媒体は、優れた潤滑性及び耐摩耗性を有し、しかも長期間に亙って高温でも化学的に安定性な潤滑層を精選したので、特にヘッドの低浮上化に対応した平滑な基板を用いた場合にも、良好な摺動耐久性と長期に亙る十分な安定性とを有するものとなる。したがって、本発明の磁気記録媒体は、データ記録密度を増大させることが可能となると共に、長期にわたり信頼性の高いものとなる。」
　
３．対比
　本願発明と引用例1発明とを比較する。
　引用例発明における「非磁性磁気ディスク基板」「磁性膜」「保護膜」「潤滑膜」「磁気記録媒体」は、それぞれ、本願発明の「基板」「磁性層」「保護層」「潤滑層」「磁気ディスク」に相当する。
　引用例発明における「化学式(1)に記載の構造よりなる潤滑剤成分」は、本願発明の「末端基にホスファゼン環を有するパーフルオロポリエーテル化合物」に相当する。
　「フォンブリンＺ-ＤＯＬTM」が「末端基に水酸基を有するパーフルオロポリエーテル化合物」であることは明らかである。（上記キ参照）
　
　そうすると、本願発明と引用例発明との一致点、相違点は次のとおりである。
　
　［一致点］
　「基板上に、少なくとも磁性層と保護層と潤滑層が順次設けられた磁気ディスクであって、
前記潤滑層が、末端基にホスファゼン環を有するパーフルオロポリエーテル化合物と、
末端基に水酸基を有するパーフルオロポリエーテル化合物を含み、
磁気ディスク装置に搭載される磁気ディスク。」である点。
　［相違点］
　［相違点1］
　末端基に水酸基を有するパーフルオロポリエーテル化合物が、本願発明では上記式(II)または式（III)で表されるものであるのに対し、引用例1発明ではフォンブリンＺ-ＤＯＬTMである点。
　［相違点２］
　本願発明の磁気ディスクが、ＮＰＡＢ（負圧）スライダーを備える磁気ヘッドを有するロードアンロード方式用磁気ディスク装置に搭載されるものであるのに対し、引用例発明では、搭載される磁気ディスク装置が特定されていない点。
　
４．相違点についての判断
　
　最初に相違点２について、検討する。
　引用例１には、ヘッドを常時磁気ディスクと接触した状態における耐摩耗性や磁気ヘッドの浮上量を4ｎｍにした時の接触摩擦力について、潤滑膜にフォンブリンZ-DOLTM（以下、登録商標を示す「TM」は省略する。）を使用したものに比べて、末端基にホスファゼン環を有するパーフルオロポリエーテル化合物とフォンブリンZ-DOLを併用した磁気ディスクが優れていることが記載されている。（上記ウ〜オ）
　また、ロードアンロード方式では、ＣＳＳ方式に比べ摺動特性は若干緩和されるがロードオン時の衝撃や通常動作時でも突発的に発生し得る磁気ヘッドの姿勢異常による接触等に耐えなければならない旨記載されており（上記イ参照）、ロードアンロード方式においても、摩擦特性や接触摩擦力が少ない方が好ましいことは明らかである。
　磁気ディスク装置として、ＮＰＡＢ（負圧）スライダーを備える磁気ヘッドを有するロードアンロード方式用磁気ディスク装置は周知であるから（特開2000-48507号公報、特開平11-185246号公報等参照。なお、当審拒絶理由通知における「特開平11-185264号公報」は、「特開平11-185246号公報」の誤記である。）、引用例1発明の磁気記録媒体をＮＰＡＢ（負圧）スライダーを備える磁気ヘッドを有するロードアンロード方式用磁気ディスク装置に搭載することは、当業者が容易に推考しうることである。
　
　次に相違点(1)について、検討する。
　引用例２における実施例1の化合物及び実施例２の化合物は、本願発明における式(II)及び(III)の化合物に相当する。（以下、式(II)の化合物及び式(III)の化合物という。）
　引用例２における式(II)の化合物及び式(III)の化合物は、ＣＳＳ方式の磁気ディスクを対象とするものではあるが、化学的安定性や高速回転による飛散（スピンオフ、すなわち、マイグレーション）を抑制することは、ロードアンロード方式のディスクにおいても共通する課題である。
　引用例２には、磁気記録媒体の潤滑層に用いられる含フッ素化合物として、実施例1及び２に使用した化合物は、比較例１に用いた化合物すなわちフォンブリンＺ−ＤＯＬよりも安定性に優れ、スピンオフテストで膜厚が安定していたことが記載されている（上記ケ〜シ）のであるから、式(II)の化合物及び式(III)の化合物は、ロードアンロード方式のディスクにおいても、フォンブリンＺ−ＤＯＬよりも好ましいと推認できる。
　
　また、引用例２には、末端基にホスファゼン環を有するパーフルオロポリエーテル化合物と式(II)の化合物及び式(III)の化合物とを併用することについては記載されていないが、上記したとおり、引用例１には、ヘッドを常時磁気ディスクと接触した状態における耐摩耗性や磁気ヘッドの浮上量を4ｎｍにした時の接触摩擦力について、潤滑膜にフォンブリンZ-DOLを使用したものに比べて、末端基にホスファゼン環を有するパーフルオロポリエーテル化合物とフォンブリンZ-DOLを併用した磁気ディスクが優れていることが記載されている。
　そして、式(II)の化合物及び式(III)の化合物は、「-(CF2CF2O)p-(CF2O)q-CF2CH2-」の構造を基本骨格とし、両末端にOH基を有する点において、フォンブリン Ｚ−ＤＯＬと構造及び性質が極めて類似した化合物であり、しかも、それぞれ、商品名FOMBLIN（フォンブリン） Z TETRAOL及びFOMBLIN Ｚ−ＤＯＬ-TXとして市販されており、磁気記録媒体の潤滑層に用いられる化合物として、フォンブリン ゼットドール（フォンブリン Z-DOL、FOMBLIN Z DOL）とともに、周知の化合物である。（原査定の拒絶の理由に引用された刊行物である国際公開第01/21630号公報の7頁18〜26行、当審拒絶理由通知に引用された特開2001-52327号公報の段落[0046]、特開平7-216375号公報の段落[0044]等参照。）
　
　そうすると、引用例１発明における潤滑膜を形成する潤滑剤に含まれる末端基に水酸基を有するパーフルオロポリエーテル化合物として、フォンブリンＺ−ＤＯＬに代えて式(II)又は式(III)の化合物を用いることは、当業者が容易に想到しうることである。
　
　そして、上記各相違点について、総合的に検討しても、本願発明が奏する効果が格別のものであるとすることはできない。
　
　したがって、本願発明は、その優先権主張の日前に頒布された刊行物である引用例1及び引用例2に記載された発明、並びに周知技術に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　
　なお、請求人は、平成２１年２月１７日付けの意見書において、本件発明は、ＣＳＳ方式の磁気ディスクには存在しないロードアンロード（ＬＵＬ）方式の磁気ディスクに固有の技術的課題を上述の新規な知見に基づいて解消したものであって、刊行物１〜３は仮にこれらの全記載を考慮したとしても本件発明に想到し得るものではない旨主張している。
　しかしながら、ＣＳＳ方式とＬＵＬ方式との相違点を考慮しても、上記のとおり、刊行物１及び２（引用例１及び２）の記載事項及び周知技術を考慮すれば、当業者が本件発明に想到し得るもというべきであるから、請求人の上記主張を採用することはできない。
　
５．むすび
　以上のとおりであるから、本願請求項１に係る発明は、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　したがって、その余の請求項に係る発明について論及するまでもなく、本願は拒絶すべきものである。
　よって、結論のとおり審決する。