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　平成　８年特許願第１６３６９７号「スケーリング補正機能を持つレーザ描画装置」拒絶査定不服審判事件〔平成　９年１２月１６日出願公開、特開平　９−３２３１８０〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
第１　手続の経緯
　本願は、平成８年６月４日に出願した特願平８−１６３６９７号であって、平成１９年７月３１日付けで拒絶査定がなされ、これに対して、同年９月５日付けで拒絶査定不服審判の請求がなされ、同年９月２７日付けで手続補正がなされたものである。
　
第２　平成１９年９月２７日付けの手続補正についての補正の却下の決定について
　
［補正の却下の決定の結論］
　平成１９年９月２７日付けの手続補正（以下、「本件補正」という。）を却下する。
　
１　本件補正について
　本件補正により、特許請求の範囲の請求項１に係る発明は、平成１８年４月２１日付け手続補正書の特許請求の範囲の請求項１に記載の、
「被描画体をレーザビームでもって走査させつつ該被描画体に対するレーザビームの変調をラスタデータに基づいて所定の周波数のクロックパルスに従って制御して描画を行うレーザ描画装置であって、
　前記被描画体の寸法値を基準寸法値と比較してその寸法差及びその大小関係を判別する寸法判別手段と、
　前記寸法差に従って定められる所定の間隔だけレーザビームの走査が進む毎に、前記クロックパルスの位相を前記大小関係に応じて正側及び負側のいずれか一方へ順次シフトさせ、かつ前記クロックパルスの位相シフトによる画素の全シフト量を前記寸法差に実質的に一致させるように前記クロックパルスの出力を制御するクロックパルス出力制御手段と
　を具備して成るレーザ描画装置。」が、
　
「被描画体をレーザビームでもって走査させつつ該被描画体に対するレーザビームの変調をラスタデータに基づいて所定の周波数のクロックパルスに従って制御して描画を行うレーザ描画装置であって、
　前記被描画体の寸法値を基準寸法値と比較してその寸法差及びその大小関係を判別する寸法判別手段と、
　前記寸法差に従って定められる所定の間隔だけレーザビームの走査が進む毎に、前記クロックパルスの位相を前記大小関係に応じて正側及び負側のいずれか一方へ順次シフトさせ、かつ前記クロックパルスの位相シフトによる画素の全シフト量を前記寸法差に実質的に一致させるように前記クロックパルスの出力を制御するクロックパルス出力制御手段とを具備し、
　前記クロックパルス出力制御手段が、前記寸法差が大きければ大きいほど前記所定の間隔が短くなるように、前記クロックパルスの位相を順次シフトさせていくことを特徴とするレーザ描画装置。」と補正された。
　
　上記の本件補正による特許請求の範囲の請求項１における補正は、クロックパルス制御手段の制御内容を「前記寸法差が大きければ大きいほど前記所定の間隔が短くなるように、前記クロックパルスの位相を順次シフトさせていく」と限定したものであるから、いわゆる限定的減縮を目的としたものであるということができ、平成１８年法律第５５号改正附則第３条第１項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法（以下「平成１８年改正前特許法」という。）第１７条の２第４項第２号に掲げる事項を目的とするものということができる。
　そこで、本件補正によって補正された特許請求の範囲の請求項１に記載された発明（以下、「本願補正発明」という。）が特許出願の際独立して特許を受けることができるものであるか（平成１８年改正前特許法第１７条の２第５項において準用する特許法第１２６条第５項の規定に適合するか）について検討する。
　
２　特許法第３６条第６項第１号及び同条項第２号についての検討
（１）本願明細書には、【発明の詳細な説明】において、
「本発明によるレーザ描画装置にあっては、個々の被描画体の寸法変動に対して適正なスケーリング補正処理をラスタデータの一画素以下の単位で行うことが特徴とされる。」（【００３８】）
と記載されており、また、【００３９】以降の記載においても、スケーリング補正処理を、１画素分（５μｍ）より小さい０．５μｍシフトさせることにより行うことを前提にした実施例のみが記載されている。
　これに対して、本願補正発明においては、スケーリング補正処理（シフト）をラスタデータの一画素以下の単位で行うことが特定されておらず、また、それを示唆する特定もなく、特許請求の範囲の記載と発明の詳細な説明の記載が整合していない。
　よって、本願補正発明は、発明の詳細な説明に記載したものであるということができない。
　
（２）本願補正発明には、
「前記クロックパルス出力制御手段が、前記寸法差が大きければ大きいほど前記所定の間隔が短くなるように、前記クロックパルスの位相を順次シフトさせていく」
ことが特定されているが、発明の詳細な説明においては、上記特定について何ら記載されておらず、また、実施例も上記所定の距離を２５０μｍとするもののみが記載されているだけであり、特許請求の範囲の記載と発明の詳細な説明の記載が整合していない。
　よって、本願補正発明は、発明の詳細な説明に記載したものであるということができず、また、明確でない。
　
３　特許法第２９条第２項（発明の進歩性）についての検討
（１）本願補正発明について
　本願補正発明は、平成１９年９月２７日付け手続補正書でなされた手続補正により補正された特許請求の範囲の請求項１に記載されたとおりのものである（上記「１　本件補正について」の記載参照）。
　
（２）引用例
ア　引用例１
　原査定の拒絶の理由に引用され、本願の出願前に頒布された刊行物である特公平４−７６２９号公報（以下、「引用例１」という。）には、図面の記載とともに以下の事項が記載されている。（下記の「イ　引用例１に記載された発明の認定」において直接引用した箇所に下線を付した。）
　
「本発明に係るパターン描画装置は、
描画ビームの一走査線を画素化したとき、その各画素を描画データに基づき描画ビームで照射又は非照射することにより、対象物にパターンを描画する装置において、１走査期間内に、走査線中の画素数に対応したパルス数の描画パルス列を発生すると共に、
前記描画パルス列の各パルスの周期を１画素として描画する
  以下、本発明の実施例を図面に基づいて説明する。
  第１図は本発明の一実施例に係るパターン描画装置の斜視図である。
  
レーザ光源１から出たレーザビームは、
１次元移動ステージ８上の感光材９の上に結像し、光変調器２の働きにより明滅しながら、矢印１０の出力（ｘ方向）に直線走査される。
ステージ８が矢印１０と直角方向（ｙ方向）に移動するので、２次元のパターンが感光材９上に描画される
　
「レーザ走査同期検出器１６の出力は、プリアンプ２１を経てコンパレータ２２によつて論理値「１」又は「０」のデジタル信号３８ａとなり、信号３８ａが「１」の場合は、タイマ（以下TMと略す）２３により微小時間Tm遅延された信号CLとなる。このTM２３による遅延時間Tmは、レーザ走査同期検出器１６にレーザスポツトが入射してから実際に描画を始めるまでの時間差に相当する時間を与えるためのものである。この遅延信号CLは、オア回路２４に供給されると共に、後述する５進カウンタ（以下CCと略す）３９及びカウンタ（以下CBと略す）３６に供給される。
カウンタ（以下CAと略す）２５
ラツチ回路（以下LTと略す）２６
CA２５は、発振器２７からのクロツク信号CKをLT２６でプリセツトされたデータからカウントダウンし、カウント値が零になつたならば零信号２８を出力する。
  一方、LT２６には、描画装置の外部から、リセツトデータ２９が供給されている。
また、描画装置の外部からは、パターンの伸縮のための符号信号３０が、
供給される。
　
「さて、
実際のパターン描画に際し、描画パターンを0.01％走査方向に長くする場合の動作について説明する。尚、１走査線は10000画素とする。この場合は、レーザスポツトが発振器２７のクロツク信号CKにして10001個で描画される走査線の長さを、描画パルス信号４４の10000パルス（10000画素）で描画パターンを描けばよい。すなわち、CKDL４１によつてクロツク信号CKの10000クロツクのうち、離散的な５ケ所で１クロツクの周期を1/5周期分だけ長くした描画パルス信号４２を作ればよい。そこで、まずデータ２９として、10000/5＝2000をLT２６に入力する。
  第６図は、第２図中のCA２５のカウントと零信号２８との関係を示したタイムチヤートである。
CA２５は、LT２６を介してプリセツトデータとして2000がプリセツトされる。
  さて、このように
CA２５が、信号CLに応答してクロツク信号CKの計数を開始する
零信号２８が出力された時、描画パルス信号４２はクロツク信号CK、そのものである信号５２Ａから、クロツク信号CKに対して1/5周期遅れた信号５２Ｂに切替えられる。
  第７図は、その動作を示したタイムチヤートである。信号５２Ａ〜５２Ｅは、それぞれ周期TP、デユーテイ50％のクロツク信号であり、これらの信号は時間θ、すなわちTP／５ずつずれている。CKDL４１は、これらの信号のうち１つを選択して取り出すので、デコーダ４０の出力が端子４０Ａから４０Ｂへ破線７０の時点で
切替わると、
パルスの１つ分の長さT
７１
がTP／５だけ長くなるが、それ以後のパルス列は信号５２Ａに対してθだけ位相が遅れたまま規則的に続く。
  さて、CA２５は、クロツク信号CKが2000個供給される度に１個の零信号２８を出力し、CC３９のカウント出力値はクロツク信号CKが10000個供給される間に５回、零信号２８を出力するので、順次、カウントアツプし、デコーダ４０の出力も零信号２８の発生に応答して順次４０Ａ→４０Ｂ→４０Ｃ→４０Ｄ→４０Ｅ→４０Ａと変化する。このため、CKDL４１からの描画パルス信号４２は、第７図中、信号５２Ａ→５２Ｂ→５２Ｃ→５２Ｄ→５２Ｅ→５２Ａと順次切替えられる。もちろん、
各切替えのタイミングにおける１パルスは1/5周期だけ他のパルスの周期TPよりも長くなつている。
　
「
このように、１走査線中の画素数（10000）に対応したパルス数から成る出力信号４４のうち、離散的な（2000パルス毎）５パルスの周期が1/5周期だけ長くなる。その結果スケーリングを行なわない１走査線に対して、１画素分長い１走査線としてパターンが描画され、走査方向に、0.01％だけ拡大されたパターンが描画される。
  さて、
パターンを縮小させる場合には、
  今、デコーダ４０の出力が信号４０Ａから４０Ｅへ
切替わると、
パルス間隔が１つだけT
７２
となつてTP／５だけ短くなるが、それ以後のパルス列は信号５２Ａに対してθだけ位相が進んだまま規則的に続く。
　このように、
符号信号３０の正負（論理値「０」、「１」）によつて
描画パターンが伸び、
縮むことになる。
　
「
さらに、上記実施例でLT２６にプリセツトデータとして1000を入力しておくと、１走査線の走査開始から1000画素毎に、１画素分の長さが1/5周期分だけ伸縮し、一走査線中、離散的な10画素分によつて、パターンの伸縮が行なわれる。このときパターンの伸縮は0.02％となる。
　
イ　引用例１に記載された発明の認定
　上記記載から、引用例１には、パターン描画装置に関し、
「レーザ光源１から出たレーザビームは、１次元移動ステージ８上の感光材９の上に結像し、光変調器２の働きにより明滅しながら、矢印１０の出力（ｘ方向）に直線走査され、ステージ８が矢印１０と直角方向（ｙ方向）に移動するので、２次元のパターンが感光材９上に描画される装置であって、
　描画ビームの一走査線を画素化したとき、その各画素を描画データに基づき描画ビームで照射又は非照射することにより、対象物にパターンを描画する装置において、
　１走査期間内に、走査線中の画素数に対応したパルス数の描画パルス列を発生すると共に、前記描画パルス列の各パルスの周期を１画素として描画し、
　実際のパターン描画に際し、描画パターンを0.01％走査方向に長くする場合の動作については、１走査線は10000画素とすると、レーザスポツトが発振器２７のクロツク信号CKにして10001個で描画される走査線の長さを、描画パルス信号４４の10000パルス（10000画素）で描画パターンを描けばよく、すなわち、CKDL４１によつてクロツク信号CKの10000クロツクのうち、離散的な５ケ所で１クロツクの周期を1/5周期分だけ長くした描画パルス信号４２を作ればよく、まずデータ２９として、10000/5＝2000をラッチ回路LT２６に入力し、
　カウンタCA２５は、発振器２７からのクロツク信号CKをLT２６でプリセツトされたデータからカウントダウンし、カウント値が零になつたならば零信号２８を出力するものであり、
　CA２５は、LT２６を介してプリセツトデータとして2000がプリセツトされ、
　CA２５が、信号CLに応答してクロツク信号CKの計数を開始した後に、
　零信号２８が出力された時、描画パルス信号４２はクロツク信号CK、そのものである信号５２Ａから、クロツク信号CKに対して1/5周期遅れた信号５２Ｂに切替えられ、
　切替わると、
　パルスの１つ分の長さT７１がTP／５だけ長くなるが、それ以後のパルス列は信号５２Ａに対してθだけ位相が遅れたまま規則的に続き、ここで、時間TP（１周期）は１つの画素の長さに対応したものであり、
　各切替えのタイミングにおける１パルスは1/5周期だけ他のパルスの周期TPよりも長くなつており、
　また、描画装置の外部からは、パターンの伸縮のための符号信号３０が、供給され、
　符号信号３０の正負（論理値「０」、「１」）によつて描画パターンが伸び、または、縮むことになり、
　パターンを縮小させる場合には、切替わると、パルス間隔が１つだけT７２となつてTP／５だけ短くなるが、それ以後のパルス列は信号５２Ａに対してθだけ位相が進んだまま規則的に続くものであり、
　このように、１走査線中の画素数（10000）に対応したパルス数から成る出力信号４４のうち、離散的な（2000パルス毎）５パルスの周期が1/5周期だけ長くなり、その結果スケーリングを行なわない１走査線に対して、１画素分長い１走査線としてパターンが描画され、走査方向に、0.01％だけ拡大されたパターンが描画され、
　さらに、上記実施例でLT２６にプリセツトデータとして1000を入力しておくと、１走査線の走査開始から1000画素毎に、１画素分の長さが1/5周期分だけ伸縮し、一走査線中、離散的な10画素分によつて、パターンの伸縮が行なわれ、このときパターンの伸縮は0.02％となるパターン描画装置。」の発明（以下、「引用発明」という。）が記載されている。
　
ウ　引用例２
　原査定の拒絶の理由に引用され、本願の出願前に頒布された刊行物である特開昭６２−１２４９９９号公報（以下、「引用例２」という。）には、図面の記載とともに以下の事項が記載されている。
「第１図において、プリント基板９には、複数部分例えば４つの隅部に断面円形状の貫通孔２１、２２、２３、２４が穿設され、これと対応するように、テーブル１０には伸縮のないプリント基板９を所定の位置に位置ずれなく正確に取り付けた際に、各貫通孔２１、２２、２３、２４と中心軸を同じくする検出部３１、３２、３３、３４が設けられている。
　検出部３１〜３４は互いに同じ構成を有し、第２図に示すように、例えば貫通孔２１の上方に当該検出部の光源としてのランプＰ１及びランプＰｌの光を平行光線にして貫通孔２１に導くためのレンズＬ１を有し、貫通孔２１を通った光を集光レンズＬ２を通じてセンサＳＥ上に投射することにより、貫通孔２１の像をセンサＳＥ上に結像させるようになされている。」（第３ページ右上欄第１８行〜同ページ左下欄第１４行）
　
「これに対して、第４図に示すように、貫通孔２１の位置がセンサＳＥの中心点０１よりずれると、そのずれた方向及びずれ量を表す電圧出力Ｖａ〜Ｖｄを発生する。例えば、貫通孔２１がＸ方向に移動すると、センサＳＥ上に導かれた像Ｍは貫通孔２１の移動方向と逆方向に移動し、これにより各光センサＳＥａ〜ＳＥｄは像Ｍの面積Ｓａ、Ｓｂ、Ｓｃ、Ｓｄに比例した電圧Ｖａ、、Ｖｂ、Ｖｃ、Ｖｄを出力する。従って、像Ｍの移動方向及び移動量を表すΔＵｘは、像Ｍの面積（（Ｓｂ−Ｓｄ）／　（Ｓｂ＋Ｓｄ））に比例することから、貫通孔２１の移動方向及び移動量を表すΔｔｘは、電圧Ｖａ〜Ｖｄを用いて表すことができる。」（第４ページ左上欄第４−１６行）
　
「以上のように、演算回路３６は、センサＳＥの出力電圧に基づいて各貫通孔２１〜２４の検出部３１〜３４に対するずれ量及び方向を求めて、当該ずれ量及び方向からプリント基板９の変形量及びずれ方向、ずれ量を算出して各補正データＤＸ、ＤＹ、Ｄθを出力する。
　描画制御回路３９は、Ｘ方向の補正データＤＸに基づいて、光ビーム変調走査系４０に含まれる光変調器３（第９図）及び回転多面鏡６（第９図）のタイミングを変化させて、プリント基板９上のＸ方向の描画開始点を移動することによりＸ方向のずれを補正する。またプリント基板９のＸ方向の変形を補正する場合は、例えば特開昭５９−１７８０７２号公報に開示の手法を用いて、作図データＩＭＤＡのクロックレートを伸縮率αＸに応じて僅かに変更することによりプリント基板９の変形を補正するような描画を行う。」（第６ページ右上欄第８行〜同ページ左下欄第５行）
　
（３）本願補正発明と引用発明の対比
ア　ここで、本願補正発明と引用発明とを対比する。
　
　引用発明の「レーザ光源１から出たレーザビームは、１次元移動ステージ８上の感光材９の上に結像し、光変調器２の働きにより明滅しながら、矢印１０の出力（ｘ方向）に直線走査され、ステージ８が矢印１０と直角方向（ｙ方向）に移動するので、２次元のパターンが感光材９上に描画される装置であって、描画ビームの一走査線を画素化したとき、その各画素を描画データに基づき描画ビームで照射又は非照射することにより、対象物にパターンを描画する装置において、１走査期間内に、走査線中の画素数に対応したパルス数の描画パルス列を発生すると共に、前記描画パルス列の各パルスの周期を１画素として描画」する装置が、本願補正発明の「被描画体をレーザビームでもって走査させつつ該被描画体に対するレーザビームの変調をラスタデータに基づいて所定の周波数のクロックパルスに従って制御して描画を行うレーザ描画装置」に相当する。
　
　引用発明において「CA２５は、LT２６を介してプリセツトデータとして2000がプリセツトされ、CA２５が、信号CLに応答してクロツク信号CKの計数を開始した後に、零信号２８が出力された時」は、１走査線の10000画素を（離散的な）５箇所で分けられた各2000画素分の走査が進んだとき（毎）のことであるから、引用発明の「CA２５は、LT２６を介してプリセツトデータとして2000がプリセツトされ、CA２５が、信号CLに応答してクロツク信号CKの計数を開始した後に、零信号２８が出力された時」は、本願補正発明の「所定の間隔だけレーザビームの走査が進む毎」に相当する。
　
　引用発明の「描画装置の外部からは、パターンの伸縮のための符号信号３０が、供給され、符号信号３０の正負（論理値「０」、「１」）によつて描画パターンが伸び、または、縮むことになり、」「描画パターンを0.01％走査方向に長くする場合・・・描画パルス信号４２はクロツク信号CK、そのものである信号５２Ａから、クロツク信号CKに対して1/5周期遅れた信号５２Ｂに切替えられ、切替わると、パルスの１つ分の長さT７１がTP／５だけ長くなるが、それ以後のパルス列は信号５２Ａに対してθだけ位相が遅れたまま規則的に続き、」「パターンを縮小させる場合には、切替わると、パルス間隔が１つだけT７２となつてTP／５だけ短くなるが、それ以後のパルス列は信号５２Ａに対してθだけ位相が進んだまま規則的に続くもの」であることと、本願補正発明の「前記クロックパルスの位相を前記大小関係に応じて正側及び負側のいずれか一方へ順次シフトさせ」ることとは、「クロックパルスの位相を、被描画体の伸縮の方向性に応じて正側及び負側のいずれか一方へ順次シフトさせ」ることで一致する。
　
　引用発明は、「レーザスポツトが発振器２７のクロツク信号CKにして10001個で描画される走査線の長さを、描画パルス信号４４の10000パルス（10000画素）で描画パターンを描」くことを、「10000クロツクのうち、離散的な５ケ所で１クロツクの周期を1/5周期分だけ長く」して10000パルスによって10001（＝10000＋1/5×５）画素分の長さを走査することにより成そうしたものであり、それを実施するため、2000画素毎に1/5周期遅れた信号に切替えられ、切替わると、パルスの１つ分の長さがTP／５だけ長くなるが、それ以後のパルス列は位相が遅れたまま規則的に続くように処理し、このような処理を５箇所の各切り替えタイミングで行ったものであるから、引用発明は、「クロックパルスの位相シフトによる画素の全シフト量を描画パターンの伸縮量に実質的に一致させるように前記クロックパルスの出力を制御する」ものであるということができる。
　したがって、引用発明の「実際のパターン描画に際し、描画パターンを0.01％走査方向に長くする場合の動作については、１走査線は10000画素とすると、、レーザスポツトが発振器２７のクロツク信号CKにして10001個で描画される走査線の長さを、描画パルス信号４４の10000パルス（10000画素）で描画パターンを描けばよく、すなわち、CKDL４１によつてクロツク信号CKの10000クロツクのうち、離散的な５ケ所で１クロツクの周期を1/5周期分だけ長くした描画パルス信号４２を作ればよ」いことと、本願補正発明の「クロックパルスの位相シフトによる画素の全シフト量を前記寸法差に実質的に一致させるように前記クロックパルスの出力を制御する」こととは、「クロックパルスの位相シフトによる画素の全シフト量を被描画体の伸縮量に実質的に一致させるように前記クロックパルスの出力を制御する」ことで一致する。
　
　引用発明の「１走査線中の画素数（10000）に対応したパルス数から成る出力信号４４のうち、離散的な（2000パルス毎）５パルスの周期が1/5周期だけ長くなり、その結果スケーリングを行なわない１走査線に対して、１画素分長い１走査線としてパターンが描画され、走査方向に、0.01％だけ拡大されたパターンが描画され、さらに、上記実施例でLT２６にプリセツトデータとして1000を入力しておくと、１走査線の走査開始から1000画素毎に、１画素分の長さが1/5周期分だけ伸縮し、一走査線中、離散的な10画素分によつて、パターンの伸縮が行なわれ、このときパターンの伸縮は0.02％となる」ことは、0.01%拡大する場合は2000パルス毎にクロックパルスを長くする（シフトさせる）のに対して、0.02%拡大する場合は（すなわち、伸縮量が大きいほど）、1000パルス毎に（すなわち、所定の間隔が短くなるように）クロックパルスを長くする（シフトさせる）ことを意味しているから、引用発明の「１走査線中の画素数（10000）に対応したパルス数から成る出力信号４４のうち、離散的な（2000パルス毎）５パルスの周期が1/5周期だけ長くなり、その結果スケーリングを行なわない１走査線に対して、１画素分長い１走査線としてパターンが描画され、走査方向に、0.01％だけ拡大されたパターンが描画され、さらに、上記実施例でLT２６にプリセツトデータとして1000を入力しておくと、１走査線の走査開始から1000画素毎に、１画素分の長さが1/5周期分だけ伸縮し、一走査線中、離散的な10画素分によつて、パターンの伸縮が行なわれ、このときパターンの伸縮は0.02％となる」ことと、本願補正発明の「前記クロックパルス出力制御手段が、前記寸法差が大きければ大きいほど前記所定の間隔が短くなるように、前記クロックパルスの位相を順次シフトさせていく」こととは、「クロックパルス出力制御手段が、被描画体の伸縮量が大きければ大きいほど所定の間隔が短くなるように、クロックパルスの位相を順次シフトさせていく」ことで一致する。
　また、上記より、引用発明では、「所定の間隔」は、被描画体の伸縮量に従って定められるといえるから、引用発明の「１走査線中の画素数（10000）に対応したパルス数から成る出力信号４４のうち、離散的な（2000パルス毎）５パルスの周期が1/5周期だけ長くなり、その結果スケーリングを行なわない１走査線に対して、１画素分長い１走査線としてパターンが描画され、走査方向に、0.01％だけ拡大されたパターンが描画され、さらに、上記実施例でLT２６にプリセツトデータとして1000を入力しておくと、１走査線の走査開始から1000画素毎に、１画素分の長さが1/5周期分だけ伸縮し、一走査線中、離散的な10画素分によつて、パターンの伸縮が行なわれ、このときパターンの伸縮は0.02％となる」ことと、本願補正発明の「所定の間隔」が「前記寸法差に従って定められる」こととは、「所定の間隔」が「被描画体の伸縮量に従って定められる」ことで一致する。
　
イ　本願補正発明と引用発明の一致点
　したがって、本願補正発明と引用発明とは、
「被描画体をレーザビームでもって走査させつつ該被描画体に対するレーザビームの変調をラスタデータに基づいて所定の周波数のクロックパルスに従って制御して描画を行うレーザ描画装置であって、
　被描画体の伸縮量に従って定められる所定の間隔だけレーザビームの走査が進む毎に、前記クロックパルスの位相を被描画体の伸縮の方向性に応じて正側及び負側のいずれか一方へ順次シフトさせ、かつ前記クロックパルスの位相シフトによる画素の全シフト量を前記被描画体の伸縮量に実質的に一致させるように前記クロックパルスの出力を制御するクロックパルス出力制御手段とを具備し、
　前記クロックパルス出力制御手段が、前記被描画体の伸縮量が大きければ大きいほど前記所定の間隔が短くなるように、前記クロックパルスの位相を順次シフトさせていくレーザ描画装置。」の発明である点で一致し、次の点で相違する。
　
ウ　本願補正発明と引用発明の相違点
　本願補正発明は「被描画体の寸法値を基準寸法値と比較してその寸法差及びその大小関係を判別する寸法判別手段」を具備し、該寸法判別手段で判別された被描画体の寸法値と基準寸法値の「寸法差」、及び、「大小関係」によって被描画体の伸縮量、及び、被描画体の伸縮の方向性を特定するのに対し、引用発明においてはそのような限定がなされていない点。
　
（４）当審の判断
ア　次に、上記相違点について検討する。
　引用例２には、プリント基板９の４隅に穿設された貫通孔２１−２４の位置の、該各貫通孔と対応するテーブル１０の検出部３１−３４の中心点の位置に対するずれ量及び方向を求めて、補正データを出力する手段が記載されている。そして、引用例２の４隅の貫通孔２１−２４間の寸法が本願補正発明の「被描画体の寸法値」に相当し、引用例２の検出部３１−３４の各センサの中心点間の寸法が本願補正発明の「基準寸法値」に相当し、引用例２の「ずれ量及び方向」が本願補正発明の「寸法差及び大小関係」に相当するから、引用例２には、上記相違点１の「被描画体の寸法値を基準寸法値と比較してその寸法差及びその大小関係を判別する寸法判別手段」と同等の機能を有するものが記載されているといえる。
　そして、引用例２には、「プリント基板９のＸ方向の変形を補正する場合は、例えば特開昭５９−１７８０７２号公報に開示の手法を用いて」と記載されているが、「特開昭５９−１７８０７２号公報」は、特許出願公告公報である引用例１に係る特許出願の特許出願公開公報であるから、実質的に引用例１と同じ発明が記載されているといえる。したがって、引用例２には、引用例２に記載された上記手段を引用例１に適用することが示唆されているから、引用例２に記載された上記手段を引用発明に適用することは当業者が容易になし得たことである。
　したがって、上記相違点に係る本願補正発明の発明特定事項は、引用例２に記載された事項から、当業者が容易に想到し得ることである。
　
イ　そして、本願補正発明によってもたらされる効果は、引用発明及び引用例２に記載された発明から当業者が予測し得る程度のものである。
　
ウ　したがって、本願補正発明は、引用発明及び引用例２に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明することができたものである。
　
４　むすび
　以上のとおり、本願補正発明は、発明の詳細な説明に記載したものであるということができず、また、明確でないから、特許法第３６条第６項第１号及び同条項第２号の規定に違反しており、本願補正発明は特許を受けることができない。
　また、本願補正発明は、引用発明及び引用例２に記載された発明に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　したがって、本願補正発明は、特許出願の際独立して特許を受けることができるものではないから、平成１８年改正前特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項の規定に違反するものであり、本件補正は、同法第５３条第１項の規定によって却下されるべきものである。
　
第３　本願発明について
１　本願発明
　本件補正は、上記のとおり却下されたので、本願の請求項１に係る発明（以下、「本願発明」という。）は、平成１８年４月２１日付け手続補正書でなされた手続補正により補正された特許請求の範囲の請求項１に記載されたとおりのものである（「第２　平成１９年９月２７日付けの手続補正についての補正の却下の決定について」の「１　本件補正について」の記載参照）。
　
２　引用例
　原査定の拒絶の理由に引用された刊行物の記載事項及び引用発明については、上記「第２　平成１９年９月２７日付けの手続補正についての補正の却下の決定について」の「３　特許法第２９条第２項（発明の進歩性）についての検討」の「（２）引用例」に記載したとおりである。
　
３　対比・判断
　本願発明は、本願補正発明における、クロックパルス制御手段の制御内容について「前記寸法差が大きければ大きいほど前記所定の間隔が短くなるように、前記クロックパルスの位相を順次シフトさせていく」という限定を省いたものである。
　そうすると、本願発明の発明特定事項をすべて含み、さらに他の発明特定事項を付加したものに相当する本願補正発明が、上記「第２　平成１９年９月２７日付けの手続補正についての補正の却下の決定について」の「３　特許法第２９条第２項（発明の進歩性）についての検討」において記載したとおり、引用発明及び引用例２に記載された発明に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、本願発明も、同様に、引用発明及び引用例２に記載された発明に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものである。
　
４　むすび
　以上のとおり、本願発明は、引用発明及び引用例２に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により、特許を受けることができない。
　
　よって、結論のとおり審決する。