(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の基板と、第２の基板と、該第１および第２の基板の間に挟持された液晶層とを有し、
該第１の基板は、複数の着色樹脂層を有するカラーフィルタ層と、該液晶層を複数の液晶領域に分割するとともに、該複数の液晶領域の中央部に対応する該複数の着色樹脂層の中央部に存在しないように、該複数の着色樹脂層の内の隣接する２つの着色樹脂層の境界部分を覆う高分子壁と、該高分子壁にて分割された複数の液晶領域に対応する該着色樹脂層および該高分子壁の少なくとも一部を覆う透明電極とを有し、
該複数の液晶領域内の液晶分子は、少なくとも電圧印加時に、該第１の基板の表面に垂直な軸を中心に軸対称配向する、カラー液晶表示装置。
【請求項２】
前記高分子壁は、前記第１の基板の表面に対して傾斜した面を有する請求項１に記載のカラー液晶表示装置。
【請求項３】
前記高分子壁の前記傾斜した面の前記第１の基板の表面に対する角度は、３度以上かつ４５度以下である請求項３に記載のカラー液晶表示装置。
【請求項４】
前記高分子壁は、感光性樹脂で形成されている請求項１から３のいずれかに記載のカラー液晶表示装置。
【請求項５】
前記高分子壁は、透明樹脂で形成されている請求項１から４に記載のカラー液晶表示装置。
【請求項６】
前記高分子壁の少なくとも一部の前記液晶層側の表面に柱状突起をさらに有し、該高分子壁と該柱状突起とによって、前記第１および第２の基板の間隔が規定されている、請求項１から５のいずれかに記載のカラー液晶表示装置。
【請求項７】
前記第１の基板は、前記高分子壁を覆う二酸化珪素層を有し、前記透明電極は該二酸化珪素層上に形成されている、請求項１から６のいずれかに記載のカラー液晶表示装置。
【請求項８】
前記高分子壁の少なくとも一部の前記液晶層側の表面に柱状突起をさらに有し、該高分子壁と該柱状突起とによって、前記第１および第２の基板の間隔が規定されており、該柱状突起は、該二酸化珪素層上に形成されている、請求項７に記載のカラー液晶表示装置。
【請求項９】
前記高分子壁の少なくとも一部の前記液晶層側の表面に柱状突起をさらに有し、該高分子壁と該柱状突起とによって、前記第１および第２の基板の間隔が規定されており、
該高分子壁および該柱状突起の前記液晶層側の表面に、二酸化珪素層が形成されている、請求項１から５のいずれかに記載のカラー液晶表示装置。
【請求項１０】
前記高分子壁および前記柱状突起の前記液晶層側の表面と、前記二酸化珪素層との間に、窒化珪素層をさらに有する、請求項９に記載のカラー液晶表示装置。
【請求項１１】
第１の基板と、第２の基板と、該第１及び第２の基板の間に挟持された液晶層とを有し、該液晶層が高分子壁によって分割された複数の液晶領域を有する、液晶表示装置の製造方法であって、
該第１の基板上に、複数の着色層を有するカラーフィルタ層を形成する工程と、
該カラーフィルタ層上に感光性樹脂からなる高分子層を形成する工程と、
該高分子層をフォトリソグラフィ法を用いてパターニングして、該液晶層を複数の液晶領域に分割するとともに、複数の液晶領域の中央部に対応する複数の着色樹脂層の中央部に存在しないように、該複数の着色樹脂層の内の隣接する２つの着色樹脂層の境界部分を覆う該高分子壁を形成する工程と、
該高分子壁を形成した該第１の基板上に透明導電層を形成する工程と、
該透明導電層をパターニングして、該高分子壁にて分割された該複数の液晶領域に対応する着色樹脂層および該高分子壁の少なくとも一部を覆う透明電極を形成する工程と、
を包含する、カラー液晶表示装置の製造方法。
【請求項１２】
前記高分子壁上に二酸化珪素層を形成する工程を更に有し、
前記透明導電層は、該二酸化珪素層を形成した該第１の基板上に形成され、該二酸化珪素層上に形成された該透明導電層を選択的にエッチングすることによって、前記透明電極を形成する、請求項１１に記載のカラー液晶表示装置の製造方法。
【請求項１３】
前記高分子壁の少なくとも一部の前記液晶層側の表面に、柱状突起を形成する工程をさらに有し、
該柱状突起は、前記透明導電層の選択的エッチングによって露出された前記二酸化珪素層上に形成される、請求項１２に記載のカラー液晶表示装置の製造方法。
【請求項１４】
前記高分子壁の少なくとも一部の前記液晶層側の表面に、柱状突起を形成する工程をさらに有し、
該高分子壁および該柱状突起の前記液晶層側の表面に、二酸化珪素層を形成する工程をさらに包含する、請求項１２に記載のカラー液晶表示装置の製造方法。
【請求項１５】
前記高分子壁および前記柱状突起の前記液晶層側の表面と、前記二酸化珪素層との間に、窒化珪素層を形成する工程をさらに包含する、請求項１４に記載のカラー液晶表示装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、カラー液晶表示装置およびその製造方法に関する。特に、高分子壁によって分割された液晶領域内に軸対称配向した液晶分子を有するカラー液晶表示装置およびその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来、電気光学効果を用いた表示装置として、ネマティック液晶を用いたＴＮ（ツイスティッドネマティック）型や、ＳＴＮ（スーパーツイスティッドネマティック）型の液晶表示装置が用いられている。これらの液晶表示装置の視野角を広くする技術の開発が精力的に行われている。
【０００３】
これまでに提案されているＴＮ型液晶表示装置の広視野角化技術の１つとして、特開平６−３０１０１５号公報および特開平７−１２０７２８号公報には、高分子壁によって分割された液晶領域内に軸対称配向した液晶分子を有する液晶表示装置、いわゆるＡＳＭ（Ａｘｉａｌｌｙ  Ｓｙｍｍｅｔｒｉｃａｌｌｙ  ａｌｉｇｎｅｄ  Ｍｉｃｒｏｃｅｌｌ）モードの液晶表示装置が開示されている。高分子壁で実質的に包囲された液晶領域は、典型的には、絵素毎に形成される。ＡＳＭモードの液晶表示装置は、液晶分子が軸対称配向しているので、観察者がどの方向から液晶表示装置を見ても、コントラストの変化が少なく、すなわち、広視野角特性を有する。
【０００４】
上記の公報に開示されているＡＳＭモードの液晶表示装置は、重合性材料と液晶材料との混合物を重合誘起相分離させることによって製造される。
【０００５】
図１０を参照しながら、従来のＡＳＭモードの液晶表示装置の製造方法を説明する。まず、ガラス基板９０８の片面にカラーフィルタおよび電極を形成した基板を用意する（工程（ａ））。なお、簡単さのために、ガラス基板９０８の上面に形成されている電極およびカラーフィルタは図示していない。なお、カラーフィルタの形成方法は後述する。
【０００６】
次に、ガラス基板９０８の電極およびカラーフィルタが形成されている面に、液晶分子を軸対称配向させるための高分子壁９１７を、例えば、格子状に形成する（工程（ｂ））。感光性樹脂材料をスピン塗布した後、所定のパターンを有するフォトマスクを介して露光し、現像することによって、格子状の高分子壁を形成する。感光性樹脂材料は、ネガ型でもポジ型でもよい。また、別途レジスト膜を形成する工程が増えるが、感光性の無い樹脂材料を用いて形成することができる。
【０００７】
得られた高分子壁９１７の一部の頂部に、柱状突起９２０を離散的にパターニング形成する（工程（ｃ））。柱状突起９２０も感光性着色樹脂材料を露光・現像することにより形成される。
【０００８】
高分子壁９１７および柱状突起９２０が形成されたガラス基板の表面をポリイミド等の垂直配向剤９２１で被覆する（工程（ｄ））。一方、電極を形成した対向側ガラス基板９０２上も垂直配向剤９２１で被覆する（工程（ｅ）及び（ｆ））。
【０００９】
電極を形成した面を内側にして、得られた２枚の基板を貼り合わせ、液晶セルを形成する（工程（ｇ））。２枚の基板の間隔（セルギャップ；液晶層の厚さ）は、高分子壁９１７と柱状突起９２０の高さの和によって規定される。
【００１０】
得られた液晶セルの間隙に真空注入法などにより、液晶材料を注入する（工程（ｈ））。最後に、例えば、対向配設された一つの電極間に電圧を印加することによって、液晶領域９１５内の液晶分子を軸対称に配向制御する（工程（ｉ））。高分子壁９１７によって分割された液晶領域内の液晶分子は、図１３中の破線で示す軸９１６（両基板に垂直）を中心に軸対称配向する。
【００１１】
図１１に、従来カラーフィルタの断面構造を示す。ガラス基板上に着色パターン間の隙間を遮光するためのブラックマトリクス（ＢＭ）と、各絵素に対応した赤・緑・青（Ｒ・Ｇ・Ｂ）の着色樹脂層が形成されている。これらの上に、平滑性の改善などのためにアクリル樹脂やエポキシ樹脂からなる厚さ約０．５〜２．０μｍのオーバーコート（ＯＣ）層が形成されている。さらにこの上に、透明の信号電極のインジウム錫酸化物（ＩＴＯ）膜が形成されている。ＢＭ膜は、一般に、膜厚が約１００〜１５０ｎｍの金属クロム膜からなる。着色樹脂層には樹脂材料を染料や顔料で着色したものが用いられ、その膜厚は約１〜約３μｍが一般的である。
【００１２】
カラーフィルタの形成方法としては、基板上に形成した感光性の着色樹脂層をフォトリソグラフィ技術を用いてパターニングする方法が用いられる。例えば、赤（Ｒ）・緑（Ｇ）・青（Ｂ）のそれぞれの色の感光性着色樹脂材料を用いて、感光性着色樹脂の形成・露光・現像をそれぞれ（合計３回）行うことによって、Ｒ・Ｇ・Ｂのカラーフィルタを形成することができる。感光性の着色樹脂層を形成する方法は、液状の感光性着色樹脂材料（溶剤で希釈したもの）をスピンコート法等で基板に塗布する方法や、ドライフィルム化された感光性着色樹脂材料を転写する方法がある。このようにして形成したカラーフィルタを用いて、前述のＡＳＭモードの液晶表示装置を作製することにより、広視野角特性を有するカラー液晶表示装置が得られる。
【００１３】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上述のＡＳＭモードの液晶表示装置およびその製造方法をカラー液晶表示装置に適用する場合、以下の課題がある。
【００１４】
上述したように、従来は、カラーフィルタ層の各色の着色樹脂層を形成した後、オーバーコート層を形成し、その後にＩＴＯ膜の成膜・パターニングを行っていた。このオーバーコート層は、カラーフィルタ層の表面が平坦でない個所（赤・緑・青の各着色樹脂層が隣接する境界部分、すなわち各着色樹脂層とブラックマトリクスとの重なりの部分）の段差を平坦化し、ＩＴＯ透明電極の成膜時の段切れ（断線）の発生を防止するため、及び、ＩＴＯ膜をエッチングすることによってパターニングする工程において、赤・緑・青の各着色樹脂層がＩＴＯのエッチャント（例えば、王水、塩化第２鉄）に腐食されることを防止するために設けられている。
【００１５】
しかしながら、オーバーコート層自体が、光を若干吸収するために、透過率が下がり表示明るさが低下するという課題がある。また、電極上に高分子壁が形成されていると、高分子壁の容量的ふるまいによって、液晶層に印加される実質的な電圧が低下する。また、液晶層に印加される電圧の保持率（以下、電圧保持率と呼ぶ）が低下するという問題がある。さらに、電圧保持率の低下は、表示時の焼き付き残像をよりひどく引き起こす傾向にあることがわかり、信頼性面で課題があることもわかってきた。
【００１６】
本発明は、上記の課題を解決するためになされたものであり、信頼性に優れ、かつ、透過率が向上したカラー液晶表示装置を提供すること、及び、このようなカラー液晶表示装置の効率の高い製造方法を提供することを目的とする。
【００１７】
【課題を解決するための手段】
本発明のカラー液晶表示装置は、第１の基板と、第２の基板と、該第１および第２の基板の間に挟持された液晶層とを有し、該第１の基板は、複数の着色樹脂層を有するカラーフィルタ層と、該液晶層を複数の液晶領域に分割するとともに、該複数の液晶領域の中央部に対応する該複数の着色樹脂層の中央部に存在しないように、該複数の着色樹脂層の内の隣接する２つの着色樹脂層の境界部分を覆う高分子壁と、該高分子壁にて分割された複数の液晶領域に対応する該着色樹脂層および該高分子壁の少なくとも一部を覆う透明電極とを有し、該複数の液晶領域内の液晶分子は、少なくとも電圧印加時に、該第１の基板の表面に垂直な軸を中心に軸対称配向する、構成を有し、そのことによって上記目的が達成される。
前記高分子壁は、前記第１の基板の表面に対して傾斜した面を有することが好ましい。
前記高分子壁の前記傾斜した面の前記第１の基板の表面に対する角度は、３度以上かつ４５度以下であることが好ましい。
前記高分子壁は、感光性樹脂で形成されていることが好ましい。
前記高分子壁は、透明樹脂で形成されていることが好ましい。
前記高分子壁の少なくとも一部の前記液晶層側の表面に柱状突起をさらに有し、該高分子壁と該柱状突起とによって、前記第１および第２の基板の間隔が規定されている、構成としてもよい。
前記第１の基板は、前記高分子壁を覆う二酸化珪素層を有し、前記透明電極は該二酸化珪素層上に形成されていることが好ましい。
前記高分子壁の少なくとも一部の前記液晶層側の表面に柱状突起をさらに有し、該高分子壁と該柱状突起とによって、前記第１および第２の基板の間隔が規定されており、該柱状突起は、該二酸化珪素層上に形成されている構成としてもよい。
前記高分子壁の少なくとも一部の前記液晶層側の表面に柱状突起をさらに有し、該高分子壁と該柱状突起とによって、前記第１および第２の基板の間隔が規定されており、該高分子壁および該柱状突起の前記液晶層側の表面に、二酸化珪素層が形成されている、構成としてもよい。
前記高分子壁および前記柱状突起の前記液晶層側の表面と、前記二酸化珪素層との間に、窒化珪素層をさらに有してもよい。
本発明のカラー液晶表示装置の製造方法は、第１の基板と、第２の基板と、該第１及び第２の基板の間に挟持された液晶層とを有し、該液晶層が高分子壁によって分割された複数の液晶領域を有する、液晶表示装置の製造方法であって、該第１の基板上に、複数の着色層を有するカラーフィルタ層を形成する工程と、該カラーフィルタ層上に感光性樹脂からなる高分子層を形成する工程と、該高分子層をフォトリソグラフィ法を用いてパターニングして、該液晶層を複数の液晶領域に分割するとともに、複数の液晶領域の中央部に対応する複数の着色樹脂層の中央部に存在しないように、該複数の着色樹脂層の内の隣接する２つの着色樹脂層の境界部分を覆う該高分子壁を形成する工程と、該高分子壁を形成した該第１の基板上に透明導電層を形成する工程と、該透明導電層をパターニングして、該高分子壁にて分割された該複数の液晶領域に対応する着色樹脂層および該高分子壁の少なくとも一部を覆う透明電極を形成する工程と、を包含し、そのことによって上記目的が達成される。
前記高分子壁上に二酸化珪素層を形成する工程を更に有し、前記透明導電層は、該二酸化珪素層を形成した該第１の基板上に形成され、該二酸化珪素層上に形成された該透明導電層を選択的にエッチングすることによって、前記透明電極を形成する、方法としてもよい。
前記高分子壁の少なくとも一部の前記液晶層側の表面に、柱状突起を形成する工程をさらに有し、該柱状突起は、前記透明導電層の選択的エッチングによって露出された前記二酸化珪素層上に形成される、方法としてもよい。
前記高分子壁の少なくとも一部の前記液晶層側の表面に、柱状突起を形成する工程をさらに有し、該高分子壁および該柱状突起の前記液晶層側の表面に、二酸化珪素層を形成する工程をさらに包含してもよい。
前記高分子壁および前記柱状突起の前記液晶層側の表面と、前記二酸化珪素層との間に、窒化珪素層を形成する工程をさらに包含してもよい。
【００３２】
以下作用について説明する。
【００３３】
本発明によると、各絵素の開口部分（中央部）にオーバーコート層が無い構造を実現できるため、従来構造に比べて、透過率が向上した表示明るさの向上したカラー液晶表示装置が得られる。本発明のカラー液晶表示装置の高分子壁は、液晶層を複数の液晶領域に分割し、液晶領域内の液晶分子を軸対称状に配向させるように機能するとともに、ブラックマトリクスの直上のカラーフイルタ層の表面段差を覆い、かつ、着色樹脂層の境界を後工程から保護する表面保護膜として機能する。従って、従来、カラーフィルタ層表面の段差の平坦化とカラーフィルタ層及びブラックマトリクスの保護のために設けていたオーバーコート層を省略することができる。また、高分子壁上に絵素電極が形成されており、絵素電極と対向電極との間には高分子壁が存在しないので、電圧保持率の低下を防止できる。
【００３４】
さらに、高分子壁は、基板の表面に対して傾斜した面（好ましくは３度以上かつ４５度以下の傾斜角）を有するので、液晶分子を安定に軸対称配向させるとともに、その上に形成される導電膜の段切れ不良の発生を抑制できる。
【００３５】
高分子壁を感光性樹脂で形成することによって、生産性の高いカラー液晶表示装置が提供される。また、高分子壁を透明樹脂で形成することによって、光の利用効率を更に向上することができる。
【００３６】
高分子壁を覆う二酸化珪素層を形成し、二酸化珪素層上に透明電極を形成することによって、高分子壁の表面が液晶材料と直接触れることがないため、高分子壁から不純物イオンが液晶層に溶出することを抑制、防止することができる。高分子壁の少なくとも一部の液晶層側の表面に柱状突起をさらに有する構成においては、柱状突起を二酸化珪素層上に形成することによって、柱状突起と高分子壁との接着性を改善することができる。
【００３７】
また、高分子壁および柱状突起の液晶層側の表面に二酸化珪素層を形成することによって、高分子壁および柱状突起から不純物イオンが液晶層に溶出するのを抑制・防止することができる。柱状突起の液晶層側の表面と、二酸化珪素層との間に、窒化珪素層をさらに形成することによって、不純物イオンの溶出を抑制・防止する効果を更に強めることができる。
【００３８】
本発明のカラー液晶表示装置の製造方法は、複数の着色樹脂層の内の隣接する２つの着色樹脂層の境界部分を覆う高分子壁を感光性樹脂を用いたフォトリソグラフィ法で形成するので、オーバーコート層の形成と高分子壁形成とを同時に行うことができるので、従来のＡＳＭモードを用いた液晶表示装置の製造方法に比べて、工程数の削減と、それに伴うコストダウン、さらに歩留りが向上する。
【００３９】
高分子壁上に二酸化珪素層を形成する工程を更に有するので、透明導電層を形成する工程において、透明導電層がエッチング除去された領域でも、高分子壁が液晶層に対して露出することが無くなる。
【００４０】
透明導電層の選択的エッチングによって露出された二酸化珪素層上に、柱状突起を形成することによって、接着性が改善され、柱状突起の剥がれを防止することができる。
【００４１】
また、高分子壁および柱状突起の液晶層側の表面に二酸化珪素層を形成することによって、高分子壁および柱状突起から不純物イオンが液晶層に溶出するのを抑制・防止することができる。柱状突起の液晶層側の表面と、二酸化珪素層との間に、窒化珪素層をさらに形成することによって、表面被覆効果をさらに強めることができる。二酸化珪素層、窒化珪素層及び透明導電層（ＩＴＯ層）は、雰囲気ガスやターゲットを変更するだけで、同一の装置内で連続に形成できるので、各層間が不純物で汚染されることを防止することができる。
【００４２】
【発明の実施の形態】
（実施形態１）
実施形態１の液晶表示装置１００を図１Ａ、図１Ｂ及び図１Ｃに示す。図１Ａは液晶表示装置１００の断面を模式的に示す。図１Ｂは上面図であり、図１Ａは図１ＢのＡ−Ａ’線に沿った断面図、図１Ｃは図１ＢのＢ−Ｂ’線に沿った断面図である。実施形態１においては、負の誘電異方性を有する液晶材料と垂直配向膜とを用いた構成を例示するが、本実施形態は、これらに限られない。
【００４３】
液晶表示装置１００は、カラーフィルタ基板１００ａと対向基板１００ｂと、その間に挟持された液晶層４０とを有している。カラーフィルタ基板１００ａは、以下の様に構成されている。ガラス基板等などの透明基板１０上に、ブラックマトリクス１４と赤、緑、青にそれぞれ対応する着色樹脂層１２ａ、１２ｂ、１２ｃを有するカラーフィルタ層１２が形成されている。
【００４４】
隣接する着色樹脂層の境界部（着色樹脂層１２ａと１２ｂとの間、および着色樹脂層１２ｂと１２ｃとの境界部）を覆うように、複数の高分子壁１８が形成されている。本発明による高分子壁１８は、液晶層を複数の液晶領域に分割し、液晶領域内の液晶分子を軸対称状に配向させるように機能するとともに、高分子壁１８は、ブラックマトリクス１４の直上のカラーフイルタ層１２の表面段差を覆い、かつ、着色樹脂層１２ａ、１２ｂ及び１２ｃの境界を後工程から保護する表面保護膜として機能する。また、図１Ａ〜１Ｃに示したように、高分子壁１８は、着色樹脂層１２ａ、１２ｂ及び１２ｃの中央部、すなわち、絵素領域の中央部には存在しないことが好ましい。絵素領域の中央部に存在すると、高分子壁１８が光を吸収するので、透過率を低下させる原因となることがある。
【００４５】
高分子壁１８は、基板面に対して傾斜した側面を有しており、液晶層４０を複数の液晶領域４０ａに分割するとともに、液晶分子４２を軸対称状に配向させる作用を有する。液晶領域４０ａは典型的には絵素領域に対応するように形成される。本発明の液晶表示装置においては、高分子壁１８上にＩＴＯからなる絵素電極２０が形成されている。図１Ａ〜１Ｃに示した例では、１つの絵素領域に対応するように、絵素電極２０が形成されている。絵素電極２０は、例えば、ＴＦＴ等のアクティブ素子（不図示）を用いてアドレスされる。複数の絵素電極間の間隙は、高分子壁１８上に形成されている。
【００４６】
絵素電極２０が形成された高分子壁１８の頂部に、液晶層４０（セルギャップ）を規定するための柱状突起２２が形成されている。柱状突起２２は、十分な強度が得られように、適当な密度で形成すればよい。これらを形成した基板１００ａの表面、少なくとも電極２０の表面には垂直配向膜（不図示）が形成されている。
【００４７】
対向基板１００ｂは、ガラス基板等などの透明基板３０上に、ＩＴＯからなる対向電極３２が形成されている。更に、対向電極３２を覆って、垂直配向膜（不図示）が形成されている。液晶層４０を駆動するための絵素電極２０および対向電極３２の構成は、上記に限られず、公知の電極構成および駆動方法を用いることができる。アクティブマトリクス型に限らず、単純マトリクス型も適用できる。
【００４８】
液晶表示装置１００の動作を図２（ａ）〜（ｄ）を参照しながら説明する。液晶領域４０ａに電圧を印加していない状態においては、図２（ａ）に示すように、液晶分子４２は、基板１００ａ及び１００ｂの液晶層側に形成された垂直配向膜（不図示）の配向規制力によって、基板面に垂直に配向する。この状態をクロスニコル状態の偏光顕微鏡で観察すると、図２（ｂ）に示す様に、暗視野１５となる（ノーマリーブラック状態）。液晶領域４０ａに中間調表示の電圧を印加すると、負の誘電異方性を有する液晶分子４２に、分子の長軸を電界の方向に対して垂直に配向させる力が働くので、図２（ｃ）に示すように基板面に垂直な方向から傾く（中間調表示状態）。このとき、高分子壁１８の作用によって、液晶領域４０ａ内の液晶分子４２は、図中の破線で示した軸を中心に、軸対称配向する。
この状態をクロスニコル状態の偏光顕微鏡で観察すると図２（ｄ）に示すように、偏光軸に沿った方向に消光模様が観察される。
【００４９】
本明細書において、軸対称配向とは、同心円状（ｔａｎｇｅｎｔｉａｌ）や放射状を含む。さらに、例えば、図３に示した渦巻き状配向も含む。この渦巻き状配向は、液晶材料にカイラル剤を添加してツイスト配向力を与えることによって得られる。液晶領域４０の上部４０Ｔおよび下部４０Ｂでは、図３（ｂ）に示したように渦巻き状に配向し、中央付近４０Ｍでは同心円状に配向しており、液晶層の厚さ方向に対してツイスト配向している。軸対称配向の中心軸は、一般に基板の法線方向にほぼ一致する。
【００５０】
液晶分子が軸対称配向することによって、視角特性を改善することができる。液晶分子が軸対称配向すると、液晶分子の屈折率異方性が全方位角方向において平均化されるので、従来のＴＮモードの液晶表示装置の中間調表示状態において、見られた、視角特性が方位角方向によって大きく異なるという問題が無い。また、水平配向膜と正の誘電異方性を有する液晶材料を用いれば電圧無印加状態においても軸対称配向が得られる。少なくとも電圧を印加した状態で、軸対称配向する構成であれば、広視野角特性が得られる。
【００５１】
本発明においては、高分子壁１８上に絵素電極２０を形成しているので、絵素電極２０と対向電極３２と間には高分子壁１８が存在しないので、電圧保持率の低下を防止できる。また、本発明による高分子壁１８は、液晶層を複数の液晶領域に分割し、液晶領域内の液晶分子を軸対称状に配向させるように機能するとともに、高分子壁１８は、ブラックマトリクス１４の直上のカラーフイルタ層１２の表面段差を覆い、かつ、着色樹脂層１２ａ、１２ｂ及び１２ｃの境界を後工程から保護する表面保護膜として機能する。従って、従来、カラーフィルタ層表面の段差の平坦化とカラーフィルタ層及びブラックマトリクスの保護のために設けていたオーバーコート層を省略することができる。
【００５２】
本発明における液晶分子４２を軸対称配向させるための高分子壁１８は、透明材料を用いて形成することが好ましい。透明な高分子壁１８を用いることによって、高分子壁１８上に位置する液晶層４０を表示に寄与させることが出来る。したがって、高分子壁１８の材料が透明でないときと比較して表示明るさを大幅に向上させることが出来る。
【００５３】
さらに、基板の表面に対して傾斜した面を有する高分子壁１８を形成することによって、液晶領域４０ａ周辺の高分子壁１８近傍に存在する液晶分子４２の配向乱れが生じにくくなり、液晶領域４０ａ周辺部における光漏れを無くすことが出来、黒表示時のコントラストが大きくなり、表示品位の向上を図ることが出来る。高分子壁１８の側面の傾斜角θを約５０度以下にすることで、高分子壁１８上に形成するＩＴＯ膜の成膜時の段切れ（断線）を防止できる。特に、高分子壁１８の側面の傾斜角θを約４５度以下、約３度以上にすることにより、安定した軸対称配向状態を実現でき、高分子壁１８の高さｈをより低くすることが出来る。高分子壁１８の側面の傾斜角が約３度より小さいと、液晶分子４２を安定に軸対称配向制御する壁面効果が十分に得られない場合がある。高分子壁１８の側面の傾斜角が約４５度より大きいと、高分子壁１８の近傍に存在する液晶分子４２の配向乱れが生じ、黒表示時の光漏れによりコントラストが低下する場合がある。
【００５４】
また、高分子壁１８の高さｈを低くすれば、高分子壁１８を透明樹脂で形成した場合、高分子壁１８を透過してくる光の減衰量を抑えることが出来るので、透過率が向上し、表示を更に明るくすることが出来る。
【００５５】
セルギャップを規定するための柱状突起２２は表示に寄与しないので、カラーフィルタ層１２のブラックマトリクス１４が形成されている領域の直上に柱状突起２２を形成することによって、柱状突起２２による表示明るさの低下を防ぐことが出来る。
【００５６】
以下に、図４を参照しながら、本発明の液晶表示装置１００の製造方法を説明する。ガラス基板１０上に、赤・緑・青の各着色パターンの隙間を遮光するためのブラックマトリクス（ＢＭ）１４を形成する（図４（ａ））。ＢＭ１４の材料としては、カーボンの微粒子をアクリル系の感光性樹脂中に分散させたものを用いた。その後、赤・緑・青の各着色樹脂層１２ａ、１２ｂ、１２ｃを順次形成した（図４（ｂ））。膜厚は、ＢＭ１４、着色樹脂層１２ａ、１２ｂ、１２ｃとも約１．０μｍとし、スピンコート法によりガラス基板１０に塗布し、フォトリソグラフィ法にて所定のパターンに形成した。
【００５７】
その後、スピンコート法で感光性アクリル樹脂を約０．５μｍ膜厚に基板上に塗布し、所定のパターンのマスクを用いたフォトリソグラフィ法で高分子壁１８を形成した（図４（ｄ））。高分子壁１８は、ブラックマトリクス１４の直上のカラーフイルタ層１２の表面段差を覆い、かつ、着色樹脂層１２ａ、１２ｂ及び１２ｃの境界を保護する膜としても機能する。ここでは、絵素領域は、約１５０μｍ×約１５０μｍとした。また、高分子壁１８の側面の傾斜角度が、プロキシミティー露光時のマスクと基板表面との間隔（プロキシーギャップ）の調整と、材料塗布後のプリベーク温度の最適化により、約３度から約４５度の範囲になるように、高分子壁１８を形成した。
【００５８】
高分子壁１８の形成後、ＩＴＯ膜をスパッタリング法にて約３００ｎｍ厚に成膜した。このとき、カラーフィルタ層１２の表面段差を高分子壁１８がなだらかにしているので、ＩＴＯ膜の段切れは発生しなかった。
【００５９】
このＩＴＯ膜をフォトリソグラフィ法にてパターニング、塩酸系エッチャントを用いてウエットエッチングすることによって絵素電極２０を形成した（図４（ｅ））。ＩＴＯ膜がエッチングによって除去される領域（ＩＴＯ膜の下地層がエッチング液に曝される領域）には、高分子壁１８が形成されているので、下地のカラーフィルタ層１２（着色樹脂層１２ａ，１２ｂ、１２ｃおよびブラックマトリクス１４）がエッチング液によって腐食されることが無かった。すなわち、高分子壁１８は、従来のオーバーコート層として機能することが確認された。
【００６０】
絵素電極２０の形成後、感光性のアクリル系樹脂を用いて、セル厚を規定するための柱状突起を離散的にフォトリソグラフィ法にて形成した（図４（ｆ））。柱状突起２２は、高分子壁１８の頂部で、かつ、ブラックマトリクス１４の直上の部分に形成した。セルギャップが、約６．０μｍとなるように、柱状突起２２自体の高さは５．５μｍ（高分子壁１８の高さ約０．５μｍ＋柱状突起２２の高さ約５．５μｍ＝約６．０μｍ）とした。得られた基板の表面全体に、配向膜材料ＪＡＬＳ−２０４（日本合成ゴム製）をスピンコートし、垂直配向膜（不図示）を形成し、カラーフィルタ基板１００ａを得た。
【００６１】
ガラス基板３０上にＩＴＯ膜からなる対向電極３２を有し、その表面に垂直配向膜（不図示）が形成された対向基板１００ｂと、カラーフィルタ基板１００ａとを貼り合わせた。基板１００ａと１００ｂとの間隙に、誘電異方性が負の液晶材料（ｎ型液晶材料、Δε＝−４．０、Δｎ＝０．０８、セルギャップ６μｍで９０度ツイストとなるようにカイラル剤を添加）を注入し、液晶層４０を形成し、液晶セルを得た（図４（ｇ））。
【００６２】
得られた液晶セルの液晶分子の軸対称配向の中心軸を安定化するために、液晶層４０に４Ｖの電圧を印加した。電圧印加直後は、初期状態で複数の中心軸が形成されたが、電圧を印加し続けると各液晶領域４０ａ毎に複数の中心軸が１つになり、１つの軸対称配向領域（モノドメイン）が形成された。
【００６３】
得られた液晶セルの液晶領域４０ａを、電圧無印加状態で偏光顕微鏡（クロスニコル）を用いて透過モードで観察した結果を模式的に図５に示す。電圧無印加状態では、液晶領域４０ａは暗視野を呈している（ノーマリーブラックモード）。図５では、高分子壁１８と液晶領域４０ａとを区別するために模式的に異なる模様を付し、高分子壁１８と液晶領域４０ａとの境界を明確に示しているが、実際にクロスニコル状態の偏光顕微鏡観察では、高分子壁１８と液晶領域４０ａとの境界は観察できない。図５に示したように黒表示状態において、表示セル全体で光漏れは見られず、高コントラスト比の表示が得られた。また、絵素電極２０となるＩＴＯ膜の断線による表示不良も無かった。
【００６４】
さらに、液晶層４０に印加される電圧の保持率を測定したところ、約７０℃において、約９９％であり、１、０００時間の通電エージング試験を実施しても電圧保持率は約９８％を維持し、表示の焼き付き残像も見られず、良好な信頼性を示した。液晶表示装置の電圧保持率特性の測定条件を図６に示す。液晶層に印加する電圧をＶｐ−ｐ：１０Ｖ、周波数３０Ｈｚ、パルス幅６０μｓｅｃで駆動したときの液晶層間（電極間）の電圧変化を測定し、電圧保持率を求めた。
【００６５】
（比較例１）
図１０に示した従来の製造方法によって得られた比較例１の液晶表示装置の構造を図６を参照しながら説明する。実施形態１と実質的に同じ機能を有する部材は同じ参照符号で示し、その詳細な説明を省略する。
【００６６】
比較例１の液晶表示装置は、実施形態１の液晶表示装置１００のカラーフィルタ基板１００ａの代わりに、図７Ａ及び７Ｂに示したカラーフィルター基板２００ａを有する。カラーフィルター基板２００ａは、ガラス基板１０上に、ブラックマトリクス１４と赤、緑、青にそれぞれ対応する着色樹脂層１２ａ、１２ｂ、１２ｃを有するカラーフィルタ層１２が形成されている。カラーフィルタ層１２のほぼ全面を覆うように、オーバーコート層１６が形成されている。オーバーコート層１６は、ブラックマトリクス１４の直上のカラーフイルタ層１２の表面段差を覆い、かつ、カラーフィルタ層１２の表面保護膜として機能する。
【００６７】
オーバーコート層１６上にＩＴＯ膜からなる絵素電極２０’が形成され、絵素電極２０の端部を覆う様に高分子壁１８’が形成されている。高分子壁１８’の側面は基板面にほぼ垂直である。高分子壁の材料として黒色樹脂を用いた。また、高分子壁の高さは、約３μｍ（セルギャップの約２分の１）である。さらに、高分子壁１８’上に、セルギャップを規定するための柱状突起１８’（高さ約３．０μｍ）を形成した。最後に、垂直配向剤を塗布し、対向基板と張り合わせて液晶材料を注入し、比較例１の液晶セルが完成する。
【００６８】
比較例１の液晶セルは、絵素電極２０’と対向電極との間に、高分子壁１８’が存在するので、電圧保持率が７０℃で約９５％と低く、１，０００時間の通電エージング試験において、約９４％にまで低下した。また、焼き付き残像も目立つようになった。さらに、黒表示状態において、高分子壁１８’近傍の液晶分子の配向乱れに起因する光漏れが観察された。
【００６９】
（実施形態２）
実施形態２の液晶表示装置３００の断面を模式的に図８（ａ）に示す。実施形態２においても、負の誘電異方性を有する液晶材料と垂直配向膜とを用いた構成を例示するが、本実施形態は、これらに限られない。
【００７０】
液晶表示装置３００は、カラーフィルタ基板３００ａと対向基板３００ｂと、その間に挟持された液晶層３４０とを有している。カラーフィルタ基板３００ａは、以下の様に構成されている。ガラス基板等などの透明基板３１０上に、ブラックマトリクスと赤、緑、青にそれぞれ対応する着色樹脂層を有するカラーフィルタ層３１２が形成されている。
【００７１】
カラーフィルタ層３１２上には、基板面に対して傾斜した側面を有する高分子壁３１８が形成されている。高分子壁３１８は、実施形態１と同様に、液晶層３４０を複数の液晶領域３４０ａに分割し、液晶分子（不図示）を軸対称状配向させる作用を有するとともに、ブラックマトリクスの直上のカラーフイルタ層１２の表面段差を覆い、かつ、着色樹脂層の境界を後工程から保護する表面保護膜として機能する。
【００７２】
本実施形態の液晶表示装置３００においては、高分子壁３１８を覆うように二酸化珪素層（以下ＳｉＯ２層と呼ぶ）３２０が形成されている。ＳｉＯ２層３２０は、スパッタ法や蒸着法などの薄膜堆積技術を用いて形成される。ＳｉＯ２層３２０上にＩＴＯなど透明導電膜を形成し、所定の形状にエッチングなどでパターニングし、透明電極３２２を形成する。透明導電膜をエッチングして透明電極３２２を形成する工程においては、透明電極３２２の下地層であるＳｉＯ２層３２０はエッチングせずに残す。
【００７３】
その後、高分子壁３１８上に形成されたＳｉＯ２層３２０上に、柱状突起３２６を感光性のアクリル系樹脂を用いて形成する。得られた基板の表面、少なくとも透明電極３２２の表面に、配向膜を形成する等の配向処理を施し、カラーフィルタ基板３００ａを得る。ガラス基板３３０の表面に透明電極３３２が形成された対向基板３００ｂとカラーフィルタ基板３００ａとを貼り合わせ、液晶材料を注入し、液晶表示装置３００が作製される。
【００７４】
本実施形態の液晶表示装置３００の製造方法を以下に説明するが、実施形態１と同じ材料および同じ工程を適用できるプロセスについては詳細な説明を省略する。
【００７５】
本実施形態では、ＳｉＯ２層３２０として、スパッタ法を用いて厚さ約２０ｎｍのＳｉＯ２膜を、実施形態１の製造方法の図４（ｄ）と（ｅ）の間の工程で形成した。その後、透明導電膜としてＩＴＯ膜を約３０ｎｍの厚さにスパッタリング法を用いて形成した。透明導電膜のパターニング工程においては、塩酸と硝酸とを体積比で３：１の割合で混合した溶液をエッチャントとして用い、ＳｉＯ２膜を残し、ＩＴＯ膜のみを選択的にエッチングした。これらの工程の前後は、実施形態１の液晶表示装置１００と同じ材料を用いて、同じ方法で形成した。
【００７６】
液晶表示装置３００は、実施形態１の液晶表示装置１００と同様に、対向する透明電極３２０と３３２との間に高分子壁３１８が存在しない。従って、実施形態２によると、電圧保持率の低下や残像現象の発生の無い、信頼性の高い液晶表示装置が提供される。さらに、高分子壁３１８および柱状突起３２６を形成する高分子材料との接着性が優れているＳｉＯ２膜３２０上に、柱状突起３２６が形成されているので、ＳｉＯ２膜３２０や柱状突起３２６が高分子壁３１８から剥がれることによる歩留まりの低下が抑制される。また、高分子壁３１８がＳｉＯ２膜３２０に覆われており、高分子壁３１８が直接液晶材料と接することが無いので、高分子壁３１８から液晶材料中への不純物の溶出を防ぐことができる。ＳｉＯ２は、化学的に安定であり、イオン性不純物の含有率の低い高純度な膜を工業的に形成できる。さらに、ＳｉＯ２はＩＴＯ膜との接着性も高く、同一のスパッタ装置内で、ターゲットを交換するだけで、ＳｉＯ２膜とＩＴＯ膜とを連続的に形成することができるので、ＳｉＯ２膜の表面がＩＴＯ膜の堆積前に汚染される可能性が少ないという利点がある。
【００７７】
本実施形態による液晶表示装置は、電圧の保持率が高く、通電エージング試験を実施しても電圧保持率の低下はなく、表示の焼き付き残像も見られず、良好な信頼性を示した。実施形態２の液晶表示装置の信頼性は、実施形態１の液晶表示装置よりもさらに優れていた。
【００７８】
さらに、本実施形態の液晶表示装置の製造歩留まりは、実施形態１の液晶表示装置に比べて改善される。実施形態１の液晶表示装置は、製造工程におて、柱状突起を形成する際のプロセス条件（塗布条件、プリベーク条件、露光条件および現像条件など）が適正範囲から外れると、柱状突起が高分子壁から剥がれる場合がある。また、スパッタリング法によってＩＴＯ膜を形成する工程において、下地の高分子壁の表面がダメージを受け、その結果、柱状突起との接着性が低下する場合がある。本実施形態２においては、高分子材料との接着性の高いＳｉＯ２を介して、高分子壁上に柱状突起を形成しており、ＩＴＯ膜の形成工程においても、ＳｉＯ２膜の表面はダメージを受け難く、高い接着性を維持できる。従って、実施形態２によると、実施形態１に比べて、プロセスマージンの増大や歩留まりが向上し、液晶表示装置のコストを更に低下することが可能なる。
【００７９】
（実施形態３）
本実施形態では、実施形態２の液晶表示装置の長期信頼性をさらに向上した例を説明する。実施形態２においては、高分子壁の表面は、ＳｉＯ２膜によって覆われているが、柱状突起の表面は、液晶材料と直接接する構造である。柱状突起も高分子壁と同様に高分子材料（典型的には同じ材料）を用いて形成されるので、柱状突起を構成する高分子材料からイオン性の不純物が液晶材料中に溶出し、長期の信頼性を劣化させる場合がある。本実施形態においては、高分子壁とともに柱状突起を無機保護層で被覆することによって、長期の信頼性をさらに改善した例を説明する。また、ＩＴＯ膜や無機保護層をスパッタリング法で形成する工程において高分子壁の表面がダメージを受け、柱状突起と高分子壁との接着性が低下することを防止するために、高分子壁上に柱状突起を形成した後に、無機保護層及びＩＴＯ膜を形成する。本実施形態では、無機保護層として、ＳｉＯ２膜と窒化珪素（以下ＳｉＮｘ層と呼ぶ）とを用いた例を説明するが、ＳｉＮｘ層を省略することもできる。
【００８０】
実施形態３の液晶表示装置４００の断面を模式的に図９に示す。実施形態３においても、負の誘電異方性を有する液晶材料と垂直配向膜とを用いた構成を例示するが、本実施形態は、これらに限られない。
【００８１】
液晶表示装置４００は、カラーフィルタ基板４００ａと対向基板３００ｂと、その間に挟持された液晶層３４０とを有している。カラーフィルタ基板４００ａは、以下の様に構成されている。ガラス基板等などの透明基板３１０上に、ブラックマトリクスと赤、緑、青にそれぞれ対応する着色樹脂層を有するカラーフィルタ層３１２が形成されている。
【００８２】
カラーフィルタ層３１２上には、基板面に対して傾斜した側面を有する高分子壁３１８が形成されている。高分子壁３１８は、実施形態１と同様に、液晶層３４０を複数の液晶領域３４０ａに分割するとともに、液晶分子（不図示）を軸対称状配向させる作用を有するとともに、ブラックマトリクスの直上のカラーフイルタ層１２の表面段差を覆い、かつ、着色樹脂層の境界を後工程から保護する表面保護膜として機能する。
【００８３】
高分子壁３１８上に直接、柱状突起３２６が感光性のアクリル系樹脂を用いてフォトリソグラフィ法で形成されている。高分子壁３１８と柱状突起３２６を覆うように、ＳｉＮｘ層３２０ａが形成され、その上に、ＳｉＯ２層３２０ｂが形成されている。ＳｉＮｘ層３２０ａとＳｉＯ２層３２０ｂは、連続に形成することができる。シリコン（Ｓｉ）ターゲットを用いて、窒素雰囲気下でＳｉＮｘ層３２０ａをスパッタリングで形成し、酸素雰囲気に切り換えて、ＳｉＯ２層３２０ｂを続けて形成することができる。本実施形態では、ＳｉＮｘ層３２０ａを約３０ｎｍ、ＳｉＯ２層３２０ｂを約１５ｎｍの厚さに形成した。
【００８４】
ターゲットを切り替え、ＳｉＯ２層３２０ｂ上に、スパッタリングでＩＴＯからなる透明導電膜を形成し、所定の形状にエッチングなどでパターニングし、透明電極３２２を形成する。本実施形態では、約１５０ｎｍの厚さのＩＴＯ膜を形成した。透明導電膜をエッチングして透明電極３２２を形成する工程においては、透明電極３２２の下地層であるＳｉＯ２層３２０ｂ及びＳｉＮｘ層３２０ａはエッチングせずに残す。透明導電膜のパターニング工程においては、塩酸と硝酸とを体積比で３：１の割合で混合した溶液をエッチャントとして用いた。
【００８５】
得られた基板の表面、少なくとも透明電極３２２の表面に、配向膜を形成する等の配向処理を施し、カラーフィルタ基板４００ａを得る。ガラス基板３３０の表面に透明電極３３２が形成された対向基板３００ｂとカラーフィルタ基板３００ａとを貼り合わせ、液晶材料を注入し、液晶表示装置３００が作製される。上述した工程の前後は、実施形態１の液晶表示装置１００と同じ材料を用いて、同じ方法で形成した。
【００８６】
液晶表示装置４００は、実施形態１の液晶表示装置１００と同様に、対向する透明電極３２０と３３２との間に高分子壁３１８が存在しない。従って、実施形態３によると、電圧保持率の低下や残像現象の発生の無い、信頼性の高い液晶表示装置が提供される。さらに、柱状突起３２６が高分子壁３１８上に直接形成されているので、柱状突起３２６が高分子壁３１８から剥がれることによる歩留まりの低下が抑制される。また、高分子壁３１８及び柱状突起３２６がＳｉＮｘ層３２０ａに覆われており、高分子壁３１８及び柱状突起３２６が直接液晶材料と接することが無いので、高分子壁３１８及び柱状突起３２６から液晶材料中への不純物の溶出を防ぐことができる。ＳｉＯ２やＳｉＮｘは、化学的に安定であり、イオン性不純物の含有率の低い高純度な膜を工業的に形成できる。さらに、ＳｉＯ２やＳｉＮｘはＩＴＯ膜との接着性も高く、同一のスパッタ装置内で、雰囲気ガスおよびターゲットを交換するだけで、連続的に形成することができるので、それぞれの層の表面が次の層の堆積前に汚染される可能性が少ないという利点がある。
【００８７】
本実施形態では、窒化珪素層、二酸化珪素層、ＩＴＯ層の構成としている。窒化珪素層は、二酸化珪素層よりもＩＴＯのエッチャント（塩酸：硝酸の混合液）に対する耐性が高いので、表面保護膜としての信頼性が実施形態２の構成よりも向上する。また、窒化珪素は高分子材料に対する接着性は高いものの、ＩＴＯとの接着性がやや劣るので、二酸化珪素層をＩＴＯ層と窒化珪素層との間に形成することによって、これらの層の接着性を改善することができる。本実施形態の構成は、特に微細なパターンを有する液晶表示装置に好適に適用される。
【００８８】
本実施形態による液晶表示装置は、電圧の保持率が高く（７０℃の初期値９９％）、１，０００時間の通電エージング試験を実施しても電圧保持率の低下はなく、表示の焼き付き残像も見られず、実施形態２の液晶表示装置よりもさらに良好な信頼性を示した。
【００８９】
【発明の効果】
上述したように、本発明によると、各絵素の開口部分（中央部）にオーバーコート層が無い構造を実現できるため、従来構造に比べて、透過率が向上した表示明るさの向上したカラー液晶表示装置が得られる。本発明のカラー液晶表示装置の高分子壁は、液晶層を複数の液晶領域に分割し、液晶領域内の液晶分子を軸対称状に配向させるように機能するとともに、ブラックマトリクスの直上のカラーフイルタ層の表面段差を覆い、かつ、着色樹脂層の境界を後工程から保護する表面保護膜として機能する。従って、従来、カラーフィルタ層表面の段差の平坦化とカラーフィルタ層及びブラックマトリクスの保護のために設けていたオーバーコート層を省略することができる。また、高分子壁に絵素電極が形成されており、絵素電極と対向電極と間には高分子壁が存在しないので、電圧保持率の低下を防止できる。
【００９０】
また、本発明の製造方法を用いれば、オーバーコート層の形成と高分子壁の形成を同時に行うことができるので、従来のＡＳＭモードを用いた液晶表示装置の製造方法に比べて、工程数の削減と、それに伴うコストダウン、さらに歩留りが向上する。
【図面の簡単な説明】
【図１Ａ】実施形態１の液晶表示装置の模式的な断面図である。
【図１Ｂ】実施形態１の液晶表示装置の模式的な上面図である。
【図１Ｃ】実施形態１の液晶表示装置の模式的な他の方向の断面図である。
【図２】ＡＳＭモードの液晶表示装置の動作を説明する模式図である。（ａ）と（ｂ）は電圧無印加時、（ｃ）と（ｄ）は電圧印加時をそれぞれ示す。
【図３】液晶領域内の液晶分子の軸対称配向状態を表す模式図である。
【図４】実施形態１の液晶表示装置の製造方法を説明する図である。
【図５】実施形態１の液晶セルを偏光顕微鏡（クロスニコル）で観察した結果を模式的に示す図である。
【図６】液晶表示装置の電圧保持率特性の測定条件を示す図である。
【図７Ａ】比較例１の液晶表示装置に用いれるカラーフィルタ基板の断面図である。
【図７Ｂ】比較例１の液晶表示装置に用いれるカラーフィルタ基板の上面図である。
【図８】（ａ）は実施形態２の液晶表示装置の模式的な断面図であり、（ｂ）は斜視図である。
【図９】実施形態３の液晶表示装置の模式的な断面図である。
【図１０】従来のＡＳＭモードの液晶表示装置の製造方法を示す図である。
【図１１】従来のカラーフィルタ基板の断面図である。
【符号の説明】
１０、３０  透明基板
１２  カラーフィルタ層
１２ａ、１２ｂ、１２ｃ  着色樹脂層
１４  ブラックマトリクス
１６  オーバーコート層
１８  高分子壁
２０  絵素電極
２２  柱状突起
３２  対向電極
４０  液晶層
４０ａ  液晶領域
４２  液晶分子
１００  液晶表示装置
１００ａ  カラーフィルタ基板
１００ｂ  対向基板
【図１Ａ】
0003565547.tif 000002
【図１Ｂ】
0003565547.tif 000003
【図１Ｃ】
0003565547.tif 000004
【図２】
0003565547.tif 000005
【図３】
0003565547.tif 000006
【図４】
0003565547.tif 000007
【図５】
0003565547.tif 000008
【図６】
0003565547.tif 000009
【図７Ａ】
0003565547.tif 000010
【図７Ｂ】
0003565547.tif 000011
【図８】
0003565547.tif 000012
【図９】
0003565547.tif 000013
【図１０】
0003565547.tif 000014
【図１１】
0003565547.tif 000015