【事件の表示】
　平成１１年特許願第　９５８３５号「シリコン樹脂被覆光ファイバの製造方法およびその製造装置」拒絶査定不服審判事件〔平成１２年１０月２０日出願公開、特開２０００−２９２６６０〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
第１　手続の経緯
　本願は、平成１１年４月２日の出願であって、平成２０年２月２５日に手続補正がなされ、同年４月１６日付けで拒絶査定がなされ、これに対し、同年５月１６日に拒絶査定不服審判が請求され、同年６月１６日に手続補正がなされたものである。　
　
第２　平成２０年６月１６日付け手続補正についての補正却下の決定
［補正却下の決定の結論］
　平成２０年６月１６日付け手続補正（以下「本件補正」という。）を却下する。
　
［理由］
１　本件補正の内容・目的
　本件補正は、補正前の請求項１（願書に最初に添付した明細書の特許請求の範囲）である、
「光ファイバ母材を加熱して線引きして光ファイバとする工程と、
前記光ファイバを冷却する工程と、
前記冷却された光ファイバにシリコン樹脂を被覆する工程と、
前記光ファイバに被覆されたシリコン樹脂を加熱して硬化させる工程とを有するシリコン樹脂被覆光ファイバの製造方法において、
光ファイバに被覆されたシリコン樹脂を加熱して硬化させた後、被覆されたシリコン樹脂の表面温度が
約７０℃
　補正後の特許請求の範囲の請求項１として、
「光ファイバ母材を加熱して線引きして光ファイバとする工程と、
前記光ファイバを冷却する工程と、
前記冷却された光ファイバにシリコン樹脂を被覆する工程と、
前記光ファイバに被覆されたシリコン樹脂を加熱して硬化させる工程とを有するシリコン樹脂被覆光ファイバの製造方法において、
光ファイバに被覆されたシリコン樹脂を加熱して硬化させた後、被覆されたシリコン樹脂の表面温度が
約６０℃
に補正しようとする内容を含むものである（下線は、審決にて付した。）。
　
　上記補正内容は、本件補正前の請求項１に係る発明を特定するために必要な事項である、被覆形状の異常部分を検出する被覆されたシリコン樹脂の表面温度について、「約７０℃以下」を「約６０℃以下」と限定するものであるから、平成１８年法律第５５号改正附則第３条第１項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法（以下「平成１８年改正前特許法」という。）第１７条の２第４項第２号の特許請求の範囲の減縮を目的とするものである。
　
　そこで、本件補正後の請求項１に係る発明（以下「本願補正発明」という。）が特許出願の際独立して特許を受けることができるものであるか（平成１８年改正前特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項の規定に適合するか）について以下に検討する。
　
２　刊行物の記載事項
　原査定の拒絶の理由に引用され、本願出願前に頒布された刊行物である特開昭６１−２５６９３６号公報には、図とともに次の事項が記載されている。
（１）「２．特許請求の範囲
　１．プリフォームロッドを加熱、溶融し、紡糸して得た光ファイバ素線に樹脂を被覆し、かつ該樹脂を硬化炉にて加熱して光ファイバを形成し、該光ファイバをその外径を測定しつつ巻き取る光ファイバの製造方法であって、前記光ファイバにガスを吹き付けて冷却した後その外径を測定することを特徴とする光ファイバの製造方法。
　２．前記ガスは、乾燥させた低温の窒素ガスであることを特徴とする特許請求の範囲第１項に記載の光ファイバの製造方法。」（１頁左下欄４〜１４行）
　
（２）「ところで、熱硬化型シリコーン樹脂４から形成される被覆層は、硬化炉６内で約５００℃〜６００℃の硬化温度により加熱、硬化される。また、これにより得られる光ファイバ３′は通常は数１０ｍ／分の紡糸速度で引き取られている。従って、上述したように、外径測定器７を硬化炉６の直下に配する場合には、光ファイバ３′はその被覆層が十分に冷えきらないうちに外径測定器７にて外径が測定される。
　しかし、上記熱硬化型シリコーン樹脂４の線膨係数はｌ×１０−４℃と比較的大きいので、上述したように外径測定器７を硬化炉６の直下に配するだけでは、光ファイバ３′は被覆層が膨張している状態で外径が測定されてしまう。従って、外径測定器７からの検出信号により紡糸速度を制御しても実際には所望する外径よりも小さな外径を有する光ファイバが得られてしまう。
（発明の目的）
　本発明の目的は、所定外径を有する光ファイバを製造することができる光ファイバの製造方法を提供することにある。
（発明の概要）
本発明は、外径測定前に光ファイバにガスを吹き付けて冷却することを特徴とする。」（１頁右下欄１５行〜２頁左上欄１８行）
　
（３）「プリフォームロッド１の下端を加熱炉２にて２０００℃前後で加熱、溶融し、延伸することにより光ファイバ素線３を、例えば、外径が１２５μｍになるように４０ｍ／分の速度で紡糸する。
　次いで、光ファイバ素線３をコーティングアプリケータ５を通過させ、その表面に熱硬化型シリコーン樹脂４から成る被覆層を連続的に設ける。
　そして、この光ファイバ素線３を硬化炉６内に導き、被覆層を約５５０℃の硬化温度で加熱し、硬化することにより光ファイバ３′を形成する。
　光ファイバ３′を形成した後は該光ファイバ３′を冷却管１０に案内する。圧力ボンベ１２からのＮ２ガスは、ガス冷却器１１にて冷却され、冷却管１０内に圧送されている。従って、光ファイバ３′には、冷却された乾燥Ｎ２ガスが吹き付けられるので、光ファイバ３′が冷却管１０を通過した時点で硬化炉６にて加熱、硬化された被覆層は冷却される。
　最後に、この冷却された光ファイバ３′を外径測定器７にて外径を測定しつつキャプスタンローラ８を介して巻取ドラムに巻き取る。
　このように、光ファイバ３′を冷却すると、硬化炉６の加熱で膨張していた被覆層が収縮し、所定の被覆厚に戻るので、光ファイバ３′の外径を外径測定器７により正確に測定することができる。従って、外径測定器７からの外径検出信号により紡糸速度を制御することで、所望外径の光ファイバ３′を得ることができる。
　また、光ファイバ３′にＮ２ガスを吹き付けると、光ファイバ３′に付着していた塵等を吹き飛ばすことができるので、光ファイバ３′表面を清浄に保持することもできる。
　上記実施例では、Ｎ２ガスを光ファイバ３′に吹き付けたが、その他の不活性ガスを吹き付けてもよく、又フィルタにて浄化した空気を吹き付けるようにしてもよい。
　また、Ｎ２ガス等は必ずしも冷却して吹き付ける必要がなく、常温で吹き付けてもよい。」（２頁左下欄３行〜同頁右下欄最下行）
　
（４）「ところで、光ファイバの被覆層は空気中で自然放熱させることによっても徐々に冷却して所定の被覆厚に戻る。
　そこで、外径１２５μｍで紡糸した光ファイバ素線３に上述したように、熱硬化型シリコーン樹脂４を被覆し、硬化炉６から出た直後の光ファイバ外径の変化を複数の外径測定器７にて測定した。この結果を第２図（Ａ）に示す。
　尚、この図では硬化炉６から各外径測定器７までの距離を空冷長として示した。また、紡糸速度は４０ｍ／分であった。この第２図（Ａ）から明らかなように、被覆層が収縮し、光ファイバの外径が安定するには少なくとも１ｍ以上の空冷長（最低空冷長）が必要である。
　また、紡糸速度を変化させると、第２図（Ｂ）に示すように、紡糸速度の増大に伴って最低空冷長も増加し、８０ｍ／分及び１００ｍ／分の紡糸速度の場合にはそれぞれ約２ｍと約２．７ｍの空冷長が必要であった。
　これに対して、本発明のように冷却したＮ２ガスを吹き付ける場合には、冷却管１０の冷却長は約３０ｃｍ程度で十分であった。」（３頁左上欄８行〜同頁右上欄８行）
　
（５）上記（１）ないし（４）からみて、引用例には、
「プリフォームロッドを加熱、溶融し、延伸することにより紡糸して得た光ファイバ素線に、熱硬化型シリコーン樹脂から成る被覆層を被覆し、該樹脂を硬化炉にて加熱して光ファイバを形成し、該光ファイバをその外径を測定しつつ巻き取る光ファイバの製造方法であって、
　外径測定器を硬化炉の直下に配するだけでは、光ファイバは被覆層が膨張している状態で外径が測定されてしまい、実際には所望する外径よりも小さな外径を有する光ファイバが得られてしまうので、膨張した被覆層が収縮して所定の被覆厚に戻るように光ファイバにガスを冷却し又は常温で吹き付け、光ファイバの外径を正確に測定し、所定外径を有する光ファイバを製造することができる、光ファイバの製造方法。」
の発明（以下「引用発明」という。）が記載されていると認められる。
　
３　対比
　本願補正発明と引用発明とを対比する。
（１）引用発明の「プリフォームロッド」、「光ファイバ素線」及び「熱硬化型シリコーン樹脂」は、それぞれ、本願補正発明の「光ファイバ母材」、「光ファイバ」及び「シリコン樹脂」に相当する。
　
（２）引用発明の「光ファイバ素線」は、プリフォームロッドを加熱、溶融し、延伸することにより紡糸して得られたものであるから、本願補正発明の「光ファイバ」と、「光ファイバ母材を加熱して線引き」して得られるものである点で一致し、引用発明は、本願補正発明の「光ファイバ母材を加熱して線引きして光ファイバとする工程」を備える。
　
（３）引用発明の「光ファイバ」は、光ファイバ素線に、熱硬化型シリコーン樹脂から成る被覆層を被覆し、該樹脂を硬化炉にて加熱して得られるものであるから、引用発明の「光ファイバ」及び「光ファイバの製造方法」は、それぞれ、本願補正発明の「シリコン樹脂被覆光ファイバ」及び「シリコン樹脂被覆光ファイバの製造方法」に相当するとともに、引用発明の「シリコン樹脂被覆光ファイバの製造方法」は、本願補正発明の「シリコン樹脂被覆光ファイバの製造方法」と、「光ファイバにシリコン樹脂を被覆する工程と、前記光ファイバに被覆されたシリコン樹脂を加熱して硬化させる工程を有する」点で一致する。
　
（４）本願明細書の「被覆表面の異常、正常の判定は、外径差が目標値と比較して３０μｍ以上ある箇所を異常部分とした。」（段落【０００９】）との記載によれば、本願補正発明の「被覆されたシリコン樹脂の被覆形状の異常部分を検出する工程」は、少なくとも「シリコン樹脂に被覆された光ファイバの外径を測定する工程」を有するものと認められる。
　そして、引用発明は、光ファイバ素線に、熱硬化型シリコーン樹脂から成る被覆層を被覆し、該樹脂を硬化炉にて加熱して光ファイバを形成し、光ファイバの外径を測定するものであるから、引用発明と本願補正発明は、「光ファイバに被覆されたシリコン樹脂を加熱して硬化させた後、シリコン樹脂に被覆された光ファイバの外径を測定する工程」を有する点で一致する。
　
（５）上記（１）ないし（４）から、本願補正発明と引用発明とは、
「光ファイバ母材を加熱して線引きして光ファイバとする工程と、
前記光ファイバにシリコン樹脂を被覆する工程と、
前記光ファイバに被覆されたシリコン樹脂を加熱して硬化させる工程とを有するシリコン樹脂被覆光ファイバの製造方法において、
光ファイバに被覆されたシリコン樹脂を加熱して硬化させた後、シリコン樹脂に被覆された光ファイバの外径を測定する工程を有するシリコン樹脂被覆光ファイバの製造方法。」の点で一致し、
以下の点で相違する。
　
相違点１：本願補正発明は、光ファイバ母材を加熱して線引きした「光ファイバを冷却する工程」を有するのに対し、引用発明は、そのような工程を有するか否か不明である点。
　
相違点２：本願補正発明は、「被覆されたシリコン樹脂の表面温度が約６０℃以下の状態で、被覆されたシリコン樹脂の被覆形状の異常部分を検出する工程」を有するのに対し、引用発明は、そのような工程を有するか否か不明である点。
　　　
４　判断
　上記相違点について検討する。
（１）相違点１について
ア　加熱溶融し線引きされた光ファイバを冷却した後、樹脂からなる被覆層を被覆することは、本願出願前に周知の技術である（例．特開平１０−３３８５５０号公報（段落【００１０】、【００１１】、図３を参照。）、特開平１１−６０２８７号公報（段落【００１６】、【００１７】、図１を参照。）、特開平１０−１８２１８１号公報（段落【０００６】、図１を参照。））。
　
イ　引用発明において、プリフォームロッドを加熱、溶融し、延伸することにより紡糸して得た光ファイバ素線に、熱硬化型シリコーン樹脂から成る被覆層を被覆するに際に上記アの周知技術を適用し、「『前記光ファイバ（プリフォームロッドを加熱、溶融し、延伸することにより紡糸して得た光ファイバ素線）』を冷却する工程」を有するものとなして、上記相違点１に係る本願補正発明の構成となすことは、当業者が容易に想到することができたことである。
　
（２）相違点２について
ア　引用発明は、「所定外径を有する光ファイバを製造する」ものであるところ、測定した外径が所定のものでない部分を異常部分として検出することは、当業者が当然考慮する程度のことである。
　
イ　シリコン樹脂の被覆形状の異常部分を検出する際のシリコン樹脂の表面温度（以下「被覆表面温度」という。）を特定することの技術上の意義について、本願明細書には以下の記載がある。
　
（ア）「被覆工程において、光ファイバへのシリコン樹脂の被覆量が変動した場合、約７０℃よりも高い温度では、その変動が必ずしも被覆形状の異常部分として現れないが、被覆硬化後、約７０℃まで冷却すると、被覆形状は常温での形状と同等になり、常温での被覆形状異常部分が顕在化することがわかった。」（段落【０００６】）
（イ）「被覆表面温度が４０℃で異常部分の検出を行うと、検出回数が巻き返しによる検出回数に一致する。一方、被覆表面温度が２００℃、４５０℃では、異常部分の検出回数が巻き返しによる検出回数よりも極めて少なくなっている。」（段落【００１１】）
（ウ）「被覆表面温度が６０℃で異常部分の検出を行うと、検出回数が巻き返しによる検出回数に一致する。一方、被覆表面温度が１４０℃、２００℃では、異常部分の検出回数が巻き返しによる検出回数よりも極めて少なくなっている。」（段落【００１５】）
　
ウ　上記イによれば、本願補正発明における被覆表面温度を「約６０℃以下」とする技術上の意義は、本願明細書に記載されたシリコン樹脂について、被覆されたシリコン樹脂の被覆形状を、常温での被覆形状と同等とし、常温での被覆形状異常部分を顕在化させることにあると認められる。
　
エ　上記イ（イ）（ウ）のとおり、本願明細書においては、被覆表面温度について、「４０℃」及び「６０℃」と、「４５０℃」、「２００℃」及び「１４０℃」を、対比して説明されているに過ぎないから、本願補正発明において、被覆表面温度を「約６０℃以下」と特定したことに、当業者が予測可能な域を超える程の格別の臨界的意義は認められない。
　
オ　他方、引用発明は、「外径測定器を硬化炉の直下に配するだけでは、光ファイバが被覆層が膨張している状態で外径が測定されてしまい、実際には所望する外径よりも小さな外径を有する光ファイバが得られてしまうので、膨張した被覆層が収縮した所定の被覆厚に戻るように」するものである。
　
カ　すなわち、引用発明は、膨張した被覆厚が収縮して所定の被覆厚に戻るように光ファイバを冷却して光ファイバの外径を測定するものであって、このことは、上記ウの本願補正発明の技術上の意義と何ら変わるところはないものと認められる。
  
キ　そして、上記カのように、光ファイバを冷却して光ファイバの外径を測定する際の温度については、所定の被覆厚に戻るものとするよう適宜設計的に定められるべきものであり、当該温度を、本願補正発明のごとく「約６０℃以下」とすることに、格別の困難性があるものとは認められない。
　
ク　また、本願補正発明において、被覆表面温度を「約６０℃以下」に特定したことに格別の臨界的意義が認められないことは、上記エのとおりである。
　
ケ　以上の検討によれば、引用発明において、相違点２に係る本願補正発明の構成となすことは、当業者が容易に想到し得たものというべきである。
　
（４）したがって、本願補正発明は、引用例に記載された発明及び周知技術に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により、独立して特許を受けることができない。
　
５　むすび
　以上の検討によれば、本件補正は、平成１８年改正前特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項の規定に違反するものであるから、同法第１５９条第１項において読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定により却下されるべきものである。
　
第３　本願発明について
１　本願発明
　本件補正は上記のとおり却下されたので、本願の請求項に係る発明は、請求項１については、願書に最初に添付した明細書及び図面の記載からみて、その特許請求の範囲の請求項１に記載された事項によって特定されるものであり、請求項２については、平成２０年２月２５日付けの手続補正によって補正された明細書及び図面の記載からみて、その特許請求の範囲の請求項２に記載された事項によって特定されるものであるところ、請求項１に係る発明（以下「本願発明」という。）は、上記「第２［理由］１」で、願書に添付した明細書の請求項１として記載されたとおりのものである。
　
２　引用例
　原査定の拒絶の理由に引用された引用例及びその記載事項は、前記「第２［理由］２」に記載したとおりである。
　
３　対比・判断
　本願発明は、前記「第２」で検討した本願補正発明の被覆表面温度について、「約６０℃以下」を「約７０℃以下」に拡張したものである。
　そうすると、本願発明を減縮した本願補正発明が、前記「第２［理由］４」に記載したとおり、引用例に記載された発明及び周知技術に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、減縮前の本願発明も同様の理由により、引用例に記載された発明及び周知技術に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものである。
　
４　むすび　
　以上のとおり、本願発明は、引用例に記載された発明及び周知技術に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　よって、結論のとおり審決する。