(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
液晶光学素子の基板の表面に配向剤を塗布する配向剤塗布方法において、配向剤を保持した配向剤保持部により表面を覆われた塗布部材を接触調整部材に所定の圧力で押圧させることによって、前記基板表面と前記塗布部材との間に所望の接触状態を与え、この所望の接触状態に保持したまま、前記塗布部材を前記基板に対して少なくとも一方向に相対的に移動させることにより、前記基板表面に前記配向剤を塗布することを特徴とする配向剤塗布方法。
【請求項２】
前記基板表面と前記塗布部材とを所望の接触状態に保持した最初の位置から、前記接触調整部材に対する前記塗布部材の押圧力を一定に保ちながら、前記塗布部材を、前記基板の一方の端部近くまで移動させた後、前記基板の反対側の端部近くまで移動させることを特徴とする請求項１に記載の配向剤塗布方法。
【請求項３】
液晶光学素子の基板を保持する基板保持部材と、
配向剤を保持する配向剤保持部により表面を覆われた塗布部材と、
前記塗布部材が所定の圧力で押圧された際に前記塗布部材と前記基板表面との間に所望の接触状態を与える接触調整部材とを備えていることを特徴とする配向剤塗布装置。
【請求項４】
前記接触調整部材は、前記基板を挟んで基板を保持する部材に載置され、前記塗布部材がこの接触調整部材に所定の圧力で押圧された際に、前記塗布部材と前記基板表面の間に所望の接触状態が与えられる高さを有しており、かつ、前記基板の厚さに応じて交換可能に設けられていることを特徴とする請求項３に記載の配向剤塗布装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、液晶光学素子の基板の表面に配向剤を塗布する配向剤塗布方法および塗布装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
液晶光学素子の基板の表面に配向剤を塗布する配向剤塗布装置として、例えば液晶ディスプレイ製造装置実用便覧１９２頁〜１９９頁「液晶配向膜塗布装置」に示されている。図１１は従来の液晶光学素子の配向膜塗布装置の主要部の構成を示している。
【０００３】
この配向膜塗布装置は、図１１に示されるように、ガラス基板を固定する塗布テーブルと、印刷凸版（パターン）を有する刷版を保持する版胴と、多数の凹状のセルが設けられているアニロックスロールと、アニロックスロールと所定のギャップを有して配置されるドクターロールと、前記ドクターロールと前記アニロックスロールの間に塗布液を滴下するディスペンサとを備えている。
【０００４】
この装置では、塗布液の塗布方法は輪転印刷方式が用いられている。すなわち、ディスペンサから回転している前記ドクターロールと前記アニロックスロールの間に滴下された塗布液は、前記ドクターロールと前記アニロックスロール間で練られて前記アニロックスロール上に常時薄膜となって保持され、前記アニロックスロールから版胴上の刷版に転移保持され、塗布テーブル上に固定されたガラス基板が版胴直下を通過する時に、刷版からガラス基板上に転写塗布される。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
配向膜の印刷における重要な点は、所望の膜厚にいかにあわせるか、ばらつきをいかに少なくするかという点である。従来技術において塗布液を一定にした場合、印刷膜厚やばらつきは以下の調整結果に依存する。すなわち、ドクターロールの面精度と均一性、アニロックスロールのセル形状や深さおよびピッチ、刷版のセル形状や高さおよびピッチ、各ロール間のギャップ（ドクターロールとアニロックスロール、アニロックスロールと刷版、刷版とガラス基板）、各ロールの直径、ロールの相対速度などである。このように調整項目は非常に多く、調整やメンテナンスに手間がかかる。
【０００６】
また、この装置は非常に大型であり、大型の基板を処理対象としており、小型の基板に対する配向剤の塗布には適していない。
【０００７】
本発明は、このような現状を考慮して成されたものであり、その目的は、調整項目が少なく簡易的に配向剤の均一塗布を実現できる方法および装置を提供することである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
本発明による配向剤塗布方法は、配向剤を保持した配向剤保持部により表面を覆われた塗布部材を接触調整部材に所定の圧力で押圧させることによって、前記基板表面と前記塗布部材との間に所望の接触状態を与え、この所望の接触状態に保持したまま、前記塗布部材を前記基板に対して少なくとも一方向に相対的に移動させることにより、前記基板表面に前記配向剤を塗布する。
【００１０】
本発明による配向剤塗布装置は、液晶光学素子の基板を保持する基板保持部材と、配向剤を保持する配向剤保持部により表面を覆われた塗布部材と、前記塗布部材が所定の圧力で押圧された際に前記塗布部材と前記基板表面との間に所望の接触状態を与える接触調整部材とを備えている。
【００１１】
【発明の実施の形態】
［第一の実施の形態］
第一の実施の形態の配向剤塗布装置について、図１〜図６を参照しながら説明する。
【００１２】
図１（Ａ）と図１（Ｂ）はそれぞれ第一の実施の形態の配向剤塗布装置の正面図と側断面図であり、配向剤の塗布工程の開始前の状態すなわち装置に基板がセットされた直後の状態を示している。
【００１３】
図１に示されるように、配向剤塗布装置は、液晶光学素子の基板１２が載置されるベース１４と、配向剤を塗布するための塗布部材１６と、基板１２と塗布部材１６とを所望の接触状態に保持するための一対のストッパ３２とを備えている。
【００１４】
ベース１４は、例えば金属材料からなり、基板１２が設置される領域の内部に形成された穴（図示せず）を有している。穴の個数は１個でも複数個でもよい。穴はチューブ４８を介して空圧機器５０に連結されている。空圧機器５０は、空圧制御部（図示せず）によって空圧が制御され、チューブ４８を介して基板１２をベース１４に真空吸着することにより、基板１２をベース１４に適宜固定させる。
【００１５】
一対のストッパ３２は共に、磁性材料、例えば永久磁石からなり、一定の幅と高さを有し、その長さは基板１２よりも長い。一対のストッパ３２は、基板１２の間隔より広い間隔をおいてベース１４に固定され、両者の間に基板１２が載置される。また、ストッパ３２は、後述するように、塗布部材１６がストッパ３２に所定の圧力で押圧された際に、塗布部材１６と基板表面の間に所望の接触状態が与えられる高さを有している。つまり、本実施の形態では、ストッパ３２が、塗布部材１６と基板表面との間に所望の接触状態を与える接触調整部材を構成している。
【００１６】
ストッパ３２は、磁力によってベース１４に固定されるため、その位置は基板１２の大きさに応じて任意に変更できる。また、ストッパ３２は、基板１２の厚みに応じて、適切な高さのものに容易に交換できる。これにより、様々な大きさや厚みの基板１２に対しても、塗布部材１６の適切な接触状態を提供できる。
【００１７】
塗布部材１６は、スキージ２０と、これを保持するスキージホルダー２２とを備えている。本明細書において、「スキージ」という用語は、表面の液（配向剤）をならすための部材を言い、好ましくはゴム等の弾性材で作られる。スキージ２０は、その弾性変形により基板１２の凹凸を吸収し、所定の厚み以上に塗布された配向剤をならす。
【００１８】
スキージ２０は、２つのストッパ３２の設置間隔よりも大きい幅を有している。また、スキージ２０は、ほぼ正方形の断面形状を有する形状つまり角柱形状をしており、そのエッジが下側を向くように、スキージホルダー２２に保持されている。
【００１９】
塗布部材１６は、広義には、スキージ２０とスキージホルダー２２に取り付けられる配向剤保持シート１８をも含んでいる。配向剤保持シート１８は、スキージ２０とスキージホルダー２２を覆うように取り付けられ、必要に応じて適宜交換される。
【００２０】
配向剤保持シート１８は、配向剤を均一に保持する働きをし、例えば不織布であり、好ましくは、ケバ立ちがなくクラス１００のクリーンルームに対応し、かつ配向剤の吸収・保液性を有する不織布であり、例えばベンコットリントフリー（商品名）が好適に用いられる。
【００２１】
塗布部材１６は、上下方向と水平方向に移動可能に支持されている。このため、塗布装置は、塗布部材１６を上下に移動させる上下移動機構と、塗布部材１６を上下移動機構と共に水平に移動させる水平移動機構とを有している。
【００２２】
上下移動機構は、スキージホルダー２２に取り付けられた２本の平行なシリンダーシャフト２８と、シリンダーシャフト２８を案内するシャフトホルダー２６と、スキージホルダー２２を上下に移動させるためのシリンダー２４と、シャフトホルダー２６およびシリンダー２４を支持するシリンダーステージ４２とを備えている。
【００２３】
シリンダー２４は、往復移動可能なシリンダーシャフト４６を備えており、シリンダーシャフト４６はスキージホルダー２２に連結されている。これにより、スキージホルダー２２は、シリンダー２４によるシリンダーシャフト４６の往復移動に従って上下に移動される。
【００２４】
シリンダーシャフト４６の移動およびその駆動力は、シリンダー制御部（図示せず）によって制御される。これにより、塗布部材１６は、ストッパ３２に所望の力で押圧され得る。
【００２５】
水平移動機構は、ベース１４に立てられた４本の柱３８と、４本の柱３８の二本ずつによって支持される２つのスライダーステージ４０と、２つのスライダーステージ４０にそれぞれ設けられた２本の平行なスライダー３０と、２本のスライダー３０の上をそれぞれ往復移動可能な２つのスライドテーブル４４であって、シリンダーステージ４２を支持する２つのスライドテーブル４４を備えている。
【００２６】
スライダー３０は、スライドテーブル４４に駆動力を与えてこれを移動させる。その移動の方向および速度は、スライダー制御部（図示せず）によって制御される。これにより、塗布部材１６が任意の速度で水平方向に移動され得る。これにより、印刷条件のひとつであるスキージ２０の印刷速度を制御できる。
【００２７】
スライドテーブル４４の可動範囲は、基板１２の長さよりも長く設定されている。スライドテーブル４４の速度や移動量等は、スライダー制御部（図示せず）によって制御される。
【００２８】
従って、上下移動機構と水平移動機構の組み合わせにより、塗布部材１６は、ストッパ３２に所望の力で押圧されたまま、基板１２の表面に平行に移動され得る。
【００２９】
配向剤塗布装置は、さらに、塗布部材１６に配向剤を供給するためのディスペンサ３４を備えている。ディスペンサ３４は、配向剤を吐出するための３本のニードル３６を有している。ディスペンサ３４は、ディスペンサ制御部（図示せず）によって制御され、ニードル３６の先端から適量の配向剤を吐出する。
【００３０】
ディスペンサ３４は、基板１２が載置される領域に干渉しない位置に配置されており、ニードル３６の先端は塗布部材１６の移動範囲内に位置している。
【００３１】
続いて、配向剤塗布方法について図１〜図６を用いて説明する。
【００３２】
図１に示されるように、塗布工程の開始に先立ち、まず、配向剤を塗布すべき基板１２をベース１４の上に載置し、空圧機器５０により真空吸着して基板１２をベース１４に固定する。
【００３３】
工程１（図２）．水平移動機構（スライダー３０）により塗布部材１６をニードル３６の上方に配置した後、上下移動機構（シリンダー２４）により塗布部材１６を下降させ、その表面を覆っている配向剤保持シート１８をニードル３６の先端に接触させ、ディスペンサ３４のニードル３６から配向剤を吐出させ、適量の配向剤を配向剤保持シート１８に供給する。
【００３４】
工程２（図３）．シリンダー２４により塗布部材１６を上昇させた後、スライダー３０により塗布部材１６を基板１２の上方に移動させ、シリンダー２４により塗布部材１６を下降させ、塗布部材１６をストッパ３２に対して所定の力で押圧させ、塗布部材１６と基板１２を所望の接触状態に保持する。これにより、配向剤保持シート１８に保持された配向剤は基板１２の表面に接触する。
【００３５】
配向剤保持シート１８と基板１２の接触位置は、大きく見れば基板１２の一方の端部（例えば右側の端部）の近くであるが、少なくとも配向剤保持シート１８と基板１２が接触した際に広がる配向剤が端部までには達しない距離だけは離れている。
【００３６】
工程３（図４）．ストッパ３２に対する塗布部材１６の押圧力を一定に保ちながら、塗布部材１６を基板１２の右側の端部に向けて（すなわち図４（Ｂ）の右方向に）、端部の近くまで水平移動させる。
【００３７】
工程４（図５）．続いて、ストッパ３２に対する塗布部材１６の押圧力を一定に保ちながら、塗布部材１６を今度は反対に基板１２の反対側の端部に向けて（すなわち逆方向つまり図５（Ｂ）の左方向に）水平移動させる。
【００３８】
工程５（図６）．塗布部材１６が基板１２の反対側の端部（すなわち左側の端部）の近くまで達したら、塗布部材１６の水平移動を停止させる。
【００３９】
上述した工程１〜工程５の一連の作業によって、基板１２の表面に配向剤が塗布される。
【００４０】
その後は、シリンダー２４により塗布部材１６を上昇させた後、スライダー３０により塗布部材１６を右方向に移動させて、塗布部材１６を図１に示される最初の位置に戻す。さらに、空圧機器５０による真空吸着を停止させ、基板１２の固定を解除して、基板１２をベース１４から取り出せるようにする。
【００４１】
これまでの説明から分かるように、配向剤を含んだ配向剤保持シート１８は、基板１２の端部の側面に触れることがない。従って、基板１２の側面への配向剤のだれが生じない。また、塗布される配向剤の膜厚は、ストッパに対する塗布部材１６の押圧力や塗布部材１６の水平移動の速度を調整することによって、制御することができる。従って、調整項目が少なくかつ簡単な構造で簡易的に配向剤を基板表面に均一に塗布できる。
【００４２】
さらに、上述した配向剤の塗布方法では、配向剤を含んだ配向剤保持シート１８を基板１２の表面に、配向剤を塗布すべき領域の内側で接触させた後、塗布部材１６を近い側の端部まで一旦移動させた後、続けて反対側の端部まで移動させている。この工程により、塗布むらが発生しやすい塗布開始位置の前後においても、配向剤が基板表面に均一に塗布される。その理由は、以下のように考えられる。
【００４３】
一般に、スキージ２０を用いた液体の塗布では、塗布開始位置の前後で塗布むらが発生しやすい。これは、配向剤と基板との界面張力のために、塗布開始位置において、スキージ２０の前後に配向剤が所定の厚み以上にぬれひろがってしまい、スキージ２０の一方向だけの移動では塗布開始位置の余分な配向剤が十分に引き延ばされないためである考えられる。
【００４４】
本実施の形態では、スキージ２０は塗布開始位置から一方向に移動された後に反対方向に移動されて再び塗布開始位置を横切るので、塗布開始位置において所定の厚み以上にぬれひろがった余分な配向剤が、配向剤保持シート１８によって除去され、またスキージ２０によって十分に引き延ばされるためと類推される。
【００４５】
本発明の実施の形態の各構成は、当然、各種の変形や変更が可能である。
【００４６】
例えば、ディスペンサ３４のニードル３６の数は、３つであったが、この数はこれに限定されるものではなく、任意に変更可能である。
【００４７】
また、スキージ２０は、断面がほぼ正方形の角柱形状をしているが、スキージ２０の形状はこれに限定されるものではなく、様々な形状に変更可能である。
【００４８】
図７は塗布部材１６の第一の変形例を示している。本変形例では、スキージ２０は、平型のスキージであり、平板状の形状を有している。スキージホルダー２２は、スキージ２０のエッジが基板１２の表面に接触するように、シリンダー２４のシリンダーシャフト４６に傾斜して取り付けられている。
【００４９】
図８は塗布部材１６の第二の変形例を示している。本変形例では、スキージ２０は、Ｉ型スキージであり、ハイフンを印字するスタンプとほぼ同じ形状を有している。つまり、スキージ２０は、断面が長方形の角柱形状部と、その一側面の中央に延びる幅の狭い一定の幅の突出部とを有している。
【００５０】
さらに、塗布方法は以下のように変更されてもよい。
【００５１】
配向剤の塗布開始位置については、図２に示される工程１の後、塗布部材１６の配向剤保持シート１８を、基板１２の一方の端部よりわずかに内側の位置（すなわち塗布すべき領域の端）で基板１２の表面に接触させ、塗布部材１６を基板１２の他方の端部に向けて一方向のみに移動させることにより、配向剤の塗布を行なってもよい。この方法では、塗布開始位置に塗りむらが生じやすいが、この部分が実際に使用される領域の外に位置している分には何等問題は生じない。
【００５２】
また、配向剤塗布動作は、１回に限定されるものでなく、適当な回数、繰り返されてもよい。つまり、図６の工程５に続いて、工程３（図４）から工程５（図６）を逆行する工程、すなわち塗布部材１６を右方向へ移動させる工程を追加してもよい。さらに、塗布部材１６を左右方向に移動させる作業は、適当な回数繰り返されてもよい。
【００５３】
［第二の実施の形態］
第二の実施の形態の配向剤塗布装置について図９を参照しながら説明する。本実施の形態の装置は第一の実施の形態の装置と類似している。図９において、第一の実施の形態の部材と同じ参照符号で示された部材は同等の部材であり、その詳しい説明は記載の重複を避けるために省略する。以下では、相違する構成に重点をおいて説明する。
【００５４】
本実施の形態の配向剤塗布装置は、図９に示されるように、第一の実施の形態のシリンダー２４の代わりに、両ロッド型のシリンダー５２と、シリンダー５２のシリンダーシャフト５４に取り付けられたストッパ５６とを備えている。また、本実施形態の装置は、第一の実施の形態の装置とは異なり、ストッパ３２を備えていない。
【００５５】
シリンダー５２は、上下に突出したシリンダーシャフト５４を有している。シリンダーシャフト５４はシリンダー５２により上下方向に移動され得る。
【００５６】
シリンダーシャフト５４の下端はスキージホルダー２２に連結されている。シリンダーシャフト５４の上方に突出した部分には、軸方向に精密なねじ山と目盛りが形成されている。ねじ山と目盛りは等しいピッチを有している。
【００５７】
ストッパ５６は、ほぼ円柱形状の金属材料からなり、軸方向にめねじを有する貫通穴が形成されている。また、外周に沿って１００分割される精密な目盛りが形成されている。
【００５８】
このようなシリンダーシャフト５４とストッパ５６の組み合わせは、マイクロメータヘッドとして機能する。従って、ストッパ５６を回転させてシリンダーシャフト５４に対するストッパ５６の位置を調整することにより、シリンダーシャフト５４の軸方向の移動量の測定と停止位置の制御が行える。これにより、塗布部材１６が取り得る最下位置の調整を行える。
【００５９】
つまり、本実施の形態では、シリンダーシャフト５４とストッパ５６が、塗布部材１６と基板表面との間に所望の接触状態を与える接触調整部材を構成している。
【００６０】
本実施の形態では、基板１２と配向剤保持シート１８の間隔（配向剤の接触状態）を目盛りを参考にストッパ５６を回転させるだけの簡単な作業で調整できる。これにより、厚みの異なる様々な基板に対して、配向剤を均一な膜厚で容易に塗布することができる。
【００６１】
本発明の実施の形態の各構成は、当然、各種の変形や変更が可能である。
【００６２】
図１０は、第二の実施の形態の配向剤塗布装置の変形例に係る配向剤塗布装置を示している。
【００６３】
本変形例の装置では、シリンダーステージ４２は、ベース６０に立てられた２本の柱６２に直接固定されている。
【００６４】
ベース６０の上にはガイドベース６４が設けられている。ガイドベース６４には、特定の方向（図１０（Ｂ）の左右方向）に往復可能な基板テーブル６６が設けられている。ガイドベース６４は、基板テーブル６６を移動させ、その方向や速度は、ガイドベース制御部（図示せず）によって制御される。基板テーブル６６の可動範囲は、基板１２の長さよりも長い。
【００６５】
基板テーブル６６は、基板１２が設置される領域の内部に形成された穴（図示せず）を有している。穴はチューブ４８を介して空圧機器５０に連結されている。空圧機器５０は、真空吸着により、基板１２を基板テーブル６６に適宜固定させる。
【００６６】
さらに、基板テーブル６６には、ディスペンサ制御部（図示せず）により制御されたディスペンサ３４（図示せず）により適量の配向剤を吐出するためのニードル３６が設けられている。
【００６７】
本変形例の装置では、基板１２は、基板テーブル６６と共に、ガイドベース６４によって水平に移動される。つまり、本変形例では、ガイドベース６４が水平移動機構を構成している。
【００６８】
本変形例においても、基板１２と配向剤保持シート１８の間隔（配向剤の接触状態）を目盛りを参考にストッパ５６を回転させるだけの簡単な作業で調整できる。これにより、厚みの異なる様々な基板に対して、配向剤を均一な膜厚で容易に塗布することができる。
【００６９】
これまで、いくつかの実施の形態について図面を参照しながら具体的に説明したが、本発明は、上述した実施の形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で行なわれるすべての実施を含む。
【００７０】
従って、本発明の配向剤塗布方法と配向剤塗布装置について、以下のことが言える。
【００７１】
（１）液晶光学素子の基板の表面に配向剤を塗布する配向剤塗布方法において、配向剤を保持した配向剤保持部により表面を覆われた塗布部材を、前記基板表面と前記塗布部材との間に所望の接触状態を与えるための接触調整部材に対して所定の圧力で押圧した状態で、前記基板に対して相対的に移動させることで、前記基板表面に均一に前記配向剤を塗布することを特徴とする配向剤塗布方法。
【００７２】
（実施の形態との対応）
液晶光学素子の基板は基板１２に、配向剤は配向剤に、配向剤保持部は配向剤保持シート１８に、塗布部材はスキージ２０に、それぞれ対応する。
【００７３】
（作用効果）
調整項目が少なく簡易的に配向剤を均一塗布する方法を提供できる。
【００７４】
（２）前記配向剤塗布部材が前記基板の端部より内側で前記基板に対向する位置において、前記塗布部材を前記接触調整部材に対して所定の圧力で押圧させ、押圧した状態のまま前記基板の一方の端部近傍まで前記塗布部材を移動させ、その後、前記基板のもう一方の端部に向けて移動させることで前記配向剤を塗布することを特徴とする請求項１に記載の配向剤塗布方法。
【００７５】
（作用効果）
塗りむらが生じ易い塗布開始位置においても配向剤を均一に塗布する方法を提供できる。
【００７６】
（３）液晶光学素子の基板を保持する基板保持部材と、配向剤を保持する配向剤保持部により表面を覆われた塗布部材と、前記塗布部材を前記基板表面に対して所望の接触状態を与えるように保持する接触調整部材とを有することを特徴とする配向剤塗布装置。
【００７７】
（実施の形態との対応）
液晶光学素子の基板は基板１２に、基板保持部材はベース１４または基板テーブル６６に、配向剤は配向剤に、配向剤保持部は配向剤保持シート１８に、塗布部材はスキージ２０に、接触調整部材はストッパ３２またはストッパ５６に、それぞれ対応する。
【００７８】
（作用効果）
接触調整部材は塗布部材の基板との接触状態を制御する機能を有する。これにより、単純な構成で配向剤を均一塗布できる装置を提供できる。
【００７９】
（４）前記塗布部材を前記接触調整部材に対して所定の圧力で押圧した状態で移動させる移動手段をさらに有することを特徴とする第３項に記載の配向剤塗布装置。
【００８０】
（実施の形態との対応）
移動手段はスライダー３０、基板テーブル６６に対応する。
【００８１】
（作用効果）
移動手段により押圧した状態で配向剤の塗布が可能となるので、配向剤の塗布量の制御ができる。
【００８２】
（５）前記配向剤を前記塗布部材の配向剤保持部に供給する配向剤供給手段をさらに有することを特徴とする第３項または第４項に記載の配向剤塗布装置。
【００８３】
（実施の形態との対応）
配向剤供給手段はディスペンサ３４に対応する。
【００８４】
（作用効果）
配向剤供給手段は、配向剤保持部の配向剤量を常に適量となるよう制御できる。
【００８５】
（６）前記配向剤保持部は、前記配向剤を吸収する不織布であることを特徴とする第３項ないし第５項のいずれかひとつに記載の配向剤塗布装置。
【００８６】
（作用効果）
不織布は、配向剤を均一に保持する機能を有する。これにより、配向剤の基板表面への供給量が安定するので歩留まりを向上できる。
【００８７】
（７）前記塗布部材は、平型または角型またはＩ型のスキージであることを特徴とする第３項ないし第６項のいずれかひとつに記載の配向剤塗布装置。
【００８８】
（作用効果）
スキージは、配向剤を塗布する機能および除去する機能を有する。これにより、塗布量の制御ができる。
【００８９】
（８）前記塗布部材は弾性部材からなることを特徴とする第３項ないし第７項のいずれかひとつに記載の配向剤塗布装置。
【００９０】
（作用効果）
弾力を有する部材は、基板の凹凸を吸収する機能を有する。これにより、基板の変形にも対応できる。
【００９１】
【発明の効果】
本発明によれば、調整項目が少なく簡易的に配向剤の均一塗布を実現できる配向剤塗布方法および配向剤塗布装置が提供される。
【図面の簡単な説明】
【図１】第一の実施の形態の配向剤塗布装置を示しており、配向剤の塗布の開始前の状態すなわち装置に基板がセットされた状態を示しており、（Ａ）は正面図、（Ｂ）は側断面図である。
【図２】配向剤の塗布の最初の工程の状態における第一の実施の形態の配向剤塗布装置を示しており、（Ａ）は正面図、（Ｂ）は側断面図である。
【図３】図２に続く配向剤の塗布工程の状態における第一の実施の形態の配向剤塗布装置を示しており、（Ａ）は正面図、（Ｂ）は側断面図である。
【図４】図３に続く配向剤の塗布工程の状態における第一の実施の形態の配向剤塗布装置を示しており、（Ａ）は正面図、（Ｂ）は側断面図である。
【図５】図４に続く配向剤の塗布工程の状態における第一の実施の形態の配向剤塗布装置を示しており、（Ａ）は正面図、（Ｂ）は側断面図である。
【図６】図５に続く配向剤の塗布工程の状態における第一の実施の形態の配向剤塗布装置を示しており、（Ａ）は正面図、（Ｂ）は側断面図である。
【図７】第一の実施の形態の配向剤塗布装置に適用可能な塗布部材の第一の変形例を示している。
【図８】第一の実施の形態の配向剤塗布装置に適用可能な塗布部材の第二の変形例を示している。
【図９】第二の実施の形態の配向剤塗布装置を示しており、配向剤の塗布の開始前の状態を示しており、（Ａ）は正面図、（Ｂ）は側断面図である。
【図１０】第二の実施の形態の変形例による配向剤塗布装置を示しており、配向剤の塗布の開始前の状態を示しており、（Ａ）は正面図、（Ｂ）は側断面図である。
【図１１】従来の配向剤塗布装置の主要部の構成を概略的に示している。
【符号の説明】
１４  ベース
１６  塗布部材
１８  配向剤保持シート
２０  スキージ
２２  スキージホルダー
３２  ストッパ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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