【手続補正書】
【提出日】平成27年9月24日(2015.9.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１基板と第２基板とがシールで接着された表示パネルを備えた表示装置であって、
前記第１基板と前記第２基板との端部のギャップには、第１スペーサが壁状に配置され、前記第１スペーサよりも内側に前記シールが配置されていることを特徴とする表示装置。
【請求項２】
請求項１記載の表示装置であって、
前記第２基板上であって前記シールの内部に、前記第１スペーサよりも高さの低い第２スペーサが複数配置されていることを特徴とする表示装置。
【請求項３】
請求項１記載の表示装置であって、
前記第１基板は、第１無機パッシベーション膜と、前記第１無機パッシベーション膜よりも前記第２基板側に設けられた第２無機パッシベーション膜又は有機パッシベーション膜とを有し、
前記第２無機パッシベーション膜又は有機パッシベーション膜は、前記シールが形成されている領域内において複数の除去領域を有することを特徴とする表示装置。
【請求項４】
請求項１記載の表示装置であって、
前記第１基板は、第１無機パッシベーション膜と、前記第１無機パッシベーション膜上に形成された第２無機パッシベーション膜又は有機パッシベーション膜とを有し、
前記第２無機パッシベーション膜又は有機パッシベーション膜は、前記シールが形成されている領域内において複数の除去領域を有し、
前記第２基板上であって前記シールの内部に、前記第１スペーサよりも高さの低い第２スペーサが複数配置され、
鉛直上方から見て、前記第２スペーサと前記除去領域とが重なるように配置されていることを特徴とする表示装置。
【請求項５】
請求項４記載の表示装置であって、
前記第１基板はゲート配線とドレイン配線とを有し、
鉛直上方から見て、前記ゲート配線と前記ドレイン配線とは共に、前記第２スペーサと前記除去領域とは重ならないように配置されていることを特徴とする表示装置。
【請求項６】
請求項１記載の表示装置であって、
前記第１基板は、無機パッシベーション膜を有し、
前記無機パッシベーション膜は、前記シールが形成されている領域内において複数の除去領域を有することを特徴とする表示装置。
【請求項７】
請求項１記載の表示装置であって、
前記第１基板は、無機パッシベーション膜を有し、
前記無機パッシベーション膜は、前記シールが形成されている領域内において複数の除去領域を有し、
前記第２基板上であって前記シールの内部に、前記第１スペーサよりも高さの低い第２スペーサが複数配置され、
鉛直上方から見て、前記第２スペーサと前記除去領域とが重なるように配置されていることを特徴とする表示装置。
【請求項８】
請求項７記載の表示装置であって、
前記第１基板はゲート配線とドレイン配線とを有し、
鉛直上方から見て、前記ゲート配線と前記ドレイン配線とは共に、前記第２スペーサと前記除去領域とは重ならないように配置されていることを特徴とする表示装置。
【請求項９】
請求項１記載の表示装置であって、
前記表示パネルは、前記第１基板と前記第２基板とのギャップ距離調整用のスペーサを備えた有効表示領域を有し、
前記第１スペーサの高さは、前記有効表示領域のスペーサの高さよりも高いことを特徴とする表示装置。
【請求項１０】
請求項９記載の表示装置であって、
前記第１スペーサと前記有効表示領域のスペーサとは同じ材料で形成されていることを特徴とする表示装置。
【請求項１１】
それぞれ有効表示領域を備えた複数の表示パネル領域を有する第１基板を準備する工程と、
前記第１基板上の複数の前記表示パネル領域に渡って第１有機膜を形成する工程と、
それぞれ有効表示領域を備えた複数の表示パネル領域を有し、前記表示パネル領域の切断面を含む領域にギャップ距離調整用の第１スペーサが形成された第２基板を準備する工程と、
前記第２基板上の複数の前記表示パネル領域に渡って第２有機膜を形成する工程と、
前記第２基板の前記第１スペーサが形成された領域、及び/又は前記第１基板の前記表示パネル領域の切断面を含む領域にシールを塗布する工程と、
前記第１基板の前記第１有機膜と前記第２基板の前記第２有機膜とが互いに対向するように、前記第１基板と前記第２基板とを重ね合わせ、前記シールにより互いに接着する工程と、
前記第１スペーサが分断されるように、前記切断面で前記表示パネル領域を切断する工程と、を有することを特徴とする表示装置の製造方法。
【請求項１２】
請求項１１記載の表示装置の製造方法であって、
前記第２基板上であって前記シールの内部となる位置に、前記第１スペーサよりも高さの低い第２スペーサが複数配置されていることを特徴とする表示装置の製造方法。
【請求項１３】
請求項１１記載の表示装置の製造方法であって、
前記第１基板は、無機パッシベーション膜と、前記無機パッシベーション膜上に形成された上層パッシベーション膜又は有機パッシベーション膜とを有し、
前記上層パッシベーション膜又は有機パッシベーション膜は、前記シールが形成される領域内において複数の除去領域を有することを特徴とする表示装置の製造方法。
【請求項１４】
請求項１１記載の表示装置の製造方法であって、
前記第１基板は、無機パッシベーション膜と、前記無機パッシベーション膜上に形成された上層パッシベーション膜又は有機パッシベーション膜とを有し、
前記上層パッシベーション膜又は有機パッシベーション膜は、前記シールが形成される領域内において複数の除去領域を有し、
前記第２基板上であって前記シールの内部となる位置に、前記第１スペーサよりも高さの低い第２スペーサが複数配置され、
鉛直上方から見て、前記第２スペーサと前記除去領域とが重なるように前記第１基板と前記第２基板とを重ね合わせることを特徴とする表示装置の製造方法。
【請求項１５】
請求項１４記載の表示装置の製造方法であって、
前記第１基板はゲート配線とドレイン配線とを有し、
鉛直上方から見て、前記ゲート配線と前記ドレイン配線とは共に、前記第２スペーサとは重ならないように前記第１基板と前記第２基板とを重ね合わせることを特徴とする表示装置の製造方法。
【請求項１６】
請求項１１記載の表示装置の製造方法であって、
前記第１基板は、無機パッシベーション膜を有し、
前記無機パッシベーション膜は、前記シールが形成される領域内において複数の除去領域を有することを特徴とする表示装置の製造方法。
【請求項１７】
請求項１１記載の表示装置の製造方法であって、
前記第１基板は、無機パッシベーション膜を有し、
前記無機パッシベーション膜は、前記シールが形成される領域内において複数の除去領域を有し、
前記第２基板上であって前記シールの内部に、前記第１スペーサよりも高さの低い第２スペーサが複数配置され、
鉛直上方から見て、前記第２スペーサと前記除去領域とが重なるように前記第１基板と前記第２基板とを重ね合わせることを特徴とする表示装置の製造方法。
【請求項１８】
請求項１７記載の表示装置の製造方法であって、
前記第１基板はゲート配線とドレイン配線とを有し、
鉛直上方から見て、前記ゲート配線と前記ドレイン配線とは共に、前記第２スペーサとは重ならないように前記第１基板と前記第２基板とを重ね合わせることを特徴とする表示装置の製造方法。
【請求項１９】
請求項１１記載の表示装置の製造方法であって、
前記表示パネルは、前記第１基板と前記第２基板とのギャップ距離調整用のスペーサを備えた有効表示領域を有し、
前記第１スペーサの高さは、前記有効表示領域のスペーサの高さよりも高いことを特徴とする表示装置の製造方法。
【請求項２０】
請求項１９記載の表示装置の製造方法であって、
前記第１スペーサと前記有効表示領域のスペーサとは同じ工程で形成されることを特徴とする表示装置の製造方法。