【事件の表示】
　平成　９年特許願第１２３３２７号「ＣＶＤ装置用ガス導入ノズル」拒絶査定不服審判事件〔平成１０年１１月１０日出願公開、特開平１０−２９８７６３〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１．手続の経緯 
　本願は、平成９年４月２５日の出願であって、平成１８年７月１８日付けで拒絶理由通知が起案され、同年９月２２日に意見書及び明細書の記載に係る手続補正書の提出がなされ、同年１２月１８日付けで拒絶査定が起案され、平成１９年１月１８日に拒絶査定不服の審判請求がなされ、同年２月１９日に明細書の記載に係る手続補正書が提出され、平成２１年１月２０日付けで特許法第１６４条第３項に基づく報告を引用した審尋が起案され、平成２１年３月２７日に回答書の提出がなされたものである。 
　 
２．平成１９年２月１９日付けの手続補正について 
［補正却下の決定の結論］ 
　平成１９年２月１９日付けの手続補正（以下、必要に応じて「本件補正」という。）を却下する。 
［理由］ 
（１）本件補正により、平成１８年９月２２日付けの手続補正書の特許請求の範囲 
「　【請求項１】複数の反応性ガスを導入して化学的気相成長を行なうCVD装置内に配設され、２枚の多孔板と、前記反応性ガスを別々に導入する蓋部材からなり、
　前記多孔板のうち前記反応ガスの上流側の第１多孔板には、上流側の面に反応性ガスの１つを拡散する溝と、該溝から下流側の面へと貫通する複数の第１貫通孔群とが形成されており、
　前記蓋部材は、前記第１多孔板の前記溝を覆うように配設されており、
　前記多孔板のうち下流側の第２多孔板には、上流側の面に前記第１多孔板で拡散された反応性ガスとは異なる反応性ガスを拡散する溝と、該溝から下流側の面へと貫通する複数の第１貫通孔群と、該溝に連通せず前記第１貫通孔群と連通する複数の第２貫通孔群とが形成され、
　導入された前記反応性ガスが混合されずに放出されることを特徴とするCVD装置用ガス導入ノズル。
　　【請求項２】複数の反応性ガスを導入して化学的気相成長を行なうCVD装置内に配設され、３枚以上の多孔板と、前記反応性ガスを別々に導入する蓋部材からなり、
　前記多孔板のうち前記反応ガスの最も上流側の第１多孔板には、上流側の面に反応性ガスの１つを拡散する溝と、該溝から下流側の面へと貫通する複数の第１貫通孔群とが形成されており、
　前記蓋部材は、前記第１多孔板の前記溝を覆うように配設されており、
　前記多孔板のうち第１多孔板と当接する第２多孔板には、上流側の面に、反応性ガスの１つを拡散する溝と、該溝から前記下流側の面へと貫通する複数の第１貫通孔群と、該溝に連通せず前記第１多孔板の前記第１貫通孔群と連通する複数の第２貫通孔群とが形成されており、
　前記多孔板のうち第１多孔板及び第２多孔板以外の多孔板には、上流側の面に、反応性ガスの１つを拡散する溝と、該溝から下流側の面へと貫通する複数の第１貫通孔群と、該溝に連通せず直上流側にある多孔板に形成されている第１貫通孔群及び第２貫通孔群と連通する複数の第２貫通孔群とが形成され、
　導入された前記反応性ガスが混合されずに放出されることを特徴とするCVD装置用ガス導入ノズル。
　　【請求項３】前記多孔板及び前記蓋部材が密着された状態で積層されており、前記溝において拡散されたガスが、前記多孔板及び前記蓋部材の接触面並びに前記多孔板同士の接触面から漏洩しない請求項１又は請求項２に記載のCVD装置用ガス導入ノズル。
　　【請求項４】前記多孔板及び前記蓋部材の接触面及び／又は前記多孔板同士の接触面において、前記反応性ガスが導入される箇所に、シール部材が設けられている請求項３に記載のCVD装置用ガス導入ノズル。
　　【請求項５】前記多孔板のうち、最も下流側にある多孔板において、前記第１貫通孔群から、異なる前記反応性ガスが放出される前記第２貫通孔群までの距離が、等しい請求項２に記載のCVD装置用ガス導入ノズル。
　　【請求項６】前記反応性ガスが、相互に気相反応を生じない複数種類のガスが混合された混合ガスである請求項１乃至請求項５に記載のCVD装置用ガス導入ノズル。
　　【請求項７】前記第１多孔板において、前記溝が所定領域全体を浅い凹所の形状を呈している請求項１乃至請求項６に記載のCVD装置用ガス導入ノズル。
　　【請求項８】積層される前記多孔板の各前記溝の形状が、該溝の延在方向に沿って所定ピッチずれた同一の形状である請求項１乃至６に記載のCVD装置用ガス導入ノズル。」が、次のように補正された。 
「　【請求項１】複数の反応性ガスを導入して化学的気相成長を行なうCVD装置内に配設され、２枚の多孔板と、前記反応性ガスを別々に導入する蓋部材からなり、
　前記多孔板のうち前記反応性ガスの上流側の第１多孔板には、上流側の面から下流側の面へと貫通する複数の第１貫通孔群と、該第１貫通孔群の各孔の上部を上流側の面に沿って互いに連通させる凹所が形成されており、
　前記蓋部材は、前記第１多孔板の前記溝を覆うように配設されており、
　前記多孔板のうち下流側の第２多孔板には、上流側の面に前記第１多孔板で拡散された反応性ガスとは異なる反応性ガスを拡散する溝と、該溝から下流側の面へと貫通する複数の第１貫通孔群と、該溝に連通せず前記第１貫通孔群と連通する複数の第２貫通孔群とが形成され、
　導入された前記反応性ガスが混合されずに放出されることを特徴とするCVD装置用ガス導入ノズル。
　　【請求項２】複数の反応性ガスを導入して化学的気相成長を行なうCVD装置内に配設され、３枚以上の多孔板と、前記反応性ガスを別々に導入する蓋部材からなり、
　前記多孔板のうち前記反応性ガスの上流側の第１多孔板には、上流側の面から下流側の面へと貫通する複数の第１貫通孔群と、該第１貫通孔群の各孔の上部を上流側の面に沿って互いに連通させる凹所が形成されており、
　前記蓋部材は、前記第１多孔板の前記溝を覆うように配設されており、
　前記多孔板のうち第１多孔板と当接する第２多孔板には、上流側の面に、反応性ガスの１つを拡散する溝と、該溝から前記下流側の面へと貫通する複数の第１貫通孔群と、該溝に連通せず前記第１多孔板の前記第１貫通孔群と連通する複数の第２貫通孔群とが形成されており、
　前記多孔板のうち第１多孔板及び第２多孔板以外の多孔板には、上流側の面に、反応性ガスの１つを拡散する溝と、該溝から下流側の面へと貫通する複数の第１貫通孔群と、該溝に連通せず直上流側にある多孔板に形成されている第１貫通孔群及び第２貫通孔群と連通する複数の第２貫通孔群とが形成され、
　導入された前記反応性ガスが混合されずに放出されることを特徴とするCVD装置用ガス導入ノズル。
　　【請求項３】前記多孔板及び前記蓋部材が密着された状態で積層されており、前記溝において拡散された前記反応性ガスが、前記多孔板及び前記蓋部材の接触面並びに前記多孔板同士の接触面から漏洩しない請求項１又は請求項２に記載のCVD装置用ガス導入ノズル。
　　【請求項４】前記多孔板及び前記蓋部材の接触面及び／又は前記多孔板同士の接触面において、前記反応性ガスが導入される箇所に、シール部材が設けられている請求項３に記載のCVD装置用ガス導入ノズル。
　　【請求項５】前記多孔板のうち、最も下流側にある多孔板において、前記第１貫通孔群から、異なる前記反応性ガスが放出される前記第２貫通孔群までの距離が、等しい請求項２に記載のCVD装置用ガス導入ノズル。
　　【請求項６】前記反応性ガスが、相互に気相反応を生じない複数種類のガスが混合された混合ガスである請求項１乃至請求項５に記載のCVD装置用ガス導入ノズル。
　　【請求項７】積層される前記多孔板の各前記溝の形状が、該溝の延在方向に沿って所定ピッチずれた同一の形状である請求項２乃至６に記載のCVD装置用ガス導入ノズル。」
（２）そして、本件補正は、平成１８年９月２２日付けの手続補正書の特許請求の範囲の請求項７を削除するとともに、請求項１及び２に記載の「上流側の面に反応性ガスの１つを拡散する溝と、該溝から下流側の面へと貫通する複数の第１貫通孔群とが形成されており」を「上流側の面から下流側の面へと貫通する複数の第１貫通孔群と、該第１貫通孔群の各孔の上部を上流側の面に沿って互いに連通させる凹所が形成されており」とすることにより減縮を目的とする補正を加えており、平成１８年法律第５５号改正附則第３条第１項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法第１７条の２第４項第１号及び同第２号に掲げる事項を目的とするものであるから、平成１８年法律第５５号改正附則第３条第１項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法第１７条の２第４項に規定する補正の要件を満たしているといえる。  
　そこで、本件補正後の請求項１に記載された発明（以下、「本願補正発明」という。）が特許出願の際独立して特許を受けることができるものかについて検討する。
（ｉ）原査定の拒絶の理由において引用文献として引用された本願出願前日本国内において頒布された刊行物である特開平８−２９１３８５号公報（以下、「引用文献」という。）には次の事項が記載されている。
（ア）「【実施例】以下に、本発明に係る処理装置のシャワーヘッド構造及び処理ガスの供給方法を添付図面に基づいて詳述する。図１は本発明に係るシャワーヘッド構造を設けた処理装置を示す断面図、図２は図１に示すシャワーヘッド構造のシャワーヘッド本体を示す部分拡大分解図、図３は図２に示すシャワーヘッド本体の中段ブロック体の下面斜視図、図４はシャワーヘッド本体の下面を示す平面図、図５はシャワーヘッド本体の上面を示す平面図である。本実施例では、本発明に係るシャワーヘッド構造を、処理装置として枚葉式のメタルＣＶＤ装置に適用した場合を例にとって説明する。」（段落【００１０】）
（イ）「具体的には、このシャワーヘッド構造５０は、例えばアルミニウム等により円柱状に成形されたシャワーヘッド本体５６を有しており、このシャワーヘッド本体５６は厚肉円柱状に成形された複数、図示例においては３つのブロック体、すなわち上段ブロック体５８、中段ブロック体６０及び下段ブロック体６２により構成される。そして、上段ブロック体５８の上面に形成される原料ガス導入口６４には、原料ガス源７０に接続された原料ガス供給管６８が連結され、また、還元ガス導入口７２には、還元ガス源７４に接続された還元ガス供給管７６が接続されている。」（段落【００１４】）
（ウ）「上段ブロック体５８に形成される原料ガスのガス流路５２及び還元ガスのガス流路５４は、それぞれブロック体５８の中心部から分岐されて例えば放射状に半径方向へ延びるように形成されており、中段ブロック体６０のそれぞれのガス流路５２、５４は、上段ブロック体５８と下段ブロック体６２に形成される多数のガス噴射孔７８との間の中継をなすものであり、中段ブロック体６０の上面側には上段ブロック体５８のガス流路５２に連結する複数の原料ガスヘッダ部８０が切削して設けられ、このヘッダ部８０から下方に向けて多数の原料ガスのガス流路５２が形成される。また、中段ブロック体６０の下面側には、複数の還元ガスヘッダ部８２が切削して設けられており、各還元ガスヘッダ部８２は、上段ブロック体６０に形成した還元ガスのガス流路５４に直接或いは間接的に連通されている。」（段落【００１５】）
（エ）「また、下段ブロック体６２には、図４にも示すように略全面に亘ってガス噴射孔７８が、例えば１０〜２０ｍｍ程度の所定のピッチで整然と配列されている。これらのガス噴射孔７８は、噴射後の原料ガスと還元ガスの均一混合を促進するために原料ガスを放出する原料ガス噴射孔７８Ａ群と還元ガスを放出する還元ガス噴射孔７８Ｂ群とを例えば交互に配置させている。」（段落【００１６】）
（オ）「このように、本発明においては、処理空間Ｓまでは２種類の処理ガスを別々の経路で供給し、処理空間Ｓに供給すると同時にここで混合して反応させるようにしたので、供給途中にて不必要な部分に成膜が形成されることなく、ウエハ表面上に確実に成膜を施すことができる。」（段落【００２７】）
　また、当審決において周知例として提示する本願出願前日本国内において頒布された刊行物である特開平８−９１９８９号公報（以下、「周知例」という。）には次の事項が記載されている。
（ア）「（１）前記材料が前記先駆物質の反応によって蒸着されるべき、加熱された基板（４）を収容するための反応チャンバ（５）と、
（２）第１先駆物質用の第１チャンバ（１６）と、
（３）第２先駆物質用の第２チャンバ（１８）と、
（４）第１チャンバを反応チャンバと連結して、個別の流路を提供し、それに沿って第１先駆物質が反応チャンバへと通ることができる複数の第１導管（２１）と、
（５）第２チャンバを反応チャンバと連結して、個別の流路を提供し、それに沿って第２先駆物質が反応チャンバへと通ることができ、それにより、前記第１先駆物質と前記第２先駆物質との間の接触が、先駆物質が反応チャンバに入るまで起こらない複数の第２導管（２４）と、
（６）前記第１導管と第２導管を冷却するための手段（３１、３２、３３、３４、３５、３６）とを有する、第１及び第２の気体状の先駆物質から、化学蒸着によって材料を作り出すための反応容器。」（【請求項１】） 
（イ）「インゼクター組立体８は、円筒状の壁１４を有し、反応容器の壁１と同軸関係に位置決めされた管状部分を有する。図示するように、好ましくは、ほぼ円形状である３つのプレートが、管状部分１４にわたって間隔を隔てて平行関係に密封されている。第１（上方）プレート１５は、上方クロージャープレート７と共に、第１チャンバ１６を作る。第２（中央）プレート１７は、第１プレート１５と共に、第２チャンバ１８を作る。かくして、第１プレート１５は、第１チャンバ１６と第２チャンバ１８との間で、共通隔壁を提供する。第３（下方）プレート１９は、中央プレート１７と共に、冷却チャンバ２０を形成する。プレート１９の下面と、サセプタ上の基板４の上面との間の距離は、所望により、例えば、０．５cmから１０cmまでであってもよい。複数の第１導管２１が、第１チャンバ１６と反応チャンバ５との間に設けられている。それらは、第１チャンバ１６内に位置決めされ、チャンバ１８及び２０と連通することなく、チャンバ１８及び２０を通り抜ける流入口２２を有する。それらは、例えば、真空ろう付(vacuum brazing)等によって、プレート１５、１７及び１９に結合される。導管は、反応チャンバ５内で、インゼクターノズルの形態で、流出口２３で終わっており、第１チャンバ１６から反応チャンバ５への、複数の個別的な通路を提供する。」（段落【００１０】）
（ウ）「第２チャンバ１８内の流入口２５と、反応チャンバ５内のインゼクターノズルの形態の流出口２６とを有する複数の第２導管２４が設けられている。これらの導管は、冷却チャンバ２０と連通することなく、冷却チャンバ２０を通り、また、例えば、真空ろう付等で、プレート１７及び１９に結合されている。第１導管２１及び第２導管２４の流出口２３及び２６は、各流出口２３がいくつかの流出口２６によって囲まれ、また、その逆であるように、第３プレート１９の面の上に均一に分布されている。インゼクター組立体８は、（ｉ）インゼクター組立体８のギャラリー(gallery) ２８と連通し、次いで、第１チャンバ１６と連通する第１流入口２７（図２参照）と、（ｉｉ）インゼクター組立体８のギャラリー(gallery) ３０と連通し、次いで、第２チャンバ１８と連通する第２流入口２９（図４参照）とを有する。第１流入口２７は、第１先駆物質（例えば、アンモニア）及び搬送ガス用であり、また、第２流入口２９は、第２先駆物質（例えば、トリメチル又はトリエチルガリウム）及び搬送ガス用である。」（段落【００１１】）
（ｉｉ）対比・判断  
　引用文献の記載事項（ア）には「本発明に係るシャワーヘッド構造を、処理装置として枚葉式のメタルＣＶＤ装置に適用した場合を例にとって説明する。」との記載があり、記載事項（イ）には「このシャワーヘッド構造５０は、例えばアルミニウム等により円柱状に成形されたシャワーヘッド本体５６を有して」いること、「シャワーヘッド本体５６は厚肉円柱状に成形された複数、図示例においては３つのブロック体、すなわち上段ブロック体５８、中段ブロック体６０及び下段ブロック体６２により構成される」こと及び「上段ブロック体５８の上面に形成される原料ガス導入口６４には、原料ガス源７０に接続された原料ガス供給管６８が連結され、また、還元ガス導入口７２には、還元ガス源７４に接続された還元ガス供給管７６が接続されている」ことが記載され、記載事項（ウ）には「中段ブロック体６０のそれぞれのガス流路５２、５４は、上段ブロック体５８と下段ブロック体６２に形成される多数のガス噴射孔７８との間の中継をなすものであり、中段ブロック体６０の上面側には上段ブロック体５８のガス流路５２に連結する複数の原料ガスヘッダ部８０が切削して設けられ、このヘッダ部８０から下方に向けて多数の原料ガスのガス流路５２が形成される。また、中段ブロック体６０の下面側には、複数の還元ガスヘッダ部８２が切削して設けられており、各還元ガスヘッダ部８２は、上段ブロック体６０に形成した還元ガスのガス流路５４に直接或いは間接的に連通されている」ことが記載され、記載事項（エ）には、「下段ブロック体６２には、・・・原料ガスを放出する原料ガス噴射孔７８Ａ群と還元ガスを放出する還元ガス噴射孔７８Ｂ群とを・・・配置させている」ことが記載され、記載事項（オ）には「処理空間Ｓまでは２種類の処理ガスを別々の経路で供給し、処理空間Ｓに供給すると同時にここで混合して反応させるようにした」ことが記載されている。これらを本願補正発明の記載ぶりに則って整理すると「シャワーヘッド構造は、シャワーヘッド本体を有し、シャワーヘッド本体は、上段ブロック体、中段ブロック体及び下段ブロック体により構成され、上段ブロック体の上面に原料ガス導入口と還元ガス導入口が形成され、中段ブロック体の上面側には上段ブロック体のガス流路に連結する複数の原料ガスヘッダ部が切削して設けられ、このヘッダ部から下方に向けて多数の原料ガスのガス流路が形成され、中段ブロック体の下面側には、複数の還元ガスヘッダ部が切削して設けられており、各還元ガスヘッダ部は、上段ブロック体に形成した還元ガスのガス流路に連通され、下段ブロック体には、原料ガス噴射孔群と還元ガス噴射孔群とを配置させ、処理空間までは２種類の処理ガスを別々の経路で供給したＣＶＤ装置に適用したシャワーヘッド構造。」の発明（以下、「引用発明」という。）が引用文献には記載されていると認められる。
　そこで、本願補正発明と引用発明を対比すると、引用発明の「ＣＶＤ」は、「化学的気相成長」であることは明らかであり、引用発明も「処理空間までは２種類の処理ガスを別々の経路で供給」されるものであって、「複数の反応性ガスを導入」するものといえるから、引用発明の「ＣＶＤ装置」は、本願補正発明の「複数の反応性ガスを導入して化学的気相成長を行なうＣＶＤ装置」に相当する。また、引用発明の「上段ブロック体」、「中段ブロック体」及び「下段ブロック体」は、それらの有する機能からみて、それぞれ、本願補正発明の「蓋部材」、「第１多孔板」及び「第２多孔板」に対応した部材であることは明らかである。そして、引用発明の「上面に原料ガス導入口と還元ガス導入口が形成され」た「上段ブロック体」は、シャワーヘッド本体の最上部に位置するから本願補正発明の「反応性ガスを別々に導入する蓋部材」に相当する。また、引用発明の「中段ブロック体の上面側には上段ブロック体のガス流路に連結する複数の原料ガスヘッダ部が切削して設けられ」ることについては、「ヘッダ」が「header（管寄せ）」のことであって（「英和和英機械用語図解辞典−第２版−」、日刊工業新聞社、１９８９年４月２０日初版第３刷発行、第２６６頁）、原料ガス流路を原料ガスヘッダ部により集めることからみて、引用発明の「切削して設けられる」「原料ガスヘッダ」は、材料の切削箇所である空隙即ち凹みを有することによりガスを集めることになるから、本願補正発明の「凹所」と同義であると認められ、引用発明の「中段ブロック体の上面側には上段ブロック体のガス流路に連結する複数の原料ガスヘッダ部が切削して設けられ、このヘッダ部から下方に向けて多数の原料ガスのガス流路が形成され」ることは、本願補正発明の「多孔板のうち前記反応性ガスの上流側の第１多孔板には、上流側の面から下流側の面へと貫通する複数の第１貫通孔群と、該第１貫通孔群の各孔の上部を上流側の面に沿って互いに連通させる凹所が形成されており」に相当する。また、引用発明の「中段ブロック体の上面側には上段ブロック体のガス流路に連結する複数の原料ガスヘッダ部が切削して設けられ」ることにより原料ガスヘッダ部に溝が形成され、上段ブロック体のガス流路に連結して設けられるから、本願補正発明の「前記蓋部材は、前記第１多孔板の前記溝を覆うように配設され」ることに相当することも明らかである。さらに、引用発明の「下段ブロック体には、原料ガス噴射孔群と還元ガス噴射孔群を配置させ」ることは、本願補正発明の「下流側の第２多孔板には、下流側の面へと貫通する複数の第１貫通孔群と、複数の第２貫通孔群とが形成され」ることに相当することは明らかである。引用発明の「処理空間までは２種類の処理ガスを別々の経路で供給」することは、本願補正発明の「導入された前記反応性ガスが混合されずに放出される」ことであることも明らかである。引用発明の「シャワーヘッド構造」は、ガスを処理空間に供給するから「ガス導入ノズル」と言い換えられることも自明である。
　してみると、本願補正発明と引用発明とは、「複数の反応性ガスを導入して化学的気相成長を行なうＣＶＤ装置内に配設され、２枚の多孔板と、前記反応性ガスを別々に導入する蓋部材からなり、
　前記多孔板のうち前記反応性ガスの上流側の第１多孔板には、上流側の面から下流側の面へと貫通する複数の第１貫通孔群と、該第１貫通孔群の各孔の上部を上流側の面に沿って互いに連通させる凹所が形成されており、
　前記蓋部材は、前記第１多孔板の前記溝を覆うように配設されており、
　前記多孔板のうち下流側の第２多孔板には、下流側の面へと貫通する複数の第１貫通孔群と、複数の第２貫通孔群とが形成され、
　導入された前記反応性ガスが混合されずに放出されるＣＶＤ装置用ガス導入ノズル。」である点で一致し、以下の点で相違する。
　本願補正発明では、第２多孔板には「前記第１多孔板で拡散された反応性ガスとは異なる反応性ガスを拡散する溝」が形成され、「該溝から下流側の面へと貫通する複数の第１貫通孔群と、該溝に連通せず前記（審決注：第１多孔板に形成された）第１貫通孔群と連通する複数の第２貫通孔群とが形成され」るのに対して、引用発明では、「下段ブロック体」には、「上流側の面に前記第１多孔板で拡散された反応性ガスとは異なる反応性ガスを拡散する溝」に相当する「還元ガスヘッダ部」に関する記載がなく、「中段ブロック体の下面側には、複数の還元ガスヘッダ部が切削して設けられており、各還元ガスヘッダ部は、上段ブロック体に形成した還元ガスのガス流路に連通され」る点（以下、「相違点（ａ）」という。）。
　そこで、上記相違点（ａ）について検討する。
　引用発明は、記載事項（オ）にあるように本願発明と課題においても共通し、特定事項においても単に、本願発明のようにガスを拡散する溝を第２多孔板の上流側の面に設けるか、引用発明のように、第１多孔板に相当する中段ブロック体の下面側に設けるかで相違するにすぎず、当業者であれば総合的な設計製作の容易さ、あるいは加熱冷却等他の貫通孔の配置等に応じて適宜選択しうる程度の設計事項の特定にすぎないものというべきであって、得られた効果についても審判請求書についてになされた平成１９年４月２７日付け手続補正書のように「本願発明は、第１多孔板の構造が簡単になるため、コストの削減が可能となります。これは、競合他社との競争が激化する昨今、他社との差別、製品の競争力維持のために当業者にとって大変重要な項目であります。」という経済的なものでは、顕著なものとすることはできない。
　よって、相違点（ａ）に係る特定事項を採用することは、引用発明から当業者が容易に想到し得たことであると認められる。
　なお、審判請求人は、審判請求書についてになされた前記手続補正書において「本願発明のＣＶＤ装置用ガス導入ノズルによれば、蓋部材１１で覆われる第１の多孔板１２の凹所２２の形状は、凹所２２と連通しない貫通孔を設ける必要がない。従って、形成が容易な形状、すなわち、図３に示される浅い凹所２２（第１の多孔板の板厚以下の深さで、第１貫通孔群が形成された所定の領域をすべて浅くくり抜いた形状に相当する）を第１の多孔板１２に形成することができる、というものであります。」と主張するが、凹所は、単に請求項１では「該第１貫通孔群の各孔の上部を上流側の面に沿って互いに連通させる凹所」とされるだけであって、依然として「溝部」を概念的に若干拡張しただけの特定事項にすぎず、「凹所２２と連通しない貫通孔を設ける必要がない。従って、形成が容易な形状、すなわち、図３に示される浅い凹所２２（第１の多孔板の板厚以下の深さで、第１貫通孔群が形成された所定の領域をすべて浅くくり抜いた形状に相当する）」と認められないので、上記主張は請求項に記載のない事項に基づくものとして採用することはできない。また、たとえそのような限定があったとしても、この限定は、上記周知例の記載事項（イ）の「インゼクター組立体８は、円筒状の壁１４を有し、反応容器の壁１と同軸関係に位置決めされた管状部分を有する。図示するように、好ましくは、ほぼ円形状である３つのプレートが、管状部分１４にわたって間隔を隔てて平行関係に密封されている。第１（上方）プレート１５は、上方クロージャープレート７と共に、第１チャンバ１６を作る。」における第１チャンバ１６として知られるように周知技術の限定にすぎないものである。
　そして、本願明細書の記載を検討しても、当業者が予測し得ない顕著な効果が奏されたものとすることはできない。
　したがって、本願補正発明は、引用文献に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
（ｉｉｉ）まとめ 
　以上のとおりであるから、本願補正発明は、特許出願の際独立して特許を受けることができないものである。そうすると、平成１９年２月１９日付けで提出された手続補正書によりなされた補正は、平成１８年法律第５５号改正附則第３条第１項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法第１７条の２第５項で準用する同法第１２６条第５項の規定に違反してなされたものである。
（３）むすび
　したがって、平成１９年２月１９日付けで提出された手続補正書によりなされた補正は、平成１８年法律第５５号改正附則第３条第１項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項の規定に違反するので、同法第１５９条第１項において読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定により却下すべきものである。
　
３．本願発明について
　平成１９年２月１９日付けの手続補正は上記のとおり却下されたので、本願の請求項１に係る発明（以下、「本願発明」という。）は、平成１８年９月２２日付けの手続補正書の特許請求の範囲の請求項１に記載された以下のとおりのものである。
「複数の反応性ガスを導入して化学的気相成長を行なうＣＶＤ装置内に配設され、２枚の多孔板と、前記反応性ガスを別々に導入する蓋部材からなり、
　前記多孔板のうち前記反応ガスの上流側の第１多孔板には、上流側の面に反応性ガスの１つを拡散する溝と、該溝から下流側の面へと貫通する複数の第１貫通孔群とが形成されており、
　前記蓋部材は、前記第１多孔板の前記溝を覆うように配設されており、
　前記多孔板のうち下流側の第２多孔板には、上流側の面に前記第１多孔板で拡散された反応性ガスとは異なる反応性ガスを拡散する溝と、該溝から下流側の面へと貫通する複数の第１貫通孔群と、該溝に連通せず前記第１貫通孔群と連通する複数の第２貫通孔群とが形成され、
　導入された前記反応性ガスが混合されずに放出されることを特徴とするＣＶＤ装置用ガス導入ノズル。」
　
４．引用文献
　原査定の拒絶の理由に引用された引用文献（特開平８−２９１３８５号公報）及び周知例（特開平８−９１９８９号公報）並びにそれらの記載事項は、上記２．（２）（ｉ）に記載したとおりである。
　
５．対比・判断
　本願発明は、前記２．で検討した本願補正発明に関して、「上流側の面から下流側の面へと貫通する複数の第１貫通孔群と、該第１貫通孔群の各孔の上部を上流側の面に沿って互いに連通させる凹所が形成されており」を「上流側の面に反応性ガスの１つを拡散する溝と、該溝から下流側の面へと貫通する複数の第１貫通孔群とが形成されており」とするものである。
　してみると、本願発明の特定事項を含み、さらに減縮した事項を付加したものである本願補正発明が、上記２．に記載したとおり、引用文献に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、本願補正発明と同様の理由により、本願発明も、引用文献に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものである。
　
６．回答書の主張について
　請求人は、平成２１年３月２７日に提出した回答書において、
「このような趣旨から、補正後の請求項１および２は、引用例１に記載された発明と構成が近似し、また、本願発明では上段側に位置する多孔板が浅皿状の凹所を有するという構成の相違を含みながらも、引用例１に比べて格別の創意を要したものであるとは認められないという前置報告書の結論は、妥当であるようにも受け止められます。
　しかしながら、本願発明の実施形態を参酌すると、引用例１とは明らかに異なる構成を有しているものと認められ、下記のような趣旨で請求項１および２を補正することにより、拒絶理由は解消されるものと思料いたします。」と主張する。
　この主張を検討すると、提示された補正案は、請求項１及び２における、「反応性ガスを拡散する溝」を図３及び図４に示される構造に特定しようとするだけで、この構造は、格子状に貫通孔を設けようとすれば必然的に採用する設計事項にすぎず、これに付随して「通路溝部」を設ける点も上記周知例記載事項（ウ）に「ギャラリー２８（gallery（審決注：横坑道））と連通し、」として記載されるように、周知の構造である。さらに、これらによって、格別の効果が得られるものとすることもできない。
　よって、請求人の上記主張は採用しない。
　
７．むすび
　以上のとおり、本願の請求項１に係る発明は、引用文献に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　したがって、その余の請求項について論及するまでもなく、本願は拒絶すべきものである。
　よって、結論のとおり審決する。