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　特願２００２−　４１１４４号「基板処理方法」拒絶査定不服審判事件〔平成１５年８月２９日出願公開、特開２００３−２４３３４９号〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１．手続の経緯・本願発明  
　本件に係る出願（以下「本願」という。）は、平成１４年２月１９日の特許出願であって、平成１８年１０月３１日付けで拒絶査定がなされ（発送日：平成１９年１月９日）、これに対し、同年２月５日に拒絶査定に対する審判の請求がなされたものである。そして、本願の請求項１に係る発明（以下、「本願発明」という。）は、平成１８年８月３０日付け手続補正書により補正された明細書及び図面の記載からみて、その特許請求の範囲の請求項１に記載された次の事項により特定されるとおりのものである。  
　
「有機物を除去する除去液を基板に供給して該基板から有機物を除去す
る基板処理方法であって、
　基板をその主面と平行な平面内で低速で回転させる低速回転工程と、
　基板を低速で回転させた状態で、基板の表面に有機アルカリ成分を含む除去液を供給する除去液供給工程と、
　基板を低速で回転させた状態で、基板への除去液の供給を停止し、その直後に基板の表面に純水を供給する純水供給工程と、
　基板への純水の供給を停止するとともに、基板をその主面と平行な面内において高速回転させることにより、基板に付着した純水を振り切る純水振り切り工程と、
　を備えることを特徴とする基板処理方法。」
　
２．刊行物  
　原査定における拒絶の理由に示された、本願出願前に日本国内で頒布された刊行物である特開平１０−２８２６３７号公報（以下、「刊行物」という。）には、図面と共に以下の事項が記載されている。　 
　 
ア．「レチクル表面にアルカリ可溶性の塗布膜を形成し、この塗布膜をアルカリ性水溶液で溶解除去することによりレチクル表面の異物を除去することを特徴とするレチクルの異物除去方法。
　前記塗布膜をアルカリ可溶性のレジスト材料により形成する、請求項１記載の方法。
　前記塗布膜を前記レジスト材料のアルカリ性現像液で溶解除去する、請求項２記載の方法。
　レチクル表面に形成した塗布膜を、これを溶解可能なアルカリ性水溶液と接触させる手段を含むことを特徴とするレチクルの異物除去装置。
　前記レチクルを載置して回転可能な手段と、回転しているレチクルの全面に前記アルカリ性水溶液を供給可能な手段とを含む、請求項４記載の装置。」（【特許請求の範囲】）
　
イ．「このようにレチクル表面に形成した液状の塗布膜の除去に用いるアルカリ性水溶液は、塗布膜を溶解除去できる限りは有機あるいは無機のいずれのものでよい。塗布膜の形成にレジスト材料を使用する場合について言えば、レジストの現像に一般に使用される現像液を利用することができる。そのような現像液の一例を挙げれば、濃度２〜３％程度のＴＭＡＨ（テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド）水溶液である。このような有機アルカリ性水溶液のほかにも、例えば水酸化ナトリウムや水酸化カリウム等の無機アルカリ性水溶液を使用してもよい。
　図１を参照して本発明の原理を説明する。図１（ａ）において、１はレチクル基板（ガラス）であり、２は基板上の遮光膜（酸化クロム）であり、そして３と４はそれぞれガラス上と遮光膜上に付着した異物である。これらの異物は、空気中ではそれぞれ負に帯電しており、ガラスのレチクル基板１と酸化クロムの遮光膜２にそれぞれ分子間力とクーロン力によって付着している。
　次に、異物３及び４の付着したレチクル９の表面にアルカリ可溶性の物質（例えばレジスト材料）の塗布膜を形成する。このためには、例えばスピンコータを利用して、レチクル９の表面に塗布膜形成物質を回転塗布するような方法を用いることができる。
　レジスト材料で塗布膜を形成した場合、通常のようにベーキングを行うことなく、また露光によるレジスト材料の溶解性の変化を生じさせずに、アルカリ性水溶液の現像液を用いてレジスト材料を溶解除去することができる。このためには、例えば図１（ｂ）に示したように、レチクルを回転台８の上に載せて回転させながらアルカリ可溶性の塗布膜５へノズル６からアルカリ現像液７をスプレーすることができる。こうして塗布膜５溶解除去すると、異物３及び４が同時に除去されて、図１（ｃ）に示したように表面の清浄化されたレチクル９が得られる。」（段落【0015】〜【0018】）
　
ウ．「本発明のレチクルの異物除去装置は、レチクル表面に形成した塗布膜をこれを溶解可能なアルカリ性水溶液と接触させる手段を含むものである。具体的な手段として、例えば、レチクルを載置して回転可能な手段（例として回転台）と、回転しているレチクルの全面にアルカリ性水溶液を供給可能な手段（例としてスプレーノズル等）を挙げることができる。あるいは、塗布膜とアルカリ性水溶液との接触手段は、アルカリ性水溶液を入れ、そして塗布膜を形成したレチクルを浸漬可能な容器でもよい。」（段落【0023】）
　
エ．「〔実施例１〕図１を参照して先に説明したように、まず、レチクル基板１上にポジ型のノボラックレジスト（東京応化社製ＯＦＰＲ−５０００）５を約１μｍの厚さに回転塗布した。こうしてレチクル基板１上に形成した塗布膜５のベーキングも露光も行わずに、この基板１を回転台８上に載せ、アルカリ現像液７として濃度２〜３％のＴＭＡＨ水溶液７をノズル６からスプレーした。約３〜４分で塗布膜５を完全に溶解除去することができた。続いて、レチクル表面に残った現像液を純水による回転リンスにより除去した。最後に、回転台８の高速回転によりレチクル９を乾燥させ、処理を終えた。」（段落【0025】）
　
　上記記載事項及び図面の記載内容からみて、刊行物には、次の発明が記載されている。
　
「ノボラックレジスト５を溶解除去する有機アルカリ性水溶液をレチクル９にスプレーしてレチクル９からノボラックレジスト５を溶解除去するレチクル９の異物除去方法であって、
　レチクル９を回転台８の上に載せて回転させる処理と、
　レチクル９を回転させながらレチクル９全面へ有機アルカリ性水溶液をスプレーする処理と、
　続いて、純水により回転リンスを行う処理と、
　最後に、回転台の高速回転によりレチクル９を乾燥させる処理とを備えた
　レチクル９の異物除去方法。」
　
３．対比
　本願発明と刊行物に記載された発明を対比する。 
　刊行物に記載された発明の「ノボラックレジスト５」は、本願発明の「有機物」に相当し、同様に、「有機アルカリ性水溶液」は「有機アルカリ成分を含む除去液」に、それぞれ相当する。
　そして、刊行物に記載された発明の「レチクル９」は、レチクル基板１上に遮光膜を形成したものであるから、本願発明の「基板」に相当し、「レチクル９全面」は「基板表面」に、「レチクル９の異物除去方法」は「基板処理方法」に、それぞれ相当する。
　また、刊行物に記載された「回転台８の上に載せて回転させる処理」は、本願発明の「主面と平行な平面内で回転させる回転工程」と同義であり、同様に「回転させながら」は「回転させた状態で」と、「有機アルカリ性水溶液をスプレーする処理」は「有機アルカリ成分を含む除去液を供給する除去液供給工程」と、「純水により回転リンスを行う処理」は「純水を供給する純水供給工程」と、それぞれ同義である。
　また、刊行物に記載された発明に「続いて」とあるが、これは、純水による回転リンスを、有機アルカリ性水溶液をスプレーする処理の後に続いて行うことを示すものである。そして、有機アルカリ性水溶液は、回転リンスにより除去されることから、回転リンスを行う処理を開始する前に、有機アルカリ性水溶液のレチクル９全面への供給を停止することは明らかである。したがって、刊行物に記載された発明の「続いて、純水により回転リンスを行う処理」は、本願発明の「基板への除去液の供給を停止し、その後に基板を回転させた状態で基板の表面に純水を供給する純水供給工程」に相当する。
　さらに、刊行物に記載された発明の「最後に、回転台の高速回転によりレチクル９を乾燥させる処理」は、「レチクル９を乾燥させる処理」であることから、「レチクル９」への純水の供給を停止して行われることは明らかである。したがって、刊行物に記載された発明の「最後に、回転台の高速回転によりレチクル９を乾燥させる処理」は、本願発明の「基板への純水の供給を停止するとともに、基板をその主面と平行な面内において高速回転させることにより、基板に付着した純水を振り切る純水振り切り工程」に相当する。
　
　したがって、上記両者の一致点及び相違点は、次のとおりである。　　　　　　　　　　　　　　　　　　  
［一致点］ 
「有機物を除去する除去液を基板に供給して該基板から有機物を除去す
る基板処理方法であって、
　基板をその主面と平行な平面内で回転させる回転工程と、
　基板を回転させた状態で、基板の表面に有機アルカリ成分を含む除去液を供給する除去液供給工程と、
　基板への除去液の供給を停止し、その後に基板を回転させた状態で基板の表面に純水を供給する純水供給工程と、
　基板への純水の供給を停止するとともに、基板をその主面と平行な面内において高速回転させることにより、基板に付着した純水を振り切る純水振り切り工程と、
　を備えることを特徴とする基板処理方法。」
　
［相違点１］
　基板の回転速度について、
　本願発明では、基板を低速で回転させる低速回転工程を備え、除去液供給工程及び純水供給工程とを低速で行うようにしたのに対して、
　刊行物に記載された発明では、この発明特定事項を備えるか否か明らかでない点。
　
［相違点２］
　基板を回転させた状態で行われる除去液供給工程に続き、基板への除去液の供給を停止し、その後に基板を回転させた状態で行われる純水供給工程において、
　本願発明では、「基板を回転させた状態」を継続させて、基板への除去液の供給を停止し、その「直後」に基板の表面に純水を供給するのに対して、
　刊行物に記載された発明では、そのようにされているか否か明らかでない点。
　
４．当審の判断
　以下、上記相違点について検討する。 
　まず、上記相違点１について検討する。
　刊行物に記載された発明において、除去液供給工程は、有機アルカリ性水溶液（「除去液」）を回転させた状態で供給する工程であるが、この際に、高速回転が行われると除去液が振り切られ、ノボラックレジスト５（「有機物」）を除去する効果が減少してしまうことは技術常識であって、除去液供給工程で高速回転は行われないことは当業者にとり明らかである。そして、刊行物に記載された発明において、除去液供給工程における回転速度を低速とすることは、有機物の厚さ、除去液の成分や濃度、必要とされる除去率等を考慮して当業者が適宜決定し得た事項である。
　また、刊行物に記載された発明において、純水供給工程は、純水で回転リンスすることにより除去液を取り除く工程であるが、この際に、高速回転が行われると、純水が振り切られ、リンス効果が減少するため、純水供給工程で高速回転は行われないことは当業者にとり明らかである。そして、刊行物に記載された発明において、純水供給工程における回転速度を低速とすることは、除去液の成分や濃度、必要とされるリンス効率等を考慮して当業者が適宜決定し得た事項である。
　したがって、刊行物に記載された発明において、基板を低速で回転させる低速回転工程を備え、除去液供給工程及び純水供給工程における回転速度を低速としたことは、当業者が容易になし得たものである。
　
　次に、上記相違点２について検討する。
　刊行物に記載された発明においては、基板を回転させた状態で行われる除去液供給工程に続いて、基板を回転させた状態で行われる純水供給工程が開始されるものであるところ、刊行物には、有機アルカリ性水溶液をスプレーする処理（除去液供給工程）の後に、一旦回転を停止させる旨の記載は見当たらない。
　そして、除去液供給工程の後に、一旦回転を停止させて、純水供給工程で回転を再開することはかえって効率を低下させることとなり、また、除去液供給工程で、回転状態のままで除去液の供給を停止すれば、除去液が振り切られて排除され、続く純水供給工程におけるリンスがスムーズとなり好都合であることは明らかであるから、刊行物に記載された発明において、除去液供給工程における、基板を回転させた状態を継続させて、基板への除去液の供給を停止することは、当業者が当然に為し得る設計的事項である。
　また、基板への除去液の供給を停止後、純水供給までに時間を置き過ぎると、処理時間が長くなり処理効率が低下するため好ましくないことから、除去液の供給を停止後、純水供給までの時間をどの程度とするのかは、除去液と純水が混ざらないようにすることの必要性と処理効率との兼ね合いにより決定されるべき事項であるといえ、本願発明において基板への除去液の供給を停止した直後に純水の供給を行うようにした点についても、当業者が適宜なし得たものである。
　
　そして、本願発明の奏する効果は、刊行物に記載された発明から当業者が予測できた範囲内のものである。 
　
　よって、本願発明は、刊行物に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものである。
　
５．むすび  
　以上のとおりであるから、本願発明は、刊行物に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるので、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。 
 　 
　したがって、本件のその他の請求項に係る発明について検討するまでもなく、本願は拒絶すべきものである。　　  
 　　　　　　　　　　　　　  
　よって、結論のとおり審決する。