【事件の表示】
　特願２００２−１０３３５５「静電潜像の測定方法および測定装置」拒絶査定不服審判事件〔平成１５年１０月１５日出願公開、特開２００３−２９５６９６〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
第１．手続の経緯
　本願は、平成１４年４月５日の出願であって、平成１９年１月２９日付けで通知された拒絶理由に対して、同年４月２日付けで手続補正書が提出され、続いて同年６月１２日付けで最後の拒絶理由が通知され、これに対して同年８月２０日付けで手続補正書が提出されたが、平成２０年１月２４日付けで、平成１９年８月２０日付けの手続補正についての補正の却下の決定がなされるとともに、同日付けで拒絶査定がなされたものであって、これに対して、平成２０年３月６日付けで審判請求がなされるとともに、同年４月７日付けで手続補正書が提出され、その後、平成２１年５月８日付けで、当審の審尋に対する回答書が提出されたものである。
　
　
第２．平成２０年４月７日付けの手続補正についての補正の却下の決定
　
［補正却下の決定の結論］
　平成２０年４月７日付けの手続補正を却下する。
　
［理由］
１．補正後の本願発明
　平成２０年４月７日付けの手続補正（以下、「本件補正」という。）は、平成１９年４月２日付けの手続補正により補正された特許請求の範囲を以下のように補正しようとする補正事項を含む。
　
（補正前）
「【請求項１】　静電潜像が形成された試料面を荷電粒子ビームで走査し、この走査で得られる検出信号により試料面を測定する方法であって、
　上記試料は電荷の暗減衰を生じる感光体であり、
　荷電粒子ビームを走査する装置内で、試料面を荷電粒子ビームで走査し、試料に対して帯電させるとともに、検出試料上に電荷分布による静電潜像を生成させることを特徴とする静電潜像測定方法。
【請求項２】　静電潜像が形成された試料面を荷電粒子ビームで走査し、この走査で得られる検出信号により試料面を測定する方法であって、
　上記試料は電荷の暗減衰を生じる感光体であり、
　荷電粒子ビームを走査する装置内で、試料面を荷電粒子ビームで走査して試料に対して帯電させ、これを露光光学系で露光させ電荷分布による静電潜像を生成させることを特徴とする静電潜像測定方法。
【請求項３】　静電潜像が形成された試料面を荷電粒子ビームで走査し、この走査で得られる検出信号により試料面を測定する装置であって、
　上記試料は電荷の暗減衰を生じる感光体であり、
　荷電粒子ビームを走査する装置内に、試料に電子ビームを照射することにより試料に対して帯電させる手段と、露光させるための光学系手段とにより電荷分布による静電潜像を生成させる手段を有することを特徴とする静電潜像測定装置。
【請求項４】　試料に対して帯電させる手段は、試料の２次電子放出比が１となる加速電圧より大きな加速電圧で電子ビームを照射することにより試料をマイナス帯電させるものである請求項３記載の静電潜像測定装置。
【請求項５】　２次電子放出比が１となる加速電圧より大きな加速電圧で電子ビームを照射することにより試料をマイナス帯電させる手段と、２次電子放出比が１となる加速電圧で試料を観察する手段を有する請求項３記載の静電潜像測定装置。
【請求項６】　荷電粒子ビームの走査領域内に既知となる参照電位を配置し、この参照電位の２次電子信号強度と測定試料の信号強度を比較することにより、電位量を算出する手段を有することを特徴とする請求項３、４または５記載の静電潜像測定装置。
【請求項７】　静電潜像が形成された試料面を荷電粒子ビームで走査し、この走査で得られる検出信号により試料面の静電潜像を測定する方法において、
　上記試料は電荷の暗減衰を生じる感光体であり、
　荷電粒子ビームを走査する装置内で、試料を移動させながら試料面に荷電粒子ビームを照射し、試料に対して帯電させるとともに、試料面の静電潜像を測定することを特徴とする静電潜像の測定方法。
【請求項８】　静電潜像が形成された試料面を荷電粒子ビームで走査し、この走査で得られる検出信号により試料面の静電潜像を測定する方法において、
　上記試料は電荷の暗減衰を生じる感光体であり、
　荷電粒子ビームを走査する装置内で、試料を移動させながら試料面に荷電粒子ビームを照射し、試料に対して帯電させ、これを露光光学系で露光させ荷電分布を有する試料を移動させながら試料面の静電潜像を測定することを特徴とする静電潜像の測定方法。
【請求項９】　静電潜像が形成された試料面を荷電粒子ビームで走査し、この走査で得られる検出信号により、試料面の静電潜像を測定する装置において、
　上記試料は電荷の暗減衰を生じる感光体であり、
　荷電粒子ビームを走査する装置内に、電荷分布を有する試料を移動させながら、上記荷電粒子ビームを照射することによって試料に対して帯電させる手段、および試料面の静電潜像を測定する手段を有することを特徴とする静電潜像の測定装置。
【請求項１０】　静電潜像が形成された試料面を荷電粒子ビームで走査し、この走査で得られる検出信号により、試料面の静電潜像を測定する装置において、
　上記試料は電荷の暗減衰を生じる感光体であり、
　荷電粒子ビームを走査する装置内に、試料に上記荷電粒子ビームを照射することによって試料に対して帯電させる手段と、静電潜像を形成する静電潜像形成手段と、電荷分布を有する試料を荷電粒子ビーム照射位置に移動させて測定する測定手段を有することを特徴とする静電潜像の測定装置。」
　
（補正後）
「【請求項１】　静電潜像が形成された試料面を荷電粒子ビームで走査し、この走査で得られる検出信号により試料面を測定する方法であって、
　上記試料は電荷の暗減衰を生じる
電子写真装置に用いる
　
内部が真空の
この試料の２次電子放出比が１となる加速電圧より大きな加速電圧で
を
することで
を所望の電位にマイナス
　
この所望の電位にマイナス帯電した試料を、上記装置内において光源にレーザーダイオードを使用した露光光学系で露光することで
からなる任意の潜像パターン
　
この潜像パターンを、生成した直後に測定す
【請求項２】　静電潜像が形成された試料面を荷電粒子ビームで走査し、この走査で得られる検出信号により試料面を測定する方法であって、
　上記試料は電荷の暗減衰を生じる
電子写真装置に用いる
　
内部が真空の
移動させながらこの試料の２次電子放出比が１となる加速電圧より大きな加速電圧で
を
することで
を所望の電位にマイナス
　
上記装置内において上記所望の電位にマイナス帯電した試料を移動させながら、光源にレーザーダイオードを使用した露光光学系で露光することで
からなる任意の潜像パターン
し、
上記装置内において上記潜像パターンを、生成した直後に測定す
【請求項３】　静電潜像が形成された試料面を荷電粒子ビームで走査し、この走査で得られる検出信号により試料面を測定する装置であって、
　上記試料は電荷の暗減衰を生じる
電子写真装置に用いる
　
内部が真空の
配置され
この試料の２次電子放出比が１となる加速電圧より大きな加速電圧で荷電粒子
所望の電位にマイナス
　
上記真空の装置内に配置され、光源にレーザーダイオードを使用していて上記所望の電位にマイナス帯電した試料を上記装置内で露光することで
からなる任意の潜像パターン
する露光光学系と、
上記真空の装置内に配置され、上記潜像パターンを、生成した直後に測定する測定手段と、
【請求項４】　
静電潜像が形成された試料面を荷電粒子ビームで走査し、この走査で得られる検出信号により試料面を測定する装置であって、
　
上記試料は電荷の暗減衰を生じる電子写真装置に用いる感光体であり、
　
内部が真空の装置内に配置され、この装置内で試料を移動させながらこの試料の２次電子放出比が１となる加速電圧より大きな加速電圧で荷電粒子ビームを照射することにより試料を所望の電位にマイナス帯電させる手段と、
　
上記真空の装置内に配置され、光源にレーザーダイオードを使用していて上記所望の電位にマイナス帯電した試料を上記装置内で移動させながら露光することで試料上に電荷分布による静電潜像からなる任意の潜像パターンを生成する露光光学系と、
　
上記真空の装置内に配置され、上記潜像パターンを、生成した直後に測定する測定手段と、
【請求項５】　
荷電粒子ビームの走査領域内に既知となる参照電位が配置され、この参照電位の２次電子信号強度と測定試料の信号強度を比較することにより、電位量を算出する
　
　
　上記補正について、平成２０年４月７日付け審判請求書には、補正前の請求項１〜１０をどのように、補正後の新たな請求項１〜５と補正したかについての説明がないため、両者の関係が明確ではない。したがって、補正後の新たな請求項１〜５の補正箇所である下線を参照すると、上記補正は、補正前の請求項４，５，７〜１０を削除し、補正前の請求項１，２，３、６に記載された発明を特定するために必要な事項である「感光体」、「装置内で」、「荷電粒子ビームで走査」、「帯電させ」、「試料上に電荷分布による静電潜像を生成」、「測定」を、各々「電子写真装置に用いる感光体」、「内部が真空の装置内で」、「試料の２次電子放出比が１となる加速電圧より大きな加速電圧で荷電粒子ビームを走査」、「所望の電位にマイナス帯電させ」、「装置内において光源にレーザーダイオードを使用した露光光学系で露光することで試料上に電荷分布による静電潜像からなる任意の潜像パターンを生成」、「潜像パターンを、生成した直後に測定」と限定し、新たな補正後の請求項１，２，３，５とするものである。
　しかしながら、上記補正に加えて、補正後の請求項４は、事実上新たな請求項として追加されており、さらに補正後の請求項５も、新たに追加された補正後の請求項４を引用している。
　したがって、補正後の請求項４及び５に関する補正は、特許法第１７条の２第４項各号に掲げる事項の請求項の削除、特許請求の範囲の減縮、誤記の訂正、明りょうでない記載の釈明のいずれの目的にも該当しない。
　よって、本件補正は、平成１４年法律第２４号改正附則第２条第１項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法第１７条の２第４項の規定に違反するので、同法第１５９条第１項において読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定により却下すべきものである。
　
　
２．予備的判断
　上記補正後の新たな請求項４及び５が仮に補正前の請求項１〜１０のいずれかの請求項の限定的減縮であったとして、補足的に、本件補正後の前記請求項１に記載された発明（以下、「本願補正発明１」という。）が特許出願の際独立して特許を受けることができるものであるか（平成１８年法律第５５号改正附則第３条第１項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項の規定に適合するか）について、以下に検討する。
　
（１）引用刊行物の記載事項
（１−１）刊行物１
　原査定の拒絶の理由に引用された、本願出願前に頒布された特開平３−４９１４３号公報（原査定の引用文献１。以下、「刊行物１」という。）には、図面とともに次の事項が記載されている。下線は当審で付与した。
　
（１−１ａ）「２．特許請求の範囲
１．
走査型電子顕微鏡（１）の試料台にセットされ静電潜像が形成されている試料
　該顕微鏡の電子ビーム走査と、二次電子信号の処理と、前記電源の制御を行なう制御部（６）により、前記試料を予め部分的に電子ビームで走査し、得られた二次電子信号の量により、適切な電位コントラストが得られるバックバイアス値を検知して、該バックバイアスを試料に印加するように電源を制御し、
　然る後、該制御部により改めて
試料を電子ビーム走査し、得られた二次電子信号により前記静電潜像を表わす画像信号を出力することを特徴とする電子ビームによる静電潜像の画像取得方法
　
（１−１ｂ）「〔産業上の利用分野〕
　
本発明は、電子ビームによる静電潜像の画像取得方法
　医療用、あるいは複写機等に用いられる
電子写真を作成する過程で生成される静電潜像は、導電性支持体上に製膜された高絶縁性光導電体層で作られた感光材をコロナ電極による放電によって帯電させ、露光またはＸ線等の放射線による曝射によって感光材上に電位（静電荷）分布像として形成される
この静電潜像は、そのままでは目に見えず、また時間とともに減衰・消失してしまう
本発明はこの可視化（画像取得）に係るもの
　
（１−１ｃ）「〔作用〕
　本発明では
静電潜像を形成した試料２を走査型電子顕微鏡１の試料台にセット
試料２は
感光材
　走査要領を第３図に示す。（ａ）は放射状、（ｂ）は渦巻き状であるが、いずれも粗く、
試料面全面を走査
　この走査で二次電子信号５が得られ、これを制御部６で処理し、表示すると、第２図の７の如き画面が得られる。画面７は全体に高輝度で白っぽくなり、明暗（電位差）がはっきりしない画像である。このような全体に高レベルの画面に対しては、電源３の出力電圧を制御して試料２のバックバイアスを変え、電位分布が±２０Ｖ程度の範囲に入るようにして、画面８のような適正輝度の画像にする。なおこの第２図の７，８は縦軸は二次電子信号量、横軸は走査位置のグラフであり、これで７は全体が高レベルで白っぽい画面、８は適正なレベルで明暗のはっきりした画面、としている。
　二次電子は高電位の部分からは発生しにくく、低電位の部分から発生し易いという性質がある。
　従って低電位で、二次電子が多量に発生し、画面が白っぽい画面７になった場合は、バックバイアスを下げて二次電子の発生を抑え、この逆に高電位で、二次電子発生が少なく、画面が黒っぽくなった場合はバックバイアスを上げて二次電子の発生を促せばよい。このバックバイアスの調整は自動的に行なう他、オペレータがデイスプレィの画面を見ながら手動操作することができる。
　このように本発明では、予め電子ビームで試料２上を走査し、得られた二次電子信号５の量から試料２の電位分布を検知し、電源３は適正な電位コントラストが得られるようなバックバイアスを試料２に印加する。その後あらためて
電子ビームによって試料２を走査することによって、
静電潜像の画像を取得する
　
（１−１ｄ）上記（１ｂ）及び（１ｃ）の記載から、静電潜像を生成した直後に、電子ビームで走査して、この走査で得られる二次電子信号により静電潜像の画像を取得することは明らかである。
　また、静電潜像が任意の潜像パターンを有することも明らかである。
　
　上記（１−１ａ）〜（１−１ｄ）の摘記事項等を総合して勘案すると、刊行物１には次の発明（以下、「刊行物１記載の発明」という。）が記載されているものと認められる。
　
「静電潜像が形成された試料面を電子ビームで走査し、この走査で得られる二次電子信号により静電潜像の画像を取得する方法であって、
　上記試料は静電潜像の減衰・消失を生じる電子写真に用いられる感光材であり、
　試料を帯電させ、
　この帯電した試料を、露光することで試料上に静電潜像からなる任意の潜像パターンを生成し、
　潜像パターンを生成した試料を、走査型電子顕微鏡の試料台にセットして、
　静電潜像を生成した直後に、電子ビームの走査で得られる二次電子信号により静電潜像の画像を取得する方法。」
　
　
（１−２）刊行物２
　原査定の拒絶の理由に引用された、本願出願前に頒布された特開平３−２００１００号公報（原査定の引用文献２。以下、「刊行物２」という。）には、図面とともに次の事項が記載されている。下線は当審で付与した。
　
（１−２ａ）「［実施例］
　以下、この発明の一実施例を別紙添付図面に従って詳述する。尚、説明の都合上、従来公知に属する技術事項も同時に説明する。
　第１図に於て（１）は
Ｘ線顕微鏡
　前記ＭＣＰ（５）の出力は制御部（６）のＡ／Ｄコンバータ（１４）を介して、コントロールコンピュータ（１５）に入力される。該コントロールコンピュータ（１５）は入力信号をデジタル処理し、映像回路（図示せず）を駆動してＣＲＴ（１６）にて再現するとともに、スキャンジェネレータ（１７）を介して鏡筒（４）の走査コイル（１２）を制御し、該鏡筒（４）の電子ビームとＣＲＴ（１６）の走査を同期させている。
　一方、同図中下方に配設されたマイクロフォーカスＸ線管（３）は、真空チャンバ（１８）内に収納され、電子銃（１９）から発射された電子ビームを集束レンズ（２０）にて集束し、ターゲット（２１）へ衝突させて微小焦点のＸ線を上方の電子写真感光体（８）へ放射する。又、走査コイル（２２）はターゲット（２１）への電子ビーム衝突位置を変化させるものである。
　次に、当該Ｘ線顕微鏡（１）の作動を説明する。先ず、
電子写真感光体（８）の光導電層（９）を
電子ビームプローブスキャナ（２）の電子ビームによって均一に静電帯電させる
負電荷に帯電させることが好ましい
　而して、
マイクロフォーカスＸ線管（３）からＸ線を照射して試料（Ｐ）を撮影し、光導電層（９）に該試料（Ｐ）の静電潜像を形成すると同時に、或は撮影後に電子ビームプローブスキャナ（２）の電子ビームをズーム倍率に応じコリメートして前記光導電層（９）を走査
光導電層（９）の電子ビーム照射点（Ｓ）から２次電子（Ｅ）（Ｅ）・・・が発生し、グリッド（２３）により加速されてＭＣＰ（５）に入射する
２次電子量は光導電層（９）とＭＣＰ（５）との空間によるエネルギーフィルタ効果により、電子ビーム照射点（Ｓ）の電位に比例した電子量として捉えられ、間接的に測定された静電潜像の電位は制御部（６）にて映像信号に変換される
　
（１−２ｂ）上記（１−２ａ）で参照している第１図は以下のとおりである。
　
　
（１−２ｃ）Ｘ線顕微鏡は、電子ビームを走査することから内部が真空の装置であることは明らかである。
　
　よって、上記（１−２ａ）〜（１−２ｃ）の摘記事項等を総合して勘案すると、刊行物２には次の発明（以下、「刊行物２記載の発明」という。）が記載されているものと認められる。
　
「内部が真空の装置内で、電子写真感光体の光導電層を電子ビームプローブスキャナの電子ビームによって均一に負電荷に静電帯電させ、マイクロフォーカスＸ線管からＸ線を照射して試料を撮影し、光導電層に該試料の静電潜像を形成し、電子ビームプローブスキャナの電子ビームを走査し、光導電層の電子ビーム照射点から２次電子が発生し、当該２次電子量を捉えて、静電潜像の電位を間接的に測定して映像信号に変換されるＸ線顕微鏡。」
　
　
（２）対比
　そこで、本願補正発明１と刊行物１記載の発明とを対比すると、
　刊行物１記載の発明の「電子ビーム」、「二次電子信号」、「静電潜像の減衰・消失を生じる電子写真に用いる感光材」、「帯電」、「静電潜像からなる任意の潜像パターン」は、それぞれ、本願補正発明１の「荷電粒子ビーム」、「検出信号」、「電荷の暗減衰を生じる電子写真装置に用いる感光体」、「所望の電位に帯電」、「電荷分布による静電潜像からなる任意の潜像パターン」に相当する。
　刊行物１記載の発明の「静電潜像の画像を取得する方法」は、試料面の静電潜像を測定することによって画像を得ていることから、本願補正発明１の「試料面を測定する方法」及び「静電潜像測定方法」に相当する。
　
　したがって、両者は、
「静電潜像が形成された試料面を荷電粒子ビームで走査し、この走査で得られる検出信号により試料面を測定する方法であって、
　上記試料は電荷の暗減衰を生じる電子写真装置に用いる感光体であり、
　試料を所望の電位に帯電させ、
　この所望の電位に帯電した試料を、露光することで試料上に電荷分布による静電潜像からなる任意の潜像パターンを生成し、
　この静電潜像を、生成した直後に測定する静電潜像測定方法。」である点で一致し、以下の点で一応相違する。
　
（３）相違点
（３−１）相違点１
　本願補正発明１は、内部が真空の装置内で、２次電子放出比が１となる加速電圧より大きな加速電圧で荷電粒子ビームを走査することで、試料を所望の電位にマイナス帯電させるのに対して、刊行物１記載の発明は、潜像パターンを装置外で帯電させており、かつ、その具体的帯電方法は特定されていない点。
　
（３−２）相違点２
　本願補正発明１は、装置内において光源にレーザーダイオードを使用した露光光学系で露光するのに対して、刊行物１記載の発明は、装置外で露光しており、かつ、具体的な露光方法は特定されていない点。
　
（４）相違点についての判断
　上記相違点について検討する。
（４−１）相違点１について
　内部が真空の装置内で、荷電粒子ビーム（電子ビーム）を走査することで、電子写真感光体を所望の電位にマイナス帯電させることが、刊行物２に記載されている。
　したがって、刊行物２記載の発明は、本願補正発明１と同じ走査型顕微鏡を基礎とする静電潜像の測定装置に関する技術であって、刊行物１記載の発明において、感光体を帯電させるにあたり、刊行物２記載の発明の帯電方法を採用して、相違点１に係る構成を有するものとすることは当業者なら容易に想到しうるものである。
　また、荷電粒子ビームを走査することによって感光体を所望の電位にマイナス帯電させるにあたり、２次電子放出比が１となる加速電圧より大きな加速電圧で荷電粒子ビームを走査することは、当業者なら、必要に応じて適宜設定しうる程度の設計的事項である。
　
（４−２）相違点２について
　内部が真空の装置内に電子写真感光体を設置し、露光を行うことが、刊行物２には記載されている。
　そして、刊行物２記載の発明は、本願補正発明１と同じ走査型顕微鏡を基礎とする静電潜像の測定装置に関する技術であって、刊行物１記載の発明において、感光体を露光させるにあたり、刊行物２記載の発明の感光体を装置内に設置して露光する方法を採用して、相違点２に係る構成を有するものとすることは当業者なら容易に想到しうるものである。
　さらに、露光方法として、光源にレーザーダイオードを使用した露光光学系で露光することは、例をあげるまでもなく、周知慣用の技術である。
　また、露光手段を真空内に設けるか、真空外に設けるかは、適切に露光を行うという点のおいて差異はなく、当業者なら、必要に応じて適宜選択しうる設計的事項に過ぎない。
　
（５）効果について
　そして、全体として、本願補正発明１によってもたらされる効果は、刊行物１、２記載の発明及び周知技術から、当業者なら予測しうる程度のことであって、格別なものではない。
　
（６）まとめ
　よって、本願補正発明１は、刊行物１、２記載の発明及び周知技術に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、本願補正発明１は、特許法第２９条第２項の規定により、特許出願の際独立して特許を受けることができない。
　
３．むすび
　したがって、本件補正は、平成１４年法律第２４号改正附則第２条第１項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法第１７条の２第４項の規定に違反するか、または、平成１８年法律第５５号改正附則第３条第１項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項の規定に違反するので、同法第１５９条第１項において読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定により却下すべきものである。
　
　
第３　本願発明について
１．本願の請求項１に係る発明
　平成２０年４月７日付けの手続補正は上記のとおり却下されたので、本願の請求項１〜１０に係る発明は、平成１９年４月２日付けの手続補正書により補正された特許請求の範囲の請求項１〜１０に記載された事項により特定されるとおりのものと認められるところ、その請求項１に係る発明（以下、「本願発明１」という。）は、上記「第２　１．（補正前）」のとおりのものである。
　
２．引用刊行物の記載事項
（１）刊行物１
　原査定の拒絶の理由に引用された、本願出願前に頒布された特開平３−４９１４３号公報（以下、「刊行物１」という。）及び特開平３−２００１００号公報（以下、「刊行物２」という。）の記載事項は、前記「第２　２．
（１）」に記載したとおりである。
　
３．対比・判断
　本願発明１は、前記「第２　１．」で検討した本願補正発明１の「電子写真装置に用いる感光体」、「内部が真空の装置内で」、「試料の２次電子放出比が１となる加速電圧より大きな加速電圧で荷電粒子ビームを走査」、「所望の電位にマイナス帯電させ」、「装置内において光源にレーザーダイオードを使用した露光光学系で露光することで試料上に電荷分布による静電潜像からなる任意の潜像パターンを生成」、「潜像パターンを、生成した直後に測定」から、各々「電子写真装置に用いる」、「内部が真空の」、「試料の２次電子放出比が１となる加速電圧より大きな加速電圧で」、「所望の電位にマイナス」、「装置内において光源にレーザーダイオードを使用した露光光学系で露光することで」及び「任意の潜像パターン」、「潜像パターンを、生成した直後に」という限定事項を省いたものである。
　そうすると、本願発明１の構成要件を全て含み、さらに他の構成要件を付加したものに相当する本願補正発明１が、前記「第２．２．（６）」に記載したとおり、刊行物１及び２に記載された発明及び周知技術に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、本願発明１も、同様の理由により、刊行物１及び２に記載された発明及び周知技術に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものである。
　
４．むすび
　以上のとおりであるから、本願の請求項１に係る発明は、特許法第２９条第２号の規定により特許を受けることができないものであるので、他の請求項について検討するまでもなく、本願は拒絶すべきものである。
　よって、結論のとおり審決する。