(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
被処理体に対して所定の処理を施す複数の処理ユニットを備え、被処理体に対して複数の工程からなる一連の処理を施すための処理装置であって、
前記複数の処理ユニットは、第１の工程および第２の工程を実施可能な第１の処理ユニットと、第２の工程を行う第２の処理ユニットとを有し、前記第１の処理ユニットは、通常処理時に第１の工程を行い、第２の工程を行う前記第２の処理ユニットが異常の際には第１の工程および第２の工程を行うことを特徴とする処理装置。
【請求項２】
被処理体に対して所定の処理を施す複数の処理ユニットを備え、被処理体に対して複数の工程からなる一連の処理を施すための処理装置であって、
各々第１の工程および第２の工程を実施可能な２つの処理ユニットを有し、前記２つの処理ユニットは、通常処理時は、一方の処理ユニットにおいて第１の工程、および他方の処理ユニットにおいて第２の工程を行い、いずれかの処理ユニットが異常の際には、他の処理ユニットで第１および第２の工程を行うことを特徴とする処理装置。
【請求項３】
被処理体に対して所定の処理を施す複数の処理ユニットを備え、被処理体に対してレジスト塗布処理および露光後の現像処理を含む一連の処理を施すための処理装置であって、
現像処理を行う処理ユニットとして、現像液塗布、現像液塗布後のリンス、およびリンス後の乾燥のうち２つの処理を行うことが可能な処理ユニットを有し、その処理ユニットは、通常処理時には２つの処理のうち１つの処理を行い、当該２つの処理のうち他の処理を行う処理ユニットが異常の際には当該２つの処理を行うことを特徴とする処理装置。
【請求項４】
被処理体に対して所定の処理を施す複数の処理ユニットを備え、被処理体に対してレジスト塗布処理および露光後の現像処理を含む一連の処理を施すための処理装置であって、
現像処理を行う処理ユニットとして、現像液塗布、現像液塗布後のリンス、およびリンス後の乾燥のうち同じ２つの処理を行うことが可能な２つの処理ユニットを有し、
前記２つの処理ユニットは、通常処理時には２つの処理のうちそれぞれ異なる１つの処理を行い、当該２つの処理のうちいずれかのユニットが異常の際には、他の処理ユニットで当該２つの処理を行うことを特徴とする処理装置。
【請求項５】
被処理体に対して所定の処理を施す複数の処理ユニットを備え、被処理体に対してレジスト塗布処理および露光後の現像処理を含む一連の処理を施すための処理装置であって、
現像処理を行う処理ユニットとして、現像液塗布および現像液塗布後のリンスを行う２つの処理ユニットと、リンス後の乾燥を行う処理ユニットとを有し、
前記２つの処理ユニットは、通常処理時には、一方で現像液塗布を行い他方で現像塗布後のリンスを行い、これら２つの処理ユニットのうちいずれかが異常の際には、残余の処理ユニットで現像液塗布と現像液塗布後のリンスを行うことを特徴とする処理装置。
【請求項６】
被処理体に対して所定の処理を施す複数の処理ユニットにより、被処理体に対して複数の工程からなる一連の処理を施す処理方法であって、
前記複数の処理ユニットのうち第１の処理ユニットを、第１の工程および第２の工程を実施可能なものとし、通常処理時には前記第１の処理ユニットで第１の工程を行うとともに第２の処理ユニットで第２の工程を行い、第２の工程を行う前記第２の処理ユニットが異常の際には前記第１の処理ユニットで第１の工程および第２の工程を行うことを特徴とする処理方法。
【請求項７】
被処理体に対して所定の処理を施す複数の処理ユニットにより、被処理体に対して複数の工程からなる一連の処理を施す処理方法であって、
所定の２つの処理ユニットを、各々第１の工程および第２の工程が可能なものとし、通常処理時は、一方の処理ユニットにおいて第１の工程、および他方の処理ユニットにおいて第２の工程を行い、いずれかの処理ユニットが異常の際には、他の処理ユニットで第１および第２の処理を行うことを特徴とする処理方法。
【請求項８】
被処理体に対して所定の処理を施す複数の処理ユニットにより、被処理体に対してレジスト塗布処理および露光後の現像処理を含む一連の処理を施す処理方法であって、
現像処理を行う処理ユニットとして、所定の処理ユニットを現像液塗布、現像液塗布後のリンス、およびリンス後の乾燥のうち２つの処理を行うことが可能なものとし、その処理ユニットによって、通常処理時には２つの処理のうち１つの処理を行い、当該２つの処理のうち他の処理を行う処理ユニットが異常の際には当該２つの処理を行うことを特徴とする処理方法。
【請求項９】
被処理体に対して所定の処理を施す複数の処理ユニットにより、被処理体に対してレジスト塗布処理および露光後の現像処理を含む一連の処理を施す処理方法であって、
現像処理を行う処理ユニットとして、２つの処理ユニットを現像液塗布、現像液塗布後のリンス、およびリンス後の乾燥のうち同じ２つの処理を行うことが可能なものとし、その２つの処理ユニットにより、通常処理時には２つの処理のうちそれぞれ異なる１つの処理を行い、当該２つの処理のうちいずれかのユニットが異常の際には、他の処理ユニットで当該２つの処理を行うことを特徴とする処理方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明が属する技術分野】
本発明は、例えばＬＣＤガラス基板等の被処理体に対してレジスト塗布、露光および現像処理のような一連の複数の処理を施す処理装置および処理方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
液晶表示装置（ＬＣＤ）の製造においては、基板であるＬＣＤガラス基板に、所定の膜を成膜した後、フォトレジスト液を塗布してレジスト膜を形成し、回路パターンに対応してレジスト膜を露光し、これを現像処理するという、いわゆるフォトリソグラフィー技術により回路パターンを形成する。
【０００３】
このフォトリソグラフィー技術では、被処理体であるＬＣＤ基板は、アドヒージョン（疎水化）処理→レジスト塗布→プリベーク→露光→現像→ポストベークという一連の処理を経てレジスト層に所定の回路パターンを形成する。
【０００４】
従来、このような処理は、各処理を行う処理ユニットを処理の順に配置し、これら複数の処理ユニットに基板を順次搬入して処理を行ういわゆるトラック搬送タイプの処理装置、または各処理を行う処理ユニットを搬送路の両側にプロセスフローを意識した形態で配置し、搬送路を走行可能な搬送装置により各処理ユニットへの被処理体の搬入出を行ういわゆる中央搬送タイプの処理装置によって行われている。
【０００５】
ところで、これら一連の処理の中で現像処理は、トラック搬送タイプの処理装置では、現像液塗布を行う処理ユニット、現像液塗布後のリンスを行う処理ユニット、リンス後の乾燥を行う処理ユニットを順次配置し、これら処理ユニットにより順次処理を行うことが一般的であり、中央搬送タイプの処理装置では、現像液塗布、現像液塗布後のリンス、リンス後の乾燥の全てを行う現像処理ユニットを例えば３つ配置し、これらのいずれかにＬＣＤ基板を搬入して１ユニットで全ての処理行うことが一般的である。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、トラック搬送タイプの処理装置では、現像液塗布を行う処理ユニット、現像液塗布後のリンスを行う処理ユニット、リンス後の乾燥を行う処理ユニットのいずれかの処理ユニットに異常が生じた場合、処理を停止せざるを得ず、装置の安全性に問題がある。これに対して中央搬送タイプの処理装置では、現像液塗布、現像液塗布後のリンス、リンス後の乾燥の全てを行う現像処理ユニットを複数配置しているため、いずれかの現像処理ユニットに異常が生じても、他の現像処理ユニットにて処理が可能であるから安全性は高い。しかし、現像処理をフルで行う現像処理ユニットを３つ備えているため、トラック搬送タイプの処理装置に比較して装置コストが高くなるという問題がある。
【０００７】
本発明はかかる事情に鑑みてなされたものであって、安全性が高くしかも低コスト化が可能な処理装置および処理方法を提供することを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するために、本発明は、第１に、被処理体に対して所定の処理を施す複数の処理ユニットを備え、被処理体に対して複数の工程からなる一連の処理を施すための処理装置であって、前記複数の処理ユニットは、第１の工程および第２の工程を実施可能な第１の処理ユニットと、第２の工程を行う第２の処理ユニットとを有し、前記第１の処理ユニットは、通常処理時に第１の工程を行い、第２の工程を行う前記第２の処理ユニットが異常の際には第１の工程および第２の工程を行うことを特徴とする処理装置を提供する。
【０００９】
本発明は、第２に、被処理体に対して所定の処理を施す複数の処理ユニットを備え、被処理体に対して複数の工程からなる一連の処理を施すための処理装置であって、各々第１の工程および第２の工程を実施可能な２つの処理ユニットを有し、前記２つの処理ユニットは、通常処理時は、一方の処理ユニットにおいて第１の工程、および他方の処理ユニットにおいて第２の工程を行い、いずれかの処理ユニットが異常の際には、他の処理ユニットで第１および第２の工程を行うことを特徴とする処理装置を提供する。
【００１０】
本発明は、第３に、被処理体に対して所定の処理を施す複数の処理ユニットを備え、被処理体に対してレジスト塗布処理および露光後の現像処理を含む一連の処理を施すための処理装置であって、現像処理を行う処理ユニットとして、現像液塗布、現像液塗布後のリンス、およびリンス後の乾燥のうち２つの処理を行うことが可能な処理ユニットを有し、その処理ユニットは、通常処理時には２つの処理のうち１つの処理を行い、当該２つの処理のうち他の処理を行う処理ユニットが異常の際には当該２つの処理を行うことを特徴とする処理装置を提供する。
【００１１】
本発明は、第４に、被処理体に対して所定の処理を施す複数の処理ユニットを備え、被処理体に対してレジスト塗布処理および露光後の現像処理を含む一連の処理を施すための処理装置であって、現像処理を行う処理ユニットとして、現像液塗布、現像液塗布後のリンス、およびリンス後の乾燥のうち同じ２つの処理を行うことが可能な２つの処理ユニットを有し、前記２つの処理ユニットは、通常処理時には２つの処理のうちそれぞれ異なる１つの処理を行い、当該２つの処理のうちいずれかのユニットが異常の際には、他の処理ユニットで当該２つの処理を行うことを特徴とする処理装置を提供する。
【００１２】
本発明は、第５に、被処理体に対して所定の処理を施す複数の処理ユニットを備え、被処理体に対してレジスト塗布処理および露光後の現像処理を含む一連の処理を施すための処理装置であって、現像処理を行う処理ユニットとして、現像液塗布および現像液塗布後のリンスを行う２つの処理ユニットと、リンス後の乾燥を行う処理ユニットとを有し、前記２つの処理ユニットは、通常処理時には、一方で現像液塗布を行い他方で現像塗布後のリンスを行い、これら２つの処理ユニットのうちいずれかが異常の際には、残余の処理ユニットで現像液塗布と現像液塗布後のリンスを行うことを特徴とする処理装置を提供する。
【００１３】
本発明は、第６に、被処理体に対して所定の処理を施す複数の処理ユニットにより、被処理体に対して複数の工程からなる一連の処理を施す処理方法であって、前記複数の処理ユニットのうち第１の処理ユニットを、第１の工程および第２の工程を実施可能なものとし、通常処理時には前記第１の処理ユニットで第１の工程を行うとともに第２の処理ユニットで第２の工程を行い、第２の工程を行う前記第２の処理ユニットが異常の際には前記第１の処理ユニットで第１の工程および第２の工程を行うことを特徴とする処理方法を提供する。
【００１４】
本発明は、第７に、被処理体に対して所定の処理を施す複数の処理ユニットにより、被処理体に対して複数の工程からなる一連の処理を施す処理方法であって、所定の２つの処理ユニットを、各々第１の工程および第２の工程が可能なものとし、通常処理時は、一方の処理ユニットにおいて第１の工程、および他方の処理ユニットにおいて第２の工程を行い、いずれかの処理ユニットが異常の際には、他の処理ユニットで第１および第２の処理を行うことを特徴とする処理方法を提供する。
【００１５】
本発明は、第８に、被処理体に対して所定の処理を施す複数の処理ユニットにより、被処理体に対してレジスト塗布処理および露光後の現像処理を含む一連の処理を施す処理方法であって、現像処理を行う処理ユニットとして、所定の処理ユニットを現像液塗布、現像液塗布後のリンス、およびリンス後の乾燥のうち２つの処理を行うことが可能なものとし、その処理ユニットによって、通常処理時には２つの処理のうち１つの処理を行い、当該２つの処理のうち他の処理を行う処理ユニットが異常の際には当該２つの処理を行うことを特徴とする処理方法を提供する。
【００１６】
本発明は、第９に、被処理体に対して所定の処理を施す複数の処理ユニットにより、被処理体に対してレジスト塗布処理および露光後の現像処理を含む一連の処理を施す処理方法であって、現像処理を行う処理ユニットとして、２つの処理ユニットを現像液塗布、現像液塗布後のリンス、およびリンス後の乾燥のうち同じ２つの処理を行うことが可能なものとし、その２つの処理ユニットにより、通常処理時には２つの処理のうちそれぞれ異なる１つの処理を行い、当該２つの処理のうちいずれかのユニットが異常の際には、他の処理ユニットで当該２つの処理を行うことを特徴とする処理方法を提供する。
【００１７】
本発明によれば、第１の工程および第２の工程を実施可能な第１の処理ユニットを有し、その第１の処理ユニットは通常処理時に第１の工程を行い、第２の工程を行う第２の処理ユニットが異常の際には第１の工程および第２の工程を行うようにしたので、第２の工程を行う第２の処理ユニットに異常が生じても装置を停止する必要がなく、安全性が高い。また、処理ユニットに対し２つの工程を実施可能にするだけであるから、装置コストの上昇は少なくてよく、低コスト化を図ることができる。具体例としては、現像処理を行う処理ユニットとして、現像液塗布、現像液塗布後のリンス、およびリンス後の乾燥のうち２つの処理を行うことが可能な処理ユニットを有するようにした装置を挙げることができ、これにより上述のように装置の安全性を確保しつつ、従来の中央搬送タイプの処理装置のようなフル装備の複数の現像処理ユニットを用いないことにより低コスト化を実現することができる。
【００１８】
また、各々第１の工程および第２の工程を実施可能な２つの処理ユニットを有することにより、いずれかの処理ユニットが異常の際には、他の処理ユニットで第１および第２の処理を行うことができるので安全性が高い。また、２つの処理ユニットに対し２つの工程を実施可能にするだけであるから、装置コストの上昇は少なくてよく、低コスト化を図ることができる。具体例としては、現像処理を行う処理ユニットとして、現像液塗布、現像液塗布後のリンス、およびリンス後の乾燥のうち同じ２つの処理を行うことが可能な２つの処理ユニットを有する装置、特に処理ユニットとして、現像液塗布および現像液塗布後のリンスを行う２つの処理ユニットと、リンス後の乾燥を行う処理ユニットを有する装置を挙げることができ、これにより上述のように装置の安全性を確保しつつ、従来の中央搬送タイプの処理装置のようにフル装備の複数の現像処理ユニットを用いないことにより低コスト化を実現することができる。
【００１９】
【発明の実施の形態】
以下、添付図面を参照して、本発明の実施の形態について詳細に説明する。
図１は、本発明の一実施形態に係るＬＣＤ基板のレジスト塗布・現像処理装置を示す平面図である。
【００２０】
このレジスト塗布・現像処理装置１００は、トラック搬送タイプであり、複数の基板Ｇを収容するカセットＣを載置し、基板Ｇを搬入するためのローダ部１と、基板Ｇにレジスト塗布および現像を含む一連の処理を施すための複数の処理ユニットを備えた処理部２と、露光装置４０との間で基板Ｇの受け渡しを行うためのインターフェイス部３と、カセットＣを載置し、処理後の基板Ｇを搬出するためのアンローダ部４とを備えている。
【００２１】
ローダ部１は、カセットＣから処理部２へＬＣＤ基板Ｇの搬送を行うための搬送機構１０を備えている。搬送機構１０は搬送路１１上を移動可能な搬送アーム１２を備え、この搬送アーム１２によりカセットＣから処理部２へ基板Ｇが搬送される。
【００２２】
処理部２は、ローダ部１からインターフェイス部３に至る第１の処理ライン２ａと、インターフェイス部３からアンローダ部４に至る第２の処理ライン２ｂとを有しており、処理の順に各処理ユニットが配列されている。
【００２３】
第１の処理ライン２ａは、ローダ部１側から紫外線照射ユニット（ＵＶ）２１、冷却処理ユニット（ＣＯＬ）２２、スクラバ洗浄ユニット（ＳＣＲ）２３、アドヒージョン処理ユニット（ＡＤ）２４、冷却処理ユニット（ＣＯＬ）２５、レジスト塗布処理セクション（ＣＴ）２６ａおよび周縁レジスト除去セクション（ＥＲ）２６ｂが一体的に設けられたレジスト処理ユニット２６、加熱処理ユニット（ＨＰ）２７、冷却処理ユニット（ＣＯＬ）２８が順に配列されており、この冷却処理ユニット（ＣＯＬ）２８からインターフェイス部３へ基板Ｇが搬送されるようになっている。隣接する処理ユニットの間、および冷却処理ユニット（ＣＯＬ）２８とインターフェイス部３との間には、それぞれ搬送機構Ｔが設けられており、これら搬送機構Ｔによって配列された処理ユニットに順次基板が搬送される。
【００２４】
第２の処理ライン２ｂは、インターフェイス部３側から現像液塗布およびリンス処理を行うことが可能な現像液塗布・リンスユニット（Ｄ／Ｒ）２９および３０、リンス後の乾燥を行う乾燥ユニット（ＤＲＹ）３１、加熱処理ユニット（ＨＰ）３２、冷却処理ユニット（ＣＯＬ）３３が順に配列されており、この冷却処理ユニット（ＣＯＬ）３３からアンローダ部４へ基板Ｇが搬送されるようになっている。インターフェイス部３と現像液塗布・リンスユニット（Ｄ／Ｒ）２９との間、および隣接する処理ユニットの間には、それぞれ搬送機構Ｔが設けられており、これら搬送機構Ｔによって配列された処理ユニットに順次基板が搬送される。
【００２５】
インターフェイス部３は、処理部２から搬入された基板Ｇを一時的に保持するエクステンション３４と、処理部２へ搬出する基板Ｇを一時的に保持するエクステンション３５と、これらエクステンション３４および３５の外側に設けられた、バッファーカセットを配置する２つのバッファーステージ３６と、これらと露光装置４０との間の基板Ｇの搬入出を行う搬送機構３７とを備えている。搬送機構３７はエクステンション３４，３５およびバッファステージ３６の配列方向に沿って設けられた搬送路３８上を移動可能な搬送アーム３９を備え、この搬送アーム３９により処理部２と露光装置４０との間で基板Ｇの搬送が行われる。
【００２６】
アンローダ部４は、処理部２からカセットＣへＬＣＤ基板Ｇの搬送を行うための搬送機構５０を備えている。搬送機構５０は搬送路５１上を移動可能な搬送アーム５２を備え、この搬送アーム５２により処理部２からカセットＣへ基板Ｇが搬送される。
【００２７】
このようなトラック搬送タイプの処理装置１００では、ローダ部１から取り出された基板Ｇは、処理部２に搬送され、処理部２に処理の順に配列された各処理ユニットにおいて、紫外線照射処理、スクラバ洗浄処理、アドヒージョン処理、レジスト塗布処理、およびプリベーク処理等が施された後、インターフェイス部３を介して露光装置４０にウエハＷを搬送して露光処理を行い、その後、インターフェイス部３を介して再び処理部２に搬入され、後述のようにして現像処理が行われ、ポストベーク処理等が施されて一連の処理が終了した後、アンローダ部４のカセットＣに収容される。
【００２８】
次に、このトラック搬送タイプのレジスト塗布・現像処理装置における現像処理について説明する。
本実施形態において、現像液塗布・リンスユニット（Ｄ／Ｒ）２９および３０は、ほぼ同様な構造を有しており、図２に示すように、カップ６１と、カップ６１内に基板Ｇを水平に吸着保持するスピンチャック６２と、スピンチャック６２を回転させるモータ６３と、現像液を供給する現像液ノズル６４と、リンス液を供給するリンス液ノズル６５とを有している。そして、現像液ノズル６４は、駆動機構６６により移動可能となっている。現像液ノズル６４は、基板Ｇの短辺とほぼ同一の幅を有しており、その底部に全幅に亘って多数の現像液吐出孔が設けられている。そして、現像液ノズル６４の吐出孔から現像液を吐出させつつ、駆動機構６６により現像液ノズル６４を基板Ｇの長辺方向にスキャンさせることにより、基板Ｇに現像液パドルを形成する。また、リンス液ノズル６５は、駆動機構６７により移動可能となっている。そして、リンスの際にはリンス液ノズル６５を駆動機構６７により基板Ｇの中心まで移動させ、モータ６３により基板Ｇを回転させながらリンス液を供給する。
【００２９】
一方、乾燥ユニット（ＤＲＹ）３１は、図３に示すように、カップ７１と、カップ７１内に基板Ｇを水平に吸着保持するスピンチャック７２と、スピンチャック７２を回転させるモータ７３とを有しており、ノズル類は設けられていない。このユニットでは、リンス後の基板Ｇをスピンチャック７２に保持してモータ７３により基板Ｇを高速回転させリンス液を振り切り乾燥する。したがって、モータ７３はモータ６３よりも高速回転可能なものとする。
【００３０】
そして、通常処理時には、２つの機能のうちから１つを選択指定して、現像液塗布・リンスユニット（Ｄ／Ｒ）２９を現像液塗布専用に用い、現像液塗布・リンスユニット（Ｄ／Ｒ）３０をリンス専用に用いる。したがって、ユニット２９，３０，３１に基板Ｇを順次流すことにより、現像液塗布、リンス、および乾燥という一連の処理を実現することができる。
【００３１】
また、現像液塗布・リンスユニット（Ｄ／Ｒ）２９に何らかの異常が生じた場合には、この現像液塗布・リンスユニット（Ｄ／Ｒ）２９をスキップさせて現像液塗布・リンスユニット（Ｄ／Ｒ）３０に基板Ｇを搬送し、そこで２つの機能の両方を指定して、現像液塗布およびリンスを行うことができる。現像液塗布・リンスユニット（Ｄ／Ｒ）３０に異常が生じた場合も同様に、現像液塗布・リンスユニット（Ｄ／Ｒ）２９で現像液塗布およびリンスを行った後、現像液塗布・リンスユニット（Ｄ／Ｒ）３０をスキップさせて乾燥ユニット（ＤＲＹ）３１に搬送することができる。
【００３２】
このように、従来のトラック搬送タイプの処理装置とは異なり、現像液塗布とリンスとの両方を行うことができる２つの現像液塗布・リンスユニット（Ｄ／Ｒ）２９および３０を設け、一方の処理ユニットに異常が発生した場合に他方の処理ユニットで現像液塗布およびリンス処理の２つの工程を行うので、いずれかの処理ユニットに異常が発生しても装置を停止することなく処理を続行することができ、装置の安全性が高い。
【００３３】
また、２つの処理ユニットに対し、現像液塗布およびリンスの２つの処理機能を持たせるだけであり、これら処理ユニットは従来の現像液塗布処理ユニットとほぼ同一構成にすることができるため、通常のトラック搬送タイプの処理装置よりも僅かなコストアップですみ、一定の低コスト化を実現することができる。
【００３４】
なお、現像液塗布・リンスユニット（Ｄ／Ｒ）２９は、通常処理では現像液塗布が行われるのであるから、リンス機能をフルに備えている必要はなく、また、現像液塗布・リンスユニット（Ｄ／Ｒ）３０は、通常処理ではリンスが行われるのであるから、現像液塗布機能をフルに備えている必要はなく、トラブルが生じた時点で所定のパーツを付け替えることにより必要な機能を備えるようにしてもよい。これにより必要なパーツ点数を減少することができるのでさらなる低コスト化を実現することができる。
【００３５】
次に、本発明の他の実施形態について説明する。
図４は、本発明の他の実施形態に係るＬＣＤ基板のレジスト塗布・現像処理装置を示す平面図である。
【００３６】
このレジスト塗布・現像処理装置２００は、中央搬送タイプであり、複数の基板Ｇを収容するカセットＣを載置するカセットステーション１０１と、基板Ｇにレジスト塗布および現像を含む一連の処理を施すための複数の処理ユニットを備えた処理部１０２と、露光装置１４０との間で基板Ｇの受け渡しを行うためのインターフェイス部１０３とを備えており、処理部１０２の両端にそれぞれカセットステーション１０１およびインターフェイス部１０３が配置されている。
【００３７】
カセットステーション１０１は、カセットＣと処理部１０２との間でＬＣＤ基板Ｇの搬送を行うための搬送機構１１０を備えている。そして、カセットステーション１０１において外部に対するカセットＣの搬入出が行われる。また、搬送機構１１０はカセットの配列方向に沿って設けられた搬送路１１０ａ上を移動可能な搬送アーム１１１を備え、この搬送アーム１１１によりカセットＣと処理部１０２との間で基板Ｇの搬送が行われる。
【００３８】
処理部１０２は、前段部１０２ａと中段部１０２ｂと後段部１０２ｃとに分かれており、それぞれ中央に搬送路１１２、１１３、１１４を有し、これら搬送路の両側に各処理ユニットが配設されている。そして、これらの間には中継部１１５、１１６が設けられている。
【００３９】
前段部１０２ａは、搬送路１１２に沿って移動可能な主搬送装置１１７を備えており、搬送路１１２の一方側には、２つの洗浄ユニット（ＳＣＲ）１２１ａ、１２１ｂが配置されており、搬送路１１２の他方側には紫外線照射ユニット（ＵＶ）と冷却ユニット（ＣＯＬ）とが２段に重ねられた処理ブロック１２６、加熱処理ユニット（ＨＰ）が２段に重ねられてなる処理ブロック１２７および冷却ユニット（ＣＯＬ）が２段に重ねられてなる処理ブロック１２８が配置されている。
【００４０】
また、中段部１０２ｂは、搬送路１１３に沿って移動可能な主搬送装置１１８を備えており、搬送路１１３の一方側には、基板Ｇにレジストを塗布するレジスト塗布処理セクション（ＣＴ）１２２ａおよび基板Ｇの周縁部のレジストを除去する周縁レジスト除去セクション（ＥＲ）１２２ｂが一体的に設けられたレジスト処理ユニット１２２が配置されており、搬送路１１３の他方側には、加熱処理ユニット（ＨＰ）が２段に重ねられてなる処理ブロック１２９、加熱処理ユニット（ＨＰ）と冷却処理ユニット（ＣＯＬ）が上下に重ねられてなる処理ブロック１３０、およびアドヒージョン処理ユニット（ＡＤ）と冷却ユニット（ＣＯＬ）とが上下に重ねられてなる処理ブロック１３１が配置されている。
【００４１】
さらに、後段部１０２ｃは、搬送路１１４に沿って移動可能な主搬送装置１１９を備えており、搬送路１１４の一方側には、２つの現像液塗布・リンスユニット（Ｄ／Ｒ）１２３，１２４、１つの乾燥ユニット（ＤＲＹ）１２５が配置されており、搬送路１４の他方側には加熱処理ユニット（ＨＰ）が２段に重ねられてなる処理ブロック１３２、およびともに加熱処理ユニット（ＨＰ）と冷却処理ユニット（ＣＯＬ）が上下に重ねられてなる処理ブロック１３３、１３４が配置されている。
【００４２】
上記主搬送装置１１７，１１８，１１９は、それぞれ水平面内の２方向のＸ軸駆動機構、Ｙ軸駆動機構、および垂直方向のＺ軸駆動機構を備えており、さらにＺ軸を中心に回転する回転駆動機構を備えており、それぞれ基板Ｇを支持するアーム１１７ａ，１１８ａ，１１９ａを有している。
【００４３】
上記主搬送装置１１７は、搬送機構１１０のアーム１１１との間で基板Ｇの受け渡しを行うとともに、前段部１０２ａの各処理ユニットに対する基板Ｇの搬入・搬出、さらには中継部１１５との間で基板Ｇの受け渡しを行う機能を有している。また、主搬送装置１１８は中継部１１５との間で基板Ｇの受け渡しを行うとともに、中段部１０２ｂの各処理ユニットに対する基板Ｇの搬入・搬出、さらには中継部１１６との間の基板Ｇの受け渡しを行う機能を有している。さらに、主搬送装置１１９は中継部１１６との間で基板Ｇの受け渡しを行うとともに、後段部１０２ｃの各処理ユニットに対する基板Ｇの搬入・搬出、さらにはインターフェイス部１０３との間の基板Ｇの受け渡しを行う機能を有している。なお、中継部１１５、１１６は冷却プレートとしても機能する。
【００４４】
インターフェイス部１０３は、処理部１０２との間で基板を受け渡しする際に一時的に基板を保持するエクステンション１３６と、さらにその両側に設けられた、バッファーカセットを配置する２つのバッファーステージ１３７と、これらと露光装置１４０との間の基板Ｇの搬入出を行う搬送機構１３８とを備えている。搬送機構１３８はエクステンション１３６およびバッファステージ１３７の配列方向に沿って設けられた搬送路１３８ａ上を移動可能な搬送アーム１３９を備え、この搬送アーム１３９により処理部１０２と露光装置１４０との間で基板Ｇの搬送が行われる。
【００４５】
このような中央搬送タイプの処理装置２００では、カセットステーション１０１から取り出された基板Ｇは、処理部１０２に搬送された後、主搬送装置１１７，１１８，１１９により搬送されて、処理部１０２の各ユニットにおいて紫外線照射処理、スクラバ洗浄処理、アドヒージョン処理、レジスト塗布処理、およびプリベーク処理等が施された後、インターフェイス部１０３を介して露光装置１４０にウエハＷを搬送して露光処理を行い、その後、インターフェイス部１０３を介して再び処理部１０２に搬入され、現像処理、ポストベーク処理等が施されて一連の処理が終了した後、カセットステーション１０１に戻され、いずれかのカセットＣに収容される。
【００４６】
次に、この中央搬送タイプのレジスト塗布・現像処理装置２００における現像処理について説明する。
本実施形態において、現像液塗布・リンスユニット（Ｄ／Ｒ）１２３および１２４は、ほぼ同様な構造を有しており、図２に示す従前の実施形態における現像液塗布・リンスユニット（Ｄ／Ｒ）２９および３０と基本的構成は同じである。また、乾燥ユニット（ＤＲＹ）１２５は、図３に示す従前の実施形態における乾燥ユニット（ＤＲＹ）３１と基本的構成は同じである。ただし、ユニット１２３，１２５は搬送路１１４に面して基板Ｇの搬入出口が形成されているとともに、ユニット内部において現像液塗布・リンスユニット（Ｄ／Ｒ）１２３から現像液塗布・リンスユニット（Ｄ／Ｒ）１２４を経て乾燥ユニット（ＤＲＹ）１２５に基板Ｇを搬送する図示しないサブアーム機構が設けられている。
【００４７】
そして、通常処理時には、主搬送装置１１９により、まず現像液塗布・リンスユニット（Ｄ／Ｒ）１２３に基板Ｇが搬入され、そこで２つの処理機能のうち一つを選択指定して現像液塗布が行われ、続いてサブアーム機構により基板Ｇが現像液塗布・リンスユニット（Ｄ／Ｒ）１２４に搬送されて、そこで同様に２つの処理機能のうち一つを選択指定してリンスが行われ、さらにサブアーム機構により乾燥ユニット（ＤＲＹ）に搬送されて乾燥が行われ、主搬送装置１１９により搬出される。これにより現像液塗布、リンス、および乾燥という一連の処理を実現することができる。
【００４８】
また、現像液塗布・リンスユニット（Ｄ／Ｒ）１２３に何らかの異常が生じた場合には、この現像液塗布・リンスユニット（Ｄ／Ｒ）１２３をスキップさせて現像液塗布・リンスユニット（Ｄ／Ｒ）１２４に基板Ｇを搬送し、そこで現像液塗布およびリンスの２工程を選択指定してこれらの処理を行うことができる。現像液塗布・リンスユニット（Ｄ／Ｒ）１２４に異常が生じた場合も同様に、現像液塗布・リンスユニット（Ｄ／Ｒ）１２３で現像液塗布およびリンスを行った後、現像液塗布・リンスユニット（Ｄ／Ｒ）１２４をスキップさせて乾燥ユニット（ＤＲＹ）１２５に搬送することができる。
【００４９】
このように、従来の中央搬送タイプの処理装置とは異なり、現像液塗布、リンス、乾燥の全ての処理を連続して行う現像処理ユニットを３つ用いる代わりに、２台の現像液塗布・リンスユニット（Ｄ／Ｒ）１２３，１２４と、１台の乾燥ユニット（ＤＲＹ）１２５を設けたので、ユニットの構成を従来の中央搬送タイプの場合よりも簡略化することができ、装置の低コスト化を図ることができる。また、一方の現像液塗布・リンスユニット（Ｄ／Ｒ）に異常が生じても他の現像液塗布・リンスユニット（Ｄ／Ｒ）で現像液塗布およびリンスの両方を行うことができるので、従来のトラック搬送タイプの処理装置よりも装置の安全性および信頼性が高い。
【００５０】
本実施形態でも従前の実施形態と同様、現像液塗布・リンスユニット（Ｄ／Ｒ）１２３はリンス機能をフルに備えている必要はなく、現像液塗布・リンスユニット（Ｄ／Ｒ）１２４は現像液塗布機能をフルに備えている必要はなく、したがって、トラブルが生じた時点で所定のパーツを付け替えるようにすることによりさらなる低コスト化を実現することができる。
【００５１】
なお、本実施形態では、上述のようなサブアーム機構を設けずに、ユニット１２３，１２４，１２５の全てに搬送路１１４に面して形成された搬入出口を使用して、主搬送装置１１９で基板Ｇを搬送するようにしてもよい。また、通常処理において、基板Ｇを現像液塗布・リンスユニット（Ｄ／Ｒ）１２３，１２４のいずれかに搬入するようにし、いずれかに搬入された基板Ｇは、その搬入されたユニットで現像液塗布とリンスの両方を行うようにしてもよい。
【００５２】
なお、本発明は上記実施の形態に限定されず、種々の変形が可能である。例えば、上記実施形態では、同一の現像液塗布・リンスユニット（Ｄ／Ｒ）を２つ設けた例を示したが、これを１つ設け、他は現像液塗布ユニットまたはリンスユニットであってもよい。また、乾燥ユニット（ＤＲＹ）１２５は、リンス処理と乾燥処理の２工程を行うようにしてもよい。さらに、装置レイアウトは上記実施形態に限るものではなく、処理に応じて適宜のレイアウトを採用すればよい。さらに、上記実施形態では、本発明をレジスト塗布・現像処理装置の現像処理に適用した場合について示したが、これに限るものではない。さらにまた、被処理体としてもＬＣＤ基板に限らずカラーフィルターや半導体ウエハ等の他の被処理体の処理に適用可能であることはいうまでもない。
【００５３】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、第１の工程および第２の工程を実施可能な第１の処理ユニットを有し、その第１の処理ユニットは通常処理時に第１の工程を行い、第２の工程を行う第２の処理ユニットが異常の際には第１の工程および第２の工程を行うようにしたので、第２の工程を行う第２の処理ユニットに異常が生じても装置を停止する必要がなく、安全性が高い。また、処理ユニットに対し２つの工程を実施可能にするだけであるから、装置コストの上昇は少なくてよく、低コスト化を図ることができる。具体的には、現像処理を行う処理ユニットとして、現像液塗布、現像液塗布後のリンス、およびリンス後の乾燥のうち２つの処理を行うことが可能な処理ユニットを有するようにしたので、装置の安全性を確保しつつ、従来の中央搬送タイプの処理装置のようなフル装備の複数の現像処理ユニットを用いないことにより低コスト化を実現することができる。
【００５４】
また、本発明では、各々第１の工程および第２の工程を実施可能な２つの処理ユニットを有することにより、いずれかの処理ユニットが異常の際には、他の処理ユニットで第１および第２の処理を行うことができるので安全性が高い。また、２つの処理ユニットに対し２つの工程を実施可能にするだけであるから、装置コストの上昇は少なくてよく、低コスト化を図ることができる。具体的には、現像処理を行う処理ユニットとして、現像液塗布、現像液塗布後のリンス、およびリンス後の乾燥のうち同じ２つの処理を行うことが可能な２つの処理ユニットを有するようにしたので、上述のように装置の安全性を確保しつつ、従来の中央搬送タイプの処理装置のようにフル装備の複数の現像処理ユニットを用いないことにより低コスト化を実現することができる。特に処理ユニットとして、現像液塗布および現像液塗布後のリンスを行う２つの処理ユニットと、リンス後の乾燥を行う処理ユニットを有する装置により、この効果を一層有効に発揮することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施形態に係るＬＣＤ基板のレジスト塗布・現像処理装置を示す平面図。
【図２】図１のレジスト塗布・現像処理装置に搭載された現像液塗布・リンスユニット（Ｄ／Ｒ）を示す概略断面図。
【図３】図１のレジスト塗布・現像処理装置に搭載された乾燥ユニット（ＤＲＹ）を示す概略断面図。
【図４】本発明の他の実施形態に係るＬＣＤ基板のレジスト塗布・現像処理装置を示す平面図。
【符号の説明】
１……ローダ部
２，１０２……処理部
３，１０３……インターフェイス部
４……アンローダ部
２９，３０，１２３，１２４……現像液塗布・リンスユニット
３１，１２５……乾燥ユニット
１１２，１１３，１１４……搬送路
１１７，１１８，１１９……主搬送装置
１００，２００……レジスト塗布・現像処理装置
Ｇ……ＬＣＤ基板
Ｔ……搬送機構
【図１】
0003605544.tif 000002
【図２】
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【図３】
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【図４】
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