【事件の表示】
　平成１１年特許願第２６８７２２号「基板処理装置」拒絶査定不服審判事件〔平成１３年４月３日出願公開、特開２００１−８７７２２〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１．手続の経緯 
　本件に係る出願（以下、「本願」という。）は、平成１１年９月２２日の特許出願であって、平成１８年４月７日付けで拒絶査定がなされ（発送日：同年４月１１日）、これに対し、同年５月１０日に拒絶査定不服審判の請求がなされ、同日付けで手続補正がなされたものである。 
　 
２．平成１８年５月１０日付け手続補正についての補正却下の決定  
［補正却下の決定の結論］  
　平成１８年５月１０日付け手続補正（以下、「本件補正」という。）を却下する。　  
　  
［理由］  
(1)補正後の本願発明 
　本件補正により、特許請求の範囲の請求項１は、　 
　「基板を収納して基板に所定の処理を行う処理部と、
　前記処理部内に設けられ、第１の方向から基板に処理液を供給する第１処理液供給手段と、
　前記処理部内に設けられ、前記第１の方向とは異なる第２の方向から基板に処理液を供給する第２処理液供給手段と、
　前記第１処理液供給手段に処理液を供給するように前記第１処理液供給手段と連通し、かつ前記第２処理液供給手段に処理液を供給するように前記第２処理液供給手段と連通しているとともに、第１薬液供給源、第２薬液供給源、及び純水供給源と連通し、第１薬液、第２薬液及び純水のうちのいずれかによって処理液を生成するように構成するとともに、前記第１処理液供給手段への処理液の供給及びその停止を切り換える第１出力側切り換え手段と、前記第２処理液供給手段への処理液の供給及びその停止を切り換える第２出力側切り換え手段と、前記第１薬液供給源からの第１薬液の供給及びその停止を切り換える第１導入側切り換え手段と、前記第２薬液供給源からの第２薬液の供給及びその停止を切り換える第２導入側切り換え手段と、前記第１出力側切り換え手段、前記第２出力側切り換え手段、前記第１導入側切り換え手段および前記第２導入側切り換え手段が一体的に設けられた集合管と、前記第１導入側切り換え手段と前記第２導入側切り換え手段よりも下流側であって前記第１出力側切り換え手段と前記第２出力側切り換え手段よりも上流側の位置に前記集合管の管路途中に設けられ、第１薬液、第２薬液及び純水のうちのいずれかによって生成された混合処理液の濃度を検知する濃度検知手段とを有する処理液生成部と、
　前記濃度検知手段で検知された混合処理液の濃度を監視する制御部と
を有することを特徴とする基板処理装置。」（以下、「本件補正発明」という。）と補正された。
　
　本件補正は、「処理液生成部」について、「前記第１薬液供給源からの第１薬液の供給及びその停止を切り換える第１導入側切り換え手段」と、「前記第２薬液供給源からの第２薬液の供給及びその停止を切り換える第２導入側切り換え手段」と、「前記第１出力側切り換え手段、前記第２出力側切り換え手段、前記第１導入側切り換え手段および前記第２導入側切り換え手段が一体的に設けられた集合管」とを有するとの発明特定事項を付加するとともに、「濃度検知手段」の設けられる位置について、本件補正前の「各液の導入部よりも下流側」を、「前記第１導入側切り換え手段と前記第２導入側切り換え手段よりも下流側」と限定し、さらに「前記集合管の管路途中」に設けられていると限定するものであり、特許請求の範囲を減縮するものであるから、平成１８年法律第５５号改正附則第３条第１項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法第１７条の２第４項第２号の特許請求の範囲の減縮を目的とするものに該当する。
　
　そこで、本件補正発明が特許出願の際独立して特許を受けることができるものであるか（平成１８年法律第５５号改正附則第３条第１項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項に適合するか）否かについて、以下検討する。
　
(2)刊行物 
(2-1)　原査定の拒絶の理由（平成１７年１月１２日付け拒絶理由通知書）に引用された、本願出願前に頒布された刊行物である特開平９−２３２２７０号公報（以下、「刊行物１」という。）には、図面と共に次の事項が記載されている。
　
ア．「【発明が解決しようとする課題】このように、従来は予め純水に薬液を所定の割合で混合した洗浄液を用いていたので、その混合作業に手間が掛かったり、混合度合が一定しないなどのことがあり、さらには予め混合された洗浄液を所定量確保するためには、その洗浄液を収容するタンクの容積を大きくしなければならないから、設置場所が確保しにくいなどのことがあった。
　この発明は上記事情に基づきなされたもので、その目的とするところは、混合作業を要することなく、純水に対して薬液が所定の割合で混合された洗浄液を供給できるようにした洗浄処理装置を提供することにある。」（段落【0009】、【0010】）
　
イ．「以下、この発明の一実施形態を図面を参照して説明する。図２に示すこの発明の実施形態の洗浄処理装置は処理容器１を備えている。この処理容器１は上面が開放し、周壁は上部が上端にゆくにつれて径方向内方に向かって傾斜している。」（段落【0017】）
　
ウ．「上記支持軸５には、上端に支持軸５よりも大径で、円錐状をなした頭部５ａが設けられている。この支持軸５には、先端を上記頭部５ａ上面に開口させたＮ2などの不活性ガスのガス供給路３１と、先端を同じく上記頭部５ａの上面にノズル体としてのノズル孔３２ａを介して開口させた、洗浄液の洗浄液供給路３２とが軸方向に沿って形成されている。上記ガス供給路３１は図示しないガス供給源に連通している。
　上記ガス供給路３１に供給された不活性ガスは上記チャックピン１９に保持された半導体ウエハ２２に向かって噴出され、上記洗浄液供給路３２に供給された洗浄液Ｌは上記ノズル孔３２ａから上記半導体ウエハ２２の下面に向かって噴出されるようになっている。
　上記回転チャック１１に保持される半導体ウエハ２２の上方には、この半導体ウエハ２２の上面に洗浄液Ｌを噴射するノズル体としての上部ノズル３７が配設されている。
　この上部ノズル３７と、上記洗浄液供給路３２、つまりノズル孔３２ａとは図１に示す洗浄液Ｌの供給装置５１に接続されている。この供給装置５１は基端が純水を所定の圧力で供給する図示しない供給源に接続された純水供給管５２を有する。この純水供給管５２の先端は上記ノズル孔３２ａおよび上部ノズル３７に接続されていて、中途部には上記ノズル孔３２ａおよび上部ノズル３７に流れる純水の圧力を調整する第１の圧力調整弁５３が設けられている。
　上記第１の圧力調整弁５３と上記ノズル孔３２ａおよび上部ノズル３７との間には第１の開閉弁５４と第１の逆止弁５５とが順次設けられている。この第１の逆止弁５５は純水供給管５２を流れる純水が逆流するのを防止する方向に設けられている。」（段落【0022】乃至【0026】）
　
エ．「上記薬液供給管５６の中途部には第２の開閉弁５８、流量調整弁５９、流量計６０および第３逆止弁６１が上記薬液タンク５７側から順次設けられている。上記流量調整弁５９は薬液供給管５６に流れる薬液の流量を調整できるもので、流量計６０はその流量を計測表示できるようになっている。」（段落【0029】）
　
オ．「それによって、上記純水供給管５２を第１の圧力調整弁５１（５３の誤記と認める。）によって圧力調整（流量制御）されて流れる純水に混合し、洗浄液Ｌとなる。そのため、純水供給管５２を流れる純水と、薬液供給管５６を流れる薬液Ｐとを所定の圧力に設定することで、純水と薬液Ｐとが所定の割合で混合された洗浄液Ｌを混合作業を伴うことなく、ノズル孔３２ａや上部ノズル３７へ供給することができる。」（段落【0034】）
　
カ．図１、２には、洗浄処理装置が、処理容器１に半導体ウエハ２２を収納して洗浄処理を行う部位を有すること、薬液タンク５７に接続した薬液供給管５６の中途部に第２の開閉弁５８を設けたこと、が示されている。
　
　上記記載事項及び図面の記載内容からみて、刊行物１には、次の発明が記載されている。  
　
「半導体ウエハ２２を収納して半導体ウエハ２２に洗浄処理を行う部位と、
　洗浄処理を行う部位内に設けられ、半導体ウエハ２２の下面に向かって洗浄液Ｌを噴出するノズル孔３２ａと、
　洗浄処理を行う部位内に設けられ、半導体ウエハ２２の上面に向かって洗浄液Ｌを噴出する上部ノズル３７と、
　ノズル孔３２ａに洗浄液Ｌを供給するように接続し、かつ、上部ノズル３７に洗浄液Lを供給するように接続しているとともに、薬液タンク５７及び純水を供給する供給源とに接続し、純水と薬液Ｐとを混合して洗浄液Ｌを供給するように構成するとともに、薬液タンク５７からの薬液の供給及びその停止を切り換える第２の開閉弁５８を有する洗浄液Ｌの供給装置５１と、
　を有する洗浄処理装置。」
　
(2-2)同じく、特開平７−２９７１２０号公報（以下、「刊行物２」という。）には、図面と共に次の事項が記載されている。
　
ア．「この基板処理装置は、大きく分けて、内部に塗布処理空間を形成する開閉自在の外囲容器１０と、外囲容器１０内に設けられ、角型基板Ｗを保持した状態で回転する昇降自在の基板回転保持機構２０と、角型基板Ｗの昇降を許容する退避位置と塗布液供給位置とにわたって変位可能に構成され、塗布液供給位置で角型基板Ｗ上に塗布液を供給する塗布液供給機構３０と、角型基板Ｗの上昇位置にあたる水平面内で進退移動可能に構成され、後述する角型基板Ｗの作用位置において前記基板Ｗの端縁に溶剤を吐出して不要薄膜を溶解する溶剤吐出機構４０とから構成されている。以下、各部の構成を詳しく説明する。」（段落【0014】）
　
イ．「図４中、符号６０は、溶剤を供給するための加圧容器である。加圧容器６０から導出された配管６２はフィルタ６３を介して配管６４に接続されている。配管６４は２方向に分岐され、一方はエアー弁Ｖ１を介して配管６５に接続されている。配管６５は流量計６６と流量調整用のニードル弁Ｖ２を介して配管６７の一端に接続している。この配管６７はさらに２方向に分岐され、各他端が継手部材６７ａを介して上部ノズル４７ａの溶剤供給流路５１の両端に連通接続している。配管６４の他方の分岐管は、エアー弁Ｖ３を介して配管６８に接続されている。配管６８は流量計６６と流量調整用のニードル弁Ｖ４を介して配管６９の一端に接続している。この配管６９はさらに２方向に分岐され、各他端が継手部材６９ａを介して下部ノズル４７ｂの溶剤供給流路５１の両端に連通接続している。」（段落【0022】）
　
ウ．「上記の構成により、基板端縁を洗浄する場合、まずシーケンシャルダンパＶ５を開状態にし、排気ブロア７１を作動させて配管７２，７３を介して溶剤排出流路５２から吸引する。そして、エアー弁Ｖ１、Ｖ３を開状態にし、加圧容器６０に窒素ガス等の加圧気体を導入する。これにより、加圧容器６０内に設けられた貯溜器６１内の溶剤が、配管６２を介して各配管６７，６９に流通し、上部ノズル４７ａおよび下部ノズル４７ｂの各溶剤供給流路５１に供給され、上下の溶剤吐出口５０から溶剤が噴出される。噴出され溶剤は基板端縁の不要薄膜を溶解しつつ溶剤排出流路５２内へ吸引されて配管７３，７２を介して排出される。なお、エアー弁Ｖ１，Ｖ３、及びシーケンシャルダンパＶ５の開閉の制御は後述する制御部８０によって行われている。」（段落【0024】）
　
エ．【図4】には、加圧容器６０から導出された配管６２は、その先で２方向に分岐され、一方はエアー弁Ｖ１を介して配管６５に接続され、その先に上部ノズル４７ａが連通接続され、他方の分岐管は、エアー弁Ｖ３を介して配管６８に接続され、その先に下部ノズル４７ｂに接続されたことが示されている。
　
　上記記載事項及び図面の記載内容からみて、刊行物２には、次の発明が記載されている。  
　
「下部ノズル４７ｂへの溶媒の供給及びその停止を切り換えるエアー弁Ｖ３と、
　上部ノズル４７ａへの溶媒の供給及びその停止を切り換えるエアー弁Ｖ１とを備える
　基板端縁洗浄装置。」
　
(2-3)同じく、特開平１０−１５４６８３号公報（以下、「刊行物３」という。）には、図面と共に次の事項が記載されている。
　
ア．「【発明が解決しようとする課題】このような基板処理装置においては、薬液導入弁の流量特性が変化することにより、純水中に混合される薬液の量が変化し、その結果処理液の濃度が変化してしまうという問題がある。すなわち、薬液の圧力や熱膨張の影響を受けて薬液導入弁が変形した場合等においては、薬液の供給経路において薬液が受ける圧力損失が変化し、窒素ガスにより加圧された薬液の圧力が一定値となるように制御した場合においても、純水中への薬液の供給量は正確には一定とはならない。このため、処理槽に供給される処理液の濃度が不均一となる。」（段落【0003】）
　
イ．「この発明は上記課題を解決するためになされたものであり、処理液の濃度を速やかに目標濃度に一致させることにより、基板を精度よく処理することのできる基板処理装置を提供することを目的とする。」（段落【0007】）
　
ウ．「この基板処理装置は、基板Ｗを処理するための基板処理部としての処理槽１と、薬液を貯留する薬液タンク２と、複数の薬液導入弁９ａ、９ｂ、９ｃ、９ｄおよび純水供給弁１０を有する薬液混合部３と、薬液混合部３に純水を供給するための純水供給部４と、処理槽１と薬液混合部３とを接続する供給路１６ａ中に配設された濃度センサ５と、濃度フィードバックコントローラ６および圧力フィードバックコントローラ７とから成る制御部８とを備える。」（段落【0011】）
　
エ．「濃度センサ５は、供給路１６ｂを通過する処理液の濃度を検出するためのものである。すなわち、供給路１６ｂを通過する処理液は純水中に薬液を混合することにより生成されたものであるが、濃度センサ５は、そこを通過する処理液における純水に対する薬液の割合（重量パーセント）を検出するものである。この濃度センサ５としては、例えば、処理液の導電率から処理液の濃度を検出するものや処理液の光の透過率から処理液の濃度を検出するものを使用することができる。
　薬液混合部３は、図２に示すように、本体４４の内部に直線状の流体通路４５を有する。そして、この流体通路４５は、純水供給源１９から薬液混合部３に至る供給路１６ａと、薬液混合部３から処理槽１に至る供給路１６ｂとに接続されている。供給路１６ａから供給される純水は、純水供給ポート４７を通って流体通路４５内に進入する。また、純水供給ポート４７の下流側には、排液管４９に接続する排液ポート４８が配設されている。これらの純水供給ポート４７および排液ポート４８は、各々純水供給弁１０および排液弁５０により開閉制御される。なお、図１においては、排液管４９および排液弁５０は、図示を省略している。
　流体通路４５の内壁には、４個の薬液導入弁９ａ、９ｂ、９ｃ、９ｄの二次側流路が開口している。また、本体４４の側面には薬液導入口４６ａ、４６ｂ、４６ｃ、４６ｄ（図３においては４６ｄのみ図示している）が形成されている。これらの薬液導入口４６ａ、４６ｂ、４６ｃ、４６ｄのうち、薬液導入口４６ａは、前述した薬液タンク２と接続されており、薬液タンク２内の薬液は薬液導入口４６ａを介して流体通路４５中の純水に混合される。また、他の薬液導入口４６ｂ、４６ｃ、４６ｄは、各々、図示を省略した他の薬液タンク等より成る薬液供給部と接続されており、薬液タンク２内の薬液とは異なる薬液の供給を受け、その薬液を流体通路４５中の純水に混合する。」（段落【0019】乃至【0021】）
　
オ．「濃度フィードバックコントローラ６は、濃度センサ５の検出信号を受け、圧力フィードバックコントローラ７を制御する制御信号としての圧力補正信号を出力するためのものである。また、圧力フィードバックコントローラ７は、薬液タンク２から薬液混合部３に供給される薬液の圧力を検出する圧力トランスデューサ２５からの検出信号と濃度フィードバックコントローラ６からの圧力補正信号とを受け、純水中に混合される薬液の量を制御するためのものである。すなわち、圧力フィードバックコントローラ７は、電空レギュレータ２８に印加する電圧を制御することにより、電空レギュレータ２８および耐食レギュレータ２７を介して薬液タンク２から薬液混合部３に供給される薬液の流量を制御し、これにより薬液混合部３において純水中に混合される薬液の量を制御する。」（段落【0024】）
　
カ．「また、上述した実施の形態においては、一つの薬液タンク２から単一の処理槽１に薬液を供給する場合について説明したが、一つの薬液タンク２から複数の処理槽に処理液を供給するようにしてもよい。この場合においては、薬液タンク２、耐食レギュレータ２２およびレギュレータ２３等を複数の処理槽で共有することができることから、基板処理装置を小型化し、また、装置自体のコストを低減することが可能となる。
　さらに、上述した実施の形態においては、基板Ｗとして略円形の半導体ウエハを使用し、この基板Ｗを処理槽１に貯留された処理液中に浸漬してその処理を行う基板処理装置にこの発明を適用した場合について説明したが、処理液を基板Ｗに塗布または噴出して処理する方式の基板処理装置にこの発明を適用してもよく、また、液晶表示パネル用ガラス基板あるいは半導体製造装置用マスク基板等の基板を処理する基板処理装置にこの発明を適用してもよい。」（段落【0050】、【0051】）
　
　上記記載事項及び図面の記載内容からみて、刊行物３には、次の発明が記載されている。  
　
「複数の薬液供給部と、
　複数の薬液供給部に接続された複数の薬液導入弁（９ａ、９ｂ、９ｃ、９ｄ）の二次側流路を内壁に開口させた流体通路４５を有する本体４４と、
　処理槽１と薬液混合部３とを接続する供給路１６ａ中に配設され、生成された混合処理液の濃度を検出する濃度センサ５と、
　濃度フィードバックコントローラ６を具備する制御部８と
を有する基板処理装置。」
　
(3)対比 
　本件補正発明と刊行物１に記載された発明とを対比する。 
　刊行物１に記載された発明の「半導体ウエハ２２」は、本件補正発明の「基板」に相当し、同様に、「洗浄処理」は「所定の処理」に、「洗浄処理を行う部位」は「処理部」に、「洗浄液Ｌ」は「処理液」に、「半導体ウエハ２２の下面に向かって洗浄液Ｌを噴出するノズル孔３２ａ」は「第１の方向から基板に処理液を供給する第１処理液供給手段」に、「半導体ウエハ２２の上面に向かって洗浄液Ｌを噴出するノズル３７」は「前記第１の方向とは異なる第２の方向から基板に処理液を供給する第２処理液供給手段」に、「接続」は「連通」に、「薬液タンク５７」は「薬液供給源」に、「純水を供給する供給源」は「純水供給源」に、「混合して洗浄液Ｌを供給」は「処理液を生成」に、「第２の開閉弁５８」は「導入側切り換え手段」に、「洗浄液Ｌの供給装置５１」は「処理液生成部」に、「洗浄処理装置」は「基板処理装置」に、それぞれ相当する。
　
　したがって、上記両者の一致点及び相違点は、次のとおりである。　　　　
［一致点］ 
「基板を収納して基板に所定の処理を行う処理部と、
　処理部内に設けられ、第１の方向から基板に処理液を供給する第１処理液供給手段と、
　処理部内に設けられ、第１の方向とは異なる第２の方向から基板に処理液を供給する第２処理液供給手段と、
　第１処理液供給手段に処理液を供給するように第１処理液供給手段と連通し、かつ第２処理液供給手段に処理液を供給するように第２処理液供給手段と連通しているとともに、
　薬液供給源及び純水供給源と連通し、処理液を生成するように構成するとともに、薬液供給源からの薬液の供給及びその停止を切り換える導入側切り換え手段と
を有する処理液生成部と、
　を有する基板処理装置。」
　
［相違点１］
　処理液生成部について、本件補正発明では、第１処理液供給手段への処理液の供給及びその停止を切り換える第１出力側切り換え手段と、第２処理液供給手段への処理液の供給及びその停止を切り換える第２出力側切り換え手段とを備えるのに対して、刊行物１に記載された発明では、この発明特定事項を備えない点。
　
［相違点２］
「薬液供給源」として、本件補正発明では「第１薬液供給源」及び「第２薬液供給源」の２つを有しており、このため、「薬液供給源からの薬液の供給及びその停止を切り換える導入側切り換え手段」も、本件補正発明では「第１薬液供給源からの第１薬液の供給及びその停止を切り換える第１導入側切り換え手段」及び「第２薬液供給源からの第２薬液の供給及びその停止を切り換える第２導入側切り換え手段」の２つを有するのに対し、刊行物１に記載された発明では、「薬液供給源」及び「薬液供給源からの薬液の供給及びその停止を切り換える導入側切り換え手段」を１つずつしか有していない点。
　
［相違点３]
　本件補正発明の「処理液生成部」が、「前記第１出力側切り換え手段、前記第２出力側切り換え手段、前記第１導入側切り換え手段および前記第２導入側切り換え手段が一体的に設けられた集合管」と、「前記第１導入側切り換え手段と前記第２導入側切り換え手段よりも下流側であって前記第１出力側切り換え手段と前記第２出力側切り換え手段よりも上流側の位置に前記集合管の管路途中に設けられ」た「混合処理液の濃度を検知する濃度検知手段」とを有し、さらに、本件補正発明が、「濃度検知手段で検知された混合処理液の濃度を監視する制御部」を有するのに対し、刊行物１に記載された発明は、そのような構成を有していない点。
　
(4)当審の判断
　以下、上記相違点について検討する。
　まず、上記相違点１について検討する。
　刊行物２に記載された発明と本件補正発明とを対比する。
　刊行物２に記載された発明の「下部ノズル４７ｂ」は、本件補正発明の「第１処理液供給手段」に相当し、同様に「溶剤」は「処理液」に、「エアー弁Ｖ３」は「処理液の供給及びその停止を切り換える第１出力側切り換え手段」に、「上部ノズル４７ａ」は「第２処理液供給手段」に、「エアー弁Ｖ１」は「処理液の供給及びその停止を切り換える第２出力側切り換え手段」に、「基板端縁洗浄装置」は「基板処理装置」に、それぞれ相当する。
　
　したがって、刊行物２に記載された発明は、
「第１処理液供給手段への処理液の供給及びその停止を切り換える第１出力側切り換え手段と、第２処理液供給手段への処理液の供給及びその停止を切り換える第２出力側切り換え手段とを備える基板処理装置。」
と言い換えることができる。
　
　そして、刊行物１に記載された発明と刊行物２に記載された発明とは、共に、基板処理装置という同一の技術分野に属する発明であるから、刊行物１に記載された発明に刊行物２に記載された発明を適用することは、当業者が容易になし得たものである。
　
　次に、上記相違点２、３について検討する。
　刊行物３に記載された発明と本件補正発明とを対比する。
　刊行物３に記載された発明の「複数の薬液供給部」は、本件補正発明の「第１薬液供給源、第２薬液供給源」に相当し、
　同様に、
　「複数の薬液導入弁９ａ、９ｂ」は「第１導入側切り換え手段、第２導入側切り換え手段」に、
　「複数の薬液供給部と接続された複数の薬液導入弁９ａ、９ｂの二次側流路を内壁に開口させた流体通路４５を有する本体４４」は「第１導入側切り換え手段および第２導入側切り換え手段が一体的に設けられた集合管」に、
　「処理槽１と薬液混合部３とを接続する供給路１６ａ中」は「第１導入側切り換え手段と前記第２導入側切り換え手段よりも下流側」に、
　「生成された混合処理液の濃度を検出する濃度センサ５」は「混合処理液の濃度を検知する濃度検知手段」に、
　「濃度フィードバックコントローラ６を具備する制御部８」は「濃度検知手段で検知された混合処理液の濃度を監視する制御部」に、
　それぞれ相当する。
　
　したがって、刊行物３に記載された発明は、
「第１薬液供給源、第２薬液供給源、及び純水供給源と連通し、
　第１薬液供給源からの第１薬液の供給及びその停止を切り換える第１導入側切り換え手段と、第２薬液供給源からの第２薬液の供給及びその停止を切り換える第２導入側切り換え手段と、
　第１導入側切り換え手段および第２導入側切り換え手段が一体的に設けられた集合管と、
　第１導入側切り換え手段と第２導入側切り換え手段よりも下流側に設けられ、第１薬液、第２薬液及び純水のうちのいずれかによって生成された混合処理液の濃度を検知する濃度検知手段とを有する処理液生成部と、
　濃度検知手段で検知された混合処理液の濃度を監視する制御部と
　を有する基板処理装置。」
と言い換えることができる。
　
　そして、刊行物１に記載された発明と刊行物３に記載された発明とは、共に、基板処理装置という同一の技術分野に属する発明であるから、刊行物１に記載された発明に刊行物３に記載された発明を適用し、「薬液供給源」及び「薬液供給源からの薬液の供給及びその停止を切り換える導入側切り換え手段」を、それぞれ、第１、第２の２つずつを有するものとして、上記相違点２に記載の構成を採用することは、当業者が容易に想到し得ることである。
　
　一方、相違点１についての検討において指摘したように、刊行物２に記載された発明は、「処理液生成部」に「第１出力切り換え手段」及び「第２出力切り換え手段」を備えさせた基板処理装置であるから、刊行物１に記載された発明に、刊行物３に記載された「集合管」を適用する際に、上記刊行物２に記載の発明に鑑みて、第１・第２出力切り換え手段も集合管に一体的に設けることは、当業者であれば当然に為し得る程度の設計的事項である。
　また、液体の濃度制御を行う装置において、濃度検知手段を、薬液と純水等の合流点の直後に設けることは、本願出願前広く行われている技術事項である（例えば、特開平１１−７３２４号公報、特開平２−４７００号公報参照のこと。）。
　したがって、刊行物１に記載された発明に刊行物２に記載された発明の第１・第２出力切り換え手段、及び、刊行物３に記載された発明の集合管を適用するに際して、上記周知の技術事項に倣って、濃度検知手段を薬液と純水の合流点の直後、すなわち集合管の管路途中であって、第１・第２出力切り換え手段の上流側に設け、相違点３に記載の構成とすることは、当業者が適宜成し得たものである。
　
　そして、本件補正発明の奏する効果についてみても、刊行物１乃至３に記載された発明及び周知の技術事項により奏される効果の範囲内のものである。
　
　したがって、本件補正発明は、刊行物１乃至３に記載された発明及び周知の技術事項に基いて当業者が容易になし得たものである。
　
　よって、本件補正発明は、刊行物１乃至３に記載された発明及び周知の技術事項に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により、特許出願の際独立して特許を受けることができないものである。　 
 　 
(5)むすび  
　以上のとおりであるから、本件補正は、平成１８年法律第５５号改正附則第３条第１項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法第１７条の２第５項で準用する同法第１２６条第５項の規定に違反するので、同法第１５９条第１項で読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定により却下すべきものである。 
 　 
３．本願発明について 
(1)本願発明 
　平成１８年５月１０日付け手続補正は上記のとおり却下されたので、本願の請求項１に係る発明（以下、「本願発明」という。）は、平成１７年３月１５日付け手続補正書の特許請求の範囲の請求項１に記載された次のとおりのものである。 
　 
「基板を収納して基板に所定の処理を行う処理部と、
　前記処理部内に設けられ、第１の方向から基板に処理液を供給する第１処理液供給手段と、
　前記処理部内に設けられ、前記第１の方向とは異なる第２の方向から基板に処理液を供給する第２処理液供給手段と、
　前記第１処理液供給手段に処理液を供給するように前記第１処理液供給手段と連通し、かつ前記第２処理液供給手段に処理液を供給するように前記第２処理液供給手段と連通しているとともに、第１薬液供給源、第２薬液供給源、及び純水供給源と連通し、第１薬液、第２薬液及び純水のうちのいずれかによって処理液を生成するように構成するとともに、前記第１処理液供給手段への処理液の供給及びその停止を切り換える第１出力側切り換え手段と、前記第２処理液供給手段への処理液の供給及びその停止を切り換える第２出力側切り換え手段と、各液の導入部よりも下流側であって前記第１出力側切り換え手段と前記第２出力側切り換え手段よりも上流側の位置に設けられ、第１薬液、第２薬液及び純水のうちのいずれかによって生成された混合処理液の濃度を検知する濃度検知手段とを有する処理液生成部と、
　前記濃度検知手段で検知された混合処理液の濃度を監視する制御部と
を有することを特徴とする基板処理装置。」
　 
(2)刊行物
　原査定の拒絶の理由に引用した刊行物１乃至３、刊行物１乃至３の記載事項、及び、刊行物１乃至３に記載された発明は、前記「２．［理由］(2)刊行物」に記載したとおりである。
　
(3)対比・判断
　本願発明と刊行物１に記載された発明とを対比する。
　
　本願発明は、前記「２．［理由］」で検討した本件補正発明において、「処理液生成部」が「前記第１薬液供給源からの第１薬液の供給及びその停止を切り換える第１導入側切り換え手段」と、「前記第２薬液供給源からの第２薬液の供給及びその停止を切り換える第２導入側切り換え手段」と、「前記第１出力側切り換え手段、前記第２出力側切り換え手段、前記第１導入側切り換え手段および前記第２導入側切り換え手段が一体的に設けられた集合管」とを有しているとの発明特定事項を削除するとともに、「濃度検知手段」の設けられる位置について、「前記第１導入側切り換え手段と前記第２導入側切り換え手段よりも下流側」であって「集合管の管路途中」に設けられているとの限定を省くものである。
　
　そうすると、本願発明の構成要件の全てを含み、更に他の要件を付加したものに相当する本件補正発明が前記「２．［理由２］(4)当審の判断」に示したとおり、刊行物１乃至３に記載された発明及び周知の技術事項に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、同様の理由により、本願発明も刊行物１乃至３に記載された発明及び周知の技術事項に基いて当業者が容易に発明をすることができたものである。
　
(4)むすび
　以上のとおりであるから、本願の請求項１に係る発明は、刊行物１乃至３に記載された発明及び周知の技術事項に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであり、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　したがって、本願のその他の請求項に係る発明について検討するまでもなく、本願は拒絶すべきものである。
　
　よって、結論のとおり審決する。