(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
スピンヘッドによって被処理物の中央部を保持して回転させながら、被処理物の裏面に洗浄液を吹き付けて洗浄する洗浄工程を備えている半導体装置の製造方法において、
前記被処理物の外径に対応して、前記洗浄液の前記被処理物の裏面との接触位置が前記被処理物の周方向に位相をずらして配設された第１ノズルと第２ノズルとにより前記被処理物の周方向および径方向において異なるように複数設定され、前記洗浄液は前記被処理物の外周縁部の方向に向かって前記被処理物の裏面に対して斜めに供給され、前記第１ノズルからの洗浄液により前記被処理物の裏面の微粒子が除去され、前記被処理物の外周において前記被処理物の裏面側から表面側に廻り込む前記第２ノズルからの洗浄液により前記被処理物の外周縁部の異物が除去されることを特徴とする半導体装置の製造方法。
【請求項２】
ウエハ表面にフォトレジストの溶液を回転塗布する工程と、前記ウエハ裏面に洗浄液を吹き付けてウエハ裏面を回転洗浄する工程とを備えており、
前記ウエハの裏面の洗浄は、前記ウエハの周方向に位相をずらして配設された第１ノズルと第２ノズルとにより前記ウエハの周方向および径方向において異なる複数の位置から前記ウエハの外周縁部の方向に向かって前記ウエハ裏面に対して斜めに供給される洗浄液を用い、前記第１ノズルからの洗浄液により前記ウエハの裏面の微粒子を除去し、前記ウエハの外周において前記ウエハの裏面側から表面側に廻り込む前記第２ノズルからの洗浄液により前記ウエハの外周縁部の異物を除去することを特徴とする半導体装置の製造方法。
【請求項３】
前記溶液は、有機溶剤を含むことを特徴とする請求項２に記載の半導体装置の製造方法。
【請求項４】
前記洗浄液は、有機溶剤を含むことを特徴とする請求項１、２または請求項３に記載の半導体装置の製造方法。
【請求項５】
前記回転塗布する工程と前記回転洗浄する工程とは、同時に行われることを特徴とする請求項２乃至４の何れか一に記載の半導体装置の製造方法。
【請求項６】
ウエハをスピンヘッドに固定する工程と、
前記ウエハの周方向に位相をずらして配設された第１ノズルと第２ノズルとにより前記ウエハの周方向および径方向において異なる複数の位置から前記ウエハの外周縁部の方向に向かって前記ウエハ裏面に対して斜めに供給される洗浄液を用い、前記スピンヘッドを回転することにより前記ウエハを回転させながら前記ウエハ裏面を洗浄することにより、前記第１ノズルからの洗浄液により前記ウエハの裏面の微粒子を除去し、前記ウエハの外周において前記ウエハの裏面側から表面側に廻り込む前記第２ノズルからの洗浄液により前記ウエハの外周縁部の異物を除去する工程とを有することを特徴とする半導体装置の製造方法。
【請求項７】
前記ウエハは、前記ウエハの裏面中央部が固定されて回転されることを特徴とする請求項６に記載の半導体装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】
本発明は、半導体装置の製造方法、特に、被処理物に形成された塗膜の一部が不必要な場所に異物として付着している場合に、この付着物を洗浄により除去する洗浄技術に関し、例えば、半導体ウエハ（以下、ウエハという。）の裏面を洗浄するとともに、ウエハの表面に塗布されたフォトレジスト膜が裏面に廻り込んで異物として付着した場合にこの異物を除去するのに利用して有効な技術に関する。
【０００２】
【従来の技術】
半導体装置の製造方法において、ウエハ上にフォトレジストを塗布する塗布装置として、処理容器の内部に設けた水平面内で回転可能なスピンヘッド上にウエハを載せた状態で真空吸着保持せしめた後、このスピンヘッドによりウエハを回転させながらフォトレジストの溶液をウエハの表面上に滴下して塗布するように構成されているものがある。
【０００３】
このような塗布装置においては、ウエハの表面に供給されて回転により拡散されたフォトレジストの溶液が回転に伴ってウエハの裏面に回り込むため、フォトレジスト膜の一部がウエハ裏面の外周縁部に異物として付着することがある。また、フォトレジストの溶液が遠心力によって周囲に飛散してフォトレジストの微粒子になり、気流に乗ってウエハ裏面に付着することがある。このようにフォトレジストがウエハの外周縁部や裏面に付着していると、塗布終了後のウエハ搬送等において、ウエハ外周縁部のフォトレジスト膜が剥がれたり、ウエハ裏面のフォトレジストの微粒子が離脱して異物となり、当該ウエハや、その他のウエハに付着して製品歩留りを低下させてしまうことがある。
【０００４】
そこで、特開昭５８−５８７３１号公報には、次のようなレジスト除去方法が提案されている。すなわち、ウエハを回転させながら、フォトレジスト溶液の溶剤をウエハ裏面から外周縁部に向けて吹き付けて外周縁部に付着したフォトレジスト膜を溶融させるとともに、遠心力によって溶融されたフォトレジスト溶液および溶剤を除去する。この際、溶剤がウエハ裏面に接触すると、ウエハ裏面に付着したフォトレジストの微粒子も溶融されて除去されることになる。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、ウエハが大径になると、ウエハ裏面に付着したフォトレジストの微粒子とウエハ裏面の外周縁部に付着したフォトレジスト膜とを同時には除去することができないという問題点があることが本発明者によって明らかにされた。
【０００６】
本発明の目的は、大径の被洗浄面であっても全体にわたって確実に洗浄することができる洗浄技術を提供することにある。
【０００７】
本発明の前記ならびにその他の目的と新規な特徴は、本明細書の記述および添付図面から明らかになるであろう。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
本願において開示される発明のうち代表的なものの概要を説明すれば、次の通りである。
【０００９】
すなわち、スピンヘッドによって被処理物の中央部を保持して回転させながら、被処理物の裏面に洗浄液を吹き付けて洗浄する洗浄工程を備えている半導体装置の製造方法において、
前記被処理物の外径に対応して、前記洗浄液の前記被処理物の裏面との接触位置が前記被処理物の周方向に位相をずらして配設された第１ノズルと第２ノズルとにより前記被処理物の周方向および径方向において異なるように複数設定され、前記洗浄液は前記被処理物の外周縁部の方向に向かって前記被処理物の裏面に対して斜めに供給され、前記第１ノズルからの洗浄液により前記被処理物の裏面の微粒子が除去され、前記被処理物の外周において前記被処理物の裏面側から表面側に廻り込む前記第２ノズルからの洗浄液により前記被処理物の外周縁部の異物が除去されることを特徴とする。
【００１０】
【作用】
前記した手段において、少なくとも１本のノズルから吹き出された洗浄液が被洗浄面における外周縁部の近傍位置に吹き付けられると、その洗浄液によって被洗浄面の外周縁部に付着した異物は、被処理物のスピンヘッドによる回転に伴ってきわめて効果的に除去される。他のノズルから吹き出された洗浄液が被洗浄面の径方向中間位置に吹き付けられると、その洗浄液によって被洗浄面における中間部領域に付着した異物は、被処理物のスピンヘッドによる回転に伴ってきわめて効果的に除去される。
【００１１】
このようにして前記した手段によれば、各ノズルの被処理物の被洗浄面に対する洗浄領域を個々に分担させることができるため、大径の被洗浄面であっても全体にわたって確実に洗浄することができる。
【００１２】
【実施例】
図１は本発明の一実施例である半導体装置の製造方法に使用されるフォトレジスト塗布装置を示しており、（ａ）は一部省略正面断面図、（ｂ）はその主要部の斜視図である。図２はその作用を説明するための模式図であり、（ａ）は底面図、（ｂ）は拡大部分正面断面図である。
【００１３】
本実施例に係る半導体装置の製造方法に使用されるフォトレジスト塗布装置はフォトレジストをウエハの一主面（以下、表面とする。）に塗布するものとして構成されており、この塗布装置にはウエハ裏面に付着したフォトレジストの異物を除去する洗浄装置が一体的に組み込まれている。
【００１４】
この塗布装置は処理容器１を備えており、この容器１の内部にはスピンヘッド２が適当な駆動手段（図示せず）により回転されるように設けられている。スピンヘッド２は被処理物としてのウエハ７を真空吸着等により保持し得るように構成されている。そして、このスピンヘッド２は塗布作業と洗浄作業とに兼用されるようになっている。処理容器１の上面における略中央部には給気口３が開設されており、処理容器１の底壁におけるスピンヘッド２の外方位置には排気口４が開設されている。処理容器１内におけるスピンヘッド２の中心の真上には、フォトレジストの溶液が使用された塗布材５を滴下するための滴下管６が挿入されており、滴下管６と処理容器１とは適当な手段（図示せず）によって相対的に昇降されるようになっている。
【００１５】
洗浄装置１０はいずれも洗浄液を被洗浄面としてのウエハ裏面に吹き付ける第１ノズル１１と第２ノズル１２とを備えており、両ノズル１１、１２は処理容器１の下側部分におけるスピンヘッド２の外側において径方向内外にそれぞれ配置されている。図示しないが、両ノズル１１、１２は洗浄液供給装置にそれぞれ流体的に接続されている。例えば、洗浄液供給装置は洗浄液が貯留されたタンク、タンクから洗浄液を汲み上げて圧送するポンプ、ポンプとノズルとを流体的に連結する通路、通路の途中に介設されて洗浄液の供給時期や流量および圧力等を制御する制御弁群を備えた制御ユニットから構成されている。
【００１６】
径方向内側に配置された第１ノズル１１と径方向外側に配置された第２ノズル１２との関係は、第１ノズル１１の吹き出した洗浄液のウエハ裏面との接触位置Ｐ１  が、第２ノズル１２の吹き出した洗浄液のウエハ裏面との接触位置Ｐ２  よりも内側になるように設定されている。本実施例において、第１ノズル１１の当該接触位置Ｐ１  はスピンヘッド２に洗浄液が吹きかからない範囲内で、ウエハ裏面の中心点に可及的に近い位置に設定されている。また、第１ノズル１１および第２ノズル１２は、その洗浄液の吹き出し方向が鉛直線に対して径方向外側に適度に傾斜するように構成されている。
【００１７】
本実施例において、第２ノズル１２はその吹き出した洗浄液のウエハ裏面との接触位置Ｐ２  を変更調整し得るように構成されている。すなわち、処理容器１の下方位置には両端をブラケット１３、１３に支持されたガイドレール１４が一対、水平面内において径方向内外に敷設されており、両ガイドレール１４、１４にはスライダー１５が摺動自在に跨設されている。スライダー１５には止めねじ１６が進退自在に螺着されており、スライダー１５はガイドレール１４を摺動されて径方向の所望の位置を定められた後に、この止めねじ１６をねじ込まれることによってその位置に固定されるようになっている。スライダー１５には第２ノズル１２が立脚されて固定されており、このノズル１２の入口側端部（図示せず）には洗浄液供給装置（図示せず）に接続された可撓性のホース１７が接続されている。そして、第２ノズル１２の吐出側端部は処理容器１の下面壁に開設された挿通孔１８を挿通されて、処理容器１の内部に突き出されている。挿通孔１８にはゴム等の弾性体が使用されて蛇腹形状に形成されたシール膜１９が張設されており、このシール膜１９は第２ノズル１２の挿通端部に固定されることにより、挿通孔１８のシール状態を確保しつつ第２ノズル１２の径方向への移動を実現するようになっている。
【００１８】
次に、前記構成に係る塗布装置を備えた洗浄装置の使用方法、並びに作用をウエハ上にフォトレジスト溶液を塗布するとともに、異物としてのフォトレジストを洗浄によって除去する場合につき説明する。
【００１９】
ここで、塗布材５として使用されるフォトレジスト溶液は、フォトレジスト（樹脂と感光剤）にノーマル・メチル・ピロリジオン（ＮＭＰ）等のフォトレジスト用の有機溶剤を溶媒として使用して得られた溶液であり、スピン塗布するのに好適な粘度を有する塗布材に調製されている。
【００２０】
まず、図１に示されているように、被塗布物および被洗浄物としてのウエハ７がスピンヘッド２上に載せられて真空吸着等の手段により保持されると、ウエハ７が回転される。この回転が安定したところで、滴下管６から塗布材５がウエハ７の中心上に滴下されると、塗布材５は遠心力によって放射方向に拡散され、ウエハ７の表面に塗布膜８が形成されることになる。このとき、図１に実線矢印で示されているように、給気口３から排気口４の方向に気流が形成されることにより、塗布材５の飛沫がウエハ７の表面に付着することを防止される。
【００２１】
しかし、ウエハ７の裏面には塗布材５から発生した微粒子９Ａがウエハ裏面側に廻り込む気流に乗って付着することがある。塗布材５の微粒子９Ａは、滴下管６から滴下された塗布材５がウエハ７の表面で跳ねた時の飛沫から発生したり、ウエハ７の表面における外周縁で振り切られた塗布材５の飛沫が処理容器１の内周面に衝突して破砕されることにより発生したりする。
【００２２】
また、拡散されてウエハ７の表面の外周縁に至ったフォトレジスト溶液は、その殆どが遠心力によって振り切られるが、一部はその溶液の表面張力および粘性と遠心力との釣り合い関係によってウエハ７の裏面側に廻り込んで、ウエハ裏面の外周縁部に異物９として付着する状態になる。
【００２３】
このようにして裏面に塗布材５の微粒子９Ａが付着したり裏面の外周縁部に異物９が付着したままのウエハ７が次工程へ送られると、微粒子９Ａや異物９がウエハ７から不慮に脱落することにより、そのウエハ７や、他のウエハの表面が汚染される。また、微粒子や異物が付着したままのウエハがヒータの加熱等によってベーキングやキュアされる場合には、そのヒータが汚染される。さらに、ウエハが弗酸を使用されるウエットエッチングによりその裏面を削除される場合には、ウエハ裏面における微粒子や異物が付着した領域がエッチングされないため、エッチング残りが発生する。
【００２４】
そこで、本実施例においては、塗布作業と同時に洗浄作業が実施されることにより、ウエハ裏面に付着した微粒子および異物が完全に除去される。
すなわち、ウエハ７が回転されながらウエハ７の表面に塗布材５が滴下されるとともに、第１ノズル１１および第２ノズル１２から洗浄液２０がウエハ７の裏面に吹き付けられる。この洗浄液２０としては、塗布材５のフォトレジスト溶液に用いられた有機溶剤が使用される。洗浄液２０は塗布膜８を形成するフォトレジスト溶液の溶剤であるため、同質の微粒子９Ａおよび異物９は溶融される。この溶融されたフォトレジスト溶液は洗浄液２０および塗布膜８を形成して余分となった塗布材５と一緒に、遠心力によりウエハ７の裏面から飛散される。
【００２５】
ところで、洗浄液をウエハの裏面に吹き付けるノズルの径方向の吹き付け位置がウエハ間で一定に設定されている従来例の場合には、ウエハが大径になると、ウエハ外周縁部の異物を除去することができないことがある。これは次のような理由によると、考えられる。ノズルによる洗浄液の流量、流速および吐出圧がウエハの外径とスピンヘッドの外径との比率によって変更調整されても、大径のウエハでは洗浄面積が大きくなって洗浄液が大量に必要になり、また、洗浄液がウエハの外周縁まで達する迄に重力によって剥がれ落ちる量が増加し、さらに、ウエハの外周縁においてウエハの表面側に廻り込む洗浄液の量が減少するため、ウエハ外周縁の異物が充分に溶融されなくなり、除去が不充分になる。
【００２６】
そこで、本実施例においては、ウエハ裏面の微粒子９Ａを除去するのを主な目的とする第１ノズル１１と、ウエハ７の外周縁部の異物９を除去するのを主な役目とする第２ノズル１２とを装備した洗浄装置１０を設備して、第１ノズル１１および第２ノズル１２の両方から有機溶剤である洗浄液２０をウエハ７の裏面に作用させることにより、ウエハ７の裏面の微粒子９Ａおよび外周縁部の異物９を同時に確実に除去するようにした。
【００２７】
すなわち、図２に示されているように、第１ノズル１１からウエハ７の裏面における中間部に吹き付けらた洗浄液２０は、その粘性および表面張力によってウエハ裏面に粘着し、遠心力によって周方向および径方向外側に拡散して行く。拡散した洗浄液２０の大部分は、粘着力、表面張力、遠心力、水平方向への移動力、自重の釣り合いが崩れた場所でウエハ裏面から剥離して落下して行く。このようにして洗浄液２０がウエハ裏面全体に拡散した後に剥離して行くことにより、ウエハ裏面に付着したフォトレジストの微粒子９Ａが溶融されて除去される。
【００２８】
そして、第１ノズル１１による洗浄液２０のウエハ裏面への吹き付け方は、一方において、吹き付けられた洗浄液２０がスピンヘッド２の真空吸引力によって吸引されないように配慮すべきである。また、他方において、吹き付けられた洗浄液２０がウエハ裏面で可及的に反射せずにウエハ裏面に効率的に粘着し、ウエハ７の回転に伴って周方向および径方向に拡散し、ウエハ裏面の微粒子９Ａを効果的に溶融しかつ洗い流すことができるように配慮すべきである。これらの点を配慮した上で、第１ノズル１１による洗浄液２０の吹き付け流量、流速、吐出圧、吹き出し形態、吹き付け傾斜角度等が、ウエハ７の外径、スピンヘッド２の回転速度等に対応して最適値に設定される。この最適値は、実験やコンピューターによる模擬実験によって経験的に設定することが効率的である。
【００２９】
他方、第２ノズル１２からウエハ７の裏面における外周縁部付近に吹き付けらた洗浄液２０は、その粘性および表面張力によってウエハ裏面に粘着し遠心力によって周方向および径方向外側に拡散して行く。拡散した洗浄液２０の大部分は、粘着力、表面張力、遠心力、水平方向への移動力、自重の釣り合いによってウエハ裏面外周縁部の異物９に達して接触し、その接触後に当該釣り合いが崩れるため、外周縁部でウエハ裏面から剥離して振り切られて行く。洗浄液２０が外周縁部の異物９に接触すると、洗浄液２０として有機溶剤が使用されているため、フォトレジスト溶液からなる異物９は溶融されるとともに、遠心力によって振り切られる。また、ウエハ裏面の外周縁部に達した洗浄液２０の一部はその粘着力および表面張力によってウエハ７の表面側に廻り込み、ウエハ表面側の外周縁部に塗布された塗布膜８の一部を環状に均一に溶融させる。この表面側の塗布膜８の外周縁の溶融によって、裏面側の異物９の遠心力による振り切りがウエハ間で一定の状態で常に繰り返されることになる。すなわち、ウエハ裏面に付着した異物９はウエハ７の表面側に塗布された塗布膜８の外周縁から綺麗に切断された状態で、常に除去される。
【００３０】
そして、図２に示されているように、第２ノズル１２による洗浄液２０のウエハ裏面への径方向の吹き付け位置（以下、吹き付け位置という。）Ｐ２  は、まず、ウエハ７のオリエンテーションフラット７ａを配慮する必要がある。すなわち、ウエハ７の中心Ｏから吹き付け位置Ｐ２  迄の距離をＢ、ウエハ７の中心Ｏからオリエンテーションフラット７ａ迄の距離をＬとすると、Ｂ＜Ｌ、である必要がある。なぜならば、Ｂ＞Ｌであると、第２ノズル１２からウエハ裏面に向けて吹き出された洗浄液２０がオリエンテーションフラット７ａの位置においてウエハ７の表面側に飛び出してしまうためである。
【００３１】
さらに、第２ノズル１２の吹き付け位置Ｐ２  はウエハ７の中心Ｏから最も近い外周縁から５ｍｍ以上離れている必要がある。すなわち、ウエハ７の中心Ｏから吹き付け位置Ｐ２  迄の距離をＢｍｍ、ウエハ７の半径をＲｍｍとすると、Ｂ≦Ｒ−５、である必要がある。また、オリエンテーションフラット７ａがある場合には、Ｂ≦Ｌ−５である必要がある。これは、第２ノズル１２の吹き付け位置Ｐ２  がウエハ７の外周縁から５ｍｍ未満の範囲内に設定されていると、第２ノズル１２からウエハ裏面に向けて吹き出された洗浄液２０がウエハ７の表面側に飛び出して処理容器１の内周面等で跳ね返り、ウエハ表面側に塗布された塗布膜８に付着してしまうことが、実験や経験則によって確認されているためである。
【００３２】
そして、第２ノズル１２の吹き付け位置Ｐ２  の最適値の設定には多種多様のパラメーターが関係するため、第２ノズル１２の吹き付け位置Ｐ２  の最適値は実験および経験則によって求めることが最良である。本実施例においては、第２ノズル１２は径方向内外に変位可能であるため、吹き付け位置Ｐ２  の最適値は実験や経験によって容易に求めることができる。例えば、大径のウエハ７に変更されて外周縁部の異物９が除去し切れない事態が発生した場合に、第２ノズル１２がガイドレール１４に沿って径方向外側に若干移動されて止めねじ１６によって固定される。その吹き出し位置で、大径のウエハ７に対する塗布作業および洗浄作業が実行されて、外周縁部の異物９の除去状態が観測される。その観測結果、外周縁部の異物９の除去状態が良好である場合には、当該吹き付け位置が一応の最適値として設定される。不良である場合には、第２ノズル１２の位置の変更作業ないし観測作業が繰り返される。
【００３３】
ちなみに、第２ノズル１２の吹き付け位置Ｐ２  の最適値の設定ためのパラメーターとしては、次のような事項が考えられる。洗浄液の粘性や温度。洗浄液の吹き出し流量、流速、吐出圧力、吹き出し形態（束状、シャワー状、霧状等）。ウエハの外径。スピンヘッドの回転速度、ウエハ外周縁部等の周速度。洗浄時間。第１ノズル１１から吹き出された洗浄液の影響。
【００３４】
前記実施例によれば次の効果が得られる。
（１）  ウエハ裏面の微粒子９Ａを除去するのを主な目的とする第１ノズル１１と、ウエハ７の外周縁部の異物９を除去するのを主な役目とする第２ノズル１２とを装備した洗浄装置１０を設備することにより、第１ノズル１１および第２ノズル１２の両方から有機溶剤である洗浄液２０をウエハ７の裏面に作用させることができるため、大径のウエハ７であっても、ウエハ７の裏面の微粒子９Ａおよび外周縁部の異物９を同時に確実に除去することができる。
【００３５】
（２）  第２ノズル１２の径方向の吹き付け位置Ｐ２  を変更調整可能に構成することにより、ウエハの外径の変更に対応して外周縁部の異物９に対する洗浄作用程度を適宜変更調整することができるため、ウエハが大径になった場合であっても外周縁部の異物９を確実に除去することができる。
【００３６】
（３）  第２ノズル１２の径方向の吹き付け位置を変更調整可能に構成することにより、吹き付け位置Ｐ２  の最適値を実験や経験によって容易に求めることができるため、ウエハ７の外径の変更に迅速に対応することができる。
【００３７】
（４）フォトレジスト膜をウエハに塗布する工程において、ウエハの裏面に付着したフォトレジストの微粒子および異物を完全に洗浄することにより、フォトレジスト膜の品質および信頼性を高めることができるため、リソグラフィー工程しいては半導体装置の製造歩留りを高めることができる。
【００３８】
以上本発明者によってなされた発明を実施例に基づき具体的に説明したが、本発明は前記実施例に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能であることはいうまでもない。
【００３９】
例えば、前記実施例では洗浄装置をフォトレジスト塗布装置に一体的に組み込んだ場合について説明したが、洗浄装置はフォトレジスト塗布装置と別の洗浄専用装置として構成してもよい。
【００４０】
ノズルによる洗浄液の吹き付け位置を径方向に変更調整可能にする構成は、前記実施例の構造を使用するに限らず、他の構造を使用することができ、送りねじ軸装置やシリンダ装置等によって自動的に変更調整し得るように構成してもよい。また、ノズルの吹き出し傾斜角度を変更調整し得るように構成することにより、ノズルによる洗浄液の吹き付け位置を径方向に変更調整可能に構成することもできる。
【００４１】
第１ノズルおよび第２ノズルの本数は、１本宛に限らず、複数本宛であっもよい。また、第１ノズルおよび第２ノズルはウエハの回転中心の法線上に並設するに限らず、周方向に位相をずらして配設してもよい。さらに、第１ノズルおよび第２ノズルの２種類を設けるに限らず、洗浄液のウエハへの吹き付け位置が互いに異なるノズルを３種類以上（第３ノズル、第４ノズル・・・）設けてもよい。ノズルによる洗浄液のウエハへの吹き付け位置が変更調整可能である場合には、変位可能なノズルのみでもよい。
【００４２】
各ノズルは異なる系統の洗浄液供給装置に接続してもよいし、同一系統の洗浄液供給装置に接続してもよい。
【００４３】
洗浄液としては溶融力や粘性等の特性が同一の有機溶剤を使用するに限らず、各ノズル相互間で異なる特性の有機溶剤をそれぞれ使用してもよい。また、洗浄液としては有機溶剤を使用するに限らず、その他の溶媒、純水や現像液、希硫酸等を使用してもよいし、各ノズル相互で異なる種類の洗浄液をそれぞれ使用してもよい。
【００４４】
以上の説明では主として本発明者によってなされた発明をその背景となった利用分野であるウエハに付着したフォトレジストの異物を除去する技術に適用した場合について説明したが、それに限定されるものではなく、フォトマスクや液晶パネルに付着したフォトレジストの異物を除去する技術、さらには、ウエハやフォトマスク、液晶パネル等の被処理物に現像液を供給して被膜を形成する際に異物を除去する洗浄技術に適用することができる。すなわち、本発明は、スピンヘッドによって被処理物を保持して回転させながら、被処理物の被洗浄面に洗浄液を吹き付けて洗浄する洗浄技術全般に適用することができる。
【００４５】
【発明の効果】
本願において開示される発明のうち代表的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、次の通りである。
【００４６】
洗浄液を吹き出すノズルを複数本配設し、各ノズルはその吹き出した洗浄液の被処理物との接触位置が径方向に互いにずれるようにそれぞれ構成することにより、各ノズルに洗浄する領域をそれぞれ分担させることができるため、大径の被洗浄面であっても被洗浄面を全体にわたって確実に洗浄することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施例である半導体装置の製造方法に使用されるフォトレジスト塗布装置を示しており、（ａ）は一部省略正面断面図、（ｂ）はその主要部の斜視図である。
【図２】その作用を説明するための模式図であり、（ａ）は底面図、（ｂ）は拡大部分正面断面図である。
【符号の説明】
１…処理容器、２…スピンヘッド、３…給気口、４…排気口、５…塗布材（フォトレジスト）、６…滴下管、７…ウエハ（被処理物）、７ａ…オリエンテーションフラット、８…塗布膜（フォトレジスト膜）、９…異物、９Ａ…ウエハ裏面の微粒子、１０…洗浄装置、１１…第１ノズル、１２…第２ノズル、１３…ブラケット、１４…ガイドレール、１５…スライダー、１６…止めねじ、１７…可撓性ホース、１８…挿通孔、１９…シール膜、２０…洗浄液（有機溶剤）。
【図１】
0003573504.tif 000002
【図２】
0003573504.tif 000003