【事件の表示】
　特願２００３−　６１２５３「耐ハロゲンガス皮膜被覆部材およびその製造方法」拒絶査定不服審判事件〔平成１６年　９月３０日出願公開、特開２００４−２６９９５１〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１．手続の経緯・本願発明
　本願は、平成１５年３月７日の出願であって、請求項１〜３に係る発明は、平成１８年７月２０日付手続補正書によって補正された明細書の特許請求の範囲の請求項１〜３に記載された事項により特定されるものと認められるところ、請求項１に係る発明（以下、「本願発明１」という。）は、次のとおりである。
　「【請求項１】　基材と、前記基材の表面にマグネシウムを含む合金材料によって溶射法で形成された合金皮膜と、前記合金皮膜の表面に溶射法で形成された酸化物セラミックス膜と、前記合金皮膜及び前記酸化物セラミックス膜の形成後、前記合金皮膜における前記酸化物セラミックス膜との接合側の表面をハロゲン化させて形成したマグネシウム濃化膜とを有し、前記酸化物セラミックス膜が、酸化イットリウム膜、酸化アルミニウム膜、又は酸化チタン膜であることを特徴とする耐ハロゲンガス皮膜被覆部材。」
　
２．引用例とその記載事項
　原査定の拒絶の理由に引用された本願出願前に国内において頒布された特開平１１−６１４１０号公報（以下、「引用例１」という。）には、次の事項が記載されている。
（１）引用例１：特開平１１−６１４１０号公報
（１ａ）「【請求項１】　基材表面に耐食性保護皮膜が形成されてなる真空チャンバ部材であって、該耐食性保護皮膜の表面側は、Ａｌ酸化物を主体とする層であ・・・り、上記耐食性保護皮膜の基材側は、Ｍｇ弗化物を主体とする層である・・・ことを特徴とする耐ガス性及び耐プラズマ性に優れた真空チャンバ部材。」（請求項１）
　
（１ｂ）「本発明において、耐食性保護皮膜を形成する基材としては、真空チャンバに用いられている公知の材料を採用すればよく、ＡｌまたはＡｌ基合金の他、Ｍｇ基合金やＦｅ基合金であるステンレス鋼等を用いても良い。」（【００１５】）
　
（１ｃ）「本発明において、耐食性保護皮膜を形成する方法としては、真空蒸着法やＣＶＤ法によってＭｇ弗化物等を主体とする第２層を形成した後、前記第１層を積層しても良く、Ｍｇを含有するＡｌ基合金上にＡｌ酸化物層を・・・陽極酸化処理法や、ＰＶＤ法（真空蒸着法，スパッタリング法，溶射法等）・・・によって形成した後、フッ素系ガスを含む雰囲気において加熱処理を行う方法を用いても良い。・・・中でも、Ｍｇを含有するＡｌ基合金からなる基材表面に、陽極酸化処理法によってＡｌ酸化物を主体とする第１層を形成し、次いでフッ素系ガス雰囲気中で加熱処理を施すことにより第２層を形成する方法は、得られる第１層と第２層の密着性が高く推奨される。」（【００１８】）
　
（１ｄ）「試験片のハロゲン系ガスに対する耐食性を評価することを目的として、５％Ｃｌ２−Ａｒ混合ガスにより、３００℃で２時間のガス腐食試験を３回行い、試験後の外観を調べて以下の基準で評価した。
［ガス腐食試験］
　　　◎：腐食発生なし　
　　　○：腐食発生面積率　２％未満
　　　△：腐食発生面積率　２％以上１０％未満
　　　×：腐食発生面積率　１０％以上
また、前記試験片の耐プラズマ性を評価するため、低バイアス条件下で１０分間のＣＦ４プラズマ照射試験を１０回行い、表面の外観を調べると共に、その被エッチング量を測定して、以下の様に評価した。
［プラズマ照射試験］
　（外観）
　　　○：損傷なし
　　　△：損傷発生面積率　５％未満
　　　×：損傷発生面積率　５％未満
　（被エッチング量）
　　　○：２μｍ未満
　　　△：２μｍ以上５μｍ未満
　　　×：５μｍ以上」（【００２６】〜【００２９】）
　
（１ｅ）「＊表中において、第１層の種類ａはＡｌ酸化物層・・・第２層は、Ｍｇ弗化物層である。」（【００３０】）
　
（１ｆ）「実施例３　表３に示す製造条件で各種の耐食性保護皮膜を形成し・・・ガス腐食試験およびプラズマ照射試験を行い、耐ガス性及び耐プラズマ性を調べた。結果は表３に併記する。」（【００３７】）
　
（１ｇ）表３には、「本発明例Ｎｏ．５９」は、基材種類がＭｇ合金、第１層の形成方法が溶射、第１層の種類がａ、第２層の形成方法がフッ素ガス反応であって、このような条件により得られた試験片のガス腐食試験、プラズマ照射試験はともに○であることが記載されている（【００３８】）。
　
３．当審の判断
３−１．引用例記載の発明
　引用例１の摘記事項（１ａ）によれば、基材表面に耐食性保護皮膜が形成されてなる真空チャンバ部材であって、該耐食性保護皮膜の表面側は、Ａｌ酸化物を主体とする層であり、上記耐食性保護皮膜の基材側は、Ｍｇ弗化物を主体とする層である耐ガス性及び耐プラズマ性に優れた真空チャンバ部材が記載され、摘記事項（１ｃ）によれば、耐食性保護皮膜は、基材がＭｇを含有するＡｌ基合金の場合、基材上にＡｌ酸化物層を形成した後、フッ素系ガスを含む雰囲気において加熱処理することにより形成されること、摘記事項（１ｅ）〜（１ｇ）によれば、実施例３におけるＮｏ．５９の例は、Ａｌ酸化物層を溶射法で形成することが、それぞれ記載されている。これらの記載によれば、Ｍｇを含有するＡｌ基合金基材への耐食性保護皮膜の形成は、基材表面にＡｌ酸化物層を溶射法で形成した後、フッ素系ガスを含む雰囲気において加熱処理することにより、すなわち、基材表面をフッ素化してＭｇ弗化物を主体とする層を形成することによりなされることが理解できる。そうすると、耐食性（耐ガス性、耐プラズマ性）保護皮膜が形成されてなる真空チャンバ部材は、Ｍｇを含有するＡｌ基合金基材と、前記基材の表面に溶射法で形成されたＡｌ酸化物層と、前記Ａｌ酸化物層の形成後、前記基材における前記Ａｌ酸化物層との接合側の表面をフッ素化させて形成したＭｇ弗化物を主体とする層を有するものであることが理解できるし、Ａｌ酸化物層は、酸化物セラミック層といえるものである。
　さらに、摘記事項（１ｆ）、（１ｇ）によれば、実施例３におけるＮｏ．５９の例は、耐ガス性（ガス腐食試験○）、耐プラズマ性（プラズマ照射試験○）に優れることが記載され、また、摘記事項（１ｄ）によれば、ガス腐食試験はハロゲンガスに対する耐食性を試験するものであり、プラズマ照射試験はＣＦ４プラズマ照射試験であることが記載されているから、耐食性（耐ガス性、耐プラズマ性）保護皮膜は、耐ハロゲンガス皮膜といえるものである。
　以上の事項を考慮し、引用例１の摘記事項（１ａ）、（１ｃ）〜（１ｇ）の記載を総合すると、引用例１には、次の「真空チャンバ部材」についての発明（以下、「引用例発明」という。）が記載されていると認められる。
　「Ｍｇを含有するＡｌ基合金基材と、前記基材の表面に溶射法で形成された酸化物セラミックス層と、前記酸化物セラミックス層の形成後、前記基材における前記酸化物セラミックス層との接合側の表面をフッ素化させて形成したＭｇ弗化物を主体とする層とを有し、前記酸化物セラミックス層が、Ａｌ酸化物層である耐ハロゲンガス皮膜被覆真空チャンバ部材。」　
　
３−２．対比・判断
　本願発明１と引用例発明とを対比すると、引用例発明の「酸化物セラミックス層」、「フッ素化」、「Ｍｇ弗化物を主体とする層」、「Ａｌ酸化物層」は、それぞれ本願発明１の「酸化物セラミックス膜」、「ハロゲン化」、「マグネシウム濃化膜」、「酸化アルミニウム膜」に相当し、引用例発明の「真空チャンバ部材」は、部材である点で本願発明１と共通するから、両者の一致点、相違点は、次のとおりである。
　
一致点：
　「基材と、溶射法で形成された酸化物セラミックス膜と、前記酸化物セラミックス膜の形成後、前記酸化物セラミックス膜との接合側の表面をハロゲン化させて形成したマグネシウム濃化膜とを有し、前記酸化物セラミックス膜が、酸化アルミニウム膜である耐ハロゲンガス皮膜被覆部材。」
　
相違点：
（イ）本願発明１は、「基材の表面にマグネシウムを含む合金材料によって溶射法で形成された合金皮膜」を有し、酸化物セラミックス膜が「合金皮膜」の表面に形成されるのに対し、引用例発明は、基材がマグネシウムを含む合金（Ｍｇを含有するＡｌ基合金）材料からなり、酸化物セラミックス膜が基材の表面に形成される点
（ロ）本願発明１は、マグネシウム濃化膜が、「合金皮膜及び」酸化物セラミックス膜の形成後、「合金皮膜における」酸化物セラミックス膜との接合側の表面に形成されるのに対し、引用例発明は、マグネシウム濃化膜が、酸化物セラミックス層の形成後、基材における酸化物セラミックス層との接合側の表面に形成される点
　
　以下、上記相違点（イ）、（ロ）について検討する。
相違点（イ）について
　引用例１の摘記事項（１ｂ）によれば、基材は、ＡｌまたはＡｌ基合金の他、Ｍｇ基合金やＦｅ基合金であるステンレス鋼等を用いてもよいことが記載されているから、引用例発明において、基材として、マグネシウムを含む合金（Ｍｇを含有するＡｌ基合金）材料に代えて、Ｍｇを含まないステンレス鋼等の合金材料も適用できることが理解できるし、部材が、表面側の溶射法で形成された酸化物セラミックス膜と、基材側のハロゲン化させて形成したマグネシウム濃化膜からなる耐ハロゲンガス皮膜を有することができるためには、酸化物セラミックス膜をマグネシウムを含む合金材料の表面に形成する必要があることは明らかである。そうすると、基材がＭｇを含まない合金材料からなる場合には、基材表面にマグネシウムを含む合金材料の膜を形成し、このマグネシウムを含む合金材料の膜の表面に、酸化物セラミックス膜を形成することは、当業者が容易に想到することであるところ、基材表面に合金皮膜及び酸化物セラミックス膜をともに溶射法で形成することは、例えば、次のとおり周知である。
　
　周知例１：特開平１０−１５４５９６号公報
　「【請求項１】・・・基板上に、金属アンダーコートと、その上に積層したＡｌ２Ｏ３−ＮｉＯセラミックスオーバーコートとからなる絶縁膜を有することを特徴とする静電チャック部材。」、
　「【請求項４】上記金属アンダーコートが、Ｎｉ,Ａｌ, Ｃｒ, Ｃｏ, Ｍｏ, ＷおよびＴａのうちから選ばれるいずれか１種の金属またはこれらの合金の溶射膜である請求項１・・・に記載の部材。」、
　「【請求項７】・・・基板上に積層被覆する金属アンダーコート、Ａｌ２Ｏ３−ＮｉＯセラミックスオーバーコート・・・のいずれもが、大気プラズマ溶射法もしくは減圧プラズマ溶射法またはこれらの溶射法の組合せによって施工されたものである請求項１・・・に記載の部材。」と記載されている。
　
　周知例２：特開平１０−２０４６０４号公報
　「【請求項６】　金属製部材・・の表面に・・・金属を溶射・・・し、さらにその上にに酸化物系セラミックス・・・を溶射・・・することを特徴とする薄膜形成装置用部材の製造方法。」と記載されている。
　
　周知例３：特開２００１−１６４３５４号公報
　「【請求項１】　基材の表面がY２Ｏ３溶射皮膜によって被覆されていることを特徴とする、プラズマ処理容器内部材。
【請求項２】　トップコートとして形成されるY２O３溶射皮膜下に、アンダーコートとして金属皮膜を有することを特徴とする、請求項１に記載のプラズマ処理容器内部材。」、
　「【請求項９】　基材の表面に・・・溶射法・・・を適用し、アンダーコートとして、Ｎｉ, Ｗ，ＭｏもしくはＴｉおよびそれらの合金からなる金属を被覆し、その上にトップコートとして、Y２O３を被覆することにより複合層を形成することを特徴とする、プラズマ処理容器内部材の製造方法。」と記載されている。
　
　そうであれば、引用例発明において、基材をマグネシウムを含む合金（Ｍｇを含有するＡｌ基合金）材料に代えて、マグネシウムを含まない合金材料からなるものし、基材表面に、マグネシウムを含む合金材料によって溶射法で形成された合金皮膜を有するものとするとともに、溶射法で形成された酸化物セラミックス膜を、この合金皮膜の表面に形成されたものとすることは、当業者にとって格別な創意を要することではない。
　してみると、相違点（イ）は、摘記事項（１ｂ）及び上記周知の事項から当業者が適宜なし得たことである。
　
相違点（ロ）について
　マグネシウム濃化膜は、酸化物セラミックス膜を形成した後、ハロゲンガス（フッ素系ガス）を含む雰囲気において加熱処理することにより、酸化物セラミックス膜との接合側の表面に形成されるのであるから（摘記事項（１ｃ）参照）、引用例発明が、相違点（イ）に係る本願発明１の特定事項を備えれば、当然、マグネシウム濃化膜は、合金皮膜及び酸化物セラミックス膜の形成後、合金皮膜における酸化物セラミックス膜との接合側の表面に形成されるものとなることは明らかである。
　そうであれば、上記「相違点（イ）について」で述べたとおり、引用例発明が相違点（イ）に係る本願発明１の特定事項を備える点は、摘記事項（１ｂ）及び上記周知の事項から当業者が容易に想到し得たのであるから、相違点（ロ）も同様に、摘記事項（１ｂ）及び上記周知の事項から当業者が容易に想到し得たものである。
　
　そして、本願発明１は、引用例１の記載や上記周知の事項から予測できないような格別に顕著な効果を奏するとは認められない。
　
　したがって、本願発明１は、引用例１に記載された発明及び上記周知の事項に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものである。
　
４．むすび
　以上のとおりであるから、本願発明１は、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　したがって、その余の発明について検討するまでもなく、本願は拒絶すべきものである。
　よって、結論のとおり審決する。