【事件の表示】
　特願２００４−１９８２３１「化学機械研磨用水系分散体および化学機械研磨方法」拒絶査定不服審判事件〔平成１７年　２月１７日出願公開、特開２００５−　４５２２９〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
第１　手続の経緯
　この出願は、平成１６年７月５日（優先権主張平成１５年７月４日）の特許出願であって、同１９年８月１４日付で拒絶の理由が通知され、同１９年１０月１９日に意見書及び手続補正書が提出されたが、同１９年１１月２６日付で拒絶をすべき旨の査定がされ、これに対し、同２０年１月４日に本件審判の請求がされ、同２０年２月４日に特許請求の範囲及び明細書を補正対象とする手続補正（以下「本件補正」という。）がされたものである。
　
第２　本件補正についての補正の却下の決定
［補正の却下の決定の結論］
　本件補正を却下する。
［理由］
１　補正の内容の概要
　本件補正は、明細書及び特許請求の範囲について補正をするものであって、補正前後の請求項１の記載は以下のとおりである。
(１)　補正前の請求項１
「砥粒である成分（Ａ）と、キノリンカルボン酸およびピリジンカルボン酸の少なくともいずれか一方よりなる成分（Ｂ）と、キノリンカルボン酸およびピリジンカルボン酸以外の有機酸よりなる成分（Ｃ）と、酸化剤よりなる成分（Ｄ）とを含有し、
　成分（Ｂ）の含有量（ＷＢ）と成分（Ｃ）の含有量（ＷＣ）との質量比（ＷＢ／ＷＣ）が０．３３以上かつ２未満であり、
　アンモニアおよびアンモニウムイオンよりなるアンモニア成分の濃度が０．００５モル／リットル以下であることを特徴とする化学機械研磨用水系分散体。」
(２)　補正後の請求項１
「砥粒である成分（Ａ）と、キノリンカルボン酸およびピリジンカルボン酸の少なくともいずれか一方よりなる成分（Ｂ）と、キノリンカルボン酸およびピリジンカルボン酸以外の有機酸よりなる成分（Ｃ）と、酸化剤よりなる成分（Ｄ）とを含有し、
　成分（Ｂ）の含有量（ＷＢ）と成分（Ｃ）の含有量（ＷＣ）との質量比（ＷＢ／ＷＣ）が０．３３以上かつ２未満であり、
　アンモニアおよびアンモニウムイオンよりなるアンモニア成分の濃度が０．００５モル／リットル以下である化学機械研磨用水系分散体であって、
　成分（Ｄ）の含有量が、該化学機械研磨用水系分散体全体に対して、０．００１〜０．７５質量％であることを特徴とする化学機械研磨用水系分散体。」
　
２　補正の適否　　　
　請求項１における補正は、成分（Ｄ）について、その含有量が、化学機械研磨用水系分散体全体に対して、０．００１〜０．７５質量％である旨の限定事項を付加するものであり、特許請求の範囲の減縮を目的とするものである。
　そこで、本件補正後の請求項１に記載された発明（以下「補正発明」という。）が特許出願の際独立して特許を受けることができるものであるか否かについて、以下検討する。
(１)　補正発明
　補正発明は、本件補正により補正がされた特許請求の範囲、明細書及び図面の記載からみて、上記１の(２)の補正後の請求項１に記載された事項により特定されるとおりのものと認める。
(２)　引用例記載事項
　原査定の拒絶理由に引用された、本願の優先日前に頒布された刊行物である特開２００２−１２１５４１号公報（以下「引用例」という。）には、以下のとおり記載されている。
ア　１欄２−９行
「【請求項１】砥粒、複素環化合物、有機酸および酸化剤を含有し、銅膜、バリアメタル膜および絶縁膜を同一条件により研磨した場合に、上記銅膜の研磨速度（ＲＣｕ）と上記バリアメタル膜の研磨速度（ＲＢＭ）との比（ＲＣｕ／ＲＢＭ）が０＜ＲＣｕ／ＲＢＭ≦５であり、上記絶縁膜の研磨速度（ＲＩｎ）と上記バリアメタル膜の研磨速度（ＲＢＭ）との比（ＲＩｎ／ＲＢＭ）が０＜ＲＩｎ／ＲＢＭ≦２であることを特徴とする化学機械研磨用水系分散体。」
イ　４欄２４−４７行
「【００１５】上記「砥粒」としては、
（１）無機粒子；シリカ、アルミナ、チタニア、ジルコニア、セリア等の粒子、（２）有機粒子；乳化重合法、懸濁重合法、乳化分散法、粉砕法等により製造される、・・・等の粒子、（３）無機粒子と有機粒子とからなる無機有機複合粒子、のうちの少なくとも１種を使用することができる。この砥粒としては、無機粒子が好ましく、シリカ粒子、特にコロイダルシリカの粒子がより好ましい。
【００１６】無機粒子としては高純度なものが好ましい。具体的には、・・・ヒュームド法、・・・ゾルゲル法、・・・無機コロイド法、等により合成されるシリカ、アルミナ、チタニア等からなる粒子が挙げられる。」
ウ　６欄１９−２９行
「【００２６】上記「複素環化合物」としては、（１）２−キノリンカルボン酸（キナルジン酸）等のキノリンカルボン酸、（２）７−ヒドロキシ−５−メチル−１，３，４−トリアザインドリジン等のインドリジン、（３）ベンゾトリアゾール、ベンゾチアゾールおよびベンゾチアジアゾール等の複素五員環を有する化合物、ならびに（４）ジアジン及びトリアジン等の複素六員環を有する化合物を使用することができる。また、これら各種の複素環化合物に、アミノ基、メルカプト基、炭素数１〜３の短鎖のアルキル基等が結合された誘導体を用いることもできる。」
エ　７欄１６−２３行
「【００３１】複素環化合物の含有量は、水系分散体を１００質量％とした場合に、０．０００１〜５質量％とすることができる。この含有量は、水系分散体（ａ）および（ｃ）では、特に０．００１〜１質量％、さらには０．０１〜０．５質量％とすることが好ましい。また、水系分散体（ｂ）では、特に０．００１〜０．５質量％、さらには０．０１〜０．０５質量％とすることが好ましい。」
オ　７欄３０−４５行
「【００３２】有機酸の種類は限定されず、一塩基酸、二塩基酸、ヒドロキシル酸およびカルボキシレート酸のように広範な種類の有機酸を使用することができる。有機酸のうちでは、１分子中に２個以上のカルボキシル基を有する有機酸が好ましい。この有機酸としては、（１）シュウ酸、マロン酸、コハク酸、グルタル酸およびアジピン酸等の飽和酸、（２）マレイン酸およびフマル酸等の不飽和酸、（３）フタル酸等の芳香族酸、ならびに（４）乳酸、リンゴ酸、酒石酸およびクエン酸等のヒドロキシル酸などが挙げられる。これらの有機酸のうちでは、マロン酸、コハク酸、マレイン酸、乳酸およびクエン酸が好ましい。
【００３３】有機酸の含有量は、水系分散体を１００質量％とした場合に、０．０１〜１０質量％とすることができ、特に０．１〜５質量％、さらには０．３〜３質量％とすることが好ましい。」
カ　８欄３−１９行
「【００３４】上記「酸化剤」としては、（１）過硫酸アンモニウム、過硫酸カリウム等の過硫酸塩、（２）過酸化水素、（３）硝酸、硫酸等の無機酸、（４）過酢酸、過安息香酸、ｔｅｒｔ−ブチルハイドロパーオキサイド等の有機過酸化物および（５）過マンガン酸カリウム等の過マンガン酸化合物、重クロム酸カリウム等の重クロム酸化合物などの多価金属塩等を使用することができる。この酸化剤としては、過酸化水素、過硫酸カリウム、過硫酸アンモニウム等の過硫酸塩及び硝酸、硫酸等の無機酸が特に好ましい。なお、過硫酸塩は、銅膜およびバリアメタル膜のいずれの研磨速度も向上させることができ、１段目の研磨における銅膜の研磨の程度によらず好適に使用することができる。
【００３５】酸化剤の含有量は、水系分散体を１００質量％とした場合に、０．０１〜１０質量％とすることができ、特に０．０５〜５重量％、さらには０．１〜３質量％とすることが好ましい。」
キ　表１乃至３
　実施例１乃至１３について、砥粒、複素環化合物、有機酸、酸化剤、界面活性剤の種類と配合量、ｐＨ、研磨速度及び研磨速度比が記載され、とくに実施例１３ではキナルジン酸が０．２５重量％、マレイン酸が１重量％、過酸化水素が１重量％のものが記載されている。
　上記摘記事項より、引用例には、次の事項が記載されていると認める。
　ヒュームドシリカと、キナルジン酸と、マレイン酸と、過酸化水素とを含有し、
　キナルジン酸の含有量とマレイン酸の含有量との質量比（キナルジン酸の含有量／マレイン酸の含有量）が０．２５であり、
　過酸化水素の含有量が、該化学機械研磨用水系分散体全体に対して、１質量％である化学機械研磨用水系分散体（以下「引用例記載の発明」という。）。
　また、引用例には、酸化剤の含有量は、化学機械研磨用水系分散体全体に対して、０．１〜３質量％とすることが好ましいことも、段落【００３５】に記載されている。
(３)　対比
　補正発明と引用例記載の発明とを対比すると、引用例記載の発明の「ヒュームドシリカ」は、補正発明の「砥粒である成分（Ａ）」に相当しており、以下同様に、「キナルジン酸」は「キノリンカルボン酸よりなる成分（Ｂ）」に、「マレイン酸」は「キノリンカルボン酸およびピリジンカルボン酸以外の有機酸よりなる成分（Ｃ）」に、「過酸化水素」は「酸化剤よりなる成分（Ｄ）」にそれぞれ相当していることが明らかであるので、両者は、次の「化学機械研磨用水系分散体」で一致している。
　砥粒である成分（Ａ）と、キノリンカルボン酸よりなる成分（Ｂ）と、キノリンカルボン酸およびピリジンカルボン酸以外の有機酸よりなる成分（Ｃ）と、酸化剤よりなる成分（Ｄ）とを含有する化学機械研磨用水系分散体。
　そして、両者は、次の点で相違している。
ア　相違点１
　補正発明では、成分（Ｂ）の含有量（ＷＢ）と成分（Ｃ）の含有量（ＷＣ）との質量比（ＷＢ／ＷＣ）が、０．３３以上かつ２未満であり、化学機械研磨用水系分散体全体に対する成分（Ｄ）の含有量が、０．００１〜０．７５質量％であるのに対し、引用例記載の発明では、上記質量比（ＷＢ／ＷＣ）が、０．２５であり、上記成分（Ｄ）の含有量が、１質量％である点。
イ　相違点２
　補正発明では、アンモニアおよびアンモニウムイオンよりなるアンモニア成分の濃度が０．００５モル／リットル以下であるのに対し、引用例記載の発明では、そのようなものであるのか不明である点。
(４)　相違点の検討
　そこで、上記各相違点について、以下検討する。
ア　相違点１について
　補正発明の成分（Ｂ）の含有量（ＷＢ）と成分（Ｃ）の含有量（ＷＣ）との質量比（ＷＢ／ＷＣ）及び化学機械研磨用水系分散体全体に対する成分（Ｄ）の含有量の数値限定の意義について検討すると、この出願の明細書の表１及び２に記載された上記質量比（ＷＢ／ＷＣ）と上記成分（Ｄ）の含有量とを組合せた実施例１（１．６７（質量比）、０．３（含有量））、実施例２（０．３３、０．３）、実施例３（０．６７、０．３）、実施例４（１．０、０．５）、参考例１（０．１０、０．３）、参考例２（０．１０、０．１）、参考例３（０．３３、１．５）、参考例４（１．０、１．０）及び比較例１（２．５、１．０）の化学機械研磨用水系分散体の研磨性能テスト結果をみても、上記質量比（ＷＢ／ＷＣ）が０．３３以上かつ２未満であり、上記成分（Ｄ）の含有量が０．００１〜０．７５質量％である点に臨界的意義を見いだすことはできない。また、上記質量比（ＷＢ／ＷＣ）が１．０であり、上記成分（Ｄ）の含有量が１．０質量％である特定水系分散体（７）の参考例４において、良い結果が得られていることからも、上記成分（Ｄ）の含有量の上限である０．７５質量％に臨界的意義を見いだすことはできない。
　また、化学機械研磨用水系分散体について、スクラッチの発生が少ないものとすることは、例えば特開２００１−２００８７号公報に記載されているように、自明の課題であるので、引用例記載の発明において、研磨時間が短く、ディッシングの発生が少なくなるとともにスクラッチの発生が少なくなるように、上記質量比（ＷＢ／ＷＣ）及び上記成分（Ｄ）の含有量の数値範囲を最適化又は好適化することは、当業者が適宜なし得る事項である。
　さらに、拒絶査定の備考欄に記載した特開２００２−１１０５９７号公報、とくに段落【０００４】に、化学機械研磨用水系分散体におけるキノリンカルビン酸とその他の有機酸との質量比について、１：０．０５〜２であること、言い換えると、（キノリンカルビン酸の含有量／その他の有機酸の含有量）を０．５〜２０とすることが記載されており、また、上記引用例には、酸化剤の含有量を化学機械研磨用水系分散体全体に対して、０．１〜３質量％とすることが好ましいことも記載されており、補正発明の質量比（ＷＢ／ＷＣ）及び成分（Ｄ）の含有量の数値範囲と重複する数値範囲のものとすることが示されている。
　したがって、引用例記載の発明において、上記質量比（ＷＢ／ＷＣ）を０．３３以上かつ２未満の数値範囲内のものに限定し、且つ、上記成分（Ｄ）の含有量を０．００１〜０．７５質量％の数値範囲内のものに限定することは、当業者の通常の創作能力の発揮である。
イ　相違点２について
　補正発明のアンモニアおよびアンモニウムイオンよりなるアンモニア成分の濃度の数値限定の意義について検討すると、この出願の明細書の表１及び２に記載の研磨性能テスト結果をみても、上記アンモニア成分の濃度が０．００５モル／リットル以下である点に臨界的意義を見いだすことはできない。
　また、上記アンモニア成分の濃度についても最適化又は好適化することは、当業者が適宜なし得る事項である。
　したがって、引用例記載の発明において、アンモニアおよびアンモニウムイオンよりなるアンモニア成分の濃度を０．００５モル／リットル以下の数値範囲内のものに限定することに格別の困難性はない。
ウ　作用効果について
　補正発明が奏する作用効果についても、引用例記載の発明から当業者が予測できる程度のものであって格別のものではない。
　したがって、補正発明は、引用例記載の発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許出願の際独立して特許を受けることができないものである。
　
３　むすび
　以上のとおりであるので、本件補正は、平成１８年法律第５５号改正附則第３条第１項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項の規定に違反するので、同法第１５９条第１項において読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定により却下すべきものである。
　
第３　本願発明について 
１　本願発明
　本件補正は、上記のとおり却下されたので、この出願の請求項１乃至２１に係る発明は、平成１９年１０月１９日付手続補正書により補正された特許請求の範囲、明細書及び図面の記載からみて、その特許請求の範囲の請求項１乃至２１に記載された事項により特定されるとおりのものであると認めるところ、請求項１に係る発明（以下「本願発明」という。）は、上記第２の１の(１)の補正前の請求項１に示したとおりである。
　
２　引用例記載事項
　これに対して、原査定の拒絶の理由に引用された刊行物は、上記引用例であり、その記載事項は、上記第２の２の(２)に示したとおりである。
　
３　対比・判断
　本願発明は、上記第２の２で述べたとおり、補正発明の発明特定事項から、上記限定事項が省かれたものである。
　そうすると、上記第２の２の(４)で検討したとおり、補正発明は、引用例記載の発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、補正発明の発明特定事項から上記限定事項が省かれた本願発明についても、同様の理由により、引用例記載の発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものである。
　
４　むすび
　以上のとおり、本願発明は、引用例記載の発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　したがって、この出願の請求項２乃至２１に係る発明について判断するまでもなく、この出願は拒絶すべきものである。
　よって、結論のとおり審決する。