(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持体上に複数の有色フィルター要素を有するカラーフィルターであって、該有色フィルター要素の各々は400 〜700 ｎｍの波長範囲の予め定められた色を具備する、有機溶剤及びアルカリ現像液に可溶な色素、下式で示される基を有する架橋剤及びアルカリ可溶性樹脂を含むポジ型レジスト材料により形成され、該レジスト材料の厚みは３μｍ以下であり、且つ上記レジスト材料における吸光特性を予め定められた色の波長範囲に対応する光の透過率の最小値で表現したときにその値が25％以下である、カラーフィルター。
−（ＣＨ2 ）S −ＯＲ0 
（式中、Ｒ0 は水素原子又は低級アルキル基を、ｓは１〜４の整数を、各々表わす。）
【請求項２】
レジスト材料の厚みが２μｍ以下であり、且つ、上記レジスト材料における吸光特性を予め定められた色の波長範囲に対応する光の透過率の最小値で表現したときにその値が20％以下である、請求項１に記載のカラーフィルター。
【請求項３】
レジスト材料が、
ａ）400 〜700 ｎｍの波長範囲の予め定められた色を具備する色素、アルカリ可溶性樹脂及び有機溶剤を含むレジスト組成物のコーティングを乾燥させて付着層を形成する工程、
ｂ）上記付着層の予め定められた部分を照射線に露光する工程、
ｃ）露光した領域又は非露光領域をアルカリ現像してレジストパターンを形成する工程、並びに
ｄ）異なる色の上記レジスト組成物について、工程ａ）〜ｃ）を繰り返す工程
により得られるものである、請求項１又は２に記載のカラーフィルター。
【請求項４】
400 〜700 ｎｍの波長範囲の予め定められた色を具備する色素が一般式（Ｉ）
Ｂ−Ａ−Ｍ      （Ｉ）
〔式中、Ｍは下式
【化１】
0003575045.tif 000024
（式中、Ｒ1 〜Ｒ 3は少なくとも１つが−ＳＯ2 −ＮＨ−Ｒであるという条件つきで、各々独立して水素原子、ハロゲン原子、−ＳＯ 3Ｍ′又は−ＳＯ2 −ＮＨ−Ｒを表わし、Ｍ′は水素原子、アルカリ金属原子又は４級アルキルアンモニウム塩を表わし、Ｒは置換されていてもよいアルキル、シクロヘキシルアルキル、アルキルカルボニルアミノアルキル、アルコキシ、アルコキシアルキル、アリール、アラルキルもしくはシクロアルキル基を表わす。）
で示される基を、Ａは下式
【化２】
0003575045.tif 000025
（式中、Ｒ4 〜Ｒ12は水素原子、メチル基、ハロゲン原子、−ＳＯ 3Ｍ′又は−ＳＯ2 −ＮＨ−Ｒを表わす。）
で示される架橋基を、ＢはＭ或いは下式
【化３】
0003575045.tif 000026
で示される基を、それぞれ表わす。〕で示される色素、一般式（II）
【化４】
0003575045.tif 000027
〔式中、Ｒ13〜Ｒ16は各々独立して水素原子、置換されていてもよいアルキルもしくはアリール基を表わす。Ｒ17〜Ｒ19は少なくとも１つが−ＳＯ2 −ＮＨ−Ｒであるという条件付きで、各々独立して水素原子、置換されていてもよいアルキルもしくはアリール基、−ＳＯ 3Ｍ′又は−ＳＯ2 −ＮＨ−Ｒを表わす。Ｍ′及びＲはそれぞれ上記と同じ意味を有する。〕
で示される色素、並びに一般式（III)
【化５】
0003575045.tif 000028
〔式中、Ｐｃはフタロシアニン核を表わし、ｈ及びｉは各々ＳＯ 3Ｍ′及びＳＯ2 −ＮＨ−Ｒの平均置換数を表わし、Ｍ′及びＲは各々前記と同じ意味を表わす。但し、ｈ及びｉは各々、ｈ＋ｉ≦４であり、ｈ≦３であり、且つｉ＝１〜４を満足するものとする。〕
で示される色素である、請求項１に記載のカラーフィルター。
【請求項５】
レジスト組成物中の色素量がキノンジアジド化合物量に対して、重量比で１：１以上である請求項８に記載のカラーフィルター。
【請求項６】
レジスト組成物中のアルカリ可溶性樹脂がノボラック樹脂を含み、且つ、該アルカリ可溶性樹脂量が色素量に対して、重量比で1.5 ：１以下である請求項８又は９に記載のカラーフィルター。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】
本発明は固体撮像素子及び気体センサー等の有色化に用いられるカラーフィルターに関する。
【０００２】
【従来の技術】
カラーフィルターはCCD 及びLCD 等に用いられ、色素としては３原色系及び３補色系のものを組み合わせて用いられている。
カラーフィルターの製造法としては染色法、電着法、印刷法及びレジスト法等が用いられている。例えばゼラチンを材料とするフィルターの染色では、染色むら或いは材料の膨潤、ひび割れ等の問題点がある。又、電着法及び印刷法では濃色のカラーフィルターを得る場合、カラーフィルターの厚みを大きくしなければならないという問題点がある。一方、レジスト法ではカラーフィルターの厚みを小さくすることは一般的に可能であるが、濃色のカラーフィルターを得ることが難しいという問題点がある。
このように、従来のカラーフィルターはその製造法に係わらず、何らかの問題点を有していた。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は上記問題点を解決して、解像度、色調、色再現性及び色濃度等の諸性能に優れ、且つ厚みが小さいカラーフィルターを提供する。
【０００４】
【課題を解決するための手段】
本発明は、支持体上に複数の有色フィルター要素を有するカラーフィルターであって、該有色フィルター要素の各々は400 〜700 ｎｍの波長範囲の予め定められた色を具備する色素及びアルカリ可溶性樹脂を含むレジスト材料により形成され、該レジスト材料の厚みは３μｍ以下であり、且つ、上記レジスト材料における吸光特性を予め定められた色の波長範囲に対応する光の透過率の最小値で表現したときにその値が25％以下のカラーフィルターである。カラーフィルターとしては、レジスト材料の厚みが２μｍ（より好ましくは１μｍ）以下であり、且つ上記最小値が20％以下であるものが好ましい。透過率は、例えば石英ガラス上に形成された有色フィルター要素の各々を、色素に応じた波長範囲で分光光度計を用いて測定できる。
【０００５】
本発明のカラーフィルターは上記の条件を満足していればよく、その製造法は特に限定されないが、通常はレジスト法により製造される。より好ましいカラーフィルターとしては、レジスト材料が、
ａ）400 〜700 ｎｍの波長範囲の予め定められた色を具備する色素、アルカリ可溶性樹脂及び有機溶剤を含むレジスト組成物のコーティングを乾燥させて付着層を形成する工程、
ｂ）上記付着層の予め定められた部分を照射線に露光する工程、
ｃ）露光した領域又は非露光領域をアルカリ現像してレジストパターンを形成する工程、並びに
ｄ）異なる色の上記レジスト組成物について、工程ａ）〜ｃ）を繰り返す工程
により得られるものが挙げられる。
さらに好ましいカラーフィルターとしては、レジストパターンが架橋により硬化されたものが挙げられる。このようなレジストパターンを得るためには、400 〜700 ｎｍの波長範囲の予め定められた色を具備する色素、アルカリ可溶性樹脂及び有機溶剤に加えて、さらに、下式
−（ＣＨ2 ）S −ＯＲ0
（式中、Ｒ0 は水素原子又は低級アルキル基を、ｓは１〜４の整数を、各々表わす。）
で示される基を有する架橋剤を含むレジスト組成物が用いられる。
レジスト材料は、色素、アルカリ可溶性樹脂、架橋剤及び有機溶剤等を含むレジスト組成物をフィルターで濾過後、通常、前記ａ）〜ｄ）の工程を経て得られる。フィルターの孔径は0.2 μｍ以下であることが好ましく、0.1 μｍ以下であることがより好ましい。
【０００６】
アルカリ可溶性樹脂としては、例えばノボラック樹脂、ポリイミド前駆体、スチレンと無水マレイン酸との共重合体、ビニルフェノールとスチレンとの共重合体やｐ−ヒドロキシスチレンとｐ−アセトキシメチルスチレンとの共重合体等のビニルフェノール共重合体、或いはポリビニルフェノール等が挙げられる。ノボラック樹脂としては半導体用等のポジ型レジスト組成物に用いられる樹脂、例えばフェノール類とアルデヒド類とを酸触媒の存在下に縮合して得られる公知の樹脂が挙げられる。フェノール類としては上記公知樹脂の縮合に用いられるものであれば特に制限されないが、例えばフェノール、クレゾール、エチルフェノール、ブチルフェノール、キシレノール、フェニルフェノール、カテコール、レゾルシノール、ピロガロール、ナフトール、ビスフェノールＣもしくはビスフェノールＡ等が挙げられる。これらのフェノール類は単独で、又は２種以上混合して用いられる。アルデヒド類としては、例えばホルムアルデヒド、パラホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、プロピオンアルデヒドもしくはベンズアルデヒド等の脂肪族又は芳香族アルデヒドが挙げられる。
ノボラック樹脂等のアルカリ可溶性樹脂は、例えば分別等の手段を用いて分子量分布を調節してもよい。又、ビスフェノールＣもしくはビスフェノールＡ等のポリフェノールをアルカリ可溶性樹脂に添加してもよい。
【０００７】
有機溶剤としては、例えばジオキサン、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン、γ−ブチロラクトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、酢酸エチル、酢酸ｎ−ブチル、酢酸プロピレングリコールモノエチルエーテル、酢酸プロピレングリコールモノメチルエーテル、乳酸メチル、ピルビン酸エチルもしくはジメチルスルホキシド等が挙げられる。これらの溶剤は単独で、或いは２種以上組み合わせて用いられる。
【０００８】
レジスト材料を得るための組成物にはポジ型が有り、前記のアルカリ可溶性樹脂、有機溶剤及び色素以外に、溶解抑制剤としてキノンジアジド化合物を含む。又、架橋剤を含み、さらに酸発生剤を含んでいてもよい。ポジ型レジストは露光によりアルカリ現像液に対する溶解度に差が生ずることを利用して、露光部が除去され、非露光部がポジ型レジストパターンとして残存する。即ち、上記キノンジアジド化合物は露光により分解してアルカリ現像液に可溶になるが、一方、非露光部ではアルカリ可溶性樹脂のアルカリ現像液に対する溶解度を抑制するように作用する。そして、架橋剤はポジ型レジストパターンを加熱した際にパターンを硬化させる作用を有し、又、酸発生剤はポジ型レジストパターンを全面露光した際に、分解して酸を発生し、パターンを硬化させる作用を有する。
【０００９】
キノンジアジド化合物としては、例えばｏ−ベンゾキノンジアジドスルホン酸エステル又はスルホン酸アミド、ｏ−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸エステル又はスルホン酸アミド、及びｏ−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エステル又はスルホン酸アミド等が挙げられる。これらのエステル又はアミドは、例えば半導体用等のポジ型レジスト組成物に用いられており、公知である。
【００１０】
式
−（ＣＨ2 ）S −ＯＲ0
（式中、Ｒ0 及びｓは前記と同じ意味を表わす。）
で示される基を有する架橋剤としては、例えば下式
【００１１】
【化６】
0003575045.tif 000002
【００１２】
〔式中、Ｚは−ＮＲ1'Ｒ2'又はフェニル基を表わす。Ｒ1'〜Ｒ6'は各々水素原子、−（ＣＨ2 ）S ＯＨ又は−（ＣＨ2 ）S ＯＲ0 を表わすが、Ｒ1'〜Ｒ6'の中少なくとも１つは−（ＣＨ2 ）S ＯＨ又は−（ＣＨ2 ）S ＯＲ0 を表わすものとする。Ｒ0 は低級アルキル基を表わす。ｓは１〜４の整数を表わす。〕
で示される化合物、或いは下式
【００１３】
【化７】
0003575045.tif 000003
【００１４】
で示される化合物等が挙げられる。
好ましい−（ＣＨ2 ）S ＯＲ0 で示される基を有する架橋剤としては、例えばヘキサメチロールメラミンのヘキサメチルエーテル、ヘキサエチルエーテル又はヘキサプロピルエーテル等が挙げられる。
【００１５】
酸発生剤としては紫外線、遠紫外線、電子線及びＸ線等の照射線により直接もしくは間接的に酸を発生するものであれば特に限定されないが、例えば特開平４−163552号公報に記載されているトリハロメチルトリアジン系化合物、特開平１−57777 号公報に記載されているジスルホン化合物、下式
Ｚ8 −ＳＯ2 −ＳＯ2 −Ｚ9 −ＳＯ2 −ＳＯ2 −Ｚ10
（式中、Ｚ8 及びＺ10は各々独立して置換されていてもよいアリール、アラルキル、アルキル、シクロアルキル又は複素環基を表わし、Ｚ9 は置換されていてもよいアリール基を表わす。）
で示される化合物、特開平１−293339号公報に記載されているスルホン酸エステル基を含む酸発生剤、下式
ＣＦ3 −ＳＯ2 Ｏ−（ＣＨ2 ）p −Ｚ11
（式中、Ｚ11は置換されていてもよいアリール基をｐは０又は１を表わす。）
で示される化合物、下式
ＣＦ3 −ＳＯ2 Ｏ−〔Ｃ（Ｚ12）（Ｚ13）〕q −Ｃ（Ｏ）−Ｚ14
（式中、Ｚ12及びＺ13は各々独立して置換されていてもよいアルキル、アルコキシもしくはアリール基を、Ｚ14は置換されていてもよいアリール基を、ｑは１又は２を、各々表わす。）
で示される化合物、下式
ＣＦ3 −ＳＯ2 Ｏ−Ｎ（Ｚ15）−Ｃ（Ｏ）−Ｚ16
（式中、Ｚ15は置換されていてもよいアルキル基を、Ｚ16は置換されていてもよいアリール基を、各々表わす。）
で示される化合物、下式
ＣＦ3 −ＳＯ2 Ｏ−Ｎ＝Ｃ（Ｚ17）（Ｚ18）
（式中、Ｚ17は水素原子又は置換されていてもよいアルキルもしくはアリール基を、Ｚ18は置換されていてもよいアリール基を、各々表わす。）
で示される化合物等が挙げられる。
これら酸発生剤の具体例としては、下式
【００１６】
【化８】
0003575045.tif 000004
【００１７】
〔式中、Ｙ3 〜Ｙ5 は各々独立して置換されていてもよいアルキル、アルケニル、アリール、アラルキルもしくはピペリジノ基、又は−Ｎ（Ｙ6 ）（Ｙ7 ）、−ＯＹ8 もしくは−ＳＹ9 を表わすが、少なくとも１つはモノ−、ジ−もしくはトリ−ハロゲン置換アルキル基を表わすものとする。Ｙ6 〜Ｙ9 は各々独立して水素原子、又は置換されていてもよいアルキルもしくはアリール基を表わす。〕
で示されるトリアジン系化合物、下式
【００１８】
【化９】
0003575045.tif 000005
【００１９】
〔式中、Ｙ1 及びＹ2 は各々独立して水素原子又は低級アルキル基を表わす。〕
で示されるアセトフェノン誘導体、下式
【００２０】
【化１０】
0003575045.tif 000006
【００２１】
〔式中、Ａ1 及びＡ2 は各々独立して水素もしくはハロゲン原子又は低級アルキルもしくは低級アルコキシ基を表わす。〕
で示されるジスルホン化合物、下式
【００２２】
【化１１】
0003575045.tif 000007
【００２３】
等で示されるスルホン酸誘導体、下式
【００２４】
【化１２】
0003575045.tif 000008
【００２５】
等で示されるオニウム塩等が挙げられる。
【００２６】
400 〜700 ｎｍの波長範囲の予め定められた色を具備する色素としては、好ましくは有機溶剤及びアルカリ現像液に可溶である３原色系並びに３補色系色素が挙げられる。このような色素としては、シアン、マゼンタ、イエロー、赤、青及び緑色を呈する色素の骨格に、置換基として水素原子が１個置換されたスルホンアミド基を有するものが好ましい。色素の骨格としては、例えばクマリン、スチリル、アゾ、アントラキノン、キサンテニウム及びフタロシアニン系等が挙げられる。
【００２７】
好ましいイエロー色素としては、例えば一般式（Ｉ）
Ｂ−Ａ−Ｍ        （Ｉ）
〔式中、Ｍは下式
【００２８】
【化１３】
0003575045.tif 000009
【００２９】
（式中、Ｒ1 〜Ｒ3 は少なくとも１つが−ＳＯ2 −ＮＨ−Ｒであるという条件つきで、各々独立して水素原子、ハロゲン原子、−ＳＯ3 Ｍ′又は−ＳＯ2 −ＮＨ−Ｒを表わし、Ｍ′は水素原子、アルカリ金属原子又は４級アルキルアンモニウム塩（好ましくは水素原子）を表わし、Ｒは置換されていてもよいアルキル、シクロヘキシルアルキル、アルキルカルボニルアミノアルキル、アルコキシ、アルコキシアルキル、アリール、アラルキルもしくはシクロアルキル基を表わす。）
で示される基を、Ａは下式
【００３０】
【化１４】
0003575045.tif 000010
【００３１】
（式中、Ｒ4 〜Ｒ12は水素原子、メチル基、ハロゲン原子、−ＳＯ3 Ｍ′又は−ＳＯ2 −ＮＨ−Ｒを表わす。）
で示される架橋基を、ＢはＭ或いは下式
【００３２】
【化１５】
0003575045.tif 000011
【００３３】
で示される基を、それぞれ表わす。〕で示される色素等が挙げられる。
好ましいマゼンタ色素としては、例えば一般式（II）
【００３４】
【化１６】
0003575045.tif 000012
【００３５】
〔式中、Ｒ13〜Ｒ16は各々独立して水素原子、置換されていてもよいアルキルもしくはアリール基を表わす。Ｒ17〜Ｒ19は少なくとも１つが−ＳＯ2 −ＮＨ−Ｒであるという条件つきで、各々独立して水素原子、置換されていてもよいアルキルもしくはアリール基、−ＳＯ3 Ｍ′又は−ＳＯ2 −ＮＨ−Ｒを表わす。Ｍ′及びＲはそれぞれ上記と同じ意味を有する。〕で示される色素等が挙げられる。
好ましいシアン色素としては、例えば一般式（III)
【００３６】
【化１７】
0003575045.tif 000013
【００３７】
〔式中、Ｐｃはフタロシアニン核を表わし、ｈ及びｉは各々−ＳＯ3 Ｍ′及び−ＳＯ2 −ＮＨ−Ｒの平均置換数を表わし、Ｍ′及びＲは各々前記と同じ意味を表わす。但し、ｈ及びｉは各々、ｈ＋ｉ≦４であり、ｈ≦３であり、且つｉ＝１〜４を満足するものとする。〕で示される色素等が挙げられる。
【００３８】
一般式（Ｉ）で示される色素としては、例えば
【００３９】
【化１８】
0003575045.tif 000014
【００４０】
【化１９】
0003575045.tif 000015
【００４１】
等が挙げられる。
一般式（II）で示される色素としては、例えば
【００４２】
【化２０】
0003575045.tif 000016
【００４３】
【化２１】
0003575045.tif 000017
【００４４】
等が挙げられる。上記例示において、Ｘ、Ｙ及びＺ′はそれらの中、少なくとも１つが−ＳＯ2 −ＮＨ−Ｒであるという条件つきで各々−ＳＯ2 −ＮＨ−Ｒ又は−ＳＯ3 Ｍ′を表わす。Ｒ及びＭ′は上記と同じ意味を有する。
本発明で用いられる色素は、例えばスルホン酸基を有する色素を常法によりクロル化して相当するスルホニルクロリドを得、これを対応する１級アミン等と反応させて製造することができる。或いは、本発明で用いられる色素の前駆体をクロル化して相当するスルホニルクロリドを得、これを対応する１級アミン等と反応させた後、目的とする色素を製造しても良い。スルホン酸基を有する色素としては、例えばカラーインデックス記載のC.I. Acid  Colour 又はDirect Colour 等から選択されるものが挙げられる。
好ましいポジ型レジスト組成物は色素、アルカリ可溶性樹脂、キノンジアジド化合物及び有機溶剤に加えてさらに架橋剤を含む。色素の使用量は通常、キノンジアジド化合物１００重量部に対して１〜３００重量部である。好ましくは、色素使用量はキノンジアジド化合物と同量以上である。
【００４５】
アルカリ可溶性樹脂がノボラック樹脂を含む場合、アルカリ可溶性樹脂のより好ましい使用量は色素量に対して重量比で1.5 倍量以下である。
架橋剤及び光酸発生剤の使用量は適宜設定される。
【００４６】
【発明の効果】
本発明のカラーフィルターは解像度、色調、色再現性及び色濃度等の諸性能に優れ、且つ厚みが小さい。
【００４７】
【実施例】
次に、実施例により本発明を更に具体的に説明する。実施例中、部は重量部を表わす。尚、以下の実施例における共通の条件は次のとおりである。
カラーフィルターを製造する際、アクリル系樹脂をコーティングしたCCD （支持体）に色素、アルカリ可溶性樹脂及び有機溶剤等を含むレジスト組成物をスピンコートし、加熱により溶剤を蒸発させた後、マスクを通して露光を行い現像して帯状パターン又はモザイクパターンを得た〔露光は日立製作所（株）製ｉ線露光ステッパーHITACHI LD-5010-i(NA＝0.40）又はニコン社製ｉ線露光ステッパーNIKON NSR （NA＝0.50）により行った。又、現像液は住友化学工業（株）製SOPD又は３％テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド水溶液を用いた〕。
さらに、パターンを全面露光後、加熱（180 ℃、20分）してカラーフィルターを得た。
【００４８】
参考例１
下式
【００４９】
【化２２】
0003575045.tif 000018
【００５０】
で示される酸性染料〔住友化学工業（株）製のSuminol Milling Yellow MR 〕２０ｇ、塩化チオニル１００ml及びジメチルホルムアミド１５ｇの混合物を還流下に３０分反応後、得られた反応混合物を氷水中に注いだ。有機溶剤で抽出し、水洗、乾燥後、濃縮して対応するスルホニルクロリドを得た。これをテトラヒドロフラン中で３−（２−エチルヘキシルオキシ）プロピルアミンとモル比１：２で反応させてスルホンアミド化合物を得た。
【００５１】
参考例２
下式
【００５２】
【化２３】
0003575045.tif 000019
【００５３】
で示される染料を用いる以外は、参考例１と同様にしてスルホニルクロリドを得た。これをテトラヒドロフラン中で３−（２−エチルヘキシルオキシ）プロピルアミンとモル比１：１で反応させてスルホンアミド化合物を得た。
【００５４】
参考例３及び４
ヘキサエトキシメチロール化メラミン0.２部、ｍ−クレゾール／ｐ−クレゾール／ホルマリン（反応モル比＝５／５／7.５）混合物から得られたクレゾールノボラック樹脂１部、下式
【００５５】
【化２４】
0003575045.tif 000020
【００５６】
で示されるフェノール化合物のｏ−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エステル（平均２個の水酸基がエステル化されている）0.７部、参考例１で得たスルホンアミド化合物1.０部、ジメチルホルムアミド３部及び乳酸エチル６部を混合後、孔径0.２μｍのメンブランフィルターを用いて加圧濾過してポジ型レジスト組成物を調製した。又、スルホンアミド化合物を参考例２で得た化合物に代える以外は上記と同様にして、ポジ型レジスト組成物を調製した。
【００５７】
参考例５
スルホンアミド化合物を田岡化学（株）製オレオゾールファストブルーRL（銅フタロシアニン骨格を有する）に代える以外は、参考例３と同様にしてポジ型レジスト組成物を調製した。
【００５８】
実施例１
前記支持体（ＣＣＤ）上に参考例３〜５で得たレジスト組成物を順番にパターニングしてカラーフィルターを得た。このカラーフィルターは、解像度、色調、色再現性及び色濃度（３種の色素の波長範囲における、光の最小透過率が各々25％以下）等の諸性能に優れ、且つ各レジスト材料の厚みが１μｍ以下であった。
【００５９】
実施例２
スルホンアミド化合物を、各々、下式
【００６０】
【化２５】
0003575045.tif 000021
【００６１】
で示される化合物に変える以外は、各々、参考例３及び４と同様にしてポジ型レジスト組成物を調製した。これらのレジスト組成物及び参考例５で得たレジスト組成物を用いて、実施例１と同様にカラーフィルターを得た。このカラーフィルターは、解像度、色調、色再現性及び色濃度（３種の色素の波長範囲における、光の最小透過率が各々25％以下）等の諸性能に優れ、且つ各レジスト材料の厚みが１μｍ以下であった。
【００６２】
参考例６
３−（２−エチルヘキシルオキシ）プロピルアミンを、１，５−ジメチル−ヘプチルアミンに変える以外は、参考例１と同様にしてスルホンアミド化合物を得た。
【００６３】
参考例７
参考例６で得たスルホンアミド化合物0.7 部、参考例３で用いたクレゾールノボラック樹脂１部、下式
【００６４】
【化２６】
0003575045.tif 000022
【００６５】
で示されるフェノール化合物を用いて製造されたｏ−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エステル（平均２個の水酸基がエステル化されている）0.7 部、ヘキサメトキシメチロール化メラミン0.3 部及び乳酸エチル9.5 部を混合し、参考例３と同様にしてポジ型レジスト組成物を得た。
【００６６】
参考例８
参考例３で用いたクレゾールノボラック樹脂１部に代えて、下式
【００６７】
【化２７】
0003575045.tif 000023
【００６８】
で示される化合物とホルムアルデヒドとの混合物（モル比＝0.95／１）から得られたノボラック樹脂0.3 部及びマルカリンカーCST-70〔丸善石油製のスチレン−ビニルフェノール共重合体〕0.7 部の混合樹脂を用いる以外は、参考例７と同様にしてポジ型レジスト組成物を得た。
【００６９】
実施例３及び４
参考例３で得たポジ型レジスト組成物に代えて各々参考例７及び８で得たポジ型レジスト組成物を用いる以外は、実施例１と同様にして得たカラーフィルターは、各々、解像度、色調、色再現性及び色濃度（３種の色素の波長範囲における、光の最小透過率が各々25％以下）等の諸性能に優れ、且つ各レジスト材料の厚みが１μｍ以下であった。