【手続補正書】
【提出日】平成26年11月13日(2014.11.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
試料を載置する、連続移動可能なステージと、
荷電粒子ビームを放出する放出部と、
複数の開口部を有し、前記複数の開口部全体が含まれる第１の領域に前記荷電粒子ビームの照射を受け、前記複数の開口部を前記荷電粒子ビームの一部がそれぞれ通過することにより、マルチビームを形成するアパーチャ部材と、
前記アパーチャ部材の複数の開口部を通過したマルチビームのうち、それぞれ対応するビームのブランキング偏向を行う複数のブランカーと、
前記複数のブランカーによってビームＯＦＦの状態になるように偏向された各ビームを遮蔽するブランキングアパーチャ部材と、
前記アパーチャ部材の複数の開口部を通過したマルチビームのうち、不良ビームを検出する検出部と、
前記アパーチャ部材の複数の開口部のうち、前記不良ビームを通過させる開口部を除く残りの開口部のうち、より多くの開口部が含まれるように第２の領域を設定する設定部と、
前記第２の領域内の開口部を通過したマルチビームを用いて試料にパターンを描画する第１のモードと、前記不良ビームがビームＯＦＦに制御された状態で残りのマルチビームのうちの少なくとも１つを用いて、位置をずらしながら多重描画を行い、さらに、前記不良ビームによって描画されるはずであった位置について、追加描画を行う第２のモードと、を選択する選択部と、
選択されたモードで描画するように描画処理を制御する描画処理制御部と、
を備えたことを特徴とするマルチ荷電粒子ビーム描画装置。
【請求項２】
前記第１のモードで描画した場合の描画速度の効率を算出する第１の効率算出部をさらに備えたことを特徴とする請求項１記載のマルチ荷電粒子ビーム描画装置。
【請求項３】
前記第２のモードで描画した場合の描画速度の効率を算出する第２の効率算出部をさらに備えたことを特徴とする請求項２記載のマルチ荷電粒子ビーム描画装置。
【請求項４】
前記第１のモードでの描画速度の効率と第２のモードでの描画速度の効率との中から描画速度の効率がより良いモードを判定する判定部をさらに備えたことを特徴とする請求項３記載のマルチ荷電粒子ビーム描画装置。
【請求項５】
前記第１のモードは、前記アパーチャ部材の複数の開口部が形成された面と平行な第１の方向に向かって前記複数の開口部を分割することによって前記第２の領域を設定する第３のモードと、前記アパーチャ部材の複数の開口部が形成された面と平行であって、前記第１の方向と直交する第２の方向に向かって前記複数の開口部を分割することによって前記第２の領域を設定する第４のモードと、を有し、
前記第１の効率算出部は、
前記第３のモードで描画した場合の描画速度の効率を算出する第３の効率算出部と、
前記第４のモードで描画した場合の描画速度の効率を算出する第４の効率算出部と、
を有し、
前記判定部は、前記第１のモードでの描画速度の効率として、前記第３のモードでの描画速度の効率と前記第４のモードでの描画速度の効率とを判定対象とすることを特徴とする請求項４記載のマルチ荷電粒子ビーム描画装置。
【請求項６】
前記第２の効率算出部は、多重描画を行う多重度値を、前記多重度値＋１の値で割ることによって、前記第２のモードで描画した場合の描画速度の効率を算出することを特徴とする請求項３記載のマルチ荷電粒子ビーム描画装置。
【請求項７】
前記第３の効率算出部は、前記第２の領域に含まれる第１の方向の開口部を通過するビーム本数を、前記アパーチャ部材の複数の開口部のうちの第１の方向の全開口部を通過するビーム本数で割ることによって、前記第３のモードで描画した場合の描画速度の効率を算出することを特徴とする請求項５記載のマルチ荷電粒子ビーム描画装置。
【請求項８】
前記第４の効率算出部は、前記第２の領域に含まれる第２の方向の開口部を通過するビーム本数を、前記アパーチャ部材の複数の開口部のうちの第２の方向の全開口部を通過するビーム本数で割ることによって、前記第４のモードで描画した場合の描画速度の効率を算出することを特徴とする請求項７記載のマルチ荷電粒子ビーム描画装置。
【請求項９】
前記多重描画の各回の描画処理において他の回の描画処理とは描画方向と直交する方向に位置をずらしながら描画を行い、
前記追加描画の際、位置をずらしながら行われた前記多重描画において前記不良ビームが描画するはずであった複数の位置がすべて描画されるように追加描画で描画される描画範囲の位置を調整することを特徴とする請求項１記載のマルチ荷電粒子ビーム描画装置。
【請求項１０】
前記アパーチャ部材の複数の開口部のうち、前記第２の領域から外れた開口部を通過するマルチビームをビームＯＦＦの状態になるように対応するブランカーを制御するブランカー制御部をさらに備えたことを特徴とする請求項１記載のマルチ荷電粒子ビーム描画装置。
【請求項１１】
荷電粒子ビームの照射を受けてマルチビームを形成する複数の開口部を有するアパーチャ部材の複数の開口部を通過したマルチビームのうち、不良ビームを検出する工程と、
前記アパーチャ部材の複数の開口部のうち、前記不良ビームを通過させる開口部を除く残りの開口部のうち、より多くの開口部が含まれるように領域を設定する工程と、
前記領域内の開口部を通過したマルチビームを用いて試料にパターンを描画する第１のモードと、前記不良ビームがビームＯＦＦに制御された状態で残りのマルチビームのうちの少なくとも１つを用いて、位置をずらしながら多重描画を行い、さらに、前記不良ビームによって描画されるはずであった位置について、追加描画を行う第２のモードと、を選択する工程と、
選択されたモードで、試料にパターンを描画する工程と、
を備えたことを特徴とするマルチ荷電粒子ビーム描画方法。
【請求項１２】
前記第１のモードで描画した場合の描画速度の効率を算出することを特徴とする請求項１１記載のマルチ荷電粒子ビーム描画方法。
【請求項１３】
前記第２のモードで描画した場合の描画速度の効率を算出することを特徴とする請求項１２記載のマルチ荷電粒子ビーム描画方法。
【請求項１４】
前記第１のモードでの効率と第２のモードでの効率との中から最も効率が良いモードを判定することを特徴とする請求項１３記載のマルチ荷電粒子ビーム描画方法。
【請求項１５】
試料を載置する、連続移動可能なステージと、
荷電粒子ビームを放出する放出部と、
複数の開口部を有し、前記複数の開口部全体が含まれる領域に前記荷電粒子ビームの照射を受け、前記複数の開口部を前記荷電粒子ビームの一部がそれぞれ通過することにより、マルチビームを形成するアパーチャ部材と、
前記アパーチャ部材の複数の開口部を通過したマルチビームのうち、それぞれ対応するビームのブランキング偏向を行う複数のブランカーと、
前記複数のブランカーによってビームＯＦＦの状態になるように偏向された各ビームを遮蔽するブランキングアパーチャ部材と、
前記アパーチャ部材の複数の開口部を通過したマルチビームのうち、不良ビームを検出する検出部と、
前記不良ビームがビームＯＦＦに制御された状態で、残りのマルチビームのうちの少なくとも１つを用いて、位置をずらしながら多重描画を行い、さらに、前記不良ビームによって描画されるはずであった位置について、追加描画を行うように描画処理を制御する描画処理制御部と、
を備えたことを特徴とするマルチ荷電粒子ビーム描画装置。
【請求項１６】
荷電粒子ビームの照射を受けて個別にＯＮまたはＯＦＦに制御可能なマルチビームを形成する工程と、
前記マルチビームのうち、不良ビームを検出する工程と、
前記不良ビームがビームＯＦＦに制御された状態で残りのマルチビームのうちの少なくとも１つを用いて、多重回数が２以上となるように位置をずらしながら多重描画を行い、さらに、前記不良ビームによって描画されるはずであった複数の部分について、１回の追加描画で同時に描画する工程と、
を具備したことを特徴とするマルチ荷電粒子ビーム描画方法。
【請求項１７】
試料を載置する、連続移動可能なステージと、
荷電粒子ビームを放出する放出部と、
複数の開口部を有し、前記複数の開口部全体が含まれる領域に前記荷電粒子ビームの照射を受け、前記複数の開口部を前記荷電粒子ビームの一部がそれぞれ通過することにより、マルチビームを形成するアパーチャ部材と、
前記アパーチャ部材の複数の開口部を通過したマルチビームのうち、それぞれ対応するビームのブランキング偏向を行う複数のブランカーと、
前記複数のブランカーによってビームＯＦＦの状態になるように偏向された各ビームを遮蔽するブランキングアパーチャ部材と、
前記アパーチャ部材の複数の開口部を通過したマルチビームのうち、不良ビームを検出する検出部と、
前記不良ビームがビームＯＦＦに制御された状態で残りのマルチビームのうちの少なくとも１つを用いて、多重回数が２以上となるように位置をずらしながら多重描画を行い、さらに、前記不良ビームによって描画されるはずであった複数の部分について、１回の追加描画で同時に描画を行うように制御する描画処理制御部と、
を備えたことを特徴とするマルチ荷電粒子ビーム描画装置。