(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
搬送方向に延設されたガイドレールに支持された冶具を介して当該冶具に保持されたワークを搬送可能な搬送手段と、搬送中のワークに当該冶具を介して給電する給電手段とを有し、表面処理槽内でワークを連続搬送かつ給電しつつワークに表面処理を施す表面処理装置において、
前記冶具を前記ガイドレールに転がり係合機構を介して支持させるとともに、
前記給電手段が搬送方向に延設された給電レールと前記冶具側にバネ式接触圧調整手段を介して装着されかつ給電レールと摺接して集電可能な集電子とを含み形成され、
給電レールおよび集電子を内包するチャンバーとこのチャンバーに接続された排気ダクトとを有し、給電レールと集電子との摺接により発生した粉塵を排気ダクトを通して吸引しつつ回収廃棄するための粉塵回収廃棄手段を設けた、表面処理装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、搬送方向に延設されたガイドレールに支持された冶具を介して当該冶具に保持されたワークを搬送可能な搬送手段と、搬送中のワークに当該冶具を介して給電する給電手段とを有し、表面処理槽内でワークを連続搬送かつ給電しつつワークに表面処理を施す表面処理装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
図７に示す表面処理装置は、搬送方向（図７で紙面に垂直方向）に延設されたガイドレール３７Ｐ，このガイドレール３７Ｐに支持された冶具２０Ｐを介して当該冶具２０Ｐに保持されたワークＷを搬送可能な搬送手段３０Ｐと，ガイドレール３７Ｐを給電レール５１Ｐとして利用した構成で搬送中のワークＷに当該冶具２０Ｐを介して給電する給電手段５０Ｐとを有し、表面処理槽１０内の表面処理液Ｑ中でワークＷを連続搬送しつつ表面処理を施すことができる。
【０００３】
冶具２０Ｐは、ガイドレール３７Ｐに摺動可能に支持された移動体３２Ｐに連結されている。かくして、表面処理槽１０が電解処理槽（例えば、めっき処理槽）である場合には、外部電源からガイドレール３７Ｐ，移動体３２Ｐおよび冶具２０Ｐを通してワークＷに給電することができるわけである。
【０００４】
一般的に、本装置のレイアウト的設計思想は、表面処理槽群はワークＷの搬送方向に沿って列配置し、かつ左右方向は搬送軌跡を中心に図７で左右方向に対称とすることである。
【０００５】
すなわち、搬送手段３０Ｐを形成するガイドレール３７Ｐは、各表面処理槽１０の左右方向中心に配設されることになる。また、電解処理槽（例えば、めっき処理槽）からなる表面処理槽１０の給電手段５０Ｐとして、外部電源に接続されたガイドレール３７Ｐ上を摺動する移動体３２Ｐ側の集電子（図示省略）を含む給電手段５０Ｐから冶具２０Ｐを介して給電している。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、電解処理槽（例えば、めっき処理槽）を含む表面処理槽１０では、上記の通り電解処理槽での給電を必須とすることから、電解処理槽内の両側に配設された電極（アノード）とワーク（カソード）との距離を等しくするために電解処理槽の搬送方向で上流側に配設される前処理槽群およびその下流側に配設される後処理槽群においても、左右方向中心として搬送手段３０Ｐ（ガイドレール３７Ｐ）および給電手段５０Ｐ（給電レール５１Ｐ）を設けている。
【０００７】
しかも、ガイドレール３７Ｐを給電レール５１Ｐとして利用した給電手段５０Ｐであるから、ガイドレール３７Ｐを搬送手段３０Ｐのみに利用する場合に比較して、ガイドレール３７Ｐと移動体３２Ｐ側の集電子（図示省略）との接触圧力を大きくする必要がある。
【０００８】
かくして、いずれの表面処理槽１０においても、摺動・移動するガイドレール３７Ｐ（給電レール５１Ｐ）と移動体３２Ｐ（冶具２０Ｐ）との摩擦により構成部品から塵埃が発生しかつその塵埃の殆んどが表面処理槽１０の外部開口部１０Ｕから当該表面処理液Ｑ中に混入してしまう。
【０００９】
かかる塵埃の発生は、表面処理対象製品によって許される場合と許されない場合とがある。装飾品の如きは許されても、電子部品（例えば、プリント配線基板）の場合は許され難い。換言すれば、電子部品のクリーニングルーム（生産現場）での環境（空気清浄度）が非常に高級になっているに対して、表面処理の場合にはそこまで気配りされていなかったといえる。
【００１０】
つまり、従来装置では構成部品から生じかつ表面処理液Ｑ中に混入した塵埃がガサやザラの原因になっていた。このガサやザラのない高品質な表面処理製品が強く求められている。例えば、プリント配線基板の線幅やピン間距離の一段の狭小化には、是非解決しなければならない課題となって来た。
【００１１】
本発明の目的は、粉塵の発生の抑制化および給電の確実化を図りつつ表面処理品質を大幅に向上させられる表面処理装置を提供することにある。
【００１２】
【課題を解決するための手段】
請求項１の発明は、搬送方向に延設されたガイドレールに支持された冶具を介して当該冶具に保持されたワークを搬送可能な搬送手段と、搬送中のワークに当該冶具を介して給電する給電手段とを有し、表面処理槽内でワークを連続搬送かつ給電しつつワークに表面処理を施す表面処理装置において、前記冶具を前記ガイドレールに転がり係合機構を介して支持させるとともに、前記給電手段が搬送方向に延設された給電レールと前記冶具側にバネ式接触圧調整手段を介して装着されかつ給電レールと摺接して集電可能な集電子とを含み形成され、給電レールおよび集電子を内包するチャンバーとこのチャンバーに接続された排気ダクトとを有し、給電レールと集電子との摺接により発生した粉塵を排気ダクトを通して吸引しつつ回収廃棄するための粉塵回収廃棄手段を設けた、表面処理装置である。
【００１３】
かかる発明では、ワークを保持した冶具は転がり係合機構を介してガイドレールに支持されているので、ガイドレールと冶具との搬送方向の相対変位があっても直接摩擦係合の場合に比較して粉塵の発生量を極減化できる。
【００１４】
しかも、給電手段が搬送方向に延設された給電レールと冶具側にバネ式接触圧調整手段を介して装着された集電子を摺接して集電する構成であるから、従来例の場合のように給電レールを兼用するガイドレールを表面処理槽の左右方向の中心に配設しなくてもよくなる。つまり、確実な給電を担保しつつ摺動に伴う粉塵の処理槽内液への混入を防止することができる。
【００１５】
すなわち、粉塵の発生の抑制化および給電の確実化を大幅に改善できるので、表面処理品質を大幅に向上することができる。特に、高実装密度で高品質のプリント配線基板の生産に大きく貢献することができる。
【００１７】
しかも、粉塵回収廃棄手段が給電レールと集電子との摺接により発生した粉塵を回収廃棄するので、処理液中に廻り込んで混入する虞を一掃できるとともに、給電手段（給電レールおよび集電子）の構造簡素化および低コスト化を図りつつレイアウトの自由度を一段と拡大できる。
【００１８】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態について、図面を参照して詳細に説明する。
【００１９】
本表面処理装置は、図１〜図４に示す如く、冶具２０をガイドレール３７に転がり係合機構９０を介して支持させるとともに、給電手段５０が搬送（Ｘ）方向に延設された給電レール５１と，冶具２０側にバネ式接触圧調整手段を介して装着されかつ給電レール５１と摺接して集電可能な集電子５５とから形成され、給電レール５１および集電子５５を内包するチャンバー６１とこのチャンバーに接続された排気ダクト６３とを有し、給電レールと集電子との摺接により発生した粉塵を排気ダクトを通して吸引しつつ回収廃棄するための粉塵回収廃棄手段６０が設けられている。
【００２０】
本表面処理装置の基本的構成・機能は、搬送（Ｘ）方向に延設されたガイドレール３７に支持された冶具２０（ハンガー２９）を介して当該冶具２０に保持されたワークＷを搬送可能な搬送手段３０と、搬送中のワークＷに当該冶具２０を介して給電する給電手段５０とを有し、表面処理槽１０内でワークＷを連続搬送かつ給電しつつ表面処理を施すことができる。
【００２１】
この発明では、搬送レール（ガイドレール３７）と給電レール５１とを兼用しかつ兼用するガイドレール３７を表面処理槽１０の幅（左右）方向の中心でかつＸ方向に延設されていた従来例の場合に比較して、ガイドレール３７と給電レール５１とを別個に設けている。
【００２２】
そして、これを前提として、第１に、ガイドレール３７と冶具２０との直接接触・摺動方式を摩擦抵抗が少なく塵埃の発生を大幅に抑制できる転がり係合方式に改善する。第２に、給電レール５１と集電子５５との摺動摩擦係合により発生する粉塵が表面処理槽内１０に入らないように給電レール５１を表面処理槽１０の外側に配置する。
【００２３】
また、この実施形態では、転がり係合機構９０を採用しても、搬送手段３０から発生する塵埃の絶無化が至難である機械的事情を考慮して、ガイドレール３７および搬送手段３０を表面処理槽１０の外側に配設してある。
【００２４】
さらに、表面処理槽１０の外側に配設された給電手段５０から発生する塵埃の絶無化が至難である機械的事情を考慮して、給電手段５０から発生した粉塵（塵埃）を回収かつ外部へ廃棄するための粉塵回収廃棄手段６０を設けている。
【００２５】
図１〜図３において、表面処理槽１０は、ワークＷのＸ方向に伸びる搬送軌跡（図１で紙面に垂直方向）を中心に左右方向が対称となるように配設してある。したがって、表面処理槽１０がこの実施形態の場合のように電解処理槽（めっき処理槽）である場合には、電解処理槽１０内の左右両側のいずれも図示しない電極（アノード）とワークＷとの極間距離を正確に保てる。
【００２６】
搬送手段３０は、図１に示すように表面処理槽１０の上部開口部１０Ｕの外側（図で右側）に配設されている。搬送手段３０および関連機器から発生する粉塵等を含む塵埃が表面処理槽液Ｑ内に混入（侵入）することを防止するためである。
【００２７】
この搬送手段３０は、図４に示すＸ方向に延設されたガイドレール３７と，ガイドレール３７に沿って一定ストロークだけ往復移動可能な往復移動部材３２と，この往復移動部材３２に一定ピッチで取り付けられた複数のアンチバック爪３３と，往復移動部材３２に往復移動力を付与するネジ式往復移動機構３１とを含み、複数の冶具２０（ワークＷ）を一定ピッチだけ離隔させた状態でＸ方向に間欠搬送することができる。
【００２８】
アンチバック爪３３は、往復移動部材３２のＸ方向への移動中つまり往動時には係合する冶具２０に往動力を加えて当該冶具２０をＸ方向へ往動させることができるが、復動時には冶具２０に復動力を付与せず無抵抗として通過する。つまり、一方向送りタクト搬送機構から形成されている。
【００２９】
各冶具２０は、搬送手段３０を表面処理槽（この実施形態では、電解処理槽…めっき処理槽）１０の横外方に配設しつつ表面処理槽１０自体を従来例の場合と比較して大きく改変しなくてもすむように、図１，図２に示す構造とされている。
【００３０】
図１において、冶具２０は、水平部２１と垂直部２３をＬ字形状に連結した構造で、基端部２１Ｋでガイドレール３７に相対移動可能に支持させ、先端部２３ＳでワークＷを保持することができる。基端部２１Ｋは起立する係止部２１Ｖを介して間接的にガイドレール３７に支持され、先端部２３Ｓは図２に示すハンガー２９を介してワークＷを保持する。
【００３１】
すなわち、各冶具２０は、転がり係合機構９０を介してガイドレール３７に支持される。冶具２０とガイドレール３７との直接接触および摺動による摩擦軽減に基づき塵埃発生量の極減化を企図するのである。
【００３２】
この転がり係合機構９０は、当該機構の枠体を兼ねる冶具２０の一部である係止部２１Ｖに回転自在に装着された複数の車輪９２を含み、ガイドレール３７に各冶具２０を転がり係合させる役目を持つ。
【００３３】
車輪９２は、冶具２０の係止部２１Ｖに装着された図２に示す複数の上下方向規制車輪９２Ｖと，図３に示す水平方向規制車輪９２Ｈと，外れ防止車輪９２Ｇとから形成されている。
【００３４】
各上下方向規制車輪９２Ｖは、ガイドレール３７の図２に示す上面３７Ｕに係合され冶具２０の上下方向の位置を規制する。また、水平方向規制車輪９２Ｈは、ガイドレール３７の図３に示す側面３７Ｓに係合され冶具２０の水平方向の位置を規制する。
【００３５】
そして、外れ防止車輪９２Ｇは、ガイドレール３７の側面３７Ｓの高さ方向中間に突出して設けた外れ防止レール３７Ｇにこれを水平方向の両側から挟み込むように係合されている。したがって、各上下方向規制車輪９２Ｖおよび水平方向規制車輪９２Ｈの協働のもとに、冶具２０がガイドレール３７から外れる心配がない。
【００３６】
カソードであるワークＷには、図１に示すように、当該冶具２０（２１，２３）を介して給電手段６０から、マイナス電源が供給される。アノードである槽１０内両側の電極は図示省略してある。
【００３７】
給電手段５０は、図１に示す表面処理槽１０上部で外部側に設けられたＸ方向に延びる給電レール５１と，外部電源装置（図示省略）と給電レール５１とを接続する給電バー５２と，係止部２１Ｖにバネ式接触圧調整手段５６を介して取り付けられた集電子５５およびリード線５９とからなる。
【００３８】
この給電手段５０も表面処理槽１０の外側に配設されているので、各集電子５５と給電レール５１との摺動（直接接触）による粉塵（塵埃）が生じても表面処理槽１０内には侵入し難いわけである。
【００３９】
しかし、更なる慎重を期して給電部（５１，５５）を内包するチャンバー６１と下向き排気管６２を含み、発生した粉塵を例えば下方のピット内に回収しつつ外部に排出・廃棄する粉塵回収廃棄手段６０を設けてある。また、図５，図６に示す如く、粉塵回収廃棄手段６０の排気管６２を横向きとするとともに排気ダクト６３を接続して粉塵を吸引しつつフィルタ（図示省略）へ導いて一段と確実な回収・破棄を行えるように形成してある。
【００４０】
かかる構成の実施形態では、ワークＷを保持した冶具２０は転がり係合機構９０を介してガイドレール３７に支持されているので、ガイドレール３７と冶具２０とのＸ方向の相対変位があっても、直接摩擦係合の場合に比較して、粉塵の発生量を極減化できる。
【００４１】
しかも、給電手段５０がＸ方向に延設された給電レール５１と冶具２０側に装着された集電子５５とを摺接して集電する構成であるから、従来例の場合のように給電レール５１を兼用するガイドレール３７を表面処理槽１０の左右方向の中心に配設しなくてもよくなる。つまり、確実な給電を担保しつつ摺動に伴う粉塵の処理槽内液Ｑへの混入を防止することができる。
【００４２】
すなわち、搬送手段３０からの粉塵の発生の抑制化および給電手段５０による給電の確実化を大幅に改善できるので、表面処理品質を大幅に向上することができる。特に、高実装密度で高品質のプリント配線基板（ワーク）の生産に大きく貢献することができる。
【００４３】
しかも、粉塵回収廃棄手段６０は、給電レール５１と集電子５５との摺接により発生した粉塵を排気ダクト６３を通して吸引しつつ回収廃棄するので、表面処理槽１０内への侵入を完璧に防止できる。給電手段５０から発生した粉塵が処理液Ｑ中に廻り込んで混入する虞を一掃できるとともに、給電手段６０（給電レール５１および集電子５５）の構造簡素化および低コスト化を図りつつレイアウトの自由度を一段と拡大できる。
【００４７】
【発明の効果】
請求項１の発明によれば、冶具をガイドレールに転がり係合機構を介して支持させ、給電手段が搬送方向に延設された給電レールと冶具側にバネ式接触圧調整手段を介して装着されかつ給電レールと摺接して集電可能な集電子とを含み形成され、給電部を内包するチャンバーと排気ダクトとを有し、給電レールと集電子との摺接により発生した粉塵を排気ダクトを通して吸引しつつ回収廃棄するための粉塵回収廃棄手段を設けた表面処理装置であるから、ガイドレールと冶具との搬送方向の相対変位があっても直接摩擦係合の場合に比較して粉塵の発生量を極減化できる。また、従来例の場合に比較して給電レールを兼用するガイドレールを表面処理槽の左右方向の中心に配設しなくてもよくなる。つまり、確実な給電を担保しつつ摺動に伴う粉塵の処理槽内液への混入を防止することができる。よって、粉塵の発生の抑制化および給電の確実化を大幅に改善できるので、表面処理品質を大幅に向上することができる。特に、高実装密度で高品質のプリント配線基板の生産に大きく貢献することができる。さらに粉塵が処理液中に廻り込んで混入する虞を一掃できるので、表面処理品質を一段と大幅に向上することができる。しかも、給電手段（給電レールおよび集電子）の構造簡素化および低コスト化を図りつつレイアウトの自由度を一段と拡大できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１の実施形態に係る全体的構成を説明するための正面図である。
【図２】同じく、側面図である。
【図３】同じく、転がり係合機構を説明するための正面図である。
【図４】同じく、搬送手段を説明するための側面図である。
【図５】同じく、給電手段および粉塵回収破棄手段を説明するための正面図である。
【図６】同じく、粉塵回収破棄手段の拡大図である。
【図７】従来例を説明するための図である。
【符号の説明】
１０  表面処理槽（電解処理槽）
１０Ｕ  上部開口部
２０  冶具
２１  水平部
２３  垂直部
３０  搬送手段
３１  ネジ式往復移動機構
３７  ガイドレール
５０  給電手段
５１  給電レール
５５  集電子
６０  粉塵回収廃棄手段
６１  チャンバー
６２  排気管
６３  排気ダクト
９０  転がり係合機構
９２Ｖ  上下方向規制車輪
９２Ｇ  外れ防止車輪
９２Ｈ  水平方向規制車輪
【図１】
0003591721.tif 000002
【図２】
0003591721.tif 000003
【図３】
0003591721.tif 000004
【図４】
0003591721.tif 000005
【図５】
0003591721.tif 000006
【図６】
0003591721.tif 000007
【図７】
0003591721.tif 000008