(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
A.（ａ）グリシジル（メタ）アクリレート60〜100モル％と（ｂ）これと共重合可能なメチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ターシャリーブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ｎ−オクチル（メタ）アクリレート、ｎ−デシル（メタ）アクリレート、イソデシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、ミリスチル（メタ）アクリレート、セチル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート等の直鎖又は分岐の脂肪族、或は脂環族（但し、環中に一部不飽和結合を有しても良い）の（メタ）アクリル酸エステル、及びベンジル（メタ）アクリレート等の芳香族系の（メタ）アクリレート、及び（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−プロピル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ターシャリーブチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ターシャリーオクチル（メタ）アクリルアミド、ジアセトン（メタ）アクリルアミド等のアクリルアミド系化合物、及びビニルピロリドン、アクリロニトリル、酢酸ビニル、スチレン、α−メチルスチレン、ビニルエーテルの単独又は組み合わせからなる他のエチレン性不飽和単量体０〜40モル％とからなる重合体に、該重合体の１エポキシ当量当たり0.7〜1.2化学当量の（メタ）アクリル酸、及び飽和又は不飽和の多塩基酸無水物を反応させて得られ、芳香環部分を０〜20重量％含み、重量平均分子量が5000〜100000であり、且つ酸価が25〜150の範囲にある紫外線硬化性樹脂、
B.希釈剤可溶性エポキシ化合物、
C.光重合開始剤及び
D.希釈剤
を含んでなる、希アルカリ溶液で現像可能なフォトソルダーレジストインク。
【請求項２】
B.希釈剤可溶性エポキシ化合物が芳香族エポキシ樹脂である請求項１記載のフォトソルダーレジストインク。
【請求項３】
B.希釈剤可溶性エポキシ化合物がビスフェノールＡ型エポキシ樹脂及びノボラック型エポキシ樹脂からなる群より選ばれた少なくとも一つのエポキシ樹脂である請求項１記載のフォトソルダーレジストインク。
【請求項４】
請求項１から３の何れか１項に記載のフォトソルダーレジストインクを用いて基板上に所定のフォトソルダーレジストパターンを形成してなるプリント回路基板。
【請求項５】
請求項１から３の何れか１項に記載のフォトソルダーレジストインクを用いて基板上に所定のソルダーレジストパターンを形成することを特徴とするプリント回路基板の製造方法。
【請求項６】
（１）予め表面にプリント回路パターンが形成された基板にフォトソルダーレジストインクを塗布し、該基板上にフォトソルダーレジストインク層を形成する塗布工程、
（２）塗布工程で形成されたフォトソルダーレジストインク層をプリキュアすることにより、基板上に乾燥塗膜を形成するプリキュア工程、
（３）プリキュア工程で基板上に形成された乾燥塗膜を所定のパターンを描いたマスクを用いて選択的に露光する露光工程、
（４）露光工程後の乾燥塗膜において、選択的に未露光となっている部分をアルカリ溶液を用いて除去し、基板上に露光硬化された乾燥塗膜のパターンを形成する現像工程及び
（５）現像工程で形成された基板上の乾燥塗膜のパターンを熱硬化させるポストベーク工程を含む請求項５記載のプリント回路基板の製造方法。
【発明の詳細な説明】
技術分野
本発明は、紫外線硬化性及び熱硬化性を有する、希アルカリ溶液で現像可能なフォトソルダーレジストインク、それを用いて製造されたプリント回路基板及びその製造方法に関する。
背景技術
近年、民生用及び産業用の各種プリント回路基板のレジストパターン形成法として、印刷配線板の高配線密度化に対応するため、スクリーン印刷法に替って、解像性及び寸法精度等に優れたドライフィルムや液状のフォトレジストインクを用いる方法が大きな位置を占めてきている。
上記のフォトレジストインクの中で液状のフォトソルダーレジストインク（一般に液状フォトソルダーレジストインクと称される）としては、日本国特許公報56−40329/1981に、エポキシ樹脂に不飽和モノカルボン酸を反応させると共に多塩基酸無水物を付加してなる紫外線硬化性樹脂を必須成分とする組成物が示されている。また、日本国公開特許公報61−243869/1986には、ノボラック型エポキシアクリレートに酸無水物を付加してなる、希アルカリ溶液に可溶な紫外線硬化性樹脂、光重合開始剤、希釈剤及びエポキシ化合物からなる熱硬化性成分を含有する、希アルカリ溶液で現像可能な液状フォトソルダーレジストインクが開示されている。
これらの中でも特にノボラック型エポキシアクリレートの多塩基酸無水物付加型紫外線硬化性樹脂とエポキシ化合物を配合したレジストインクの場合、紫外線による硬化後に加熱硬化させることにより、最終的に良好な物性のソルダーレジストが得られるため、特に産業用及び民生用でも高品位を要求されるものの製造に使用されている。
このレジストインクの場合、用いられる紫外線硬化性樹脂には、上記の如く、多塩基酸無水物によりソルダーレジストインクをアルカリ現像可能とするに十分な量のカルボキシル基が導入されているが、このインク中に同時に配合される熱硬化性エポキシ化合物はソルダーレジスト中のカルボキシル基を熱硬化により封鎖し、併せてソルダーレジストの架橋密度を向上させることで最終的に形成されるソルダーレジストを熱的、化学的に安定させ、半田耐熱性、耐薬品性、耐電蝕性及び耐金メッキ性等を向上させる効果を有する。
上記レジストインクを使用して基板上へレジストパターンを形成するためには、通常、以下の方法が採られる。例えば、基板上にレジストインクを浸漬法、スプレー、スピンコーター、ロールコーター、カーテンコーター又はスクリーン印刷等により塗布した後、希釈剤たる有機溶剤を揮発させるために例えば60〜120℃でプリキュアを行なう。次にパターンを描いたネガマスクを乾燥した塗膜表面に直接又は間接的に当てがい、ケミカルランプ、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、キセノンランプ又はメタルハライドランプ等を用いて紫外線を照射した後、現像によりパターンを形成し、さらに例えば120〜180℃での30分程度の加熱によりエポキシ化合物を硬化させることでレジストの被膜強度、硬度及び耐薬品性等を向上させるのである。
この方法において、プリキュアは、塗布されたレジストインク層を非粘着性のものにすると共にネガマスクの脱着を可能とし、さらにはその汚損防止等を図るために有用な工程である。しかし、上記レジストインク中にエポキシ化合物を配合する場合、紫外線硬化性樹脂中に存在するカルボキシル基等との反応による熱硬化がプリキュア条件下においても起こるため、現像工程での現像不良及び解像性不良等を生じ易い。特にエポキシ化合物として汎用の溶剤可溶性エポキシ樹脂を用いた場合はこの傾向が著しく、許容されるプリキュア条件は温度及び時間共に穏やかな範囲であり、通例80℃で20分以下、特別な場合でも80℃で30分程度以下であった（以下、良好な現像性及び解像性を確保可能とするために許容されるプリキュア条件の幅を「プリキュア許容幅」と称する。）。
この現象が生じるのは、上記レジストインクにおいては紫外線硬化性樹脂と溶剤可溶性エポキシ化合物の相溶性が良く、両者は乾燥塗膜形成過程及び形成された乾燥塗膜中において均質な混合状態にあるので、カルボキシル基とエポキシ基との反応が容易に起こることによるものと推定される。また、かかる混合状態の均質性から、溶剤可溶性エポキシ樹脂の配合量を多くすると紫外線硬化性を有する成分が希釈され、その結果として感度不良を生じる傾向にある。さらに、上記のように緩やかなプリキュア条件を採る場合、希釈溶剤が乾燥塗膜中に残存し易く、そのためにパターンマスクの汚損を生じたり、乾燥塗膜表面からのパターンマスクの剥離が困難となったりするおそれがある。また、実際のプリント基板の製造においては、作業上の必要からプリキュアした状態で基板を一時保存しておき、翌日或は数日後に露光工程にかける場合もあるが、上記レジストインクによる場合は、室温においてもある程度エポキシ化合物による硬化が進行するため、長時間の保存により現像不良及び解像性低下が起こり易い。
前記問題を解決するものとしては、日本国公開特許公報１−141904/1989、同３−250012/1991及び同４−217252/1992に、ビスフェノールＡ型エポキシアクリレートに酸無水物を付加してなる紫外線硬化性樹脂、ノボラック型エポキシアクリレートに酸無水物を付加してなる紫外線硬化性樹脂等に、エポキシ化合物としてトリグリシジルイソシアヌレート等の希釈剤に難溶な微粉状のものを配合した、希アルカリ溶液で現像可能な液状フォトソルダーレジストインクが開示されている。
このレジストインクにおいて、希釈剤難溶性の微粉状エポキシ化合物はプリキュア時には被膜中に固体として不均一に存在しており、紫外線硬化樹脂との間で絡みが少なく、該樹脂中に存在するカルボキシル基との接触が小さいため硬化反応が進みにくい。加えて、プリキュア後においては被膜中の紫外線硬化性成分が不均一に存在するエポキシ化合物の微粒子以外の部分に高濃度に保たれるため、紫外線露光時の感度の低下の問題も少ない。一方、最終的な熱硬化（ポストベーク）時に該エポキシ化合物の融点以上の温度にすればレジストの被膜強度、硬度及び耐薬品性等の向上が可能になるという利点を有する。
前記利点から、紫外線硬化性樹脂としてノボラック系エポキシアクリレートの酸無水物付加物を用いる場合、プリキュア許容幅を確保するためには希釈剤難溶性の微粉状エポキシ化合物が用いられる。しかし、この場合、プリキュア後の塗膜の熱硬化性は微粉状エポキシ化合物の粒子径によって支配される。たとえ加熱によって微粉状エポキシ化合物が溶融したとしても、乾燥塗膜中で紫外線硬化性樹脂等と完全に均一な状態となることは困難であり、エポキシ化合物と紫外線硬化性樹脂等との境界面が明確であることが避けられない等の問題がある。そこで、希釈剤難溶性の微粉状エポキシ化合物の粒子径をできるだけ小さくすべく各種方法が採られているが、これら物理的粉砕で得られる微粉末の粒子径には限界がある。したがって、希釈剤難溶性の微粉状エポキシ化合物を使用する限りにおいては、プリキュア許容幅は確保できても耐熱性及び耐電蝕性等の向上には一定の限界があった。
ここにおいて、溶剤可溶性エポキシ化合物に替えて希釈剤難溶性の微粉状エポキシ化合物を使用することによる優位性は、紫外線硬化性樹脂としてエチレン性不飽和モノマーの重合体に紫外線硬化性のエチレン性不飽和基を導入したもので希アルカリ溶液に可溶なもの、例えばスチレン−マレイン酸共重合体又は（メタ）アクリル酸エステル−マレイン酸共重合体等にヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート等をペンダントした樹脂、カルボキシル基を有するエチレン性不飽和モノマーとアクリル酸エステル、スチレン等との共重合体にグリシジル（メタ）アクリレートをペンダントしたもの、或いはエポキシ基を有するエチレン性不飽和単量体を単位として含む重合体に（メタ）アクリル酸を付加し、さらに多塩基酸無水物を反応させて得られるもの等を用いた場合にも得られる。なお、本明細書において、「（メタ）アクリル−」はアクリル−及び／又はメタクリル−を意味し、従って例えば（メタ）アクリル酸はアクリル酸及び／又はメタクリル酸を、また（メタ）アクリレートはアクリレート及び／又はメタクリレートを意味するものとする。
一方で、最終ソルダーレジスト中の熱硬化状態が不均一であり、かつエポキシ化合物と紫外線硬化性樹脂等との境界面が明確であることが避けられない等の問題も、ノボラック系エポキシアクリレートを用いた、希アルカリ溶液で現像可能なレジストインクの場合と同様である。
これらビニル重合系の紫外線硬化性樹脂組成物を利用し、かつ希釈剤難溶性の微粉状エポキシ化合物を使用した、希アルカリ現像可能な液状ソルダーレジストインクとして、例えば日本国公開特許公報６−95384/1994には、スチレン−無水マレイン酸共重合体に２−ヒドロキシエチルメタクリレートをペンダントしてなる紫外線硬化性樹脂と、常温固体の希釈剤難溶性エポキシ化合物としてトリグリシジルイソシアヌレートを用いたものが開示されている。ここでは、露光時の感度向上及び熱硬化（ポストベーク）時により速やかに熱硬化反応を進行させてレジスト被膜の耐性及び信頼性の著しい向上を図るために特定の分散方法を採用すると共に希釈剤難溶性のエポキシ化合物を著しく細かくすることが必要であり、その実施例においてはトリグリシジルイソシアヌレートをロールミル等で粉砕するだけでは効果が不十分であると指摘されている。
本発明の課題は、使用時においてはプリキュア許容幅が広く、プリキュア後の基板の長期保存が可能であり、また解像性、感度及び耐半田性等に優れ、これを用いて基板上に形成されたソルダーレジストが優れた基板密着性、耐薬品性、耐金メッキ性及び電気特性並びに特に優れた半田耐熱性及び耐電蝕性等を示す希アルカリ溶液で現像可能なフォトソルダーレジストインクを提供することにある。
また、本発明の他の課題は、上記フォトソルダーレジストインクを用いて製造された、優れた基板密着性、耐薬品性、電気特性及び耐金メッキ性並びに特に優れた半田耐熱性及び耐電蝕性等を有するプリント回路基板及びその製造方法を提供することにある。
発明の開示
本発明に係る希アルカリ溶液で現像可能なフォトソルダーレジストインクは、A.（ａ）グリシジル（メタ）アクリレート60〜100モル％と（ｂ）これと共重合可能なメチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ターシャリーブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ｎ−オクチル（メタ）アクリレート、ｎ−デシル（メタ）アクリレート、イソデシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、ミリスチル（メタ）アクリレート、セチル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート等の直鎖又は分岐の脂肪族、或は脂環族（但し、環中に一部不飽和結合を有しても良い）の（メタ）アクリル酸エステル、及びベンジル（メタ）アクリレート等の芳香族系の（メタ）アクリレート、及び（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−プロピル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ターシャリーブチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ターシャリーオクチル（メタ）アクリルアミド、ジアセトン（メタ）アクリルアミド等のアクリルアミド系化合物、及びビニルピロリドン、アクリロニトリル、酢酸ビニル、スチレン、α−メチルスチレン、ビニルエーテルの単独又は組み合わせからなる他のエチレン性不飽和単量体０〜40モル％とからなる重合体に、該重合体の１エポキシ当量当たり0.7〜1.2化学当量の（メタ）アクリル酸、及び飽和又は不飽和の多塩基酸無水物を反応させて得られ、芳香環部分を０〜20重量％含み、重量平均分子量が5000〜100000であり、且つ酸価が25〜150の範囲にある紫外線硬化性樹脂、
B.希釈剤可溶性エポキシ化合物、
C.光重合開始剤及び
D.希釈剤
を含んでなるものである。
＜A.紫外線硬化性樹脂について＞
本発明に使用する紫外線硬化性樹脂において、（ａ）成分のグリシジル（メタ）アクリレートは、上記重合体にエポキシ基を導入すると共にこれに（メタ）アクリル酸を付加することで重合体にエチレン性不飽和二重結合による紫外線硬化性を付与することを目的として配合される。したがって、紫外線硬化性樹脂の光硬化性は重合体中のグリシジル（メタ）アクリレートの含有率に直接支配されることになる。この成分の含有率は、該重合体における不飽和単量体全量に対して40〜100モル％の範囲であることが必要であり、これが40モル％より少ない場合は上記樹脂の紫外線硬化性が不十分になり、パターン形成工程において感度不足及び解像性不良を生じ、また最終的に形成されるソルダーレジストにおいては半田耐熱性等の物性が不十分となる。
前記（ａ）成分のグリシジル（メタ）アクリレートを上記重合体における不飽和単量体全量に対して60〜100モル％配合した場合に、上記ソルダーレジストは特に優れた半田耐熱性及び耐電蝕性を示すものである。
（ｂ）成分は、上記（ａ）成分と共重合可能なエチレン性不飽和単量体であり、光硬化性の調整及び硬化膜物性の調整のために必要に応じて併用される。この成分としては、前記のように、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ターシャリーブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ｎ−オクチル（メタ）アクリレート、ｎ−デシル（メタ）アクリレート、イソデシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、ミリスチル（メタ）アクリレート、セチル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート等の直鎖又は分岐の脂肪族、或は脂環族（但し、環中に一部不飽和結合を有しても良い）の（メタ）アクリル酸エステル、及びベンジル（メタ）アクリレート等の芳香族系の（メタ）アクリレート、及び（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−プロピル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ターシャリーブチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ターシャリーオクチル（メタ）アクリルアミド、ジアセトン（メタ）アクリルアミド等のアクリルアミド系化合物、及びビニルピロリドン、アクリロニトリル、酢酸ビニル、スチレン、α−メチルスチレン、ビニルエーテルが挙げられ、これらは単独で又は組み合わせて用いることができる。それらの中でも、直鎖又は分岐の脂肪族、或いは脂環族（但し、環中に一部不飽和結合を有しても良い）の（メタ）アクリル酸エステルが、上記樹脂被膜の硬度及び油性の調節並びに最終的に形成されるレジストの硬度の調節が容易である等の点で特に好適である。
上記紫外線硬化性樹脂中に存在する芳香環部分は０〜20重量％でなければならず、この含有量が20重量％を越えると十分なプリキュア許容幅を確保できない。なお、ここで言う芳香環部分とは、「化学大事典（第１版）」（1989年）東京化学同人、第2202頁に定義されるように、ベンゼン環、縮合ベンゼン環、非ベンゼン系芳香環及び複素芳香環等、芳香族に属する環を含む部分を意味し、これらの環に結合したアルキル基等の置換基は含まないものである。
上記紫外線硬化性樹脂の重量平均分子量は5000〜100000であることが望ましい。すなわち、本発明の目的の一つである高感度かつ高解像性を達成するためには紫外線硬化性樹脂のアルカリ溶液に対する溶解性が露光によりシャープに変化することが必要であるが、上記紫外線硬化性樹脂において、平均分子量が100000より大きいものを用いた場合、レジストインクは極めて低い露光量においても希アルカリ溶液に対する溶解性が低下する反面、未露光の状態でもアルカリ溶液に対する溶解性の余裕がなく、露光時には貼付されたネガマスクの境界部分における僅かな光の漏れによる硬化によっても現像時の除去性が低下する。したがって、この場合は、露光による溶解性変化のシャープさに欠け、見かけ上は感度が高いにもかかわらず解像性は不十分なものとなり易い。一方、重量平均分子量が5000より小さい場合は感度が不足し易い。該重量平均分子量と前述のグリシジル（メタ）アクリレートの配合量との組み合わせでいえば、紫外線硬化性樹脂の重量平均分子量が10000〜30000であり、かつグリシジル（メタ）アクリレートの配合量がエチレン性不飽和単量体全量に対して60〜100モル％の範囲にある場合に、高感度と高解像性を併せ持った最適な効果が得られる。
上記重合体は、公知の重合方法、例えば溶液重合やエマルジョン重合等により得られる。溶液重合を用いる場合について説明すれば、例えば、上記（ａ）成分と必要に応じて（ｂ）成分とからなるエチレン性不飽和単量体混合物を、適当な有機溶剤中で重合開始剤を添加して、窒素気流下に加熱撹拌する方法やこれらの成分を還流条件下で重合する方法等により重合させる。
前記有機溶剤として、例えばメチルエチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類、及びトルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、及び酢酸エチル、酢酸ブチル、セロソルブアセテート、ブチルセロソルブアセテート、ブチルカルビトールアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等の酢酸エステル類、及びジアルキルグリコールエーテル類等が挙げられ、これらは単独で又は混合して用いることができる。
前記重合のための重合開始剤としては、例えば、ハイドロパーオキサイド類のジイソプロピルベンゼンハイドロパーオキサイド、キュメンハイドロパーオキサイド、ｔ−ブチルハイドロパーオキサイド、及びジアルキルパーオキサイド類のジクミルパーオキサイド、2,5−ジメチル−2,5−ジ−（ｔ−ブチルパーオキシ）−ヘキサン、1,3−ビス−（ｔ−ブチルパーオキシイソプロピル）−ベンゼン、ｔ−ブチルクミルパーオキサイド、ジ−ｔ−ブチルパーオキサイド、2,5−ジメチル−2,5−ジ−（ｔ−ブチルパーオキシ）−ヘキシン−３、及びジアシルパーオキサイド類のイソブチリルパーオキサイド、2,4−ジクロロベンゾイルパーオキサイド、ラウロイルパーオキサイド、ベンゾイルパーオキサイド、アセチルパーオキサイド、及びケトンパーオキサイド類のメチルエチルケトンパーオキサイド、メチルイソブチルケトンパーオキサイド、シクロヘキサノンパーオキサイド、アセチルアセトンパーオキサイド、及びアルキルパーエステル類のｔ−ブチルパーオキシビバレート、ｔ−ブチルパーオキシ−２−エチルヘキサノエート、ｔ−ブチルパーオキシ−3,5,5−トリメチルヘキサエート、ｔ−ブチルパーオキシアセテート、ｔ−ブチルパーオキシベンゾエート、及びパーオキシジカーボネート類のジイソプロピルパーオキシジカーボネート、ジ−２−エチルヘキシルパーオキシジカーボネート、ジイソプロピルパーオキシジカーボネート、ジ−sec−ブチルパーオキシジカーボネート、及びアゾ化合物類としてアゾビスイソブチロニトリル、2,2'−アゾビスイソ酪酸メチル、アゾビスシアノバレロニトリル、1,1'−アゾビス（シクロヘキセン−１−カルボニトリル）、2,2'−アゾビス｛２−メチル−Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−プロピオンアミド｝等が挙げられる。また、前記重合開始剤としてレドックス系の開始剤を使用しても良い。
上記重合体の分子量は、これを用いて得られる紫外線硬化性樹脂の分子量に対応した範囲であることが求められる。なお、前記分子量の調節のために公知の連鎖移動剤等を用いて重合を行っても良い。
上記重合体に付加される（メタ）アクリル酸の配合量は、重合体中のグリシジル（メタ）アクリレートに対して0.7〜1.2化学当量であることが必要である。前記配合量が0.7化学当量に満たないと紫外線硬化性樹脂中にエポキシ基が多く残り過ぎて、プリキュア時の硬化により露光後の現像性の低下が生じ易く、また配合量が1.2化学当量を越えると未反応の（メタ）アクリル酸の残存が問題となる。
飽和又は不飽和多塩基酸無水物としては、例えば、無水コハク酸、無水メチルコハク酸、無水マレイン酸、無水シトラコン酸、無水グルタル酸、無水イタコン酸、無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、無水メチルナジック酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸等の２塩基酸無水物、及び無水トリメリット酸、無水ピロメリット酸、無水ベンゾフェノンテトラカルボン酸、メチルシクロヘキセンテトラカルボン酸無水物等の３塩基酸以上の酸無水物を挙げることができる。
上記酸無水物は、紫外線硬化性樹脂に酸価を与え、希アルカリ溶液による再分散、再溶解性を持たせることを主たる目的として配合される。その配合量は、該紫外線硬化性樹脂の酸価が25〜150の範囲になるように選択することが好ましい。酸価が25より少ないと現像性不良となり、またこれが150より大きいと、熱硬化後のレジスト中の残存カルボキシル基に起因して電気特性、耐電蝕性及び耐水性等の低下の問題を生じ、これらはソルダーレジストとして重大な欠点となる。なお、特に酸価が40〜100である場合に最適な効果が得られる。
上記（メタ）アクリル酸及び飽和又は不飽和の多塩基酸無水物の付加反応は、公知の方法を用いて行うことができる。例えば、（メタ）アクリル酸の付加反応は、上記重合体の溶剤溶液に、ハイドロキノン、ハイドロキノンモノメチルエーテル等の熱重合禁止剤、及びベンジルジメチルアミン、トリエチルアミン等の第３級アミン類、及びトリメチルベンジルアンモニウムクロライド、メチルトリエチルアンモニウムクロライド等の第４級アンモニウム塩類、或はさらにトリフェニルスチビン等の触媒を使用し、常法により、好ましくは60〜150℃、特に好ましくは80〜120℃の反応温度で反応させれば良い。飽和又は不飽和多塩基酸無水物の付加反応も、上記と同様の方法で行うことができる。
本発明に係るフォトソルダーレジスト成分中に配合される紫外線硬化性樹脂の量は、インクの良好な感度及び作業特性並びに最終的に形成されるレジストの良好な物性を確保するために、同時に配合される希釈剤中の有機溶剤を除外したインク成分全量に対して10〜80重量％であることが望ましい。
＜B.希釈剤可溶性エポキシ化合物について＞
希釈剤可溶性エポキシ化合物は、レジストインク中のカルボキシル基を熱硬化により封鎖すると共にソルダーレジストの架橋密度を高くして最終的に形成されるソルダーレジストを熱的、化学的に安定にし、半田耐熱性、耐薬品性、耐電蝕性及び耐金メッキ性等を向上させる効果を有する。
ところで、従来においては、前述のように、レジストインク中にエポキシ化合物を配合した場合に紫外線硬化性樹脂中に存在するカルボキシル基との反応による熱硬化がプリキュア条件下においても起こるため、現像工程での現像不良及び解像性不良等を生じ易く、特に紫外線硬化性樹脂及び希釈剤等と相溶性の良い希釈剤可溶性エポキシ化合物を使用した場合にこの問題は大きいとされており、希釈剤難溶性の微粉状エポキシ化合物を使用するのもこれを回避するためであった。
しかしながら、本発明に係るレジストインクにおいて配合される希釈剤可溶性エポキシ化合物は、インク中で紫外線硬化性樹脂及び希釈剤等と相溶し、また乾燥塗膜中ではカルボキシル基を有する紫外線硬化性樹脂成分と相溶性良好であるにもかかわらずプリキュア条件下においての熱硬化による現像性及び解像性不良の問題が生じない。この詳細な理由は明かではないが、前記レジストインクの乾燥塗膜中では、カルボキシル基を有する紫外線硬化性樹脂成分と希釈剤可溶性エポキシ化合物は見かけ上は相溶性良好であるが微細なレベルでは非相溶性を呈し、プリキュア条件下においては相互に反応するのが困難な程度に各成分が明確な相分離状態にあるためであるとの一応の推定が可能である。
前記理由により、本発明に係るレジストインクは、その粒子径が物理的粉砕方法により制約を受ける希釈剤難溶性の微粉状エポキシ化合物を用いた場合よりはるかに微細なレベルでの相分離状態にあることから、プリキュア後の熱硬化過程においてエポキシ化合物の熱硬化によるソルダーレジストの被膜強度、硬度、耐薬品性、耐金メッキ性及び耐電蝕性等の向上の目的が粒子径の制約を受けることなく十分に達成され、特に耐電蝕性及び半田耐熱性においてその効果が顕著である。
なお、前記問題に対しては、希釈剤難溶性の微粉状エポキシ化合物を用いる系においては粒子径を可能な限り小さくすることで解決が図られているが、プリキュア許容幅は確保できても耐金メッキ性及び耐電蝕性等の向上には一定の限界があることは前述した通りである。
前記希釈剤可溶性エポキシ化合物としては、例えばビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールＡ−ノボラック型エポキシ樹脂、ソルビトールポリグリシジルエーテル、ソルビタンポリグリシジルエーテル、グリセロールポリグリシジルエーテル、ジグリセロールポリグリシジルエーテル、ポリグリセロールポリグリシジルエーテル、ネオペンチルポリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパンポリグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールポリグリシジルエーテル、1,6−ヘキサンジオールポリグリシジルエーテル、エチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、テトラメチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリテトラメチレングリコールジグリシジルエーテル、レゾルシンジグリシジルエーテル等のポリオールポリグリシジルエーテル化合物、及びアジピン酸シグリシジルエステル、ｏ−フタル酸ジグリシジルエステル等のグリシジルエステル化合物、Ｎ−グリシジル型エポキシ樹脂、又は脂環式エポキシ樹脂（例えばダイセル化学社製「EHPE−3150」）、水添ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン−フェノール型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂等が挙げられる。これらの中でも、特にビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールＡ−ノボラック型エポキシ樹脂等の芳香族エポキシ樹脂が好適である。
レジストインク中における希釈剤可溶性エポキシ化合物の配合量は、前記作用をより効果的に生起させるために、同時に配合される希釈剤中の有機溶剤を除外したインク成分全量に対して0.1〜50重量％であることが望ましく、特に0.1〜30重量％の範囲において最適な効果を得られる。
＜C.光重合開始剤について＞
光重合開始剤としては、例えば、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル等のベンゾインとそのアルキルエーテル類、及びアセトフェノン、2,2−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、2,2−ジエトキシ−２−フェニルアセトフェノン、1,1−ジクロロアセトフェノン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン等のアセトフェノン類、及び２−メチルアントラキノン、２−アミルアントラキノン等のアントラキノン類、及び2,4−ジメチルチオキサントン、2,4−ジエチルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、2,4−ジイソプロピルチオキサントン、１−クロロ−４−プロポキシチオキサントン等のチオキサントン類、及びアセトフェノンジメチルケタール、ベンジルジメチルケタール等のケタール類、及びベンゾフェノン、3,3−ジメチル−４−メトキシベンゾフェノン、3,3',4,4'−テトラ−（ｔ−ブチルペルオキシルカルボニル）ベンゾフェノン、４−ベンゾイル−4'−メチルジフェニルスルフィド等のベンゾフェノン類又はキサントン類、及び２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノ−プロパン−１−オン、２−ベンゾイル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン−１、4,4'−ビス−ジエチルアミノベンゾフェノン等の窒素原子を含むもの、及び2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド等が挙げられ、これらは安息香酸系又はｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチルエステル、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸イソアミルエステル、２−ジメチルアミノエチルベンゾエート等の第三級アミン系等の公知の光重合促進剤及び増感剤等と併用しても良い。これらの光重合開始剤は各々単独で又は適宜互いに組み合わせて配合される。
なお、例えばイミダゾリル２量体とアミノフェニル基を持つ環状ケトン、多環キノンと３級アミン又はメロシアニンとトリアジン誘導体の組み合わせ、カチオン染料のボレート錯体等の光開始剤、増感剤等を適宜選択し、本発明に係るレジストインクを可視光又は近赤外線硬化性のものとすることができるが、紫外線硬化性を有する限りにおいてこれらを用いたのも含まれる。前記光開始剤等は可視光、近赤外線を用いるレーザ露光法等に特に有用である。
レジストインク中における光重合開始剤の配合量は、光硬化性と得られるレジストの物性の良好なバランスを得るために、同時に配合される希釈剤中の有機溶剤を除外したインク成分全量に対して0.1〜30重量％であることが望ましい。
＜D.希釈剤について＞
希釈剤としては、光重合性単量体又は有機溶剤を単独で又は併せて使用することができる。上記光重合性単量体として、例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、Ｎ−ビニルピロリドン、（メタ）アクリロイルモルフォリン、メトキシテトラエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、N,N−ジメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メチロール（メタ）アクリルアミド、N,N−ジメチルアミノプロピル（メタ）アクリルアミド、N,N−ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、N,N−ジメチルアミノプロピル（メタ）アクリレート、メラミン（メタ）アクリレート等の水溶性単量体、及びジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、イソボニル（メタ）アクリレート、シクロペンタニル（モノ又はジ）（メタ）アクリレート、シクロペンテニル（モノ又はジ）（メタ）アクリレート及び多塩基酸とヒドロキシアルキル（メタ）アクリレートとのモノ−、ジ−、トリ−又はそれ以上のポリエステル等の非水溶性単量体、及びポリエステルアクリレート、ウレタンアクリレート等のアクリレート単量体等が挙げられる。上記水溶性単量体及び非水溶性単量体等の単量体は、各々単独で或いは適宜互いに組み合わせて使用することができる。
また、上記有機溶剤としては、例えばエタノール、プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、ブチルアルコール、イソブチルアルコール、２−ブチルアルコール、ヘキサノール、エチレングリコール等の直鎖、分岐、２級或いは多価のアルコール類、及びメチルエチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類、及びトルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、スワゾールシリーズ（丸善石油社製）、ソルベッソシリーズ（エクソン・ケミカル社製）等の石油系芳香族系混合溶剤及びセロソルブ、ブチルセロソルブ等のセロソルブ類、及びカルビトール、ブチルカルビトール等のカルビトール類、及びプロピレングリコールメチルエーテル等のプロピレングリコールアルキルエーテル類、及びジプロピレングリコールメチルエーテル等のポリプロピレングリコールアルキルエーテル類、及び酢酸エチル、酢酸ブチル、セロソルブアセテート、ブチルセロソルブアセテート、ブチルカルビトールアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等の酢酸エステル類、及びジアルキルグリコールエーテル類等が挙げられる。
上記水溶性単量体及び非水溶性単量体等の光重合性単量体は、重合体成分等を希釈し、塗布し易い状態にすると共に酸価を調整し、光重合性を与える。また、上記有機溶剤は、重合体成分等を溶解、希釈し、液状として塗布可能にすると共に乾燥により造膜させる。
前記希釈剤として光重合性単量体等の光重合性を有する成分はレジストインクに必ずしも配合する必要はないが、配合する場合におけるその合計量は、希釈剤として同様に配合されている有機溶剤を除外したインク成分全量に対して50重量％以下であることが望ましい。これを50重量％を越えて配合した場合は乾燥塗膜の表面粘着性が強くなり過ぎ、パターンを描いたネガマスクを乾燥した塗膜表面に直接当てがって露光するときにネガマスクの汚損等の問題を生じ易い。
一方、上記光重合性単量体と同様に希釈剤として用いられる有機溶剤は単独で或いは２種以上の混合物で配合され、この成分は、プリキュア時に速やかに揮散し、乾燥塗膜に残存しないように選択する必要がある。レジストインク中における有機溶剤の配合量は、インク成分全量に対して５％以上配合することが望ましく、これより少ない場合はインクの塗布が困難となり易い。なお、その好適な配合量は塗布方法により異なるので、該塗布方法に応じて適宜調節する必要がある。
本発明に係るフォトソルダーレジストインクには、上記各成分の他に、耐電蝕性及び耐熱性等を阻害しない範囲で希釈剤難溶性のエポキシ化合物を配合することも可能である。また、上記レジストインクには、さらに、例えばカプロラクタム、オキシム、マロン酸エステル等でブロックされたトリレンジイソシアネート、モルホリンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート系のブロックドイソシアネート、及びｎ−ブチル化メラミン樹脂、イソブチル化メラミン樹脂、ブチル化尿素樹脂、ブチル化メラミン尿素共縮合樹脂、ベンゾグアナミン系共縮合樹脂等のアミノ樹脂等の熱硬化成分、及び紫外線硬化性エポキシアクリレート、例えばビスフェノールＡ型、フェノールノボラック型、クレゾールノボラック型、脂環型エポキシ樹脂に（メタ）アクリル酸を付加したもの、或はこれらにさらに無水マレイン酸、無水コハク酸、無水イタコン酸、無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸等の飽和又は不飽和多塩基酸無水物を付加したもの（これらはイソシアネート基を分子中に少なくとも２個有する化合物又は多塩基酸無水物等で一部架橋されていても良い）、及びスチレン−（メタ）アクリル酸−（メタ）アクリル酸エステル共重合体等のエチレン性不飽和化合物の共重合体、或いはこれらにさらにエポキシ基を有するエチレン性不飽和単量体を反応させて得られる紫外線硬化性重合体、及びエポキシ基を有するエチレン性不飽和単量体を単量体単位の一つとしたビニル共重合体に、（メタ）アクリル酸を付加した紫外線硬化性重合体、及びスチレン−マレイン酸樹脂、ジアリルフタレート樹脂、フェノキシ樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、フッ素樹脂等の高分子化合物を加えることができる。
また、上記レジストインクには、必要に応じて、さらにイミダゾール誘導体、ポリアミン類、グアナミン類、３級アミン類、４級アンモニウム塩類、ポリフェノール類、多塩基酸無水物等のエポキシ樹脂硬化剤及び硬化促進剤類、及び硫酸バリウム、酸化珪素、タルク、クレー、炭酸カルシウム等の充填剤及び着色剤、及びシリコンやアクリレート共重合体、フッ素系界面活性剤等のレベリング剤、及びシランカップリング剤等の密着性付与剤、アエロジル等のチクソトロピー剤、及びハイドロキノン、ハイドロキノンモノメチルエーテル、ピロガロール、ターシャリブチルカテコール、フェノチアジン等の重合禁止剤、ハレーション防止剤、難燃剤、消泡剤、酸化防止剤等の各種添加剤及び分散安定性を向上させるための界面活性剤や高分子分散剤等を加えても良い。
上記レジストインクは、例えば、各配合成分及び添加剤等を三本ロール、ボールミル、サンドミル等を用いる公知の混練方法によって調製される。その場合に、上記Ａ〜Ｄの成分の内の一部、例えばＡ及びＣ成分を予め混合して分散させておき、使用時に残りの成分を混合調製するという方法を採っても良い。
発明を実施するための最良の形態
以下に本発明を実施例に基づいて説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
なお、以下に使用される「部」及び「％」は、特に示さない限り、全て重量基準である。また、「重量平均分子量」は、下記測定条件に基づきGPCにより測定されたものである。
〔重量平均分子量の測定条件〕
各試料を固型分について10mg/mlとなるようにTHF溶液を調製し、各々インジェクション量100μｌにて測定した。
GPC測定装置：昭和電工社製SHODEX  SYSTEM  11
カラム      :SHODEX  KF−800P、KF−005、KF−003及びKF−001の４本直列
移動層      :THF
流  量      :1ml/分
カラム温度  :45℃
検出器      :RI
換  算      :ポリスチレン
〔合成例１〕
還流冷却器、温度計、窒素置換用ガラス管及び撹拌機を取り付けた四ツ口フラスコに、グリシジルメタクリレート70部、メチルメタクリレート10部、ターシャリーブチルメタクリレート20部、カルビトールアセテート100部、ラウリルメルカプタン0.3部、アゾビスイソブチロニトリル３部を加え、窒素気流下に加熱し、75℃において５時間重合を行ない、50％共重合体溶液を得た。上記50％共重合体溶液に、ハイドロキノン0.05部、アクリル酸37部、ジメチルベンジルアミン0.2部を加え、100℃で24時間付加反応を行い、続いてテトラヒドロ無水フタル酸38部及びカルビトールアセテート72部を加えて100℃で３時間反応させ、表１に示すように、重量平均分子量22000の50％紫外線硬化性樹脂溶液（Ａ−１）を得た。
〔合成例２〜４〕
合成例１と同様の方法により、表１に示すように、50％紫外線硬化性樹脂（Ａ−２）乃至（Ａ−４）を得た。
〔参考例１〕
還流冷却器、温度計、窒素置換用ガラス管及び攪拌機を取り付けた四ツ口フラスコに、グリシジルメタクリレート40部、メチルメタクリレート10部、スチレン50部、カルビトールアセテート100部、アゾビスイソブチロニトリル２部を加え、窒素気流下に加熱し、75℃において５時間重合を行ない、50％共重合体溶液を得た。
上記50％共重合体溶液に、ハイドロキノン0.05部、アクリル酸21部、ジメチルベンジルアミン0.2部を加え、100℃で24時間付加反応を行い、続いてテトラヒドロ無水フタル酸33部及びカルビトールアセテート52部を加えて100℃で３時間反応させ、表１に示すように、重量平均分子量32000の50％紫外線硬化性樹脂溶液（Ｂ−１）を得た。
〔参考例２〕
参考例１と同様の方法により、表１に示すように、50％紫外線硬化性樹脂溶液（Ｂ−２）を得た。
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（注１）  表１中、エチレン性不飽和基の含有率は紫外線硬化性樹脂1kg中に含まれるエチレン性不飽和基のモル数で表す。
〔参考例３〕
エピクロンＮ−680（大日本インキ化学工業社製のクレゾールノボラックエポキシ樹脂、エポキシ当量214）214部をカルビトールアセテート60部に加熱溶解したものに、撹拌下にアクリル酸74部、ハイドロキノン0.1部及びベンジルジメチルアミン0.7部を加え、常法により90〜100℃で24時間反応させた。この反応液にカルビトールアセテート95部を加え、撹拌後に冷却し、65％エポキシアクリレート溶液（Ｃ−１）を得た。
〔実施例１〜６及び比較例１〜４〕
表２及び表３に示す各配合組成の配合成分を三本ロールで混練し、実施例及び比較例に係る希アルカリ溶液で現像可能な液状フォトソルダーレジストインクを得た。なお、エピクロンＮ−695、EPPN−502H、EXA−7200H、エピコート828、デナコールEX−212を配合する場合は、これらを予め配合中のカルビトールアセテート３部で溶解して混練に供した。
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（注２）  表２〜３中、エピクロンＮ−695は大日本インキ化学工業社製クレゾールノボラック型エポキシ樹脂である。
（注３）  表２〜３中、EPPN−502Hは日本化薬社製トリス（ヒドロキシフェニル）メタンをベースとした多官能性エポキシ樹脂である。
（注４）  表２〜３中、EXA−7200Hは大日本インキ化学工業社製ジシクロ型エポキシ樹脂である。
（注５）  表２〜３中、エピコート828は油化シェルエポキシ社製ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂である。
（注６）  表２〜３中、デナコールEX−212はナガセ化成工業社製1,6−ヘキサンジオールジグリシジルエーテルである。
（注７）  表２〜３中、YX4000はエポキシ当量195の油化シェルエポキシ社製エポキシ化合物である。
（注８）  表２〜３中、TEPIC−Ｓはエポキシ当量100の日産化学工業社製エポキシ樹脂である。
（注９）  表２〜３中、イルガキュアー907はチバガイギー社製光重合開始剤である。
（注10）表２〜３中、カヤキュアーITXは日本化薬社製光重合開始剤である。
（注11）表２〜３中、モダフローはモンサント社製レベリング剤である。
（注12）表２〜３中、スワゾール1500は丸善石油化学社製芳香族系溶剤である。
各レジストインク及びそれにより最終的にソルダーレジストの形成されたプリント回路基板の各性能を下記の試験方法で評価し、それらの試験結果を表４及び表５に示した。
〔レジストインクの性能評価〕
−表面粘着性−
レジストインクを厚み35μｍの銅箔のガラスエポキシ基材からなる銅張積層板の全面にスクリーン印刷により塗布し、溶剤を揮発させるために80℃で乾燥時間10、20及び30分の各乾燥条件でプリキュアを行い、膜厚20μｍの乾燥塗膜を有する３種類の試験片を各インクについて作成した。その後、ORC  HMW201GX（オーク製作所製の減圧密着型両面露光機）にてパターンを描いたマスクを乾燥塗膜表面に直接当てがうと共に減圧密着させ、150mJ/cm2の紫外線を照射した後、各乾燥条件においてマスクを取り外すときの粘着の程度を観察した。
評価方法
×：マスクを取り外すことが困難で、無理に剥すとマスクパターンが毀損した。
△：マスクを取り外した後、乾燥塗膜上にマスクの貼付痕が認められた。
○：マスクを容易に取り外すことができ、貼付痕もなかった。
−プリキュア許容幅（プリキュア時間許容幅）−
レジストインクを厚み35μｍの銅箔のガラスエポキシ基材からなる銅張積層板の全面にスクリーン印刷により塗布し、溶剤を発揮させるために80℃で乾燥時間10、20、30、40、50、60、70及び80分の各乾燥条件でプリキュアを行い、膜厚20μｍの乾燥塗膜を有する８種類の試験片を各インクについて作成した。その後、パターンを描いたマスクを塗膜面に直接当てがって密着させ、各レジストインクにおける最適露光量の紫外線を照射し、次に１％炭酸ナトリウム水溶液を現像液として現像することにより現像性及びパターンの形成状態を観察した。
評価方法
×：未露光部も現像による除去が困難であり、パターン形成が不可能であった。
△：未露光部においても現像に長時間を要し、また微細なパターン部分についてはパターン形成が不可能であった。
○：未露光部の乾燥塗膜は容易に除去され、シャープなパターンを得ることができた。
−残存ステップ段−
レジストインクを厚み35μｍの銅箔のガラスエポキシ基材からなる銅張積層板の全面にスクリーン印刷により塗布し、溶剤を発揮させるために80℃で乾燥時間20分の乾燥条件でプリキュアを行ない、膜厚20μｍの乾燥塗膜を有する試験片を各インクについて作成した。その後、ORC  HMW201GX（オーク製作所製の減圧密着型両面露光機）にて、ステップタブレットPHOTEC21段（日立化成工業社製の露光テスト用マスク）を乾燥塗膜表面に直接当てがうと共に減圧密着させ、各々50及び150mJ/cm2の紫外線を照射し、次に１％炭酸ナトリウム水溶液を現像液として現像することにより現像後の残存ステップ段数を求め、露光感度の目安とした。
〔プリント回路基板の性能評価〕
次に、各レジストインクにより製造されたプリント回路基板の性能を確認するため、順次下記（１）から（５）の工程を経ることによりテストピースを作成した。
（１）＜塗布工程＞  厚み35μｍの銅箔のガラスエポキシ基材からなる銅張積層板に予めエッチングしてパターンを形成しておいた基板の全面にスクリーン印刷により塗布し、基板表面にレジストインク層を形成させた。
（２）＜プリキュア工程＞  塗布工程の後、基板表面のレジストインク層中の溶剤を揮発させるために80℃でプリキュアを20分行ない、膜厚20μｍの乾燥塗膜を得た。
（３）＜露光工程＞  その後、パターンを描いたマスクを乾燥塗膜表面に直接当てがうと共に各レジストインクにおける最適露光量の紫外線を照射し、基板表面上の乾燥塗膜の選択的露光を行った。
（４）＜現像工程＞  露光工程後の乾燥塗膜において、選択的に未露光となっている部分を、１％炭酸ナトリウム水溶液を現像液として現像することにより除去し、基板上に露光硬化された乾燥塗膜のパターンを形成させた。
（５）＜ポストベーク工程＞  現像工程で得られた、乾燥塗膜のパターンが形成されている基板を150℃で30分間加熱し、乾燥塗膜の熱硬化を行い、プリント回路基板のテストピースを得た。
上記工程により得られたテストピースを用いて以下の性能評価を行なった。
−解像性−
線幅及び線間が共に40μｍの同心円で構成されるマスクパターンによって形成されるパターンの形成状態を観察した。
評価方法
×：パターンが形成されなかった。
△：パターンは一応形成されるものの、その一部が欠落していた。
○：シャープなパターンを得ることができた。
−半田耐熱性−
フラックスとしてLONCO  3355−11（ロンドンケミカル社製の水溶性フラックス）を用い、まずテストピースにフラックスを塗布し、次いでこれを260℃の溶融半田浴に10秒浸漬し、水洗した後、表面白化の程度を観察した。また、クロスカットによるセロハン粘着テープ剥離試験（JIS  Ｄ  0202準拠）を行い、密着状態の変化を観察した。
表面白化の評価方法
×：著しく白化した。
△：僅かに白化が認められた。
○：異常を生じなかった。
密着性の評価方法
×：クロスカット試験をするまでもなく、レジストの膨れ又は剥離を生じた。
△：テープ剥離時にクロスカット部分に一部剥離を生じた。
○：クロスカット部分の剥離を生じなかった。
−その他の試験項目−
常法により評価した。
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産業上の利用可能性
本発明に係る希アルカリ溶液で現像可能なフォトソルダーレジストインクは以上のように構成されるので、これを使用する作業工程においてはプリキュア許容幅が広く、プリキュア後の基板の長期保存が可能であり、また解像性、感度を良好なものとすることができる。また、本発明のソルダーレジストインク或いは本発明のソルダーレジストインクを用いるプリント回路基板の製造方法を使用した場合、最終的に基板上に形成されたソルダーレジストは、優れた基板密着性、耐薬品性、耐金メッキ性及び電気特性並びに特に優れた半田耐熱性及び耐電蝕性等を示す。
したがって、上記レジストインクを用いて製造されたプリント回路基板は、優れた基板密着性、耐薬品性、電気特性及び耐金メッキ性並びに特に優れた半田耐熱性及び耐電蝕性等を有し、しかも経時的な物性変化が小さい。
これらの特徴により、上記レジストインクは、高品位のプリント回路基板を高い生産性で製造することを可能とし、またこれを用いて製造された回路基板は品質のばらつきが少なく、最終的に電気製品に組み込まれた場合において長期的故障の発生を減少させることに寄与する。