(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
処理室内を、複数枚の被処理体を収容したキャリアの搬入搬出、保管及び搬送等を行うキャリア処理空間部と、熱処理炉を収容し、この熱処理炉内に搬入搬出される被処理体保持具と前記キャリアとの間での被処理体の移載等を行う被処理体処理空間部とに分け、これらキャリア処理空間部と被処理体処理空間部とにクリーンエアを導入、循環及び排気するクリーンエア循環系を独立して設け、前記キャリア処理空間部のクリーンエア循環系が、前記処理室の上方外部から導入したクリーンエアをキャリア処理空間部の上方に設けられたキャリア保管部に水平に吹き出す第１の空気清浄部と、この第１の空気清浄部から吹き出されたクリーンエアを吸い込んで前記処理室の前部に設けられたキャリア搬出入口に沿って下方へ吹き出す第２の空気清浄部と、この第２の空気清浄部から吹き出されて下方に至ったクリーンエアを上方外部へ排気する排気ダクト部とを備えたことを特徴とする処理装置。
【請求項２】
処理室内を、複数枚の被処理体を収容したキャリアの搬入搬出、保管及び搬送等を行うキャリア処理空間部と、熱処理炉を収容し、この熱処理炉内に搬入搬出される被処理体保持具と前記キャリアとの間での被処理体の移載等を行う被処理体処理空間部とに分け、これらキャリア処理空間部と被処理体処理空間部とにクリーンエアを導入、循環及び排気するクリーンエア循環系を独立して設け、前記被処理体処理空間部のクリーンエア循環系が、前記処理室の後方外部から導入したクリーンエアを前記被処理体処理空間部の一側壁部から他側壁部に向って水平に吹き出す第３の空気清浄部と、この第３の空気清浄部から吹き出されて他側壁部に至ったクリーンエアを後方外部へ排気する排気部とを備えたことを特徴とする処理装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】
本発明は、処理装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
一般に、半導体装置の製造工程においては、被処理体である半導体ウエハに酸化、拡散、ＣＶＤなどの各種の処理を施す工程があり、この処理工程におけるスループットの向上、無塵化及び省スペース化等を図る観点から、種々の処理装置が提案されている（特開平４−１３３４２２号公報、特開平４−１４８７１７号公報、特開平４−１４８１４０号公報等参照）。
【０００３】
例えば、特開平４−１３３４２２号公報に記載された処理装置は、被処理体保持具であるウエハボートを介して一度に多数枚の半導体ウエハの熱処理が可能な縦型の熱処理炉を箱状の処理室内の後部上方に収容し、この処理室内の前部に複数枚の半導体ウエハを垂直に収容したキャリアを搬入搬出するためのキャリア搬出入口を設けている。この場合、半導体ウエハを前記熱処理炉内に搬入搬出されるウエハボートに水平状態で多数枚移載する必要があることから、前記搬出入口の近傍にはキャリアを半導体ウエハが垂直から水平になるように姿勢変換する姿勢変換機構が設けられ、この姿勢変換機構の上方には姿勢変換されたキャリアを処理に必要な個数だけ収容保管するキャリア保管部が設けられている。そして、このキャリア保管部からキャリアを搬送機構により熱処理炉側に順次搬送し、そのキャリア内の半導体ウエハを移載機構により前記ウエハボートに順次移載するようになっている。
【０００４】
また、前記処理室内には、その上方外部から導入したクリーンエアを前記キャリア保管部に水平に吹き出す第１の空気清浄部と、この第１の空気清浄部から吹き出されたクリーンエアを吸い込んで前記キャリア搬出入口に沿って下方へ吹き出す第２の空気清浄部と、この第２の空気清浄部から吹き出されて下方に至ったクリーンエアを底部ダクトを介して吸い込んで前記熱処理炉側の一側壁部から他側壁部に向って水平に吹き出す第３の空気清浄部と、その他側壁部に至ったクリーンエアを処理室の後方外部へ排気する排気ダクトとが設けられている。これにより前記処理室内の雰囲気を清浄化して塵埃を低減させ、半導体ウエハに対する塵埃（パーティクル）の付着を抑制して、超微細化傾向にある半導体素子の歩留りの向上を図っている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、前記処理装置においては、処理室内においてクリーンエアを空気洗浄部に何回も通過させるため、塵埃による半導体ウエハの汚染を十分に防止することが可能であるが、空気洗浄部の除塵用フィルタから発生するボロン化合物等の有機化合物の不純ガスによる汚染が微量ではあるが増大する傾向があり、その防止対策を施す必要がある。
【０００６】
また、クリーンエアを処理室内の全体に順次連続的に循環させるように構成されているため、処理室内の雰囲気をキャリアの搬入搬出、保管及び搬送等を行うキャリア処理空間部と、熱処理炉を収容し、キャリアとウエハボートの間での半導体ウエハの移載等を行うウエハ処理空間部（被処理体処理空間部）とに隔絶することが困難である。
【０００７】
そこで、本発明の目的は、不純ガスによる被処理体の汚染を低減させることができると共に、処理室内の雰囲気をキャリア処理空間部と被処理体処理空間部とに容易に隔絶することができる処理装置を提供することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
前記目的を達成するために請求項１記載の処理装置は、処理室内を、複数枚の被処理体を収容したキャリアの搬入搬出、保管及び搬送等を行うキャリア処理空間部と、熱処理炉を収容し、この熱処理炉内に搬入搬出される被処理体保持具と前記キャリアとの間での被処理体の移載等を行う被処理体処理空間部とに分け、これらキャリア処理空間部と被処理体処理空間部とにクリーンエアを導入、循環及び排気するクリーンエア循環系を独立して設け、前記キャリア処理空間部のクリーンエア循環系が、前記処理室の上方外部から導入したクリーンエアをキャリア処理空間部の上方に設けられたキャリア保管部に水平に吹き出す第１の空気清浄部と、この第１の空気清浄部から吹き出されたクリーンエアを吸い込んで前記処理室の前部に設けられたキャリア搬出入口に沿って下方へ吹き出す第２の空気清浄部と、この第２の空気清浄部から吹き出されて下方に至ったクリーンエアを上方外部へ排気する排気ダクト部とを備えたことを特徴とする。
【００１０】
請求項２記載の処理装置は、処理室内を、複数枚の被処理体を収容したキャリアの搬入搬出、保管及び搬送等を行うキャリア処理空間部と、熱処理炉を収容し、この熱処理炉内に搬入搬出される被処理体保持具と前記キャリアとの間での被処理体の移載等を行う被処理体処理空間部とに分け、これらキャリア処理空間部と被処理体処理空間部とにクリーンエアを導入、循環及び排気するクリーンエア循環系を独立して設け、前記被処理体処理空間部のクリーンエア循環系が、前記処理室の後方外部から導入したクリーンエアを前記被処理体処理空間部の一側壁部から他側壁部に向って水平に吹き出す第３の空気清浄部と、この第３の空気清浄部から吹き出されて他側壁部に至ったクリーンエアを後方外部へ排気する排気部とを備えたことを特徴とする。
【００１１】
【作用】
請求項１記載の処理装置によれば、処理室内をキャリア処理空間部と被処理体処理空間部とに分け、これら処理空間部にクリーンエア循環系を独立してそれぞれ設けたので、クリーンエアを空気清浄部に何回も通過させて処理室内の全体を連続的に循環させる従来の処理装置と比べて、クリーンエアを空気清浄部に通過させる回数が減り、空気清浄部の除塵用フィルタから発生する不純ガスによる被処理体の汚染を特別な防止対策を必要とせずに簡単な構成で低減させることが可能となり、また、処理室内の雰囲気をキャリア処理空間部と被処理体処理空間部とに容易に隔絶することが可能となるため、被処理体処理空間部のみを不活性ガス雰囲気にするなどの所望の処理方法を容易に適用することが可能となり、特に、前記キャリア処理空間部のクリーンエア循環系が、前記処理室の上方外部から導入したクリーンエアを第１の空気清浄部を介してキャリア処理空間部上方のキャリア保管部に水平に吹き出し、この吹き出されたクリーンエアを第２の空気清浄部を介して前記処理室前部のキャリア搬出入口に沿って下方へ吹き出し、この吹き出されて下方に至ったクリーンエアを排気ダクト部を介して上方外部へ排気するため、キャリア処理空間部の雰囲気を独立して効率よく清浄化することが可能となる。
【００１３】
請求項２記載の処理装置によれば、処理室内をキャリア処理空間部と被処理体処理空間部とに分け、これら処理空間部にクリーンエア循環系を独立してそれぞれ設けたので、クリーンエアを空気清浄部に何回も通過させて処理室内の全体を連続的に循環させる従来の処理装置と比べて、クリーンエアを空気清浄部に通過させる回数が減り、空気清浄部の除塵用フィルタから発生する不純ガスによる被処理体の汚染を特別な防止対策を必要とせずに簡単な構成で低減させることが可能となり、また、処理室内の雰囲気をキャリア処理空間部と被処理体処理空間部とに容易に隔絶することが可能となるため、被処理体処理空間部のみを不活性ガス雰囲気にするなどの所望の処理方法を容易に適用することが可能となり、特に、前記被処理体処理空間部のクリーンエア循環系が、前記処理室の後方外部から導入したクリーンエアを第３の空気清浄部を介して前記被処理体処理空間部の一側壁部から他側壁部に向かって水平に吹き出し、この吹き出されて他側壁部に至ったクリーンエアを排気部を介して後方外部へ排気するため、被処理体処理空間部の雰囲気を独立して効率よく清浄化することが可能となる。
【００１４】
【実施例】
以下に、本発明の一実施例を添付図面に基づいて詳述する。
【００１５】
処理装置の側断面図構成を示す図１において、１は処理装置のハウジングを形成する例えば鉄板等により箱状に形成された処理室であり、この処理室１内の後部上方には下部に炉口を有する円筒状の反応管、その周囲を覆うように配置されたヒータ及び断熱材等からなる縦型の熱処理炉２が設置されている。
【００１６】
この熱処理炉２の下方の空間部（ローディングエリア）には図５にも示すように炉口を開閉する蓋体３が昇降機構４により昇降可能に設けられ、この蓋体３上には被処理体である半導体ウエハＷを水平状態で上下方向に所定の間隔を存して多数枚例えば１５０枚程度保持する被処理体保持具である例えば石英製のウエハボート５が保温筒６を介して載置されている。半導体ウエハＷを保持したウエハボート５は、蓋体３の昇降に伴って保温筒６と共に前記熱処理炉２内に搬入搬出（ロード、アンロード）されるように構成されている。
【００１７】
一方、前記処理室１の前部には半導体ウエハＷを垂直に複数枚例えば２５枚程度収容するプラスチック容器であるキャリア７を搬入搬出するために図示しない透明材質製のスライドドアを備えたキャリア搬出入口８が設けられ、処理室１内のキャリア搬出入口８近傍にはキャリア７を載置する載置台９を有し、この載置台９を介してキャリア７をキャリア７内の半導体ウエハＷが垂直から水平になるように姿勢変換する姿勢変換機構１０が設けられている。なお、この姿勢変換機構１０としては、例えば特開平４−１４８７１７号公報に記載されているような公知のものが適用可能であり、前記載置台９には半導体ウエハＷの周縁部に形成されたオリエンテーションフラット等の切欠部が所定方向に向くように半導体ウエハＷを整列させる整列機構、半導体ウエハＷの枚数等を検知するウエハセンサ等が設けられていてもよい。また、前記載置台９等には載置台９の上方から下方へ流れるクリーンエアの気流を通過させるための多数の図示しない通気孔が形成されている（図示省略）。
【００１８】
そして、姿勢変換機構１０の上方領域には姿勢変換されたキャリア７を複数個収容する棚状のキャリア保管部１１が設けられと共に、熱処理炉２側には前記キャリア７を半導体ウエハＷの移載のために載置する移載部１２が設けられ、キャリア保管部１１と移載部１２との間にはキャリア７の搬送を行う搬送機構１３が、移載部１２とローディグエリアのウエハボート５との間には半導体ウエハＷの移載を行う移載機構１４がそれぞれ設けられている。
【００１９】
本実施例のキャリア保管部１１は前記載置台９と平行に走行可能に設けられた搬送機構１３の走行空間部を挟んで前後に設けられ、後部キャリア保管部１１Ａには左右及び上下に計１２個のキャリア７を、前部キャリア保管部１１Ｂには左右及び上下に計４個のキャリア７をそれぞれ収容保管できるように構成されている。また、本実施例の移載部１２は後部キャリア保管部１１Ａの下方に配置され、キャリア７を上下に２個載置できるように構成されている。
【００２０】
前記搬送機構１３は、支柱１５を有する走行部１６と、その支柱１５に昇降可能に設けられた昇降フレーム１７と、この昇降フレーム１７に水平方向に屈伸可能に設けられてキャリア７の下部を支持する搬送アーム１８とを備えている。この搬送機構１３は、載置台９とキャリア保管部１１との間、キャリア保管部１１と移載部１２との間、及び載置台９と移載部１２との間でキャリア７の受取り受渡しができるように構成されている。
【００２１】
また、前記移載機構１４は、昇降可能に設けられた昇降フレーム１９と、この昇降フレーム１９上に水平回動可能に設けられた矩形の回動フレーム２０と、この回動フレーム２０上にその長手方向に沿って往復移動可能に設けられた移動体２１と、この移動体２１の移動方向一端に設けられ、複数枚例えば５枚程度の半導体ウエハＷを上下方向に適宜間隔で支持する平板状の移載アーム２２とを備えている。この移載機構１４は、処理前の半導体ウエハＷを移載部１２のキャリア７内から順次取り出してウエハボート５に移載し、また、処理後の半導体ウエハＷをウエハボート５から順次取り出してキャリア７内に移載するように構成されている。
【００２２】
このように処理室１内は、キャリア７の搬入搬出、保管及び搬送等を行うキャリア処理空間部２３と、熱処理炉２を収容し、この熱処理炉２内に搬入搬出されるウエハボート５と前記キャリア７との間での半導体ウエハＷの移載等を行うウエハ処理空間部（被処理体処理空間部）２４とに分けられている。そして、これらキャリア処理空間部２３とウエハ処理空間部２４とには、図２ないし図３に示すようにクリーンエアを導入、循環及び排気するクリーンエア循環系２５，２６が互に独立して設けられている。
【００２３】
前記キャリア処理空間部２３のクリーンエア循環系２５は、前記処理室１の上方外部から導入したクリーンエアをキャリア処理空間部２３上方のキャリア保管部１１に水平に吹き出す第１の空気清浄部２７と、この第１の空気清浄部２７から吹き出されたクリーンエアを吸い込んで前記処理室１前部のキャリア搬出入口８に沿って下方へ吹き出す第２の空気清浄部２８と、この第２の空気清浄部２８から吹き出されて下方に至ったクリーンエアを上方外部へ排気する排気ダクト部２９とを備えている。前記第１の空気清浄部２７は、前記後部キャリア保管部１１Ａの背面部に設置された箱状のケーシング３０を備えており、図４に示すようにこのケーシング３０の上端部には処理室１外であるクリーンルーム内に開口した吸気口３１が設けられ、この吸気口３１には通気性に優れたスポンジ状或いはメッシュ状のプレフィルタ３２が取付けられている。
【００２４】
前記ケーシング３０の前面部はキャリア保管部１１に臨んで開放されており、この開放部にクリーンルームから導入されたクリーンエアに含まれている塵埃を除去する例えばＨＥＰＡフィルタ等からなる第１の除塵用フィルタ３３が取付けられている。また、ケーシング３０内には吸気口３１からクリーンエアを吸い込んで前記第１の除塵用フィルタ３３を介してキャリア保管部１１に水平に吹き出すための例えばシロッコファン等からなる送風性に優れた複数個の送風機３４が取付けられており、これにより後部キャリア保管部１１Ａから前部キャリア保管部１１Ｂに向うクリーンエアの水平気流Ｘが形成され、キャリア保管部１１に保管されたキャリア７内に水平に収容されている半導体ウエハＷ間の雰囲気を清浄に維持できるように構成されている。
【００２５】
前記前部キャリア保管部１１Ｂの下部で前記キャリア搬出入口８の上部には、前記第２の空気清浄部２８が設けられている。この第２の空気清浄部２８は、下部が開放され、上部に前部キャリア保管部１１Ｂの背面部に立上がった偏平な吸気ダクト部３５を有するケーシング３６を備えており、その吸気ダクト部３５のキャリア保管部１１に臨む面にはパンチング加工された多数の吸気孔３７が形成されている。また、ケーシング３６の下部開放部には前記第１の除塵用フィルタ３３と同様の第２の除塵用フィルタ３８が取付けられ、ケーシング３６内には前記吸気孔３７から吸い込んだクリーンエアを第２の除塵用フィルタ３８を介して下方へ吹き出すための送風機３９が取付けられている。これにより前部キャリア保管部１１Ｂからキャリア搬出入口８に沿って下方へ向うクリーンエアの垂直気流Ｙが形成され、姿勢変換機構１０の載置台９上に載置されたキャリア７内に垂直に収容されている半導体ウエハＷ間の雰囲気を清浄に維持できるように構成されている。
【００２６】
前記垂直気流Ｙの下流で移載部１２の下部には、前記排気ダクト部２９が設けられている。この排気ダクト部２９は、処理室１内の底部を横断する如く水平に配置されたダクト本体４０と、このダクト本体４０の一側部に連通接続され、上端部が処理室１の上方外部に排気口４１として開口された垂直ダクト４２とから主に構成されており、ダクト本体４０の前面部には複数の排気用送風機４３が取付けられている。
【００２７】
一方、前記ウエハ処理空間部２４のクリーンエア循環系２６は、前記処理室１の後方外部から導入したクリーンエアを前記ウエハ処理空間部２４の一側壁部から他側壁部に向って水平に吹き出す第３の空気清浄部４４と、この第３の空気清浄部４４から吹き出されて他側壁部に至ったクリーンエアを後方外部へ排気する排気部４５とを備えている。具体的には、処理室１の後部には保守点検用の開口部及びこれを開閉するドア４６が設けられ、このドア４６の下側に吸気口４７が形成されており、前記第３の空気清浄部４４はその吸気口４７を介して処理室１の後方外部からクリーンエアを導入するようになっている。この第３の空気清浄部４４は、図５に示すようにローディングエリアの一側壁部に取付けられた偏平なケーシング４８を備え、このケーシング４８の前面下部に吸込口４９が形成されている。このケーシング４８の吸込口４９上方の前面部は開放されており、この開放部に前記第１の除塵用フィルタ３３と同様の第３の除塵用フィルタ５０が取付けられている。
【００２８】
また、前記吸込口４９内には吸気口４７から導入したクリーンエアを吸い込んで前記第３の除塵用フィルタ５０を介してローディングエリアに水平に吹き出すための送風機５１が取付けられており、これによりローディングエリアで対向する一側壁部から他側壁部に向うクリーンエアの水平気流Ｚが形成され、ウエハボート５に水平に移載される半導体ウエハＷ間の雰囲気を清浄に維持できると共に、熱処理炉２から搬出されたウエハボート５及び熱処理後の半導体ウエハＷを冷却できるように構成されている。そして、処理室１の後壁下部における前記他側壁部近傍には、例えば排気ファンからなる前記排気部４５が設けられ、他側壁部に至ったクリーンエアを処理室１の後方外部へ排気するようになっている。
【００２９】
次に、実施例の作用を述べる。先ず、キャリア７を例えば搬送ロボット等により処理装置のキャリア搬出入口８から姿勢変換機構１０の載置台９上に載置した後、この載置台９を介してキャリア７を９０度回動させて半導体ウエハＷが垂直から水平になるように姿勢変換する。そして、このキャリア７を搬送機構１３によりキャリア保管部１１へ搬送し、以上の動作を繰り返して所望個数のキャリア７をキャリア保管部１１に収容する。
【００３０】
しかる後、順次キャリア保管部１１のキャリア７を搬送機構１３により移載部１２に搬送し、移載機構１４によりこのキャリア７内の半導体ウエハＷをローディングエリアに降ろされているウエハボート５に移載する。この場合、空になったキャリア７は搬送機構１３により順次キャリア保管部１１へ戻される。
【００３１】
そして、所望枚数の半導体ウエハＷの移載が終了すると、昇降機構４によりウエハボート５及び保温筒６を熱処理炉２内に搬入すると共に炉口を蓋体３で閉じ、所定時間、所定温度、所定雰囲気で所望の熱処理を実施し、熱処理が終了すると、ウエハボート５を熱処理炉２内からローディングエリアへ搬出する。なお、処理後の半導体ウエハＷは冷却後、前記とは逆の手順で順次ウエハボート５からキャリア７内に移載され、そのキャリア７はキャリア保管部１１に搬送されて保管され、その後、姿勢変換機構１０の載置台９を介してキャリア搬出入口８から処理室１外へ搬出される。
【００３２】
このようなキャリア７及び半導体ウエハＷの搬送、移載等の処理工程において、キャリア処理空間部２３では先ず第１の空気清浄部２７により処理室１の上方外部からプレフィルタ３２を介して導入したクリーンエアを第１の除塵フィルタ３３を介して水平気流Ｘとしてキャリア保管部１１に吹き出し、次いで第２の空気清浄部２８により前記水平気流Ｘのクリーンエアを吸気ダクト部３５の吸気孔３７から吸込んで第２の除塵用フィルタ３８を介して垂直気流Ｙとして下方へ吹き出し、次いで排気ダクト部３５により前記垂直気流Ｙのクリーンエアをダクト本体４０に吸込んで垂直ダクト４２を介して処理室１の上方外部へ排気する。従って、前記クリーンエアの水平気流Ｘにより前後のキャリア保管部１１Ａ，１１Ｂに保管されたキャリア７内に水平に収容されている半導体ウエハＷ間の雰囲気を清浄に維持することができると共に、前記クリーンエアの垂直気流Ｙにより姿勢変換機構１０の載置台９上に載置されたキャリア７内に垂直に収容されている半導体ウエハＷ間の雰囲気を清浄に維持することができる。
【００３３】
また、ウエハ処理空間部２４では先ず第３の空気清浄部４４により処理室１の後方外部から吸気口４７を介して導入したクリーンエアを第３の除塵用フィルタ５０を介して水平気流Ｚとしてローディングエリアに吹き出し、次いで排気部４５により前記水平気流Ｚのクリーンエアを処理室１の後方外部に排気する。従って、前記クリーンエアの水平気流Ｚによりウエハボート５に水平に移載される半導体ウエハＷ間の雰囲気を清浄に維持することができると共に、熱処理炉２からローディングエリアに搬出されたウエハボート５及び熱処理後の半導体ウエハＷを効率よく冷却することができる。
【００３４】
特に、処理室１内をキャリア処理空間部２３とウエハ処理空間部２４とに分け、これらキャリア処理空間部２３とウエハ処理空間部２４とにクリーンエア循環系２５，２６を互に独立して設けたので、クリーンエアを空気清浄部に何回も通過させて処理室内の全体を連続的に循環させる従来の処理装置と比べて、クリーンエアを空気清浄部に通過させる回数を減らすことができ、空気清浄部の除塵用フィルタから発生する不純ガスによる半導体ウエハの汚染を特別な防止対策を必要とせずに簡単な構成で十分に低減させることができる。しかも、独立したクリーンエア循環系２５，２６によりキャリア処理空間部２３とウエハ処理空間部２４とに個別にクリーンエアを供給、循環させるため、各クリーンエア循環系２５，２６の送風量は少なくて済み、送風機３４，３９，４３，５１の小型化、延いては処理装置の小型化が図れる。
【００３５】
また、このようにキャリア処理空間部２３とウエハ処理空間部２４とにクリーンエア循環系２５，２６を独立して設けたことから、例えばキャリア処理空間部２３とウエハ処理空間部２４とを開閉シャッター等で仕切ることにより処理室１内の雰囲気をキャリア処理空間部２３とウエハ処理空間部２４とに容易に隔絶することができるため、ウエハ処理空間部２４のみを不活性ガス雰囲気例えば窒素（Ｎ２）ガス雰囲気にするなどの所望の処理方法を容易に適用することが可能となる。なお、この場合には、前記吸気口４７及び排気部４５は遮蔽され、ウエハ処理空間部２４には不活性ガス専用の給排手段によって不活性ガスが給排されることになる。更に、前記処理装置においては、キャリア処理空間部２３のクリーンエア循環系２５の吸気口３１及び排気口４１が処理室１の上部に配設されていると共に、ウエハ処理空間部２４のクリーンエア循環系２６の吸気口４７及び排気部４５が処理室１の後部に配設されているため、複数台の処理装置を隣接して設置した場合でも、クリーンエアの吸排を支障なく行うことができる。
【００３６】
なお、本発明は、前記実施例に限定されるものではなく、本発明の要旨の範囲内で種々の変形実施が可能である。例えば、実施例における第１〜第３の空気清浄部２７，２８，４４に第１〜第３の除塵用フィルタ３３，３８，５０と共に不純ガスを吸着除去する例えば活性炭フィルタを設けてもよく、これにより不純ガスによる半導体ウエハＷの汚染を防止することが可能となる。また、前記実施例ではウエハ処理空間部２４のクリーンエア循環系２６がドア４６に設けた吸気口４７からクリーンエアを導入するようになっているが、この吸気口４７の代りに第３の空気清浄部４４に吸込口４９の他に処理室１の後方外部からクリーンエアを直接導入する吸気口を設けてもよい。更に、本発明の処理装置に適用される被処理体としては、半導体ウエハＷ以外に、例えばＬＣＤ基板等が適用可能である。
【００３７】
【発明の効果】
以上要するに本発明によれば、次のような優れた効果が得られる。
【００３８】
（１）請求項１記載の処理装置によれば、処理室内をキャリア処理空間部と被処理体処理空間部とに分け、これら処理空間部にクリーンエア循環系を独立してそれぞれ設けたので、クリーンエアを空気清浄部に何回も通過させて処理室内の全体を連続的に循環させる従来の処理装置と比べて、クリーンエアを空気清浄部に通過させる回数が減り、空気清浄部の除塵用フィルタから発生する不純ガスによる被処理体の汚染を特別な防止対策を必要とせずに簡単な構成で低減させることができ、また、処理室内の雰囲気をキャリア処理空間部と被処理体処理空間部とに容易に隔絶することができるため、被処理体処理空間部のみを不活性ガス雰囲気にするなどの所望の処理方法を容易に適用することができ、特に、前記キャリア処理空間部のクリーンエア循環系が、前記処理室の上方外部から導入したクリーンエアを第１の空気清浄部を介してキャリア処理空間部上方のキャリア保管部に水平に吹き出し、この吹き出されたクリーンエアを第２の空気清浄部を介して前記処理室前部のキャリア搬出入口に沿って下方へ吹き出し、この吹き出されて下方に至ったクリーンエアを排気ダクト部を介して上方外部へ排気するため、キャリア処理空間部の雰囲気を独立して効率よく清浄化することができる。
【００４０】
（２）請求項２記載の処理装置によれば、処理室内をキャリア処理空間部と被処理体処理空間部とに分け、これら処理空間部にクリーンエア循環系を独立してそれぞれ設けたので、クリーンエアを空気清浄部に何回も通過させて処理室内の全体を連続的に循環させる従来の処理装置と比べて、クリーンエアを空気清浄部に通過させる回数が減り、空気清浄部の除塵用フィルタから発生する不純ガスによる被処理体の汚染を特別な防止対策を必要とせずに簡単な構成で低減させることができ、また、処理室内の雰囲気をキャリア処理空間部と被処理体処理空間部とに容易に隔絶することができるため、被処理体処理空間部のみを不活性ガス雰囲気にするなどの所望の処理方法を容易に適用することができ、特に、前記被処理体処理空間部のクリーンエア循環系が、前記処理室の後方外部から導入したクリーンエアを第３の空気清浄部を介して前記被処理体処理空間部の一側壁部から他側壁部に向って水平に吹き出し、この吹き出されて他側壁部に至ったクリーンエアを排気部を介して後方外部へ排気するため、被処理体処理空間部の雰囲気を独立して効率よく清浄化することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施例である処理装置を示す断面図である。
【図２】キャリア処理空間部のクリーンエア循環系を示す斜視図である。
【図３】ウエハ処理空間部のクリーンエア循環系を示す斜視図である。
【図４】キャリア処理空間部のクリーンエア循環系を示す断面図である。
【図５】ウエハ処理空間部のクリーンエア循環系の一部分を示す断面図である。
【符号の説明】
Ｗ  半導体ウエハ（被処理体）
１  処理室
２  熱処理炉
５  ウエハボート（被処理体保持具）
７  キャリア
８  キャリア搬出入口
１１  キャリア保管部
２３  キャリア処理空間部
２４  ウエハ処理空間部（被処理体処理空間部）
２５，２６  クリーンエア循環系
２７  第１の空気清浄部
２８  第２の空気清浄部
２９  排気ダクト部
４４  第３の空気清浄部
４５  排気部
【図１】
0003565577.tif 000002
【図２】
0003565577.tif 000003
【図３】
0003565577.tif 000004
【図４】
0003565577.tif 000005
【図５】
0003565577.tif 000006