(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
所定温度に加熱することにより活性化される酸化触媒の非加熱時に、厨芥処理装置からの臭気ガスを脱臭装置のガス流路上方の吸気口からファンにより引き込んで前記酸化触媒を通過させ、ガス流路の下流へ流す工程と、
酸化触媒を通過してきたガス流路内の臭気ガスを吸着型酸化触媒により常温で吸着除去してからガス流路下方の処理ガス排気口より排気する工程と、
吸着型酸化触媒の加熱再生に先立ち酸化触媒を第１のヒータにて活性温度に加熱した後、ファンを停止させる工程と、
吸着型酸化触媒を第２のヒータにて加熱再生する工程と、
吸着型酸化触媒の加熱再生時に脱着放出される臭気ガスを該吸着型酸化触媒および活性温度に加熱された前記酸化触媒にて接触分解する工程と、
酸化触媒の温度を第１の温度センサによって検知するとともに、該第１の温度センサにタイマを連動させ、該酸化触媒が活性温度に加熱されて以後の、第１のヒータによる該酸化触媒の最適温度制御および第２のヒータによる吸着型酸化触媒の再生運転制御、ならびにファンの運転制御の、継続時間をタイマで制御する工程と、
を有することを特徴とする厨芥処理装置の脱臭方法。
【請求項２】
処理ガス排気口より排気される排気ガスの濃度を臭気センサによって検知し、その検知結果に基づき、酸化触媒を加熱する第１のヒータの運転を制御することを特徴とする請求項１記載の厨芥処理装置の脱臭方法。
【請求項３】
酸化触媒が活性温度まで昇温した時点の吸着型酸化触媒の温度を第２の温度センサによって検知し、この検知された吸着型酸化触媒の温度に基づいて、前記酸化触媒が活性温度に加熱されて以後の、第１のヒータによる該酸化触媒の最適温度制御および第２のヒータによる吸着型酸化触媒の再生運転制御の、継続時間を演算し、演算された継続時間をタイマに設定することを特徴とする請求項１記載の厨芥処理装置の脱臭方法。
【請求項４】
吸着型酸化触媒の温度を第２の温度センサによって検知し、該吸着型酸化触媒の温度が所定温度まで下がったらファンの運転を再開することを特徴とする請求項１乃至請求項３のいずれかに記載の厨芥処理装置の脱臭方法。
【請求項５】
厨芥処理装置の排気路に接続されたガス流路内に配置され、所定温度に加熱することにより活性化される酸化触媒と、
該酸化触媒を活性温度に加熱するための石英管ヒータあるいはセラミック管ヒータからなる第１のヒータと、
厨芥処理装置からの臭気ガスを前記酸化触媒の非加熱時に前記ガス流路内に導入するファンと、
前記ガス流路内の前記酸化触媒よりも下流側に配置され、前記ファンにより引き込まれて該酸化触媒を通過してきたガス流路内の臭気ガスを常温で吸着除去する吸着型酸化触媒と、
該吸着型酸化触媒を再生温度に加熱するための石英管ヒータあるいはセラミック管ヒータからなる第２のヒータと、
を備えたことを特徴とする厨芥処理装置の脱臭装置。
【請求項６】
ガス流路を上下方向に設定し、酸化触媒を吸着型酸化触媒の上方に配置したことを特徴とする請求項５記載の厨芥処理装置の脱臭装置。
【請求項７】
吸着型酸化触媒を所定間隔おいて直列に複数設置したことを特徴とする請求項５又は請求項６記載の厨芥処理装置の脱臭装置。
【請求項８】
酸化触媒と第１のヒータ、及び吸着型酸化触媒と第２のヒータを、それぞれ一体化したことを特徴とする請求項５乃至請求項７のいずれかに記載の厨芥処理装置の脱臭装置。
【請求項９】
第１及び第２のヒータの内部に挿入されているコイルの巻き密度を、両端は密に、中央は粗になるように設定したことを特徴とする請求項５記載の厨芥処理装置の脱臭装置。
【請求項１０】
酸化触媒を加熱する第１のヒータと吸着型酸化触媒との間に、ガス流路を確保しながら熱的に遮断する遮蔽板を設けたことを特徴とする請求項５乃至請求項９のいずれかに記載の厨芥処理装置の脱臭装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本装置は、厨芥処理装置による生ごみ処理中に発生する悪臭を吸着し、分解させる脱臭方法およびその装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
微生物製剤を用いた厨芥処理装置は、家庭の台所、各種厨房等から排出される厨芥（生ごみ）を発酵処理して堆肥化することにより、排出される厨芥の減量と有効利用を図ることを目的として開発されたものであるが、生ごみ処理中に発生する臭気が問題となり、そのままでは室内に置くことが困難である。また、室外に置いても周囲に悪影響を与える場合がある。このため従来より、厨芥処理装置による生ごみ処理中に発生する悪臭を吸着脱臭剤や触媒によって除去する方法や装置が種々提案されている。
【０００３】
図６乃至図８はいずれも特開平５−９７５５９号公報に示されている厨芥処理装置に搭載された従来の脱臭装置を示すもので、図６は粒状酸化触媒を用いた脱臭装置の断面図、図７は板状酸化触媒を用いた脱臭装置の断面図、図８は光触媒を用いた脱臭装置の断面図である。
【０００４】
図６に示す粒状酸化触媒を用いた脱臭装置（第１従来例）は、その筒状容器からなる本体１が縦型に配置され、本体１の下面に図示しない厨芥処理装置の排気路に連なる臭気ガスの導入孔２が、上面に処理ガスの排気口３が、それぞれ設けられている。導入孔２から排気口３に至るガス流路の途中には、本体１の周壁に埋め込んだヒータ４で加熱することによって活性化する粒状酸化触媒５がガス流路を遮るように収納されている。
このようなものにおいて、導入孔２より導入された臭気ガスは、排気口３に向かって垂直上方に流れる間に、粒状酸化触媒５によって酸化され、脱臭されるようになっている。
【０００５】
図７に示す板状酸化触媒を用いた脱臭装置（第２従来例）は、筒状容器からなる本体１１が横型に配置され、本体１１の左側端面に図示しない厨芥処理装置の排気路に連なる臭気ガスの導入孔１２が、右側端面に処理ガスの排気口１３が、それぞれ設けられている。導入孔１２から排気口１３に至るガス流路の途中には、本体１１の周壁に埋め込んだヒータ１４で加熱することによって活性化する板状酸化触媒１５が、ガスの流れに沿って平行となるように複数枚間隔をおいて積層されている。
このようなものにおいて、導入孔１２より導入された臭気ガスは、排気口１３に向かって水平方向に流れる間に、板状酸化触媒１５によって酸化され、脱臭されるようになっている。
【０００６】
図８に示す光触媒を用いた脱臭装置（第３従来例）は、筒状容器からなる本体２１が横型に配置され、本体２１の左側端面に図示しない厨芥処理装置の排気路に連なる臭気ガスの導入孔２２が、右側端面に処理ガスの排気口２３が、それぞれ設けられている。導入孔２２から排気口２３に至るガス流路の途中には、電球形の紫外線ランプ２４が配置されるとともに、紫外線ランプ２４によって活性化するハニカム状の光触媒２５が紫外線ランプ２４を挟んでその前後に配置されている。
このようなものにおいて、導入孔２２より導入された臭気ガスは、排気口２３に向かって水平方向に流れる間に、紫外線および光触媒２５によって分解され、脱臭されるようになっている。
【０００７】
また、特開平３−１５４６１８号公報（第４従来例）には、吸着機能を備えた触媒体に被吸着成分（例えば悪臭成分、トリメチルアミン、メチルメルカプタン等）を吸着した後、加熱して被吸着成分を脱着するとともに触媒作用を受けさせて燃焼分解する方法において、被吸着成分をガス体の流れ方向が上下方向になるように配置し、被吸着成分の吸着工程を実施するときは、被吸着成分含有ガスをファンによって触媒体に対して下方から導入し、一方被吸着成分を脱着させて燃焼分解するときには触媒体を昇温させると共に、前記ファンの運転を停止するか、またはファンの回転数を落とすことによって弱風にし、被吸着成分が未燃焼のままで外部に放出されるのを防止する吸着・燃焼分解方法が開示されている。
このようなものにおいて、被吸着成分含有ガスを触媒の下方から導入すれば、被吸着成分は触媒の下方から上方へ向けて順次吸着濃度が小さくなるように吸着されていき、このような状態であると、触媒の昇温過程中に被吸着成分が脱着されて自然上昇し触媒の上方から放出されるまでに触媒と被吸着成分の接触機会が十分にあり、被吸着成分が未燃のままで外部に放出されることが極力回避されるとしている。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、酸化触媒方式（第１及び第２従来例）では、脱臭処理を行う際に酸化触媒を活性温度に常時加熱する必要があるため、酸化触媒の形状を大きくすると、昇温が困難となり、さらに昇温のために多くの消費電力を必要とするとともに、排気温度も上昇する。したがって、酸化触媒方式では、酸化触媒の形状をある程度小型にせざるを得ないが、酸化触媒が小型になると、脱臭効率を上げるためには、臭気ガスと酸化触媒媒の接触速度を遅くすることが必要となり、熱効率を改善するためにも、風量はできるだけ下げなければならない。
ところが、バイオ方式の厨芥処理装置では、発酵時の臭気発生をできるだけ抑えるために好気性の微生物が使われており、排気量を少なくすると吸気量も必然的に抑えられ、酸素量が少なくなり好気性の徹生物が十分に活性化できなくなるため、生ごみの分解能力が低下するばかりでなく、嫌気性の微生物が増殖して臭気ガスがさらに放出され易くなるという問題が発生する。
【０００９】
また、光触媒方式（第３従来例）では、光触媒に常に紫外線ランプを点灯して光エネルギを補充する必要があるばかりでなく、光触媒全体に紫外線をくまなく照射するのに無理があり、臭気ガスを効率よく除去することは難しい。
【００１０】
また、厨芥処理装置からの臭気ガスを吸着型酸化触媒により常温で吸着除去し、定期的もしくは不定期的に吸着型酸化触媒を加熱再生し、加熱再生時に脱着放出される臭気ガスをそのまま接触分解する吸着・燃焼分解方式（第４従来例）では、吸着型触媒を常時加熱する必要がないので経済的ではあるが、吸着型酸化触媒を昇温させ接触酸化により脱着放出した臭気ガスを分解除去する際に、どうしても未分解の臭気ガスが放出される。
更に、吸着型酸化触媒は高温になるほど吸着能力が低下するため、脱離した未分解の臭気ガスを吸着除去する効果はあまり期待できない。
更にまた、厨芥処理装置では、生ごみから放出される水分がガス中にかなり含まれているため、自然対流構造のみでは、脱着放出した臭気ガスと発生した水蒸気の両方をとることは困難である。
【００１１】
本発明は叙上の点に鑑み、触媒の加熱再生時の加熱時間を少なくできて省エネルギ化が図れ、排気風量を多くして微生物製剤の活性化がなされる条件下でも、厨芥処理装置の脱臭を十分に行うことができる厨芥処理装置の脱臭方法およびその装置を提供することを目的とする。
【００１２】
【課題を解決するための手段】
本発明に係る厨芥処理装置の脱臭方法は、所定温度に加熱することにより活性化される酸化触媒の非加熱時に、厨芥処理装置からの臭気ガスを脱臭装置のガス流路上方の吸気口からファンにより引き込んで酸化触媒を通過させ、ガス流路の下流へ流し、酸化触媒よりも下流側の吸着型酸化触媒により常温で吸着除去してからガス流路下方の処理ガス排気口より排気する。更に、吸着型酸化触媒の加熱再生時には、これに先立ち酸化触媒を第１のヒータにて活性温度に加熱した後、ファンを停止させてから、吸着型酸化触媒を第２のヒータにて加熱再生し、吸着型酸化触媒の加熱再生時に脱着放出される臭気ガスを吸着型酸化触媒および活性温度に加熱された酸化触媒にて接触分解する。更にまた、酸化触媒の温度を第１の温度センサによって検知するとともに、第１の温度センサにタイマを連動させ、酸化触媒が活性温度に加熱されて以後の、第１のヒータによる酸化触媒の最適温度制御および第２のヒータによる吸着型酸化触媒の再生運転制御、ならびにファンの運転制御の、継続時間をタイマで制御することを特徴としている。
【００１３】
また、本発明に係る厨芥処理装置の脱臭方法は、処理ガス排気口より排気される排気ガスの濃度を臭気センサによって検知し、その検知結果に基づき、酸化触媒を加熱する第１のヒータの運転を制御することを特徴としている。
【００１６】
また、本発明に係る厨芥処理装置の脱臭方法は、酸化触媒が活性温度まで昇温した時点の吸着型酸化触媒の温度を第２の温度センサによって検知し、この検知された吸着型酸化触媒の温度に基づいて、酸化触媒が活性温度に加熱されて以後の、第１のヒータによる酸化触媒の最適温度制御および第２のヒータによる吸着型酸化触媒の再生運転制御の、継続時間を演算し、演算された継続時間をタイマに設定することを特徴としている。
【００１７】
また、本発明に係る厨芥処理装置の脱臭方法は、吸着型酸化触媒の温度を第２の温度センサによって検知し、吸着型酸化触媒の温度が所定温度まで下がったらファンの運転を再開することを特徴としている。
【００１８】
また、本発明に係る厨芥処理装置の脱臭装置は、厨芥処理装置の排気路に接続されたガス流路内に、所定温度に加熱することにより活性化される酸化触媒と、酸化触媒を活性温度に加熱するための石英管ヒータあるいはセラミック管ヒータからなる第１のヒータと、厨芥処理装置からの臭気ガスを酸化触媒の非加熱時にガス流路内に導入するファンと、ファンにより引き込まれて酸化触媒を通過してきたガス流路内の臭気ガスを常温で吸着除去する吸着型酸化触媒と、吸着型酸化触媒を再生温度に加熱するための石英管ヒータあるいはセラミック管ヒータからなる第２のヒータとを設けたものである。
【００１９】
また、本発明に係る厨芥処理装置の脱臭装置は、ガス流路を上下方向に設定し、酸化触媒を吸着型酸化触媒の上方に配置したものである。
【００２０】
また、本発明に係る厨芥処理装置の脱臭装置は、吸着型酸化触媒を所定間隔おいて直列に複数設置したものである。
【００２１】
また、本発明に係る厨芥処理装置の脱臭装置は、酸化触媒と第１のヒータ、及び吸着型酸化触媒と第２のヒータを、それぞれ一体化したものである。
【００２３】
また、本発明に係る厨芥処理装置の脱臭装置は、第１及び第２のヒータの内部に挿入されているコイルの巻き密度を、両端は密に、中央は粗になるように設定したものである。
【００２４】
また、本発明に係る厨芥処理装置の脱臭装置は、酸化触媒を加熱する第１のヒータと吸着型酸化触媒との間に、ガス流路を確保しながら熱的に遮断する遮蔽板を設けたものである。
【００２５】
【発明の実施の形態】
実施形態１．
以下、本発明の第１の実施形態に係る厨芥処理装置の脱臭方法及びこの方法に用いられる装置を図１乃至図４に基づいて説明する。図１は本実施形態に係る脱臭装置の構成を示す縦断面図、図２はバイオ方式の厨芥処理装置に図１の脱臭装置を取り付けた状態を示す説明図、図３は再生時間固定方式による吸着型酸化触媒の再生運転の制御工程を示す制御フロー図、図４は再生時間可変方式による吸着型酸化触媒の再生運転の制御工程を示す制御フロー図である。
【００２６】
図１及び図２において、３１はバイオ方式の厨芥処理装置、５１は厨芥処理装置３１の排気路３２に接続されて取り付けられた本実施形態に係る縦型の脱臭装置の本体である。
厨芥処理装置３１は、ケース３３内に厨芥（生ごみ）３４ａを発酵処理するため、微生物製剤３４ｂを投入した発酵装置３５が収納され、上部開口３６が蓋３７によって開閉自在に閉塞されるようになっている。発酵装置３５は、供給された厨芥３４ａを収容する発酵槽３８と、発酵槽３８内の厨芥３４ａと微生物製剤３４ｂを攪拌する攪拌羽根３９と、攪拌羽根３９をベルト伝動により駆動するモータ４１と、発酵槽３８の周りに設置した図示しないヒータとを備え、ヒータによって発酵槽３８内が発酵に適する温度付近に保たれるようになっている。発酵槽３８内の厨芥３４ａは、攪拌羽根３９の攪拌作用と、ヒータによる適当な発酵温度と、脱臭装置の本体５１内に設置してあるファン５２によってケース３３上部の通気口４２より吸い込まれる空気とにより、好気性発酵が行われ、堆肥化される。
【００２７】
脱臭装置は、本体５１が耐食性および耐熱性を有するステンレスで構成され、その上部に、厨芥処理装置３１の排気路３２に接続されて発酵槽３８からの臭気ガスを取り入れる吸気口５３が、また下部に、本脱臭装置で処理した空気すなわち処理ガスを排出する排気口５４が、それぞれ設けられ、排気口５４内には、風量を微生物活性化に必要な空気量５０Ｌ／分に設定されたファン５２が設けられている。このように、本体５１を耐食性および耐熱性を有する材質（ステンレス）で構成することにより、臭気ガスに対する防錆処理の必要がなくて材料費を安価に抑えることができる。またファン５２を排気口５４に配置して吸い込み型とすることにより、装置の密閉度を厳密にしなくてもよく、排気風量を多くすることが容易となる。
【００２８】
本体５１内のガス流路５５の上部には、活性化最適温度が３００℃に設定された白金系の酸化触媒５６が配置され、酸化触媒５６の反吸気口側の近傍に、この酸化触媒５６を活性温度に加熱するための第１の石英管ヒータ５７が設置されている。ここでは、酸化触媒５６として２０ｍｌ容量のものを使用し、さらに酸化触媒５６の活性化最適温度は３００℃に設定した。
【００２９】
本体５１内のガス流路５５の酸化触媒５６よりも下流側（下方）には、臭気ガスを常温で吸着できる日揮ユニバーサル（株）社製の二酸化マンガン系の疎水性吸着型酸化触媒（ＡＯＣ−９６３）５８ａ，５８ｂが、所定間隔おいて直列に配置され、これらの間に、これら吸着型酸化触媒５８ａ，５８ｂを再生温度（３００℃に設定）に加熱するための１２０Ｗの単一の第２の石英管ヒータ５９が設置されている。ここでは、各吸着型酸化触媒５８ａ，５８ｂとしてそれぞれ１００ｍｌ容量のものを使用し、かつこれらの間隔を３０〜４０ｍｍに設定した。このように、臭気ガスを常温で吸着できる吸着型酸化触媒を直列に複数（２個）配置することにより、省エネルギ化を図りながらガス吸着能力はやがて飽和に達するまでの時間を長くすることができる。
【００３０】
また、第１及び第２の石英管ヒータ５７，５９は、それぞれの内部に挿入されているコイルの巻き密度が、両端は密に、中央は粗になるように設定し、ヒータの両端の温度を高くして各触媒の両端が放熱によって温度上昇しにくい点をカバーすることで各触媒に対して加熱が均一に行われるようにした。なお、ここではヒータとして石英管ヒータを例に挙げて説明しているが、それ以外にセラミック管ヒータを用いることができることは言うまでもない。いずれにしても、ヒータとしてこのような石英管あるいはセラミック管からなるランプヒータを用いることにより、臭気ガスに対する耐食性の確保が容易となってガス流路５５内への設置が可能となるとともに、加熱効率を向上させることができ、加熱時間の短縮化が図れる。
【００３１】
本体５１内のガス流路５５の上部における酸化触媒５６及び第１の石英管ヒータ５７の下方には、ガス流路５５の一部を塞ぐようにセラミックファイバ製の遮蔽板６１が配置されており、遮蔽板６１によって第１の石英管ヒータ５７の熱が吸着型酸化触媒に直接影響を与えるのを防ぐことができるようになっている。
【００３２】
酸化触媒５６の吸気口側の近傍には、酸化触媒５６の温度を検出する第１の温度センサ６２が設置されるとともに、下方に位置する吸着型酸化触媒５８ｂの排気口の近傍にも、吸着型酸化触媒５８ｂの温度（＝排気温度）を検出する第２の温度センサ６３が設置されており、これによって各触媒の温度を独立して検出できるようになっている。このように各触媒の温度を独立して検出することにより、各触媒の温度管理、加熱制御、及び脱臭装置の運転制御が容易となる。
【００３３】
また、排気口５４内には排気ガス濃度を検知する臭気センサ６４が設置されており、これによって吸着型酸化触媒５８ａ，５８ｂのガス吸着能力が飽和状態に達したことを検出できるようになっている。
【００３４】
また、本体５１の周囲には、通気壁６５を介して断熱材６６が付設されており、これによって脱臭装置内の触媒の加熱時に発生する熱が厨芥処理装置３１へ影響を与えるのを防止できるようになっているとともに、脱臭装置の本体５１と断熱材６６との間に隙間を設けることができ、脱臭装置内の高温に加熱されたガスが自然放置で放冷されて排気可能な温度まで下がるまでの時間を短縮することができる。
【００３５】
また、脱臭装置の本体５１の外部すなわち断熱材６６側には、外部から操作可能なタイマ６７が設置されており、吸着型酸化触媒５８ａ，５８ｂの再生時間がマニュアル操作によって設定できるようになっている。吸着型酸化触媒５８ａ，５８ｂの再生時間、つまり吸着型酸化触媒５８ａ，５８ｂを再生温度３００℃まで加熱するに要する時間のデータは、予め実験により採取されており、ここでは再生時間を１０分間に設定した。
【００３６】
次に、厨芥処理装置から発生する臭気ガスを本実施形態に係る脱臭装置を用いて脱臭する方法について図１及び図２に基づき説明する。まず、通常の運転状態においては、各触媒の温度は周囲雰囲気の温度と同温度（常温）となっている。このような状態下において、厨芥処理装置３１の発酵槽３８からの臭気ガスが脱臭装置の吸気口５３内へファン５２によって吸入されると、吸入された臭気ガスは、酸化触媒５６部では悪臭成分が吸着されることなく通過し、ガス流路５５を下流側へ流れ、下流側に直列に２つ配置してある吸着型酸化触媒５８ａ，５８ｂにより臭気ガスと水分が吸着され、吸着型酸化触媒５８ａ，５８ｂを通過すると殆ど臭気のない空気（処理ガス）となって排気口５４から排出される。
【００３７】
しかし、長時間運転しているうちに、吸着型酸化触媒５８ａ，５８ｂのガス吸着能力はやがて飽和に達してしまい、吸着能が低下する。この吸着型酸化触媒５８ａ，５８ｂの飽和状態は、排気口５４内の排気ガス濃度を検知する臭気センサ６４が所定濃度以上の臭気であることを検知することにより検出される。臭気センサ６４により吸着型酸化触媒５８ａ，５８ｂの飽和状態が検出されると、脱臭装置は吸着型酸化触媒の再生運転制御に移行する。本実施形態に係る脱臭装置の吸着型酸化触媒の再生運転制御は、２とおりの手法により行うことができる。一つは脱臭装置の本体５１の外部に設置してあるタイマ６７によって、再生時間（１０分間）を予め設定（固定）して行う方法であり、他の一つは制御装置内のタイマを利用して再生時間を吸着型酸化触媒の温度に対応させて設定（可変）して行う方法である。なお、再生時間可変方式による吸着型酸化触媒の再生運転制御の場合は、制御装置内に、再生運転開始時点の第２の温度センサ６３の検出値に基づき吸着型酸化触媒５８ａ，５８ｂを再生温度３００℃まで加熱するに要する時間を算出してタイマに設定する再生運転時間演算手段（図示せず）を設ける。以下、これら２とおりの手法により行う吸着型酸化触媒の再生運転制御について、それぞれ図３と図４を用いて図１及び図２を参照しながら説明する。
【００３８】
再生時間固定方式による吸着型酸化触媒の再生運転の制御は図３に示す制御フローに従って行われる。まず、排気口５４内の排気ガス濃度を検知する臭気センサ６４が所定濃度以上の臭気であることを検知すると、酸化触媒５６を加熱するための第１の石英管ヒータ５７に信号が送られ、酸化触媒５６の加熱が開始され、ファン５２の運転が停止される。次いで、酸化触媒５６の温度を検出する第１の温度センサ６２により、酸化触媒５６が活性温度３００℃にまで加熱されたことが検知されると、吸着型酸化触媒５８ａ，５８ｂを再生温度３００℃に加熱するための第２の石英管ヒータ５９とタイマ６７に信号が送られ、吸着型酸化触媒５８ａ，５８ｂの加熱が開始され、この加熱が予めタイマ６７に設定されている時間（１０分）持続される。この間、酸化触媒５６側では最適温度制御が行われる。つまり、酸化触媒５６を加熱する第１の石英管ヒータ５７が第１の温度センサ６２の検出値に基づいてＯＮ−ＯＦＦ制御され、酸化触媒５６の温度が上がり過ぎることが防止される。これにより、酸化触媒５６は、タイマ６７で設定されている１０分間、活性温度３００℃に保たれる。
吸着型酸化触媒５８ａ，５８ｂの加熱再生時に、吸着型酸化触媒５８ａ，５８ｂから脱着放出される臭気ガスと水分は、この加熱再生に先立ってファン５２の運転が止められるため、自然対流で上方に移動し、その間に吸着型酸化触媒５８ａ，５８ｂと既に活性温度に加熱されている酸化触媒５６にて分解除去され、厨芥処理装置３１に戻される。特に、最下位置に配置されている吸着型酸化触媒５８ｂから脱着放出される臭気ガスと水分は、その上方の吸着型酸化触媒５８ａと酸化触媒５６により２段階に亘って分解除去されるため、悪臭成分がほぼ完全に分解除去される。仮に、最上位置に配置されている酸化触媒５６での分解処理が不十分となっても、臭気ガスや水蒸気は厨芥処理装置３１に戻すことになるので問題は発生しない。
また、酸化触媒５６を加熱する第１の石英管ヒータ５７と吸着型酸化触媒との間に遮蔽板６１を設けて、第１の石英管ヒータ５７の熱が吸着型酸化触媒に直接伝わるのを防ぐとともに、輻射熱等で影響がでる前に第２の石英管ヒータ５９で吸着型酸化触媒を５８ａ，５８ｂを加熱するようにしているので、酸化触媒５６が活性温度に加熱される前に吸着型酸化触媒５８ａ，５８ｂに吸着していた臭気ガスや水分が脱離してしまうのが防止される。
また、本体５１は二種類の触媒が３００℃に加熱されることから、その影響でかなり近い温度になるが、その周囲に付設した断熱材６６によって厨芥処理装置３１への影響が回避される。
吸着型酸化触媒５８ａ，５８ｂを加熱を開始してから１０分経過後、換言すれば吸着型酸化触媒５８ａ，５８ｂが再生温度３００℃まで加熱されると、タイマ６７により第２の石英管ヒータ５９及び第１の石英管ヒータ５７の加熱が停止され、自然放熱で本体５１内の温度が下がるのを待つ。本体５１と断熱材６６との間には通気壁６５によって隙間が形成されているので、自然放熱で本体５１内の温度が排気できる温度、例えば４０℃まで下がるまでの時間が短縮される。
第２の温度センサ６３により、本体５１内の温度が４０℃まで下がったことが検知されると、ファン５２が再び運転を開始し、吸着型酸化触媒５８ａ，５８ｂの常温吸着による正常な厨芥処理装置からの臭気ガス除去処理を再開する。
以上は再生時間固定方式による吸着型酸化触媒の再生運転の制御についての説明であり、次に再生時間可変方式による吸着型酸化触媒の再生運転の制御について説明する。
【００３９】
再生時間可変方式による吸着型酸化触媒の再生運転の制御は図４に示す制御フローに従って行われる。まず、排気口５４内の排気ガス濃度を検知する臭気センサ６４が所定濃度以上の臭気であることを検知すると、酸化触媒５６を加熱するための第１の石英管ヒータ５７に信号が送られ、酸化触媒５６の加熱が開始され、ファン５２の運転が停止される。次いで、酸化触媒５６の温度を検出する第１の温度センサ６２により、酸化触媒５６が活性温度３００℃にまで加熱されたことが検知されると、再生運転時間演算手段がこの時点での第２の温度センサ６３にて検知された吸着型酸化触媒の温度に基づき吸着型酸化触媒５８ａ，５８ｂを再生温度３００℃まで加熱するに要する時間を算出して制御装置内のタイマ（図示せず）に設定するとともに、吸着型酸化触媒５８ａ，５８ｂを再生温度３００℃に加熱するための第２の石英管ヒータ５９に信号を送り、吸着型酸化触媒５８ａ，５８ｂの加熱を開始させる。この加熱は制御装置内のタイマに設定された時間持続される。この間、酸化触媒５６側では第１の石英管ヒータ５７がＯＮ−ＯＦＦ制御による最適温度制御が行われ、酸化触媒５６は制御装置内のタイマに設定された時間の間、活性温度３００℃に保たれる。
吸着型酸化触媒５８ａ，５８ｂの加熱再生時における、吸着型酸化触媒５８ａ，５８ｂから脱着放出される臭気ガスと水分の態様やその分解除去作用、厨芥処理装置３１に対する熱影響防止作用等は、前述の再生時間固定方式による吸着型酸化触媒の再生運転の制御の場合と同様である。
吸着型酸化触媒５８ａ，５８ｂを加熱を開始してから制御装置内のタイマに設定された時間が経過すると、吸着型酸化触媒５８ａ，５８ｂは再生温度３００℃まで加熱されているので、制御装置内のタイマにより第２の石英管ヒータ５９及び第１の石英管ヒータ５７の加熱が停止され、自然放熱で本体５１内の温度が下がるのを待つ。
第２の温度センサ６３により、本体５１内の温度が排気できる温度（例えば４０℃）まで下がったことが検知されると、ファン５２が再び運転を開始し、吸着型酸化触媒５８ａ，５８ｂの常温吸着による正常な厨芥処理装置からの臭気ガス除去処理を再開する。
【００４０】
この再生時間可変方式による吸着型酸化触媒の再生運転の制御においては、制御装置内のタイマを利用して、再生時間の設定を第２の温度センサ６３にて検知される吸着型酸化触媒の温度に対応させて可変で行うため、吸着型酸化触媒の再生温度の管理を高精度に行うことができる。
【００４１】
なお、前述の再生時間固定方式及び再生時間可変方式による吸着型酸化触媒の再生運転の制御においては、いずれも吸着型酸化触媒の温度が再生温度に達した時点で再生運転が停止されるようにしたものを例に挙げて説明したが、吸着型酸化触媒からの臭気ガスや水分の脱着放出をより完全に行わせるために、吸着型酸化触媒の温度が再生温度に達した後も、所定時間、第２の石英管ヒータ５９を第２の温度センサ６３の検出値に基づいてＯＮ−ＯＦＦ制御し、吸着型酸化触媒を再生温度を保持した状態におくことは好ましい。
【００４２】
実施形態２．
図５は本発明に係る脱臭装置の第２の実施形態の構成を示す縦断面図であり、図中、前述の第１実施形態の脱臭装置（図１）に相当する部分には同一符号を付してある。
【００４３】
この実施形態に係る脱臭装置は、酸化触媒５６の内部にこれを加熱する第１の石英管ヒータ５７Ａを、また吸着型酸化触媒５８ａ，５８ｂのそれぞれの内部にこれらを独立して加熱する第２の石英管ヒータ５９Ａ，５９Ｂを、それぞれ組み込んで一体化したものであり、それ以外の構成は前述の第１実施形態の脱臭装置と同様である。
【００４４】
この実施形態に係る脱臭装置においては、前述の第１実施形態の脱臭装置の作用、効果に加え、各触媒の加熱効率が向上し、それぞれの加熱時間の短縮化が図れるという利点がある。このため、吸着型酸化触媒の再生運転時間を短くすることができる。
【００４５】
本発明による厨芥処理装置の脱臭方法及びこの方法に用いられる装置装置の効果について、排気口からの排出ガスの臭気を人の嗅覚による官能試験として三点比較式臭気袋法を用い、通気量がそれぞれ２５、５０、７５Ｌ／ｍｉｎ  の場合における臭気濃度（臭いが感じなくなるまでの希釈倍率で表す）で測定した結果を比較例と共に表１に示す。
【００４６】
【表１】
0003551278.tif 000002
【００４７】
比較例１は常時加熱型の酸化触媒方式、比較例２は紫外線光源を用いた光触媒方式の例である。表１より明らかなように、本発明による吸着型酸化触媒方式によれば、生ごみを分解させる微生物製剤に必要な大量の空気量にも対応して臭気濃度を低く抑えることができる。
【００４８】
次に、吸着型酸化触媒単独の場合と、酸化触媒を併用してこれを予備加熱しておいた場合とで、吸着型酸化触媒の加熱を開始して臭気ガスと水分の分解および吸着型酸化触媒の再生を行った時間（１分、５分、１０分、２０分）経過後におけるそれぞれの臭気濃度の比較を表２に示す。
【００４９】
【表２】
0003551278.tif 000003
【００５０】
表２より明らかなように、本発明のように酸化触媒を併用することによって、吸着型酸化触媒から脱離した未分解ガスの分解能が向上し、より消臭効果が顕著であることがわかる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１の実施形態に係る厨芥処理装置の脱臭方法に用いられる装置の構成を示す縦断面図である。
【図２】バイオ式の厨芥処理装置に第１の実施形態に係る脱臭装置を取り付けた状態を示す説明図である。
【図３】第１の実施形態に係る脱臭装置における再生時間固定方式による吸着型酸化触媒の再生運転の制御工程を示す制御フロー図である。
【図４】第１の実施形態に係る脱臭装置における再生時間可変方式による吸着型酸化触媒の再生運転の制御工程を示す制御フロー図である。
【図５】本発明の第２の実施形態に係る厨芥処理装置の脱臭方法に用いられる装置の構成を示す縦断面図である。
【図６】従来の脱臭装置の第１例を示す断面図である。
【図７】従来の脱臭装置の第２例を示す断面図である。
【図８】従来の脱臭装置の第３例を示す断面図である。
【符号の説明】
３１  厨芥処理装置、３２  排気路、５１  脱臭装置の本体、５２  ファン、５３  吸気口、５４  排気口、５５  ガス流路、５６  酸化触媒、５７，５７Ａ第１の石英管ヒータ（第１のヒータ）、５８ａ，５８ｂ  吸着型酸化触媒、５９，５９Ａ，５９Ｂ  第２の石英管ヒータ（第２のヒータ）、６１  遮蔽板、６２  第１の温度センサ、６３  第２の温度センサ、６４  臭気センサ、６５  通気壁、６６  断熱材、６７  タイマ。
【図１】
0003551278.tif 000004
【図２】
0003551278.tif 000005
【図３】
0003551278.tif 000006
【図４】
0003551278.tif 000007
【図５】
0003551278.tif 000008
【図６】
0003551278.tif 000009
【図７】
0003551278.tif 000010
【図８】
0003551278.tif 000011