Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成27年2月10日(2015.2.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１リフレクタと、
第２リフレクタと、
前記第１リフレクタと前記第２リフレクタとの間に配置された少なくとも１つの光源モジュールと、
前記第２リフレクタを支持する底部、及び該底部から傾斜して延在している少なくとも１つの側壁部を有するボトムカバーと
を備える、バックライトユニット。
【請求項２】
前記側壁部は、前記底部に直交する面と３３゜〜５３゜の角度を有するように傾斜している、請求項１に記載のバックライトユニット。
【請求項３】
前記側壁部と前記底部とが接する地点から前記側壁部の最外側地点までの水平距離は、１０ｍｍ〜２０ｍｍである、請求項１に記載のバックライトユニット。
【請求項４】
前記側壁部は、前記ボトムカバーの内部から見て、膨らんだ曲面を有する、請求項１に記載のバックライトユニット。
【請求項５】
前記側壁部は、前記ボトムカバーの内部から見て、凹んだ曲面を有する、請求項１に記載のバックライトユニット。
【請求項６】
前記ボトムカバーは、第１方向に延在している少なくとも１つのエッジ部をさらに有し、
前記側壁部は、前記エッジ部の先端部から前記第１方向と異なる第２方向に延在している、請求項１に記載のバックライトユニット。
【請求項７】
前記少なくとも１つの光源モジュールは、前記エッジ部に沿って前記第１方向に配列されている、請求項６に記載のバックライトユニット。
【請求項８】
前記側壁部と前記底部とが接する地点から前記側壁部の最外側地点までの水平距離と、前記エッジ部の長さとの比率は、１．８５％〜３．８５％である、請求項６に記載のバックライトユニット。
【請求項９】
前記側壁部により支持された第３リフレクタをさらに備える、請求項１に記載のバックライトユニット。
【請求項１０】
前記第１リフレクタの反射率及び前記第３リフレクタの反射率は互いに異なる、請求項９に記載のバックライトユニット。
【請求項１１】
前記第１リフレクタの反射率及び前記第３リフレクタの反射率は同一である、請求項９に記載のバックライトユニット。
【請求項１２】
前記第２リフレクタの反射率及び前記第３リフレクタの反射率は互いに異なる、請求項９に記載のバックライトユニット。
【請求項１３】
前記第２リフレクタの反射率及び前記第３リフレクタの反射率は同一である、請求項９に記載のバックライトユニット。
【請求項１４】
前記第３リフレクタは前記側壁部の全体により支持されている、請求項９に記載のバックライトユニット。
【請求項１５】
前記第３リフレクタは前記側壁部の一部により支持されている、請求項９に記載のバックライトユニット。
【請求項１６】
前記第３リフレクタは前記側壁部の下部領域を覆う、請求項１５に記載のバックライトユニット。
【請求項１７】
前記第３リフレクタは前記側壁部の上部領域を覆う、請求項１５に記載のバックライトユニット。
【請求項１８】
前記第３リフレクタは前記側壁部の中央領域を覆う、請求項１５に記載のバックライトユニット。
【請求項１９】
前記第３リフレクタは前記第２リフレクタと接触する、請求項１５に記載のバックライトユニット。
【請求項２０】
前記第３リフレクタは前記第２リフレクタと離隔している、請求項１５に記載のバックライトユニット。
【請求項２１】
前記側壁部は、前記ボトムカバーの内部から見て、平坦な面を有する、請求項１に記載のバックライトユニット。
【請求項２２】
ディスプレイパネルと、
前記ディスプレイパネルに光を照射するバックライトユニットと
を備え、
前記バックライトユニットは請求項１乃至２１のいずれかに記載のバックライトユニットである、ディスプレイ装置。
【請求項２３】
請求項１乃至２１のいずれかに記載のバックライトユニットを備える、照明システム。
【手続補正書】
【提出日】平成26年11月14日(2014.11.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
タッチパネルを備えた表示部を有する情報処理装置であって、
前記タッチパネルに接触している物体を検出する物体検出手段と、
前記物体検出手段により検出された物体でスクロール動作が行われたときの前記物体の移動量を検出する移動検出手段と、
前記表示部に表示されているオブジェクトであって、前記タッチパネルに接触している物体により指示されているオブジェクトを判別する判別手段と、
前記移動検出手段により検出された前記移動量と前記物体検出手段により検出された前記物体の個数とに基づいて、前記判別手段で判別された前記オブジェクトのスクロール量を決定する決定手段と、
前記決定手段により決定されたスクロール量に従って、前記表示部に表示された前記オブジェクトをスクロールする制御手段と、
を有することを特徴とする情報処理装置。
【請求項２】
前記スクロール量は、前記物体の移動量と前記物体の個数の関数との積で求められることを特徴とする請求項１に記載の情報処理装置。
【請求項３】
前記スクロール量は、前記物体の移動量を前記物体の個数の関数で除算した値で求められることを特徴とする請求項１に記載の情報処理装置。
【請求項４】
所定の時間あたりの前記移動量を基に、前記タッチパネルに接触している物体の移動速度を求める速度算出手段を更に有し、
前記制御手段は、前記物体の個数の関数と前記移動速度とに基づいて前記オブジェクトをスクロールさせることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の情報処理装置。
【請求項５】
前記決定手段は、一連のスクロール動作の中で前記物体検出手段により検出された前記物体の個数が変化したことに応じて前記スクロール量を調整することを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の情報処理装置。
【請求項６】
タッチパネルを備えた表示部を有する情報処理装置を制御する制御方法であって、
前記タッチパネルに接触している物体を検出する物体検出工程と、
前記物体検出工程で検出された物体でスクロール動作が行われたときの前記物体の移動量を検出する移動検出工程と、
前記表示部に表示されているオブジェクトであって、前記タッチパネルに接触している物体により指示されているオブジェクトを判別する判別工程と、
前記移動検出工程で検出された前記移動量と前記物体検出工程で検出された前記物体の個数とに基づいて、前記判別工程で判別された前記オブジェクトのスクロール量を決定する決定工程と、
前記決定工程において決定されたスクロール量に従って、前記表示部に表示された前記オブジェクトをスクロールする制御工程と、
を有することを特徴とする情報処理装置の制御方法。
【請求項７】
請求項６に記載の制御方法をコンピュータに実行させるためのコンピュータプログラム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
上記目的を達成するために本発明の一態様に係る情報処理装置は以下のような構成を備える。即ち、
タッチパネルを備えた表示部を有する情報処理装置であって、
前記タッチパネルに接触している物体を検出する物体検出手段と、
前記物体検出手段により検出された物体でスクロール動作が行われたときの前記物体の移動量を検出する移動検出手段と、
前記表示部に表示されているオブジェクトであって、前記タッチパネルに接触している物体により指示されているオブジェクトを判別する判別手段と、
前記移動検出手段により検出された前記移動量と前記物体検出手段により検出された前記物体の個数とに基づいて、前記判別手段で判別された前記オブジェクトのスクロール量を決定する決定手段と、
前記決定手段により決定されたスクロール量に従って、前記表示部に表示された前記オブジェクトをスクロールする制御手段と、
を有することを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成27年2月26日(2015.2.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
飲食店における注文システムであって、
前記注文システムは、
顧客識別情報と、その顧客が着座した場所を識別する場所識別情報と、その顧客が注文した料理に関する情報とを対応づけて記憶する注文情報記憶部と、
前記顧客が着座し利用するテーブルに設置された読取装置に、前記顧客が利用する携帯
端末を接触または近接させることで、顧客識別情報と場所識別情報とを含む来店情報を、前記携帯端末または読取装置から取得して前記注文情報記憶部に記憶させる来店情報取得部と、
前記飲食店で提供する料理に関する情報を記憶する料理情報記憶部と、
前記来店情報取得部が前記来店情報を取得してから前記顧客が利用する前記携帯端末からの要求を受けると、前記料理情報記憶部に記憶する料理に関する情報を前記携帯端末に表示させ、前記顧客が注文をする料理に関する情報と前記顧客識別情報とを前記携帯端末から受け付け、前記注文情報記憶部における前記顧客識別情報に対応づけて、前記注文した料理に関する情報を前記注文情報記憶部に記憶させる注文処理部と、
を有することを特徴とする注文システム。
【請求項２】
飲食店における注文システムであって、
前記注文システムは、
顧客識別情報と、その顧客が着座した場所を識別する場所識別情報と、その顧客が注文
した料理に関する情報とを対応づけて記憶する注文情報記憶部と、
前記顧客が着座し利用するテーブルに設置された読取装置に、前記顧客が利用する携帯端末を接触または近接させることで、顧客識別情報と場所識別情報とを含む来店情報を、前記携帯端末または読取装置から取得して前記注文情報記憶部に記憶させる来店情報取得部と、
前記飲食店で提供する料理に関する情報を記憶する料理情報記憶部と、
前記来店情報取得部が前記来店情報を取得してから前記顧客が利用する前記携帯端末からの要求を受けると、前記料理情報記憶部に記憶する料理に関する情報を前記携帯端末に表示させ、注文をする料理に関する情報と、前記顧客識別情報および／または前記場所識別情報とを前記携帯端末から受け付け、前記注文した料理に関する情報を前記注文情報記憶部に記憶させる注文処理部と、
を有することを特徴とする注文システム。
【請求項３】
前記注文情報記憶部には、
前記顧客識別情報に対応づけて複数の前記場所識別情報が記憶されている、
ことを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の注文システム。
【請求項４】
前記注文システムは、さらに、
精算処理の要求と、前記顧客識別情報または前記場所識別情報とを受け付けることで、前記注文情報記憶部に記憶する前記顧客が注文した料理の合計金額を算出する精算処理部、
を有することを特徴とする請求項１から請求項３のいずれかに記載の注文システム。
【請求項５】
前記注文システムは、さらに、
レジ端末において前記携帯端末から読み取った前記顧客識別情報と、前記精算処理の要求とを前記レジ端末または前記携帯端末から受け取り、前記受け取った顧客識別情報に基づいて、前記注文情報記憶部に記憶する前記顧客が注文した料理の合計金額を算出する精算処理部、
を有することを特徴とする請求項１から請求項３のいずれかに記載の注文システム。
【手続補正書】
【提出日】平成27年9月2日(2015.9.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第1の導電膜を成膜する工程と、
前記第1の導電膜をパターニングすることにより、下層配線、下層配線端子、第一形成領域のアライメントマーク及び第二形成領域のアライメントマークを形成する工程と、
少なくとも前記第一形成領域の前記アライメントマークを覆い、少なくとも前記第二形成領域の前記アライメントマークを露出する層間平坦化膜を形成する工程と、
第2の導電膜を成膜する工程と、
前記第二形成領域の前記アライメントマークを用いて少なくとも上層配線と上層配線端子を形成する為のレジストパターンを形成する工程と、
前記レジストパターンを用いて前記第2の導電膜で形成される前記上層配線と前記上層配線端子をパターニングすると共に前記第二形成領域の前記アライメントマークをエッチングする工程と、
前記上層配線と前記上層配線端子上に保護膜を成膜する工程と、
前記第一形成領域の前記アライメントマークを用いて少なくとも前記保護膜に開口部を形成する工程と
を備えたことを特徴とするタッチパネル基板の製造方法。
【請求項２】
少なくとも前記第一形成領域の前記アライメントマークを覆い、少なくとも前記第二形成領域の前記アライメントマークを露出する層間平坦化膜を形成する工程は、
前記層間平坦化膜を塗布する工程と、
少なくとも前記第二形成領域の前記アライメントマーク上層の前記層間平坦化膜を除去する工程と、
を有することを特徴とする請求項１に記載のタッチパネル基板の製造方法。
【請求項３】
前記第二形成領域の前記アライメントマーク上層の前記層間平坦化膜を除去する工程において、
前記下層配線端子の一部を開口するような開口部を設け、
前記第2の導電膜のパターニング工程において、
前記下層配線端子の一部を開口するような前記開口部を介して前記下層配線端子と接続する下層配線端子パッドを形成することを特徴とする請求項２に記載のタッチパネル基板の製造方法。
【請求項４】
少なくとも前記第一形成領域の前記アライメントマークを覆い、少なくとも前記第二形成領域の前記アライメントマークを露出する層間平坦化膜を形成する工程は、
前記第一形成領域の前記アライメントマークは被覆し、前記第二形成領域の前記アライメントマークを被覆しない様に層間平坦化膜を塗布する工程を有する
ことを特徴とする請求項１に記載のタッチパネル基板の製造方法。
【請求項５】
前記第二形成領域の前記アライメントマークは、前記第一形成領域の前記アライメントマークよりも基板の外側に配置されていることを特徴とする請求項４に記載のタッチパネル基板の製造方法。
【請求項６】
第1の導電膜を成膜する工程と、
第1の導電膜で形成される下層配線，下層配線端子，アライメントマークをパターニングする工程と、
層間平坦化膜を塗布する工程と、
タッチパネル領域の膜厚よりアライメントマーク領域の膜厚を薄く形成するように第2の導電膜を成膜する工程と、
前記アライメントマークを用いて少なくとも上層配線と上層配線端子を形成する為のレジストパターンを形成する工程と、
前記レジストパターンを用いて前記第2の導電膜で形成される上層配線と上層配線端子をパターニングする工程と、
を備えたことを特徴とするタッチパネル基板の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】タッチパネル基板の製造方法
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
本発明に係るタッチパネル基板の製造方法は、第1の導電膜を成膜する工程と、前記第1の導電膜をパターニングすることにより、下層配線、下層配線端子、第一形成領域のアライメントマーク及び第二形成領域のアライメントマークを形成する工程と、少なくとも前記第一形成領域の前記アライメントマークを覆い、少なくとも前記第二形成領域の前記アライメントマークを露出する層間平坦化膜を形成する工程と、第2の導電膜を成膜する工程と、前記第二形成領域の前記アライメントマークを用いて少なくとも上層配線と上層配線端子を形成する為のレジストパターンを形成する工程と、前記レジストパターンを用いて前記第2の導電膜で形成される前記上層配線と前記上層配線端子をパターニングすると共に前記第二形成領域の前記アライメントマークをエッチングする工程と、前記上層配線と前記上層配線端子上に保護膜を成膜する工程と、前記第一形成領域の前記アライメントマークを用いて少なくとも前記保護膜に開口部を形成する工程とを備えたことを特徴とするタッチパネル基板の製造方法である。
【手続補正書】
【提出日】平成27年2月24日(2015.2.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ポリエチレンテレフタレートからなる支持体フィルムの片面の上に、流延塗布された誘電体の薄膜樹脂フィルムからなる基材、薄膜の接着剤層、導電性ペースト層、導電性接着剤層、が順に積層されてなり、
前記基材が、溶剤可溶性ポリイミドを用いて形成されたポリイミドフィルムからなり、厚みが１〜９μｍであり、前記薄膜の接着剤層が、エポキシ基を有するポリエステル系樹脂組成物を架橋させてなり、厚みが０．０５〜１μｍであり、
前記基材の水蒸気透過度が５００ｇ／ｍ２・ｄａｙ以上であることを特徴とするＦＰＣ用電磁波シールド材。
【請求項２】
前記接着剤層が、さらに、カーボンブラック、黒鉛、アニリンブラック、シアニンブラック、チタンブラック、黒色酸化鉄、酸化クロム、酸化マンガンからなる群より選択される１種以上の黒色顔料、または有色顔料の１種以上からなる光吸収材を含むことを特徴とする請求項１に記載のＦＰＣ用電磁波シールド材。
【請求項３】
前記導電性ペースト層が、平均粒子径１〜１２０ｎｍの銀ナノ粒子とバインダー樹脂組成物とを含有してなる導電性ペーストが塗布された後、被着体に加熱・圧着された後の最終的な厚みが０．１〜２μｍであることを特徴とする請求項１または２に記載のＦＰＣ用電磁波シールド材。
【請求項４】
前記導電性ペースト層を構成する導電性ペーストの焼成後の体積抵抗率は、１．５×１０−５Ω・ｃｍ以下であることを特徴とする請求項１から３のいずれかに記載のＦＰＣ用電磁波シールド材。
【請求項５】
請求項１から４のいずれかに記載のＦＰＣ用電磁波シールド材が、電磁波遮蔽用の部材として使用されてなる携帯電話。
【請求項６】
請求項１から４のいずれかに記載のＦＰＣ用電磁波シールド材が、電磁波遮蔽用の部材として使用されてなる電子機器。
【手続補正書】
【提出日】平成26年11月19日(2014.11.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
処理デバイスを複数有する電子機器を制御するホスト装置で、通信インターフェースの情報を含む前記電子機器とのデータ転送経路の経路情報に基づいて、前記データ転送経路でのデータ転送の転送モードを判別し、
判別した前記転送モードと前記処理デバイスの転送モードへの対応情報とに基づいて、転送モードに応じて動作する前記処理デバイスの動作モードを報知することを特徴とするホスト装置の制御方法。
【請求項２】
前記転送モードにより、データ転送の転送速度が異なる請求項１に記載のホスト装置の制御方法。
【請求項３】
前記転送モードは、ＵＳＢ規格の転送モードである請求項２に記載のホスト装置の制御方法。
【請求項４】
前記経路情報は、
前記ホスト装置の前記通信インターフェースでの転送モードへの対応情報と、前記ホスト装置のドライバーソフトでの転送モードへの対応情報を含む請求項１ないし３のいずれか１項に記載のホスト装置の制御方法。
【請求項５】
前記ホスト装置は、表示部を有し、
前記表示部により、前記動作モードを表示する請求項１ないし４のいずれか１項に記載のホスト装置の制御方法。
【請求項６】
前記電子機器は、ディスク媒体を処理するパブリッシャーであり、
前記処理デバイスは、
前記ディスク媒体のレーベル面に印刷処理を行うディスクプリンター、前記ディスク媒体に書込み処理を行うディスクドライブ、及び前記ディスク媒体の搬送処理を行うオートローダーである請求項１ないし５のいずれか１項に記載のホスト装置の制御方法。
【請求項７】
処理デバイスを複数有する電子機器を制御するホスト装置に、通信インターフェースの情報を含む前記電子機器とのデータ転送経路の経路情報に基づいて、前記データ転送経路でのデータ転送の転送モードを判別させ、判別した前記転送モードと前記処理デバイスの転送モードへの対応情報とに基づいて、転送モードに応じて動作する前記処理デバイスの動作モードを報知させるためのプログラム。
【請求項８】
処理デバイスを複数有する電子機器と１の通信ケーブルで接続する通信インターフェースと、
前記通信インターフェースの情報を含む前記電子機器とのデータ転送経路の経路情報に基づいて、前記データ転送経路でのデータ転送の転送モードを判別するモード判別部と、
判別した前記転送モードと前記処理デバイスの転送モードへの対応情報とに基づいて、転送モードに応じて動作する前記処理デバイスの動作モードを報知するモード報知部と、を備えることを特徴とするホスト装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明のホスト装置の制御方法は、処理デバイスを複数有する電子機器を制御するホスト装置で、通信インターフェースの情報を含む電子機器とのデータ転送経路の経路情報に基づいて、データ転送経路でのデータ転送の転送モードを判別し、判別した転送モードと処理デバイスの転送モードへの対応情報とに基づいて、転送モードに応じて動作する処理デバイスの動作モードを報知することを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
この場合、転送モードにより、データ転送の転送速度が異なることが好ましい。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
この場合、転送モードは、ＵＳＢ規格の転送モードであることが好ましい。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本発明のホスト装置は、処理デバイスを複数有する電子機器と１の通信ケーブルで接続する通信インターフェースと、通信インターフェースの情報を含む電子機器とのデータ転送経路の経路情報に基づいて、データ転送経路でのデータ転送の転送モードを判別するモード判別部と、判別した転送モードと処理デバイスの転送モードへの対応情報とに基づいて、転送モードに応じて動作する処理デバイスの動作モードを報知するモード報知部と、を備えることを特徴とする。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
上記のホスト装置の制御方法において、経路情報は、ホスト装置の通信インターフェースでの転送モードへの対応情報と、ホスト装置のドライバーソフトでの転送モードへの対応情報を含むことが好ましい。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
一方、ホスト装置は、表示部を有し、表示部により、動作モードを表示することが好ましい。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
また、電子機器は、ディスク媒体を処理するパブリッシャーであり、処理デバイスは、ディスク媒体のレーベル面に印刷処理を行うディスクプリンター、ディスク媒体に書込み処理を行うディスクドライブ、及びディスク媒体の搬送処理を行うオートローダーであることが好ましい。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
本発明のプログラムは、処理デバイスを複数有する電子機器を制御するホスト装置に、通信インターフェースの情報を含む電子機器とのデータ転送経路の経路情報に基づいて、データ転送経路でのデータ転送の転送モードを判別させ、判別した転送モードと処理デバイスの転送モードへの対応情報とに基づいて、転送モードに応じて動作する処理デバイスの動作モードを報知させることを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成26年12月9日(2014.12.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
画像処理装置であって、
電源スイッチと、
前記電源スイッチが操作された後に第１時間が経過した場合、前記画像処理装置への電力供給を強制的に停止する電源遮断手段と、
前記電源スイッチが操作された場合に、前記画像処理装置のＣＰＵがワーク領域として使用する第１記憶手段の記憶内容を第２記憶手段に退避させるハイバネーション処理を実行する処理手段と、
前記第１時間が経過する前に前記ハイバネーション処理が完了するか否かを判定する判定手段と、
前記判定手段によって前記第１時間が経過する前に前記ハイバネーション処理が完了しないと判定された場合、前記処理手段による前記ハイバネーション処理を中断させて、前記画像処理装置のシャットダウン処理を実行する制御手段と、
を備えることを特徴とする画像処理装置。
【請求項２】
前記シャットダウン処理が実行された前記画像処理装置が起動される場合にコールドブートを実行する起動手段、をさらに備えることを特徴とする請求項１に記載の画像処理装置。
【請求項３】
前記判定手段は、前記ハイバネーション処理を開始してから現在までの経過時間と、前記経過時間で終了したハイバネーション処理の進捗と、に基づいて、前記第１時間が経過する前に前記ハイバネーション処理が完了するか否を判定する、ことを特徴とする請求項１又は２に記載の画像処理装置。
【請求項４】
前記判定手段は、前記第１時間が経過する前に、前記ハイバネーション処理が完了するか否かを判定する、ことを特徴とする請求項１乃至３の何れか１項に記載の画像処理装置。
【請求項５】
前記処理手段は、
前記第１記憶手段の複数のメモリブロックのうち、前記第２記憶手段へ記憶内容を退避させるメモリブロックを選択する選択手段と、
前記選択手段によって選択されたメモリブロックの情報を示す管理情報を生成する生成手段と、
前記選択手段によって選択されたメモリブロックの記憶内容と、前記生成手段によって生成された管理情報とを前記第２記憶手段へ格納する退避手段と、
を備えることを特徴とする請求項１乃至４に記載の画像処理装置。
【請求項６】
前記判定手段は、前記生成手段によって生成された前記管理情報を参照して、目標時間内に、前記処理手段による前記ハイバネーション処理が完了するか否かを判定する、ことを特徴とする請求項５に記載の画像処理装置。
【請求項７】
前記電源スイッチが操作されてからの経過時間を計時する計時手段、をさらに備え、
前記制御手段は、前記計時手段によって前記第１時間よりも短い第２時間が計時されると、前記画像処理装置のシャットダウン処理を実行する、ことを特徴とする請求項１乃至６の何れか１項に記載の画像処理装置。
【請求項８】
電源スイッチを備える画像処理装置の制御方法であって、
電源遮断手段が、前記電源スイッチが操作された後に第１時間が経過した場合、前記画像処理装置への電力供給を強制的に停止する電源遮断ステップと、
処理手段が、前記電源スイッチが操作された場合に、前記画像処理装置のＣＰＵがワーク領域として使用する第１記憶手段の記憶内容を第２記憶手段に退避させるハイバネーション処理を実行する処理ステップと、
判定手段が、前記第１時間が経過する前に前記ハイバネーション処理が完了するか否かを判定する判定ステップと、
制御手段が、前記判定ステップで前記第１時間が経過する前に前記ハイバネーション処理が完了しないと判定された場合、前記処理ステップによる前記ハイバネーション処理を中断させて、前記画像処理装置のシャットダウン処理を実行する制御ステップと、
を実行することを特徴とする画像処理装置の制御方法。
【請求項９】
請求項８に記載の画像処理装置の制御方法における各ステップをコンピュータに実行させるためのプログラム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明は、例えば、画像処理装置であって、電源スイッチと、前記電源スイッチが操作された後に第１時間が経過した場合、前記画像処理装置への電力供給を強制的に停止する電源遮断手段と、前記電源スイッチが操作された場合に、前記画像処理装置のＣＰＵがワーク領域として使用する第１記憶手段の記憶内容を第２記憶手段に退避させるハイバネーション処理を実行する処理手段と、前記第１時間が経過する前に前記ハイバネーション処理が完了するか否かを判定する判定手段と、前記判定手段によって前記第１時間が経過する前に前記ハイバネーション処理が完了しないと判定された場合、前記処理手段による前記ハイバネーション処理を中断させて、前記画像処理装置のシャットダウン処理を実行する制御手段と、を備えることを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１１】
2013122673.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成26年12月4日(2014.12.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１導電型の半導体基板と、
第２導電型の第１不純物拡散領域と、
第１導電型の第２不純物拡散領域と、
第２導電型の第３不純物拡散領域と、
第２導電型の第４不純物拡散領域と、
第１コンタクトと、
第１の電源と、を含み、
前記第１不純物拡散領域は、前記半導体基板内に設けられ、
前記第２不純物拡散領域は、前記第１不純物拡散領域内に設けられ、
前記第３不純物拡散領域は、前記第２不純物拡散領域内に設けられ、
前記第４不純物拡散領域の第１の部分は、前記第２不純物拡散領域内に、前記第３不純物拡散領域に離間して設けられ、前記第４不純物拡散領域の第２の部分は、前記第１不純物拡散領域の第３の部分の前記半導体基板の表面側に設けられ、
前記第１の部分と前記第２の部分が連続し、
前記第１コンタクトは、前記第２の部分に接するように設けられ、
前記第１コンタクトと前記第３の部分とが平面視において重なり、
前記第１の電源は前記第３不純物拡散領域に接続されていることを特徴とする半導体装置。
【請求項２】
前記第４不純物拡散領域と前記第３不純物拡散領域との間の前記第２不純物領域の上方に、第１ゲートが設けられ、
前記第１ゲートはＧＮＤに接続されていることを特徴とする請求項１に記載の半導体装置。
【請求項３】
前記第１ゲートの一部が、前記第４不純物領域に平面視で重なっていることを特徴とする請求項２記載の半導体装置。
【請求項４】
前記第４不純物領域の前記半導体基板の表面側に、第２導電型の第６不純物拡散領域が設けられ、
前記第６不純物拡散領域の不純物濃度は、前記第４不純物領域の不純物濃度より高いことを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載の半導体装置。
【請求項５】
前記第６不純物拡散領域の表面にはシリサイド層が設けられていることを特徴とする請求項４記載の半導体装置。
【請求項６】
前記第１コンタクトと、前記第３の部分との間で前記第２不純物拡散領域を挟むことができる前記第１不純物拡散領域の所定の領域とが、第１の配線で接続されていることを特徴とする請求項１〜５のいずれか一項に記載の半導体装置。
【請求項７】
第１導電型の半導体基板と、
前記半導体基板内に設けられた第２導電型の第１不純物拡散領域と、
前記第１不純物拡散領域内に設けられた第１導電型の第２不純物拡散領域と、
前記第２不純物拡散領域内に設けられた第２導電型の第３不純物拡散領域と、
第２導電型の第４不純物拡散領域と、
前記第２不純物拡散領域内に設けられた第２導電型の第５不純物拡散領域と、
第１コンタクトと、
第１の電源と、を含み、
前記第２不純物拡散領域は、平面視において、前記第１不純物拡散領域の第１の領域に囲まれると共に前記第１不純物拡散領域の第２の領域を囲むように配置され、
前記第３不純物拡散領域及び前記第５不純物拡散領域は、平面視において、前記第２の領域が間に位置するように配置され、
前記第４不純物拡散領域は、平面視において、前記第３不純物拡散領域と前記第５不純物拡散領域との間に配置され、
前記第４不純物拡散領域は、第１部分と、第２部分と、第３部分とからなり、前記第２部分は前記第２の領域に配置され、前記第１部分は前記第２不純物拡散領域の前記第３不純物拡散領域側に前記第３不純物拡散領域に離間して配置され、前記第３部分は前記第２不純物拡散領域の前記第５不純物拡散領域側に前記第５不純物拡散領域に離間して配置され、
前記第１部分と、前記第２部分と、前記第３部分が連続し、
前記第１コンタクトは、前記第２部分に接するように設けられ、
前記第１の電源は前記第３不純物拡散領域および前記第５不純物拡散領域に接続されていることを特徴とする半導体装置。
【請求項８】
前記第１コンタクトと前記第１の領域とが第１の配線で接続されていることを特徴とする請求項７に記載の半導体装置。
【手続補正書】
【提出日】平成27年8月26日(2015.8.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ニトリル基含有重合体に塩基性物質を反応させて得られる、二次電池電極用バインダ。
【請求項２】
前記ニトリル基含有重合体を構成する単量体単位の２０質量％以上がアクリロニトリルである、請求項１に記載の二次電池電極用バインダ。
【請求項３】
前記塩基性物質が、ヒドロキシルアミン又はその塩、あるいは水酸化アルカリである、請求項１に記載の二次電池電極用バインダ。
【請求項４】
請求項１又は請求項２に記載のバインダを含有する二次電池電極用スラリー組成物。
【請求項５】
請求項１又は請求項２に記載のバインダを含有する二次電池用電極。
【請求項６】
請求項１又は請求項２に記載のバインダを含有する二次電池。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
本発明は、以下のものに関する。
［１］ニトリル基含有重合体に塩基性物質を反応させて得られる、二次電池電極用バインダ。
［２］前記ニトリル基含有重合体を構成する単量体単位の２０質量％以上がアクリロニトリルである、上記［１］に記載の二次電池電極用バインダ。
［３］前記塩基性物質が、ヒドロキシルアミン又はその塩、あるいは水酸化アルカリである、上記［１］に記載の二次電池電極用バインダ。
［４］上記［１］又は［２］に記載のバインダを含有する二次電池電極用スラリー組成物。
［５］上記［１］又は［２］に記載のバインダを含有する二次電池用電極。
［６］上記［１］又は［２］に記載のバインダを含有する二次電池。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４２】
＜バインダ樹脂組成物＞
本発明によるニトリル基の少なくとも一部をアミドキシム基に転化させた重合体あるいは、一部をカルボキシル基あるいはアミド基に転化させた重合体に、これとは異なる他の重合体や添加剤を適宜組み合わせて二次電池電極用バインダ樹脂組成物を構成することも出来る。具体的には、電池性能を向上させるその他のバインダ重合体、塗工性を向上させる粘度調整剤等の添加剤を、本発明の所期の効果を損なわない範囲で組み合わせることができる。
【手続補正書】
【提出日】平成27年1月13日(2015.1.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
互いに位置合わせされた複数の基板のうちの少なくとも一つの基板の位置ずれが発生したときの少なくとも一つの基板の場所を特定する特定段階を含む基板重ね合わせ方法。
【請求項２】
互いに位置合わせされた前記複数の基板のうちの少なくとも一つの基板に位置ずれが発生したか否かを判定する判定段階を含み、
前記特定段階では、前記判定段階で判定された前記場所を特定する請求項１に記載の基板重ね合わせ方法。
【請求項３】
前記判定段階では、前記位置ずれが発生した旨と、前記場所を特定する検出情報との関連付けを行い、
前記特定段階では、前記検出情報に基づいて、前記場所を特定する請求項２に記載の基板重ね合わせ方法。
【請求項４】
前記検出情報は、前記位置ずれが発生した時刻の情報を含む請求項３に記載の基板重ね合わせ方法。
【請求項５】
前記複数の基板の画像を撮像する撮像段階を更に備え、
前記判定段階では、前記撮像段階で撮像された画像に基づいて前記位置ずれを検出し、
前記検出情報は、前記画像の情報を含む請求項３または４に記載の基板重ね合わせ方法。
【請求項６】
前記特定段階では、
前記位置ずれを検出したことを示す検出信号を送信する請求項２から５のいずれか一項に記載の基板重ね合わせ方法。
【請求項７】
前記特定段階では、
前記検出信号を受信して、受信した受信時刻に基づいて、前記場所を特定する請求項６に記載の基板重ね合わせ方法。
【請求項８】
前記判定段階では、
一方の基板に対する他方の基板の位置の位置ずれを光学的変化によって検出する請求項２から７のいずれか１項に記載の基板重ね合わせ方法。
【請求項９】
前記判定段階では、
一方の基板に対する他方の基板の位置ずれを電気的変化によって検出する請求項２から８のいずれか１項に記載の基板重ね合わせ方法。
【請求項１０】
前記複数の基板は、それぞれが基板ホルダに保持されており、
前記判定段階では、一の基板ホルダに対する他の基板ホルダのずれを検出することにより、前記複数の基板間の位置ずれを検出する請求項２から９のいずれか１項に記載の基板重ね合わせ方法。
【請求項１１】
前記特定段階では、
特定した場所において、前記位置ずれが発生した時刻を特定する請求項１から１０のいずれか１項に記載の基板重ね合わせ方法。
【請求項１２】
前記特定段階では、前記複数の基板を互いに位置合わせした後であって前記複数の基板の貼り合わせが完了するまでの間で生じた位置ずれの発生場所を特定する請求項１から１１のいずれか一項に記載の基板重ね合わせ方法。
【請求項１３】
請求項１から１２のいずれか１項に記載の基板重ね合わせ方法と、
重ね合わされた前記基板を積層半導体装置に個片化する個片化段階と
を備える積層半導体装置の製造方法。
【請求項１４】
互いに位置合わせされた複数の基板のうちの少なくとも一つの基板の位置ずれが発生したときの少なくとも一つの基板の場所を特定する特定部を備える基板重ね合わせ装置。
【請求項１５】
基板を保持する一対の基板ホルダを有する基板ホルダ対であって、
一方の基板ホルダに対する他方の基板ホルダの相対位置の位置ずれを検出する位置ずれ検出部を備える基板ホルダ対。
【請求項１６】
前記位置ずれ検出部は、前記他方の基板ホルダに設けられ、前記一方の基板ホルダに設けられた被検出部を検出して、前記一方の基板に対する相対位置の位置ずれを検出する請求項１５に記載の基板ホルダ対。
【請求項１７】
前記位置ずれ検出部は、前記位置ずれが検出された旨を前記基板ホルダ対の外部に送信する通信部を更に有する請求項１５または１６に記載の基板ホルダ対。
【請求項１８】
前記位置ずれ検出部は、前記位置ずれが生じた旨を、前記位置ずれが発生したときの前記基板ホルダ対の場所を特定する検出情報と関連付けて記憶する記憶部を更に有する請求項１５から１７のいずれか一項に記載の基板ホルダ対。
【請求項１９】
前記一方の基板ホルダに保持された前記基板と前記一方の基板ホルダとの位置ずれ、及び、前記他方の基板ホルダに保持された前記基板と前記他方の基板ホルダとの位置ずれの少なくとも一方を検出する第二の検出部を備える請求項１５から１８のいずれか一項に記載の基板ホルダ対。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】基板重ね合わせ方法、積層半導体装置の製造方法、基板重ね合わせ装置、及び、基板ホルダ対
【手続補正書】
【提出日】平成26年11月21日(2014.11.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
センサーの出力に対応する階調値を含む検出対象画像を生成する画像生成部と、
前記検出対象画像から検出対象物を検出する検出器であって、複数の第１種識別器と前記第１種識別器よりも前記検出対象物の検出精度が高い第２種識別器とを有する検出器と、を含み、
前記検出器は、第１演算工程と第２演算工程を並列動作させ、
前記第１演算工程において、複数の第１種識別器のうち１つの第１種識別器を用いて検出対象物を検出するとともに、
前記第２演算工程において、前記複数の第１種識別器と前記第２種識別器を用いて検出対象物を検出し、前記複数の第１種識別器の検出結果と前記第２種識別器の検出結果とに基づいて前記第２種識別器の検出結果に最も近い第１種識別器を特定し、前記第１演算工程で動作する識別器を特定した前記第１種識別器に更新する、検出装置。
【請求項２】
前記第１種識別器と前記第２種識別器はそれぞれ複数の弱識別器を含み、前記第２種識別器の弱識別器数は前記第１種識別器の弱識別数よりも多い、請求項１に記載の検出装置。
【請求項３】
前記第１種識別器は前記第２種識別器よりも検出速度が速い、請求項１又は２に記載の検出装置。
【請求項４】
前記第１演算工程はフォアグラウンドタスクとして動作し、前記第２演算工程はバックグラウンドタスクとして動作する、請求項１〜３のいずれかに記載の検出装置。
【請求項５】
前記複数の第１種識別器のそれぞれは、弱識別器数、特徴量の種類、学習時に使用される学習画像セット、及び、検出対象物の検出に用いられる閾値のうち少なくとも１つが異ならされる、請求項１〜４のいずれかに記載の検出装置。
【請求項６】
前記複数の第１種識別器の検出結果と前記第２種識別器の検出結果とに基づいて前記第２識別器の検出結果に最も近い第１種識別器を特定する際、検出結果から求められる検出精度に基づいて前記第１種識別器が特定される、請求項１〜５のいずれかに記載の検出装置。
【請求項７】
前記検出精度は、Ｆ−ｍｅａｓｕｒｅ値で表される、請求項６に記載の検出装置。
【請求項８】
センサーの出力に対応する階調値を含む検出対象画像を生成することと、
第１演算工程と第２演算工程を並列動作させ、前記検出対象画像から検出対象物を検出することと、を含み、
前記第１演算工程において、複数の第１種識別器のうち１つの第１種識別器を用いて検出対象物を検出するとともに、
前記第２演算工程において、前記複数の第１種識別器と前記複数の第１種識別器よりも前記検出対象物の検出精度が高い第２種識別器を用いて検出対象物を検出し、前記複数の第１種識別器の検出結果と前記第２種識別器の検出結果とに基づいて前記第２種識別器の検出結果に最も近い第１種識別器を特定し、前記第１演算工程で動作する識別器を特定した前記第１種識別器に更新する、検出方法。
【請求項９】
請求項１〜７のいずれかに記載された検出装置を搭載したことを特徴とする車両。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】検出装置、検出方法、及び、車両
【手続補正書】
【提出日】平成27年10月15日(2015.10.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１樹脂成分と、該第１樹脂成分の融点よりも低い融点又は軟化点を有する第２樹脂成分とからなり、第２樹脂成分が繊維表面の少なくとも一部を長さ方向に連続して存在し、加熱によって長さが伸びる熱伸長性繊維であって、
第２樹脂成分の融点−６℃での熱伸長率Ａに対する、第２樹脂成分の融点＋１０℃での熱伸長率Ｂの変化率（｛（Ｂ−Ａ）／Ａ｝×１００）が、１３０％以上であり、
第１樹脂成分がポリ乳酸からなり、第２樹脂成分がポリオレフィンからなり、
前記第１樹脂成分と第２樹脂成分との質量比が、第１樹脂成分：第２樹脂成分＝２０：８０から８０：２０までである熱伸長性繊維。
【請求項２】
熱伸長率Ａが３．５％以下である請求項１に記載の熱伸長性繊維。
【請求項３】
ポリ乳酸は、そのメルトインデックスが２ｇ／１０ｍｉｎ以上５０ｇ／１０ｍｉｎ以下である請求項１又は２に記載の熱伸長性繊維。
【請求項４】
ポリ乳酸からなる第１樹脂成分の配向指数が、３％以上５０％以下である請求項１ないし３のいずれか一項に記載の熱伸長性繊維。
【請求項５】
ポリオレフィンがポリエチレンからなる請求項１ないし４のいずれか一項に記載の熱伸長性繊維。
【請求項６】
請求項１ないし５のいずれか一項に記載の熱伸長性繊維を原料として用い、一方の面側に複数の凸部及び凹部を有し、他方の面側は一方の面側よりも平坦になっており、該凸部に、熱伸長した状態の該熱伸長性繊維が含まれている不織布であって、
他方の面側の表面における凸部に対応する位置に存在する、熱伸長した状態の熱伸長性繊維の熱伸長率Ｃと、一方の面側の表面における凸部に対応する位置に存在する、熱伸長した状態の熱伸長性繊維の熱伸長率Ｄとの比（Ｃ／Ｄ）が、熱伸長性繊維を構成する第２樹脂成分の融点＋２０℃において、３以上である不織布。
【請求項７】
請求項１ないし５のいずれか一項に記載の熱伸長性繊維を原料として用いた不織布であって、
前記不織布は、一方の面側に複数の凸部及び凹部を有し、かつ他方の面側にも複数の凸部及び凹部を有し、一方の面側の凸部及び凹部と、他方の面側の凸部及び凹部は、不織布の平面視において同位置に位置しており、
凸部に、熱伸長した状態の熱伸長性繊維が含まれており、
他方の面側の表面における凸部に対応する位置に存在する、熱伸長した状態の熱伸長性繊維の熱伸長率Ｅと、一方の面側の表面における凸部に対応する位置に存在する、熱伸長した状態の熱伸長性繊維の熱伸長率Ｆとの比（Ｅ／Ｆ）が、熱伸長性繊維を構成する第２樹脂成分の融点＋２０℃において、０．１以上３未満であり、
凸部においては、不織布の厚み方向の中心位置を基準とする、他方の面側における凸部の厚みが、凸部全体の厚みの２０％以上４０％以下を占めている不織布。
【請求項８】
第１成分の紡糸温度を第１成分の融点プラス２０℃以上１８０℃以下の範囲に設定し、第２樹脂成分の紡糸温度を第２成分の融点プラス２０℃以上１８０℃以下の範囲に設定し、
紡糸速度５０ｍ／ｍｉｎ以上１５００ｍ／ｍｉｎ以下で溶融紡糸を行い、
延伸加工は行わす、捲縮処理を行い、
その後、加熱乾燥による弛緩処理を１００℃以上１２５℃以下で行い、
第２樹脂成分の融点−６℃での熱伸長率Ａに対する、第２樹脂成分の融点＋１０℃での熱伸長率Ｂの変化率（｛（Ｂ−Ａ）／Ａ｝×１００）が、１３０％以上であり、
第１樹脂成分がポリ乳酸からなり、第２樹脂成分がポリオレフィンからなる熱伸長性繊維の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成26年11月25日(2014.11.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
上記課題を解決するために、本発明は、電子放出部を有する電子銃構造体が接続された陰極と、前記電子放出部から放出された電子の照射により放射線を発生するターゲットが設けられた陽極との間に、誘電体からなる管状側壁が前記電子銃構造体を囲んで配置された放射線管が、絶縁性液体で満たされた外囲器内に封入された放射線発生装置であって、
前記外囲器の内面の少なくとも一部に、前記放射線管の胴部側に突出した熱伝導性を有するフィンを備え、
前記フィンは、前記胴部の電位が、前記フィンの電位よりも高電位となる前記胴部の位置に対向する領域を除いて設けられていることを特徴とする放射線発生装置を提供するものである。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
また、本発明は、電子放出部を有する電子銃構造体が接続された陰極と、前記電子放出部から放出された電子の照射により放射線を発生するターゲットが設けられた陽極との間に、誘電体からなる管状側壁が前記電子銃構造体を囲んで配置された放射線管が、絶縁性液体で満たされた外囲器内に封入された放射線発生装置であって、
前記外囲器の内面の少なくとも一部に、熱伝導性を有するフィンが前記放射線管の胴部側に突出して設けられ、
前記フィンと前記胴部との間の電位差が大きくなるにつれて、前記フィンと前記胴部との間の距離が大きくなることを特徴とする放射線発生装置を提供するものである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電子放出部を有する電子銃構造体が接続された陰極と、前記電子放出部から放出された電子の照射により放射線を発生するターゲットが設けられた陽極との間に、誘電体からなる管状側壁が前記電子銃構造体を囲んで配置された放射線管が、絶縁性液体で満たされた外囲器内に封入された放射線発生装置であって、
前記外囲器の内面の少なくとも一部に、前記放射線管の胴部側に突出した熱伝導性を有するフィンを備え、
前記フィンは、前記胴部の電位が、前記フィンの電位よりも高電位となる前記胴部の位置に対向する領域を除いて設けられていることを特徴とする放射線発生装置。
【請求項２】
前記フィンと前記胴部との間の電位差が大きくなるにつれて、前記フィンと前記胴部との間の距離が大きくなることを特徴とする請求項１に記載の放射線発生装置。
【請求項３】
電子放出部を有する電子銃構造体が接続された陰極と、前記電子放出部から放出された電子の照射により放射線を発生するターゲットが設けられた陽極との間に、誘電体からなる管状側壁が前記電子銃構造体を囲んで配置された放射線管が、絶縁性液体で満たされた外囲器内に封入された放射線発生装置であって、
前記外囲器の内面の少なくとも一部に、熱伝導性を有するフィンが前記放射線管の胴部側に突出して設けられ、
前記フィンと前記胴部との間の電位差が大きくなるにつれて、前記フィンと前記胴部との間の距離が大きくなることを特徴とする放射線発生装置。
【請求項４】
前記胴部の電位が前記フィンの電位よりも小さくなる側の方が、前記胴部の電位が前記フィンの電位よりも大きくなる側よりも、前記フィンと前記胴部との間の距離の変化が緩やかであることを特徴とする請求項３に記載の放射線発生装置。
【請求項５】
前記フィンと前記陽極が同電位に設定され、前記陽極周辺に前記フィンが設けられていることを特徴とする請求項１又は２に記載の放射線発生装置。
【請求項６】
前記陽極と前記外囲器との間に、前記絶縁性液体を前記フィンに向かうように整流させる整流構造を有することを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の放射線発生装置。
【請求項７】
前記フィンの電位が接地電位であることを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項に記載の放射線発生装置。
【手続補正書】
【提出日】平成26年11月25日(2014.11.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
接続具１は、第１軸線Ａ１を筒軸とする円筒状の第１円筒部（第１の筒部）Ｐ１を備えている。更に、接続具１は、第２軸線Ａ２を筒軸とする円筒状の第２円筒部（第２の筒部）Ｐ２を備えている。第1円筒部には第１棒体Ｂ１が挿入され、第２円筒部には、第２棒体Ｂ２が挿入される。第１棒体Ｂ１及び第２棒体Ｂ２が接続具１に保持された状態においては、第２棒体Ｂ２の一端面Ｂ２ａが第１棒体Ｂ１の外側面Ｂ１ｂに向けられるように配置され、第１棒体Ｂ１と第２棒体Ｂ２とがＴ字に配置される。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
第１棒体Ｂ１は、カシメや接着等により第１円筒部Ｐ１に固定されてもよく、Ｚ方向への並進移動や第１軸線Ａ１周りの回転が可能であってもよい。第２棒体Ｂ２は、カシメや接着等により第２円筒部Ｐ２に固定されてもよく、Ｘ方向への並進移動や第２軸線Ａ２周りの回転が可能であってもよい。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２６】
接続具１は、第１棒体Ｂ１を第１円筒部Ｐ１内で第１軸線Ａ１周りに回転させる用途に用いられてもよい。このような用途の接続具１としては、図８に示す接続具１Ｃ（詳細は後述する）が例として挙げられる。接続具１は、第１棒体Ｂ１を中心にして第１軸線Ａ１周りに回転する用途に用いられてもよい。このような用途の接続具１としては、図６及び図７に示す接続具１Ａ，１Ｂ（詳細は後述する）が例として挙げられる。また、接続具１においては、第１円筒部Ｐ１は第１軸線Ａ１を筒軸とする円筒形状をなし、第１棒体Ｂ１は第1円筒部P１の内側面Ｐ１ｃに摺接する外側面Ｂ１ｂ（円柱面）を有していることとしてもよい。この構造の接続具１としては、図８に示す接続具１Ｃが例として挙げられる。
【手続補正書】
【提出日】平成26年11月17日(2014.11.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
発光素子および画素回路を画素ごとに有する表示部と、
映像信号に基づいて前記画素回路を駆動する駆動部と
を備え、
前記画素回路は、
前記発光素子を駆動する駆動トランジスタと、
前記駆動トランジスタのゲートに対する、映像信号に対応した信号電圧の印加を制御する書込トランジスタと
を有し、
前記駆動部は、前記駆動トランジスタのゲート−ソース間電圧を前記駆動トランジスタの閾値電圧に近づけるＶｔｈ補正を全画素行に対して行ったのち、映像信号に応じた信号電圧の書込を全画素行の駆動トランジスタのゲートに対して行う
表示装置。
【請求項２】
前記駆動部は、１水平期間よりも短い間隔で前記Ｖｔｈ補正の走査を行う
請求項１に記載の表示装置。
【請求項３】
前記駆動部は、１水平期間よりも長い期間に渡って各画素行に対する前記Ｖｔｈ補正を行う
請求項１または請求項２に記載の表示装置。
【請求項４】
前記表示部は、前記駆動トランジスタのゲートに接続された信号線を有し、
前記駆動部は、前記Ｖｔｈ補正を行っている期間には前記映像信号とは無関係の一定電圧を前記信号線に出力し続け、前記書込を行っている期間には前記信号電圧を前記信号線に出力し続ける
請求項１ないし請求項３のいずれか一項に記載の表示装置。
【請求項５】
前記駆動部は、ｎフレーム目に前記発光素子が発光する期間と、ｎ＋１フレーム目に前記発光素子が発光する期間とが互いに重複しないように、前記補正および前記書込を行う
請求項１ないし請求項４のいずれか一項に記載の表示装置。
【請求項６】
表示装置を備え、
前記表示装置は、
発光素子および画素回路を画素ごとに有する表示部と、
映像信号に基づいて前記画素回路を駆動する駆動部と
を有し、
前記画素回路は、
前記発光素子を駆動する駆動トランジスタと、
前記駆動トランジスタのゲートに対する、映像信号に対応した信号電圧の印加を制御する書込トランジスタと
を有し、
前記駆動部は、前記駆動トランジスタのゲート−ソース間電圧を前記駆動トランジスタの閾値電圧に近づけるＶｔｈ補正を全画素行に対して行ったのち、映像信号に応じた信号電圧の書込を全画素行の駆動トランジスタのゲートに対して行う
電子機器。
【請求項７】
発光素子および画素回路を画素ごとに備え、かつ前記画素回路が、発光素子を駆動する駆動トランジスタと、前記駆動トランジスタのゲートに、映像信号に対応した信号電圧の印加を制御する書込トランジスタとを有する表示装置において、前記駆動トランジスタのゲート−ソース間電圧を前記駆動トランジスタの閾値電圧に近づけるＶｔｈ補正を全画素行に対して行ったのち、映像信号に応じた信号電圧の書込を全画素行の駆動トランジスタのゲートに対して行う
表示装置の駆動方法。