(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を処理槽内でほぼ水平に支持して回転させ、前記基板の回転円の最大径より大きい外径の円板であるロータと、基板の表面に薬液を供給する薬液供給手段と、基板の少なくとも表面に洗浄液を吹き付ける基板洗浄手段と、洗浄工程において前記ロータの裏面に洗浄液を吹き付けるロータ洗浄手段とを具備することを特徴とする回転式基板処理装置。
【請求項２】
前記ロータは、基板に供給された薬液及び洗浄液を外周側へ排出する際の液ガイドを兼ねる請求項１に記載の回転式基板処理装置。
【請求項３】
前記ロータ洗浄手段は、ロータの少なくとも外周部を含む裏面に洗浄液を吹き付ける請求項１に記載の回転式基板処理装置。
【請求項４】
前記基板洗浄手段は、基板の表面及び裏面に洗浄液を吹き付ける請求項１に記載の回転式基板処理装置。
【請求項５】
前記基板洗浄手段は、基板の回転中心部裏面にガスを吹き付けるガスパージ手段と組み合わされる請求項４に記載の回転式基板処理装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、液晶用ガラス基板や半導体ウエーハにウエット処理を行う回転式基板処理装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
液晶用ガラス基板の製造においては、素材であるガラス基板の表面にレジスト塗布、エッチング、レジスト剥離等の処理が繰り返される。このようなガラス基板の処理に使用される基板処理装置の一つとして回転式のものがある。
【０００３】
回転式の基板処理装置は、基板をロータ上で回転させながら、スプレーユニットにより上方から基板の表面にエッチング液、剥離液等の薬液を供給する。薬液による処理が終わると、別のスプレーユニットにより上方から基板の表面に洗浄用の純水を吹き付ける。洗浄が終わると、基板を高速で回転させて乾燥する。
【０００４】
洗浄については、基板の裏面の薬液による汚れを除去するために、裏面にも洗浄液を吹き付ける場合が多い。また、乾燥に関しては、遠心力が作用しない回転中心部の乾燥を促進するために、その中心部に表面側及び裏面側から窒素ガスを吹き付ける場合が多い。
【０００５】
一方、ロータについては、使用後の液体を回収するために、その外径を基板の回転円の最大径より大きくし、使用後の液体を基板上から外周側へ排出する際の液ガイドを兼ねる構造が通常採用されている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、このような従来の回転式基板処理装置においては、基板の裏面を洗浄する場合にあっても、乾燥後の基板の裏面、特に中央部裏面に薬液のミストが付着残存する問題のあることが判明した。この現象は、乾燥時に基板の回転中心部裏面に窒素ガスを吹き付ける場合に特に顕著であり、基板の裏面へ吹き付ける洗浄液を増量しても一向に解消されないことも明らかになった。
【０００７】
本発明の目的は、洗浄液の増量によっても除去されない基板裏面の汚れを確実に除去できる回転式基板処理装置を提供することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、本発明者らは洗浄・乾燥後の基板の中央部裏面に薬液のミストが付着残存する現象の原因を子細に調査した。その結果、基板を回転させるロータの裏面、とりわけ外周縁部の裏面に付着残存する薬液によるものであることが判明した。
【０００９】
即ち、ロータは、前述したように、使用後の液体を基板上から外周側へ排出する際の液ガイドを兼ねることもあって、薬液による処理中に薬液による汚れを生じる。ロータの表面に付着する汚れは、洗浄中に基板の裏面に吹き付けられ純水により除去されるが、この汚れは、ロータの裏面、とりわけ外周縁部の裏面に及んでおり、このロータ裏面の汚れは、洗浄中に基板の裏面に吹き付けられる純水によっては除去されない。その結果、洗浄後もロータ裏面に薬液が残存し、洗浄に続く回転乾燥時にミストとなって拡散し、基板の回転中心部裏面に窒素ガスを吹き付ける場合に、その中央部裏面に特に顕著に薬液ミストが再付着する。
【００１０】
本発明の回転式基板処理装置は、かかる知見に基づいて開発されたものであり、基板を処理槽内でほぼ水平に支持して回転させ、前記基板の回転円の最大径より大きい外径の円板であるロータと、基板の表面に薬液を供給する薬液供給手段と、基板の少なくとも表面に洗浄液を吹き付ける基板洗浄手段と、洗浄工程において前記ロータの裏面に洗浄液を吹き付けるロータ洗浄手段とを具備しており、これにより、洗浄液の増量によっても解消されない基板裏面の汚れを確実に除去し得る。
【００１１】
ロータ洗浄手段は、ロータの少なくとも外周縁部を含む裏面に洗浄液を散布する構成が好ましい。これにより基板裏面の汚れが特に効果的に除去され得る。
【００１２】
ロータは、基板に散布された薬液及び洗浄液を外周側へ排出する際の液ガイドを兼ねる構成が好ましい。この場合にあっても、基板裏面の汚れが確実に除去され得る。
【００１３】
基板洗浄手段は、基板の表面及び裏面に洗浄液を散布する構成が好ましい。また、基板の回転中心部裏面にガスを吹き付けるガスパージ手段と組み合わせるのが好ましい。この場合にあっても、基板裏面の汚れが確実に除去され得る。
【００１４】
【発明の実施の形態】
以下に本発明の実施形態を図面に基づいて説明する。図１は本発明の１実施形態を示す回転式基板処理装置の主要部の側面図である。
【００１５】
本実施形態の回転式基板処理装置は、液晶用ガラス基板１０のエッチング処理又はレジスト剥離処理に使用される。この回転式基板処理装置は、図示されない処理槽の中心部に配置されたロータ２０及びその回転駆動機構３０を備えている。
【００１６】
ロータ２０は、水平な円板であって、その上に複数のピン２１により基板１０を水平に支持する。このロータ２０は、基板１０に供給された薬液及び洗浄液を回収する際の液ガイドを兼ねており、その外径は、基板１０の回転円の最大径（対角寸法）より若干大きくされている。
【００１７】
回転駆動機構３０は、円筒状の回転軸３１の内側に固定軸３２を組み合わせた２重構造になっている。外側の回転軸３１は、そのヘッド部に同心状に取り付けられた前記ロータ２０を回転させる。固定軸３２のヘッド部には、ガスパージ手段としての窒素ガスノズル４０と、基板洗浄手段を構成する複数の純水ノズル５０とが取り付けられている。
【００１８】
窒素ガスノズル４０は、ヘッド部の中心位置に真上を向いて設けられており、乾燥工程において基板１０の回転中心部裏面に窒素ガスを吹き付ける。複数の純水ノズル５０は、窒素ガスノズル４０の周囲に外周側へ傾斜して設けられており、洗浄工程において基板１０の裏面に純水を洗浄液として吹き付ける。
【００１９】
回転駆動機構３０には又、ロータ洗浄手段としての純水ノズル６０が取り付けられている。純水ノズル６０は、ロータ２０の外周部裏面に下方から対向するように、回転駆動機構３０の固定部に支持部材６１により取り付けられている。この純水ノズル６０は、洗浄工程においてロータ２０の外周部裏面に純水を洗浄液として吹き付ける。
【００２０】
ロータ２０及び回転駆動機構３０の外側には、液回収カップ７０が設けられている。液回収カップ７０は、外カップ７１と内カップ７２を組み合わせた２重構造である。内カップ７２は昇降式で、ロータ２０の外径より僅かに大きい開口部を有し、薬液処理時は、基板１０上に供給された薬液を外カップ７１内に導くために、開口部をロータ２０の僅か下方に位置させる。洗浄時は、その廃液を内カップ７２内に導くために上昇する。
【００２１】
図示されない処理槽には更に、第１のスプレーユニット８０と、図示されない第２のスプレーユニットとが設けられている。第１のスプレーユニット８０は、複数の純水ノズル５０と共に基板洗浄手段を構成する。このスプレーユニット８０は、水平なヘッド８１と、ヘッド８１を支持する支持機構８２とを備えている。ヘッド８１は、基板１０の回転円の半径方向に並ぶ複数の純水ノズル８３から基板１０の表面に純水を吹き付ける。支持機構８２は、ヘッド８１を基板１０の表面に対向するカップ内の使用位置とカップ外の退避位置に移動させる。
【００２２】
図示されない第２のスプレーユニットは、薬液供給手段であって、第１のスプレーユニット８０とほぼ同じ構成であり、カップ内の使用位置でヘッドを基板１０の表面に対向させて、その表面に薬液としてエッチング液又は剥離液を散布供給する。
【００２３】
次に、本実施形態の回転式基板処理装置の機能について説明する。
【００２４】
処理すべき基板１０がロータ２０上にセットされると、図示されない第２のスプレーユニットのヘッドを基板１０の表面に対向させる。ロータ２０を駆動して基板１０を回転させながら、基板１０の表面にヘッドから薬液を供給する。基板１０の表面に供給された薬液は、基板１０の回転に伴う遠心力により外周側へ移動し、ロータ２０の表面を介して外カップ７１内に回収される。このとき、薬液の一部がロータ２０の裏面側へ回りこみ、その外周縁部に付着する。
【００２５】
薬液による処理が終わると、図示されない第２のスプレーユニットのヘッドを基板１０の表面上から退避させ、代わりに、第１のスプレーユニット８０のヘッド８１を基板１０の表面に対向させ、そのヘッド８１から、回転中の基板１０の表面に純水を吹き付ける。また、複数の純水ノズル５０から、その基板１０の裏面に純水を吹き付ける。更に、純水ノズル６０から、ロータ２０の外周部裏面にも純水を吹き付ける。
【００２６】
基板１０の表面及び裏面に純水が吹き付けられることにより、その両面が洗浄される。洗浄により生じる廃液は、ロータ２０の表面を介して内カップ７２内に回収される。このとき、ロータ２０の表面に付着する薬液も除去される。特に、基板１０の裏面から反射する純水によってその表面が洗浄される。ロータ２０の外周縁部裏面に付着する薬液は、基板１０の表面及び裏面に吹き付けられる純水によっては殆ど除去されないが、その除去のための専用の純水ノズル６０から噴出される純水により、ほぼ完全に除去される。
【００２７】
洗浄が終わると、ロータ２０を高速で回転させることにより、基板１０の表面及び裏面から残存水を除去する。また、遠心力が作用しない基板１０の中心部裏面に窒素ガスノズル７０から窒素ガスを吹き付ける。また、図示されない同様の窒素ガスノズルから、基板１０の中心部表面に窒素ガスを吹き付ける。このとき、ロータ２０の外周縁部裏面に薬液が残存していると、その薬液がミストになって拡散し、基板１０の中心部裏面に再付着するが、その薬液が事前に除去されているので、このミスト付着の懸念がない。
【００２８】
【発明の効果】
以上に説明したとおり、本発明の回転式基板処理装置は、洗浄工程においてロータの裏面に洗浄液を吹き付けるロータ洗浄手段を装備することにより、洗浄液の増量によっても除去されない基板裏面の汚れを確実に除去できる。特に、ガスパージによって回転中心部の乾燥効果を高める場合に、その汚れを確実に除去できるので、処理品質の向上に大きな効果を発揮する。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の１実施形態を示す回転式基板処理装置の主要部の側面図である。
【符号の説明】
１０  基板
２０  ロータ
３０  回転駆動機構
４０  窒素ガスノズル
５０  純水ノズル（基板洗浄手段）
６０  純水ノズル（ロータ洗浄手段）
７０  液回収カップ
８０  スプレーノズル（基板洗浄手段）
【図１】
0003559228.tif 000002