【事件の表示】
　特願２００２−５７５９７６「変化する断面を有するフィラメントおよびそのフィラメントを備えた電子ビーム放射器」拒絶査定不服審判事件〔平成１４年１０月　３日国際公開、ＷＯ０２／７８０３３、平成１６年１１月２５日国内公表、特表２００４−５３５６５５〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
第１　手続の経緯
　本願は、平成１４年（２００２年）３月１２日（パリ条約による優先権主張、平成１３年３月２１日、アメリカ合衆国）を国際出願日とする出願（特願２００２−５７５９７６号）であって、平成１９年３月２９日付けで拒絶査定がなされ、これに対して、平成１９年７月６日に拒絶査定不服審判の請求がなされ、同日付けで手続補正がなされ、さらに、補正期間内の平成１９年７月３０日付けで手続補正がなされたものである。
　
第２　平成１９年７月６日付の手続補正についての補正の却下の決定について
　
［補正の却下の決定の結論］
　平成１９年７月６日付の手続補正（以下、「本件補正１」という。）を却下する。
　
１　本件補正１について
　平成１９年７月６日付手続補正により、特許請求の範囲は、平成１９年２月１４日付手続補正書の特許請求の範囲に記載の、
「　　【請求項１】
　電子ビーム放射器において電子を発生させるフィラメントであって、円形の断面および長さを有し、所望の電子発生プロファイルを生成するように、前記断面が前記長さに沿って変化しており、前記フィラメントの最大直径が０．０５１ｃｍ以下であるフィラメント。
　　【請求項２】
　請求項１において、前記長さに沿って異なる断面積を持つ複数の部分を含むフィラメント。
　　【請求項３】
　請求項２において、少なくとも１つの大きい断面積部分と、少なくとも１つの小さい断面積部分とを有し、前記大断面積部分が前記小断面積部分より大きく、前記少なくとも１つの小断面積部分により、この小断面積部分において温度が上昇し、電子発生量が増大するフィラメント。
　　【請求項４】
　請求項３において、任意の間隔で互いに離間している複数の小断面積部分を有するフィラメント。
　　【請求項５】
　請求項３において、前記少なくとも１つの小断面積部分が前記フィラメントの一端に配置されて、前記フィラメントの長さ全体の電圧降下が補償されることにより、前記フィラメントの長さに沿って均一な電子を発生できるフィラメント。
　　【請求項６】
　請求項３において、前記少なくとも１つの小断面積部分が前記フィラメントの両端に配置されることにより、この両端において多量の電子を発生させるフィラメント。
　　【請求項７】
　請求項２において、前記長さに沿って変化する直径を有するフィラメント。
　　【請求項８】
　請求項７において、少なくとも１つの大径部分と、少なくとも１つの小径部分とを有し、前記大径部分が前記小径部分より大きく、前記少なくとも１つの小径部分により、この小径部分の温度が上昇し、電子発生量が増加するフィラメント。
　　【請求項９】
　請求項８において、任意の間隔で互いに離間している複数の小径部分を有するフィラメント。
　　【請求項１０】
　請求項８において、前記少なくとも１つの小径部分が、前記フィラメントの一端に配置され、前記フィラメントの長さ全体の電圧降下が補償されることにより、前記フィラメントの長さに沿って均一な電子を発生できるフィラメント。
　　【請求項１１】
　請求項８において、前記少なくとも１つの小径部分が前記フィラメントの両端に配置されることにより、この両端において多量の電子を発生させるフィラメント。
　　【請求項１２】
　真空チャンバと、
　前記真空チャンバ内に配置され、電子を発生させる電子発生器であって、円形の断面と長さとを有する電子発生フィラメントを含み、このフィラメントの前記断面を前記長さに沿って変化させることにより、所望の電子発生プロファイルを前記長さに沿って生成し、前記フィラメントの最大直径が０．０５１ｃｍ以下である電子発生器と、
　電子が電子ビームとなって前記真空チャンバから放射される際に通過する放射窓と、を備えている電子ビーム放射器。
　　【請求項１３】
　請求項１２において、前記フィラメントが前記長さに沿って変化する複数の断面積部分を有する電子ビーム放射器。
　　【請求項１４】
　請求項１３において、このフィラメントが前記長さに沿って変化する複数の直径を有する電子ビーム放射器。
　　【請求項１５】
　電子ビーム放射器において、円形の断面と長さとを有し、電子を発生させるフィラメントを形成する方法であって、
　前記長さに沿って前記フィラメントの前記断面を前記長さに沿って変化させることにより、所望の電子発生プロファイルを生成することを含み、前記フィラメントの最大直径が０．０５１ｃｍ以下である方法。
　　【請求項１６】
　請求項１５において、さらに、前記長さに沿って変化する複数の断面積部分を持つ前記フィラメントを形成することを含む方法。
　　【請求項１７】
　請求項１６において、さらに、少なくとも１つの大きい断面積部分と少なくとも１つの小さい断面積部分とを有する前記フィラメントを形成し、
　前記大断面積部分が前記小断面積部分より大きく、
　前記少なくとも１つの小断面積部分により、この小断面積部分の温度が上昇し、電子発生量が増加する方法。
　　【請求項１８】
　請求項１７において、前記フィラメントが複数の小断面積部分を有し、
　さらに、これらの小断面積部分を任意の間隔で互いに離間させることを含む方法。
　　【請求項１９】
　請求項１７において、さらに、前記少なくとも１つの小断面積部分を、前記フィラメントの一端に配置して、前記フィラメントの長さ全体の電圧降下を補償することにより、前記フィラメントが、その長さに沿って均一な電子を発生させることを含む方法。
　　【請求項２０】
　請求項１７において、さらに、前記少なくとも１つの小断面積部分を、前記フィラメントの両端に配置して、その両端において多量の電子を発生させることを含む方法。
　　【請求項２１】
　請求項１６において、さらに、前記長さに沿って変化する複数の直径を有する前記フィラメントを形成することを含む方法。
　　【請求項２２】
　請求項２１において、さらに、少なくとも１つの大径部分と少なくとも１つの小径部分とを有する前記フィラメントを形成し、
　前記大径部分が前記小径部分より大きく、
　前記少なくとも１つの小径部分により、この小径部分の温度が上昇し、電子発生量が増加する方法。
　　【請求項２３】
　請求項２２において、前記フィラメントが複数の小径部分を有し、
　さらに、これらの小径部分を任意の間隔で互いに離間させることを含む方法。
　　【請求項２４】
　請求項２２において、さらに、前記少なくとも１つの小径部分を、前記フィラメントの一端に配置して、前記フィラメントの前記長さ全体の電圧降下を補償することにより、前記フィラメントが、その長さに沿って均一な電子を発生させることを含む方法。
　　【請求項２５】
　請求項２２において、さらに、前記少なくとも１つの小径部分を、前記フィラメントの両端に配置して、その両端において多量の電子を発生させるようにすることを含む方法。
　　【請求項２６】
　真空チャンバを設けるステップと、
　前記真空チャンバ内に電子を発生させる発生器を配置するステップであって、電子を発生し、前記電子発生器が、円形の断面と長さとを有する電子発生フィラメントを含み、このフィラメントの前記断面を前記長さに沿って変化させることにより、所望の電子発生プロファイルを前記長さに沿って生成し、前記フィラメントの最大直径が０．０５１ｃｍ以下であるステップと、
　電子が電子ビームとなって前記真空チャンバから放射される際に通過する放射窓を前記真空チャンバに取り付けるステップとを含む、電子ビーム放射器を形成する方法。
　　【請求項２７】
　請求項２６において、さらに、前記長さに沿って変化する複数の断面積部分を有する前記フィラメントを形成するステップを含む方法。
　　【請求項２８】
　請求項２７において、さらに、前記長さに沿って変化する複数の直径を有する前記フィラメントを形成するステップを含む方法。
　　【請求項２９】
　電子ビーム放射器において電子を発生させるフィラメントであって、円形の大断面積部分および長さを有し、前記フィラメントの大断面積部分が、この大断面積部分よりも直径で１〜５ミクロンの範囲で小さくなるよう前記長さに沿って前記直径を変化させて、前記長さに沿って所望の電子発生プロファイルを生成するフィラメント。
　　【請求項３０】
　真空チャンバと、
　前記真空チャンバ内に配置され、電子を発生させる電子発生器であって、円形の大断面積部分および長さを有する電子発生フィラメントを含み、前記フィラメントの前記大断面積部分が、この大断面積部分よりも直径で１〜５ミクロンの範囲で小さくなるように前記長さに沿って前記直径を変化させることにより、前記長さに沿って所望の電子発生プロファイルを生成する電子発生器と、
　電子が電子ビームとなって前記真空チャンバから放射される際に通過する、前記真空チャンバの放射窓と、
を備えている電子ビーム放射器。
　　【請求項３１】
　電子ビーム放射器においてフィラメントを用いて電子を発生させる方法であって、
　円形の大断面積部分および長さを有する前記フィラメントを形成し、
　前記フィラメントの前記大断面積部分が、この大断面積部分よりも直径で１〜５ミクロンの範囲で小さくなるように前記長さに沿って前記直径を変化させることにより、前記フィラメントの前記長さに沿って所望の電子発生プロファイルを生成することを含む方法。
　　【請求項３２】
　電子ビーム放射器を用いてビームを発生させる方法であって、
　電子発生フィラメントを有する電子発生器を、真空チャンバ内に配置し、
　円形の大断面積部分および長さを有する前記フィラメントを形成し、
　前記フィラメントの前記大断面積部分が、この大断面積部分よりも直径で１〜５ミクロンの範囲で小さくなるように前記フィラメントの前記長さに沿って前記直径を変化させることにより、前記長さに沿って所望の電子発生プロファイルを生成することを含み、
　電子は電子ビームとなって前記真空チャンバの放射窓を介して前記真空チャンバから放射される方法。」が、
　
「　　【請求項１】
　電子ビーム放射器において、円形の断面と長さとを有し、電子を発生させるフィラメントを形成する方法であって、
　前記フィラメントの外周に酸化層を形成したのち、この酸化層を除去して、前記フィラメントの前記断面の面積または直径を前記長さに沿って変化させることにより、所望の電子発生プロファイルを生成することを含み、
　前記フィラメントの最大直径が０．０５１ｃｍ以下である方法。
　　【請求項２】
　請求項１において、さらに、前記長さに沿って変化する複数の断面積部分を持つ前記フィラメントを形成することを含む方法。
　　【請求項３】
　請求項２において、さらに、少なくとも１つの大きい断面積部分と少なくとも１つの小さい断面積部分とを有する前記フィラメントを形成し、
　前記大断面積部分が前記小断面積部分より大きく、
　前記少なくとも１つの小断面積部分により、この小断面積部分の温度が上昇し、電子発生量が増加する方法。
　　【請求項４】
　請求項３において、前記フィラメントが複数の小断面積部分を有し、
　さらに、これらの小断面積部分を任意の間隔で互いに離間させることを含む方法。
　　【請求項５】
　請求項３において、さらに、前記少なくとも１つの小断面積部分を、前記フィラメントの一端に配置して、前記フィラメントの長さ全体の電圧降下を補償することにより、前記フィラメントが、その長さに沿って均一な電子を発生させることを含む方法。
　　【請求項６】
　請求項３において、さらに、前記少なくとも１つの小断面積部分を、前記フィラメントの両端に配置して、その両端において多量の電子を発生させることを含む方法。
　　【請求項７】
　請求項２において、さらに、前記長さに沿って変化する複数の直径を有する前記フィラメントを形成することを含む方法。
　　【請求項８】
　請求項７において、さらに、少なくとも１つの大径部分と少なくとも１つの小径部分とを有する前記フィラメントを形成し、
　前記大径部分が前記小径部分より大きく、
　前記少なくとも１つの小径部分により、この小径部分の温度が上昇し、電子発生量が増加する方法。
　　【請求項９】
　請求項８において、前記フィラメントが複数の小径部分を有し、
　さらに、これらの小径部分を任意の間隔で互いに離間させることを含む方法。
　　【請求項１０】
　請求項８において、さらに、前記少なくとも１つの小径部分を、前記フィラメントの一端に配置して、前記フィラメントの前記長さ全体の電圧降下を補償することにより、前記フィラメントが、その長さに沿って均一な電子を発生させることを含む方法。
　　【請求項１１】
　請求項８において、さらに、前記少なくとも１つの小径部分を、前記フィラメントの両端に配置して、その両端において多量の電子を発生させるようにすることを含む方法。
　　【請求項１２】
　真空チャンバを設けるステップと、
　前記真空チャンバ内に電子を発生させる発生器を配置するステップであって、前記電子発生器が、円形の断面と長さとを有する電子発生フィラメントを含み、前記フィラメントの外周に酸化層を形成したのち、この酸化層を除去して、前記フィラメントの前記断面の面積または直径を前記長さに沿って変化させることにより、所望の電子発生プロファイルを前記長さに沿って生成し、前記フィラメントの最大直径が０．０５１ｃｍ以下であるステップと、
　電子が電子ビームとなって前記真空チャンバから放射される際に通過する放射窓を前記真空チャンバに取り付けるステップとを含む、電子ビーム放射器を形成する方法。
　　【請求項１３】
　請求項１２において、さらに、前記長さに沿って変化する複数の断面積部分を有する前記フィラメントを形成するステップを含む方法。
　　【請求項１４】
　請求項１３において、さらに、前記長さに沿って変化する複数の直径を有する前記フィラメントを形成するステップを含む方法。
　　【請求項１５】
　電子ビーム放射器においてフィラメントを用いて電子を発生させる方法であって、
　円形の断面および長さを有するフィラメントを形成し、
　前記フィラメントの外周に酸化層を形成したのち、この酸化層を除去して、前記フィラメントに、大断面積部分およびこの大断面積部分よりも直径で１〜５ミクロン小さい小断面積部分を形成することにより、前記フィラメントの前記断面の面積または直径を前記長さに沿って変化させて、前記フィラメントの前記長さに沿って所望の電子発生プロファイルを生成することを含む方法。
　　【請求項１６】
　電子ビーム放射器を用いてビームを発生させる方法であって、
　電子発生フィラメントを有する電子発生器を、真空チャンバ内に配置し、
　円形の断面および長さを有する前記フィラメントを形成し、
　前記フィラメントの外周に酸化層を形成したのち、この酸化層を除去して、前記フィラメントに、大断面積部分およびこの大断面積部分よりも直径で１〜５ミクロン小さい小断面積部分を形成することにより、前記フィラメントの前記断面の面積または直径を前記長さに沿って変化させて、前記長さに沿って所望の電子発生プロファイルを生成することを含み、
　電子は電子ビームとなって前記真空チャンバの放射窓を介して前記真空チャンバから放射される方法。」と補正された。
　
２　補正目的の違反についての検討
　この本件補正１は、
（１）請求項１ないし１４，２９及び３０を削除するとともに、旧請求項１５ないし２８，３１及び３２のそれぞれを、新請求項１ないし１４，１５及び１６とする補正事項、
（２）新請求項１，１２，１５，１６において「フィラメントの外周に酸化層を形成したのち、この酸化層を除去」する発明特定事項を追加して限定する補正事項、
（３）新請求項１，１２，１５，１６において、変化させる断面について、「断面の面積または直径」を変化させることを限定する補正事項、
（４）新請求項１５において、旧請求項３１の「フィラメントの前記大断面積部分が、この大断面積部分よりも直径で１〜５ミクロンの範囲で小さくなるように前記長さに沿って前記直径を変化させることにより」の記載を「フィラメントに、大断面積部分およびこの大断面積部分よりも直径で１〜５ミクロン小さい小断面積部分を形成することにより」と修正する補正事項、
（５）新請求項１６において、旧請求項３２の「フィラメントの前記大断面積部分が、この大断面積部分よりも直径で１〜５ミクロンの範囲で小さくなるように前記フィラメントの前記長さに沿って前記直径を変化させることにより」の記載を「フィラメントに、大断面積部分およびこの大断面積部分よりも直径で１〜５ミクロン小さい小断面積部分を形成することにより」と修正する補正事項、
からなる。
　
　上記（１）の補正事項は、請求項の削除を目的とするものであり、平成１８年法律第５５号改正附則第３条第１項により従前の例とされる同法による改正前の特許法（以下、「平成１８年改正前特許法」という。）第１７条の２第４項第１号に掲げる事項を目的とするものである。
　上記（３）の補正事項は、変化させる断面について、変化させる事項を具体的に特定して限定するものであるから、平成１８年改正前特許法第１７条の２第４項第２号に掲げる事項を目的とするものである。
　上記（４）及び（５）の補正事項については、ともに、誤記の訂正又は明りょうでない記載の釈明を目的とするものであるといえるから、平成１８年改正前特許法第１７条の２第４項第３号又は４号に掲げる事項を目的とするものである。
　
　それに対して、（２）の補正事項については、平成１８年改正前特許法第１７条の２第４項第１，３，４号に掲げるいずれの事項をも目的とするものでもないことは明らかであるとともに、この補正により、本件補正１前の技術課題に加え、「フィラメントの外周に酸化層を形成したのち、この酸化層を除去」することに関連するフィラメントの加工方法についての技術課題も、本願の発明が解決しようとする技術課題となり、そして、この技術課題は、本件補正１前の特許請求の範囲の記載から想定される技術課題とは関連のない技術課題であるから、発明が解決しようとする課題は、本件補正１の前後で変更されたということができ、本件補正１は、請求項のいわゆる限定的減縮を目的とするものではなく、すなわち、同法第１７条の２第４項第２号に掲げる事項を目的とするものではないから、同法第１７条の２第４項に違反するものである。
　
３　独立特許要件違反についての検討
　念のため、仮に、上記の本件補正１が、全体として平成１８年改正前特許法第１７条の２第４項第２号に掲げる事項を目的とする補正であって、同法第１７条の２第４項の規定に違反する補正ではないとした場合に、本件補正１によって補正された特許請求の範囲の請求項１に記載された発明（以下、「本願補正発明１」という。）が特許出願の際独立して特許を受けることができるものであるかについて検討する。
　
（１）本願補正発明１について
　本願補正発明１は、平成１９年７月６日付手続補正書でなされた手続補正により補正された特許請求の範囲の請求項１に記載された事項により特定される次のとおりのものである。
　
「電子ビーム放射器において、円形の断面と長さとを有し、電子を発生させるフィラメントを形成する方法であって、
　前記フィラメントの外周に酸化層を形成したのち、この酸化層を除去して、前記フィラメントの前記断面の面積または直径を前記長さに沿って変化させることにより、所望の電子発生プロファイルを生成することを含み、
　前記フィラメントの最大直径が０．０５１ｃｍ以下である方法。」
　
（２）引用例
ア　引用例１及びその記載事項
　原査定の拒絶の理由に引用され、本願の優先日前に頒布された刊行物である特開昭５９−１１１２２３号公報（以下、「引用例１」という。）には、図面の記載とともに以下の事項が記載されている。
　
「本発明は、放電に使用される直熱型フィラメント陰極に関し、詳細には、フィラメントの一端から他端に向かって断面積を増加せしめたテーパー形状とすることにより長寿命化したテーパー付フィラメント陰極に関する。
　真空中あるいは気体中で放電を行なわせる場合、タングステン、タンタル等の高融点金属のフィラメントに外部から通電して高温（２５００〜３０００°Ｋ）に加熱し、そこから放出される熱電子を放電電流の維持に利用することは、従来から広く行われてきた。」（第１ページ左下欄第１１行〜同ページ右下欄第１行）
　
「第２図は本発明のテーパー付フィラメント陰極の実施例を示す図である。第２図(a)は三ケ月型断面のテーパー付フィラメント、第２図(b)は円形断面のテーパー付フィラメントであり、屈曲する前の形状を表わす。本発明によるフィラメント形状は第１図に示されているフィラメント電源３の正端子４に接続しようとするフィラメント正端子１６から当該電源３の負端子５に接続しようとするフィラメント負端子１７に向かつて、フィラメント断面積が次第に増加していくものである。フィラメント正端子１６側の断面積は、従来の一定断面のフィラメントの断面積と同じとする。一方、フィラメント負端子１７側の断面積は、当該陰極１を用いて得ようとしている放電電流１３とフィラメント電流１０の和に等しい電流が当該断面積を通過しても、その点での温度がフィラメントの中心点１１の温度と同程度となるように決定する。」（第２ページ右上欄第９行〜左下欄第５行）
　
「以上述べたように本発明において、第２図に示される形状のフィラメントを第１図の電気回路のフィラメント陰極１として使用すると、フィラメント電流１０のみを通電した場合には細くて抵抗の大きいフィラメント正端子１６側がフィラメント負端子１７側よりも高温となるが、放電中にはフィラメント負端子１７側に放電電流１３の大部分が負端子側放電電流１５として流れ込み、フィラメント電流１０と重ね合わさつてフィラメント負端子１７側を加熱するが、当該端子１７側の温度はフィラメント正端子１６側の温度と同程度にしか上昇しない。従つて、フィラメント負端子１７側でのフィラメント材料の蒸発はフィラメント正端子１６側での蒸発と同程度となり、フィラメント寿命を大巾に延ばすことが可能となる。」（第２ページ右下欄第１９行〜第３ページ左上欄第１４行）
　
イ　引用発明
　フィラメントが長さを有することは、第１〜３図の記載や技術常識から当然であるから、上記記載及び図面の記載を総合勘案すると、引用例１には、
「放電に使用される直熱型フィラメント陰極１に関し、円形断面および長さを有し、フィラメントの正端子１６側端から負端子１７側端に向かって断面積を増加せしめたテーパー形状とすることにより、フィラメント負端子１７側の断面積が、当該陰極１を用いて得ようとしている放電電流１３とフィラメント電流１０の和に等しい電流が当該断面積を通過しても、その点での温度がフィラメントの中心点１１の温度と同程度となるように決定されたものであり、フィラメントがタングステン、タンタル等の高融点金属で形成されたものであるフィラメント陰極」の発明（以下、「引用発明」という。）が記載されている。
　
ウ　引用例２及びその記載事項
　原査定の拒絶の理由に引用され、本願の優先日前に頒布された刊行物である特開平１１−３３９７０１号公報（以下、「引用例２」という。）には、図面の記載とともに以下の事項が記載されている。
　
「【００３９】図１１を用いて本発明の電子ビーム管に用いられるフィラメントの長手方向の温度状態を説明する。なお、横軸の０ｍｍのフィラメント位置は、図１（ａ）のｓ、及び、図３のｓ、及び、図４のｓで示した位置であり、横軸の５．７ｍｍのフィラメント位置は図１（ａ）のｅ、及び、図３のｅ、及び、図４のｅで示した位置である。図１１中、曲線Ｂは図１に示すフィラメントの温度状態を示すものであり、曲線Ｃは図３に示すフィラメントの温度状態を示すものであり、曲線Ｄは図４に示すフィラメントの温度状態を示すものである。つまり、それぞれのフィラメント温度は中心部の最高温度と端部の温度との差はほとんどなく、フィラメントの温度が均一になっていることがわかる。
【００４０】この結果、本発明の電子ビーム管は平板帯状のタングステン板よりなるフィラメント３１１を用いた場合は、フィラメント３１１と第１内部リード２１が接続された部分の近傍に断面積を小さくして電気抵抗値が大きくなうようにした高発熱３１１ａが形成されているので、この高発熱部３１１ａで発熱量が増大し、この部分以外のフィラメント３１１より高発熱部３１１ａの温度を上昇させることができ、フィラメント３１１の温度を均一にすることができる。」
　
「【００４４】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の電子ビーム管は、電子ビーム発生手段において、熱電子放射部は、電気抵抗値を変えたり、屈曲させたり、或いは、コイルピッチを変えて電流供給部に接続された部分の近傍の発熱量が、それ以外の部分の発熱量と比較して大きくなるようにしたので、電流供給部に接続された近傍部分の発熱量を増大させ、この部分の温度を上昇させることができる。
【００４５】従って、電流供給部に熱電子放出部の熱が奪われるが、少なくとも奪われる熱量の損失だけ発熱量を増やしているので、熱電子放出部の電流供給部側の温度低下を抑制することができ、熱電子放出部の温度を均一にすることができ、熱電子放射部の全ての部分からほぼ均一な量で熱電子が放射され、電子ビームがフィラメントを中心にして一定角度をもって扇状に広がるので、ビーム出力が均一になり、電子ビーム照射領域の長手方向端部側のビーム出力が低下せず有効電子ビーム照射領域が電子ビーム照射領域全長と等しくなり、非処理物の処理範囲を広くすることができる。」
　
（３）対比
　ここで、本願補正発明１と引用発明とを対比する。
　
　引用発明の「放電に使用される直熱型フィラメント陰極１に関し、円形断面および長さを有し」の点は、本願補正発明１の「電子ビーム放射器において、円形の断面と長さとを有し、電子を発生させるフィラメント」である点に相当する。
　引用発明の「フィラメントの正端子１６側端から負端子１７側端に向かって断面積を増加せしめたテーパー形状とする」点は、本願補正発明１の「フィラメントの前記断面の面積または直径を前記長さに沿って変化させる」点に相当する。
　
　したがって、本願補正発明１と引用発明とは、
「電子ビーム放射器において、円形の断面と長さとを有し、電子を発生させるフィラメントに関し、
　前記フィラメントの前記断面の面積または直径を前記長さに沿って変化させるもの」
の発明である点で一致し、次の各点で相違する。
　
ア　相違点１；
　本願補正発明１が「フィラメントの外周に酸化層を形成したのち、この酸化層を除去して」形成する方法に関する限定を備えた発明であるのに対し、引用発明においては、そのような限定がなされていない点。
　
イ　相違点２；
　断面の面積または直径の長さ方向の変化により、本願補正発明１では、「所望の電子発生プロファイルを生成する」ものであるのに対し、引用発明においては「所望の電子発生プロファイルを生成する」ことが明らかでない点。
　
ウ　相違点３；
　本願補正発明１においては、「フィラメントの最大直径が０．０５１ｃｍ以下」であるのに対し、引用発明においては、そのような限定がなされていない点。
　
（４）当審の判断
　以下において、上記各相違点について検討する。
　
ア　相違点１について
　金属加工において「外周に酸化層を形成したのち、この酸化層を除去して」表面部を取り除く加工は、例えば、
・特開平５−１７９４９９号公報（【００１４】〜【００１６】）
・特開平８−３３０２８０号公報（【０００２】）
にも記載されているように周知の技術である。
　そして、引用発明のフィラメントにおいても、断面を変化させる加工方法として、上記の周知技術を採用して、「外周に酸化層を形成したのち、この酸化層を除去して」加工することとし、上記相違点２に係る本願補正発明１の発明特定事項を得ることは当業者が容易に想到し得た事項である。
　
イ　相違点２について
　引用例２の【００３９】【００４０】【００４４】【００４５】の記載から、引用例２には、フィラメントの断面積を変化させて長手方向の温度分布を均一とすることにより、熱電子放射部の全ての部分からほぼ均一な量で熱電子が放射させること、すなわち、所望の電子発生プロファイルを生成することが記載されているといえる。
　引用発明には、フィラメントの長さ方向の断面積を変化させてフィラメントの温度分布を均一とする（負端子側と中心とで同程度の温度とする）ことが記載されているから、引用発明に、上記引用例２に記載された技術を適用して、フィラメントの断面積を変化させてフィラメントの温度分布を均一とすることによって、均一の電子発生プロファイル、すなわち、所望の電子発生プロファイル、を生成するものとすることに格別の困難性は認められない。
　よって、上記相違点３に係る本願補正発明１の発明特定事項を得ることは、引用例２に記載された発明に基づいて当業者が容易に想到し得た事項である。
　
ウ　相違点３について
　フィラメントの太さをどの程度とするかは、当業者が適宜設定し得る設計的事項に過ぎない。
　したがって、引用発明においても、「フィラメントの最大直径が０．０５１ｃｍ以下」と特定して、上記相違点４に係る本願補正発明１の発明特定事項を得ることは、当業者が容易に想到し得た事項である。
　
エ　本願補正発明１の効果について
　そして、本願補正発明１によってもたらされる効果は、引用発明、引用例２に記載された発明及び上記の周知技術から当業者が予測し得る程度のものである。
　
オ　まとめ
　したがって、本願補正発明１は、引用発明、引用例２に記載された発明及び上記の周知技術に基づいて当業者が容易に発明することができたものである。 
　
４　むすび
　本件補正１は、平成１８年改正前特許法第１７条の２第４項各号に掲げる事項を目的とするものではないから、同法第１７条の２第４項に違反するものである。
　また、本願補正発明１は、引用発明及び周知技術に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。したがって、本願補正発明１は、特許出願の際独立して特許を受けることができるものではないから、仮に、本件補正１が、全体として平成１８年改正前特許法第１７条の２第４項第２号に掲げる事項を目的とする補正であって、同法第１７条の２第４項の規定に違反する補正ではないとした場合であっても、同法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項の規定に違反するものである。
　したがって、本件補正１は、同法第１５９条で読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定によって却下されるべきものである。
　
第３　平成１９年７月３０日付の手続補正についての補正の却下の決定について
　
［補正の却下の決定の結論］
　平成１９年７月３０日付の手続補正（以下、「本件補正２」という。）を却下する。
　
１　本件補正２について
　平成１９年７月６日付手続補正は、上記のように却下されたので、平成１９年７月３０日付手続補正により、特許請求の範囲は、平成１９年２月１４日付手続補正書の特許請求の範囲の記載（「第２　平成１９年７月６日付の手続補正についての補正の却下の決定について」の「２　本件補正１について」の記載参照）が、
　
「【請求項１】
　電子ビーム放射器において、円形の断面と長さとを有し、電子を発生させるフィラメントを形成する方法であって、
　前記フィラメントの外周に酸化層を形成したのち、この酸化層を除去して、前記フィラメントの前記断面の面積または直径を前記長さに沿って変化させることにより、所望の電子発生プロファイルを生成することを含み、
　前記フィラメントがタングステンで形成され、
　前記フィラメントの最大直径が０．０２５〜０．０５１ｃｍである方法。
　　【請求項２】
　請求項１において、さらに、前記長さに沿って変化する複数の断面積部分を持つ前記フィラメントを形成することを含む方法。
　　【請求項３】
　請求項２において、さらに、少なくとも１つの大きい断面積部分と少なくとも１つの小さい断面積部分とを有する前記フィラメントを形成し、
　前記大断面積部分が前記小断面積部分より大きく、
　前記少なくとも１つの小断面積部分により、この小断面積部分の温度が上昇し、電子発生量が増加する方法。
　　【請求項４】
　請求項３において、前記フィラメントが複数の小断面積部分を有し、
　さらに、これらの小断面積部分を任意の間隔で互いに離間させることを含む方法。
　　【請求項５】
　請求項３において、さらに、前記少なくとも１つの小断面積部分を、前記フィラメントの一端に配置して、前記フィラメントの長さ全体の電圧降下を補償することにより、前記フィラメントが、その長さに沿って均一な電子を発生させることを含む方法。
　　【請求項６】
　請求項３において、さらに、前記少なくとも１つの小断面積部分を、前記フィラメントの両端に配置して、その両端において多量の電子を発生させることを含む方法。
　　【請求項７】
　請求項２において、さらに、前記長さに沿って変化する複数の直径を有する前記フィラメントを形成することを含む方法。
　　【請求項８】
　請求項７において、さらに、少なくとも１つの大径部分と少なくとも１つの小径部分とを有する前記フィラメントを形成し、
　前記大径部分が前記小径部分より大きく、
　前記少なくとも１つの小径部分により、この小径部分の温度が上昇し、電子発生量が増加する方法。
　　【請求項９】
　請求項８において、前記フィラメントが複数の小径部分を有し、
　さらに、これらの小径部分を任意の間隔で互いに離間させることを含む方法。
　　【請求項１０】
　請求項８において、さらに、前記少なくとも１つの小径部分を、前記フィラメントの一端に配置して、前記フィラメントの前記長さ全体の電圧降下を補償することにより、前記フィラメントが、その長さに沿って均一な電子を発生させることを含む方法。
　　【請求項１１】
　請求項８において、さらに、前記少なくとも１つの小径部分を、前記フィラメントの両端に配置して、その両端において多量の電子を発生させるようにすることを含む方法。
　　【請求項１２】
　真空チャンバを設けるステップと、
　前記真空チャンバ内に電子を発生させる発生器を配置するステップであって、前記電子発生器が、円形の断面と長さとを有する電子発生フィラメントを含み、前記フィラメントの外周に酸化層を形成したのち、この酸化層を除去して、前記フィラメントの前記断面の面積または直径を前記長さに沿って変化させることにより、所望の電子発生プロファイルを前記長さに沿って生成し、前記フィラメントがタングステンで形成され、前記フィラメントの最大直径が０．０２５〜０．０５１ｃｍであるステップと、
　電子が電子ビームとなって前記真空チャンバから放射される際に通過する放射窓を前記真空チャンバに取り付けるステップとを含む、電子ビーム放射器を形成する方法。
　　【請求項１３】
　請求項１２において、さらに、前記長さに沿って変化する複数の断面積部分を有する前記フィラメントを形成するステップを含む方法。
　　【請求項１４】
　請求項１３において、さらに、前記長さに沿って変化する複数の直径を有する前記フィラメントを形成するステップを含む方法。
　　【請求項１５】
　電子ビーム放射器においてフィラメントを用いて電子を発生させる方法であって、
　円形の断面および長さを有するフィラメントをタングステンから形成し、
　直径が０．０２５〜０．０５１ｃｍの大断面積部分を有する前記フィラメントの外周に酸化層を形成したのち、この酸化層を除去して、前記フィラメントに、前記大断面積部分よりも直径で１〜５ミクロン小さい小断面積部分を形成することにより、前記フィラメントを前記長さに沿って変化させて、前記フィラメントの前記長さに沿って所望の電子発生プロファイルを生成することを含む方法。
　　【請求項１６】
　電子ビーム放射器を用いてビームを発生させる方法であって、
　電子発生フィラメントを有する電子発生器を、真空チャンバ内に配置し、
　円形の断面および長さを有する前記フィラメントをタングステンから形成し、
　直径が０．０２５〜０．０５１ｃｍの大断面積部分を有する前記フィラメントの外周に酸化層を形成したのち、この酸化層を除去して、前記フィラメントに、前記大断面積部分よりも直径で１〜５ミクロン小さい小断面積部分を形成することにより、前記フィラメントの前記長さに沿って前記直径を変化させて、前記長さに沿って所望の電子発生プロファイルを生成することを含み、
　電子は電子ビームとなって前記真空チャンバの放射窓を介して前記真空チャンバから放射される方法。」と補正された。
　
２　補正目的の違反についての検討
　この本件補正２は、
（１）請求項１ないし１４，２９及び３０を削除するとともに、旧請求項１５ないし２８，３１及び３２のそれぞれを、新請求項１ないし１４，１５及び１６とする補正事項、
（２）新請求項１，１２，１５，１６において「フィラメントの外周に酸化層を形成したのち、この酸化層を除去」する発明特定事項を追加して限定する補正事項、
（３）新請求項１，１２，１５，１６において、変化させる断面について、「断面の面積または直径」を変化させることを限定する補正事項、
（４）新請求項１，１２，１５，１６において、フィラメントの材質について、「フィラメントがタングステンで形成され」る点を限定する補正事項、
（５）新請求項１，１２，１５，１６において、フィラメントの最大直径について、「０．０５１ｃｍ以下」を「０．０２５〜０．０５１ｃｍ」と修正して限定する補正事項、
（６）新請求項１５において、旧請求項３１の「フィラメントの前記大断面積部分が、この大断面積部分よりも直径で１〜５ミクロンの範囲で小さくなるように前記長さに沿って前記直径を変化させることにより」の記載を「フィラメントに、大断面積部分およびこの大断面積部分よりも直径で１〜５ミクロン小さい小断面積部分を形成することにより」と修正する補正事項、
（７）新請求項１６において、旧請求項３２の「フィラメントの前記大断面積部分が、この大断面積部分よりも直径で１〜５ミクロンの範囲で小さくなるように前記フィラメントの前記長さに沿って前記直径を変化させることにより」の記載を「フィラメントに、大断面積部分およびこの大断面積部分よりも直径で１〜５ミクロン小さい小断面積部分を形成することにより」と修正する補正事項、
からなる。
　
　上記（１）の補正事項は、請求項の削除を目的とするものであり、平成１８年改正前特許法第１７条の２第４項第１号に掲げる事項を目的とするものである。
　上記（３）の補正事項は、変化させる断面について、変化させる事項を具体的に特定して限定するものであるから、平成１８年改正前特許法第１７条の２第４項第２号に掲げる事項を目的とするものである。
　上記（４）の補正事項は、フィラメントの材質について、具体的に特定して限定するものであるから、平成１８年改正前特許法第１７条の２第４項第２号に掲げる事項を目的とするものである。
　上記（５）の補正事項は、フィラメントの最大直径について、数値範囲をより限定するものであるから、平成１８年改正前特許法第１７条の２第４項第２号に掲げる事項を目的とするものである。
　上記（６）及び（７）の補正事項については、ともに、誤記の訂正又は明りょうでない記載の釈明を目的とするものであるといえるから、平成１８年改正前特許法第１７条の２第４項第３号又は４号に掲げる事項を目的とするものである。
　
　それに対して、（２）の補正事項については、平成１８年改正前特許法第１７条の２第４項第１，３，４号に掲げるいずれの事項をも目的とするものでもないことは明らかであるとともに、この補正により、本件補正１前の技術課題に加え、「フィラメントの外周に酸化層を形成したのち、この酸化層を除去」することに関連するフィラメントの加工方法についての技術課題も、本願の発明が解決しようとする技術課題となり、そして、この技術課題は、本件補正１前の特許請求の範囲の記載から想定される技術課題とは関連のない技術課題であるから、発明が解決しようとする課題は、本件補正１の前後で変更されたということができ、本件補正１は、請求項のいわゆる限定的減縮を目的とするものではなく、すなわち、同法第１７条の２第４項第２号に掲げる事項を目的とするものではないから、同法第１７条の２第４項に違反するものである。
　
３　独立特許要件違反についての検討
　念のため、仮に、上記の本件補正２が、全体として平成１８年改正前特許法第１７条の２第４項第２号に掲げる事項を目的とする補正であって、同法第１７条の２第４項の規定に違反する補正ではないとした場合に、本件補正２によって補正された特許請求の範囲の請求項１に記載された発明（以下、「本願補正発明２」という。）が特許出願の際独立して特許を受けることができるものであるかについて検討する。
　
（１）本願補正発明２について
　本願補正発明２は、平成１９年７月３０日付手続補正書でなされた手続補正により補正された特許請求の範囲の請求項１に記載された事項により特定される次のとおりのものである。
　
「電子ビーム放射器において、円形の断面と長さとを有し、電子を発生させるフィラメントを形成する方法であって、
　前記フィラメントの外周に酸化層を形成したのち、この酸化層を除去して、前記フィラメントの前記断面の面積または直径を前記長さに沿って変化させることにより、所望の電子発生プロファイルを生成することを含み、
　前記フィラメントがタングステンで形成され、
　前記フィラメントの最大直径が０．０２５〜０．０５１ｃｍである方法。」
　
（２）引用例
　原査定の拒絶の理由に引用された刊行物の記載事項及び引用発明については、上記「第２　平成１９年７月６日付の手続補正についての補正の却下の決定について」の「３　独立特許要件違反についての検討」の「（２）引用例」に記載したとおりである。
　
（３）対比
　ここで、本願補正発明２と引用発明とを対比する。
　
　引用発明の「放電に使用される直熱型フィラメント陰極１に関し、円形断面および長さを有し」の点は、本願補正発明２の「電子ビーム放射器において、円形の断面と長さとを有し、電子を発生させるフィラメント」である点に相当する。
　引用発明の「フィラメントの正端子１６側端から負端子１７側端に向かって断面積を増加せしめたテーパー形状とする」点は、本願補正発明２の「フィラメントの前記断面の面積または直径を前記長さに沿って変化させる」点に相当する。
　引用発明の「フィラメントがタングステン、タンタル等の高融点金属で形成されたものである」点については、、フィラメントがタングステンで形成されたものを含むものであり、本願補正発明２の「フィラメントがタングステンで形成され」る点に相当する。
　
　したがって、本願補正発明２と引用発明とは、
「電子ビーム放射器において、円形の断面と長さとを有し、電子を発生させるフィラメントに関し、
　前記フィラメントの前記断面の面積または直径を前記長さに沿って変化させ、
　フィラメントがタングステンで形成されるもの」
の発明である点で一致し、次の各点で相違する。
　
ア　相違点１；
　本願補正発明２が「フィラメントの外周に酸化層を形成したのち、この酸化層を除去して」形成する方法に関する限定を備えた発明であるのに対し、引用発明においては、そのような限定がなされていない点。
　
イ　相違点２；
　断面の面積または直径の長さ方向の変化により、本願補正発明２では、「所望の電子発生プロファイルを生成する」ものであるのに対し、引用発明においては「所望の電子発生プロファイルを生成する」ことが明らかでない点。
　
ウ　相違点３；
　本願補正発明２においては、「フィラメントの最大直径が０．０２５〜０．０５１ｃｍ」であるのに対し、引用発明においては、そのような限定がなされていない点。
　
（４）当審の判断
　以下において、上記各相違点について検討する。
　
ア　相違点１について
　金属加工において「外周に酸化層を形成したのち、この酸化層を除去して」表面部を取り除く加工は、例えば、
・特開平５−１７９４９９号公報（【００１４】〜【００１６】）
・特開平８−３３０２８０号公報（【０００２】）
にも記載されているように周知の技術である。
　そして、引用発明のフィラメントにおいても、断面を変化させる加工方法として、上記の周知技術を採用して、「外周に酸化層を形成したのち、この酸化層を除去して」加工することとし、上記相違点２に係る本願補正発明２の発明特定事項を得ることは当業者が容易に想到し得た事項である。
　
イ　相違点２について
　引用例２の【００３９】【００４０】【００４４】【００４５】の記載から、引用例２には、フィラメントの断面積を変化させて長手方向の温度分布を均一とすることにより、熱電子放射部の全ての部分からほぼ均一な量で熱電子が放射させること、すなわち、所望の電子発生プロファイルを生成することが記載されているといえる。
　引用発明には、フィラメントの長さ方向の断面積を変化させてフィラメントの温度分布を均一とする（負端子側と中心とで同程度の温度とする）ことが記載されているから、引用発明に、上記引用例２に記載された技術を適用して、フィラメントの断面積を変化させてフィラメントの温度分布を均一とすることによって、均一の電子発生プロファイルを生成する、すなわち、所望の電子発生プロファイルを生成する、ものとすることに格別の困難性は認められない。
　よって、上記相違点３に係る本願補正発明２の発明特定事項を得ることは、引用例２に記載された発明に基づいて当業者が容易に想到し得た事項である。
　
ウ　相違点３について
　フィラメントの太さをどの程度とするかは、当業者が適宜設定し得る設計的事項に過ぎない。
　したがって、引用発明においても、「フィラメントの最大直径が０．０２５〜０．０５１ｃｍ」と特定して、上記相違点４に係る本願補正発明２の発明特定事項を得ることは、当業者が容易に想到し得た事項である。
　
エ　本願補正発明の効果２について
　そして、本願補正発明２によってもたらされる効果は、引用発明、引用例２に記載された発明及び上記の周知技術から当業者が予測し得る程度のものである。
　
オ　まとめ
　したがって、本願補正発明２は、引用発明、引用例２に記載された発明及び上記の周知技術に基づいて当業者が容易に発明することができたものである。 
　
４　むすび
　本件補正２は、平成１８年改正前特許法第１７条の２第４項各号に掲げる事項を目的とするものではないから、同法第１７条の２第４項に違反するものである。
　また、本願補正発明２は、引用発明及び周知技術に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。したがって、本願補正発明２は、特許出願の際独立して特許を受けることができるものではないから、仮に、本件補正２が、全体として平成１８年改正前特許法第１７条の２第４項第２号に掲げる事項を目的とする補正であって、同法第１７条の２第４項の規定に違反する補正ではないとした場合であっても、同法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項の規定に違反するものである。
　したがって、本件補正２は、同法第１５９条で読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定によって却下されるべきものである。
　
第４　本願発明について
１　本願発明
　平成１９年７月６日付の手続補正及び平成１９年７月３０日付手続補正は、上記のとおり、ともに却下されたので、本願の請求項１に係る発明（以下、「本願発明」という。）は、平成１９年２月１４付手続補正書でなされた手続補正により補正された特許請求の範囲の請求項１に記載された事項により特定される次のとおりのものである。
　
「電子ビーム放射器において電子を発生させるフィラメントであって、円形の断面および長さを有し、所望の電子発生プロファイルを生成するように、前記断面が前記長さに沿って変化しており、前記フィラメントの最大直径が０．０５１ｃｍ以下であるフィラメント。」
　
２　引用例
　原査定の拒絶の理由に引用された刊行物の記載事項は、上記「第２　平成１９年７月６日付の手続補正についての補正の却下の決定について」の「３　独立特許要件違反についての検討」の「（２）引用例」に記載したとおりである。
　
３　対比・判断
　ここで、本願発明と引用発明とを対比する。
　
　引用発明の「放電に使用される直熱型フィラメント陰極１に関し、円形断面および長さを有し」なる点は、本願発明の「電子ビーム放射器において電子を発生させるフィラメントであって、円形の断面と長さとを有し」なる点に相当する。
　引用発明の「フィラメントの正端子１６側端から負端子１７側端に向かって断面積を増加せしめたテーパー形状とする」点は、本願発明の「前記断面が前記長さに沿って変化して」いる点に相当する。
　
　したがって、本願発明と引用発明とは、
「電子ビーム放射器において電子を発生させるフィラメントであって、円形の断面および長さを有し、前記断面が前記長さに沿って変化しているフィラメント。」
の発明である点で一致し、次の各点で相違する。
　
（１）相違点１；
　断面の面積または直径の長さ方向の変化により、本願発明では、「所望の電子発生プロファイルを生成する」ものであるのに対し、引用発明においては「所望の電子発生プロファイルを生成する」ことが明らかでない点。
　
（２）相違点２；
　本願補正発明１においては、「フィラメントの最大直径が０．０５１ｃｍ以下」であるのに対し、引用発明においては、そのような限定がなされていない点。
　
４　当審の判断
　以下において、上記各相違点について検討する。
　
（１）相違点１について
　引用例２の【００３９】【００４０】【００４４】【００４５】の記載から、引用例２には、フィラメントの断面積を変化させて長手方向の温度分布を均一とすることにより、熱電子放射部の全ての部分からほぼ均一な量で熱電子が放射させること、すなわち、所望の電子発生プロファイルを生成することが記載されているといえる。
　引用発明には、フィラメントの長さ方向の断面積を変化させてフィラメントの温度分布を均一とする（負端子側と中心とで同程度の温度とする）ことが記載されているから、引用発明に、上記引用例２に記載された技術を適用して、フィラメントの断面積を変化させてフィラメントの温度分布を均一とすることによって、均一の電子発生プロファイルを生成する、すなわち、所望の電子発生プロファイルを生成する、ものとすることに格別の困難性は認められない。
　よって、上記相違点１に係る本願発明の発明特定事項を得ることは、引用例２に記載された発明に基づいて当業者が容易に想到し得た事項である。
　
（２）相違点２について
　フィラメントの太さをどの程度とするかは、当業者が適宜設定し得る設計的事項に過ぎない。
　したがって、引用発明においても、「フィラメントの最大直径が０．０５１ｃｍ以下」と特定して、上記相違点２に係る本願発明の発明特定事項を得ることは、当業者が容易に想到し得た事項である。
　
（３）本願発明の効果について
　そして、本願発明によってもたらされる効果は、引用発明及び引用例２に記載された発明から当業者が予測し得る程度のものである。
　
（４）まとめ
　したがって、本願発明は、引用発明及び引用例２に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明することができたものである。 
　
４　むすび
　以上のとおり、本願発明は、引用発明及び引用例２に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により、特許を受けることができない。
　したがって、その余の請求項に係る発明について論及するまでもなく、本願は拒絶すべきものである。
　
　よって、結論のとおり審決する。