【事件の表示】
　特願２００３−　４５１０２「移動装置及び半導体製造装置」拒絶査定不服審判事件〔平成１６年　９月　９日出願公開、特開２００４−２５３７４１〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
第１　手続の経緯・本願発明
　本件出願は、平成１５年２月２１日の出願であって、平成１８年１２月２２日付けで拒絶の理由が通知され、同１９年３月１２日に意見書とともに手続補正書が提出されたが、同年１０月２５日付けで拒絶をすべき旨の査定がされ、これに対し、同年１１月２９日に拒絶査定に対する審判の請求がなされるとともに、同年１２月２６日に手続補正（以下、「本件補正」という。）がされたものである。
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
第２　本件補正についての補正却下の決定
［補正却下の決定の結論］
　本件補正を却下する。
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
［理由］
１　補正の内容の概要
　本件補正は特許請求の範囲及び明細書について補正をするものであって、補正前の特許請求の範囲の請求項４及び補正後の特許請求の範囲の請求項１について補正前後の記載を補正箇所に下線を付して示すと以下のとおりである。
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
（１）補正前の請求項４
「　【請求項４】　固定基台と、
　前記固定基台に対し直線方向に移動可能な構成とされた可動部材と、
　前記可動部材を基にして可動部材の直線方向の移動と平行な直線方向に移動可能な構成で搭載された被処理台とを設け、
　前記被処理台と前記可動部材とその間に設けた移動力発生手段とにより主移動装置を構成すると共に、
　前記移動力発生手段は、前記可動部材に対し前記被処理台を移動付勢する移動力を発生させることにより、前記被処理台を前記可動部材に対し移動させると共に、その移動に起因して前記被処理台が前記固定基台に対して移動するよう構成し、
　前記可動部材は、前記被処理台を移動付勢する移動力発生手段による移動力の反作用力により前記固定基台上において前記被処理台に対して反対の方向に移動する慣性力処理装置を構成し
て、
行なうよう構成するとともに
るよう構成するとともに、
、
設定
ととも
を
設けてなる
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
（２）補正後の請求項１
「　【請求項１】
　固定基台と、
　前記固定基台に対し直線方向に移動可能な構成とされた可動部材と、
　前記可動部材を基にして可動部材の直線方向の移動と平行な直線方向に移動可能な構成で搭載された被処理台とを設け、
　前記被処理台と前記可動部材とその間に設けた移動力発生手段とにより主移動装置を構成し
、
　前記移動力発生手段は、前記可動部材に対し前記被処理台を移動付勢する移動力を発生させることにより、前記被処理台を前記可動部材に対し移動させると共に、その移動に起因して前記被処理台が前記固定基台に対して移動するよう構成し、
　前記可動部材は、前記被処理台を移動付勢する移動力発生手段による移動力の反作用力により前記固定基台上において前記被処理台に対して反対の方向に移動する慣性力処理装置を構成し
、
　
該慣性力処理装置は、前記被処理台の移動による前記反作用力を前記可動部材の慣性運動による直線方向運動に置き換えるとともに、該直線方向運動を加減速運動および等速運動となるようにし、
　前記固定基台に対する前記被処理台の移動速度を、前記被処理台と前記固定基台との間および前記可動部材と前記固定基台との間にそれぞれ設けた計測手段の信号により移動力発生手段を制御することにより
行う構成とし
　前記固定基台に対する前記被処理台の移動力発生手段による移動速度を制御する速度制御手段を設け
、
　該速度制御手段は、
　
固定基台に対する被処理台の移動状態を検出する第１の検出手段と、固定基台に対する可動部材の移動状態を検出する第２の検出手段と、可動部材に対する被処理台の移動状態を検出する第３の検出手段との３つの検出手段の検出結果に基づき、前記移動力発生手段制御する制御手段を有し、
　前記被処理台を
所定
共
該
前記被処理台の往復動において往動と復動で同一速度で
有するよう速度制御し、
　
前記被処理台を前記固定基台に対して移動させる際、加速制御、等速制御、及び減速制御を繰り返し実施するよう速度制御し、
　
かつ、往動/復動の減速から停止し、次の復動/往動の加速へ移行する際、連続して継ぎ目なく前記被処理台及び前記可動部材の反転移動を行うよう速度制御を行う
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
２　補正の適否
　上記補正は、補正前の請求項４に記載した発明を特定するために必要な事項である「慣性力処理装置」について、「慣性力処理装置は、前記被処理台の移動による前記反作用力を前記可動部材の慣性運動による直線方向運動に置き換えるとともに、該直線方向運動を加減速運動および等速運動となるようにし」との事項を付加して限定し、
　また、「速度制御手段」について、「被処理台を設定した区間において往復移動させるとともに被処理台を等速移動させる領域を設けてなること」を、「固定基台に対する被処理台の移動状態を検出する第１の検出手段と、固定基台に対する可動部材の移動状態を検出する第２の検出手段と、可動部材に対する被処理台の移動状態を検出する第３の検出手段との３つの検出手段の検出結果に基づき、前記移動力発生手段制御する制御手段を有し、
　前記被処理台を所定区間において往復移動させる共に該被処理台を前記被処理台の往復動において往動と復動で同一速度で等速移動させる領域を有するよう速度制御し、
　前記被処理台を前記固定基台に対して移動させる際、加速制御、等速制御、及び減速制御を繰り返し実施するよう速度制御し、
　かつ、往動/復動の減速から停止し、次の復動/往動の加速へ移行する際、連続して継ぎ目なく前記被処理台及び前記可動部材の反転移動を行うよう速度制御を行うこと」と限定するものであるから、特許請求の範囲の減縮を目的とするものに該当する。
　そこで、本件補正後の特許請求の範囲の請求項１に記載された発明（以下、「本件補正発明」という。）が特許出願の際独立して特許を受けることができるものであるかについて以下に検討する。
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
（１）本件補正発明
　本件補正発明は、本件補正により補正された特許請求の範囲、明細書及び図面の記載からみて、前記１の（２）に示す特許請求の範囲の請求項１に記載されたとおりと認められる。
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
（２）引用刊行物記載の発明（事項）
　これに対し、原査定の拒絶の理由に引用され、本件出願日前に日本国内で頒布された刊行物である特開２００２−８９７１号公報（以下、「刊行物」という。）には、以下の事項が記載されている。
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
ア　段落【０００１】
「【発明の属する技術分野】本発明は、半導体リソグラフィ工程等の高精度の加工に好適に用いられる移動装置、この移動装置からなるステージ、このステージを備える露光装置に関する。」
イ　段落【０００２】〜【０００６】
「【従来の技術】従来、半導体デバイス等の製造に用いられる露光装置としては、基板（ウエハやガラス基板）をステップ移動させながら基板上の複数の露光領域に原版（レチクルやマスク）のパターンを投影光学系を介して順次露光するステップ・アンド・リピート型の露光装置（ステッパと称することもある）や、ステップ移動と走査露光とを繰り返すことにより、基板上の複数の領域に露光転写を繰り返すステップ・アンド・スキャン型の露光装置（スキャナと称することもある）が代表的である。・・・
　これら露光装置はウエハやレチクルを高速で移動させて位置決めするステージ装置（ウエハステージ、レチクルステージ）を有しているが、ステージを駆動すると加減速に伴う慣性力の反力が生じ、これが定盤に伝わると定盤の揺れや振動を引き起こす原因となる。すると露光装置の機構系の固有振動が励起されて高周波振動となって高速、高精度な位置決めを妨げる可能性がある。
　・・・さらにレチクルや基板の大型化に伴ってステージ質量も増大している。このため、＜移動体の質量＞×＜加速度＞で定義される駆動力は非常に大きなものとなり、その反力は膨大なものである。そのため、加速度増加と重量増加に伴い反力が増加し、反力による設置床の加振は見過ごせない問題となってきた。・・・」
ウ　段落【００１４】
「【発明が解決しようとする課題】本発明が目的とする所は、第１に、ステージの移動に伴う振動や揺れの影響を従来以上に軽減することでができ、より高精度を達成した露光装置を提供することである。また、ステージの加減速に伴う反力が床に及ぼす影響を小さくすることで、同一床に設置されている他の装置に与える影響を小さくするとともに、床への設置面積の増大を防ぐことができる露光装置を提供することである。」
エ　段落【００１６】
「【課題を解決するための手段】本発明は、可動子と固定子からなる電磁アクチュエーターにより駆動する移動装置において、前記固定子を前記可動部の駆動反力を受ける反力カウンタとすることで上記課題が解決されることを見出したものである。」
オ　段落【００３１】〜【００３４】
「（実施例２）図２は本発明のステージが、可動部を位置決めするための位置計測手段と駆動手段を有する場合の実施例を示す。実施例の移動装置と同様に、基準構造体４上には、基準となる平面ガイド面６が設けられている。可動体（不図示）は、平面ガイド面６に対して静圧軸受によって非接触に支持されており、ＸＹ方向に移動可能である。可動体の両脇には、可動体３をＹ方向の長ストロークおよびＸ方向の短ストロークに駆動するための電磁アクチュエータが設けられている。電磁アクチュエータは、可動子２と、左右に互いに分離・独立した固定子１，１’とを有する。ここで、左右の固定子１，１’は、平面ガイド面に対して静圧軸受によって非接触に支持されており、ＸＹ方向（平面方向）に移動可能である。また、この固定子１、１’は、所定の重量を持つ持ち、後述する反力カウンタの機能を備えている。左右の可動子２には、左右２個の可動部Ｙマグネット１０と、左右２個の可動部Ｘマグネット１１が取り付けてある。また、全体が図面上は見えない可動部上には天板５が取り付けられている。この天板５がＸ−Ｙステージとして機能し、可動子２によって平面ガイド面６に平行な方向に移動する。左右の固定子１，１’の内部には、Ｘ軸リニアモータ単相コイル１２と、Ｙ方向に複数のコイルを並べたＹ軸リニアモータ多相コイル１３が配置され、これらを切り替えてＸ軸−Ｙ軸の移動を行う。
　天板５（Ｘ−Ｙステージ）の位置情報は、レーザヘッド１６、Ｙ軸計測用ミラー１７、Ｘ軸計測用バーミラー１８、左右２個のＹ軸計測用ディテクタ１９、前後２個のＸ軸計測用ディテクタ２０等から構成されるレーザ干渉計によって計測される。また、固定子１，１’のＹ軸位置は左右２個の固定子Ｙ軸計測用ディテクタ２１で計測される。更に、天板５のＸ軸位置は、天板５に塔載された光学素子２２、２２’にＹ方向からレーザ光が照射され、その計測光がＸ軸方向に反射または偏光されてＸ軸計測用バーミラー１８に照射されてＸ軸計測用ディテクタ２０で計測される。
　本実施例のＸ−Ｙステージを露光装置のレチクルステージ及び／またはウエハステージとして用いることができ、可動部の天板５（Ｘ−Ｙステージ）上に、原版（レチクル）や基板（ウエハ）を載置する。
　天板５（Ｘ−Ｙステージ）に原版（レチクル）や基板（ウエハ）を載置した可動部は、可動子２と左右の固定子１，１’からなる電磁アクチュエーターによってＸＹ方向に移動する。そして、左右の固定子１、１’は、この可動部全体の移動に作用する力の駆動反力を受ける。この駆動反力により左右の固定子１，１’が平面ガイド面上を移動する。左右の固定子１、１’が平面ガイド面６上を移動することにより、左右の固定子１、１’が反力カウンタの役割を果たす。本実施例では、例えば可動部全体が＋Ｙ方向に移動すると、左右の固定子１、１’は−Ｙ方向に駆動反力を受けて−Ｙ方向に移動することになる。この反力カウンタによる効果は、前述の実施例とほぼ同様である。」
カ　段落【００３５】
「なお、本実施例では、Ｙ軸方向へ所定以上に移動した左右の固定子１，１’を押し戻す左右２個のＹ軸位置制御用リニアモータ１４が基準構造体４に設けられ、・・・これにより、可動部が所定以上に移動した場合には、これとともに固定子１、１’も所定以上に移動されることになるが、Ｙ軸位置制御用リニアモータ１４・・・により固定子１、１’を所定の位置になるよう制御することができる。また、抵抗や摩擦などの影響によって、固定子の位置にずれが生じても、前述の電磁アクチュエータの駆動によらず、上記のＹ軸位置制御用リニアモータ・・・を用いれば、固定子の位置を修正することができる。」
キ　段落【００３６】〜【００３７】
「本実施例の露光装置は、レチクルとウエハを共に同期走査しながら露光を行ってウエハの１つのショット領域にレチクルパターンの露光転写を行い、ウエハをステップ移動させることで複数のショット領域にパターンを並べて転写する、いわゆるステップ・アンド・スキャン型の走査型露光装置に好適に用いられる。・・・
　本実施例により、Ｘ−Ｙステージが移動する際の加減速時に生じる反力を固定子が受け、固定子がＸ−Ｙステージと逆方向へ移動することにより反力が運動エネルギーに変換され、Ｘ−Ｙステージ装置を加振することを防止することができるので、露光時にオーバーレイ精度、線幅精度、スループットの向上を図ることができる。・・・」
ク　段落【００５１】〜【００５４】
「（実施例５）次に前述した実施形態のステージ装置をウエハステージとして搭載した走査型露光装置の実施形態を、図５を用いて説明する。鏡筒定盤３９は床または基盤４０からダンパ４１を介して支持されている。また鏡筒定盤３９は、レチクル定盤４２を支持すると共に、レチクルステージ４３とウエハステージ４４の間に位置する投影光学系４５を支持している。
　ウエハステージは、床または基盤から支持されたステージ定盤４６上に支持され、ウエハを載置して位置決めを行う。また、レチクルステージは、鏡筒定盤に支持されたレチクルステージ定盤上に支持され、回路パターンが形成されたレチクルを搭載して移動可能である。レチクルステージ４３上に搭載されたレチクルをウエハステージ４４上のウエハに露光する露光光は、照明光学系４７から発生される。
　なお、ウエハステージ４４は、レチクルステージ４３と同期して走査される。レチクルステージ４３とウエハステージ４４の走査中、両者の位置はそれぞれ干渉計によって継続的に検出され、レチクルステージ４３とウエハステージ４４の駆動部にそれぞれフィードバックされる。これによって、両者の走査開始位置を正確に同期させるとともに、定速走査領域の走査速度を高精度で制御することができる。投影光学系に対して両者が走査している間に、ウエハ上にはレチクルパターンが露光され、回路パターンが転写される。・・・
　本実施形態では、前述の実施形態のステージの加速減速に伴う反力が床に及ぼす影響を小さくしたステージ装置をウエハステージとして用いているため、振動や揺れの軽減が可能となり、高速・高精度な露光が可能となる。」
ケ　段落【００６９】
「【発明の効果】本発明の移動装置、及びステージでは、可動部が移動する際の加減速時反力を固定子が受け、反力を受けた固定子が移動することにより、反力が固定子の運動エネルギーに変換・吸収され、固定子が反力カウンターとして作用する。これにより、移動装置及びステージの反力が装置の基準構造体を加振することを防止することができる。・・・」
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　刊行物には、（実施例５）が（実施例２）におけるステージ装置をウエハステージとして搭載した走査型露光装置として記載されている（上記摘記事項ク参照）。
　そして、上記実施例２のステージ装置をウエハステージとして搭載した走査型露光装置において、ウエハステージが定速走査領域の走査速度を高精度で制御することが記載されている（上記摘記事項ク参照）。したがって、刊行物において、前記基準構造体に対するＸ−Ｙステージ（ウエハステージ）の電磁アクチュエータによる移動速度を制御する速度制御手段が設けられることは明らかであり、該制御手段は、前記Ｘ−Ｙステージ（ウエハステージ）を所定区間において等速移動させる領域を有するように速度制御するものであることが理解される。
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　これらの記載事項を、図２、５を参照しつつ、技術常識を勘案して本件補正発明に照らして整理すると、刊行物には次の発明（以下、「引用発明」という。）が記載されていると認められる。
「基準構造体と、
　前記基準構造体に対し直線方向に移動可能な構成とされた固定子と、
　前記固定子を基にして固定子の直線方向の移動と平行な直線方向に移動可能な構成で搭載されたＸ−Ｙステージとを設け、
　前記Ｘ−Ｙステージと前記固定子とその間に電磁アクチュエータを設け、
　前記電磁アクチュエータは、前記固定子に対し前記Ｘ−Ｙステージを移動付勢する移動力を発生させることにより、前記Ｘ−Ｙステージを前記固定子に対し移動させると共に、その移動に起因して前記Ｘ−Ｙステージが前記基準構造体に対して移動するよう構成し、
　前記固定子は、前記Ｘ−Ｙステージを移動付勢する電磁アクチュエータによる移動力の駆動反力により前記基準構造体上において前記Ｘ−Ｙステージに対して反対の方向に移動する反力カウンタを構成し、
　該反力カウンタは、前記Ｘ−Ｙステージの移動による前記反駆動力を前記固定子による直線方向運動に置き換えるようにし、
　前記基準構造体に対する前記Ｘ−Ｙステージの移動を、前記Ｘ−Ｙステージと前記基準構造体との間および前記固定子と前記基準構造体との間にそれぞれ設けたＹ軸計測用ディテクタ、固定子Ｙ軸計測用ディテクタの信号により電磁アクチュエータを制御することにより行う構成とし、
　前記基準構造体に対するＸ−Ｙステージの電磁アクチュエータによる移動速度を制御する速度制御手段を設け、
　該速度制御手段は、
　前記Ｘ−Ｙステージを所定区間において等速移動させる領域を有するよう速度制御を行う移動装置。」
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
（３）対比
　本件補正発明と引用発明とを対比すると、引用発明の「基準構造体」は本件補正発明の「固定基台」に、「固定子」は「可動部材」に、「Ｘ−Ｙステージ」は「被処理台」に、「電磁アクチュエータ」は「移動力発生手段」に、「駆動反力」は「反作用力」に、「反力カウンタ」は「慣性力処理装置」に、それぞれ相当することは明らかである。また、「前記Ｘ−Ｙステージと前記固定子とその間に電磁アクチュエータを設け」た点は「被処理台と可動部材とその間に設けた主移動装置を構成した」点に相当する。
　さらに、引用発明の「前記基準構造体に対する前記Ｘ−Ｙステージの移動を、前記Ｘ−Ｙステージと前記基準構造体との間および前記固定子と前記固定基台との間にそれぞれ設けたＹ軸計測用ディテクタ、固定子Ｙ軸計測用ディテクタの信号により電磁アクチュエータを制御することにより行う構成とし、」は、「前記固定基台に対する前記被処理台の移動を、前記被処理台と前記固定基台との間および前記可動部材と前記固定基台との間にそれぞれ設けた計測手段の信号により移動力発生手段を制御することにより行う構成とし、」という限りにおいて、本件補正発明の「前記固定基台に対する前記被処理台の移動速度を、前記被処理台と前記固定基台との間および前記可動部材と前記固定基台との間にそれぞれ設けた計測手段の信号により移動力発生手段を制御することにより行う構成とし、」と共通している。
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　してみると、両者の一致点及び相違点は、以下のとおりである。
［一致点］
「固定基台と、
　前記固定基台に対し直線方向に移動可能な構成とされた可動部材と、
　前記可動部材を基にして可動部材の直線方向の移動と平行な直線方向に移動可能な構成で搭載された被処理台とを設け、
　前記被処理台と前記可動部材とその間に設けた移動力発生手段とにより主移動装置を構成し、
　前記移動力発生手段は、前記可動部材に対し前記被処理台を移動付勢する移動力を発生させることにより、前記被処理台を前記可動部材に対し移動させると共に、その移動に起因して前記被処理台が前記固定基台に対して移動するよう構成し、
　前記可動部材は、前記被処理台を移動付勢する移動力発生手段による移動力の反作用力により前記固定基台上において前記被処理台に対して反対の方向に移動する慣性力処理装置を構成し、
　該慣性力処理装置は、前記被処理台の移動による前記反作用力を前記可動部材の慣性運動による直線方向運動に置き換えるようにし、
　前記固定基台に対する前記被処理台の移動を、前記被処理台と前記固定基台との間および前記可動部材と前記固定基台との間にそれぞれ設けた計測手段の信号により移動力発生手段を制御することにより行う構成とし、
　前記固定基台に対する前記被処理台の移動力発生手段による移動を制御する速度制御手段を設け、
　該速度制御手段は、
　前記被処理台を所定区間において等速移動させる領域を有するよう速度制御を行う移動装置。」
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
［相違点１］
　本件補正発明では、被処理台を所定区間において往復移動させる共に該被処理台を前記被処理台の往復動において往動と復動で同一速度で等速移動させる領域を有するよう速度制御し、
　前記被処理台を前記固定基台に対して移動させる際、加速制御、等速制御、及び減速制御を繰り返し実施するよう速度制御し、
　かつ、往動/復動の減速から停止し、次の復動/往動の加速へ移行する際、連続して継ぎ目なく前記被処理台及び前記可動部材の反転移動を行うよう速度制御を行うのに対して、
　引用発明では、被処理台を所定区間において等速移動させる領域を有するよう速度制御されるものの、どのように速度制御されるかは明らかでない点。
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
［相違点２］
　本件補正発明では，固定基台に対する被処理台の移動速度を、前記被処理台と前記固定基台との間および前記可動部材と前記固定基台との間にそれぞれ設けた計測手段の信号により移動力発生手段を制御することにより行う構成とし、また、固定基台に対する被処理台の移動状態を検出する第１の検出手段と、固定基台に対する可動部材の移動状態を検出する第２の検出手段と、可動部材に対する被処理台の移動状態を検出する第３の検出手段との３つの検出手段の検出結果に基づき、前記移動力発生手段を制御するのに対して、
　引用発明では、固定基台に対する被処理台の移動を、被処理台と固定基台との間および可動部材と固定基台との間にそれぞれ設けた計測手段の信号により移動力発生手段を制御する構成としているものの、移動力発生手段をどのように制御しているかについては不明である点。
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
［相違点３］
　本件補正発明では、慣性力処理装置は、慣性運動により置き換えられた直線方向運動を加減速運動および等速運動となるようにするのに対して、
　引用発明では、慣性力処理装置は、被処理台の移動による反作用力を可動部材の慣性運動による直線方向運動に置き換えるものの、該直線方向運動を加減速運動および等速運動となるようにすることについて不明である点。
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
（４）相違点についての判断
ア　相違点１について
　引用発明では、被処理台を所定区間において等速移動させる領域を有するよう速度制御されている。そして、移動装置において等速移動させる領域の前後部で加減速移動させるよう制御することは普通に行われていることである。また、被処理台は可動部材に往復移動可能に搭載されていることは明らかである。
　ところで、引用発明と共通する技術分野に属する基板処理装置において、被処理台を所定区間において往復移動させることは、例えば、特開平１０−１３５１４６号公報の段落【００３２】、【００３６】〜【００３８】及び図１、２、９、及び特開平１１−１６３０９２号公報の段落【０００３】及び図１、２等々にも記載されているように従来周知の事項である。
　そして、該被処理台を所定区間において往復移動させるに当たり、往動と復動で同一速度で繰り返し実施するよう速度制御し、かつ、往動/復動の減速から停止し、次の復動/往動の加速へ移行する際、連続して継ぎ目なく前記被処理台の反転移動を行うよう速度制御することは、当業者が適宜採用する設計的事項にすぎないものである。
　これらの事項を勘案すると、引用発明において、処理装置の形態等に応じて、上記周知の事項を採用し、相違点１に係る本件補正発明のような特定事項とすることは当業者であれば容易に想到し得たことである。
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
イ　相違点２について
　本件補正発明において、移動力発生手段を制御するための計測手段又は検出手段について検討するに、本件明細書に「・・・移動制御に用いる固−可間センサ１７及び被−可間センサ１８を用いて検出する構成としている。・・・」（段落【２０３】）と記載され、図６を参照すると、移動力発生手段を制御するために固−被間センサ１６、固−可間センサ１７及び被−可間センサ１８が用いられている。そして、「この固−被間センサ１６は、固定基台１１Ａに対する可動部材１２Ａの位置検出を行なう機能を奏するものである。この固−被間センサ１６で検出された固定基台１１Ａに対する可動部材１２Ａの位置検出情報は、制御装置８０に送られる構成となっている（図６参照）。」（段落【００１９】）と記載されていることから、計測手段と検出手段とは表現が異なるものの同じものを示しているということができる。また、「・・・制御装置８０は被処理台１３Ａが等速位置まで移動したかどうかを判断し、肯定判断（ＹＥＳ）である場合には被処理台１３Ａに対する速度制御をステップ２８（図７参照）の等速制御に切り換えるため、加速制御処理を終了する。・・・」（段落【０１２７】）と記載されていることから、本件補正発明における速度制御は位置を計測して行われるものということができる。
　一方、引用発明において、被処理台を所定区間において等速移動させる領域を有するよう速度制御されているから、当該所定区間の位置を検出するための何らかの検出手段が必要であることは明らかである。
　してみると、引用発明において被処理台の移動速度を計測手段の信号により制御し、また該計測手段を第１及び２の検出手段とすることは当業者であれば容易に想到し得たことである。
　また、本件補正後の特許請求の範囲の請求項１を引用する請求項６に「固定基台に対する被処理台の移動状態を検出する第１の検出手段と、第１の検出手段が検出する検出結果に基づき、移動力発生手段を制御する」と記載され、同じく請求項８に「固定基台に対する被処理台の移動状態を検出する第１の検出手段と、固定基台に対する可動部材の移動状態を検出する第２の検出手段と、可動部材に対する被処理台の移動状態を検出する第３の検出手段と、第１乃至第３の検出手段から選択される少なくとも２つの検出手段の検出結果に基づき、移動力発生手段を制御する」と記載されていることをふまえると、引用発明において更に可動部材に対する被処理台の移動状態を検出する第３の検出手段とを加えた３つの検出手段の検出結果に基づき、移動力発生手段を制御することは、当業者が必要に応じて適宜なし得た設計上の選択的事項にすぎない。
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
ウ　相違点３について
　上記「相違点１について」で示したように、引用発明では、被処理台を所定区間において等速移動させる領域を有するよう速度制御されている。そして、移動装置において等速移動させる領域の前後部で加減速移動させるよう制御することは普通に行われていることである。
　また、刊行物には、ステージの加速減速に伴う反力が床に及ぼす影響を小さくしたステージ装置をウエハステージとして用いていること、Ｘ−Ｙステージが移動する際の加減速時に生じる反力を受ける固定子を移動する駆動手段を有することが記載されている（上記摘記事項キ参照）。
　これらの事項を勘案すると、引用発明における慣性力処理装置が、直線方向運動を加減速運動および等速運動となるようにすることは当業者であれば容易になし得たことである。
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　そして、本件補正発明によってもたらされる効果も引用発明及び上記各周知の事項から当業者であれば十分予測できるものであって格別なものとはいえない。
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　したがって、本件補正発明は、引用発明及び上記各周知の事項に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許出願の際独立して特許を受けることができない。
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
３　むすび
　したがって、本件補正は、平成１８年法律第５５号による改正附則第３条第１項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項の規定に違反するので、同法第１５９条第１項において読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定により却下すべきものである。
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
第３　本願発明について
１　本願発明
　本件補正は上記のとおり却下されたので、本件出願の請求項１乃至４８に係る発明は、平成１９年３月１２日付けの手続補正書により補正された特許請求の範囲の請求項１乃至４８に記載された事項により特定されるとおりのものと認められるところ、請求項４に係る発明（以下、「本願発明」という。）は、前記第２の１（１）に示したとおりである。
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
２　引用刊行物
　これに対し、原査定の拒絶の理由に引用され、また、本件出願前に日本国内で頒布された刊行物及びその記載内容は、前記第２の２（２）に示したとおりである。
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
３　対比・判断
　本願発明は、前記第２の２で検討したように、本件補正発明の特定事項から「慣性力処理装置」について、「慣性力処理装置は、前記被処理台の移動による前記反作用力を前記可動部材の慣性運動による直線方向運動に置き換えるとともに、該直線方向運動を加減速運動および等速運動となるようにし」とのこと、及び「速度制御手段」について、「固定基台に対する被処理台の移動状態を検出する第１の検出手段と、固定基台に対する可動部材の移動状態を検出する第２の検出手段と、可動部材に対する被処理台の移動状態を検出する第３の検出手段との３つの検出手段の検出結果に基づき、前記移動力発生手段制御する制御手段を有し、
　前記被処理台を所定区間において往復移動させる共に該被処理台を前記被処理台の往復動において往動と復動で同一速度で等速移動させる領域を有するよう速度制御し、
　前記被処理台を前記固定基台に対して移動させる際、加速制御、等速制御、及び減速制御を繰り返し実施するよう速度制御し、
　かつ、往動/復動の減速から停止し、次の復動/往動の加速へ移行する際、連続して継ぎ目なく前記被処理台及び前記可動部材の反転移動を行うよう速度制御を行うこと」の限定事項を省いたものである。
　そうすると、本願発明の特定事項を全て含み、上記「慣性力処理装置」及び「速度制御手段」について減縮した本件補正発明が、前記第２の２（３）、（４）に記載したとおり、引用発明及び上記各周知の事項に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、本願発明も、同様の理由により、引用発明及び上記各周知の事項に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものである。
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
４　むすび
　以上のとおり、本願発明は、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　したがって、その余の請求項に係る発明について検討するまでもなく本件出願は拒絶するべきものである。
　よって、結論のとおり審決する。