【事件の表示】
　平成　９年特許願第１３３７９３号「平行磁界印加機構」拒絶査定不服審判事件〔平成１０年１２月　８日出願公開、特開平１０−３２６７１８〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
第１　手続の経緯
　本願は、平成９年５月２３日の出願であって、平成１８年１０月２６日付けで拒絶査定がなされ、これに対し、同年１２月１４日に拒絶査定に対する審判請求がなされるとともに、平成１９年１月１２日付けで手続補正がなされ、その後、当審において平成２０年１１月２５日付けで審尋がなされ、平成２１年１月３０日に回答書が提出されたものである。
　
第２　平成１９年１月１２日付けの手続補正についての補正却下の決定
　
　［補正却下の決定の結論］
　　平成１９年１月１２日付けの手続補正を却下する。
　
　［理由］
　１　平成１９年１月１２日付けの手続補正（以下、「本件補正」という。）の主な内容
　本件補正により、補正前の請求項１は補正後の請求項１として、
「【請求項１】基板の磁性薄膜形成面に沿って平行な磁界を発生する磁石を該基板端部に配設した平行磁界印加機構であって、該基板は磁性材料源の真上又は真下に該磁性材料源の面に平行に配置され、該磁石の基板端面に面する側に該磁性材料源に接する面が等しく整合するようになした強磁性材料からなる一体型ポールピースが設けられ、該ポールピースが、磁界方向に垂直な長さ方向において、その中心部の厚さが両端部分より薄く形成され、かつ該両端部分が階段状に形成されていることを特徴とする平行磁界印加機構。」と補正された。
　
　２　特許法第１７条の２第３項について
（１）本件補正により、補正前の請求項１の「該磁石の基板端面に面する側に強磁性材料からなる一体型ポールピース」は、補正後の請求項１として「該磁石の基板端面に面する側に該磁性材料源に接する面が等しく整合するようになした強磁性材料からなる一体型ポールピース」と補正され、「該磁性材料源に接する面が等しく整合するようになした」との補正事項が追加された。
（２）しかし、本願の願書に最初に添付した明細書又は図面（以下、「当初明細書等」という。）には、「該磁性材料源に接する面が等しく整合するようになした」との記載はなく、また当初明細書等の記載から自明な事項でもない。
（３）よって、「該磁性材料源に接する面が等しく整合するようになした」との補正事項は、当初明細書等のすべての記載を総合することにより導かれる技術的事項との関係において、新たな技術的事項を導入するものであり、当初明細書等に記載した事項の範囲内においてなされたものではない。
（４）以上のとおり、上記補正事項を含む本件補正は、平成１４年法律第２４号改正附則第３条第１項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法第１７条の２第３項に規定する要件を満たしていないので、同法第１５９条第１項において読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定により却下すべきものである。
　
　３　独立特許要件について
　上記１の補正は、補正前の請求項１の「該磁石の基板端面に面する側に強磁性材料からなる一体型ポールピース」を、補正後の請求項１の「該磁石の基板端面に面する側に該磁性材料源に接する面が等しく整合するようになした強磁性材料からなる一体型ポールピース」と限定するものであるから、平成１８年法律第５５号改正附則第３条第１項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法第１７条の２第４項第２号に掲げる特許請求の範囲の減縮を目的とするものに該当する。
　そこで、補正後の請求項１に記載された事項により特定される発明（以下、「本願補正発明」という。）が特許出願の際独立して特許を受けることができるものであるか（平成１８年法律第５５号改正附則第３条第１項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項の規定に適合するか）について以下に検討する。
　
（１）特許法第３６条第６項第２号について
　補正後の請求項１の「該磁石の基板端面に面する側に該磁性材料源に接する面が等しく整合するようになした強磁性材料からなる一体型ポールピース」の「該磁性材料源に接する面が等しく整合するようになした」との記載は、不明確であるから、特許請求の範囲の記載は、特許を受けようとする発明が明確であるとはいえない。
　よって、本件出願は、特許法第３６条第６項第２号に規定する要件を満たしていないので、特許出願の際独立して特許を受けることができないものである。
　
（２）特許法第２９条第２項について
　（ア）刊行物に記載された発明
　原査定の拒絶の理由に引用され、本願の出願前に日本国内において頒布された特開平６−２０７２７０号公報（以下、「刊行物１」という。）には、「磁性膜形成装置」（発明の名称）に関して、図１，２，４，９とともに以下の事項が記載されている。（なお、下線は、引用箇所のうち特に強調する部分に付加した。以下、同様。）
「【請求項１】
真空容器と、成膜粒子を飛散させる成膜源と、基板を保持する基板ホルダと、前記基板に対して基板面に平行な方向の磁界を印加するための磁界発生手段とを有し、
前記磁界発生手段は、前記基板ホルダ上の、前記基板を置くべき空間を挟んで対向する位置にそれぞれ配置された、２つの磁石を有し、
前記２つの磁石に挟まれた空間の、磁界に垂直な方向の両端部に対して、前記磁石が形成する磁界の大きさは、前記空間の中央部に対して、前記磁石が形成する磁界の大きさより、大きいことを特徴とする磁性膜形成装置
【請求項２】
請求項１において、前記磁石は、磁化方向に垂直な方向に長い棒状の永久磁石であり、
前記永久磁石の両端部には、前記空間より透磁率の大きな部材が配置されている
【請求項３】
請求項２において、前記空間より透磁率の大きな部材は、永久磁石で構成されている
「【０００５】
【本発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の成膜装置を用いて、磁界中成膜で得られた膜の磁化の方向を調べたところ、
基板の中央部の磁化の方向と端部の磁化の方向とでは、微妙にずれが生じていた
【０００６】
本発明の目的は、基板上の全ての部分に方向の揃った磁界をかけることのできる小型な磁性膜形成装置を提供することにある
「【００１０】また、
永久磁石８にヨークを用い磁力線の方向を修正する方法も考えられる
「【００１５】基板部の詳細を図１を用いて説明する。パレット２９上には、基板１に磁界を印加するための２本の棒状の永久磁石２８が平行に配置されている。この２本の永久磁石２８の間の空間の中心となる位置に基板１が搭載されている。このとき基板１が回転しないようにするために、基板１と基板パレット２９の貫通孔とには、オリフラ１０が設けられている。
基板１の付近には永久磁石２８により矢印６の方向の磁界が常に印加されている。また、図１のように、永久磁石２８の両端には、それぞれ、永久磁石５８と同材料で構成された補助磁石２４が固定されている
【００１６】つぎに、図２により本実施例での基板に印加される磁力の方向について、詳細を説明する。補助磁石２４により永久磁石２８の両端部磁界の強さが大きくなるため、両端部における磁界方向６の外側へのふくらみが小さくなる。このため、基板１と同程度の大きさの磁石２８でも、基板１の全体に一様な方向の磁界をかけることが出来る。このように補助磁石２４を取り付けることにより、基板１と同程度の長さの永久磁石２８でありながら、磁性膜を形成する時、基板１上の全ての部分に方向の揃った磁界をかけることができる。
【００１７】つぎに、本実施例のスパッタ装置において、成膜を行なう場合の各部の動作を説明する。まず、パレット２９上に、基板１、永久磁石２８および補助磁石２４を搭載する。そして、搬送装置３０を駆動してパレット２９を真空室２５内に移動させ、真空室２５内の搬送装置３０上に停止させる。次に、ＲＦ電源２から、スパッタターゲット２３に電圧を印加してプラズマを発生させ、スパッタターゲット２３からスパッタ粒子を飛散させる。スパッタターゲット２３より飛散したスパッタ粒子は、基板１に衝突し、
基板１上に膜を形成する
永久磁石２８により、基板１全体に渡って一様な磁界（矢印６）が印加されている。この磁界により、スパッタ粒子は一方向に磁化され、磁化方向の揃った磁性膜を形成する
「【００２４】また、更に他の実施例を図４に示す。
図４の（ａ）は、補助磁石４を２段に構成したものである。
永久磁石の両端部において、磁界強度を徐々に強くすることができるので、磁界の乱れを少なくすることができる
「【００２８】
【発明の効果】
本発明によれば、基板と同程度の大きさの磁石でも、成膜する基板上の全ての部分に方向の揃った磁界をかけることが出来る
　さらに、図９には、「基板１がスパッタターゲット２３の真上に該スパッタターゲット２３の面に平行に配置された」様子が示されている。
　図４（ａ）には、「永久磁石２８の両端部に、補助磁石６４，７４を階段状に配置した」様子が示されている。
　以上から、刊行物１には、
「磁性膜を形成する基板に対して基板面に平行な方向の磁界を印加するための磁界発生手段であって、基板がスパッタターゲットの真上に該スパッタターゲットの面に平行に配置され、前記磁界発生手段は、基板ホルダ上の、前記基板を置くべき空間を挟んで対向する位置にそれぞれ配置された、２つの磁化方向に垂直な方向に長い棒状の永久磁石を有し、前記永久磁石の両端部に、補助磁石を階段状に配置した磁界発生手段。」（以下、「引用発明」という。）が記載されている。
　
　（イ）本願補正発明と引用発明との対比・判断
　本願補正発明と引用発明とを対比する。
（ａ）引用発明の「磁性膜」は、スパッタにより形成されるものであるから、薄膜であることは明らかなので、引用発明の「磁性膜」は、本願補正発明の「磁性薄膜」に相当する。
（ｂ）上記（ａ）も考慮すると、引用発明の「磁性膜を形成する基板に対して基板面に平行な方向の磁界」は、本願補正発明の「基板の磁性薄膜形成面に沿って平行な磁界」に相当する。
（ｃ）引用発明の「基板ホルダ上の、基板を置くべき空間を挟んで対向する位置にそれぞれ配置された、２つの磁化方向に垂直な方向に長い棒状の永久磁石を有し」ていることは、本願補正発明の「磁石を基板端部に配設した」ことに相当する。
（ｄ）引用発明の「平行な方向の磁界を印加するための磁界発生手段」は、本願補正発明の「平行磁界印加機構」に相当する。
（ｅ）上記（ａ）〜（ｄ）を考慮すると、引用発明の「磁性膜を形成する基板に対して基板面に平行な方向の磁界を印加するための磁界発生手段であって、」「前記磁界発生手段は、基板ホルダ上の、前記基板を置くべき空間を挟んで対向する位置にそれぞれ配置された、２つの磁化方向に垂直な方向に長い棒状の永久磁石を有し」ていることは、本願補正発明の「基板の磁性薄膜形成面に沿って平行な磁界を発生する磁石を該基板端部に配設した平行磁界印加機構」に相当する。
（ｆ）引用発明の「スパッタターゲット」は、基板上に磁性膜を形成するためのものであるから、本願補正発明の「磁性材料源」に相当する。
（ｇ）上記（ｆ）も考慮すると、引用発明の「基板がスパッタターゲットの真上に該スパッタターゲットの面に平行に配置され」たことは、本願補正発明の「基板は磁性材料源の真上又は真下に該磁性材料源の面に平行に配置され」たことに含まれる。
　よって、両者は、
「基板の磁性薄膜形成面に沿って平行な磁界を発生する磁石を該基板端部に配設した平行磁界印加機構であって、該基板は磁性材料源の真上又は真下に該磁性材料源の面に平行に配置されていることを特徴とする平行磁界印加機構。」である点で一致し、以下の点で相違する。
　
［相違点１］本願補正発明は、「磁石の基板端面に面する側に磁性材料源に接する面が等しく整合するようになした強磁性材料からなる一体型ポールピースが設けられ、該ポールピースが、磁界方向に垂直な長さ方向において、その中心部の厚さが両端部分より薄く形成され、かつ該両端部分が階段状に形成されている」との構成を備えているのに対して、引用発明は、「永久磁石の両端部に、補助磁石を階段状に配置した」との構成を備えている点。
　
　そこで、上記相違点１について検討する。
（ａ）刊行物１の「【０００５】【本発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の成膜装置を用いて、磁界中成膜で得られた膜の磁化の方向を調べたところ、基板の中央部の磁化の方向と端部の磁化の方向とでは、微妙にずれが生じていた。【０００６】本発明の目的は、基板上の全ての部分に方向の揃った磁界をかけることのできる小型な磁性膜形成装置を提供することにある。」、「【００２８】【発明の効果】本発明によれば、基板と同程度の大きさの磁石でも、成膜する基板上の全ての部分に方向の揃った磁界をかけることが出来る・・・」との目的・効果は、本願補正発明の「【０００７】また、前記真空蒸着装置のように、基板の中心を通る径方向の直線に対して対称な位置でかつ該基板に近接して２つの棒状の磁石を取り付けただけでは、基板面内に一様に方向のそろった平行磁界が得られず、形成される磁性薄膜の磁化容易軸の向きのばらつきを十分に小さくすることはできないという問題がある。【０００８】本発明の目的は、前記従来技術の問題点を解消し、小型化された、基板面内の磁界の向きを精度よく平行に揃えられる磁界印加手段としての磁性薄膜形成用平行磁界印加機構を提供することにある。」、「【００２０】【発明の効果】本発明の平行磁界印加機構は、小型化された、基板面内の磁界の向きを精度よく平行に揃えられる磁界印加手段として有用である。」との目的・効果と同様であり、引用発明では、補助磁石を階段状に配置して磁化の方向（磁界の向き）を補正し平行磁界としているのに対して、本願補正発明では、一体型ポールピースを階段状に形成して磁界の向きを補正し平行磁界としている。
（ｂ）対向して配置された永久磁石間の空間の磁場の均一度を向上させるため、永久磁石に、中心部の厚さが外周部分より薄く形成され、外周方向に勾配をもって形成された一体型ポールピースを設けることは、以下の周知例１〜３にも示されるように周知技術であり、ポールピースを強磁性材料で構成することは、当然のことである。
　そして、この周知技術の一体型ポールピースを、引用発明における磁化の方向（磁界の向き）を補正する手段として用いることに、格別の阻害要因は認められない。
　周知例１：特開平２−２４８００８号公報（第７図及び「永久磁石（１４）の対向面に、被検体が入る空間の磁場均一度を上げるためのポールピース（磁極）（１１）を吸着させている。磁極（１１）は、中心付近の磁場の均一度を向上させるために中央部が皿状に窪んだ形状を有している。」（１頁右下欄１１〜１６行）参照。）
　周知例２：特開平４−１５２６０６号公報（第２図の永久磁石１とポールピース２参照。）
　周知例３：特開平１−１６４３５６号公報（第１，５，７図の永久磁石１とポールピース５、「磁場を均一にするための磁極（ポールピース）」（１頁右下欄１１〜１２行）及び「軟鉄などの高透磁率材料からなるポールピース２」（３頁左上欄７〜８行）参照。）
（ｃ）刊行物１には、「【００１０】また、
永久磁石８にヨークを用い磁力線の方向を修正する方法も考えられる
　引用発明では、補助磁石を用いて、さらに改良したものであり、ポールピースを用いて磁界の向きを補正することを何ら阻害するものではない。
（ｄ）むしろ、刊行物１の【請求項２】には、「永久磁石の両端部には、前記空間より透磁率の大きな部材が配置されている」、【請求項３】には、「請求項２において、前記空間より透磁率の大きな部材は、永久磁石で構成されている」と記載されており、【請求項２】の「透磁率の大きな部材」には、【請求項３】のような永久磁石も含まれるが、永久磁石以外の「透磁率の大きな部材」も含まれることも、示唆されている。すなわち、刊行物１には、永久磁石以外の「透磁率の大きな部材」（本願補正発明の「強磁性材料からなる」「ポールピース」に相当。）を永久磁石の両端部に配置することが、示唆されている。
（ｅ）本願明細書には、「【００１６】ポールピースは、前記したように、磁界方向に垂直な長さ方向において、その中心部の厚さが他の部分の厚さより薄くなるように形成されているが、
この形状は特に制限されるものではなく、平行な磁力線が形成され得るようになる形状であればよい
階段状に又は勾配をもって形成され
　さらに、刊行物１の図４（ａ），（ｂ）と【００２４】には、磁界の向きを補正する補助磁石を「階段状」に設ける実施例とともに、永久磁石を曲線形状（「勾配」と類似形状。）とする実施例も互換可能として併記されており、中心部の厚さが両端部分より薄くなる形状として、「階段状」とするか「勾配」とするかは、当業者が適宜選択可能である。
（ｆ）本願補正発明における「該磁石の基板端面に面する側に該磁性材料源に接する面が等しく整合するようになした強磁性材料からなる一体型ポールピース」の「該磁性材料源に接する面が等しく整合するようになした」との記載は、不明確であるが、請求の理由の２頁１９行の「当該磁石とは整合に一体性を以て接するように配設する」との主張を考慮すれば、「該磁石に接する面が等しく整合するようになした」との趣旨とも解釈できる。そして、そのように解釈したとしても、磁石とポールピースの接する面を等しく整合するように構成することは、当然のことに過ぎない。
（ｇ）以上の点を考慮すれば、引用発明における階段状に配置した補助磁石の代わりに、中心部の厚さが両端部分より薄く形成された一体型ポールピースを用い、両端部分を階段状に形成して、引用発明が、本願補正発明のごとく「磁石の基板端面に面する側に磁性材料源に接する面が等しく整合するようになした強磁性材料からなる一体型ポールピースが設けられ、該ポールピースが、磁界方向に垂直な長さ方向において、その中心部の厚さが両端部分より薄く形成され、かつ該両端部分が階段状に形成されている」との構成を備えるようにすることは、当業者が容易になし得たことである。
　
　また、本願補正発明の効果についても、刊行物１に記載された発明及び周知技術から予測された範囲内のものであり、格別のものとは認められない。
　
　したがって、本願補正発明は、刊行物１に記載された発明及び周知技術に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により、特許出願の際独立して特許を受けることができないものである。
　
（３）むすび
　以上のとおり、請求項１についての補正を含む本件補正は、平成１８年法律第５５号改正附則第３条第１項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項の規定に適合しないので、同法第１５９条第１項において読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定により却下すべきものである。
　
第３　本願発明
　平成１９年１月１２日付けの手続補正は上記のとおり却下されたので、本願の請求項１に係る発明（以下、「本願発明」という。）は、平成１８年１０月５日付け手続補正書の特許請求の範囲の請求項１に記載された事項により特定される、以下のとおりのものである。
「【請求項１】基板の磁性薄膜形成面に沿って平行な磁界を発生する磁石を該基板端部に配設した平行磁界印加機構であって、該基板は磁性材料源の真上又は真下に該磁性材料源の面に平行に配置され、該磁石の基板端面に面する側に強磁性材料からなる一体型ポールピースが設けられ、該ポールピースが、磁界方向に垂直な長さ方向において、その中心部の厚さが両端部分より薄く形成され、かつ該両端部分が階段状に形成されていることを特徴とする平行磁界印加機構。」
　
第４　刊行物に記載された発明
　刊行物１の記載事項及び刊行物１に記載された発明は、上記「第２　３（２）（ア）」に記載したとおりである。　
　
第５　本願発明と引用発明との対比・判断
　本願発明と引用発明とを対比する。
（ａ）引用発明の「磁性膜」は、スパッタにより形成されるものであるから、薄膜であることは明らかなので、引用発明の「磁性膜」は、本願発明の「磁性薄膜」に相当する。
（ｂ）上記（ａ）も考慮すると、引用発明の「磁性膜を形成する基板に対して基板面に平行な方向の磁界」は、本願発明の「基板の磁性薄膜形成面に沿って平行な磁界」に相当する。
（ｃ）引用発明の「基板ホルダ上の、基板を置くべき空間を挟んで対向する位置にそれぞれ配置された、２つの磁化方向に垂直な方向に長い棒状の永久磁石を有し」ていることは、本願発明の「磁石を基板端部に配設した」ことに相当する。
（ｄ）引用発明の「平行な方向の磁界を印加するための磁界発生手段」は、本願発明の「平行磁界印加機構」に相当する。
（ｅ）上記（ａ）〜（ｄ）を考慮すると、引用発明の「磁性膜を形成する基板に対して基板面に平行な方向の磁界を印加するための磁界発生手段であって、」「前記磁界発生手段は、基板ホルダ上の、前記基板を置くべき空間を挟んで対向する位置にそれぞれ配置された、２つの磁化方向に垂直な方向に長い棒状の永久磁石を有し」ていることは、本願発明の「基板の磁性薄膜形成面に沿って平行な磁界を発生する磁石を該基板端部に配設した平行磁界印加機構」に相当する。
（ｆ）引用発明の「スパッタターゲット」は、基板上に磁性膜を形成するためのものであるから、本願発明の「磁性材料源」に相当する。
（ｇ）上記（ｆ）も考慮すると、引用発明の「基板がスパッタターゲットの真上に該スパッタターゲットの面に平行に配置され」たことは、本願発明の「基板は磁性材料源の真上又は真下に該磁性材料源の面に平行に配置され」たことに含まれる。
　よって、両者は、
「基板の磁性薄膜形成面に沿って平行な磁界を発生する磁石を該基板端部に配設した平行磁界印加機構であって、該基板は磁性材料源の真上又は真下に該磁性材料源の面に平行に配置されていることを特徴とする平行磁界印加機構。」である点で一致し、以下の点で相違する。
　
［相違点１］本願発明は、「磁石の基板端面に面する側に強磁性材料からなる一体型ポールピースが設けられ、該ポールピースが、磁界方向に垂直な長さ方向において、その中心部の厚さが両端部分より薄く形成され、かつ該両端部分が階段状に形成されている」との構成を備えているのに対して、引用発明は、「永久磁石の両端部に、補助磁石を階段状に配置した」との構成を備えている点。
　
　そこで、上記相違点１について検討する。
（ａ）刊行物１の「【０００５】【本発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の成膜装置を用いて、磁界中成膜で得られた膜の磁化の方向を調べたところ、基板の中央部の磁化の方向と端部の磁化の方向とでは、微妙にずれが生じていた。【０００６】本発明の目的は、基板上の全ての部分に方向の揃った磁界をかけることのできる小型な磁性膜形成装置を提供することにある。」、「【００２８】【発明の効果】本発明によれば、基板と同程度の大きさの磁石でも、成膜する基板上の全ての部分に方向の揃った磁界をかけることが出来る・・・」との目的・効果は、本願発明の「【０００７】また、前記真空蒸着装置のように、基板の中心を通る径方向の直線に対して対称な位置でかつ該基板に近接して２つの棒状の磁石を取り付けただけでは、基板面内に一様に方向のそろった平行磁界が得られず、形成される磁性薄膜の磁化容易軸の向きのばらつきを十分に小さくすることはできないという問題がある。【０００８】本発明の目的は、前記従来技術の問題点を解消し、小型化された、基板面内の磁界の向きを精度よく平行に揃えられる磁界印加手段としての磁性薄膜形成用平行磁界印加機構を提供することにある。」、「【００２０】【発明の効果】本発明の平行磁界印加機構は、小型化された、基板面内の磁界の向きを精度よく平行に揃えられる磁界印加手段として有用である。」との目的・効果と同様であり、引用発明では、補助磁石を階段状に配置して磁化の方向（磁界の向き）を補正し平行磁界としているのに対して、本願発明では、一体型ポールピースを階段状に形成して磁界の向きを補正し平行磁界としている。
（ｂ）対向して配置された永久磁石間の空間の磁場の均一度を向上させるため、永久磁石に、中心部の厚さが外周部分より薄く形成され、外周方向に勾配をもって形成された一体型ポールピースを設けることは、上記の周知例１〜３にも示されるように周知技術であり、ポールピースを強磁性材料で構成することは、当然のことである。
　そして、この周知技術の一体型ポールピースを、引用発明における磁化の方向（磁界の向き）を補正する手段として用いることに、格別の阻害要因は認められない。
（ｃ）刊行物１には、「【００１０】また、
永久磁石８にヨークを用い磁力線の方向を修正する方法も考えられる
　引用発明では、補助磁石を用いて、さらに改良したものであり、ポールピースを用いて磁界の向きを補正することを何ら阻害するものではない。
（ｄ）むしろ、刊行物１の【請求項２】には、「永久磁石の両端部には、前記空間より透磁率の大きな部材が配置されている」、【請求項３】には、「請求項２において、前記空間より透磁率の大きな部材は、永久磁石で構成されている」と記載されており、【請求項２】の「透磁率の大きな部材」には、【請求項３】のような永久磁石も含まれるが、永久磁石以外の「透磁率の大きな部材」も含まれることも、示唆されている。すなわち、刊行物１には、永久磁石以外の「透磁率の大きな部材」（本願発明の「強磁性材料からなる」「ポールピース」に相当。）を永久磁石の両端部に配置することが、示唆されている。
（ｅ）本願明細書には、「【００１６】ポールピースは、前記したように、磁界方向に垂直な長さ方向において、その中心部の厚さが他の部分の厚さより薄くなるように形成されているが、
この形状は特に制限されるものではなく、平行な磁力線が形成され得るようになる形状であればよい
階段状に又は勾配をもって形成され
　さらに、刊行物１の図４（ａ），（ｂ）と【００２４】には、磁界の向きを補正する補助磁石を「階段状」に設ける実施例とともに、永久磁石を曲線形状（「勾配」と類似形状。）とする実施例も互換可能として併記されており、中心部の厚さが両端部分より薄くなる形状として、「階段状」とするか「勾配」とするかは、当業者が適宜選択可能である。
（ｆ）以上の点を考慮すれば、引用発明における階段状に配置した補助磁石の代わりに、中心部の厚さが両端部分より薄く形成された一体型ポールピースを用い、両端部分を階段状に形成して、引用発明が、本願発明のごとく「磁石の基板端面に面する側に強磁性材料からなる一体型ポールピースが設けられ、該ポールピースが、磁界方向に垂直な長さ方向において、その中心部の厚さが両端部分より薄く形成され、かつ該両端部分が階段状に形成されている」との構成を備えるようにすることは、当業者が容易になし得たことである。
　
　また、本願発明の効果についても、刊行物１に記載された発明及び周知技術から予測された範囲内のものであり、格別のものとは認められない。
　
　したがって、本願発明は、刊行物１に記載された発明及び周知技術に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものである。
　
第６　むすび
　以上のとおり、本願発明は、刊行物１に記載された発明及び周知技術に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができず、他の請求項に係る発明について検討するまでもなく、本願は拒絶されるべきものである。
　よって、結論のとおり審決する。