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　特願２００２−５１９０７７「清浄環境で粒子をモニターするアンサンブルマニホルド、システムおよび方法」拒絶査定不服審判事件〔平成１４年　２月２１日国際公開、ＷＯ０２／１３９４３、平成１６年　２月２６日国内公表、特表２００４−５０６２２２〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１．手続の経緯
　本願は，平成１３年８月８日（優先権主張２０００年８月１５日、米国）を国際出願日とする出願であって，平成１８年９月２２日付けで拒絶査定がされ，これに対し，平成１９年１月１５日に拒絶査定不服審判の請求が行われるとともに，同年２月９日付けで手続補正がなされたものである。
　
２．平成１９年２月９日付け手続補正の補正の適否についての検討
　平成１９年２月９日付け手続補正は，特許請求の範囲の請求項１，２及び９について，補正前に「ミニ環境」とあったものを，「
密閉加工具のクリーンゾーン」
連続的
連続的に
　上記補正は，原査定において，「『ミニ環境』が、半導体製造装置等における清浄な空間を意味するかどうかは、この記載のみでは明らかではなく、また、本願の発明の詳細な説明の【０００２】には、『ミニ環境は、広範囲のサイズで存在しており』と記載されているように、その大きさも不特定のものであることは明らかである。」と指摘された「ミニ環境」を，「密閉加工具のクリーンゾーン」と補正することで，請求項１，２及び９の記載を明りょうにしようとするもの，並びに，試料ポートから粒子検出器への流れが「連続的」であるとすることで請求項１及び２の記載を明りょうにしようとするものであるから，平成１８年改正前特許法第１７条の２第４項第４号の明りょうでない記載の釈明を目的とするものに該当する。
　
３．本願発明
　本願の請求項１〜１３に係る発明は、平成１９年２月９日付け手続補正書で補正された明細書の特許請求の範囲の請求項１〜１３に記載された事項により特定されるとおりのものであると認められるところ、請求項９に係る発明は次のとおりである。（以下、請求項９に係る発明を「本願発明」という。）
「【請求項９】　粒子を検出する方法であって、該方法は、以下の工程：
　複数の可能な汚染現象源を有する密閉加工具のクリーンゾーン（４１０、５１０）を提供する工程；
　複数の流体試料の各々を、該密閉加工具のクリーンゾーンにおける該可能な汚染現象源の１つから連続的に同時に引き出す工程；
　該複数の流体試料の全てを合体流体ストリームに連続的に合流する工程；および
　該合体流体ストリームを粒子検知器（４５０、５７０）に連続的に流す工程；を包含し、
　ここで、各該流体試料が、該引き出しと該合流との間の隔離された囲まれた領域内で連続的に流れる、方法。」
　
４．引用例
４−１．引用例１
　原査定の拒絶の理由に引用した，本願優先日前に頒布された刊行物である，実願昭５２−３７９８６号（実開昭５３−１３３７８９号）のマイクロフィルム（以下「引用例１」という。）には，図面とともに，次の事項が記載されている（下線は，当審にて付加した）。
　
（ａ）「本考案の目的は
クリーンルーム（無塵室）
等空気清浄室の清浄度を光散乱式粒子計数器を用い連続監視する
　
空気清浄室の清浄度は一般に０．５μｍ以上の浮遊微粒子の粒子数濃度で定められ、清浄度測定器として光散乱式粒子計数器が広く用いられている
　
（ｂ）「第３図は本考案になる清浄度常時連続監視用サンプリング装置一実施例で以下その詳細を説明する。
　本考案の目的は清浄室の浮遊微粒子に対する空気清浄度を総合的にかつ連続して監視するに好適なサンプリング装置を提供するにある。すなわち
清浄室１の複数のサンプリング点から配管２を介して分取管７にサンプルエアをポンプ６により連続して吸引し、分取管７で混合したサンプルエアの一部を光散乱式粒子計数器５に連続して吸引して測定が行われる。分取管７には清浄室１内の各サンプリング点から同時に連続してサンプルエアが吸引され、各サンプリング点からのサンプルエアは分取管７で混合し、その一部が粒子計数器５に吸引され
分取管７に吸引されるサンプルエア量は粒子計数器５が分取吸引するサンプルエア量より大きくとるが、配管２内の被測定粒子の沈降付着は配管内流速が大きいほど少なくなることから被測定粒子の沈降付着による損失が無視できる流速となるよう十分な流量でサンプルエアを吸引する
　以上のサンプリング装置によれば、
１）各サンプリング点ごとの清浄度は把握できないが、
総合的に清浄度を粒子数濃度の変化に対し時間的に遅れなく監視することができる
２）
いずれの配管にも常時サンプルエアが流れるため粒子の沈降付着が少なく粒子濃度変化に対応して応答性のよい測定監視が行われる
３）
配管内サンプルエア流速が粒子の沈降付着が無視できる流速となるようにサンプルエア吸引量を任意に選択できる
４）配管長さを大きく取ることができるため清浄室の大きさによる配管上の制約が少なくなること。
などの利点を有する。」（明細書第４頁第４行目から第６頁第３行目。）
　
　以上の記載を総合すると，引用例１には，「浮遊微粒子の粒子数濃度により空気清浄室の清浄度を監視する方法であって，
清浄室１の複数のサンプリング点から配管２を介して分取管７にサンプルエアをポンプ６により連続して吸引し，
分取管７で混合したサンプルエアの一部を光散乱式粒子計数器５に連続して吸引して測定が行われる，方法。」の発明（以下，「引用例１に記載された発明」という。）が記載されているものと認められる。
　
４−２．周知例１
　本願優先日前に頒布された刊行物である，特開平１１−２９７５８２号公報には，図面とともに，次の事項が記載されている（下線は，当審にて付加した）。
　
（ｃ）「【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はＶＬＳＩ（very large scale integration）やＵＬＳＩ（ultra large scale integration ）等の高集積回路を製造するための
半導体製造プロセスに係り
微粒子発生診断
【０００２】
【従来の技術】ＶＬＳＩやＵＬＳＩ等の高集積回路を製造するための
半導体製造プロセスにおいては、
要素技術を利用した多数の工程
・・・
【０００４】ところで、
このような要素技術を利用した半導体製造プロセスは一般に
反応室が直列に連結された半導体製造ラインにより実現されている
半導体製造ラインの入口側から供給された円盤状のシリコン基板１０は各反応室１内を通過するよう搬送され、各反応室１内にて所定の処理が施されることにより、シリコン基板１０上に多数の集積回路１０ａが形成される
　
（ｄ）「【００１６】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実施の形態について説明する。図１および図２は本発明による微粒子発生診断システムの一実施の形態を示す図である。
【００１７】まず、図１により、微粒子発生診断システムおよびこれが適用される半導体製造プロセスについて説明する。図１に示すように、
半導体製造プロセスは、複数の反応室１が直列に連結された半導体製造ラインにより実現されている
半導体製造ラインの入口側から供給された円盤状のシリコン基板１０は各反応室１内を通過するよう搬送され、各反応室１内にて所定の処理が施される
各反応室１は例えば、洗浄装置、熱酸化装置、イオン打込み装置、ＣＶＤ装置、露光装置およびエッチング装置等からなり
【００１８】ここで反応室１には、反応室１内の温度、圧力またはガスの供給状態等の操作条件をオンラインで監視するための操作条件監視装置として、圧力測定器２ａ、温度測定器２ｂ、およびガスの供給および排出用のバルブの開閉操作等を監視する監視機器２ｃが取り付けられている。また
反応室１には、反応室１内における微粒子の発生状況をオンラインで監視する微粒子分析装置として、反応室１から引き出された微粒子を常圧または低圧条件下で分析する微分型電気移動度測定器（ＤＭＡ：differential mobility analyzer）３が取り付けられている
　
４−３．周知例２
　本願優先日前に頒布された刊行物である，特開昭６０−２００１４５号公報には，図面とともに，次の事項が記載されている（下線は，当審にて付加した）。
　
（ｅ）「〔発明の利用分野〕
　本発明は
微小粒子計数器によるクリーンルーム（清浄作業室）の清浄度遠隔測定装置
〔発明の背景〕
　
複数のクリーンルームを持つ作業場で各クリーンルームの空気清浄度を集中管理する場合には、空気清浄度の遠隔測定装置が必要
　
（ｆ）「〔発明の実施例〕
　本発明の一実施例を第３図により説明する。
　第３図に示すように、空気吸引口４および空気排出口５を有する
微小粒子計数器３を管理室７に設置し、複数のクリーンルーム１−１〜１−ｎの各測定点２から微小粒子計数器３の近くまで空気吸引用主管路１２を布設する
　
４−４．引用例２
　原査定の拒絶の理由に引用した，本願優先日前に頒布された刊行物である，特開平９−２６９２８３号公報（以下「引用例２」という。）には，図面とともに，次の事項が記載されている（下線は，当審にて付加した）。
　
（ｇ）「【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、火災危険や火災発生時の現象に関わる
室内空気を介在した諸要因（湿度、煙、熱、燃焼生成ガス等）を調べ監視する
　
（ｈ）「【００１４】・・・
【発明の実施の形態】この発明の実施の形態を添付図面に基づき説明する。図１はこの発明のサンプリング配管システムのサンプリング配管を監視区域の天井面等に配設した際の配管系統図を示すものである。
【００１５】図１において、１０は監視区域であり、この
監視区域１０に配設されているサンプリング配管１は
４本の吸引管３と、該吸引管３のそれぞれの一端、即ちそれぞれの先端に同一口径で一つづつ形成された吸引口２と、該吸引管３のそれぞれの他端、即ち基端部が接続されるヘッダー４と、から構成される４本の吸引管よりなる集合吸引管２０を備え、また、該集合吸引管２０と吸引部６とをヘッダー４を介して接続する共通導入管５を備えてなる
該吸引部６により前記吸引口２より吸引された空気から湿度、臭い、煙、熱、燃焼生成ガス等の物理要因のうち１又は複数を検出する検出装置７
・・・
【００１９】ヘッダー４についてさらに述べると、
ヘッダー４は、集合吸引管２０において、複数の吸引管３を集合させて一本の導入管５に連通させるものである
このヘッダー４において、各吸引管３の吸引口２から吸引される吸引量等に差が生じることはない
　
　以上の記載を総合すると，引用例２には，「４本の吸引管３と、該吸引管３のそれぞれの先端に形成された吸引口２と、該吸引管３のそれぞれの基端部が接続されるヘッダー４と、から構成される集合吸引管２０を備え、また、該集合吸引管２０と吸引部６とをヘッダー４を介して接続する共通導入管５を備えたサンプリング配管１により、監視区域１０の空気を各吸引管３の吸引口２から吸引量等に差が生じることなく吸引し、吸引された空気から検出装置７により物理要因を検出し、
ヘッダー４は、集合吸引管２０において、複数の吸引管３を集合させて一本の導入管５に連通させるものである、
室内空気を介在した諸要因を調べ監視する方法。」の発明（以下，「引用例２に記載された発明」という。）が記載されているものと認められる。
　
５．対比
　本願発明と，引用例１に記載された発明とを対比する。
　引用例１に記載された発明において，「浮遊微粒子の粒子数濃度により空気清浄室の清浄度を監視する方法」は，浮遊微粒子の粒子数を測定するために浮遊微粒子を検出しているから，本願発明の「粒子を検出する方法」に相当する。
　また，引用例１に記載された発明において，「清浄室１の複数のサンプリング点」についてサンプルエアを吸引することから，汚染源によって清浄度を損なわれうる清浄室が提供されることは明らかであり，本願発明の「複数の可能な汚染現象源を有する密閉加工具のクリーンゾーン（４１０、５１０）を提供する工程」と，「複数の可能な汚染現象源を有する対象空間を提供する工程」を有する点で共通する。
　つぎに，引用例１に記載された発明において，「清浄室１の複数のサンプリング点から」配管２を介して分取管７に「サンプルエアをポンプ６により連続して吸引」することは，本願発明の「複数の流体試料の各々を、該密閉加工具のクリーンゾーンにおける該可能な汚染現象源の１つから連続的に同時に引き出す工程」と，「複数の流体試料の各々を、対象空間における該可能な汚染現象源の１つから連続的に同時に引き出す工程」で共通することは明らかである。
　そして，引用例１に記載された発明において，「分取管７にサンプルエアをポンプ６により連続して吸引し，分取管７で混合したサンプルエア」が得られることは，サンプルエアのすべてが連続的に混合されるのであるから，その混合したサンプルエアを合体流体ストリームと呼べば，本願発明の「該複数の流体試料の全てを合体流体ストリームに連続的に合流する工程」に相当する。
　さらに，引用例１に記載された発明の「分取管７で混合したサンプルエアの一部を光散乱式粒子計数器５に連続して吸引して測定が行われる」ことは，本願発明の「該合体流体ストリームを粒子検知器（４５０、５７０）に連続的に流す工程」と，「該合体流体ストリームの少なくとも一部を粒子検知器に連続的に流す工程」で共通する。
　
　そうすると，本願発明と引用例１に記載された発明とは，
「粒子を検出する方法であって、
　複数の可能な汚染現象源を有する対象空間を提供する工程；
　複数の流体試料の各々を、対象空間における該可能な汚染現象源の１つから連続的に同時に引き出す工程；
　該複数の流体試料の全てを合体流体ストリームに連続的に合流する工程；および
　該合体流体ストリームの少なくとも一部を粒子検知器に連続的に流す工程；を包含する方法。」
である点で一致し，次の点で相違している。
　
（相違点１）本願発明の対象空間は「密閉加工具のクリーンゾーン」であるのに対し，引用例１に記載された発明では「清浄室」である点。
　
（相違点２）本願発明では「合体流体ストリームを粒子検知器（４５０、５７０）」に流すのに対し，引用例１に記載された発明では「光散乱式粒子計数器５」に吸引されるのは「分取管７で混合したサンプルエアの一部」であって，混合したサンプルエアの全部ではない点。
　
（相違点３）本願発明では「ここで、各該流体試料が、該引き出しと該合流との間の隔離された囲まれた領域内で連続的に流れる」とされているのに対し，引用例１に記載された発明ではそのような構成は有していない点。
　
６．判断
　相違点１について。
　上記摘記事項（ｃ）及び（ｄ）に記載されるように，半導体製造プロセスにおいて，それぞれの工程を行う装置を備えた複数の反応室で，それぞれ所定の処理がシリコン基板に施されること，そして，各反応室では微粒子分析装置により微粒子の発生状況を監視することが，周知例１には示されている。また，上記摘記事項（ｅ）及び（ｆ）に記載されるように，複数のクリーンルームを持つ作業場について，それぞれ複数のクリーンルームの空気清浄度を，微小粒子計数器によって管理することが，周知例２には示されている。これらのように，それぞれ処理や作業を行う空間を，それぞれの室（クリーンゾーン）として分離し，それぞれのクリーンゾーンで微粒子の発生を管理することは周知の技術であり，また，これらの処理や作業を何らかの加工具で行うことは通常行われるものであって，さらに，クリーンゾーンを密閉することは技術常識である。そうすると，引用例１に記載された発明においては清浄室の複数のサンプリング点について清浄度を監視しているが，上記周知の技術を鑑み，清浄室をそれぞれ処理や作業を行う室として分離することで，密閉加工具のクリーンゾーンに対して，粒子を検出しようとすることは，当業者であれば適宜に為し得たものである。
　
　相違点２及び３について。
　引用例２に記載された発明は，複数の吸引管３を集合させて一本の導入管５に連通させるようなヘッダー４を備え，該ヘッダー４から共通導入管５を介して吸引部６を接続し，検出装置７により物理要因を検出するものである。このヘッダー４は，集合吸引管２０において，複数の吸引管３を集合させて一本の導入管５に連通させるものであるから，複数の吸引管から吸引された空気の全てが合流され，検出装置７に流されることとなるのは明らかである。
　ここで，引用例１に記載された発明において，分取管７で混合したサンプルエアの一部を光散乱式粒子計数器５に吸引しているのは，上記摘記事項（ｂ）によれば，分取管７を用いることで，「分取管７に吸引されるサンプルエア量は粒子計数器５が分取吸引するサンプルエア量より大きくとる」ことができ，「配管２内の被測定粒子の沈降付着は配管内流速が大きいほど少なくなることから被測定粒子の沈降付着による損失が無視できる流速となるよう十分な流量でサンプルエアを吸引する」ようにするためであり，また検出感度に応じてサンプルエア量を決定することは技術常識であるから，光散乱式粒子計数器５に吸引するのが分取管７で混合したサンプルエアの一部であるか，全部であるかは，「配管２内の被測定粒子の沈降付着」，「粒子計数器５が分取吸引するサンプルエア量」及び検出感度をどの程度のものとするかに応じて，当業者において設定すべき設計的事項であるといえる。
　そうすると，引用例２に記載された発明に示されるように，複数の吸引管から吸引された空気の全てが合流され，検出装置７に流されるようなヘッダー４を用いて室内空気を監視することが従来行われているのであるから，引用例１に記載された発明の分取管７に代えて，引用例２に記載された発明のヘッダー４を採用し，混合したサンプルエアの全部を光散乱式粒子計数器５に流すようにすることは，当業者であれば容易に想到し得たものである。そして，このようなヘッダー４は，「各該流体試料が、該引き出しと該合流との間の隔離された囲まれた領域内で連続的に流れる」ようなものとなることは明らかである。
　
　さらに、本願発明の作用効果は、引用例１及び２それぞれに記載された発明及び周知技術から、当業者であれば予測できる範囲のものである。
　
７．むすび
　以上のとおり，本願発明は、引用例１及び２それぞれに記載された発明及び周知技術に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法２９条２項の規定により特許を受けることができない。
　
　したがって，請求項１乃至８，１０乃至１３に係る発明について審理するまでもなく，本件出願は拒絶されるべきものである。
　
　よって，結論のとおり審決する。