(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
露光処理後の基板に現像液を塗布して現像処理を行う現像処理装置であって、
基板に現像液を供給して塗布し、基板上で現像処理するための現像液供給ノズルと、
基板の現像処理後に、リンス液を高圧で基板に噴射するリンス液噴射ノズルと、
このリンス液噴射ノズルによるリンス液の噴射の際、基板上にリンス液の膜を形成するリンス液膜形成手段と
を具備し、
前記リンス液膜形成手段は、前記リンス液噴射ノズルの側方を囲うとともに基板との間に所定隙間をおいて配置され、リンス液噴射ノズルから噴射されたリンス液を一時的に貯留しながら基板上にリンス液の膜を形成するカバーを有し、
前記カバーと基板との所定隙間は、基板上にリンス液の膜を形成できるとともに、リンス液の圧力を所定以上に維持できる隙間に設定されていることを特徴とする現像処理装置。
【請求項２】
露光処理後の基板に現像液を塗布して現像処理を行う現像処理装置であって、
基板に現像液を供給して塗布し、基板上で現像処理するための現像液供給ノズルと、
基板の現像処理後に、リンス液を高圧で基板に噴射するリンス液噴射ノズルと、
このリンス液噴射ノズルによるリンス液の噴射の際、基板上にリンス液の膜を形成するリンス液膜形成手段と、
前記リンス液噴射ノズルによるリンス液の噴射後、所定圧力以下でリンス液を基板に吐出するリンス液吐出ノズルと
を具備することを特徴とする現像処理装置。
【請求項３】
露光処理後の基板に現像液を塗布して現像処理を行う現像処理装置であって、
基板に現像液を供給して塗布し、基板上で現像処理するための現像液供給ノズルと、
基板の現像処理後に、リンス液を高圧で基板に噴射するリンス液噴射ノズルと、
このリンス液噴射ノズルによるリンス液の噴射の際、基板上にリンス液の膜を形成するリンス液膜形成手段と
を具備し、
前記リンス液噴射ノズルは、前記リンス液の膜を泡立てる窒素バブリング手段を有することを特徴とする現像処理装置。
【請求項４】
前記窒素バブリング手段は、前記リンス液の膜の中に窒素ガスを噴出させる手段により構成されることを特徴とする請求項３に記載の現像処理装置。
【請求項５】
前記リンス液噴射ノズルは、リンス液を噴射した状態で、静止または低速で回転している基板上を移動されることを特徴とする請求項１ないし請求項４のいずれか１項に記載の現像処理装置。
【請求項６】
前記リンス液噴射ノズルは、基板上を横切るように移動されることを特徴とする請求項５に記載の現像処理装置。
【請求項７】
前記リンス液噴射ノズルは、基板Ｇの幅方向に沿って延在するノズルヘッドと、ノズルヘッドの下側に設けられた複数の噴射部とを有することを特徴とする請求項１ないし６のいずれか１項に記載の現像処理装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、カラー液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）のカラーフィルター等を製造する際、露光処理後の基板に現像処理を施すための現像処理装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
カラー液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）のカラーフィルターの製造においては、ガラス製の矩形の基板に、４色（レッド、グリーン、ブルー、およびブラック）の色彩レジストを塗布し、これを露光し、これを現像処理するという、いわゆるフォトリソグラフィー技術によりカラーフィルターを形成している。
【０００３】
このようなカラーフィルターのフォトリソグラフィー工程においては、各色彩レジスト毎に塗布処理および露光・現像処理を行っている。すなわち、例えば、基板が洗浄された後、レジスト塗布ユニットに搬入され、まず、レッドの色彩レジストを塗布して、このレッドの色彩レジストを露光し、引き続き現像処理し、次いで、グリーンの色彩レジストを塗布して、グリーンの色彩レジストを露光し、引き続き現像処理し、その後、ブルー、ブラックに関しても同様に行っている。
【０００４】
ところで、このようなカラーフィルター用の基板を現像するに際しては、現像処理ユニットにおいては、矩形の基板がスピンチャックに装着され、現像液供給ノズルから現像液が供給されて、基板の全面に塗布され、所定時間静止されて現像処理が進行される。その後、基板がスピンチャックにより回転されて現像液が振り切られ、次いで、リンス液供給ノズルから純水等のリンス液が吐出されて基板上に残存する現像液が洗い流される。その後、スピンチャックが高速で回転され、基板上に残存するリンス液が振り切られて基板が乾燥され、これにより、一連の現像処理が終了する。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
このようなカラーフィルター用基板の現像処理においては、レジストの種類が、例えばＬＣＤ基板の回路パターンのレジスト等と異なり、特殊な顔料を含んでいる。そのため、現像液を基板に塗布し、現像処理が終了した後、現像液とレジストとの反応が終了した後に基板上に残存するレジストを除去する際に、従来のリンス液供給ノズルから吐出する比較的低圧のリンス液では、基板上のレジスト液を確実に除去することができないという問題点がある。
【０００６】
本発明はかる事情に鑑みてなされたものであり、基板上に残存したレジストを確実に除去することができる現像処理装置を提供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するために、本発明の第１の観点によれば、露光処理後の基板に現像液を塗布して現像処理を行う現像処理装置であって、基板に現像液を供給して塗布し、基板上で現像処理するための現像液供給ノズルと、基板の現像処理後に、リンス液を高圧で基板に噴射するリンス液噴射ノズルと、このリンス液噴射ノズルによるリンス液の噴射の際、基板上にリンス液の膜を形成するリンス液膜形成手段とを具備し、前記リンス液膜形成手段は、前記リンス液噴射ノズルの側方を囲うとともに基板との間に所定隙間をおいて配置され、リンス液噴射ノズルから噴射されたリンス液を一時的に貯留しながら基板上にリンス液の膜を形成するカバーを有し、前記カバーと基板との所定隙間は、基板上にリンス液の膜を形成できるとともに、リンス液の圧力を所定以上に維持できる隙間に設定されていることを特徴とする現像処理装置が提供される。
【０００８】
本発明の第２の観点によれば、露光処理後の基板に現像液を塗布して現像処理を行う現像処理装置であって、基板に現像液を供給して塗布し、基板上で現像処理するための現像液供給ノズルと、基板の現像処理後に、リンス液を高圧で基板に噴射するリンス液噴射ノズルと、このリンス液噴射ノズルによるリンス液の噴射の際、基板上にリンス液の膜を形成するリンス液膜形成手段と、前記リンス液噴射ノズルによるリンス液の噴射後、所定圧力以下でリンス液を基板に吐出するリンス液吐出ノズルとを具備することを特徴とする現像処理装置が提供される。
【０００９】
本発明の第３の観点によれば、露光処理後の基板に現像液を塗布して現像処理を行う現像処理装置であって、基板に現像液を供給して塗布し、基板上で現像処理するための現像液供給ノズルと、基板の現像処理後に、リンス液を高圧で基板に噴射するリンス液噴射ノズルと、このリンス液噴射ノズルによるリンス液の噴射の際、基板上にリンス液の膜を形成するリンス液膜形成手段とを具備し、前記リンス液噴射ノズルは、前記リンス液の膜を泡立てる窒素バブリング手段を有することを特徴とする現像処理装置が提供される。
【００１０】
このように、リンス液を高圧で噴射する際、基板上にリンス液の膜を形成するように構成されているので、リンス液の膜の緩衝作用により高圧のリンス液による基板の損傷を回避しつつ基板上に残存したレジストを確実に除去することができる。すなわち、リンス液を単に高圧で噴射する場合には、高圧のリンス液が基板上の回路パターン等に損傷を与えるおそれがあるが、基板上にリンス液の膜を形成しながらリンス液を噴射しているため、噴射するリンス液の圧力およびリンス液の膜の厚さを調整すれば、基板に損傷を与えることなく基板上に残存したレジストを確実に除去することが可能となる。
【００１１】
この場合に、リンス液膜形成手段を、前記リンス液噴射ノズルの側方を囲うとともに基板との間に所定隙間をおいて配置され、リンス液噴射ノズルから噴射されたリンス液を一時的に貯留しながら基板上にリンス液の膜を形成するカバーを有するものとすることができる。
【００１２】
このように、リンス液を高圧で噴射する際、リンス液噴射ノズルの側方を囲うとともに基板との間に所定隙間をおいて配置されたカバーにより、リンス液を一時的に貯留しながら基板上にリンス液の膜を形成するので、リンス液の膜の緩衝作用により高圧のリンス液による基板の損傷を回避しつつ基板上に残存したレジストを確実に除去することができる。また、このリンス液の膜を形成するためのカバーが、基板との間に所定隙間をおいて配置されているため、この隙間を調整することにより、リンス液の膜の厚さを容易に調整することができ、リンス液の膜の厚さおよびリンス液の圧力を調整して、基板に対する損傷を防止しながら洗浄の最適化を図ることができる。
【００１３】
さらに、上記リンス液膜形成手段により基板上に形成したリンス液の膜をバブリング手段によって泡立てることにより、基板上に残存したレジストをより確実に除去することが可能となる。この場合には、バブリング手段を、リンス液の膜の中に窒素ガスを噴出させる手段とすることができる。
【００１４】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態を添付図面を参照して詳細に説明する。
図１は、本発明が適用されるＬＣＤのカラーフィルターの塗布・現像処理システムを示す平面図である。
【００１５】
この塗布・現像処理システムは、複数の基板Ｇを収容するカセットＣを載置するカセットステーション１と、基板Ｇにレジスト塗布および現像を含む一連の処理を施すための複数の処理ユニットを備えた処理部２と、露光装置（図示せず）との間で基板Ｇの受け渡しを行うためのインターフェース部３とを備えており、処理部２の両端にそれぞれカセットステーション１およびインターフェース部３が配置されている。
【００１６】
カセットステーション１は、カセットＣと処理部２との間で基板Ｇの搬送を行うための搬送機構１０を備えている。そして、カセットステーション１においてカセットＣの搬入出が行われる。また、搬送機構１０はカセットの配列方向に沿って設けられた搬送路１０ａ上を移動可能な搬送アーム１１を備え、この搬送アーム１１によりカセットＣと処理部２との間で基板Ｇの搬送が行われる。
【００１７】
処理部２は、前段部２ａと中段部２ｂと後段部２ｃとに分かれており、それぞれ中央に搬送路１２、１３、１４を有し、これら搬送路の両側に各処理ユニットが配設されている。そして、これらの間には、中継部１５、１６が設けられている。
【００１８】
前段部２ａは、搬送路１２に沿って移動可能な主搬送装置１７を備えており、搬送路１２の一方側には、２つの洗浄ユニット（ＳＣＲ）２１ａ、２１ｂが配置されており、搬送路１２の他方側には、冷却ユニット（ＣＯＬ）２５、上下２段に積層されてなる加熱処理ユニット（ＨＰ）２６および冷却ユニット（ＣＯＬ）２７が配置されている。
【００１９】
また、中段部２ｂは、搬送路１３に沿って移動可能な主搬送装置１８を備えており、搬送路１３の一方側には、色彩レジストを塗布するためのレジスト塗布処理ユニット（ＣＴ）２２、および基板Ｇの周縁部の色彩レジストを除去するエッジリムーバー（ＥＲ）２３が設けられており、搬送路１３の他方側には、二段積層されてなる加熱処理ユニット（ＨＰ）２８、加熱処理ユニットと冷却処理ユニットが上下に積層されてなる加熱処理・冷却ユニット（ＨＰ／ＣＯＬ）２９、および冷却ユニット（ＣＯＬ）３０が配置されている。
【００２０】
さらに、レジスト塗布処理ユニット（ＣＴ）２２と、エッジリムーバー（ＥＲ）２３との間に、乾燥処理ユニット（ＶＤ）４０が設けられている。これにより、色彩レジストが塗布された基板Ｇが乾燥処理ユニット（ＶＤ）４０に搬送されて乾燥処理され、その後、エッジリムーバー（ＥＲ）２３により端面処理されるようになっている。
【００２１】
さらに、後段部２ｃは、搬送路１４に沿って移動可能な主搬送装置１９を備えており、搬送路１４の一方側には、３つの現像処理ユニット２４ａ、２４ｂ、２４ｃが配置されており、搬送路１４の他方側には上下２段に積層されてなる加熱処理ユニット３１、および加熱処理ユニットと冷却処理ユニットが上下に積層されてなる２つの加熱処理・冷却ユニット（ＨＰ／ＣＯＬ）３２、３３が配置されている。
【００２２】
なお、処理部２は、搬送路を挟んで一方の側に洗浄処理ユニット２１ａ、レジスト処理ユニット２２、現像処理ユニット２４ａのようなスピナー系ユニットのみを配置しており、他方の側に加熱処理ユニットや冷却処理ユニット等の熱系処理ユニットのみを配置する構造となっている。
【００２３】
また、中継部１５、１６のスピナー系ユニット配置側の部分には、薬液供給ユニット３４が配置されており、さらにメンテナンスのためのスペース３５が設けられている。
【００２４】
上記主搬送装置１７は、搬送機構１０のアーム１１との間で基板Ｇの受け渡しを行うとともに、前段部２ａの各処理ユニットに対する基板Ｇの搬入・搬出、さらには中継部１５との間で基板Ｇの受け渡しを行う機能を有している。また、主搬送装置１８は中継部１５との間で基板Ｇの受け渡しを行うとともに、中段部２ｂの各処理ユニットに対する基板Ｇの搬入・搬出、さらには中継部１６との間の基板Ｇの受け渡しを行う機能を有している。さらに、主搬送装置１９は中継部１６との間で基板Ｇの受け渡しを行うとともに、後段部２ｃの各処理ユニットに対する基板Ｇの搬入・搬出、さらにはインターフェース部３との間の基板Ｇの受け渡しを行う機能を有している。なお、中継部１５、１６は冷却プレートとしても機能する。
【００２５】
インターフェース部３は、処理部２との間で基板を受け渡しする際に一時的に基板を保持するエクステンション３６と、さらにその両側に設けられた、バッファーカセットを配置する２つのバッファーステージ３７と、これらと露光装置（図示せず）との間の基板Ｇの搬入出を行う搬送機構３８とを備えている。搬送機構３８はエクステンション３６およびバッファステージ３７の配列方向に沿って設けられた搬送路３８ａ上を移動可能な搬送アーム３９を備え、この搬送アーム３９により処理部２と露光装置との間で基板Ｇの搬送が行われる。
このように各処理ユニットを集約して一体化することにより、省スペース化および処理の効率化を図ることができる。
【００２６】
このように構成される塗布・現像処理システムにおいては、カセットＣ内の基板Ｇが、処理部２に搬送され、処理部２では、まず、前段部２ａの洗浄ユニット（ＳＣＲ）２１ａ，２１ｂでスクラバー洗浄が施され、加熱処理ユニット（ＨＰ）２６の一つで加熱乾燥された後、冷却ユニット（ＣＯＬ）２７の一つで冷却される。
【００２７】
その後、基板Ｇは中段部２ｂに搬送され、レジスト塗布処理ユニット（ＣＴ）２２で所定の色彩レジストが塗布され、乾燥処理ユニット４０により乾燥処理されて、エッジリムーバー（ＥＲ）２３で基板Ｇの周縁の余分な色彩レジストが除去される。その後、基板Ｇは、中段部２ｂの中の加熱処理ユニット（ＨＰ）の一つでプリベーク処理され、ユニット２９または３０の下段の冷却ユニット（ＣＯＬ）で冷却される。
【００２８】
その後、基板Ｇは中継部１６から主搬送装置１９にてインターフェース部３を介して露光装置に搬送されてそこで所定のパターンが露光される。そして、基板Ｇは再びインターフェース部３を介して搬入され、現像処理ユニット（ＤＥＶ）２４ａ，２４ｂ，２４ｃのいずれかで現像処理される。現像処理された基板Ｇは、後段部２ｃのいずれかの加熱処理ユニット（ＨＰ）にてポストベーク処理が施された後、冷却ユニット（ＣＯＬ）にて冷却される。
【００２９】
このような各色彩毎の一連の処理が予め設定されたレシピに従って実行される。例えば、レッドの塗布・露光・現像処理が終了した基板Ｇは、順次グリーン、ブルー、ブラックの塗布・露光・現像処理が施されるが、後述するように、塗布処理ユニット（ＣＴ）２２において異なる色彩のノズルを用いる他は、各色彩ともほぼ同様に処理される。完成したカラーフィルターの基板は、主搬送装置１９，１８，１７および搬送機構１０によってカセットステーション１上の所定のカセットに収容される。
【００３０】
次に、図２ないし図４を参照しつつ、本実施の形態に係る現像処理ユニット（ＤＥＶ）２４ａ，２４ｂ，２４ｃについて説明する。図２は、本実施の形態に係る現像処理ユニット（ＤＥＶ）の平面図、図３はその断面図、図４は、図２および図３に示した現像処理ユニット（ＤＥＶ）に装着されたリンス液噴射ノズルの断面図、図５は、図４のノズルを一部切り欠いて示す斜視図である。
【００３１】
図２、図３に示すように、現像処理ユニット（ＤＥＶ）２４ａ，２４ｂ，２４ｃにおいては、基板Ｇを吸着保持する水平回転可能なスピンチャック４１が設けられ、このスピンチャック４１により保持された基板Ｇを包囲する円筒形状のインナーカップ４２が設けられ、このインナーカップ４２の外周囲を取り囲むように円筒形状のアウターカップ４３が設けられている。このアウターカップ４３の外側に、全体を覆うシンク５２が設けられている。
【００３２】
このアウターカップ４３の一側には、現像液用ノズルアーム４４が設けられ、この現像液用ノズルアーム４４の下側には、現像液を吐出する複数の吐出口５３ａを有する現像液供給ノズル５３が設けられている。このノズルアーム４４は、ガイドレール４５に沿って、ベルト駆動等の駆動機構（図示略）により基板Ｇを横切って移動するように構成され、これにより、現像液の塗布時には、ノズルアーム４４は、基板Ｇの中心に停止し、回転している基板Ｇ上に、現像液供給ノズル５３の下面に設けられた複数の現像液吐出口５３ａから現像液を吐出するようになっている。
【００３３】
アウターカップ４３の他側には、純水等のリンス液を高圧で噴射するノズルを移動させるための高圧リンス液用ノズルアーム４６が設けられている。このノズルアーム４６の下側には、図４および図５に示すような、高圧でリンス液を噴射するリンス液噴射ノズル４７が設けられている。このリンス液噴射ノズル４７は、基板Ｇの幅方向に沿って延在するノズルヘッド４８ａと、ノズルヘッド４８ａの下側に設けられた複数の噴射部４８ｂとを有している。そして、噴射部４８ｂから、所定圧力（例えば、１５ｋｇ／ｃｍ２）以上の高圧で、かつ所定流量（例えば、１５ｌ／ｍｉｎ）でリンス液を噴射する。これにより、後述するように、現像処理が終了した後に基板Ｇ上に現像液と反応した後の余分なレジストが残存していたとしても、高圧で噴射したリンス液により除去することができる。
【００３４】
高圧リンス液用ノズルアーム４６は、現像液用ノズルアーム４４と同様に、ガイドレール４５に沿って、ベルト駆動等の駆動機構（図示略）により基板Ｇを横切って移動するように構成され、これにより、リンス液の噴射時には、ノズルアーム４６は、リンス液噴射ノズル４７の噴射部４８ｂからリンス液を高圧で噴射した状態で、静止した基板Ｇ上をスキャンするようになっている。
【００３５】
なお、ノズルヘッド４８ａの両端側上部には、上方に延びるリンス液配管４９が接続されており、この配管４９を介してノズルヘッド４８ａにリンス液が供給されるとともに、この配管によりノズルアーム４６とノズルヘッド４８ａとが連結されている。
【００３６】
図４、図５に示すように、リンス液を高圧で噴射するためのリンス液噴射ノズル４７には、その側方および上方を覆うように、側壁５０ａおよび上壁５０ｂを有するボックス状のカバー５０が設けられている。このカバー５０の下端と、基板Ｇとの間には、所定の隙間ｄ（例えば２〜５ｍｍ）が形成されている。
【００３７】
このようなカバー５０が設けられているため、リンス液噴射ノズル４７の噴射部４８ｂから基板Ｇに向けてリンス液を高圧で噴射する際、リンス液を一時的に貯留しつつ基板Ｇ上にリンス液の膜を形成することができる。このリンス液の膜は、後述するように、噴射されたリンス液に対する緩衝作用を有し、基板Ｇの回路パターン等への損傷を防止することができる。
【００３８】
上記高圧リンス液用ノズルアーム４６とアウターカップ４３との間には、比較的低圧で純水等のリンス液を吐出するためのリンス液吐出ノズル（図示略）を先端部に有する低圧リンス液用ノズルアーム５１が枢軸５１ａの廻りに回動自在に設けられている。ノズルアーム５１の先端のリンス液吐出ノズルは、例えば、上記リンス液噴射ノズル４７により高圧でリンス液を噴射した後、比較的低圧でリンス液を吐出して、洗浄の仕上げをする役割を果たす。また、このリンス液の吐出時には、ノズルアーム５１は、枢軸５１ａの廻りに回動して、リンス液吐出ノズルを基板Ｇの中心に位置させ、回転する基板Ｇに対してリンス液吐出ノズルからリンス液を吐出するようになっている。
【００３９】
図３に示すように、インナーカップ４２およびアウターカップ４３は、連結部材６０により連結されており、図示しない昇降機構により一体的に昇降可能となっている。インナーカップ４２およびアウターカップ４３は、いずれもその上端部が内側に向かって傾斜しており、現像液またはリンス液が外部へ飛散することが防止可能となっている。なお、開口径が最も小さいインナーカップ４２の上端部分においても、基板Ｇを水平にした状態で挿入可能な大きさとなっている。また、アウターカップ４３の上端位置はインナーカップ４２の上端位置よりも高く構成されており、スピンチャック４１の回転の調整により、後述するように、現像液とリンス液との分離回収が可能となっている。
【００４０】
インナーカップ４２の下方には、現像液の塗布および振り切りの際、インナーカップ４２の内壁またはその内側を通って下方に流された現像液を貯留して排出する現像液用受け皿５５が、インナーカップ４２の底部を覆うように設けられており、この受け皿５５には排出口５６が設けられている。そして、排出口５６には排出管５６ａが連結されている。また、現像液用受け皿５５は、現像液を排出口５６に集めるように傾斜されている。
【００４１】
アウターカップ４３の下方には、リンス液の吐出および振り切りの際、アウターカップ４３の内壁またはアウターカップ４３とインナーカップ４２との間を通って下方に流されたリンス液を貯留して排出するリンス液用受け皿５７が、アウターカップ４３の底部を覆うように設けられており、この受け皿５７には排出口５８が設けられている。そして排出口５８には排出管５８ａが連結されている。また、リンス液用受け皿５７は、リンス液を排出口５８に集めるように傾斜されている。また、シンク５２の底部には、この底部に貯留された現像液およびリンス液を排出するための排出口５９が設けられている。
【００４２】
次に、以上のように構成された現像処理ユニット（ＤＥＶ）２４ａ，２４ｂ，２４ｃにおける現像処理動作について説明する。
図１に示すように、露光処理された基板Ｇが主搬送装置１９により、現像処理ユニット（ＤＥＶ）２４ａ，２４ｂ，２４ｃのいずれかに搬入される。
現像処理ユニット（ＤＥＶ）２４ａ，２４ｂ，２４ｃでは、図２に示すように、搬入された基板Ｇがスピンチャック４１に吸着保持される。現像液用のノズルアーム４４がガイドレール４５に沿って基板Ｇの中心部に移動、停止し、基板Ｇがスピンチャック４１により回転されながら、現像液用供給ノズル（図示略）の下面に設けられた複数の吐出口から現像液が吐出されて基板Ｇの全面に塗布され、現像処理が進行される。
【００４３】
その後、基板Ｇがスピンチャック４１により回転されて現像液が振り切られる。この際にインナーカップ４２およびアウターカップ４３は、図３に示す上昇した位置に配置されており、スピンチャック４１が、例えば５０〜１５０ｒｐｍの比較的低速で１〜３ｓｅｃ回転される。したがって、振り切られた現像液はインナーカップ４２の内壁またはその内側を通って現像液用受け皿５５に至り、排出口５６から排出管５６ａを介して、リンス液とは別に回収される。なお、現像処理の際に基板Ｇから飛散した現像液もインナーカップ４２の内側を通って受け皿５５に至る。
【００４４】
次いで、高圧リンス液用ノズルアーム４６がガイドレール４５に沿って静止した基板Ｇ上をスキャンしながら、その下側に設けられたリンス液噴射ノズル４７の噴射部４８ｂから高圧でリンス液を噴射させる。このようにリンス液を噴射させる際には、インナーカップ４２およびアウターカップ４３は下降した位置に配置される。
【００４５】
噴射部４８ｂから基板Ｇに向けてリンス液を高圧で噴射する際、上述したカバー５０が設けられているため、リンス液を一時的に貯留しながら基板Ｇ上にリンス液の膜を形成することができ、その後、隙間を介してリンス液を基板Ｇ上に流出することができる。なお、ノズルアーム４６のスキャン開始時には、リンス液の膜が形成されていない虞れがあるが、スキャンを開始する基板Ｇの外周部は、製品にならない部分であり、スキャン開始後一定時間経過後には、リンス液の膜が十分に形成されているため、基板Ｇ上の製品になる部分に対して実質的に悪影響を及ぼさない。
【００４６】
このように、リンス液噴射ノズル４７により、リンス液を所定圧力（例えば、１５ｋｇ／ｃｍ２）以上の圧力で、かつ所定流量（例えば、１５ｌ／ｍｉｎ）でリンス液を噴射しているため、現像処理が終了し、現像液とレジストとの反応が終了した後に、基板Ｇ上に反応後のレジストが残存していたとしても、高圧で噴射したリンス液により、残存したレジストを確実に除去することができるとともに、リンス液を高圧で噴射する際、カバー５０により基板Ｇ上にリンス液の膜を形成しているので、その緩衝作用により、回路パターンの損傷等の基板Ｇに対する損傷を回避することができる。
【００４７】
また、リンス液の膜を形成するためのカバー５０が、基板Ｇとの間に所定の隙間ｄを形成した状態で配置されているため、この隙間ｄを例えば２〜５ｍｍの間で調整することにより、リンス液の膜の厚さを容易に調整することができる。したがって、リンス液の膜の厚さおよびリンス液の圧力を調整して、基板Ｇに対する損傷を防止しながら洗浄の最適化を図ることができる。
【００４８】
このようにして基板Ｇのリンスを行った後、スピンチャック４１が高速で回転され、基板Ｇ上に残存するリンス液が振り切られる。この際に、上述したように、インナーカップ４２およびアウターカップ４３が下降した位置に配置され、スピンチャック４１が、現像液の振り切りの際よりも高い回転数、例えば１００〜２００ｒｐｍで１８ｓｅｃ回転され、インナーカップ４２よりも高い位置にあるアウターカップ４３の内壁またはインナーカップ４２との間を通ってリンス液用受け皿５７に至り、排出口５８から排出管５８ａを介して、現像液とは別に回収される。なお、リンス液供給の際に基板Ｇから飛散したリンス液もアウターカップ４３とインナーカップ４２との間を通って受け皿５７に至る。
【００４９】
その後、必要に応じて、ノズルアーム５１が枢軸５１ａの廻りに回動されて、リンス液吐出ノズル（図示略）が基板Ｇの中心に位置され、回転する基板Ｇに対してリンス液が低圧で吐出される。これにより、高圧洗浄後における洗浄の仕上げがなされる。次いで、基板Ｇがスピンチャック４１により高速で回転されて振り切り乾燥され、これにより、一連の現像処理が終了する。なお、この振り切りの際にも、高圧リンスの場合と同様にして受け皿５７を介して現像液とは別に回収される。
【００５０】
このように、アウターカップ４３の高さをインナーカップ４２よりも高くした状態でこれらを連結し、現像液を回収する際には、インナーカップ４２およびアウターカップ４３を上昇した状態にするとともにスピンチャック４１の回転速度を比較的低速にするので、現像液はインナーカップ４２の内壁および内側を通って現像液用受け皿５５に至り、一方、リンス液を回収する際には、インナーカップ４２およびアウターカップ４３を下降させた状態にするとともにスピンチャック４１を比較的高速にするので、リンス液はアウターカップ４３の内壁および内側をとおってリンス液用受け皿５７に至る。そして、現像液は受け皿５５から排出口５６および排出管５６ａを介して回収され、リンス液は受け皿５７から排出口５８および排出管５８ａを介して回収される。
【００５１】
したがって、現像液とリンス液とを効率良く分離することができ、リンス液はシンク５２ではなく受け皿５７を通って回収されるので、リンス液を高効率で回収することができる。また、受け皿５５，５７がそれぞれ排出口５６，５８に向けて傾斜するように設けられているので、現像液およびリンス液の回収を速やかに行うことができる。
【００５２】
ところで、上述した実施形態においては、カバー５０と基板Ｇとの隙間ｄを例えば２〜５mmに設定するように説明したが、この隙間ｄのより適切な値と高圧リンス条件について以下に検討する。
図６は、表１に示した高圧リンス設定条件で現像後のリンスを行なったガラス基板の透過率と波長の関係を示すグラフである。リンス液により基板上に残存したレジストを除去するリンス効果が高く、現像処理が良好に行なわれた場合には、レジストの残渣が少なくなり、基板の透過率が大きくなる。図６のグラフにおいて、曲線１、２、３、４、５および６は、表１に示した高圧リンス設定条件のサンプルＮｏ．１、２、３、４、５および６にそれぞれ対応している。なお、高圧リンスに際しては下面寸法（基板と平行な面の内寸）が４０（mm）×４００（mm）のカバーを用いた。
【００５３】
【表１】
0003576899.tif 000002
【００５４】
図６に示されるように、サンプルＮｏ．３および６の高圧リンス条件では、波長４００〜７００ｎｍの全域において透過率が９９％以上を達成しており、リンス効果が高く、現像処理が極めて良好に行なわれている。表１に示すように、サンプルＮｏ．３は隙間ｄが３mm、流量が１１．０（ｌ／ｍｉｎ）、スキャン回数が２回（往復）の条件であり、サンプルＮｏ．６は、隙間ｄが５mm、流量が１１．０（ｌ／ｍｉｎ）、スキャン回数が１回の条件である。
【００５５】
また、スキャン回数以外は同じ条件としたサンプルＮｏ．２および３の結果を比較すると、スキャン回数が多いサンプルＮｏ．３の方が高い透過率が得られている。この結果は、スキャン回数が多い方がリンス効果が高いということを示している。さらに、隙間ｄ以外は同じ条件としたサンプルＮｏ．２および５の結果を比較すると、５７０ｎｍより短い波長ではほぼ同じ透過率が得られているが、５７０ｎｍ以上の波長では隙間ｄが大きいサンプルＮｏ．５の方が高い透過率が得られている。この結果は、隙間ｄが大きい条件の方がリンス効果が高いということを示しているが、隙間ｄが５mmを超えるとカバー内にリンス液の膜を形成することが難しくなるため好ましくない。
【００５６】
以上のような高圧リンス設定条件と得られる透過率および波長の関係とを鑑みると、隙間ｄ：３（mm）、流量：１１（ｌ／ｍｉｎ）、スキャン回数：２回（往復）、スキャン速度：５００（mm／ｓ）とすることが実用的である。隙間ｄと流量等を上記のように設定することにより、リンス液が基板上に有効に滞留され、良好なリンス効果を得ることができる。
【００５７】
また、リンス効果を向上するためには、高圧リンスの際に、基板上に滞留されたリンス液の中に窒素を噴出させて泡立てる窒素バブリング法が有効である。以下、上記窒素バブリング法を行なうための構成と、その動作について説明する。図７は、この窒素バブリング法を行なうための窒素バブリング手段として、パイプ６１ａ、６１ｂ、６１ｃが設けられたカバー５０の断面図であり、図８は、カバー５０内における前記パイプ６１ａ、６１ｂ、６１ｃの位置を概略的に示した斜視図である。
【００５８】
前記パイプ６１ａ、６１ｂ、６１ｃは、カバー５０内側のスキャン方向前側および両側の下部に取り付けられている。これらのパイプ６１ａ、６１ｂ、６１ｃには、多数の小孔６３が設けられているとともに、図示しない窒素ガス供給手段が接続されていて、窒素ガス供給手段から窒素ガスを供給することにより小孔６３から窒素ガスを噴出させることができる。
【００５９】
次に、以上のようにパイプ６１ａ、６１ｂ、６１ｃを配置したカバー５０を用いて、窒素バブリング法により高圧リンスを行なう動作について説明する。
この窒素バブリング法による高圧リンスでは、リンス液噴射ノズル４７の噴射部４８ｂから高圧でリンス液を噴射させるとともに、パイプ６１ａ、６１ｂ、６１ｃの有する小孔６３から窒素ガスを噴出させ、カバー５０の内側下部に形成されるリンス液の膜を泡立てながら基板に残存したレジストを除去する。このようにリンス液を泡立てながら高圧リンスを行なうことにより、リンス効果をさらに向上することができる。
【００６０】
窒素バブリング手段としての前記パイプ６１ａ、６１ｂ、６１ｃから窒素ガスを噴出させる方向は、スキャン方向前側が最良であるが、リンス液噴射ノズル４７の長さ方向に沿ってガスを噴出させる方向を変えてもよい。ガスの噴出方向を変える場合には、両端部を下向きにして中央を上向きにすれば、リンス液の圧力が低いためにリンス効果が低い両端部で重点的にリンス液を泡立てて、両端部におけるリンス効果を補うことができるので好ましい。また、リンス液噴射ノズル４７の長さ方向に沿ってガスを噴出する量を変えてもよい。ガスの噴出量を変える場合には、両端部における噴出量を大きくすれば、前記同様に両端部でのリンス効果を補うことができるので好ましい。
【００６１】
また、リンス液噴射ノズル４７の横方向両端部ではリンス液噴射方向の関係でレジストが残存しやすいので、窒素バブリング手段として端部パイプ６１ｂ、６１ｃのみを設けて、横方向両端部におけるリンス効果を補強するようにしてもよい。
【００６２】
次に、前述のように構成された現像処理ユニット（ＤＥＶ）２４ａ，２４ｂ，２４ｃにおける現像処理動作の他の例について、リンス液の供給と基板Ｇの回転速度を中心に説明する。図９は、この現像処理動作における基板Ｇの回転速度を経時的に示した図面である。現像後の洗浄では、まず、図９に示されるように、リンス液吐出ノズルからリンス液を基板に吐出させながら、基板を５０〜１００ｒｐｍの速度で回転させる。次いで、一旦基板の回転速度を５００ｒｐｍに上昇させてから、再び５０〜１００ｒｐｍに減速して、この速度で基板を回転させながら高圧リンスによるスキャンを行なう。その後、基板の回転速度を２００ｒｐｍまで加速し、この速度で基板を回転させながら通常リンスを行なって、高圧リンスにより生じた泡等を除去した後、基板を２０００ｒｐｍの高速で回転させることにより基板を乾燥する。
【００６３】
このように、現像処理と、基板を低速で回転させながら行なう高圧リンスと、高速で回転させながら行なう通常リンスと、超高速で回転させることによる乾燥とを順次行なうことにより、リンス液により基板上に残存したレジストを確実に除去し、基板を良好な状態に処理することができる。
【００６４】
なお、本発明は上記実施の形態に限定されず、種々の変形が可能である。例えば、上記実施の形態では、カラーフィルターの塗布・現像処理システムについて説明したが、これに限らず、ＬＣＤ基板等、他の基板の塗布・現像処理システムについても適用することができる。また、リンス液の膜を形成するためにボックス状のカバーを用いたが、これに限らずリンス液の膜が形成されればどのような機構であってもよい。
【００６５】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、リンス液を高圧で噴射する際、基板上にリンス液の膜を形成するようにしたので、リンス液の膜の緩衝作用により高圧のリンス液による基板の損傷を回避しつつ基板上に残存したレジストを確実に除去することができる。すなわち、基板上にリンス液の膜を形成しながらリンス液を噴射しているため、噴射するリンス液の圧力およびリンス液の膜の厚さを調整すれば、基板に損傷を与えることなく基板上に残存したレジストを確実に除去することが可能となる。
【００６６】
また、リンス液膜形成手段を、リンス液噴射ノズルの側方を囲うとともに基板との間に所定隙間をおいて配置され、リンス液噴射ノズルから噴射されたリンス液を一時的に貯留しながら基板上にリンス液の膜を形成するカバーを有するものとすることにより、リンス液を高圧で噴射する際、そのカバーにより、リンス液を一時的に貯留しながら基板上にリンス液の膜を形成することができるので、リンス液の膜の緩衝作用により高圧のリンス液による基板の損傷を回避しつつ基板上に残存したレジストを確実に除去することができる。しかも、上記隙間を調整することにより、リンス液の膜の厚さを容易に調整することができ、リンス液の膜の厚さおよびリンス液の圧力を調整して、基板に対する損傷を防止しながら洗浄の最適化を図ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明が適用されるＬＣＤのカラーフィルターの塗布・現像処理システムを示す平面図。
【図２】本実施の形態に係る現像処理ユニット（ＤＥＶ）を示す平面図。
【図３】本実施の形態に係る現像処理ユニット（ＤＥＶ）を示す断面図。
【図４】図２、図３に示した現像処理ユニット（ＤＥＶ）に装着されたリンス液噴射ノズルを示す断面図。
【図５】図２、図３に示した現像処理ユニット（ＤＥＶ）に装着されたリンス液噴射ノズルを示す一部切り欠いた斜視図。
【図６】各高圧リンス設定条件により現像後のリンスを行なったガラス基板の透過率と波長の関係を示すグラフ。
【図７】窒素バブリング手段を備えたカバーの断面図。
【図８】カバー内におけるパイプ６１ａ、６１ｂ、６１ｃの位置を概略的に示した斜視図。
【図９】現像処理動作の他の例における基板Ｇの回転速度の変動を示した図面。
【符号の説明】
２４ａ，２４ｂ，２４ｃ；現像処理ユニット
４１；スピンチャック
４２；インナーカップ
４３；アウターカップ
４４；現像液用のノズルアーム
４５；ガイドレール
４６；高圧リンス液用ノズルアーム
４７；リンス液噴射ノズル
４８ａ；ノズルヘッド
４８ｂ；噴射部
５０；カバー（リンス液膜形成手段）
５１；低圧リンス用ノズルアーム
５２；シンク
５５；現像液用受け皿
５６；排出口
５７；リンス液用受け皿
５８；排出口
Ｇ；カラーフィルター基板
【図１】
0003576899.tif 000003
【図２】
0003576899.tif 000004
【図３】
0003576899.tif 000005
【図４】
0003576899.tif 000006
【図５】
0003576899.tif 000007
【図６】
0003576899.tif 000008
【図７】
0003576899.tif 000009
【図８】
0003576899.tif 000010
【図９】
0003576899.tif 000011