(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
有効成分として式、
【化１】
0003597347.tif 000032
式中、
Ｒ1ないしＲ4、Ｒ3’、Ｒ3”、Ｒ4’、及びＲ4”は、隣り合ったＣ原子上の２つの置換基が一緒に、場合によっては置換されたＣ1−Ｃ4−アルキレン基、特にＣ3−Ｃ4−アルキレンを示すこともでき、その際にメチレン基が−Ｏ−、−Ｓ−、または−ＮＨ−により置換されることができるという条件で、互いに独立して、水素、Ｃ1−Ｃ8−アルキル、またはＣ5−Ｃ10−シクロアルキルを示し、そしてさらに互いに独立して、Ｃ1−Ｃ4−アルコキシ、ヒドロキシル、カルボキシル、カルボアルコキシ、またはカルバモイルを示し、
Ｒ5ないしＲ8は互いに独立して、Ｒ1、Ｒ2、またはスルホもしくはアミノスルホニルの意味を有し、
ＸはＣＮを示し、
ＹはＣ1−Ｃ8−アルキルまたはカルボ−Ｃ1−Ｃ4−アルコキシを示し、そして、
ｎ及びｍは互いに独立して、０または１を示す、
の化合物を含んでなるＵＶ吸収性化粧品組成物。
【請求項２】
式（I)の化合物を０．５ないし１５重量％（組成物の総重量に基づいて）含んでなる、請求項１記載の組成物。
【請求項３】
ｐ−メトキシケイ皮酸２−エチルヘキシル、ｐ−メトキシケイ皮酸イソアミル、２−フェニルベンゾイミダゾールスルホン酸、３−（４’−メチルベンジリデン）−ｄ，ｌ−ショウノウ、２−シアノ−３，３’−ジフェニルアクリル酸２−エチルヘキシル、サリチル酸２−エチルヘキシル、４−ｔｅｒｔ−ブチル−４’−メトキシジベンゾイルメタン及びフェニレン−ビス−ベンゾイミダジル−テトラスルホン酸二ナトリウム塩から選択されるＵＶ吸収体を更に含んでなる、請求項１または２に記載の組成物。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、新規のインダニリデン化合物、これらの製造方法、及び例えば、化粧用組成における、特に、日焼け止め剤組成、昼用保護製品、及び毛髪保護製品における、並びに、塗料、ニス、プラスチック、織物、包装材料、及びゴムのような工業製品の光に対する安定性を向上するための、ＵＶ吸収体としてのこれらの使用に関する。
【０００２】
【従来の技術】
波長により、ＵＶ光線は、ＵＶ−Ａ光線（３２０−４００ｎｍ、ＵＶ−Ａ−Ｉ：３４０−４００ｎｍ、ＵＶ−Ａ−ＩＩ：３２０−３４０ｎｍ）またはＵＶ−Ｂ光線（２８０−３２０ｎｍ）と呼ばれる。非常に一般的に、ヒト皮膚に対するＵＶ光線の有害な効果は、波長が減少するにつれて、そして露光期間が増すにつれて増大する。
【０００３】
従って、ＵＶ光線は皮膚の損傷を引き起こすことができ、ＵＶ−Ｂ放射は、非常に重い皮膚の熱傷までの日焼け（紅斑）を引き起こすことが可能である。日光での非常に頻繁な、そして防護されていない照射もまた、皮膚の弾力性における損失及び増加したしわの形成、並びに全体に皮膚の早すぎる老化をもたらす。極端な場合において、皮膚癌までの病的な皮膚の変化が起こり得る。
【０００４】
ＵＶ−Ａ放射は、迅速な、弱い直接的な皮膚の色素沈着の効果を有する。ＵＶ−Ａ光線は、皮膚のより下層に達し、そしてそこで皮膚の老化過程を促進することができる。より短い波長のＵＶ−Ａ−ＩＩ放射は、日焼けの形成を助ける。さらに、ＵＶ−Ａ放射は、光毒症または光線過敏症の皮膚反応を引き起こすことができる。ＵＶ−Ａ露光及び皮膚癌の増大した危険の間の確認された関係が存在する。
【０００５】
化粧的及び薬理学的調製物のためのＵＶ吸収体は、それらの吸収最大値の位置により、ＵＶ−Ａ及びＵＶ−Ｂ吸収体に分類され、もし、ＵＶ−Ａ及びＵＶ−Ｂの両方が一つのＵＶ吸収体により吸収されるなら、この場合、ＵＶ−Ａ／Ｂ広帯域吸収体と呼ばれる。
【０００６】
オクチルトリアゾン（ＤＥ−Ａ３  ２０６  ３９８）、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン（ＵＳ３  ７５１  ５６３）、及び４−ｔｅｒｔ−ブチル−４’−メトキシ−ジベンゾイルメタン（ＤＥ−Ａ２  ９４５  ９２５）のような最も多様な化合物が、ＵＶ吸収体としてすでに提示されている。これらの化合物は、所望される広いＵＶ−Ａ及びＵＶ−Ｂ吸収を有さないか、またはこの範囲における低い吸収のみを有するか、もしくは十分に光安定でないかのいずれかである。
【０００７】
【発明の構成】
従って、本発明は、向上したＵＶ−Ａ及びＵＶ−Ｂ広帯域吸収体を提供するという目的に基づく。
【０００８】
本発明は、式、
【０００９】
【化５】
0003597347.tif 000002
【００１０】
式中、
Ｒ１ないしＲ４、Ｒ３’、Ｒ３”、Ｒ４’、及びＲ４”は、隣り合ったＣ原子上の２つの置換基が一緒に、場合によっては置換されたＣ１−Ｃ４−アルキレン基、特にＣ３−Ｃ４−アルキレンを示すこともでき、その際にメチレン基が−Ｏ−、−Ｓ−、または−ＮＨ−により置換されることができるという条件で、互いに独立して、水素、Ｃ１−Ｃ８−アルキル、またはＣ５−Ｃ１０−シクロアルキルを示し、そしてさらに互いに独立して、Ｃ１−Ｃ４−アルコキシ、ヒドロキシル、カルボキシル、カルボアルコキシ、またはカルバモイルを示し、
Ｒ５ないしＲ８は互いに独立して、Ｒ１、Ｒ２、またはスルホもしくはアミノスルホニルの意味を有し、
Ｘ及びＹは互いに独立して、Ｒ９及びＲ１０が互いに独立して、水素、Ｃ１ないしＣ８−アルキル、またはＣ５−Ｃ１０−シクロアルキル、及びさらにこれらの基の一つを表す、ＣＮ、ＣＯ２Ｒ９、ＣＯ２ＮＲ９Ｒ１０、またはＣＯＲ９を示し、
ＸまたはＹは加えて、Ｃ１−Ｃ８−アルキル基、Ｃ５−Ｃ１０−アリール基、特に、フェニル、またはＮ、Ｏ、及びＳからなる組からの１または２個のヘテロ原子を含む５ないし６員のヘテロアリール基を示し、あるいは、
Ｘ及びＹは、これらが結合するβ原子と共に、３個までのヘテロ原子、特に酸素及び／または窒素を含む５ないし７員の環を示し、この環の原子が、特に環外の二重結合酸素（ケト基）により、好ましくはβ原子に隣り合った位置において置換されることができ、そして、
ｎ及びｍは互いに独立して、０または１を示す、
の化合物のＵＶ吸収体としての、好ましくは日焼け止め剤組成における使用に関する。
【００１１】
式、
【００１２】
【化６】
0003597347.tif 000003
【００１３】
式中、
Ｒ１、Ｒ２、及びＲ３は、各場合において互いに独立して同一または異なることができ、そして水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、ニトロ基、シアノ基、または一価の場合によっては置換された有機基を示し、そして、
Ｒ４は、水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、または一価の場合によっては置換された有機基を示し、そして
Ｒ５は、同一または異なることができ、そしてハロゲン原子、ヒドロキシル基、ニトロ基、シアノ基、または一価の場合によっては置換された有機基を示す、の化合物は、ＥＰ−Ａ６７０  ２９８から既知である。
【００１４】
それ故、本発明は、ＥＰ−Ａ６７０  ２９８において記述された化合物を除いた式（Ｉ）の化合物にも関する。
【００１５】
本発明は、好ましくは、ｍ＝ｎ＝０の場合、Ｘ及びＹが未置換のまたは置換されたフェニル環ではない、式（Ｉ）の化合物に関する。
【００１６】
化合物Ｉの特性は、置換基の適当な選択により広い制限内で変えられることができる。このことは、特に、吸収の最大値の位置（従って、例えば、Ｒ６＝アルコキシの場合、最大値はＵＶ−Ａの範囲にあり、そしてＲ５−Ｒ８＝Ｈ及びｎ、ｍ＝０及びＲ１−Ｒ４＝Ｈの場合、最大値はＵＶ−Ｂの範囲にあり、そしてＲ７＝アルキルの場合、ＵＶ−Ａ及びＵＶ−Ｂの範囲が一様に含まれる）、並びに水及び油溶性（芳香環中のスルホン酸基は水溶性を促進し、そしてスルホン酸基なしに化合物Ｉは主に油溶性である）の両方に当てはまる。
【００１７】
好ましい化合物は、Ｘがシアノを示し、そしてＹがカルボ−Ｃ１−Ｃ４−アルコキシを示すものである。さらに好ましい化合物は、Ｒ６がアルキル、または特にアルコキシを示すものであり、これらは高い吸光を有する。これらの好ましい化合物Ｉは、式、
【００１８】
【化７】
0003597347.tif 000004
【００１９】
に相当する。
【００２０】
本発明の化合物は、特に、日焼け止め剤組成における、好ましくは化粧的及び製薬学的調製物における、並びに工業製品のための老化防止剤としての使用に適している。これらは、光に対する優れた安定性により特徴づけられる。
【００２１】
化合物（Ｉ）は、Ｒ１ないしＲ８が上記の意味を有する式、
【００２２】
【化８】
0003597347.tif 000005
【００２３】
の化合物の、Ｘ及びＹが上記の意味を有する式、
【００２４】
【化９】
0003597347.tif 000006
【００２５】
の化合物との（クネベナーゲル）縮合により調製されることができ（Ｏｒｇａｎｉｋｕｍ、ＶＥＢ  Ｄｅｕｔｓｃｈｅｒ  Ｖｅｒｌａｇ、Ｂｅｒｌｉｎ  １９８６、４５９頁参照）、そして良い、ないし非常に良い収率で得られる。
【００２６】
このために用いられるインダノンは、（置換された）アロマティックスと（置換された）アクリル酸エステルのＦ．Ｃ．反応により、またはヒドロキシ置換基（Ｒ５−Ｒ８）の場合、対応するフェノールエステルのフリース（Ｆｒｉｅｓ）転位により調製されることができる。
【００２７】
本発明の式（Ｉ）のＵＶ吸収体は、所望される特性の効果のある組み合わせ、特に、
−  ほんの低い使用濃度での高いＵＶ防護
−  光に対する優れた安定性
−  優れた熱安定性
−  化粧品用溶媒における十分な可溶性、及びｐ−メトキシケイ皮酸エチル、イソアミル、及びイソオクチル、サリチル酸エチルヘキシル、サリチル酸ホモメンチル、アントラニル酸メンチル、ｐ−アミノ安息香酸エチルヘキシル、並びに３，３−ジフェニル−２−シアノアクリル酸エチル及びエチルヘキシルのような液体の油溶性吸収体、または液体の油溶性ＵＶ吸収体の組み合わせ中の結晶の油溶性ＵＶ吸収体の優れた可溶性、−  化粧用原料との融和性、
−  ｐＨ安定性、
−  化粧的調製物における問題のない加工性、及び使用条件下での安定性、
−  包装材料との融和性、
−  織物の変色がない、または汚れが問題なく洗い流されることができる、
−  無色及び匂いの中立、
−  防水のＵＶ防護、
を有する。
【００２８】
本発明の化合物は、化粧的または製薬学的調製物において、適用した調製物のフィルムを通したＵＶ光線の通過を防ぐＵＶ広帯域吸収体として用いられることができる。一般的に、化粧的または製薬学的調製物が、（調製物の総重量に基づき）重量で０．５ないし１５、好ましくは１ないし１０、特に２ないし７％の本発明の化合物を含んでなる場合、このことが言える。
【００２９】
本発明の化合物を含んでなる調製物は、ＵＶ照射に対して皮膚及び毛髪−特にパーマ、着色、及び脱色によりすでに前以て損傷を受けた毛髪−を防護するために用いられることができる。ＵＶ放射から皮膚を防護するために用いられるこれらの化粧的及び製薬学的調製物は、通常用いられる使用形態において、すなわち、水中の油もしくは油中の水のエマルジョンとして、乳液として、あるいはローションもしくはクリーム、水性もしくは水−アルコール性のゲルもしくはローション、エアゾール、（乳化剤を含まない）水分散（ｈｙｄｒｏｄｉｓｐｅｒｓｉｏｎ）ゲル、またはあらゆる他の通例の化粧的もしくは製薬学的調製物として存在することができる。ＵＶ光線に対する毛髪の防護のために、シャンプー、リンス、トリートメント、ゲル、ローション、スプレー、またはクリームとしての調製物が、好ましくは用いられる。
【００３０】
化粧的及び製薬学的調製物は、例えば、乳化剤、界面活性化合物、ラノリン、ワセリン、水、脂肪酸のトリグリセリド、ポリエチレングリコール、脂肪アルコール、エトキシ化した脂肪アルコール、脂肪酸エステル（例えば、パルミチン酸イソプロピル、ステアリン酸イソオクチル、アジピン酸ジイソプロピルなど）、天然に生じるまたは合成の油またはロウ、色素（例えば、二酸化チタン、酸化亜鉛、真珠光沢色素、着色色素）、増粘剤（例えば、ヒドロキシエチルセルロース、ベントナイトなど）、防腐剤、湿潤剤、ビタミン、シリコーン油、グリセロール、エチルアルコール、及び芳香油のような、これらの組成において通常用いられる成分を含んでなることができる。
【００３１】
本発明の化合物は、対応する調製物において個別にまたは混合物として用いられることができ、これらは、他の種類の物質のＵＶ吸収体との組み合わせにおいて用いられることもできる。そのような化合物の例は、ｐ−アミノ安息香酸
ｐ−アミノ安息香酸エチル、エトキシ化（２５ｍｏｌ）
ｐ−ジメチルアミノ安息香酸２−エチルヘキシル
ｐ−アミノ安息香酸エチル、Ｎ−プロポキシ化（２ｍｏｌ）
ｐ−アミノ安息香酸グリセロール
サリチル酸ホモメンチル
サリチル酸２−エチルヘキシル
サリチル酸トリエタノールアミン
サリチル酸４−イソプロピルベンジル
アントラニル酸メンチル
ジイソプロピルケイ皮酸エチル
ｐ−メトキシケイ皮酸２−エチルヘキシル
ジイソプロピルケイ皮酸メチル
ｐ−メトキシケイ皮酸イソアミル
ｐ−メトキシケイ皮酸ジエタノールアミン塩
ｐ−メトキシケイ皮酸イソプロピル
２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリル酸２−エチルヘキシル
２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリル酸エチル
２−フェニルベンゾイミダゾールスルホン酸及び塩
メチル硫酸３−（４’−トリメチルアンモニウム）ベンジリデン−ボルナン−２−オン
テレフタリリデン−ジボルナンスルホン酸及び塩
４−ｔ−ブチル−４’−メトキシ−ジベンゾイルメタン
β−イミダゾール−４（５）−アクリル酸（ウロカニン酸）
２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン
２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン−５−スルホン酸
ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン
２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン
テトラヒドロキシベンゾフェノン
２，２’−ジヒドロキシ−４，４’−ジメトキシベンゾフェノン
２−ヒドロキシ−４−ｎ−オクトキシベンゾフェノン
２−ヒドロキシ−４−メトキシ−４’−メチルベンゾフェノン
３−（４’−スルホ）ベンジリデン−ボルナン−２−オン及び塩
３−（４’−メチルベンジリデン）−ｄ，ｌ−ショウノウ
３−ベンジリデン−ｄ，ｌ−ショウノウ
４−イソプロピルジベンゾイルメタン
２，４，６−トリアニリノ−（ｐ−カルボ−２’−エチルヘキシル−ｌ’−オキシ）−１，３，５−トリアジン
フェニレン−ビス−ベンゾイミダジル−テトラスルホン酸二ナトリウム塩
Ｎ−［（２及び４）−［２−（オキソボルン−３−イリデン）メチル］ベンジル］アクリルアミドポリマー
を含む。
【００３２】
特に適したＵＶ吸収体は、
ｐ−メトキシケイ皮酸２−エチルヘキシル
ｐ−メトキシケイ皮酸イソアミル
２−フェニルベンゾイミダゾールスルホン酸
３−（４’−メチルベンジリデン）−ｄ，ｌ−ショウノウ
２−シアノ−３，３’−ジフェニルアクリル酸２−エチルヘキシル
サリチル酸２−エチルヘキシル
４−ｔｅｒｔ−ブチル−４’−メトキシジベンゾイルメタン及びフェニレン−ビス−ベンゾイミダジル−テトラスルホン酸二ナトリウム塩
である。
【００３３】
日焼け止め剤及びＵＶ防護のある昼用保護製品において、例えば、二酸化チタン、酸化亜鉛、及び酸化鉄のような細かく分割された色素と化合物Ｉの組み合わせも可能である。
【００３４】
本発明の化合物は、ＵＶ光に対する低い安定性のＵＶ吸収体の光安定化のためにも特に適している。光に対して非常に不安定であるジベンゾイルメタン化合物の光安定化は、特に成功している。
【００３５】
化粧品において２８０−３８０ｎｍの範囲におけるＵＶ光線に対してヒト皮膚を防護するための光に安定なＵＶフィルターの組み合わせは、重量で１ないし５％の、例えば、４−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メトキシジベンゾイルメタン及び少なくとも重量で１％の式Ｉの化合物を、好ましくはｔｅｒｔ−ブチルメトキシジベンゾイルメタン１に対して式Ｉの化合物を２−４の割合において用いることにより達成される。モル比は、１またはそれより高くなければならない。
【００３６】
別の光に安定なＵＶフィルターの組み合わせは、重量で少なくとも１％の式Ｉの化合物と重量で１−１０％のｐ−メトキシケイ皮酸エチルヘキシルまたはイソアミルを、好ましくは１：１の割合において用いることにより達成される。モル比は、０．８またはそれより高くなければならない。
【００３７】
ｐ−メトキシケイ皮酸エステル及びジベンゾイルメタン誘導体及び式Ｉの化合物の組み合わせは、例えば、重量で１−５％の４−ｔｅｒｔ−ブチル−４’−メトキシジベンゾイルメタン、重量で１−１０％のｐ−メトキシケイ皮酸エチルヘキシルまたはイソアミル、及び重量で少なくとも２％の式Ｉの化合物を、好ましくは、ジベンゾイルメタン誘導体１、ｐ−メトキシケイ皮酸エステル２、及び式Ｉの化合物２の割合において用いることにより、光に安定な形態において調製されることができる。
【００３８】
この３成分の組み合わせに、例えば、メチルベンジリデンカンファー、２−シアノ−３，３’−ジフェニルアクリル酸２−エチルヘキシル、またはオクチルトリアゾンのようなさらに非常に光に安定なＵＶ吸収体がさらに都合よく加えられることができる。
【００３９】
本発明の化合物は、さらに、工業製品の防護のために用いられるＵＶ吸収体と組み合わされることもできる。
【００４０】
そのようなＵＶ吸収体の例は、ベンゾトリアゾール、ベンゾフェノン、トリアジン、ケイ皮酸エステル、及びオキサルアニリドからなる組からの化合物である。
【００４１】
【実施例】
実施例１
【００４２】
【化１０】
0003597347.tif 000007
【００４３】
３２ｇ（０．２ｍｏｌ）の５−メトキシ−１−インダノン、２０ｇ（０．２ｍｏｌ）のシアノ酢酸メチル、１７ｇのプロピオン酸、及び２ｇの酢酸アンモニウムを混合し、この混合物を１２０℃で５時間加熱する。室温まで冷却した後、粗生成物をメタノールから再結晶化する。収量：理論の６０％；Ｅ１／１１２６８（λｍａｘ  ３４５ｎｍ）。
【００４４】
実施例２
【００４５】
【化１１】
0003597347.tif 000008
【００４６】
３，３，６−トリメチル−１−インダノン及びシアノ酢酸イソアミルを実施例１と同様に反応させる。収量：理論の７０％；Ｅ１／１５６６（λｍａｘ  ３３２ｎｍ）／Ｅ１／１５５１（λｍａｘ  ３０９ｎｍ）。
【００４７】
実施例３
【００４８】
【化１２】
0003597347.tif 000009
【００４９】
３，３，４，６−テトラメチル−５−メトキシ−１−インダノン及びシアノ酢酸メチルを実施例１と同様に反応させる。収量：理論の７０％；Ｅ１／１８００（λｍａｘ  ３３８ｎｍ）。
【００５０】
実施例４
【００５１】
【化１３】
0003597347.tif 000010
【００５２】
０．１ｍｏｌの実施例１からの化合物を、０．２ｍｏｌの無水酢酸及び０．２ｍｏｌの濃硫酸の混合物中で、７０ないし８０℃で３０分間加熱する。室温まで冷却した後、この反応混合物にイソプロパノールを加え、次に沈殿して生じた生成物を吸引で濾過し、乾燥させる。収量：理論の７０％；Ｅ１／１８００（λｍａｘ  ３４５ｎｍ）。
【００５３】
0003597347.tif 000011
0003597347.tif 000012
0003597347.tif 000013
0003597347.tif 000014
【００５４】
【表１】
0003597347.tif 000015
【００５５】
実施例５
0003597347.tif 000016
調製の説明                    
部分Ａ：約８０℃で溶かす。
【００５６】
部分Ｂ：約９０℃に加熱し、撹拌しながら部分Ａに部分Ｂを加える。
【００５７】
部分Ｃ：塊なしに水中にＣａｒｂｏｐｏｌを分散させ、水酸化ナトリウム溶液で中和してゲルを生じ、約６０℃で部分Ａ／Ｂに加える。室温に達するまで撹拌する。
【００５８】
部分Ｄ：約３０℃でエマルジョンに芳香を与え、ｐＨを調べる（６．５ないし        ７．０）。                                      
実施例６
0003597347.tif 000017
調製の説明                    
部分Ａ：約８０℃で溶かす。
【００５９】
部分Ｂ：約９０℃に加熱し、撹拌しながら部分Ａに部分Ｂを加える。
【００６０】
部分Ｃ：塊なしに水中にＣａｒｂｏｐｏｌを分散させ、水酸化ナトリウム溶液で中和してゲルを生じ、約６０℃で部分Ａ／Ｂに加える。室温に達するまで撹拌する。
【００６１】
部分Ｄ：約３０℃でエマルジョンに芳香を与え、ｐＨを調べる（６．５ないし        ７．０）。                                      
Ｄｉｆｆｅｙ及びＲｏｂｓｏｎの方法（「Ａ  ｎｅｗ  ｓｕｂｓｔｒａｔｅ  ｔｏ  ｍｅａｓｕｒｅ  ｓｕｎｓｃｒｅｅｎ  ｐｒｏｔｅｃｔｉｏｎ  ｆａｃｔｏｒｓ  ｔｈｒｏｕｇｈｏｕｔ  ｔｈｅ  ｕｌｔｒａ  ｖｉｏｌｅｔ  ｓｐｅｃｔｒｕｍ」、Ｊ．Ｓｏｃ．Ｃｏｓｍ．Ｃｈｅｍ．４０（３）、１２３−１３３（１９８９））によるインビトロの光防護因子の測定は、１１．０の値を与えた。
【００６２】
実施例７
0003597347.tif 000018
調製の説明                    
部分Ａ：約９０℃で注意深く溶かす。
【００６３】
部分Ｂ：約９５℃に加熱し、次に、撹拌しながら部分Ａに部分Ｂを加える。室温に達するまで撹拌する。
【００６４】
部分Ｃ：約３０℃で部分Ｃを加え、次に均質化する。              
Ｄｉｆｆｅｙ及びＲｏｂｓｏｎの方法（「Ａ  ｎｅｗ  ｓｕｂｓｔｒａｔｅ  ｔｏ  ｍｅａｓｕｒｅ  ｓｕｎｓｃｒｅｅｎ  ｐｒｏｔｅｃｔｉｏｎ  ｆａｃｔｏｒｓ  ｔｈｒｏｕｇｈｏｕｔ  ｔｈｅ  ｕｌｔｒａ  ｖｉｏｌｅｔ  ｓｐｅｃｔｒｕｍ」、Ｊ．Ｓｏｃ．Ｃｏｓｍ．Ｃｈｅｍ．４０（３）、１２３−１３３（１９８９））によるインビトロの光防護因子の測定は、１１．９の値を与えた。
【００６５】
実施例８
0003597347.tif 000019
調製の説明                    
部分Ａ：約８０℃で溶かす。
【００６６】
部分Ｂ：約９０℃に加熱し、撹拌しながら部分Ａに部分Ｂを加える。
【００６７】
部分Ｃ：塊なしに水中にＣａｒｂｏｐｏｌを分散させ、水酸化ナトリウム溶液で中和してゲルを生じ、約６０℃で部分Ａ／Ｂに加える。室温に達するまで撹拌する。
【００６８】
部分Ｄ：約３０℃でエマルジョンに芳香を与え、ｐＨを調べる（６．５ないし        ７．０）。                                      
実施例９
0003597347.tif 000020
調製の説明                    
部分Ａ：約８０℃で溶かす。
【００６９】
部分Ｂ：約９０℃に加熱し、撹拌しながら部分Ａに部分Ｂを加える。
【００７０】
部分Ｃ：塊なしに水中にＣａｒｂｏｐｏｌを分散させ、水酸化ナトリウム溶液で中和してゲルを生じ、約６０℃で部分Ａ／Ｂに加える。室温に達するまで撹拌する。
【００７１】
部分Ｄ：約３０℃でエマルジョンに芳香を与え、ｐＨを調べる（６．５ないし        ７．０）。                                      
実施例１０
0003597347.tif 000021
0003597347.tif 000022
調製の説明                    
部分Ａ：約８０℃で溶かし、次にＥｕｓｏｌｅｘ  ＴＡを注意深く分散させる。
部分Ｂ：Ｖｅｅｇｕｍ及びＮａｔｒｏｓｏｌを含まずに約９０℃に加熱し、次にＶｅｅｇｕｍ及びＮａｔｒｏｓｏｌを分散させ、撹拌しながら部分Ａに部分Ｂを加える。室温に達するまで撹拌する。部分Ｃ：約３０℃で部分        Ｃを加え、次に均質化する。ｐＨを調べる（７．０−７．５）。    
実施例１１
0003597347.tif 000023
調製の説明                    
部分Ａ：（ＺＩＮＣ  ＯＸＩＤＥ  ＮＥＵＴＲＡＬ  Ｈ＆Ｒを含まずに）約９０℃で注意深く溶かす。次に、ＺＩＮＣ  ＯＸＩＤＥＮＥＵＴＲＡＬＨ＆Ｒを注意深く分散させる。
【００７２】
部分Ｂ：約９５℃に加熱し、次に撹拌しながら部分Ａに部分Ｂを加える。室温に達するまで撹拌する。
【００７３】
部分Ｃ：約３０℃で部分Ｃを加え、次に均質化する。              
実施例１２
0003597347.tif 000024
調製の説明                    
全ての成分を注意深く混合する。                            
実施例１３
0003597347.tif 000025
調製の説明                    
部分Ａ：水に内容物を溶解する。
【００７４】
部分Ｂ：（Ｐｅｒｍｕｌｅｎ及びＣａｒｂｏｐｏｌを含まずに）全ての成分を混合する。穏やかに加熱しながら、ＮＥＯ  ＨＥＬＩＯＰＡＮＲ  ＭＢＣ（商標）及び式（Ｉ）のＵＶ吸収体を溶解する。Ｃａｒｂｏｐｏｌ及びＰｅｒｍｕｌｅｎを分散させる。次に部分Ａに部分Ｂを加え、激しく４５分間撹拌する。
【００７５】
部分Ｃ：撹拌しながら、部分Ａ／Ｂにトリエタノールアミンを加える。生成物が        均質になるまで、撹拌を続ける。ｐＨを調べる（約７．０）。        
実施例１４
0003597347.tif 000026
調製の説明                    
部分Ａ：穏やかに加熱しながら、ＮＥＯ  ＨＥＬＩＯＰＡＮＲ  Ｅ  １０００（商標）及びＰｈｅｎｏｎｉｐ中にＵＶ吸収体を溶解し、次にＡｒｌａｔｏｎｅ  Ｇ及び芳香油を加え、完全に混合する。残りの成分を計量する。
【００７６】
部分Ｂ：撹拌しながら、ポリマーを水に溶解し、残りの成分を加え、溶解する。        部分Ａに部分Ｂを加え、撹拌する（ｐＨを調べる、約５．５）。    
以下、本発明の主要な態様を列挙する。
【００７７】
１．式、
【００７８】
【化１４】
0003597347.tif 000027
【００７９】
式中、
Ｒ１ないしＲ４、Ｒ３’、Ｒ３”、Ｒ４’、及びＲ４”は、隣り合ったＣ原子上の２つの置換基が一緒に、場合によっては置換されたＣ１−Ｃ４−アルキレン基、特にＣ３−Ｃ４−アルキレンを示すこともでき、その際にメチレン基が−Ｏ−、−Ｓ−、または−ＮＨ−により置換されることができるという条件で、互いに独立して、水素、Ｃ１−Ｃ８−アルキル、またはＣ５−Ｃ１０−シクロアルキルを示し、そしてさらに互いに独立して、Ｃ１−Ｃ４−アルコキシ、ヒドロキシル、カルボキシル、カルボアルコキシ、またはカルバモイルを示し、
Ｒ５ないしＲ８は互いに独立して、Ｒ１、Ｒ２、またはスルホもしくはアミノスルホニルの意味を有し、
Ｘ及びＹは互いに独立して、Ｒ９及びＲ１０が互いに独立して、水素、Ｃ１ないしＣ８−アルキル、またはＣ５−Ｃ１０−シクロアルキル、及びさらにこれらの基の一つを表す、ＣＮ、ＣＯ２Ｒ９、ＣＯ２ＮＲ９Ｒ１０、またはＣＯＲ９を示し、
ＸまたはＹは加えて、Ｃ１−Ｃ８−アルキル基、Ｃ５−Ｃ１０−アリール基、特にフェニル、またはＮ、Ｏ、及びＳからなる組からの１または２個のヘテロ原子を含む５ないし６員のヘテロアリール基を示し、あるいは、
Ｘ及びＹは、これらが結合するβ原子と共に、３個までのヘテロ原子、特に酸素及び／または窒素を含む５ないし７員の環を示し、この環の原子が、特に環外の二重結合酸素（ケト基）により、好ましくはβ原子に隣り合った位置において置換されることができ、そして、
ｎ及びｍは互いに独立して、０または１を示す、
の化合物のＵＶ吸収体としての使用。
【００８０】
２．式、
【００８１】
【化１５】
0003597347.tif 000028
【００８２】
式中、Ｘ及びＹは上記１において与えられた意味を有する、の化合物の上記１に記載の使用。
【００８３】
３．式、
【００８４】
【化１６】
0003597347.tif 000029
【００８５】
式中、
Ｒ１、Ｒ２、及びＲ３は、各場合において互いに独立して同一または異なることができ、そして水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、ニトロ基、シアノ基、または一価の場合によっては置換された有機基を示し、そして、
Ｒ４は、水素、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、または一価の場合によっては置換された有機基を示し、そして
Ｒ５は、同一または異なることができ、そしてハロゲン原子、ヒドロキシル基、ニトロ基、シアノ基、または一価の場合によっては置換された有機基を示す、の化合物を除いた、上記１に記載の式（Ｉ）の化合物。
【００８６】
４．Ｒ１ないしＲ８並びにｍ及びｎは、上記１において与えられた意味を有する式、
【００８７】
【化１７】
0003597347.tif 000030
【００８８】
の化合物の、Ｘ及びＹは上記１において与えられた意味を有する式、
【００８９】
【化１８】
0003597347.tif 000031
【００９０】
の化合物との縮合による、上記３に記載の化合物の製造方法。