(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
スクリューを回転自在且つ前後進可能に加熱筒に収納し、この加熱筒をシリンダブロックに取付け、このシリンダブロックに前記スクリューを前後進させるピストンを収納するとともに前記スクリューを廻す回転手段を設けてなる射出装置において、前記シリンダブロックに、前記ピストンを収納するシリンダ室と、このシリンダ室から突出するピストンロッド前部を収納すると共に前記スクリューとピストンロッド先端の連結部を囲う中間室とを設け、この中間室を密閉構造にし、この中間室と前記ピストロッド前部とで往復動型ガス吸引ポンプ若しくはガス注入ポンプを形成し、ガス吸引ポンプで加熱筒内の原料から発生するガスを吸引し若しくはガス注入ポンプで加熱筒内へ不活性ガスなどのガス注入することができるようにしたことを特徴とするガス吸引ポンプ若しくはガス注入ポンプを備える射出装置。
【請求項２】
スクリューを回転自在且つ前後進可能に加熱筒に収納し、この加熱筒を保持盤に取付け、この保持盤からタイバーを延ばし、このタイバーに移動盤を移動自在に取付け、この移動盤に前記スクリューを取付けることで射出工程時にスクリューを高速で前進させることができるようにした射出装置において、前記移動盤にピストンを取付け、前記保持盤にシリンダを取付け、このシリンダを加熱筒に連通路で連通し、前記ピストンとシリンダとで往復動型ガス吸引ポンプ若しくはガス注入ポンプを形成し、ガス吸引ポンプで加熱筒内の原料から発生するガスを吸引し若しくはガス注入ポンプで加熱筒内へ不活性ガスなどのガス注入することができるようにしたことを特徴とするガス吸引ポンプ若しくはガス注入ポンプを備える射出装置。
【請求項３】
スクリューを回転自在に且つ前後進可能に加熱筒に収納した射出装置と、可動盤にて金型を固定盤に押圧する型締め装置と、からなる射出成形機構において、前記可動盤にピストンを取付け、前記固定盤にシリンダを取付け、このシリンダを加熱筒に連通路で連通し、前記ピストンとシリンダとで往復動型ガス吸引ポンプ若しくはガス注入ポンプを形成し、ガス吸引ポンプで加熱筒内の原料から発生するガスを吸引し若しくはガス注入ポンプで加熱筒内へ不活性ガスなどのガス注入することができるようにしたことを特徴とするガス吸引ポンプ若しくはガス注入ポンプを備える射出成形機構。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は射出装置や射出成形機構の改良に関する。
【０００２】
【従来の技術】
射出成形機構ではスクリューを内蔵した加熱筒に原料を投入し、この原料を可塑化・計量したのちに一気に金型へ射出する。
可塑化の際に熱にて溶融化した樹脂、特にそれの添加物からガスが発生することがある。このガスは気泡として成形品に残るなど製品欠陥を招く。そこで、発生したガスを外へ排出するところのガス吸引ポンプが必要となる。
【０００３】
また、可塑化・計量の際に原料中若しくは金型に空気、すなわち酸素が残っていると、射出の際に酸化反応が進み成形品にヤケと称する欠陥が発生する。このヤケを防止するには、ガス注入ポンプで不活性ガス若しくは非酸化性ガスを加熱筒へ注入して酸素を追い出すことが有効である。
【０００４】
ガス吸引ポンプに関する発明としては、例えば特開平４−２３８０１１号公報「射出成形機」が提案され、この発明は同公報の図３に示される真空ポンプ２９でガスを強制的に吸引するものである。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
上記公報の様に脱気や排気を真空ポンプで行うことは広く知られている。しかし、真空ポンプは比較的高価な設備である。そして、全体的には真空ポンプ２９をモータ２８とともにベッドに載せたユニットになるため、このユニットは比較的大きなものとなり、射出成形機構の脇に床置きすれば邪魔になりやすく、射出装置や射出成形機構に組込むと射出装置や射出成形機構が大型になる。何れも工場の床面積の活用の点で課題が残る。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、真空ポンプに代わる簡便型のガス吸引ポンプを各種試作し、試験したところ、真空ポンプほどには高い真空度は得られないが、簡便型のガス吸引ポンプであっても成形品に予想される気泡の発生を許容できる範囲に抑えることができることを見出した。すなわち、構造が簡単で低い真空度しか得られないガス吸引ポンプを採用することにより、工場の床面積の無駄な使用を回避することができる。ガス吸引ポンプの出入口を替えることによりガス注入ポンプを得ることができる。従って、本発明は、射出装置や射出成形機構に好適なガス吸引ポンプ並びにガス注入ポンプを提供することに成功した。その具体的手段は次の通りである。
【０００７】
請求項１は、スクリューを回転自在且つ前後進可能に加熱筒に収納し、この加熱筒をシリンダブロックに取付け、このシリンダブロックに前記スクリューを前後進させるピストンを収納するとともに前記スクリューを廻す回転手段を設けてなる射出装置において、前記シリンダブロックに、前記ピストンを収納するシリンダ室と、このシリンダ室から突出するピストンロッド前部を収納すると共に前記スクリューとピストンロッド先端の連結部を囲う中間室とを設け、この中間室を密閉構造にし、この中間室と前記ピストロッド前部とで往復動型ガス吸引ポンプ若しくはガス注入ポンプを形成し、ガス吸引ポンプで加熱筒内の原料から発生するガスを吸引し若しくはガス注入ポンプで加熱筒内へ不活性ガスなどのガス注入することができるようにしたことを特徴とする。
【０００８】
請求項２は、スクリューを回転自在且つ前後進可能に加熱筒に収納し、この加熱筒を保持盤に取付け、この保持盤からタイバーを延ばし、このタイバーに移動盤を移動自在に取付け、この移動盤に前記スクリューを取付けることで射出工程時にスクリューを高速で前進させることができるようにした射出装置において、前記移動盤にピストンを取付け、前記保持盤にシリンダを取付け、このシリンダを加熱筒に連通路で連通し、前記ピストンとシリンダとで往復動型ガス吸引ポンプ若しくはガス注入ポンプを形成し、ガス吸引ポンプで加熱筒内の原料から発生するガスを吸引し若しくはガス注入ポンプで加熱筒内へ不活性ガスなどのガス注入することができるようにしたことを特徴とする。
【０００９】
請求項３は、スクリューを回転自在に且つ前後進可能に加熱筒に収納した射出装置と、可動盤にて金型を固定盤に押圧する型締め装置と、からなる射出成形機構において、前記可動盤にピストンを取付け、前記固定盤にシリンダを取付け、このシリンダを加熱筒に連通路で連通し、前記ピストンとシリンダとで往復動型ガス吸引ポンプ若しくはガス注入ポンプを形成し、ガス吸引ポンプで加熱筒内の原料から発生するガスを吸引し若しくはガス注入ポンプで加熱筒内へ不活性ガスなどのガス注入することができるようにしたことを特徴とする。
【００１０】
【発明の実施の形態】
本発明の実施の形態を添付図に基づいて以下に説明する。なお、図面は符号の向きに見るものとする。
図１は本発明に係るガス吸引ポンプ又はガス注入ポンプを備えた射出装置（第１実施例）の構成図であり、射出装置１０は、スクリュー１１を回転自在且つ前後進可能に加熱筒１２に収納し、この加熱筒１２をシリンダブロック１３に取付け、このシリンダブロック１３にスクリュー１１を前後進させるピストン（図３で説明する。）を収納するとともにスクリュー１１を廻す回転手段１４を設けてなる装置を基本にし、シリンダブロック１３に、ピストンを収納するシリンダ室１５（図４で詳しく説明する。）と、このシリンダ室１５に隣接する中間室１６（図３で詳しく説明する。）とを設け、この中間室１６を密閉構造にするとともに中間室１６から第１配管１７を延ばして三方弁１８に繋げ、この三方弁１８の他の口から第２配管１９及び第３配管２１を延ばし、第３配管２１にガス容器２２を連結し、中間室１６の近傍に計量機構３０を設け、且つ加熱筒１２の基部に原料供給装置４０を設けたものである。
【００１１】
図２は図１の２−２線断面図（平面断面図）であり、本例では既存の中間室（非密閉構造）の開口を蓋２３，２４で塞ぐことで気密構造の中間室１６に改良した。この中間室１６に組込む計量機構３０は次の構成とした。
【００１２】
計量機構３０は、基本的にスクリュー１１のストロークを検知する機構であり、ピストンロッド２５の前面にリテーナ２６を取付け、このリテーナ２６にベアリング３１を介して取付けた計量板３２と、この計量板３２に取付ける第１ロッド３３と、この第１ロッド３３の先端に取付けたコネクタープレート３４と、このコネクタープレート３４から前記第１ロッド３３に平行に延ばした第２ロッド３５と、この第２ロッド３５の移動量を計測するエンコーダ３６と、このエンコーダ３６をカバーする保護カバー３７とからなる。
【００１３】
３８は既存の中間室（非密閉構造）を模様替えするために取付けたフレーム枠、３９ａはＯ−リング、３９ｂ・・・（・・・は複数個とを示す。以下同様。）はガスケット、３９ｃは抜け止めリングである。
第１ロッド３３がフレーム枠３８を貫通するが、Ｏ−リング３９ａのシール作用で、中間室１６の気密を保つことができる。
【００１４】
図３は図２の３−３線断面図であり、シリンダブロック１３に開けた左右開口を蓋２３，２４で閉じて、密閉構造にした中間室１６にスクリュー１１、計量板３２などを収納したことを示す。
【００１５】
図４（ａ），（ｂ）は本発明に係る吸引ポンプ若しくはガス注入ポンプ（第１実施例）の構造図兼作用図である。
（ａ）において、シリンダブロック１３に中間室１６とシリンダ室１５とを隣接して設け、シリンダ室１５にピストン２９を収納し、このピストン２９から延びるピストンロッド２５の前部を中間室１６に進入させた構造を示す。ピストン２９及びピストンロッド２５を距離Ｌｐだけ前進させたものが次の（ｂ）である。
【００１６】
（ｂ）は射出工程後の状態を示す図であり、中間室１６にピストンロッド２５の前部が大きく進入して、中間室１６の内部体積を減少させたことになる。すなわち、中間室１６とピストンロッド２５の前部とで、往復動型ポンプが形成できたことになる。
以上に説明した往復動型ポンプ（第１実施例）の作用は図１１以降で説明する。
【００１７】
図５は本発明の射出装置に付属した原料供給装置の断面図であり、原料供給装置４０は、筒４１を下フランジ４２及び上フランジ４３で挟んでなる第１筒体４４と、上フランジ４３に添えた厚肉ブロック４５に載せたホッパ４６と、このホッパ４６を第２筒体４７と第３筒体４８とに区分すべくホッパ４６内に付属したアタッチメント５０（円筒部５１と円錐部５２とからなる。）と、第１筒体４４における原料が所定のレベルまで下がった（減った）ことを検知する第１レベルセンサ２７と、第２筒体４７に原料が十分に溜まったことを検知する第２レベルセンサ２８と、厚肉ブロック４５を弁箱として構成した仕切弁５４（厚肉ブロック４５に開けた孔５５とほぼ同形の柱状弁体部５６と、孔５５より大きな傘状弁体部５７とからなる。）と、この仕切弁５４から上へ延ばしたステム５８と、このステム５８を昇降させるためにホッパ４６の上蓋５９に取付けた弁開閉シリンダ６０と、この弁開閉シリンダ６０のピストンロッド６１と前記ステム５８とを連結する連結ロッド６２と、この連結ロッド６２に昇降可能に取付けたスカート６３と、このスカート６３を下方へ付勢するスプリング６４と、前記スカート６３に収る径で且つステム５８の上部小径部６５に昇降可能に取付けた軟質ディスク６６及び硬質ディスク６７（軟質ディスク６６より大径の円板）と、からなる。
【００１８】
上記仕切弁５４は厳密には単座弁若しくはグローブ弁に分類されるものである。しかし、本発明では、仕切弁５４はゲートバルブと称する狭義の仕切弁ではなく、第１筒体４４から第２筒体４７を仕切ることのできる弁と定義する。すなわち、本発明で採用する仕切弁は、ゲートバルブ、単座弁、グローブ弁、バタフライ弁、ボール弁、ロータリ弁又は同等の締切性能があれば弁の種類は問わない。
【００１９】
なお、６８はバルブシート、６９はシート押え、７１は保護板（軟質ディスク６６より小径であり、硬質ディスク６７と共に軟質ディスク６６をサンドイッチする部材）、７２はスプリング保護筒、７３は原料投入口である。
また以下の説明に必要になるので、７４は柱状弁体部５６のコーナー、７５はステム５８の段部、７６は連結ロッド６２の下面と定める。
【００２０】
以上の構成からなる原料供給装置の作用を図６〜図１０で説明する。
図６は本発明で採用した原料供給装置の作用説明図（その１）であり、弁開閉シリンダ６０の引き上げ作用により、傘状弁体部５７がバルブシート６８に当り、柱状弁体部５６が厚肉ブロック４５にほぼ収り、段部７５に保護板７１が掛り、この保護板７１で軟質ディスク６６並びに硬質ディスク６７の下降を規制し、この様な硬質ディスク６７にスカート６３が載ることでスカート６３の下降が規制されている状態を示す。
【００２１】
すなわち、図では仕切弁５４は閉であるが、スカート６３とアタッチメント５０との間に隙間Ｃ１がある。
第１筒体４４の原料７７は白抜き矢印の如く徐々に下り、一方、原料投入口７３から送り込んだ原料７８は第３筒体４８を通過し、隙間Ｃ１を通って、第２筒体４７に至る。第２筒体４７に原料４８が充満したことを第２レベルセンサ２８で検知できたら、弁開閉シリンダ６０のピストンロッド６１を寸法Ｌ１（このＬ１は孔５５の長さに相当する。）だけ前進（下降）させる。前進結果を次図に示す。
【００２２】
図７は本発明で採用した原料供給装置の作用説明図（その２）であり、傘状弁体部５７がバルブシート６８から離れたが、柱状弁体部５６のコーナー７４は孔５５から外れていない。コーナー７４のシール作用により、第１筒体４４内部を減圧状態又は加圧状態に保つことができる。
この間にも第１筒体４４内の原料７７は徐々に下がる。この原料７７の上面が第１レベルセンサ２７に達したら、第１筒体４４に一定の体積Ｖ（第２筒体４７に溜めた原料の体積相当）を超える空間が出来たと看做して、弁開閉シリンダ６０のピストンロッド６１を更に前進（下降）させる。更なる前進の結果を次図で説明する。
【００２３】
図８は本発明で採用した原料供給装置の作用説明図（その３）であり、傘状弁体部５７及び柱状弁体部５６は下降途中ではあるが、孔５５からコーナー７４が外れたために、第２筒体４７の原料が第１筒体４４へ落下し始める。同時に、スカート６３がアタッチメント５０に当り、第３筒体４８から第２筒体４７への原料の流れは止まる。
【００２４】
図９は本発明で採用した原料供給装置の作用説明図（その４）であり、仕切弁５４が全開状態、すなわちステム５８が一杯に下がった状態を示す。連結ロッド６２の下面７６の下向き押し作用により、軟質ディスク６６が円錐部５２に密着するため、第３筒体４８と第２筒体４７とを軟質ディスク６６で仕切ったことになり、このシール作用により第１筒体４４における減圧状態若しくは加圧状態は良好に保たれる。
そして、第２筒体４７の原料が全て第１筒体４４へ落下したときには、第２筒体４７及びバルブシート６８の付近は空の状態になる。ここで、仕切弁５４を閉じても柱状弁体部５６とバルブシート６８との間に異物（ここでは原料）が噛み込む心配はない。仕切弁５４及びステム５８を距離Ｌ２だけ上げた結果を次図で示す。
【００２５】
図１０は本発明で採用した原料供給装置の作用説明図（その５）であり、まだ段部７５が保護板７１より下位にあるため軟質ディスク６６は円錐部５２に当ったままでシール作用は有効である。加えて、柱状弁体部５６のコーナー７４が孔５５に掛っているため、ここでもシール作用が発生する。従って、第１筒体４４における減圧状態若しくは加圧状態は良好に保たれる。さらに、ステム５８が上がれば軟質ディスク６６は円錐部５２から離れるが、替りに柱状弁体部５６でのシール作用は強くなる。この後は図６に戻る。
【００２６】
以上に述べた第１筒体４４は仕切弁５４の締切作用により気密状態に保つことができる。第１筒体４４が、外に対して非連通状態に保てれば加熱筒１２内を減圧して原料から発生するガスを吸引すること、若しくは加圧ガスを加熱筒１２内へ注入して酸素を押出しヤケの発生を防止することができる。この様な気密性能を有する第１筒体４４と対（セット）で使用すると有効であるガス吸引ポンプ若しくはガス注入ポンプの作用を次に説明する。
【００２７】
図１１（ａ）〜（ｃ）は図２の作用説明図（その１）である。
（ａ）は、射出が完了し、ピストンロッド２５が最も前進した時の状態を示す。この直後に三方弁１８を全閉にする。
（ｂ）は、計量工程でピストンロッド２５が想像線の位置から実線の位置まで後退したことを示し、ピストンロッド２５の径をＤｐ、ストロークをＬｐとすれば中間室１６の体積は（π・Ｄｐ２／４）×Ｌｐだけ増加することになる（ただし、スクリュー分は無視した。）。この（π・Ｄｐ２／４）×Ｌｐに見あうだけ加熱筒内からＱｇの量のガスを吸引することができる。そして、射出工程の開始時に、第１配管１７から第２配管１９にのみ連通する状態に三方弁１８を開く。
【００２８】
（ｃ）で、射出工程でピストンロッド２５を前進させると、このピストンロッド２５の圧縮作用により、前記Ｑｇの量に相当するガスを第１・第２配管１７，１９を通じて排出することができる。
以上の要領で加熱筒内で発生するガスを、中間室１６及びピストンロッド２５で構成したポンプ、すなわち往復動型ガス吸引ポンプＰｖで、排出することができる。
【００２９】
なお、（ｃ）に至るときに中間室１６内部のガスが加熱筒へ戻るか否かを検討する。（ｃ）において、第１配管１７、三方弁１８及び第２配管１９からなる排出路の流路抵抗に対して、図４（ｂ）に示す加熱筒１２内面とスクリュー１１との間の流路抵抗は十分に大きい。この結果、加熱筒１２へはガスが殆ど戻らず、戻ったとしても許容できる程度の微量に留めることができるから、実用的には問題は発生しない。しかし、加熱筒１２へのガスの戻りを完全に防止する必要があれば次の構造を採用すればよい。
【００３０】
図１２は図４（ａ）の変更図であり、加熱筒１２の基部（中間室１６寄り端部）に耐熱性Ｏ−リング８１を介在させて加熱筒１２と中間室１６との間をシールする。代わりに、加熱筒１２と中間室１６とを連通路８２で結び、この連通路８２に逆止弁８３を介設する。
【００３１】
この変更例の作用を説明すると、矢印▲１▼のごとくピストンロッド２５を前進させて、矢印▲２▼のごとく中間室１６のガスを排出する。このときには逆止弁８３は閉じているので、中間室１６のガスが加熱筒１２へ戻ることはない。
矢印▲３▼のごとくピストンロッド２５を後退させると、加熱筒１２のガスは矢印▲４▼の如く連通路８２及び逆止弁８３を通じて中間室１６に至る。
この様な逆止弁８３は、本発明の他の実施例でも適宜採用することは差支えない。
【００３２】
図１３（ａ）〜（ｃ）は図２の作用説明図（その２）である。
（ａ）は、が完了し、ピストンロッド２５が最も前進した時の状態を示す。
（ｂ）で、第３配管２１が第１配管１７に連通するように三方弁１８を切替える。そして、想像線で示すピストンロッド２５を実線で示す位置まで後退させる。これでガス容器２２のガスが矢印▲５▼の如く中間室１６に吸引される。ピストンロッド２５の後退が完了、すなわち実線の位置に至ったら、三方弁１８を全閉に切替える。
【００３３】
（ｃ）で、射出工程に伴なってピストンロッド２５を矢印▲６▼の通りに前進させれば、中間室１６に溜めたガスを矢印▲７▼の如く加熱筒へ押し込むことができる。
以上の要領で中間室１６に溜めたガスを、中間室１６及びピストンロッド２５で構成したポンプ、すなわち往復動型ガス注入ポンプＰａで、押出すことことができる。
【００３４】
図１４は本発明に係るガス吸引ポンプ又はガス注入ポンプを備えた射出装置（第２実施例）の構成図であり、図１で述べた射出装置と同一要素には符号を流用する。
射出装置１０は、スクリュー１１を回転自在且つ前後進可能に加熱筒１２に収納し、この加熱筒１２を保持盤８５に取付け、この保持盤８５からタイバー８６，８６を上へ延ばし、このタイバー８６，８６に移動盤８７を移動自在に取付け、この移動盤８７に前記スクリュー１１を取付けることで射出工程時にスクリュー１１を高速で前進させることができるようにし、前記移動盤８７にピストン８８を取付け、前記保持盤８５にシリンダ８９を取付け、このシリンダ８９を加熱筒１２に連通路８２で連通し、前記ピストン８８とシリンダ８９とで往復動型ガス吸引ポンプＰｖ若しくはガス注入ポンプＰａを形成し、ガス吸引ポンプＰｖで加熱筒１２内の原料から発生するガスを吸引し若しくはガス注入ポンプＰａでガス容器２２のガスを第３配管２１、三方弁１８及び第１配管１７を通じて加熱筒１２内へ注入することができるようにしたことを特徴とする。
【００３５】
詳細には移動盤８７に、スクリュー１１を廻すスクリュー回転モータ９１を取付けると共に大きなナット９２を取付けることで、移動盤８７、スクリュー回転モータ９１、ナット９２、スクリュー１１及びピストン８８を共に移動する第１の移動体とする。
【００３６】
加熱筒１２を支える保持盤８５からタイバー８６，８６を延ばし、これらのタイバー８６，８６の先端（上端）を上部盤９３に連結し、この上部盤９３に送りねじ９４を回転自在に取付けると共にこの送りねじ９４を廻す射出用モータ９５を取付けることで、保持盤８５、加熱筒１２、連通路８２、シリンダ８９、タイバー８６，８６、送りねじ９４及び射出用モータ９５を共に移動する第２の移動体とする。
【００３７】
そして、型締め装置の可動盤（又は固定盤）９６に支柱９７，９７を立て、これら支柱９７，９７に前記保持盤８５並びに上部盤９３を昇降可能に取付け、支柱９７，９７の上端にトッププレート９８を渡し、このトッププレート９８に射出装置移動用モータ９９を取付け、この射出装置移動用モータ９９でねじ軸１０１，１０１を廻すことで、支柱９７，９７に沿って、前記第２の移動体（保持盤８５など）を昇降させる。
【００３８】
さらには、射出用モータ９５で送りねじ９４を廻し、この送りねじ９４でナット９２を昇降し、移動盤８７並びにスクリュー１１を昇降させることができる。すなわち、第２の移動体（加熱筒１２など）を基準に第１の移動体（スクリュー１１など）を昇降させことができる。
【００３９】
図１５（ａ），（ｂ）は図１４に示したガス吸引ポンプ若しくはガス注入ポンプの作用説明図である。
（ａ）において、保持盤８５にシリンダ８９を取付け、移動盤８７にピストン８８を取付けた上で、三方弁１８を閉じておき、計量工程に伴なって移動盤８７を図右へ移動させる。この移動により、連通路８２を通じて加熱筒１２内からガスを吸引することができる。
（ｂ）において、三方弁１８を切替えると共に、射出工程に伴なって移動盤８７を図左へ移動させる。この移動により、シリンダ８９に溜めたガスを三方弁１８を通じて矢印▲８▼のごとく排出するさせることができる。
従って、シリンダ８９及びピストン８８でガス吸引ポンプＰｖを構成できたことになる。
【００４０】
図１４に戻って、三方弁１８を切換え、ガス容器２２からガスをシリンダ８９へ供給し、三方弁１８を閉じた上でシリンダ８９に溜めたガスを連通路８２を通じて加熱筒１２へ押込めば、シリンダ８９及びピストン８８でガス注入ポンプＰａが構成できたことになる。
【００４１】
シリンダ８９及びピストン８８で構成したガス注入ポンプＰａ又はガス吸引ポンプＰｖの駆動源を、既存の保持盤８５及び移動盤８７の相対移動で賄うようにしたことを特徴とする。加えて、別置きの本格的な真空引き装置に比較して、ガス注入ポンプＰａ又はガス吸引ポンプＰｖの大幅なコンパクト化が図れる。
【００４２】
図１６は本発明に係るガス吸引ポンプ又はガス注入ポンプを備えた射出成形機構の構成図であり、射出成形機構１１０は、スクリュー１１を回転自在に且つ前後進可能に加熱筒１２に収納し、この加熱筒１２に原料供給装置４０を備えた射出装置１０と、可動盤１１１にて金型１１２を固定盤１１３に押圧する型締め装置１１４と、からなり、可動盤１１１にピストン８８を取付け、固定盤１１３にシリンダ８９を取付け、このシリンダ８９を加熱筒１２に連通路８２で連通し、ピストン８８とシリンダ８９とで往復動型ガス吸引ポンプＰｖ若しくはガス注入ポンプＰａを形成し、ガス吸引ポンプＰｖで加熱筒１２内の原料から発生するガスを吸引し若しくはガス注入ポンプＰａで加熱筒１２内へ不活性ガスなどのガス注入することができるようにしたことを特徴とする。１１５は圧受盤、１１６は型締めシリンダ、１１７は型締めピストン、１１８，１１８はタイバーである。
【００４３】
三方弁１８の切換え及びガス吸引ポンプＰｖ、ガス注入ポンプＰａの作用は図１５で説明したものと同じであるから作用説明は省略する。
可動盤１１１にピストン８８を取付け、固定盤１１３にシリンダ８９を取付けるだけでガス注入ポンプＰａ又はガス吸引ポンプＰｖを構成できた。別置きの本格的な真空引き装置に比較して、ガス注入ポンプＰａ又はガス吸引ポンプＰｖの大幅なコンパクト化が図れる。
【００４４】
尚、連通路８２は図１５で示す様な保持盤８５に開けたもの、図１２や図１６で示す配管であってもよい。
また、三方弁１８は一例を示したものであり、例えばＴ字配管又はＹ字配管の２つの枝に各々二方弁又は逆止弁を設け、これらの二方弁又は逆止弁を選択的に開閉すれば三方弁と同じ機構をつくることができる。従って、三方弁１８は他の機器に置き換えることは差支えない。
さらには、図１４で述べた射出装置１０は縦型装置であったが、横型装置であっても差支えない。
【００４５】
【発明の効果】
本発明は上記構成により次の効果を発揮する。
請求項１では、スクリュー後端とピストンロッド先端の連結部を囲う中間室を密閉構造にし、中間室とピストンロッド先端とで、加熱筒からガスを吸引するガス吸引ポンプ又は不活性ガスなどのガスを加熱筒へ注入するガス注入ポンプを構成した。
既存の射出装置に蓋を追加し且つ従来の計量装置を修正する程度の改良でガス吸引ポンプ又はガス注入ポンプを構成することができる。従来の別置き型で且つ本格的な真空ポンプユニットに比べ、本発明のガス吸引ポンプ又はガス注入ポンプは、射出装置のシリンダブロックに一体形成可能であり、射出成形機構の大型化並びに工場の床面積の拡大を効果的に防止することができる。
【００４６】
請求項２では、スクリューを移動させる移動盤にピストンを取付け、加熱筒を干しする保持盤にシリンダを取付け、このシリンダを加熱筒に連通路で連通し、ピストンとシリンダとでガス吸引ポンプ若しくはガス注入ポンプを構成したものである。
既存の射出装置の保持盤及び移動盤を巧みに利用し、これらを駆動源としてガス吸引ポンプ若しくはガス注入ポンプを駆動できるので、ガス吸引ポンプ若しくはガス注入ポンプの駆動源を別途準備する必要はなく、射出成形機構を据える工場の床面積の拡大を効果的に防止することができる。
【００４７】
請求項３では、型締め装置の可動盤にピストンを取付け、型締め装置の固定盤にシリンダを取付け、このシリンダを加熱筒に連通路で連通し、ピストンとシリンダとでガス吸引ポンプ若しくはガス注入ポンプを構成したものである。
既存の型締め装置の固定盤及び可動盤を巧みに利用し、これらを駆動源としてガス吸引ポンプ若しくはガス注入ポンプを駆動できるので、ガス吸引ポンプ若しくはガス注入ポンプの駆動源を別途準備する必要はなく、射出成形機構を据える工場の床面積の拡大を効果的に防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に係るガス吸引ポンプ又はガス注入ポンプを備えた射出装置（第１実施例）の構成図
【図２】図１の２−２線断面図
【図３】図２の３−３線断面図
【図４】本発明に係る吸引ポンプ若しくはガス注入ポンプ（第１実施例）の構造図兼作用図
【図５】本発明の射出装置に付属した原料供給装置の断面図
【図６】本発明で採用した原料供給装置の作用説明図（その１）
【図７】本発明で採用した原料供給装置の作用説明図（その２）
【図８】本発明で採用した原料供給装置の作用説明図（その３）
【図９】本発明で採用した原料供給装置の作用説明図（その４）
【図１０】本発明で採用した原料供給装置の作用説明図（その５）
【図１１】図２の作用説明図（その１）
【図１２】図４（ａ）の変更図
【図１３】図２の作用説明図（その２）
【図１４】本発明に係るガス吸引ポンプ又はガス注入ポンプを備えた射出装置（第２実施例）の構成図
【図１５】図１４に示したガス吸引ポンプ若しくはガス注入ポンプの作用説明図
【図１６】本発明に係るガス吸引ポンプ又はガス注入ポンプを備えた射出成形機構の構成図
【符号の説明】
１０…射出装置、１１…スクリュー、１２…加熱筒、１３…シリンダブロック、１４…回転手段、１５…シリンダ室、１６…中間室、１９…三方弁、２２…ガス容器、２３，２４…蓋、２５…ポンプを構成するピストンロッド、２９…ピストン、３０…計量機構、４０…原料供給装置、８２…連通路、８５…保持盤、８６…タイバー、８７…移動盤、８８…ポンプを構成するピストン、８９…ポンプを構成するシリンダ、１１０…射出成形機構、１１１…可動盤、１１２…金型、１１３…固定盤、１１４…型締め装置、Ｐｖ…ガス吸引ポンプ、Ｐａ…ガス注入ポンプ。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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