(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
下部シールド層と、この下部シールド層上に下部ギャップ層を介して形成された磁気抵抗効果素子層と、この磁気抵抗効果素子層上に上部ギャップ層を介して形成された上部シールド層とを備え、この上部シールド層の上方あるいは前記下部シールド層の下方のうちの少なくとも一方にはマーキング層が前記磁気抵抗効果素子層と対向して配設され、記録媒体が摺動する媒体摺動面に前記磁気抵抗効果素子層および前記マーキング層の各先端部が露出されており、前記マーキング層の先端部は、前記記録媒体の摺動方向と交差する幅方向の寸法が、前記磁気抵抗効果層の先端部から後端部までの寸法に等しく形成されているとともに、前記マーキング層の前記幅方向の中央部が、前記磁気抵抗効果素子層の前記幅方向の中央部を通り前記磁気抵抗効果素子層に直交する直線上に位置していることを特徴とする磁気抵抗効果ヘッド。
【請求項２】
下部シールド層と、この下部シールド層上に下部ギャップ層を介して形成された磁気抵抗効果素子層と、この磁気抵抗効果素子層上に上部ギャップ層を介して形成された上部シールド層とを備え、この上部シールド層の上方あるいは前記下部シールド層の下方のうちの少なくとも一方にはマーキング層が前記磁気抵抗効果素子層と対向して配設され、記録媒体が摺動する媒体摺動面に前記磁気抵抗効果素子層および前記マーキング層の各先端部が露出されており、前記マーキング層は、その先端部から後端部に向かうに従い前記記録媒体の摺動方向と交差する幅方向の寸法が一定の割合で変化するように形成されているとともに、前記磁気抵抗効果素子層の前記幅方向の中央部を検出するために前記マーキング層に設けられたマーカ部が、前記磁気抵抗効果素子層の前記幅方向の中央部を通り前記磁気抵抗効果素子層に直交する直線上に位置していることを特徴とする磁気抵抗効果ヘッド。
【請求項３】
前記マーキング層は、前記上部・下部両シールド層と同一材料にて形成され、前記上部・下部両シールド層のうちの少なくとも一方に直接形成されていることを特徴とする請求項１又は２に記載の磁気抵抗効果ヘッド。
【請求項４】
基板上に、下部シールド層，下部ギャップ層，磁気抵抗効果素子層，上部ギャップ層，上部シールド層を順次積層した構造を有する積層体を形成する工程と、
前記基板の一端部側から見て前記磁気抵抗効果素子層の幅方向における中央部の位置を検出するためのマーカ部が設けられ、前記基板の一端部から他端部に向かうに従い前記幅方向の寸法が一定の割合で変化するマーキング層を、前記積層体の上面あるいは下面のうちの少なくとも一方に形成する工程と、
前記マーカ部を用いて前記磁気抵抗効果素子の前記幅方向の中央部に研磨シートの前記幅方向の中央部を位置合わせした状態で、前記基板の一端部を前記積層体と共に研磨して記録媒体が摺動する円弧状の媒体摺動面を形成し、この媒体摺動面に前記マーキング層を前記幅方向の寸法が前記磁気抵抗効果素子層の先端部から後端部までの寸法に対応する所定の値となるように露出させることにより、前記媒体摺動面の円弧頂部に前記磁気抵抗効果素子層の先端部を露出させる工程と、を有することを特徴とする磁気抵抗効果ヘッドの製造方法。
【請求項５】
前記マーキング層に前記一端部から前記基板の他端部に向かって延びる長孔を形成し、この長孔を前記マーカ部としたことを特徴とする請求項４に記載の磁気抵抗効果ヘッドの製造方法。
【請求項６】
前記マーキング層を、前記基板の一端部側から他端部側に向かって延び前記幅方向における前記磁気抵抗効果素子層の中央部を通る一辺を有する直角三角形状に形成し、この一辺を前記マーカ部としたことを特徴とする請求項４に記載の磁気抵抗効果ヘッドの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、ビデオテープレコーダやデジタルオーディオテープレコーダ等の磁気記録再生装置に使用され、テープ状に形成された磁気記録媒体に対して情報の再生を行う磁気抵抗効果ヘッドに関する。
【０００２】
【従来の技術】
ビデオテープレコーダやデジタルオーディオテープレコーダ等の磁気テープを記録媒体として用いる磁気記録再生装置には、更なる高密度化・大容量化が求められており、再生用の磁気ヘッドとして信号磁界の検出感度が高く高記録密度でも大きな再生出力が得られる磁気抵抗効果ヘッドが適用され始めている。
【０００３】
図１０乃至図１３は、この種の磁気抵抗効果ヘッドの従来技術を説明するためのものであり、この磁気抵抗効果ヘッド２１は、非磁性体からなる接合一体化された一対の基板２２の細幅の一端部２２ａに磁気テープが摺動する円弧状の媒体摺動面２３を形成し、この媒体摺動面２３に一対の基板２２間に配設された磁気抵抗効果素子層２４及びマーキング層２９，３０の各先端部を露出させた構成となっている。
【０００４】
この磁気抵抗効果ヘッド２１の製造は、図１１に示すように、一方の基板２２に下部シールド層（不図示）を介して形成した図示せぬ下部ギャップ層上に、磁気抵抗効果素子層２４および一対のバイアス層２５を形成し、次いで、各バイアス層２５上に電極層２６を形成しその上から覆うように上部シールド層２７を積層して、これらの層からなる積層体を形成したのち、上部シールド層２７上に３組のマーキング層２８，２９，３０を磁気抵抗効果素子層２４を挟んで左右対称となるように漸次ずらして形成する。
【０００５】
次に、上記積層体を覆うように両基板２２を接合一体化し、これに一端部２２ａが細幅となるように切削加工を施す。そして、図１２に示すように、磁気抵抗効果素子層２４の幅方向（矢印Ａ方向）において、一対の基板２２の一端部２２の中央部に矢印Ｂ方向（紙面に向かう）に延びる帯状の研磨シート３１の中央部を位置合わせした状態で、研磨シート３１を矢印Ｂに移動して一対の基板２２の一端部２２ａを上記積層体と共に研磨することにより、図１３に示すように、媒体摺動面２３を形成し、媒体摺動面２３の円弧頂部に磁気抵抗効果素子層２４の先端部を露出させる。
【０００６】
この際、一対の基板２２の一端部２２ａに露出するマーキング層２８，２９，３０を観察しながら研磨することにより、磁気抵抗効果素子層２４の先端部から後端部までの寸法Ｈを所定の値に合わせ込むことができる。
【０００７】
このように構成・製造された従来の磁気抵抗効果ヘッドは図示せぬ磁気記録再生装置に組み込まれて、電極層２６から磁気抵抗効果素子層２４に検出電流（定常電流）が与えられた状態で使用され、媒体摺動面２３上を摺動する磁気テープに既に記録されている情報を磁気抵抗効果素子層２４の抵抗変化に基づき再生するようになっている。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上述した従来の磁気抵抗効果ヘッド２１にあっては、一対の基板２２の一端部２２ａの中央部に研磨シート３１の中央部を位置合わせすることにより、磁気テープが円滑に摺動できるよう媒体摺動面２３を円弧状に形成し、媒体摺動面２３の円弧頂部に磁気抵抗効果素子層２４の先端部を露出させるようにしているが、加工精度のばらつきによって磁気抵抗効果素子層２４の幅方向に（矢印Ａ方向）おける一対の基板２２の一端部２２ａの寸法がばらつくと、図１４に示すように、磁気抵抗効果素子層２４の先端部が所定の媒体摺動面２３の円弧頂部からずれて露出することとなり、その結果、媒体摺動面２３上を摺動する磁気テープと磁気抵抗効果素子層２４の先端部との間にスペーシングが生じ易くなり磁気テープに記録されている情報を再生できなくなる虞があった。
【０００９】
本発明は上述した従来技術の事情に鑑みてなされたもので、その目的は、磁気抵抗効果素子層を媒体摺動面の所定位置に確実に露出させることができ、磁気テープの情報を確実に再生することができる磁気抵抗効果ヘッドおよびその製造方法を提供するとにある。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、本発明の磁気抵抗効果ヘッドは、下部シールド層と、この下部シールド層上に下部ギャップ層を介して形成された磁気抵抗効果素子層と、この磁気抵抗効果素子層上に上部ギャップ層を介して形成された上部シールド層とを備え、この上部シールド層の上方あるいは前記下部シールド層の下方のうちの少なくとも一方にはマーキング層が前記磁気抵抗効果素子層と対向して配設され、記録媒体が摺動する媒体摺動面に前記磁気抵抗効果素子層および前記マーキング層の各先端部が露出されており、前記マーキング層の先端部は、前記記録媒体の摺動方向と交差する幅方向の寸法が、前記磁気抵抗効果層の先端部から後端部までの寸法に等しく形成されているとともに、前記マーキング層の前記幅方向の中央部が、前記磁気抵抗効果素子層の前記幅方向の中央部を通り前記磁気抵抗効果素子層に直交する直線上に位置していることを構成上の第１の特徴としている。
【００１１】
また、上記目的を達成するために、本発明の磁気抵抗効果ヘッドは、下部シールド層と、この下部シールド層上に下部ギャップ層を介して形成された磁気抵抗効果素子層と、この磁気抵抗効果素子層上に上部ギャップ層を介して形成された上部シールド層とを備え、この上部シールド層の上方あるいは前記下部シールド層の下方のうちの少なくとも一方にはマーキング層が前記磁気抵抗効果素子層と対向して配設され、記録媒体が摺動する媒体摺動面に前記磁気抵抗効果素子層および前記マーキング層の各先端部が露出されており、前記マーキング層は、その先端部から後端部に向かうに従い前記記録媒体の摺動方向と交差する幅方向の寸法が一定の割合で変化するように形成されているとともに、前記磁気抵抗効果素子層の前記幅方向の中央部を検出するために前記マーキング層に設けられたマーカ部が、前記磁気抵抗効果素子層の前記幅方向の中央部を通り前記磁気抵抗効果素子層に直交する直線上に位置していることを構成上の第２の特徴としている。
【００１２】
また、本発明の磁気抵抗効果ヘッドは、上記第１，第２の構成において、前記マーキング層は、前記上部・下部両シールド層と同一材料にて形成され、前記上部・下部両シールド層のうちの少なくとも一方に直接形成されていることを特徴としている。
【００１３】
一方、本発明の磁気抵抗効果ヘッドを得るための製造方法は、基板上に、下部シールド層，下部ギャップ層，磁気抵抗効果素子層，上部ギャップ層，上部シールド層を順次積層した構造を有する積層体を形成する工程と、
前記基板の一端部側から見て前記磁気抵抗効果素子層の幅方向における中央部の位置を検出するためのマーカ部が設けられ、前記基板の一端部から他端部に向かうに従い前記幅方向の寸法が一定の割合で変化するマーキング層を、前記積層体の上面あるいは下面のうちの少なくとも一方に形成する工程と、
前記マーカ部を用いて前記磁気抵抗効果素子の前記幅方向の中央部に研磨シートの前記幅方向の中央部を位置合わせした状態で、前記基板の一端部を前記積層体と共に研磨して記録媒体が摺動する円弧状の媒体摺動面を形成し、この媒体摺動面に前記マーキング層を前記幅方向の寸法が前記磁気抵抗効果素子層の先端部から後端部までの寸法に対応する所定の値となるように露出させることにより、前記媒体摺動面の円弧頂部に前記磁気抵抗効果素子層の先端部を露出させる工程と、を有することを最も主要な特徴としている。
【００１４】
また、上記製造方法において、前記マーキング層に前記一端部から前記基板の他端部に向かって延びる長孔を形成し、この長孔を前記マーカ部としたことを特徴としている。
【００１５】
また、上記製造方法において、前記マーキング層を、前記基板の一端部側から他端部側に向かって延び前記幅方向における前記磁気抵抗効果素子層の中央部を通る一辺を有する直角三角形状に形成し、この一辺を前記マーカ部としたことを特徴としている。
【００１６】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の磁気抵抗効果ヘッドの第１の実施形態を図１乃至図５に基づいて説明する。
【００１７】
図１に示すように、この磁気抵抗効果ヘッド１は、非磁性体からなる接合一体化された一対の基板２の細幅の一端部２ａに磁気テープが摺動する円弧状の媒体摺動面３を形成し、この媒体摺動面３に一対の基板２間に配設された磁気抵抗効果素子層６及びマーキング層１１の各先端部を露出させて構成されている。
【００１８】
図２はこの磁気抵抗効果ヘッド１を媒体摺動面３側から見た平面図であって、一方の基板２に形成された下部シールド層４上に、下部ギャップ層５を介して磁気抵抗効果素子層６および一対のバイアス層７が形成され、各バイアス層７上に電極層８が設けられており、磁気抵抗効果素子層６上には上部ギャップ層９を介して上部シールド層１０が形成されている。そして、上部シールド層１０上には磁気抵抗効果素子層６に比して遙かに膜厚の厚いマーキング層１１が形成され、このマーキング層１１上に絶縁層１２が形成されており、マーキング層１１の幅方向（矢印Ａ方向）の中央部が、磁気抵抗効果素子層６の幅方向（矢印Ａ方向）の中央部を通り磁気抵抗効果素子層６に直交する直線１３上に位置し、磁気抵抗効果素子層６およびマーキング層１１の幅方向が媒体摺動面３を摺動する磁気テープの摺動方向（矢印Ｂ方向）と交差した状態となっている。
【００１９】
次に、この磁気抵抗効果ヘッド１の各層の詳細について順次説明する。
【００２０】
上部シールド層１０および下部シールド層４は、ＮｉＦｅ合金等の軟磁性材料からなり、磁気抵抗効果素子層６に磁気テープからの漏れ磁界以外の磁界が影響するのを防止するためのものである。
【００２１】
上部ギャップ層９および下部ギャップ層５は、アルミナ等の非磁性絶縁材料からなり、磁気抵抗効果素子層６、バイアス層７および電極層８を上部・下部両シールド１０，４から絶縁するためのものである。
【００２２】
磁気抵抗効果素子層６は、３層構造とされ、下からＮｉＦｅ合金からなる軟磁性層（ＳＡＬ層）、タンタルからなる非磁性層（ＳＨＵＮＴ層）、ＮｉＦｅＮｂ合金からなる磁気抵抗効果層（ＭＲ層）の順に積層されている。
【００２３】
バイアス層７は、コバルト白金合金等の硬磁性導電材料で形成され、磁気抵抗効果素子層６に幅方向（矢印Ａ方向）のバイアス磁界を与えるものである。
【００２４】
電極層８は、銅やタングステン等の非磁性導電材料からなり、バイアス層７を介して磁気抵抗効果素子層６に検出電流（定常電流）を付与するためのものである。
【００２５】
マーキング層１１は、上部・下部両シールド層１０，４と同一なＮｉＦｅ合金等の軟磁性材料からなり、上部シールド層１０上に直接形成されて、上部シールド層１０の上方に配設されている。
【００２６】
次に、このように構成された磁気抵抗効果ヘッド１の製造方法について説明する。
【００２７】
先ず、一方の基板２上に、下部シールド層４と、下部ギャップ層５と、磁気抵抗効果素子層６と、バイアス層７と、電極層８と、上部ギャップ層９と、上部シールド層１０とを順次積層して、これらの層からなる積層体を形成したのち、図３に示すように、磁気抵抗効果素子層６の幅方向（矢印Ａ方向）における中央部を通り基板２の一端部２ａから他端部に向かう方向（矢印Ｃ方向）に延びる直線１４上に位置する長孔で構成されたマーカ部１１ａが設けられ、基板２の一端部から他端部に向かうに従い幅方向（矢印Ａ方向）の寸法Ｔが一定の割合で変化する二等辺三角形状のマーキング層１１を、先端部から磁気抵抗効果素子層６の後端部までの寸法Ｈが寸法Ｔに常に等しくなるように上部シールド層１０上に形成する。
【００２８】
次に、上記積層体およびマーキング層１１を覆うように両基板２を接合一体化し、これに一端部２ａが細幅となるように切削加工を施す。これにより、一対の基板２の一端部２ａ側から見てマーカ部１１ａが視認できるようになる。そして、図４に示すように、磁気抵抗効果素子層６の幅方向（矢印Ａ方向）において、矢印Ｂ方向（紙面に向かう）に延びる帯状の研磨シート１５の中央部をマーキング層１１のマーカ部１１ａに位置合わせした状態で、研磨シート１５を矢印Ｂ方向に移動して一対の基板２の一端部２ａを上記積層体と共に研磨することにより、図５に示すように、媒体摺動面３を形成し、媒体摺動面３の円弧頂部に磁気抵抗効果素子層６の先端部を露出させる。
【００２９】
この際、寸法Ｔと寸法Ｈとが常に等しくなるように設定されているので、一対の基板２の一端部２ａに露出するマーキング層１１の幅方向の寸法Ｔを観察しながら研磨することにより、磁気抵抗効果素子層６の先端部から後端部までの寸法Ｈを所定の値に合わせ込むことができる。
【００３０】
このようにして、磁気抵抗効果ヘッド１の製造は完了するが、製造後においては、媒体摺動面３の円弧頂部に露出したマーキング層１１の先端部の幅方向の寸法Ｔが、磁気抵抗効果素子層６の先端部から後端部までの寸法Ｈに等しく形成された状態となっている。
【００３１】
このように構成・製造された磁気抵抗効果ヘッド１は図示せぬ磁気記録再生装置に組み込まれて、電極層８から磁気抵抗効果素子層６に検出電流（定常電流）が与えられた状態で使用され、媒体摺動面３上を摺動する磁気テープに既に記録されている情報を磁気抵抗効果素子層６の抵抗変化に基づき再生することができる。
【００３２】
しかして、この磁気抵抗効果ヘッド１にあっては、マーキング層１１に設けられたマーカ部１１ａを用いることにより、マーキング層１１に比して遙かに膜厚の薄い磁気抵抗効果素子層６の幅方向（矢印Ａ方向）の中央部を検出することができ、磁気抵抗効果素子層６の幅方向において、研磨シート１５の中央部をマーキング層１１のマーカ部１１ａに位置合わせすることによって、磁気抵抗効果素子層６の幅方向の中央部に研磨シート１５の幅方向の中央部を合わせ込むことができるため、加工精度のばらつきによって磁気抵抗効果素子層６の幅方向における一対の基板２の一端部２ａの寸法にばらつきが生じたとしても、磁気抵抗効果素子層６の先端部を媒体摺動面３の所定位置たる円弧頂部に確実に露出させることができ、その結果、磁気テープの情報を確実に再生することができる。
【００３３】
尚、この第１の実施形態にあっては、マーキング層１１を上部シールド層１０の上方に配設するように構成したが、本発明はこれに限定されるものではなく、上記積層体を形成するに先立って、一方の基板２にマーカ部１１ａを備えたマーキング層１１を形成することにより、下部シールド層４にマーキング層１１を直接形成して下部シールド層４の下方にマーキング層１１を配設されるように構成してもよい。
【００３４】
次に、本発明の磁気抵抗効果ヘッドの第２の実施形態を図６乃至図９に基づいて説明する。
【００３５】
この第２の実施形態の磁気抵抗効果ヘッド１６が第１の実施形態と異なる点は、一方の基板２上に上記積層体を形成したのち、図６に示すように、マーキング層１１の代えて上部シールド１０上に、基板２の一端部から他端部に向かう方向（矢印Ｃ方向）に延び磁気抵抗効果素子層６の幅方向（矢印Ａ方向）の中央部を通る一辺を有する直角二等辺三角形状のマーキング層１７を形成し、この一辺を磁気抵抗効果素子層６の幅方向における中央部を検出するためのマーカ部１７ａとした点が異なるのみで、他は第１の実施形態と同様である。
【００３６】
そして、この磁気抵抗効果ヘッド１６の製造は、上記積層体およびマーキング層１７を覆うように両基板２を接合一体化して、これに一端部２ａが細幅となるように切削加工を施すことにより、一対の基板２の一端部２ａ側から見てマーカ部１７ａが視認できるようにし、図７に示すように、磁気抵抗効果素子層６の幅方向（矢印Ａ方向）において、矢印Ｂ方向（紙面に向かう）に延びる帯状の研磨シート１５の中央部をマーキング層１７のマーカ部１７ａに位置合わせした状態で、研磨シート１５を矢印Ｂに移動して一対の基板２の一端部２ａを上記積層体と共に研磨することにより、図８に示すように、媒体摺動面３を形成し、媒体摺動面３の円弧頂部に磁気抵抗効果素子層６の先端部を露出させて製造される。
【００３７】
この際、マーキング層１７はその幅方向（矢印Ａ方向）の寸法Ｔが基板２の一端部２ａから他端部に向かうに従い一定の割合で変化するように設定されているので、一対の基板２の一端部２ａに露出するマーキング層１７の幅方向の寸法Ｔを観察しながら研磨することにより、磁気抵抗効果素子層６の先端部から後端部までの寸法Ｈを所定の値に合わせ込むことができる。
【００３８】
図９はこのように製造された磁気抵抗効果ヘッド１６を媒体摺動面３側から見た平面図であって、上部シールド層１０上に形成されたマーキング層１７のマーカ部１７ａが、磁気抵抗効果素子層６の幅方向（矢印Ａ方向）の中央部を通り磁気抵抗効果素子層６に直交する直線１３上に位置し、磁気抵抗効果素子層６およびマーキング層１７の幅方向が媒体摺動面３を摺動する磁気テープの摺動方向（矢印Ｂ方向）と交差した状態となっている。
【００３９】
このように構成・製造された磁気抵抗効果ヘッド１６は図示せぬ磁気記録再生装置に組み込まれて、電極層８から磁気抵抗効果素子層６に検出電流（定常電流）が与えられた状態で使用され、媒体摺動面３上を摺動する磁気テープに既に記録されている情報を磁気抵抗効果素子層６の抵抗変化に基づき再生することができる。
【００４０】
しかして、この磁気抵抗効果ヘッド１６にあっても、マーキング層１７に設けられたマーカ部１７ａを用いることにより、マーキング層１７に比して遙かに膜厚の薄い磁気抵抗効果素子層６の幅方向の中央部を検出することができ、磁気抵抗効果素子層６の幅方向（矢印Ａ方向）において、研磨シート１５の中央部をマーキング層１７のマーカ部１７ａに位置合わせすることによって、磁気抵抗効果素子層６の幅方向の中央部に研磨シート１５の幅方向の中央部を合わせ込むことができるため、加工精度のばらつきによって磁気抵抗効果素子層６の幅方向における一対の基板２の一端部２ａの寸法にばらつきが生じたとしても、磁気抵抗効果素子層６の先端部を媒体摺動面３の所定位置たる円弧頂部に確実に露出させることができ、その結果、磁気テープの情報を確実に再生することができる。
【００４１】
尚、この第２の実施形態にあっても、第１の実施形態と同様に、マーキング層１７を上部シールド層１０の上方に配設するように構成したが、本発明はこれに限定されるものではなく、上記積層体を形成するに先立って、一方の基板２にマーキング層１７を形成することにより、下部シールド層４にマーキング層１７を直接形成して下部シールド層４の下方にマーキング層１７を配設させるように構成してもよく、マーキング層１７の配設位置には種々変更が可能である。
【００４２】
【発明の効果】
本発明は、以上説明したような形態で実施され、以下に記載されるような効果を奏する。
【００４３】
下部シールド層と、この下部シールド層上に下部ギャップ層を介して形成された磁気抵抗効果素子層と、この磁気抵抗効果素子層上に上部ギャップ層を介して形成された上部シールド層とを備え、この上部シールド層の上方あるいは前記下部シールド層の下方のうちの少なくとも一方にはマーキング層が前記磁気抵抗効果素子層と対向して配設され、記録媒体が摺動する媒体摺動面に前記磁気抵抗効果素子層および前記マーキング層の各先端部が露出されており、前記マーキング層の先端部は、前記記録媒体の摺動方向と交差する幅方向の寸法が、前記磁気抵抗効果層の先端部から後端部までの寸法に等しく形成されているとともに、前記マーキング層の前記幅方向の中央部が、前記磁気抵抗効果素子層の前記幅方向の中央部を通り前記磁気抵抗効果素子層に直交する直線上に位置しているので、前記媒体摺動面が前記磁気抵抗効果素子層の前記幅方向の中央部に研磨シートの前記幅方向の中央部を合わせ込んだ状態で形成できるため、前記磁気抵抗効果素子層の先端部が前記媒体摺動面の所定位置に確実に露出し、前記記録媒体に記録されている情報を確実に再生することができる。
【００４４】
下部シールド層と、この下部シールド層上に下部ギャップ層を介して形成された磁気抵抗効果素子層と、この磁気抵抗効果素子層上に上部ギャップ層を介して形成された上部シールド層とを備え、この上部シールド層の上方あるいは前記下部シールド層の下方のうちの少なくとも一方にはマーキング層が前記磁気抵抗効果素子層と対向して配設され、記録媒体が摺動する媒体摺動面に前記磁気抵抗効果素子層および前記マーキング層の各先端部が露出されており、前記マーキング層は、その先端部から後端部に向かうに従い前記記録媒体の摺動方向と交差する幅方向の寸法が一定の割合で変化するように形成されているとともに、前記磁気抵抗効果素子層の前記幅方向の中央部を検出するために前記マーキング層に設けられたマーカ部が、前記磁気抵抗効果素子層の前記幅方向の中央部を通り前記磁気抵抗効果素子層に直交する直線上に位置しているので、前記媒体摺動面が前記磁気抵抗効果素子層の前記幅方向の中央部に研磨シートの前記幅方向の中央部を合わせ込んだ状態で形成できるため、前記磁気抵抗効果素子層の先端部が前記媒体摺動面の所定位置に確実に露出し、前記記録媒体に記録されている情報を確実に再生することができる。
【００４５】
また、前記マーキング層は、前記上部・下部両シールド層と同一材料にて形成され、前記上部・下部両シールド層のうちの少なくとも一方に直接形成されているので、前記マーキング層を前記上部シールド層に連続して形成したり、前記マーキング層に前記下部シールド層を連続して形成することができるため、磁気抵抗効果ヘッドの製造工程の簡素化を図ることができる。
【００４６】
また、基板上に、下部シールド層，下部ギャップ層，磁気抵抗効果素子層，上部ギャップ層，上部シールド層を順次積層した構造を有する積層体を形成する工程と、
前記基板の一端部側から見て前記磁気抵抗効果素子層の幅方向における中央部の位置を検出するためのマーカ部が設けられ、前記基板の一端部から他端部に向かうに従い前記幅方向の寸法が一定の割合で変化するマーキング層を、前記積層体の上面あるいは下面のうちの少なくとも一方に形成する工程と、
前記マーカ部を用いて前記磁気抵抗効果素子の前記幅方向の中央部に研磨シートの前記幅方向の中央部を位置合わせした状態で、前記基板の一端部を前記積層体と共に研磨して記録媒体が摺動する円弧状の媒体摺動面を形成し、この媒体摺動面に前記マーキング層を前記幅方向の寸法が前記磁気抵抗効果素子層の先端部から後端部までの寸法に対応する所定の値となるように露出させることにより、前記媒体摺動面の円弧頂部に前記磁気抵抗効果素子層の先端部を露出させる工程と、を有するので、前記磁気抵抗効果素子層の前記幅方向において、前記磁気抵抗効果素子層の中央部に前記研磨シートの中央部を合わせ込むことができるため、前記磁気抵抗効果素子層の先端部を前記媒体摺動面の所定位置に確実に露出させることができる。
【００４７】
また、前記マーキング層に前記一端部から前記基板の他端部に向かって延びる長孔を形成し、この長孔を前記マーカ部としたり、前記マーキング層を、前記基板の一端部側から他端部側に向かって延び前記幅方向における前記磁気抵抗効果素子層の中央部を通る一辺を有する直角三角形状に形成し、この一辺を前記マーカ部としたので、前記マーカ部を簡単に形成することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１の実施形態に係る磁気抵抗効果ヘッドの斜視図。
【図２】本発明の第１の実施形態に係る磁気抵抗効果ヘッドの媒体摺動面側から見た平面図。
【図３】本発明の第１の実施形態に係る磁気抵抗効果ヘッドの製造工程を説明するための図であって、積層体およびマーキング層を形成した状態を示す説明図。
【図４】本発明の第１の実施形態に係る磁気抵抗効果ヘッドの製造工程を説明するための図であって、基板の一端部に研磨テープを位置決めした状態を示す説明図。
【図５】本発明の第１の実施形態に係る磁気抵抗効果ヘッドの製造工程を説明するための図であって、基板の一端部に媒体摺動面を形成した状態を示す説明図。
【図６】本発明の第２の実施形態に係る磁気抵抗効果ヘッドの製造工程を説明するための図であって、積層体およびマーキング層を形成した状態を示す説明図。
【図７】本発明の第２の実施形態に係る磁気抵抗効果ヘッドの製造工程を説明するための図であって、基板の一端部に研磨テープを位置決めした状態を示す説明図。
【図８】本発明の第２の実施形態に係る磁気抵抗効果ヘッドの製造工程を説明するための図であって、基板の一端部に媒体摺動面を形成した状態を示す説明図。
【図９】本発明の第２の実施形態に係る磁気抵抗効果ヘッドの媒体摺動面側から見た平面図。
【図１０】従来の磁気抵抗効果ヘッドの斜視図。
【図１１】従来の磁気抵抗効果ヘッドの製造工程を説明するための図であって、積層体およびマーキング層を形成した状態を示す説明図。
【図１２】従来の磁気抵抗効果ヘッドの製造工程を説明するための図であって、基板の一端部に研磨テープを位置決めした状態を示す説明図。
【図１３】従来の磁気抵抗効果ヘッドの製造工程を説明するための図であって、基板の一端部に媒体摺動面を形成した状態を示す説明図。
【図１４】従来の磁気抵抗効果ヘッドの問題点を説明するための説明図。
【符号の説明】
１  磁気抵抗効果ヘッド
２  基板
２ａ  一端部
３  媒体摺動面
４  下部シールド層
５  下部ギャップ層
６  磁気抵抗効果素子層
７  バイアス層
８  電極層
９  上部ギャップ層
１０  上部シールド層
１１  マーキング層
１１ａ  マーカ部
１２  絶縁層
１３  直線
１４  直線
１５  研磨シート
１６  磁気抵抗効果ヘッド
１７  マーキング層
１７ａ  マーカ部
Ｔ  寸法
Ｈ  寸法
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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