(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
円盤状基板の上に、レーザー光による情報の記録及び再生が可能な色素（但し、シアニン色素と金属錯塩色素を除く）からなる記録層、Ａｇ、Ａｕ、およびＡｌからなる群より選ばれる少なくとも一種の物質からなり、層厚が０．３〜３０ｎｍの範囲の薄層であり、使用する所定の再生用レーザーのレーザー光透過率が１０％以上を示す反射層、そして、５０〜５０００ｎｍの範囲に層厚の保護層をこの順に有する情報記録媒体であって、該情報記録媒体の反射率特性を、縦軸が反射率（％）で、横軸が波長（ｎｍ）である反射率曲線で表わした場合、使用する所定の再生用レーザーの発振波長における該情報記録媒体の接線の勾配（％／ｎｍ）が、＋０．６〜−０．６の範囲にあることを特徴とする情報記録媒体。
【請求項２】
該反射層の層厚が５〜２０ｎｍの範囲にある請求項１に記載の情報記録媒体。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、レーザーにより情報の記録および再生が可能な情報記録媒体に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
情報の書き込み可能なＤＲＡＷ（Ｄｉｒｅｃｔ  Ｒｅａｄ  Ａｆｔｅｒ  Ｗｒｉｔｅ）型の情報記録媒体（光ディスク）は、基本構造として、プラスチック、ガラス等からなる円盤状の透明基板と、この上に設けられたＢｉ、Ｓｎ、Ｉｎ，Ｔｅ等の金属または半金属、あるいは色素からなる記録層とを有する。光ディスクへの情報の書き込みは、たとえばレーザービームを光ディスクに照射することにより行なわれ、記録層の照射部分がその光を吸収して局所的に温度上昇する結果、ピット形成等の物理的変化あるいは相変化等の化学的変化を生じて、その光学的特性を変えることにより情報が記録される。光ディスクからの情報の読み取りもまた、レーザービームを光ディスクに照射することなどにより行なわれ、記録層の光学的特性の変化に応じた反射光または透過光を検出することにより情報が再生される。
【０００３】
光ディスクへの情報の書き込みおよび読み取りのためのレーザービームの照射は、通常はディスクの表面の所定の位置に行われる。このため、レーザービームを案内して照射予定位置に正確にたどる（一般にトラッキングと呼ばれる）ようにするため、たとえば逆台形型断面のプレグルーブ（トラッキングガイド）がディスク表面に設けられる。さらに、データの記録に必要なアドレス情報などのプレフォーマット情報が、通常は、ディスクの内周側にプレピットとして形成されている。
【０００４】
このように、ＤＲＡＷ型の情報記録媒体（光ディスク）は、プレグルーブ、および所望によりプレピットが形成された基板上に記録層等が設けられた基本構成を有する。
【０００５】
情報記録媒体の記録層を形成する記録材料として、上記のように金属類や色素等が知られている。色素を用いた情報記録媒体は、記録層を塗布法により簡単に形成することができるという製造上の大きな利点を有している。しかしながら、一般に光ディスクの記録材料中で高感度であるとして有用とされている材料は、金属類であっても色素類であってもその反射率は３０ないし４０％である。従って、色素からなる記録層も、一般的に反射率が低いとの欠点がある。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
情報記録媒体の反射率を向上させるために、色素記録層上に金属反射層を設けた情報記録媒体が、特開平２−８７３４０号公報に開示されている。ここでは、高反射率を得るために、反射層を５０ｎｍ程度の層厚にて設けられている。このような光ディスクは、基板側からの光に対して高い反射率を示すものであるが、本発明者による検討によると、再生レーザーの発振波長より少しずれた、すなわち発振波長より少し短いか、あるいは長い波長領域において、反射率の大きさが極端に変化する傾向があることが判明した。例えば、再生レーザーの発振波長７９０ｎｍで７０％の反射率を示す光ディスクは、７８５ｎｍにおいては反射率が６６％となる。一般に光ディスクドライブに用いられる半導体レーザーの発振波長は、その製品毎に若干異なる傾向があり、また温度などの使用環境によってもその波長は変化する。このため、上記の高反射率を有する公知の光ディスクを用いて記録または再生を行った場合、使用するドライブあるいはその使用環境によってトラッキングエラー、リードエラーなどの誤作動が起こりやすい。
【０００７】
このため、再生用のレーザーの発振波長の附近の波長領域で反射率の変動の少ない光ディスクが必要となる。
従って、本発明は、色素からなる記録層を有する光ディスクであって、所定の再生用のレーザーの発振波長の付近の波長領域における反射率の変動の少ない新規な情報記録媒体を提供することを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
本発明は、円盤状基板の上に、レーザー光による情報の記録及び再生が可能な色素（但し、シアニン色素と金属錯塩色素を除く）からなる記録層、Ａｇ、Ａｕ、及びＡｌからなる群より選ばれる少なくとも一種の物質からなり、層厚が０．３〜３０ｎｍの範囲の薄層であり、使用する所定の再生用レーザーのレーザー光透過率が１０％以上を示す反射層、そして５０〜５０００ｎｍの範囲に層厚の保護層をこの順に有する情報記録媒体であって、該情報記録媒体の反射率特性を、縦軸が反射率（％）で、横軸が波長（ｎｍ）である反射率曲線で表わした場合、使用する所定の再生用レーザーの発振波長における該情報記録媒体の接線の勾配（％／ｎｍ）が、＋０．６〜−０．６の範囲にあることを特徴とする情報記録媒体にある。
【０００９】
なお、上記の反射層の透過率は、ガラス板上に反射層を形成した後、ガラス板側から再生波長の光を照射して測定した値である。
【００１０】
上記の反射層の層厚は、５〜２０ｎｍの範囲にあることが好ましい。
【００１１】
本発明の情報記録媒体は、特に下記の態様にあることが好ましい。
（１）上記接線の勾配（％／ｎｍ）が＋０．５〜−０．５の範囲にあること。
（２）該情報記録媒体が、再生用のレーザーの発振波長の±２０ｎｍの波長領域で、該発振波長での反射率の８０〜１２０％の範囲の反射率を有する。
（３）記録層と反射層との間に、層厚が３０〜３００ｎｍの範囲にあるエンハンス層が設けられている。
（４）反射層が、再生用レーザーのレーザー光に対して１５％以上の透過率を有する。
【００１２】
（５）反射層の層厚が、１．０〜３０ｎｍの範囲にある。
（６）保護層が、紫外線硬化型樹脂の硬化物からなる。
（７）保護層の層厚が、５００〜５０００ｎｍの範囲にある。
（８）記録層の色素が、インドリジン系色素、イミダゾキノキサリン系色素、チアゾール系色素、インドレニン系色素、メロシアニン系色素およびフタロシアニン系色素から選ばれる少なくとも一種である。
【００１３】
【発明の効果】
本発明の情報記録媒体は、記録層の上に反射層と保護層とを積層配置し、かつ反射層を、レーザー光の透過率が１０％以上となるように薄層とにすることにより、該反射層を透過したレーザー光が保護層と空気との界面で反射して入手側に戻ってくるようにされている。そして、この保護層と空気との界面の反射光が、反射層と記録層との界面で反射したレーザー光を干渉するように保護層の層厚も設定されているので、実際に用いる再生装置（光ディスクドライブ）におけるレーザー光の発振波長が、所定発振波長付近で若干ずれても、所定発振波長での反射率から大きく変動することはない。
【００１４】
従って、実際の光ディスクドライブに用いられる半導体レーザーの発振波長が多少ずれても、また温度などの使用環境によって発振波長が変動しても、本発明の情報記録媒体を用いることにより、再生時のフォーカシングエラー、トラッキングエラーなどの誤作動がほとんど発生することがない。
【００１５】
【発明の実施形態】
本発明の情報記録媒体（光ディスク）の例を、添付の第１図を参照しながら説明する。第１図は、基板１１の上に、色素からなる記録層１２、反射層１３および保護層１４がこの順で設けられた基本構成を有する本発明の光ディスクの断面図である。
【００１６】
上記光ディスクは、プラスチック等からなる透明な基板１１の上に、スピンコート法などにより色素層形成用の塗布液を塗布して色素記録層１２を形成し、その上に反射層１３を金属をスパッタリング等することにより形成し、さらにその上に保護層１４を形成したものである。
【００１７】
反射層は、従来の光ディスクでは通常、反射率を向上させるために比較的厚い層厚で設けられており、照射されたレーザー光のうち反射層を透過する光はほとんどなかった。本発明では、従来と同様に、入射したレーザー光を反射層で反射させて、ある程度の反射率を確保しながら、一方では、反射しないで透過したレーザー光を保護層と空気との界面で反射できるように、反射層の層厚を比較的薄くして、その透過率を１０％以上にしている。そして、この保護層と空気との界面の反射率により、主に反射層と記録層との界面で反射したレーザー光を干渉して、レーザー光の発振波長付近の波長であっても発振波長での反射率と大きく変動しないように、保護層の層厚も特定の範囲に設定している。
【００１８】
本発明では、このように、薄層の反射層の上に特定の層厚の保護層を設けることにより、本発明の情報記録媒体の反射率特性を、縦軸が反射率（％）で、横軸が波長（ｎｍ）とした座標上に反射率曲線として表わした場合に、所定の再生用のレーザーの発振波長における該情報記録媒体の接線の勾配（％／ｎｍ）が＋０．６〜−０．６の範囲（好ましくは、＋０．５〜−０．５の範囲）にあるようにしている。なお、情報記録媒体が、再生用のレーザーの発振波長の±２０ｎｍの波長領域で、該発振波長での反射率の８０〜１２０％の範囲の反射率を有することが、より広範囲の条件で再生可能となるので好ましい。
【００１９】
本発明の光情報記録方法に用いられる情報記録媒体の製造は、例えば以下に述べるような材料を用いて行なうことができる。
【００２０】
本発明において使用する基板は、従来の情報記録媒体の基板として用いられている各種の材料から任意に選択することができる。基板材料の例としては、ガラス；ポリメチルメタクリレート等のアクリル樹脂；ポリ塩化ビニル、塩化ビニル共重合体等の塩化ビニル系樹脂；エポキシ樹脂；ポリカーボネート樹脂；アモルファスポリオレフィン；およびポリエステルを挙げることができる。好ましいのは、基板の光学的特性、平面性、加工性、取り扱い性、経時安定性および製造コストなどの点から、ポリカーボネート、アモルファスポリオレフィンおよびポリメチルメタクリレートである。
【００２１】
基板上には、トラッキング用溝またはアドレス信号等の情報を表す凹凸の形成の目的で、プレグルーブ、またはプレグルーブとプレピットとが設けられる。プレピットはプレグルーブのない内周側に形成されるのが一般的である。基板材料がプラスチックの場合は、射出成形あるいは押出成形などにより直接基板にプレグルーブおおびプレビットが設けられることが好ましい。
【００２２】
プレグルーブおよびプレビットは、プレグルーブ層等を形成することにより設けてもよい。その材料としては、アクリル酸のモノエステル、ジエステルトリエステルおよびテトラエステルなどのモノマー（またはオリゴマー）と光重合開始剤との混合物を用いることができる。プレグルーブ層の形成は、まず精密に作られた母型（スタンパ）上に、アクリル酸エステルおよび重合開始剤からなる混合液を塗布し、さらにこの塗布液層上に基板を載せたのち、基板または母型を介して紫外線の照射により液層を硬化させて基板と液層とを固着させるような方法が利用される。次いで、基板を母型から剥離することによりプレグルーブ層の設けられた基板が得られる。プレグルーブ層の層厚は一般に０．０５〜１００μｍの範囲にあり、好ましいのは０．１〜５０μｍの範囲である。
【００２３】
プレグルーブの形状は、半値幅が一般に０．２〜１．０μｍの範囲で、好ましくは０．３〜０．８μｍの範囲、特に好ましくは０．４〜０．７μｍの範囲であり、そして深さが一般に４０〜４００ｎｍの範囲、好ましくは６０〜３００ｎｍの範囲、そして特に好ましくは６０〜２００ｎｍの範囲である。
【００２４】
基板上には、色素からなる記録層が設けられる。記録層に使用される色素としては、例えば、イミダゾキノキサリン系色素、インドレニン系色素などのシアニン系色素、フタロシアニン系色素、ピリリウム系・チオピリリウム系色素、アズレニウム系色素、スクワリリウム系色素、Ｎｉ、Ｃｒなどの金属錯塩系色素、ナフトキノン系・アントラキノン系色素、インドフェノール系色素、インドアニリン系色素、トリフェニルメタン系色素、トリアリルメタン系色素、メロシアニン系色素、オキソノール系色素、アミニウム系・ジインモニウム系色素およびニトロソ化合物を挙げることができる。
【００２５】
上記色素の具体例としては以下のものを挙げることができる。
ｉ）シアニン系色素：
【００２６】
【化１】
0003578719.tif 000002
【００２７】
（ただし、ΦおよびΨはそれぞれ芳香族環が縮合していてもよいインドレニン環残基、チアゾール環残基、オキサゾール環残基、セレナゾール環残基、イミダゾール環残基、ピリジン環残基、チアゾロピリミジン環残基またはイミダゾキノキサリン環残基であり、Ｌはモノカルボシアニン、ジカルボシアニン、トリカルボシアニンまたはテトラカルボシアニンを形成するための連結基であり、Ｘｍ−  はｍ価の陰イオンであり、ｍは１または２であり。さらにＸｍ−  はΦ、ＬまたはΨ上に置換して分子内塩を形成しても良く、またΦとＬ、またはＬとΨとはさらに連結して環を形成しても良い）
上記一般式で表される具体的な化合物の例としては以下のａ）〜ｋ）等が挙げられる。
【００２８】
【化２】
0003578719.tif 000003
【００２９】
【化３】
0003578719.tif 000004
【００３０】
【化４】
0003578719.tif 000005
【００３１】
（ただし、Ｒ１  とＲ２  、Ｒ２  とＲ３  、Ｒ３  とＲ４  、Ｒ４  とＲ５  、Ｒ５  とＲ６  およびＲ６  とＲ７  の組合せのうち、少なくとも一つの組合せで置換もしくは未置換の複素環または脂肪族環による環を形成し、環を形成しないときのＲ１  、Ｒ２  、Ｒ３  、Ｒ４  、Ｒ５  、Ｒ６  およびＲ７  は、それぞれ水素原子、ハロゲン原子または一価の有機残基であり、あるいはＲ１  とＲ２  、Ｒ３  とＲ４  、Ｒ４  とＲ５  、Ｒ５  とＲ６  およびＲ６  とＲ７  の組合せのうち、少なくとも一つの組合せで、置換もしくは未置換の芳香族環を形成してもよく、Ａは二重結合によって結合した二価の有機残基であり、Ｚ−  はアニオン残基である。なお、アズレン環を構成する少なくとも一つの炭素原子が窒素原子で置き換えられてアザアズレン環となっていてもよい。）
ｉｖ）インドフェノール系色素：
【００３２】
【化５】
0003578719.tif 000006
【００３３】
（ただし、ＸおよびＹは、それぞれ水素原子、アルキル基、アシルアミノ基、アルコキシ基またはハロゲン原子であり、Ｒ１  とＲ２  およびＲ３  はそれぞれ水素原子、Ｃ１  〜Ｃ２０  の置換または未置換のアルキル基、アリール基、複素環またはシクロヘキシル基であり、Ａは−ＮＨＣＯ−または−ＣＯＮＨ−である）
ｖ）金属錯塩系色素：
【００３４】
【化６】
0003578719.tif 000007
【００３５】
（ただし、Ｒ１  〜Ｒ４  はそれぞれアルキル基またはアリール基であり、Ｍは二価の遷移金属原子である）
【００３６】
【化７】
0003578719.tif 000008
【００３７】
（ただし、Ｒ１  およびＲ２  はそれぞれアルキル基またはハロゲン原子であり、Ｍは二価の遷移金属原子である）
【００３８】
【化８】
0003578719.tif 000009
【００３９】
（ただし、Ｒ１  およびＲ２  はそれぞれ置換または未置換のアルキル基またはアリール基であり、Ｒ３  はアルキル基、ハロゲン原子または−Ｎ−Ｒ４Ｒ５基（ここで、Ｒ４  およびＲ５  はそれぞれ置換または未置換のアルキル基またはアリール基である）であり、Ｍは遷移金属原子であり、ｎは０〜３の整数である）
【００４０】
【化９】
0003578719.tif 000010
【００４１】
（ただし、［Ｃａｔ］は錯塩を中性ならしめるために必要な陽イオンであり、ＭはＮｉ、Ｃｕ、Ｃｏ、ＰｄまたはＰｔであり、ｎは１または２である）
【００４２】
【化１０】
0003578719.tif 000011
【００４３】
（ただし、［Ｃａｔ］は錯塩を中性ならしめるために必要な陽イオンであり、ＭはＮｉ、Ｃｕ、Ｃｏ、ＰｄまたはＰｔであり、ｎは１または２である）
【００４４】
【化１１】
0003578719.tif 000012
【００４５】
（ただし、Ｘは水素原子、塩素原子、臭素原子またはメチル基であり、ｎは１〜４の整数であり、Ａは第四級アンモニウム基である）
【００４６】
【化１２】
0003578719.tif 000013
【００４７】
（ただし、Ｘ１  およびＸ２  はそれぞれニトロ基および／またはハロゲン原子であり、ｎ１およびｎ２はそれぞれ１〜３の整数であり、Ｒ１  およびＲ２  はそれぞれアミノ基、モノアルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基、アセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基（置換ベンゾイルアミノ基を含む）であり、Ｘ１  とＸ２  、ｎ１とｎ２およびＲ１  とＲ２  はそれぞれ互いに同じであっても異なっていてもよく、ＭはＣｒまたはＣｏ原子であり、Ｙは水素、ナトリウム、カリウム、アンモニウム、脂肪族アンモニウム（置換脂肪族アンモニウムを含む）または脂肪族アンモニウムである）
ｖｉ）ナフトキノン系、アントラキノン系色素：
【００４８】
【化１３】
0003578719.tif 000014
【００４９】
（ただし、Ｒは水素原子、アルキル基、アリル基、アミノ基または置換アミノ基である）
【００５０】
【化１４】
0003578719.tif 000015
【００５１】
（ただし、Ｒは水素原子、アルキル基、アリル基、アミノ基または置換アミノ基である）
【００５２】
【化１５】
0003578719.tif 000016
【００５３】
（ただし、Ｒは水素原子、アルキル基、アリル基、アミノ基または置換アミノ基である）
【００５４】
【化１６】
0003578719.tif 000017
【００５５】
（ただし、Ｘはハロゲン原子であり、ｎは０〜１０の整数である）
【００５６】
【化１７】
0003578719.tif 000018
【００５７】
（ただし、Ｘはハロゲン原子である）
【００５８】
【化１８】
0003578719.tif 000019
【００５９】
ｖｉｉ）インドリジン系色素：
【００６０】
【化１９】
0003578719.tif 000020
【００６１】
（式中、Ｒ１  及びＲ２  は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、芳香環に置換基を有していてもよいアラルキル基、アルコキシ基、芳香族に置換基を有していてもよいアリールオキシ基、アルキルカルボニルアミノ基、芳香環に置換基を有していてもよいアリールカルボニルアミノ基、シアノ基、アシル基、アルコキシカルボニル基又はハロゲン原子を表し、Ｒ１１  及びＲ４１  は、それぞれ独立に、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、芳香環に置換基を有していてもよいアラルキル基、アルコキシ基、芳香環に置換基を有していてもよいアリールオキシ基、アルキルカルボニルアミノ基、芳香環に置換基を有していてもよいアリールカルボニルアミノ基、シアノ基、アシル基、アルコキシカルボニル基又はハロゲン原子を表し、Ｒ２  、Ｒ３  、Ｒ５  、Ｒ６  及びＲ７  は、それぞれ独立に、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、芳香環に置換基を有していてもよいアラルキル基、アルコキシ基又はハロゲン原子を表しＲ２  及びＲ３  がアルキル基であるときＲ２  とＲ３    とは一緒になって環を形成してもよく、Ｒ５  及びＲ６  がアルキル基であるとき、Ｒ５  とＲ６  とは一緒になって環を形成してもよく、Ｘ−  はアニオンを表わす。）
【００６２】
色素記録層の形成は、上記色素、さらに所望により結合剤を溶剤に溶解して色素塗布液を調製し、次いでこの塗布液を基板表面に塗布して塗膜を形成したのち乾燥することにより行うことができる。
【００６３】
色素塗布液の調製用の溶剤の例としては、酢酸エチル、酢酸ブチル、セロソルブアセテートなどのエステル、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトンなどのケトン、ジクロルメタン、１，２−ジクロルエタン、クロロホルムなどのハロゲン化炭化水素、テトラヒドロフラン、エチルエーテル、ジオキサンなどのエーテル、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノールなどのアルコール、ジメチルホルムアミドなどのアミド、そして２，２，３，３−テトラフロロプロパノール等のフッ素系溶剤などを挙げることができる。なお、これらの非炭化水素系有機溶剤は、５０容量％以内である限り、脂肪族炭化水素溶剤、脂環族炭化水素溶剤、芳香族炭化水素溶剤などの炭化水素系溶媒を含んでいてもよい。
【００６４】
塗布液中にはさらに酸化防止剤、ＵＶ吸収剤、可塑剤、滑剤、など各種の添加剤を目的に応じて添加してもよい。
【００６５】
結合剤を使用する場合に結合剤としては、例えば、ゼラチン、ニトロセルロース、酢酸セルロース等のセルロース誘導体、デキストラン、ロジン、ゴムなどの天然有機高分子物質：およびポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリイソブチレン等の炭化水素系樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ塩化ビニル・ポリ酢酸ビニル共重合体等のビニル系樹脂、ポリアクリル酸メチル、ポリメタクリル酸メチル等のアクリル樹脂、ポリビニルアルコール、塩素化ポリオレフィン、エポキシ樹脂、ブチラール樹脂、ゴム誘導体、フェノール・ホルムアルデヒド樹脂等の熱硬化性樹脂の初期縮合物などの合成有機高分子物質を挙げることができる。
【００６６】
塗布方法としては、スプレー法、スピンコート法、ディップ法、ロールコート法、ブレードコート法、ドクターロール法、スクリーン印刷法などを挙げることができる。
【００６７】
結合剤に対する色素の比率は一般に０．０１〜９９％（重量比）の範囲あり、好ましくは１．０〜９５％（重量比）の範囲にある。
【００６８】
色素記録層の層厚は、一般には、１０〜１０００ｎｍの範囲にあり、好ましくは３０〜８００ｎｍの範囲にあり、さらに好ましくは５０〜５００ｎｍの範囲にある。
【００６９】
色素記録層の上に、反射率を向上させるためにエンハンス層を設けてもよく、エンハンス層の材料としては、ＳｉＯ２  、ＡｌＮ、ＺｎＳ、およびＳｉ３Ｎ４などの無機物質；ポリブタジエン、エチレン系重合体、フッ素系樹脂などのポリマーを挙げることができる。
【００７０】
反射層の材料である光反射性物質は、レーザー光に対する反射率が高い物質であって、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｎｉ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｚｎ、Ａｌ、Ｉｎ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｔｅ、Ｓｎ、Ｂｉ、Ｓｂ、Ｔｌ、ＰｔおよびＣから選ばれ、好ましくは、Ｎｉ、Ｃｕ、Ａｕ、Ａｇ、Ｚｎ、Ａｌ、Ｉｎ、ＰｔおよびＣから選ばれ、特に好ましくはＡｕ、Ａｇ、およびＡｌから選ばれる。これらの物質は単独で用いてもよいし、あるいは二種以上の組合せで、または合金として用いてもよい。
【００７１】
本発明では、反射層の層厚を入射したレーザー光を全て反射するのではなく、１０％以上（好ましくは１２％以上、さらに好ましくは１５％）透過させて、保護層と空気との界面で反射できるようにしている。従って、反射層の層厚は一般的には０．３〜３０ｎｍの範囲であり、好ましくは１〜３０ｎｍの範囲であり、特に好ましくは５〜２０ｎｍである。反射層は、例えば上記光反射性物質を蒸着、スパッタリングまたはイオンプレーティングすることにより基板の上に形成することができる。
【００７２】
反射層の上には保護層が設けられる。保護層に用いられる材料の例としては、無機物質としては、ＳｉＯ、ＳｉＯ２  、Ｓｉ３Ｎ４  、ＭｇＦ２  、ＳｎＯ２  等を挙げることができる。また、有機物質としては、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、ＵＶ硬化性樹脂等を挙げることができ、好ましくはＵＶ硬化性樹脂である。本発明の効果を得るためには有機物質を塗布により設けることが好ましい。
【００７３】
保護層は、たとえばプラスチックの押出加工で得られたフィルムを接着層を介して飽和炭化水素系溶剤に可溶な樹脂からなる保護層上にラミネートすることにより形成することができる。あるいは真空蒸着、スパッタリング、塗布等の方法により設けられてもよい。また、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂の場合には、これらを適当な溶剤に溶解して塗布液を調製したのち、この塗布液を塗布し、乾燥することによっても形成することができる。ＵＶ硬化性樹脂の場合には、そのままもしくは適当な溶剤に溶解して塗布液を調製したのちこの塗布液を塗布し、ＵＶ光を照射して硬化させることによっても形成することができる。ＵＶ硬化性樹脂としては、ウレタン（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート、ポリエステル（メタ）アクリレート、等の（メタ）アクリレートのオリゴマー類、（メタ）アクリル酸エステル等のモノマー類等さらに光重合開始剤等の通常のＵＶ硬化剤樹脂を使用することができる。塗布液中には、さらに帯電防止剤、酸化防止剤、ＵＶ吸収剤等の各種添加剤を目的に応じて添加してもよい。
【００７４】
保護層の層厚は、一般には５０〜１００００ｎｍの範囲にあり、好ましくは１００〜７０００ｎｍの範囲、さらに好ましくは５００〜５０００ｎｍの範囲にある。また、保護層は着色されてもよい。
【００７５】
本発明の情報記録媒体では、入射したレーザー光を反射層で反射させてある程度の反射率を確保しながら、反射しないで透過したレーザー光を保護層と空気との界面で反射できるように、上記反射層の層厚を比較的薄くして、その透過率を１０％以上の範囲の薄層にしている。そして、この保護層と空気との界面の反射光により、反射層と記録層との界面で反射したレーザー光を干渉して、レーザー光の発振波長付近の波長であっても発振波長での反射率と大きく変動しないようにされている。
【００７６】
すなわち、反射層と記録層との界面で反射するレーザー光の位相と保護層と空気との界面で反射するレーザー光の位相の『ずれ』を下記式を満足する光学的膜厚になるように、保護層の層厚を計算して設定することによって、レーザー光の発振波長付近の反射率を変動の少ないものにすることができると考えられる。
ｎｄ＝ｊλ
（ｎ：保護層の屈折率、ｄ：保護層の層厚、ｊ：整数、λ：レーザーの波長）
【００７７】
しかしながら、色素層と他の層との界面で位相の『とび』等があることから上記計算値の保護層の層厚で規定することは困難であることがわかった。
【００７８】
このため、保護層の層厚は、上記光学的層厚を参考にしながら下記のように設定することが好ましい。
１）保護層を設ける前の情報記録媒体の光の波長に対する反射率曲線が、使用するレーザーの発振波長における反射率のほうが長波長側より低くなっている場合には、保護層形成後の情報記録媒体の反射率が該発振波長より１０〜２００ｎｍ程度短波長側で極大を有するように保護層の層厚を設定する。
２）保護層を設ける前の情報記録媒体の光の波長に対する反射率曲線が、使用するレーザーの発振波長における反射率のほうが長波長側で高くなっている場合には、保護層形成後の情報記録媒体の反射率が該発振波長より１０〜２００ｎｍ程度長波長側で極大を有するように保護層の層厚を設定する。
【００７９】
このように、薄層の反射層上に上記のように設定された層厚を有する保護層を設けることにより、使用する再生用レーザーの発振波長の付近の波長領域で反射率の変動を少なくすることができる。
【００８０】
本発明の光情報記録媒体は、上述した構成からなる単板であってもよいが、あるいはさらに上記構成を有する二枚の基板を反射層が内側となるように向い合わせ、接着剤等を用いて接合することにより、貼合せタイプの記録媒体を製造することもできる。また、本発明の記録層はＣＤなどの再生専用の光ディスクのアルミニウムなどの反射層の代わりに使用することもできる。
【００８１】
光情報記録媒体への記録は、例えば下記のように行われる。
まず、光情報記録媒体を定線速度または定角速度（ＣＤフォーマット信号の場合は、１．２〜１．４ｍ／秒）で回転させながら、半導体レーザー光などの記録用の光を、基板側から該プレグルーブのグルーブにレーザー光を照射してＣＤフォーマットのＥＦＭ信号などの信号を、該グルーブの記録層にピットを形成することにより記録する。一般に、記録光としては７５０〜８５０ｎｍの範囲の発振波長を有する半導体レーザービームが用いられる。一般に１〜１５ｍＷのレーザーパワーで記録される。
【００８２】
上記の記録層のピット形成は、記録層に空洞の形成、基板の記録層側表面の肉盛りの両方の形成、あるいは会合／非会合もしくは配向／無配向等の相変化により行われる。
【００８３】
記録に際しては、上記トラッキング用プレグルーブを用いてプッシュプル法などによるトラッキング制御が行われる。情報の記録は、プレグルーブのグルーブまたはグルーブ間のランドに行われる。
【００８４】
情報の再生は、例えば記録媒体を上記と同一の定線速度または定角速度で回転させながら半導体レーザー光を基板側から照射してその反射光を検出することにより、３ビーム法などによるトラッキング制御を行いながら情報を再生することができる。
【００８５】
【実施例】
［実施例１］
【００８６】
【化２０】
0003578719.tif 000021
【００８７】
上記の色素４．８ｇを、２，２，３，３−テトラフロロプロパノール１００ｍＬに超音波を１時間付与しながら溶解して、色素塗布液を調製した。この色素塗布液を、プレグルーブが設けられた円盤状のポリカーボネート基板（外径：１２０ｍｍ、内径：１５ｍｍ、厚さ：１．２ｍｍ、トラックピッチ：１．６μｍ、グルーブ幅：０．４５μｍ、グルーブの深さ：９００Å、グルーブ領域：直径４４ｍｍ〜１１７ｍｍの範囲）のプレグルーブが設けられている側の基板表面に、スピンコート法により回転数７５０ｒｐｍの速度で５秒間塗布し、毎秒５０ｒｐｍずつ回転数を上げながら１６秒後に最終回転数１０００ｒｐｍとして３０秒間保持して乾燥して層厚が４００ｎｍの色素記録層を形成した。
【００８８】
上記色素記録層上にＡｕを、ＤＣスパッタ装置を用いて、Ａｒ圧力が２Ｐａ、電力が４８０Ｗ、蒸着速度２ｎｍ（層厚）／秒の条件にて５秒間スパッタリングして、層厚１０ｎｍの反射層を形成した。
【００８９】
反射層上にさらに上記紫外線硬化型樹脂（商品名：３０７０、スリーボンド社製）をスピンコート法により回転数１５００ｒｐｍの速度で塗布した。乾燥後、該塗布層に紫外線を照射（２００Ｗ／ｃｍ２  の水銀灯を１０秒間）することによって層厚２．５μｍの保護層を形成し、基板上に、色素記録層、反射層および保護層が設けられた情報記録媒体（第１図参照）を製造した。
【００９０】
上記と同様にして反射層をガラス板上に形成し、分光光度計（（株）日立製作所）を用いて透過率測定したところ、７９０ｎｍの波長にて４０％であった。
【００９１】
［実施例２］
実施例１において、反射層の層厚１０ｎｍから下記のようにして２０ｎｍに変えた以外は実施例１と同様にして情報記録媒体を製造した。
すなわち、色素記録層上にＡｕを、ＤＣスパッタ装置を用いて、Ａｒ圧力が２Ｐａ、電力が４８０Ｗ、蒸着速度２ｎｍ（層厚）／秒の条件にて１０秒間スパッタリングして、層厚２０ｎｍの反射層を形成した。
【００９２】
上記と同様にして反射層をガラス板に形成し、分光光度計（（株）日立製作所製）を用いて透過率測定したところ、７９０ｎｍの波長にて１７％であった。
【００９３】
［比較例１］
実施例１において、反射層の層厚１０ｎｍから下記のようにして５０ｎｍに変えた以外は実施例１と同様にして情報記録媒体を製造した。
すなわち、色素記録層上にＡｕを、ＤＣスパッタ装置を用いて、Ａｒ圧力が２Ｐａ、電力が４８０Ｗ、蒸着速度２ｎｍ（層厚）／秒の条件にて２５秒間スパッタリングして、層厚５０ｎｍの反射層を形成した。
【００９４】
上記と同様にして反射層をガラス板に形成し、分光光度計（（株）日立製作所製）を用いて透過率測定したところ、７９０ｎｍの波長にて１％であった。
【００９５】
［比較例２］
実施例１において、反射層の層厚１０ｎｍから下記のようにして２００ｎｍに変えた以外は実施例１と同様にして情報記録媒体を製造した。
すなわち、色素記録層上にＡｕを、ＤＣスパッタ装置を用いて、Ａｒ圧力が２Ｐａ、電力が４８０Ｗ、蒸着速度２ｎｍ（層厚）／秒の条件にて１００秒間スパッタリングして、層厚２００ｎｍの反射層を形成した。
【００９６】
上記と同様にして反射層をガラス板に形成し、分光光度計（（株）日立製作所製）を用いて透過率測定したところ、７９０ｎｍの波長にて０％であった。
【００９７】
［情報記録媒体の評価］
１）反射率
得られた情報記録媒体について分光光度計（（株）日立製作所製）を用いて、基板側より７７０〜８５０ｎｍの範囲にある波長の光を照射して未記録部分の反射率を測定した。
【００９８】
２）Ｃ／Ｎ
ドライブ装置（ＤＤＵ−１０００、パルステック（株）製）を用いて、発振波長７９０ｎｍのレーザーで記録時のレーザーパワー（記録パワー）７ｍＷ、線速度１．３ｍ／秒にて、変調周波数７２０ｋＨｚ（デューティー３３％）の信号を記録した。そして記録された信号を０．５ｍＷの再生パワーにて再生時のＣ／Ｎをスペクトルアナライザー（ＴＲ４１３５、アドバンテスト社製）を用いて測定した。
【００９９】
３）フォーカスエラー波長依存性
上記２）で信号が記録された情報記録媒体を再生し、トラッキングフォーカシングが外れたときのフォーカスエラー振幅の、コンパクトディスク（ＣＤ）のエラー振幅に対する割合（ＥＦλ：λはレーザー波長）をλｎｍ、λ＋５ｎｍおよびλ−５ｎｍでの波長で測定し、下記式よりフォーカスエラーの波長依存性（α（％））を求めた。
【０１００】
【数１】
0003578719.tif 000022
【０１０１】
上記の測定の結果を第２図および第１表に示す。第２図は、１）反射率において測定された実施例１、２および比較例１の７７０〜８５０ｎｍにおける反射率の反射率曲線が示されている。実施例１および２ではレーザーの発振波長である７９０ｎｍ前後で反射率の極端な上昇または低下がないことがわかる。なお、波長７９０ｎｍでの反射率曲線の勾配は、第２図の反射率曲線を用いて、７９０ｎｍ波長において該曲線に接線を引いて求めた。
【０１０２】
【表１】
0003578719.tif 000023
【０１０３】
第１表より明らかなように、本発明の光ディスク（実施例１および２）は、レーザーの発振波長である７９０ｎｍ前後で反射率の勾配が小さく、７９０ｎｍ前後で反射率の変化が少ない。且つＣ／Ｎも低下していない。また、本発明に従って、レーザーの発振波長である７９０ｎｍで反射率の勾配が小さくなるように設定されているので、フォーカスエラー波長依存性が、７９０ｎｍの波長のレーザーに対して小さいことは勿論であるが、７８０ｎｍおよび８００ｎｍのどの波長のレーザーに対しても小さいことがわかる。従って、各レーザーに対してフォーカシングの安定性が良好である。
【０１０４】
一方、従来の反射層が設けられた比較例１および比較例２の光ディスクでは、７９０ｎｍで反射率の勾配が大きく、７９０ｎｍ付近で反射率の変化が大きい。また、フォーカスエラー波長依存性が、７８０ｎｍおよび７９０ｎｍの波長のレーザーに対して大きく（一般に、αは１０を超えるとフォーカシングが低下し、フォーカシングエラーが生じ易くなる）、８００ｎｍの波長のレーザーに対してのみ小さい。従って、種々のレーザーに対してフォーカシングの安定性が良好であるとは言えない。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の情報記録媒体の基本的構成を示す平面図である。
【図２】実施例１、２および比較例１で得られた光ディスクの７７０〜８５０ｎｍにおける反射率を示すグラフ（反射率曲線）である。
【符号の説明】
１１  基板
１２  記録層
１３  反射層
１４  保護層
【図１】
0003578719.tif 000024
【図２】
0003578719.tif 000025