(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
キャビネット本体に、その内部に設置したプロセスガス容器からプロセスガスを供給，制御するガスライン制御システムが組み込まれているシリンダキャビネットであって、プロセスガス容器に設けられた容器元弁に、先端部に第１及び第２連結口を分岐形成してなる管継手の基端部を着脱自在に接続してあり、管継手の第１連結口には、プロセスガスラインの上流端がこれを開閉するプロセスガスライン制御弁を介して接続されており、管継手の第２連結口には、パージガスラインの下流端がこれを開閉するパージガスライン制御弁を介して接続されており、管継手は容器元弁に両ガスラインを取り付けうるに必要最小限の容積を有するものに構成されていることを特徴とするシリンダキャビネット。
【請求項２】
キャビネット本体の外面に、ガスライン制御システムによる各種作業を質問方式で表示し且つ操作しうるタッチパネルとガスライン制御システムの回路図及びその作動状態を表示するグラフィックパネルとを設けてあることを特徴とする、請求項１に記載するシリンダキャビネット。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体デバイスの製造等に使用されるプロセスガス（材料ガス）を供給するためのシリンダキャビネットに関するものである。より具体的には、キャビネット本体に、その内部に設置したプロセスガス容器からプロセスガスを供給，制御するガスライン制御システムが組み込まれているシリンダキャビネットに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
シリンダキャビネットは、各種ガスライン及びその制御機器を具備するガスライン制御システムをキャビネット本体に組み込んだものであり、このガスライン制御システムにより、キャビネット本体内に設置したプロセスガス容器から半導体製造装置等のプロセスガス使用部にプロセスガスを供給しうるように構成されたものである。
【０００３】
ところで、半導体デバイスの製造等に使用されるプロセスガスの多くは腐食性，毒性，可燃性といった反応性に富む物性を有するものであり、高度のクリーン度が要求されるものであることから、かかるプロセスガスの供給機器として使用されるシリンダキャビネットにあっては、ガスライン制御システムによる作業のうち、特に、パージ作業つまりパージガスへの置換作業及びプロセスガスへの置換作業を如何に効率よく安全に行うことができるかが重要である。
【０００４】
而して、従来のシリンダキャビネットとしては、ガスライン制御システムにおけるパージ作業部分を図５に示す如く構成したもの（以下「第１従来キャビネット」という）と図６に示す如く構成したもの（以下「第２従来キャビネット」という）とが周知である。
【０００５】
すなわち、第１従来キャビネットにあっては、図５に示す如く、プロセスガスライン１０５の上流端を、これに連結した管継手１１０により、プロセスガス容器２の容器元弁２１に着脱自在に接続すると共に、プロセスガスライン１０５の適所１０５ａにパージガスライン１０６及びベントライン１０８を接続して、各ライン１０５，１０６，１０８に設けた制御弁１５１，１６１，１８１及び容器元弁２１を開閉操作することによりパージ作業を行うように構成されている。プロセスガスライン１０５におけるパージガスライン１０６及びベントライン１０８の接続箇所１０５ａより上流側の部分（  以下「  プロセスガスライン部分」  という）１５２には、管継手１１０の容器元弁２１への脱着作業を容易に行いうるように、可撓性部分１５２ａが設けられている。
【０００６】
また、第２従来キャビネットにあっては、図６に示す如く、プロセスガスライン２０５の上流端及びパージガスライン２０６の下流端を、これらに連結した管継手２１０により、プロセスガス容器２の容器元弁２１に着脱自在に接続すると共に、プロセスガスライン２０５の適所２０５ａにベントライン２０８を接続して、各ライン２０５，２０６，２０８に設けた制御弁２５１，２６１，２８１及び容器元弁２１を開閉操作することによりパージ作業を行うように構成されている。管継手２１０は、基端部を容器元弁２１に脱着自在に構成された外管部２１０ａと外管部２１０ａ内にその基端部近傍へと挿入された内管部２１０ｂとを具備する二重管構造をなし、プロセスガスライン２０５の上流端を外管部２１０ａの先端部に連結すると共に、パージガスライン２０６の下流端をパージガスライン制御弁２６１を介して内管部２１０ｂの先端部に連結してある。プロセスガスライン２０５におけるベントライン２０８の接続箇所２０５ａより上流側の部分（以下「プロセスガスライン部分」という）２５２及びパージガスライン２０６の下流側部分には、管継手２１０の容器元弁２１への脱着作業を容易に行いうるように、可撓性部分２５２ａ，２６２ａが設けられている。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、パージ作業の方式は、一般に、パージを連続して行う連続パージ方式とパージを間欠的に繰り返して行う回分パージ方式とに大別されるが、パージ作業を効率よく安全に行うためには、パージ条件，プロセスガスの性状等に応じて、パージ方式を適宜に選択することが必要である。
【０００８】
しかし、上記した第１及び第２従来キャビネットの何れにおいても、パージ条件，プロセスガスの性状等に応じた適切なパージ方式を採用することができない場合があり、パージ方式によっては作業効率が大幅に低下したり、良好なパージ作業を行い得ない等の問題があった。
【０００９】
例えば、第１従来キャビネットにあって、パージガスへの置換を連続パージ方式によって行う場合、容器元弁２１及びプロセスガスライン制御弁１５１を閉じた上、パージガスライン制御弁１６１及びベントライン制御弁１８１を開いて、パージガスをパージガスライン１０６からベントライン１０８へと流動させるが、両ライン１０６，１０８の接続箇所１０５ａと容器元弁２１との間のプロセスガスライン部分１５２に残留するプロセスガスを完全に排除してパージガスに置換させることができない。すなわち、パージガスへの置換を連続パージ方式によって行うことができない。したがって、パージガスへの置換は、連続パージ方式を採用することが好ましい場合においても、回分パージ方式によって行わざるを得ず、作業効率が大幅に低下する。
【００１０】
また、第１従来キャビネットにあって、回分パージ方式によるパージガスへの置換は、パージガスライン制御弁１６１とベントライン制御弁１８１とを交互に開閉する操作を繰り返すことによって行われ、パージガスライン制御弁１６１を閉じ且つベントライン制御弁１８１を開いたベント工程において、プロセスガスライン部分１５２に残留するプロセスガスをベントライン１０８へと吸引，排出させるのである。しかし、このプロセスガスライン部分１５２が、可撓性部分１５２ａを設けておく必要上、長尺なものとなっており、当該部分１５２におけるプロセスガス残留量が多いこととも相俟って、回分パージ方式によっても残留プロセスガスの排除ないしパージガスへの置換はこれを完全には行い得ない。
【００１１】
このように、第１従来キャビネットは、連続パージ方式によっては勿論、回分パージ方式によっても、パージガスへの完全な置換を行うことができないものであり、プロセスガスとして半導体製造材料ガス（例えば、モノシランガス）等の有毒，危険ガスを使用する場合には適用することができず、その用途が大幅に制限されるものである。
【００１２】
一方、第２従来キャビネットにあっては、パージガスライン制御弁２６１を開くと、パージガスが管継手２１０の内管部２１０ｂから外管部２１０ａの基端部に流入し、両管部２１０ａ，２１０ｂ間を通ってプロセスガスライン２０５の上流端に流入し、可撓性部分２５２ａを有するプロセスガスライン部分２５２を通過してベントライン２０８に流入することになり、パージガスの流動経路上、第１従来キャビネットにおけるプロセスガスライン部分１５１のようなデッドスペースを生じない。したがって、連続パージ方式であると回分パージ方式であるとに拘わらず、パージガスへの置換を良好に行うことができる。
【００１３】
しかし、第２従来キャビネットにあっては、プロセスガスへの置換を連続パージ方式によって行うことができない。すなわち、連続パージ方式によるプロセスガスへの置換は、パージガスライン制御弁２６１を閉じた上で、容器元弁２１を開くことによって行われ、管継手２１０の外管部２１０ａ及びプロセスガスライン部分２６２に残留するパージガス又は侵入した空気は、プロセスガス容器２から管継手２１０を経てプロセスガス部分２５２へと流入するプロセスガスによって排除されるが、かかるプロセスガスによっては、内管部２１０ｂに残留，侵入したパージガス，空気はこれを完全に排除することができない。したがって、第２従来キャビネットは、プロセスガスラインへの置換を連続パージ方式によって行うことができず、このような置換作業が要求される場合には使用することができず、第１従来キャビネットと同様に、用途が大幅に制限されるものである。
【００１４】
さらに、第１及び第２従来キャビネットの何れにあっても、回分パージ方式によるプロセスガスへの置換は、容器元弁２１とベントライン制御弁１８１，２８１とを交互に繰り返し開閉させることによって行われることになるが、容器元弁２１の開閉は人為的操作により行われるため、当該パージ作業を自動的に行うことができず、作業効率が著しく低下することになる。また、容器元弁２１を繰り返し開閉させる作業は煩わしく面倒なものであり、労働負担も大きい。
【００１５】
本発明は、このような問題を生じることなく、パージガスへの置換及びプロセスガスへの置換を連続パージ方式及び回分パージ方式の何れによっても効率よく安全に行うことができ、汎用性に富み、極めて広範な用途に供しうるシリンダキャビネットを提供することを目的とするものである。
【００１６】
【課題を解決するための手段】
本発明は、キャビネット本体に、その内部に設置したプロセスガス容器からプロセスガスを供給，制御するガスライン制御システムが組み込まれているシリンダキャビネットにおいて、上記の目的を達成すべく、特に、プロセスガス容器に設けられた容器元弁に、先端部に第１及び第２連結口を分岐形成してなる管継手の基端部を着脱自在に接続してあり、管継手の第１連結口には、プロセスガスラインの上流端がこれを開閉するプロセスガスライン制御弁を介して接続されており、管継手の第２連結口には、パージガスラインの下流端がこれを開閉するパージガスライン制御弁を介して接続されており、管継手は容器元弁に両ガスラインを取り付けうるに必要最小限の容積を有するものに構成されていることを提案するものである。
【００１７】
かかるシリンダキャビネットにあっては、キャビネット本体の外面に、ガスライン制御システムによる各種作業を質問方式で表示し且つ操作しうるタッチパネルとガスライン制御システムの回路図及びその作動状態を表示するグラフィックパネルとを設けて、その作業性の更なる向上を図るべく工夫しておくことが好ましい。
【００１８】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態を図１〜図４に基づいて具体的に説明する。
【００１９】
本発明に係るシリンダキャビネットは、図１及び図２に示す如く、キャビネット本体１と、キャビネット本体１内に設置されたプロセスガス容器２と、キャビネット本体１に組み込まれたガスライン制御システム３と、キャビネット本体１の外面に設けられたカラー液晶式のタッチパネル４ａ及びグラフィックパネル４ｂとを具備する。
【００２０】
キャビネット本体１には、プロセスガス出口１ａ、パージガス入口１ｂ、ベントガス入口１ｃ、ベント１ｄ、気密ガス入口１ｅ、排気口１ｆ、散水用水入口１ｇが設けられている。プロセスガス出口１ａは、半導体デバイス製造装置等のプロセスガス使用部に接続されており、パージガス入口１ｂはパージガス供給源に接続されており、ベントガス入口１ｃはベントガス供給源に接続されており、ベント１ｄは必要に応じてプロセスガス無害化処理装置等のプロセスガス処理部に接続されており、気密ガス入口１ｅは気密ガス供給源に接続されている。プロセスガスとしては、プロセスガス使用部の目的に応じたモノシランガス等の特殊材料ガスが使用される。ベントガス及び気密ガスとしては、プロセスガスに対して不活性であり且つ大気に放出しても無害なものが使用されるが、一般には窒素ガス，ヘリウムガス等が使用される。排気口１ｆはキャビネット本体１内の排気を行うものであり、開閉ダンパ１ｈにより開閉操作されるように構成されている。散水用水入口１ｇは給水源に接続されており、キャビネット本体１内に配設した散水装置１ｉに給水させるものである。散水装置１ｉはキャビネット本体１内に散水するものであり、可燃性，自燃性のプロセスガスを使用した場合における加熱発火等を防止するために設けられている。
【００２１】
プロセスガス容器２は、プロセスガスを貯留した高圧ガス容器であり、プロセスガスの供給，停止を行う手動式開閉弁である容器元弁２１が設けられている。プロセスガス容器２の設置数は、一般に、交換用のものを含めて、必要とされるプロセスガスの種類に応じたものとされる。この例では、交換用のものを含めて２本のプロセスガス容器２，２がキャビネット本体１内に設置されている。なお、以下の説明においては、便宜上、一方のプロセスガス容器及びこれに直接関与するライン部分，機器と他方のプロセスガス容器及びこれに直接関与するライン，機器とを区別する必要がある場合には、それらの部材番号にサフィックス１，２を付すこととする。
【００２２】
ガスライン制御システム３は、図２に示す如く、プロセスガス容器２からプロセスガス出口１ａに導かれたプロセスガスライン５と、パージガス入口１ｂから各プロセスガス容器２に導かれたパージガスライン６と、ベントガス入口１ｃからベント１ｄへと導かれたベントガスライン７と、プロセスガスライン５とベントガスライン７とを接続するベントライン８と、気密ガス入口１ｅから導かれてパージガスライン６に接続された気密ガスライン９と、各ライン５，６，７，８，９に配設された制御弁等の各種制御機器と、これらの制御機器を予め入力されたシーケンスに基づいて自動制御する制御装置とを具備する。
【００２３】
一方のプロセスガス容器２１  から導かれたプロセスガスライン５１  と他方のプロセスガス容器２２  から導かれたプロセスガスライン５２  とは、それらの下流側部分を合流してプロセスガス出口１ａに接続されている。一方のプロセスガス容器２１  に導かれたパージガスライン６１  と他方のパージガス容器２２  に導かれたパージガスライン６２  とは、その上流側部分を合流してパージガス入口１ｂに接続されている。
【００２４】
プロセスガスライン５とパージガスライン６とは、プロセスガス容器２に設けられた容器元弁２１に着脱自在に接続されており、その接続部にはプロセスガスライン５を開閉するプロセスガスライン制御弁５１とパージガスライン６を開閉するパージガスライン制御弁６１とが設けられている。
【００２５】
すなわち、両ライン５，６の容器元弁２１への接続手段としては、図３に示す如き構成の管継手１０が使用される。この管継手１０は、基端部を容器元弁２に着脱自在に取り付けうるように構成されたものであり、先端部に第１及び第２連結口１０ａ，１０ｂを分岐形成したものである。そして、第１連結口１０ａには、プロセスガスライン制御弁５１を介して、プロセスガスライン５の上流端が連結されており、第２連結口１０ｂには、パージガスライン制御弁６１を介して、パージガスライン６の下流端が接続されている。管継手１０は、容器元弁２１にガスライン５，６を取り付けうるに必要最小限の容積を有するものに構成されていて、弁２１，５１，６１間に形成されるガス空間（ガスが流動，滞留する空間）が可及的に小さくなるように工夫してある。つまり、パージガスをパージガスライン６からプロセスガスライン５へと流入させる場合（パージガスへの置換を行う場合）におけるパージガスデッドスペース（両連結口１０ａ，１０ｂの交叉部と容器元弁２１の弁部との間におけるガス滞留空間）及びプロセスガスをプロセスガス容器２からパージガスライン５へと流入させる場合（プロセスガスへの置換を行う場合）におけるプロセスガスデッドスペース（両連結口１０ａ，１０ｂの交叉部とパージガスライン制御弁６１の弁部との間におけるガス滞留空間）が可及的に小さくなるように工夫してある。このような工夫は、管継手１０の構造上及びガスライン５，６の制御弁５１，６１を介しての接続形態上、格別の困難を伴うことなく、なし得るものである。なお、プロセスガスライン５の上流端部分及びパージガスライン６の下流端部分には、プロセスガス容器２の交換作業つまり管継手１０の容器元弁２１への脱着作業を容易ならしめるべく、可撓性部分５２ａ，６２ａが設けられている。
【００２６】
プロセスガスライン５における可撓性部分５２ａより下流側の部分には、上流側から順に、圧力検出器５３、開閉制御弁５４、フィルタ５５、減圧弁５６、開閉制御弁５７及びフィルタ５８等のプロセスガス制御機器が配設されている。また、パージガスライン６における可撓性部分６２ａより上流側の部分という）には、上流側から順に、逆止弁６３、開閉制御弁６４、オリフィス６５及び逆流検知器６６等のパージガス制御機器が配設されている。なお、これらのパージガス制御機器（パージガスライン制御弁６１を除く）は、各プロセスガス容器２１  ，２２  に接続されたパージライン６１  ，６２  の合流部分に配置されている。
【００２７】
ベントガスライン７は、所定圧のベントガス（窒素ガス等）を流動させることにより、下流側に設けたバキュームジェネレータ７１において、これに後述する如く接続されたベントライン８を一種のエジェクタ作用により吸引，減圧させるものである。
【００２８】
ベントライン８は、これを開閉するベントライン制御弁８１及びその下流側に位置する逆止弁８２を設けたもので、上流端がプロセスガスライン５における圧力検出器５３と開閉制御弁５４との間に接続されると共に下流端がベントガスライン７のバキュームジェネレータ７１に接続されている。ベントライン８は、ベントガスライン７を流動するベントガスがバキュームジェネレータ７１を通過することによる一種のエジェクタ作用により、吸引，減圧されるようになっている。つまり、ベントライン制御弁８１を開くことにより、容器元弁２１側の残留ガスをベントライン８へと吸引し、ベントライン８からバキュームジェネレータ７１を介してベントガスライン７へと流出させ、ベントガスと混合，希釈した上でベント１ｄへと排出させうるようになっている。プロセスガスライン５とベントライン８との接続部に設けられた開閉制御弁５４，８１はブロック弁構造に構成されていて、開閉制御弁５４，８１間のデッドスペースが可及的に小さくなるように工夫してある。なお、各プロセスガスライン５１  ，５２  に接続されたベントライン８１  ，８２  は、下流側で合流されてベントガスライン７のバキュームジェネレータ７１に接続されている。
【００２９】
気密ガスライン９にはこれを開閉する気密ガスライン制御弁９１が設けられており、その下流端はパージガスライン６における開閉制御弁６４とオリフィス６５との間に接続されている。開閉制御弁６４を閉じた上で、気密ガスライン制御弁９１を開いて、気密ガス（一般に、パージガスと同質ガス（窒素等）が使用される）を気密ガスライン９からプロセスガスライン５等に流入させ、封入させた上で、その封入圧力の変化により各ラインの気密性を検知する。
【００３０】
以上のように構成されたガスライン制御システム３によれば、冒頭で述べた第１及び第２従来キャビネットにおける如き問題を生じることなく、連続パージ方式及び回分パージ方式の何れによってもパージガス又はプロセスガスへの置換を効率よく安全に行うことができる。
【００３１】
すなわち、連続パージ方式によるパージガスへの置換は、容器元弁２１及び開閉制御弁５４を閉じた上、プロセスガスライン制御弁５１、パージガスライン制御弁６１及びベントライン制御弁８１を開くことによって行われる。パージガスは、パージガスライン６から管継手１０の第２連結口１０ｂ及び第１連結口１０ａを経てプロセスガスライン５に流入し、プロセスガスライン５からベントライン８を経てバキュームジェネレータ７１に吸引され、ベントガスと混合され希釈された上で、ベントガスライン７からベント１ｄへと排出される。このとき、前述した如くパージガスデッドスペースが極めて小さいことから、ライン５，６と容器元弁２１との接続部である管継手１０内にプロセスガスが残留することがなく、パージガスへの置換が完全に行われる。したがって、パージ作業の終了後においては、プロセスガスがシラン系ガス等の猛毒，危険ガスである場合にも、プロセスガス容器２の交換作業等を安全に行うことができる。
【００３２】
また、回分パージ方式によるパージガスへの置換は、容器元弁２１及び開閉制御弁５４を閉じると共にプロセスガスライン制御弁５１を開いた上、パージガスライン制御弁６１とベントライン制御弁８１とを交互に繰り返し開閉させることにより行われる。この場合にも、パージガスデッドスペースが小さいことから、上記した連続パージ方式による場合と同様に、パージガスへの置換が完全に行われる。なお、回分パージ方式は、一般に、連続パージ方式によってはパージを完全に行い難い条件下において採用されるものであり、かかる条件下においても良好且つ完全なパージを行いうる。このことは、後述するプロセスガスへの置換においても同様である。
【００３３】
また、連続パージ方式によるプロセスガスへの置換は、開閉制御弁５４及びパージガスライン制御弁６１を閉じた上、容器元弁２１、プロセスガスライン制御弁５１及びベントライン制御弁８１を開くことによって行われる。プロセスガスは、プロセスガス容器２から管継手１０の第１連結口１０ａを経てプロセスガスライン５に流入し、残留するパージガスないし容器交換時に侵入した空気をプロセスガスライン５からベントライン８を経てベントガスライン７へと排除する。このとき、前述した如くプロセスガスデッドスペースが極めて小さいことから、残留パージガス及び侵入空気の排除が完全に行われて、プロセスガスへの置換が良好に行われる。したがって、パージ作業の終了後においては、プロセスガスの供給を良好に行うことができる。
【００３４】
また、回分パージ方式によるプロセスガスへの置換は、開閉制御弁５４及びパージガスライン制御弁６１を閉じると共に容器元弁２１を開いた上、プロセスガスライン制御弁５１とベントライン制御弁８１とを交互に繰り返し開閉させることにより行われる。この場合にも、プロセスガスデッドスペースが小さいことから、上記した連続パージ方式による場合と同様に、プロセスガスへの置換が完全に行われる。
【００３５】
このように、パージガスへの置換及びプロセスガスへの置換を、連続パージ方式及び回分パージ方式の何れによっても、良好に行うことができる。しかも、回分パージ方式によるプロセスガスへの置換を、容器元弁２１の操作を必要とすることなく（容器元弁２１は開いた状態に保持される）、ガスライン制御システム３の制御機器のみで行うことができる。
【００３６】
制御装置は、公知のものであるから詳細は省略するが、ガスライン制御システム３によって行われるプロセスガス供給作業及び上記したパージ作業を含む各種作業に必要な一連の弁操作等を記憶するデータ記憶部とその記憶データに基づいて当該システム３の制御機器を動作（プロセスガスライン制御弁５１の開閉動作等）させる制御動作部とを具備するものである。
【００３７】
タッチパネル４ａは、プロセスガス供給作業，パージ作業等の作業内容を質問方式で表示すると共に、その表示部４１を指タッチすることにより、当該表示部４１に表示された内容の作業を、制御装置により記憶データ通りに実行させるように構成されている。図４は、当該タッチパネル４ａに表示される初期画面の一例を示したものであり、例えば、同図（Ａ）に示す「容器交換」の表示部４１を指タッチすると、爾後、容器交換に必要な手順が順次質問方式で表示され、その表示部４１…を表示内容に応じて指タッチすることにより、上記したパージ作業を含む容器交換作業が自動的に実行される。
【００３８】
ところで、タッチパネル４ａによれば、各種作業を予め設定された順序で誤操作なく正確に且つ容易に行うことができるが、その表示部４１による表示内容は当該作業の一部つまり現に行っている操作を示すにすぎないから、タッチパネル４ａによる表示によっては当該作業全体の進行状況ないしガスライン制御システム３全体の動作状況を的確に把握することができないといった問題が生じる。
【００３９】
グラフィックパネル４ｂは、このような問題を解決して、当該シリンダキャビネットの操作性ないし作業性の更なる向上を図るために設けられたものであり、ガスライン制御システム３の回路図及びその作動状態を表示するものである。回路図は、例えば、図２に示す如き当該システム全体のライン構成を示す（必要に応じて、作業者が視認，理解し易いようにデザイン化する）ものである。そして、グラフィックパネル４ｂに表示された回路図においては、色彩変化等の手法により、現に作動状態にあるラインや弁等の制御機器と他の非作動状態にあるライン，制御機器とが視覚的に区別されるようになっている。また、必要に応じて、弁等の制御機器を表示する部分を当該制御機器の操作を可能とする指タッチ方式のスイッチに構成しておき、手動運転モードにおける人為的操作を簡便に行いうるようにしてもよい。
【００４０】
なお、本発明は上記した実施の形態に限定されるものではなく、本発明の基本原理を逸脱しない範囲において適宜に改良，変更することができる。
【００４１】
【発明の効果】
以上の説明から容易に理解されるように、請求項１の発明によれば、パージ方式及び置換ガスの如何に拘わらず、パージ作業を安全且つ効率よく行うことができる。しかも、パージ作業（特に、回分パージ方式によるプロセスガスへの置換作業）をガスライン制御システムの制御機器のみによって行うことができ、容器元弁の操作を必要としない。また、請求項２の発明によれば、タッチパネル及びグラフィックパネルにより、パージ作業等をその全体を的確に把握しつつ簡便且つ効率よく行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に係るシリンダキャビネットの外観を示す正面図である。
【図２】ガスライン制御システムの回路図である。
【図３】プロセスガス容器とガスラインとの接続状態を示す概略図である。
【図４】タッチパネルにおける初期画面の一例を示す正面図である。
【図５】第１従来キャビネットにおけるプロセスガス容器とガスラインとの接続状態を示す図３相当図である。
【図６】第２従来キャビネットにおけるプロセスガス容器とガスラインとの接続状態を示す図３相当図である。
【符号の説明】
１…キャビネット本体、２，２１  ，２２  …プロセスガス容器、３…ガスライン制御システム、４ａ…タッチパネル、４ｂ…グラフィックパネル、５，５１  ，５２  …プロセスガスライン、６，６１  ，６２  …パージガスライン、８，８１  ，８２  …ベントライン、１０…管継手（接続部）、１０ａ…第１連結口、１０ｂ…第２連結口、４１…表示部、５１，５１１  ，５１２  …プロセスガスライン制御弁、６１，６１１  ，６１２  …パージガスライン制御弁、８１，８１１  ，８１２  …ベントライン制御弁。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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