(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板（２）と、第１クラッド層（４）と、受動光誘導層（８）と、変調電極（18）を有するワーキングゾーン（14）中に存在するZnOからなる電気−光学的光誘導層（10）と第２クラッド層（12）とで構成されたセンサー窓（22）を使用して化学的及び／または物理的量を測定する導波路層構造を有する集積光導波路システムにおいて、前記電気−光学的光誘導層（10）は、導波路層構造の長手方向に沿って局部的に先細になっており、局部的な断熱遷移帯（15、24、30、32、36）は前記長手方向の層厚（30）の連続的な変化によって形成され、前記電気−光学的光誘導層（10）の前記断熱遷移帯（15）での層厚は、前記センサー窓（22）の面のワーキングゾーン（14）側でほぼ０に減少されていることを特徴とする集積光導波路システム。
【請求項２】
前記変調ゾーンの内側の導波路層構造の厚さが電圧変調に対する前記電気−光学的光誘導層（10）の感度に関連して最適化されている請求項１に記載の集積光導波路システム。
【請求項３】
前記２つのクラッド層のうち少なくとも１つのクラッド層の層厚は、電気−光学的変調ゾーン（32）の場所において、下方にある電気伝導性の支持体材料あるいは局所的に導入された上部電極に起因する強度損失を受けることなく、前記電圧変調によって前記能動導波路材の中で最大の効果を発生させるために減少されている請求項１又は２に記載の集積光導波路システム。
【請求項４】
感知窓部でエバネッセント場における屈折率プロファイルに影響を与える化学的及び物理的量を検知するための窓を定義することによって、前記第２クラッド層（12）が断熱層厚遷移帯（24）の局部で少なくともその前記受動光誘導層（８）にまで接近するように局所的に取り除かれる請求項１、２、又は３に記載の集積光導波路システム。
【請求項５】
前記受動光誘導層（８）がTE偏光を最適に受光する断熱層厚遷移帯（36）を備えており、前記第１クラッド層（４）の層厚がTM偏光に関してTE偏光の光透過の最適化のために作用する前記請求項のいずれか１つに記載の集積光導波路システム。
【請求項６】
マッハ・ツェンダー型の干渉計において、電極を有する変調ゾーンと同様にセンサー窓が両方のブランチに取り付けられ、前記センサー窓の１つは、リファレンス窓として用いられ、また測定される量に対してシールドされる前記請求項のいずれか１つに記載の集積光導波路システム。
【請求項７】
２つの逆位相制御信号は、前記マッハ・ツェンダー干渉計の２つの電気−光学的変調ゾーンを変調するために用いられ、前記基板（２）は信号を変調するための設置電極として作用する前記請求項６に記載の集積光導波路システム。
【請求項８】
前記導波路システムが、前記干渉計の電気−光学的位相変調信号が最大感度を示す基準点に関して測定される量によって引き起こされる位相シフトを伝達するために電気回路に組込まれている請求項６または７に記載の集積光導波路システム。
【請求項９】
前記システムが電気−光学的光誘導材料の上部に電極構造を与えるための信号発生器と、変調されたパルス幅が測定されるべき量に明らかに依存するアナログ変調相対測定信号をデジタル信号に変換する閾値スイッチと、変調パルス持続信号から測定される量の非常に精確な値を決定するデジタル信号プロセッサーとを装備している請求項８に記載の集積光導波路システム。
【発明の詳細な説明】
本発明は、請求項１の前文に明示されているように、集積光導波路システムに関する。
そのそうな集積光チャンネル導波路システムは雑誌“Sensors and Actuators B（1996,vol.35−36,pages 234−240）”中に発表された“集積された化学的−光学的センサーの製作とパッケージング”という記事から知られている。そこで述べられているシステムでは、例えばワーキングゾーン又はアクティブゾーン中に位置するシステムの感度の最適化は、常にワーキングゾーンの外側のチャンネルシステムの機能に影響を及ぼす。この方法では、その最適化は単に特定の目的に限られて実行できるものである。そしてそれは、全導波路システムの感度に否定的に影響するものである。本発明は、中でもこの制限を除去することを目的とし、そしてイントロダクションに明示されたタイプの集積光チャンネル導波路システムが、本発明による請求項１で特徴付けている部分に明示されているように特徴付けられる。
上で引用された記事のほかにも類似のデバイスがいくつかの文献に開示されていることが認められる。IEEE Journal of Quantum Electronics vol.27（1991）March no.3 pp.556−566に発表されている“Si上の集積光学的断熱性デバイス”という文献は、カプラー、スプリッター、マルチプレクサー、そしてトランスを実現するために、断熱的にモード変換のための導波路部分を先細にする可能性を開示している。
Reviews of Modern Physics vol.49,no.2,April 1977 pp.361−378に発表されている“集積された光学装置及び光導波路における新しい現象”という記事は、大多数のデバイスを持つ光学的電気回路構成におけるよりよい集積化を目的とする類似のデバイスを開示している。
Journal of Applied Physics,vol.69 no.11,June 1991 pp.7425−7429中の記事は、集積されたダブルコア層導波路構造を開示している。ここで、上部コアは誘導光の断熱的遷移と非断熱的遷移との間の相違を試験するために断熱的遷移帯を含むものである。その結果、この記事は本発明に開示されている感知又は変調のための感度の良いデバイスを得るための集積導波路システムの少なくとも一部の遷移部の改造を通じてデバイスを最適化するということから外れている。
ワーキングゾーンのそばにある能動光誘電層の厚さの減少によって、ワーキングゾーンの外側にあるチャンネルシステム上のどんな影響も避けられる。層厚減少の適当な断熱的設計によって、このゾーンにおける光出力の損失も、また避けられ、或いは少なくとも減少される。光を供給する光ファイバー及び／又は光を放出する光ファイバーと光チャンネルシステムとの間の単純な結合とそして再結合可能な結合もまた実現され得る。好ましい設計の場合においては、光誘導層はZnOからなる電気−光学的光誘導層と、Si3N4からなる受動光誘導層とを含み、そして電気−光学的誘導層は断熱的な層厚減少を示す。特に、電気−光学的光誘導層中の断熱層厚遷移帯は、変調ワーキングゾーンの外側でその層厚を少なくともほとんどゼロにまで減少させる。
ここで、光誘導層が能動層と受動層とから成るので、能動変調ゾーンの外側の層厚減少はどんな制限もなくなされ得る。なぜならば、そこでは受動光誘導層は光誘導を行うために必要であるからである。それ故、チャンネルシステム上のすべての負の影響は、チャンネルシステムそれ自体を通じて光誘導を制限することなく避けられる。
逆に、受動光誘導層は、変調ワーキングゾーンに位置する層の厚さはついにはゼロにまで減少され、そしてそれ以上に、この方法で作られた空間はすでに述べたZnOのような能動光誘導材料によって満たされるような断熱層厚遷移帯を備えられる。そして、それにより印加される電圧に対する感度は最適化される。
好ましい形状においては、センサー窓ワーキングゾーンに位置する受動光誘導層であるSi3N4が存在する層の厚さは、使用された光のエバネッセント場のテール部を用いることによって感度を最適化される。特に、そのシステムは、使用された光のエバネッセント場によりプローブされた屈折率プロファイルに影響を与える化学的及び／又は物理的量を測定するためのセンサーとして設計される。特に測定過程のこの点で、使用された光のエバネッセント場から構成されるものが使用され、そして測定される量の感度は、センサー窓をより長くすることによって、例えばより長い範囲にわたって第２クラッド層を除去することによって、増加されるものである。結局、使用される光の特別な性質がその感度を高めるのに必要とされるのではない。
より好ましい具体例では、能動的な電圧変調が能動光誘導材料中で最大限の効果を選り分けるそのような方法において、下にある電気伝導性の基板材料及び／又は局所的に導入された上部電極による使用される光の強度損失なしで、電気−光学的変調ワーキングゾーン中に存在するクラッド層の少なくとも１つの層の厚さが減少される。感知工程のための窓を得る為に、第２クラッド層は、また局所的に完全に、或いは少なくともほとんど受動光誘導層にまで除去される。これらの形状における１つ或いは両方の閉じ込め層の層厚は、それは好ましくはSiO2からなるが、変調ワーキングゾーンで減少され、そして同様にセンサー窓ワーキングゾーンで少なくともほとんどゼロにまで減少されるという事実によって、全体のチャンネルシステムにわたって見られる減少される光を閉じ込めなしで、最小の電気的駆動電圧の変調と同様に導波路構造の機能、すなわちエバネッセント場検出のための最適な両方の感度を最適化することができる。
より好ましい設計において、受動光誘導層は層の厚さを導いている断熱遷移帯に備えられる。そして、その位置で光を供給する光ファイバーのモードプロファイルの幾何学に対してそれは最適に調節される。特に、TE偏光がTM偏光に関して最適に組み入れられ、そしてその上最適に送信されるような方法でTE偏光とTM偏光の間を区別するために、受動光誘導層と第１クラッド層の両方の層の厚さは局所的に最適化される。
光が組み入れられる位置で受動光誘導層の層厚を変化させることによって、調整される必要があるそのゾーンの外側にあるチャンネルセットの構造なしで、最小の光損失を持って最適な結合が実現される。TE偏光とTM偏光との間の区別と、効率的なTE偏光の意味は、導波路構造の幾何学と受動光誘導層中の遷移層の一致する設計によって、更にまたより負に影響されているその帯の外側にある層の構成なしで、実現される。ここで、干渉計中への光の結合と共にTE偏光とTM偏光との間の区別は、全干渉計測定過程が測定光中の分散が減少されるTE偏光のみで行われ、そして十分に明瞭な干渉計の信号が発生されるという相当な有利さを与える。
更なる設計の中に、光誘導チャンネルシステムへの光入力ファイバー及び／又は光出力ファイバーの取り外し可能及び／又は光学的に調整可能な結合を実現するために、好ましくはSiによって作られた基板はＶ字型の溝を装備される。単純でそして高い精度を持った入力及び／又は出力ファイバーが挿入されそして位置され得る便利な通過口の使用は、すでに参照されたＶ字型の溝の上に、使用されていないＶ字型の溝を逆さまにした部分を取り付けることによって得られる。
Si中のＶ字型の溝の正確な寸法によって、そしてそれはエッチング技術を使用してとても精確に得られるものであるが、そこにおかれたファイバーは、当のチャンネルシステムの層中にファイバーからの光の最適なそして良好な再現性のある結合を与える。前に述べたこの位置の光誘導層の断熱的な厚さ遷移の結果、そこのチャンネル層の厚さは、入力及び／又は出力ファイバーに対して最適に調整される。両方の性質は共に減少された光の損失と同様に確実性に関して最適な結合を生じさせるものである。例えばガスレーザーや（ダイオードレーザーのような）固体レーザーのような、（ピッグテールの）光ファイバーを装備した光源は、それ故、チャンネルシステムに対して確実に結合される。それにより、どんな技術的失敗の場合においてもレーザー又は導波路システムのどちらか一方が交換されうるという有利性を持つので、単純な取り外し可能な結合が達成され得る。一方、永久的な結合は、しばしば光損失或いは光損失の変化がより減少されるどちらかの場合において実現される。
本発明による他の好ましい形状は、光誘導システムがマッハ・ツェンダー型干渉計の一部分を構成する。特に、その両方の中に含めているそのようなマッハ・ツェンダー干渉計は、電極を有する変調器と同様にセンサー窓を分岐している。そしてそこにはセンサー窓の１つが測定されるべき量の影響に対してシールドされる。
マッハ・ツェンダー干渉計は、米国特許第5,533、151号或いは米国特許第5,377,008号から知られ、そして常に２つのアームを含む。ここで１つのアーム中において外部量が屈折率の変化による位相変化を誘導する。この光の伝播を測定量に影響されないリファレンスアームを通じて伝播する光と比較することによって、この変化は極めて精確に測定される。
本発明によるマッハ・ツェンダー干渉計用の実用的な設計は、請求項７と８に明示されているように設計される。これはその干渉計に測定量によるものよりも他の外部の影響に対してより低い感度を与えるものである。特に、そのような干渉計は、位相シフトを逆位相信号が同じ強度を持つ状態から誘導さた測定量の誘導のための、電気回路中に合体される。それ故、信号は発生され、そしてそれはより明瞭で外部の障害に対してより無感覚になる。
その目的のための電気回路の実用的な設計は、請求項９にまとめられている。その電気回路は、特に、そのシステム中の（一対の）変調電極を作動させるための信号発生器を装備され、変調アナログ出力信号をデジタル信号に変換させるための閾値スイッチを装備し、そして変調出力信号から測定量の値の精確な決定のためのデジタル信号プロセッサーを装備する。
図面に基づいて、本発明によるいくつかの好ましい設計が次に続く本文で述べられるだろう。すべての図は、層構造中の層の厚さが633nmの波長に最適化されるように保持されている。図は、以下のものを示している。
図1:よく知られている集積光チャンネル導波路システムである。
図2:そのシステム中に本発明による電気−光学的光誘導層が断熱層厚遷移帯を有する、類似のシステムである。
図3:そのシステム中に本発明による１つのクラッド層が断熱層厚遷移帯を有する、類似のシステムである。
図4:システムの出力側に受動光誘導層が断熱的な層調整を有する好ましい設計である。
図5:ファイバーチップコネクターの断面及び平面図である。
図6:数層が断熱層厚遷移帯を示す好ましい設計である。
図7:そのようなシステムを備えられたマッハ・ツェンダー干渉計である。
図8:センサーが基礎とされる光のエバネッセント場を示される導波路構造の断面図である。
図9:干渉計出力信号の検出のための電気回路図である。
図１に模式的に示される集積光チャンネル導波路システムは、好ましくはSiよりなる基板２の表面上の光誘導構造と、好ましくは約500nmの厚さを持つSiO2からなる第１クラッド層４、光誘導層６、そして好ましくはまた約500nmの厚さを持つSiO2から成る第２クラッド層12を含む。光誘導層６は更に、好ましくは例えば約20nmの厚さを持つSi3N4からなる受動光誘導層８と、好ましくは約500nmの厚さを持つZnOの電気−光学的光誘導層10とから成る。ここで、そのシステムは第２閉じ込め層中のくぼみ16の内側に備えられる変調電極18を持つ第１ワーキングゾーン14と、センサー窓22を持つ第２ワーキングゾーン20を含む。ここで、第２ワーキングゾーン20の第２クラッド層にもくぼみ24が形成されている。この後者のくぼみは、図に示されるように光誘導層６にまで達している。そのような層のシステムは、変調電極18を用いた電気−光学的変調に対してはもちろん、感知やセンサー窓22の利用に対して好ましいものである。
図２に、ワーキングゾーン14のそばにある、好ましくはZnOから成りそして例えば500nmの層の厚さを持つ能動電気−光学的光誘導層10が、ワーキングゾーン14の両側の層厚遷移帯15中に断熱層厚減少部30を有する構成が描かれている。ここでもまた層の積み重ねは、基板２、第１クラッド層４、受動光誘導層８そして能動光誘導層10を含み、そしてそれらの上部に第２閉じ込め層12が形成されるものである。そして、それは点線13に示されるようにどちらも均一な厚さを持ち、或いは右側上部に見られるように連続するもののどちらかである。第２閉じ込め層の上のワーキングゾーン内には電極18が取り付けられる。ZnOは特に電気的電圧変調に対して好ましい。なぜならばこの材料は、光誘導層として適当な屈折率を示すと同時に、電気的電圧変調に対する高い感度の両方を示すからである。層厚減少部は断熱層厚遷移帯15の外側でより多くのZnOが存在せず、そして受動光誘導層８のみがそこで光の誘導を処理すると考えられる。好ましくは、層厚遷移帯はワーキングゾーンの端で始まり、そしてそのワーキングゾーンの端はまた電極18によって決定される。
図３に示されるように、好ましい設計は第１クラッド層４に接して断熱層厚遷移帯32、基板２、選択的に均一の厚さを持つ受動光誘導層８、能動光誘導層10を有する構造を示す。そして、能動光誘導層10の部分は、第１クラッド層を局所的に薄くすることによって作られた空間を満たすものである。ここで述べるべきことは、ZnO層のような光誘導層のための光学的断熱層厚遷移帯の幾何学は、確かに閉じ込め層中の類似の断熱層厚遷移帯の幾何学と同一ではないということである。斜面のプロファイルとそれと共に遷移帯の長さなどの幾何学は、数ある中でも関連する層の屈折率と隣り合う層の屈折率に依存する。ここで、ZnO層の厚さはまた図３に示されるようにゼロにまで減少するが、しかしそれは必要であるというものではない。別な方法では、この設計の形状は均一の層厚の能動光誘導層を備えられる。或いは、受動光誘導層は前に述べた可能な幾何学上の相違を含むために、好ましい層厚遷移帯を有する。
図４は光入力サイド34での受動光伝導層８が約10nmの層の厚さになっている断熱層厚遷移帯36で終わる設計形態を示している。この層厚変更を使用することで、コア35とクラッド37を有する入力ファイバー38との最適な結合が実現される。この場合の最適な結合は、一方では最低の光損失を有する結合を含むが、入力ファイバーから供給されるTE偏光とTM偏光との間の最適な区別を有する結合をまた確かに含む。この効果はクラッド層４の最適な厚さを選択することによって大きくされる。この方法では、干渉計はより高い分解能を持つ測定信号が発生されそして信号処理がよりシンプルとなるようにTE（あるいはTM）偏光のみを使用する。
図５には、設計の例はファイバー−導波路チャンネルシステム結合の概略が描かれており、そしてＶ字型の溝40に入られたファイバー38の断面および平面をそれぞれ示している。Ｖ字型の溝はSi基板２中に作られ、そしてそのファイバーは永久に置かれ、そして他の１枚の基板３で、好ましくは最初に使用された同じＶ字型の溝の一部で、覆われる。もし取り外し可能にするならば、一般に固定されたファイバーは、入力側42でチャンネル導波路システム１に光学的に接続される。
好ましい設計は図６に与えられる。そしてその中では、第１受動光誘導層８は、能動光誘導層10と両方のクラッド層４と12と同じように、断熱層厚遷移帯を有する。それぞれの分離した層厚遷移帯の利益のすべては、この設計に結び付けられ、そしてそれぞれから独立して最適化される。もし、それが有利であるならば、例えば（化学的な）分離あるいは付着層などの付加的な層は、例えば受動光誘導層と能動光誘導層との間のように既に述べた層の間に取り付けられる。図示された設計図には、変調電極18と同時にセンサー窓22がある。そのような集積光チャンネル導波路は、例えば図７中に示されるようなマッハ・ツェンダー干渉計システムの一部を構成する。
図７に描かれるマッハ・ツェンダー干渉計は、例えば先に述べた米国特許などで既によく知られており、そしてそれは例えば光ファイバーなどの光入力装置、能動ゾーンにと同じようにそれぞれのセンサー窓22と22'にはめ込まれる測定アーム44とリファレンスアーム46を含み、それぞれの電気的な電圧変調電極18と18'を有する。両方のアームは、例えばＹ字型接合器や或いはここに図示されているような第１出力50と第２出力52を有するマルチモード干渉計（MMI）などの光出力スプリッタ−又は結合器と接合される。それ故、ほとんど対照的なシステムは、その性能が周囲の温度と類似の原因のような外部の影響に独立していることによって、実現される。リファレンスアーム46中のセンサー窓22'は好ましくは相対湿度、ガスと液体の組成、光学的屈折率の変化、温度変化などのような測定されるべき外部の変化し得る影響に対してシールドされる。そのような干渉計を用いることによって、原理的には測定されるべき量によって引き起こされる位相シフトを除いて同じ範囲に対して影響されて、２つの信号は発生される。それ故、その測定は単純で、そして高い精確さを示す。
測定を実行するために、直接に或いは入力ファイバーによって組み入れられるレーザー光により作られるものが使用される。既に述べたように、本発明によれば組み込み時にTE偏光を選択することが可能である。先に述べられた正確な光入力結合と同様に、光誘導層の上述した断熱層厚変化帯を有する干渉計は非常に敏感である。
そのような干渉計を用いての測定は、たいてい誘導層中とその周辺に閉じ込められている入力光の伝播と共に実行される。本発明によるその断熱的な層厚適用を用いることによって、使用された光のいわゆるエバネッセント場のテール部の助けを借りて測定を行うことが可能となる。これを明らかにするために、図８は導波路チャンネルシステム中の光の伝播がどのようにして光ガイド層６の内側にある中央部60と、クラッド層12中に存在するエバネッセント場62とに分離されるのかを示している。断熱層厚帯をゼロにまで減少させる手段によってクラッド層12の層の厚さを減少させると、ここでエバネッセント場は外部の影響に対して高い感度を示す。そしてこの方法で感知用の窓が形成される。中央部60とエバネッセント場のテール部分62との間の出力比が光ガイド層６の層の厚さに依存するので、エバネッセント場のテール部分中の光のより大きい部分をセンサー窓で得ることが可能となり、そしてその結果、例えば先に述べた光誘導層６の断熱層厚遷移帯による外部の影響のより高い感度さえも得ることが可能となる。
図９は、測定量により引き起こされた位相シフトがマッハ・ツェンダー干渉計の出力信号から分離される電気回路の機能図を示す。出力チャンネル50と52から発生した光学的出力信号は、最初に光検出器60と62によって電気的信号に変換され、続けて前置増幅器64によって増幅される。その後閾値スイッチ66を使用して、逆位相にされた出力信号が同一の強度を持つ点で検出が行われる。この検出方法の利点は、出力チャンネル50と52の変動の原因であるにもかかわらず、これらの両方からの光出力の通常の変動によっては干渉されないということにある。このほかにも、引き起こされた位相シフトの検出感度は、先に述べた検出点において最適化される。明瞭な検出を可能にさせるために、測定期間中、時間周期位相シフトが例えば先に述べたようなものである位相変調器18の助けを借りて適用される。特別な設計形状に依存するので、１つ或いはそれ以上の検出点は測定周期中に得られる。この時間周期位相シフトの時間依存性は線形であり、そして位相変調器に対して同じ時間依存性を持つ電圧を掛けることによって実現される。図７の好ましい設計には、相互に反対の極性を持つような電圧が、電極18と18'の両方に掛けられる。電気的波形発生器68は、その述べられた電圧を発生し利用可能にする処理をする。発生された電圧波形のピーク−ピーク値はデジタル信号処理及びコントロールユニット70によって調整される。それは、各測定周期の間に先に述べた検出点が少なくとも１回通過されるというような方法で行われる。測定周期の初めと検出点の通過との間の時間間隔は、測定量により引き起こされた位相シフトを明瞭にし、そして線形の測定量とするものであり、そしてこの時間を測定することによって位相シフトが得られる。検出点のサンプリングは速く完了される。なぜならば、閾値スイッチ66は直接に検出点の通過を２進信号の急なスロープに変換し、そしてそれと共にこの２進信号のパルス幅が確立されるからである。パルス幅のコード化は、デジタル時間間隔カウンター68によって、単純でそして高度な定量化を可能にする。デジタル処理及びコントロールユニット70は、定量化されたサンプリング時間に基づいて位相シフトを誘導された測定量の再構成を行い、そしてデジタル出力信号を伝える。デジタル信号処理及びコントロールユニット70は時間間隔カウンター68と共に波形発生器72の同調に対してもまた責任を負っている。また、例えば測定精度を増加させるために、デジタル信号処理及びコントロールユニット70は再構成された位相シフトの最終処理を更に任意に実行することができる。
【図１】
0003562651.tif 000002
【図２】
0003562651.tif 000003
【図３】
0003562651.tif 000004
【図４】
0003562651.tif 000005
【図５】
0003562651.tif 000006
【図６】
0003562651.tif 000007
【図７】
0003562651.tif 000008
【図８】
0003562651.tif 000009
【図９】
0003562651.tif 000010