(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
放電セルと、透明電極間に設けられる放電ギャップ部と、隣接する放電セルと放電セルとの間の非放電ギャップ部に設けられるブラックストライプとからなるプラズマディスプレイパネル用ブラックストライプの製造方法であって、
基板全面にブラックストライプの材料であり、かつ、露光量によって基板との密着力の変化する黒色感光性材料層を形成し、この黒色感光性材料層上に感光性レジスト層を成膜し、前記感光性レジスト層を露光すると共に前記黒色感光性材料層を露光する露光量を部分的に変えて前記非放電ギャップ部の露光量を大にすると共に、前記放電ギャップ部の露光量を小とし、前記感光性レジスト層を除去する際、露光量が小なる前記放電ギャップ部の前記黒色感光性材料層を前記基板から剥離せしめ、露光量が大なる前記非放電ギャップ部の前記黒色感光性材料層を前記基板上に残し、露光量の大である前記非放電ギャップ部の黒色感光性材料層を前記ブラックストライプにすることを特徴とするプラズマディスプレイパネル用ブラックストライプの製造方法。
【請求項２】
放電セルと、透明電極間に設けられる放電ギャップ部と、隣接する放電セルと放電セルとの間の非放電ギャップ部に設けられるブラックストライプとからなるプラズマディスプレイパネル用ブラックストライプの製造方法であって、
基板全面にブラックストライプの材料であり、かつ、露光量によって基板との密着力の変化する黒色感光性材料層を形成し、この黒色感光性材料層上に感光性レジスト層を成膜する第１の工程と、
第１のマスクを用いて前記放電ギャップ部と非放電ギャップ部とを露光し、前記放電ギャップ部及び非放電ギャップ部の黒色感光性材料層を基板上に残す第２の工程と、
第２のマスクを用いて前記非放電ギャップ部の黒色感光性材料層を更に露光せしめる第３の工程と、
全面に透明電極となる透明導電膜を成膜する第４の工程と、
前記感光性レジスト層を除去する第５の工程と、
を少なくとも含むことを特徴とするプラズマディスプレイパネル用ブラックストライプの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、プラズマディスプレイパネル用ブラックストライプの製造方法に係わり、特に、ブラックストライプの位置を高精度に形成することを可能にしたプラズマディスプレイパネル用ブラックストライプの製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来より、プラズマディスプレイパネルでは、外光のパネル表面での反射率を低下させることで、コントラストを改善するために、ブラックストライプを設けている。
【０００３】
この目的のために、図５に示したように、透明電極３１が形成された基板３２上にブラックストライプをスクリーン印刷法によるパターン印刷で形成する方法や、図６に示したように、透明電極３１が形成された基板３２上に、黒色感光性材料層３４を形成し、フォトリソグラフィを用いてブラックストライプ３６を形成する方法が用いられている。
【０００４】
しかしながら、スクリーン印刷法によるパターン印刷では、スクリーン版の伸縮により、高い位置精度でブラックストライプを形成することは困難であり、また、フォトリソグラフィを利用した感光性ペースト法では、高精度にブラックストライプを形成することが可能であるものの、透明電極の位置を決定する露光工程と、ブラックストライプの位置を決定する露光工程とが別工程になっているため、位置ずれが生ずる恐れがある。このため、パネルの高コントラスト化を目的として形成されたブラックストライプが逆に輝度の低下を招く恐れがあった。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の目的は、上記した従来技術の欠点を改良し、特に、ブラックストライプの位置を高精度に形成することを可能にした新規なプラズマディスプレイパネル用ブラックストライプの製造方法を提供するものである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
本発明は上記した目的を達成するため、基本的には、以下に記載されたような技術構成を採用するものである。
【０００７】
即ち、本発明に係わるプラズマディスプレイパネル用ブラックストライプの製造方法の第１態様は、
放電セルと、透明電極間に設けられる放電ギャップ部と、隣接する放電セルと放電セルとの間の非放電ギャップ部に設けられるブラックストライプとからなるプラズマディスプレイパネル用ブラックストライプの製造方法であって、
基板全面にブラックストライプの材料であり、かつ、露光量によって基板との密着力の変化する黒色感光性材料層を形成し、この黒色感光性材料層上に感光性レジスト層を成膜し、前記感光性レジスト層を露光すると共に前記黒色感光性材料層を露光する露光量を部分的に変えて前記非放電ギャップ部の露光量を大にすると共に、前記放電ギャップ部の露光量を小とし、前記感光性レジスト層を除去する際、露光量が小なる前記放電ギャップ部の前記黒色感光性材料層を前記基板から剥離せしめ、露光量が大なる前記非放電ギャップ部の前記黒色感光性材料層を前記基板上に残し、露光量の大である前記非放電ギャップ部の黒色感光性材料層を前記ブラックストライプにすることを特徴とするものであり、
叉、第２態様は、
放電セルと、透明電極間に設けられる放電ギャップ部と、隣接する放電セルと放電セルとの間の非放電ギャップ部に設けられるブラックストライプとからなるプラズマディスプレイパネル用ブラックストライプの製造方法であって、
基板全面にブラックストライプの材料であり、かつ、露光量によって基板との密着力の変化する黒色感光性材料層を形成し、この黒色感光性材料層上に感光性レジスト層を成膜する第１の工程と、
第１のマスクを用いて前記放電ギャップ部と非放電ギャップ部とを露光し、前記放電ギャップ部及び非放電ギャップ部の黒色感光性材料層を基板上に残す第２の工程と、
第２のマスクを用いて前記非放電ギャップ部の黒色感光性材料層を更に露光せしめる第３の工程と、
全面に透明電極となる透明導電膜を成膜する第４の工程と、
前記レジスト層を除去する第５の工程と、
を少なくとも含むことを特徴とするものである。
【０００８】
【発明の実施の形態】
本発明に係わるプラズマディスプレイパネル用ブラックストライプの製造方法では、図１に示したように、まず、ガラス基板上に黒色感光性材料層と感光性レジスト層を積層し、透明電極ポジパターンマスクにより露光１及び現像を行い透明電極ネガパターンを形成する。次に、非放電ギャップネガパターンマスクにより露光２を行う。ここで、図３に示すように、紫外線エネルギーにより下地との密着性が異なる感光性材料の特性から、非放電ギャップ部の露光量を大にすることで、ブラックストライプ部分の黒色感光性材料とガラス基板との密着性を高めることができる。そして、透明電極を成膜した後のレジスト除去工程では、放電ギャップ部では、黒色感光性材料及び感光性レジストが共に剥離されるが、大きな紫外線エネルギーを与えた非放電ギャップ部では、黒色感光性材料とガラス基板間の密着力が大きく、感光性レジストのみが剥離される。その結果、透明電極とブラックストライプとが同時に且つ位置精度良く形成される。
【０００９】
【実施例】
以下に、本発明に係わるプラズマディスプレイパネル用ブラックストライプの製造方法の具体例を図面を参照しながら詳細に説明する。
【００１０】
（第１の具体例）
図１は、本発明に係わるプラズマディスプレイパネル用のブラックストライプの製造工程を示す図、図２は、本発明が適用されるプラズマディスプレイパネルの構造を示す図、図３は、紫外線露光量に対する黒色感光材料の下地との密着性特性を示すグラフであって、これらの図には、
プラズマディスプレイパネル用ブラックストライプの製造方法であって、
基板１全面にブラックストライプの材料である黒色感光性材料層２を形成し、この黒色感光性材料層２上に感光性レジスト層３を成膜し、前記感光性レジスト層３を露光すると共に前記黒色感光性材料層２を露光する露光量を部分的に変え、露光量の大である部分の黒色感光性材料層２ａを前記ブラックストライプ４にすることを特徴とするプラズマディスプレイパネル用ブラックストライプの製造方法が示されている。
【００１１】
又、プラズマディスプレイパネル用ブラックストライプの製造方法であって、基板１全面にブラックストライプの材料である黒色感光性材料層２を形成し、この黒色感光性材料層２上に感光性レジスト層３を成膜し、前記感光性レジスト層３を露光すると共に前記黒色感光性材料層２を露光する露光量を部分的に変え、剥離工程では、露光量の小なる部分の黒色感光性材料層２ｂのみを剥離することで、ブラックストライプ４を形成することを特徴とするプラズマディスプレイパネル用ブラックストライプの製造方法が示されている。
【００１２】
以下に、第１の具体例を更に詳細に説明する。
【００１３】
先ず初めに、本発明が適用されるプラズマディスプレイパネルの構造について説明する。
【００１４】
図２に示すように、背面基板１１には、放電空間１２を単位発光セル毎に区画している隔壁１３が、ストライプ状に形成されている。このように作られた放電空間１２の内側には、可視光の発光とカラー化のために赤色（Ｒ）、緑（Ｇ）、青色（Ｂ）の蛍光体層１４が規則的に形成されている。前面基板１には、放電させるための帯状の透明電極対５、５が形成され、その上を透明誘電体層７で覆われている。この一対の透明電極５、５間の放電で生じる紫外線によって、蛍光体層１４が励起され、発光する。なお、１５は、データを書込むためのデータ電極である。
【００１５】
次に、本発明のブラックストライプの製造方法について説明する。
【００１６】
本発明のブラックストライプの製造方法では、基板１上に黒色感光性材料層２と感光性レジスト層３とを積層し使用する（図１（ａ））。黒色感光性材料としては、低融点ガラス粉末に酸化クロム（Ｃｒ２Ｏ３）や酸化コバルト（Ｃｏ２Ｏ３）を主成分とする金属酸化物粉末を混合し、更にネガ型の感光性樹脂、溶剤を混合しペースト化したものを用い、スクリーン印刷法により基板１全面に印刷し形成する。感光性レジストは、ネガ型のドライフィルムレジストを用い、ラミネートにより形成すればよい。また、工程の短縮化を考慮すると、黒色感光性材料層２と感光性レジスト層３とを有する積層ドライフィルムを使用し、ラミネートにより一度に形成しても良い。このように、基板１上に形成された黒色感光性材料層２と感光性レジスト層３とを、透明電極ポジパターンマスク２１を用いて、露光１を行う（図１（ｂ））。その後、１％未満の炭酸ナトリウム（Ｎａ２ＣＯ３）現像液にて現像し、透明電極ネガパターンを形成する（図１（ｃ））。次に、非放電ギャップネガパターンマスク２２により露光２を行う（図１（ｄ））。ここで、図３に示したような、与えた紫外線エネルギー（露光量）により、下地との密着性が異なるという感光性材料の特性を利用して、非放電ギャップ部の黒色感光性材料層２ａとガラス基板１との密着性を、放電ギャップ部の黒色感光性材料層２ｂとガラス基板１との密着性より高めることができる。そして、例えば、酸化インジウム錫（ＩＴＯ）からなる透明電極膜５を基板１前面に成膜した後（図１（ｅ））、レジスト除去工程にて、放電ギャップ部６では、黒色感光性材料層２及び感光性レジスト層３が共に剥離し、大きな紫外線エネルギーを与えた非放電ギャップ部では、黒色感光性材料２とガラス基板１間の密着力が大きいから、感光性レジスト層３のみが基板１から剥離する。ここで剥離液として、水酸化ナトリウム（ＮａＯＨ）や水酸化カリウム（ＫＯＨ）を用いることで、上層の感光性レジスト層３を膨潤させ、除去することができる。下層の黒色感光性材料層２は、炭酸ナトリウム（Ｎａ２ＣＯ３）を用い、露光２で大きな紫外線エネルギー与えた部分の黒色感光性材料層２ａのみが剥離されない条件で剥離を行うとよい。結果として、透明電極とブラックストライプとが同時に且つ位置精度良く形成される（図１（ｆ））。
【００１７】
なお、図１（ｄ）の露光２は、図１（ｃ）の現像前に行ってもよい。
【００１８】
また、放電ギャップ部分の露光量とブラックストライプ部分（非放電ギャップ部分）の露光量とが異なれば、本発明の目的が達成されるから、勿論上記以外の他の方法を用いてももよい。
【００１９】
このように、第１の具体例では、
放電セルと、透明電極間に設けられる放電ギャップ部と、隣接する放電セルと放電セルとの間の非放電ギャップ部に設けられるブラックストライプとからなるプラズマディスプレイパネル用ブラックストライプの製造方法であって、
基板１全面にブラックストライプの材料である黒色感光性材料層２を形成し、この黒色感光性材料層２上に感光性レジスト層３を成膜する第１の工程と、
第１のマスク２１を用いて前記放電ギャップ部と非放電ギャップ部とを露光し、前記放電ギャップ部及び非放電ギャップ部の黒色感光性材料層２ａ、２ｂを基板１上に残す第２の工程と、
第２のマスク２２を用いて前記非放電ギャップ部を更に露光せしめる第３の工程と、
全面に透明電極となる透明導電膜５を成膜する第４の工程と、
前記レジスト層３を除去する第５の工程と、
前記放電ギャップ部上の黒色感光性材料層２ｂを除去する第６の工程と、
を少なくとも含むことを特徴とするものである。
【００２０】
（第２の具体例）
図４は、本発明に係わるプラズマディスプレイパネル用ブラックストライプの製造方法の第２の具体例の構造を示す図である。
【００２１】
第１の具体例では、黒色感光性材料層とガラス基板間の密着力の違いを利用し、部分的に剥離する方法を示したが、与える紫外線エネルギーにより、黒色感光性材料層２と感光性レジスト層３との間の密着力が異なる性質を利用することもできる。その構成を図４に示す。図４においては、露光２を放電ギャップネガパターンマスク２５により行う。ここで、黒色感光性材料層２と感光性レジスト層３とは、大きな紫外線エネルギーを与えることで、黒色感光性材料層２と感光性レジスト層３との間の密着性が、黒色感光性材料層２とガラス基板１間の密着性よりも大きくなる。
【００２２】
従って、最終工程のレジスト剥離により、非放電ギャップ部では、感光性レジストのみが剥離されるが、大きな紫外線を与えた放電ギャップ部では、黒色感光性材料層２と感光性レジスト層３間の密着力が、黒色感光性材料層２とガラス基板１間よりも大きくなるため、黒色感光性材料層２と感光性レジスト層３とが共に剥離する。その結果、透明電極とブラックストライプとが同時に且つ位置精度良く形成される。
【００２３】
【発明の効果】
本発明に係わるプラズマディスプレイパネル用ブラックストライプの製造方法は、透明電極の位置を決定する露光と、非放電ギャップ部のブラックストライプの位置を決定する露光が同時に行われているため、位置精度がよいという効果が得られる。
【００２４】
従って、位置ずれにより、ブラックストライプが透明電極にかかり、輝度の低下を招くといった問題が解消される。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に係わるプラズマディスプレイパネル用ブラックストライプの製造方法の第１の具体例を示す断面図である。
【図２】プラズマディスプレイパネルの構造を示す斜視図である。
【図３】紫外線エネルギに対する感光材料の特性を示すグラフである。
【図４】本発明の第２の具体例を示す断面図である。
【図５】従来の製造方法を示す図である。
【図６】他の従来の製造方法を示す図である。
【符号の説明】
１  基板
２  黒色感光性材料層
２ａ  非放電ギャップ部の黒色感光性材料層
２ｂ  放電ギャップ部の黒色感光性材料層
３  感光性レジスト層
４  ブラックストライプ
５  透明電極
６  放電ギャップ部
１１  背面基板
１２  放電空間
１３  隔壁
１４  蛍光体層
１５  データ電極
２１、２２  マスク
３１  透明電極
３２  基板
３４  黒色感光性材料層
３６  ブラックストライプ
【図１】
0003541757.tif 000002
【図２】
0003541757.tif 000003
【図３】
0003541757.tif 000004
【図４】
0003541757.tif 000005
【図５】
0003541757.tif 000006
【図６】
0003541757.tif 000007