(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
ポリエステルフィルムをベースフィルムとし、該フィルムの少なくとも片面にバインダー樹脂、不活性粒子、界面活性剤及びシロキサン共重合アクリル樹脂からなる皮膜層Ａを有する複合ポリエステルフィルムであり、該シロキサン共重合アクリル樹脂中のアクリル樹脂成分とシロキサン成分との比率が、重量比で９８：２〜５０：５０の範囲にあり、該皮膜層Ａ中のシロキサン共重合アクリル樹脂の含有量が１〜５０重量％であることを特徴とする磁気記録媒体用複合ポリエステルフィルム。
【請求項２】
皮膜層Ａの外表面の表面張力が４５ｄｙｎ／ｃｍ以上である請求項１に記載の複合ポリエステルフィルム。
【請求項３】
皮膜層Ａを形成するバインダー樹脂が、水溶性又は水分散性の、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂及びアクリル―ポリエステル樹脂からなる群より選ばれる少なくとも一種の樹脂である請求項１に記載の複合ポリエステルフィルム。
【請求項４】
皮膜層Ａを形成する界面活性剤がノニオン型界面活性剤である請求項１に記載の複合ポリエステルフィルム。
【請求項５】
皮膜層Ａの外表面の中心線平均粗さＲａＡ  が１〜３０ｎｍである請求項１〜４のいずれかに記載の複合ポリエステルフィルム。
【請求項６】
皮膜層Ａに含まれる不活性粒子の平均粒径が１０〜２００ｎｍであり、この含有量が５〜４０重量％（皮膜層Ａに対し）である請求項１又は５に記載の複合ポリエステルフィルム。
【請求項７】
ベースフィルムを形成するポリエステルが不活性粒子を実質的に含有しないか、平均粒径２０００ｎｍ以下の不活性粒子を含有する請求項１又は５に記載の複合ポリエステルフィルム。
【請求項８】
ポリエステルフィルムの皮膜層Ａを形成した面の反対の表面に、バインダー樹脂、不活性粒子及び界面活性剤からなる皮膜層Ｂが形成されており、該不活性粒子の平均粒径が５〜１００ｎｍで且つ、凝集率が２０％以下であり、さらに皮膜層Ｂの外表面に該不活性粒子に基因して１×１０６  〜１×１０８  個／ｍｍ２の突起を有し、且つ皮膜層Ｂの表面の中心線平均粗さＲａＢ  が０．１〜２ｎｍである請求項１〜７のいずれかに記載の複合ポリエステルフィルム。
【請求項９】
皮膜層Ｂがシロキサン共重合アクリル樹脂を１〜３０重量％含有する請求項８に記載の複合ポリエステルフィルム。
【請求項１０】
皮膜層Ｂを形成するバインダー樹脂が、水溶性又は水分散性の、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂及びアクリル―ポリエステル樹脂からなる群より選ばれる少くとも一種の樹脂である請求項８又は９に記載の複合ポリエステルフィルム。
【請求項１１】
皮膜層Ａの外表面の中心線平均粗さＲａＡ  が０．１〜２ｎｍである請求項１〜４のいずれかに記載の複合ポリエステルフィルム。
【請求項１２】
皮膜層Ａに含まれる不活性粒子の平均粒径が１０〜５０ｎｍであり、この含有量が０．５〜３０重量％（皮膜層Ａに対し）である請求項１又は１１に記載の複合ポリエステルフィルム。
【請求項１３】
皮膜層Ａの外表面に該皮膜層Ａに含有される不活性粒子に基因する突起が１〜４０個／μｍ２  の密度で存在する請求項１、１１又は１２に記載の複合ポリエステルフィルム。
【請求項１４】
皮膜層Ａの外表面に、非接触三次元粗さ計により測定した表面粗さプロファイルから求めた、高さ４ｎｍ以上の粗大突起の密度が２００個／ｍｍ２  以下である請求項１、１１、１２又は１３に記載の複合ポリエステルフィルム。
【請求項１５】
ベースフィルムを形成するポリエステルが不活性粒子を実質的に含有しないか、平均粒径４００ｎｍ以下、体積形状係数０．１〜π／６の不活性粒子を含有する請求項１又は１１に記載の複合ポリエステルフィルム。
【請求項１６】
ポリエステルフィルムの皮膜層Ａを形成した面の反対の表面に、バインダー樹脂、不活性粒子及び界面活性剤からなる皮膜層Ｂ’が形成されており、皮膜層Ｂ’の外表面の中心線平均粗さが１〜３０ｎｍである請求項１１〜１５のいずれかに記載の複合ポリエステルフィルム。
【請求項１７】
ポリエステルフィルムの皮膜層Ａを形成した面の反対の表面に、不活性粒子を含有するポリエステルからなる皮膜層Ｃが形成されており、皮膜層Ｃが共押出し法により前記ポリエステルフィルムに積層され、かつ皮膜層Ｃの外表面の中心線平均粗さが１〜３０ｎｍである請求項１１〜１５のいずれかに記載の複合ポリエステルフィルム。
【請求項１８】
皮膜層Ｃが下記式
【数１】
0003598016.tif 000010
ここで、ｄｃ（μｍ）は層Ｃ中の不活性粒子の平均粒径であり、Ｃｃ（重量％）は該不活性粒子の含有量であり、そして、ｔｃ（ｎｍ）は層Ｃの厚みである、を満足する請求項１７に記載の複合ポリエステルフィルム。
【請求項１９】
請求項８〜１０のいずれかに記載の複合ポリエステルフィルムの皮膜層Ｂ上に磁気記録層を設けてなる磁気記録媒体。
【請求項２０】
請求項１１〜１８のいずれかに記載の複合ポリエステルフィルムの皮膜層Ａ上に磁気記録層を設けてなる磁気記録媒体。
【請求項２１】
アナログ信号記録用Ｈｉ８、ディジタル信号記録用ディジタルビデオカセットレコーダーまたはデータ８ｍｍ、ＤＤＳＩＶ用である請求項１９又は２０に記載の磁気記録媒体。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は複合ポリエステルフィルムに関する。詳しくはフィルムの帯電量が少なく、フィルム間のブロッキングがなく、削れが少なく、且つ、電磁変換特性、磁気記録層の接着性、バックコート層の接着性に優れ、特に高密度磁気記録媒体の基材として用いるのに適した複合ポリエステルフィルムに関する。
【０００２】
【従来の技術】
ビデオテープ、オーディオテープ、メモリーテープ、磁気シート、磁気ディスク等の磁気記録媒体は、支持体と支持体表面上に設けられた磁性層（磁気記録層）からなる。また、磁気テープでは磁性層と反対の表面にすべり性を増すために、易滑性のバックコート層を設ける場合が多い。磁気記録媒体の支持体として、ポリエステルフィルムが主として用いられるが、磁性層とポリエステルフィルムとの密着性、易滑性のバックコート層とポリエステルフィルムとの密着性は重要な特性である。密着性が不良であると、磁気記録媒体の録音、録画再生過程において、磁性層、バックコート層がはがれて磁気記録特性が全く損なわれてしまう。
【０００３】
接着性の改良されたポリエステルフィルムとして、何種類ものフィルムが知られている。例えば、コロナ放電処理を表面に施したもの、易接着性樹脂を表面に塗布したもの等が挙げられる。特に顕著な易接着性効果をもたらすためには、易接着樹脂を塗布することが望ましいとさえ言われている。
【０００４】
近年、磁気記録の高密度化に伴い、使用されるポリエステルフィルムの表面粗度は低くなり、平滑化されている。この場合、従来の易接着性樹脂塗布処理を施したものは、フィルムをロール状態に巻いた場合において、フィルム同士のブロッキングが起こり、ロールの磁気記録媒体製造工程の巻出し段階で、フィルムが切れたり、破れたりしてしまう現象が起こりやすい。
【０００５】
特に、磁性金属薄膜を真空蒸着でポリエステルフィルム表面に設けてなる蒸着型磁気記録媒体、例えばビデオ用蒸着テープは、使用するベースフィルムの表面粗さが低く、このため磁性層面と反対側にバックコート層を設けてテープ走行面の滑り性を向上させる必要がある。
【０００６】
この場合、バックコート層のポリエステルフィルムへの接着性を向上させるために、バックコート層に対するフィルム表面の易接着化塗布処理を従来技術で行なったときには、該フィルムの表面粗さが極めて低いので、ブロッキングも起こりやすい。
【０００７】
このブロッキングは空気中の水分がフィルム表面に浸透したり、表面間に入り込み、フィルム間の圧力でフィルム表面間が接着状態のようになるために生じると考えられる。工場ではフィルム製造後または使用前のロール状製品の保存を低湿度下に行っており、保管管理条件を厳しく管理することにより、ブロッキングをある程度防止することは可能であるものの、本質的解決は図れない。特に蒸着磁気記録媒体用のポリエステルフィルムの場合には、湿度管理では易接着化フィルムのブロッキング防止は不可能である。
【０００８】
易接着化処理したポリエステルフィルムは帯電を帯びやすい。帯電の高いフィルムは、フィルム製膜時及びテープ化時のハンドリング性が著しく悪化したり、また帯電により発生する火花がテープ化時に使用する有機溶剤に引火する危険性があり、更に空気中の浮遊ゴミを電気的に吸着し易く、そのようなゴミが高密度記録を必要とする蒸着テープ等にとっては特にドロップアウトの原因となるなどの問題を孕んでいる。
【０００９】
また、蒸着型磁気記録媒体の製造では、金属薄膜とベースフィルムの密着性を良好にするため、通常金属薄膜形成前に、イオンボンバード処理と呼ばれる、ベースフィルム表面をイオンにより活性化する処理が施される。そして薄膜形成時には、フィルム表面に高温の熱がかかり、ベースフィルムが溶けてしまったり、あるいは機械特性がなどの物性の低下を招かないように、背面冷却が施される。背面冷却の方法としてはドラム状冷却体にベースフィルムを巻き付ける方法が通常用いられるが、その際ドラム表面に金属薄膜が形成されないようにベースフィルムの両端をマスキングする。従って、蒸着処理後の加工フィルムの両端は、フィルム長手方向にイオンボンバード処理のみがなされ、金属薄膜が形成されていない部分となり、これが連続的に生じ、かつこの部分がフィルムロールの両エッジ部分となる。この部分が巻き取られると、イオンボンバード処理で活性化されたベース表面と反対側のベース表面が接触し、ブロッキングを起こし易くなり、工程トラブルを惹起する。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、上述の従来技術の欠点を解消し、フィルムの帯電量が少なく、フィルム間のブロッキングがなく、削れが少なく、且つ電磁変換特性、磁性層の接着性、バックコート層の接着性に優れた、特に高密度磁気記録媒体の基材として用いるのに適した複合ポリエステルフィルムを提供することを目的とする。
【００１１】
【課題を解決するための手段】
本発明の目的は、本発明によれば、ポリエステルフィルムをベースフィルムとし、該フィルムの少なくとも片面にバインダー樹脂、不活性粒子、界面活性剤及びシロキサン共重合アクリル樹脂からなる皮膜層Ａを有する複合ポリエステルフィルムであり、該シロキサン共重合アクリル樹脂中のアクリル樹脂成分とシロキサン成分との比率が、重量比で９８：２〜５０：５０の範囲にあり、該皮膜層Ａ中のシロキサン共重合アクリル樹脂の含有量が１〜５０重量％であることを特徴とする磁気記録媒体用複合ポリエステルフィルムによって達成される。
【００１２】
本発明を以下に詳しく述べる。
本発明においてベースフィルムを構成するポリエステルとしては、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンイソフタレート、ポリテトラメチレンテレフタレート、ポリ―１，４―シクロヘキシレンジメチレンテレフタレート、ポリエチレン―２，６―ナフタレンジカルボキシレート等を例示することができる。これらのうち、ポリエチレンテレフタレート及びポリエチレン―２，６―ナフタレンジカルボキシレートが好ましい。
【００１３】
上記ポリエステルはホモポリエステルであってもコポリエステルであってもよい。コポリエステルの場合、ポリエチレンテレフタレート及びポリエチレン―２，６―ナフタレンジカルボキシレートの共重合成分としては、例えばジエチレングリコール、プロピレングリコール、トリメチレングリコール、テトラメチレングリコール、ネオペンチルグリコール、ポリオキシエチレングリコール、ｐ―キシレングリコール、１，４―シクロヘキサンジメタノール等の他のジオール成分、アジピン酸、セバシン酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸（但し、ポリエチレン―２，６―ナフタレンジカルボキシレートの場合）、２，６―ナフタレンジカルボン酸（但し、ポリエチレンテレフタレートの場合）、５―ナトリウムスルホイソフタル酸等の他のジカルボン酸成分、ｐ―オキシエトキシ安息香酸等のオキシカルボン酸成分等があげられる。尚、共重合成分の量は全酸成分に対し２０モル％以下、更には１０モル％以下とするのが好ましい。
【００１４】
更に、トリメリット酸、ピロメリット酸等の３官能以上の多官能化合物を共重合させることもできる。この場合ポリマーが実質的に線状である量、例えば２モル％以下共重合させることが好ましい。
【００１５】
ポリエチレンテレフタレートおよびポリエチレン―２，６―ナフタレンジカルボキシレート以外の他のポリエステルの場合の共重合成分についても、上記の説明と同様に考えられることは容易に理解されるであろう。
【００１６】
上記ポリエステルは、それ自体公知であり、かつそれ自体公知の方法で製造することができる。そして、ポリエステルの固有粘度は０．４〜０．９の範囲が好ましい。
【００１７】
本発明におけるポリエステルフィルム（ベースフィルム）の厚さは１〜２０μｍ、好ましくは２〜１０μｍである。
【００１８】
本発明におけるポリエステルフィルム（ベースフィルム）は、不活性粒子を含有していなくても含有していてもよい。含有させる場合には有機系粒子でも無機系粒子でもよい。そして、ポリエステルフィルムに含有させる不活性粒子（不活性粒子Ｐ）は、後述する皮膜層Ａ、皮膜層Ｂまたは皮膜層Ｃに用いる不活性粒子と、その種類や平均粒径において同じでも異なっていてもよい。
【００１９】
上記不活性粒子Ｐにおいて、有機系粒子としては、ポリスチレン、ポリスチレン―ジビニルベンゼン、ポリメチルメタクリレート、メチルメタクリレート共重合体、メチルメタクリレート共重合架橋体、ポリテトラフルオロエチレン、ポリビニリデンフルオライド、ポリアクリルニトリル、ベンゾグアナミン樹脂、シリコーン樹脂からなる粒子、及びこれら重合体を成分とするグラフト共重合体からなるコア・シェル構造の粒子を例示することができる。また無機系粒子としては、シリカ、アルミナ、二酸化チタン、長石、カオリン、タルク、グラファイト、炭酸カルシウム、二硫化モリブデン、カーボンブラック、硫酸バリウムからなる粒子を例示することができる。これら粒子は通常、ポリエステル製造時、例えばエステル交換法による場合のエステル交換反応中もしくは重縮合反応中の任意の時期、または直接重合法による場合の任意時期に、好ましくはグリコールスラリーとして反応系中に添加する。
【００２０】
上記不活性粒子Ｐの平均粒径は、通常２μｍ以下であるが、皮膜層Ａが非磁性層側の面を形成する場合には０．００５〜２μｍ（５〜２０００ｎｍ）、更には０．０１〜１．８μｍであることが好ましく、この添加量はポリエステルの重量に対し、０．００１〜２重量％、更には０．０１〜１．５重量％であることが好ましい。また、上記不活性粒子Ｐの平均粒径は、皮膜層Ａが磁性層側の面を形成する場合には３０〜４００ｎｍ、更には４０〜２００ｎｍ、特に５０〜１２０ｎｍであることが好ましく、この添加量はフィルム表面に０．５万〜１０万個／ｍｍ２、更には０．７５万〜６万個／ｍｍ２，特に１万〜３万個／ｍｍ２の密度で微細突起を形成する量であることが好ましい。微細突起の密度が上記範囲にあると、磁性層面の満足な走行耐久性と優れた電磁変換特性とを得ることができる。
【００２１】
この不活性粒子Ｐの体積形状係数（ｆ）は任意であるが、皮膜層Ａが磁性層側の面を形成する場合には０．１〜π／６であることが好ましく、より好ましくは０．４〜π／６である。
【００２２】
この体積形状係数（ｆ）は下記式
【００２３】
【数２】
ｆ＝Ｖ／Ｒ３  
［ここで、ｆは体積形状係数、Ｖは粒子の体積（μｍ３  ）、Ｒは粒子の平均粒径（μｍ）である。］
で定義される。この係数（ｆ）がπ／６の形状は球（真球）である。そして、この係数（ｆ）が０．４〜π／６の形状は実質的に球（真球）、ラグビーボールのような楕円球を含むものである。体積形状係数（ｆ）が０．１未満の粒子、例えば、薄片状粒子では充分な走行耐久性を得るのが難しい。
【００２４】
本発明におけるポリエステルフィルムは単層構成であっても、それぞれの層が異なる組成のポリエステルフィルムからなる２層以上の多層構成であってもかまわない。
【００２５】
本発明におけるポリエステルフィルム表面は、皮膜層Ａが磁性層側の面を形成する場合には、非接触三次元粗さ計により求めた表面粗さプロファイルから算出した高さ４ｎｍ以上の粗大突起が、２００個／ｍｍ２  以下の密度であるのが好ましい。この粗大突起の密度が２００個／ｍｍ２  を超える場合、それ自身がドロップアウトの原因物となり、また、不活性粒子Ｐの分散不良に基因するときにはヘッドの偏摩耗を引き起こし易くなり、電磁変換特性をも悪化させてしまうので好ましくない。
【００２６】
不活性粒子Ｐの、ポリエステル中での分散性を高めるには、例えば、該ポリエステルの重合時にグリコールスラリーとして投入する時期を最適化する方法、該グリコールスラリーの投入速度を最適化する方法などを用いるか、製膜時に溶融ポリマーを押出口金から押出する前に高精度濾過を行うのが好ましい。この高精度濾過では、フィルター特に金属繊維焼結フィルターの平均目開きを不活性粒子Ｐの平均粒径の１０倍以下、さらには５倍以下とするのが好ましい。特に粒子添加方法の最適化と、高精度濾過時の平均目開きの最適化とを組合せるのが好ましい。
【００２７】
本発明における皮膜層Ａはバインダー樹脂、不活性粒子、界面活性剤及びシロキサン共重合アクリル樹脂からなる。そして、皮膜層Ａの外表面の表面張力は４５ｄｙｎ／ｃｍ以上、さらには４５〜５３ｄｙｎ／ｃｍであることが好ましい。
【００２８】
前記皮膜層Ａを構成するバインダー樹脂としては、アルキッド樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、アミノ樹脂、ポリウレタン樹脂、セルロース樹脂、酢酸ビニル樹脂、塩化ビニル―酢酸ビニル共重合体等を例示することができる。ポリエステルフィルムに対する密着性、突起保持性、易滑性などの点から、水溶性又は水分散性の、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、アクリル―ポリエステル樹脂等の樹脂が好ましい。これら樹脂は単一重合体でも共重合体でもよく、また混合物でも差支えない。
【００２９】
これら樹脂は、耐ブロッキングを良好にするため、ＪＩＳ    Ｋ―７２０６に準拠して測定した軟化点（バインダー樹脂を乾固させたもので測定）が５０℃以上であることが好ましい。ただし、塗膜層Ａのバインダー樹脂のＴｇが高すぎると、コーティング条件などにより、皮膜層Ａの表面が粗れて電磁変換特性が劣る場合がある。従って、Ｔｇが高いバインダーを使用する場合は、コーティング条件を工夫して表面を粗さないようにすることが望まれる。この場合の粗さとは、ＡＦＭ（走査型原子間力顕微鏡）にて１０μｍ平方で測定したときの２乗平均粗さをいい、好ましくは２．０μｍ以下、さらに好ましくは１．８ｎｍ以下、特に好ましくは１．５ｎｍ以下である。バインダー樹脂の含有量は皮膜層Ａの重量に対し２０〜９０重量％が好ましい。
【００３０】
前記水溶性又は水分散性のアクリル樹脂は、例えばアクリル酸エステル（アルコール残基としては、メチル基、エチル基、ｎ―プロピル基、イソプロピル基、ｎ―ブチル基、イソブチル基、ｔ―ブチル基、２―エチルヘキシル基、シクロヘキシル基、フェニル基、ベンジル基、フェニルエチル基等を例示できる）；メタクリル酸エステル（アルコール残基は上記と同じ）；２―ヒドロキシエチルアクリレート、２―ヒドロキシエチルメタクリレート、２―ヒドロキシプロピルアクリレート、２―ヒドロキシプロピルメタクリレート等の如きヒドロキシ含有モノマー；アクリルアミド、メタクリルアミド、Ｎ―メチルメタクリルアミド、Ｎ―メチルアクリルアミド、Ｎ―メチロールアクリルアミド、Ｎ―メチロールメタクリルアミド、Ｎ，Ｎ―ジメチロールアクリルアミド、Ｎ―メトキシメチルアクリルアミド、Ｎ―メトキシメチルメタクリルアミド、Ｎ―フェニルアクリルアミド等の如きアミド基含有モノマー；Ｎ，Ｎ―ジエチルアミノエチルアクリレート、Ｎ，Ｎ―ジエチルアミノエチルメタクリレート等の如きアミノ基含有モノマー；グリシジルアクリレート、グリシジルメタクリレート等の如きエポキシ基含有モノマー等のアクリル系モノマーから、あるいは該モノマーを主成分とし、これと例えばスチレンスルホン酸、ビニルスルホン酸及びこれらの塩（例えばナトリウム塩、カリウム塩、アンモニウム塩等）等の如きスルホン酸基又はその塩を含有するモノマー；クロトン酸、イタコン酸、アクリル酸、マレイン酸、フマール酸及びそれらの塩（例えばナトリウム塩、カリウム塩、アンモニウム塩等）等の如きカルボキシル基又はその塩を含有するモノマー；無水マレイン酸、無水イタコン酸等の無水物を含有するモノマー；その他ビニルイソシアネート、アリルイソシアネート、アリルグリシジルエーテル、スチレン、ビニルメチルエーテル、ビニルエチルエーテル、ビニルトリスアルコキシシラン、アルキルマレイン酸モノエステル、アルキルフマール酸モノエステル、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、アルキルイタコン酸モノエステル、塩化ビニリデン、酢酸ビニル、塩化ビニル等の単量体（共重合成分）の組合せからつくられたものであるが、アクリル酸誘導体、メタクリル酸誘導体の如き（メタ）アクリル単量体の成分が５０モル％以上含まれているものが好ましく、特にメタクリル酸メチルの成分を含有しているものが好ましい。
【００３１】
水溶性又は水分散性のアクリル樹脂は分子内の官能基で自己架橋することができるし、メラミン樹脂やエポキシ化合物等の架橋剤を用いて架橋することもできる。
本発明における水溶性又は水分散性のポリエステル樹脂を構成する酸成分としては、例えばテレフタル酸、イソフタル酸、フタル酸、１，４―シクロヘキサンジカルボン酸、２，６―ナフタレンジカルボン酸、４，４′―ジフェニルジカルボン酸、アジピン酸、セバシン酸、ドデカンジカルボン酸、コハク酸、５―ナトリウムスルホイソフタル酸、２―カリウムスルホテレフタル酸、トリメリット酸、トリメシン酸、無水トリメリット酸、無水フタル酸、ｐ―ヒドロキシ安息香酸、トリメリット酸モノカリウム塩等の多価カルボン酸を例示することができる。また、ヒドロキシ化合物成分としては、例えばエチレングリコール、プロピレングリコール、１，３―プロパンジオール、１，４―ブタンジオール、１，６―ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、１，４―シクロヘキサンジメタノール、ｐ―キシリレングリコール、ビスフェノールＡのエチレンオキシド付加物、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ポリエチレンオキシドグリコール、ポリテトラメチレンオキシドグリコール、ジメチロールプロピオン酸、グリセリン、トリメチロールプロパン、ジメチロールエチルスルホン酸ナトリウム、ジメチロールプロパン酸カリウム等の多価ヒドロキシ化合物を例示することができる。これらの化合物から常法によってポリエステル樹脂をつくることができる。水性塗料をつくる点からは、５―ナトリウムスルホイソフタル酸成分又はカルボン酸塩基を含有する水性ポリエステル樹脂を用いるのが好ましい。かかるポリエステル樹脂は分子内に官能基を有する自己架橋型とすることができるし、メラミン樹脂、エポキシ樹脂のような硬化剤を用いて架橋することもできる。
【００３２】
本発明において、水溶性又は水分散性のアクリル―ポリエステル樹脂は、アクリル変性ポリエステル樹脂とポリエステル変性アクリル樹脂とを包含する意味で用いており、アクリル樹脂成分とポリエステル樹脂成分とが互いに結合したものであって、例えばグラフトタイプ、ブロックタイプ等を包含する。アクリル―ポリエステル樹脂は、例えばポリエステル樹脂の両端にラジカル開始剤を付加してアクリル単量体の重合を行わせたり、ポリエステル樹脂の側鎖にラジカル開始剤を付加してアクリル単量体の重合を行わせたり、あるいはアクリル樹脂の側鎖に水酸基を付け、末端にイソシアネート基やカルボキシル基を有するポリエステルと反応させて櫛形ポリマーとする等によって製造することができる。
【００３３】
上記皮膜層Ａの形成に用いられる不活性粒子（不活性粒子Ａ）の材質としては、ポリスチレン、ポリスチレン―ジビニルベンゼン、ポリメチルメタクリレート、メチルメタクリレート共重合体、メチルメタクリレート共重合架橋体、ポリテトラフルオロエチレン、ポリビニリデンフルオライド、ポリアクリロニトリル、ベンゾグアナミン樹脂、シリコーン樹脂等の如き有機ポリマー、シリカ、アルミナ、二酸化チタン、カオリン、タルク、グラファイト、炭酸カルシウム、長石、二硫化モリブデン、カーボンブラック、硫酸バリウム等の如き無機化合物のいずれを用いてもよい。また内外部のそれぞれの性質が異なる物質で構成される多層構造のコア・シェル型粒子を用いてもよい。
【００３４】
不活性粒子Ａの平均粒径は、皮膜層Ａが非磁性層側の面を形成する場合には、１０〜２００ｎｍ、更には２０〜１００ｎｍであることが好ましく、そして皮膜層Ａ中の含有量は５〜４０重量％、更には５〜２０重量％であることが好ましい。粒度分布は均一であるものが好ましい。この平均粒径が１０ｎｍ未満または含有量が５重量％未満の場合にはフィルムの巻取り性、製膜工程での搬送性が不足したり、ブロッキングを起こし易くなる。一方、平均粒径が２００ｎｍを超える、あるいは含有量が４０重量％を超える場合には皮膜層Ａが削れ易くなる問題がある。また、不活性粒子Ａの平均粒径は、皮膜層Ａが磁性層側の面を形成する場合には、１０〜５０ｎｍ、更には１５〜４５ｎｍ、特に１８〜４０ｎｍであることが好ましく、そして皮膜層Ａ中の含有量は０．５〜３０重量％、更には２〜２０重量％であることが好ましい。この平均粒径が１０ｎｍ未満または添加量が０．５重量％未満である場合、磁性層の良好な走行耐久性が得られず、一方５０ｎｍを超える、あるいは添加量が３０重量％を超える場合には、電磁変換特性が低下し、好ましくない。
【００３５】
本発明における皮膜層Ａを形成した外層面の中心線平均粗さＲａＡ  は、皮膜層Ａが非磁性層側の面を形成する場合には１〜３０ｎｍ、更には２〜２０ｎｍであることが好ましい。このＲａＡ  が１ｎｍ未満の場合にはフィルムの巻取り性、製膜工程での搬送性が不足したり、ブロッキングを起こし易くなる。一方ＲａＡ  が３０ｎｍを超える場合には皮膜層Ａが削れ易くなったり、ロール状に巻取った際に他方の面に形状転写する問題がある。この粗さは皮膜層Ａによって付与されるものでもよく、またポリエステルフィルムによって付与されるものでもよく、また皮膜層Ａとポリエステルフィルムの協働効果によってなされるものでもよい。
【００３６】
また、  本発明における皮膜層Ａを形成した外層面の中心線平均粗さＲａＡ  は、皮膜層Ａが磁性層側面を形成する場合には０．１〜２ｎｍ、更には０．５〜１．５ｎｍであることが好ましい。この場合、皮膜層Ａの外表面上には、皮膜層Ａ中に含有される不活性粒子Ａに基因する突起が好ましくは１〜４０個／μｍ２  、より好ましくは２〜２０個／μｍ２  、特に好ましくは２．５〜１８個／μｍ２  、就中３〜１５個／μｍ２  の密度で存在する。また、皮膜層Ａの外表面上には、非接触三次元粗さ計により求めた表面粗さプロファイルから算出した高さ４ｎｍ以上の粗大突起が、好ましくは２００個／ｍｍ２  以下、より好ましくは１００個／ｍｍ２  以下の密度で存在してもよく、上記突起の存在により、優れた走行耐久性が発現する。
【００３７】
本発明においては、皮膜層Ａ中にシロキサン共重合アクリル樹脂を１〜５０重量％、好ましくは１〜３０重量％含有することを特徴とする。
【００３８】
前記シロキサン共重合アクリル樹脂は、シロキサン成分とアクリル樹脂成分とが互いに結合したものであって、例えばグラフトタイプ、ブロックタイプ等を包含する共重合体である。例えばアクリル樹脂の両端にラジカル開始剤を付加してシロキサンの重合を行わせたり、シロキサンの側鎖に水酸基を付け、末端にイソシアネート基やカルボキシル基を有するアクリルと反応させて櫛形ポリマーとする等によって製造することができる。
【００３９】
重合に用いるアクリル樹脂成分としては、皮膜層Ａのバインダー樹脂に用いるアクリル樹脂で例示したものと同じ樹脂が例示できる。
【００４０】
シロキサンとしては、鎖状成分として下記構造式
【００４１】
【化１】
0003598016.tif 000002
【００４２】
ただしＲ１  ：ＣＨ３  、Ｃ６  Ｈ５  またはＨ
Ｒ２  ：ＣＨ３  、Ｃ６  Ｈ５  、Ｈまたは官能性基（例えば、エポキシ基、アミノ基、水酸基）
ｎ：１００〜７０００
である、
を有するシロキサン化合物であり、末端にエポキシ基、アミノ基、水酸基、その他の官能性末端基を有するものがあげられる。このシロキサン化合物は必ずしもホモポリマーである必要はなく、コポリマーまたは数種のホモポリマーの混合体であってもよい。
【００４３】
上記アクリル樹脂成分とシロキサン成分の比率は、重量比で、９８：２〜５０：５０、好ましくは９５：５〜６０：４０である。皮膜層Ａ中のシロキサン共重合アクリル樹脂の含有量は１〜５０重量％、好ましくは１〜３０重量％、さらに好ましくは１〜２０重量％である。この量が１重量％未満であると、効果が不充分でブロッキングの発生及び帯電の増加を引き起こし、一方５０重量％を超えると磁性層又はバックコート層の接着性を悪化させたり、ロール状に巻いたときに接触面への転写が発生したり、フィルム走行時に接触ロールの汚れを惹き起こす。
【００４４】
本発明において、皮膜層Ａの形成に用いる界面活性剤は、特に限定はされないが、ノニオン型界面活性剤、アニオン型界面活性剤、カチオン型界面活性剤などが例示できる。これらの中ノニオン型界面活性剤、特にアルキルアルコール、アルキルフェニルアルコール、高級脂肪酸等に（ポリ）エチレンオキサイドを付加、結合させたものが好ましい。
【００４５】
界面活性剤としては、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル系化合物として、日本油脂株式会社製の商品名、「ノニオンＮＳ―２３０」、「同ＮＳ―２４０」、「同ＨＳ―２２０」、「同ＨＳ―２４０」、三洋化成株式会社製の商品名、「ノニポール２００」、「ノニポール４００」、「ノニポール５００」、「オクタポール４００」；ポリオキシエチレンアルキルエーテル系化合物として、日本油脂株式会社製の商品名、「ノニオンＥ―２３０」、「同Ｋ―２２０」、「同Ｋ―２３０」；高級脂肪酸のポリオキシエチレンエステル系化合物として、日本油脂株式会社製の商品名、「ノニオンＳ―１５．４」、「同Ｓ―４０」等を例示することができる。
【００４６】
界面活性剤の量は、皮膜層Ａ当り５〜５０重量％、さらには５〜４０重量％、特に１０〜４０重量％、就中１２〜３０重量％の範囲が好ましい。界面活性剤の量が５重量％未満ではドロップアウトの原因となり得る粗大突起の発生を抑えることができず、一方、使用量が５０重量％（全固形分当り）を超えると、発泡による筋状の塗布欠陥が発生する。
【００４７】
そして、好ましくは耐ブロッキング性を良好にするため、ＪＩＳ    Ｋ―７２０６に準じて測定した軟化点（界面活性剤を乾固させたもので測定）が３０℃以上であることが好ましい。ただし、塗液を塗布する際、塗布抜けが発生しないように塗液の表面張力を下げるため、上記以外の界面活性剤を１０重量％（全固形分当り）を超えない範囲で組み合わせて使用してもよい。
【００４８】
本発明における皮膜層Ａには、バインダー樹脂、不活性粒子、界面活性剤及びシロキサン共重合アクリル樹脂以外にも本発明に影響を与えない範囲で、他の成分を添加しても差支えない。易滑性を上げるためには、さらにセルロース系樹脂を添加する方法が用いられる。皮膜層Ａの層厚は、１〜１００ｎｍが好ましく、さらに好ましくは２〜２０ｎｍである。
【００４９】
本発明においてはベースフィルムの皮膜層Ａを形成した面（非磁性層側の面）の他方の面に、バインダー樹脂、不活性粒子（不活性粒子Ｂ）、界面活性剤からなる皮膜層Ｂを設けることが好ましい。皮膜層Ｂに含有させる不活性粒子Ｂの種類としては皮膜層Ａに含有させる不活性粒子Ａと同じ粒子を例示でき、同じ粒子を用いても違う粒子を用いても構わない。不活性粒子Ｂの含有量は皮膜層Ｂの重量に対し、１〜２０重量％が好ましい。皮膜層Ｂの層厚は１〜１００ｎｍが好ましく、さらに好ましくは２〜２０ｎｍである。
【００５０】
上記不活性粒子Ｂの平均粒径は５〜１００ｎｍ、好ましくは１０〜５０ｎｍである。更に粒度分布が均一であるものが好ましい。平均粒径が５ｎｍを下まわると、滑り性、耐削れ性が悪化する。一方平均粒径が１００ｎｍを超えると、粒子の脱落が発生し、耐削れ性が悪化する。また、磁気ヘッドとのスペーシングが大きくなり、本発明の複合ポリエステルフィルムを高密度磁気記録媒体のベースフィルムとして供することが困難となる。
【００５１】
上記不活性粒子Ｂは、皮膜層Ｂの表面突起頻度が１×１０６  〜１×１０８  個／ｍｍ２  となるように皮膜層Ｂ中に含有されることが好ましい。この表面突起頻度が１×１０６  個／ｍｍ２  未満では、磁気記録媒体としたときの走行耐久性が不足する。他方、１×１０８個／ｍｍ２  を超えると、電磁変換特性に悪影響を及ぼす。さらに好ましい表面突起頻度は２×１０６  〜５×１０７  個／ｍｍ２  、特に好ましくは３．０×１０６  〜３．０×１０７  個／ｍｍ２  である。皮膜層Ｂ中の不活性粒子Ｂの凝集率は２０％以下が好ましい。凝集率が２０％を超えると、粒子が削り取られやすくなったり、磁気記録媒体としたときの電磁変換特性に悪影響を及ぼす場合もある。
【００５２】
上記皮膜層Ｂを形成した面のＲａＢ  は０．１〜２ｎｍ、更に好ましくは０．５〜１．５ｎｍである。ＲａＢ  が２ｎｍを超える場合には、特に金属薄膜型磁気記録媒体としたときに電磁変換特性が悪化する。一方ＲａＢ  が０．１ｎｍ未満の場合は、磁性層の滑り性が極度に悪化して走行耐久性が不足したり、磁気ヘッドに貼り付いてテープ鳴きを生じたりして実用に供することができなくなり易い。
【００５３】
上記皮膜層Ｂを構成するバインダー樹脂としては、皮膜層Ａを構成するバインダー樹脂と同じ樹脂を例示でき、中でも水溶性、又は水分散性の、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、アクリル―ポリエステル樹脂等の樹脂がポリエステルフィルム（ベースフィルム）に対する密着性、突起保持性、易滑性などの点から好ましい。皮膜層Ｂを構成するバインダー樹脂は、皮膜層Ａを構成するバインダー樹脂と同じものであっても違うものであっても構わない。バインダー樹脂の含有量は皮膜層Ｂの重量に対し、２０〜９０重量％が好ましい。
【００５４】
上記皮膜層Ｂを構成する界面活性剤については特に限定はされないが、ノニオン型界面活性剤、アニオン型界面活性剤、カチオン型界面活性剤などが例示できる。皮膜層Ａの界面活性剤と同じものでも違うものでも構わない。該界面活性剤の含有量は皮膜層Ｂの重量に対し、５〜４０重量％が好ましい。
【００５５】
本発明においては皮膜層Ｂに、さらにシロキサン共重合アクリル樹脂を含有させることが好ましい。
【００５６】
上記シロキサン共重合アクリル樹脂は、皮膜層Ａに含有させるものとして例示したシロキサン共重合アクリル樹脂と同じものでよい。皮膜層Ｂ中のシロキサン共重合アクリル樹脂の含有量は、１〜３０重量％、好ましくは１〜２０重量％である。この量が３０重量％を超えると、磁気記録媒体としたときの磁性層の接着性に支障をきたす。皮膜層Ｂに含有させるシロキサン共重合アクリル樹脂は、皮膜層Ａに含有させるシロキサン共重合アクリル樹脂と同じものであっても、違うものであっても構わない。
【００５７】
また、本発明においてはベースフィルムの皮膜層Ａを形成した面（磁性層側の面）の他方の面に、バインダー樹脂、不活性粒子（不活性粒子Ｂ’）、界面活性剤からなる皮膜層Ｂ’を設けることが好ましい。皮膜層Ｂ’に含有させる不活性粒子Ｂ’の種類としては皮膜層Ａに含有させる不活性粒子Ａと同じ粒子を例示でき、同じ粒子を用いても違う粒子を用いても構わない。不活性粒子Ｂ’の平均粒径は１０〜１００ｎｍ、好ましくは２０〜８０ｎｍ、さらに好ましくは２０〜６０ｎｍである。不活性粒子Ｂ’の含有量は皮膜層Ｂ’の重量に対し、０．５〜３０重量％、さらには１〜２０重量％、特に２〜１０重量％が好ましい。前記バインダー樹脂及び界面活性剤については、皮膜層Ｂにおけるバインダー樹脂及び界面活性剤の説明がそのまま援用される。皮膜層Ｂ’の層厚は１〜１００ｎｍが好ましく、さらに好ましくは２〜２０ｎｍである。
【００５８】
前記皮膜層Ｂ’を形成した外層面の中心線平均粗さＲａＢ  は、皮膜層Ａが磁性層側の面を形成する場合には１〜３０ｎｍ、更には２〜２０ｎｍであることが好ましい。このＲａＢが１ｎｍ未満の場合にはフィルムの巻取り性、製膜工程での搬送性が不足したり、ブロッキングを起こし易くなる。一方ＲａＢが３０ｎｍを超える場合には皮膜層Ｂ’が削れ易くなったり、ロール状に巻取った際に他方の面に形状転写する問題がある。この粗さは皮膜層Ｂ’によって付与されるものでもよく、またポリエステルフィルムによって付与されるものでもよく、また皮膜層Ｂ’とポリエステルフィルムの協働効果によってなされるものでもよい。
【００５９】
本発明における複合ポリエステルフィルムは、ポリエステルフィルム（ベースフィルム）の皮膜層Ａを形成した面の反対の表面に、皮膜層Ｂ’に替えて、不活性粒子（不活性粒子Ｃ）を含有するポリエステルからなる皮膜層Ｃが形成されていてもよい。この皮膜層Ｃは共押出し法によりベースフィルムの表面に積層される。
この皮膜層Ｃは、下記式
【００６０】
【数３】
０．１≦（ｄｃ）３  ×Ｃｃ×ｔｃ≦１００
ここで、ｄｃ（μｍ）は層Ｃ中の不活性粒子の平均粒径であり、Ｃｃ（重量％）は該不活性粒子の含有量であり、そして、ｔｃ（ｎｍ）は層Ｃの厚みである、を満足することが好ましい。
【００６１】
不活性粒子Ｃの平均粒径ｄｃは０．１〜１μｍ、さらに０．１５〜０．８μｍ、特に０．２〜０．７μｍであることが好ましい。また、この平均粒径ｄｃを有する不活性粒子Ｃの含有量は、皮膜層Ｃに対し、０．０００１〜１重量％、さらには０．００１〜０．５重量％、特に０．００５〜０．１重量％であることが好ましい。
この平均粒径ｄｃを有する不活性粒子Ｃとしては、例えば、（１）耐熱性ポリマー粒子（例えば、架橋シリコーン樹脂、架橋ポリスチレン、架橋アクリル樹脂、メラミン―ホルムアルデヒド樹脂、芳香族ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、架橋ポリエステル等からなる粒子）、（２）金属酸化物（例えば、三二酸化アルミニウム、二酸化チタン、二酸化ケイ素、酸化マグネシウム、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム等）、（３）金属の炭酸塩（例えば、炭酸マグネシウム、炭酸カルシウム等）、（４）金属の硫酸塩（例えば、硫酸カルシウム、硫酸バリウム等）、（５）炭素（例えば、カーボンブラック、グラファイト、ダイヤモンド等）、および（６）粘土鉱物（例えば、カオリン、クレー、ベントナイト等）が好ましく挙げられる。これらのうち特に、架橋シリコーン樹脂粒子、架橋ポリスチレン粒子、メラミン―ホルムアルデヒド樹脂粒子、ポリアミドイミド樹脂粒子、三二酸化アルミニウム（アルミナ）、二酸化チタン、二酸化ケイ素、酸化ジルコニウム、合成炭酸カルシウム、硫酸バリウム、ダイヤモンドおよびカオリンが好ましく、とりわけ、架橋シリコーン樹脂粒子、架橋ポリスチレン樹脂粒子、アルミナ、二酸化チタン、二酸化ケイ素および炭酸カルシウムが好ましい。
【００６２】
さらに、不活性粒子が２種以上の粒子からなる場合、上記不活性粒子Ｃの平均粒径ｄｃよりも小さい平均粒径の第２、第３の粒子として、例えば、コロイダルシリカ、α、γ、δ、θ等の結晶形態を有するアルミナなどの微粒子を好ましく用いることができる。また、平均粒径ｄｃを有する不活性粒子Ｃとして例示した粒子種のうち、平均粒径の小さい微細粒子も用いることができる。
【００６３】
この微細粒子の平均粒径は５〜４００ｎｍ、さらには１０〜３００ｎｍ、特に３０〜２５０ｎｍの範囲にあり、かつ前記平均粒径ｄｃよりも５０ｎｍ以上、さらには１００ｎｍ以上、特に１５０ｎｍ以上小さいことが好ましい。第２、第３の粒子（微細粒子）の含有量は、皮膜層Ｃに対し、０．００５〜１重量％、さらには０．０１〜０．７重量％、特に０．０５〜０．５重量％であることが好ましい。
【００６４】
前記皮膜層Ｃを形成した外層面の中心線平均粗さＲａＣ  は、皮膜層Ａが磁性層側の面を形成する場合には１〜３０ｎｍ、更には２〜２０ｎｍであることが好ましい。このＲａＣが１ｎｍ未満の場合にはフィルムの巻取り性、製膜工程での搬送性が不足したり、ブロッキングを起こし易くなる。一方ＲａＣが３０ｎｍを超える場合には、ロール状に巻取った際に他方の面に形状転写する問題がある。
【００６５】
本発明における複合ポリエステルフィルムは、エア抜け指数（株式会社東洋製機製、ベック平滑度試験機を用いて測定した「空気漏れ指数」）１〜１５ｍ／ｈｒを示すものが好ましい。この範囲のエア抜け指数を示すことにより、電磁変換特性を損なうことなく、フィルムのハンドリング性、巻取り性の向上が達成される。
【００６６】
本発明において複合ポリエステルフィルムの全厚みは、通常２．５〜２０μｍ、好ましくは３．０〜１０μｍ、さらに好ましくは４．０〜１０μｍである。皮膜層Ｃの層厚みは、複合フィルムの全厚みの１／２以下、さらに１／３以下、特に１／４以下であることが好ましい。また、皮膜層Ｂ，Ｂ’の層厚みは１〜１００ｎｍ、さらには２〜５０ｎｍ、特に３〜１０ｎｍ、就中３〜８ｎｍであることが好ましい。
【００６７】
本発明における複合ポリエステルフィルムは、従来から知られている、あるいは当業界に蓄積されている方法に準じて得ることができる。そのうち、ベースフィルムと皮膜層Ｃとの積層構造は共押出し法により製造するのが好ましい。また、皮膜層Ａ、Ｂ、Ｂ’の積層は塗布法により行うのが好ましい。
【００６８】
例えば、二軸配向ポリエステルフィルムで説明すると、押出し口金以前で、前述の不活性粒子Ｐを微分散、含有させたポリエステルＡを高精度濾過し、次いで口金より融点Ｔｍ℃〜（Ｔｍ＋７０）℃の温度でフィルム状に共押出した後、４０〜９０℃で冷却ロールで急冷固化して未延伸フィルムを得る。しかる後に、該未延伸フィルムを常法に従って一軸方向（縦方向または横方向）に（Ｔｇ−１０）〜（Ｔｇ＋７０）℃の温度（ただし、Ｔｇ：ポリエステルのガラス転移温度）で２．５〜８．０倍の倍率で、好ましくは３．０〜７．５倍の倍率で延伸し、次いで前記方向とは直角方向にＴｇ〜（Ｔｇ＋７０）℃の温度において２．５〜８．０倍の倍率、好ましくは３．０〜７．５倍の倍率で延伸する。さらに必要に応じて縦方向および／または横方向に再度延伸してもよい。すなわち、２段、３段、４段、あるいは多段の延伸を行うとよい。全延伸倍率は、面積延伸倍率として、通常９倍以上、好ましくは１２〜３５倍、さらに好ましくは１５〜３２倍である。さらに引き続いて、二軸配向フィルムを（Ｔｇ＋７０）〜（Ｔｍ−１０）℃の温度、例えば１８０〜２５０℃で熱固定結晶化することによって優れた寸法安定性が付与される。なお、熱固定時間は１〜６０秒間が好ましい。
【００６９】
なお、皮膜層Ｃを含む複合フィルムを製造する場合には、前記未延伸フィルムの製造の代わりに、押出し口金内または口金以前（一般に、前者はマルチマニホールド方式、後者フィードブロック方式と呼ぶ）で、前述の不活性粒子Ｐを微分散、含有させたポリエステルＡと、不活性粒子Ｃを微分散、含有させたポリエステルＣをそれぞれ高精度濾過したのち、溶融状態にて積層複合し、前述の好適な厚み比の積層構造となし、次いで、口金より融点Ｔｍ℃〜（Ｔｍ＋７０）℃の温度でフィルム状に共押出した後、４０〜９０℃で冷却ロールで急冷固化して未延伸積層フィルムを得る方法を用いる。
【００７０】
上記の方法において、前述の不活性粒子、バインダー樹脂、界面活性剤、シロキサン共重合アクリルを含む塗液、好ましくは水性塗液を塗布する。塗布は最終延伸処理を施す以前のポリエステルフィルムの表面に行い、塗布後にはフィルムを少なくとも一軸方向に延伸するのが好ましい。この延伸の前ないし途中で塗膜は乾燥される。その中で、塗布は未延伸積層フィルムまたは縦（一軸）延伸積層フィルム、特に縦（一軸）延伸積層フィルムに行うのが好ましい。皮膜層Ｂ、Ｃの場合も同様に行う。塗布方法としては特に限定されてないが、例えば、ロールコート法、ダイコート法等が挙げられる。
【００７１】
上記塗液、特に水性塗液の固形分濃度は、０．２〜８重量％、さらに０．３〜６重量％、特に０．５〜４重量％であることが好ましい。そして、塗液（好ましくは水性塗液）には、本発明の効果を妨げない範囲で、他の成分、例えば、他の界面活性剤、安定剤、分散剤、ＵＶ吸収剤、増粘剤等を添加することができる。
【００７２】
上述の共押出し法の例は、ベースフィルムと皮膜層Ｃが共にポリエチレン―２，６―ナフタレンジカルボキシレートまたはポリエチレンテレフタレートの場合に好適であるが、ベースフィルムのみがポリエチレン―２，６―ナフタレンジカルボキシレートまたはポリエチレンテレフタレートの場合にも同様である。
【００７３】
なお、複合ポリエステルフィルムの製造に際し、ポリエステルに、所望により上述の不活性粒子以外の添加剤、例えば、安定剤、着色剤、溶融ポリマーの固有抵抗調整剤等を添加含有させることができる。
【００７４】
本発明において、磁気記録媒体としてのヘッドタッチ、走行耐久性を初めとする各種機能を向上させ、同時に薄膜化を達成するには、複合ポリエステルフィルムのヤング率を縦方向および横方向でそれぞれ４５０ｋｇ／ｍｍ２  以上および６００ｋｇ／ｍｍ２  以上、さらには４８０ｋｇ／ｍｍ２  以上および６８０ｋｇ／ｍｍ２  以上、特に５５０ｋｇ／ｍｍ２  以上および８００ｋｇ／ｍｍ２  以上、就中５５０ｋｇ／ｍｍ２  以上および１，０００ｋｇ／ｍｍ２  以上とするのが好ましい。また、ポリエチレンテレフタレート層の結晶化度は３０〜５０％、ポリエチレン―２，６―ナフタレンジカルボキシレート層の結晶化度は２８〜３８％であることが望ましい。いずれも下限を下回ると、熱収縮率が大きくなるし、一方、上限を上回ると、フィルムの耐摩耗性が悪化し、ロールやガイドピン表面と摺動した場合に白粉が生じやすくなる。
【００７５】
本発明によれば、本発明の複合ポリエステルフィルムをベースフィルムとする磁気記録媒体、すなわち、本発明の複合ポリエステルフィルムおよび該複合フィルムの皮膜層ＡまたはＢ上に存在する磁性層からなる磁気記録媒体が同様に提供される。
【００７６】
本発明の複合ポリエステルフィルムから磁気記録媒体を製造する実施態様は、以下のとおりである。
本発明の複合ポリエステルフィルムは、中心線平均表面粗さが０．１〜２ｎｍの皮膜層ＡまたはＢの表面に、真空蒸着、スパッタリング、イオンプレーティング等の方法により、鉄、コバルト、クロムまたはこれらを主成分とする合金もしくは酸化物より成る強磁性金属薄膜層を形成し、またその表面に、目的、用途、必要に応じてダイアモンドライクカーボン（ＤＬＣ）等の保護層、含フッ素カルボン酸系潤滑層を順次設ける。さらに必要により、他の表面、例えば中心線平均粗さが１〜３０ｎｍの表面に公知のバックコート層を設けることにより、特に短波長領域の出力、Ｓ／Ｎ，Ｃ／Ｎ等の電磁変換特性に優れ、ドロップアウト、エラーレートの少ない高密度記録用蒸着型磁気記録媒体とすることができる。この蒸着型電磁記録媒体は、アナログ信号記録用Ｈｉ８、ディジタル信号記録用ディジタルビデオカセットレコーダー（ＤＶＣ）、データ８ミリ、ＤＤＳＩＶ用テープ媒体として極めて有用である。
【００７７】
本発明の複合ポリエステルフィルムは、また、中心線平均表面粗さが０．１〜２ｎｍの皮膜層ＡまたはＢの表面に、鉄または鉄を主成分とする針状微細磁性粉（メタル粉）をポリ塩化ビニール、塩化ビニール・酢酸ビニール共重合体等のバインダーに均一に分散し、磁性層厚みが１μｍ以下、好ましくは０．１〜１μｍとなるように塗布する。さらに必要により、他の表面、例えば中心線平均粗さが１〜３０ｎｍの表面に公知の方法でバックコート層を設けることにより、特に短波長領域の出力、Ｓ／Ｎ，Ｃ／Ｎ等の電磁変換特性に優れ、ドロップアウト、エラーレートの少ない高密度記録用メタル塗布型磁気記録媒体とすることができる。また必要に応じて皮膜層ＡまたはＢの上に、該メタル粉含有磁性層の下地層として微細な酸化チタン粒子等を含有する非磁性層を磁性層と同様の有機バインダー中に分散、塗設することもできる。このメタル塗布型磁気記録媒体は、アナログ信号記録用Ｈｉ８、βカムＳＰ、Ｗ―ＶＨＳ、ディジタル信号記録用ディジタルビデオカセットレコーダー（ＤＶＣ）、データ８ミリ、ＤＤＳＩＶ、ディジタルβカム、Ｄ２、Ｄ３、ＳＸ等用の磁気テープ媒体として極めて有用である。
【００７８】
本発明の複合ポリエステルフィルムは、また、中心線平均表面粗さが０．１〜２ｎｍの皮膜層ＡまたはＢの表面に、酸化鉄または酸化クロム等の針状微細磁性粉、またはバリウムフェライト等の板状微細磁性粉をポリ塩化ビニール、塩化ビニール・酢酸ビニール共重合体等のバインダーに均一に分散し、磁性層厚みが１μｍ以下、好ましくは０．１〜１μｍとなるように塗布する。さらに必要により、他の表面、例えば中心線平均粗さが１〜３０ｎｍの表面に公知の方法でバックコート層を設けることにより、特に短波長領域の出力、Ｓ／Ｎ，Ｃ／Ｎ等の電磁変換特性に優れ、ドロップアウト、エラーレートの少ない高密度記録用酸化物塗布型磁気記録媒体とすることができる。また必要に応じて皮膜層ＡまたはＢの上に、該磁性粉含有磁性層の下地層として微細な酸化チタン粒子等を含有する非磁性層を磁性層と同様の有機バインダー中に分散、塗設することもできる。この酸化物塗布型磁気記録媒体は、アナログ信号記録用データストリーマー用ＱＩＣ等の高密度酸化物塗布型磁気記録媒体として有用である。
【００７９】
上述のＷ―ＶＨＳはアナログのＨＤＴＶ信号記録用ＶＴＲであり、また、ＤＶＣはディジタルのＨＤＴＶ信号記録用として適用可能なものであり、本発明のフィルムはこれらＨＤＴＶ対応ＶＴＲ用磁気記録媒体に極めて有用なベースフィルムと言うことができる。
【００８０】
【実施例】
以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれら実施例により限定されるものではない。なお、実施例および比較例における「部」および「％」は、特に断らない限り重量基準であり、本発明における物性値および特性は、それぞれ以下の方法で測定し、かつ、定義されるものである。
【００８１】
（１）固有粘度
オルソクロロフェノール溶液中３５℃で測定した値から求める。
【００８２】
（２）粒子の平均粒径Ｉ（平均粒径：０．０６μｍ以上）
株式会社島津製作所製、商品名「ＣＰ―５０型セントリフューグル    パーティクル    サイズ    アナライザー（Ｃｅｎｔｒｉｆｕｇａｌ    Ｐａｒｔｉｃｌｅ    Ｓｉｚｅ    Ａｎａｌｙｓｅｒ）」を用いて測定する。得られる遠心沈降曲線を基に算出した各粒径の粒子とその存在量との積算曲線から、５０マスパーセントに相当する粒径「等価球直径」を読み取り、この値を上記平均粒径とする（単行本「粒度測定技術」日刊工業新聞発行、１９７５年、２４２頁〜２４７頁参照）。
【００８３】
（３）粒子の平均粒径ＩＩ（平均粒径：０．０６μｍ未満）
小突起を形成する平均粒径０．０６μｍ未満の粒子は、光散乱法を用いて測定する。すなわち、ニコンプイントゥルメント株式会社（Ｎｉｃｏｍｐ    Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ    Ｉｎｃ．）社製のＮＩＣＯＭＰ    ＭＯＤＥＬ    ２７０    ＳＵＢＭＩＣＲＯＮ    ＰＡＲＴＩＣＬＥ    ＳＩＺＥＲ    により求められる全粒子の５０重量％の点にある粒子の「等価球直径」をもって表示する。
【００８４】
（４）フィルム、皮膜層の表面粗さ（中心線平均粗さ：Ｒａ）
中心線平均粗さ（Ｒａ）はＪＩＳ―Ｂ６０１に準じて測定する。本発明では（株）小坂研究所の触針式表面粗さ計（ＳＵＲＦＣＯＲＤＥＲ  ＳＥ，３０Ｃ  ）を用い、次の条件で測定して求める。
（ａ）触針先端半径：２μｍ
（ｂ）測定圧力        ：３０ｍｇ
（ｃ）カットオフ    ：０．０８ｍｍ
（ｄ）測定長            ：８．０ｍｍ
（ｅ）データーのまとめ方：同一試料について６回繰返し測定し、最も大きい値を１つ除き、残り５つのデータを用いて平均値として中心線平均粗さ（Ｒａ）を求める。
【００８５】
（５）粒子突起の個数（密度）
ＳＥＭ（走査電子顕微鏡、日本電子製Ｔ―３００型）を使用して、複合フィルムの表面を倍率３万倍、角度０°で２０枚写真撮影して、皮膜層表面の粒状突起の数をカウントし、その平均値を面積換算により個／ｍｍ２  当たりの突起個数として算出する。
【００８６】
（６）粒子の凝集率
上記（５）で撮影した２０枚の写真より、２個以上の凝集体の数をカウントし、凝集体の数／粒状突起の数×１００（％）で算出する。
【００８７】
（７）層厚
フィルムの全厚はマイクロメーターにてランダムに１０点測定し、その平均値を用いる。層厚は、薄い側の層厚を以下に述べる方法にて測定し、また厚い側の層厚は全厚より薄い側の層厚に引き算して求める。即ち、二次イオン質量分析装置（ＳＩＭＳ）を用いて、表層から深さ５０００ｎｍの範囲のフィルム中の粒子の内最も高濃度の粒子に起因する元素とポリエステルの炭素元素の濃度比（Ｍ＋  ／Ｃ＋  ）を粒子濃度とし、表面から深さ５０００ｎｍまで厚さ方向の分析を行う。表層では当然粒子濃度は低く、表面から遠ざかるにつれて粒子濃度は高くなる。本発明の場合、粒子濃度は一旦安定値１になった後、上昇或いは減少して安定値２になる場合と、単調に減少する場合とがある。この分布曲線をもとに、前者の場合は（安定値１＋安定値２）／２の粒子濃度を与える深さをもって、また後者の場合は粒子濃度が安定値１の１／２になる深さ（この深さは安定値１を与える深さよりも深い）をもって、当該層の層厚とする。
【００８８】
二次イオン質量分析装置（ＳＩＭＳ）：ＰＥＲＫＩＮ    ＥＬＭＥＲ社製    ６３００の測定条件は下記の通りである。
一次イオン種    ：Ｏ２＋
一次イオン加速電圧：１２ＫＶ
一次イオン電流：２００ｍＡ
ラスター領域    ：４００μｍ□
分析領域            ：ゲート３０％
測定真空度        ：６．０×１０−９Ｔｏｒｒ
Ｅ―ＧＵＮＮ    ：０．５ＫＶ―３．０Ａ
【００８９】
尚、表層から５０００ｎｍの範囲に最も多く含有する粒子がシリコーン樹脂以外の有機高分子粒子の場合はＳＩＭＳでは測定が難しいので、表面からエッチングしながらＦＴ―ＩＲ（フーリエトランスフォーム赤外分光法）、粒子によってはＸＰＳ（Ｘ線高電子分光法）等で上記同様の濃度分布曲線を測定し、層厚を求める。
【００９０】
以上は共押出層の場合に有効な測定法であって、塗布層の場合はフィルムの小片をエポキシ樹脂にて固定成形し、ミクロトームにて約６０ｎｍの厚みの超薄切片（フィルムの流れ方向に平行に切断する）を作成し、この試料を透過型電子顕微鏡（日立製作所製Ｈ―８００型）にて観察し、層の境界面より層厚みを求める。
【００９１】
（８）帯電性
複合ポリエステルフィルム（５００ｍｍ幅×３０００ｍ長）を２３℃において７５％ＲＨの雰囲気下で１５０ｍ／ｍｉｎのスピードで巻き返し、そのロールの剥離帯電量をヒューグルエレクトロニクス（株）製のデジタル式試験電気測定器Ｍｏｄｅｌ―２０３を用いて測定する。
○：２．５ｋｖ未満
△：２．５〜５．０ｋｖ未満
×：５．０ｋｖ以上
【００９２】
（９）粗大突起数
ＷＹＫＯ株式会社製の非接触三次元粗さ計、商品名「ＴＯＰＯ―３Ｄ」を用いて、測定倍率４０倍、測定面積２４２μｍ×２３９μｍ（０．０５８ｍｍ２  ）の条件にて測定を行い、表面粗さのプロフィル（オリジナルデータ）を得る。このプロフィルのうちの、測定方向の連続した１５分割分（例えば、ｊ＝１〜１５）とこれと直交する方向（直交方向）の連続した１５分割分（例えば、ｋ＝１〜１５）とで形成される面積（１５×１５分割分面積）における高さの平均値を求め、（ｊ，ｋ）＝（１，１）の平均高さとする。次いで、測定方向または直交方向の分割位置を１つ移動させたときの（例えば、ｊ＝２〜１６、ｋ＝１〜１５またはｊ＝１〜１５、ｋ＝２〜１６）１５×１５分割面積における高さの平均値を求め、（ｊ，ｋ）＝（２，１）または（１，２）の平均高さとする。さらに、分割位置を１つづつ移動させて、例えばｊ＝ｐ〜ｐ＋１４、ｋ＝ｑ〜ｑ＋１４の１５×１５分割分面積における高さの平均値を算出して、（ｊ，ｋ）＝（ｐ，ｑ）の平均高さを求め、測定方向２５６分割分、直交方向２５６分割分まで平均高さの算出を繰り返す。これら平均高さで構成される表面粗さのプロフィルはフィルム表面のうねり分に相当する。
【００９３】
前記オリジナルデータから前記うねり曲面成分を差引いて、フィルム表面のプロフィル（再構成データ）を再構成する。この再構成データを粗さ計内蔵のソフトで解析し、高さ４ｎｍ以上の突起を粗大突起としてカウントし、この測定を測定箇所を変えて１０回実施し、この平均値を１ｍｍ２  当りの個数に換算した値を粗大突起数とする。
【００９４】
（１０）ヤング率
東洋ボールドウィン株式会社製の引っ張り試験機、商品名「テンシロン」を用いて、温度２０℃、湿度５０％に調節された室内において、長さ３００ｍｍ、幅１２．７ｍｍの試料フィルムを１０％／分のひずみ速度で引っ張り、引っ張り応力―ひずみ曲線の初めの直線部分を用いて、次の式によって計算する。
【００９５】
【数４】
Ｅ＝Δσ／Δε
ここで、Ｅはヤング率（ｋｇ／ｍｍ２  ）、Δσは直線上の２点間の元の平均断面積による応力差、Δεは同じ２点間のひずみ差である。
【００９６】
（１１）エア抜け製
株式会社東洋製機製、べック平滑度試験機を用いて、まず、フィルム４０枚を重ね合わせ、そのうち試料台最上部にくる１枚を除いて、残り３９枚に直径５ｍｍφの孔をあけ、試料台にセットする。このとき孔の中心部が試料台の中心にくるようにする。この状態で、０．５ｋｇ／ｃｍ２  の荷重を加え、真空到達度を５５０ｍｍＨｇに設定する。５５０ｍｍＨｇに到達した後、常圧に戻ろうとするため、フィルムとフィルム間を空気が流れ込んでいく。このとき、１時間の間３０秒毎に降下していく真空度（ｍｍＨｇ）を測定し、測定時間（ｈｒ）に対する真空度を直線近似したときの直線の傾き（＝ｍｍＨｇ／ｈｒ）を空気漏れ指数Ｇとする。
【００９７】
（１２）ブロッキング性
２枚のフィルムの処理面と被処理面を重ね合わせ、これに１５０ｋｇ／ｃｍ２  の圧力を６０℃において８０％ＲＨの雰囲気下６５時間かけた後剥離し、その剥離力で評価する（５ｃｍ当たりのｇ数）。
なお、評価は剥離力から下記の基準で行う。
○：０〜１０ｇ／ｃｍ未満
△：１０ｇ／ｃｍ以下〜１５ｇ／ｃｍ未満
×：１５ｇ／ｃｍ以上〜破れ
【００９８】
（１３）ブロッキング剥離力
ロール状フィルムの長手方向に１００ｍｍ、幅方向に２００ｍｍの長方形にサンプリングし、ベース層側に室温２５±５℃、湿度５０±５％の環境下でコロナ処理を施す。
処理は、春日電気株式会社製、商品名「ＣＧ―１０２」型の高周波電源を用いて以下の条件にて処理する。
電流            ：４．５Ａ
電極間距離：１．０ｍｍ
処理時間    ：１．２ｍ／分の速度で電極間を通過させて処理する。
処理したフィルムを直ちにベース層と反対側の面で接触させ、１００ｋｇ／ｃｍ２  の圧力にて室温６０℃、湿度８０％の環境下で１７時間エシジングさせた後、引っ張り試験機（「テンシロン」）にて幅１００ｍｍ当りの剥離力を求める。
【００９９】
（１４）表面張力
ＪＩＳ    Ｋ―６７６８の評価方法に準拠して評価。
【０１００】
（１５）耐削れ性
フィルムを２５〜３０ｃｍ長さ、幅１／２インチにサンプリングし、レザー刃を皮膜層の面に対し９０°の角度、深さ０．５ｍｍの条件であてがい、荷重５００ｇ／０．５インチ、速度６．７ｃｍ／ｓｅｃで走行させたときにレザーに付着した削れ粉の深さ方向の幅を顕微鏡写真撮影（×１６０倍）して求める。
削れ粉の深さ方向の幅で以下のように判断する。削れ粉の深さ方向の幅が小さいほど、耐削れ性に優れている。
○：３ｎｍ未満
△：３ｎｍ〜５ｎｍ未満
×：５ｎｍ以上
【０１０１】
（１６）磁気テープの製造及び特性評価
複合フィルムの皮膜層Ｂの表面に、真空蒸着法により、コバルト１００％の強磁性薄膜を０．０２μｍの厚みになるように２層（各層厚約０．１μｍ）形成し、その表面にダイアモンドライクカーボン（ＤＬＣ）膜、更に含フッ素カルボン酸系潤滑層を順次設け、更に皮膜層Ａの表面に下記組成のバックコート層を塗布、乾燥して設ける。
乾燥後のバックコート層の厚みは０．８μｍとする。
【０１０２】
バックコート層組成：
カーボンブラック                                １００部
熱可塑性ポリウレタン                            ６０部
イソシアネート化合物（日本ポリ        １８部
ウレタン工業社製コロネートＬ）
シリコーンオイル                                ０．５部
メチルエチルケトン                            ２５０部
その後、８ｍｍ幅にスリットし、市販の８ｍｍビデオカセットにローディングする。次いで、以下の市販の機器を用いてテープの特性を測定する。
【０１０３】
使用機器：
８ｍｍビデオテープレコーダー：ソニー（株）製ＥＤＶ―６０００
Ｃ／Ｎ測定：シバソク（株）製ノイズメーター
▲１▼Ｃ／Ｎ測定
記録波長０．５μｍ（周波数約７．４ＭＨｚ）の信号を記録し、その再生信号の６．４ＭＨｚと７．４ＭＨｚの値の比をそのテープのＣ／Ｎとし、市販８ｍｍビデオ用蒸着テープのＣ／ＮをＯｄＢとし、相対値で表す。
○：０ｄＢ以上
△：−３〜０ｄＢ未満
×：−３ｄＢ未満
【０１０４】
▲２▼走行耐久性
４０℃、８０％ＲＨで、テープ、走行速度８５ｃｍ／分で記録再生を５００回繰り返した後のＣ／Ｎを測定し、初期値からのずれを基準で判定する。
○：初期値に対して＋０．０ｄＢ以上
△：初期値に対して−１．０ｄＢ〜＋０．０ｄＢ未満
×：初期値に対して−１．０ｄＢ未満
【０１０５】
▲３▼磁性層の接着性
２ｍｍ四方でクロスカットした磁性層面に、スコッチテープ  Ｎｏ．６００（３Ｍ社製）を気泡が入らないように貼着し、この上をＪＩＳ、Ｃ．２７０１（１９７５年）記載の手動式荷重ロールでならし、貼着積層部５ｃｍ間を東洋ボードウイン社製テンシロンＵＭ―１１を使用してヘッド速度１００ｍｍ／分でＴ字剥離し、剥離したクロスカット磁性層個数／全体のクロスカット磁性層個数×１００（％）で求める。
○：０〜３％未満
△：３〜１０未満
×：１０％以上
【０１０６】
▲４▼バックコート層の接着性
バックコートにスコッチテープ  Ｎｏ．６００（３Ｍ社製）巾１９．４ｍｍ、長さ８ｃｍを気泡が入らないように貼着し、この上をＪＩＳ．Ｃ２７０１（１９７５）記載の手動式荷重ロールでならし貼着積層部５ｃｍ間を東洋ボードウイン社製テンシロンＵＭ―１１を使用してヘッド速度３００ｍｍ／分で、この試料をＴ字剥離し、この際の剥離強さを求め、これをテープ巾で除してｇ／ｃｍとして求める。なお、Ｔ型剥離において積層体はテープ側を下にして引取り、チャック間を５ｃｍとする。
【０１０７】
なお評価は剥離強度から下記の基準で行う。
○：５０ｇ／ｃｍ以上
△：２０ｇ／ｃｍ以下〜５０ｇ／ｃｍ２  未満
×：２０ｇ／ｃｍ未満
【０１０８】
（１７）ＡＦＭ表面粗さ
ディジタルインストルーメント株式会社（Ｄｉｇｉｔａｌ    Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ    Ｉｎｃ．）製の原子間力顕微鏡、商品名「Ｎａｎｏ    Ｓｃｏｐｅ    ＩＩＩ  ＡＦＭ」のスキャナーを使用し、以下の条件で算出される２乗平均粗さを、下記の条件で測定する。
深針                    ：単結合シリコンセンサー
走査モード        ：タッピングモード
走査範囲            ：１０μｍ×１０μｍ
画素数                ：２５６×２５６データポイント
スキャン速度    ：２．０Ｈｚ
測定環境            ：室温、大気中
数値は５回測定した平均値で表示する。
【０１０９】
［実施例１］
２，６―ナフタレンジカルボン酸ジメチルとエチレングリコールとを、エステル交換触媒として酢酸マンガンを、重合触媒として三酸化アンチモンを、安定剤として亜燐酸を、添加して常法により重合し、実質的に不活性粒子を含有しないポリエチレン―２，６―ナフタレート（ＰＥＮ）を得た。
【０１１０】
このポリエチレン―２，６―ナフタレートを１７０℃で６時間乾燥後、押出機に供給し、溶融温度３１０℃にて溶融して、ダイよりシート状に押出し、急冷して厚さ８２μｍの未延伸フィルムを得た。
【０１１１】
得られた未延伸フィルムを予熱し、更に低速・高速のロール間でフィルム温度９５℃にて縦方向に３．５倍に延伸し、急冷し、次いで縦延伸フィルムの一方の面に表１の皮膜層Ｂの組成の水溶性塗液を、他の面に皮膜層Ａの水溶性塗液を各々０．００９μｍ、０．０３５μｍ（延伸乾燥後）の厚みになるよう塗布し、続いてステンターに供給し、１５０℃にて横方向に５．６倍に延伸した。得られた二軸延伸フィルムを２００℃の熱風で４秒間熱固定し、厚み４．９μｍの二軸配向ポリエステルフィルムを得た。
【０１１２】
0003598016.tif 000003
【０１１３】
［比較例１、２、７］
皮膜層Ａと皮膜層Ｂの組成を表１のように変更する以外は、実施例１と同様の手法でポリエステルフィルムを得た。
【０１１４】
［実施例３］
実質的に不活性粒子を含有しないポリエチレン―２，６―ナフタレートと、平均粒径２００ｎｍのシリカ粒子を０．２重量％含有するポリエチレン―２，６―ナフタレートを、それぞれ１７０℃で６時間乾燥後、２台の押出機を用いて３１０℃で溶融し、マルチマニホールド型共押出ダイを用いて、粒子未含有ポリエチレン―２，６―ナフタレート：粒子含有ポリエチレン―２，６―ナフタレート−２：１なるように積層し、粒子含有層側に表１に示す皮膜層Ａを、他方の面に皮膜層Ｂを形成する以外は実施例１と同様に行い、ポリエステルフィルムを得た。
【０１１５】
［実施例２、比較例３〜６］
ジメチルテレフタレートとエチレングリコールとを、エステル交換触媒として酢酸マンガンを、重合触媒として三酸化アンチモンを、安定剤として亜燐酸を添加して常法により重合し、実質的に不活性粒子を含有しないポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）を得た。
【０１１６】
このポリエチレンテレフタレートを１７０℃で３時間乾燥後、押出機に供給し、溶融温度２８０〜３００℃にて溶融して、ダイよりシート状に押出し、急冷して厚さ８２μｍの未延伸フィルムを得た。
【０１１７】
得られた未延伸フィルムを予熱し、更に低速、高速のロール間でフィルム温度９５℃にて縦方向に３．２倍に延伸し、急冷し、次いで縦延伸フィルムの一方の面に皮膜層Ｂの組成の水溶性塗液を、他の面に皮膜層Ａの組成の水溶性塗液を各々０．００９μｍ、０．０３５μｍ（延伸乾燥後）の厚みになるように塗布し、続いてステンターに供給し、１１０℃にて横方向に４．１倍に延伸した。得られた二軸配向ポリエステルフィルムを２２０℃の熱風で４秒間熱固定し、厚み６．０μｍの二軸配向ポリエステルフィルムを得た。
実施例１〜３、比較例１〜７のフィルム特性を表２に示す。
【０１１８】
【表１】
0003598016.tif 000004
【０１１９】
【表２】
0003598016.tif 000005
【０１２０】
表１及び２から明らかなように、本発明の複合ポリエステルフィルムはフィルムの帯電量が少なく、フィルム間のブロッキングがなく、削れが少なく且つ電磁変換特性、磁性層の接着性、バックコート層の接着性に極めて優れる。これに対し、本発明の要件を満たさないものはこれら特性を同時に満足することはできない。
【０１２１】
本発明の複合ポリエステルフィルムは全厚みが２．５〜２０μｍ程度であり、磁気記録媒体のベースに好適に用いられる。そして磁気記録媒体としては金属薄膜型のものに有用である。また本発明の複合ポリエステルフィルムは磁性層の厚みが１μｍ以下の塗布型磁気記録媒体にも供し得る他に、デジタル信号記録型磁気記録媒体にも使うことができる。
【０１２２】
［実施例４］
ジメチルテレフタレートとエチレングリコールとを、エステル交換触媒として酢酸マンガンを、重合触媒としてトリメリット酸を、安定剤として亜燐酸を、さらに、滑剤として平均粒径６０ｎｍの球状シリカの不活性粒子を０．０３重量％を添加して常法により重合し、固有粘度０．６０のポリエチレンテレフタレートを得た（ＰＥＴ−Ａ）。
【０１２３】
さらに上記と同様な方法で、滑剤として、平均粒径０．６μｍの球状シリコーンの不活性微粒子を０．１重量％、平均粒径０．０６μｍのθ型アルミナの不活性微粒子を０．２重量％を添加して重合し、固有粘度０．６０のポリエチレンテレフタレートを得た（ＰＥＴ−Ｃ）。
【０１２４】
ＰＥＴ−Ａ、ＰＥＴ−Ｃをそれぞれ１７０℃で３時間乾燥後、２台の押出し機に供給し、溶融温度２８０〜３００℃にて溶融し、平均目開き１１μｍの鋼線フィルターで高精度濾過した後、マルチマニホールド型共押出しダイを用いて、ＰＥＴ−Ａ層の片面にＰＥＴ−Ｃ層を積層させ、急冷して厚さ８９μｍの未延伸積層フィルムを得た。
【０１２５】
得られた未延伸積層フィルムを予熱し、さらに低速・高速のロール間でフィルム温度１００℃にて３．３倍に延伸し、急冷し、次いで縦延伸フィルムのＰＥＴ−Ａ層面側に以下に示す組成の水性塗液（全固形分濃度１．０％）をキスコート法により塗布した。
0003598016.tif 000006
【０１２６】
続いてステンターに供給し、１１０℃にて横方向に４．２倍に延伸した。得られた二軸延伸フィルムを２２０℃の熱風で４秒間熱固定し、全厚み６．４μｍ、ベース層（ＰＥＴ−Ａ層）の厚み１．０μｍ、皮膜層Ａの厚み０．０１０μｍの二軸配向複合ポリエステルフィルムを得た。ＡＥＴ−Ａ、ＰＥＴ−Ｃ層の厚みについては、２台の押出し機の吐出量により調整した。このフィルムの皮膜層ＡのＡＦＭ表面粗さは１．４ｎｍ、ＲａＡは１．８ｎｍであり、  ＰＥＴ−Ｃ層のＲａＣは７．５ｎｍであり、またフィルムのヤング率は縦方向５００ｋｇ／ｍｍ２  、横方向７００ｋｇ／ｍｍ２  であった。
この複合ポリエステルフィルムの表面特性、このフィルムを用いた強磁性薄膜蒸着型磁気テープの特性を表３に示す。
【０１２７】
［比較例８］
実施例４において、塗布した水性塗液（全固形分濃度１．０％）を下記にすること以外は同じにした。
0003598016.tif 000007
得られた複合フィルムの皮膜層ＡのＲａＡは１．８ｎｍであり、  ＰＥＴ−Ｃ層のＲａＣは７．５ｎｍであった。他のフィルム特性およびこのフィルムを用いた強磁性薄層蒸着磁気テープの特性を表３に示す。
【０１２８】
［比較例９］
実施例４において、塗布した水性塗液（全固形分濃度１．０％）を下記にすること以外は同じにした。
0003598016.tif 000008
得られた複合フィルムの皮膜層ＡのＲａＡは２．０ｎｍであり、  ＰＥＴ−Ｃ層のＲａＣは７．５ｎｍであった。他の特性およびこのフィルムを用いた強磁性薄層蒸着磁気テープの特性を表３に示す。
【０１２９】
【表３】
0003598016.tif 000009
【０１３０】
表３から明らかなように、実施例４の複合ポリエステルフィルムは、耐ブロッキング剥離力が良好で、優れた電磁変換特性、走行耐久性を示す。一方、比較フィルムは、これらの特性を満足できていない。
【０１３１】
【発明の効果】
本発明によれば、フィルムの帯電量が少なく、フィルム間のブロッキングがなく、削れが少なく、且つ、電磁変換特性、磁性層の接着性、バックコート層の接着性の優れた、特に高密度磁気記録媒体の基材として用いるのに適した複合ポリエステルフィルムを提供することができる。