(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
枠状のシール材を介して貼り合わされた一対の基板と、両基板間に挟持された液晶と、一方の前記基板の前記液晶側に形成された反射層と、前記反射層の前記液晶側に形成された保護層と、前記保護層の前記液晶側に形成された配向膜とを具備する液晶表示装置であって、
前記一方の基板の前記液晶側の表面は、前記一方の基板に複数の突起と窪みとを形成して粗面化された粗面領域と、前記粗面領域を囲む平坦な平坦領域とを有し、
前記粗面領域は、前記平坦領域よりも低く段差を持って形成され、
前記反射層、前記保護層及び前記配向膜は、前記平坦領域と前記粗面領域との境界に形成される段を跨がないように、それらの縁端部と前記段との間に間隙を設けて前記粗面領域内にのみ形成され、
前記シール材は、前記平坦領域内にのみ形成され、
前記反射層、前記保護層及び前記配向膜の縁端部と前記シール材の内周部との間が所定の長さだけ離れていることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項２】
前記反射層は、複数の開口部を有することを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項３】
前記反射層と前記配向膜との間にあって前記一方の基板の前記粗面領域内に、カラーフィルタ層をさらに具備することを特徴とする請求項１または２に記載の液晶表示装置。
【請求項４】
前記一対の基板間の前記粗面領域内に第１のスペーサが配置され、前記一対の基板間の前記平坦領域内に第２のスペーサが配置され、前記第２のスペーサの径は前記第１のスペーサの径よりも大きいことを特徴とする請求項１ないし３のいずれかに記載の液晶表示装置。
【請求項５】
請求項１ないし４のいずれかに記載の液晶表示装置を備えることを特徴とする電子機器。
【請求項６】
シール材を介して貼り合わされた一対の基板と、両基板間に挟持された液晶と、一方の前記基板の前記液晶側に形成された反射層と、前記反射層の前記液晶側に形成された保護層と、前記保護層の前記液晶側に形成された配向膜とを具備する液晶表示装置の製造方法であって、
前記一方の基板の表面のうち、前記基板の縁部近傍の部分を平坦領域として形成するようにマスク材によって覆う工程と、
前記表面のうち前記マスク材によって覆われた領域以外の領域に複数の突起と窪みとを形成して粗面化し、前記平坦領域に周囲を囲まれる形状で、前記平坦領域よりも低く段差を持って粗面領域を形成する工程と、
前記反射層、前記保護層及び前記配向膜が前記平坦領域と前記粗面領域との境界に形成される段を跨がないように、それらの縁端部と前記段との間に間隙を設けて前記粗面領域内にのみ前記反射層、前記保護層及び前記配向膜を形成する工程と、
前記反射層、前記保護層及び前記配向膜の縁端部と前記シール材の内周部との間が所定の長さだけ離れるように、前記平坦領域内にのみ前記シール材を形成する工程と、
前記一方の基板を、前記シール材を介して他方の前記基板と貼り合わせる工程と、
を有することを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【請求項７】
前記一方の基板は、網状の形状を有する第１組成物と、前記第１組成物の網間に存在する第２組成物とを含み、
前記粗面化の際には、前記第１組成物と前記第２組成物とで溶出速度が異なる処理液を用いて、前記一方の基板にエッチングを施すことによって、前記マスク材によって覆われた領域以外の領域に前記第１組成物の形状に応じた粗面を形成することを特徴とする請求項６に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項８】
前記粗面化の際には、前記一方の基板の表面に対し、前記マスク材を介して粒状部材を衝突させることによって、前記マスク材によって覆われた領域以外の領域を粗面化することを特徴とする請求項６に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項９】
前記粗面領域を形成する工程の後に前記マスク材を除去する工程と、
前記平坦領域および前記粗面領域に対してエッチングを施す工程と、
を有することを特徴とする請求項６ないし８のいずれかに記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項１０】
前記一対の基板間の前記粗面領域内に第１のスペーサを配置する工程と、前記一対の基板間の前記平坦領域内に第２のスペーサを配置する工程とを有し、
前記第２のスペーサの径は前記第１のスペーサの径よりも大きいことを特徴とする請求項６ないし９のいずれかに記載の液晶表示装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、液晶表示装置、その製造方法および電子機器に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来より、反射型表示が可能な液晶表示装置が普及している。この種の液晶表示装置においては、自然光や室内照明等の外光が前面側（観察側）から入射し、この光が反射層によって反射することによって反射型表示が行われる構成となっている。この構成によれば、バックライトが不要となるから、低消費電力化および軽量化を図ることができるという利点がある。このため、反射型液晶表示装置は、携帯型電子機器等を中心に広く普及している。
【０００３】
ここで、図１１は、従来の反射型液晶表示装置の構成を例示する断面図である。なお、同図においてはパッシブマトリクス方式の液晶表示装置５Ａが例示されている。この図に示されるように、液晶表示装置５Ａは、背面基板５１と前面基板５２とが、枠状のシール材５３を介して接合された構成となっている。両基板の間には液晶５４が封入される。また、前面基板５２の液晶５４側の表面には、所定の方向に延在する複数の透明電極５２１が形成されている。また、透明電極５２１が形成された前面基板５２の表面は、配向膜５２２によって覆われている。この配向膜５２２には、電圧が印加されていないときの液晶５４の配向方向を規定するためのラビング処理が施されている。
【０００４】
一方、背面基板５１の液晶５４側の表面には、反射層５１１、絶縁層５１２、カラーフィルタ層５１３および保護層５１４がこの順に形成されている。反射層５１１は、反射性を有する金属（例えばアルミニウム等）の薄膜である。絶縁層５１２は、反射層５１１を保護するための薄膜である。カラーフィルタ層５１３は、複数のカラー画素５１３ａと遮光層（ブラックマトリクス）５１３ｂとからなる。
【０００５】
保護層５１４は、カラーフィルタ層５１３を保護するための薄膜である。この保護層５１４の表面には、上記透明電極５２１と直交する方向に延在する複数の透明電極５１５が形成されている。これらの透明電極５１５が形成された保護層５１４の表面は、上記配向膜５２２と同様の配向膜５１６によって覆われている。
【０００６】
さらに、背面基板５１側の配向膜５１６と前面基板５２側の配向膜５２２との間には球状のスペーサ５５が複数散布されている。これらのスペーサ５５は、背面基板５１と前面基板５２との間の距離（以下、「セルギャップ」という。）を均一に保つためのものである。
【０００７】
このような構成において、前面基板５２側から入射した光は、前面基板５２および液晶５４等を通過した後、反射層５１１の表面において反射する。そしてこの反射光は、再び液晶５４および前面基板５２を通過して、観察側に出射する。この結果、反射型表示が行われる。
【０００８】
ここで、反射層５１１の表面は鏡面状である。このため、図１２に示されるように、当該液晶表示装置５Ａの基板面と垂直な方向Ｈには強い光（正反射光）が出射することとなる。しかしながら、図１２に示す角度θが大きくなるにつれて出射光の強度は弱くなる。
したがって、角度θが大きい位置においては、表示画像が暗くなってしまうという問題がある。
【０００９】
このような問題を解決するために、外部散乱方式の液晶表示装置が提案されている。図１３は、この種の液晶表示装置の構成を例示する断面図である。なお、図１３中の各要素のうち、図１１に示された要素と共通するものについては、同一の符号を付してその説明を省略する。図１３に示されるように、この液晶表示装置５Ｂは、前面基板５２の外側に拡散フィルタ５６を有している。
【００１０】
この液晶表示装置５Ｂにおいて、前面基板５２側から入射した光は、拡散フィルタ５６によって散乱した後、前面基板５２および液晶５４等を通過して、反射層５１１の表面において反射する。そしてこの反射光は、再び液晶５４および前面基板５２を通過して、拡散フィルタ５６によって散乱した後、観察側に出射する。このように、外部散乱方式を採用した液晶表示装置５Ｂによれば、正反射光に加えて、拡散フィルタ５６によって散乱された散乱光を利用することができる。したがって、正反射光のみを利用する液晶表示装置５Ａと比較して、より広い範囲にわたって強い光を出射させることができる。そしてこの結果、広い範囲において明るい表示を行うことができる。
【００１１】
しかしながら、この液晶表示装置５Ｂにおいて、観察者によって視認される光は、当該液晶表示装置５Ｂに入射してから観察側に出射するまでの間に、拡散フィルタ５６において２回散乱する。このため、表示される画像の輪郭がぼやけるという問題がある。
【００１２】
この問題を解決するために、内部散乱方式の液晶表示装置が提案されている。図１４は、この種の液晶表示装置の構成を例示する断面図である。なお、図１４中の各要素のうち、図１１に示された要素と共通するものについては、同一の符号を付してその説明を省略する。
【００１３】
図１４に示されるように、内部散乱方式の液晶表示装置５Ｃにおいては、背面基板５１の液晶５４側の表面が粗面化されている。すなわち、この表面には多数の微細な突起と窪みとが形成されている。反射層５１７はこの粗面上に形成される。したがって、反射層５１７の表面には、粗面に形成された突起と窪みとを反映した突起と窪みとが形成される。
【００１４】
この液晶表示装置５Ｃにおいて、前面基板５２側から入射した光は、前面基板５２および液晶５４等を通過した後、反射層５１７の表面において反射する。ここで、上記のように、反射層５１７の表面には微細な突起と窪みとが形成されている。したがって、反射層５１７に至った光は、適度に散乱した状態で反射し、再び液晶５４および前面基板５２を通過して、観察側に出射する。このような構成によれば、正反射光に加えて散乱光も利用できるため、正反射光のみを利用する液晶表示装置５Ａと比較して、より広い範囲にわたって強い光を出射させることができる。この結果、広い範囲にわたって高品位な表示を行うことができる。さらに、この液晶表示装置５Ｃにおいては、光が散乱する回数は１回である。したがって、上述した外部散乱方式の液晶表示装置５Ｂと比較して、表示画像の輪郭がぼやけるのを抑えることができる。
【００１５】
また、内部散乱方式を採用した半透過反射型液晶表示装置も提案されている。図１５は、この種の液晶表示装置の構成を例示する断面図である。なお、図１５中の各要素のうち、図１１または図１４に示された要素と共通するものについては、同一の符号を付してその説明を省略する。
【００１６】
図１５に示されるように、液晶表示装置５Ｄは、背面基板５１の背面側にバックライトユニット５７を備えている。このバックライトユニット５７は、光源５７１と導光板５７２とを含む。光源５７１は、例えば冷陰極管である。導光板５７２は、光源５７１から側端面に入射した光を背面基板５１側に導く。また、液晶表示装置５Ｄにおいては、前述した液晶表示装置５Ｃにおける反射層５１７に代えて、反射半透過層５１９が設けられている。反射半透過層５１９は、複数の開口部５１９ａが形成されたアルミニウム等の薄膜である。
【００１７】
このような構成において、前面基板５２側から入射した光は、前面基板５２および液晶５４等を通過した後、反射半透過層５１９の表面において反射する。この反射光は、再び液晶５４および前面基板５２を通過して、観察側に出射する。この結果、反射型表示が行われる。
【００１８】
一方、暗所では光源５７１が点灯して透過型表示が行われる。すなわち、まず、光源５７１から出射した光は、導光板５７２によって背面基板５１側に導かれる。この光は、背面基板５１、反射半透過層５１９の開口部５１９ａ、液晶５４および前面基板５２等を通過して、観察側に出射する。この結果、透過型表示が行われる。
ここで、上記内部散乱方式を採用した液晶表示装置５Ｃまたは５Ｄにおいて、図１４または図１５に示されるように、背面基板５１の全面を粗面化した場合を想定する。この場合、シール材５３は粗面上に形成される。しかしながら、この構成を採用した場合、シール材５３と背面基板５１表面との密着性が低くなってしまうため、シール材５３の強度が部分的に低下してしまうという問題がある。また、このようにシール材５３と背面基板５１表面との密着性が低下する結果、双方の間に隙間が生じ得る。さらには、このような隙間が、液晶５４が封入される領域（すなわち、背面基板５１と前面基板５２とが対向する領域）から外部に至るように形成されることもあり得る。かかる隙間が形成された場合、封入された液晶５４の一部がこの隙間を通って外部に漏れたり、または水分が外部からこの隙間を通って流入して液晶５４に混入するといった事態が生じ、ひいては液晶表示装置の表示特性が劣化するという問題が生じる。
【００１９】
また、セルギャップを均一にするために、円柱状のガラスファイバが混入されたシール材５３を用いることが提案されている。しかしながら、粗面上にシール材５３を形成した場合、一部のガラスファイバが粗面における突起の頂上部に位置し、他のガラスファイバが粗面における窪みの底部に位置するといった状態となり、この結果セルギャップを均一に保つことができないという問題も生じ得る。
【００２０】
【発明が解決しようとする課題】
このような問題を解決するために、背面基板５１の表面のうちシール材５３が形成される領域を平坦な領域とすることが考えられる。こうすれば、シール材５３と背面基板５１とを十分に密着させることができるので、上述した問題を解決することができる。しかしながら、この構成を採用した場合、平坦な領域と粗面化された領域との境界をいずれの位置に設定すべきかということが問題となる。
【００２１】
ここで、一般の液晶表示装置においては、シール材５３の内側から１ないし３の画素をダミーの画素として機能させる構成が採られる。図１４または図１５においては、シール材５３の内側から１個の画素をダミーの画素とする場合が例示されている。したがって、シール材５３の内側から１画素分までの領域は表示に寄与しない非表示領域６４となり、これよりも内側の領域が実際の表示に寄与する表示領域６３となる。
【００２２】
一方、上記のように散乱光を用いた良好な表示を行うためには、背面基板５１表面のうち、少なくとも表示領域６３に対応する領域は粗面とする必要がある。この事情を考慮すれば、図１６に示されるように、背面基板５１表面のうち表示領域６３に対応する領域を粗面とする一方、非表示領域に対応する領域は平坦な領域とすることが考えられる。
【００２３】
ところで、背面基板５１の粗面は、例えば平坦な基板面の一部をエッチングによって除去することによって形成することができる。また、平坦な基板面に対して多数の研磨粉を吹き付けて基板面に微細な窪みを形成するサンドブラスト処理によって形成することもできる。ここで、これらの方法により形成された粗面の高さは平坦面の高さよりも低くなる。すなわち、図１６に示されるように、粗面と平坦面との境界（すなわち、表示領域６３と非表示領域６４との境界６５）には段差ｈが形成される。上述したように、表示に寄与する画素は表示領域６３内に位置し、表示に寄与しない画素（ダミー画素）は非表示領域６４内に位置する。したがって、上述したカラーフィルタ層５１３や配向膜５１６等は、この段差ｈを跨ぐ構成となる。この結果、図１６に示されるように、カラーフィルタ層５１３や配向膜５１６等の表面には、背面基板５１上の段差ｈに対応した段差が形成される。しかしながら、こうして配向膜５１６等の表面に段差が形成された場合、以下に示す問題が生じる。
【００２４】
ここで、複数のスペーサ５５は、配向膜５１６上に散布される。しかしながら、この配向膜５１６の表面に段差が形成された場合、段差を挟んだ一方の側と他方の側とで、複数のスペーサ５５が散布される高さが異なる。この結果、セルギャップが不均一となってしまう。このようにセルギャップが不均一となると、表示される画像に色ムラが発生し、表示品質が低下してしまうという問題がある。
特に、ＳＴＮ（Ｓｕｐｅｒ Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）モードの液晶表示装置においては、セルギャップのわずかな不均一さが、大幅な表示品質の低下を招くこととなるから、上述した問題は深刻である。
【００２５】
また、配向膜５１６にはラビング処理が施される。このラビング処理は、配向膜５１６の表面を布などによって所定方向に擦る処理である。しかしながら、この配向膜５１６の表面に段差が形成されている場合、この段差の影となる表示領域６３の周端部には布が接触しない。つまり、表示領域６３の一部にラビング処理が施されない領域が発生する。液晶５４は、このようにラビング処理が施されない領域では所望の方向に配向しない。この結果、表示領域６３の周縁部において表示不良が発生してしまう。
【００２６】
なお、図１１ないし図１５においては、パッシブマトリクス方式の液晶表示装置を例示した。しかしながら、上述した問題は、ＴＦＤ（Ｔｈｉｎ ＦｉｌｍＤｉｏｄｅ）に代表される二端子型素子や、ＴＦＴ（Ｔｈｉｎ Ｆｉｌｍ Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）に代表される三端子型素子を備えたアクティブマトリクス方式の液晶表示装置においても同様に生じ得る。
【００２７】
【課題を解決するための手段】
そこで、かかる問題を解決すべく、本発明の液晶表示装置は、枠状のシール材を介して貼り合わされた一対の基板と、両基板間に挟持された液晶と、一方の前記基板の前記液晶側に形成された反射層と、前記反射層の前記液晶側に形成された保護層と、前記保護層の前記液晶側に形成された配向膜とを具備する液晶表示装置であって、前記一方の基板の前記液晶側の表面は、前記一方の基板に複数の突起と窪みとを形成して粗面化された粗面領域と、前記粗面領域を囲む平坦な平坦領域とを有し、前記粗面領域は、前記平坦領域よりも低く段差を持って形成され、前記反射層、前記保護層及び前記配向膜は、前記平坦領域と前記粗面領域との境界に形成される段を跨がないように、それらの縁端部と前記段との間に間隙を設けて前記粗面領域内にのみ形成され、前記シール材は、前記平坦領域内にのみ形成され、前記反射層、前記保護層及び前記配向膜の縁端部と前記シール材の内周部との間が所定の長さだけ離れていることを特徴とする。換言すれば、本発明は、前記粗面領域と前記平坦領域との境界が、前記シール材の内周部と前記配向膜の縁端部との間に位置することを特徴としている。
【００２８】
この液晶表示装置においては、配向膜が粗面領域内に形成される。したがって、配向膜が、粗面領域と平坦領域との境界に形成される段差を跨ぐことはないから、当該配向膜の表面に段差は形成されない。この結果、複数のスペーサを同一の高さの表面上に散布することができるから、一対の基板間のセルギャップを均一に保つことができる。
【００２９】
さらに、配向膜の表面に段差が形成されないので、当該配向膜の全面に対してラビング処理を施すことができる。つまり、段差に起因してラビング処理が施されない領域が発生するのを有効に回避することができる。したがって、表示領域の全面にわたって良好な表示を実現することができる。
【００３０】
一方、シール材は、平坦領域内に形成されるから、シール材と一方の基板とを十分に密着させることができる。したがって、シール材と一方の基板との間に隙間が形成されるのを回避することができる。この結果、液晶が外部に漏れたり、外部から水分が流入するといった事態を回避することができる。
【００３１】
なお、上記液晶表示装置においては、前記反射層に複数の開口部を設ける構成が望ましい。こうすれば、反射層による反射光を用いた反射型表示に加えて、前記一方の基板側から入射して前記開口部を通過した光を用いた透過型表示を行うこともできる。したがって、十分な外光が存在しない状況下でも、明るい表示を行うことができる。
【００３２】
さらに、前記反射層と前記配向膜との間にあって前記一方の基板の粗面領域内に、カラーフィルタ層、および当該カラーフィルタ層を保護する保護層を設ける構成も望ましい。
こうすれば、カラー表示を実現することができる。また、カラーフィルタ層および保護層は、粗面領域内に形成されるから、これらの表面に段差が形成されることはない。したがって、上記と同様の理由により、シール材と前記一方の基板との密着性を高めつつ、セルギャップの均一化を図ることができる。加えて、保護層の表面に配向膜を形成する場合であっても、当該保護層の表面には段差が形成されていないため、配向膜の表面に段差が形成されるのを回避することができる。
また、前記一対の基板間の前記粗面領域内に第１のスペーサが配置され、前記一対の基板間の前記平坦領域内に第２のスペーサが配置され、前記第２のスペーサの径は前記第１のスペーサの径よりも大きくてもよい。
【００３３】
また、上述した目的を達成するため、本発明に係る電子機器は、上述したいずれかの液晶表示装置を備えることを特徴としている。上述したように、この液晶表示装置によれば良好な表示特性を得ることができるから、各種の電子機器の表示装置として好適である。
【００３４】
さらに、上述した目的を達成するため、本発明に係る液晶表示装置の製造方法は、シール材を介して貼り合わされた一対の基板と、両基板間に挟持された液晶と、一方の前記基板の前記液晶側に形成された反射層と、前記反射層の前記液晶側に形成された保護層と、前記保護層の前記液晶側に形成された配向膜とを具備する液晶表示装置の製造方法であって、前記一方の基板の表面のうち、前記基板の縁部近傍の部分を平坦領域として形成するようにマスク材によって覆う工程と、前記表面のうち前記マスク材によって覆われた領域以外の領域に複数の突起と窪みとを形成して粗面化し、前記平坦領域に周囲を囲まれる形状で、前記平坦領域よりも低く段差を持って粗面領域を形成する工程と、前記反射層、前記保護層及び前記配向膜が前記平坦領域と前記粗面領域との境界に形成される段を跨がないように、それらの縁端部と前記段との間に間隙を設けて前記粗面領域内にのみ前記反射層、前記保護層及び前記配向膜を形成する工程と、前記反射層、前記保護層及び前記配向膜の縁端部と前記シール材の内周部との間が所定の長さだけ離れるように、前記平坦領域内にのみ前記シール材を形成する工程と、前記一方の基板を、前記シール材を介して他方の前記基板と貼り合わせる工程と、を有することを特徴とする。
【００３５】
かかる製造方法によって得られた液晶表示装置によれば、上記と同様の効果を得ることができる。なお、上記マスク材としては、フォトレジスト、エポキシ樹脂等の樹脂系接着剤または塗料等を用いることができる。
【００３６】
なお、上記製造方法において、前記一方の基板を、網状の形状を有する第１組成物と、当該第１組成物の網間に存在する第２組成物とを含むものとし、前記粗面化の際には、前記第１組成物と前記第２組成物とで溶出速度が異なる処理液を用いて、前記一方の基板にエッチングを施すことによって、前記マスク材によって覆われた領域以外の領域に前記第１組成物の形状に応じた粗面を形成するようにしてもよい。なお、上記処理液としては、例えば硝酸、硫酸、塩酸、過酸化水素、水素二弗化アンモニウム、弗化アンモニウム、硝酸アンモニウム、硫酸アンモニウム、塩酸アンモニウム等のうちのいずれかまたは複数を、処理対象となる前記一方の基板の原料に応じて、適宜所定の割合で組合わせたものを用いることができる。粗面化の対象となる一方の基板としては、例えばソーダライムガラス、ホウ珪酸ガラス、バリウムホウ珪酸ガラス、バリウムアルミノ珪酸ガラス、アルミノ珪酸ガラス等を用いることができる。一般に、弗化水素酸水溶液のみで上記基板を処理した場合、当該基板の全面が均一にエッチングされるため、粗面領域を形成することはできない。しかしながら、基板に含まれる構成成分を選択的に溶出させるような補助薬品を適宜添加することによって、多数の微小な山部と谷部とを有する粗面領域を形成することができる。なお、処理液に混合される補助薬品は、上記に限定されるものではない。また、各処理液の種類や混合割合等は、処理対象となる基板の材質に応じて適宜選定されることが望ましい。
【００３７】
ここで、上記製造方法における粗面化の際には、前記一方の基板の表面に対し、前記マスク材を介して粒状部材を衝突させることによって、当該マスク材によって覆われた領域以外の領域に前記山部および谷部を形成することも考えられる。すなわち、いわゆるサンドブラスト処理を一方の基板の表面に対して施すのである。ここで、このマスク材としては、例えばステンレススチール等の金属板に開口部を設けたものを用いることができる。
このようなマスク材は一般に安価であり、また、耐久性も高いため、製造コストを大幅に低減することができるという利点がある。さらに、マスク材は、サンドブラスト処理後に容易に取り外すことができるため、別途マスク材を除去するための工程を必要としない。
【００３８】
なお、上述した各製造方法においては、前記粗面領域を形成する工程の後に前記マスク材を除去する工程と、当該マスク材によって覆われていた領域および前記粗面領域に対してエッチングを施す工程とを有することが望ましい。かかるエッチングによって、粗面領域の形状を所望の形状に調節することができる。ここで、マスク材を除去する前にかかるエッチングを施した場合には、粗面領域と平坦領域との間の高低差が拡大してしまうという問題がある。この結果、上記高低差が液晶表示装置の所望のセルギャップよりも大きくなってしまうと、その基板を当該液晶表示装置に用いることはできない。これに対し、マスク材を除去した後に、粗面領域と平坦領域の双方に対して均一にエッチングを施すことにより、双方の高低差の拡大を抑制することができるという利点がある。
【００３９】
また、上述した各製造方法においては、前記一対の基板間の前記粗面領域内に第１のスペーサを配置する工程と、前記一対の基板間の前記平坦領域内に第１のスペーサの径よりも径が大きい第２のスペーサを配置する工程とを有してもよい。
【００４０】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施形態について図面を参照して説明する。
【００４１】
＜Ａ：液晶表示装置の構成＞
＜Ａ−１：第１実施形態＞
最初に、本発明の第１実施形態に係る液晶表示装置の構成を説明する。なお、本実施形態においては、スイッチング素子としてＴＦＤ（Ｔｈｉｎ ＦｉｌｍＤｉｏｄｅ）を用いた内面散乱方式の反射型液晶表示装置を例示する。
【００４２】
図１は、本実施形態に係る液晶表示装置１Ａの一部の構成を例示する断面図である。図２は、液晶表示装置１Ａの分解斜視図である。なお、図１は、図２におけるＡ−Ａ’線視断面図となっている。これらの図に示されるように、液晶表示装置１Ａは、背面基板１１と前面基板１２とが枠状のシール材１３を介して接合された構成となっている。両基板の間には液晶１４が封入される。背面基板１１および前面基板１２は、ガラスや石英、プラスティック等からなり、光透過性を有している。なお、実際には、前面基板１１の液晶１４とは反対側の表面に、入射光を偏光させるための偏光板や位相差板等が貼着されるが、これらの図示は省略されている。
【００４３】
図１および図２に示されるように、前面基板１２の液晶１４側の表面には、複数の画素電極１２１がマトリクス状に配列している。各画素電極１２１は、例えばＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ）等の透明導電材料によって形成される。また、図２に示されるように、前面基板１２の液晶１４側の表面には、所定方向に延在する複数の走査線１２３が形成される。各画素電極１２１とこれに隣接する走査線１２３とは、ＴＦＤ１２２を介して接続される。
【００４４】
図１に示されるように、画素電極１２１、ＴＦＤ１２２および走査線１２３が形成された前面基板１２の表面は、配向膜１２４によって覆われている。この配向膜１２４は、電圧が印加されていないときの液晶１４の配向方向を規定するためのラビング処理が施されている。このラビング処理は、配向膜１２４の表面を布などによって所定方向に擦る処理である。
【００４５】
一方、図１に示されるように、背面基板１１の液晶１４側の表面は、平坦領域１１ａと粗面領域１１ｂとからなる。粗面領域１１ｂは、多数の微細な突起と窪みとを有する領域である。なお、粗面領域１１ｂにおける突起の頂上部から窪みの底部までの距離は、０．５×１０−６ないし２．５×１０−６ｍ程度である。また、粗面領域１１ｂにおける任意の突起の頂上部から、当該突起に隣接する他の突起の頂上部までの距離は、１０×１０−６ないし１５×１０−６ｍ程度である。一方、平坦領域１１ａは、表面が平坦な領域である。
【００４６】
ここで、図３には、背面基板１１の表面における平坦領域１１ａと粗面領域１１ｂとの位置関係が示されている。この図に示されるように、平坦領域１１ａは、背面基板１１の縁部に沿って粗面領域１１ｂ（図３において斜線が付された領域）を囲むように形成される。上述した枠状のシール材１３は、平坦領域１１ａ内に形成される。シール材１３の幅ｃ１（図１参照）は、例えば０．８×１０−３ないし１．１×１０−３ｍ程度である。なお、背面基板１１の表面に平坦領域１１ａおよび粗面領域１１ｂを選択的に形成する方法については後述する。
【００４７】
また、図１に示されるように、背面基板１１の粗面領域１１ｂ内には、反射層１１１が形成される。この反射層１１１は、前面基板１２側からの入射光を反射させるための層である。反射層１１１は、アルミニウム等の反射性を有する金属により形成される。図１に示されるように、この反射層１１１の表面には、粗面領域１１ｂの微細な突起と窪みとを反映した突起と窪みとが形成される。すなわち、当該反射層１１１に至った光を適度に散乱させた状態で反射させるための散乱構造が形成される。この反射層１１１は、絶縁層１１２によって覆われている。絶縁層１１２は、反射層１１１を保護するための薄膜であり、二酸化珪素等により形成される。図１に示されるように、この絶縁層１１２の表面には、反射層１１１表面の突起と窪みとを反映した突起と窪みとが形成される。
【００４８】
絶縁層１１２上には、複数のカラー画素１１３ａと遮光層１１３ｂとからなるカラーフィルタ層１１３が形成される。各カラー画素１１３ａは、例えばＲ（赤色）、Ｇ（緑色）またはＢ（青色）のうちのいずれかに着色されている。図２に示されるように、各色のカラー画素１１３ａは、所定の規則に従って配列される。これらのカラー画素１１３ａは、例えば着色感材法、染色法、転写法または印刷法などにより形成される。一方、遮光層１１３ｂは、各カラー画素１１３ａの間に形成される。この遮光層１１３ｂは、例えばクロム等の金属や、黒色顔料を分散させたカラーレジスト等により形成される。
【００４９】
カラーフィルタ層１１３の表面には保護層１１４が形成される。この保護層１１４は、カラーフィルタ１１３を保護するための有機薄膜である。図１に示されるように、保護層１１４は、反射層１１１、絶縁層１１２およびカラーフィルタ層１１３を完全に覆うように形成される。反射層１１１の縁端部２１から保護層１１４の縁端部２２までの距離ａ１は、例えば０．０２×１０−３ないし０．０５×１０−３ｍ程度である。また、保護層１１４の縁端部２２からシール材１３の内周端までの距離ｂ１は、０．１×１０−３ないし１．１×１０−３ｍ程度であることが望ましい。
【００５０】
この保護層１１４の表面には、複数の透明電極１１５が形成されている。図２に示されるように、各透明電極１１５は、上述した複数の走査線１２３と交差する方向に延在する帯状の電極である。各透明電極１１５は、前面基板１２側に列をなす複数の画素電極１２１と対向する。これらの透明電極１１５が形成された保護層１１４の表面は配向膜１１６によって覆われている。この配向膜１１６は、前面基板１２上に形成された配向膜１２４と同様の有機薄膜である。
【００５１】
前面基板１２上の配向膜１２４と、背面基板１１上の配向膜１１６との間隙には、複数のスペーサ１５が散布される（図２においては省略されている。）。これらのスペーサ１５は、両基板のセルギャップを均一に保つためのものであり、例えば二酸化珪素やポリスチレン等により形成される。
【００５２】
ここで、反射層１１１、絶縁層１１２、カラーフィルタ層１１３、保護層１１４および配向膜１１６は、背面基板１１上の粗面領域１１ｂ内に形成される。詳述すると、以下の通りである。まず、本実施形態においては、図１に示すように、保護層１１４の縁端部２２が、反射層１１１の縁端部２１よりも外側（すなわち、シール材１３側）に位置する。
さらに、配向膜１１６は、保護層１１４の表面上に形成される。したがって、背面基板１１上に形成される要素のうち、保護層１１４の縁端部２２が、前面基板１２側から見て最も外側に位置することとなる。そして、図３に示されるように、この保護層１１４が、背面基板１１の粗面領域１１ｂに含まれるように形成される。したがって、反射層１１１、絶縁層１１２、カラーフィルタ層１１３、保護層１１４および配向膜１１６のすべてが、粗面領域１１ｂ内に形成される。換言すれば、背面基板１１上に形成されるいずれの要素も、平坦領域１１ａと粗面領域１１ｂとの境界２３に形成された段差を跨ぐことはない。
なお、図１に示されるように、シール材１３の内周端から、マトリクス状に配列する画素のうち最も外側に位置する画素までの領域は非表示領域２５であり、非表示領域２５よりも内側の領域は表示領域２６である。したがって、図３に示された境界２６からも判るとおり、前面基板１２側から見て、表示領域２６の全体が粗面領域１１ｂ内に含まれる。
【００５３】
以上説明したように、本実施形態においては、背面基板１１の液晶１４側表面が平坦領域１１ａと粗面領域１１ｂとからなる。そして、反射層１１１、絶縁層１１２、カラーフィルタ層１１３、保護層１１４および配向膜１１６のすべてが粗面領域１１ｂ内に形成される。つまり、背面基板１１上に形成されるいずれの要素も、粗面領域１１ｂと平坦領域１１ａとの境界２３に形成された段差を跨ぐことはない。したがって、これらの各要素の表面に、平坦領域１１ａと粗面領域１１ｂとの段差に対応した段差が形成されることはない。このため、本実施形態によれば、セルギャップを均一に保つことができる。また、配向膜１１６の表面に段差が形成されることはないから、ラビング処理が施されない領域が発生するのを回避することができる。
【００５４】
一方、シール材１３が形成される領域は平坦な平坦領域１１ａであるから、シール材１３と背面基板１１とを十分に密着させることができる。したがって、シール材１３と背面基板１１との間に隙間が形成されるのを回避することができる。この結果、液晶１４が外部に漏れたり、外部から水分が流入するといった事態を回避することができる。また、シール材１３に混入されるガラスファイバ等は平坦領域１１ａ上に位置するから、セルギャップを均一に保つことができる。この結果、高品質な表示を実現することができる。
【００５５】
＜Ａ−２：第２実施形態＞
上記第１実施形態に係る反射型液晶表示装置１Ａは、低電力による駆動が可能である。しかしながら、外光が十分に存在しない状況の下では、表示が暗くなってしまうという問題がある。以下に示す半透過反射型液晶表示装置においては、十分な外光が存在する状況下では反射型表示が行われる一方、外光が不十分な状況下では透過型表示が行われる。図４は、本実施形態に係る液晶表示装置１Ｂの構成を表す断面図である。なお、図４中の各要素のうち、図１に示された要素と共通するものについては、同一の符号を付してその説明を省略する。
【００５６】
図４に示されるように、液晶表示装置１Ｂにおける背面基板１１の背面側には、バックライトユニット１６が配設されている。このバックライトユニット１６は、光源１６１と導光板１６２とを含んで構成される。光源１６１は、例えば冷陰極管であり、導光板１６２に対して光を照射する。導光板１６２は、光源１６１から側端面に入射した光を、背面基板１１側に導く。
【００５７】
本実施形態に係る液晶表示装置１Ｂにおいては、上述した液晶表示装置１Ａにおける反射層１１１に代えて、反射半透過層１１７が設けられている。この反射半透過層１１７は、複数の開口部１１７ａを有する薄膜である。本実施形態においては、図４に示されるように、各画素ごとに１つの開口部１１７ａが設けられている。導光板１６２から出射して背面基板１１を透過した光は、この開口部１１７ａを通過して前面基板１１側に至る。この結果、透過型表示が行われる。なお、１画素あたりの開口部１１７ａの個数は、所望の透過特性に応じた開口率が得られる個数とすることが望ましい。
【００５８】
また、この反射半透過層１１７は、例えばアルミニウム等の反射性を有する金属によって形成される。したがって、前面基板１１側に入射した光は、この反射半透過層１１７の表面において反射する。この結果、反射型表示が行われる。
本実施形態においても、上記第１実施形態と同様の効果が得られる。さらに、本実施形態によれば、上述したように、外光が不十分な状況下でも、明るい表示を行うことができる。
【００５９】
＜Ａ−３：第３実施形態＞
次に、図５を参照して、本発明の第３実施形態に係る液晶表示装置ＩＣの構成を説明する。なお、図５中の各構成要素のうち、図１に示された要素と共通するものについては、同一の符号を付してその説明を省略する。
【００６０】
上記第１および第２各実施形態においては、前面基板１２に形成された配向膜１２４と、背面基板１１に形成された配向膜１１６との間にのみ、複数のスペーサ１５を散布する構成とした。これに加え、本実施形態においては、背面基板１１の平坦領域１１ａと前面基板１２との間にも複数のスペーサ１７が散布されている。各スペーサ１７は球状である。また、図５に示されるように、このスペーサ１７の直径は、背面基板１１の平坦領域１１ａと前面基板１２との間隔と略同一である。したがって、スペーサ１７の直径は、スペーサ１５の直径よりも大きい。なお、複数のスペーサ１５および複数のスペーサ１７は、インクジェット方式によって上述した領域に選択的に散布される。
【００６１】
本実施形態においても、上記第１実施形態と同様の効果が得られる。さらに、本実施形態によれば、配向膜１２４と配向膜１１６との間のみならず、背面基板１１の平坦領域１１ａと前面基板１２との間にもスペーサ１７が散布されるので、セルギャップをより確実に均一化することができる。したがって、より高品質な表示を実現することができる。
【００６２】
＜Ａ−４：変形例＞
（１）背面基板１１の粗面領域１１ｂの形状は、図１、図４および図５に示された形状に限られない。すなわち、当該粗面領域１１ｂ上に形成される反射層１１１（第２実施形態においては反射半透過層１１７）が所望の散乱特性を発揮できるような形状であれば、粗面領域１１ｂにおける突起および窪みの態様はいかなるものであってもよい。
【００６３】
（２）第１ないし第３実施形態においては、背面基板１１上にカラーフィルタ層１１３が形成され、前面基板１２上にＴＦＤ１２４が形成された。しかしながら、背面基板１１上にＴＦＤ１２４を形成し、前面基板１２上にカラーフィルタ層１１３を形成してもよい。この場合、反射層１１１の表面に、複数のＴＦＤ素子１２２、複数の画素電極１２１および複数の走査線１２３が形成される。また、これらの各部が形成された反射層１１１の表面は、配向膜１２４によって覆われる。さらに、背面基板１１にＴＦＤ１２２を形成する場合、反射層１１１が、入射光を反射させる機能と、画素電極１２１の機能とを兼ね備えるようにしてもよい。
【００６４】
（３）上記第１ないし第３実施形態においては、アクティブマトリクス方式の液晶表示装置を例示した。しかしながら、本発明は、パッシブマトリクス方式の液晶表示装置にも適用可能である。また、上記第１ないし第３実施形態においては、スイッチング素子として二端子型素子であるＴＦＤ１２２を用いた場合を例示した。しかしながら、本発明は、ＴＦＴ（Ｔｈｉｎ Ｆｉｌｍ Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）に代表される三端子型素子をスイッチング素子として備えた液晶表示装置にも適用可能である。
【００６５】
（４）上記第１ないし第３実施形態においては、背面基板１１上に形成される要素のすべて、すなわち、反射層１１１（反射半透過層１１７）、絶縁層１１２、カラーフィルタ層１１３、保護層１１４、配向膜１１６のすべてが、粗面領域１１ｂ内に形成されるようにした。しかしながら、必ずしもこれらのすべての要素が粗面領域１１ｂ内に形成される必要はなく、少なくとも配向膜１１６が、粗面領域１１ｂ内に形成されていればよい。あるいは、この配向膜１１６は保護層１１４の表面上に形成されるので、この保護層１１４が粗面領域１１ｂ内に形成されていればよい。
【００６６】
＜Ｂ：液晶表示装置の製造方法＞
次に、上述した第１ないし第３実施形態に係る液晶表示装置の製造方法を例示する。なお、以下では、１枚のガラス基板から４枚の背面基板が多面取りされる場合を想定する。
【００６７】
＜Ｂ−１：第１の製造方法＞
最初に、図６Ａないし図６Ｆを参照して、液晶表示装置の第１の製造方法について説明する。
【００６８】
まず、背面基板４枚分の大きさのガラス基板３１が用意される。このガラス基板３１の表面のうち、背面基板１１の平坦領域１１ａとなるべき領域に、マスク材３２が形成される。具体的には、図６Ａおよび図６Ｂに示されるように、ガラス基板３１の表面を４分割した各領域（背面基板１１に相当する。）の縁部を囲む形状にマスク材３２が形成される。なお、このマスク材３２は、例えばフォトレジストやラミネートフィルム等である。
【００６９】
次に、図６Ｃに示されるように、ガラス基板３１の表面のうち、マスク材３２によって覆われていない領域が粗面化される。なお、この粗面化のための処理については後述する。さらに、図６Ｄに示されるように、マスク材３２が除去される。この結果、ガラス基板３１の一方の表面のうち、マスク材３２が形成されていた領域は平坦領域１１ａとなり、それ以外の領域は粗面領域１１ｂとなる。
【００７０】
続いて、図６Ｅに示されるように、平坦領域１１ａと粗面領域１１ｂとからなるガラス基板３１の全面に、反射性を有する金属膜３３が形成される。この金属膜３３は、たとえばアルミニウムまたは銀等の単体金属、もしくはアルミニウム、銀等を主成分とする合金によって形成される。この後、図６Ｆに示されるように、粗面領域１１ｂ内の領域を残して金属膜３３が除去される。この金属膜３３のパターニングには、例えばフォトリソグラフィを用いることができる。こうして粗面領域１１ｂ内に残った金属膜３３が、上述した反射層１１１となる。この反射層１１１の表面には、粗面領域１１ｂの微細な突起と窪みとを反映した突起と窪みとが形成される。以上の処理の後、反射層１１１によって覆われた背面基板１１の粗面領域１１ｂ内に、絶縁層１１２、カラーフィルタ層１１３、保護層１１４、透明電極１１５および配向膜１１６が順次形成される。なお、上記第２実施形態に係る液晶表示装置１Ｂの製造に際しては、上記反射層１１１に開口部１１７ａを設けて反射半透過層１１７を形成する工程がさらに実行される。続いて、粗面領域１１ｂを囲む平坦領域１１ａ上に、枠状のシール材１３が形成される。
【００７１】
こうして反射層１１１やシール材１３等が形成されたガラス基板３１が得られると、当該シール材１３を介して当該ガラス基板３１と他のガラス基板とが貼り合わされる。さらに、この一対のガラス基板間であって、シール材１３によって囲まれた領域に液晶１４が封入される。この後、一対のガラス基板は、各液晶表示装置ごとに分断される。
【００７２】
以下、背面基板１１の表面を選択的に粗面化して粗面領域１１ｂを形成するための工程（すなわち、図６Ａから図６Ｄまでの工程）の具体例を示す。
【００７３】
（１）第１の粗面化方法
以下に示す第１の粗面化方法では、ガラス基板３１としてアルミノ珪酸ガラス基板を用いる。
【００７４】
図７Ａは、ガラス基板３１の断面構造を模式的に表している。同図に示されるように、このガラス基板３１は、網目状構造体３１１と、この網目状構造体３１１の網目間を埋めるように存在する網目修飾体３１２とからなる。網目状構造体３１１は、例えば珪酸と酸化アルミニウムとの共重合体によって形成される。網目修飾体３１２は、例えば酸化マグネシウム等によって形成される。
まず、ガラス基板３１に対して洗浄を兼ねたエッチングが施される。具体的には、ガラス基板３１が、例えば５ｗｔ％程度の弗化水素酸水溶液に、２５℃において５秒間程度浸漬される。
【００７５】
次に、図７Ｂに示されるように、ガラス基板３１のうちの平坦領域１１ａが形成されるべき領域に、マスク材３２が形成される。このマスク材３２の形状は、図６Ａおよび図６Ｂに例示された通りである。
【００７６】
続いて、このガラス基板３１が、３０ｗｔ％弗化水素酸水溶液の酸化アルミニウムおよび酸化マグネシウムの過飽和溶液に、２５℃において３０秒程度浸漬される（以下、この処理を「第１エッチング」という。）。この処理において、網目状構造体３１１のうちの酸化アルミニウムが局在する部分に、過飽和溶液中の酸化アルミニウムが析出するとともに、網目修飾体３１２のうちの酸化マグネシウムが局在する部分に過飽和溶液中の酸化マグネシウムが析出する。そして、この結果、図７Ｃに示されるように、ガラス基板３１の表面には微細なネットワーク構造３１３が形成される。一方、網目状構造体３１１および網目修飾体３１２のうち、処理液に過飽和溶解されていない成分（すなわち、酸化アルミニウムおよび酸化マグネシウム以外の成分）によって形成される部分は、弗化水素酸によって侵食される。この結果、ガラス基板３１の表面のうち、上述したネットワーク構造３１３が形成された領域以外の領域には、窪み３１４が形成される。
【００７７】
次に、図７Ｄに示されるように、マスク材３２が除去される。マスク材３２が形成されていた領域には、第１エッチングが施されないから、平坦な表面のままである。
【００７８】
続いて、ガラス基板３１の全面に対して、均一なエッチングが施される（以下、この処理を「第２エッチング」という。）。具体的には、まず、５０ｗｔ％の弗化水素酸と、４０ｗｔ％の弗化アンモニウム水溶液とが重量比１：３で混合された溶液が用意される。そして、ガラス基板３１が、この溶液に２５℃において２０秒程度浸漬される。この処理により、上述したネットワーク構造３１３と、窪み３１４に形成された微細な突起（図示略）とが除去される。この結果、図７Ｅに示されるように、ガラス基板３１のうちのマスク材３２が形成されなかった領域は、滑らかな突起と窪みとを有する粗面領域１１ｂとなる。一方、マスク材３２が形成されていた領域は、平坦な平坦領域１１ａとなる。
【００７９】
ところで、マスク材３２の除去前に、ガラス基板３１に対して第２エッチングを施すことも一応考えられる。しかしながら、こうした場合、マスク材３２が形成された領域には第２エッチングが施されず、それ以外の領域にはエッチングが施される。この結果、平坦領域１１ａと粗面領域１１ｂとの高低差が、第２エッチングに伴って拡大してしまう。ここで、ガラス基板３１における平坦領域１１ａと粗面領域１１ｂとの高低差が、液晶表示装置の所望のセルギャップよりも大きくなってしまうと、このガラス基板を用いたのでは当該セルギャップを得ることができないという問題が生じ得る。これに対し、本実施形態においては、マスク材３２が除去された後にガラス基板３１の全面に対して第２エッチングが施されるため、平坦領域１１ａと粗面領域１１ｂとの高低差が拡大するのを回避することができる。
【００８０】
（２）第２の粗面化方法
次に、図８Ａないし図８Ｅを参照して、背面基板１１の表面を選択的に粗面化するための第２の粗面化方法について説明する。なお、以下では、ガラス基板３１としてソーダライムガラス基板を用いた場合を例示する。
【００８１】
このガラス基板３１は、図８Ａに示されるように、網目状構造体３１１と網目修飾体３１２とを有する点において、上記第１の粗面化方法におけるガラス基板３１と同様である。ただし、図８Ａに示すガラス基板３１は、網目状構造体３１１が珪酸によって形成されている点、および網目修飾体３１２がアルカリ金属やアルカリ土類金属によって形成されている点において、上記第１の粗面化方法におけるガラス基板３１とは異なっている。まず、ガラス基板３１に対して洗浄を兼ねたエッチングが施される。具体的には、ガラス基板３１が、５ｗｔ％の弗化水素酸水溶液に、２５℃において５秒程度浸漬される。続いて、図８Ｂに示されるように、ガラス基板３１の表面のうちの平坦領域１１ａが形成されるべき領域に、マスク材３２が形成される。このマスク材３２の形状は、図６Ａおよび図６Ｂに示された通りである。
【００８２】
次に、このガラス基板３１が、弗化水素酸が３０ｗｔ％、水素二弗化アンモニウムが４５ｗｔ％含まれる処理液に、２５℃において１５秒程度浸漬される。ここで、図８Ｃに示されるように、ガラス基板３１を構成する成分のうち、網目修飾体３１２が上記処理液に溶出する速度は、網目状構造体３１１が当該処理液に溶出する速度よりも速い。したがって、ガラス基板３１が上記処理液に浸漬されると、図８Ｄに示されるように、網目状構造体３１１の形状に応じた突起と窪みとを有する粗面領域１１ｂが形成される。この後、図８Ｅに示されるように、マスク材３２が除去されて、平坦領域１１ａおよび粗面領域１１ｂを有するガラス基板３１が得られる。
【００８３】
＜Ｂ−２：第２の製造方法＞
次に、図９Ａないし図９Ｆを参照して、上記第１ないし第３実施形態に係る液晶表示装置の第２の製造方法を説明する。なお、以下においても、上記第１の製造方法と同様、１枚のガラス基板３１から４枚の背面基板１１を多面取りする場合を想定する。また、ガラス基板３１はソーダライムガラス基板である。
【００８４】
まず、図９Ａおよび図９Ｂに示されるように、ガラス基板３１の一方の面側に、マスク材としてステンレススチール板３４が配置される。このステンレススチール板３４には、ガラス基板３１のうちの粗面領域１１ｂとなるべき領域に対応して開口部３４ａが形成されている。
【００８５】
次に、図９Ｃに示されるように、多数の微細な研磨粉３５が、上記ステンレススチール板３４を介してガラス基板３１の表面に吹き付けられる。この工程において、ガラス基板３１の表面のうち、ステンレススチール板３４の開口部３４ａに対応する領域には、研磨粉３５の衝突による多数の窪みが形成される。一方、ステンレススチール板３４によって覆われた領域には、研磨粉３５が衝突しないため、平坦な表面のままとなる。
【００８６】
続いて、ガラス基板３１が洗浄される。すなわち、当該ガラス基板３１に吹き付けられた研磨粉３５や、研磨粉３５の衝突によって生じたガラス粉が除去される。この後、ガラス基板３１が所定の処理液に浸漬されることにより、当該ガラス基板３１の全面に対して均一なエッチングが施される。上記所定の処理液としては、例えば弗化水素酸（５０ｗｔ％）と弗化アンモニウム水溶液（４０ｗｔ％）とが重量比１：３で混合された処理液が用いられる。
【００８７】
以上の処理によって、図９Ｄに示されるように、平坦領域１１ａと粗面領域１１ｂとが選択的に形成されたガラス基板３１が得られる。この後、上記第１の製造方法と同様、図９Ｅに示されるように、ガラス基板３１上に金属膜３３が形成される。そして、この金属膜３３がパターニングされて、図９Ｆに示されるように、反射層１１１が形成される。以後の工程は、上記第１の製造方法と同様である。
【００８８】
以上説明した第１および第２の製造方法によれば、突起と窪みとが不規則に配列した粗面領域１１ｂを形成することができる。すなわち、上記第１の製造方法によれば、網目状構造体３１１の形状に応じた不規則な粗面領域１１ｂが形成され、また、上記第２の製造方法によれば、研磨粉３５の衝突に応じた不規則な粗面領域１１ｂが形成される。反射層１１１（または反射半透過層１１７）は、このような不規則な粗面領域１１ｂ上に形成されるから、良好な散乱特性を発揮することができる。さらに、このような粗面領域１１ｂがガラス基板３１の表面に形成されているにも拘わらず、平坦領域１１ａにおけるガラス基板３１の表面は平坦である。シール材１３は、この平坦領域１１ａ上に形成されるから、背面基板１１とシール材１３とを十分に密着させることができる。
【００８９】
＜Ｃ：電子機器＞
次に、以上例示した液晶表示装置１Ａないし１Ｃを適用した電子機器について説明する。
【００９０】
図１０Ａは、電子機器の一例である携帯電話機の構成を示す斜視図である。この図に示されるように、携帯電話機４１本体の前面上方部には、表示装置として機能する液晶表示装置４１１が設けられる。
【００９１】
図１０Ｂは、電子機器の一例である携帯型情報処理装置の構成を示す斜視図である。この図に示されるように、携帯型情報処理装置４２は、キーボード等の入力部４２２を有する本体４２３と、表示装置として機能する液晶表示装置４２１とを含む。
【００９２】
図１０Ｃは、電子機器の一例である腕時計型電子機器の構成を示す斜視図である。この図に示されるように、腕時計型電子機器４３の本体４３１には、表示装置として機能する液晶表示装置４３２が設けられる。
【００９３】
図１０Ａないし図１０Ｃに示された電子機器は、本発明に係る液晶表示装置を備えたものであるから、高品質な表示を実現することができる。
【００９４】
【発明の効果】
以上説明したように本発明の液晶表示装置においては、配向膜が粗面領域内に形成される。したがって、配向膜が、粗面領域と平坦領域との境界に形成される段差を跨ぐことはないから、当該配向膜の表面に段差は形成されない。この結果、複数のスペーサを同一の高さの表面上に散布することができるから、一対の基板間のセルギャップを均一に保つことができる。さらに、配向膜の表面に段差が形成されないので、当該配向膜の全面に対してラビング処理を施すことができる。つまり、段差に起因してラビング処理が施されない領域が発生するのを有効に回避することができる。したがって、表示領域の全面にわたって良好な表示を実現することができる。一方、シール材は、平坦領域内に形成されるから、シール材と一方の基板とを十分に密着させることができる。したがって、シール材と一方の基板との間に隙間が形成されるのを回避することができる。この結果、液晶が外部に漏れたり、外部から水分が流入するといった事態を回避することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１実施形態に係る液晶表示装置の構成を例示する断面図である。
【図２】本発明の第１実施形態に係る液晶表示装置の構成を例示する分解斜視図である。
【図３】本発明の第１実施形態に係る液晶表示装置において、背面基板の粗面領域と、シール材および配向膜との位置関係を例示する平面図である。
【図４】本発明の第２実施形態に係る液晶表示装置の構成を例示する断面図である。
【図５】本発明の第３実施形態に係る液晶表示装置の構成を例示する断面図である。
【図６】Ａは、本発明に係る液晶表示装置の第１の製造方法において、背面基板上にフォトレジストが形成された様子を示す平面図である。Ｂは、図６ＡにおけるＢ−Ｂ’線視断面図である。Ｃは、本発明に係る液晶表示装置の第１の製造方法において、背面基板の表面の一部が粗面化された様子を示す断面図である。Ｄは、本発明に係る液晶表示装置の第１の製造方法において、マスク材が除去された様子を示す断面図である。Ｅは、本発明に係る液晶表示装置の第１の製造方法において、背面基板上に金属膜が形成された様子を例示する断面図である。Ｆは、本発明に係る液晶表示装置の第１の製造方法において、背面基板上に反射層が形成された様子を例示する断面図である。
【図７】Ａは、背面基板に粗面領域を形成するための第１の粗面化方法において、ガラス基板の構成を模式的に表す断面図である。Ｂは、上記第１の粗面化方法において、ガラス基板上にマスク材が形成された様子を示す断面図である。Ｃは、上記第１の粗面化方法において、ガラス基板に第１エッチングが施された様子を表す断面図である。Ｄは、上記第１の粗面化方法において、ガラス基板上のマスク材が除去された様子を示す断面図である。Ｅは、上記第１の粗面化方法において、ガラス基板に第２エッチングが施された様子を表す断面図である。
【図８】Ａは、背面基板に粗面領域を形成するための第２の粗面化方法において、ガラス基板の構成を模式的に表す断面図である。Ｂは、上記第２の粗面化方法において、ガラス基板上にマスク材が形成された様子を示す断面図である。Ｃは、上記第２の粗面化方法において、エッチングの過程の様子を示す断面図である。Ｄは、上記第２の粗面化方法において、エッチング終了時の様子を示す断面図である。Ｅは、上記第２の粗面化方法において、ガラス基板上のマスク材が除去された様子を示す断面図である。
【図９】Ａは、本発明に係る液晶表示装置の第２の製造方法において、ガラス基板上にステンレススチール板が配置された様子を表す平面図である。Ｂは、図９ＡにおけるＣ−Ｃ’線視断面図である。Ｃは、上記第２の製造方法において、ガラス基板の表面に対して研磨粉を吹きつけている様子を表す断面図である。Ｄは、上記第２の製造方法において、ガラス基板上に平坦領域と粗面領域とが形成された様子を表す断面図である。Ｅは、上記第２の製造方法において、ガラス基板上に金属膜が形成された様子を例示する断面図である。Ｆは、上記第２の製造方法において、ガラス基板上に反射層が形成された様子を例示する断面図である。
【図１０】Ａは、本発明に係る液晶表示装置を用いた携帯型通信端末を表す斜視図である。Ｂは、本発明に係る液晶表示装置を用いたノート型パーソナルコンピュータを表す斜視図である。Ｃは、本発明に係る液晶表示装置を用いたウォッチを表す斜視図である。
【図１１】従来の反射型液晶表示装置の構成を例示する断面図である。
【図１２】従来の反射型液晶表示装置の問題点を説明するための図である。
【図１３】従来の外部散乱方式の反射型液晶表示装置の構成を例示する断面図である。
【図１４】従来の内面散乱方式の反射型液晶表示装置の構成を例示する断面図である。
【図１５】従来の内面散乱方式の半透過反射型液晶表示装置の構成を例示する断面図である。
【図１６】従来の内面散乱方式の反射型液晶表示装置における表示領域と非表示領域との境界近傍の構成を拡大して例示する断面図である。
【符号の説明】
１１    背面基板
１１ａ  平坦領域
１１ｂ  粗面領域
１２    前面基板
１３    シール材
１４    液晶
６３    表示領域
１１１  反射層
１１４  保護層
１１６  配向膜
【図１】
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【図２】
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【図３】
0003541835.tif 000004
【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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