(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板の上にゲートまたはドレインバスラインである複数の行電極と列電極が層間絶縁膜を挟んで交差して配設され、該行電極と列電極の各交差部近傍に薄膜トランジスタが配設され、該行電極と該薄膜トランジスタのゲート電極が接続され、該列電極と該薄膜トランジスタのドレイン電極が接続され、該薄膜トランジスタのソース電極に透明導電膜からなる画素電極が接続された薄膜トランジスタマトリクスが形成された表示部分を有する第１の基板と、基板の上に少なくとも導電膜を有する第２の基板とで液晶を挟んだ液晶表示装置において、
表示領域の外側に該行電極と列電極のそれぞれの一端には外部からの信号を受け取るための外部接続用端子を有し、該列電極端部の該外部接続用端子の少なくとも１つに、該表示領域の外側で、且つ、該外部接続用端子の内側に、該列電極に接続された検査端子を有し、
該検査端子は、基板の上に形成された該列電極と同じ金属膜と、絶縁性保護膜と、画素電極の透明導電膜である導電性保護膜からなる接触パッドとを積層し且つ該金属膜と接触パッドの間を該絶縁性保護膜に形成したコンタクトホールを介し接続して成るものであること
を特徴とする液晶表示装置。
【請求項２】
導電性保護膜がＩＴＯ膜であること
を特徴とする請求項１記載の液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】
本発明は、ＴＦＴ基板のゲートまたはドレインバスラインに検査端子を有する液晶表示装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
図４は、従来の液晶表示装置の一例の構成説明図であり、（Ａ）は平面図、（Ｂ）は断面図である。
この図において、３１は透明絶縁性基板、３２はゲートまたはドレインバスライン、３３は絶縁性保護膜、３４は外部接続用端子、３５は表示領域である。
【０００３】
この従来の液晶表示装置においては、透明絶縁性基板３１の上に、基板３１の周辺に位置する外部接続用端子３４から、表示領域３５に延在する複数のゲートまたはドレインバスライン３２が形成され、その上にゲートまたはドレインバスライン３２を保護するためのＳｉＯ，ＳｉＮ等の絶縁性保護膜３３が形成されている。
そして、この外部接続用端子３４と表示領域３５の端の間のゲートまたはドレインバスライン３２には検査端子が形成されていない。
【０００４】
このように、透明絶縁性基板の上にゲートまたはドレインバスラインである複数の行電極と列電極が層間絶縁膜を挟んで交差して配設され、行電極と列電極の各交差部近傍に薄膜トランジスタが配設され、行電極と該薄膜トランジスタのゲート電極が接続され、列電極と該薄膜トランジスタのドレイン電極が接続され、薄膜トランジスタのソース電極に透明導電膜からなる画素電極が接続された薄膜トランジスタマトリクスが配設された表示部分を有する第１の基板（ＴＦＴ基板）と、透明絶縁性基板の上に少なくとも透明導電膜を有する第２の基板の間の間隙に液晶を注入し、封止して液晶パネルを形成する。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
上述の従来の液晶表示装置においては、透明電極を有する一対の基板の間に液晶を注入して液晶パネルを形成した後、この液晶パネルの外部接続用端子３４にドライバーＬＳＩまたはフレキシブル印刷配線を介してＩＣチップを接続し、その後、表示試験を行っていた。
【０００６】
ところが、液晶パネルの外側に露出するゲートまたはドレインバスライン３２の幅が極めて狭くて、この部分に精密な位置合わせを用いないでコンタクトをとることができないため、表示試験の際に現れた表示欠陥が、液晶パネルのゲートまたはドレインバスライン３２やＴＦＴ等の欠陥に起因するものか、ドライバーＬＳＩ等の欠陥に起因するものかを確認することが困難であった。
【０００７】
本発明は、表示試験の際に現れた表示欠陥が、液晶パネル側の欠陥に起因するものか、ドライバーＬＳＩ等の欠陥に起因するものかを確認することができる液晶表示装置を提供することを目的とする。
さらには、製造工程、搬送工程、検査工程等において、静電気によって、ゲートまたはドレインバスラインの交差点の層間絶縁膜の絶縁破壊やＴＦＴの損傷を低減する検査方法を確立することを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
本発明に依る液晶表示装置に於いては、
（１）
基板の上にゲートまたはドレインバスラインである複数の行電極と列電極が層間絶縁膜を挟んで交差して配設され、該行電極と列電極の各交差部近傍に薄膜トランジスタが配設され、該行電極と該薄膜トランジスタのゲート電極が接続され、該列電極と該薄膜トランジスタのドレイン電極が接続され、該薄膜トランジスタのソース電極に透明導電膜からなる画素電極が接続された薄膜トランジスタマトリクスが形成された表示部分を有する第１の基板と、基板の上に少なくとも導電膜を有する第２の基板とで液晶を挟んだ液晶表示装置において、表示領域の外側に該行電極と列電極のそれぞれの一端には外部からの信号を受け取るための外部接続用端子を有し、該列電極端部の該外部接続用端子の少なくとも１つに、該表示領域の外側で、且つ、該外部接続用端子の内側に、該列電極に接続された検査端子を有し、該検査端子は、基板の上に形成された該列電極と同じ金属膜と、絶縁性保護膜と、画素電極の透明導電膜である導電性保護膜からなる接触パッドとを積層し且つ該金属膜と接触パッドの間を該絶縁性保護膜に形成したコンタクトホールを介し接続して成るものであることを特徴とするか、或いは、
（２）
前記（１）に於いて、導電性保護膜がＩＴＯ膜であることを特徴とする。
【００１３】
【作用】
本発明のように、表示領域の外側に該行電極と列電極のそれぞれの一端には外部からの信号を受け取るための外部接続用端子を有し、該外部接続用端子の少なくとも１つに、該表示領域の外側で、かつ、該外部接続用端子の内側に、該行電極または列電極に接続された検査端子を有する構成をとることによって、表示試験の際に現れた表示欠陥が、液晶パネルのゲートまたはドレインバスライン３２やＴＦＴ等の欠陥に起因するものか、ドライバーＬＳＩ等の欠陥に起因するものかを確認し、製造工程にフィードバックすることができる。
【００１４】
この場合、検査端子を、基板の上に形成された電極と同じ金属膜とＩＴＯ膜等の導電性保護膜からなる接触パッドを積層した構成をとることによって、検査端子を形成する工程を省略することができ、検査端子の表面が酸化等によって検査用プローブとの接触抵抗を低く保つことができる。
【００１５】
また、この場合、検査端子を、透明絶縁性基板の上に形成された電極と同じ金属膜と絶縁性保護膜と導電性保護膜からなる接触パッドを積層し、該金属膜と接触パッドの間が該絶縁性保護膜に形成したコンタクトホールによって接続されている構成とすると、検査端子の表面の酸化を防止して、検査用プローブと検査端子の接触抵抗をより確実に低くすることができ、接触パッドを表示領域の表面と一致させることができ、顕微鏡による検査用プローブの接触パッドへの位置決めを容易にすることができる。
【００１６】
また、検査端子を、透明絶縁性基板の上に形成された電極と同じ金属膜と絶縁性保護膜と導電性保護膜からなる接触パッドを積層した構成とし、検査端子を用いた検査が必要な場合に、該検査端子と接触パッドの間を短絡することができるようにすると、該検査端子と接触パッドの間を短絡するまでは、比較的広い面積を有する接触パッドに静電気が生じても、接触パッドと検査端子の間を絶縁性保護膜によって絶縁しているため、電極の交差点の絶縁性保護膜の絶縁破壊や、ＴＦＴの損傷を防ぐことができる。
本発明は、ＴＦＴを有するアクティブマトリクスだけでなく、ＴＦＴをもたない単純マトリクス基板に適用することもできる。
【００１７】
【実施例】
以下、本発明の実施例を説明する。
（第１実施例）
図１は、第１実施例の液晶表示装置の構成説明図であり、（Ａ）は平面図、（Ｂ）は断面図である。
この図において、１は透明絶縁性基板、２はゲートまたはドレインバスライン、３は絶縁性保護膜、４は外部接続用端子、５はコンタクトホール、６は表示領域、７は検査端子、８は接触パッドである。
【００１８】
この実施例の液晶表示装置においては、透明絶縁性基板１の上に、透明絶縁性基板１の周辺に位置する外部接続用端子４から、表示領域６に延在する複数のゲートまたはドレインバスライン２が形成され、その上にゲートまたはドレインバスライン２を保護するＳｉＯ，ＳｉＮ等の絶縁性保護膜３が形成されている。
【００１９】
そして、この外部接続用端子４と表示領域６の端の間のゲートまたはドレインバスライン２には、ゲートまたはドレインバスライン２と同じ金属膜からなり、ゲートまたはドレインバスライン２の幅の数十〜数百倍、すなわち、縦横数百μｍ〜数ｍｍの検査端子７が形成され、この検査端子７には絶縁性保護膜３のコンタクトホール５を経て検査端子７と同じ大きさのＩＴＯ膜等の導電性保護膜からなる接触パッド８が形成されている。
【００２０】
そのため、精密な位置決め装置を用いることなく、検査用プローブを接触パッドに正確に接触させることが容易になり、表示試験の際に現れた表示欠陥が、液晶パネルのゲートまたはドレインバスライン３２やＴＦＴ等の欠陥に起因するものか、ドライバーＬＳＩ等の欠陥に起因するものかを確認することができる。
【００２１】
この実施例によると、検査端子７を、透明絶縁性基板の上に形成されたゲートまたはドレインバスライン２と同じ金属膜で形成するため、検査端子７を形成する工程を省略することができ、また、接触パッド８を、ゲートまたはドレインバスライン等の金属層の酸化を防ぐために用いられるＩＴＯ膜を利用して形成するため、接触パッド８を形成する工程を省略することができ、検査端子７の表面の酸化を防ぎ、検査用プローブとの接触抵抗を低く保つことができる。
【００２２】
この実施例の液晶表示装置においては、検査端子７をＩＴＯ膜等の導電性保護膜によって覆っているが、ゲートまたはドレインバスライン２が耐酸化性を有する場合は、この導電性保護膜からなる接触パッド８を省略することができる。
【００２３】
ところが、この実施例の液晶表示装置においては、検査端子７および接触パッド８が、ゲートまたはドレインバスラインの幅の数十ないし数百倍と大きいため、製造工程、搬送工程、検査工程等において、検査端子や接触パッドが静電気を集め易く、この静電気によって、ゲートまたはドレインバスラインの交差点の絶縁性保護膜の絶縁破壊や、ＴＦＴの損傷を生じ易いという問題を有している。
【００２４】
また、ゲートまたはドレインバスラインの内、検査端子７を有しているものだけが、大きな電気容量をもち、大量の電荷を蓄積することになるため、そのバスラインによって駆動される画素が、他の画素と異なる表示状態を示すという問題を生じていた。
【００２５】
（第２実施例）
図２は、第２実施例の液晶表示装置の構成説明図であり、（Ａ）は平面図、（Ｂ）は断面図である。
この図において、１１は透明絶縁性基板、１２はゲートまたはドレインバスライン、１３は絶縁性保護膜、１４は外部接続用端子、１５はコンタクトホール、１６は表示領域、１７は検査端子、１８は接触パッドである。
【００２６】
この実施例の液晶表示装置においては、透明絶縁性基板１１の上に、透明絶縁性基板１１の周辺に位置する外部接続用端子１４から、表示領域１６に延在する複数のゲートまたはドレインバスライン１２が形成され、その上にゲートまたはドレインバスライン１２を保護するＳｉＯ，ＳｉＮ等の絶縁性保護膜１３が形成されている。
【００２７】
そして、この外部接続用端子１４と表示領域１６の端の間のゲートまたはドレインバスライン１２には、ゲートまたはドレインバスライン１２と同じ金属膜からなり、ゲートまたはドレインバスライン１２の幅の数十〜数百倍、すなわち、縦横数百μｍ〜数ｍｍの大きさの検査端子１７が形成され、この検査端子１７には、この検査端子１７の上の絶縁性保護膜１３の一部を除去して形成したコンタクトホール１５を経て、検査端子１７と同程度の大きさのＩＴＯ膜等の導電性保護膜からなる接触パッド１８を形成している。
【００２８】
この実施例の液晶表示装置においては、検査端子１７の表面を保護することができ、かつ、接触パッドを表示領域の表面と一致させることができ、検査用プローブの接触パッドへの接触を容易にすることができる。
また、検査端子１７を小さくすることによって、検査端子１７を形成したゲートまたはドレインバスライン１２と、検査端子１７を形成しないゲートまたはドレインバスライン１２の間の容量の差を低減することができる。
【００２９】
ところがこの実施例の液晶表示装置においては、検査端子あるいは接触パッドが、ゲートまたはドレインバスラインの幅の数十ないし数百倍と大きいため、製造工程、搬送工程、検査工程等において、検査端子や接触パッドが静電気を集め易く、静電気によって、ゲートまたはドレインバスラインの交差点の絶縁性保護膜の絶縁破壊や、ＴＦＴの損傷をまねき易いという問題を有している。
【００３０】
（第３実施例）
図３は、第３実施例の液晶表示装置の構成説明図であり、（Ａ）は平面図、（Ｂ）は断面図である。
この図において、２１は透明絶縁性基板、２２はゲートまたはドレインバスライン、２３は絶縁性保護膜、２４は外部接続用端子、２６は表示領域、２７は検査端子、２８は接触パッド、２９はレーザ光、３０は導電性領域である。
【００３１】
この実施例の液晶表示装置においては、透明絶縁性基板２１の上に、透明絶縁性基板２１の周辺に位置する外部接続用端子２４から表示領域２６に延在する複数のゲートまたはドレインバスライン２２が形成され、その上にゲートまたはドレインバスライン２２を保護するＳｉＯ，ＳｉＮ等の絶縁性保護膜２３が形成されている。
【００３２】
そして、表示試験の結果、検査端子２７による検査が必要になった場合には、検査端子２７の上の絶縁性保護膜２３の表面のＩＴＯ膜等の接触パッド２８にレーザ光２９を照射して、検査端子２７と接触パッド２８の間の絶縁性保護膜２３を破壊し、検査端子２７と接触パッド２８を溶融することによって導電性領域３０を形成して検査端子２７と接触パッド２８の間の導通をとることによって、液晶パネルの表示欠陥を生じる原因となる部分を特定することができる。
【００３３】
この実施例の液晶表示装置によると、製造工程、搬送工程、検査工程等において、検査端子２７による検査が必要になる場合を除いて、大きな面積を有する接触パッド２８が検査端子２７と接触されていないため、静電気によって、ゲートまたはドレインバスラインの交差点の絶縁性保護膜の絶縁破壊や、ＴＦＴの損傷をまねく機会を低減することができる。
【００３４】
前記の第１実施例、第２実施例、第３実施例の液晶表示装置においては、検査端子は液晶パネルの左右（右については図示されていない）２個形成されているだけであるが、ＴＦＴ基板の欠陥は個々のゲートまたはドレインバスライン、あるいはこのゲートまたはドレインバスラインに接続されている個々のＴＦＴに生じる場合もあるが、ＴＦＴ全体にわたって生じる場合が多いため、このようにスペース的に余裕がある場所に検査端子を形成することによって所期の目的を達成することができる。
【００３５】
前記の実施例においては、ＴＦＴを有するアクティブマトリクス基板について説明したが、本発明は、ＴＦＴを有しない単純マトリクス方式の液晶表示装置に適用することもできる。
この場合は、単純マトリクスを構成する平行電極の欠陥と、外部回路素子の欠陥を識別することができる。
【００３６】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明の液晶表示装置においては、ゲートまたはドレインバスラインに検査端子を設けることによって、液晶パネルにドライバーＬＳＩまたはフレキシブル印刷配線を介してＩＣチップを接続した後に行う表示試験の際に現れた欠陥が、ＴＦＴ基板または単純マトリクスの平行電極に起因するのか、ドライバーＬＳＩ等の外部回路素子に起因するのかを確定することができ、その結果を製造工程にフィードバックすることによって品質管理を行うことが可能になり、製造歩留りを向上することができる。
【００３７】
さらには、製造工程、搬送工程、検査工程等において、静電気によって、ゲートまたはドレインバスラインの交差点の絶縁性保護膜の絶縁破壊やＴＦＴの損傷を低減するという点から、検査方法の向上に寄与するところが大きい。
【図面の簡単な説明】
【図１】第１実施例の液晶表示装置の構成説明図であり、（Ａ）は平面図、（Ｂ）は断面図である。
【図２】第２実施例の液晶表示装置の構成説明図であり、（Ａ）は平面図、（Ｂ）は断面図である。
【図３】第３実施例の液晶表示装置の構成説明図であり、（Ａ）は平面図、（Ｂ）は断面図である。
【図４】従来の液晶表示装置の一例の構成説明図であり、（Ａ）は平面図、（Ｂ）は断面図である。
【符号の説明】
１  透明絶縁性基板
２  ゲートまたはドレインバスライン
３  絶縁性保護膜
４  外部接続用端子
５  コンタクトホール
６  表示領域
７  検査端子
８  接触パッド
１１  透明絶縁性基板
１２  ゲートまたはドレインバスライン
１３  絶縁性保護膜
１４  外部接続用端子
１５  コンタクトホール
１６  表示領域
１７  検査端子
１８  接触パッド
２１  透明絶縁性基板
２２  ゲートまたはドレインバスライン
２３  絶縁性保護膜
２４  外部接続用端子
２６  表示領域
２７  検査端子
２８  接触パッド
２９  レーザ光
３０  導電性領域
３１  透明絶縁性基板
３２  ゲートまたはドレインバスライン
３３  絶縁性保護膜
３４  外部接続用端子
３５  表示領域
【図１】
0003541328.tif 000002
【図２】
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【図３】
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【図４】
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