(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を水平方向に搬送する第１の搬送機構と、前記第１の搬送機構により搬送された基板を支持して搬送する第２の搬送機構とを有する基板搬送装置であって、
前記第１の搬送機構は、互いに同期して回転する複数の搬送ローラより構成され、
前記第２の搬送機構は、
一対のアームと、
前記各アームに付設され、前記基板の両端部の下面を支持するための支持部材と、
前記支持部材の下端部が前記第１の搬送機構により搬送される基板の下面より上方に位置する第１の位置と第１の搬送機構により搬送される基板の下面より下方に位置する第２の位置との間で、前記一対のアームを上下方向に昇降させる昇降手段と、
前記一対のアームが第２の位置に位置する状態において、前記各アームを、前記搬送ローラによる基板の搬送方向と平行な方向で、かつ、互いに近接する方向に移動させることにより、前記基板を前記支持部材により支持させる移動手段とを備えるとともに、
前記第２の搬送機構は、前記一対のアームのうちの少なくとも一方のアームに付設された支持部材が平面視において前記複数の搬送ローラのうちの隣接する２本のローラの間に位置する状態で、前記支持部材が前記第１の位置と前記第２の位置との間を移動するように、前記一対のアームを上下方向に昇降させることを特徴とする基板搬送装置。
【請求項２】
基板を水平方向に搬送する第１の搬送機構と、前記第１の搬送機構により搬送された基板を支持して搬送する第２の搬送機構とを有し、前段の処理液を使用した処理工程より、処理液が付着した基板を基板乾燥装置に搬入するための基板搬送装置であって、
前記第１の搬送機構は、互いに同期して回転する複数の搬送ローラより構成され、
前記第２の搬送機構は、
一対のアームと、
前記各アームに付設され、前記基板の両端部の下面を支持するための支持部材と、
前記支持部材の下端部が前記第１の搬送機構により搬送される基板の下面より上方に位置する第１の位置と第１の搬送機構により搬送される基板の下面より下方に位置する第２の位置との間で、前記一対のアームを上下方向に昇降させる昇降手段と、
前記一対のアームが第２の位置に位置する状態において、前記各アームを、前記搬送ローラによる基板の搬送方向と平行な方向で、かつ、互いに近接する方向に移動させることにより、前記基板を前記支持部材により支持させる移動手段とを備えるとともに、
前記第２の搬送機構は、前記一対のアームのうちの少なくとも一方のアームに付設された支持部材が平面視において前記複数の搬送ローラのうちの隣接する２本のローラの間に位置する状態で、前記支持部材が前記第１の位置と前記第２の位置との間を移動するように、前記一対のアームを上下方向に昇降させることを特徴とする基板搬送装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は、液晶表示パネル用ガラス基板等の基板を搬送する基板搬送装置に関し、特に、第１の搬送機構により前行程から搬送された基板を第２の搬送機構により次工程に搬送する基板搬送装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
このような基板搬送装置としては、従来、複数の搬送ローラよりなる第１の搬送機構により搬送された基板を、第１の搬送機構の下方に配設された複数の昇降ピンにより上昇させた後、この基板を、第１の搬送機構の上方に配設された一対のアームを備える第２の搬送機構により支持して搬送するものが使用されている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
このような従来の搬送装置においては、基板を複数の昇降ピンにより上昇させる構成であるため、その上昇動作時に基板が位置ずれを起こし、基板の受け渡しミスが発生する場合がある。特に、処理液が付着した基板を搬送する場合には、基板に付着した処理液の皮膜により基板が滑りやすいことから、上記搬送ミスが生じやすい。また、薄型（０．７ｍｍ）基板等の場合は、破損や傷発生の可能性もある。
【０００４】
また、昇降ピンから一対のアームへ基板を受け渡す構成であるため、それらの位置関係を正確に調整する必要があり、また、その制御も複雑となる。
【０００５】
この発明は、上記課題を解決するためになされたもので、簡易な構成でありながら、正確に基板を搬送することのできる基板搬送装置を提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
請求項１に記載の発明は、基板を水平方向に搬送する第１の搬送機構と、前記第１の搬送機構により搬送された基板を支持して搬送する第２の搬送機構とを有する基板搬送装置であって、前記第１の搬送機構は、互いに同期して回転する複数の搬送ローラより構成され、前記第２の搬送機構は、一対のアームと、前記各アームに付設され、前記基板の両端部の下面を支持するための支持部材と、前記支持部材の下端部が前記第１の搬送機構により搬送される基板の下面より上方に位置する第１の位置と第１の搬送機構により搬送される基板の下面より下方に位置する第２の位置との間で、前記一対のアームを上下方向に昇降させる昇降手段と、前記一対のアームが第２の位置に位置する状態において、前記各アームを、前記搬送ローラによる基板の搬送方向と平行な方向で、かつ、互いに近接する方向に移動させることにより、前記基板を前記支持部材により支持させる移動手段とを備えるとともに、前記第２の搬送機構は、前記一対のアームのうちの少なくとも一方のアームに付設された支持部材が平面視において前記複数の搬送ローラのうちの隣接する２本のローラの間に位置する状態で、前記支持部材が前記第１の位置と前記第２の位置との間を移動するように、前記一対のアームを上下方向に昇降させることを特徴とする。
【０００７】
請求項２に記載の発明は、基板を水平方向に搬送する第１の搬送機構と、前記第１の搬送機構により搬送された基板を支持して搬送する第２の搬送機構とを有し、前段の処理液を使用した処理工程より、処理液が付着した基板を基板乾燥装置に搬入するための基板搬送装置であって、前記第１の搬送機構は、互いに同期して回転する複数の搬送ローラより構成され、前記第２の搬送機構は、一対のアームと、前記各アームに付設され、前記基板の両端部の下面を支持するための支持部材と、前記支持部材の下端部が前記第１の搬送機構により搬送される基板の下面より上方に位置する第１の位置と第１の搬送機構により搬送される基板の下面より下方に位置する第２の位置との間で、前記一対のアームを上下方向に昇降させる昇降手段と、前記一対のアームが第２の位置に位置する状態において、前記各アームを、前記搬送ローラによる基板の搬送方向と平行な方向で、かつ、互いに近接する方向に移動させることにより、前記基板を前記支持部材により支持させる移動手段とを備えるとともに、前記第２の搬送機構は、前記一対のアームのうちの少なくとも一方のアームに付設された支持部材が平面視において前記複数の搬送ローラのうちの隣接する２本のローラの間に位置する状態で、前記支持部材が前記第１の位置と前記第２の位置との間を移動するように、前記一対のアームを上下方向に昇降させることを特徴とする。
【０００８】
【発明の実施の形態】
以下、図面に基づいてこの発明の実施の形態を説明する。図１は、この発明に係る基板搬送装置を適用した回転式基板乾燥装置の平面図である。
【０００９】
この回転式基板乾燥装置は、角形の液晶表示パネル用ガラス基板に対して乾燥処理を行うものであり、基板搬入部２と、基板乾燥部３と、基板搬出部４と、基板搬送部５とを備える。
【００１０】
基板搬入部２は、前段の処理液を使用した処理工程より、純水等の処理液が付着した状態の基板Ｗを回転式基板乾燥装置３に搬入するためのものであり、互いに同期して回転することにより基板Ｗを搬送する複数の搬送ローラ１２を備える。
【００１１】
基板乾燥部３は、基板Ｗを高速で回転させることにより基板Ｗを乾燥するためのものであり、基板Ｗを保持して回転するスピンチャック１３と、基板Ｗの表面に乾燥を促進させるための気体を供給する気体供給手段１４と、処理液の外部への飛散を防止するための飛散防止用カップ１５とを備える。
【００１２】
基板搬出部４は、基板乾燥部３により乾燥処理を行った基板Ｗを後段の処理工程へ搬出するためのものであり、基板搬入部２と同様、互いに同期して回転することにより基板Ｗを搬送する複数の搬送ローラ１２を備える。
【００１３】
基板搬送部５は、基板搬入部２と、基板乾燥部３と、基板搬出部４との間で基板Ｗを搬送するためのものであり、基板搬入部２の搬送ローラ１２上に載置された基板Ｗを基板乾燥部３のスピンチャック１３上に搬送するための第１のチャック１６と、基板乾燥部３のスピンチャック１３上に載置された基板Ｗを基板搬出部４の搬送ローラ１２上に搬送するための第２のチャック１７とを備える。第１、第２のチャック１６、１７は、いずれもモータ１８により駆動を受ける同期ベルト１９に連結されており、互いに同期して図１における左右方向に移動する。
【００１４】
次に、基板搬送装置の構成について説明する。図２は、基板搬入部２の平面図であり、図３はその側面図である。
【００１５】
この基板搬入部２には、一対の支持板２１、２１間にその両端を軸支された５本の搬送ローラ１２が配設されている。これらの搬送ローラ１２は、同期ベルト２２により互いに連結されており、また、これらの搬送ローラ１２のうちの１本の搬送ローラは、同期ベルト２３を介してモータ２４と連結されている。このため、５本の搬送ローラ１２は、モータ２４の駆動により、互いに同期して回転する。また、搬送ローラ１２の下方には、搬送ローラ１２により搬送される基板Ｗの先端を検出するための光電センサ２９が配設されている。
【００１６】
図示しない搬送ローラ等からなる搬送機構により前段の処理工程から搬入された基板Ｗは、搬送ローラ１２の回転に伴い、搬送ローラ１２上に載置された状態で水平方向に搬送される。このとき、各搬送ローラ１２には基板Ｗの端縁を支持するための支持輪２５が付設されており、基板Ｗはその有効部外である端縁のみを支持されて搬送される。そして、搬送ローラ１２によって搬送された基板Ｗは、基板搬入部２において、第１のチャック１６に受け渡される。
【００１７】
この第１のチャック１６は、図４に示すように、支持具３１に支持された左右一対のアーム３０ａ、３０ｂと、アーム３０ａ、３０ｂを開閉させるための一対のエアシリンダ３２ａ、３２ｂと、支持具３１を昇降させるためのエアシリンダ３３と、エアシリンダ３３を前述した同期ベルト１９に連結するための連結具３４とを有する。
【００１８】
各アーム３０ａ、３０ｂには、基板Ｗの両端を支持するための各々２本の支持部材３５ａ、３５ｂが付設されている。各支持部材３５ａ、３５ｂの下端部には、凸部３６（基板支持部）が形成されており、この凸部３６により基板Ｗの下面の両端が支持される。
【００１９】
各アーム３０ａ、３０ｂの上方には、連結具３４と接続された一対の位置決めアーム３７ａ、３７ｂが配設されている。この位置決めアーム３７ａ、３７ｂには、支持部材３５ａ、３５ｂと同様の形状を有する位置決め部材３８ａ、３８ｂが付設されている。一対の位置決めアーム３７ａ、３７ｂは、各々エアシリンダ３９ａ、３９ｂと接続されており、このエアシリンダ３９ａ、３９ｂの駆動により位置決め部材３８ａ、３８ｂは互いに近接する方向に移動する。
【００２０】
第１のチャック１６の下方には、図３に示すように、純水の供給管４０が付設されている。この純水の供給管４０は、前段の処理工程で基板Ｗに付着した処理液が、基板乾燥部３において乾燥される以前に不均一な状態で乾燥することを防止するため、第１のチャック１６による基板Ｗの搬送時に基板Ｗの表面に純水を供給するためのものである。
【００２１】
なお、第２のチャック１７は、純水の供給管４０を備えない点以外は第１のチャック１６と同様の構成を有する。
【００２２】
次に、基板Ｗの搬送工程について説明する。
【００２３】
搬送ローラ１２上に載置されて搬送された基板Ｗは、光電センサ２９によりその先端を検出され、図２において二点鎖線で示す基板の受け渡し位置で停止する。この基板Ｗの受け渡し位置においては、基板Ｗの後端は、複数の搬送ローラ１２のうちの隣接する２本の搬送ローラ１２の間に位置している。
【００２４】
また、モータ１８の駆動により第１のチャック１６が、基板Ｗの受け渡し位置の上方に移動し、図２において実線で示すように、第１のアーム３０ａに付設された支持部材３５ａが平面視において２本の搬送ローラ１２の間に位置する状態で停止する。このとき、各アーム３０ａ、３０ｂは互いに離隔した開放状態とされている。
【００２５】
次に、エアシリンダ３３の駆動により、支持具３１を介して一対のアーム３０ａ、３０ｂを下降させる。これにより、図３において二点鎖線で示すように、支持部材３５ａ、３５ｂにおける凸部３６が搬送ローラ１２の支持輪２５に支持された基板Ｗの下面より下方に移動する。このとき、支持部材３５ａは平面視において２本の搬送ローラ１２の間に位置していることから、支持部材３５ａと搬送ローラ１２とが干渉することはない。
【００２６】
この状態において、エアシリンダ３２ａ、３２ｂの駆動により、図２において二点鎖線で示すように、一対のアーム３０ａ、３０ｂを互いに近接する方向に移動させる。これにより、支持部材３５ａ、３５ｂの凸部３６が基板Ｗの両端部の下方に進入する。そして、エアシリンダ３３の駆動により、支持具３１を介して一対のアーム３０ａ、３０ｂを上昇させることにより、基板Ｗの両端部の下面が支持部材３５ａ、３５ｂの凸部３６により支持される。このとき、基板Ｗの両端部は一対のアーム３０ａ、３０ｂに付設された支持部材３５ａ、３５ｂにより挟持されることから、基板Ｗに位置ずれ等が生じることによる搬送ミスが発生することはない。
【００２７】
続いて、エアシリンダ３９ａ、３９ｂの駆動により、一対の位置決めアーム３７ａ、３７ｂを駆動し、位置決めアーム３７ａ、３７ｂに付設された位置決め部材３８ａ、３８ｂを互いに近接する方向に移動させる。この動作により、基板Ｗは、搬送ローラ１２による搬送方向と直行する方向に位置決めされる。
【００２８】
そして、モータ１８の駆動により第１のチャック１６を水平方向に移動させることにより、基板Ｗを基板乾燥部３におけるスピンチャック１３の上方まで搬送する。そして、上述した動作と逆の動作により、基板Ｗをスピンチャック１３に載置する。
【００２９】
なお、第１のチャック１６が基板搬入部２から基板乾燥部３まで基板Ｗを搬送する工程と並行して、第１のチャック１６と同期して移動する第２のチャック１７が第１のチャック１６と同様の動作を行うことにより、先に乾燥処理を終えた基板Ｗを基板乾燥部３から基板搬出部４に搬送する。
【００３０】
以上の動作を繰り返すことにより、基板Ｗは、基板搬入部２、基板乾燥部３および基板搬出部４に順次搬送され、その乾燥処理が行われれる。
【００３１】
上記実施の形態においては、基板Ｗの端縁を搬送ローラ１２の支持輪２５により支持して搬送する場合について説明したが、搬送ローラ１２により基板Ｗの裏面全面を支持して搬送してもよく、また、搬送ローラ１２間にＯリング等を展張し、このＯリングにより基板Ｗの裏面を支持して搬送するようにしてもよい。さらに、搬送ローラ１２のかわりに搬送ベルトにより基板Ｗの裏面を支持して搬送することも可能である。
【００３２】
また、上記実施の形態においては、この発明を回転式基板乾燥装置に適用した場合について述べたが、基板を水平方向に搬送する第１の搬送機構と第１の搬送機構により搬送された基板を支持して搬送する第２の搬送機構とを有する各種の基板処理装置にこの発明を適用することが可能である。
【００３３】
【発明の効果】
請求項１および請求項２に記載の発明によれば、第１の搬送機構上の基板を、一対のアームに付設された支持部材により直接支持して搬送することができることから、基板を昇降ピンにより上昇させる必要がなく、基板を確実に搬送し位置決めすることが可能となる。このため、特に処理液が付着した基板を搬送する場合等においても、基板の搬送ミスが生ずることはない。また、基板裏面に昇降ピンが当接することもないので、基板に対する傷や破損等が生じることもない。
【００３４】
また、請求項１および請求項２に記載の発明によれば、搬送ローラと支持部材とが干渉を生ずることなく、搬送ローラ間に支持部材を進入させて基板を搬送することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図１】この発明に係る基板搬送装置を適用した回転式基板乾燥装置の平面図である。
【図２】基板搬入部２の平面図である。
【図３】図２の側面図である
【図４】第１のチャック１６の概要を示す斜視図である。
【符号の説明】
２      基板搬入部
３      基板乾燥部
４      基板搬出部
５      基板搬送部
１２    搬送ローラ
１６    第１のチャック
１７    第２のチャック
１８    モータ
２４    モータ
２５    支持輪
３０ａ、３０ｂ    アーム
３２ａ、３２ｂ    エアシリンダ
３３    エアシリンダ
３５ａ、３５ｂ    支持部材
３６    凸部
【図１】
0003563851.tif 000002
【図２】
0003563851.tif 000003
【図３】
0003563851.tif 000004
【図４】
0003563851.tif 000005