(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に第１下地膜、第２下地膜が設けられ、その上に、Ｃｏ合金からなり、磁化容易軸が基板に対し主に垂直に配向した垂直磁性膜が設けられ、
第１下地膜がＢ２構造をなす材料からなり、第２下地膜がｈｃｐ構造をなす材料からなり、これら第１下地膜と第２下地膜とが接しており、
第２下地膜と垂直磁性膜との間に、ｈｃｐ構造を有する非磁性中間膜が設けられ、この非磁性中間膜がＣｏＣｒ合金からなることを特徴とする磁気記録媒体。
【請求項２】
請求項１記載の磁気記録媒体において、第１下地膜は、ＮｉＡｌ、ＦｅＡｌ、ＣｏＦｅ、ＣｏＺｒ、ＮｉＴｉ、ＡｌＣｏ、およびＡｌＭｎのうち１種または２種以上の合金を主成分とする材料からなるものであることを特徴とする磁気記録媒体。
【請求項３】
請求項１または２に記載の磁気記録媒体において、第２下地膜が、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｒｕ、Ｒｅ、Ｙ、Ｇｄ、およびＴｂのうち１種または２種以上を主成分とする材料からなることを特徴とする磁気記録媒体。
【請求項４】
請求項１〜３のうちいずれか１項記載の磁気記録媒体において、垂直磁性膜が、Ｃｏ／Ｃｒ／Ｐｔ系、Ｃｏ／Ｃｒ／Ｔａ系、Ｃｏ／Ｃｒ／Ｐｔ／Ｘ系（Ｘ：Ｔａ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｃｕ、Ｒｅ、Ｎｉ、およびＢのうち１種または２種以上）のうちいずれかの合金からなるものであることを特徴とする磁気記録媒体。
【請求項５】
請求項１〜４のうちいずれか１項記載の磁気記録媒体において、第１下地膜の膜厚が５００Å以下であることを特徴とする磁気記録媒体。
【請求項６】
請求項１〜５のうちいずれか１項記載の磁気記録媒体において、垂直磁性膜の膜厚が１００〜１０００Åであることを特徴とする磁気記録媒体。
【請求項７】
磁気記録媒体と、該磁気記録媒体に情報を記録再生する磁気ヘッドとを備え、磁気記録媒体が、基板上に第１下地膜、第２下地膜が設けられ、その上に、Ｃｏ合金からなり、磁化容易軸が基板に対し主に垂直に配向した垂直磁性膜が設けられ、
第１下地膜がＢ２構造をなす材料からなり、第２下地層がｈｃｐ構造をなす材料からなり、これら第１下地膜と第２下地膜とが接しており、
第２下地膜と垂直磁性膜との間に、ｈｃｐ構造を有する非磁性中間膜が設けられ、この非磁性中間膜がＣｏＣｒ合金からなることを特徴とすることを特徴とする磁気記録再生装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、磁気記録媒体およびこの磁気記録媒体を用いた磁気記録再生装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
現在市販されている磁気記録媒体は、磁性膜内の磁化容易軸が主に基板に対し水平に配向した面内磁気記録媒体がほとんどである。
このような面内磁気記録媒体では、高記録密度化するとビット体積が小さくなりすぎ、熱揺らぎ効果により再生特性が悪化する可能性がある。また、高記録密度化した際に、記録ビット境界での反磁界の影響により媒体ノイズが増加することがある。
これに対し、磁性膜内の磁化容易軸が主に基板に対し垂直に配向した、いわゆる垂直磁気記録媒体は、高記録密度化した場合でもビット境界での反磁界の影響が小さく、境界が鮮明な記録磁区が形成されるため低ノイズ化が可能であり、しかも比較的ビット体積が大きくても高記録密度化が可能であることから熱揺らぎ効果にも強く、近年大きな注目を集めており、垂直磁気記録に適した媒体の構造などが提案されている。
例えば、特開昭５８−７７０２５号公報、特開昭５８−１４１４３５号公報には、Ｃｏ合金材料からなる垂直磁性膜の下地層の材料としてＴｉを用いることが開示されている。また特開平８−１８０３６０号公報には、上記下地層の材料として、ＣｏとＲｕからなる合金を用いることが開示されている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
近年では、磁気記録媒体の更なる高記録密度化が要望されており、これに伴いノイズ特性の向上が要求されている。
しかしながら従来の磁気記録媒体は、ノイズ特性の点で決して満足できるものでなく、よりノイズ特性に優れた磁気記録媒体が要望されていた。
本発明は、上記事情に鑑みてなされたもので、ノイズ特性に優れた磁気記録媒体および磁気記録再生装置を提供することを目的とする。
【０００４】
【課題を解決するための手段】
本発明の磁気記録媒体は、基板上に第１下地膜、第２下地膜が設けられ、その上にＣｏ合金からなり、磁化容易軸が基板に対し主に垂直に配向した垂直磁性膜が設けられ、 第１下地膜がＢ２構造をなす材料からなり、第２下地膜がｈｃｐ構造をなす材料からなり、これら第１下地膜と第２下地膜とが接しており、第２下地膜と垂直磁性膜との間に、ｈｃｐ構造を有する非磁性中間膜が設けられ、この非磁性中間膜がＣｏＣｒ合金からなることを特徴とする。
第１下地膜は、ＮｉＡｌ、ＦｅＡｌ、ＣｏＦｅ、ＣｏＺｒ、ＮｉＴｉ、ＡｌＣｏ、およびＡｌＭｎのうち１種または２種以上の合金を主成分とする材料からなるものとすることができる。
第１下地膜を、ＮｉＡｌ、ＦｅＡｌ、ＣｏＦｅ、ＣｏＺｒ、ＮｉＴｉ、ＡｌＣｏ、およびＡｌＭｎのうちいずれかの２元系合金を主成分とする材料からなるものとする場合には、この２元系合金を構成する２つの成分の含有率はいずれも４０〜６０ａｔ％、好ましくは４５〜５５ａｔ％とするのが好ましい。
第２下地膜は、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｒｕ、Ｒｅ、Ｙ、Ｇｄ、およびＴｂのうち１種または２種以上を主成分とする材料を用いることができる。
垂直磁性膜は、Ｃｏ／Ｃｒ／Ｐｔ系、Ｃｏ／Ｃｒ／Ｔａ系、Ｃｏ／Ｃｒ／Ｐｔ／Ｘ系（Ｘ：Ｔａ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｃｕ、Ｒｅ、Ｎｉ、およびＢのうち１種または２種以上）のうちいずれかの合金からなるものとするのが好ましい。
第１下地膜の膜厚は、５００Å以下とするのが好ましい。
垂直磁性膜の膜厚は、１００〜１０００Åとするのが好ましい。
本発明の磁気記録再生装置は、磁気記録媒体と、該磁気記録媒体に情報を記録再生する磁気ヘッドとを備え、磁気記録媒体が、基板上に第１下地膜、第２下地膜が設けられ、その上にＣｏ合金からなり、磁化容易軸が基板に対し主に垂直に配向した垂直磁性膜が設けられ、第１下地膜がＢ２構造をなす材料からなり、第２下地層がｈｃｐ構造をなす材料からなり、これら第１下地膜と第２下地膜とが接しており、第２下地膜と垂直磁性膜との間に、ｈｃｐ構造を有する非磁性中間膜が設けられ、この非磁性中間膜がＣｏＣｒ合金からなることを特徴とすることを特徴とする。
【０００５】
【発明の実施の形態】
図１は、本発明の磁気記録媒体の一実施形態を示すもので、ここに示す磁気記録媒体は、基板１上に、第１下地膜２、第２下地膜３、非磁性中間膜４、垂直磁性膜５、および保護膜６を順次形成してなるものである。
基板１としては、磁気記録媒体用基板として一般に用いられるＮｉＰメッキ膜が形成されたアルミニウム合金基板（以下、「ＮｉＰメッキＡｌ基板」という）、ガラス基板、セラミック基板、カーボン基板、可撓性樹脂基板、またはこれらの基板にＮｉＰ膜をメッキあるいはスパッタ法により形成した基板などを用いることができる。
【０００６】
第１下地膜２は、保磁力、角型比を向上させ、磁気記録媒体のノイズ特性を向上させるためのもので、Ｂ２構造をなす材料からなるものである。
Ｂ２構造をなす材料としては、ＮｉＡｌ、ＦｅＡｌ、ＣｏＦｅ、ＣｏＺｒ、ＮｉＴｉ、ＡｌＣｏ、およびＡｌＭｎのうち１種または２種以上の合金を主成分とするものが使用できる。また、これらの合金にＣｒ、Ｎｂ、Ｖ、Ｗ、Ｍｏ等の元素を添加した材料を用いることもできる。
【０００７】
上記２元系合金（ＮｉＡｌ、ＦｅＡｌ、ＣｏＦｅ、ＣｏＺｒ、ＮｉＴｉ、ＡｌＣｏ、ＡｌＭｎ）のうちいずれかを主成分とする材料を用いる場合には、この合金を構成する２つの成分の含有率は、いずれも４０〜６０ａｔ％（好ましくは４５〜５５ａｔ％）とするのが好ましい。
この含有率が上記範囲未満である場合、または上記範囲を越える場合には、第１下地膜２内のＢ２構造が乱れ、ノイズ特性を向上させる効果が低下するおそれがある。
【０００８】
第１下地膜２の厚さは、次のように定めるのが好ましい。
図２は、上記構成の磁気記録媒体において、第１下地膜２の厚さと、垂直磁性膜５の（０００２）面の配向性との関係を示すグラフである。
このグラフにおいて、横軸は第１下地膜２の厚さを示し、縦軸は垂直磁性膜５の（０００２）面に相当するＸ線回折強度を示す。
このグラフに示すように、Ｘ線回折強度は、第１下地膜２の厚さが２５Åであるときにピークに達し、以後、第１下地膜２の厚さを大きくするにつれて小さくなる。
このグラフより、垂直磁性膜５の垂直配向性は、第１下地膜２の厚さが２５Å前後、すなわち１５〜４０Å（特に２０〜３０Å）であるときに高くなり、第１下地膜２の厚さをさらに厚くすると徐々に低下することがわかる。
以下、第１下地膜２の厚さが２５Å前後（すなわち１５〜４０Å）である領域をＡ領域と呼ぶ。
【０００９】
図３は、通常の面内磁気記録媒体に用いられる磁気ヘッドであるリング型ヘッドを用いた場合において、上記磁気記録媒体の保磁力Ｈｃ（Ｏｅ）とＳＮＲ（ｄＢ）を測定した結果を示すグラフである。
このグラフにおいて、横軸は上記第１下地膜２の厚さを示し、縦軸は保磁力（Ｈｃ）とＳＮＲを示す。
このグラフより、Ｈｃは、第１下地膜２の厚さがＡ領域に達するまで急激に上昇し、それ以後ごくわずかずつ上昇することがわかる。
ＳＮＲに関しては、第１下地膜２の厚さがＡ領域に達するまで上昇し、一旦ほぼ一定値となった後、第１下地膜２の厚さが８０〜５００Åである領域において再び上昇し、この領域を経た後、若干下降しほぼ一定値となることがわかる。
以下、この第１下地膜２の厚さが８０〜５００Åである領域をＢ領域と呼ぶ。このＢ領域の中でも特に、厚さ８０〜３００Å、さらには８０〜１５０Åの範囲において、ＳＮＲは特に高い値となっている。
【００１０】
このグラフより、通常の面内磁気記録媒体に用いられる磁気ヘッド（リング型ヘッド）を用いた場合には、垂直磁性膜５の垂直配向性が高いＡ領域よりも、垂直配向性が低いＢ領域において優れたＳＮＲ特性が得られることがわかる。
垂直配向性が低いＢ領域においてＳＮＲ特性が向上するのは、垂直配向性が高いＡ領域では磁化の向きが大部分垂直方向となるのに対し、Ｂ領域では、磁性膜５の配向性がある程度ランダムとなるため、面内方向の磁化も大きくなり、これら垂直方向と面内方向とからなるループ状の磁化曲線が形成され、これによって磁化が安定し、出力が向上することによるものであると考えられる。
【００１１】
また、第１下地膜２の厚さがＢ領域よりも大きい領域では、Ｂ領域に比べＨｃが高くなっており、Ｈｃの上昇に応じて再生出力レベルも高くなっていると考えられる。
このため、下地膜２の厚さがＢ領域よりも大きい領域では、Ｂ領域に比べ、再生出力とノイズとの比であるＳＮＲはごくわずかしか低下しないものの、ノイズの増加は顕著であると考えられる。
このことから、第１下地膜２の厚さをＢ領域に設定することによって、下地膜２の厚さをＢ領域を越える値に設定する場合に比べ、ノイズレベルを低く抑えることができると考えられる。
【００１２】
以上の結果より、第１下地膜２の厚さは、次のように定めるのが好ましいことがわかる。
通常の面内磁気記録媒体に用いられる磁気ヘッドであるリング型ヘッドを用いることを想定した場合には、第１下地膜２の厚さは、上記Ｂ領域に相当する厚さである８０〜５００Å（好ましくは８０〜３００Å、さらに好ましくは８０〜１５０Å）とすると、ＳＮＲ特性をより高めることができるため好ましい。
この厚さが上記範囲未満であると、ＳＮＲ特性が低下する。これは、この厚さが上記範囲未満である場合には、垂直配向性が高まることにより面内方向の磁化が起こりにくくなり、その結果、上述のループ状磁化曲線の形成による出力向上効果が得られにくくなるためであると考えられる。
またこの厚さが上記範囲を越えると、ノイズ特性が低下する。これは、この厚さが上記範囲を越えると、第１下地膜２内で結晶粒が粗大化することにより、下地膜２上に形成される非磁性中間膜４、垂直磁性膜５内においても結晶粒の粗大化が進行し、これによってノイズが増加するためであると考えられる。
【００１３】
第２下地膜３は、非磁性中間膜４および垂直磁性膜５の垂直配向性を高めるためのもので、ｈｃｐ構造をなす材料が用いられている。
第２下地膜３の構成材料としては、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｒｕ、Ｒｅ、Ｙ、Ｇｄ、およびＴｂのうち１種または２種以上を主成分とする材料を挙げることができる。
この材料としては、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｒｕ、Ｒｅ、Ｙ、Ｇｄ、およびＴｂのうちいずれかを単体として用いることもできるし、非磁性中間膜４および垂直磁性膜５に対する格子のマッチング（整合性）を考慮してこれら材料にＣｒ、Ｃｏ、Ｆｅ、Ｎｉ等を添加した合金を用いることもできる。
なお、第２下地膜３は部分的にｆｃｃ構造となったものを用いることもできる。
【００１４】
非磁性中間膜４は、媒体の保磁力を高めるためのもので、ｈｃｐ構造を有する非磁性材料からなるものとされる。
非磁性中間膜４の材料としては、Ｃｏ／Ｃｒ系、Ｃｏ／Ｃｒ／Ｐｔ系、Ｃｏ／Ｃｒ／Ｔａ系、Ｃｏ／Ｃｒ／Ｐｔ／Ｘ系（Ｘ：Ｔａ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｃｕ、Ｒｅ、Ｎｉ、およびＢのうち１種または２種以上）のうちいずれかの合金を用いるのが好適である。
特に、Ｃｒの含有率が２５〜５０ａｔ％、Ｐｔの含有率が０〜１５ａｔ％、Ｘの含有率が０〜１０ａｔ％、残部がＣｏからなるＣｏ合金を主成分とするものを用いるのが好ましい。
非磁性中間膜４は、単層構造をなすものとしてもよいし、多層構造をなすものとしてもよい。多層構造とする場合には、上記材料から選ばれた互いに同一または異なる複数の材料を積層したものとすることができる。
【００１５】
非磁性中間膜４の厚さは、５００Å以下とするのが好ましい。
この厚さが５００Åを越えると、垂直磁性膜５内の磁性粒子の粗大化が起きやすくなり、ノイズ特性が低下するため好ましくない。
非磁性中間膜４の厚さは２０〜３００Åとするのがより好ましい。多層にした場合の非磁性中間膜４の厚さは、上記理由から、全体で５００Å以下、好ましくは５０〜２００Åとするのが望ましい。
【００１６】
垂直磁性膜５は、その磁化容易軸が基板に対し主に垂直方向に配向した磁性材料からなる膜であり、その材料としては、Ｃｏ／Ｃｒ／Ｐｔ系、Ｃｏ／Ｃｒ／Ｔａ系、Ｃｏ／Ｃｒ／Ｐｔ／Ｘ系（Ｘ：Ｔａ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｃｕ、Ｒｅ、Ｎｉ、およびＢのうち１種または２種以上）のうちいずれかの合金を用いるのが好ましい。
特に、Ｃｒの含有率が１３〜２８ａｔ％、Ｐｔの含有率が０〜１５ａｔ％、Ｘの含有率が０〜５ａｔ％、残部がＣｏからなるＣｏ合金を用いるのが好ましい。上記各成分の含有率が上記範囲を外れると、ノイズ特性または再生出力が低下するため好ましくない。
【００１７】
垂直磁性膜５の厚さは、１００〜１０００Åとするのが好ましい。垂直磁性膜５の厚さが１００Å未満であると、十分な磁束が得られず、再生出力が低下する。
また垂直磁性膜５の厚さが１０００Åを越えると、垂直磁性膜５内の磁性粒子の粗大化が起き、ノイズ特性が低下するため好ましくない。
垂直磁性膜５の厚さは、２００〜７００Åとするのがさらに好ましい。これは、垂直磁性膜５の厚さをこの範囲とすると、再生出力をさらに向上させるとともに、垂直磁性膜５内の磁性粒子の粗化化を防ぎ、ノイズ特性をより高めることができるためである。
【００１８】
保護膜６は、垂直磁性膜５の腐食を防ぐとともに、ヘッドが媒体に接触したときに媒体表面の損傷を防ぎ、かつヘッドと媒体の間の潤滑特性を確保するためのもので、従来公知の材料を使用でき、例えばＣ、ＳｉＯ２、ＺｒＯ２の単一組成、またはこれらを主成分とし他元素を含むものが使用可能である。
保護膜６の厚さは、１０〜１００Åが望ましい。
また、保護膜６上には、パーフルオロポリエーテル、フッ素化アルコール、フッ素化カルボン酸などからなる潤滑膜を設けるのが好ましい。
【００１９】
上記構成の磁気記録媒体を製造するには、基板１上に、第１下地膜２、第２下地膜３、非磁性中間膜４、垂直磁性膜５を順次をスパッタリング、真空蒸着、イオンプレーティングなどの手法により形成し、次いで保護膜６を、好ましくはプラズマＣＶＤ法、イオンビーム法、スパッタリング法により形成する。
第１下地膜２を形成する際には、Ｂ２構造をなす材料からなるスパッタリングターゲットを用いるのが好ましい。この材料としては、上述のものを用いることができる。
また、潤滑膜を形成するには、ディッピング法、スピンコート法などの従来公知の方法を採用することができる。
【００２０】
上記構成の磁気記録媒体にあっては、第１下地膜２が、Ｂ２構造をなす材料からなるものであるので、保磁力、角型比を向上させるとともに、ノイズ特性を高めることができる。
Ｂ２構造をなす材料からなる第１下地膜２を設けることによって、上記効果が得られる理由は明らかでないが、この理由は以下のようなものであると推定できる。
すなわち、第２下地膜３，非磁性中間膜４を介して第１下地膜２上に形成される垂直磁性膜５は、Ｂ２構造をなす第１下地膜２に影響を受けて成長する。
Ｂ２構造をなす第１下地膜２の影響下で成長する垂直磁性膜５では、結晶粒の微細化、孤立化、均一化が進行すると考えられる。
これによって、保磁力、角型比が高められるとともに、境界が鮮明な記録磁区が形成されるため低ノイズ化が可能となると考えられる。
【００２１】
また第２下地膜３をｈｃｐ構造をなす材料からなるものとすることによって、第２下地膜３の上に非磁性中間膜４を介して形成される垂直磁性膜５の垂直配向性を高め、ノイズ特性および保磁力を向上させることができる。
この効果は、ｈｃｐ構造の第２下地膜３が、第１下地膜２と非磁性中間膜４との間の格子のマッチングを向上させることにより得られると考えられる。
【００２２】
また、第２下地膜３と垂直磁性膜５との間に、ｈｃｐ構造を有する非磁性中間膜４を設けることによって、垂直磁性膜５の初期成長時における結晶配向性の乱れを防ぎ、垂直磁性膜５の結晶配向性を向上させ、高保磁力化、低ノイズ化を図ることができる。
【００２３】
本発明では、図４に示すように、基板１と第１下地膜２との間に軟磁性膜１２を設けることができる。
軟磁性膜１２の構成材料としては、Ｃｏアモルファス材料（例えばＣｏＺｒＮｂ、ＣｏＴａＮｂ、パーマロイ、センダスト等の合金）を挙げることができる。軟磁性膜１２の厚さは５０ｎｍ以上（好ましくは１００ｎｍ以上、さらに好ましくは２００ｎｍ以上）とするのが好ましい。この厚さが上記範囲未満であると、上記ループ状の磁化曲線が形成されにくくなる。
【００２４】
図５は、上記磁気記録媒体を用いた磁気記録再生装置の例を示すものである。ここに示す磁気記録再生装置は、図１に示す構成の磁気記録媒体７と、磁気記録媒体７を回転駆動させる媒体駆動部８と、磁気記録媒体７に情報を記録再生する磁気ヘッド９と、ヘッド駆動部１０と、記録再生信号処理系１１とを備えている。記録再生信号処理系１１は、入力されたデータを処理して記録信号を磁気ヘッド９に送ったり、磁気ヘッド９からの再生信号を処理してデータを出力することができるようになっている。
磁気ヘッド９としては、通常の面内磁気記録媒体に用いられるリング型ヘッドを例示することができる。
磁気ヘッド９において、ギャップが形成された部分の材料、ギャップ長、書き込み条件などは、適宜設定される。
例えば、リング型ヘッドの記録部の素子のギャップ長は０．０８μｍ以上、好ましくは０．１μｍ以上、さらに好ましくは０．１２μｍ以上とするのが好適である。またリング型ヘッドの記録部の素子のギャップ長は、０．４μｍ以下とするのが好ましい。
【００２５】
また、上記磁気記録再生装置によれば、上記磁気記録媒体を用いるので、保磁力、角型比を向上させるとともに、ノイズ特性を高めることができる。従って、高記録密度化を図ることができる。
【００２６】
なお、上記構成の磁気記録媒体は、 ｈｃｐ構造を有する材料からなる非磁性中間膜４を設けたが、非磁性中間膜４を備えていない磁気記録媒体の例を図６に示す。また本明細書において主成分とは当該成分を５０ａｔ％を越えて含むことを指す。
【００２７】
【実施例】
（試験例１）
以下、具体例を示して本発明の作用効果を明確にする。
ガラス基板１（オハラＴＳ−１０ＳＸ）をＤＣマグネトロンスパッタ装置（アネルバ社製３０１０）のチャンバ内にセットした。
チャンバ内を真空到達度２×１０−７Ｐａとなるまで排気するとともに、基板１を２００℃まで加熱した後、この基板１上に、Ｎｉ−５０ａｔ％Ａｌ（Ａｌ含有量：５０ａｔ％、残部：Ｎｉ。以下「Ｎｉ５０Ａｌ」という。）からなる第１下地膜２、Ｒｕからなりｈｃｐ構造を有する第２下地膜３、Ｃｏ−４０ａｔ％Ｃｒ（Ｃｏ４０Ｃｒ）からなる非磁性中間膜４、Ｃｏ−２２ａｔ％Ｃｒ−１２ａｔ％Ｐｔ−２ａｔ％Ｔａ（Ｃｏ２２Ｃｒ１２Ｐｔ２Ｔａ）からなる垂直磁性膜５を順次スパッタリングにより形成した。
垂直磁性膜５上には、プラズマＣＶＤ法を用いて厚さ７０Åのカーボン保護膜６を形成した。
【００２８】
（試験例２〜２４）
各膜の材料、厚さなどを表１に示すとおりとして磁気記録媒体を作製した。
【００２９】
上記試験例１〜２４の磁気記録媒体の静磁気特性を振動式磁気特性測定装置（ＶＳＭ）を用いて測定した。
また、これら磁気記録媒体の電磁変換特性を、ＧＵＺＩＫ社製リードライトアナライザＲＷＡ１６３２、およびスピンスタンドＳ１７０１ＭＰを用いて測定した。
電磁変換特性の評価には、磁気ヘッドとして、再生部に巨大磁気抵抗（ＧＭＲ）素子を有する複合型薄膜磁気記録ヘッドを用い、記録条件を線記録密度２５０ｋＦＣＩとして測定を行った。
なお、上記電磁変換特性の評価に用いられる磁気ヘッドは、通常の面内磁気記録媒体に用いられる磁気ヘッドと同様のものである。またＸ線回折試験の結果、いずれの試験例においても第１下地膜２はＢ２構造をなすものであることが確認できた。
上記試験例１〜２４の磁気記録媒体の静磁気特性、電磁変換特性の測定結果を表１に示す。
なお、表１中、Ｍｒ／Ｍｓは角型比を示し、Ｃｏ（０００２）強度は垂直磁性膜５の（０００２）面に相当するＸ線回折強度を示す。
【００３０】
【表１】
0003588039.tif 000002
【００３１】
表１より、第１下地膜２を設けない磁気記録媒体（試験例２）に比べ、第１下地膜２を設けたものは、ノイズ特性（ＳＮＲ）、保磁力（Ｈｃ）の点で優れた結果が得られたことがわかる。
【００３２】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明の磁気記録媒体は、第１下地膜が、Ｂ２構造をなす材料からなるものであるので、保磁力、角型比を向上させるとともに、ノイズ特性を高めることができる。
また、本発明の磁気記録再生装置によれば、上記磁気記録媒体を用いるので、保磁力、角型比を向上させるとともに、ノイズ特性を高めることができる。従って、高記録密度化が可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の磁気記録媒体の第１実施形態を示す一部断面図である。
【図２】第１下地膜の厚さと、垂直磁性膜の（０００２）面の配向性との関係を示すグラフである。
【図３】通常の面内磁気記録媒体に用いられる磁気ヘッドを用いた場合において、上記磁気記録媒体の保磁力（Ｈｃ）とＳＮＲを測定した結果を示すグラフである。
【図４】本発明の磁気記録媒体の第２実施形態を示す一部断面図である。
【図５】図１に示す磁気記録媒体を用いた磁気記録再生装置の一例を示す概略構成図である。
【図６】本発明の磁気記録媒体の第３実施形態を示す一部断面図である。
【符号の説明】
１・・・基板、２・・・第１下地膜、３・・・第２下地膜、４・・・非磁性中間膜、５・・・垂直磁性膜
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
0003588039.tif 000008