(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
一般式（Ｉ）
【化１】
0003595635.tif 000009
（式中、Ｒは炭素原子数１〜２０の飽和炭化水素基である。）
で表わされるジアミン化合物。
【請求項２】
Ｒが炭素数１〜２０の直鎖状アルキル基である請求項１記載のジアミン化合物。
【請求項３】
Ｒが炭素数３〜２０の分岐状アルキル基である請求項１記載のジアミン化合物。
【請求項４】
Ｒが炭素数５〜２０のシクロアルキル基又は炭素数６〜２０のシクロアルキルアルキル基である請求項１記載のジアミン化合物。
【請求項５】
Ｒがメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ノニル基、ｎ−ドデシル基、ｎ−テトラデシル基、ｎ−ヘキサデシル基又はオクタデシル基である請求項２に記載のジアミン化合物。
【請求項６】
Ｒがイソプロピル基、ｓｅｃ．−ブチル基、イソブチル基、イソペンチル基、２−エチルヘキシル基又は１−メチルエチル−４−エチルオクチル基である請求項３に記載のジアミン化合物。
【請求項７】
Ｒがシクロヘキシル基又はシクロドデシル基である請求項４に記載のジアミン化合物。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、新規なジアミン化合物である４−置換（例えば、アルコキシ）−１，３−ジアミノシクロヘキサン化合物に関する。このようなジアミン化合物は、特に、高分子材料の原料、例えば、ジイソシアネート、ビスマレイミド等の樹脂原料、ポリアミド、ポリイミド、ポリアミドイミド等の熱可塑性樹脂の原料、エポキシ樹脂等の熱硬化性樹脂の原料、硬化剤又は改質剤等として有用である。
【０００２】
【従来の技術】
ポリアミド、ポリイミド等の熱可塑性樹脂、ポリビスマレイミド、エポキシ樹脂等の熱硬化性樹脂の製造には、いずれも、ジアミン化合物が原料として用いられるが、近年、それらの樹脂の用途の拡大発展に伴って、それらの樹脂について、耐水性、耐薬品性、電気的特性、機械的特性等の諸性能の一段の向上が強く求められるに至っている。特に、近年の電子・電気機器分野における小型化、高精密化、高精細化、高速化、高実装化等の要請を背景として、高分子材料に対して、電気特性、寸法安定性、高温機械特性保持性、実装対応性等の諸特性の一層の向上がますます強く求められるに至っている。そこで、そのような要請に応えるために、新規な樹脂の骨格構造を形成するための新規なジアミン化合物が求められている。
【０００３】
このような事情に鑑みて、ジアミン化合物のなかで、シクロヘキサン環に２個のアミノ基が結合してなるジアミノシクロヘキサン類は、そのシクロヘキシレン基が親油性であり、且つ、通常のアルキレン基に比べて、環構造を有するために、分子運動性が小さく、従って、このようなジアミノシクロヘキサン類を原料として用いることによって、低吸水性や低吸湿性等の耐水特性にすぐれ、更に、高絶縁性や低誘電性等の電気特性にもすぐれた樹脂を与えることが期待される。
【０００４】
このように、ジアミノシクロヘキサン類は、すぐれた特性を有する樹脂の原料として有用であると期待されているが、これまで知られているジアミノシクロヘキサン類としては、１，２−ジアミノシクロヘキサンが古く１９７３年に西ドイツ特許公開公報第２１３２５４７号公報及び米国特許第３７７３８３４号公報に記載されている。上記のほか、１，３−ジアミノシクロヘキサンがフランス国特許第１５１０２３９号公報（１９６８年）及び西ドイツ特許公開公報第２１３２５４７号（１９７３年）に、また、１，４−ジアミノシクロヘキサンが西ドイツ特許公開公報第２１３２５４７号公報（１９７３年）及び米国特許第３９１４３０７号公報（１９７５年）にそれぞれ記載されている。
【０００５】
更に、このようなジアミノシクロヘキサン化合物に、置換基として、アルキル基を有せしめたものとして、特開平７−２３２０６６号公報に、実施例として、４−メチル−１，３−ジアミノシクロヘキサンと２−メチル−１，３−ジアミノシクロヘキサンとの混合物（純度の最高値：９４．９重量％）、４−イソプロピル−１，３−ジアミノシクロヘキサン（純度９０．７重量％）、２，４−ビス（ジメチルアミノ）メチルシクロヘキサン（純度９５．３重量％）、２，４，６−トリイソプロピル−１，３−ジアミノシクロヘキサン（純度８５．８重量％）及びジアミノメチルシクロヘキサン（置換基の位置指定なし、純度：９０．６重量％）がそれぞれ記載されている。
【０００６】
上記のほか、置換基として、アルキル基以外のものを有するジアミノシクロヘキサン化合物としては、特公昭４２−７９０５号公報に３−ヒドロキシ−１，２−ジアミノシクロヘキサンが、ヨーロッパ特許公開公報第９７３７３号公報に４−ヒドロキシ−１，２−ジアミノシクロヘキサンが、特開昭５４−１４４３３９号公報に４−ヒドロキシ−１，３−ジアミノシクロヘキサンが、更に、Ｈ．  Ｓｔｅｔｔｅｒ  及び  Ｇ．  Ｊ．  Ｓｔｅｆｆｅｎｓ，  Ｃｈｅｍ．  Ｂｅｒ．，  １０５（５），  １７５５  （１９７２）  には５−ヒドロキシ−１，３−ジアミノシクロヘキサンがそれぞれ記載されている。
【０００７】
上述したようなジアミノシクロヘキサン類は、例えば、前述したように、ポリアミド、ポリイミド、エポキシ樹脂、ビスマレイミド化合物等のための原料や架橋剤、改質剤等として有用であるとされている。
しかしながら、このような種々のジアミノシクロヘキサン類の開発にもかかわらず、一層の高機能化、高性能化が要請されている高分子材料の応用分野の拡大に対しては、十分とはいえず、更に、新規なジアミノシクロヘキサン化合物の開発が強く要望されている。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、上述したような要望に応えるためになされたものであって、ジイソシアネート、ビスマレイミド等の樹脂原料や、ポリアミド、ポリイミド、ポリアミドイミド等の熱可塑性樹脂の原料、エポキシ樹脂等の熱硬化性樹脂の原料ほか、硬化剤や改質剤等として有用である新規なジアミノシクロヘキサン化合物を提供することを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
本発明による新規なジアミン化合物は、一般式（Ｉ）
【００１０】
【化２】
0003595635.tif 000002
【００１１】
（式中、Ｒは炭素原子数１〜２０の飽和炭化水素基である。）
で表わされる。
【００１２】
【発明の実施の形態】
特に、本発明によれば、上記一般式（Ｉ）において、Ｒは、炭素数１〜２０の直鎖状アルキル基、炭素数３〜２０の分岐状アルキル基又は炭素数５〜２０のシクロアルキル基（アルキルシクロアルキル基を含む。）若しくは炭素数６〜２０のシクロアルキルアルキル基であることが好ましい。
上記一般式（Ｉ）において、直鎖状アルキル基の具体例として、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基、ｎ−ウンデシル基、ｎ−ドデシル基、ｎ−トリデシル基、ｎ−テトラデシル基、ｎ−ペンタデシル基、ｎ−ヘキサデシル基、ｎ−ヘプタデシル基、ｎ−オクタデシル基、ｎ−エイコシル基等を挙げることができる。
【００１３】
上記分岐状アルキル基の具体例としては、例えば、イソプロピル基、ｓｅｃ．−ブチル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基、１−メチルエチル−４−エチルオクチル基、イソアミル基、イソデシル基、イソトリデシル基、２−エチルヘキシル基等を挙げることができる。
また、上記シクロアルキル基の具体例として、例えば、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロオクチル基、シクロドデシル基、ボルニル基、２−メチルシクロヘキシル基、３−メチルシクロヘキシル基、４−メチルシクロヘキシル基、４−ブチルシクロヘキシル基、５−メチル−２−イソプロピルシクロヘキシル基等を挙げることができる。シクロアルキルアルキル基の具体例として、例えば、シクロヘキシルメチル基、シクロヘキシルエチル基、シクロヘキシルプロピル基等を挙げることができる。
【００１４】
本発明によれば、上記したなかでも、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ノニル基、ｎ−ドデシル基、ｎ−テトラデシル基、ｎ−ヘキサデシル基又はオクタデシル基等の直鎖状アルキル基、イソプロピル基、ｓｅｃ．−ブチル基、イソブチル基、イソペンチル基又は２−エチルヘキシル基、１−メチルエチル−４−エチルオクチル等の分岐鎖状アルキル基、シクロヘキシル基、シクロドデシル基等のシクロアルキル基を好ましい具体例として挙げることができる。
【００１５】
従って、本発明による４−置換−１，３−ジアミノシクロヘキサン化合物の具体例として、例えば、
４−メトキシ−１，３−ジアミノシクロヘキサン、
４−エトキシ−１，３−ジアミノシクロヘキサン、
４−ｎ−プロポキシ−１，３−ジアミノシクロヘキサン、
４−イソプロポキシ−１，３−ジアミノシクロヘキサン、
４−ｎ−ブトキシ−１，３−ジアミノシクロヘキサン、
４−ｓｅｃ．−ブトキシ−１，３−ジアミノシクロヘキサン、
４−イソブトキシ−１，３−ジアミノシクロヘキサン、
４−ｔ−ブトキシ−１，３−ジアミノシクロヘキサン、
４−ｎ−ペンチルオキシ−１，３−ジアミノシクロヘキサン、
４−イソペンチルオキシ−１，３−ジアミノシクロヘキサン、
４−シクロペンチルオキシ−１，３−ジアミノシクロヘキサン、
４−ヘキシルオキシ−１，３−ジアミノシクロヘキサン、
４−シクロヘキシルオキシ−１，３−ジアミノシクロヘキサン、
４−ヘプチルオキシ−１，３−ジアミノシクロヘキサン
４−シクロヘキシルメチルオキシ−１，３−ジアミノシクロヘキサン
４−オクチルオキシ−１，３−ジアミノシクロヘキサン、
４−シクロオクチルオキシ−１，３−ジアミノシクロヘキサン、
４−ノニルオキシ−１，３−ジアミノシクロヘキサン、
４−デシルオキシ−１，３−ジアミノシクロヘキサン、
４−ウンデシルオキシ−１，３−ジアミノシクロヘキサン、
４−トデシルオキシ−１，３−ジアミノシクロヘキサン、
４−シクロドデシルオキシ−１，３−ジアミノシクロヘキサン、
４−テトラデシルオキシ−１，３−ジアミノシクロヘキサン、
４−ヘキサデシルオキシ−１，３−ジアミノシクロヘキサン、
４−オクタデシルオキシ−１，３−ジアミノシクロヘキサン、
４−エイコシルオキシ−１，３−ジアミノシクロヘキサン
４−ペンタデシルオキシ−１，３−ジアミノシクロヘキサン、
４−ヘプタデシルオキシ−１，３−ジアミノシクロヘキサン、
４−（１−メチルエチル−４−エチルオクチル）オキシ−１，３−ジアミノシクロヘキサン、
４−イソアミルオキシ−１，３−ジアミノシクロヘキサン、
４−イソデシルオキシ−１，３−ジアミノシクロヘキサン、
４−イソトリデシルオキシ−１，３−ジアミノシクロヘキサン、
４−（２−エチルヘキシル）オキシ−１，３−ジアミノシクロヘキサン、
４−ボルニルオキシ−１，３−ジアミノシクロヘキサン、
４−（２−メチルシクロヘキシル）オキシ−１，３−ジアミノシクロヘキサン、
４−（３−メチルシクロヘキシル）オキシ−１，３−ジアミノシクロヘキサン、
４−（４−メチルシクロヘキシル）オキシ−１，３−ジアミノシクロヘキサン、
４−（４−ブチルシクロヘキシル）オキシ−１，３−ジアミノシクロヘキサン、
４−（５−メチル−２−イソプロピルシクロヘキシル）オキシ−１，３−ジアミノシクロヘキサン
等を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
【００１６】
これらのなかでも、比較的原料が入手しやすい下記のものを本発明による４−置換−１，３−ジアミノシクロヘキサン化合物の好ましい具体例として挙げることができる。
４−メトキシ−１，３−ジアミノシクロヘキサン、
４−エトキシ−１，３−ジアミノシクロヘキサン、
４−ｎ−プロポキシ−１，３−ジアミノシクロヘキサン、
４−イソプロポキシ−１，３−ジアミノシクロヘキサン、
４−ｎ−ブトキシ−１，３−ジアミノシクロヘキサン、
４−ｓｅｃ．−ブトキシ−１，３−ジアミノシクロヘキサン、
４−イソブトキシ−１，３−ジアミノシクロヘキサン、
４−ヘキシルオキシ−１，３−ジアミノシクロヘキサン、
４−（１−メチルエチル−４−エチルオクチル）オキシ−１，３−ジアミノシクロヘキサン、
４−シクロヘキシルオキシ−１，３−ジアミノシクロヘキサン、
４−ノニルオキシ−１，３−ジアミノシクロヘキサン、
４−ドデシルオキシ−１，３−ジアミノシクロヘキサン、
４−シクロドデシルオキシ−１，３−ジアミノシクロヘキサン、
４−テトラデシルオキシ−１，３−ジアミノシクロヘキサン、
４−ヘキサデシルオキシ−１，３−ジアミノシクロヘキサン、
４−オクタデシルオキシ−１，３−ジアミノシクロヘキサン。
【００１７】
本発明によるこのような４−置換−１，３−ジアミノシクロヘキサン化合物は、一般式（ＩＩ）
【００１８】
【化３】
0003595635.tif 000003
【００１９】
（式中、Ｒは前記と同じである。）
で表わされる４−置換−１，３−ジニトロベンゼンを反応溶媒中、触媒の存在下に水素化反応を行なうことによって得ることができる。
従って、前記一般式（Ｉ）で表わされる本発明による４−置換−１，３−ジアミノシクロヘキサン化合物を得るには、このジアミン化合物に対応する上記一般式（ＩＩ）で表わされる４−置換−１，３−ジニトロベンゼンを還元すればよく、例えば、４−メトキシ−１，３−ジアミノシクロヘキサンを得るには、それに対応する４−メトキシ−１，３−ジニトロベンゼンを水素化還元すればよい。
【００２０】
このような４−置換−１，３−ジニトロベンゼンは、例えば、Ｂｅｉｌｓｔｅｉｎｓ  Ｈａｎｄ−ｂｕｃｈ  ｄｅｒ  Ｏｒｇａｎｉｓｃｈｅｎ  Ｃｈｅｍｉｅ，  Ｖｉｅｒｔｅｓ  Ｅｒｇａｅｎｚｕｎｇｓｗｅｒｋ，  Ｂａｎｄ  ６／３  Ｓｙｓｔｅｍ，  Ｎｒ．  ５２３／Ｈ２５４−２５５；  Ｅ−ＩＩＩ，  ８５８−８５９  （１９７８）  に記載されている４−メトキシ−１，３−ジニトロベンゼン、４−エトキシ−１，３−ジニトロベンゼン、４−プロポキシ−１，３−ジニトロベンゼン、４−イソプロポキシ−１，３−ジニトロベンゼン、４−ブトキシ−１，３−ジニトロベンゼン、４−ｓｅｃ．−ブトキシ−１，３−ジニトロベンゼン、４−イソブトキシ−１，３−ジニトロベンゼン、４−イソペンチルオキシ−１，３−ジニトロベンゼン、４−ヘキシルオキシ−１，３−ジニトロベンゼン、４−ドデシルオキシ−１，３−ジニトロベンゼン、４−ヘキサドデシルオキシ−１，３−ジニトロベンゼン、４−オクタデシルオキシ−１，３−ジニトロベンゼン等のように、対応する４−ハロゲン化−１，３−ジニトロベンゼンと相当するアルコールとの反応によって得ることができる。
【００２１】
このような前記一般式（ＩＩ）で表わされる４−置換−１，３−ジニトロベンゼンの水素化反応は、先ず、適宜の反応溶媒中、触媒の存在下に、ニトロ基を水素化してアミノ基に還元した後に、更に、反応溶媒中、触媒の存在下に芳香核の水素化反応を行なってもよいし、また、反応溶媒中、触媒の存在下に、ニトロ基の水素化によるアミノ基への還元反応と芳香核の水素化反応を同時に行なってもよい。これらのなかでは、後者の方法が工程数が短く、それ故、経済性にすぐれるので好ましい。
【００２２】
前記一般式（ＩＩ）で表わされる４−置換−１，３−ジニトロベンゼンの水素化反応に用いる触媒としては、従来より、ニトロ基の水素化（アミノ基への還元）及び芳香核の水素化のための触媒として知られているものであれば、いずれも用いることができる。
従って、４−置換−１，３−ジニトロベンゼンのニトロ基のアミノ基への水素化（還元）反応のためには、ラネーニッケル触媒、パラジウム／炭素触媒、白金／炭素触媒、ロジウム／炭素触媒、ルテニウム／炭素触媒、酸化ルテニウム触媒、水酸化ルテニウム触媒、Ｃｕ２  Ｃｒ２  ０３  触媒等を用いることができる。
【００２３】
また、芳香核の水素化反応のためには、例えば、ラネーニッケル触媒、ラネーコバルト触媒、アダムスの白金触媒、ニッケル／アルミナ触媒、パラジウム／炭素触媒、白金／炭素触媒、ルテニウム／炭素触媒、酸化ルテニウム触媒、水酸化ルテニウム触媒、ロジウム／炭素触媒等を用いることができる。
更に、必要に応じて、これらの触媒には、活性を高めるために、助触媒を加えてもよい。特に、ルテニウム触媒には、助触媒として、水酸化リチウムや硝酸リチウムを加えることが効果的である。
【００２４】
これらの触媒のなかでは、ニトロ基の水素化反応及び芳香核の水素化反応に共通して適用することができると共に、穏和な条件下で水素化反応を行なうことができるルテニウム触媒が好ましい。
このルテニウム触媒を含む水素化触媒は、通常、原料である４−置換−１，３−ジニトロベンゼン１００重量部に対して、０．１〜１０重量部、好ましくは、０．５〜５重量部の範囲で用いられる。
【００２５】
４−置換−１，３−ジニトロベンゼンの水素化反応のための反応溶媒は、水素化反応の影響を受けない溶媒であれば何でもよいが、例えば、ｎ−ペンタン、ｎ−ヘキサン、ｎ−ヘプタン、オクタン、イソオクタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、テトラリン、デカリン等のような炭化水素類、ジエチルエーテル、メチルイソブチルエーテル、ジイソブチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のようなエーテル類、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、ｔ−ブタノール等の脂肪族アルコール類等を挙げることができる。これら反応溶媒は、単独で用いてもよく、また、２種以上を混合して用いてもよい。しかし、これらの反応溶媒のなかでは、比較的溶解性にすぐれており、且つ、経済性にもすぐれるテトラヒドロフラン又はジオキサンが好ましく用いられる。
【００２６】
これらの反応溶媒は、原料である４−置換−１，３−ジニトロベンゼン化合物１００重量部に対して、通常、１０〜２０００重量部、好ましくは、１００〜１０００重量部の範囲で用いられる。
【００２７】
４−置換−１，３−ジニトロベンゼン化合物の水素化反応は、上記反応溶媒中、前記触媒の存在下に、通常、５０〜１８０℃、好ましくは、７０〜１５０℃の範囲の温度にて、０．５〜１００時間、好ましくは、１〜１０時間、水素圧力１〜２００ｋｇ／ｃｍ２  、好ましくは、２〜１００ｋｇ／ｃｍ２  、特に好ましくは、１０〜１００ｋｇ／ｃｍ２  の条件下に行なう。このような方法によって、通常、４−置換−１，３−ジニトロベンゼン化合物のニトロ基のアミノ基への還元と芳香核の水素化を共に行なって、目的とする４−置換−１，３−ジアミノシクロヘキサン化合物を得ることができる。
【００２８】
しかし、このような方法によれば、最初、４−置換−１，３−ジニトロベンゼン化合物のニトロ基がアミノ基に還元され、次いで、芳香核の水素化が起こる傾向があるので、必要に応じて、先ず、温和な反応条件下でニトロ基のアミノ基への還元反応を行ない、得られた４−置換−１，３−ジアミノベンゼン化合物を分離し、この後、その芳香核の水素化反応を行なって、目的とする４−置換−１，３−ジアミノシクロヘキサン化合物を得る二段階反応を採用してもよい。
【００２９】
いずれにしても、反応終了後、得られた反応混合物から触媒を濾過等の手段によって除去した後、反応溶媒を留去する等の常法によって、反応生成物を分離し、そのままにて、又は必要に応じて、蒸留や再結晶等によって精製すれば、本発明による４−置換−１，３−ジアミノシクロヘキサン化合物を得ることができる。
【００３０】
【発明の効果】
本発明による新規なジアミン化合物は、前記一般式（Ｉ）で表わされ、高分子材料の原料、例えば、ジイソシアネート、ビスマレイミド等の樹脂原料、ポリアミド、ポリイミド、ポリアミドイミド等の熱可塑性樹脂原料、エポキシ樹脂等の熱硬化性樹脂の原料のほか、硬化剤や改質剤等として有用である。
【００３１】
特に、本発明による新規なジアミン化合物は、１，３−ジアミノシクロヘキサンの４−位に酸素原子を介して、アルキル基やシクロアルキル基のような親油性に富む飽和炭化水素基を有するので、このようなジアミン化合物を原料として用いることによって、得られるポリアミド、ポリイミド、ポリアミドイミド等の樹脂は、耐湿性や低吸水性等の耐水性にすぐれており、かくして、電気絶縁性や低誘電性等の電気特性にもすぐれることが期待される。
【００３２】
【実施例】
以下に実施例を挙げて本発明を説明するが、本発明はこれらにより何ら限定されるものではない。
【００３３】
実施例１
攪拌器、温度計、水素吹き込み口を備えた５００ｍＬ容量のステンレス製オートクレーブに４−オクタデシルオキシ−１，３−ジニトロベンゼン５０ｇ、ラネーニッケル２ｇ及びテトラヒドロフラン３００ｇを仕込み、水素置換後、水素圧力を５ｋｇ／ｃｍ２  にして加熱した。オートクレーブ内の圧力が５ｋｇ／ｃｍ２  に保持されるように水素を補充しながら、１００℃で３時間反応を続けた。
【００３４】
反応終了後、得られた反応混合物を冷却し、ラネーニッケルを濾別し、濾液をエバポレーターで濃縮し、残渣として、４−オクタデシルオキシ−１，３−ジアミノベンゼン４２ｇを得た。
次いで、上記と同じオートクレーブに４−オクタデシルオキシ−１，３−ジアミノベンゼン１０ｇ、シクロヘキサン１５０ｇ及び二酸化ルテニウム１ｇを仕込み、水素置換し、水素で１００ｋｇ／ｃｍ２  まで加圧した後、昇温し、１４０℃で１時間反応させた。
【００３５】
反応終了後、得られた反応混合物を冷却し、エバポレーターでシクロヘキサンを濃縮した後、メタノールを加えた。このようにして析出した二酸化ルテニウムを濾別し、再度、メタノールをエバポレーターで濃縮し、ワックス状残渣９ｇを得た。
この残渣１．９ｇをクーゲルロール蒸留器に仕込み、減圧下に加熱し、分解生成した低沸点分を留去した後、更に、昇温し、留出物として、４−オクタデシルオキシ−１，３−ジアミノシクロヘキサン０．３ｇを淡黄土色のワックス状物として得た。
【００３６】
純度（ガスクロマトグラフィー）：９１．１％
マススペクトルの分子イオンピーク（ｍ／ｅ）：３８２
赤外線吸収スペクトル（ｃｍ−１）：
アミノ基：３２７０、３３６０
エーテル基：１１００
プロトン核磁気共鳴スペクトル：
４ｐｐｍ以上に吸収は認められなかった。
0003595635.tif 000004
【００３７】
実施例２
４−シクロデシルオキシ−１，３−ジニトロベンゼンを原料として用いた以外は、実施例１と同様にして、４−シクロドデシルオキシ−１，３−ジアミノシクロヘキサン１．０ｇを淡黄土色のワックス状物として得た。
純度（ガスクロマトグラフィー）：８９．８％
マススペクトルの分子イオンピーク（ｍ／ｅ）：２９６
赤外線吸収スペクトル（ｃｍ−１）：
アミノ基：３２７０、３３６０
エーテル基：１１１０
プロトン核磁気共鳴スペクトル：
４ｐｐｍ以上に吸収は認められなかった。
0003595635.tif 000005
【００３８】
実施例３
４−（１−メチルエチル−４−エチルオクチルオキシ）−１，３−ジニトロベンゼンを原料として用いた以外は、実施例１と同様にして、４−（１−メチルエチル−４−エチルオクチルオキシ）−１，３−ジアミノシクロヘキサン０．４ｇを無色液体として得た。
純度（ガスクロマトグラフィー）：８７．９％
マススペクトルの分子イオンピーク（ｍ／ｅ）：３２６
赤外線吸収スペクトル（ｃｍ−１）：
アミノ基：３２７０、３３６０
エーテル基：１１１０
プロトン核磁気共鳴スペクトル：
４ｐｐｍ以上に吸収は認められなかった。
0003595635.tif 000006
【００３９】
実施例４
４−ノニルオキシ−１，３−ジニトロベンゼンを原料として用いた以外は、実施例１と同様にして、４−ノニルオキシ−１，３−ジアミノシクロヘキサン１．３ｇを無色液体として得た。
純度（ガスクロマトグラフィー）：８１．８％
マススペクトルの分子イオンピーク（ｍ／ｅ）：２５６
赤外線吸収スペクトル（ｃｍ−１）：
アミノ基：３２８０、３３６０
エーテル基：１１００
プロトン核磁気共鳴スペクトル：
４ｐｐｍ以上に吸収は認められなかった。
0003595635.tif 000007
【００４０】
実施例５
攪拌器、温度計、水素吹き込み口を備えた５００ｍＬ容量のステンレス製オートクレーブに４−メトキシ−１，３−ジニトロベンゼン２０ｇ、二酸化ルテニウム０．５ｇ、テトラヒドロフラン１５０ｇ及びシクロヘキサン５０ｇを仕込み、水素置換後、水素圧力を８０ｋｇ／ｃｍ２  とした後、昇温し、１８０℃で４時間反応させた。
反応終了後、得られた反応混合物を冷却し、二酸化ルテニウムを濾別し、濾液をエバポレーターで濃縮し、液状残渣９．８ｇを得た。この残渣１．９ｇをクーゲルロール蒸留器に仕込み、減圧下に加熱し、分解生成した低沸点成分を留去した後、更に、昇温して、留出物として、４−メトキシ−１，３−ジアミノシクロヘキサン０．３ｇを無色液体として得た。
【００４１】
純度（ガスクロマトグラフィー）：９３．２％
マススペクトルの分子イオンピーク（ｍ／ｅ）：１４４
赤外線吸収スペクトル（ｃｍ−１）：
アミノ基：３２８０、３３６０
エーテル基：１０９０
プロトン核磁気共鳴スペクトル：
４ｐｐｍ以上に吸収は認められなかった。
0003595635.tif 000008