(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
ブレード本体に複数のくし歯を形成してなり、
基板の表面に形成されたペースト膜に、前記くし歯を突き刺した状態で、前記ブレード本体を前記ペースト膜に対して相対的に一定方向に移動することにより前記ペースト膜を塑性変形させて、前記基板表面にリブ状物を形成するリブ状物の形成用ブレードであって、
該ブレードは、前記ブレード本体の底面に直交し、先端部から基端部までの高さ寸法Ｈであるくし歯を有し、前記くし歯の厚さについて、前記くし歯の先端部の寸法を基端部の寸法よりも小さくすると共に、
前記ペースト膜は、ガラス粉末、ガラスとセラミックとの混合粉末を３０〜９５重量％、樹脂を０．０５〜１５重量％、溶剤と可塑剤と分散剤とを３〜７０重量％それぞれ配合したものであり、前記樹脂は、高粘度を有するポリマーであって、セルロース系、アクリル系から選ばれた一の樹脂、前記溶剤は、アルコール系、エーテル系、エステル系から選ばれた一の溶剤、前記可塑剤は、グリセリン、ジブチルフタレートから選ばれた一の可塑剤、前記分散剤は、リン酸系、スルフォン酸、カルボン酸系から選ばれた一の分散剤であって、
前記くし歯の厚さ寸法の平均値をＴaveとして、０．００５ｍｍ＜Ｔave＜０．５ｍｍ、であり、前記くし歯の一端面が前記くし歯の厚さ方向に直交して形成され、該くし歯の他端面が、前記先端部から基端部までのＨの全長に亘って前記くし歯の厚さ寸法が直線的に漸次増大する傾斜面とされており、更に、前記くし歯の厚さ方向に沿う面と前記傾斜面とがなす角度をθとしたときに、
３０°≦θ＜９０°、
であることを特徴とするリブ状物の形成用ブレード。
【請求項２】
請求項１に記載のリブ状物の形成用ブレードにおいて、
前記くし歯間の幅寸法をＷとして、
０．０３ｍｍ＜Ｗ＜０．４ｍｍ、
であることを特徴とするリブ状物の形成用ブレード。
【請求項３】
請求項１または請求項２に記載のリブ状物の形成用ブレードにおいて、
０．１ｍｍ＜Ｈ＜１．０ｍｍ、
であることを特徴とするリブ状物の形成用ブレード。
【請求項４】
請求項１から請求項３のいずれかに記載のリブ状物の形成用ブレードにおいて、
少なくとも前記くし歯が超硬合金等のサーメット、高速度工具鋼、アルミナ、ムライト、ジルコニア、窒素硅素、窒化アルミニウム等の高硬度材料からなることを特徴とするリブ状物の形成用ブレード。
【請求項５】
請求項１から請求項４のいずれかに記載のリブ状物の形成用ブレードによりペースト膜を塑性変形させてなるリブ状物を乾燥・焼成してなるリブを備えた基板。
【請求項６】
請求項５記載の基板を備えたプラズマディスプレイパネル。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、ＰＤＰ（ｐｌａｓｍａ  ｄｉｓｐｌａｙ  ｐａｎｅｌ）の製造工程において、リブ状物を形成するためのリブ状物の形成用ブレードに関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来より、ＰＤＰ（ｐｌａｓｍａ  ｄｉｓｐｌａｙ  ｐａｎｅｌ）におけるリブの形成方法として、以下の２つの方法が知られている。
ＰＤＰにおけるリブの第１の形成方法としては、図１０に示すような厚膜印刷法が知られている。この方法においては、基板１の表面に、ガラス粉末、若しくはガラス・セラミック混合粉末を含むリブ形成用ペースト２を所定のパターンに位置合わせをして、厚膜状に印刷し、乾燥する工程を多数回繰り返す。その後、これを焼成することにより、基板１上の表面に所定の間隔をおいてリブ８が形成される。
【０００３】
また、リブの第２の形成方法として、サンドブラスト法が知られている。この方法では、はじめに、図１１に示すように、基板１の表面全体に、ガラス粉末、若しくはガラス・セラミック混合粉末を含むセラミックペーストを厚膜法により塗布し、乾燥することにより、または、ガラス粉末、若しくはガラス・セラミック混合粉末を含むセラミックグリーンテープを積層することにより、パターン形成層３を形成する。
その後、このパターン形成層３を感光性フィルム４により被覆し、この感光性フィルム４をマスク５を通して露光し、次いで現像を行うことにより、所定のパターンのレジスト層６が形成される。
次いで、レジスト層６の上方からサンドブラスト処理を施して、パターン形成層３のうち、セル９となる部分を取り除くことにより、リブ状物７が形成され、剥離剤等を用いてレジスト層６を除去した後に、リブ状物７を焼成することによりリブ８が得られる。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、厚膜印刷法においては、リブ８を形成する際に、リブ形成用ペースト２を多数回塗る必要があるため、リブ８を製作するための工程数が多いという欠点があった。
また、サンドブラスト法においては、レジスト層６を形成するために、感光性フィルム４を被覆し、露光、現像等の複雑な工程が必要であると共に、サンドブラスト処理により、パターン形成層３の大部分を取り除くため、パターン形成層３の材料を多く必要とする不具合があった。
【０００５】
以上の点を解消するために、本発明者らは、基板の表面にセラミックペーストを塗布し、薄膜状に形成されたペースト膜に所定のくし歯を有するブレードを突き刺し、そのブレードをペースト膜に対して相対的に一定方向に移動することにより、ペースト膜を塑性変形させて、基板の表面にリブ状物を形成する方法を提案している（特開平１１−２８３４９７）。この方法により形成されたリブ状物は、その後乾燥・焼成することによりリブとなり、従来の厚膜印刷法やサンドブラスト法と比較して、少ない工程で材料の無駄なく、簡便にリブを形成できるようになっている。
【０００６】
この場合、セラミックペーストは、以下の性状からなるものである。
すなわち、このセラミックペーストは、例えば、ガラス粉末、または、ガラスとセラミックとの混合粉末を３０〜９５重量％、樹脂を０．０５〜１５重量％、溶剤と可塑剤と分散剤とを３〜７０重量％それぞれ配合したものである。樹脂は、熱分解しやすく、溶剤に溶けて高粘度を有するポリマーであって、セルロース系、アクリル系等が挙げられる。溶剤は、常温において揮発性が比較的小さい有機溶媒であることが必要であり、アルコール系、エーテル系、エステル系等が挙げられる。可塑剤には、グリセリン、ジブチルフタレート等が挙げられ、分散剤としては、リン酸系、スルフォン酸、カルボン酸系等が挙げられる。セラミックペーストをこのように構成することにより、所定のレオロジーを有するペーストを得ることができる。
【０００７】
また、前述した方法により形成されたリブ状物を乾燥・焼成してなるリブの形状は、リブの底部における幅寸法が、頂部における幅寸法よりも広い、すなわち、略台形状の断面形状を有している。なお、ＰＤＰに使用するリブにおいて、リブ間の領域の大きさ、すなわち、表示光を発光するための放電空間の大きさは、ＰＤＰの輝度や放電電圧等を決定する重要なパラメータの１つである。ここで、ＰＤＰの輝度がリブ間の領域の大きさに比例するため、リブの高さ寸法をより大きく、かつ、リブの底部における幅寸法（以下、底部幅寸法と略す）をより小さくすることが好ましいとされている。
【０００８】
また、一般的には、隣り合うリブ間のピッチ（以下、リブピッチと略す）が小さい程、ＰＤＰの解像度は高くなるが、ＰＤＰ画面が大きくなる程、ＰＤＰの適正な解像度を得るための最大リブピッチは大きくなる。例えば、ＰＤＰ画面が６０インチ以下であるならば、リブピッチは６００μｍ以下であることが望ましい。ここで、ＰＤＰの適正な輝度や放電電圧を確保するためには、ＰＤＰに使用するリブの高さ寸法が１００μｍ以上、リブの底部幅寸法が２００μｍ以下であることが望ましいとされている。
【０００９】
本発明者らは、上記のリブの形成方法において、形成されるリブの形状を好ましく向上させるために、ブレードの条件を変化させて研究を重ねた結果、くし歯間の幅寸法、くし歯の厚さ寸法、および、くし歯の高さ寸法と、形成されるリブの高さ寸法、およびリブの底部幅寸法との間に、一定の関係があることを見出した。
すなわち、くし歯間の幅寸法とリブの底部幅寸法とは比例関係にあり、また、くし歯の厚さ寸法とリブの高さ寸法とは反比例関係にあることが判明した。つまり、くし歯間の幅寸法をＷ、リブの底部幅寸法をｗ２、くし歯の厚さ寸法をＴ、リブの高さ寸法をｈとすると、
ｗ２＝αＷ、ｈ＝β／Ｔ、となる。
【００１０】
さらに、くし歯の高さ寸法、および、くし歯間の幅寸法とリブの高さ寸法とは比例関係にあることが判明した。つまり、くし歯の高さ寸法をＨとすると、
ｈ＝γ1Ｈ、ｈ＝γ2Ｗ、となる。
ここで、α、β、γ1およびγ2は、セラミックペーストの配合比（組成）、および、ブレードによりペーストを塑性変形させてリブ状物を得るための加工条件に依存するが、適正範囲内においては、
０．３＜α＜１．５、０．００１＜β＜０．１、
０．１＜γ1＜１．０、０．１＜γ2＜１．０、である。
【００１１】
この発明は、上述した研究結果に基づき、幅寸法が小さく、かつ、高さ寸法が大きいリブを形成することができるリブ状物の形成用ブレードを提供することを目的としている。
【００１２】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するために、この発明は以下の手段を提案している。なお、この発明は、ＰＤＰにおけるリブを対象としたものである。
請求項１に係る発明は、ブレード本体に複数のくし歯を形成してなり、基板の表面に形成されたペースト膜に、前記くし歯を突き刺した状態で、前記ブレード本体を前記ペースト膜に対して相対的に一定方向に移動することにより前記ペースト膜を塑性変形させて、前記基板表面にリブ状物を形成するリブ状物の形成用ブレードであって、該ブレードは、前記ブレード本体の底面に直交し、先端部から基端部までの高さ寸法Ｈであるくし歯を有し、前記くし歯の厚さについて、前記くし歯の先端部の寸法を基端部の寸法よりも小さくすると共に、前記ペースト膜は、ガラス粉末、ガラスとセラミックとの混合粉末を３０〜９５重量％、樹脂を０．０５〜１５重量％、溶剤と可塑剤と分散剤とを３〜７０重量％それぞれ配合したものであり、前記樹脂は、高粘度を有するポリマーであって、セルロース系、アクリル系から選ばれた一の樹脂、前記溶剤は、アルコール系、エーテル系、エステル系から選ばれた一の溶剤、前記可塑剤は、グリセリン、ジブチルフタレートから選ばれた一の可塑剤、前記分散剤は、リン酸系、スルフォン酸、カルボン酸系から選ばれた一の分散剤であって、前記くし歯の厚さ寸法の平均値をＴaveとして、０．００５ｍｍ＜Ｔave＜０．５ｍｍ、であり、前記くし歯の一端面が前記くし歯の厚さ方向に直交して形成され、該くし歯の他端面が、前記先端部から基端部までのＨの全長に亘って前記くし歯の厚さ寸法が直線的に漸次増大する傾斜面とされており、更に、前記くし歯の厚さ方向に沿う面と前記傾斜面とがなす角度をθとしたときに、３０°≦θ＜９０°、であることを特徴とするリブ状物の形成用ブレードを提案している。
【００１３】
この発明に係るリブ状物の形成用ブレードによれば、厚さの薄いくし歯を用いることによる高いリブ状物の形成効果をある程度維持して、リブ状物の形成時におけるくし歯の変形を抑制できる。また、くし歯の厚さについて、先端部の寸法よりも基端部の寸法を大きくすることにより、ブレードを製造する際に、ブレード本体にＴaveの小さいくし歯を形成する場合においても、くし歯の欠損を防ぐことができる。
【００１４】
くし歯の厚さ寸法の平均値Ｔaveを、０．００５ｍｍ＜Ｔave＜０．５ｍｍ、としたのは、平均値Ｔaveが０．５ｍｍ以上である場合には、リブ状物を焼成してなるリブの高さ寸法が小さくなると共に、リブの高さ寸法のばらつきが±５％以上となり、この範囲を超えると、ＰＤＰの各放電空間に差異が生じる結果として、各放電空間における表示光の発光量が異なり、ＰＤＰの各放電空間における輝度や放電電圧にばらつきが生じるためである。また、平均値Ｔaveが０．００５ｍｍ以下である場合には、リブ状物の形成用ブレードの製造が困難となるためである。
【００１５】
また、くし歯の先端部から基端部までのＨの全長に亘って、くし歯の厚さ寸法が直線的に漸次増大する傾斜面とされているのは、前記の
ｈ＝β／Ｔ
の関係より、先端部のみに傾斜面を設けるよりも、リブの高さ寸法ｈを大きくできるからである。
【００１６】
更に、リブ状物の形成用ブレードにおいて、３０°≦θ＜９０°、としたのは、角度θが９０°以上である場合には、くし歯の厚さについて、基端部寸法が先端部寸法よりも小さくなり、結果として、ブレード本体にくし歯を形成する際に欠損する虞があるためである。さらに、ペーストを塑性変形させてリブ状物を形成する際には、ブレードのくし歯が変形する虞があるためでもある。また、角度θが３０°未満である場合には、くし歯の先端部近傍における厚さ寸法が厚くなり、結果として、リブの高さ寸法が小さくなると共に、リブの高さ寸法にばらつきが発生する傾向が現れるためである。
【００１７】
また、請求項２に係る発明は、請求項１に記載のリブ状物の形成用ブレードにおいて、前記くし歯間の幅寸法をＷとして、０．０３ｍｍ＜Ｗ＜０．４ｍｍ、であることを特徴とするリブ状物の形成用ブレードを提案している。
【００１８】
この発明に係るリブ状物の形成用ブレードにおいて、０．０３ｍｍ＜Ｗ＜０．４ｍｍ、としたのは、くし歯間の幅寸法Ｗを大きくすることにより、リブの高さ寸法が大きくなるが、リブの底部幅寸法も大きくなるため、ＰＤＰの放電空間が小さくなり、ＰＤＰの輝度が小さくなるためである。特に、くし歯間の幅寸法Ｗが０．４ｍｍ以上である場合には、リブの底部幅寸法が目的とするリブの底部幅寸法（２００μｍ）によりも大きくなってしまうためである。また、くし歯間の幅寸法Ｗが０．０３ｍｍ以下である場合には、リブ状物の形成用ブレードの製造が困難となるためである。
【００１９】
また、請求項３に係る発明は、請求項１または請求項２に記載のリブ状物の形成用ブレードにおいて、０．１ｍｍ＜Ｈ＜１．０ｍｍであることを特徴とするリブ状物の形成用ブレードを提案している。
この発明に係るリブ状物の形成用ブレードにおいて、０．１ｍｍ＜Ｈ＜１．０ｍｍ、としたのは、くし歯の高さ寸法Ｈが、０．１ｍｍ以下である場合には、リブの高さ寸法が最低限必要なリブ高さ寸法（１００μｍ）に満たなくなるためである。
【００２０】
また、くし歯の高さ寸法Ｈが１．０ｍｍ以上では、リブの高さ寸法が大きくなるが、ペースト膜の膜厚を一定（０．５ｍｍ）として、くし歯の高さ寸法Ｈを１．０ｍｍ以上に大きくすると、ペースト膜の膜厚よりもくし歯の高さ寸法Ｈが大きくなる。このため、リブ状物を形成する際に、くし歯間に流れ込むペーストの量が時間と共に変化することになり、結果として、リブの高さ寸法にばらつきが生じる。
これとは逆に、くし歯の高さ寸法Ｈを１．０ｍｍ以上として、ペースト膜の膜厚をくし歯の高さ寸法Ｈよりも大きくした場合には、ペースト膜を形成するセラミックペーストのうち、くし歯により掃きとられるセラミックペーストの量が多くなり、セラミックペーストの歩溜まりが減少する。
【００２１】
また、請求項４に係る発明は、請求項１から請求項５のいずれかに記載のリブ状物の形成用ブレードにおいて、少なくとも前記くし歯が超硬合金等のサーメット、高速度工具鋼、アルミナ、ムライト、ジルコニア、窒素硅素、窒化アルミニウム等の高硬度材料からなることを特徴とするリブ状物の形成用ブレードを提案している。
この発明に係るリブ状物の形成用ブレードにおいては、くし歯が超硬合金等のサーメット、高速度工具鋼、アルミナ、ムライト、ジルコニア、窒素硅素、窒化アルミニウム等の高硬度材料からなるため、くし歯の先端部を基板表面に当接させてリブ状物を形成する際に、基板表面との間に発生する摩擦によるくし歯の摩耗が低減する。
【００２２】
また、請求項５に係る発明は、請求項１から請求項４のいずれかに記載のリブ状物の形成用ブレードによりペースト膜を塑性変形させてなるリブ状物を乾燥・焼成してなるリブを備えた基板を提案している。
この発明に係る基板においては、リブ状物が上述したリブ状物の形成ブレードにより形成されるため、高さ寸法にばらつきがなく、高さ寸法が大きく、さらに、底部における幅寸法が小さいリブを備えた基板となる。
【００２３】
また、請求項６に係る発明は、請求項５に記載の基板を備えたプラズマディスプレイパネルを提案している。
この発明に係るプラズマディスプレイパネル（以下、ＰＤＰ略す）においては、高さ寸法が大きく、かつ、底部における幅寸法が小さいリブを備えることになるため、リブ間の領域を広くすることができる。したがって、表示光を発光するための放電空間の大きさを広くすることができ、ＰＤＰの適正な輝度や放電電圧を確保することができる。
【００２４】
【発明の実施の形態】
図１から図９はこの発明に係る実施の形態を示す。ここで、示す実施の形態は、ＰＤＰ用のリブに適用した場合の例である。図１に示すように、この実施の形態に係るリブ状物の形成用ブレード２１（以下、「ブレード２１」と略す）は、例えば超硬合金により板状に形成されてなるものであり、ブレード本体２２と、ブレード本体２２の下端部２２ａに一体的に形成される複数のくし歯２３とから構成されている。
くし歯２３は、図５に示すように、その一端面２３ａが鉛直に形成され、その他端面２３ｂが先端部２３ｃから基端部２３ｄまでのくし歯高さ寸法Ｈの全長に亘って、くし歯２３の厚さ寸法が直線的に漸次増大するように傾斜して形成されてなるものである。
【００２５】
このブレード２１によりリブ状物を形成する方法について、図２を用いて説明する。
はじめに、基板３１の表面にセラミックペーストを膜状に塗布し、ペースト膜３２を形成する。このセラミックペーストは、樹脂および溶剤にガラス粉末、若しくはガラス・セラミック混合粉末を混練したものであり、前述したものである。また、ペースト膜３２の膜厚は、０．５ｍｍである。
【００２６】
次いで、ブレード２１をペースト膜３２に突き刺し、くし歯２３の先端部２３ｃが基板３１に当接した状態を保持して、基板３１の表面に沿う方向（Ｃ方向）にブレード２１を移動するか、または、ブレード２１を固定して、Ｃ方向とは逆の方向（Ｄ方向）に基板３１を移動させてペースト膜３２を塑性変形させてリブ状物３３を形成する。
すなわち、くし歯２３の一端面２３ａに当接する部分のペースト膜３２は、くし歯２３により掃きとられ、または、くし歯２３の隙間に移動する。くし歯２３の隙間に移動するペースト膜２１は、くし歯２３の隙間に位置するペースト膜３２と共に、基板２０表面上にリブ状物３３を形成する。
【００２７】
このようにして形成されたリブ状物３３は、その後乾燥・焼成することにより、図３に示すように、リブ高さ寸法ｈを有するリブ３４となり、リブ３４の頂部３４ａにおける幅寸法ｗ１が、底部３４ｂにおける幅寸法ｗ２（以下、リブ底部幅寸法ｗ２と略す）よりも小さい断面略台形状に形成されている。
なお、ＰＤＰ用のリブの各寸法は、前述したとおり、リブ高さ寸法ｈが１００μｍ以上、リブ底部幅寸法ｗ２が２００μｍ以下であることが最低限必要である。そして、隣り合うリブ３４間のピッチが６００μｍ以下であることが必要である。
【００２８】
以上のように形成されるリブ３４のリブ高さ寸法ｈおよびリブ底部幅寸法ｗ２について、ブレード２１の各部の寸法を変化させて実験を行った結果の一例を図６から図８に示す。なお、この実験において、変化させるブレード２１の各部の寸法は、図４，５に示すように、くし歯２３の厚さ寸法の平均値Ｔave、くし歯２３間の幅寸法Ｗ、および、ブレード本体２２の底面２２ａに直交するくし歯２３の先端部２３ｃから基端部２３ｄまでの高さ寸法Ｈである。
【００２９】
ここで、くし歯２３の厚さ寸法の平均値Ｔaveは、図５に示すように、くし歯２３の基端部２３ｄにおける厚さ寸法Ｔmaxと、くし歯２３の先端部２３ｃにおける厚さ寸法Ｔminとの算術平均を表している。すなわち、
Ｔave＝（Ｔmax＋Ｔmin）／２
である。なお、先端部における厚さ寸法Ｔminは、０ｍｍ≦Ｔmin＜Ｔmax、の範囲であり得る。
【００３０】
図６は、くし歯厚さ寸法の平均値Ｔaveとリブ高さ寸法ｈとの関係を示しており、くし歯間の幅寸法Ｗを０．２ｍｍとし、くし歯高さ寸法Ｈを０．３ｍｍとした実験結果である。この結果によれば、くし歯厚さ寸法の平均値Ｔaveとリブ高さ寸法ｈとは反比例関係にあり、また、くし歯厚さ寸法の平均値Ｔaveが大きくなる程、リブ高さ寸法ｈのばらつきが大きくなる。
【００３１】
ただし、くし歯厚さ寸法の平均値Ｔaveが０．００５ｍｍ以下では、ブレード２１を製造する際に、くし歯２３を形成することが困難となる。また、くし歯厚さ寸法の平均値Ｔaveが０．５ｍｍ以上では、最低限必要なリブ高さ寸法（１００μｍ）が得られなくなると共に、リブ高さ寸法ｈのばらつきが±５％以上となり、この範囲を超えると、ＰＤＰの各放電空間に差異が生じる結果として各放電空間における表示光の発光量が異なり、ＰＤＰの輝度および放電電圧にばらつきが生じる。したがって、くし歯厚さ寸法の平均値Ｔaveは、０．００５ｍｍ＜Ｔave＜０．５ｍｍ、とすることが適切である。
【００３２】
図７，８は、くし歯厚さ寸法の平均値Ｔaveを０．１ｍｍに固定して、くし歯高さ寸法Ｈおよびくし歯間の幅寸法Ｗを変化させた際の実験結果であり、リブ３４の各寸法を等高線により、それぞれ示したグラフである。ここで、等高線に示されている値の単位は、μｍである。
【００３３】
図７の等高線は、リブ高さ寸法ｈを示しており、この実験結果によれば、くし歯間の幅寸法Ｗおよびくし歯高さ寸法Ｈがリブ高さ寸法ｈと比例関係にある。
ただし、くし歯高さ寸法Ｈが０．１ｍｍ以下である場合には、セラミックペーストの性状や加工条件等の他の条件をいかなる条件に設定しても、リブ高さ寸法ｈが最低限必要な大きさ（１００μｍ）に満たなくなる。
また、くし歯高さ寸法Ｈが１．０ｍｍ以上では、リブ高さ寸法ｈが大きくなるが、ペースト膜３２の膜厚を一定（０．５ｍｍ）として、くし歯高さ寸法Ｈを１．０ｍｍ以上に大きくすると、ペースト膜３２の膜厚よりもくし歯高さ寸法Ｈが大きくなる。このため、リブ状物３３を形成する際に、くし歯２３間に流れ込むペーストの量が時間と共に変化することになり、結果として、リブ高さ寸法ｈにばらつきが生じる。
【００３４】
これとは逆に、くし歯高さ寸法Ｈを１．０ｍｍ以上として、ペースト膜３２の膜厚をくし歯高さ寸法Ｈよりも大きくした場合には、ペースト膜３２を形成するセラミックペーストのうち、くし歯２３により掃きとられるセラミックペーストの量が多くなり、セラミックペーストの歩溜まりが減少する。
したがって、くし歯高さ寸法Ｈは、０．１ｍｍ＜Ｈ＜１．０ｍｍ、とすることが適切である。
【００３５】
図８の等高線は、リブ底部幅寸法ｗ２を示しており、この実験結果によれば、くし歯間の幅寸法Ｗと、リブ底部幅寸法ｗ２とは比例関係にあり、また、くし歯高さ寸法Ｈの大小に関わらず、リブ底部幅寸法ｗ２は、ほとんど変化しない。
ただし、くし歯間の幅寸法Ｗが０．０３ｍｍ以下である場合には、ブレード２１を製造する際に、くし歯２３を形成することが困難となる。また、くし歯間の幅寸法Ｗが０．４ｍｍ以上である場合には、セラミックペーストの性状や加工条件等の他の条件をいかなる条件に設定しても、リブ底部幅寸法ｗ２が目的とするリブの底部幅寸法（２００μｍ）よりも大きくなる。
したがって、くし歯間の幅寸法Ｗは、０．０３ｍｍ＜Ｗ＜０．４ｍｍ、とすることが適切である。
なお、図６から図８に示した実験結果は、すべて同一ペーストおよび同一加工条件の下において実験を行った結果であるため、前述したようにペーストや加工条件を変化させた場合には、これら実験結果の値が変化することになる。
【００３６】
また、くし歯２３においては、図５に示すように、２点鎖線により示した水平線と他端面２３ｂとのなす角度θが３０°未満である場合には、くし歯２３の先端部２３ｃ近傍におけるくし歯の厚さ寸法が大きくなり、結果として、リブ高さ寸法ｈが小さくなると共に、リブ高さ寸法ｈがばらつく傾向が現れる。また、角度θが９０°以上である場合には、くし歯２３の基端部２３ｄの厚さ寸法よりも先端部２３ｃの厚さ寸法が大きくなるため、くし歯を形成する際に、くし歯が欠損する虞がある。さらに、ペーストを塑性変形させてリブ状物を形成する際には、ブレードのくし歯が変形する虞もある。したがって、角度θは、３０°≦θ＜９０°、とすることが好ましく、さらに、４０°＜θ＜８０°とすることがより好ましい。
【００３７】
このブレード２１においては、くし歯２３の厚さについて、基端部２３ｄの厚さ寸法が先端部２３ｃの厚さ寸法よりも大きいため、くし歯２３を形成する際に、くし歯２３が欠損することを防止することができると共に、リブ状物を形成する際に、くし歯の変形を抑制することができる。
さらに、このブレード２１は、超硬合金から形成されているため、リブ状物３３を形成する際に、くし歯２３の先端部２３ｃと基板３１の表面との間に発生する摩擦によるくし歯２３の摩耗を低減することができる。したがって、多数の基板に対して、ブレードを交換することなく、リブ状物３３を精度よく形成することが可能となる。
【００３８】
また、このブレード２１により、リブ状物３３が基板３１の表面に形成されることになるため、このリブ状物３３を乾燥・焼成したリブ３４の高さ寸法を大きく、かつ、底部における幅寸法を小さくすることができる。
さらに、上記のリブ３４を備えた基板３１をＰＤＰに設けることにより、隣り合うリブ３４間の領域が広くなるため、表示光を発光するための放電空間の大きさを広くすることができ、ＰＤＰの適正な輝度や放電電圧を確保することができる。
【００３９】
なお、上記の実施の形態においては、ブレード２１を超硬合金により形成するとしたが、少なくともくし歯２３が超硬合金により形成されていればよい。
また、くし歯２３の材質は、超硬合金に限ることはなく、例えば、超硬合金以外のサーメットや、高速度工具鋼、アルミナ、ムライト、ジルコニア、窒素硅素、窒化アルミニウムとしてもよく、くし歯２３の摩耗を低減することが可能な高硬度材料であればよい。
また、リブ状物３３を形成する際には、一端面２３ａをブレード２１の相対的な移動方向の前方側に形成するとしたが、傾斜する他端面２３ｂをブレード２１の相対的な移動方向の前方側に形成するとしてもよい。
【００４０】
さらに、くし歯２３は、その一端面２３ａを鉛直に形成し、その他端面２３ｂを、くし歯２３の厚さ寸法が先端部２３ｃから基端部２３ｄに向けて漸次増大するように、傾斜させて形成したものとしたが、これに限ることはなく、くし歯２３の厚さ寸法について、先端部２３ｃの寸法が基端部２３ｄの寸法よりも小さいくし歯２３であればよい。
すなわち、例えば、図９（ａ）に示すように、一端面２３ａと他端面２３ｂとが同様の傾斜を有するとしてもよいし、図９（ｂ）に示すように、一端面２３ａと他端面２３ｂとの間で傾斜の大きさが異なっていてもよい。このように、一端面２３ａおよび他端面２３ｂの両面が傾斜している場合には、各々の傾斜角度θ1，θ2として、３０°≦θ1＋θ2−９０°＜９０°、すなわち、１２０°≦θ1＋θ2＜１８０°、の範囲であり得る。
【００４１】
また、図９（ｃ）に示すように、一端面２３ａの一部にくし歯２３の厚さ寸法が変化する傾斜を形成するとしてもよいし、図９（ｄ）に示すように、他端面２３ｂを曲面に形成するとしてもよい。
くし歯２３が図９に示すような形状である場合には、くし歯厚さ寸法の平均値Ｔaveは、くし歯間の幅寸法Ｗの方向に直交するくし歯２３の断面積をくし歯の高さ寸法Ｈにより除した値を表すことになる。
【００４２】
【発明の効果】
以上説明したように、請求項１に係る発明によれば、くし歯の先端部側よりも基端部側のくし歯の厚さ寸法を大きくすることにより、くし歯を形成する際に、くし歯の欠損を防ぐことができると共に、リブ状物を形成する際に、くし歯の変形を抑制することができる。
また、くし歯の厚さ寸法の平均値Ｔaveを、０．００５ｍｍ＜Ｔave＜０．５ｍｍ、としているため、リブの高さ寸法のばらつきを防ぐと共に、リブの高さ寸法を大きくすることが可能となる。
【００４３】
また、くし歯の先端部から基端部までのＨの全長に亘って、くし歯の厚さ寸法を直線的に漸次増大する傾斜面としたので、くし歯の先端部のみに傾斜面を設けるよりも、リブの高さ寸法ｈを大きくすることができる。
【００４４】
また、リブ状物の形成用ブレードにおいて、３０°≦θ＜９０、とすることにより、角度θが９０°以上の場合に、くし歯の厚さについて、基端部寸法が先端部寸法よりも小さくなり、結果として、ブレード本体にくし歯を形成する際に欠損する不具合が生じるが、かかる不具合を防止することが可能となる。更に、ペーストを塑性変形させてリブ状物を形成する際に、ブレードのくし歯が変形する不具合も防止することが可能となる。
また、角度θが３０°未満である場合に、くし歯の先端部近傍における厚さ寸法が厚くなる結果、リブの高さ寸法が小さくなると共に、リブの高さ寸法にばらつきが発生する傾向が生じるが、かかる傾向を防止できる。
【００４５】
また、請求項２に係る発明によれば、くし歯間の幅寸法Ｗを、０．０３ｍｍ＜Ｗ＜０．４ｍｍ、としているため、リブの底部幅寸法を小さく抑えることが可能となる。
【００４６】
また、請求項３に係る発明によれば、くし歯の高さ寸法Ｈを、０．１ｍｍ＜Ｈ＜１．０ｍｍ、としているため、リブの高さ寸法のばらつきを抑えると共に、リブの高さ寸法を大きくすることが可能となる。
【００４７】
また、請求項４に係る発明によれば、くし歯が超硬合金等のサーメット、高速度工具鋼、アルミナ、ムライト、ジルコニア、窒素硅素、窒化アルミニウム等の高硬度材料からなるため、多数の基板に対してブレードを交換することなく、リブ状物を精度よく形成することが可能となる。
【００４８】
また、請求項５に係る発明によれば、上述したリブ状物の形成ブレードによりリブ状物を基板表面に形成し、これを乾燥・焼成するので、リブの高さ寸法を大きく、かつ、底部における幅寸法を小さくすることができる。
【００４９】
また、請求項６に係る発明によれば、ＰＤＰに高さ寸法が大きく、かつ、底部における幅寸法が小さいリブが設けられることになるため、リブ間の領域を広くすることができる。したがって、表示光を発光するための放電空間の大きさを広くすることができ、ＰＤＰの適正な輝度や放電電圧を確保することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施の形態に係るリブ状物の形成用ブレードを示す斜視図である。
【図２】図１のリブ状物の形成用ブレードにより、リブ状物を形成する方法を示す斜視図である。
【図３】図２のＡ−Ａ矢視断面図である。
【図４】図１のリブ状物の形成用ブレードを示す正面図である。
【図５】図４のＢ−Ｂ矢視断面図である。
【図６】くし歯の厚さ寸法の平均値Ｔaveと、リブの高さ寸法ｈとの関係を示すグラフである。
【図７】くし歯間の幅寸法Ｗと、くし歯の高さ寸法Ｈとの関係によるリブ高さ寸法ｈの等高線を示すグラフである。
【図８】くし歯間の幅寸法Ｗと、くし歯の高さ寸法Ｈとの関係により形成されるリブの底部幅寸法ｗ２の等高線を示すグラフである。
【図９】他の実施の形態における、リブ状物の形成用ブレードの断面図である。
【図１０】従来のリブの形成方法を工程順に示す断面図である。
【図１１】従来のリブの形成方法を工程順に示す断面図である。
【符号の説明】
２１  リブ状物の形成用ブレード
２２  ブレード本体
２２ａ  底面
２３  くし歯
２３ａ  一端面
２３ｂ  他端面
２３ｃ  先端部
２３ｄ  基端部
３１  基板
３２  ペースト膜
３３  リブ状物
【図１】
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【図２】
0003596530.tif 000003
【図３】
0003596530.tif 000004
【図４】
0003596530.tif 000005
【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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