(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
処理液が流通する配管に介在する基板処理装置のフィルタであって、
内部に連通した第１流通路と、第２流通路と、第３流通路とを有する容器と、
パーティクル除去作用を有する筒状のパーティクル除去部材と、
気室と液室とを有し、前記気室から前記液室または前記液室から前記気室へ気体のみを透過する気体透過作用を有し、前記パーティクル除去部材の外径よりも大きな内径を有する筒状の気体透過部材とを備え、
前記パーティクル除去部材の中空部分が前記第１流通路に連通し、前記パーティクル除去部材を前記容器内に配設して、前記パーティクル除去部材のうち前記第１流通路の反対側の中空部分を閉塞するとともに、前記パーティクル除去部材を前記気体透過部材の中空部分に収容して横断面同心円状に配置し、かつ、前記第２流通路に前記気室が連通し、かつ、前記気体透過部材のうち前記第１流通路の反対側の中空部分を閉塞して前記容器内に前記気体透過部材を配設し、前記第１流通路と前記第３流通路とを介して前記配管に取り付けたことを特徴とする基板処理装置のフィルタ。
【請求項２】
請求項１に記載の基板処理装置のフィルタであって、前記第２流通路に減圧手段を接続したことを特徴とする基板処理装置のフィルタ。
【請求項３】
請求項１に記載の基板処理装置のフィルタであって、前記第２流通路に気体供給手段を接続したことを特徴とする基板処理装置のフィルタ。
【請求項４】
処理液が流通する配管に介在する基板処理装置のフィルタであって、
内部に連通した第１流通路と、第２流通路と、第３流通路とを有する容器と、
気室と液室とを有し、前記気室から前記液室または前記液室から前記気室へ気体のみを透過する気体透過作用を有する筒状の気体透過部材と、
パーティクル除去作用を有し、前記気体透過部材の外径よりも大きな内径を有する筒状のパーティクル除去部材とを備え、
前記気体透過部材の中空部分が前記第１流通路に連通し、かつ、前記第２流通路に前記気室が連通し、かつ、前記気体透過部材を前記容器内に配設して、前記気体透過部材のうち前記第１流通路の反対側の中空部分を閉塞するとともに、前記気体透過部材を前記パーティクル除去部材の中空部分に収容して横断面同心円状に配置し、かつ、前記パーティクル除去部材のうち前記第１流通路の反対側の中空部分を閉塞して前記容器内に前記パーティクル除去部材を配設し、前記第１流通路と前記第３流通路とを介して前記配管に取り付けたことを特徴とする基板処理装置のフィルタ。
【請求項５】
請求項３に記載の基板処理装置のフィルタであって、前記第２流通路に減圧手段を接続したことを特徴とする基板処理装置のフィルタ。
【請求項６】
請求項３に記載の基板処理装置のフィルタであって、前記第２流通路に気体供給手段を接続したことを特徴とする基板処理装置のフィルタ。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体ウエハ、フォトマスク用のガラス基板、液晶表示装置用のガラス基板、光ディスク用の基板など（以下、単に基板と称する）に対して、フォトレジスト液、ポリイミド樹脂，ＳＯＧ  （Ｓｐｉｎ  Ｏｎ  Ｇｌａｓｓ，シリカ系被膜形成材とも呼ばれる）液，現像液，洗浄液，純水などの処理液を供給して所定の処理を施す基板処理装置に係り、特に、処理液が流通する配管に介在する基板処理装置のフィルタを構成する技術に関する。
【０００２】
【従来の技術】
基板処理装置としては、フォトレジスト液を基板表面に塗布処理する基板塗布装置や、基板表面に被着された露光済みの感光性被膜に現像液を供給して現像処理を施す基板現像装置や、基板に純水などの処理液を供給して基板を洗浄する基板洗浄装置などが挙げられる。
【０００３】
これらの装置では、処理液を貯留している処理液タンクから処理液供給ノズルまで配管を介して処理液を圧送し、処理液供給ノズルから基板の表面に処理液を供給するようになっている。当然のことながら、基板に供給される処理液にパーティクルが含まれていると基板に対して悪影響を及ぼすので、通常、それを除去するために配管にフィルタを介在させている。つまり、パーティクル除去作用を有するパーティクル除去膜を内蔵したフィルタによって処理液中のパーティクルを除去し、処理液を清浄にして供給するようになっている。
【０００４】
しかしながら、処理液には上記のパーティクルの他に、処理液を圧送する際のエア噛みに起因する気泡や、最初から溶け込んでいる非常に粒径の小さな気泡が存在している場合がある。このように気泡が処理液に溶存している場合には、気泡が基板表面に付着して処理に悪影響を及ぼすことがある。
例えば、基板塗布装置では、基板の表面に供給されたフォトレジスト液に気泡が含まれていると、その塗布部位の膜厚が極端に薄くなるか、あるいは全くフォトレジスト液のない部位（いわゆるピンホ─ル）が生じて塗布不良となる。また、基板現像装置では、気泡が付着した部位に現像液が触れないので、その部分に現像不良が生じる。特に、最近の半導体プロセスは極めて微細化が進んでいるので、上記のように非常に粒径が小さな気泡であっても、その影響は非常に大きなものとなる。
【０００５】
そこで、上記の問題を回避するため上記のフィルタとは別に、気体のみを透過する気体透過作用を有する気体透過膜（気体交換膜，気体浸透膜，脱気膜とも呼ばれる）を内蔵した脱気モジュールを配管に介在させて、処理液中の気泡を除去（脱気）するようにしている。具体的には、気体透過膜の気室に真空ポンプなどを接続して一定の圧力に減圧しておいて、処理液を気体透過膜の液室に流通させる。これにより処理液に溶存している気泡を脱気することができるので、上記のような気泡に起因する不都合を回避することができる。
【０００６】
また、基板洗浄装置のように純水を処理液として使用する装置では、上述したようなフィルタを用いて純水中のパーティクル除去を行っているが、純水は比抵抗値が極めて大きく帯電し易いので、例えば、純水を基板に供給した際に静電破壊によって、基板上に形成された回路パターンなどにダメージを与えることがある。
【０００７】
そこで、このような不具合が生じないように、純水の比抵抗値を下げて帯電を防止して供給することが行われる。具体的には、純水に誘電率の高い気体、例えば、二酸化炭素（ＣＯ２  ）を純水に溶存させることによって、その比抵抗値を低下させる。このように高誘電率の気体を純水に溶存させるためには、上述した気体透過膜を内蔵したモジュール（以下、その機能から溶存モジュールと称することにする）を利用する。つまり、気体透過膜の気室に二酸化炭素を供給しつつ、気体透過膜の液室に純水を流通させることによって純水に二酸化炭素を溶存させる。これにより純水の帯電を防止することができるので、静電破壊に起因する上記の不都合を回避することができる。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、このような構成を有する従来例の場合には、次のような問題がある。
まず、既に装置メーカーから納入して使用している装置に、上述したような脱気モジュールまたは溶存モジュールを追加して取り付ける場合には、当然のことながらそのモジュール分だけ装置内に余分なスペースを必要とするが、装置内には余分なスペースがほとんどないので、追加取付け作業が非常に困難であるか、あるいは取り付けることができないといった問題がある。また、もし仮に脱気モジュールまたは溶存モジュールを取り付けることができたとしても、配管付近に余分なスペースがあるとは限らないので、配管の取り回しが複雑になったり、また、同一機種の装置であっても他の装置とは配管経路が異なるものになって互換性が無くなるといった問題が生じる。
【０００９】
また、上述したような装置を新規に設計する場合には、フィルタの他に脱気モジュールまたは溶存モジュールを取り付けるので、装置内に余分なスペースを確保する必要があるとともに、その分だけ装置の製造コストが高くなるという問題がある。
【００１０】
本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであって、パーティクル除去部材と気体透過部材とを一体化することによって、コンパクト化を図ることができるとともに、極めて容易に配管へ取り付けることができ、さらには装置の互換性を保つことができる基板処理装置のフィルタを提供することを目的とする。
【００１１】
【課題を解決するための手段】
本発明は、このような目的を達成するために、次のような構成をとる。
すなわち、請求項１に記載の基板処理装置のフィルタは、処理液が流通する配管に介在する基板処理装置のフィルタであって、内部に連通した第１流通路と、第２流通路と、第３流通路とを有する容器と、パーティクル除去作用を有する筒状のパーティクル除去部材と、気室と液室とを有し、前記気室から前記液室または前記液室から前記気室へ気体のみを透過する気体透過作用を有し、前記パーティクル除去部材の外径よりも大きな内径を有する筒状の気体透過部材とを備え、前記パーティクル除去部材の中空部分が前記第１流通路に連通し、前記パーティクル除去部材を前記容器内に配設して、前記パーティクル除去部材のうち前記第１流通路の反対側の中空部分を閉塞するとともに、前記パーティクル除去部材を前記気体透過部材の中空部分に収容して横断面同心円状に、かつ、前記第２流通路に前記気室が連通し、かつ、前記気体透過部材のうち前記第１流通路の反対側の中空部分を閉塞して前記容器内に前記気体透過部材を配設し、前記第１流通路と前記第３流通路とを介して前記配管に取り付けたことを特徴とするものである。
【００１２】
また、請求項２に記載の基板処理装置のフィルタは、請求項１に記載の基板処理装置のフィルタであって、前記第２流通路に減圧手段を接続したことを特徴とするものである。
【００１３】
また、請求項３に記載の基板処理装置のフィルタは、請求項１に記載の基板処理装置のフィルタであって、前記第２流通路に気体供給手段を接続したことを特徴とするものである。
【００１４】
また、請求項４に記載の基板処理装置のフィルタは、処理液が流通する配管に介在する基板処理装置のフィルタであって、内部に連通した第１流通路と、第２流通路と、第３流通路とを有する容器と、気室と液室とを有し、前記気室から前記液室または前記液室から前記気室へ気体のみを透過する気体透過作用を有する筒状の気体透過部材と、パーティクル除去作用を有し、前記気体透過部材の外径よりも大きな内径を有する筒状のパーティクル除去部材とを備え、前記気体透過部材の中空部分が前記第１流通路に連通し、かつ、前記第２流通路に前記気室が連通し、かつ、前記気体透過部材を前記容器内に配設して、前記気体透過部材のうち前記第１流通路の反対側の中空部分を閉塞するとともに、前記気体透過部材を前記パーティクル除去部材の中空部分に収容して横断面同心円状となるように、かつ、前記パーティクル除去部材のうち前記第１流通路の反対側の中空部分を閉塞して前記容器内に前記パーティクル除去部材を配設し、前記第１流通路と前記第３流通路とを介して前記配管に取り付けたことを特徴とするものである。
【００１５】
また、請求項５に記載の基板処理装置のフィルタは、請求項３に記載の基板処理装置のフィルタであって、前記第２流通路に減圧手段を接続したことを特徴とするものである。
【００１６】
また、請求項６に記載の基板処理装置のフィルタは、請求項３に記載の基板処理装置のフィルタであって、前記第２流通路に気体供給手段を接続したことを特徴とするものである。
【００１７】
【作用】
請求項１に記載の作用は次のとおりである。
筒状のパーティクル除去部材はその中空部分が第１流通路に連通して容器内に配設され、その反対側の中空部分が閉塞されている。気体透過部材は、その中空部の内径がパーティクル除去部材の外径よりも大きい筒状に形成されているので、その中空部内にパーティクル除去部材を収納することができる。つまり、パーティクル除去部材と気体透過部材とを横断面同心円状に配置することができるので、それぞれの機能を有するモジュールを長手方向に直列的に配置するのに比較して大幅に長さを短縮することができる。パーティクル除去部材を中空部分に収容した気体透過部材は、その気室が第２流通路に連通し、かつ、第１流通路の反対側の中空部分を閉塞して容器内に配設される。したがって、第１流通路と第３流通路とを介して配管に容器を取り付けると、第１流通路からパーティクル除去部材の中空部分と、その外側の気体透過部材の液室と、第３流通路とを経て処理液の流通経路が形成される。例えば、容器の第３流通路が処理液の流れの上流側に、第１流通路が下流側に取り付けられた場合には、上記の流通経路を通る間に、まず気体透過部材の液室および気室を介して脱気あるいは気体の溶存が行われ、次いでパーティクルが除去される。
【００１８】
また、請求項２に記載の発明によれば、容器の第２流通路を介して減圧手段により気体透過部材の気室を減圧して処理液を脱気することができる。
【００１９】
また、請求項３に記載の発明によれば、容器の第２流通路を介して気体供給手段により気体透過部材の気室に気体を供給して処理液に気体を溶存させることができる。
【００２０】
また、請求項４に記載の発明の作用は次のとおりである。
筒状の気体透過部材はその中空部分が第１流通路に連通し、かつ、気室が第２流通路に連通し、かつ、第１流通路の反対側の中空部分が閉塞されて容器内に配設されている。パーティクル除去部材は、その中空部分の内径が気体透過部材の外径よりも大きい筒状に形成されているので、その中空部内に気体透過部材を収容することができる。つまり、気体透過部材とパーティクル除去部材とを横断面同心円状に配置することができるので、それらを長手方向に直列的に配置するのに比較して大幅に長さを短縮することができる。気体透過部材を収納したパーティクル除去部材は、第１流通路の反対側の中空部分を閉塞されて容器内に配設される。したがって、第１流通路と第３流通路とを介して配管に容器を取り付けると、第１流通路から気体透過部材の液室と、その外側のパーティクル除去部材と、第３流通路とを経て処理液の流通経路が形成される。例えば、容器の第１流通路が処理液の流れの上流側に、第３流通路が下流側に取り付けられた場合には、上記の流通経路を通る間に、まず気体透過部材の液室および気室を介して脱気あるいは気体の溶存が行われ、次いでパーティクルが除去される。
【００２１】
また、請求項５に記載の発明によれば、容器の第２流通路を介して減圧手段により気体透過部材の気室を減圧して処理液の脱気を行うことができる。
【００２２】
また、請求項６に記載の発明によれば、容器の第２流通路を介して気体供給手段により気体透過部材の気室に気体を供給して処理液に気体を溶存させることができる。
【００２３】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照して本発明の一実施例を説明する。
＜第１実施例＞
図１は、基板処理装置の一例である回転式基板現像装置の現像液供給系の概略構成を示す図である。なお、以下の実施例では、ガスの圧力によって現像液を圧送する構成で説明するが、ポンプなどにより圧送する構成であってもよい。
【００２４】
図中、符号１は、現像液を貯留する密閉容器である。この密閉容器１には、その上部から密閉容器１内の上部空間に所定圧力で窒素ガスを供給するための窒素供給配管３が配設されている。また、密閉容器１には、現像液が流通する配管５の一端側が、その底部付近にまで延びるように配設されている。
【００２５】
配管５の他端側には、現像液を基板Ｗに対して吐出するための吐出ノズル７が配設されている。この実施例装置では、基板Ｗの下面をスピンチャック９に吸着支持した状態で、鉛直軸周りに所定の回転数で回転しつつ吐出ノズル７から現像液を吐出して現像処理を施すようになっている。
【００２６】
密閉容器１から吐出ノズル７までの配管５には、密閉容器１側から順に、現像液に含まれるパーティクルを除去するパーティクル除去作用および現像液に溶存している気泡を脱気する気体透過作用を有するフィルタ１１と、配管５を流通する現像液の流量を確認するための流量計１３と、配管５に流通する現像液の流量を制御するためのエアー開閉弁１５とが配設されている。フィルタ１１には、後述する気体透過部材の気室に、減圧手段である真空ポンプ１７が連通接続されている。なお、この真空ポンプ１７に代えてクリーンルームに配備されている真空ユーティリティを接続するようにしてもよい。
【００２７】
図２を参照して、フィルタ１１について詳細に説明する。
このフィルタ１１は、円筒状の容器２０内に、筒状のパーティクル除去部材２１と、このパーティクル除去部材２１の外径よりも大きな内径を有する筒状の気体透過部材２２とを内蔵している。容器２０は、その上面の中央部付近に下向き凸形状の開口２０ａが形成されている。この開口２０ａは、その内周部にネジ部２０ｂが形成されているとともに、その下部にはＯリング２０ｃが配設されている。
【００２８】
パーティクル除去部材２１は、現像液に含まれているパーティクルを除去する作用を有するパーティクル除去膜によって筒状に構成されており、側面に多数の貫通孔２１ａを有する中空配管２１ｂがその中空部分に嵌め込まれている。パーティクル除去部材２１の下端部は、その中空部分を含めて閉塞部材２１ｃによって閉塞されている。その上端部は、容器２０の開口２０ａにほぼ一致する下向き凸形状に形成されるとともに、外周部にネジ部が形成された取付け部材２１ｄの下端部に固着されている。中空配管２１ｂは、その上端部が取付け部材２１ｄから突出するように配設されており、この上端部を第１流通路２１ｅと称することにする。パーティクル除去部材２１は、上述した中空配管２１ｂと、閉塞部材２１ｃと、取付け部材２１ｄとともに一体的に容器２０に取り付けられており、パーティクル除去作用が低下した場合にはこれらの部材とともに一体的に交換されるようになっている。これは、パーティクル除去部材２１が、後述する気体透過部材２２に比較して目詰まりしやすくその交換頻度が高いので、交換が容易にできるようにするためである。
【００２９】
容器２０の内面であって開口２０ａの周囲には、内部に開口した環状の凹部２０ｄが形成され、この凹部２０ｄの一部位には第２流通路２０ｅが容器２０の上部に向けて突出形成されている。また、容器２０の底部には、内部に連通する第３流通路２０ｆが突出形成されている。気体透過部材２２は、図３の模式図に示すように、例えば、ポリエチレン系樹脂からなる気体透過膜材によって形成された多数の細管２２ａを束ねるようにして形成されている。各細管２２ａは、気体を透過しても液体を透過しない透過孔２２ｂを多数有しており、細管２２ａの外部である液室２２Ｌから細管２２ａの内部である気室２２Ｇへ気泡を形成している気体のみを透過するようになっている。気体透過部材２２は、図４に示すように、その中空部に上述したパーティクル除去部材２１を収容して横断面同心円状になるように、かつ、その気室２２Ｇが第２流通路２０ｅに連通するように、凹部２０ｄに嵌め込まれている。また、第１流通路２１ｅの反対側の中空部分は閉塞部材２２ｃによって閉塞されているが、その下方に位置する第３流通路２０ｆを塞がないように少し離間して配設されている。
【００３０】
このように構成されたフィルタ１１は、その容器２０に形成されている第３流通路２０ｆが配管５の上流側、つまり密閉容器１側に、第１流通路２１ｅが配管５の下流側、つまり流量計１３側になるように図示しない管継手を介して取り付けられる。また、上述した真空ポンプ１７は、フィルタ１１の第２流通路２０ｅに連通接続されて気体浸透部材２２の気室２２Ｇを所定圧力に減圧するようになっている。したがって、このようにフィルタ１１を配管５に配設した場合には、図２中に実線矢印で示すように、第３流通路２０ｆから流入した現像液が気体透過部材２２の液室２２Ｌと、気体透過部材２２の中空部分に配設されたパーティクル除去部材２１と、中空配管２１ｂとを経て第１流通路２１ｅから流出するように流通経路が形成される。その結果、密閉容器１から配管５を介して吐出ノズル７より基板Ｗに対して吐出される現像液は、まず、溶存している気泡が気体透過部材２２によって除去され、次いで、パーティクル除去部材２１によってパーティクルが除去される。そして、気泡が除去され、かつ、清浄にされた現像液が吐出ノズル７を介して基板Ｗに対して吐出されるようになっている。
【００３１】
上述したようにパーティクル除去部材２１と気体透過部材２２とは、横断面同心円状で容器２０内に配設されているので、これらを長手方向に直列的に配置するのに比較して大幅に容器２０の長さを短くすることができる。例えば、従来からある既存の回転式基板現像装置において、パーティクル除去を行うだけでは現像不良が発生するような場合には、既にあるフィルタに加えてさらに気体透過作用を有する脱気モジュールを取り付ける必要がある。しかし、通常このような装置では、内部に余分な空間がないので、脱気モジュールを追加取付けすることは非常に困難を伴うかあるいは取り付けることが不可能である。しかしながら、上述したように構成されたフィルタ１１では、その長さが大幅に短くコンパクトにできるので、上述したような場合であっても極めて容易に取り付けることができる。さらに、従来の装置に脱気モジュールを取り付けることができたとしても、脱気モジュールを取り付けるスペースが配管５の近くにあるとは限らないので、配管５から取付け配管が複雑に入り組むことが多い。つまり、既存の装置に脱気モジュールを追加取付けすると、同一機種の装置であって脱気モジュールを取り付けていない装置と配管が異なったものになるので、同一機種の装置間において互換性が維持できなくなる。しかし、上記のパーティクル除去作用と気体透過作用とを有するフィルタ１１を取り付ける場合には、従来からあるパーティクル除去作用のみを有するフィルタと交換するだけで気体透過作用を付加することが可能であるので、そのような不都合が生じることを防止することができる。したがって、上述した現像不良の発生を抑制できるので、より好適に基板に対して現像処理を施すことができる。
【００３２】
また、新規に設計する装置に脱気モジュールを取り付ける場合には、パーティクル除去作用を有するフィルタに、これとは別体の脱気モジュールをさらに取り付けることになるので、装置の製造コストが高くなる。しかし、上記のフィルタ１１は、パーティクル除去部材２１と気体透過部材２２とを一体的に内蔵しているので、コスト的に有利である。
【００３３】
また、上述したような構成のフィルタ１１では、目詰まりしたパーティクル除去部材２１のみを容器２０から取り外して新たなパーティクル除去部材２１と容易に交換することができるので、メンテナンスも容易であって、パーティクル除去部材２１と気体透過部材２２とを内蔵した容器２０ごと交換する場合に比較してランニングコストをも低く抑えることができる。
【００３４】
なお、上記の説明においては、フィルタ１１の第３流通路２０ｆを配管５の上流側に取付け、第１流通路２１ｅを配管５の下流側に取り付けるようにしたが、その逆に取り付けてもよい。この場合には、図２中に点線矢印で示すように現像液の流通経路が形成されて、まず、パーティクル除去部材２１によりパーティクルが除去され、次いで気体透過部材２２によって現像液の脱気が行われる。このようにフィルタ１１を配管５に取り付けても気泡のない清浄な現像液を基板Ｗに供給することができる。
【００３５】
＜第２実施例＞
次に、図５および図６を参照して、フィルタ１１の別実施例について説明する。第１実施例では中心側にパーティクル除去部材２１を配置し、その外側に気体透過部材２２を配置したが、本実施例では、その逆に中心側に気体透過部材２２を配置し、その外側にパーティクル除去部材２１を配置している点において相違する。
【００３６】
筒状の気体透過部材２２は、その中空部分に、多数の貫通孔２１ａを有する中空配管２１ｂを挿通されている。この中空配管２１ｂは、容器２０の底部中心付近から底部から下方に突出して配設されており、その開口は第１流通路２１ｅに相当する。容器２０の底部内面には、中空配管２１ｂを中心にして同心円状に環状の凹部２０ｄが形成され、この一部位で連通した第２流通路２０ｅが下方に突出形成されている。気体透過部材２２の中空部分は、中空配管２１ｂによって第１流通路２１ｅに連通し、その気室２２Ｇは凹部２０ｄを通って第２流通路２０ｅに連通するように配設されている。さらに、気体透過部材２２の、第１流通路２１ｅの反対側は、その中空部分を含めて閉塞部材２２ｃによって閉塞されている。
【００３７】
中空部分の内径が上記気体透過部材２２の外径よりも大きく形成されている筒状のパーティクル除去部材２１は、上記気体透過部材２２をその中空部分に収容し、その一端側が容器２０の内面底部に当接するように、かつ、第１流通路２１ｅの反対側の中空部分が閉塞部材２１ｃによって閉塞された状態で容器２０内に配設されている。つまり、気体透過部材２２とパーティクル除去部材２１とは、図６に示すように、横断面同心円状に配設されている。また、両閉塞部材２１ｃ，２２ｃは、容器２０の上部に形成されている第３流通路２０ｆを塞ぐことのないように容器２０の内面上部より下方に離間した状態で配設されている。
【００３８】
このように構成されたフィルタ１１は、その容器２０に形成されている第１流通路２１ｅが配管５の上流側、つまり密閉容器１側に、第３流通路２０ｆが配管５の下流側、つまり流量計１３側になるように取り付けられる。また、真空ポンプ１７は、フィルタ１１の第２流通路２０ｅに連通接続される。したがって、このようにフィルタ１１を配管５に配設した場合には、図５中に実線矢印で示すように、第１流通路２１ｅから流入した現像液が、中空配管２１ｂと、気体透過部材２２の液室２２Ｌと、気体透過部材２２の外側に配設されたパーティクル除去部材２１とを経て第３流通路２０ｆから流出するように流通経路が形成される。その結果、上記の第１実施例と同様に、まず、脱気された後にパーティクルが除去される。
【００３９】
上述したように第１実施例と同様に、気体透過部材２２とパーティクル除去部材２１とは、横断面同心円状で容器２０内に配設されているので、これらを長手方向に直列的に配置するのに比較して大幅に容器２０の長さを短くすることができる。したがって、上記の第１実施例と同様の効果を得ることができる。
【００４０】
なお、上記の説明においては、フィルタ１１の第１流通路２１ｅを配管５の上流側に取付け、第３流通路２０ｆを配管５の下流側に取り付けるようにしたが、その逆に取り付けてもよい。この場合には、図５中に点線矢印で示すように現像液の流通経路が形成されて、まず、パーティクルが除去され、次いで脱気が行われる。このようにフィルタ１１を配管５に取り付けてもよいことは、上述した第１実施例と同様である。
【００４１】
＜第３実施例＞
図７を参照し、第３実施例について説明する。なお、本実施例は、上記の第１実施例の変形例であるので、その詳細な説明については省略する。
【００４２】
第１実施例と異なる点は、主として容器２０に形成された第３流通路２０ｆの位置である。上記第１実施例では、容器２０の底部中心付近に第３流通路２０ｆが形成されていたが、本実施例では、底部の端に形成されている。さらに、第１実施例におけるフィルタ１１は、気体透過部材２２の中空部分を閉塞する閉塞部材２２ｃが、第３流通路２０ｆを塞がないように容器２０の底面から離間して配設されていたが、本実施例では容器２０の内面底部に当接した状態で配設されている。したがって、フィルタ１１の太さは多少太くなるが、その一方でフィルタ１１の容器２０の長手方向の長さをさらに短縮することができる。したがって、既存の装置に取り付けられているフィルタが、その長手方向に短いものであっても容易にこのフィルタ１１と置換することができる。
【００４３】
なお、図７中において実線矢印で示す流通経路は、第３流通路２０ｆを配管５の上流側に取付け、第１流通路２１ｅを配管５の下流側に取り付けた場合のものであり、点線矢印で示す流通経路は、その逆に取り付けた場合のものである。
【００４４】
また、上記各実施例では、回転式基板現像装置を例に採って、各フィルタ１１の第２流通路２０ｅに真空ポンプ１７を連通接続した構成で説明したが、例えば、基板洗浄装置などの純水を基板Ｗに供給する装置では、減圧手段である真空ポンプ１７に代えて次のような気体供給手段を連通接続するようにすればよい。
【００４５】
すなわち、図１中に点線矢印で示すように、例えば、液化した二酸化炭素が充填されたガスボンベ３０を、その液化二酸化炭素を気化させるガス発生器３２を介して第２流通路２０ｅに連通接続する。これにより気体透過部材２２の気室２２Ｇに二酸化炭素を供給することができ、液室２２Ｌを流通する純水に二酸化炭素を溶存させることができる。したがって、純水の比抵抗を下げて基板Ｗに供給することができるので、静電破壊に起因する回路パターンの破壊を防止することができる。なお、純水の比抵抗を低下させるために二酸化炭素を溶存させたが、誘電率が高い気体であれば他のものを溶存させるようにしてもよい。
【００４６】
なお、パーティクル除去部材２１と気体透過部材２２とは、横断面同心円状に配置されていればよく、上述したように完全に同心円になっている必要はない。つまり、上記両部材２１，２２を、多少偏心した状態で配置するようにしてもよい。
【００４７】
また、上記の各実施例では、パーティクル除去部材２１および気体透過部材２２をそれぞれ横断面円形の筒状に形成しているが、一方の部材をその中空部分に収容して両部材を横断面同心円状に配置できる形状であれば、円筒状に限らず種々の横断面形状の部材を採用することができる。
【００４８】
【発明の効果】
以上の説明から明らかなように、請求項１に記載の発明によれば、筒状のパーティクル除去部材を気体透過部材の中空部分に収容して横断面同心円状に配置したので、これらを直列的に配置した場合に比較して、大幅に長さを短くすることができる。したがって、フィルタをコンパクトにすることができる。また、１つの容器でパーティクル除去作用および気体透過作用を有するので、従来のパーティクル除去作用を有するフィルタと交換するだけで、パーティクル除去作用に加えて脱気や溶存といった気体透過作用を付加することができる。したがって、既存の装置に極めて容易に取り付けることができるとともに、配管の取り回しが最小限で済むので、装置の互換性を保つことができる。また、新規の装置に組み込む場合には、上記両部材を一体化しているので、コスト的に有利である。
【００４９】
また、請求項２に記載の発明によれば、パーティクルの除去に加えて処理液の脱気を行うことができる。したがって、処理液の気泡に起因する悪影響を防止することができる。
【００５０】
また、請求項３に記載の発明によれば、パーティクルの除去に加えて処理液に気体を溶存させることができる。したがって、純水などの処理液の帯電を防止することができて、静電破壊に起因する不都合を防止することができる。
【００５１】
また、請求項４に記載の発明によれば、筒状の気体透過部材をパーティクル除去部材の中空部分に収容して横断面同心円状に配置したので、これらを直列的に配置した場合に比較して、大幅に長さを短くすることができる。したがって、請求項１に記載の発明と同様の効果を得ることができる。
【００５２】
また、請求項５に記載の発明によれば、パーティクルの除去に加えて処理液の脱気を容易に行うことができる。したがって、処理液の気泡に起因する悪影響を防止することができる。
【００５３】
また、請求項６に記載の発明によれば、パーティクルの除去に加えて処理液に気体を容易に溶存させることができる。したがって、純水などの処理液の帯電を防止することができて、静電破壊に起因する不都合を防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】実施例に係る回転式基板現像装置の現像液供給系の概略構成を示す図である。
【図２】第１実施例に係るフィルタの概略構成を示す縦断面図である。
【図３】気体透過部材の説明に供する図である。
【図４】図２のＡ−Ａ矢視断面図である。
【図５】第２実施例に係るフィルタの概略構成を示す縦断面図である。
【図６】図５のＢ−Ｂ矢視断面図である。
【図７】第３実施例に係るフィルタの概略構成を示す縦断面図である。
【符号の説明】
Ｗ  …  基板
１  …  密閉容器
５  …  配管
７  …  吐出ノズル
１１  …  フィルタ
１３  …  流量計
１５  …  エアー開閉弁
１７  …  真空ポンプ（減圧手段）
２０  …  容器
２０ｅ  …  第２流通路
２０ｆ  …  第３流通路
２１  …  パーティクル除去部材
２１ｅ  …  第１流通路
２２  …  気体透過部材
２２Ｇ  …  気室
２２Ｌ  …  液室
３０  …  ガスボンベ（気体供給手段）
３２  …  ガス発生器（気体供給手段）
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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