(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
圧電的に駆動される波動理論によるマイクロアトマイザーにおいて、
半導体基板（１０）に形成されたダイヤフラム（１２，３６）と、
前記ダイヤフラム（１２，３６）を振動させるためにダイヤフラム（１２，３６）の面に配置された圧電性駆動体（５２）と、
前記半導体基板（１０）に形成され、流入口の端から前記圧電性駆動体（５２）の反対側に位置するダイヤフラム面までアトマイズされるべき液体を供給するために使用される搬送手段（１４，３４）と、を備え、
前記ダイヤフラム（１２，３６）を振動させることで、ダイヤフラムの面に供給される液体は波動理論を基にアトマイズされ、前記ダイヤフラムとは向かい合って配置されている流出口（３０）を通して排出され、前記搬送手段（１４，３４）は基板面に設けられ、該基板を貫通しない少なくとも一つの溝部によって形成され、該溝部から供給される液体がアトマイズされる。
【請求項２】
請求項１記載のマイクロアトマイザーにおいて、ダイヤフラム（１２，３６）は半導体基板（１０）の第１主面に位置する凹部に形成され、搬送手段（１４，３４）は該第１主面上に凹部として形成されている。
【請求項３】
請求項１又は請求項２記載のマイクロアトマイザーにおいて、半導体基板（１０）の第１主面は、さらに、搬送手段（１４，３４）の流入口の端と流体的に接続されている流体流入口である凹部（１６）を形成している。
【請求項４】
請求項１、請求項２又は請求項３記載のマイクロアトマイザーにおいて、圧電性駆動体（５２）の反対側に位置するダイヤフラム面を一様に湿らせるために搬送手段（１４，３４）が設けられている。
【請求項５】
請求項１、請求項２、請求項３又は請求項４記載のマイクロアトマイザーにおいて、アトマイズされるべき液体が異なった方向からダイヤフラム（１２）へ供給されるように搬送手段（１４）が設けられている。
【請求項６】
請求項５記載のマイクロアトマイザーにおいて、ダイヤフラム（１２）は矩形状をなし、前記搬送手段（１４）はアトマイズされるべき液体を四方からダイヤフラム（１２）へ供給するために機能する搬送区画（１４ａ，１４ｂ，１４ｃ，１４ｄ）を備えている。
【請求項７】
請求項１、請求項２、請求項３、請求項４、請求項５又は請求項６記載のマイクロアトマイザーにおいて、アトマイゼーションによって作られる液滴の直径が１〜５μｍになるように、圧電性駆動体（５２）がダイヤフラム（１２，３６）を２〜２．５ＭＨｚの周波数で振動させる。
【請求項８】
請求項１、請求項２、請求項３、請求項４、請求項５、請求項６又は請求項７記載のマイクロアトマイザーにおいて、搬送手段（１４，３４）は流れを規制する絞り弁として取り付けられている。
【請求項９】
請求項１、請求項２、請求項３、請求項４、請求項５、請求項６、請求項７又は請求項８記載のマイクロアトマイザーにおいて、半導体基板はホルダー（２０）に以下の態様で取り付けられている、
流入口の端が流体供給導管（２９）と流体的に接続されている、
前記搬送手段と流体供給導管（２９）との間、及び前記搬送手段と圧電性駆動体（５２）の反対側に位置するダイヤフラム面との間に存在する流体的な接続部を除いては、搬送手段（１４，３４）がホルダー（２０）によって密閉されている、
前記ホルダー（２０）の開口部（３０）は、アトマイズされた液体を排出するために使用され、圧電性駆動体（５２）の反対側に位置するダイヤフラム面の領域に設けられている。
【請求項１０】
請求項９記載のマイクロアトマイザーにおいて、開口部（３０）にはグリッドが設けられている。
【請求項１１】
請求項９又は請求項１０記載のマイクロアトマイザーにおいて、流体供給導管は、ホルダー（２０）に、アトマイズされた液体を排出する方向とは反対側の方向に配置されている。
【請求項１２】
請求項９、請求項１０又は請求項１１記載のマイクロアトマイザーにおいて、ホルダー（２０）に流体流入口として機能する凹部（３２）が設けられている。
【請求項１３】
ダイヤフラム面へ供給される液体を波動理論を基にアトマイズするために使用される、圧電的に駆動されて波動理論に基づくマイクロアトマイザーの製造方法において、以下のステップを含む、
ａ）次のサブステップで駆動部品を形成する、
ａ１）圧電性駆動体（５２）を半導体基板（１０，４０）の主面に形成し、
ａ２）基板を貫通しない溝によって形成されている少なくとも一つの搬送手段（１４，３４）が流入口の端からダイヤフラム（１２，３６）まで延びていて、圧電性駆動体（５２）を配置したダイヤフラム（１２）を構成するために、圧電性駆動体（５２）の反対側に位置する半導体基板の主面をパターン化し、
ｂ）圧電性駆動体の反対側に位置するダイヤフラム面がホルダー（２０）に設けた開口部と対向するように、駆動部品をホルダーに取り付ける。
【請求項１４】
請求項１３記載の製造方法において、ステップａ２では、流体流入口（１６）は、圧電性駆動体（５２）の反対側に位置する半導体基板（１０，４０）の面にパターン化され、前記搬送手段の流入口の端で搬送手段（１４，３４）と流体的に接続される。
【請求項１５】
請求項１３又は請求項１４記載の製造方法において、ダイヤフラム（１２）はＫＯＨエッチングによって形成され、搬送手段はダイヤフラム（１２）を構成している凹部の傾斜した側壁（１８）まで延びるように形成され、前記側壁（１８）は前記ＫＯＨエッチングによって形成される。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、圧電的に作動するマイクロアトマイザー及びその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術と課題】
液状媒体をアトマイズする要素、即ち、アトマイザーは、以下のような幅広い技術分野で利用されている。例えば、霧状のヘアスプレーや香水を扱うコスメティック産業や薬剤スプレーなどを扱う医学分野、また、ニスや接着剤などをアトマイズする種々のコーティング技術に関連していえば、液体反応物をアトマイズする化学分野やルームエアー加湿器などの家庭内用工学技術分野などがある。
【０００３】
現在使用されているアトマイザーの多くは、液体が適当な形とサイズのバルブを通じて機械的に発生させられる過圧により押し上げられるという機械によるアトマイゼーションで動いている。このことは媒体物、つまりアトマイズされるべき液体が小滴の形で放出され、ほとんどの場合統計的に分配され、薄霧を形成するという効果を有する。必要な過圧は例えば香水のアトマイザーでは手動によりポンプで汲み出す過程で作られ、あるいは、ヘアスプレーでは例えば高圧ガスなど過剰な圧力を蓄え、それを使用することにより作られる。
【０００４】
上記の機械的なシステムに加えて、電気的に駆動されるネブライザーもまた存在する。この電気的に駆動されるネブライザーは電気的に振動させられる圧電性基板に基づいている。この工程が進むにつれて、圧電性基板の表面にある液体が、波動によってアトマイズされる。
【０００５】
Ｒ．パネヴァ他によって著された「マイクロメカニック超音波液体ネブライザー」では、７６５〜７６７ページのセンサーとアクチュエーターＡ６２（１９９７）の箇所で、圧電性アトマイザーにおいて薄いシリコンのダイヤフラムが圧電性Ｚｎ０層によって振動させられていると述べられている。つまりこの工程が進むにつれて、液体が薄いシリコンのダイヤフラムによってアトマイズされる。この刊行物で述べられているアトマイザーは、振動数が８０〜８６．５ｋＨｚの時に稼動し、きわめて直径のサイズが異なる液滴を作る。
【０００６】
現存する圧電性機械のシステム全ては、液滴の直径が広範囲にわたって種々に変動するため、その限りにおいて１つの大きな不具合を有している。特に応用医学においてこの不具合は深刻な問題である。液滴の直径が約１〜５μｍの場合、液滴は肺によって吸い取ることしかできない。このことに関しては全ての既存のシステムがある程度しか成し遂げていないため、その結果商業的に入手可能なアトマイザーが多くて１０〜１５％までしか有効性を示していないのである。つまり、既存のアトマイザーが使用される場合、その患者にとって必要な薬剤の量がその患者の肺に届くように、その薬剤の１０倍もの容量のものがアトマイズされなければならない。加えて、個々の投薬する工程においてアトマイズされる容量も、既存のアトマイザーによって広範囲にわたり種々変化する。
【０００７】
既存の機械的なアトマイザーは、全て、非常に詰まりやすいノズルを使用しなければならないというさらにもう一つの不具合を有している。これは機械的なシステムが常に使い捨て製品であるということによる。さらに、ノズルの使用は誤作動の危険性を高め、特に医学的見地からすると、危急の状況においての使用は不都合であり、あるいは危険でさえあるという現状である。
【０００８】
１９７９年１０月号のエレクトロニックの８３〜８６ページの“超音波による液体噴霧”では、波動理論の原理に従って機能する超音波のアトマイジング効果についての説明が記載されている。
【０００９】
ＤＥ  １９８０２３６８  Ｃ１では、マイクロドーシング装置において、圧力室内に流入口と流出口が設けられており、圧力室の一方の側にあるダイヤフラムによって圧力室の範囲が定められていることが述べられている。ダイヤフラムを適切に駆動することにより、ドーシング工程において流体が流入口を通して吸い込まれ、流出口を通して排出されるという効果が得られる。このマイクロドーシング装置は波動理論ではなく、置換効果に基づいて作動する。
【００１０】
ＤＥ  ６９４０４００４  Ｔ２では圧電性ネブライザーにおいて、液体がアトマイゼーショングリッドに供給され、振動させられる、つまり、液体を供給するために、オープンセルフォームのような毛状の、あるいは、フェルトのような構造を持った軟性部品が使用されることを開示している。
ＷＯ−Ａ−９５／１５８２２では、アトマイジング装置について詳述され、この装置は波動理論を応用したアトマイゼーションに基づいている。ダイヤフラムはアトマイゼーションを有効にするために、振動させられる。アトマイズされるべき液体はダイヤフラムの開口部を通じてダイヤフラム面一帯に供給され、ダイヤフラム全体に浸透し、そこで液体がアトマイズされる。
【００１１】
本発明の目的は、できる限り大量生産でき、またより高い効率性を備え、規定された直径の液滴によるアトマイゼーションを可能にするマイクロアトマイザー及びその製造方法を提供することにある。
【００１２】
【発明の構成、作用及び効果】
本目的は請求項１記載のマイクロアトマイザー及び請求項１３記載のマイクロアトマイザーの製造方法により達成される。
【００１３】
アトマイザーにおいて使用される駆動部品は、本発明によれば圧電性原理を利用している。この目的のために、好ましくは薄膜形成技術で製造された圧電層が、好ましくはシリコンでエッチングされる薄いダイヤフラムを一方向に変形させるために使用され、そして、その薄いダイヤフラムは波動理論に基づいて振動させられる。ダイヤフラムが形成されるシリコン基板においてさらに圧電性駆動体の反対側に位置するダイヤフラム面を一様に十分湿らせるため、アトマイズされるべき液体を供給するために機能する搬送手段を形成する。液体が搬送手段によってダイヤフラムが一様に十分湿るように供給されることにより、液滴の直径が広範囲にわたって種々に変化することはなくなる。本発明に係るアトマイザーの駆動部品は、アトマイゼーションによって製造された液滴の直径が１〜５μｍになるように、２〜２．５ＭＨｚの周波数で駆動されるよう調節されることが好ましい。これを達成するために、使用される周波数だけでなくダイヤフラムの幾何学上の面積、液体の供給も、望ましいサイズの液滴に調整するためにアトマイゼーションパラメタ−として適切に調節される。
【００１４】
ダイヤフラムのサイズによっては、異なった方向からダイヤフラムにアトマイズされるべき液体を供給するために搬送手段を設けることは、本発明にとって都合がよい。ダイヤフラムの四方からアトマイズされるべき液体を搬送手段が供給する場合には、ダイヤフラムは、例えば、矩形状になる。
【００１５】
そのような駆動部品を使用している本発明に係るマイクロアトマイザーはホルダーを備えており、駆動部品は以下のような態様で該ホルダーに取り付けられている。その態様とは、流入口の端が流体供給導管と流体的に接続されており、圧電性駆動体の反対側に位置するダイヤフラム面と搬送手段との間、及び流体供給導管と搬送手段との間各々に存在している流体的な接続部を除いては、搬送手段がホルダーによって密閉されるような態様である。しかも、アトマイズされた液体を排出するために使用されるホルダーの開口部が、圧電性駆動体の反対側に位置するダイヤフラム面の領域に設けられている。
【００１６】
ホルダーは、流体供給導管が好ましくはアトマイズされた液体を排出する方向とは反対側の方向に、駆動部品が容易に取り付けられるように設けられている。
【００１７】
さらに、本発明は圧電的に駆動されるマイクロアトマイザーの製造方法を以下のステップで提供する。最初に、圧電性駆動体を半導体基板の主面に形成し、その後、圧電性駆動体の反対側に位置する半導体基板の主面が、流入口の端からダイヤフラムまで延びている搬送手段とダイヤフラムを構成するためにパターン化される。駆動部品は圧電性駆動体の反対側に位置するダイヤフラム面がホルダーの開口部と対向するように前記ホルダーに取り付けられる。
【００１８】
本発明は、マイクロメカニック手段の利用及び、特に、シリコン生産技術を利用することにより、極めて多くのチップで製造できるようなエコノミー価格で非常に小さいシステムを可能とする圧電的に駆動されるマイクロアトマイザーのための駆動部品を提供する。アトマイザーにおける上記の特性は、液滴の分配やアトマイズされるべき容量の正確さなどにおいて効果を発揮し、応用医学の分野では医学的有効性が実質的に十分改善されている。駆動部品はノズルを必要としないので、その結果、管を詰まらせる不具合が排除される。従ってそのシステムは繰り返し使用されることに適している、つまり、この場合では、流体供給ラインに接続されている流体貯蔵器を交換すれば十分である。圧電駆動がほとんどエネルギーを必要としないということを考慮すれば、エネルギー消費量もまた削減される。
【００１９】
本発明のさらなる詳細な内容は従属請求項において述べられている。
【００２０】
【発明の実施の形態】
次に、本発明の実施形態について添付した図面を参照しながら詳細に述べていくことにする。
【００２１】
図１ａは、ダイヤフラム１２がシリコン基板１０の主面に形成されている場合の駆動部品の実施形態を示す概略図である。図１ａで示されている実施形態を上から見た概略図が追加的に図２ａに示されている、つまり、以下の文では図１ａと図２ａを参照しながらの記述が続けられている。これらの図では、ダイヤフラム１２の個々のアトマイゼーション面が見えるようになっているため、ダイヤフラムの反対側の面に配置されている圧電性駆動体が視認できない。圧電性駆動体はダイヤフラム１２を振動させる機能を有している。ダイヤフラム１２を構成する凹部を形成した基板面に、アトマイズされるべき液体をダイヤフラム１２のアトマイゼーション面に送り込むことを可能にする搬送手段１４が追加的に形成されている。さらに、流入口として機能している凹部１６はシリコン基板１０の主面に設けられている。
【００２２】
搬送手段１４は、アトマイズされるべき液体でアトマイゼーション面を一様に十分湿らせることを可能にするため、ダイヤフラム１２のアトマイゼーション面と流入口１６との間に流動的なつながりを設けている。この目的のために、実施形態で示されている搬送手段１４は、アトマイズされるべき液体を実質上矩形状であるダイヤフラム１２の四方方向からそのアトマイゼーション面に供給する搬送区画１４ａ，１４ｂ，１４ｃ，１４ｄから成っている。ここで注目されるべき事は、実施形態で示されている通り、ダイヤフラム１２が凹部によって構成されていることである。図１ａでも分かるように、ダイヤフラムの凹部は、該凹部の側壁１８が約５５°の角度で傾斜されているようにＫＯＨエッチング工程によって形成されている。この図でもまた分かるように、搬送手段１４の区画１４ａ，１４ｂ，１４ｃ，１４ｄの末端はアトマイズされるべき媒体の供給がこの傾斜している側壁１８を通して行われるように、傾斜している側壁１８の個々の上部になる。さらに、搬送手段１４だけでなく流入口凹部１６もまたＫＯＨエッチングによって形成され得る。
【００２３】
例えば、図１ａで示されているような構造設計を備えた駆動部品が、マイクロアトマイザーを作るために、例えば図１ｂで示されているようなタイプのホルダー２０へ今差し込まれているとする。この目的のために、ホルダー２０には駆動部品が差し込まれて、ホルダー内で駆動部品が適切な方法で場所をしっかりと確保できるような受容部２２が設けられている。この目的のために、ホルダー２０には駆動部品を保持できるような突出部２４，２６が設けられていることが好ましい。さらにホルダー２０は、流入口１６及びダイヤフラム１２のアトマイゼーション面と流体的に接続されている独立した搬送路を構成するように駆動部品とともに組み立てられる。さらに、流体導管２９が流入口１６と流体的に接続されるように、ホルダー２０には流体導管２９、望ましくはホースをそこに接続するための手段２８が設けられていることが望ましい。ホルダー２０には、さらに、駆動部品がホルダー２０内に取り付けられる時に、アトマイズされた液体を射出できるよう、ダイヤフラム１２のアトマイゼーション面の上方に開口部３０が設けられる。開口部３０が例えば吸入装置の吸い込み管の中に取り付けられるように、流体導管２９は開口部３０と対称に配置されることが望ましい。この目的のために、図１ｂで分かるように流体導管２９をホルダー２０の開口部３０の反対側に配置することが望ましい。より好ましい実施形態では、開口部３０が例えば正確にサイズを規定された液滴を保証する、あるいは、システムを頭上に水平に押し上げて作動させることを可能にするグリッドを設けることができる。
【００２４】
図１ｂに示されているホルダーが、プラスティック材料で製作され得るのに対して図１ａに示されている駆動部品は、シリコンから構成される事が好ましく、それはシステムの価格に関しても、また、他のどの適切な材料からでも作ることができる点からも都合がよい。駆動部品は例えば陽極接着方法など、この方法は非常に堅固に固定されて安定したなお一層の接続をシリコンチップとの間に確立するために使用されるのであるが、この陽極接着方法によってホルダーに取り付けられ、そしてこの事により、順番に適切な搬送路及び流体接続を構成することになる。図１ｂで示されているホルダーにおいて、流体導管を接続するために用いられる手段２８と注入口１６との間に流体的な接続を確立することが出来る可能性が破線で示されている。ここで注目されるべきことは適切な凹部３２がホルダー２０に設けられる場合、もし流体的な接続が保証されるために搬送手段１４の末端が凹部３２の下方に位置するとすれば、駆動部品の基板１０の流入口凹部１６が無くても対処できるということになる。
【００２５】
アトマイザーが作動する時、ダイヤフラム１２のアトマイゼーション面が流体導管２９、流入口１６及び搬送手段１４を介してアトマイズされるべき液体により一様に湿る。この目的のために、流体導管２９は液体貯蔵器（図示せず）に接続されている。その貯蔵器は過圧容器であることが望ましい。この過圧容器と流体導管２９の間にバルブを通して流体的な接続を確立することができる。ダイヤフラム１２のアトマイゼーション面上にある液体が波動理論を基にアトマイズされるように圧電性駆動体によってダイヤフラム１２が振動させられる。アトマイゼーション工程の間、アトマイゼーション用の液体は搬送手段１４を介して絶えず供給される。
【００２６】
この実施工程により、本発明に係る駆動部品は、結果として液滴の直径が広範囲にわたって変化することがなくなり、医療工学の分野にとっては望ましい１〜５μｍ間という規定された範囲で維持できるようになったアトマイゼーションを実行するために使用される。アトマイズされるべき液体の粘度をより小さい度合いにする励振周波数の正確な値である、２．０〜２．５ＭＨｚ範囲内の圧電性駆動体の励振周波数を利用してこの範囲の大きさの液滴を得る。図２ｂは、アトマイズされるべき液体でダイヤフラムを一様に湿らせることを今まで通りに行っていくために、小さいサイズのダイヤフラム３６にとっては十分である搬送手段３４を概略的に上から見た図を示している。搬送手段３４は再び流入口を構成している凹部１６と流体的に接続されることになる。図２ａで示されている実施形態がより容量の多い流体をアトマイジングするのに適しているのに対して、図２ｂで示されている配置は容量の小さい流体をアトマイジングするのに適している。
【００２７】
断面領域の縮小により、搬送手段１４，３４は流体供給手段としても、また、流れを制限するものとしても機能している。液体の圧力が一定である場合、精密な断面領域で作られた搬送路により、圧電性ダイヤフラム１２，３６それぞれへの一定した流れが得られる。この接続で、規定量の液体がダイヤフラムのアトマイゼーション面へ供給されるように、搬送路がシリコン生産技術によって精密にエッチングされ得るよう考慮すべきである。非常に精密に規定された容量がアトマイズされ得るように、異なる断面を選択することでマイクロ駆動部品は目的にかなうように望ましい流量に調節されることになる。
【００２８】
本発明に係る装置が応用医学の分野において使用される場合、液体と接触する部品の生物学的適合性に注意を払わなければならない。液体と接触する露出面にチタンやチタン窒化物から構成されている保護層が設けられていることが好ましい。
【００２９】
次に、本発明に係る駆動部品の製造方法を図３ａ〜図３ｅを参照しつつ詳述する。
【００３０】
駆動部品のために使用される基本素材はｎ型あるいはｐ型にドーピングされた単結晶のシリコン基板１０が好ましい。シリコン基板１０の面上に、ダイヤフラム層４０を作るために、例えば燐でイオン注入が行われる。層４０がｎ型層であるのに対して、シリコン基板１０として使用される素材はｐ型シリコンであることが好ましい。層４０は後に圧電性層を駆動するための下部電極として機能する。基板１０上に配置された注入層４０はその後二酸化シリコン層４２，４４を作るために酸化される。結果として生じる合成層は図３ａに示されている。
【００３１】
裏面にはマスキング層４６が形成され、この層はシリコン窒化物である窒化シリコンから構成されていることが好ましく、また、化学析出、例えば、ＬＰＣＶＤ（低力化学蒸気析出）によって形成されることが望ましい。開口部４８は酸化物層４２の上部に注入層４０と後に接触することによって形成される（図３ｂ参照）。
【００３２】
ダイヤフラム凹部が後にシリコン基板１０の下部の面から離れてエッチングされるように開口部５０を形成するために、例えば、ホトリソグラフィ工程によって酸化物層４４の下部とシリコン窒化物層４６がパターン化される。この開口部５０の上方において、圧電層５２が酸化物層４２の上部に形成され、その圧電層は完成した部品において圧電性駆動体としての機能を果たす。圧電層は例えばＡｌＮ、ＰＺＴあるいはＺｎ０で構成されている。図３ｃで示されている構造はこの方法で得られる。
【００３３】
続いて、圧電層５２を電気的に駆動するための金属被膜５４，５６が図３ｄ、図３ｅに示されている構造の上部の面に形成され、その結果、金属被膜５４，５６と接触するための開口部６０，６２を形成するため、皮膜保護層５８が使用され、パターン化される（図３ｅ参照）。これに続いて、注入層４０においてダイヤフラム１２が形成されるように、前面及び裏面に配置されたマスキング層によって規定されるＫＯＨエッチングが裏面の下部から、腐食作用を阻止する機能を有する注入層４０まで実行される。
【００３４】
図３には図示されていないが、流入口にとって必要となる沈下と、統合された水位の低い搬送路がこのＫＯＨエッチング工程と同時に作られる。図３ｅに示されている状態から始めて、流入口と搬送路を形成するためにマスキング層４４，４６の下部を二者択一的にさらにいっそうパターン化して、その後、シリコン基板１０の裏面に流入口と搬送路を形成するために、さらにＫＯＨエッチングが実行される。
【００３５】
本発明に係る駆動部品の製造方法のより好ましい実施形態は図３を参照しつつ上文において詳述されているが、例えば図１ａで示されているように、シリコン基板の主面において、及びさらにシリコン基板の主面とは反対側に位置する圧電性駆動において本発明に係る駆動部品の構造を製作するために、上記のステップを異なった順序で行うこともまた可能であることはこの技術分野の熟練者にとっては明らかである。
【００３６】
本発明にとって重要な点は、エネルギーをほとんど消費することなく手頃な値段で、小さいサイズの駆動部品を大量生産することができるようになり、そして、シリコン基板の同じ主面にダイヤフラムを構成する凹部及びダイヤフラムのアトマイゼーション面を一様に湿らせることを保証する供給路が形成されることである。
【図面の簡単な説明】
【図１】図１ａは本発明に関して駆動部品の実施形態を示す概略図であり、図１ｂは本発明に関してマイクロアトマイザーのホルダーを示す概略図。
【図２】図２ａ、図２ｂともに本発明に関して駆動部品の搬送手段の異なる実施形態を説明するための概略図。
【図３】図３ａ〜図３ｅともに本発明に関して駆動部品の製造方法を図解するための概略断面図。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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