(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
角形基板の縁部を洗浄する基板端縁処理装置であって、
前記角型基板の各縁部に対応して設けられ、それぞれが溶剤吐出ノズル及び吸引手段を有し、角形基板の縁部の一端近傍の第１位置と角形基板の前記縁部の他端近傍の第２位置との間を角形基板の前記縁部に沿って移動して前記角型基板の全ての縁部を同時に処理する洗浄手段と、
前記洗浄手段を移動させる移動手段と、
前記第１位置と前記第２位置との間で前記洗浄手段を移動させながら、前記溶剤吐出ノズルから前記縁部へと溶剤を吐出させ前記吸引手段によって吸引させる洗浄工程と、前記洗浄工程の後に前記洗浄手段を移動させながら前記吸引手段による吸引を施す液滴除去工程とを行わせるとともに、これらの処理が、前記洗浄手段が前記第１位置と前記第２位置の間でｎ往復半移動して終了した場合に、その終了した側の位置で前記洗浄手段を待避させて処理済み基板を搬出させる制御部と、
を備えた基板端縁処理装置。
【請求項２】
角形基板の縁部を洗浄する基板端縁処理装置であって、
溶剤吐出ノズル及び吸引手段を有し、角形基板の縁部の一端近傍の第１位置と角形基板の前記縁部の他端近傍の第２位置との間を角形基板の前記縁部に沿って移動する洗浄手段と、
前記洗浄手段を移動させる移動手段と、
前記第１位置から前記第２位置へ、あるいは前記第２位置から前記第１位置へと前記洗浄手段を移動させながら、前記溶剤吐出ノズルから前記縁部へと溶剤を吐出させ前記吸引手段によって吸引させる洗浄工程と、前記洗浄工程の後に前記縁部の第１位置側の端部あるいは第２位置側の端部に対して前記洗浄手段を移動させながら前記吸引手段による吸引を施す液滴除去工程とを行わせる制御部と、
を備え、
角形基板を移動させるときの前記洗浄手段の待避位置を、前記第１位置近傍及び前記第２位置近傍の両方に設け、
角形基板の搬入時における前記洗浄手段の待避位置は、前記第１位置付近に設けられた第１待避位置であり、
角形基板の搬出開始時における前記洗浄手段の待避位置が前記第２位置付近に設けられた第２待避位置である場合に、前記洗浄手段は角形基板の搬出時において前記第２待避位置から前記第１待避位置へと移動する、
基板端縁処理装置。
【請求項３】
角形基板の縁部を洗浄する基板端縁処理装置であって、
溶剤吐出ノズル及び吸引手段を有し、角形基板の縁部の一端近傍の第１位置と角形基板の前記縁部の他端近傍の第２位置との間を角形基板の前記縁部に沿って移動する洗浄手段と、
前記第１位置から前記第２位置へ、あるいは前記第２位置から前記第１位置へと前記洗浄手段を移動させる移動手段と、
前記洗浄手段が最後に前記第１位置からスタートして前記第２位置まで移動する行程中において、少なくとも後半で前記溶剤吐出ノズルからの溶剤吐出を停止させて、角形基板の前記縁部に溶剤の液滴が残留しないように制御する制御部、
とを備え、
前記制御部は、前記溶剤吐出ノズルからの溶剤吐出を停止させるときに、前記移動手段による前記洗浄手段の移動の速度を遅くする、
基板端縁処理装置。
【請求項４】
角型基板の縁部を洗浄処理する基板端縁処理方法であって、
前記角型基板の各縁部に対応して設けられ、それぞれが溶剤吐出ノズル及び吸引手段を有する洗浄手段が基板の各縁部の一端付近に位置するように前記洗浄手段を待避させた状態で基板を所定位置にセットする第１工程と、
前記洗浄手段を、基板の各縁部に沿わせて、基板の各縁部の一端と他端との間で移動させながら、基板の縁部の洗浄及び液滴除去を全ての縁部について同時に行う第２工程と、
前記第２行程の処理が、前記洗浄手段が基板縁部の一端と他端の間でｎ往復半移動して終了した場合に、その終了した側の端部付近に前記洗浄手段を待避させた状態で、基板を搬出する第３工程と、
を備えた基板端縁処理方法。
【請求項５】
基板の縁部を洗浄処理する基板端縁処理方法であって、
溶剤吐出ノズル及び吸引手段を有する洗浄手段が基板の縁部の一端付近に位置するように前記洗浄手段を待避させた状態で基板を所定位置にセットする第１工程と、
前記洗浄手段を、基板の縁部に沿わせて、基板の縁部の一端と他端との間をｎ往復あるいはｎ往復半移動させながら、基板の縁部の洗浄を行う第２工程と、
前記洗浄手段を、基板の縁部の一端付近、あるいは基板の縁部の他端付近に待避させた状態で、基板を前記所定位置から移動させる第３工程と、
を備え、
前記第３工程では、第２工程において前記洗浄手段を基板の縁部の一端と他端との間をｎ往復半移動させた場合に、基板を前記所定位置から移動させながら前記洗浄手段を基板の縁部の他端付近から基板の縁部の一端付近に移動させる、
基板端縁処理方法。
【請求項６】
基板の縁部を洗浄処理する基板端縁処理方法であって、
基板を所定位置にセットする第１工程と、
溶剤吐出ノズル及び吸引手段を有する洗浄手段を基板の縁部に沿わせて基板の縁部の一端と他端との間を移動させながら、前記溶剤吐出ノズルからの溶剤吐出及び前記吸引手段による吸引によって基板の縁部の洗浄を行う第２工程と、
基板を前記所定位置から移動させる第３工程と、
を備え、
前記第２工程において、前記洗浄手段は、最後に基板の縁部の一端からスタートして他端まで移動する行程中において、少なくとも基板の縁部の一端あるいは他端を通過する前に前記溶剤吐出ノズルからの溶剤吐出を停止するとともに、前記溶剤吐出ノズルからの溶剤吐出を停止するときに移動速度が遅くなる、
基板端縁処理方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、レジスト，感光性樹脂，染色剤等の塗布液が塗布された角形基板の縁部を洗浄する基板端縁処理装置、及び基板の縁部を洗浄処理する基板端縁処理方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
基板の製造工程において、上述のような塗布液が塗布されて薄膜が形成された基板は、基板縁部が各工程で位置決め部などと接触する場合、基板縁部に付着している薄膜が発塵する。このため、基板の製造工程においては、基板表面の周囲部分や端面部分などの基板の縁部に付着している薄膜を溶剤や現像液（アルカリ液）等によって取り除く（以下、基板端縁洗浄処理という。）工程が設けられていることが多い。
【０００３】
図１に、基板端縁洗浄処理を行う装置の一例を示す。この装置は、レジストの薄膜が形成された角形基板Ｗの縁部に対して洗浄を施すものである。この装置は、基板Ｗを載置・保持する基板保持具２と、基板保持具２の周囲に配置される基板端縁洗浄具３とから構成されている。基板端縁洗浄具３は、洗浄具本体１８と、これを角形基板Ｗの縁部に沿わせて直線移動させる移動手段１９とから構成されている。洗浄具本体１８は、角形基板Ｗの縁部の裏面に溶剤を吐出して不要な薄膜を溶解する第１及び第２溶剤ノズル２６ａ，２６ｂと、ガスを吐出して溶解物を角形基板Ｗの縁部よりも外方に吹き飛ばす第１及び第２ガスノズル２７ａ，２７ｂと、排気口４９とを有している。
【０００４】
基板保持具２によって基板Ｗが保持されると、基板Ｗの縁部に沿って洗浄具本体１８が往復移動する。このときに、溶剤及び窒素ガスが基板Ｗの縁部に吹き付けられて不要な薄膜を溶かす。溶剤及び薄膜の溶解物は、吸引手段によって排気口４９から吸引される。
【０００５】
このようにして基板Ｗの縁部に付着している薄膜が除去されるが、これだけでは基板Ｗの縁部の端に溶剤が残留することがある。図１２に示すように、洗浄具本体１８が溶剤の吐出及び吸引を行いながら基板Ｗの縁部を移動しているときには、基板Ｗの縁部には溶剤や溶解物の液滴Ｌが一緒についてくる現象が起こっている。これは、激しく吸引を行うと縁部以外の薄膜の塗布状態に悪影響を与えることから吸引力を小さく設定しているためである。したがって、図１２に示す状態から洗浄具本体１８が移動して図１３に示す状態になると、液滴Ｌが基板Ｗの縁部の端に残ってしまう（液滴Ｌは、図１４に示すように、基板Ｗの端面及び裏面に多く残る）。特に、ＥＣＡ（エチルセロソルブアセテート）やＥＬ（乳酸エチル）等の揮発性の悪い溶剤を用いた場合には、この現象が発生する。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
この液滴Ｌを処理するために、従来においては図１５や図１６に示すような基板端縁洗浄処理を行っている（図１５は大型の基板Ｗを処理するもので、図１６は小型の基板Ｗを処理するもの）。
【０００７】
ここでは、基板Ｗが所定位置に保持されると、基板Ｗの搬出入等が行われるときに洗浄具本体１８が待避するための原点位置Ｏｒｇ．から基板Ｗの縁部の端近傍の位置Ｓｔａｒｔへと洗浄具本体１８が移動する（ステップＳ１）。
【０００８】
そして、洗浄具本体１８は、洗浄する基板Ｗの縁部のもう一方の端近傍の位置Ｅｎｄと位置Ｓｔａｒｔとの間を例えば２往復する（ステップＳ２〜Ｓ５）。このときには、溶剤の吐出、ガスの吐出、及び吸引が行われ、基板Ｗの縁部が洗浄される。
【０００９】
そして、ステップＳ５が完了した時点では、洗浄具本体１８は位置Ｓｔａｒｔに戻った状態にあり、位置Ｓｔａｒｔ側の基板Ｗの縁部の端には液滴が残っている。
【００１０】
次に、洗浄具本体１８は、液滴が残っている基板Ｗの縁部の端よりも位置Ｅｎｄ側にある位置まで戻り（ステップＳ６）、そこから位置Ｓｔａｒｔまでガスの吐出及び吸引だけを行いながら洗浄時よりもゆっくりとした速度で移動する（ステップＳ７）。これにより、基板Ｗの縁部の端に残っていた液滴が除去される。この後、洗浄具本体１８は原点位置Ｏｒｇ．に戻る（ステップＳ８）。
【００１１】
このように、一度洗浄具本体１８が基板Ｗの角（縁部の端）を通過してから再度角部に戻り、溶剤を出さずに吸引及び窒素ガスの吹き付けだけを行いながら移動することによって、縁部の端に残る液滴を除去することができる。
【００１２】
しかし、上記のように洗浄具本体１８を動かしていたのでは、すなわち、基板端縁洗浄処理の後に再び角部付近を往復させて液滴除去を行っていたのでは、全体としての処理時間が長くかかる。特に、基板サイズが大型化してくると、この処理時間の問題はクローズアップされてくる。この工程における処理に時間がかかると、基板製造にかかる時間も長くなり生産性が低下する。
【００１３】
本発明の課題は、基板の縁部を洗浄する装置において処理時間を短縮させること、及び短い時間で基板の縁部の洗浄処理を完了させることのできる基板端縁処理方法を提供することにある。
【００１４】
【課題を解決するための手段】
請求項１に係る基板端縁処理装置は、角形基板の縁部を洗浄する装置であって、洗浄手段と、移動手段と、制御部とを備えている。洗浄手段は、角型基板の各縁部に対応して設けられ、それぞれが溶剤吐出ノズルと吸引手段とを有している。また、洗浄手段は、第１位置と第２位置との間を、角形基板の縁部に沿って移動して角型基板の全ての縁部を同時に処理する。この洗浄手段の移動は、移動手段によって行われる。第１位置は、角形基板の縁部の一端近傍にあり、第２位置は、角形基板の縁部の他端近傍にある。制御部は、洗浄工程と液滴除去工程とを行う。洗浄工程では、第１位置と第２位置との間で洗浄手段を移動させながら、溶剤吐出ノズルから縁部へと溶剤を吐出させ吸引手段によって吸引させる。液滴除去工程は、洗浄工程の後に行われるもので、角形基板の縁部の第１位置側の端部あるいは第２位置側の端部に対して、洗浄手段を移動させながら吸引手段による吸引を施す。このとき、洗浄工程と液滴除去行程とが、洗浄手段が第１位置と第２位置との間でｎ往復半移動して終了した場合に、その終了した側の位置で洗浄手段は待避させられて処理済み基板が搬出される。すなわち、この基板端縁処理装置では、角形基板を搬出するときの洗浄手段の待避位置を、第１位置近傍及び第２位置近傍の両方に設けている。
【００１５】
洗浄手段は、溶剤の吐出及び吸引によって角形基板の縁部を洗浄するが、洗浄工程終了時には、角形基板の縁部の端には液滴が残る。この液滴は、溶剤の吐出を行わずに吸引手段による吸引のみを施す液滴除去工程によって除去される。この装置においては、装置から角形基板を搬出するときにおいて、洗浄手段は待避位置に待避する。そして、この待避位置を、ここでは、第１位置近傍と第２位置近傍の両方に設けている。
【００１６】
このように角形基板の縁部の両端付近にそれぞれ待避位置を設けているため、洗浄手段が第１位置及び第２位置のどちらにある場合にも洗浄工程を終わらせて液滴除去工程に移ることができる。すなわち、従来のように待避位置を第１位置の近傍にのみしか設けていない場合には洗浄手段が第２位置にあるときに既に十分な洗浄が完了していても洗浄手段を第１位置まで戻さなければならないが、ここでは、洗浄手段が第２位置にあるときに洗浄工程を終わらせて液滴除去工程を行い第２位置近傍の待避位置に洗浄手段を待避させることができる。これにより、洗浄手段の余分な動きを省くことが可能となり、洗浄工程及び液滴除去工程を含む基板処理の処理時間を短くすることができる。なお、待避位置を、第１位置，第２位置に一致させることもできる。
【００１７】
請求項２に係る基板端縁処理装置は、角形基板の縁部を洗浄する基板端縁処理装置であって、洗浄手段と、移動手段と、制御部とを備えている。洗浄手段は、溶剤吐出ノズル及び吸引手段を有し、角形基板の縁部の一端近傍の第１位置と角形基板の縁部の他端近傍の第２位置との間を角形基板の縁部に沿って移動する。移動手段は洗浄手段を移動させる。制御部は、第１位置から第２位置へ、あるいは第２位置から第１位置へと洗浄手段を移動させながら、溶剤吐出ノズルから縁部へと溶剤を吐出させ吸引手段によって吸引させる洗浄工程と、洗浄工程の後に縁部の第１位置側の端部あるいは第２位置側の端部に対して洗浄手段を移動させながら吸引手段による吸引を施す液滴除去工程とを行わせる。そして、角形基板を移動させるときの洗浄手段の待避位置を、第１位置近傍及び第２位置近傍の両方に設けている。また、角形基板の搬入時における洗浄手段の待避位置は、第１位置付近に設けられた第１待避位置である。そして、角形基板の搬出開始時における前記洗浄手段の待避位置が第２位置付近に設けられた第２待避位置である場合に、洗浄手段は、角形基板の搬出時において第２待避位置から第１待避位置へと移動する。
【００１８】
ここでは、待避位置を角形基板の縁部の両端付近にそれぞれ設けているが、角形基板の搬入時には常に洗浄手段が第１待避位置にあるように、角形基板の搬出に要する時間を利用して洗浄手段が第２待避位置にある場合にはこれを第１待避位置に戻している。これにより、角形基板の搬入時に洗浄手段が第２待避位置に存在すると干渉等の不都合が生じる場合にも、これを回避させることができる。
【００１９】
請求項３に係る基板端縁処理装置は、角形基板の縁部を洗浄する装置であって、洗浄手段と、移動手段と、制御部とを備えている。洗浄手段は、溶剤吐出ノズルと吸引手段とを有している。この洗浄手段は、角形基板の縁部の一端近傍の第１位置と角形基板の縁部の他端近傍の第２位置との間を、角形基板の縁部に沿って移動する。移動手段は、第１位置から第２位置へ、あるいは第２位置から第１位置へと洗浄手段を移動させる。制御部は、洗浄手段が最後に第１位置からスタートして第２位置まで移動する行程中において、少なくとも後半で溶剤吐出ノズルからの溶剤吐出を停止させて、角形基板の縁部に溶剤の液滴が残留しないように制御する。また、制御部は、溶剤吐出ノズルからの溶剤吐出を停止させるときに、移動手段による洗浄手段の移動の速度を遅くする。
【００２０】
ここでは、洗浄手段が最後に第１位置と第２位置との間を移動するときに、少なくとも後半で吸引のみを角形基板の縁部に施して角形基板の縁部に溶剤の液滴が残留しないように制御する。このように制御することで、角形基板の縁部にあり洗浄手段の移動に従って移動する溶剤の液滴は、洗浄手段が最後に角形基板の縁部の端を通るときに角形基板から飛ばされる。
【００２１】
従来においては、第１位置から第２位置へ洗浄手段を移動させ更に第２位置から第１位置へと戻す往復移動による洗浄処理を１回あるいは数回行わせた後に、別途洗浄手段を移動させて液滴の除去処理を行っている。したがって、洗浄手段が第２位置にあるときに洗浄処理が完了した場合であっても、一端洗浄手段を第１位置に戻した後に改めて液滴除去のために洗浄手段を動かしている。
【００２２】
これに対して、本請求項の装置では、最後に第１位置と第２位置との間を洗浄手段が移動するときに液滴除去を行わせるため、洗浄手段が第２位置にあるときに洗浄処理が終わる場合において、第２位置から第１位置へと洗浄手段を戻すときを利用して液滴除去ができる。これにより、洗浄手段の余分な動きを省くことが可能となり、洗浄工程及び液滴除去工程を含む基板処理の処理時間を短くすることができる。また、ここでは、最後に第１位置と第２位置との間を洗浄手段が移動するときにおいて行われる液滴除去の処理が、洗浄手段の移動速度が遅くなることによって、より確実に行われることになる。このように、本請求項の装置では、角形基板の縁部から溶剤の液滴がより確実に除去される。
【００２５】
請求項４に係る基板端縁処理方法は、角型基板の縁部を洗浄処理する方法であって、第１工程と、第２工程と、第３工程とを備えている。第１工程では、洗浄手段が角型基板の各縁部に対応して設けられ、それぞれが基板の各縁部の一端付近に位置するように洗浄手段を待避させた状態で、基板を所定位置にセットする。洗浄手段は、溶剤吐出ノズル及び吸引手段を有するものである。第２工程では、洗浄手段を、基板の各縁部に沿わせて、基板の各縁部の一端と他端との間で移動させながら、基板の縁部の洗浄及び液滴除去を全ての縁部について同時に行う。ここで、ｎは、自然数を意味する。第３工程では、第２行程の処理が、洗浄手段が基板縁部の一端と他端の間でｎ往復半移動して終了した場合に、その終了した側の端部付近に洗浄手段を待避させた状態で、基板を搬出する。
【００２６】
ここでは、装置から角形基板を搬出するときにおいて、洗浄手段は待避位置に待避する。そして、この待避位置を、所定位置への基板のセット時と所定位置からの基板を搬出する時とで変えることができる。すなわち、所定位置への基板のセット時には洗浄手段を基板の縁部の一端付近に待避させ、所定位置から基板を搬出する時には洗浄手段を基板の縁部の一端付近あるいは他端付近に待避させる。
【００２７】
このように基板の搬出時において、ここでは、洗浄手段を、基板のセット時と同じ位置に待避させることもでき、また、基板のセット時とは異なる基板の縁部の反対側の端部付近に待避させることもできる。したがって、洗浄手段が基板の縁部のどちらの端部付近にある場合にも洗浄処理を終わらせることができる。これにより、洗浄手段の余分な動きを省くことが可能となり、基板処理の処理時間を短くすることができる。
【００２８】
請求項５に係る基板端縁処理方法は、基板の縁部を洗浄処理する基板端縁処理方法であって、第１工程と、第２工程と、第３工程とを備えている。第１工程では、溶剤吐出ノズル及び吸引手段を有する洗浄手段が基板の縁部の一端付近に位置するように洗浄手段を待避させた状態で基板を所定位置にセットする。第２工程では、洗浄手段を、基板の縁部に沿わせて、基板の縁部の一端と他端との間をｎ往復あるいはｎ往復半移動させながら、基板の縁部の洗浄を行う。第３工程では、洗浄手段を、基板の縁部の一端付近、あるいは基板の縁部の他端付近に待避させた状態で、基板を所定位置から移動させる。そして、第２工程において洗浄手段を基板の縁部の一端と他端との間をｎ往復半移動させた場合に、第３工程で、基板を所定位置から移動させながら洗浄手段を基板の縁部の他端付近から基板の縁部の一端付近に移動させる。
【００２９】
ここでは、基板のセット時には常に洗浄手段が基板の縁部の一端付近にあるように、基板の移動に要する時間を利用して洗浄手段が基板の縁部の他端付近にある場合にはこれを基板の縁部の一端付近に戻している。これにより、基板のセット時に洗浄手段が基板の縁部の他端付近に存在すると干渉等の不都合が生じる場合にも、これを回避させることができる。
【００３０】
請求項６に係る基板端縁処理方法は、基板の縁部を洗浄処理する方法であって、第１工程と、第２工程と、第３工程とを備えている。第１工程では、基板を所定位置にセットする。第２工程では、洗浄手段を基板の縁部に沿わせて基板の縁部の一端と他端との間を移動させながら、溶剤吐出ノズルからの溶剤吐出及び吸引手段による吸引によって基板の縁部の洗浄を行う。洗浄手段は、溶剤吐出ノズル及び吸引手段を有するものである。この第２工程において、洗浄手段は、最後に基板の縁部の一端からスタートして他端まで移動する工程中において、少なくとも基板の縁部の一端あるいは他端を通過する前に溶剤吐出ノズルからの溶剤吐出を停止する。第３工程では、基板を所定位置から移動させる。また、洗浄手段は、第２工程において、溶剤吐出ノズルからの溶剤吐出を停止するときに移動速度が遅くなる。
【００３１】
ここでは、洗浄手段が最後に基板の縁部の一端と他端との間を移動するときに、少なくとも基板の縁部の一端あるいは他端を通過する前に溶剤吐出ノズルからの溶剤吐出を停止する。このように制御することで、基板の縁部にあり洗浄手段の移動に従って移動する溶剤の液滴は、洗浄手段が最後に基板の縁部の一端あるいは他端を通るときに基板から飛ばされる。
【００３２】
このように、ここでは、洗浄手段が基板の縁部の他端にあるときに洗浄処理が終わる場合において、洗浄手段を基板の縁部の他端から一端へと戻すときを利用して液滴除去ができる。これにより、洗浄手段の余分な動きを省くことが可能となり、基板処理の処理時間を短くすることができる。また、ここでは、最後に基板の縁部の一端と他端との間を洗浄手段が移動するときにおいて行われる液滴除去の処理が、洗浄手段の移動速度が遅くなることによって、より確実に行われることになる。このように、本請求項の方法によれば、角形基板の縁部から溶剤の液滴がより確実に除去される。
【００３５】
【発明の実施の形態】
［第１実施形態］
＜構成＞
図１は、本発明の一実施形態における基板端縁処理装置の一部切欠側面図である。この装置は、図示しないレジスト塗布装置によって表面にレジストの薄膜が形成された角形基板Ｗに対して、その縁部を洗浄する。この装置は、主として、基板Ｗを載置・保持する基板保持具２と、基板保持具２の周囲に配置される基板端縁洗浄具３と、角形基板Ｗの搬出入及び回転や後述する基板端縁洗浄具３の洗浄具本体１８の移動を制御する制御部（図示せず）とから構成されている。
【００３６】
基板保持具２は、エアーシリンダ５、一対のガイド６、モータ支持台７、電動モータ８、基板載置プレート９、中空筒軸１０等から構成されている。モータ支持台７は、基台Ｂに、エアーシリンダ５及び一対のガイド６を介して昇降可能に支持されている。このモータ支持台７上には、電動モータ８が設けられている。電動モータ８のモータ軸８ａには、角形基板Ｗを載置する基板載置プレート９が中空筒軸１０を介して一体的に設けられている。このように、基板保持具２は、基板載置プレート９上に載置した角形基板Ｗを９０°づつ回転できるように構成されている。基板載置プレート９の上面には複数の吸着孔１１が形成されており、基板載置プレート９上に載置された角形基板Ｗは、真空吸着によって保持される。
【００３７】
基板端縁洗浄具３は、洗浄具本体（洗浄手段）１８と、これを角形基板Ｗの縁部に沿わせて直線移動させる移動手段１９と、洗浄具本体１８を角形基板Ｗの縁部に対して遠近変位させる位置調整手段２０とから構成されている。
【００３８】
洗浄具本体１８は、図示しない制御部によってその移動が制御されるもので、第１〜第５支持枠２１，２２，２３，２４，２５から構成されている。箱形状の第１支持枠２１には、角形基板Ｗの縁部に対して遠近する方向に固定位置を微調整可能に、アングル形状の第２支持枠２２が取り付けられている。この第２支持枠２２には、上下方向に固定位置を微調整可能に、第３支持枠２３が取り付けられている。そして、この第３支持枠２３には、第４及び第５支持枠２４，２５が一体的に取り付けられている。
【００３９】
また、第３支持枠２３には、角形基板Ｗの縁部の裏面に溶剤を吐出して不要な薄膜を溶解する第１溶剤ノズル（溶剤吐出ノズル）２６ａと、ガスを吐出して溶解物を角形基板Ｗの縁部よりも外方に吹き飛ばす第１ガスノズル２７ａとが設けられている。第４支持枠２４には、角形基板Ｗの縁部の表面に溶剤を吐出して不要な薄膜を溶解する第２溶剤ノズル（溶剤吐出ノズル）２６ｂが設けられており、第５支持枠２５には、ガスを吐出して溶解物を角形基板Ｗの縁部よりも外方に吹き飛ばす第２ガスノズル２７ｂが設けられている。
【００４０】
また、第３支持枠２３には、排気路形成部材４８が設けられている。この排気路形成部材４８の、第１及び第２溶剤ノズル２６ａ，２６ｂ、ならびに、第１及び第２ガスノズル２７ａ，２７ｂ側の箇所には、外拡がりの形状の排気口４９が形成されている。排気路形成部材４８には、図示しない排気手段（吸引手段）に接続された排気管５０が接続されており、溶剤及びガスとともにそれによって吹き飛ばされた溶解物を吸引排出する。
【００４１】
なお、上記の排気管５０、第１及び第２溶剤ノズル２６ａ，２６ｂそれぞれに接続された溶剤供給管５１ａ，５１ｂ、及び第１及び第２ガスノズル２７ａ，２７ｂそれぞれに接続されたガス供給管５２ａ，５２ｂは、洗浄具本体１８の移動を許容するように、いずれも可撓性を有する材料で構成されている。
【００４２】
位置調整手段２０は、一対のガイド４０と、エアーシリンダ４１と、取付台４２とから構成されており、洗浄具本体１８を角形基板Ｗの縁部に対して遠近変位させ、洗浄具本体１８を角形基板Ｗの長辺側縁部に沿わせて移動する状態と、短辺側縁部に沿わせて移動する状態とに切換えることができる。取付台４２は、基台Ｂに、一対のガイド４０及びエアーシリンダ４１を介して、角形基板Ｗに対して遠近する方向に駆動移動可能に設けられている。
【００４３】
移動手段１９は、ベルト４５と、ベルト４５が巻かれている主動プーリー（図示せず）及び従動プーリー４４と、主動プーリーを回転させる電動モータ（図示せず）とから構成されている。
【００４４】
主動プーリー及び従動プーリー４４は、取付台４２に取り付けられており、両プーリーにベルト４５が巻かれている。ベルト４５には、第１支持枠２１が一体的に取り付けられている。第１支持枠２１は、ベルト４５の移動に従って、ガイド４７を介して直線的に移動する。すなわち、洗浄具本体１８は、図示しない制御部による移動手段１９の制御に従って、角形基板Ｗの縁部に沿って直線移動する。
【００４５】
＜基板縁部の洗浄方法＞
以上の構成により、図示しないレジスト塗布装置によって表面にレジストの薄膜が形成された角形基板Ｗを基板保持具２に保持させ、角形基板Ｗの短辺を洗浄具本体１８の移動方向と平行になる姿勢にし、まず、その状態で、溶剤とガスを吐出しながら洗浄具本体１８を移動させて、角形基板Ｗの短辺側の表裏両面と周端面の不要な薄膜を溶解除去する。次いで、角形基板Ｗを９０°回転させて角形基板Ｗの長辺を洗浄具本体１８の移動方向と平行になる姿勢にするとともに、位置調整手段２０により洗浄具本体１８を角形基板Ｗに近づく所定位置まで移動し、その状態で、溶剤とガスを吐出しながら洗浄具本体１８を移動させ、角形基板Ｗの長辺側の表裏両面と周端面の不要な薄膜を溶解除去する。更に、９０°回転させるとともに位置調整手段２０により洗浄具本体１８を所定位置まで移動し、同様にして、残りの短辺部分及び長辺部分の表裏両面と周端面の不要な薄膜を溶解除去し、角形基板Ｗの縁部全周の不要な薄膜を溶解除去する。
【００４６】
＜各縁部の洗浄詳細＞
角形基板Ｗのそれぞれの縁部の洗浄について、図２を参照して、角形基板の長辺を例にとって説明する。
【００４７】
図２には、洗浄具本体１８が移動する経路及びその経路上のポジション（各位置Ｏｒｇ．１，Ａ，Ｂ，Ｏｒｇ．２）と、洗浄具本体１８のポジション（ＰＯＳＩＴＩＯＮ）と時間（ＴＩＭＥ）との関係とが示されている。
【００４８】
第１及び第２原点位置Ｏｒｇ．１，Ｏｒｇ．２は、角形基板Ｗが所定位置にセットされるとき、あるいは角形基板Ｗを移動あるいは回転させるときに洗浄具本体１８が待避するポジションである。位置Ａ，Ｂは、第１及び第２原点位置Ｏｒｇ．１，Ｏｒｇ．２の内側に位置し、かつ角形基板Ｗの角部（長辺の両端部）よりも外側に位置する。
【００４９】
ここでは、まず角形基板Ｗが所定位置に保持されると、第１原点位置Ｏｒｇ．１から位置Ａへと洗浄具本体１８が移動する（ステップＳ２１）。
【００５０】
次に、洗浄具本体１８は、位置Ａと位置Ｂとの間を１往復半する洗浄工程に入る（ステップＳ２２〜Ｓ２４）。このときには、溶剤の吐出、ガスの吐出、及び排気口４９からの吸引が行われ、角形基板Ｗの長辺側の表裏両面と周端面の不要な薄膜が溶解除去される。
【００５１】
そして、ステップＳ２４が完了した時点では、洗浄具本体１８は位置Ｂにあり、位置Ｂ側の角形基板Ｗの長辺の端、特に周端面と裏面には液滴が残っている。
【００５２】
次に、洗浄具本体１８は、液滴が残っている角形基板Ｗの長辺の端よりも位置Ａ側にある位置まで戻り（ステップＳ２５）、そこから位置Ｂまでガスの吐出及び吸引だけを行いながらゆっくりとした速度で移動する（ステップＳ２６）。このような液滴除去工程によって、基板Ｗの長辺の端に残っていた液滴が除去される。この後、洗浄具本体１８は第２原点位置Ｏｒｇ．２に移動する（ステップＳ２７）。
【００５３】
そして、次に角形基板Ｗの他の辺（縁部）を洗浄及び液滴除去するときには、今度は洗浄具本体１８を第２原点位置Ｏｒｇ．２から出発させ、図２の洗浄具本体１８のポジションと時間との関係を左右対称にひっくり返した時系列をたどって洗浄が行われ、洗浄及び液滴除去の完了後に洗浄具本体１８は位置Ａから第１原点位置Ｏｒｇ．１に移動する。
【００５４】
なお、各ステップにおける洗浄具本体１８の移動速度は以下の通りである。ステップＳ２１，Ｓ２５，Ｓ２７については洗浄具本体１８の移動自体が目的であるため最高速度である。ステップＳ２２，Ｓ２３，Ｓ２４については、洗浄を行うことが目的でありステップＳ２１，Ｓ２５，Ｓ２７における速度よりもゆっくりした移動速度である。また、ステップＳ２６については、確実の角形基板Ｗの角部にある液滴を飛ばすために、ステップＳ２２，Ｓ２３，Ｓ２４における移動速度よりも更に遅い移動速度となっている。
【００５５】
本実施形態の装置では、上記のように、角形基板Ｗが所定位置にセットされるとき、あるいは角形基板Ｗを移動あるいは回転させるときに洗浄具本体１８が待避する待避位置を２ヶ所（第１及び第２原点位置Ｏｒｇ．１，Ｏｒｇ．２）設けている。このように角形基板Ｗの縁部の両端付近にそれぞれ待避位置を設けているため、洗浄具本体１８が位置Ａ及び位置Ｂのどちらにある場合にも洗浄工程を終わらせて液滴除去工程に移ることができる。すなわち、図１５に示すように待避位置（原点位置Ｏｒｇ．）を位置Ｓｔａｒｔの近傍にのみしか設けていない場合には洗浄具本体１８が位置Ｅｎｄにあるときに既に十分な洗浄が完了していても洗浄具本体１８を位置Ｓｔａｒｔまで戻さなければならない（ステップＳ５）が、本実施形態の装置では、洗浄具本体１８が位置Ｂにあるときに洗浄工程を終わらせて液滴除去工程を行い位置Ｂ近傍の待避位置（第２原点位置Ｏｒｇ．２）に洗浄具本体１８を待避させることができる。このように、本実施形態では、洗浄具本体１８の余分な動きを省くことが可能であり、角形基板Ｗの処理時間が短くなっている。
【００５６】
＜備考＞
なお、上記実施形態では、基板保持具２に対して洗浄具本体１８を移動するように構成しているが、洗浄具本体１８を固定し、その洗浄具本体１８に対して基板保持具２を移動するように構成しても良い。すなわち、第１及び第２溶剤ノズル２６ａ，２６ｂ、第１及び第２ガスノズル２７ａ，２７ｂ、及び吸引手段（排気口４９や排気路形成部材４８）を、角形基板Ｗに対して相対的に直線移動させれば良い。
【００５７】
また、洗浄具本体１８を直交する方向に移動可能に２個設け、一方を長辺用に、そして、他方を短辺用にして、一挙に長短両縁部の不要薄膜を溶解除去し、その後、角形基板Ｗを１８０°回転させ、残りの長短両縁部の不要薄膜を溶解除去できるように構成しても良い。この場合には、上述の位置調整手段２０は不用となる。
【００５８】
また、上記実施形態では、基板縁部の表裏両面に溶剤を吐出するように構成しているが、角形基板Ｗの縁部の表面側にのみ溶剤を吐出するように構成するとか、あるいは、角形基板Ｗの縁部の裏面側にのみ溶剤を吐出して表面張力により表面側に回り込ませるように構成するなど、角形基板Ｗの縁部の表裏両面の少なくともいずれか一方に溶剤を吐出するように構成すれば良い場合もある。
【００５９】
また、上記実施形態では、第１及び第２原点位置Ｏｒｇ．１，Ｏｒｇ．２と位置Ａ，Ｂとを別に設定しているが、位置Ａ，Ｂを第１及び第２原点位置Ｏｒｇ．１，Ｏｒｇ．２に一致させても良い。
【００６０】
［第２実施形態］
第１実施形態においては図２に示すようにして角形基板Ｗの各縁部の洗浄及び液滴除去を行っているが、洗浄具本体１８が位置Ｓｔａｒｔと位置Ｅｎｄとの間を奇数回行き来することで洗浄工程が終わる場合に、図３に示すようにして角形基板Ｗの各縁部の洗浄及び液滴除去を行っても図１５に示す従来の方法に較べて処理時間が短縮できる。
【００６１】
本実施形態での角形基板Ｗの縁部の洗浄について、図３を参照して説明する。図３には、洗浄具本体１８が移動する経路及びその経路上のポジション（各位置Ｏｒｇ．１，Ａ，Ｂ）と、洗浄具本体１８のポジション（ＰＯＳＩＴＩＯＮ）と時間（ＴＩＭＥ）との関係とが示されている。
【００６２】
位置Ｓｔａｒｔ，Ｅｎｄは、角形基板Ｗの角部（長辺の両端部）よりも外側に位置する。第１原点位置Ｏｒｇ．１は、角形基板Ｗが所定位置にセットされるとき、あるいは角形基板Ｗを移動あるいは回転させるときに洗浄具本体１８が待避するポジションであり、角形基板Ｗの角部に対して位置Ｓｔａｒｔよりも外側に位置する。
【００６３】
ここでは、まず角形基板Ｗが所定位置に保持されると、第１原点位置Ｏｒｇ．１から位置Ｓｔａｒｔへと洗浄具本体１８が移動する（ステップＳ３１）。
【００６４】
次に、洗浄具本体１８は、位置Ｓｔａｒｔと位置Ｅｎｄとの間を１往復半する洗浄工程に入る（ステップＳ３２〜Ｓ３４）。このときには、溶剤の吐出、ガスの吐出、及び排気口４９からの吸引が行われ、角形基板Ｗの長辺側の表裏両面と周端面の不要な薄膜が溶解除去される。
【００６５】
そして、ステップＳ３４が完了した時点では、洗浄具本体１８は位置Ｅｎｄにあり、位置Ｅｎｄ側の角形基板Ｗの長辺の端、特に周端面と裏面には液滴が残っている。
【００６６】
次に、洗浄具本体１８は、位置Ｓｔａｒｔに向かって移動を始める（ステップＳ３５）。このときには、溶剤の吐出はされずに、ガスの吐出及び吸引のみが行われる。そして、角形基板Ｗの位置Ｓｔａｒｔ側の角部付近からは移動速度が遅くなり、洗浄具本体１８が液滴が角形基板Ｗの位置Ｓｔａｒｔ側の角部を通過するときに液滴がこの角部から飛ばされる（ステップＳ３６）。このような液滴除去工程によって、基板Ｗの長辺から液滴が除去される。この後、洗浄具本体１８は第１原点位置Ｏｒｇ．１に移動する（ステップＳ３７）。
【００６７】
なお、各ステップにおける洗浄具本体１８の移動速度は以下の通りである。ステップＳ３１，Ｓ３５，Ｓ３７については洗浄具本体１８の移動自体が目的であるため最高速度である。ステップＳ３２，Ｓ３３，Ｓ３４については、洗浄を行うことが目的でありステップＳ３１，Ｓ３５，Ｓ３７における速度よりもゆっくりした移動速度である。また、ステップＳ３６については、確実の角形基板Ｗの角部から液滴を飛ばすために、ステップＳ３２，Ｓ３３，Ｓ３４における移動速度よりも更に遅い移動速度となっている。
【００６８】
本実施形態の装置では、洗浄具本体１８が最後に位置Ｓｔａｒｔと位置Ｅｎｄとの間を移動するときに、後半でガスの吐出及び吸引のみを角形基板Ｗの長辺（縁部）に施している。
【００６９】
図１５に示す従来の方法においては、位置Ｓｔａｒｔから位置Ｅｎｄへ洗浄手段を移動させ更に位置Ｅｎｄから位置Ｓｔａｒｔへと戻す往復移動による洗浄処理を１回あるいは数回行わせた後に、別途洗浄具本体１８を移動させて液滴の除去処理を行っている（ステップＳ６，Ｓ７）。したがって、洗浄具本体１８が位置Ｅｎｄにあるときに洗浄処理が完了した場合であっても、一端洗浄具本体１８を位置Ｓｔａｒｔに戻した後に改めて液滴除去のために洗浄具本体１８を動かしている（ステップＳ５，Ｓ６，Ｓ７）。
【００７０】
これに対して、本実施形態の装置では、最後に位置Ｓｔａｒｔと位置Ｅｎｄとの間を洗浄具本体１８が移動するときに液滴除去を行わせるため、洗浄具本体１８が位置Ｅｎｄにあるときに洗浄処理が終わる場合において、位置Ｅｎｄから位置Ｓｔａｒｔへと洗浄具本体１８を戻すときを利用して液滴除去ができる。これにより、洗浄具本体１８の余分な動きが省かれ、洗浄工程及び液滴除去工程を含む角型基板Ｗの処理時間が短くなっている。
【００７１】
［第３実施形態］
第１実施形態においては図２に示すようにして角形基板Ｗの各縁部の洗浄及び液滴除去を行っているが、角型基板Ｗのサイズが小さい場合には、図４に示すようにして角形基板Ｗの各縁部の洗浄及び液滴除去を行っても図１６に示す従来の方法に較べて処理時間が短縮できる。
【００７２】
本実施形態での角形基板Ｗの縁部の洗浄について、図４を参照して説明する。図４には、洗浄具本体１８が移動する経路及びその経路上のポジション（各位置Ｏｒｇ．１，Ａ，Ｂ，Ｏｒｇ．２）と、洗浄具本体１８のポジション（ＰＯＳＩＴＩＯＮ）と時間（ＴＩＭＥ）との関係とが示されている。
【００７３】
第１及び第２原点位置Ｏｒｇ．１，Ｏｒｇ．２は、角形基板Ｗが所定位置にセットされるとき、あるいは角形基板Ｗを移動あるいは回転させるときに洗浄具本体１８が待避するポジションである。位置Ａ，Ｂは、第１及び第２原点位置Ｏｒｇ．１，Ｏｒｇ．２の内側に位置し、かつ角形基板Ｗの角部（長辺の両端部）よりも外側に位置する。
【００７４】
ここでは、まず角形基板Ｗが所定位置に保持されると、第１原点位置Ｏｒｇ．１から位置Ａへと洗浄具本体１８が移動する（ステップＳ４１）。
【００７５】
次に、洗浄具本体１８は、位置Ａと位置Ｂとの間を２往復する洗浄工程に入る（ステップＳ４２〜Ｓ４５）。このときには、溶剤の吐出、ガスの吐出、及び排気口４９からの吸引が行われ、角形基板Ｗの長辺側の表裏両面と周端面の不要な薄膜が溶解除去される。
【００７６】
そして、ステップＳ４５が完了した時点では、洗浄具本体１８は位置Ａにあり、位置Ａ側の角形基板Ｗの長辺の端、特に周端面と裏面には液滴が残っている。
【００７７】
次に、洗浄具本体１８は、位置Ａから位置Ｂへと移動を始める（ステップＳ４６）。このときには、溶剤の吐出はされずに、ガスの吐出及び吸引のみが行われる。そして、角形基板Ｗの位置Ｂ側の角部付近からは移動速度が遅くなり、洗浄具本体１８が液滴が角形基板Ｗの位置Ｂ側の角部を通過するときに液滴がこの角部から飛ばされる（ステップＳ４７）。このような液滴除去工程によって、基板Ｗの長辺から液滴が除去される。この後、洗浄具本体１８は第２原点位置Ｏｒｇ．２に移動する（ステップＳ４８）。
【００７８】
そして、次に角形基板Ｗの他の辺（縁部）を洗浄及び液滴除去するときには、今度は洗浄具本体１８を第２原点位置Ｏｒｇ．２から出発させ、図４の洗浄具本体１８のポジションと時間との関係を左右対称にひっくり返した時系列をたどって洗浄が行われ、洗浄及び液滴除去の完了後に洗浄具本体１８は位置Ａから第１原点位置Ｏｒｇ．１に移動する。
【００７９】
なお、各ステップにおける洗浄具本体１８の移動速度は以下の通りである。ステップＳ４１，Ｓ４６，Ｓ４８については洗浄具本体１８の移動自体が目的であるため最高速度である。ステップＳ４２，Ｓ４３，Ｓ４４，Ｓ４５については、洗浄を行うことが目的でありステップＳ４１，Ｓ４６，Ｓ４８における速度よりもゆっくりした移動速度である。また、ステップＳ４７については、確実の角形基板Ｗの角部から液滴を飛ばすために、ステップＳ４２，Ｓ４３，Ｓ４４，Ｓ４５における移動速度よりも更に遅い移動速度となっている。
【００８０】
本実施形態の装置では、上記のように、角形基板Ｗが所定位置にセットされるとき、あるいは角形基板Ｗを移動あるいは回転させるときに洗浄具本体１８が待避する待避位置を２ヶ所（第１及び第２原点位置Ｏｒｇ．１，Ｏｒｇ．２）設けている。このように角形基板Ｗの縁部の両端付近にそれぞれ待避位置を設けているため、図１６に示すステップＳ６，Ｓ７のように液滴除去を行って洗浄具本体１８を位置Ｓｔａｒｔに戻さなくてもよい。すなわち、図１６に示すように待避位置（原点位置Ｏｒｇ．）を位置Ｓｔａｒｔの近傍にのみしか設けていない場合には液滴除去完了時において洗浄具本体１８が位置Ｓｔａｒｔにあることが望ましいが、本実施形態の装置では、第１原点位置Ｏｒｇ．１という待避位置の他に第２原点位置Ｏｒｇ．２を設けているため、洗浄具本体１８が位置Ａにあるときに洗浄工程を終わらせて液滴除去工程を行い位置Ｂ近傍の待避位置（第２原点位置Ｏｒｇ．２）に洗浄具本体１８を待避させることができる。したがって、図１６におけるステップＳ６，Ｓ７に要する時間よりも図４におけるステップＳ４６，Ｓ４７に要する時間のほうが短くなるような場合は、本実施形態を採用することにより処理時間を短縮できる。
【００８１】
［第４実施形態］
上記各実施形態においては、基板保持具２によって角型基板Ｗを回転させて各辺（各縁部）の洗浄を行っているが、図５〜図１０に示すように、移動可能な洗浄具本体を各辺に対して１つずつ設け、所定位置に搬入されてきた角形基板Ｗに対して一度に洗浄及び液滴除去処理を施すこともできる。
【００８２】
図５に本実施形態の装置の概略を示す。角形基板Ｗを保持する所定位置を中心に据えて、ベルト１４５が平面的に正方形となるように張られている。このベルト１４５には、洗浄具本体１１８ａ〜１１８ｄが図５〜図１０に示すように固定されている。これらの洗浄具本体１１８ａ〜１１８ｄは第１実施形態の洗浄具本体１１８と同様の構成のものである。洗浄具本体１１８ａ〜１１８ｄは、図示しない駆動手段によるベルト１４５の移動に従って、それぞれ図５に示す第１原点位置Ｏｒｇ．１と図１０に示す第２原点位置Ｏｒｇ．２との間を直線移動する。このベルト１４５の動き、すなわち洗浄具本体１１８ａ〜１１８ｄの動きは、図示しない制御部によって制御される。この装置では、例えば、図２に示すような各洗浄具本体１１８ａ〜１１８ｄの動きによって、以下に示すように一度に角形基板Ｗの４辺を洗浄及び液滴除去する。
【００８３】
ここでは、まず各洗浄具本体１１８ａ〜１１８ｄが図５に示す第１原点位置Ｏｒｇ．１に待避しているときに、角形基板Ｗが図５に示す所定位置に保持される。
【００８４】
次に、第１原点位置Ｏｒｇ．１から図６に示す位置Ａへと洗浄具本体１８が移動する（ステップＳ２１）。
【００８５】
次に、洗浄具本体１８は、位置Ａと図９に示す位置Ｂとの間を１往復半する洗浄工程に入る（ステップＳ２２〜Ｓ２４）。洗浄具本体１８が位置Ａと位置Ｂとの間にあるときには、例えば図７や図８に示すように、各洗浄具本体１１８ａ〜１１８ｄは、角形基板Ｗの各辺に沿って移動しながら、溶剤の吐出、ガスの吐出、及び排気口４９からの吸引によって表裏両面と周端面の不要な薄膜を溶解除去する。
【００８６】
そして、ステップＳ２４が完了した時点では、洗浄具本体１８は図９に示す位置Ｂにあり、角形基板Ｗの各角部、特に周端面と裏面には液滴が残っている。
【００８７】
次に、洗浄具本体１８は、液滴が残っている角形基板Ｗの角部よりも位置Ａ側にある位置、例えば図８に示す位置まで戻り（ステップＳ２５）、そこから位置Ｂまでガスの吐出及び吸引だけを行いながらゆっくりとした速度で移動する（ステップＳ２６）。このような液滴除去工程によって、基板Ｗの角部に残っていた液滴が除去される。この後、洗浄具本体１８は図１０に示す第２原点位置Ｏｒｇ．２に移動する（ステップＳ２７）。
【００８８】
次の角形基板Ｗの処理に移るときには、洗浄具本体１１８ａ〜１１８ｄを図１０に示す第２原点位置Ｏｒｇ．２に待避させた状態で、処理済みの角形基板Ｗを搬出して次の角形基板Ｗを所定位置に搬入する。そして、今度は洗浄具本体１１８ａ〜１１８ｄを第２原点位置Ｏｒｇ．２から出発させ、図２の洗浄具本体１８のポジションと時間との関係を左右対称にひっくり返した時系列をたどって洗浄を行い、洗浄及び液滴除去の完了後に洗浄具本体１８は図６に示す位置Ａから図５に示す第１原点位置Ｏｒｇ．１に移動する。
【００８９】
このように一度に角形基板Ｗの４辺全てを洗浄する装置においても、各洗浄具本体１１８ａ〜１１８ｄの待避位置を２ヶ所（図５に示す第１原点位置Ｏｒｇ．１及び図１０に示す第２原点位置Ｏｒｇ．２）設けているため、洗浄具本体１８が位置Ａ（図６）及び位置Ｂ（図９）のどちらにある場合にも洗浄工程を終わらせて液滴除去工程に移ることができる。これにより、洗浄具本体１１８ａ〜１１８ｄの余分な動きが省かれ、角形基板Ｗの処理時間が短くなる。
【００９０】
［第５実施形態］
上記第４実施形態のように角形基板Ｗの各辺に対してそれぞれ洗浄具本体を設けて一度に全辺の洗浄を行う場合であって、常に洗浄具本体１１８ａ〜１１８ｄが図５に示す第１原点位置Ｏｒｇ．１にある状態から角形基板Ｗの洗浄を行いたいような場合には、角形基板Ｗの搬出時において図１１に示すステップＳ５８のような動きをさせて洗浄具本体１１８ａ〜１１８ｄを第２原点位置Ｏｒｇ．２から第１原点位置Ｏｒｇ．１に戻すこともできる。
【００９１】
ここでは、まず、各洗浄具本体１１８ａ〜１１８ｄが第１原点位置Ｏｒｇ．１に待避しているときに、角形基板Ｗが所定位置に搬入されてくる。
【００９２】
次に、第１原点位置Ｏｒｇ．１から位置Ａへと洗浄具本体１８が移動する（ステップＳ５１）。
【００９３】
次に、洗浄具本体１８は、位置Ａと位置Ｂとの間を１往復半する洗浄工程に入る（ステップＳ５２〜Ｓ５４）。ここでは、洗浄具本体１１８ａ〜１１８ｄは、溶剤の吐出、ガスの吐出、及び排気口４９からの吸引によって表裏両面と周端面の不要な薄膜を溶解除去する。
【００９４】
そして、ステップＳ５４が完了した時点では、角形基板Ｗの各角部、特に周端面と裏面には液滴が残っている。
【００９５】
次に、洗浄具本体１８は、液滴が残っている角形基板Ｗの角部よりも位置Ａ側にある位置まで戻り（ステップＳ５５）、そこから位置Ｂまでガスの吐出及び吸引だけを行いながらゆっくりとした速度で移動する（ステップＳ５６）。このような液滴除去工程によって、基板Ｗの角部に残っていた液滴が除去される。この後、洗浄具本体１８は第２原点位置Ｏｒｇ．２に移動する（ステップＳ５７）。
【００９６】
次の角形基板Ｗの処理に移るときには、洗浄具本体１１８ａ〜１１８ｄを第２原点位置Ｏｒｇ．２に待避させた状態で、処理済みの角形基板Ｗの搬出を開始する。そして、角形基板Ｗの搬出を行っているときに、同時に洗浄具本体１１８ａ〜１１８ｄを第２原点位置Ｏｒｇ．２から第１原点位置Ｏｒｇ．１に戻す（ステップＳ５８）。これにより、次の角形基板Ｗが搬入されてくるときには、洗浄具本体１１８ａ〜１１８ｄは第１原点位置Ｏｒｇ．１に待避した状態となる。
【００９７】
【発明の効果】
本発明では、基板の縁部の両端付近にそれぞれ待避位置を設けているため、洗浄手段が第１位置及び第２位置のどちらにある場合にも洗浄工程を終わらせて液滴除去工程に移ることができる。これにより、洗浄手段の余分な動きを省くことが可能となり、洗浄工程及び液滴除去工程を含む基板処理の処理時間を短くすることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施形態における基板端縁処理装置の一部切欠き側面図。
【図２】第１実施形態の洗浄具本体の動作図。
【図３】第２実施形態の洗浄具本体の動作図。
【図４】第３実施形態の洗浄具本体の動作図。
【図５】第４実施形態の洗浄具本体の動作図。
【図６】第４実施形態の洗浄具本体の動作図。
【図７】第４実施形態の洗浄具本体の動作図。
【図８】第４実施形態の洗浄具本体の動作図。
【図９】第４実施形態の洗浄具本体の動作図。
【図１０】第４実施形態の洗浄具本体の動作図。
【図１１】第５実施形態の洗浄具本体の動作図。
【図１２】従来の洗浄具本体の動作図。
【図１３】従来の洗浄具本体の動作図。
【図１４】液滴の基板に対する付着状態図。
【図１５】従来の洗浄具本体の動作図。
【図１６】従来の洗浄具本体の動作図。
【符号の説明】
１８  洗浄具本体（洗浄手段）
１９  移動手段
２６ａ，２６ｂ  第１，第２溶剤ノズル（溶剤吐出ノズル）
１１８ａ〜１１８ｄ  洗浄具本体（洗浄手段）
Ｏｒｇ．１  第１原点位置
Ｏｒｇ．２  第２原点位置
Ｓｔａｒｔ  位置（第１位置）
Ｅｎｄ  位置（第２位置）
Ａ  位置（第１位置）
Ｂ  位置（第２位置）
Ｗ  角形基板
【図１】
0003599088.tif 000002
【図２】
0003599088.tif 000003
【図３】
0003599088.tif 000004
【図４】
0003599088.tif 000005
【図５】
0003599088.tif 000006
【図６】
0003599088.tif 000007
【図７】
0003599088.tif 000008
【図８】
0003599088.tif 000009
【図９】
0003599088.tif 000010
【図１０】
0003599088.tif 000011
【図１１】
0003599088.tif 000012
【図１２】
0003599088.tif 000013
【図１３】
0003599088.tif 000014
【図１４】
0003599088.tif 000015
【図１５】
0003599088.tif 000016
【図１６】
0003599088.tif 000017