(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
銅張りセラミック基板を形成するセラミック基板と下側及び上側銅板を夫々個別に収納した３個のカセットと、この各カセット内のセラミック基板等を上昇せしめるための昇降手段と、上記３個のカセットの上方に配置した１個の吸着ユニットと、この吸着ユニットからセラミック基板等を受取り、位置決めする位置決め手段と、この位置決め手段によって位置決めされたセラミック基板等を互いに重ね合わせて銅張りセラミック基板を形成するための基板受取台と、この基板受取台と上記位置決め手段に対し上記吸着ユニットを搬送するための搬送手段と、銅張りセラミック基板を処理装置に投入するための投入コンベアーと、この投入コンベアー上に基板保護材を供給載置せしめるための基板保護材供給手段と、投入コンベアー上に載置された基板保護材上に、上記基板受取台上から銅張りセラミック基板を供給載置せしめるための銅張りセラミック基板搬送手段とより成ることを特徴とする処理部に対する銅張りセラミック基板投入装置。
【請求項２】
上記位置決め手段が、吸着ユニットから釈放されたセラミック基板等を受け取る位置決めプレートと、この位置決めプレート上に突出する、Ｘ方向及びＹ方向に互いに離間した２対の可動板と、これら可動板を上記位置決めプレートのセンターを中心として夫々Ｘ方向及びＹ方向に互いに離，接するように制御する駆動手段と、上記位置決めプレートの中心部に形成した透孔と、同じく中心部近傍に開孔した真空吸着ポートとより成ることを特徴とする請求項１記載の処理部に対する銅張りセラミック基板投入装置。
【請求項３】
上記銅張りセラミック基板搬送手段が、上記基板受取台上の銅張りセラミック基板の両側下面を支持するための一対の支持杆と、この支持杆を互いに接近する方向に移動し及び復帰せしめるための駆動手段と、上記支持杆と共に銅張りセラミック基板を上下に挾持するため上下動可能なピンシリンダーと、上記支持杆とその駆動手段及びピンシリンダーをあらかじめ銅張りセラミック基板の幅寸法に応じて位置決めするための手段と、上記支持杆等を一体に上記投入コンベアー上に搬送せしめる搬送手段とより成ることを特徴とする請求項１または２記載の処理部に対する銅張りセラミック基板投入装置。
【請求項４】
下側銅板を収納したカセット内の銅板を上動し、吸着ユニットによって吸着せしめ、この吸着ユニットを位置決めプレート上に搬送し、載置せしめる工程と、
Ｘ方向及びＹ方向に互いに離間した対の可動板を夫々位置決めプレートの中心方向に移動して銅板を位置決めする工程と、
位置決めされた銅板の下面を上記位置決めプレートによって真空吸着せしめながら上記銅板の上面を吸着ユニットによって真空吸着し、基板受取台上に運び銅板を釈放する工程と、
吸着ユニットを再び上記位置決めプレート上に下降し、２枚取りの結果、上記位置決めプレートに吸着され残存している銅板を吸着除去する工程と、
上記各工程をセラミック基板及び上側銅板に対し繰り返し、上記基板受取台上に銅張りセラミック基板を組立てる工程と、
処理装置に対する投入コンベアー上に上記銅張りセラミック基板を基板保護材を介して載置せしめる工程とより成ることを特徴とする処理部に対する銅張りセラミック基板投入方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】
本発明は処理部に対する銅張りセラミック基板投入方法及び装置、特に、接合炉等の処理装置に対し銅張りセラミック基板を投入するための方法及び装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
一般に、半導体基板の接合炉に送られる銅張りセラミック基板１は、図７に示すようにセラミック基板２の下面及び上面に夫々下側及び上側銅板３，４を重ね合わせた未接合のものである。
【０００３】
従来の処理部に対する銅張りセラミック基板投入方法及び装置においては、個々のカセット内に上記セラミック基板２、下側及び上側銅板３，４を夫々積層収納し、セラミック基板２等を夫々昇降手段によって上昇し、その最上部のものをカセットの上部に位置する対応する個々の真空吸着ユニットにより吸着し、シリンダー駆動の基板搬送装置により夫々並列的に位置決めローラーコンベアー上に搬送載置し、このローラーコンベアー上に載置されたセラミック基板２等を夫々ローラーコンベアーにより前進し、前進面を前面ストッパーにより位置決めし、この位置で左からの寄せプレートにより右側ストッパーに向かって押動し、右側面を位置決めする。
【０００４】
上記のように角面位置決めしたものを夫々個々の他の吸着ユニットにより吸着し、上記搬送装置とは別の搬送装置によりウオーキングテーブル上に搬送載置し、先ず下側銅板３をテーブル上で所定位置に移動し、次いでセラミック基板２を上記下側銅板３上に載置し、次いで上側銅板４をセラミック基板２上に載置して銅張りセラミック基板１を形成し、この３枚重ねの銅張りセラミック基板１を、３枚重ね投入装置により接合炉に対する投入コンベアー上にセラミック材の基板保護材を介して載置している。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
然しながら、上記従来の処理部に対する銅張りセラミック基板投入方法及び装置においては、上記セラミック基板等がローラーコンベアー上で夫々角面位置決めされるものであるから、セラミック基板等の種類が変わる毎に銅板３，４がセラミック基板２のセンターに位置されるようその都度位置決め手段を調整する必要がある。
【０００６】
また、２個の基板搬送装置が銅張りセラミック基板１上に位置されることになるためセラミック基板等の種類が変わった場合の段取りが困難であり、メンテナンス性が悪い。
【０００７】
また、ウオーキングテーブル上でのセラミック基板等の移動装置は複雑でコストが高く、その移動回数も多いため振動等によりセラミック基板等にずれを発生し易い。
【０００８】
また、３枚重ね投入装置はセラミック基板等の幅寸法により幅方向の調整が必要であり現物合わせのための時間を必要とする。
【０００９】
本発明は上記の欠点を除くようにしたものである。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
本発明の処理部に対する銅張りセラミック基板投入装置は、銅張りセラミック基板を形成するセラミック基板と下側及び上側銅板を夫々個別に収納した３個のカセットと、この各カセット内のセラミック基板等を上昇せしめるための昇降手段と、上記３個のカセットの上方に配置した１個の吸着ユニットと、この吸着ユニットからセラミック基板等を受取り、位置決めする位置決め手段と、この位置決め手段によって位置決めされたセラミック基板等を互いに重ね合わせて銅張りセラミック基板を形成するための基板受取台と、この基板受取台と上記位置決め手段に対し上記吸着ユニットを搬送するための搬送手段と、銅張りセラミック基板を処理装置に投入するための投入コンベアーと、この投入コンベアー上に基板保護材を供給載置せしめるための基板保護材供給手段と、投入コンベアー上に載置された基板保護材上に、上記基板受取台上から銅張りセラミック基板を供給載置せしめるための銅張りセラミック基板搬送手段とより成る。
【００１１】
上記位置決め手段は、吸着ユニットから釈放されたセラミック基板等を受け取る位置決めプレートと、この位置決めプレート上に突出する、Ｘ方向及びＹ方向に互いに離間した２対の可動板と、これら可動板を上記位置決めプレートのセンターを中心として夫々Ｘ方向及びＹ方向に互いに離，接するように制御する駆動手段と、上記位置決めプレートの中心部に形成した透孔と、同じく中心部近傍に開孔した真空吸着ポートとより成る。
【００１２】
上記銅張りセラミック基板搬送手段は、上記基板受取台上の銅張りセラミック基板の両側下面を支持するための一対の支持杆と、この支持杆を互いに接近する方向に移動し及び復帰せしめるための駆動手段と、上記支持杆と共に銅張りセラミック基板を上下に挾持するため上下動可能なピンシリンダーと、上記支持杆とその駆動手段及びピンシリンダーをあらかじめ銅張りセラミック基板の幅寸法に応じて位置決めするための手段と、上記支持杆等を一体に上記投入コンベアー上に搬送せしめる搬送手段とより成る。
【００１３】
本発明の処理部に対する銅張りセラミック基板投入方法は、下側銅板を収納したカセット内の銅板を上動し、吸着ユニットによって吸着せしめ、この吸着ユニットを位置決めプレート上に搬送し、載置せしめる工程と、Ｘ方向及びＹ方向に互いに離間した対の可動板を夫々位置決めプレートの中心方向に移動して銅板を位置決めする工程と、位置決めされた銅板の下面を上記位置決めプレートによって真空吸着せしめながら上記銅板の上面を吸着ユニットによって真空吸着し、基板受取台上に運び銅板を釈放する工程と、吸着ユニットを再び上記位置決めプレート上に下降し、２枚取りの結果、上記位置決めプレートに吸着され残存している銅板を吸着除去する工程と、上記各工程をセラミック基板及び上側銅板に対し繰り返し、上記基板受取台上に銅張りセラミック基板を組立てる工程と、処理装置に対する投入コンベアー上に上記銅張りセラミック基板を基板保護材を介して載置せしめる工程とより成る。
【００１４】
【実施例】
以下図面によって本発明の実施例を説明する。
【００１５】
本発明の処理部に対する銅張りセラミック基板投入装置は、図１及び図２に示すようにセラミック基板２と下側及び上側銅板３，４を夫々個別に積層収納した３個のカセット５と、この各カセット５内のセラミック基板等をその下側から上昇せしめるための昇降手段６と、上記カセット５の上方に配置した１個の吸着ユニット７と、この吸着ユニット７からセラミック基板等を受け取り、位置決めする位置決め手段８と、この位置決め手段８によって位置決めされたセラミック基板等を互いに重ね合わせて銅張りセラミック基板１を形成するための基板受取台９と、この基板受取台９と上記位置決め手段８に対し上記吸着ユニット７を搬送するための直交ロボット等の搬送手段１０と、銅張りセラミック基板１を接合炉等の処理装置（図示せず）に投入するための投入コンベアー１１と、この投入コンベアー１１上に基板保護材１２を互いに間隔を置いて供給載置せしめるための基板保護材供給手段１３と、投入コンベアー１１上に載置された基板保護材１２上に、上記基板受取台９上から銅張りセラミック基板１を供給載置せしめるための銅張りセラミック基板搬送手段１４とにより構成する。
【００１６】
上記位置決め手段８は、図３及び図４に示すように吸着ユニット７から釈放されたセラミック基板等を受け取る位置決めプレート１５と、この位置決めプレート１５上に突出する、Ｘ方向及びＹ方向に互いに離間した２対の可動板１６ａ，１６ａ及び１６ｂ，１６ｂと、これら可動板１６ａ，１６ａ及び１６ｂ，１６ｂを上記位置決めプレート１５のセンターを中心として夫々Ｘ方向及びＹ方向に互いに離，接するように制御する、ラック１７，ピニオン１８，ラック駆動シリンダー１９，ニリアガイド２０及びロータリーアクチュエーター２１と、上記位置決めプレート１５の中心部に形成した透孔２２と、同じく中心部近傍に開孔した真空吸着ポート２３とより成る。
【００１７】
また、上記基板保護材供給装置１３は、図１及び図２に示すように基板保護材１２を積層収納したカセット２４と、このカセット２４の底部開口から基板保護材１２を１個づつ押し出し供給する供給手段２５と、基板保護材１２を吸着するエアチャックを有する保持上昇シリンダー２６と、保持上昇した基板保護材１２を上記投入コンベアー１１上に搬送し釈放するための搬送手段２７とより成る。
【００１８】
更に、上記銅張りセラミック基板搬送手段１４は、図２，図５及び図６に示すように上記基板受取台９上の銅張りセラミック基板１の両側下面を支持するための一対の支持杆２８と、この一対の支持杆２８を図５に示す状態から互いに接近する方向に図６に示すように移動し及び復帰せしめるためのシリンダー２９と、上記支持杆２８と共に銅張りセラミック基板１を上下に挾持するため上下動可能なピンシリンダー３０と、上記支持杆２８とシリンダー２９及びピンシリンダー３０をあらかじめ銅張りセラミック基板１の幅寸法に応じて位置決めするための台形ねじ３１と、この台形ねじ３１を回動するための目盛り付きハンドル３２と、上記支持杆２８等を一体に保持するフレーム３３と、このフレーム３３をスライドテーブル３４に沿って上下動するための上下動シリンダー３５と、この上下動シリンダー３５をガイドロット３６に沿って上記投入コンベアー１１上に搬送せしめるシリンダー３７とより成る。
【００１９】
本発明の処理部に対する銅張りセラミック基板投入方法においては、下側銅板３を積層収納したカセット５内の銅板３を昇降手段６によってカセット５内を上動せしめ、最上部の銅板３を吸着ユニット７によって吸着せしめ、この吸着ユニット７を搬送手段１０によって位置決め手段８上に搬送し、吸着ユニット７によって吸着している銅板３を位置決めプレート１５上に載置せしめる。
【００２０】
次いで駆動シリンダー１９を駆動してＸ方向及びＹ方向の可動板１６ａ，１６ｂを夫々位置決めプレート１５の中心方向に移動して銅板３の中心が位置決めプレート１５の中心に位置されるようにする。銅板３が位置決めされた状態で上記位置決めプレート１５の中心部近傍に設けた真空吸着ポート２３に、上記吸着ユニット７よりも弱く真空を作用せしめ、銅板３を保持する。
【００２１】
次いで上記吸着ユニット７を銅板３上に下降し、上記位置決めされた銅板３を上記吸着ユニット７によって再び吸着し、上記可動板１６ａ，１６ｂを銅板３から離し、上記吸着ユニット７を銅板３と共に上記搬送手段１０によって基板受取台９上に運び銅板３を釈放する。
【００２２】
次いで上記搬送手段１０により吸着ユニット７を再び上記位置決めプレート１５上に移動し、吸着ユニット７を下降する。
【００２３】
なお、吸着ユニット７によって銅板３が２枚取りされている場合には、上記位置決めプレート１５上から上記位置決めされた銅板３を吸着上昇した際、真空吸着ポート２３の作用により下側の銅板３が引き離され位置決めプレート１５上に残存しているから、上記のように吸着ユニット７が位置決めプレート１５上に下降した際上記残存銅板３を吸着するようになる。
【００２４】
この場合には、これを検知してこの残存銅板３を図２に示すケース３８内に運び投入する。
【００２５】
銅板３が位置決めプレート１５上に残存していない場合には、下降した吸着ユニット７の中心の真空吸着孔（図示せず）が位置決めプレート１５の中心に位置する透孔２２に連通し、真空吸着状態を発生しないからこれによって上記位置決めプレート１５上には銅板３が残存していないことが確認でき、この場合には吸着ユニット７を搬送手段１０によってセラミック基板２を積層収納しているカセット５上に戻し、セラミック基板２に対し上記と同様の吸着搬送動作を行ない、位置決めされたセラミック基板２を基板受取台９上の下側銅板３上に載置する。
【００２６】
次いで、上側銅板４に対しても同様の吸着搬送動作を行ない、位置決めされた上側銅板４をセラミック基板２上に載置し、接着前の銅張りセラミック基板１を形成せしめる。
【００２７】
基板受取台９上に銅張りセラミック基板１が形成された場合には、基板保護材供給手段１３により投入コンベアー１１上に基板保護材１２を進行方向に間隔を置いて配置し、この基板保護材１２上に上記銅張りセラミック基板１を搬送手段１４によって搬送し載置せしめる。
【００２８】
【発明の効果】
本発明の処理部に対する銅張りセラミック基板投入方法及び装置は上記のとおりであるから、下記のような種々の利点を有する。
【００２９】
１）センター位置決め方式による位置決め手段を用いたので、基板等のサイズ違いでも段取り（調整）を必要としない。
【００３０】
２）位置決め手段における位置決めプレートに真空吸着ポートを形成し基板等の上下を同時に吸着するようにしたので、２枚取りによるトラブルを確実に防止できる。
【００３１】
３）銅張りセラミック基板搬送手段の幅調整が簡単にでき段取り作業性が良い。
【００３２】
４）装置全体の構成がシンプルであり、メンテナンス性の向上及び低コスト化が可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の処理部に対する銅張りセラミック基板投入装置の正面図である。
【図２】本発明の処理部に対する銅張りセラミック基板投入装置の平面図である。
【図３】本発明の処理部に対する銅張りセラミック基板投入装置における位置決め手段の縦断正面図である。
【図４】本発明の処理部に対する銅張りセラミック基板投入装置における位置決め手段の平面図である。
【図５】本発明の処理部に対する銅張りセラミック基板投入装置における銅張りセラミック基板搬送手段の正面図である。
【図６】本発明の処理部に対する銅張りセラミック基板投入装置における銅張りセラミック基板搬送手段の正面図である。
【図７】銅張りセラミック基板の正面図である。
【符号の説明】
１  銅張りセラミック基板
２  セラミック基板
３  下側銅板
４  上側銅板
５  カセット
６  昇降手段
７  吸着ユニット
８  位置決め手段
９  基板受取台
１０  搬送手段
１１  投入コンベアー
１２  基板保護材
１３  基板保護材供給手段
１４  銅張りセラミック基板搬送手段
１５  位置決めプレート
１６ａ  可動板
１６ｂ  可動板
１７  ラック
１８  ピニオン
１９  ラック駆動シリンダー
２０  ニリアガイド
２１  ロータリーアクチュエーター
２２  透孔
２３  真空吸着ポート
２４  カセット
２５  供給手段
２６  保持上昇シリンダー
２７  搬送手段
２８  支持杆
２９  シリンダー
３０  ピンシリンダー
３１  台形ねじ
３２  目盛り付きハンドル
３３  フレーム
３４  スライドテーブル
３５  上下動シリンダー
３６  ガイドロット
３７  シリンダー
３８  ケース
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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