(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
Ｂ（ホウ素）元素を含有し、シート抵抗値が２００〜３０００Ω／□、リニアリティ値が±２％以内であることを特徴とする酸化インジウム膜。
【請求項２】
Ｂ（ホウ素）元素、及びＳｎ，Ｓｉ，Ｇｅ，Ｐｂ，Ｔｉ，Ｚｒ，Ｍｇ，Ｃａ，Ｓｒ，Ｂａ，Ｚｎ，Ｃｄ，Ａｌ，Ｐ，Ａｓ，Ｓｂ，Ｂｉ，Ｖ，Ｎｂ及びＴａからなる群より選ばれた少なくとも一種の元素を含有し、シート抵抗値が２００〜３０００Ω／□、リニアリティ値が±２％以内であることを特徴とする酸化インジウム膜。
【請求項３】
Ｂ（ホウ素）元素及びＳｎ（スズ）元素を含有し、シート抵抗値が２００〜３０００Ω／□、リニアリティ値が±２％以内であることを特徴とする酸化インジウム膜。
【請求項４】
Ｂ（ホウ素）元素が、Ｉｎ元素に対して、０．０５〜２０原子％含有することを特徴とする請求項１、２及び３に記載の酸化インジウム膜。
【請求項５】
酸素を含む雰囲気中で２００℃以上の温度で加熱処理することを特徴とする請求項１、２及び４に記載の酸化インジウム膜の成膜方法。
【請求項６】
オゾンを含む雰囲気中で処理することを特徴とする請求項１、２及び４に記載の酸化インジウム膜の成膜方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】
本発明は、酸化インジウム膜及びその成膜方法に関するものであり、特にタッチパネルの透明電極として用いられる高抵抗で均一性に優れた酸化インジウム膜に関する。
【従来の技術】
【０００２】
酸化インジウム膜は透明導電膜であり、スズをドープした酸化インジウム膜（ＩＴＯ膜と称す）は抵抗値が低く、例えば液晶ディスプレイ、エレクトロルミネッセンスディスプレイ、面発熱体、タッチパネルの電極等に広く使用されており、使用目的によってＩＴＯ膜の抵抗値は種々のものが要求される。すなわち、フラットパネルディスプレイ用のＩＴＯ膜では低抵抗のものが要求されるが、タッチパネル用のＩＴＯ膜では逆に高抵抗の膜が要求されている。
【０００３】
従来、抵抗値をコントロールする方法の中で最も普通に行われる方法は膜厚を変えることであった。膜厚を変化させて抵抗値をコントロールすると、当然可視光透過率が変化する。
高抵抗ＩＴＯ膜を得ようとする場合は、膜厚を薄くすることが必要があるが、通常の製法で成膜すると  ２００〜  ３０００  Ω／□のシート抵抗の膜を得るためには１０Å〜  １００Åの膜厚にする必要があり、この場合は膜厚を均一にコントロールするのは難しく、面内の抵抗値の均一性は悪くなる傾向にあった。
また、可視光透過率を所定の値にしようとすると、膜厚が決定され、その膜厚で所定の抵抗値の膜とするためには比抵抗をコントロールする必要があった。
【０００４】
酸化インジウム膜が導電性を発現するメカニズムは、酸化インジウム結晶中の微量の酸素欠陥によって生じる電子がキャリアとなり、それが、電界中で移動することによる。従って、比抵抗（ρ）はキャリア密度（ｎ）と移動度（μ）によって決定され、次式が成り立つ。
ρ＝６．２４×１０１８／（ｎ×μ）        ・・・・  （１）
（ここで  ρ：Ωｃｍ，ｎ：ｃｍ−３，μ：ｃｍ２  ／Ｖ・ｓｅｃ  である。）
【０００５】
酸化インジウム膜のキャリア密度は１０１９、移動度は２０〜５０の値をとるので、比抵抗は、１×１０−２〜３×１０−２Ωｃｍとなり、膜厚が  ２００Åの場合のシート抵抗値は  ５０００  〜  １５０００Ω／□となり、抵抗が高すぎる膜となる。
【０００６】
スズをドープしたＩＴＯ膜の場合、スズドープによりキャリア密度は急激に大きくなる。例えば、インジウムに対して１％ドープすることで、キャリア密度は３×１０２０に増加し、比抵抗は５×１０−４Ωｃｍ、シート抵抗は  ２００Åの膜で  ２５０Ω／□にまで下がってしまう。従って、２００  〜  ３０００  Ω／□のＩＴＯ膜を得るためにはスズドープ量を１％以下の量にする必要があるが、この場合、膜中のスズ量が不均一であると抵抗値の変動は大きく、面内抵抗分布の均一性の悪い膜となってしまい、実用的な方法として問題があった。
【０００７】
また、最近開発されて市場の伸びが期待されるペン入力タッチパネル用導電膜は、位置の認識精度が高くなくてはならないことから、抵抗値の均一性優れた膜であることが要求される。
抵抗値の均一性を評価する方法として、リニアリティ試験がある。これの方法は透明導電膜の向かい合った２辺に銀ペースト等で低抵抗の電極を作成し、両端の電極間の長さをＬ、印加電圧をＶとする。透明導電膜の任意の点について、マイナス側の電極からの距離をｌ、マイナス側の電極とその点の電位差をｖとすると、（ｌ／Ｌ─ｖ／Ｖ）×１００の値をリニアリティ（％）と定義する。リニアリティ値は位置と電位のずれを定義する量であり、文字や図形を認識する目的で製作されるタッチパネルでは、通常、リニアリティ値が±２％以内の透明導電膜が要求される。
【０００８】
本発明者らは先に、スズドープ酸化インジウム膜の高比抵抗化方法として、特願平４−３２８８２７号において、第三成分を添加することにより、２００〜３０００Ω／□の均一性に優れたＩＴＯ膜を成膜する方法を提案している。しかしながら、前記シート抵抗値のＩＴＯ膜の透過率を増加するために、膜厚を２００Å以下にすると膜の耐熱性が低下する場合があった。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、前述の実情からみてなされたもので、シート抵抗値が２００〜３００Ω／□であって、かつ、リニアリティ値±２％以内の均一性及び耐熱性に優れた酸化インジウム膜を成膜する方法を提供することを目的とする。
【００１０】
本発明者らは２００〜３０００Ω／□、リニアリティ値２％以内の酸化インジウム膜を得る方法について鋭意検討した結果、Ｂ元素を含有させて酸化インジウム膜を成膜することにより、均一性及び耐熱性に優れた酸化インジウム膜が得られることを見出し、本発明を完成するに至った。
以下、本発明を詳細に説明する。
【００１１】
前述したように、酸化インジウム単独膜のキャリア密度は１０１９と小さいが、スズを微量ドープすると１０２０台となり、更にドープすると１０２１台になるために、抵抗値は減少する。これは、下記式（２）に示すように、酸化インジウムの結晶において３価のインジウム原子の位置に４価のスズ原子が置換するために自由電子を生じ、キャリア密度を増加するというメカニズムによる。
Ｉｎ３＋→Ｓｎ４＋＋ｅ−                                          ・・・・（２）
【００１２】
すなわち、スズは効率良くキャリアを生成する最適の元素であるために、微量のドープで低抵抗膜が得られる。しかし、  ２００〜  ３０００Ω／□といった高抵抗膜を得るためにはスズのみの添加系では難しい。
【００１３】
従って、もしスズよりもインジウムと置換しにくい元素であり、しかもインジウムと置換した場合にキャリアを生成するような元素をドープすれば、キャリア密度が５×１０１９〜３×１０２０であるような膜が得られると考えられる。
【００１４】
そこで、スズ以外のそのような元素についても検討を行ったところ、２価又は４価の原子価をとりうる元素の中にスズと同様にキャリア密度を増加する効果を有する元素、例えば、２価の原子価をとりうる元素としてＳｒ，Ｃｄなどが、又４価の原子価をとりうる元素としてＳｉ，Ｇｅ，Ｔｉ，Ｚｒなどがあることを見出した。
【００１５】
更に、２価の原子価をとりうる元素として、Ｍｇ，Ｃａ，Ｂａ，Ｚｎ、３価の原子価をとりうる元素としてＡｌ、４価の原子価をとりうる元素としてＰｂ、及び５価の原子価をとりうる元素として、Ｐ、Ａｓ、Ｓｂ、Ｂｉ、Ｖ、Ｎｂ及びＴａが比抵抗を増加する効果があることを見出した（これらの元素を総称して比抵抗調整元素と称する）。即ち、Ｉｎに少なくとも一種の比抵抗調整元素を含有させて成膜することにより、２００〜３０００Ω／□、リニアリティ値±２％以内の酸化インジウム膜が得られることを見出した。
【００１６】
しかしながら、前記シート抵抗値のＩＴＯ膜の透過率を増加するために膜厚を２００  Å以下にすると膜の耐熱性が低下する場合があったので、耐熱性をさらに改良すべく鋭意検討を行い、Ｂ元素を含有させることにより耐熱性を改良できることを見出し、本発明を完成するに至ったものである。
【００１７】
これらの元素を含有した酸化インジウム膜を成膜する方法としては、一般に知られている種々の方法を採用できる。すなわち、所謂、スパッター法、電子ビーム蒸着法、イオンプレーティング法、化学気相成膜法（ＣＶＤ法）、パイロゾル法等において、酸化インジウム膜中に前記の元素が含有されるよう成膜することで、高抵抗でかつ均一性及び耐熱性に優れた酸化インジウム膜が成膜される。
【００１８】
また、本発明者らは、前記方法で作成したＢ元素を含有する酸化インジウム膜を更に高抵抗化及び高透過率化する方法についてもさらに検討し、酸素を含む雰囲気中で２００℃以上の温度で加熱処理又はオゾンを含む雰囲気中で１００℃以上の温度で加熱処理する方法、あるいはＵＶ−オゾン雰囲気中で処理することを特徴とする酸化インジウム膜の成膜方法を見出した。
【００１９】
すなわち、酸化インジウム膜のキャリア密度は酸素欠陥量を変化させる方法又はドープ量を変化する方法によって変量出来、酸素欠陥量は酸化雰囲気下での加熱により減少して、高抵抗化し、更に透過率が向上することを見出した。
【００２０】
この透過率の増加は有機金属化合物又は金属有機化合物を原料に用いる化学気相成膜法やパイロゾル成膜法で成膜した酸化インジウム膜の成膜に特に顕著であることを見出した。
【００２１】
更に、化学気相成膜法やパイロゾル成膜法で成膜した酸化インジウム膜をオゾンを含む雰囲気下で加熱処理すると、透過率の増加に加えて耐熱性も向上することを見出した。
【００２２】
得られる膜の透明性、化学エッチングのし易さ等は、成膜方法によって条件は異なるが、一般的にＬＣＤ用の低抵抗ＩＴＯ膜を成膜する条件で成膜することが可能である。
【００２３】
すなわち、Ｉｎ（インジウム）、Ｂ（ホウ素）、及びＳｎ，Ｓｉ，Ｇｅ，Ｐｂ，Ｔｉ，Ｚｒ，Ｍｇ，Ｃａ，Ｓｒ，Ｂａ，Ｚｎ，Ｃｄ，Ａｌ，Ｐ，Ａｓ，Ｓｂ，Ｂｉ，Ｖ，Ｎｂ及びＴａ等からなる群から選ばれた少なくとも一種の元素の単体又は化合物を、スパッター法では、酸化インジウムターゲットに添加し、電子ビーム蒸着法、イオンプレーティング法ではペレットに添加し、ＣＶＤ法、パイロゾル法では原料中に気化しやすい化合物として添加すれば良い。
【００２４】
（添加物質）
本発明に用いられるＢ化合物及び比抵抗調整元素化合物は、有機金属化合物（金属−Ｃ結合を有する化合物）、金属有機化合物（金属−Ｏ結合、金属−Ｎ結合、金属−Ｓ結合を有する化合物）、金属ハロゲン化合物又は無機塩化合物であり、蒸気圧を有する化合物や溶剤に溶解する化合物であれば特に制限はないが、金属アルコキシド類、β−ジケトンやジオール等を配位子とする金属キレート化合物、カルボン酸塩、及び塩化物などが好適に用いられる。更に、パイロゾル法では、適当な溶剤に溶解でき、均一な溶液になれば、その他の無機塩化合物も好適に使用できる。
【００２５】
次に、本発明に用いられる化合物の例を示す。但し、化学式中、ＡｃＡｃ＝Ｃ５Ｈ７Ｏ２  （アセチルアセトナート）を示す。
【００２６】
（Ｂ化合物）
Ｂ（ＯＣＨ３）３  ，  Ｂ（ＯＣ２Ｈ５）３  ，  Ｂ（ＯＣ４Ｈ９）３  ，  Ｂ［Ｏ（ＣＨ２）１７ＣＨ３］３  ，    Ｂ（Ａ
ｃＡｃ）３  ，Ｂ（Ｃ４Ｈ９）３  ，  ＢＢｒ３    ，ＢＣｌ３  ，Ｈ３ＢＯ３  ，  Ｂ２Ｏ３  、（ＮＨ４）２Ｏ５Ｂ２Ｏ３８Ｈ２Ｏ  ，ＮＨ４ＢＦ４  ，ＢＦ３Ｏ（Ｃ２Ｈ５）２  など
【００２７】
（Ｍｇ，Ｃａ，Ｓｒ，Ｂａ，Ｚｎ，Ｃｄ化合物）
Ｍｇ（ＯＣＨ３）２  ，Ｍｇ（ＯＣ２Ｈ５）２  ，Ｍｇ（ＯＣ４Ｈ９）２  ，Ｍｇ（ＡｃＡｃ）２  ，Ｍｇ（ＯＣＯＣ７Ｈ１５）
２  ，ＭｇＣｌ２
Ｃａ（ＯＣＨ３）２  ，Ｃａ（ＯＣ２Ｈ５）２  ，Ｃａ（ＯＣ４Ｈ９）２  ，Ｃａ（ＡｃＡｃ）２  ，Ｃａ（ＯＣＯＣ７Ｈ１５）
２  ，ＣａＣｌ２
Ｓｒ（ＯＣＨ３）２  ，Ｓｒ（ＯＣ２Ｈ５）２  ，Ｓｒ（ＯＣ４Ｈ９）２  ，Ｓｒ（ＡｃＡｃ）２  ，Ｓｒ（ＯＣＯＣ７Ｈ１５）
２  ，ＳｒＣｌ２
Ｂａ（ＯＣＨ３）２  ，Ｂａ（ＯＣ２Ｈ５）２  ，Ｂａ（ＯＣ４Ｈ９）２  ，Ｂａ（ＡｃＡｃ）２  ，Ｂａ（ＯＣＯＣ７Ｈ１５）
２  ，ＢａＣｌ２
Ｚｎ（ＯＣＨ３）２  ，Ｚｎ（ＯＣ２Ｈ５）２  ，Ｚｎ（ＯＣ４Ｈ９）２  ，Ｚｎ（ＡｃＡｃ）２  ，Ｚｎ（ＯＣＯＣ７Ｈ１５）
２  ，ＺｎＣｌ２
Ｃｄ（ＯＣＯＣＨ３）２  ，Ｃｄ（ＯＣＯＣ７Ｈ１５）２  ，ＣｄＣｌ２  など。
【００２８】
（Ｓｎ，Ｓｉ，Ｇｅ，Ｔｉ，Ｚｒ化合物）
Ｓｎ（ＯＣＨ３）４  ，Ｓｎ（ＯＣ２Ｈ５）４  ，Ｓｎ（ＯＣ４Ｈ９）４  ，Ｓｎ（ＡｃＡｃ）４  ，Ｓｎ（ＯＣＯＣ７Ｈ１５）
４  ，ＳｎＣｌ４
Ｓｉ（ＯＣＨ３）４  ，Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）４  ，ＳｉＣＨ３（ＯＣＨ３）３  ，ＳｉＣｌ４  
Ｇｅ（ＯＣＨ３）４  ，Ｇｅ（ＯＣ２Ｈ５）４  ，Ｇｅ（ｉＯＣ３Ｈ７）４  ，Ｇｅ（ＯＣ４Ｈ９）４  ，ＧｅＣｌ４  
Ｔｉ（ＯＣ２Ｈ５）４  ，Ｔｉ（ｉＯＣ３Ｈ７）４  ，  Ｔｉ（ＯＣ４Ｈ９）４  ，  Ｔｉ（ＡｃＡｃ）４  ，Ｔｉ（ＯＣ
４Ｈ９）２Ｃｌ２  ，  ＴｉＣｌ４  Ｚｒ（ＯＣ２Ｈ５）４  ，Ｚｒ（ｉＯＣ３Ｈ７）４  ，  Ｚｒ（ＯＣ４Ｈ９）４  ，  Ｚｒ（ＡｃＡｃ）４  ，Ｚｒ（ＯＣＯＣＨ３）４  ，ＺｒＣｌ４
Ｚｒ（ＯＣＯＣ７Ｈ１５）４  ，  ナフテン酸Ｚｒ  など。
【００２９】
（Ｉｎ，Ａｌ化合物）
Ｉｎ（ＯＣＨ３）３  ，Ｉｎ（ＯＣ２Ｈ５）３  ，ＩｎＣｌ３  ，Ｉｎ（ＡｃＡｃ）３  ，Ｉｎ（ＮＯ３）３ｎＨ２Ｏ
Ａｌ（ＯＣ２Ｈ５）３  ，Ａｌ（ｉＯＣ３Ｈ７）３  ，  Ａｌ（ＯＣ４Ｈ９）３  ，  Ａｌ（ＡｃＡｃ）３  ，Ａｌ（ＮＯ３
）３９Ｈ２Ｏ  など
【００３０】
（Ｐ，Ａｓ，Ｓｂ，Ｂｉ，Ｖ，Ｎｂ，Ｔａ化合物）
Ｐ（ＯＣ２Ｈ５）３  ，ＰＯ（ＯＣＨ３）３  ，ＰＯ（ＯＣ２Ｈ５）３  ，Ｈ３ＰＯ４  ，  Ｐ２Ｏ５  
ＡｓＣｌ３  ，Ａｓ２Ｏ５  ，Ｈ３ＡｓＯ４  ，
Ｓｂ（ＯＣＨ３）３  ，Ｓｂ（ＯＣ２Ｈ５）３  ，Ｓｂ（ＯＣ４Ｈ９）３  ，Ｓｂ（ｉＯＣ３Ｈ７）３  ，ＳｂＣｌ３  ，Ｓ
ｂＣｌ５
Ｂｉ（ＯＣＯＣ７Ｈ１５）３  ，  Ｂｉ［（ＯＨ）ＣＯＯ（ＣＨ２ＣＯＯ）２］  ，Ｂｉ（ＮＯ３）３５Ｈ２Ｏ  ，ＢｉＣｌ３  
Ｖ（ＡｃＡｃ）３  ，ＶＯ（ＡｃＡｃ）３  ，Ｖ（ＯＣＯＣ７Ｈ１５）３  ，ＶＯ（ＯＣ４Ｈ９）３  ，  ＶＯ（ＯＣ２Ｈ５）
３  ，ＶＯ（ＯＣＨ３）３  
Ｎｂ（ＯＣ２Ｈ５）５  ，Ｎｂ（ｉＯＣ３Ｈ７）５  ，  ＮｂＣｌ５  
Ｔａ（ＯＣ２Ｈ５）５  ，Ｔａ（ｉＯＣ３Ｈ７）５  ，  ＴａＣｌ５  など
【００３１】
酸化インジウム膜を成膜するに際して、Ｂ元素の添加量は、通常インジウム元素に対して  ０．０５  〜２０原子％であり、好適には０．５  〜１０原子％である。
【００３２】
酸化インジウム膜を成膜するに際して、比抵抗調整元素の添加量は、目的とする抵抗値にあった元素及び添加量を適宜選択されるが、インジウム元素に対して、０．０５〜４０原子％が好適である。
【００３３】
【実施例】
以下、実施例により本発明を更に具体的に説明する。ただし、本発明はこれらに何ら限定されるものではない。
【００３４】
（実施例１）
超音波霧化による常圧ＣＶＤ法（パイロゾル成膜法）により酸化インジウム膜を成膜するに際し、インジウム原料としてＩｎＣｌ３  のメタノール溶液を用いた（濃度は  ０．２５  ｍｏｌ／ｌ）。Ｓｎ（ＯＣ４  Ｈ９  ）４  のアセチルアセトン溶液及びＢ（ＯＣＨ３  ）３  のアセチルアセトン溶液を、Ｓｎ／Ｉｎ＝５．０  原子％及びＢ／Ｉｎ＝５．０  原子％添加した溶液を調整した。基板には厚さ１ｍｍで３０ｃｍ角のソーダライムガラス上に  ４００ÅのＳｉＯ２  膜がコートされたものを用いた。
パイロゾル成膜装置に基板をセットし  ５００℃に加熱し、超音波により  ２．２  ｍｌ／ｍｉｎ  霧化させ基板に導入し、２分間成膜した。
得られた酸化インジウム膜は、膜厚  １７０Å、シート抵抗  ５３０Ω／□、シート抵抗のバラツキ±５  ％、リニアリティ値±０．９％以内、透過率（５５０ｎｍ）  ９０．５％，加熱変化率（２００  ℃×３０分空気中加熱後の抵抗値の変化率）  １．１５倍で均一性、透過率及び耐熱性が良好な膜であった。得られたＩＴＯ膜の膜中のＢ及びＳｎをＩＣＰ発光分析法で分析したところ、Ｂ＝３．９原子％、Ｓｎ＝４．５原子％であった。
【００３５】
（実施例２〜６）
実施例１において、Ｓｎ化合物及びＢ化合物の添加量を表１に記載したようにかえて、実施例１と同様な条件でパイロゾル法で成膜した。いずれの場合も均一性、透過率及び耐熱性に優れた高抵抗の膜が得られた。
【００３６】
（比較例１）
実施例１において、Ｂ化合物を添加しない他は実施例１と同様な条件でパイロゾル成膜し、結果を表１に示した。膜厚が１６０  Åと薄いため高透過率となったが加熱変化率が非常に大きい膜であった。
【００３７】
（実施例７〜２０）
実施例１において、Ｓｎ化合物の代わりに４価の原子価をとりうる元素（Ｓｉ，Ｇｅ，Ｐｂ，Ｔｉ及びＺｒ）の化合物、２価の原子価をとりうる元素（Ｍｇ，Ｃａ，Ｓｒ，Ｂａ，Ｚｎ及びＣｄ）の化合物、３価の原子価をとりうる元素（Ａｌ）の化合物又は５価の原子価をとりうる元素（Ｔａ及びＰ）化合物からなる群から選ばれた化合物とＢ化合物の組み合わせの添加量を表２に記載したようにかえて、実施例１と同様な条件でパイロゾル法で成膜した。いずれの場合も均一性、透過率及び耐熱性に優れた高抵抗の膜が得られた。
【００３８】
以下に、各実施例に使用した化合物の組合せを次に示す。
実施例  ７〔Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）４／Ｂ（ＯＣＨ３）３〕
実施例  ８〔Ｇｅ（ＯＢｕ）４／Ｂ（ＯＣＨ３）３〕
実施例  ９〔ＰｂＯ  ／Ｈ３ＢＯ３  〕
実施例１０〔Ｔｉ（ＯＢｕ）４／Ｂ（ＡｃＡｃ）３〕
実施例１１〔Ｚｒ（ＯＢｕ）４／ＢＣｌ３〕
実施例１２〔Ｍｇ（ＯＣＨ３）２  ／ＮＨ４ＢＦ４〕
実施例１３〔Ｃａ（ＯＣＴ）２／Ｂ（ＯＣＨ３）３〕
実施例１４〔Ｓｒ（ＯＣＴ）２／Ｂ（ＯＣＨ３）３〕
実施例１５〔Ｂａ（ＯＣＴ）２／ＢＣｌ３〕
実施例１６〔Ｚｎ（ＯＣＴ）２／Ｂ（ＯＣＨ３）３〕
実施例１７〔ＣｄＣｌ２  ／Ｂ（ＯＣＨ３）３〕
実施例１８〔Ａｌ（ＯＣＴ）３／Ｂ（ＯＣＨ３）３〕
実施例１９〔Ｔａ（ＯＣ２Ｈ５）５／Ｂ（ＯＣＨ３）３〕
実施例２０〔Ｐ２Ｏ５／Ｈ３ＢＯ３  〕
但し、上記式中、ＯＢｕ  は、ＯＣ４Ｈ９  ，ＯＣＴ  は、ＯＣＯＣ７Ｈ１５，ＡｃＡｃは、Ｃ５Ｈ７
Ｏ２をそれぞれ表す。
【００３９】
（比較例２）
実施例８において、Ｂ化合物を除いた他は実施例８と同様の成膜条件で、パイロゾル成膜を行い、結果を表２に示した。実施例８の膜特性に比べＢ化合物を添加しないと抵抗値の低下と加熱変化率が悪化した。
【００４０】
（実施例２１）
Ｉｎに対して８原子％のＳｎ及び１０原子％のＢを含有する３０ｃｍのＩｎ２  Ｏ３  ターゲットを用いてガラス基板上にスパッター成膜を行った。ガラス基板は厚さ１ｍｍで３０ｃｍ角のソーダライムガラス上に４００  ÅのＳｉＯ２  膜がコートされたものを用いた。なお、ＲＦ出力２００  Ｗ、圧力＝０．５  Ｐａ、ガス組成はＡｒ：Ｏ２  ＝９８：２、基板温度＝３００  ℃、成膜時間３分で行った。
得られたＩＴＯ膜は、膜中のＳｎ及びＢをＩＣＰ発光分光法で分析したところ、Ｓｎ＝６．０  原子％、Ｂ＝５．０  原子％、膜厚２００  Å、シート抵抗８１０  Ω／  □、シート抵抗のバラツキ±７％、リニアリティ値±１．４％以内、透過率（５５０ｎｍ）  ９０．０％，加熱変化率（２００  ℃×３０分加熱後の抵抗値の変化率）  １．０５倍で均一性、透過率及び耐熱性が良好な膜であった。
【００４１】
（実施例２２〜２４）
実施例１で得た酸化インジウム膜を４００℃の空気中で１分間加熱処理後、急冷した（実施例２２）。
【００４２】
また、同様に、実施例１で得た酸化インジウム膜を１００℃に加熱し、約５０ｇ／ＮＭ３  のオゾンを含む空気で５分間処理後、急冷した（実施例２３）。
【００４３】
更に同様に、実施例１で得た酸化インジウム膜をＵＶ−オゾン雰囲気中、室温で５分間処理した（実施例２４）。
処理後の酸化インジウム膜の膜特性を表３に示した。
【００４４】
【表１】
0003589428.tif 000002
【００４５】
【表２】
0003589428.tif 000003
【００４６】
【表３】
0003589428.tif 000004
【００４７】
【発明の効果】
本発明によれば、酸化インジウム膜の成膜に際し、膜中に、Ｂ（ホウ素）原子、及び比抵抗調整元素として２価、３価、４価及び５価の原子価をとりうる元素からなる群から選ばれた少なくとも一種の特定の元素を添加することにより、均一性、透過率性及び耐熱性に優れた２００Ω〜３０００Ω／□のシート抵抗、かつ、リニアリティ値±２％以内の酸化インジウム膜を得ることが出来る。
【００４８】
また、さらに、酸素含有雰囲気又はオゾン含有雰囲気中で加熱処理することにより、さらに高抵抗、高透過率及び高耐熱性の膜を得ることが出来るので、その実用的価値は極めて大である。