(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
一般式〔１〕
【化１】
0003555119.tif 000015
〔式中、Ｒ1はＣ1-18アルキル基、ヒドロキシ基、Ｃ1-18アルコキシ基、Ｃ1-18アルキルカルボニルオキシ基またはハロゲン原子を、ｎは０，１，２または３を示す。但し、ｎが２以上の時はＲ1は異なってもよい。Ｒ2はＣ1-6アルキル基を、Ｒ3およびＲ4は水素原子またはＣ1-6アルキル基を、Ｒ5およびＲ6は水素原子またはＣ1-6アルキル基、ヒドロキシ基、Ｃ1-6アルコキシ基、Ｃ1-18アルキルカルボニルオキシ基、または芳香族カルボニルオキシ基を、Ｒ7はＣ4-20アルキル基または式（II）
【化２】
0003555119.tif 000016
（式中、Ｒ8はＣ1-18アルキル基、ヒドロキシ基、Ｃ1-18アルコキシ基、Ｃ1-18アルキルカルボニルオキシ基、芳香族カルボニルオキシ基またはハロゲン原子を、ｍは０，１，２または３を示す。但し、ｍが２以上の時はＲ8は異なってもよい。）を、Ｘは非求核性のアニオン残基を示す。但し、Ｒ1が、Ｃ1-18アルコキシ基の場合、Ｒ7は、式（II）を示す。〕で表されるスルホニウム塩化合物の少なくとも一種を含有することを特徴とするカチオン重合開始剤。
【請求項２】
一般式〔Ｉ〕で表されるスルホニウム塩化合物およびカチオン重合性化合物を含有することを特徴とする硬化性組成物。
【請求項３】
一般式〔Ｉ〕で表されるスルホニウム塩化合物、増感剤およびカチオン重合性化合物を含有することを特徴とする硬化性組成物。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】
本発明は、新規スルホニウム塩化合物および該化合物を含有する硬化性組成物に関し、更に詳しくは、加熱または光、電子線、Ｘ線等の活性エネルギー線照射により、極めて薄い膜から厚手の膜まで短時間で硬化するカチオン硬化性組成物に関する。該組成物の硬化物は優れた物性を有するため、塗料、接着剤、フォトレジスト、等として好適に用いられる。
【０００２】
【従来の技術】
本発明に類似のスルホニウム塩化合物として、特開昭５０−１５１９９７号、特開昭５０−１５８６８０号、特開平２−１７８３０３号が知られており、光、電子線、Ｘ線等の放射線によりエポキシ化合物等のカチオン重合性化合物を硬化させる触媒として使用できるが記載されている。
しかし、特開昭５０−１５１９９７号等に記載されている化合物は、光硬化には有効であるが、熱触媒として殆ど作用しないため、厚膜の硬化には適用が困難であり、さらに合成方法が複雑で高価であるとともに、モノマーに対する溶解性が低い等の問題点がある。一方、特開平２−１７８３０３号等に記載されている化合物は、熱触媒として作用するため厚膜硬化が可能であるが、光触媒としての性能が著しく低く、モノマーに対する溶解性も低い。更に、遠藤等によって報告されている脂肪族のスルホニウム塩化合物〔ＩＵＰＡＣ  ＭＡＣＲＯ  ８８  Ｐｒｅｐｒ，９０（１９８８）〕も、熱触媒として作用するため、厚膜硬化が可能であるが、光触媒としての性能が著しく低い。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、これらの事情からみてなされたもので、加熱または光、電子線、Ｘ線等の活性エネルギー線照射に高感度で感応するスルホニウム塩化合物を提供すると共に、極めて薄い膜から厚手の膜まで短時間で硬化することが可能で、かつ優れた硬化物物性を有するカチオン硬化性組成物を提供することを目的としている。
【０００４】
【課題を解決するための手段】
本発明者等は、前記目的を達成するため鋭意検討したところ、特定のスルホニウム塩化合物、増感剤およびカチオン重合性化合物を使用することで、加熱または光、電子線、Ｘ線等の活性エネルギー線照射により、極めて薄い膜から厚手の膜まで短時間で硬化し、その硬化物は、優れた物性を示す硬化性組成物を見し、本発明を完成するに至った。
即ち、本発明は、一般式〔Ｉ〕
【０００５】
【化３】
0003555119.tif 000002
〔式中、Ｒ１  はＣ１−１８アルキル基、ヒドロキシ基、Ｃ１−１８アルコキシ基、Ｃ１−１８アルキルカルボニル基またはハロゲン原子を、ｎは０，１，２または３を示す。但し、ｎが２以上の時はＲは異なってもよい。Ｒ２  はＣ１−６  アルキル基を、Ｒ３  およびＲ４  は水素原子またはＣ１−６  アルキル基を、Ｒ５  およびＲ６  は水素原子またはＣ１−６  アルキル基、ヒドロキシ基、Ｃ１−６  アルコキシ基、Ｃ１−１８アルキルカルボニル基または、芳香族カルボニル基を、Ｒ７  はＣ４−２０アルキル基または式
【０００６】
【化４】
0003555119.tif 000003
（式中、Ｒ８  はＣ１−１８アルキル基、ヒドロキシ基、Ｃ１−１８アルコキシ基、Ｃ１−１８アルキルカルボニル基、芳香族カルボニル基またはハロゲン原子を、ｍは０，１，２または３を示す。但し、ｍが２以上の時はＲ８  は異なってもよい。）を、Ｘは非求核性のアニオン残基を示す〕で表されるスルホニウム塩化合物および該化合物、増感剤およびカチオン重合性化合物を含有する硬化性組成物である。
【０００７】
前記式〔Ｉ〕において、Ｒ１  及びＲ８  で表されるフェニル基の置換基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基、デシル基、ドデシル基等のアルキル基、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素等のハロゲン原子、ヒドロキシ基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ヘキシルオキシ基、デシルオキシ基、ドデシルオキシ基等のアルコキシ基、アセトキシ基、プロピオニルオキシ基、デシルカルボニルオキシ基、ドデシルカルボニルオキシ基等のアルキルカルボニル基等が例示できる。Ｒ２  のＣ１−６  アルキル基として、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基、アミル基、ヘキシル基等が例示される。Ｒ３  ，Ｒ４  ，Ｒ５  およびＲ６  のアルキル基、アルコキシ基、アルキルカルボニル基のアルキルとしても前記と同様のものが例示でき、Ｒ６  の芳香族カルボニル基としては、ベンゾイルオキシ基等が例示できる。Ｒ７  のアルキル基としては、Ｃ４  アルキル、Ｃ６  アルキル、Ｃ１０アルキル、Ｃ１６アルキル等が例示できる。Ｘの非求核性のアニオン残基としては、ＳｂＦ６  ，ＡｓＦ６  ，ＰＦ６  またはＢＦ４  等が例示できる。
本発明のスルホニウム塩化合物の代表例を以下に示す。但し、式中のＸは、ＳｂＦ６  ，ＡｓＦ６  ，ＰＦ６  またはＢＦ４  等の非求核性のアニオン残基を示す。
【０００８】
【化５】
0003555119.tif 000004
【０００９】
【化６】
0003555119.tif 000005
【００１０】
【化７】
0003555119.tif 000006
本発明のスルホニウム塩化合物は、下記反応式に従って製造することができる。
【００１１】
【化８】
0003555119.tif 000007
【００１２】
式中、Ｙはハロゲン原子を、Ｍはアルカリ金属を表す。
化合物〔ＩＩ〕と〔ＩＩＩ  〕、〔ＩＶ〕または〔Ｖ〕との反応は、必要により有機溶媒中、室温から１５０℃、好しくは３０℃〜８０℃の温度で１時間から数十時間行われる。反応終了後、反応液に水および化合物〔ＶＩＩ  〕を加え、攪拌する。析出した化合物を濾取または有機溶媒で抽出し、目的物を得る。
【００１３】
本発明のスルホニウム塩化合物は、熱のみならず、光、電子線、Ｘ線等の活性エネルギー線照射によりカチオン重合性化合物を硬化することができるが、増感剤と併用することにより、増感剤を併用しない場合よりも、さらに短時間で硬化することができるようになる。
【００１４】
本発明に使用される増感剤は、上記スルホニウム塩化合物の光反応を促進する化合物を言う。例えば、水素ラジカルを容易に放出する化合物、ラジカル重合禁止剤、スルホニウム塩化合物の光反応過程でスルホニウム塩化合物と反応して結果的にプロトンを放出する化合物、電子供与体等が挙げられる。具体的には、チオール化合物、炭化水素化合物等の水素ラジカルを容易に放出する化合物、４−メトキシフェノール、４−ベンジルオキシフェノール、４−メトキシ−２−（ｔ−ブチル）フェノール、ハイドロキノン、フェノチアジン等のラジカル重合禁止剤、４−メトキシ−１−ナフトール、２−ヒドロキシジベンゾフラン、９，１０−ジメトキシアントラセン、Ｎ，Ｎ−ジフェニル−ｐ−フェニレンジアミン、および下記一般式〔ＶＩＩＩ〕で示される化合物等が使用されるが、好ましくは、４−メトキシフェノール等のフェノール誘導体が使用される。
【００１５】
【化９】
0003555119.tif 000008
〔式中、Ｒ９  およびＲ１０は、同一または相異なる直鎖または分枝のＣ１  〜Ｃ２０のアルキル基を表し、Ｒ９  とＲ１０は一体となって結合してもよく、Ｒ１１は、水素原子、低級アルキル基、またはハロゲン原子を表し、Ｒ１２は、水素原子、ヒドロキシ基、置換されていてもよいアルキル基、置換基を有してもよいフェニル基、置換基を有してもよいベンジル基、置換されていてもよいアルコキシ基、置換されていてもよいフェノキシ基または置換基を有してもよいベンジルオキシ基を表す〕
【００１６】
上記一般式〔ＶＩＩＩ〕で表される化合物としては、例えば、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸、ｐ−ジメチルアミノベンズアルデヒド、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチル、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸（２−ｎ−ブトキシエチル）、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、ｐ−ジメチルアミノアセトフェノン、ｐ−ジエチルアミノ安息香酸、ｐ−ジエチルアミノベンズアルデヒド等を挙げることができる。
本発明に使用されるカチオン重合性化合物として、次のような化合物が上げられる。
【００１７】
（ａ）ビニル化合物として、スチレン、α−メチルスチレン、ｐ−メトキシスチレン、ｐ−ｔ．−ブトキシスチレン等のスチレン化合物、メチルビニルエーテル、ｎ−ブチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、イソブチルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル、２−クロロエチルビニルエーテル、２−フェノキシエチルビニルエーテル、２−ヒドロキシエチルビニルエーテル、４−ヒドロキシブチルビニルエーテル、ステアリルビニルエーテル、２−アセトキシエチルビニルエーテル等のアルキルビニルエーテル化合物、アリルビニルエーテル、２−メタクリロイルオキシエチルビニルエーテル、２−アクリロイルオキシエチルビニルエーテル等のアルケニルビニルエーテル化合物、フェニルビニルエーテル、ｐ−メトキシフェニルビニルエーテル等のアリールビニルエーテル化合物、Ｎ−ビニルカルバゾール、Ｎ−ビニルピロリドン等のカチオン重合性窒素含有化合物、ブタンジオールジビニルエーテル、トリエチレングリコールジビニルエーテル、シクロヘキサンジオールジビニルエーテル、１，４−ベンゼンジメタノールジビニルエーテル、ハイドロキノンジビニルエーテル、サゾルシノールジビニルエーテル等の多官能ビニル化合物
【００１８】
（ｂ）エポキシ化合物として、フェニルグリシジルエーテル、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニルグリシジルエーテル、ブチルグリシジルエーテル、２−エチルヘキシルグリシジルエーテル、アリルグリシジルエーテル、１，２−ブチレンオキサイド、１，３−ブタジエンモノオキサイド、１，２−ドデシレンオキサイド、エピクロロヒドリン、１，２−エポキシデカン、エチレンオキサイド、プロピレンオキサイド、スチレンオキサイド、シクロヘキセンオキサイド、３−メタクリロイルオキシメチルシクロヘキセンオキサイド、３−アクリロイルオキシメチルシクロヘキセンオキサイド、３−ビニルシクロヘキセンオキサイド、４−ビニルシクロヘキセンオキサイド等の単官能のモノマー、１，１，３−テトラデカジエンジオキサイド、リモネンジオキサイド、３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−（３，４−エポキシシクロヘキシル）カルボキシレート、ジ（３，４−エポキシシクロヘキシル）アジペート、フェニルグリシジルエーテル、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＳ型エポキシ樹脂、ハロゲン化ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ｏ−，ｍ−，ｐ−クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ハロゲン化ｏ−，ｍ−，ｐ−クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、多価アルコールのポリグリシジルエーテル等の多官能エポキシ化合物
【００１９】
（ｃ）ビシクロオルソエステル化合物として、１−フェニル−４−エチル−２，６，７−トリオキサビシクロ〔２，２，２〕オクタン、１−エチル−４−ヒドロキシメチル−２，６，７−トリオキサビシクロ〔２，２，２〕オクタン等の化合物
【００２０】
（ｄ）スピロオルソカーボネート化合物として、１，５，７，１１−テトラオキサスピロ〔５，５〕ウンデカン、３，９−ジベンジル−１，５，７，１１−テトラオキサスピロ〔５，５〕ウンデカン、１，４，６−トリオキサスピロ〔４，４〕ノナン、２−メチル−１，４，６−トリオキサスピロ〔４，４〕ノナン、１，４，６−トリオキサスピロ〔４，５〕デカン等の化合物が挙げられる。
なお、これらは、単独もしくは２種以上を併用して用いても差し支えない。
【００２１】
本発明において、一般式〔Ｉ〕で表されるスルホニウム塩化合物とカチオン重合性化合物との配合割合は、カチオン重合性化合物１００部に対し、スルホニウム塩化合物０．０１〜２０部、好ましくは０．１〜１０部である。このスルホニウム塩化合物が少ないと、カチオン重合性化合物の硬化性が低下し、過剰であると硬化物の特性が低下する。
一方、前記増感剤とカチオン重合性化合物との配合割合は、カチオン重合性化合物１００部に対し、増感剤０．００１〜１０部、好ましくは０．０１〜５部の割合で配合する。この増感剤が少ないと、スルホニウム塩化合物の光反応性が低下し、過剰であると組成物の特性が低下する。
【００２２】
本発明の硬化性組成物は、光により容易に硬化することができる。
光による硬化は、波長５００ｎｍ以下の光、特に紫外線が好適に使用されるため、光源としては、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、メタルハライドランプ、クセノンランプ、カーボンアーク灯等が用いられる。また、レーザー光を用いることもできる。
【００２３】
本発明の硬化性組成物は、α線、β線、γ線、中性子線、Ｘ線、加速電子線のような電離性放射線によっても容易に硬化することができる。電離性放射線による硬化の場合は、通常０．５〜６０Ｍｒａｄの線量の範囲が使用でき、１〜５０Ｍｒａｄの範囲が好ましい。
本発明の硬化性組成物は、加熱により容易に硬化することができる。加熱は、５０℃〜２００℃、好ましくは、８０℃〜１８０℃の範囲で使用される。なお、光、電離性放射線及び熱を併用して硬化させることも可能である。
以下、本発明を実施例によって更に詳細に説明する。
【００２４】
実施例１  フェニルドデシルメチルスルホニウムヘキサフロロアンチモネートの合成（化合物番号１）
フェニルドデシルスルフィド２７．７５ｇとジメチル硫酸１３．２４ｇを混合し、８０℃で１時間、５０℃で二日間反応させた。次いで、蒸留水２００ｇに溶解させ、六フッ化アンチモン酸カリウム２７．４８ｇを加え、激しく攪拌し、析出した化合物を分離し、４０℃で減圧乾燥させた。収率：９０％
このものの１Ｒスペクトルデーターは次の通りである。
ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ−１）：２９２１，２８５２，１４６９，１４５０，１４２５，７６８，６８５，６５５
【００２５】
実施例２  フェニル（２−フェニルエチル）メチルスルホニウムヘキサフロロアンチモネートの合成（化合物番号７）
フェニル−２−フェニルエチルスルフィド４２．８６ｇとジメチル硫酸２６．４９ｇを混合し、５０℃で三日間反応させたのち、蒸留水３００ｇに溶解させ、六フッ化アンチモン酸カリウム５４．９７ｇを加え、激しく攪拌し、析出した化合物を分離し、４０℃で減圧乾燥させた。収率：９４％
このもののＩＲスペクトルデーターは次の通りである。
ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ−１）：３０３３，１６０４，１５８５，１４９９，１４５０，１４２２，７５１，６８６，６５９
上記実施例を含め、同様に製造した本発明のスルホニウム塩化合物の代表例を第１表に示す。
【００２６】
光硬化性テスト
ＥＲＬ−４２２１（ＵＣＣ社製脂環型エポキシ）に増感剤として４−メトキシフェノールとスルホニウム塩化合物をプロピレンカーボネートに溶解させ、４−メトキシフェノールは、純分として０．５部になるように、スルホニウム塩化合物は、カウンターイオンがＳｂＦ６−  の場合、純分として１．０部になるように、ＰＦ６−  の場合、純分として３．０部になるように添加し、配合物を調製した。この配合物を、ブリキ板に厚さ３μｍになるように塗布し、下記の条件で光硬化させた。この時、配合物が硬化しタックフリーになったものは○印、タックが残ったもの、または硬化しなかったものには×印で表した。その結果を第２表に示した。
ＵＶ照射機器：ベルトコンベア型ＵＶ照射機器
ランプ      ：２Ｋｗ（８０ｗ／ｃｍ）平行光型高圧水銀灯、距離１５ｃｍ
コンベア速度：１０ｍ／分
【００２７】
熱硬化性テスト
上記の配合物を、サンプルびんに０．５ｇ秤量し、１５０℃のオーブン中に３０分間置いた。この時、配合物が硬化したものには○印、硬化しなかったものには×印で表した。その結果を第２表に示した。
【００２８】
保存安定性テスト
上記の配合物を、サンプルびんに１００ｇ秤量し、２５℃のオーブン中に１ヶ月間置いた。この時、配合物の粘度が初期の２倍以下のものには○印、２倍以上の増粘および硬化したものには×印で表した。その結果を第２表に示した。
【００２９】
【表１】
0003555119.tif 000009
【００３０】
【表２】
0003555119.tif 000010
【００３１】
【表３】
0003555119.tif 000011
【００３２】
【表４】
0003555119.tif 000012
比較化合物１〔ＩＵＰＡＣＭＡＣＲＯ８８Ｐｒｅｐｒ．９０（１９８８）記載化合物〕
【００３３】
【化１０】
0003555119.tif 000013
比較化合物２〔特開昭５０−１５１９９７号記載化合物〕
【００３４】
【化１１】
0003555119.tif 000014
【００３５】
【発明の効果】
本発明のスルホニウム塩化合物は、熱および光活性に優れており、カチオン重合性化合物を、極めて薄い膜から厚手の膜まで、加熱および光、電子線、Ｘ線等の活性エネルギー線照射により、短時間で硬化することができ、増感剤との併用では、更に光硬化性を向上することができる。また、該組成物の硬化物は優れた物性を有するため、塗料、接着剤、フォトレジスト等として好適に用いられる。