(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
所定温度に加温した純水に被洗浄物を浸漬した後、該純水から被洗浄物を引き上げることにより、被洗浄物の表面を洗浄する純水を用いた洗浄方法であって、
前記被洗浄物は光学表面を有するガラス部品であり、前記純水の比抵抗値が０．５〜５．０ＭΩ・cmであることを特徴とする純水を用いた洗浄方法。
【請求項２】
更に、前記純水の比抵抗値が略０．５ＭΩ・ｃｍであることを特徴とする請求項１記載の純水を用いた洗浄方法。
【請求項３】
更に、前記純水の温度が４０〜８０°Ｃであることを特徴とする請求項１記載の純水を用いた洗浄方法。
【請求項４】
更に、前記純水の温度が４０°Ｃであることを特徴とする請求項２記載の純水を用いた洗浄方法。
【請求項５】
更に、前記純水中に含まれる０．３μｍ径の粒子数が１００個／ｍｌ以下であることを特徴とする請求項１記載の純水を用いた洗浄方法。
【請求項６】
比抵抗値が０．５〜５．０ＭΩ・cmの純水のみを用いて洗浄を行うことを特徴とする請求項１乃至５のいずれかに記載の純水を用いた洗浄方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明が属する技術分野】
本発明は、純水を用いた部品または製品の洗浄方法に関し、特に純水を用いた光学表面を有する部品の洗浄方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来より、環境保護の観点から、純水を用いて光学部品を洗浄する方法が各種提案されている。従来の純水を用いた洗浄方法の一例を、図１のフローを参照して説明する。図１に示す洗浄方法の各工程は、以下の通りである。
【０００３】
ａ．脱脂工程
被洗浄物をエチレン類に浸漬することにより、油脂系の汚れ（ピッチ、保護膜、切削油など）を除去する工程。
【０００４】
ｂ．水系置換工程
被洗浄物を乳化剤に浸漬することにより、前記ａ．脱脂工程の油分が、後述する仕上げ洗浄工程に入るのを防ぐ工程。
【０００５】
ｃ．仕上げ洗浄工程
被洗浄物を洗剤に浸漬することにより、親水性の汚れを除去する工程。
【０００６】
ｄ．粗リンス工程
被洗浄物を純水に浸漬することにより、前記ｃ．仕上げ洗浄工程の残留物を除去する工程。使用される純水の比抵抗は、１０．０ＭΩ・ｃｍ以上である。
【０００７】
ｅ．仕上げリンス工程
被洗浄物を純水に浸漬することにより、被洗浄物面に付着または残留している微粒子及びイオンを除去する工程。使用される純水の比抵抗は１０．０ＭΩ・ｃｍ以上である。
【０００８】
ｆ．温純水浸漬工程
被洗浄物を加温された温純水に浸漬する工程。被洗浄物であるガラス表面の乾燥を均一に行える表面張力を得られる温度まで加温する。使用される純水の比抵抗は１０．０ＭΩ・ｃｍである。
【０００９】
ｇ．引き上げ工程
上記の工程で使用された純水から被洗浄物を引き上げる工程。前記ｆ．温純水浸漬工程にて保持されている温度で、均一に液切りが可能な速度で引き上げる。
【００１０】
ｈ．乾燥工程
温風ゾーンと、冷却ゾーンよりなり、上記温純水から引き上げられた被洗浄物及び被洗浄物を保持する治具に残っている水分を蒸発させる工程。
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、従来の洗浄方法では、被洗浄物、特にガラス部品の表面に化学的ダメージ（潜傷）が発生することがあった。また、従来の洗浄方法では高価な純水を使用しているため、コストアップを招来していた。
【００１２】
本発明は、上記課題に鑑み、被洗浄物の表面を充分に洗浄できるとともに、潜傷が付きにくく、低コストな洗浄方法を提供することを目的とする。
【００１３】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するため、請求項１記載の純水を用いた洗浄方法は、所定温度に加温した純水に被洗浄物を浸漬した後、該純水から被洗浄物を引き上げることにより、被洗浄物の表面を洗浄する純水を用いた洗浄方法であって、前記被洗浄物は光学表面を有するガラス部品であり、前記純水の比抵抗値が０．５〜５．０ＭΩ・cmであることを特徴とする。
【００１４】
また、請求項２記載の洗浄方法は、請求項１記載の純水を用いた洗浄方法において、更に前記純水の比抵抗値が略０．５ＭΩ・ｃｍであることを特徴とする。
【００１５】
また、請求項３記載の洗浄方法は、請求項１記載の純水を用いた洗浄方法において、更に前記純水の温度が４０〜８０°Ｃであることを特徴とする。
【００１６】
また、請求項４記載の洗浄方法は、請求項２記載の純水を用いた洗浄方法において、更に前記純水の温度が略４０°Ｃであることを特徴とする。
【００１７】
また、請求項５記載の洗浄方法は、請求項１記載の純水を用いた洗浄方法において、更に前記純水中に含まれる０．３μｍ径の粒子数が１００個／ｍｌ以下であることを特徴とする。
また、請求項６記載の洗浄方法は、請求項１乃至５のいずれかに記載の純水を用いた洗浄方法において、比抵抗値が０．５〜５．０ＭΩ・cmの純水のみを用いて洗浄を行うことを特徴とする。
【００１８】
【作用】
本発明方法によると、所定温度に加温した所定温度に加温した純水に光学表面を部品を浸漬した後、該純水から部品を引き上げる工程において使用する純水の比抵抗値を０．５〜５．０ＭΩ・cmとすることにより、潜傷のない良好な外観を維持することができる。使用する純水が比抵抗値が０．５ＭΩ・cmを下回ると、表面にイオン残渣が残りガラス表面に施されるコートの信頼性が確保できない。また使用する純水比抵抗値が５．０MΩ・cm以上では、表面に対するケミカルアタック（イオン交換、エッチングなど）が強くなり、潜傷を増加させる。いずれも目的とする光学表面が得られなくなってしまう。同時に、純水の製造が簡単になるため純水の製造コストを低減（１／２）することができる。
【００１９】
特に０．５ＭΩ・ｃｍ程度まで下げることにより、化学ダメージ（潜傷）を極力排除することが出来る。
【００２０】
さらに、前記純水の温度を４０〜８０°Ｃにすることにより、いっそう良好な外観を維持することができる。４０°Ｃを下回ると外観限界になってしまう。８０°Ｃ以下とすることにより、温純水用ヒータの電力を削減（１／２）することができる。
【００２１】
さらに、４０°Ｃ程度まで下げることにより、潜傷の無い良好な外観を得ることが出来る。
【００２２】
さらに、前記純水中に含まれる０．３μｍ径の粒子数を１００個／ｍｌ以下とすることにより、最終的な乾燥状態で、光学部品の表面の汚れや、しみ、やけを極力排除して、洗浄が達成される。
【００２３】
【発明の実施の形態】
本発明に係る洗浄方法の一実施形態を、図１，図２を参照して説明する。本実施形態において、各工程に付された名称は、先述した従来の洗浄方法と同一であるので、従来例で説明した図１のフローチャートを、本実施形態の説明にも使用する。また、図２は実際の洗浄を行う処理槽を示す模式図である。
【００２４】
［洗浄方法の各工程］
本実施形態の洗浄方法も、図１に示した従来の洗浄方法と同様に、順に、ａ．脱脂工程（１，２槽）、ｂ．水系置換工程（３，４槽）、ｃ．仕上げ洗浄工程（５，６，７槽）、ｄ．粗リンス工程（８，９，１０槽）、ｅ．仕上げリンス工程（１１槽）、ｆ．温純水浸漬工程（１２槽）、ｇ．引上げ工程（１２槽）、ｈ．乾燥工程（１３，１４，１５槽）の８工程からなる。なお、各工程に付した槽の番号は、図２の処理槽の番号に対応する。各工程で行う処理の内容は、以下の通りである。
【００２５】
ａ．脱脂工程
本工程は、被洗浄物をエチレン類（バークロルエチレン、テトラクロロエチレンなどの親油溶剤）に浸漬することにより、油脂系の汚れ（ピッチ、保護膜、切削油など）を除去する工程である。本実施形態の場合、被洗浄物を１槽及び２槽に充たされた、バークロルエチレンに、順次、浸漬することにより行われる。
【００２６】
ｂ．水系置換工程
本工程は、被洗浄物を乳化剤に浸漬することにより、前記ａ．脱脂工程の油分が、後述する仕上げ洗浄工程に入るのを防ぐ工程である。本実施形態の場合、被洗浄物を３槽及び４槽に充たされた、乳化剤に、順次、浸漬することにより行われる。
【００２７】
ｃ．仕上げ洗浄工程
本工程は、被洗浄物を洗剤に浸漬することにより、前記ａ．脱脂工程、及びｂ．水系置換工程の残留物及び親水性の汚れを除去する工程である。本実施形態の場合、被洗浄物を５槽に充たされた、市水（通常の水道水）に浸漬した後、６槽及び７槽に充たされた洗剤に、順次、浸漬することにより行われる。
【００２８】
ｄ．粗リンス工程
本工程は、被洗浄物を純水に浸漬することにより、前記ｃ．仕上げ洗浄工程の残留物を除去する工程である。本実施形態の場合、被洗浄物を８槽に充たされた、市水に浸漬した後、９槽及び１０槽に充たされた、水温２０〜３０°Ｃ，比抵抗０．５ＭΩ・ｃｍの純水に、順次、浸漬することにより行われる。純水の比抵抗を、上記の通り設定することにより、被洗浄物の表面に対するケミカルアタックを軽減させることができ、潜傷を発生させにくくすることができる。
【００２９】
ｅ．仕上げリンス工程
本工程は、被洗浄物を純水に浸漬することにより、被洗浄物面に付着または残留している微粒子及びイオンを除去する工程である。本実施形態の場合、被洗浄物を１１槽に充たされた、水温２０〜３０°Ｃ，比抵抗０．５〜５．０ＭΩ・ｃｍ，０．３μｍ径の粒子数が１００個／ｍｌ以下の各条件を満足する純水に浸漬することにより行われる。純水の比抵抗を、上記の通り設定することにより、被洗浄物の表面に対するケミカルアタックを軽減させることができ、潜傷を発生させにくくすることができる。
【００３０】
また、本実施形態では、純水中の０．３μｍ径の粒子数を１００個／ｍｌ以下としているため、本工程において、被洗浄物表面から除去された微粒子が再び表面に付着することを防ぐことができる。
【００３１】
さらに、本実施形態では、本工程において超音波を印加しないことを特徴としている。本実施形態では、純水中の粒子数を非常に少なくしているので、超音波を印加するとかえって粒子を誘発することになり望ましくない。
【００３２】
ｆ．温純水浸漬工程
本工程は、被洗浄物を加温された温純水に浸漬する工程である。ここで、被洗浄物であるガラス表面の乾燥を均一に行える表面張力を得られる温度まで加温する。本実施形態では、被洗浄物を１２槽に充たされた、水温４０°Ｃ，比抵抗０．５ＭΩ・ｃｍ，０．３μｍ径の粒子数が１００個／ｍｌ以下の純水に浸漬することにより行われる。
【００３３】
本工程において、純水の比抵抗は０．５〜５．０ＭΩ・ｃｍの範囲が望ましい。純水の比抵抗値が０．５ＭΩ・ｃｍを下回ると、表面にイオン残渣が残りガラス表面に施されるコートの信頼性が確保できない。逆に使用する純水の比抵抗値が５．０ＭΩ・ｃｍを上回ると、ガラス表面に対するケミカルアタックが強くなり、潜傷が増加してしまう。このように比抵抗値が０．５〜５．０ＭΩ・ｃｍを超えると、いずれも目的とする光学表面が得られなくなってしまう。また、この比抵抗値の範囲のうち、０．５ＭΩ・ｃｍ近傍が最も好ましい。純水の比抵抗値を０．５ＭΩ・ｃｍに設定することにより、被洗浄物の表面に対するケミカルアタックを軽減させることができ、潜傷を発生させにくくすることができる。
【００３４】
また、純水の温度は４０〜８０°Ｃであればよく、特に、略４０°Ｃが最も好ましい。水温を略４０°Ｃに設定することにより、ケミカルアタックを緩和する効果が顕著となる。また、水温を略４０°Ｃに設定することにより、温純水用ヒータの電力を、水温が８０°Ｃの場合と比較して約１／２に削減することができる。
【００３５】
さらに、０．３μｍ径の粒子数を１００個／ｍｌ以下とすることにより、最終的な乾燥状態で、被洗浄物の表面の汚れや、シミ、ヤケを極力排除して、洗浄が達成される。
【００３６】
ｇ．引き上げ工程
本工程は、上記の工程で使用された純水から被洗浄物を引き上げる工程である。前記ｆ．温純水浸漬工程にて保持されている温度で、均一に液切りが可能な速度で引き上げる。
【００３７】
ｈ．乾燥工程
本工程は、上記温純水から引き上げられた被洗浄物及び被洗浄物を保持する治具に残っている水分を蒸発させる工程である。本工程は、１３槽の加温ゾーン（略６０°Ｃ）、１４槽の温風ゾーン（略８０°Ｃ）、１５槽の冷却ゾーン（略６０°Ｃ）からなる。本実施形態のように、１３槽に示される加温ゾーン（略６０°Ｃ）を設けることにより、被洗浄物の急激な温度上昇を防ぐことができ、被洗浄物の破損を防ぐことができる。
【００３８】
以上、詳細に説明したように、本実施形態の場合、使用される純水の比抵抗は、すべて０．５〜５．０ＭΩ・ｃｍの範囲である。したがって、比抵抗が１０ＭΩ・ｃｍ以上の純水を使用する場合と比較して、純水の製造コストを大幅に削減（約１／２）することができる。
【００３９】
【実施例】
以下、本発明による洗浄方法の実施例を示す。
【００４０】
【表１】
0003541590.tif 000002
【００４１】
本表は、純水の比抵抗値と潜傷の関係を示したものである。洗浄に用いられるガラス材は、屈折率＝１．７５、分散＝３５．１３である。引き上げ温度は４０°Ｃ固定である。純水の比抵抗値が１０．０ＭΩ・ｃｍの時は、洗浄時間が４５秒と９０秒で潜傷限界が得られるだけである。純水の比抵抗値が３．０ＭΩ・ｃｍの時は、洗浄時間が９０秒において潜傷限界、洗浄時間が４５秒において潜傷良好な表面が得られている。そして、純水の比抵抗値が０．５ＭΩ・ｃｍの時は、洗浄時間を４５，９０，１３５秒としても、潜傷良好な表面を得ることができる。１３５秒を越えると、時間がかかりすぎているので実用的でない。
【００４２】
【表２】
0003541590.tif 000003
【００４３】
本表は、純水の比抵抗値と外観の関係を示したものである。表２以外の領域すなわち、洗浄時間を３０秒以下とした時は外観限界となってしまう。また、比抵抗値が０．２ＭΩ・ｃｍの時も外観限界となってしまう。１３５秒を越えると、時間がかかりすぎているので実用的でない。
【００４４】
【表３】
0003541590.tif 000004
【００４５】
本表は、純水の比抵抗値と潜傷の関係を示したものである。洗浄に用いられるガラス材は、屈折率＝１．４９、分散＝８３．５である。引き上げ温度は４０°Ｃ固定である。純水の比抵抗値が１０．０ＭΩ・ｃｍの時は、外観不良となってしまう。純水の比抵抗値が３．０ＭΩ・ｃｍの時は、洗浄時間が４５秒で潜傷限界である。そして、純水の比抵抗値が０．５ＭΩ・ｃｍの時は、洗浄時間を４５，９０，１３５秒としても、潜傷良好な表面が得ることができる。１３５秒を越えると、時間がかかりすぎているので実用的でない。
【００４６】
【表４】
0003541590.tif 000005
【００４７】
本表は、純水の比抵抗値と外観の関係を示したものである。表４以外の領域すなわち、洗浄時間を３０秒以下とした時は外観限界となってしまう。また、比抵抗値が０．２ＭΩ・ｃｍの時も外観限界となってしまう。１３５秒を越えると、時間がかかりすぎているので実用的でない。
【００４８】
【表５】
0003541590.tif 000006
【００４９】
本表は、純水の温度と潜傷の関係を示したものである。洗浄に用いられる硝材は、屈折率＝１．７５、分散＝３５．１３である。比抵抗値は０．５ＭΩ・ｃｍである。純水の温度が８０°Ｃの時は、洗浄時間が４５秒のときのみ潜傷限界が得られている。純水の温度が７０°Ｃの時は、洗浄時間が４５秒と９０秒においてのみ、潜傷限界が得られている。純水の温度が６０°Ｃの時は、洗浄時間が９０秒で潜傷限界、４５秒で潜傷良好な表面が得られている。純水の温度が５０°Ｃの時は、洗浄時間が１３５秒で潜傷限界、４５秒と９０秒で潜傷良好な表面が得られている。そして、純水の温度が４０°Ｃの時は、洗浄時間を４５，９０，１３５秒としても、潜傷良好な表面が得られている。１３５秒を越えると、時間がかかりすぎているので実用的でない。
【００５０】
【表６】
0003541590.tif 000007
【００５１】
本表は、純水の温度と外観の関係を示したものである。表６以外の領域すなわち、洗浄時間を３０秒以下とした時は外観限界となってしまう。また、純水の温度が３０°Ｃの時も外観限界となってしまう。１３５秒を越えると、時間がかかりすぎているので実用的でない。
【００５２】
【表７】
0003541590.tif 000008
【００５３】
本表は、純水の温度と潜傷の関係を示したものである。洗浄に用いられる硝材は、屈折率＝１．４９、分散＝８３．５である。比抵抗値は０．５ＭΩ・ｃｍである。純水の温度が８０°Ｃの時は、外観不良となってしまう。純水の温度が７０°Ｃの時は、洗浄時間が４５秒においてのみ、潜傷限界が得られている。純水の温度が６０°Ｃの時は、洗浄時間が９０秒で潜傷限界、４５秒で潜傷良好な表面が得られている。純水の温度が５０°Ｃの時は、洗浄時間が９０秒で潜傷限界、４５秒で潜傷良好な表面が得られている。そして、純水の温度が４０°Ｃの時は、９０秒と１３５秒で潜傷限界、４５秒で潜傷良好な表面が得られている。１３５秒を越えると、時間がかかりすぎているので実用的でない。
【００５４】
【表８】
0003541590.tif 000009
【００５５】
本表は、純水の温度と外観の関係を示したものである。表８以外の領域すなわち、洗浄時間を３０秒以下とした時は外観限界となってしまう。また、純水の温度が３０°Ｃの時も外観限界となってしまう。１３５秒を越えると、時間がかかりすぎているので実用的でない。
【００５６】
本発明方法によると、部品の光学表面の化学的ダメージ（潜傷）を緩和または極力排除することができる。さらに部品の良好な外観を得ることができる。同時に純水製造コストを低減（１／２）することができる。さらに温純水ヒータの電力を削減（１／２）することができる。さらに、最終的な乾燥状態で、部品の光学表面に汚れや、シミ、ヤケのない洗浄が達成される。
【図面の簡単な説明】
【図１】洗浄方法を示すフローチャート
【図２】本発明の洗浄方法処理槽の模式図
【符号の説明】
１２：温純水槽（温純水浸漬工程に使用される）
【図１】
0003541590.tif 000010
【図２】
0003541590.tif 000011