(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
疎水性色素を水性媒体中で、電気化学的に酸化還元可能な部位を有した界面活性剤を用いてミセル化した分散液に、透明導電薄膜を有する基板を浸漬し、通電処理することにより色素膜を形成した液晶ディスプレイ用カラーフィルターにおいて、前記透明導電薄膜の中心線平均粗さＲａが０．００１〜０．０１μｍであることを特徴とする液晶ディスプレイ用カラーフィルター。
【請求項２】
可視光（４００〜８００ｎｍ）における平均透過率が６０％以上である請求項１記載の液晶ディスプレイ用カラーフィルター。
【請求項３】
カラーフィルター層が導電性のものである請求項１または２記載の液晶ディスプレイ用カラーフィルター。
【請求項４】
疎水性色素を水性媒体中で、電気化学的に酸化還元可能な部位を有した界面活性剤を用いてミセル化した分散液に、透明導電薄膜を有する基板を浸漬し、通電処理することにより色素膜を形成する液晶ディスプレイ用カラーフィルターの製造方法において、前記透明導電薄膜として、該透明導電薄膜を酸性処理して中心線平均粗さＲａが０．００１〜０．０１μｍとしたものを用いることを特徴とする液晶ディスプレイ用カラーフィルターの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、カラー液晶表示装置に用いるカラーフィルターとその製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
液晶表示装置は様々な分野で使用されるようになり、情報表示装置としてＣＲＴにせまる勢いである。特に、携帯性が要求される機器においては小型、軽量、少消費電力であることから多くの機器に採用されている。さらにカラー化技術も進み、液晶用カラーフィルターの製造方法として、染色法、顔料分散法、電着法、印刷法、ミセル電解法等さまざまなものが提案され、中には実用化されたものもある。
【０００３】
染色法とは、ゼラチン上に染色防止膜としてフォトリソグラフィー法により形成し、染料でＲＧＢの各色ごとに染色する方法で、顔料分散法とは、顔料を分散させた紫外線硬化型レジストを基板に塗布してフォトリソグラフィー法によるマスク露光および熱効果をＲＧＢ３回繰り返し色素層を形成する方法で、電着法とは、電着ポリマーと顔料を分散させ、基板上にパターン化された電極に電着塗装する方法で、印刷法とは、印刷機を用いてＲＢＧ３原色のインキを印刷する方法で、ミセル電解法とは、電気化学的に酸化還元可能な界面活性剤を用いて顔料を分散させて、基板上にパターン化された電極に色素層を形成する方法である。
これらの中で、染色法、顔料分散法、印刷法などでは、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）及び、光漏れを防ぎ、コントラストを高めるために設ける遮光層、黒（ＢＫ）のパターン形成において、それぞれ位置を他のパターンに対して正確に位置合わせを行なう必要がある。たとえば、始めに黒パターンを形成し、この黒パターンに対して赤、緑、青の各パターンを精密に位置合わせしながら形成していく。また、カラーフィルターパターンと液晶駆動用電極との位置合わせも必要である。
【０００４】
この点、電着法、ミセル電解法などの電気化学的手法では、透明電極をパターン化する際に、フォトリソグラフィー法を用いるが、このような精密な位置合わせの必要はない。さらにミセル電解法は、導電性のカラーフィルター層の形成が可能であり、カラーフィルター層上に再度液晶駆動電極を積層することなしにそのままカラーフィルター層を液晶駆動電極として用いることができる。このため、ミセル電解法は基本的技術の確立（Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｍ．１９９１，１１３，４５０−４５６、特許第１８１２０５７、特許第２０２７５２０、特開平２−１４６００１、特開平２−１４９６９７、特開平２−２６７２６８）以来、実用化に向けて種々の検討がなされている。特に、精密な位置合わせが必要ないということで、通常のガラス基板以外にも、プラスチックフィルム基板への適応性が高い。最近では、携帯電話や電子手帳などの携帯用機器にはプラスチックフィルムを使用した液晶表示装置が用いられるようになった。プラスチックフィルムはその厚さが０．１〜０．３ｍｍ程度であり、重量も軽いため携帯用機器に最適である。更に、バックライトを必要とせず小型軽量で低消費電力が達成できる反射型液晶ディスプレイをプラスチックフィルムを用いてカラー化を達成すれば携帯性が大きく向上する。
【０００５】
しかし、ミセル電解法で作製したカラーフィルターは、他の方法に比べて、電極基板との密着性が良好ではなく、赤、緑、青の三色の薄膜を形成するのに電解を３回繰り返すわけであるが、この場合、一度電極上に付着したカラーフィルター色素が、他の色の電解液中に混入したり、逆に他の色の電解液中の色素が、すでに成膜されているカラーフィルター中に混入して色純度が低下するなどの問題を引き起こしてきた。
さらに、フレキシブルなフィルム基板や反射型液晶ディスプレイ用の薄膜カラーフィルターの場合に実用に耐えうる密着性を有していないのが現状である。このような問題を改善するために、特開平２−２７０９９３では、電極表面を疎水化処理するなどの対策が提案されているが、新たに電極と色素以外の構成要素が加わることもあり、導電性の低下なしに十分な効果を得るのは難しい。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
従って、本発明の目的は、ミセル電解法によるカラーフィルターの電極基板との密着性を改善し、耐プロセス性、耐久性の優れたカラーフィルター、およびその製造方法を提供することである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、ミセル電解法により色素膜を形成したカラーフィルターにおいて、基板上の透明導電薄膜を粗面化し、表面粗さをある範囲に限定すること、すなわち、透明導電薄膜の表面粗さを示す中心線平均粗さＲａが０．００１〜０．０１μｍとすることによって電極と色素膜との密着性が向上し、前記課題を解決できることを見出し、本発明に到達することができた。すなわち、本発明の第１の特徴は、疎水性、例えば三原色の分光特性を有する疎水性、色素を水性媒体中で、電気化学的に酸化還元可能な部位を有した界面活性剤を用いてミセル化した分散液に、透明導電薄膜を有する基板を浸漬し、通電処理することにより色素膜を形成したカラーフィルターにおいて、前記透明導電薄膜の中心線平均粗さＲａが０．００１〜０．０１μｍであることを特徴とする液晶ディスプレイ用カラーフィルターにある。
本発明の第２の特徴は、前記液晶ディスプレイ用カラーフィルターの製造方法にある。
本発明の第３の特徴は、前記液晶ディスプレイ用カラーフィルターおよび該カラーフィルターの製造方法において、透明導電薄膜として、該薄膜を酸性処理して中心線平均粗さＲａが０．００１〜０．０１μｍとしたものを用いたことにある。
【０００８】
特に本発明は、密着性の問題が顕著である、カラーフィルターの可視光（４００〜８００ｎｍ）での平均透過率が６０％以上、すなわち、膜厚で考えると約１μｍ以下の場合、そしてカラーフィルターが導電性である場合、さらに透明導電薄膜を有する基板が、プラスチックフィルム基板である場合に非常に効果的である。
【０００９】
まず、前記透明導電薄膜の中心線平均粗さＲａが０．００１〜０．０１μｍという要件について説明する。ここで、中心線平均粗さＲａとは、ＪＩＳ−Ｂ０６０１記載の方法であり、凹凸の中心線から各凹凸までの偏差の平均値を表している。本発明ではＤＥＫＴＡＫ触針式表面粗さ計を用いて、測定長さ５００μｍ、カットオフ値０．０８μｍでの測定を行った。前記中心線平均粗さＲａが０．００１μｍ以下であると密着性に効果がなく、０．０１μｍ以上であると、粗面化による散乱光の影響で透過率が下がる等の不具合が発生する。中心線平均粗さＲａが０．００１〜０．０１μｍでも、それ単体では散乱光の影響はあるが、本発明の場合、この透明導電薄膜電極が最上層になるわけではなく、この上にカラーフィルターの色素層が堆積し、さらに必要に応じて表面保護層が堆積するため、透明導電薄膜の表面粗さの光学的なデメリットは少ないと考えられる。
【００１０】
前記所望の表面粗さの透明導電薄膜を得るには、下記（１）および（２）の方法が例示される。
（１）透明導電薄膜の作製条件を調整する方法が挙げられる。たとえば、真空蒸着法では、他の方法よりも一般的な条件でも表面凹凸の大きい透明導電薄膜が得られたり、スパッタリング法において、特にターゲットの印加電圧、基板温度等によって得られる透明導電薄膜の表面粗さを制御するなどによって所望の表面粗さを達成できる。また、（２）透明導電薄膜をある条件で作製した後、表面処理を行なう方法も挙げられる。この場合、表面処理としては、塩酸、硫酸、りん酸等の酸性溶液等に浸漬したり、スプレー散布したりする化学的研磨による方法やサンドブラスト、ショットブラスト、ブラシ研磨、バフ研磨等による機械的粗面化方法、プラズマ中に暴露する方法などが挙げられる。（１）の成膜の際に制御する方法は、透明導電薄膜のバルク全体の粗さが上がるのに対し、（２）の表面処理による方法は、バルクは緻密で表面だけを粗面化できるので、後者の方法が好ましく、特に前記酸性溶液による化学研磨法がより好ましい。
【００１１】
本発明で用いる透明導電薄膜は、Ｉｎ２Ｏ３、ＳｎＯ２、ＺｎＯ、ＣｄＯ、ＴｉＯ２、Ｉｎ２Ｏ３−Ｓｎ、ＳｎＯ２−Ｓｂなどの酸化物半導体膜、Ａｕ、Ａｇ、Ｐｔなどの金属薄膜、ＴｉＮ、ＺｒＮなどの導電性窒化物薄膜等公知のものが用いられ、ＬＣＤへの応用に際しては、２×１０−４Ω・ｃｍ以下の比抵抗と８０％以上の可視光透過率が必要であり、特に酸化物半導体薄膜でＩＴＯ、酸化亜鉛、酸化スズが好ましい。その製法については、たとえば、スパッタリング法、イオンプレーティング法、真空蒸着法、ＣＶＤ法等が挙げられるが特に限定されるものではない。
透明導電薄膜の膜厚としては、抵抗値や透明性の観点から１００〜２０００Åが好ましい。
【００１２】
透明導電薄膜を形成する基板（支持体）は、ガラス、プラチックフィルムが挙げられ、光学特性が問題になるＬＣＤ分野では、ガラス基板では表面平面性が、また、フィルム基板では透明導電膜の成膜工程やデバイス作製工程での高温雰囲気に対する耐久性、すなわち耐熱性が求められている。フィルム基板としては、耐熱性と工学的平面性を兼ね備えたポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリカーボネート、ポリエーテルスルホン、ポリイミド、ポリアリレート等が挙げられる。
【００１３】
次に本発明のカラーフィルターを構成するＲＧＢ色素膜を形成するミセル電解法について説明する。
まず、ＲＧＢの分光特性を有する色素としては、ペリレン顔料、レーキ顔料、アゾ系顔料、キナクリドン系顔料、アントラキノン系顔料、金属置換フタロシアニン系顔料、ハロゲン多置換フタロシアニン系顔料などの有機顔料、酸化チタン、酸化鉄、コバルト紫、コバルトブルーなどの無機顔料が挙げられ、これらは単独、または混合して用いられる。さらに、色度調整用のイソインドリノン顔料、ジスアゾ顔料などの黄色顔料、ジオキサン顔料などの紫色顔料などを必要に応じて用いる。これらの顔料の粒径は１０μｍ以下、特に１μｍ以下が好ましい。
作製した色素層に導電性を付与するために、これらの色素以外に、必要に応じて、ＩＴＯなどの透明導電性粒子を添加する。しかし、導電性粒子の添加量を増やすと、前記透明導電性薄膜電極と色素層の密着性が低下したが、本発明においてはその影響が改善されている。
【００１４】
これら疎水性の物質をミセル化する際に用いるフェロセン誘導体界面活性剤は、電解反応に必要なフェロセン部位と非イオン性、カチオン性、アニオン性の界面活性部位を合わせ持ち、特開昭６３−２４３２９８、特開平１−２２６８９４、特開平１−４５３７０、特開平２−８８３８７、特開平２−９６５８５、特開平２−２５０８９２に開示されているが、特に限定されるものではない。
ミセル電解液の水性媒体としては、水をはじめ、これにアルコール、アセトンなどを必要に応じて混合して用いる。また、ミセル電解液中には、水性媒体の電気伝導度を調節するために、必要に応じて支持電解質を添加する。この支持電解質としては、アルカリ金属、アルカリ土類金属、などの硫酸塩、ハロゲン化物、酢酸塩、水溶性酸化物など、一般に広く用いられているものが用いられる。
【００１５】
上記材料を用いて、ミセル電解液を調製するには、上記水性媒体中に色素、酸化還元可能界面活性剤、必要に応じて、導電性粒子、支持電解質などをいれて、ホモジナイザー、三本ロールミル、サンドミル、パールミル、スターラーなどの分散方法で、均一に分散、あるいは可溶化する。ここで界面活性剤濃度は０．１ｍｍｏｌ／１〜１．０ｍｏｌ／１が好ましく、色素濃度は１〜５００ｇ／１が好ましい。
界面活性剤濃度が０．１ｍｍｏｌ／ｌ未満では分散粒子のミセル化が不安定であり、１．０ｍｏｌ／ｌを越えると基板への成膜性が低下する。
【００１６】
このようにして調製したミセル電解液を用いて色素薄膜を作製するには、導電性基板を電解液中に浸漬し通電処理するが、この時の電解条件としては、用いる界面活性剤の酸化還元電位以上で、水素発生電位以下の電圧で行う。具体的には、０．１〜１．５Ｖ、電流密度は１ｍＡ／ｃｍ２以下が好ましく、定電位、定電流などの電解方法にて行う。このような条件で電解するとミセル電解法の原理に従って、所望の色素薄膜が形成する。
【００１７】
色素層の膜厚は、カラーフィルターとしての所望の色特性によって左右されるが、上記電解条件によって０．１〜１０μｍ程度の制御は可能である。ただし、これまでは膜厚が１μｍ以下の場合、透明導電薄膜と色素層の密着性が特に悪く、薄膜化して透過率を重視した反射型液晶ディスプレイ用カラーフィルターへの応用が困難であった。特にこの点が、本発明によって改善され、反射型液晶ディスプレイ用カラーフィルターへの応用も可能となった。薄膜形成後は、必要に応じて洗浄、乾燥を行い、保護層を設けてもよい。保護層は、液晶駆動に影響せずに、色素層の機械的強度を向上、色素層と液晶層とのブロッキング層としての効果が求められ、透明で耐溶剤性に優れたものが好ましく、アクリル系、エステル系、ポリイミド系、環化ゴム系、シロキサン系、エポキシ系などの透明光硬化性レジスト硬化物、透明熱硬化性樹脂硬化物などが用いられる。また、導電性基板としては、用いる界面活性剤の酸化還元電位よりも貴な金属、導電体であることが必要で、本発明では、液晶セルに用いるので、ＩＴＯのような前記透明な酸化物半導体薄膜層をガラスやフィルム上に形成した形態が好ましく、さらに本発明では、密着性の効果が大きく効くプラスチックフィルム基板上にＩＴＯ薄膜を形成したものが特に効果的である。
【００１８】
【実施例】
以下に実施例を述べる。
【００１９】
実施例１
透明導電膜を成膜したガラス基板（ジオマテック社製  面抵抗２０Ω／□  厚さ１２００Å  ガラス；コーニング社製＃７０５９）を１１０μｍピッチ、巾９０μｍ、９６０本のストライプ状に通常のフォトリソ法で加工した。この基板を２ＮＦｅＣｌ３／６ＮＨＣｌに１分間浸漬した後、水洗、ブローを行い、ＤＥＫＴＡＫにて中心線平均粗さＲａと顕微分光光度計にて可視光（４００〜８００ｎｍ）平均透過率をそれぞれ測定した。
次に、以下のようにして、ミセル電解液を調製した。すなわち、赤の場合は、ペリレンレッド５ｇ、ＩＴＯ粉末５ｇ、フェロセン誘導体としてＦＰＥＧ（同仁化学製）２ｇ、支持塩としてＬｉＢｒ１０．４ｇを水１０００ｍｌに加えて超音波分散後、遠心分離（２０００ｒｐｍ１０分）により、緑の場合は、フタロシアニングリーン４ｇ、ＩＴＯ粉末６ｇ、ＦＰＥＧ２．５ｇ、ＬｉＢｒ１０．４ｇを水１０００ｍｌに加えて超音波分散後、遠心分離（２０００ｒｐｍ１０分）により、さらに、青の場合は、フタロシアニンブルー４ｇ、ＩＴＯ粉末６．５ｇ、ＦＰＥＧ３．０ｇ、ＬｉＢｒ１０．４ｇを水１０００ｍｌに加えて超音波分散後、遠心分離（２０００ｒｐｍ１０分）によりそれぞれ調製した。このようにして調製した赤の電解液中に前記透明電極に処理を行ったガラス基板を浸漬したのち、３本おきの透明電極に０．５Ｖの定電位電解を５分間行い、選択した電極上に赤の導電性のカラーフィルター層を形成した。
これを電解液から取りだして乾燥後、純水で洗浄前後における可視光（４００〜８００ｎｍ）平均透過率（Ｒｅｆ：透明導電膜を含まない基板）を測定した。同様にして、緑の電解液で５分間、青の電解液で５分間、電解を行い、純水で洗浄前後における可視光（４００〜８００ｎｍ）平均透過率を測定し、表１、２に示した。
【００２０】
実施例２
透明導電性フィルムＦＳＴ−５３４０（住友ベークライト社製  面抵抗４０Ω／□  厚さ１５００Å）の透明導電膜を、フォトリソ法で１１０μｍピッチ、巾９０μｍ、９６０本のストライプ状のパターンに加工した。この基板を１ＮＦｅＣｌ３／６ＮＨＣｌ／０．１ＮＨＮＯ３に１０秒間浸漬した後、水洗、ブローを行ない、ＤＥＫＴＡＫにて中心線平均粗さＲａと顕微分光光度計にて可視光（４００〜８００ｎｍ）平均透過率をそれぞれ測定した。以下、実施例１と同様にして上記透明電極上にＲＧＢ導電性カラーフィルターを形成し、可視光（４００〜８００ｎｍ）平均透過率をそれぞれ測定した。
【００２１】
実施例３
実施例２において、透明導電性フィルム基板を１ＮＦｅＣｌ３／６ＮＨＣｌ／０．１ＮＨＮＯ３に３０秒間浸漬した以外は同様である。
【００２２】
実施例４
ポリエーテルスルホンフィルム上にインジウム−錫酸化物層をスパッタリング法により形成した。スパッタリンッグターゲットにはインジウム：錫＝９：１（重量比）で充填密度９５％のインジウム−錫ターゲットを用いて、真空装置内を１×１０−６ｔｏｒｒ以下に減圧しＡｒ：Ｏ２＝９６：４（体積比）混合ガスを導入し、真空装置内の圧力を５×１０−３ｔｏｒｒとし、フィルム基板温度を１５０℃に加熱し、ターゲット印加電圧１４０Ｖにて行い、面抵抗１５０Ω／□、厚さ１５００Åの透明導電性フィルム基板を作製した。この基板を通常のフォトリソ法で、１１０μｍピッチ、巾９０μｍ、９６０本のストライプ状に加工し、ＤＥＫＴＡＫにて中心線平均粗さＲａと顕微分光光度計にて可視光（４００〜８００ｎｍ）平均透過率をそれぞれ測定した。次に、以下のようにしてミセル電解液を調製した。すなわち、赤の場合は、ジアントラキノリルレッド５ｇ、ＩＴＯ粉末５ｇ、フェロセン誘導体としてＦＰＥＧ（同仁化学製）３ｇ、支持塩としてＬｉＢｒ１０．４ｇを水１０００ｍｌに加えて超音波分散後、遠心分離（２０００ｒｐｍ１０分）により、緑の場合は、臭素化塩化銅フタロシアニン４ｇ、ＩＴＯ粉末６ｇ、ＦＰＥＧ３ｇ、ＬｉＢｒ１０．４ｇを水１０００ｍｌに加えて超音波分散後、遠心分離（２０００ｒｐｍ１０分）により、さらに、青の場合は、銅フタロシアニン３．５ｇ、ＩＴＯ粉末６．５ｇ、ＦＰＥＧ３．５ｇ、ＬｉＢｒ１０．４ｇを水１０００ｍｌに加えて超音波分散後、遠心分離（２０００ｒｐｍ１０分）によりそれぞれ調製した。このようにして調製した赤の電解液中に前記透明電極に処理を行ったガラス基板を浸漬したのち、３本おきの透明電極に０．５Ｖの定電位電解を５分間行い、選択した電極上に赤の導電性のカラーフィルター層を形成した。これを電解液から取り出して乾燥後、純水で洗浄前後における可視光（４００〜８００ｎｍ）平均透過率を測定した。同様にして、緑の電解液で５分間、青の電解液で４分間、電解を行い、純水で洗浄前後における可視光（４００〜８００ｎｍ）平均透過率を測定し、表１、２に示した。
【００２３】
実施例５
ガラス基板（コーニング社製＃７０５９）上に、以下のようにして高周波（ＲＦ）イオンプレーティング法にて透明導電薄膜を形成し、Ａｒスパッタエッチングにて表面処理を行った。すなわち、蒸発材にＩＴＯ焼結タブレット（ＳｎＯ２５％含有）とし、Ｏ２圧力７×１０−４ｔｏｒｒ、高周波電力２００Ｗ、直流バイアス５００Ｖ、基板温度２００℃にて、ＲＦイオンプレーティングを行った後、Ａｒ圧力５×１０−４ｔｏｒｒ、高周波電力１００Ｗにて１分間スパッタエッチングを行ない、面抵抗２０Ω／□、厚さ１５００Åの透明導電性基板を作製した。これを通常のフォトリソ法で、１１０μｍピッチ、幅９０μｍ、９６０本のストライプ状のパターンに加工し、ＤＥＫＴＡＫにて中心線平均粗さＲａと顕微分光光度計にて可視光（４００〜８００ｎｍ）平均透過率をそれぞれ測定した。
次に、以下のようにしてミセル電解液を調製した。すなわち、赤の場合は、ジアントラキノリルレッド１０ｇ、ＩＴＯ粉末５ｇ、フェロセン誘導体としてＦＰＥＧ（同仁化学製）４ｇ、支持塩としてＬｉＢｒ１０．４ｇを水１０００ｍｌに加えて超音波分散後、遠心分離（２０００ｒｐｍ１０分）により、緑の場合は、臭素化塩化銅フタロシアニン１０ｇ、ＩＴＯ粉末５ｇ、ＦＰＥＧ４ｇ、ＬｉＢｒ１０．４ｇを水１０００ｍｌに加えて超音波分散後、遠心分離（２０００ｒｐｍ１０分）により、さらに、青の場合は、銅フタロシアニン１０ｇ、ＩＴＯ粉末５ｇ、ＦＰＥＧ４ｇ、ＬｉＢｒ１０．４ｇを水１０００ｍｌに加えて超音波分散後、遠心分離（２０００ｒｐｍ１０分）によりそれぞれ調製した。このようにして調製した赤の電解液中に前記透明電極に処理を行ったガラス基板を浸漬したのち、３本おきの透明電極に０．５Ｖの定電位電解を１５分間行ない、選択した電極上に赤の導電性のカラーフィルター層を形成した。これを電解液から取り出して乾燥後、純水で洗浄前後における可視光（４００〜８００ｎｍ）平均透過率を測定した。同様にして、緑の電解液で１５分間、青の電解液で１２分間、電解を行い、純水で洗浄前後における可視光（４００〜８００ｎｍ）平均透過率を測定し、表１、２に示した。
【００２４】
比較例１
実施例１において、透明導電膜を成膜したガラス基板（ジオマテック社製  面抵抗２０Ω／□  厚さ１２００Å  ガラス：コーニング社製＃７０５９）を２ＮＦｅＣｌ３／６ＮＨＣｌによる処理を行わなかった。
【００２５】
比較例２
実施例２において、透明導電フィルムＦＳＴ−５３４０（住友ベークライト社製  面抵抗４０Ω／□  厚さ１５００Å）の透明導電膜を１ＮＦｅＣｌ３／６ＮＨＣｌ／０．１ＮＨＮＯ３による処理を行なわなかった。
【００２６】
比較例３
実施例５において、Ａｒスパッタエッチングを行なわなかった。
【００２７】
【表１】
0003588255.tif 000002
【００２８】
【表２】
0003588255.tif 000003
【００２９】
【効果】
１．請求項１
電解前の透過率を大きく損なわずに、すなわち透明導電膜の透明性を損なわずに、電解後のカラーフィルターの洗浄プロセス前後における透過率変化が少ないことから、電極基板とカラーフィルター層の密着性が向上し、カラーフィルター層の脱落がほとんど起こらなくなった。このようにミセル電解法によるカラーフィルターの電極基板との密着性が改善し、耐プロセス性、耐久性の優れた液晶ディスプレイ用カラーフィルターが提供できた。
２．請求項２
１μｍ以下（可視光透過率６０％以上）の薄膜カラーフィルターにも効果的であり、ミセル電解カラーフィルターの反射用ＬＣＤへの展開も可能になった。
３．請求項３
液晶ディスプレイ用カラーフィルターと透明導電性電極との密着性が向上したため、カラーフィルター中に密着性低下の原因の１つである導電性粒子をより多く含有することができ、カラーフィルターの導電性が向上し、安定した液晶駆動電極に用いることができるようになった。
４．請求項４
前記１〜３の効果を奏する液晶ディスプレイ用カラーフィルターを簡単な製造方法で提供することができる。