(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
ハウジング（２５、６０１、７０１）と、
そのハウジング（２５、６０１、７０１）によって支持されていて真空力の源を生成する為の真空入口を備えた真空ポンプ（１４１、５１１、８１１）と、
前記真空ポンプ（１４１、５１１、８１１）により送られる真空量を制御する為に空気前記真空入口へ分流する為の前記真空入口と流通する真空制御弁（１４９）と、
前記ハウジング（２５、６０１、７０１）によって支持されていて前記真空ポンプ（１４１、５１１、８１１）の前記真空入口と流通する真空口と、
前記ハウジング（２５、６０１、７０１）によって支持されていて研磨粒を運ぶ空気の流れを供給する供給口と、
空気入口を備えた供給容器（７１、５４５）とから成り、
前記真空口と前記真空ポンプ（１４１、５１１、８１１）の前記真空入口との間に介在し、前記真空ポンプと流通する入口と出口を持ち、少なくとも仮貯蔵用の前記研磨材を実質的にその中に除去する為に配置されている廃棄物容器（３３、５３３、８３３）を内蔵し、
第一フィルターを内蔵し、
前記廃棄物容器（３３、５３３、８３３）が、前記第一フィルター（２９、５２９）を通過するように全ての空気の流れを起こすことによって前記廃棄物を除去する為に配置され、
前記廃棄物容器が、ネジ穴（２２５）とそのネジ穴（２２５）から一定の距離をおいて位置する少なくとも一つの収集穴（２１９）と容器下腹部（２１５）とを持つ収集容器（１９９）、
材料が前記容器下腹部（２１５）内の少なくとも一つの前記収集穴（２１９）と、
前記ネジ穴（２２５）の間の流通経路にある前記第一フィルター（２９、２３３）に流れるようにする少なくとも一つの前記収集穴（２１９）にたわんで隣接する柔軟性のあるフラッパー（２３１）を備えていることを特徴とする研磨粒配送補充システム（２１、５０１、８０１）。
【請求項２】
ハウジング（２５、６０１、７０１）と、
そのハウジング（２５、６０１、７０１）によって支持されていて真空力の源を生成する為の真空入口を備えた真空ポンプ（１４１、５１１、８１１）と、
前記真空ポンプ（１４１、５１１、８１１）により送られる真空量を制御する為に空気前記真空入口へ分流する為の前記真空入口と流通する真空制御弁（１４９）と、
前記ハウジング（２５、６０１、７０１）によって支持されていて前記真空ポンプ（１４１、５１１、８１１）の前記真空入口と流通する真空口と、
前記ハウジング（２５、６０１、７０１）によって支持されていて研磨粒を運ぶ空気の流れを供給する供給口と、
空気入口を備えた供給容器（７１、５４５）と、
前記ハウジング（２５、６０１、７０１）によって支持されていて、前記供給容器（７１、５４５）の空気入口と流通する圧縮空気の源を送る圧力出口を有した圧縮空気発生装置とからなり、
前記圧縮空気を排出することにより圧縮空気の圧力を制御しながら減少させる為の前記圧力出口と流通する第一流れの分岐弁（５１、Ｋ１、Ｋ２）と、
前記圧力出口で圧力により大きい制限を与える第一流れの分岐弁（５１、Ｋ１、Ｋ２）の操作にも関わらず、前記圧力出口の空気圧力の量の制御をしつつ与える前記圧力出口と流通する第二流れの分岐弁（１７１、５５５）を備えることを特徴とする研磨粒配送補充システム（２１、５０１）。
【請求項３】
ハウジング（２５、６０１、７０１）と、
そのハウジング（２５、６０１、７０１）によって支持されていて真空力の源を生成する為の真空入口を備えた真空ポンプ（１４１、５１１、８１１）と、
前記真空ポンプ（１４１、５１１、８１１）により送られる真空量を制御する為に空気前記真空入口へ分流する為の前記真空入口と流通する真空制御弁（１４９）と、
前記ハウジング（２５、６０１、７０１）によって支持されていて前記真空ポンプ（１４１、５１１、８１１）の前記真空入口と流通する真空口と、
前記ハウジング（２５、６０１、７０１）によって支持されていて研磨粒を運ぶ空気の流れを供給する供給口と、
空気入口を備えた供給容器（７１、５４５）と、
前記ハウジング（２５、６０１、７０１）によって支持されていて、前記供給容器（７１、５４５）の空気入口と流通する圧縮空気の源を送る圧力出口を有した圧縮空気発生装置とからなり、
前記供給容器（７１、５４５）内の圧力が所定の圧力より下がった時に前記供給容器（７１、５４５）内に所定量の空気が入るようにする前記供給容器（７１、５４５）の前記空気入口と流通する安全弁を備えている研磨粒配送補充システム（２１、５０１）。
【請求項４】
ハウジング（２５、６０１、７０１）と、
そのハウジング（２５、６０１、７０１）によって支持されていて真空力の源を生成する為の真空入口を備えた真空ポンプ（１４１、５１１、８１１）と、
前記真空ポンプ（１４１、５１１、８１１）により送られる真空量を制御する為に空気前記真空入口へ分流する為の前記真空入口と流通する真空制御弁（１４９）と、
前記ハウジング（２５、６０１、７０１）によって支持されていて前記真空ポンプ（１４１、５１１、８１１）の前記真空入口と流通する真空口と、
前記ハウジング（２５、６０１、７０１）によって支持されていて研磨粒を運ぶ空気の流れを供給する供給口と、
空気入口を備えた供給容器（７１、５４５）と、
前記ハウジング（２５、６０１、７０１）によって支持されていて、前記供給容器（７１、５４５）の空気入口と流通する圧縮空気の源を送る圧力出口を有した圧縮空気発生装置とからなり、
不必要な生物が前記供給容器（７１、５４５）の空気入口に進入する前に前記不必要な生物を殺す為の前記圧縮空気発生装置の間にある浄化ヒーターからなる研磨粒配送補充システム（２１、５０１）。
【請求項５】
ハウジング（２５、６０１、７０１）と、
そのハウジング（２５、６０１、７０１）によって支持されていて真空力の源を生成する為の真空入口を備えた真空ポンプ（１４１、５１１、８１１）と、
前記真空ポンプ（１４１、５１１、８１１）により送られる真空量を制御する為に空気前記真空入口へ分流する為の前記真空入口と流通する真空制御弁（１４９）と、
前記ハウジング（２５、６０１、７０１）によって支持されていて前記真空ポンプ（１４１、５１１、８１１）の前記真空入口と流通する真空口と、
前記ハウジング（２５、６０１、７０１）によって支持されていて研磨粒を運ぶ空気の流れを供給する供給口と、
空気入口を備えた供給容器（７１、５４５）と、
前記ハウジング（２５、６０１、７０１）によって支持されていて、前記供給容器（７１、５４５）の空気入口と流通する圧縮空気の源を送る圧力出口を有した圧縮空気発生装置とからなり、
不必要な生物が前記供給容器（７１、５４５）の空気入口に侵入する前に前記圧縮空気発生装置からの空気を前記不必要な生物を殺す為に紫外線にさらす紫外線浄化システムから成る研磨粒配送補充システム（２１、５０１）。
【請求項６】
ハウジング（２５、６０１、７０１）と、
そのハウジング（２５、６０１、７０１）によって支持されていて真空力の源を生成する為の真空入口を備えた真空ポンプ（１４１、５１１、８１１）と、
前記真空ポンプ（１４１、５１１、８１１）により送られる真空量を制御する為に空気前記真空入口へ分流する為の前記真空入口と流通する真空制御弁（１４９）と、
前記ハウジング（２５、６０１、７０１）によって支持されていて前記真空ポンプ（１４１、５１１、８１１）の前記真空入口と流通する真空口と、
前記ハウジング（２５、６０１、７０１）によって支持されていて研磨粒を運ぶ空気の流れを供給する供給口と、
空気入口を備えた供給容器（７１、５４５）とからなり、
前記供給容器（７１、５４５）がさらに前記供給口と流通する研磨粒を運ぶ空気の流れが通過する第一端を備えたベンチュリ管（２７５）、
空気の流れを前記ベンチュリ管（２７５）に送る為の第２端、
そして前記供給容器（７１、５４５）が吸入オリフィスへ送る為に効果的な量の研磨材を充填するとき、前記ベンチュリ管（２７５）の前記第１端と第２端の間で、前記ベンチュリ管（２７５）へ研磨粒が送られる位置にある前記供給容器（７１、５４５）内にある吸入オリフィスから成ることを特徴とする研磨粒配送補充システム（２１、５０１、８０１）。
【請求項７】
前記供給容器（７１、５４５）に入ってくる空気を制限制御する為の前記供給容器（７１、５４５）と流通する供給容器空気制御弁を備えている請求項１乃至６いずれかに記載のシステム。
【請求項８】
前記真空制御弁の変位位置が前記真空入口に分岐されて入ってくる空気の流れに対して比例する請求項１乃至６いずれかに記載のシステム。
【請求項９】
前記ハウジング（２５、６０１、７０１）によって支持されていて前記真空ポンプ（１４１、５１１、８１１）によって作られた真空を表している前記真空ポンプ（１４１、５１１、８１１）の前記真空入口と流通する真空計（６１、５１９、８１９）を備えている請求項１乃至６いずれかに記載のシステム。
【請求項１０】
前記真空ポンプ（１４１、５１１、８１１）の前記真空入口に介在する第二フィルター（２９、２３３）を更に有し、
前記第二フィルター（２９、２３３）を通過するように全ての空気の流れを起こすことによって前記廃棄物の除去をさらに確かにする為に少なくとも前記第一フィルター（２９、５２９）の精密ろ過部と同じ位小さい精密ろ過部を備えている請求項１記載のシステム（２１、５０１、８０１）。
【請求項１１】
前記第二フィルター（２９、２３３）が、前記廃棄物容器（３３、５３３、８３３）の外側に位置して前記ハウジング（２５、６０１、７０１）によって独立的に支持されていることを特徴とする請求項１０記載のシステム（２１、５０１、８０１）。
【請求項１２】
視的検査のために、前記第二フィルター（２９、２３３）が透明なハウジング（８２７）を備えていることを特徴とする請求項１１記載のシステム（２１、５０１、８０１）。
【請求項１３】
前記第一フィルター（２９、２３３）が空気の流れに適応する為に拡大された表面積を増加させる為の波型の側面を備え、有底筒状環状シリンダーとして形成されている請求項１記載のシステム（２１、５０１、８０１）。
【請求項１４】
前記供給容器（７１、５４５）がその中にある研磨粒を流動化させる為にその底部に向かって開口している空気供給口を備えている請求項１記載の研磨システム（２１、５０１、８０１）。
【請求項１５】
前記流れの分岐弁（５１、Ｋ１、Ｋ２）がその流れの分岐弁（５１、Ｋ１、Ｋ２）の素早い制御の為のソレノイド弁である請求項２記載のシステム（２１、５０１）。
【請求項１６】
前記流れの分岐弁（５１、Ｋ１、Ｋ２）が前記ハウジング（２５、６０１、７０１）により支持されている位置選択弁である請求項２記載のシステム（２１、５０１）。
【請求項１７】
前記位置選択弁の変位位置が前記流れの分岐弁によって排出された前記圧縮空気の流れに対して比例する請求項１６記載のシステム（２１、５０１）。
【請求項１８】
前記真空口での圧力が所定値以下であるとき、前記真空口を閉じる真空スイッチと、
前記真空スイッチと接続し、前記供給容器（７１、５４５）と前記供給容器の前記供給口との間に配設される電磁式分流弁と、
空気の流れの方向を変える前記圧縮空気発生装置からなり、
該圧縮空気発生装置は、前記真空口での圧力が所定値以上であるとき、前記供給容器（７１、５４５）への空気の流入を制御制限し、前記真空口での圧力が所定値以下であるとき、前記供給容器（７１、５４５）への空気の流入を停止し、
前記真空口での真空度が十分でないときに、前記供給容器（７１、５４５）から前記供給口への研磨材の不測の伝送を防止することを特徴とする請求項３乃至５いずれかに記載の研磨システム（２１、５０１）。
【請求項１９】
前記供給容器（７１、５４５）の空気入口と不必要な粉粒物が供給口（７１、５４５）の空気入口から侵入するのを防ぐ為の前記圧縮空気発生装置との間にあるシステム浄化フィルターから成る請求項３乃至５いずれかに記載の研磨システム（２１、５０１）。
【請求項２０】
ベンチュリ管（２７５）がＵ型で、前記吸入オリフィスが前記Ｕ型の最低部と隣接している請求項６記載の研磨システム（２１、５０１、８０１）。
【請求項２１】
真空力の源を生成する為の前記真空入口を備えた真空ポンプと、
前記真空ポンプ（１４１、５１１、８１１）により送られる真空量を制御する為に空気を前記真空入口へ分流する為の前記真空入口と流通する制御弁と、
前記真空ポンプ（１４１、５１１、８１１）の入口と流通する出口と入口を備えた表面研磨器と、
研磨粒を運ぶ空気の流れを供給する為の前記表面研磨器の入口から流れる供給用の研磨粒と空気と、
空気入口（５４７、１６５）を備える前記研磨粒の供給容器と、
前記研磨粒の供給に侵入する空気を制御制限する前記研磨粒の供給と流通する第一端と第二端を備えた供給空気制御弁（１７１、１６７、５５５）と、
前記制御弁（１７１、１６７、５５５）の第二端の一つと流通する圧縮空気の流れの源を導く為の圧力出口と、前記研磨粒供給用の空気入口から成る圧縮空気発生装置（１４１、５１１、８１１）と、
前記圧縮空気を排出することにより圧縮空気の圧力を制御しながら減少させる為の前記圧縮空気発生装置（１４１、５１１、８１１）の圧力出口と流通する流れ分岐弁（５１、Ｋ１、Ｋ２）と、
前記真空入口と前記真空ポンプの真空入口の間に介在し、前記真空ポンプと流通する入口と、
前記真空ポンプ（１４１、５１１、８１１）の入口と流通する出口と、
少なくとも仮貯蔵庫用の前記研磨材を実質的に除去する為に配置されている前記廃棄物収集スペース（３３、５３３、８３３）と、
分離器（２３３）とからなり、
前記廃棄物容器と前記分離器（２３３）が、その分離器（２３３）を通る為に前記空気の流れ全てを起こすことで前記研磨材除去用に配置され、
前記流れ分岐弁（１７１）が前記ハウジング（２５、６０１、７０１）により支持された位置選択弁（１７１）であり、
前記位置選択弁（１７１）の変位位置が前記流れ分岐弁（５１、Ｋ１、Ｋ２）によって排出された前記圧縮空気の流れに対し比例することを特徴とする研磨粒配送と補充システム（２１、５０１）。
【請求項２２】
前記流れ分岐弁（５１）がその流れ分岐弁（５１）の素早い制御の為のソレノイド弁である請求項２１記載のシステム（２１、５０１）。
【請求項２３】
前記流れ分岐弁（１７１、５５５）が第一流れ分岐弁（５１、Ｋ１、Ｋ２）であり、
前記第一流れ分岐弁（５１、Ｋ１、Ｋ２）の操作にも関わらず、前記空気圧力出口の空気圧力量に制限を加えながら制御することにより前記圧力出口で圧力により上限を与える前記圧力出口と流通する第二流れ分岐弁（１７１、５５５）から成る請求項２１記載のシステム（２１、５０１）。
【請求項２４】
前記分離器が第一フィルター（２９、２３３）であり、
前記廃棄物収集スペースと前記第一フィルター（２９、２３３）がその第一フィルターを通る為に全ての空気の流れを起こすことで前記研磨物除去用に配置されている請求項２１に記載のシステム（２１、５０１）。
【請求項２５】
前記第一フィルター（２９、５２９）と
前記真空ポンプ（１４１、５１１、８１１）の真空入口に介在する第二フィルター（３１、５２５、８２５）から成り、
前記第二フィルター（３１、５３５、８２５）を通過する全ての空気の流れを起こすことで研磨材の除去をさらに確かにする為の前記第一フィルター（２９、２３３）の精密ろ過部のと少なくとも同じ位に小さい精密ろ過部を備えている請求項２４に記載のシステム（２１、５０１、８０１）。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、研磨粒子の衝突により制御される直接研磨及び、使用済研磨粒子と研磨された材料が流れる状況の過程や安全性，衛生面だけでなく、衝突と収集の幾何学による有利な制御をも供給するシステムに関する。
【０００２】
【従来の技術】
接触表面部分を研磨するために粒子を使用することは、よく知られている。バフ研磨、磨き仕上げ、がら研磨及びキャリヤ媒体における粒子の方向づけられた流れの場合と同様に、粒子は材料を表面から除去する運動エネルギーにより動くことができる。キャリヤ媒体における粒子の方向づけられた流れの最も良く知られている大規模な例はサンドブラスティングである。サンドブラスティングは、篩にかけられてはいるが大きさが不規則な粒子の袋を消費する工業規模の設備を使用して成される。高い空気圧力は、衝突させるべき表面に砂をまき散らすのに使われて、これにより表面が研磨され、また、より高圧にすることで材料を実際に切削することができる。
【０００３】
小さなサイズに応用する場合、砂の大きさはより一層均一である。室内での利用には清潔、衛生面の理由からも使用した砂の収集も融通するべきである。米国特許５，０３７，４３２号では使用した砂の収集を容易にする手持ち装置が開示されている。この装置では砂の流れが研磨する表面に斜めに衝突することを最も重要な要素として開示している。実際、この特許の装置は本来、使われた砂の戻り通路の循環性の為に設計されていて、研磨材料の通る循環通路の一部としての研磨用の開口部を備え付けている。研磨材を研磨される材料表面に左右に通過させ、その材料を剥離することで研磨される。殆どの材料は、研磨材料の流れの循環通路内の露出表面の流れを逆上った端で除去されながら、材料は非直線形に除去される。最初に接触する材料表面の流れに沿った研磨は、媒体を投げ散らして、更に混合して剥離することで成される。
浅い角度での磨耗なので、粒子を端から端までばらばらに動かす為には、粒子内の少なくとも半分以上の運動エネルギーが使われる、というのは、粒子の半分以下の運動エネルギーがターゲットである表面を研磨するのに利用できるということである。これらの考案の特徴は、機具を非能率的にし、その機具の変化に富んで応用した使用を制限している。更に、その様な非能率的な利用は、無駄に研磨材を使用していると解釈される。与えられた量の材料を除去する為に、必要とされる３から５倍の研磨材が使われる。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
特に繊細な仕事が行われたりするような小規模の利用には、研磨材の流れの制御が重要である。そのような制御システムは、利用する研磨力のなめらかで均一な制御が可能であるべきである。機具は均一で比例した力の利用を許す正確な制御を容易にするべきである。研磨された材料の除去は、非能率的な外部の剥離や掘り返しではなく、衝突によって起こるべきである。
更に、粒子流出の流れは斜めに表面を研磨するので、焦点を絞ることができない。研磨する表面への不規則な力の利用だけでなく、研磨媒体の流れの分散の為に、エッチング書き或いは他の忍耐が必要である仕事はできない。
【０００５】
従来の研磨装置の他の問題は、いつも安全に収集して隔離されない研磨材料により起こる汚染である。例えば、鉛系塗料を用いた工業用塗料剥離作業においては、剥離された材料が普通の埃のように積もるので、工場とごみ捨て場の周辺の汚染の根拠となる。尚、研磨材と除去された材料が安全処理収集されない所での労働者は、空気で運ばれる汚染物にさらされる。
研磨材の微粒子のろ過と共に、研磨された廃棄材料は特別な問題を提示している。殆どの場合において、研磨された廃棄材料の大きさは、研磨材より大きい破片から研磨材より更に小さくて微細な粉粒まで様々である。これらの収集は、短時間毎に連続して交換しなければならない表面が拡張されたフィルターを備えつけずに、最も細かい粒子の厳密なろ過によって行われなければならない。経済的に可能であるなら、この使用済研磨剤の収集は、研磨された材料を除去処理し、再利用するということになるかもしれない。
【０００６】
研磨された材料の管理と隔離は、ニキビ、ニキビあと、黒色面皰、入れ墨、乾せんやエグゼマ（ＥＸＥＭＡ）などの他の皮膚状態などを含む医療過程で皮膚表面を除去するのに研磨材が使われる医療分野では更に問題である。皮膚表面の除去は、皮膚を切らないように、そして血管が通っている所を通らずに優しく行わなければならない。研磨された材料としての皮膚表面は隔離されるべきであり、正規の滅菌と加工なしでは再利用を止めるべきである。剥離された皮膚表面は全て汚染医療廃棄物として取り扱われるべきであり、逆流防止及び最終的な形状破壊手段と適切処理を備えた密閉容器を含む廃棄物収集スペースに収集されるべきである。
【０００７】
【発明を解決するための手段】
本発明のシステムは、使用済研磨材と研磨された材料の回収と獲得の両方に及ぶ十分な真空を供給しながら、幅広い範囲での制御を可能にする為の真空と正圧の両方を作り出す機械を含む。このシステムの第一実施形態は足踏みペダルの使用によって容易にされる真空とブースト作業を含み、その効果は様々な表面の研磨、清掃及び磨き仕上げの優れた制御に特に有効である。真空のみのシステムを含むであろう第二実施形態は、特に化粧品学分野の職員による人体組織と共に使用する為のものである。第三実施形態は、真空と空気の増幅システムを含み、医療分野での熟練した職員のために設計されている。このシステムは、ブースト操作が可能なように最低真空レベルで設定して使われる。また、オペレーターが足踏みペダル制御装置又は研磨する地域に手動接触器を押しつける以外の制御装置の独立的操作を要さずに、研磨する地域に密接して作動する手動接触器であるのが好ましい表面研磨器具を使えるようにしてある。全ての実施形態は、使用済研磨粒子と研磨された材料の混合の集中衝突と収集の動力が集められて撤回させられる同心空間を作り出す予防用先端を有する手持ち直接粒子ビーム研磨手動接触器の特徴を成している。置き換え可能な先端プラスチックキャップ内における幾何学的配列の観点から言うと、前記器具は、集中して焦点を合わすことが可能な研磨材の流れを供給していて、使用済研磨材を、各研磨粒子の全エネルギーを研磨される表面に完全接触させる研磨材衝突面からすぐに除去できるように集中的に配置されている、除去可能な管接続口の一連を備え付けている。普通のプラスチックで作られているのが好ましい予防用先端は高価ではなく、交換可能であるので、あらゆる材料の表面に使用するのに好都合である。表面地域をより細かく形成する為に、研磨材が直通する多数の異なった大きさの開口部を伴った予防用先端が利用できる。
【０００８】
手動接触機は交換できる環状インサートとしての流出加速器を備えている。環状インサートは加速された研磨衝突の更に集中された流れの為の長い先端、或いは加速された研磨衝突の更に集中された流れの為の短い先端を備えることができる。色々な先端の長さと組合わさっていて色々な内径のサイズの有している様々な環状インサートは、研磨材の流れの速さと流出面積を調整する為に色々な形状とプラスチックキャップの大きさと組み合わせて有効的に使用される。
手持ち器具内の均一で放射状に配置されている戻り経路に結合している予防用先端は、二つの目的に役立つややトロイダルなパターンを作り出す。まず第一に、前記流出加速器インサートに結合している先端とその（応用に基づいた）デザインは研磨材ビームに対して放射状の真空を供給し、研磨される材料への衝突前に、そのビームは前もって決定された形状に斜角をつけられる。第二の目的は、先端のど真ん中から全方角（３６０°）に均等で放射状に引き込まれる流れの中の使用済研磨材と研磨される材料を均一に回収する事である。このデザインによって、各研磨粒の全エネルギーは研磨される表面に使用され、且つ、粒子間の衝突は最小化又は削除される。
【０００９】
このシステムは、（ある一つの配列では瞬時応答足踏み制御装置付きで作動可能な）圧力ブーストをも備えているので、オペレーターは研磨されている対象物に集中できると共に、オペレーターがオンとオフ機能の管理が素早くできる独立した制御を伴っている真空と加圧されたブーストの両方を利用している。
供給容器は、ベンチュリ管の働きにより研磨材を供給管路に引き込む極小さな穴を有している集配管を備えている。この供給容器は研磨材供給システムが真空モード又は全力加圧モードの時に作動できる。真空吹き出し弁は真空モードの時に供給容器にエアキャリアーを供給する為に使われ、システムが加圧作動に遷移する時には制動器として使われる。空気吸入調整弁は材料供給容器に入る分流された空気量を制御している。吸入空気の供給が無い時は供給容器に入る空気は最少であり、真空吹き出し弁からのみ発生する。吸入空気の供給がある時は、付加空気が供給容器に供給され、研磨材の流れが付加されることになる。加圧制御下において制御範囲を狭める為の開放した状況での空気は、供給容器に供給された圧力を緩和して弱める為に供給容器から分流又は方向転換される。
【００１０】
第二の弁は、真空作動下での作動力の制御と同様に、真空通路末端付近の真空管路に入る空気を分流する為に使われ、空気増幅作業下では供給容器に入る空気を弱めたり或いは制御する。圧力は対象物において、粒子の流れを速くさせる原因となるので、圧力増幅作業下でのこの弁は、研磨された粒子や材料を出口管に沿って動かす為の真空が十分に存在するように完全に閉鎖されている。使用済み変更例である三方向電磁弁と真空センサーは真空をモニターする為に使われ、十分な量の使用済媒体の清掃又は収集が施行できる状況の間でのみ研磨媒体導入を許す手動接触器の先端中の圧力が設定されている真空レベルより低い時、ブースト操作を許さない。
第一と第二の弁として使用されている中空コアフィードバルブの特殊化した一組は、オペレーターがもっと簡単で、直線形に粒子と真空の流れを制御する能力を促している。弁が回転する時に、弁のアクティブコアは流出経路に向かっての開口部のセットの一連の移動を引き起こす。流れが利用できる総断面積はコアの角置換に関係して段々に変化するので、もしできれば、どちらかの弁を１８０°回転させることで、スムーズで比例した制御が成し遂げられる。
【００１１】
【発明の実施の形態】
本願発明の直接粒子ビーム含有流体研磨システムの描写と働きは図１を参照して最も良く記述できる。具体的な配置についてと、それから、その配置中に具体的に表現される概図と本発明の諸相のバリエーションによって本発明は最も良く説明されると思われる。
図１はシステム２１に該当する供給と収集機能を備えた研磨装置の斜視図である。システム２１は、見えない底面と上向きに折り曲げてある面の内の一面が側面２５として見られる面を備えた、長さを三つ折りにした一片の鉄でできるハウジング２３内に存在する。分離器である第一フィルター２９と第二フィルター３１の分離システムが表されていて、同様に電力コード２７も見られる。使用済研磨材と研磨された材料を、流動している空気の流れから取り除く方法としては、湿式及び乾式分析法、ろ過、サイクロン、液体吸着などの無数の方法があることが分かる。前記フィルターはコンパクトで移動可能なシステムにとって最大な利点があると考えられるので利用され、また説明される。
廃棄物の収集スペースは廃棄物容器３３という形で備えつけられ、側面２５から延長して取り付けられていることが分かる。もしそうでなければ、廃棄物の収集スペースはハウジング２３又は本発明に関して描写されるハウジングの内側或いは遠隔に備えつけられている。廃棄物容器は壁面２５に支えられながら壁面を貫通してシステム２１内の他の構成部分と接続している。一連の垂直に延びる接続ロッド（棒）３５は廃棄物容器３３を支えていて且つ上板３７と底板３９を廃棄物容器３３内がどれだけ詰まっているか一目で分かるガラス又は他の透き通った素材でできている円筒部４１に結合している。
【００１２】
図１に見られるのは速続管継手４３と４５の二つは接続管４７と４９にそれぞれ接続している。速続管継手４３と４５は差込みと管直径約０．３７５インチであるのが好ましい管の端の固定を容易にし、適所に固定するリリースリングを備えている。この種の素早く取り外し可能な管継手は備えられているリングを管継手の方に押し戻しながら管を引っ張ることでそれぞれの管４７と４９の取り外しを可能にしている。
足踏みペダル制御装置５１は素早く開く弁を備えていて、その操作により管４７と４９内に研磨材を供給する為の加圧空気の流れをつくり出すことができる。ハウジング２３上はカバープレート５３で、システム２１のほとんどの制御を支持している前板５５に隣接している。
前板５５は、システム２１を作動させ又停止させるＯＮ／ＯＦＦロッカースイッチを支持しているが、ロックアウト安全スイッチ５９にロックアウトキーを差込まなければロックアウト安全スイッチ５９は閉鎖したままである。前板５５の中心には、普通、第二フィルター３１の下流地点で測られるシステム内の真空量を示す計器６１がある。尚、計器６１は研磨材の供給に流れる加圧空気の流れの全圧力を示し、そのような計器は前面５５の他の部分に配置してもよい。
計器６１の片側にはバルブハンドル６３があり、このバルブハンドルは前面５５上での変位を視覚的に示す数記号の一連に囲まれている。配置位置は自由であるが、この位置は一般的には真空ブリーダーバルブ制御装置で占められている。バルブハンドル６３の片側には研磨材供給を送り込むための空気吸入分流器を制御している他のハンドル６５が同じように配置してあり、一般的にハウジング２３内に備えられている圧力感知逆止弁に相当するため、このつまみは分流器とみなされる。
【００１３】
図１では上板７４、フィルキャップ７３と手動接触器７５を備えた供給容器アセンブリー７１が部分的に見られる。あらゆる表面研磨機具は、ここで開示されているいずれのシステム内での利用が可能であるが、この開示されているシステムの構成部分の多くは研磨される表面に置くエンクロージャーと共に良く機能するので、本発明の全てを開示するために本発明の全ての利点を明示する為に手動接触器７５を用いることにする。他の周知の表面研磨機具は、ここに開示されている本発明のシステムと一緒に利用する事で多様で有益な利用ができる。研磨材を供給する管７７と研磨材を戻す管７９は器具７５を接続するために延びている。
【００１４】
図２の右側面図は図１で部分的に見られる供給容器７１を備えた構造を分かりやすく表している。供給容器７１もまた、図２で見られる３本の垂直な支柱の一連を備えている。垂直な支柱３５は上板８１と底板８３を接続している。器具７５から出ている管７７と７９は速続管継手によって二つの異なった位置に接続している。供給管７７は底板８３につながっている速続管継手８５に接続していて、戻り管７９はハウジング２３の側面８９に取り付けてある速続管継手８７に接続している。
内にある器具７５を支え、保護している円筒形支え９１はハウジング２３の側面８９によって支えられている。本質的に支え９１はその内側に使用していない器具７５を技術者によって設置できるようになっている安定保持（取付）ホルスターであり、器具７５の作動を止めた時のこのホルスターの使用は器具内にある粒状研磨材の重力による排水をも促すだろう。
【００１５】
図３の器具７５をクローズアップした斜視図では、管７７と７９を接続する二つの滑り管継手９３と９５がクローズアップして見やすく描写されている。研磨粒が溜まらずに見られる絞り穴に向かって均一に流れることができるように器具７５は研磨粒加速用の長さを備えつけている細長い軸を有している。器具７５の末端は開口部１０３が開いているプラスチックキャップ１０１で覆われている。システムを作動させる為には、真空が手動接触器７５のネジ山のない内径１１５から内径１１３まで通り抜けれるように開口部１０３を覆わなければならない。開口部１０３は研磨する領域上に直接設置され、半球形の端を備えたキャップ１０１は研磨する領域上を鉛筆のように手動で動かすことができる。このキャップは研磨する物の形状に合った他の形をとってもよい。
更に重要なことは、開口部１０３を通って研磨対象物に衝突する時の粒子の形とその分布を更に調整するために補足的な構造とどこかで連結している異なった形の開口部１０３の形はプラスチックキャップ１０１を変えるだけで簡単に調整できるということである。キャップ１０１はプラスチックで使い捨て可能であるのが好ましい。なぜなら、器具７５が皮を研磨するために使われる時、キャップは外側の皮との接触又はキャップ１０１の内表面に吸着しているような研磨された皮の粒子などによって不純物を除去するために使い捨てにできるからである。
【００１６】
図４にある器具７５の側面断面図は二つのネジ山付内径１０５と１０７を表している。器具７５が二つの部分で構成されている場合は、前方部１０９と後方部１１１を備えることになる。特に、図４に見られる内径は全て、一つの構成部分として構成されているなら達成するのが難しい角遷移又は分布点を有しているので、この一部分としての構造は、簡単な製造法によって器具７５内に内径を構成しやすくしている。
ネジ山付内径１０５は、後方部１１１の中心に向けて斜めに設置しているネジ山なし内径１１３に遷移している。また、ネジ山付内径１０７は切れ目のない真っ直ぐなネジ山なし内径１１５に遷移していて、後方部１１１の末端部で開口している。
前方部１０９は軸状に隆起している外枠１１９と、この外枠１１９と少なくとも同じ範囲で、そしてできれば、最初の内径１１３の部分にピッタリとはまり込むように隆起してある軸状に隆起している内枠１２１で構成されている。しかし、内径１１３を通る空気と粒子の流れが横断部の流出域で削減されないように便宜を図らなければならない。隆起している内枠１２１は、切れ目のない真っ直ぐなネジ山なし内径１１５と連結しているチャンバー１２３を形成している。この配置によって、前方部１０９は後方部１１１の外縁部に密閉しながら接続でき、同時に、内枠１２１が内径１１３のネジ山のない部分の開口部のすぐ近くの後方部１１１の周囲表面を取り囲んでいる。これによってネジ山のない部分の内径１１３を孤立させ、その経路を開くだけでなく、環状チャンバー１２３が外枠１１９と１２１の間に孤立するようになる。
前方部１０９は中央内径１２５とその周辺の内径１２７の一連を備えている。中央内径１２５は環状インサート１３１として見られる流出加速器１２９を備えていて、この中央内径１２５の内側を二つの異なった差渡し（直径）にすることで流れを制限することができる。大きすぎる粒子が入口をふさいだとしても、分離している流出加速器１２９の使用でその粒子を取り除くことが可能である。この流出加速器は前端に円錐形部を備え、中央内径１２５の中にその差込み部分を拡張している。他のオプションとしては、あらゆる種類のベンチュリオリフィス又は材料が開口部を通り抜ける速度を効果的に促進する構造がある。器具７５が中央で取り外せて、インサート１３１が器具７５の末端からすぐに届く場所に位置しているので、インサート１３１は容易に取り外すことが可能である。
【００１７】
普通の操作では速い空気や他の流動体の流れは管継手９５と管７９からネジ山付内径１０５に入り込む。内径に沿って研磨粒を運ぶこの流動体としてはガスが好ましい。ガスと研磨粒は内径１１３を通って軸状に隆起している内枠１２１を横切り中央内径１２５に入り込み、流出加速器１２９を通り抜ける際にガス流動体は速度を上げる。高速の流動体と研磨粒は加速器１３１を出て、プラスチックキャップ１０１内の加速器１２９の末端の開口部から開口部１０３に向けてその間の空間を通り抜ける。開口部１０３で覆われている被研磨表面部分では閉鎖したチャンバーが形成されていて、その中ではキャリアーガスや開口部１０３に隣接したある組織表面から研磨された材料の粒子と同じように被研磨表面にぶつかる研磨材が開口部１０３内に現れ、そして一連の周辺内径１２７内に押し込まれる。キャップ１０１で囲まれている容積内には、研磨粒や被研磨材のいずれも収集されずに前記の過程が素早く安定した状態に達することが期待される。使用した研磨粒と研摩された材料は周辺内径を通り抜けてチャンバー１２３に入り、そしてネジ山なし内径１１５から滑り管継手９３の留め金と管７７を通る。安定した状況での操作を確実なものとするための圧力と真空の製造法は以下のシステムの観点から説明する。
【００１８】
図５はプラスチックキャップ１０１を除いた手動接触器７５の正面図であり、一連の周辺内径１２７の入口の位置が分かりやすく描写されている。使用した研磨粒と研摩された材料の戻り道に均一な有効性を持たす為に、この一連の周辺内径１２７の入口は位置付けてある。異なったサイズのプラスチックキャップ１０１と開口部１０３が別の応用に利用できることが分かる。より激しい研磨には、インサート１３１の開口部の末端の側に開口部１０３を備えたり、又より大きい開口部１０３から十分に距離を置いてインサート１３１の開口部の末端を備えたキャップ１０１を作ることができる。この様な装置は、よりゆっくりとした速度で広範囲を研摩する。
【００１９】
これまではシステム２１の内部の部分を見てきたが、このシステムの全体のより深い理解を促すために更にこのシステムの働きについて説明する。図６はハウジング２３を後部から見通して、その構造の概要図を表している。これによってシステム２１の物理的設計に関する図式的説明がなされる。
電力は通常の壁コンセント１３５からシステム２１に供給される。ＯＮ／ＯＦＦスイッチ１３７はハウジング２３に入る電力の有効を操作していて、システム２１を勝手に使用できないように鍵で制御できる。システム２１の中心部では以下に真空ポンプ／コンプレッサー１４１として表される真空ポンプとコンプレッサーの組み合わせが見られる。この装置は普通、内側に電気モーターを備えた密閉部分として入手可能であり、少なくとも一つの管接続口１４３に吸い込まれ、少なくとも一つの管接続口１４５から加圧出力を吐き出す空気の流れの一方向的な動きをつくり出す二つの一方向逆止弁装置を備えている。ピストンの振幅の片方のそれぞれは管接続口１４３で真空をつくり出し、真空ポンプ／コンプレッサー１４１内での次のもう片方の振幅は管接続口１４５で加圧出力をつくり出していて、これらの管接続口は使われていなければ単にプラグを抜いておける。
【００２０】
ただ一つの真空ポンプ／コンプレッサー制御システムを用いた操作の基本的理論としてはまず、モーターは常に一定の荷重で働き、且つこの荷重はできるだけ少なくなければならない。真空ポンプ／コンプレッサーはピストンの片側つまり正面のチャンバー内で動いているただ一つのピストンを備えている。チャンバー内で排気空間をつくり出すピストンの振幅の片方のそれぞれは、チャンバー内に空気を吸い込み、そしてこの過程において入口管路の抵抗が真空をつくり出している。ピストンが振幅して排気チャンバーの容量が減少することで圧縮力がつくり出される。圧縮用の空気は、チャンバーに入った空気やちょうど最大の真空振幅で入口弁が閉じた後の真空振幅の残りの空気に基づいている。つまり、荷重が二つにならない理由は、最大真空荷重の下での圧力荷重は自然的にほぼゼロになるからである。最大圧力荷重はポンプ／コンプレッサー内に入る空気入力が最大である時、実質的に真空が全く発生しない時又は真空入力が常圧の時に起こりうる。
従って、真空ポンプ／コンプレッサー１４１の真空又は空気の部屋はその他の点でどの様にも制限されてはならない。本発明のシステム２１は真空と空気制御弁を独断的な制御弁としてではなく、故意に真空ポンプ／コンプレッサー１４１への真空入力を絶やしたり、又故意に真空ポンプ／コンプレッサー１４１出力からの圧力の増強を持ちこたえる分流部分として使用している。
【００２１】
システム２１は管接続口１４５からの圧力上昇が無いときにだけ真空モードとして働くので、吸入管接続口１４３の説明から始める。真空管接続口１４３は管路１４７を通って前記図１に見られる圧力計６１に接続している。圧力計６１は単に真空管接続口１４５に発生した真空量を示している。管路１５１を通ってＴ接続部は、圧力計６１と管接続口１４３との間の管路１４７と真空制御弁１４９を接続している。真空制御弁１４９は、真空管路１５１に選択的に空気を抜くように流体伝導しているフリット又はフィルター付管接続口１５３を備えた通し弁である。真空制御弁１４９が閉じている時は真空制御弁１４９に空気は流れず、圧力計６１は、別のやり方で流れの有効性と説明された他の因子に基づくことを許すシステム２１と同じぐらいの真空をつくり出せるようになる。真空制御弁１４９が開いている時は、圧力計６１で読み取られるフィルター付管接続口１５３を通り抜ける空気とシステム２１の残りの部分からの空気が一緒になり、管接続口１４３内の真空を減少させる。
管接続口１４３は管路１５５として真空ポンプ／コンプレッサー１４１に隣接しているように表されたＴ接続部分を備えている。管路１５５は筒状フィルターの形をした第二フィルター３１内の出力口に接続している。第二フィルター３１の入力口は第一フィルター２９の出力口に接続している管路１５７に接続している。第一フィルター２９の入力口は管路１５９を通って廃棄物容器３３の出力口に接続している。
【００２２】
廃棄物容器３３は小さいサイズのものなら大変軽くて、流出空気の流れから分離するのが困難な研摩材を分離させる手助けをするノックアウトグリッド（穴格子）を備えている。ノックアウトグリッド（穴格子）は入ってくる研摩材を寄り道させて廃棄物容器３３の底に落ちるようにする。皮を研摩する時は使用者が汚染した研摩材を再利用しないように染料又は他の安全装置を備え居る。
廃棄物容器３３はハウジング２３の壁を通り抜けて速続管継手８７に接続している管路１６１に接続している入力口を備えている。前記のように、速続管継手８７は管７７に接続していて、プラスチックキャップ１０１内での研摩作用による戻し空気、使用済研磨材と研磨材料を受け入れている。
【００２３】
再度、手動接触器７５を検討し、逆方向に動かしてみると、管７９は研磨材と空気を供給容器７１から運び込む。この容器７１はその内部の垂直な管に結びつく速続管継手８５を備えている。この垂直な管の底部付近に穴が一つ開いている。空気が容器に入ってくると、真空による負の引き込み、又は正の空気増圧、又はこの二つの組み合わせによって空気は垂直な管の上まで流れていく。垂直な管の底部付近に開いている穴を空気が通ると、適切な流出量の研摩材が吸い込まれる。穴の大きさによって空気と研摩材の混合を調整することができる。
供給容器７１は管１６５と接続している入口管接続口１６３を備えている。管路１６５はＴ型圧力差吸気口チェックと空気制御弁１７１の最初の管接続口１６９に誘導している安全弁１６７を連結させている。安全弁１６７は通路１６５の圧力と大気の圧力差が水銀柱約０．５インチある時に管路１６５に空気を流し込む。安全弁は周囲の環境又はフィルターを通して吸気している。
【００２４】
まず、一番分かりやすいシステムである真空のみのシステムを説明する。オペレーターの観点から言うと、真空ポンプ／コンプレッサー１４１の真空側に空気を導くために真空制御弁１４９のバルブハンドル６３は全開にして作業を最低限で作動させる。供給容器７１に連結し、空気を送り込んでいる空気制御弁のバルブハンドル６５は全開で設置され、そして足踏み操作ペダル５１はその通気口から圧力を押し出すために動かさないでおく。真空が発生し且つ研摩表面を研摩する準備をするために手動接触器７５はプラスチックキャップ１０１を適切な場所に設置して、その開口部１０３で研摩する領域をふさぐ。
真空制御弁１４９のバルブハンドル６３を回して周囲の空気を入口から吸入し、真空ポンプ／コンプレッサー１４１の真空側に入れる。そうすれば、手動接触器７５の先端で発生した真空がシステム２１を通過して下向きに供給容器２６７のＵ型ベンチュリ管２７５に及んでいるのが分かる。空気は真空逃し弁から吸入され、もし必要ならば管１６５を通って供給容器２６７の底に入れられる。研摩に使われる媒体を扇動し、それが凝集せずに流体であるように空気を分散させるような構成によって供給容器２６７の底へ空気を導入する。容器の底部２７１流動集合体の間を通り抜けてＵ型ベンチュリ管２７５の上部まで上り、それから管２７５を通る時に媒体を拾い上げて、小さい吸入オリフィス２７７を流れ過ぎる。研摩媒体は管７９に沿って手動接触器７５まで運ばれる。手動接触器７５では流出加速器１２９が、研摩媒体と空気の流れが環状インサート１３１の末端開口部から出ていく時にその速度とエネルギーを最大にする。一度高速の研摩媒体と空気の混合物が環状インサート１３１を過ぎ去ると、この混合物は、キャップ１０１の開口部１０３を狙い定める粒子の光線として開口部１０３内に露出しているどんな表面にも直接衝突するように方向づけられる。
もし、この状況の一つの要因が変えられたら、全ての操作をも変えなければならない。この真空のみの操作では上記されているように、管４７と４９から空気が押し出されない時にもし供給容器７１に入れる周囲の空気の供給を遮るために供給容器７１と連結している入口／出口制御弁１７１を閉じた状態（完全な空気増幅操作）に設置したら、真空安全弁１６７が空気を真空管１６５に供給するために開き、機械がまだ作動するようにする。このシステムは圧力のために安全弁１６７において水銀柱０．５インチを失う状態に陥る。
【００２５】
図６を再度参照にすると、システム２１は真空ポンプ／コンプレッサー１４１の圧力管接続口１４５を利用した圧力ブ−ストを備えている。このブ−ストが作動している時は弁１４９と１７１の開閉からのシステム２１に対する反応が異なる。真空ポンプ／コンプレッサー１４１の管接続口１４５は管路１７７を通って滑り管継手４５に圧縮した空気を供給する。管４９は滑り管継手４５を速開／速閉に便利な通気弁である足踏みペダル５１に連結している。出力管４７は足踏みペダル５１の操作に応じて加圧空気を供給する。
真空ポンプ／コンプレッサー１４１が容積移送式とするなら、二種類の操作制御法がある。一つの配列として、足踏みペダル制御装置５１に一定圧力安全弁を設けることで供給圧力を高く一定に保つと、足踏みペダル制御装置５１が作動している時、普段は閉鎖している足踏みペダル制御装置５１内の弁が供給管４７に向けて開かれる。しかし、これは好ましい操作ではない。もし、圧力を高められるならば、真空ポンプ／コンプレッサー１４１内の運転モーターの速度が落ちはじめる。というのも、この運転モーターはより高い圧力に対して使用でき、高圧安全弁を通り抜ける高圧の空気の流れを供給する為により良く機能するからである。この様な場合、足踏みペダルを踏んで管４７に流れを通す。
【００２６】
しかしながら、エネルギーを節約し、且つ圧力ブーストが必要になるときまで真空ポンプ／コンプレッサー１４１がその内にあるモーターからのエネルギーの大部分を使い果たすようにエネルギーを供給する為に足踏みペダル制御装置５１は別の意味で接続される。ペダルを踏まなければ足踏みペダル弁５１は開いた状態で、出口管接続口はフィルター又は排気装置を備えていて、管路１７５と管４９から足踏みペダル弁５１に多量低圧で一定な空気が流れ込み、排気装置を通り抜けて出ていく。圧力低下に基づいて選ぶことができるこの排気装置は管路１７５と管４９づたいの圧縮空気に実質的には圧力が低下しないことを示す。足踏みペダル弁５１が押し下げられた時、圧縮空気の拡散は遮られ、管４７が開かれるので、周囲に拡散する代わりに管４７を通り抜けるように再度方向づけられる。この配列では普通、真空ポンプ／コンプレッサー１４１が多量の真空をつくり出すほぼその時に、圧縮空気が供給される。効果的な増幅は手動接触器７５で利用する圧力差と考えられるので、備えつけてあるブーストは真空と圧力増幅の大きさに関係せずに効果的である。
速続管継手４３に流れ込む圧縮空気もまたＴ型接続器によって管路１６５に接続されている管路１７７に流れ込む。管路１６５に加えられた付加圧力は供給容器７１と手動接触器７５に向けられた推進力を増加させる。それから圧縮空気は空気と研磨材が開口部１０３の研磨対象に向けて上向きに流れるようにし、真空は使用済研磨材と研磨材料を除去する。完全真空操作において、操作の差異は安全弁１６７と１７１の組み合わせから入ってくる空気中の圧力低下を引いた大気圧に対して働くどんな真空をも含んでいる。圧力増幅操作では、本質的に同じ真空状態が示されるが、入力操作圧力の増加は空気と研磨材の流れの増加の原因である。
【００２７】
弁１４９と１７１を再度見てみると、圧力増幅の場合のこれらの働きが異なっていることは明らかである。真空のみでの最大の作動（真空を減少させるための真空管への分流無し）は弁１４９閉鎖と弁１７１の完全開放（全分流で空気増幅無し）を必要とする。しかし、管１７７に空気を増幅すると増加した空気圧が弁１７１を通り抜ける空気の流れが逆戻りする。従って、補力状態下で弁１７１と１４９が閉鎖している時に最も強力に作動する。この強力な設定では、足踏みペダル弁５１は完全制御した高圧で強い空気の流れと研磨材を手動接触器に供給する為に利用される。弁１７１と１４９が閉鎖されていると空気の増幅は加えられずに入力空気のみ安全弁１６７を通り抜け、圧力増幅が加えられた時は安全弁１６７は一方向逆止弁であるのですぐに閉鎖する。従って、図６のシステム２１は安全弁１６７を通って入ってくる空気の最小の流れと、弁１６７が閉鎖した時の最大の増幅圧力と真空によって機能するようになる。キャップ１０１を皮膚上に使用した時には、特に多量の真空が作られるかもしれないが、断続的に足踏み制御動力増幅機能が供給容器７１を通る空気の流れを完全に閉鎖して、設置してある安全弁１６７が安全性を備えているのが好ましい。
前記最大補力の設定では弁１７１の開口部はシステム２１の機能を弱め、その機能の幅を狭くする。弁１７１が開いている時は真空機能を増強し、足踏みペダル弁５１が開いている時は多量の空気の流れが手動接触器７５に運ばれる圧力を減らす弁１７１を通って流出する。弁１７１の開放は足踏みペダル制御弁５１を用いて、最大動力の操作状態から最少動力の操作状態にする。例えば、最大有効力の２／３  から  １／３の操作状態にする。弁１７１が完全に開いている時は動力操作は最大から最小動力操作の間の最小の範囲に達する。
真空制御弁１４９の開放は真空量を減少できるので、空気制御弁１７１と合わせて使用すると、操作の範囲の中央に動く。しかし、一般的に動力ブースト操作中の弁１４９の開放から利点はあまり得られない。尚、もし十分な真空が弁１４９により分流されるなら、使用済み研磨材と研磨された材料を引き込んで収集する為に不適切な真空が存在することがある。
【００２８】
管４７と４９からの増幅入力なしのシステム２１は真空／空気分流制御システムである。システム中に使用される真空と空気の最大限の制御自体はエネルギーの観点から言うと、おおよそ完全なものから半完全なもので、これらの水準以下では重要な実際の操作は無く、弁の巧みな操作を通して真空と空気の向きを変えることができる。これは単なる状況であって、真空のみの操作では、真空制御弁１５３は最大から約２０°回転の間でのみ操作に重要な影響を与える。この特徴が、真空と空気増幅制御のための特別な制御弁の考案に導いた。
システム２１の他の特徴としては、システム２１がエアブーストと押すことでその増幅を可能にする足踏みペダル制御装置５１と一緒に使用された場合、システム２１はキャップ１０１内の開口部１０３をふさいでいる物質又は開口部１０３の端に浮遊している物質を伴わずに研磨媒体が開口部１０３を通して吹き出すことができる。足踏みペダル制御装置５１の使用は研磨材が入るべきでない場所に偶然に研磨媒体を排出する危険を引き起こす。その上、手動接触器７５が足踏みペダル制御装置５１を解除する前に研磨する物質上の位置にある開口部１０３の適用範囲から動かされたら、研磨媒体は手動接触器７５の開口部１０３から排出されやすくなり、研磨する物質とその研磨されている場所以外の場所を傷める原因となる。
【００２９】
図６のエアブーストの操作は足踏みペダル操作で増幅した空気の押し寄せる影響を和らげることを基本としている。足踏みペダル制御装置５１の代わりに図１８の弁３３１のような前記制限弁の使用によって増幅空気制御弁を除去すること又は作動しないことを意図としている。空気制御弁６５で制御を鈍らせている間に弁３３１などで制御可能なゆるやかな流れの供給は無意味である。図６では、足踏みペダル制御装置５１の除去、弁３３１での取り替え、空気制御弁６５とその管路の排除と閉鎖は分配制御を可能にするが、素早いＯＮ／ＯＦＦでの増幅の供給能力を排除することになる。
尚、システム２１は使用者に親切な方法や手動接触器７５から出される（以前に使用された）廃棄媒体と研磨された物質の混合物の安全な収集のための構造は規定していない。使用した媒体の補充は操縦者が不適切に供給容器に注入するかもしれず、これは補充媒体を汚してしまうことになる。また、廃棄媒体は操縦者によって廃棄物容器の底から流し出される。これは機械のオペレーター又は保持者に汚染研磨媒体を供給容器３３に戻して再利用するか又は不安全で制御できていない方法で研磨された部分からできた研磨する物質の形状で汚染の可能性を持つ使用済媒体を処分することで同じような汚染研磨媒体を拒絶する選択権を与えている。
医療の環境で使用された場合、システム２１の描写は空気増幅システムの０．７ミクロン上流フィルターとシステム２１内での空気循環の為のセラミック炉と紫外線消毒システムの合併に至る殺菌した空気の流れの流出に焦点を当てていない。人体組織の重研磨は殺菌剤の汚染物質又はシステム２１内に循環している他の汚染物質をつくり出すかもしれない。
【００３０】
システム２１は、これまで説明してきたように良く機能する。前記と後記の考案は研磨が遂行される特別な環境のみに関係しているが、システム２１によって焦点を絞られていない他の考案も考慮する必要がある。例えば、リサイクルが可能なガラスや他の媒体などの簡素なエッチングに使われるシステム２１は能率的で巧みで清潔なシステムを形成する。例えば、一人の所有者によって購買され掃除又は小さな部分を研磨する環境の店で使用されるシステム２１は供給研磨材と廃棄研磨材の性質の管理欠如に問題はない。
システム２１のこれらの特性は一般的な利用には問題を引き起こさない。他の利用にはもっと微細な必要性があるかもしれず、新しくてより良い流れ制御システムや空気増幅制御システムや媒体供給／廃棄制御管理システムや空気清浄殺菌器などの更なる発明をうながすであろう。
【００３１】
図７、８、９ではネジ状の廃棄物容器システムが描写してあり、この中から使用済研磨材を除去するのは難しい。上板３７に似ている上板２０１を含め廃棄物容器３３に類似している廃棄物容器アセンブリー１９９はハウジング２３にボルトで留めてあるネジ穴２０３を２つ備えている。上板２０１はそこから延びている入口チューブ２０５と出口チューブ２０７を含めた２本のチューブを備えている。このチューブの構造は上板２０１の中心に向かって延びていて、それから下向きに方向づけられている内径２０９と２１１を備えている。このチューブは上板２０１の中心に向かって内に延びているので、これらは上板２０１の底に付着しているチューブ又は上板２０１の固いボディに空いている内径として存在する。
いずれの場合においても、方向変換することで研磨材をガスの流れから分離する手助けをしている。例えば、上板３７にある立体のメッシュグリッドは方向変換の為に使われていて、ここにおいても同じ原理が使われているのが分かる。ガス、使用済み研磨材、研磨された物質は入口管２０５から入り、下向きに方向づけられる。表されているような構成を取り決めた後、フィルターを通された出力ガスは内径２１１から入り、出口管２０７から出る。この時のフィルターは５ミクロンが好ましい。一点鎖線として見られる構成は支えながら密閉して使用されている収集容器２１３の位置である。
【００３２】
図８は図７の線８−８においての断面図で、収集容器２１３の中を覗き込んだ図であり、その内部構成部分を表している。容器２１３は鉄又はプラスチックの外壁２１５と一連の周辺穴２１９がパンチされている又は穴が開けられている上板２１７を備えている。外側の輪状シール２２１は使用済み研磨材、研磨された物質が流出しないようにを上板２１７に押しつけて密閉している。内側の輪状シール２２３は容器のネジ穴２２５を一連の周辺穴２１９から隔離させている。従って、内径２０９を通って入ってくる物質は上板２１７にぶつかり、周辺穴２１９の中に落ちて壁２１５に囲まれた空間の中に入る。外側の輪状封かんシール２２１は入ってきた物質が容器２１３から逃げ出さないように防いでいる。内側の輪状封かんシール２２３はフィルターに通るべき空気の流れの出力と入ってきた物質が接触しないように分離している。
【００３３】
図からも明らかな様に、内径２１１はネジ穴２２５をネジ山でかみ合わせるネジ山付き短管２２７で終わっている。この構造では容器はネジ山付き短管２２７をネジ山で外すことで簡単に取り替えることができる。上板２１７の底周辺に拡張してあるのは入ってくる空気の流れとその使用済み研磨材と研磨された物質に通路を作るために下向きに曲げてあるゴムフラッパー２３１である。
一旦、使用済み研磨材と研磨された物質が容器２１３に入ると、フィルター２３３は固形を残して空気が自由に通り抜ける拡張した表面を示している。容器が一杯になってもフィルター２３３には流れが邪魔されないだけの十分な表面がある。尚、水平面がフィルター２３３より高くなっても、流れは使用済み研磨材を通り抜けることができる。それに使用済み研磨材が研磨された物質より小さい時でも、使用済み研磨材のほとんどは容器２１３の底に収集されるはずである。
フラッパー２３１は固形から空気を分離する受動的な構造を提供し、又空気が流れていない時は容器２１３の内容量を密閉する為にある。一旦、研磨過程が停止されたら、システム２１は空気で浄化されるか、単に研磨された物質の供給の停止又は排出が促される。これによって、システム２１から研磨された物質が排除される。システム２１が閉鎖された時は、容器２１３はニップル２２７からネジをもって外すことができ、この時、上板２１７の上に無作為な物質は何も乗っていない。一番良い使用例では、研磨される物質の重さは研磨粒の重さより軽いと思われるので、研磨される物質の容量が分かる収集容器を備えつけるであろう。材料を使い果たした時、システム２１はきれいに一掃され、廃棄物容器２１３の取り替えと新しい供給容器の設置ができるようになる。
【００３４】
図９は容器上部の細部が表している。この図は上板２１７、一連の周辺穴２１９、外側と内側の輪状シール２２１と２２３、ネジ山付き短管２２７とかみ合うネジ穴２２５と一連の周辺穴２１９から見通せるゴムフラッパー２３１を備えている構造である。
図１０には供給容器アセンブリー７１に似た供給容器アセンブリー２５１がハウジング２３への連結を容易にする隠された二つのネジ穴２５７がある上板２５５を備えて描かれている。空気入力管２５９は連続管又は管状容積２６５として上板２５５の表面に伸びている空気入力管２６１の入口を備えている。空気出力管２６３は連続管又は管状容積２６５として上板２５５の表面に伸びていて、研磨される材料を伴った空気の流れを運ぶ空気研磨材出力内径２６５からの出口を備えている。供給容器２６７の輪郭は一点鎖線で表されている。
【００３５】
図１１は図１０の線１１−１１においての断面図で、供給容器アセンブリー２５１の内部構成部分を表している。内部構成部分は上板２５５に永久固定する構造又はネジ山嵌合で取り外し可能な構造として備えつけられる。空気入力管２６１と連結しているのは下向きに伸びていて膨らむ管２７１で、これは容器６７内で粒子研磨材を流体化作用に導く供給容器２６７の底から入力空気を出させる。このことにより、研磨材はいつも自由に流れ、遊離していて、給送出口を詰まらせたり塞いだりしない。この膨らむ管２７１は上板２５５と同じネジ山取付け金具でかみ合わせてあるのが好ましい上部拡張部２７３を備えているように表されている。
図１１の眺めから言うと、この膨らむ管２７１の左側は空気と研磨材の出力内径２６５と連結している下向きに伸びているＵ型ベンチュリ管２７５であり、これは研磨材を引き入れる底の湾曲部にある小さい入口オリフィス２７７を備えている。大きさが５０から１００ミクロンの範囲の研磨媒体に合った入力オリフィス２７７の大きさは直径約０．０４５インチである。あらゆる応用の為に選ばれる大きさは、研磨媒体の大きさの機能と研磨媒体の大きさに関係する研磨表面に使われる媒体の量によって決まる。
ベンチュリ管２７５は、取付け金具２８１から下向きに伸びているものと一般的に平行している管２７５の上向きの延長の端で終結している開口端２７９を備えていて、この開口端２７９は膨らむ管２７１の延長で最も低い所から研磨材に浸透する空気を吸い込む。空気がベンチュリ管２７５を急いで通ると、手動接触器７５に向かう途中の空気出力管２６３から外に流れる均一な空気／研磨材の混合物を作る為に研磨材が入力オリフィス２７７を均一に運び通される。
【００３６】
図１２は真空分流弁３０１の簡単な断面図が見られ、この弁の一つの可能な配置は図６の真空制御弁１４９として利用される。真空分流弁３０１はネジ山付き内部表面３０９があるボス３０７を含む側面管接続口３０５が付いた本体３０３を備えている。ハンドル３１１は中央旋回支軸から離れて両方の方向に伸びている一般的に細長いつまみを備え付けている。バルブ本体３０３は矢印で示されている底面開口部３１３を有し、ハンドル３１１は弁軸３１５で真空分流弁３０１の内部に接続されている。真空分流弁３０１は、２個又は３個、又はもっと多くのボス３０７を備えることができることは明らかだが、それぞれのボスには真空分流弁３０１の中央部に入る一定の大きさと形の開口部がある。使用されていないボスは単に引き抜くことができる。また、システム２１と共に利用する為に設置した場合、真空分流弁３０１の運転段階用のアナログの視覚表示としてのハンドル３１１の位置を使う為に真空分流弁３０１の回転を制御するのが好ましい。
【００３７】
図１３は図１２の線１３−１３においての真空分流弁３０１の機能を示した側面断面図である。真空分流弁３０１の低部の３１３を開口しているバルブ本体３０３は、ボス３０７のネジ山付き内部表面３０９を通ることが許された空気が吸い込まれる前に真空圧が筒状バルブエレメント３１７の一線上の開口端に入ることができるように位置づけられている。筒状バルブエレメント３１７の内側は、ネジ穴３１９の中央に垂直に大雑把にあるように描かれている縮小した内径３１９の一連が含まれることを記しておく。後で見られるが、この小さな内径３１９は筒状バルブエレメント３１７の周囲に分布し、その壁を通って延長している。内径３０９の内奥部の端では、内径３０９が筒状バルブエレメント３１７の外面空間をこの内径３０９に露出している窓口３２１を見せている。小さな直径の内径３０９につながる窓口３２１は大きいかもしれず、大きな直径の内径３０９につながる窓口３２１は小さいかもしれないので、この内径３０９の空間はボス３０８の全直径よりは重要な筒状バルブエレメント３１７の外面にある眺め窓であるから、窓口３２１として強調されている。更に、もっと小さい又は大きい窓の輪郭や窓口３２１と違った形の輪郭をはっきりとさせる内径３０９の内には他の密閉構造があるかもしれない。どの縮小した内径３１９が窓口３２１の中にあり、内径３０９内に空気の流れを通すために開口し、そして空気を加えられた真空の中に真っ直ぐに分流するかは、窓口３２１の大きさと形が決める。
【００３８】
固定原理として窓口３２１を考慮する上で、窓口３２１を横切って通っている縮小した内径３１７の数と大きさのずっと変わりつづける複数の組み合わせ又はミックスを作る筒状バルブエレメント３１７の動きと縮小した内径３１７の位置を付け加える。縮小した内径３１７のうちの一つが窓口３２１の反対の端に近づくと、内径３１７は窓口３２１の端の後ろを動き始め、その中の流れが制限されるようになる。これは、閉まっている状態から他の縮小した内径３１７が窓口３２１の反対の端に近づくと起こり、窓口３２１の端の後ろから出始め、そして流通を始めることで開かれる。
【００３９】
ここでは弁がさらされる流れの領域を均一に横切る制御された流れを得る為にこの差圧式流出オリフィスの原理が用いられる。全く直線形のない非線形の空気などの流体流出なので、流れが利用できる空間と比率が釣り合っている弁開口部の輪郭は必要とされる直線性をもたらさないので、効果的でない。重要な能力を持つ弁が使われている所では、その機能範囲の端の低いほうの直線化には普通、特別精密な角弁別を備えた高価な制御装置が必要とされる。しかし、ちょうど均等に配置された縮小した一連の内径３１９はバルブハンドル３１１を回すことで窓口３２１の枠内外に配置され、この内径３１９の画期的な利用は弁流出の直線化をもたらし、又この利用はバルブハンドル３１１と弁軸３１５と比例している。これによって、バルブハンドル３１１の物理的位置をアナログの流出表示器として使えるようにし、システム２１のハウジングとその活用は比べることができるバルブハンドル３１１の位置に対して流出表示を提示するかもしれない。これで、オペレーターにとってより完全で再生可能な増幅空気に対する制御を可能にし、バルブハンドル３４１の位置を視覚的に確かめることで増幅の大きさが正しいかどうかの確認ができるようになる。この様な弁技術は流出スペクトルの最低部の直線化の為に特に重要である。図１３には表されていないが、分流弁３０１は、変位が１８０°の範囲でのみできるように絞りを備え付けるのが好ましいが、流れは低部開口部３１３に存在するバルブ本体３０３を貫いている弁の管接続口３０９からであり、ただ一つのボス３０７が入力として使用されているだけであるけれども、円筒形バルブエレメント３１７の表面を横切っている縮小した内径３１９の放射状分布の拡張は、１８０°を越えさすことが可能である。例えば、極端な場合で窓口３２１が円筒形バルブエレメント３１７の面積の２０°を占めている時、縮小した一連の内径３１９を円筒形バルブエレメント３１７の残りの３４０°に分布させることができる。真空分流弁３０１の限界を１８０°にするのは、オペレーターがバルブハンドル３１１の下の指示器の指標を読むために腰を曲げたり、身をかがめたりしなくてもいいように利用する読取口がいつもバルブハンドル３１１上に位置するようにするためである。
【００４０】
図１４では筒状バルブエレメント３１７上の縮小した内径３１９の位置の描写が一線上に描かれている。この図面のパラメーターはただの例であって、円筒形バルブエレメント３１７の直径と高さ、それと窓口３２１の面積の幾何学的配置に非常に左右される。この図面の場合、鞍型窓を形成する為に円筒形バルブエレメント３１７に対する窓口３２１の内径を０．３５５インチに基づかせている。円筒形バルブエレメント３１７の直径は０．７５インチである。図から分かるように、小さな直径の窓口３２１を持つ大きな直径の円筒形バルブエレメント３１７には、窓口３２１におけるもっと多くの縮小した内径３１９の組み合わせの可能性がある。
【００４１】
真空分流弁３０１の作動能力範囲が１８０°を越えるようにしたいと仮定すると、３２５と番号付けられている円筒形バルブエレメント３１７の直線状の描写の直線の長さの半分より小さい所に大まかに占めている縮小した内径３１９が見られる。直線状の描写３２５の全体の長さはγとして表され、ほぼ１８０°作動範囲の直線状の描写３２５はνという記号で示されている。窓口３２１において一度に一つから三つの縮小した内径３１９がどんな時でも存在するように縮小した内径３１９は各１５°ずつのほぼ均等に配置されている。この縮小した内径３１９は直径０．０１６、０．０１６、０．０１６、０．０２６、０．０２６、０．０２６、０．０３５、０．０３５、０．０３５、０．０４０、０．０４０、０．０４０、０．０４５インチで直線状の描写３２５上に連続して現れる。中央にある最初の縮小した内径３１９の中央から最後の縮小した内径３１９の中央まではηで表され、仮に窓口３２１の範囲と円筒形バルブエレメント３１７の直径は約１５°離れていると予想すると、穴の間隔は約Ψ°で表される。
【００４２】
完全に閉まっている状態から窓口３２１はまず、最初の０．０１６インチの縮小した内径３１９の一部を開けはじめ、それから最初の０．０１６インチの縮小した内径３１９を全て開ける。円筒形バルブエレメント３１７は回転し続けるので、二番目の０．０１６インチの縮小した内径３１９は空気の流れをもっと加えながら窓口３２１から見える位置に入る。最後に、三番目の０．０１６インチの縮小した内径３１９が空気の流れを更に加えながら窓口３２１から見える位置に入る。次に、最初の０．０１６インチの縮小した内径３１９は窓口３２１から見える位置から動き出し始めるか又は窓口３２１内に存在し、０．０２６インチの縮小した内径３１９と取り替えられる。つまり、最後の０．０１６インチの縮小した内径３１９は最初の０．０２６インチの縮小した内径３１９と交換され、少し多めの一線上の流れを付加する。円筒形バルブエレメント３１７が回転し続けるので、二番目の０．０１６インチの縮小した内径３１９が窓口３２１から出ると同時に二番目の０．０２６インチの縮小した内径３１９が真空分流弁３０１を通る少し多めの一線上の流れを付加する為に窓口３２１から見える位置に入る。最後に、三番目の０．０１６インチの縮小した内径３１９が窓口３２１から出ると同時に三番目の０．０２６インチの縮小した内径３１９が再度、真空分流弁３０１を通る少し多めの一線上の流れを付加する為に窓口３２１から見える位置に入る。
次に最初の０．０２６インチの縮小した内径３１９は窓口３２１から見える位置から動き出し始めるか又は窓口３２１内に存在し、０．０２６インチの縮小した内径３１９と取り替えられ、この過程が繰り返される。最後に０．０４０インチの縮小した内径３１９が消されると同時に０．０４５インチの縮小した内径３１９が付加される。
【００４３】
最も潤滑な作業の為に、取り替えられた二つの縮小した内径３１９のいづれも、それぞれの退去と侵入が同時に起こるべきである。もしそうでなければ、望まれずに流れが減少し、その後すぐに流れが増加して、直線化が妥協される。
更に、後から説明される円筒形バルブエレメントを備えた弁に似ている弁３０１は、多量の流れの直接計測能力を有している。弁３０１の大きさの倍増はその流出能力と収容能力を倍加する。故に、本発明の実施例に記述されているシステムが実験の必要も無く大きさによって測定できるようにする為に、上記弁３０１の大きさを異なったサイズの弁３０１にあてはめることができる。
【００４４】
図１５は図１３の線１５−１５においての真空分流弁３０１の断面図で、弁が閉鎖している時の縮小した内径３１９の位置を表している。図１６は三つの０．０１６インチの縮小した内径３１９を窓口３２１の視界に入れる円筒形バルブエレメント３１７の最初の動きを表している。
【００４５】
図１７は足踏みペダル制御装置５１に代用可能な一つの構造として或いは場合によってはシステム２１に対して空気の増幅を供給するあらゆる手工具又は足踏み制御増圧器と連結して使用される正送り空気分岐弁３３１の簡単な斜視図であり、以下に本発明の更に進んだ実施例中にもっと都合良く説明され、又利用されている。これはシステム２１内での使用を説明する為に足踏みペダル制御装置５１に代用可能な物として紹介される。正送り空気分岐弁３３１は本体３３３と二つのサイドボス３３５と３３７を備えていて、これらのボスはそれぞれに開口部３３８を備えていて、ネジ山が付いていてもよい。供給空気が二方向に分かれるかもしれないので、ボスは１８０°離して配置されている。ハンドル３４１は中央旋回支軸から離れて両方の方向に伸びている一般的に細長いつまみを備え付けている。バルブ本体３３３は矢印で示されている底面開口部３４３を有し、ハンドル３４１は弁軸３４５で正送り空気分岐弁３３１の内部に接続されている。更にまた、正送り空気分岐弁３３１は２又は３、又はもっと多くのボス３３７を備えることができることは明らかだが、それぞれのボスには正送り空気分岐弁３３１の中央部に入る一定の大きさと形の開口部があり、二つの向かい合って配置されているボス３３５と３３７は二方向の横流しとしての利用が理想的には要求される。二つ以上の数の使用されていないボスは単に引き抜くことができる。また、システム２１と共に利用する為に設置した場合、正送り空気分岐弁３３１の運転段階用のアナログの視覚表示としてのハンドル３４１の位置を使う為に正送り空気分岐弁３３１の回転を制御するのが好ましい。
【００４６】
図１８は図１７の線１８−１８においての正送り空気分岐弁３３１の機能を示した側面断面図である。正送り空気分岐弁３３１の低部の３４３を開口しているバルブ本体３３３は、空気がボス３３５又は３３７を通ることが許される前に空気の流れが筒状バルブエレメント３４７の一線上の開口端に入ることができるように位置づけられている。筒状バルブエレメント３４７の内側はネジ穴３３８と３３９内中央に垂直に大雑把にあるように描かれている小さな内径３４９の一連が含まれることを記しておく。後で見られるが、この小さな内径３４９は筒状バルブエレメント３４７の周囲に分布し、その壁を通って延長しているが、空気分流弁３０１に見られるような規則的な連続的増加パターンは続かない。ボス３３７と３３５の内奥部の端では、内径３３８と３３９が窓口３５１と３５３をそれぞれ見せている。窓口３５１と３５３はボス３３７と３３５をそれぞれ流れ通るように筒状バルブエレメント３４７の反対側をさらけ出している。この場合、筒状バルブエレメント３４７は実質的にはその周辺部延長全て隈なく使用される。更に、窓口３５１と３５３は、ボス３３７と３３５の端から端までのさし渡し（直径）と言うよりはむしろ筒状バルブエレメント３４７の外面の重要な眺め窓であるから使われる。
しかしながら、空気弁正送り空気分岐弁３３１で完成された直線性は、弁に流出が無い所から最大の流出までの配置からではなく、動作範囲の一端でボス３３５に０％分岐とボス３３７に１００％分岐、そして動作範囲の他の一端でボス３３７を１００％分岐に、ボス３３５を０％分岐に遷移する。これらの二つの状況の間で、もしできれば、空気弁正送り空気分岐弁３３１を通る空気の流れが制限しない直線化遷移が成されなければならない。これらの二つの状況の中間で、流れはボス３３７と３３５に均等に分かれることが期待される。
【００４７】
足踏みペダル制御装置５１に関して論議したように、ブースト用の空気圧力が必要とされるまで自由な流出状況である為に、真空ポンプ／コンプレッサー１４１の圧縮面を可能にすることが望まれる。空気供給の制限は、真空を働かせる為の真空ポンプ／コンプレッサー１４１のエンジン力使用を邪魔をするので、足踏みペダル制御装置５１が、排気制限と排気制限による圧力からの圧縮力増幅によって妨げられる普通状態の自由排気を実施するように、弁も同じことができる。この場合の弁は正送り空気分岐弁３３１である。
【００４８】
筒状バルブエレメント３４７はその表面の全周囲の殆どを使うが、図１９にある小さい内径３４９の配置考察では直線状の描写３５５の１８０°の長さだけを越えても内径には均一な段階値が伴わないことを表している。更に、窓口３５１と３５３を横切って通っている縮小した内径３４７の数と大きさのずっと変わりつづける複数の組み合わせ又はミックスを作る筒状バルブエレメント３４７の動きと縮小した内径３４７の位置を付け加える。連続操作の終わりに１００％の流出がボス３３５と３３７の一つに入り、もう片方に０％の流出が入るので、小さい内径３４７の内で一番大きいものが窓口３５１の端の後ろに動き、その流れを制限され始めている間に、内径３４７の内最初の一つが窓口３５３（これが流れていない方とみなす）の端に接近する。
【００４９】
また、全く直線状でない空気などの流体流出の為、流れが利用できる空間と比率が釣り合っている弁開口部の輪郭は必要とされる直線性をもたらさないので、効果的でない。更に、流れは向かい合って位置する二つの開口部を通るので、窓口の幾何学的配置は、小さな内径の窓口３５３と３５１の一つだけでなく、同時に他の窓口３５３と３６１の一つへの侵入と退去に関係する。しかし、片側から他方への流れのスムーズな遷移を目的とするので、流出空間での変化は、それが片側だけであっても二つのボス３３７と３３５の間の分流の比率に影響する。
十分に間隔の空いている小さい内径３４９はバルブハンドル３４１を回すことで窓口３５１と３５３の枠内外に配置され、この内径３４９の画期的な利用はボス３３５と３３７間の関連した流れの直線化をもたらし、又この利用はバルブハンドル３４１と弁軸３４５と比例している。これによって、空気増幅（エアブースト）の大きさを厳密に制御するためにバルブハンドル３４１の物理的位置をアナログの流出表示器として使用可能にしている。
【００５０】
これで、オペレーターにとってより完全で再生可能な増幅空気に対する制御を可能にし、バルブハンドル３４１の位置を視覚的に確かめることで増幅の大きさが正しいかどうかの確認ができるようになる。この様な弁技術は、空気の流れを遮らずに必要とされる空気を直線化する為に特に重要である。真空分流弁３０１を有する正送り空気分岐弁３３１は１８０°以上の範囲でのみ変位が起こるようにストップ（絞り）と共に備えられているが、この場合、筒状バルブエレメント３４７の３６０°ほとんどが利用されているので、１８０°の範囲制限は機能上必要である。このことは図１９に一番良く表されていて、筒状バルブエレメント３４７上の小さい内径３４９の位置の描写が一線上に描かれていて、直線状描写３５５と読んでいる。この図面のパラメーターはただの例であって、再び、円筒形バルブエレメント３４７の直径と高さ、それと窓口３５１と３５３の面積の幾何学的配置に非常に左右される。この図面の場合、鞍型窓を形成する為に円筒形バルブエレメント３４７に対する窓口３５１と３５３の内径を再度０．３５５インチに基づかせている。円筒形バルブエレメント３４７の直径は０．７５インチである。
【００５１】
小さい内径３４９は、直線状の描写３５５の全体の長さはγとして表され、ほぼ３６０°作動範囲の直線状の描写３５５はνという記号で示されている。窓口３５１と３５３において一度に二つの小さい内径３４９がどんな時でも存在するように小さい内径３４９はそれぞれ約４５°ずつのほぼ均等に配置されている。この小さい内径３４９は直径０．０８０、０．２８０、０．１２０、０．２８０、０．１２０、０．２８０と０．０８０インチで、直線状の描写３５５上に連続して現れる。中央にある最初の小さい内径３４９の中央から最後の小さい内径３４９の中央まではηで表されていて、穴の間隔は約４５°である。小さい内径３４９は七つ存在するが、０°の位置では小さい内径３４９は存在しない。
直線状の描写３５５の１８０°の長さの物を使って、一端を窓口３５１の一つの代わりとし、もう一方の端を窓口３５３以外の物の代わりとするなら、直線状の描写３５５を横切るその様な物は関係のある窓口３５１と３５３に同時に現れる二つの小さい内径３４９を思いつかせる。左から始めて１８０°にある一番大きな窓口３５３を窓口３５３と考えて、０°を窓口３５１と考えるなら、窓口３５１は利用できる小さい内径３４９を有さない。右に動いて、窓口３５１は０．２８０インチの小さい内径３４９とは関連せず、０．１２０インチの小さい内径３４９と関連するので、窓口３５１は０．０８０インチの小さい内径３４９と考えるようになる。窓口３５１は０．０８０インチの小さい内径３４９とは関連せず、０．２８０インチの小さい内径３４９と関連するので、１８０°のマークにおいて窓口３５１は０．１２０インチの小さい内径３４９とは関連せず、０．２８０インチの小さい内径３４９と関連するというふうである。
筒状バルブエレメント３４７の角移動の終わりでは、窓口３５１を通る流れは完全に開放され、窓口３５３を通る流れは完全に閉鎖される。
【００５２】
図２０は図１８の線２０−２０からの正送り空気分岐弁３３１の断面図で、ボス３３５を通る１００％の流れが通りすぎる位置に弁がある時の小さい内径３４９の位置を表している。図２１は、ボス３３７に入る空気の流れの変遷を始める筒状バルブエレメント３４７の最初の動きを表していて、これは、ボス３３５の約７５％とボス３３７の２５％を通ると思われるバルブハンドル３４１と一致している。
【００５３】
初めて図２２に表されているシステム５０１は、同じ種類の研磨作業を行なっている技術者によって使用される所や、極めて簡単に動かされるシステムが管理されている所や、妥当に手を加えないと、新しい供給媒体のみの利用の為と、できるだけ多くの廃棄媒体を隔離する為のプロトコールを侵害される所で必要とされる。
システム５０１は二つの慣行を発達させた空気圧力用と真空の制御用の弁を利用している直線形真空／空気直接制御システムである。（これらの弁は本明細書内に特許として出願される。）これらの弁は、制御用つまみの設定１の「空気／真空無」から制御用つまみの設定５の「空気／真空最大」までの完全直線形制御を提供し、制御用つまみの最小から最大までの完全な１８０°の動きは円滑な完全直線形の流出制御を提供する。
【００５４】
図２２のシステム５０１は一般的に言うと、水銀柱が１０インチ以下の真空レベルにおいて空気増幅機能を全て遮る、真空の慣行に作用し、電気で作動する空気の流れ制御弁を利用する。この方向電磁操作弁は、送受器具７５が開口部１０３を研磨する材料で塞いで（閉鎖して）、水銀柱が１０インチ以上に発達させないと作動しない。もし、真空が発達しないと、空気増幅システムはどんな状況においても作動しない。もし、システムが使用されていて、送受器が塞がれていて、真空が水銀柱の１０インチ以上で、空気ブーズトが入っていて、オペレーターが送受器具７５を研磨された材料から取り去ると、真空は直ちに無くなり、空気増幅システムはソレノイドによって閉鎖されて、媒体の流れは抑制されているので送受器具７５から媒体は脱出しない。
システム５０１は図７から１１に説明されている研磨媒体供給、廃棄媒体と研磨された材料の収拾と制御の進歩的な考案を利用している。使い捨てできる供給媒体と廃棄物の容器は組み合わさったペアで、この両方の容器は同時に置き換えられる。供給システムの考案では、供給媒体は密閉媒体容器に入れて提供されていて、これはオペレーターによって１８０度回転ロックでシステムに設置される。廃棄媒体容器は３６０度ロック、逆流止め（廃棄物は入るが外には出れない）、フィルターシステム、それと外側の鉄製外装を備えた自己収集部（設備）である。空の媒体容器と満杯の廃棄物容器の処理はオーナー（保持者）又はオペレーターによって管理される。
【００５５】
図２２のシステム５０１は化粧学と医学の分野において特に有効であり、図６のシステム２１に似たように方向づけられている。ハウジング５０３はその中の構成部分を支持する為に丁度良い大きさであるこのハウジングの二つの実施例を表す。電力は通常の壁コンセント５０５からシステム５０１に供給される。ＯＮ／ＯＦＦスイッチ５０７はハウジング５０３内にある真空／コンプレッサー５１１に入る電力の使用可能度を操作している。真空／コンプレッサー５１１には、少なくとも一つの管接続口５１３に吸い込まれ、少なくとも一つの管接続口５１５から圧縮された出力を出す一方向の空気の流れの動きがある。ピストンの振幅の片方はそれぞれ、管接続口５１３で真空をつくり出し、真空／コンプレッサー５１１内での次のもう片方の振幅は管接続口５１５で圧縮出力をつくり出す。
【００５６】
真空側のシステム５０１は、管接続口５１３と制限オリフィス５２１を通って真空計５１９に接続されている管路５１７を含んでいる。真空管路５２３は、視覚点検の為に一般的にはハウジング５０３の外側に設置されている第二フィルター５２５に接続されていて、且つ、接続管５３１を通って図８に見られる第一フィルター２３３を含む廃棄物容器５３３に接続されている。廃棄物容器５３３は図７〜９に好んで見られる。フィルター２３３に流れを通した後、廃棄物容器５３３から前記図面に見られる管７７と７９が意図せず逆になるのを防ぐ為に黒いコードにしても良い管継手５３７に伸びている管路５３３を通して続いている。Ｔ型管継手は、管路５３５内に作られた真空の中に気圧を押しやることができる（入れることができる）直線形真空制御弁５３９につながっている。真空制御弁５３９は多様なデザインでできるが、この真空制御弁５３９には図１２〜１６の真空分流弁３０１のデザインを用いるのが好ましい。この構造では、手動接触器７５までの途中の管接続口５３７のちょうど前で、分流（分路）が管路とフィルターの一般的な真空の連続に導入されることに気づく。（図６では、弁１４９が真空ポンプ／コンプレッサー１４１の中に直接垂直に空気を分流していたので、廃棄物容器は真空緩衝器として使われた。）
【００５７】
Ｔ型接続は、真空センサースイッチＫ１が管接続口５３７のちょうど前の管路５３５内の真空と流体伝導されるようにする為に使われている。水銀計で１０インチ以上位に管路５３５内の真空が十分高くなったら、中継組織が管接続口５１５からシステムの供給側に空気圧力を得られるようにする分流弁Ｋ２を作動する。管路５３５内の真空が水銀計で１０インチ以下の時、管接続口５１５から得られる圧力は単に、ハウジング５０３内の気圧に押しやられる。流れの真空ポンプ／コンプレッサー５１１からの迂回は、▲１▼研磨粒を排出する空気の流れを防ぐ為、そして、▲２▼真空を使い物にならないように変えてしまう真空ポンプ／コンプレッサー５１１の装備を避ける為である。
【００５８】
システム５０１の真空部を続けると、真空は管接続口５３７から手動接触器７５の真空側に引き起こされる。もし、キャップ１０１の開口部１０３が手動接触器７５を研磨する表面上に押しつけることで塞がれていたら、供給容器５４５から研磨粒と空気の混合物が管路５４３を通って引き込まれることができるように真空は管接続口５４１に引き起こされる。システム２１のようにシステム５０１は真空モードのみで作動することができ、ハウジング５０３の周囲から、そしてシステム５０１を通して大気を引き込んでいる。しかし、圧力増幅中の圧縮された空気は真空ポンプ／コンプレッサーからの空気で、これは以前に真空システムの排出として空気が管接続口５１３に入ってくる真空ポンプ／コンプレッサー５１１を通って引き込まれたものである。たとえ廃棄物容器５３３と第一フィルター２２３と第二フィルター５２５が機械であるにもかかわらず完全に全ての研磨粒と研磨された材料を真空吸込管路５２３から排除すると期待されているにしても、極少量の汚染物質が通り抜けることが出来るかもしれないという、ほんのわずかな可能性が存在する。第一フィルター２２３と第二フィルター５２５は約５ミクロンの大きさであると思われるが、それとは異なった大きさでもよい。例えば、フィルターの大きさを段々小さくすると、それに応じて過度の圧力低下を防ぐ為に表面積を大きくする。
【００５９】
システム５０１に再侵入しようとする汚染物質が真空ポンプ／コンプレッサー５１１を通り抜けるないことを絶対確実にする為に、一つの任意の装置として、一般的な操作、弁機能停止や破裂などを通して、供給容器５４５に入る管路５４７はまず、紫外線浄化システム５４９にたどり着く前に０．７ミクロンのフィルター５８５を通り抜ける。主として、紫外線で照らされた紫外線浄化システム５４９は拡張空間フィルターシステムを備えていて、十分な流れの滞在時間を有しているので、もし、汚染粒子が導入されたら紫外線にさらして、これらを台無しにする。
紫外線浄化システム５４９への吸気は管路５５１から供給され、又任意に、セラミックヒーターであるのが好ましいヒーター５５２を通して接続してもよい。このヒーターは、空気に付加された熱が紫外線浄化システム５４９と連結して働くように設置され、紫外線照射の為の高温加工蒸気（？）を備えることでその有効性を高めている。尚、吸込管路５４７内のどんな熱でも供給容器５４５内の媒体によって吸収される機会がある。更に、余分に熱交換器を吸込管路５４７の一部として又は管路５４３の一部として付加することもできる。管路５４７と管路５４３のいづれかは、ハウジング５０３の鉄壁の付属装置と管路５４７又は管路５４３或いはハウジング５０３の外壁にある熱フィンのおそらく両方にそって蛇行した道筋を通る。
【００６０】
それから、管路５２２は制御弁５５５に安全弁５５４を据え付ける為に使われていて、直線形操作に左右されるＴ型接続管継手５５３を通って接続されている。完全にフィルターを通った空気のみ安全弁５５４を通ってシステム５０１に入るようにする為に、０．０７ミクロンの空気フィルター５５６が安全弁５５４の端に設置され、入ってくる空気が十分にろ過されるようにしている。
【００６１】
制御弁５５５は、図１７〜２１に見られる正送り空気分岐弁３３１として好んで配置されるが、どんな配置でもできる。弁５５５は、約０．７ミクロンのフィルターサイズのフィルター５５８を通って管接続口５１５に戻って接続している管路に接続している一つの入口を有している。フィルター５５８はシステム５０１に再導入されるあらゆる汚染粒子を制限している。これらの汚染粒子は真空ポンプ／コンプレッサー５１１の真空吸入の前に備えられたろ過を通ることができたものである。弁５５５はエアダンプである第二の管接続口５５９を有していて、この管接続口はできれば、弁５５５に侵入する又は出ている空気が分散するようにフリット又はフィルターを備えるのが好ましい。しかし、吸込空気が管路５５２に方向転換されて第二の管接続口５５９を通って空気パージがいっぱいの状態で制御弁５５５が作動するのが望ましい。それから、もし制御弁５５５が空気を１００％第二の管接続口５５９を通って完全に方向転換されるように設置されていて、管路５５２が閉じられていたら、真空レベルの作動用の管路５５１に空気が入るのを許す為に安全弁５５３を開くことができる。
【００６２】
弁５５５は真空作動の間、管路５５２に入る空気の流れを良くすることができるように配置されていて、管路５５７を通って供給される圧縮された空気を第二の管接続口５５９に方向転換するか又は管路５５１まで達することのできる空気の量を調整することで制御できる。しかし、直線形空気制御弁５５５が吸込空気に対して作動する前に、分流弁Ｋ２は、その排出口に空気をそらさないように設置されることで管路５５７を圧縮するための作動位置に位置していなければならない。Ｋ２の働きには、中継器Ｋ１において水銀計１０インチの真空をむしろ必要とするべきである。
単に真空ポンプ／コンプレッサー５１１の管接続口５１５が周囲の大気に口を開けることを許して、分流弁Ｋ２と弁５５５とヒーター５５２と紫外線浄化システム５４９を削除することでシステム５０１は、空気増幅能力の無い物に組み立てられる。尚、Ｔ型に設置された安全弁５５３は管路５４７内にフィルター５５８と任意でマフラーと共に位置づけられる。この結果のシステムは、まだ真空のみの作動であるが、図７〜１１に見られる供給と廃棄物の容器をまだ備えている。
【００６３】
図２３には、最初から化粧学関係のマーケットで用いるつもりの真空のみのシステム６０１が表されている。真空のみの作動は、医療に関係のない職員向きであると信じられる。システム６０１はメインハウジング６０３と二つの反対側に位置する側面支柱６０５と６０７を有している。側面支柱６０５は廃棄物容器６１１を支えていて、側面支柱６０７は供給容器６１３を支えている。
メインハウジング６０３は上板６１５とシステム６０１の操作構成部分を備えた斜めの前板６１７を含んでいる。前板６１７は、システム６０１を作動させ又停止させるＯＮ／ＯＦＦロッカースイッチ６１９を支持しているが、ロックアウト安全スイッチ６２１にロックアウトキーを差込まなければロックアウト安全スイッチ６２１は閉鎖したままである。前板６１７の中心は真空圧計器６２３である。計器６２３の片側には、前板６１７上での変位を視覚的に示している内部の真空制御弁、もしできれば、図１２〜１６の真空分流弁３０１の操作用のバルブハンドル６２５が数記号の一連に囲まれている。
傾いている前板６１７の下は垂直前板６２７で、図１の管４７と４９、そして手動接触器７５に導いている管７７と７９に接続される二つの速続管継手６３１と６３３を支持している。あと、電力コード６３５と未使用時の手動接触器７５を支持している円筒形支え６３７が表されている。
【００６４】
図２４ではシステム６０１の全面図が見られる。図２５の後面図はフューズ６４１と、また、図２２に見られる第二フィルター５２５の作動用と見た目用の両方の為のグラスカバー６４３が表している。カバー６４３は一般的に、内蔵されているフィルター成分を変える為にネジを外すことで取り外しができる。供給容器６１３と廃棄物容器６１１の両方は、図７〜１１の説明と一致していて、好んでネジを外すことで取り外しができる。
【００６５】
図２６には、最初から医療分野のマーケットで用いるつもりの真空とブーストのシステム７０１が見られる。ブーストと真空の操作からの増力は、良くトレーニングされた医療専門家向きであると信じられる。このシステム７０１はメインハウジング７０３と完全な上蓋７０５と垂直前板７０７を有する。側面７０９と前面パネル７０７は、廃棄物容器７１３の垂直な支えを収容している長方形の余地７１１の為に短縮されている。この余地７１１内であり、廃棄物容器７１３の真下には四つのオプショナルインディケーター７１４の一連が見られる。これらのオプショナルインディケーター７１４は選択可能で、欠陥を示すために多数の内部構成部分やシステムに接続できるだろう。できるなら、各オプショナルインディケーター７１４は、紫外線システムを照らしている別々のガラス球に相当する。（図２９〜３１に見られる。）理想的には、長い有効期間と信頼性の為に、オプショナルインディケーター７１４は、ファイバーオプティックタイプで、このファイバーオプティックケーブル線に沿っての光の伝達を通して紫外線ガラス球の欠陥が直接示される。
他の余地７１５は供給容器７１７の垂直な支えを収容している。メインハウジング７０３の一番遠い側面は、未使用時の手動接触器７５を支持している円筒形支え７１９である。
【００６６】
前の垂直パネルは、システム７０１の操作構成部分であり、このシステム７０１を作動させ又停止させるＯＮ／ＯＦＦロッカースイッチ７２１を支持しているが、ロックアウト安全スイッチ７２３にロックアウトキーを差込まなければロックアウト安全スイッチ７２１は閉鎖したままである。前板の中心は圧力計器７２５であり、この計器７２５の片側下方には、バルブハンドル７２７が数記号の一連に囲まれていて、図１２〜１６の真空分流弁３０１であるのが好ましい内部の真空制御弁の操作用のバルブハンドル７２７の前板上での変位を視覚的に示している。計器７２５のもう一方の片側下方には、バルブハンドル７２９が数記号の一連に囲まれていて、図１７〜２１の弁３５１であるのが好ましい内部の圧力増幅制御弁の操作用のバルブハンドル７２９の前板上での変位を視覚的に示している。
また、図１の管４７と４９、そして手動接触器７５に導いている管７７と７９に接続される二つの速続管継手７３１と７３３がパネル７０７によって支持されている。あと、電力コード７３５も表されている。
【００６７】
図２７には側壁７３７を示しているシステム７０１の前面図が表されている。図２８の後面図はフューズ７４１と、また、図２２に見られる第二フィルター５２５の作動用と見た目用の両方の為のグラスカバー７４３が表している。カバー７４３は一般的に、内蔵されているフィルター成分を変える為にネジを外すことで取り外しができる。供給容器７１３と廃棄物容器７１７の両方は、図７〜１１の説明と一致していて、好んでネジを外すことで取り外しができる。また、通気口７４５も表されている。
【００６８】
システム６０１と７０１の形而下の認識に突き当たったシステム５０１、６０１と７０１を集合的に検討している具現を含んだ、或いは含まないシステム５０１は、システム２１に多くの利点を付加している。システム５０１、６０１と７０１は図７〜１１に見られるように、密閉収容使い捨て廃棄物容器２１３によって、使用済媒体のオペレーターによる処理を排除していて、そして、オペレーターに更なる研磨効果の指範囲の調整を付与し、且つ患者に快適性を付与する為の図１２〜１６の新しい直線形真空分流弁３０１と図１７〜２１の空気増幅弁３３１の使用を促している。更に、システム５０１、６０１と７０１の始動において、弁３０１と３３１の位置関係は、オペレーターによる使用前の機械のあらかじめの設置を可能にしていて、仮実験や失敗によって適切な操作状況を探す手間と患者の費用を削減する。
【００６９】
新しい媒体の供給物は、発送と使用者の受け取りの前に媒体自体の密閉できる容器に瓶詰にされる。密閉構造の殆どは供給された研磨材の保全性と純度を保証するために利用できる。この供給物は、システム５０１、６０１と７０１を形態化した機械の支持構造部にネジで留める為に蓋を開けられるまであらゆる場所で密閉したままにしておける。
図７〜１１の供給容器２６７と廃棄物容器２１３の収容能力は、システム５０１、６０１と７０１の機械を空にして再度補充する為など、オペレーターが研磨材を取り扱うことによるタイムロスを少なくとも９０％ほど無くす。空気増幅制御用の真空の必要条件を整える図２２に真空センサースイッチＫ１、ソレノイド弁Ｋ２として示されている真空安全スイッチとソレノイド弁は手動接触器７５が配置位置にない時、それから、手動接触器７５の先端に水銀柱で少なくとも１０インチの真空がない時の研磨媒体の不慮の噴出を削除する。
【００７０】
真空センサースイッチＫ１、ソレノイド弁Ｋ２の分流弁配列としての使用は、操作の自由モード用の足踏みペダル制御装置５１を削除した仕組みの働きをする。或いは、もし望むなら、図６の任意の足踏みペダル制御装置５１を使用して、更にきつく研磨媒体を制御することが可能である。オペレーターが研磨する物質の表面から開口部１０３を離して手動接触器７５の操作を一休みする時、弁Ｋ２はエアブーストが直線形制御弁５５５に到達できる前に、自動的に空気供給の方向転換をする。これで、オペレーターはただ手動接触器７５だけに係わっていればよくなり、研磨する地域との関係は気に掛けなくてもよくなる。特にオペレーターが絶えず配置されている環境にあったり、或いは更にきつい制御が必要とされる場合において、もし足踏みペダル制御装置５１が望まれるなら、備え付けることができる。システム２１などが医療分野以外で利用される時に、この様な状況が起こることが多い。
各研磨対象において取り替える手動接触器７５の使い捨てキャップ１０１は、研磨処理の衛生的条件を保証する。手動接触器７５は持ちやすく、オペレーターにとって最適なように構成されている。正確な調整ができるように大きい真空計を備えると、オペレーターにとって見やすくなる。
【００７１】
図２９には紫外線浄化システム５４９の具現が表されている。紫外線システム５４９を見下ろした図面は、長方形で三つの内側バッフル（阻流板）７５３と７５５と７５７の一連を備えたハウジング７５１を説明している。壁７５９は排出口７６３から離れて位置する吸込口７６１を有する。バッフル（阻流板）７５３と７５７は端壁７６９の近くに開口部７６５と７６７を備えていて、バッフル（阻流板）７５５は壁７５９の近くに開口部７７１の一組を備えている。一目で分かるように、開口部７６５、７６７、７７１、吸込口７６１、排出口７６３と組み合わさっているバッフル（阻流板）７５３と７５５と７５７は、紫外線浄化システム５４９に入ってくる空気の蛇行した流れを作り出す。
取り外し可能な壁７６９は類似した電気ソケット７７５の一連を支持している。紫外線７７７はソケット７７５の一つに表され、紫外線浄化システム５４９の長さの大部分を占めているように見える。紫外線浄化システム５４９の構成の目的は、そこを通る空気の流れに紫外線７７７を十分に露光する事と、紫外線７７７からの電磁紫外線と接触させる事である。紫外線浄化システム５４９のハウジングの大きさは約８×８×６インチであるのが好ましい。図２９は８インチの大きさで表されている。ガラス球は約１６から２０ワット力のワット数定格を有してよい。
【００７２】
図３０には、基盤７８１に支えられているガラス球７７７の側面図に曲がった蛍光性チューブ７７９がある。基盤７８１は、電気ソケット７７５内の対になっているプラグに挿入する二つの電気プロング７８３を有する。ガラス球７７７の交換においては、紫外線浄化システム５４９上の８×６インチの壁を開き、切れたガラス球７７７を取り外して新しいガラス球７７７と置き換える。また、図２９には、取り外し可能な壁７６９を適所に固定するシール（封）７９１とネジ又はボルト７９３の一組が見られる。浄化システム５４９の左側にはファイバーオプティックセンサー７９４の一連が見られ、それぞれは浄化システム５４９から伸び出ているファイバーオプティックケーブル線７９５を有している。ファイバーオプティックケーブル線７９５は、図２６と２７に見られる四つのオプショナルインディケーター７１４にライトを送り返す。浄化システム５４９の構造は、明快なように上部壁を取り外して表されている。
【００７３】
図３１には、図２９にも見られる端壁７６９を適所に固定するシール（封）７９１とネジ又はボルト７９３の一組が表されている。適所に上部壁７９６が見られる図３１の側面断面図は、取り外し可能な壁７６９の付属部分を更に良く表している。蛇行した空気の流れを作りだす開口部７６５が見られる。図３１は、浄化システム５４９内の紫外線７７７の殺菌用紫外線波長発光の最大反射率の為にシルバーの陽極処理した鉄でできていると思われる紫外線浄化システム５４９の線３１−３１においての断面図である。紫外線浄化システム５４９はどんな大きさででも作れるが、十分な大きさの紫外線浄化システム５４９に加えて、適切な数のガラス球７７７と適切な電力定格が使われていて、空気の流れが適切な照射の中に居る十分な時間を有する必要がある。
【００７４】
一般的に内部システム７０１は、図２２のシステム５０１に相対しているが、システム５０１は多くのバリエーションが可能であるので、図２６〜２８の物理的実現は本質的には構造の幅広い変化を伴っているかもしれないシステム７０５の物理的実現であり、図２２に示されているものと似通っている関係を有している。同様に、内部システム６０１の性能は図２２のシステム５０１の全性能ほどよくないが、このシステム６０１もまた、多数のバリエーションの可能性を有している。システム５０１は図２６〜２８のシステム７０１に適応させられるであろう構成部分をできるだけ沢山説明されているので、システム６０１に適応させられるであろう真空のみでの図式のシステムが明らかにされる。
【００７５】
図３２には真空のみのシステム８０１の斜視図が表されている。システム８０１は、図７〜１１に描かれている研磨媒体の供給と廃棄物と研磨された材料の収集と制御の進歩的なデザインの利用もしている。特に化粧学と医療の分野で有用な図３２のシステム８０１が表されている。ハウジング８０３はその内部の個性部分を支持するのに適した大きさであり、システム７０１のハウジングが好ましい。電力は普通の壁コンセント８０５によって供給される。ＯＮ／ＯＦＦスイッチ８０７はハウジング８０３に入る電力を制御している。しかし、真空作動によって放出される空気が周囲の空間に自由に脱出するようにするディフューザー８０９は真空／コンプレッサー８１１内に見られる。説明したように、真空／コンプレッサー８１１の圧力側に圧力を増強させて、別の方法で真空を作り出すのに使われる力を失わせる。真空／コンプレッサー８１１の真空側は、少なくとも一つの管接続口８１３に吸い込まれて制限オリフィス８２１を通っている真空計８１９に接続されている管路８１７に入る一方通行の空気の流出動作を伴う。真空管路８２３は視覚点検の為に一般的には透明なハウジング８２７を備えているハウジング８０３の外側に設置されている第二フィルター８２５に接続されている。この第二フィルター８２５は継続管８３１を通って図８に見られる第一フィルター２３３を含む廃棄物容器８３３に接続されている。フィルター２３３に流れを供給した後、廃棄物容器８３３から流れは手動接触器７５に接続する為の管継手８３７に延長している管路８３５を通って継続する。Ｔ型管継手は管路８３５内に作られた真空の中に気圧を押しやることができる直線形真空制御弁８３９につながっていて、入口フィルター・ディフューザー８４０を備えているかもしれない。この真空制御弁８３９は図１２〜１６の真空分流弁３０１であるのが好ましい。
【００７６】
手動接触器７５への他の接続は、供給容器８４５から管路８４３を通って連絡している管継手８４１を通してである。管継手８４１に空気と研磨材の供給を流動させて引き込むのに使われる供給容器８４５はその内にきれいな周囲の空気を吸い込む為のフィルター・ディフューザー管継手８４７を有している。吸込空気はきれいな空気なので、紫外線処理と熱処理は必要であるとは思われず、フィルター・ディフューザー管継手８４７は小粒子ろ過サイズを有することができ、これは少なくとも入口フィルター・ディフューザー８４０と同じ位小さい。このフィルター・ディフューザー８４０は粒子がが供給容器８４５に侵入するのを防ぐ為のものであり、ディフューザー又はフィルターかどうかは、侵入を許された粒子のサイズによって決まる。
【００７７】
本発明を研磨システムとその手持ち器具の操作という観点より説明してきたが、当業者であれば、本発明の構造と技術が研磨される表面に対して研磨材を衝突させる為の真空又は真空とブーストシステムが使用されていて、特に殺菌効果のあるシステムが必要とされる多くの小型器具への応用が可能であることを理解するであろう。
本発明は、特に図示された実施例に関して述べられてきたが、本発明の精神と範囲から逸脱することのない技術において、当業者には本発明の多くの変更及び改良が自明である。従って、ここに保証された本特許内に含まれることが妥当であるとここに認められるような変更及び改良は全て、本技術範囲に合理的且つ適正に含まれる。
【図面の簡単な説明】
【図１】フィルター，廃棄物キャニスター及びペダル操作のパワーブーストを含むハウジングの種々の外表面の特徴を示している本発明に係るシステムのスーツケース大のハウジングの左側斜視図である。
【図２】供給キャニスター及び手動工具と真空／媒体線の管継手を表している、図１に示すシステムの右側面図である。
【図３】供給と出口の管を表した送受器及び、予め決定されたターゲットに対する開口部を有した、移動可能なプラスチックチップの斜視図である。
【図４】供給路と流れの絞り弁、及び戻り管につながる一般的な経路と合併し放射状に位置する２つの戻り経路を示す図３の４−４線断面図である。
【図５】プラスチックの先端を取り除き、供給通路、流動加速器及び放射状に位置する戻り経路を覗くことのできる送受器の端面図である。
【図６】直接粒子ビーム含有流体研磨システムで、真空或いは圧力ブースト操作のあらゆる組み合わせが可能な第一実施形態の全略図である。
【図７】移動するのが困難な浪費した研磨材料からのトッププレートから垂れ下がっていて垂直なスクリュータイプとして描かれた、代替の廃棄物キャニスターシステムの平面図である。
【図８】図７に示す代替の廃棄物キャニスターシステムの側部断面図である。
【図９】図８に示す処理可能な廃棄物キャニスターの平面図である。
【図１０】トッププレートから垂れ下がっていて垂直なスクリュータイプとして描かれた、代替の供給キャニスターシステムの平面図である。
【図１１】図１０に示す代替供給キャニスターシステムの側部断面図である。
【図１２】通常オペレーターによる比例したアナログコントロールを容易にする直接粒子ビームを含む流動研磨システムの働きを直線化するのに好都合なように構成されていて、システムの真空制御と共に使用されている、シングルボスを有する円筒エレメント弁の斜視図である。
【図１３】図１２の構造とその働きを描いている、１３−１３線側面断面図である。
【図１４】図１２と１３の弁の円筒エレメントにある様々なサイズの流れの開口部の位置の一線状の描写である。
【図１５】図１３の１５−１５線から見た、図１２〜１４の弁の円筒エレメントが作動している時の位置を描いている図である。
【図１６】図１５と類似していて、図１２〜１５の弁の円筒エレメントが作動している時の角変位を表している図である。
【図１７】通常オペレーターによる比例したアナログコントロールを容易にする直接粒子ビームを含む流動研磨システムの働きを直線化するのに好都合なように構成されていて、システムの空気増幅制御と共に使用される、向かい合って位置する二つのボスを有する円筒エレメント弁の斜視図である。
【図１８】図１７の構造とその働きを描いている、１８−１８線側面断面図である。
【図１９】図１７と１８の弁の円筒エレメントにある様々なサイズの流れの開口部の位置の一線状を示す図である。
【図２０】図１９の２０−２０線から見た、図１７〜１９の弁の円筒エレメントが作動している時の位置を描いている図である。
【図２１】図２０と類似していて、図１７〜２０の弁の円筒エレメントが作動している時の角変位を表している図である。
【図２２】本発明の第二実施形態を示す全略図である。
【図２３】化粧品学の分野での安全利用の為と真空のみでの運転の為に構成された真空とブースト能力を備えた本願発明の第二実施形態のハウジングに特に適しているハウジングの一つの構造を示す斜視図である。
【図２４】図２３に示すハウジングの正面図である。
【図２５】図２３と２４に示すハウジングの後面図である。
【図２６】医療分野での安全利用の為と真空のみでの運転の為に構成されている真空能力とブースト能力を備えた本発明の第二の実施形態用のハウジングの一つの構造を示す斜視図である。
【図２７】図２６に示すハウジングの正面図である。
【図２８】図２６と２７に示すハウジングの後面図である。
【図２９】紫外線に直面して蛇行した流れをつくり出すバッフル（阻流板）を内部に備えた紫外線清浄システムのハウジングの配置図である。
【図３０】図２９に表されている紫外線バルブの側面図である。
【図３１】紫外線に直面して蛇行した流れをつくり出すバッフルを内部に備えた紫外線清浄システムのハウジングの側面図である。
【図３２】空気増幅能力以外の多くの利点を備えた図２２に見られる全システムを含む、図２３〜２５のハウジングシステムと共有される第三実施形態の真空のみのシステムを示す図である。
【符号の説明】
２１，５０１，８０１  研磨システム（研磨粒配送補充システム）
２５，６０１，７０１  ハウジング
２９，５２９  第一フィルター
２９，２３３  第二フィルター
３１，５２５，８２５  第二フィルター
３３，５３３，８３３  廃棄物容器（廃棄物収集スペース）
３５，７９，１１５，５４３  発生源
５１，Ｋ１，Ｋ２  流れ分岐弁
６１，５１９，８１９  真空計
７１，５４５  供給容器（供給部）
７５  手動接触器
１０１  ハウジングカバー
１０３  開口部
１０９  前部
１１１  後部
１１５  排出口
１１９  外枠
１２１  内枠
１２３  排出収集チャンバー
１２５  吸入口
１２７  排出口
１４１，５１１，８１１  真空ポンプ（圧縮空気発生装置）
１４９  真空制御弁
１６５，５４７  空気入口
１７１，５５５  流れ分岐弁（位置選択弁）
１７１，１６７，５２１，５５５  供給空気制御弁
１９９  収集容器
２１５  容器下腹部
２１９  収集穴
２２５  ネジ穴
２３１  フラッパー
２３３  分離器
２７５  ベンチュリ管
２７７  吸入オリフィス
３０１，３４１  弁
３０３，３３３  本体
３０９，３３８，３３９  窓口
３１５，３４５  弁軸
３１７，３４７  円形バルブエレメント
３１９，３４９  一連の穴
【図１】
0003572351.tif 000002
【図２】
0003572351.tif 000003
【図３】
0003572351.tif 000004
【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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【図２６】
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【図２７】
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【図２８】
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【図２９】
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【図３０】
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【図３１】
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【図３２】
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