(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
多孔質の担体と、該担体に担持された貴金属とよりなる排ガス浄化用触媒であって、
該担体は、該担体が有する細孔の直径のうち最も数の多い細孔直径（以下、中心細孔直径と称する）が１〜１０ｎｍの範囲内にあって、全細孔の６０％以上の細孔が該中心細孔直径の±５ｎｍの範囲内の直径を有する層状シリカ多孔体あるいは層状シリカ−金属酸化物多孔体であり、かつ該貴金属は平均粒径が１０〜３０ｎｍの範囲内にある金属粒子であることを特徴とする排ガス浄化用触媒。
【請求項２】
前記貴金属はＰｔ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｉｒから選ばれる少なくとも１種の貴金属である請求項１記載の排ガス浄化用触媒。
【請求項３】
前記貴金属にはＡｌ、Ｍｇ、Ｔｉから選ばれる少なくとも１種の金属の酸化物が添加されている請求項１記載の排ガス浄化用触媒。
【請求項４】
中心細孔直径が１〜１０ｎｍの範囲内にあって、全細孔の６０％以上の細孔が該中心細孔直径の±５ｎｍの範囲内の直径を有する層状シリカ多孔体あるいは層状シリカ−金属酸化物多孔体からなる担体に貴金属を担持させる担持工程と、
貴金属が担持された該担体を、酸素・燃料比が４以上である混合気体の雰囲気、又は炭化水素を含まず酸素を含む雰囲気中で６００〜１０００℃に加熱する加熱工程と、
からなることを特徴とする排ガス浄化用触媒の製造方法。
【請求項５】
前記貴金属はＰｔ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｉｒから選ばれる少なくとも１種の貴金属である請求項４記載の排ガス浄化用触媒の製造方法。
【請求項６】
前記貴金属にはＡｌ、Ｍｇ、Ｔｉから選ばれる少なくとも１種の金属の酸化物が添加されている請求項４記載の排ガス浄化用触媒の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、内燃機関などから排出される排ガスを浄化する排ガス浄化用触媒及びその製造方法に関し、詳しくはＮＯＸ  等の排ガスを浄化するための排ガス浄化用触媒及びその製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
内燃機関から排出される排ガス中には、一酸化炭素（ＣＯ）、窒素酸化物（ＮＯＸ  ）等の有害な物質が含まれている。このうちＮＯＸ  の浄化方法として、触媒作用によって排気ガス中に同時に含まれる炭化水素（ＨＣ）でＮＯＸ  を還元し、無害な窒素分子（Ｎ２  ）にする方法や、あるいは、排ガス中に炭化水素を添加して、その炭化水素によりＮＯＸ  を還元し浄化する方法がある。このような還元反応を促す触媒としては、白金（Ｐｔ）、ロジウム（Ｒｈ）、パラジウム（Ｐｄ）、イリジウム（Ｉｒ）等の貴金属が知られており、こうした貴金属を担体に担持させて構成される排ガス浄化用触媒が排ガスの浄化に使用されている。
【０００３】
従来、このような貴金属を担体に担持させて構成される排ガス浄化用触媒の製造方法としては、アルミナ、シリカゲル、ゼオライト、セピオライト等の高比表面積担体に貴金属を含む塩の水溶液を接触させ、その後、塩が分解するのに必要な温度で熱処理する方法がとられていた。このうち、セピオライト担体にパラジウムを担持した後、これらを炭化水素を含まない酸化雰囲気において４００〜７００℃の温度で熱処理して排ガス浄化用触媒を製造する方法（特開平６−３７６号公報）や、アルミナ担体に白金を担持した後７００〜１０００℃で熱処理する方法（特公昭６２−５６７８３号公報）が提案されている。
【０００４】
しかし、酸素が多く含まれる排ガスにおいては、これらの方法によって製造された排ガス浄化用触媒では、その排ガス中に含まれるＮＯＸ  の浄化効率が低い。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
そこで上記のような酸素過剰下でのＮＯＸ  の選択的還元反応等の排ガス浄化反応に対し、十分な活性を有する排ガス浄化用触媒として、層状シリカ多孔体あるいは層状シリカ−金属酸化物多孔体よりなる担体に白金を担持し、３５０℃で熱処理した後、炭化水素と空気とで構成され炭化水素に対する空気の空燃比が１８以下である雰囲気中で５００℃以上の温度で熱処理する方法（特開平６−６３４００号公報）が開示されている。しかし、この方法で製造された排ガス浄化用触媒は酸素過剰下にある排ガスにおいて高いＮＯＸ  の浄化作用を有するが、まだ十分とはいえない。なお、空燃比とは、空気の体積と気化したガソリンの体積比をいう。
【０００６】
本発明は、上記問題に鑑みてなされたものであり、内燃機関などから排出される排ガスを浄化し、特に酸素過剰下において、さらに高いＮＯＸ  の浄化作用を有する排ガス浄化用触媒およびその製造方法を提供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
本発明者は、従来技術によって製造された排ガス浄化用触媒においては担体上に担持された貴金属は粒径が３０ｎｍ以上に粒成長していること、そして特開平６−６３４００号公報に示されている排ガス浄化用触媒においては貴金属が１０ｎｍ以上の粒径に粒成長していないことに着眼し、貴金属の粒径が１０〜３０ｎｍである時、酸素過剰下でのＮＯＸ  の選択的還元反応等の排ガス浄化反応に対して活性が高いことを見出し、また、中心細孔直径が１〜１０ｎｍの範囲内にあって、全細孔の６０％以上の細孔が該中心細孔直径の±５ｎｍの範囲内の直径を有する担体を用いると、貴金属の平均粒径が１０〜３０ｎｍの範囲内になるように粒成長を制御できることを発見し、本発明に至ったのである。
【０００８】
すなわち、本発明は、多孔質の担体と、該担体に担持された貴金属とよりなる排ガス浄化用触媒であって、該担体は、中心細孔直径が１〜１０ｎｍの範囲内にあって、全細孔の６０％以上の細孔が該中心細孔直径の±５ｎｍの範囲内の直径を有する層状シリカ多孔体あるいは層状シリカ−金属酸化物多孔体であり、かつ該貴金属は平均粒径が１０〜３０ｎｍの範囲内にある金属粒子であることを特徴とする排ガス浄化用触媒である。またもう一つの本発明は、中心細孔直径が１〜１０ｎｍの範囲内にあって、全細孔の６０％以上の細孔が該中心細孔直径の±５ｎｍの範囲内の直径を有する層状シリカ多孔体あるいは層状シリカ−金属酸化物多孔体からなる担体に貴金属を担持させる担持工程と、貴金属が担持された該担体を、酸素・燃料比が４以上である混合気体の雰囲気、又は炭化水素を含まず酸素を含む雰囲気中で６００〜１０００℃に加熱する加熱工程と、からなることを特徴とする排ガス浄化用触媒の製造方法である。なお、酸素・燃料比とは、酸素ガスの体積と気化したガソリンの体積比をいう。
【０００９】
【発明の実施の形態】
担体としては、層状シリカ多孔体あるいは層状シリカ−金属酸化物多孔体を使用する。なお、層状シリカ多孔体とは、骨格がシリカよりなる層状物を原料として、この層状物を多孔体としたものである。また、層状シリカ−金属酸化物多孔体とは、前記の層状シリカ多孔体にアルミニウム等の金属の酸化物を担持したものである。この層状シリカ多孔体は、例えば、以下の製造方法により製造することができる。
【００１０】
先ず、珪酸ソーダ等の珪酸塩を焼成してカネマイト等の層状珪酸塩を形成する。この層状珪酸塩に界面活性剤を添加し、この界面活性剤を層状珪酸塩の層間に導入すると共に、界面活性剤が導入された部分以外で隣合う層状珪酸塩どうしを結合させる。この結合は、隣合う層状珪酸塩中のシラール（Ｓｉ−ＯＨ）どうしが脱水縮合し、シロキサン結合（Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ）が形成されることにより生じる。この結合により、全体として３次元ハニカム状となる。この３次元ハニカム状の層状珪酸塩を焼成することにより、導入された界面活性剤が除去されて細孔が形成される。このとき、添加する界面活性剤の大きさを変化させることにより、形成される細孔の直径を調整することができる。
【００１１】
貴金属はＰｔ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｉｒから選ばれる少なくとも１種の貴金属であることが望ましい。なお、貴金属にはＡｌ、Ｍｇ、Ｔｉから選ばれる少なくとも１種の金属の酸化物が添加されることが望ましい。
担体に貴金属を担持させる方法としては、貴金属を含む溶液中に担体を浸漬することにより担体中に貴金属を含む溶液を含浸させ、加熱等により水分等の溶媒を蒸発させて担体中に貴金属を吸着させる方法が望ましい。このとき貴金属は塩の形態で溶媒中に溶かすこともでき、貴金属の塩は、該貴金属の塩の熱分解温度以上で加熱することによって分解し、単体金属として貴金属が担体に担持される。なお、貴金属を含む溶液は酸性、中性、アルカリ性のいずれでもよい。また、溶液の溶媒を蒸発させるための加熱は１１０℃が望ましい。この方法によれば貴金属の担持量を、貴金属を含む溶液の濃度の調整によって行うことができ、貴金属の担持量を制御しやすいため好ましい。
【００１２】
前記の様に担体に貴金属を担持した後、酸素・燃料比が４以上である混合気体の雰囲気、又は炭化水素を含まず酸素を含む雰囲気中で貴金属が担持された担体を加熱することが望ましい。このとき、炭化水素を含まず空気（酸素２０％含有）のみを含む雰囲気、すなわち大気中で加熱することもでき、あるいはまた、酸素が１００％含まれる雰囲気中で加熱することもできる。こうした熱処理条件下において貴金属の粒成長が促進され、貴金属の平均粒径を１０〜３０ｎｍの範囲内とすることができる。これは、酸素の働きにより貴金属の結晶粒間の結合を促進しているためであると考えられる。なお、酸素・燃料比が４以下である混合気体の雰囲気、又は酸素を含まない雰囲気中で加熱すると、貴金属の粒成長が促進されず、貴金属の平均粒径を１０〜３０ｎｍの範囲内とすることはできない。
【００１３】
【作用】
本発明の排ガス浄化用触媒によって、排ガス中に含まれるＮＯX が排気ガス中に同時に含まれる炭化水素（ＨＣ）で還元され、無害な窒素分子（Ｎ2 ）になる。また、本発明の排ガス浄化用触媒の製造方法によって、酸素・燃料比が４以上である混合気体の雰囲気、又は炭化水素を含まず酸素を含む雰囲気中では、中心細孔直径が１〜１０ｎｍの範囲内にあって全細孔の６０％以上の細孔が該中心細孔直径の±５ｎｍの範囲内の直径を有する層状シリカ多孔体あるいは層状シリカ−金属酸化物多孔体からなる担体においては、貴金属が担体に担持された状態で６００〜１０００℃で加熱することで平均粒径が１０〜３０ｎｍの範囲内に粒径の成長を制御することができる。これは、酸素・燃料比が４以上である混合気体の雰囲気、又は炭化水素を含まず酸素を含む雰囲気中では貴金属の微粒子が部分的に酸化され、粒子径が成長しやすい状態となり、また中心細孔直径が１〜１０ｎｍの範囲内にあって中心細孔直径の±５ｎｍの範囲内にある直径の細孔が全細孔の６０％以上ある担体においては、細孔によって形成される担体表面の凹凸の周期が規則的となり、粒子径が制御されやすくなるためである。そして６００〜１０００℃の加熱によって、担体に担持された貴金属が粒成長する。このとき、貴金属が塩の形態で担体に担持された場合も、塩の熱分解を経て単体貴金属の形態で粒成長する。
【００１４】
【実施例】
以下、実施例により本発明を具体的に説明する。
（担体の形成）
珪酸ソーダ粉末（ＳｉＯ２  ／Ｎａ２  Ｏ＝２．００；日本化学工業製）を空気中において７００℃で６時間焼成した。そして、得られた焼成珪酸ソーダ粉末のうち５０ｇを粒径１ｍｍ以下に粉砕した後、５００ｍｌの水に分散させ、室温で３時間攪拌した。その後、ブフナーロートを用いて固形分を濾別し、層状珪酸塩の一種であるカネマイト（ＮａＨＳｉ２  Ｏ５  ・３Ｈ２  Ｏ）を得た。
【００１５】
次に、０．１モルのヘキサデシルトリメチルアンモニウムクロライド（Ｃ１６Ｈ３３Ｎ（ＣＨ３  ）３  Ｃｌ）、あるいはドデシルトリメチルアンモニウムブロマイド（Ｃ１２Ｈ２５Ｎ（ＣＨ３  ）３  Ｂｒ）を１０００ｍｌの水に溶解させることにより調整したアルキルトリメチルアンモニウム（Ｃｎ  Ｈ２ｎ＋１Ｎ＋  （ＣＨ３  ）３  ）水溶液に、乾燥せずに湿った状態のままの上記カネマイトを分散させた。そして、これらの２種類の分散液をそれぞれ２０００ｍｌ容器のフラスコに入れ、攪拌モーターで攪拌しながらオイルバス中において７０℃で３時間加熱し、２Ｎの塩酸水溶液を滴下して分散液のｐＨをゆっくり８．５に調整してさらに攪拌しながら７０℃で３時間加熱した。加熱後、分散液を室温まで冷却し、固形生成物を濾別した。得られた固形生成物を１０００ｍｌのイオン交換水で合計５回洗浄した後、乾燥して粉末を得た。これらの粉末を空気中で５５０℃中において６時間焼成し、２種類の層状シリカ多孔体を得た。これらの多孔体はアルキル鎖長がｎ＝１２のものをＦＳＭ−２３とし、ｎ＝１６のものをＦＳＭ−２８とした。
【００１６】
また、前記と同様の方法で焼成珪酸ソーダ粉末から湿潤カネマイトを調整し、ヘキサデシルトリメチルアンモニウムクロライド０．１モルを１０００ｍｌの水に溶解させ、０．２モルのメシチレン（１，３，５−トリメチルベンゼン）を添加したものと、０．８モルのメシチレンを添加した水溶液をそれぞれ調整した。そして、これらの水溶液中に湿潤カネマイトを分散させ、ＦＳＭ−２３あるいはＦＳＭ−２８を形成した時と同様の方法で分散液を加熱、乾燥し粉末を得た。これらの粉末を空気中において５５０℃で６時間焼成し、２種類の層状シリカ多孔体を得た。これらの多孔体はメシチレン０．２モルを添加させたものをＦＳＭ−４８とし、メシチレン０．８モルを添加させたものをＦＳＭ−５５とした。
（多孔体の結晶構造の測定）
前記得られたＦＳＭ−２３、ＦＳＭ−２８、ＦＳＭ−４８、ＦＳＭ−５５について、理学電子ＲＡＤ−Ｂ装置を用いて、Ｃｕ−Ｋαを線源としてＸ線回折を行った。なお、線源のスリットは、ＲＳ１．０ｍｍ、ＳＳ１．０ｍｍ、Ｓ０．３ｍｍとした。ＦＳＭ−２３、ＦＳＭ−２８、ＦＳＭ−４８について得られたＸ線回折（ＸＲＤ）パターンをそれぞれ図１〜３に示す。
【００１７】
図１と図２より、ＦＳＭ−２３とＦＳＭ−２８においては、六方構造を示すピークが見られた。しかし、図３より、ＦＳＭ−４８においては、六方構造を示すピークは見られなかった。また、図示しないが、ＦＳＭ−５５ついても六方構造を示すピークは見られなかった。これらの結果より、ＦＳＭ−２３とＦＳＭ−２８は結晶性が高いことがわかった。
【００１８】
また、ＦＳＭ−４８、ＦＳＭ−５５について、線源のスリットを更に狭くして前記同様にＸ線回折を行ったところ、得られたＸＲＤパターンにおいて六方構造を示すピークが検出された。このことより、ＦＳＭ−４８、ＦＳＭ−５５も結晶性が高いことがわかった。
（細孔径分布の測定）
本実施例で形成された多孔体中に分布する細孔の径は、多孔体に窒素を吸着させる窒素吸着法により測定した。この方法は、まず多孔体に窒素を吸着させ、その吸着量を測定して窒素吸着等温線を表す図を作成し、この図からＣｒａｎｓｔｏｎ−Ｉｎｃｌａｙ法により細孔容積（Ｖ）を細孔直径（Ｄ）で微分した値（ｄＶ／ｄＤ）を計算して多孔体中の細孔径分布を求める方法である。本窒素吸着測定は定容量法によって行い、約５０ｍｇの多孔体試料を測定装置のサンプル管に計り取り、管内の多孔体試料を１３０℃で加熱しながら真空度が１０−３Ｔｏｒｒになるまで管内を１時間真空引きし、多孔体中に分布する細孔内の空気を脱気した後、サンプル管を液体窒素に浸して窒素の吸着測定を行った。なお本測定装置は絶対圧型トランスデューサー（日本エムケーエス（株）製Ｂａｒａｔｏｎ１２７ＡＡ）およびコントロールバルブ（日本エムケーエス（株）製２４８Ａ）を装着した真空ラインを用いた。この窒素吸着測定の結果より、細孔容積（Ｖ；ｃｃ／ｇ）を細孔直径（Ｄ；Å）で微分した値（ｄＶ／ｄＤ；ｃｃ／ｇÅ）を計算し、多孔体中にある細孔の細孔直径の分布を示す細孔分布曲線を作成した。本実施例で形成した４種類の層状シリカ多孔体（ＦＳＭ−２３、ＦＳＭ−２８、ＦＳＭ−４８、ＦＳＭ−５５）の細孔分布曲線を図４〜７に示す。また、本実施例の比較例としてシリカゲル多孔体（５４０ＧＭ）およびアルミナ多孔体（γ−アルミナ）の細孔分布曲線を図８および図９に示す。これらの図より、それぞれの多孔体の中心細孔直径を求め、また、その±５ｎｍの細孔直径を計算し、±５ｎｍ細孔範囲として中心細孔直径の±５ｎｍの範囲内にある細孔直径範囲を求めた。また、中心細孔直径の±５ｎｍの範囲内にある細孔直径の細孔容量の全細孔容量に対する比率を±５ｎｍ細孔率として細孔分布曲線の積分曲線から求めた。本実施例で形成された多孔体の中心細孔直径、±５ｎｍ細孔範囲および±５ｎｍ細孔率を、比較例のシリカゲル多孔体（５４０ＧＭ）およびアルミナ多孔体（γ−アルミナ）で求められた値とともに表１に示す。
【００１９】
【表１】
0003555712.tif 000002
表１により、本実施例により形成した層状シリカ多孔体は中心細孔直径が１〜１０ｎｍの範囲にあり、その±５ｎｍ細孔率は６０％以上であるのに対し、シリカゲル多孔体（５４０ＧＭ）およびアルミナ多孔体（γ−アルミナ）の±５ｎｍ細孔率は６０％以下であることから、本実施例により形成した層状シリカ多孔体中には、比較例のシリカゲル多孔体およびアルミナ多孔体に比べ、細孔直径１〜１０ｎｍの微細な細孔が均一に分布していることがわかる。
（Ｐｔ粒子の形成）
中心細孔直径が２．８ｎｍである１２０ｇの層状シリカ多孔体（ＦＳＭ−２８）を、１２０ｇのＦＳＭ−２８に対してＰｔが２ｇ担持されるようにジニトロジアンミン白金水溶液（４．５２６重量％Ｐｔ含有；田中貴金属工業製）４４．１９ｇを希釈した水溶液に浸し、ホットスターラーで加熱攪拌しながら水溶液中の水分を蒸発させ、１１０℃の真空乾燥器で１０時間乾燥させた。これを最高１２００℃の温度で加熱できる加熱炉の炉内に設置した。そして、大気中で乾燥させた多孔体を室温から所定の温度（以下、前処理温度と称する）まで２時間かけて昇温し、さらに前処理温度を２時間保持して加熱を行い排ガス浄化用触媒（Ｐｔ／ＦＳＭ）を形成した。この加熱によってジニトロジアンミン白金は熱分解し、Ｐｔが多孔体表面の細孔上で粒成長して、Ｐｔ粒子が形成された。
【００２０】
得られた排ガス浄化用触媒は粉末Ｘ線回折法によってＸ線回折を行った。得られたＸ線回折パターンから、Ｐｔ結晶の（１１１）面の回折による２θ＝３９．８°における回折ピークの半値幅を求め、数１に従って多孔体表面のＰｔの平均粒径を求めた。数１においてＬとＢはそれぞれＰｔ粒径（Å）と半値幅（ｄｅｇ．）を示す。Ｘ線回折パターンは理学電子ＲＡＤ−Ｂ装置を用い、Ｃｕ−Ｋαを線源として測定した。
【００２１】
【数１】
0003555712.tif 000003
層状シリカ多孔体にジニトロジアンミン白金水溶液を含浸させ、これを乾燥した後、大気中でそれぞれ５００℃、６００℃、７００℃、８００℃、９００℃、１０００℃の前処理温度で加熱して形成された６種の排ガス浄化用触媒のＰｔの平均粒径および比表面積を表２に示す。
【００２２】
【表２】
0003555712.tif 000004
※はＸ線回折を用いた粒径測定法によってＰｔの粒径が求められなかったので、ＣＯ吸着法で求めた値を用いた。
【００２３】
表２より、加熱における前処理温度を６００〜１０００℃の範囲内で採用した場合、層状シリカ多孔体上に形成されるＰｔ粒子の平均粒径は１０〜３０ｎｍの範囲内にあることがわかる。また、比表面積は高比表面積を保ったままであり、担体の構造が変化していないことが確認される。
さらに、シリカゲル多孔体およびアルミナ多孔体を担体として、それぞれの担体にジニトロジアンミン白金水溶液を含浸させ、これらを乾燥した後、大気中で所定の前処理温度で２時間加熱して２種類の排ガス浄化用触媒（Ｐｔ／ＳｉＯ２  、Ｐｔ／Ａｌ２  Ｏ３  ）を形成した。このとき、所定の前処理温度を５００〜１０００℃の範囲内から採用し、得られた各排ガス浄化用触媒のＰｔ粒子の平均粒径を調べた結果を、前記Ｐｔ／ＦＳＭのＰｔ粒子の平均粒径とあわせて図１０に示す。図１０より、前処理温度を６００〜１０００℃の範囲内から採用した場合、Ｐｔ／ＦＳＭが最も１０〜３０ｎｍのＰｔ粒子を形成しやすいことがわかる。
（排ガスの浄化試験）
本実施例で得られた排ガス浄化用触媒を用いて、酸素過剰下にあってＮＯＸ  およびＨＣを含む混合気体のＮＯＸ  の浄化試験を行い、各排ガス浄化用触媒の最大ＮＯＸ  浄化率（％）を調べた。
【００２４】
中心細孔直径２．８ｎｍの層状シリカ多孔体（ＦＳＭ−２８）を担体とし、ジニトロジアンミン白金水溶液を含浸させ、これを乾燥した後、大気中で９通りの前処理温度で加熱してＰｔ粒子を形成し、Ｐｔ粒子の平均粒径が異なる９種の排ガス浄化用触媒を得た。これらの排ガス浄化用触媒を用いて排ガス浄化試験を行い、Ｐｔ粒子の平均粒径が異なる各排ガス浄化用触媒の最大ＮＯＸ  浄化率を調べ、Ｐｔ粒子の平均粒径による排ガス浄化用触媒のＮＯＸ  の浄化効果の違いを明らかにした。その結果を図１１に示す。図１１より、Ｐｔ粒子の平均粒径が１０〜３０ｎｍの範囲内にある時、高いＮＯＸ  の浄化効果を有することがわかる。この結果より、粒径が１０〜３０ｎｍの範囲内にあるＰｔ粒子は高いＮＯＸ  の浄化活性を有していることがわかる。
【００２５】
中心細孔直径２．８ｎｍの層状シリカ多孔体（ＦＳＭ−２８）、およびＦＳＭ−２８に４重量％のアルミナ（Ａｌ２  Ｏ３  ）を担持させたもの（Ａｌ２  Ｏ３  ／ＦＳＭ−２８）、シリカゲル多孔体（５４０ＧＭ）をそれぞれ担体として、これらの担体にジニトロジアンミン白金水溶液を含浸させ、これらを乾燥した後、大気中で所定の前処理温度で２時間加熱して３種類の排ガス浄化用触媒（Ｐｔ／ＦＳＭ、Ｐｔ／Ａｌ２  Ｏ３  ／ＦＳＭ、Ｐｔ／５４０ＧＭ）を形成した。このとき、所定の前処理温度を５００〜１０００℃の範囲内から採用し、得られた各排ガス浄化用触媒の最大ＮＯＸ  浄化率を調べた結果を図１２に示す。図１２より、６００℃を越える前処理温度によって加熱された場合においては、Ｐｔ／ＦＳＭおよびＰｔ／Ａｌ２  Ｏ３  ／ＦＳＭはＰｔ／５４０ＧＭよりも高い最大ＮＯＸ  浄化率を有することがわかる。この結果より、Ｐｔ／ＦＳＭがＰｔ／５４０ＧＭより排ガス浄化用触媒として優れていることがわかる。また、Ａｌ２  Ｏ３  ／ＦＳＭにＰｔを担持したＰｔ／Ａｌ２  Ｏ３  ／ＦＳＭもＰｔ／５４０ＧＭより優れていることがわかる。
【００２６】
中心細孔直径が２．３ｎｍの層状シリカ多孔体（ＦＳＭ−２３）、２．８ｎｍの層状シリカ多孔体（ＦＳＭ−２８）、および４．８ｎｍの層状シリカ多孔体（ＦＳＭ−４８）を担体として、それぞれの担体にジニトロジアンミン白金水溶液を含浸させ、これらを乾燥した後、大気中で６００℃で２時間加熱して３種類の排ガス浄化用触媒を形成した。得られた各排ガス浄化用触媒の最大ＮＯＸ  浄化率を調べた結果を図１３に示す。図１３より、どの排ガス浄化用触媒も高い最大ＮＯＸ  浄化率を有することがわかる。この結果より、中心細孔直径が１〜１０ｎｍの範囲内であって微細な細孔直径の細孔が均一に分布する多孔体を担体として用いた排ガス浄化用触媒は、高いＮＯＸ  浄化活性を有することがわかる。
【００２７】
【発明の効果】
本発明の排ガス浄化用触媒によって排ガス中の有害物質、とりわけＮＯＸ  を浄化することができる。また、本発明の排ガス浄化用触媒の製造方法によってＮＯＸ  に対して高い浄化活性を有する貴金属粒子を均一に担体上に形成することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】この図は、層状シリカ多孔体（ＦＳＭ−２３）のＸ線回折パターンを示した図である。
【図２】この図は、層状シリカ多孔体（ＦＳＭ−２８）のＸ線回折パターンを示した図である。
【図３】この図は、層状シリカ多孔体（ＦＳＭ−４８）のＸ線回折パターンを示した図である。
【図４】この図は、層状シリカ多孔体（ＦＳＭ−２３）の細孔直径の分布を示した細孔分布曲線である。
【図５】この図は、層状シリカ多孔体（ＦＳＭ−２８）の細孔直径の分布を示した細孔分布曲線である。
【図６】この図は、層状シリカ多孔体（ＦＳＭ−４８）の細孔直径の分布を示した細孔分布曲線である。
【図７】この図は、層状シリカ多孔体（ＦＳＭ−５５）の細孔直径の分布を示した細孔分布曲線である。
【図８】この図は、シリカゲル多孔体（５４０ＧＭ）の細孔直径の分布を示した細孔分布曲線である。
【図９】この図は、アルミナ多孔体（γ−アルミナ）の細孔直径の分布を示した細孔分布曲線である。
【図１０】この図は、層状シリカ多孔体、シリカゲル多孔体およびアルミナ多孔体を担体として白金を担持させ加熱して得られた排ガス浄化用触媒の白金粒径を、加熱における前処理温度に対して示した図である。
【図１１】この図は、層状シリカ多孔体（ＦＳＭ−２８）を担体として白金を担持させ加熱して得られた排ガス浄化用触媒の最大ＮＯＸ  浄化率を、排ガス浄化用触媒に形成された白金粒子の平均粒径に対して示した図である。
【図１２】この図は、層状シリカ多孔体およびシリカゲル多孔体を担体として白金を担持させ加熱して得られた排ガス浄化用触媒の最大ＮＯＸ  浄化率を、加熱における前処理温度に対して示した図である。
【図１３】この図は、中心細孔直径の異なる層状シリカ多孔体を担体として白金を担持させ加熱して得られた各排ガス浄化用触媒の最大ＮＯＸ  浄化率を、層状シリカ多孔体の中心細孔直径に対して示した図である。
【図１】
0003555712.tif 000005
【図２】
0003555712.tif 000006
【図３】
0003555712.tif 000007
【図４】
0003555712.tif 000008
【図５】
0003555712.tif 000009
【図６】
0003555712.tif 000010
【図７】
0003555712.tif 000011
【図８】
0003555712.tif 000012
【図９】
0003555712.tif 000013
【図１０】
0003555712.tif 000014
【図１１】
0003555712.tif 000015
【図１２】
0003555712.tif 000016
【図１３】
0003555712.tif 000017