(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記の要件を備えた釉薬分散用即溶性カルボキシメチルセルロース粒子。
（１）グリオキサール処理されていること。
（２）アルカリ剤を加えて調製した１％水溶液のｐＨが７．０〜９．５の範囲にあること。
（３）４０メッシュの篩をすべてが通過し、４０メッシュより細かく２００メッシュより粗い篩に１０％以上が残ること。
（４）エーテル化度が０．５〜１．２の範囲にあること。
（５）１％水溶液の粘度が５０〜４，０００ｍｐａ・ｓの範囲にあること。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、陶器釉薬用即溶性カルボキシメチルセルロース粒子（以下、単に「カルボキシメチルセルロース」あるいは「ＣＭＣ」ともいう）に関する。
【０００２】
【従来の技術】
釉薬はこれに含まれる成分（長石、石灰、粘土、亜鉛華、炭酸バリウム等）が沈殿しやすく、粘度が変化するという性質を持っている。従って、釉薬の各成分を均一に分散させるため、あるいは釉薬の粘度を調整するため、フノリ、塩化マグネシウム、ＣＭＣ等が添加されていた。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、このような従来の釉薬用分散剤を用いても、なおも次のような問題があった。
【０００４】
すなわち、一般に分散剤は、約７０％といった高濃度水溶液である釉薬に対し約０．３％といったごくわずかな量が添加されるだけであるので、強力な撹拌を加えないと分散剤自身が素早く分散せず、均一スラリーはできなかった。
【０００５】
分散性をよくするために、粒子径を１８〜８０メッシュに調整した粗粒品を用いることもあるが、粗粒子であるため溶解が完了するまでに相当の時間を要し、延いては均一分散するのに要する時間が多くかかった。なお、溶解が完了するまでの間、分散剤はママコ（継粉）として残った。
【０００６】
また、分散性を良くするために撹拌を強力にする、あるいは温度を高めるという方法もあるが、この場合にあっては、ＣＭＣと釉薬組成物中の２価以上の金属イオンとの置換反応が生じて粘度が高くなり（増粘し）、これにより粘度が不安定となって、施釉時、スプレー掛けやカーテンウォール式で行なうときにムラが発生するといった問題があった。また、再粘度調整という煩わしい作業を強いられた。
【０００７】
［発明の目的］
本発明は上記の実情に鑑みてなされたものであり、その目的は、添加時においてママコが発生せず、短時間で溶解が完了する釉薬分散用即溶性カルボキシメチルセルロースを提供するところにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
本発明の釉薬分散用即溶性ＣＭＣは、下記の要件を備えたものである。
（１）グリオキサール処理されていること。
（２）アルカリ剤を加えて調製した１％水溶液のｐＨが７．０〜９．５の範囲にあること。
（３）４０メッシュの篩をすべてが通過し、４０メッシュより細かく２００メッシュより粗い篩に１０％以上が残ること。
（４）エーテル化度が０．５〜１．２の範囲にあること。
（５）１％水溶液の粘度が５０〜４，０００ｍｐａ・ｓの範囲にあること。
【０００９】
【発明の実施の形態】
グリオキサール処理を施すことにより、ＣＭＣを釉薬に添加したときママコの発生を抑えることができる。グリオキサール処理は従来公知の方法で行なえば良い。その一例を下記に示す。すなわち、
エーテル化度０．５〜１．２、１％水溶液粘度５０〜４，０００ｍｐａ・ｓのＣＭＣ１００重量部、グリオキサール１〜２０重量部、及びギ酸０．１〜５重量部を混合し、この混合物に水を１〜２０重量部を入れ（この水は予めグリオキサール、ギ酸を水溶液状態にして加えてもよい）、これによりスラリー状とし、８０〜１００℃で１〜２時間反応させる。
【００１０】
１％水溶液のｐＨは７．０〜９．５であるが、このｐＨ調整にはアルカリ剤が用いられる。アルカリ剤としては、重曹、ソーダ灰、カセイソーダ等が挙げられる。
【００１１】
［作用］
グリオキサール処理したＣＭＣは、架橋不溶化されていることより、釉薬に添加したときにおいて、ママコが生じず（ママコが生じると、このママコの破壊に要する時間が別途必要となる）、完全かつ均一に分散できる。
【００１２】
ｐＨ７．０〜９．５といったアルカリ性に仕上げていることより、釉薬溶液中でグリオキサールによって架橋処理されている架橋構造が加水分解される。
【００１３】
さらに、粉末粒径を４０メッシュ全通（４０メッシュの篩に全てが通過する）４０〜２００メッシュ１０％以上（４０メッシュより細かく２００メッシュより粗い篩に１０％以上が残る（通過しない））とすることで、上記の効果をより高め、溶解時間を早めることができる。
【００１４】
用いるＣＭＣの粘度（１％水溶液粘度）は、５０〜４，０００ｍｐａ・ｓである。５０ｍｐａ・ｓ未満では粘度が低過ぎて釉薬の分散安定性が不足し、４，０００ｍｐａ・ｓを超える場合には、粘度が高過ぎてスプレー塗付しにくいといった欠点を有する。なお、１％粘度の好ましい範囲は、１００〜８００ｍｐａ・ｓである。
【００１５】
エーテル化度は０．５〜１．２であることが必要である。１．２０を超えるとコスト高となり、０．５未満では充分なＣＭＣ化ができておらず、粘性が不足する。なお、好ましい範囲は０．６〜０．９である。
【００１６】
本発明のＣＭＣは釉薬１００重量部に対し、０．１〜２重量部配合される。
【００１７】
【実施例】
実施例１（ＣＭＣ−Ａの製造）
（１）グリオキサール処理
ＣＭＣ（エーテル化度０．６５、１％粘度３５０ｍｐａ・ｓ）１００重量部、４０％グリオキサール１０重量部、及び８８％ギ酸０．５重量部を混合し均一に撹拌した。その後、８０〜１００℃で２時間、撹拌しながら加熱乾燥した。
【００１８】
（２）ｐＨと粒径の調整
グリオキサール処理を施した後、ソーダ灰を全体の４％の割合で添加し、１％水溶液のｐＨを９とした。
【００１９】
その後、均一粉体として篩で粒度を調整した（４０メッシュの篩をすべてが通過。４０より細かく２００メッシュより粗い篩に１００％が残る）。
なお、粒度の調整は２００メッシュの篩をも通過するような微小粒子の除去量によって目的の％とした。
【００２０】
実施例２（ＣＭＣ−Ｂの製造）
使用するＣＭＣのエーテル化度を０．９、また１％粘度を３０００ｍｐａ・ｓとした以外は全て上記の製造例１と同様にしてＣＭＣ−Ｂを製造した。
【００２１】
評価試験例
【表１】
0003560037.tif 000002
上記［表１］よりなる組成物に対して上記したＣＭＣ−Ａ，Ｂを配合し、当該ＣＭＣの溶解時間の測定をそれぞれ行なった。測定方法は次の通りである。
なお、釉薬は透明溶液ではないので、ＣＭＣの溶解状態が目視により確認できない。従って、溶液の粘度を１０分毎に測定し、粘度発現状態によって溶解時間を判断した。
【００２２】
（溶解測定方法）
［表１］に記載の釉薬組成物の３００ｇをビーカーに採取し、スリーワンモーターで撹拌した（５００ｒｐｍ、２５℃）。
次いで、ＣＭＣ（Ａ又はＢ）０．９ｇを添加し、添加時点から粘度（ｍｐａ・ｓ）の変化を１０分毎に測定した。粘度の測定は、ＢＭ型粘度計ローターＮｏ．４（回転数６０ｒｐｍ、２５℃）を使用し、回転１分後の測定値を採用した。
【００２３】
結果を下記［表２］［表３］に示す。
【００２４】
なお、比較ＣＭＣを用いて同じ試験を行なった。比較ＣＭＣの性質と結果を下記［表２］［表３］に併記する。
【００２５】
【表２】
0003560037.tif 000003
１８００（ｍｐａ・ｓ）を溶解の基準とすれば、実施例では所要時間１０分であるのに対し、比較例は所要時間４０〜６０分であった。
【００２６】
【表３】
0003560037.tif 000004
５９００（ｍｐａ・ｓ）を溶解の基準とすれば、実施例では所要時間１０分であるのに対し、比較例は、上記と同様、所要時間４０〜６０分であった。
【００２７】
また、ＣＭＣ無添加の場合は、釉薬スラリーが均一状態となっていないために経時粘度は変動が大きい。
【００２８】
したがって、粘度が安定した場合は分散がよく、均一スラリーができていると判断できる。
【００２９】
【発明の効果】
陶器釉薬に即溶性ＣＭＣを使用すると、添加時ママコが生じず短時間に溶解が完了する。
【００３０】
早く溶解するＣＭＣが釉薬の粘度を安定化させ、陶器に釉薬を均一に塗付することができる。