(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
（メタ）アクリロイル基を有する共重合可能な化合物（Ａ）と、
第４級アンモニウム塩基、アルキレンレングリコール鎖、炭素数４以上の炭化水素基、及び共重合可能な反応基を有する下記の式［Ｂ１］，［Ｂ２］，［Ｂ３］，［Ｂ４］の群の中から選ばれる反応型帯電防止剤（Ｂ）と、
第４級アンモニウム塩基、アルキレンレングリコール鎖、及び炭素数４以上の炭化水素基を有し、重合性の基を持たないオリゴマー（Ｏ）
とを含有することを特徴とする帯電防止材料。
〔Ｂ１〕
0003552065.tif 000032
〔但し、Ｒ1 は炭素数４以上の炭化水素基。Ａ−は対イオン。ｎは１〜２５の整数。〕
〔Ｂ2 〕
0003552065.tif 000033
〔但し、Ｒ1 ，Ｒ2 は炭素数４以上の炭化水素基。Ａ−は対イオン、ｎは１〜２５の数。〕
〔Ｂ3 〕
0003552065.tif 000034
〔但し、Ｒ1 ，Ｒ2 は炭素数４以上の炭化水素基。Ａ−は対イオン。ｎは１〜２５の数。〕
〔Ｂ4 〕
0003552065.tif 000035
〔但し、Ｒ1 は炭素数４以上の炭化水素基。Ａ−は対イオン。ｎは１〜２５の数。〕
【請求項２】
（メタ）アクリロイル基を有する共重合可能な化合物（Ａ）と、
第４級アンモニウム塩基、アルキレンレングリコール鎖、炭素数４以上の炭化水素基、及び共重合可能な反応基を有する下記の式［Ｂ１］，［Ｂ２］，［Ｂ３］，［Ｂ４］の群の中から選ばれる反応型帯電防止剤（Ｂ）と、
第４級アンモニウム塩基、アルキレンレングリコール鎖、及び炭素数４以上の炭化水素基を有し、重合性の基を持たないオリゴマー（Ｏ）
との混合物が重合処理されてなることを特徴とする帯電防止材料。
〔Ｂ１ 〕
0003552065.tif 000036
〔但し、Ｒ1 は炭素数４以上の炭化水素基。Ａ−は対イオン。ｎは１〜２５の整数。〕
〔Ｂ2 〕
0003552065.tif 000037
〔但し、Ｒ1 ，Ｒ2 は炭素数４以上の炭化水素基。Ａ−は対イオン、ｎは１〜２５の数。〕
〔Ｂ3 〕
0003552065.tif 000038
〔但し、Ｒ1 ，Ｒ2 は炭素数４以上の炭化水素基。Ａ−は対イオン。ｎは１〜２５の数。〕
〔Ｂ4 〕
0003552065.tif 000039
〔但し、Ｒ1 は炭素数４以上の炭化水素基。Ａ−は対イオン。ｎは１〜２５の数。〕
【請求項３】
シリコーン化合物（Ｃ）が添加されてなることを特徴とする請求項１または請求項２の帯電防止材料。
【請求項４】
オリゴマー（Ｏ）は、
下記の式〔Ｏ10〕で表される構造を有する第４級アンモニウム塩基を有するモノマー５〜７０重量％、
〔Ｏ10〕
0003552065.tif 000040
〔但し、Ｒ1１はＨ及びＣＨ3 の群の中から選ばれる基。Ｒ12，Ｒ13，Ｒ14はＨ、アルキル基、及びヒドロキシアルキル基の群の中から選ばれる基。Ａはアルキレン基、及びヒドロキシアルキル基の群の中から選ばれる基。Ｘ−はアニオン。〕
下記の式〔Ｏ2 〕で表される構造を有するアルキレングリコール鎖を有するモノマー１０〜８０重量％、
〔Ｏ2 〕
0003552065.tif 000041
〔但し、Ｒ11はＨ及びＣＨ3 の群の中から選ばれる基。Ｒ15はアルキレン基。Ｒ16はＨ、アルキル基、及びアリール基の群の中から選ばれる基。ｍは１〜２５の整数〕
下記の式〔Ｏ3 〕で表される構造を有する炭素数４以上の炭化水素基を有するモノマー１０〜７０重量％
〔Ｏ3 〕
0003552065.tif 000042
〔但し、Ｒ11はＨ及びＣＨ3 の群の中から選ばれる基。Ｒ12はＨ及び（メタ）アクリロイル基の群の中から選ばれる基。ｎは４〜３０の整数。〕
が用いられて共重合されたものであることを特徴とする請求項１または請求項２の帯電防止材料。
【請求項５】
オリゴマー（Ｏ）は、
下記の式〔Ｏ11〕で表される構造を有する３級アミン５〜７０重量％、
〔Ｏ11〕
0003552065.tif 000043
〔但し、Ｒ11はＨ及びＣＨ3 の群の中から選ばれる基。Ｒ12，Ｒ13はＨ、アルキル基、及びヒドロキシアルキル基の群の中から選ばれる基。Ａはアルキレン基、及びヒドロキシアルキル基の群の中から選ばれる基。〕
下記の式〔Ｏ2 〕で表される構造を有するアルキレングリコール鎖を有するモノマー１０〜８０重量％、
〔Ｏ2 〕
0003552065.tif 000044
〔但し、Ｒ11はＨ及びＣＨ3 の群の中から選ばれる基。Ｒ15はアルキレン基。Ｒ16はＨ、アルキル基、及びアリール基の群の中から選ばれる基。ｍは１〜２５の整数〕
下記の式〔Ｏ3 〕で表される構造を有する炭素数４以上の炭化水素基を有するモノマー１０〜７０重量％
〔Ｏ3 〕
0003552065.tif 000045
〔但し、Ｒ11はＨ及びＣＨ3 の群の中から選ばれる基。Ｒ12はＨ及び（メタ）アクリロイル基の群の中から選ばれる基。ｎは４〜３０の整数。〕
が用いられて共重合され、そして４級化反応が行われたものであることを特徴とする請求項１または請求項２の帯電防止材料。
【請求項６】
化合物（Ａ）は、分子中に（メタ）アクリロイル基を三つ以上有する（メタ）アクリレートＡ1 、及び分子中に（メタ）アクリロイル基を二つ有し、かつ、アルキレングリコール鎖を有する（メタ）アクリレートＡ2 の群の中から選ばれる少なくとも一つの化合物を含むものであることを特徴とする請求項１または請求項２の帯電防止材料。
【請求項７】
化合物（Ａ）は、分子中に（メタ）アクリロイル基を三つ以上有する（メタ）アクリレートＡ1 の群の中から選ばれる化合物と、分子中に（メタ）アクリロイル基を二つ有し、かつ、アルキレングリコール鎖を有する（メタ）アクリレートＡ2 の群の中から選ばれる化合物とを含み、Ａ1 １００重量部に対してＡ2 が１０〜１００重量部の割合であることを特徴とする請求項１または請求項２の帯電防止材料。
【請求項８】
反応型帯電防止剤（Ｂ）はビニル基及びアリル基の群の中から選ばれる少なくとも一つの反応基を有し、下記の式（ＢX ）で表される構造を有するものであることを特徴とする請求項１または請求項２の帯電防止材料。
〔ＢX 〕
0003552065.tif 000046
〔但し、ｎは１〜２５の整数。〕
【請求項９】
化合物（Ａ）１００重量部に対して反応型帯電防止剤（Ｂ）が０．１〜２０重量部、オリゴマー（Ｏ）が０．１〜２０重量部の割合で用いられてなることを特徴とする請求項１または請求項２の帯電防止材料。
【請求項１０】
シリコーン化合物（Ｃ）がポリエーテル変性シリコーンであることを特徴とする請求項３の帯電防止材料。
【請求項１１】
シリコーン化合物（Ｃ）が下記の式〔Ｃ1 〕で表される構造を有するものであることを特徴とする請求項３の帯電防止材料。
〔Ｃ1 〕
0003552065.tif 000047
〔但し、Ｒ3 は炭素数１〜２０のアルキル基。Ｒ4 ，Ｒ5 はＨ又はＣＨ3。ｘ，ｙは１〜１０００。ｓは１〜２０の整数。〕
【請求項１２】
シリコーン化合物（Ｃ）が反応基を有するポリエーテル変性シリコーンであることを特徴とする請求項３の帯電防止材料。
【請求項１３】
シリコーン化合物（Ｃ）が下記の一般式〔Ｃ2 〕で表される構造を有するものであることを特徴とする請求項３の帯電防止材料。
〔Ｃ2 〕
0003552065.tif 000048
〔但し、Ｒ3 は炭素数１〜２０のアルキル基。Ｒ4 ，Ｒ5 ，Ｒ6 はＨ又はＣＨ3 。ｘ，ｙ，ｚは１〜１０００。ｓは１〜２０の整数。〕
【請求項１４】
化合物（Ａ）１００重量部に対して反応型帯電防止剤（Ｂ）が０．１〜２０重量部、オリゴマー（Ｏ）が０．１〜２０重量部、シリコーン化合物（Ｃ）が０．１〜１０重量部の割合で用いられてなることを特徴とする請求項３の帯電防止材料。
【請求項１５】
請求項１〜請求項１４のいずれかの帯電防止材料が表面にコーティングされてなることを特徴とする記録媒体。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】
本発明は、例えば磁気ディスクや光磁気ディスク、あるいは光ディスク等の記録媒体と言った各種の製品にコーティングされる帯電防止材料に関するものである。
【０００２】
【発明の背景】
光ディスク基板の材料として、成形性や透明性の観点から、ポリカーボネートやポリメチルメタクリレート等が提案されている。
ところで、この種のプラスチック材料は
▲１▼  耐擦傷性が十分ではない、
▲２▼  静電気が帯電し易い、
▲３▼  塵や埃が表面に付着し易い
と言った問題が有る。
【０００３】
この為、透明で、耐擦傷性に富み、かつ、帯電防止機能を備えた膜を表面に設けることが提案されている。
例えば、導電性フィラーを添加したハードコート膜を設ける手段が知られている。又、界面活性剤を練り込んだハードコート膜を設ける手段が知られている。
しかしながら、前者のものは、帯電特性を満足させる為には多量の導電性フィラーを添加しなければならない。この結果、光学特性（透明性）が低下したり、あるいは硬度が低下したりする。又、コーティングが困難になる。
【０００４】
後者のものは、低湿下（静電気が帯電し易い）においては十分な効果が期待でき難い。又、ブリード現象が起き、濁りの問題や帯電防止機能の失活といった問題が有る。
このような問題に対処する為、例えばチオシアン酸塩及びアルキレングリコール鎖を有するアニオン性界面活性剤からなる帯電防止性組成物と、共重合可能な（メタ）アクリル酸エステルと、光重合開始剤とが混合されてなる帯電防止性紫外線硬化型コーティング材が提案（特開平４−８０２６６号公報）されている。この他にも、特開平４−３３９６８号公報や特開平３−２７５７０５号公報において、帯電防止性の組成物が提案されている。
【０００５】
しかしながら、これらの提案によっても、帯電防止機能が十分なものとは言えなかった。
又、汚れは、静電気の帯電による塵や埃の付着と言ったことにのみ起因するものではない。例えば、油性粘着物質や水溶性粘着物質の付着による汚れが有る。
この種の汚れが付かないようにする為には、又、付着した汚れを簡単に除去できるようにする為には、表面エネルギーを低くする必要がある。
【０００６】
ところで、前述したような物質で表面処理してなる場合には、表面エネルギーが高いことから、油性粘着物質や水溶性粘着物質の付着による汚れが大きい。
【０００７】
【発明の開示】
本発明の目的は、汚れ防止が充分に発揮され、再生が良好に行われる記録媒体を提供することである。
この本発明の目的は、（メタ）アクリロイル基を有する共重合可能な化合物（Ａ）と、
第４級アンモニウム塩基、アルキレンレングリコール鎖、炭素数４以上の炭化水素基、及び共重合可能な反応基を有する下記の式［Ｂ１］，［Ｂ２］，［Ｂ３］，［Ｂ４］の群の中から選ばれる反応型帯電防止剤（Ｂ）と、
第４級アンモニウム塩基、アルキレンレングリコール鎖、及び炭素数４以上の炭化水素基を有し、重合性の基を持たないオリゴマー（Ｏ）
とを含有することを特徴とする帯電防止材料によって達成される。
〔Ｂ１〕
0003552065.tif 000002
〔但し、Ｒ1 は炭素数４以上の炭化水素基。Ａ−は対イオン。ｎは１〜２５の整数。〕
〔Ｂ2 〕
0003552065.tif 000003
〔但し、Ｒ1 ，Ｒ2 は炭素数４以上の炭化水素基。Ａ−は対イオン、ｎは１〜２５の数。〕
〔Ｂ3 〕
0003552065.tif 000004
〔但し、Ｒ1 ，Ｒ2 は炭素数４以上の炭化水素基。Ａ−は対イオン。ｎは１〜２５の数。〕
〔Ｂ4 〕
0003552065.tif 000005
〔但し、Ｒ1 は炭素数４以上の炭化水素基。Ａ−は対イオン。ｎは１〜２５の数。〕
【０００８】
又、（メタ）アクリロイル基を有する共重合可能な化合物（Ａ）と、
第４級アンモニウム塩基、アルキレンレングリコール鎖、炭素数４以上の炭化水素基、及び共重合可能な反応基を有する上記の式［Ｂ１］，［Ｂ２］，［Ｂ３］，［Ｂ４］の群の中から選ばれる反応型帯電防止剤（Ｂ）と、
第４級アンモニウム塩基、アルキレンレングリコール鎖、及び炭素数４以上の炭化水素基を有し、重合性の基を持たないオリゴマー（Ｏ）
との混合物が重合処理されてなることを特徴とする帯電防止材料によって達成される。
【０００９】
又、（メタ）アクリロイル基を有する共重合可能な化合物（Ａ）と、
第４級アンモニウム塩基、アルキレンレングリコール鎖、炭素数４以上の炭化水素基、及び共重合可能な反応基を有する上記の式［Ｂ１］，［Ｂ２］，［Ｂ３］，［Ｂ４］の群の中から選ばれる反応型帯電防止剤（Ｂ）と、
第４級アンモニウム塩基、アルキレンレングリコール鎖、及び炭素数４以上の炭化水素基を有し、重合性の基を持たないオリゴマー（Ｏ）と、
シリコーン化合物（Ｃ）
とを含有することを特徴とする帯電防止材料によって達成される。
【００１０】
又、（メタ）アクリロイル基を有する共重合可能な化合物（Ａ）と、
第４級アンモニウム塩基、アルキレンレングリコール鎖、炭素数４以上の炭化水素基、及び共重合可能な反応基を有する上記の式［Ｂ１］，［Ｂ２］，［Ｂ３］，［Ｂ４］の群の中から選ばれる反応型帯電防止剤（Ｂ）と、
第４級アンモニウム塩基、アルキレンレングリコール鎖、及び炭素数４以上の炭化水素基を有し、重合性の基を持たないオリゴマー（Ｏ）と、
シリコーン化合物（Ｃ）
との混合物が重合処理されてなることを特徴とする帯電防止材料によって達成される。
【００１１】
尚、本発明のオリゴマー（Ｏ）におけるアルキレングリコール鎖は、その鎖長が１〜２５であることが好ましい。より好ましくは、４〜２０である。
そして、このオリゴマー（Ｏ）としては、
下記の式〔Ｏ１０〕で表される構造を有する第４級アンモニウム塩基を有するモノマー５〜７０重量％（望ましくは、５〜５０重量％）、
〔Ｏ１０〕
【００１２】
【化１４】
0003552065.tif 000006
【００１３】
〔但し、Ｒ１１はＨ及びＣＨ３  の群の中から選ばれる基。Ｒ１２，Ｒ１３，Ｒ１４はＨ、アルキル基（特に、炭素数１〜９のアルキル基）、及びヒドロキシアルキル基（特に、炭素数１〜９のヒドロキシアルキル基）の群の中から選ばれる基。Ａはアルキレン基（特に、炭素数１〜１０のアルキレン基）、及びヒドロキシアルキル基（特に、炭素数１〜１０のヒドロキシアルキル基）の群の中から選ばれる基。Ｘ−  はアニオンであって、例えばＣＨ３  ＳＯ４  −  ，Ｃ２  Ｈ５  ＳＯ４  −  ，Ｃｌ−  ，Ｂｒ−  ，ＨＳＯ４  −  ，Ｈ２  ＰＯ４  −  ，ＣＨ３  ＣＯＯ−  ，ＣＨ３  ＳＯ３  −  ，ＮＯ２  −  等（好ましくは、ＣＨ３  ＳＯ４  −  ，Ｃ２  Ｈ５  ＳＯ４  −  ，Ｃｌ−  ，Ｂｒ−  ）である。〕
下記の式〔Ｏ２  〕で表される構造を有するアルキレングリコール鎖を有するモノマー１０〜８０重量％、
〔Ｏ２  〕
【００１４】
【化１５】
0003552065.tif 000007
【００１５】
〔但し、Ｒ１１はＨ及びＣＨ３  の群の中から選ばれる基。Ｒ１５はアルキレン基（特に、炭素数２〜４のアルキレン基）。Ｒ１６はＨ、アルキル基（特に、炭素数１〜１０のアルキル基）、及びアリール基（特に、炭素数６〜１０のアリール基）の群の中から選ばれる基。ｍは１〜２５の整数〕
下記の式〔Ｏ３  〕で表される構造を有する炭素数４以上の炭化水素基を有するモノマー１０〜７０重量％（望ましくは、１０〜４０重量％）
〔Ｏ３  〕
【００１６】
【化１６】
0003552065.tif 000008
【００１７】
〔但し、Ｒ１１はＨ及びＣＨ３  の群の中から選ばれる基。Ｒ１２はＨ及び（メタ）アクリロイル基の群の中から選ばれる基。ｎは４〜３０の整数。〕
が用いられて共重合されてなるものが挙げられる。
あるいは、第４級アンモニウム塩基を有するモノマー（例えば、ビニルベンジルトリアルキルアニモニウム塩などのビニルベンジル系の第４級アンモニウム塩、ビニルイミダゾリンやビニルピリジン等のビニルモノマーの第４級アンモニウム塩）を用いる代わりに３級アミンを用い、すなわち下記の式〔Ｏ１１〕
〔Ｏ１１〕
【００１８】
【化１７】
0003552065.tif 000009
【００１９】
〔但し、Ｒ１１はＨ及びＣＨ３  の群の中から選ばれる基。Ｒ１２，Ｒ１３はＨ、アルキル基（特に、炭素数１〜９のアルキル基）、及びヒドロキシアルキル基（特に、炭素数１〜９のヒドロキシアルキル基）の群の中から選ばれる基。Ａはアルキレン基（特に、炭素数１〜１０のアルキレン基）、及びヒドロキシアルキル基（特に、炭素数１〜１０のヒドロキシアルキル基）の群の中から選ばれる基。〕で表される３級アミン５〜７０重量％（望ましくは、５〜５０重量％）、
式〔Ｏ２  〕で表される構造を有するアルキレングリコール鎖を有するモノマー１０〜８０重量％、
式〔Ｏ３  〕で表される構造を有する炭素数４以上の炭化水素基を有するモノマー１０〜７０重量％（望ましくは、１０〜４０重量％）
を用いて共重合し、この後で４級化反応を行ったものであっても良い。
【００２０】
ここで、４級化剤としては次のようなものを用いることが出来る。例えば、ジメチル硫酸、ジエチル硫酸、ジプロピル硫酸などのアルキル硫酸類、ｐ−トルエンスルホン酸メチル、ベンゼンスルホン酸メチルなどのスルホン酸エステル、トリメチルホスフェイトなどのアルキル燐酸、アルキルベンゼンクロライド、ベンジルクロライド、アルキルクロライド、アルキルブロマイドなどのハライド等が挙げられる。
【００２１】
そして、３級アミンとしては、ジメチルアミノ（メタ）アクリレート、ジエチルアミノ（メタ）アクリレート、ジメチルアミノプロピル（メタ）アクリレート、ジメチルアミノブチル（メタ）アクリレート、ジヒドロキシエチルアミノエチル（メタ）アクリレート、ジプロピルアミノエチル（メタ）アクリレート、ジブチルアミノエチル（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００２２】
本発明で用いられるオリゴマー（Ｏ）は、その主鎖がＣ−Ｃ結合で構成されたものが好ましい。但し、アミド結合、イミド結合、ウレタン結合、ペプチド結合、エステル結合、エーテル結合などであっても良い。すなわち、オリゴマー（Ｏ）を構成するモノマーは、（メタ）アクリレートタイプ、アクリルアミドタイプ、アリルタイプ、スチレンタイプ、ビニルタイプいずれのものであっても良い。しかしながら、上記の式〔Ｏ１０〕，〔Ｏ１１〕，〔Ｏ２  〕，〔Ｏ３  〕で表される通り、（メタ）アクリレートタイプのモノマーを用いることが好ましい。
【００２３】
そして、オリゴマー（Ｏ）の合成法は、主鎖のタイプによって異なるが、第４級アンモニウム塩基を有するモノマー、アルキレングリコール鎖（特に、エチレングリコール鎖）を有するモノマー、炭素数４以上の炭化水素（飽和、不飽和、直鎖、分岐、環状いずれのタイプのものでも良いが、特に、炭素数が４〜３０、好ましくは炭素数が８〜２２の直鎖の飽和炭化水素）基を有するモノマーを用いて共重合させれば良い。
【００２４】
尚、第４級アンモニウム塩基を有するモノマーを用いず、式〔Ｏ１１〕で表される構造を有する３級アミンを用い、共重合させた後、４級化反応を行い、第４級アンモニウム塩基、アルキレンレングリコール鎖、および炭素数４以上の炭化水素基を有し、重合性の基を持たないオリゴマー（Ｏ）を得ても良い。
オリゴマー（Ｏ）の具体例を以下に挙げる。
【００２５】
還流冷却器、温度計、及び攪拌機を有する反応容器に、２０重量部のラウリルアクリレート、４０重量部のポリエチレングリコールアクリレート（ポリエチレングリコール鎖長は６〜８）、４０重量部のジメチルアミノエチルアクリレート、ラジカル重合開始剤Ｖ−６５（和光純薬社製）を入れ、テトラヒドロフランの還流下で１０時間重合反応を行った。
【００２６】
この後、メタノールを添加し、更にジメチルアミノエチルアクリレートと等モルのジメチル硫酸を添加した。そして、還流を更に行った。
反応終了後に、ヘキサンで洗浄し、再沈殿を行った。
この結果、第４級アンモニウム塩基、アルキレンレングリコール鎖、および炭素数４以上の炭化水素基を有し、重合性の基を持たないオリゴマー（Ｏ）が得られた。
【００２７】
本発明で用いられる化合物（Ａ）〔モノマーあるいはオリゴマー等の形であっても良い。〕は、分子中に（メタ）アクリロイル基を三つ以上有する（メタ）アクリレートＡ１  、及び分子中に（メタ）アクリロイル基を二つ有し、かつ、アルキレングリコール鎖を有する（メタ）アクリレートＡ２  の群の中から選ばれるものが好ましい。すなわち、分子中に（メタ）アクリロイル基を二個以上有する化合物が少なくとも用いられることが好ましい。つまり、１分子中に二個以上の官能基を持つ架橋性のある化合物を用いることによって、耐擦傷性や表面保護効果の高いものが得られる。尚、本発明において、（メタ）アクリロイルとは、アクリロイルあるいメタクリロイルを指す。
【００２８】
特に、化合物（Ａ）は、化合物Ａ１  １００重量部に対して化合物Ａ２  が１０〜１００重量部の混合物であるものが好ましい。
尚、これらの多官能（メタ）アクリレートの他に、共重合可能な単官能（メタ）アクリレートを更に用いても良い。
例えば、化合物Ａ１  が２０〜９５重量％（望ましくは、５０〜７０重量％）、化合物Ａ２  が５〜５０重量％（望ましくは、２０〜４０重量％）、及び共重合可能な単官能（メタ）アクリレートが３０重量％以下（０〜３０重量％）の割合からなる混合物が挙げられる。特に、（Ａ）は、３官能以上の多官能（メタ）アクリレートＡ１  を２０〜９５重量％（望ましくは５０〜７０重量％）、２官能（メタ）アクリレート、特に鎖長が２〜２０のポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレートＡ２  を５〜５０重量％（望ましくは２０〜４０重量％）、そして必要に応じて３０重量％以下（０〜３０重量％）の単官能（メタ）アクリレートの混合物が挙げられる。
【００２９】
３官能以上の多官能（メタ）アクリレートとしては、例えばトリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、グリセリントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、及びこれらの化合物のエチレンオキサイドやプロピレンオキサイド変性物などが挙げられる。
【００３０】
２官能（メタ）アクリレートとしては、例えば１，３−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、シクロペンタジエニルアルコールジ（メタ）アクリレート等が挙げられる。従って、鎖長が２〜２０のポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレートＡ２  としては、上記の２官能（メタ）アクリレートに鎖長が２〜２０のポリエチレングリコール鎖が付いたものが挙げられる。
【００３１】
その他、ポリエステルポリ（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート、ウレタンポリ（メタ）アクリレート、ポリシロキサンポリ（メタ）アクリレート、ポリアミドポリ（メタ）アクリレート等が用いられる。
又、共重合物との溶解性促進、粘度調節、基材との密着性向上の観点から、次のモノマーを用いることも好ましい。例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシペンチル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシペンチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、エトキシエチル（メタ）アクリレート、Ｎ−ヒドロキシメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メトキシメチル（メタ）アクリルアミド等である。
【００３２】
本発明で用いられる反応型帯電防止剤（Ｂ）は、ビニル基及びアリル基の群の中から選ばれる少なくとも一つの反応基を有し、下記の式〔ＢＸ  〕で表される構造を有するものであることが好ましい。
〔ＢＸ  〕
【００３３】
【化１８】
0003552065.tif 000010
【００３４】
〔但し、ｎは１〜２５の数。〕
特に、下記の式〔Ｂ１  〕で表される構造の反応型帯電防止剤（Ｂ）が好ましい。
〔Ｂ１  〕
【００３５】
【化１９】
0003552065.tif 000011
【００３６】
〔但し、Ｒ１  は炭素数４以上の炭化水素基。Ａ−  は対イオン。ｎは１〜２５の数。〕
あるいは、下記の式〔Ｂ２  〕で表される構造の反応型帯電防止剤（Ｂ）を用いることも出来る。
〔Ｂ２  〕
【００３７】
【化２０】
0003552065.tif 000012
【００３８】
〔但し、Ｒ１  ，Ｒ２  は炭素数４以上の炭化水素基。Ａ−  は対イオン、ｎは１〜２５の数。〕
又、下記の式〔Ｂ３  〕で表される構造の反応型帯電防止剤（Ｂ）が好ましい。
〔Ｂ３  〕
【００３９】
【化２１】
0003552065.tif 000013
【００４０】
〔但し、Ｒ１  ，Ｒ２  は炭素数４以上の炭化水素基。Ａ−  は対イオン。ｎは１〜２５の数。〕
あるいは、下記の式〔Ｂ４  〕で表される構造の反応型帯電防止剤（Ｂ）を用いることも出来る。
〔Ｂ４  〕
【００４１】
【化２２】
0003552065.tif 000014
【００４２】
〔但し、Ｒ１  は炭素数４以上の炭化水素基。Ａ−  は対イオン。ｎは１〜２５の数。〕
反応型帯電防止剤（Ｂ）は、第４級アンモニウム塩基、アルキレングリコール鎖、炭素数４以上の炭化水素基、及び共重合可能な反応基を分子中に有するものである。
ここで、炭素数４以上の炭化水素基は、相分離（表面への偏析）を促進させる為に必要な基である。尚、炭化水素は飽和、不飽和、直鎖、分岐、環状構造の如何を問わない。但し、炭素数が４〜３０、より望ましくは８〜２２の直鎖状のものであることが好ましい。そして、この炭素数４以上の炭化水素基は、（Ｂ）中に一つであっても、二つ以上あっても良い。
【００４３】
帯電防止機能の面から、（Ｂ）中に、第４級アンモニウム塩基及びアルキレングリコール鎖（特に、エチレングリコール鎖）を持たせる必要が有る。尚、アルキレングリコール鎖（特に、エチレングリコール鎖）は、炭素数が２〜５０、より好ましくは炭素数が４〜３０のポリエチレングリコール鎖であることが好ましい。
【００４４】
（Ｂ）における共重合可能な反応基は、例えば光重合可能なものであれば良く、例えば（メタ）アクリロイル基、ビニル基、アリル基などが挙げられる。中でも、ビニル基やアリル基を好ましいものとして挙げることが出来る。
反応型帯電防止剤（Ｂ）の具体例を以下に挙げる。
Ｂ−１
【００４５】
【化２３】
0003552065.tif 000015
【００４６】
（Ｂ−１）は次のようにして得られる。
アミート３０８（花王（株）製の界面活性剤）５０ｇ（８０．３９ミリモル）、クロロメチルスチレン１４．７２ｇ（９６．４７ミリモル）及びハイドロキノンモノメチルエーテル（重合禁止剤）０．１３ｇのエタノール１６６ｇ溶液を４８時間還流し、反応溶液を減圧下で留去した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィ（ジクロロメタン〜クロロホルム：メタノール＝１０：１（ｖ／ｖ））により精製すると、上記の構造式で表される化合物（Ｂ−１）が得られた。
【００４７】
Ｂ−２
【００４８】
【化２４】
0003552065.tif 000016
【００４９】
（Ｂ−２）は次のようにして得られる。
１５０℃下でジオレイルアミンにエチレンオキサイドを反応させ、エチレンオキサイド鎖を６モル付加した。次に、この反応物１２．５ｇ（１６ミリモル）とアリルグリシジルエーテル９．１３ｇ（８０ミリモル）、２Ｎ−ＨＣｌ  ８ｍｌ、水４ｍｌ、ハイドロキノンモノメチルエーテル（重合禁止剤）２０ｍｇのイソプロピルアルコール５０ｍｌ溶液を７時間還流した。その後、クロロホルム、水、及び過剰のアリルグリシジルエーテルを除去する為に、アンモニア水を添加し、抽出液を塩酸で洗浄した後、水洗を繰り返して行った。そして、クロロホルムで抽出し、溶媒を留去して上記の構造式で表される化合物（Ｂ−２）を得た。
【００５０】
Ｂ−３
【００５１】
【化２５】
0003552065.tif 000017
【００５２】
（ｌ＝３〜１９，ｍ＝１〜２０，ｎ＝１〜２０）
Ｂ−４
【００５３】
【化２６】
0003552065.tif 000018
【００５４】
（ｌ＝３〜１９，ｍ＝１〜２０，ｎ＝１〜２０）
本発明で用いられるシリコーン化合物（Ｃ）は、ポリエーテル変性シリコーン（特に、下記の一般式〔Ｃ１  〕で表されるもの）、より好ましくは反応基を有するポリエーテル変性シリコーン（特に、下記の一般式〔Ｃ２  〕で表されるもの）が好ましい。
〔Ｃ１  〕
【００５５】
【化２７】
0003552065.tif 000019
【００５６】
〔但し、Ｒ３  は炭素数１〜２０のアルキル基。Ｒ４  ，Ｒ５  はＨ又はＣＨ３  。ｘ，ｙは１〜１０００。ｓは１〜２０の整数。〕
〔Ｃ２  〕
【００５７】
【化２８】
0003552065.tif 000020
【００５８】
〔但し、Ｒ３  は炭素数１〜２０のアルキル基。Ｒ４  ，Ｒ５  ，Ｒ６  はＨ又はＣＨ３  。ｘ，ｙ，ｚは１〜１０００。ｓは１〜２０の整数。〕
シリコーン化合物（Ｃ）は、有機基の付いたケイ素（オルガノシリコン）と酸素とが交互に結合して出来たポリマーである。そして、化合物（Ａ）との相溶性を考慮した結果、上記の式〔Ｃ１  〕や〔Ｃ２  〕で表されるようなポリエーテル（ポリオキシアルキレン、例えばポリエチレングリコールやポリプロピレングリコール等）変性シリコーンが好適であった。特に、ポリエチレングリコール（炭素数２〜１００）変性、あるいはポリエチレングリコール（炭素数２〜１００）変性とポリプロピレングリコール（炭素数３〜１８０）変性との混合されたものが好ましかった。
【００５９】
尚、式〔Ｃ１  〕や〔Ｃ２  〕において、ｘやｙ，ｚは５〜２００であることが好ましいものであった。
又、シリコーン化合物（Ｃ）は、粘度（２５℃）が１０〜５０００ｃＳｔ（望ましくは５０〜２０００ｃＳｔ）のものであることが好ましい。
そして、上記のような特徴のシリコーン化合物（Ｃ）は、ポリエーテル鎖がベース樹脂と相溶することから、表面に固定されるものとなる。尚、式〔Ｃ２  〕で表された共重合性の反応基（例えば、（メタ）アクリロイル基）を有するタイプの場合には、完全にベース表面に固定できることから好ましい。
【００６０】
このようなシリコーン化合物（Ｃ）の具体例を以下に挙げる。
Ｃ−１
【００６１】
【化２９】
0003552065.tif 000021
【００６２】
〔Ｒ３  ＝Ｒ６  ＝ＣＨ３  ，Ｒ４  ＝Ｒ５  ＝Ｈ，ｘ＝１２，ｙ＋ｚ＝１２，ｓ＝１０〕
シリコーン化合物Ｃ−１は次のようにして得た。
【００６３】
【化３０】
0003552065.tif 000022
【００６４】
（ｘ，ｙは平均１２）
上記の構造式で表されるハイドロジエン変性ポリシロキサン化合物（東芝シリコーン（株）製ＸＦ４０−Ａ２３４６）１０重量部、ポリエチレングリコールモノアクリルエーテル（エチレンオキサイドの平均付加数１０モル；ＰＥＧＭＡ１０）２０重量部、トルエン２０重量部、テトラヒドロフラン３０重量部、メチルハイドロキノン０．０２重量部を窒素雰囲気中で混合攪拌する。
【００６５】
次に、酢酸カリウム１０％エタノール溶液０．０３重量部、ヘキサクロロ白金（ＩＶ）酸６水和物の１０％イソプロピルアルコール溶液０．０３重量部を添加し、６０℃で約１０時間反応させる。さらに、アリルメタクリレート５．２重量部を添加して約７時間反応させる。そして、常温に冷却後に活性炭を加えて１時間攪拌した後、濾過する。続いて、溶媒を減圧下で留去すると、上記の構造式で表されるメタクリロイル基をもつポリエーテル変性シリコーンが得られる。
【００６６】
Ｃ−２
【００６７】
【化３１】
0003552065.tif 000023
【００６８】
（ｘ，ｙ＝１〜５０，ｎ＝１〜２０，Ｒ＝ＣＨ３  ｏｒＨ）
Ｃ−３
【００６９】
【化３２】
0003552065.tif 000024
【００７０】
本発明において、化合物（Ａ）と反応型帯電防止剤（Ｂ）とオリゴマー（Ｏ）との割合は、化合物（Ａ）１００重量部に対して反応型帯電防止剤（Ｂ）が０．１〜２０重量部（望ましくは０．５〜５重量部、より望ましくは０．５〜２重量部）、化合物（Ａ）１００重量部に対してオリゴマー（Ｏ）が０．１〜２０重量部（望ましくは０．５〜５重量部）の割合で用いられることが好ましい。
【００７１】
又、シリコーン化合物（Ｃ）が用いられる場合には、化合物（Ａ）１００重量部に対してシリコーン化合物（Ｃ）が０．１〜１０重量部（望ましくは０．５〜５重量部）の割合で用いられることが好ましい。
電子線やγ線を照射することにより重合を行う場合には不要であるが、例えば紫外線照射によって重合を図る場合には重合開始剤を用いる。
【００７２】
例えば、４−フェノキシジクロロアセトフェノン、４−ｔ−ブチルジクロロアセトフェノン、ジエトキシアセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−フェニルプロパン−１−オン等のアセトフェノン系の光重合開始剤、
ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンジルジメチルケタール等のベンゾイン系の光重合開始剤、
チオキサンソン、２−クロルチオキサンソン、２，４−ジメチルチオキサンソン、２，４−ジエチルチオキサンソン等のチオキサンソン系の光重合開始剤などが挙げられる。勿論、一種でも二種以上の重合開始剤が用いられても良い。
【００７３】
添加量は、化合物（Ａ）１００重量部に対して１０重量部以下であることが好ましい。
尚、上記の組成物の他に、例えば表面調整剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤などの各種の添加剤が用いられても良い。
そして、上記の組成物をメタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等の溶剤で希釈する。この溶液を表面にコーティングし、活性エネルギー線（紫外線、電子線やγ線）を照射して重合処理する。例えば、光ディスクの保護膜（記録面側、あるいは両面の保護膜）とする場合には、スピンコート法により上記の組成物を約０．５〜２０μｍ厚塗布し、紫外線照射することによって硬化させれば良い。
【００７４】
これにより、透明で、耐擦傷性に富み、帯電防止機能に優れ、又、汚れの付き難いものが得られる。
又、磁気ヘッドが接触する場合には、上記の特長に加えてヘッドとの摺動性が向上する。
そして、この本発明の記録媒体表面に設けられる帯電防止材料は、
▲１▼  化合物（Ａ）の架橋によって硬度が高いものとなっている。
▲２▼  硬化重合に際して、長鎖炭化水素成分の存在によって、反応型帯電防止剤（Ｂ）は表面への偏析が促進される。この為、反応型帯電防止剤（Ｂ）が少量でも帯電防止機能が効果的に発揮される。又、光学的透明性にも優れている。
▲３▼  化合物（Ｂ）は、第４級アンモニウム塩基とアルキレングリコール鎖を有している。この為、低湿下においても良好な帯電防止特性が奏される。
▲４▼  化合物（Ａ）と反応型帯電防止剤（Ｂ）とはベース表面に固定される。従って、エタノール等による拭き取りによっても、帯電防止機能が喪失しない。
▲５▼  オリゴマー（Ｏ）が用いられたので、反応型帯電防止剤（Ｂ）の量を減らすことが出来る。そして、反応型帯電防止剤（Ｂ）の量を少なくした場合には、例えば化合物（Ａ）１００重量部に対して反応型帯電防止剤（Ｂ）を０．５〜２重量部と言ったように少なくした場合には、硬度が一層良いものとなる。又、膜の密着性も向上する。
▲６▼  シリコーン化合物（Ｃ）が複合化されている場合には、表面エネルギーが低い。従って、汚れが付き難い。又、潤滑性も付与される為、表面の滑性が向上し、拭き取りの際に傷が一層付き難くなる。更には、磁気ヘッドとの摺動性向上にも効果が発揮される。
【００７５】
【実施例】
〔実施例１〕
エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート（三官能アクリレートを有する共重合可能な化合物Ａ１  、第１工業製薬社製のＴＭＰＴＡ）７０重量部、ポリエチレングリコールジアクリレート（エチレングリコール鎖長９、二官能アクリレートを有する共重合可能な化合物Ａ２  、中村化学社製のＡ−４００）３０重量部、前記（Ｂ−１）の構造式で表される化合物１重量部、前述した手法で得られたオリゴマー（Ｏ）３重量部、及び光重合開始剤（Ｉｒｇ．１８４、日本チバガイギー社製）３重量部を混合し、４５℃で完全に溶解させた。
【００７６】
この溶液を３．５インチ径のポリカーボネート製のディスク基板の光入射面上に０．５〜２０μｍ、例えば５μｍ厚となるようにスピンコート法で塗布した。
そして、窒素気流下で紫外線照射（高圧水銀タイプ；６５０ｍＷ／ｃｍ２  ，１８００ｍＪ／ｃｍ２  ）により硬化を行わせ、表面に紫外線硬化型コーティング膜を設けた。
【００７７】
この保護膜が設けられた基板を基にして光磁気ディスクを構成した。すなわち、ＳｉＮ／ＴｂＦｅＣｏ／ＳｉＮ／Ａｌを成膜し、大日本インキ社製のＳＤ３０１を８μｍ厚となるようにスピンコート法で塗布し、紫外線硬化させて、光磁気ディスクを得た。
〔実施例２〕
実施例１において、前記（Ｃ−１）の構造式で表されるシリコーン化合物２重量部を添加して４５℃で完全に溶解させ、この溶液を塗布、硬化させ、表面に紫外線硬化型コーティング膜を設けた。そして、この保護膜が設けられた基板を基にして光磁気ディスクを構成した。
【００７８】
〔実施例３〕
実施例２で用いた前記（Ｃ−１）の構造式で表されるシリコーン化合物の代わりにポリエーテル変性シリコーン化合物（東芝シリコーン社製のＴＳＦ４４４１）を用い、その他は同様に行って光磁気ディスクを構成した。
〔実施例４〕
実施例２で用いた前記（Ｃ−１）の構造式で表されるシリコーン化合物の代わりにポリエーテル変性シリコーン化合物（信越化学工業社製のＫＦ６０１１）を用い、その他は同様に行って光磁気ディスクを構成した。
【００７９】
〔実施例５〕
実施例３で用いた前記（Ｂ−１）の構造式で表される化合物１重量部の代わりに前記（Ｂ−２）の構造式で表される化合物２重量部を用い、その他は同様に行って光磁気ディスクを構成した。
〔比較例１〕
アミート３２０をベンジルクロライドで４級化することにより下記の構造を有する化合物を得た。
【００８０】
【化３３】
0003552065.tif 000025
【００８１】
この化合物１重量部を用い、実施例１における化合物（Ｂ−１）に代えて同様に行った。
〔比較例２〕
ジオレイルアミンに１５０℃下でエチレンオキサイドを反応させ、エチレンオキサイド鎖を６モル付加した。次に、この反応物をジメチル硫酸で４級化することにより下記の構造を有する化合物を得た。
【００８２】
【化３４】
0003552065.tif 000026
【００８３】
この化合物１重量部を用い、実施例１における化合物（Ｂ−１）に代えて同様に行った。
〔比較例３〕
実施例１において、オリゴマー（Ｏ）を使用しなかった他は同様に行って光磁気ディスクを構成した。
【００８４】
〔比較例４〕
実施例１において、前記（Ｂ−１）の構造式で表される化合物を４重量部とし、そしてオリゴマー（Ｏ）を使用しなかった他は同様に行って光磁気ディスクを構成した。
〔特性〕
上記各例で得た光磁気ディスクのエラーレート増加率を調べたので、その結果を表１に示す。
【００８５】
0003552065.tif 000027
又、上記各例で得た光磁気ディスクのコーティング膜について調べたので、その結果を表２〜表４に示す。
【００８６】
0003552065.tif 000028
0003552065.tif 000029
【００８７】
0003552065.tif 000030
0003552065.tif 000031
又、実施例３のものについて、２４℃、４０％ＲＨ中で、ソニー製録音型ＭＤドライブから取り外した磁気ヘッドをコート面に接触させた状態にて３０００ｒｐｍで回転させ、２０００時間後に動摩擦係数を測定した。その結果は、動摩擦係数が約０．２であり、試験前後における差は認められなかった。又、コート面に塵や埃の付着も認められなかった。
【００８８】
又、実施例３で用いた帯電防止材料をゲームソフト用ＣＤ−ＲＯＭのレーザー光入射面に５μｍ厚さスピンコート法で塗布し、紫外線硬化させた。そして、１月〜２月（冬季）において１カ月間使用した。尚、１日２０回以上ドライブから出し入れし、使用しない場合にはカーペット上に放置しておいた。
その結果、本発明の帯電防止材料がコートされていないＣＤ−ＲＯＭには塵や埃が多量に付着し、又、傷付きも認められた。更には、汚れを拭き取る為に布で擦ると、傷が付いた。
【００８９】
これに対して、本発明の帯電防止材料がコートされているＣＤ−ＲＯＭには塵や埃の付着は認められず、又、傷付きも認められなかった。又、１カ月経過後の使用でも異常は認められなかった。