(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
回転駆動されるディスクに対して少なくともデータの再生を行うヘッドが設けられたスライダと、
該スライダを支持するスライダ支持部と、
長板状の支持基板部と、
該支持基板部の先端部で、該スライダ支持部と該支持基板部とを連結し、該支持基板部の前記ディスクに対する垂直方向の変形を、前記ディスクの半径方向に変換して該スライダ支持部に伝達する弾性ひんじ部と、
該支持基板部を前記ディスクの表面に対して垂直な方向に変形させる駆動部材とを有するディスクのヘッド支持機構であって、
前記支持基板部は先端部側になるにつれて順次幅方向寸法が小さくなっていることを特徴とするディスクのヘッド支持機構。
【請求項２】
前記駆動部材は、前記支持基板部に積層状態で配置された薄膜圧電体であり、該薄膜圧電体は、電圧が印加されることによって伸縮する構成であり、該薄膜圧電体が収縮することによって前記支持基板部を反った状態に変形させる、請求項１記載のディスク装置のヘッド支持機構。
【請求項３】
回転駆動されるディスクに対して少なくともデータの再生を行うヘッドが設けられたスライダと、
該スライダを一方の端部上に支持する長板状の支持基板部と、
該支持基板部に積層状態で配置され、電圧が印加されることによって伸縮する駆動部材とを具備し、
該駆動部材が収縮することによって、該支持基板部が反った状態とされ、該支持基板部の反りによる変位方向が、該駆動部材の収縮方向に一致していることを特徴とするディスク装置のヘッド支持機構。
【請求項４】
前記駆動部材が薄膜圧電体である請求項３記載のディスク装置のヘッド支持機構。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、コンピューターの記憶装置等として用いられる磁気ディスク装置等の磁気ディスクに対する情報の記憶および再生に使用されるヘッドの支持機構に関し、特に、磁気ディスク装置に設けられた磁気ディスクに対する情報の記録を高密度化するために最適なヘッド支持機構に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、磁気ディスク装置に設けられた磁気ディスクの記録密度は、日を追う毎に高密度化が進でいる。磁気ディスクに対するデータの記録および再生に使用される磁気ヘッドは、通常、スライダに搭載されており、磁気ヘッドが搭載されたスライダは、磁気ディスク装置内に設けられたヘッド支持機構によって支持されている。ヘッド支持機構は、スライダが取り付けられたヘッドアクチュエーターアーを有しており、このヘッドアクチュエーターアームが、ボイスコイルモータ（ＶＣＭ）によって回動されるようになっている。そして、ボイスコイルモータを制御することにより、スライダに搭載されたヘッドが、磁気ディスク上の任意の位置に位置決めされる。
【０００３】
磁気ディスクに対してデータをさらに高密度で記録するためには、磁気ディスクに対して磁気ヘッドをさらに高度に位置決めする必要がある。しかしながら、このように、ＶＣＭにてヘッドアクチュエーターアームの回動させて磁気ヘッドを位置決めする構成では、磁気ヘッドを、より高精度に位置決めすることができないという問題がある。このために、磁気ヘッドを高精度に位置決めするヘッド支持機構が既に提案されている。
【０００４】
図１０は、従来の磁気ディスク装置のヘッド支持機構の一例を示す平面図である。回転駆動される図示しない磁気ディスクに対するデータの記録／再生を行うヘッド１０２は、サスペンションアーム１０４の一方の端部に支持されている。サスペンションアーム１０４の他方の端部は、キャリッジ１０６の先端部に設けられた突起１０８に対して、この突起１０８を中心に微小角の範囲内で回動可能に支持されている。キャリッジ１０６の基端部は、磁気ディスク装置のハウジングに対して固定される軸部材１１０によって、回動可能に支持されている。
【０００５】
キャリッジ１０６には、永久磁石（図示せず）が固定されており、ハウジング側に固定された磁気回路１１２の一部である駆動コイル１１４に流す励磁電流を制御することによって、この永久磁石に対して、キャリッジ１０６が、軸部材１１０に対して回動するようになっている。これにより、ヘッド１０２が、磁気ディスクにおける実質的な半径方向に沿って移動される。
【０００６】
キャリッジ１０６とサスペンションアーム１０４との間には、一対の圧電素子１１６が設けられている。各圧電素子１１６は、キャリッジ１０６の長手方向に対して、それぞれの長手方向が相反する方向に若干傾斜した状態で取り付けられている。そして、各圧電素子１１６を、それぞれ、図１０に矢印Ａ１４で示す方向に伸縮させることによって、サスペンションアーム１０４が、キャリッジ１０６に対して突起１０８を中心に、キャリッジ１０６の表面に沿って、微小角度の範囲内で回動する。これにより、サスペンションアーム１０４の先端部に取り付けられたヘッド１０２は、磁気ディスクの表面に沿って、微小な範囲で変位され、磁気ディスク上の任意の位置にて高精度で位置決めすることができる。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
図１０に示す従来のヘッド支持機構では、各圧電素子１１６が、サスペンションアーム１０４およびキャリッジ１０６にそれぞれ設けられた部材の間にそれぞれ挟まれた状態になっており、各圧電素子１１６の長手方向（矢印Ａ１４で示す方向）に沿ったそれぞれの側部が、各部材に当接されている。そして、各圧電素子１１６のバルク変形によって、サスペンションアーム１０４を回動させて、ヘッド１０２を微小に変位させるようになっている。このように、各圧電素子１１６への印加電圧に対して、サスペンションアーム１０４の回動によって、ヘッド１０２を微小に変位させているために、各圧電素子１１６にそれぞれ印加される電圧に対して、ヘッド１０２が必ずしも高精度に追従するものではなく、ヘッド１０２を高精度で位置決めすることができないおそれがある。
【０００８】
本発明は、このような問題を解決するものであり、その目的は、磁気ディスク等に対するトラッキング補正等のために、ヘッドを高精度で微小変位させることができるディスク装置のヘッド支持機構を提供することにある。
【０００９】
本発明の他の目的は、電圧の制御によって、ヘッドを高精度で微小変位させることができるディスク装置のヘッド支持機構を提供することにある。
【００１０】
本発明のさらに他の目的は、このようなヘッド支持機構に対して好適に使用される薄膜圧電体アクチュエータを提供することにある。
【００１１】
【課題を解決するための手段】
本発明のディスクのヘッド支持機構は、回転駆動されるディスクに対して少なくともデータの再生を行うヘッドが設けられたスライダと、該スライダを支持するスライダ支持部と、長板状の支持基板部と、該支持基板部の先端部で、該スライダ支持部と該支持基板部とを連結し、該支持基板部の前記ディスクに対する垂直方向の変形を、前記ディスクの半径方向に変換して該スライダ支持部に伝達する弾性ひんじ部と、該支持基板部を前記ディスクの表面に対して垂直な方向に変形させる駆動部材とを有するディスクのヘッド支持機構であって、前記支持基板部は先端部側になるにつれて順次幅方向寸法が小さくなっていることを特徴とし、そのことにより上記目的が達成される。
【００１３】
前記駆動部材は、前記支持基板部に積層状態で配置された薄膜圧電体であり、該薄膜圧電体は、電圧が印加されることによって伸縮する構成であり、該薄膜圧電体が収縮することによって前記支持基板部を反った状態に変形させる。
【００１４】
また、本発明のディスク装置のヘッド支持機構は、回転駆動されるディスクに対して少なくともデータの再生を行うヘッドが設けられたスライダと、該スライダを一方の端部上に支持する長板状の支持基板部と、該支持基板部に積層状態で配置され、電圧が印加されることによって伸縮する駆動部材とを具備し、該駆動部材が収縮することによって、該支持基板部が反った状態とされ、該支持基板部の反りによる変位方向が、該駆動部材の収縮方向に一致していることを特徴とする。
【００１５】
前記駆動部材が薄膜圧電体である。
【００１６】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態について、図面に基づいて説明する。
【００１７】
図１は本発明の実施の形態におけるディスク装置におけるヘッド支持機構１００をディスク側からの斜視図、図２は、図１のヘッド支持機構１００を分解して示す斜視図である。
【００１８】
このヘッド支持機構１００は、ボイスコイルモータ（図示せず）により回転原動されるヘッドアクチュエータアームに取り付けられるベースプレート７と、このベースプレート７に積層状態で取り付けられたロードビーム９と、ベースプレート７におけるロードビーム９とは反対側に積層されてスポット溶接等によってベースプレート７に貼り付けられたフレクシャ５と、フレクシャ５上に積層された薄板状の薄膜圧電体基板８とを有している。
【００１９】
ベースプレート７は、その一方の端部（基端部）に、軸部材が挿通される貫通孔７Ａが設けられている。
【００２０】
ベースプレート７に積層されたフレクシャ５は、ステンレス鋼板等によって、可撓性を有する長板状に構成されており、その一方の端部（基端部）には、ベースプレート７に設けられた貫通孔７Ａと整合状態になって軸部材が挿通される貫通孔５Ｅが設けられている。
【００２１】
フレクシャ５の中程における基端部寄りの位置から先端部にかけた部分は、両側の各側縁部に沿った外枠部５Ａおよび５Ｂと、先端縁に沿った先端枠部５Ｄとによって、枠状に構成されており、この枠状部分の内部における先端部に、正方形の平板状をしたジンバル６が設けられている。ジンバル６は、ベースプレート７の先端縁から突出した状態で配置されている。
【００２２】
ジンバル６は、正方形の枠状をした枠部６Ａと、枠部６Ａ内に配置されたジンバル本体部６Ｂとを有している。枠部６Ａは、フレクシャ５の基端部から、フレクシャ５の枠状部分の軸心部に沿って設けられた支持梁５Ｃの先端部と、フレクシャ５の先端枠部５Ｄとの間に、フレクシャ５の長手方向に沿った軸周りに回動し得る状態で支持されている。ジンバル本体部６Ｂは、この枠部６Ａ内に同心状態で配置されており、枠部６Ａの回動の中心軸とは直交するフレクシャ５に沿った軸を中心として回動可能に枠部６Ａに支持されている。ジンバル本体部６Ｂの中心部には、球形状に突出した突起部６Ｃが設けられている。
【００２３】
ジンバル６を支持する支持梁５Ｃは、フレクシャ５の基端部側において、幅方向寸法がＬになっており、先端側になるにつれて順次幅方向寸法が小さくなった三角形状に形成されている。
【００２４】
ベースプレート７におけるフレクシャ５とは反対側の面に積層されたロードビーム９は、その先端部９Ａが、ベースプレート７の先端側に配置されたジンバル６に対向するように、ベースプレート７の先端から突出した状態で配置されており、その先端部９Ａが、先端側になるにつれて順次先細になった三角形の枠状に形成されている。そして、三角形状の枠状に形成された先端部９Ａの先端に、ジンバル６側に突出したディンプル１０が形成されている。ディンプル１０は、ジンバル６の中心部に設けられた突起部６Ｃに対してスポット溶接等で貼り付けられており、突起部６Ｃがディンプル１０によって支持されている。
【００２５】
図４は、フレクシャ５上に貼り付けられた薄膜圧電体用基板８の平面図である。また、図６（ｂ）は、その要部の拡大図である。薄膜圧電体用基板８は、フレクシャ５の基端部上に配置された本体部８Ｈと、この本体部８Ｈから、支持梁５Ｃの三角形状部分と同様の三角形状の長板状であって、支持梁５Ｃの三角形状部分と整合状態で配置された支持基板部８Ａと、この支持基板部８Ａの先端部から、ジンバル６の枠部６Ａに沿って直角に屈曲した状態で配置された第１支持部８Ｂと、フレクシャ５の外枠部５Ｂから先端枠部５Ｄの中程に沿って配置された枠部８Ｃと、枠部８Ｃの先端部から、ジンバル６の枠部８Ａに沿って、薄膜圧電体用基板８の前記第１支持部８Ｂと対向するように直角に屈曲された第２支持部８Ｄとを有している。そして、第１支持部８Ｂおよび第２支持部８Ｄの先端部は、相互に対向するように配置されて、先端側になるにつれて順次先細状にそれぞれ形成されている。
【００２６】
第１支持部８Ｂおよび第２支持部８Ｄの先端部間には、スライダ支持部８Ｅが配置されている。このスライダ支持部８Ｅは、第１支持部８Ｂおよび第２支持部８Ｄの先端部とは、第１および第２の弾性ヒンジ部８Ｆおよび８Ｇによって、それぞれ、回動可能に支持されている。スライダ支持部８Ｅは、第２の弾性ヒンジ部８Ｇが設けられた第２支持部８Ｄの先端部が嵌合するように、一方の側部が三角形状に切り欠かれた長方形の平板状に形成されており、このスライダ支持部８Ｅ上に、ヘッド１（図３参照）が搭載されたスライダ２が設けられている。
【００２７】
スライダ支持部８Ｅは、第１の弾性ヒンジ部８Ｆを中心として、図４に矢印Ａ３で示す方向に沿って回動し得るようになっており、また、第２の弾性ヒンジ部８Ｇは、スライダ支持部８Ｅが矢印Ａ３方向に沿って回動する際に、スライダ支持部８Ｅの回動を抑制して、スライダ支持部８Ｅの変形を防止するようになっている。
【００２８】
スライダ２は、図３に示すように、直方体状をしており、薄膜圧電体用基板８の先端方向に位置する一方の端面２Ｅの上部における一方の側部に、ＭＲ素子等によって構成されたヘッド１が設けられている。スライダ２は、磁気ディスクの接線方向にヘッド１が向くように配置されている。また、ヘッド１が設けられた端面２Ｅの下部には、４つの端子２Ａ〜２Ｄが、横方向に並んだ状態で設けられている。さらに、スライダ２の上面には、回転駆動される磁気ディスクによって生じる空気流が、スライダ２のピッチ方向（磁気ディスクの接線方向）に沿って通流させて、磁気ディスクとの間にエア潤滑膜を形成するエアーベアリング面２Ｆが設けられている。
【００２９】
スライダ２は、エアーベアリング面２Ｆの中心位置が、ジンバル６の中央部に設けられた突起部６Ｃに対応するように、スライダ支持部８Ｅ上に配置されている。
【００３０】
薄膜圧電体用基板８における三角形状になった支持基板部８Ａには、支持基板部８Ａにおける三角形状の頂部を除いて整合状態で配置された薄膜圧電体１１が設けられている。
【００３１】
図５は、図４のＢ−Ｂ線における断面図であり、図４および図５にそれぞれ矢印Ａ２で示す方向が、相互に対応している。薄膜圧電体１１における上面（薄膜圧電体用基板８とは反対側面）には、第１電極１１Ａが設けられており、この第１電極１１Ａが絶縁膜１１Ｃによって覆われている。また、薄膜圧電体用基板８と薄膜圧電体１１との間には、第２電極１１Ｂが設けられており、この第２電極１１Ｂが接地されている。
【００３２】
第１電極１１Ａａおよび１１Ｂ間に電圧を印加することによって、薄膜圧電体１１に電圧を印加すると、薄膜圧電体１１は第１電極１１Ａから電極層１１Ｂの方向（図５に矢印Ａ１で示す方向）に伸びる（Ｄ３３モード）とともに、矢印Ａ１の方向と直交する方向（図５に矢印Ａ２で示す方向）に収縮する（Ｄ３１モード）。そして、このＤ３１モードの薄膜圧電体１１の収縮を利用して、スライダ２のヘッド１を、磁気ディスクにおける直径方向に沿って微小変位させて、ヘッド１のトラッキング補正を行うようになっている。
【００３３】
薄膜圧電体用基板８の支持基板部８Ａには、薄膜圧電体１１の近傍部分を除いて、薄膜圧電体駆動パターン１５が設けられている。薄膜圧電体駆動パターン１５は、絶縁膜１５Ａによって覆われており、また、薄膜圧電体用基板８との間に電極部１５Ｂが設けられている。そして、絶縁膜１５Ａから露出した薄膜圧電体駆動パターン１５の一部と薄膜圧電体１１における上面に設けられた第１電極１１Ａにおける絶縁膜１１Ｃから露出した部分とが、ワイヤーボンド１９によって、電気的に接続されている。
【００３４】
薄膜圧電体駆動パターン１５に設けられた電極部１５Ｂは、薄膜圧電体用基板８の支持基板部８Ａにおける側部に設けられた端子部１５Ｄに接続されている。
【００３５】
薄膜圧電体用基板８には、スライダ支持部８Ｅ上に取り付けられるスライダ２の各端子２Ａ〜２Ｄに接続される信号パターン１２Ａ、１２Ｂ、１２Ｃ、１２Ｄがそれぞれ設けられている。一対の信号パターン１２Ａおよび１２Ｂは、薄膜圧電体用基板８の本体部８Ｈ、支持基板部８Ａおよび第１支持部８Ｂ上に配置されており、それぞれの各端部が、スライダ支持部８Ｅ上および本体部８Ｈの側部上にそれぞれ位置されている。また、他方の一対の信号パターン１２Ｃおよび１２Ｄは、本体部８Ｈ、薄膜圧電体用基板８の枠部８Ｃおよび第２支持部８Ｇ上に配置されており、それぞれの各端部が、スライダ支持部８Ｅ上および本体部８Ｈの側部上にそれぞれ配置されている。
【００３６】
以上のように構成されたディスク装置のヘッド支持機構１００について、図６を用いてその動作を説明する。図６（ａ）は、ヘッド支持機構１００の要部の側面図、図６（ｂ）は、その平面図である。薄膜圧電体１１に対して、薄膜圧電体１１が縮む方向に電圧（負の電圧）を印加すると、薄膜圧電体１１は長手方向（矢印Ａ２で示す方向）に収縮する。ステンレス等で構成された薄膜圧電体基板８は、矢印Ａ２で示す収縮方向に対して剛性が高いために、薄膜圧電体１１と、薄膜圧電体１１に積層された薄膜圧電体用基板８とには、バイメタル効果により、図６（ａ）に示すように、反りを生じる。
【００３７】
薄膜圧電体１１および薄膜圧電体基板８にこのような反りが生じると、この反りに応じて、薄膜圧電体基板８における先細になった先端部分Ｐ（図６（ｂ）参照）は、薄膜圧電体１１自身の収縮と、バイメタル効果による反りとにより、矢印Ａ４で示す方向にδだけ微小変位することになる。
【００３８】
薄膜圧電体１１に電圧が印加されることにより、薄膜圧電体１１が図４に示す矢印Ａ４方向に微小変位すると、薄膜圧電体基板１１の第１支持部８Ｂが、支持基板部８Ａに牽引されて、第２の弾性ヒンジ部１４も同方向に牽引される。これにより、薄膜圧電体基板８のステイダ支持部８Ｅが、第１の弾性ヒンジ部１３を回動中心として微小回動する。
【００３９】
スライダ支持部８Ａが第１の弾性ヒンジ部１３を回動中心として微小回動すると、スライダ支持部８Ｅ上に支持されたスライダ２のヘッド１は、磁気ディスクの半径方向に対して、磁気ディスクに設けられた記録トラックの幅寸法の数倍程度にわたって移動することになる。薄膜圧電体１１に対して電圧を印加しない状態になると、薄膜圧電体基板８は、図５に示した初期状態（電圧を印加する前の状態）に復帰する。
【００４０】
このように、薄膜圧電体１１が、電圧が印加されることにより、磁気ディスクの接線方向（矢印Ａ２で示す方向）に伸縮すると、薄膜圧電体１１を保持する薄膜圧電体基板８と薄膜圧電体１１とには反りが生じ、薄膜庄電体基板８の支持基板部８Ａには、磁気ディスクの接線方向（矢印Ａ２で示す方向）に沿った直線変位が生じる。
【００４１】
即ち、薄膜圧電体基板８は、磁気ディスクの表面に対して、実質的に垂直な方向（矢印Ａ１で示す方向）の反りに基づいて、直線変位δ１を生じ、この直線変位δ１によって、スライダ支持部８Ｅは、ヘッド１がディスクの半径方向（矢印Ａ５方向）に変位されるように回動される。その結果、スライダ２のヘッド１は、磁気ディスクの半径方向に沿って変位されて、オントラック制御される。
【００４２】
この場合、薄膜圧電体１１は、負電圧が印加されることによって収縮するようになっているために、薄膜圧電体１１の反りによる変位方向と薄膜圧電体１１自体の収縮方向とが一致しており、電圧の印加量に対して大きな変位量δが得られる。
【００４３】
薄膜圧電体１１に印加される電圧と薄膜圧電体１１の先端部分Ｐとの関係を、図７に示す。薄膜圧電体１１が伸びる方向に電圧が印加される場合を正、薄膜圧電体１１が縮む方向に印加される電圧を負とすると、薄膜圧電体１１に対する印加電圧の絶対値が同一であれば、負の印加電圧による薄膜圧電体１１の先端部分Ｐの図６に矢印Ａ４で示す方向への変位量は、正の印加電圧による薄膜圧電体１１の先端部分Ｐの図６に矢印Ａ４で示す方向とは反対方向への変位量よりも大きくなる。これは、前述したように、負の印加電圧による薄膜圧電体１１の先端部分Ｐの薄膜圧電体１１の反りによる変位方向と、収縮方向とが一致していることによる。
【００４４】
また、薄膜圧電体１１は、三角形状になっていることにより、三角形の頂点部分の変位量は、薄膜圧電体１１が矩形状（長板状）になっている場合よりも、大きくなる。図８は、薄膜圧電体１１が三角形状の場合と、矩形状の場合とにおける薄膜圧電体１１に印加される電圧と、薄膜圧電体１１の端部の変位量との関係を示している。薄膜圧電体１１に対する印加電圧は、絶対値で示している。図８に示すように、薄膜圧電体１１に対する印加電圧が小さい領域では、各薄膜圧電体１１は、それぞれの形状の相違にもかかわらず、先端位置はほぼ同様に変位する。しかし、薄膜圧電体１１に対する印加電圧が増加すると、三角形状の薄膜圧電体１１では、その先端位置の変位量が大きく増加するが、矩形形状の薄膜圧電体１１では、その先端位置の変位量が小さくなる。従って、それぞれの薄膜圧電体１１に等しい電圧を印加した場合には、三角形状の薄膜圧電体１１における先端位置の変位量が、矩形状の薄膜圧電体１１よりも大きくなる。
【００４５】
図９（ａ）および（ｂ）に、矩形状の薄膜圧電体１１と、三角形状の薄膜圧電体１１との変形状態をそれぞれ示す。矩形状の薄膜圧電体１１では、長手方向に沿って反り（Ｕ方向に沿った曲げ）が発生するとともに、幅方向（Ｙ方向）に沿っても曲げが発生する。このとき、矩形状薄膜圧電体１１の先端部における各側縁部（図９（ａ）に、ＲおよびＱで示す領域）の変形は、先端位置Ｐの変位に大きく寄与しない。また、幅方向であるＹ方向に沿った曲げは、Ｕ方向に沿った曲げの変位には寄与しないばかりでなく、矩形状の薄膜圧電体１１の剛性を高めるために、薄膜圧電体１１の変形を抑制することになる。
【００４６】
これに対して、図９（ｂ）に示す３角形状の薄膜圧電体１１の場合には、このように、先端部における各側縁部によって、先端位置Ｐの変位が抑制されるおそれがなく、また、Ｙ方向に沿った曲げによるＵ方向に沿った曲げの変位の抑制も小さくなり、Ｕ方向に沿った曲げによって、先端位置Ｐの変位が大きくなる。
【００４７】
このように薄膜圧電体１１の形状を三角形状とすることにより、印加電圧に対して、ヘッド１の変位量を大きくすることができる。
【００４８】
また、薄膜圧電体１１の形状を３角形状とすることにより、スライダ２を支持する先端部の質量を小さくすることができるために、薄膜圧電体１１の共振周波数を、矩形状の薄膜圧電体１１よりも高くすることが可能となる。このように、薄膜圧電体１１の共振周波数を高くすることによって、ヘッド１をより高精度に位置決めすることができ、高いオントラック制御性を確保することができる。
【００４９】
本実施の形態によれば、薄膜圧電体基板８の厚みを１０μｍ、薄膜圧電体１１の厚みを２μｍ、薄膜圧電体１１の長手方向の寸法を１０ｍｍ、薄膜圧電体１１に印加する電庄を３Ｖとした場合に、ヘッド部１は、磁気ディスクの半径方向に０．９μｍ変位させることができる。
【００５０】
また、本実施の形態によれば、スライダ２は、そのエアーベアリング面２Ｆの中心位置を中心として回動するために、例えば空気粘性摩擦力等の外乱の影響によって、スライダ２の変位量が大きく変化するおそれがない。
【００５１】
【発明の効果】
以上のように、本発明のヘッド支持機構は、トラッキング補正等のために、ヘッドを高精度で微小に変位させることができる。
【００５２】
また、本発明のヘッド支持機構は、印加電圧に対して効率的にヘッドを微小変位させることが可能である。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明のヘッド支持機構の実施の形態の一例を示す斜視図である。
【図２】そのヘッド支持機構を分解して示す斜視図である。
【図３】そのヘッド支持機構に使用されるスライダの斜視図である。
【図４】そのヘッド支持機構に使用される薄膜圧電体基板の平面図である。
【図５】そのヘッド支持機構における薄膜圧電体基板の要部断面図である。
【図６】（ａ）は、そのヘッド支持機構の動作説明のための要部の側面図、（ｂ）は、その平面図である。
【図７】そのヘッド支持機構における印加電圧と薄膜圧電体の先端部の変位との関係を示すグラフである。
【図８】矩形状および三角形状の各薄膜圧電体形状における印加電圧と薄膜圧電体の先端部の変位との関係を示すグラフである。
【図９】（ａ）は、矩形状の薄膜圧電体の変形を示す模式図、（ｂ）は、三角形状の薄膜圧電体の変形を示す模式図である。
【図１０】従来のディスク装置のヘッド支持機構の構成図である。
【符号の説明】
１  ヘッド部
２  スライダ
５  フレクシヤ
６  ジンバル
８  薄膜圧電体基板
８Ａ  支持基板部
１１  薄膜圧電体
【図１】
0003568029.tif 000002
【図２】
0003568029.tif 000003
【図３】
0003568029.tif 000004
【図４】
0003568029.tif 000005
【図５】
0003568029.tif 000006
【図６】
0003568029.tif 000007
【図７】
0003568029.tif 000008
【図８】
0003568029.tif 000009
【図９】
0003568029.tif 000010
【図１０】
0003568029.tif 000011