(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
搬送方向に直交する面内における水平方向に対する角度が異なる、上流側の基板の搬送路と下流側の基板の搬送路との間に介設され、基板の上流側の姿勢を、基板の下流側の姿勢に変更する基板姿勢変更装置であって、
基板の搬送方向に直交する方向に延びる軸を備えて搬送方向に沿って並設され、かつ、基板の上流側の姿勢に対応した第１の姿勢から基板の下流側の姿勢に対応した第２の姿勢との間で個別に姿勢変更可能な複数の単位移送手段と、上記複数の単位移送手段を上記第１の姿勢から上記第２の姿勢に一斉に姿勢変更させる姿勢変更手段と、上記複数の単位移送手段を個別に上記第２の姿勢から上記第１の姿勢に戻す姿勢復帰手段とを備えていることを特徴とする基板姿勢変更装置。
【請求項２】
上記姿勢復帰手段はシリンダ装置で形成され、各単位移送手段が上記姿勢変更手段によって第１の姿勢から第２の姿勢に姿勢変更される間、シリンダ装置のピストンロッドが遊動状態にされていることを特徴とする請求項１記載の基板姿勢変更装置。
【請求項３】
搬送方向に直交する面内における水平方向に対する角度が異なる、上流側の基板の搬送路と下流側の基板の搬送路との間に介設され、基板の上流側の姿勢を、基板の下流側の姿勢に変更する基板姿勢変更装置であって、
基板の搬送方向に直交する方向に延びる軸を備え、かつ、搬送方向に沿って並設された複数の単位移送手段と、上記複数の単位移送手段を基板の上流側の姿勢に対応した第１の姿勢から基板の下流側の姿勢に対応した第２の姿勢に姿勢変更させる姿勢変更手段と、上記単位移送手段を各々第２の姿勢から第１の姿勢に戻す姿勢復帰手段とを備えて構成され、上記姿勢復帰手段は、上流側の単位移送手段から順番に第２の姿勢から第１の姿勢に戻すものであることを特徴とする基板姿勢変更装置。
【請求項４】
上記姿勢復帰手段は、基板の後端が上記各単位移送手段を通過したことを検出する検出手段と、上記検出手段による通過検出に応じて基板の通過した単位移送手段を第２の姿勢から第１の姿勢に戻すものであることを特徴とする請求項３記載の基板姿勢変更装置。
【請求項５】
基板の上流側の姿勢が水平姿勢であり、基板の下流側の姿勢が傾斜姿勢であることを特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載の基板姿勢変更装置。
【請求項６】
基板の上流側の姿勢が傾斜姿勢であり、基板の下流側の姿勢が水平姿勢であることを特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載の基板姿勢変更装置。
【請求項７】
基板の搬送方向に直交する方向に延びる軸を備え、かつ、搬送方向に沿って複数並設され、上流側の搬送路の基板姿勢に対応した第１の姿勢となっている複数の単位移送手段に対して、基板を上流側の搬送路から搬送する工程と、
上記基板が搬送された上記複数の単位移送手段を、上記第１の姿勢から、基板の下流側搬送路での姿勢に対応した第２の姿勢に一斉に変更させて、基板を下流側に対応した姿勢に変更する工程と、
上記複数の単位移送手段から基板を下流側に対応した姿勢で下流側の搬送路に搬送する工程と、
搬送される上記基板の上流側の端部が通過した単位移送手段から順番に、当該単位移送手段の姿勢を第２の姿勢から第１の姿勢に戻す工程と
を備えたことを特徴とする基板姿勢変更方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、フォトレジスト塗布液、感光性ポリイミド樹脂、カラーフィルター用の染色剤などの薄膜が表面に形成された液晶用のガラス基板、フォトマスク用のガラス基板等を対象とし、これら基板を傾斜姿勢で搬送しつつ主面に所定の処理液を供給することによって処理する基板処理装置に適用され、この基板処理装置の上流側および下流側で基板を水平姿勢と傾斜姿勢との間で姿勢変更させる基板姿勢変更装置および基板姿勢変更方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来、前工程で所定の処理が施された基板に洗浄液による洗浄処理を施してから後工程に搬送するようにした基板処理装置が知られている。このような基板処理装置は、薬洗部、水洗部および乾燥部が直列に配設された処理装置本体と、この処理装置本体を貫通するように設けられた基板の搬送手段とから形成されているのが一般的である。通常、搬送手段は基板を水平姿勢で搬送するようにしており、基板はこの搬送手段によって処理装置本体内を薬洗部、水洗部および乾燥部の順に搬送されつつ処理される。そして、処理装置本体内に導入された基板に対し、まず、薬洗部において所定の薬液を表裏面に供給する薬洗処理が施され、ついで液切り処理が施されたのち水洗部において水洗処理が施され、最後に乾燥部において気体の噴射等による乾燥処理が行われるようになっている。
【０００３】
ところで、近年、処理装置本体内の搬送面が搬送方向に直交する面内で傾斜するように搬送手段を配設し、基板を傾斜姿勢で搬送するものが知られている。こうすることによって供給された処理液が基板の傾斜面に沿って速やかに流下し、基板の処理効率を向上させることができるようになる。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、処理装置本体の上流側および下流側では、通常、基板は水平姿勢で搬送されているため、基板の処理装置本体に対する導出入に際し、基板の姿勢を水平姿勢と傾斜姿勢との間で姿勢変更させる必要がある。この場合、基板の搬送面を下流側の搬送手段の傾斜面または水平面に一致するように全体的に姿勢変更させるように構成することが考えられる。
【０００５】
しかしながら、基板の搬送面を全体的に姿勢変更するように構成されたものであると、直前の基板が下流側に完全に送出され、搬送面が元の姿勢に戻された後でないと、つぎの基板を姿勢変更する位置に導くことができないため、基板の搬送効率が低下し、基板の処理効率が悪くなるという問題点を生じる。
【０００６】
本発明は、上記のような問題を解決するためになされたものであり、処理効率を低下させることなく基板の姿勢変更を行い得る基板姿勢変更装置および基板姿勢変更方法を提供することを目的としている。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
請求項１記載の発明は、搬送方向に直交する面内における水平方向に対する角度が異なる、上流側の基板の搬送路と下流側の基板の搬送路との間に介設され、基板の上流側の姿勢を、基板の下流側の姿勢に変更する基板姿勢変更装置であって、
基板の搬送方向に直交する方向に延びる軸を備えて搬送方向に沿って並設され、かつ、基板の上流側の姿勢に対応した第１の姿勢から基板の下流側の姿勢に対応した第２の姿勢との間で個別に姿勢変更可能な複数の単位移送手段と、上記複数の単位移送手段を上記第１の姿勢から上記第２の姿勢に一斉に姿勢変更させる姿勢変更手段と、上記複数の単位移送手段を個別に上記第２の姿勢から上記第１の姿勢に戻す姿勢復帰手段とを備えていることを特徴とするものである。
【０００８】
この発明によれば、基板を受け入れた各単位移送手段が第１の姿勢になっている状態で、姿勢変更手段の駆動によって各単位移送手段を第２の姿勢に変更することにより、各単位移送手段に支持された基板は一斉に第２の姿勢になるため、姿勢変更動作の不揃いがなくなり、不揃いの修正に時間をとられることがなく、搬送不良を防止することができる。
【０００９】
ついで各単位移送手段の駆動で基板を前進させることにより、基板は下流側の基板搬送路に搬送される。そして、基板が通過した後の単位移送手段を、姿勢復帰手段により第１の姿勢に戻すことによって、単位移送手段は上流側搬送路からの基板を受け入れ得るようになる。
【００１０】
本発明の請求項２記載の発明は、請求項１記載の発明において、上記姿勢復帰手段はシリンダ装置で形成され、各単位移送手段が上記姿勢変更手段によって第１の姿勢から第２の姿勢に姿勢変更される間、シリンダ装置のピストンロッドが遊動状態にされていることを特徴とするものである。
【００１１】
この発明によれば、姿勢変更手段によって各単位移送手段を第１の姿勢から第２の姿勢に姿勢変更させると、姿勢復帰手段としてのシリンダ装置のピストンロッドは上記姿勢変更に追随して移動する。
【００１２】
請求項３記載の発明は、搬送方向に直交する面内における水平方向に対する角度が異なる、上流側の基板の搬送路と下流側の基板の搬送路との間に介設され、基板の上流側の姿勢を、基板の下流側の姿勢に変更する基板姿勢変更装置であって、基板の搬送方向に直交する方向に延びる軸を備え、かつ、搬送方向に沿って並設された複数の単位移送手段と、上記複数の単位移送手段を基板の上流側の姿勢に対応した第１の姿勢から基板の下流側の姿勢に対応した第２の姿勢に姿勢変更させる姿勢変更手段と、上記単位移送手段を各々第２の姿勢から第１の姿勢に戻す姿勢復帰手段とを備えて構成され、上記姿勢復帰手段は、上流側の単位移送手段から順番に第２の姿勢から第１の姿勢に戻すものであることを特徴とするものである。
【００１３】
この発明によれば、全ての単位移送手段が第１の姿勢に戻される前に、姿勢復帰手段によって第１の姿勢に戻った単位移送手段に基板を進入させ得るようになる。
【００１４】
請求項４記載の発明は、請求項３記載の発明において、上記姿勢復帰手段は、基板の後端が上記各単位移送手段を通過したことを検出する検出手段と、上記検出手段による通過検出に応じて基板の通過した単位移送手段を第２の姿勢から第１の姿勢に戻すものであることを特徴とするものである。
【００１５】
この発明によれば、基板の後端が単位移送手段を通過する毎にその単位移送手段が制御手段の制御の基に姿勢復帰手段によって自動的に第１の姿勢に戻される。
【００１６】
請求項５記載の発明は、請求項１乃至４のいずれかに記載の発明において、基板の上流側の姿勢が水平姿勢であり、基板の下流側の姿勢が傾斜姿勢であることを特徴とするものである。
【００１７】
この発明によれば、水平姿勢で搬送されてきた基板は、姿勢変更装置を通過することにより傾斜姿勢になる。
【００１８】
請求項６記載の発明は、請求項１乃至４のいずれかに記載の発明において、基板の上流側の姿勢が傾斜姿勢であり、基板の下流側の姿勢が水平姿勢であることを特徴とするものである。
【００１９】
この発明によれば、傾斜姿勢で搬送されてきた基板は、姿勢変更装置を通過することにより水平姿勢になる。
【００２０】
請求項７記載の発明は、基板の搬送方向に直交する方向に延びる軸を備え、かつ、搬送方向に沿って複数並設され、上流側の搬送路の基板姿勢に対応した第１の姿勢となっている複数の単位移送手段に対して、基板を上流側の搬送路から搬送する工程と、上記基板が搬送された上記複数の単位移送手段を、上記第１の姿勢から、基板の下流側搬送路での姿勢に対応した第２の姿勢に一斉に変更させて、基板を下流側に対応した姿勢に変更する工程と、上記複数の単位移送手段から基板を下流側に対応した姿勢で下流側の搬送路に搬送する工程と、搬送される上記基板の上流側の端部が通過した単位移送手段から順番に、当該単位移送手段の姿勢を第２の姿勢から第１の姿勢に戻す工程とを備えたことを特徴とするものである。
【００２１】
この発明によれば、請求項３記載の発明と同様の作用効果が得られる。
【００２２】
【発明の実施の形態】
図１は、本発明に係る基板姿勢変更装置が適用される基板処理装置の一実施形態を示す概略構成図である。基板処理装置１は、前工程からの基板Ｂを受け入れる基板受入れ装置２および入口側移載装置（基板姿勢変更装置）３からなる基板導入部、内部に基板Ｂの処理空間を有する処理装置本体１０、および処理後の基板Ｂを後工程に受け渡す出口側移載装置３′および基板払出し装置２′からなる基板導出部が直列に配設されて形成されている。そして、かかる基板処理装置１は、図１中に右向き矢印で示すように、基板受入れ部２、入口側移載装置３、処理装置本体１０、出口側移載装置３′、および基板払出し装置２′の順に基板Ｂを搬送しつつ基板Ｂに所定の処理を施すものである。
【００２３】
本実施形態においては、搬送手段はローラコンベアが適用されている。このローラコンベアは、基板Ｂの搬送方向に直交する向きの支持軸に設けられた搬送ローラ９が搬送方向に等ピッチで並設されて形成され、図略の駆動手段の駆動により同一方向に同期回転されるようになっている。
【００２４】
基板Ｂは、前工程からコンベアあるいはロボット等の上流側引継ぎ手段１０１を介して基板導入部（基板受入れ装置２、入口側移載装置３）に移され、ついで搬送ローラ９の駆動によって処理装置本体１０内に導入され、ここで搬送ローラ９によって搬送されつつ薬洗部において散液管１１からの薬液の供給による所定の処理が施され、ついで図示はしていないが、水洗部において水洗処理され、最後の乾燥部においてエアナイフ１２からの気体による乾燥処理の後、基板導出部（出口側移載装置３′、基板払出し装置２′）移送にされ、この下流端でコンベアあるいはロボット等からなる下流側引継ぎ手段１０２を介して次工程に向けて導出されるようになっている。
【００２５】
処理装置本体１０内においては、上記各搬送ローラ９はその軸心が基板Ｂの搬送方向に対して直交する面内であって、水平方向に対して所定角度に傾斜してなる基板搬送路９ａが形成されている。これによって基板Ｂは処理装置本体１０内において傾斜姿勢で基板搬送路９ａを搬送されつつ処理されることになる。
【００２６】
入口側移載装置３は、上流側引継ぎ手段１０１から基板受入れ装置２を介して供給された基板Ｂを、水平姿勢（第１の姿勢）から上記基板搬送路９ａに合致した傾斜姿勢（第２の姿勢）に姿勢変更し、出口側移載装置３′は、処理装置本体１０から導出された基板Ｂを元の水平姿勢に戻した後、基板払出し装置２′を介して下流側引継ぎ手段１０２に導くためのものである。
【００２７】
出口側移載装置３′は、入口側移載装置３と構造的に同一構成であるため、以下、入口側移載装置３を基に、図２〜図９を参照しながら、本発明に係る基板姿勢変更装置について説明する。なお、出口側移載装置３′においては傾斜姿勢が第１の姿勢であり、水平姿勢が第２の姿勢である。図２〜図５は、基板移載装置部３の一実施形態を示す斜視図であり、図２は入口側基板移載部の搬送面が水平姿勢に設定された状態、図３は入口側基板移載部の搬送面が親シリンダのピストンロッドの上昇のみで傾斜姿勢に設定されている状態、図４は入口側基板移載部の搬送面が各子シリンダのピストンロッドの上昇によって傾斜姿勢に設定された状態、図５は、図４に示す状態において第１子シリンダのピストンロッドのみが下降した状態をそれぞれ示している。
【００２８】
図２〜図５に示すように、基板受入れ装置２は、フロアＦ上に据え付けられた架台２１上に組み付けられて形成されている。この基板受入れ装置２は、基板Ｂの搬送方向に直交する幅方向に設けられた一対のローラ支持板２２、これら一対のローラ支持板２２間でローラ軸９１回りに共回り可能に軸支された水平方向に延びる複数本の搬送ローラ９、および各ローラ軸９１を後述する動力伝達軸９１ａおよびフレキシブルカップリング３２ｅ（図６）を介して同期回転させる第１駆動モータ２３からなっている。
【００２９】
上記基板受入れ装置２においては、搬送ローラ９として円筒状ローラ９２が適用されている。この円筒状ローラ９２は、中央部の円筒状を呈したローラ本体９２ａと、このローラ本体９２ａの両側部に形成された鍔部９２ｂとからなり、各鍔部９２ｂ間に基板Ｂを載置させることによってローラ本体９２ａ上での基板Ｂの横ずれを防止している。
【００３０】
従って、基板Ｂが上流側引継ぎ手段１０１（図１）から基板受入れ装置２に受け渡された状態で第１駆動モータ２３を駆動することにより、各円筒状ローラ９２が同期回転し、これによってローラ本体９２ａ上の基板Ｂが入口側移載装置３に向けて送り出される。
【００３１】
上記入口側移載装置３は、縦断面視でＵ字形状の可動ローラ架台３１、この可動ローラ架台３１に支持された複数本の単位ローラ（単位移送手段）Ｒ１〜Ｒ５からなるローラ群Ｒ、上記可動ローラ架台３１の幅方向一側部に固定された支持枠３２、この支持枠３２に支持されたローラ駆動機構３３、およびフロアＦと可動ローラ架台３１との間に介設されたローラ傾動手段４を備えている。
【００３２】
上記ローラ群Ｒを構成する上流側（図１の左方）からの第１単位ローラＲ１、第２単位ローラＲ２、第３単位ローラＲ３、第４単位ローラＲ４、および第５単位ローラＲ５は、基本的に上記円筒状ローラ９２と同一構造を有している。
【００３３】
上記可動ローラ架台３１は、その幅方向の一方の側部（図２においては右方）にローラ支持板３１ａが形成されているとともに、他側部に支持枠３２を取り付けるための接合板３１ｂが形成され、この接合板３１ｂに支持枠３２が固定されている。上記ローラ支持板３１ａは、その上縁部に下方に向かって切り込まれ、かつ、上記各単位ローラＲ１〜Ｒ５の右方のローラ軸９１を支持する軸受溝３１ｃが設けられている。
【００３４】
上記支持枠３２は、接合板３１ｂに固定された側板３２ａ、この側板３２ａの前後方向両側部が直角に屈曲された前後方向一対の突出板３２ｂによって形成されている。上記各単位ローラＲ１〜Ｒ５は、それぞれローラ軸９１を有し、各ローラ軸９１の遊端側（図２〜図５の基板搬送方向に向かって右方）が上記各軸受溝３１ｃに支持された状態で可動ローラ架台３１に装着されている。また、上記ローラ駆動機構３３は側板３２ａおよび突出板３２ｂに囲繞された状態で図略の基礎フレーム上に設けられている。
【００３５】
かかるローラ駆動機構３３は、駆動軸に駆動プーリ３３ｂ（図２）の設けられた第２駆動モータ３３ａ（図２）、各ローラ軸９１の左側端部に設けられた複数のローラ用プーリ３３ｃ、各ローラ用プーリ３３ｃに対応して側板３２ａの下部で軸支された補助プーリ３３ｄ、およびこれら駆動プーリ３３ｂとローラ用プーリ３３ｃと補助プーリ３３ｄとに張設されたタイミングベルト３３ｅ（図２）を備えて形成されている。
【００３６】
従って、第２駆動モータ３３ａを駆動することにより、この駆動回転が駆動プーリ３３ｂおよびタイミングベルト３３ｅを介して各ローラ用プーリ３３ｃおよび補助プーリ３３ｄに伝達され、これによってローラ軸９１を介して各単位ローラＲ１〜Ｒ５が同期回転し、基板Ｂを搬送方向に移動させるようになっている。
【００３５】
なお、補助プーリ３３ｄは、タイミングベルト３３ｅを蛇行させるためのものであり、この蛇行によって各ローラ用プーリ３３ｃとタイミングベルト３３ｅとの接触長が大きくなり、タイミングベルト３３ｅのローラ用プーリ３３ｃに対するスリップが効果的に防止される。
【００３７】
図６は、単位ローラＲ１〜Ｒ５のローラ軸９１の基端側支持構造の一実施形態を示す断面図である。図６に示すように、ローラ軸９１の基端側は、側板３２ａに上下方向に延びるように穿設された長孔３２ｄを貫通して側板３２ａの外方に突出し、その先端が自在継手であるフレキシブルカップリング３２ｅを介して動力伝達軸９１ａに接続されている。上記動力伝達軸９１ａは、ベアリングを有する軸受部材３２ｆに支持され、この軸受部材３２ｆに支持された動力伝達軸９１ａの先端側にローラ用プーリ３３ｃが取り付けられている。
【００３８】
従って、例えば、可動ローラ架台３１が水平姿勢（側板３２ａは垂直姿勢になっている）に設定された状態で（図２）、単位ローラＲ１〜Ｒ５のいずれかを傾斜させると、図６に二点鎖線で示すように、ローラ軸９１は動力伝達軸９１ａに対してフレキシブルカップリング３２ｅを境に上方に折れ曲がった状態になるが、フレキシブルカップリング３２ｅの作用により、動力伝達軸９１ａの回転が支障なくローラ軸９１に伝達される。同様に、可動ローラ架台３１が傾斜姿勢に設定された状態で、単位ローラＲ１〜Ｒ５のいずれかを傾斜姿勢に戻した場合も、動力伝達軸９１ａの回転が支障なくローラ軸９１に伝達される。
【００３９】
また、可動ローラ架台３１の姿勢変更によって各単位ローラＲ１〜Ｒ５が一斉に姿勢変更されるときにも、単位ローラＲ１〜Ｒ５はフレキシブルカップリング３２ｅを中心にして回動する。
【００４０】
上記ローラ傾動手段４は、可動ローラ架台３１の右側部下方でフロアＦ上に立設され、かつ、可動ローラ架台３１を傾動させる親シリンダ（姿勢変更手段）Ｃ０と、この親シリンダＣ０よりも内方のフロアＦ上に上記各単位ローラＲ１〜Ｒ５の右端部に対応して立設された子シリンダ群Ｃとを備えて形成されている。
【００４１】
上記親シリンダＣ０は、その下端部がフロアＦ上に固定された下部ブラケット４１の基板搬送方向に延びる水平軸回りに回動自在に軸支されているとともに、この親シリンダＣ０から上方に突出したピストンロッド４２は、その上端部が可動ローラ架台３１の底面に設けられた上部ブラケット４３の基板搬送方向に延びる水平軸回りに回動自在に軸支されている。
【００４２】
上記子シリンダ群Ｃは、上流側から上記各単位ローラＲ１〜Ｒ５に順次対応するように設けられた第１子シリンダＣ１、第２子シリンダＣ２、第３子シリンダＣ３、第４子シリンダＣ４、および第５子シリンダＣ５の５本のシリンダを有している。そして、各単位シリンダ（姿勢復帰手段）Ｃ１〜Ｃ５は、それらの下端部がフロアＦ上に設けられた下部ブラケット４４の基板搬送方向に延びる水平軸回りに回動自在に軸支されているとともに、それらのピストンロッド４５の上端部には軸受４５ａ（図２）が設けられ、この軸受４５ａに上記各単位ローラＲ１〜Ｒ５のローラ軸９１が支持されている。
【００４３】
一方、上記各突出板３２ｂ間には基板搬送方向に延びる水平軸３４が架橋されている。この水平軸３４は、基板受入れ装置２および処理装置本体１０の適所に設けられた軸受３５に自軸心回りに回動自在に軸支され、これによって可動ローラ架台３１の左側部が支持枠３２を介して軸受３５に支持された状態になっている。
【００４４】
上記入口側移載装置３の構成によれば、図２に示す状態において、第１〜第５子シリンダＣ１〜Ｃ５のピストンロッド４５の作動を、図略の気体圧の供給経路の所定の切り換えによりフリーにした状態で、親シリンダＣ０を駆動し、これによってピストンロッド４２を所定の突出量だけ突出させると、可動ローラ架台３１は水平軸３４回りに回動し、この回動によって、図３に示すように、可動ローラ架台３１が所定角度だけ基板Ｂの搬送方向に直交する方向に傾いた傾斜姿勢になるとともに、可動ローラ架台３１の軸受溝３１ｃに嵌まり込んでいる各子シリンダＣ１〜Ｃ５のフリー状態のピストンロッド４５が各子シリンダＣ１〜Ｃ５から突出し、これによってローラ群Ｒも傾斜姿勢になる。
【００４５】
この状態で各子シリンダＣ１〜Ｃ５のピストンロッド４５はフリー状態で突出位置保持状態に変更され、これによってピストンロッド４２の突出状態が保持される。なお、本実施形態では、各単位ローラＲ１〜Ｒ５の水平面に対する傾斜角度は３〜７°に設定されている。
【００４６】
ついで、図３に示すローラ群Ｒが傾斜姿勢になった状態で、親シリンダＣ０の駆動によってピストンロッド４２を下降させることにより、可動ローラ架台３１は水平軸３４回りに回動し、図４に示すように、可動ローラ架台３１が水平姿勢になるとともに、各子シリンダＣ１〜Ｃ５は、それぞれのピストンロッド４５に支持されて傾斜姿勢が維持された状態になっている。
【００４７】
そして、図４に示すように、可動ローラ架台３１が水平姿勢に設定され、かつ、各子シリンダＣ１〜Ｃ５が傾斜姿勢に設定された状態では、各ピストンロッド４５によって支持されている単位ローラＲ１〜Ｒ５のいずれもが、他とは独立して下降し得るようになっている。従って、例えば、第１子シリンダＣ１の駆動によってそのピストンロッド４５のみを下降させることにより、図５に示すように、第１単位ローラＲ１のみが水平姿勢になり、第２〜第５単位ローラＲ２〜Ｒ５は傾斜姿勢を維持した状態になる。
【００４８】
そして、本発明においては、入口側移載装置３は、図２に示す可動ローラ架台３１上のローラ群Ｒが水平姿勢に設定された状態で基板受入れ装置２からの基板Ｂを受入れ、基板Ｂの上流側の端部が第５単位ローラＲ５にかかった時点で親シリンダＣ０の駆動で子シリンダ群Ｃを傾斜姿勢に設定した後（図３）、親シリンダＣ０の逆駆動で可動ローラ架台３１のみを水平姿勢に戻し、各単位ローラＲ１〜Ｒ５が各子シリンダＣ１〜Ｃ５のピストンロッド４５によってのみ傾斜姿勢が維持された状態にされる（図４）。
【００４９】
ついで、基板Ｂの上流側の端部が第１単位ローラＲ１から外れた時点で、第１子シリンダＣ１が逆駆動され、これによる第１子シリンダＣ１のピストンロッド４２の下降によって第１単位ローラＲ１は水平姿勢に戻され（図５）、以後、基板Ｂの上流側の端部が通過する毎に第２〜第５単位ローラＲ２〜Ｒ５が水平姿勢に順次姿勢変更されつつ、基板Ｂは次工程の処理装置本体１０に向けて導出される。
【００５０】
そして、後続の基板Ｂは、傾斜姿勢に設定された各単位ローラＲ１〜Ｒ５の内、第１単位ローラＲ１が水平姿勢に変更された時点で基板受入れ装置２から入口側移載装置３に導入されるように基板Ｂを同期搬送しており、これによって後続の基板Ｂは、水平姿勢に順次姿勢変更していく第２〜第５単位ローラＲ２〜Ｒ５によって搬送されて水平姿勢のローラ群Ｒ上に搬送されつつセッティングされた状態になる。ついで親シリンダＣ０および子シリンダＣ１〜Ｃ５の駆動による上記操作が繰り返されることにより、後続の基板Ｂは処理装置本体１０に向けて導出される。
【００５１】
一方、処理装置本体１０は、その上流壁に基板Ｂの傾斜姿勢に対応した幅方向に長尺の基板通過口１３を有しているとともに、その内部には搬送ローラ９が配設されている。この搬送ローラ９についても、搬送方向に直交した方向の傾斜角度は上記可動ローラ架台３１と同様に設定されている。そして、図３〜図５に示すように、ローラ群Ｒ上の傾斜搬送面と、処理装置本体１０内の複数の搬送ローラ９による傾斜搬送面とが面一状態になり、これによって入口側移載装置３から処理装置本体１０への基板通過口１３を介した基板Ｂの引き渡しが行い得るようになっている。
【００５２】
なお、図２および図５に示すように、処理装置本体３内の搬送ローラ９は、ローラ軸９１の中央部に中央ローラ９３ａが設けられ、同両側部に一対の鍔部９３ｂが設けられている。さらにこれら一対の鍔部９３ｂの内側に互いに対向するように一対の基板支持ローラ９３ｃが設けられた、いわゆる部分支持型ローラ９３が採用されている。
【００５３】
かかる部分支持型ローラ９３を適用することにより、搬送ローラ９による基板Ｂ裏面の接触域を少なくし、基板Ｂの裏面への洗浄水や気体の供給を良好に行い得るようにするとともに、洗浄過程や乾燥過程での搬送ローラ９との接触による基板Ｂの裏面の汚染を最小限に抑えることが可能になる。
【００５４】
図７は、入口側移載装置３の制御系統の一実施形態を示すブロック図である。この図に示すように、基板Ｂの入口側移載装置３における移載操作は、各所に設けられた各種のセンサからの検出信号に基づく制御手段５からの制御信号によって制御される。
【００５５】
上記入口側移載装置３の下流端の適所には水平姿勢の子シリンダ群Ｃ上に基板Ｂが導入されたことを検出する基板センサ５１が設けられ、第２駆動モータ３３ａにはその回転数を検出する回転数センサ５２が設けられている。また、親シリンダＣ０には、そのピストンロッド４２の上昇状態および下降状態を検出するロッド位置センサ５３が設けられているとともに、第１〜第５子シリンダＣ１〜Ｃ５には各ピストンロッド４５の上昇状態および下降状態を検出する第１〜第５ロッド位置センサ５４１〜５４５が設けられている。これらの第１〜第５ロッド位置センサ５４１〜５４５によって各子シリンダＣ１〜Ｃ５のピストンロッド４５が上端位置にあるか、あるいは下端位置にあるかが検出されるようになっている。
【００５６】
そして、基板センサ５１、回転数センサ５２、ロッド位置センサ５３、および第１〜第５ロッド位置センサ５４１〜５４５の検出結果が逐一制御手段５に入力され、これらの検出信号値に基づいた所定の制御信号が第２駆動モータ３３ａ、親シリンダＣ０、および各子シリンダＣ１〜Ｃ５に向けて出力されて入口側移載装置３における基板Ｂの移載操作が制御されるようになっている。
【００５７】
以下、制御手段５による移載操作の制御について図７および図８、並びに必要に応じて図２〜図５を基に説明する。図８は、制御手段５による移載制御の一実施形態を示すフローチャートである。まず、図８のフローチャートのステップＳ１において、第２駆動モータ３３ａがスイッチＯＮされ、これによって水平姿勢に設定されている（図２）各単位ローラＲ１〜Ｒ５が同期回転し、入口側移載装置３は基板Ｂの受け入れの準備が完了した状態になる。
【００５８】
ついでステップＳ２において、基板センサ５１による検出結果が判別され、基板センサ５１が基板Ｂの下流側の端部（前端）を検出したときは、ステップＳ３に移る。そして、ステップＳ２において基板Ｂが検出されると、つぎのステップＳ３において第２駆動モータ３３ａの駆動が一旦停止され、つぎのステップＳ４において親シリンダＣ０が駆動されてこれによる可動ローラ架台３１の傾動によってローラ群Ｒが傾斜姿勢に設定される（図３）。
【００５９】
ついで、ステップＳ５においてロッド位置センサ５３の検出結果が判別され、ピストンロッド４２が予め設定された上昇位置に位置していることが確認されたときはステップＳ６に移る。
【００６０】
そして、ステップＳ５においてロッド位置センサ５３によりピストンロッド４２が上端位置に到達していることが確認されると、ステップＳ６において、各子シリンダＣ１〜Ｃ５に図略の気体源からの圧縮気体が各子シリンダＣ１〜Ｃ５内に供給され、これによって各子シリンダＣ１〜Ｃ５のピストンロッド４５の突出状態が保持される。
【００６１】
ついでステップＳ７において、親シリンダＣ０の逆駆動によるピストンロッド４２の下降によって可動ローラ架台３１が水平姿勢に戻され、これによって単位ローラＲ１〜Ｒ５は各子シリンダＣ１〜Ｃ５のピストンロッド４５によってのみ支持されて傾斜姿勢になる（図４）。
【００６２】
ついでステップＳ８において、第２駆動モータ３３ａが駆動され、これによる各単位ローラＲ１〜Ｒ５の同期回転によって基板Ｂは処理装置本体１０に向けて子シリンダ群Ｃ上を搬送される。
【００６３】
そして、つぎのステップＳ９において、第２駆動モータ３３ａの回転数のカウントがスタートされ、この時点から回転数センサ５２によって第２駆動モータ３３ａの回転数がカウントされる。ついでステップＳ１０においていずれの子シリンダＣ１〜Ｃ５を駆動させるかを示すパラメータｉに初期値「１」が設定された後、ステップＳ１１において、第２駆動モータ３３ａの回転数のカウント結果が予め設定された回転数、すなわち、基板Ｂの上流側の端部が第１子シリンダＣ１を通過するに要する回転数に到達したか否かが判別され、所定の回転数に到達していないときは再度ステップＳ１１に戻される。そして、上記カウント結果が所定の回転数に到達するとステップＳ１２が実行され、記憶されていた第２駆動モータ３３ａの回転数がリセットされた後、再スタートされる。
【００６４】
ついでステップＳ１３において、上記パラメータ「１」に基づき第１子シリンダＣ１下降の指示が出され、第１子シリンダＣ１の逆駆動によって第１単位ローラＲ１のみが水平姿勢に姿勢変更される（図５）。この状態では、基板受入れ装置２からの基板Ｂが入口側移載装置３に向けて搬送されてもよい状態になっている。
【００６５】
そして、ステップＳ１４で第１ロッドセンサ５４１の検出結果により第１子シリンダＣ１が下端位置に到達したか否かが判別され、下端位置に到達していない場合は、ステップＳ１３に戻される。そして、ステップＳ１４において第１子シリンダＣ１が下端位置に到達したことが確認されると、ステップＳ１５において第５子シリンダＣ５が下端位置に到達したか否かが判別される。ステップＳ１５においてパラメータｉが「１〜４」のときは第５子シリンダＣ５に向けて駆動信号が出力されていないから、第５子シリンダＣ５は下降しておらず、この場合はステップＳ１６において後続の基板Ｂの受け入れ指示が出力され、ついでステップＳ１７が実行されてパラメータｉに「１」が加算されるカウントが行われ、ついでステップＳ１１に戻される。
【００６６】
従って、ステップＳ１１〜ステップＳ１６が、ｉ＝４になるまで繰り返され、最後のｉ＝５において、ステップＳ１５で第５子シリンダＣ５が下降したことが確認された時点、すなわち、第５単位ローラＲ５が水平姿勢になり、これによって基板Ｂが第５単位ローラＲ５を通過したことが確認された時点でステップＳ２に戻され、後続の基板Ｂを対象にした移載制御が繰り返される。このように、基板Ｂが入口側移載装置３に搬入される都度、ステップＳ２〜ステップＳ１５が実行され、これによる単位ローラＲ１〜Ｒ５の上記所定の姿勢変更によって基板Ｂは水平姿勢から傾斜姿勢に変更され、処理装置本体１０に向けて順次搬送されることになる。
【００６７】
なお、図８のフローチャートでは記載を省略したが、各子シリンダＣ１〜Ｃ５が駆動したときは、各第１〜第５ロッド位置センサ５４１〜５４５によってそれぞれのピストンロッド４５が上端位置または下端位置に確実に到達したか否かが検出され、これによって子シリンダＣ１〜Ｃ５が正常に作動しているか否かを常にチェックするようにしており、正常に作動しないときは、装置を停止させる等の対策がとられる。
【００６８】
図９は、入口側移載装置３における基板Ｂの１枚当りの搬送時間（タクト）を説明するための説明図であり、（イ）は傾斜姿勢の各単位ローラＲ１〜Ｒ５を一斉に水平姿勢に姿勢変更する場合、（ロ）は傾斜姿勢の各単位ローラＲ１〜Ｒ５を順次水平姿勢に姿勢変更する場合をそれぞれ示している。
【００６９】
まず、図９の（イ）に示すように、各単位ローラＲ１〜Ｒ５を一斉に水平姿勢に姿勢変更する場合には、
可動ローラ架台３１の長さをＬ（ｍｍ）（ただし、Ｌは単位ローラ間の距離の５倍に設定している）、
基板Ｂの長さをｓ（ｍｍ）、
基板の搬送速度をｖ（ｍｍ／ｓｅｃ）、
可動ローラ架台３１の昇降に要する時間をｔ（ｓｅｃ）
搬送されている基板Ｂ間の距離（第１基板Ｂ１と第２基板Ｂ２との間の間隔）をｘ（ｍｍ）、
とすると、まず、ｘ＝Ｌ＋ｖｔ、という関係が成立する。そして、第２基板Ｂ２が可動ローラ架台３１を通過するのに要する時間、すなわちタクトＴ１（ｓｅｃ）は、
Ｔ１＝（ｘ＋ｓ）／ｖ＝（Ｌ＋ｖｔ＋ｓ）／ｖ…（１）
になる。
【００７０】
ついで、図９の（ロ）に示すように、各単位ローラＲ１〜Ｒ５を順次水平姿勢に姿勢変更する場合には、搬送されている基板Ｂ間の距離（第１基板Ｂ１と第２基板Ｂ２との間の間隔）をｙ（ｍｍ）とし、その他を上記図９の（イ）の場合と同様にすると、ｙ＝Ｌ／５＋ｖｔ（ただし、可動ローラ架台３１に設けられる単位ローラの数は５本）、という関係が成立する。そして、タクトＴ２は、
Ｔ２＝（ｙ＋ｓ）／ｖ＝（Ｌ／５＋ｖｔ＋ｓ）／ｖ…（２）
になる。
【００７１】
従って、両者のタクトの差は、
Ｔ１−Ｔ２＝（Ｌ＋ｖｔ＋ｓ）／ｖ−（Ｌ／５＋ｖｔ＋ｓ）／ｖ＝４Ｌ／５ｖ、になり、各単位ローラＲ１〜Ｒ５を一斉に水平姿勢に姿勢変更する場合の方が、各単位ローラＲ１〜Ｒ５を順次水平姿勢に姿勢変更する場合よりも（４Ｌ／５ｖ）秒だけ多く時間がかかることが判る。
【００７２】
本実施形態では、上記Ｌ＝７５０（ｍｍ）、上記ｓ＝６５０（ｍｍ）、上記ｖ＝２５（ｍｍ／ｓｅｃ）、上記ｔ＝４（ｓｅｃ）に設定している。これらの値を上記（１）式に代入すると、
Ｔ１＝（７５０＋２５×４＋６５０）／２５＝６０秒
になる。すなわち、傾斜姿勢の各単位ローラＲ１〜Ｒ５を一斉に水平姿勢に姿勢変更して基板Ｂを移載する場合は、入口側移載装置３を通過するのに６０秒を要することになる。
【００７３】
これに対し、傾斜姿勢の各単位ローラＲ１〜Ｒ５のそれぞれを上流側から順次水平姿勢に姿勢変更して基板Ｂを移載する場合は、上記値を（２）式に代入することにより、
Ｔ２＝（７５０／５＋２５×４＋６５０）／２５＝３６秒
になる。
【００７４】
従って、各単位ローラＲ１〜Ｒ５を順次水平姿勢に姿勢変更する場合の方が、各単位ローラＲ１〜Ｒ５を一斉に水平姿勢に姿勢変更する場合より、２４秒も時間短縮することが可能になる。
【００７５】
本発明は、以上詳述したように、基板Ｂを傾斜姿勢で搬送しながら基板Ｂに所定の処理を施す処理装置本体１０の上流側と下流側とに入口側移載装置３と出口側移載装置３′とが設けられ、入口側移載装置３において、基板Ｂを載置して搬送する子シリンダ群Ｃが親シリンダＣ０の駆動によって水平姿勢と傾斜姿勢との間で一斉に姿勢変更されるとともに、各子シリンダＣ１〜Ｃ５によって各単位ローラＲ１〜Ｒ５が個別に姿勢変更可能に構成されているとともに、出口側移載装置３′においても上記と同様の姿勢変更操作が行われるため（ただし、傾斜姿勢の基板Ｂを水平姿勢に変更して送り出すようにしているところが操作上で入口側移載装置３と異なる）、各移載装置３，３′において上流側から搬送されてきた姿勢で基板Ｂを子シリンダ群Ｃ上に受け入れ、ついで親シリンダＣ０の駆動によってローラ群Ｒを一斉に下流側の搬送姿勢に合致するように姿勢変更し、その後、基板Ｂの後端が通過した子シリンダＣ１〜Ｃ５を順次上流側の基板Ｂの搬送姿勢に戻すことにより、基板Ｂが移載装置３，３′上に存在している状態で後続の基板Ｂを移載装置３，３′に受け入れることが可能になり、移載装置３，３′におけるタクトの短縮を図る上で極めて有効である。
【００７６】
本発明は、上記の実施形態に限定されるものではなく、以下の内容をも含むものである。
【００７７】
（１）上記の実施形態では、図４〜図９に基づいて、入口側移載装置３につき処理装置本体１０の上流側に設けられる入口側のものについて詳細に説明したが、処理装置本体１０の下流側にも同一構成の出口側移載装置３′が設けられる。ただし、この場合は、子シリンダ群Ｃは初期状態で傾斜姿勢に設定され、処理装置本体１０から基板Ｂが搬送されてくる毎にまず一斉に水平姿勢に変更され、ついで基板Ｂの進行に伴って上流側の子シリンダＣ１〜Ｃ５から順次１本ずつ傾斜姿勢に戻されるという、上記実施形態とは逆の動作が行われる。
【００７８】
（２）上記実施形態においては、姿勢変更手段として気体圧を利用した親シリンダＣ０が採用されているが、親シリンダＣ０に代えてリンク機構を利用した姿勢変更手段を適用してもよい。
【００７９】
（３）上記実施形態においては、姿勢復帰手段として気体圧を利用した複数の子シリンダＣ１〜Ｃ５を採用しているが、かかる子シリンダＣ１〜Ｃ５に代えてリンク機構を利用した姿勢復帰手段を適用してもよい。
【００８０】
（４）上記の実施形態においては、親シリンダＣ０および各子シリンダＣ１〜Ｃ５は可動ローラ架台３１の下部に設けられ、これらのピストンロッド４２，４５によって下から可動ローラ架台３１および各子シリンダＣ１〜Ｃ５を支持した構成にしているが、こうする代わりに、親シリンダおよび子シリンダを可動ローラ架台３１の上方に設けたフレームから吊設するようにし、それらのピストンロッドで可動ローラ架台３１および子シリンダＣ１〜Ｃ５を吊持するようにしてもよい。
【００８１】
（５）上記の実施形態においては、傾斜搬送路の下位側に可動ローラ架台３１を回動させるための支点を設け、この支点回りの正逆回動によって可動ローラ架台３１が姿勢変更するようにしているが、こうする代わりに傾斜搬送路の上位側に支点を設け、この支点回りの回動によって可動ローラ架台３１に姿勢変更を行わせるようにしてもよい。
【００８２】
（６）上記の実施形態においては、１本の子シリンダＣ１〜Ｃ５に対して１本の単位ローラＲ１〜Ｒ５が設けられているが、１本の子シリンダＣ１〜Ｃ５に対して複数本の単位ローラを設けるようにしてもよい。こうすることによって可動ローラ架台３１上のローラーＲ１〜Ｒ５本数を増加させることが可能になり、より安定した移載操作を行い得るようになる。
【００８３】
（７）上記の実施形態においては、第２駆動モータ３３ａの回転数によって単位ローラＲ１〜Ｒ５の基板Ｂの前進量を検出するようにしているが、こうする代わりに可動ローラ架台３１上の適所に前進量を検出する位置センサを設け、これによって基板Ｂの前進量を検出するようにしてもよい。
【００８４】
（８）上記の実施形態においては、姿勢変更手段として親シリンダＣ０が採用されているが、親シリンダＣ０を設ける代わりに、各子シリンダＣ１〜Ｃ５のみを設けるようにし、これら子シリンダＣ１〜Ｃ５への高圧気体を切り換え供給することにより、一斉に各子シリンダＣ１〜Ｃ５に姿勢変更させたり、あるいは個別に姿勢変更させるようにしてもよい。
【００８５】
（９）上記の実施形態においては、各単位ローラＲ１〜Ｒ５は、円筒状ローラ９２が適用されているが、これに代えて処理装置本体１０内で用いられているような部分支持型ローラ９３を採用してもよい。
【００８６】
（１０）上記の実施形態においては、移載装置３，３′には複数の単位ローラＲ１〜Ｒ５が並設されているが、これら単位ローラＲ１〜Ｒ５の代わりに、一対のローラ間にベルトを張設した単位移送手段を複数設けるようにしてもよい。
【００８７】
【発明の効果】
請求項１記載の発明によれば、姿勢変更手段は、単位移送手段の全体を第１の姿勢に設定した状態で基板を受け入れた後、単位移送手段の全体を第２の姿勢に変更し、姿勢復帰手段は、基板が通過した後の単位移送手段を第１の姿勢に個々に戻すようにしているため、基板を受け入れた各単位移送手段が第１の姿勢になっている状態で、姿勢変更手段の駆動によって各単位移送手段を第２の姿勢に変更することにより、各単位移送手段に支持された基板は一斉に第２の姿勢になり、これによって姿勢変更動作の不揃いがなくなり、不揃いの修正に時間をとられるような不都合が起こらず、作業効率を向上させる上で有効である。
【００８８】
また、基板が通過した後の単位移送手段を、姿勢復帰手段により第１の姿勢に順次戻すことによって、戻された単位移送手段は上流側搬送路からの基板を受け入れ得るようになるため、基板が単位移送手段から完全に下流側に導出される前に後続の基板を単位移送手段に導入することが可能になり、その分タクトの短縮が可能になる。
【００８９】
請求項２記載の発明によれば、姿勢復帰手段はシリンダ装置で形成され、各単位移送手段が上記姿勢変更手段によって第１の姿勢から第２の姿勢に姿勢変更されるときは、シリンダ装置のピストンロッドが遊動可能にしているため、姿勢変更手段によって各単位移送手段を第１の姿勢から第２の姿勢に姿勢変更させると、姿勢復帰手段としてのシリンダ装置のピストンロッドは、特に駆動されることなく上記姿勢変更に追随して移動することができる。そして、姿勢変更手段によってピストンロッドの移動の歩調が揃えられるため、各単位移送手段は第１の姿勢から第２の姿勢に一斉、かつ、確実に姿勢変更することができる。
【００９０】
請求項３および７記載の発明によれば、単位移送手段は、第２の姿勢から第１の姿勢に上流側から順次戻されるため、全ての単位移送手段が第１の姿勢に戻される前に、姿勢復帰手段によって第１の姿勢に戻った単位移送手段に基板を進入させることができ、タクトを短縮する上で有効である。
【００９１】
請求項４記載の発明によれば、検出手段によって基板の後端が上記各単位移送手段の各々を通過したことが検出されると、その都度、制御手段は通過された単位移送手段を第２の姿勢から第１の姿勢に戻すように制御するため、基板の後端が単位移送手段を通過する毎にその単位移送手段が姿勢復帰手段によって自動的に第１の姿勢に戻され、これによって基板は第１の姿勢に戻された単位移送手段に進入することが可能になり、その分姿勢変更装置でのタクト短縮を行うことができる。
【００９２】
請求項５記載の発明によれば、基板は上流側で水平姿勢で搬送され、下流側で傾斜姿勢で搬送されるようになっているため、上流側と下流側との間に姿勢変更装置を介在させ、上流側からの基板を姿勢変更装置に供給することにより、基板は傾斜姿勢に変換され、下流側に搬送することができるようになる。
【００９３】
請求項６記載の発明によれば、基板は上流側で傾斜姿勢で搬送され、下流側で水平姿勢で搬送されるようになっているため、上流側と下流側との間に姿勢変更装置を介在させ、上流側からの基板を姿勢変更装置に供給することにより、基板は水平姿勢に変換され、下流側に搬送することができるようになる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に係る基板姿勢変更装置が適用される基板処理装置の一実施形態を示す概略構成図である。
【図２】基板処理装置に適用される入口側移載装置の一実施形態を示す斜視図であり、基板移載部の搬送面が水平姿勢に設定された状態を示している。
【図３】基板処理装置に適用される入口側移載装置の一実施形態を示す斜視図であり、基板移載部の搬送面が親シリンダのピストンロッドの上昇によって傾斜姿勢に設定された状態を示している。
【図４】基板処理装置に適用される入口側移載装置の一実施形態を示す斜視図であり、基板移載部の搬送面が各子シリンダのピストンロッドの上昇によって傾斜姿勢に設定された状態を示している。
【図５】基板処理装置に適用される入口側移載装置の一実施形態を示す斜視図であり、図４に示す状態において第１子シリンダのピストンロッドのみが下降した状態を示している。
【図６】単位ローラのローラ軸の基端側支持構造の一実施形態を示す断面図である。
【図７】基板導入部の制御系統の一実施形態を示すブロック図である。
【図８】制御手段による移載制御の一実施形態を示すフローチャートである。
【図９】基板移載部における基板Ｂの１枚当りの搬送時間（タクト）を説明するための説明図であり、（イ）は傾斜姿勢の各単位ローラが一斉に水平姿勢に姿勢変更する場合、（ロ）は傾斜姿勢の各単位ローラを順次水平姿勢に姿勢変更する場合をそれぞれ示している。
【符号の説明】
１  基板処理装置
２  基板受入れ装置
２′  基板払出し装置
３  入口側移載装置（基板姿勢変更装置）
３′  出口側移載装置（基板姿勢変更装置）
３１  可動ローラ架台
３１ａ  ローラ支持板
３１ｂ  接合板
３１ｃ  軸受溝
３２  支持枠
３２ａ  側板
３２ｂ  突出板
３３  ローラ駆動機構
３３ａ  第２駆動モータ
３３ｂ  駆動プーリ
３３ｃ  ローラ用プーリ
３３ｄ  補助プーリ
３３ｅ  タイミングベルト
３４  水平軸
３５  軸受
４  ローラ傾動手段
Ｃ０  親シリンダ（姿勢変更手段）
４  下部ブラケット
４２  ピストンロッド
４３  上部ブラケット
５  制御手段
５１  基板センサ
５２  回転数センサ
５３  ロッド位置センサ
５４１〜５４５  第１〜第５ロッドセンサ
Ｃ１〜Ｃ５  子シリンダ（姿勢復帰手段）
４５  ピストンロッド
４５ａ  軸受
９  搬送ローラ
９１  ローラ軸
Ｒ１〜Ｒ５  単位ローラ（単位移送手段）
【図１】
0003597627.tif 000002
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
0003597627.tif 000007
【図７】
0003597627.tif 000008
【図８】
0003597627.tif 000009
【図９】
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