(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
塗布液が付着可能な被塗布体を回転させ、遠心力で上記塗布液を上記被塗布体上に広げることによって上記被塗布体の表面に塗膜を形成する回転塗布装置において、前記被塗布体の表面で前記塗膜の形成される面に向けて気流を送り込む給気手段と、この給気手段の位置を基準にして前記被塗布体より後流側に設けられ、上記給気手段によって送り込まれた気流を排気する排気手段と、内径が前記被塗布体の直径より小さく形成され、外形が上記被塗布体の直径以上に形成されて、前記被塗布体の前記塗膜の形成される面に同軸に対向配置された環状体と、前記給気手段によって送り込まれた気流の全量を前記被塗布体と前記環状体との間に形成された流路を通して前記排気手段側に導く気流案内手段と、前記環状体の外側を通り前記排気手段側に導かれるように不活性ガスを流し、前記気流案内手段によって前記排気手段側に導かれる気流の周りにパージガスの層を形成するパージガス流形成手段とを具備してなることを特徴とする回転塗布装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、例えば半導体ウエハの表面にレジスト等を塗布するときに用いられる回転塗布装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
周知のように、半導体ウエハ等の被塗布体上に均一な厚さの塗膜を形成する方法として回転塗布法が広く採用されている。これは、塗布液の滴下された被塗布体を回転させ、遠心力で塗布液を被塗布体上の全面に広げるとともに塗布液中の溶媒を蒸発させて塗膜を形成する方法である。
【０００３】
図１４には上述した回転塗布法を実施する従来の回転塗布装置の概略構成が示されている。
同図において、１はウエハ等の被塗布体を示している。この被塗布体１は真空吸着式のチャック２の上に水平に保持される。チャック２は軸３を介してモータ４の回転軸に連結されている。チャック２の上方には被塗布体１の上面にレジスト等の塗布液５を滴下させるノズル６が配置されている。そして、これらの要素は塗布液５の飛散防止及び回収用のカバー７で覆われている。
【０００４】
このように構成された装置によって被塗布体１にレジスト等の塗膜を形成するには、まず被塗布体１をチャック２の上に固定し、モータ４を回転開始させる。そして、図１５に示すように、例えば被塗布体１を低速で回転させている状態でノズル６から塗布液５を被塗布体１の上面中央部に滴下させる。なお、ノズル６は、塗布前は被塗布体１上より退避した位置におかれる。続いて、被塗布体１の回転数を所定値まで上昇させ、この状態を一定時間保持する。
【０００５】
このように被塗布体１を回転させると、塗布液５が遠心力によって被塗布体上の全面に広がるとともに塗布液５の中の溶媒が蒸発して膜厚（液層の厚み）が減少する。この膜厚の減少は、塗布過程初期では遠心力による塗布液５の広がりが支配的であるが、溶媒の蒸発に伴う粘性の増大とともに塗布液５の流動性が低くなるにしたがって溶媒の蒸発が支配的となり、最終的に気液界面から溶媒が蒸発できなくなった時点で終了する。したがって、塗膜の厚さは、被塗布体１の回転数が高いほど、また塗布液５の粘性が低いほど薄くなる。
【０００６】
このようにして、被塗布体１の上に塗膜を形成するようにしている。なお、塗膜形成時に被塗布体１の上から飛び散る塗布液５はカバー７でトラップされる。しかしながら、上記のように構成された従来の回転塗布装置にあっては次のような問題があった。
【０００７】
すなわち、最近では、塗膜のより一層の薄膜化及び被塗布体１の大型化が求められている。このより一層の薄膜化を実現するには被塗布体１の回転数を増加させる必要があるが、従来の回転塗布装置では、被塗布体１の回転数を高くすると、被塗布体１の上面外周域に気流の乱れが起こり易く、この影響で被塗布体１の上面外周域に塗膜厚ムラが発生するという問題があった。
【０００８】
例えば、図１６に示すように、直径がある値の被塗布体１を例にとる。この被塗布体１を取り囲んでいる雰囲気ガスは通常、粘性を有している。このため、被塗布体１が回転すると、この回転に伴って被塗布体１の上面に接している雰囲気ガスが遠心ポンプ作用で被塗布体１の周縁接線方向へと吐出される。上述した遠心ポンプ作用で被塗布体１の上面に沿って流れる気流は、被塗布体１の回転角速度がある速度ω１      以下のときには層流に近い状態で流れる。しかし、被塗布体１の回転角速度がω１      を越えてω２      まで上昇すると、図１７に示すように、被塗布体１の上面に沿って流れる気流８は、特に周速の大きい外周域９において乱流化する。このため、この乱れが原因して外周域に塗膜厚ムラ領域１０が発生する。  被塗布体１の回転角速度がω２      を越えてω３      まで上昇すると、被塗布体１の上面に沿って流れる気流８の乱れ領域が被塗布体１の中心寄りまで発達し、塗膜厚ムラ領域１０も被塗布体１の中心寄りへと拡大する。このため、使用可能な最高回転数が必然的に制限されることになる。
【０００９】
なお、上述した気流の乱れは、次式で示されるレイノルズ数Ｒｅによって決まり、レイノルズ数Ｒｅが大きくなると気流が乱れ始める。すなわち、Ｒｅ＝８６０００で層流から乱流への遷移がはじまり、Ｒｅ＝３２００００で完全に乱れる。ここで、レイノルズ数Ｒｅは、Ｒｅ＝ｒ２      ・ω／ν（ｒ：回転半径，ω：回転角速度，ν：雰囲気気体の動粘度）で表される。
【００１０】
レイノルズ数Ｒｅの式から明らかなように、気流の乱れの発生は被塗布体１の大きさ（回転半径）にも依存しており、被塗布体１の径が大きくなると、径の小さなものと同じ回転数でもその外周域に気流の乱れが発生する。すなわち、被塗布体１の径が大きくなると、その使用可能最高回転数は益々低くなることになる。実際、例えば半導体ウエハにおいては、ウエハ径が６インチから８インチになったことにより、乱流を起こさない最高回転数が半分程度に低下している。
【００１１】
このように、従来の回転塗布装置にあっては、使用可能な最高回転数の制限により、被塗布体の大型化に対して所定の厚みの塗膜が得られないという問題があった。なお、塗布液５の低粘度化で塗膜の薄膜化を図ることも考えられるが、塗布液本来の機能を満足させるためには、その粘度調整にも限界がある。
【００１２】
【発明が解決しようとする課題】
上述の如く、従来の回転塗布装置では、気流の乱れによる塗膜厚ムラの発生する回転数（速度）の制限により、大型の被塗布体や塗膜のより一層の薄膜化が要求される被塗布体に対しては対応できないという問題があった。
【００１３】
そこで本発明は、気流の乱れによる塗膜厚ムラの発生する回転数（速度）を大幅に向上させることができ、もって大型の被塗布体の塗膜のより一層の薄膜化が要求される被塗布体に対しても十分に対応できる回転塗布装置を提供することを目的としている。
【００１４】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために本発明では、塗布液が付着可能な被塗布体を回転させ、遠心力で上記塗布液を上記被塗布体上に広げることによって上記被塗布体の表面に塗膜を形成する回転塗布装置において、前記被塗布体の表面で前記塗膜の形成される面に向けて気流を送り込む給気手段と、この給気手段の位置を基準にして前記被塗布体より後流側に設けられ、上記給気手段によって送り込まれた気流を排気する排気手段と、内径が前記被塗布体の直径より小さく形成され、外形が上記被塗布体の直径以上に形成されて、前記被塗布体の前記塗膜の形成される面に同軸に対向配置された環状体と、前記給気手段によって送り込まれた気流の全量を前記被塗布体と前記環状体との間に形成された流路を通して前記排気手段側に導く気流案内手段と、前記環状体の外側を通り前記排気手段側に導かれるように不活性ガスを流し、前記気流案内手段によって前記排気手段側に導かれる気流の周りにパージガスの層を形成するパージガス流形成手段とを具備してなることを特徴とする。
【００１８】
なお、前記給気手段は、前記被塗布体の回転による遠心ポンプ作用によって前記被塗布体の外周側に流出する気体流量より多い流量の気体を前記被塗布体に向けて送り込むことが好ましい。
【００２１】
本発明では、被塗布体の表面で塗膜の形成される面に対向させて環状体を配置するとともに被塗布体の表面で塗膜の形成される面に向けて気流を送り込む給気手段およびこれを排気する排気手段を設け、さらに給気手段によって送り込まれた気流の全量を被塗布体と環状体との間に形成された流路を通して排気手段側に導く気流案内手段を設けているので、被塗布体と環状体との間を流れる気流の量を一定に保持できる。この結果、塗膜形成範囲で乱流が発生しない被塗布体と環状体との間の間隔を見つけ出すことが容易で、最良の間隔に設定することができる。
【００２２】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照しながら発明の実施形態を説明する。
図１には本発明の第１の実施形態に係る回転塗布装置の概略構成が示されている。なお、この図では図１４と同一機能部分が同一符号で示されている。したがって、重複する部分の詳しい説明は省略する。
【００２３】
この例に係る回転塗布装置が従来の装置と異なる点は、カバー７の上方位置、つまり被塗布体１の上方位置に給気口２１を設け、この吸気口２１を温度及び湿度の調整可能なポンプを含む給気装置２２に接続し、さらにカバー７の低壁周縁部に排気口２３を周方向に等間隔に複数設け、これら排気口２３をポンプを含む排気装置２４に接続して被塗布体１に沿って上方から下方に向かう気流を強制的に形成する気体給排気手段を設けていることにある。なお、カバー７は上下方向の途中位置において、上側と下側とに選択的に分割分離できる構成となっている。
【００２４】
ここで、給気装置２２及び排気装置２４としては、これらを動作させていないときに、被塗布体１の回転による遠心ポンプ作用で被塗布体１の表面に沿って吐出される気体流量より多い流量の気体を給排気する能力を備えたものが用いられている。
【００２５】
次に、上記のように構成された回転塗布装置の使用例を説明する。
まず、カバー７を上下方向に分割分離した状態で被塗布体１をチャック２上に固定し、カバー７を再び結合させた状態でモータ４を回転開始させる。次に、被塗布体１を低速で回転させている状態でノズル６から塗布液５を被塗布体１の上面中央部に所定量滴下させる。続いて、給気装置２２及び排気装置２４を動作開始させ、さらに被塗布体１の回転数を所定値まで上昇させ、この状態を一定時間保持する。なお、被塗布体１の回転数を所定値まで上昇させた後に塗布液５を滴下することもできる。給気装置２２及び排気装置２４を動作させる工程以外は従来の装置を用いたときと同じである。
【００２６】
上記のように排気装置２４を動作させると、給気口２１から排気口２３に向かう気流の流れが形成され、被塗布体１の上面に、図２に示すように、被塗布体１の回転に伴う吐出流量より多い量で被塗布体１の上方から下方に向かう強制気流２５が形成される。
【００２７】
この強制気流２５は、被塗布体１の回転に伴って被塗布体１の上面に気流の乱れが生じようとしたとき、つまり気流の舞い上がりが生じようとしたときに、これを押さえ込むように機能する。このため、排気装置２４を動作させて強制気流２５を形成しない場合に比べて乱流の発生する回転数を上昇させることができる。したがって、従来装置より塗膜の薄膜化を図れ、同時に塗膜厚ムラの発生を抑制することができる。
【００２８】
なお、被塗布体１の回転に伴う吐出流量Ｑは一般に次式で与えられる。
Ｑ＝０．８８５πｒ２  （νω）０．５                    …（１）
（１）  式において、ｒは回転半径、νは雰囲気気体の動粘度、ωは回転角速度である。
【００２９】
被塗布体１の上に供給する強制気流２５の流量は、排気口２３からの排気流量で制御することができる。すなわち、目的とする供給流量に対して、被塗布体１の表面積に対する被塗布体１と同一平面でのカバー７の開口面積の比分の排気流量となるように雰囲気気体を供給すればよい。今、被塗布体１の半径をｒ１  、カバー７の開口部の半径をｒ２  とすると、（ｒ２ ２  ／ｒ１ ２  ）Ｑの排気流量とすれば、被塗布体１に対して回転に伴う吐出流量Ｑを与えたことになる。
【００３０】
強制気流の流量、つまり供給流量と乱流発生回転数との間には図３の実験結果に示すように、供給流量を増加させるほど乱流発生回転数が高くなる関係がある。なお、図３において、ωは静止流体中での乱流発生回転数で、Ｑはそのときの吐出流量である。したがって、被塗布体１の直径、塗布液５の粘度、要求される塗膜厚等に応じて回転数を決定し、この回転数では乱流を発生させない供給流量を選択すればよいことになる。
【００３１】
このように、この例に係る回転塗布装置では、被塗布体１の上部に図２に示すような気流２５を強制的に形成するようにしているので、この強制気流２５で被塗布体１の回転に伴い被塗布体１の上部外周に発生する気流の乱れを抑制でき、被塗布体１の外周部の塗膜厚ムラの発生を抑えることが可能となる。
【００３２】
図４には本発明の第２の実施形態に係る回転塗布装置の概略構成が示されている。この図においても、図１４と同一機能部分が同一符号で示してある。したがって、重複する部分の詳しい説明は省略する。
【００３３】
この例に係る回転塗布装置では、被塗布体１の上方に、該被塗布体１の最外周域を含むように、被塗布体１の上面に対向させて環状体３１を設けている。
すなわち、環状体３１は、内径が被塗布体１の直径より小さく、外径が被塗布体１の直径以上に形成され、被塗布体１との間隔が周方向で一定となるように被塗布体１と同軸的に図示しない支持機構を介して設置されている。したがって、環状態３１の中央部は雰囲気気体の導入が可能なように開口している。
【００３４】
この回転塗布装置においても塗膜の形成工程は先の例と同様である。
このように、被塗布体１の上方に前記関係に環状体３１を配置しておくと、被塗布体１の回転に伴なって被塗布体１の上部外周に発生する気流に乱れが生じようとしても、この乱れが環状体３１によって抑制される。
【００３５】
すなわち、図５に示すように、被塗布体１の上面に沿う一様な気流３２が渦となって舞い上がり、乱れようとしても、被塗布体１の上方に配置された環状体３１とその下を通る気流によって押さえ込まれ、結局、乱流の発生が抑制される。したがって、被塗布体１の回転数を上げて塗膜の薄膜化を図れると同時に被塗布体１の外周部に塗膜厚ムラが発生するのを抑制することが可能となる。
【００３６】
なお、環状体３１による乱流抑制効果は、被塗布体１との間の距離Ｌ、つまり被塗布体１との隙間によって大きく左右される。図６には被塗布体１との間の距離Ｌと乱流発生回転数との関係を調べた実験結果が示されている。この図において、ωは環状体３１を設けていないときの乱流回転数を示している。
【００３７】
この図６から判るように、被塗布体１との間の距離Ｌが短い程、乱流抑制効果が大きい。なお、環状体３１は、要求される回転数に対して、少なくとも被塗布体１上の気流が層流から乱流に遷移し始める位置（レイノルズ数Ｒｅ＝８６０００で定まる半径）から最外周までを覆っていなければならない。したがって、環状体３１の外径は被塗布体１の外径によって決まり、また環状体３１の内径は図７に示すように被塗布体１の回転数によって決まる。なお、図７は１気圧、２５℃の空気中として求めた計算結果である。すなわち、環状体３１の内径は被塗布体１の回転数が高い程、小さくする必要がある。
【００３８】
そして、上記条件を満していれば、環状体３１の形状は、図４に示すような被塗布体１に平行な平板である必要はなく、図８（ａ）  に示すように被塗布体１の中心部に近づくにしたがって被塗布体１との間の距離Ｌが徐々に大きくなる形状の環状体３１ａを用いてもよいし、図８（ｂ）  に示すように被塗布体１の中心部に近づく途中位置から被塗布体１との間の距離Ｌが徐々に大きくなる形状の環状体３１ｂを用いてもよい。
【００３９】
図８に示すような環状体３１ａ（３１ｂ）を用いた場合には、被塗布体１上に雰囲気ガスを導入し易く、また雰囲気ガス流速が被塗布体１の外周に向かって徐々に増加していくため、被塗布体１上での雰囲気ガスの不連続性が生じ難い利点がある。
【００４０】
なお、環状体を構成する材料は、密な板である必要はなく、細かい穴の開いたものでもよい。さらに、環状体の最外周は円形である必要はなく、多角形でもよい。
【００４１】
図９には本発明の第３の実施形態に係る回転塗布装置の概略構成が示されている。この図においては、図１と同一機能部分が同一符号で示してある。したがって、重複する部分の詳しい説明は省略する。
【００４２】
この例に係る回転塗布装置では、図４に示した装置と同様に、被塗布体１の上面に対向させて環状体３１を配置している。但し、この例では、環状体３１の外周縁部を外方に延出させ、この延出部３３の外周部をカバ−７に気密に固定した構造を採用している。このような構造を採用することによって、延出部３３に気流案内機能を持たせ、給気装置２２から送り出された気流の全量を環状体３１と被塗布体１との間に形成された流路を通して下流側に流すようにしている。なお、この例においては、カバー７の周壁で延出部３３が固着されている部分と排気口２３が設けられている部分との間の位置にカバー７を上下方向に選択的に分割分離する図示しない分離機構が設けてあり、被塗布体１をチャック２に固定するときには、この分離機構を使って固定作業が行われる。
【００４３】
ここで、給気装置２２と排気装置２４とは、これらを動作させていないときに被塗布体１の回転による遠心ポンプ作用で被塗布体１の表面に沿って排出される気体流量より多い流量の気体を供給、排気する能力を備えたものが用いられている。
【００４４】
次に、上記のように構成された回転塗布装置の使用例を説明する。
まず、前述した分離機構を使ってカバー７を上下方向に分離し、この状態で被塗布体１をチャック２上に固定し、カバー７を再び結合される。次に、モータ４を回転開始させ、被塗布体１を低速で回転させている状態でノズル６から塗布液５を被塗布体１の上面中央部に所定量滴下させる。続いて、給気装置２２及び排気装置２４を動作開始させ、さらに被塗布体１の回転数を所定値まで上昇させ、この状態を一定時間保持して塗膜を形成させる。なお、被塗布体１の回転数を所定値まで上昇させた後に塗布液５を滴下することもできる。
【００４５】
上記のように給気装置２２及び排気装置２４を動作させると、図１０に示すように、被塗布体１の回転に伴う吐出流量より多い量で給気口２１から排気口２３に向かう強制気流３４の流れが形成され、この強制気流３４の全量が被塗布体１と環状体３１との間に形成された流路を通して流れる。
【００４６】
このように、強制気流３４の全量を被塗布体１と環状体３１との間に形成された流路に流すことには次のような意味がある。すなわち、先に説明したように、被塗布体１の塗膜形成面に沿って流れる気流の乱れを抑制するには、被塗布体１に対向させて環状体３１を配置することが有効である。
【００４７】
この方法によれば、環状体３１の位置が被塗布体１に近ければ気流の乱れを抑制する効果も大きい。しかし、その反面、塗膜の半径方向厚み分布に対して今度は環状体３１の影響が現れる。すなわち、半径方向に塗膜の厚み分布を見た場合、環状体３１の挿入位置（環状体３１の内縁部位置）で急激に塗膜の厚みが変化する。これを避けるためには、環状体３１と被塗布体１との間の距離Ｌを大きくすればよいが、このようにすると今度は、気流の乱れが生じやすくなってしまう。つまり、環状体３１の設置位置については、二律背反の面があり、設置位置の設定については、実際に塗布膜を形成しながら実験的に決定せざるを得ない。
【００４８】
こうした装置では、装置の利用効率を図るために１つの装置で異なる条件下、例えば同じレジストで異なる膜厚みの塗布膜を形成する必要があったり、また異なるレジストで同じ膜厚みの塗布膜を形成する必要があったりするので、多くの時間をかけて環状体の位置を決定する方法では、時間的制約やノウハウの蓄積が必要などの難点も多い。したがって、環状体３１の最適位置を如何にして短時間に見出すかが問題となる
もしも、図１１に示すように、環状体３１より外側に給気口２１から排気口２３に向かう通路３５が存在しているような場合には、給気装置２２から供給された気流が装置内部で被塗布体１の表面に沿って流れる気流Ａと環状体３１より外側を流れる気流Ｂとの２つの流れが生じることになる。半径方向の膜厚分布に影響する気流、すなわち被塗布体１の表面に沿って流れる気流Ａの量は、環状体３１と被塗布体１との間の距離Ｌを狭めれば流体抵抗が増加して減少し、広げれば流体抵抗が小さくなって増加する。したがって、膜厚分布に影響を与える被塗布体１と環状体３１との間の距離Ｌを変化させると、膜厚ムラに影響を与える被塗布体１の表面に沿って流れる気流Ａの量も同時に変化してしまうことになり、調整がきわめて難しい。
【００４９】
しかし、図９（図１０）に示す例のように、強制気流３４の全量を被塗布体１と環状体３１との間に形成された流路に流す構造であると、環状体３１と被塗布体１との間の距離Ｌを変化させても膜厚ムラに影響を与える被塗布体１の表面に沿って流れる気流の量を一定に保持できるので、均一な膜厚が得られる距離Ｌを容易に設定することができる。
【００５０】
すなわち、このように構成された回転塗布装置において、被塗布体１に形成された塗膜の均一性を確保するためには、実際に使用する回転数や雰囲気、温度、湿度、塗布液を用いて実際に塗布を行い膜厚みを測定して均一性を確認する必要がある。もし、所定の均一性が得られていなければ、環状版３１と被塗布体１との間の距離Ｌを調整して所定の均一性を得るようにすればよく、上記構成であると距離Ｌの設定を容易化できる。
【００５１】
図１２には本発明の第４の実施形態に係る回転塗布装置の概略構成が示されている。この図においては、図９と同一機能部分が同一符号で示されている。したがって、重複する部分の詳しい説明は省略する。
【００５２】
この回転塗布装置では、給気装置２２の吹出口から被塗布体１の上面側に向けて環状体３１の内径とほぼ等しい内径のダクト３６を被塗布体１と同軸的に配置し、このダクト３６の下端縁に環状体３１を固着している。ダクト３６は図示しない支持機構によって図中上下方向に移動可能に設けられている。
【００５３】
したがって、この例においても、給気装置２２から供給された気流の全量が環状体３１と被塗布体１との間に形成された流路を通って排気口２３側へと流れることになり、先の例と同様に均一な膜厚が得られる距離Ｌを容易に設定することができる。
【００５４】
図１３には本発明の第５の実施形態に係る回転塗布装置の概略構成が示されている。この図においては、図１２と同一機能部分が同一符号で示してある。したがって、重複する部分の詳しい説明は省略する。
【００５５】
この回転塗布装置では、図１２の例とは違ってカバー７を密閉構造とし、カバー７の上壁に周方向に等間隔にガス導入口３７を設け、不活性ガス供給源３８からガス導入口３７を介してカバー７内に不活性ガスを供給する構造となっている。この例においても、カバー７は上下方向の途中位置において、上側と下側とに選択的に分割分離できる構成となっている。
【００５６】
通常、こうした装置は一般雰囲気下（空気中）で運転されることが多いが、一部の特殊な塗布液は湿度を嫌う性質のものがあるため、この例では不活性ガスを通流させて外気を遮断できる構造となっている。
【００５７】
なお、環状体の形状は、円形に限らず多角形でもよいし、その厚みは回転中心に対して対称であれば一定でなくてもよい。また、ここで説明した回転塗布装置は、半導体ウエハに限らず、各種被塗布体への塗膜形成に使用できる。
【００５８】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、気流の乱れによる塗膜厚ムラの発生する回転数（速度）を大幅に上昇させることができるので、大型の被塗布体や塗膜の薄膜化が要求される被塗布体に対しても十分に対応することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１の実施形態に係る回転塗布装置の概略構成図
【図２】同装置における強制気流の通流形態を説明するための図
【図３】同装置において強制気流供給量と乱流発生回転数との関係を示す図
【図４】本発明の第２の実施形態に係る回転塗布装置の概略構成図
【図５】同装置における吐出気流の通流形態を説明するための図
【図６】同装置において被塗布体ー環状体間距離と乱流発生回転数との関係を示す図
【図７】同装置において被塗布体の回転数と環状体の必要内径との関係を示す図
【図８】環状体の変形例を説明するための図
【図９】本発明の第３の実施形態に係る回転塗布装置の概略構成図
【図１０】同装置における強制気流の流れ形態を説明するための図
【図１１】参考例における強制気流の流れ形態を説明するための図
【図１２】本発明の第４の実施形態に係る回転塗布装置の概略構成図
【図１３】本発明の第５の実施形態に係る回転塗布装置の概略構成図
【図１４】従来の回転塗布装置の概略構成図
【図１５】同装置の運転形態の一例を説明するための図
【図１６】同装置の問題点を説明するための図
【図１７】同装置の問題点を説明するための図
【符号の説明】
１…被塗布体
２…チャック
３…軸
４…モータ
５…塗布液
６…ノズル
７、７ａ…カバー
２１…給気口
２２…空気装置
２３…排気口
２４…排気装置
２５、３４…強制気流
３１，３１ａ，３１ｂ…環状体
３２…気流
３３…気流案内手段としての延出部
３６…ダクト
３７…ガス導入口
３８…不活性ガス供給源
【図１】
0003563610.tif 000002
【図２】
0003563610.tif 000003
【図３】
0003563610.tif 000004
【図４】
0003563610.tif 000005
【図５】
0003563610.tif 000006
【図６】
0003563610.tif 000007
【図７】
0003563610.tif 000008
【図８】
0003563610.tif 000009
【図９】
0003563610.tif 000010
【図１０】
0003563610.tif 000011
【図１１】
0003563610.tif 000012
【図１２】
0003563610.tif 000013
【図１３】
0003563610.tif 000014
【図１４】
0003563610.tif 000015
【図１５】
0003563610.tif 000016
【図１６】
0003563610.tif 000017
【図１７】
0003563610.tif 000018