(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
一般式（II）
【化1】
0003596262.tif 000011
（式中、Ｒ１は、Ｃ１〜Ｃ１０のアルキル基、Ｃ３〜Ｃ１０のシクロアルキル基、Ｃ７〜Ｃ１０のアラルキル基を示す）で表される２，３，４−トリフルオロ−５−ヨード安息香酸エステル類と、
一般式（III）
【化２】
0003596262.tif 000012
（式中、Ｒ１は前記と同じ）で表されるフルオロスルホニルジフルオロ酢酸エステル類とを、銅触媒の存在下、有機溶媒中で、反応させることを特徴とする一般式（Ｉ’）
【化３】
0003596262.tif 000013
（式中、Ｒ１は前記と同じ）で表される２，３，４−トリフルオロ−５−トリフルオロメチル安息香酸エステル類の製造方法。
【請求項２】
有機溶媒が、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドである請求項１に記載の製造方法。
【請求項３】
銅触媒がヨウ化第一銅である請求項１に記載の製造方法。
【請求項４】
２，３，４−トリフルオロ−５−ヨード安息香酸エステル類が、２，３，４−トリフルオロ−５−ヨード安息香酸の炭素数１〜４のアルキルエステルである請求項１に記載の製造方法。
【請求項５】
フルオロスルホニルジフルオロ酢酸エステルがフルオロスルホニルジフルオロ酢酸の炭素数１〜４のアールキルエステルである請求項１に記載の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、２，３，４−トリフルオロ−５−トリフルオロメチル安息香酸、そのエステル、その新規な製法に関する。
前述の２，３，４−トリフルオロ−５−トリフルオロメチル安息香酸、及びそのエステル類は、例えば医薬、特に抗菌剤、抗ウィルス剤として有用なキノロンカルボン酸系化合物を合成する際の出発物質として有用である。
【０００２】
【従来の技術】
２，３，４−トリフルオロ−５−トリフルオロメチル安息香酸およびそのエステルは、文献未記載の化合物である。
【発明が解決しようとする課題】
本発明者らは、新規なキノロンカルボン酸系化合物を合成する際の出発物質として、２，３，４−トリフルオロ−５−トリフルオロメチル安息香酸を製造する目的で、２，３，４−トリフルオロ−５−ヨ−ド安息香酸エステル類とフルオロスルホニルジフルオロ酢酸エステル類とを、銅触媒の存在下、有機溶媒中で、反応させた場合、収率よく目的とする新規な２，３，４−トリフルオロ−５−トリフルオロメチル安息香酸エステル類が得られることを見出して本発明を完成させた。
【０００３】
従って、本発明は、２，３，４−トリフルオロ−５−トリフルオロメチル安息香酸およびそのエステル類、および２，３，４−トリフルオロ−５−ヨ−ド安息香酸エステル類とフルオロスルホニルジフルオロ酢酸エステル類とを、銅触媒の存在下、有機溶媒中で、反応させて２，３，４−トリフルオロ−５−トリフルオロメチル安息香酸エステル類を製造する方法を提供することを目的とする。
【０００４】
【課題を解決するための手段】
本発明は、
（Ｉ）一般式（Ｉ）
【０００５】
【化４】
0003596262.tif 000002
【０００６】
（式中、Ｒは水素原子、Ｃ１  〜Ｃ１０のアルキル基、Ｃ３  〜Ｃ１０のシクロアルキル基、Ｃ７  〜Ｃ１０のアラルキル基を示す）で表される２，３，４−トリフルオロ−５−トリフルオロメチル安息香酸およびエステル類、および
（ＩＩ）  一般式（ＩＩ）
【０００７】
【化５】
0003596262.tif 000003
【０００８】
（式中、Ｒ１  はＣ１  〜Ｃ１０のアルキル基、Ｃ３  〜Ｃ１０のシクロアルキル基およびＣ７  〜Ｃ１０のアラルキル基を示す）で表される２，３，４−トリフルオロ−５−ヨ−ド安息香酸エステル類と、
一般式（ＩＩＩ）
【０００９】
【化６】
0003596262.tif 000004
【００１０】
（式中、Ｒは前記と同じ）で表されるフルオロスルホニルジフルオロ酢酸エステル類とを、銅触媒の存在下、有機溶媒中で、反応させることを特徴とする２，３，４−トリフルオロ−５−トリフルオロメチル安息香酸エステル類の製造方法に関する。
【００１１】
上記本発明の製法の好ましい様態は以下のとおりである。
（１）一般式（Ｉ）で表される化合物（以下化合物Ｉともいう）が２，３，４−トリフルオロ−５−トリフルオロメチル安息香酸エチル、２，３，４−トリフルオロ−５−トリフルオロメチル安息香酸である上記（Ｉ）記載の化合物。
（２）有機溶媒がジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドである上記（ＩＩ）記載の製造方法。
（３）銅触媒がヨウ化第一銅である上記（ＩＩ）記載の製造方法。
（４）２，３，４−トリフルオロ−５−ヨ−ド安息香酸エステル類のＲが、炭素数１〜４のアルキル基である上記（ＩＩ）記載の製造方法。
（５）フルオロスルホニルジフルオロ酢酸エステル類のＲ１  が、炭素数１〜４のアルキル基である上記（ＩＩ）記載の製造方法。
【００１２】
【発明の実施の形態】
本発明の製法は、例えば以下に示すような
反応式（１）
【００１３】
【化７】
0003596262.tif 000005
【００１４】
（式中、Ｒ１は前記と同じ意味を表す）で表すことができる。
本発明の化合物における一般式（Ｉ）で表される化合物（Ｉ）のＲは、水素原子、Ｃ１〜１０のアルキル基、Ｃ３〜Ｃ１０のシクロアルキル基、Ｃ７〜Ｃ１０のアラルキル基を示す。
【００１５】
化合物（Ｉ）のＲが示すＣ１  〜Ｃ１０のアルキル基としては、例えばメチル基、エチル基、プロピル基（各異性体を含む）、ブチル基（各異性体を含む）、ペンチル基（各異性体を含む）、ヘキシル基（各異性体を含む）、ヘプチル基（各異性体を含む）、オクチル基（各異性体を含む）、ノニル基（各異性体を含む）、デシル基（各異性体を含む）のような直鎖もしくは分枝状の炭素数１〜１０個のアルキル基を挙げることができ、好ましくは、メチル基、エチル基、プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−アミル基、ｉ−アミル基、ｓ−アミル基、ｔ−アミル基である。
【００１６】
化合物（Ｉ）のＲが示すＣ３  〜Ｃ１０のシクロアルキル基としては、例えばシクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロノニル基、シクロデシル基のようなＣ３  〜Ｃ１０のシクロアルキル基を挙げることができ、好ましくは、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基である。
【００１７】
化合物（Ｉ）のＲが示すＣ７  〜Ｃ１０のアラルキル基としては、例えば、ベンジル基、フェネチル基、３−フェニルプロピル基、４−フェニルブチル基のようなＣ７  〜Ｃ１０のアラルキル基を挙げることができ、好ましくは、ベンジル基である。
【００１８】
このようなＲは、好ましくは、水素原子、Ｃ１  〜Ｃ４  のアルキル基、Ｃ３  〜Ｃ６  のシクロアルキル基、ベンジル基であり、更に好ましくは、水素原子、エチル基である。
【００１９】
このようなＲを持つ一般式（Ｉ）で表される２，３，４−トリフルオロ−５−トリフルオロメチル安息香酸およびそのエステル類としては、好ましくは、２，３，４−トリフルオロ−５−トリフルオロメチル安息香酸、
２，３，４−トリフルオロ−５−トリフルオロメチル安息香酸メチル、
２，３，４−トリフルオロ−５−トリフルオロメチル安息香酸エチル、
２，３，４−トリフルオロ−５−トリフルオロメチル安息香酸ｎ−プロピル、
２，３，４−トリフルオロ−５−トリフルオロメチル安息香酸ｉ−プロピル、
２，３，４−トリフルオロ−５−トリフルオロメチル安息香酸ｎ−ブチル、
２，３，４−トリフルオロ−５−トリフルオロメチル安息香酸ｉ−ブチル、
２，３，４−トリフルオロ−５−トリフルオロメチル安息香酸ｓ−ブチル、
２，３，４−トリフルオロ−５−トリフルオロメチル安息香酸ｔ−ブチル、
２，３，４−トリフルオロ−５−トリフルオロメチル安息香酸ｎ−アミル、
２，３，４−トリフルオロ−５−トリフルオロメチル安息香酸ｉ−アミル、
２，３，４−トリフルオロ−５−トリフルオロメチル安息香酸ｓ−アミル、
２，３，４−トリフルオロ−５−トリフルオロメチル安息香酸ｔ−アミル、
２，３，４−トリフルオロ−５−トリフルオロメチル安息香酸シクロシクロプロピル、
２，３，４−トリフルオロ−５−トリフルオロメチル安息香酸シクロブチル、
２，３，４−トリフルオロ−５−トリフルオロメチル安息香酸シクロペンチル、２，３，４−トリフルオロ−５−トリフルオロメチル安息香酸シクロヘキシル、２，３，４−トリフルオロ−５−トリフルオロメチル安息香酸ベンジルであり、
【００２０】
２，３，４−トリフルオロ−５−トリフルオロメチル安息香酸、
２，３，４−トリフルオロ−５−トリフルオロメチル安息香酸エチル、
が更に好ましい。
【００２１】
本発明の製法において、使用する一般式（ＩＩ）で表される２，３，４−トリフルオロ−５−ヨ−ド安息香酸エステル類（以下化合物（ＩＩ）ともいう）のＲ１  は、Ｃ１  〜Ｃ１０のアルキル基、Ｃ３  〜Ｃ１０のシクロアルキル基、Ｃ７  〜Ｃ１０のアラルキル基を示す。
【００２２】
化合物（ＩＩ）のＲ１  が示すＣ１  〜Ｃ１０のアルキル基は、前記のＣ１  〜Ｃ１０のアルキル基と同じ意味を示す。
化合物（ＩＩ）のＲ１  が示すＣ３  〜Ｃ１０のシクロアルキル基は、前記のＣ３  〜Ｃ１０のシクロアルキル基と同じ意味を示す。
化合物（ＩＩ）のＲ１  が示すＣ７  〜Ｃ１０のアラルキル基は、前記のＣ７  〜Ｃ１０のアラルキル基と同じ意味を示す。
【００２３】
このようなＲ１  を持つ一般式（ＩＩ）で表される２，３，４−トリフルオロ−５−ヨ−ド安息香酸エステル類の具体例としては、２，３，４−トリフルオロ−５−ヨ−ド安息香酸メチル、
２，３，４−トリフルオロ−５−ヨ−ド安息香酸エチル、
２，３，４−トリフルオロ−５−ヨード安息香酸−ｎ−プロピル、
２，３，４−トリフルオロ−５−ヨ−ド安息香酸−ｉ−プロピル、
２，３，４−トリフルオロ−５−ヨ−ド安息香酸−ｎ−ブチル、
２，３，４−トリフルオロ−５−ヨ−ド安息香酸−ｉ−ブチル、
２，３，４−トリフルオロ−５−ヨ−ド安息香酸−ｓ−ブチル、
２，３，４−トリフルオロ−５−ヨ−ド安息香酸−ｔ−ブチル、
２，３，４−トリフルオロ−５−ヨ−ド安息香酸−ｎ−アミル、
２，３，４−トリフルオロ−５−ヨ−ド安息香酸−ｉ−アミル、
２，３，４−トリフルオロ−５−ヨ−ド安息香酸−ｓ−アミル、
２，３，４−トリフルオロ−５−ヨ−ド安息香酸−ｔ−アミル、
２，３，４−トリフルオロ−５−ヨ−ド安息香酸シクロプロピル、
２，３，４−トリフルオロ−５−ヨ−ド安息香酸シクロブチル、
２，３，４−トリフルオロ−５−ヨ−ド安息香酸シクロペンチル、
２，３，４−トリフルオロ−５−ヨ−ド安息香酸シクロヘキシル
２，３，４−トリフルオロ−５−ヨ−ド安息香酸ベンジルが好ましく、
２，３，４−トリフルオロ−５−ヨ−ド安息香酸エチルが更に好ましい。
【００２４】
本発明の製法において使用される一般式（ＩＩＩ）で表されるフルオロスルホニルジフルオロ酢酸エステル類〔以下化合物（ＩＩＩ）ともいう〕におけるＲ１  は、化合物（ＩＩ）のＲ１  と同じ意味を示す。
【００２５】
このような置換基を持つ一般式（ＩＩＩ）で表されるフルオロスルホニルジフルオロ酢酸エステル類の具体例としては、
フルオロスルホニルジフルオロ酢酸メチル、
フルオロスルホニルジフルオロ酢酸エチル、
フルオロスルホニルジフルオロ酢酸−ｎ−プロピル、
フルオロスルホニルジフルオロ酢酸−ｉ−プロピル、
フルオロスルホニルジフルオロ酢酸−ｎ−ブチル、
フルオロスルホニルジフルオロ酢酸−ｉ−ブチル、
フルオロスルホニルジフルオロ酢酸−ｓ−ブチル、
フルオロスルホニルジフルオロ酢酸−ｔ−ブチル、
フルオロスルホニルジフルオロ酢酸−ｎ−アミル、
フルオロスルホニルジフルオロ酢酸−ｉ−アミル、
フルオロスルホニルジフルオロ酢酸−ｓ−アミル、
フルオロスルホニルジフルオロ酢酸−ｔ−アミル、
フルオロスルホニルジフルオロ酢酸シクロプロピル、
フルオロスルホニルジフルオロ酢酸シクロブチル、
フルオロスルホニルジフルオロ酢酸シクロペンチル、
フルオロスルホニルジフルオロ酢酸シクロヘキシル、
フルオロスルホニルジフルオロ酢酸ベンジルが好ましい。
【００２６】
本発明の製法において使用される化合物（ＩＩＩ）の使用量は、化合物（ＩＩ）１モルに対して、化合物（ＩＩＩ）が１〜５モルの範囲、好ましくは１〜３モルの範囲、更に好ましくは１．５〜３．０モルの範囲である。
【００２７】
本発明の製法において使用される有機溶媒としては、反応に関与しないものであればとくに限定されないが、非プロトン性極性溶媒が好ましく、更にジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン、Ｎ，Ｎ’−ジメチルイダゾリドン等のアミド系溶媒、アセトニトリル、ベンゾニトリル等のニトリル系溶媒が好ましく、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドが特に好ましい。
【００２８】
本発明の製法において使用される溶媒の使用量は、通常化合物（ＩＩ）の重量濃度が１〜５０％になる範囲で使用可能であり、好ましくは３〜２０％の範囲になる量である。
【００２９】
本発明の製法において使用される銅触媒としては，例えば１価のハロゲン化銅を挙げることができ、塩化第一銅、臭化第一銅、ヨウ化第一銅が好ましく、ヨウ化第一銅が更に好ましい。
本発明の製法において使用される銅触媒のモル比率は、化合物（ＩＩ）１モルに対して０．１〜２００モル％の範囲で使用でき、好ましくは０．５〜５０モル％の範囲であり、更に好ましくは１〜１０モル％の範囲である。
【００３０】
本発明の製法における反応温度は、０〜２００℃の範囲で実施でき、好ましくは室温〜１００℃の範囲である。
本発明の製法における反応時間は、反応温度にも大きく依存するが、０．５〜２０時間の範囲である。
本発明の製法における反応圧力は通常常圧で行われるが、減圧下、加圧下でも反応を行うことができる。
【００３１】
反応は特に水分の混入に注意して実施する以外通常の有機反応と同様の手順で実施される。反応混合物からの生成物の単離は通常の反応と同様に後処理操作の後、カラム精製、蒸留等の方法で十分に純度の高い２，３，４−トリフルオロ−５−トリフルオロメチル安息香酸エステル類を得ることができる。
得られた２，３，４−トリフルオロ−５−トリフルオロメチル安息香酸エステル類は通常法で加水分解することにより、実施例２に示すように、収率良く２，３，４−トリフルオロ−５−トリフルオロメチル安息香酸への変換ができる。
【００３２】
【発明の効果】
本発明の化合物である２，３，４−トリフルオロ−５−トリフルオロメチル安息香酸およびそのエステル類は、医薬、特に抗菌剤、抗ウィルス剤として有用なキノロンカルボン酸系化合物を合成する際の出発物質として有用であり、２，３，４−トリフルオロ−５−ヨ−ド安息香酸エステル類と、フルオロスルホニルジフルオロ酢酸エステル類とを、銅触媒の存在下、有機溶媒中で、反応させることにより、収率よく目的化合物である２，３，４−トリフルオロ−５−トリフルオロメチル安息香酸エステル類を得ることができる。２，３，４−トリフルオロ−５−トリフルオロメチル安息香酸エステル類は、容易に２，３，４−トリフルオロ−５−トリフルオロメチル安息香酸への変換ができる。
【００３３】
【実施例】
実施例１
ヨウ化第一銅２２９ｍｇ（１．１８ｍｍｏｌ）とジメチルホルムアミド２６ｍｌとの混合物にフルオロスルホニルジフルオロ酢酸メチル６．８ｇ（３５．４ｍｍｏｌ）と２，３，４−トリフルオロ−５−ヨード安息香酸エチル３．９ｇ（１１．８ｍｍｏｌ）とを加え、９時間、８５−９４℃で加熱、撹拌して反応させた。
反応終了後、得られた反応混合物をヘキサン４０ミリリットルと飽和炭酸水素ナトリウム水溶液３０ミリリットルとの混合物に滴下した。ヘキサン層を分液し、水層をヘキサン２０ミリリットルで抽出し、合わせたヘキサン層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。乾燥済ヘキサン層を、濾過し、濃縮した後、濃縮物を減圧蒸留し，目的物の２，３，４−トリフルオロ−５−トリフルオロメチル安息香酸エチル２．８７ｇ（１０．５ｍｍｏｌ）を得た。
沸点：７７−７９℃／６ｍｍＨｇ．
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３  ，４００ＭＨｚ）
0003596262.tif 000006
【００３４】
実施例２
実施例１で得られた２，３，４−トリフルオロ−５−トリフルオロメチル安息香酸エチル２．５ｇ（９．２ｍｏｌ）、蟻酸７．４５ミリリットル、水１．５１ミリリットルと、ｐ−トルエンスルホン酸一水和物３．５ｇとの混合物を６時間環流撹拌して反応させた。この間反応系から２ミリリットルの溶媒を留去し、反応系への蟻酸２ミリリットルと水０．４ミリリットルとの混合液を追加した。
反応終了後、得られた反応混合物を冷却し、水１８ミリリットルと塩化メチレン１８ミリリットルとを加えた。塩化メチレン層を分液し、水層を更に塩化メチレン２０ミリリットルで２回抽出した。合わせた塩化メチレン層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過、濃縮後、濃縮残査２．１８ｇを得た。この濃縮残査にヘキサン２５ミリリットルを加えて加熱した。得られた均一溶液を０−５℃に冷却し結晶を析出させた。得られた結晶を濾過、ヘキサン洗浄、風乾して、２，３，４−トリフルオロ−５−トリフルオロメチル安息香酸１．４２ｇ、（５．８２ｍｏｌ）を得た。
融点：８２−８４℃．
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３  ，４００ＭＨｚ）
0003596262.tif 000007
【００３５】
参考例１
５−アミノ−２，３，４−トリフルオロ安息香酸３．３ｇ（１７．３ｍｍｏｌ）、５７％ヨウ化水素酸水溶液１１．１ｇ（５１．８ｍｍｏｌ）と水３．３ミリリットル、ヨウ化第一銅１．６４ｇ（８．６５ｍｍｏｌ）とを混合して混合液を得た。得られた混合液を、内温を１５〜３０℃に保つよう冷却しながら亜硝酸ナトリウム１．１９ｇ（１７．２ｍｍｏｌ）と水２．４ミリリットルとの水溶液を滴下した。滴下終了後３０分間撹拌して反応させた。
反応終了後、得られた反応混合液（１）に、５７％ヨウ化水素酸水溶液１１．１ｇ（５１．８ｍｍｏｌ）を追加した後、亜硝酸ナトリウム１．１９ｇ（１７．２ｍｍｏｌ）と水２．４ｍｌとの水溶液を滴下した。滴下終了後３０分間撹拌を続け反応させた。この操作を、合計３回行った．
反応終了後、得られた反応混合物（２）に、亜硫酸水素ナトリウム９ｇ（７１ｍｍｏｌ）を添加した後、６Ｎ−水酸化ナトリウム水溶液で反応混合物のｐＨを２．５にし、トルエン４０ミリリットルで抽出した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、濾過、濃縮乾固し、２，３，４−トリフルオロ−５−ヨード安息香酸の結晶４．４５ｇを得た。
融点：１６７−１７１℃
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３  ，４００ＭＨｚ）
0003596262.tif 000008
【００３６】
参考例２
参考例１で得られた２，３，４−トリフルオロ−５−ヨード安息香酸４．４５ｇ、エタノール１８ミリリットル、トルエン１８ミリリットルと濃硫酸１．７３ｇとの混合溶液を還流下８時間反応させた。反応中、エタノール３５ミリリットルを添加しながら、常圧下、３０ミリリットルの溶媒留去を行った。
反応終了後、得られた反応溶液を室温まで冷却した後、反応液を濃縮した。濃縮液にトルエン３０ミリリットルを加え、水２０ミリリットルで２回洗浄を行った。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、濾過、減圧濃縮を行い、濃縮物６．０２ｇを得た。濃縮物をシリカゲルカラムクロマトグラム（溶離液；ヘキサン：酢酸エチル＝２０：１）で精製し，２，３，４−トリフルオロ−５−ヨード安息香酸エチル３．９１ｇ（１１．８ｍｍｏｌ）を得た。
融点：３３−３４℃．
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３  ，４００ＭＨｚ）
0003596262.tif 000009
【００３７】
参考例３
２，３，４−トリフルオロ安息香酸１０．５６ｇ（６０ｍｍｏｌ）と硫酸１５．６ミリリットルとの混合液を氷冷し、発煙硝酸１１．４ミリリットルを５−３０℃で滴下し、同温度で、５時間撹拌反応させた。
反応終了後、得られた反応溶液を氷水４００ミリリットルに加えた後、酢酸エチル１５０ミリリットルで２回抽出を行った。合わせた有機層を水１００ミリリットルで洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、濾過、濃縮乾固した。得られた濃縮乾固物を、水５０ミリリットルに加え撹拌し、水洗した。沈殿を濾取した後、減圧乾燥し、２，３，４−トリフルオロ−５−ニトロ安息香酸１０．０ｇ（４５．２ｍｍｏｌ）を得た。
融点：１３４−１３５℃．
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ，４００ＭＨｚ）
δ（ｐｐｍ）＝８．６８（Ｈ，ｄｄｄ，Ａｒ−Ｈ）
【００３８】
参考例４
参考例３で得られた２，３，４−トリフルオロ−５−ニトロ安息香酸９．０ｇ（４０．７ｍｍｏｌ）、エタノール１００ミリリットルと２０％Ｐｄ／Ｃ（５０％含水品）１．０ｇとを窒素雰囲気下で加えて混合液を得た。得られた混合液に、室温下、水素ガスを通じて反応を行った。
反応終了後、得られた反応溶液を濾過後，濾液を濃縮乾固した。残渣をヘキサン−酢酸エチルで再結晶した。得られた結晶を濾過、減圧乾燥し、５−アミノ−２，３，４−トリフルオロ安息香酸７．０９ｇ（３７．１ｍｍｏｌ）を得た。
融点：１６４．５−１６６℃
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ，４００ＭＨｚ）
0003596262.tif 000010