(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
液晶装置において、
一方の基板と、
前記一方の基板の端部から張り出す張り出し部分を有する他方の基板と、
前記一方の基板及び前記他方の基板間に狭持されるシール部材と、
前記他方の基板の内面側に設けられ、前記シール部材の内側に位置する電極部分および前記シール部材の外側に位置する前記張り出し部分に延設される電極部分を有し、前記張り出し部分において信号入力部を有する電極と、
前記シール部材の内側に位置する電極部分上および前記シール部材の外側に位置する前記張り出し部分に延設される前記電極部分上に設けられ、且つ前記信号入力部上に設けられない配向膜と、を備えることを特徴とする液晶装置。
【請求項２】
請求項１に記載の液晶装置において、
前記他方の基板と前記電極との間に設けられる有機樹脂層を備え、
前記有機樹脂層は、前記シール部材の内側位置、前記シール部材の位置に対応する位置および前記シール部材の外側位置に設けられ、
前記有機樹脂層の端部は前記シール部材の外側に位置し、
前記端部と前記他方の基板とで段差が形成されてなり、
前記電極は前記段差をこえて前記他方の基板上まで連続して形成されてなり、
前記配向膜は前記電極の前記段差の位置に対応する部分上に設けられることを特徴とする液晶装置。
【請求項３】
請求項１に記載の液晶装置において、
前記他方の基板と前記電極との間に設けられる有機樹脂層を備え、
前記有機樹脂層は、前記シール部材の内側位置から前記信号入力部の位置に対応する位置まで連続して形成されてなることを特徴とする液晶装置。
【請求項４】
請求項１に記載の液晶装置において、
前記他方の基板と前記電極との間に設けられる有機樹脂層を備え、
前記有機樹脂層は、前記シール部材の内側位置から前記他方の基板の端部まで同一の層で形成されてなることを特徴とする液晶装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、電気光学装置に関する。詳しくはカラーフィルター層を有する電気光学装置の構造に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来、カラーフィルター上に透明電極を形成する方法として特開昭６１−２３３７２００号公報、特開昭６１−２６０２４号公報や特開昭６１−１９８１３１号公報又は特開昭６２−１５３８２６号公報の様にカラーフィルター及び、保護層等の形状、材質について種々提案されている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら前述の従来技術では、細密パターンに対応し、形成を容易にする為カラーフィルター及び保護層が有機樹脂で形成されており、実際にカラーフィルター上に直接又は、前述の従来技術で提案されているように保護層を介して透明電極を形成する場合、有機樹脂の耐熱性が低くせいぜい２２０〜２３０℃の為、成膜時に温度が上げられず透明電極の膜質が弱く、例えば表面硬度が低く物理的強度が無い、水等の電界質が存在している環境下で電界をかけると電蝕反応が起こり化学的強度が無い等の問題を有していた。この問題は電気光学装置の信頼性が低いという大きな問題ともなっている。そこで、カラーフィルター自体の耐熱性向上の為、従来染色法により形成されていたカラーフィルターを顔料にする事が行われているが保持する樹脂自体の耐熱性に問題が有り飛躍的な向上は無い。また、樹脂の耐熱性を向上させる試みが成されているが、耐熱性を上げると短波長側での光の吸収が有り黄変してしまう、アルカリに対して耐性が劣る等の問題を有しており十分では無い。
【０００４】
他の方法として多孔質の無機層に顔料等の耐熱性の高い物を昇華させカラーフィルターを形成する方法等が提案されているがパターン精度、色純度等課題が多く検討の必要が有る。
【０００５】
そこで、本発明はこの様な問題点を解決するもので、その目的とする所は、カラーフィルター上に直接もしくは一層以上の有機、または無機層を介して透明電極を形成した電気光学装置の化学的耐性、特に電蝕反応に対して耐性を向上させ容易に信頼性の高い電気光学装置を提供する事にある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
本発明の液晶装置は、液晶装置において、一方の基板と、前記一方の基板の端部から張り出す張り出し部分を有する他方の基板と、前記一方の基板及び前記他方の基板間に狭持されるシール部材と、前記他方の基板の内面側に設けられ、前記シール部材の内側に位置する電極部分および前記シール部材の外側に位置する前記張り出し部分に延設される電極部分を有し、前記張り出し部分において信号入力部を有する電極と、前記シール部材の内側に位置する電極部分上および前記シール部材の外側に位置する前記張り出し部分に延設される前記電極部分上に設けられ、且つ前記信号入力部上に設けられない配向膜と、を備えることを特徴とする。
【０００７】
また、本発明は、前記他方の基板と前記電極との間に設けられる有機樹脂層を備え、前記有機樹脂層は、前記シール部材の内側位置、前記シール部材の位置に対応する位置および前記シール部材の外側位置に設けられ、前記有機樹脂層の端部は前記シール部材の外側に位置し、前記端部と前記他方の基板とで段差が形成されてなり、前記電極は前記段差をこえて前記他方の基板上まで連続して形成されてなり、  前記配向膜は前記電極の前記段差の位置に対応する部分上に設けられるとよい。
【０００８】
また、本発明は、前記他方の基板と前記電極との間に設けられる有機樹脂層を備え、  前記有機樹脂層は、前記シール部材の内側位置から前記信号入力部の位置に対応する位置まで連続して形成されてなるとよい。
また、本発明は、前記他方の基板と前記電極との間に設けられる有機樹脂層を備え、
前記有機樹脂層は、前記シール部材の内側位置から前記他方の基板の端部まで同一の層で形成されてなるとよい。
【０００９】
〔作用〕
本発明の上記構成によれば、少なくともカラーフィルターを有した基板の配向膜の領域を対向する基板と重なる領域より外側まで延長する事により洗浄等の行程中で付着したイオン性の汚れが一番残り易い上下基板の重なった部分に配向膜より成る遮断層を形成した事になり、前記イオン性の汚れに水分が吸着され電界の中で起こる電蝕反応に対して透明電極を接せず耐性を向上するという作用を生じる。
【００１０】
【実施例】
以下、本発明を実施例に基づき、より詳細に説明する。
【００１１】
カラーフィルタの形成方法により色々な保護層の形成方法が有るため、以下実施例毎にカラーフィルタの形成方法を分けて説明する。但し、本発明の電気光学装置は本実施例以外のカラーフィルタ形成方法や、保護層の形成方法にも適用できることはいうまでもなく、材料等にも限定されないことはいうまでもない。また、配向膜の厚みは外気との接触を遮断する為には膜厚は厚い方が良く、望ましくは５０オングストローム以上、更に効果を上げるには２００オングストローム以上有る事が望ましい。
【００１２】
〔実施例１〕
図１、図２を用いて説明する。図１に本発明のカラーフィルター付き基板の断面図を示す。ガラス基板１上に赤、青、緑、の各顔料を分散させたインクをオフセット法によりストライプ状に厚さ１．５μｍで印刷しカラーフィルター２を形成する。その後アクリル系の樹脂をスクリーン印刷法で１０μｍ厚みで形成し研磨して平坦化させたのち１８０℃で２時間乾燥させて保護層３をガラス基板１の全面に形成した。該ガラス基板１の前記保護層３上に低温マグネトロンスパッタ法により１８０℃の成膜温度で酸化インジュウム−酸化スズ（以下ＩＴＯ）よりなる透明導電性膜を２０００オングストローム形成し、フォトリソグラフ法にて透明電極４をカラーフィルター２と直交する様に形成した。次に図２を用いて本発明の電気光学装置の構造を説明する。図１で示したガラス基板１と同じくガラス基板６上にＩＴＯにてマトリックス状に成るように対向電極７を形成する。この後ポリイミドを用いて配向膜５、８を３００〜４００オングストロームで各々形成しシール９及び、ギャップ材１０を介して液晶１１を封入した。本実施例においては左ねじれ２３０°、セルギャップ６μｍとした。この時、カラーフィルターの付いている基板１の配向膜５の位置を信号入力部Ｂを除いて対向する基板６と重なる位置Ａより図２に示す様に寸法ａだけ延出して形成した。本実施例においてａの長さを振り比較したので以下に示す。まず、液晶を封入した電気光学装置をトリエタン等の有機溶剤中で洗浄し、次いで信号入力部等に付着した汚れを除去する為アルカリ水中（２〜４ｗｔ％）でブラッシングを行った。その後、時分割駆動による駆動波形を１／２００〜１／４０００デューティーで印加し５０℃−９０ＲＨ％下の環境下で２００時間連続通電試験を行い断線等の発生を調査した。５０時間毎に取り出し断線数とその内容を検査した。結果を表１にまとめる。今回のライン数は２００本で統一した。尚、電気光学装置の洗浄方法であるがアルカリ性の界面活性剤中で超音波洗浄をしても良く信号入力部等に傷の発生など物理的なダメージやシール部、保護層などへの洗浄剤からの化学的ダメージが無い限りその方法の選択には制限が無い。本実施例においてはアルカリ水中（２〜４ｗｔ％）でナイロン回転ブラシによるブラッシングを行った。回転ブラシによる傷付き性を考慮しブラシの当りは毛先が軽く接触する程度とした。
【００１３】
表１：通電試験結果
【００１４】
【表１】
0003558598.tif 000002
【００１５】
表１の結果より配向膜の位置がＡ部より少しでも外側に有れば本発明の効果が出る事が分かる。本実施例においては配向膜としてポリイミドを用いたが、他の配向剤、例えばプレイミド、ポリアミック酸、ポリアミド−イミド等制約は受けない。
【００１６】
〔実施例２〕
図３、図４を用いて説明する。図３に本発明のカラーフィルター付き基板の断面図を示す。ガラス基板１上に実施例１と同様にオフセット印刷法によりカラーフィルターをストライプ状に印刷後プレス加圧してカラーフィルター１２を平坦化して形成した。次に、エポキシアクリレート樹脂に紫外線感光性を付与してスピンコート法により１．２μｍ厚でコートした後、紫外線照射して保護層１３を選択的に形成した。その後、透明電極４を実施例１と同様に形成した。次に、図４を用いて電気光学装置の構成を説明する。本実施例においては実施例１と同様にカラーフィルター付き基板側の配向膜５の位置Ａと保護層１３の端部位置Ｃの双方を考慮して調査した。尚、電気光学装置のその他の構成は実施例１と同様にて形成した。電気光学装置の洗浄方法や試験方法については実施例１と同様に行い比較し易い様にした。
【００１７】
結果を表２にまとめる。Ｃ部位置についてはシール９の内側を（内）、外側を（外）とした。
【００１８】
表２：通電試験結果
【００１９】
【表２】
0003558598.tif 000003
【００２０】
表２の結果より保護層１３が有る境界部が外気と接触し易い場合（シール９より外側）ＩＴＯの強度が弱く電蝕反応が発生し易い。この場合でも配向膜５が少なくともＡ部より外側に有れば効果を発揮する事が分かる。尚、シール９の下まで保護層１３を形成した方が液晶の厚みを制御し易く、その意味からも本発明の方法により保護層１３の形成位置の自由度が増す事も分かる。
【００２１】
実施例１，２を通じて説明してきたが、本発明の構造は他のカラーフィルター形成方法（例えば電着法、ポリイミド系基質等に顔料を分散させる方法、顔料を紫外線等の光感光性の有る基質に分散させフォト法によりパターニングする方法等）や保護層として他の材料（例えば熱硬化性メラミン樹脂、エポキシ樹脂、シリコーン系樹脂等）による制約は受けない。また、カラーフィルター付き基板の両側に信号入力部を形成する場合は同じ様に両側に配向膜を形成すれば良く、片側に有る場合、信号入力部と反対側は、特に制約は無くシールより外に出しても出さなくても良い。対向基板については何等制限を受けない。
【００２２】
〔実施例３〕
図５を用いて説明する。実施例１，２で説明してきた電気光学装置を調光用セル▲１▼とし、該調光用セル▲１▼と同じ光学特性（セルギャップ：ｄ／液晶もしくは光学的異方体の屈折率異方性：△ｎの積  ｄｘ△ｎの値が同じ）を持つようにした光学的異方体▲２▼を偏光体１４，１５の間に設置した。本実施例では調光用セル▲１▼と同じ液晶を逆ねじれ（右）で同じセルギャップで形成し調光用セル▲１▼と光学的異方体▲２▼の相接する面の配向方向のなす角を９０°とし各々の偏光体の偏光軸と電気光学装置▲１▼と光学的異方体▲２▼各々の配向方向のなす角を２０〜５０°で振り全点灯時に白となる様に調整したところ、コントラストの高い、白、黒、表示可能な電気光学装置を形成できた。尚、光学的異方体としてフィルムでも同様の結果を得る事ができる。
【００２３】
【発明の効果】
上記のように、本発明のよれば、イオン性付着物に水分が吸着し、駆動時に印可される電界で発生する電蝕反応を遮断することにより電極の断線を防止し、信頼性が高く高品位の電気光学装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施例１で示すカラーフィルター付き基板の断面図。
【図２】本発明の実施例１で示す電気光学装置の構造を示す図。
【図３】本発明の実施例２で示すカラーフィルター付き基板の断面図。
【図４】本発明の実施例２で示す電気光学装置の構造を示す図。
【図５】本発明の実施例３で示す電気光学装置の構造を示す図。
【符号の説明】
１・・・ガラス基板
２・・・カラーフィルター
３・・・保護層
４・・・透明電極
５・・・配向膜
６・・・ガラス基板
７・・・対向電極
８・・・配向膜
９・・・シール
１０・・・ギャップ材
１１・・・液晶
１２・・・カラーフィルター
１３・・・保護層
１４，１５・・・偏光体
【図１】
0003558598.tif 000004
【図２】
0003558598.tif 000005
【図３】
0003558598.tif 000006
【図４】
0003558598.tif 000007
【図５】
0003558598.tif 000008