(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数枚のウエハ（２）をその面が互いに対向するように一定間隔で立てた状態で支持可能な架台（６）と、
前記架台（６）上に支持された前記ウエハ（２）のそれぞれの間に位置するように前記ウエハの直径以上の長さを有する複数本の棒状ヒーター（４）を有し、前記棒状ヒーター（４）を、その延在方向に交差しかつ前記ウエハ（２）の面と平行な方向に移動可能に構成されたヒーターユニット（３）とを備え、
前記ヒーターユニット（３）を、加温状態の前記棒状ヒーター（４）が前記ウエハ（２）の全面を走査するように前記ウエハ（２）に対して相対的に移動させて前記ウエハ（２）の面を乾燥させることを特徴とする、ウエハの乾燥装置。
【請求項２】
前記棒状ヒーター（４）は、赤外線輻射熱ヒーターであることを特徴とする、請求項１記載のウエハの乾燥装置。
【請求項３】
前記ヒーターユニット（３）は、２から６ｍｍ／ｓの速度で移動することを特徴とする、請求項２記載のウエハの乾燥装置。
【請求項４】
前記架台（６）に前記ウエハ（２）を載置するために、前記ウエハ（２）を移動させるチャック（３０ａ，３０ｂ）を備え、
前記ヒーターユニット（３）は、前記チャック（３０ａ，３０ｂ）が前記架台（６）に載置させるために前記ウエハが移動しているときに停止状態で前記ウエハ（２）の所定部分よりも下の部分（２１）を乾燥させ、前記ウエハ（２）が前記架台（６）に載置された後移動して前記所定部分よりも上の部分（２２）を乾燥させることを特徴とする、請求項１から３のいずれか１つに記載のウエハの乾燥装置。
【請求項５】
水または水溶液にて洗浄した後のウエハ（２）を乾燥するウエハの乾燥方法であって、その面が互いに対向するように一定間隔をおいて配置された複数枚のウエハ（２）の間にそれぞれ配置された棒状ヒーター（４）を、前記ウエハ（２）に対して、加温状態の前記棒状ヒーター（４）が前記ウエハ（２）の全面を走査するように相対的に移動させて前記ウエハ（２）の面を乾燥することを特徴とするウエハの乾燥方法。
【請求項６】
一定の間隔をおいて複数のウエハ（２）を把持したチャック（３０ａ，３０ｂ）を架台（６）の上方から前記架台（６）に向けて下方に移動させるステップと、
前記ウエハ（２）の下端が前記架台（６）の近傍上側に位置する前記棒状ヒーター（４）の近傍まで下降したとき、前記棒状ヒーター（４）の加温を開始するステップと、
前記ウエハ（２）が前記架台（６）上に載置された後、前記チャック（３０ａ，３０ｂ）の前記ウエハ（２）に対する把持を解放させて上方に退避させるとともに、前記棒状ヒーター（４）を加温した状態で上方に移動させるステップとを備えることを特徴とする、請求項５記載のウエハの乾燥方法。
【請求項７】
一定の間隔をおいて複数のウエハ（２）を把持したチャック（３０ａ，３０ｂ）を架台（６）の上方から前記架台（６）に向けて下方に移動するステップと、
前記ウエハ（２）の下端が前記架台（６）の上方に離れて位置する棒状ヒーター（４）の近傍まで下降したとき、前記棒状ヒーター（４）を加温を開始するステップと、
前記棒状ヒーター（４）上側に前記チャック（３０ａ，３０ｂ）下端が隣接するまで前記チャック（３０ａ，３０ｂ）が下降したとき、前記棒状ヒーター（４）の加温を停止し、下方に退避させるステップと、
前記ウエハ（２）が前記架台（６）上に載置された後、前記チャック（３０ａ，３０ｂ）の前記ウエハ（２）に対する把持を解放させて上方に退避させるとともに、前記棒状ヒーター（４）を加温した状態で上方に移動させるステップとを備えることを特徴とする、請求項５記載のウエハの乾燥方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体集積回路の製造工程において、ウエハを洗浄した後に乾燥するための乾燥装置および乾燥方法に関し、さらに詳しくは、加熱によってウエハを乾燥させるタイプの乾燥装置および乾燥方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
ウエハの製造においては、各工程の前処理および後処理として、ウエハを各種の薬液により洗浄し、さらにウエハを純粋又は水溶液により洗浄してウエハ表面から有機物を完全に除去した後、そのウエハを完全に乾燥するようにしている。このような水洗浄後のウエハの乾燥には、従来は、水でぬれた状態のウエハを搭載したキャリアを高速回転させ、遠心力によって水分を除去するスピンドライ法、又は、イソプロピルアルコール（ＩＰＡ）蒸気雰囲気中で水分を蒸発させ乾燥させるＩＰＡ法が存在する。
【０００３】
しかしながら、スピンドライ法では、機械的な回転による静電気が生じやすく、ウエハ上に形成した素子の破壊などの問題があった。また、近年、ウエハは大径化しつつあり、スピンドライ法ではこの大きいウエハを乾燥させるには装置が大がかりになるため、将来の主流となるであろう大型のウエハに用いるのは不利である。
【０００４】
また、ＩＰＡ法では、用いられる薬品であるイソプロピルアルコールは毒性があり、また引火の危険性がある。さらに、有機溶媒の廃液処理の問題もある。
【０００５】
このような従来の乾燥方法の欠点を解消すべく、特開平６−１０４２３９号公報に基板（ウエハ）の乾燥装置が開示されている。この乾燥装置は、不活性ガス雰囲気下で基板（ウエハ）に赤外線を照射させることにより基板（ウエハ）を乾燥させるものである。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、ウエハの乾燥工程では、数十枚のウエハをその面同士が対向するように並べて配置することが多く、上記公報に開示された乾燥装置では、このように配置されたウエハ列の周囲からウエハ列全体に赤外線を照射することになり、エネルギーロスが大きい。また、赤外線の照射位置から近いウエハの一部については、乾燥しやすいが、例えば、ウエハの中心部分など照射位置から遠い部分については、乾燥しにくく、ウエハの全領域における温度分布にばらつきが生じる。また、一様に乾燥させるために赤外線の出力をあげると、照射位置から近い部分の温度が上昇しすぎて、照射位置に近い部分に設けられた素子に損傷を与えるおそれがあり、また一方、温度が上がり過ぎないように照射量を弱く調節すると、乾燥に時間がかかってしまうという問題がある。このように上記乾燥装置では、ウエハの全面を一様に乾燥させるような、微妙な温度コントロールが難しい。
【０００７】
また、上記加熱方式の乾燥装置において、バキュームにより減圧状態下で乾燥させると、乾燥を早めることができるが、乾燥の程度にむらが生じて、ウォーターマークなどのしみができやすいという問題がある。
【０００８】
したがって、本発明が解決しようとする技術的課題は、ウエハを一様に効率良く乾燥させることができるウエハの乾燥装置を提供することである。
【０００９】
【課題を解決するための手段および作用・効果】
本発明は、上記技術的課題を解決するために、以下の構成の乾燥装置を提供する。
【００１０】
この乾燥装置は、複数枚のウエハをその面が互いに対向するように一定間隔で立てた状態で支持可能な架台と、
前記架台上に支持された前記ウエハのそれぞれの間に位置するように前記ウエハの直径以上の長さを有する複数本の棒状ヒーターを有し、前記棒状ヒーターを、その延在方向に交差しかつ前記ウエハの面と平行な方向に移動可能に構成されたヒーターユニットとを備え、
前記ヒーターユニットを、加温状態の前記棒状ヒーターが前記ウエハの全面を走査するように前記ウエハに対して相対的に移動させて前記ウエハの面を乾燥させる。
【００１１】
上記構成において、棒状ヒーターは、ヒーターユニットに伴ってウエハの面に平行に相対移動する。ここで、ヒーターユニットは架台に支持されているウエハ対して相対的に移動すればよく、ヒーターユニットが移動してもよいし、架台が移動してもよい。加温状態の棒状ヒーターがウエハの面に沿ってウエハの全面を走査するように移動するので、ウエハの面を広範囲に加熱することができ、ウエハの面の温度を一様に上昇させることができる。また、棒状ヒーターをウエハの面に近づけて加熱することができるため、効率良く加熱ができ、ウエハの昇温時間を短くすることができる。さらに、棒状ヒーターは架台に沿って設けられ、ウエハが載置されたとき、ウエハ列に収まるように配置されるので、棒状ヒーターをウエハ列の周辺に配置させる必要がなく、乾燥装置自体のスペースを小さくすることができる。
【００１２】
また、棒状ヒーターは、載置されたウエハのそれぞれに対応するように配設されているため、ウエハの両側に位置する棒状ヒーターのみを照射させて操作することができる。したがって、ウエハの乾燥枚数が少なくて、すべての個所にウエハが載置されていない場合であっても、ウエハの過熱を防止でき、ウエハの枚数の変化に伴う影響を受けることが少ない。
【００１３】
したがって、上記構成によれば、ウエハの素子面の全面を一様に効率良く昇温、乾燥させることができる。
【００１４】
本発明の乾燥装置は、具体的には以下のように種々の態様で構成することができる。
【００１５】
好ましくは、前記棒状ヒーターは赤外線輻射熱ヒーターである。
【００１６】
上記構成によれば、棒状ヒーターに赤外線輻射熱ヒーターを用いることにより、棒状ヒーターの昇温時間を短することができるとともに、炉内の温度を大きく上昇させることがない。すなわち、棒状ヒーターは隣接するウエハのみを直接効率良く加熱する。したがって、ウエハの乾燥において、ウエハに隣接しない棒状ヒーターからの影響を少なくすることができ、例えば、少ない枚数のウエハを乾燥する場合に、架台に載置されているウエハに隣接する棒状ヒーターのみを照射させたとしても、装置に載置可能な最大枚数のウエハを一度に乾燥させる場合と同様の操作で効率良く乾燥することができる。すなわち、一回の操作で乾燥させるウエハの枚数に影響することなく乾燥することができる。
【００１７】
上記構成において、好ましくは、前記ヒーターユニットは２から６ｍｍ／ｓの速度で移動する。
【００１８】
上記構成において、ヒーターユニットの移動に伴って棒状ヒーターはウエハの面に沿って上下に相対移動するため、ヒーターユニットの移動速度は、装置の乾燥の操作に要する時間を決定するファクターとなる。ヒーターユニットをゆっくり移動させると、ウエハの乾燥を確実に行うことができるが、乾燥操作に要する時間が長くなる。一方、ヒーターユニットを素早く移動させると、操作に要する時間を短くすることができるが、ウエハを確実に乾燥することが困難になる。用いる棒状ヒーターの出力によってこの値は影響を受けるが、現状市販されている赤外線輻射熱ヒーターを用いて、ヒーターユニットを２から６ｍｍ／ｓの速度で移動するとウエハを完全に乾燥させることができる。
【００１９】
上記構成によれば、乾燥の操作を不用意に長くすることもなく、また、ウエハの全面を完全に乾燥させることができる。
また好ましくは、前記架台に前記ウエハを載置するために、前記ウエハを移動させるチャックを備え、
前記ヒーターユニットは、前記チャックが前記架台に載置させるために前記ウエハが移動しているときに停止状態で前記ウエハの所定部分よりも下の部分を乾燥させ、前記ウエハが前記架台に載置された後移動して前記所定部分よりも上の部分を乾燥させる。
【００２０】
また、本発明は、次のウエハの乾燥方法を提供する。
【００２１】
ウエハの乾燥方法は、水または水溶液にて洗浄した後のウエハを乾燥するものである。そして、その面が互いに対向するように一定間隔をおいて配置された複数枚のウエハの間にそれぞれ配置された棒状ヒーターを、前記ウエハに対して、加温状態の前記棒状ヒーターが前記ウエハの全面を走査するように、相対的に移動させて前記ウエハの面を乾燥する。
【００２２】
上記方法において、ウエハを加熱する棒状ヒーターは、ウエハに近づけて配置することができ、ウエハの全面を走査するようにウエハの面に平行に相対移動することができる。したがって、ウエハの面を広範囲に加熱することができ、ウエハの面の温度分布を一様にすることができる。また、棒状ヒーターをウエハの面に近づけて加熱することができるため、効率良く加熱ができるとともに、昇温時間を短くすることができる。
【００２３】
さらに、ウエハのそれぞれに隣接するように棒状ヒーターが設けられているため、ウエハの両側に位置する棒状ヒーターのみを照射させて操作することができる。したがって、一部の配置個所にのみウエハが配置されている場合であっても、ウエハを過昇温を防止でき、ウエハの枚数の変化に伴う影響を受けることが少ない。
【００２４】
上記方法によれば、ウエハの全面を一様に効率良く昇温、乾燥させることができる。
【００２５】
上記ウエハの乾燥方法は、以下に記載する方法によって好適に行うことができる。
【００２６】
好ましくは、ウエハの乾燥方法は、一定の間隔をおいて複数のウエハを把持したチャックを架台の上方から前記架台に向けて下方に移動させるステップと、前記ウエハの下端が前記架台の近傍上側に位置する前記棒状ヒーターの近傍まで下降したとき、前記棒状ヒーターをオンするステップと、前記ウエハが前記架台上に載置された後、前記チャックの前記ウエハに対する把持を解放させて上方に退避させるとともに、前記棒状ヒーターを加温した状態で上方に移動させるステップとを備える。
【００２７】
上記方法において、ウエハを架台に載置するときの棒状ヒーターのウエハに対する相対移動を利用して、架台に載置された状態では架台によって棒状ヒーターが移動できないウエハの下側部分を加熱する。すなわち、チャックに把持されたウエハが下降している間に、ウエハの下端が棒状ヒーターの近傍まで下降したタイミングで棒状ヒーターを加温状態にし、下降を続けているウエハの下側部分を加熱する。
【００２８】
上記方法によれば、架台により棒状ヒーターが移動することができないウエハの下側部分についても、一様に棒状ヒーターで加熱することができ、ウエハの全面を一様に乾燥することができる。
【００２９】
好ましくは、上記のウエハの乾燥方法は、一定の間隔をおいて複数のウエハを把持したチャックを架台の上方から前記架台に向けて下方に移動するステップと、前記ウエハの下端が前記架台上方から離れて位置する棒状ヒーターの近傍まで下降したとき、前記棒状ヒーターをオンするステップと、前記棒状ヒーター上側に前記チャック下端が隣接するまで前記チャックが下降したとき、前記棒状ヒーターをオフし、下方に退避させるステップと、前記ウエハが前記架台上に載置された後、前記チャックの前記ウエハに対する把持を解放させて上方に退避させるとともに、前記棒状ヒーターを加温した状態で上方に移動させるステップとを備える。
【００３０】
棒状ヒーターが架台の近傍に位置し、棒状ヒーターの熱を長時間受けると、高分子材料で構成されている架台がたわむおそれもあり、半導体を垂直方向に保持することが困難になる可能性もある。上記方法によれば、棒状ヒーターは、架台の近傍ではなく、上方に離れた場所で加熱するため、架台の近傍で加熱している時間が短く、架台を昇温させることが少ない。
【００３１】
したがって、上記構成によれば、架台の温度上昇が小さく、架台への負担を小さくすることができる。
【００３２】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の一実施形態に係るウエハの乾燥装置について、図面を参照しながら説明する。
【００３３】
図１は、本発明の第１実施形態に係る乾燥装置の内部構造を示す概略正面図である。図２は、図１の乾燥装置の内部構造を示す概略斜視図である。乾燥装置１は、半導体の洗浄装置の中に組み込まれ、その一部を構成するものである。図１に示したように、乾燥装置は、ステンレス製の炉体１２の中に、薬液などによる腐食防止のための石英槽１０が設けられている。炉体１２は熱が外部に逃げるのを防止するため、内側を断熱材で保護されている。石英槽１０には、炉内の気体を吸引し排気するための排気口１４が設けられている。これら炉体１２および石英槽１０の２重の層の中にウエハ２を載置する架台６とヒーターユニット３とが設けられている。
【００３４】
ウエハ２が配置される架台６は、３つの棒状体で構成されており、石英槽１０内に固定されている。架台６は、耐熱性を考慮すると石英製であることが好ましいが、ウエハ２を架台６に載置するときなどにウエハを傷つけるおそれがあるため、本実施形態では、ポリエーテルエーテルケトンなどの耐熱性高分子を用いている。架台６は、図１に示したように、ウエハ２の下部を３点で支持する。それぞれの架台６には、ウエハをしっかりと垂直に支持するために、その長手方向における同じ位置に溝が設けられている。ウエハ２を３つの棒状体に設けられた溝に嵌めこむように架台６に載置することにより、ウエハ２を垂直に立てた状態で配置することができる。図２に示したように、本実施形態では、架台６には、隣り合うウエハの間に１０ｍｍの間隔をおき、１０枚のウエハ２ａ〜２ｊを配置することができる。なお、ウエハを支持する架台は、特に構造が限定されるものではなく、複数本、特に３〜４本の棒状体で構成するのが好ましい。
【００３５】
ヒーターユニット３は、図２に示すように、垂直に立てられたウエハ２ａ〜２ｊの間にウエハ２ａ〜２ｊの面に平行にそれぞれ配置された棒状ヒーター４ａ〜４ｅと、各棒状ヒーターを互いに平行かつ水平に支持するヒーター支持棒８とから構成される。本実施形態では、棒状ヒーター４は、すべてのウエハ２の面に対向するように、ウエハ２ａ〜２ｊの間（４ｂ〜４ｅ）に９本、最も手前側のウエハ２ａの手前側（４ａ）に１本、最も奥側のウエハ２ｊの奥側１本の合計１１本が配置されているが、図２では一部の棒状ヒーターが省略されている。ヒーター支持棒８は、熱に対する安定性などの観点から石英製であることが好ましい。
【００３６】
棒状ヒーター４は、ウエハ２を加熱し、周囲の空気の温度を上昇させにくい輻射熱ヒーターであることが好ましい。特に、近赤外棒状ヒーター（ハロゲンヒーター）がヒーターの昇温が早く、好適に用いられる。このような輻射熱ヒーターを用いることによって、炉内の温度の上昇を少なくするとともに、対向するウエハ２のみを加熱することができる。本実施形態では、直径６ｍｍの近赤外ハロゲンヒーター（最大出力１ｋｗ）が用いられている。
【００３７】
ヒーターユニット３は、矢印５０に示すように上下方向に移動する。ヒーターユニット３の移動に伴って、各棒状ヒーター４がウエハ２の間を面に沿って上下動する。
【００３８】
棒状ヒーター４をＯＮの状態にすると、棒状ヒーターと対向するウエハの面が加熱される。そして、この状態でヒーターユニット３をウエハ２に対して相対的に移動させると、棒状ヒーターはウエハ２の面を走査し、ウエハの面は一様に昇温する。したがって、ウエハ２を一様に乾燥させることができる。このときのヒーターユニットの相対速度は、通常１ｍｍ／ｓ以上である。１ｍｍ／ｓ未満では乾燥工程に時間がかかりすぎ、他工程とのバランスが取れなくなる。また、１ｍｍ／ｓ以上であれば特に制限はないが、現状市販されているヒータでは８ｍｍ／ｓ以下程度でなければウエハを所望の温度まで上昇させることは困難である。好ましくは、２ｍｍ／ｓから６ｍｍ／ｓである。なお、高出力のヒーターが用いられるようになれば、昇温に要する時間が短くなり、相対速度を早くすることもできる。
【００３９】
ヒーターユニットをウエハの面に沿って上下に移動させることにより、ウエハの両面の全域において１００℃以上１２０℃未満になるように昇温させることができる。ただし、ウエハ上の素子を傷つけないように１５０℃を超えないようにすることが好ましい。温度の制御は、上述のように棒状ヒーター４の出力と移動速度によって行うことができる。
【００４０】
図１および図２に示す乾燥装置では、架台６により保持されたウエハ２の上側部分２１については、ヒーターユニットを移動させることができるが、下側部分２２については、架台６が存在しているため、ヒーターユニット３をウエハ面に沿って移動させることができない。したがって、ウエハの下側部分２２を含めてすべての面を一様に昇温させるために、次のような操作手順にしたがって、ウエハを乾燥させることが好ましい。
【００４１】
図３に実施形態１にかかる乾燥装置の第１の操作手順を示す。図３（ａ）に示すようにウエハ２は、一定の間隔をおいて複数のウエハ２を把持したチャック３０ａ，３０ｂによって架台６上に載置される。このとき、チャック３０ａ，３０ｂは石英槽１０の上側からウエハ２を配置し、矢印５１に示すように下方に移動する。このときの移動速度は速くてもよく、本実施形態では２０ｍｍ／ｓで下降する。このとき棒状ヒーター４は、架台６の近傍に位置し、ＯＦＦの状態になっている。
【００４２】
（ｂ）に示すように、チャック３０ａ，３０ｂが下降し、ウエハ２が棒状ヒーター４に近づくにつれてチャックの下降速度を低下させる。そして、矢印５２に示すように、棒状ヒーター４の昇温を考慮して、ウエハ２の下端が棒状ヒーターの近傍に移動したとき、棒状ヒーター４をＯＮの状態（ヒーター一本あたりの実出力５０ｗ）にする。すなわち、棒状ヒーターが定常状態になるまで必要な時間が経過した後に、ウエハの下端が棒状ヒーターに対向するように棒状ヒーターのスイッチのタイミングを調整する。このとき、棒状ヒーターの熱により発生する上昇気流を防止するために、排気口１４から弱く吸引を行う。
【００４３】
（ｃ）に示すように、棒状ヒーター４がＯＮの状態で、チャック３０ａ，３０ｂが矢印５３に示すように下降すると、棒状ヒーター４はウエハ２の下部を相対的に移動する。本実施形態では、このときのチャック３０ａ，３０ｂの移動速度は、後述するように棒状ヒーター４がウエハ２の面に沿って移動する速度と同じ３ｍｍ／ｓである。このときに、棒状ヒーター４が通過したウエハ２の下部は加熱され、乾燥する。
【００４４】
（ｄ）に示すように、チャック４が下まで移動し、ウエハ２が架台６に配置されると、チャック３０ａ，３０ｂのウエハへの把持を解放し、チャック３０ａ，３０ｂを上方に退避する。このとき、ウエハ２を過熱しないように棒状ヒーター４は一度ＯＦＦの状態になる。
【００４５】
（ｅ）に示すように、チャック３０ａ，３０ｂが退避すると、棒状ヒーター４はＯＮの状態になり、ウエハ２を加熱する。そして、（ｆ）に示すように、ヒーターユニット３が上方へ移動し、これに伴って矢印５４に示すように、棒状ヒーター４が上方に移動する。本実施形態では、このときのヒーターユニット３の移動速度は、３ｍｍ／ｓである。
【００４６】
（ｇ）に示すように、ヒーターユニット３がウエハ２の最上端まで移動すると、棒状ヒーターをＯＦＦの状態にし、加熱を終了させる。その後、棒状ヒーター４をＯＦＦの状態のまま、矢印５５で示すように下降させ、元の位置に配置させる。本実施形態では、このときの移動速度は、２０ｍｍ／ｓである。ヒーターユニット３が下降しはじめると、排気口１４からの排気を強くし、ウエハ２の温度を下げる。約４０〜６０秒排気し、ウエハ２の温度が下がるとチャック３０ａ，３０ｂが下降してきてウエハ２を搬出する。
【００４７】
これらの一連の操作により、複数枚（本実施形態では１０枚）のウエハを一様に素早く乾燥させることができる。上記操作手順では、３００ｍｍ径のウエハを用いた場合、約３〜４分で乾燥工程を終了することができる。
【００４８】
図４に実施形態１にかかる乾燥装置の第２の操作手順を示す。図４（ａ）に示すようにウエハ２は、一定の間隔をおいて複数のウエハ２を把持したチャック３０ａ，３０ｂによって架台６上に載置される。このとき、チャック３０ａ，３０ｂは石英槽１０の上側から矢印５６に示すように下方に移動する。このときの移動速度は速くてもよく、本実施形態では２０ｍｍ／ｓで下降する。このときヒーターユニット３は、最上位置に位置し、ＯＦＦの状態になっている。
【００４９】
（ｂ）に示すように、チャック３０ａ，３０ｂが下降し、ウエハ２が棒状ヒーター４に近づくにつれてチャックの下降速度を低下させる。そして、矢印５７に示すように、ウエハ２の下端が棒状ヒーターの近傍に移動したとき、棒状ヒーター４をＯＮの状態（ヒーター一本あたりの実出力５０ｗ）にする。このとき、棒状ヒーターの熱により発生する上昇気流を防止するために、排気口１４から弱く吸引を行う。棒状ヒーターをＯＮの状態するタイミングは、棒状ヒーターが完全に加温するまでの時間を考慮して、ウエハ２の下端が棒状ヒーター４の上方数センチぐらいに位置したときに行うことが好ましい。棒状ヒーター４がＯＮの状態で、チャック３０ａ，３０ｂが矢印５７に示すように下降すると、棒状ヒーター４はウエハ２の下部を相対的に移動する。本実施形態では、このときのチャック３０ａ，３０ｂの棒状ヒーターに対する相対移動速度は、後述するように棒状ヒーター４がウエハ２の面に沿って移動する速度と同じ３ｍｍ／ｓである。このとき、後述するステップに備えて、ヒーターユニット３を下げながら棒状ヒーター４との相対速度が３ｍｍ／ｓになるように、チャック３０ａ，３０ｂをヒーターユニット３よりも速い速度で下降するようにしてもよい。棒状ヒーター４が通過したウエハ２の下部は加熱され、乾燥する。
【００５０】
（ｃ）に示すように、矢印５８で示すようにチャック４が下まで移動し、チャックが前記棒状ヒーターに隣接すると、ウエハ２を加熱し過ぎないように棒状ヒーター４は一度ＯＦＦの状態になる。そして、（ｄ）に示すように、ウエハ２を架台６に配置するために、矢印５９で示すようにヒーターユニット３を下降させ、また、矢印６０で示すようにチャック３０ａ，３０ｂを下降させる。
【００５１】
（ｅ）に示すように、チャック４が下まで移動し、ウエハ２が架台６に配置されると、チャック３０ａ，３０ｂが外れ、上方に退避する。そして、（ｆ）に示すように、チャック３０ａ，３０ｂが退避すると、棒状ヒーター４はＯＮの状態になり、ウエハ２を加熱する。そして、（ｇ）に示すように、ヒーターユニット３が上方に移動する。本実施形態では、このときのヒーターユニット３の移動速度は、３ｍｍ／ｓである。
【００５２】
（ｇ）に示すように、ヒーターユニット３がウエハ２の最上端まで移動すると、棒状ヒーターをＯＦＦの状態にし、加熱を終了させる。その後、棒状ヒーター４をＯＦＦの状態のままヒーターユニット３を下降させ、元の位置に収納させる。本実施形態では、このときの移動速度は、２０ｍｍ／ｓである。ヒーターユニット３が下降しはじめると、排気口１４からの排気を強くし、ウエハ２の温度を下げる。約４０〜６０秒間排気し、ウエハ２の温度が下がるとチャック３０ａ，３０ｂが下降してきてウエハ２を搬出する。
【００５３】
第２の操作手順によると、最初にヒーターユニット３を一度上昇させてから下降させる必要があり、乾燥操作に要する時間は第１の操作手順よりも長くなるが、棒状ヒーターが架台６の近傍で加熱する時間が短くてすむため、架台６に高分子材料を用いたとき、変形させるおそれが少なく、架台への負担を小さくすることができる。
【００５４】
以上説明したように、本発明の乾燥装置によれば、ヒーターユニットがウエハの面に対向して面に沿って相対的に移動するため、ウエハの全面を一様に加熱することができ、乾燥をより効果的にすることができる。
【００５５】
なお、本発明は上記実施形態に限定されるものではなく、その他種々の態様で実施可能である。例えば、ヒーターユニットを上下に移動させる代わりに架台を上下動させることによって棒状ヒーターとウエハを相対的に移動することもできる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１実施形態に係る乾燥装置の内部構造を示す概略正面図である。
【図２】図１の乾燥装置の内部構造を示す概略斜視図である。
【図３】図１および図２の乾燥装置の第１の操作手順を示す説明図である。
【図４】図１および図２の乾燥装置の第２の操作手順を示す説明図である。
【符号の説明】
１  乾燥装置
２，２ａ〜２ｊ  ウエハ
３  ヒーターユニット
４，４ａ〜４ｅ  棒状ヒーター
６  架台
８  ヒーター支持棒
１０  石英槽
１２  炉体
１４  排気口
２１  ウエハ下部
２２  ウエハ上部
【図１】
0003558127.tif 000002
【図２】
0003558127.tif 000003
【図３】
0003558127.tif 000004
【図４】
0003558127.tif 000005