(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
測定対象に投光部から測定光を照射させ、測定対象からの反射光を受光部の受光素子で検出して測定対象の凹凸を測定する方法であり、前記測定対象の凹部と凸部の光の反射率が大きく異なり、かつ、これら凹部と凸部の幅が測定光のビーム径程度である測定対象を測定する変位測定方法において、
前記測定対象からの反射光が測定光の光束中心の正反射方向から外れる位置に前記受光部を配置させることにより、該受光部で反射光の散乱成分を検出させることを特徴とする変位測定方法。
【請求項２】
前記投光部と受光部の間でそれぞれの光軸が所定角度を有して設けられている筐体を、前記受光部の受光レンズのアパーチャ分だけ傾けて前記反射光の散乱成分を検出させるようにした請求項１記載の変位測定方法。
【請求項３】
測定対象に投光部から測定光を照射させ、測定対象からの反射光を受光部の受光素子で検出して測定対象の凹凸を測定する方法であり、前記測定対象の凹部と凸部の光の反射率が大きく異なり、かつ、これら凹部と凸部の間隔が測定光のビーム径程度である測定対象を測定する変位測定方法において、
前記測定対象の測定面に対する法線を基準として、投光部の光軸の角度（α１）と、受光部の光軸の角度（α２）が等分とならない角度に配置させることにより、該受光部で反射光の散乱成分を検出させることを特徴とする変位測定方法。
【請求項４】
測定対象に投光部から測定光を照射させ、測定対象からの反射光を受光部の受光素子で検出して測定対象の凹凸の変位量を測定する装置であり、前記測定対象の凹部と凸部の光の反射率が大きく異なり、かつ、これら凹部と凸部の幅が測定光のビーム径程度である測定対象を測定する変位測定装置において、
前記測定対象に対する測定光を所定角度で照射する投光部と、
前記投光部の光軸に対し予め定められた所定角度の反射光を検出する受光部と、
前記投光部と受光部を一体に備えた筐体と、
前記測定対象の測定面に対する法線を中心として、前記投光部の光軸の角度と受光部の光軸の角度が非対象となるよう前記筐体の角度を可変させる制御手段と、
を備えたことを特徴とする変位測定装置。
【請求項５】
前記筐体には、前記測定対象における測定光の照射点を中心とした所定半径上に支持溝が設けられ、前記筐体は支持軸を介して傾斜可能とされ、
前記制御手段には、前記筐体の角度位置を可変させる角度変更手段が設けられた請求項４記載の変位測定装置。
【請求項６】
前記制御手段は、前記受光素子から出力される変位・光量信号に基づき、前記凸部と凹部の幅を検出する凹凸検出手段と、
前記凸部及び凹部それぞれにおける受光レベルを検出する光量検出手段と、
前記凹凸検出手段で検出された凸部および凹部それぞれで検出された幅および光量の差分が所定の範囲内であるか判定する比較判定手段と、
前記比較判定手段の判定が所定の範囲内となるまで前記筐体の角度を可変させる角度変更手段と、
を備えたことを特徴とする請求項４記載の変位測定装置。
【請求項７】
前記制御手段には、前記筐体あるいは前記測定対象を相対的に水平移動させる移動手段を備えることにより、
前記測定対象の測定を前記移動方向上で走査可能な請求項６記載の変位測定装置。
【請求項８】
前記制御手段は、前記測定対象の凸部及び凹部における反射状態に関するデータに基づき、該凸部と凹部の間の光量の差分が大きな範囲箇所を検出し、該範囲を移動走査する期間中においては、前記筐体を所定の傾斜角度に傾斜させて測定を行なう請求項７記載の変位測定装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、測定対象の変位量を測定する変位測定装置に係り、特に、反射率が大きく異なる段差パターンであっても、段差の形状を正確に測定することができる変位測定装置及び方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
図８は、変位測定装置の測定原理を示す概要図である。
装置５０は、光源５１からのレーザビームを測定対象Ｗの測定面Ｗａに角度α１で照射し、その照射点Ｐからの正反射光（角度α２）による像を結像レンズ５３によって受光素子５４の受光面５４ａに結像させる構成である。投受光の光軸は所定角度（８５°）を有している。
【０００３】
これにより、測定対象Ｗが高さ方向に移動すると（測定面Ｗａに変位があると）、照射点ＰがＰ’あるいはＰ”に移動し、対応して受光素子５４の受光面５４ａの結像点Ｋの位置がＫ’あるいはＫ”に移動する。受光素子５４は、この結像点Ｋの位置に対応した検出信号を出力し、この信号の変化量に基づき測定対象物Ｗの測定面Ｗａの変位量を演算出力できる。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、従来の変位測定装置では、測定時に下記の各条件が発生すると、凹凸の変位量を正確に測定できなかった。
測定対象の凹部と凸部の反射率の差が大きい場合で、段差の凸部の幅が光スポット径に近く、且つ、段差の凸部の反射率が周辺の反射率より低い場合、または、段差の凹部の幅が光スポット径に近く、且つ、段差の凹部の反射率が周辺の反射率より低い場合。
【０００５】
上記の場合に、図４（ａ）に示す実際の凹凸の段差が、測定すると図４（ｂ）の如く実際より低く測定されたり、段差の形状が歪む等の問題を生じた。
これは、受光素子５４が受光面に形成された光スポットの強度分布の重心を検出する特性を有しているため、上記のような測定対象を測定すると、光スポットの裾が反射率の高い箇所に掛かり、光スポットの重心が反射率の高い箇所に引っ張られ測定値がシフトするからである。
【０００６】
照射光の強度分布は、ほぼガウス分布をしており、照射光の中心が凸部または凹部に当たっていても、凸部または凹部の幅が狭くビーム径に近くなるときには、照射光の裾が凸部または凹部を外れて周辺の反射率の高い箇所に掛かり、重心が反射率の高い方に引っ張られるという現象が発生する。
ビーム径は、一般にビームの強度分布のピーク値を１としたときに１／ｅ２  となるときの幅で表す（図９参照）。なお裾ＳＬの部分の強度を積分するとトータルのビーム強度の５％程度に相当する。
【０００７】
図１０は、この光スポットの状態を示す図である。（ａ）の平面図に示すように、凸部２１に照射された光スポットＳの裾ＳＬが反射率の高い凹溝２２に掛かっていると、（ｂ）の強度分布特性に示すように、この反射率の高い凹溝２２からの反射光による受光レベルが相対的に高くなる。
【０００８】
この変位測定装置は、測定対象に対して投受光の光が所定の角度（８５°）を有している。測定対象の面の法線に対して投光及び受光の光はそれぞれ等分角度を有している。
このため、図１０（ａ）に示すように、測定対象の凹凸２１，２２は段差によって、光の照射位置が受光素子５４の感度のある方向でみると距離Δだけ異なることとなる。
受光素子５４では、この距離Δ分だけ異なる位置からの反射光を同時に検出すると、光の強度分布特性が図１０（ｂ）、（ｃ）に示す如く裾ＳＬ部分が高くなり、光スポットの重心位置がずれることになる。結果として段差、及び凹凸の形状を正確に測定できなくなった。
【０００９】
本発明は、上記課題を解決するためになされたものであり、測定面の反射率が大きく異なる凹凸を正確に検出できる変位測定装置及び方法の提供を目的としている。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するため、本発明の変位測定方法は、測定対象に投光部から測定光を照射させ、測定対象からの反射光を受光部の受光素子で検出して測定対象の凹凸を測定する方法であり、前記測定対象の凹部と凸部の光の反射率が大きく異なり、かつ、これら凹部と凸部の幅が測定光のビーム径程度である測定対象を測定する変位測定方法において、
前記測定対象からの反射光が測定光の光束中心の正反射方向から外れる位置に前記受光部を配置させることにより、該受光部で反射光の散乱成分を検出させることを特徴とする。
【００１１】
また、前記投光部と受光部の間でそれぞれの光軸が所定角度を有して設けられている筐体を、前記受光部の受光レンズのアパーチャ分だけ傾けて前記反射光の散乱成分を検出させるようにしてもよい。
【００１２】
また、他の方法は、測定対象に投光部から測定光を照射させ、測定対象からの反射光を受光部の受光素子で検出して測定対象の凹凸を測定する方法であり、前記測定対象の凹部と凸部の光の反射率が大きく異なり、かつ、これら凹部と凸部の幅が測定光のビーム径程度である測定対象を測定する変位測定方法において、前記測定対象の測定面に対する法線を基準として、投光部の光軸の角度（α１）と、受光部の光軸の角度（α２）が等分とならない角度に配置させることにより、該受光部で反射光の散乱成分を検出させることを特徴とする。
【００１３】
本発明の変位測定装置は、測定対象に投光部から測定光を照射させ、測定対象からの反射光を受光部の受光素子で検出して測定対象の凹凸の変位量を測定する装置であり、前記測定対象の凹部と凸部の光の反射率が大きく異なり、かつ、これら凹部と凸部の幅が測定光のビーム径程度である測定対象を測定する変位測定装置において、
前記測定対象に対する測定光を所定角度で照射する投光部と、
前記投光部の光軸に対し予め定められた所定角度の反射光を検出する受光部と、
前記投光部と受光部を一体に備えた筐体と、
前記測定対象の測定面に対する法線を中心として、前記投光部の光軸の角度と受光部の光軸の角度が非対象となるよう前記筐体の角度を可変させる制御手段と、
を備えたことを特徴とする。
【００１４】
また、前記筐体には、前記測定対象における測定光の照射点を中心とした所定半径上に支持溝が設けられ、前記筐体は支持軸を介して傾斜可能とされ、
前記制御手段には、前記筐体の角度位置を可変させる角度変更手段が設けられた構成にもできる。
【００１５】
また、前記制御手段は、前記受光素子から出力される変位・光量信号に基づき、前記凸部と凹部の幅を検出する凹凸検出手段と、
前記凸部及び凹部それぞれにおける受光レベルを検出する光量検出手段と、
前記凹凸検出手段で検出された凸部および凹部それぞれで検出された幅および光量の差分が所定の範囲内であるか判定する比較判定手段と、
前記比較判定手段の判定が所定の範囲内となるまで前記筐体の角度を可変させる角度変更手段と、
を備えた構成にすることもできる。
【００１６】
また、前記制御手段には、前記筐体あるいは前記測定対象を相対的に水平移動させる移動手段を備えることにより、
前記測定対象の測定を前記移動方向上で走査可能に構成できる。
【００１７】
また、前記制御手段は、前記測定対象の凸部及び凹部における反射状態に関するデータに基づき、該凸部と凹部の間の光量の差分が大きな範囲箇所を検出し、該範囲を移動走査する期間中においては、前記筐体を所定の傾斜角度に傾斜させて測定を行なう構成としてもよい。
【００１８】
上記構成によれば、投光部の測定光の反射光の正反射成分は受光部に入射されず、受光部には反射光の散乱成分が入射される。
ここで、凹部と凸部の間隔が測定光のビーム径程度で、凹部の反射率が高く凸部の反射率が低い状態で凸部の変位量を測定する場合には、凹部からの反射光の影響を低減化させて凸部の変位量を正確に測定できるようになる。
【００１９】
【発明の実施の形態】
〔第１実施形態〕
図１は、本発明の変位測定装置を示す構成図である。
図示のように、変位測定装置１は、投光部２と受光部３を有する。
投光部２は、所定波長のレーザの光を出射する光源５と、投光レンズ６を有し、測定対象Ｗの測定面Ｗａに測定光を照射する。
受光部３は、測定対象Ｗから反射した光を受光レンズ７により受光素子１０の受光面１０ａ上に結像させる。
【００２０】
ここで、測定面Ｗａの法線Ｖに対し、投光部２の光軸Ａ１の角度α１と、受光部３の光軸Ａ２の角度α２は、同一ではなく（α１≠α２）非対称な角度とされている。
【００２１】
これら入出射される光の角度α１とα２を合計した角度（α１＋α２）は、例えば８５°であり、従来と同様の角度を有している。
そして、この受光部３の受光レンズ７は、正反射時の角度位置（１点鎖線で記載）に対して、この受光レンズ７のアパーチャ（径）が重ならず避けた位置となるよう配置されている。
【００２２】
図２は、測定対象Ｗを示す側断面図である。
測定対象Ｗは、基板２０の反射率が高く、この基板２０上に反射率の低い凸部２１が複数形成されている。
凸部２１の幅Ｌ１及び隣接する凸部２１，２１同士の間隔Ｌ２（凹部２２の幅）は、変位測定装置で測定可能な間隔（即ち、測定光のビーム径Ｌ３程度）であり、この凹部２２は反射率が高い状態にある。
測定対象Ｗは、例えばウェハーであり、このウェハー上に凹凸として微細パターンが形成されたものである。
【００２３】
このような測定対象Ｗの測定面Ｗａ（凸部２１及び凹部２２）に対して投光部２から測定光Ａ１を角度α１で照射すると、この角度α１と対称位置に同角度α１’で反射光Ａ１’が正反射される。
また、角度α２を有する受光部３の光軸Ａ２上には、測定面Ｗａで散乱した光（散乱光）が入射し、受光素子１０は、この散乱光を受光して測定面Ｗａの変位量を検出する。
【００２４】
具体的には、測定光が凹部２２に照射されている際には、この反射率の高い凹部２２は、反射光の殆どを角度α１’方向に正反射させ、受光部３の光軸Ａ２上にはレベルの低い散乱光が反射されることになる。
【００２５】
同様に、測定光が凸部２１に照射されている際の状態を説明する。
測定光のビーム幅は、上述の如く凸部２１の幅程度であるが、このビームの裾の部分は凹部２２に照射されている。凸部２２は、反射率が低いため、受光部３の受光素子１０で検出される受光レベルは低い状態にある。
ここで、反射率の高い凹部２２は、角度α１’方向に光を正反射させる。そして、受光部３の光軸Ａ２は、この反射角度α１’上になく、散乱光を検出する構成であるため、受光素子１０では、凹部２２からのレベルの高い反射光を検出することがなく、凸部２２に比して低いレベルの散乱光を検出するのみである。
【００２６】
図３は、凸部２１の測定時の受光レベルを示す図である。
凸部２１を測定している際には、この凸部２１、及び凹部２２からの散乱光が受光部３の光軸Ａ２から受光素子１０で検出される。
しかしながら、反射率の高い凹部２２からの反射光は、大部分が角度α１’方向に正反射されるため、図示のように、ビームの裾ＳＬの部分の受光レベルが低く、凸部２１の受光レベルの方が相対的に高くなるため、凸部２１の変位量を正確に検出できるようになる。
【００２７】
図４は凹凸の検出波形を示す図である。
（ａ）は測定する凹凸であり、従来は（ｂ）の波形図に示すように凹凸の形状が歪んでいた。特に、凹部２２の反射の影響により凸部２１の高さｈが低くなるという問題があった。
しかし、上記実施形態の構成によれば、（ｃ）の波形図に示す如く凹凸を正確に検出できた。これは、特に凹部２２からの光の反射の影響を低減できることに基づく。
【００２８】
〔第２実施形態〕
次に、本発明の第２実施形態を説明する。
この実施形態においても、測定面Ｗａに反射量が少ない凸部２１、及び反射面の凹部２２を有する測定対象Ｗの測定を前提とする。
そして、この実施形態では、投光部２及び受光部３の光軸Ａ１，Ａ２は、測定面Ｗａの法線Ｖに対して対称な角度（α１＝α１’、α１＋α１’＝８５°）に配置されており、必要に応じてこれら投光部２、受光部３全体を傾斜させる構成となっている。
【００２９】
図５の動作図に示すように、投光部２、受光部３は、筐体３０内に一体で設けられる。この筐体３０の側面には、法線Ｖの位置上に支軸３１、及び支持溝３２が設けられている。支持溝３２は、光軸Ａ１，Ａ２の交差点（測定面Ｗａ上のビーム照射点）を中心とする所定角度の円弧状に形成され、照射点を固定のまま筐体３０は角度変更手段４２ｅ（図示略）により図中一点鎖線で示す如く傾斜自在である。傾斜角度は支持溝３２によって変位測定が可能な所定の角度範囲に設定されている。
【００３０】
また、筐体３０は、移動手段４１により測定対象Ｗに対し水平な横方向（Ｘ軸）に移動可能となっている。逆に移動手段４１は、測定対象Ｗを同横方向に移動させる構成としてもよい。
【００３１】
図６は、装置の電気的構成を示すブロック図である。
受光素子１０から出力される変位信号は、制御手段４２に入力される。制御手段４２は、ＣＰＵ等のマイクロプロセッサと、ＲＯＭ，ＲＡＭ等の記憶部等を有しており、測定プログラムに基づき後述の測定動作を実行制御する。
【００３２】
制御手段４２には、測定プログラムの各機能に対応した複数の手段が設けられている。
移動制御手段４２ａは、移動手段４１を制御して筐体３０を横方向Ｘに移動させ、ビームを凹凸に照射させてこの凹凸を検出させる。
凹凸検出手段４２ｂは、測定対象の凸部２１の幅（Ｘ方向の幅）、及び凹部２２の幅を検出する。
光量検出手段４２ｃは、移動手段４１の移動で凹凸を検出していった際における受光レベルをそれぞれ検出する。
【００３３】
比較判定手段４２ｄには、凹凸検出手段４２ｂで検出された凹凸について、それぞれ光量検出手段４２ｃで検出された凸部２１（粗面）での受光レベルと、凹部２２（反射面）での受光レベルをそれぞれ判別する。
そして、これら凸部２１と凹部２２の受光レベルの差分を求める。得られた差分が所定の範囲内となったか否かを判定する。即ち、上記差分が所定値以上となったか（凸部２１の受光レベルに対し凹部２２の受光レベルが所定値まで下がったか）否かを検出し、判定を出力する。
角度変更手段４２ｅは、比較判定手段４２ｄの判定が所定範囲を超えている期間中は筐体３０を一方向に連続的に傾斜させる。
【００３４】
上記制御手段４２の制御処理により、凹凸の受光レベルが所定範囲以上となった角度位置で筐体３０が固定される。
これにより、凹部２２からの反射が凸部２１の変位量に影響を及ぼさない状態となるようセットでき、この状態で測定面Ｗａの変位量を測定していくことができる。
この測定時には、前記筐体３０の角度位置が前記最適位置のまま固定した状態で、移動手段４１が筐体３０を測定面Ｗａ上で横方向Ｘに移動させることにより、順次凹凸の変位量を検出していくことができる。
【００３５】
〔第３実施形態〕
次に、本発明の第３実施形態を説明する。
この実施形態では、図７の側断面図に示すように、測定対象Ｗの測定面Ｗａの凹凸の反射状態が途中から異なる場合に対応する構成である。
測定面Ｗａ上の凹凸の幅は上記同様にほぼ同一でありかつ、ビーム径程度であるとする。また、この測定面Ｗａ（基板２０の表面、即ち、表出する凹部２２）は、移動方向Ｘに沿って所定の範囲Ｘ１と、範囲Ｘ２とで材質が異なっている。
凹部２２について、範囲Ｘ１では反射が少なく（粗面）、範囲Ｘ２では反射状態が高い（鏡面状態）とする。なお、凹部２２上の凸部２１は、全域に渡っていずれも反射が少ない（粗面）であったとする。
【００３６】
このような測定対象Ｗを測定する場合においても、第２実施形態の構成をそのまま用いて凹凸の変位量を検出していくことができる。
移動手段４１により筐体３０が横方向Ｘに移動していく際において、範囲Ｘ１では当初この筐体３０の角度が通常位置にあったとする。
移動手段４１の移動により範囲Ｘ１を移動していく期間中は、凹部２２の反射と凸部２１の反射量に大きな差がなく正常に変位量を測定できる。
【００３７】
そして、範囲Ｘ２に達して凹部２２が反射面となった場合には、凹部２２からの反射量が高くなるため、凸部２１の変位量を測定している際にこの凹部２２からの反射の影響を受ける状態となる。
このとき、光量検出手段４２ｃは、凸部２１での受光レベルと、凹部２２での受光レベルをそれぞれ検出する。比較判定手段４２ｄは差分が所定の範囲内となったか否かを判定する。これにより、上記筐体３０が通常の角度位置のままでは差分が所定範囲を超えるため、角度変更手段４２ｅにより筐体３０の角度が変更される。
【００３８】
これにより、範囲Ｘ２においては、筐体３０の角度が変更され、凸部２１を凹部２２からの反射の影響を軽減させた状態で測定することができるようになる。このように、測定面Ｗａの反射状態が測定途中から変わるような測定対象Ｗを測定することができるようになる。
なお、範囲Ｘ１の変位量を測定する期間中においては、筐体３０の角度が所定角度傾斜した状態であっても、受光レベル全体が低下する程度であり変位量測定は行える。
【００３９】
また、上記凹部２２の反射状態が予め設計、製造時等に判っている場合がある。例えば基板２０製造時には予め凹部２２の配置位置が設定されている。このようなデータベースがある場合、制御手段４２はこのデータべースに格納された位置情報を基に移動手段４１の移動位置を検出し、反射率の高い凹部２２部分を移動する期間中は、角度変更手段４２ｅにより筐体３０の角度を予め設定した角度に傾斜させる構成としてもよい。
【００４０】
以上説明した変位測定装置は、測定面Ｗａ上に１点の測定光を照射する１点測定型の構成について説明したが、これに限らない。例えば、測定光を偏向する偏向手段を備え、図１，図７等に示す奥行き方向に測定光を走査する走査型の変位測定装置に適用しても上述と同様の作用効果を得ることができる。
【００４１】
上記実施形態では、凸部２１に対して凹部２２の反射率が高い場合に凸部２１測定時に問題が生じる点の説明を例としたが、これに限らず、凹部２２に対して凸部２１の反射率が高い場合には凹部２２測定時に同様の問題が生じる。この場合であっても、上記構成によれば、凹部２２の変位量（溝深さ）を正確に測定できるようになる。
【００４２】
【発明の効果】
本発明の請求項１記載の方法によれば、前記測定対象の凹部と凸部の光の反射率が大きく異なり、かつ、これら凹部と凸部の間隔が測定光のビーム径程度である場合においては、前記測定対象からの反射光の正反射成分が受光系の光軸から外れる位置に前記受光部を配置させ、受光部で反射光の散乱成分を検出させることにより、凹凸の変位量を反射率の影響を受けずに正確に測定できるようになる。
請求項２の方法によれば、筐体を受光部の受光レンズのアパーチャ分だけ傾けるだけで反射光の正反射成分を受光せず、反射光の散乱成分を検出でき凹凸の変位量を正確に測定できるようになる。
請求項３の方法によれば、測定対象の測定面に対する法線を基準として、投光部の光軸の角度と、受光部の光軸の角度が等分とならない角度に配置させることにより、受光部で反射光の散乱成分が検出でき、凹凸を反射率の影響を受けずに正確に測定できるようになる。
【００４３】
本発明の請求項４記載の装置によれば、投光部と受光部を一体に備えた筐体を、制御手段が測定対象の測定面に対する法線を中心として、前記投光部の光軸の角度と受光部の光軸の角度が非対称となるよう前記筐体の角度を可変させることにより、受光部で反射光の散乱成分が検出でき、凹凸の変位量を反射率の影響を受けずに正確に測定できるようになる。
請求項５記載の装置のように、筐体に支持溝を設け、支持軸を介して傾斜可能に構成することにより、制御手段の角度変更手段が筐体の角度位置を可変させて測定する構成にすることもできる。
請求項６記載の装置の如く、制御手段において、凸部と凹部の幅と、受光レベルを検出し、凸部および凹部それぞれで検出された光量の差分に基づき、筐体の角度を位置を可変制御する構成としてもよく、この構成によれば、測定対象の凹凸の反射率の差分を検出して凹凸の変位量を正確に測定できる角度となるよう筐体を角度可変できるようになる。併せて、予め凹凸の反射状態が判らなくても測定が開始できるようになる。
請求項７記載の装置によれば、筐体を移動させて測定対象の複数の凹凸を連続的に測定していくことができるようになる。
請求項８記載の装置によれば、予め測定対象の凸部及び凹部における反射状態に関するデータがあれば、制御手段はこのデータに基づき凸部と凹部の間の光量の差分が大きな範囲箇所を検出して該範囲を移動走査する期間中においては、前記筐体を所定の傾斜角度に傾斜させて測定することができるようになる。
本発明は、例えば、凹部の反射率が高く凸部の反射率が低い状態で、凸部の変位量を測定する場合に、凹部からの反射光の影響を低減化させて凸部の変位量を正確に測定できるようになる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の変位測定装置の第１実施形態の構成を示す概要図。
【図２】測定対象を示す側断面図。
【図３】凸部の測定時の受光レベルを示す図。
【図４】凹凸の検出波形を示す図。
【図５】装置の動作を示す側面図。
【図６】第２実施形態の電気的構成を示すブロック図。
【図７】第３実施形態における測定対象を示す側断面図。
【図８】従来の変位測定装置を示す図。
【図９】照射ビームの強度分布を示す図。
【図１０】従来の装置の動作を説明するための図。
【符号の説明】
１…変位測定装置、２…投光部、３…受光部、６…投光レンズ、７…受光レンズ、１０…受光素子、１０ａ…受光面、２０…基板、２１…凸部、２２…凹部、３０…筐体、３１…支軸、３２…支持溝、４２…制御手段、４２ａ…移動制御手段、４２ｂ…凹凸検出手段、４２ｃ…光量検出手段、４２ｄ…比較判定手段、４２ｅ…角度変更手段、Ａ１…投光部の光軸、Ａ１’…測定光の光束中心の正反射方向、Ａ２…受光部の光軸、Ｌ１…凸部の幅、Ｌ２…凹部の幅、Ｌ３…光ビームの幅、ＳＬ…光ビームの裾。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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