(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
被加熱物を加熱する加熱室と、前記加熱室へ電波を照射するように結合された高周波発生手段と、前記加熱室内に蒸気を供給する水を蒸発させる加熱手段を備えた蒸発装置と、前記蒸発装置に水を供給する給水部と、前記給水部の水量を調節する水量調節手段と、前記給水部への水を蓄える貯水器と、前記加熱室内の湿度を測定する測定手段と、制御部とを備え、前記制御部は、調理開始後、一定の時間内に加熱室の湿度が一定の値以上にならないとき、蒸発装置の加熱と給水部への給水を停止させると共に、その結果を使用者に知らせる手段を持つ高周波加熱装置。
【請求項２】
蒸発装置を加熱室内に設け、前記蒸発装置は蒸発部の材質をセラミックとし、前記蒸発部の蒸発面に高周波によって発熱する発熱体を塗布した請求項１に記載の高周波加熱装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】
本発明は高周波及び蒸気によって被加熱物を加熱する高周波加熱装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
図１５は従来の高周波加熱装置の断面図である。加熱室１にはマグネトロン２を設けている。加熱室１内には低誘電率材料で構成した容器３を設け、底部に水４を入れている。容器３の上には容器５を設ける。容器５の底面には小穴６を設けている。容器５には食品７を載置する。容器５の上面は蓋８でカバーする。マグネトロン２からの電波は容器３内の水４を高周波加熱し、蒸気を発生する。この蒸気は小孔６から容器５内に入り、食品７をスチーム加熱する。
【０００３】
図１６は従来の他の高周波加熱装置の断面図である。加熱室９にはマグネトロン１０を設けている。加熱室９内には被加熱物である食品１１を設けている。食品１１は皿１２に入れられている。加熱室９の外にはタンク１３を設け内部に水１４を入れる。タンク１３の底部にはヒータ１５を設け、水１４を加熱し蒸気を発生する。発生した蒸気はパイプ１６を通って加熱室９内に入る。食品１１はマグネトロン１０からの電波で高周波加熱される。また食品１１はタンク１３からの蒸気によってもスチーム加熱される。
【０００４】
図１７は従来の他の高周波加熱装置の断面図である。加熱室１９にはマグネトロン１８を設けている。加熱室１９内には低誘電率材料で構成した多孔質の吸水材１７で加熱室１９の上面及び側壁面を覆い、吸水材１７に水を含ませ、マグネトロン１８からの電波で吸水材１７から蒸気が出てこの蒸気で食品２０は電波と共に加熱される。
【０００５】
このような従来の構成によって食品を高周波加熱あるいはスチーム加熱を行っていた。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、このような構成において、食品の高周波加熱で高い湿度の雰囲気中で行うもの例えばスチーム調理に近い加湿を行うものや高周波加熱に付随する食品の過加熱や脱水状態を防止するために行う加湿など過去からいろいろ行われてきたものは、高周波加熱による食品の加熱変化過程に対応する食品の保湿程度を制御出来る加湿機能が備わっていなっかた為食品を程良く安定して仕上げる事が困難であった。また必要以上の蒸気の発生で食品がべとべとになったり、加熱室の壁面が露滴し水浸しになったりする事にもなった。
【０００７】
まず図１５に示す従来例では、容器の中へ食品を入れ加湿加熱するため、蒸気が容器内にこもり過ぎ茶碗蒸しなどの蒸し料理には適するが、解凍を含めた通常の食品の場合は、食品の表面が余分の水分でべとべととなり適さなかった。さらに容器にためた水から蒸気を出すまでにも時間がかかり、場合によっては食品を加熱する前に予め水の温度を上げておくなどの事前準備の必要もあった。
【０００８】
また図１６に示す従来例では、蒸気が図１５の例のように食品のまわりにこもり過ぎないが、貯水器などに溜めた水をヒータなどで加熱し温度を上げて蒸発させるので、蒸気を出すまでに時間がかかり、また一旦蒸気が出始めるとヒータを切っても貯水器の温度が下がるまで蒸気が出続けるので、加熱室の湿度の制御をしようとする場合困難であった。さらにタンクに水をためヒータで加熱する方式のため、タンクの水が蒸発し濃縮されることにより水に含まれるカルシュウムやマグネシュウムなどのいわゆる水垢が析出しヒータやタンク内壁に付着しタンク内に沈殿してくる。このため蒸発の熱効率が落ちると共にタンクの掃除を頻繁にする必要があった。
【０００９】
また図１７に示す従来例では、吸水材を適度に湿らせて使えば、図１５や、図１６などの例より蒸気が発生するのは早いが一旦出始めた蒸気を止める手段がないため食品に対し適度の湿度を作ることが出来ない。さらに、吸水材の水が調理を進めると共に蒸発により減少し吸水材の水の量が変化する。これにより、食材の電波による加熱が吸水材の水の残量の変化により影響を受けるので高周波加熱と蒸気加熱のバランスが不安定になり調理結果が安定しない要因となっていた。
【００１０】
いずれの従来例においても、食品を高周波加熱に対応するきめの細かい加湿で調理をすることが出来なかった。
【００１１】
そこで本発明は、蒸発装置の加熱手段や給水部の故障や貯水器の水切れあるいは加熱室への蒸気の通路の目詰まりなどで、加熱室の湿度が上がらないとき、不必要な蒸発装置の加熱や、給水部からの水の垂れ流しを防ぐと共に食品の加湿不足による失敗を防ぐ事が出来る高周波加熱装置を提供することにある。
【００１２】
また、蒸発装置を加熱室内に設け、前記蒸発装置は蒸発部の材質をセラミックとし、前記蒸発部の蒸発面に高周波によって発熱する発熱体を塗布する事により蒸発装置の加熱を高周波で行い特別な蒸発装置の加熱部がない簡単な構成の高周波加熱装置を提供することにある。
【００１３】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するために本発明の高周波加熱装置は下記構成とした。
【００１４】
すなわち、被加熱物を加熱する加熱室と、前記加熱室へ電波を照射するように結合された高周波発生手段と、前記加熱室内に蒸気を供給する水を蒸発させる加熱手段を備えた蒸発装置と、前記蒸発装置に水を供給する給水部と、前記給水部の水量を調節する水量調節手段と、前記給水部への水を蓄える貯水器と、前記加熱室内の湿度を測定する測定手段と、制御部とを備え、調理開始後、一定の時間内に加熱室の湿度が一定の値以上にならない時、蒸発装置の加熱と給水部への給水を停止させると共に、その結果を使用者に知らせる手段を持つ構成とした。
【００１５】
また、上記に加え、蒸発装置を加熱室内に設け、前記蒸発装置は蒸発部の材質をセラミックとし、前記蒸発部の蒸発面に高周波によって発熱する発熱体を塗布した構成とした。
【００１６】
【作用】
本発明は上記構成によって下記の作用を有する。
【００１７】
制御手段を用いる事により、加熱室への蒸気の通路の目づまりや蒸発装置の給水部から水が出ないなどの故障などで結果的に加熱室の湿度が一定の時間内例えば設定された食品の調理時間内に一定の値以上にならないとき、給水部への給水を止めて蒸発装置の機能を停止しすると共に、その結果を知らせる手段で使用者に知らせることができる。
【００１８】
また、蒸発装置を加熱室内に設け、前記蒸発装置は蒸発部の材質をセラミックとし、前記蒸発部の蒸発面に高周波によって発熱する発熱体を塗布する事により蒸発装置は高周波で発熱体が発熱し給水部からの水を蒸発させるので、蒸発装置に特別な加熱部を必要としない。
【００１９】
【実施例】
以下本発明の一実施例における高周波加熱装置について図面とともに説明する。
【００２０】
（実施例１）
図１は本発明の一参考例による高周波加熱装置の断面図である。図２は図１を制御する高周波加熱装置の本体回路図である。図１に示すように、加熱室２１の上部には導波管２２を連結して設ける。導波管２２には電波発振管であるマグネトロン２３を設ける。マグネトロン２３からの電波は、導波管２２を介して開口２４から加熱室２１内に照射される。加熱室２１の下部には被加熱物である食品２５を低誘電率材料で構成した被加熱物載置台２６に置く。加熱室２１の側面に蒸気を発生させる蒸発装置８５併設し、蒸発装置８５と加熱室２１の間は、蒸気が通る開口３４を有している。蒸発装置８５内の下部に蒸発させる水の受け皿を持つ蒸発部２８を持ち、その蒸発部２８はヒータ２９を内蔵しており、それにて加熱される。蒸発部２８に供給する水は、蒸発部２８の上部に給水開口を持つ給水部２７より蒸発部２８に落とされる。給水部２７は給水を制御する電磁弁３０を介しＰＰなど樹脂成型品で作られた貯水器３１につながっており、貯水器３１より低い位置に設けて重力で水が流れ落ちるようにしている。貯水器３１は、給水キャップ３３を有しそれを開けて水を注入する。さらに加熱室２１の壁面に電波を遮断し且つ加熱室２１内と通気可能な開口３５を設け、加熱室２１の外側のこの部分に湿度センサー３６を備えている。
【００２１】
この構成により、高周波加熱装置がスタートすると、マグネトロン２３から電波を発振し加熱室２１内に照射され食品２５を高周波加熱する。一方蒸発装置８５のヒータ２９にも通電され蒸発部２８を加熱する。蒸発部２８が十分な温度になると電磁弁３０が開き給水部２７へ水が供給され蒸発部２８に水が落ちる。蒸発部２８は十分温度が上げられており蒸発部２８に落ちた水は、素早く蒸発する。蒸発装置８５で蒸発した蒸気は順次、蒸発装置８５から押し出され加熱室２１に流入し加熱室２１の湿度を上げ食品２５を加湿する。加熱室２１の湿度は、同時に加熱室側壁の開口３５を通し湿度センサー３６で測定される。湿度センサー３６は、図２の制御回路４０につながっており、湿度センサー３６が測定した値に対応して制御回路４０は電磁弁３０に直列に接続されたリレー３８を断続して給水部２７から出る水を制御し、給水部２７の水を止めれば、蒸気の発生が止まるので、加熱室２１の湿度は下がる。湿度を上げるには、電磁弁３０を開ければよい。蒸発部２８のヒータ２９も直列に接続されたリレー３７を制御回路４０で制御する事により蒸発部の温度を制御できるので、蒸気の蒸発スピードと蒸気の温度が制御可能である。貯水器３１や配管のチューブ７６は、加熱部を持たないので水の加熱にともなう水垢がたまる事もないので水垢除去が不要で衛生的である。従って高周波加熱装置をスタートさせて素早く蒸気を作り加熱室２１に送り込むことが出来ると共に加熱室２１の湿度を任意に設定し制御できるので、簡単な構成で安定したきめの細かい加熱加湿制御でいろいろの調理に対応できる物である。
【００２２】
また、加熱室２１内の食品２５の周りの湿度が湿度センサー３６と制御回路４０と電磁弁３０の前述の働きで飽和蒸気前後になるよう制御回路４０の回路定数を決める。この構成により、食品２５の回りの湿度が飽和蒸気前後に安定して制御されるので、高周波加熱のみで行う欠点の食品の脱水によるちぢみや硬化、あるいは過飽和蒸気による食品２５表面のべとつきや加熱室２１の壁面が露滴で水浸しとなる事などが防止でき従来のスチーム調理と違った蒸気によるおいしい調理が安定的且つ簡単に出来る。
【００２３】
また、加熱室２１内の湿度を測定する湿度センサー３６と制御回路４０を用い、制御回路４０の回路定数を調理に必要な湿度に対応する値に決める。その値に対し、達していない間は高周波加熱が開始しないよう図２に示すリレー３９はＯＦＦのままとし、達すればリレー３９をＯＮにし高圧トランス４３に通電してマグネトロン２３が働き高周波加熱が開始される。この構成により、加熱室２１が必要な湿度になっていない状態で高周波加熱が始まり食品２５の加熱仕上がりが悪くなるのを防ぐ事が出来るので、少量の食品の加熱など短時間で調理が終わるものの加熱仕上がりの失敗が防げる。
【００２４】
また、加熱室２１内の湿度を測定する湿度センサー３６と制御回路４０を用い、高周波加熱装置がスターとしてから例えば設定された食品の調理時間などの一定の時間内に加熱室２１内の湿度が制御回路４０の回路定数の設定で決めたある一定値に達しないとき、制御回路４０より信号を出してリレー３７とリレー３８とリレー３９をＯＦＦし蒸発部２８の加熱と蒸発部２８への給水を停止し、マグネトロン２３への給電も停止させると共に表示管４１に蒸気が出てない旨の表示例えば「給水」の表示をする。この構成により、加熱室２１への蒸気の通路の目づまりや蒸発装置８５の給水部２７から水が出ないなどの故障や、加熱室２１の湿度が上がらない故障になったとき給水部２７への給水を止めて蒸発装置８５の機能を停止すると共に、その結果を知らせ、蒸発部２８の保護あるいは食品２５の加湿不足による失敗を防ぐ。
【００２５】
また、加熱室２１内の湿度を測定する湿度センサー３６と制御回路４０を用い、加熱室２１内の湿度が制御回路４０の目標湿度に対応する回路定数に対して高い湿度状態になったとき、制御回路４０より信号を出してリレー３８をＯＦＦし電磁弁３０を閉じて蒸発部２８への給水を停止することにより、加熱室２１の加湿を止める。加熱室２１の湿度が目標湿度を下回れば電磁弁３０をＯＮし蒸発部２８へ給水し加熱室２１へ蒸気を供給する。この構成により、給水部の断続により蒸発部で必要な蒸気のみ蒸発させるので、蒸気の発生停止を短時間で行えるので、蒸気発生は時間応答性が良くきめの細かい制御が可能である。
【００２６】
（参考例１）
図３は本発明の他の参考例による高周波加熱装置の断面図である。図４は図３の加熱室４４内から見た循環ファン５１に面した壁面の吸排気開口部を示す部分図である。図３に示すように、加熱室４４の上部には導波管４５を連結して設ける。導波管４５には電波発振管であるマグネトロン４６を設ける。マグネトロン４６からの電波は、導波管４５を介して加熱室４４内に照射される。加熱室４４の下部には被加熱物である食品４９を低誘電率材料で構成した被加熱物載置台５０に置く。加熱室４４の後面の外側に加熱室４４の空気や蒸気を循環させる循環ファン５１を設け、循環ファン５１はモーター５２で回転させる。循環ファン５１の回りは壁で仕切られ、加熱室４４の後面は図４にも示すように加熱室４４の空気や蒸気が循環ファン５１へ流入する開口４８と循環ファン５１で加熱室４４へ吹き出す開口４７を有している。また循環ファン５１の下側は、蒸気を発生させる蒸発装置８６を設け、蒸発装置８６には、水を蒸発させる蒸発部２８と蒸発部２８を加熱するヒータ２９と蒸発部２８に水を供給する給水部２７を有している。給水部２７への水は、給水する水を制御する電磁弁３０を介して水を溜めるＰＰなど樹脂成型品で作られた貯水器３１から送られる。さらに加熱室４４の壁面に電波を遮断し且つ加熱室４４内と通気可能な開口５７を設け、そこの加熱室４４の外側に湿度センサー３６を備えている。蒸発装置８６で発生した蒸気は、循環ファン５１の下側に設けた仕切り板５３と加熱室４４の裏板との間の隙間８７を通り循環ファン５１の中心部へ吸気される。
【００２７】
この構成により、蒸発装置８６で発生した蒸気は前述の通り循環ファン５１が回転することにより循環ファン５１の中心部に吸引され次に押し出されて加熱室４４の開口４７を通して加熱室４４内に入り加熱室４４を加湿する。また加熱室４４の開口４８を通って再び循環ファンに５１の中心部へ吸引され、蒸発装置８６からの蒸気含みつつ加熱室４４内を循環する。蒸発装置８６の蒸発部２８とそのヒータ２９と給水部２７、そして給水部２７へ給水するための貯水器３１と電磁弁３０、これらの働きとその制御は図１と図２を用いて説明した物と同じでありその説明は省略する。循環ファン５１の機能があることにより、加熱室４４内の蒸気を循環させる事が出来、より加熱室４４内の湿度の均一化がはかれる。調理の仕上がりの均一化はもとより循環ファン５１のないときの加熱室内の局所的な高湿度部分例えば加熱室４４の蒸気の吹き出し口などの露滴しやすい部分の露滴も少なくでき加熱室が清潔で使いやすくなる。
【００２８】
（参考例２）
図５は本発明の他の参考例による高周波加熱装置の断面図で、図３で示した高周波加熱装置を多段調理が出来るよう加熱室側面に被加熱物載置台のレールを設け、各被加熱物載置台の上面に循環ファンからの送風が行き渡るよう加熱室の壁面の開口を側面とした物で他は循環ファン、蒸気発生構造、機能とも図３と同じであり説明を省略する。図５に示すように、加熱室８９には食品５６が多段調理できるように加熱室８９の側面に食品５６を乗せる被加熱物載置台９０のレール５５を多段に設けている。加熱室８９の循環ファン５１に面した側壁面に循環ファンへの吸気の開口９２と加熱室８９への吹き出しの開口９１を有し、それら開口と多段の被加熱物載置台９０とは、蒸気を含む空気が各被加熱物載置台９０の上面を循環するよう適宜隙間をとる。
【００２９】
この様な構成により、各棚の側面から食品に蒸気を往き渡らせ、多量の調理も均一な蒸気で電波と共に蒸気を生かした加熱が可能である。
【００３０】
（参考例３）
図６は本発明の他の参考例で、図３の高周波加熱装置の循環ファン５１の回りに循環風を加熱するヒータ５４を追加した物で、加熱室４４内から見た循環ファン５１に面した側壁面を示す部分図である。
【００３１】
図３で示す蒸発装置８６で発生した蒸気は、食品４９あるいは加熱室４４の壁面に触れる事などで熱エネルギーを失い温度の低下し過ぎた蒸気は調理に不要となる。それに対し加熱室４４内の蒸気を含む空気を図６に示すヒータ５４で加熱し循環させる事により、熱エネルギーの失われた蒸気が再び加熱され食品に当たるので、一度発生させた蒸気を再利用出来、新たにそのための蒸気を発生させる必要がない。それによって加熱室４４に余分の水蒸気がたまっていかないので、食品４９の加湿状態の安定化がはかれる。又不必要な蒸気の発生を抑える事になるので、貯水器３１の水の交換回数の減少にもなり、加熱室４４内の露滴の防止にもなる。
【００３２】
（参考例４）
図１で示す高周波加熱装置において、加熱室２１に加熱室２１内の蒸気を含む空気を調理中加熱室２１外へ出すような開口を設けていない。
【００３３】
この様な構成により、制御され調整された加熱室２１内の湿度が加熱室２１外の空気で乱される事がなく、安定した状態にする事が出来るので、よりきめの細かい調理が可能となる。
【００３４】
（参考例５）
図７は本発明の他の参考例による高周波加熱装置の断面図である。図７は図１の高周波加熱装置を加熱室内の蒸気や空気が換気出来るようにしたものである。図７に示すように、加熱室９３の壁面に加熱室９３外の空気を入れる開口５８と加熱室９３内の蒸気や空気を排出する開口６１を設けている。開口５８部には、加熱室９３の外側に排気ファン６０とそれを回す送風モーター５９を有している。
【００３５】
この様な構成により、加熱室９３内の湿度が図２の制御回路４０で設定した設定値に対し高すぎる時加熱室９３内の蒸気を含む空気を排気ファン６０を回すことにより排出し、低いとき排気ファン６０を止めて排出を止める。これによる加熱室９３内の吸排気で加熱室９３の湿度と温度を素早く下げる事が出来、また蒸発装置８５による素早い蒸発で加湿も応答良く出来るので、加熱室９３の湿度の可変応答性が良い事により、食品の調理過程で湿度をいろいろ可変したいとき応答良く対応が可能である。
【００３６】
（参考例６）
図８は本発明の他の参考例による高周波加熱装置の断面図である。図８は図１の高周波加熱装置の湿度センサー３６の加熱室９４への高さ方向の取り付け位置を、被加熱物載置台２６の食品２５の高さに合わせる。
【００３７】
この様な構成により、循環ファンなどで加熱室９４内の湿度の均一化を図らない場合、加熱室９４内の湿度は蒸気の持つ熱で下面より上面が高くなる傾向にあるので、湿度センサー３６を出来るだけ食品２５の高さに合わせる事により、湿度センサー３６が食品２５の加湿状態に近い湿度をとらえる事が出来るので、より正確に湿度を制御する事が出来る。
【００３８】
（参考例７）
図９は本発明の他の参考例による高周波加熱装置に有する貯水器とその水受け部回りの断面図である。図９に示す貯水器６４は図１ないし図３で説明した貯水器を高周波加熱装置から着脱自在出来るようにした物である。図９に示すように、貯水器６４は給水口のキャップ６７を有し、キャップ６７は貯水器６４の水６５を排出する開口７２を有している。貯水器６４はキャップ６７を下向きにして使い、キャップから出てくる水は、水受け６３に溜まる。水受け６３に溜まった水６６は、チューブ９６と電磁弁３０を通って蒸発装置へ給水される。キャップ６７と水受け部６３の構成は、水受け６３の水６６の水面がキャップ６７のＬ面から下になれば貯水器６４から水６５が排出され、Ｍ面のようにＬ面より高くなれば、水６５の排出は止まるので、前記Ｌ面の設定で貯水器６４の水６５は順次排出される物である。前記キャップ６７は、貯水器６４を水受け６３から外すと水６５の排出を弁７１で止める手段を有している。キャップ６７内は弁７１とバネ６８を備え、水受け６３には前記弁７１を押し上げるピン９７を備えて、貯水器６４を水受け６３に設置すれば、ピン９７がキャップ６７の弁７１を押し上げ開口７２が開き、貯水器６４を水受け６３から外すとバネ６８で弁７１が押し下げられ前記開口７２は閉じる。
【００３９】
この様な構成により、貯水器６４は着脱自在であるので、貯水器６４の給水が簡単に出来る。又調理後の貯水器６４の残り水の廃棄が容易に出来て、洗浄も簡単で蒸気に用いる水を簡単に清潔に維持管理出来る。
【００４０】
（参考例８）
図１０は本発明の他の参考例による高周波加熱装置に有する貯水器の断面図である。図１０に示す貯水器７４は図１や図３などで説明した貯水器として用いる物である。図１０に示すように貯水器７４の中に水７５を軟水化するイオン交換樹脂７３が詰め込んであり貯水器７４の給水キャップ９８より給水する。給水された水７５はイオン交換樹脂７３を通過して貯水器７４の下部９９にたまり、チューブ１００と電磁弁３０を通って蒸発装置へ送るられる。
【００４１】
この様な構成により、蒸発装置に析出し付着堆積する水垢を少なくし、前記水垢の除去が不要あるいは簡単になる。
【００４２】
（参考例９）
図１の高周波加熱装置と図２の図１を制御する高周波加熱装置の本体回路図において、加熱室２１内の湿度の可変を次の通り行う。湿度センサー３６と制御回路４０を用い、加熱室２１内の湿度が制御回路４０の目標湿度に対応する回路定数に対して高い湿度状態になったとき、制御回路４０より信号を出してリレー３８をＯＦＦし電磁弁３０を閉じて蒸発部２８への給水を停止することにより、加熱室２１の加湿を止める。加熱室２１の湿度が目標湿度を下回れば電磁弁３０をＯＮし蒸発部２８へ給水し加熱室２１へ蒸気を供給する。また、電波の出力の可変は、マグネトロン２３の電源トランスである高圧トランス４３の１次側を制御回路４０による制御でリレー３９を断続することにより電波の出力を可変する。
【００４３】
この様な構成により、加熱室２１内の湿度と電波出力を制御回路４０で制御でき食品の種類に応じ電波の出力と湿度の組み合わせを変え最適の加熱条件できめの細かい加熱調理が出来る。
【００４４】
（参考例１０）
図１の高周波加熱装置と図２の図１を制御する高周波加熱装置の本体回路図で、参考例１３のように加熱室内の湿度と電波出力を制御できるものにおいて、電波と湿度双方の制御の内容を制御回路４０に半導体メモリーを設け書き込む。使用者はその内容を選び実行できるものである。
【００４５】
この様な構成により、食品２５の種類に応じたいろいろな電波の出力と湿度の組み合わせを半導体のメモリーに書き込めるので、調理するとき必要なメモリーを呼出すのみで、少々複雑な調理内容でも簡単に出来、きめの細かい調理が可能となる。
【００４６】
（参考例１１）
図１１は本発明の他の参考例による高周波加熱装置の断面図である。図１１は図１の高周波加熱装置の加熱室２１内に食品２５に蒸気を導くガイド８２を設けたものであり、高周波加熱と湿度の制御回路は図２の通りである。図１１に示すように蒸発装置８５からの蒸気は開口３４から加熱室２１に入る。開口３４に蒸気を食品２５に導くガイド８２を設け、食品２５に蒸気が集中的に当たるようにしたものである。
【００４７】
この様な構成により、食品２５に蒸気を部分的に当てる事が出来るので食品２５が大きな場合や、広く分散している場合などの部分的な加熱制御が出来加熱の更なる出来映えの良さの実現が可能である。
【００４８】
（参考例１２）
図１２は本発明の他の参考例による高周波加熱装置の断面図である。図１２は図１の高周波加熱装置の蒸発装置を加熱室内に設けたものであり、高周波加熱と湿度の制御の回路は図２の通りである。図１２に示すように、蒸発装置を加熱室９５内に設け、加熱装置は加熱部７８と水を蒸発させる蒸発部７７に分離し蒸発部７７はヒータ２９で加熱する加熱部７８から着脱自在にしている。蒸発部７７の上部には給水部８１を設けて蒸発させる水を蒸発部７７に落とす。給水部８１は加熱室９５の壁面を貫通し加熱室の外へチューブ１０１でつながり、電磁弁３０に接続されている。電磁弁３０から貯水器３１への給水の構成は、図１で説明したと同じであり説明を省略する。また蒸気の発生とその制御も図１と図２で説明したものと同じでありこれについても説明を省く。
【００４９】
この様な構成により、蒸発部７７が加熱室９５から簡単に着脱出来るので、蒸発装置に出来る水垢の掃除が簡単に出来る。
【００５０】
（実施例２）
図１３は本発明の他の実施例による高周波加熱装置の断面図である。図１３は図１２による実施例の蒸発装置を変えたものであり、高周波加熱と湿度の制御の回路は図２の通りである。図１３に示すように、蒸発装置は加熱室９５内に備えており、蒸発装置には図１２に示す蒸発装置の加熱部７８やヒータ２９がないものであるが、しかし材質がセラミックの蒸発部８３を有している。蒸発部８３は、水が蒸発する面に高周波で発熱する磁性フェライト８４が塗布されている。
【００５１】
この様な構成により、高周波加熱装置をスタートし加熱室９５にマグネトロン２３が発振すれば磁性フェライト８４は急速に加熱され給水部８１より蒸発部８３に水が落とされれば水は、素早く蒸発する。
【００５２】
この様な構成により、今までの実施例で述べた特徴をほぼ生かしつつ、蒸発装置にヒータを持たない簡単な構成の高周波加熱装置が出来る。
【００５３】
（参考例１３）
図１４は本発明の他の参考例による高周波加熱装置の断面図である。図１４は図１の高周波加熱装置から加熱室側壁の開口３５と湿度センサー３６をはずしたものである。高周波加熱と湿度の制御の回路は図２の通りである。図１４に示すように、蒸発装置２８で作られた蒸気は加熱室１０２に入り食品１０３に供給されるが、湿度センサーがないため食品１０３の加湿状態をフィードバックして蒸発装置２８の発生蒸気を制御できない。しかし食品１０３が一定の食品を多量繰り返し調理する場合は、湿度センサーなどによる加湿条件の細かい調整は不要で省く事が出来る。図２の制御回路４０にあらかじめ決めた調理条件の常数を組み込んで置く。使用者は、調理に対応する常数で調理すれば、決められた条件での繰りかし調理が簡単に出来るものである。
【００５４】
【発明の効果】
以上のように本発明の高周波加熱装置においては、以下の効果が得られる。
【００５５】
（１）加熱室への蒸気の通路の目づまりや蒸発装置の給水部から水が出ないなどの故障で結果的に加熱室の湿度が一定の時間内例えば設定された食品の調理時間内に一定の値以上にならないとき蒸発装置の機能を停止しその結果を知らせる手段を持っているので蒸発装置の加熱部の保護あるいは食品の加湿不足による失敗を防げる。
【００５６】
（２）蒸発装置を加熱室内に設け、前記蒸発装置は蒸発部の材質をセラミックとし、前記蒸発部の蒸発面に高周波によって発熱する発熱体を塗布する事により高周波で蒸発部の発熱体が発熱し給水部からの水を蒸発させるので、蒸発装置に特別な加熱部が不要の簡単な構成の高周波加熱装置が出来る。
【００５７】
以上このように本発明によれば簡単な構成により、加熱性能が極めて高く、しかも使い勝手がよい高周波加熱装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施例における高周波加熱装置の断面図
【図２】同高周波加熱装置の本体回路図
【図３】本発明の他の参考例における高周波加熱装置の断面図
【図４】図３の循環ファン部の加熱室吸排気開口の部分図
【図５】本発明の他の参考例における高周波加熱装置の断面図
【図６】図３のヒータを有する場合の循環ファン部の加熱室吸排気開口の部分図
【図７】本発明の他の参考例における高周波加熱装置の断面図
【図８】本発明の他の参考例における高周波加熱装置の断面図
【図９】本発明の他の参考例における高周波加熱装置の貯水器の断面図
【図１０】本発明の他の参考例における高周波加熱装置の貯水器断面図
【図１１】本発明の他の参考例における高周波加熱装置の断面図
【図１２】本発明の他の参考例における高周波加熱装置の断面図
【図１３】本発明の他の実施例における高周波加熱装置の断面図
【図１４】本発明の他の参考例における高周波加熱装置の断面図
【図１５】従来の高周波加熱装置の断面図
【図１６】従来の他の高周波加熱装置の断面図
【図１７】従来の他の高周波加熱装置の断面図
【符号の説明】
２１、４４、８９、９３、９４、１０２  加熱室
２３、４６  マグネトロン（高周波発生手段）
２７  給水部
２８  蒸発部
２９  ヒータ（加熱手段）
３０  電磁弁（給水の制御手段）
３１  貯水器
３６  湿度センサー（湿度測定手段）
４０  制御回路
５１  循環ファン
６４  貯水器（着脱自在）
８２  ガイド（蒸気ガイド）
７７  蒸発部（着脱自在）
８３  蒸発部（発熱体付き）
８４  磁性フェライト（発熱体）
８５、８６  蒸発装置
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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