(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
磁性層を複数積層した積層体から成り、該積層体の積層面に対して垂直な磁極端面が形成された磁心と、この磁心の周囲に設けられたコイルと、前部構成部材と後部構成部材から成り光磁気記録媒体上を走行するスライダーとを有し、前記磁極端面が前記光磁気記録媒体に対して平行で、且つ前記積層体の積層面が前記光磁気記録媒体の相対的な移動方向に垂直となるように、前記磁心を前記前部構成部材と前記後部構成部材との間に挟んで接合した構成から成ることを特徴とする磁気ヘッド。
【請求項２】
光磁気記録媒体にレーザ光を収束して照射する光ヘッドと、該レーザ光の照射部位に情報信号により変調された磁界を印加する磁気ヘッドと、上記光磁気記録媒体を上記光ヘッドおよび磁気ヘッドに対して相対的に移動させる手段と、を備えた光磁気記録装置において、
上記磁気ヘッドは請求項１に記載の磁気ヘッドであることを特徴とする光磁気記録装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】
本発明は磁気ヘッドおよび光磁気記録装置に係わり、特に光磁気ディスク等の光磁気記録媒体に情報信号を記録するための磁気ヘッドおよび光磁気記録装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
光磁気ディスク等の光磁気記録媒体に高密度で情報信号を記録する光磁気記録装置が従来より知られている。
【０００３】
図１４に光磁気記録装置の概略的構成図を示す。図１４において、１は光磁気記録媒体としてのディスクであり、磁気記録層１ａが設けられている。ディスク１はスピンドルモータ２により回転駆動される。ディスク１の上面側には磁気ヘッド３が、また下面側には光ヘッド４が配置される。上記磁気ヘッド３はサスペンション５の先端に保持され、また、光ヘッド４とサスペンション５の固定端は、連結部材６により連結されている。
【０００４】
上記の光磁気記録装置において、ディスク１の磁気記録層１ａに情報信号の記録を行なう場合には、スピンドルモータ２によりディスク１を高速で回転させ、磁気記録層１ａにスパイラル状に形成された記録トラックに、光ヘッド４に備えられた対物レンズ９を通してレーザ光８が照射される。レーザ光８が、記録トラックに収束し、また、正確に記録トラックに追従するために対物レンズ９に対してフォーカス制御、トラッキング制御が行なわれる。
【０００５】
磁気記録層１ａのレーザ光８の照射部位の温度はキュリー温度以上に上昇する。同時に上記レーザ光８の照射部位に対して、上記磁気ヘッド３は情報信号により変調されたバイアス磁界を印加する。これにより、磁気記録層１ａの温度上昇部位における磁化方向は、ディスク１の回転にともないレーザ光８の照射部位より遠ざかるにつれて温度が低下する過程で、上記バイアス磁界の方向に向けられる。このようにして記録トラック上には磁化の方向の変化によって情報信号が記録されるのである。
【０００６】
次にこのような光磁気記録装置に使用されている光磁気記録用磁気ヘッドの構成を図１１に示す。ここで図１１（ａ）は背面、図１１（ｂ）は底面、図１１（ｃ）は側面より見た図である。図中、１０はＵ字型のコアであり、一般的には高透磁率のフェライトにより構成される。また、１１はコア１０に設けられたコイルである。磁気ヘッドはディスクの高速回転に伴なって生じる空気流によりディスクとの間に微小な間隔を保ち浮上走行するために、空気力学的な浮上面形状を有するスライダー１２を備えている。一般にスライダー１２は非磁性のセラミック材料により構成される。コア１０の一端には略方形の磁極端面１０ａが形成されており、磁極端面１０ａを磁気ヘッドの底面側にしてコア１０およびスライダー１２は接合されている。
【０００７】
このような磁気ヘッドにおいて、前記バイアス磁界はコイル１１に電流を流すことにより磁極端面１０ａよりほぼ垂直に発生される。したがって、磁気ヘッドはその底面をディスクと対向させ、さらには磁気記録層上のレーザ光の照射部位が、磁極端面１０ａの直下に位置するように配置される。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
図１２は、従来の光磁気記録用磁気ヘッドにおけるコイルに流す記録電流と磁気ヘッドの発生磁界の関係を示すグラフである。なお、ここで示すのは、標準的な従来の磁気ヘッドの一例であり、コアは、その飽和磁束密度が５ｋＧのフェライトにより構成され、また、磁極端面の寸法が０．１５ｍｍ×０．１５ｍｍ、コイル巻回数が２０回である。ここで、一般には、光磁気ディスクに良好な状態で信号記録を行なうために、２００〜３００（Ｏｅ）のバイアス磁界が印加される。このグラフによると、記録電流が小さい場合には、発生磁界が記録電流に比例するのであるが、記録電流の増加にともなって、やがて、発生磁界が飽和する。これは、コア内部での磁束密度がフェライトの飽和磁束密度を越えて増大することができないことによるものである。
【０００９】
しかも、飽和磁界の大きさは、図示のように、記録信号の周波数ｆに依存し、周波数ｆが高くなる程、飽和磁界は低下する傾向にある。このような現象は、記録信号の周波数ｆが高い程、磁気ヘッドにおける高周波損失（主に、コアを構成する磁性材料に固有の性質）が増大するため磁気ヘッドが発熱し、それにともなって、コアを構成するフェライトの飽和磁束密度が低下することに帰因するものである。一例として、従来の光磁気記録用磁気ヘッドのコアに使用れるフェライトの飽和磁束密度Ｂｓの温度依存性を図１３に示す。図示のように、フェライトの飽和磁束密度Ｂｓは常温（２５℃）では５ｋＧであるが、温度の上昇とともに低下し、１００℃においては約３ｋＧとなるのである。
【００１０】
さて、近年このような光磁気記録装置において、信号記録の高速化に対する要求が強くなり、これにともない記録信号の周波数を高くする必要がある。ところが、上述のように、記録信号の周波数を高くした場合には、磁気ヘッドにおける高周波損失の増大のため、飽和磁界が低下し、例えば、図１２に示したように、記録信号の周波数を１０ＭＨｚ以上とした場合、記録電流をいくら増大しても、良好な信号記録に必要な２００（Ｏｅ）以上の発生磁界を得ることはできない。このように、記録信号の周波数は、磁気ヘッドの能力により制限されるため、より高速で信号記録することができないという問題点があった。
【００１１】
さらには前記のような磁気ヘッドにおいてはコイルのインダクタンスが１．０〜１．５μＨとかなり大きい。したがって高い周波数の電流をコイルに対して供給するためには高い電圧をコイルに与えなければならず、そのために磁気ヘッドの駆動回路の消費電力が増大するのである。このような制約からも記録信号の周波数を１０ＭＨｚ以上にすることができず、より高速で信号記録することができないという問題点があった。
【００１２】
【課題を解決するための手段】
本発明の磁気ヘッドは、磁性層を複数積層した積層体から成り、該積層体の積層面に対して垂直な磁極端面が形成された磁心と、この磁心の周囲に設けられたコイルと、前部構成部材と後部構成部材から成り光磁気記録媒体上を走行するスライダーとを有し、前記磁極端面が前記光磁気記録媒体に対して平行で、且つ前記積層体の積層面が前記光磁気記録媒体の相対的な移動方向に垂直となるように、前記磁心を前記前部構成部材と前記後部構成部材との間に挟んで接合した構成から成ることを特徴とする。
【００１６】
また、本発明の光磁気記録装置は、光磁気記録媒体にレーザ光を収束して照射する光ヘッドと、該レーザ光の照射部位に情報信号により変調された磁界を印加する磁気ヘッドと、上記光磁気記録媒体を上記光ヘッドおよび磁気ヘッドに対して相対的に移動させる手段と、を備えた光磁気記録装置において、
上記磁気ヘッドは上記本発明の磁気ヘッドであることを特徴とする。
【００１７】
なお、本願において、「垂直」、「平行」とは実質的に垂直、平行とみなせる垂直、平行に近い状態も含まれるものとする。
【００１８】
【作用】
本発明は、金属磁性材料等からなる磁性層を複数層積層することで、各磁性層の厚さを薄くして高周波数における磁気特性の低下を抑制したものである。また、磁心を磁性層に対して垂直な磁極端面を有するようにし、該磁極端面は光磁気記録媒体に対して平行に設け、上記磁性層は上記光磁気記録媒体との相対的な移動方向に対して垂直となるように設けることで、光磁気記録に十分な大きさで均一な磁界が光磁気媒体に対して垂直に印加できるようにするとともに、磁極端面の幅を十分に大きくした場合であっても製造を容易としたものである（積層体の厚さ方向は厚くすると製造工程が煩雑となるのに対し、積層体の幅方向は長くしても製造上の制約がないので、磁性層を光磁気記録媒体との相対的な移動方向に対して垂直にすることで、容易な製造工程で磁気端面の幅を十分大きく作製することができる。）。これにより、光スポットのトラッキングによる変位が生じた場合にも、光スポットは磁気端面の直下に位置するので、光磁気記録媒体には常に十分な磁界が印加され、良好な信号記録が可能となる。
【００１９】
【実施例】
以下、本発明の実施例について図面を用いて詳細に説明する。なお、本発明における光磁気記録媒体はディスク状に限定されず、例えばカード状であってもよい。
（第１の実施例）
図１（ａ），（ｂ）は本発明による光磁気記録用磁気ヘッドおよび光磁気記録装置の一実施例を示した平面図及び正面図であり、また図２（ａ），（ｂ）は磁気ヘッドの磁心（コア）の構成を示した正面図及び底面図である。なお、光磁気記録装置の全体構成は図１４に示した構成と同様であるので詳細な説明は省略する。
【００２０】
図１，図２において、１はディスク、１ａは磁気記録層、４は光ヘッド、８はレーザ光、９は対物レンズである。２０は“Ｔ”字型のコアであり、金属磁性材料からなる磁性層２１と絶縁層２２とを交互に積層した積層体からなる。磁性層２１の厚さは１５μｍ以下であり、例えばＦｅ−Ａｌ−Ｓｉ合金（センダスト）からなる。絶縁層２２は磁性層２１を互いに電気的に絶縁するために必要に応じて設けられＳｉＯ2 等の材料から成る。コア２０には図２（ｂ）に斜線で示すように、磁性層２１に対して垂直に磁極端面２０ａが形成され、またコア２０は均一な磁界が印加されるように磁極端面２０ａがディスク１に平行に対向し、また、磁性層２２が矢印Ａで示すディスク１の回転方向に対して垂直となるように配置される。コア２０の周囲にはコイル２３が設けられておりコイル２３に記録電流が供給されることにより、磁界Ｈが発生し、ディスク１に対して垂直に印加される。ここで、磁界Ｈは磁極端面２０ａの直下において十分な強度を有する。
【００２１】
一方、光ヘッド４は対物レンズ９を通してレーザ光８を微小なスポット８ａに収束し、ディスク１上の記録トラック７ａ上に照射する。記録トラック７ａはディスク１に偏心がある場合、回転に伴なって７ａ′または７ａ″で示すように変位を生ずる。これに対して光ヘッド４は図示しないアクチュエータにより対物レンズ９を記録トラック７ａに対して垂直な方向に駆動することによって、スポット８ａを８ａ′，８ａ″で示されるように変位させて、常に記録トラックに追従するようにトラッキング制御を行なう。
【００２２】
次にコアの磁気的な特性について説明する。ここでコイル２３に高い周波数の記録電流を供給して磁界を発生させる場合、コア２０内に発生するうず電流によって、磁気特性が低下することを防ぐため、磁性層２１は、その厚さを薄くした方がよい。これについて、図７を参照して説明する。図７は、センダストからなる磁性層の厚さｔが５，１０，１５μｍの各場合について、コアの透磁率の周波数特性の実測結果を示すグラフである。ここで、絶縁層の厚さは０．５μｍ、総積層厚は１００μｍである。グラフより明らかであるように、約１０ＭＨｚよりも低い周波数においては、磁性層は、その厚さｔが薄い方が、透磁率が小さくなる傾向にある。しかし、約１０ＭＨｚよりも高い周波数においては、逆に、その厚さｔが小さい方が、透磁率が大きく、周波数特性が高周波域まで伸びている。一般に、前記のような光磁気記録用の磁気ヘッドにおいて十分な性能を得るためには、コアの透磁率を３００以上にすることが要求されている。従来のフェライトにより構成したコアにおいては、透磁率を３００に確保できる周波数の上限が約２０ＭＨｚであった。これに対し、本発明においては、磁性層の厚さｔ＝１５μｍとした場合、上述の性能とほぼ同等の性能が得られる。また、ｔ＝１０μｍとした場合、周波数特性は約２５ＭＨｚまで、また、ｔ＝５μｍとした場合、約４０ＭＨｚまで、それぞれ、高周波域を伸ばすことが確認されている。
【００２３】
近年、記録周波数の高周波化に対する要求が高くなりつつあることを考慮すると、磁性層は、その厚さｔを、最大で１５μｍ、望ましくは１０μｍ以下とすることが好ましい。また、絶縁層は、通常、非磁性であるため、磁束の大部分が磁性層に集中するから、このため、磁性層の飽和磁束密度を７ｋＧ、絶縁層の厚さを磁性層の厚さのｘ％とすると、コア全体の実効的な飽和磁束密度は、７ｋＧ×（１００／１００＋ｘ）となる。それでも、なお、従来使用されているフェライトの飽和磁束密度４ｋＧ〜６ｋＧを上まわるためには、絶縁層の厚さを磁性層の厚さの１６％以下とすればよい。
【００２４】
前述のＦｅ−Ａｌ−Ｓｉ（センダスト）の磁性層より成るコアの実効的な飽和磁束密度Ｂｓの温度依存性を図８に示す。図示のように、Ｆｅ−Ａｌ−Ｓｉの磁性層を、絶縁層を挟んで、積層したコアの実効的な飽和磁束密度Ｂｓは、常温（２５℃）で、約６．４ｋＧである。また、温度の上昇とともに低下するのであるが、その割合は、図１３に示したフェライトと比較して穏やかであり、１００℃においても飽和磁束密度Ｂｓは５．５ｋＧと高い。
【００２５】
このようにフェライトとは異なった温度依存性を示すのは、Ｆｅ−Ａｌ−Ｓｉ合金のキュリー温度が４００〜５００℃であり、フェライトのキュリー温度１５０〜２５０℃と比較して高いからである。本実施例の磁気ヘッドの記録電流と発生磁界強度の関係を図９に示す。記録信号の周波数が１０〜２０ＭＨｚであっても３００（Ｏｅ）以下で発生磁界が飽和することはなく、良好な信号記録に必要な２００（Ｏｅ）以上の発生磁界を得ることができる。
【００２６】
また、このような、飽和磁束密度が高く、キュリー温度が高いという特性は、Ｆｅ−Ａｌ−Ｓｉ合金（センダスト）のみでなく、Ｆｅ−Ｎｉ合金（パーマロイ）、Ｆｅ−（Ｍ）合金、ＦｅＮｉ−（Ｍ）合金、ＦｅＣｏ−（Ｍ）合金、Ｃｏ−（Ｍ）合金（ただし（Ｍ）はＳｉ，Ｂ，Ｃ，Ｐ，Ｎ，Ａｌ，Ｍｏ，Ｔｉ，Ｚｒ，Ｎｂ，Ｈｆ，Ｔａ，Ｙのうち少なくとも一種類以上の元素を含む）などの磁性材料が共通して有しているものであり、これらの材料によってコアを構成してもよい。
【００２７】
このようなコアは、特開昭６１−２３９４１２号公報に示されるように、磁性体薄膜を絶縁層である樹脂を介して複数積層した構成の積層体を、エネルギービーム例えばレーザ光により、所定の形状に切断することにより作製することができ、このような方法であれば製造が容易であり、かつ歩留りもよいのである。
【００２８】
または、非磁性の基板上にスパッタ法等の成膜方法によって磁性層と絶縁層を交互に成膜した積層体を所定の形状に切断することにより作製してもよい。このような実施例における磁気ヘッドのコアの構成の一例を図３（ａ），（ｂ）に示す。ここで２４は、非磁性の基板である。
【００２９】
次に磁極端面のディスクの回転方向に対して平行な方向の長さＬとディスクの回転方向に対して垂直な方向の幅Ｗについて説明する。
【００３０】
前述したように、磁気ヘッドの印加する磁界は磁極端面２０ａの直下において十分な強度とされるから、常に良好な信号記録を行なうためにはレーザ光のスポットはトラッキング制御により変位した場合であっても磁極端面２０ａの直下に位置するようにする。なお、磁極端面２０ａの幅Ｗをディスクの回転方向に対して垂直な方向に配置したのは通常トラッキング制御はディスクの回転方向に対して垂直方向に制御されるからである。
【００３１】
さらには磁気ヘッドと光ヘッドの相対的な取り付け位置の誤差が発生することも考慮した場合、磁極端面２０ａは大きい方が望ましい。ところが一方では磁極端面２０ａの面積を大きくする程、コイル２３のインダクタンスは増大する。よく知られているようにインダクタンスの大きいコイルに高い周波数の記録電流を供給する場合には、より大きな電圧をコイルに対して与える必要があり、これによって、駆動回路の消費電力が増大するという問題点がある。さらには積層体の厚さを増大した場合、製造上のさまざまな問題点が発生する。
【００３２】
したがって、これらの事情をすべて考慮したうえで、磁極端面２０ａのディスクの移動方向に対して平行な方向の長さＬと、ディスクの移動方向に対して垂直な方向の幅Ｗとが定められなければならない。本願発明者の検討によれば幅Ｗは長さＬよりも大きく、また特にこれらが次式を満たすのが望ましい。
【００３３】
２０μｍ  ≦  Ｌ  ≦  １００μｍ          （１）
Ｌ＋４０μｍ  ≦  Ｗ                      （２）
Ｌ×Ｗ  ≦  ２５０００μｍ2               （３）
以下、その理由について説明する。前述したように、レーザ光のスポットが磁気ヘッドの磁極端面の直下に位置するように、磁気ヘッドと光ヘッドは取り付けられる。ここで、両者の相対的な取り付け位置の誤差は、その取り付け方法にもよるのであるが、大量生産に適した方法によればレーザ光のスポットの位置は、磁極端面の中心に対して磁極端面の幅方向についても、長さ方向についても最大±１０μｍの誤差を生ずる場合がある。したがって磁極端面の長さＬは２０μｍ以上とすることが好ましい。
【００３４】
それに加えてレーザ光のスポットは前述したトラッキング制御により記録トラックに垂直な方向に変位を生ずる。この変位量は最大で±２０μｍである。したがって、磁極端面の幅Ｗはこのようにレーザ光のスポットが変位した場合でも、スポットが磁極端面の直下よりはずれないために、十分な大きさを必要とする。一方、レーザ光のスポットは記録トラックに平行な方向には変位を生じないから磁極端面の幅Ｗは長さＬよりも大きく設定することが好ましく、上記４０μｍ以上大きくすることがより好ましい。
【００３５】
次に、磁気ヘッドのコアを、前記した積層体をエネルギービームにより切断する加工方法により製造する場合、積層体の厚さが増大する程切断が困難となり、より大きな強度のエネルギービームを必要とする。
【００３６】
もし、エネルギービームの強度を過度に増大させた場合には切断時の温度上昇により磁性層の磁気特性に変化を生じるため好ましくない。そのため積層体の厚さは１００μｍ以下とすることが好ましい。
【００３７】
また、コアを構成する磁性層および絶縁層を一層ずつ成膜して形成する場合、積層体の厚さが増大する程、また積層数が増大する程、形成に必要な時間が増大する。一例として、磁性層の厚さが４．５μｍ、絶縁層の厚さが０．５μｍ、積層数が２０、積層体の厚さ１００μｍである場合、積層体の形成には約１５時間を必要とし、大量生産が可能な限界である。また、積層体の厚さを１００μｍよりも大きくすると、熱応力等により積層体が変形するなどの不良を生じやすい。
以上の点からも積層体の厚さを１００μｍ以下とすることが好ましい。一方、積層体の幅については、このような製造上の制約はなく十分に大きくすることが可能である。さらには前記したように、磁極端面の幅Ｗは十分に大きくする必要があり、長さＬよりも大きくすることが好ましい。したがって、磁性層の幅方向を磁極端面の幅方向に一致させて、言い換えれば磁性層をディスクの回転方向に対して垂直となるようにコアを配置するのが望ましく、この時磁極端面の長さＬは積層体の厚さに等しくなるのである。
【００３８】
次に、磁極端面の面積Ｌ×Ｗと記録信号の周波数との関係について説明する。図１０は磁極端面の面積Ｌ×Ｗとコイルのインダクタンスとの関係の一例を示すグラフである。ここではコイルの巻数が２５回である場合について示す。図示のようにコイルのインダクタンスは磁極端面の面積に比例する。通常記録信号の周波数を１０ＭＨｚ以上とするためには、コイルのインダクタンスは１μＨ以下とする。もし１μＨよりも大きい場合には、コイルに十分な記録電流を供給するためにより高い電圧をコイルに与えなければならず、このため駆動回路の消費電力が２Ｗ以上に増大し、実用的なものとはなりにくいからである。またコイルの巻数を少なくすることによってインダクタンスを減少させる手段も知られてはいるが、この場合には磁気ヘッドの磁界発生効率が低下するため、記録に必要な十分な磁界を発生するためにはより大きな電流を供給しなければならず、結果として、駆動回路の消費電力を低減することはできない。本願発明者の検討によると、コイルの巻数は約２５回（２０回〜３０回）とするのが最適であることが確認されている。これらの事実をもとにして、図１０より、磁極端面の面積Ｌ×Ｗは２５０００μｍ2 以下が望ましい。
（第２の実施例）
次にディスクの高速回転に伴なって生じる空気流により、ディスクとの間に微小な間隔を保ち、浮上走行するための空気力学的な浮上面形状を有するスライダーを備えた磁気ヘッドに本発明を適用した第２の実施例について説明する。
【００３９】
図４にこのような磁気ヘッドの概略構成を示す。本実施例においては、スライダーはスライダー前部構成部材２５とスライダー後部構成部材２６からなり、両者は間に金属磁性材料等からなる磁性層と絶縁層の積層体からなるコア２０を挟んで接合されている。スライダー前部構成部材２５とスライダー後部構成部材２６は非磁性のセラミック材料により構成される。
【００４０】
コア２０には磁性層に対して垂直に磁極端面２０ａがディスクに平行に対向し、また磁性層が矢印Ａで示すディスクの回転方向に対して垂直となるように配置されている。コア２０の磁極端面２０ａをとり囲むようにコイル２３が設けられる。２７はコイル２３を収容するためにスライダーに設けられた溝である。
【００４１】
本実施例においても前記の実施例と同様に、磁性層の厚さは１５μｍ以下、望ましくは１０μｍ以下とし、また絶縁層の厚さは磁性層の厚さの１６％以下とする。
【００４２】
また磁性層を構成する金属磁性材料には、飽和磁束密度が高く、キュリー温度が高いＦｅ−Ａｌ−Ｓｉ合金（センダスト）をはじめ、Ｆｅ−Ｎｉ合金（パーマロイ）、Ｆｅ−（Ｍ）合金、ＦｅＮｉ−（Ｍ）合金、ＦｅＣｏ−（Ｍ）合金、Ｃｏ−（Ｍ）合金（ただし、（Ｍ）はＳｉ，Ｂ，Ｃ，Ｐ，Ｎ，Ａｌ，Ｍｏ，Ｔｉ，Ｚｒ，Ｎｂ，Ｈｆ，Ｔａ，Ｙのうち少なくとも一種類以上の元素を含む）等を使用してもよい。
【００４３】
また磁極端面２０ａの、ディスクの移動方向に対して垂直な方向の幅Ｗはディスクの移動方向に対して平行な方向の長さＬよりも大きく、また、特にこれらが前記の式（１）,（２）,（３）を満たすのが望ましい。例えば代表的な値としては幅Ｗは２００μｍ、長さＬは５０μｍである。
【００４４】
また本実施例においては、コア２０はスライダー前部構成部材２５またはスライダー後部構成部材２６の接合面に直接スパッタ法等の成膜方法によって、磁性層と絶縁層を交互に成膜することによって形成することもできる。
【００４５】
図５、図６にこのような磁気ヘッドの製造方法の概略工程を示す。
【００４６】
まず、図５（ａ）において、スライダー前部構成材料の母材であるセラミック材料からなる基板３０の接合面３０ａが鏡面加工される。次に、図５（ｂ）において、基板３０の接合面上にスパッタ法によってセンダストからなる磁性層とＳｉＯ2 からなる絶縁層とを交互に成膜し積層体３１を形成する。磁性層の厚さは４．５μｍ、絶縁層の厚さは０．５μｍ、積層数を１０とすると積層体３１の厚さは５０μｍとなる。次に、図５（ｃ）において、積層体３１上にスライダー後部構成部材の母材であるセラミック材料からなる基板３２を接着し接合体を得る。
【００４７】
次に、図６（ａ）において、接合体を分断して多数のスライダー基体３３を得る。次に、図６（ｂ）において、スライダー基体３３の浮上面３３ａを鏡面加工し、コイルを収容する環状の溝２７、および、スライダーの浮上特性を向上させるための溝２８とチャンファー２９とが加工される。ここで磁極端面２０ａの幅Ｗは溝２７の内側の寸法で決められ、また、長さＬは前記積層体３１の厚さに等しい。図６（ｃ）において、溝２７内にコイル２３が収容され、磁気ヘッドが完成する。このような方法によれば、きわめて効率よく磁気ヘッドを製造することができるのである。
【００４８】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明による磁気ヘッドは、磁性層を複数層積層した積層体から成り、上記磁性層に対して垂直な磁極端面が形成されたコアと、コアの周囲に設けられたコイルとを備え、さらに、上記磁極端面は光磁気記録媒体に対して平行に設けられ、また上記磁性層は上記光磁気記録媒体との相対的な移動方向に対して垂直となるように設けたことにより、記録信号の周波数を高くしても良好な信号記録に必要な発生磁界をえることができる。例えば、記録信号の周波数を１０ＭＨｚ以上とした場合であっても、２００（Ｏｅ）以上の磁界を飽和することなく発生できる。その結果、従来よりも高速で信号記録することができる。
【００４９】
また、上記磁極端面の光磁気記録媒体の移動方向に対して垂直な方向の幅Ｗを光磁気記録媒体の移動方向に対して水平な方向の長さＬよりも大きくし、さらに望ましくは幅Ｗと長さＬとが次式
２０μｍ  ≦  Ｌ  ≦  １００μｍ
Ｌ＋４０μｍ  ≦  Ｗ
Ｌ×Ｗ  ≦  ２５０００μｍ2
を満たすようにすれば、たとえ磁気ヘッドと光ヘッドとの取り付け位置の誤差およびレーザ光のスポットのトラッキング制御による変位が発生した場合であっても、レーザ光のスポットは磁極端面の直下に位置するから、光磁気記録媒体には常に十分な磁界が印加され、良好な信号記録が可能である。
【００５０】
それに加えて、磁気ヘッドを大量生産することができ、コアの製造時に変形を生ずるなどの不良の発生がない。
【００５１】
さらには、磁気ヘッドのコイルのインダクタンスが１μＨ以下となるため、記録信号の周波数を１０ＭＨｚ以上とした場合であっても、コイルの駆動回路の消費電力を２Ｗ以下の実用的な値に抑えることが可能である。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１の実施例における光磁気記録用磁気ヘッドおよび光磁気記録装置を説明するための図である。
【図２】本発明の第１の実施例における磁気ヘッドのコアの構成図である。
【図３】本発明の第１の実施例における他の構成の磁気ヘッドのコアの構成図である。
【図４】本発明の第２の実施例における磁気ヘッドの構成図である。
【図５】本発明の第２の実施例における磁気ヘッドの製造方法を示す図である。
【図６】本発明の第２の実施例における磁気ヘッドの製造方法を示す図である。
【図７】本発明による磁気ヘッドのコアの透磁率の周波数特性図である。
【図８】本発明による磁気ヘッドのコアの飽和磁束密度の温度特性図である。
【図９】本発明による磁気ヘッドの記録電流と発生磁界との関係を示す特性図である。
【図１０】本発明による磁気ヘッドの磁極端面の面積とインダクタンスの関係を示す特性図である。
【図１１】従来の磁気ヘッドの構成図である。
【図１２】従来の磁気ヘッドにおける記録電流と発生磁界との関係を示す特性図である。
【図１３】従来の磁気ヘッドのコアの飽和磁束密度の温度特性図である。
【図１４】光磁気記録装置の概略構成図である。
【符号の説明】
１  ディスク
１ａ  磁気記録層
３  磁気ヘッド
４  光ヘッド
８  レーザ光
９  対物レンズ
２０  コア
２０ａ  磁極端面
２１  磁性層
２２  絶縁層
２３  コイル
【図１】
0003542386.tif 000002
【図２】
0003542386.tif 000003
【図３】
0003542386.tif 000004
【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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