(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
０．２ｍｍ，０．４ｍｍ，０．６ｍｍ，０．８ｍｍ及び１．０ｍｍの深さの溝を形成して成る鋳型を用いて、皮膚レプリカ材で作成したことを特徴とする、皮膚のしわの深さの測定に用いる標準スケール。
【請求項２】
請求項１に記載した標準スケール及び皮膚レプリカに平行光を照射して生じる陰影を画像として取り込んで二値化処理し、陰影面積及びその長さから陰影幅を算出して、標準スケールの陰影幅により検量線を作成し、次いで該検量線と皮膚レプリカについて得られた陰影幅より、皮膚のしわの深さを算出することを特徴とする、皮膚のしわの深さの測定方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、皮膚のしわの深さの測定に用いる標準スケール、及び測定条件及び測定結果の処理条件にかかわらず前記標準スケールに対する相対値が算出でき、測定ロットの異なる結果の相互比較の可能な皮膚のしわの深さの測定方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
皮膚のしわは、皮膚の老化により生じる形態学的な変化であり、このしわを改善する皮膚外用剤の提供が求められている。皮膚外用剤による皮膚のしわ改善効果を客観的に評価するには、皮膚のしわの程度を数値化又は定量化することが必要となる。現在、かかるしわの数値化，定量化法としては、肉眼的に観察してスコア化する方法、レーザー光による３Ｄ解析法、皮膚レプリカの画像解析法等が知られている。
【０００３】
上記方法の中でも、皮膚レプリカの画像解析によるしわの深さの定量評価法が汎用されている。この方法は、一定の角度θで皮膚レプリカのしわの部分に平行光を照射した際に生じる陰影幅ｗ２を画像処理により求め、式  ｄ＝ｗ２ｔａｎθによりしわの深さｄを算出する方法である。しかしながらこの方法には、画像を取り込む際の条件や画像処理条件により測定値が大きく異なるという問題があった。また、測定ロットの異なるデータを相互に比較することは困難であった。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
そこで本発明においては、測定条件及び測定結果の処理条件にかかわらずに再現性のよい測定値を得ることができ、測定ロットの異なる結果を相互に比較することも可能な皮膚のしわの深さの測定方法を提供することを目的とした。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するため、本発明者は皮膚のしわの深さの測定に用いる標準スケールの作成を試み、それを用いてしわの深さを測定する方法を検討した。その結果、標準スケールを用いて得た検量線により、測定条件及び測定結果の処理条件により影響を受けることなく再現性の良好な測定結果を得ることができ、かかる測定結果は標準スケールに対する相対値であることから、測定ロットの異なる結果を相互に比較することも可能になることを見いだし、本発明を完成するに至った。
【０００６】
【発明の実施の形態】
まず本発明においては、シリコーン樹脂，フルオロシリコーン樹脂等の皮膚レプリカ材により、鋳型を用いて標準スケールを作成する。鋳型としては、図１に示すように、平滑な表面を有する立方体もしくは直方体に、一定の深さ（ｄ）と幅（ｗ１）を有する溝を形成したものを用いる。溝の深さ（ｄ）は、０．２ｍｍ〜１．０ｍｍの範囲で、０．２ｍｍごとに設定する。溝の幅（ｗ１）は、標準スケールの損傷を防ぎ、均一な凸面を得るため、１．０ｍｍ程度に設定することが好ましい。この鋳型を用いることにより、図２に示すように、０．２ｍｍ，０．４ｍｍ，０．６ｍｍ，０．８ｍｍ及び１．０ｍｍの深さのしわについて、それぞれ標準スケールを得ることができる。
【０００７】
次に本発明においては、上記の標準スケール及びこれと同じレプリカ材で作成した皮膚のレプリカに平行光を照射し、生じた陰影をマイクロスコープにより画像として取り込み、取り込んだ画像を二値化処理して、陰影面積及びその長さから陰影幅を算出する。そして、標準スケールについて得た陰影幅により検量線を作成し、この検量線を用いて、皮膚レプリカについて算出した陰影幅により、そのしわの深さを換算する。
【０００８】
【実施例】
さらに本発明の特徴について、実施例により詳細に説明する。
【０００９】
まず、白色シルフロ樹脂を用いて、図１に示す鋳型により、図２に示すように、０．２ｍｍ，０．４ｍｍ，０．６ｍｍ，０．８ｍｍ及び１．０ｍｍのしわの深さ（ｄ）についての標準スケール（幅（ｗ１）＝１．０ｍｍ）を作成した。またヒト目尻より、白色シルフロ樹脂を用いてレプリカを採取した。
【００１０】
図３に示すように、上記の標準スケール及び目尻のレプリカ（１）に対し、光源（２）より平行光を照射し、生じた陰影をマイクロスコープ（３）により１ｃｍ×１ｃｍの画像として取り込んだ。取り込んだ画像は、画像処理ソフト「Ｐｈｏｔｏｓｈｏｐ」を用いて二値化処理し、陰影面積Ｓ及びその長さｌから、陰影幅ｗ２を式  ｗ２＝Ｓ／ｌ  により算出した。０．２ｍｍ〜１．０ｍｍの深さのしわについての標準スケールを用いて得た陰影幅ｗ２の値より検量線を作成し、目尻のレプリカにおいて認められたしわについて得た陰影幅ｗ２の値より、そのしわの深さを換算して得た。測定は、二値化閾値，照射角度及び光量について、それぞれ９０〜１０，４５°〜２０°及び９７１ルクス〜４１７５ルクスの範囲で変化させて行った。
【００１１】
また、目尻のレプリカにおいて認められたしわについて、従来のｔａｎθ法により深さを求め、標準スケールにより得た検量線から求めた測定値と比較した。
【００１２】
標準スケールを用いて作成した検量線を図４に示した。図４より明らかなように、二値化閾値の値に関わらず、相関係数が０．９９７８〜０．９９９５と高い相関を有する一次直線が得られた。
【００１３】
続いて、目尻のレプリカにおいて認められたＡ〜Ｄのしわについて、二値化閾値を変化させて行った測定結果を、図５及び図６に示した。
【００１４】
図５には、本発明に係る標準スケールを用いて得た検量線から求めた結果を示す。この図において認められるように、本発明に係る方法によりしわの深さを求めた場合、Ａ〜Ｄのいずれのしわについても、二値化閾値による測定値の変動は非常に小さく、二値化処理の際の閾値による影響をほとんど受けないことが示された。
【００１５】
一方、従来のｔａｎθ法により測定した場合は、図６に示すように二値化閾値の影響が大きく、二値化閾値が小さくなるに従ってしわの深さの測定値は小さくなる傾向が認められた。
【００１６】
次に、平行光の照射角度を変化させた場合の測定結果を、図７及び図８に示す。この際の二値化閾値は４０とした。なお測定は、複数人の目尻より採取したレプリカにおいて認められたしわＥ〜Ｌを対象とした。
【００１７】
図７には、本発明に係る標準スケールを用いて得た検量線から求めた結果を示す。しわの深さの測定値は、照射角度が３０°〜２５°のときに最も大きい値を示す傾向が認められるものの、測定値の変動はさほど大きくない。これに対しｔａｎθ法による場合は、図８に示されるように、照射角度による測定値の変動が大きく、測定に際し平行光の照射角度を一定値に設定しなければ測定誤差が大きくなることが認められた。
【００１８】
最後に、光量を変化させた場合の測定結果を示す。測定は、Ｍ〜Ｔのパネラーより採取した目尻のレプリカにおいて認められたしわを対象として行った。本発明に係る方法及びｔａｎθ法において、二値化閾値を４０，３０，２０，１０とした各測定結果をそれぞれ図９及び図１０，図１１及び図１２，図１３及び図１４，図１５及び図１６に示した。
【００１９】
本発明に係る方法により測定した場合は、図９，図１１，図１３及び図１５において認められるように、いずれの閾値において二値化処理した場合にも光量の影響は小さく、２０又は１０の閾値で二値化処理した際に、光量が９７１ルクスのとき（１７）において若干測定値が大きくなる傾向が認められたのみであった。これに対して、ｔａｎθ法により測定した場合には、図１０，図１２，図１４及び図１６において認められるように、２０及び１０の閾値で処理した際には光量の影響が大きくなっており、特に光量が９７１ルクスの場合（１７）には、測定値のばらつきが大きくなっていた。
【００２０】
【発明の効果】
以上詳述したように、本発明により、皮膚のしわの深さの測定に用いる標準スケールを提供することができ、またそれを用いることにより、測定条件及び測定結果の処理条件にかかわらずに再現性のよい測定値を得ることができて、測定ロットの異なる結果を相互に比較することも可能な皮膚のしわの深さの測定方法を提供することができた。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明における標準スケールの作成において用いる鋳型を示す図である。
【図２】本発明において用いる標準スケールを示す図である。
【図３】皮膚のしわの深さの測定のようすを示す図である。
【図４】本発明に係る標準スケールを用い、二値化閾値９０〜１０にて作成した検量線を示す図である。
【図５】本発明に係る標準スケールを用いて作成した検量線により、二値化閾値を８０〜２０の範囲で変化させ、目尻レプリカのしわの深さを測定した結果を示す図である。
【図６】ｔａｎθ法により、二値化閾値を８０〜２０の範囲で変化させ、目尻レプリカのしわの深さを測定した結果を示す図である。
【図７】本発明に係る標準スケールを用いて作成した検量線により、二値化閾値４０にて照射角度を４５°〜２０°の範囲で変化させ、目尻レプリカのしわの深さを測定した結果を示す図である。
【図８】ｔａｎθ法により、二値化閾値４０にて照射角度を４５°〜２０°の範囲で変化させ、目尻レプリカのしわの深さを測定した結果を示す図である。
【図９】本発明に係る標準スケールを用いて作成した検量線により、二値化閾値４０にて光量を変化させ、目尻レプリカのしわの深さを測定した結果を示す図である。
【図１０】ｔａｎθ法により、二値化閾値４０にて光量を変化させ、目尻レプリカのしわの深さを測定した結果を示す図である。
【図１１】本発明に係る標準スケールを用いて作成した検量線により、二値化閾値３０にて光量を変化させ、目尻レプリカのしわの深さを測定した結果を示す図である。
【図１２】ｔａｎθ法により、二値化閾値３０にて光量を変化させ、目尻レプリカのしわの深さを測定した結果を示す図である。
【図１３】本発明に係る標準スケールを用いて作成した検量線により、二値化閾値２０にて光量を変化させ、目尻レプリカのしわの深さを測定した結果を示す図である。
【図１４】ｔａｎθ法により、二値化閾値２０にて光量を変化させ、目尻レプリカのしわの深さを測定した結果を示す図である。
【図１５】本発明に係る標準スケールを用いて作成した検量線により、二値化閾値１０にて光量を変化させ、目尻レプリカのしわの深さを測定した結果を示す図である。
【図１６】ｔａｎθ法により、二値化閾値１０にて光量を変化させ、目尻レプリカのしわの深さを測定した結果を示す図である。
【符号の説明】
１  標準スケール又は皮膚レプリカ
２  光源
３  マイクロスコープ
４  二値化閾値＝９０の場合
５  二値化閾値＝８０の場合
６  二値化閾値＝７０の場合
７  二値化閾値＝６０の場合
８  二値化閾値＝５０の場合
９  二値化閾値＝４０の場合
１０  二値化閾値＝３０の場合
１１  二値化閾値＝２０の場合
１２  二値化閾値＝１０の場合
１３  照射角度＝４５°の場合
１４  照射角度＝３０°の場合
１５  照射角度＝２５°の場合
１６  照射角度＝２０°の場合
１７  光量＝９７１ルクスの場合
１８  光量＝２４６４ルクスの場合
１９  光量＝２９２２ルクスの場合
２０  光量＝３１４６ルクスの場合
２１  光量＝４１７５ルクスの場合
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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