(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
被洗浄基盤とダミー基盤とを前記両基盤それぞれの盤面を所定側に向けた状態で取り替えて保持できる保持手段と、
前記保持手段で保持される両基盤の盤面に対向配置された洗浄治具と、
洗浄に際しては前記洗浄治具を前記両基盤の盤面に対して相対的に摺動させる摺動手段と、
を有し、
前記保持手段によって前記ダミー基盤を保持した状態で前記摺動手段によって前記洗浄治具を当該ダミー基盤の盤面上を相対的に摺動させて当該洗浄治具を洗浄する工程と、
前記保持手段によって前記被洗浄基盤を保持した状態で前記工程で洗浄された前記洗浄治具を当該被洗浄基盤の盤面上を相対的に摺動させて当該被洗浄基盤を洗浄する工程と、
を実施可能とされている、ことを特徴とする基盤洗浄装置。
【請求項２】
請求項１に記載の基盤洗浄装置において、
洗浄に際して、前記洗浄治具を前記ダミー基盤の盤面上をその外周端部の外側にまで相対的に走査させる走査機構を有する、ことを特徴とする基盤洗浄装置。
【請求項３】
請求項１または２に記載の基盤洗浄装置において、
洗浄に際して、前記洗浄治具を前記被洗浄基盤の盤面上をその外周端部の外側にまで相対的に走査させる走査機構を有する、ことを特徴とする基盤洗浄装置
【請求項４】
請求項１ないし３いずれかに記載の基盤洗浄装置において、
前記被洗浄基盤として、情報信号が記録されていて被転写盤に接触されてその情報信号の磁気転写に用いられるもので、かつ、前記被転写盤との磁気転写面に、磁気転写に際して前記両盤を密着させるための凹部を有し、前記凹部が、内周から外周に向かい開放した形状を有する基盤を用い、
前記ダミー基盤として、少なくとも一方の盤面に前記被洗浄基盤の前記凹部と略同形状の凹部を有する基盤を用いる、ことを特徴とする基盤洗浄装置。
【請求項５】
情報信号の磁気転写に用いられるもので、かつ、その磁気転写面に内周から外周に向かい開放した複数の放射状凹部を有する転写盤に対応して、少なくとも一方の盤面に前記内周から外周に向かい前記放射状凹部と同形状ないし略同形状の放射状凹部を有し、かつ、請求項１に記載の基盤洗浄装置の保持手段で保持されて洗浄治具でその盤面上が相対的に摺動されて、該洗浄治具の洗浄に使用される、ことを特徴とする洗浄用基盤。
【請求項６】
内周から外周に向けて開放した少なくとも一つの凹部を有するダミー基盤に対して洗浄治具を当該ダミー基盤の盤面上を相対的に摺動させて当該洗浄治具を洗浄する工程と、
前記工程後に、内周から外周に向けて開放した複数の凹部を有する被洗浄基盤を保持した状態で前記洗浄治具を当該被洗浄基盤の盤面上を相対的に摺動させて当該被洗浄基盤を洗浄する工程と、
を有する、ことを特徴とする洗浄方法。
【請求項７】
請求項６に記載の洗浄方法において、
前記ダミー基盤と前記被転写盤との両凹部の形状を同じまたは略同じとする、ことを特徴とする洗浄方法。
【請求項８】
請求項６または７に記載の洗浄方法において、
洗浄に際して前記ダミー基盤と前記洗浄治具とを摺動させる時の圧接力と、同じく洗浄に際しての前記被洗浄基盤の盤面と前記洗浄治具とを相対的に摺動させる時の圧接力とを同じまたは略同じとする、ことを特徴とする洗浄方法。
【請求項９】
請求項６ないし８のいずれかに記載の洗浄方法において、
洗浄に際して前記ダミー基盤と前記洗浄治具とを摺動させる時の相対速度と、同じく洗浄に際しての前記被洗浄基盤の盤面と前記洗浄治具とを相対的に摺動させる時の相対速度とを同じまたは略同じとする、ことを特徴とする洗浄方法。
【請求項１０】
請求項６ないし９のいずれかに記載の洗浄方法において、
前記工程に際して、洗浄治具方向に洗浄液を噴射する、ことを特徴とする洗浄方法。
【請求項１１】
請求項１０に記載の洗浄方法において、
前記洗浄液中の異物を測定し、
前記異物測定の結果に従い前記洗浄治具による洗浄を行う、ことを特徴とする洗浄方法。
【請求項１２】
請求項６ないし１１のいずれかに記載の洗浄方法において、
前記洗浄治具を前記ダミー基盤の盤面上をその外周端部の外側にまで相対的に走査させる、ことを特徴とする洗浄方法。
【請求項１３】
請求項６ないし１２のいずれかに記載の洗浄方法において、
前記洗浄治具を前記被洗浄基盤の盤面上をその外周端部の外側にまで相対的に走査させる、ことを特徴とする洗浄方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、転写盤、基盤洗浄装置、これに用いる洗浄用基盤、これらを用いた洗浄方法に係り、より詳しくは、ハードディスク装置やフロッピーディスク装置に用いられる磁気記録媒体へ磁気転写を行うための転写盤の洗浄方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
トラッキングサーボ信号やアドレス情報信号、再生クロック信号等の情報信号が記録されている転写盤から、ハードディスクやフロッピーディスクなどの磁気記録媒体を被転写盤とし、これらに対して、その情報信号を磁気転写する磁気転写装置が知られている。
【０００３】
例えば、特開平１０−４０５４４号公報には、基体の表面に、情報信号に対するパターン形状で強磁性材料からなる磁性部を形成したものを転写盤とする一方、この転写盤の表面を、強磁性薄膜あるいは強磁性粉塗布層が形成されたシート状もしくはディスク状とされた被転写盤の表面に接触させ、所定の磁界をかけることにより、転写盤に形成した情報信号を被転写盤に磁気転写する技術が開示されている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、磁気転写装置を用いた情報信号の磁気転写においては、被転写盤の表面全体に亘って均一に安定して高密度の情報信号が転写されることが、磁気記録再生装置の磁気ヘッドによる高精度な記録再生を行ううえにおいては重要である。
【０００５】
この場合、磁気転写に際して転写盤の表面に微小異物が存在していると、両者が磁気転写のために接触するときにその微小異物により被転写盤の表面に陥没部が発生し、そのまわりに微小突起が存在することがある。
【０００６】
このような微小突起は、磁気ヘッドを用いたデータの記録再生時に、磁気ヘッドと被転写盤であるハードディスクの前記微小突起とが接触し、その接触した瞬間に磁気ヘッドが飛ばされるなどして、磁気ヘッドによる記録再生性能が低下し、また磁気ヘッドがハードディスクとの物理的接触により、その寿命の低下を来たし、ともすればハードディスク自体の破損につながる傾向となる。
【０００７】
そこで、磁気転写前においては、転写盤の洗浄を行い、前述した異物を洗浄除去しておくことは極めて重要であり、従来から転写盤表面を洗浄治具で洗浄する洗浄方法が提案されている。
【０００８】
しかしながら、このような洗浄方法の場合、転写盤表面に存在する磁性膜の角部が洗浄治具の洗浄によって削られ、この削られた磁性膜が破片となって洗浄治具に付着することがある。
【０００９】
このような洗浄では洗浄治具により転写盤表面における前記微小突起は除去されても、磁性膜の破片が異物として洗浄治具から転写盤表面に付着し、その異物が付着した転写盤で被転写盤であるハードディスクに対して磁気転写が行われることになり不都合である。
【００１０】
そのため、従来の洗浄方法では、洗浄用ブラシそのものを頻繁に洗浄する必要があることになり、洗浄工程が余分にかかり、ハードディスクの生産性を低下させたり、ディスクの製造コストの増大、さらには、洗浄治具そのものを洗浄するための高価な装置が必要になるなど、多大なコストがかかるものとなっている。
【００１１】
したがって、本発明は、洗浄工程を減らして被転写盤であるハードディスクやその他のディスクの生産性の向上とその生産コストの削減とを図るとともに、その洗浄治具そのものを洗浄する装置を不要化し、全体として、転写盤の洗浄を低コストで確実に洗浄できるようにすることを解決しようとする課題としている。
【００１９】
【課題を解決するための手段】
（１）本発明の基盤洗浄装置は、被洗浄基盤とダミー基盤とを前記両基盤それぞれの盤面を所定側に向けた状態で取り替えて保持できる保持手段と、前記保持手段で保持される両基盤の盤面に対向配置された洗浄治具と、洗浄に際しては前記洗浄治具を前記両基盤の盤面に対して相対的に摺動させる摺動手段とを有し、前記保持手段によって前記ダミー基盤を保持した状態で前記摺動手段によって前記洗浄治具を当該ダミー基盤の盤面上を相対的に摺動させて当該洗浄治具を洗浄する工程と、前記保持手段によって前記被洗浄基盤を保持した状態で前記工程で洗浄された前記洗浄治具を当該被洗浄基盤の盤面上を相対的に摺動させて当該被洗浄基盤を洗浄する工程とを実施可能とされていることを特徴とする。
【００２０】
本発明の基盤洗浄装置によれば、前記洗浄治具の洗浄工程で、前記ダミー基盤に対する摺動で洗浄治具が洗浄され、また、被洗浄基盤の洗浄工程で被洗浄基盤が洗浄されるから、その洗浄治具はダミー基盤による洗浄で既になじまされているから、被洗浄基盤の洗浄を容易にできる。
【００２１】
本発明の基盤洗浄装置は、好ましくは、洗浄に際して、前記洗浄治具を前記ダミー基盤の盤面上をその外周端部の外側にまで走査させる走査機構を有する。
【００２２】
こうした場合、洗浄治具に付着の異物は、ダミー基盤外部似排出されて洗浄治具にその異物が再度付着するようなことがなくなって好ましい。
【００２３】
本発明の基盤洗浄装置は、好ましくは、洗浄に際して、前記洗浄治具を前記被洗浄基盤の盤面上をその外周端部の外側にまで走査させる走査機構を有する。
【００２４】
こうした場合、被洗浄基盤に付着の異物は、被洗浄基盤外部似排出されて被洗浄基盤にその異物が残存するようなことがなくなって好ましい。
【００２５】
本発明の基盤洗浄装置は、好ましくは、前記被洗浄基盤として、情報信号が記録されていて被転写盤に接触されてその情報信号の磁気転写に用いられるもので、かつ、前記被転写盤との磁気転写面に、磁気転写に際して前記両盤を密着させるための凹部を有し、前記凹部が、内周から外周に向かい開放した形状を有する基盤を用い、前記ダミー基盤として、少なくとも一方の盤面に前記被洗浄基盤の前記凹部と略同形状の凹部を有する基盤を用いる。
【００２６】
こうした場合、ダミー基盤で洗浄治具で洗浄する場合、ダミー基盤は内周から外周に向かう放射状凹部を有するから、洗浄治具に付着の異物は簡単に外周に排出させ、また、洗浄治具はダミー基盤の凹部形状と既になじんでいるから、被洗浄基盤を容易に洗浄できるようになって好ましい。
【００２７】
（２）本発明の洗浄用基盤は、情報信号の磁気転写に用いられるもので、かつ、その磁気転写面に内周から外周に向かい開放した複数の放射状凹部を有する転写盤に対応して、少なくとも一方の盤面に前記内周から外周に向かい前記放射状凹部と同形状ないし略同形状の放射状凹部を有し、かつ、請求項１に記載の基盤洗浄装置の保持手段で保持されて洗浄治具でその盤面上が相対的に摺動されて、該洗浄治具の洗浄に使用されることを特徴とする。
【００２８】
本発明の洗浄用基盤によれば、洗浄治具で洗浄することができて好ましい。この場合、この基盤は、その盤面に前記放射状凹部を有するから、その盤面上を洗浄治具で洗浄させたとき、それに付着している異物を洗浄治具でその外周に向けて開放した凹部からその外側に確実に廃棄させることができ、洗浄の管理が容易な転写盤となる。
【００２９】
（３）本発明の洗浄方法は、内周から外周に向けて開放した少なくとも一つの凹部を有するダミー基盤に対して洗浄治具を当該ダミー基盤の盤面上を相対的に摺動させて当該洗浄治具を洗浄する工程と、前記工程後に、内周から外周に向けて開放した複数の凹部を有する被洗浄基盤を保持した状態で前記洗浄治具を当該被洗浄基盤の盤面上を相対的に摺動させて当該被洗浄基盤を洗浄する工程とを有することを特徴とする。
【００３０】
本発明の洗浄方法によれば、洗浄工程を減らして被転写盤であるハードディスクやその他のディスクの生産性の向上とその生産コストの削減とを図るとともに、その洗浄治具そのものを洗浄する装置を不要化し、全体として、転写盤の洗浄を低コストで確実に洗浄できる。
【００３１】
本発明の洗浄方法は、好ましくは、前記ダミー基盤と前記被転写盤との両凹部の形状を、同じまたは略同じとする。
【００３２】
こうした場合、洗浄治具がダミー基盤による洗浄を受けた場合、ダミー基盤の凹部に既になじんでおり、したがって、ダミー基盤は同じ形状の凹部を有する被洗浄基盤を洗浄治具で洗浄する場合、その洗浄が確実かつ容易にて行われて好ましい。
【００３３】
本発明の洗浄方法は、好ましくは、洗浄に際して前記ダミー基盤と前記洗浄治具とを摺動させる時の圧接力と、同じく洗浄に際しての前記被洗浄基盤と前記洗浄治具とを摺動させる時の圧接力とを同じまたは略同じとする。
【００３４】
こうした場合、洗浄治具がダミー基盤による洗浄を受けた場合、ダミー基盤の凹部に既になじんでおり、したがって、ダミー基盤は同じ形状の凹部を有する被洗浄基盤を洗浄治具で洗浄する場合、その洗浄が確実かつ容易にて行われて好ましい。
【００３５】
本発明の洗浄方法は、好ましくは、洗浄に際して前記ダミー基盤と前記洗浄治具とを摺動させる時の相対速度と、同じく洗浄に際して前記被洗浄基盤と前記洗浄治具とを摺動させる時の相対速度とを同じまたは略同じにする。
【００３６】
こうした場合、洗浄治具がダミー基盤による洗浄を受けた場合、ダミー基盤の凹部に既になじんでおり、したがって、ダミー基盤は同じ形状の凹部を有する被洗浄基盤を洗浄治具で洗浄する場合、その洗浄が確実かつ容易にて行われて好ましい。
【００３７】
本発明の洗浄方法は、好ましくは、前記工程に際して、洗浄治具方向に洗浄液を噴射する。
【００３８】
本発明の洗浄方法は、好ましくは、前記洗浄液中の異物を測定し、前記異物測定の結果に従い前記洗浄治具による洗浄を行う。
【００３９】
本発明の洗浄方法は、好ましくは、前記洗浄治具を前記ダミー基盤の盤面上をその外周端部の外側にまで走査させる。
【００４０】
本発明の洗浄方法は、好ましくは、前記洗浄治具を前記被洗浄基盤の盤面上をその外周端部の外側にまで走査させる。
【００４１】
【発明の実施の形態】
以下に、本発明の実施の形態について、図面を参照しながら説明する。
【００４２】
図１ないし図１０は、本発明の実施の形態に係る転写盤を用いた磁気転写装置に係る。
【００４３】
まず、図１〜図３を参照して、１は、情報が磁気転写される磁気ディスクなどの被転写盤盤、２は、情報信号が記録されていてその情報を被転写盤１に磁気転写する転写盤、３は、転写盤２の一方の盤面に設けられた被転写盤１との磁気転写による接触のための複数の放射状接触部である。
【００４４】
４は、本実施の形態で特徴とする放射状凹部であって、この放射状凹部４は、各放射状接触部３の間において該放射状接触部３よりも内方に凹まされて内周から外周に向かい開放されており、後述されるように、洗浄用凹部ともなり、その深さは所要好ましくは５μｍ程度に設定されている。
【００４５】
６は、被転写盤１を支持するための支持台、７は、支持題の中心部に気体を流すために設けられた通気孔、８は、転写盤２と被転写盤１の間の気体を排出、圧送するための通路、９は通路８から気体を排出するための気体排出口、１０は気体排出口に接続された吸引ポンプ、１１は気体の排出を制御する排気弁である。また、１２は通路８に気体を圧送するための給気ポンプ、１３は気体の給気を制御する給気弁である。給気ポンプ１２には、０．０１μｍのエアーフィルタが設けられており（図示せず）、０．０１μｍ以上の異物が通路８に圧送されないように構成されている。
【００４６】
１４は、転写盤２に固着されて転写盤２を保持するための保持アームである。その固着方法としては、保持アーム１４に設けられた貫通孔から気体を吸引することによって転写盤２を吸着している。
【００４７】
保持アーム１４はさらにガイド部材１６により上部のボス部を介して垂直方向に摺動自在に位置決めされている。
【００４８】
次に、図１〜図３を用いて吸引／圧送の工程について詳細に説明する。
【００４９】
まず、図１を使用して圧送による転写盤２と被転写盤１との離間工程について説明する。排気弁１１を閉じて給気弁１３を開放した状態で給気ポンプ１２を動作させることによって、気体を通路８に流し込む。
【００５０】
すると通気孔７には図１の矢印Ａで示したように上方向に空気が圧送される。このことにより、通気孔７に圧送された空気は、転写盤２を上方向に押し上げ、さらに矢印Ｂに示すように、空気は凹部４に圧送される。凹部４に圧送された空気は凹部４を通って転写盤２の中心から外周へ向かって放射状に広がる。そして、さらに凹部４から転写盤２と被転写盤１との隙間を通って大気へと抜ける。
【００５１】
この時の時間経過と、転写盤２と被転写盤１とで挟まれた空間（以下、空間Ａと称す）の気圧との関係を示すのが図４で、同図で時間経過が３秒のあたりから空間Ａの気圧が１０１．３ｋｐａから瞬間的に上昇し、その後約１秒間は１３０ｋｐａほどの気圧を保持している期間が、上記に示した転写盤２と被転写盤１とが離間している状態に相当する。
【００５２】
被転写盤１と転写盤２とが密着した状態から転写盤２が保持アーム１４と一体的に０．５ｍｍ上昇した時点で保持アーム１４の上面がガイド部材１６の下面と当接することによって、被転写盤１と転写盤２との間の距離は制御される。
【００５３】
吸引による被転写盤１と転写盤２との密着の工程について図２を参照して説明する。
【００５４】
給気ポンプ１２を停止させ、給気弁１３を閉じる。すると、被転写盤１を固着した保持アーム１４が自重で下方向に移動し、被転写盤１に載置される。その後、排気弁１１を開き、吸引ポンプ１０を作動させる。
【００５５】
すると、図２の矢印Ｃに示したように通気孔７の気体が下方向に排出されるため、凹部４内部、即ち空間Ａの気体も被転写盤１の内周孔とボス５との隙間を通って排出されることになる。
【００５６】
ここで、凹部４は図３に示したごとく、転写盤２の最外周まで抜けている形状となっているため、転写盤２と被転写盤１とは全周にわたり密着した状態となっており、空間Ａの圧力は大気圧よりも低くなる。従って、被転写盤１は大気圧１５により転写盤２に押しつけられることとなる。
【００５７】
図４で空間Ａの気圧が３０ｋｐａほどの区間が上記密着状態に相当する。
【００５８】
次に、図２に示すようにマグネット１７を矢印Ｄ方向に移動させ、転写盤２に接近させ、その距離が１ｍｍ程度になった時に矢印Ｄ方向への移動を停止し、次に被転写盤１の円周方向、すなわち、矢印Ｅの向きにマグネット１７を１回転以上回転させることにより、転写に必要な磁界を印可する。
【００５９】
ここで、転写盤２について図５ないし図７を参照して詳細に説明する。
【００６０】
図５に転写盤２の一例の平面を模式的に示しており、図５に示すように、転写盤２の一主面、すなわち被転写盤１の強磁性薄膜表面に接触する側の表面には、略放射状に信号領域２ａが形成されている。図３及び図５は模式的に示した図であり、実際には、図６における信号領域２ａは図３における接触部３上に構成されているものである。
【００６１】
図５の点線で囲んだ部分Ａ’の拡大図を、図６に模式的に示す。図６に示すように、信号領域２ａには、磁気記録媒体に記録されるディジタル情報信号、例えばプリフォーマット記録に対応する位置に、上記情報信号に対応したパターン形状で強磁性薄膜からなる磁性部によるマスタ情報パターンが形成されている。
【００６２】
図６において、ハッチングを施した部分が強磁性薄膜によって構成された磁性部である。この図６に示すマスタ情報パターンは、クロック信号、トラッキング用サーボ信号、アドレス情報信号等の各々の領域をトラック長さ方向に順次配列したものである。なお、図６に示すマスタ情報パターンは一例であり、磁気記録媒体に記録されるディジタル情報信号に応じて、マスタ情報パターンの構成や配置等を適宜決定することとなる。
【００６３】
例えば、ハードディスクドライブのように、ハードディスクの磁性膜に、まずリファレンス信号を記録し、そのリファレンス信号に基づきトラッキング用サーボ信号などのプリフォーマット記録を行う場合には、本発明によるマスタ情報媒体を用いてハードディスクの磁性膜に、あらかじめプリフォーマット記録に用いるリファレンス信号のみを転写記録し、そしてそのハードディスクをドライブの筐体に組み込み、トラッキング用サーボ信号などのプリフォーマット記録は、ハードディスクドライブの磁気ヘッドを使用して行うようにしてもよい。
【００６４】
図５、図６に示した領域の一部断面を図７に示す。
【００６５】
図７に示すように、転写盤２は、Ｓｉ基板、ガラス基板、プラスティック基板などの非磁性材料からなる円盤状の基体２ｂの一主面、すなわち被転写盤１の表面が接触する側の表面に、情報信号に対応する複数の微細な配列パターン形状で凹部２ｃを形成し、その基体２ｂの凹部２ｃに磁性部である強磁性膜２ｄを埋め込む形態で形成することにより構成されている。
【００６６】
ここで、強磁性薄膜２ｄとしては、硬質磁性材料、半硬質磁性材料、軟質磁性材料を問わず、多くの種類の磁性材料を用いることができ、磁気記録媒体にディジタル情報信号を転写記録できるものであればよい。例えば、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｆｅ−Ｃｏ合金などを用いることができる。なお、マスタ情報が記録される磁気記録媒体の種類によらずに十分な記録磁界を発生させるためには、磁性材料の飽和磁束密度が大きいほどよい。特に、２０００エルステッドを越える高保磁力の被転写盤や磁性層の厚みの大きいフレキシブルディスクに対しては、飽和磁束密度が０．８テスラ以下になると十分な記録を行うことができない場合があるので、一般的には、０．８テスラ以上、好ましくは１．０テスラ以上の飽和磁束密度を有する磁性材料が用いられる。
【００６７】
また、強磁性薄膜２ｄの厚さは、ビット長や磁気記録媒体の飽和磁化や磁性層の膜厚によるが、例えばビット長約１μｍ、磁気記録媒体の飽和磁化約５００ｅｍｕ／ｃｃ、磁気記録媒体の磁性層の厚さが約２０ｎｍの場合では、５０ｎｍ〜５００ｎｍ程度あればよい。
【００６８】
ここで、このような記録方法において、良好な記録信号品質を得るためには、転写盤に設けた強磁性薄膜としての軟質磁性薄膜もしくは半硬質磁性薄膜の配列パターンに基づき、プリフォーマット記録時にはこれを励磁して一様に磁化することが望ましく、また転写盤を用いた信号記録に先立って、ハードディスクなどの磁気記録媒体を一様に直流消去しておくことが望ましい。
【００６９】
次に、かかる転写盤２を製造する方法について説明する。
【００７０】
すなわち、本発明の記録方法に用いる転写盤２は、Ｓｉ基板の表面に、レジスト膜を成膜し、フォトリソグラフィ法のようなレーザービームまたは電子ビームを用いたリソグラフィ技術によってレジスト膜を露光、現像してパターニングした後、ドライエッチング等によってエッチングして、情報信号に対応した微細な凹凸形状を形成し、その後Ｃｏ等からなる強磁性薄膜をスパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法、ＣＶＤ法、めっき法等により、凹部に強磁性薄膜が埋め込まれた形態でかつ情報信号に対応した磁性部を備えた転写盤２を得ることができる。
【００７１】
なお、転写盤２の表面に凹凸形状を形成する方法は上述の方法に限定されるものではなく、例えば、レーザー、電子ビームまたはイオンビームを用いて微細な凹凸形状を直接形成したり、機械加工によって微細な凹凸形状を直接形成してもよい。
【００７２】
次に、転写盤２に形成したパターン形状に対応した情報信号を被転写盤１に転写記録する手順について、図８〜図１０を用いてさらに詳しく説明する。
【００７３】
まず、マグネット１７を被転写盤１に近づけた状態で、被転写盤１の中心軸を回転軸として被転写盤１と平行に回転させることにより、図８の矢印で示すように被転写盤１を予め一方向にする（初期化）。
【００７４】
次に、上述したように、被転写盤１に転写盤２を位置決めして重ね合わせた状態で、転写盤２と被転写盤１とを均一に密着させ、その後図２中矢印Ｅに示すように、初期化とは逆方向に磁界を印可することにより、転写盤２の磁性部２ｄが磁化され、そして転写盤２に重ね合わせた被転写盤１の所定の領域１ｂに、図９に示すように磁性部２ｄのパターン形状に対応した情報信号が記録される。なお、図９に示す矢印は、この時被転写盤１に転写記録される磁化パターンの磁界の方向を示している。
【００７５】
図１０にその磁化処理時の様子を示しており、図１０に示すように、転写盤２を被転写盤１に密着させた状態で、転写盤２に外部から磁界を印可して磁性部２ｄを磁化することによって、被転写盤１の強磁性層１ｃに情報信号を記録することができる。すなわち、非磁性の基体２ｂに所定の情報信号に対応する配列パターン形状で強磁性薄膜からなる磁性部２ｄを形成して構成した転写盤２を用いることにより、その情報信号に対応した磁化パターンとして被転写盤１に磁気的に転写記録することができる。
【００７６】
なお、転写盤２のパターンを被転写盤１に転写記録する際の方法として、上述のように転写盤２を被転写盤１に接触させた状態で外部磁界を印可する方法以外に、転写盤２の磁性部２ｄをあらかじめ磁化させておき、その状態で転写盤２を被転写盤１に密着するように接触させる方法であっても情報信号を記録することができる。
【００７７】
その後、再度、図１に示した前記離間を実施する。すなわち、排気弁１１を閉じ、給気弁１３を開き、給気ポンプ１２を作動させる。すると、矢印Ａ，Ｂに示すように気体が圧送され、転写盤２は気体が圧送する力によって保持アーム１４と一体的に移動し、保持アーム１４の上面がガイド部材１６と当接した所で止まる。このとき、矢印Ｂに示したように、気体は凹部４を通して転写盤２の中心から外周側へ放射状に圧送された状態を保っている。
【００７８】
ここで、転写盤２の接触部３上に異物が存在すると、磁気転写を実施することによって被転写盤１に欠陥が生じることになる。
【００７９】
以下において、本実施の形態の特徴である基盤洗浄装置、洗浄用基盤およびこれらを用いた洗浄方法を図１１ないし図１４を参照して説明する。
【００８０】
図１１は、基盤洗浄装置の構成を示す斜視図である。
【００８１】
図１１において、１０２は洗浄用基盤としてのダミー基盤であり、このダミー基盤１０２は、素材がシリコンウェハでできており、転写盤２の凹部４と同形状とされた複数の放射状凹部（洗浄用凹部）４’を有する。
【００８２】
１０３は、保持手段としての回転ステージであり、例えば静電チャックによってダミー基盤１０２を保持して矢印ＡＡ方向に回転する。この回転ステージ１０３は、被洗浄基盤である転写盤２の保持手段としても機能する。
【００８３】
１０７は、洗浄用ディスクである。
【００８４】
１０８は、素材がポリウレタンでできたパッド形態の洗浄治具であり、この洗浄治具１０８は、洗浄用ディスク１０７の外周部に取り付けられ、ダミー基盤１０２の凹部４’と対向している。
【００８５】
１０９は、洗浄用ディスク１０７を矢印ＢＢ方向に回転させる回動モータである。
【００８６】
１１０は、一端側が回動モータ１０９に連結されている連結アームである。
【００８７】
１１１は、連結アーム１１０の他端側に連結され、矢印ＣＣ方向に回動可能な回転モータである。
【００８８】
１１２は、エアシリンダであり、回転モータ１１１が載置され、かつ、矢印ＤＤ方向に移動可能とされている。
【００８９】
１１３は、エアシリンダ１１２の下部に配置され、エアシリンダ１１２の矢印ＤＤ方向の移動を調整してダミー基盤１０２と洗浄治具１０８との当接を調整するマイクロメータである。
【００９０】
１１４は、噴射口であり、この噴射口１１４は０．０５μｍのフィルタ（図示せず）が透された純水を流してダミー基盤１０２と洗浄治具１０８との間に噴射するようになっている。
【００９１】
このような構成を有する転写盤洗浄装置においては、エアシリンダ１１２が図１１中上部（矢印ＤＤの上部）に位置した時にダミー基盤１０２と洗浄治具１０８とが離間される。また、エアシリンダ１１２が図１１中下部（矢印ＤＤの下部）に位置した時にダミー基盤１０２と洗浄治具１０８とは当接される。この場合、両者１０２，１０８の当接力は、エアシリンダ１１２の下部に配置されたマイクロメータ１１３によって調節される。
【００９２】
エアシリンダ１１２を下方向に移動させた時の洗浄治具１０８のダミー基盤１０２に対する押し込み量は０．２ｍｍに設定される。詳しくは、洗浄治具１０８とダミー基盤１０２とが当接する位置から下方向に０．２ｍｍ洗浄治具１０８が位置するように、マイクロメータ１１３により調整する。
【００９３】
これら各部１０９〜１１３は、洗浄治具１０８をダミー基盤１０２や転写盤２それぞれの内周から外周に向けて摺動させて洗浄治具１０８や転写盤２を洗浄させるための摺動手段を構成する。
【００９４】
まず最初に、ダミー基盤１０２を回転ステージ１０３に載置して保持する。このとき、エアシリンダ１１２を図中ＤＤ方向の上側に配置する。この配置でダミー基盤１０２と洗浄治具１０８とを離間状態とし、また、洗浄治具１０８を図１２中ＦＦの位置、すなわち、ダミー基盤１０２から離れた外側位置に配置する。
【００９５】
その次に、回動モータ１１１によって洗浄治具１０８を図１２中、ＦＦの位置から時計方向に回動させ、図１２中ＥＥの位置、すなわち、ダミー基盤１０２の中心の位置まで移動させる。
【００９６】
さらにその次に、回転ステージ１０３によってダミー基盤１０２を矢印ＡＡ方向、すなわち、時計方向に回転数２０ｒｐｍの低速で回転させ、かつ回転モータ１０９によって洗浄治具１０８を矢印ＢＢ方向、すなわち、時計方向に４５０ｒｐｍの高速で回転させる。この状態で噴射口１１４から洗浄液をダミー基盤１０２と洗浄治具１０８との間に向けて噴射する。
【００９７】
さらにその次に、エアシリンダ１１２によって洗浄治具１０８を矢印ＤＤの下側に移動させる。これによって、洗浄治具１０８とダミー基盤１０２とを回転させながら接近させ、洗浄治具１０８をダミー基盤１０２へ０．２ｍｍ押し込んだ位置で上下移動を停止させる。
【００９８】
さらにその次に、回動モータ１１１によって洗浄治具１０８を矢印ＣＣ方向、すなわち、反時計方向に移動させる。移動速度は、ダミー基盤１０２の全面を洗浄治具１０８に当接させるよう、ダミー基盤１０２が回転ステージ１０３によって１周する間に洗浄治具１０８の直径分以上の速度にならないよう設定する。
【００９９】
こうして、洗浄治具１０８の表面上に付着している異物を、ダミー基盤１０２の凹部４’との当接によって洗浄治具１０８から離し、その凹部４’を通ってダミー基盤１０２の外側へ排出させる。
【０１００】
その次に、図１２中のＦＦの位置、すなわち洗浄治具１０８がダミー基盤１０２から離れた位置、すなわち洗浄治具１０８とダミー基盤１０２との間の接触部分が完全になくなる位置で回動モータ１１１を停止させる。このことによって、洗浄治具１０８の表面に付着している異物を確実にダミー基盤１０２の表面上から外側に排出させる。
【０１０１】
最後に、エアシリンダ１１２を矢印ＤＤの上方向に移動させた後、回動モータ１１２によって洗浄治具１０８を図１３中矢印ＥＥの位置に復帰させる。
【０１０２】
以上のような一連の洗浄動作を繰り返すことによって、洗浄治具１０８に付着している異物を取り除く。
【０１０３】
なお、上述の場合、ダミー基盤１０２の凹部４’を転写盤２の凹部４と同形状にすること、ダミー基盤１０２と洗浄治具１０８との接触力と転写盤２と洗浄治具１０８との接触力とを略同等にすること、ダミー基盤１０２と洗浄治具１０８それぞれの回転数と転写盤２と洗浄治具１０８それぞれの回転数を略同等とすること、により、洗浄治具１０８の洗浄効果とともに、その洗浄治具１０８を転写盤２に対してなじませられる効果がある。
【０１０４】
また、洗浄治具１０８の表面は放置しておくと硬化してくるため、被洗浄基盤である転写盤２を洗浄する前に転写盤２と同等の形状のダミー基盤１０２を用いて同等の洗浄条件によって洗浄治具１０８を洗浄させる。このことによって硬化した洗浄治具１０８が軟化し、洗浄に最適な状態となる。
【０１０５】
洗浄治具１０８の洗浄後に、転写盤２の洗浄を行うが、この洗浄工程は、洗浄治具１０８と同様であるから、ダミー基盤１０２を転写盤２に変更するだけでよい。
【０１０６】
なお、転写盤２の表面に形成されている磁性膜２ｄの端部に不正規な部分があり、これによって、例えば図１３に示すようなバリ２ｅが存在していた場合、洗浄治具１０８によって端部が削られ、破片となって洗浄治具１０８に付着するか、もしくは転写盤２に付着するおそれがある。
【０１０７】
しかしながら、本実施の形態の場合、このような転写盤２に付着した磁性膜の破片は、洗浄治具１０８の回転動作と外周側方向への移動により、転写盤２の凹部４に沿って外側へ移動し、その後、洗浄治具１０８が転写盤２から離れると、転写盤２の凹部形状は図３に示したように外周側に開放させた状態となっているため、転写盤２の表面上に付着した破片も転写盤２の外側に排出される。
【０１０８】
以上のように磁性膜の破片は転写盤２の表面上に付着することなく、確実に排出される。
【０１０９】
ただし、この場合、洗浄治具１０８の表面には磁性膜の破片が付着したままである可能性がある。転写盤２を複数回洗浄した場合、或いは磁性膜の製造不良で不正規な端部２ｅが多数存在していた場合、洗浄治具１０８の表面に磁性膜の破片が多数付着することになる。
【０１１０】
そこで、再び、ダミー基盤１０２を回転ステージ１０３に置き換え、上記と同様の洗浄治具１０８の洗浄を行えば洗浄治具１０８の表面に付着した磁性膜の破片が除去されることになる。
【０１１１】
このように、本実施の形態の場合、洗浄治具１０８の表面に付着した磁性膜の破片を、特別な装置構成を付加することなく簡単な方法で取り除くことが可能となる。
【０１１２】
なお、本発明は、上述の実施形態に限定されるものではなく、種々な応用や変形が考えられる。
【０１１３】
（１）本実施の形態ではダミー基盤１０２と転写盤２とを１回ずつ交互に洗浄する方法を採ったが、これに限定されるものではなく、例えばダミー基盤１０２にて洗浄治具１０８を洗浄した後に、所定の数の転写盤、例えば１０回洗浄した後に、再びダミー基盤１０２を洗浄装置に投入する方法を採ってもよい。
【０１１４】
（２）また、洗浄治具１０８の表面上に破片が付着しているかどうかの判断を、洗浄液の液中パーティクルを測定することによって判断してもよい。すなわち、公知の液中パーティクルカウンターを使用して液中のパーティクルが所定の値を超えるとダミー基盤１０２を洗浄装置に投入する方法を採ってもよい。
【０１１５】
（３）また、本実施の形態では、転写盤２の洗浄前のダミー基盤１０２の投入を１枚としたが、これに限定されるものではなく、複数枚、例えば１０枚連続で投入する構成とすると洗浄治具１０８の洗浄効果が上がる。
【０１１６】
（４）また、本実施の形態ではダミー基盤として磁性膜が形成されていない構成のものとしたが、必ずしもこれに限定されるものではなく、例えば磁性膜の角部がブラシによって取れることのない、或いは洗浄によって十分に取りきった磁性膜付の転写盤をダミー基盤として使用しても同等の効果が得られる。
【０１１７】
（５）また、上述の実施形態では洗浄治具として洗浄ブラシ１０８のようなカップ形態であったが、ロールブラシ形態でも構わない。ロールブラシの場合は、盤面上を内周から外周方向に向けて摺動するのではなく、ローリングにより摺動する形態となる。なお、その他の摺動形態でも勿論本発明は含む。
【０１１８】
【発明の効果】
以上のように本発明によれば、簡単な方法で確実に洗浄治具を洗浄することができるため、安価で信頼性の高い基盤の洗浄方法を実現することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施形態に係る磁気転写装置において転写盤と被転写盤とが離間しているときの状態を示す図
【図２】本発明の実施形態に係る磁気転写装置において転写盤と被転写盤が密着しているときの状態を示す図
【図３】図１の転写盤の斜視図
【図４】図１の被転写盤支持台の内部空間Ａの時間と気圧との関係を示す図
【図５】図１の転写盤の模式的な平面図
【図６】図５のＡ’部の拡大図
【図７】図６に示される領域の一部断面図
【図８】磁気転写において被転写盤の初期化を示す図
【図９】被転写盤に対する磁気転写を示す図
【図１０】磁気転写の様子を示す図
【図１１】本実施の形態の洗浄装置の構成斜視図
【図１２】図１１の洗浄を示す上面図
【図１３】転写盤の一部拡大断面図
【符号の説明】
１０２    ダミー基盤
１０２ｃ  凹部
１０３    回転ステージ
１０７    洗浄用ディスク
１０８    洗浄治具
１０９    回転モータ
１１０    連結アーム
１１１    回動モータ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
0003595282.tif 000009
【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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