(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
純水（４０）内にウェハ（２）を浸漬可能な乾燥室（１）内の上記純水の液面上の空間（４）内に、窒素ガスと液相のイソプロピルアルコールとが混合されて形成されかつ上記ウェハの温度より高い温度のミスト状のイソプロピルアルコールを噴霧させるミスト噴霧装置（３）であって、
上記窒素ガスが供給される窒素ガス供給通路（３０４，３１４，３２４，３３４，３５４）と、
上記液相のイソプロピルアルコールが供給される液相ＩＰＡ供給通路（３０６，３１６，３２６，３３６，３５６）と、
上記窒素ガス供給通路と上記液相ＩＰＡ供給通路とが形成され、かつ、上記液相ＩＰＡ供給通路から上記液相のイソプロピルアルコールが入り込んだのち上記窒素ガスと上記液相のイソプロピルアルコールとが混合されて上記ミスト状のイソプロピルアルコールを噴霧させる多孔質材料から構成される噴霧部（３０１，３１１，３２１，３３１，３４１，３５１）とを備え、
上記噴霧部（３０１）は、多孔質材料から構成されかつウェハ側の噴霧面（３０２ａ）以外の部分を被覆して流体の噴出不可とする噴霧部本体（３０２）を備え、
上記噴霧部本体は、上記噴霧面の近傍に配置された上記液相ＩＰＡ供給通路（３０６）と、上記液相ＩＰＡ供給通路の上記噴霧面とは反対側に配置された上記窒素ガス供給通路（３０４）とを備えて、上記窒素ガス供給通路から上記噴霧部本体内に入り込む上記窒素ガスが、上記液相ＩＰＡ供給通路から上記噴霧部本体内に入り込んだ上記液相のイソプロピルアルコールと混合されて、上記ミスト状のイソプロピルアルコールを上記噴霧面から上記空間内に噴霧させるとともに、
上記液相ＩＰＡ供給通路は、上記噴霧部本体内に形成された供給管配置空間（３０５）内に配置されたＩＰＡ供給管（３０８）内に形成され、かつ、上記ＩＰＡ供給管は、上記液相ＩＰＡ供給通路から上記液相のイソプロピルアルコールを上記噴霧部本体内に入り込ませる噴射孔（３０７）を有するようにしたウェハ乾燥装置用ミスト噴霧装置。
【請求項２】
純水（４０）内にウェハ（２）を浸漬可能な乾燥室（１）内の上記純水の液面上の空間（４）内に、窒素ガスと液相のイソプロピルアルコールとが混合されて形成されかつ上記ウェハの温度より高い温度のミスト状のイソプロピルアルコールを噴霧させるミスト噴霧装置（３）であって、
上記窒素ガスが供給される窒素ガス供給通路（３０４，３１４，３２４，３３４，３５４）と、
上記液相のイソプロピルアルコールが供給される液相ＩＰＡ供給通路（３０６，３１６，３２６，３３６，３５６）と、
上記窒素ガス供給通路と上記液相ＩＰＡ供給通路とが形成され、かつ、上記液相ＩＰＡ供給通路から上記液相のイソプロピルアルコールが入り込んだのち上記窒素ガスと上記液相のイソプロピルアルコールとが混合されて上記ミスト状のイソプロピルアルコールを噴霧させる多孔質材料から構成される噴霧部（３０１，３１１，３２１，３３１，３４１，３５１）とを備え、
上記噴霧部（３３１）は、上記多孔質材料の大略直方体状に構成されかつウェハ側の噴霧面（３３２ａ）以外の部分を被覆して流体の噴射不可とする噴霧部本体（３３２）を備え、
上記噴霧部本体は、上記液相ＩＰＡ供給通路（３３６）を有するとともに、上記液相ＩＰＡ供給通路内に、上記窒素ガス供給通路（３３４）を内部に有するとともに噴射孔（３３７）を有する窒素ガス供給管（３３８）を配置して、上記窒素ガス供給管内の上記窒素ガス供給通路から上記窒素ガス供給管の上記噴射孔を通って上記液相ＩＰＡ供給通路内に上記窒素ガスが入り込み上記液相のイソプロピルアルコールとが混合されて上記ミスト状のイソプロピルアルコールとなり、その上記ミスト状のイソプロピルアルコールが上記液相ＩＰＡ供給通路から上記噴霧部本体内に入り込んで上記噴霧面から上記空間内に噴霧させるようにしたウェハ乾燥装置用ミスト噴霧装置。
【請求項３】
純水（４０）内にウェハ（２）を浸漬可能な乾燥室（１）内の上記純水の液面上の空間（４）内に、窒素ガスと液相のイソプロピルアルコールとが混合されて形成されかつ上記ウェハの温度より高い温度のミスト状のイソプロピルアルコールを噴霧させるミスト噴霧装置（３）であって、
上記窒素ガスが供給される窒素ガス供給通路（３０４，３１４，３２４，３３４，３５４）と、
上記液相のイソプロピルアルコールが供給される液相ＩＰＡ供給通路（３０６，３１６，３２６，３３６，３５６）と、
上記窒素ガス供給通路と上記液相ＩＰＡ供給通路とが形成され、かつ、上記液相ＩＰＡ供給通路から上記液相のイソプロピルアルコールが入り込んだのち上記窒素ガスと上記液相のイソプロピルアルコールとが混合されて上記ミスト状のイソプロピルアルコールを噴霧させる多孔質材料から構成される噴霧部（３０１，３１１，３２１，３３１，３４１，３５１）とを備え、
上記噴霧部（３４１）は、上記多孔質材料の大略直方体状に構成されかつウェハ側の噴霧面（３４２ａ）以外の部分を被覆して流体の噴射不可とする噴霧部本体（３４２）を備え、
上記噴霧部本体は、一端から上記窒素ガスが供給されるとともに他端から上記液相のイソプロピルアルコールが供給される１つの液相ＩＰＡ兼窒素ガス用通路（３４９）を有して、上記液相ＩＰＡ兼窒素ガス用通路が上記液相ＩＰＡ供給通路と上記窒素ガス供給通路との両方の機能を有して、上記液相ＩＰＡ兼窒素ガス用通路の上記一端から上記窒素ガスが供給されるとともに上記他端から上記液相のイソプロピルアルコールが供給されることにより、上記液相ＩＰＡ兼窒素ガス用通路内で上記窒素ガスと上記液相のイソプロピルアルコールとが混合されて上記ミスト状のイソプロピルアルコールとなり、その上記ミスト状のイソプロピルアルコールが上記液相ＩＰＡ兼窒素ガス用通路から上記噴霧部本体内に入り込んで上記噴霧面から上記空間内に噴霧させるようにしたウェハ乾燥装置用ミスト噴霧装置。
【請求項４】
純水（４０）内にウェハ（２）を浸漬可能な乾燥室（１）内の上記純水の液面上の空間（４）内に、窒素ガスと液相のイソプロピルアルコールとが混合されて形成されかつ上記ウェハの温度より高い温度のミスト状のイソプロピルアルコールを噴霧させるミスト噴霧装置（３）であって、
上記窒素ガスが供給される窒素ガス供給通路（３０４，３１４，３２４，３３４，３５４）と、
上記液相のイソプロピルアルコールが供給される液相ＩＰＡ供給通路（３０６，３１６，３２６，３３６，３５６）と、
上記窒素ガス供給通路と上記液相ＩＰＡ供給通路とが形成され、かつ、上記液相ＩＰＡ供給通路から上記液相のイソプロピルアルコールが入り込んだのち上記窒素ガスと上記液相のイソプロピルアルコールとが混合されて上記ミスト状のイソプロピルアルコールを噴霧させる多孔質材料から構成される噴霧部（３０１，３１１，３２１，３３１，３４１，３５１）とを備え、
上記噴霧部（３５１）は、上記窒素ガス供給通路（３５４）を有しかつ噴射孔（３５４ａ）を有する窒素ガス通路用の窒素ガス供給体（３５３）と、上記窒素ガス供給体の下方に配置され、上記液相ＩＰＡ供給通路（３５６）を有し、上記多孔質材料から直方体状に構成され、かつウェハ側の噴霧面（３５２ａ）以外の部分を被覆して流体の噴射不可とする液相のＩＰＡ用通路用のＩＰＡ供給体（３５２）とで構成して、上記窒素ガス供給体の上記窒素ガス供給通路から供給された窒素ガスが上記噴射孔から上記ＩＰＡ供給体の両側面に沿って噴射され、上記液相ＩＰＡ用通路に供給された上記液相のイソプロピルアルコールが上記ＩＰＡ供給体の上記両側面から噴出することにより、上記窒素ガスと上記液相のイソプロピルアルコールとが混合されて上記ミスト状のイソプロピルアルコールを上記空間内に噴霧させるようにしたウェハ乾燥装置用ミスト噴霧装置。
【請求項５】
純水（４０）内にウェハ（２）を浸漬可能な乾燥室（１）と、
上記乾燥室内の上記純水の液面上の空間（４）内に、窒素ガスと液相のイソプロピルアルコールとを混合させたミスト状態のイソプロピルアルコールのＩＰＡミストを上記ウェハの温度より高い温度で噴霧させる請求項１〜４のいずれかに記載のミスト噴霧装置（３）とを備えて、
上記乾燥室の上記純水を排出するか又は上記ウェハを上記乾燥室内で上昇させることにより、上記乾燥室内で上記純水から上記ウェハが液面より上方に露出するとき、上記ウェハの表裏両面に付着した純水が上記ミスト状の上記イソプロピルアルコールにより置換され、その後、上記ウェハの表裏両面から上記イソプロピルアルコールが蒸発することにより乾燥される一方、
上記乾燥室は、上記ウェハを収容する収容部（１ｂ）と、該収容部に供給された上記純水がオーバーフローして流れ込むオーバーフロー部（１ａ）とを有するとともに、
上記乾燥室を収容し、かつ、上記乾燥室の上記収容部の上方に第１閉鎖空間（４）を形成可能とし、上記オーバーフロー部に純水が流れ込み、かつ、上記オーバーフロー部の上記純水内に入り込み上記第１閉鎖空間と隔離された第２閉鎖空間（２９）を形成する仕切り壁（５１）を有する処理室（５０）とを備えるようにしたウェハ乾燥装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、純水中に浸漬されているウェハを純水中から取り出すとき、酸素に触れさせることなくウェハ表面を乾燥させるウェハ乾燥装置用ミスト噴霧装置及びウェハ乾燥装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来、特公平６−１０３６８６号公報に開示されるような乾燥装置では、窒素ガスをキャリアとしてＩＰＡ（イソプロピルアルコール）を蒸気として、エチッング処理液で処理されたのち純水で洗浄されているウェハ処理槽内の上部空間内に供給するようにしている。そして、処理槽の純水を排水することにより、処理槽内でウェハを露出させ、処理槽の上部空間に供給されたＩＰＡ蒸気が露出したウェハの表面に付着した水滴と置換して、ウェハ表面が酸素に触れて自然酸化することなく、乾燥させるようにしている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記構造のものでは、通常、常温であるウェハの温度と同じ温度すなわち常温のＩＰＡ蒸気を処理槽内に供給して置換させるため、常温のＩＰＡがウェハの表面から蒸発してウェハの表面が乾燥するまでの乾燥時間が長くなり、乾燥効率が悪いといった問題があった。
【０００４】
そこで、本出願人の一人は、ウェハの温度よりも高い温度でかつミスト状のＩＰＡを乾燥室内の純水の液面上の空間内に噴射させて、乾燥室の上記純水を排出するか又は上記ウェハを上記乾燥室内で上昇させることにより、上記乾燥室内で上記純水から上記ウェハが液面より上方に露出するとき、上記ウェハの表裏両面に付着した純水が上記ミスト状の上記イソプロピルアルコールにより置換され、その後、上記ウェハの表裏両面から上記イソプロピルアルコールが蒸発することにより乾燥されるようにしたものを既に出願している（特願平１０−３３２５４５号）。
【０００５】
しかしながら、上記ミスト状のＩＰＡを噴射させるミスト噴霧装置では、窒素ガスを噴射させると同時に液相のイソプロピルアルコールを上記ウェハの温度より高い温度でかつ上記窒素ガスの噴射開口近傍で噴射させて、ミスト状のイソプロピルアルコールを形成して上記空間内に噴霧させるようにしているため、液相のイソプロピルアルコールと窒素ガスとの混合状態によってはイソプロピルアルコールが液相のまま上記空間内に落下してしまうといった問題があった。
【０００６】
従って、本発明の目的は、上記問題を解決することにあって、液相のイソプロピルアルコールが空間内に落下してしまうことがないウェハ乾燥装置用ミスト噴霧装置及びウェハ乾燥装置を提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、本発明は以下のように構成する。
【００１０】
本発明の第１態様によれば、純水内にウェハを浸漬可能な乾燥室内の上記純水の液面上の空間内に、窒素ガスと液相のイソプロピルアルコールとが混合されて形成されかつ上記ウェハの温度より高い温度のミスト状のイソプロピルアルコールを噴霧させるミスト噴霧装置であって、
上記窒素ガスが供給される窒素ガス供給通路と、
上記液相のイソプロピルアルコールが供給される液相ＩＰＡ供給通路と、
上記窒素ガス供給通路と上記液相ＩＰＡ供給通路とが形成され、かつ、上記液相ＩＰＡ供給通路から上記液相のイソプロピルアルコールが入り込んだのち上記窒素ガスと上記液相のイソプロピルアルコールとが混合されて上記ミスト状のイソプロピルアルコールを噴霧させる多孔質材料から構成される噴霧部とを備え、
上記噴霧部は、多孔質材料から構成されかつウェハ側の噴霧面以外の部分を被覆して流体の噴出不可とする噴霧部本体を備え、
上記噴霧部本体は、上記噴霧面の近傍に配置された上記液相ＩＰＡ供給通路と、上記液相ＩＰＡ供給通路の上記噴霧面とは反対側に配置された上記窒素ガス供給通路とを備えて、上記窒素ガス供給通路から上記噴霧部本体内に入り込む上記窒素ガスが、上記液相ＩＰＡ供給通路から上記噴霧部本体内に入り込んだ上記液相のイソプロピルアルコールと混合されて、上記ミスト状のイソプロピルアルコールを上記噴霧面から上記空間内に噴霧させるとともに、
上記液相ＩＰＡ供給通路は、上記噴霧部本体内に形成された供給管配置空間内に配置されたＩＰＡ供給管内に形成され、かつ、上記ＩＰＡ供給管は、上記液相ＩＰＡ供給通路から上記液相のイソプロピルアルコールを上記噴霧部本体内に入り込ませる噴射孔を有するようにしたウェハ乾燥装置用ミスト噴霧装置を提供する。
【００１３】
本発明の第２態様によれば、純水内にウェハを浸漬可能な乾燥室内の上記純水の液面上の空間内に、窒素ガスと液相のイソプロピルアルコールとが混合されて形成されかつ上記ウェハの温度より高い温度のミスト状のイソプロピルアルコールを噴霧させるミスト噴霧装置であって、
上記窒素ガスが供給される窒素ガス供給通路と、
上記液相のイソプロピルアルコールが供給される液相ＩＰＡ供給通路と、
上記窒素ガス供給通路と上記液相ＩＰＡ供給通路とが形成され、かつ、上記液相ＩＰＡ供給通路から上記液相のイソプロピルアルコールが入り込んだのち上記窒素ガスと上記液相のイソプロピルアルコールとが混合されて上記ミスト状のイソプロピルアルコールを噴霧させる多孔質材料から構成される噴霧部とを備え、
上記噴霧部は、上記多孔質材料の大略直方体状に構成されかつウェハ側の噴霧面以外の部分を被覆して流体の噴射不可とする噴霧部本体を備え、
上記噴霧部本体は、上記液相ＩＰＡ供給通路を有するとともに、上記液相ＩＰＡ供給通路内に、上記窒素ガス供給通路を内部に有するとともに噴射孔を有する窒素ガス供給管を配置して、上記窒素ガス供給管内の上記窒素ガス供給通路から上記窒素ガス供給管の上記噴射孔を通って上記液相ＩＰＡ供給通路内に上記窒素ガスが入り込み上記液相のイソプロピルアルコールとが混合されて上記ミスト状のイソプロピルアルコールとなり、その上記ミスト状のイソプロピルアルコールが上記液相ＩＰＡ供給通路から上記噴霧部本体内に入り込んで上記噴霧面から上記空間内に噴霧させるようにしたウェハ乾燥装置用ミスト噴霧装置を提供する。
【００１４】
本発明の第３態様によれば、純水内にウェハを浸漬可能な乾燥室内の上記純水の液面上の空間内に、窒素ガスと液相のイソプロピルアルコールとが混合されて形成されかつ上記ウェハの温度より高い温度のミスト状のイソプロピルアルコールを噴霧させるミスト噴霧装置であって、
上記窒素ガスが供給される窒素ガス供給通路と、
上記液相のイソプロピルアルコールが供給される液相ＩＰＡ供給通路と、
上記窒素ガス供給通路と上記液相ＩＰＡ供給通路とが形成され、かつ、上記液相ＩＰＡ供給通路から上記液相のイソプロピルアルコールが入り込んだのち上記窒素ガスと上記液相のイソプロピルアルコールとが混合されて上記ミスト状のイソプロピルアルコールを噴霧させる多孔質材料から構成される噴霧部とを備え、
上記噴霧部は、上記多孔質材料の大略直方体状に構成されかつウェハ側の噴霧面以外の部分を被覆して流体の噴射不可とする噴霧部本体を備え、
上記噴霧部本体は、一端から上記窒素ガスが供給されるとともに他端から上記液相のイソプロピルアルコールが供給される１つの液相ＩＰＡ兼窒素ガス用通路を有して、上記液相ＩＰＡ兼窒素ガス用通路が上記液相ＩＰＡ供給通路と上記窒素ガス供給通路との両方の機能を有して、上記液相ＩＰＡ兼窒素ガス用通路の上記一端から上記窒素ガスが供給されるとともに上記他端から上記液相のイソプロピルアルコールが供給されることにより、上記液相ＩＰＡ兼窒素ガス用通路内で上記窒素ガスと上記液相のイソプロピルアルコールとが混合されて上記ミスト状のイソプロピルアルコールとなり、その上記ミスト状のイソプロピルアルコールが上記液相ＩＰＡ兼窒素ガス用通路から上記噴霧部本体内に入り込んで上記噴霧面から上記空間内に噴霧させるようにしたウェハ乾燥装置用ミスト噴霧装置を提供する。
【００１５】
本発明の第４態様によれば、純水内にウェハを浸漬可能な乾燥室内の上記純水の液面上の空間内に、窒素ガスと液相のイソプロピルアルコールとが混合されて形成されかつ上記ウェハの温度より高い温度のミスト状のイソプロピルアルコールを噴霧させるミスト噴霧装置であって、
上記窒素ガスが供給される窒素ガス供給通路と、
上記液相のイソプロピルアルコールが供給される液相ＩＰＡ供給通路と、
上記窒素ガス供給通路と上記液相ＩＰＡ供給通路とが形成され、かつ、上記液相ＩＰＡ供給通路から上記液相のイソプロピルアルコールが入り込んだのち上記窒素ガスと上記液相のイソプロピルアルコールとが混合されて上記ミスト状のイソプロピルアルコールを噴霧させる多孔質材料から構成される噴霧部とを備え、
上記噴霧部は、上記窒素ガス供給通路を有しかつ噴射孔を有する窒素ガス通路用の窒素ガス供給体と、上記窒素ガス供給体の下方に配置され、上記液相ＩＰＡ供給通路を有し、上記多孔質材料から直方体状に構成され、かつウェハ側の噴霧面以外の部分を被覆して流体の噴射不可とする液相のＩＰＡ用通路用のＩＰＡ供給体とで構成して、上記窒素ガス供給体の上記窒素ガス供給通路から供給された窒素ガスが上記噴射孔から上記ＩＰＡ供給体の両側面に沿って噴射され、上記液相ＩＰＡ用通路に供給された上記液相のイソプロピルアルコールが上記ＩＰＡ供給体の上記両側面から噴出することにより、上記窒素ガスと上記液相のイソプロピルアルコールとが混合されて上記ミスト状のイソプロピルアルコールを上記空間内に噴霧させるようにしたウェハ乾燥装置用ミスト噴霧装置を提供する。
【００１７】
本発明の第５態様によれば、純水内にウェハを浸漬可能な乾燥室と、
上記乾燥室内の上記純水の液面上の空間内に、窒素ガスと液相のイソプロピルアルコールとを混合させたミスト状態のイソプロピルアルコールのＩＰＡミストを上記ウェハの温度より高い温度で噴霧させる第１〜４のいずれかの態様に記載のミスト噴霧装置とを備えて、
上記乾燥室の上記純水を排出するか又は上記ウェハを上記乾燥室内で上昇させることにより、上記乾燥室内で上記純水から上記ウェハが液面より上方に露出するとき、上記ウェハの表裏両面に付着した純水が上記ミスト状の上記イソプロピルアルコールにより置換され、その後、上記ウェハの表裏両面から上記イソプロピルアルコールが蒸発することにより乾燥される一方、
上記乾燥室は、上記ウェハを収容する収容部と、該収容部に供給された上記純水がオーバーフローして流れ込むオーバーフロー部とを有するとともに、
上記乾燥室を収容し、かつ、上記乾燥室の上記収容部の上方に第１閉鎖空間を形成可能とし、上記オーバーフロー部に純水が流れ込み、かつ、上記オーバーフロー部の上記純水内に入り込み上記第１閉鎖空間と隔離された第２閉鎖空間を形成する仕切り壁を有する処理室とを備えるようにしたウェハ乾燥装置を提供する。
【００２２】
【発明の実施の形態】
以下に、本発明にかかる実施の形態を図面に基づいて詳細に説明する。
【００２３】
本発明の第１実施形態にかかるウェハ乾燥装置は、図１〜図５に示すように、公知の図示しないキャリアで支持されたウェハ２，…，２を洗浄する純水４０内にウェハ２，…，２を浸漬して洗浄後に乾燥可能な乾燥室１と、上記乾燥室１内の上記純水４０の液面上の第１閉鎖空間４内に、窒素ガスと液相のイソプロピルアルコール（以下、単にＩＰＡと記す。）とが混合されたミスト状のＩＰＡ（ＩＰＡミスト）を、上記ウェハ２の温度（例えば常温）より高い、好ましくは上記ウェハ２の温度より少なくとも５℃以上高い、より好ましくは上記ウェハ２の温度より５℃から６０℃高い、温度で噴射させるミスト噴霧装置３，３とを備えて、上記乾燥室１の上記純水４０を排出するか又は上記ウェハ２，…，２を上記乾燥室１内で上昇させることにより、上記乾燥室１内で上記純水４０の液面から上記ウェハ２，…，２が上方に露出するとき、ミスト噴霧装置３，３から上記各ウェハ２の表裏両面にＩＰＡをミスト状態、すなわち、窒素をキャリアとするのではなく、ＩＰＡ自体が単体で窒素ガス中を浮遊している状態で噴霧させ続けて、上記各ウェハ２の表裏両面に付着した純水４０が上記ミスト状の上記ＩＰＡ（ＩＰＡミスト）により置換されるようにしている。通常、上記ウェハ２は常温であり、上記ＩＰＡミストは大略３０℃以上である。
【００２４】
上記乾燥室１は、大略矩形の箱体状のウェハ収容部１ｂと、該収容部１ｂの上端の外側の周囲に形成された矩形溝状のオーバーフロー部１ａとより大略構成されている。このオーバーフロー部１ａには、乾燥室１の収容部１ｂ内からオーバーフローした純水が流入するようになっている。
【００２５】
また、乾燥室１は、全体が処理室の一例としての機能する処理シンク５０内に収納されるとともに、乾燥室１の上方の処理シンク５０の上端開口は、外部から蓋５２により密閉できるように配置されている。乾燥室１の矩形溝状のオーバーフロー部１ａの中央部分には、処理シンク５０の上端においてＵ字状に屈曲された仕切り壁５１の先端が入り込み、オーバーフロー部１ａ内に純水があるときには、その純水内に仕切り壁５１の先端が入り込んでいることにより、乾燥室１の収容部１ｂの上方でかつ処理シンク５０の上部と蓋５２とで閉塞された第１閉鎖空間４と、乾燥室１の収容部１ｂの外側の側方及び下方でかつ処理シンク５０により閉塞された第２閉鎖空間２９とが分離されるようになっている。
【００２６】
なお、オーバーフロー部１ａ内の純水は、図３に示すように、定期的なメインテナンスなどのために、制御装置４１の制御動作に基く第１エアーオペレートバルブ５４の開動作により、処理シンク５０内に排出可能となっている。第１エアーオペレートバルブ５４は常時は閉じられている。
【００２７】
また、処理シンク５０の仕切り壁５１には、第１閉鎖空間４と第２閉鎖空間２９との圧力バランスを自動調整するための第１０エアーオペレートバルブ５３が設けられており、上記乾燥室１内の上記純水４０の液面上の第１閉鎖空間４の圧力が第２閉鎖空間２９より所定圧力を超えて高くなりすぎると、制御装置４１の制御動作に基き第１０エアーオペレートバルブ５３が開動作されて、第１閉鎖空間４と第２閉鎖空間２９との圧力バランスを自動調整するようにしている。なお、第１閉鎖空間４の圧力は、第２閉鎖空間２９より陽圧、すなわち、第２閉鎖空間２９より上記所定圧力だけ常時高くなるように保持されており、第２閉鎖空間２９から第１閉鎖空間４側への流体の移動が生じてウェハ２，…，２が汚染されないようにしている。
【００２８】
また、処理シンク５０の第２閉鎖空間２９内の圧力が異常に高まらないようにするため、処理シンク５０に排出通路４４を設けて、排出通路４４に、第２閉鎖空間２９内の気体の排出流量を手動で調整するための手動弁８と、制御装置４１の制御に基き排出通路４４での気体の排出又は停止を行う第２エアーオペレートバルブ９とを設けている。なお、第２閉鎖空間２９内に圧力センサを配置して、圧力センサで検出された第２閉鎖空間２９内の圧力に応じて第２エアーオペレートバルブ９を自動的に開閉することもできる。
【００２９】
なお、上記第１実施形態では、第２エアーオペレートバルブ９は、制御装置４１の制御により、排出通路４４の開閉動作を単に行うものとして説明したが、手動弁８の機能をも取り込んで手動弁８を省略し、制御装置４１の制御動作により、ミスト噴霧装置３，３から第１閉鎖空間４内に供給されるＩＰＡミストの供給量及び後述するように乾燥室１の収容部１ｂから排出通路４５を経て排出される純水の排出量に基き、排出通路４４から排出される流体の流量を適切に自動的に調整する流量自動調整弁として機能させるようにしてもよい。
【００３０】
また、図３において、乾燥室１の底部には、多数の供給孔を有する棒状の純水供給部５５が配置され、純水供給部５５は、第３エアーオペレートバルブ５６、流量計５９、手動弁６０を備えた純水供給通路５８と連結されて、純水供給通路５８を通して処理シンク５０の外部から純水を乾燥室１の収容部１ｂ内に供給するようにしている。第３エアーオペレートバルブ５６は、制御装置４１の制御により、純水供給通路５８の開閉動作を行うものである。手動弁６０は、流量計５９により検出された純水供給通路５８の純水の流量に基き、所定流量が供給されるように手動で調整するバルブである。５７は手動弁であり、第３エアーオペレートバルブ５６により純水供給通路５８が閉じられたときに純水を処理シンク５０内に若干量だけ流すものである。
【００３１】
なお、上記第１実施形態では、第３エアーオペレートバルブ５６は、制御装置４１の制御により、純水供給通路５８の開閉動作を単に行うものとして説明したが、手動弁６０の機能をも取り込んで手動弁６０を省略し、制御装置４１の制御動作により、流量計５９により検出された純水供給通路５８の純水の流量に基き、所定流量が供給されるように調整する流量自動調整弁として機能させるようにしてもよい。
【００３２】
さらに、乾燥室１の底部には、純水４０及び窒素ガスなどを処理シンク５０内に排出するための排出通路４５を設け、該排出通路４５に、当該通路４５を制御装置４１の制御に基いて開閉動作並びに流量調整動作する第４エアーオペレートバルブ７を設けて、排出通路４５の開閉及び純水及び窒素ガスなどの排出流量を調整するようにしている。
【００３３】
また、処理シンク５０の底部には、純水４０などを常時排出可能とするため、逆流防止用トラップ６１ａ付きの排出通路６１を設けている。
【００３４】
一方、上記各ミスト噴霧装置３の一例としてのミスト噴霧部３０１を、図４及び図５に示す。
【００３５】
上記噴霧部３０１の多孔質のフッ素樹脂製の直方体状の噴霧部本体３０２の上部には、長手方向沿いに延びた２本の窒素ガス用通路３０４，３０４を配置するとともに、２本の窒素ガス用通路３０４，３０４間の中間の下方の噴霧部本体３０２の下部に、１本のＩＰＡ用通路３０６を配置している。上記噴霧部３０１には、２本のＩＰＡ用供給管３３，３３と２本の窒素ガス供給管３２，３２とがそれぞれ連結されて、２本のＩＰＡ用供給管３３，３３から１本のＩＰＡ用通路３０６に液相のＩＰＡが供給されるとともに、２本の窒素ガス供給管３２，３２それぞれから２本の窒素ガス用通路３０４，３０４にそれぞれ窒素ガスが供給されるようになっている。そして、上記直方体状の噴霧部本体３０２のウェハ２に対向する面すなわち下面を除く面すなわち上面と両側面とを多孔質ではない通常のフッ素樹脂製の被覆体３０３で被覆することにより、被覆体３０３で被覆された面から窒素ガス及びＩＰＡが出ないようにする。ＩＰＡ用通路３０６は、噴霧部本体３０２の下部に形成された断面円形の長尺な供給管配置空間３０５内に配置されたＩＰＡ供給管３０８内に形成されている。ＩＰＡ供給管３０８は、所定間隔毎に、言い換えれば、各ウェハ２に大略向けて、すなわち、詳細には隣接するウェハ２，２間の空間に向けて配置された多数の噴射孔３０７，…，３０７を有している。噴霧部本体３０２の供給管配置空間３０５内に液相のＩＰＡを直接供給するのではなく、ＩＰＡ供給管３０８を配置してその管３０８の小さな噴射孔３０７，…，３０７を介して供給するのは、噴射孔３０７，…，３０７から一旦噴射された液相のＩＰＡはＩＰＡ供給管３０８内に戻ることができない結果、液相のＩＰＡの逆流を防止することができ、より安定して所定量の液相のＩＰＡを供給できるためである。
【００３６】
従って、２本の窒素ガス用通路３０４，３０４に窒素ガスが供給されると同時に、１本のＩＰＡ用通路３０６にも液相のＩＰＡが供給されると、２本の窒素ガス用通路３０４，３０４から供給された窒素ガスが、多孔質である直方体状の噴霧部本体３０２内に入り込み、上記直方体状の噴霧部本体３０２の上面と両側面とが多孔質ではない通常のフッ素樹脂製の被覆体３０３で被覆されているため、被覆されていないウェハ２に対向する面すなわち下面（噴霧面３０２ａ）側に導かれ、この噴霧面３０２ａから噴出しようとする。このとき、ＩＰＡ用通路３０６から供給管配置空間３０５を介して噴霧部本体３０２内に入り込んだ液相のＩＰＡも同様に噴霧面３０２ａから噴出しようとする。この結果、窒素ガスと液相のＩＰＡとが同時に噴出しようとして、ＩＰＡミストが噴霧面３０２ａから噴霧させることができる。
【００３７】
なお、上記第１実施形態では、左右のミスト噴霧装置３，３のミスト噴霧部３０１，３０１のそれぞれに窒素ガス及びＩＰＡ液体を供給するとき、両端部での圧力損失をできるだけ少なくするため、一方の窒素ガス用通路３０４では、各ミスト噴霧部３０１の一端側から他端閉塞部に向けて窒素ガスを供給する一方、他方の窒素ガス用通路３０４では、逆に、各ミスト噴霧部３０１の他端側から一端閉塞部に向けて窒素ガスを供給するとともに、ＩＰＡ液体は各ミスト噴霧部３０１の一端側と他端側にの両方から中間部に向けて供給するようにして、噴霧面３０２ａからより均一なＩＰＡミストを噴霧させるようにしている。
【００３８】
なお、ＩＰＡ用供給管３３のＩＰＡ用通路３０６から液相のＩＰＡの供給を停止させれば、後述するように、窒素ガス供給管３２の窒素ガス用通路３０４，３０４から窒素ガスのみを供給して、窒素ガスによるブロー乾燥動作などを行うこともできる。
【００３９】
一方、窒素ガス供給管３２の窒素ガス通路３０４から供給される窒素ガスは、常温より高い、好ましくは少なくとも５℃以上高い、より好ましくは５℃から６０℃高い温度で供給されるものであって、図３に示されるように、圧力計７７付きの減圧弁１７、上記窒素ガス通路３０４，３０４への窒素ガスの供給を一度に遮断可能な手動弁１８までが１つの通路であり、手動弁１８以降は２つの通路に分岐されて、流量計１９，１９、手動弁７５，７６、第５，６エアーオペレートバルブ２０，２１、供給する窒素ガス中のゴミなどを除去するフィルタ７４，７４、供給する窒素ガスを所定温度まで加熱するヒータ７３，７３を介して、図１の左右に配置したミスト噴霧装置３，３にそれぞれ供給される。第５，６エアーオペレートバルブ２０，２１は、制御装置４１の制御に基きそれぞれの通路の開閉動作を行うものである。手動弁７５，７６は、左右それぞれのミスト噴霧装置３，３用の通路に配置され、それぞれの流量計１９，１９で検出されたそれぞれの通路での窒素ガスの流量に基づき、窒素ガスの流量をそれぞれ手動で調整することにより、左右のミスト噴霧装置３，３から上記乾燥室１内の上記純水４０の液面上の第１閉鎖空間４内にミストを噴霧するとき、左右のミスト噴霧状態のバランスを調整できるようにしている。この結果、ＩＰＡミストの温度は、常温より高い、好ましくは少なくとも５℃以上高い、より好ましくは５℃から６０℃高い温度で噴霧される。
【００４０】
なお、上記第１実施形態では、第５，６エアーオペレートバルブ２０，２１は、制御装置４１の制御動作により、それぞれの通路の開閉動作を単に行うものとして説明したが、手動弁７５，７６の機能をも取り込んで手動弁７５，７６を省略し、制御装置４１の制御動作により、流量計１９，１９により検出されたそれぞれの通路の窒素ガスの流量に基き、所定流量が供給されるようにそれぞれ調整する流量自動調整弁として機能させるようにしてもよい。
【００４１】
また、ＩＰＡ用供給管３３のＩＰＡ用通路３０６から供給される液相のＩＰＡは、以下のようにして供給される。すなわち、図３に示されるように、圧力計７８付きの減圧弁１０、上記ＩＰＡ用通路３０６，３０６への液相のＩＰＡの供給を生じさせる窒素ガスを一度に遮断可能な第７エアーオペレートバルブ１１を介してＩＰＡ圧送タンク５内に上記とは別に窒素ガスを圧送し、窒素ガスの圧力によりＩＰＡ圧送タンク５内のＩＰＡの液体６が、上記ＩＰＡ用通路３０６，３０６への液相のＩＰＡの供給を一度に遮断可能な手動弁１３を配置した１つの通路を経て、手動弁１３以降は２つの通路に分岐されて、流量計１４，１４、手動弁１５，１６、第８，９エアーオペレートバルブ７１，７２、供給するＩＰＡ中のゴミなどを除去するフィルタ７０，７０を介して、図１の左右に配置したミスト噴霧装置３，３にそれぞれ供給される。なお、１２はＩＰＡ圧送タンク用リリーフ弁である。第８，９エアーオペレートバルブ７１，７２は、制御装置４１の制御に基きそれぞれの通路の開閉動作を行うものである。手動弁１５，１６は、左右それぞれのミスト噴霧装置３，３用の通路に配置され、それぞれの流量計１４，１４で検出されたそれぞれの通路でのＩＰＡの液体の流量に基づき、ＩＰＡの液体の流量をそれぞれ手動で調整することにより、左右のミスト噴霧装置３，３から上記乾燥室１内の上記純水４０の液面上の第１閉鎖空間４内にミストを噴霧するとき、左右のミスト噴霧状態のバランスを調整できるようにしている。
【００４２】
なお、上記第１実施形態では、第８，９エアーオペレートバルブ７１，７２は、制御装置４１の制御により、それぞれの通路の開閉動作を単に行うものとして説明したが、手動弁１５，１６の機能をも取り込んで手動弁１５，１６を省略し、制御装置４１の制御動作により、流量計１４，１４により検出されたそれぞれの通路のＩＰＡの液体の流量に基き、所定流量が供給されるようにそれぞれ調整する流量自動調整弁として機能させるようにしてもよい。
【００４３】
上記第１エアーオペレートバルブ５４、第２エアーオペレートバルブ９、第３エアーオペレートバルブ５６、第４エアーオペレートバルブ７、第５エアーオペレートバルブ２０、第６エアーオペレートバルブ２１、第７エアーオペレートバルブ１１、第８エアーオペレートバルブ７１、第９エアーオペレートバルブ７２、第１０エアーオペレートバルブ５３は、それぞれ、制御装置４１に接続されており、制御装置４１の制御により、所定のプログラムなどに基づいて、自動的に、オーバーフロー部１ａからの純水の排出、第２閉鎖空間２９からの気体の排出、乾燥室１の収容部１ｂへの純水の供給及び排出、第１閉鎖空間４への窒素ガス及びＩＰＡの液体のそれぞれの供給、従って、ＩＰＡミストの噴霧状態、乾燥室１内の第１閉鎖空間４内からの排気量、純水４０の排出量、第１閉鎖空間４と第２閉鎖空間２９との圧力バランスの自動調整などを動作制御できるようにしている。
【００４４】
上記構成によれば、制御装置４１の制御動作に基き、以下のようにしてウェハの乾燥動作が行われる。
【００４５】
図６において、まず、キャリアで支持されたウェハ２，…，２を乾燥室１の収容部１ｂ内に配置する。このとき、乾燥室１の上方の第１閉鎖空間４には窒素ガス供給管３２，３２の窒素ガス用通路３０４，３０４から窒素ガスのみを上記各ミスト噴霧装置３に供給して上記各ミスト噴霧装置３から窒素ガスを噴出させて窒素ガス雰囲気に維持されているとともに、乾燥室１の収容部１ｂ内には純水が純水供給部５５から供給され続けており、収容部１ｂ内からオーバーフローした純水はオーバーフロー部１ａに流れ込み、さらに、オーバーフロー部１ａからオーバーフローした純水は処理シンク５０内に流れ落ちている。このようにして、収容部１ｂ内には純水が満杯になつた状態に維持されており、このような収容部１ｂ内に、キャリアで支持されたウェハ２，…，２を浸漬するようにする。浸漬時に収容部１ｂ内からオーバーフローした純水はオーバーフロー部１ａを経て処理シンク５０内に流れ込む。上記したように、純水供給部５５から純水が、ウェハ２，…，２が収容されている乾燥室１の収容部１ｂ内に供給され続けることにより、純水４０によりウェハ２，…，２が洗浄され、洗浄された純水は収容部１ｂからオーバーフロー部１ａを介して処理シンク５０内に流れ落ちる。処理シンク５０内に溜まった純水は、逆流防止用トラップ６１ａ付きの排出通路６１から常時排出される。また、このとき、オーバーフロー部１ａ内の純水内に仕切り壁５１の先端が入り込んでいることから、乾燥室１の上方でかつ処理シンク５０の上部と蓋５２とで閉塞された第１閉鎖空間４と、乾燥室１の側方及び下方で処理シンク５０により閉塞された第２閉鎖空間２９とが、オーバーフロー部１ａ内の純水と仕切り壁５１とにより、分離独立される。なお、このとき、排気通路４４は第２エアーオペレートバルブ９により閉じられている。
【００４６】
次いで、純水によるウェハ２，…，２の洗浄が充分に行われたのち、図７に示すように、制御装置４１の制御に基き、乾燥室１への純水の供給が停止され、ミスト噴霧装置３，３に窒素ガスと液相のＩＰＡとが供給されてＩＰＡミストがミスト噴霧装置３，３から上記乾燥室１内の上記純水４０の液面上の第１閉鎖空間４内に噴射される。ＩＰＡミストは、例えば、１台のミスト噴霧装置３あたり約２〜３ｃｃ／ｍｉｎの噴射速度で上記第１閉鎖空間４内に噴霧させる。ＩＰＡミストを噴霧させる方向、すなわち、各噴霧面２０３ａの当該面と直交する軸方向は、若干下向きとして純水４０内のウェハ２に大略向かう方向（詳細には隣接するウェハ２，２間の空間でかつウェハ２の中心に相当する位置に向かう方向）として、純水４０の液面上に均一にＩＰＡミストが保持されるようにするのが好ましい。このとき、乾燥室１の第１閉鎖空間４内の圧力が第２閉鎖空間２９内の圧力と比較して所定圧力以上に高くなったときには、制御装置４１の制御により第１０エアーオペレートバルブ５３を開いて第２閉鎖空間２９内にＩＡＰミストを排出して、第１閉鎖空間４内の圧力を低下させて、上記所定圧力を維持するようにする。
【００４７】
次いで、所定時間経過後、第１閉鎖空間４内にＩＰＡミストが充満したのち、制御装置４１の制御に基き、第２エアーオペレートバルブ９により排気通路４４を開き、手動弁８で調整された流量の気体が第２閉鎖空間２９から排出可能とし、かつ、図８に示すように、乾燥室１の収容部１ｂの底部から第４エアーオペレートバルブ７の開操作により排出通路４５から純水が、処理シンク５０内すなわち第２閉鎖空間２９内に徐々に排出開始されて、乾燥室１内の上記純水４０の液面が低下させる。すなわち、このように上記第１閉鎖空間４の純水４０の液面付近がＩＰＡミストで覆われた状態が保持できるようにＩＰＡミストを噴霧し続けている状態で、制御装置４１の制御により、第４エアーオペレートバルブ７を開けて、純水４０を乾燥室１の収容部１ｂ内から徐々に排出を開始する。排出速度の例としては、ＩＰＡミストを例えば、１台のミスト噴霧装置３あたり約２〜３ｃｃ／ｍｉｎの噴射速度で噴出させて噴霧させるとき、純水４０の液面が１秒間に２ｍｍ程度低下するような速度とする。
【００４８】
その結果、各ウェハ２の上部が純水４０から露出することになるが、各ウェハ表面が酸素に触れて自然酸化することなく、上記純水４０の液面に均一に噴霧され続けているＩＰＡミストが各ウェハ２の表裏両面に付着した純水とすぐに置換される。また、ＩＰＡミストの温度は、各ウェハ２の温度すなわち常温よりも高い、好ましくは少なくとも５℃以上高い、より好ましくは５℃から６０℃高くなっているため、迅速に乾燥する。その後、上記各ウェハ２の表裏両面から上記ＩＰＡが自然に蒸発することにより、上記各ウェハ２の表裏両面が乾燥される。
【００４９】
次いで、図９に示すように、上記各ウェハ２が純水４０から完全に露出して、ＩＰＡミストが各ウェハ２の表裏両面に付着した純水とすぐに置換され、上記各ウェハ２の表裏両面から上記ＩＰＡが自然に蒸発することにより、上記各ウェハ２の表裏両面が完全に乾燥される。その後、制御装置４１の制御に基き、液相のＩＰＡのミスト噴霧装置３，３への供給のみを停止し、窒素ガスのみをミスト噴霧装置３，３を供給して、ミスト噴霧装置３，３から窒素ガスを各ウェハ２の表裏両面に供給して、ブロー乾燥したのち、キャリアで支持されたウェハ２，…，２を乾燥室１の収容部１ｂ内から取り出す。このとき、純水は、純水供給部５５から少量だけ収容部１ｂ内に供給し、収容部１ｂ内に溜まらずにすぐに排出通路４５から排出されるようにしている。このとき、窒素ガスも純水とともに排出通路４５から排出されることにより、ブロー乾燥において、第１閉鎖空間４内の圧力が異常に高まるのを防止している。
【００５０】
その後、ウェハ２，…，２を乾燥室１の収容部１ｂ内から完全に取り出されたのち、次のウェハ２，…，２の乾燥に備えて、排出通路４５を閉じて純水を収容部１ｂ内に溜めて、収容部１ｂ内から再びオーバーフロー部１ａにオーバーフローさせる。
【００５１】
以上の動作を繰り返すことにより、連続的にウェハ２，…，２の乾燥を行うことができる。
【００５２】
従って、多数の噴射孔を形成しているミスト噴霧装置では所定間隔毎に形成された噴射孔からしかミストを噴霧することができなかったが、上記第１実施形態によれば、ウェハ２に対向する噴霧面３０２ａの大略全面からミストをウェハ２に向けて均一に噴霧することができる。
【００５３】
なお、本発明は上記実施形態に限定されるものではなく、その他種々の態様で実施できる。
【００５４】
例えば、本発明の第２実施形態にかかるウェハ乾燥装置のミスト噴霧装置３の第２の例としてのミスト噴霧部３２１を図１０に示す。第２実施形態が第１実施形態と異なる点は、窒素ガス用通路３２４を１本とし、かつ、窒素ガス用通路３２４と１本のＩＰＡ用通路３２６との配置を図１０において上下逆にしたことである。すなわち、上記噴霧部３２１の多孔質のフッ素樹脂製の直方体状の噴霧部本体３２２の上部には長手方向沿いに延びた１本のＩＰＡ用通路３２６を配置するとともに、噴霧部本体３２２の下部にはＩＰＡ用通路３２６より小径でかつ長手方向沿いに延びた１本の窒素ガス用通路３２４を配置している。上記噴霧部３２１には、２本のＩＰＡ用供給管３３，３３と２本の窒素ガス供給管３２，３２とがそれぞれ連結されて、２本のＩＰＡ用供給管３３，３３から１本のＩＰＡ用通路３２６に液相のＩＰＡが供給されるとともに、２本の窒素ガス供給管３２，３２から１本の窒素ガス用通路３２４に窒素ガスが供給されるようになっている。そして、上記直方体状の噴霧部本体３２２のウェハ２に対向する面すなわち下面を除く面すなわち上面と両側面とを多孔質ではない通常のフッ素樹脂製の被覆体３２３で被覆することにより、被覆体３２３で被覆された面から窒素ガス及びＩＰＡが出ないようにする。
【００５５】
従って、窒素ガス用通路３２４に窒素ガスが供給されると同時に、ＩＰＡ用通路３２６にも液相のＩＰＡが供給されると、窒素ガス用通路３２４から窒素ガスが、多孔質である直方体状の噴霧部本体３２２内に入り込み、上記直方体状の噴霧部本体３２２の上面と両側面とが多孔質ではない通常のフッ素樹脂製の被覆体３２３で被覆されているため、被覆されていないウェハ２に対向する面すなわち下面（噴霧面３２２ａ）側に導かれ、この噴霧面３２２ａから噴出しようとする。このとき、ＩＰＡ用通路３２６から噴霧部本体３２２内に入り込んだ液相のＩＰＡも同様に噴霧面３２２ａから噴出しようとする。この結果、窒素ガスと液相のＩＰＡとが同時に噴出しようとして、ＩＰＡミストを噴霧面３２２ａから噴霧させることができる。
【００５６】
上記第２実施形態によれば、第１実施形態と比較して、通路の数を少なくすることができて、よりコンパクトなものとすることができる。
【００５７】
また、本発明の第３実施形態にかかるウェハ乾燥装置のミスト噴霧装置３の第３の例としてのミスト噴霧部３１１を図１１及び図１２に示す。第３実施形態が第１実施形態と異なる点は、窒素ガス用通路３１４を１本とする代わりにＩＰＡ用通路３１６，３１６を２本配置し、かつ、窒素ガス用通路３１４と２本のＩＰＡ用通路３１６，３１６との配置を図１２において上下逆にし、さらに、被覆体３１３の被覆位置を変更したことである。すなわち、上記噴霧部３１１の多孔質のフッ素樹脂製の直方体状の噴霧部本体３１２の上部には長手方向沿いに延びた１本の窒素ガス用通路３１４を配置するとともに、噴霧部本体３１２の下部には窒素ガス用通路３１４より小径でかつ長手方向沿いに延びた２本のＩＰＡ用通路３１６，３１６を、窒素ガス用通路３１４の中心軸に対して対称に配置している。上記噴霧部３１１には、２本のＩＰＡ用供給管３３，３３と２本の窒素ガス供給管３１，３１とがそれぞれ連結されて、２本のＩＰＡ用供給管３３，３３から２本のＩＰＡ用通路３１６に液相のＩＰＡがそれぞれ供給されるとともに、２本の窒素ガス供給管３１，３１から１本の窒素ガス用通路３１４に窒素ガスが供給されるようになっている。そして、上記直方体状の噴霧部本体３１２のウェハ２に対向する面すなわち下面のみを多孔質ではない通常のフッ素樹脂製の被覆体３１３で被覆することにより、被覆体３１３で被覆された面から窒素ガス及びＩＰＡが出ないようにする。
【００５８】
従って、窒素ガス用通路３１４に窒素ガスが供給されると同時に、ＩＰＡ用通路３１６，３１６にも液相のＩＰＡが供給されると、窒素ガス用通路３１４からの供給された窒素ガスが、多孔質である直方体状の噴霧部本体３１２内に入り込み、上記直方体状の噴霧部本体３１２の下面が多孔質ではない通常のフッ素樹脂製の被覆体３１３で被覆されているため、被覆されていない噴霧部本体３１２の両側面（噴霧面３１２ａ，３１２ａ）側に導かれ、この噴霧面３１２ａ，３１２ａから噴出しようとする。このとき、ＩＰＡ用通路３１６，３１６から噴霧部本体３１２内に入り込んだ液相のＩＰＡも同様に噴霧面３１２ａ，３１２ａから噴出しようとする。この結果、窒素ガスと液相のＩＰＡとが同時に噴出しようとして、ＩＰＡミストを噴霧面３１２ａ，３１２ａから噴霧させることができる。
【００５９】
上記第３実施形態によれば、第１実施形態と比較して、噴霧部本体３１２の下面からのみ噴霧するのではなく、両側面である噴霧面３１２ａ，３１２ａからＩＰＡミストを噴霧させることができる。
【００６０】
また、本発明の第４実施形態にかかるウェハ乾燥装置のミスト噴霧装置３の第４の例としてのミスト噴霧部３３１を図１３及び図１４に示す。第４実施形態が第１実施形態と異なる点は、液相のＩＰＡ用通路３３６内に窒素ガス供給管３３８を配置したことである。すなわち、上記噴霧部３３１の多孔質のフッ素樹脂製の直方体状の噴霧部本体３３２の中央部には、長手方向沿いに延びた１本の液相のＩＰＡ用通路３３６を形成するとともに、該ＩＰＡ用通路３３６の中央部に、長手方向沿いに延びた１本の窒素ガス用通路３３４を内部に形成する窒素ガス供給管３３８を配置している。上記噴霧部３３１には、２本のＩＰＡ用供給管３３，３３と２本の窒素ガス供給管３２，３２とがそれぞれ連結されて、２本のＩＰＡ用供給管３３，３３から１本のＩＰＡ用通路３３６に液相のＩＰＡが供給されるとともに、２本の窒素ガス供給管３２，３２から１本の窒素ガス用通路３３４にそれぞれ窒素ガスが供給されるようになっている。そして、上記直方体状の噴霧部本体３３２のウェハ２に対向する面すなわち下面を除く面すなわち上面と両側面とを多孔質ではない通常のフッ素樹脂製の被覆体３３３で被覆することにより、被覆体３３３で被覆された面から窒素ガス及びＩＰＡが出ないようにする。窒素ガス供給管３３８は、所定間隔毎に、言い換えれば、各ウェハ２に、すなわち、詳細には隣接するウェハ２，２間の空間に対応して多数の噴射孔３３７，…，３３７を有している。
【００６１】
従って、窒素ガス用通路３３４に窒素ガスが供給されると同時に、ＩＰＡ用通路３３６にも液相のＩＰＡが供給されると、窒素ガス用通路３３４から供給された窒素ガスがＩＰＡ用通路３３６内に入り込んで液相のＩＰＡと混合されて上記ＩＰＡミストとなり、そのＩＰＡミストが多孔質である直方体状の噴霧部本体３３２内に入り込み、上記直方体状の噴霧部本体３３２の上面と両側面とが多孔質ではない通常のフッ素樹脂製の被覆体３３３で被覆されているため、被覆されていないウェハ２に対向する面すなわち下面（噴霧面３３２ａ）側に導かれ、この噴霧面３３２ａから噴出して、ＩＰＡミストを噴霧面３３２ａから噴霧させることができる。
【００６２】
上記第４実施形態によれば、窒素ガス用通路３３４から供給された窒素ガスがＩＰＡ用通路３３６内に入り込んだのち多孔質である直方体状の噴霧部本体３３２内に入り込むため、窒素ガスと液相のＩＰＡとが混合してＩＰＡミストを形成しやすくなり、より均一にＩＰＡミストを噴霧することができる。
【００６３】
また、本発明の第５実施形態にかかるウェハ乾燥装置のミスト噴霧装置３の第５の例としてのミスト噴霧部３４１を図１５及び図１６に示す。第５実施形態が第４実施形態と異なる点は、液相のＩＰＡ用通路と窒素ガス通路とを共通の１つの通路で構成したことである。すなわち、上記噴霧部３４１の多孔質のフッ素樹脂製の直方体状の噴霧部本体３４２の中央部には、長手方向沿いに延びた１本の液相ＩＰＡ兼窒素ガス用通路３４９を形成している。上記噴霧部３４１には、１本のＩＰＡ用供給管３４と１本の窒素ガス供給管３２とがそれぞれ連結されて、１本のＩＰＡ用供給管３４により液相ＩＰＡ兼窒素ガス用通路３４９の一端側から液相のＩＰＡが供給されるとともに、１本の窒素ガス供給管３２により液相ＩＰＡ兼窒素ガス用通路３４９の他端側から窒素ガスが供給されるようになっている。そして、上記直方体状の噴霧部本体３４２のウェハ２に対向する面すなわち下面（噴霧面３４２ａ）を除く面すなわち上面と両側面とを多孔質ではない通常のフッ素樹脂製の被覆体３４３で被覆することにより、被覆体３４３で被覆された面から窒素ガス及びＩＰＡが出ないようにする。
【００６４】
従って、液相ＩＰＡ兼窒素ガス用通路３４９の一端に液相のＩＰＡが供給されると同時に液相ＩＰＡ兼窒素ガス用通路３４９の他端に窒素ガスが供給されると、液相ＩＰＡ兼窒素ガス用通路３４９に供給された液相のＩＰＡと窒素ガスとが液相ＩＰＡ兼窒素ガス用通路３４９内で混合されてＩＰＡミストが形成され、そのＩＰＡミストが多孔質である直方体状の噴霧部本体３４２内に入り込み、上記直方体状の噴霧部本体３４２の上面と両側面とが多孔質ではない通常のフッ素樹脂製の被覆体３４３で被覆されているため、被覆されていないウェハ２に対向する面すなわち下面（噴霧面３４２ａ）側に導かれ、この噴霧面３４２ａからＩＰＡミストを噴霧させることができる。
【００６５】
上記第５実施形態によれば、液相ＩＰＡ兼窒素ガス用通路３４９に供給された液相ＩＰＡと窒素ガスとが液相ＩＰＡ兼窒素ガス用通路３４９内で混合されて多孔質である直方体状の噴霧部本体３４２内に入り込むため、窒素ガスと液相のＩＰＡとによりＩＰＡミストを形成しやすくなり、より均一にＩＰＡミストを噴霧することができる。
【００６６】
また、本発明の第６実施形態にかかるウェハ乾燥装置のミスト噴霧装置３の第６の例としてのミスト噴霧部３５１を図１７及び図１８に示す。第６実施形態が他の実施形態と異なる点は、上記噴霧部３５１を、窒素ガス通路用の窒素ガス供給体３５３と、窒素ガス供給体３５３の下方に配置した液相のＩＰＡ用通路用のＩＰＡ供給体３５２との２つで構成したことである。すなわち、ＩＰＡ供給体３５２は多孔質のフッ素樹脂製の直方体状に形成され、その中央部には、長手方向沿いに延びた１本の液相ＩＰＡ用通路３５６を形成している。ＩＰＡ供給体３５２には１本のＩＰＡ用供給管３４が連結されて、ＩＰＡ用供給管３４により液相ＩＰＡ用通路３５６の一端側から他端閉塞部に向けて液相のＩＰＡが供給される。また、窒素ガス供給体３５３は、多孔質ではないフッ素樹脂製の直方体状に形成され、その中央部には、窒素ガス通路３５４を長手方向に延在させ、窒素ガス供給体３５３の下面でかつＩＰＡ供給体３５２の両側面に対応する位置にそれぞれ多数の噴射孔３５４ａ，…，３５４ａの列を配置し、噴射孔３５４ａ，…，３５４ａと上記窒素ガス通路３５４とを連結する屈曲したＬ字状の屈曲通路３５４ｂ，…，３５４ｂを形成している。上記窒素ガス供給体３５３には１本の窒素ガス供給管３２が連結されて、窒素ガス供給管３２により窒素ガス用通路３５４の他端側から一端閉塞部に向けて窒素ガスが供給されるようになっている。
【００６７】
従って、窒素ガス用通路３５４に窒素ガスが供給されると同時に液相ＩＰＡ用通路３５６に液相のＩＰＡが供給されると、窒素ガス用通路３５４に供給された窒素ガスが、屈曲通路３５４ｂ，…，３５４ｂを介して噴射孔３５４ａ，…，３５４ａから図１８において下向きに、すなわち、ＩＰＡ供給体３５２の両側面に沿って噴射される。すると、液相ＩＰＡ用通路３５６に供給された液相のＩＰＡがＩＰＡ供給体３５２の両側面から噴出することにより、窒素ガスと液相のＩＰＡとが混合されてＩＰＡミストを形成して、ＩＰＡミストを噴霧させることができる。
【００６８】
なお、各実施形態において、上記乾燥室１から上記純水４０を排出させる代わりに、上記ウェハ２を上記乾燥室１内で上昇させて、上記乾燥室１内で上記純水４０から上記ウェハ２が液面より上方に露出するようにしてもよい。
【００６９】
【発明の効果】
本発明によれば、液相のイソプロピルアルコールが多孔質材料から構成される噴霧部に入り込んだのちに窒素ガスと混合されて上記ミスト状のイソプロピルアルコールを噴霧させるようにしたので、液相のイソプロピルアルコールが液相のまま噴出することがなくなる。
【００７０】
また、多孔質材料から構成される噴霧部から液相のイソプロピルアルコールが噴出して窒素ガスと混合されて上記ミスト状のイソプロピルアルコールとなって噴霧されるため、噴射孔から噴射される場合と比較して、上記ミスト状のイソプロピルアルコールをより均一に噴霧させることができる。
【００７１】
すなわち、上記窒素ガス供給通路から上記噴霧部本体内に入り込む上記窒素ガスが、上記液相ＩＰＡ供給通路から上記噴霧部本体内に入り込んだ上記液相のイソプロピルアルコールと混合されて、上記ミスト状のイソプロピルアルコールを上記噴霧面から上記空間内に噴霧させるようにしたので、多数の噴射孔を形成しているミスト噴霧装置では所定間隔毎に形成された噴射孔からしかミストを噴霧することができなかったが、ウェハに対向する噴霧面の例えば大略全面からミストをウェハに向けて均一に噴霧することができる。
【００７２】
また、窒素ガス用通路から供給された窒素ガスがＩＰＡ用通路内に入り込んだのち多孔質である直方体状の噴霧部本体内に入り込むため、窒素ガスと液相のＩＰＡとが混合してＩＰＡミストを形成しやすくなり、より均一にＩＰＡミストを噴霧することができる。
【００７３】
また、液相ＩＰＡ兼窒素ガス用通路に供給された液相ＩＰＡと窒素ガスとが液相ＩＰＡ兼窒素ガス用通路内で混合されて多孔質である直方体状の噴霧部本体内に入り込むため、窒素ガスと液相のＩＰＡとによりＩＰＡミストを形成しやすくなり、より均一にＩＰＡミストを噴霧することができる。
【００７４】
また、ウェハが浸漬された純水の液面上にＩＰＡのミスト、すなわち、窒素をキャリアとするのではなく、ＩＰＡ自体が単体で窒素ガス中を浮遊している状態が常時保持されるようにしているので、ウェハの上部が純水から露出することになるが、ウェハ表面が酸素に触れて自然酸化することなく、上記純水の液面に均一に供給されているＩＰＡのミストがウェハの表裏両面に付着した純水とすぐに置換される。また、ＩＰＡのミストの温度は、ウェハの温度すなわち常温よりも高い、好ましくは少なくとも５℃以上高い、より好ましくは５℃から６０℃高くなっているため、ＩＰＡがウェハの表裏両面に凝着しやすくなり、ウェハの表裏両面に付着した純水とすぐに置換されやすくなる上に、ウェハの表裏両面が迅速に乾燥する。
【００７５】
よって、常温のウェハの表面の純水と常温のＩＰＡとを置換させたのち、常温のＩＰＡを乾燥させる従来の場合よりも乾燥時間が早くなり、乾燥効率を高めることができる。また、ミスト状態で純水の液面に噴霧させるため、ＩＰＡを蒸気で供給する従来の場合と比較して、ＩＰＡの消費量を大幅に減少させることができる。また、ＩＰＡを蒸気で供給する場合には蒸気状態を保持するため配管の外側を断熱材で覆うなどする必要があるが、本発明の上記ウェハ乾燥装置によれば、単に例えば常温の液相のＩＰＡをミスト噴霧装置にそれぞれに供給すればよいので、配管を断熱材で覆う必要はなく、装置が簡単なものとなる。また、ＩＰＡを蒸気化するときには加熱するためのエネルギーが必要であるが、本発明では、窒素ガスとＩＰＡとを噴射させるだけのエネルギーがあれば十分であり、安価でかつ簡単な装置構成でもってＩＰＡのミストを形成することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１実施形態にかかるウェハ乾燥装置の一部断面の概略平明図である。
【図２】図１のウェハ乾燥装置の一部断面の概略側面図である。
【図３】図１のウェハ乾燥装置において各流体の供給方法を含めたウェハ乾燥装置の概略図である。
【図４】上記ウェハ乾燥装置のミスト噴霧装置の平面図である。
【図５】図４の上記ミスト噴霧装置の断面正面図である。
【図６】図１のウェハ乾燥装置のオーバーフローリンス状態での概略図である。
【図７】図１のウェハ乾燥装置のＩＰＡ及び窒素ガス供給状態での概略図である。
【図８】図１のウェハ乾燥装置の排水及び窒素ガスブロー状態での概略図である。
【図９】図１のウェハ乾燥装置の蓋開及びウェハ取り出し状態での概略図である。
【図１０】本発明の第２実施形態にかかるウェハ乾燥装置のミスト噴霧装置の断面正面図である。
【図１１】本発明の第３実施形態にかかるウェハ乾燥装置のミスト噴霧装置の平面図である。
【図１２】図１１の上記ミスト噴霧装置の断面正面図である。
【図１３】本発明の第４実施形態にかかるウェハ乾燥装置のミスト噴霧装置の平面図である。
【図１４】図１３の上記ミスト噴霧装置の断面正面図である。
【図１５】本発明の第５実施形態にかかるウェハ乾燥装置のミスト噴霧装置の平面図である。
【図１６】図１５の上記ミスト噴霧装置の断面正面図である。
【図１７】本発明の第６実施形態にかかるウェハ乾燥装置のミスト噴霧装置の底面図である。
【図１８】図１７の上記ミスト噴霧装置の断面正面図である。
【符号の説明】
１…乾燥室、１ａ…オーバーフロー部、２…ウェハ、３…ミスト噴霧装置、４…第１閉鎖空間、５…ＩＰＡ圧送タンク、６…液体、７…第４エアーオペレートバルブ、８…手動弁、９…第２エアーオペレートバルブ、１０…減圧弁、１１…第７エアーオペレートバルブ、１２…ＩＰＡ圧送タンク用リリーフ弁、１３…手動弁、１４…流量計、１５，１６…手動弁、１７…減圧弁、１８…手動弁、１９…流量計、２０，２１…第５，６エアーオペレートバルブ、２３…ミスト噴霧装置、２３ａ…窒素ガス用通路、２３ｃ…ＩＰＡ用通路、２３ｅ…噴出面、２４…多孔質のフッ素樹脂製の直方体状の本体、２９…第２閉鎖空間、３２…窒素ガス供給管、３３…ＩＰＡ用供給管、４０…純水、４１…制御装置、４４…排出通路、４５…排出通路、５０…処理シンク、５１…仕切り壁、５２…蓋、５３…第１０エアーオペレートバルブ、５４…第１エアーオペレートバルブ、５５…純水供給部、５６…第３エアーオペレートバルブ、５７…手動弁、５８…純水供給通路、５９…流量計、６０…手動弁、６１…排出通路、６１ａ…トラップ、７０…フィルタ、７１…第８エアーオペレートバルブ、７２…第９エアーオペレートバルブ、７３…ヒータ、７４…フィルタ、７５，７６…手動弁、７７，７８…圧力計、９３ｃ…ＩＰＡ用供給通路、９３ｄ…噴射孔、１０３…第２のＩＰＡミスト噴霧部、１０３ｃ…窒素ガス兼ＩＰＡ用通路、１０３ｇ…貫通孔、１３１…第１のＩＰＡ噴霧部、１３５…供給管配置部、１３６…ＩＰＡミスト供給管、１４０…噴霧本体、２３６…窒素ガス兼ＩＰＡ用供給管、３０１，３１１，３２１，３３１，３４１，３５１…ミスト噴霧部、３０２，３１２，３２２，３３２，３４２…噴霧部本体、３０２ａ，３１２ａ，３２２ａ，３３２ａ，３４２ａ…噴霧面、３０３．３１３，３２３，３３３，３４３…被覆体、３０４，３１４，３２４，３３４，３５４…窒素ガス用通路、３０５…供給管配置空間、３０６，３１６，３２６，３３６，３５６…ＩＰＡ用通路、３０７，３３７…噴射孔、３０８…ＩＰＡ供給管、３３８…窒素ガス供給管、３４９…液相ＩＰＡ兼窒素ガス用通路、３５２…ＩＰＡ供給体、３５３…窒素ガス供給体。
【図１】
0003553430.tif 000002
【図２】
0003553430.tif 000003
【図３】
0003553430.tif 000004
【図４】
0003553430.tif 000005
【図５】
0003553430.tif 000006
【図６】
0003553430.tif 000007
【図７】
0003553430.tif 000008
【図８】
0003553430.tif 000009
【図９】
0003553430.tif 000010
【図１０】
0003553430.tif 000011
【図１１】
0003553430.tif 000012
【図１２】
0003553430.tif 000013
【図１３】
0003553430.tif 000014
【図１４】
0003553430.tif 000015
【図１５】
0003553430.tif 000016
【図１６】
0003553430.tif 000017
【図１７】
0003553430.tif 000018
【図１８】
0003553430.tif 000019