【誤訳訂正書】
【提出日】平成29年10月10日(2017.10.10)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
薬学組成物であって
（ａ）式（１）の化合物：
【化１】
2016500090.tif 000001
（ここで、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４は、電子求引性基、−ＮＯ２、−ＮＨ２、ハロゲン、および以下の式：
【化２】
2016500090.tif 000002
で表される置換基（ここで、Ｙは、
（ｉ）フェニル環上のオルト位、メタ位またはパラ位にあり得、そして水素、ヒドロカルビル、非芳香族炭素環、非芳香族ヘテロ環、アリール、アルキルアリールまたはアリールアルキル; 
（ii）ヒドロキシ、アルコキシ、−Ｃ（Ｏ）ＯＲ５、−ＳＯＲ６、−ＳＯ２Ｒ６、ニトロ、アミド、ウレイド、カルバマト、−ＳＲ７、−ＮＲ８Ｒ９またはポリアルキレンオキサイドから選択される１つから４つの親水性基で置換された、ヒドロカルビル、非芳香族炭素環、非芳香族ヘテロ環、アリール、アルキルアリールまたはアリールアルキル基；あるいは
（iii）以下の式（３）により表される置換基
【化３】
2016500090.tif 000003
から選択される）から選択され、
ただし、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４の少なくとも１つは、式（２）で表される置換基であり、ここでＹは式（３）を表し；
ここで：
Ｘは、酸素および硫黄から選択され；、
Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０およびＲ１１は、水素およびＣ１からＣ４ヒドロカルビルから選択され；
Ｚは、かご型構造内に、少なくとも２個の炭素原子および少なくとも３個のホウ素原子、または少なくとも１個の炭素原子および少なくとも５個のホウ素原子を含むカルボランクラスターであり；
ｒは０または１から２０の整数であり；
ａは、１から４の整数を表し；そして
ただし、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、およびＲ４の少なくとも１つは、電子求引性基、−ＮＯ２、−ＮＨ２またはハロゲンであり；そして
Ｍは、２個の水素イオン、１つの一価の金属イオン、２つの一価の金属イオン、二価の金属イオン、三価の金属イオン、四価の金属イオン、五価の金属イオン、および六価の金属イオンから選択され、ここで、１つの一価の金属イオンから誘導された該ポルフィリン金属錯体は、カウンターカチオンによって電荷平衡化され、そして三価、四価、五価または六価の金属イオンから誘導された該ポルフィリン金属錯体は、適切な数のカウンターアニオン、ジアニオン、またはトリアニオンによって電荷平衡化されている）；
（ｂ）以下を含む賦形剤：
（ｉ）溶媒としてのジメチルアセトアミド；ならびに
（ｉｉ）１つまたはそれ以上の薬学的に許容され得るグリコールまたはノニオン性界面活性剤成分を含む共溶媒；
を含む、薬学組成物。
【請求項２】
前記式（１）の化合物が、銅メソ−５，１５−ビス［３−［（１，２−ジカルバ−クロソ−ドデカボラニル）−メトキシ］−フェニル］−メソ−１０，２０−ジニトロポルフィリンである、請求項１に記載の薬学組成物。
【請求項３】
前記賦形剤（ｂ）が、５５〜９０％（ｖ／ｖ）の溶媒（ｉ）および１０〜４５％（ｖ／ｖ）の共溶媒（ｉｉ）を含む、請求項１または２に記載の薬学組成物。
【請求項４】
前記賦形剤（ｂ）が、５５〜８５％（ｖ／ｖ）の溶媒（ｉ）および１５〜４５％（ｖ／ｖ）の共溶媒（ｉｉ）を含む、請求項３に記載の薬学組成物。
【請求項５】
前記賦形剤（ｂ）が、６８〜８２％（ｖ／ｖ）の溶媒（ｉ）および１８〜４２％（ｖ／ｖ）の共溶媒（ｉｉ）を含む、請求項４に記載の薬学組成物。
【請求項６】
前記ノニオン性界面活性剤が、ポリオキシエチレンソルビタンモノエステル；ヒドロキシル化脂肪酸のポリオキシエチレンエステル；ポロキサマー；およびポリエトキシ化ヒマシ油から選択される、請求項１から５のいずれか１つに記載の薬学組成物。
【請求項７】
前記ポリオキシエチレンソルビタンモノエステルが、ポリオキシエチレンソルビタンモノラウレートまたはポリオキシエチレンソルビタンモノオレエートである、請求項６に記載の薬学組成物。
【請求項８】
前記ヒドロキシル化脂肪酸のポリオキシエチレンエステルが、ポリオキシエチレン１５−ヒドロキシステアレートである、請求項６に記載の薬学組成物。
【請求項９】
前記共溶媒（ｉｉ）が：
（ｉｉ−ａ）ポリオキシエチレン１５−ヒドロキシステアレート；または
（ｉｉ−ｂ）ポリオキシエチレン１５−ヒドロキシステアレートとポリエチレングリコールとの混合物；または
（ｉｉ−ｃ）ポリソルベート２０；または
（ｉｉ−ｄ）ポリエチレングリコール；または
（ｉｉ−ｅ）ポリソルベート２０とポリエチレングリコールとの混合物；または
（ｉｉ−ｆ）ポリソルベート２０とプロピレングリコールとの混合物；または
（ｉｉ−ｇ）テトラグリコール；または
（ｉｉ−ｈ）ポリソルベート２０とテトラグリコールとの混合物；または
（ｉｉ−ｉ）ポリオキシエチレン１５−ヒドロキシステアレートとテトラグリコールとの混合物；
を含む、請求項１から８のいずれか１つに記載の薬学組成物。
【請求項１０】
前記共溶媒（ｉｉ）が、ポリオキシエチレン１５−ヒドロキシステアレート、またはポリオキシエチレン１５−ヒドロキシステアレートとポリエチレングリコールとの混合物を含む、請求項９に記載の薬学組成物。
【請求項１１】
前記賦形剤（ｂ）が、６８〜８２％（ｖ／ｖ）の前記溶媒（ｉ）ジメチルアセトアミドおよび１８〜３２％（ｖ／ｖ）の前記共溶媒（ｉｉ）を含み、ここで、該共溶媒（ｉｉ）がポリオキシエチレン１５−ヒドロキシステアレートおよび必要に応じてポリエチレングリコールを含む、請求項１０に記載の薬学組成物。
【請求項１２】
前記ポリエチレングリコールが、存在する場合、１〜１５％（ｖ／ｖ）の前記賦形剤（ｂ）を構成する、請求項１１に記載の薬学組成物。
【請求項１３】
前記ポリエチレングリコールが、存在する場合、８〜１２％（ｖ／ｖ）の前記賦形剤（ｂ）を構成する、請求項１２に記載の薬学組成物。
【請求項１４】
前記賦形剤（ｂ）が、６８〜７２％（ｖ／ｖ）の前記溶媒（ｉ）ジメチルアセトアミドおよび２８〜３２％（ｖ／ｖ）の前記共溶媒（ｉｉ）を含み、ここで、該共溶媒（ｉｉ）がポリオキシエチレン１５−ヒドロキシステアレート、またはポリオキシエチレン１５−ヒドロキシステアレートとポリオキシエチレングリコールとの２：１（ｖ／ｖ）混合物からなる、請求項１３に記載の薬学組成物。
【請求項１５】
前記式（１）の化合物が、前記賦形剤（ｂ）の１ミリリットル当たり２５ｍｇから１００ｍｇに相当する量で存在する、請求項１から１４のいずれか１つに記載の薬学組成物。
【請求項１６】
前記式（１）の化合物が、前記賦形剤（ｂ）の１ミリリットル当たり４０ｍｇから８０ｍｇに相当する量で存在する、請求項１５に記載の薬学組成物。
【請求項１７】
前記式（１）の化合物が、前記賦形剤（ｂ）の１ミリリットル当たり約５０ｍｇに相当する量で存在する、請求項１６に記載の薬学組成物。
【請求項１８】
前記賦形剤（ｂ）中の前記式（１）の化合物の溶液である、請求項１から１７のいずれか１つに記載の薬学組成物。
【請求項１９】
前記式（１）の化合物を粉末形態で含有する第１の容器と、前記溶媒（ｉ）および共溶媒（ｉｉ）を含有する１つまたはそれ以上のさらなる容器とを含む、請求項１から１７のいずれかに記載の薬学組成物。
【請求項２０】
２つのさらなる容器があり、そのうちの１つが溶媒（ｉ）を含有し、そして他方が溶媒（ｉ）と共溶媒（ｉｉ）との混合物を含有する、請求項１９に記載の薬学組成物。
【請求項２１】
放射線増感剤として使用するための請求項１から２０のいずれかに記載の組成物。
【請求項２２】
癌の治療における放射線増感剤として使用するための請求項１から２０のいずれかに記載の組成物。
【請求項２３】
癌の治療における放射線療法と組み合わせて使用するための請求項１から２０のいずれかに記載の組成物。
【請求項２４】
ヒト以外の動物において腫瘍を放射線治療に対して増感する方法であって、該方法が、それを必要とする該ヒト以外の動物に、請求項１から２３のいずれかに記載の組成物の効果的な放射線増感量を投与する工程を含む、方法。
【請求項２５】
請求項１から２３のいずれかに記載の前記式（１）の化合物、溶媒（ｉ）と共溶媒（ｉｉ）とを含む賦形剤、および等張性水性希釈液を含む、注射または点滴用溶液。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１２
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１２】
で表される置換基（ここで、Ｙは、フェニル環上のオルト位、メタ位またはパラ位にあり得、そして水素、ヒドロカルビル、非芳香族炭素環、非芳香族ヘテロ環、アリール、アルキルアリール、アリールアルキル;あるいは
ヒドロキシ、アルコキシ、−Ｃ（Ｏ）ＯＲ５、−ＳＯＲ６、−ＳＯ２Ｒ６、ニトロ、アミド、ウレイド、カルバマト、−ＳＲ７、−ＮＲ８Ｒ９またはポリアルキレンオキサイドから選択される１つから４つの親水性基で置換された、ヒドロカルビル、非芳香族炭素環、非芳香族ヘテロ環、アリール、アルキルアリールまたはアリールアルキル基；あるいは
以下の式（３）により表される置換基
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１４
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１４】
から選択される）から選択され、
ただし、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４の少なくとも１つは、式（２）で表される置換基であり、ここでＹは式（３）を表し；
ここで：
Ｘは、酸素または硫黄から選択され；
Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０およびＲ１１は、水素およびＣ１からＣ４ヒドロカルビルから選択され；
Ｚは、かご型構造内に、少なくとも２個の炭素原子および少なくとも３個のホウ素原子、または少なくとも１個の炭素原子および少なくとも５個のホウ素原子を含むカルボランクラスターであり；
ｒは０または１から２０の整数であり；
ａは、１から４の整数を表し；そして
ただし、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、およびＲ４の少なくとも１つは、電子求引性基、−ＮＯ２、−ＮＨ２またはハロゲンであり；そして
Ｍは、２個の水素イオン、１つの一価の金属イオン、２つの一価の金属イオン、二価の金属イオン、三価の金属イオン、四価の金属イオン、五価の金属イオン、および六価の金属イオンから選択され、ここで、１つの一価の金属イオンから誘導された該ポルフィリン金属錯体は、カウンターカチオンによって電荷平衡化され、そして三価、四価、五価または六価の金属イオンから誘導された該ポルフィリン金属錯体は、適切な数のカウンターアニオン、ジアニオン、またはトリアニオンによって電荷平衡化されている）、ならびに
（ｂ）以下を含む賦形剤：
（ｉ）溶媒としてのジメチルアセトアミド；ならびに
（ｉｉ）１つまたはそれ以上の薬学的に許容され得るグリコールまたは界面活性剤成分を含む共溶媒；
を含む、薬学組成物を提供する。