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【手続補正書】
【提出日】平成29年5月11日(2017.5.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
心臓弁までの血管内送達に適応する心臓弁支持体であって、
折り畳まれた送達用構成と展開された構成をそれぞれ有する第１及び第２の支持要素を含み、
少なくとも２つの架橋部材が第１の支持要素から第２の支持要素まで延在し、前記架橋部材は送達用構成と展開された構成を有し、前記架橋部材は展開された構成では第１及び第２の支持要素から半径方向内側に延在し、
前記支持要素の１つには１つまたはそれ以上の弁葉が取り付けられる、心臓弁支持体。
【請求項２】
心臓弁までの血管内送達に適応する心臓弁支持体であって、単一リング形状の支持要素を含み、前記支持要素は折り畳まれた送達用構成と展開された構成を有し、かつ前記支持要素には１つまたはそれ以上の弁葉が取り付けられる、心臓弁支持体。
【請求項３】
前記支持体がさらに１つまたはそれ以上の安定化用アームを含む、請求項１または２に記載の心臓弁支持体。
【請求項４】
前記支持体には３つの弁葉が取り付けられる、請求項１または２に記載の心臓弁支持体。
【請求項５】
前記支持体には２つの弁葉が取り付けられる、請求項１または２に記載の心臓弁支持体。
【請求項６】
１つまたはそれ以上の弁葉が非生物学的材料を用いて構成される、請求項１または２に記載の心臓弁支持体。
【請求項７】
少なくとも１つの支持要素が、その展開された構成では、平らな環状リングの形態を有し、かつ前記環状のリングの外半径と内半径の間の差（Ｒｄ）は、１から２０ｍｍの範囲内にある、請求項１または２に記載の心臓弁支持体。
【請求項８】
Ｒｄと平らな環状リングの厚さの間の比が、１０：１と２０：１の間にある、請求項７に記載の心臓弁支持体。
【請求項９】
平らな環状リングの内径が、２３から２９ｍｍの範囲内にあり、かつこの外径は、３０から５０ｍｍの範囲内にある、請求項７に記載の心臓弁支持体。
【請求項１０】
平らな環状リングの厚さが、０．２５から０．８ｍｍの範囲内にある、請求項７に記載の心臓弁支持体。
【請求項１１】
置換用心臓弁を埋め込むための２段階方法であって、
第１の段階では、１つまたはそれ以上の支持要素と、前記支持要素の１つに取り付けられた１つまたはそれ以上の弁葉とを含む弁支持装置を、対象者の心臓弁の近くの場所まで送達して、前記支持要素を折り畳まれた送達用構成から、拡張されて展開された構成に拡張して、弁輪の領域内で心臓組織に対して固定し、これによってその前に生来の弁によって遂行されていた機能を前記弁葉が遂行するようにし、
第２の段階では、置換弁を前記弁支持体の中央空間内に展開して、それに対して前記弁を固定する、方法。
【請求項１２】
弁支持装置が単一支持要素を含む、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
弁支持装置が２つまたはそれ以上の架橋要素によって互いに対して接続される上側支持要素と下側支持要素を含み、前記支持要素を拡張する段階では、支持要素の１つ、架橋要素、及び第２支持要素を順に拡張する、請求項１１に記載の方法。
【請求項１４】
置き換えられる心臓弁が僧帽弁である、請求項１１に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成29年6月29日(2017.6.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
投与量インジケータであって、
第１の表示軸を中心として定角回転可能な第１の表示ユニットと、
第２の表示軸を中心として定角回転可能な第２の表示ユニットであって、前記第２の表示軸が前記第１の表示軸に対して横断方向である、第２の表示ユニットと、
シャーシフレーム、前記第１の表示ユニットと係合する駆動手段を備える変位部分、及び前記変位部分と前記シャーシフレームとを直接的に又は間接的に接続する少なくとも１つのヒンジ手段とを備えるシャーシと、を備える、投与量インジケータ。
【請求項２】
前記第１の表示ユニット及び前記第２の表示ユニットの少なくとも一方が、概ね円形であり、かつそれぞれ前記第１の表示軸及び前記第２の表示軸の少なくとも一方を中心として定角回転可能である、請求項１に記載の投与量インジケータ。
【請求項３】
前記駆動手段が前記第１の表示ユニットと係合するように適合される、請求項１又は２に記載の投与量インジケータ。
【請求項４】
前記駆動手段が湾曲した経路上で前記第１の表示ユニットと係合するように適合され、前記駆動手段が前記第１の表示ユニットの周囲の外側からの力によって駆動される、請求項３に記載の投与量インジケータ。
【手続補正書】
【提出日】平成29年6月13日(2017.6.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
柔軟な固体（Ｓ）の対象領域（Ｒ）に関する情報を収集するためのせん断弾性波画像化方法であって、この方法は少なくとも以下の工程：
ａ）該対象領域内に少なくとも１つのせん断弾性波（ＳＷ、ＳＷ８）を生成すること、
ｂ）該対象領域内での少なくとも１つのせん断弾性波の伝播パターンを検出すること、
を包含し、
‐  工程ａ）は、該対象領域（Ｒ）の粒子（Ｐ１、Ｐ２）へ、電場
【数６４】
2016523673.tif 000001
及び磁場
【数６５】
2016523673.tif 000002
から得られる何らかのローレンツ力（ＦＬ１、Ｆ’Ｌ１、ＦＬ２、Ｆ’Ｌ２）を加えることによって実現されること、
‐  該電場及び該磁場の少なくとも１つが、１Ｈｚと１０ｋＨｚの間の中心周波数（ｆ０）で時間的に可変であり、又は、該電場及び磁場
【数６６】
2016523673.tif 000003
の両方が、１Ｈｚと１０ｋＨｚの間の中心差分周波数（Δｆ０）で時間的に可変であること、
を特徴とする、上記方法。
【請求項２】
工程ａ）の間、該電場
【数６７】
2016523673.tif 000004
および該磁場
【数６８】
2016523673.tif 000005
の最初の１つが、時間的に可変であり、且つ該電場および該磁場の第２の１つは、時間的に一定である、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
工程ａ）の間、該電場
【数６９】
2016523673.tif 000006
は時間的に可変であり、且つ該磁場
【数７０】
2016523673.tif 000007
は時間的に一定である、請求項２に記載の方法。
【請求項４】
工程ａ）の間、該磁場
【数７１】
2016523673.tif 000008
は、時間的に可変であり、且つ該電場
【数７２】
2016523673.tif 000009
は時間的に一定である、請求項２に記載の方法。
【請求項５】
工程ａ）の間、該電場
【数７３】
2016523673.tif 000010
及び該磁場
【数７４】
2016523673.tif 000011
の両方が、１Ｈｚと１０ｋＨｚの間の周波数で時間的に可変であり、又は、該電場
【数７５】
2016523673.tif 000012
及び該磁場
【数７６】
2016523673.tif 000013
の両方が、１Ｈｚと１０ｋＨｚの間の中心差分周波数（Δｆ０）を有する高周波で時間的に可変である、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
該変動する場
【数７７】
2016523673.tif 000014
の該中心周波数（ｆ０）又は該中心差分周波数（Δｆ０）は、５〜１０００Ｈｚ、好ましくは５０〜１５０Ｈｚの間である、請求項１〜５のいずれか１項に記載の方法。
【請求項７】
該電場
【数７８】
2016523673.tif 000015
は、該柔軟な固体（Ｓ）の両側に、片側に、又は内部に置かれ、且つ１μＡと１Ａの間の強度を有する電流源（４、１４）へ接続された２つの電極（４２、４４）により生成される、請求項１〜６のいずれか１項に記載の方法。
【請求項８】
該電場
【数７９】
2016523673.tif 000016
は、時間的に可変である第２磁場
【数８０】
2016523673.tif 000017
により生成される、請求項１〜６のいずれか１項に記載の方法。
【請求項９】
該柔軟な固体（Ｓ）は、人の、動物もしくは植物起源の、生体組織、好ましくは器官又は人工培地である、請求項１〜８のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１０】
工程ｂ）の間に、該せん断弾性波（ＳＷ、ＳＷ８）伝播速度の測定は、超音波技術に基づいたセンサアセンブリ（１０）を介して実施される、請求項１〜９のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１１】
工程ｂ）の間に、該せん断弾性波（ＳＷ、ＳＷ８）伝播速度の測定は、磁気共鳴画像化（ＭＲＩ）技術に基づいたセンサアセンブリ（２０）を介して実施される、請求項１〜１０のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１２】
工程ａ）の間に用いられた該磁場
【数８１】
2016523673.tif 000018
は、磁気共鳴画像化（ＭＲＩ）技術に基づいた該センサアセンブリ（２０）により生成される、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
工程ｂ）の間に、該少なくとも１つのせん断弾性波（ＳＷ８）の源（８）を検出する、請求項１〜１０のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１４】
柔軟な固体（Ｓ）の対象領域の情報を収集するためのせん断弾性波画像化装置であって、前記装置は、
‐  該対象領域（Ｒ）内に、少なくとも１つのせん断弾性波（ＳＷ、ＳＷ８）を生成するための第１システム（４、７；１４、１７）、
‐  該少なくとも１つのせん断弾性波の伝播パターンを検出するための第２システム（１０；２０）、
を備え、
該第１システムは、
‐  該対象領域（Ｒ）を通して、電場
【数８２】
2016523673.tif 000019
を印加するための第１手段（４；１４）、及び
‐  該対象領域を通して、磁場
【数８３】
2016523673.tif 000020
を印加するための第２手段（７；１７）
を包含すること、並びに該第１手段及び第２手段は、該対象領域（Ｒ）の粒子（Ｐ１、Ｐ２）へ、該電場及び該磁場からもたらされる或るローレンツ力（ＦＬ１、Ｆ’Ｌ１、ＦＬ２、Ｆ’Ｌ２）を加えるように構成されている、ここで、該電場及び該磁場の少なくとも１つが、１Ｈｚと１０ｋＨｚの間の中心周波数（ｆ０）を有する時間的に可変である量であり、又は、該電場及び磁場
【数８４】
2016523673.tif 000021
の両方が、１Ｈｚと１０ｋＨｚの間の中心差分周波数（Δｆ０）を有する時間的に可変である量である、ことを特徴とする、上記装置。
【請求項１５】
該第１手段（４；１４）は、該柔軟な固体（Ｓ）の両側に、片側に、又は内部に実装され、且つ１μＡと１Ａの間の強さを有する電流源（４；１４）に接続された電極の（４２、４４）の組を包含している、請求項１４に記載の装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
この目的のために、本発明は、柔軟な固体（Ｓ）の対象領域に関する情報を収集するためのせん断弾性波画像化方法であって、この方法は少なくとも以下の工程：
ａ）該対象領域内に少なくとも１つのせん断弾性波を生成すること、
ｂ）該対象領域内での少なくとも１つのせん断弾性波の伝播パターンを検出すること、
を包含するものに関する。
この方法は、
‐  工程ａ）が、該対象領域の粒子へ、電場及び磁場から得られる何らかのローレンツ力を加えることによって実現されること、
‐  該電場及び該磁場の少なくとも１つが、１Ｈｚと１０ｋＨｚの間の中心周波数で時間的に可変であり、又は、該電場及び磁場の両方が、１Ｈｚと１０ｋＨｚの間の中心差分周波数で時間的に可変であること、
を特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成29年4月28日(2017.4.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
流体通路の少なくとも一部であって流体入口開口と流体出口開口との間で主な流体の流れ方向に延在するアパーチャを備える、ディスク形状のホルダと、
前記主な流体の流れ方向に延在する、少なくとも流体入口と流体出口とを備えた一体の流体容器であって、前記ホルダが前記流体入口と前記流体出口との間で当該流体容器内に取り付けられる、当該流体容器と、
動作中、前記流体通路内にＵＶ放射を照射するランプ装置であって、当該ランプ装置の最大寸法は前記アパーチャ内の前記主な流体の流れ方向と略垂直である、当該ランプ装置と、
を含む、光学流体処理装置。
【請求項２】
前記流体容器は円筒状である、請求項１に記載の光学流体処理装置。
【請求項３】
前記アパーチャは前記ホルダのディスク形状の２つの外面の間で略垂直に延在する、請求項１又は２に記載の光学流体処理装置。
【請求項４】
ディスク形状の前記ホルダは、少なくとも前記ランプ装置に電力供給するためのバッテリと電子機器とを収容するための複数の区画を含む、請求項１乃至３の何れか一項に記載の光学流体処理装置。
【請求項５】
前記流体容器は、前記流体入口及び前記流体出口において、着脱可能なカバーを含む、請求項１乃至４の何れか一項に記載の光学流体処理装置。
【請求項６】
前記流体入口開口及び前記流体出口開口のうちの１つの前に、前記流体入口開口及び前記流体出口開口のうちの当該１つから所定の距離で配置される、少なくともスクリーンを含む、請求項１乃至５の何れか一項に記載の光学流体処理装置。
【請求項７】
１つのスクリーンは前記流体入口開口に対向し、１つのスクリーンは前記流体出口開口に対向する、少なくとも２つのスクリーンを含む、請求項６に記載の光学流体処理装置。
【請求項８】
前記スクリーンは、前記ランプ装置によって照射される光への目の直接曝露に対して遮蔽する、請求項６又は７に記載の光学流体処理装置。
【請求項９】
前記スクリーンは、前記流体入口開口及び前記流体出口開口を通る流量を制限する、請求項６乃至８の何れか一項に記載の光学流体処理装置。
【請求項１０】
前記スクリーンは、前記ホルダに取り外し可能に接続される、請求項６乃至９の何れか一項に記載の光学流体処理装置。
【請求項１１】
前記ホルダは、前記スクリーンを前記ホルダに接続することによって解除可能な安全ロックを含み、当該安全ロックを解除することによってのみ前記ランプ装置が動作され得る、請求項６乃至１０の何れか一項に記載の光学流体処理装置。
【請求項１２】
前記ランプ装置は、前記ホルダに取り外し可能に接続される、請求項１乃至１１の何れか一項に記載の光学流体処理装置。
【請求項１３】
前記ランプ装置は、ＵＶ放射を照射するための誘電体バリア放電ランプ及び／又はＵＶ‐ＬＥＤを含む、請求項１乃至１２の何れか一項に記載の光学流体処理装置。
【請求項１４】
前記ランプ装置は、好ましくは前記アパーチャの壁、前記スクリーンの主表面、及び前記ホルダの外面からなるグループのうちの少なくとも１つの構成要素に設けられる、ＵＶ放射を照射するためのＵＶ‐ＬＥＤを含む、請求項１乃至１３の何れか一項に記載の光学流体処理装置。
【請求項１５】
前記流体容器はボトルの形状に形成される、請求項１乃至１４の何れか一項に記載の光学流体処理装置。
【手続補正書】
【提出日】平成29年6月29日(2017.6.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
直接的に治療に対して及び／又は治療計画に対して使用されるデータを生成する介入近接照射療法に対するシステムにおいて、
患者の組織を照射するように前記患者内に挿入される放射線源と、
前記患者を透過した放射線を検出し、前記放射線を示す放射線量データをリアルタイムで生成するように前記患者の外側に配置される１以上の放射線検出器と、
前記放射線源の位置をリアルタイムで決定する１以上の位置センサと、
前記１以上の位置センサと通信し、前記放射線源の位置を示す位置データを生成する位置特定ユニットと、
前記患者の１以上の解剖学的画像を記憶する画像データベースと、
前記１以上の解剖学的画像を前記位置データ及び前記放射線量データと共同登録し、前記共同登録に基づいて線量監視データを生成する線量計算ユニットと、
を有するシステム。
【請求項２】
前記１以上の位置センサが、前記放射線源内に一体化されたファイバセンサを追跡する光学的形状感知（ＯＳＳ）センサを含む、請求項１に記載のシステム。
【請求項３】
前記１以上の位置センサが、ディファレンシャルＧＰＳ（ｄＧＰＳ）、インピーダンス感知、光学マーカ／カメラ測定、及び電磁（ＥＭ）追跡の少なくとも１つを含む、請求項１及び２のいずれか一項に記載のシステム。
【請求項４】
前記放射線源が、小型Ｘ線源である、請求項１乃至３のいずれか一項に記載のシステム。
【請求項５】
前記放射線源が、１９２−Ｉｒである、請求項１乃至３のいずれか一項に記載のシステム。
【請求項６】
前記線量計算ユニットが、前記１以上の解剖学的画像に基づいて前記組織の各ボクセルに送達された実際の線量を決定する、請求項１乃至５のいずれか一項に記載のシステム。
【請求項７】
前記線量計算ユニットが、前記線量監視データ及び解剖学的画像からマルチモード画像をリアルタイムで生成して、前記組織の各ボクセルに送達された実際の線量を表示する、請求項１乃至６のいずれか一項に記載のシステム。
【請求項８】
計画ユニットが、前記線量監視データに基づいて放射線治療計画を再計画する、請求項１乃至６のいずれか一項に記載のシステム。
【請求項９】
各治療計画が、前記放射線源により所望の場所に提供されるべき複数のフラクションの放射線量を含み、前記１以上のプロセッサが、
治療中の放射線量の残りのフラクションを適応再計画する、
ようにプログラムされる、請求項８に記載のシステム。
【請求項１０】
前記線量監視データに基づいて前記放射線治療計画を再計画することが、リアルタイム線量確認に対する患者及び器官運動／変形を含む、請求項８及び９のいずれか一項に記載のシステム。
【手続補正書】
【提出日】平成29年5月18日(2017.5.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
調理装置であって、
調理媒体を供給するように構成された供給容器と、
前記供給容器と流体連通する流体動力装置と、
前記供給容器と前記流体動力装置との間に配置された密閉調理媒体ラインと
前記密閉調理媒体ラインに連結されるとともに、前記密閉調理媒体ライン内に外気を導入するように構成された三方弁と、
調理媒体を受容するように構成された調理媒体受容システムと、
内部で前記供給容器を保持するように構成されるとともに、底壁及び側壁を含むシェルフと、
前記シェルフの底壁に隣接する第１のヒーター及び前記シェルフの側壁に隣接する第２のヒーターと、
を含み、
前記第１のヒーター及び前記第２のヒーターは前記供給容器内で保管される調理媒体を温めるように構成されている、調理装置。
【請求項２】
前記シェルフは、前記シェルフの上部に形成された開口を含み、該開口は前記三方弁の少なくとも一部を収容するように構成されている、請求項１に記載の調理装置。
【請求項３】
前記三方弁は、前記密閉調理媒体ラインから調理媒体をパージするために前記密閉調理媒体ラインを通じて外気を選択的に導入するように構成されている、請求項１に記載の調理装置。
【請求項４】
前記流体動力装置は、第１の所定の時間の間前記調理媒体受容システムに調理媒体を移動させるように構成され、前記三方弁は、第２の所定の時間の間前記密閉調理媒体ラインを通じて外気を選択的に導入するように構成されている、請求項３に記載の調理装置。
【請求項５】
前記調理媒体受容システムは、前記流体動力装置及び前記密閉調理媒体ラインを通じて前記供給容器と流体連通する複数の調理室を含む、請求項１に記載の調理装置。
【請求項６】
各前記複数の調理室は、各前記複数の調理室内の調理媒体の量を判定するように構成されたセンサを含む、請求項５に記載の調理装置。
【請求項７】
前記流体動力装置及び前記三方弁は、調理媒体の量が所定の量よりも小さいと前記センサが判定するのに応答して、第１の所定の時間の間前記複数の調理室に調理媒体を移動させることと、第２の所定の時間の間前記密閉調理媒体ラインを通じて外気を導入することを交互に行うように構成されている、請求項６に記載の調理装置。
【請求項８】
前記シェルフと前記第１のヒーターとの間に間隙が形成されている、請求項１に記載の調理装置。
【請求項９】
前記供給容器は設置された状態では前記第１のヒーター及び前記第２のヒーターに隣接する、請求項１に記載の調理装置。
【請求項１０】
前記第１のヒーター及び前記第２のヒーターのそれぞれは、ヒータープレートと、該ヒータープレートに連結される加熱機構とを含むか又はヒーターバーを含む、請求項１に記載の調理装置。
【請求項１１】
前記第１のヒーター及び前記第２のヒーターのそれぞれは、前記調理装置に電力が供給されている場合に作動される、請求項１に記載の調理装置。
【請求項１２】
調理装置を維持する方法であって、
壁部と、該壁部に隣接するヒーターとを有するシェルフ上で保持された調理媒体容器内に保管された調理媒体を加熱するステップと、
流体動力装置により、第１の所定の時間の間前記調理媒体容器から調理室に調理媒体を移動させるステップと、
前記第１の所定の時間の後で、前記調理媒体容器と前記調理室との間に配置された密閉調理媒体ラインを通じて第２の所定の時間の間外気を導入するステップと、
を含み、
前記外気は、前記密閉調理媒体ラインから調理媒体をパージするために、前記密閉調理媒体ラインを通じて、前記密閉調理媒体ラインに連結された三方弁により選択的に導入される、方法。
【請求項１３】
前記調理室内のセンサを用いて前記調理室内の調理媒体の量を判定するステップをさらに含み、
調理媒体の量が所定の量以上であると前記センサが判定するまで、前記調理媒体を移動させるステップと前記外気を導入するステップが交互に行われる、請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
前記調理装置に電力が供給されている場合に前記ヒーターを作動させるステップをさらに含む、請求項１２に記載の方法。
【請求項１５】
スイッチがオンにされたことに応答して前記ヒーターを作動させるステップをさらに含む、請求項１２に記載の方法。
【請求項１６】
前記シェルフは底壁と側壁とを含み、前記ヒーターは前記シェルフの底壁に隣接する第１のヒーターと、前記シェルフの側壁に隣接する第２のヒーターとを含む、請求項１３に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成29年5月25日(2017.5.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
方法であって、
基板と、前記基板の第１の表面に取り付けられた構成部品とを備えるアセンブリを形成する工程であって、前記基板が前記第１の表面のほぼ反対側の第２の表面を更に含む、工程と、
研磨物品の構造化研磨層を前記基板の前記第２の表面と摩擦接触させる工程であって、前記研磨物品が、支持部材の外周面に沿って配置された構造化研磨部材を有し、前記構造化研磨部材が、裏材に固定された成形研磨複合体を含む前記構造化研磨層を含み、前記裏材が前記支持部材と隣接し、前記成形研磨複合体がバインダー材料中に保持された研磨材粒子を含む、工程と、
前記基板の前記第２の表面に対して前記構造化研磨層を長手方向に前進させる工程と、
前記構造化研磨層が前記基板の前記第２の表面と接触を維持して前記第２の表面を研磨することにより前記第２の表面内に凹みを形成するように、前記基板を前記基板の前記第２の表面にほぼ垂直な回転軸を中心として回転させる工程と、を含む方法。
【請求項２】
改質された表面を有する処理基板を形成する工程と、
研磨物品の構造化研磨層を前記基板の前記改質された基板表面と摩擦接触させる工程であって、前記研磨物品が、支持部材の外周面に沿って配置された構造化研磨部材を有し、前記構造化研磨部材が、裏材に固定された成形研磨複合体を含む前記構造化研磨層を含み、前記裏材が前記支持部材と隣接し、かつ前記成形研磨複合体がバインダー材料中に保持された研磨材粒子を含む、工程と、
前記基板の前記改質された表面に対して前記構造化研磨層を長手方向に前進させる工程と、
前記構造化研磨層が前記基板の前記改質された表面と接触を維持して前記改質された表面を研磨することにより前記改質された表面に凹みを形成するように、前記基板を基板の前記改質された表面にほぼ垂直な回転軸を中心として回転させる工程と、を含む方法。
【請求項３】
物品であって、
凹みを画定する表面を有する基板であって、前記凹みが、凹みの深さの少なくとも約９８％において、前記表面にほぼ垂直な少なくとも１つの平面内でほぼ一致した曲率半径を有し、前記凹みの深さが、前記表面の平面から前記表面の平面にほぼ垂直な方向に前記表面から最も遠い凹みの点までで測定される、基板、を備える、物品。
【請求項４】
前記物品がディスプレイを有する電子装置を備え、かつ前記基板が、前記ディスプレイのカバーシートを備える、請求項３に記載の物品。
【請求項５】
凹みを有する基板であって、前記基板が、
研磨物品の構造化研磨層を前記基板の表面と摩擦接触させる工程であって、前記研磨物品が支持部材の外周面に沿って配置された構造化研磨部材を有し、前記構造化研磨部材が裏材に固定された成形研磨複合体を含む前記構造化研磨層を含み、前記裏材が前記支持部材と隣接し、かつ前記成形研磨複合体がバインダー材料中に保持された研磨材粒子を含む、工程と、
前記基板の前記表面に対して前記構造化研磨層を長手方向に前進させる工程と、
前記構造化研磨層が前記基板の前記表面との接触を維持して前記表面を研磨し、それにより前記表面に凹みを形成するように、前記基板を基板の前記表面にほぼ垂直な回転軸を中心として回転させる工程と、によって形成される、凹みを有する基板と、
前記凹みに隣接して配置され、かつ前記基板に取り付けられた構成部品と、を備えるアセンブリ。
【手続補正書】
【提出日】平成29年4月3日(2017.4.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（Ｉ）溶融したガラス原料を、溶融金属上でガラスリボンへと成形する工程と、
（II）前記溶融金属上の前記ガラスリボンの表面に、フッ素元素（Ｆ）を含む酸を含み、かつ酸に対する水蒸気の体積比（水蒸気の体積／酸の体積）が１．５を超え３０以下である酸性ガスを接触させることによって、前記ガラスリボンの前記表面に対し、脱アルカリ処理を施すと共に、前記体積比に応じて表面形態を制御する工程と、
を含む、ガラス板の製造方法。
【請求項２】
前記工程（II）の後に、
（III）前記酸性ガスを回収する工程をさらに含む、
請求項１に記載のガラス板の製造方法。
【請求項３】
前記酸性ガスにおいて、酸に対する水蒸気の体積比が１．５を超え８未満である、
請求項１に記載のガラス板の製造方法。
【請求項４】
前記酸性ガスにおいて、酸に対する水蒸気の体積比が８以上３０以下である、
請求項１に記載のガラス板の製造方法。
【請求項５】
請求項３に記載のガラス板の製造方法により製造されたガラス板であって、
前記ガラス板の表面に凹凸が形成されており、
波長４００ｎｍ〜８００ｎｍの光に対する透過率ゲインの平均値が１．０％以上である、
太陽電池用ガラス板。
【請求項６】
請求項３に記載のガラス板の製造方法により製造されたガラス板であって、
前記ガラス板の表面に凹凸が形成されており、
波長４００ｎｍ〜８００ｎｍの光に対する透過率ゲインの平均値が１．０％以上である、
ショーウィンドウ用ガラス板。
【請求項７】
請求項３に記載のガラス板の製造方法により製造されたガラス板であって、
前記ガラス板の表面に凹凸が形成されており、
前記凹凸の深さが２０ｎｍ〜１００ｎｍである、
低摩擦ガラス板。
【請求項８】
請求項３に記載のガラス板の製造方法により製造されたガラス板であって、
前記ガラス板の表面に凹凸が形成されており、
前記凹凸の深さが２０ｎｍ〜１００ｎｍである、
耐指紋性ガラス板。
【請求項９】
請求項４に記載のガラス板の製造方法により製造されたガラス板であって、
前記ガラス板の少なくとも一方の表面に脱アルカリ層が形成されており、
前記脱アルカリ層の表面に緻密構造が形成されている、
化学強化用ガラス板。
【請求項１０】
請求項４に記載のガラス板の製造方法により製造されたガラス板であって、
前記ガラス板の表面に緻密構造が形成されており、
同一厚さ及び同一組成を有し且つ表面に緻密構造が形成されていないガラス板と比較してアルカリ溶出量が少ない、
耐候性ガラス板。
【請求項１１】
請求項４に記載のガラス板の製造方法により製造されたガラス板であって、
前記ガラス板の表面に緻密構造が形成されており、
同一厚さ及び同一組成を有し且つ表面に緻密構造が形成されていないガラス板と比較してアルカリ溶出量が少ない、
機能膜生成用ガラス板。
【請求項１２】
請求項４に記載のガラス板の製造方法により製造されたガラス板であって、
前記ガラス板の表面に緻密構造が形成されており、
同一厚さ及び同一組成を有し且つ表面に緻密構造が形成されていないガラス板と比較してアルカリ溶出量が少ない、
シャワーブース用ガラス板。
【請求項１３】
請求項４に記載のガラス板の製造方法により製造されたガラス板であって、
前記ガラス板の表面に緻密構造が形成されており、
同一厚さ及び同一組成を有し且つ表面に緻密構造が形成されていないガラス板と比較してアルカリ溶出量が少ない、
船舶用ガラス板。
【手続補正書】
【提出日】平成29年6月16日(2017.6.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも１つの着色されたポリマー層及びライナ層を含み、前記少なくとも１つのポリマー層が着色料、及び少なくとも１つのブロック化イソシアネートを含む製剤から生成されるポリウレタンを含み、前記製剤が４．５：１〜１：４．５の範囲内のＯＨ重量当量比の少なくとも２つのポリオールを含む、塗装代替フィルム。
【請求項２】
前記ポリウレタンが、４２℃を下回る、ＡＳＴＭ  Ｅ１６４０−０９基準によるガラス転移温度（Ｔｇ）を有する、請求項１に記載の塗装代替フィルム。
【請求項３】
接着剤層を更に含む、請求項１又は２に記載の塗装代替フィルム。
【請求項４】
前記ポリウレタンが、８０％より大きい、ＤＩＮ  ＥＮ  ＩＳＯ  ５２７／３／２／３００による破断までの伸度を有する、請求項１〜３のいずれか一項に記載の塗装代替フィルム。
【請求項５】
前記少なくとも１つのブロック化イソシアネートが、ブロック化脂肪族イソシアネートを含む、請求項１〜４のいずれか一項に記載の塗装代替フィルム。
【請求項６】
裏材層を提供する工程と、
４．５：１〜１：４．５の範囲内のＯＨ重量当量比の少なくとも２つのポリオール、及び１つ又は２つ以上のブロック化イソシアネートを含む液体製剤を提供する工程と、
前記裏材層を前記液体製剤でキャストコーティングする工程と、
前記液体製剤をゲル化し、それによって、ポリウレタンを含むポリマー層を形成する工程と、を含み、
前記ポリマー層が着色料を含む着色されたポリマー層である、塗装代替フィルムを生成する方法。
【請求項７】
前記液体製剤をゲル化する工程が、１つ又は各ブロック化ポリウレタン前駆体が解離し、それによって、前記液体製剤がゲル化することを可能にする温度以上の脱ブロック化温度まで、前記液体製剤を熱処理する工程を含む、請求項６に記載の方法。
【請求項８】
請求項１〜５のいずれか一項に記載の塗装代替フィルムを提供する工程と、
前記塗装代替フィルムの前記ライナ層を除去する工程と、
前記ポリマーフィルムを前記表面に適用する工程と、を含む、表面を被覆する方法。
【請求項９】
少なくとも１つの表面を有し、前記表面の少なくとも一部分が、前記表面に接着されている塗装代替フィルムで被覆されており、前記塗装代替フィルムが、少なくとも１つのブロック化イソシアネートから生成されるポリウレタンを含むポリマー層を含み、前記製剤が４．５：１〜１：４．５の範囲内のＯＨ重量当量比の少なくとも２つのポリオールを含む、モータ車両。
【手続補正書】
【提出日】平成29年6月19日(2017.6.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
物品であって、
（ａ）フッ素含有ポリマーを有し、第２の主面の反対側の第１の主面を有するバインダー樹脂層と、
（ｂ）前記バインダー樹脂層の前記第１の主面に部分的に包埋されかつこれと接着された複数のマイクロスフェアと、
を有する少なくとも第１の表面を含み、
前記フッ素含有ポリマーが、少なくとも１種類の部分フッ素化又は非フッ素化モノマーから一部誘導され、
実施形態の前記物品の、ｂ＊の変化により測定される高温及び高湿度におけるイエローマスタードに対する耐汚染性が、５０未満である、物品。
【請求項２】
前記フッ素含有ポリマーのポリマー主鎖に沿ったフッ素含量が、約２７重量％〜約７２重量％である、請求項１に記載の物品。
【請求項３】
前記フッ素含有ポリマーが、少なくとも１種類の部分フッ素化又は非フッ素化モノマーの水性分散液から誘導される、請求項１又は２に記載の物品。
【請求項４】
物品であって、
（ａ）フッ素含有ポリマーを有し、第２の主面の反対側の第１の主面を有するバインダー樹脂層と、
（ｂ）前記バインダー樹脂層の前記第１の主面に部分的に包埋されかつこれと接着された複数のマイクロスフェアと、
を有する少なくとも第１の表面を含み、
前記フッ素含有ポリマーが、少なくとも１種類の部分フッ素化又は非フッ素化モノマーから一部誘導され、
前記フッ素含有ポリマーのポリマー主鎖に沿ったフッ素含量が、約２７重量％〜約７２重量％である、物品。
【請求項５】
物品であって、
（ａ）フッ素含有ポリマーを有し、第２の主面の反対側の第１の主面を有するバインダー樹脂層と、
（ｂ）前記バインダー樹脂層の前記第１の主面に部分的に包埋されかつこれと接着された複数のマイクロスフェアと、
を有する少なくとも第１の表面を含み、
前記フッ素含有ポリマーが、少なくとも１種類の部分フッ素化又は非フッ素化モノマーから一部誘導され、
前記物品が、ＡＳＴＭ  Ｄ５４０２−０６に基づく耐薬品性を示す熱成形可能な物品である、物品。
【手続補正書】
【提出日】平成29年4月21日(2017.4.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガラス基板の表面から汚染物を除去するインライン方法において、
前記ガラス基板を、搬送装置により、搬送方向に沿って搬送する工程、
を含み、
前記搬送する工程中に、前記ガラス基板の少なくとも一方の表面が、順次に、
ａ）オゾン水を含む液体噴射に前記ガラス基板の前記少なくとも一方の表面をさらす工程、
ｂ）第１のアルカリ性溶液の液体噴射に前記ガラス基板の前記少なくとも一方の表面をさらす工程であって、約２０ｋＨｚから約２００ｋＨｚの範囲にある周波数において、前記第１のアルカリ性溶液に超音波エネルギーが印加される工程、
ｃ）第２のアルカリ性溶液の液体噴射に前記ガラス基板の前記少なくとも一方の表面をさらす工程、
ｄ）前記ガラス基板の前記少なくとも一方の表面から金属イオンを除去するため、第１の酸性溶液の液体噴射に前記ガラス基板の前記少なくとも一方の表面をさらす工程、前記第１の酸性溶液はＨＣｌを含む、及び
ｅ）前記ガラス基板の前記少なくとも一方の表面を乾燥させる工程、
を含む、表面処理にかけられる、
ことを特徴とする方法。
【請求項２】
前記ガラス基板を、前記工程ｄ）後に、第２の酸性溶液の液体噴射にさらすことにより、前記ガラス基板の平均表面粗さを増大させる工程をさらに含むことを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記第２の酸性溶液がＨＦを含むことを特徴とする請求項２に記載の方法。
【請求項４】
前記第２の酸性溶液が、約０.２Ｍから約２Ｍの範囲にあるモル濃度を有する、重フッ化アンモニウム溶液を含むことを特徴とする請求項２に記載の方法。
【請求項５】
前記ガラス基板の前記平均表面粗さを増大させた後の前記ガラス基板の前記平均表面粗さＲａが、約０.２ｎｍ以上で約０.８ｎｍまでの範囲にあることを特徴とする請求項２に記載の方法。
【請求項６】
前記第１のアルカリ性溶液が、体積で約１：１：５から約１：２：８０の範囲にある混合比を有する、ＮＨ４ＯＨ：Ｈ２Ｏ２：Ｈ２Ｏを含むことを特徴とする請求項１から５のいずれかに記載の方法。
【請求項７】
前記第１のアルカリ性溶液が約４０℃から約８０℃の範囲の温度にあり、前記ガラス基板が前記第１のアルカリ性溶液に約１分から約３０分の範囲の時間さらされることを特徴とする請求項１から６のいずれかに記載の方法。
【請求項８】
前記第１のアルカリ性溶液のｐＨが約１０より高いことを特徴とする請求項１から７のいずれかに記載の方法。
【請求項９】
約８５０ｋＨｚから約１.２ＭＨｚの範囲にある周波数において、前記第２のアルカリ性溶液にメガソニックエネルギーを印加する工程をさらに含むことを特徴とする請求項１から８のいずれかに記載の方法。
【請求項１０】
前記ガラス基板が、前記工程ｅ）後に、前記少なくとも一方の表面の５ｎｍ以内に１.６×１０１２原子/ｃｍ２より少ないＮａ，Ｋ，Ｆｅ，Ｃｕ及びＺｎを含むことを特徴とする請求項１から９のいずれかに記載の方法。
【請求項１１】
前記ガラス基板の前記少なくとも一方の表面が前記工程ｅ）後に有する、実効直径が０.３μｍより大きい、粒子が０.０２粒子/ｃｍ２より少ないことを特徴とする請求項１から１０のいずれかに記載の方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４６】
第５の工程１４０において、ガラス基板の一方または両方の表面から金属汚染物が除去される。第１のサブ工程１４０ａにしたがえば、希ＨＣｌを含む第２の酸性溶液２３６にガラス基板をさらすことができる。約１：２０から約１：２００（ＨＣｌ：ＤＩ水）の混合比を有するＨＣｌ水溶液を用いることができる。適する混合比は、限定ではなく、約１：２０から約１：８０，約１：８０から約１：２００，約１：８０から約１：１２０または約１：８０から約１：１４０とすることができる。第２の酸性溶液処理はノズル２３８からの液体噴射によって実施することができ、第２の酸性溶液は先述したような態様でメガソニックエネルギーにより撹拌することができる。第２の酸性溶液は、例えば、金属粒子のような、いずれかの金属汚染物との反応（酸化還元反応）を開始するため、ガラス基板の一方または両方の表面にスプレイすることができる。第２の酸性溶液の温度は約２５℃から約８０℃の範囲とすることができる。
【手続補正書】
【提出日】平成29年2月21日(2017.2.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガラスリボンの搬送方法において、
（Ｉ）支持装置であって、ガラスリボンを該支持装置の上で支持する流体のクッションを有する支持装置の上にガラスリボンを搬送するステップと、
（ＩＩ）前記ガラスリボンと前記支持装置との間の物理的接触事象を、該物理的接触事象に関連付けられた音響信号を検出することによって監視するステップと、
を有してなることを特徴とするガラスリボンの搬送方法。  
【請求項２】
前記ステップ（ＩＩ）の後に、前記検出した音響信号のフィードバックを用いて、自らを修正するステップ（ＩＩＩ）を更に有することを特徴とする請求項１記載の方法。
【請求項３】
前記ステップ（ＩＩＩ）が、前記ガラスリボンを切断する次のステップの間において、より一貫性のあるタッチ・ダウン事象が生じるように自らを修正することを特徴とする請求項２記載の方法。
【請求項４】
前記ステップ（ＩＩＩ）が、前記ガラスリボンを切断する次のステップの間において、より安定したタッチ・ダウン事象が生じるように自らを修正することを特徴とする請求項２記載の方法。
【請求項５】
前記ガラスリボンを切断するステップを更に有し、前記ステップ（ＩＩ）における前記物理的接触事象が、前記ガラスリボンを切断するステップの間において、前記ガラスリボンが前記支持装置に物理的に接触するタッチ・ダウン事象であることを特徴とする請求項１〜４いずれか１項載の方法。
【請求項６】
前記ステップ（ＩＩ）が、前記音響信号を、前記ガラスリボン若しくは前記支持装置内を伝搬する音響信号として検出することを特徴とする請求項１〜５いずれか１項記載の方法。
【請求項７】
前記物理的接触事象の発生時に関連した自らの処理特性を記憶するステップ（ＩＶ）を更に有することを特徴とする請求項１〜６いずれか１項記載の方法。
【請求項８】
前記ステップ（ＩＶ）において記憶された処理特性に基づき、自らを制御するステップ（Ｖ）を更に有することを特徴とする請求項７記載の方法。
【請求項９】
前記ステップ（ＩＩ）において検出された音響信号を分析することにより、前記物理的接触事象の特徴を明らかにするステップを更に有することを特徴とする請求項１〜８いずれか１項記載の方法。
【請求項１０】
流体のクッションを用いて、ガラスリボンをその上で支持するように構成された支持装置と、
前記ガラスリボンと前記支持装置との間の物理的接触事象を、該接触事象に関連付けられた音響信号を検出することによって監視するように構成された音響センサーと、
を備えたことを特徴とするガラスリボンの搬送装置。  
【請求項１１】
記憶装置を更に備え、前記物理的接触事象の発生時に関連した自らの処理特性が、前記記憶装置に記憶されることを特徴とする請求項１０記載の装置。
【請求項１２】
コントローラを更に備え、該コントローラによって、前記記憶装置に記憶された処理特性若しくは前記音響センサーが検出した音響信号に基づき、自らの動作が修正されることを特徴とする請求項１０又は１１記載の装置。
【請求項１３】
前記音響センサーが、前記支持装置に取り付けられ、該支持装置若しくは前記ガラスリボン内を通過する音響信号を検出することを特徴とする請求項１０〜１２いずれか１項記載の装置。
【手続補正書】
【提出日】平成29年10月17日(2017.10.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
変化する表面プロファイルを有する材料の長手方向移動を検出するための方法であって、
可変表面プロファイルを有する材料の連続ストリップの表面のプロファイルを検知するステップと、
前記検知されたプロファイルに応じて変化する信号を生成するステップと、
前記変化する信号を経時的に監視するステップと、
所定の期間内の前記信号の変化が、前記材料の移動の欠如を示すことになる所定の量より小さいときに制御信号を生成するステップと、を含む、方法。
【請求項２】
前記検知するステップは、材料のストリップのプロファイルを検知することを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記検知するステップは、前記表面プロファイルを非接触で検知することを含む、請求項１又は２に記載の方法。
【請求項４】
ダンネージ材料を製造する方法であって、請求項１〜３の何れか１項に記載の方法と、シート材料を、可変表面プロファイルを有する非平坦表面を有するダンネージ材料に変換するステップとを含み、前記検知するステップは、前記ダンネージ材料の前記非平坦表面の表面プロファイルを検知するステップを含む、方法。
【請求項５】
前記変換するステップは、ランダムに可変の表面プロファイルを有するダンネージ材料を形成するため、前記シート材料をランダムに褶曲させることを含む、請求項４に記載の方法。
【請求項６】
供給部からシートストック材料を給送するステップを含む、請求項４又は５に記載の方法。
【請求項７】
前記給送するステップは、前記供給部から用紙１枚を給送することを含む、請求項４〜６の何れか１項に記載の方法。
【請求項８】
前記監視するステップが動きを全く検出しない場合、前記変換するステップを停止するステップを含む、請求項４〜７の何れか１項に記載の方法。
【請求項９】
前記材料の経路に対してセンサを位置決めするステップであってそれにより前記経路上を移動する前記ダンネージ材料の可変輪郭表面を検知する前記位置決めするステップを含む、請求項１〜３の何れか１項に記載の方法。
【請求項１０】
前記検知するステップは、前記ダンネージ材料の表面に対して光源を方向付けること、及び、前記表面から反射される光を検出するためセンサを使用することを含む、請求項１又は請求項１〜３，９の何れか１項に記載の方法。
【請求項１１】
前記監視するステップは、前記生成される信号の変化に応答してタイマをリセットすることを含む、請求項１〜３，９，１０の何れか１項に記載の方法。
【請求項１２】
ダンネージ変換機であって、
シート材料を、長手方向に可変のプロファイルを有する非平坦表面を有するダンネージ材料に変換し、前記ダンネージ材料を経路に沿って長手方向に前進させるための変換アセンブリと、
前記経路に隣接するセンサであって、前記経路上で前記ダンネージ材料の表面のプロファイルを検知し、前記ダンネージ材料の前記検知された表面プロファイルに応じて変化する対応する信号を生成するように構成される、センサと、
前記ダンネージ材料の長手方向の動きを検出するため、経時的な変化についての、前記センサによって生成される信号を監視し、所定の期間内の前記信号の変化が、前記材料の移動の欠如を示すことになる所定の量より小さいときに制御信号を生成するように構成されるコントローラと、を備え、
前記コントローラは、前記制御信号に応答して前記変換アセンブリを停止させるように、前記変換アセンブリと通信状態にある、ダンネージ変換機。
【請求項１３】
用紙を含むシート材料の供給部を備える、請求項１２に記載のダンネージ変換機。
【請求項１４】
前記変換アセンブリは、前記供給部から前記シート材料を引出すために配置された少なくとも２つの回転部材を含む、請求項１２又は１３に記載のダンネージ変換機。
【請求項１５】
前記変換アセンブリは、第２のセットの下流に位置付けられた第１のセットを含む回転部材の少なくとも２つのセットを含み、前記第１のセットは、それにより第１のレートで前記シート材料を引出し、前記第２のセットは、それにより前記第１のレートより大きい第２のレートで前記シート材料を引出し、それにより、前記シート材料が前記第１のセットから前記第２のセットに移動するにつれて前記シート材料がランダムに褶曲される、請求項１４に記載のダンネージ変換機。
【請求項１６】
前記変換アセンブリは、前記ストック材料をランダムに褶曲して、ランダムに褶曲された表面プロファイルを有するダンネージ材料を生産する、請求項１２〜１５の何れか１項に記載のダンネージ変換機。
【請求項１７】
前記センサはフォトセンサである、請求項１２〜１６の何れか１項に記載のダンネージ変換機。
【請求項１８】
前記センサは光源を含む、請求項１２〜１７の何れか１項に記載のダンネージ変換機。
【請求項１９】
前記コントローラはプロセッサ及びメモリを含む、請求項１２〜１８の何れか１項に記載のダンネージ変換機。
【請求項２０】
ダンネージ変換機内のジャム状態を特定するための方法であって、
ストック材料を、ダンネージ材料であって、ダンネージ材料の長さに沿って変化する特性を有する、ダンネージ材料に変換するステップと、
前記ダンネージ材料の前記特性を検知するステップと、
前記検知された特性に応じて変化する信号を生成するステップと、
前記生成された信号を経時的に監視するステップと、
所定の期間内の前記生成された信号の変化が、前記材料の移動の欠如を示すことになる所定の量より小さいときに制御信号を生成するステップと、を含む、方法。
【手続補正書】
【提出日】平成29年6月26日(2017.6.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
フィルタカートリッジであって、
（ａ）対向する第１及び第２の流れ端部と、
（ｂ）前記対向する第１の流れ端部と第２の流れ端部との間で流体流れを濾過するように配置された媒体(401)と、
（ｃ）第１の軸方向シールハウジング係合面を有するシール構成(402)とを備え、
（ｉ）前記第１の軸方向シールハウジング係合面は、第１のハウジング係合突起／凹部部材(415r)を少なくとも有する輪郭軸方向シール面部分を含み、
（ｄ）前記シール構成(402)は、周囲縁部突起／凹部輪郭の第１の部材(420)を有する周辺周囲縁面(413)を含み、
（ｅ）前記周囲縁部突起／凹部輪郭の前記第１の部材は第１の凹部部材(420)を含み、
（ｆ）前記第１のハウジング係合突起／凹部部材(415r)は、前記周辺周囲縁面(413)の前記周囲縁部突起／凹部輪郭の前記第１の部材(420)と軸方向に整列する位置にある部分に配置された突起部分を含み、
（ｇ）前記シール構成(402)は、前記周辺周囲縁面(413)と、対向する第１及び第２のピンチシールハウジング係合面(414,415)とを有するピンチシール構成(402)を備え、
（ｉ）前記対向する第１及び第２のピンチシールハウジング係合面(414,415)のうち選択された少なくとも１つのピンチシールハウジング係合面(415)は、少なくとも前記第１のハウジング係合突起／凹部部材(415r)を有する前記輪郭軸方向シール面部分を含むことを特徴とするフィルタカートリッジ(400)。
【請求項２】
（ａ）前記周囲縁部突起／凹部輪郭の前記第１の部材(420)は、前記周辺周囲縁面(413)に複数の離間した凹部を含むことを特徴とする請求項１に記載のフィルタカートリッジ(400)。
【請求項３】
（ａ）前記第１のハウジング係合突起／凹部部材(415r)は、輪郭形状を伴わずに少なくとも１０ｍｍの周辺周囲距離にわたり延設された少なくとも１つの部分を含む少なくとも１つの突起を備えることを特徴とする請求項１乃至請求項２のいずれか１項に記載のフィルタカートリッジ(400)。
【請求項４】
（ａ）前記第２のピンチシールハウジング係合面は、前記第１のハウジング係合突起／凹部部材(415r)を有する前記輪郭軸方向シール面部分を含み、
（ｂ）対向する前記第１のピンチシールハウジング係合面は、ハウジング係合突起／凹部部材(415r)を含まないことを特徴とする請求項１乃至請求項３のいずれか１項に記載のフィルタカートリッジ(400)。
【請求項５】
（ａ）前記周囲縁部突起／凹部輪郭の前記第１の部材(420)は、少なくとも５ｍｍの周辺周囲距離にわたり延設された直線状縁面(413)の部分を有する部分を含むことを特徴とする請求項４に記載のフィルタカートリッジ(400)。
【請求項６】
（ａ）前記ピンチシール構成並びに前記第１及び第２の流れ端部から離れる方向に突出するハンドル構成を含むことを特徴とする請求項１乃至請求項５のいずれか１項に記載のフィルタカートリッジ(400)。
【請求項７】
（ａ）前記シール構成(402)は、シール支持体にモールド・イン・プレース成形された部分を備えることを特徴とする請求項１乃至請求項６のいずれか１項に記載のフィルタカートリッジ(400)。
【請求項８】
（ａ）前記媒体(401)を取り囲み、前記媒体(401)の軸方向長さの少なくとも一部に沿って延設されたプリフォームシェルを含むことを特徴とする請求項１乃至請求項７のいずれか１項に記載のフィルタカートリッジ(400)。
【請求項９】
（ａ）前記第１のハウジング係合突起／凹部部材(415r)は、最大限に延出する第１の輪郭突起を有する第１の部分を少なくとも備え、
（ｉ）前記第１の部分は、流れ方向断面寸法面積Ａ1を有し、
（ｂ）前記シール構成(402)は非輪郭の第２の部分を有し、
（ｉ）前記第２の部分は、流れ方向断面寸法面積Ａ2を有し、
（ｉｉ）Ａ1＝０．９２〜１．０８Ａ2であることを特徴とする請求項１乃至請求項８のいずれか１項に記載のフィルタカートリッジ(400)。
【請求項１０】
エアクリーナアセンブリであって、
（ａ）第１のハウジング部分及び第２のハウジング部分を有するハウジングを備え、
（ｂ）前記ハウジングの中に配置された請求項１乃至請求項９のいずれか１項に記載のフィルタカートリッジ(400)を備え、前記第１の軸方向シールハウジング係合面は、他方のハウジング部分により一方のハウジング部分に向かって偏向されることを特徴とするエアクリーナアセンブリ。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】フィルタカートリッジ及びエアクリーナアセンブリ