(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
金属材料からなる非磁性層と、
前記非磁性層に接して配設され、互いの磁化方向を平行とし且つ離間して配置された一対の強磁性体と、
前記強磁性体それぞれを電極としてセンス電流を供給する電源とを備え、
前記非磁性層に流れるスピン偏極されたセンス電流を用いて外部磁界を検出する磁気検出素子。
【請求項２】
前記非磁性層がＡｌ、Ｃｕ、Ｃｒ及びこれらの合金からなる群から選択された１つで形成されてなることを特徴とする請求項１記載の磁気検出素子。
【請求項３】
前記非磁性層に接する強磁性層を設け、該強磁性層の磁化方向を前記センス電流の電子スピンの方向と平行又は反平行としたこと特徴とする請求項１または２記載の磁気検出素子。
【請求項４】
前記強磁性層を異方性磁気抵抗効果膜又は巨大磁気抵抗効果膜を成す自由磁性層として構成したことを特徴とする請求項３記載の磁気検出素子。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明はスピン偏極したセンス電流を利用してハードディスク等の磁気記録媒体に記録された磁気記録情報を高感度に読取り・再生することが可能な磁気検出効果素子に関する。
【０００２】
【従来の技術】
コンピュータ等に用いられるハードディスクドライブ装置（ＨＤＤ）等の磁気記録再生装置ついては、高記録密度化への要請は高まるばかりである。よって、高密度に記録された磁気記録情報を高感度に再生できる磁気検出素子への要求についても年々高くなっている。
【０００３】
磁気記録媒体の記録密度が高くなるに伴って、各ビットからの漏れ磁界（信号磁界）はより小さくなり、これを感知するためにより高感度な素子を用いた再生ヘッドが案出されてきている。従来よく知られている再生ヘッド用の素子としては、磁気抵抗効果を利用する磁気抵抗効果素子（ＭＲ素子）がある。このＭＲ素子には異方性磁気抵抗効果（ＡＭＲ）を利用するＡＭＲ膜、より高感度化を図った巨大磁気抵抗効果（ＧＭＲ）を利用するため積層状に形成したＧＭＲ膜等がある。
【０００４】
上記ＧＭＲ膜としては反強磁性層、固定磁性層、非磁性金属層及び自由磁性層の４つの層を基本積層としたスピンバルブ膜がよく用いられており、この膜構造については多くの改良提案もなされている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
上記スピンバルブ膜を含むＭＲ素子に関する提案は、それらが本来的に有していた基本構造を前提とし、使用する磁性材料の改良、組合せに関するものや、構造の一部を多層化する等の改善に関するものが殆どである。しかしながら、より高記録密度化された磁気記録媒体からの漏れ磁界（信号磁界）は、益々弱くなる。上記のようにＭＲ素子の材料、構造の改良を行う従来型の提案では急速に進む高密度化に対応できなくなる虞が生じている。すなわち、ＭＲ素子に要求される再生感度を保証できなくなり、磁気記録媒体に記録された磁気情報を十分に再生できなくなるという問題を生じる。
【０００６】
したがって、本発明の主な目的は磁気記録媒体からの磁気的信号をより高感度に検出できる磁気検出素子を提供することである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
上記目的は本発明、非磁性層に流れるスピン偏極されたセンス電流を用いて外部磁界を検出する磁気検出素子により達成することができる。
【０００８】
本発明によれば、スピン偏極されたセンス電流を流す非磁性層を用いることで、磁気抵抗効果型の磁気検出素子や半導体を用いた磁気検出素子として高感度な再生素子を提供できることになる。
【０００９】
前記非磁性層にスピン偏極した電流を生じされる一形態として、互いの磁化方向を平行とし且つ離間して配置された一対の強磁性体を前記非磁性層に接して配設し、強磁性体それぞれを電極としてセンス電流を供給する構成を採用することができる。
【００１０】
本発明の磁気検出素子は、従来のＡＭＲ膜或いはＧＭＲ膜を用いる磁気抵抗効果を利用するＭＲ素子の新規な構成として具現化することができる。すなわち、上記磁気検出素子の非磁性層に強磁性層を接して設け、この強磁性層を異方性磁気抵抗効果膜とすることができる。また、この強磁性層が巨大磁気抵抗効果膜内の自由磁性層を成す構成とすることができる。この場合、非磁性層は巨大磁気抵抗効果膜を構成する非磁性層とすることができる。
【００１１】
本発明を磁気抵抗効果型の検出素子として構成した場合、強磁性層の磁化方向は、非磁性層内のセンス電流を形成する偏極した電子スピンの方向と平行又は反平行に設定される。そして、強磁性層の磁化方向は、検出すべき磁気記録媒体からの信号磁界（外部磁界）を受けると回転する。強磁性層の磁化方向が電子のスピンの向きと反平行のときには磁気抵抗が最大となり、強磁性層の磁化が電子のスピンの向きと平行のときには磁気抵抗が最少となる。このように変化する磁気抵抗の変化率（ＭＲＲ：Ｍａｇｎｅｔｉｃ  Ｒｅｓｉｓｔａｎｃｅ  Ｒａｔｉｏ）は従来のＭＲ素子の場合よりも大きく取ることができる。よって、本発明の磁気検出素子はより高感度な磁気抵抗効果素子として提供することができる。
【００１２】
さらに、本発明は、前記非磁性層に半導体材料を用いた磁気検出素子としても構成することができ、前記一対で形成された強磁性体の片方側の強磁性体の磁化方向の変化により外部磁界を検出することができる。
【００１３】
【発明の実施の形態】
以下、図面を用いて本発明の磁気検出素子をより詳細に説明する。本発明の磁気検出素子は磁気抵抗変化を利用して磁気記録媒体からの信号磁界（外部磁界）を検出する磁気抵抗効果型の検出素子、或いは半導体材料を用いオン−オフのスイッチングを行って磁気検出を行う素子として構成できる。
【００１４】
先ず、磁気抵抗変化を利用する磁気抵抗効果素子（ＭＲ素子）とする場合について説明する。この場合の磁気検出素子は磁気記録媒体からの信号磁界を高感度に検出するための基本構成として強磁性層と非磁性層とを備え、この強磁性層の磁化方向と非磁性層を流れるセンス電流を形成する電子のスピン偏極方向とを所定の関係に制御することで信号磁界を高感度に検出する。
【００１５】
図１は本発明をＭＲ素子に適用した場合、ＭＲ素子が有する基本構成を説明するために示した図である。図１（Ａ）は強磁性層の磁化方向と非磁性層を流れるセンス電流の電子スピンの方向とが平行である場合について示し、図１（Ｂ）は強磁性層の磁化方向と非磁性層を流れるセンス電流の電子スピンの方向とが反平行である場合について示している。
【００１６】
図１（Ａ）に示す状態では、強磁性層１の磁化方向２は上向きである。センス電流を形成する電子５の流は下から上に向っている。このときに非磁性層３内を電子５が移動するときには上向きスピンに偏極した状態のスピン電子４Ａとなるように制御されている。この制御方法については後に詳述する。よって、強磁性層１の磁化方向２とスピン電子４Ａの方向とが平行となるので、強磁性層１と非磁性層３との界面での散乱は小さくなる。したがって、図１（Ａ）に示す状態での磁気抵抗値Ｒは小さい値ＲＳとなる。
【００１７】
一方、図１（Ｂ）で示す状態は図１（Ａ）とは逆の状態となる。強磁性層１の磁化方向２が上向きであり、センス電流を形成する電子５が下から上に向う点は同様であるが、非磁性層３内では電子５は下向きスピンに偏極した状態のスピン電子４Ｂとなっている。
【００１８】
図１（Ｂ）で示す状態では、強磁性層１の磁化方向２とスピン電子４Ｂの方向が反平行となるので、強磁性層１と非磁性層２との界面での散乱は大きくなる。したがって、図１（Ｂ）に示す状態での磁気抵抗値Ｒは大きな値ＲＬとなる。
【００１９】
本発明のＭＲ素子では、上記図１（Ａ）の状態と図１（Ｂ）の状態を用いて、磁気記録媒体からの信号磁界を検出する。すなわち、磁気記録媒体からの信号磁界に対応して強磁性層１の磁化方向２を回転させることで上記図１（Ａ）の状態と図１（Ｂ）の状態を出現させ、磁気抵抗変化率（ＭＲＲ）を大きく取れるようにして検出感度を向上させる。
【００２０】
上記磁気抵抗変化率（ＭＲＲ）は、強磁性層１の磁化方向２とスピン電子４Ｂの方向が反平行であるときに求められた磁気抵抗値ＲＬと、強磁性層１の磁化方向２とスピン電子４Ａの方向が平行であるときに求められた磁気抵抗値ＲＳとから算出される下記式（１）により定義できる。
【００２１】
ＭＲＲ＝（ＲＬ−ＲＳ）／ＲＬ＝１−ＲＳ／ＲＬ        （１）
ここで、上記式（１）により求められる本発明のＭＲ素子の磁気抵抗変化率ＭＲＲが従来のＭＲ素子のものより高くなることについて説明する。図２は従来のＧＭＲ膜を用いたＭＲ素子について、その磁気抵抗変化を説明するために示した図である。図２で示す従来のＧＭＲ膜１０は、下から自由磁性層１１、非磁性層１２及び固定磁性層１３を含んでいる。なお、実際のＧＭＲ膜１０は、この他に反強磁性層、バイアス膜等を備えるが、ここでは磁気抵抗変化に影響を与える層のみが示される。
【００２２】
従来のＧＭＲ膜１０では非磁性層１２内を流れるセンス電流に関してその電子のスピン状態を制御していないのでスピン偏極した状態ではない。すなわち、上向きと下向きのスピンを持った電子が混在し、それぞれが独立して振るまう状態となっている。
【００２３】
そのために、図２で中段左に示す自由磁性層１１の磁化方向と固定磁性層１３の磁化方向とが反平行となる（ａ）においては、センス電流を形成する電子１５がそのスピンの向きにより自由磁性層１１との界面では小さな抵抗値ＲＳを取り、さらに固定磁性層１３との界面で大きな抵抗値ＲＬを取る場合と、その逆に自由磁性層１１との界面で大きな抵抗値ＲＬを取り、さらに固定磁性層１３との界面で小さな抵抗値ＲＳを取る場合とが存在している。なお、図２では、図１とは異なり、ＧＭＲ膜１０を寝かせて示したのでスピンの向きが左右方向で示されている。
【００２４】
また、図２で中段右に示す自由磁性層１１の磁化方向と固定磁性層１３の磁化方向とが平行となる（ｂ）においては、センス電流を形成する電子１５がそのスピンの方向により、自由磁性層１１との界面で小さな抵抗値ＲＳを取る場合は、さらに固定磁性層１３との界面でも小さな抵抗値ＲＳを取る。また、自由磁性層１１との界面で大きな抵抗値ＲＬを取る場合は、固定磁性層１３との界面でも大きな抵抗値ＲＬを取る。
【００２５】
上述のように、従来ＧＭＲ膜を用いたＭＲ素子では、非磁性層内の電子スピンの状態が制御されておらず、反平行について示した（ａ）の場合、平行について示した（ｂ）のどちら場合でも２種類の抵抗状態があり、これらから抵抗変化値が決定することになる。
【００２６】
ところで、上記（ａ）で示されるのは自由磁性層１１の磁化方向と固定磁性層１３の磁化方向とが反平行である。これは、図２で上段に示すように磁気抵抗値Ｒが最大Ｒｏとなる状態である。このときのＧＭＲ膜１０の磁気抵抗値Ｒは（ａ）下に示す等価な回路（ｃ）により求めることができる。すなわち、図２で（ａ）で示される場合の最大磁気抵抗値ＲｏはＲｏ＝（ＲＬ＋ＲＳ）／２により求めることができる。
【００２７】
また、上記（ｂ）で示されるのは自由磁性層１１の磁化方向と固定磁性層１３の磁化方向とは平行であり、図２で上段に示すように磁気抵抗値Ｒが最少Ｒｐとなる状態である。このときのＧＭＲ膜１０の磁気抵抗値Ｒは（ｂ）下に示す等価な回路（ｄ）により求めることができる。すなわち、図２で（ｂ）で示される場合の最少磁気抵抗値ＲｐはＲｐ＝２ＲＬ・ＲＳ／（ＲＬ＋ＲＳ）により求めることができる。
【００２８】
そして、図２で示すＧＭＲ膜１０を用いた従来のＭＲ素子について、その磁気抵抗変化率（ＭＲＲ）を上記式（１）と同様にして求めると下記式（２）となる。
ＭＲＲ＝（Ｒｏ−Ｒｐ）／Ｒｏ＝１−４ＲＬ・ＲＳ／（ＲＬ＋ＲＳ）２  （２）
ここで、従来のＧＭＲ膜での磁気抵抗変化率が１０％程度であることから、試算として上記式（２）のＭＲＲ値に０．１を代入して、２次方程式を解くと、ＲＳ／ＲＬ＝０．５２となる。そして、このＲＳ／ＲＬ＝０．５２を本発明のＭＲ素子について示した、上記式（１）に代入するとＭＲＲが４８％（０．４８）にもなる。よって、磁気抵抗変化率が約５倍まで高まるので、再生ヘッド用の磁気検出素子として用いれば高感度に信号磁界を検出できることが分かる。
【００２９】
つぎに、図２で示した従来ＧＭＲ膜を用いたＭＲ素子に対して、本発明でもＧＭＲ膜を用いた場合のＭＲ素子について説明する。図３は本発明でＧＭＲ膜を用いてＭＲ素子を形成した場合について、その磁気抵抗変化を説明するために示した図である。図３で示す本発明のＧＭＲ膜２０も、下から自由磁性層２１、非磁性層２２及び固定磁性層２３を含んでいる。図３のＧＭＲ膜２０では非磁性層２２内を流れるセンス電流に関しては、電子のスピンを右向きに偏極させている。上記本発明のＧＭＲ膜２０では、電子のスピン状態は一方向に制御された状態である。よって、従来のように（ａ）、（ｂ）場合それぞれについて２種類ずつの磁気抵抗状態は存在せず、それぞれ１つの抵抗状態のみが形成される。すなわち、図３中段左に示す自由磁性層２１の磁化方向と固定磁性層２３の磁化方向とが反平行となる（ａ）においては、固定磁性層２３との界面で小さな抵抗値ＲＳを取り、自由磁性層２１との界面で大きな抵抗値ＲＬを取る場合のみとなる。また、図３で中段右に示す自由磁性層２１の磁化方向と固定磁性層２３の磁化方向とが平行となる（ｂ）においては、自由磁性層２１との界面で小さな抵抗値ＲＳを取り、さらに固定磁性層２３との界面でも小さな抵抗値ＲＳを取る場合のみとなる。
【００３０】
図３で示すＭＲ素子では、反平行について示した（ａ）の場合、平行に示した（ｂ）のどちら場合に関しても形成される抵抗状態は１つとなる。ＧＭＲ膜２０の磁気抵抗値Ｒは（ａ）下に示す等価な回路（ｃ）により求めることができ、最大磁気抵抗値ＲｏはＲｏ＝ＲＬ＋ＲＳで示される。また、（ｂ）下に示す等価な回路（ｄ）により求めることができ、最少磁気抵抗値Ｒｐ１はＲｐ１＝２ＲＳで示される。そして、この図３で示したＧＭＲ素子の磁気抵抗変化率（ＭＲＲ）を上記式（１）、（２）と同様に求めると下記式（３）となる。
ＭＲＲ＝（Ｒｏ−Ｒｐ１）／Ｒｏ＝１−２ＲＳ／（ＲＬ＋ＲＳ）    （３）
ここで、前述と同様に試算として従来のＧＭＲ膜でのＭＲＲ値が０．１であるとすると、ＲＳ／ＲＬ＝０．５２であるから、これを上記式（３）に代入すると磁気抵抗変化率は３１％となる。よって、ＧＭＲ膜を用いて構成したＭＲ素子の場合にも磁気抵抗変化率を約３倍まで高めることができるので、再生ヘッド用の高感度な磁気検出素子として採用できる。なお、図３で示した、ＧＭＲ膜２０に関しては、図１で示した２層膜の強磁性層１を自由磁性層２１に、非磁性層３を非磁性層２２に対応するように構成すればよい。
【００３１】
図４は前述したように非磁性層内を流れるセンス電流をスピン偏極した状態とするために採用可能なスピンフィルタ３０の概要構成を示す図である。図４で非磁性層３１の上面の両端に一対の強磁性体３２、３３が配設されている。この強磁性体３２、３３は導電性を備え端子電極としても機能する。
【００３２】
上記非磁性層３１は、例えばＡｌ、Ｃｕ、Ｃｒ及びこれらの合金から選択した導電性非磁性材料で形成できる。また、上記強磁性体３２、３３は、例えばＦｅ、Ｃｏ、Ｎｉ及びこれらの合金から選択した伝導性を有する強磁性材料により形成できる。さらに強磁性体３２、３３にセンス電流を供給するための電源３５を接続してスピンフィルタ３０の基本構成とする。
【００３３】
上記スピンフィルタ３０は図４に示すように、強磁性体３２、３３の磁化方向が互いに平行に設定されている場合に、電源３５から電流を供給するとその間にある非磁性層３１内を通る電子をスピン偏極した状態に制御することができる。このような構造体の構成については、例えばＪｏｈｎｓｏｎ  と  ＳｉｌｓｂｅｅはＰｈｙｓ．  Ｒｅｖ．  Ｂ３７，  ５３２６（１９８８）について開示されているが、その用途に関する提案はなされていない。本発明者等は、上記スピンフィルタ３０の非磁性層３１に強磁性層を接した構造体を形成することで本発明の一実施形態が実現きることを確認した。
【００３４】
以下、さらに図面に基づき本発明の実施例を説明する。図５は、本発明の第１実施例について示す図である。本第１実施例では、ＭＲ素子４０の強磁性層にＡＭＲ膜４１を用いている。図５では図４で示したスピンフィルタ３０に相当する部位には同一符号を付している。
【００３５】
本実施例のＭＲ素子４０はスピンフィルタ３０の下面にＡＭＲ膜４１を接して設けた簡単な構成である。このＡＭＲ膜４１は従来と同様にパーマロイ、センダスト等を用いて形成すればよい。ＡＭＲ膜４１の磁化方向４２は非磁性層３１側の電子のスピン方向と平行又は反平行状態となるよう予め設定しておく。外部から信号磁界Ｈｓｉｇを受けるとＡＭＲ膜４１の磁化方向４２が回転し、磁気抵抗変化として磁気記録を高感度に検出する。本実施例で示した、２層膜構造のＭＲ素子の感度の向上は、上記図１及び図２を用いて説明したように従来のＭＲ素子と比較して５倍程度の磁気抵抗変化率とすることができ、感度が著しく向上している。
【００３６】
上記ＭＲ素子４０は周知の薄膜形成技術、例えばスパッタリング法、レジストマスクを用いての現像処理、エッチング等を用いて製造することができる。２層膜構造の上に一対の強磁性体を形成するというシンプルな構成であり、簡易な工程で高感度なＭＲ素子を製造することができる。
【００３７】
図６は本発明の第２実施例について示す図である。本第２実施例では、ＭＲ素子５０にＧＭＲ膜としてスピンバルブ膜を用いた例を示す。スピンバルブ膜は自由磁性層、非磁性層、固定磁性層及び反強磁性層を備えた積層体で構成されるが、この自由磁性層と非磁性層に関して前述したスピンフィルタ３０により電子スピンを制御し、偏極させる構成を作り込んでいる。図６においても図４で示したスピンフィルタ３０に相当する部位には同一符号を付している。
【００３８】
本実施例のスピンバルブ型のＭＲ素子５０はスピンフィルタ３０の非磁性層３１上に自由磁性層５１を有し、非磁性層３１下には固定磁性層５２及びこれをピン止めするための反強磁性層５３を有した層構成となる。
【００３９】
このスピンバルブ膜は従来の薄膜形成技術を用いて形成することができる。自由磁性層５１の磁化方向５４は非磁性層３１側の電子のスピン方向と平行又は反平行状態となるよう予め設定しておく。外部から信号磁界Ｈｓｉｇを受けると自由磁性層５１の磁化方向５４が回転し、磁気抵抗変化として磁気記録を高感度に検出する。本実施例で示した、スピンバルブ膜構造を用いたＭＲ素子の感度の向上は、上記図３を用いて説明したように従来のＧＭＲ素子と比較して３倍程度の磁気抵抗変化率とすることができ、高感度なＭＲ素子５０を提供できる。
【００４０】
図７は本発明の第３実施例の磁気検出素子６０について示す図である。前述した第１、第２実施例では強磁性層側の磁化方向と非磁性層内のセンス電流を形成する電子のスピン方向との関係から生じる磁気抵抗変化を外部磁界の検出に用いていた。本第３実施例では非磁性層を半導体材料により形成し、外部磁界に対してオン−オフのスイッチングを行って磁界の検出を行うＦＥＴ型の磁気検出素子を示す。
【００４１】
磁気検出素子６０は、図４で示したスピンフィルタ３０と同様な構成となる。非磁性層６１の両端部に端子電極を兼ねる強磁性体６２、６３が配置され、強磁性体６２、６３の磁化方向は平行（図７で共に右向き）に設定されている。
【００４２】
上記非磁性層６１は半導体材料、例えばＩｎＡｌＡｓ、ＩｎＧａＡｓで形成し、電源３５から強磁性体６２、６３に電流を供給すると、図７に示すようにスピン偏極したセンス電流が非磁性層６１内を流れる。なお、このような構造についていは、例えばＳ．ＤａｔｒａとＢ．ＤａｓがＡｐｐｌ．  Ｐｈｙｓ．  Ｌｅｔｔ．  ５６  ６６５（１９９０）にスピン偏極したＦＥＴについて示すされるがその利用法については明らかにされていない。本第３実施例では、このスピン偏極したＦＥＴを用いて磁気記録媒体からの信号磁界を検出するために用いている。その検出動作を図８を用いて説明する。図８は上記磁気検出素子６０を磁気記録媒体としてのハードディスク７０に対向して配置した図である。図８（Ａ）は面内方向に記録された磁化が向き合う、いわゆる吹出し位置での検出につて示し、図８（Ｂ）は磁化が逆向きとなる、いわゆる吸い込み位置での検出につて示している。
【００４３】
図８（Ａ）では、ハードディスク７０からの信号磁界の方向と強磁性体６２の磁化方向が平行であり、図７で示したスピン偏極したセンス電流が強磁性体６２から強磁性体６３に流れ、オン状態となる。逆に図８（Ｂ）では、ハードディスク７０からの信号磁界の方向と強磁性体６２の当初の磁化方向が反平行となり、強磁性体６２の磁化方向は信号磁界の方向と平行なるように反転される。そのため、図７に示したセンス電流を流す状態を維持できなくなり、強磁性体６２と強磁性体６３は電気的に絶縁され、オフ状態となる。よって、本第３実施例では半導体のスイッチング作用を用いて外部磁界を検出する磁気検出素子とすることができる。
【００４４】
本実施例の磁気検出素子６０も、従来の半導体形成技術或いは薄膜形成技術を用いて製造できることは言うまでもない。また、上記強磁性体６２及び強磁性体６３についても導電性の強磁性材料、例えば、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ及びこれらから形成される合金を用いることで形成できる。強磁性体６２及び強磁性体６３は同一或いは異なる材料で形成してもよい。ただし、強磁性体６２の磁化方向は信号磁界を受けて方向転換が可能であり、強磁性体６３の磁化方向は一定に維持する必要がある。
【００４５】
ここでさらに、上記実施例で示した磁気検出素子を再生ヘッドとして採用した磁気記憶装置の一例を、図９及び図１０と共に説明する。図９は磁気記憶装置の要部を示す断面図であり、図１０は同装置の要部を示す平面図である。この磁気記憶装置は媒体に記録された磁気情報を読取るとき、スピン偏極したセンス電流が流れるヘッドを有する情報記憶装置となる。
【００４６】
図９及び図１０に示すように、磁気記憶装置は大略ハウジング１１３からなる。ハウジング１１３内には、モータ１１４、ハブ１１５、複数の磁気記録媒体１１０、複数の記録再生ヘッド１１７、複数のサスペンション１１８、複数のアーム１１９及びアクチュエータユニット１２０が設けられている。磁気記録媒体１１６はモータ１１４により回転されるハブ１１５に取付けられている。記録・再生ヘッド１１７は、図５、図６及び図７で示したいずれかを用いる再生ヘッドと、インダクティブヘッド等の記録ヘッドとからな複合型の記録再生ヘッドである。各記録再生ヘッド１１７は、対応するアーム１１９の先端にサスペンション１１８を介して取付けられている。アーム１１９はアクチュエータユニット１２０により駆動される。この磁気記憶装置の基本構成自体は周知であり、その詳細な説明は本明細書では省略する。磁気記録媒体１１６の数は３枚には限定されず、１枚でも、２枚又は４枚以上であってもよい。ここで用いる磁気記憶媒体は磁気ディスクに限定されるものではない。
【００４７】
以上本発明の好ましい実施例について詳述したが、本発明は係る特定の実施形態に限定されるものではなく、特許請求の範囲に記載された本発明の要旨の範囲内において、種々の変形・変更が可能である。
【００４８】
なお、以上の説明に関して更に以下の付記を開示する。
【００４９】
（付記１）  非磁性層に流れるスピン偏極されたセンス電流を用いて外部磁界を検出する磁気検出素子。
【００５０】
（付記２）  前記非磁性層に接して配設され、互いの磁化方向を平行とし且つ離間して配置された一対の強磁性体と、該強磁性体それぞれを電極としてセンス電流を供給する電源を備えたことを特徴とする付記１記載の磁気検出素子。
【００５１】
（付記３）  前記非磁性層に接して強磁性層を設け、該強磁性層の磁化方向を前記センス電流の電子スピンの方向と平行又は反平行としたこと特徴とする付記１又は２記載の磁気検出素子。
【００５２】
（付記４）  前記強磁性層を異方性磁気抵抗効果膜又は巨大磁気抵抗効果膜を成す自由磁性層として構成したこと特徴とする付記３記載の磁気検出素子。
【００５３】
（付記５）  前記巨大磁気抵抗効果膜はスピンバルブ膜であることを特徴とする付記４記載の磁気検出素子。
（付記６）  前記非磁性層はＡｌ、Ｃｕ、Ｃｒ及びこれらの合金からなる群から選択された１つで形成されること特徴とする付記１から５いずれかに記載の磁気検出素子。
【００５４】
（付記７）  前記非磁性層を半導体材料で形成し、前記一対で形成された強磁性体の片方側の強磁性体の磁化方向の変化により外部磁界の検出を行うことを特徴とする付記２記載の磁気検出素子。
【００５５】
（付記８）  前記半導体材料は、ＩｎＡｌＡｓ又はＩｎＧａＡｓであること特徴とする付記７記載の磁気検出素子。
【００５６】
（付記９）  前記強磁性体は、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ及びこれらの合金から成る群から選択され材料の１つで形成されること特徴とする付記１から８いずれかに記載の磁気検出素子。
【００５７】
（付記１０）  媒体に記録された磁気情報を読取るとき、スピン偏極したセンス電流が流れる再生ヘッドを有することを特徴とする情報記憶装置。
【００５８】
【発明の効果】
以上詳述したところから明らかなように、本発明によれば、スピン偏極されたセンス電流を流す非磁性層を用いることで、磁気抵抗効果型の磁気検出素子や半導体を用いた磁気検出素子として高感度な磁気検出素子を提供できる。
【００５９】
磁気抵抗効果型の検出素子として構成した場合は、磁気抵抗変化率を従来のＭＲ素子の場合よりも大きく取ることができ、高感度な磁気情報再生素子として提供することができる。また、半導体材料を用いて非磁性層を構成した場合は、強磁性体の磁化方向の変化によりオン−オフを行い高感度に外部磁界を検出する磁気検出素子として提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明をＭＲ素子に適用した場合について、ＭＲ素子が有する基本構成を説明するために示した図である。
【図２】従来のＧＭＲ膜を用いたＭＲ素子について、その磁気抵抗変化を説明するために示した図である。
【図３】本発明でＧＭＲ膜を用いたＭＲ素子を形成した場合について、その磁気抵抗変化を説明するために示した図である。
【図４】スピンフィルタの概要構成を示す図である
【図５】本発明の第１実施例について示す図である。
【図６】本発明の第２実施例について示す図である。
【図７】本発明の第３実施例について示す図である。
【図８】図７に示す磁気検出素子が外部磁界を検出する様子を示す図である。
【図９】本発明の磁気検出素子を用いた磁気記憶装置の要部を示す断面図である。
【図１０】図９に示した装置の要部を示す平面図である。
【符号の説明】
１            強磁性層
３            非磁性層
４Ａ、４Ｂ    スピン電子
２１、５１    自由磁性層（強磁性層）
２２          非磁性層
３０          スピンフィルタ
４１          ＡＭＲ膜
６１          非磁性層
【図１】
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【図２】
0003604617.tif 000003
【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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