【誤訳訂正書】
【提出日】平成29年4月7日(2017.4.7)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光学投影系と支持構造系とを備える光学結像装置であって、
前記光学投影系は、露光工程において露光光を使用して露光経路に沿って、マスク支持構造体によって支持されるマスクのパターン像を、基板支持構造体によって支持される基板上に転写するように構成された光学素子群を有し；
前記マスク支持構造体と前記基板支持構造体とは１次振動源を形成し；
前記支持構造系は、ベース支持構造体と、光学素子支持構造体と、前記１次振動源以外の２次振動源における少なくとも一つの２次振動源支持構造体とを有し；
前記光学素子支持構造体は前記光学素子を支持し；
前記少なくとも一つの２次振動源支持構造体は２次振動源を支持し、該２次振動源は固体伝搬振動エネルギーを含む２次振動外乱源であり、該２次振動源は前記光学結像装置の内部に位置し；
前記ベース支持構造体は、前記光学素子支持構造体及び前記２次振動源支持構造体を、前記２次振動源から前記光学素子支持構造体までの前記固体伝搬振動エネルギーの構造的な経路が、ベース支持ユニットを通ってのみ存在するように支持する、光学結像装置。
【請求項２】
請求項１に記載の光学結像装置において、
前記２次振動源は２次振動源群の部材であり；
前記２次振動源群は、計測系のコンポーネントと、該計測系の冷却ユニットと、前記光学投影系のコンポーネントと、該光学投影系の移動コンポーネントとから成り；
前記２次振動源支持構造体は、特に、前記ベース支持構造体上に振動を遮断するように支持される、光学結像装置。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の光学結像装置において、
前記光学素子支持構造体は少なくとも１つの光学素子支持ユニットを有し；
前記少なくとも１つの光学素子支持ユニットは前記光学素子を支持し；
前記少なくとも１つの光学素子支持ユニットは、防振装置を介して前記ベース支持構造体上に支持される、光学結像装置。
【請求項４】
請求項３に記載の光学結像装置において、
前記防振装置は防振共振周波数範囲の防振共振周波数を有し；
前記防振共振周波数範囲は防振共振周波数範囲群から選択され；
前記防振共振周波数範囲群は、０．０５Ｈｚ〜８．０Ｈｚ，０．１Ｈｚ〜１．０Ｈｚ及び０．２Ｈｚ〜０．６Ｈｚの範囲から成る、光学結像装置。
【請求項５】
請求項３又は４に記載の光学結像装置において、
前記少なくとも１つの光学素子支持ユニットは第１支持ユニットであり；
前記防振装置は第１防振共振周波数を有する第１防振装置であり；
前記光学素子支持構造体は少なくとも一つの第２支持ユニットを有し；
前記少なくとも一つの第２支持ユニットは前記光学素子を支持し；
前記少なくとも一つの第２支持ユニットは、第２防振装置を介して前記第１支持ユニット上に支持される、光学結像装置。
【請求項６】
請求項５に記載の光学結像装置において、
前記第２防振装置は防振共振周波数範囲の第２防振共振周波数を有し；
前記第２防振共振周波数範囲は第２防振共振周波数範囲群から選択され；
前記第２防振共振周波数範囲群は、１Ｈｚ〜３０Ｈｚ，１Ｈｚ〜８Ｈｚ，１Ｈｚ〜４０Ｈｚ及び２５Ｈｚ〜３０Ｈｚの範囲から成る、光学結像装置。
【請求項７】
請求項３〜６の何れか一項に記載の光学結像装置において、
前記光学素子支持構造体は少なくとも一つの振動平衡質量ユニットを有し；
前記振動平衡質量ユニットは接続デバイスを介して前記光学素子支持ユニットに接続され；
前記接続デバイスは平衡共振周波数範囲の平衡共振周波数を有し；
前記平衡共振周波数範囲は平衡共振周波数範囲群から選択され；
前記平衡共振周波数範囲群は、１Ｈｚ〜４０Ｈｚ，５Ｈｚ〜４０Ｈｚ及び１５Ｈｚ〜２５Ｈｚの範囲から成る、光学結像装置。
【請求項８】
請求項７に記載の光学結像装置において、
前記少なくとも一つの振動平衡質量ユニットは少なくとも一つの振動平衡質量素子を有し；
前記振動平衡質量素子は、前記光学素子支持ユニットと前記光学素子群の光学素子との間に運動学的に直列に配置される、光学結像装置。
【請求項９】
請求項７又は８に記載の光学結像装置において、
前記光学素子群は光学素子の第１サブグループ及び光学素子の第２サブグループの内の少なくとも一つを有し；
前記光学素子の第１サブグループは少なくとも一つの第１光学素子を有し；
前記少なくとも一つの振動平衡質量ユニットの平衡質量素子は、前記少なくとも一つの第１光学素子に付随せず；
前記光学素子の第２サブグループは複数の第２光学素子を有し；
前記少なくとも一つの振動平衡質量ユニットの少なくとも一つの平衡質量素子は、前記第２光学素子の各々に付随する、光学結像装置。
【請求項１０】
請求項９に記載の光学結像装置において、
複数の平衡質量素子が前記第２光学素子の内の少なくとも一つに付随し；
前記複数の平衡質量素子は、少なくとも２つの平衡質量素子及び２〜６の平衡質量素子の内の少なくともどちらかを有する、光学結像装置。
【請求項１１】
請求項７〜１０の何れか一項に記載の光学結像装置において、
前記接続デバイスは、減衰比で、前記少なくとも一つの振動平衡質量ユニットの振動の減衰を提供するように構成され；
前記減衰比は、減衰比範囲群の減衰比範囲から選択され；
前記減衰比範囲群は、０．２％〜１５％、０．２％〜５％及び１．０％〜３．０％の範囲から成る、光学結像装置。
【請求項１２】
請求項３〜１１の何れか一項に記載の光学結像装置において、
前記支持構造系は投影系計測支持構造体を有し；
前記投影系計測支持構造体は、前記光学素子群に付随し、該光学素子群の少なくとも一つの光学素子の状態を表す変数（variable representative）を捕捉するように構成された、少なくとも一つの計測装置を支持し； 
前記少なくとも一つの投影系計測支持構造体は、更なる防振装置を介して前記ベース支持構造体上に支持され、前記少なくとも一つの投影系計測支持構造体は、運動学的に直列に配置される少なくとも２つの防振装置を介して前記ベース支持構造体上に支持される、光学結像装置。
【請求項１３】
請求項１２に記載の光学結像装置において、
前記更なる防振装置は、更なる防振共振周波数範囲の更なる防振共振周波数を有し；
前記更なる防振共振周波数範囲は、更なる防振共振周波数範囲群から選択され；
前記更なる防振共振周波数範囲群は、１Ｈｚ〜３０Ｈｚ，２Ｈｚ〜１０Ｈｚ及び３Ｈｚ〜８Ｈｚの範囲から成る、光学結像装置。
【請求項１４】
請求項７及び１３に記載の光学結像装置において、
前記更なる防振共振周波数及び前記平衡共振周波数は周波数ギャップによって分離され；
前記周波数ギャップは周波数ギャップ範囲群の周波数ギャップ範囲から選択され；
前記周波数ギャップ範囲群は、前記更なる防振共振周波数の１Ｈｚ〜４０Ｈｚ，１０Ｈｚ〜２５Ｈｚ及び１００％〜４００％の範囲から成る、光学結像装置。
【請求項１５】
請求項１２〜１４の何れか一項に記載の光学結像装置において、
前記更なる防振装置は、減衰比において、前記少なくとも一つの投影系計測支持構造体の振動の減衰を提供するように構成され；
前記減衰比は減衰比範囲群の減衰比範囲から選択され；
前記減衰比範囲群は、５％〜６０％、１０％〜３０％及び２０％〜２５％の範囲から成る、光学結像装置。
【請求項１６】
請求項３〜１５の何れか一項に記載の光学結像装置において、
前記少なくとも一つの光学素子支持ユニット及び投影系計測支持構造体の内の少なくとも一つは、材料群から選択された材料で製造され；
前記材料群は、スチール、アルミニウム（Ａｌ），チタン（Ｔｉ）、インバー合金、タングステン合金、セラミック材料、シリコン含浸型炭化ケイ素（ＳｉＳｉＣ）、炭化ケイ素（ＳｉＣ）、シリコン（Ｓｉ）、炭素繊維強化炭化ケイ素複合材（Ｃ／ＣＳｉＣ）、酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）、ゼロデュア（Ｚｅｒｏｄｕｒ（登録商標））、ＵＬＥ（登録商標）ガラス、石英及びコーディエライトから成る、光学結像装置。
【請求項１７】
請求項５に記載の光学結像装置において、
前記第１支持ユニットは第１剛性を有する第１材料で製造され、
前記第２支持ユニットは第２剛性を有する第２材料で製造され；
前記第２剛性は前記第１剛性よりも高い、光学結像装置。
【請求項１８】
請求項１〜１７の何れか一項に記載の光学結像装置において、該光学結像装置は、
ＵＶ範囲の露光波長で露光光を使用するマイクロリソグラフィにおいて使用されるように構成されている；
前記露光波長の範囲が５ｎｍ〜２０ｎｍである；
前記光学素子群の前記光学素子が反射光学素子である、
の内の少なくとも一つである、光学結像装置。
【請求項１９】
光学結像装置の光学投影系を支持する方法であって、該光学投影系は、露光工程において露光光を使用して露光経路に沿って、マスク支持構造体によって支持されるマスクのパターン像を、基板支持構造体によって支持される基板上に転写するように構成された光学素子群を有し、前記マスク支持構造体及び前記基板支持構造体は１次振動源を形成する方法において、該方法は、
前記光学素子を、光学素子支持構造体を介してベース支持構造体上に支持するステップと；
前記１次振動源以外の２次振動源を、２次振動源支持構造体を介して前記ベース支持構造体上に支持するステップであって、前記２次振動源は固体伝搬振動エネルギーを含む２次振動外乱源であり、前記２次振動源は前記光学結像装置の内部に配置され；
前記光学素子支持構造体及び前記２次振動源支持構造体を、前記２次振動源から前記光学素子支持構造体までの前記固体伝搬振動エネルギーの構造的な経路が、前記ベース支持ユニットを通ってのみ存在するように支持する、方法。
【請求項２０】
請求項１９に記載の方法において、
前記光学素子支持構造体は少なくとも一つの光学素子支持ユニットを有し；
前記少なくとも一つの光学素子支持ユニットは前記光学素子を支持し；
前記少なくとも一つの光学素子支持ユニットを、防振共振周波数範囲の防振共振周波数で、振動を遮断するように前記ベース支持構造体上に支持し；
前記防振共振周波数範囲は、防振共振周波数範囲群から選択し；
前記防振共振周波数範囲群は、０．０５Ｈｚ〜８．０Ｈｚ，０．１Ｈｚ〜１．０Ｈｚ及び０．２Ｈｚ〜０．６Ｈｚの範囲から成る、方法。
【請求項２１】
請求項２０に記載の方法において、
前記少なくとも一つの光学素子支持ユニットは第１支持ユニットであり；
前記防振共振周波数は第１防振共振周波数であり；
前記光学素子支持構造体は少なくとも一つの第２支持ユニットを有し；
前記少なくとも一つの第２支持ユニットは前記光学素子を支持し；
前記少なくとも一つの第２支持ユニットを、第２防振共振周波数範囲の第２防振共振周波数で、振動を遮断するように前記第１支持ユニットに支持し；
前記第２防振共振周波数範囲は第２防振共振周波数範囲群から選択し；
前記第２防振共振周波数範囲群は、1Ｈｚ〜３０Ｈｚ，１Ｈｚ〜８Ｈｚ，１Ｈｚ〜４０Ｈｚ及び２５Ｈｚ〜３０Ｈｚの範囲から成る、方法。
【請求項２２】
請求項２０又は２１に記載の方法において、
少なくとも一つの振動平衡質量ユニットを前記光学素子支持ユニットに、平衡共振周波数範囲の平衡共振周波数における平衡効果及び減衰比における振動の減衰効果の内の少なくとも一つが提供されるように接続し；
前記平衡共振周波数範囲を平衡共振周波数範囲群から選択し；
前記平衡共振周波数範囲群は１Ｈｚ〜４０Ｈｚ，５Ｈｚ〜４０Ｈｚ及び１５Ｈｚ〜２５Ｈｚの範囲から成り；
前記減衰比を減衰比範囲群の減衰比範囲から選択し；
前記減衰比範囲群は、０．２％〜１５％，０．２％〜５％及び１．０％〜３．０％の範囲から成る、方法。
【請求項２３】
請求項２０〜２２に記載の方法において、
投影系計測支持構造体を、前記ベース支持構造体に、更なる防振共振周波数範囲の更なる防振共振周波数で振動を遮断するように支持し；
前記投影系計測支持構造体は、前記光学素子群に付随し、該光学素子群の少なくとも一つの光学素子の状態を表す変数（variable representative）を捕捉するように構成された、少なくとも一つの計測装置を支持し；
前記更なる防振共振周波数範囲は、更なる防振共振周波数範囲群から選択し；
前記更なる防振共振周波数範囲群は、１Ｈｚ〜３０Ｈｚ，２Ｈｚ〜１０Ｈｚ及び３Ｈｚ〜８Ｈｚの範囲から成る、方法。
【請求項２４】
光学投影系と支持構造系とを備える光学結像装置であって、
前記光学投影系は、露光工程において露光光を使用して露光経路に沿って、マスク支持構造体によって支持されるマスクのパターン像を、基板支持構造体によって支持される基板上に転写するように構成された光学素子群を有し；
前記マスク支持構造体と前記基板支持構造体とは１次振動源を形成し；
前記支持構造系は、ベース支持構造体と、光学素子支持構造体と、前記１次振動源以外の２次振動源における少なくとも一つの２次振動源支持構造体とを有し；
前記光学素子支持構造体は前記光学素子を支持し；
前記少なくとも一つの２次振動源支持構造体は２次振動源を支持し、該２次振動源は固体伝搬振動エネルギーを含む２次振動外乱源であり、該２次振動源は前記光学結像装置の内部に位置し；
前記ベース支持構造体は、前記光学素子支持構造体及び前記２次振動源支持構造体を、前記二次振動源支持構造体が少なくとも一つの防振装置を介して前記光学素子支持構造体から機械的に遮断されるように支持する、光学結像装置。
【請求項２５】
請求項２４に記載の光学結像装置において、
前記２次振動源は２次振動源群の部材であり；
前記２次振動源群は計測系のコンポーネントと、該計測系の冷却ユニットと、前記光学投影系のコンポーネントと、該光学投影系の移動コンポーネントと、該光学投影系の冷却ユニットとから成り；
前記２次振動源支持構造体は、特に、前記ベース支持構造体上に防振装置を介して振動を遮断するように支持される、光学結像装置。
【請求項２６】
請求項２４又は２５に記載の光学結像装置において、
前記光学素子支持構造体は少なくとも１つの光学素子支持ユニットを有し；
前記少なくとも１つの光学素子支持ユニットは前記光学素子を支持し；
前記少なくとも１つの光学素子支持ユニットは、防振装置を介して前記ベース支持構造体上に支持される、光学結像装置。
【請求項２７】
請求項２６に記載の光学結像装置において、
前記防振装置は防振共振周波数範囲の防振共振周波数を有し；
前記防振共振周波数範囲は防振共振周波数範囲群から選択され；
前記防振共振周波数範囲群は、０．０５Ｈｚ〜８．０Ｈｚ，０．１Ｈｚ〜１．０Ｈｚ及び０．２Ｈｚ〜０．６Ｈｚの範囲から成る、光学結像装置。
【請求項２８】
請求項２６又は２７に記載の光学結像装置において、
前記少なくとも１つの光学素子支持ユニットは第１支持ユニットであり；
前記防振装置は第１防振装置であり； 
前記光学素子支持構造体は少なくとも一つの第２支持ユニットを有し；
前記少なくとも一つの第２支持ユニットは前記光学素子を支持し；
前記少なくとも一つの第２支持ユニットは、第２防振装置を介して前記第１支持ユニット上に支持される、光学結像装置。
【請求項２９】
請求項２８に記載の光学結像装置において、
前記第２防振装置は防振共振周波数範囲の防振共振周波数を有し；
前記第２防振共振周波数範囲は第２防振共振周波数範囲群から選択され；
前記第２防振共振周波数範囲群は、１Ｈｚ〜３０Ｈｚ，１Ｈｚ〜８Ｈｚ，１Ｈｚ〜４０Ｈｚ及び２５Ｈｚ〜３０Ｈｚの範囲から成る、光学結像装置。
【請求項３０】
請求項２６〜２９の何れか一項に記載の光学結像装置において、
前記光学素子支持構造体は少なくとも一つの振動平衡質量ユニットを有し；
前記振動平衡質量ユニットは接続デバイスを介して前記光学素子支持ユニットに接続され；
前記接続デバイスは平衡共振周波数範囲の平衡共振周波数を有し；
前記平衡共振周波数範囲は平衡共振周波数範囲群から選択され；
前記平衡共振周波数範囲群は、１Ｈｚ〜４０Ｈｚ，５Ｈｚ〜４０Ｈｚ及び１５Ｈｚ〜２５Ｈｚの範囲から成る、光学結像装置。
【請求項３１】
請求項２６〜３０の何れか一項に記載の光学結像装置において、
前記支持構造系は投影系計測支持構造体を有し；
前記投影系計測支持構造体は、前記光学素子群に付随し、該光学素子群の少なくとも一つの光学素子の状態を表す変数（variable representative）を捕捉するように構成された、少なくとも一つの計測装置を支持し； 
前記少なくとも一つの投影系計測支持構造体は、更なる防振装置を介して前記ベース支持構造体上に支持され、前記少なくとも一つの投影系計測支持構造体は、運動学的に直列に配置された少なくとも２つの防振装置を介して、前記ベース支持構造体上に支持される、光学結像装置。
【請求項３２】
請求項３１に記載の光学結像装置において、
前記更なる防振装置は更なる防振共振周波数範囲の更なる防振共振周波数を有し；
前記更なる防振共振周波数範囲は更なる防振共振周波数範囲群から選択され；
前記更なる防振共振周波数範囲群は、１Ｈｚ〜３０Ｈｚ，２Ｈｚ〜１０Ｈｚ及び３Ｈｚ〜８Ｈｚの範囲から成る、光学結像装置。
【請求項３３】
請求項２６〜３２の何れか一項に記載の光学結像装置において、
前記少なくとも一つの光学素子支持ユニット及び投影系計測支持構造体の内の少なくとも一つは、材料群から選択された材料で製造され；
前記材料群は、スチール、アルミニウム（Ａｌ），チタン（Ｔｉ）、インバー合金、タングステン合金、セラミック材料、シリコン含浸型炭化ケイ素（ＳｉＳｉＣ）、炭化ケイ素（ＳｉＣ）、シリコン（Ｓｉ）、炭素繊維強化炭化ケイ素複合材（Ｃ／ＣＳｉＣ）、酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）、ゼロデュア（Ｚｅｒｏｄｕｒ（登録商標））、ＵＬＥ（登録商標）ガラス、石英及びコーディエライトから成る、光学結像装置。
【請求項３４】
光学結像装置の光学投影系を支持する方法であって、該光学投影系は、露光工程において露光光を使用して露光経路に沿って、マスク支持構造体によって支持されるマスクのパターン像を、基板支持構造体によって支持される基板上に転写するように構成された光学素子群を有し、前記マスク支持構造体及び前記基板支持構造体は１次振動源を形成する方法において、該方法は、
前記光学素子を、光学素子支持構造体を介してベース支持構造体上に支持するステップと；
前記１次振動源以外の２次振動源を、２次振動源支持構造体を介して前記ベース支持構造体上に支持するステップであって、前記２次振動源は固体伝搬振動エネルギーを含む２次振動外乱源であり、前記振動源は前記光学結像装置の内部に位置し；
前記光学素子支持構造体及び前記２次振動源支持構造体を、前記２次振動源支持構造体が少なくとも一つの防振装置を介して前記光学素子支持構造体から機械的に遮断されるように、前記ベース支持構造体によって支持する、方法。
【請求項３５】
光学投影系と支持構造系とを備える光学結像装置であって、
前記光学投影系は、露光工程において露光光を使用して露光経路に沿って、マスク支持構造体によって支持されるマスクのパターン像を、基板支持構造体によって支持される基板上に転写するように構成された光学素子群を有し；
前記支持構造系は、 ベース支持構造体と、光学素子支持構造体と、投影系計測支持構造体とを有し；
前記光学素子支持構造体は前記光学素子を支持し；
前記光学素子支持構造体は、第１防振装置を介して前記ベース支持構造体上に支持され；
前記投影系計測支持構造体は、前記光学素子群に付随し、前記光学素子群の少なくとも一つの光学素子の状態を表す変数（variable representative）を捕捉するように構成された、少なくとも一つの計測装置を支持し；
前記投影系計測支持構造体は、第２防振装置を介して前記光学素子支持構造体上に支持される、光学結像装置。
【請求項３６】
光学結像装置の光学投影系を支持する方法であって、該光学投影系は、露光工程において露光光を使用して露光経路に沿って、マスク支持構造体によって支持されるマスクのパターン像を、基板支持構造体によって支持される基板上に転写するように構成された光学素子群を有する方法において、該方法は、
前記光学素子を、光学素子支持構造体を介してベース支持構造体上に支持するステップと；
前記光学素子群に付随する少なくとも一つの計測装置を、投影系計測支持構造体を使用して前記光学素子支持構造体上に支持するステップと；
前記投影系計測支持構造体を、第２防振装置を介して前記光学素子支持構造体上に支持するステップとを含み、
前記少なくとも一つの計測装置は、前記光学素子群の少なくとも一つの光学素子の状態を表す変数（variable representative）を捕捉するように構成された、方法。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２７
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２７】
本発明の第５の態様によれば、光学投影系と支持構造系とを備える光学結像装置が提供される。光学投影系は、露光工程において露光を使用して露光経路に沿って、マスク支持構造体によって支持されるマスクのパターン像を、基板支持構造体によって支持される基板上に転写するように構成された光学素子群を有する。支持構造系は、ベース支持構造体と、光学素子支持構造体と投影系計測支持構造体とを有する。光学素子支持構造体は光学素子を支持し、第１防振装置を介してベース支持構造体上に支持される。投影系計測支持構造体は光学素子群に付随し、その光学素子群の内の少なくとも一つの光学素子の状態を表す変数（variable representative）を捕捉するように構成される、少なくとも一つの計測装置を支持する。投影系計測支持構造体は第２防振装置を介して光学素子支持構造体上に支持される。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２８
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２８】
本発明の第６の態様によれば、光学結像装置の光学投影系を支持する方法が提供される。光学投影系は、露光工程において露光を使用して露光経路に沿って、マスク支持構造体によって支持されるマスクのパターン像を、基板支持構造体によって支持される基板上に転写するように構成された光学素子群を有する。本方法は、光学素子支持構造体を介して光学素子をベース支持構造体上に支持するステップと、投影系計測支持構造体を使用して、光学素子群に付随する少なくとも一つの計測装置を光学素子支持構造体上に支持するステップと、第２防振装置を介して、投影系計測支持構造体を光学素子支持構造体上に支持するステップとを含んでいる。少なくとも一つの計測装置は、光学素子群の少なくとも一つの光学素子の状態を表す変数（variable representative）を捕捉するように構成される。