【誤訳訂正書】
【提出日】平成29年6月2日(2017.6.2)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００９
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００９】
第３の態様によれば、この目的は、以下のシステムによって達成される。
投影露光装置を備え、この投影露光装置が、
−  物体領域を像領域内に結像する投影光学ユニットと、
−  物体領域内に配置可能なリソグラフィマスクを保持するための、走査方向に沿って変位可能なマスクホルダと、
−  像領域内で基板を保持するための、走査方向に沿って変位可能な基板ホルダと、
−  照明光を生成して物体領域の方に導く照明システムと、
を含み、この照明システムは、物体領域における照明光の走査積分強度分布を変化させる強度変動デバイスを有し、
照明光には、物体領域において、走査積分強度分布及び走査積分方向分布を提供することができ、
リソグラフィマスクは、投影露光装置を用いた結像中に基板上に基板構造を作製できるマスク構造を有し、
リソグラフィマスクは、マスク構造のサイズの変動が走査積分強度変動に比例する別個の領域に細分化可能である、
ことを特徴とするシステム。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
投影露光装置（１００）を備えたシステムであって、前記投影露光装置（１００）は、
物体領域を像領域内に結像する投影光学ユニット（１０）と、
前記物体領域内に配置可能なリソグラフィマスク（３０）を保持するための、走査方向（ｙ）に沿って変位可能なマスクホルダ（２０）と、
前記像領域内で基板（５０）を保持するための、前記走査方向（ｙ）に沿って変位可能な基板ホルダ（４０）と、
照明光（Ｌ）を生成して前記物体領域の方に導く照明システム（６０）と、
を含み、前記照明システムは、前記物体領域において、前記走査方向（ｙ）に直交して配置された方向（ｘ）の関数としての走査積分強度分布及び走査積分方向分布を前記照明光（Ｌ）に提供することができ、
前記リソグラフィマスク（３０）は、前記投影露光装置（１００）を用いた前記結像中に前記基板（５０）上に基板構造（ｂS）を作製できるマスク構造（ｂM）を有し、
規定のマスク設計位置（ＰＭ）における前記マスク構造（ｂM）のサイズは、前記物体領域において前記照明システムによって生成された前記照明光（Ｌ）の前記強度分布及び前記方向分布から決定され、
前記マスク設計位置（ＰＭ）間における前記マスク構造（ｂM）の前記サイズは、前記マスク設計位置（ＰＭ）における前記マスク構造（ｂM）の前記サイズの値の補間に、比例因子を別として前記走査積分強度分布のプロファイルによって与えられる項を加えた合計によって与えられる、
ことを特徴とするシステム。
【請求項２】
少なくとも１つの位置における前記マスク構造（ｂM）の前記サイズは、ＮＩＬＳ因子及びＭＥＥＦ因子に依存して形成され、前記マスク設計位置（ＰＭ）間の前記リソグラフィマスク（３０）上の前記マスク構造（ｂM）の前記サイズは、前記マスク設計位置（ＰＭ）における前記マスク構造（ｂM）の前記サイズの補間に、
ＣＤ  前記基板上の所望の構造幅
ＭＥＥＦ  マスク誤差増大因子
ＮＩＬＳ  正規化強度対数の２乗
β  前記投影光学ユニットの拡大率の絶対値
ΔＩ（ｘ）／Ｉ  ｘ座標の関数としての相対的強度偏差
をパラメータとする以下の数学的関係：
2016524182.tif 000001
によって与えられる項（Δｂ（ｘ））を加えた合計として与えられる、
ことを特徴とする請求項１に記載のシステム。
【請求項３】
複数の前記マスク設計位置（ＰＭ）と、前記強度変動デバイス（７０）を用いて走査積分強度の独立補正が可能な複数の位置（ＰＵ）とは同一である、
ことを特徴とする請求項２に記載のシステム。
【請求項４】
投影露光装置（１００）を備えたシステムであって、前記投影露光装置（１００）は、
物体領域を像領域内に結像する投影光学ユニット（１０）と、
前記物体領域内に配置可能なリソグラフィマスク（３０）を保持するための、走査方向（ｙ）に沿って変位可能なマスクホルダ（２０）と、
前記像領域内で基板（５０）を保持するための、前記走査方向（ｙ）に沿って変位可能な基板ホルダ（４０）と、
照明光（Ｌ）を生成して前記物体領域の方に導く照明システム（６０）と、
を含み、前記照明システム（６０）は、前記物体領域において、前記走査方向（ｙ）に直交して配置された方向（ｘ）の関数としての走査積分強度分布及び走査積分方向分布を前記照明光（Ｌ）に提供することができ、
前記リソグラフィマスク（３０）は、前記投影露光装置（１００）を用いた前記結像中に前記基板（５０）上に基板構造（ｂS）を作製できるマスク構造（ｂM）を有し、
規定のマスク設計位置（ＰＭ）における前記リソグラフィマスク（３０）上の前記マスク構造（ｂM）のサイズは、前記物体領域において前記照明システム（６０）によって生成された前記照明光（Ｌ）の前記強度分布及び前記方向分布から決定され、
前記マスク設計位置（ＰＭ）間における前記リソグラフィマスク上の前記マスク構造（ｂM）の前記サイズは、前記マスク設計位置（ＰＭ）における前記マスク構造（ｂM）の前記サイズの補間である、
ことを特徴とするシステム。
【請求項５】
前記照明システム（６０）は、前記物体領域における前記照明光（Ｌ）の前記走査積分強度分布を変化させる強度変動デバイス（７０）を有し、該強度変動デバイス（７０）は、前記物体領域における前記走査積分強度分布の均一性を改善できるように設定可能である、
ことを特徴とする請求項４に記載のシステム。
【請求項６】
前記照明光（Ｌ）の前記走査積分強度は、前記物体領域の互いに間隔を置いて配置された少なくとも３つの位置において同じ大きさである、
ことを特徴とする請求項５に記載のシステム。
【請求項７】
投影露光装置（１００）を備えたシステムであって、前記投影露光装置（１００）は、
物体領域を像領域内に結像する投影光学ユニット（１０）と、
前記物体領域内に配置可能なリソグラフィマスク（３０）を保持するための、走査方向（ｙ）に沿って変位可能なマスクホルダ（２０）と、
前記像領域内で基板（５０）を保持するための、前記走査方向（ｙ）に沿って変位可能な基板ホルダ（４０）と、
照明光（Ｌ）を生成して前記物体領域の方に導く照明システム（６０）と、
を含み、
前記照明システム（６０）は、前記物体領域における前記照明光の走査積分強度分布を変化させる強度変動デバイス（７０）を有し、
前記照明光（Ｌ）には、前記物体領域において、前記走査積分強度分布及び走査積分方向分布を提供することができ、
前記リソグラフィマスク（３０）は、前記投影露光装置（１００）を用いた前記結像中に前記基板（５０）上に基板構造（ｂS）を作製できるマスク構造（ｂM）を有し、
前記リソグラフィマスク（３０）は、前記マスク構造のサイズの変動が前記走査積分強度変動に比例する別個の領域に細分化可能である、
ことを特徴とするシステム。
【請求項８】
前記リソグラフィマスク（３０）上の前記マスク構造（ｂM）は、ＮＩＬＳ因子及びＭＥＥＦ因子に依存して形成され、前記リソグラフィマスク（３０）は、
ＣＤ  前記基板上の所望の構造幅
ＭＥＥＦ  マスク誤差増大因子
ＮＩＬＳ  正規化強度対数の２乗
β  前記投影光学ユニットの拡大率の絶対値
ΔＩ（ｘ）／Ｉ  ｘ座標の関数としての相対的強度偏差
をパラメータとする以下の数学的関係：
2016524182.tif 000002
によって位置ｘに対する前記マスク構造（ｂM）の前記サイズの依存性（Δｂ（ｘ））が与えられる別個の領域に細分化可能である、
ことを特徴とする請求項７に記載のシステム。