(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
真空チャンバー；と、
真空チャンバー上部に配置され上下に移動してガラス基板を支持し、整列されたシャドーマスクをガラス基板上に密着させるための永久磁石を備えるシャドーマスクホルダーユニット；と、
シャドーマスクを搭載するためにシャドーマスクホルダーユニット下部に配置され、上部にあるガラス基板と搭載されたガラス基板とを整列するために外部に連結された制御部によって制御される３軸位置移動手段と、１つ以上の永久磁石及び電磁石を含むシャドーマスク安着テーブル；と、
上記ガラス基板とシャドーマスクの整列状態を確認するための光学整列確認手段；と、
真空チャンバー内で上記シャドーマスク安着テーブルを左右に移動させるための線形ガイド手段；と、
真空チャンバー外部に配置され上記３軸位置移動手段、線形ガイド手段、及び電磁石に印加される電流の極性と大きさを制御するための制御部とを含むことを特徴とする有機電界発光素子製作用蒸着装置。
【請求項２】
上記シャドーマスクホルダーユニットは、永久磁石を含む磁石ブロックと磁石ブロック上部に固定されて磁石ブロックをチャンバー内で上下移動させる支持棒と、上記磁石ブロックに対して上下に弾性移動できる基板ホルダーとからなり、
上記基板ホルダーは磁石ブロックの四隅に形成された貫通溝内に挿入される４つの弾性スプリングと、弾性スプリング内部に挿入されて磁石ブロックに対して弾性的に上下移動する４つの上下移動棒と、２つの上下移動棒に結合されてガラス基板の縁部を係止するための係止突起を有する２つの基板支持バーとからなることを特徴とする請求項１に記載の有機電界発光素子製作用蒸着装置。
【請求項３】
上記磁石ブロックは、底面側に所定間隔ごとに磁石安着溝が形成された上板と、上記上板に対応して所定間隔をおいて離隔された下板と、上記上板及び下板の間に水平方向に介在される多数の永久磁石と、上記上板と下板の間に設けられてこれらの縁部を支持する離隔フレームとからなることを特徴とする請求項２に記載の有機電界発光素子製作用蒸着装置。
【請求項４】
上記シャドーマスク安着テーブルは、一つ以上の電磁石・永久磁石アセンブリーを備えて３軸位置移動手段によって移動する電磁石ブロックと、シャドーマスクを安着するためのマスク安着板とからなり、
上記それぞれの電磁石・永久磁石アセンブリーは電磁石コアと、電磁石コア下部に配置される永久磁石と、電磁石コア及び永久磁石を囲むロールと、ロール周囲に巻き取られているコイルとからなることを特徴とする請求項１に記載の有機電界発光素子製作用蒸着装置。
【請求項５】
上記線形ガイド手段は、シャドーマスク安着テーブルが安着される線形レール、及び上記線形レールに沿ってシャドーマスク安着テーブルを左右に移動させるための駆動手段で構成されることを特徴とする請求項１に記載の有機電界発光素子製作用蒸着装置。
【請求項６】
上記シャドーマスクホルダーユニットは、中空ブロックと、上記中空ブロック内部に配置されて永久磁石を含む磁石ブロックと、中空ブロック上部に固定され中空ブロックをチャンバー内で上下移動させる第１の支持棒と、上記第１の支持棒に挿入され一端が磁石ブロック上部に固定されて磁石ブロックを中空ブロック内部で上下に移動させるための第２の支持棒と、上記中空ブロックに対して上下に弾性移動できる基板ホルダーとからなり、
上記基板ホルダーは、中空ブロックの四隅に形成された貫通溝内に挿入される４つの弾性スプリングと、弾性スプリング内部に挿入され磁石ブロックに対して弾性的に上下移動する４つの上下移動棒と、２つの上下移動棒に結合されてガラス基板の縁部を係止するためのガラス基板係止突起を有する２つのガラス基板支持バーとからなることを特徴とする請求項１に記載の有機電界発光素子製作用蒸着装置。
【請求項７】
請求項１〜５のいずれかの蒸着装置を用いた方法であって、上記シャドーマスクをホルダーユニット上にガラス基板を搭載して固定し、上記シャドーマスクをシャドーマスク安着テーブルに密着させた後、ガラス基板の下に移動させる第１段階；と、
上記光学整列手段を利用して確認しながら、上記３軸位置移動手段を利用してシャドーマスク安着テーブルの位置を制御することによってガラス基板とシャドーマスクとを整列する第２段階；と、
上記電磁石に逆方向の電流を印加してシャドーマスク安着テーブルの磁力をホルダーユニットの磁力より小さくすることによって、シャドーマスクが上向移動してガラス基板と密着されるようにする第３段階；と、
上記線形ガイド手段を利用してシャドーマスク安着テーブルを蒸着作業空間の外へ移動させる第４段階；及び、
真空状態で上記チャンバー内で蒸着を遂行する第５段階；とで構成されることを特徴とする有機電界発光素子製作用蒸着方法。
【請求項８】
上記第３段階で、ホルダーユニットの磁力によってシャドーマスクがガラス基板に密着された後、ガラス基板と磁石ブロックを蒸着位置に上昇させて電磁石に印加されていた逆方向電流を遮断する第６段階をさらに含むことを特徴とする請求項７に記載の有機電界発光素子製作用蒸着方法。
【請求項９】
上記第１段階で、ガラス基板を搭載・固定する段階は、
上記磁石ブロックを上に移動させて基板ホルダーの上下移動棒がチャンバー上端に備えられたストッパーと干渉され、下に移動した状態でガラス基板をガラス基板支持バーのガラス基板係止突起に係止するように挿入する段階と；
磁石ブロックを下に下げると、基板ホルダーストッパーと上下移動棒との接触が解除されながら弾性スプリングによって上下移動棒が上へ移動し、結果的に挿入されたガラス基板が磁石ブロックに密着・固定される段階とで構成されることを特徴とする請求項７または８に記載の有機電界発光素子製作用蒸着方法。
【請求項１０】
上記第１段階で、ガラス基板を搭載・固定する段階の途中には、シャドーマスクがシャドーマスク安着テーブル上に密着・固定するように上記電磁石に正方向電流を印加することによって、電磁石ブロックの磁力を増加させることを特徴とする請求項９に記載の有機電界発光素子製作用蒸着方法。
【請求項１１】
請求項６項による蒸着装置を用いた方法であって、
上記磁石ブロックを中空ブロック上部に位置させた状態で、上記シャドーマスクホルダーユニット上にガラス基板を搭載して固定し、上記シャドーマスクをシャドーマスク安着テーブル上に搭載する第１段階；と、
上記光学整列確認手段を利用して確認しながら、上記３軸位置移動手段を利用してシャドーマスク安着テーブルの位置を制御することによって、ガラス基板のシャドーマスクとを整列する第２段階；と、
上記磁石ブロックを中空ブロック下部に移動させ、上記電磁石に逆方向電流を印加してシャドーマスク安着テーブルに及ぶ磁力をシャドーマスクホルダーユニットの磁力より小さくすることによって、シャドーマスクが上下移動してガラス基板と密着されるようにする第３段階；と、
上記線形ガイド手段を利用してシャドーマスク安着テーブルを蒸着作業空間の外へ移動させる第４段階；及び、
真空状態で上記チャンバー内で蒸着を遂行する第５段階；とで構成されることを特徴とする有機電界発光素子製作用蒸着方法。
【請求項１２】
上記第３段階で、シャドーマスクホルダーユニットの磁力によってシャドーマスクがガラス基板に密着された後、シャドーマスクホルダーユニットを蒸着位置に上昇させ、電磁石に印加されていた逆方向電流を遮断する第５段階をさらに含むことを特徴とする請求項１１に記載の有機電界発光素子製作用蒸着方法。
【請求項１３】
上記第１段階でガラス基板を搭載・固定する段階は、
上記中空ブロックを上に移動させて基板ホルダーの上下移動棒がチャンバー上端に備えられた基板ホルダーストッパーと干渉され、下に移動した状態でガラス基板をガラス基板支持バーのガラス基板係止突起に係止するように挿入する段階と、
中空ブロックを下に下げると、基板ホルダーストッパーと上下移動棒との接触が解除されながら、弾性スプリングによって上下移動棒が上に移動し、結果的に挿入されたガラス基板が磁石ブロックに密着・固定される段階とで構成されることを特徴とする請求項１１または１２に記載の有機電界発光素子製作用蒸着方法。
【請求項１４】
上記第１段階で、ガラス基板を搭載・固定する段階の途中には、シャドーマスクがシャドーマスク安着テーブル上に密着・固定されるように上記電磁石に正方向電流を印加することによって、電磁石ブロックを磁力を増加させることを特徴とする請求項１３に記載の有機電界発光素子製作用蒸着方法。
【請求項１５】
上記第５段階の蒸着過程が完了した後、シャドーマスクを基板から分離するために、
▲１▼上記線形ガイド手段を利用してシャドーマスク安着テーブルを蒸着作業空間に復帰させ、
▲２▼シャドーマスクホルダーユニットを下に降下した後、上記磁石ブロックを中空ブロック上部に移動させてシャドーマスクをガラス基板から分離してシャドーマスク安着テーブル上に落下させる第７段階をさらに含むことを特徴とする請求項１１または１２に記載の有機電界発光素子製作用蒸着方法。
【請求項１６】
上記▲２▼の過程の途中に、上記電磁石に逆方向電流を印加することを特徴とする請求項１５に記載の有機電界発光素子製作用蒸着方法。
【請求項１７】
上記第５段階の蒸着過程が完了した後、シャドーマスクを基板から分離するために、
▲１▼上記線形ガイド手段を利用してシャドーマスク安着テーブルを蒸着作業空間に復帰させ、
▲２▼シャドーマスクホルダーユニットを下に降下した後、上記磁石ブロックを中空ブロック上部に移動させてシャドーマスク安着テーブルの電磁石に正方向電流を印加することによって、安着テーブルの磁力を増加させ、シャドーマスクをシャドーマスク安着テーブル上に落下させる第８段階をさらに含むことを特徴とする請求項１１または１２に記載の有機電界発光素子製作用蒸着方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、有機電界発光素子（Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｅｌｅｃｔｒｏ−Ｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｔ  Ｄｉｓｐｌａｙ；ＯＥＬＤ）を製造するのに使用する蒸着装置を及びこれを用いた蒸着方法、より詳しくは、電磁石と永久磁石を利用することによって、ガラス基板上にパターン形成用をシャドーマスクを精密に整列・密着させた後、真空蒸着工程を遂行することができる装置及び方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
有機電界発光表示装置（○ＥＬＤ）はＺｎＳ、Ｃａｓ等の半導体材料である電界発光素子（以下“ＥＬ素子”という）に電界を加えた場合に起きる発光を用いたディスプレー装置であり、’７４年日本シャープ（ＳＨＡＲＰ）社の高輝度の長寿名薄膜ＥＬ素子を発表して以来、多くの研究によってＥＬディスプレーの実用化が急進展されており、コダック（Ｋｏｄａｋ）社のＴａｎｇ（Ｃ．Ｗ．Ｔａｎｇ）が有機色素を利用して薄膜ＥＬ素子を製作し、高輝度の緑色発光が可能なことを報告した後、駆動電圧が低く工程が有利な有機ＥＬに関する研究が活性化された。
【０００３】
高駆動電圧や青色発光での低い効率性等多くの短所を持っている無機物電界発光素子（ＧａＮ，ＺｎＳ，ＳｉＣ）を代替するために開発された有機電界発光素子は、有機薄膜として発光層とキャリア輸送層を製作した注入型素子であり、単分子有機ＥＬ素子としては、アンドレアゼン、Ａｌｑ３（アルミノキノリノール錯体）及びシクロペンタジエン誘導体が主流をなし、このような単分子素子らは低駆動電圧と１００ｎｍに近い薄い薄膜素材としての長所を持っているが、高熱に対する安全性と、電圧供給時のライン熱発生による分子再配列等の短所を有している。
【０００４】
一方、高分子有機ＥＬ素子としては、ＰＰＰ（ｐｏｌｙ＜ｐ−ｐｈｅｎｙｌｅｎｅ＞）、ＰＰＶ（ｐｏｌｙ＜−ｐｈｅｎｙｌｅｎｅ  ｖｉｎｙｌｅｎｅ＞）などが使われ、このような素子は熱安全性及び低駆動電圧の長所を有するが、短い寿命と効率面で短所を有している。
【０００５】
有機ＥＬ素子（ＯＥＬＤ）の積層構造は、大きく単層型と多層型とに分けられるが、まず、単層型は、電極／発光層／電極の構造からなり、電子注入電極である陰極は、小さな仕事関数を有する金属のＣａ，Ｍｇ，Ａｌなどが使われる。このように仕事関数が低い金属を電子注入電極に使用する理由は、電極と電界発光有機物の間に形成される障壁を低くすることによって、電子注入において高電流密度を得ることができるためである。
【０００６】
一方、陽極は、ホール注入のための電極であり、仕事関数が高く発光された光が素子の外に出られるように透明金属酸化物を使用し、ＩＴＯ（ｉｎｄｉｕｍ  ｔｉｎ  ｏｘｉｄｅ）が最も広く使われて、約３０ｎｍ程度の厚さを有する。ＩＴＯの場合、光学的に透明であるという長所を有する反面、制御が容易ではないという短所を有する。陽極物質に高仕事関数を有する金属を使用することは、陽極での非発光再結合を通じた効率減少を防止することができるからである。
【０００７】
次に、基板材料には大部分ガラスを使用し、発光層（ＥＭＬ）材料にはＡｌｑ３、アンスラセン（Ａｎｔｈｒａｃｅｎｅ）等の単分子有機ＥＬとＰＰＶ（ｐｏｌｙ（ｐ−ｐｈｅｎｙｌｅｎｅｖｉｎｙｌｅｎｅ））、ＰＴ（ｐｏｌｙｔｈｉｏｎｐｈｅｎｅ）などとこれらの誘導体である高分子有機ＥＬ物質が使われ、低駆動電圧での電荷放出のためにＥＭＬ層の薄い薄膜化（１００ｎｍ）が必要である。
【０００８】
一方、多層型は、単層型の積層構造にＥＴＬ（Ｅｌｅｃｔｒｏｎ  ｔｒａｎｓｐｏｒｔｉｎｇ  Ｌａｙｅｒ）という電子輸送層とＨＴＬ（Ｈｏｌｅ  Ｔｒａｎｓｐｏｒｔｉｎｇ  Ｌａｙｅｒ）というホール輸送層とが追加されている。ＥＴＬはオキサジアゾール（ｏｘａｄｉａｚｏｌｅ）誘導体などを使用し、ＨＴＬはジアミン誘導体のＴＰＤと光伝導性高分子であるｐｏｌｙ（９−ｖｉｎｙｌａｃｒｂａｚｏｌｅ）を用いることになる。
【０００９】
このような輸送層の組合を通じて量子効率（ｐｈｏｔｏｎｓ  ｏｕｔ  ｐａｒ  ｃｈａｒｇｅ  ｉｎｊｅｃｔｅｄ）を高め、キャリアが直接注入されず、輸送層通過の２段階注入過程を通じて駆動電圧を低くすることができ、発光層に注入された電子とホールが発光層を経由して反対側電極に移動時、反対側輸送層に妨げられることによって再結合調節が可能である。これを通じて発光効率を向上させることが出来るという長所がある。
【００１０】
また、発光効率を改善して所望の色相を得るために、普通発光層に数パーセントの有機物質をドーピングして、高い電気伝導度、低い仕事関数と腐食によく耐えるために電極は金属合金で構成され、普通２種類の異なる金属を同時蒸着させて形成する。
【００１１】
従って、ガラス基板上に電極と有機発光層を一定パターンによって蒸着するべきであり、このための遮蔽手段として使われるものがシャドーマスクである。すなわち、基板上に所望のパターン状のシャドーマスクを接触させた後、蒸着を遂行すると、所望のパターンの電極または発光層を形成することができることである。本発明では、既に陽極パターンが形成された基板を使用し、その上にパターンを有する有機物層を蒸着するためにシャドーマスクを使用する。
【００１２】
この時、あらかじめ設計されたパターンと一致させるためにシャドーマスクとガラス基板の整列がなされるべきであり、このためにＣＣＤカメラで観察しながらガラス基板及びシャドーマスクに形成されたマークが一致するようにシャドーマスクを移動させた後、シャドーマスクをガラス基板上に密着する。
【００１３】
【発明が解決しようとする課題】
従来の製造設備では、整列された状態でシャドーマスクを有機基板面に密着させるために、シャドーマスクを上下昇降させる着脱装置を利用するが、この場合、シャドーマスク中央部全体面が回路パターン形成のためにガラス基板に密着されなければならないので、前述したシャドーマスク着脱装置はシャドーマスクの縁部のみを支持する状態でガラス基板底面に密着させる。従って、薄い金属板よりなるシャドーマスクの中央部が重力によって垂れる現象が発生する。特に、シャドーマスクの面積が広くなるほど（すなわち、製造されるＯＥＬＤの大きさが大きくなるほど）、中央部の垂れる現象はさらに激しくなってガラス基板表面とシャドーマスクとが離隔されることによって正確な回路パターン形成が不可能であるという短所があった。
【００１４】
このような短所を克服するために、ガラス基板上部に永久磁石を配置し、ガラス基板とシャドーマスクを整列した状態で永久磁石を下向させ整列された金属性シャドーマスクを引き付けることによって、基板に密着させる装置が開発された。しかし、このような装置でも基板とシャドーマスクの整列時（すなわち、永久磁石がマスクを引っ張る前）シャドーマスクが垂れる現象が依然として残っており、このために正確な整列がむずかしいという短所は克服できなかった。
【００１５】
【課題を解決するための手段】
本発明の発明者らは、このような短所を克服するために電磁石と永久磁石を備えたシャドーマスク安着テーブルを使用するシャドーマスク着脱装置を開示したことがある。この装置を利用すれば正確な整列という目的が達成できるが、安着テーブルが基板の下に固定されているので、蒸着を遂行することができなかった。従って、前述した着脱装置を備える整列チャンバーで基板がシャドーマスクを整列して基板とマスクを密着させた後、再び蒸着チャンバーに移動して蒸着を遂行した。従って、蒸着に所要されるチャンバーや時間が増加されるため、全体的な生産効率が落ちるだけでなく、製造コストも上昇する問題があった。
【００１６】
本発明は、このような短所を克服するために着眼されたものであり、電磁石と永久磁石を同時に備えるシャドーマスク安着テーブルを利用することによって、整列時にもガラス基板とシャドーマスクが平行に配置されるようにし、シャドーマスク安着テーブルに３軸位置移動手段を適用することによって、正確な整列が可能で、整列後には永久磁石を含むシャドーマスクホルダーユニットを利用してガラス基板とマスクを密着させた後、シャドーマスク安着テーブルを作業位置の外へ移動させた後、同じチャンバー内で蒸着工程が遂行できるようにする。従って、正確な整列及び優れた蒸着効率が同時に達成できる。
【００１７】
本発明の目的は、永久磁石と電磁石を用いたシャドーマスク着脱装置を備えた有機電界発光素子製作用蒸着装置を提供することである。
【００１８】
本発明の他の目的は、ガラス基板とシャドーマスクの正確な整列及び整列・密着・蒸着時のシャドーマスク位置制御が容易に行える蒸着装置及び方法を提供することである。
【００１９】
本発明の他の目的は、シャドーマスクの大きさと関係がなく、全体面積にわたってガラス基板との優れた密着を可能にし、整列時にもガラス基板とマスクを平行に維持することによって、優れた基板−マスク整列を可能にする蒸着装置を提供することである。
【００２０】
本発明の他の目的は、シャドーマスクとガラス基板との整列・密着以後に、使われたシャドーマスク安着テーブルを作業位置の外へ移動させた後、同じチャンバー内で蒸着工程を遂行することができる装置及び方法を提供することである。
【００２１】
本発明の他の目的は、上記のような装置を利用してマスクの位置制御を遂行することによって、有機電界発光素子の蒸着品質及び蒸着効率を向上させることが出来る蒸着方法を提供することである。
【００２２】
前述したような目的を達成するために、本発明による有機電界発光素子蒸着装置は次のような構成よりなる。
【００２３】
真空チャンバー；と、
真空チャンバー上部に配置されガラス基板を支持し、整列されたシャドーマスクをガラス基板上に密着させるための永久磁石を備えるシャドーマスクホルダーユニット；と、
シャドーマスクを搭載するためにシャドーマスクホルダーユニット下部に配置され、上部にあるガラス基板と搭載されたガラス基板とを整列するために外部に連結された制御部によって制御される３軸位置移動手段と、一つ以上の永久磁石及び電磁石を含むシャドーマスク安着テーブル；と、
上記ガラス基板とシャドーマスクの整列状態を確認するための光学整列確認手段；と、
真空チャンバー内で上記シャドーマスク安着テーブルを左右に移動させるための線形ガイド手段；と、
真空チャンバー外部に配置され上記３軸位置移動手段の位置、線形ガイド手段及び電磁石に印加される電流の極性と大きさを制御するための制御部とを含む。
【００２４】
上記シャドーマスクホルダーユニットの永久磁石は、ホルダーユニット全体にわたって所定間隔で配置される一つ以上の永久磁石よりなり、シャドーマスク安着テーブルには全体にわたって配置される一つ以上の電磁石・永久磁石アセンブリーが備えられて、電磁石に印加される電流の大きさ及び／または極性を変化させることによって、安着テーブルの磁力を調節することができる。
【００２５】
本発明の第１の実施の形態によれば、シャドーマスクホルダーユニットは、大きく永久磁石を含む磁石ブロックと磁石ブロック上部に固定されて磁石ブロックをチャンバー内で上下移動させる支持棒と、上記磁石ブロックに対して上下弾性移動できる基板ホルダーとからなる。
【００２６】
基板ホルダーは、また磁石ブロックの四隅に形成された貫通溝内に挿入される４つの弾性スプリングと、弾性スプリング内部に挿入されて磁石ブロックに対して弾性的に上下移動する４つの上下移動棒と、２つの上下移動棒に結合されて、ガラス基板の縁部を歩くための係止突起を有する２つの基板支持バーとからなる。
【００２７】
磁石ブロックは、底面側に所定間隔ごとに磁石安着溝が形成された上板と、上記上板に対応して所定間隔をおいて離隔された下板と、上記上板及び下板の間に水平方向に介在される多数の永久磁石と、上記上板と下板の間に設けられ、これらの縁部を支持する離隔フレームとからなる。
【００２８】
一方、本発明の第２の実施の形態によれば、上記シャドーマスクホルダーユニットは、中空ブロックと、中空ブロック内部に配置され永久磁石を含む磁石ブロックと、中空ブロック上部に固定され中空ブロックをチャンバー内で上下移動させる第１の支持棒と、上記磁石ブロック上部に固定され磁石ブロック内部で上下に移動させるための第２の支持棒と、上記中空ブロックに対して上下に弾性移動できる基板ホルダーとからなり、上記基板ホルダーは、中空ブロックの四隅に形成された貫通溝内に挿入される４つの弾性スプリングと、弾性スプリング内部に挿入され磁石ブロックに対して弾性的に上下移動する４つの上下移動棒と、２つの上下移動棒に結合されてガラス基板との縁部を係止するための係止突起を有する２つの基板支持バーとからなる。
【００２９】
上記シャドーマスク安着テーブルは、一つ以上の電磁石・永久磁石アセンブリーを備えて３軸位置移動手段によって移動する電磁石ブロックと、シャドーマスクを安着するためのマスク安着板とからなる。それぞれの電磁石・永久磁石アセンブリーは電磁石コアと、電磁石コア下部に配置される永久磁石と、電磁石コア及び永久磁石を囲むロールと、ロール周囲に巻き取られているコイルとからなる。３軸位置移動手段はｘ、ｙ、θ方向へ上記シャドーマスク安着テーブルを移動させるように動作する。
【００３０】
また、線形ガイド手段は、安着テーブルが安着される線形レール、及び上記線形レールに沿って安着テーブルを移動させるための駆動手段（駆動モータ）で構成されている。
【００３１】
前述した装置を用いた蒸着方法を次のように前述した二つの実施の形態によって次のような２種類方法で具現され得る。
【００３２】
まず、本発明の第１の実施の形態による装置を利用する第１の方法は次のような段階で構成される。
【００３３】
上記シャドーマスクを真空用ロボットによって安着テーブル上に搭載した後、安着テーブルは線形ガイド手段によって作業位置の外へ移動すると、シャドーマスクホルダーユニット上に真空用ロボットを用いてガラス基板を搭載して固定し、安着テーブルを作業位置に再移動した後、上記電磁石に電流を正方向（安着テーブルの永久磁石と同じ極性方向を有するように電磁石の磁性を惹き起こす方向）に流し、シャドーマスクを安着テーブルに密着させた後、ガラス基板の下に移動させる第１段階；と、
上記光学整列手段を利用して確認しながら、上記３軸位置移動手段を利用して安着テーブルの位置を制御することによって、ガラス基板とシャドーマスクとを整列する第２段階；と、
上記電磁石逆方向の電流を印加して安着テーブルの磁力をホルダーユニットの磁力より小さくすることによって、シャドーマスクが上下移動してガラス基板と密着されるようにする第３段階；と、
上記線形ガイド手段を利用して安着テーブルを蒸着作業空間の外へ移動させる第４段階；及び、
真空状態で蒸着を遂行する第５段階とからなる。
【００３４】
上記第３段階で、ホルダーユニットの磁力によってシャドーマスクがガラス基板に密着された後、基板＋マスクが取り付けられたホルダーユニットを蒸着位置であるチャンバー上部に移動させ、電磁石に印加されていた電流を遮断する第６段階をさらに含むことができる。この場合、既にシャドーマスクがホルダーユニット近くへ移動してホルダーユニットにある永久磁石の磁力範囲内にあるので、電磁石に流れる電流を遮断しても安着テーブル側に引き付けられない。
【００３５】
第１段階でガラス基板を搭載・固定する方式は、磁石ブロックを上に移動させて基板ホルダーの上下移動棒がチャンバー上端のストッパーの弾性スプリングによって、下に移動した状態でガラス基板を基板支持バーの係止突起に係止するように挿入した後、磁石ブロックを下に下げると、ストッパーと上下移動棒の接触が解除されながら、弾性スプリングによって上下移動棒が上に移動し、結果的に挿入されたガラス基板が磁石ブロックに密着固定されるようになる。もちろん、ガラス基板を挿入する時より磁石ブロックがさらに下へ降りてきたため、下に配置されたシャドーマスクとさらに近くなる。
【００３６】
一方、本発明の第２の実施の形態による装置を利用する第２の方法は次のように構成されている。
【００３７】
上記磁石ブロックを中空ブロック上部に位置させた状態で、上記シャドーマスクホルダーユニット上にガラス基板を搭載して固定し、上記シャドーマスクを安着テーブル上に搭載する第１段階；と、
上記光学整列確認手段を利用して確認しながら、上記３軸位置移動手段を利用して安着テーブルの位置を制御することによって、ガラス基板のシャドーマスクとを整列する第２段階；と、
上記磁石ブロックを中空ブロック下部に移動させ、上記電磁石に逆方向の電流を印加して安着テーブルに及ぶ磁力をホルダーユニットの磁力より小さくすることによって、シャドーマスクが上下移動してガラス基板と密着されるようにする第３段階；と、
上記線形ガイド手段を利用して安着テーブルを蒸着作業空間の外へ移動させる第４段階；及び、
真空状態で上記チャンバー内で蒸着を遂行する第５段階とからなる。
【００３８】
一方、第１の方法及び第２の方法の何れも、上記第５段階の蒸着過程が完了した後、シャドーマスクを基板と分離するために、▲１▼上記線形ガイド手段を利用して安着テーブルを蒸着作業空間に復帰させ、▲２▼シャドーマスクホルダーユニットを下に降下した後、上記安着テーブルの電磁石に正方向電流を印加することによって、安着テーブルの磁力を増加させ、シャドーマスクをシャドーマスク安着テーブル上に落下させるマスク分離段階をさらに含むことが出来る。
【００３９】
また、第２の方法では上のようなマスク分離段階の外に、▲１▼上記線形ガイド手段を利用して安着テーブルを蒸着作業空間に復帰させ、▲２▼シャドーマスクホルダーユニットを下に降下した後、上記磁石ブロックを中空ブロック上部に移動させてシャドーマスクを基板から分離してシャドーマスク安着テーブル上に落下させるマスク分離段階をさらに含むことが出来、上記▲２▼の過程の途中に、上記電磁石に逆方向電流を印加することができる。これは以下で説明するように、ホルダーユニットと安着テーブルの磁力が強すぎて薄いマスクが曲がるか、または変形されることを防止するためである。
【００４０】
【発明の実施の形態】
以下では、添付図面を参照して本発明の実施の形態を詳細に説明する。
【００４１】
図１は、従来技術（永久磁石のみを用いた）による有機電界発光素子の整列及び蒸着装置に対する構成図であり、チャンバー１０と、チャンバー内部に配置されて永久磁石を備えるシャドーマスクホルダーユニット２０と、ガラス基板ホルダー３０と、シャドーマスクホール４０、ＣＣＤカメラ５０、及び３次元整列手段（図示せず）とからなる。
【００４２】
ガラス基板とシャドーマスクの整列過程を注意深くみると、まずガラス基板ホルダー３０にガラス基板６０を搭載し、マスクホルダーにシャドーマスク７０を搭載した後、ＣＣＤカメラ５０で観察しながら３次元整列手段を稼動してガラス基板の整列マーク（Ｍ）とマスク上の整列マーク（Ｍ’）が一致するまでガラス基板ホルダー３０及び／またはシャドーマスクホルダー４０を移動させる。整列された後にはシャドーマスクホルダーユニット２０を下に移動させた後、永久磁石の磁力を利用してマスクを引きつけてガラス基板と密着されるようにする。その後には真空状態で蒸着を遂行する。
【００４３】
この場合、整列段階で広いシャドーマスクが単に周辺部のみがホルダーに支持されるために中央部が垂れるようになり、これによって、十字マーク部分でガラス基板とマスクとが平行した状態ではなくなる。このような問題点を解決するためのシャドーマスクの両端を引っ張って引張させるテンション維持装置８０が備えられるが、垂れる現象を完全に解決できず、これによって、マスクの中間部位が垂れた状態で永久磁石が降下してシャドーマスクをグラスに付着するようになれば、垂れていた中心部位が上がってくっ付き、整列状態が不良となり得るので、テンションを維持する過程でもシャドーマスクが伸びるか、垂れが発生できるだけでなく、テンション維持装置の重さによって真空ロボットへ移送するのに難しさがあった。
【００４４】
図２は、本発明の第１の実施の形態による蒸着装置の全体構成を示す断面図であり、大きく真空チャンバー１００と、真空チャンバー内部に位置するシャドーマスクホルダーユニット２００と、シャドーマスク安着テーブル３００及び線形ガイド手段４００と、チャンバー内部または外部に位置して基板とマスクの整列状態を確認するための光学手段としての４つのＣＣＤカメラとからなる。
【００４５】
その外に、チャンバー下部には蒸着に使われる蒸着源（ｓｏｕｒｃｅまたはＥｆｆｕｓｉｏｎ  Ｃｅｌｌ）が配置され、シャドーマスク整列後、安着テーブルを蒸着作業空間の外へ移動させて蒸着源の加熱によって蒸着源に含まれた有機物が蒸発して基板に蒸着される。参考までに、この時、基板とシャドーマスクは整列付着状態で回転させることが望ましい。
【００４６】
図でチャンバー左側壁には、ガラス基板交換のための開口部が形成されており、バルブ８１０によって開口部が開閉される。また、外部のロボットによって自動でガラス基板がシャドーマスクユニットホルダー２００にローディング及びアンローディングできる。右側下端に配置された駆動モータ４２０は線形レール４１０と共に線形ガイド手段を構成し、シャドーマスク安着テーブル３００を左右に移動させる役割をする。
【００４７】
安着テーブルに含まれる３軸位置移動手段３４０は、その上に載置された電磁石ブロック３１０をｘ、ｙ、θ方向に微細移動させることによって、シャドーマスクのガラス基板の整列を遂行する。各構成部分に対しては以下の図３及び図４を参考してより詳細に説明する。
【００４８】
図３は、蒸着装置の主要部分のみを拡大して示した断面図であり、真空チャンバー１００の一部と、シャドーマスクホルダーユニット２００、シャドーマスク安着テーブル３００及び線形ガイド手段４００とチャンバー内部または外部に位置する４つのＣＣＤカメラ５００が示されている。簡単にするためにチャンバー下部の構成は省略した。
【００４９】
シャドーマスクホルダーユニット２００は、また永久磁石を含む磁石ブロック２１０と、磁石ブロックの上部に固定され磁石ブロックをチャンバー内で上下移動させる支持棒２２０と、上記磁石ブロックに対して上下に弾性移動できる基板ホルダー２３０とで構成される。
【００５０】
基板ホルダー２３０は、磁石ブロックの四隅に形成された貫通ホールに挿入される４つの弾性スプリング２３１と、弾性スプリング内部に挟まれる４つの上下移動棒２３２と、２つの上下移動棒の下部に連結されて磁石ブロックの一辺に沿って長く延びて先端にガラス基板係止突起２３４を備える２つのガラス基板支持バー２３３とで構成されている。また、チャンバー上面には基板ホルダー２３０の上下移動棒２３２に対応される位置に４つの基板ホルダーストッパー１１０が突起形態で形成されている。これらの詳細な構成及び動作状態は図４ａ及び図５ａ乃至図５ｄを参照して詳細に説明する。
【００５１】
シャドーマスク安着テーブル３００は、３軸位置移動手段３４０によって位置移動でき、内部に多数の電磁石・永久磁石アセンブリーを備える電磁石ブロック３１０と、マスクを安着するシャドーマスク安着板３２とでなり、シャドーマスク６００をシャドーマスク安着板３２０上に移送するためのマスク移送ハンドル３３０をさらに備えることが出来る。
【００５２】
シャドーマスク安着テーブル３００をシャドーマスクホルダーユニット２００下で左右に移動するための線形ガイド手段４００は、電磁石ブロック３１０を左右に移動させるための線形レール４１０と線形レールに沿って電磁石ブロック（シャドーマスク安着テーブル）を移動させるための駆動手段としての駆動モータ（図２の４２０）で構成されている。
【００５３】
図４ａは、シャドーマスクホルダーユニット２００の磁石ブロック２１０と基板ホルダー２３０の細部構成図である。
【００５４】
磁石ブロック２１０は、多数の磁石安着溝２１１が形成されたニッケル等の金属材質からなる上板２１２と、上板２１２と平行に所定間隔をおいて離隔されている下板２１３と、上板と下板の間に垂直方向へ挿入される多数の永久磁石２４１と、上板と下板の周辺部に連結されて上板と下板を離隔状態で支持する離隔フレーム２１５とで構成されている。また、上板、下板及び支持フレームの四つの角部には基板ホルダー２３０の弾性スプリング２３１と上下移動棒２３２を挿入するために４つの貫通溝２１６が形成されている。
【００５５】
シャドーマスクホルダーユニット２００にある永久磁石２１４の配置において各永久磁石の極性方向は制限がなく、製作便宜上全ての永久磁石を同じ極性方向に配置することが望ましい（図では全ての永久磁石が下部がＮ極、上部がＳ極となるように配置されている）。
【００５６】
基板ホルダー２３０は、磁石ブロックの貫通溝２１６に挿入される４つの弾性スプリング２３１と、弾性スプリング内部に挿入される４つの上下移動棒２３２と、２つの上下移動棒の下部に連結されて磁石ブロックの一辺に沿って長く延びている２つのガラス基板支持バー２３３とからなり、各ガラス基板支持バー２３３の端部にはガラス基板の一辺が係止できるようにガラス基板係止突起２３４が形成されている。図ではガラス基板支持バー２３３を上下移動棒２３２に連結するために連結ボルト２３５を利用しており、上下移動棒２３２のヘッド部分は弾性スプリングの直径より大きな直径を有して、上下移動棒が下に移動する場合、上下移動棒のヘッド部分と弾性スプリングの干渉によって上へと弾性力を受けるようになっている。また、上下移動棒のヘッドは、上下移動棒が上板を離脱できないように貫通溝の上部に位置した止め手段（図示せず）によって支持されている。
【００５７】
図４ａではガラス基板７００が基板ホルダーによって支持なされて磁石ブロックの下板２１３に密着されている状態を示している。
【００５８】
図４ｂは、シャドーマスク安着テーブル３００の内部構成図であり、前述した磁石ブロック２１０と類似な構成（上板、下板、離隔フレーム）をしている電磁石ブロック３１０と、シャドーマスク安着板３２０とが示されている。電磁石ブロック３１０中には垂直方向に配置される多数の電磁石・永久磁石アセンブリー３４０が備えられている。
【００５９】
それぞれの電磁石・永久磁石アセンブリー３４０は、上部に位置する電磁石コア３４１と、電磁石コア下部に位置する永久磁石３４２、電磁石コア及び永久磁石を囲むロール３４３及びロール周囲に巻き取られるコイル３４４とで構成されている。電磁石コアは電流によって磁力を生成できる磁性体であり、フェライト系列の磁性体またはニッケルなどが利用され得る。コイルに流れる電流の大きさと極性を変化すれば、永久磁石の磁力を強化または弱化させることができるので、電磁石ブロックの全体磁力を自在に変化させることができる。
【００６０】
例えば、図４ｂのように永久磁石３４２をＮ極が上を向くように配置し、電磁石に正方向電流を印加して電磁石コアの上側をやはりＮ極で形成すれば、永久磁石の磁力と電磁石の磁力が出されて全体的に安着テーブルの磁力が増加するようになる。逆に、逆方向電流を印加して電磁石コアの上側にＳ極が形成されるようにすれば永久磁石の磁力を減少させて全体的な磁力が減るようになることである。
【００６１】
シャドーマスクホルダーユニット２００の永久磁石２１４配置と同様に電磁石・永久磁石アセンブリーの配置時永久磁石３４２極性方向には制限がなく、同様に全ての永久磁石３４２を同様な極性方向に配置することが望ましい。ただ、この場合、電磁石に巻き取られるコイルの巻き線方向を皆同一にしておくことによって、一定極性の電流を印加した時、全ての電磁石・永久磁石アセンブリーが同一な磁力を生成するようにしなければならない。
【００６２】
また、電磁石コア３４１の周囲と底を覆いかぶせる磁性体遮蔽を設けることによってシャドーマスク方向の磁力を極大化することが望ましい。
【００６３】
図では前述した形態の電磁石・永久磁石アセンブリーを利用したが、必ずこのような形態に限定されるものではない。一つ以上の永久磁石と永久磁石の磁力を強化または弱化させるための一つ以上の電磁石からなっている限り、いかなる形態でもよい。例えば、一つの大きな板型永久磁石とその上に配置される一つ以上の電磁石で構成され得る。
【００６４】
図５ａ乃至図５ｄは、本発明による蒸着装置を利用して一つのチャンバー内部でマスク−基板整列及び蒸着を同時に遂行する過程を示す図である。
【００６５】
図５ａは、本発明による蒸着装置のシャドーマスク安着テーブル３００上にシャドーマスク６００をローディングする過程である。薄いシャドーマスクを保護するためにマスクをシャドーマスク安着板３２０上に載置した後、真空用ロボットを利用してシャドーマスク安着テーブル３００上部面にローディングする。
【００６６】
図５ｂは、ガラス基板ローディング過程を示すものであり、支持棒２２０が上下移動することによって、磁石ブロック２１０を上に移動させれば、基板ホルダー２３０の上下移動棒２３２の上部がチャンバー１００上面に配置された基板ホルダーストッパー１１０と干渉されて下に移動する。従って、ガラス基板支持バー２３３が下に移動して磁石ブロック２１０とある程度離隔される。この状態でガラス基板７００をガラス基板支持バー２３３のガラス基板係止突起２３４に押し入れることによって、基板がローディングされる。ガラス基板ローディング後には、磁石ブロック２１０が再び下に移動し、図４ｃと同じように、弾性スプリング２３１の弾性復原力によって、ガラス基板支持バー２３３が上昇することでガラス基板が磁石ブロック２１０の下面に密着される。
【００６７】
図５ｃと同じように、この場合、シャドーマスクを搭載したシャドーマスク安着テーブル３００は、既に基板の下部に位置している。また電磁石ブロックの電磁石コア３４１には、永久磁石３４２の磁力を強化する方向である正方向に電流が印加されることによって、下に移動してシャドーマスクと近くなった磁石ブロック２１０の永久磁石によってシャドーマスク６００が上に引き付けられないようにしなければならい（図４ｂのような形態）。
【００６８】
図５ｃはシャドーマスクとガラス基板を整列する過程を示すものである。電磁石に正方向電流を印加してシャドーマスクをシャドーマスク安着テーブル３００上に密着させた状態で、ＣＣＤカメラ５００で確認しながらシャドーマスクの整列マークとガラス基板の整列マークとが一致するまでシャドーマスク安着テーブル３００の３軸位置移動手段を駆動してシャドーマスク安着テーブル３００をｘ、ｙ、θ方向に微細調整する。
【００６９】
整列が終われば、制御部（図示せず）は電磁石に逆方向の電流を流し、シャドーマスク安着テーブルの磁力を減少させる。従って、相対的に磁力が大きな磁石ブロック２１０によってシャドーマスクが上方へ引き上げられてガラス基板と密着するようになる。
【００７０】
基板とシャドーマスクが密着された後には、基板と磁石ブロックを蒸着位置に上昇して印加された逆方向電流を遮断することが望ましい。電流を遮断してもシャドーマスクは既に磁石ブロック２１０の磁力フィールド支配下にあるので、安着テーブルに引き下がることがなく、むしろ継続して電流を印加する時発生する熱によって基板−マスクの蒸着特性を変化することを防止するのにも有用であるからである。
【００７１】
本実施の形態で磁石ブロック２１０下に基板が密着された状態で基板表面の最大磁束は３００ガウス程度であり、安着テーブルにある電磁石ブロックの磁束は電流印加前は約３００ガウス、正方向電流印加時には約４００ガウス、逆方向電流印加時には約２００ガウス程度であった。従って、シャドーマスクが基板に密着された後には電流を遮断しても基板−マスクの密着状態はそのまま維持されるものである。
【００７２】
図５ｄは蒸着段階を示したものであり、ガラス基板７００とシャドーマスク６００が整列・密着された状態で、線形ガイド手段４００の駆動モータ（図示せず）が駆動されることによって、安着テーブルが線形レールに沿って右側に移動することで作業領域（蒸着領域）の外へ離れる。
【００７３】
この状態でチャンバー下部にある蒸着源を加熱すれば、加熱によって蒸着源に含まれた有機物が蒸発して基板に蒸着される。上記のすべて段階は真空で行われ、蒸着段階の間、基板とシャドーマスクは整列付着状態で回転することによって均一の蒸着を達成できるようにする。
【００７４】
一方、蒸着過程が終了されると、他の基板上の蒸着を遂行するために基板からマスクを分離しなければならない。すなわち、マスクを分離して新しい（未蒸着）基板を再装着して整列及び蒸着を遂行しなければならない。
【００７５】
このようなマスク分離過程は示されないが、次のような方式で行われる。
【００７６】
まず、▲１▼蒸着過程間作業領域の外にあった安着テーブルを蒸着空間に復帰させ、▲２▼シャドーマスクホルダーユニットを下に降下した後、上記安着テーブルの電磁石に正方向電流を印加することによって、安着テーブルの磁力を増強させ、シャドーマスクをシャドーマスク安着テーブル上に落下させる。
【００７７】
図６は、本発明の第２の実施の形態による蒸着装置の全体構成図である。
【００７８】
シャドーマスクホルダーユニットを除外した他の構成要素は、皆第１の実施の形態による装置と同様なので重複説明は省略する。
【００７９】
第２の実施の形態によるシャドーマスクホルダーユニット２００は、中の空いた直方体状の中空ブロック２５０と、中空ブロック内部に配置されて永久磁石を含む磁石ブロック２６０と、中空ブロック上部に固定され中空ブロックをチャンバー内で上下移動させるための第１の支持棒２７０と、上記第１の支持棒に挿入され一端が磁石ブロック上部に固定されて磁石ブロックを中空ブロック内部で上下に移動させるための第２の支持棒２８０と、上記中空ブロックに対して上下に弾性移動できる基板ホルダー２３０とで構成され、基板ホルダー２３０は中空ブロック２５０の四隅に形成された貫通溝内に挿入される４つの弾性スプリング２３１と、弾性スプリング内部に挿入され磁石ブロックに対して弾性的に上下移動する４つの上下移動棒２３２と、２つの上下移動棒に結合されて、ガラス基板の縁部を係止するための係止突起を有する２つのガラス基板支持バー２３３とからなる。
【００８０】
第２の実施の形態によるシャドーマスクホルダーユニットは磁石ブロック２６０の外に、中空ブロック２５０をさらに備えており、ホルダーユニット全体の上下移動を遂行する第１の支持棒２７０の外に、中空ブロック内で磁石ブロックのみを上下に移動させるための第２の支持棒２８０を備えるという点が第１の実施の形態と相異する。
【００８１】
図７は第２の実施の形態による装備を利用して蒸着を遂行する過程を示す。図５ａ乃至図５ｄとは違って、シャドーマスクホルダーユニットが中空ブロック及び磁石ブロックを含んでおり、各段階で二ブロックの相対的な位置が変化するのでこれを中心に説明する。
【００８２】
まず、図７ａは使用するシャドーマスクをローディングする段階を示すものであり、ロボットとマスクキャリアハンドル３３０を利用してシャドーマスクを安着テーブル上に装着する。この過程で磁石ブロック２６０は中空ブロック２５０の上部に位置することによって、永久磁石の磁力がマスクに及ばないようにする。
【００８３】
その次に、図５ｂと類似の過程として、基板をホルダーユニット上に装着した後、下に移動して図７ｂのような整列段階に進入する。
【００８４】
整列段階では図５ａ乃至図５ｄの第１の実施の形態と同様に、シャドーマスク安着テーブルの電磁石に正方向電流を印加してシャドーマスクがテーブル上に密着されるようにする。整列過程が進む間、シャドーマスクホルダーユニットの磁石ブロック２６０は中空ブロック２５０の上部にそのまま維持させることによって、磁力がマスクに及ばないようにする。この状態で、ＣＣＤカメラで観察しながら３軸位置移動手段（図示せず）を駆動して整列を遂行する。
【００８５】
整列が終われば、シャドーマスクを基板に密着させるために、図７ｃのようなシャドーマスクホールディング過程が遂行される。すなわち、電磁石に逆方向電流を印加すると同時に、磁石ブロック２６０を中空ブロック２５０下へ移動させる。電磁石の磁力に比べて永久磁石（磁石ブロック）による磁力がさらに強くなるので、シャドーマスク６００は上に引き上げられてガラス基板７００と密着され、密着された後は、マスクホルダーユニットを上部の蒸着位置へ移動させる。蒸着位置では安着テーブルとマスクとの間の距離が遠ざかるので安着テーブルの磁力はほとんど影響がない。従って、印加していた逆方向電流を除去してもかまわない。
【００８６】
図７ｄは蒸着過程を示すものであり、基板＋マスクを装着したシャドーマスクホルダーユニットが蒸着位置に上昇した後、線形ガイド手段を利用してシャドーマスク安着テーブル３００を（蒸着）作業空間の外へ移動させ、均一の蒸着のためにシャドーマスクホルダーユニットを回転させながら蒸着を遂行する。
【００８７】
図８は蒸着過程が完了した後、マスクを基板から分離するための過程を示すものである。
【００８８】
図示された過程は前述した基板−マスク分離方法中第２の実施の形態に関するものである。
【００８９】
まず、蒸着が完了すれば、シャドーマスク安着テーブル３００を再び作業空間（すなわち、シャドーマスクホルダーユニット下部）に復帰させ、シャドーマスクホルダーユニットを整列段階と同じ高さまで降下する（図８ａ）。その次に、中空ブロック２５０内部の磁石ブロック２６０を上部に移動させれば（永久）、磁石ブロックによる磁力が弱くなってシャドーマスクがガラス基板から分離されて下に落下するようになる（図８ｂ）。落下されたシャドーマスクは、安着テーブル上に再び搭載され、新しい基板が装着されて図７ｂ〜図７ｄのような過程が繰返し行われる。この時、シャドーマスク安着テーブルの磁石（電磁石＋永久磁石）とシャドーマスクホルダーユニットの磁石（磁石ブロック）が互い対等な強い磁力でマスクを引っ張っているので、マスクが薄い場合には分離中に曲がるか、または変形できる。従って、これを防止するために、電磁石に逆方向電流を印加して磁力を弱化させることができる。
【００９０】
また、シャドーマスク変形の恐れがない場合には、磁石ブロックの移動無しに単に電磁石に正方向電流を印加して磁力を増加させることによってマスクを分離することができる。
【００９１】
分離された後には、シャドーマスクホルダーユニットが基板交替のために、またチャンバー上部に移動するようになり、上部に移動した後にはシャドーマスク安着テーブルは、電磁石の影響無きマスクを維持することができるため、印加されていた逆方向または正方向電流を皆除去してもよい（図８ｃ）。
【００９２】
【発明の効果】
以上のように本発明では、電磁石と永久磁石を備えるシャドーマスク安着テーブルを利用することによって、シャドーマスクとガラス基板を優秀に整列できるだけでなく、シャドーマスクが基板に整列・密着された後に安着テーブルを作業領域の外へ移動させる線形ガイド手段を利用することによって、一つのチャンバー内でマスク−基板整列と蒸着過程を同時に遂行することができる。
【００９３】
従って、有機電界発光表示素子の製作に必要なチャンバーの数を減少させることができるだけでなく製作時間及び製作コストを画期的に減少させることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】従来技術による有機電界発光素子の整列及び蒸着装置に関するものである。
【図２】本発明の第１の実施の形態による蒸着装置の全体構成を表す断面図である。
【図３】蒸着装置の主要部分だけを拡大して示した断面図である。
【図４ａ】シャドーマスクホルダーユニットの磁石ブロックと基板ホルダーの細部構成図である。
【図４ｂ】シャドーマスク安着テーブルの細部構成図である。
【図５ａ】本発明による蒸着装置を利用して一つのチャンバー内部でマスク−基板整列及び蒸着を同時に行う過程を示す図である。
【図５ｂ】本発明による蒸着装置を利用して一つのチャンバー内部でマスク−基板整列及び蒸着を同時に行う過程を示す図である。
【図５ｃ】本発明による蒸着装置を利用して一つのチャンバー内部でマスク−基板整列及び蒸着を同時に行う過程を示す図である。
【図５ｄ】本発明による蒸着装置を利用して一つのチャンバー内部でマスク−基板整列及び蒸着を同時に行う過程を示す図である。
【図６】本発明の第２の実施の形態による蒸着装置の全体構成図である。
【図７ａ】第２の実施の形態による装備を利用して蒸着を遂行する過程を示すものである。
【図７ｂ】第２の実施の形態による装備を利用して蒸着を遂行する過程を示すものである。
【図７ｃ】第２の実施の形態による装備を利用して蒸着を遂行する過程を示すものである。
【図７ｄ】第２の実施の形態による装備を利用して蒸着を遂行する過程を示すものである。
【図８ａ】蒸着過程が完了した後にマスクを基板と分離するための過程を示すものである。
【図８ｂ】蒸着過程が完了した後にマスクを基板と分離するための過程を示すものである。
【図８ｃ】蒸着過程が完了した後にマスクを基板と分離するための過程を示すものである。
【符号の説明】
１０    チャンバー
１１０  ストッパー
２００  シャドーマスクホルダーユニット
２１０、２６０  （永久）磁石ブロック
２２０  支持棒
２３０  基板ホルダー
２５０  中球ブロック
２７０  第１の支持棒
２８９  第２の支持棒
３００  シャドーマスク安着テーブル
３１０  電磁石ブロック
３２０  シャドーマスク安着板
４００  線形ガイド手段
４１０  線形レール
５００  ＣＣＤカメラ
６００  シャドーマスク
７００  ガラス基板
【図１】
0003592689.tif 000002
【図２】
0003592689.tif 000003
【図３】
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【図４ａ】
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【図４ｂ】
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【図５ａ】
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【図５ｂ】
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【図５ｃ】
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【図５ｄ】
0003592689.tif 000010
【図６】
0003592689.tif 000011
【図７ａ】
0003592689.tif 000012
【図７ｂ】
0003592689.tif 000013
【図７ｃ】
0003592689.tif 000014
【図７ｄ】
0003592689.tif 000015
【図８ａ】
0003592689.tif 000016
【図８ｂ】
0003592689.tif 000017
【図８ｃ】
0003592689.tif 000018