【誤訳訂正書】
【提出日】平成29年4月25日(2017.4.25)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００８８
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００８８】
好ましくは、層Ａを除いて本発明による干渉コーティングの全ての低屈折率層が本質上無機である（すなわち干渉コーティングの他の低屈折率層は好ましくは、一切の有機化合物を含有しない）。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００８９
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００８９】
好ましくは、層Ａを除いて本発明による干渉コーティングの全ての層が本質上無機であり、又は換言すれば層Ａは好ましくは、本発明の干渉コーティングにおいて有機系の性質の唯一の層である（干渉コーティングの他の層は好ましくは有機化合物を含有しない）。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０１４８
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０１４８】
また、イオンビーム中で酸素イオンの他にアルゴンイオンを使用することによって、表面欠陥（この欠陥はアーク灯下で特に可視的である）が経時的に現れるのを防ぐことによってガラスの外観を改善することが注目された。
本発明に関連する発明の実施態様の一部を以下に示す。
［態様１］
多層干渉コーティングでコートされた少なくとも１つの主表面を有する基材を含む物品であって、前記コーティングが１．５５以下の屈折率を有する層Ａを含み、
−  前記層Ａは、
前記干渉コーティングの外層であるか、
又は前記干渉コーティングの外層と直接接触する中間層であり、前記干渉コーティングの外層は１．５５以下の屈折率を有する層Ｂであり、
−  前記層Ａが、少なくとも１つのケイ素原子、少なくとも１つの炭素原子、少なくとも１つの水素原子、及び任意選択により少なくとも１つの窒素原子及び／又は少なくとも１つの酸素原子をその構造中に含む気体の形態の少なくとも１つの化合物Ｃから得られた活性化種のイオンビームによる堆積によって得られ、化合物Ａが窒素及び／又は酸素を含有しない場合に前記層Ａの堆積は窒素及び／又は酸素の存在下で行なわれ、
−  前記層Ａは、無機前駆化合物から形成されていないことを特徴とする、物品。
［態様２］
前記イオンビームがイオン銃によって放出されることを特徴とする、上記態様１に記載の物品。
［態様３］
前記化合物Ｃが、少なくとも１つのアルキル基を担持する少なくとも１つのケイ素原子を含有することを特徴とする、上記態様１または２に記載の物品。
［態様４］
前記化合物Ｃが式：
【化１】
2015508510.tif 000001
（式中、Ｒ1〜Ｒ4が独立にアルキル基を示す）
の少なくとも１つの基を含有することを特徴とする、上記態様１〜３のいずれか一つに記載の物品。
［態様５］
前記化合物Ｃがオクタメチルシクロテトラシロキサン及びヘキサメチルジシロキサンから選択されることを特徴とする、上記態様１〜４のいずれか一つに記載の物品。
［態様６］
前記化合物Ｃの前記ケイ素原子が加水分解性基を含有しないことを特徴とする、上記態様１〜５のいずれか一つに記載の物品。
［態様７］
前記層Ａが別個の金属酸化物相を含有しないことを特徴とする、上記態様１〜６のいずれか一つに記載の物品。
［態様８］
前記物品が、前記層Ａ上に堆積された層Ｂを有し、前記層Ｂが、前記層Ｂの全重量に対して少なくとも５０重量％、好ましくは７５重量％以上、より好ましくは９０重量％以上及び理想的には１００重量％のシリカを含有することを特徴とする、上記態様１〜７のいずれか一つに記載の物品。
［態様９］
層Ａが２０〜１５０ｎｍ、好ましくは２５〜１２０ｎｍの範囲の厚さを有することを特徴とする、上記態様１〜８のいずれか一つに記載の物品。
［態様１０］
前記層Ｂが２〜６０ｎｍ、好ましくは５〜５０ｎｍの範囲の厚さを有することを特徴とする、上記態様１〜９のいずれか一つに記載の物品。
［態様１１］
前記干渉コーティングが低屈折率層を含有し、これらの低屈折率層の全てが、前記層Ａを除いて本質上無機であることを特徴とする、上記態様１〜１０のいずれか一つに記載の物品。
［態様１２］
前記干渉コーティングの全ての層が、前記層Ａを除いて本質上無機であることを特徴とする、上記態様１〜１１のいずれか一つに記載の物品。
［態様１３］
光学レンズ、好ましくは眼科用レンズであることを特徴とする、上記態様１〜１２のいずれか一つに記載の物品。
［態様１４］
前記干渉コーティングが反射防止コーティングであることを特徴とする、上記態様１〜１３のいずれか一つに記載の物品。
［態様１５］
前記層Ａ内の応力が０〜−５００ＭＰａの範囲であることを特徴とする、上記態様１〜１４のいずれか一つに記載の物品。
［態様１６］
前記干渉コーティング内の応力が０〜−４００ＭＰａの範囲であることを特徴とする、上記態様１〜１５のいずれか一つに記載の物品。
［態様１７］
上記態様１〜１６のいずれか一つに記載の物品の製造方法であって、
少なくとも以下の工程：
−  少なくとも１つの主表面を有する基材を含む物品を用意する工程と、
−  前記基材の前記主表面上に多層干渉コーティングを堆積させる工程であって、前記コーティングは１．５５以下の屈折率を有する層Ａを含み、前記層Ａは、
干渉コーティングの外層であるか、
又は前記干渉コーティングの外層と直接接触する中間層であり、前記干渉コーティングの外層は１．５５以下の屈折率を有する層Ｂである工程、
−  前記層Ａを含有する前記干渉コーティングでコートされた主表面を有する基材を含む物品を回収する工程とを含み、前記層Ａが、少なくとも１つのケイ素原子、少なくとも１つの炭素原子、少なくとも１つの水素原子、及び任意選択により少なくとも１つの窒素原子及び／又は少なくとも１つの酸素原子をその構造中に含む気体の形態の少なくとも１つの化合物Ｃから得られた活性化種のイオンビームによる堆積によって得られ、化合物Ａが窒素及び／又は酸素を含有しない場合に前記層Ａの堆積は窒素及び／又は酸素の存在下で行なわれ、前記層Ａは、無機前駆化合物から形成されていないことを特徴とする、方法。
【誤訳訂正４】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
多層干渉コーティングでコートされた少なくとも１つの主表面を有する基材を含む物品であって、前記コーティングが１．５５以下の屈折率を有する層Ａを含み、
−  前記層Ａは、
前記干渉コーティングの外層であるか、
又は前記干渉コーティングの外層と直接接触する中間層であり、前記干渉コーティングの外層は１．５５以下の屈折率を有する層Ｂであり、
−  前記層Ａが、少なくとも１つのケイ素原子、少なくとも１つの炭素原子、及び少なくとも１つの水素原子をその構造中に含む気体の形態の少なくとも１つの化合物Ｃから得られた活性化種のイオンビームによる堆積によって得られ、
−  前記層Ａは、無機前駆化合物から形成されておらず、前記層Ａは２０〜１５０ｎｍの厚さを有するか、又は、前記干渉コーティングの全厚さは１μｍ未満であることを特徴とする、物品。
【請求項２】
前記干渉コーティングの全厚さが８００ｎｍ以下であることを特徴とする、請求項１に記載の物品。
【請求項３】
前記化合物Ｃが、少なくとも１つのアルキル基を担持する少なくとも１つのケイ素原子を含有することを特徴とする、請求項１または２に記載の物品。
【請求項４】
前記化合物Ｃが式：
【化１】
2015508510.tif 000002
（式中、Ｒ1〜Ｒ4が独立にアルキル基を示す）
の少なくとも１つの基を含有することを特徴とする、請求項１〜３のいずれか一項に記載の物品。
【請求項５】
前記化合物Ｃがオクタメチルシクロテトラシロキサン及びヘキサメチルジシロキサンから選択されることを特徴とする、請求項１〜４のいずれか一項に記載の物品。
【請求項６】
前記化合物Ｃの前記ケイ素原子が加水分解性基を含有しないことを特徴とする、請求項１〜５のいずれか一項に記載の物品。
【請求項７】
前記層Ａが別個の金属酸化物相を含有しないことを特徴とする、請求項１〜６のいずれか一項に記載の物品。
【請求項８】
前記物品が、前記層Ａ上に堆積された層Ｂを有し、前記層Ｂが、前記層Ｂの全重量に対して少なくとも５０重量％のシリカを含有することを特徴とする、請求項１〜７のいずれか一項に記載の物品。
【請求項９】
層Ａが２５〜１２０ｎｍの範囲の厚さを有することを特徴とする、請求項１〜８のいずれか一項に記載の物品。
【請求項１０】
前記層Ｂが２〜６０ｎｍの範囲の厚さを有することを特徴とする、請求項１〜９のいずれか一項に記載の物品。
【請求項１１】
前記干渉コーティングが低屈折率層を含有し、これらの低屈折率層の全てが、前記層Ａを除いて本質上無機であることを特徴とする、請求項１〜１０のいずれか一項に記載の物品。
【請求項１２】
前記干渉コーティングの全ての層が、前記層Ａを除いて本質上無機であることを特徴とする、請求項１〜１１のいずれか一項に記載の物品。
【請求項１３】
前記物品が眼科用レンズであることを特徴とする、請求項１〜１２のいずれか一項に記載の物品。
【請求項１４】
前記干渉コーティングが反射防止コーティングであることを特徴とする、請求項１〜１３のいずれか一項に記載の物品。
【請求項１５】
前記層Ａ内の応力が０〜−５００ＭＰａの範囲であることを特徴とする、請求項１〜１４のいずれか一項に記載の物品。
【請求項１６】
化合物Ｃがその構造中に少なくとも１つのケイ素原子、少なくとも１つの炭素原子、少なくとも１つの水素原子、及び少なくとも１つの窒素原子、並びに／又は少なくとも１つの酸素原子を含み、化合物Ｃが窒素及び／又は酸素を含まない場合に前記層Ａの堆積が窒素及び／又は酸素の存在下で行われる、請求項１〜１５のいずれか一項に記載の物品。
【請求項１７】
前記物品が前記層Ａ上に堆積された層Ｂを有し、前記層Ｂが、前記層Ｂの全重量に対して少なくとも９０重量％のシリカを含む、請求項１〜１６のいずれか一項に記載の物品。
【請求項１８】
請求項１〜１７のいずれか一項に記載の物品の製造方法であって、
少なくとも以下の工程：
−  少なくとも１つの主表面を有する基材を含む物品を用意する工程と、
−  前記基材の前記主表面上に多層干渉コーティングを堆積させる工程であって、前記コーティングは１．５５以下の屈折率を有する層Ａを含み、前記層Ａは、
干渉コーティングの外層であるか、
又は前記干渉コーティングの外層と直接接触する中間層であり、前記干渉コーティングの外層は１．５５以下の屈折率を有する層Ｂである工程、
−  前記層Ａを含有する前記干渉コーティングでコートされた主表面を有する基材を含む物品を回収する工程とを含み、前記層Ａが、少なくとも１つのケイ素原子、少なくとも１つの炭素原子、及び少なくとも１つの水素原子をその構造中に含む気体の形態の少なくとも１つの化合物Ｃから得られた活性化種のイオンビームによる堆積によって得られ、前記層Ａは、無機前駆化合物から形成されていないことを特徴とする、方法。
【請求項１９】
前記イオンビームがイオン銃によって放出されることを特徴とする、請求項１８に記載の方法。
【請求項２０】
化合物Ｃがその構造中に少なくとも１つのケイ素原子、少なくとも１つの炭素原子、少なくとも１つの水素原子、及び少なくとも１つの窒素原子、並びに／又は少なくとも１つの酸素原子を含み、化合物Ｃが窒素及び／又は酸素を含まない場合に前記層Ａの堆積が窒素及び／又は酸素の存在下で行われる、請求項１８又は１９に記載の方法。