(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
外部処理槽に設けられたテープ搬入用およびテープ搬出用の開口および内部処理槽に設けられたテープ搬入用およびテープ搬出用の開口を挿通するテープの表面層を、前記内部処理槽内に噴出される化学液により化学処理を行う化学処理装置において、前記内部処理槽の外側に第１および第２の中間槽が設けられ、前記外部処理槽の底部および前記第１の中間槽の底部に外部ドレイン孔および中間ドレイン孔が設けられ、前記第２の中間槽内に流量規制手段が設けられていることを特徴とする化学処理装置。
【請求項２】
請求項１に記載の発明において、前記内部処理槽の底部に内部ドレイン孔が設けられていることを特徴とする化学処理装置。
【請求項３】
請求項１に記載の発明において、前記内部処理槽に、該内部処理槽からオーバーフローする化学液を前記外部処理槽に流出するオーバーフロー案内部が設けられていることを特徴とする化学処理装置。
【請求項４】
請求項３に記載の発明において、前記オーバーフロー案内部の内部には、前記テープの表面層の化学処理中、化学液が充満されることを特徴する化学処理装置。
【請求項５】
請求項３または４に記載の発明において、前記オーバーフロー案内部は、前記外部処理槽に流出する化学液の量を調整する流量調整手段を有することを特徴とする化学処理装置。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれかに記載の発明において、前記中間ドレイン孔に接続された中間ドレイン管には、該中間ドレイン管から流出する化学液の量を調節するドレイン量調整手段が設けられていることを特徴とする化学処理装置。
【請求項７】
請求項６に記載の発明において、前記ドレイン量調整手段により、前記テープの表面層の化学処理中、前記第１の中間槽内に化学液を所定量貯え、前記中間ドレイン管内に化学液が充満されるように調整されていることを特徴とする化学処理装置。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれかに記載の発明において、前記流量規制手段はテープ搬送路の両側に設けられた一対の流量規制ローラを備えていることを特徴とする化学処理装置。
【請求項９】
請求項８に記載の発明において、前記一対の流量規制ローラのうち少なくとも一方はほぼＩ字状であり、前記一対の流量規制ローラの少なくとも一方は他方に対して接離可能に設けられていることを特徴とする化学処理装置。
【請求項１０】
請求項１〜９のいずれかに記載の発明において、前記外部ドレイン孔に接続された外部ドレイン管には、該外部ドレイン管から流出する化学液の量を調節するドレイン量調整手段が設けられていることを特徴とする化学処理装置。
【請求項１１】
請求項１〜１０のいずれかに記載の発明において、前記第２の中間槽の外側に、テープ搬送路に対して直交する方向の両側に流出部を有する第３の中間槽が設けられていることを特徴とする化学処理装置。
【請求項１２】
請求項１１に記載の発明において、前記流出部は、前記外部処理槽に流出する化学液の量を調整する流出量調整手段を有することを特徴とする化学処理装置。
【請求項１３】
請求項１〜１２のいずれかに記載の発明において、前記化学液はメッキ液であることを特徴とする化学処理装置。
【請求項１４】
請求項１３に記載の発明において、前記メッキ液は非シアン系メッキ液であることを特徴とする化学処理装置。
【請求項１５】
外部処理槽に設けられたテープ搬入用およびテープ搬出用の開口および内部処理槽に設けられたテープ搬入用およびテープ搬出用の開口にテープを挿通して、該テープの表面層を、前記内部処理槽内に噴出される化学液により化学処理を行う化学処理方法において、前記内部処理槽の外側に第１および第２の中間槽を設け、前記外部処理槽の底部および前記第１の中間槽の底部に外部ドレイン孔および中間ドレイン孔を設け、前記第２の中間槽内に流量規制手段を設け、前記流量規制手段により前記第２の中間槽から前記外部処理槽への化学液の流出量を規制し、前記内部処理槽内に噴出して前記テープの表面層を処理した化学液を前記外部ドレイン孔および前記中間ドレイン孔から回収することを特徴とする化学処理方法。
【請求項１６】
請求項１５に記載の発明において、前記内部処理槽の底部に内部ドレイン孔を設け、前記内部処理槽内に噴出して前記テープの表面層を処理した化学液を前記内部ドレイン孔から回収することを特徴とする化学処理方法。
【請求項１７】
請求項１５に記載の発明において、前記内部処理槽にオーバーフロー案内部を設け、前記内部処理槽からオーバーフローする化学液を前記外部処理槽に流出することを特徴とする化学処理方法。
【請求項１８】
請求項１７に記載の発明において、前記オーバーフロー案内部の内部に化学液を充満して前記テープの表面層を化学処理することを特徴する化学処理方法。
【請求項１９】
請求項１７または１８に記載の発明において、前記オーバーフロー案内部に流量調整手段を設け、前記内部処理槽から流出する化学液の量を調整可能となしたことを特徴とする化学処理方法。
【請求項２０】
請求項１５〜１９のいずれかに記載の発明において、前記中間ドレイン孔に接続された中間ドレイン管にドレイン量調整手段を設け、該ドレイン量調整手段により前記中間ドレイン管から流出する化学液の量を調節可能となしたことを特徴とする化学処理方法。
【請求項２１】
請求項２０に記載の発明において、前記ドレイン量調整手段により、化学液が前記第１の中間槽内に所定量貯えられ、前記中間ドレイン管内に化学液が充満された状態に調整して前記テープの表面層に化学処理を行うことを特徴とする化学処理方法。
【請求項２２】
請求項１５〜２１のいずれかに記載の発明において、前記外部ドレイン孔に接続された外部ドレイン管にドレイン量調整手段を設け、該ドレイン量調整手段により前記外部ドレイン管から流出する化学液の量を調節可能となしたことを特徴とする化学処理方法。
【請求項２３】
請求項１５〜２１のいずれに記載の発明において、前記第２の中間槽の外側に、テープ搬送路に対して直交する方向の両側に流出部を有する第３の中間槽を設け、該第３の中間槽により前記外部処理槽のスリットからの前記化学液の流出を防止することを特徴とする化学処理方法。
【請求項２４】
請求項２３に記載の発明において、前記流出部に流量調整手段を設け、前記流出部から流出する化学液の量を調整可能となしたことを特徴とする化学処理方法。
【請求項２５】
請求項１５〜２４のいずれかに記載の発明において、前記化学処理は電解メッキ処理であることを特徴とする化学処理方法。
【請求項２６】
請求項２５に記載の発明において、前記電解メッキ処理のメッキ液は非シアン系メッキ液であることを特徴とする化学処理方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は、メッキ処理やエッチング処理等を行う化学処理装置およびそれを用いた化学処理方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
化学処理装置の１つであるメッキ処理装置には、ＢＧＡ、ＣＳＰ、ＣＯＦ等の半導体技術において、表面に銅やアルミニウム等からなるリード配線等の表面層を有する長尺なテープを縦にしてつまりテープ幅方向を垂直にして搬送しながら、テープの表面層に対して金や銅、ニッケル等の電解メッキ処理を行うようにしたものがある。
【０００３】
図１２は従来のこのようなメッキ処理装置の一例の概略構成図を示したものである。このメッキ装置では、複数のメッキ処理部１が直列に配置されている。メッキ処理部１は、図１３および図１４に示すように、外部処理槽２を備えている。外部処理槽２内の中央部には内部処理槽３が設けられ、外部処理槽２の上部には蓋４が設けられている。この場合、外部処理槽２の底部は内部処理槽３の底部を兼ねている。外部処理槽２の図１３および図１４における左側壁および右側壁の各所定の箇所には縦長の矩形孔からなるスリット５、６が設けられている。内部処理槽３の図１３および図１４における左側壁および右側壁の各所定の箇所には縦長の溝からなるスリット７、８が設けられている。内部処理槽３の図１４における上側壁および下側壁は左側壁および右側壁よりもやや低くなっており（図１３参照）、これらの低くなった部分はオーバーフロー部９となっている。内部処理槽３内の所定の箇所にはアノード電極１０が設けられている。
【０００４】
各外部処理槽２間および図１２における最も左側の外部処理槽２の左側に設けられたローラ室（図示せず）内には搬送ローラ１１および電極ローラ（カソード電極）１２が互いに対向して設けられている。図１２における最も左側のローラ室の左側には供給リール（図示せず）が設けられている。供給リールには、銅やアルミニウム等の金属箔からなり、回路パターンおよび回路パターンを接続するメッキ用パターンが表面層として形成されたテープ１３が巻回されている。
【０００５】
供給リールから繰り出されたテープ１３は、複数のメッキ処理部１を順次通過した後、図１２における最も右側のメッキ処理部１の右側に設けられた巻取リール（図示せず）に巻き取られるようになっている。この場合、テープ１３は、各メッキ処理部１において、ローラ室内の搬送ローラ１１と電極ローラ１２との間、外部処理槽２のスリット５、内部処理槽３のスリット７、８および外部処理槽２のスリット６を順次通過するようになっている。また、図示していないが、電極ローラ１２によるテープ１３の表面層に対する接触不良を防止してスパークが発生しないようにするために、純水タンク内の純水をポンプで汲み上げてシャワーで電極ローラ１２とテープ１３との接触部に吹き付け、ローラ室内の吹き付け後の純水をドレイン管を介して純水タンク内に回収するようになっている。
【０００６】
内部処理槽３の底部中央部には供給管２１の一端部が接続されている。各供給管２１の途中には流量センサ２２およびポンプ２３が介在されている。ポンプ２３は、流量センサ２２の流量信号に基づく制御部２４の制御により駆動されるようになっている。各供給管２１の他端部は、共通供給管２５を介して共通メッキ液タンク２６に接続されている。共通メッキ液タンク２６内にはメッキ液２７が収容されている。外部処理槽２のスリット５、６と内部処理槽３のスリット７、８との間における外部処理槽２の底部にはドレイン管２８、２９の一端部が接続されている。各ドレイン管２８、２９の他端部は、共通ドレイン管３０を介して共通メッキ液タンク２６に接続されている。
【０００７】
次に、このメッキ処理装置の動作について説明する。供給リールから繰り出されたテープ１３は、複数の搬送ローラ１１が所定の方向に回転されると、複数の内部処理槽３内を順次通過して巻取リールに巻き取られる。このとき、各ポンプ２３が駆動すると、共通メッキ液タンク２６内のメッキ液２７は共通供給管２５および各供給管２１を介して各内部処理槽３内に噴出され、各内部処理槽３内を通過中のテープ１３の表面層に当てられる。そして、アノード電極１０と電極ローラ１２との間にメッキ電流が流れると、各内部処理槽３内を通過中のテープ１３の表面層にメッキが施される。各内部処理槽３内に噴出されたメッキ液２７は、各内部処理槽３のオーバーフロー部９からオーバーフローして各外部処理槽２内に流出し、各ドレイン管２８、２９および共通ドレイン管３０を介して共通メッキ液タンク２６内に回収される。
【０００８】
ここで、外部処理槽２のスリット５、６および内部処理槽３のスリット７、８の幅は、テープ１３の厚さよりもかなり大きく、例えば１０ｍｍ程度となっている。このようにスリット５〜８の幅を大きくしているのは、テープ１３が内部処理槽３内に噴出されたメッキ液２７中で踊っても、テープ１３の表面層がスリット５〜８の各内壁面に接触しないようにするためである。この結果、各内部処理槽３内に噴出されたメッキ液２７は、各内部処理槽３のオーバーフロー部９からオーバーフローして外部処理槽２内に流出するばかりでなく、各内部処理槽３のスリット７、８からも各外部処理槽２内に流出する。
【０００９】
一方、テープ１３としては、一般的に、幅３５ｍｍ、４８ｍｍ、７０ｍｍのものを用いている。このようなテープ１３の場合には、幅が比較的小さいので、内部処理槽３の高さ（深さ）は比較的低く（浅く）てよく、スリット７、８の上下方向の長さも比較的短くてよい。このため、内部処理槽３のスリット７、８から外部処理槽２内に流出するメッキ液２７の量が比較的少なくて流出の勢いも比較的弱く、外部処理槽２のスリット５、６からローラ室内に流出することはほとんどない。
【００１０】
ところで、最近では、テープとして、例えば幅１５８ｍｍと比較的幅広のものを用いることが試みられている。しかしながら、このようなテープの場合には、幅が比較的大きいので、内部処理槽３の高さ（深さ）が比較的高く（深く）なり、スリット７、８の上下方向の長さも比較的長くなる。この結果、内部処理槽３のスリット７、８から外部処理槽２内に流出するメッキ液２７の量が比較的大きくて流出の勢いも比較的強くなり、外部処理槽２のスリット５、６からローラ室内に流出してしまう。ローラ室内にメッキ液２７が流入すると、メッキ液２７が無駄となり、コスト高となるばかりでなく、純水タンク内の純水にメッキ液２７が混入し、この混入液の吹き付けにより電極ローラ１２の表面がメッキされ、電気的接触に不具合が生じてしまう。
【００１１】
また、テープ１３の幅が比較的大きく、内部処理槽３の高さ（深さ）が比較的高く（深く）、スリット７、８の上下方向の長さも比較的長い場合には、内部処理槽３のスリット７、８から外部処理槽２内に流出するメッキ液２７の量が比較的大きくて流出の勢いも比較的強くなるばかりでなく、内部処理槽３のオーバーフロー部９から外部処理槽２内にオーバーフローするときの高低差が比較的大きくなり、いずれにしても、酸素等を含む気泡を巻き込みやすくなる。一方、例えば表面層のメッキが金メッキの場合、メッキ液としては、シアン系メッキ液と非シアン系メッキ液とがあるが、非シアン系メッキ液の場合には、酸素等を含有する気泡を巻き込むと、寿命が著しく短くなってしまう。
【００１２】
【発明が解決しようとする課題】
この発明の課題は、メッキ液等の化学液が外部処理槽のスリットから流出しないようにすることである。
この発明の他の課題は、内部処理槽の高さ（深さ）が比較的高く（深く）ても、メッキ液等の化学液に酸素等を含む気泡が巻き込まれにくいようにすることである。
【００１３】
【課題を解決するための手段】
請求項１に記載の発明に係る化学処理装置は、外部処理槽に設けられたテープ搬入用およびテープ搬出用の開口および内部処理槽に設けられたテープ搬入用およびテープ搬出用の開口を挿通するテープの表面層を、前記内部処理槽内に噴出される化学液により化学処理を行う化学処理装置において、前記内部処理槽の外側に第１および第２の中間槽を設け、前記外部処理槽の底部および前記第１の中間槽の底部に外部ドレイン孔および中間ドレイン孔を設け、前記第２の中間槽内に流量規制手段を設けたものである。
請求項１５に記載の発明に係る化学処理方法は、外部処理槽に設けられたテープ搬入用およびテープ搬出用の開口および内部処理槽に設けられたテープ搬入用およびテープ搬出用の開口にテープを挿通して、該テープの表面層を、前記内部処理槽内に噴出される化学液により化学処理を行う化学処理方法において、前記内部処理槽の外側に第１および第２の中間槽を設け、前記外部処理槽の底部および前記第１の中間槽の底部に外部ドレイン孔および中間ドレイン孔を設け、前記第２の中間槽内に流量規制手段を設け、前記流量規制手段により前記第２の中間槽から前記外部処理槽への化学液の流出量を規制し、前記内部処理槽内に噴出して前記テープの表面層を処理した化学液を前記外部ドレイン孔および前記中間ドレイン孔から回収するようにしたものである。
そして、請求項１または１５に記載の発明によれば、内部処理槽から第１の中間槽を経て第２の中間槽内に流入された化学液の外部処理槽への流量を流量規制手段で規制し、内部処理槽内の化学液の一部を中間ドレイン孔を介して回収し、残りを外部ドレイン孔を介して回収することになるので、外部処理槽内に流入する化学液の流量を低減することができ、したがって外部処理槽のスリットからの化学液の流出を防止することができる。また、内部処理槽から第１の中間槽を経て第２の中間槽内に流入された化学液の外部処理槽への流量を流量規制手段で規制し、内部処理槽内の化学液の一部を中間ドレイン孔を介して回収し、残りを外部ドレイン孔を介して回収することにより、内部処理槽の高さ（深さ）が比較的高く（深く）ても、メッキ液等の化学液に酸素等を含む気泡が巻き込まれにくいようにすることができる。
【００１４】
【発明の実施の形態】
図１はこの発明の第１実施形態におけるメッキ処理装置の概略構成図を示したものである。このメッキ処理装置では、複数のメッキ処理部４１が直列に配置されている。メッキ処理部４１は、図２にも示すように、外部処理槽４２を備えている。外部処理槽４２内の中央部には内部処理槽４３が設けられている。この場合、外部処理槽４２の底部、図２における上側壁および下側壁は内部処理槽４３の底部、上側壁および下側壁を兼ねている。内部処理槽４３の左側壁および右側壁の各中央部の外側には第１〜第３の中間槽４４〜４６が設けられている。外部処理槽４２の上部には蓋４７が設けられている。内部処理槽４３内の所定の箇所にはアノード電極４８が設けられている。
【００１５】
外部処理槽４２の図２における左側壁および右側壁の各所定の箇所には縦長の矩形孔からなるスリット（開口）５１（図４参照）が設けられている。内部処理槽４３の図２における左側壁および右側壁の各所定の箇所には縦長の矩形孔からなるスリット５２（図４参照）が設けられている。第２の中間槽４５の図２における左側壁および右側壁の各所定の箇所には縦長の矩形孔からなるスリット５３（図４参照）が設けられている。第３の中間槽４６の所定の箇所には縦長の溝からなるスリット５４（図４参照）が設けられている。
【００１６】
各外部処理槽４２間および図１における最も左側の外部処理槽４２の左側に設けられたローラ室（図示せず）内には搬送ローラ５５および電極ローラ（カソード電極）５６が互いに対向して設けられている。図１における最も左側のローラ室の左側には供給リール（図示せず）が設けられている。供給リールには、銅やアルミニウム等の金属箔からなり、回路パターンおよび回路パターンを接続するメッキ用パターンが表面層として形成されたテープ５７が巻回されている。
【００１７】
供給リールから繰り出されたテープ５７は、複数のメッキ処理部４１を順次通過した後、図１における最も右側のメッキ処理部４１の右側に設けられた巻取リール（図示せず）に巻き取られるようになっている。この場合、テープ５７は、各メッキ処理部４１において、ローラ室内の搬送ローラ５５と電極ローラ５６との間および各槽４２、４３、４５、４６のスリット５１、５２、５３、５４を通過するようになっている。また、図示していないが、電極ローラ５５によるテープ５７の表面層に対する接触不良を防止してスパークが発生しないようにするために、純水タンク内の純水をポンプで汲み上げてシャワーで電極ローラ５６とテープ５７との接触部に吹き付け、ローラ室内の吹き付け後の純水をドレイン管を介して純水タンク内に回収するようになっている。
【００１８】
各外部処理槽４２の下側にはメッキ液タンク６１が設けられている。メッキ液タンク６１内にはメッキ液６２が収容されている。内部処理槽４３の底部の中央部には供給孔が設けられ、この供給孔には供給管６３の一端部が接続されている。各供給管６３は対応するメッキ液タンク６１の底部（または側壁）を液密に貫通してメッキ液タンク６１の外部に延出され、この延出部の途中には流量センサ６４およびポンプ６５が介在されている。ポンプ６５は、流量センサ６４の流量信号に基づく制御部６６の制御により駆動されるようになっている。各供給管６３の他端部は、対応するメッキ液タンク６１の底部に接続されている。
【００１９】
ところで、図２に示すように、メッキ処理部４１は左右対称な構造となっている。そこで、次に、代表として、図２の右側の部分について、図３〜図６を参照して説明する。内部処理槽４３のスリット５２の内側における底部には内部ドレイン孔が設けられ、この内部ドレイン孔には内部ドレイン管７０の上端部が接続されている。内部ドレイン管７０の下端部は、対応するメッキ液タンク６１内のメッキ液６２中に浸されるようになっている。外部処理槽４２の底部の所定の箇所には外部ドレイン孔が設けられ、この外部ドレイン孔には外部ドレイン管７１の一端部が接続されている。外部ドレイン管７１の途中にはバルブ７２が設けられている。外部ドレイン管７１の他端部は、対応するメッキ液タンク６１の側壁においてその内部に収容されているメッキ液６２の液面よりも下側となる部分に接続されている。
【００２０】
第１の中間槽４４は、外部処理槽４２の底部と、内部処理槽４３の右側壁と、第２の中間槽４５の左側壁と、第２の中間槽４５の左側壁と内部処理槽４３の右側壁との間に設けられた一対の仕切り壁７３とからなっている。この場合、仕切り壁７３の高さは内部処理槽４３の高さと同じとなっている。中間槽４４の底部の中央部には中間ドレイン孔が設けられ、この中間ドレイン孔には中間ドレイン管７４の一端部が接続されている。中間ドレイン管７４の途中にはバルブ（ドレイン量調整手段）７５が設けられている。中間ドレイン管７４の他端部は、対応するメッキ液タンク６１の側壁においてその内部に収容されているメッキ液６２の液面よりも下側となる部分に接続されている。
【００２１】
第２の中間槽４５は、角筒状部７６の上下部に上部支持板７７および下部支持板７８が設けられた構造となっている。この場合、第２の中間槽４５の高さは内部処理槽４３の高さよりもやや低くなっている。角筒状部７６内においてテープ搬送路の両側には一対の流量規制ローラ７９が配置されている。一対の流量規制ローラ７９のテープ５７に対応する部分は小径部７９ａとなっており、全体としてほぼＩ字状となっている。一方の流量規制ローラ７９の上軸７９ｂおよび下軸７９ｃは、本体部が角筒状部７６の壁面７６ａにほぼ接触するように近接した位置で、上部支持板７７および下部支持板７８に回転可能に支持されている。他方の流量規制ローラ７９の上軸７９ｂおよび下軸７９ｃは、本体部が中間槽４４の壁面７６ａにほぼ接触するように近接した位置で、上部支持板７７および下部支持板７８に設けられた長円孔７７ａ、７８ａに回転可能に且つ図６において左右方向に移動可能に支持されている。
【００２２】
つまり、一対の流量規制ローラ７９の一方は、テープ５７に対して相対的に固定された位置で回転可能に設けられ、他方は、テープ５７に対して近接および離間可能に且つ回転可能に設けられている。このような構成により、他方の流量規制ローラ７９を、一方の流量規制ローラ７９から離間させた位置に保持して、テープ５７を一対の流量規制ローラ７９間に挿通することができる。ここで、他方の流量規制ローラ７９を一方の流量規制ローラ７９に圧接させた状態において、一対の流量規制ローラ７９の小径部７９ａ間の間隔は、テープ５７の厚さよりも１ｍｍ程度大きくなっている。
【００２３】
第３の中間槽４６は、外部処理槽４２の底部と、第２の中間槽４５の右側壁と、平面ほぼコ字状の堰き止め壁８１とからなっている。この場合、堰き止め壁８１の高さは、第３の中間槽４６のスリット５３の上下方向のほぼ中央部に対応する高さとなっている。堰き止め壁８１の図３における上側壁および下側壁の下部の所定の箇所には方形状の開口部８２が設けられ、その外側にはシャッタ（流出量調整手段）８３が上下動可能に設けられている。シャッタ８３は、それ自体に設けられた縦長のスリット８４に挿通されたねじ８５が堰き止め壁８１にねじ込まれることにより、任意の高さ位置に固定され、開口部８２の開口量を調整することができるようになっている。
【００２４】
ここで、テープ５７の幅は例えば１５８ｍｍと比較的大きくなっている。このため、内部処理槽４３の高さ（深さ）は比較的高く（深く）、スリット５２の上下方向の長さも比較的長くなっている。また、外部処理槽４２および第２の中間槽４５のスリット５１、５３の上下方向の長さは内部処理槽４３のスリット５２の長さと同じとなっている。また、第３の中間槽４６のスリット５４の底面の高さ位置は他のスリット５１〜５３の底面の高さ位置と同じとなっている。さらに、外部処理槽４２のスリット５１の幅は１０〜１２ｍｍ程度となっており、内部処理槽４３のスリット５２の幅は５〜６ｍｍ程度となっており、第２の中間槽４５の左側のスリット５３の幅は２〜３ｍｍ程度となっており、第２の中間槽４５の右側のスリット５３の幅は４〜５ｍｍ程度となっており、第３の中間槽４６のスリット５４の幅は５〜６ｍｍ程度となっている。
【００２５】
次に、このメッキ処理装置の動作について説明する。供給リールから繰り出されたテープ５７は、複数の搬送ローラ５５が所定の方向に回転されると、複数の内部処理槽４３内を順次通過して巻取リールに巻き取られる。このとき、各ポンプ６５が駆動すると、各メッキ液タンク６１内のメッキ液６２は各供給管６３を介して各内部処理槽４３内に噴出され、各内部処理槽４３内を通過中のテープ５７の表面層に当てられる。そして、アノード電極４９と電極ローラ５６との間にメッキ電流が流れると、各内部処理槽４３内を通過中のテープ５７の表面層にメッキが施される。
【００２６】
ここで、メッキ処理部４１が複数に分離されている理由について説明する。テープ５７を所定のスピードで搬送してメッキするには形成するメッキ厚に対応したメッキ時間が必要であり、テープ５７のメッキ処理長さはこのメッキ時間に対応する長さとなる。しかして、テープ５７に形成されたパターンへの電圧の印加は電極ローラ（カソード電極）５６により行うのでテープ５７のメッキ処理長さが長くなると、パターンの抵抗値により電極ローラ５６近傍と電極ローラ５６間の中央部側との電圧の差が大きくなり、メッキ厚のばらつきが大きくなるので、メッキ処理部４１を複数に分離し、電極ローラ５６間を短くするためである。
【００２７】
内部処理槽４３内に噴出されたメッキ液６２の大部分は、内部ドレイン管７０を介してメッキ液タンク６１内に回収される。この場合、内部処理槽４３の高さが比較的高くても、内部処理槽４３内に噴出されたメッキ液６２の大部分は内部処理槽３の外側にオーバーフローすることなくメッキ液タンク６１内に回収されるので、酸素等を含む気泡を巻き込むことはほとんどない。また、内部ドレイン管７０の下端部はメッキ液タンク６１内のメッキ液６２中に浸されているので、ここにおいても気泡を巻き込むことはほとんどない。
【００２８】
一方、内部処理槽４３内に噴出されたメッキ液６２の一部は、内部処理槽４３のスリット５２を介して第１の中間槽４４内に流入し、後述する一対の流量規制ローラ７９による流量規制により、第１の中間槽４４内に一時的に貯えられる。そして、第１の中間槽４４内に流入されたメッキ液６２の一部は中間ドレイン管７４を介してメッキ液タンク６１内に回収される。この際、中間ドレイン管７４内に貯えられるメッキ液６２の量が少なすぎると、中間ドレイン管７４内にメッキ液６２が充満されず一部に空気が存在することとなり、メッキ液６２中に気泡が巻き込まれる。また、第１の中間槽４４内に貯えられるメッキ液６２の量が多すぎると、スリット５３から第２の中間槽４５に流入する量が多くなり、これは、後述する如く、第２の中間槽４５からメッキ液６２が流出する際の気泡の巻き込み量を増大することになる。このため、この第１の中間槽４４内には常に適切な量のメッキ液６２が貯えられる必要がある。中間ドレイン管７４の途中に設けられたバルブ７５は、この第１の中間槽４４内に貯えられるメッキ液６２の量を調節するためのものであり、このバルブ７５の操作により第１の中間槽４４内に貯えられるメッキ液６２が適切な量に維持される。
【００２９】
この結果、内部処理槽４３の高さが比較的高くても、図７において一点鎖線で示すように、内部処理槽４３内のメッキ液６２はスリット５２を介して第１の中間槽４４内に比較的緩慢に流入して一時的に貯えられることになり、ここにおいて気泡を巻き込むとしてもその量をかなり少なくすることができるまた、中間ドレイン管７４の他端部はメッキ液タンク６１内の側壁においてその内部に収容されているメッキ液６２の液面よりも下側となる部分に接続されているので、ここにおいて気泡を巻き込むことはほとんどない。
【００３０】
一方、第１の中間槽４４内に流入されたメッキ液６２の残りは、第２の中間槽４５の左側のスリット５３を介して第２の中間槽４５内に流入する。第２の中間槽４５内に流入されたメッキ液６２は、一対の流量規制ローラ７９によって右側のスリット５３に向かう流量を規制される。
【００３１】
ここで、一対の流量規制ローラ７９の機能について述べる。上述した如く、第１の中間槽４４から流出するメッキ液６２に巻き込まれる気泡を低減するために、第１の中間槽４４内には、常に、適切な量のメッキ液６２が貯えられる必要がある。このため、第１の中間槽４４から第２の中間槽４５には左側のスリット５３を介して常にメッキ液６２が流入している。スリット５３のほぼ中央にはテープ５７が搬送されており、メッキ液６２はこのテープ５７を中心として勢いよく流入するため、そのまま、第２の中間槽４５の右側のスリット５３から勢いよく流出し、その際、多くの気泡を巻き込むことになる。一対の流量規制ローラ７９の機能は、第２の中間槽４５の右側のスリット５３から流出するメッキ液６２を低減して気泡の巻き込み量を低減することにある。この際、テープ５７の表面層が、金属泊からなるリード配線等である場合には、供給リールから繰り出したテープ５７の先端を一対の流量規制ローラ７９間に挿通する際、該一対の流量規制ローラ７９の間隔が小さいと、挿通作業が困難となり、またテープ５７の表面層が一対の流量規制ローラ７９に接触して変形、変質してしまう。このため、上述した如く、一対の流量規制ローラ７９の他方は、テープ５７に対して近接および離間可能になされており、他方の流量規制ローラ７９を、一方の流量規制ローラ７９から離間させた位置に保持して、テープ５７を一対の流量規制ローラ７９間に挿通することができる。
【００３２】
そして、この状態で、第１の中間槽４４から第２の中間槽４５内に流入されたメッキ液６２は、各流量規制ローラ７９の小径部７９ａと角筒状部７６の壁面７６ｂとの間を流れ、このメッキ液６２の流圧により、一対の流量規制ローラ７９の他方は、一方の流量規制ローラ７９側に移動され、一方の流量規制ローラ７９に圧接される。したがって、第２の中間槽４５内に流入されたメッキ液６２は、一対の流量規制ローラ７９の小径部７９ａ間の隙間および各流量規制ローラ７９と角筒状部７６の壁面７６ａとの間の隙間を通った後、右側のスリット５３から第３の中間槽４６内に流出する。
【００３３】
しかして、他方の流量規制ローラ７９が一方の流量規制ローラ７９に圧接された状態では、メッキ液６２は、このメッキ液６２の流れに沿って、各流量規制ローラ７９を、それぞれ、図３において矢印で示す方向に回転させながら一対の流量規制ローラ７９の小径部７９ａ間の隙間を流れるが、一対の流量規制ローラ７９の小径部７９ａ間の隙間が小さくなっている分、ここを流れるメッキ液６２の流量は少なくなる。また、各流量規制ローラ７９は壁面７６ａにほぼ接触する位置とされているので、各流量規制ローラ７９と壁面７６ａとの間を流れるメッキ液６２の流量も少なくなる。したがって、図７において一点鎖線で示すように、内部処理槽４３のスリット５２から第１の中間槽４４に流入されたメッキ液６２のうち大部分は中間ドレイン管７４を介してメッキ液タンク６１内に回収され、第２の中間槽４５の右側のスリット５３から流出する流量はかなり少なくなる。この結果、当該スリット５３から第３の中間槽４６内に流出するメッキ液６２の液面の高さが低くなり、流出の勢いも弱くなり、これに伴って、当該スリット５３から流出するメッキ液６２中に巻き込まれる気泡が低減する。
【００３４】
第３の中間槽４６内に流入されたメッキ液６２は、スリット５４および２つの開口部８２を介して外部処理槽４２内に流入する。このとき、シャッタ８３の高さ位置を調整し、２つの開口部８２から流出するメッキ液６２の量を調整することにより、第３の中間槽４６のスリット５４から外部処理槽４２のスリット５１に向かって直接流出するメッキ液６２の量を低減する。この結果、第３の中間槽４６のスリット５４から流出するメッキ液６２中に巻き込まれる気泡が低減する。また、内部処理槽４３内に噴出されたメッキ液６２の大部分は既に内部ドレイン管７０および中間ドレイン管７４を介して回収されている上、第３の中間槽４６のスリット５４から外部処理槽４２のスリット５１に向かって直接流出するメッキ液６２の量を低減することができるので、外部処理槽４２のスリット５１からローラ室内へのメッキ液６２の流出が防止される。
【００３５】
外部処理槽４２内に流入されたメッキ液６２は、外部ドレイン管７１を介してメッキ液タンク６１内に回収される。このとき、バルブ７２を調整し、外部ドレイン管７１を介してのメッキ液６２の回収量を調整することにより、外部処理槽４２内に一時的に貯えられるメッキ液６２の量が極端に少なくならないようにする。この結果、外部ドレイン管７１の一端部に吸い込まれるメッキ液６２中に気泡が巻き込まれにくいようにすることができる。また、外部ドレイン管７１の他端部はメッキ液タンク６１内の側壁においてその内部に収容されているメッキ液６２の液面よりも下側となる部分に接続されているので、ここにおいて気泡を巻き込むことはほとんどない。
【００３６】
以上のように、このメッキ処理装置では、外部処理槽４２のスリット５１からローラ室内へのメッキ液６２の流出を防止することができるので、メッキ液６２が無駄とならないようにすることができ、ひいてはコストを低減することができる。また、ローラ室内にメッキ液６２が流入しないようにすることができるので、ローラ室にドレイン管を介して接続された純水タンク内の純水にメッキ液６２が混入することがなく、ひいては電極ローラ５６の表面がメッキされることがなく、テープ搬送機能が損なわれないようにすることができる。また、このメッキ処理装置では、回収されるメッキ液６２中に気泡が巻き込まれにくいようにすることができるので、メッキ液６２が非シアン系メッキ液であっても、メッキ液全体としての寿命を長くすることができる。
【００３７】
さらに、このメッキ処理装置では、各外部処理槽４２の下側にメッキ液タンク６１を設けているので、供給管６３、内部ドレイン管７０、外部ドレイン管７１および中間ドレイン管７４の長さを可及的に短くすることができる。この結果、メッキ液６２が非シアン系メッキ液である場合、これらの配管内に自然に析出される金の量を可及的に少なくすることができ、ひいては極めて高価な金の無駄な使用を可及的に少なくすることができ、コストを低減することができる。
【００３８】
ところで、第１〜第３の中間槽４４、４５、４６を設けない場合、内部処理槽４３通過後のテープ５７の表面に付着したメッキ液６２が自然落下して次のローラ室内の電極ローラ５６に付着しないようにするためには、内部処理槽４３の後段のスリット５２と外部処理槽４２の後段のスリット５１との間隔を、テープ搬送速度が１ｍ／分程度である場合、５００ｍｍ程度とする必要がある。これに対して、第１〜第３の中間槽４４、４５、４６を設けた場合、当該間隔を上記の半分の２５０ｍｍ程度としても、内部処理槽４３通過後のテープ５７の表面に付着したメッキ液６２を強制落下させて次のローラ室内の電極ローラ５６に付着しないようにすることができる。この結果、当該間隔を２５０ｍｍ程度と比較的小さくすることができ、ひいては装置全体の長さを比較的短くすることができる。
【００３９】
次に、図８はこの発明の第２実施形態における図３同様の平面図を示し、図９はそのＡ−Ａ線に沿う断面図を示し、図１０はそのＢ−Ｂ線に沿う断面図を示し、図１１はそのＣ−Ｃ線に沿う断面図を示したものである。これらの図において、図３〜図６と同一部分には同一の符号を付し、その説明を適宜省略する。
【００４０】
このメッキ処理部４１は、内部ドレイン管７０を設けずに、その代わりに、内部処理槽４３の右側壁の両端部に、内部処理槽４３、外部処理槽４２および第１の中間槽４５の各所定の一部を利用して、オーバーフロー案内部９０を形成したものである。すなわち、オーバーフロー案内部９０は、内部処理槽４３の右側壁の上面両端部に形成された切欠部９１と、当該右側壁の外側に設けられた、高さが内部処理槽４３の高さと同じである案内壁９２とを有し、オーバーフローしたメッキ液６２を切欠部９１から流入して、当該右側壁と案内壁９２との間に導くものである。オーバーフロー案内部９０の案内壁９２の下部の所定の箇所には方形状の開口部９３が設けられ、その外側にはシャッタ（オーバーフロー量調整手段）９４が上下動可能に設けられている。シャッタ９４は、それ自体に設けられた縦長のスリット９５に挿通されたねじ９６が案内壁９２にねじ込まれることにより、任意の高さ位置に固定され、開口部９３の開口量を調整することができるようになっている。
【００４１】
つまり、このメッキ処理部４１では、内部処理槽４３内に噴出されたメッキ液６２の一部を切欠部９１からオーバーフロー案内部９０内に導き、このオーバーフロー案内部９０の開口部９３から外部処理槽４２内に流出し、外部ドレイン管７１を介してメッキ液タンク６１内に回収される。この場合、シャッタ９４で開口部９３の開口量を調整することにより、オーバーフロー案内部９０内におけるメッキ液６２の液面が切欠部９１の底面よりも下がらないようにする。つまり、オーバーフロー案内部９０内が常にメッキ液６２により充満されている状態を維持するよう調整することが可能となるので、このオーバーフロー案内部９０に流出するメッキ液６２中に気泡が巻き込まれないようにすることができる。
【００４２】
また、内部処理槽４３内に噴出されたメッキ液６２の大部分をオーバーフロー案内部９０から流出させることにより、内部処理槽４３内のメッキ液圧を低減するので、スリット５２から流出するメッキ液６２の量をその分少なくすることができ、また流出の勢いもやや弱くすることができる。この結果、スリット５２から流出するメッキ液６２中に気泡がより一層巻き込まれにくいようにすることができる。この場合、図８〜図１０に示すように、内部処理槽４３の右側壁の内側に、スリット５２の幅を実質的に小さくするための一対のスリット幅調整板９７を位置調整可能に設けるようにしてもよい。
【００４３】
なお、上記各実施形態において、一対の流量規制ローラ７９は小径部７９ａを有するものとしたが、テープ５７のパターンが形成されていない面側に配置される流量規制ローラ７９は小径部７９ａを設けなくてもよい。また、この発明は、メッキ処理に限らず、脱脂処理、酸化膜除去処理、メッキ前処理等の他の化学処理にも適用することができる。
【００４４】
【発明の効果】
以上説明したように、この発明によれば、内部処理槽から第１の中間槽を経て第２の中間槽内に流入された化学液の外部処理槽への流量を流量規制手段で規制し、内部処理槽内の化学液の一部を中間ドレイン孔を介して回収し、残りを外部ドレイン孔を介して回収することになるので、外部処理槽内に流入する化学液の流量を低減することができ、したがって外部処理槽のスリットからの化学液の流出を防止することができる。また、内部処理槽から第１の中間槽を経て第２の中間槽内に流入された化学液の外部処理槽への流量を流量規制手段で規制し、内部処理槽内の化学液の一部を中間ドレイン孔を介して回収し、残りを外部ドレイン孔を介して回収することにより、内部処理槽の高さ（深さ）が比較的高く（深く）ても、メッキ液等の化学液に酸素等を含む気泡が巻き込まれにくいようにすることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】この発明の第１実施形態におけるメッキ処理装置の概略構成図。
【図２】図１に示すメッキ処理部のうち蓋を省略した状態の要部の平面図。
【図３】図２に示すメッキ処理部の右側の部分の拡大平面図。
【図４】図３のＡ−Ａ線に沿う断面図。
【図５】図３のＢ−Ｂ線に沿う断面図。
【図６】図３のＣ−Ｃ線に沿う断面図。
【図７】メッキ液の液位を説明するために示す断面図。
【図８】この発明の第２実施形態における図３同様の平面図。
【図９】図８のＡ−Ａ線に沿う断面図。
【図１０】図８のＢ−Ｂ線に沿う断面図。
【図１１】図８のＣ−Ｃ線に沿う断面図。
【図１２】従来のメッキ処理装置の一例の概略構成図。
【図１３】図１２に示すメッキ処理部の一部の断面図。
【図１４】図１３に示すメッキ処理部のうち蓋を省略した状態の平面図。
【符号の説明】
４１  メッキ処理部
４２  外部処理槽
４３  内部処理槽
４４  第１の中間槽
４５  第２の中間槽
４６  第３の中間槽
５１〜５４  スリット
５７  テープ
６１  メッキ液タンク
６２  メッキ液
６４  供給管
６６  ポンプ
７０  内部ドレイン管
７１  外部ドレイン管
７２  バルブ
７４  中間ドレイン管
７５  バルブ
７９  流量規制ローラ
８２  開口部
８３  シャッタ
９０  オーバーフロー案内部
９１  切欠部
９３  開口部
９４  シャッタ
【図１】
0003590332.tif 000002
【図２】
0003590332.tif 000003
【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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