【手続補正書】
【提出日】平成29年10月27日(2017.10.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
小角レーザー光散乱を用いてサイズ排除クロマトグラフィーによって測定して１００，０００ダルトン乃至１８０，０００ダルトン未満の樹脂分子量（Ｍｗ）を有するポリ（ビニルブチラール）樹脂；及び
少なくとも１種類の可塑剤；
を含むポリ（ビニルブチラール）層を含み；ＤＦ−１３５にしたがって測定して０．２３５ｍｍ〜０．３３５ｍｍの流動度、１．０ｍｍ以下のクリープ、及び２５μｍ以上のメルトフラクチャーによって形成される表面粗さＲｚを有する高流動性中間層。
【請求項２】
ブロッキング防止剤を更に含む、請求項１に記載の高流動性中間層。
【請求項３】
前記高流動性中間層は、２０℃〜４０℃のガラス転移温度（Ｔｇ）を有する、請求項１又は２に記載の高流動性中間層。
【請求項４】
前記高流動性中間層は、２５℃〜３５℃のガラス転移温度（Ｔｇ）を有する、請求項１〜３のいずれか一項に記載の高流動性中間層。
【請求項５】
多層中間層であり、第１のポリ（ビニルブチラール）層、第２のポリ（ビニルブチラール）層及び第３のポリ（ビニルブチラール）層を含む高流動性中間層であって、
前記高流動性中間層は、ＤＦ−１３５にしたがって測定して０．２３５ｍｍ〜０．３３５ｍｍの流動度、１．０ｍｍ以下のクリープ、及び２５μｍ以上のメルトフラクチャーによって形成される表面粗さＲｚを有し、
前記第１のポリ（ビニルブチラール）層及び前記第３のポリ（ビニルブチラール）層は、小角レーザー光散乱を用いてサイズ排除クロマトグラフィーによって測定して１００，０００ダルトン乃至１８０，０００ダルトン未満の樹脂分子量（Ｍｗ）を有するポリ（ビニルブチラール）樹脂を含み、
前記第２のポリ（ビニルブチラール）層は、小角レーザー光散乱を用いてサイズ排除クロマトグラフィーによって測定して１８０，０００ダルトンより大きい樹脂分子量（Ｍｗ）を有するポリ（ビニルブチラール）樹脂を含み、
前記第２のポリ（ビニルブチラール）層は、前記第１のポリ（ビニルブチラール）層と前記第３のポリ（ビニルブチラール）層の間に配置されている、高流動性中間層。
【請求項６】
前記第１のポリ（ビニルブチラール）層及び前記第３のポリ（ビニルブチラール）層は、２０℃〜４０℃のガラス転移温度（Ｔｇ）を有し、前記第２のポリ（ビニルブチラール）層は、−１０℃〜１０℃のガラス転移温度（Ｔｇ）を有する、請求項５に記載の高流動性中間層。
【請求項７】
小角レーザー光散乱を用いてサイズ排除クロマトグラフィーによって測定して１００，０００ダルトン乃至１８０，０００ダルトン未満の樹脂分子量（Ｍｗ）を有するポリ（ビニルブチラール）樹脂を含む第１のポリ（ビニルブチラール）層（ここで、前記第１のポリ（ビニルブチラール）層は、２０℃〜４０℃のガラス転移温度（Ｔｇ）を有する）；
小角レーザー光散乱を用いてサイズ排除クロマトグラフィーによって測定して１８０，０００ダルトンより大きい樹脂分子量（Ｍｗ）を有するポリ（ビニルブチラール）樹脂を含む第２のポリ（ビニルブチラール）層（ここで、前記第２のポリ（ビニルブチラール）層は、−１０℃〜１０℃のガラス転移温度（Ｔｇ）を有する）；
小角レーザー光散乱を用いてサイズ排除クロマトグラフィーによって測定して１００，０００ダルトン乃至１８０，０００ダルトン未満の樹脂分子量（Ｍｗ）を有するポリ（ビニルブチラール）樹脂を含む第３のポリ（ビニルブチラール）層（ここで、前記第３のポリ（ビニルブチラール）層は、２０℃〜４０℃のガラス転移温度（Ｔｇ）を有し、前記第２のポリ（ビニルブチラール）層は、前記第１のポリ（ビニルブチラール）層と前記第３のポリ（ビニルブチラール）層の間に配置されている）；
少なくとも１種類の可塑剤；及び
ブロッキング防止剤；
を含み；
ＤＦ−１３５にしたがって測定して０．２３５ｍｍ〜０．３３５ｍｍの流動度、１．０ｍｍ以下のクリープ、及び２５μｍ以上のメルトフラクチャーによって形成される表面粗さＲｚを有する、高流動性中間層。
【請求項８】
前記可塑剤は、トリエチレングリコールジ（２−エチルヘキサノエート）、トリエチレングリコールジ（２−エチルブチレート）、トリエチレングリコールジヘプタノエート、テトラエチレングリコールジヘプタノエート、ジヘキシルアジペート、ジオクチルアジペート、ヘキシルシクロヘキシルアジペート、ジイソノニルアジペート、ヘプチルノニルアジペート、及びジブチルセバケートからなる群から選択される、請求項１〜７のいずれか一項に記載の高流動性中間層。
【請求項９】
前記高流動性中間層は、３０μｍ以上のメルトフラクチャーによって形成される表面粗さＲｚを有する、請求項１〜８のいずれか一項に記載の高流動性中間層。
【請求項１０】
前記高流動性中間層は、０．５ｍｍ以下のクリープを有する、請求項１〜９のいずれか一項に記載の高流動性中間層。
【請求項１１】
前記高流動性中間層は、ＤＦ−１３５にしたがって測定して少なくとも０．２５０ｍｍの流動度を有する、請求項１〜１０のいずれか一項に記載の高流動性中間層。
【請求項１２】
前記第１のポリ（ビニルブチラール）層及び前記第３のポリ（ビニルブチラール）層は、２５℃〜３５℃のガラス転移温度（Ｔｇ）を有し、前記高流動性中間層は、３０μｍ以上のメルトフラクチャーによって形成される表面粗さＲｚを有する、請求項５〜１１のいずれか一項に記載の高流動性中間層。
【請求項１３】
小角レーザー光散乱を用いてサイズ排除クロマトグラフィーによって測定して１００，０００ダルトン乃至１８０，０００ダルトン未満の樹脂分子量（Ｍｗ）を有するポリ（ビニルブチラール）樹脂；
樹脂１００部あたり１５〜４０部の少なくとも１種類の可塑剤；
樹脂１００部あたり０．１〜１．０部のブロッキング防止剤；及び
樹脂１００部あたり０．００３〜０．４５部の接着制御剤；
を含むポリ（ビニルブチラール）層を含み；
ＤＦ−１３５にしたがって測定して０．２３５ｍｍ〜０．３３５ｍｍの流動度、１．０ｍｍ以下のクリープ、２０℃〜４０℃のガラス転移温度（Ｔｇ）、及び２５μｍ〜６５μｍのメルトフラクチャーによって形成される表面粗さＲｚを有する、高流動性中間層。
【請求項１４】
第１のガラスパネル；第２のガラスパネル；及び請求項１〜１３のいずれか一項に記載の高流動性中間層を含み、前記高流動性中間層は、前記第１のガラスパネルと前記第２のガラスパネルの間にある、多層ガラスパネル。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
［００８］歪曲したガラスに関して層間剥離及び気泡形成を阻止するための手段として、（例えば可塑剤の装填量を増加させることによるか、或いは（米国特許出願公開第２０１３／００７４９３１Ａ１号明細書（その全ての開示事項を参照として本明細書中に包含する）に開示されているように）エポキシド化植物油のような第２の可塑剤を単独か又は通常の可塑剤と組み合わせて用いることによって）中間層の厚さ又は中間層の流動性のいずれか、或いは両方を増加させることが通常的になっている。流動性を増加させることによって、歪曲又は波状のガラス基材を使用する際につきものの間隙を満たす中間層の能力が増加する。しかしながら、当該技術において従来用いられているこれらの中間層組成物の幾つかに関しては幾つかの問題が存在する。例えば、厚さを増加させるとコスト及び価格の両方が増加する。流動性を増加させると、ブロッキング、可塑剤の滲出（可塑剤の装填量が過度に高い場合）、クリープ、表面粗さの形成、減少した機械的強度、及び減少した生産能力などの他の問題が生じる可能性がある。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
［０１２］表面粗さの程度は、少なくとも部分的に、中間層を形成するために用いる製造プロセスの結果である。一般に、製造中に表面粗さを生成させる２つの方法：押出中にメルトフラクチャーによって「ランダムな粗さの」表面を形成することによる方法（例えば米国特許第５，５９５，８１８号明細書及び米国特許第４，６５４，１７９号明細書（その全ての開示事項を参照として本明細書中に包含する）、或いはエンボス加工によって中間層シート上に表面を与えることによる方法（例えば米国特許第６，０９３，４７１号明細書（その全ての開示事項を参照として本明細書中に包含する）；が存在する。いずれの方法によって形成される表面（即ちランダムな粗さ及びエンボス加工された表面の両方）とも、中間層のレオロジー特性（例えば流動性）によって影響を受ける。例えば、流動性が増加すると、押出中にメルトフラクチャーによって形成される表面粗さが減少する可能性がある（即ち、表面粗さＲｚが過度に低い可能性があり、これにより脱気がより困難になり、より多い気泡形成及び層間剥離が引き起こされる）。ここでも、かかる気泡形成及び層間剥離は望ましくなく、中間層及び得られる多層ガラスパネルの視覚的及び構造的欠陥並びに減少した機械的強度が引き起こされる可能性がある。幾つかの極端な場合においては、流動性を向上させるために配合を変化させることにより、表面の凹凸を引き起こすポリマー溶融体の「フラクチャリング（ｆｒａｃｔｕｒｉｎｇ）」がなくなるので、メルトフラクチャーによって形成される表面粗さが過度に低くなる（又はシートが非常に平滑になる）。表面粗さレベルが非常に低いか又はゼロの場合において、或いは増加した表面粗さ（メルトフラクチャーによって形成される表面粗さレベルよりも高い表面粗さレベル）が所望である場合においても、十分な表面粗さＲｚ（例えば、少なくとも２５μｍ、又は少なくとも３０μｍ、或いは３０μｍ超）を有する表面を生成させるためには、エンボス加工技術を用いなければならない。エンボス加工プロセスは更なる製造工程を必要とし、より複雑なプロセスである可能性があり、結末はより低い効率、増加したエネルギーコスト、及び生産能力の損失である可能性がある。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
【特許文献１】米国特許出願公開第２０１３／００７４９３１Ａ１号明細書
【特許文献２】米国特許第５，５９５，８１８号明細書
【特許文献３】米国特許第４，６５４，１７９号明細書
【特許文献４】米国特許第６，０９３，４７１号明細書
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
［０１４］当該技術におけるこれら及び他の問題のために、中でも、小角レーザー光散乱を用いてサイズ排除クロマトグラフィーによって測定して約１００，０００ダルトン乃至約１８０，０００ダルトン未満の樹脂分子量（Ｍｗ）を有するポリ（ビニルブチラール）樹脂；及び少なくとも１種類の可塑剤；を含むポリ（ビニルブチラール）層を含み；ＤＦ−１３５にしたがって測定して約０．２３５ｍｍ〜約０．３３５ｍｍの流動度、１．０ｍｍ以下のクリープ、及び約２５μｍ以上のメルトフラクチャーによって形成される表面粗さＲｚを有する高流動性の中間層をここで記載する。幾つかの態様においては、本高流動性中間層は、ＤＦ−１３５にしたがって測定して少なくとも約０．２５０ｍｍの流動度を有する。本明細書において用いる「分子量」という用語は、下記において更に議論するように、小角レーザー光散乱を用いてサイズ排除クロマトグラフィーによって測定され、ポリスチレン較正標準試料に対して相対的な重量平均分子量（Ｍｗ）を意味する。幾つかの態様においては、可塑剤は、トリエチレングリコールジ（２−エチルヘキサノエート）、トリエチレングリコールジ（２−エチルブチレート）、トリエチレングリコールジヘプタノエート、テトラエチレングリコールジヘプタノエート、ジヘキシルアジペート、ジオクチルアジペート、ヘキシルシクロヘキシルアジペート、ジイソノニルアジペート、ヘプチルノニルアジペート、及びジブチルセバケートからなる群から選択することができる。幾つかの態様においては、高流動性の中間層はブロッキング防止剤を更に含み、ブロッキング防止剤は、一般式：
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
（式中、Ｒは約１２〜約４０個の炭素原子を有する炭化水素鎖を含むブロッキング防止セグメントを表し、Ｒ’はＨ又は１〜約４０個の炭素原子を有する炭化水素鎖を表す）
を有する脂肪酸アミドであってよい。幾つかの態様においては、本高流動性中間層は、約３０μｍ以上、又は約３５μｍ以上のメルトフラクチャーによって形成された状態での表面粗さＲｚを有する。幾つかの態様においては、本高流動性中間層は、約６５μｍ以下のメルトフラクチャーによって形成された状態での表面粗さＲｚを有する。幾つかの態様においては、本高流動性中間層は、０．５ｍｍ以下のクリープを有する。幾つかの態様においては、本高流動性中間層は、約２０℃〜約４０℃、又は約２５℃〜約３５℃、或いは約３０℃〜約３５℃のガラス転移温度（Ｔｇ）を有する。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
［０１５］他の態様においては、ここに開示する高流動性中間層は、小角レーザー光散乱を用いてサイズ排除クロマトグラフィーによって測定して約１００，０００ダルトン乃至約１８０，０００ダルトン未満の樹脂分子量（Ｍｗ）を有するポリ（ビニルブチラール）樹脂；少なくとも１種類の可塑剤；及びブロッキング防止剤；を含むポリ（ビニルブチラール）層を含み；ＤＦ−１３５にしたがって測定して約０．２３５ｍｍ〜約０．３３５ｍｍの流動度、１．０ｍｍ以下のクリープ、約２０℃〜約４０℃のガラス転移温度（Ｔｇ）、及び約２５μｍ以上のメルトフラクチャーによって形成される表面粗さＲｚを有する。幾つかの態様においては、本高流動性中間層は、約６５μｍ以下のメルトフラクチャーによって形成された状態での表面粗さＲｚを有する。クリープは約０．５ｍｍ未満であってよい。本高流動性中間層は、約２５℃〜約３５℃、又は約３０℃〜約３５℃のガラス転移温度（Ｔｇ）を有することができる。幾つかの態様においては、本中間層は多層中間層であり、本中間層は第２のポリ（ビニルブチラール）層及び第３のポリ（ビニルブチラール）層を更に含み、第３のポリ（ビニルブチラール）層は、小角レーザー光散乱を用いてサイズ排除クロマトグラフィーによって測定して約１００，０００ダルトン乃至約１８０，０００ダルトン未満の樹脂分子量（Ｍｗ）を有するポリ（ビニルブチラール）樹脂を含み、第２のポリ（ビニルブチラール）層は、小角レーザー光散乱を用いてサイズ排除クロマトグラフィーによって測定して約１８０，０００ダルトンより大きい樹脂分子量（Ｍｗ）を有するポリ（ビニルブチラール）樹脂を含み、第２のポリ（ビニルブチラール）層は、第１のポリ（ビニルブチラール）層と第３のポリ（ビニルブチラール）層の間に配置される。幾つかの態様においては、第１及び第３のポリ（ビニルブチラール）層は、約２０℃〜約４０℃、又は約２５℃〜約３５℃、或いは約３０℃〜約３５℃のガラス転移温度（Ｔｇ）を有し、第２のポリ（ビニルブチラール）層は、約−１０℃〜約１０℃のガラス転移温度（Ｔｇ）を有する。幾つかの態様においては、ブロッキング防止剤は、一般式：
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
［０１６］一態様においては、本高流動性多層中間層は、小角レーザー光散乱を用いてサイズ排除クロマトグラフィーによって測定して約１００，０００ダルトン乃至約１８０，０００ダルトン未満の樹脂分子量（Ｍｗ）を有するポリ（ビニルブチラール）樹脂を含む第１のポリ（ビニルブチラール）層（ここで、第１のポリ（ビニルブチラール）層は約２０℃〜約４０℃のガラス転移温度（Ｔｇ）を有する）；小角レーザー光散乱を用いてサイズ排除クロマトグラフィーによって測定して約１８０，０００ダルトンより大きい樹脂分子量（Ｍｗ）を有するポリ（ビニルブチラール）樹脂を含む第２のポリ（ビニルブチラール）層（ここで、第２のポリ（ビニルブチラール）層は約−１０℃〜約１０℃のガラス転移温度（Ｔｇ）を有する）；小角レーザー光散乱を用いてサイズ排除クロマトグラフィーによって測定して約１００，０００ダルトン乃至約１８０，０００ダルトン未満の樹脂分子量（Ｍｗ）を有するポリ（ビニルブチラール）樹脂を含む第３のポリ（ビニルブチラール）層（ここで、第３のポリ（ビニルブチラール）層は約２０℃〜約４０℃のガラス転移温度（Ｔｇ）を有し、第２のポリ（ビニルブチラール）層は第１のポリ（ビニルブチラール）層と第３のポリ（ビニルブチラール）層の間に配置されている）；少なくとも１種類の可塑剤；及びブロッキング防止剤；を含み；ＤＦ−１３５にしたがって測定して約０．２３５ｍｍ〜約０．３３５ｍｍの流動度、１．０ｍｍ以下のクリープ、及び約２５μｍ以上のメルトフラクチャーによって形成される表面粗さＲｚを有する。幾つかの態様においては、本高流動性中間層は、約６５μｍ以下のメルトフラクチャーによって形成された状態での表面粗さＲｚを有する。クリープは約０．５ｍｍ未満にすることができる。幾つかの態様においては、第１及び第２のポリ（ビニルブチラール）層は、約２５℃〜約３５℃、又は約３０℃〜約３５℃のガラス転移温度（Ｔｇ）を有し、第３のポリ（ビニルブチラール）層は、約−１０℃〜約１０℃のガラス転移温度（Ｔｇ）を有する。幾つかの態様においては、ブロッキング防止剤は、一般式：
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
（式中、Ｒは約１２〜約４０個の炭素原子を有する炭化水素鎖を含むブロッキング防止セグメントを表し、Ｒ’はＨ又は１〜約４０個の炭素原子を有する炭化水素鎖を表す）
を有する脂肪酸アミドブロッキング防止剤を含む。幾つかの態様においては、特許請求する高流動性中間層において、第１及び第３のポリ（ビニルブチラール）層は約２５℃〜約３５℃のガラス転移温度（Ｔｇ）を有し、本多層中間層は３０μｍ以上のメルトフラクチャーによって形成される表面粗さＲｚを有する。幾つかの態様においては、本高流動性中間層は、約３５μｍ以上のメルトフラクチャーによって形成された状態での表面粗さＲｚを有する。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
［０１８］またここでは、少なくとも１つの剛性基材；及び高流動性の中間層；を含み、高流動性の中間層は、小角レーザー光散乱を用いてサイズ排除クロマトグラフィーによって測定して約１００，０００ダルトン乃至約１８０，０００ダルトン未満の樹脂分子量（Ｍｗ）を有するポリ（ビニルブチラール）樹脂；及び少なくとも１種類の可塑剤；を含むポリ（ビニルブチラール）層を含み、高流動性の中間層は、ＤＦ１３５にしたがって測定して約０．２３５ｍｍ〜約０．３３５ｍｍの流動度、１．０ｍｍ以下のクリープ、及び約２５μｍ以上のメルトフラクチャーによって形成される表面粗さＲｚを有する多層パネルも開示する。幾つかの態様においては、本高流動性中間層は、約６５μｍ以下のメルトフラクチャーによって形成された状態での表面粗さＲｚを有する。幾つかの態様においては、可塑剤は、トリエチレングリコールジ（２−エチルヘキサノエート）、トリエチレングリコールジ（２−エチルブチレート）、トリエチレングリコールジヘプタノエート、テトラエチレングリコールジヘプタノエート、ジヘキシルアジペート、ジオクチルアジペート、ヘキシルシクロヘキシルアジペート、ジイソノニルアジペート、ヘプチルノニルアジペート、及びジブチルセバケートからなる群から選択することができる。幾つかの態様においては、本高流動性中間層は多層中間層である。
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２６】
［０１９］またここでは、少なくとも１つの剛性基材；及び高流動性の中間層；を含み、高流動性の中間層は、小角レーザー光散乱を用いてサイズ排除クロマトグラフィーによって測定して約１００，０００ダルトン乃至約１８０，０００ダルトン未満の樹脂分子量（Ｍｗ）を有するポリ（ビニルブチラール）樹脂；少なくとも１種類の可塑剤；及びブロッキング防止剤；を含むポリ（ビニルブチラール）層を含み、高流動性の中間層は、ＤＦ１３５にしたがって測定して約０．２３５ｍｍ〜約０．３３５ｍｍの流動度、１．０ｍｍ以下のクリープ、約２０℃〜約４０℃のガラス転移温度（Ｔｇ）、及び約２５μｍ以上のメルトフラクチャーによって形成される表面粗さＲｚを有する多層パネルも開示する。幾つかの態様においては、本高流動性中間層は、約６５μｍ以下のメルトフラクチャーによって形成された状態での表面粗さＲｚを有する。クリープは約０．５ｍｍ未満にすることができる。本高流動性中間層は、約２５℃〜約３５℃、又は約３０℃〜約３５℃のガラス転移温度（Ｔｇ）を有することができる。幾つかの態様においては、本中間層は多層中間層であり、本中間層は第２のポリ（ビニルブチラール）層及び第３のポリ（ビニルブチラール）層を更に含み、第２のポリ（ビニルブチラール）層は、小角レーザー光散乱を用いてサイズ排除クロマトグラフィーによって測定して約１００，０００ダルトン乃至約１８０，０００ダルトン未満の樹脂分子量（Ｍｗ）を有するポリ（ビニルブチラール）樹脂を含み、第３のポリ（ビニルブチラール）層は、小角レーザー光散乱を用いてサイズ排除クロマトグラフィーによって測定して約１８０，０００ダルトンより大きい樹脂分子量（Ｍｗ）を有するポリ（ビニルブチラール）樹脂を含み、第３のポリ（ビニルブチラール）層は第１のポリ（ビニルブチラール）層と第２のポリ（ビニルブチラール）層の間に配置される。幾つかの態様においては、第１及び第２のポリ（ビニルブチラール）層は、約２０℃〜約４０℃、又は約２５℃〜約３５℃、或いは約３０℃〜約３５℃のガラス転移温度（Ｔｇ）を有し、第３のポリ（ビニルブチラール）層は、約−１０℃〜約１０℃のガラス転移温度（Ｔｇ）を有する。幾つかの態様においては、ブロッキング防止剤は、一般式：
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３１】
（式中、Ｒは約１２〜約４０個の炭素原子を有する炭化水素鎖を含むブロッキング防止セグメントを表し、Ｒ’はＨ又は１〜約４０個の炭素原子を有する炭化水素鎖を表す）
を有する脂肪酸アミドブロッキング防止剤を含む。幾つかの態様においては、特許請求する高流動性中間層において、第１及び第３のポリ（ビニルブチラール）層は約２５℃〜約３５℃のガラス転移温度（Ｔｇ）を有し、本多層中間層は、３０μｍ以上のメルトフラクチャーによって形成される表面粗さＲｚを有する。幾つかの態様においては、本高流動性中間層は、約３５μｍ以上のメルトフラクチャーによって形成された状態での表面粗さＲｚを有する。幾つかの態様においては、本高流動性中間層は、約６５μｍ以下のメルトフラクチャーによって形成された状態での表面粗さＲｚを有する。
【手続補正１３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６７】
［０５１］一般に、ポリマー中間層シートの厚さ又はゲージは、約１５ミル〜６０ミル（約０．３８ｍｍ〜約１．５２ｍｍ）、約２０ミル〜約５０ミル（約０．５１〜１．２７ｍｍ）、及び約１５ミル〜約３５ミル（約０．３７５〜約０．８９ｍｍ）の範囲である。多層中間層においては、多層中間層のスキン層及びコア層のそれぞれは、約１ミル〜５９ミル（約０．０２５〜１．５０ｍｍ）、１ミル〜約２９ミル（約０．０２５〜０．７４ｍｍ）、又は約２ミル〜約２８ミル（約０．０５〜０．７１ｍｍ）の厚さを有していてよい。他の用途においては、ポリマー中間層シートの厚さ又はゲージは、特定の用途のために所望に応じて６０ミル（１．５０ｍｍ）より大きくてよい。しかしながら、中間層を波状又は歪曲した基材と共に用いる場合には、基材の歪曲度又は波状度に応じて、この範囲のより厚い方の端点、例えば３０ミル（０．７５ｍｍ）、４５ミル（１．１２５ｍｍ）、及び６０ミル（１．５０ｍｍ）又はそれ以上で中間層を用いることが一般的な方法になっている。下記においてより完全に議論するように、高流動性の低分子量ＰＶＢ樹脂と少なくとも１種類の可塑剤の組合せを用いる本発明に記載の配合物によって、有利なことに、例えば積層体をオートクレーブ処理する際に、他の特性を犠牲にすることなく流動性を向上させることが可能であり、それによってより薄い中間層を用いることが可能であり；例えば、テンパード合わせガラス又は不整合ガラス対を有する任意の他の積層体において、３０ミル（０．７５ｍｍ）の従来の中間層を２２ミル（０．５５ｍｍ）の中間層に置き換えることができ、及び４５ミル（１．１２５ｍｍ）の従来の中間層を３３ミル（０．８２５ｍｍ）の中間層に置き換えることができる。而して、材料及び製造のコストを減少させることができる。
【手続補正１４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６９】
［０５３］本発明において用いる多層パネルには、ガラス、アクリル樹脂、又はポリカーボネートのような単一の基材を含ませることができ、その上にポリマー中間層シートが配置され、最も通常的にはポリマー中間層の上にポリマーフィルムが更に配置される。ポリマー中間層シートとポリマーフィルムの組み合わせは、当該技術において通常は二重層と呼ばれる。二重層構造を有する通常の多層パネルは、（ガラス）／（ポリマー中間層シート）／（ポリマーフィルム）であり、ここでポリマー中間層シートには上述したように複数の中間層を含ませることができ、中間層の少なくとも１つは高流動性の低分子量ＰＶＢ樹脂を含む。ポリマーフィルムは、平滑で薄くて剛性の基材を提供し、これはポリマー中間層シート単独によって通常得られるものよりも良好な光学特性を与え、性能向上層として機能する。ポリマーフィルムは、ポリマーフィルムそれ自体は必要な貫入抵抗及びガラス保持特性を与えないが、赤外吸収特性のような性能の向上を与えるという点で、本発明において用いるポリマー中間層シートと異なる。ポリ（エチレンテレフタレート）（ＰＥＴ）は最も通常的に用いられるポリマーフィルムである。一般に、本発明において用いられるポリマーフィルムはポリマーシートよりも薄く、例えば厚さ約０．００１〜０．２ｍｍである。
【手続補正１５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８５】
［０６９］本発明はまた、下記に示す次の態様１〜２０も包含する。
【手続補正１６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９０】
［０７４］態様５は、中間層が多層中間層であり、中間層は第２のポリ（ビニルブチラール）層及び第３のポリ（ビニルブチラール）層を更に含み、第３のポリ（ビニルブチラール）層は、小角レーザー光散乱を用いてサイズ排除クロマトグラフィーによって測定して約１００，０００ダルトン乃至約１８０，０００ダルトン未満の樹脂分子量（Ｍｗ）を有するポリ（ビニルブチラール）樹脂を含み、第２のポリ（ビニルブチラール）層は、小角レーザー光散乱を用いてサイズ排除クロマトグラフィーによって測定して約１８０，０００ダルトンより大きい樹脂分子量（Ｍｗ）を有するポリ（ビニルブチラール）樹脂を含み、第２のポリ（ビニルブチラール）層は第１のポリ（ビニルブチラール）層と第３のポリ（ビニルブチラール）層の間に配置されている、態様１〜４のいずれかの特徴を含む高流動性中間層である。
【手続補正１７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９９】
［０８１］態様１３は、第１及び第３のポリ（ビニルブチラール）層が約２０℃〜約４０℃のガラス転移温度（Ｔｇ）を有し、第２のポリ（ビニルブチラール）層が約−１０℃〜約１０℃のガラス転移温度（Ｔｇ）を有する、態様５〜１２のいずれかの特徴を含む高流動性中間層である。
【手続補正１８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１０７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１０７】
［０８９］ここに開示する中間層（「本発明の中間層」と表示し、下表においてＤＩ−１及びＤＩ−２として示す）の流動性及び他の特性の改良は、標準的な従来技術の通常の中間層（「従来の中間層」と表示し、下表においてＣＩ−１〜ＣＩ−４として示す）と比較することによって最も容易に認識することができる。本発明の中間層及び従来の中間層を、流動性、パンメル接着力、剥離接着力、及びオートクレーブ処理（ベーク試験を含む）の後の積層品質に関して試験して、これらの他の特性が悪影響を受けていなかったことを示した。これらの実施例は、高い流動性の低分子量ＰＶＢ樹脂を用いて製造した中間層の増加した流動性を、他の有利な品質と一緒に示す。本発明の中間層はまた、低い積層体粘着性、高いパンメル接着力、許容できるメルトフラクチャーによって形成された状態での表面粗さ（Ｒｚ）、及び良好な品質の積層体（即ち積層又はベーキングの後に気泡を有しない）などの他の重要な特性を保持した。
【手続補正１９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１０８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１０８】
［０９０］試料の中間層は、１００部のポリ（ビニルブチラール）樹脂（約１７．７５〜約１９．８５重量％の残留ヒドロキシル基、及び約１〜２％の酢酸ビニル残余を有する）、１種類又は複数の可塑剤（表１に示す）、０．３５ｐｈｒの脂肪酸アミドブロッキング防止剤（Ｎ−オレイルパルミチン酸アミド）、並びにＡＣＡ及びＵＶ安定剤のような他の通常的な添加剤の混合物を混合及び溶融押出することによって調製した。１つの従来の中間層ＣＩ−４はブロッキング防止剤を有していなかった。従来の中間層において用いたＰＶＢ樹脂は、１８０，０００〜２５０，０００の範囲（通常は約２２０，０００）の分子量（Ｍｗ）を有する通常のＰＶＢ樹脂であった。本発明の中間層において用いたＰＶＢ樹脂は、１００，０００乃至１８０，０００未満の範囲の分子量を有する低分子量樹脂であった。分子量は上記に記載のようにして測定し、全ての分子量は全てポリスチレン較正試料に対する相対的なものである。可塑剤の量及びタイプを表１に示す。中間層は、表に示す厚さで押出した。全ての中間層シートを約０．４重量％の湿分含量に調湿した。