【手続補正書】
【提出日】平成29年1月6日(2017.1.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
高周波陽圧ベンチレーションシステムであって、
対象物の気道への供給のため呼吸可能なガスの加圧流を生成する吸気サブシステムと、
前記対象物の気道からシステム放出口までガスを引くよう構成される呼気フロー生成器と、
前記対象物の気道で、又はこの近くでの１つ又は複数のガスパラメータに関連付けられる情報を搬送する出力信号を生成するよう構成される１つ又は複数のセンサと、
前記呼気フロー生成器を通る前記対象物の気道からの流れを選択的に制御するよう構成される呼気弁と、
コンピュータプログラムモジュールを実行するよう構成される１つ又は複数のプロセッサとを有し、前記コンピュータプログラムモジュールが、
前記出力信号に基づき前記対象物の気道で、又はこの近くでの前記１つ又は複数のガスパラメータを決定するよう構成され、時間平均気道圧レベルを決定するよう構成されるパラメータモジュールと、
前記１つ又は複数ガスパラメータに関する目標値を得るよう構成され、目標時間平均気道圧レベルを得るよう構成されるターゲットモジュールと、
前記吸気サブシステム、前記呼気フロー生成器及び前記呼気弁を制御し、一連の高周波圧サイクルにわたり前記目標時間平均気道圧レベルで前記時間平均気道圧レベルを維持するよう構成される制御モジュールとを含む、システム。
【請求項２】
前記パラメータモジュールが更に、前記出力信号に基づき、前記一連の高周波圧サイクルにわたりピークトゥピーク圧力差を決定するよう構成され、
前記ターゲットモジュールは更に、目標ピークトゥピーク圧力差を得るよう構成され、
前記制御モジュールが更に、前記吸気サブシステム、前記呼気フロー生成器及び前記呼気弁を選択的に制御し、前記一連の高周波圧サイクルにわたり前記目標ピークトゥピーク圧力差で前記ピークトゥピーク圧力差を維持するよう構成される、請求項１に記載のシステム。
【請求項３】
前記ピークトゥピーク圧力差が、２つ又はこれ以上の連続的な最大圧力の間の差に関連付けられるよう、前記パラメータモジュールが構成される、請求項２に記載のシステム。
【請求項４】
前記制御モジュールが、約３Ｈｚ及び約２５Ｈｚの間の周波数で前記陽圧ベンチレーションを供給するため、前記吸気サブシステム、前記呼気フロー生成器及び前記呼気弁を制御するよう構成される、請求項１に記載のシステム。
【請求項５】
前記呼吸可能なガスの加圧流のタイダルボリュームが約６ｍｌ／ｋｇであるよう、前記制御モジュールが、前記吸気サブシステム、前記呼気フロー生成器及び前記呼気弁を制御するよう構成される、請求項１に記載のシステム。
【請求項６】
高周波陽圧ベンチレーションを対象物に供給する高周波陽圧ベンチレーションシステムを作動させる方法において、
前記システムが、吸気サブシステム、呼気フロー生成器、１つ又は複数のセンサ、呼気弁及び１つ又は複数のプロセッサを含み、前記１つ又は複数プロセッサは、コンピュータプログラムモジュールを実行するよう構成され、前記コンピュータプログラムモジュールが、パラメータモジュール、ターゲットモジュール及び制御モジュールを含んでおり、前記方法は、
前記対象物の気道への供給のため呼吸可能なガスの加圧流を前記吸気サブシステムを用いて生成するステップと、
前記対象物の気道からシステム放出口へと前記呼気フロー生成器を用いてガスを引くステップと、
前記対象物の気道で、又はこの近くでの１つ又は複数のガスパラメータに関連付けられる情報を搬送する出力信号を前記１つ又は複数のセンサを用いて生成するステップと、
前記呼気フロー生成器により前記対象物の気道から引かれる前記ガスの流れを前記呼気弁を用いて選択的に制御するステップと、
前記出力信号に基づき前記対象物の気道で、又はこの近くでの前記１つ又は複数のガスパラメータを前記パラメータモジュールを用いて決定するステップであって、前記１つ又は複数のガスパラメータが、時間平均気道圧レベルを含む、ステップと、
前記１つ又は複数のガスパラメータに関する目標値を前記ターゲットモジュールを用いて得るステップであって、前記目標値が、目標時間平均気道圧レベルを含む、ステップと、
高周波陽圧ベンチレーション治療レジームに基づき一連の圧力サイクルを供給するため、前記吸気サブシステム、前記呼気フロー生成器及び前記呼気弁を前記制御モジュールを用いて制御するステップと、
前記一連の圧力サイクルにわたり前記目標時間平均気道圧レベルで前記時間平均気道圧レベルを維持するため、前記吸気サブシステム、前記呼気弁及び前記呼気フロー生成器を前記制御モジュールを用いて選択的に制御するステップとを有する方法。
【請求項７】
前記出力信号に基づき、前記一連の圧力サイクルにわたりピークトゥピーク圧力差を前記パラメータモジュールを用いて決定するステップと、
目標ピークトゥピーク圧力差を前記ターゲットモジュールを用いて得るステップと、
前記一連の圧力サイクルにわたり前記目標ピークトゥピーク圧力差で前記ピークトゥピーク圧力差を維持するため、前記吸気サブシステム、前記呼気弁及び前記呼気フロー生成器を前記制御モジュールを用いて選択的に制御するステップとを更に有する、請求項６に記載の方法。
【請求項８】
前記ピークトゥピーク圧力差が、２つ又はこれ以上の連続的な最大圧力の間の差に関連付けられる、請求項７に記載の方法。
【請求項９】
前記一連の圧力サイクルが、約３Ｈｚ及び約２５Ｈｚの間の周波数を持つ、請求項６に記載の方法。
【請求項１０】
前記呼吸可能なガスの加圧流のタイダルボリュームが約６ｍｌ／ｋｇであるよう、前記吸気サブシステム、前記呼気フロー生成器及び前記１つ又は複数の弁を制御するステップを更に有する、請求項６に記載の方法。
【請求項１１】
高周波陽圧ベンチレーションシステムであって、
対象物の気道への供給のため呼吸可能なガスの加圧流を生成する手段と、
前記対象物の気道からガスを引く手段と、
前記対象物の気道で、又はこの近くでの１つ又は複数のガスパラメータに関連付けられる情報を搬送する出力信号を生成する手段と、
前記対象物の気道からガスが引かれるレートを調整する手段と、
前記対象物の気道で、又はこの近くでの前記１つ又は複数のガスパラメータを決定する手段であって、時間平均気道圧レベルを決定する、手段と、
前記１つ又は複数のガスパラメータに関する目標値を得る手段であって、目標時間平均気道圧レベルを得る、手段と、
高周波陽圧ベンチレーション治療レジームに基づき一連の圧力サイクルを供給するため、前記生成する手段と前記引く手段と前記調整する手段とを制御する手段であって、前記一連の圧力サイクルにわたり前記時間平均気道圧レベルが前記目標時間平均気道圧レベルで維持される、手段とを有する、システム。
【請求項１２】
前記１つ又は複数ガスパラメータを決定する手段が更に、前記出力信号に基づき前記一連の圧力サイクルにわたりピークトゥピーク圧力差を決定するよう構成され、
前記目標値を得る手段は更に、目標ピークトゥピーク圧力差を得るよう構成され、
前記選択的に制御する手段が更に、前記一連の圧力サイクルにわたり前記目標ピークトゥピーク圧力差で前記ピークトゥピーク圧力差を維持するため、前記生成する手段と前記引く手段と前記調整する手段とを選択的に制御するよう構成される、請求項１１に記載のシステム。
【請求項１３】
前記ピークトゥピーク圧力差が２つ又はこれ以上の連続的な最大圧力の間の差に関連付けられるよう、前記１つ又は複数のガスパラメータを決定する手段が構成される、請求項１２に記載のシステム。
【請求項１４】
前記一連の圧力サイクルの周波数が約３Ｈｚ及び約２５Ｈｚの間にあるよう、前記選択的に制御する手段が構成される、請求項１１に記載のシステム。
【請求項１５】
前記個別の圧力サイクルのタイダルボリュームが約６ｍｌ／ｋｇであるよう、前記選択的に制御する手段が構成される、請求項１１に記載のシステム。