【誤訳訂正書】
【提出日】平成29年7月31日(2017.7.31)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の化学元素としてのケイ素を含んでおりそして流れの方向（１１）に沿って進む少なくとも１つの反応流（１、１００、１０１、１０２、１０３、１０４、１０５、１０６）を、反応チャンバ（８）へと導入するステップと、
各々の反応流（１、１００、１０１、１０２、１０３、１０４、１０５、１０６）に反応流ごとに１つの相互作用ゾーン（１４）において交わる放射線ビーム（３）を、前記反応チャンバ（８）を通って投射し、各々の反応流において前記第１の化学元素を含む粒子コア（１５）を形成するステップと、
各々の反応流（１、１００、１０１、１０２、１０３、１０４、１０５、１０６）と相互作用する第２の化学元素を前記反応チャンバ（８）へと導入し、前記粒子コア（１５）を前記第２の化学元素を含む層（１６）で覆うステップと
を含んでおり、
各々の反応流（１、１００、１０１、１０２、１０３、１０４、１０５、１０６）は、前記第１の化学元素を酸化する物質を欠いており、そして前記粒子コア（１５）は、前記第１の化学元素を非酸化の形態で含んでおり、前記第２の化学元素は、各々の反応流（１、１００、１０１、１０２、１０３、１０４、１０５、１０６）を囲むガス流（２；７）にて前記チャンバ（８）へと導入される、粒子（１０）を製造する方法であって、
前記第２の化学元素が、各々の反応流（１、１００、１０１、１０２、１０３、１０４、１０５、１０６）を囲む閉じた曲線に沿って分布したいくつかの点（１７）から放射されてそして各々の反応流の方向に進む各々の反応流（１、１００、１０１、１０２、１０３、１０４、１０５、１０６）を囲む周囲のガス流（７）にて前記チャンバ（８）へと導入され、該第２の化学元素は、各々の反応流の前記相互作用ゾーン（１４）の後で前記周囲のガス流（７）にて前記チャンバ（８）へと導入され、及び／または
当該方法が、各々の反応流（１、１００、１０１、１０２、１０３、１０４、１０５、１０６）を囲み、そして前記流れの方向（１１）に沿って進む閉じ込めガス流（２）を、各々の反応流の前記相互作用ゾーン（１４）の手前において前記反応チャンバ（８）へと導入するステップをさらに含み、前記第２の化学元素は、各々の反応流の前記相互作用ゾーン（１４）の手前において前記閉じ込めガス流（２）にて前記チャンバ（８）へと導入されることを特徴とする方法。
【請求項２】
前記第２の化学元素が、各々の反応流（１、１００、１０１、１０２、１０３、１０４、１０５、１０６）を囲む前記閉じた曲線に沿って分布したいくつかの点（１７）から放射されて各々の反応流の方向に進む各々の反応流（１、１００、１０１、１０２、１０３、１０４、１０５、１０６）を囲む前記周囲のガス流（７）にて前記チャンバ（８）へと導入され、該第２の化学元素は、各々の反応流の前記相互作用ゾーン（１４）の後で前記周囲のガス流（７）にて前記チャンバ（８）へと導入されることを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
各々の反応流（１、１００、１０１、１０２、１０３、１０４、１０５、１０６）を囲み、前記流れの方向（１１）に沿って進む前記閉じ込めガス流（２）を、各々の反応流の前記相互作用ゾーン（１４）の手前において前記反応チャンバ（８）へと導入するステップを含んでおり、前記第２の化学元素は、各々の反応流の前記相互作用ゾーン（１４）の手前において前記閉じ込めガス流（２）にて前記チャンバ（８）へと導入されることを特徴とする、請求項１または２に記載の方法。
【請求項４】
前記少なくとも１つの反応流を導入するステップが、前記閉じ込めガス流（２）によって互いに隔てられ、各々が前記第１の化学元素を含んでおり、そして各々が前記流れの方向（１１）に沿って進むいくつかの反応流（１０１、１０２、１０３；１０４、１０５、１０６）からなる少なくとも１つの配列を導入するステップを含むことを特徴とする、請求項３に記載の方法。
【請求項５】
前記放射線ビーム（３）が、前記流れの方向（１１）に垂直な放射の方向（１２）に沿って進み、そして各々の反応流の配列（１０１、１０２、１０３；１０４、１０５、１０６）の流れが、前記流れの方向（１１）および前記放射の方向（１２）に垂直な整列方向（１８）に沿って並んでいることを特徴とする、請求項４に記載の方法。
【請求項６】
前記放射線ビーム（３）が、前記流れの方向（１１）に垂直な放射の方向（１２）に沿って進み、各々の反応流（１、１００、１０１、１０２、１０３、１０４、１０５、１０６）が、前記流れの方向（１１）に垂直な平面において、前記流れの方向（１１）および前記放射の方向（１２）に垂直な伸長方向（１３）に沿って縦長に広がる断面を有することを特徴とする、請求項１〜５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項７】
前記第２の化学元素が、各々の反応流の前記相互作用ゾーン（１４）の手前で、各々の反応流（１、１００、１０１、１０２、１０３、１０４、１０５、１０６）にて前記第１の化学元素と一緒に前記チャンバ（８）へと導入されることを特徴とする、請求項１〜６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項８】
前記第１の化学元素が、ＳｉＨ４の形態で前記チャンバ（８）へと導入されることを特徴とする、請求項１〜７のいずれか一項に記載の方法。
【請求項９】
前記粒子（１０）の前記コア（１５）が、ケイ素からなることを特徴とする、請求項１〜８のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１０】
前記第２の元素が、炭素であることを特徴とする、請求項１〜９のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１１】
３〜９００ｎｍの間に含まれる直径を有する非酸化のケイ素を第１の化学元素として含んでいるコア（１５）と、
前記コアを囲んでおり、炭素からなる第２の化学元素のみからなっており、少なくとも０．５ｎｍの層厚さを有している層（１６）と
を各々が含んでいる粒子。
【請求項１２】
第１の化学元素としてのケイ素を含む反応物を含んでいる反応物供給源と、
前記反応物供給源に接続された反応チャンバ（８）と、
前記反応物を含む少なくとも１つの反応流（１、１００、１０１、１０２、１０３、１０４、１０５、１０６）を、反応流ごとに１つの反応流ゾーン（６）において流れの方向（１１）に沿って進むようにそして前記反応物供給源から前記チャンバ（８）へと導入するように配置された反応物インジェクタと、
反応流ごとに１つの相互作用ゾーン（１４）において反応流（１、１００、１０１、１０２、１０３、１０４、１０５、１０６）の各々のゾーン（６）に交わるように前記反応チャンバ（８）を通って放射線ビーム（３）を投射するように配置された放射線ビームのエミッタと、
第２の化学元素の供給源と、
前記第２の化学元素の供給源からの前記第２の化学元素を、該第２の化学元素が前記チャンバ（８）内で各々の反応流（１、１００、１０１、１０２、１０３、１０４、１０５、１０６）と相互作用できるように、前記反応チャンバ（８）へと導入するように配置された第２の元素のインジェクタと
を備えており、
前記反応物（１；１０１、１０２、１０３）は、前記第１の化学元素を酸化する物質を欠いており、そして前記第２の化学元素のインジェクタは、前記第２の化学元素を各々の反応流（１、１００、１０１、１０２、１０３、１０４、１０５、１０６）を囲むガス流（２または７）にて前記チャンバ（８）へと導入するように配置されている、粒子（１０）を製造する装置（９）であって、
前記第２の化学元素のインジェクタが、前記第２の化学元素を、各々の反応流を囲む閉じた曲線に沿って分布したいくつかの点（１７）から放射されて各々の反応流の方向に周囲のガス流を向けるように配置される各々の反応流（１、１００、１０１、１０２、１０３、１０４、１０５、１０６）を囲む周囲のガス流（７）にて前記チャンバ（８）へと導入するように配置され、該第２の化学元素のインジェクタは、前記第２の化学元素を、各々の反応流の前記相互作用ゾーン（１４）の後で前記周囲のガス流（７）にて前記チャンバ（８）へと導入するように配置され、及び／または
当該装置が、各々の反応流（１、１００、１０１、１０２、１０３、１０４、１０５、１０６）を囲み、前記流れの方向（１１）に沿って進む閉じ込めガス流（２）を、各々の反応流の前記相互作用ゾーン（１４）の手前において前記反応チャンバ（８）へと導入するように配置された閉じ込めガスのインジェクタをさらに備え、そして前記第２の化学元素のインジェクタは、該閉じ込めガスのインジェクタを含む、
ことを特徴とする装置。
【請求項１３】
前記第２の化学元素のインジェクタが、前記第２の化学元素を各々の反応流を囲む前記閉じた曲線に沿って分布したいくつかの点（１７）から放射されて各々の反応流の方向に周囲のガス流を向けるように配置される各々の反応流（１、１００、１０１、１０２、１０３、１０４、１０５、１０６）を囲む前記周囲のガス流（７）にて前記チャンバ（８）へと導入するように配置され、そして該第２の化学元素のインジェクタは、前記第２の化学元素を各々の反応流の前記相互作用ゾーン（１４）の後で前記周囲のガス流（７）にて前記チャンバ（８）へと導入するように配置されていることを特徴とする、請求項１２に記載の装置。
【請求項１４】
各々の反応流（１、１００、１０１、１０２、１０３、１０４、１０５、１０６）を囲み、前記流れの方向（１１）に沿って進む前記閉じ込めガス流（２）を、各々の反応流の前記相互作用ゾーン（１４）の手前において前記反応チャンバ（８）へと導入するように配置された前記閉じ込めガスのインジェクタを備えており、そして前記第２の化学元素のインジェクタが、該閉じ込めガスのインジェクタを含むことを特徴とする、請求項１２または１３に記載の装置。
【請求項１５】
前記少なくとも１つの反応流のインジェクタが、前記閉じ込めガス流（２）によって互いに隔てられ、各々が前記第１の化学元素を含んでおり、各々が前記流れの方向（１１）に沿って進むいくつかの反応流（１０１、１０２、１０３；１０４、１０５、１０６）からなる少なくとも１つの配列を、前記チャンバへと導入するように配置されていることを特徴とする、請求項１４に記載の装置。
【請求項１６】
前記エミッタが、前記放射線ビーム（３）が前記流れの方向（１１）に垂直な放射の方向（１２）に沿って進むように配置されており、そして前記少なくとも１つの反応流のインジェクタが、各々の反応流の配列（１０１、１０２、１０３；１０４、１０５、１０６）の流れが前記流れの方向（１１）および前記放射の方向（１２）に垂直な整列方向（１８）に沿って並ぶように配置されていることを特徴とする、請求項１５に記載の装置。
【請求項１７】
前記エミッタが、前記放射線ビーム（３）が前記流れの方向（１１）に垂直な放射の方向（１２）に沿って進むように配置され、そして前記少なくとも１つの反応流のインジェクタが、各々の反応流（１、１００、１０１、１０２、１０３、１０４、１０５、１０６）が前記流れの方向（１１）に垂直な平面において前記流れの方向（１１）および前記放射の方向（１２）に垂直な伸長方向（１３）に沿って縦長に広がる断面を有するように配置されていることを特徴とする、請求項１２〜１６のいずれか一項に記載の装置。
【請求項１８】
前記第２の化学元素のインジェクタが、前記第２の元素を各々の反応流の前記相互作用ゾーン（１４）の手前で各々の反応流（１、１００、１０１、１０２、１０３、１０４、１０５、１０６）にて前記第１の化学元素と一緒に前記チャンバ（８）へと導入するように配置されていることを特徴とする、請求項１２〜１７のいずれか一項に記載の装置。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２５
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２５】
本発明のさらに別の態様によれば、粒子を製造する装置であって、
−第１の化学元素を含む反応物を含んでいる反応物供給源と、
−前記反応物供給源に接続された反応チャンバと、
−前記反応物を含む少なくとも１つの反応流を、反応流ごとに１つの反応流ゾーンへと流れの方向に沿って進むように、そして前記反応物供給源から前記チャンバへと導入するように配置された反応物インジェクタと、
−反応流ごとに１つの相互作用ゾーンにおいて各々の反応流ゾーンに交わるように前記反応チャンバを通って放射線ビームを投射するように配置された放射線ビームのエミッタと、
−第２の化学元素の供給源と、
−前記第２の化学元素の供給源からの前記第２の化学元素を、該第２の化学元素が前記チャンバ内で各々の反応流と相互作用できるように、前記反応チャンバへと導入するように配置された第２の元素のインジェクタと
を備える装置が提案される。