【誤訳訂正書】
【提出日】平成29年1月5日(2017.1.5)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】発明の名称
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【発明の名称】反応器パッシベーションのための方法
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００４
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００４】
一つの実施態様では、脱塩化水素（デヒドロクロリネーション）反応器の表面をパッシベート（表面不活性化）させる方法であって、
ハイドロクロロフルオロプロパンの反応器への流れを停止させる工程、
脱塩化水素反応の選択性を回復させるために充分な時間の間、少なくとも２５℃の温度で前記反応器を通して、水素ガスを含むガス混合物を通過させる工程、
前記水素ガス混合物の流れを停止させる工程、および、
ヒドロクロロフルオロプロパンの脱塩化水素反応への流れを再開させる工程、を含むことを特徴とする方法が、開示されている。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００５
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００５】
別の実施態様では、式ＣＦ3ＣＸ＝ＣＸ2[各ＸはＦ又はＨであり、少なくとも一つのＸはＨであり、且つ少なくとも一つのＸはＦである]のフルオロプロペンを製造するための方法であって、
式ＣＦ3ＣＸＹＣＸ2Ｙ[各ＸはＦ又はＨであり、少なくとも一つのＸはＨであり、且つ少なくとも一つのＸはＦであり、且つ一つのＹはＣｌであり、且つ他方のＹはＨである]のヒドロクロロフルオロプロパンを、ガス相中で触媒の不存在下、反応器中で熱分解させ、前記ヒドロクロロフルオロプロパンが前記フルオロプロペンに熱分解されるために充分高い温度に維持され、前記反応容器は定期的に前記反応容器の内側表面をパッシベートさせるパッシベーション工程に曝されることを特徴とする方法が、開示されている。
【誤訳訂正４】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００８
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００８】
一つの実施態様では、脱塩化水素反応器の表面をパッシベートさせる方法であって、
ハイドロクロロフルオロプロパンの反応器への流れを停止させる工程、
脱塩化水素反応の選択性を回復させるために充分な時間の間、少なくとも２５℃の温度で前記反応器を通して、水素ガスを含むガス混合物を通過させる工程、
前記水素ガス混合物の流れを停止させる工程、および、
ヒドロクロロフルオロプロパンの脱塩化水素反応への流れを再開させる工程、を含むことを特徴とする方法が、開示されている。
【誤訳訂正５】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００９
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００９】
別の実施態様では、式ＣＦ3ＣＸ＝ＣＸ2[各ＸはＦ又はＨであり、少なくとも一つのＸはＨであり、且つ少なくとも一つのＸはＦである]のフルオロプロペンを製造するための方法であって、
式ＣＦ3ＣＸＹＣＸ2Ｙ[各ＸはＦ又はＨであり、少なくとも一つのＸはＨであり、且つ少なくとも一つのＸはＦであり、且つ一つのＹはＣｌであり、且つ他方のＹはＨである]のヒドロクロロフルオロプロパンを、ガス相で触媒の不存在下、反応器中で熱分解させ、前記ヒドロクロロフルオロプロパンが前記フルオロプロペンに熱分解されるために充分高い温度に維持され、前記反応容器は定期的に前記反応容器の内側表面をパッシベートさせるパッシベーション工程に曝されることを特徴とする方法が、開示されている。
【誤訳訂正６】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１９
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１９】
本明細書において、脱塩化水素反応の「選択性の回復」は、反応器の内側表面を不動態化させて、フッ化金属および／または塩化金属を取り除き、形成された脱塩化水素物の量に対する、ヒドロクロロフルオロプロパンの脱ハロゲン化水素で形成された脱フッ化水素物の量を減少させることを指す。  
本明細書において、パッシベーション工程に「定期的に曝す」は、本明細書に記載のように、一定の間隔で、脱塩化水素反応器の内側を不動態化工程に曝すことを指し、この工程の頻度は、前記反応器の内側表面上にフッ化金属および／または塩化金属を形成させるヒドロクロロフルオロカーボン反応器フィード中の不純物の濃度に相関する。  
【誤訳訂正７】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３３
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３３】
いくつかの実施態様では、熱的脱塩化水素反応の選択性は、反応器の内側表面を不動態化により増加されうる。これは、反応器を通して水素を含むガスを通過させることにより達成しうる。いくつかの実施態様では、脱塩化水素のために反応器にフィードされるヒドロクロロフルオロカーボンの流れは、ガスを含む水素の導入前、または実質的に導入と同時に停止される。いくつかの実施態様では、脱塩化水素のために反応器にフィードされるヒドロクロロフルオロカーボンの流れは、パッシベートプロセス中において中断されない。
【誤訳訂正８】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３４
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３４】
いくつかの実施態様では、水素を含むガスは１００％水素である。いくつかの実施態様では、水素を含むガスは、水素と不活性希釈用ガスの混合物である。いくつかの実施態様では、不活性希釈用ガスは、窒素、ヘリウム、アルゴン、またはネオンおよびこれらの混合物である。追加の実施形態では、水素以外の還元剤を適用してもよい。そのような還元剤は、限定されることなく、ＮＨ3（アンモニア）、ＣＯ（一酸化炭素）、ＣＨ4（メタン）、これらの混合物、水素との混合物を含むものを使用することができる。これらの還元剤は、更に、例えば、一つの実施態様では、アンモニアと窒素の混合物が使用されるように、上記の不活性希釈用ガスと混合することができる。一つの実施例では、そのように、アンモニアは還元剤として働く。別の実施態様では、その分解温度（約４５０℃〜約５００℃）および、その最初の温度（約４３０℃）により示唆されているように、アンモニアは不動態化のための水素の供給源である。いくつかの実施態様では、このガスは０．５モル％〜１００モル％の水素を含む。いくつかの実施態様では、このガスは０．５モル％〜３０モル％の水素を含む。いくつかの実施態様では、このガスは３モル％〜３０モル％の水素を含む。この熱的脱塩化水素反応に対する反応器の表面の不動態化に必要な時間の長さは、水素を含むガス混合物中における水素の量に反比例的に変化する。より低い濃度では、反応器の表面のパッシベートに長い時間を必要とする。より高い濃度は、パッシベーション工程を完了させることになり、そして、短い時間で脱塩化水素反応の選択性を増加させることになる。
【誤訳訂正９】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３５
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３５】
いくつかの実施態様では、パッシベーションプロセスは約２５℃〜約６００℃の温度で実施されうる。いくつかの実施態様では、パッシベーションプロセスは約２００℃〜約５００℃の温度で実施されうる。いくつかの実施態様では、パッシベーションプロセスは約４００℃〜約５００℃の温度で実施されうる。別の実施態様では、パッシベーションプロセスは、反応器の温度セットポイントを変える必要なく、脱塩化水素プロセスと同じ温度で実施される。
【誤訳訂正１０】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００５１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００５１】
（実施例４）
実施例４は、３％水素ガスで反応器表面をパッシベートした効果を示す。
【誤訳訂正１１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
脱塩化水素反応器の表面をパッシベートさせる方法であって、
ハイドロクロロフルオロプロパンの反応器への流れを停止させる工程、
脱塩化水素反応の選択性を回復させるために充分な時間の間、少なくとも２５℃の温度で、前記反応器を通して水素ガスを含むガス混合物を通過させる工程、
前記水素ガス混合物の流れを停止させる工程、および、
ヒドロクロロフルオロプロパンの脱塩化水素反応器への流れを再開させる工程、を含み、
前記ガス混合物が更に不活性希釈用ガスを含み、前記ガス混合物中の水素ガスの濃度がモルパーセントで、少なくとも０．５％であることを特徴とする方法。
【請求項２】
前記ガス混合物中の水素ガスの濃度がモルパーセントで、少なくとも３％であることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記ガス混合物中の水素ガスの濃度がモルパーセントで、少なくとも１０％であることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項４】
不活性希釈用ガスは、窒素、ヘリウム、アルゴン、またはネオン、およびそれらの混合物であることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記方法が少なくとも一大気圧の圧力下に維持されていることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記方法が少なくとも２００℃の温度に維持されていることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項７】
脱塩化水素に対する選択性が少なくとも９０％に増加することを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項８】
脱塩化水素に対する選択性が少なくとも９５％に増加することを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項９】
式ＣＦ3ＣＸ＝ＣＸ2[各ＸはＦ又はＨであり、少なくとも一つのＸはＨであり、且つ少なくとも一つのＸはＦである]のフルオロプロペンを製造するための方法であって、
式ＣＦ3ＣＸＹＣＸ2Ｙ[各ＸはＦ又はＨであり、少なくとも一つのＸはＨであり、且つ少なくとも一つのＸはＦであり、且つ一つのＹはＣｌであり、且つ他方のＹはＨである]のヒドロクロロフルオロプロパンを、ガス相中で触媒の不存在下、反応容器中で熱分解させ、前記ヒドロクロロフルオロプロパンが前記フルオロプロペンに熱分解されるために充分高い温度に維持され、前記反応容器は定期的に前記反応容器の内側表面をパッシベーション工程に曝され、
前記パッシベーション工程は、
（ｉ）ヒドロクロロフルオロプロパンの反応容器への流れを停止させる工程、
脱塩化水素反応の選択性を回復させるために充分な時間の間、少なくとも２００℃の温度で反応器を通して、水素ガスを含むガス混合物を通過させる工程、
前記ガス混合物の流れを停止させる工程、および、
ヒドロクロロフルオロプロパンの流れを再開させて、熱分解反応を再開させる工程、
または、
（ｉｉ）ヒドロクロロフルオロプロパンの流れが継続している間、脱塩化水素反応の選択性を維持するために充分な時間の間、前記反応器中に水素を含むガス混合物の流れを導入する工程、および、その後、水素を含む前記ガス混合物の前記流れを継続させない工程、 を含み、
前記ガス混合物が更に不活性希釈用ガスを含み、前記ガス混合物中の水素ガスの濃度がモルパーセントで、少なくとも０．５％であることを特徴とする方法。
【請求項１０】
前記不活性希釈用ガスは、窒素、ヘリウム、アルゴン、またはネオンであることを特徴とする請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
前記パッシベーション工程が２０００時間の操作後に実行されることを特徴とする請求項９に記載の方法。
【請求項１２】
前記パッシベーション工程が５０時間の操作後に実行されることを特徴とする請求項９に記載の方法。
【請求項１３】
前記ガス混合物中の水素ガスの濃度がモルパーセントで、少なくとも３％であることを特徴とする請求項９に記載の方法。
【請求項１４】
前記脱塩化水素反応に対する選択性が少なくとも９０％に増加することを特徴とする請求項９に記載の方法。
【請求項１５】
前記脱塩化水素反応に対する選択性が少なくとも９５％に増加することを特徴とする請求項９に記載の方法。
【請求項１６】
前記パッシベーション工程は、ヒドロクロロフルオロプロパンの流れが継続している間、脱塩化水素反応の選択性を維持するために充分な時間の間、前記反応器中に水素を含むガス混合物の流れを導入する工程、
および、その後、水素を含む前記ガス混合物の前記流れを継続させない工程、を含むことを特徴とする請求項９に記載の方法。
【請求項１７】
前記パッシベーション工程は、少なくとも４００℃の温度で脱塩化水素化が行なわれる温度で行われる請求項１６に記載の方法。
【請求項１８】
脱塩化水素反応器の表面をパッシベートさせる方法であって、
ハイドロクロロフルオロプロパンの反応器への流れを停止させる工程、
ガス混合物を通過させる工程であって、
前記ガス混合物は、
（ｉ）脱塩化水素反応の選択性を回復させるために充分な時間の間、少なくとも２５℃の温度で前記反応器を通して、一酸化炭素、および任意選択的にＮＨ3、ＣＯ，ＣＨ4、水素及びこれらの組合せから選択される他の還元剤を含み、任意選択的に１種以上の不活性希釈剤と混合された還元剤、
または、
（ｉｉ）脱塩化水素反応の選択性を回復させるために充分な時間の間、少なくとも４３０℃の温度で、ＮＨ3を含み、任意選択的に１種以上の不活性希釈剤と混合された還元剤、  含む、工程、
前記水素ガス混合物の流れを停止させる工程、および、
ヒドロクロロフルオロプロパンの脱塩化水素反応への流れを再開させる工程、を含むことを特徴とする方法。
【請求項１９】
還元剤が１種以上の不活性希釈剤と混合されたＮＨ3であることを特徴とする請求項１８に記載の方法。
【請求項２０】
ＮＨ3は窒素と混合されていることを特徴とする請求項１８に記載の方法。
【請求項２１】
前記ガス混合物中の水素ガスの濃度が、０．５〜３０モル％であることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項２２】
前記ガス混合物中の水素ガスの濃度が、０．５〜３０モル％であることを特徴とする請求項１８に記載の方法。