【誤訳訂正書】
【提出日】平成29年5月12日(2017.5.12)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
２つの無機基材同士をマイクロ波エネルギー源を利用してシールする方法であり、
（ａ）第１と第２の無機基材を提供する工程と、
（ｂ）（ｉ）ガラスフリットと、
（ｉｉ）マイクロ波カップリング添加剤と、
を含むペースト組成物を第１と第２の基材の内少なくとも１つに塗布する工程と、
（ｃ）前記ペースト組成物が前記基材の間にあり、両基材と接触するように前記基材を配置する工程と、
（ｄ）前記基材と前記ペーストをマイクロ波照射することにより２つの基材の間に気密シールを形成する工程と、
を含み、
前記ガラスフリットが、焼成の前に、
（Ｉ）２５〜６５モル％のＢｉ２Ｏ３と、
（ＩＩ）３〜６０モル％のＺｎＯと、
（ＩＩＩ）４〜６５モル％のＢ２Ｏ３と、
（ＩＶ）０．１〜１５モル％のＣｕＯ、Ｆｅ２Ｏ３、Ｃｏ２Ｏ３、Ｃｒ２Ｏ３、及びそれらの組み合わせからなる群から選択される少なくとも１つと、
（Ｖ）０．１〜４０モル％の、ＴｅＯ２，Ｔｌ２Ｏ，Ｖ２Ｏ５，ＧｅＯ２及びその組み合わせからなる群より選択された少なくとも一つと、
を含み、
（ＶＩ）シリコン酸化物が意図的に添加されておらず、
（ＶＩＩ）アルミニウム酸化物が意図的に添加されていない、
ものであり、
前記マイクロ波カップリング添加剤が、フェロ磁性金属、遷移金属、鉄、コバルト、ニッケル、ガドリニウム、ジスプロシウム、ＭｎＢｉ合金、ＭｎＳｂ合金、ＭｎＡｓ合金、ＣｕＯ・Ｆｅ２Ｏ３、  ＭｇＯ・Ｆｅ２Ｏ３、ＭｎＯ・Ｆｅ２Ｏ３、ＮｉＯ・Ｆｅ２Ｏ３、Ｙ３Ｆｅ５Ｏ１２、ＣｒＯ２、アルカリ土類チタン酸塩、チタン酸レニウム、チタン酸レニウムビスマス、チタン酸の希土類塩、及びそれらの組み合わせからなる群から選択される、方法。
【請求項２】
請求項１に記載の方法であって、前記マイクロ波照射の周波数が約０．９ＧＨｚ〜約２．５ＧＨｚである方法。
【請求項３】
請求項１に記載の方法であって、前記マイクロ波照射が１平方センチメートルあたり０．１〜１５ｋＷの熱流束を提供する方法。
【請求項４】
請求項１に記載の方法であって、前記マイクロ波照射が毎秒０．１〜１０，０００℃の速度で前記基材及び前記ペーストの少なくとも一部を加熱する方法。
【請求項５】
請求項１に記載の方法であって、前記基材の内の１つがガラスであり、もう一方の基材がセラミックである方法。
【請求項６】
請求項１に記載の方法であって、さらに、ビスマスマンガン顔料、ペロブスカイトマンガナイト、Ｂｉ２Ｍｎ４Ｏ１０、Ｂｉ１２ＭｎＯ２０、及びＢｉ２Ｏ３とＭｎＯ２のモル比が５：１〜１：５のビスマスマンガン顔料からなる群から選択される少なくとも１つのマンガン含有成分を添加する工程を含む方法。
【請求項７】
請求項１に記載の方法であって、さらに、少なくとも１つのＭｎ（ＩＩ）添加剤を前記ペーストに添加する工程を含む方法。
【請求項８】
請求項１に記載の方法であって、前記ペーストがさらにエポキシ及び有機−無機ハイブリッド材料からなる群から選択される少なくとも１つを含み、第１の基材がガラスであるという条件で、第２の基材がガラス、金属及びセラミックからなる群から選択される方法。
【請求項９】
ガラスフリット及びマイクロ波カップリング添加剤を含み、鉛フリー及びカドミウムフリーのシーリングガラス組成物であって、前記ガラスフリットが、焼成の前に、（ａ）２５〜６５モル％のＢｉ２Ｏ３と、（ｂ）３〜６０モル％のＺｎＯと、（ｃ）４〜６５モル％のＢ２Ｏ３と、（ｄ）０．１〜１５モル％のＣｕＯ、Ｆｅ２Ｏ３、Ｃｏ２Ｏ３、Ｃｒ２Ｏ３、及びそれらの組み合わせからなる群から選択される少なくとも１つと、（ｅ）０．１〜４０モル％の、ＴｅＯ２，Ｔｌ２Ｏ，Ｖ２Ｏ５，ＧｅＯ２及びその組み合わせからなる群より選択された少なくとも一つとを含み、（ｆ）シリコン酸化物が意図的に添加されておらず、（ｇ）アルミニウム酸化物が意図的に添加されておらず、
前記マイクロ波カップリング添加剤が、フェロ磁性金属、遷移金属、鉄、コバルト、ニッケル、ガドリニウム、ジスプロシウム、ＭｎＢｉ合金、ＭｎＳｂ合金、ＭｎＡｓ合金、ＣｕＯ・Ｆｅ２Ｏ３、  ＭｇＯ・Ｆｅ２Ｏ３、ＭｎＯ・Ｆｅ２Ｏ３、ＮｉＯ・Ｆｅ２Ｏ３、Ｙ３Ｆｅ５Ｏ１２、ＣｒＯ２、アルカリ土類チタン酸塩、チタン酸レニウム、チタン酸レニウムビスマス、チタン酸の希土類塩、及びそれらの組み合わせからなる群から選択されるシーリングガラス組成物。
【請求項１０】
第１と第２のガラス板同士を結合する方法であり、該方法は、その間に画定される空洞を気密的に封止及び分離するように、
（ａ）（ｉ）２５〜６５モル％のＢｉ２Ｏ３と、
（ｉｉ）３〜６０モル％のＺｎＯと、
（ｉｉｉ）４〜６５モル％のＢ２Ｏ３と、
（ｉｖ）０．１〜４０モル％の、ＴｅＯ２，Ｔｌ２Ｏ，Ｖ２Ｏ５，ＧｅＯ２及びその組み合わせからなる群より選択された少なくとも一つと、を含み、
（ｖ）シリコン酸化物が意図的に添加されておらず、
（ｖｉ）アルミニウム酸化物が意図的に添加されていない、
第１の均質な粉ガラスシーリング組成物を提供する工程と、
（ｂ）（ｉ）３７〜４５モル％のＢｉ２Ｏ３と、
（ｉｉ）３０〜４０モル％のＺｎＯと、
（ｉｉｉ）１８〜３２．９モル％のＢ２Ｏ３と、
（ｉｖ）０．１〜１５モル％のＣｕＯ、Ｆｅ２Ｏ３、Ｃｏ２Ｏ３、Ｃｒ２Ｏ３、及びそれらの組み合わせからなる群から選択される少なくとも１つと、を含み、
（ｖ）シリコン酸化物が意図的に添加されておらず、
（ｖｉ）アルミニウム酸化物が意図的に添加されていない、
第２の均質な粉ガラスシーリング組成物を提供する工程と、
（ｃ）  フェロ磁性金属、遷移金属、鉄、コバルト、ニッケル、ガドリニウム、ジスプロシウム、ＭｎＢｉ合金、ＭｎＳｂ合金、ＭｎＡｓ合金、ＣｕＯ・Ｆｅ２Ｏ３、  ＭｇＯ・Ｆｅ２Ｏ３、ＭｎＯ・Ｆｅ２Ｏ３、ＮｉＯ・Ｆｅ２Ｏ３、Ｙ３Ｆｅ５Ｏ１２、ＣｒＯ２、アルカリ土類チタン酸塩、チタン酸レニウム、チタン酸レニウムビスマス、チタン酸の希土類塩、及びそれらの組み合わせからなる群から選択されるマイクロ波カップリング添加剤を提供する工程と、
（ｄ）均質な混合物を形成するように第１の粉と第２の粉及びマイクロ波カップリング添加剤を混合する工程と、
（ｅ）前記の均質な混合物を、第１のガラス板と第２のガラス板の内少なくとも１つに塗布する工程と、
（ｆ）第１の粉と第２の粉が両方のガラス板と接するように第１のガラス板と第２のガラス板を配置する工程と、
（ｇ）第１の粉と第２の粉を焼結し流動させ、第１及び第２のガラス板の間の空洞を画定する気密シールを形成する為に、前記ガラス板と前記の粉を０．９〜２．５ＧＨＺの周波数の電磁界でマイクロ波加熱する工程と、
を含む、方法。
【請求項１１】
請求項１０に記載の方法であって、少なくとも１つのガラスパネルがスマートガラスパネルである方法。
【請求項１２】
ガラスフリットとマイクロ波カップリング添加剤を含む、鉛フリー及びカドミウムフリーのシーリングガラス組成物であり、該ガラスフリットは焼成の前に、
（ａ）５〜６５モル％のＺｎＯと、
（ｂ）１０〜６５モル％のＳｉＯ２と、
（ｃ）５〜５５モル％のＢ２Ｏ３＋Ａｌ２Ｏ３と、
（ｄ）０．１〜４０モル％の、ＴｅＯ２，Ｔｌ２Ｏ，Ｖ２Ｏ５，Ｔａ２Ｏ５，ＧｅＯ２及びその組み合わせからなる群より選択された少なくとも一つと
を含み、
前記マイクロ波カップリング添加剤は、フェロ磁性金属、遷移金属、鉄、コバルト、ニッケル、ガドリニウム、ジスプロシウム、ＭｎＢｉ合金、ＭｎＳｂ合金、ＭｎＡｓ合金、ＣｕＯ・Ｆｅ２Ｏ３、  ＭｇＯ・Ｆｅ２Ｏ３、ＭｎＯ・Ｆｅ２Ｏ３、ＮｉＯ・Ｆｅ２Ｏ３、Ｙ３Ｆｅ５Ｏ１２、ＣｒＯ２、アルカリ土類チタン酸塩、チタン酸レニウム、チタン酸レニウムビスマス、チタン酸の希土類塩、及びそれらの組み合わせからなる群から選択される、
シーリングガラス組成物。
【請求項１３】
ガラスフリットとマイクロ波カップリング添加剤を含む、鉛フリー及びカドミウムフリーのシーリングガラス組成物であり、該ガラスフリットは焼成の前に、
（ａ）５〜５５モル％のＬｉ２Ｏ＋Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏと、
（ｂ）２〜２６モル％のＴｉＯ２と、
（ｃ）５〜７５モル％のＢ２Ｏ３＋ＳｉＯ２と、
（ｄ）０．１〜４０モル％のＴｅＯ２、Ｔｌ２Ｏ、Ｔａ２Ｏ５、ＧｅＯ２、及びそれらの組み合わせからなる群から選択される少なくとも１つと、
（ｅ）０．１〜２０モル％のＦと、
を含み、
前記マイクロ波カップリング添加剤は、フェロ磁性金属、遷移金属、鉄、コバルト、ニッケル、ガドリニウム、ジスプロシウム、ＭｎＢｉ合金、ＭｎＳｂ合金、ＭｎＡｓ合金、ＣｕＯ・Ｆｅ２Ｏ３、  ＭｇＯ・Ｆｅ２Ｏ３、ＭｎＯ・Ｆｅ２Ｏ３、ＮｉＯ・Ｆｅ２Ｏ３、Ｙ３Ｆｅ５Ｏ１２、ＣｒＯ２、アルカリ土類チタン酸塩、チタン酸レニウム、チタン酸レニウムビスマス、チタン酸の希土類塩、及びそれらの組み合わせからなる群から選択される、
シーリングガラス組成物。