(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
反応管内に複数のガラスバルブを配置し、前記反応管内に原料気体を流通させることにより、前記ガラスバルブ表面に、前記原料気体が化学的に変化してなる被膜を形成する工程を含み、
複数の前記ガラスバルブが前記反応管の管軸に垂直な方向に配列しており、
前記ガラスバルブと前記反応管の内壁との間に、前記ガラスバルブの配列方向と前記反応管の管軸とに平行な平面を有し、且つ、前記ガラスバルブを配置するのに要する空間と前記反応管の内壁との間の空間を占居する遮蔽部材を配置することにより、前記反応管内の前記原料気体を流通させる空間の少なくとも一部において、前記空間の前記反応管の管軸に垂直な断面の形状を、前記ガラスバルブの配列方向に平行な直線を含む形状とすることを特徴とする白熱電球の製造方法。
【請求項２】
反応管内に複数のガラスバルブを配置し、前記反応管内に原料気体を流通させることにより、前記ガラスバルブ表面に、前記原料気体が化学的に変化してなる被膜を形成する工程を含み、
複数の前記ガラスバルブが前記反応管の管軸に垂直な方向に配列しており、
前記ガラスバルブと前記反応管の内壁との間に、前記ガラスバルブの配列方向に平行な直線を含む形状の遮蔽板を、前記反応管の管軸に垂直となるように配置することによって、前記反応管内の前記原料気体を流通させる空間の少なくとも一部において、前記空間の前記反応管の管軸に垂直な断面の形状を、前記ガラスバルブの配列方向に平行な直線を含む形状とすることを特徴とする白熱電球の製造方法。
【請求項３】
前記反応管内の前記原料気体を流通させる空間の少なくとも一部において、前記空間の前記反応管の管軸に垂直な断面の形状が、長方形である請求項１または２のいずれかに記載の白熱電球の製造方法。
【請求項４】
反応管内に複数のガラスバルブを配置し、前記反応管内に原料気体を流通させることにより、前記ガラスバルブ表面に、前記原料気体が化学的に変化してなる被膜を形成する工程を含み、
複数の前記ガラスバルブが、前記反応管の管軸に垂直な方向に配列して列を形成しており、前記列の最端部に配置された前記ガラスバルブと前記反応管の内壁との間に、遮蔽部材が配置されていることを特徴とする白熱電球の製造方法。
【請求項５】
前記遮蔽部材が、板状または網状の部材である請求項４に記載の白熱電球の製造方法。
【請求項６】
前記ガラスバルブが、支持台に装着された状態で前記反応管内に配置されており、前記遮蔽部材が前記支持台に取り付けられている請求項４または５に記載の白熱電球の製造方法。
【請求項７】
反応管内に複数のガラスバルブを装着した支持台を配置し、前記反応管内に原料気体を流通させることにより、前記ガラスバルブ表面に、前記原料気体が化学的に変化してなる被膜を形成する工程を含み、前記反応管内において、前記支持台と前記反応管の内壁との間に介在する支持具が少なくとも２個配置されており、前記支持台が、前記支持具同士の間に挟持されていることを特徴とする白熱電球の製造方法。
【請求項８】
前記支持具が、前記支持台の側面と前記反応管の内壁との間に介在する請求項７に記載の白熱電球の製造方法。
【請求項９】
前記支持具が、前記反応管の内壁と接触する部分または前記支持台と接触する部分に、前記反応管の管軸方向に回転する回転機構を備えている請求項７または８記載の白熱電球の製造方法。
【請求項１０】
前記反応管内において、前記ガラスバルブが、前記反応管の管軸に垂直な方向および前記反応管の管軸に平行な方向の、少なくとも２方向に配列されている請求項１〜９いずれかに記載の白熱電球の製造方法。
【請求項１１】
前記被膜が、チタン酸化膜、タンタル酸化膜およびシリコン酸化膜から選ばれる少なくとも１種の金属酸化膜である請求項１〜１０いずれかに記載の白熱電球の製造方法。
【請求項１２】
前記反応管内の温度を、３５０〜９００℃とする請求項１〜１１のいずれかに記載の白熱電球の製造方法。
【請求項１３】
前記反応管内の圧力を、１０Ｔｏｒｒ以下とする請求項１〜１２のいずれかに記載の白熱電球の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、一般照明、店舗照明、自動車ヘッドライトなどに用いられる白熱電球の製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
白熱電球は、ガラスバルブの内部に、管軸方向に沿ってフィラメントが配置されるとともに不活性ガスが封入された構造を有し、フィラメントを加熱して白熱させることによって光源を得るものである。しかし、この白熱電球は、放射する光の８０％以上が赤外線であるため、入力電力の利用効率が悪く、しかも被照射物の温度を上げてしまうという欠点がある。そこで、ガラスバルブ表面に赤外線反射膜を設けることにより、赤外線をフィラメントに戻し、フィラメントの加熱に利用して省電力化を図ることが提案されている。赤外線反射膜としては、２種の金属酸化膜が積層してなる多層膜が用いられ、その形成方法としては、有機金属化合物の溶液にガラスバルブを浸漬した後、これを乾燥、焼成して金属酸化膜を析出させる、いわゆるディップ法が提案されている（特開平４−４７６６０号公報）。しかし、ディップ法を採用する場合、赤外線反射膜の積層数および膜厚、使用できるガラスバルブの形状が制限されるという欠点があった。
【０００３】
上記問題を解決するため、赤外線反射膜の形成方法として、化学蒸着法（ＣＶＤ法）を採用することが提案されている。例えば、特開平４−１２９１６９号公報には、減圧した反応管内で有機金属化合物の蒸気を熱分解または化学反応させることによって、反応管内に配置されたガラスバルブ表面に金属酸化膜を形成する、減圧ＣＶＤ法を採用することが提案されている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
図１１に示すように、ＣＶＤ法による赤外線反射膜の形成は、通常、円柱状の反応管６３を使用し、この反応管６３内に、複数のガラスバルブ６１を装着した支持台６２を配置して実施される。しかし、このような従来の形成方法では、形成される赤外線反射膜の膜厚にばらつきが生じ易いという問題があった。
【０００５】
本発明は、ガラスバルブ表面に形成される赤外線反射膜の膜厚のばらつきを低減できる白熱電球の製造方法を提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するため、本発明の第１の製造方法は、反応管内に複数のガラスバルブを配置し、前記反応管内に原料気体を流通させることにより、前記ガラスバルブ表面に、前記原料気体が化学的に変化してなる被膜を形成する工程を含み、複数の前記ガラスバルブが前記反応管の管軸に垂直な方向に配列しており、前記反応管内の前記原料気体を流通させる空間の少なくとも一部において、前記空間の前記反応管の管軸に垂直な断面の形状が、前記ガラスバルブの配列方向に平行な直線を含む形状であることを特徴とする。なお、前記原料気体は、前記反応管の管軸に平行な方向に流れるものとする。
【０００７】
従来のように、円柱状の反応管、すなわち内部空間の管軸に垂直な断面が円形である反応管を使用する場合、各ガラスバルブに供給される原料気体の量が大きく相違するため、このことが被膜の膜厚のばらつきを招く一因となっていた。例えば、図１１に示すように、円柱状の反応管６３内に複数のガラスバルブ６１を配置した場合、反応管の中央部と外側とでは、ガラスバルブの上端と反応管内壁との間の距離が大きく相違する。そのため、中央部に配置されたガラスバルブと外側に配置されたガラスバルブとでは、原料気体の供給量が相違し、形成される被膜の膜厚が相違する。
【０００８】
しかし、第１の製造方法によれば、原料気体が流通する空間の断面をガラスバルブの配向方向に平行な直線を含む形状とすることにより、各ガラスバルブに供給される原料気体の量をほぼ同等にして、形成される被膜の膜厚のばらつきを低減することができる。更に、第１の製造方法によれば、従来の円柱状の反応管に比べて、反応管の少なくとも一部において、原料気体が流通する空間の断面積を縮小することができるため、原料気体の利用率を向上させることができる。
【０００９】
前記第１の製造方法の一形態においては、前記反応管の内壁の少なくとも一部を、前記ガラスバルブの配列方向と前記反応管の管軸とに平行な平面で構成する。すなわち、従来の円柱状の反応管ではなく、管軸に平行な平面を有する形状に成形された反応管を使用する。この形態によれば、前記反応管内の前記原料気体を流通させる空間の少なくとも一部において、前記空間の前記反応管の管軸に垂直な断面の形状が、前記ガラスバルブの配列方向に平行な直線を含む形状とされる。しかし、反応管自体の内壁を平面に成形する場合、十分な強度を確保するために壁を厚くする必要があるため、反応管の作製が困難となるうえに、反応管内の昇温に要する時間が長くなるという問題がある。
【００１０】
そこで、前記第１の製造方法の別の形態においては、前記ガラスバルブと前記反応管の内壁との間に、前記ガラスバルブの配列方向と前記反応管の管軸とに平行な平面を有し、且つ、前記ガラスバルブと前記反応管の内壁との間の空間を占拠する遮蔽部材が配置された形態とすることができる。なお、遮蔽部材とは、原料気体の少なくとも一部を透過しないような部材を意味する。この形態によれば、前記反応管内の前記原料気体を流通させる空間の少なくとも一部において、前記空間の前記反応管の管軸に垂直な断面の形状が、前記ガラスバルブの配列方向に平行な直線を含む形状とされる。この例によれば、原料気体の流通する空間の断面形状を遮蔽部材によって調整することができるため、反応管自体の形状を問わない。従って、壁厚を比較薄く設定することが可能な円柱状の反応管を使用しながら、被膜の膜厚のばらつきを低減し、原料気体の利用率の向上を図ることが可能である。
【００１１】
また、前記第１の製造方法の別の形態は、前記ガラスバルブと前記反応管の内壁との間に、前記ガラスバルブの配列方向に平行な直線を含む形状の遮蔽板が、前記反応管の管軸に垂直となるように配置された形態である。この形態によれば、前記反応管内の前記原料気体を流通させる空間の少なくとも一部において、前記空間の前記反応管の管軸に垂直な断面の形状が、前記ガラスバルブの配列方向に平行な直線を含む形状とされる。なお、遮蔽板とは、原料気体の少なくとも一部を透過しないような板状または網状部材を意味する。この例によっても、円柱状の反応管を使用しながら、被膜の膜厚のばらつきを低減し、原料気体の利用率の向上を図ることが可能である。
【００１２】
また、前記第１の製造方法においては、前記反応管内の前記原料気体を流通させる空間の少なくとも一部において、前記空間の前記反応管の管軸に垂直な断面の形状が、長方形であることが好ましい。より確実に、被膜の膜厚のばらつきを低減し、原料気体の利用率を向上させることができるからである。その他、前記空間の断面形状としては、円を、円周上の２点を結ぶ１つの直線で切断した形状が挙げられる。
【００１３】
上記目的を達成するため、本発明の第２の製造方法は、反応管内に複数のガラスバルブを配置し、前記反応管内に原料気体を流通させることにより、前記ガラスバルブ表面に、前記原料気体が化学的に変化してなる被膜を形成する工程を含み、複数の前記ガラスバルブが、前記反応管の管軸に垂直な方向に配列して列を形成しており、前記列の端部に配置された前記ガラスバルブと前記反応管の内壁との間に、遮蔽部材が配置されていることを特徴とする。なお、遮蔽部材とは、原料気体の少なくとも一部を透過しないような部材を意味する。
【００１４】
図１１に示すように、反応管６３内に複数のガラスバルブ６１を配置した場合、外側に配置されたガラスバルブにおいては、別のガラスバルブに面する部分と、反応管の内壁に面する部分とが存在する。従来の製造方法においては、この両部分に形成される被膜の膜厚を比較すると、反応管の内壁に面する部分の膜厚の方が大きかった。この膜厚の相違は、反応管の内壁に面する部分に供給される原料気体の量が、別のガラスバルブに面する部分よりも多くなるために生じるものである。
【００１５】
しかし、本発明の第２の製造方法によれば、遮蔽部材を配置することによって、ガラスバルブの遮蔽部材に面する部分に供給される原料気体の量を調整することができる。従って、外側に配置されたガラスバルブにおいて、形成される被膜の膜厚のばらつきを低減することが可能となる。
【００１６】
前記第２の製造方法においては、前記遮蔽部材として、板状または網状の部材を使用することができる。
【００１７】
また、前記第２の製造方法においては、前記ガラスバルブが、支持台に装着された状態で前記反応器内に配置されており、前記遮蔽部材が前記支持台に取り付けられていることが好ましい。遮蔽部材とガラスバルブとの距離の調整が容易であるうえ、遮蔽部材とガラスバルブとを同時に反応管内に配置できるため、作業効率が向上する。
【００１８】
上記目的を達成するため、本発明の第３の製造方法は、反応管内に複数のガラスバルブを装着した支持台を配置し、前記反応管内に原料気体を流通させることにより、前記ガラスバルブ表面に、前記原料気体が化学的に変化してなる被膜を形成する工程を含み、前記反応管内において、前記支持台と前記反応管の内壁との間に介在する支持具が少なくとも２個配置されており、前記支持台が、前記支持具同士の間に挟持されていることを特徴とする。
【００１９】
ＣＶＤ法による被膜形成においては、形成される被膜の膜厚を均一とするために、反応管内で原料気体が円滑に流れるように、ガラスバルブを反応管の管軸に沿って配列することが理想とされる。しかし、従来の製造方法においては、支持台を搬入するときの作業誤差、ガラスバルブの重量による支持台の傾き、被膜形成時の熱膨張による支持台寸法の変動などによって、反応管内における支持台の位置ずれおよび変形が生じる。従って、ガラスバルブを確実に管軸に沿って配列させることが困難であり、これが被膜の膜厚のばらつきを招く一因であった。
【００２０】
しかし、本発明の第３の製造方法によれば、支持台は支持具により挟持されているため、少なくともその挟持方向については、支持台の位置ずれおよび寸法の変動を抑制することができる。従って、ガラスバルブの配列方向の規制が比較的容易であり、被膜の膜厚のばらつきを低減することが可能である。
【００２１】
前記第３の製造方法においては、前記支持台の側面と前記反応管の内壁との間に介在することが好ましい。この好ましい例によれば、支持台が支持具によって水平方向（重力方向に垂直な方向）に挟持されるため、従来の製造方法において特に制御が困難であった支持台の水平方向における位置および寸法について、位置ずれおよび寸法の変動を抑制することができる。
【００２２】
また、前記第３の製造方法においては、前記支持具が、前記反応管の内壁または前記支持台と接触する部分に、前記反応管の管軸方向に回転する回転機構を備えていることが好ましい。反応管内への支持台の搬入が円滑に実施でき、作業効率が向上するからである。
【００２３】
前記第１、第２および第３の製造方法においては、前記反応管内において、前記ガラスバルブが、前記反応管の管軸に垂直な方向および前記反応管の管軸に平行な方向の、少なくとも２方向に配列されていることが好ましい。
【００２４】
また、前記第１、第２および第３の製造方法においては、前記被膜が、チタン酸化膜、タンタル酸化膜およびシリコン酸化膜から選ばれる少なくとも１種の金属酸化膜であることが好ましい。特に、前記被膜は、チタン酸化膜またはタンタル酸化膜と、シリコン酸化膜とが積層してなる多層膜であることが好ましい。
【００２５】
また、前記第１、第２および第３の製造方法においては、前記反応管内の温度を、３５０〜９００℃とすることが好ましい。３５０℃未満では、金属酸化膜の析出速度が遅く、９００℃を超えると、原料気体が反応管の入口付近で急速に熱分解されるため、いずれの場合も効率よくガラスバルブ表面に金属酸化膜を形成することが困難である。
【００２６】
また、前記第１、第２および第３の製造方法においては、前記反応管内の圧力を、１０Ｔｏｒｒ以下とすることが好ましい。１０Ｔｏｒｒを超えると、反応管内で原料気体が拡散し難くなり、被膜の膜厚にばらつきが生じ易くなるからである。
【００２７】
【発明の実施の形態】
（第１の実施形態）
図１は、本発明の製造方法によって製造される白熱電球の一例を示す正面図である。ガラスバルブ１内に、フィラメント電極１４が配置されるとともに、不活性ガス（例えば、アルゴンガス）が封入されている。フィラメント電極１４は、フィラメント支持体１５を介して、口金１６の電極端子に接続されている。
【００２８】
ガラスバルブ１の外側表面には、赤外線反射膜が形成されている。赤外線反射膜は、屈折率の異なる２種の金属酸化膜を交互に積層してなる多層膜であることが好ましく、この場合は、ガラスバルブに接触する層（すなわち、多層膜の最下層）は高屈折率の金属酸化膜とする。特に、低屈折率の金属酸化膜としてシリコン酸化膜を、高屈折率の金属酸化膜としてチタン酸化膜またはタンタル酸化膜を使用することが好ましい。また、各層の光学膜厚（膜厚と屈折率との積）は、特に限定するものではないが、２１０〜３００ｎｍとすることが好ましい。また、積層数は８〜２４層とすることが好ましい。
【００２９】
上記の白熱電球は、ガラスバルブ表面に赤外線反射膜を形成する工程を実施した後、ガラスバルブ内にフィラメント電極を配置するとともに、アルゴンガスを封入する工程を実施することにより製造することができる。本発明の製造方法は、ガラスバルブ表面に赤外線反射膜を形成する工程に特徴を有するものである。
【００３０】
図２は、本発明の製造方法において、赤外線反射膜を形成する工程で使用される、減圧ＣＶＤ装置の一例を示した模式図である。
【００３１】
反応管３は、例えば、石英、炭化ケイ素またはサスなどで構成され、周囲を加熱炉（図示せず。）によって包囲されている。反応管３は、一端に原料気体の流入口を、他端に排気口を備えており、その管軸方向に原料気体が流通するように構成されている。また、反応管３の内部には、支持台に支持された複数のガラスバルブが配置されている。排気口は、真空計７が配置されるとともに、配管を介して真空ポンプが接続されている。また、排気口と真空ポンプとを接続する配管は分岐し、コック８および流量計９を介して、窒素ガス供給源に接続されている。一方、流入口は、コック６ａを備えた配管を介して第１の気化器４ａと連結され、コック６ｂを備えた配管を介して第２の気化器４ｂと連結されている。更に、第１の気化器４ａおよび第２の気化器４ｂは、各々、流量計５ａ、５ｂを介してアルゴンガス供給源に接続されている。
【００３２】
図３（ａ）および（ｂ）は、本実施形態に係る反応管の一例を示す断面図であり、管軸に対して垂直な方向の断面を示す。
【００３３】
反応管３内には、複数のガラスバルブ１が、支持台２に装着された状態で配置されている。ガラスバルブ１は、支持台２上において、反応管３の径方向（図３のＸ方向）に配列して列を形成し、この列が反応管の管軸方向（図２のＺ方向）に配列することにより、行列状に配置されている。更に、ガラスバルブ１を行列状に配置した支持台２は、反応管３の径方向であって、Ｘ方向と直交する方向（図３のＹ方向）に複数台配置されることが好ましい。これにより、反応管３内において、複数のガラスバルブ１が、管軸方向を含む２方向または３方向に配列され、ガラスバルブ群を形成している。ガラスバルブがこのように配列されることにより、反応管内でガラスバルブ群を配置するのに要する空間は、概して、側面が管軸に平行な平面で構成された四角柱の形状となる。
【００３４】
本実施形態においては、ガラスバルブ群を配置するのに要する空間を四角柱とみなし、反応管３の内部空間を、前記四角柱の側面に平行な平面、すなわち反応管３の管軸に平行な平面で構成された形状とする。
【００３５】
例えば、反応管は、図３（ａ）に示すように、円柱の一部を、円柱の中心軸（すなわち、反応管の管軸）に平行な平面で切除してなる形状とすることができる。反応管の内壁を構成する平面は、ガラスバルブ１の配列方向のうち２方向を含む平面、すなわち、Ｚ方向とＸ方向とを含む平面（以下、「Ｚ−Ｘ平面」とする。）またはＺ方向とＹ方向とを含む平面（以下、「Ｚ−Ｙ平面」とする。）に対して、略平行となることが好ましい。
【００３６】
換言すれば、図３（ａ）の反応管においては、その内部空間の管軸に垂直な断面形状が、円を円周上の２点を結ぶ１つの直線で切断した蒲鉾状となる。反応管の断面形状を構成する直線部分は、ガラスバルブ１の配列方向であるＸ方向またはＹ方向に対して略平行である。
【００３７】
更に、図３（ａ）に示すように、反応管３の内壁を構成する平面は、ガラスバルブ群の上部に位置し、支持台２を介することなく、ガラスバルブ１に直接に面することが好ましい。
【００３８】
また、本実施形態において使用される反応管の別の一例としては、図３（ｂ）に示すように、管軸に平行な４平面で構成された四角柱状の内部空間を有するものが挙げられる。この場合、反応管１３は、その内壁が、Ｚ−Ｘ平面に略平行な２平面と、Ｚ−Ｙ平面に略平行な２平面で構成された形状であることが好ましい。すなわち、ガラスバルブ群を配置するのに要する空間を、前述したように四角柱とみなしたときに、反応管１３の内壁を、この四角柱の各側面に平行な４平面で構成することが好ましい。
【００３９】
換言すれば、図３（ｂ）の反応管においては、その内部空間の管軸に垂直な断面形状が、Ｘ方向に対して略平行な２辺と、Ｙ方向に対して略平行な２辺で構成された長方形となる。
【００４０】
次に、上記の減圧ＣＶＤ装置を使用した赤外線反射膜の形成方法について説明する。コック６ａを閉じた状態で、第１の気化器４ａにてタンタルの有機化合物を加熱し、タンタル酸化膜の原料気体を発生させる。タンタルの有機化合物としては、例えば、ペンタエトキシタンタレート［Ｔａ（ＯＣ２Ｈ５）５］（以下、「ＰＥＴ」とする。）などを使用することができる。また、加熱温度は、ＰＥＴを使用する場合、１２０〜２００℃が適当である。また、コック６ｂを閉じた状態で、第２の気化器４ｂにて、シリコンの有機化合物を加熱し、シリコン酸化膜の原料気体を発生させる。シリコンの有機化合物としては、例えば、ジアセトキシジブトキシシラン［Ｓｉ（ＯＣ４Ｈ９）２（ＣＨ３ＣＯＯ）２］（以下、「ＤＡＤＢＳ」とする。）、テトラエチルオルトシリケート［Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）４］（以下、「ＴＥＯＳ」とする。）などを使用することができる。また、加熱温度は、ＤＡＤＢＳを使用する場合は８０〜２００℃、ＴＥＯＳを使用する場合は５０〜１５０℃が適当である。
【００４１】
一方、反応管３内には、複数のガラスバルブを装着した支持台を挿入する。その後、反応管のガラスバルブ挿入口を密閉し、真空ポンプを始動させて反応管３内を減圧する。このとき、反応管３内の圧力は、１０Ｔｏｒｒ以下、好ましくは０．１〜１Ｔｏｒｒに調整する。更に、加熱炉を始動させて、反応管３内の温度を３５０〜９００℃、好ましくは４５０〜５５０℃に昇温する。
【００４２】
次に、コック６ｂを閉じた状態で、コック６ａを所定時間だけ開き、流量計５ａで制御されたアルゴンガスとともに、タンタル有機化合物の蒸気を反応管３内に供給する。このとき、反応管３内の圧力は、コック８を開いて窒素を流すことにより、１０Ｔｏｒｒ以下、好ましくは０．２〜０．８Ｔｏｒｒに維持する。この工程により、反応管３内でタンタル有機化合物を熱分解して、ガラスバルブ表面にタンタル酸化膜を析出させる。タンタル酸化膜の膜厚は、タンタルの有機化合物蒸気の供給時間によって調整できる。例えば、タンタル有機化合物としてＰＥＴを使用する場合、タンタル酸化膜の析出速度は約３５ｎｍ／分であるため、供給時間を２．５〜４．０分程度とすれば、前述のような膜厚を達成することができる。
【００４３】
次に、コック６ａを閉じた状態で、コック６ｂを所定時間だけ開き、流量計５ｂで制御されたアルゴンガスとともに、シリコン有機化合物の蒸気を反応管３内に供給する。反応管３内の圧力は、前工程と同様に、１０Ｔｏｒｒ以下、好ましくは０．５〜１．０Ｔｏｒｒに維持する。これにより、反応管３内でシリコン有機化合物を熱分解して、ガラスバルブ表面にシリコン酸化膜を析出させる。シリコン酸化膜の膜厚は、シリコンの有機化合物蒸気の供給時間によって調整できる。例えば、シリコン有機化合物としてＤＡＤＢＳを使用する場合、シリコン酸化膜の析出速度は約１２ｎｍ／分であるため、供給時間を１０〜１８分程度とすれば、前述のような膜厚を達成することができる。また、ＴＥＯＳを使用する場合は、シリコン酸化膜の析出速度は約５ｎｍ／分であるため、供給時間は３０〜４０分程度が適当である。
【００４４】
上記の２工程を交互に繰り返すことにより、タンタル酸化膜およびシリコン酸化膜を交互に析出させて、所望の多層膜が形成される。
【００４５】
また、タンタル酸化膜に代えて、チタン酸化膜を形成する場合は、第１の気化器４ａ内に投入する有機化合物として、テトラプロピルチタネート［Ｔｉ（ＯＣ３Ｈ７）４］（以下、「ＴＰＴ」とする。）などのチタンの有機化合物を使用すればよい。なお、ＴＰＴを使用する場合は、気化器での加熱温度は１００〜１５０℃程度とするのが適当である。また、ＴＰＴを使用する場合のチタン酸化膜の析出速度は約３０ｎｍ／分であるため、反応管への供給時間は３〜４．５分程度が適当である。
【００４６】
本実施形態においては、反応管として、内壁が管軸に平行な平面部分を含む形状の反応管を使用することにより、各ガラスバルブに供給される原料気体の量をほぼ同等とし、形成される被膜の膜厚のばらつきを低減することが容易である。更に、前述したように、反応管内においてガラスバルブ群を配置するのに要する空間は概して管軸に平行な側面を有する四角柱状となるため、内壁が管軸に平行な平面部分を含む形状の反応管を使用すれば、従来の円柱状の反応管に比べ、ガラスバルブ群と内壁との間の不要空間の低減が容易であり、原料気体の利用率を向上させることが可能である。
【００４７】
（第２の実施形態）
本実施形態に係る製造方法は、円柱状の反応管を使用しながら、その内部に遮蔽部材を配置することによって、第１の実施形態と同様の効果を実現するものである。なお、本実施形態の製造方法において用いられる減圧ＣＶＤ装置の構成は、反応管内の構成が相違することを除いては、第１の実施形態と実質的に同様である。
【００４８】
図４は、本発明の第２の実施形態における反応管内の構成の一例を示す断面図であり、（ａ）は管軸に対して垂直な方向の断面を示し、（ｂ）は管軸方向の断面を示すものである。複数のガラスバルブ２１は、支持台２２に装着された状態で反応管２３内に配置されている。反応管２３内においてガラスバルブ２１は、第１の実施形態と同様に、管軸方向を含む２方向または３方向に配列され、ガラスバルブ群を形成している。これにより、反応管２３内でガラスバルブ群を配置するのに要する空間は、概して、側面が管軸に平行な平面で構成された四角柱の形状となる。
【００４９】
反応管２３内には、ガラスバルブ群を配置するのに要する空間を四角柱とみなしたときに前記四角柱の側面に平行な平面、すなわち反応管の管軸に平行な平面を有する遮蔽部材２４ａ、２４ｂが配置されている。また、遮蔽部材２４ａ、２４ｂの、管軸に平行な平面と反対側の面が、反応管２３の内壁の少なくとも一部に沿うような曲面である。遮蔽部材２４ａ、２４ｂは、ガラスバルブ群を配置するのに要する空間と、内壁との間に存在する不要空間の少なくとも一部を占居している。これにより、反応管２３の内部空間は、第１の実施形態と同様に、反応管の管軸に平行な少なくとも１つの平面で構成された空間とすることができる。
【００５０】
図４は、円柱状の反応管２３内に、Ｚ−Ｘ平面に対して略平行な平面を有する第１の遮蔽部材２４ａと、Ｚ−Ｙ平面に対して略平行な平面を有する第２の遮蔽部材２４ｂとを配置した形態である。この例においては、第１の遮蔽部材２４ａおよび第２の遮蔽部材２４ｂが２個づつ配置されており、ガラスバルブ群の四方が、遮蔽部材の反応管の管軸に平行な平面部分で包囲されている。
【００５１】
これにより、反応管２３の内部空間は、反応管の管軸に平行な４平面で構成された四角柱状の形状とされる。換言すれば、反応管２３の内部空間は、管軸に垂直な断面形状が、Ｘ方向に対して略平行な２辺と、Ｙ方向に対して略平行な２辺で構成された長方形である空間とされる。
【００５２】
また、本実施形態において使用される反応管は、円柱状に限定されるものではなく、あらゆる形状のものを使用することができる。このような例として、図５に、円柱の一部を、Ｚ−Ｘ平面に対して略平行な平面で切除してなる形状の反応管を使用した例を示す。なお、図５において、（ａ）は管軸に対して垂直な方向の断面を示し、（ｂ）は管軸方向の断面を示すものである。
【００５３】
反応管３３内には、Ｚ−Ｘ平面に対して略平行な平面を有する第１の遮蔽部材３４ａと、Ｚ−Ｙ平面に対して略平行な平面を有する第２の遮蔽部材３４ｂとが配置されている。この例においては、第１の遮蔽部材３４ａが１個、第２の遮蔽部材３４ｂが２個配置されており、ガラスバルブ群の四方が、遮蔽部材の反応管の管軸に平行な平面部分と、反応管３３内壁の平面部分とで包囲されている。図４と同様に、反応管３３の内部空間は、管軸に垂直な断面形状が、Ｘ方向に対して略平行な２辺と、Ｙ方向に対して略平行な２辺で構成された長方形となる、四角柱状の空間とされる。
【００５４】
なお、遮蔽部材は、図４および図５に例示した形状に限定されるものではなく、反応管内への配置が可能であり、その表面の少なくとも一部が管軸に平行な平面で構成されていればよい。例えば、円柱状の反応管の場合、遮蔽部材として、反応管の内径と同等の径を有する円柱に、管軸に平行な４平面で構成された四角柱状の貫通孔を形成した形状のものを使用し、この貫通孔内にガラスバルブ群を配置してもよい。
【００５５】
また、遮蔽部材は、特に限定するものでないが、反応管内へ配置する前にあらかじめ支持台に接合しておき、支持台を反応管内へ配置するときに、自動的に遮蔽部材が所定位置に配置することが好ましい。
【００５６】
なお、本実施形態において、減圧ＣＶＤ装置の使用方法および製造される白熱電球の構造については、第１の実施形態と同様である。
【００５７】
（第３の実施形態）
図６は、本発明の第３の実施形態における反応管内の構成の一例を示す断面図であり、（ａ）は管軸に対して垂直な方向の断面を示し、（ｂ）は管軸方向の断面を示すものである。なお、本実施形態の製造方法において用いられる減圧ＣＶＤ装置の構成は、反応管内の構成が相違することを除いては、第１の実施形態と実質的に同様である。
【００５８】
複数のガラスバルブ７１は、支持台７２に装着された状態で反応管７３内に配置されている。反応管７３内においてガラスバルブ７１は、第１の実施形態と同様に、管軸方向を含む２方向または３方向に配列されて、ガラスバルブ群を形成している。これにより、反応管７３内でガラスバルブ群を配置するのに要する空間は、概して、側面が管軸に平行な平面で構成された四角柱の形状となる。換言すれば、ガラスバルブ群を配置するのに要する空間は、反応管の管軸に垂直な断面形状が長方形となる空間である。
【００５９】
反応管７３内には、ガラスバルブ群を配置するのに要する空間の断面を構成する長方形の一辺に平行な直線状の縁端部を有する、反応管の管軸に垂直な平面状の遮蔽板７４ａ、７４ｂが配置されている。更に、遮蔽板７４ａ、７４ｂは、反応管７３の内壁の少なくとも一部に沿うような曲線状の縁端部を有している。この遮蔽板７４ａ、７４ｂの配置により、反応管７３の内部空間の少なくとも一部の断面形状が、ガラスバルブの配列方向に平行な直線を含む形状とされる。
【００６０】
図６の例においては、円柱状の反応管７３内に、Ｘ方向に対して略平行な縁端部を有する第１の遮蔽板７４ａと、Ｙ方向に対して略平行な縁端部を有する第２の遮蔽板７４ｂとを、ガラスバルブ群の周囲に２個づつ配置した領域を設けた形態である。また、このような領域は、図６（ｂ）に示すように、反応管の管軸方向に間隔をおいて複数箇所に設けられ、その間隔は、特に限定するものではないが、通常１０〜４００ｃｍ程度に設定される。
【００６１】
これにより、反応管内において、ガラスバルブ群の四方が、遮蔽板の直線状の縁端部で包囲されている部分が存在することとなる。換言すれば、反応管７３の内部空間において、管軸に垂直な断面形状が、Ｘ方向に対して略平行な２辺と、Ｙ方向に対して略平行な２辺で構成された長方形である部分が存在している。また、このような部分は、管軸方向に間隔をおいて複数箇所に存在している。
【００６２】
また、本実施形態において使用される反応管は、円柱状に限定されるものではなく、あらゆる形状のものを使用することができる。このような例として、図７に、円柱の一部を、Ｚ−Ｘ平面に対して略平行な平面で切除してなる形状の反応管８３を使用した例を示す。なお、図７において、（ａ）は管軸に対して垂直な方向の断面を示し、（ｂ）は管軸方向の断面を示すものである。
【００６３】
反応管８３内には、Ｘ方向に対して略平行な縁端部を有する第１の遮蔽板８４ａを１個と、Ｙ方向に対して略平行な縁端部を有する第２の遮蔽板８４ｂを２個とをガラスバルブ群の周囲に配置した領域が、管軸方向に間隔をおいて複数箇所に設けられている。
【００６４】
これにより、反応管内において、ガラスバルブ群の四方が、遮蔽板の直線状の縁端部と、反応管内壁の平面部分とで包囲された部分が存在することとなる。換言すれば、反応管８３の内部空間において、管軸に垂直な断面形状が、Ｘ方向に略平行な２辺と、Ｙ方向に略平行な２辺で構成された長方形である部分が存在している。また、このような部分は、図６と同様、管軸方向に間隔をおいて複数箇所に存在している。
【００６５】
遮蔽板としては、原料気体の透過を少なくとも部分的に阻害できるものであればよく、板状部材のほか、網状部材を使用することができる。網状部材を使用する場合は、線幅が１〜２ｍｍ程度で、１インチ当たりの目数が１〜３程度のものを使用するのが適当である。
【００６６】
また、遮蔽板の形状は、図６および図７に例示した形状に限定されるものではなく、例えば、円柱状の反応管の場合、反応管の内径と同等の径を有する円形平面に長方形の貫通孔を形成したものを使用してもよい。
【００６７】
遮蔽板は、特に限定するものでないが、反応管内へ配置する前にあらかじめ支持台に接合しておき、支持台を反応管内へ配置するときに、自動的に遮蔽板が所定位置に配置することが好ましい。
【００６８】
なお、本実施形態において、減圧ＣＶＤ装置の使用方法および製造される白熱電球の構造については、第１の実施形態と同様である。
【００６９】
（第４の実施形態）
図８は、本発明の第４の実施形態における反応管内の構成の一例を示す断面図であり、（ａ）は管軸に対して垂直な方向の断面を示し、（ｂ）は管軸方向の断面を示すものである。なお、本実施形態の製造方法において用いられる減圧ＣＶＤ装置の構成は、反応管内の構成が相違することを除いては、第１の実施形態と実質的に同様である。
【００７０】
本実施形態においては、第１の実施形態と同様に、複数のガラスバルブ４１が、支持台４２に装着された状態で反応管４３内に配置されている。ガラスバルブ４１は、支持台４２上において、Ｘ方向およびＺ方向に配列することによって、行列状に配置されている。支持台４２上に配置されたガラスバルブ４１は、外側に配置されたものを除いて、四方を別のガラスバルブによって包囲されている。それに対して、外側に配置されたガラスバルブ４１ａ（以下、「最外郭ガラスバルブ」とする。）においては、別のガラスバルブに面する側と、面していない側とが存在することとなる。
【００７１】
支持台４２の縁端部には、遮蔽板４４が取り付けられている。これにより、Ｘ方向に関していえば、最外郭ガラスバルブ４１ａは、別のガラスバルブと遮蔽板４４との間に挟まれた状態となる。すなわち、前述したような、最外郭ガラスバルブ４１ａの別のガラスバルブに面していない側の少なくとも一部が、遮蔽板４４に面することとなる。また、遮蔽板４４は、好ましくは、最外郭ガラスバルブ４１ａとの間隔が、最外郭ガラスバルブ４１ａと別のガラスバルブとの間隔と同程度となるように取り付けられる。
【００７２】
なお、遮蔽板４４としては、原料気体の透過を少なくとも部分的に阻害できるものであればよく、板状部材のほか、網状部材を使用することができる。網状部材を使用する場合は、線幅が１〜２ｍｍ程度で、１インチ当たりの目数が１〜３程度のものを使用するのが適当である。
【００７３】
上記のような遮蔽板を配置することにより、最外郭ガラスバルブにおいて、別のガラスバルブに面する部分と面していない部分とでの原料気体の供給量の相違を軽減し、膜厚のばらつきを抑制することが可能となる。
【００７４】
なお、本実施形態において、減圧ＣＶＤ装置の使用方法および製造される白熱電球の構造については、第１の実施形態と同様である。
【００７５】
（第５の実施形態）
図９は、本発明の第５の実施形態における反応管内の構成の一例を示す断面図であり、管軸に対して垂直な方向の断面を示す。なお、本実施形態の製造方法において用いられる減圧ＣＶＤ装置の構成は、反応管内の構成が相違することを除いては、第１の実施形態と実質的に同様である。
【００７６】
本実施形態においては、複数のガラスバルブ５１が、支持台５２に装着された状態で配置されている。通常、ガラスバルブ５１は、支持台５２上において２方向に配列されている。
【００７７】
反応管５３内には、支持台５２側面と反応管５３内壁との間に介在し、支持台５２を側面方向から挟持する支持具５４ａ、５４ｂが配置されている。反応管５３内には少なくとも２個の支持具５４ａ、５４ｂが、支持台５２側面と接する面が互いに対向するように配置されており、支持台５２は、この支持具５４ａと、支持具５４ｂとの間に挟まれた状態で支持される。支持具５４ａ、５４ｂの存在により、反応管５３内での支持台５２の水平方向（図９のＸ方向）の位置が規制される。
【００７８】
更に、反応管５３内には、支持台５２を下方から支える支持具５５ａ、５５ｂが配置されている。支持具５５ａ、５５ｂは、支持台５２の下部と反応管５３の内壁との間に介在し、反応管５３内での支持台５２の水平方向の位置を定めている。
【００７９】
上記支持具によって支持台を支持することにより、反応管内における位置を、ガラスバルブの配列方向の１つが管軸に平行な方向にほぼ一致するような位置に規制できる。また、支持台は支持具により挟持されているため、少なくともその挟持方向においては、支持台の寸法が変化することを抑制することができる。
【００８０】
支持具と、支持台側面および反応管内壁との接触面積が大きいほど、支持台の位置をより確実に規制することができる。従って、支持具としては、反応管の管軸方向の寸法が比較的長いものを使用することが好ましい。また、管軸方向の寸法が比較的短い支持具を、管軸方向に複数個配置してもよい。
【００８１】
また、支持具は、支持台と接触する部分に、管軸方向に回転する車輪を備えていることが好ましい。この場合、反応管への支持台の配置は、反応管内に支持具を配置した後、支持具の車輪の回転を利用して実施する。また、上記の車輪機構は、支持具の反応管の内壁と接触する部分に形成してもよい。この場合、反応管への支持台の配置は、支持具を予め支持台に接合した後、支持具の車輪の回転を利用して実施する。また、車輪に代えて、管軸方向に回転可能な球体を用いてもよい。
【００８２】
なお、本実施形態において、減圧ＣＶＤ装置の使用方法および製造される白熱電球の構造については、第１の実施形態と同様である。
【００８３】
【実施例】
以下、実施例を挙げて本発明について説明する。なお、各実施例における赤外線反射膜の形成は、図２に示す減圧ＣＶＤ装置を使用し、反応管内の構成を相違させること以外は、すべて同様の操作により実施した。操作方法、および、この操作方法により形成された赤外線反射膜の特性は、以下の通りである。
【００８４】
ガラスバルブを装着した支持台を反応管内に設置した後、反応管内を、温度５００℃、真空度１×１０−４Ｔｏｒｒ（１．３３×１０−２Ｐａ）とした。次に、タンタル有機化合物としてＰＥＴを使用し、これを第１の気化器にて１５０℃に加熱して、タンタル酸化膜の原料気体を発生させた。また、シリコン有機化合物としてＤＡＤＢＳを使用し、これを第２の気化器にて１２０℃に加熱して、シリコン酸化膜の原料気体を発生させた。次に、アルゴンを１００ｃｃ／分の流速で第１の気化器に供給しながら、ＰＥＴを反応管内に供給し、これを管軸方向に流通させて、タンタル酸化膜を析出させた。このとき、反応管内の真空度は、０．５Ｔｏｒｒ（６６．７Ｐａ）に維持した。所定時間が経過した後、反応管内へのＰＥＴの供給を停止した。かかる後、アルゴンを１００ｃｃ／分の流速で第２の気化器に供給しながら、ＤＡＤＢＳを反応管内に供給し、これを管軸方向に流通させて、シリコン酸化膜を析出させた。前工程と同様に、反応管内の真空度は、０．５Ｔｏｒｒ（６６．７Ｐａ）に維持した。所定時間が経過した後、反応管内へのＤＡＤＢＳの供給を停止した。
【００８５】
上記工程を繰り返し、タンタル酸化膜およびシリコン酸化膜を交互に析出させ、ガラスバルブ表面に合計１８層の多層膜を形成した。各工程における、原料気体の供給時間および析出した酸化膜の光学膜厚は、表１に示すとおりである。なお、光学膜厚とは、酸化膜の平均膜厚と、屈折率との積である。
【００８６】
【表１】
0003569650.tif 000002
【００８７】
得られたガラスバルブ表面における分光反射率曲線を測定したところ、図１０に示すように、赤外線（波長８００〜１５００ｎｍ）は反射され、可視光（波長３８０〜７８０ｎｍ）は殆ど透過されていることが確認できた。
【００８８】
（実施例１）
図３（ａ）に示すように、蒲鉾状反応管内に、支持台上に外径１４ｍｍのガラスバルブをＸ方向に９個、Ｚ方向に５０個の行列状に配置し、この支持台をＹ方向に２段配置して減圧ＣＶＤ法による赤外線反射膜の形成を実施した（実験Ｎｏ．１）。なお、蒲鉾状反応管は、内部空間の管軸に垂直な断面形状が、直径２７０ｍｍの円を、一つの直線で切断してなる形状であり、前記円の中心を通る前記直線の垂線が反応管内壁と交わる２点間の距離が１００ｍｍであるものを使用した。また、図３（ｂ）に示すように、反応管として、四角柱状反応管を使用すること以外は、上記と同様にして減圧ＣＶＤ法による赤外線反射膜の形成を実施した（実験Ｎｏ．２）。なお、四角柱状反応管としては、内部空間の管軸に垂直な断面形状が、対角線距離が２７０ｍｍの長方形であるものを使用した。更に、図１１に示すように、反応管として、内径２７０ｍｍの円柱状反応管を使用すること以外は、上記と同様に減圧ＣＶＤ法による赤外線反射膜の形成を実施した（実験Ｎｏ．３）。
【００８９】
各実験において、各ガラスバルブに形成された赤外線反射膜の膜厚のばらつきを評価した。なお、膜厚のばらつき［％］は、任意に抽出した２０個のガラスバルブのうち膜厚が最大であるものの膜厚をｘｍａｘとし、膜厚が最小であるものの膜厚をｘｍｉｎとし、この２０個のガラスバルブの膜厚の平均をｘとしたとき、（ｘｍａｘ−ｘｍｉｎ）／ｘ×１００で表される値である。
【００９０】
その結果、膜厚のばらつきは、実験Ｎｏ．１で１５％程度、実験Ｎｏ．２で１０％程度、実験Ｎｏ．３で１８％程度であった。
【００９１】
各実験における原料気体の利用率を評価した。なお、利用率［％］はＶ２／Ｖ１×１００で表される値である。但し、Ｖ１＝原料気体の反応管への供給量［ｇ］、Ｖ２＝（金属酸化膜の膜厚［ｃｍ］）×（ガラスバルブの表面積［ｃｍ２］）×（金属酸化膜の密度［ｇ／ｃｍ３］）×（ガラスバルブの数［個］）である。
【００９２】
その結果、利用率は、実験Ｎｏ．１で７％程度、実験Ｎｏ．２で８％程度、実験Ｎｏ．３で５％程度であった。すなわち、実験Ｎｏ．１によれば、利用率が実験Ｎｏ．３の約４０％増大し、実験Ｎｏ．２によれば、利用率が実験Ｎｏ．３の約６０％増大することが確認できた。
（実施例２）
図８に示すように、線幅１．３ｍｍ、１インチ当たりの目数が２．０の金属網を遮蔽板として設けた支持台に、外径１４ｍｍのガラスバルブをＸ方向に９個、Ｚ方向に５０個の行列状に配置し、この支持台を円柱状反応管内に配置して減圧ＣＶＤ法による赤外線反射膜の形成を実施した（実験Ｎｏ．４）。なお、各ガラスバルブの間隔は２０ｍｍとし、最外郭ガラスバルブと遮蔽板との間隔は２０ｍｍとした。また、円柱状反応管の内径は、２７０ｍｍであった。また、図１１に示すように、遮蔽板を設けないこと以外は、上記と同様の条件で減圧ＣＶＤ法による赤外線反射膜の形成を実施した（実験Ｎｏ．５）。
【００９３】
各実験において、最外郭ガラスバルブに形成された赤外線反射膜について、膜厚のばらつきを評価した。なお、膜厚のばらつき［％］は、最外郭ガラスバルブの、別のガラスバルブに隣接する側の膜厚をＬ１［ｎｍ］とし、反応管の内壁側（実験Ｎｏ．４においては、遮蔽板に隣接する側）の膜厚をＬ２［ｎｍ］としたとき、（Ｌ２−Ｌ１）／Ｌ１×１００で表される値である。
【００９４】
その結果、実験Ｎｏ．５においては、膜厚のばらつきが５〜１０％程度であるのに対して、遮蔽板を設けた実験Ｎｏ．４においては、膜厚のばらつきを３％程度とすることができた。
【００９５】
（実施例３）
図９に示すように、支持台に外径１４ｍｍのガラスバルブをＸ方向に９個、Ｚ方向に５０個の行列状に配置し、この支持台を、反応管内に配置した支持具で水平方向（重力方向に垂直な方向）に挟持させた状態で円柱状反応管内に配置し、減圧ＣＶＤ法による赤外線反射膜の形成を実施した（実験Ｎｏ．６）。また、図１１に示すように、反応管内に支持具を配置しないこと以外は、上記と同様の条件で減圧ＣＶＤ法による赤外線反射膜の形成を実施した（実験Ｎｏ．７）。
【００９６】
各実験において、各ガラスバルブに形成された赤外線反射膜の膜厚のばらつきを評価した。なお、膜厚のばらつき［％］は、設計膜厚をｔ１とし、測定膜厚をｔ２としたとき、（ｔ２−ｔ１）／ｔ１×１００で表される値である。
【００９７】
その結果、実験Ｎｏ．７においては、膜厚のばらつきが１０％程度であるのに対して、支持具を設けた実験Ｎｏ．６においては、膜厚のばらつきが４％未満であることが確認できた。
【００９８】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明の第１の製造方法によれば、反応管内に複数のガラスバルブを配置し、前記反応管内に原料気体を流通させることにより、前記ガラスバルブ表面に、前記原料気体が化学的に変化してなる被膜を形成する工程を含み、複数の前記ガラスバルブが前記反応管の管軸に垂直な方向に配列しており、前記反応管の内壁の少なくとも一部を、前記ガラスバルブの配列方向と前記反応管の管軸とに平行な平面で構成するか、または、前記ガラスバルブと前記反応管の内壁との間に、前記ガラスバルブの配列方向と前記反応管の管軸とに平行な平面を有し、且つ、前記ガラスバルブと前記反応管の内壁との間の空間を占居する遮蔽部材を配置するか、または、前記ガラスバルブと前記反応管の内壁との間に、前記ガラスバルブの配列方向に平行な直線を含む形状の遮蔽板を、前記反応管の管軸に垂直となるように配置することによって、前記反応管内の前記原料気体を流通させる空間の少なくとも一部において、前記空間の前記反応管の管軸に垂直な断面の形状が、前記ガラスバルブの配列方向に平行な直線を含む形状であるため、形成される被膜の膜厚のばらつきを低減し、原料気体の利用率を向上させることができる。
【００９９】
また、本発明の第２の製造方法によれば、反応管内に複数のガラスバルブを配置し、前記反応管内に原料気体を流通させることにより、前記ガラスバルブ表面に、前記原料気体が化学的に変化してなる被膜を形成する工程を含み、複数の前記ガラスバルブが、前記反応管の径方向に配列して列を形成しており、前記列の端部に配置された前記ガラスバルブと前記反応管の内壁との間に、遮蔽部材を配置するため、最も外側に配置されるガラスバルブにおける、被膜の膜厚のばらつきを低減することができる。
【０１００】
また、本発明の第３の製造方法によれば、反応管内に複数のガラスバルブを装着した支持台を配置し、前記反応管内に原料気体を流通させることにより、前記ガラスバルブ表面に、前記原料気体が化学的に変化してなる被膜を形成する工程を含み、前記反応管内において、前記支持台と前記反応管の内壁との間に介在する支持具が少なくとも２個配置されており、前記支持台が、前記支持具同士の間に挟持されているため、反応管内における支持台の位置ずれおよび寸法の変動を抑制し、被膜の膜厚のばらつきを低減することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の製造方法によって製造される白熱電球の一例を示す正面図である。
【図２】本発明の製造方法において使用される減圧ＣＶＤ装置の構造を示す模式図である。
【図３】本発明の第１の実施形態において使用される反応管の形状の例を示す断面図である。
【図４】本発明の第２の実施形態における反応管内の構成の一例を示す断面図である。
【図５】本発明の第２の実施形態における反応管内の構成の別の一例を示す断面図である。
【図６】本発明の第３の実施形態における反応管内の構成の一例を示す断面図である。
【図７】本発明の第３の実施形態における反応管内の構成の別の一例を示す断面図である。
【図８】本発明の第４の実施形態における反応管内の構成の一例を示す断面図である。
【図９】本発明の第５の実施形態における反応管内の構成の一例を示す断面図である。
【図１０】実施例で作製した赤外線反射膜を備えたガラスバルブ表面での分光反射率曲線を示す図である。
【図１１】従来の白熱電球の製造方法における、反応管内の構成を示す断面図である。
【符号の説明】
１、１１、２１、３１、４１、５１、６１、７１、８１    ガラスバルブ
２、１２、２２、３２、４２、５２、６２、７２、８２      支持台
３、１３、２３、３３、４３、５３、６３、７３、８３      反応管
２４ａ、２４ｂ、３４ａ、３４ｂ                    遮蔽部材
７４ａ、７４ｂ、８４ａ、８４ｂ                    遮蔽板
４４                                              遮蔽板
５４ａ、５４ｂ、５５ａ、５５ｂ                    支持具
【図１】
0003569650.tif 000003
【図２】
0003569650.tif 000004
【図３】
0003569650.tif 000005
【図４】
0003569650.tif 000006
【図５】
0003569650.tif 000007
【図６】
0003569650.tif 000008
【図７】
0003569650.tif 000009
【図８】
0003569650.tif 000010
【図９】
0003569650.tif 000011
【図１０】
0003569650.tif 000012
【図１１】
0003569650.tif 000013