(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
リソグラフ印刷部材のイメージング方法であって、
ａ．印刷表面を有し、第１の固体層と、第１の層の下側にある第２の固体層と、第２の層の下側にある三次元に架橋したポリマーの耐熱層とを含み、第１の層と耐熱層がインクに対して異なる親和性を有し、第２の層がイメージング放射線の吸収による融除を受ける材料から形成されているが第１の層はそうではない印刷部材を準備するステップと、
ｂ．印刷表面をイメージング放射線に対して、イメージを表すパターンでもって選択的に暴露し、耐熱層に物理的変形を受けさせることなしに第２の層を融除し、前記第１の固体層及び第２の固体層からの残屑が捕捉されるのを回避するステップと、及び
ｃ．印刷部材が放射線を受容した個所で第１の層と第２の層の残部を除去するステップとからなる方法。
【請求項２】
耐熱層が高度に架橋したポリマーである、請求項１の方法。
【請求項３】
印刷部材の第２の層が金属である、請求項１の方法。
【請求項４】
金属がチタンを含む、請求項３の方法。
【請求項５】
印刷部材がさらに、耐熱層の下側の基体を含む、請求項１の方法。
【請求項６】
耐熱層がポリアクリレートである、請求項２の方法。
【請求項７】
ポリアクリレートが多官能性アクリレートである、請求項６の方法。
【請求項８】
ポリアクリレートが、真空蒸着により適用され次いで硬化される、単官能性アクリレートと多官能性アクリレートの混合物である、請求項６の方法。
【請求項９】
耐熱層がＴレジンである、請求項１の方法。
【請求項１０】
耐熱層がはしご形ポリマーである、請求項１の方法。
【請求項１１】
リソグラフ印刷部材であって、
ａ．第１の固体層と、
ｂ．第１の層の下側にある第２の固体層と、及び
ｃ．第２の層の下側にあり、三次元に架橋したポリマーからなる耐熱層とを含み、
ｄ．第１の層と耐熱層がインクに対して異なる親和性を有する材料から形成され、
ｅ．第２の層がイメージング放射線の吸収による融除を受ける材料から形成されているが第１の層はそうではなく、及び
ｆ．耐熱層がイメージング放射線に応答して物理的変形を受けない材料から形成されていることからなる印刷部材。
【請求項１２】
印刷部材の第２の層が金属である、請求項１１の部材。
【請求項１３】
金属がチタンを含む、請求項１２の部材。
【請求項１４】
耐熱層がポリアクリレートである、請求項１１の部材。
【請求項１５】
ポリアクリレートが多官能性アクリレートである、請求項１４の部材。
【請求項１６】
耐熱層がＴレジンである、請求項１１の部材。
【請求項１７】
耐熱層がはしご形ポリマーである、請求項１１の部材。
【請求項１８】
リソグラフ印刷部材のイメージング方法であって、
ａ．印刷表面を有し、第１の固体層と、第１の層の下側にある絶縁層と、イメージング層と、イメージング層の下側にある基体とを含み、第１の層と基体がインク及びインク忌避液体からなる群より選択される少なくとも１つの印刷液体に対して異なる親和性を有し、イメージング層がイメージング放射線の吸収による融除を受ける材料から形成されているが第１の層はそうではない印刷部材を準備するステップと、
ｂ．印刷表面をイメージング放射線に対して、イメージを表すパターンでもって選択的に暴露してイメージング層を融除し、絶縁層がイメージング放射線に応じての第１の層のかなりの熱劣化を防止し、絶縁層の熱劣化が前記少なくとも１つの印刷液体に対し、基体の親和性に類似した親和性を有する残屑を生成するステップと、及び
ｃ．印刷部材が放射線を受容した個所で第１の層と、絶縁層と、イメージング層の残部を除去するステップとからなる方法。
【請求項１９】
印刷部材の絶縁層がポリシランである、請求項１８の方法。
【請求項２０】
印刷部材の絶縁層がアクリレートである、請求項１８の方法。
【請求項２１】
絶縁層が親水性であり、前記除去するステップが印刷部材に水性液体を適用することを含む、請求項１８の方法。
【請求項２２】
絶縁層がヒドロキシエチルセルロース及びポリビニルアルコールの化学種からなる群より選択される、請求項２１の方法。
【請求項２３】
印刷部材のイメージング層が金属である、請求項１８の方法。
【請求項２４】
金属がチタンを含む、請求項２３の方法。
【請求項２５】
絶縁層がＴレジンである、請求項１８の方法。
【請求項２６】
絶縁層がはしご形ポリマーである、請求項１８の方法。
【請求項２７】
リソグラフ印刷部材であって、
ａ．第１の固体層と、
ｂ．第１の層の下側にある絶縁固体層と、
ｃ．第１の層の下側にあるイメージング固体層と、及び
ｄ．イメージング層の下側にある基体とを含み、
ｅ．第１の層と基体がインク及びインク忌避液体からなる群より選択される少なくとも１つの印刷液体に対して異なる親和性を有し、
ｆ．イメージング層がイメージング放射線の吸収による融除を受ける材料から形成されているが第１の層はそうではなく、及び
ｇ．絶縁層がイメージング放射線に応じての第１の層のかなりの熱劣化を防止し、絶縁層の熱劣化が前記少なくとも１つの印刷液体に対し、基体の親和性に類似した親和性を有する残屑を生成することからなる部材。
【請求項２８】
印刷部材の絶縁層がポリシランである、請求項２７の部材。
【請求項２９】
印刷部材の絶縁層がアクリレートである、請求項２７の部材。
【請求項３０】印刷部材の絶縁層が水溶性である、請求項２７の部材。
【請求項３１】
絶縁層が親水性である、請求項２７の部材。
【請求項３２】
絶縁層がヒドロキシエチルセルロース及びポリビニルアルコールの化学種からなる群より選択される、請求項３１の部材。
【請求項３３】
印刷部材のイメージング層が金属である、請求項２７の部材。
【請求項３４】
金属がチタンを含む、請求項３３の部材。
【請求項３５】
絶縁層がＴレジンである、請求項２７の部材。
【請求項３６】
絶縁層がはしご形ポリマーである、請求項２７の部材。
【請求項３７】
リソグラフ印刷部材のイメージング方法であって、
ａ．印刷表面を有し、第１の固体層と、第１の層の下側にある中間層と、金属イメージング層と、イメージング層の下側にある基体とを含み、第１の層と基体がインク及びインク忌避液体からなる群より選択される少なくとも１つの印刷液体に対して異なる親和性を有し、イメージング層がイメージング放射線の吸収による融除を受ける材料から形成されているが第１の層はそうではない印刷部材を準備するステップと、
ｂ．印刷表面をイメージング放射線に対して、イメージを表すパターンでもって選択的に暴露してイメージング層を融除し、中間層の熱劣化が第１の層を溶解することのない洗浄液に対して親和性を有する残屑を生成するステップと、及び
ｃ．印刷部材が放射線を受容した個所で第１の層と、中間層と、イメージング層の残部を除去するステップとからなる方法。
【請求項３８】
中間層が二酸化ケイ素材料である、請求項３７の方法。
【請求項３９】
中間層がイメージング放射線に対して透過性である、請求項３７の方法。
【請求項４０】
中間層がイメージング放射線に応答して劣化されない、請求項３７の方法。
【請求項４１】
基体が未吸収のイメージング放射線を反射する、請求項３７の方法。
【請求項４２】
リソグラフ印刷部材であって、
ａ．第１の固体層と、
ｂ．第１の層の下側にある中間固体層と、
ｃ．第１の層の下側にあるイメージング固体層と、及び
ｄ．イメージング層の下側にある基体とを含み、
ｅ．第１の層と基体がインク及びインク忌避液体からなる群より選択される少なくとも１つの印刷液体に対して異なる親和性を有し、
ｆ．イメージング層がイメージング放射線の吸収による融除を受ける材料から形成されているが第１の層はそうではなく、及び
ｇ．中間層の熱劣化が第１の層を溶解することのない洗浄液に対して親和性を有する残屑を生成することからなる部材。
【請求項４３】
中間層が二酸化ケイ素材料である、請求項４２の部材。
【請求項４４】
中間層がイメージング放射線に対して透過性である、請求項４２の部材。
【請求項４５】
中間層がイメージング放射線に応答して劣化されない、請求項４２の部材。
【請求項４６】
基体が未吸収のイメージング放射線を反射する、請求項４２の部材。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明はデジタル印刷装置及び方法に関し、より詳しくは、デジタル制御されたレーザ出力を用いて、リソグラフ印刷プレート構造を機上又は機外でイメージングするためのシステムに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
オフセットリソグラフ印刷においては、印刷可能なイメージは印刷部材上に、インク受容性（親油性）及びインク拒絶性（疎油性）の表面領域のパターンとして存在する。一旦これらの領域に適用されたなら、インクは記録媒体へとかなりの忠実性をもって、イメージに関連したパターンで効率的に転写可能である。乾式印刷システムは、インク反撥部分がインクに対して十分に疎であって、インクを直接に適用することが許容されるような印刷部材を用いる。こうした印刷部材に一様に適用されたインクは、イメージに関連したパターンにおいてのみ、記録媒体に転写される。典型的には、印刷部材は最初にブランケットシリンダと呼ばれる従順な中間表面と接触し、このブランケットシリンダが次いで、紙その他の記録媒体に対してイメージを適用する。典型的な給紙式の印刷システムにおいては、記録媒体は圧胴即ちインプレッションシリンダにピン留めされ、それによって記録媒体とブランケットシリンダとの接触が持ち来たらされる。
【０００３】
湿式リソグラフ印刷システムにおいては、非イメージ領域は親水性であり、所要のインク反撥性は、インク付けに先立ってプレート、即ち印刷部材に対し、湿し水（又は「ファウンテン」溶液）を最初に適用することによってもたらされる。インク忌避性の湿し水は、インクが非イメージ領域に付着することを妨げるが、イメージ領域の親油性の特性には影響しない。
【０００４】
伝統的な印刷技術において典型的なものである、面倒な写真術的現像、プレート装着及びプレート整合操作を回避するために、印刷業者達は電子的な代替手段を開発した。これはイメージに関連するパターンをデジタル形態で格納し、そのパターンをプレート上へと直接に印像するものである。コンピュータ制御に馴染みやすいプレートイメージングデバイスには、種々の形態のレーザが含まれる。例えば米国特許第５，３５１，６１７号及び第５，３８５，０９２号（これらの開示の全内容は、ここでの番号の参照によって本明細書に取り入れるものとする）は、融除記録システムを開示している。これは未使用の印刷部材、即ちリソグラフ印刷ブランクの１又はより多くの層をイメージに関連するパターンで除去するために、低出力のレーザ放電を用いるものであり、それによって写真術的現像の必要性なしに、インク付けの準備が整った、即ち即時インク付け可能な印刷部材を生成するものである。これらのシステムによれば、レーザ出力はダイオードから印刷表面へと案内され、その表面に対して（或いは望ましくは、一般には表面層の下側にありレーザによる融除を最も受けやすい層に対して）集束される。
【０００５】
米国特許第５，３３９，７３７号及び再発行特許第３５，５１２号、並びに同時係属中の米国特許出願第０８／７００，２８７号及び０８／７５６，２６７号は、ここで番号を参照することによってそれらの全内容を本明細書に取り込むものとするが、上記のようなイメージング装置と共に用いるための、種々のリソグラフプレート構成を記載している。一般的に言って、この種のプレート構成は、インク又はインク忌避液体に対する親和性（又は反撥性）について選択された第１の、最上層を含みうる。第１の層の下側には、イメージング（例えば赤外、即ち「ＩＲ」）放射線に応答して融除されるイメージ層がある。強固で耐久性のある基体がこのイメージ層の下側にあり、インク又はインク忌避液体に対して第１の層のそれとは逆の親和性（又は反撥性）により特徴付けられる。イメージングパルスによる吸収性の第２の層、即ちイメージ層の融除は、通常は最上層をも弱化する。下側にある層に対する係留を破壊されることにより、最上層はイメージング後の洗浄工程において容易に除去可能なものとなる。このことは、インク又はインク忌避液体に対し、暴露されていない第１の層のそれとは異なる親和性を有するイメージスポットを生成することになり、こうしたスポットのパターンによってリソグラフ印刷プレートのイメージが形成される。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
特定の印刷部材やイメージング条件に依存して、性能に対するある種の制約が観察される場合がある。例えばシリコーン表面を有する乾式プレートは、暴露されたインク受容（一般にはポリエステル）層により示されるインク保持性が不十分な場合がある。しかしながら、この挙動の原因は複雑である。これは単に、頑固に付着しているシリコーンフラグメントのみに由来するものではない。例えばシリコーン層を単純に機械的に擦っただけでも、イメージングされていないシリコーン領域に対して損傷が生ずるよりもかなり前に、インク受容層から全ての残屑、即ち破片や残骸を、拡大して見た場合であっても確実に除去することができる。それでもなお、こうしたプレートの印刷品質は依然として、インクに対する不適切な親和性に関連して、劣ったものとなる場合がある。また溶剤での洗浄を通じて、インク受容性を実質的に改善することはできるが、このような処理はシリコーンを軟化させ得ると同時に、プレートの非イメージング部分に対するシリコーン層の係留を劣化させる。溶剤はまた、環境面、健康面、及び安全面における懸念を惹起させる。
【０００７】
イメージングプロセス、及びある種のプレート構造、特にシリコーン最上コーティングの下側に薄い金属の融除層を含むプレート構造に対するイメージングプロセスの影響について検討したところ、これまで観察された印刷上の不具合が、イメージングプロセスにより誘起された僅かな化学的及び形態学的変化に由来するものであることが示唆された。薄い金属のイメージング層をベースとするプレートは、融除を受けるためには、例えば自己酸化性（例えばニトロセルロース）の融除層を有するレーザイメージング可能な印刷プレートの場合よりも、実質的により高い温度まで加熱されることを必要とする。特に、低出力のイメージング源が用いられる場合は、破壊的な熱蓄積に必要な、即ち十分な加熱が行われるまでに必要な露光時間はかなりのものであり得るため、望ましくない熱的反応が生ずる機会がもたらされる。例えば、ダイオードレーザの低出力イメージングパルスは、チタンのような金属をその１６８０℃の融点以上に加熱するために、最小期間（通常は５〜１５μ秒）にわたって持続されねばならない。チタン層は化学的に複雑なシリコーン層と接触しているため、こうした高温は、シリコーン由来の熱分解生成物を生ずる反応を誘発しうる。これらの分解生成物は化学的及び形態学的の双方で組み合わさって、また揮発されたチタン層と共に、下側のインク受容性フィルム又は層の表面と自由に相互作用する。この表面はさらにまた、フィルム表面を溶融及び熱劣化してシリコーン分解生成物を容易に受け入れるようにしてしまう可能性のある高温に暴露される結果として、シリコーン分解生成物との相互作用に対してより一層脆弱なものとされる。フィルムに対するこうした分解生成物の付着、注入、機械的混合、及び化学反応は、フィルムがインクを保持する能力を妨害する。
【０００８】
こうした影響は、イメージングプロセスをより詳細に解析することによって、より良く理解することができる。必要な融除温度に達するのに要求される、金属層に対する強く長期的な局部加熱は、その周囲のプレート内部構造に対して種々の物理的影響を及ぼす。金属層が何らかの変化を受けるよりも前に、気泡が形成され、シリコーン層を持ち上げる。この気泡は、急速に加熱される金属層と接する内部界面において、シリコーン層がガス状にホモリチック分解することにより生じている可能性が高い。
【０００９】
次いで、金属層に孔が、孔を囲む溶融金属のビードとして、最初は露光スポットの中央に始まり、露光領域の縁に至るまで外側へと拡がるように形成される。イメージングパルスが終了すると、先に持ち上げられたシリコーンは元に収まる。この遅れは、高分子材料に特徴的な比較的低い熱伝達率に基づき、シリコーン層及び露光されたインク受容層に熱が残存することに起因する。これらより下側にある層又はフィルムもまた、熱的に誘起されたかなりの物理的変化を受ける。強い加熱の影響は典型的には、イメージングにより露出されたインク受容性フィルムの表面に対し、多孔質の三次元テクスチャを与えることである。
【００１０】
露出されたフィルムの表面エネルギーは、未変性の材料のそれよりもかなり低い。例えばポリエステルの場合、乾式洗浄の後に観察される表面エネルギーは約２５  ｄｙｎ／ｃｍであるのに対し、未変性の材料では約４０  ｄｙｎ／ｃｍである。表面エネルギーについて観察されるこの変化は恐らく、熱的に変化されたフィルム表面と混合されたシリコーン副生物の存在により導かれるものである。こうした副生物は熱的にテクスチャ化されたポリエステルフィルム表面の全体にわたって堆積され、実際上その表面をマスクする。そしてこの組み合わせは機械的結合は勿論、化学結合をも包含するものであるから、単なる擦り作用による洗浄は、表面エネルギーの低いシリコーンを取り除くには不十分なものとなる。これらの影響により、結果的に得られるプレートのインク受容性が妨げられる。低い表面エネルギーは、シリコーンのような化合物をインク忌避性にする。従って、親油性材料の表面エネルギーを低減させれば、そのインク親和性は減じられることになる。
【００１１】
【課題を解決するための手段】
本発明は第１の側面において、インク受容性表面を印刷部材の表面層に由来する残屑の影響に対してほぼ不感なものとすることによって、熱分解による性能制約的な効果を相殺する。ここで用いる用語「残屑」は、ホモリシスのような化学的メカニズムや剪断又は引き裂きのような機械的プロセスから生じうる熱的に生成された分解生成物であって、分子レベルから嵩高（微視的にではあるが）なフラグメント又は断片に至るまでの範囲にあり得る大きさのものを内包することを意図している。
【００１２】
本発明のこの側面によれば、インク受容性表面は、高度に架橋されたポリマーであり得る。「高度に架橋された」という用語は、共有結合の三次元網目構造（ネットワーク）を有し、非常に高い凝集エネルギー密度を示すポリマーを内包するために用いられている。こうした材料は典型的には、多官能性モノマー、即ちその各々の分子が反応混合物中に存在している同種の又は異種の化学種と多くの共有結合を確立することのできるものを、硬化させる（例えば化学放射線又は電子ビーム源に暴露する）ことにより得られる。しかしながらまた、得られる硬化マトリクスが、イメージングプロセスの結果としての溶融、軟化、又は化学的劣化に抗するに十分な度合いの三次元結合を示すのであれば、単官能性及び多官能性のポリマー前駆体の組み合わせを用いることも可能である。
【００１３】
これと対照的に、高度に架橋されていないポリマー（リソグラフ印刷プレートにおいてインク受容性表面として頻繁に使用されるポリエステルフィルムの如き）は、一般的に熱可塑性の特性を有し、測定可能なガラス転移温度Ｔｇを示し、その温度において軟化を開始し、さらに温度が上昇すると溶融する。熱可塑性材料は、印刷用表面としては本発明により高度に架橋された層で置換されるものであるが、この高度に架橋された層の下側に位置して有用な機械的特性を与え（例えば高度に架橋された層の所要厚みを限定するために）、或いは高度に架橋された層が合成及び／又は硬化されるプラットホームとして作用することができる。
【００１４】
高度に架橋された層として有用な、適切なポリマーに含まれるものには、ポリアクリル酸エステル即ちポリアクリレート及びポリウレタンがある。適切なポリアクリレートには、多官能性アクリレート（即ち各々が１より多いアクリレート基を含んでいるモノマーをベースとする）及び単官能性アクリレートと多官能性アクリレートの混合物が含まれる。
【００１５】
高度に架橋されたポリマーの代替物も考えられる。インク受容性表面は、必要な親油性と熱分解耐性、及び低い熱伝達率（上側のイメージング層からのエネルギーの消散を回避するための）を示す、どのような材料であってもよい。例えばセラミック材料は、これらの規準を充足しうる。
【００１６】
第２の側面において本発明は、残屑が劣化させうる表面ではなく、残屑それ自体の特性を変化させる。即ち有害な残屑の形成を全体的に阻止するものである。イメージング層と表面層の間に配置される介在層又は絶縁層は、イメージング放射線又は下側のイメージング層の融除に応じて、表面層がかなりの熱分解を受けることを防止する。またこれは、残屑を殆ど生成しないか、或いはインク及び／又は湿し水に対し、基体の親和性に類似した、例えば下側のインク受容性表面の親油性を低減させることのない親和性を有する残屑を生成するように配合される。イメージングに続き、プレートがイメージング放射線を受け取った個所において、絶縁層の残部は表面層と共に除去される。
【００１７】
１つの好ましい手法では、絶縁層はポリシラン、即ちケイ素をベースとする材料であって、置換された又は未置換のケイ素原子が相互に直接結合されて長鎖をなしているものである。こうした材料は親油性を示すであろう残屑を生成するだけでなく、イメージング層として用いることのできるポリマー、金属又は無機材料に対して極めて良好に接着する。従ってこれらはイメージング層に対し、最も好ましくは真空下での堆積及びそれに続く硬化などの、種々の方法の何れによっても適用することができる。
【００１８】
別の手法では、絶縁層はそれが生ずる残屑の特性や残屑の生成に対する耐性によってではなく、イメージングに続いて上側の層を除去するのを補助する観点から選択される。このタイプの層は望ましくは、イメージングに続いての除去を助ける官能基を取り込んだものである。例えば、絶縁層は親水性官能基を有するアクリル酸エステル即ちアクリレートの層であることができ、これらの官能基は絶縁層の露出部分が水性の洗浄液と相互作用するようにする。代替的に、絶縁層は親水性のもの、例えばヒドロキシエチルセルロースやポリビニルアルコールといった化学種であることができ、金属層及びシリコーン層に対して良好な接着性を示す。
【００１９】
【発明の実施の形態】
以上の議論は、添付図面との関連において以下の詳細な説明を参照することにより、より容易に理解されるであろう。
【００２０】
本発明の印刷部材に関連して用いるのに適したイメージング装置には、プレートの応答性が最大の領域で発光する、即ちそのλｍａｘがプレートが最も強い吸収を行う波長領域にほぼ近似している、少なくとも１つのレーザ装置が含まれる。近赤外領域で発光するレーザの仕様は、前述の米国特許第５，３３９，７３７号及び再発行特許第３５，５１２号（これらの開示の全内容は、ここでの番号の参照によって本明細書に取り入れるものとする）に完全に記述されている。電磁スペクトルの他の領域で発光する他のレーザも、当業者には周知である。
【００２１】
適切なイメージング構成もまた、前述の米国特許第５，３３９，７３７号及び再発行特許第３５，５１２号に詳細に記載されている。簡略に言えば、レーザ出力はレンズその他のビーム案内部材を介してプレート表面に対して直接にもたらされるか、或いはブランク印刷プレートの表面に対して光ファイバケーブルを用いて遠隔部位のレーザから伝送される。コントローラ及び関連する位置決めハードウェアがビーム出力をプレート表面に対して正確な向きに維持し、この出力で表面全体を走査し、そしてプレートの選択個所又は領域に隣接した位置においてレーザを活性化する。コントローラは、プレート上に複製される原本ドキュメント又は画像に対応する入力イメージ信号に応答して、原本の正確な陰画又は陽画イメージを生成する。イメージ信号は、コンピュータにビットマップデータファイルとして格納されている。こうしたファイルは、ラスタイメージプロセッサ（ＲＩＰ）その他の適切な手段によって発生することができる。例えば、ＲＩＰは入力データを、印刷プレート上に転写されることが必要な全ての特徴を規定するページ記述言語で受け取ることができ、或いはページ記述言語と一つ又はより多くのイメージデータファイルの組み合わせとして受け取る。ビットマップは、色相並びにスクリーン周波数及び角度を規定するよう構成されている。
【００２２】
イメージング装置は、プレート作成機としてのみ機能するようそれ自体で動作することができ、或いはリソグラフ印刷機に直接に組み込むことができる。後者の場合には、イメージをブランクプレートに適用した後、直ちに印刷を開始することができ、それによって印刷機のセットアップ時間を大きく短縮させる。イメージング装置は、フラットベッドレコーダとして、或いはリソグラフプレートブランクをドラムの内側又は外側の円筒形表面に装着してドラムレコーダとして構成することができる。明らかに、ドラムの外側表面に装着する設計は、現場でリソグラフ印刷機上で使用するのにより適しており、その場合には印刷シリンダそれ自体がレコーダ又はプロッタのドラム部材を構成する。
【００２３】
このドラム構成において、レーザビームとプレートの間に必要とされる相対的な動作は、ドラム（及びその上に設けられたプレート）をその軸の周囲で回転させ、ビームをその回転軸と平行に移動させて、それによってプレートを周方向に走査して、イメージが軸方向に「成長」するようにして達成される。或いはまた、ビームをドラムの軸と平行に移動させ、プレートを横断する各パスの後に角度をインクリメントさせて、プレート上のイメージが周方向に「成長」するようにさせることができる。両方の場合について、ビームによる走査が完了した後に、原本のドキュメント又は画像に対応する（陽画的又は陰画的に）イメージが、プレートの表面に適用されていることになる。
【００２４】
フラットベッド構成においては、ビームはプレートの何れかの軸に沿って掃引され、各々のパスの後に他方の軸に沿って位置合わせされる。勿論、ビームとプレートの間における所要の相対運動は、ビームの移動ではなく（或いはそれに加えて）プレートの移動によって生成することもできる。
【００２５】
ビームが走査される仕方とは関係なしに、複数のレーザを用いてそれらの出力を単一の書き込みアレイへと案内することが一般に好ましい（機上の用途について）。この書き込みアレイは次いで、プレートを横切る又はプレートに沿っての各々のパスの完了の後に、アレイから発せられるビームの数と、所望の解像度（即ち単位長当たりのイメージポイントの数）によって定まる距離だけインデクシンシグ又はスライドされる。機外の用途の場合には、非常に迅速なプレートの動きに対処するように設計を行うことができ（例えば高速モータの使用を通じて）、従って高いレーザパルスレートをが用いられるものであり、多くの場合にイメージング源として単一のレーザを使用可能である。
【００２６】
本発明による代表的な印刷部材が図１及び図２に示されている。本明細書において使用される「プレート」又は「部材」という用語は、インク及び／又はファウンテン溶液に対して差別的な親和性を示す領域によって画定されたイメージを記録することのできる、あらゆる型式の印刷媒体又は表面を指している。適切な構成に含まれるものとしては、印刷機のプレートシリンダ上に設けられる伝統的な平坦なリソグラフ印刷プレートがあるが、シリンダ（例えばプレートシリンダのロール状表面）、エンドレスベルト、或いはその他の構成配置もまた含まれ得る。
【００２７】
図１を参照すると、第１の印刷部材は、基体１００と、絶縁層１０２と、放射線吸収イメージング層１０４と、表面層１０６とを含んでいる。
【００２８】
表面層１０６は通常、インクをはじくシリコーンポリマー又はフルオロポリマーであるが、絶縁層１０２は親油性でありインクを受容する。イメージング層１０４は通常、非常に薄い金属の層である。この層はイメージング放射線に応答して融除される。
【００２９】
基体１００の特性は、用途に依存する。剛性と寸法安定性が重要な場合には、基体１００は金属、例えば５ミル厚のアルミニウムシートであることができる。理想的にはアルミニウムは研磨され、上側の層を貫通してきた何らかの放射線をイメージング層１０４へと反射して戻すようにされる。代替的には、基体の層１００は例示したようにポリエステルフィルムの如きポリマーであることができる。この場合にも、フィルムの厚みは大体において、用途によって定まる。反射性能の利点は、ポリマーの基体１００に関しても、イメージング（例えばＩＲ）放射線を反射する顔料を含有する材料を用いることによって保持することができる。ＩＲ反射性の基体１００として用いるに適した材料は、米国デラウェア州ウィルミントンのＩＣＩ  Ｆｉｌｍｓにより市販されているＷｈｉｔｅ  ３２９フィルムであり、これはＩＲ反射性の硫酸バリウムを白色顔料として用いている。好ましい厚みは０．００７インチ（０．１８ミリ）である。最後に、ポリマーの基体１００は所望ならば、金属支持体（図示せず）にラミネートすることができ、その場合には０．００２インチ（０．０５ミリ）の厚みが好ましい。ここで番号を参照することによってその全内容を本明細書に取り込む米国特許第５，５７０，６３６号に開示されているように、金属支持体又はラミネート用の接着剤が、イメージング放射線を反射することもできる。
【００３０】
絶縁層１０２は、イメージング放射線の影響や上側のイメージング層１０４の融除の影響に対して無関係に、化学的及び物理的な一体性を維持する。好ましくは、絶縁層１０２は高度に架橋されたポリマーであって、熱に対して実質的な耐性を湿す。しかしながら、他の耐火性、耐熱性の親油性材料、例えばセラミックスの如きも、これに代えて絶縁層１０２として作用することができる。材料の選択は通常、適用技術、経済性、及び所望とされる最大厚みに関する考慮によって決定される。
【００３１】
例えば、後述するように、イメージング層１０４は望ましくは、真空条件下での堆積によって適用される。従って、恐らく真空蒸着に馴染みやすい材料が絶縁層１０２には好ましく、これにより同一のチャンバ又は同じ真空下にあるリンクされた一連のチャンバ内で、引き続いての層を多重堆積でもって構築することが可能になる。１つの好ましい手法が、ここで番号を参照することによってそれらの全内容を本明細書に取り込むものとする米国特許第５，４４０，４４６号、第４，９５４，３７１号、第４，６９６，７１９号、第４，４９０，７７４号、第４，６４７，８１８号、第４，８２４，８９３号、及び第５，０３２，４６１号に詳述されている。これらの特許によれば、アクリレートモノマーが、真空下に蒸気として適用される。例えばこのモノマーは、フラッシュ蒸発され真空チャンバ内へと注入され、そこで表面上に凝結するようにできる。ついでこのモノマーは、化学（一般には紫外、即ちＵＶ）放射線又は電子ビーム（ＥＢ）源に暴露することによって架橋される。
【００３２】
関連する手法が、やはりここで番号を参照することによってその全内容を本明細書に取り込む米国特許第５，２６０，０９５号に記載されている。この特許によれば、アクリレートモノマーは真空から凝結されるのではなく、真空下においてある表面上に広げられ、又はコーティングされうる。ここでも適用に続いて、モノマーはＵＶ又はＥＢに暴露することで架橋される。
【００３３】
これらの手法の何れのものも、基体１００上に絶縁層１０２を適用するために使用することができる。さらにまた、これらの手法の適用能力は、モノマーに限定されるものではない。オリゴマーやより大きなポリマーフラグメント、又は前駆体も、何れの技法によっても適用することができ、その後架橋可能である。有用なアクリレート材料には、米国特許第５，４４０，４４６号の８−１０欄に記載された如き、在来のモノマー及びオリゴマー（モノアクリレート、ジアクリレート、メタクリル酸エステルその他）が含まれ、さらに特定の用途のために化学的に仕立てられたアクリレートも含まれる。代表的なモノアクリレートには、イソデシルアクリレート、ラウリルアクリレート、トリデシルアクリレート、カプロラクトンアクリレート、エトキシル化されたノニルフェニルアクリレート、イソボルニルアクリレート、トリプロピレングリコールメチルエーテルモノアクリレート、及びネオペンチルグリコールプロポキシレートメチルエーテルモノアクリレートが含まれる。有用なジアクリレートには、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、ポリエチレングリコール（２００）ジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ポリエチレングリコール（４００）ジアクリレート、ポリエチレングリコール（６００）ジアクリレート、プロポキシル化されたネオペンチルグリコールジアクリレート、ＵＣＢ  Ｒａｄｃｕｒｅ社により市販されているＩＲＲ−２１４製品（脂肪族ジアクリレートモノマー）、プロポキシル化された１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、及びエトキシル化された１，６−ヘキサンジオールジアクリレートが含まれる。そして有用なトリアクリレートには、トリメチロールプロパントリアクリレート（ＴＭＰＴＡ）及びエトキシル化されたＴＭＰＴＡが含まれる。
【００３４】
最後に、アクリレート官能性又は他の適切な樹脂コーティングは常法により（大気圧条件下で）、技術的に周知の手法に従って基体１００上に適用し、続いて硬化可能である。こうした手法の１つでは、１又はより多くのアクリレートが基体１００上に直接にコーティングされ、硬化される。別の手法では、１又はより多くのアクリレートが溶剤（単数又は複数）と組み合わせられ、基体１００上に流延され、その後に溶剤が蒸発され、堆積されたアクリレートが硬化される。揮発性溶剤は、低いコーティング重量でもって非常に一様な塗布を促進するものであり、好ましい。アクリレートコーティングはまた、アクリレートに溶解又は分散可能な非アクリレート官能性化合物を含むことができる。
【００３５】
アクリレートの代替物には、熱硬化性材料、イソシアネートベースの材料、アジリジン材料、及びエポキシ材料が含まれる。熱硬化性材料の反応は例えば、一次コーティング樹脂のヒドロキシル部位とのアミノプラスト樹脂の反応を含みうる。これらの反応は、酸雰囲気の生成と熱の使用によって大幅に促進される。
【００３６】
イソシアネートベースのポリマーは、ポリウレタンを含む。１つの典型的な手法は２液系ウレタンを含み、そこではイソシアネート成分が、１又はより多くの「骨格」樹脂（多くの場合「ポリオール」成分と呼ばれる）のヒドロキシル部位と反応する。典型的なポリオールには、２又はより多くのヒドロキシル官能部位を有する、ポリエーテル、ポリエステル、及びアクリル酸系化合物がある。重要な変性樹脂には、ヒドロキシル官能性ビニル樹脂及びセルロースエステル樹脂が含まれる。イソシアネート成分は２又はより多くのイソシアネート基を有し、モノマー又はオリゴマーの何れかである。反応は普通は周囲温度で進行するが、熱、及びスズ化合物や第３級アミンなどの選択された触媒を用いて促進させることができる。通常の技法は、イソシアネート官能性成分（単数又は複数）をポリオール成分（単数又は複数）と、使用の直前に混合することである。反応が開始されるが、周囲温度では「可使時間」を許容するに十分な程度に遅く、その間にコーティングを塗布することができる。
【００３７】
別の手法では、イソシアネートは「ブロック化」形態で用いられ、そこではイソシアネート成分がフェノールやケトオキシムのような別の成分と反応した不活性な、準安定化合物が生成される。この化合物は高温下で分解して活性なイソシアネート成分を遊離することを意図したものであり、遊離されたイソシアネートは次いで反応してコーティングを硬化させる。この反応は、コーティング配合物中に適切な触媒を取り入れることによって促進される。
【００３８】
アジリジンは、カルボキシル官能性樹脂をベースとする水性コーティングを架橋するために頻繁に使用されている。カルボキシル基は樹脂内に取り込まれて水溶性アミンと塩を形成する部位をもたらすが、この塩形成反応は樹脂を水中に溶解又は分散するのと一体のものである。この反応は、コーティングの堆積に際して水と溶解したアミンが蒸発した後に、周囲温度において進行する。アジリジンは使用時にコーティングに添加されるものであり、不活性な副生物を生成する水中加水分解の速度によって支配される可使時間を有する。
【００３９】
エポキシ化反応物は、例えば特に脂環式エポキシ官能基をベースとする樹脂については三フッ化ホウ素錯体を用いて、高温で硬化することができる。別の反応は、ＵＶ暴露により生成するカチオン性触媒をベースとするものである。
【００４０】
イメージング層１０４は、一般には真空でコーティングされた薄いフィルムとして適用されるものであり、金属又は金属の混合物であることができる。チタンは、純粋な形態又は合金や金属間化合物の何れにおいても好ましいものであるが、アルミニウムの如き他の金属もまた有利に使用することができる。シリコーン層１０６を用いる乾式プレート構造については、チタンは特に好ましい。特にシリコーンが付加硬化によって架橋される場合には、下側のチタン層は他の金属に優る、実質的な利点をもたらす。即ちチタン層上に付加硬化シリコーンをコーティングすると、硬化の間に触媒作用が増強され、実質的に完全な架橋が促進される。またこれは、架橋が完了した後でさえも、さらなる結合反応を促進しうる。これらの現象はシリコーンとチタン層に対するその結合を強化し、それによってプレートの寿命を向上させ（より完全に硬化したシリコーンは優れた耐久性を示すため）、またシリコーン層を通ってインク坦持溶媒が移行、即ちマイグレートすること（その場合には下側の層が劣化される）に対する抵抗をもたらす。高速コーティングが望ましいために（又はインク受容性支持体に対する熱損傷を回避するためにより低い温度で実施することが必要なために）、コーティング装置で完全な硬化を行うことが実用的でない場合には、触媒作用の増強は特に有用である。チタンの存在は、温度を下げたとしても、継続的な架橋を促進する。
【００４１】
表面層１０６に有用な材料、及びそのコーティング技術については、上述した米国特許第５，３３９，７３７号及び再発行特許第３５，５１２号に開示されている。基本的には、適切なシリコーン材料が巻線ロッドを用いて塗布され、次いで乾燥され熱硬化されて、例えば２ｇ／ｍ２で堆積された均一なコーティングが生成される。
【００４２】
さて図２を参照すると、基体１００と、イメージング層１０４と、表面層１０６とを上述した如く含み、また絶縁層１０８をも含む、印刷部材の第２の実施例が示されている。この実施例の１つの態様では、絶縁層１０８はポリシランである。前述したように、この種の材料は親油性を示すであろう残屑を生成するだけでなく、イメージング層１０４に対して極めて良好に接着する。ポリシランはイメージング層１０４に対し、プラズマ重合によって適用することができるが、それによればポリマー前駆体が真空下のプラズマ中に導入されるものである。この後者の手法は大抵の場合、高度に架橋された分岐構造を生成し、そこには幾らかのシロキサン成分が含まれる（従って得られる生成物は、ポリシランとポリシロキサンのランダムコポリマーとして記述されるのが最も適切である）。ポリシロキサン含有量が十分に低ければ、得られる層はインクを受容する。
【００４３】
プラズマ重合されたポリシランは、作用ガスであるアルゴン中に生成されたプラズマ中へと、シラン前駆体を導入することによって得られる。適切なシラン前駆体には例えば、トリメチルシラン、テトラメチルシラン、及びトリメチルジシランなどが含まれる。使用される条件に応じて、得られるポリマーは大幅に架橋され、酸素を余り含まない（上部及び下部の界面を除いて）。堆積は通常はゆっくりと生じ、非常に薄い（オングストローム／ナノメートルレベルの）フィルムを適用することが容易である。プラズマ重合の作用圧力は典型的には、０．１〜０．０１  ｔｏｒｒの範囲にある。
【００４４】
ポリシランはまた、コーティングとして適用でき、或いは溶剤から流延することも可能である。適切な溶剤ベースのポリシランには、米国ペンシルバニア州ブリストルのＨｕｌｓ  Ａｍｅｒｉｃａから市販されている製品名で、ＰＳ１０１（ポリ（シクロヘキシルメチル）シラン）、ＰＳ１０１．５（ポリジヘキシルシラン）、ＰＳ１０６（ポリ（フェニルメチルシラン））、ＰＳ１０９（シクロヘキシルメチルシランとジメチルシランのコポリマー）、及びＰＳ１１０（ジメチルシランとフェニルメチルシランのコポリマー）などがある。他の適切なポリシラン及びそれらの合成については、米国特許第４，９９２，５２０号、第５，０３９，５９３号、第４，９８７，２０２号、第４，５８８，８０１号、及び第４，５８７，２０５号、並びにＺｅｉｇｌｅｒら「Ｓｅｌｆ−ｄｅｖｅｌｏｐｉｎｇ  ｐｏｌｙｓｉｌａｎｅ  ｄｅｅｐ−ＵＶ  ｒｅｓｉｓｔｓ  −−  ｐｈｏｔｏｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，  ｐｈｏｔｏｐｈｙｓｉｃｓ，  ａｎｄ  ｓｕｂｍｉｃｒｏｎ  ｌｉｔｈｏｇｒａｐｈｙ」、ＳＰＩＥ  Ａｄｖａｎｃｅｓ  ｉｎ  Ｒｅｓｉｓｔ  Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ  ａｎｄ  Ｐｒｏｃｅｓｓｉｎｇ  ＩＩ  ５３９：１６６−１７４（１９８５）に記載されている。一般に、適切に適用されたポリシランは１０００ダルトンを越える分子量を有する。
【００４５】
幾つかの用途においては、官能基をポリシラン中に取り入れて、上側の層との接着性を向上させることが望ましい。例えば絶縁層１０８中にビニル官能基があると、これらはその上に適用されて硬化される付加硬化シリコーン層１０６にある相補的な基と結合する。従って、置換されたポリシロキサン基を有するポリシラン／ポリシロキサンコポリマーを、インクの反撥を回避するに十分な低いレベル（例えば２％又はそれ未満）で用いることが可能である。
【００４６】
この実施例の別の形態では、絶縁層１０８は残屑の生成に対する抵抗性の故に選ばれるが、しかしイメージングに続いての除去性能を補助する官能基を有する。即ちイメージングパルスを適用するとイメージングされた領域内ではイメージング層１０４が除去されるが、絶縁層１０８（後述の如き）や表面層１０６には軽い損傷しか生じないであろう。しかしながらこれらの層は、基体１００に対する係留を解かれることにより、除去可能なものとされる。この除去は、洗浄液の存在下に機械的作用によって達成可能であり、その洗浄液と絶縁層１０８のポリマーの官能基との間での化学的相溶性は、イメージングされた領域におけるその除去を助ける。適切な相間接着性を示すように材料が選ばれる限りにおいて、この相溶性は洗浄時に、非イメージ領域に対して損傷を及ぼすものではない。
【００４７】
洗浄液の性質が水性である場合には、絶縁層１０８はポリビニルアルコールからなることができる。こうした材料はシリコーン層１０６及びチタンベースのイメージング層１０４の両者に対し、優れた接着性を示す。さらにまた、水から流延されたポリビニルアルコールの層は、殆どの印刷用溶剤の影響を受けず、結果として使用時に優れた耐久性を有する。適切なポリビニルアルコール材料には、ＡＩＲＶＯＬポリマー製品（例えば米国ペンシルバニア州アレンタウンのＡｉｒ  Ｐｒｏｄｕｃｔｓにより市販されているＡＩＲＶＯＬ  １２５又はＡＩＲＶＯＬ  １６５といった、高度に加水分解されたポリビニルアルコールが含まれる。ポリビニルアルコールは、これを大過剰の水（例えば重量比で水９８に対して２）と組み合わせ、この混合物を巻線ロッドで適用し、続いて実験室の熱対流炉中で１分間華氏３００度（１５０℃）でコーティングを乾燥することによって、基体１００上へとコーティング可能である。典型的な塗布重量は、０．２〜０．５  ｇ／ｍ２である。
【００４８】
ポリビニルアルコールの代替物は、ヒドロキシセルロース、例えば米国テキサス州ヒューストンのＡｑｕａｌｏｎ  Ｃｏ．により市販されているＮＡＴＲＯＳＯＬという非イオン性の水溶性ポリマーである。この材料は、セルロースのヒドロキシエチルエーテルである。ＮＡＴＲＯＳＯＬ  ２５０ＪＲという製品の２％水溶液をチタンでコーティングされたポリエステル基体に０．２  ｇ／ｍ２で適用し、実験室の熱対流炉中で１分間華氏３００度（１５０℃）で乾燥する。これにシリコーンを２．０  ｇ／ｍ２でコーティングすると、水洗浄性の乾式プレートが得られる。
【００４９】
別の手法では、絶縁層１０８はアクリレート材料であり、親水性官能基を取り込んでいて、水性洗浄液と相溶性がある（そしてそれにより除去可能である）ようにされる。アクリレートモノマー又はオリゴマーに対し、又はその内部に結合しうる親水基には、ペンダント（側基）のリン酸及びエチレンオキシド置換などがある。好ましい材料には、β−カルボキシエチルアクリレート、前述した幾つかのポリエチレングリコールジアクリレート、米国ジョージア州アトランタのＵＣＢ  Ｒａｄｃｕｒｅ，  Ｉｎｃ．から市販されているＥＢ−１７０製品即ちリン酸官能性アクリレート、及びヘンケルにより市販されているＰＨＯＴＯＭＥＲ  ４１５２（ヒドロキシペンダント）、４１５５及び４１５８（高エポキシ含有量）、及び６１７３（カルボキシペンダント）が含まれる。
【００５０】
代替的に、親水性化合物をコーティング混合物中に非反応性成分として含めることができ、これは得られる硬化マトリクス中に坦持され、コーティングに対して水に対する濡れ性を与える親水性部位を示すようになる。こうした化合物に含まれるものには、ポリエチレングリコールやトリメチロールプロパンがある。特に、コーティング（真空蒸着ではなく）によって適用される場合には、アクリレート混合物に添加可能な非アクリレートの親水性有機材料の範囲は相当なものになる。というのは、分子量が重要な考慮事項ではないからである。本質的に、アクリレートのベースコーティングに対する溶解性又は混和性しか必要ではない。アクリル酸含有量の高いアクリル酸コポリマー（ポリアクリル酸ポリマーを含む）もまた可能なものである。非真空での適用はまた、固形の充填剤、特に無機物質（シリカの如き）を使用して、水ベースの洗浄液との相互作用を助長することを容易にする。こうした充填剤は親水性であり、及び／又は多孔性（テクスチャ）を導入することができる。これは導電性カーボンブラック（例えば米国マサチューセッツ州ウォルサムのＣａｂｏｔ  Ｃｏｒｐ．のＳｐｅｃｉａｌ  Ｂｌａｃｋｓ  Ｄｉｖｉｓｉｏｎにより市販されているＶｕｌｃａｎ  ＸＣ−７２顔料）で得られるごときものである。
【００５１】
Ｔレジン及びはしご形ポリマーは、第２の実施例における絶縁層１０８又は第１の実施例における絶縁層１０２の何れかとして役立つことのできる、さらに別のクラスの材料を表すものである。これらの材料は溶媒からコーティング可能であり、特にフェニル置換されている場合には、極めて高い耐熱性を示す。Ｔレジンは高度に架橋された材料であり、ＲＳｉＯ１．５という実験式を有する。はしご形ポリマーは、
【００５２】
【化１】
0003554501.tif 000002
【００５３】
という構造を示しうる。
【００５４】
これらのタイプの材料は両方ともインクを受容し、また親水性にすることが可能であり（例えばシラノール置換を用いてＲを−ＯＨとして）、或いは上側の相と反応性にすることができる（例えばビニル置換を用いてＲを−ＣＨ＝ＣＨ２として）。さらにまた、これらの材料は劣化して低分子量のシロキサンではなく、ＳｉＯ２−ｘガラスとなる傾向を有する。
【００５５】
適切な材料には例えば、ポリメチルシルセスキオキサン、ポリフェニル−プロピルシルセスキオキサン（ヒドロキシル置換されていてもよい）及びポリフェニル−ビニルシルセスキオキサンなどがある。
【００５６】
図２によるプレートをイメージングすることの効果が、図３Ａに示されている。イメージングパルスは暴露領域においてイメージング層１０４を融除し、基体１００と絶縁層１０８の間に係留の解かれた空所１１２を残し、これによって上側の表面層１０６及び絶縁層１０８は、洗浄による除去に馴染みやすいものとなる。図３Ｂに示されているこのプロセスは、絶縁層１０８の親水性によって増強される。水性洗浄液を適用すると、表面層１０６と絶縁層１０８の係留の解かれた領域は一連のフラグメント１１５に分解され、洗浄液中に取り込まれて除去され、イメージングパルスが当たった個所に基体１００を残す。
【００５７】
親水性の絶縁層１０８を有する印刷部材について用いるための、例示的な水性洗浄液は、水道水（１１．４リットル）と、米国カリフォルニア州ハンチントンビーチのＳｕｎｓｈｉｎｅ  Ｍａｋｅｒｓ，  Ｉｎｃ．により市販されているＳｉｍｐｌｅ  Ｇｒｅｅｎという濃縮クリーナー（１５０  ｍｌ）と、米国ニュージャージー州オークランドのＶａｒｎ  Ｐｒｏｄｕｃｔｓ  Ｃｏｍｐａｎｙから市販されているＳｕｐｅｒ  Ｄｅｆｏａｍｅｒ  ２２５をキャップ１杯分組み合わせることにより調製される。ここで番号を参照することによりその全内容を本明細書に取り入れる米国特許第５，１４８，７４６号に記載されているように、この洗浄液はイメージング後に、表面層１０６と接触している回転ブラシに対して適用することができる。
【００５８】
最後に図４は、基体１００と、イメージング層１０４と、表面層１０６とを前述したようにして含み、さらに無機層１１０を有するプレートの実施例を示している。無機層１１０の役割は基本的には、表面層１０６のために有効な熱的保護をもたらすというよりも、親水性残屑を発生するというところにある。無機層１１０は熱的に安定であり、イメージングプロセスの間は持続し、絶縁層１０８（図３参照）のようにして表面層１０６に接着する。このようにして、無機層１１０は水性洗浄液と相溶性のある親水性表面をもたらし、それによってイメージングされたプレート領域にわたっての、表面層１０６の除去を補助するものである。無機層１１０は例えば、イメージング放射線に対して透過性であることができる。イメージングビームと相互作用しないことにより、透過層たる無機層１１０はそれ自体の構造的一体性を維持すると同時に、ビームの全エネルギーがイメージング層１０４に到達することを許容する。
【００５９】
好ましい態様では、無機層１１０は５０〜１０００Åの範囲、理想的には３００Åの厚みで適用された二酸化ケイ素（ＳｉＯ２）である。層１１０はケイ素の反応性スパッタリングによって生成可能であり、この場合に作用ガス（典型的にはアルゴン）に対して酸素が添加される。堆積されるＳｉＯ２材料にシラノール官能性を導入するために、作用ガスに水分を添加することも可能であり、これによって親水性は増大される。他の酸化物もまた、有利に使用することができる。しかしながら、無機層１１０がイメージング放射線に対して透過性でない限りにおいては、イメージング層１０４の厚みを低減させて、結果として生ずるエネルギー消散に対処することが必要となろう。
【００６０】
このプレート構造は、未吸収のイメージング放射線がイメージング層１０４に反射されて戻ることによる利点を享受することができる。例えば、ＩＲ反射性の基体１００として用いるに適した材料は、米国デラウェア州ウィルミントンのＩＣＩ  Ｆｉｌｍｓにより市販されているＷｈｉｔｅ  ３２９フィルムであり、これはＩＲ反射性の硫酸バリウムを白色顔料として用いている。ポリエステルの基体は、インクに対する親油的親和性を維持する。
【００６１】
【発明の効果】
かくして本発明者らが、上述した技法及び構成により、優れた印刷特性及び性能を有するリソグラフ印刷部材を開発したことが看取されよう。本明細書において用いられた用語及び表現は説明のために用いたものであって、限定を行うためのものではなく、こうした用語及び表現を用いることについては、本明細書及び図面に説明し図示した特徴又はその一部に対するどのような均等物をも排除する意図はない。むしろ特許請求の範囲の枠内において、種々の設計変更が可能であることが認識されるものである。
【図面の簡単な説明】
【図１】シリコーンの最上層と、金属の又は金属を含有するイメージング層と、インク受容性の絶縁層と、基体とを有するリソグラフ印刷プレートの拡大断面図である。
【図２】シリコーンの最上層と、絶縁層と、金属の又は金属を含有するイメージング層と、基体とを有するリソグラフ印刷プレートの拡大断面図である。
【図３】Ａは図２に示すプレートのイメージングの影響を示す図であり、Ｂはイメージングされたプレートを水性の液体で洗浄する影響を示す図である。
【図４】シリコーンの最上層と、二酸化ケイ素の層と、金属の又は金属を含有するイメージング層と、基体とを有するリソグラフ印刷プレートの拡大断面図である。
【符号の説明】
１００  基体
１０２，１０８  絶縁層
１０４  イメージング層
１０６  表面層
１１０  無機層
１１２  空所
１１５  フラグメント
【図１】
0003554501.tif 000003
【図２】
0003554501.tif 000004
【図３】
0003554501.tif 000005
【図４】
0003554501.tif 000006