Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成29年4月24日(2017.4.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
生体の一部を治療するための治療システムであって、
一時的又は永続的に治療用装置を生体の一部に配置する治療装置であって、前記生体の中に挿入される細長い本体部を有し、前記細長い本体部は、
前記治療用装置をチャネル内の特定の位置まで案内し、及び/又は、チャネル内の前記特定の位置で前記治療用装置を保持するチャネルと、
検出装置に結合されるように形成されるインピーダンスセンサ要素であって、前記検出装置は、前記インピーダンスセンサ要素により提供される信号の変化に基づいて、前記治療用装置が前記特定の位置に存在することを検出するインピーダンスセンサ要素と
を有する、治療装置と、
前記治療装置の前記インピーダンスセンサ要素に接続可能な検出装置であって、前記治療用装置が前記特定の位置に存在することに応じて、前記インピーダンスセンサ要素により提供される信号の変化を検出する、検出装置と、
前記治療装置の前記インピーダンスセンサ要素に接続可能であり、電磁場生成部の固定位置に対する前記インピーダンスセンサ要素の相対位置を追跡する追跡装置であって、前記電磁場生成部は、前記インピーダンスセンサ要素により検出可能な電磁場を生成する、追跡装置と、
を有する、治療システム。
【請求項２】
前記インピーダンスセンサ要素は、前記特定の位置における電磁場を検出するためのコイルを有する、請求項１に記載の治療システム。
【請求項３】
前記コイルは前記チャネルの周囲に設けられる、請求項２に記載の治療システム。
【請求項４】
前記細長い本体部は、針、プローブ、トロカール、カニューレ又はカテーテルを有する、請求項１に記載の治療システム。
【請求項５】
前記細長い本体部は、前記検出装置に結合されるように形成される別のインピーダンスセンサ要素を有し、前記検出装置は、前記インピーダンスセンサ要素による検出と協働して、前記インピーダンスセンサ要素により提供される及び/又は前記別のインピーダンスセンサ要素により提供される信号の変化に基づいて、前記治療用装置が前記特定の位置に存在することを検出する、請求項１に記載の治療システム。
【請求項６】
前記別のインピーダンスセンサ要素は、前記チャネルの周囲に設けられ、前記特定の位置における電磁場を検出する、請求項５に記載の治療システム。
【請求項７】
前記インピーダンスセンサ要素及び別のインピーダンスセンサ要素のうちの少なくとも何れかは、前記生体に対して固定位置にある電磁場生成部により生成される電磁場を検出するように形成され、前記追跡装置は、前記インピーダンスセンサ要素又は前記別のインピーダンスセンサ要素に接続可能である、請求項１又は５に記載の治療システム。
【請求項８】
ＡＣ電圧を生成する励振源を更に有し、前記インピーダンスセンサ要素、前記別のインピーダンスセンサ要素及び前記励振源がブリッジ回路に配置され、前記ブリッジ回路は、
第１端子、第２端子、第３端子及び第４端子と、
前記第２端子及び前記第４端子の間に配置される第１負荷抵抗器と、
前記第３端子及び前記第４端子の間に配置される第２負荷抵抗器と、
を有し、前記第１負荷抵抗器及び前記第２負荷抵抗器は、前記ブリッジ回路の２つの電流導通経路各々の負荷を均衡させるように形成され、
前記励振源は前記第１端子と前記第４端子との間に配置され、
前記インピーダンスセンサ要素は前記第１端子と前記第２端子との間に配置され、
前記別のインピーダンスセンサ要素は前記第１端子と前記第３端子との間に配置され、
前記第２端子及び前記第３端子は１つ以上の検出装置に結合される、請求項５に記載の治療システム。
【請求項９】
前記治療用装置は光の形式でエネルギを前記生体の一部に案内する光ファイバを有し、前記光ファイバは前記光ファイバの所定の位置に設けられる基準要素を有し、前記インピーダンスセンサ要素は前記基準要素が前記特定の位置に存在することを検出するように形成される、請求項１に記載の治療システム。
【請求項１０】
前記治療用装置を更に有する請求項１に記載の治療システム。
【請求項１１】
前記治療用装置が、エネルギ放出治療用装置である、請求項１に記載の治療システム。
【請求項１２】
低線量率治療シードを有する請求項１１に記載の治療システム。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成29年9月6日(2017.9.6)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
鉄鉱が水素によって還元され、それによって得られる還元鉄の中間生成物が更なる冶金処理を受けるスチールの製造方法において、
前記水素が水の電気分解によって作り出され、前記電気分解に必要な電気エネルギが、水力発電および／又は風力発電および／又は太陽光源、又は、その他の再生可能な形態のエネルギからの再生エネルギであり、
前記水素および／又は前記中間生成物が、十分な再生生成電気エネルギが利用可能である時にはいつでも現在の需要とは無関係に作り出され、そして、
必要とされない前記中間生成物が需要が生じるまで、または使用されるまで貯蔵され、それによって、その中に貯蔵された前記再生エネルギもまた貯蔵され、
前記中間生成物を作り出すための前記鉄鉱の還元において、前記中間生成物に炭素を組み込むために、前記水素に対して、炭素含有又は水素含有ガスが添加され、そして、前記還元のための前記水素には、少なくとも、前記中間生成物中の炭素含有率を０．０００５質量％〜６．３質量％にするのに十分な前記炭素含有又は水素含有ガスが添加されており、
ＣＯ２の発生を伴わないことを特徴とするスチールの製造方法。
【請求項２】
前記炭素含有又は水素含有ガスが、工業処理からのもの、又は、バイオガス製造又は熱分解からのもの、又はバイオマスからの合成ガスである請求項１に記載のスチール製造方法。
【請求項３】
前記還元のための前記水素には、少なくとも前記中間生成物中の炭素含有率を１質量％〜３質量％にするのに十分な前記炭素含有又は水素含有ガスが添加されている請求項１または２に記載のスチール製造方法。
【請求項４】
前記還元のための前記水素は、４５０℃〜１２００℃の温度で還元処理に導入される請求項１〜３の何れか一項に記載のスチール製造方法。
【請求項５】
前記還元における過剰圧は、０ｂａｒ〜１５ｂａｒである請求項１〜４の何れか一項に記載のスチール製造方法。
【請求項６】
前記還元のための前記水素として、十分な再生エネルギがある場合には再生エネルギで生成された水素が使用され、再生エネルギ不在の場合には、純粋に前記炭素含有又は水素含有ガス流にスイッチングされる請求項１〜５の何れか一項に記載のスチール製造方法。
【請求項７】
前記ガス流全体における水素および／又は炭素含有又は水素含有ガス流の含有率の調節が予測制御によって行われ、
前記予測制御は、
水素、および／又は、
再生エネルギ、および／又は、
バイオガス或いは再生可能資源の熱分解に由来する前記炭素含有又は水素含有ガス流、
を測定し、および／又は、
天気予報に基づいて再生エネルギの製造量を推定し、そして、
外部消費者の需要予想が前記予想制御に組み入れられ、
それによって、再生源からの電気エネルギの流通を最適化し最も経済的にする請求項１〜６の何れか一項に記載のスチール製造方法。
【請求項８】
直接還元法によって排出物として放出されるガス流は、炭素含有又は水素含有ガス流として前記直接還元法に供給される請求項１〜７の何れか一項に記載のスチール製造方法。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１４
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１４】
本発明の課題は、銑鉄、特に、スチールを、カーボンニュートラルに工業規模で製造することが可能な方法を作り出すことにある。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１８
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１８】
同様に特に好ましくは、風、水力発電、又は太陽エネルギから作り出されたエネルギのみを使用して、対応のアーク炉を運転することによって、ＣＯ２の発生を伴わないスチール製造を達成し、かつ、再生エネルギを貯蔵することが可能となる。あるいは、前記中間生成物を、溶鉱炉又はＬＤ処理と併用することも可能である。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成29年4月5日(2017.4.5)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】請求項６
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【請求項６】
５０μｍの厚さの層に成形された際に、５０ｇ／ｍ２ｄ未満の水蒸気浸透率および／または５０００ｇ／ｍ２ｄ  ｂａｒ未満の酸素浸透率を有する接着剤が用いられることを特徴とする請求項１〜５のいずれか一つに記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成28年12月2日(2016.12.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
炭化水素を含む、及び二酸化炭素を含む副生成ガス、付随ガス、及び／又は生物ガスを利用するための方法であって、
炭化水素を含む、及び二酸化炭素を含む副生成ガス、付随ガス、及び／又は生物ガスを反応空間に導入し、及び副生成ガス、付随ガス、及び／又は生物ガスに含まれる複成分混合物が、高温領域内で、１１００〜１４００℃の範囲の温度で、及び担体の存在下で、ＣＯ、ＣＯ２、Ｈ２、Ｈ２Ｏ、ＣＨ４、及びＮ２を９５体積％を超える量で含む生成物ガス混合物に変換され、
及び前記担体が、移動床として反応空間を運搬され、そして副生成ガス、付随ガス、及び／又は生物ガスの混合物が、担体に対して向流で運搬され、及び高温領域で形成された熱い合成ガスが更に、向流状態で移動床を通して運搬され、そしてこれとの直接的な熱交換によって冷却され、副生成ガス、付随ガス、及び／又は生物ガスのガス混合物の反応領域における流速が、２０ｍ／ｓ未満であり、及び高温領域で形成された合成ガスが＞２００Ｋ／ｓで冷却されることを特徴とする方法。
【請求項２】
前記流速が、１０ｍ／ｓ未満であることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】
標準条件下における、単位ガス滞留時間に対する固体物質滞留時間が、２００〜５０００の範囲であることを特徴とする請求項１又は２の何れかに記載の方法。
【請求項４】
メタンの反応に必要とされる二酸化炭素が、少なくとも部分的に、二酸化炭素を含む副生成ガスを介して供給されることを特徴とする請求項１〜３の何れか１項に記載の方法。
【請求項５】
ガス状の出発材料の炭素／酸素モル割合が、１よりも大きく設定されていることを特徴とする請求項１〜４の何れか１項に記載の方法。
【請求項６】
ガス状の出発材料の炭素／酸素モル割合が、１よりも小さく設定されていることを特徴とする請求項１〜４の何れか１項に記載の方法。
【請求項７】
前記担体として、炭素含有粒状物質が使用されることを特徴とする請求項１〜６の何れか１項に記載の方法。
【請求項８】
前記担体が０〜３００℃の温度で反応空間に導入されることを特徴とする請求項１〜７の何れか１項に記載の方法。
【請求項９】
水素と一酸化炭素が１０〜４００℃の温度で反応空間から取り出されることを特徴とする請求項１〜８の何れか１項に記載の方法。
【請求項１０】
活性金属含有触媒を使用することなく行われることを特徴とする請求項１〜９の何れか１項に記載の方法。
【請求項１１】
ガス状の出発材料が、＞１のモル炭素／酸素割合Ｃ／Ｏで反応空間に導入され、合成ガスに加え、炭素が目的に適した態様で製造され、そして炭素含有粒状物質上に沈殿されることを特徴とする請求項１〜１０の何れか１項に記載の方法。
【請求項１２】
請求項１１に記載の方法に従い製造された炭素を高炉又は鋳造工場で使用する方法。
【手続補正書】
【提出日】平成29年3月6日(2017.3.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
以下からなるコンベヤ：
以下を含むコンベヤベルト：
ベルトの進行方向に対して横方向にコンベヤベルトを横切って伸びる複数の軌道；
前記軌道に保持された複数の移動子で、コンベヤベルトを横切る前記軌道に沿って移動し、前記移動子は、運搬物を係合するための接触面を有し；
前記移動子と相互作用をする磁場を提供する磁場源であって、前記磁場は軌道に沿って移動子を押し出し、そうして前記接触面に係合する運搬物をコンベヤベルトを横切る横方向に押し出すものである。
【請求項２】
前記移動子が導電性である金属要素を含み、磁場源は、ステータによって駆動されるフォーサとして動作する金属要素でリニア誘導モータを構成するステータを含む、請求項１のコンベヤ。
【請求項３】
移動子が、永久磁石である金属要素を含み、磁場源は、ステータによって駆動されるフォーサとして動作する金属要素でリニア同期モータを構成するステータを含む、請求項１のコンベヤ。
【請求項４】
前記移動子は、ハルバッハ配列に配置された永久磁石である金属要素を含み、磁場源は、ステータによって駆動されるフォーサとして動作する金属要素で、リニア同期またはブラシレス直流モータを構成するステータを含む金属要素を含む、請求項１のコンベヤ。
【請求項５】
前記移動子が、プラスチック結合剤と組合され、成形され、移動子の少なくとも一部を形成する、強磁性材料から作られる金属要素を含む、請求項１のコンベヤ。
【請求項６】
前記移動子が、導電性材料の上の強磁性材料で作られた金属要素を含む、請求項１のコンベヤ。
【請求項７】
前記移動子は、強磁性材料から作られ、一連の歯を有する金属要素を含み、前記磁場源は、金属要素を有するモータを形成する、前記歯とマッチングする極を有するステータとを含む、請求項1に記載のコンベヤ。
【請求項８】
前記移動子が金属板を含む、請求項１のコンベヤ。
【請求項９】
コンベヤベルトは、上部搬送面を含み、軌道は上部搬送面上に開口するコンベヤベルト内の横断溝を備え、前記移動子は前記溝内に存在する金属要素を含み、前記接触面は上部搬送面にまたはその上に存在する、請求項１のコンベヤ。
【請求項１０】
前記溝が逆Ｔ字形状を有し、前記移動子は金属要素を含む基部を含み、そして前記移動子は基部と接触面間を接続するシャンク（脚部）を含み、前記基部は、逆Ｔ字形状の溝に滑動可能に保持されている、請求項９のコンベヤ。
【請求項１１】
前記移動子が接触面の下に配置された金属要素を含み、磁場源は、間隙を横切って前記コンベヤベルトの下に配置され、前記コンベヤベルトに接近する、請求項１のコンベヤ。
【請求項１２】
前記コンベヤベルトが上部搬送面を有し、前記移動子が、接触面がその上に形成されるプッシャーを含み、移動子の伸張位置の上部搬送面を横切って運搬物を押し出し、移動子上のヒンジは、プッシャーが上部搬送面の、またはその下のレベルまで、後退位置に折り畳まれるのを可能にする、請求項１のコンベヤ。
【請求項１３】
前記プッシャーが後退位置にあるときに、前記接触面が上部搬送面のレベルと面一か、それ以下において平坦である、請求項１２のコンベヤ。
【請求項１４】
各軌道に２つの移動子を含むコンベヤであって、それぞれのプッシャーは前記コンベヤベルトの各々の外側端部において折り畳まれ、他方のプッシャーが運搬物を折り畳まれたプッシャーの上に側部端から押し離すことを可能にする、請求項１２のコンベヤ。
【請求項１５】
以下からなるコンベヤ：
上部搬送面を有するコンベヤベルトで、以下を含む：
ベルトの進行方向に対して横方向にコンベヤベルトを横切って伸びる複数の軌道；
前記軌道に保持された複数の移動子で、コンベヤベルトを横切る軌道に沿って移動し、前記移動子は、運搬物に係合するための接触面を有し；
ここで、前記移動子は、接触面がその上に形成されるプッシャーを含み、移動子の伸張位置の上部搬送面を横切って運搬物を押し出し、さらにプッシャーを上部の搬送面、或いはそれ以下のレベルの移動子の後退位置において折り畳むことを可能にする移動子上のジョイントを含む。
【請求項１６】
プッシャーが後退位置にあるときに、前記接触面が、上部搬送面のレベルと面一で平坦であるか、または前記上部搬送面のレベル以下において平坦である、請求項１５のコンベヤ。
【請求項１７】
各軌道に２つの移動子を備え、それぞれのプッシャーは前記コンベヤベルトの各々の外側端部において折り畳まれ、他方のプッシャーが運搬物を折り畳まれたプッシャーの上に側部端から押し離すことを可能にする、請求項１５のコンベヤ。
【請求項１８】
移動子を軌道に沿って、そしてコンベヤベルトを横切って横に伸長位置にある接触面に係合された搬送物を押出すように移動子と相互作用する磁場を提供する地場源をさらに備えた、請求項１５のコンベヤ。
【請求項１９】
コンベヤの搬送面を横切るように物品を移動する方法であって、以下からなる：
コンベヤの巾に渡って空間的又は一時的に変動する磁場を作り；
変動する磁場でコンベヤの巾を横切って移動子を押し進めるようにコンベヤに搭載された移動子へ磁場を結合し；
搬送面の巾を横切って物品を移動するように、物品をコンベヤの搬送面上で移動子と係合させるものである。
【請求項２０】
移動子を、コンベヤの外側端部の搬送面のレベルへ、またはそのレベルの下へ移動子を下げる工程をさらに含む、請求項１９の方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１２Ａ
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１２Ａ】
2016511207.tif 000001
【手続補正３】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１２Ｂ
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１２Ｂ】
2016511207.tif 000002
【手続補正書】
【提出日】平成29年3月8日(2017.3.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
細胞傷害性Ｔリンパ球（ＣＴＬ）誘導能を有する１５アミノ酸未満の単離されたペプチドであって、以下の（ａ）または（ｂ）のアミノ酸配列を含むペプチド：
（ａ）配列番号：７、２、３、１７、４１、５３および６８からなる群より選択されるアミノ酸配列；
（ｂ）配列番号：７、２、３、１７、４１、５３および６８からなる群より選択されるアミノ酸配列において、１個、２個、または数個のアミノ酸が置換、欠失、挿入および／または付加されているアミノ酸配列。
【請求項２】
以下の特徴の一方または両方を有する、請求項１に記載のペプチド：
（ａ）Ｎ末端から２番目のアミノ酸が、ロイシンまたはメチオニンである；および
（ｂ）Ｃ末端のアミノ酸が、バリンまたはロイシンである。
【請求項３】
ノナペプチドまたはデカペプチドである、請求項１または２のいずれか一項に記載のペプチド。
【請求項４】
配列番号：７、２、３、１７、４１、５３および６８からなる群より選択されるアミノ酸配列からなる、請求項３に記載のペプチド。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか一項記載のペプチドをコードする単離されたポリヌクレオチド。
【請求項６】
ＣＴＬを誘導するための組成物であって、以下からなる群より選択される少なくとも１種の有効成分を含む組成物：
（ａ）請求項１〜４のいずれか一項に記載のペプチド；
（ｂ）請求項５に記載のポリヌクレオチド；
（ｃ）請求項１〜４のいずれか一項に記載のペプチドを自身の表面上に提示する、抗原提示細胞（ＡＰＣ）；および
（ｄ）請求項１〜４のいずれか一項に記載のペプチドを自身の表面上に提示するエクソソーム。
【請求項７】
がんの治療および／もしくは予防、ならびに／または術後のその再発の予防のための薬学的組成物であって、以下からなる群より選択される少なくとも１種の有効成分を含む薬学的組成物：
（ａ）請求項１〜４のいずれか一項に記載のペプチド；
（ｂ）請求項５に記載のポリヌクレオチド；
（ｃ）請求項１〜４のいずれか一項に記載のペプチドを自身の表面上に提示するＡＰＣ；
（ｄ）請求項１〜４のいずれか一項に記載のペプチドを自身の表面上に提示するエクソソーム；および
（ｅ）請求項１〜４のいずれか一項に記載のペプチドを提示する細胞を認識することができるＣＴＬ。
【請求項８】
ＨＬＡ抗原がＨＬＡ−Ａ２である対象への投与のために製剤化される、請求項７に記載の薬学的組成物。
【請求項９】
以下からなる群より選択される段階を含む、ＣＴＬ誘導能を有するＡＰＣをインビトロで誘導するための方法：
（ａ）ＡＰＣを、請求項１〜４のいずれか一項に記載のペプチドと接触させる段階；および
（ｂ）請求項１〜４のいずれか一項に記載のペプチドをコードするポリヌクレオチドをＡＰＣに導入する段階。
【請求項１０】
以下からなる群より選択される段階を含む、ＣＴＬをインビトロで誘導するための方法：
（ａ）ＣＤ８陽性Ｔ細胞を、ＨＬＡ抗原と請求項１〜４のいずれか一項に記載のペプチドとの複合体を自身の表面上に提示するＡＰＣと共培養する段階；
（ｂ）ＣＤ８陽性Ｔ細胞を、ＨＬＡ抗原と請求項１〜４のいずれか一項に記載のペプチドとの複合体を自身の表面上に提示するエクソソームと共培養する段階；および
（ｃ）Ｔ細胞受容体（ＴＣＲ）サブユニットの両方をコードするポリヌクレオチドまたはＴＣＲサブユニットのそれぞれをコードするポリヌクレオチドを、ＣＤ８陽性Ｔ細胞に導入する段階であって、該サブユニットによって形成されるＴＣＲが、細胞表面上の請求項１〜４のいずれか一項に記載のペプチドとＨＬＡ抗原との複合体に結合することができる、段階。
【請求項１１】
ＨＬＡ抗原と請求項１〜４のいずれか一項に記載のペプチドとの複合体を自身の表面上に提示する、単離されたＡＰＣ。
【請求項１２】
請求項９に記載の方法によって誘導される、請求項１１に記載のＡＰＣ。
【請求項１３】
請求項１〜４のいずれか一項に記載のペプチドを標的とする、単離されたＣＴＬ。
【請求項１４】
請求項１０に記載の方法によって誘導される、請求項１３に記載のＣＴＬ。
【請求項１５】
がんに対する免疫応答を対象において誘導するための組成物であって、請求項１〜４のいずれか一項に記載のペプチドまたは該ペプチドをコードするポリヌクレオチドを含む組成物。
【請求項１６】
請求項１〜４のいずれか一項に記載のペプチドに対する抗体。
【請求項１７】
請求項１〜４のいずれか一項に記載のペプチドをコードするヌクレオチド配列を含むベクター。
【請求項１８】
請求項１７に記載のベクターにより形質転換またはトランスフェクトされた宿主細胞。
【請求項１９】
請求項１〜４のいずれか一項に記載のペプチド、請求項５に記載のポリヌクレオチド、または請求項１６に記載の抗体を含む、診断キット。
【請求項２０】
ＫＮＴＣ２由来の断片を提示する細胞に対する特異的細胞傷害活性を有するＣＴＬを誘導する能力を有するペプチドをスクリーニングする方法であって、以下の段階を含む、方法：
（ｉ）配列番号：７、２、３、１７、４１、５３および６８からなる群より選択される元のアミノ酸配列に対して１個、２個、または数個のアミノ酸残基を置換、欠失、挿入および／または付加することによって改変されたアミノ酸配列からなる候補配列を提供する段階；
（ｉｉ）ＫＮＴＣ２以外のいかなる公知のヒト遺伝子産物に由来するペプチドとも実質的に有意な相同性を有さない候補配列を選択する段階；
（ｉｉｉ）段階（ｉｉ）において選択される候補配列からなるペプチドを抗原提示細胞と接触させる段階；
（ｉｖ）段階（ｉｉｉ）の抗原提示細胞をＣＤ８陽性Ｔ細胞と接触させる段階；ならびに
（ｖ）ＣＴＬ誘導能が、前記元のアミノ酸配列からなるペプチドと同じであるかまたはそれよりも高い前記ペプチドを特定する段階。
【手続補正書】
【提出日】平成29年3月6日(2017.3.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３９】
[0038]２，３，３，３−テトラフルオロプロプ−１−エンを形成するための方法の第２工程においては、精製した１２３３ｘｆ中間体流を２−クロロ−１，１，１，２−テトラフルオロプロパン（２４４ｂｂ）に転化させる。一態様においては、この工程は、液相反応器（これはＴＦＥ又はＰＦＡライニングしていてよい）内において液相中で行うことができる。かかるプロセスは、約７０〜１２０℃の温度範囲及び約５０〜１２０ｐｓｉｇにおいて行うことができる。
【手続補正書】
【提出日】平成29年2月22日(2017.2.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
α−シヌクレインオリゴマーに対する高結合親和性と、α−シヌクレインのフィブリルへの高結合親和性と、α−シヌクレインモノマーに対する低結合親和性とを有する抗体又はそのフラグメントであって、
前記抗体又はそのフラグメントは、
ＶＨ鎖を備え、
該ＶＨ鎖において、ＣＤＲ１領域が、配列番号１６，２８又は４０のアミノ酸配列を有し、
該ＶＨ鎖において、ＣＤＲ２領域が、配列番号１７，２９又は４１のアミノ酸配列を有し、
該ＶＨ鎖において、ＣＤＲ３領域が、配列番号１８，３０又は４２のアミノ酸配列を有し、及び／又は、
前記抗体又はそのフラグメントは、
ＶＬ鎖を備え、
該ＶＬ鎖において、ＣＤＲ１領域が、配列番号２２，３４又は４６のアミノ酸配列を有し、
該ＶＬ鎖において、ＣＤＲ２領域が、配列番号２３，３５又は４７のアミノ酸配列を有し、
該ＶＬ鎖において、ＣＤＲ３領域が、配列番号２４，３６又は４８のアミノ酸配列を有する、
該抗体又はそのフラグメント。
【請求項２】
請求項１記載の抗体又はそのフラグメントにおいて、
免疫グロビン重鎖の可変領域（ＶＨ）を備え、
該ＶＨが、配列番号２，６又は１０に示されるアミノ酸配列を備える抗体又はそのフラグメント。
【請求項３】
請求項１記載の抗体又はそのフラグメントにおいて、
免疫グロビン軽鎖の可変領域（ＶＬ）を備え、
該ＶＬが、配列番号４，８又は１２に示されるアミノ酸配列を備える抗体又はそのフラグメント。
【請求項４】
請求項１記載の抗体又はそのフラグメントにおいて、
免疫グロビン重鎖の可変領域（ＶＨ）と免疫グロビン軽鎖の可変領域（ＶＬ）とを備え、
ＶＨとＶＬとが、それぞれ、配列番号２と４か、配列番号６と８か、又は配列番号１０と１２かに示されるアミノ酸配列を備える抗体又はそのフラグメント。
【請求項５】
請求項１記載の抗体又はそのフラグメントにおいて、
ＶＨ鎖とＶＬ鎖と備え、
該ＶＨ鎖において、ＣＤＲ１領域が配列番号１６，２８又は４０のアミノ酸配列を有し、ＣＤＲ２領域が配列番号１７，２９又は４１のアミノ酸配列を有し、ＣＤＲ３領域が配列番号１８，３０又は４２のアミノ酸配列を有し、
該ＶＬ鎖において、ＣＤＲ１領域が配列番号２２，３４又は４６のアミノ酸配列を有し、ＣＤＲ２領域が配列番号２３，３５又は４７のアミノ酸配列を有し、ＣＤＲ３領域が配列番号２４，３６又は４８のアミノ酸配列を有する抗体又はそのフラグメント。
【請求項６】
請求項１記載の抗体又はそのフラグメントが、ヒトのα−シヌクレインのオリゴマー及びフィブリルに対して１０−７Ｍより小さい解離定数Ｋｄを有する抗体又はそのフラグメント。
【請求項７】
請求項１記載の抗体又はそのフラグメントが、モノマーのα−シヌクレインに対して１０−５Ｍより大きい解離定数Ｋｄを有する抗体又はそのフラグメント。
【請求項８】
請求項１記載の抗体又はそのフラグメントにおいて、
抗体が、α−シヌクレインのオリゴマー形態に対してよりもα−シヌクレインのフィブリルに対して高い親和性を有する抗体又はそのフラグメント。
【請求項９】
請求項１記載の抗体又はそのフラグメントが、α−シヌクレインのＣ末端領域を備えるエピトープに結合する抗体又はそのフラグメント。
【請求項１０】
請求項１記載の抗体又はそのフラグメントが、立体構造の抗体である抗体又はそのフラグメント。
【請求項１１】
請求項１記載の抗体又はそのフラグメントが、α−シヌクレインの線形エピトープを認識しない抗体又はそのフラグメント。
【請求項１２】
請求項１記載の抗体又はそのフラグメントにおいて、
抗体が、単クローン抗体である抗体又はそのフラグメント。
【請求項１３】
請求項１記載の抗体又はそのフラグメントと、医薬的に容認可能な希釈剤又はキャリアとを備える医薬組成物。
【請求項１４】
薬物として使用する請求項１記載の抗体又はそのフラグメント。
【請求項１５】
請求項１記載の抗体又はそのフラグメントを個体に投与することを備える、個体においてα−シヌクレインの病理学で神経変性疾患を治療する方法。
【請求項１６】
請求項１５記載の方法において、
神経変性疾患が、パーキンソン病、レビー小体型認知症、アルツハイマー病、多系統萎縮症、精神病、統合失調症又はクロイツフェルト・ヤコブ病である方法。
【請求項１７】
請求項１記載の抗体又はそのフラグメントを備える、神経変性疾患を個体が有するか否かの決定方法に使用するテストキット。
【請求項１８】
α−シヌクレインのフィブリル及び凝集物を検出する方法であって、
請求項１記載の抗体又はそのフラグメントを生物学試料に加えるステップと、
α−シヌクレインのフィブリル及び／又は凝集物と、抗体又はそのフラグメントとの間に形成される複合体の存在を検出するステップとを備える方法。
【請求項１９】
α−シヌクレインに関係する神経変性疾患を診断する方法であって、
請求項１記載の抗体又はそのフラグメントを被験者からの生物学試料に加えることと、
α−シヌクレインの凝集物と、抗体又はそのフラグメントとの間に形成される複合体の存在又は非存在を検出することとを備える方法。
【請求項２０】
請求項１記載の抗体又はそのフラグメントをイメージング剤として使用する抗体又はそのフラグメント。
【請求項２１】
α−シヌクレイン凝集物をイメージングする方法であって、
請求項１記載の抗体又はそのフラグメントを個体に投与することと、
抗体を検出することとを備える方法。
【請求項２２】
請求項２１記載の方法において、
抗体は検出可能なレベルを備える方法。
【請求項２３】
請求項１記載の抗体又はそのフラグメントが、検出可能な標識によって結合されている抗体又はそのフラグメント。
【請求項２４】
請求項２３記載の抗体又はそのフラグメントにおいて、
前記検出可能な標識は、蛍光標識、放射性標識、又は造影剤から選択されたものである抗体又はそのフラグメント。
【手続補正書】
【提出日】平成29年2月20日(2017.2.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
遠隔虚血再灌流傷害（ＩＲＩ）の治療および／または予防における使用のための、Ｃ１エステラーゼインヒビター（Ｃ１ＩＮＨ）、カリクレインインヒビター、およびＦＸＩＩインヒビターからなる群から選択される接触活性化系インヒビターであって、該接触活性化系インヒビターを個体に投与することを含む、前記接触活性化系インヒビター。
【請求項２】
接触活性化系インヒビターは、Ｃ１ＩＮＨである、請求項１に記載の接触活性化系インヒビター。
【請求項３】
接触活性化系インヒビターは、個体に非経口投与される、請求項１または請求項２に記載の接触活性化系インヒビター。
【請求項４】
接触活性化系インヒビターは、個体に静脈内、動脈内または皮下投与される、請求項３に記載の接触活性化系インヒビター。
【請求項５】
個体に投与されるＣ１ＩＮＨの用量は、体重１ｋｇあたり１〜１０００ＩＵである、請求項２に記載の接触活性化系インヒビター。
【請求項６】
個体は、外科的介入を受けようとする、または受けている患者である、請求項１〜５のいずれか１項に記載の接触活性化系インヒビター。
【請求項７】
接触活性化系インヒビターは、外科的介入の開始または再灌流の開始前６時間以内に患者に投与される、請求項６に記載の接触活性化系インヒビター。
【請求項８】
接触活性化系インヒビターは、外科的介入の前および／もしくはその間および／もしくはその後、または再灌流開始の前および／もしくはその後に、患者に投与される、請求項６または請求項７に記載の接触活性化系インヒビター。
【請求項９】
接触活性化系インヒビターは、外科的介入の終了後または再灌流の開始後７２時間以内に患者に投与される、請求項８に記載の接触活性化系インヒビター。
【請求項１０】
外科的介入は、（ａ）待機的手術、再建手術、血管手術、心臓手術、外傷手術、衝突損傷もしくは圧挫損傷の手術、癌手術、整形外科手術、移植、低侵襲手術、または（ｂ）
初期の血栓性、または血栓塞栓性、または別の虚血誘発性障害の発症後の、血栓溶解剤もしくは血管拡張剤のような薬理活性物質の送達のための、および／または完全なもしくは部分的な閉塞の機械的除去のための器具の挿入、ならびに血栓溶解剤もしくは血管拡張剤のような医薬活性物質の注射からなる群から選択される、請求項６〜９のいずれか１項に記載の接触活性化系インヒビター。
【請求項１１】
再灌流は自発的に起こるか、または外科的介入以外の介入によって血流障害は改善される、請求項１〜５のいずれか１項に記載の接触活性化系インヒビター。
【請求項１２】
遠隔虚血再灌流傷害（ＩＲＩ）を治療および／または予防するための医薬組成物であって、有効用量の接触活性化系インヒビターを含み、該接触活性化系インヒビターは、Ｃ１ＩＮＨ、カリクレインインヒビターおよびＦＸＩＩインヒビターからなる群から選択される、前記医薬組成物。
【請求項１３】
外科的介入を受けようとする患者において虚血再灌流傷害（ＩＲＩ）を予防するための医薬組成物であって、有効用量の接触活性化系インヒビターを含み、外科的介入の前および／もしくはその間および／もしくはその後、または再灌流開始の前および／もしくはその後に投与され、ここで虚血再灌流傷害（ＩＲＩ）は、手術部位から遠隔の臓器または組織に影響を与えるものである、前記医薬組成物。
【請求項１４】
遠隔虚血再灌流傷害（ＩＲＩ）は、肺、心臓、脳、腎臓、腸、膵臓、肝臓、または四肢／手足に影響を与える、請求項１２または１３に記載の医薬組成物。
【請求項１５】
遠隔虚血再灌流傷害（ＩＲＩ）は、治療されないと、多臓器機能不全症候群または全身性炎症反応症候群につながる、請求項１２〜１４のいずれか１項に記載の医薬組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成29年3月6日(2017.3.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
アンドロゲン受容体拮抗薬と組み合わせて前立腺新生物の治療に用いるためのインスリン様成長因子（ＩＧＦ）受容体拮抗薬。
【請求項２】
前立腺新生物が良性前立腺肥大（ＢＰＨ）又は前立腺癌である、請求項１に記載のＩＧＦ受容体拮抗薬。
【請求項３】
前立腺癌が去勢抵抗性前立腺癌である、請求項１に記載のＩＧＦ受容体拮抗薬。
【請求項４】
ＩＧＦ−１に対する抗体、ＩＧＦ−２に対する抗体、ＩＧＦ−１及びＩＧＦ−２の両方に対する抗体、ＩＧＦ−１受容体（ＩＧＦ−１Ｒ）に対する抗体、又はＩＧＦ−１Ｒチロシンキナーゼ活性の阻害薬である、請求項１から３までのいずれか１項に記載のＩＧＦ受容体拮抗薬。
【請求項５】
配列番号１（ＨＣＤＲ１）、配列番号２（ＨＣＤＲ２）及び配列番号３（ＨＣＤＲ３）の重鎖相補性決定領域並びに配列番号４（ＬＣＤＲ１）、配列番号５（ＬＣＤＲ２）及び配列番号６（ＬＣＤＲ３）の軽鎖決定領域を有する抗体、又は配列番号１１（ＨＣＤＲ１）、配列番号１２（ＨＣＤＲ２）及び配列番号１３（ＨＣＤＲ３）の重鎖相補性決定領域並びに配列番号１４（ＬＣＤＲ１）、配列番号１５（ＬＣＤＲ２）及び配列番号１６（ＬＣＤＲ３）の軽鎖決定領域を有する抗体、又は配列番号２１（ＨＣＤＲ１）、配列番号２２（ＨＣＤＲ２）及び配列番号２３（ＨＣＤＲ３）の重鎖相補性決定領域並びに配列番号２４（ＬＣＤＲ１）、配列番号２５（ＬＣＤＲ２）及び配列番号２６（ＬＣＤＲ３）の軽鎖決定領域を有する抗体、又は配列番号３１（ＨＣＤＲ１）、配列番号３２（ＨＣＤＲ２）及び配列番号３３（ＨＣＤＲ３）の重鎖相補性決定領域並びに配列番号３４（ＬＣＤＲ１）、配列番号３５（ＬＣＤＲ２）及び配列番号３６（ＬＣＤＲ３）の軽鎖決定領域を有する抗体、又は配列番号７の重鎖可変領域及び配列番号８の軽鎖可変領域を有する抗体、又は配列番号１７の重鎖可変領域及び配列番号１８の軽鎖可変領域を有する抗体、又は配列番号２７の重鎖可変領域及び配列番号２８の軽鎖可変領域を有する抗体、又は配列番号３７の重鎖可変領域及び配列番号３８の軽鎖可変領域を有する抗体、又は配列番号４１の重鎖可変領域及び配列番号４２の軽鎖可変領域を有する抗体、又は配列番号４３の重鎖可変領域及び配列番号４４の軽鎖可変領域を有する抗体、又は配列番号９の重鎖及び配列番号１０の軽鎖を有する抗体、又は配列番号１９の重鎖及び配列番号２０の軽鎖を有する抗体、又は配列番号２９の重鎖及び配列番号３０の軽鎖を有する抗体、又は配列番号３９の重鎖及び配列番号４０の軽鎖を有する抗体、又は配列番号４５の重鎖及び配列番号４６の軽鎖を有する抗体である、請求項１から４までのいずれか１項に記載のＩＧＦ受容体拮抗薬。
【請求項６】
抗体が配列番号３９の重鎖及び配列番号４０の軽鎖を有する、請求項５に記載のＩＧＦ受容体拮抗薬。
【請求項７】
アンドロゲン受容体拮抗薬が、抗アンドロゲン薬、アンドロゲン合成阻害薬、１７α−ヒドロキシラーゼ／Ｃ１７，２０リアーゼ（ＣＹＰ１７Ａ１）阻害薬、５−アルファ−レダクターゼ阻害薬、コルチコステロイド、黄体化ホルモン放出ホルモン（ＬＨ−ＲＨ）作動薬又はエストロゲン作動薬である、請求項１から６までのいずれか１項に記載のＩＧＦ受容体拮抗薬。
【請求項８】
アンドロゲン受容体拮抗薬が、フルタミド、ニルタミド、エンザルタミド、ビカルタミド、ケトナゾール、アビラテロン、アビラテロンアセテート、オルテロネル、フィナステリド、デュタステリド、ベクスロステリド、イゾンステリド、ツロステリド、エピステリド、デキサメタゾン、プレドニゾン、ロイプロリド、ゴセレリン、トリプトレリン、ヒストレリン又はエストロゲンである、請求項７に記載のＩＧＦ受容体拮抗薬。
【請求項９】
ＩＧＦ受容体拮抗薬と組み合わせて前立腺新生物の治療に用いるためのアンドロゲン受容体拮抗薬。
【請求項１０】
フルタミド、ニルタミド、エンザルタミド、ビカルタミド、ケトナゾール、アビラテロン、アビラテロンアセテート、オルテロネル、フィナステリド、デュタステリド、ベクスロステリド、イゾンステリド、ツロステリド、エピステリド、デキサメタゾン、プレドニゾン、ロイプロリド、ゴセレリン、トリプトレリン、ヒストレリン又はエストロゲンである、請求項９に記載のアンドロゲン受容体拮抗薬。
【請求項１１】
ＩＧＦ受容体拮抗薬を含む前立腺新生物の治療用組成物であって、前記組成物を用いた治療が、治療上有効量のＩＧＦ受容体拮抗薬を必要とする患者に投与すること、及び治療上有効量のアンドロゲン受容体拮抗薬を同じ患者にＩＧＦ受容体拮抗薬の投与の前又は後の７日以内にさらに投与することを含む、上記前立腺新生物の治療用組成物。
【請求項１２】
ＩＧＦ受容体拮抗薬をアンドロゲン受容体拮抗薬と組み合わせて用いる、前立腺新生物の治療用の医薬の製造のためのＩＧＦ受容体拮抗薬の使用。
【請求項１３】
アンドロゲン受容体拮抗薬をＩＧＦ受容体拮抗薬と組み合わせて用いる、前立腺新生物の治療用の医薬の製造のためのアンドロゲン受容体拮抗薬の使用。
【請求項１４】
ＩＧＦ受容体拮抗薬及びアンドロゲン受容体拮抗薬を含み、薬学的に許容される担体をさらに含んでいてもよい、医薬組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成28年11月28日(2016.11.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記の式(I)の化合物を含むゴム組成物中に埋込まれた金属補強要素を含むことを特徴とする半製品：
【化１】
2016511294.tif 000001
(式中、XおよびYは、互いに個々に、アルカリ金属またはアルカリ土類金属カチオンを示す)。
【請求項２】
XおよびYが、Na+、K+およびCa2+から選ばれる、請求項１記載の半製品。
【請求項３】
X=Yである、請求項１または２記載の半製品。
【請求項４】
X≠Yである、請求項１または２記載の半製品。
【請求項５】
XがNa+を示し、YがK+を示す、請求項４記載の半製品。
【請求項６】
ゴム組成物が、少なくとも0.1phr（限界値を含む）の式(I)の化合物を含む、請求項１〜５のいずれか１項記載の半製品。
【請求項７】
ゴム組成物が、多くとも2phr（限界値を含む）の式(I)の化合物を含む、請求項１〜６のいずれか１項記載の半製品。
【請求項８】
ゴム組成物が、多くとも1phr（限界値を含む）の式(I)の化合物を含む、請求項１〜７のいずれか１項記載の半製品。
【請求項９】
ゴム組成物が、多くとも0.7phr（限界値を含む）の式(I)の化合物を含む、請求項１〜８のいずれか１項記載の半製品。
【請求項１０】
下記の式(I)の化合物を含むゴム組成物中に埋込まれた金属補強要素を含むことを特徴とするタイヤ：
【化２】
2016511294.tif 000002
(式中、XおよびYは、互いに個々に、アルカリ金属またはアルカリ土類金属カチオンを示す)。
【請求項１１】
下記の式(I)の化合物の、金属補強要素が埋込まれたゴム組成物中での腐食防止剤としての使用：
【化３】
2016511294.tif 000003
(式中、XおよびYは、互いに個々に、アルカリ金属またはアルカリ土類金属カチオンを示す)。
【手続補正書】
【提出日】平成29年1月12日(2017.1.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（１）（Ａ）結合剤としての、重付加樹脂、重縮合樹脂及び／又は付加重合樹脂である少なくとも１種の有機ポリマーと、
（Ｂ）有機陰イオンを含む少なくとも１種の合成層状複水酸化物と、
を含む防食プライマーが金属基板に直接に施され、且つ
（２）工程（１）で施された前記防食プライマーからポリマーフィルムが形成される、防食被膜の製造方法であって、
前記少なくとも１種の合成層状複水酸化物（Ｂ）が少なくとも１種のα−アミノ酸の有機陰イオンを含むことを特徴とする方法。
【請求項２】
前記防食プライマーが有機ポリマー（Ａ）として少なくとも１種のポリビニルブチラール樹脂及び／又はエポキシ樹脂を含むことを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記防食プライマーが有機ポリマー（Ａ）として少なくとも１種のエポキシ樹脂と、架橋剤として少なくとも１種のポリアミンと、を含むことを特徴とする請求項２に記載の方法。
【請求項４】
前記防食プライマーが二成分系であることを特徴とする請求項１から３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項５】
前記有機陰イオンを含む前記少なくとも１種の合成の層状複水酸化物（Ｂ）が下記の一般式（Ｉ）を有することを特徴とする請求項１から４のいずれか一項に記載の方法
［Ｍ２＋（１−ｘ）  Ｍ３＋ｘ（ＯＨ）２］［Ａｙ−（ｘ／ｙ）］・ｎＨ２Ｏ    (I)
（式中、Ｍ２＋は二価金属陽イオンを表し、Ｍ３＋は三価金属陽イオンを表し、Ａｙ−は平均原子価ｙの陰イオンを表し、前記陰イオンは少なくとも部分的に少なくとも１種のα−アミノ酸の有機陰イオンを含み、ｘは０．０５〜０．５の数値を取り、ｎは０〜１０の間の数値を取る）。
【請求項６】
前記二価金属陽イオンＭ２＋が、Ｚｎ２＋、Ｍｇ２＋、Ｃａ２＋、Ｃｕ２＋、Ｎｉ２＋、Ｃｏ２＋、Ｆｅ２＋、Ｍｎ２＋、Ｃｄ２＋、Ｐｂ２＋、Ｓｒ２＋及びこれらの混合物からなる群、好ましくはＺｎ２＋、Ｍｇ２＋、Ｃａ２＋及びこれらの混合物からなる群、非常に好ましくはＺｎ２＋及び／又はＭｇ２＋からなる群、より好ましくはＺｎ２＋からなる群、から選択され、
前記三価金属陽イオンＭ３＋が、Ａｌ３＋、Ｂｉ３＋、Ｆｅ３＋、Ｃｒ３＋、Ｇａ３＋、Ｎｉ３＋、Ｃｏ３＋、Ｍｎ３＋、Ｖ３＋、Ｃｅ３＋、Ｌａ３＋及びこれらの混合物からなる群、好ましくはＡｌ３＋、Ｂｉ３＋及び／又はＦｅ３＋からなる群、より好ましくはＡｌ３＋からなる群、から選択され、
ｘが、０．０５〜０．５の数値、より好ましくは０．１５〜０．４の数値、非常に好ましくは０．２５〜０．３５の数値、を取り、及び
ｎが、０〜１０の数値であることを特徴とする請求項５に記載の方法。
【請求項７】
前記少なくとも１種のα−アミノ酸の有機陰イオンが、アラニン、アルギニン、アスパラギン、アスパラギン酸、システイン、シスチン、グルタミン、グルタミン酸、ヒスチジン、イソロイシン、ロイシン、リジン、メチオニン、フェニルアラニン、プロリン、セリン、トレオニン、トリプトファン、チロシン、バリン、セレノシステイン、ピロリシン及びセレノメチオニンの有機陰イオンからなる群から選択されることを特徴とする請求項１から６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項８】
前記少なくとも１種のα−アミノ酸の有機陰イオンが、１種のアミノ基とそれに対してα位に位置するカルボン酸基に加え、更に他のアミノ基、他のカルボン酸基、水酸基、チオール基、ジスルフィド基及び／又は不飽和環状ラジカルを含むα−アミノ酸の有機陰イオンからなる群から選択されることを特徴とする請求項１から６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項９】
前記少なくとも１種のα−アミノ酸の有機陰イオンが、アルギニン、アスパラギン、アスパラギン酸、システイン、シスチン、グルタミン、グルタミン酸、ヒスチジン、リジン、メチオニン、フェニルアラニン、プロリン、セリン、トレオニン、トリプトファン及びチロシンの有機陰イオンからなる群から選択されることを特徴とする請求項１から６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１０】
前記少なくとも１種のα−アミノ酸の有機陰イオンが、システイン、シスチン及びフェニルアラニンからなる群から選択されることを特徴とする請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
前記有機陰イオンを含む少なくとも１種の合成層状複水酸化物が、直接共沈法或いは陰イオン交換反応により製造されることを特徴とする請求項１から１０のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１２】
前記有機陰イオンを含む少なくとも１種の合成層状複水酸化物の含有量が、前記防食プライマーの総量に対して２質量％〜１５質量％であることを特徴とする請求項１から１１のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１３】
複層被膜を製造するために、前記ポリマーフィルムの形成（２）の後、
（３）少なくとも１種の他の被膜材料が施され、且つ
（４）工程（３）で施された前記他の被膜材料からポリマーフィルムが形成される
ことを特徴とする請求項１から１２のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１４】
前記金属基板が、アルミニウム、アルミニウム合金、より好ましくはアルミニウム銅合金、並びに非合金鋼及び合金鋼からなる群から選ばれることを特徴とする請求項１から１３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１５】
請求項１から１４のいずれか一項に記載の方法で被覆された被覆金属基板。
【請求項１６】
（Ａ）結合剤としての少なくとも１種の有機樹脂と、（Ｂ）有機陰イオンを含む少なくとも１種の合成層状複水酸化物と、を含む防食プライマーの使用方法であって、
前記少なくとも１種の合成層状複水酸化物（Ｂ）が金属基板の耐腐食性を改善するために少なくとも１種のα−アミノ酸の有機陰イオンを含む使用方法。
【手続補正書】
【提出日】平成29年1月30日(2017.1.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
眼の痛みを治療するための局所眼科用製剤であって、式Ｉ：
【化７】
2016511246.tif 000001
の治療有効量の少なくとも１つの化合物を含み、
式中、
Ｒ１＝
【化８】
2016511246.tif 000002
であり、
Ｙ＝ＣＨまたはＮであり、
ｎ＝０または１であるが、但し、Ｙ＝Ｎである場合、ｎ＝０であることを条件とし、
Ｘ＝直接結合またはＣＨ２であり、
Ｚ＝フェニル基またはヘテロ原子基であり、フェニル、メチル、ハロ、トリハロメチル、またはトリハロメトキシで任意に置換され、
Ｒ２＝Ｈ、Ｍｅ、またはＦであり、前記Ｍｅ基またはＦ基がアセトアミド担持フェニル環上の２位または６位にある、局所眼科用製剤。
【請求項２】
前記局所眼科用製剤が、以下の化合物：
【化９】
2016511246.tif 000003
のうちのいずれかを含む、請求項１に記載の局所眼科用製剤。
【請求項３】
式Ｉの前記化合物が、以下の構造：
【化１０】
2016511246.tif 000004
を有する、請求項１に記載の局所眼科用製剤。
【請求項４】
前記局所眼科用製剤が、界面活性剤、等張化剤、緩衝剤、防腐剤、共溶媒、および増粘剤からなる群から選択される１つ以上の成分を含む、請求項１〜３のいずれかに記載の局所眼科用製剤。
【請求項５】
式Ｉの化合物の前記治療有効量が、０．０１〜３％である、請求項１〜４のいずれかに記載の局所眼科用製剤。
【請求項６】
式Ｉの化合物の前記治療有効量が、０．１〜１％である、請求項１〜５のいずれかに記載の局所眼科用製剤。
【請求項７】
局所眼用薬学的組成物であって、
シクロデキストリンまたはポリスチレンスルホン酸ナトリウムと、
式Ｉ：
【化１１】
2016511246.tif 000005
の治療有効量の化合物と、を含み、
式中、
Ｒ１＝
【化１２】
2016511246.tif 000006
であり、
Ｙ＝ＣＨまたはＮであり、
ｎ＝０または１であるが、但し、Ｙ＝Ｎである場合、ｎ＝０であることを条件とし、
Ｘ＝直接結合またはＣＨ２であり、
Ｚ＝フェニル基またはヘテロ原子基であり、フェニル、メチル、ハロ、トリハロメチル、またはトリハロメトキシで任意に置換され、
Ｒ２＝Ｈ、Ｍｅ、またはＦであり、前記Ｍｅ基またはＦ基がアセトアミド担持フェニル環上の２位または６位にある、局所眼用薬学的組成物。
【請求項８】
前記局所眼用薬学的組成物が、以下の化合物：
【化１３】
2016511246.tif 000007
のうちの１つ以上を含む、請求項７に記載の薬学的組成物。
【請求項９】
式Ｉの化合物が、以下の式：
【化１４】
2016511246.tif 000008
を有する、請求項８に記載の薬学的組成物。
【請求項１０】
前記局所眼用薬学的組成物が、界面活性剤、等張化剤、緩衝剤、防腐剤、共溶媒、および増粘剤からなる群から選択される１つ以上の成分を含む、請求項７〜９のいずれかに記載の薬学的組成物。
【請求項１１】
式Ｉの化合物の前記治療有効量が、０．０１〜３％である、請求項７〜１０のいずれかに記載の薬学的組成物。
【請求項１２】
式Ｉの化合物の前記治療有効量が、０．１〜１％である、請求項７〜１１のいずれかに記載の薬学的組成物。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本発明の具体的に好ましい実施形態は、以下のある特定の好ましい実施形態のより詳細な説明および特許請求の範囲から明らかになるであろう。
特定の実施形態では、例えば以下が提供される：
（項目１）
眼の痛みを治療するための方法であって、それを必要とする患者に、式Ｉ：
【化７】
2016511246.tif 000009
の治療有効量の少なくとも１つの化合物を含む局所眼科用製剤を投与することを含み、
式中、
Ｒ１＝
【化８】
2016511246.tif 000010
であり、
Ｙ＝ＣＨまたはＮであり、
ｎ＝０または１であるが、但し、Ｙ＝Ｎである場合、ｎ＝０であることを条件とし、
Ｘ＝直接結合またはＣＨ２であり、
Ｚ＝フェニル基またはヘテロ原子基であり、フェニル、メチル、ハロ、トリハロメチル、またはトリハロメトキシで任意に置換され、
Ｒ２＝Ｈ、Ｍｅ、またはＦであり、前記Ｍｅ基またはＦ基がアセトアミド担持フェニル環上の２位または６位にある、方法。
（項目２）
前記治療が、以下の化合物：
【化９】
2016511246.tif 000011
のうちのいずれかでの治療を含む、項目１に記載の方法。
（項目３）
式Ｉの前記化合物が、以下の構造：
【化１０】
2016511246.tif 000012
を有する、項目１に記載の方法。
（項目４）
前記局所眼科用製剤が、界面活性剤、等張化剤、緩衝剤、防腐剤、共溶媒、および増粘剤からなる群から選択される１つ以上の成分を含む、項目１〜３のいずれかに記載の方法。
（項目５）
式Ｉの化合物の前記治療有効量が、０．０１〜３％である、項目１〜４のいずれかに記載の方法。
（項目６）
式Ｉの化合物の前記治療有効量が、０．１〜１％である、項目１〜５のいずれかに記載の方法。
（項目７）
局所眼用薬学的組成物であって、
シクロデキストリンまたはポリスチレンスルホン酸ナトリウムと、
式Ｉ：
【化１１】
2016511246.tif 000013
の治療有効量の化合物と、を含み、
式中、
Ｒ１＝
【化１２】
2016511246.tif 000014
であり、
Ｙ＝ＣＨまたはＮであり、
ｎ＝０または１であるが、但し、Ｙ＝Ｎである場合、ｎ＝０であることを条件とし、
Ｘ＝直接結合またはＣＨ２であり、
Ｚ＝フェニル基またはヘテロ原子基であり、フェニル、メチル、ハロ、トリハロメチル、またはトリハロメトキシで任意に置換され、
Ｒ２＝Ｈ、Ｍｅ、またはＦであり、前記Ｍｅ基またはＦ基がアセトアミド担持フェニル環上の２位または６位にある、局所眼用薬学的組成物。
（項目８）
前記治療が、以下の化合物：
【化１３】
2016511246.tif 000015
のうちの１つ以上での治療を含む、項目７に記載の薬学的組成物。
（項目９）
式Ｉの化合物が、以下の式：
【化１４】
2016511246.tif 000016
を有する、項目８に記載の薬学的組成物。
（項目１０）
前記局所眼科用製剤が、界面活性剤、等張化剤、緩衝剤、防腐剤、共溶媒、および増粘剤からなる群から選択される１つ以上の成分を含む、項目７〜９のいずれかに記載の薬学的組成物。
（項目１１）
式Ｉの化合物の前記治療有効量が、０．０１〜３％である、項目７〜１０のいずれかに記載の薬学的組成物。
（項目１２）
式Ｉの化合物の前記治療有効量が、０．１〜１％である、項目７〜１１のいずれかに記載の薬学的組成物。