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【手続補正書】
【提出日】平成29年8月30日(2017.8.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
生物組織を冷凍するシステムであって、
生物組織を収容するように構成された容器と、
前記容器内の前記生物組織に静磁場を印加するように構成された静磁場発生器と、
前記容器内の前記生物組織に振動磁場を印加するように構成された振動磁場発生器と、
前記容器内の前記生物組織を冷凍するように構成された冷凍素子と、
前記容器内の前記生物組織に電圧を印加するように構成され、針の形状を有し、前記容器内の前記生物組織の表面に隣接する空気境界層でイオンを生成するように構成された少なくとも１つの電極と、
を備えるシステム。
【請求項２】
前記振動磁場は前記静磁場に対して直角方向に一次元又は二次元的に印加される、請求項１記載のシステム。
【請求項３】
生物組織を冷凍するシステムであって、
生物組織を収容するように構成された容器と、
前記容器内の前記生物組織に静磁場を印加するように構成された静磁場発生器と、
前記容器内の前記生物組織に振動磁場を印加するように構成された振動磁場発生器であって、前記磁場は１次元的又は２次元的に前記静磁場に直角に印加される、振動磁場発生器と、
前記容器内の前記生物組織を冷凍するように構成された冷凍素子と、を備え、
前記振動磁場の強度は前記静磁場の強度の１０％である、システム。
【請求項４】
前記静磁場の強度は１５ｍＴより大きい、請求項１−３のいずれかに記載のシステム。
【請求項５】
生物組織を冷凍する方法であって、該方法は、
生物組織を収容するように構成された容器と、
前記容器内の前記生物組織に静磁場を印加するように構成された静磁場発生器と、
前記容器内の前記生物組織に振動磁場を印加するように構成された振動磁場発生器と、
前記容器内の前記生物組織を冷凍するように構成された冷凍素子と、
前記容器内の前記生物組織に電圧を印加するように構成され、針の形状を有し、前記容器内の前記生物組織の表面に隣接する空気境界層でイオンを生成するように構成された少なくとも１つの電極と、
を含むシステムを用意するステップと、
前記容器内の前記生物組織に前記静磁場を印加するステップと、
前記容器内の前記生物組織に前記振動磁場を印加するステップと、
前記容器内の前記生物組織を冷凍するステップと、
を備える方法。
【請求項６】
前記振動磁場は前記静磁場に対して直角方向に印加される、請求項５記載の方法。
【請求項７】
前記静磁場の強度は１５ｍＴより大きい、請求項５又は６記載の方法。
【請求項８】
前記振動磁場の強度は前記静磁場の強度の１０％である、請求項５−７のいずれかに記載の方法。
【請求項９】
生物組織を冷凍する方法であって、該方法は、
生物組織を収容するように構成された容器と、
前記容器内の前記生物組織に静磁場を印加するように構成された静磁場発生器と、
前記容器内の前記生物組織に振動磁場を印加するように構成された振動磁場発生器であって、前記磁場は１次元的又は２次元的に前記静磁場に直角に印加される、振動磁場発生器と、
前記容器内の前記生物組織を冷凍するように構成された冷凍素子と、
を備えるシステムを用意するステップと、
前記容器内の前記生物組織に前記静磁場を印加するステップと、
前記容器内の前記生物組織に前記振動磁場を印加するステップと、
前記容器内の前記生物組織に電場を印加するステップと、
前記容器内の前記生物組織を冷凍するステップと、
を備える方法。
【請求項１０】
前記振動磁場は前記静磁場に対して直角方向に印加される、請求項９記載の方法。
【請求項１１】
前記静磁場の強度は１５ｍＴより大きい、請求項９又は１０記載の方法。
【請求項１２】
前記振動磁場の強度は前記静磁場の強度の１０％である、請求項９−１１のいずれかに記載の方法。
【請求項１３】
冷凍前に前記生物組織内に磁性粒子を導入するステップを更に備える、請求項５記載の方法。
【請求項１４】
前記磁性粒子の導入ステップは、前記生物組織の遺伝子活性化によって前記磁性粒子を生成するように前記生物組織を励起することにより実行される、請求項１３記載の方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００３】
本発明の第１の態様では、生物組織を冷凍するシステムが提供され、該システムは、生物組織を収容するように構成された容器、前記生物組織に静磁場を印加するように構成された静磁場発生器、前記容器内の前記生物組織に振動磁場を印加するように構成された振動磁場発生器、前記容器内の前記生物組織を冷凍するように構成された冷凍素子と、前記容器内の前記生物組織に電圧を印加するように構成され、針の形状を有し、前記容器内の前記生物組織の表面に隣接する空気境界層でイオンを生成するように構成された少なくとも１つの電極と、を備える。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
本発明の第２の態様では、生物組織を冷凍するシステムが提供され、該システムは、生物組織を収容するように構成された容器と、前記容器内の前記生物組織に静磁場を印加するように構成された静磁場発生器と、前記容器内の前記生物組織に振動磁場を印加するように構成された振動磁場発生器であって、前記磁場は１次元的又は２次元的に前記静磁場に直角に印加される、振動磁場発生器と、前記容器内の前記生物組織を冷凍するように構成された冷凍素子と、を備え、前記振動磁場の強度は前記静磁場の強度の１０％である。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
本発明の第３の態様では、生物組織を冷凍する方法が提供され、該方法は、生物組織を収容するように構成された容器と、前記容器内の前記生物組織に静磁場を印加するように構成された静磁場発生器と、前記容器内の前記生物組織に振動磁場を印加するように構成された振動磁場発生器と、前記容器内の前記生物組織を冷凍するように構成された冷凍素子と、前記容器内の前記生物組織に電圧を印加するように構成され、針の形状を有し、前記容器内の前記生物組織の表面に隣接する空気境界層でイオンを生成するように構成された少なくとも１つの電極と、を含むシステムを用意するステップと、前記容器内の前記生物組織に前記静磁場を印加するステップと、前記容器内の前記生物組織に前記振動磁場を印加するステップと、前記容器内の前記生物組織を冷凍するステップと、を備える。
本発明の第４の態様では、生物組織を冷凍する方法が提供され、該方法は、生物組織を収容するように構成された容器と、前記容器内の前記生物組織に静磁場を印加するように構成された静磁場発生器と、前記容器内の前記生物組織に振動磁場を印加するように構成された振動磁場発生器であって、前記磁場は１次元的又は２次元的に前記静磁場に直角に印加される、振動磁場発生器と、前記容器内の前記生物組織を冷凍するように構成された冷凍素子と、を備えるシステムを用意するステップと、前記容器内の前記生物組織に前記静磁場を印加するステップと、前記容器内の前記生物組織に前記振動磁場を印加するステップと、前記容器内の前記生物組織に電場を印加するステップと、前記容器内の前記生物組織を冷凍するステップと、を備える。
【手続補正書】
【提出日】平成29年8月28日(2017.8.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
中枢神経系における一過性低酸素および／または虚血状態を伴なう被験体を処置するための医薬組成物であって、ハロアルキルアミンを有効成分として含む前記医薬組成物。
【請求項２】
一過性低酸素および／または虚血状態が、低血圧、失血、心臓発作、ＴＢＩ、ＳＣＩ、窒息、外科処置、脳卒中、脊髄梗塞、虚血性視神経障害、気道閉塞、または新生児の低酸素もしくは虚血により引き起こされる、請求項１に記載の医薬組成物。
【請求項３】
中枢神経系における一過性低酸素および／または虚血状態が外傷性脳損傷（ＴＢＩ）により引き起こされる、請求項１または２に記載の医薬組成物。
【請求項４】
被験体における神経脳細胞死の発生を低減する、請求項２または３に記載の医薬組成物。
【請求項５】
ハロアルキルアミンが一過性低酸素および／または虚血状態の発生の２４時間以内に被験体に投与される、請求項２に記載の医薬組成物。
【請求項６】
その必要がある被験体の中枢神経系における神経細胞死の発生を低減するための医薬組成物であって、ハロアルキルアミンを有効成分として含む前記医薬組成物。
【請求項７】
神経細胞死の発生が一過性低酸素および／または虚血状態により引き起こされる、請求項６に記載の医薬組成物。
【請求項８】
神経細胞死の発生が外傷性脳損傷（ＴＢＩ）事象により引き起こされる、請求項６に記載の医薬組成物。
【請求項９】
ＴＢＩ事象がむち打ち、爆風衝撃、および鈍器外傷からなる群から選択され、そのＴＢＩ事象が神経細胞の損傷または死を引き起こすのに十分な力のものである、請求項３または８に記載の医薬組成物。
【請求項１０】
被験体の海馬または皮質における神経脳細胞死の発生を低減する、請求項１〜９のいずれか１項に記載の医薬組成物。
【請求項１１】
ハロアルキルアミンが約０．５ｍｇ／kg（体重）〜約２０ｍｇ／ｋｇ（体重）の単位投与量である、請求項１〜１０のいずれか１項に記載の医薬組成物。
【請求項１２】
さらに医薬的に許容できるキャリヤーを含む、請求項１〜１１のいずれか１項に記載の医薬組成物。
【請求項１３】
持続放出配合物である、請求項１〜１２のいずれか１項に記載の医薬組成物。
【請求項１４】
ハロアルキルアミンが、フェノキシベンザミンおよびジベナミンからなる群から選択される、請求項１〜１３のいずれか１項に記載の医薬組成物。
【請求項１５】
単回量で投与される、請求項１〜１４のいずれか１項に記載の医薬組成物。
【請求項１６】
一過性低酸素および／または虚血状態の発生後２４時間以内に投与される、請求項１〜１５のいずれか１項に記載の医薬組成物。
【請求項１７】
一過性低酸素および／または虚血状態の発生後１６時間以内に投与される、請求項１６に記載の医薬組成物。
【請求項１８】
被験体に単回量で、低血圧、失血、心臓発作、ＴＢＩ事象、ＳＣＩ事象、窒息、外科処置、脳卒中、脊髄梗塞、虚血性視神経障害、気道閉塞、または新生児の低酸素もしくは虚血により引き起こされた一過性低酸素および／または虚血状態の発生後１６時間以内に投与される、請求項３〜１５のいずれか１項に記載の医薬組成物。
【請求項１９】
単回量で、発生後８時間以内に投与される、請求項１８に記載の医薬組成物。
【請求項２０】
ハロアルキルアミン、ＮＳＡＩＤ、および医薬的に許容できるキャリヤーを含む医薬組成物。
【請求項２１】
ハロアルキルアミンが、フェノキシベンザミンおよびジベナミンからなる群から選択される、請求項２０に記載の医薬組成物。
【請求項２２】
非経口または経口経路により投与される、請求項１〜２１のいずれか１項に記載の医薬組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成29年9月5日(2017.9.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
それを必要とする動物において呼吸器の病原体に対する防御応答を誘導するための医薬組成物であって、前記医薬組成物が、
a) アデノウイルスベクター(Adベクター)免疫原性組成物であって、前記Adベクターが、目的の単一の導入遺伝子を含み発現する、又は、異種抗原をコードしない、空のE1及び/若しくはE3欠失アデノウイルスベクター(Adベクター)(AdE)である、アデノウイルスベクター(Adベクター)免疫原性組成物;並びに
b) Adベクターアジュバントであって、前記Adベクターアジュバントは、二本鎖RNA TLR3アゴニストである、Adベクターアジュバント
の異種性混合物を含む、
医薬組成物。
【請求項２】
前記Adベクターが、インフルエンザヘマグルチニン、インフルエンザ核タンパク質、インフルエンザノイラミニダーゼ、インフルエンザM2、インフルエンザM1、破傷風毒素C断片、炭疽菌防御抗原、炭疽菌致死因子、狂犬病糖タンパク質、HBV表面抗原、HIV gp 120、HIV gp 160、マラリアCSP、マラリアSSP、マラリアMSP、マラリアpfg、結核菌HSP又はそれらの変異体からなる群から選択される抗原をコードする導入遺伝子を発現する、請求項1に記載の組成物。
【請求項３】
前記Adベクターが、E1/E3欠損アデノウイルス血清型5(Ad5)である、請求項1に記載の組成物。
【請求項４】
前記呼吸器の病原体が、インフルエンザウイルス、重症急性呼吸器症候群関連コロナウイルス(SARS-CoV)、ヒトライノウイルス(HRV)又は呼吸器合胞体ウイルス(RSV)から選択される、請求項1に記載の組成物。
【請求項５】
前記二本鎖RNA TLR3アゴニストが、ポリリジン及びカルボキシメチルセルロースを用いて安定化されたポリイノシン酸-ポリシチジル酸(ポリ-ICLC)である、請求項1に記載の組成物。
【請求項６】
前記非侵襲的な方式が、皮膚投与、粘膜投与又は鼻腔内投与を含む、請求項1に記載の組成物。
【請求項７】
前記動物がヒトである、請求項1に記載の組成物。
【請求項８】
前記動物が家畜動物である、請求項1に記載の組成物。
【請求項９】
前記家畜動物が、ニワトリ、シチメンチョウ、アヒル又はブタである、請求項8に記載の組成物。
【請求項１０】
前記ポリ-ICLCが、約5μgから約5mgまでの濃度で存在する、請求項5に記載の組成物。
【請求項１１】
前記ポリ-ICLCが、約1mgから約2mgまでの濃度で存在する、請求項5に記載の組成物。
【請求項１２】
前記Adベクターが、目的の単一の導入遺伝子を含み発現する免疫原性組成物である、請求項1に記載の組成物。
【請求項１３】
前記Adベクターが、異種抗原をコードしない、空のE1及び/又はE3欠失アデノウイルスベクター(AdE)である、請求項1に記載の組成物。
【請求項１４】
前記呼吸器の病原体が、ウイルス又は細菌である、請求項1に記載の組成物。
【請求項１５】
前記ウイルスが、インフルエンザウイルス、呼吸器合胞体ウイルス(RSV)又はライノウイルスである、請求項14に記載の組成物。
【請求項１６】
前記インフルエンザウイルスが、ブタインフルエンザ、季節性インフルエンザ、トリインフルエンザ、H1N1インフルエンザ又はH5N1インフルエンザである、請求項15に記載の組成物。
【請求項１７】
前記細菌が、バシルス、マイコバクテリウム及びスタフィロコッカスからなる群から選択される、請求項14に記載の組成物。
【請求項１８】
前記細菌が炭疽菌である、請求項17に記載の組成物。
【請求項１９】
前記Adベクターが、ヒトアデノウイルスである、請求項1に記載の組成物。
【請求項２０】
それを必要とする動物において呼吸器の病原体に対する防御免疫応答を誘導するための、請求項1-19のいずれか一項に記載の医薬組成物の使用であって、前記医薬組成物が、非侵襲的な方式で前記動物に投与される、使用。
【手続補正書】
【提出日】平成29年10月6日(2017.10.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
有効量のブプレノルフィン、その医薬として許容される塩、またはノルブプレノルフィン、テノルフィン、デメトキシブプレノルフィンおよびブプレノルフィンのジアステレオマーから選択されるその誘導体、ならびに溶媒として水を含む舌下スプレー製剤。
【請求項２】
さらに、ナロキソン、またはその医薬として許容される塩を含み、ここでナロキソンは製剤が的確に投与されると治療的割合より低い割合で送達される、請求項１に記載の舌下スプレー製剤。
【請求項３】
さらに、共溶媒および酸化防止剤を含む、請求項１に記載の舌下スプレー製剤。
【請求項４】
共溶媒がアルコール、グリコールおよびこれらの混合物からなる群から選択され、
酸化防止剤がブチル化されたヒドロキシアニソール（ＢＨＡ）、ブチル化されたヒドロキシトルエン（ＢＨＴ）、メチオニン、アスコルビン酸ナトリウム、チオ硫酸ナトリウム、チオグリセロールおよびこれらの混合物からなる群から選択される、請求項３に記載の舌下スプレー製剤。
【請求項５】
約０．２％から約１０％ｗ／ｗの量のブプレノルフィン、その医薬として許容される塩またはその誘導体；
溶媒として約１０％から約９５％ｗ／ｗの量の水；
約５％から約９０％ｗ／ｗの量の共溶媒；および
約０．０００１％から約０．５％ｗ／ｗの量の酸化防止剤
を含み、％ｗ／ｗは製剤全体に対するものであり、「約」を付した各数値は、当該数値のプラスマイナス１０％である、舌下スプレー製剤。
【請求項６】
ブプレノルフィンの量が約０．５４％ｗ／ｗであり；
水の量が約３９．４％ｗ／ｗであり；
共溶媒が約５５％ｗ／ｗの量のエタノールおよび約５％ｗ／ｗの量のプロピレングリコールの混合物であり；
酸化防止剤が約０．０１％ｗ／ｗの量のブチル化されたヒドロキシアニソールであり、「約」を付した各数値は、当該数値のプラスマイナス１０％である、請求項５に記載の舌下スプレー製剤。
【請求項７】
約０．２５％から約９．５％ｗ／ｗの量のブプレノルフィン、その医薬として許容される塩またはその誘導体；
約０．００５％から約３％ｗ／ｗの量のナロキソン、その医薬として許容される塩またはその誘導体；
溶媒として、約２７．４％ｗ／ｗから３９．７％ｗ／ｗの量の水；
約５５％ｗ／ｗの量のエタノールおよび約５％ｗ／ｗの量のプロピレングリコールの混合物からなる共溶媒；ならびに
約０．００１％から約０．２％ｗ／ｗの量の酸化防止剤
を含み、％ｗ／ｗは製剤全体に対するものであり、「約」を付した各数値は、当該数値のプラスマイナス１０％である、舌下スプレー製剤。
【請求項８】
投与の際、組成物粒子の９８％より多くが１０ミクロンより大きい直径である液滴サイズ分布を生成することができる、請求項１に記載の舌下スプレー製剤。
【請求項９】
投与の際、平均Ｄｖ（１０）が約１０から約３０ミクロンである液滴サイズ分布を生成することができ、「約」を付した各数値は、当該数値のプラスマイナス１０％である、請求項１に記載の舌下スプレー製剤。
【請求項１０】
投与の際、平均Ｄｖ（５０）が約３０から約８０ミクロンである液滴サイズ分布を生成することができ、「約」を付した各数値は、当該数値のプラスマイナス１０％である、請求項１に記載の舌下スプレー製剤。
【請求項１１】
投与の際、平均Ｄｖ（９０）が約８０から約２００ミクロンである液滴サイズ分布を生成することができ、「約」を付した各数値は、当該数値のプラスマイナス１０％である、請求項１に記載の舌下スプレー製剤。
【請求項１２】
約１．２から約３．３のスプレースパン（（Ｄｖ９０−Ｄｖ１０）／Ｄｖ５０）を生成することができ、「約」を付した各数値は、当該数値のプラスマイナス１０％である、請求項１に記載の舌下スプレー製剤。
【請求項１３】
約１．１から２．４の楕円率を有するスプレープルームを生成することができ、「約」を付した各数値は、当該数値のプラスマイナス１０％である、請求項１に記載の舌下スプレー製剤。
【請求項１４】
投与の際、約２５から約４５ミリメートルであるスプレープルーム幅を生成することができ、「約」を付した各数値は、当該数値のプラスマイナス１０％である、請求項１に記載の舌下スプレー製剤。
【請求項１５】
投与の際、約３０から約５５度であるスプレープルーム角を生成することができ、「約」を付した各数値は、当該数値のプラスマイナス１０％である、請求項１に記載の舌下スプレー製剤。
【請求項１６】
５５から９５ミクロンのＤ（４，３）を生成することができる、請求項１に記載の舌下スプレー製剤。
【請求項１７】
投与後、ブプレノルフィンのＣｍａｘ（ｎｇ／ｍＬ）が約０．６から約０．８である液滴サイズ分布を生成することができ、「約」を付した各数値は、当該数値のプラスマイナス１０％である、請求項１に記載の舌下スプレー製剤。
【請求項１８】
投与後、ブプレノルフィンのＴｍａｘが約１．５から約１．９時間である液滴サイズ分布を生成することができ、「約」を付した各数値は、当該数値のプラスマイナス１０％である、請求項１に記載の舌下スプレー製剤。
【請求項１９】
請求項１に記載の舌下スプレー製剤をそれを含む疼痛を治療するための製剤。
【請求項２０】
請求項１に記載の舌下スプレー製剤をそれを含むオピオイド依存を治療するための製剤。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成29年9月7日(2017.9.7)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００６７
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００６７】
再加熱スラブはその後、１２５０℃から８００℃の間の温度で熱間圧延することができ、最後の熱間圧延パスは８００℃以上の温度Ｔｌｐで起こる。Ｔｌｐが８００℃未満であると、熱間加工性が低下する。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００９２
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００９２】
製品は、最初に熱間圧延された。次いで、熱間圧延板を冷間圧延し、焼鈍する。製造条件は、次の略語と共に表２に示される。
・Ｔｒｅｈｅａｔは再加熱温度である
・Ｔｌｐは仕上げ圧延温度である
・Ｖｃｏｏｌｉｎｇ１は最後の圧延パスの後の冷却速度である
・Ｔｃｏｉｌｉｎｇは巻取温度である。
・Ｒａｔｅは冷間圧下率である。
・Ｈｒａｔｅは加熱速度である。
・Ｔａｎｎｅａｌは焼鈍時の均熱温度である。
・ｔａｎｎｅａｌは焼鈍時の均熱期間である。
・Ｖｃｏｏｌｉｎｇ２は均熱後の冷却速度である。
・ｔＯＡは冷間圧延板がＴＯＡに維持される時間である。
・Ｖｃｏｏｌｉｎｇ３はＴＯＡ未満の冷却速度である。
【手続補正書】
【提出日】平成29年7月14日(2017.7.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４７】
以上、本明細書において特定の実施形態について例示及び説明してきたが、当業者であれば、本開示の範囲から逸脱することなく、様々な代替的実施形態を、例示及び説明した特定の実施形態に対して使用できる点を認識するであろう。本出願は、本明細書で論じた特定の実施形態の如何なる改作又は変型をも包含することを意図したものである。本発明の実施態様の一部を以下の項目［１］−［２３］に記載する。
［１］
シートをコーティングする方法であって、
複数のシートに前記シートの間に間隙を設ける工程であって、
前記シートは入口縁部と出口縁部とを有する、工程と、
流体を前記間隙に押し通す工程とを含み、
前記間隙を通した前記流体流れは、実質的に栓流のプロファイルを有し、
かつ前記流体は、自己制限堆積プロセスにおいて前記複数のシートの少なくとも１つの表面上に被膜を堆積させる、方法。
［２］
前記流体は気体である、項目１に記載の方法。
［３］
前記流体は液体又は液体と気体との組合わせである、項目１に記載の方法。
［４］
前記入口縁部にかかる前記流体の入口圧力と前記出口縁部にかかる前記流体の出口圧力との比が少なくとも１．０１である、項目１に記載の方法。
［５］
前記比は少なくとも１．０５である、項目４に記載の方法。
［６］
前記比は少なくとも１．１である、項目５に記載の方法。
［７］
前記比は少なくとも１．２である、項目６に記載の方法。
［８］
前記自己制限堆積プロセスは原子層堆積を含む、項目１に記載の方法。
［９］
前記自己制限堆積プロセスは交互吸着自己組織化を含む、項目１に記載の方法。
［１０］
前記間隙は２ｍｍ〜６ｍｍの範囲内にある、項目１に記載の方法。
［１１］
前記複数のシートを反応器内に置き、流体を前記反応器内に押し通す工程を更に含む、項目１に記載の方法。
［１２］
前記反応器内に押し通される前記流体の少なくとも５０％が前記シートの間の前記間隙を通過する、項目１１に記載の方法。
［１３］
前記反応器内に押し通される前記流体の少なくとも８０％が前記シートの間の前記間隙を通過する、項目１２に記載の方法。
［１４］
前記反応器は、前記シートの前方にガス流のための空間を設け、前記空間は１ｍｍ〜５ｍｍの範囲の幅を有する、項目１１に記載の方法。
［１５］
前記流体は、各シートの第１の表面上に、また各シートの第２の表面上に被膜を堆積させる、項目１に記載の方法。
［１６］
前記シートは、ポリマー、ガラス、金属、セラミック、又はそれらの組合わせを含む、項目１に記載の方法。
［１７］
前記シートはガラスシートである、項目１６に記載の方法。
［１８］
前記シートはサファイアを含む、項目１に記載の方法。
［１９］
前記被膜は、有機金属材料若しくはフルオロシラン又はそれらの組合わせを含む、項目１に記載の方法。
［２０］
前記間隙に流体を押し通す工程は、第１の組みの間隙に第１の流体を押し通し、前記第１の組みの間隙とは異なる第２の組みの間隙に前記第１の流体とは異なる第２の流体を押し通すことを含む、項目１に記載の方法。
［２１］
前記第１の流体は、少なくとも１枚のシートの第１の主表面上に第１の被膜を堆積させ、前記第２の流体は、前記少なくとも１枚のシートの第２の主表面上に前記第２の被膜を堆積させる、項目２０に記載の方法。
［２２］
物品であって、
プレートラックと、
コーティング済みプレートの間に間隙を持たせて前記プレートラックに配置された複数のコーティング済みプレートであって、入口縁部を有する、前記複数のコーティング済みプレートと、
前記入口縁部に隣接して配置されたマニホールドであって、流体分配システムを有する、マニホールドと、を備える、物品。
［２３］
前記コーティング済みプレートの間の間隙は、第１組の間隙と、前記第１組の間隙とは異なる第２組の間隙とを含み、前記流体分配システムは、前記第１組の間隙に流体を分配するための第１組のチャネルと、前記第２組の間隙に流体を分配するための、前記第１組のチャネルとは異なる第２組のチャネルとを有する、項目２２に記載の物品。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
シートをコーティングする方法であって、
複数のシートに前記シートの間に間隙を設ける工程であって、
前記シートは入口縁部と出口縁部とを有する、工程と、
流体を前記間隙に押し通す工程とを含み、
前記間隙を通した前記流体流れは、実質的に栓流のプロファイルを有し、
かつ前記流体は、自己制限堆積プロセスにおいて前記複数のシートの少なくとも１つの表面上に被膜を堆積させる、方法。
【請求項２】
前記流体は気体である、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記流体は液体又は液体と気体との組合わせである、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記入口縁部にかかる前記流体の入口圧力と前記出口縁部にかかる前記流体の出口圧力との比が少なくとも１．０１である、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記自己制限堆積プロセスは原子層堆積を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記自己制限堆積プロセスは交互吸着自己組織化を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
前記シートはガラスシートである、請求項１に記載の方法。
【請求項８】
前記間隙に流体を押し通す工程は、第１の組みの間隙に第１の流体を押し通し、前記第１の組みの間隙とは異なる第２の組みの間隙に前記第１の流体とは異なる第２の流体を押し通すことを含み、前記第１の流体は、少なくとも１枚のシートの第１の主表面上に第１の被膜を堆積させ、前記第２の流体は、前記少なくとも１枚のシートの第２の主表面上に前記第２の被膜を堆積させる、請求項１に記載の方法。
【請求項９】
物品であって、
プレートラックと、
コーティング済みプレートの間に間隙を持たせて前記プレートラックに配置された複数のコーティング済みプレートであって、入口縁部を有する、前記複数のコーティング済みプレートと、
前記入口縁部に隣接して配置されたマニホールドであって、流体分配システムを有する、マニホールドと、を備える、物品。
【請求項１０】
前記コーティング済みプレートの間の間隙は、第１組の間隙と、前記第１組の間隙とは異なる第２組の間隙とを含み、前記流体分配システムは、前記第１組の間隙に流体を分配するための第１組のチャネルと、前記第２組の間隙に流体を分配するための、前記第１組のチャネルとは異なる第２組のチャネルとを有する、請求項９に記載の物品。
【手続補正書】
【提出日】平成29年4月27日(2017.4.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ある量のゲルマニウム含有化合物及び水溶性のスズ含有化合物並びに錯化剤を含む溶液を調製するステップと、
陽極電極を前記溶液に浸すステップと、
陰極基板を前記溶液に浸すステップであって、前記陰極基板は陰極基板表面を含む、浸すステップと、
前記陽極電極及び前記陰極基板を、電流を供給可能な電源に接続するステップと、
前記電流を前記陽極電極、前記陰極基板及び前記溶液に供給するために、前記電源を作動させるステップと、
ある量のゲルマニウム及びスズを前記陰極基板表面上に共析出するステップと
を含み、前記ゲルマニウム及びスズは、前記基板表面上に約０．５重量％から約５重量％までのゲルマニウムの濃度で共析出される、基板表面上でのスズウィスカの成長を軽減するための方法。
【請求項２】
前記ゲルマニウム及びスズは、前記基板表面上に約１ミクロンから約１０ミクロンまでの厚さに共析出される、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記ゲルマニウム含有化合物は、水溶性のゲルマニウム塩を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記ゲルマニウム含有化合物は、塩基性溶液中で可溶化する、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記ゲルマニウム含有化合物は、水酸化ナトリウム溶液中で可溶化する二酸化ゲルマニウムである、請求項４に記載の方法。
【請求項６】
前記スズ含有化合物は、水溶性のスズ塩として前記溶液に加えられる、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
前記スズ含有化合物は、硫酸スズ（ＩＩ）である、請求項１に記載の方法。
【請求項８】
約０．５重量％から約５重量％までのゲルマニウムの共析出量と、約９５重量％から約９９．５重量％までのスズの共析出量と
を含む、基板表面上でのスズウィスカの成長を軽減するための電気めっきコーティング。
【請求項９】
前記ゲルマニウム及びスズは、前記基板表面上に約１ミクロンから約１０ミクロンまでの厚さに共析出される、請求項８に記載のコーティング。
【請求項１０】
請求項８又は９に記載のコーティングを含む電子部品。
【請求項１１】
ゲルマニウム含有溶液を生成するために、ある量の二酸化ゲルマニウムを水酸化ナトリウム含有溶液に溶解させるステップと、
ある量の水を前記ゲルマニウム含有溶液に加えるステップと、
ある量のｄ，ｌ−酒石酸を前記ゲルマニウム含有溶液に加えるステップと、
スズ及びゲルマニウム含有溶液を生成するために、ある量の硫酸スズ（ＩＩ）を前記ゲルマニウム含有溶液に溶解させるステップと、
スズ含有陽極電極を前記スズ及びゲルマニウム含有溶液に浸すステップと、
陰極基板を前記スズ及びゲルマニウム含有溶液に浸すステップであって、前記陰極基板は陰極基板表面を含む、浸すステップと、
電源を前記陽極電極及び前記陰極基板に接続するステップと、
電流を前記陽極電極及び前記陰極基板に供給するために、前記電源を作動させるステップと、
ある量のゲルマニウム及びスズを前記陰極基板表面上に共析出するステップと
を含む、基板表面上でのスズウィスカの成長を軽減するための方法。
【請求項１２】
ある量の界面活性剤／均染剤を前記ゲルマニウム含有溶液に加えるステップを更に含む、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
ゲルマニウム含有溶液を作るために、ある量のゲルマニウム含有化合物を溶解させるステップと、
ある量の水を前記ゲルマニウム含有溶液に加えるステップと、
ある量の錯化剤を前記ゲルマニウム含有溶液に加えるステップと、
ある量の水溶性のスズ含有化合物を前記ゲルマニウム含有溶液に溶解させるステップと
を含む、電気めっき漕を作るための方法。
【請求項１４】
前記ゲルマニウム含有化合物は、塩基性溶液に溶解するゲルマニウム含有化合物、水溶性のゲルマニウム塩、及びそれらの組み合わせから成るグループから選択される、請求項１３に記載の方法。
【請求項１５】
前記ゲルマニウム含有化合物は、水酸化ナトリウム溶液中で可溶化する二酸化ゲルマニウムである、請求項１３に記載の方法。
【請求項１６】
前記錯化剤は、ｄ，ｌ−酒石酸である、請求項１３に記載の方法。
【請求項１７】
ある量の界面活性剤／均染剤を前記ゲルマニウム含有溶液に加えるステップを更に含む、請求項１３から１６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１８】
前記スズ含有化合物は、硫酸スズ（ＩＩ）を含む、請求項１３に記載の方法。
【請求項１９】
水溶液中のある量の、塩基性溶液中で可溶化する二酸化ゲルマニウムである、ゲルマニウム含有化合物と、
ある量の水と、
ある量の、ｄ，ｌ−酒石酸である、錯化剤と、
ある量の水溶性の、硫酸スズ（ＩＩ）である、スズ含有化合物と
を含む、電気めっき漕。
【請求項２０】
ある量の界面活性剤／均染剤を更に含む、請求項１９に記載の電気めっき漕。
【手続補正書】
【提出日】平成29年4月26日(2017.4.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ポリウレタンフラッドコート組成物ＡＢＣＤであって、
Ａ部分としてポリイソシアネートプレポリマーと、Ｂ部分にポリオールと、２〜６重量％のレオロジー剤Ｃと；触媒Ｄとを含み、
ある比率のＡ部分と、ある比率のＢ部分とが混合されたとき、その混合物は、Ａ部分及びＢ部分の混合部分の初期粘度が１５，０００〜１８，０００ｃｐｓであり、チキソトロピー指数が１〜５であり、ゲル化時間が５〜１５分であり、かつ、硬化したときのショア―（Ｓｈｏｒｅ）硬度が１５Ａ〜９０Ａであることを特徴とする、前記ポリウレタンフラッドコート組成物ＡＢＣＤ。
【請求項２】
前記ポリイソシアネートプレポリマーＡは、Ａ部分の合計重量を基準として、５０〜６０重量％のジフェニルメタンジイソシアネートポリマーＡ１と、４０〜５０重量％のポリプロピレングリコールＡ２と、安定化剤化合物Ａ３とを含む、請求項１に記載のポリウレタンフラッドコート組成物ＡＢＣＤ。
【請求項３】
前記安定化剤化合物Ａ３は、Ａ部分の合計重量を基準として０．０３重量％で存在する塩化ベンゾイルである、請求項２に記載のポリウレタンフラッドコート組成物ＡＢＣＤ。
【請求項４】
前記ポリイソシアネートプレポリマーＡは、前記ポリイソシアネートの合計重量を基準として１０〜１２重量％のイソシアネート（Ｎ＝Ｃ＝Ｏ）基を含む、請求項１〜３のいずれか一項に記載のポリウレタンフラッドコート組成物ＡＢＣＤ。
【請求項５】
前記ポリオールＢがヒマシ油である、請求項１〜４のいずれか一項に記載のポリウレタンフラッドコート組成物ＡＢＣＤ。
【請求項６】
前記レオロジー剤Ｃは、フュームドシリカを含む、請求項１〜５のいずれか一項に記載のポリウレタンフラッドコート組成物ＡＢＣＤ。
【請求項７】
前記触媒Ｄが有機金属触媒である、請求項１〜６のいずれか一項に記載のポリウレタンフラッドコート組成物ＡＢＣＤ。
【請求項８】
前記有機金属触媒がジブチルスズアセテートである、請求項７に記載のポリウレタンフラッドコート組成物ＡＢＣＤ。
【請求項９】
前記ショア―硬度が４０Ａ〜６０Ａである、請求項１〜８のいずれか一項に記載のポリウレタンフラッドコート組成物ＡＢＣＤ。
【請求項１０】
前記チキソトロピー指数が１．２〜３．５である、請求項１〜９のいずれか一項に記載のポリウレタンフラッドコート組成物ＡＢＣＤ。
【請求項１１】
前記ゲル化時間が５〜１２分である、請求項１〜１０のいずれか一項に記載のポリウレタンフラッドコート組成物ＡＢＣＤ。
【請求項１２】
電子回路アセンブリであって、
基部支持材であって、前記電子回路アセンブリに取り付けられた前記基部支持材表面から外側に延び複数の電子回路要素を備え、前記電子回路部分に電気的に接続した、基部支持材と、
請求項１〜１１のいずれか一項に記載のポリウレタンフラッドコート組成物ＡＢＣＤとを含み、
前記ポリウレタンフラッドコート組成物ＡＢＣＤは、硬化すると、前記基部支持材に対して水平方向の要素表面上の前記ポリウレタンフラッドコート組成物ＡＢＣＤの厚みが２０ｍｉｌ〜７５ｍｉｌであり、前記基部支持材に対して鉛直方向の要素表面上の前記ポリウレタンフラッドコート組成物ＡＢＣＤの厚みが４ｍｉｌ〜２０ｍｉｌであるように、固定された塊として前記電子回路アセンブリを完全に覆うか、または包み込む、前記電子回路アセンブリ。
【請求項１３】
前記基部支持材に対して鉛直方向の要素表面上の前記ポリウレタンフラッドコート組成物ＡＢＣＤの厚みが４ｍｉｌより大きく、１０ｍｉｌ未満である、請求項１２に記載の電子回路アセンブリ。
【請求項１４】
前記基部支持材に対して水平方向の要素表面上の前記ポリウレタンフラッドコート組成物ＡＢＣＤの厚みが２０ｍｉｌより大きく、７０ｍｉｌ未満である、請求項１２または請求項１３に記載の電子回路アセンブリ。
【請求項１５】
前記ポリウレタンフラッドコート組成物ＡＢＣＤは、硬化したときのショア―硬度が４０Ａ〜６０Ａである、請求項１２に記載の電子回路アセンブリ。
【請求項１６】
前記電子回路アセンブリが、電子機器内にある、請求項１３〜１５のいずれか一項に記載の電子回路アセンブリ。
【請求項１７】
前記電子機器が、インバーター、コンバーター及び電源供給装置からなる群から選択される、請求項１６に記載の電子回路アセンブリ。
【請求項１８】
電子回路アセンブリを包み込む方法であって、
不活性ガスを用い、請求項１〜１１のいずれか一項に記載のポリウレタンフラッドコート組成物ＡＢＣＤを所定の圧力で加圧するステップと、
前記所定の圧力で、完全な前記アセンブリに所定体積のポリウレタンフラッドコート組成物ＡＢＣＤを塗布するステップと、
前記ポリウレタンフラッドコート組成物ＡＢＣＤをゲル化するステップと、
前記コーティングされたアセンブリを、ショア―硬度が１５Ａ〜６０Ａになるのに十分な時間と温度で硬化するステップとを含む、前記方法。
【請求項１９】
前記圧力が３０ｐｓｉである、請求項１８に記載の方法。
【請求項２０】
前記不活性ガスが窒素である、請求項１８または１９に記載の方法。
【請求項２１】
前記硬化する工程が２５℃で５〜７日間である、請求項１８〜２０のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２２】
極端な温度及び振動にさらされる電子回路アセンブリに対する機械的な支持及び環境からの保護を与える方法であって、
前記電子回路アセンブリに所定体積の請求項１〜１１に記載のポリウレタンフラッドコート組成物ＡＢＣＤを完全に塗布するステップと、
前記ポリウレタンフラッドコート組成物ＡＢＣＤをゲル化するステップと、
硬化すると、前記アセンブリの前記基部支持材に対して水平方向の要素表面上の前記フラッドコート組成物の厚みが２０ｍｉｌ〜７５ｍｉｌであり、前記アセンブリの前記基部支持材に対して鉛直方向の要素表面上の前記ポリウレタンフラッドコート組成物ＡＢＣＤの厚みが４ｍｉｌ〜２０ｍｉｌであるような十分な時間及び十分な温度で、前記電子回路アセンブリ上で前記ポリウレタンフラッドコート組成物ＡＢＣＤを固定された塊として硬化するステップとを含む、前記方法。
【手続補正書】
【提出日】平成29年5月30日(2017.5.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
熱交換器を有する高温熱ポンプ内で加熱を生み出すための方法であって、作動流体から熱を抽出することにより、冷却された作動流体を生成する工程を含み、前記作動流体が少なくとも１つのアルキルペルフルオロアルケンエーテルを含み、前記熱交換器が約５５℃超の温度で動作する、方法。
【請求項２】
高温熱ポンプ内で加熱を生み出すための方法であって、カスケード構成で配置された少なくとも２つの段階間で熱が交換され、
第１のカスケード段階において選択されたより低い温度で第１の作動流体の熱を吸収する工程と、この熱を、より高い温度の熱を供給する第２のカスケード段階の第２の作動流体に伝達する工程と、を含み、前記第２の作動流体が少なくとも１つのアルキルペルフルオロアルケンエーテルを含む、方法。
【請求項３】
少なくとも１つのアルキルペルフルオロアルケンエーテルを含む作動流体を収容する高温熱ポンプ装置であって、前記装置が、蒸発器、圧縮機、凝縮器又は超臨界作動流体冷却器と、膨張デバイスとを備え、前記凝縮器又は超臨界作動流体冷却器が少なくとも５５℃の温度で動作する、高温熱ポンプ装置。
【請求項４】
カスケード加熱システムとして配列された少なくとも２つの加熱段階を有し、各段階がそれを通して作動流体を循環させ、熱が先行段階から最終段階又は最高温度段階に伝達され、前記最終段階の前記加熱の流体が少なくとも１つのアルキルペルフルオロアルケンエーテルを含む、請求項３に記載の高温熱ポンプ装置。
【請求項５】
前記第１のすなわちより低い温度段階の作動流体が、ＨＦＯ−１２３４ｙｆ、Ｅ−ＨＦＯ−１２３４ｚｅ、Ｅ−ＨＦＯ−１２３４ｙｅ−Ｅ又はＺ、ＨＦＯ−１２４３ｚｆ、ＨＦＯ−１２３４ｚｅ−Ｚ、ＨＦＯ−１３３６ｍｚｚ−Ｅ、ＨＦＯ−１３３６ｍｚｚ−Ｚ、ＨＦＯ−１４３８ｍｚｚ−Ｅ、ＨＦＯ−１４３８ｍｚｚ−Ｚ、ＨＦＯ−１４３８ｅｚｙ−Ｅ、ＨＦＯ−１４３８ｅｚｙ−Ｚ、ＨＦＯ−１３３６ｙｆ、ＨＦＯ−１３３６ｚｅ−Ｅ、ＨＦＯ−１３３６ｚｅ−Ｚ、ＨＣＦＯ−１２３３ｚｄ−Ｅ、ＨＣＦＯ−１２３３ｚｄ−Ｚ、及びＨＣＦＯ−１２３３ｘｆからなる群から選択される少なくとも１つのフルオロオレフィン又はクロロフルオロレフィンを含む、請求項４に記載の高温熱ポンプ装置。
【手続補正書】
【提出日】平成29年6月16日(2017.6.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
Ａ剤組成物及びＢ剤組成物を含み、
前記Ａ剤組成物が、有機ボラン系錯体、及び、少なくとも１つの反応性希釈剤を含み、
前記少なくとも１つの反応性希釈剤が、
ｉ）トリアリルイソシアヌレート、
ｉｉ）トリアリルシアヌレート、
ｉｉｉ）以下の式
【化１】
2016529353.tif 000001
［式中、Ｒ１及びＲ２は、それぞれ独立に、１〜７個の炭素原子を有し、炭素原子間に最大３個の酸素原子が挿入されていてよく、かつ、最大２個のヒドロキシル基によって置換されていてもよいアルキル基を示し、又は、Ｒ１及びＲ２は、共に、−（ＣＨ２）３−、−（ＣＨ２）４−、若しくは−（ＣＨ２）５−を示す。］
で表される少なくとも１つのＮ−アリルアミド、又は、
ｉｖ）以下の式
【化２】
2016529353.tif 000002
［式中、Ｒ３は、１〜２４個の炭素原子を有し、炭素原子間に最大８個の酸素原子が挿入されていてよく、かつ、最大６個のヒドロキシル基によって置換されていてもよい、ｎ価の炭化水素系基を示し、ｎは、１、２、３、４、５、又は、６を示す。］
で表される少なくとも１つのアリルエーテル、
のうちの少なくとも１つを含み、
前記Ｂ剤組成物が、少なくとも１つのフリーラジカル重合性モノマー、及び、前記有機ボラン系錯体を錯体解離することができる少なくとも１つの化合物を含む、
２成分系接合組成物。
【請求項２】
Ａ剤組成物と、Ｂ剤組成物と、を組み合わせることを備え、
前記Ａ剤組成物が、有機ボラン系錯体、及び、少なくとも１つの反応性希釈剤を含み、
前記少なくとも１つの反応性希釈剤が、
ｉ）トリアリルイソシアヌレート、
ｉｉ）トリアリルシアヌレート、
ｉｉｉ）以下の式
【化３】
2016529353.tif 000003
［式中、Ｒ１及びＲ２は、それぞれ独立に、１〜７個の炭素原子を有し、炭素原子間に最大３個の酸素原子が挿入されていてよく、かつ、最大２個のヒドロキシル基によって置換されていてもよいアルキル基を示し、又は、Ｒ１及びＲ２は、共に、−（ＣＨ２）３−、−（ＣＨ２）４−、若しくは−（ＣＨ２）５−を示す。］
で表される少なくとも１つのＮ−アリルアミド、又は、
ｉｖ）以下の式
【化４】
2016529353.tif 000004
［式中、Ｒ３は、１〜２４個の炭素原子を有し、炭素原子間に最大８個の酸素原子が挿入されていてよく、かつ、最大６個のヒドロキシル基によって置換されていてもよい、ｎ価の炭化水素系基を示し、ｎは、１、２、３、４、５、又は、６を示す。］
で表される少なくとも１つのアリルエーテル、
のうちの少なくとも１つを含み、
前記Ｂ剤組成物が、少なくとも１つのフリーラジカル重合性モノマー、及び、前記有機ボラン系錯体を錯体解離することができる少なくとも１つの化合物を含む、
接合組成物の製造方法。
【請求項３】
２成分系接合組成物で使用するためのＡ剤組成物であって、
有機ボラン系錯体及び少なくとも１つの反応性希釈剤を含み、
前記少なくとも１つの反応性希釈剤が、
ｉ）トリアリルイソシアヌレート、
ｉｉ）トリアリルシアヌレート、
ｉｉｉ）以下の式
【化５】
2016529353.tif 000005
［式中、Ｒ１及びＲ２は、それぞれ独立に、１〜７個の炭素原子を有し、炭素原子間に最大３個の酸素原子が挿入されていてよく、かつ、最大２個のヒドロキシル基によって置換されていてもよいアルキル基を示し、又は、Ｒ１及びＲ２は、共に、−（ＣＨ２）３−、−（ＣＨ２）４−、若しくは−（ＣＨ２）５−を示す。］
で表される少なくとも１つのＮ−アリルアミド、
ｉｖ）以下の式
【化６】
2016529353.tif 000006
［式中、Ｒ３は、１〜２４個の炭素原子を有し、炭素原子間に最大８個の酸素原子が挿入されていてよく、かつ、最大６個のヒドロキシル基によって置換されていてもよい、ｎ価の炭化水素系基を示し、ｎは、１、２、３、４、５、又は、６を示す。］
で表される少なくとも１つのアリルエーテル、及び
ｖ）これらの組合せ
からなる群より選択される、Ａ剤組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成29年7月14日(2017.7.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式（Ｉ）および（ＩＩ）：
［−ＳｉＲ１Ｒ２−ＮＲ３−］ｘ  ［−ＳｉＨＲ４−ＮＲ５−］ｙ
（Ｉ）                      （ＩＩ）
［式中、記号および指数は次の意味を有する；
Ｒ１は、Ｃ２−Ｃ６−アルケニルまたはＣ４−Ｃ６−アルカジエニルであり；
Ｒ２は、Ｈまたは有機基であり；
Ｒ３は、Ｈまたは有機基であり；
Ｒ４は、Ｈまたは有機基であり；
Ｒ５は、Ｈまたは有機基であり；
ｘは、０．００１から０．２であり；および
ｙは、２ｘから（１−ｘ）である
但し、ｘ＋ｙ≦１であることおよびＲ２がＨである場合ｙは０であってもよい］の繰返し単位を含むオルガノポリシラザン材料を含む発光ダイオード用カプセル化材料であって、該カプセル化材料は熱的に安定で、透明な絶縁充填材料である、発光ダイオード用カプセル化材料。
【請求項２】
Ｒ１が、（Ｃ２−Ｃ６）−アルケニルまたは（Ｃ４−Ｃ６）−アルカジエニルであり；
Ｒ２が、（Ｃ１−Ｃ８）−アルキル、（Ｃ２−Ｃ６）−アルケニル、（Ｃ３−Ｃ６）−シクロアルキル、（Ｃ６−Ｃ１０）−アリールまたはＨであり；
Ｒ３が、Ｈまたは（Ｃ１−Ｃ８）−アルキル、（Ｃ２−Ｃ６）−アルケニル、（Ｃ３−Ｃ６）−シクロアルキルまたは（Ｃ６−Ｃ１０）−アリールであり；
Ｒ４が、Ｈまたは（Ｃ１−Ｃ８）−アルキル、（Ｃ２−Ｃ６）−アルケニル、（Ｃ３−Ｃ６）−シクロアルキルまたは（Ｃ６−Ｃ１０）−アリールであり；
Ｒ５が、Ｈまたは（Ｃ１−Ｃ８）−アルキル、（Ｃ２−Ｃ６）−アルケニル、（Ｃ３−Ｃ６）−シクロアルキルまたは（Ｃ６−Ｃ１０）−アリールであり；
ｘが、０．０２から０．１であり、および
ｙが、２＊ｘから０．９８である、請求項１に記載の発光ダイオード用カプセル化材料。
【請求項３】
Ｒ１が、ビニルまたはアリルであり；
Ｒ２が、（Ｃ１−Ｃ４）−アルキル、フェニルまたはＨであり；
Ｒ３が、Ｈであり；
Ｒ４が、（Ｃ１−Ｃ４）−アルキル、フェニルまたはＨであり；
Ｒ５が、Ｈであり；
ｘが、０．０３から０．０７５であり、
ｙが、２＊ｘから０．９７である、請求項１または２に記載の発光ダイオード用カプセル化材料。
【請求項４】
Ｒ１が、ビニルであり；
Ｒ２が、メチル、エチル、プロピルまたはフェニルであり；
Ｒ３がＨであり、
Ｒ４が、メチル、エチル、プロピルまたはフェニルであり；
Ｒ５が、Ｈであり；
ｘが、０．０３から０．０６であり、および
ｙが、２＊ｘから０．９７である、請求項１から３のいずれか一項に記載の発光ダイオード用カプセル化材料。
【請求項５】
オルガノポリシラザンが、式（Ｉ）および／または式（ＩＩ）の繰返し単位ならびに式（ＩＩＩ）および／または（ＩＶ）の１種以上の繰返し単位を含む１種以上のオルガノポリシラザンを含み、
【化１】
2016529354.tif 000001
式中、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ９、Ｒ１０は、独立して有機基であり；
Ｒ１０は、Ｈまたは有機基であり、および
Ｒ８およびＲ１１は、独立してＨまたは有機基である、請求項１から４のいずれか一項に記載の発光ダイオード用カプセル化材料。
【請求項６】
式（ＩＩＩ）および（ＩＶ）中の記号が、
Ｒ６、Ｒ７およびＲ９は、独立して（Ｃ１−Ｃ８）−アルキル、（Ｃ３−Ｃ６）−シクロアルキルまたは（Ｃ６−Ｃ１０）−アリールであり、
Ｒ１０は、独立して（Ｃ１−Ｃ８）−アルキル、（Ｃ３−Ｃ６）−シクロアルキル、（Ｃ６−Ｃ１０）−アリール、（Ｃ２−Ｃ６）−アルケニル、（Ｃ４−Ｃ６）−アルカジエニルまたはＨであり、
Ｒ８およびＲ１１は、Ｈ、（Ｃ１−Ｃ８）−アルキル、（Ｃ３−Ｃ６）−シクロアルキルまたは（Ｃ６−Ｃ１０）−アリールであるという意味を有する、請求項５に記載の発光ダイオード用カプセル化材料。
【請求項７】
オルガノポリシラザン材料が、塩基を用いる処理による架橋にかけられた、請求項１から６のいずれか一項に記載の発光ダイオード用カプセル化材料。
【請求項８】
オルガノポリシラザンの分子量Ｍｗが、２０００から１５０，０００の範囲にある、請求項１から７のいずれか一項に記載の発光ダイオード用カプセル化材料。
【請求項９】
オルガノポリシラザン材料が、２５℃で１００から１００，０００ｍＰａｓの粘度を有する、請求項１から８のいずれか一項に記載の発光ダイオード用カプセル化材料。
【請求項１０】
オルガノポリシラザン材料中のＭｗ＜５００ｇ／モルを有する低分子物質の量が、１５重量％未満である、請求項１から９のいずれか一項に記載の発光ダイオード用カプセル化材料。
【請求項１１】
オルガノポリシラザン材料が、２００μｍから５ｍｍの厚さの層として適用される、請求項１から１０のいずれか一項に記載の発光ダイオード用カプセル化材料。
【請求項１２】
オルガノポリシラザン材料が、不活性雰囲気または空気中で８０から２２０℃の範囲の温度に１分間から６時間の期間、材料を処理することによって硬化工程にかけられた、請求項１から１１のいずれか一項に記載の発光ダイオード用カプセル化材料。
【請求項１３】
ＬＥＤを製造する方法であって、
ａ）請求項１から１０のいずれか一項に記載されたオルガノポリシラザン材料をカプセル封入層としてＬＥＤに適用する工程、および
ｂ）不活性雰囲気または空気中で８０℃から２２０℃の温度で１分間から６時間、本発明のオルガノポリシラザンを硬化させる工程
を含む方法。
【請求項１４】
硬化工程ｂ）が、ペルオキシ化合物、アゾ化合物、Ｐｔ化合物およびＰｄ化合物から選択される触媒の存在下で実行される、請求項１３に記載のＬＥＤを製造する方法。
【請求項１５】
オルガノポリシラザン材料が、２００μｍから５ｍｍの厚さの層として適用される、請求項１３または１４に記載のＬＥＤを製造する方法。
【請求項１６】
ａ）請求項７から１０のいずれか一項に記載されたオルガノポリシラザン材料を準備する工程、
ｂ）８０℃から２２０℃の温度に１分間から６時間の期間、不活性雰囲気または空気中で材料を処理することによってオルガノポリシラザン材料を硬化させる工程によって得ることができるＬＥＤ用カプセル封入材料。
【請求項１７】
カプセル化材料として請求項１から１０のいずれか一項に記載された材料を含むＬＥＤ。
【手続補正書】
【提出日】平成29年6月1日(2017.6.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ａ）ゴム系エラストマー材料と、（ｂ）少なくとも１種類の炭化水素粘着付与剤と、（ｃ）少なくとも１種類のポリイソブチレン可塑剤と、を含み、実験セクションに記載された重量減少試験方法による熱重量測定分析によって測定した場合、前記炭化水素粘着付与剤が、１０００ｐｐｍ未満の揮発性有機化合物（ＶＯＣ）値と、１５００ｐｐｍ未満の揮発性フォギング化合物（ＦＯＧ）値とを有する、感圧性接着剤発泡体。