【手続補正書】
【提出日】平成29年10月31日(2017.10.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
シリコン系コーティングでコーティングした軟磁性粉末であって、
前記シリコン系コーティングが、以下のフッ素含有組成物：
ａ）式（Ｉ）
Ｓｉ１−０、２５ａＭ１ａＯ２−０、５ｂＦｂ  （Ｉ）
（式中、
ａは、０．０１５〜０．５２の範囲であり、
ｂは、０．０１５〜０．５２の範囲であり、
Ｍ１は、Ｈ、Ｋ、Ｒｂ、Ｃｓ、又はＮＲ１４であり、それぞれのＲは、Ｈ、Ｃ１〜６アルキル、フェニル、及びベンジルからなる群から独立して選択される）
のフッ素含有組成物、
ｂ）式（ＩＩ）
Ｓｉ１−０、７５ｃＭ２ｃＯ２−０、５ｄＦｄ (II)
（式中、
ｃは、０．００５〜０．１７の範囲であり、
ｄは、０．０１５〜０．５２の範囲であり、
Ｍ２は、Ｂ、又はＡｌである）
のフッ素含有組成物、
又は
ｃ）式（ＩＩＩ）
Ｓｉ１−１、２５ｅＰｅＯ２−０、５ｆＦｆ (III)
（式中、
ｅは、０．００３〜０．１０の範囲であり、
ｆは、０．０１５〜０．５２の範囲である）
のフッ素含有組成物の少なくとも１種のフッ素含有組成物を含むことを特徴とする軟磁性粉末。
【請求項２】
Ｍ１がＨ、Ｃｓ、又はＮＨ４である式（Ｉ）の少なくとも１種のフッ素含有組成物、
及びＭ２がＢである式（ＩＩ）の少なくとも１種のフッ素含有組成物を含むことを特徴とする請求項１に記載の軟磁性粉末。
【請求項３】
前記シリコン系コーティングが、０．１〜５質量％の式（Ｉ）、（ＩＩ）、又は（ＩＩＩ）の少なくとも１種のフッ素含有組成物を含むことを特徴とする請求項１又は２に記載の軟磁性粉末。
【請求項４】
前記フッ素含有組成物のフッ素成分が、ＳｉＯ２−マトリックス内に埋め込まれること、及び／又はＳｉＯ２コーティングの表面に結合されることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の軟磁性粉末。
【請求項５】
前記シリコン系コーティングが、２〜１００ｎｍの平均厚さを有することを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の軟磁性粉末。
【請求項６】
軟磁性粉末の被覆方法であって、
コーティングが、以下のフッ素含有組成物：
ａ）請求項１で定義される式（Ｉ）のフッ素含有組成物
ｂ）請求項１で定義される式（ＩＩ）のフッ素含有組成物
ｃ）請求項１で定義される式（ＩＩＩ）のフッ素含有組成物
の少なくとも１種のフッ素含有組成物を含み、
前記軟磁性粉末を、可溶性フッ素化剤（Ｆ）を含むシリコン系溶液と共に混合することを特徴とする被覆方法。
【請求項７】
前記軟磁性粉末を、シリコン系溶液と混合し、前記軟磁性粉末を、前記シリコン系溶液で少なくとも部分的に処理した後に、可溶性フッ素化剤（Ｆ）を加えることを特徴とする請求項６に記載の被覆方法。
【請求項８】
前記少なくとも１種の可溶性フッ素化剤（Ｆ）が、
（Ａ）式（ＩＶａ）、又は（ＩＶｂ）の塩
Ｍ１Ｆ  （ＩＶａ）
Ｍ２Ｆ３（ＩＶｂ）
（式中、
Ｍ１は、式（Ｉ）で定義した通りであり、
Ｍ２は、式（ＩＩ）で定義した通りである。）、
（Ｂ）式（Ｖ）の化合物
（Ｍ３）２（ＳｉＦ６）  （Ｖ）
（式中、
Ｍ３は、Ｈ、Ｎａ、Ｋ、Ｒｂ、Ｃｓ、又はＮＲ１４であり、
Ｒ１は、式（Ｉ）で定義した通りである。）、
（Ｃ）式（ＶＩ）の化合物
Ｍ３ＰＦ６  （ＶＩ）
（式中、Ｍ３は、式（Ｖ）で定義した通りである。）、
又は、
（Ｄ）  ルイス酸−ルイス塩基付加物
（ここで、ルイス酸はＭ２Ｆ３であり、Ｍ２は式（ＩＩ）で定義した通りである。）
であることを特徴とする請求項６又は７に記載の被覆方法。
【請求項９】
前記少なくとも１種のルイス酸−ルイス塩基付加物が、
（Ｄ１）式（ＶＩＩａ）の付加物
Ｌ１・ｓＭ２Ｆ３  （ＶＩＩａ）
（式中、
Ｍ２は、式（ＩＩ）で定義した通りである、
Ｌ１は、Ｒ２−Ｏ−Ｒ３、又はＮＲ４Ｒ５Ｒ６であり、
ｓは、０．５〜１．０の範囲の数であり、
Ｒ２、Ｒ３は、互いに独立して、Ｈ、Ｃ１〜６アルキル（任意に、ハロゲン、又はヒドロキシで置換される）、Ｃ３〜８シクロアルキル（任意に、ハロゲン、ヒドロキシ、Ｃ１〜６アルキル、Ｃ１〜６ハロアルキル、Ｃ１〜６ヒドロキシアルキル、Ｃ２〜６アルケニル、Ｃ１〜６アルコキシ、Ｃ２〜６アルケノキシで置換される）、フェニル（任意に、ハロゲン、Ｃ１〜６アルキル、Ｃ１〜６ハロアルキル、Ｃ１〜６ヒドロキシアルキル、Ｃ２〜６アルケニル、Ｃ１〜６アルコキシ、又はＣ２〜６アルケノキシで置換される）、及びベンジル（任意に、ハロゲン、Ｃ１〜６アルキル、Ｃ１〜６ハロアルキル、Ｃ１〜６ヒドロキシアルキル、Ｃ２〜６アルケニル、Ｃ１〜６アルコキシ、又はＣ２〜６アルケノキシで置換される）からなる群から選択され、
又は、Ｒ２、Ｒ３は、結合している酸素原子と共に３〜８員環を形成し、
Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６は、互いに独立して、Ｈ、Ｃ１〜６アルキル（任意に、ハロゲン、又はヒドロキシルで置換される）、フェニル（任意に、ハロゲン、Ｃ１〜６アルキル、Ｃ１〜６ハロアルキル、Ｃ１〜６ヒドロキシアルキル、Ｃ２〜６アルケニル、Ｃ１〜６アルコキシ、又はＣ２〜６アルケノキシで置換される）、及びベンジル（任意に、ハロゲン、Ｃ１〜６アルキル、Ｃ１〜６ハロアルキル、Ｃ１〜６ヒドロキシアルキル、Ｃ２〜６アルケニル、Ｃ１〜６アルコキシ、又はＣ２〜６アルケノキシで置換される）からなる群から選択され、
又は、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６のうちの２個は、結合している窒素原子と共に、３〜８員環を形成する）
（Ｄ２）式（ＶＩＩｂ）の付加物
【化１】
2016538720.tif 000001
（式中、
それぞれのＭ２は、独立して式（ＩＩ）で定義した通りであり、
ｔは、０．８〜２の範囲の数であり、
Ｇは、単結合、又は、Ｃ１〜６アルキル（任意に、ハロゲン、ヒドロキシ、Ｃ１〜６アルコキシ、又はＣ２〜６アルケノキシで置換される）、Ｃ２〜６アルケニル（任意に、ハロゲン、ヒドロキシ、Ｃ２〜６アルケニル、Ｃ１〜６アルコキシ、又はＣ２〜６アルケノキシで置換される）、Ｃ３〜８シクロアルキル（任意に、ハロゲン、ヒドロキシ、Ｃ１〜６アルキル、Ｃ１〜６ハロアルキル、Ｃ１〜６ヒドロキシアルキル、Ｃ２〜６アルケニル、Ｃ１〜６アルコキシ、又はＣ２〜６アルケノキシで置換される）、Ｃ４〜８シクロアルキル（任意に、ハロゲン、ヒドロキシ、Ｃ１〜６アルキル、Ｃ１〜６ハロアルキル、Ｃ１〜６ヒドロキシアルキル、Ｃ２〜６アルケニル、Ｃ１〜６アルコキシ、又はＣ２〜６アルケノキシで置換される）、及びＣ６〜１４アリール（任意に、ハロゲン、ヒドロキシ、Ｃ１〜６アルキル、又はＣ１〜６ハロアルキル、Ｃ１〜６ヒドロキシアルキル、Ｃ２〜６アルケニル、Ｃ１〜６アルコキシ、又はＣ２〜６アルケノキシで置換される）からなる群から選択される連結基であり、
ｍ及びｎは、Ｇが単結合であるときに、ｍ＋ｎ≠０であるという条件で、互いに独立して、０、１、２、３、又は４であり、
それぞれのＬ２は、独立して、ＮＲ７Ｒ８、及びＯＲ９からなる群から選択され、
ここで、Ｒ７、Ｒ８は、互いに独立して、Ｈ、Ｃ１〜６アルキル（任意に、ハロゲン、ヒドロキシ、Ｃ２〜６アルケニル、Ｃ１〜６アルコキシ、又はＣ２〜６アルケノキシで置換される）、フェニル（任意に、ハロゲン、ヒドロキシ、Ｃ１〜６アルキル、Ｃ１〜６ハロアルキル、Ｃ１〜６ヒドロキシアルキル、Ｃ２〜６アルケニル、Ｃ１〜６アルコキシ、又はＣ２〜６アルケノキシで置換される）、及びベンジル（任意に、ハロゲン、ヒドロキシ、Ｃ１〜６アルキル、Ｃ１〜６ハロアルキル、Ｃ１〜６ヒドロキシアルキル、Ｃ２〜６アルケニル、Ｃ１〜６アルコキシ、又はＣ２〜６アルケノキシで置換される）からなる群から選択され、
又は、Ｒ７、Ｒ８は、結合している窒素原子と共に、３〜８員環を形成し、
Ｒ９は、Ｈ、Ｃ１〜６アルキル、フェニル（任意に、ハロゲン、ヒドロキシ、Ｃ１〜６アルキル、Ｃ１〜６ハロアルキル、Ｃ１〜６ヒドロキシアルキル、Ｃ２〜６アルケニル、Ｃ１〜６アルコキシ、又はＣ２〜６アルケノキシで置換される）、及びベンジル（任意に、ハロゲン、ヒドロキシ、Ｃ１〜６アルキル、Ｃ１〜６ハロアルキル、Ｃ１〜６ヒドロキシアルキル、Ｃ２〜６アルケニル、Ｃ１〜６アルコキシ、又はＣ２〜６アルケノキシで置換される）からなる群から選択される）
及び、
（Ｄ３）式（ＶＩＩｃ）の付加物
【化２】
2016538720.tif 000002
（式中、
それぞれのＭ２は、独立して式（ＩＩ）として定義され、
それぞれのＬ２は、独立して式（ＶＩＩｂ）として定義され、
ｕは、０．８〜３．０の範囲の数であり、
Ｇ１、Ｇ２は、互いに独立して、単結合、又は、Ｃ１〜６アルキル（任意に、ハロゲン、ヒドロキシ、Ｃ２〜６アルケニル、Ｃ１〜６アルコキシ、又はＣ２〜６アルケノキシで置換される）、Ｃ２〜６アルケニル（任意に、ハロゲン、ヒドロキシ、Ｃ１〜６アルキル、Ｃ１〜６ハロアルキル、Ｃ１〜６ヒドロキシアルキル、Ｃ１〜６アルコキシ、又はＣ２〜６アルケノキシで置換される）、Ｃ３〜８シクロアルキル（任意に、ハロゲン、ヒドロキシ、Ｃ１〜６アルキル、Ｃ１〜６ハロアルキル、Ｃ１〜６ヒドロキシアルキル、Ｃ２〜６アルケニル、Ｃ１〜６アルコキシ、又はＣ２〜６アルケノキシで置換される）、Ｃ４〜８シクロアルケニル（任意に、ハロゲン、ヒドロキシ、Ｃ１〜６アルキル、Ｃ１〜６ハロアルキル、Ｃ１〜６ヒドロキシアルキル、Ｃ２〜６アルケニル、Ｃ１〜６アルコキシ、又はＣ２〜６アルケノキシで置換される）、及びＣ６〜１４アリール（任意に、ハロゲン、ヒドロキシ、Ｃ１〜６アルキル、Ｃ１〜６ハロアルキル、Ｃ１〜６ヒドロキシアルキル、Ｃ２〜６アルケニル、Ｃ１〜６アルコキシ、又はＣ２〜６アルケノキシで置換される）からなる群から選択される連結基であり、
Ｌ３は、ＮＲ１０又はＯであり、
それぞれのＲ１０は、独立してＨ、Ｃ１〜６アルキル、フェニル（任意に、ハロゲン、ヒドロキシ、Ｃ１〜６アルキル、Ｃ１〜６ハロアルキル、Ｃ１〜６ヒドロキシアルキル、Ｃ２〜６アルケニル、Ｃ１〜６アルコキシ、又はＣ２〜６アルケノキシで置換される）、ベンジル（任意に、ハロゲン、ヒドロキシ、Ｃ１〜６アルキル、Ｃ１〜６ハロアルキル、Ｃ１〜６ヒドロキシアルキル、Ｃ２〜６アルケニル、Ｃ１〜６アルコキシ、又はＣ２〜６アルケノキシで置換される）からなる群から選択され、
Ｇ１が単結合であるときに、ｏ＋ｐ≠０であり、及びＧ２が単結合であるときに、ｑ＋ｒ≠０であるという条件で、ｏ、ｐ、ｑ、及びｒは、互いに独立して０、１、２、３、又は４である）
からなる群から選択されることを特徴とする請求項６〜８のいずれか１項に記載の被覆方法。
【請求項１０】
前記可溶性フッ素化剤（Ｆ）が、ＣｓＦ、ＮＨ４Ｆ、Ｈ２ＳｉＦ６、（ＮＨ４）２ＳｉＦ６、ＢＦ３−イソホロンジアミン、ＢＦ３−イソプロピルアミン、ＢＦ３−エチルアミン、及びＢＦ３−ベンジルアミンからなる群から選択されることを特徴とする請求項６〜９のいずれか１項に記載の被覆方法。
【請求項１１】
前記可溶性フッ素化剤を、前記シリコン系溶液を用いる処理をしている間、又は前記シリコン系溶液を用いる処理をした直後に加えることを特徴とする請求項６〜１０のいずれか１項に記載の被覆方法。
【請求項１２】
０．０５〜３ｍｏｌ％のフッ素を、前記可溶性フッ素化剤を介して前記シリコン系溶液に加えることを特徴とする請求項６〜１１のいずれか１項に記載の被覆方法。
【請求項１３】
前記シリコン系溶液が、シリコンアルコキシドを含み、
前記シリコン系溶液が、反応混合物に１個以上の工程で加えられることを特徴とする請求項６〜１１のいずれか１項に記載の被覆方法。
【請求項１４】
請求項１〜５に記載の前記軟磁性粉末、又は請求項６〜１３に記載の前記被覆方法から得られる前記軟磁性粉末を使用することを特徴とする電子部品の製造方法。
【請求項１５】
請求項１〜５に記載の前記軟磁性粉末、又は請求項６〜１３に記載の被覆方法から得られる前記軟磁性粉末を含むことを特徴とする電子部品。