【誤訳訂正書】
【提出日】平成28年12月13日(2016.12.13)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
イオンビームを生成するイオン源と、
ワークピースの表面に亘って、上記イオンビームを、第１の軸に沿って往復して走査することにより、走査されたイオンビームを供給するスキャナと、
上記スキャナの下流部に、上記第１の軸を横切る第２の軸に沿って、上記走査されたイオンビームに対してディザリングを導入する偏向フィルタと、
上記スキャナと上記偏向フィルタとの間に配置されているパラレライザと、を備え、
上記パラレライザは、順次、複数の異なる衝突角度で上記走査されたイオンビームを受け取り、かつ、順次、平行化されたイオンビームを出力するために、上記走査されたイオンビームの上記異なる衝突角度を変更することを特徴とするイオン注入装置。
【請求項２】
上記偏向フィルタは、上記走査されたイオンビームに対して上記ディザリングを導入するだけでなく、上記走査されたイオンビームの時間非依存の偏向を提供するように構成されていることを特徴とする請求項１に記載のイオン注入装置。
【請求項３】
上記イオンビームは、走査周波数に従って上記第１の軸に沿って走査され、かつ、ディザリング周波数に従って上記第２の軸に沿ってディザリングされ、
上記ディザリング周波数は、上記走査周波数よりも大きいことを特徴とする請求項１に記載のイオン注入装置。
【請求項４】
上記第２の軸に沿って、上記ワークピースを移動させる機械アセンブリをさらに備えていることにより、上記スキャナ、偏向フィルタおよび機械アセンブリは、上記ワークピースにイオンを注入するように、連携して動作することを特徴とする請求項１に記載のイオン注入装置。
【請求項５】
上記イオンビームは、間欠的にピーク走査速度に到達するように、上記第１の軸に沿って走査され、かつ、上記ワークピースは、上記ピーク走査速度より小さい移動速度で上記第２の軸に沿って移動することを特徴とする請求項４に記載のイオン注入装置。
【請求項６】
上記偏向フィルタは、上記パラレライザの下流部にあることを特徴とする請求項１に記載のイオン注入装置。
【請求項７】
上記スキャナは、第１の時変波長が供給される第１の電極セットを備え、
上記第１の時変波長は、上記第１の軸に沿って、上記ワークピースの上記表面に亘って走査するために、上記イオンビームを誘導することを特徴とする請求項１に記載のイオン注入装置。
【請求項８】
上記偏向フィルタは、第２の電極セットを備え、
第２の時変波長は、上記走査されたイオンビームに対して上記ディザリングを導入するために、上記第２の電極セットに供給されることを特徴とする請求項７に記載のイオン注入装置。
【請求項９】
上記スキャナは、上記スキャナ内に第１の時変磁界を供給する１つ以上の磁石を備え、
上記第１の時変磁界は、上記第１の軸に沿って、上記ワークピースの上記表面に亘って走査するために、上記イオンビームを誘導することを特徴とする請求項１に記載のイオン注入装置。
【請求項１０】
上記偏向フィルタは、上記スキャナの下流部に、第２の時変磁界を供給する１つ以上の磁石を備え、
上記第２の時変磁界は、上記走査されたイオンビームに対してディザリングを誘導することを特徴とする請求項１に記載のイオン注入装置。
【請求項１１】
ワークピースにイオンを注入するための方法であって、
イオン源が、イオンビームを生成する工程と、
スキャナが、第１の走査レートで、上記イオンビームを、第１の軸に沿って往復して走査することにより、走査されたイオンビームを供給する工程と、
パラレライザが、上記走査されたイオンビームを平行化することにより、平行化され、かつ走査されたイオンビームを供給する工程と、
偏向フィルタが、上記平行化され、かつ走査されたイオンビームに対して、ディザリングを導入する工程と、を含むことを特徴とする方法。
【請求項１２】
上記イオンビームは、走査周波数に従って上記第１の軸に沿って走査され、かつ、ディザリング周波数に従って第２の軸に沿ってディザリングされ、
上記ディザリング周波数は、上記走査周波数よりも大きいことを特徴とする請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
上記ワークピースにイオンを注入するために、上記ワークピースが、ディザリングを示している上記平行化され、かつ走査されたイオンビームと連携して移動するように、上記第１の軸を横切る第２の軸に沿って、上記ワークピースを移動させる工程をさらに含むことを特徴とする請求項１１に記載の方法。
【請求項１４】
上記イオンビームは、間欠的にピーク走査速度に到達するように、上記第１の軸に沿って走査され、かつ、上記ワークピースは、上記ピーク走査速度より小さい移動速度で上記第２の軸に沿って移動することを特徴とする請求項１３に記載の方法。
【請求項１５】
上記第１の軸は、少なくとも実質的に、上記第２の軸に垂直であることを特徴とする請求項１３に記載の方法。
【請求項１６】
上記第１の軸に沿って走査する工程は、上記イオンビームに時変電界を印加することによって実現されることを特徴とする請求項１１に記載の方法。
【請求項１７】
上記第１の軸に沿って走査する工程は、上記イオンビームに時変磁界を印加することによって実現されることを特徴とする請求項１１に記載の方法。
【請求項１８】
ディザリングを導入する工程は、上記平行化され、かつ走査されたイオンビームに時変磁界を印加することによって実現されることを特徴とする請求項１１に記載の方法。
【請求項１９】
ディザリングを導入する工程は、上記平行化され、かつ走査されたイオンビームに時変電界を印加することによって実現されることを特徴とする請求項１１に記載の方法。
【請求項２０】
イオンビームを生成する手段と、
第１の軸に沿って往復して上記イオンビームを走査することにより、走査されたイオンビームを供給する手段と、
上記イオンビームを走査する手段の下流部に、走査された上記イオンビームにディザリングを導入する手段と、
上記イオンビームを平行化する手段と、を備え、
上記イオンビームを平行化する手段は、上記イオンビームを走査する手段と上記ディザリングを導入する手段との間に配置されていることを特徴とするイオン注入装置。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２１】
上記ペンシルビームを受け取ると、上記走査システム３０６内のスキャナ３３０は、走査されたイオンビーム３３２を供給するために、順次、（例えば、水平方向に）往復して、上記ペンシルビームを横に向けるか「走査」する。いくつかの文脈においては、このタイプの走査されたペンシルビームは、リボンビームとして言及されていても構わない。図示された形態では、スキャナ３３０は、走査されたビーム３３２を挟んで、対向する両側に配置されている１組の電極３３４ａおよび３３４ｂを含んでいる電気スキャナである。制御システム３３６は、電極３３４ａおよび３３４ｂ上の時変電流または時変電圧を供給するために、可変電力源３３８における変更を含んでいる。その結果、上記ビーム経路の領域で振動する時変電界を誘発し、順次、上記イオンビームを往復して走査する。他の実施形態では、スキャナ３３０は、上記ビーム経路の領域に時変磁界を供給し、順次上記イオンビームを走査する磁力スキャナでも構わない。いくつかの実施形態では、（１組の電極ではなく）１つの電極のみが使用されていても構わない。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２５
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２５】
図４Ａは、上記スキャナ電極（例えば、図３の３３４ａ、３３４ｂ）に印加される第１の走査電圧４０２の例を示している。一方、図４Ｂは、上記偏向フィルタ電極に印加される第２の走査電圧４０４を示している。いくつかのシステムでは、遅い走査方向２６２における安定した相対的な動きは、上記ワークピースを機械的に動かすことに起因する。一方、他のシステムでは、これらの走査電圧は、全体的に、図４Ｃに示されている走査経路上にイオンビームの軌跡を描く。いくつかのシステムでは、第１の走査電圧４０２は、第１の軸上において、順次（例えば、図４Ｃの点Ａおよび点Ｇの間）、イオンビーム２０２を往復して走査する。一方、第２の走査電圧４０４は、ディザリング（例えば、図４Ｃの縦方向の変位）を導入することができる。図４Ｄに示すように、ワークピース３１０が、第２の軸に沿って５００に移動し（例えば、図４Ｄでは、ワークピース３１０の上端が点  から点  へ動き）、第１および第２の走査電圧が同時に上記ビームに印加される時、上記イオンビームは、効果的に、上記ワークピースの表面を覆う２次元の走査経路上に軌跡を描く。