(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基板上に順次形成された無機エハンス層と、光磁気記録層と、無機保護層と、有機保護層とからなる光磁気記録媒体において、
前記有機保護層は、エポキシノボラックアクリレート及びテトラアクリレートオリゴマーからなる混合物と、この混合物の合計量に対して所定割合で配合された１αヒドロキシケトンと、ポリエーテル変性シリコン高分子とからなる紫外線硬化樹脂を硬化させたものであることを特徴とする光磁気記録媒体。
【請求項２】
前記有機保護層は、前記エポキシノボラックアクリレートと前記テトラアクリレートオリゴマーとの重量割合の合計を１００重量％とする時、３０〜４０重量％の前記エポキシノボラックアクリレート及び６０〜７０重量％の前記テトラアクリレートオリゴマーからなる混合物と、この混合物の合計量に対して４重量％の前記１αヒドロキシケトンと、２〜８重量％の前記ポリエーテル変性シリコン高分子とからなることを特徴とする請求項１記載の光磁気記録媒体。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、光磁気記録媒体に係わり、特にこの光磁気記録媒体に記録再生するヘッドとの潤滑性に関する。
【０００２】
【従来の技術】
一般に、記録可能型光ディスクは、溝やピットが形成されている金属原盤（スタンパー）と射出成形等によって溝とピットが転写されている透明基板上に有機色素や金属合金薄膜で記録層を形成し、更に、金属性の反射膜、高分子樹脂の保護層からなり、例えば、特開平６−２５９８２６号公報や特開平７−６４１８号公報に開示されているものがある。
【０００３】
特開平６−２５９８２６号公報には、基板上に順次形成された光磁気記録層と、耐擦傷性保護層とからなり、この耐擦傷性保護層をペンタエリスリトールのトリアクリレート及びテトラアクリレートの混合物を１０〜９０重量％含有する硬化性樹脂にすると、耐擦傷性及び耐候性に優れ、浮上ヘッドによる傷の発生を抑え、ヘッドクラッシュや発塵を防いだ光磁気記録媒体を得ることができることが開示されている。
また、特開平７−６４１８号公報には、円板状基板上に順次形成された多層からなる光磁気記録層と、保護層とからなり、この保護層が０．１〜５ｗｔ％のカップリング剤を含むようにすると、前記保護層と前記光磁気記録層との密着性に優れ、ヘッドクラッシュを生じない光磁気記録媒体を得ることができることが開示されている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、特開平６−２５９８２６号公報や特開平７−６４１８号公報に開示されている光磁気記録媒体では、この光磁気記録媒体に面接触して用いる記録再生用ヘッドとの十分な潤滑性が得られないため、ヘッドクラッシュが発生するといった問題を生じていた。
【０００５】
そこで、本発明は、上記のような問題点を解消するためになされたもので、十分な潤滑を有し、ヘッドクラッシュの発生しない光磁気記録媒体を提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
本発明の光磁気記録媒体における第１の発明は、透明基板上に順次形成された無機エハンス層と、光磁気記録層と、無機保護層と、有機保護層とからなる光磁気記録媒体において、前記有機保護層は、エボキシノボラックアクリレート及びテトラアクリレートオリゴマーからなる混合物と、この混合物の合計量に対して所定割合で配合された１αヒドロキシケトンと、ポリエーテル変性シリコン高分子とからなる紫外線硬化樹脂を硬化させたものであることを特徴とする。
第２の発明は、請求項１記載の光磁気記録媒体において、前記有機保護層は、前記エポキシノボラックアクリレートと前記テトラアクリレートオリゴマーとの重量割合の合計を１００重量％とする時、３０〜４０重量％の前記エポキシノボラックアクリレート及び６０〜７０重量％の前記テトラアクリレートオリゴマーからなる混合物と、この混合物の合計量に対して４重量％の前記１αヒドロキシケトンと、２〜８重量％の前記ポリエーテル変性シリコン高分子とからなることを特徴とする。
【０００７】
【発明の実施の形態】
本発明の実施形態の光磁気記録媒体について図１乃至図３、表１及び表２を用いて説明する。
図１は、本発明の実施形態の光磁気記録媒体を示す断面図である。
図２は、摩擦力のエポキシノボラックアクリレートとテトラアクリレートオリゴマーとの重量割合依存性を示す図である。
図３は、ポリエーテル変性シリコン高分子の添加量と摩擦力との関係を示す図である。
表１は、潤滑剤の種類を変えた各種試料の摩擦力及び動摩擦係数を示す表である。
表２は、保護膜の種類を変えた各種試料の摩擦力及び動摩擦係数を示す表である。
【０００８】
図１に示すように、本発明の実施形態の光磁気記録媒体１は、射出成形やフォトポリマー成形等によりピットや溝が形成されている透明基板２と、この透明基板２のピットや溝上に順次積層されたＳｉＮやＳｉＯ２等からなる厚さ５０ｎｍ〜１００ｎｍの無機エハンス層３と、ＴｂＦｅＣｏ等からなる厚さ３０ｎｍ〜１００ｎｍの光磁気記録層４と、ＳｉＮやＳｉＯ２等からなる厚さ５０ｎｍ〜１００ｎｍの無機保護層５と、オリゴマー及びテトラアクリレートオリゴマーからなる混合物と、この混合物の合計量に対して所定割合で配合された１αヒドロキシケトンと、潤滑剤とからなる紫外線硬化樹脂を硬化させた厚さ１〜１０μｍの有機保護層６とからなる。
【０００９】
１αヒドロキシケトンは、紫外線が照射されることによってオリゴマーとテトラアクリレートオリゴマーとをポリマーにする光開始剤である。
記録再生を行うヘッドを光磁気記録媒体１に面接触して動作させる際の潤滑性は、有機保護層６中の潤滑剤が光磁気記録媒体１の表面に滲み出てくることによって得られる。
ヘッドがヘッドクラッシュを生じることなく、記録再生を行うためには、このヘッドと光磁気記録媒体の摩擦力は、０．８ｍＮ以下にすることが実験的に確かめられている。このため、この摩擦力は、０．８ｍＮ以下にする必要がある。
【００１０】
以下に、潤滑剤の種類、オリゴマーの種類、有機保護層中の混合物の重量割合及びポリエーテル変性シリコン高分子の添加量を変えた時の潤滑性について調べた。
まず始めに、潤滑剤の種類を変えて各試料を作製し、その潤滑性について調べた。
潤滑剤の種類としては、ポリエーテル変性シリコン高分子、アルキル変性シリコン高分子、アクリル共重合シリコン高分子、ポリエステルアクリル基シリコン高分子、フッ素高分子、窒化シリコンを選択した。
各試料は、厚さ１．２ｍｍのポリカーボネート樹脂基板上に厚さ５０ｎｍのＳｉＮを形成し、このＳｉＮ上に前記した各種の潤滑剤を形成したものである。
潤滑性は、チタン酸カルシュウムからなる２．２×３．３ｍｍの面接触ヘッドを用いて、これらの試料の表面を線速１．５ｍ／ｓ、荷重５ｇで３０分間摺動させて、その時の摩擦力及び動摩擦係数を調べるによって評価した。
その結果を表１に示す。
【００１１】
【表１】
0003604031.tif 000002
【００１２】
表１に示すように、潤滑剤にポリエーテル変性シリコン高分子を用いた場合、動摩擦係数は最も小さくなり、また摩擦力は０．８ｍＮ以下となり、ヘッドクラッシュの発生がなかった。
このように、潤滑剤にポリエーテル変性シリコン高分子を用いると、良好な潤滑性が得られることがわかった。
【００１３】
次に、オリゴマーの種類を変化させた有機保護層６の各試料を作製し、この潤滑性について調べた。
オリゴマーの種類としては、エポキシノボラックアクリレート、エポキシアクリレート、脂肪族ウレタンジアクリレート、シリコンアクリレート、変性ポリエーテルアクリレートを選択した。
各試料は、厚さ１．２ｍｍのポリカーボネート樹脂基板上に厚さ５０ｎｍのＳｉＮを形成し、このＳｉＮ上にオリゴマーの種類を変化させた有機保護層６を形成したものである。
【００１４】
具体的には、この有機保護層６は、テトラアクリレートオリゴマーとオリゴマーとの重量割合の合計を１００重量％とする時、７０重量％のテトラアクリレートオリゴマーと３０重量％のオリゴマーとからなる混合物と、この混合物の合計量に対して４重量％の１αヒドロキシケトンと、４重量％のポリエーテル変性シリコン高分子とからなる紫外線硬化樹脂を硬化させたものである。
潤滑性は、チタン酸カルシュウムからなる２．２×３．３ｍｍの面接触ヘッドを用いて、これらの試料の表面を線速１．５ｍ／ｓ、荷重５ｇで３０分間摺動させて、その時の摩擦力、動摩擦係数を調べることによって評価した。
その結果を表２に示す。
【００１５】
【表２】
0003604031.tif 000003
【００１６】
表２に示すように、オリゴマーにエポキシノボラックアクリレートを用いた場合、動摩擦係数が最も小さくなり、また摩擦力は０．８ｍＮ以下となり、ヘッドクラッシュの発生がなかった。
このように、オリゴマーにエポキシノボラックアクリレートを用いると、良好な潤滑性を有する有機保護層６が得られることがわかった。
【００１７】
次に、潤滑剤にポリエーテル変性シリコン高分子、オリゴマーにエポキシノボラックアクリレートを用い、エポキシノボラックアクリレートとテトラアクリレートオリゴマーとの重量割合を変化させた有機保護層６の各試料を作製し、その潤滑性について調べた。
各試料は、厚さ１．２ｍｍのポリカーボネート樹脂基板上に厚さ５０ｎｍのＳｉＮを形成し、このＳｉＮ上にテトラアクリレートオリゴマーとエポキシノボラックアクリレートとの重量比を変化させた有機保護層６を形成したものである。
【００１８】
具体的には、この有機保護膜６は、テトラアクリレートオリゴマーとエポキシノボラックアクリレートとの重量割合の合計を１００重量％とする時、４０〜８０重量％のテトラアクリレートオリゴマーと２０〜６０重量％のエポキシノボラックアクリレートとからなる混合物と、この混合物の合計量に対して４重量％の１αヒドロキシケトンと、４重量％のポリエーテル変性シリコン高分子とからなる紫外線硬化樹脂を硬化させたものである。
【００１９】
潤滑性は、チタン酸カルシュウムからなる２．２×３．３ｍｍの面接触ヘッドを用いて、これらの試料の表面を線速１．５ｍ／ｓ、荷重５ｇで３０分間摺動させて、その時の摩擦力を調べることによって評価した。
その結果を図２に示す。
図２中、横軸は、エポキシノボラックアクリレートとテトラアクリレートオリゴマーとの重量割合、縦軸は、摩擦力（ｍＮ）である。
【００２０】
図２に示すように、摩擦力は、テトラアクリレートオリゴマーが６０重量％、エポキシノボラックアクリレートが４０重量％の場合が最も小さく、この両端で増大する傾向を示している。
更に、テトラアクリレートオリゴマーが７０重量％以上、エポキシノボラックアクリレートが３０重量％以下の場合には、摩擦力が０．８ｍＮ以上となり、ヘッドクラッシュを生じた。
これは、有機保護膜６中のポリエーテル変性シリコン高分子が表面に液体状となって滲み出すぎ、ヘッドがポリエーテル変性シリコン高分子中に浸り、テトラアクリレートオリゴマーとエポキシノボラックアクリレートのポリマーとの境界潤滑がなくなったことによると考えられる。
【００２１】
また、テトラアクリレートオリゴマーが６０重量％以下、エポキシノボラックアクリレートが４０重量％以上の場合には、有機保護層６の表面の一部が削り取られた。
これは、有機保護膜６全体が柔らかく、ヘッドで削り取られやい状態になったためと考えられる。
テトラアクリレートオリゴマーが６０〜７０重量％、エポキシノボラックアクリレートが３０〜４０重量％の範囲では、ヘッドクラッシュの発生がなく、また表面が削り取られることのない良好な潤滑性を有した有機保護層６が得られることがわかった。
【００２２】
次に、潤滑剤にポリエーテル変性シリコン高分子を用いた時の添加量を変化させた有機保護膜６の各試料を作製し、その潤滑性について調べた。
各試料は、厚さ１．２ｍｍのポリカーボネート樹脂基板上に厚さ５０ｎｍのＳｉＮを形成し、このＳｉＮ上にポリエーテル変性シリコン高分子の添加量を変化させた有機保護膜６を形成したものである。
具体的には、この有機保護膜６は、テトラアクリレートオリゴマーとエポキシノボラックアクリレートとの重量割合の合計を１００重量％とする時、６０重量％のテトラアクリレートオリゴマーと４０重量％のエポキシノボラックアクリレートとからなる混合物と、この混合物の合計量に対して４重量％の１αヒドロキシケトンと、０〜１０重量％のポリエーテル変性シリコン高分子とからなる紫外線硬化樹脂を硬化させたものである。
【００２３】
潤滑性は、チタン酸カルシュウムからなる２．２×３．３ｍｍの面接触ヘッドを用いて、これらの試料の表面を線速１．５ｍ／ｓ、荷重５ｇで３０分間摺動させて、その時の摩擦力を調べることによって評価した。
その結果を図３に示す。
図３中、横軸は、ポリエーテル変性シリコン高分子の添加量（重量％）、縦軸は、摩擦力（ｍＮ）である。
図３に示すように、摩擦力は、ポリエーテル変性シリコン高分子が４重量％の場合が最も小さくなり、この両端で増大する傾向を示している。
【００２４】
更に、ポリエーテル変性シリコン高分子が２重量％以下では、摩擦力が０．８ｍＮ以上となり、ヘッドクラッシュを生じた。
これは、前記したと同様に境界潤滑がなくなったことによると考えられる。
また、ポリエーテル変性シリコン高分子が８重量％以上では、ヘッドクラッシュを生じると共に８０℃、８０％で加水分解して、耐湿性が悪くなった。
このため、ポリエーテル変性シリコン高分子の添加量は、２〜８重量％の範囲の場合が、ヘッドクラッシュの発生がなく、良好な耐湿性と共に潤滑性を有した有機保護層６が得られることがわかった。
更にまた、テトラアクリレートオリゴマーが６０〜７０重量％、エポキシノボラックアクリレートが３０〜４０重量％の範囲で変化させた場合も同様な結果が得られた。
【００２５】
以上のように、テトラアクリレートオリゴマーとエポキシノボラックアクリレートとの重量割合の合計を１００重量％とする時、６０〜７０重量％のテトラアクリレートオリゴマーと３０〜４０重量％のエポキシノボラックアクリレートとからなる混合物と、この混合物の合計量に対して、４重量％の１αヒドロケシケトンと、２〜８重量％のポリエーテル変性シリコン高分子とからなる紫外線硬化樹脂を硬化させたものを有機保護膜６として用いると、ヘッドクラッシュがなく、良好な潤滑性を有する光磁気記録媒体１を得ることができる。
【００２６】
【発明の効果】
本発明の光磁気記録媒体によれば、有機保護層は、テトラアクリレートオリゴマーとエポキシノボラックアクリレートとの重量割合の合計を１００重量％とする時、６０〜７０重量％のテトラアクリレートオリゴマー及び３０〜４０重量％のエポキシノボラックアクリレートからなる混合物と、この混合物の合計量に対して、４重量％の１αヒドロケシケトンと、２〜８重量％のポリエーテル変性シリコン高分子とからなる紫外線硬化樹脂を硬化させたものであるので、ヘッドクラッシュがなく、良好な潤滑性を有する光磁気記録媒体を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施形態の光磁気記録媒体を示す断面図である。
【図２】摩擦力のエポキシノボラックアクリレートとテトラアクリレートオリゴマーとの重量割合依存性を示す図である。
【図３】ポリエーテル変性シリコン高分子の添加量と摩擦力との関係を示す図である。
【符号の説明】
１…光磁気記録媒体、２…透明基板、３…無機エハンス層、４…光磁気記録層、５…無機保護層、６…有機保護層
【図１】
0003604031.tif 000004
【図２】
0003604031.tif 000005
【図３】
0003604031.tif 000006