【手続補正書】
【提出日】平成29年3月30日(2017.3.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
レーザービームで基板表面を走査するレーザー走査システムであって、
前記基板、
レーザービームを生成するレーザー源、
前記基板を支持する基板支持台、
前記レーザービームを選択的に再導光するプログラム可能な光学系を含む走査モジュール、
前記走査モジュールを制御して前記レーザービームで前記基板表面を走査する制御モジュール、及び、
前記走査モジュールと前記基板との間の前記レーザービームのビーム路内のある位置で、前記基板へ向かう前記レーザービームの入射方向を制御するように構成される再導光ユニット、を有し、
前記基板は、レーザー取り外し層を介して製品層に取り付けられた担体層を有し、かつ、
前記レーザービームによる前記レーザー取り外し層の材料への照射が、該照射領域内での前記担体層からの前記製品層の取り外しを生じさせるのに有効となるように、前記レーザービームは構成され、
前記制御モジュール及び前記再導光ユニットは、前記基板上の所定の領域にわたって、該領域の各部分が複数の異なる入射方向からの前記レーザービームによって露光されるように、前記レーザービームを走査させるように構成される、
システム。
【請求項２】
請求項１に記載のシステムであって、
前記再導光ユニットが第１再導光素子と第２再導光素子を有し、
前記第１再導光素子は、前記第２再導光素子とは異なる方位をとり、
前記制御モジュールは、第１入射方向から前記基板の前記領域の各部を露光するため、前記第１再導光素子を介して前記領域にわたってレーザービームを走査させるように構成され、かつ、前記第１入射方向とは異なる第２入射方向から前記基板の前記領域の各部を露光するため、前記第２再導光素子を介して前記領域にわたってレーザービームを走査させるように構成される、
システム。
【請求項３】
請求項２に記載のシステムであって、前記第１再導光素子と前記第２再導光素子が平坦な反射面を有する、システム。
【請求項４】
請求項３に記載のシステムであって、前記基板支持台の表面に対して平行な、前記第１再導光素子の反射面の法線の成分が、前記基板支持台の表面に対して平行な、前記第２再導光素子の反射面の法線の成分と１８０°ではない角をなす、システム。
【請求項５】
請求項１乃至４のいずれか一項に記載のシステムであって、
前記再導光ユニットが、第１位置と第２位置との間で移動可能な再導光素子を有し、
前記再導光素子は、前記第１位置と前記第２位置とで異なる方位をとり、かつ、
前記制御モジュールは、第１入射方向から前記基板の前記領域の各部を露光するため、前記第１位置において前記再導光素子を介して前記領域にわたってレーザービームを走査させるように構成され、かつ、前記第１入射方向とは異なる第２入射方向から前記基板の前記領域の各部を露光するため、前記第２位置において前記再導光素子を介して前記領域にわたってレーザービームを走査させるように構成される、
システム。
【請求項６】
請求項２乃至４のいずれか一項に記載のシステムであって、反射、屈折、又は回折によって前記レーザービームの伝播方向を変化させるように構成される、システム。
【請求項７】
請求項１乃至６のいずれか一項に記載のシステムであって、
前記基板支持台が、前記レーザービームの走査中に前記基板を移動させるように構成され、
前記制御モジュールは、前記基板が第１移動方向に移動されているときに第１入射方向から前記基板の前記領域の各部を露光し、かつ、後続の期間では、前記基板が前記第１移動方向とは異なる第２移動方向に移動されているときに前記第１入射方向とは異なる第２入射方向から前記基板の前記領域の各部を露光するように構成される、
システム。
【請求項８】
請求項１乃至７のいずれか一項に記載のシステムであって、
前記基板支持台が、前記レーザービームの走査中に前記基板を移動させるように構成され、
前記制御モジュールは、前記基板が単一の移動方向にのみ移動する期間中に、複数の異なる方向から前記領域の各部を露光するように構成される、
システム。
【請求項９】
請求項８に記載のシステムであって、前記制御モジュールが、前記基板が前記単一の移動方向に移動する間、前記単一の移動方向に対して各々が斜めとなる２つの異なる方向に、前記レーザー源に対して直線的に前記レーザービームを走査させるように構成される、
システム。
【請求項１０】
請求項１乃至９のいずれか一項に記載のシステムであって、前記レーザー源が、ダイオードによりポンピングされる固体レーザーモジュールを含む、システム。
【請求項１１】
請求項１乃至１０のいずれか一項に記載のシステムであって、前記レーザービームの波長がＵＶ帯域内である、システム。
【請求項１２】
請求項１乃至１１のいずれか一項に記載のシステムであって：
前記レーザービームの偏光を選択的に変化させるプログラム可能な偏光子をさらに有し、
前記制御モジュールは、前記偏光子に、前記基板への前記レーザービームの入射方向によって前記レーザービームの偏光を変化させるように構成される、
システム。
【請求項１３】
請求項１２に記載のシステムであって、
前記制御モジュールが前記レーザービームを第１入射方向及び第２入射方向から前記領域の一部分へ導光するように構成される場合において、前記制御モジュールは、前記レーザービームが前記第１入射方向から前記一部分へ導光されるときに前記基板によって支持される界面からの前記レーザービームの反射が、前記レーザービームが同一の偏光で前記第２入射方向から前記一部分へ導光されたときの反射よりも小さくなるように、前記偏光子に、前記レーザービームの偏光を変化させるように構成される、
システム。
【請求項１４】
請求項１２又は１３に記載のシステムであって、
前記制御モジュールが前記レーザービームを第１入射方向及び第２入射方向から前記領域の一部分へ導光するように構成される場合において、前記制御モジュールは、前記レーザービームが前記第２入射方向から前記一部分へ導光されるときに前記基板によって支持される界面からの前記レーザービームの反射が、前記レーザービームが同一の偏光で前記第１入射方向から前記一部分へ導光されたときの反射よりも小さくなるように、前記偏光子に、前記レーザービームの偏光を変化させるように構成される、
システム。
【請求項１５】
請求項１２乃至１４のいずれか一項に記載のシステムであって、前記制御モジュールは、前記レーザービームが前記基板へ入射するときの前記レーザービームの電場成分が、前記レーザービームの伝播方向及び前記基板の表面の法線と実質的に同一平面をなすように、前記偏光子に、前記レーザービームを偏光させるように構成される、システム。
【請求項１６】
請求項１乃至１５のいずれか一項に記載のシステムであって、前記レーザービームの断面強度プロファイルを均一化するビームホモジナイザをさらに有する、システム。
【請求項１７】
請求項１乃至１６のいずれか一項に記載のシステムであって、前記基板へ入射する前記レーザービームの入射方向が、前記基板へ入射する前記レーザービームの他の入射方向のうちの前記基板表面に平行な成分に対して平行又は反平行となる前記基板表面に平行な成分を有しない、ように前記再導光ユニットが構成される、システム。
【請求項１８】
レーザービームで基板表面を走査する方法であって、
レーザー源を用いてレーザービームを生成する段階、
走査モジュールを用いて前記基板表面にわたって前記レーザービームを走査させる段階であって、前記基板が、レーザー取り外し層を介して製品層に取り付けられた担体層を有し、かつ、前記レーザービームによる前記レーザー取り外し層の材料への照射が、該照射領域内での前記担体層からの前記製品層の取り外しを生じさせるのに有効となるように、前記レーザービームは構成される、段階、
前記走査モジュールと前記基板との間の前記レーザービームのビーム路内のある位置で再導光ユニットを用いて、前記基板へ向かう前記レーザービームの入射方向を制御する段階であって、前記基板上の所定の領域にわたって、該領域の各部分が複数の異なる入射方向からの前記レーザービームによって露光されるように、前記レーザービームが走査される段階、
を有する方法。
【請求項１９】
請求項１８に記載の方法であって、
前記再導光ユニットは第１再導光素子と第２再導光素子を有し、
前記第１再導光素子は、前記第２再導光素子とは異なる方位をとり、かつ、
前記レーザービームは、第１入射方向から前記基板の前記領域の各部を露光するため、前記第１再導光素子を介して前記領域にわたって走査され、かつ、前記第１入射方向とは異なる第２入射方向から前記基板の前記領域の各部を露光するため、前記第２再導光素子を介して前記領域にわたって走査される、
方法。
【請求項２０】
請求項１８又は１９に記載の方法であって、前記レーザー源が、ダイオードによりポンピングされる固体レーザーモジュールを含む、方法。
【請求項２１】
請求項１８乃至２０のいずれか一項に記載の方法であって、前記レーザービームの波長がＵＶ帯域内である、方法。
【請求項２２】
請求項１８乃至２１のいずれか一項に記載の方法であって、前記レーザービームの偏光が、前記基板への前記レーザービームの入射方向に応じて制御される、方法。
【請求項２３】
請求項２２に記載の方法であって、
前記再導光ユニットが第１再導光素子と第２再導光素子を有し、
前記第１再導光素子は、前記第２再導光素子とは異なる方位をとり、かつ、
前記レーザービームが前記第１再導光素子を介して前記基板へ導光されるのか、又は、前記第２再導光素子を介して前記基板へ導光されるのかに応じて、前記レーザービームの偏光が制御される、
方法。
【請求項２４】
請求項１８乃至２３のいずれか一項に記載の方法であって、前記基板へ入射する前記レーザービームの電場成分が、前記レーザービームの伝播方向及び前記基板の表面の法線と実質的に同一平面をなすように、前記レーザービームの偏光が制御される、方法。
【請求項２５】
請求項１８乃至２４のいずれか一項に記載の方法であって、前記レーザービームが、前記基板又は前記基板によって支持される界面へ、前記基板の表面又は前記基板によって支持される前記界面のブルースター角の２５°以内の角度で導光される、方法。
【請求項２６】
請求項１８乃至２５のいずれか一項に記載の方法であって、前記複数の異なる入射方向が、前記基板の表面の法線から見て、互いに０°でも１８０°でもない角度をなす、方法。
【請求項２７】
請求項１８乃至２６のいずれか一項に記載の方法であって、前記レーザービームが前記基板に到達する前に、前記レーザービームの断面強度プロファイルが均一化される、方法。