(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記一般式（１Ａ）で表されるオルガノシロキサン化合物。
【化１】
0006988988.tif 000160
（式中、Ａは−ＣＨ3、−Ｃ（＝Ｏ）ＯＲ1、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ12、−Ｃ（＝Ｏ）ＳＲ1、及び−Ｐ（＝Ｏ）（ＯＲ1）2のいずれかであり、Ｒ1は水素原子、炭素数１〜３０のアルキル基、炭素数６〜３０のアリール基又は炭素数７〜３０のアラルキル基であり、Ｙ1は独立に−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＲ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ−、−ＯＣ（＝Ｏ）ＮＲ−（Ｒは炭素数１〜４のアルキル基又はフェニル基である）、シルアルキレン基、及びシルアリーレン基から選ばれる２価の基を含んでいてもよく、また炭素数６〜２０のアリーレン基を含んでいてもよい炭素数２〜３０のアルキレン基であり、Ｗは独立に炭素数１〜４のアルキル基、フェニル基、水酸基、炭素数１〜１０のアルコキシ基、炭素数２〜１０のアルコキシ置換アルコキシ基、炭素数１〜１０のアシロキシ基、炭素数２〜１０のアルケニルオキシ基、ハロゲン原子、オキシム基、イソシアネート基、及びシアネート基からなる群より選ばれる基であり、Ｒは独立に炭素数１〜４のアルキル基又はフェニル基であり、Ｘは独立に水酸基、炭素数１〜１０のアルコキシ基、炭素数２〜１０のアルコキシ置換アルコキシ基、炭素数１〜１０のアシロキシ基、炭素数２〜１０のアルケニルオキシ基、ハロゲン原子、オキシム基、イソシアネート基、及びシアネート基からなる群より選ばれる基であり、ｎは１〜３の整数である。）
【請求項２】
下記一般式（１Ｂ）で表されるオルガノシロキサン化合物。
【化２】
0006988988.tif 000161
（式中、Ａは−ＣＨ3、−Ｃ（＝Ｏ）ＯＲ1、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ12、−Ｃ（＝Ｏ）ＳＲ1、及び−Ｐ（＝Ｏ）（ＯＲ1）2のいずれかであり、Ｒ1は水素原子、炭素数１〜３０のアルキル基、炭素数６〜３０のアリール基又は炭素数７〜３０のアラルキル基であり、Ｙ2は独立に−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＲ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ−、−ＯＣ（＝Ｏ）ＮＲ−（Ｒは炭素数１〜４のアルキル基又はフェニル基である）、シルアルキレン基、シルアリーレン基、及びケイ素原子数２〜１０個の直鎖状、分岐状又は環状の２価のオルガノポリシロキサン残基から選ばれる２価の基を含んでいてもよく、また炭素数６〜２０のアリーレン基を含んでいてもよい炭素数２〜３０のアルキレン基であり、Ｗは独立に炭素数１〜４のアルキル基、フェニル基、水酸基、炭素数１〜１０のアルコキシ基、炭素数２〜１０のアルコキシ置換アルコキシ基、炭素数１〜１０のアシロキシ基、炭素数２〜１０のアルケニルオキシ基、ハロゲン原子、オキシム基、イソシアネート基、及びシアネート基からなる群より選ばれる基であり、Ｒは独立に炭素数１〜４のアルキル基又はフェニル基であり、Ｘは独立に水酸基、炭素数１〜１０のアルコキシ基、炭素数２〜１０のアルコキシ置換アルコキシ基、炭素数１〜１０のアシロキシ基、炭素数２〜１０のアルケニルオキシ基、ハロゲン原子、オキシム基、イソシアネート基、及びシアネート基からなる群より選ばれる基であり、ｎは１〜３の整数であり、ｑは２又は３である。）
【請求項３】
下記一般式（２）で表されるものである請求項２に記載のオルガノシロキサン化合物。
【化３】
0006988988.tif 000162
（式中、Ｒ2は炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数６〜２０のアリール基又は炭素数７〜２０のアラルキル基であり、Ｑは単結合、又はシルアルキレン基、シルアリーレン基、及びケイ素原子数２〜１０個の直鎖状、分岐状もしくは環状の２価のオルガノポリシロキサン残基から選ばれる２価の基であり、ｍはそれぞれ独立に１〜２０の整数であり、Ｘは独立に水酸基、炭素数１〜１０のアルコキシ基、炭素数２〜１０のアルコキシ置換アルコキシ基、炭素数１〜１０のアシロキシ基、炭素数２〜１０のアルケニルオキシ基、ハロゲン原子、オキシム基、イソシアネート基、及びシアネート基からなる群より選ばれる基である。）
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか１項に記載のオルガノシロキサン化合物を含有する表面処理剤。
【請求項５】
オレイン酸接触角が１０°以下の耐摩耗性硬化被膜を与えるものである請求項４に記載の表面処理剤。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、分子中に水酸基又は加水分解性基と親油性基とを含有するオルガノシロキサン化合物等に関する。詳細には、親油性、耐摩耗性に優れた被膜を形成する親油性基を含有する（加水分解性）オルガノシロキサン化合物、及び該化合物を含有する表面処理剤に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、携帯電話をはじめ、ディスプレイのタッチパネル化が加速している。これらは指で触れて操作をするため、指紋等の汚れが付着し見苦しいことが問題となっている。そこで、外観や視認性を良くするためにディスプレイの表面に指紋を付きにくくする技術や、指紋を目立たなくする技術の要求が年々高まってきており、これらの要求に応えることのできる材料の開発が望まれている。【０００３】
一般に、ガラスや布などの基材の表面改質剤として、シランカップリング剤が良く知られており、各種基材表面のコーティング剤として幅広く利用されている。シランカップリング剤は、１分子中に有機官能基と反応性シリル基（一般にはアルコキシシリル基等の加水分解性シリル基）を有し、この加水分解性シリル基が、空気中の水分などによって自己縮合反応を起こして被膜を形成する。該被膜は、加水分解性シリル基がガラスや金属などの表面と化学的・物理的に結合することにより耐久性を有する強固な被膜となる。【０００４】
そこで、フルオロポリエーテル基含有化合物に加水分解性シリル基を導入したフルオロポリエーテル基含有ポリマーを用いることによって、基材表面に、撥水撥油性、防汚性等を有する被膜を形成しうる組成物が数多く開示されている（特許文献１〜６：特表２００８−５３４６９６号公報、特表２００８−５３７５５７号公報、特開２０１２−０７２２７２号公報、特開２０１２−１５７８５６号公報、特開２０１３−１３６８３３号公報、特開２０１５−１９９９０６号公報）。【０００５】
しかし、従来のフルオロポリエーテル基含有ポリマーを用いて作製した被膜層は、その高い撥水撥油性から汚れ拭取り性に優れるものの、指紋に含有する皮脂が表面に弾かれることで微小な油滴を形成し、光が散乱するために指紋が目立ちやすいという問題点があった。【０００６】
また、親油性化合物に加水分解性シリル基を導入したシラン化合物を用いることによって、基材表面に密着し、且つ基材表面に、親油性を有する被膜を形成しうる組成物も開示されている。（特許文献７：特開２００１−３５３８０８号公報）【０００７】
しかし、特許文献７に記載のシラン化合物は、指紋が見えづらくなるまでに数日の時間を要するため、実用上満足できる指紋低視認性を有するものではない。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特表２００８−５３４６９６号公報
【特許文献２】特表２００８−５３７５５７号公報
【特許文献３】特開２０１２−０７２２７２号公報
【特許文献４】特開２０１２−１５７８５６号公報
【特許文献５】特開２０１３−１３６８３３号公報
【特許文献６】特開２０１５−１９９９０６号公報
【特許文献７】特開２００１−３５３８０８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
本発明は、上記事情に鑑みなされたもので、親油性、耐摩耗性に優れた硬化被膜を形成し得る親油性基を含有する（加水分解性）オルガノシロキサン化合物、及び該化合物を含有する表面処理剤を提供することを目的とする。【００１０】
本発明者らは、上記目的を解決すべく、親油性化合物に加水分解性シリル基を導入したシラン化合物を用いることによって、基材表面に密着し、且つ基材表面に、親油性を有する被膜を形成しうる表面処理剤を提案している（特願２０１７−２０６９８６号）。しかし、このシラン化合物は、皮脂の屈折率約１．５に近い屈折率を有する硬化被膜を形成するために指紋の低視認性を十分発揮できるが、使用に伴う摩耗により指紋低視認性が低下してしまうことがあった。
そこで、本発明者らは、更なる検討を行った結果、上記親油性基を含有する（加水分解性）オルガノシロキサン化合物において、後述する一般式（１）で表されるように、途中の連結部位のＳｉ原子から、シロキサン結合を介して、好ましくは分岐した複数のＳｉ原子を経由して末端に複数の加水分解性シリル基を有する（加水分解性）オルガノシロキサン化合物を用いることにより、該（加水分解性）オルガノシロキサン化合物が、親油性、耐摩耗性に優れた硬化被膜を形成し得ることを見出し、本発明をなすに至った。【００１１】
従って、本発明は、下記のオルガノシロキサン化合物及び表面処理剤を提供する。
〔１〕
下記一般式（１Ａ）で表されるオルガノシロキサン化合物。
【化１】
0006988988.tif 000002
（式中、Ａは−ＣＨ3、−Ｃ（＝Ｏ）ＯＲ1、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ12、−Ｃ（＝Ｏ）ＳＲ1、及び−Ｐ（＝Ｏ）（ＯＲ1）2のいずれかであり、Ｒ1は水素原子、炭素数１〜３０のアルキル基、炭素数６〜３０のアリール基又は炭素数７〜３０のアラルキル基であり、Ｙ1は独立に−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＲ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ−、−ＯＣ（＝Ｏ）ＮＲ−（Ｒは炭素数１〜４のアルキル基又はフェニル基である）、シルアルキレン基、及びシルアリーレン基から選ばれる２価の基を含んでいてもよく、また炭素数６〜２０のアリーレン基を含んでいてもよい炭素数２〜３０のアルキレン基であり、Ｗは独立に炭素数１〜４のアルキル基、フェニル基、水酸基、炭素数１〜１０のアルコキシ基、炭素数２〜１０のアルコキシ置換アルコキシ基、炭素数１〜１０のアシロキシ基、炭素数２〜１０のアルケニルオキシ基、ハロゲン原子、オキシム基、イソシアネート基、及びシアネート基からなる群より選ばれる基であり、Ｒは独立に炭素数１〜４のアルキル基又はフェニル基であり、Ｘは独立に水酸基、炭素数１〜１０のアルコキシ基、炭素数２〜１０のアルコキシ置換アルコキシ基、炭素数１〜１０のアシロキシ基、炭素数２〜１０のアルケニルオキシ基、ハロゲン原子、オキシム基、イソシアネート基、及びシアネート基からなる群より選ばれる基であり、ｎは１〜３の整数である。）
〔２〕
下記一般式（１Ｂ）で表されるオルガノシロキサン化合物。
【化１５７】
0006988988.tif 000003
（式中、Ａは−ＣＨ3、−Ｃ（＝Ｏ）ＯＲ1、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ12、−Ｃ（＝Ｏ）ＳＲ1、及び−Ｐ（＝Ｏ）（ＯＲ1）2のいずれかであり、Ｒ1は水素原子、炭素数１〜３０のアルキル基、炭素数６〜３０のアリール基又は炭素数７〜３０のアラルキル基であり、Ｙ2は独立に−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＲ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ−、−ＯＣ（＝Ｏ）ＮＲ−（Ｒは炭素数１〜４のアルキル基又はフェニル基である）、シルアルキレン基、シルアリーレン基、及びケイ素原子数２〜１０個の直鎖状、分岐状又は環状の２価のオルガノポリシロキサン残基から選ばれる２価の基を含んでいてもよく、また炭素数６〜２０のアリーレン基を含んでいてもよい炭素数２〜３０のアルキレン基であり、Ｗは独立に炭素数１〜４のアルキル基、フェニル基、水酸基、炭素数１〜１０のアルコキシ基、炭素数２〜１０のアルコキシ置換アルコキシ基、炭素数１〜１０のアシロキシ基、炭素数２〜１０のアルケニルオキシ基、ハロゲン原子、オキシム基、イソシアネート基、及びシアネート基からなる群より選ばれる基であり、Ｒは独立に炭素数１〜４のアルキル基又はフェニル基であり、Ｘは独立に水酸基、炭素数１〜１０のアルコキシ基、炭素数２〜１０のアルコキシ置換アルコキシ基、炭素数１〜１０のアシロキシ基、炭素数２〜１０のアルケニルオキシ基、ハロゲン原子、オキシム基、イソシアネート基、及びシアネート基からなる群より選ばれる基であり、ｎは１〜３の整数であり、ｑは２又は３である。）
〔３〕
下記一般式（２）で表されるものである〔２〕に記載のオルガノシロキサン化合物。
【化２】
0006988988.tif 000004
（式中、Ｒ2は炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数６〜２０のアリール基又は炭素数７〜２０のアラルキル基であり、Ｑは単結合、又はシルアルキレン基、シルアリーレン基、及びケイ素原子数２〜１０個の直鎖状、分岐状もしくは環状の２価のオルガノポリシロキサン残基から選ばれる２価の基であり、ｍはそれぞれ独立に１〜２０の整数であり、Ｘは独立に水酸基、炭素数１〜１０のアルコキシ基、炭素数２〜１０のアルコキシ置換アルコキシ基、炭素数１〜１０のアシロキシ基、炭素数２〜１０のアルケニルオキシ基、ハロゲン原子、オキシム基、イソシアネート基、及びシアネート基からなる群より選ばれる基である。）
〔４〕
〔１〕〜〔３〕のいずれかに記載のオルガノシロキサン化合物を含有する表面処理剤。
〔５〕
オレイン酸接触角が１０°以下の耐摩耗性硬化被膜を与えるものである〔４〕に記載の表面処理剤。
【発明の効果】
【００１２】
本発明の親油性基を含有する（加水分解性）オルガノシロキサン化合物は、分子内に親油性の末端基を有することで、皮脂が付着した際に皮脂を基材上に濡れ広げることができる。また、該オルガノシロキサン化合物は、分子内に柔軟なシロキサン骨格を含有することで、摩擦が低減される。更に、該オルガノシロキサン化合物は、シラノール基あるいは加水分解性シリル基を複数含有することで、ガラスや金属などの表面と強く結合する。よって、該（加水分解性）オルガノシロキサン化合物は、指紋低視認性、耐摩耗性に優れた硬化被膜を形成し得る。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
本発明の分子内に親油性基を含有する（加水分解性）オルガノシロキサン化合物は、下記一般式（１）で表されるものであり、混合物でもよい。
【化３】
0006988988.tif 000005
（式中、Ａは−ＣＨ3、−Ｃ（＝Ｏ）ＯＲ1、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ12、−Ｃ（＝Ｏ）ＳＲ1、及び−Ｐ（＝Ｏ）（ＯＲ1）2のいずれかであり、Ｒ1は水素原子、炭素数１〜３０のアルキル基、炭素数６〜３０のアリール基又は炭素数７〜３０のアラルキル基であり、Ｙは独立に２価の有機基であり、Ｗは独立に炭素数１〜４のアルキル基、フェニル基、水酸基又は加水分解性基であり、Ｒは独立に炭素数１〜４のアルキル基又はフェニル基であり、Ｘは独立に水酸基又は加水分解性基であり、ｎは１〜３の整数であり、ｑは１〜３の整数である。）
【００１４】
本発明の親油性基含有（加水分解性）オルガノシロキサン化合物は、親油性末端基と、シロキサン骨格と、好ましくは複数（即ち２個以上）、より好ましくは２〜９個、更に好ましくは３〜９個のシラノール基、あるいは１個以上、好ましくは２個又は３個、より好ましくは３個の加水分解性シリル基（即ち、それぞれ独立に１〜３個、好ましくは２個又は３個の加水分解性基を有するシリル基）とを有し、親油性、耐摩耗性に優れることを特徴としている。
【００１５】
上記式（１）において、Ａは−ＣＨ3、−Ｃ（＝Ｏ）ＯＲ1で示されるエステル又はカルボン酸、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ12で示されるアミド、−Ｃ（＝Ｏ）ＳＲ1で示されるチオエステル又はチオ酸、及び−Ｐ（＝Ｏ）（ＯＲ1）2で示されるホスホン酸エステル又はホスホン酸のいずれかであり、本発明における親油性末端基である。
【００１６】
ここで、Ｒ1は水素原子、炭素数１〜３０のアルキル基、炭素数６〜３０のアリール基又は炭素数７〜３０のアラルキル基であり、アルキル基としては、直鎖状、分岐状、環状のいずれでもよく、またこれらの組み合わせでもよい。好ましくは炭素数１〜８の直鎖状のアルキル基であり、より好ましくは炭素数２〜４の直鎖状のアルキル基である。
Ｒ1として、具体的には、水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ドデシル基、テトラデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、イソプロピル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ネオペンチル基、テキシル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロヘキシルメチル基、ノルボルニル基、デカヒドロナフチル基、アダマンチル基、アダマンチルメチル基等のアルキル基、フェニル基、トリル基、ナフチル基等のアリール基、ベンジル基、フェニルエチル基、フェニルプロピル基等のアラルキル基などが挙げられる。Ｒ1として、好ましくはエチル基、オクチル基である。
【００１７】
−ＣＨ3以外のＡとしては、例えば、下記に示すものを例示することができる。
【化４】
0006988988.tif 000006
【化５】
0006988988.tif 000007
【００１８】
上記式（１）において、Ｗは互いに異なっていてよい炭素数１〜４のアルキル基、フェニル基、水酸基又は加水分解性基である。このようなＷとしては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等のアルキル基、フェニル基、水酸基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基などの炭素数１〜１０のアルコキシ基、メトキシメトキシ基、メトキシエトキシ基などの炭素数２〜１０のアルコキシ置換アルコキシ基、アセトキシ基などの炭素数１〜１０のアシロキシ基、イソプロペノキシ基などの炭素数２〜１０のアルケニルオキシ基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などのハロゲン原子、オキシム基、イソシアネート基、シアネート基などが挙げられる。中でもメトキシ基、エトキシ基、イソプロペノキシ基、塩素原子が好適である。
【００１９】
上記式（１）において、Ｘは互いに異なっていてよい水酸基又は加水分解性基である。このようなＸとしては、水酸基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基などの炭素数１〜１０のアルコキシ基、メトキシメトキシ基、メトキシエトキシ基などの炭素数２〜１０のアルコキシ置換アルコキシ基、アセトキシ基などの炭素数１〜１０のアシロキシ基、イソプロペノキシ基などの炭素数２〜１０のアルケニルオキシ基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などのハロゲン原子、オキシム基、イソシアネート基、シアネート基などが挙げられる。中でもメトキシ基、エトキシ基、イソプロペノキシ基、塩素原子が好適である。
【００２０】
上記式（１）において、Ｒは、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基等の炭素数１〜４のアルキル基、又はフェニル基であり、中でもメチル基が好適である。
【００２１】
上記式（１）において、Ｙは２価の有機基で、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＲ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ−、−ＯＣ（＝Ｏ）ＮＲ−（Ｒは上記と同じ）、シルアルキレン基、シルアリーレン基、及びケイ素原子数２〜１０個の直鎖状、分岐状又は環状の２価のオルガノポリシロキサン残基から選ばれる２価の基を含んでいてもよく、また炭素数６〜２０のアリーレン基を含んでいてもよい炭素数２〜３０、特に炭素数２〜２０のアルキレン基であることが好ましく、より好ましくは下記式（３）で表される２価の基である。
【化６】
0006988988.tif 000008
【００２２】
上記式（３）において、Ｒ3は独立に２価の炭化水素基であり、具体的には、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ヘキサメチレン基等の炭素数１〜３０のアルキレン基、フェニレン基等の炭素数６〜２０のアリーレン基を含む炭素数７〜３０のアルキレン基が挙げられ、好ましくは炭素数２〜２０のアルキレン基である。
【００２３】
上記式（３）において、Ｚは単結合、又は−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＲ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ−、−ＯＣ（＝Ｏ）ＮＲ−、シルアルキレン基、シルアリーレン基、及びケイ素原子数２〜１０個、好ましくは２〜５個の直鎖状、分岐状もしくは環状の２価のオルガノポリシロキサン残基から選ばれる２価の基であり、Ｒは上記と同じである。
【００２４】
ここで、シルアルキレン基、シルアリーレン基としては、下記に示すものが例示できる。
【化７】
0006988988.tif 000009
（式中、Ｒ4はメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等の炭素数１〜４のアルキル基、フェニル基等の炭素数６〜１０のアリール基であり、Ｒ4は同一でも異なっていてもよい。Ｒ5は、メチレン基、エチレン基、プロピレン基（トリメチレン基、メチルエチレン基）、ブチレン基（テトラメチレン基、メチルプロピレン基）、ペンチレン基（ペンタメチレン基）、ヘキシレン基（ヘキサメチレン基）、ヘプチレン基（ヘプタメチレン基）、オクチレン基（オクタメチレン基、エチルへキシレン基）、デカメチレン基、ウンデカメチレン基、ドデカメチレン基等の炭素数１〜１２、好ましくは炭素数２〜８のアルキレン基、フェニレン基等の炭素数６〜１２のアリーレン基である。）
【００２５】
また、ケイ素原子数２〜１０個、好ましくは２〜５個の直鎖状、分岐状又は環状の２価のオルガノポリシロキサン残基としては、下記に示すものが例示できる。
【化８】
0006988988.tif 000010
（式中、Ｒ4は上記と同じである。ｇは１〜９、好ましくは１〜４の整数であり、ｈは１〜８、好ましくは１〜３の整数である。）
【００２６】
上記式（３）において、ａは０又は１である。
【００２７】
Ｙの具体例としては、例えば、下記の基が挙げられる。
【化９】
0006988988.tif 000011
【００２８】
【化１０】
0006988988.tif 000012
【００２９】
【化１１】
0006988988.tif 000013
【００３０】
【化１２】
0006988988.tif 000014
【００３１】
【化１３】
0006988988.tif 000015
【００３２】
上記式（１）において、ｎは１〜３の整数であり、ｑは１〜３の整数であり、好ましくは、ｎは２又は３、ｑは２又は３であり、より好ましくは、ｎは３、ｑは３である。
【００３３】
上記式（１）で表される親油性基含有（加水分解性）オルガノシロキサン化合物としては、下記式で表されるものが例示できる。
【化１４】
0006988988.tif 000016
【化１５】
0006988988.tif 000017
【化１６】
0006988988.tif 000018
【００３４】
【化１７】
0006988988.tif 000019
【化１８】
0006988988.tif 000020
【００３５】
【化１９】
0006988988.tif 000021
【化２０】
0006988988.tif 000022
【００３６】
【化２１】
0006988988.tif 000023
【００３７】
【化２２】
0006988988.tif 000024
【００３８】
【化２３】
0006988988.tif 000025
【００３９】
本発明の親油性基含有（加水分解性）オルガノシロキサン化合物として、更に好ましくは下記一般式（２）で表されるものである。
【化２４】
0006988988.tif 000026
（式中、Ｒ2は炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数６〜２０のアリール基又は炭素数７〜２０のアラルキル基であり、Ｑは単結合、又はシルアルキレン基、シルアリーレン基、及びケイ素原子数２〜１０個の直鎖状、分岐状もしくは環状の２価のオルガノポリシロキサン残基から選ばれる２価の基であり、ｍはそれぞれ独立に１〜２０、好ましくは２〜１０の整数であり、Ｘは上記と同じである。）
【００４０】
上記式（２）において、Ｒ2は炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数６〜２０のアリール基又は炭素数７〜２０のアラルキル基であり、好ましくは炭素数１〜８の直鎖状のアルキル基である。
Ｒ2として、具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ドデシル基、テトラデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、イソプロピル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ネオペンチル基、テキシル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロヘキシルメチル基、ノルボルニル基、デカヒドロナフチル基、アダマンチル基、アダマンチルメチル基等のアルキル基、フェニル基、トリル基、ナフチル基等のアリール基、ベンジル基、フェニルエチル基、フェニルプロピル基等のアラルキル基などが挙げられる。Ｒ2として、好ましくはメチル基、エチル基、ブチル基、オクチル基である。
【００４１】
上記式（２）において、Ｑは単結合、又はシルアルキレン基、シルアリーレン基、及びケイ素原子数２〜１０個、好ましくは２〜５個の直鎖状、分岐状もしくは環状の２価のオルガノポリシロキサン残基から選ばれる２価の基である。
【００４２】
ここで、シルアルキレン基、シルアリーレン基、ケイ素原子数２〜１０個、好ましくは２〜５個の直鎖状、分岐状もしくは環状の２価のオルガノポリシロキサン残基は、上述した式（３）のＺ中のシルアルキレン基、シルアリーレン基、もしくはケイ素原子数２〜１０個、好ましくは２〜５個の直鎖状、分岐状又は環状の２価のオルガノポリシロキサン残基として例示したものと同様のものが例示できる。
【００４３】
上記式（２）で表される親油性基含有（加水分解性）オルガノシロキサン化合物としては、下記式で表されるものが例示できる。
【化２５】
0006988988.tif 000027
【化２６】
0006988988.tif 000028
【化２７】
0006988988.tif 000029
【００４４】
上記式（１）で表される親油性基含有（加水分解性）オルガノシロキサン化合物、特にＲがメチル基である親油性基含有（加水分解性）オルガノシロキサン化合物の調製方法としては、例えば、下記のような方法が挙げられる。
分子鎖末端に上記式（１）におけるＡと複数のＳｉＨ基（ケイ素原子に結合した水素原子）とをそれぞれ有するシロキサン化合物（オルガノハイドロジェンシロキサン化合物）を４０〜１２０℃、好ましくは６０〜１００℃、より好ましくは約８０℃の温度で加熱撹拌し、ヒドロシリル化反応触媒、例えば塩化白金酸／ビニルシロキサン錯体のトルエン溶液を添加する。続いて分子鎖末端に加水分解性シリル基とオレフィン部位（例えば、アルケニル基）をそれぞれ有するシラン化合物を滴下し、４０〜１２０℃、好ましくは６０〜１００℃、より好ましくは約８０℃の温度で、１０分〜１２時間、好ましくは１〜６時間、より好ましくは約３時間熟成させる。また、反応を行う際、有機溶剤で希釈してもよい。
【００４５】
ここで、分子鎖末端に上記式（１）におけるＡと複数のＳｉＨ基とをそれぞれ有するシロキサン化合物（オルガノハイドロジェンシロキサン化合物）としては、下記一般式（４）で表されるシロキサン化合物が例示できる。
【化２８】
0006988988.tif 000030
（式中、Ａ、Ｙ、Ｗ、ｑは上記と同じである。）
【００４６】
式（４）で表されるシロキサン化合物として、具体的には、下記一般式（ａ）〜（ｊ）で表されるオルガノハイドロジェンシロキサン化合物が例示できる。
【化２９】
0006988988.tif 000031
【化３０】
0006988988.tif 000032
【化３１】
0006988988.tif 000033
【化３２】
0006988988.tif 000034
【化３３】
0006988988.tif 000035
【化３４】
0006988988.tif 000036
【化３５】
0006988988.tif 000037
【化３６】
0006988988.tif 000038
【化３７】
0006988988.tif 000039
【化３８】
0006988988.tif 000040
（式中、Ｒ2、Ｗ、ｍ、ｑは上記と同じである。ｍ’は２〜２０、好ましくは２〜１０の整数であり、Ｑ’はシルアルキレン基、シルアリーレン基、及びケイ素原子数２〜１０個の直鎖状、分岐状もしくは環状の２価のオルガノポリシロキサン残基から選ばれる２価の基である。）
【００４７】
式（ａ）で表されるオルガノハイドロジェンシロキサン化合物として、具体的には、下記に示すものが例示できる。
【化３９】
0006988988.tif 000041
【化４０】
0006988988.tif 000042
【００４８】
【化４１】
0006988988.tif 000043
【００４９】
式（ｂ）で表されるオルガノハイドロジェンシロキサン化合物として、具体的には、下記に示すものが例示できる。
【化４２】
0006988988.tif 000044
【００５０】
【化４３】
0006988988.tif 000045
【００５１】
【化４４】
0006988988.tif 000046
【００５２】
式（ｃ）で表されるオルガノハイドロジェンシロキサン化合物として、具体的には、下記に示すものが例示できる。
【化４５】
0006988988.tif 000047
【化４６】
0006988988.tif 000048
【００５３】
式（ｄ）で表されるオルガノハイドロジェンシロキサン化合物として、具体的には、下記に示すものが例示できる。
【化４７】
0006988988.tif 000049
【００５４】
【化４８】
0006988988.tif 000050
【００５５】
【化４９】
0006988988.tif 000051
【００５６】
式（ｅ）で表されるオルガノハイドロジェンシロキサン化合物として、具体的には、下記に示すものが例示できる。
【化５０】
0006988988.tif 000052
【化５１】
0006988988.tif 000053
【００５７】
式（ｆ）で表されるオルガノハイドロジェンシロキサン化合物として、具体的には、下記に示すものが例示できる。
【化５２】
0006988988.tif 000054
【００５８】
【化５３】
0006988988.tif 000055
【００５９】
【化５４】
0006988988.tif 000056
【００６０】
式（ｇ）で表されるオルガノハイドロジェンシロキサン化合物として、具体的には、下記に示すものが例示できる。
【化５５】
0006988988.tif 000057
【化５６】
0006988988.tif 000058
【００６１】
式（ｈ）で表されるオルガノハイドロジェンシロキサン化合物として、具体的には、下記に示すものが例示できる。
【化５７】
0006988988.tif 000059
【００６２】
【化５８】
0006988988.tif 000060
【００６３】
【化５９】
0006988988.tif 000061
【００６４】
式（ｉ）で表されるオルガノハイドロジェンシロキサン化合物として、具体的には、下記に示すものが例示できる。
【化６０】
0006988988.tif 000062
【００６５】
式（ｊ）で表されるオルガノハイドロジェンシロキサン化合物として、具体的には、下記に示すものが例示できる。
【化６１】
0006988988.tif 000063
【００６６】
【化６２】
0006988988.tif 000064
【００６７】
【化６３】
0006988988.tif 000065
【００６８】
上記式（４）、特に式（ａ）〜（ｊ）で表されるオルガノハイドロジェンシロキサン化合物の調製方法としては、分子鎖末端に上記式（１）におけるＡと加水分解性シリル基をそれぞれ有するシラン又はシロキサン化合物を−２０〜４０℃、好ましくは−１０〜２０℃、より好ましくは０〜１０℃の温度で撹拌し、テトラメチルジシロキサン（１，３−ジヒドロ−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン）等のテトラオルガノジシロキサン（１，３−ジヒドロ−１，１，３，３−テトラオルガノジシロキサン）及び共加水分解反応触媒、例えば塩酸又は硫酸を滴下し、−２０〜４０℃、好ましくは−１０〜２０℃、より好ましくは０〜１０℃の温度で、１０分〜１２時間、好ましくは１〜６時間熟成させる。また、反応を行う際、有機溶剤で希釈してもよい。
【００６９】
ここで、分子鎖末端に上記式（１）におけるＡと加水分解性シリル基をそれぞれ有するシラン又はシロキサン化合物としては、下記一般式（５）で表されるシラン又はシロキサン化合物が例示できる。
【化６４】
0006988988.tif 000066
（式中、Ａ、Ｙ、Ｗ、ｑは上記と同じである。）
【００７０】
式（５）で表されるシラン又はシロキサン化合物として、具体的には、下記に示すものが挙げられる。
【化６５】
0006988988.tif 000067
【００７１】
【化６６】
0006988988.tif 000068
【００７２】
【化６７】
0006988988.tif 000069
【００７３】
【化６８】
0006988988.tif 000070
【００７４】
【化６９】
0006988988.tif 000071
【００７５】
【化７０】
0006988988.tif 000072
【００７６】
【化７１】
0006988988.tif 000073
【００７７】
【化７２】
0006988988.tif 000074
【００７８】
【化７３】
0006988988.tif 000075
【００７９】
【化７４】
0006988988.tif 000076
【００８０】
【化７５】
0006988988.tif 000077
【００８１】
【化７６】
0006988988.tif 000078
【００８２】
【化７７】
0006988988.tif 000079
【００８３】
【化７８】
0006988988.tif 000080
【００８４】
【化７９】
0006988988.tif 000081
【００８５】
【化８０】
0006988988.tif 000082
【００８６】
【化８１】
0006988988.tif 000083
【００８７】
【化８２】
0006988988.tif 000084
【００８８】
【化８３】
0006988988.tif 000085
【００８９】
【化８４】
0006988988.tif 000086
【００９０】
【化８５】
0006988988.tif 000087
【００９１】
【化８６】
0006988988.tif 000088
【００９２】
【化８７】
0006988988.tif 000089
【００９３】
【化８８】
0006988988.tif 000090
【００９４】
【化８９】
0006988988.tif 000091
【００９５】
式（５）で表される分子鎖末端に上記式（１）におけるＡと加水分解性シリル基をそれぞれ有するシラン又はシロキサン化合物、特に式（５）において、Ｙがシルアルキレン基、シルアリーレン基、及びケイ素原子数２〜１０個の直鎖状、分岐状又は環状の２価のオルガノポリシロキサン残基から選ばれる２価の基を含むアルキレン基であるシラン又はシロキサン化合物の調製方法としては、分子鎖末端に２個のＳｉＨ基を有する化合物、例えば、１，４−ビス（ジメチルシリル）ベンゼンを４０〜１２０℃、好ましくは６０〜１００℃、より好ましくは約８０℃の温度で加熱撹拌し、ヒドロシリル化反応触媒、例えば塩化白金酸／ビニルシロキサン錯体のトルエン溶液を添加する。続いて分子鎖末端に上記式（１）におけるＡとオレフィン部位（例えば、アルケニル基）をそれぞれ有する化合物を、ゆっくり時間をかけて滴下し、４０〜１２０℃、好ましくは６０〜１００℃、より好ましくは約８０℃の温度で、１０分〜１２時間、好ましくは１〜６時間熟成させることにより、分子鎖末端に上記式（１）におけるＡと末端ＳｉＨ基をそれぞれ有するシラン又はシロキサン化合物を得ることができる。また、反応を行う際、有機溶剤で希釈してもよい。
続いて、上記で得られた分子鎖末端に上記式（１）におけるＡと末端ＳｉＨ基をそれぞれ有するシラン又はシロキサン化合物を４０〜１２０℃、好ましくは６０〜１００℃、より好ましくは約８０℃の温度で加熱撹拌し、ヒドロシリル化反応触媒、例えば塩化白金酸／ビニルシロキサン錯体のトルエン溶液を添加する。続いて分子鎖末端に加水分解性シリル基とオレフィン部位（例えば、アルケニル基）をそれぞれ有するシラン化合物を滴下し、４０〜１２０℃、好ましくは６０〜１００℃、より好ましくは約８０℃の温度で、１０分〜１２時間、好ましくは１〜６時間熟成させる。また、反応を行う際、有機溶剤で希釈してもよい。
【００９６】
ここで、分子鎖末端に２個のＳｉＨ基を有する化合物として、具体的には、下記に示すものが挙げられる。
【化９０】
0006988988.tif 000092
【００９７】
また、分子鎖末端に上記式（１）におけるＡとオレフィン部位をそれぞれ有する化合物として、具体的には、下記に示すものが挙げられる。
【化９１】
0006988988.tif 000093
【００９８】
【化９２】
0006988988.tif 000094
【００９９】
分子鎖末端に上記式（１）におけるＡとオレフィン部位をそれぞれ有する化合物の使用量は、分子鎖末端に２個のＳｉＨ基を有する化合物１当量に対して０．０５〜０．５当量、より好ましくは０．１〜０．４当量用いることができる。
【０１００】
上記式（５）で表されるシラン又はシロキサン化合物の調製において、ヒドロシリル化反応触媒としては、白金黒、塩化白金酸、塩化白金酸のアルコール変性物、塩化白金酸とオレフィン、アルデヒド、ビニルシロキサン、アセチレンアルコール類等との錯体等、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム、クロロトリス（トリフェニルホスフィン）ロジウム等の白金族金属系触媒が挙げられる。好ましくはビニルシロキサン配位化合物等の白金系化合物である。
【０１０１】
分子鎖末端に２個のＳｉＨ基を有する化合物と、分子鎖末端に上記式（１）におけるＡとオレフィン部位をそれぞれ有する化合物との反応に用いるヒドロシリル化反応触媒の使用量は、分子鎖末端に２個のＳｉＨ基を有する化合物と、分子鎖末端に上記式（１）におけるＡとオレフィン部位をそれぞれ有する化合物との合計質量に対して、遷移金属換算（質量）で０．１〜１００ｐｐｍ、より好ましくは０．２〜５０ｐｐｍとなる量で使用する。
【０１０２】
上記式（５）で表されるシラン又はシロキサン化合物の調製には、有機溶剤を用いてもよい。用いられる有機溶剤としては、エーテル系溶剤（ジブチルエーテル、ジエチルエーテル、テトラヒドロフランなど）、炭化水素系溶剤（石油ベンジン、トルエン、キシレンなど）を例示することができる。これらの中では特にトルエンが好ましい。
【０１０３】
分子鎖末端に２個のＳｉＨ基を有する化合物と、分子鎖末端に上記式（１）におけるＡとオレフィン部位をそれぞれ有する化合物との反応に用いる有機溶剤の使用量は、分子鎖末端に上記式（１）におけるＡとオレフィン部位をそれぞれ有する化合物１００質量部に対して、１０〜３００質量部、好ましくは５０〜１５０質量部、更に好ましくは約１００質量部用いることができる。
【０１０４】
続いて、反応を停止し、有機溶剤を留去することで、分子鎖末端に上記式（１）におけるＡと末端ＳｉＨ基をそれぞれ有するシラン又はシロキサン化合物が得られる。
【０１０５】
ここで、分子鎖末端に上記式（１）におけるＡと末端ＳｉＨ基をそれぞれ有するシラン又はシロキサン化合物として、具体的には、下記に示すものが例示できる。
【化９３】
0006988988.tif 000095
【０１０６】
上記式（５）で表されるシラン又はシロキサン化合物の調製において、分子鎖末端に加水分解性シリル基とオレフィン部位（例えば、アルケニル基）をそれぞれ有するシラン化合物として、具体的には、下記に示すものが例示できる。
【化９４】
0006988988.tif 000096
【０１０７】
分子鎖末端に加水分解性シリル基とオレフィン部位をそれぞれ有するシラン化合物の使用量は、上記で得られた分子鎖末端に上記式（１）におけるＡと末端ＳｉＨ基をそれぞれ有するシラン又はシロキサン化合物１当量に対して１〜５当量、より好ましくは１．１〜２．５当量用いることができる。
【０１０８】
上記式（５）で表されるシラン又はシロキサン化合物の調製において、上記で得られた分子鎖末端に上記式（１）におけるＡと末端ＳｉＨ基をそれぞれ有するシラン又はシロキサン化合物と、分子鎖末端に加水分解性シリル基とオレフィン部位をそれぞれ有するシラン化合物との反応に用いるヒドロシリル化反応触媒の使用量は、上記分子鎖末端に上記式（１）におけるＡと末端ＳｉＨ基をそれぞれ有するシラン又はシロキサン化合物と、分子鎖末端に加水分解性シリル基とオレフィン部位をそれぞれ有するシラン化合物との合計質量に対して、遷移金属換算（質量）で０．１〜１００ｐｐｍ、より好ましくは０．２〜５０ｐｐｍとなる量で使用する。
【０１０９】
上記式（５）で表されるシラン又はシロキサン化合物の調製において、上記で得られた分子鎖末端に上記式（１）におけるＡと末端ＳｉＨ基をそれぞれ有するシラン又はシロキサン化合物と、分子鎖末端に加水分解性シリル基とオレフィン部位をそれぞれ有するシラン化合物との反応に有機溶剤を用いる場合、有機溶剤の使用量は、上記で得られた分子鎖末端に上記式（１）におけるＡと末端ＳｉＨ基をそれぞれ有するシラン又はシロキサン化合物１００質量部に対して、１０〜３００質量部、好ましくは５０〜１５０質量部、更に好ましくは約１００質量部用いることができる。
【０１１０】
続いて、反応を停止し、有機溶剤及び未反応成分を留去することで、上記式（５）で表されるシラン又はシロキサン化合物、特に式（５）において、Ｙがシルアルキレン基、シルアリーレン基、及びケイ素原子数２〜１０個の直鎖状、分岐状又は環状の２価のオルガノポリシロキサン残基から選ばれる２価の基を含むアルキレン基であるシラン又はシロキサン化合物を得ることができる。
【０１１１】
また、式（５）で表される分子鎖末端に上記式（１）におけるＡと加水分解性シリル基をそれぞれ有するシラン又はシロキサン化合物、特に式（５）において、Ｙがアルキレン基であるシラン又はシロキサン化合物の調製方法としては、上述した分子鎖末端に上記式（１）におけるＡとオレフィン部位（例えば、アルケニル基）をそれぞれ有する化合物を４０〜１２０℃、好ましくは６０〜１００℃、より好ましくは約８０℃の温度で加熱撹拌し、ヒドロシリル化反応触媒、例えば塩化白金酸／ビニルシロキサン錯体のトルエン溶液を添加する。続いて分子鎖末端に加水分解性シリル基とＳｉＨ基をそれぞれ有するシラン化合物を、ゆっくり時間をかけて滴下し、４０〜１２０℃、好ましくは６０〜１００℃、より好ましくは約８０℃の温度で、１０分〜１２時間、好ましくは１〜６時間熟成させることにより、上記式（１）におけるＡと加水分解性シリル基をそれぞれ有するシラン又はシロキサン化合物、特に式（５）において、Ｙがアルキレン基であるシラン又はシロキサン化合物を得ることができる。また、反応を行う際、有機溶剤で希釈してもよい。
【０１１２】
ここで、分子鎖末端に加水分解性シリル基とＳｉＨ基をそれぞれ有するシラン化合物として、具体的には、下記に示すものが挙げられる。
【化９５】
0006988988.tif 000097
【０１１３】
分子鎖末端に上記式（１）におけるＡとオレフィン部位（例えば、アルケニル基）をそれぞれ有する化合物の使用量は、分子鎖末端に加水分解性シリル基とＳｉＨ基をそれぞれ有するシラン化合物１当量に対して０．２〜１当量、より好ましくは０．４〜０．８当量用いることができる。
【０１１４】
上記式（５）において、Ｙがアルキレン基であるシラン又はシロキサン化合物の調製において、ヒドロシリル化反応触媒としては上記と同様のものが例示でき、このヒドロシリル化反応触媒の使用量は、分子鎖末端に上記式（１）におけるＡとオレフィン部位をそれぞれ有する化合物と、分子鎖末端に加水分解性シリル基とＳｉＨ基をそれぞれ有するシラン化合物との合計質量に対して、遷移金属換算（質量）で０．１〜１００ｐｐｍ、より好ましくは０．２〜５０ｐｐｍとなる量で使用する。
【０１１５】
上記式（５）において、Ｙがアルキレン基であるシラン又はシロキサン化合物の調製において、有機溶剤を用いる場合、有機溶剤としては上記と同様のものが例示でき、この有機溶剤の使用量は、分子鎖末端に上記式（１）におけるＡとオレフィン部位をそれぞれ有する化合物１００質量部に対して、１０〜３００質量部、好ましくは５０〜１５０質量部、更に好ましくは約１００質量部用いることができる。
【０１１６】
上記式（４）、特に式（ａ）〜（ｊ）で表されるオルガノハイドロジェンシロキサン化合物の調製において、分子鎖末端に上記式（１）におけるＡと加水分解性シリル基をそれぞれ有するシラン又はシロキサン化合物の使用量は、テトラオルガノジシロキサン１当量に対して０．１〜０．６当量、より好ましくは０．２〜０．５当量用いることができる。
【０１１７】
上記式（４）、特に式（ａ）〜（ｊ）で表されるオルガノハイドロジェンシロキサン化合物の調製において、共加水分解反応触媒としては、有機錫化合物（ジブチル錫ジメトキシド、ジラウリン酸ジブチル錫など）、有機チタン化合物（テトラｎ−ブチルチタネートなど）、有機酸（酢酸、メタンスルホン酸など）、無機酸（塩酸、硫酸、リン酸など）が挙げられる。これらの中では、塩酸、硫酸が好ましい。
共加水分解反応触媒の使用量は、分子鎖末端に上記式（１）におけるＡと加水分解性シリル基をそれぞれ有するシラン又はシロキサン化合物１当量に対して、１〜１０当量、より好ましくは２〜８当量用いることができる。
【０１１８】
上記式（４）、特に式（ａ）〜（ｊ）で表されるオルガノハイドロジェンシロキサン化合物の調製には有機溶剤を用いてもよい。用いられる有機溶剤としては、エーテル系溶剤（ジブチルエーテル、ジエチルエーテル、テトラヒドロフランなど）、炭化水素系溶剤（石油ベンジン、トルエン、キシレンなど）、フッ素系溶剤（パーフルオロヘキサン、１，４−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼンなど）を例示することができる。これらの中では特にトルエン、１，４−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼンが好ましい。
有機溶剤の使用量は、分子鎖末端に上記式（１）におけるＡと加水分解性シリル基をそれぞれ有するシラン又はシロキサン化合物１００質量部に対して、１０〜３００質量部、好ましくは５０〜１５０質量部用いることができる。
【０１１９】
続いて、反応を停止し、有機溶剤を留去することで、上記式（４）、特に式（ａ）〜（ｊ）で表されるオルガノハイドロジェンシロキサン化合物が得られる。
【０１２０】
式（１）で表される親油性基含有（加水分解性）オルガノシロキサン化合物の調製において、分子鎖末端に加水分解性シリル基とオレフィン部位（例えば、アルケニル基）をそれぞれ有するシラン化合物として、具体的には、下記に示すものが例示できる。
【化９６】
0006988988.tif 000098
【０１２１】
分子鎖末端に加水分解性シリル基とオレフィン部位をそれぞれ有するシラン化合物の使用量は、上記分子鎖末端に上記式（１）におけるＡと複数のＳｉＨ基とをそれぞれ有するオルガノハイドロジェンシロキサン化合物１当量に対して３〜１０当量、より好ましくは３．５〜８当量用いることができる。
【０１２２】
上記式（１）で表される親油性基含有（加水分解性）オルガノシロキサン化合物の調製において、ヒドロシリル化反応触媒としては、白金黒、塩化白金酸、塩化白金酸のアルコール変性物、塩化白金酸とオレフィン、アルデヒド、ビニルシロキサン、アセチレンアルコール類等との錯体等、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム、クロロトリス（トリフェニルホスフィン）ロジウム等の白金族金属系触媒が挙げられる。好ましくはビニルシロキサン配位化合物等の白金系化合物である。
ヒドロシリル化反応触媒の使用量は、上記分子鎖末端に上記式（１）におけるＡと複数のＳｉＨ基とをそれぞれ有するオルガノハイドロジェンシロキサン化合物と分子鎖末端に加水分解性シリル基とオレフィン部位をそれぞれ有するシラン化合物の合計質量に対して、遷移金属換算（質量）で０．１〜１００ｐｐｍ、より好ましくは０．２〜５０ｐｐｍとなる量で使用する。
【０１２３】
上記式（１）で表される親油性基含有（加水分解性）オルガノシロキサン化合物の調製には有機溶剤を用いてもよい。用いられる有機溶剤としては、エーテル系溶剤（ジブチルエーテル、ジエチルエーテル、テトラヒドロフランなど）、炭化水素系溶剤（石油ベンジン、トルエン、キシレンなど）を例示することができる。これらの中では特にトルエンが好ましい。
有機溶剤を配合する場合、その使用量は、分子鎖末端に上記式（１）におけるＡと複数のＳｉＨ基とをそれぞれ有するオルガノハイドロジェンシロキサン化合物１００質量部に対して、１０〜３００質量部、好ましくは５０〜１５０質量部、更に好ましくは約１００質量部用いることができる。
【０１２４】
続いて、反応を停止し、有機溶剤及び未反応成分を留去することで、上記式（１）で表される親油性基含有（加水分解性）オルガノシロキサン化合物が得られる。
【０１２５】
例えば、分子鎖末端に上記式（１）におけるＡと複数のＳｉＨ基とをそれぞれ有するオルガノハイドロジェンシロキサン化合物として、下記式で表される化合物
【化９７】
0006988988.tif 000099
を使用し、分子鎖末端に加水分解性シリル基とオレフィン部位をそれぞれ有するシラン化合物として、下記式で表される化合物
【化９８】
0006988988.tif 000100
を使用した場合には、下記式で表されるシロキサン化合物が得られる。
【化９９】
0006988988.tif 000101
【０１２６】
以上のような反応で得られる一般式（１）で表される親油性基含有（加水分解性）オルガノシロキサン化合物は、濃縮、カラム精製、蒸留、抽出等の精製単離操作を行い、また反応溶液をそのまま一般式（１）で表される親油性基含有（加水分解性）オルガノシロキサン化合物を含む混合物として、あるいは有機溶剤等で更に希釈して使用することもできる。
【０１２７】
以上のようにして得られる本発明の親油性基含有（加水分解性）オルガノシロキサン化合物は、例えば、各種基材の表面保護のための表面処理剤として用いることで、基材表面に親油性、高い耐摩耗性を与えることができる。これによって、基材表面は指紋が目立ちづらくなり、更に実使用に伴う摩耗によって性能が低下しない。このため、本発明の親油性基含有（加水分解性）オルガノシロキサン化合物は、人体が触れて人脂、化粧品等により汚される可能性のある物品の表面に施与される塗装膜もしくは保護膜を形成するための表面処理剤として特に有用である。
【０１２８】
本発明は、更に上記親油性基含有（加水分解性）オルガノシロキサン化合物を含有する表面処理剤を提供する。該表面処理剤は、親油性基含有（加水分解性）オルガノシロキサン化合物を１種単独で用いても、２種以上を組み合わせて用いてもよく、また、該親油性基含有オルガノシロキサン化合物の水酸基を部分的に縮合させて得られる部分縮合物、又は該親油性基含有加水分解性オルガノシラン化合物の末端加水分解性基を予め公知の方法により部分的に加水分解した水酸基を縮合させて得られる部分加水分解縮合物を含んでいてもよい。
【０１２９】
該表面処理剤は、適当な溶剤を含んでもよい。このような溶剤としては、アルコール系溶剤（プロピレングリコールモノメチルエーテル、ブタノール、イソプロパノールなど）、エーテル系溶剤（ジブチルエーテル、ジエチルエーテル、テトラヒドロフランなど）、炭化水素系溶剤（石油ベンジン、トルエン、キシレンなど）、ケトン系溶剤（アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンなど）を例示することができる。これらの中では、溶解性、濡れ性などの点で、アルコール系溶剤、エーテル系溶剤が望ましく、特には、プロピレングリコールモノメチルエーテル、ジブチルエーテルが好ましい。
【０１３０】
上記溶剤は、その２種以上を混合してもよく、親油性基含有（加水分解性）オルガノシロキサン化合物及びその部分（加水分解）縮合物を均一に溶解させることが好ましい。なお、溶剤に溶解させる親油性基含有（加水分解性）オルガノシロキサン化合物及びその部分（加水分解）縮合物の最適濃度は、処理方法により異なり、秤量し易い量であればよいが、直接塗工する場合は、溶剤及び親油性基含有（加水分解性）オルガノシロキサン化合物（及びその部分（加水分解）縮合物）の合計１００質量部に対して０．０１〜１０質量部、特に０．０５〜５質量部であることが好ましく、蒸着処理をする場合は、溶剤及び親油性基含有（加水分解性）オルガノシロキサン化合物（及びその部分（加水分解）縮合物）の合計１００質量部に対して１〜１００質量部、特に３〜３０質量部であることが好ましく、ウェット処理する場合は、溶剤及び親油性基含有（加水分解性）オルガノシロキサン化合物（及びその部分（加水分解）縮合物）の合計１００質量部に対して０．０１〜１０質量部、特に０．０５〜１質量部であることが好ましい。
【０１３１】
表面処理剤には、加水分解縮合触媒、例えば、有機錫化合物（ジブチル錫ジメトキシド、ジラウリン酸ジブチル錫など）、有機チタン化合物（テトラｎ−ブチルチタネートなど）、有機酸（酢酸、メタンスルホン酸など）、無機酸（塩酸、硫酸、リン酸など）を添加してもよい。これらの中では、特に酢酸、テトラｎ−ブチルチタネート、ジラウリン酸ジブチル錫などが望ましい。
加水分解縮合触媒の添加量は、親油性基含有（加水分解性）オルガノシロキサン化合物及びその部分（加水分解）縮合物１００質量部に対して０．１〜１５０質量部、特に２５〜１２５質量部であることが好ましく、更に５０〜１１０質量部であることが好ましい。
【０１３２】
本発明の表面処理剤は、刷毛塗り、ディッピング、スプレー、蒸着処理、ウェット処理など公知の方法で基材に施与することができる。蒸着処理時の加熱方法は、抵抗加熱方式でも、電子ビーム加熱方式のどちらでもよく、特に限定されるものではない。また、硬化温度は、硬化方法によって異なるが、例えば、直接塗工（刷毛塗り、ディッピング、スプレー等）の場合は、２５〜２００℃、特に２５〜１５０℃にて１５分〜３６時間、特に３０分〜２４時間とすることが好ましい。加湿下（５０〜９０％ＲＨ）で硬化させてもよい。また、蒸着処理で施与する場合は、２０〜２００℃の範囲が望ましい。加湿下（５０〜９０％ＲＨ）で硬化させてもよい。更にウェット処理で施与する場合は、室温（２５℃±１０℃）にて１〜２４時間とすることが望ましいが、更に短時間で硬化させるために３０〜２００℃で１分〜１時間加熱してもよい。また、加湿下（５０〜９０％ＲＨ）で硬化させてもよい。
硬化被膜の膜厚は、基材の種類により適宜選定されるが、通常０．１〜１００ｎｍ、特に１〜２０ｎｍである。また、例えばスプレー塗工では予め水分を添加した溶剤に希釈し、加水分解、つまりＳｉ−ＯＨを生成させた後にスプレー塗工すると塗工後の硬化が速い。
【０１３３】
本発明の表面処理剤で処理される基材は特に制限されず、紙、布、金属及びその酸化物、ガラス、プラスチック、セラミック、石英など各種材質のものであってよい。本発明の表面処理剤は、前記基材に指紋低視認性、耐摩耗性に優れた硬化被膜を形成し得る。
【０１３４】
本発明の表面処理剤で処理される物品としては、カーナビゲーション、携帯電話、スマートフォン、デジタルカメラ、デジタルビデオカメラ、ＰＤＡ、ポータブルオーディオプレーヤー、カーオーディオ、ゲーム機器、眼鏡レンズ、カメラレンズ、レンズフィルター、サングラス、胃カメラ等の医療用器機、複写機、ＰＣ、液晶ディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ、プラズマディスプレイ、タッチパネルディスプレイ、保護フイルム、反射防止フイルムなどの光学物品等が挙げられる。
【実施例】
【０１３５】
以下、合成例、実施例及び比較例を示し、本発明をより詳細に説明するが、本発明は下記実施例によって限定されるものではない。【０１３６】
［合成例１］
反応容器に入れたウンデセン酸エチル１０．０ｇ（４．７１×１０-2ｍｏｌ）を８０℃まで加熱した。続いて、塩化白金酸／ビニルシロキサン錯体のトルエン溶液１．０×１０-2ｇ（Ｐｔ単体として０．３×１０-6ｍｏｌを含有）を添加した後、トリメトキシシラン８．６ｇ（７．０６×１０-2ｍｏｌ）を３時間かけて滴下し、１時間加熱撹拌した。その後、溶剤及び未反応物を減圧留去することで、下記式（Ａ）
【化１００】
0006988988.tif 000102
で示される化合物を１２．１ｇ得た。【０１３７】
1Ｈ−ＮＭＲ
δ０．８（−（ＣＨ2）7ＣＨ2−Ｓｉ（ＯＣＨ3）3）２Ｈ
δ１．２−１．４（−（ＣＨ2）7−，−ＯＣＨ2ＣＨ3）１７Ｈ
δ１．６（−ＯＯＣ−ＣＨ2ＣＨ2（ＣＨ2）7ＣＨ2−Ｓｉ−）２Ｈ
δ２．３（−ＯＯＣ−ＣＨ2−）２Ｈ
δ３．５（−Ｓｉ（ＯＣＨ3）3）９Ｈ
δ４．１（−ＯＣＨ2ＣＨ3）２Ｈ【０１３８】
［実施例１］
反応容器に入れたテトラメチルジシロキサン４．５ｇ（３．４×１０-2ｍｏｌ）、１２規定塩酸水溶液３．６ｇ、１，４−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン２．５ｇの混合物を０℃まで冷却した。続いて、上記合成例１で合成した下記式（Ａ）
【化１０１】
0006988988.tif 000103
で表される化合物５．０ｇ（１．５×１０-2ｍｏｌ）を滴下し、０℃で６時間熟成した。その後、分液操作により下層を回収し、溶剤及び未反応物を減圧留去することで、下記式（Ｂ）
【化１０２】
0006988988.tif 000104
で示される生成物を５．８ｇ得た。【０１３９】
1Ｈ−ＮＭＲ
δ０．１−０．２（−Ｓｉ−ＣＨ3）１８Ｈ
δ０．５（−（ＣＨ2）7ＣＨ2−Ｓｉ（Ｏ−Ｓｉ（ＣＨ3）2−）3）２Ｈ
δ１．２−１．５（−（ＣＨ2）7−，−ＯＣＨ2ＣＨ3）１７Ｈ
δ１．６（−ＯＯＣ−ＣＨ2ＣＨ2（ＣＨ2）7ＣＨ2−Ｓｉ−）２Ｈ
δ２．３（−ＯＯＣ−ＣＨ2−）２Ｈ
δ４．１（−ＯＣＨ2ＣＨ3）２Ｈ
δ４．７（−Ｓｉ−Ｈ）３Ｈ【０１４０】
反応容器に入れた、上記で得られた下記式（Ｂ）
【化１０３】
0006988988.tif 000105
で表される化合物５．０ｇ（１．１×１０-2ｍｏｌ）を８０℃まで加熱した。続いて、塩化白金酸／ビニルシロキサン錯体のトルエン溶液５．０×１０-3ｇ（Ｐｔ単体として１．５×１０-7ｍｏｌを含有）を添加した後、アリルトリメトキシシラン７．３ｇ（４．５×１０-2ｍｏｌ）を滴下し、３時間加熱撹拌した。その後、溶剤及び未反応物を減圧留去することで、下記式（Ｃ）
【化１０４】
0006988988.tif 000106
で示される生成物（親油性基含有加水分解性オルガノシロキサン化合物１）を８．８ｇ得た。【０１４１】
1Ｈ−ＮＭＲ
δ０．１−０．２（−Ｓｉ−ＣＨ3）１８Ｈ
δ０．５（−（ＣＨ2）7ＣＨ2−Ｓｉ（Ｏ−Ｓｉ（ＣＨ3）2−）3）２Ｈ
δ０．６−０．８（−ＳｉＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2−Ｓｉ（ＯＣＨ3）3，−ＳｉＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2−Ｓｉ（ＯＣＨ3）3）１２Ｈ
δ１．２−１．４（−（ＣＨ2）7−，−ＯＣＨ2ＣＨ3）１７Ｈ
δ１．５（−ＳｉＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2−Ｓｉ（ＯＣＨ3）3）６Ｈ
δ１．６（−ＯＯＣ−ＣＨ2ＣＨ2（ＣＨ2）7ＣＨ2−Ｓｉ−）２Ｈ
δ２．３（−ＯＯＣ−ＣＨ2−）２Ｈ
δ３．５（−ＳｉＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2−Ｓｉ（ＯＣＨ3）3）２７Ｈ
δ４．１（−ＯＣＨ2ＣＨ3）２Ｈ【０１４２】
［合成例２］
反応容器に入れた１，４−ビス（ジメチルシリル）ベンゼン４５．７ｇ（２．３５×１０-1ｍｏｌ）を８０℃まで加熱した。続いて、塩化白金酸／ビニルシロキサン錯体のトルエン溶液１．０×１０-2ｇ（Ｐｔ単体として０．３×１０-6ｍｏｌを含有）を添加した後、ウンデセン酸エチル１０．０ｇ（４．７１×１０-2ｍｏｌ）を３時間かけて滴下し、１時間加熱撹拌した。その後、溶剤及び未反応物を減圧留去することで、下記式（Ｄ）
【化１０５】
0006988988.tif 000107
で示される生成物を１８．０ｇ得た。【０１４３】
1Ｈ−ＮＭＲ
δ０．２−０．４（−Ｓｉ−ＣＨ3）１２Ｈ
δ０．７（−（ＣＨ2）7ＣＨ2−Ｓｉ−）２Ｈ
δ１．２−１．５（−（ＣＨ2）7−，−ＯＣＨ2ＣＨ3）１７Ｈ
δ１．６（−ＯＯＣ−ＣＨ2ＣＨ2（ＣＨ2）7ＣＨ2−Ｓｉ−）２Ｈ
δ２．３（−ＯＯＣ−ＣＨ2−）２Ｈ
δ４．１（−ＯＣＨ2ＣＨ3）２Ｈ
δ４．４（−Ｓｉ−Ｈ）１Ｈ
δ７．５（−Ｓｉ−Ｃ6Ｈ4−Ｓｉ−）４Ｈ【０１４４】
反応容器に入れた、上記で得られた下記式（Ｄ）
【化１０６】
0006988988.tif 000108
で表される化合物１０．０ｇ（２．４６×１０-2ｍｏｌ）を８０℃まで加熱した。続いて、塩化白金酸／ビニルシロキサン錯体のトルエン溶液１．０×１０-2ｇ（Ｐｔ単体として０．３×１０-6ｍｏｌを含有）を添加した後、アリルトリメトキシシラン８．００ｇ（４．９２×１０-2ｍｏｌ）を滴下し、３時間加熱撹拌した。その後、溶剤及び未反応物を減圧留去することで、下記式（Ｅ）
【化１０７】
0006988988.tif 000109
で示される化合物を１３．１ｇ得た。【０１４５】
1Ｈ−ＮＭＲ
δ０．２−０．３（−Ｓｉ−ＣＨ3）１２Ｈ
δ０．７（−（ＣＨ2）7ＣＨ2−Ｓｉ−，−ＳｉＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2−Ｓｉ（ＯＣＨ3）3）４Ｈ
δ０．８（−ＳｉＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2−Ｓｉ（ＯＣＨ3）3）２Ｈ
δ１．２−１．４（−（ＣＨ2）7−，−ＯＣＨ2ＣＨ3）１７Ｈ
δ１．５（−ＳｉＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2−Ｓｉ（ＯＣＨ3）3）２Ｈ
δ１．６（−ＯＯＣ−ＣＨ2ＣＨ2（ＣＨ2）7ＣＨ2−Ｓｉ−）２Ｈ
δ２．３（−ＯＯＣ−ＣＨ2−）２Ｈ
δ３．５（−ＳｉＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2−Ｓｉ（ＯＣＨ3）3）９Ｈ
δ４．１（−ＯＣＨ2ＣＨ3）２Ｈ
δ７．５（−Ｓｉ−Ｃ6Ｈ4−Ｓｉ−）４Ｈ【０１４６】
［実施例２］
反応容器に入れたテトラメチルジシロキサン５．３ｇ（４．０×１０-2ｍｏｌ）、１２規定塩酸水溶液４．３ｇ、１，４−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン５．０ｇの混合物を０℃まで冷却した。続いて、上記合成例２で合成した下記式（Ｅ）
【化１０８】
0006988988.tif 000110
で表される化合物１０．０ｇ（１．８×１０-2ｍｏｌ）を滴下し、０℃で６時間熟成した。その後、分液操作により下層を回収し、溶剤及び未反応物を減圧留去することで、下記式（Ｆ）
【化１０９】
0006988988.tif 000111
で示される生成物を８．２ｇ得た。【０１４７】
1Ｈ−ＮＭＲ
δ０．１−０．２（−Ｓｉ−ＣＨ3）３０Ｈ
δ０．５（−（ＣＨ2）7ＣＨ2−Ｓｉ（Ｏ−Ｓｉ（ＣＨ3）2−）3）２Ｈ
δ０．７−０．８（−Ｃ6Ｈ4−Ｓｉ−ＣＨ2−）４Ｈ
δ１．２−１．５（−（ＣＨ2）7−，−ＯＣＨ2ＣＨ3，−Ｓｉ−ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2−Ｓｉ−）１９Ｈ
δ１．６（−ＯＯＣ−ＣＨ2ＣＨ2（ＣＨ2）7ＣＨ2−Ｓｉ−）２Ｈ
δ２．３（−ＯＯＣ−ＣＨ2−）２Ｈ
δ４．１（−ＯＣＨ2ＣＨ3）２Ｈ
δ４．７（−Ｓｉ−Ｈ）３Ｈ
δ７．５（−Ｓｉ−Ｃ6Ｈ4−Ｓｉ−）４Ｈ【０１４８】
反応容器に入れた、上記で得られた下記式（Ｆ）
【化１１０】
0006988988.tif 000112
で表される化合物６．０ｇ（８．６×１０-3ｍｏｌ）を８０℃まで加熱した。続いて、塩化白金酸／ビニルシロキサン錯体のトルエン溶液５．０×１０-3ｇ（Ｐｔ単体として１．５×１０-7ｍｏｌを含有）を添加した後、アリルトリメトキシシラン５．８ｇ（３．６×１０-2ｍｏｌ）を滴下し、３時間加熱撹拌した。その後、溶剤及び未反応物を減圧留去することで、下記式（Ｇ）
【化１１１】
0006988988.tif 000113
で示される生成物（親油性基含有加水分解性オルガノシロキサン化合物２）を９．４ｇ得た。【０１４９】
1Ｈ−ＮＭＲ
δ０．１−０．２（−Ｓｉ−ＣＨ3）３０Ｈ
δ０．５（−（ＣＨ2）7ＣＨ2−Ｓｉ（Ｏ−Ｓｉ（ＣＨ3）2−）3）２Ｈ
δ０．６−０．８（−Ｃ6Ｈ4−Ｓｉ−ＣＨ2−，−ＳｉＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2−Ｓｉ（ＯＣＨ3）3，−ＳｉＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2−Ｓｉ（ＯＣＨ3）3）１６Ｈ
δ１．２−１．４（−（ＣＨ2）7−，−ＯＣＨ2ＣＨ3，−Ｓｉ−ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2−Ｓｉ−）１９Ｈ
δ１．５（−ＳｉＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2−Ｓｉ（ＯＣＨ3）3）６Ｈ
δ１．６（−ＯＯＣ−ＣＨ2ＣＨ2（ＣＨ2）7ＣＨ2−Ｓｉ−）２Ｈ
δ２．３（−ＯＯＣ−ＣＨ2−）２Ｈ
δ３．５（−ＳｉＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2−Ｓｉ（ＯＣＨ3）3）２７Ｈ
δ４．１（−ＯＣＨ2ＣＨ3）２Ｈ
δ７．５（−Ｓｉ−Ｃ6Ｈ4−Ｓｉ−）４Ｈ【０１５０】
［合成例３］
反応容器に入れた、上記で得られた下記式（Ｄ）
【化１１２】
0006988988.tif 000114
で表される化合物１０．０ｇ（２．４６×１０-2ｍｏｌ）を８０℃まで加熱した。続いて、塩化白金酸／ビニルシロキサン錯体のトルエン溶液１．０×１０-2ｇ（Ｐｔ単体として０．３×１０-6ｍｏｌを含有）を添加した後、７−オクテニルトリメトキシシラン９．１０ｇ（３．９４×１０-2ｍｏｌ）を滴下し、４時間加熱撹拌した。その後、溶剤及び未反応物を減圧留去することで、下記式（Ｈ）
【化１１３】
0006988988.tif 000115
で示される化合物を１４．０ｇ得た。【０１５１】
1Ｈ−ＮＭＲ
δ０．２（−Ｓｉ−ＣＨ3）１２Ｈ
δ０．６（−ＳｉＣＨ2（ＣＨ2）6ＣＨ2−Ｓｉ（ＯＣＨ3）3）４Ｈ
δ０．７（−（ＣＨ2）7ＣＨ2−Ｓｉ−，−ＳｉＣＨ2（ＣＨ2）6ＣＨ2−Ｓｉ（ＯＣＨ3）3）２Ｈ
δ１．２−１．４（−（ＣＨ2）7−，−（ＣＨ2）6−，−ＯＣＨ2ＣＨ3）３１Ｈ
δ１．６（−ＯＯＣ−ＣＨ2ＣＨ2（ＣＨ2）7ＣＨ2−Ｓｉ−）２Ｈ
δ２．３（−ＯＯＣ−ＣＨ2−）２Ｈ
δ３．５（−ＳｉＣＨ2（ＣＨ2）6ＣＨ2−Ｓｉ（ＯＣＨ3）3）９Ｈ
δ４．１（−ＯＣＨ2ＣＨ3）２Ｈ
δ７．５（−Ｓｉ−Ｃ6Ｈ4−Ｓｉ−）４Ｈ【０１５２】
［実施例３］
反応容器に入れたテトラメチルジシロキサン３．３ｇ（２．５×１０-2ｍｏｌ）、１２規定塩酸水溶液２．６ｇ、１，４−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン３．５ｇの混合物を０℃まで冷却した。続いて、上記合成例３で合成した下記式（Ｈ）
【化１１４】
0006988988.tif 000116
で表される化合物７．０ｇ（１．１×１０-2ｍｏｌ）を滴下し、０℃で６時間熟成した。その後、分液操作により下層を回収し、溶剤及び未反応物を減圧留去することで、下記式（Ｉ）
【化１１５】
0006988988.tif 000117
で示される生成物を５．６ｇ得た。【０１５３】
1Ｈ−ＮＭＲ
δ０．１−０．２（−Ｓｉ−ＣＨ3）３０Ｈ
δ０．５（−（ＣＨ2）7ＣＨ2−Ｓｉ（Ｏ−Ｓｉ（ＣＨ3）2−）3）２Ｈ
δ０．７−０．８（−Ｃ6Ｈ4−Ｓｉ−ＣＨ2−）４Ｈ
δ１．２−１．５（−（ＣＨ2）7−，−ＯＣＨ2ＣＨ3，−Ｓｉ−ＣＨ2（ＣＨ2）6ＣＨ2−Ｓｉ−）２９Ｈ
δ１．６（−ＯＯＣ−ＣＨ2ＣＨ2（ＣＨ2）7ＣＨ2−Ｓｉ−）２Ｈ
δ２．３（−ＯＯＣ−ＣＨ2−）２Ｈ
δ４．１（−ＯＣＨ2ＣＨ3）２Ｈ
δ４．７（−Ｓｉ−Ｈ）３Ｈ
δ７．５（−Ｓｉ−Ｃ6Ｈ4−Ｓｉ−）４Ｈ【０１５４】
反応容器に入れた、上記で得られた下記式（Ｉ）
【化１１６】
0006988988.tif 000118
で表される化合物３．０ｇ（３．９×１０-3ｍｏｌ）を８０℃まで加熱した。続いて、塩化白金酸／ビニルシロキサン錯体のトルエン溶液２．５×１０-3ｇ（Ｐｔ単体として７．５×１０-8ｍｏｌを含有）を添加した後、アリルトリメトキシシラン２．６ｇ（１．６×１０-2ｍｏｌ）を滴下し、３時間加熱撹拌した。その後、溶剤及び未反応物を減圧留去することで、下記式（Ｊ）
【化１１７】
0006988988.tif 000119
で示される生成物（親油性基含有加水分解性オルガノシロキサン化合物３）を４．２ｇ得た。【０１５５】
1Ｈ−ＮＭＲ
δ０．１−０．２（−Ｓｉ−ＣＨ3）３０Ｈ
δ０．５（−（ＣＨ2）7ＣＨ2−Ｓｉ（Ｏ−Ｓｉ（ＣＨ3）2−）3）２Ｈ
δ０．６−０．８（−Ｃ6Ｈ4−Ｓｉ−ＣＨ2−，−ＳｉＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2−Ｓｉ（ＯＣＨ3）3，−ＳｉＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2−Ｓｉ（ＯＣＨ3）3）１６Ｈ
δ１．２−１．４（−（ＣＨ2）7−，−ＯＣＨ2ＣＨ3，−Ｓｉ−ＣＨ2（ＣＨ2）6ＣＨ2−Ｓｉ−）２９Ｈ
δ１．５（−ＳｉＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2−Ｓｉ（ＯＣＨ3）3）６Ｈ
δ１．６（−ＯＯＣ−ＣＨ2ＣＨ2（ＣＨ2）7ＣＨ2−Ｓｉ−）２Ｈ
δ２．３（−ＯＯＣ−ＣＨ2−）２Ｈ
δ３．５（−ＳｉＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2−Ｓｉ（ＯＣＨ3）3）２７Ｈ
δ４．１（−ＯＣＨ2ＣＨ3）２Ｈ
δ７．５（−Ｓｉ−Ｃ6Ｈ4−Ｓｉ−）４Ｈ【０１５６】
［合成例４］
反応容器に入れたテトラメチルジシロキサン３１．６ｇ（２．３５×１０-1ｍｏｌ）を８０℃まで加熱した。続いて、塩化白金酸／ビニルシロキサン錯体のトルエン溶液１．０×１０-2ｇ（Ｐｔ単体として０．３×１０-6ｍｏｌを含有）を添加した後、ウンデセン酸エチル１０．０ｇ（４．７１×１０-2ｍｏｌ）を３時間かけて滴下し、１時間加熱撹拌した。その後、溶剤及び未反応物を減圧留去することで、下記式（Ｋ）
【化１１８】
0006988988.tif 000120
で示される生成物を１６．４ｇ得た。【０１５７】
1Ｈ−ＮＭＲ
δ０．２−０．４（−Ｓｉ−ＣＨ3）１２Ｈ
δ０．７（−（ＣＨ2）7ＣＨ2−Ｓｉ−）２Ｈ
δ１．２−１．５（−（ＣＨ2）7−，−ＯＣＨ2ＣＨ3）１７Ｈ
δ１．６（−ＯＯＣ−ＣＨ2ＣＨ2（ＣＨ2）7ＣＨ2−Ｓｉ−）２Ｈ
δ２．３（−ＯＯＣ−ＣＨ2−）２Ｈ
δ４．１（−ＯＣＨ2ＣＨ3）２Ｈ
δ４．４（−Ｓｉ−Ｈ）１Ｈ【０１５８】
反応容器に入れた、上記で得られた下記式
【化１１９】
0006988988.tif 000121
で表される化合物１０．０ｇ（２．８８×１０-2ｍｏｌ）を８０℃まで加熱した。続いて、塩化白金酸／ビニルシロキサン錯体のトルエン溶液１．０×１０-2ｇ（Ｐｔ単体として０．３×１０-6ｍｏｌを含有）を添加した後、７−オクテニルトリメトキシシラン９．４ｇ（４．０４×１０-2ｍｏｌ）を滴下し、３時間加熱撹拌した。その後、溶剤及び未反応物を減圧留去することで、下記式（Ｌ）
【化１２０】
0006988988.tif 000122
で示される化合物を１５．１ｇ得た。【０１５９】
1Ｈ−ＮＭＲ
δ０．２−０．３（−Ｓｉ−ＣＨ3）１２Ｈ
δ０．７（−（ＣＨ2）7ＣＨ2−Ｓｉ−，−ＳｉＣＨ2（ＣＨ2）6ＣＨ2−Ｓｉ（ＯＣＨ3）3）４Ｈ
δ０．８（−ＳｉＣＨ2（ＣＨ2）6ＣＨ2−Ｓｉ（ＯＣＨ3）3）２Ｈ
δ１．２−１．４（−（ＣＨ2）7−，−ＳｉＣＨ2（ＣＨ2）6ＣＨ2−Ｓｉ（ＯＣＨ3）3，−ＯＣＨ2ＣＨ3）２９Ｈ
δ１．６（−ＯＯＣ−ＣＨ2ＣＨ2（ＣＨ2）7ＣＨ2−Ｓｉ−）２Ｈ
δ２．３（−ＯＯＣ−ＣＨ2−）２Ｈ
δ３．５（−ＳｉＣＨ2（ＣＨ2）6ＣＨ2−Ｓｉ（ＯＣＨ3）3）９Ｈ
δ４．１（−ＯＣＨ2ＣＨ3）２Ｈ【０１６０】
［実施例４］
反応容器に入れたテトラメチルジシロキサン５．１ｇ（３．８×１０-2ｍｏｌ）、１２規定塩酸水溶液４．１ｇ、１，４−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン５．０ｇの混合物を０℃まで冷却した。続いて、上記合成例４で合成した下記式（Ｌ）
【化１２１】
0006988988.tif 000123
で表される化合物１０．０ｇ（１．７×１０-2ｍｏｌ）を滴下し、０℃で６時間熟成した。その後、分液操作により下層を回収し、溶剤及び未反応物を減圧留去することで、下記式（Ｍ）
【化１２２】
0006988988.tif 000124
で示される生成物を８．６ｇ得た。【０１６１】
1Ｈ−ＮＭＲ
δ０．１−０．２（−Ｓｉ−ＣＨ3）３０Ｈ
δ０．５−０．６（−Ｏ−Ｓｉ（ＣＨ3）2−ＣＨ2−）６Ｈ
δ１．２−１．５（−（ＣＨ2）7−，−ＯＣＨ2ＣＨ3，−Ｓｉ−ＣＨ2（ＣＨ2）6ＣＨ2−Ｓｉ−）２９Ｈ
δ１．６（−ＯＯＣ−ＣＨ2ＣＨ2（ＣＨ2）7ＣＨ2−Ｓｉ−）２Ｈ
δ２．３（−ＯＯＣ−ＣＨ2−）２Ｈ
δ４．１（−ＯＣＨ2ＣＨ3）２Ｈ
δ４．７（−Ｓｉ−Ｈ）３Ｈ【０１６２】
反応容器に入れた、上記で得られた下記式（Ｍ）
【化１２３】
0006988988.tif 000125
で表される化合物５．０ｇ（７．０×１０-3ｍｏｌ）を８０℃まで加熱した。続いて、塩化白金酸／ビニルシロキサン錯体のトルエン溶液５．０×１０-3ｇ（Ｐｔ単体として１．５×１０-7ｍｏｌを含有）を添加した後、アリルトリメトキシシラン４．６ｇ（２．８×１０-2ｍｏｌ）を滴下し、３時間加熱撹拌した。その後、溶剤及び未反応物を減圧留去することで、下記式（Ｎ）
【化１２４】
0006988988.tif 000126
で示される生成物（親油性基含有加水分解性オルガノシロキサン化合物４）を６．７ｇ得た。【０１６３】
1Ｈ−ＮＭＲ
δ０．１−０．２（−Ｓｉ−ＣＨ3）３０Ｈ
δ０．５−０．７（−Ｏ−Ｓｉ（ＣＨ3）2−ＣＨ2−，−ＳｉＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2−Ｓｉ（ＯＣＨ3）3，−ＳｉＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2−Ｓｉ（ＯＣＨ3）3）１８Ｈ
δ１．２−１．４（−（ＣＨ2）7−，−ＯＣＨ2ＣＨ3，−Ｓｉ−ＣＨ2（ＣＨ2）6ＣＨ2−Ｓｉ−）２９Ｈ
δ１．５（−ＳｉＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2−Ｓｉ（ＯＣＨ3）3）６Ｈ
δ１．６（−ＯＯＣ−ＣＨ2ＣＨ2（ＣＨ2）7ＣＨ2−Ｓｉ−）２Ｈ
δ２．３（−ＯＯＣ−ＣＨ2−）２Ｈ
δ３．５（−ＳｉＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2−Ｓｉ（ＯＣＨ3）3）２７Ｈ
δ４．１（−ＯＣＨ2ＣＨ3）２Ｈ【０１６４】
［実施例５］
反応容器に入れた、実施例１で得られた下記式（Ｂ）
【化１２５】
0006988988.tif 000127
で表される化合物５．０ｇ（１．１×１０-2ｍｏｌ）を８０℃まで加熱した。続いて、塩化白金酸／ビニルシロキサン錯体のトルエン溶液５．０×１０-3ｇ（Ｐｔ単体として１．５×１０-7ｍｏｌを含有）を添加した後、７−オクテニルトリメトキシシラン１０．０ｇ（４．３×１０-2ｍｏｌ）を滴下し、３時間加熱撹拌した。その後、溶剤及び未反応物を減圧留去することで、下記式（Ｏ）
【化１２６】
0006988988.tif 000128
で示される生成物（親油性基含有加水分解性オルガノシロキサン化合物５）を１１．０ｇ得た。【０１６５】
1Ｈ−ＮＭＲ
δ０．１−０．２（−Ｓｉ−ＣＨ3）１８Ｈ
δ０．５（−（ＣＨ2）7ＣＨ2−Ｓｉ（Ｏ−Ｓｉ（ＣＨ3）2−）3）２Ｈ
δ０．６−０．８（−ＳｉＣＨ2（ＣＨ2）6ＣＨ2−Ｓｉ（ＯＣＨ3）3，−ＳｉＣＨ2（ＣＨ2）6ＣＨ2−Ｓｉ（ＯＣＨ3）3）１２Ｈ
δ１．２−１．４（−（ＣＨ2）7−，−ＯＣＨ2ＣＨ3）１７Ｈ
δ１．５（−ＳｉＣＨ2（ＣＨ2）6ＣＨ2−Ｓｉ（ＯＣＨ3）3）３６Ｈ
δ１．６（−ＯＯＣ−ＣＨ2ＣＨ2（ＣＨ2）7ＣＨ2−Ｓｉ−）２Ｈ
δ２．３（−ＯＯＣ−ＣＨ2−）２Ｈ
δ３．５（−ＳｉＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2−Ｓｉ（ＯＣＨ3）3）２７Ｈ
δ４．１（−ＯＣＨ2ＣＨ3）２Ｈ【０１６６】
［実施例６］
反応容器に入れた、実施例２で得られた下記式（Ｆ）
【化１２７】
0006988988.tif 000129
で表される化合物１０．０ｇ（１．４×１０-2ｍｏｌ）を８０℃まで加熱した。続いて、塩化白金酸／ビニルシロキサン錯体のトルエン溶液１．０×１０-2ｇ（Ｐｔ単体として０．３×１０-6ｍｏｌを含有）を添加した後、７−オクテニルトリメトキシシラン１３．４ｇ（５．８×１０-2ｍｏｌ）を滴下し、３時間加熱撹拌した。その後、溶剤及び未反応物を減圧留去することで、下記式（Ｐ）
【化１２８】
0006988988.tif 000130
で示される生成物（親油性基含有加水分解性オルガノシロキサン化合物６）を１５．４ｇ得た。【０１６７】
1Ｈ−ＮＭＲ
δ０．１−０．２（−Ｓｉ−ＣＨ3）３０Ｈ
δ０．５（−（ＣＨ2）7ＣＨ2−Ｓｉ（Ｏ−Ｓｉ（ＣＨ3）2−）3）２Ｈ
δ０．６−０．８（−Ｃ6Ｈ4−Ｓｉ−ＣＨ2−，−ＳｉＣＨ2（ＣＨ2）6ＣＨ2−Ｓｉ（ＯＣＨ3）3，−ＳｉＣＨ2（ＣＨ2）6ＣＨ2−Ｓｉ（ＯＣＨ3）3）１６Ｈ
δ１．２−１．４（−（ＣＨ2）7−，−ＯＣＨ2ＣＨ3）１７Ｈ
δ１．５（−ＳｉＣＨ2（ＣＨ2）6ＣＨ2−Ｓｉ（ＯＣＨ3）3）３６Ｈ
δ１．６（−ＯＯＣ−ＣＨ2ＣＨ2（ＣＨ2）7ＣＨ2−Ｓｉ−）２Ｈ
δ２．３（−ＯＯＣ−ＣＨ2−）２Ｈ
δ３．５（−ＳｉＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2−Ｓｉ（ＯＣＨ3）3）２７Ｈ
δ４．１（−ＯＣＨ2ＣＨ3）２Ｈ
δ７．５（−Ｓｉ−Ｃ6Ｈ4−Ｓｉ−）４Ｈ【０１６８】
［実施例７］
反応容器に入れた、実施例３で得られた下記式（Ｉ）
【化１２９】
0006988988.tif 000131
で表される化合物１．８ｇ（２．３×１０-3ｍｏｌ）を８０℃まで加熱した。続いて、塩化白金酸／ビニルシロキサン錯体のトルエン溶液２．０×１０-3ｇ（Ｐｔ単体として６．０×１０-8ｍｏｌを含有）を添加した後、７−オクテニルトリメトキシシラン２．３ｇ（９．８×１０-3ｍｏｌ）を滴下し、３時間加熱撹拌した。その後、溶剤及び未反応物を減圧留去することで、下記式（Ｑ）
【化１３０】
0006988988.tif 000132
で示される生成物（親油性基含有加水分解性オルガノシロキサン化合物７）を２．７ｇ得た。【０１６９】
1Ｈ−ＮＭＲ
δ０．１−０．２（−Ｓｉ−ＣＨ3）３０Ｈ
δ０．５（−（ＣＨ2）7ＣＨ2−Ｓｉ（Ｏ−Ｓｉ（ＣＨ3）2−）3）２Ｈ
δ０．６−０．８（−Ｃ6Ｈ4−Ｓｉ−ＣＨ2−，−ＳｉＣＨ2（ＣＨ2）6ＣＨ2−Ｓｉ（ＯＣＨ3）3，−ＳｉＣＨ2（ＣＨ2）6ＣＨ2−Ｓｉ（ＯＣＨ3）3）１６Ｈ
δ１．２−１．４（−（ＣＨ2）7−，−ＯＣＨ2ＣＨ3）１７Ｈ
δ１．５（−ＳｉＣＨ2（ＣＨ2）6ＣＨ2−Ｓｉ（ＯＣＨ3）3）３６Ｈ
δ１．６（−ＯＯＣ−ＣＨ2ＣＨ2（ＣＨ2）7ＣＨ2−Ｓｉ−）２Ｈ
δ２．３（−ＯＯＣ−ＣＨ2−）２Ｈ
δ３．５（−ＳｉＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2−Ｓｉ（ＯＣＨ3）3）２７Ｈ
δ４．１（−ＯＣＨ2ＣＨ3）２Ｈ
δ７．５（−Ｓｉ−Ｃ6Ｈ4−Ｓｉ−）４Ｈ【０１７０】
［実施例８］
反応容器に入れた、実施例４で得られた下記式（Ｍ）
【化１３１】
0006988988.tif 000133
で表される化合物５．０ｇ（７．０×１０-3ｍｏｌ）を８０℃まで加熱した。続いて、塩化白金酸／ビニルシロキサン錯体のトルエン溶液５．０×１０-3ｇ（Ｐｔ単体として１．５×１０-7ｍｏｌを含有）を添加した後、７−オクテニルトリメトキシシラン６．５ｇ（２．８×１０-2ｍｏｌ）を滴下し、３時間加熱撹拌した。その後、溶剤及び未反応物を減圧留去することで、下記式（Ｒ）
【化１３２】
0006988988.tif 000134
で示される生成物（親油性基含有加水分解性オルガノシロキサン化合物８）を７．６ｇ得た。【０１７１】
1Ｈ−ＮＭＲ
δ０．１−０．２（−Ｓｉ−ＣＨ3）３０Ｈ
δ０．５−０．７（−Ｏ−Ｓｉ（ＣＨ3）2−ＣＨ2−，−ＳｉＣＨ2（ＣＨ2）6ＣＨ2−Ｓｉ（ＯＣＨ3）3，−ＳｉＣＨ2（ＣＨ2）6ＣＨ2−Ｓｉ（ＯＣＨ3）3）１８Ｈ
δ１．２−１．４（−（ＣＨ2）7−，−ＯＣＨ2ＣＨ3）１７Ｈ
δ１．５（−ＳｉＣＨ2（ＣＨ2）6ＣＨ2−Ｓｉ（ＯＣＨ3）3）３６Ｈ
δ１．６（−ＯＯＣ−ＣＨ2ＣＨ2（ＣＨ2）7ＣＨ2−Ｓｉ−）２Ｈ
δ２．３（−ＯＯＣ−ＣＨ2−）２Ｈ
δ３．５（−ＳｉＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2−Ｓｉ（ＯＣＨ3）3）２７Ｈ
δ４．１（−ＯＣＨ2ＣＨ3）２Ｈ【０１７２】
［合成例５］
反応容器に入れた１，４−ビス（ジメチルシリル）ベンゼン４０．６ｇ（２．０９×１０-1ｍｏｌ）を８０℃まで加熱した。続いて、塩化白金酸／ビニルシロキサン錯体のトルエン溶液１．０×１０-2ｇ（Ｐｔ単体として０．３×１０-6ｍｏｌを含有）を添加した後、下記式（Ｓ）
【化１３３】
0006988988.tif 000135
で示される化合物１０．０ｇ（４．１８×１０-2ｍｏｌ）を３時間かけて滴下し、６時間加熱撹拌した。その後、溶剤及び未反応物を減圧留去することで、下記式（Ｔ）
【化１３４】
0006988988.tif 000136
で示される生成物を１７．１ｇ得た。【０１７３】
1Ｈ−ＮＭＲ
δ０．２−０．４（−Ｓｉ−ＣＨ3）１２Ｈ
δ０．７（−（ＣＨ2）7ＣＨ2−Ｓｉ−）２Ｈ
δ１．０−１．２（−Ｎ（ＣＨ2ＣＨ3）2）６Ｈ
δ１．２−１．５（−（ＣＨ2）7−）１４Ｈ
δ１．６（−ＮＯＣ−ＣＨ2ＣＨ2（ＣＨ2）7ＣＨ2−Ｓｉ−）２Ｈ
δ２．３（−ＮＯＣ−ＣＨ2−）２Ｈ
δ３．２−３．４（−Ｎ（ＣＨ2ＣＨ3）2）４Ｈ
δ４．４（−Ｓｉ−Ｈ）１Ｈ
δ７．５（−Ｓｉ−Ｃ6Ｈ4−Ｓｉ−）４Ｈ【０１７４】
反応容器に入れた、上記で得られた下記式（Ｔ）
【化１３５】
0006988988.tif 000137
で表される化合物１０．０ｇ（２．３１×１０-2ｍｏｌ）を８０℃まで加熱した。続いて、塩化白金酸／ビニルシロキサン錯体のトルエン溶液１．０×１０-2ｇ（Ｐｔ単体として０．３×１０-6ｍｏｌを含有）を添加した後、７−オクテニルトリメトキシシラン７．５ｇ（３．２３×１０-2ｍｏｌ）を滴下し、６時間加熱撹拌した。その後、溶剤及び未反応物を減圧留去することで、下記式（Ｕ）
【化１３６】
0006988988.tif 000138
で示される化合物を１２．６ｇ得た。【０１７５】
1Ｈ−ＮＭＲ
δ０．２−０．３（−Ｓｉ−ＣＨ3）１２Ｈ
δ０．７（−（ＣＨ2）7ＣＨ2−Ｓｉ−，−ＳｉＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2−Ｓｉ（ＯＣＨ3）3）４Ｈ
δ０．８（−ＳｉＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2−Ｓｉ（ＯＣＨ3）3）２Ｈ
δ１．０−１．２（−Ｎ（ＣＨ2ＣＨ3）2）６Ｈ
δ１．２−１．４（−（ＣＨ2）7−）１４Ｈ
δ１．５（−ＳｉＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2−Ｓｉ（ＯＣＨ3）3）２Ｈ
δ１．６（−ＮＯＣ−ＣＨ2ＣＨ2（ＣＨ2）7ＣＨ2−Ｓｉ−）２Ｈ
δ２．３（−ＮＯＣ−ＣＨ2−）２Ｈ
δ３．２−３．４（−Ｎ（ＣＨ2ＣＨ3）2）４Ｈ
δ３．５（−ＳｉＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2−Ｓｉ（ＯＣＨ3）3）９Ｈ
δ７．５（−Ｓｉ−Ｃ6Ｈ4−Ｓｉ−）４Ｈ【０１７６】
［実施例９］
反応容器に入れたテトラメチルジシロキサン４．５ｇ（３．４×１０-2ｍｏｌ）、１２規定塩酸水溶液３．６ｇ、１，４−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン５．０ｇの混合物を０℃まで冷却した。続いて、上記合成例５で得られた下記式（Ｕ）
【化１３７】
0006988988.tif 000139
で表される化合物１０．０ｇ（１．５×１０-2ｍｏｌ）を滴下し、０℃で６時間熟成した。その後、分液操作により下層を回収し、溶剤及び未反応物を減圧留去することで、下記式（Ｖ）
【化１３８】
0006988988.tif 000140
で示される生成物を８．６ｇ得た。【０１７７】
1Ｈ−ＮＭＲ
δ０．１−０．２（−Ｓｉ−ＣＨ3）３０Ｈ
δ０．５（−（ＣＨ2）7ＣＨ2−Ｓｉ（Ｏ−Ｓｉ（ＣＨ3）2−）3）２Ｈ
δ０．７−０．８（−Ｃ6Ｈ4−Ｓｉ−ＣＨ2−）４Ｈ
δ１．０−１．２（−Ｎ（ＣＨ2ＣＨ3）2）６Ｈ
δ１．２−１．５（−（ＣＨ2）7−，−Ｓｉ−ＣＨ2（ＣＨ2）6ＣＨ2−Ｓｉ−）２６Ｈ
δ１．６（−ＮＯＣ−ＣＨ2ＣＨ2（ＣＨ2）7ＣＨ2−Ｓｉ−）２Ｈ
δ２．３（−ＮＯＣ−ＣＨ2−）２Ｈ
δ３．２−３．４（−Ｎ（ＣＨ2ＣＨ3）2）４Ｈ
δ４．７（−Ｓｉ−Ｈ）３Ｈ
δ７．５（−Ｓｉ−Ｃ6Ｈ4−Ｓｉ−）４Ｈ【０１７８】
反応容器に入れた、上記で得られた下記式（Ｖ）
【化１３９】
0006988988.tif 000141
で表される化合物５．０ｇ（６．３×１０-3ｍｏｌ）を８０℃まで加熱した。続いて、塩化白金酸／ビニルシロキサン錯体のトルエン溶液５．０×１０-3ｇ（Ｐｔ単体として１．５×１０-7ｍｏｌを含有）を添加した後、７−オクテニルトリメトキシシラン５．９ｇ（２．５×１０-2ｍｏｌ）を滴下し、３時間加熱撹拌した。その後、溶剤及び未反応物を減圧留去することで、下記式（Ｗ）
【化１４０】
0006988988.tif 000142
で示される生成物（親油性基含有加水分解性オルガノシロキサン化合物９）を８．１ｇ得た。【０１７９】
1Ｈ−ＮＭＲ
δ０．１−０．２（−Ｓｉ−ＣＨ3）３０Ｈ
δ０．５（−（ＣＨ2）7ＣＨ2−Ｓｉ（Ｏ−Ｓｉ（ＣＨ3）2−）3）２Ｈ
δ０．６−０．８（−Ｃ6Ｈ4−Ｓｉ−ＣＨ2−，−ＳｉＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2−Ｓｉ（ＯＣＨ3）3，−ＳｉＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2−Ｓｉ（ＯＣＨ3）3）１６Ｈ
δ１．０−１．２（−Ｎ（ＣＨ2ＣＨ3）2）６Ｈ
δ１．２−１．４（−（ＣＨ2）7−，−Ｓｉ−ＣＨ2（ＣＨ2）6ＣＨ2−Ｓｉ−）２６Ｈ
δ１．５（−ＳｉＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2−Ｓｉ（ＯＣＨ3）3）６Ｈ
δ１．６（−ＮＯＣ−ＣＨ2ＣＨ2（ＣＨ2）7ＣＨ2−Ｓｉ−）２Ｈ
δ２．３（−ＮＯＣ−ＣＨ2−）２Ｈ
δ３．２−３．４（−Ｎ（ＣＨ2ＣＨ3）2）４Ｈ
δ３．５（−ＳｉＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2−Ｓｉ（ＯＣＨ3）3）２７Ｈ
δ７．５（−Ｓｉ−Ｃ6Ｈ4−Ｓｉ−）４Ｈ【０１８０】
［合成例６］
反応容器に入れた１，２−ビス（ジメチルシリル）エタン１３．８ｇ（９．４２×１０-2ｍｏｌ）を８０℃まで加熱した。続いて、塩化白金酸／ビニルシロキサン錯体のトルエン溶液１．０×１０-2ｇ（Ｐｔ単体として０．３×１０-6ｍｏｌを含有）を添加した後、ウンデセン酸エチル４．０ｇ（１．８９×１０-2ｍｏｌ）を３時間かけて滴下し、１時間加熱撹拌した。その後、溶剤及び未反応物を減圧留去することで、下記式（Ｘ）
【化１４１】
0006988988.tif 000143
で示される生成物を６．５ｇ得た。【０１８１】
1Ｈ−ＮＭＲ
δ０．２−０．４（−Ｓｉ−ＣＨ3）１２Ｈ
δ０．７（−ＣＨ2−Ｓｉ−）６Ｈ
δ１．２−１．５（−（ＣＨ2）7−，−ＯＣＨ2ＣＨ3）１７Ｈ
δ１．６（−ＯＯＣ−ＣＨ2ＣＨ2（ＣＨ2）7ＣＨ2−Ｓｉ−）２Ｈ
δ２．３（−ＯＯＣ−ＣＨ2−）２Ｈ
δ４．１（−ＯＣＨ2ＣＨ3）２Ｈ
δ４．４（−Ｓｉ−Ｈ）１Ｈ【０１８２】
反応容器に入れた、上記で得られた下記式（Ｘ）
【化１４２】
0006988988.tif 000144
で表される化合物６．０ｇ（１．６７×１０-2ｍｏｌ）を８０℃まで加熱した。続いて、塩化白金酸／ビニルシロキサン錯体のトルエン溶液１．０×１０-2ｇ（Ｐｔ単体として０．３×１０-6ｍｏｌを含有）を添加した後、７−オクテニルトリメトキシシラン５．５ｇ（２．３４×１０-2ｍｏｌ）を滴下し、３時間加熱撹拌した。その後、溶剤及び未反応物を減圧留去することで、下記式（Ｙ）
【化１４３】
0006988988.tif 000145
で示される化合物を８．０ｇ得た。【０１８３】
1Ｈ−ＮＭＲ
δ０．２（−Ｓｉ−ＣＨ3）１２Ｈ
δ０．６（−ＣＨ2−Ｓｉ−，）８Ｈ
δ０．７（−ＣＨ2−Ｓｉ（ＯＣＨ3）3）２Ｈ
δ１．２−１．４（−（ＣＨ2）7−，−（ＣＨ2）6−，−ＯＣＨ2ＣＨ3）３１Ｈ
δ１．６（−ＯＯＣ−ＣＨ2ＣＨ2（ＣＨ2）7ＣＨ2−Ｓｉ−）２Ｈ
δ２．３（−ＯＯＣ−ＣＨ2−）２Ｈ
δ３．５（−ＳｉＣＨ2（ＣＨ2）6ＣＨ2−Ｓｉ（ＯＣＨ3）3）９Ｈ
δ４．１（−ＯＣＨ2ＣＨ3）２Ｈ【０１８４】
［実施例１０］
反応容器に入れたテトラメチルジシロキサン５．３ｇ（４．０×１０-2ｍｏｌ）、１２規定塩酸水溶液４．３ｇ、１，４−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン５．０ｇの混合物を０℃まで冷却した。続いて、上記合成例６で合成した下記式（Ｙ）
【化１４４】
0006988988.tif 000146
で表される化合物６．０ｇ（１．０２×１０-2ｍｏｌ）を滴下し、０℃で６時間熟成した。その後、分液操作により下層を回収し、溶剤及び未反応物を減圧留去することで、下記式（Ｚ）
【化１４５】
0006988988.tif 000147
で示される生成物を５．５ｇ得た。【０１８５】
1Ｈ−ＮＭＲ
δ０．１−０．２（−Ｓｉ−ＣＨ3）３０Ｈ
δ０．５（−（ＣＨ2）7ＣＨ2−Ｓｉ（Ｏ−Ｓｉ（ＣＨ3）2−）3）２Ｈ
δ０．７−０．８（−Ｓｉ−ＣＨ2−）８Ｈ
δ１．２−１．５（−（ＣＨ2）7−，−ＯＣＨ2ＣＨ3,−Ｓｉ−ＣＨ2（ＣＨ2）6ＣＨ2−Ｓｉ−）２９Ｈ
δ１．６（−ＯＯＣ−ＣＨ2ＣＨ2（ＣＨ2）7ＣＨ2−Ｓｉ−）２Ｈ
δ２．３（−ＯＯＣ−ＣＨ2−）２Ｈ
δ４．１（−ＯＣＨ2ＣＨ3）２Ｈ
δ４．７（−Ｓｉ−Ｈ）３Ｈ【０１８６】
反応容器に入れた、上記で得られた下記式（Ｚ）
【化１４６】
0006988988.tif 000148
で表される化合物５．０ｇ（７．１×１０-3ｍｏｌ）を８０℃まで加熱した。続いて、塩化白金酸／ビニルシロキサン錯体のトルエン溶液５．０×１０-3ｇ（Ｐｔ単体として１．５×１０-7ｍｏｌを含有）を添加した後、７−オクテニルトリメトキシシラン５．８ｇ（２．５×１０-2ｍｏｌ）を滴下し、３時間加熱撹拌した。その後、溶剤及び未反応物を減圧留去することで、下記式（ＡＡ）
【化１４７】
0006988988.tif 000149
で示される生成物（親油性基含有加水分解性オルガノシロキサン化合物１０）を７．７ｇ得た。【０１８７】
1Ｈ−ＮＭＲ
δ０．１−０．２（−Ｓｉ−ＣＨ3）３０Ｈ
δ０．５（−（ＣＨ2）7ＣＨ2−Ｓｉ（Ｏ−Ｓｉ（ＣＨ3）2−）3）２Ｈ
δ０．６−０．８（−Ｓｉ−ＣＨ2−，−6ＣＨ2−Ｓｉ（ＯＣＨ3）3）２０Ｈ
δ１．２−１．４（−（ＣＨ2）7−，−ＯＣＨ2ＣＨ3）１７Ｈ
δ１．５（−ＳｉＣＨ2（ＣＨ2）6ＣＨ2−Ｓｉ（ＯＣＨ3）3）３６Ｈ
δ１．６（−ＯＯＣ−ＣＨ2ＣＨ2（ＣＨ2）7ＣＨ2−Ｓｉ−）２Ｈ
δ２．３（−ＯＯＣ−ＣＨ2−）２Ｈ
δ３．５（−ＳｉＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2−Ｓｉ（ＯＣＨ3）3）２７Ｈ
δ４．１（−ＯＣＨ2ＣＨ3）２Ｈ【０１８８】
［合成例７］
反応容器に入れた１，８−ビス（ジメチルシリル）オクタン１０．０ｇ（４．３４×１０-2ｍｏｌ）を８０℃まで加熱した。続いて、塩化白金酸／ビニルシロキサン錯体のトルエン溶液１．０×１０-2ｇ（Ｐｔ単体として０．３×１０-6ｍｏｌを含有）を添加した後、ウンデセン酸エチル１．９ｇ（８．９６×１０-3ｍｏｌ）を３時間かけて滴下し、１時間加熱撹拌した。その後、溶剤及び未反応物を減圧留去することで、下記式（ＡＢ）
【化１４８】
0006988988.tif 000150
で示される生成物を４．１ｇ得た。【０１８９】
1Ｈ−ＮＭＲ
δ０．２−０．４（−Ｓｉ−ＣＨ3）１２Ｈ
δ０．７（−ＣＨ2−Ｓｉ−）６Ｈ
δ１．２−１．５（−（ＣＨ2）7−，−ＯＣＨ2ＣＨ3）２９Ｈ
δ１．６（−ＯＯＣ−ＣＨ2ＣＨ2（ＣＨ2）7ＣＨ2−Ｓｉ−）２Ｈ
δ２．３（−ＯＯＣ−ＣＨ2−）２Ｈ
δ４．１（−ＯＣＨ2ＣＨ3）２Ｈ
δ４．４（−Ｓｉ−Ｈ）１Ｈ【０１９０】
反応容器に入れた、上記で得られた下記式（ＡＢ）
【化１４９】
0006988988.tif 000151
で表される化合物４．０ｇ（９．０３×１０-3ｍｏｌ）を８０℃まで加熱した。続いて、塩化白金酸／ビニルシロキサン錯体のトルエン溶液１．０×１０-2ｇ（Ｐｔ単体として０．３×１０-6ｍｏｌを含有）を添加した後、７−オクテニルトリメトキシシラン２．９ｇ（１．２６×１０-2ｍｏｌ）を滴下し、３時間加熱撹拌した。その後、溶剤及び未反応物を減圧留去することで、下記式（ＡＣ）
【化１５０】
0006988988.tif 000152
で示される化合物を５．０ｇ得た。【０１９１】
1Ｈ−ＮＭＲ
δ０．２（−Ｓｉ−ＣＨ3）１２Ｈ
δ０．６（−ＣＨ2−Ｓｉ−，）８Ｈ
δ０．７（−ＣＨ2−Ｓｉ（ＯＣＨ3）3）２Ｈ
δ１．２−１．４（−（ＣＨ2）7−，−（ＣＨ2）6−，−ＯＣＨ2ＣＨ3）４３Ｈ
δ１．６（−ＯＯＣ−ＣＨ2ＣＨ2（ＣＨ2）7ＣＨ2−Ｓｉ−）２Ｈ
δ２．３（−ＯＯＣ−ＣＨ2−）２Ｈ
δ３．５（−ＳｉＣＨ2（ＣＨ2）6ＣＨ2−Ｓｉ（ＯＣＨ3）3）９Ｈ
δ４．１（−ＯＣＨ2ＣＨ3）２Ｈ【０１９２】
［実施例１１］
反応容器に入れたテトラメチルジシロキサン１．８ｇ（１．３６×１０-2ｍｏｌ）、１２規定塩酸水溶液１．５ｇ、１，４−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン５．０ｇの混合物を０℃まで冷却した。続いて、上記合成例７で合成した下記式（ＡＣ）
【化１５１】
0006988988.tif 000153
で表される化合物４．０ｇ（５．９２×１０-3ｍｏｌ）を滴下し、０℃で６時間熟成した。その後、分液操作により下層を回収し、溶剤及び未反応物を減圧留去することで、下記式（ＡＤ）
【化１５２】
0006988988.tif 000154
で示される生成物を３．３ｇ得た。【０１９３】
1Ｈ−ＮＭＲ
δ０．１−０．２（−Ｓｉ−ＣＨ3）３０Ｈ
δ０．５（−（ＣＨ2）7ＣＨ2−Ｓｉ（Ｏ−Ｓｉ（ＣＨ3）2−）3）２Ｈ
δ０．７−０．８（−Ｓｉ−ＣＨ2−）８Ｈ
δ１．２−１．５（−（ＣＨ2）7−，−ＯＣＨ2ＣＨ3,−Ｓｉ−ＣＨ2（ＣＨ2）6ＣＨ2−Ｓｉ−）４１Ｈ
δ１．６（−ＯＯＣ−ＣＨ2ＣＨ2（ＣＨ2）7ＣＨ2−Ｓｉ−）２Ｈ
δ２．３（−ＯＯＣ−ＣＨ2−）２Ｈ
δ４．１（−ＯＣＨ2ＣＨ3）２Ｈ
δ４．７（−Ｓｉ−Ｈ）３Ｈ【０１９４】
反応容器に入れた、上記で得られた下記式（ＡＤ）
【化１５３】
0006988988.tif 000155
で表される化合物２．０ｇ（２．４８×１０-3ｍｏｌ）を８０℃まで加熱した。続いて、塩化白金酸／ビニルシロキサン錯体のトルエン溶液５．０×１０-3ｇ（Ｐｔ単体として１．５×１０-7ｍｏｌを含有）を添加した後、７−オクテニルトリメトキシシラン３．４ｇ（１．４７×１０-2ｍｏｌ）を滴下し、３時間加熱撹拌した。その後、溶剤及び未反応物を減圧留去することで、下記式（ＡＥ）
【化１５４】
0006988988.tif 000156
で示される生成物（親油性基含有加水分解性オルガノシロキサン化合物１１）を３．８ｇ得た。【０１９５】
1Ｈ−ＮＭＲ
δ０．１−０．２（−Ｓｉ−ＣＨ3）３０Ｈ
δ０．５（−（ＣＨ2）7ＣＨ2−Ｓｉ（Ｏ−Ｓｉ（ＣＨ3）2−）3）２Ｈ
δ０．６−０．８（−Ｓｉ−ＣＨ2−，−6ＣＨ2−Ｓｉ（ＯＣＨ3）3）２０Ｈ
δ１．２−１．４（−（ＣＨ2）6−，−（ＣＨ2）7−，−ＯＣＨ2ＣＨ3）２９Ｈ
δ１．５（−ＳｉＣＨ2（ＣＨ2）6ＣＨ2−Ｓｉ（ＯＣＨ3）3）３６Ｈ
δ１．６（−ＯＯＣ−ＣＨ2ＣＨ2（ＣＨ2）7ＣＨ2−Ｓｉ−）２Ｈ
δ２．３（−ＯＯＣ−ＣＨ2−）２Ｈ
δ３．５（−ＳｉＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2−Ｓｉ（ＯＣＨ3）3）２７Ｈ
δ４．１（−ＯＣＨ2ＣＨ3）２Ｈ【０１９６】
比較例として、以下の化合物を使用した。
［比較例１］
下記式（ＡＦ）で示される親油性基含有加水分解性オルガノシラン化合物１２
【化１５５】
0006988988.tif 000157
【０１９７】
［比較例２］
下記式（ＡＧ）で示される加水分解性オルガノシラン化合物１３
【化１５６】
0006988988.tif 000158
【０１９８】
表面処理剤の調製及び硬化被膜の形成
実施例１〜１１で得られた式（Ｃ）、（Ｇ）、（Ｊ）、（Ｎ）、（Ｏ）、（Ｐ）、（Ｑ）、（Ｒ）、（Ｗ）、（ＡＡ）、（ＡＥ）で示される親油性基含有加水分解性オルガノシロキサン化合物１〜１１、及び比較例１、２の式（ＡＦ）、（ＡＧ）で示される加水分解性オルガノシラン化合物１２、１３を濃度０．１質量％、更に酢酸を濃度０．１質量％になるようプロピレングリコールモノメチルエーテルに溶解させて表面処理剤を調製した。その後、コーニング社製Ｇｏｒｉｌｌａガラスに、ディップ塗工し、１２０℃、３０分硬化させ、膜厚約５〜１０ｎｍの硬化被膜を作製した。【０１９９】
指紋低視認性の評価
［指紋視認性の評価］
上記にて作製した硬化被膜を形成したガラスに１ｋｇ荷重で皮脂を付着させ、その視認性について以下４段階にて目視による官能評価を行った。結果を表１に示す。
４：指紋がほとんど見えない
３：指紋がわずかに見える
２：指紋が薄いがはっきり見える
１：指紋がはっきり見える【０２００】
［ヘーズの評価］
上記にて作製した硬化被膜を形成したガラスに１ｋｇ荷重で皮脂を付着させ、ヘーズメーターＮＤＨ５０００（日本電色工業社製）を用いてヘーズ（ＨＡＺＥ）を測定した。結果を表１に示す。【０２０１】
［親油性の評価］
上記にて作製した硬化被膜を形成したガラスについて、接触角計Ｄｒｏｐ  Ｍａｓｔｅｒ（協和界面科学社製）を用いて、硬化被膜のオレイン酸に対する接触角（親油性）を測定した（液滴：２μｌ、温度：２５℃、湿度（ＲＨ）：４０％）。結果（オレイン酸接触角）を表１に示す。【０２０２】
耐摩耗性の評価
［耐消しゴム摩耗耐久回数の評価］
上記にて作製した硬化被膜を形成したガラスについて、ラビングテスター（新東科学社製）を用いて、耐消しゴム摩耗耐久回数を下記条件で測定した。結果を表１に示す。
消しゴム：ＲＵＢＢＥＲ  ＳＴＩＣＫ（Ｍｉｎｏａｎ社製）
移動距離（片道）３０ｍｍ
移動速度：３，６００ｍｍ／分
荷重：１ｋｇ／６ｍｍ2φ
なお、２００回擦る毎に、硬化被膜表面の水接触角を測定し、水接触角が５０°以上を保持できる回数を摩耗耐久回数とした。また、評価はＮ＝８で行った平均回数とした。【０２０３】
【表１】
0006988988.tif 000159
【０２０４】
実施例１〜１１は、いずれにおいても指紋が全く見えず、更に高い耐消しゴム摩耗耐久性が確認された。一方、分子内に柔軟なシロキサン骨格を含有せず、かつトリアルコキシシリル基を一つしか有さない比較例１、２は、いずれも指紋は目立たないものの、耐消しゴム摩耗耐久性が低かった。
ヘーズメーターによるヘーズの測定では、実施例はいずれもヘーズの値が低く、官能評価の結果と良い相関となった。