(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガラス基板の所定領域を蒸着マスクにより蒸着エリアとして規定し、当該蒸着エリアに対して薄膜を蒸着するガラス基板用蒸着装置において、
前記蒸着マスクは、可撓性を有する帯状板を少なくとも４枚枠状に組合せてなり、当該各帯状板が個別に独立して移動自在に支持され、
前記ガラス基板又は帯状板が熱膨張により形状変化した場合に、当該形状変化に伴って前記帯状板が移動することを
特徴とするガラス基板用蒸着装置。
【請求項２】
前記請求項１に記載のガラス基板用蒸着装置において、
前記枠状のマスクは、前記ガラス基板の中央部及び周辺部の各領域に同時に蒸着膜を形成するように配置されることを
特徴とするガラス基板用蒸着装置。
【請求項３】
前記請求項１又は２に記載のガラス基板用蒸着装置において、
前記各帯状板の一端又は両端を長孔又は弾性体で支持されることを
特徴とするガラス基板用蒸着装置。
【請求項４】
前記請求項１ないし３のいづれかに記載のガラス基板用蒸着装置において、
前記ガラス基板を保持する保持部材の先端部が、球形状を有し且つ断熱性及び可塑性を有する材料により形成されていることを
特徴とするガラス基板用蒸着装置。
【請求項５】
前記請求項１ないし４のいづれかに記載のガラス基板用蒸着装置において、
前記帯状板のガラス基板と対向する面に弾性又は可塑性の材料膜を形成してなることを
特徴とするガラス基板用蒸着装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は平面表示パネルの電極支持基板などに用いられるガラス基板に対して電極、保護膜等の薄膜を蒸着形成するガラス基板用蒸着装置に関し、特にガラス基板に対向して配設される蒸着マスクの支持を改良したガラス基板用蒸着装置に関する。
【０００２】
平面表示パネルは大表示画面化すると共に、装置自体の軽量化が望まれている。この大表示画面化に伴って、平面表示パネルに用いられるガラス基板の面積も大型化し、また平面表示パネルを軽量化するためにガラス基板自体を薄く形成することが要求されている。このように大型化され、又は薄く形成されるガラス基板の所定領域に対して基板を破損させることなく均一な膜を成膜することが必要となる。
【０００３】
【従来の技術】
従来、この種のガラス基板用蒸着装置としてＥＬ（Ｅｌｅｃｔｒｏｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ）パネルの発光層形成に適用した例が特公昭６３−１５７１４号公報に開示されており、これを図７（Ａ）及び図７（Ｂ）に示す。前記各図において従来のガラス基板用蒸着装置は、蒸着窓８１を有した蒸着マスク８０上にガラス基板１００を所定の間隙８５を介して載置し、このガラス基板１００を加熱してこの表面に温度依存性の大きい材料を加熱蒸発させることにより付着させて発光層を膜形成する構成である。前記蒸着マスク８０は、方形状の板状体からなり、この板状体の略中央に方形状の開口部として蒸着窓８１が穿設され、この蒸着窓８１の外周辺に段差状に凹部８２が形成され、この凹部８２の四角部分に凸状の基板固定部８３が形成される構成である。
【０００４】
次に、前記構成に基づくガラス基板用蒸着装置のＥＬパネル形成動作について説明する。まず、蒸発源８４を加熱して蒸気８４ａを発生させ、この蒸気８４ａを蒸着マスク８０の蒸着窓８１を介してガラス基板１００上に付着させる。この蒸気８４ａの付着によりガラス基板１００上に発光層の膜を形成できることとなる。この発光層の膜は、蒸発源８４にＺｎＳ；Ｍｎ等からなる発光層材を載置しているのでＺｎＳ；Ｍｎによる発光層が形成される。
【０００５】
前記蒸着マスク８０の基板固定部８３によって蒸着マスク８０とガラス基板１００との間に間隙８５を設けているために、蒸着マスク８０とガラス基板１００との熱伝導率や熱容量の差に起因する温度差が生じても蒸着マスク８０からガラス基板１００への熱の移動は蒸着窓８１付近では起こらない。わずかに基板固定部８３からガラス基板１００へ熱が伝導するが、この基板固定部８３はガラス基板１００の蒸着面から十分に離し、また接触面積も小さくしているため蒸着面への熱伝導は極力おさえられる。
【０００６】
従って、ガラス基板１００の蒸着面内での温度分布は均一となるので、例示しているＺｎＳ；Ｍｎの高温では膜形成速度の低下となる性質からの形成膜厚の不均一は発生せず均一な発光層が形成できるとしている。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら従来のガラス基板用蒸着装置は以上のように構成されていたことから、蒸気８４ａを発生させるために蒸発源８４からの発熱によりガラス基板１００に撓みが生じ、この撓んだガラス基板１００と蒸着マスク８０とが接触してガラス基板１００が破損するという課題を有する。即ち、前記ガラス基板１００の熱伝導率と蒸着マスク８０の熱伝導率とが異なるため、蒸発源８４から熱が加えられると撓みに差異が生じてガラス基板１００が蒸着マスク８０に接触して破損することとなる。
【０００８】
また、蒸着マスク８０によりガラス基板１００の外周辺の総てが遮蔽されているため、ガラス基板１００の中心部分と遮蔽された外周辺部分との間に大きな温度分布の差異が生じ、この温度分布の差異によりガラス基板１００が破損するという課題を有する。
【０００９】
本発明は前記課題を解消するためになされたもので、ガラス基板を破損することなく安定且つ確実にガラス基板に対する薄膜蒸着ができるガラス基板用蒸着装置の提供を目的とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
本発明に係るガラス基板用蒸着装置は、ガラス基板の所定領域を蒸着マスクにより蒸着エリアとして規定し、当該蒸着エリアに対して薄膜を蒸着するガラス基板用蒸着装置において、前記蒸着マスクは、可撓性を有する帯状板を少なくとも４枚枠状に組合せてなり、当該各帯状板が個別に独立して移動自在に支持され、前記ガラス基板又は帯状板が熱膨張により形状変化した場合に、当該形状変化に伴って前記帯状板が移動するものである。このように本発明においては、可撓性を有する帯状板を個別独立且つ移動自在に支持して組合せることにより蒸着マスクを形成していることから、ガラス基板又は帯状板の熱膨張による形状変化に伴う撓みが生じても、この撓みによる変形に対応して帯状板が移動自在に支持することとなり、この帯状板からガラス基板に対して応力が加えられなくなり、ガラス基板の破損を防止できる。
【００１１】
また、本発明に係るガラス基板用蒸着装置は必要に応じて、ガラス基板と一体化する他のガラス基板のシール部に対向する枠状のシール接合領域を、前記組合された帯状板でマスクするものでる。このように本発明においては、ガラス基板の中央部及び周辺部の各領域に同時に蒸着膜が形成されるように枠状マスクが配設されることから、蒸着時のガラス基板の温度分布を均一にして割れ、破損を極力防止できる。配置例としてプラズマディスプレイパネルのＭｇＯ保護膜を形成する場合は、当該ガラス基板と一体化する他のガラス基板のシール部に対向する枠状のシール接合領域に、前記組合された帯状板からなる枠状のマスクを配設する。このような配置例によれば、枠状のシール接合領域を組合された帯状板でマスクするようにしているので、シール接合領域の内側の表示領域にＭｇＯ保護膜を蒸着できると共に、シール接合領域の外周領域にＭｇＯ保護膜を蒸着できることとなり、ガラス基板の温度分布をより均一にしてガラス基板の割れ、破損を極力防止できる。
【００１２】
また、本発明に係るガラス基板用蒸着装置は必要に応じて、前記各帯状板の一端又は両端を長孔又は弾性体で支持されるものである。このように本発明においては、蒸着マスクを構成する各帯状板がその一端又は両端を長孔又は弾性体で支持されているので、ガラス基板又は帯状板に撓みが生じても長孔で規制されつつ又は弾性体の弾性方向で規制されつつ、帯状板の長手方向及びこの長手方向下方へのみ移動することとなり、ガラス基板に対する蒸着マスクの位置ずれを防止して常に正確なマスキング動作が実行できる。
【００１３】
また、本発明に係るガラス基板用蒸着装置は必要に応じて、前記ガラス基板を保持する保持部材の先端部が、球形状を有し且つ断熱性及び可塑性を有する材料により形成されるものである。このように本発明においては、球形状で断熱性及び可塑性の材料からなる先端部の保持部材でガラス基板を保持するようにしているので、ガラス基板を支持する帯状板が略弓形状に屈曲変化してもガラス基板を球形状の先端部で保持部材が当接保持しているので、安定且つ確実な支持が可能となる。また、本発明においては、帯状板に対する押圧力及び帯状板自体の変形を長孔による支持又は弾性体による支持で吸収できることとなり、ガラス基板に対する応力をより減衰させてガラス基板の破損を防止できる。
【００１４】
【発明の実施の形態】
（本発明の第１の実施形態）
以下、本発明の第１の実施形態に係るガラス基板用蒸着装置をプラズマディスプレイ（ＰＤＰ）のＭｇＯ保護膜を蒸着形成する場合について図１及び図２に基づいて説明する。図１は第１の実施形態に係るガラス基板用蒸着装置を下方から見た平面図及びこのＡ−Ａ線断面図、図２は図１に記載するガラス基板用蒸着装置の動作説明図、図３は図２における部分詳細説明図である。なお、蒸発源等は省略している。
【００１５】
前記各図において第１の実施形態に係るガラス基板用蒸着装置は、略中央にＰＤＰ用ガラス基板１００を収納する取付開口部１０を有する基板支持枠１と、この基板支持枠１から取付開口部１０内に突出して配設され、この突出する側端に取付られた支持片２１ａ、〜、２４ａをガラス基板１００に当接させて蒸着状態を保持する基板保持部２１、〜、２４と、前記取付開口部１０に縦横に各々架け渡した井桁（枠）状に組合せてなり、前記ガラス基板１００の周辺のシール接合領域をマスクするように配設される帯状板３１、〜、３４と、前記基板支持枠１から取付開口部１０内に突出して配設され、この突出した先端部分で前記帯状板３１、〜、３４を下方から支持するマスク受け板ばね４１ａ・４１ｂ・４１ｃ、〜、４４ａ・４４ｂ・４４ｃとで蒸着マスクを形成する構成である。
【００１６】
前記基板保持部２１、〜、２４の支持片２１ａ、〜、２４ａは、先端を球形状とし、断熱性・可撓性を有する、例えばポリイミド系材料を用いることもできる。この支持片２１ａ、〜、２４ａの先端を球形状とすることにより、蒸着の際に加えられる熱応力によりガラス基板１００に撓み（熱変形）が生じた場合にも、常にガラス基板１００の基板面に対して垂直に安定した支持ができることとなる。
【００１７】
前記帯状板３１、〜、３４は、その板幅をシール接合領域に対応する幅で形成され、４枚を矩形状の枠体として組合せることにより蒸着マスクとして構成している。この帯状板３１、〜、３４の両端近傍には各々長孔３１ａ・３１ｂ、〜、３４ａ・３４ｂが穿設され、この各長孔３１ａ・３１ｂ、〜、３４ａ・３４ｂに突片３１ｃ・３１ｄ、〜、３４ｃ・３４ｄが挿通される構成である。この突片３１ｃ・３１ｄ、〜、３４ｃ・３４ｄは、帯状板３１、〜、３４をこの長手方向に対してスライド移動自在に支持すると共に、この長手方向に直交する方向への移動を規制している。この帯状板３１、〜、３４は、ニッケル・鉄の合金材料で形成することもでき、この合金で形成した場合にはガラス基板１００の熱膨張係数により近づけることができることとなる。
【００１８】
前記マスク受け板ばね４１ａ・４１ｂ・４１ｃ、〜、４４ａ・４４ｂ・４４ｃは、前記ガラス基板１００が撓む最大幅（変形の最大幅）を全部又は一部を吸収する弾性力を有する構成である。例えば、４２インチのＰＤＰに用いられるガラス基板１００は、長手方向の端部から約３０ｃｍの位置を基板保持部２１、〜、２４の４箇所で保持した場合には、その最大撓み幅が約３ｍｍとなり、この撓み幅の３ｍｍを吸収できるマスク受け板ばね４１ａ・４１ｂ・４１ｃ、〜、４４ａ・４４ｂ・４４ｃの弾性力が必要となる。
【００１９】
次に、前記構成に基づく本実施形態に係るガラス基板用蒸着装置によりＰＤＰのガラス基板に保護膜を蒸着する動作について説明する。まず、基板支持枠１の取付開口部１０内に、予め複数の電極とそれらを覆う誘電体層が形成されたガラス基板１００を収納して基板保持部２１、〜、２４上に載置する。このガラス基板１００を基板保持部２１、〜、２４に載置した状態で、蒸発源（図示を省略）の加熱により酸化マグネシウム（ＭｇＯ）を蒸発させて蒸気流の酸化マグネシウムを発生させる。この蒸気流の酸化マグネシウムを、ガラス基板１００上の電極を覆った誘電体層（図示を省略）の表面上に結晶成長させて成膜が開始する。
【００２０】
この成膜開始後において、蒸発源により発生した熱がガラス基板１００に熱応力として加えられ、この熱応力によりガラス基板１００に撓みが生じる。このガラス基板１００の撓みにより図２中に示すように破線で示す当初の形状から実線で示す形状に変形することとなる。このガラス基板１００の変形により帯状板３１、〜、３４に図２中に示す矢印Ａ方向に押圧力が加えられる。この押圧力により帯状板３１、〜、３４が略弓形状に変形し、この変形に伴って両端近傍の長孔３１ａ・３１ｂ、〜、３４ａ・３４ｂが突片３１ｃ・３１ｄ、〜、３４ｃ・３４ｄに規制されつつスライド移動する。この突片３１ｃ・３１ｄ、〜、３４ｃ・３４ｄの規制により、図３（Ａ）に示すように帯状板３１、〜、３４はこの長手方向（図示矢印Ｂ又はＣ方向）及びこの長手方向の下方へのみ移動し、これ以外の方向（図示矢印Ｘ方向）へ移動することがない。このように帯状板３１、〜、３４を長手方向及びこの下方へのみ移動させることにより、ガラス基板１００のシール接合領域（非蒸着領域）から位置ずれすることなく常に正確にマスキング動作が実行できる。
【００２１】
前記帯状板３１、〜、３４が略弓形状の下方へ屈曲変化すると、これを下方から支持するマスク受け板ばね４１ａ・４１ｂ・４１ｃ、〜、４４ａ・４４ｂ・４４ｃが図２中に示す矢印Ａ方向へ押し下げられ、図３（Ｂ）に破線で示す帯状板３１（３２、〜、３４）及びマスク受け板ばね４１ｂ（４１ａ・４２ｂ、〜、４４ｄ）から実線で示す位置まで変位する。このようにガラス基板１００の熱変形に伴って帯状板３１、〜、３４及びこれを支持するマスク受け板ばね４１ａ・４１ｂ・４１ｃ、〜、４４ａ・４４ｂ・４４ｃが変位することから、ガラス基板１００に帯状板３１、〜、３４からなる蒸着マスクが押圧接触してもガラス基板１００に固定的な応力が加えられることがなくなり、ガラス基板１００の割れ、破損を未然に防止できる。
【００２２】
また、前記帯状板３１、〜、３４が略弓形状に屈曲変化しても、先端が球形状に形成された支持片２１ａ、〜、２４ａでガラス基板１００を当接支持するようにしているので、図３（Ｃ）に示すようにガラス基板１００の蒸着面に対して垂直な角度で支持片２１ａ、〜、２４ａが当接しているのでより安定且つ確実な支持ができる。
【００２３】
このように４枚の帯状板３１、〜、３４を井桁状に組合せて蒸着マスクを形成しているので、図４（Ａ）に示すように前記ガラス基板１００のシール接合領域１０１のみを非蒸着領域としてマスクできる。従って、このシール接合領域１０１の内側の表示面に対応した表示領域１０２に酸化マグネシウムの保護層が成膜できると共に、前記シール接合領域１０１の外周辺部１０３も酸化マグネシウムを成膜できることとなる。なお、外周辺部の特に電極端子領域に成膜された酸化マグネシウムは、この後除去する必要がある。このように前記シール接合領域１０１の内外（表示領域１０２及び外周辺部１０３）を同時に蒸着することによりガラス基板１００の温度分布をより均一にして割れ、破損を極力防止できる。
【００２４】
なお、前記実施形態においては４枚の帯状板３１、〜、３４を井桁状に組合せる構成としたが、５枚の帯状板で図４（Ｂ）に示すようにシール接合領域１０１の外に試験端子領域１０４をマスクして形成する構成とすることもできる。この試験用端子領域１０４は試験工程が終了した後切断される。
【００２５】
（本発明の第２実施の形態）
図５は第２の実施形態に係るガラス基板用蒸着装置の断面図及び帯状板の支持構造詳細図である。同図において本実施形態に係るガラス基板用蒸着装置は、前記図１に記載の蒸着装置と同様に基板支持枠１と、基板保持部２１、〜、２４と、帯状板３１、〜、３４と、マスク受け板ばね４１ａ・４１ｂ・４１ｃ、〜、４４ａ・４４ｂ・４４ｃとを備え、この構成に加え、この帯状板３１、〜、３４両端部にコイルばね５１ａ・５１ｂ、〜、５４ａ・５４ｂを接続し、この帯状板３１、〜、３４の両端近傍をガイド５１ｃ・５１ｄ、〜、５４ｃ・５４ｄに挿通してスライド自在に支持する構成である。このコイルばね５１ａ・５１ｂ、〜、５４ａ・５４ｂは、一端を帯状板３１、〜、３４の端部に形成される取付孔３１１ａ・３１１ｂ、〜、３１４ａ・３１４ｂに挿通され、他端を基板支持枠１の取付ピン１１ａ・１１ｂ、〜、１４ａ・１４ｂに係合固定される構成である。
【００２６】
前記構成に基づき本実施形態に係るガラス基板用蒸着装置は、前記第１の実施形態と同様にガラス基板１００が蒸着成膜中に熱応力による撓みで形状変化が生じ、この形状変化により帯状板３１、〜、３４に押圧接触したとしても、前記コイルばね５１ａ・５１ｂ、〜、５４ａ・５４ｂが伸延してこの押圧接触による応力を吸収できる。このコイルばね５１ａ・５１ｂ、〜、５４ａ・５４ｂの伸延に伴って帯状板３１、〜、３４が長手方向（図示矢印Ｄ方向）にスライド移動することとなるが、この帯状板３１、〜、３４のスライド移動を矢印Ｄ方向にのみガイド５１ｃ・５１ｄ、〜、５４ｃ・５４ｄが規制して長手方向に直交するＸ方向への揺れ、ずれを防止している。
【００２７】
このように、ガラス基板１００の変形若しくは帯状板３１、〜、３４自体の熱膨張に伴う帯状板３１、〜、３４からの応力をコイルばね５１ａ・５１ｂ、〜、５４ａ・５４ｂで吸収することにより、ガラス基板１００に帯状板３１、〜、３４からの応力が加えられなくなり、ガラス基板１００の割れ、破損を防止できる。
【００２８】
前記実施形態においては帯状板３１、〜、３４をスライド移動させることによりガラス基板１００の変形等に基づく帯状板３１、〜、３４からの応力を吸収する構成としたが、図６（Ａ）、（Ｂ）に示すように帯状板３１、〜、３４のガラス基板１００に対向する面に弾性又は可塑性を有する中間支持材６を配設する構成とすることもできる。この中間支持部材６は、例えばポリイミド系樹脂又はシリコーン系樹脂等で形成することもできる。
【００２９】
このように帯状板３１、〜、３４に中間支持材６を配設することにより、ガラス基板１００が蒸着成膜中に図６（Ｂ）に示す矢印Ａ方向へ変形して帯状板３１、〜、３４側に押圧力が生じたとしても中間支持材６が弾性変形又は可塑性変形することにより、ガラス基板１００の変形に伴う押圧力を吸収できる。この押圧力の吸収により帯状板３１、〜、３４からの応力がガラス基板１００側へ加えられなくなり、ガラス基板１００の割れ、破損を未然に防止できる。
【００３０】
なお、前記各実施形態においてはＰＤＰの保護膜を酸化マグネシウムの薄膜蒸着により形成したが、他の材料により保護膜を蒸着して形成することもでき、また保護膜以外に透明電極用のＩＴＯ膜等を蒸着して形成することもできる。
【００３１】
また、前記実施形態においてはＰＤＰを対象として説明したが、他のＬＣＤ（Ｌｉｑｕｉｄ  Ｃｒｙｓｔａｌ  Ｄｉｓｐｌａｙ）、ＥＬディスプレイ等の平面表示パネルに用いられるガラス基板に薄膜を蒸着する場合にも適用することができる。
【００３２】
【発明の効果】
以上のように本発明においては、可撓性を有する帯状板を個別独立且つ移動自在にに支持して組合せることにより蒸着マスクを形成していることから、ガラス基板又は帯状板の熱膨張による形状変化に伴う撓みが生じても、この撓みによる変形に対応して帯状板が移動自在に支持することとなり、この帯状板からガラス基板に対して応力が加えられなくなり、ガラス基板の破損を防止できるという効果を奏する。
また、本発明に係るガラス基板用蒸着装置は必要に応じて、ガラス基板と一体化する他のガラス基板のシール部に対向する枠状のシール接合領域を、前記組合された帯状板でマスクするものでる。このように本発明においては、ガラス基板の中央部及び周辺部の各領域に同時に蒸着膜が形成されるように枠状マスクが配設されることから、蒸着時のガラス基板の温度分布を均一にして割れ、破損を極力防止できる。配置例としてプラズマディスプレイパネルのＭｇＯ保護膜を形成する場合は、当該ガラス基板と一体化する他のガラス基板のシール部に対向する枠状のシール接合領域に、前記組合された帯状板からなる枠状のマスクを配設する。このような配置例によれば、枠状のシール接合領域を組合された帯状板でマスクするようにしているので、シール接合領域の内側の表示領域にＭｇＯ保護膜を蒸着できると共に、シール接合領域の外周領域にＭｇＯ保護膜を蒸着できることとなり、ガラス基板の温度分布をより均一にしてガラス基板の割れ、破損を極力防止できる。
また、本発明においては、蒸着マスクを構成する各帯状板がその一端又は両端を長孔又は弾性体で支持されているので、ガラス基板又は帯状板に撓みが生じても長孔で規制されつつ又は弾性体の弾性方向で規制されつつ、帯状板の長手方向及びこの長手方向下方へのみ移動することとなり、ガラス基板に対する蒸着マスクの位置ずれを防止して常に正確なマスキング動作が実行できるという効果を有する。
また、本発明においては、球形状で断熱性及び可塑性の材料からなる先端部の保持部材でガラス基板を保持するようにしているので、ガラス基板を支持する帯状板が略弓形状に屈曲変化してもガラス基板を球形状の先端部で保持部材が当接保持しているので、安定且つ確実な支持が可能となるという効果を有する。さらに、本発明においては、帯状板に対する押圧力及び帯状板自体の変形を長孔による支持又は弾性体による支持で吸収できることとなり、ガラス基板に対する応力をより減衰させてガラス基板の破損を防止できるという効果を有する。
【００３３】
また、本発明に係るガラス基板用蒸着装置は必要に応じて、枠状のシール接合領域を組合された帯状板でマスクするようにしているので、シール接合領域の内側の表示領域の外周領域に薄膜を蒸着できることとなり、ガラス基板の温度分布をより均一にしてガラス基板の割れ、破損を極力防止できるという効果を有する。
【００３４】
また、本発明においては、帯状板を移動自在に支持しているので、ガラス基板又は帯状板自体の熱膨張による変形をを吸収して、帯状板からガラス基板に対して応力が加えられなくなり、ガラス基板の破損を防止できるという効果を有する。
また、本発明においては、帯状板に対する押圧力及び帯状板自体の変形を長孔による支持又は弾性体による支持で吸収できることとなり、ガラス基板に対する応力をより減衰させてガラス基板の破損を防止できるという効果を有する。
【図面の簡単な説明】
【図１】（Ａ）は本発明の第１の実施形態に係るガラス基板用蒸着装置の下側から見た平面図である。
（Ｂ）は同図（Ａ）におけるＩ−Ｉ線の断面図である。
【図２】図１に記載のガラス基板用蒸着装置を下側から見た平面説明図である。
【図３】（Ａ）は図２おける帯状板の端部詳細図である。
（Ｂ）は図２おけるＩＩ−ＩＩ線断面図である。
（Ｃ）は図２おける基板保持部の詳細図である。
【図４】（Ａ）は図１に記載のガラス基板用蒸着装置により保護膜を形成したガラス基板の平面図である。
（Ｂ）は他の実施形態に係るガラス基板用蒸着装置により保護膜を形成したガラス基板の平面図である。
【図５】（Ａ）は本発明の第２の実施形態に係るガラス基板用蒸着装置の断面図である。
（Ｂ）は同図（Ａ）における帯状板の端部支持構造の詳細図である。
【図６】（Ａ）は本発明の第２の実施形態に係るガラス基板用蒸着装置に中間支持部材を配設した断面図である。
（Ｂ）は同図（Ａ）に記載のガラス基板が撓んで中間支持部材で支持した状態の断面図である。
【図７】（Ａ）は従来のガラス基板用蒸着装置における蒸着マスクの斜視図である。
（Ｂ）は従来のガラス基板用蒸着装置における蒸着マスクの蒸着説明図である。
【符号の説明】
１０  取付開口部
１１ａ・１１ｂ、〜、１４ａ・１４ｂ  取付ピン
２１、〜、２４  基板保持部
２１ａ、〜、２４ａ  支持片
３１、〜、３４  帯状板
３１ａ・３１ｂ、〜、３４ａ・３４ｂ  長孔
３１ｃ・３１ｄ、〜、３４ｃ・３４ｄ  突片
４１ａ・４１ｂ・４１ｃ、〜、４４ａ・４４ｂ・４４ｃ  マスク受け板ばね
５１ａ・５１ｂ、〜、５４ａ・５４ｂ  コイルばね
５１ｃ・５１ｄ、〜、５４ｃ・５４ｄ  ガイド
８０  蒸着マスク
８１  蒸着窓
８２  凹部
８３  基板固定部
８４  蒸発源
８４ａ  蒸気
８５  間隙
１００  ガラス基板
１０２  表示領域
１０３  外周辺部
１０４  試験端子領域
３１１ａ・３１１ｂ、〜、３１４ａ・３１４ｂ  取付孔
【図１】
0003547033.tif 000002
【図２】
0003547033.tif 000003
【図３】
0003547033.tif 000004
【図４】
0003547033.tif 000005
【図５】
0003547033.tif 000006
【図６】
0003547033.tif 000007
【図７】
0003547033.tif 000008