【誤訳訂正書】
【提出日】平成29年6月20日(2017.6.20)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
以下の式Ｉによって表された構造を有する化合物であって、
【化１】
2016535081.tif 000001
式の中、
Ｒは、Ｃ1〜Ｃ6の直鎖状または分岐鎖状のアルキル基、ベンジル基であり；
Ｒ1は、
【化２】
2016535081.tif 000002
【化３】
2016535081.tif 000003
、アシル系アミノ保護基またはアルコキシカルボニル系アミノ保護基である、
化合物。
【請求項２】
請求項１に記載の化合物であって、
Ｒは、Ｃ1〜Ｃ4の直鎖状または分岐鎖状のアルキル基であり；
Ｒ1は、
【化４】
2016535081.tif 000004
【化５】
2016535081.tif 000005
、ホルミル基、アセチル基、プロピオニル基、ベンゾイル基、ハロアセチル基、フタロイル基、ｔ−ブトキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニル、または９−フルオレニルメチルオキシカルボニル基であり；前記のハロアセチル基は、フッ素化アセチル基、ブロモアセチル基、クロロアセチル基またはヨードアセチル基である、
化合物。
【請求項３】
請求項１に記載の化合物であって、
Ｒは、メチル基、エチル基、ｔ−ブチル基であり；
Ｒ1は、
【化６】
2016535081.tif 000006
【化７】
2016535081.tif 000007
、ホルミル基、アセチル基、またはｔ−ブトキシカルボニルである、
化合物。
【請求項４】
請求項１に記載の化合物の製造方法であって、前記製造方法は、以下のような反応式３に従って行われ、
反応式３
【化８】
2016535081.tif 000008
式の中、Ｘは、フッ素、塩素、臭素またはヨウ素であり；
ＲおよびＲ1は、請求項１のように定義され；
前記製造方法は、塩基の存在下で行われ；
前記製造方法は、溶媒中で行われ；
前記製造方法の反応時間は、１時間〜２４時間であり；
前記製造方法の反応温度は、０℃〜１５０℃である、
製造方法。
【請求項５】
式ＩＩＩによって表された化合物であって、
【化９】
2016535081.tif 000009
式の中、
Ｒ1は、
【化１０】
2016535081.tif 000010
【化１１】
2016535081.tif 000011
、アシル系アミノ保護基またはアルコキシカルボニル系アミノ保護基である、
化合物。
【請求項６】
請求項５に記載の化合物であって、
Ｒ1は、
【化１２】
2016535081.tif 000012
【化１３】
2016535081.tif 000013
、ホルミル基、アセチル基、プロピオニル基、ベンゾイル基、ハロアセチル基、フタロイル基、ｔ−ブトキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニル、または９−フルオレニルメチルオキシカルボニル基であり；前記のハロアセチル基は、フッ素化アセチル基、ブロモアセチル基、クロロアセチル基またはヨードアセチル基である、
化合物。
【請求項７】
請求項５に記載の化合物であって、
Ｒ1は、
【化１４】
2016535081.tif 000014
【化１５】
2016535081.tif 000015
、ホルミル基、アセチル基、またはｔ−ブトキシカルボニルである、
化合物。
【請求項８】
請求項５に記載の化合物の製造方法であって、前記製造方法は、以下のような反応式４に従って行われ、
反応式４
【化１６】
2016535081.tif 000016
式の中、Ｘは、フッ素、塩素、臭素またはヨウ素であり；
ＲおよびＲ1は、請求項５のように定義され；
前記製造方法は、塩基の存在下で行われ；
前記製造方法は、溶媒中で行われ；
前記製造方法の反応時間は、１時間〜２４時間であり；
前記製造方法の反応温度は、０℃〜１５０℃である、
製造方法。
【請求項９】
式ＩＶの化合物を製造する方法であって、式Ｉの化合物の加水分解反応により、または式ＩＩの化合物から請求項４に記載の製造方法により、式ＩＩＩの化合物が得られ、そして脱炭酸反応により、式ＩＶの化合物が得られるステップを含み、その合成経路は以下の反応式５のように示され、
反応式５
【化１７】
2016535081.tif 000017
式の中、
Ｒ1およびＲは、請求項１のように定義され、Ｘは、フッ素、塩素、臭素またはヨウ素であり；
前記加水分解反応は、酸性または塩基の条件下で行われ；
前記加水分解反応は、溶媒中で行われ；
前記加水分解反応の反応温度は、０℃〜２００℃であり；反応時間は、１０分〜２４時間であり；
前記脱炭酸反応は、触媒の存在下または非存在下で行われ、前記触媒は、銅、亜クロム酸銅、酸化銅（Ｉ）、酸化銅、三酸化クロム、臭化銅（Ｉ）、塩化銅（Ｉ）、塩化鉄（ＩＩ）、塩化鉄（ＩＩＩ）、炭酸銅（ＩＩ）、硫酸銅、塩基性炭酸銅、酢酸銀、酸化カルシウム、水酸化カルシウム、１，８−ジアザビシクロ［５，４，０］ウンデセン−７（ＤＢＵ）、１，５−ジアザビシクロ［４．３．０］ノン−５−エン（ＤＢＮ）、酸化アルミニウムからなる群から選ばれる１種または多種であり；
あるいは、前記脱炭酸反応は、炭酸銀と酢酸の存在下で行われ；
前記脱炭酸反応の溶媒は、キノリン、イソキノリン、Ｎ−メチルピロリドン、キノキサリン、エチレングリコールジメチルエーテル、ジフェニルエーテル、ビフェニル、エチレングリコール、ジエチレングリコール、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジブチルエーテル、トルエン、キシレン、メシチレン、ヘキサノール、ヘプタノール、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ジオキサン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン、ピリジン群から選ばれる１種または多種であり；
前記脱炭酸反応の温度は、室温〜３００℃であり、反応時間は、５分〜１８時間である、
方法。
【請求項１０】
以下の式Ｖによって表された化合物およびその塩であって、
式Ｖ
【化１８】
2016535081.tif 000018
式の中、前記塩は、塩酸塩、硫酸塩、リン酸塩、硝酸塩、酢酸塩、臭化水素酸塩、ヨウ化水素酸塩、過塩素酸塩、トリクロロ酢酸塩またはトリフルオロ酢酸塩である、
式Ｖによって表された化合物およびその塩。
【請求項１１】
式ＶＩの化合物またはその塩を製造する方法であって、前記方法は、
式Ｉの化合物の加水分解反応により、または式ＩＩの化合物から請求項４に記載の製造方法により、式ＩＩＩの化合物が得られ、そして脱炭酸反応して、式ＩＶの化合物が得られ、最後にアミノ保護基を脱離させ、式ＶＩの化合物またはその塩が得られるステップ；あるいは、
式ＩＩＩの化合物から先にアミノ保護基を脱離させる反応により式Ｖの化合物またはその塩が得られ、そして脱炭酸反応して、式ＶＩの化合物またはその塩が得られるステップ；あるいは、
式ＩＩＩの化合物から、ワンステップの反応により、即ち脱炭酸反応するとともにアミノ保護基を脱離させる反応により、式ＶＩの化合物またはその塩が得られるステップ；あるいは、
式Ｉの化合物から、酸性条件下で加水分解するとともにアミノ保護基を脱離させる反応により、式Ｖの化合物またはその塩が得られ、そして脱炭酸反応して、式ＶＩの化合物またはその塩が得られるステップ；
を含み、
式ＶＩの化合物の合成は、以下の反応式６のように示され：
反応式６
【化１９】
2016535081.tif 000019
式の中、
Ｒ1は、アシル系アミノ保護基またはアルコキシカルボニル系アミノ保護基であり；
Ｒは、Ｃ1〜Ｃ6の直鎖状または分岐鎖状のアルキル基、ベンジル基であり；
そのうち、式Ｖと式ＶＩの化合物の塩は、塩酸塩、硫酸塩、リン酸塩、硝酸塩、酢酸塩、臭化水素酸塩、ヨウ化水素酸塩、過塩素酸塩、トリクロロ酢酸塩およびトリフルオロ酢酸塩からなる群から選ばれる１種である、
方法。
【請求項１２】
請求項１１に記載の方法であって、
前記加水分解反応は、酸性または塩基の条件下で行われ；
前記加水分解反応は、溶媒中で行われ、前記溶媒は、水、Ｃ1〜Ｃ5の低級アルコール、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、アセトニトリル、ジオキサン、モルホリン、Ｎ−メチルピロリドン、ジクロロメタン、クロロホルム、エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルからなる群から選ばれる１種または多種であり、そのうち、前記Ｃ1〜Ｃ5の低級アルコールは、メタノール、エタノール、ｎ−プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、ｎ−ブチルアルコール、イソブチルアルコール、ｔｅｒｔ−ブチルアルコール、ｎ−ペンチルアルコール、イソペンチルアルコール、エチレングリコール、プロピレングリコール、またはグリセリンであり；
前記加水分解反応の反応温度は、０℃〜２００℃であり；反応時間は、１０分〜２４時間であり；
前記脱炭酸反応は、触媒の存在下または非存在下で行われ、前記触媒は、銅、亜クロム酸銅、酸化銅（Ｉ）、酸化銅、三酸化クロム、臭化銅（Ｉ）、塩化銅（Ｉ）、塩化鉄（ＩＩ）、塩化鉄（ＩＩＩ）、炭酸銅（ＩＩ）、硫酸銅、塩基性炭酸銅、酢酸銀、酸化カルシウム、水酸化カルシウム、１，８−ジアザビシクロ［５，４，０］ウンデセン−７（ＤＢＵ）、１，５−ジアザビシクロ［４．３．０］ノン−５−エン（ＤＢＮ）、酸化アルミニウムからなる群から選ばれる１種または多種であり；
あるいは、前記脱炭酸反応は、炭酸銀と酢酸の存在下で行われ；
前記脱炭酸反応の溶媒は、キノリン、イソキノリン、Ｎ−メチルピロリドン、キノキサリン、エチレングリコールジメチルエーテル、ジフェニルエーテル、ビフェニル、エチレングリコール、ジエチレングリコール、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジブチルエーテル、トルエン、キシレン、メシチレン、ヘキサノール、ヘプタノール、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ジオキサン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン、ピリジン群から選ばれる１種または多種であり；
前記脱炭酸反応の温度は、室温〜３００℃であり、反応時間は、５分〜１８時間であり；
前記脱アミノ保護基の反応は、酸の存在下で行われ；
前記脱アミノ保護基の反応の溶媒は、水、ジオキサン、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｔｅｒｔ−ブタノール、ジエチルエーテル、Ｎ−メチルピロリドン、テトラヒドロフラン、アセトニトリル、塩化メチレン、クロロホルム、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチルからなる群から選ばれる１種または多種であり；あるいは、前記溶媒は、塩酸、硫酸、リン酸、硝酸、酢酸、臭化水素酸、ヨウ化水素酸、過塩素酸、トリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸からなる群から選ばれる１種または多種であり；
前記脱アミノ保護基の反応温度は、０℃〜１５０℃であり；反応時間は、０．５〜２４時間であり；
前記ワンステップの反応、即ち同時に行われる脱炭酸反応と脱アミノ保護基の反応は、酸の存在下で行われ、前記酸は、塩酸、塩化水素ガス、硫酸、リン酸、硝酸、酢酸、臭化水素酸、ヨウ化水素酸、過塩素酸、トリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸からなる群から選ばれる１種または多種であり；前記反応溶媒は、水、ジオキサン、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｔｅｒｔ−ブタノール、ジエチルエーテル、Ｎ−メチルピロリドン、テトラヒドロフラン、アセトニトリル、塩化メチレン、クロロホルム、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチルからなる群から選ばれる１種または多種であり；あるいは、前記溶媒は、塩酸、硫酸、リン酸、硝酸、酢酸、臭化水素酸、ヨウ化水素酸、過塩素酸、トリクロロ酢酸またはトリフルオロ酢酸からなる群から選ばれる１種または多種であり；反応温度は、０℃〜１５０℃であり；反応時間は、０．５〜２４時間であり；
あるいは、Ｒ1は、アルコキシカルボニル系アミノ保護基である場合に、前記ワンステップの反応、即ち同時に行われる脱炭酸反応と脱アミノ保護基の反応は、触媒の存在下または非存在下で行われ、前記触媒は、銅、亜クロム酸銅、酸化銅（Ｉ）、酸化銅、三酸化クロム、臭化銅（Ｉ）、塩化銅（Ｉ）、塩化鉄（ＩＩ）、塩化鉄（ＩＩＩ）、炭酸銅（ＩＩ）、硫酸銅、塩基性炭酸銅、酢酸銀、酸化カルシウム、水酸化カルシウム、１，８−ジアザビシクロ［５，４，０］ウンデセン−７、１，５−ジアザビシクロ［４．３．０］ノン−５−エン、酸化アルミニウムからなる群から選ばれる１種または多種であり；あるいは、前記反応は、炭酸銀と酢酸の存在下で行われ；前記反応の溶媒は、キノリン、イソキノリン、Ｎ−メチルピロリドン、キノキサリン、エチレングリコールジメチルエーテル、ジフェニルエーテル、ビフェニル、エチレングリコール、ジエチレングリコール、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジブチルエーテル、トルエン、キシレン、メシチレン、ヘキサノール、ヘプタノール、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ジオキサン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン、ピリジン群から選ばれる１種または多種であり；前記脱炭酸反応の温度は、室温〜３００℃であり、反応時間は、５分〜１８時間であり；
前記酸性条件下で加水分解反応と脱アミノ保護基の反応が同時に行われるステップにおいて、前記酸は、有機酸または無機酸であり；前記反応溶媒は、水、Ｃ1〜Ｃ5の低級アルコール、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、テトラヒドロフラン、アセトニトリル、ジオキサン、モルホリン、Ｎ−メチルピロリドン、酢酸エチル、ジクロロメタンからなる群から選ばれる１種または多種であり；そのうち、前記Ｃ1〜Ｃ5の低級アルコールは、メタノール、エタノール、ｎ−プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、ｎ−ブチルアルコール、イソブチルアルコール、ｔｅｒｔ−ブチルアルコール、ｎ−ペンチルアルコール、イソペンチルアルコール、エチレングリコール、プロピレングリコール、またはグリセリンであり；あるいは、前記反応溶媒は、硫酸、塩酸、臭化水素酸、ヨウ化水素酸、リン酸、硝酸、酢酸、トリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸、過塩素酸からなる群から選択される１種または多種であり；反応温度は、０℃〜２００℃であり；反応時間は、０．５〜２４時間である、
方法。
【請求項１３】
請求項１または５に記載の化合物および請求項４に記載の式ＩＩによって表された化合物の、請求項９に記載の式ＩＶによって表された化合物の製造における使用；または、
請求項１，５または１０に記載の化合物および請求項４に記載の式ＩＩによって表された化合物の、請求項１１に記載の式ＶＩによって表された化合物の製造における使用。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３５
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３５】
前記の脱炭酸反応は、触媒あり、またはなしの条件で行われ、触媒は銅、亜クロム酸銅、酸化銅（Ｉ）、酸化銅、三酸化クロム、臭化銅（Ｉ）、塩化銅（Ｉ）、塩化鉄（ＩＩ）、塩化鉄（ＩＩＩ）、炭酸銅（ＩＩ）、硫酸銅、塩基性炭酸銅、酢酸銀、酸化カルシウム、水酸化カルシウム、１，８−ジアザビシクロ［５，４，０］ウンデセン−７（ＤＢＵ）、１，５−ジアザビシクロ［４．３．０］ノン−５−エン（ＤＢＮ）、酸化アルミニウムからなる群から選ばれる１種または多種であり、好ましくは、銅、亜クロム酸銅、酸化銅（Ｉ）、酸化銅、三酸化クロム、１，８−ジアザビシクロ［５，４，０］ウンデセン−７（ＤＢＵ）または酸化アルミニウムからなる群から選ばれる１種または多種であり、または前記の脱炭酸反応は、炭酸銀と酢酸の存在下で行われ、脱炭酸反応の溶媒は、キノリン、イソキノリン、Ｎ−メチルピロリドン（ＮＭＰ）、キノキサリン、エチレングリコールジメチルエーテル、ジフェニルエーテル、ビフェニル、エチレングリコール、ジエチレングリコール、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジブチルエーテル、トルエン、キシレン、メシチレン、ヘキサノール、ヘプタノール、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ジオキサン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン、ピリジンからなる群から選ばれる１種または多種であり、好ましくは、キノリン、キノキサリン、エチレングリコールジメチルエーテル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ジオキサンまたはＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミドからなる群から選ばれる１種または多種であり、反応温度は室温〜３００℃、好ましくは１２０〜２５０℃であり、反応時間は５分〜１８時間である。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３７
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３７】
上述した、脱炭酸するとともにアミノ保護基を脱離させるというワンステップの反応は、酸の存在下で行われ、前記の酸が塩酸、塩化水素ガス、硫酸、リン酸、硝酸、酢酸、臭化水素酸、ヨウ化水素酸、過塩素酸、トリクロロ酢酸またはトリフルオロ酢酸からなる群から選ばれる１種または多種であり、反応溶媒は、水、ジオキサン、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｔｅｒｔ−ブタノール、ジエチルエーテル、Ｎ−メチルピロリドン、テトラヒドロフラン、アセトニトリル、塩化メチレン、クロロホルム、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチルからなる群から選ばれる１種または多種であり、または、上記の酸を反応溶媒として他の溶媒を添加しなくてもよく、反応温度は０℃〜１５０℃であり、好ましくは室温〜１００℃であり、反応時間は０．５〜２４時間であり、好ましくは１〜１２時間であり、あるいは、Ｒ1は、アルコキシカルボニル系アミノ保護基（例えば、ｔ−ブトキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニル、９−フルオレニルメチルオキシカルボニル基）である場合に、上述した、脱炭酸するとともにアミノ保護基を脱離させるというワンステップの反応は、触媒の存在下または非存在下で行われ、前記の触媒は銅、亜クロム酸銅、酸化銅（Ｉ）、酸化銅、三酸化クロム、臭化銅（Ｉ）、塩化銅（Ｉ）、塩化鉄（ＩＩ）、塩化鉄（ＩＩＩ）、炭酸銅（ＩＩ）、硫酸銅、塩基性炭酸銅、酢酸銀、酸化カルシウム、水酸化カルシウム、１，８−ジアザビシクロ［５，４，０］ウンデセン−７（ＤＢＵ）、１，５−ジアザビシクロ［４．３．０］ノン−５−エン（ＤＢＮ）、酸化アルミニウムからなる群から選ばれる１種または多種であり、好ましくは、銅、亜クロム酸銅、酸化銅（Ｉ）、酸化銅、三酸化クロム、１，８−ジアザビシクロ［５，４，０］ウンデセン−７（ＤＢＵ）、酸化アルミニウムからなる群から選ばれる１種または多種であり、または前記の反応が炭酸銀、酢酸の存在下で行われ、反応溶媒は、キノリン、イソキノリン、Ｎ−メチルピロリドン（ＮＭＰ）、キノキサリン、エチレングリコールジメチルエーテル、ジフェニルエーテル、ビフェニル、エチレングリコール、ジエチレングリコール、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジブチルエーテル、トルエン、キシレン、メシチレン、ヘキサノール、ヘプタノール、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ジオキサン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン、ピリジンからなる群から選ばれる１種または多種であり、好ましくは、キノリン、キノキサリン、エチレングリコールジメチルエーテル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ジオキサンまたはＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミドからなる群から選ばれる１種または多種であり、反応温度は室温〜３００℃、好ましく１２０〜２５０℃であり、反応時間は５分〜１８時間である。
【誤訳訂正４】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００８２
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００８２】
＜実施例１８＞
４−（２−エトキシカルボニルベンゾチオフェン−４−イル）−ピペラジン−１−カルボン酸ｔｅｒｔ−ブチルの製造
【化４１】
2016535081.tif 000020
窒素の保護下で、室温でＤＭＦ（5mL）の中に参考例１の生成物（200mg、0.62mmol）、チオグリコール酸エチル（0.081ml、0.74mmol）、ＤＩＰＥＡ（342mg、2.48mmol）を加入した。得られた混合物を１０５℃で１８時間撹拌し、１ＮのＨＣｌ水溶液を加入してｐＨ＝７に調整し、メチルｔｅｒｔ−ブチルエーテルで抽出し、エーテル層を飽和食塩水で３回洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥させた。得られたものを濾過して乾燥剤を取り除き、そして濃縮し、これをカラムクロマトグラフィに供し、目的化合物（170mg、71％の収率）が得られた。