Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成29年9月14日(2017.9.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第一の標的配列と第二の標的配列とを含む溶菌性の標的ファージのゲノムを改変する方法であって：
（ａ）標的ファージの宿主域決定因子とは異なる、マーカーファージの宿主域決定因子を含むファージ標的化領域を含有するベクターであって、ファージ標的化領域が、標的ファージゲノムの第一および第二の標的配列と相同な第一および第二の隣接配列に隣接する、ベクターを提供するステップと；
（ｂ）標的ファージの宿主である第一の宿主細胞にベクターを導入するステップと；
（ｃ）第一の宿主細胞に標的ファージを感染させるステップと；
（ｄ）ファージを複製および組み換えさせて、それによって標的ファージのゲノムを改変するステップと；
（ｅ）得られたファージを、マーカーファージの宿主であるが標的ファージの宿主ではない第二の宿主細胞において増殖させるステップと
（ｆ）得られたファージを回収するステップと
を含む方法。
【請求項２】
標的ファージゲノムの第一および第二の標的配列が連続していない、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
標的ファージゲノムの第一および第二の標的配列が、組み換え後の遺伝子の不活化のために、ファージ遺伝子、溶菌遺伝子、またはその一部に隣接する、請求項２に記載の方法。
【請求項４】
ベクターのファージ標的化領域が、標的ファージのゲノムに組み込むための外因性のＤＮＡ配列をさらに含む、請求項１〜３のいずれか１項に記載の方法。
【請求項５】
外因性のＤＮＡが抗菌タンパク質をコードする、または、外因性のＤＮＡがα／β型低分子酸可溶性芽胞タンパク質（ＳＡＳＰ）をコードする遺伝子、もしくは、ＳＡＳＰ−Ｃをコードする遺伝子を含む請求項４に記載の方法。
【請求項６】
遺伝子が、構成的プロモーターまたはｐｄｈＡ、ｒｐｓＢ、ｐｇｉ、ｆｄａ、ｌａｓＢ、およびそれらと９０％超の配列同一性を有するプロモーターから選択される構成的プロモーターの制御下にある、請求項５に記載の方法。
【請求項７】
第一および第二の隣接配列の少なくとも１つが、標的ファージゲノムの第一および第二の標的配列と比較して変異もしくは点突然変異を含有する、請求項１〜６のいずれか１項に記載の方法。
【請求項８】
マーカーファージの宿主域決定因子が、尾繊維タンパク質またはその領域または、第二の宿主細胞に結合するための受容体結合領域と、受容体結合領域をファージのボディに結合させる領域とを含む尾繊維タンパク質をコードする、請求項１〜７のいずれか１項に記載の方法。
【請求項９】
受容体結合領域が、Ｃ末端受容体結合領域であり、Ｃ末端受容体結合領域をファージのボディに結合させる領域がＮ末端領域である、または、
受容体結合領域が、バクテリオファージＰｈｉ３３のアミノ酸配列に基づいて、尾繊維タンパク質のアミノ酸６２９〜９６４位を含むＣ末端領域であり、さらに、ファージのボディへのＣ末端受容体結合領域に結合している領域が、尾繊維タンパク質のアミノ酸１〜６２８位を含むＮ末端領域である、請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
Ｃ末端領域が、バクテリオファージＰｈｉ３３のＣ末端領域と９６％以下のアミノ酸配列同一性を有する、請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
Ｃ末端領域が、バクテリオファージＰｈｉ３３、ＬＢＬ３、ＳＰＭ−１、Ｆ８、ＰＢ１、ＫＰＰ１２、ＬＭＡ２、ＳＮ、１４−１、ＪＧ０２４、ＮＨ−４、ＰＴＰ４７、Ｃ３６、ＰＴＰ９３、およびＰＴＰ９２のいずれか１つに由来する、請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
Ｃ末端領域アミノ酸配列同一性が８０％未満、もしくは７０％未満、もしくは、６０％未満である、請求項１０または請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
Ｎ末端領域がバクテリオファージＰｈｉ３３のＮ末端領域と少なくとも９５％のアミノ酸配列同一性を有する、請求項９〜１２のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１４】
Ｎ末端領域が、バクテリオファージＰｈｉ３３、ＬＢＬ３、ＳＰＭ−１、Ｆ８、ＰＢ１、ＫＰＰ１２、ＬＭＡ２、ＳＮ、１４−１、ＪＧ０２４、ＮＨ−４、ＰＴＰ４７、Ｃ３６、ＰＴＰ９２、およびＰＴＰ９３のいずれか１つに由来する、請求項１３に記載の方法。
【請求項１５】
尾繊維タンパク質がバクテリオファージＰｈｉ３３の尾繊維アミノ酸配列と８０％超のアミノ酸配列同一性を有する、請求項９〜１４のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１６】
各尾繊維タンパク質が、Ｐｈｉ３３、ＬＢＬ３、ＳＰＭ−１、Ｆ８、ＰＢ１、ＫＰＰ１２、ＬＭＡ２、ＳＮ、１４−１、ＪＧ０２４、ＮＨ−４、ＰＴＰ４７、Ｃ３６、ＰＴＰ９２、およびＰＴＰ９３から選択されるバクテリオファージに由来する、請求項１５に記載の方法。
【請求項１７】
アミノ酸配列同一性が８５％超、もしくは９０％超、もしくは９５％超である、請求項１５または請求項１６に記載の方法。
【請求項１８】
第二の宿主細胞がシュードモナス（Ｐｓｅｕｄｏｍｏｎａｓ）宿主細胞、もしくは、緑膿菌（Ｐｓｅｕｄｏｍｏｎａｓ  ａｅｒｕｇｉｎｏｓａ）宿主細胞である、請求項９〜１７のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１９】
バクテリオファージが標的細菌に対して毒性であるＳＡＳＰを含み、非溶菌性である、複数の異なる標的細菌に感染することができる改変バクテリオファージを産生するための、請求項５〜１８のいずれか１項に記載の方法の使用。
【請求項２０】
バクテリオファージが複数の異なる宿主域決定因子を発現し、それぞれの宿主域決定因子が異なる細菌宿主特異性を有する、または、
バクテリオファージが複数の異なるバクテリオファージ由来のアミノ酸配列を含む、宿主域決定因子タンパク質、もしくは、尾繊維タンパク質を発現する、および／または、
宿主域決定因子の細菌宿主特異性が、同じ細菌種内である、請求項１９に記載の使用。
【手続補正書】
【提出日】平成29年6月5日(2017.6.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも１つのプロセッサーによって実施される、会話型対話システムにおいて環境条件を他の対話状態情報に加えて使用するためのコンピューター実装方法であって、
タスクを実施するようにコンピューター・システムに要求するユーザー対話アクトを受け取るステップと、
前記ユーザー対話アクトに基づいて、前記タスクを実施するための第１機械アクションを決定するステップと、
前記ユーザー対話アクトに関連付けられた環境条件にアクセスするステップと、
前記環境条件および前記ユーザー対話アクトに基づいて、前記タスクを実施する以外の第２機械アクションを決定するステップであって、前記第２機械アクションは、前記第１機械アクションの完了を少なくとも一時的に妨げる、ステップと、
前記第２機械アクションを実施してユーザーに応答を供給するステップと、
を含むコンピューター実装方法。
【請求項２】
前記環境条件に基づいて前記第２機械アクションに対する応答のタイプを決定するステップを更に含む、請求項１に記載のコンピューター実装方法。
【請求項３】
前記ユーザー対話アクトに関連付けられた前記環境条件にアクセスするステップは、位置、ノイズ・レベル、速度、温度、現在の活動、または現在の計算デバイスのうちの少なくとも１つにアクセスするステップを含む、請求項１に記載のコンピューター実装方法。
【請求項４】
前記環境条件は、他のユーザーと関連付けられた環境条件を含む、請求項１に記載のコンピューター実装方法。
【請求項５】
会話型対話システムにおいて環境条件を他の対話状態情報に加えて使用するためのコンピューター実行可能命令を格納するコンピューター読み取り可能記憶デバイスであって、前記コンピューター実行可能命令は、
タスクを実施するようにコンピューター・システムに要求するユーザー対話アクトを受け取るステップと、
前記ユーザー対話アクトに基づいて、前記タスクを実施するための第１機械アクションを決定するステップと、
前記ユーザー対話アクトに関連付けられた環境条件にアクセスするステップと、
前記環境条件および前記ユーザー対話アクトに基づいて、前記タスクを実施する以外の第２機械アクションを決定するステップであって、前記第２機械アクションは、前記第１機械アクションの完了を少なくとも一時的に妨げる、ステップと、
前記第２機械アクションを実施してユーザーに応答を供給するステップと、
を含む、コンピューター読み取り可能記憶デバイス。
【請求項６】
前記ユーザー対話アクトに関連付けられた前記環境条件にアクセスするステップは、前記ユーザー対話アクトが受け取られた時に実施されている現在の活動、または現在の計算デバイスのうちの少なくとも１つにアクセスするステップを含む、請求項５に記載のコンピューター読み取り可能記憶デバイス。
【請求項７】
会話型対話システムにおいて環境条件を他の対話状態情報に加えて使用するためのシステムであって、
プロセッサーおよびメモリーと、
前記プロセッサーを使用して実行する動作環境と、
アクションを実施するように構成された対話マネージャーと、
を備え、前記アクションは、
タスクを実施するようにコンピューター・システムに要求するユーザー対話アクトを受け取るステップと、
前記ユーザー対話アクトに基づいて、前記タスクを実施するための第１機械アクションを決定するステップと、
前記ユーザー対話アクトに関連付けられた環境条件にアクセスするステップと、
前記ユーザー対話アクトおよび前記環境条件を用いて、前記タスクを実施する以外の第２機械アクションを決定するステップであって、前記第２機械アクションは、前記第１機械アクションの完了を少なくとも一時的に妨げる、ステップと、
前記第２機械アクションを実施してユーザーに応答を供給するステップと、
を含む、システム。
【請求項８】
前記環境条件にアクセスするステップは、前記ユーザー対話アクトが受け取られた時に実施されている現在の活動、または許可された場合における現在の計算デバイスのうちの少なくとも１つにアクセスするステップを含む、請求項７に記載のシステム。
【請求項９】
前記対話マネージャーは、前記環境条件に基づいて、可聴応答、または応答の視覚提示から、応答のタイプを決定するように更に構成される、請求項７に記載のシステム。
【手続補正書】
【提出日】平成29年5月23日(2017.5.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
内面に任意のパターンの溝が設けられ、該パターンはそれぞれ形状の異なる第１フィンおよび第２フィンを含み、該第１フィンは一体形成された茎部および頭部を含み、該茎部は前記内面から該内面を離れる方向に伸び、前記頭部は前記茎部から前記内面を離れる方向に伸びる伝熱管において、
該管の長手方向軸に対する横断面において、前記頭部の周方向幅が前記茎部の周方向幅よりも大きいことを特徴とする伝熱管。
【請求項２】
請求項１に記載の管において、該管の横断面において、前記第１フィンの半径方向のフィン高さは前記第２フィンのフィン高さよりも高いことを特徴とする伝熱管。
【請求項３】
請求項２に記載の管において、前記第２フィンの高さは前記第１フィンの高さの３分の１または２分の１であることを特徴とする伝熱管。
【請求項４】
請求項２に記載の管において、前記第１フィンの円周方向のフィンの数は前記第２フィンの円周方向のフィンの数の整数倍であり、該第２フィンは該第１フィンと間隔をあけて設けられていることを特徴とする伝熱管。
【請求項５】
請求項４に記載の管において、前記第１フィンの円周方向のフィンの数は前記第２フィンの円周方向のフィンの数と同じであり、該第１フィンおよび該第２フィンは交互に配置されていることを特徴とする伝熱管。
【請求項６】
請求項１に記載の管において、該管の横断面において、前記頭部の半径方向の高さは前記茎部の高さ以下であることを特徴とする伝熱管。
【請求項７】
請求項１に記載の管において、該管の横断面において、前記頭部の円周方向の幅は、該頭部が前記内面から離れる方向に延伸するにつれて増大するか、あるいは、まず該頭部が該内面から離れる方向に延伸するにつれて増大し、それから前記頭部の先端に向かって減少することを特徴とする伝熱管。
【請求項８】
請求項７に記載の管において、該管の横断面において、前記茎部の円周方向の幅は茎部が前記内面から離れる方向に延伸しても一定であることを特徴とする伝熱管。
【請求項９】
請求項１に記載の管において、該管の横断面において、前記第２フィンの円周方向の幅は該第２フィンが前記内面から離れる方向に延伸するにつれて減少することを特徴とする伝熱管。
【請求項１０】
請求項９に記載の管において、前記第１フィンの歯末角は5度〜60度であることを特徴とする伝熱管。
【請求項１１】
請求項１に記載の管において、前記第１フィンの歯元および前記第２フィンの歯元は、それぞれ第１角部および第２角部が曲線に推移して前記管の前記内面に滑らかに続いていることを特徴とする伝熱管。
【請求項１２】
請求項１に記載の管において、前記第１フィンおよび前記第２フィンはそれぞれ、該管の長手方向に対し斜めに延伸して、該管の前記内面に内側の筋を形成することを特徴とする管。
【請求項１３】
請求項１２に記載の管において、前記第１フィンおよび前記第２フィンはそれぞれ、該管の長手方向に沿って一定の横断面を有することを特徴とする管。
【請求項１４】
請求項１２に記載の管において、前記内側の筋と該管の長手方向軸との間の角度は0度〜60度であることを特徴とする管。
【請求項１５】
請求項１４に記載の管において、前記内側の筋と該管の長手方向軸との間の角度は2度〜45度であることを特徴とする管。
【請求項１６】
請求項１ないし１５のいずれかに記載の管において、該管は継ぎ目がないことを特徴とする管。
【手続補正書】
【提出日】平成29年6月22日(2017.6.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
標的構造を、偏光下でその背景に対して指定のコントラスト閾値を上回る高コントラストを有する一方で、非偏光下でその背景に対して前記指定のコントラスト閾値を下回る低コントラストを有するように設計するステップを含み、
前記設計するステップは、少なくとも１つのコンピュータプロセッサによって実行される、
ことを特徴とする方法。
【請求項２】
前記標的構造を、その製造プロセスに対して完全にプロセス適合性となるように設計するステップをさらに含む、
ことを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記標的構造を、前記標的構造の背景形体に垂直な形体を有するように構成するステップをさらに含む、
ことを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項４】
偏光下で前記標的構造の背景に対する前記標的構造のコントラストを維持又は強化するように、前記標的構造の領域内に追加の層を設計するステップをさらに含む、
ことを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記標的構造を、その背景形体から指定の範囲まで離間させるステップをさらに含む、
ことを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記設計された標的構造を製造するステップをさらに含む、
ことを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項７】
前記設計された標的構造を製造するステップをさらに含む、
ことを特徴とする請求項２に記載の方法。
【請求項８】
前記設計された標的構造を製造するステップをさらに含む、
ことを特徴とする請求項３に記載の方法。
【請求項９】
前記設計された標的構造を製造するステップをさらに含む、
ことを特徴とする請求項４に記載の方法。
【請求項１０】
前記設計された標的構造を製造するステップをさらに含む、
ことを特徴とする請求項５に記載の方法。
【請求項１１】
前記標的構造を偏光下で測定し、前記標的構造を前記標的構造の背景と区別するステップをさらに含む、
ことを特徴とする請求項５に記載の方法。
【請求項１２】
前記標的構造を様々な照明条件下で繰り返し測定するステップと、
複数の測定から追加の測定データを抽出するステップと、
をさらに含むことを特徴とする請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
前記標的構造と前記標的構造の背景との間の前記コントラストを強化するように、各層の測定条件を調整するステップをさらに含む、
ことを特徴とする請求項１１に記載の方法。
【請求項１４】
ゼロ次回析パターンを除去した後に、一次回析パターンを測定するステップをさらに含む、
ことを特徴とする請求項１２に記載の方法。
【請求項１５】
前記測定するステップは、連結された偏光子、前記測定の光路内の代替偏光子、干渉計、可変リターダ偏光子、瞳面におけるゼロ次ブロッカ、及び偏光源のうちの少なくとも１つを使用して実行される、
ことを特徴とする請求項１１に記載の方法。
【請求項１６】
コンピュータ可読プログラムが記憶されたコンピュータ可読記憶媒体を備えるコンピュータプログラム製品であって、
前記コンピュータ可読プログラムは、請求項１に記載の方法を実行するように構成される、
ことを特徴とするコンピュータプログラム製品。
【請求項１７】
請求項１に記載の方法に従って設計又は製造されることを特徴とする標的設計ファイル。
【請求項１８】
請求項１に記載の方法に従って設計、製造、又は測定されることを特徴とする計測標的。
【請求項１９】
標的構造を備える計測標的であって、
前記標的構造が、偏光下で背景に対して指定のコントラスト閾値を上回る高コントラストを有する一方で、非偏光下で前記背景に対して前記指定のコントラスト閾値を下回る低コントラストを有するように配列され、かつそれらの製造プロセスに対して完全にプロセス適合性となるようにさらに配列される、
ことを特徴とする計測標的。
【請求項２０】
前記標的構造は、背景形体に垂直な形体を備える、
ことを特徴とする請求項１９に記載の計測標的。
【請求項２１】
偏光下で前記標的構造の背景に対する前記標的構造のコントラストを維持又は強化するように、前記標的構造の領域内に追加の層をさらに備える、
ことを特徴とする請求項１９に記載の計測標的。
【請求項２２】
前記標的構造は、その背景形体から指定の範囲まで離間される、
ことを特徴とする請求項１９に記載の計測標的。
【請求項２３】
請求項１９に記載の計測標的の計測測定。
【請求項２４】
請求項２０に記載の計測標的の計測測定。
【請求項２５】
請求項２１に記載の計測標的の計測測定。
【請求項２６】
請求項２２に記載の計測標的の計測測定。
【請求項２７】
様々な照明条件下で繰り返し実行される請求項２３に記載の計測測定、及び複数の測定から抽出される追加の測定データ。
【請求項２８】
様々な照明条件下で繰り返し実行される請求項２４に記載の計測測定、及び複数の測定から抽出される追加の測定データ。
【請求項２９】
様々な照明条件下で繰り返し実行される請求項２５に記載の計測測定、及び複数の測定から抽出される追加の測定データ。
【請求項３０】
様々な照明条件下で繰り返し実行される請求項２６に記載の計測測定、及び複数の測定から抽出される追加の測定データ。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３７】
異なる配向を有する標的構造１２０と背景１１０との間の境界線の反射は、線端部の品質及び特徴、線縁部の粗度、並びに線間の距離に強く依存し得る。図５Ｆに示される１つに類似の標的１００が、これらのパラメータを定量化及び観察するために使用され得る。例えば、側壁角（ＳＷＡ）は、距離ｄを示し得、例えば、同一のＳＷＡが、すべての線に関する同一の距離を示し得る一方で、線のＳＷＡの差は、パターン配置エラー又は線端部及び縁部の品質における大きな変動の兆候として使用され得る。ある実施形態では、距離ｄは、数ナノメートルの小さい範囲内で平行線に沿って（設計によって）変動し得る。かかる小さい変化の下では、側壁角は、距離ｄの変化に比例するはずであり、かかる比例挙動からの逸脱は、リソグラフィープロセスの品質を示すために使用され得、また、パターン化はデバイススケールであるため、従属ＳＷＡ（ｄ）は、デバイスの品質の直接的な兆候として使用され得る。ある実施形態では、距離ｄの意図的な変動は、観察及び制御の目的のために、スキャナ焦点及び線量変動に対する標的の感度を強化するために光学ＣＤ標的に使用され得る。ある実施形態では、偏光パラメータは、異なる偏光パラメータに対する異なる標的応答から追加の情報を抽出するために変化され得る。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３８】
図６Ａ〜図６Ｍは、本発明のいくつかの実施形態による、光学照明及び測定システム２００の高レベル概略図である。すべての図において、非偏光源７０は、対象７７を介してウエハ７５上の標的１００の偏光照明を提供するように修正される。レンズ７９を介して検出器８０（ＣＣＤカメラなど）に方向付けられる収集された照明は、該照明と同様に、又は異なって偏光され得る。
【手続補正書】
【提出日】平成29年5月17日(2017.5.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
メントール、リナロール、イシリン及びその組合せからなる群より選択される化合物の治療的有効量を含む、神経変性疾患の処置又は予防用組成物。
【請求項２】
神経変性疾患が、アルツハイマー病、他の認知症、変性神経疾患、遺伝性脳疾患、パーキンソン病、筋萎縮性側索硬化症、ハンチントン病、プリオン病及びその組合せからなる群より選択される、請求項１に記載の組成物。
【請求項３】
医薬、食品及び食品への栄養補助剤からなる群より選択される、請求項１に記載の組成物。
【請求項４】
少なくとも１年間の定期的な投与のための、請求項１に記載の組成物。
【請求項５】
毎日の投与のための、請求項４に記載の組成物。
【請求項６】
老齢の人に投与するための、請求項１に記載の組成物。
【請求項７】
高齢者に投与するための、請求項１に記載の組成物。
【請求項８】
医薬である、請求項１に記載の組成物。
【請求項９】
食品である、請求項１に記載の組成物。
【請求項１０】
食品がタンパク質、炭水化物、脂肪及びその組合せからなる群より選択される成分を含む、請求項９に記載の組成物。
【請求項１１】
食品への栄養補助剤である、請求項１に記載の組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成29年5月17日(2017.5.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
メントール、イシリン及びその組合せからなる群より選択される化合物の治療的有効量を含む、うつ病の処置又は予防用組成物。
【請求項２】
うつ病が、単極性うつ病、双極性うつ病、急性うつ病、慢性うつ病、亜慢性うつ病、胸腺不全、分娩後うつ病、更年期抑うつ症、季節的情動障害及びその組合せからなる群より選択される、請求項１に記載の組成物。
【請求項３】
少なくとも１年間の定期的な投与のための、請求項１に記載の組成物。
【請求項４】
毎日の投与のための、請求項３に記載の組成物。
【請求項５】
医薬、食品及び食品への栄養補助剤からなる群より選択される、請求項１に記載の組成物。
【請求項６】
医薬である、請求項１に記載の組成物。
【請求項７】
食品である、請求項１に記載の組成物。
【請求項８】
食品がタンパク質、炭水化物、脂肪及びその組合せからなる群より選択される成分を含む、請求項７に記載の組成物。
【請求項９】
食品への栄養補助剤である、請求項１に記載の組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成29年6月2日(2017.6.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも2つの異なるフレグランスアコードを含むフレグランス組成物であって、
各フレグランスアコードの少なくとも30質量%が前記フレグランスアコードの主要寄与材料を含み、且つ
各フレグランスアコードのための前記主要寄与材料の匂い検知閾値（μg/L）の平均が、他の各フレグランスアコードのための主要寄与材料の匂い検知閾値（μg/L）の平均と同じ桁内にある、前記フレグランス組成物。
【請求項２】
フレグランス組成物が少なくとも3つのフレグランスアコードを備えている、請求項1に記載の組成物。
【請求項３】
フレグランス組成物が2から5つまでのフレグランスアコードを備えている、請求項1に記載の組成物。
【請求項４】
フレグランス組成物が3つのフレグランスアコードを備えている、請求項1に記載の組成物。
【請求項５】
フレグランスアコードのベースノートが前記アコードのノートの15%未満を含む、請求項1〜4のいずれか1項に記載の組成物。
【請求項６】
フレグランスアコードのベースノートが前記アコードのノートの12.5%未満を含む、請求項1〜4のいずれか1項に記載の組成物。
【請求項７】
フレグランスアコードのベースノートが前記アコードのノートの10%未満を含む、請求項1〜4のいずれか1項に記載の組成物。
【請求項８】
フレグランスアコードのベースノートが実質的に前記アコードのノートの7.5% ± 1.5%を含む、請求項1〜4のいずれか1項に記載の組成物。
【請求項９】
フレグランスアコードのミドルノートが前記アコードのノートの30%超を含み、フレグランスアコードのトップノートが前記アコードのノートの30%超を含み、アコード全体のノートの%は100%に等しい、請求項1〜8のいずれか1項に記載の組成物。
【請求項１０】
フレグランスアコードのミドルノートが前記アコードのノートの40%超を含み、フレグランスアコードのトップノートが前記アコードのノートの40%超を含み、アコード全体のノートの%は100%に等しい、請求項1〜8のいずれか1項に記載の組成物。
【請求項１１】
フレグランス組成物においてy軸上の強度(1〜10)及びx軸上の濃度(μg/L)によってグラフで表される各フレグランスアコードの匂い勾配が、類似の勾配を有し、ここで、類似の勾配とは、互いの50%以内の勾配を意味すると理解される、請求項1〜10のいずれか1項に記載の組成物。
【請求項１２】
本発明のフレグランス組成物中の各フレグランスアコードが組成物の5〜49.9質量%を含んでいてもよい、請求項1〜11のいずれか1項に記載の組成物。
【請求項１３】
本発明のフレグランス組成物が1〜90質量%のテクニカルアコードを含んでいてもよい、請求項1〜12のいずれか1項に記載の組成物。
【請求項１４】
フレグランス組成物が0〜10質量%のMOCアコードを含む、請求項1〜13のいずれか1項に記載の組成物。
【請求項１５】
バックボーンが組成物中に与えられており、前記バックボーンが匂いを放つ材料、バルク担体及び/又は溶媒の少なくとも1つを含んでいる、請求項1〜14のいずれか1項に記載の組成物。
【請求項１６】
少なくとも2つの異なるフレグランスアコードを有するフレグランス組成物を製造する方法であって、
各フレグランスアコードの主要寄与材料の少なくとも30質量%が、他の各フレグランスアコードと同じ桁内の平均匂い検知閾値を有するということを提供することにより、前記少なくとも2つの異なるフレグランスアコードを調和させる工程
を含む、前記方法。
【請求項１７】
少なくとも2つの異なるフレグランスアコードを含むフレグランス組成物を発散させる工程を含む、フレグランスの慣れを弱める方法であって、
前記フレグランス組成物は、少なくとも2つの異なるフレグランスアコードを含み、
各フレグランスアコードの少なくとも30質量%は、前記フレグランスアコードのための主要寄与材料を含み、且つ
各フレグランスアコードのための前記主要寄与材料の匂い検知閾値（μg/L）の平均は、他の前記フレグランスアコードのための主要寄与材料の匂い検知閾値（μg/L）の平均と同じ桁内にある、前記方法。
【請求項１８】
3つの異なるフレグランスアコードを含むマルチフレグランスアコードフレグランス組成物であって、
各フレグランスアコードの少なくとも30質量%が前記フレグランスアコードのための主要寄与材料を含み、且つ
各フレグランスアコードのための主要寄与材料の匂い検知閾値（μg/L）の平均が、他の前記フレグランスアコードのための主要寄与材料の匂い検知閾値（μg/L）の平均と同じ桁内にある、前記マルチフレグランスアコードフレグランス組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成29年5月23日(2017.5.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
使用時にプラスチックを摩擦加熱して前記プラスチックを処理するためのシステムであって、
使用時に前記プラスチックに接するように構成された摩擦加熱器を備え、
前記摩擦加熱器は、略円筒形状であり、半径方向に配置されかつ略垂直な方向に配置された溶融プラスチック導管を複数備え、
複数の前記溶融プラスチック導管は、溶融プラスチックを円筒内に実質的に導入可能であり、
前記摩擦加熱器は、使用時に前記溶融プラスチックが重力下で前記摩擦加熱器内から流出可能に配置されているシステム。
【請求項２】
前記摩擦加熱器が回転するように構成されている、請求項１に記載のシステム。
【請求項３】
前記摩擦加熱器が、均質混合させるのに十分な速度で回転するように構成されている、請求項１又は２に記載のシステム。
【請求項４】
前記摩擦加熱器に作動可能に接続された駆動部をさらに備える、請求項１〜３のいずれか一項に記載のシステム。
【請求項５】
前記駆動部と前記摩擦加熱器との間で作動可能なギアをさらに備える、請求項４に記載のシステム。
【請求項６】
前記駆動部が電気駆動装置である、請求項４に記載のシステム。
【請求項７】
前記駆動部が内燃機関である、請求項４に記載のシステム。
【請求項８】
前記内燃機関がディーゼル内燃機関である、請求項７に記載のシステム。
【請求項９】
前記摩擦加熱器は、回転軸を有し、かつ該回転軸に実質的に沿って前記プラスチックに接するように構成されている、請求項１〜８のいずれか一項に記載のシステム。
【請求項１０】
前記摩擦加熱器は、回転軸を有し、かつ該回転軸に略垂直な方向において前記プラスチックに接するように構成されている、請求項１〜８のいずれか一項に記載のシステム。
【請求項１１】
前記摩擦加熱器は、８０℃よりも高温で前記プラスチックを加熱するように構成されている、請求項１〜１０のいずれか一項に記載のシステム。
【請求項１２】
前記摩擦加熱器は、１００℃よりも高温で前記プラスチックを加熱するように構成されている、請求項１〜１１のいずれか一項に記載のシステム。
【請求項１３】
前記摩擦加熱器は、１６０℃よりも高温で前記プラスチックを加熱するように構成されている、請求項１〜１２のいずれか一項に記載のシステム。
【請求項１４】
使用時に前記溶融プラスチックを前記摩擦加熱器から流出させる流出部をさらに備える、請求項１〜１３のいずれか一項に記載のシステム。
【請求項１５】
使用時に前記プラスチックを収容するチャンバをさらに備える、請求項１〜１４のいずれか一項に記載のシステム。
【請求項１６】
前記チャンバは、前記プラスチックを前記摩擦加熱器に移動させるように構成されている、請求項１５に記載のシステム。
【請求項１７】
前記チャンバは流入部を備える、請求項１５又は１６に記載のシステム。
【請求項１８】
前記プラスチックを前記摩擦加熱器に向けて押すプッシャをさらに備える、請求項１５〜１７のいずれか一項に記載のシステム。
【請求項１９】
前記プッシャが油圧駆動式である、請求項１８に記載のシステム。
【請求項２０】
前記プッシャによって加えられる圧力が、操作パラメータに応じて設定される、請求項１８又は１９に記載のシステム。
【請求項２１】
前記操作パラメータにはプラスチックの種類が含まれる、請求項２０に記載のシステム。
【請求項２２】
前記プッシャは、前記チャンバ内に配置されており、かつ前記チャンバの内側輪郭に沿った形状を有している、請求項１８〜２１のいずれか一項に記載のシステム。
【請求項２３】
別のプラスチックを収容する別のチャンバと、前記別のチャンバ内に配置された別のプッシャとをさらに備え、前記プッシャ及び前記別のプッシャが、前記プラスチックを前記摩擦加熱器に向けて押すように構成されている、請求項２２に記載のシステム。
【請求項２４】
前記プッシャ及び前記別のプッシャによって付与される圧力を可変に設定可能である、請求項２３に記載のシステム。
【請求項２５】
プラスチックを摩擦加熱して前記プラスチックを処理する方法であって、
半径方向に配置されかつ略垂直な方向に配置された溶融プラスチック導管を複数備える略円筒形状の摩擦加熱器を準備する工程と、
前記プラスチックを前記摩擦加熱器に向けて押す方向が、前記摩擦加熱器の回転軸に略垂直な方向である少なくとも１つのプッシャを準備する工程と、
プラスチック原料を収容するチャンバの中に、少なくとも１つ以上の非プラスチック混入物を含有する前記プラスチック原料を置く工程と、
前記少なくとも１つのプッシャにより、前記プラスチック原料を、前記摩擦加熱器の外周面に対して前記摩擦加熱器の回転軸に略垂直な方向に押し当てて接触させる工程と、
前記摩擦加熱器との摩擦接触によって前記プラスチック原料を実質的に溶融させ、前記プラスチック原料を複数の前記溶融プラスチック導管を通じて前記摩擦加熱器の内部へ流入させて前記プラスチックと前記非プラスチック混入物とを均質に混合し、前記非プラスチック混合物を溶融物全体に微細に分散させる工程と、
を含む方法。
【請求項２６】
前記摩擦加熱器は、均質混合させるのに十分な速度で回転するように構成されている、請求項２５に記載のシステム。
【請求項２７】
８０℃よりも高温で前記プラスチックを加熱する、請求項２５又は２６に記載の方法。
【請求項２８】
１００℃よりも高温で前記プラスチックを加熱する、請求項２５〜２７のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２９】
１６０℃よりも高温で前記プラスチックを加熱する、請求項２５〜２８のいずれか一項に記載の方法。
【請求項３０】
前記プラスチックは、前記プラスチックの種類に応じた力で前記摩擦加熱器に向けて押される、請求項２５〜２９のいずれか一項に記載の方法。
【請求項３１】
前記プラスチックを前記摩擦加熱器に向けて押す工程は、前記プラスチックを複数の方向から前記摩擦加熱器に向けて押す工程である、請求項２５〜３０のいずれか一項に記載の方法。
【請求項３２】
前記プラスチックを前記第１の力で前記摩擦加熱器に向けて押す工程と、別のプラスチックを第２の力で前記摩擦加熱器に向けて押す工程とをさらに含む、請求項３０に記載の方法。
【請求項３３】
請求項１〜２４のいずれか一項に記載のシステムで処理されたプラスチック。
【請求項３４】
請求項２５〜３２のいずれか一項に記載の方法で処理されたプラスチック。
【請求項３５】
請求項１〜２４のいずれか一項に記載のシステムで処理されたプラスチックでコーティングされた材料。
【請求項３６】
請求項２５〜３２のいずれか一項に記載の方法で処理されたプラスチックでコーティングされた材料。
【請求項３７】
前記摩擦加熱器を１１０ｒｐｍ以上で回転させる、請求項３に記載のシステム。
【請求項３８】
前記摩擦加熱器を１１０ｒｐｍ以上で回転させる、請求項２６に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成29年3月23日(2017.3.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ポリ塩化ビニル、炭酸カルシウム、及びカルシウム・亜鉛安定剤を含む、耐高温性絶縁接着テープ基材組成物。
【請求項２】
前記ポリ塩化ビニルが、前記組成物の総重量に対して約３０重量％〜６０重量％含まれ、前記カルシウム／亜鉛安定剤が、前記組成物の総重量に対して約４重量％〜２０重量％含まれ、前記炭酸カルシウムが、前記組成物の総重量に対して約１０重量％〜６０重量％含まれる、請求項１に記載の基材組成物。
【請求項３】
モノマー可塑剤を更に含み、１種以上の酸化防止剤、顔料、モノマー可塑剤、ポリマー可塑剤、難燃剤、及び共安定剤を更に含む、請求項１に記載の基材組成物。
【請求項４】
感圧性接着剤で被覆された請求項１に記載の基材組成物を含む、絶縁テープ。
【手続補正書】
【提出日】平成29年5月30日(2017.5.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
１つ又は複数の面（２ａ、２ｂ、２ｃ）からなる表面を有する支持構造物（１）を含む構成体であって、
ボア（３）が、少なくとも１つの面から前記支持構造物の内部領域に延び、
前記ボアは、接着剤（１２）と、当該ボアを越えて突出する繊維束（４）の一部とによって満たされ、
前記ボアが前記支持構造物の内部領域に延びる前記少なくとも１つの面（２ａ）において、前記支持構造物（１）には少なくとも１つの溝（５）が設けられ、
前記少なくとも１つの溝（５）は、前記ボア（３）から前記表面上の少なくとも１つの方向へ延び、
前記繊維束（４）の前記突出部分は、前記少なくとも１つの溝（５）内に少なくとも部分的に配置され、接着剤（１２）によって前記少なくとも１つの溝（５）内に固定され、
前記少なくとも１つの面において、前記支持構造物には複数の溝が設けられ、
前記複数の溝は、少なくとも１つの扇形の領域内を前記ボアから広がり、繊維ストランドに従って分割された前記繊維束の前記突出部分は、前記溝内に配置され、接着剤によって前記溝内に固定されることを特徴とする、構成体。
【請求項２】
前記ボアから現れる前記溝の数は、２〜１６であることを特徴とする、請求項１に記載の構成体。
【請求項３】
前記扇形は、６０度〜３６０度の中心角を有することを特徴とする、請求項１又は２に記載の構成体。
【請求項４】
前記溝は、前記支持骨組の前記表面の２つの面を互いに接続する少なくとも１つの縁部にわたって延び、
前記少なくとも１つの縁部は、前記溝の内部において丸みを帯びた部分を有することを特徴とする、請求項１〜３のいずれか１項に記載の構成体。
【請求項５】
前記支持構造物の前記表面は、少なくとも１つの表面補強材に、少なくとも部分的に接続し、
前記表面補強材は、少なくとも接着剤によって前記溝内に固定されている前記繊維束の部分の領域において、前記支持骨組の前記表面に接着されることを特徴とする、請求項１〜４のいずれか１項に記載の構成体。
【請求項６】
前記表面補強材が薄板及び／又は織布であることを特徴とする、請求項５に記載の構成体。
【請求項７】
１つ又は複数の面からなる表面を有する支持構造物を補強する方法であって、
少なくとも１つのボアを前記支持構造物の面から前記支持構造物の内部領域に設けるステップと、
少なくとも１つの溝を前記ボアから前記支持構造物の前記表面上に少なくとも１つの方向へ設けるステップと、
前記少なくとも１つのボア内に接着剤を配するステップと、
前記ボア内に繊維束を、前記繊維束の一部が前記ボアを越えて突出するように導入するステップと、
前記繊維束の前記突出部分を前記少なくとも１つの溝内に少なくとも部分的に挿入するステップと、
前記繊維束の前記突出部分を接着剤によって前記溝内に固定するステップと、を含み、
前記少なくとも１つの面において、前記支持構造物には複数の溝が設けられ、
前記複数の溝は、少なくとも１つの扇形の領域内を前記ボアから広がり、繊維ストランドに従って分割された前記繊維束の前記突出部分は、前記溝内に配置され、接着剤によって前記溝内に固定されることを特徴とする、方法。
【請求項８】
前記繊維束は、前記ボアに導入する前に樹脂を染み込ませてから、前記少なくとも１つの溝に挿入されることを特徴とする、請求項７に記載の方法。
【請求項９】
表面補強材が、接着剤によって前記溝内に固定された前記繊維束の部分を覆って取り付けられ、少なくとも接着剤によって前記溝内に固定された前記繊維束の部分の領域において、前記支持骨組の前記表面に接着されることを特徴とする、請求項７又は８に記載の方法。
【請求項１０】
前記表面補強材が薄板又は織布であることを特徴とする、請求項９に記載の方法。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成29年2月10日(2017.2.10)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
超高度靭性および優れた溶接性を伴うＨＴ５５０鋼板であって、重量百分率において下記成分を有する：
Ｃ：０．０４％〜０．０９％；
Ｓｉ：０．１５％以下；
Ｍｎ：１．２５％〜１．５５％；
Ｐ：０．０１３％以下；
Ｓ：０．００３％以下；
Ｃｕ：０．１０％〜０．３０％；
Ｎｉ：０．２０％〜０．６０％；
Ｍｏ：０．０５％〜０．２５％；
Ａｌｓ：０．０３０％〜０．０６０％；
Ｔｉ：０．００６％〜０．０１４％；
Ｎｂ：０．０１５％〜０．０３０％；
Ｎ：０．００５０％以下；
Ｃａ：０．００１％〜０．００４％；
残部はＦｅおよび不可避的不純物であり；
同時に、前述の元素の含有量は、以下の関係を満たさなければならない：
ＣとＭｎとの間の関係：比率Ｍｎ／Ｃは、１５以上および３０以下であり；
（％Ｓｉ）ｘ（％Ｃｅｑ）は０．０５０以下であり、Ｃｅｑ＝Ｃ＋Ｍｎ／６＋（Ｃｕ＋Ｎｉ）／１５＋（Ｃｒ＋Ｍｏ＋Ｖ）／５；
（％Ｓｉ）ｘ（％Ｃ）は０．０１０以下であり；
（％Ｍｏ）ｘ［（％Ｃ）＋０．１３（％Ｓｉ）］は０．００３〜０．０２０の範囲にあり；
比率Ｔｉ／Ｎは２．０〜４．０の範囲にあり；
ＣｕとＮｉとの間の関係：Ｎｉ／Ｃｕは１．０以上であり；
ＣａとＳとの間の関係：比率Ｃａ／Ｓは０．８０〜３．０の範囲にあり；
前記鋼は、４６０ＭＰａ以上の降伏強さ、５５０ＭＰａ〜７００ＭＰａの引張り強さ、０．８５以下の降伏比、ミクロ組織は、１５μｍ以下の平均粒子サイズを伴う微細なフェライト＋焼戻されたベイナイトである、ＨＴ５５０鋼板。
【請求項２】
請求項１に記載の超高度靭性および優れた溶接性を伴うＨＴ５５０鋼板の製造方法であって：
１）製錬および鋳造ステップを含み、
スラブが、上に記載された成分に従って製錬および鋳造により形成され；前記方法はさらに、
２）加熱ステップを含み、
前記スラブの加熱温度は１０５０℃〜１１５０℃の範囲で制御され；前記方法はさらに、
３）最終の鋼板厚みに対するスラブ厚みである鋼板総圧縮比が４．０以上、での制御圧延ステップを含み；
第１の段階は粗圧延段階、つまり再結晶圧延段階であり、連続圧延が、圧延機の最大能力によって、８％以上のパス圧下率、５０％以上の全体圧下率、および１０００℃以上の最終圧延温度で実行され；
前記粗圧延の後、中間スラブを、強制的な水冷によって急速に冷却して、前記中間スラブが１０分以下の時間で非再結晶制御圧延によって必要とされる圧延開始温度にまで確実に減じられるようにし；
第２の段階では、非再結晶制御圧延動作が、７８０℃〜８４０℃の圧延開始温度、各パスにおける７％以上の圧延圧下率、５０％以上の全体圧下率および７６０℃〜８００℃の最終圧延温度で実行され；前記方法はさらに、
４）制御冷却ステップを含み、
前記制御圧延の後、前記鋼板は、圧延機テーブル上で揺動冷却することによって、前記鋼板がフェライト相およびオーステナイト相の二層域冷却にあることを保証し、鋼板の最終ミクロ組織が微細なフェライト＋自己焼戻されたベイナイトとなることを確実に保証するように、６９０℃〜７３０℃の冷却開始温度に冷却され；
６℃／ｓ以上の冷却速度、３５０℃〜６００℃の冷却停止温度、次いで、緩冷工程は、前記鋼板の表面温度が少なくとも２４時間の間３００℃よりも高く保持するようになされ；最終鋼板は、４６０ＭＰａ以上の降伏強さ、５５０ＭＰａ〜７００ＭＰａの引張り強さ、０．８５以下の降伏比、そのミクロ組織は、１５μｍ以下の平均粒子サイズを伴う微細なフェライト＋自己焼戻されたベイナイトである、ＨＴ５５０鋼板の製造方法。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００１】
この発明は、超高度の靭性および優れた溶接性を伴うＨＴ５５０鋼板、ならびにその製造方法に関する。ＴＭＣＰプロセスを介して、４６０ＭＰａ以上の降伏強さ、５５０ＭＰａ〜７００ＭＰａの引張り強さ、０．８５以下の降伏比、６０Ｊ以上の−６０℃シャルピー衝撃エネルギ（単一値）、および優れた溶接性を伴う鋼板が得られ、それは、１５μｍ以下の平均粒子サイズを伴う微細なフェライト＋自己焼戻されたベイナイトのミクロ組織を有する。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００７
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００７】
この発明の目的は、超高度靭性および優れた溶接性を伴うＨＴ５５０鋼板、ならびにその製造方法を提供することである。ＴＭＣＰプロセスを介して、最終の鋼板製品は、１５μｍ以下の平均粒子サイズ、４６０ＭＰａ以上の降伏強さ、５５０ＭＰａ〜７００ＭＰａの引張り強さ、０．８５以下の降伏比、６０Ｊ以上の−６０℃シャルピー衝撃エネルギ（単一値）を伴う微細なフェライト＋自己焼戻されたベイナイトのミクロ組織を有する。高い靭性と高い可塑性との間において一様で優れた調和を得ながら、鋼板は、高入熱溶接プロセスに耐え、特に、交差海面橋梁構造物、海上風塔状構造物、海洋プラットフォーム構造物および水力電力構造物に適用することが可能であり、安定した低コストなバッチ産業生産を実現することが可能である。
【誤訳訂正４】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００９
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００９】
具体的には、この発明の超高度靭性および優れた溶接性を伴うＨＴ５５０鋼板は、重量百分率において下記成分を有する：Ｃ：０．０４％〜０．０９％；Ｓｉ：０．１５％以下；Ｍｎ：１．２５％〜１．５５％；Ｐ：０．０１３％以下；Ｓ：０．００３％以下；Ｃｕ：０．１０％〜０．３０％；Ｎｉ：０．２０％〜０．６０％；Ｍｏ：０．０５％〜０．２５％；Ａｌｓ：０．０３０％〜０．０６０％；Ｔｉ：０．００６％〜０．０１４％；Ｎｂ：０．０１５％〜０．０３０％；Ｎ：０．００５０％以下；Ｃａ：０．００１％〜０．００４％；残部はＦｅおよび不可避的不純物であり；同時に、上記元素の含有量は以下の関係を満たさなければならない。
【誤訳訂正５】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１３
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１３】
上記の２つの点は鋼板の優れた溶接性能を保証する。
ＴＭＣＰプロセスを介して、４６０ＭＰａ以上の降伏強さ、５５０ＭＰａ〜７００ＭＰａの引張り強さ、０．８５以下の降伏比、６０Ｊ以上の−６０℃シャルピー衝撃エネルギ（単一値）を有する鋼板が得られ、それは、１５μｍ以下の平均粒子サイズを伴う微細なフェライト＋自己焼戻されたベイナイトのミクロ組織を有する。
【誤訳訂正６】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３７
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３７】
図１で示されるように、この発明における鋼板の最終ミクロ組織は、１５μｍ以下の平均粒子サイズを伴う微細なフェライト＋自己焼戻されたベイナイトである。
【手続補正書】
【提出日】平成29年4月5日(2017.4.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
耐摩耗層を、摩耗に曝される内燃機関のコンポーネントの表面上に形成生産する方法であって、
パルス式レーザー放射によりアーク放電が真空条件下で連続して点火されることによってプラズマが形成され、
前記アーク放電は、アノードと、グラファイトのカソードとの間にもたらされ、前記プラズマのイオン化部分が、ｓｐ2およびｓｐ3の混成炭素の混合物を含む少なくともおおよそ水素フリーの四面体アモルファス（ｔａ−Ｃ）から形成される層として、少なくとも１つのコンポーネントの表面上に堆積し、前記プラズマについて、アブソーバ電極によって、前記プラズマの正に帯電するイオンが前記少なくとも１つのコンポーネントの方向に屈折し、少なくともおおよそ同じ電圧が前記アノードおよび前記アブソーバ電極に印加され、前記アーク放電がもたらされると同時に、電流が前記アブソーバ電極を通って流れ、該電流は、前記アノードを通って流れる前記電流よりも少なくとも１．５倍大きく、前記少なくとも１つのコンポーネントのコーティングされた前記表面の機械仕上げおよび／または化学的機械仕上げが実行されなく、前記表面の平滑化をもたらす方法。
【請求項２】
前記アブソーバ電極を通って流れる前記電流は、前記アノードを通って流れる前記電流よりも少なくとも２倍大きいことを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記プラズマは、レーザーアークチャンバ内で形成されて、前記少なくとも１つのコンポーネントが配置される真空チャンバ中に屈折することを特徴とする請求項１または２に記載の方法。
【請求項４】
前記プラズマの正に帯電するイオンが、前記アブソーバ電極によって、前記少なくとも１つのコンポーネントの前記表面に影響を与えないように屈折して、前記カソードから直接的に放出し、電子が、前記プラズマから前記アブソーバ電極の方向に移動することを特徴とする請求項１から３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項５】
前記真空チャンバ内に配置されるアーク放電源、またはスパッター源を用いて、薄い接着層が前記少なくとも１つのコンポーネント上に堆積することを特徴とする請求項１から４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項６】
複数のストリップを有するアブソーバ電極が用いられ、これらの間に、より大きな滴または小滴が、前記少なくとも１つのコンポーネントの前記表面に影響を与えないように通されることを特徴とする請求項１から５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項７】
前記各表面上での真空条件下でのアーク放電による請求項１から請求項６のいずれか一項に記載の方法を用いて、摩耗に曝される内燃機関コンポーネントの表面上に形成された耐摩耗層であって、
前記耐摩耗層は、ｓｐ2およびｓｐ3の混成炭素の混合物を含む少なくともおおよそ水素フリーの四面体アモルファス（ｔａ−Ｃ）から形成されることを特徴とし、前記耐摩耗層は、微小硬度が少なくとも３５００ＨＶであり、算術平均粗さ値Ｒaが０．１μｍであり、機械的、物理的および／または化学的表面処理がされていないことを特徴とする耐摩耗層。
【請求項８】
前記耐摩耗層の微小硬度が少なくとも４０００ＨＶである請求項７に記載の耐摩耗層。
【請求項９】
前記耐摩耗層は、平均粗さ深さＲzが最大１．０μｍであることを特徴とする請求項７または８に記載の耐摩耗層。
【請求項１０】
前記耐摩耗層は、緩和ピーク高さＲpkが最大０．３５μｍであることを特徴とする請求項７から９のいずれか一項に記載の耐摩耗層。
【請求項１１】
前記耐摩耗層の微小硬度が少なくとも５０００ＨＶ、好ましくは少なくとも５７００ＨＶ、特に好ましくは６０００ＨＶであることを特徴とする請求項７から１０のいずれか一項に記載の耐摩耗層。
【請求項１２】
前記耐摩耗層は、レーザービームによって好ましくは点火されるパルス式アーク放電を用いて、特に好ましくはプラズマフィルタおよび／またはアブソーバ電極を用いて形成されたことを特徴とする請求項７から１１のいずれか一項に記載の耐摩耗層。
【請求項１３】
付加的な化学元素が含有されないことを特徴とする請求項７から１２のいずれか一項に記載の耐摩耗層。
【手続補正書】
【提出日】平成29年4月6日(2017.4.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
流動層反応器の流動チャンバに金属粉末を導入し、
流動化ガスを前記流動チャンバに流し、
前記金属粉末の粒子の焼結が防止されるよう前記金属粉末の粒子が互いに分離されるように、前記流動化ガスの流れ中で前記金属粉末を運び、
前記金属粉末から吸着水を除去するのに十分な期間及び処理温度で前記流動化ガスに前記金属粉末を露出させることにより、前記金属粉末から前記吸着水を除去する、方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１２】
金属粉末を収容する流動チャンバを有した流動層反応器と、
前記金属粉末の粒子の焼結が防止されるよう前記金属粉末の粒子が互いに分離されるように、前記金属粉末を流動化供給ガス中で浮遊させる前記流動チャンバに流す前記流動化供給ガスを提供するように、前記流動チャンバに接続された流動化ガス供給源と、
前記金属粉末から吸着水を除去するのに十分な前記流動チャンバの温度を維持するヒータと、
前記金属粉末を使用して対象物を形成する付加製造装置と、
を備えたシステム。