(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の被処理基板に熱処理を施す縦型熱処理装置において、下部に炉口を有する熱処理炉と、該熱処理炉に炉口を介して連通された真空予備室と、上記炉口を開閉する蓋体と、複数の被処理体を保持する基板保持具と、該基板保持具を上記蓋体の上部に保温筒を介して載置した状態で真空予備室内から熱処理炉内へ搬入搬出する垂直搬送機構と、真空予備室内の一側から上記保温筒上に上記基板保持具を搬送する水平搬送機構と、真空予備室外の下方に真空予備室から独立して設けられ上記水平搬送機構を設置する第１ベース部と、水平搬送機構を真空予備室内に臨ませるために真空予備室の底部に設けられた開口部と、該開口部と第１ベース部との間に気密に取付けられた真空シール用のベローズとを備えたことを特徴とする縦型熱処理装置。
【請求項２】
上記真空予備室が第１の真空予備室と第２の真空予備室とからなり、第１及び第２の真空予備室間にはゲートバルブが介設され、第１の真空予備室には基板保持具を設置する基板保持具設置台と、第１の真空予備室の前面部の開口部を開閉するロードロックドアとが設けられ、第２の真空予備室には第１の真空予備室の基板保持具設置台上から上記保温筒上に基板保持具を搬送する上記水平搬送機構が配置されていることを特徴とする請求項１記載の縦型熱処理装置。
【請求項３】
上記真空予備室外の上方には上記垂直搬送機構及び上記熱処理炉を設置する第２ベース部が真空予備室から独立して設けられ、上記垂直搬送機構は昇降ロッドを有し、真空予備室の上部には上記昇降ロッドを貫通させる昇降ロッド用開口部と、熱処理炉の炉口と対応した炉口用開口部とが設けられ、該昇降ロッド用開口部と昇降ロッドの上端部との間、炉口用開口部と炉口との間にはそれぞれ真空シール用のベローズが気密に取付けられていることを特徴とする請求項１記載の縦型熱処理装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、縦型熱処理装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
半導体装置の製造においては、被処理基板である半導体ウエハに酸化、拡散、ＣＶＤ等の各種の処理を施すために、種々の熱処理装置が用いられている。このような熱処理装置の一つとして、例えば枚葉式などでは、熱処理炉に真空予備室を連設し、この真空予備室内にウエハの搬送機構を備えたものが知られている。この熱処理装置においては、上記真空予備室内を予め熱処理炉内とほぼ同じ圧力にしておくことにより、熱処理炉内の圧力を大気圧に戻すことなく炉口を開放してウエハの搬入搬出を行なうことができるため、時間の短縮やスループットの向上等が図れる。
【０００３】
ところで、上記搬送機構等は、真空予備室に直接取付けられている。熱処理炉がランプ加熱等で直接ウエハを加熱する、いわゆるコールドウォール型である場合には、上記真空予備室が熱処理炉からの熱影響を受けにくいため、真空予備室に搬送機構が直接取付けられていても、それほど問題はない。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記熱処理装置においては、特に熱処理炉が反応管の周囲をヒーター線および断熱層で取り囲んで炉内全体を加熱する、いわゆるホットウォール型である場合、真空予備室が熱処理炉からの熱影響を受けやすい。そのため、真空予備室に搬送機構が直接取付けられていると、熱影響による真空予備室のひずみや変形により搬送機構の軸芯位置がずれ、精度不良が発生する恐れがある。また、搬送機構の精度を出すために、真空予備室を高精度に加工する必要があり、製造コストの増大を招く問題もある。
【０００５】
そこで、本発明の目的は、上記課題を解決し、真空予備室がひずみや変形を生じたとしても、搬送機構の精度不良が発生する恐れがなく、真空予備室を高精度に加工する必要もない縦型熱処理装置を提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために本発明のうち請求項１記載の熱処理装置は、被処理基板に熱処理を施す熱処理装置において、熱処理炉と、該熱処理炉に連設された真空予備室と、該真空予備室内で被処理基板の搬送を行う搬送機構と、真空予備室外に真空予備室から独立して設けられ上記搬送機構を設置するベース部と、搬送機構を真空予備室内に臨ませるために真空予備室に設けられた開口部と、該開口部とベース部との間に気密に取付けられた真空シール用のベローズとを備えたことを特徴とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、本発明のうち、請求項１記載の縦型熱処理装置は、複数の被処理基板に熱処理を施す縦型熱処理装置において、下部に炉口を有する熱処理炉と、該熱処理炉に炉口を介して連通された真空予備室と、上記炉口を開閉する蓋体と、複数の被処理体を保持する基板保持具と、該基板保持具を上記蓋体の上部に保温筒を介して載置した状態で真空予備室内から熱処理炉内へ搬入搬出する垂直搬送機構と、真空予備室内の一側から上記保温筒上に上記基板保持具を搬送する水平搬送機構と、真空予備室外の下方に真空予備室から独立して設けられ上記水平搬送機構を設置する第１ベース部と、水平搬送機構を真空予備室内に臨ませるために真空予備室の底部に設けられた開口部と、該開口部と第１ベース部との間に気密に取付けられた真空シール用のベローズとを備えたことを特徴とする。
【０００８】
請求項２記載の縦型熱処理装置は、上記真空予備室が第１の真空予備室と第２の真空予備室とからなり、第１及び第２の真空予備室間にはゲートバルブが介設され、第１の真空予備室には基板保持具を設置する基板保持具設置台と、第１の真空予備室の前面部の開口部を開閉するロードロックドアとが設けられ、第２の真空予備室には第１の真空予備室の基板保持具設置台上から上記保温筒上に基板保持具を搬送する上記水平搬送機構が配置されていることを特徴とする。
【０００９】
請求項３記載の縦型熱処理装置は、上記真空予備室外の上方には上記垂直搬送機構及び上記熱処理炉を設置する第２ベース部が真空予備室から独立して設けられ、上記垂直搬送機構は昇降ロッドを有し、真空予備室の上部には上記昇降ロッドを貫通させる昇降ロッド用開口部と、熱処理炉の炉口と対応した炉口用開口部とが設けられ、該昇降ロッド用開口部と昇降ロッドの上端部との間、炉口用開口部と炉口との間にはそれぞれ真空シール用のベローズが気密に取付けられていることを特徴とする。
【００１０】
【実施の形態】
以下に、本発明の実施の形態を添付図面に基づいて詳述する。
【００１１】
図２ないし図３において、１は熱処理装置として例示したバッチ式の縦型熱処理装置の筐体、２は被処理基板である半導体ウエハＷを複数枚例えば２５枚程度垂直に立てた状態で所定のピッチで収納する上部に収納口２ａを有する運搬用の容器であるカセットである。上記筐体１の一端には、上記カセット２を搬入搬出するための開閉ゲートを有する搬出入口３が設けられている。上記筐体１内における搬出入口３近傍には、上記カセット２を収納口２ａが上部にある垂直状態で載置するための載置台４が設けられている。
【００１２】
上記載置台４には、カセット２を前後から押える押え部５，６、カセット２内のウエハＷのオリフラ合せを行うオリフラ整合機等（図示省略）が設けられている。また、載置台４は、垂直に回動可能に設けられており、上記カセット２内のウエハＷを垂直状態から水平状態にすべくカセット２をほぼ９０度回動できるようになっている。上記筐体１内には、昇降および回転可能な基台７を有する移載機構８が設けられ、その基台７の周囲に上記載置台４と、上記カセット２を設置する設置台９と、後述する第１の真空予備室（ロードロック室ともいう）１０Ａとが配置されている。
【００１３】
上記移載機構８は、ボールネジ等を用いた昇降機構により昇降可能に設けられた昇降アーム１１を有し、この昇降アーム１１上に上記基台７が水平に回転可能に取付けられている。上記昇降アーム１１内には、上記基台７を位置決め可能に回転駆動するための回転駆動部が設けられている（図示省略）。
【００１４】
上記基台７上には、ウエハＷを支持する水平に延出した短冊状のウエハ支持部（フォークともいう）１２を複数段例えば５段有するウエハ移載機１３と、上記カセット２を載置して支持する水平に延出したカセット支持部１４を有するカセット移載機１５とが対向して往復移動可能に設けられ、そのカセット移載機１５によりカセットＷを載置台４から設置台９にまたはその逆に、上記ウエハ移載機１３によりウエハＷを設置台９のカセット２内から第１の真空予備室１０Ａ内の後述するボート１６にまたはその逆にそれぞれ移載可能に構成されている。
【００１５】
上記ウエハ移載機１３およびカセット移載機１５が基台７上の待機位置にある状態において、上記カセット支持部１４が上記ウエハ移載機１３の直上に配置され、これによりカセット２を基台７から外側にはみ出さない状態で旋回させることができ、旋回半径Ｒの縮小化が図られている。上記設置台９は、高さ方向にカセット２を複数個設置可能に棚部１７を複数段例えば４段有している。
【００１６】
上記筐体１の後端側上部には、下部に炉口１８を有する縦型熱処理炉１９が設けられ、この熱処理炉１９には、その熱処理時の真空度例えば１Ｔｏｒｒとほぼ同じ真空度とされる真空予備室１０が連設されている。この真空予備室１０内には、後述する搬送機構２０が配設されている。上記真空予備室１０は、搬出入口３側の第１の真空予備室１０Ａと、熱処理炉１９側の第２の真空予備室１０Ｂとからなり、第１および第２の真空予備室１０Ａ，１０Ｂ間には、これらの間を開閉するゲートバルブ２１が介設されている。
【００１７】
上記第１の真空予備室１０Ａは、熱処理炉１９内に複数枚例えば３０枚のウエハＷを装入するために用いられる基板保持具である石英製のボート１６を収容してウエハＷの移載と予備真空を行うための部屋で、上記基台７を挟んで上記載置台４と対向する位置に配置されている。第１の真空予備室１０Ａの上記基台７側へ臨む前面部は開口しており、この前面部にはその開口部を開閉するロードロックドア２２が設けられている。
【００１８】
第１の真空予備室１０Ａは、ゲートバルブ２１を開けて第２の真空予備室１０Ｂと連通するに際して第２の真空予備室１０Ｂと同じ圧力に制御され、第１の真空予備室１０Ａと第２の真空予備室１０Ｂとの間のゲートバルブ２１を閉めた状態で第１の真空予備室１０Ａのロードロックドア２２を開けて筐体１内と連通するに際して筐体１内と同じ圧力（大気圧）に制御されるようになっている。
【００１９】
上記第２の真空予備室１０Ｂは、上記熱処理炉１９の下方において炉内へのボート１６の搬入搬出を行なうためのローディング室１０ａと、上記ボート１６を２個使用する場合にボート１６同士が干渉しないよう熱処理炉１９から搬出されたボート１６を仮置きするバッファー室１０ｂと、ボート１６の搬送を行なう後述の水平搬送機構２０Ａが配置されたトランスファー室１０ｃとから構成され、これら３つの室１０ａ，１０ｂ，１０ｃは互に連通されている。
【００２０】
上記ローディング室１０ａ内には、熱処理炉１９の炉口１８を開閉する蓋体２３が後述する垂直搬送機構（昇降機構）２０Ｂの昇降アーム２４により昇降可能に設けられ、この蓋体２３の上部には、石英製の保温筒２５を介して上記ボート１６が載置されるようになっている。上記垂直搬送機構２０Ｂにより、熱処理炉１９内へのボート１６の搬入または熱処理炉１９内からのボート１６の搬出が行なわれる。
【００２１】
上記トランスファー室１０ａ内には、上記ボート１６を第１の真空予備室１０Ａから上記保温筒２５上に、または保温筒２５上から上記バッファー室１０ｂを介して第１の真空予備室１０Ａに搬送するための多関節アーム構造の搬送アーム２６を有する水平搬送機構２０Ａが設けられている。なお、上記保温筒２５は、洗浄等のために、上記水平搬送機構２０Ａにより上記蓋体２３上から第１の真空予備室１０Ａに搬送され、筐体１外に搬出可能になっている。
【００２２】
上記水平搬送機構２０Ａは、ボート１６を昇降させる機能を有していないため、第１の真空予備室１０Ａおよびバッファー室１０ｂには、搬送アーム２６との間でボート１６の受取り受渡しを可能とすべくボート１６を上下動可能に設置する基板保持具設置台（ボートスタンドともいう）２７が配置されている。なお、水平搬送機構２０Ａとしては、搬送アーム２６を介してボート１６を昇降させる機能を有していてもよく、その場合、ボートスタンド２７は上下動可能に構成されていなくてもよい。
【００２３】
上記搬送機構２０は、真空予備室１０から独立したベース部２８に設置されている。この場合、上記ベース部２８は、真空予備室１０の下方に設けられた第１ベース部２８Ａと、真空予備室１０の上方に設けられた第２ベース部２８Ｂとを含んでいる。また、上記搬送機構２０は、第１ベース部２８Ａに設置される水平搬送機構２０Ａと、第２ベース部２８Ｂに設置される垂直搬送機構２０Ｂとを含んでいる。第１ベース部２８Ａは、図１に示すように、第１の真空予備室１０Ａおよび第２の真空予備室１０Ｂ（但し、ローデンイング室１０ａを除いた部分）の下方にこれらから切り離されて独立した状態で設置され、この第１ベース部２８Ａに上記水平搬送機構２０Ａと、上記ボートスタンド２７とが第１および第２の真空予備室１０Ａ，１０Ｂから独立して設置されている。上記第１ベース部２８Ａは、例えばアルミニウム合金により形成されている。
【００２４】
上記水平搬送機構２０Ａは、作動部である搬送アーム２６と、この搬送アーム２６を駆動する駆動部２９とからなり、その駆動部２９が第１ベース部２８Ａに取付けられている。また、上記ボートスタンド２７は、ボート１６を載置する載置部２７ａと、この載置部２７ａを昇降駆動する例えばエアシリンダ等の駆動部２７ｂとからなり、その駆動部２７ｂが第１ベース部２８Ａに取付けられている。上記第１および第２の真空予備室１０Ａ，１０Ｂの底部には、上記ボートスタンド２７および水平搬送機構２０Ａを各真空予備室１０Ａ，１０Ｂ内に臨ませるための開口部３０ａ，３０ｂがそれぞれ設けられ、各開口部３０ａ，３０ｂと第１ベース部２８Ａとの間には真空シール用として筒状の伸縮可能なベローズ３１ａ，３１ｂが気密に取付けられている。
【００２５】
なお、上記ベローズ３１ａ，３１ｂの一端は、第１ベース部２８Ａでなく、水平搬送機構２０Ａおよびボートスタンド２７の各駆動部２９，２７ｂに気密に接続されていてもよい。上記第１ベース部２８Ａとしては、図２に示すように、水平搬送機構２０Ａを設置する部分２８ａと、ボートスタンド２７を設置する部分２８ｂとに分割されていてもよい。
【００２６】
一方、上記第２ベース部２８Ｂは、図４に示すように、第２の真空予備室１０Ｂの上方にこれから切り離されて独立した状態で設置され、この第２ベース部２８Ｂに垂直搬送機構２０Ｂと、熱処理炉１９とが第２の真空予備室１０Ｂから独立して設置されている。上記第２ベース部２８Ｂは、例えばステンレス鋼により板状に形成され、上記筐体１に横架されて取付けられている。上記垂直搬送機構２０Ｂは、上記昇降アーム２４と、この昇降アーム２４を垂直の昇降ロッド３２を介して昇降駆動する駆動部３３とからなり、その駆動部３３が上記第２ベース部２８Ｂ上に取付けられている。
【００２７】
第２の真空予備室１０Ｂの上部および第２ベース部２８Ｂには、熱処理炉１９の炉口１８と対応した開口部３４ａ，３４ｂと、垂直搬送機構２０Ｂの昇降ロッド３２を貫通させる開口部３４ｃ，３４ｄとが設けられている。上記熱処理炉１９は、上記第２ベース部２８Ｂの炉口用開口部３４ｂの上端に設置される例えばステンレス鋼製の円環状のマニホールド３５を有し、このマニホールド３５の上端に例えば石英製の反応管３６が取付けられている。また、上記マニホールド３６の上端には、ヒータベース３７が取付けられ、このヒータベース３７上には、上記反応管３６を覆う円筒状の断熱材３８の内周に図示しないヒーター線を配線してなる加熱ヒータ３９が取付けられている。これにより、ホットウォール型の熱処理炉１９が構成されている。
【００２８】
上記マニホールド３５が熱処理炉１９の炉口１８を形成しており、その開口端が上記蓋体２３によって下方から閉じられるようになっている。また、第２の真空予備室１０Ｂの炉口用開口部３４ａとマニホールド３５との間には、真空シール用のベローズ４０ａが気密に取付けられ、上記昇降ロッド用開口部３４ｃと昇降ロッド３２の上端部との間にも同様のベローズ４０ｂが気密に取付けられている。なお、上記マニホールド３５には、処理ガスを導入したり、炉内を減圧排気する図示しない各種の配管が接続されている。熱処理炉１９としては、反応管３６の上部に排気管を有するものであってもよい。マニホールド３５は、メンテナンス上、上下に分割可能に構成されていることが好ましい。
【００２９】
次に上記実施の形態による作用を述べる。ウエハＷを垂直に立てて収納したカセット２を搬出入口３から熱処理装置の筐体１内に搬入して載置台４上に載置すると、カセット２が押え部５，６により前後から押えられ、オリフラ合せ後、カセット２がウエハＷを水平にすべく載置台４と共にほぼ９０度回動される。これによりカセット２は、上部に収納口２ａがある垂直状態から収納口２ａが水平に向いた水平状態になる。
【００３０】
移載機構８における昇降アーム１１の昇降、基台７の旋回およびカセット移載機１５の移動により、上記カセット２が載置台４から設置台９の棚部１７に移載される。所定個数のカセット２が設置台９の各棚部１７に移載されたなら、移載機構８における昇降アーム１１の昇降、基台７の旋回およびウエハ移載機１３の移動により、上記設置台９上のカセット２内からウエハＷが予め第１の真空予備室１０Ａ内のボートスタンド２７に設置されているボート１６に移載される。
【００３１】
上記ウエハＷの移載に際して、第１の真空予備室１０Ａと第２の真空予備室１０Ｂとの間のゲートバルブ２１は閉じられ、第１の真空予備室１０Ａのロードロックドア２２は開放されている。所定枚数のウエハＷがボート１６に移載されたなら、ロードロックドア２２が閉じられ、第１の真空予備室１０Ａ内が所定の真空度に真空引きされる。
【００３２】
一方、同時進行で行なわれている熱処理炉１９における熱処理が終了すると、垂直搬送機構２０Ｂの昇降アーム２４による蓋体２３の下降により熱処理炉１９の炉口１８が開放されると共にボート１６および保温筒２５が熱処理炉１９内から第２の真空予備室１０Ｂのローディング室１０ａ内に降下され、水平搬送機構２０Ａの搬送アーム２６により上記ボート１６が保温筒２５上からバッファー室１０ｂ内のボートスタンド２７上に搬送されて仮置きされる。次いで、第１の真空予備室１０Ａと第２の真空予備室１０Ｂとの間のゲートバルブ２１が開放され、上記搬送アーム２６により第１の真空予備室１０Ａ内のボート１６が上記ローディング室１０ａ内の昇降アーム２４の保温筒２５上に移載され、バッファー室１０ｂ内のボート１６が第１の真空予備室１０Ａ内に移載される。
【００３３】
上記ボート１６の移載後に、上記ゲートバルブ２１が閉じられ、垂直搬送機構２０Ｂの昇降アーム２４による蓋体２３の上昇により上記ボート１６および保温筒２５が熱処理炉１９内に装入されると共に、炉口１８が蓋体２３で閉じられ、所定の熱処理が開始される。一方、第１の真空予備室１０Ａ内に移されたボート１６から設置台９上の空のカセット２内に処理済みのウエハＷが移載され、そのカセット２が設置台９から載置台４に搬送されて搬出入口３から搬出されることになる。
【００３４】
上記熱処理装置においては、熱処理炉１９に連設された真空予備室１０内に搬送機構２０を備えているが、上記搬送機構２０が上記真空予備室１０から独立したベース部２８に真空予備室１０から独立した状態で設置されているため、真空予備室１０が熱処理炉１９からの熱影響によりひずみや変形を生じたとしても、搬送機構２０の精度不良が発生する恐れがない。また、このように搬送機構２０の精度が保たれるので、真空予備室１０を高精度に加工する必要もない。
【００３５】
更に具体的には、上記搬送機構２０は、上記真空予備室１０外に独立して設けられたベース部２８に設置され、上記真空予備室１０には上記搬送機構２０のための開口部３０ａ，３０ｂ，３４ｃが設けられ、この開口部３０ａ，３０ｂ，３４ｃと上記ベース部２８または搬送機構２０との間に真空シール用のベローズ３１ａ，３１ｂ，４０ｂが設けられているため、真空予備室１０が熱処理炉１９からの熱影響によりひずみや変形を生じたとしても、搬送機構２０の精度不良の発生を防止することができると共に、上記ベローズ３１ａ，３１ｂ，４０ｂによって上記開口部３０ａ，３０ｂ，３４ｃを真空シールしつつ真空予備室１０とベース部２８または搬送機構２０との間の相対的変位を吸収することができる。また、ベローズ３４ａによって、熱処理炉１９の炉口１８と真空予備室１０の開口部３４ａとを気密に連結しつつ熱処理炉１９と真空予備室１０との間の相対的変位を吸収することができる。
【００３６】
上記ベース部２８は、上記真空予備室１０の下方に設けられた第１ベース部２８Ａを含み、この第１ベース部２８Ａに、ボート１６を水平に搬送する水平搬送機構２０Ａと、上記ボート１６を設置するボートスタンド２７とが設置されているため、真空予備室１０が熱処理炉１９からの熱影響によりひずみや変形を生じたとしても、ボートスタンド２７に対する水平搬送機構２０Ａの精度不良が発生する恐れがない。また、上記ベース部２８は、上記真空予備室１０の上方に設けられた第２ベース部２８Ｂを含み、この第２ベース部２８Ｂに、下部に炉口１８を有する縦型の熱処理炉１９と、この熱処理炉１９にボート１６を搬入搬出する垂直搬送機構２０Ｂが設置されているため、真空予備室１０が熱処理炉１９からの熱影響によりひずみや変形を生じたとしても、熱処理炉１９に対する垂直搬送機構２０Ｂの精度不良が発生する恐れがない。従って、炉口１８を形成するマニホールド３５と、その炉口１８を塞ぐ蓋体２３の精度不良が発生する恐れがなく、蓋体２３の昇降によりボート１６および保温筒２５を熱処理炉１９内に確実に搬入し、あるいは熱処理炉１９内から搬出することができ、また、蓋体２３で炉口１８を確実に閉塞することができる。
【００３７】
以上、本発明の実施の形態を図面により詳述してきたが、本発明は上記実施の形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲での種々の設計変更等が可能である。例えば、本発明は、枚葉式の熱処理装置にも適用可能である。
【００３８】
【発明の効果】
以上要するに本発明によれば、次のような優れた効果が得られる。
【００３９】
請求項１記載の縦型熱処理装置によれば、真空予備室が熱処理炉からの熱影響によりひずみや変形を生じたとしても、水平搬送機構の精度不良の発生を防止することができると共に、上記ベローズによって上記開口部とベース部との間を真空シールしつつ真空予備室と第１ベース部との間の相対的変位を吸収することができる。請求項２記載の縦型熱処理装置によれば、基板保持具設置台に対する水平搬送機構の精度不良が発生する恐れがない。また、請求項３記載の縦型熱処理装置によれば、真空予備室が熱処理炉からの熱影響によりひずみや変形を生じたとしても、熱処理炉に対する垂直搬送機構の精度不良が発生する恐れがなく、炉口と蓋体の精度不良が発生する恐れもない。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施の形態を示す熱処理装置の概略的側断面図である。
【図２】熱処理装置の具体的構成を示す側断面図である。
【図３】同熱処理装置の平断面図である。
【図４】熱処理装置における熱処理炉部分の断面図である。
【符号の説明】
１０  真空予備室
１０Ａ  第１の真空予備室
１０Ｂ  第２の真空予備室
１６  ボート（基板保持具）
１８  炉口
１９  熱処理炉
２０  搬送機構
２０Ａ  水平搬送機構
２０Ｂ  垂直搬送機構
２７  ボートスタンド（基板保持具設置台）
２８  ベース部
２８Ａ  第１ベース部
２８Ｂ  第２ベース部
３０ａ，３０ｂ，３４ａ，３４ｃ  開口部
３１ａ，３１ｂ，４０ａ，４０ｂ  ベローズ
【図１】
0003604241.tif 000002
【図２】
0003604241.tif 000003
【図３】
0003604241.tif 000004
【図４】
0003604241.tif 000005