(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を鉛直方向の軸芯周りで回転可能に保持する基板保持手段と、
基板表面を洗浄する洗浄具と、
前記洗浄具を鉛直方向の軸芯周りで回転させる洗浄具回転手段と、
前記洗浄具を基板表面に沿って水平方向に変位する洗浄具移動手段と、
基板表面の前記洗浄具による洗浄箇所に洗浄液を供給する洗浄液供給手段とを備えた回転式基板洗浄装置において、
基板洗浄時に前記基板からの反力を受けるとともに前記洗浄具を前記基板に対して昇降可能に支持する押圧手段と、
前記洗浄具と前記押圧手段との間に、基板洗浄状態で前記洗浄具が前記基板に付与する圧力を感知する圧力センサを設けるとともに、前記圧力センサによって感知した圧力が設定範囲内に維持されるように前記押圧手段を作動する制御手段を設けたことを特徴とする回転式基板洗浄装置。
【請求項２】
請求項１に記載の洗浄具回転手段によって回転される回転体に、洗浄具を一体的に取り付けた洗浄具支持体を押圧手段を介して昇降可能に設け、前記洗浄具支持体を前記基板に対して昇降するものである回転式基板洗浄装置。
【請求項３】
請求項２に記載の回転体と洗浄具支持体との間に、洗浄具の自重と釣り合って前記洗浄具を所定高さに維持する重量均衡手段を備えてある回転式基板洗浄装置。
【請求項４】
請求項３に記載の重量均衡手段、押圧手段および圧力センサそれぞれの平面視における中心を洗浄具の回転中心に一致させてある回転式基板洗浄装置。
【請求項５】
請求項１ないし請求項４のいずれかに記載の押圧手段が、電磁力を駆動源とするリニアアクチュエータである回転式基板洗浄装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】
本発明は、半導体ウエハ、フォトマスク用のガラス基板、液晶表示装置用のガラス基板、光ディスク用の基板等の基板に、純水などの洗浄液を供給して洗浄処理するために、基板を鉛直方向の軸芯周りで回転可能に保持する基板保持手段と、基板表面を洗浄する洗浄具と、その洗浄具を鉛直方向の軸芯周りで回転させる洗浄具回転手段と、洗浄具を基板表面に沿って水平方向に変位する洗浄具移動手段と、基板表面の洗浄具による洗浄箇所に洗浄液を供給する洗浄液供給手段とを備えた回転式基板洗浄装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来の回転式基板洗浄装置としては、例えば、実開平１−１０７１２９号公報に開示されているものが知られている。この従来例によれば、基板を鉛直方向の軸芯周りで回転させながら、その基板表面に洗浄液を供給し、洗浄具を回転させながら基板表面に沿わせて移動させ、洗浄具を所定の圧力により基板に押し付けながら基板表面に付着したパーティクルやゴミを剥離させるとともに、その剥離したパーティクルやゴミなどの洗浄除去物を洗浄液とともに基板回転による遠心力を利用しながら基板の外方へ流出させるようにしていた。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、従来例の場合、洗浄位置における洗浄時の洗浄具の高さは一定であり、洗浄具から基板に付与される圧力は初期設定によって一義的に決定されていた。一方、基板では、それ自体の重量や、冷却や加熱などの熱処理の影響を受けることに起因し、高低差で 0.5mm程度の反り変形を生じていることが多い。その結果、反り上がっている箇所と凹んでいる箇所とで、洗浄具から基板に付与される圧力に違いを生じ、基板表面での洗浄性が不均一になる欠点があった。
【０００４】
また、洗浄具の寸法誤差や寸法変化、洗浄具交換時の取付具合いの変化等によっても洗浄性が不均一になる欠点があった。
【０００５】
本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであって、請求項１に係る発明の回転式基板洗浄装置は、洗浄具が基板から受ける反力を精度良く感知し、基板の反り変形のいかんにかかわらず、基板の反り変形に良好に追随して、基板表面全面を均一に洗浄できるようにすることを目的とし、また、請求項２に係る発明の回転式基板洗浄装置は、基板の反り変形のいかんにかかわらず、比較的簡単な構成で基板の反り変形に容易に追随して、基板表面全面を均一に洗浄できるようにすることを目的とする。
また、請求項３に係る発明の回転式基板洗浄装置は、構成を簡単にできながら、基板に対する押圧力を小さな力で良好に制御できるようにすることを目的とし、また、請求項４に係る発明の回転式基板洗浄装置は、基板に対して洗浄具を均等に押圧するとともに、基板に付与する圧力を精度良く感知して、洗浄性能を一層向上できるできるようにすることを目的とし、また、請求項５に係る発明の回転式基板洗浄装置は、基板の反り変形により俊敏に追随して洗浄性能をより一層向上できるようにすることを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
請求項１に係る発明の回転式基板洗浄装置は、上述のような目的を達成するために、基板を鉛直方向の軸芯周りで回転可能に保持する基板保持手段と、基板表面を洗浄する洗浄具と、洗浄具を鉛直方向の軸芯周りで回転させる洗浄具回転手段と、洗浄具を基板表面に沿って水平方向に変位する洗浄具移動手段と、基板表面の洗浄具による洗浄箇所に洗浄液を供給する洗浄液供給手段とを備えた回転式基板洗浄装置において、基板洗浄時に基板からの反力を受けるとともに洗浄具を基板に対して昇降可能に支持する押圧手段と、洗浄具と押圧手段との間に、基板洗浄状態で洗浄具が基板に付与する圧力を感知する圧力センサを設けるとともに、その圧力センサによって感知した圧力が設定範囲内に維持されるように押圧手段を作動する制御手段を設けて構成する。
【０００７】
また、請求項２に係る発明の回転式基板洗浄装置は、上述のような目的を達成するために、請求項１に係る発明の回転式基板洗浄装置における洗浄具回転手段によって回転される回転体に、洗浄具を一体的に取り付けた洗浄具支持体を押圧手段を介して昇降可能に設け、洗浄具支持体を基板に対して昇降するように構成する。
【０００８】
また、請求項３に係る発明の回転式基板洗浄装置は、上述のような目的を達成するために、請求項２に係る発明の回転式基板洗浄装置における回転体と洗浄具支持体との間に、洗浄具の自重と釣り合って洗浄具を所定高さに維持する重量均衡手段を備えて構成する。
【０００９】
また、請求項４に係る発明の回転式基板洗浄装置は、上述のような目的を達成するために、請求項３に係る発明の回転式基板洗浄装置における重量均衡手段、押圧手段および圧力センサそれぞれの平面視における中心を洗浄具の回転中心に一致させるように構成する。
【００１０】
また、請求項５に係る発明の回転式基板洗浄装置は、上述のような目的を達成するために、請求項請求項１ないし請求項４のいずれかに係る発明の回転式基板洗浄装置における押圧手段を、電磁力を駆動源とするリニアアクチュエータで構成する。
【００１１】
【作用】
請求項１に係る発明の回転式基板洗浄装置の構成によれば、押圧手段の動作圧では無く、洗浄具が回転基板から受ける反力、すなわち、洗浄具が回転基板に付与する圧力を、洗浄具と押圧手段との間に設けた圧力センサで精度良く感知する。本発明者らは、押圧手段の動作圧を感知してその値が一定になるように押圧手段を制御することを試みたが、基板の反り変形に対しての追随性に欠ける問題があることを知見した。これは、洗浄具が基板に付与する圧力に対し、基板の反り変形によって生じる圧力の変化が僅かであり、その圧力の変化が押圧手段に伝わってもそれが動作圧に反映されるのに遅れを生じやすく、また、洗浄具を昇降させる構成における抵抗などに起因して、押圧手段によって与えている動作圧と基板に付与される圧力との間で誤差を生じやすいといったことが原因ではないかと推察される。
この知見に基づいて、押圧手段を介さずに圧力センサで洗浄具が回転基板から受ける反力を直接的に感知することにより、前述したように、洗浄具が回転基板に付与する圧力を精度良く感知する。この精度良く感知される圧力に基づき、基板の反り変形に起因して、洗浄具が回転基板に付与する圧力が設定範囲から変化すると、そのことを、押圧手段を介さずに直接的に圧力センサが感知し、その感知した圧力が設定範囲よりも大きければ、押圧手段によって洗浄具を上昇させることにより、洗浄具を基板から離れる側に上昇させ、一方、感知した圧力が設定範囲よりも小さければ、洗浄具を基板に対して下降させることにより、洗浄具を基板に近づく側に移動させ、基板に付与する洗浄具の圧力を常に設定範囲内に精度良く維持することができる。
【００１２】
また、請求項２に係る発明の回転式基板洗浄装置の構成によれば、基板の反り変形に起因して、洗浄具が回転基板に付与する圧力が設定範囲から変化すると、そのことを、押圧手段を介さずに直接的に圧力センサが感知し、その感知した圧力が設定範囲よりも大きければ、洗浄具支持体を回転体に対して上昇させることにより洗浄具を基板から離れる側に移動させ、一方、感知した圧力が設定範囲よりも小さければ、洗浄具支持体を回転体に対して下降させることにより洗浄具を基板に近づく側に移動させ、基板に付与する洗浄具の圧力を常に設定範囲内に精度良く維持することができる。
【００１３】
また、請求項３に係る発明の回転式基板洗浄装置の構成によれば、重量均衡手段によって洗浄具の自重と釣り合わせながら、回転体に対して洗浄具およびそれに一体の洗浄具支持体を昇降させ、押圧手段によって基板に付与する圧力を常に一定化することができる。
【００１４】
また、請求項４に係る発明の回転式基板洗浄装置の構成によれば、洗浄具の自重と釣り合わせるために重量均衡手段によって洗浄具を支持する力の中心、ならびに、押圧手段によって洗浄具が基板に付与する圧力の中心を洗浄具の回転中心に一致させ、回転する洗浄具に対して偏った力を作用させることを回避でき、しかも、洗浄具が基板に付与する圧力の中心が洗浄具の回転中心に一致する状態で、洗浄状態で洗浄具が基板に付与する圧力を圧力センサによって感知することができる。
【００１５】
また、請求項５に係る発明の回転式基板洗浄装置の構成によれば、回転基板に対して洗浄具が付与する圧力の変化に対し、電流値を変えて電磁力を変化させることで俊敏に応答させ、押圧手段によって基板に付与する圧力を常に一定化することができる。
【００１６】
【実施例】
次に、本発明の実施例を図面を用いて詳細に説明する。
図１は本発明の回転式基板洗浄装置の第１実施例を示す全体概略縦断面図、図２は平面図である。
【００１７】
電動モータ１の駆動によって鉛直方向の軸芯周りで回転する回転軸２の上端に、基板Ｗを真空吸着保持する回転台３が一体回転可能に取り付けられ、基板Ｗを鉛直方向の軸芯周りで回転可能に保持する基板保持手段４が構成されている。
【００１８】
なお、本実施例においては、回転台３を真空吸着式のものとして基板保持手段４を構成しているが、これに限られるものではなく、例えば、回転台３上に基板Ｗの外縁を支持する基板支持部材を複数設けるとともに、この基板支持部材の上端に基板Ｗの水平方向の位置を規制する位置決めピンを設けて基板保持手段を構成し、基板Ｗを回転台３上面から離間した状態で回転可能に保持させるようにしてもよい。
【００１９】
基板保持手段４およびそれによって保持された基板Ｗの周囲は、昇降駆動機構（図示せず）によって昇降可能なカップ５で覆われている。カップ５の横外側方に、基板Ｗの回転中心側に向けて純水などの洗浄液を噴出供給する洗浄液供給手段としてのノズル６…が設けられている。
【００２０】
また、カップ５の横外側方に、アングル形状の支持アーム７が、電動モータ（図示せず）により鉛直方向の第１の軸芯Ｐ１周りで回転可能に設けられ、その支持アーム７の先端側アーム部分７ａの下部に、鉛直方向の第２の軸芯Ｐ２周りで回転可能に、基板表面を洗浄する洗浄具８が設けられている。
【００２１】
図３の要部の拡大縦断面図に示すように、先端側アーム部分７ａ内には、ベアリング９…を介して回転体１０が前記第２の軸芯Ｐ２周りで回転可能に設けられ、その回転体１０に一体回転可能に取り付けられたプーリー１１とモータＭとがタイミングベルト１２を介して連動連結されている。回転体１０のプーリー１１を挟む上下両側箇所それぞれに一対づつのガイドローラ１３…が設けられ、それらのガイドローラ１３…が、下端に洗浄具８を取り付けた洗浄具支持体１４の途中箇所に形成したスプライン部１４ａに作用するように構成され、回転体１０と一体回転しながら抵抗少なく洗浄具支持体１４を昇降できるように構成されている。
【００２２】
洗浄具支持体１４に一体回転可能にバネ座１５が取り付けられ、そのバネ座１５と、回転体１０に取り付けられたバネ座１６とにわたって圧縮コイルスプリング１７が設けられ、洗浄具８および洗浄具支持体１４の重量に釣り合って、洗浄具８を先端側アーム部分７ａに対して所定高さに維持させるように重量均衡手段１８が構成されている。
【００２３】
洗浄具支持体１４の上端にベアリング１９を介して相対回転のみ可能に当接部材２０が取り付けられ、その当接部材２０の上端に対応するように、先端側アーム部分７ａの上部側に、基板洗浄時に基板Ｗからの反力を受けるとともに洗浄具８を基板Ｗに対して昇降可能に支持する押圧手段としてのエアシリンダ２１が設けられ、そのエアシリンダ２１のシリンダロッド２２の下端が圧力センサ２３を間にして当接部材２０に当接されている。
【００２４】
エアシリンダ２１は、図４の概念図に示すように、そのシリンダ２４の内周面とピストン２５およびシリンダロッド２２それぞれの外周面との間に微少な隙間を形成して構成され、そして、ピストン２５を間にしたシリンダロッド２２とは反対側の空間とコンプレッサー２６とを、流量調整弁２７を介装した第１のエアー配管２８を介して接続し、一方、ピストン２５を間にしたシリンダロッド２２側の空間とコンプレッサー２６とを、定量弁２９を介装した第２のエアー配管３０を介して接続され、エアシリンダ２１を供給エアーによって調芯しながら無摺動状態で抵抗少なく伸縮できるように構成されている。
【００２５】
前記バネ座１５，１６と圧縮コイルスプリング１７とから成る重量均衡手段１８、および、エアシリンダ２１それぞれの平面視における中心が洗浄具８の回転中心Ｐ２に一致するように設けられている。
【００２６】
先端側アーム部分７ａと回転体１０の下部側との間に、磁性流体シール３１とラビリンス機構３２が設けられ、その上部のベアリング９で回転に伴う摩耗によって発生するゴミが基板Ｗ上に落下したり、洗浄液が浸入したりすることを回避できるように構成されている。
【００２７】
図４に示すように、流量調整弁２７のドライバ３３に制御手段としてのコントローラ３４が接続され、そのコントローラ３４に圧力センサ２３と圧力設定器３５とが接続されている。
【００２８】
コントローラ３４には、第１の比較手段３６と第２の比較手段３７と開信号出力手段３８と閉信号出力手段３９が備えられている。
第１の比較手段３６では、圧力センサ２３で感知される圧力と圧力設定器３５で設定された設定圧力とを入力し、感知圧力と設定圧力から微少量減算した設定下限圧力とを比較し、感知圧力が設定下限圧力よりも小さくなったときに開信号出力手段３８に指令信号を出力し、開信号出力手段３８からドライバ３３に開信号を出力して流量調整弁２７を開き側に操作し、エアシリンダ２１に付与する動作圧を大きくするように構成されている。
【００２９】
第２の比較手段３７では、圧力センサ２３で感知される圧力と圧力設定器３５で設定された設定圧力とを入力し、感知圧力と設定圧力に微少量加算した設定上限圧力とを比較し、感知圧力が設定上限圧力よりも大きくなったときに閉信号出力手段３９に指令信号を出力し、閉信号出力手段３９からドライバ３３に閉信号を出力して流量調整弁２７を閉じ側に操作し、エアシリンダ２１に付与する動作圧を小さくするように構成されている。
【００３０】
上記構成により、基板Ｗの洗浄に先立ち、基板Ｗ上に形成された膜の種類（アルミ膜、酸化膜、窒化膜、ポリシリコン膜、パターン膜、ベアシリコン膜など）とか基板に付着している汚染物の性質とか種類などに応じ、それに対応する洗浄圧力を圧力設定器３５で設定入力する。それにより、支持アーム７を洗浄位置に変位させ、洗浄具８を回転基板Ｗに押圧するに伴い、洗浄状態での洗浄具８が基板Ｗに付与する圧力を圧力センサ２３が感知し、感知圧力の変化に基づいて流量調整弁２７を自動的に開閉制御し、洗浄具８が基板Ｗに付与する圧力を、前述した設定上限圧力と設定下限圧力との設定範囲内に維持し、所定の圧力を基板Ｗに付与しながら洗浄処理できるようになっている。
【００３１】
図５は、第２実施例の要部の拡大縦断面図であり、第１実施例と異なるところは次の通りである。
すなわち、押圧手段として、エアシリンダ２１に代えて、コイル４０内に操作ロッド４１を直線的に移動可能に設けたリニアアクチュエータ４２と電源装置４３とが先端側アーム部分７ａに設けられている。
【００３２】
図６のブロック図に示すように、電源装置４３は電源４３ａと可変抵抗器４３ｂとから構成され、可変抵抗器４３ｂで抵抗を調整することによりコイル４０に流す電流を変え、リニアアクチュエータ４２の電磁力を制御できるようになっている。
【００３３】
可変抵抗器４３ｂのドライバ４４に制御手段としてのコントローラ４５が接続され、このコントローラ４５に、前述第１実施例と同様に操作ロッド４１と洗浄具支持体１４との間に設けられた圧力センサ２３と圧力設定器３５とが接続されている。
【００３４】
コントローラ４５には、第１の比較手段４６と第２の比較手段４７と減少信号出力手段４８と増加信号出力手段４９が備えられている。
第１の比較手段４６では、圧力センサ２３で感知される圧力と圧力設定器３５で設定された設定圧力とを入力し、感知圧力と設定圧力から微少量減算した設定下限圧力とを比較し、感知圧力が設定下限圧力よりも小さくなったときに増加信号出力手段４９に指令信号を出力し、増加信号出力手段４９からドライバ４４に増加信号を出力してリニアアクチュエータ４２に対する電磁力を強め、洗浄具８が基板Ｗに付与する圧力が高くなるように構成されている。
【００３５】
第２の比較手段４７では、圧力センサ２３で感知される圧力と圧力設定器３５で設定された設定圧力とを入力し、感知圧力と設定圧力に微少量加算した設定上限圧力とを比較し、感知圧力が設定上限圧力よりも大きくなったときに減少信号出力手段４８に指令信号を出力し、減少信号出力手段４８からドライバ４４に減少信号を出力してリニアアクチュエータ４２に対する電磁力を弱め、洗浄具８が基板Ｗに付与する圧力が低くなるように構成されている。他の構成は第１実施例と同じであり、同一図番を付すことによりその説明は省略する。
【００３６】
上記構成により、洗浄状態での洗浄具８が基板Ｗに付与する圧力を圧力センサ２３が感知し、感知圧力の変化に基づいてリニアアクチュエータ４２の電磁力を自動的に制御し、洗浄具８が基板Ｗに付与する圧力を、前述した設定上限圧力と設定下限圧力との設定範囲内に維持し、所定の圧力を基板Ｗに付与しながら洗浄処理できるようになっている。
【００３７】
図７は第３実施例の要部の拡大縦断面図、図８は図７の側面図、図９は横断面図であり、第２実施例と異なるところは次の通りである。
すなわち、洗浄具支持体１４と回転体１０とが上下一対づつのリンク５０…を介して平行四連リンク機構を構成するように連結されるとともに、洗浄具支持体１４の上端に相対回転可能に取り付けた当接部材５１と操作ロッド４１とが、ロードセル型の圧力センサ２３を介して当接されている。圧力センサ２３の平面視における中心が洗浄具８の回転中心Ｐ２に一致するように設けられている。他の構成は第２実施例と同じであり、同一図番を付すことによりその説明は省略する。
【００３８】
上述実施例では、洗浄具８とそれに一体の洗浄具支持体１４とを回転体１０に対して昇降するように構成したが、支持アーム７の先端側アーム部分７ａに対して、洗浄具８と洗浄具支持体１４とに回転体１０を加えたものを昇降するように構成しても良い。
【００３９】
図１０は、本発明の回転式基板洗浄装置の第４実施例を示す全体概略縦断面図であり、装置フレーム５２に支持筒体５３がベアリング５４を介して回転可能に設けられ、その支持筒体５３に、支持アーム７の一端側に一体の回転支軸５５が昇降のみ可能に設けられている。支持筒体５３にプーリー５６が一体的に取り付けられ、そのプーリー５６と正逆転可能な電動モータ５７とが伝動ベルト５８を介して連動連結されている。
【００４０】
支持アーム７の他端側に、洗浄具８を取り付けた洗浄具支持体１４が回転のみ可能に設けられ、その洗浄具支持体１４と、支持アーム７に設けた電動モータＭとがベルト式伝動機構５９を介して連動連結されている。
【００４１】
回転支軸５５の途中箇所にバネ座６０が取り付けられ、そのバネ座６０と支持筒体５３との間に、回転支軸５５を上昇させる側に付勢する圧縮コイルスプリング６１が設けられ、自然状態で、わずかな支持力で洗浄具８を基板Ｗに対する洗浄位置に維持できるように重量均衡手段６２が構成されている。
【００４２】
回転支軸５５の下方に対応位置させてリニアアクチュエータ４２が設けられ、そのコイル４０内の操作ロッド４１に回転支軸５５が圧力センサ２３を介して支持されている。この構成により、その圧力センサ２３による感知圧力が設定範囲よりも大きくなったときには電磁力を大にして支持アーム７を上昇するようにリニアアクチュエータ４２を制御し、一方、圧力センサ２３による感知圧力が設定範囲よりも小さくなったときには電磁力を小にして支持アーム７を下降するようにリニアアクチュエータ４２を制御し、洗浄具８が基板Ｗに付与する圧力が設定範囲内に維持されるようにする。
【００４３】
前述実施例における圧縮コイルスプリング１７，６１に代えて、弾性変位の程度にかかわらず反発力が一定の非線形バネを用いるようにしても良い。
【００４４】
本発明としては、洗浄具８として、ナイロンブラシやモヘアブラシやスポンジ製やフェルト製などのように、軟質材料のものを使用する場合により好適に実施できるが、プラスチック製のものを使用する場合にも適用できる。
【００４５】
また、上記実施例では、洗浄具８を基板Ｗの表面に沿って水平方向に変位するのに、電動モータにより支持アーム７を鉛直方向の第１の軸芯Ｐ１周りで回転させるように構成しているが、エアシリンダなどにより支持アーム７を直線方向に移動させるように構成しても良く、支持アーム７と電動モータとから成る構成や支持アーム７とエアシリンダとから成る構成などをして洗浄具移動手段と総称する。
【００４６】
本発明としては、上述実施例のような円形基板に限らず、角型基板に対する回転式基板洗浄装置にも適用できる。
【００４７】
【発明の効果】
請求項１に係る発明の回転式基板洗浄装置によれば、基板の反り変形に起因して洗浄状態で洗浄具が回転基板に付与する圧力が変化するに伴い、押圧手段により洗浄具を基板に対して昇降させ、基板に付与する洗浄具の圧力を設定範囲内に維持するから、基板表面での反り変形に追随し、基板の反り変形のいかんにかかわらず、基板表面全面を、常に所定の圧力を付与しながら洗浄具によって均一に洗浄できるようになった。
【００４８】
また、請求項２に係る発明の回転式基板洗浄装置によれば、基板の反り変形に起因して洗浄状態で洗浄具が回転基板に付与する圧力が変化するに伴い、洗浄具を取り付けた洗浄具支持体を回転体に対して押圧手段により昇降させ、基板に付与する洗浄具の圧力を設定範囲内に維持するから、例えば、洗浄具回転手段や洗浄具移動手段を支持する基端側において、その全体を昇降する場合に比べて、昇降すべき部材重量が軽量で迅速容易に洗浄具を昇降でき、基板表面での反り変形に追随しやすく、基板の反り変形のいかんにかかわらず、比較的簡単な構成で、基板表面全面を、常に所定の圧力を付与しながら洗浄具により均一に洗浄できるようになった。
【００４９】
また、請求項３に係る発明の回転式基板洗浄装置によれば、重量均衡手段において洗浄具の自重と釣り合わせるから、基板に付与する圧力の変化に対して洗浄具とそれに一体の洗浄具支持体を昇降させるために必要な力が小さくて済み、押圧手段として作動力の小さい簡単な構成のものにできながら、基板に付与する圧力の変化に対して小さな力で良好に制御できるようになった。
【００５０】
また、請求項４に係る発明の回転式基板洗浄装置によれば、重量均衡手段による洗浄具に対する支持力、ならびに、押圧手段によって洗浄具が基板に付与する圧力のいずれをも、回転する洗浄具に対して偏らずに作用させることができるから、基板に対して洗浄具を作用面全面にわたって均等に押圧でき、洗浄性能を向上でき、しかも、洗浄具が基板に付与する圧力を、洗浄具の回転中心に一致した状態で圧力センサによって感知するから、基板に付与する圧力を精度良く感知でき、それに基づいて洗浄具が基板に付与する圧力をより良好に制御し、洗浄性能を一層向上できるようになった。
【００５１】
また、請求項５に係る発明の回転式基板洗浄装置によれば、回転基板に対して洗浄具が付与する圧力の変化に対して俊敏に応答するから、洗浄具を基板表面での反り変形に一層良好に追随させやすく、洗浄性能をより一層向上できるようになった。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の回転式基板洗浄装置の第１実施例を示す全体概略縦断面図である。
【図２】平面図である。
【図３】要部の拡大縦断面図である。
【図４】第１実施例の制御構成を示すブロック図である。
【図５】第２実施例の要部の拡大縦断面図である。
【図６】第２実施例の制御構成を示すブロック図である。
【図７】第３実施例の要部の拡大縦断面図である。
【図８】図７の側面図である。
【図９】図７の横断図である。
【図１０】第４実施例の一部切欠正面図である。
【符号の説明】
４…基板保持手段
６…洗浄液供給手段としてのノズル
８…洗浄具
１０…回転体
１４…洗浄具支持体
１８…重量均衡手段
２１…押圧手段としてのエアシリンダ
２３…圧力センサ
３４…制御手段としてのコントローラ
４２…押圧手段としてのリニアアクチュエータ
３７…単動式エアシリンダ
６２…重量均衡手段
Ｍ…洗浄具回転手段としての電動モータ
Ｗ…基板
【図１】
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【図２】
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【図６】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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