【手続補正書】
【提出日】平成29年4月7日(2017.4.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
棒状分子を、直線的に配列された重合体分子を有する規則領域と、重合体分子が直線的に配列されない無規則領域とを含む重合体表面上に結合することであって、前記棒状分子が、直線的に配列されない重合体分子よりも、直線的に配列された重合体分子により強力に結合するように選択される、結合することと、
前記棒状分子と前記直線的に配列された重合体分子との間の結合を維持しながら、直線的に配列されない重合体分子に結合される前記棒状分子を除去するように構成される解離処理を、前記結合された棒状分子を有する重合体表面に適用し、棒状分子が排他的に前記規則領域に結合された前記重合体表面を生じさせることと、を含む方法。
【請求項２】
前記直線的に配列された重合体分子が計測標的要素に関連付けられ、棒状分子が前記規則領域に排他的に結合された前記生じさせられた重合体表面から、光学的測定信号を導出することをさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記光学的測定信号を前記導出することが、前記結合された棒状分子を前記無規則領域と区別するように構成された偏光を使用して実行される、請求項２に記載の方法。
【請求項４】
前記光学的測定信号の前記導出後、前記規則領域に排他的に結合された前記棒状分子を除去することをさらに含む、請求項２に記載の方法。
【請求項５】
前記無規則領域をエッチングによって取り除くことをさらに含み、前記棒状分子が前記規則領域を前記エッチングから保護し、前記棒状分子を前記重合体表面に前記結合する前に、前記無規則領域を少なくとも部分的にエッチングし、前記結合の前に、前記重合体表面を誘導自己組織化（ＤＳＡ）プロセスによって製造し、前記結合の前に、前記規則領域と前記無規則領域との間の地形的差異を作成し、前記棒状分子を、セルロース、ナノチューブ、及び剛直棒重合体から構成されるグループから選択し、あるいは、前記棒状分子を、前記結合された領域上の規則のレベルに依存する結晶形態を有するように構成されたセルロース分子であるように選択することを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記棒状分子を、少なくとも１つの架橋分子を含むように構成することと、前記少なくとも１つの架橋分子を、規則及び無規則領域上への結合強度を規定するように選択することと、をさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
前記少なくとも１つの架橋分子を、前記重合体表面分子のうちの少なくとも１つとして選択することをさらに含む、請求項６に記載の方法。
【請求項８】
前記棒状分子及び前記重合体表面のうちの少なくとも１つを、偏光を使用して前記棒状分子と前記無規則領域との間の区別を可能にするように構成することをさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項９】
共に具現化されたコンピュータ可読プログラムを有するコンピュータ可読記憶媒体を備えるコンピュータプログラム製品であって、前記コンピュータ可読プログラムが、請求項１に記載の方法に従って製造された標的の計測測定を実行するように構成される、コンピュータプログラム製品。
【請求項１０】
計測標的を、誘導自己組織化（ＤＳＡ）プロセスによって製造することを含む方法であって、前記標的のうちの少なくとも１つの標的要素が、前記ＤＳＡプロセスのうちの少なくとも１つの特徴によって、前記少なくとも１つの標的要素に関連する背景と区別される、方法。
【請求項１１】
前記ＤＳＡプロセスの前記少なくとも１つの特徴が、前記少なくとも１つの標的要素と前記少なくとも１つの標的要素に関連する背景との間に光学的区別を提供するように構成され、前記方法が、前記光学的区別を測定することをさらに含む、請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
前記光学的区別及び前記測定が、偏光を使用して実行される、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
前記ＤＳＡにより製造された計測標的の形体を、前記測定の後に除去することをさらに含む、請求項１１に記載の方法。
【請求項１４】
前記ＤＳＡプロセスの前記特徴が、偏光を使用して少なくとも１つの標的要素と前記少なくとも１つの標的要素に関連する背景との間の区別を可能にするように選択され、あるいは、ＤＳＡガイディングラインの存在、方向、空間周波数、及び寸法から構成されるグループから選択される、請求項１０に記載の方法。
【請求項１５】
前記計測標的が、ＳＣＯＬ、ＡＩＭ、ＡＩＭＤ、ＢＬＯＳＳＯＭ、及びＢｉＢから構成されるグループから選択された少なくとも１つの標的タイプである、請求項１０に記載の方法。
【請求項１６】
前記計測標的の前の層及び現在の層のうちの少なくとも１つにおける標的要素に適用される、請求項１０に記載の方法。
【請求項１７】
共に具現化されたコンピュータ可読プログラムを有するコンピュータ可読記憶媒体を備えるコンピュータプログラム製品であって、前記コンピュータ可読プログラムが、請求項１０に記載の方法と互換性がある計測標的を設計するように構成され、あるいは、前記方法に従って製造された標的の計測光学測定を実行するように構成される、コンピュータプログラム製品。
【請求項１８】
２つの隣接する標的構造を誘導自己組織化（ＤＳＡ）プロセスによって製造する方法であって、複数の標的構造間の境界領域が、第１の標的構造の第１のガイディングラインと、第２の標的構造の各々のガイドラインの複数のガイディングライン端を含み、
前記第１のガイディングラインに対する指定の閾値未満の距離を維持するように前記境界領域における前記ガイディングライン端を設計することと、
前記境界領域の幅が各ガイドライン製造プロセスに関連する特定の最大プロセス不正確度閾値までの標的要素を製造することと、
を含む、方法。
【請求項１９】
前記指定の閾値を選択して、前記ＤＳＡプロセスにおいて平行な自己組織化を生じることと、
前記ガイディングライン端を、前記第１のガイディングラインに平行である端部を有するように設計すること、あるいは、前記ガイディングライン端を、前記第１のガイディングラインに対して他のガイディングライン端を越えて突出するように設計することと、
をさらに含む、請求項１８に記載の方法。
【請求項２０】
請求項１８に記載の方法に従って複数の隣接する標的要素の対を設計することを含む、計測標的を設計する方法。
【請求項２１】
共に具現化されたコンピュータ可読プログラムを有するコンピュータ可読記憶媒体を備えるコンピュータプログラム製品であって、前記コンピュータ可読プログラムが、請求項２０に記載の計測標的を設計する前記方法を実行するように構成され、あるいは、請求項１８に記載の方法に従って製造された標的の計測測定を実行するように構成される、コンピュータプログラム製品。
【請求項２２】
背景エリアをセグメント化することによって、標的要素をその背景エリアと区別することを含み、前記セグメント化が、請求項１，１０，１８のいずれか１項に記載の方法に従ったＤＳＡプロセスによって実行される、計測標的を設計する方法。
【請求項２３】
直線的に配列された重合体分子を有する規則領域と、重合体分子が直線的に配列されない無規則領域とを含む重合体表面と、
前記規則領域に結合された棒状分子であって、直線的に配列されない重合体分子よりも、直線的に配列された重合体分子により強力に結合するように選択される、棒状分子と、を含む、計測標的。
【請求項２４】
前記棒状分子及び前記重合体表面のうちの少なくとも１つが、偏光を使用して、前記棒状分子と前記無規則領域との間の区別を可能にするように構成され、前記無規則領域が少なくとも部分的にエッチングによって取り除かれ、前記棒状分子が前記規則領域を前記エッチングから保護し、前記重合体表面がＤＳＡプロセスによって製造され、前記規則及び前記無規則領域が地形的に異なり、あるいは、少なくとも１つの架橋分子が、前記重合体表面分子のうちの少なくとも１つである、請求項２３に記載の計測標的。
【請求項２５】
前記棒状分子が、セルロース、ナノチューブ、及び剛直棒重合体から構成されるグループのうちの少なくとも１つから選択され、前記結合された領域上の規則レベルに依存する結晶形態を有するように構成されたセルロース分子、あるいは、規則及び無規則領域上への結合強度を規定するように選択された少なくとも１つの架橋分子を含む、請求項２３に記載の計測標的。
【請求項２６】
重合体表面の規則領域の上に結合された棒状分子を含むハードマスクであって、
前記重合体表面が、直線的に配列された重合体分子を有する規則領域と、重合体分子が直線的に配列されない無規則領域とを含み、前記棒状分子が、直線的に配列されない重合体分子よりも、直線的に配列された重合体分子により強力に結合するように選択される、ハードマスク。
【請求項２７】
前記重合体表面が、ＤＳＡプロセスによって製造される、請求項２６に記載のハードマスク。
【請求項２８】
前記棒状分子が、セルロース、ナノチューブ、及び剛直棒重合体から構成されるグループの少なくとも１つから選択され、あるいは、前記結合された領域上の規則のレベルに依存する結晶形態を有するように構成されたセルロース分子を含む、請求項２６に記載のハードマスク。
【請求項２９】
前記棒状分子が、規則及び無規則領域上への結合強度を規定するように選択される少なくとも１つの架橋分子を含む、請求項２６に記載のハードマスク。
【請求項３０】
前記少なくとも１つの架橋分子が、前記重合体表面分子のうちの少なくとも１つである、請求項２９に記載のハードマスク。
【請求項３１】
誘導自己組織化（ＤＳＡ）プロセスによって製造された少なくとも１つの層を含む計測標的であって、前記少なくとも１つの層が、前記ＤＳＡプロセスのうちの少なくとも１つの特徴によって少なくとも１つの標的要素に関連する背景と区別される少なくとも１つの標的要素を含む、計測標的。
【請求項３２】
前記ＤＳＡプロセスの前記少なくとも１つの特徴が、偏光を使用して、前記少なくとも１つの標的要素と前記少なくとも１つの標的要素に関連する背景との間の区別を可能にするように構成され、あるいは、ＤＳＡガイディングラインの存在、方向、空間周波数、及び寸法から構成されるグループの少なくとも１つから選択される、請求項３１に記載の計測標的。
【請求項３３】
前記計測標的が、ＳＣＯＬ、ＡＩＭ、ＡＩＭＩＤ、ＢＬＯＳＳＯＭ、及びＢｉＢから構成されるグループの少なくとも１つから選択される、請求項３１に記載の計測標的。
【請求項３４】
前記少なくとも１つの層が、前記計測標的の前の層及び現在の層のうちの少なくとも１つである、請求項３１に記載の計測標的。
【請求項３５】
誘導自己組織化（ＤＳＡ）プロセスによって製造された少なくとも２つの隣接する標的構造を含む計測標的であって、前記標的構造間の境界領域が、前記標的構造の一方の第１のガイディングライン及び他方の標的構造の各々のガイドラインの複数のガイディングライン端を含み、前記境界領域での前記ガイディングライン端が、前記境界領域の幅が各ガイドライン製造プロセスに関連付けられた指定の最大プロセス不正確度閾値までである、標的要素を製造する際、前記第１のガイディングラインに対する指定の閾値未満の距離を維持するように設計される、計測標的。
【請求項３６】
前記指定の閾値が、前記ＤＳＡプロセスにおいて重合体分子の平行な自己組織化を生じるように選択される、請求項３５に記載の計測標的。
【請求項３７】
前記ガイディングライン端が、前記第１のガイディングラインに平行である端部を有するように設計され、あるいは、前記ガイディングライン端のいくつかが、前記第１のガイディングラインに対して他のガイディングライン端を越えて突出するように設計される、請求項３５に記載の計測標的。
【請求項３８】
セグメント化された背景上の少なくとも１つの標的要素または少なくとも１つのセグメント化された標的要素を含み、前記セグメント化が、請求項１，１０，１８のいずれか１項に記載の方法に従ったＤＳＡプロセスによって実行される、計測標的。