【誤訳訂正書】
【提出日】平成28年11月25日(2016.11.25)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】請求項１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【請求項１】
トルエンスチレンテロマー分布を製造する方法であって、
Ｉ）トルエン、アルキルリチウム、ならびにＮ，Ｎ，Ｎ’Ｎ’−テトラメチルエチレンジアミン（以下ＴＭＥＤＡと称する）を含む成分から形成される撹拌した反応混合物中へ、（ｉ）時間当たりのスチレンのモル数のトルエンのモル数に対する比が０．３〜１．５の範囲で、また（ｉｉ）時間当たりのスチレンのモル数のアルキルリチウムのモル数に対する比が４０〜１１０の範囲で；スチレン：トルエンのモル比が０．７５〜４の範囲で、スチレン：アルキルリチウムのモル比が１５０〜３５０の範囲で、またＴＭＥＤＡ：アルキルリチウムのモル比が２．２〜８の範囲で；１０フィート／秒を超える供給速さで小オリフィスを通してスチレンを供給すること、および反応混合物中で均質の濃度プロファイルを少なくとも維持するのに十分に撹拌して、７０℃〜９５℃の範囲に反応混合物の温度を維持すること；
ＩＩ）（Ｉ）において形成された触媒種を破壊するために反応混合物をクエンチすること、
ＩＩＩ−Ａ）クエンチした反応混合物を水洗浄して、クエンチの結果形成された金属含有成分（複数可）を除去し、または水洗浄して少なくとも１つの相を分断して水相を除去し、反応混合物からＴＭＥＤＡおよび未反応トルエンを分離し回収し、それによって水も反応混合物から除去し、また、結果として得られる生成混合物中のトルエン含有率が０．１重量％未満であり生成混合物中の１，３−ジフェニルプロパンの含有率が２５重量％未満であるように、分離を継続すること；または
ＩＩＩ−Ｂ）無水トルエンおよびＴＭＥＤＡをストリップし、それによって反応混合物から乾燥ＴＭＥＤＡおよび未反応トルエンを分離し回収し、ストリップした量と少なくとも等量のトルエンを添加し戻し、次いで洗浄水を添加し、少なくとも１つの相を分断して水相を除去し、（ａ）洗浄に用いたトルエンを分離し回収し、それによって水も反応混合物から除去し、また、結果として得られる生成混合物中のトルエン含有率が０．１重量％未満、また、生成混合物中の１，３−ジフェニルプロパンの含有率が２５重量％未満となるように、分離を継続すること
を含む方法。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】請求項２
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【請求項２】
トルエンスチレンテロマー分布を製造する方法であって、
Ｉ）トルエン、アルキルリチウムおよびＮ，Ｎ，Ｎ’Ｎ’−テトラメチルエチレンジアミン（以下ＴＭＥＤＡと称する）含む成分から形成される撹拌した反応混合物中へ、（ｉ）時間当たりのスチレンのモル数のトルエンのモル数に対する比が０．３〜１．５の範囲、かつ（ｉｉ）時間当たりのスチレンのモル数のアルキルリチウムのモル数に対する比が４０〜１１０の範囲で；スチレン：トルエンのモル比が０．７５〜４の範囲で、スチレン：アルキルリチウムのモル比が１５０〜３５０の範囲で、かつＴＭＥＤＡ：アルキルリチウムのモル比が２．２〜８の範囲で；スチレンを供給すること、および反応混合物中で均質の濃度プロファイルを少なくとも維持するのに十分に撹拌して、７０℃〜９０℃の範囲に反応混合物の温度を維持すること；
ＩＩ）８０℃未満の温度で（ｉ）水がクエンチ溶媒であれば少なくとも１つの相を分断し、また、（ｉｉ）水以外のクエンチ溶媒が使用される場合、洗浄水を添加して相を分断するプロトン性溶媒を用いて、反応混合物をクエンチすること；および
ＩＩＩ）反応混合物から乾燥ＴＭＥＤＡおよび未反応トルエンを分離し回収し、それによって水も反応混合物から除去し、また、結果として得られる生成混合物中のトルエン含有率が０．１重量％未満、かつ、生成混合物中の１，３−ジフェニルプロパンの含有率が２５重量％未満となるように、分離を継続することを含む方法。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】請求項６
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【請求項６】
（ｉ）時間当たりのスチレンのモル数のトルエンのモル数に対する比が０．３〜１．５の範囲、かつ（ｉｉ）時間当たりのスチレンのモル数のアルキルリチウムのモル数に対する比が４０〜１１０の範囲で；スチレン：トルエンのモル比が０．５〜４の範囲で、スチレン：アルキルリチウムのモル比が１００〜３５０の範囲で、かつＴＭＥＤＡ：アルキルリチウムのモル比が２．２〜８の範囲で実施され、７０℃〜９５℃の範囲に反応混合物の温度を維持する、請求項１または２のいずれかに記載の方法。
【誤訳訂正４】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】請求項７
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【請求項７】
（ｉ）時間当たりのスチレンのモル数のトルエンのモル数に対する比が０．６〜０．８５の範囲、かつ（ｉｉ）時間当たりのスチレンのモル数のアルキルリチウムのモル数に対する比が９０〜１１０の範囲で；スチレン：トルエンのモル比が１．７５〜２．２の範囲で、スチレン：アルキルリチウムのモル比が２５０〜２８０の範囲で、かつＴＭＥＤＡ：アルキルリチウムのモル比が２．４〜３の範囲で実施され、かつ７８℃〜８１℃の範囲に反応混合物の温度を維持する、請求項１または２のいずれかに記載の方法。
【誤訳訂正５】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】請求項８
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【請求項８】
臭素化スチレンポリマー分布を製造する方法であって、
Ｉ）トルエン、アルキルリチウム、ならびに、Ｎ，Ｎ，Ｎ’Ｎ’−テトラメチルエチレンジアミン（以下ＴＭＥＤＡと称する）を含む成分から形成される撹拌した反応混合物中へ、（ｉ）時間当たりのスチレンのモル数のトルエンのモル数に対する比が０．３〜１．５の範囲で、また（ｉｉ）時間当たりのスチレンのモル数のアルキルリチウムのモル数に対する比が４０〜１１０の範囲で；スチレン：トルエンのモル比が０．７５〜４の範囲で、スチレン：アルキルリチウムのモル比が１５０〜３５０の範囲で、またＴＭＥＤＡ：アルキルリチウムのモル比が２．２〜８の範囲で；１０フィート／秒を超える供給速さで小オリフィスを通してスチレンを供給すること、および反応混合物中で均質の濃度プロファイルを少なくとも維持するのに十分に撹拌して、７０℃〜９５℃の範囲に反応混合物の温度を維持すること；
ＩＩ）（Ｉ）において形成された触媒種を破壊するために反応混合物をクエンチすること、
ＩＩＩ−Ａ）クエンチした反応混合物を水洗浄して、クエンチの結果形成された金属含有成分（複数可）を除去し、または水洗浄して少なくとも１つの相を分断して水相を除去し、反応混合物からＴＭＥＤＡおよび未反応トルエンを分離し回収し、それによって水も反応混合物から除去し、また、結果として得られる生成混合物中のトルエン含有率が０．１重量％未満であり生成混合物中の１，３−ジフェニルプロパンの含有率が２５重量％未満となるように、分離を継続すること；
または
ＩＩＩ−Ｂ）無水トルエンおよびＴＭＥＤＡをストリップし、それによって反応混合物から乾燥ＴＭＥＤＡおよび未反応トルエンを分離し回収し、ストリップしたのと少なくとも等量のトルエンを添加し戻し、次いで洗浄水を添加し、少なくとも１つの相を分断して水相を除去し、（ａ）洗浄に用いたトルエンを分離し回収し、それによって水も反応混合物から除去し、また、結果として得られる生成混合物中のトルエン含有率が０．１重量％未満、また、生成混合物中の１，３−ジフェニルプロパンの含有率が２５重量％未満となるように、分離を継続することを含み、
ＩＩＩのＡ）またはＢ）を行った後、ＩＩＩのＡ）またはＢ）において形成された結果として得られる生成混合物を臭素化する方法。
【誤訳訂正６】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】請求項９
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【請求項９】
臭素化スチレンポリマー分布を製造する方法であって、
Ｉ）トルエン、アルキルリチウムおよびＮ，Ｎ，Ｎ’Ｎ’−テトラメチルエチレンジアミン（以下ＴＭＥＤＡと称する）を含む成分から形成される撹拌した反応混合物中へ、（ｉ）時間当たりのスチレンのモル数のトルエンのモル数に対する比が０．３〜１．５の範囲、かつ（ｉｉ）時間当たりのスチレンのモル数のアルキルリチウムのモル数に対する比が４０〜１１０の範囲で；スチレン：トルエンのモル比が０．７５〜４の範囲の、スチレン：アルキルリチウムのモル比が１５０〜３５０の範囲の、またＴＭＥＤＡ：アルキルリチウムのモル比が２．２〜８の範囲の率で；スチレンを供給すること、および反応混合物中で均質の濃度プロファイルを少なくとも維持するのに十分に撹拌して、７０℃〜９０℃の範囲に反応混合物の温度を維持すること；
ＩＩ）８０℃未満の温度で（ｉ）水がクエンチ溶媒であれば少なくとも１つの相を分断し、また、（ｉｉ）水以外のクエンチ溶媒が使用される場合、洗浄水を添加して相を分断するプロトン性溶媒を用いて、反応混合物をクエンチすること；および
ＩＩＩ）反応混合物からＴＭＥＤＡおよび未反応トルエンを分離し回収し、それによって反応混合物から水も除去し、結果として得られる生成混合物のトルエン含有率が０．１重量％未満であり、かつ生成混合物中の１，３−ジフェニルプロパンの含有率が２５重量％未満となるように、分離を継続すること；
ＩＶ）ＩＩＩ）において形成された結果として得られる生成混合物を臭素化し、少なくとも一部の臭素化または全臭素化が−１０℃〜０℃の範囲内の温度で起こり、７３．４〜７４．５重量％臭素の範囲のＸＲＦによって求められる臭素含有率を有する組成物を形成することを含む方法。
【誤訳訂正７】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】請求項１０
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【請求項１０】
（ｉ）臭素化剤および臭素化触媒の組合せ、および、（ｉｉ）ＩＩＩ）において形成された前記結果として得られる生成混合物と臭素化溶媒との混合物を、別々にしかし同時に、当初溶媒または先の反応混合物の残留物を含有しその後溶媒中に反応混合物を含有する反応ゾーン中に供給することによって臭素化が果たされ、前記供給が、（ｉ）および（ｉｉ）の供給を前記ゾーン内で互いに近接させるか、または（ｉ）および（ｉｉ）の成分の局所的に高い濃度が達成されるように、互いに対して直接衝突するように向けることをさらなる特徴とし、前記供給が臭素化反応混合物の液相の液面下で起こる、請求項８または９のいずれかに記載の方法。
【誤訳訂正８】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】請求項１１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【請求項１１】
（ｉ）臭素化剤および（ｉｉ）ＩＩＩ）において形成された前記結果として得られる生成混合物を臭素化溶媒との混合物を反応ゾーンに別々にしかし同時に供給し、前記反応ゾーンが溶媒および臭素化触媒、ならびに、残留物の一部を最初に含み、同時供給の導入を臭素化反応混合物の液相の液面上または下で起こす、請求項８または９のいずれかに記載の方法。
【誤訳訂正９】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】請求項１６
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【請求項１６】
非ストリップトルエンスチレンテロマー分布を製造する方法であって、
Ｉ）トルエン、アルキルリチウム、ならびにＮ，Ｎ，Ｎ’Ｎ’−テトラメチルエチレンジアミン（以下ＴＭＥＤＡと称する）を含む成分から形成される撹拌した反応混合物中へ、（ｉ）時間当たりのスチレンのモル数のトルエンのモル数に対する比が０．３〜１．５の範囲で、また（ｉｉ）時間当たりのスチレンのモル数のアルキルリチウムのモル数に対する比が４０〜１１０の範囲で；スチレン：トルエンのモル比が０．７５〜４の範囲で、スチレン：アルキルリチウムのモル比が１５０〜３５０の範囲で、またＴＭＥＤＡ：アルキルリチウムのモル比が２．２〜８の範囲で；１０フィート／秒を超える供給速さで小オリフィスを通してスチレンを供給すること、および反応混合物中で均質の濃度プロファイルを少なくとも維持するのに十分に撹拌して、７０℃〜９５℃の範囲に反応混合物の温度を維持すること；
ＩＩ）（Ｉ）において形成された触媒種を破壊するために反応混合物をクエンチすること、
を含む方法。
【誤訳訂正１０】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００６０
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００６０】
実施例２
トルエンスチレンテロマー分布２（ＴＳＴＤ２）
スチレン（３．５ｌｂモル）３６１ｌｂを、トルエン１９２ｌｂ（２．１ｌｂモル）、ＴＭＥＤＡ（０．０３５１ｌｂモル）３．６３ｌｂ、およびシクロヘキサン（ブチルリチウム０．０１２９ｌｂモルを含む０．０８３ｌｂ）中の２３．６３重量％ブチルリチウム３．５ｌｂで構成された反応混合物に、１５８分の時間にわたって供給したこと以外は、実施例１パートＡの手順を繰り返した。トルエンを除いた非ストリップ反応混合物のＧＰＣ結果を表３で報告する。反応物（４６５ｌｂ）は３５０ガロンの運搬箱に集めた。