【手続補正書】
【提出日】平成28年12月28日(2016.12.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
組織部位から流体を収集するシステムにおいて、
前記組織部位に隣接して配置されるように適合されたマニホールドと；
前記組織部位および前記マニホールドの上側を覆って配置されるように適合されたシール部材と；
前記シール部材を通って前記マニホールドに流体的に結合されるように適合された減圧源と；
前記マニホールドと前記シール部材との間に位置決めされるように適合されたパウチであって、
親水性側面および疎水性側面を有する、第１の厚さの上流層、
親水性側面および疎水性側面を有する、第２の厚さの下流層、および
前記上流層と前記下流層との間に囲まれた吸収部材であって、前記上流層の前記親水性側面が前記吸収部材に隣接して位置決めされるため、前記上流層の前記疎水性側面が前記装置の外面の一部分を形成し、および前記下流層の前記疎水性側面が前記吸収部材に隣接して位置決めされるため、前記下流層の前記親水性側面が前記装置の前記外面の別の部分を形成する、吸収部材
を含み、
前記第２の厚さは前記第１の厚さよりも厚い、パウチと
を含むことを特徴とする、システム。
【請求項２】
請求項１に記載のシステムにおいて、前記第２の厚さが前記第１の厚さよりも約３倍厚いことを特徴とする、システム。
【請求項３】
請求項１に記載のシステムにおいて、前記上流層の物質密度が約８０ｇｓｍであることを特徴とする、システム。
【請求項４】
請求項１に記載のシステムにおいて、前記下流層の物質密度が約１５０ｇｓｍであることを特徴とする、システム。
【請求項５】
請求項１に記載のシステムにおいて、前記上流層の物質密度が約８０ｇｓｍであり、および前記下流層の物質密度が約１５０ｇｓｍであることを特徴とする、システム。
【請求項６】
請求項１に記載のシステムにおいて、
前記第２の厚さが前記第１の厚さよりも約３倍厚く；
前記上流層の物質密度が約８０ｇｓｍであり；および
前記下流層の物質密度が約１５０ｇｓｍであることを特徴とする、システム。
【請求項７】
請求項１に記載のシステムにおいて、さらに、前記減圧源に流体的に結合されかつ前記シール部材に結合されて、前記減圧源を前記マニホールドに流体的に結合するコネクタを含むことを特徴とする、システム。
【請求項８】
請求項１に記載のシステムにおいて、さらに、第１の端部で前記減圧源に流体的に結合されかつ前記第１の端部に対向する第２の端部で前記マニホールドに流体的に結合された、少なくとも１つのルーメンを有するチューブを含むことを特徴とする、システム。
【請求項９】
請求項１に記載のシステムにおいて、さらに：
少なくとも１つのルーメン、第１の端部、および第２の端部を有するチューブであって、前記第１の端部は前記減圧源に流体的に結合されている、チューブと；
フランジ部分およびポート部分を有するコネクタであって、前記フランジ部分は前記シール部材に結合され、および前記ポート部分は、前記チューブの前記第２の端部に流体的に結合されている、コネクタと
を含むことを特徴とする、システム。
【請求項１０】
減圧を用いて組織部位を治療するシステムにおいて、
前記組織部位に隣接して配置されるように適合されたマニホールドと；
前記組織部位および前記マニホールドの上側を覆って配置されるように適合され、前記組織部位において実質的に気密封止をもたらすシール部材と；
前記シール部材を通って前記マニホールドに流体的に結合されるように適合された減圧源と；
前記マニホールドと前記シール部材との間に位置決めされるように適合されたパウチであって、
親水性側面および疎水性側面を有する上流層、
親水性側面および疎水性側面を有する下流層、および
前記上流層と前記下流層との間に囲まれた吸収部材であって、前記上流層の前記親水性側面が前記吸収部材に隣接して位置決めされ、および前記下流層の前記疎水性側面が前記吸収部材に隣接して位置決めされる、吸収部材
を含むパウチと
を含むことを特徴とする、システム。
【請求項１１】
請求項１０に記載のシステムにおいて、前記上流層が第１の厚さを有し、および前記下流層が第２の厚さを有し、および前記第２の厚さが前記第１の厚さよりも厚いことを特徴とする、システム。
【請求項１２】
請求項１０に記載のシステムにおいて、前記上流層が第１の厚さを有し、および前記下流層が第２の厚さを有し、および前記第２の厚さが前記第１の厚さよりも約３倍厚いことを特徴とする、システム。
【請求項１３】
請求項１０に記載のシステムにおいて、前記上流層の物質密度が約８０ｇｓｍであることを特徴とする、システム。
【請求項１４】
請求項１０に記載のシステムにおいて、前記下流層の物質密度が約１５０ｇｓｍであることを特徴とする、システム。
【請求項１５】
請求項１０に記載のシステムにおいて、前記上流層の物質密度が約８０ｇｓｍであり、および前記下流層の物質密度が約１５０ｇｓｍであることを特徴とする、システム。
【請求項１６】
請求項１０に記載のシステムにおいて、
前記上流層が第１の厚さを有し、および前記下流層が第２の厚さを有し；
前記第２の厚さが前記第１の厚さよりも約３倍厚く；
前記上流層の物質密度が約８０ｇｓｍであり；および
前記下流層の物質密度が約１５０ｇｓｍであることを特徴とする、システム。
【請求項１７】
組織部位から流体を収集するための装置において、
親水性側面および疎水性側面を有する上流層と；
親水性側面および疎水性側面を有する下流層と；
前記上流層と前記下流層との間に囲まれた吸収部材であって、前記上流層の前記親水性側面が前記吸収部材に隣接して位置決めされるため、前記上流層の前記疎水性側面が前記装置の外面の一部分を形成し、および前記下流層の前記疎水性側面が前記吸収部材に隣接して位置決めされるため、前記下流層の前記親水性側面が前記装置の前記外面の別の部分を形成する、吸収部材と
を含むことを特徴とする、装置。
【請求項１８】
請求項１７に記載の装置において、前記上流層が第１の厚さを有し、および前記下流層が第２の厚さを有し、および前記第２の厚さが前記第１の厚さよりも厚いことを特徴とする、装置。
【請求項１９】
請求項１７に記載の装置において、前記上流層が第１の厚さを有し、および前記下流層が第２の厚さを有し、および前記第２の厚さが前記第１の厚さよりも約３倍厚いことを特徴とする、装置。
【請求項２０】
請求項１７に記載の装置において、前記上流層の物質密度が約８０ｇｓｍであることを特徴とする、装置。
【請求項２１】
請求項１７に記載の装置において、前記下流層の物質密度が約１５０ｇｓｍであることを特徴とする、装置。
【請求項２２】
請求項１７に記載の装置において、前記上流層の物質密度が約８０ｇｓｍであり、および前記下流層の物質密度が約１５０ｇｓｍであることを特徴とする、装置。
【請求項２３】
請求項１７に記載の装置において、
前記上流層が第１の厚さを有し、および前記下流層が第２の厚さを有し；
前記第２の厚さが前記第１の厚さよりも約３倍厚く；
前記上流層の物質密度が約８０ｇｓｍであり；および
前記下流層の物質密度が約１５０ｇｓｍであることを特徴とする、装置。
【請求項２４】
減圧を用いて組織部位を治療するシステムにおいて、
前記組織部位に隣接して配置されるように適合されたマニホールドと；
前記組織部位および前記マニホールドの上側を覆って配置されるように適合され、前記組織部位において実質的に気密封止をもたらすシール部材；
前記シール部材を通って前記マニホールドに流体的に結合されるように適合された減圧源と；
前記マニホールドと前記シール部材との間に位置決めされるように適合されたパウチであって、前記パウチは、第１の厚さの上流層、第２の厚さの下流層、および前記上流層と前記下流層との間に囲まれた吸収部材を有し、前記第２の厚さは前記第１の厚さよりも厚い、パウチと
を含むことを特徴とする、システム。
【請求項２５】
請求項２４に記載のシステムにおいて、前記上流層が、前記吸収部材に隣接して親水性側面を有することを特徴とする、システム。
【請求項２６】
請求項２４に記載のシステムにおいて、前記上流層が、前記吸収部材に対向した疎水性側面を有することを特徴とする、システム。
【請求項２７】
請求項２４に記載のシステムにおいて、
前記上流層が、前記吸収部材に隣接して親水性側面を有し；および
前記上流層が、前記吸収部材に対向した疎水性側面を有することを特徴とする、システム。
【請求項２８】
請求項２４に記載のシステムにおいて、前記下流層が、前記吸収部材に隣接して疎水性側面を有することを特徴とする、システム。
【請求項２９】
請求項２４に記載のシステムにおいて、前記下流層が、前記吸収部材に対向した親水性側面を有することを特徴とする、システム。
【請求項３０】
請求項２４に記載のシステムにおいて、
前記下流層が、前記吸収部材に隣接して疎水性側面を有し；および
前記下流層が、前記吸収部材に対向した親水性側面を有することを特徴とする、システム。
【請求項３１】
請求項２４に記載のシステムにおいて、
前記上流層が、前記吸収部材に隣接して親水性側面を有し；
前記上流層が、前記吸収部材に対向した疎水性側面を有し；
前記下流層が、前記吸収部材に隣接して疎水性側面を有し；および
前記下流層が、前記吸収部材に対向した親水性側面を有することを特徴とする、システム。
【請求項３２】
請求項２４に記載のシステムにおいて、前記第２の厚さが前記第１の厚さよりも約３倍厚いことを特徴とする、システム。
【請求項３３】
請求項２４に記載のシステムにおいて、前記上流層の物質密度が約８０ｇｓｍであることを特徴とする、システム。
【請求項３４】
請求項２４に記載のシステムにおいて、前記下流層の物質密度が約１５０ｇｓｍであることを特徴とする、システム。
【請求項３５】
請求項２４に記載のシステムにおいて、前記上流層の物質密度が約８０ｇｓｍであり、および前記下流層の物質密度が約１５０ｇｓｍであることを特徴とする、システム。
【請求項３６】
請求項２４に記載のシステムにおいて、
前記第２の厚さが前記第１の厚さよりも約３倍厚く；
前記上流層の物質密度が約８０ｇｓｍであり；および
前記下流層の物質密度が約１５０ｇｓｍであることを特徴とする、システム。
【請求項３７】
組織部位からの流体を受け入れるための装置において、
第１の厚さの上流層と；
前記第１の厚さよりも厚い、第２の厚さの下流層と；
前記上流層と前記下流層との間に配置された吸収部材であって、前記上流層および前記下流層が前記吸収部材を囲む、吸収部材と
を含むことを特徴とする、装置。
【請求項３８】
請求項３７に記載の装置において、前記上流層が、前記吸収部材に隣接して親水性側面を有することを特徴とする、装置。
【請求項３９】
請求項３７に記載の装置において、前記上流層が、前記吸収部材に対向した疎水性側面を有することを特徴とする、装置。
【請求項４０】
請求項３７に記載の装置において、
前記上流層が、前記吸収部材に隣接して親水性側面を有し；および
前記上流層が、前記吸収部材に対向した疎水性側面を有することを特徴とする、装置。
【請求項４１】
請求項３７に記載の装置において、前記下流層が、前記吸収部材に隣接して疎水性側面を有することを特徴とする、装置。
【請求項４２】
請求項３７に記載の装置において、前記下流層が、前記吸収部材に対向した親水性側面を有することを特徴とする、装置。
【請求項４３】
請求項３７に記載の装置において、
前記下流層が、前記吸収部材に隣接して疎水性側面を有し；および
前記下流層が、前記吸収部材に対向した親水性側面を有することを特徴とする、装置。
【請求項４４】
請求項３７に記載の装置において、
前記上流層が、前記吸収部材に隣接して親水性側面を有し；
前記上流層が、前記吸収部材に対向した疎水性側面を有し；
前記下流層が、前記吸収部材に隣接して疎水性側面を有し；および
前記下流層が、前記吸収部材に対向した親水性側面を有することを特徴とする、装置。
【請求項４５】
請求項３７に記載の装置において、前記第２の厚さが、前記第１の厚さよりも約３倍厚いことを特徴とする、装置。
【請求項４６】
請求項３７に記載の装置において、前記上流層の物質密度が約８０ｇｓｍであることを特徴とする、装置。
【請求項４７】
請求項３７に記載の装置において、前記下流層の物質密度が約１５０ｇｓｍであることを特徴とする、装置。
【請求項４８】
請求項３７に記載の装置において、前記上流層の物質密度が約８０ｇｓｍであり、および前記下流層の物質密度が約１５０ｇｓｍであることを特徴とする、装置。
【請求項４９】
請求項３７に記載の装置において、
前記第２の厚さが前記第１の厚さよりも約３倍厚く；
前記上流層の物質密度が約８０ｇｓｍであり；および
前記下流層の物質密度が約１５０ｇｓｍであることを特徴とする、装置。
【請求項５０】
流体貯蔵キャニスターの製造方法において、
親水性側面および疎水性側面を有する、第１の厚さの第１の層を提供するステップと；
前記第１の層の前記親水性側面に隣接して吸収部材を位置決めするステップと；
親水性側面および疎水性側面を有する、前記第１の厚さよりも厚い第２の厚さの第２の層を提供するステップと；
前記吸収部材に隣接して前記第２の層の前記疎水性側面を位置決めするステップと；
前記第１の層の外縁部分と前記第２の層の外縁部分を結合して、前記吸収部材を囲むステップと
を含むことを特徴とする、方法。
【請求項５１】
請求項５０に記載の方法において、前記第１の層の外縁部分と前記第２の層の外縁部分を結合するステップが、前記第１の層の外縁部分と前記第２の層の外縁部分を溶接することを含むことを特徴とする、方法。
【請求項５２】
請求項５０に記載の方法において、前記第１の層の外縁部分と前記第２の層の外縁部分を結合するステップが、前記第１の層の外縁部分と前記第２の層の外縁部分をボンディングすることを含むことを特徴とする、方法。
【請求項５３】
請求項５０に記載の方法において、前記第１の層の外縁部分と前記第２の層の外縁部分を結合するステップが、前記第１の層の外縁部分と前記第２の層の外縁部分を折り畳むことを含むことを特徴とする、方法。
【請求項５４】
請求項５０に記載の方法において、前記第２の厚さが、前記第１の厚さよりも約３倍厚いことを特徴とする、方法。
【請求項５５】
請求項５０に記載の方法において、前記第１の層の物質密度が約８０ｇｓｍであることを特徴とする、方法。
【請求項５６】
請求項５０に記載の方法において、前記第２の層の物質密度が約１５０ｇｓｍであることを特徴とする、方法。