Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成29年3月7日(2017.3.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ハイダイナミックレンジ入力イメージのための入力部と、
人間が決定したカラーマッピングアルゴリズムによる第１のローダイナミックレンジイメージに対して、人間のカラーグレーダが、前記ハイダイナミックレンジ入力イメージの表現からカラーマッピングを特定することを可能にし、前記カラーマッピングを特定するデータを出力するイメージグレーディングユニットと、
前記ハイダイナミックレンジ入力イメージに対して、自動カラーマッピングアルゴリズムを適用することによって、第２のローダイナミックレンジイメージを導出する自動グレーディングユニットと、
を有し、カラーマッピングアルゴリズムが、前記ハイダイナミックレンジイメージから第２の所定の精度の範囲内にあるＨＤＲ復元されたイメージが前記第２のローダイナミックレンジイメージに対して前記自動カラーマッピングアルゴリズムの逆である第２のカラーマッピングアルゴリズムを適用することによって計算され得るという条件を満たす、イメージエンコーダ。
【請求項２】
前記ハイダイナミックレンジ入力イメージの前記表現が、前記ハイダイナミックレンジ入力イメージ、及び、前記第２のローダイナミックレンジイメージのいずれかである、請求項１記載のイメージエンコーダ。
【請求項３】
前記イメージグレーディングユニット及び前記自動グレーディングユニットが、少なくとも前記ハイダイナミックレンジ入力イメージの同じ幾何学領域に対応する前記各入力イメージの幾何学領域において、各入力イメージにおける画素の輝度相関に単調マッピング関数を適用する、請求項１記載のイメージエンコーダ。
【請求項４】
前記自動グレーディングユニットが、前記第２のローダイナミックレンジイメージの画素の輝度相関の各単一値に割り当てられる、前記ハイダイナミックレンジ入力イメージの画素の輝度相関の各範囲を決定する基準に従って、前記ハイダイナミックレンジ入力イメージの画素の輝度相関から前記第２のローダイナミックレンジイメージの画素の輝度相関まで、前記単調マッピング関数を決定し、前記各範囲は、前記ハイダイナミックレンジ入力イメージのための可能な輝度相関の値の総範囲をカバーする輝度相関範囲のセットを形成している、請求項３記載のイメージエンコーダ。
【請求項５】
イメージ信号の中に、前記第２のローダイナミックレンジイメージ、及び、前記ハイダイナミックレンジ入力イメージと前記第２のローダイナミックレンジイメージとの間の前記カラーマッピングを記述するデータと、前記ローダイナミックレンジイメージと前記第２のローダイナミックレンジイメージとの間の前記カラーマッピングを記述するデータとの少なくとも１つ、又は、その両方を出力するデータフォーマッタを有する、請求項１乃至４のいずれか１項に記載のイメージエンコーダ。
【請求項６】
イメージデコーダであって、ローダイナミックレンジイメージ、前記ローダイナミックレンジイメージに基づいて、ハイダイナミックレンジイメージの復元を可能にする第１のカラーマッピングを記述するデータ、及び、前記ローダイナミックレンジイメージに基づいて、他のローダイナミックレンジイメージの計算を可能にする第２のカラーマッピングを記述するデータを有するイメージ信号を、イメージ信号入力部を介して、受信し、前記イメージデコーダは、前記第２のカラーマッピング、及び、前記ローダイナミックレンジイメージに符号化された画素のカラーに基づいて、少なくとも前記ローダイナミックレンジイメージを導出するイメージ導出ユニットを有する、イメージデコーダ。
【請求項７】
前記デコーダがハイダイナミックレンジディスプレイ及びローダイナミックレンジディスプレイの少なくとも１つに接続されているかどうかを決定するシステム構成ユニットを有し、前記システム構成ユニットが、前記ハイダイナミックレンジディスプレイに接続される場合、少なくとも前記復元を決定するように、前記イメージ導出ユニットを構成し、前記ローダイナミックレンジディスプレイに接続される場合、少なくとも前記他のローダイナミックレンジイメージを決定するように前記イメージ導出ユニットを構成する、請求項６記載のイメージデコーダ。
【請求項８】
任意の接続可能なディスプレイへの有線接続及び無線接続の少なくとも１つを含む出力ポートと、
任意の接続可能なディスプレイに、前記ハイダイナミックレンジイメージの前記復元及び前記ローダイナミックレンジイメージの少なくとも１つを送信する信号フォーマッタと、
を更に有する、請求項６又は７に記載のイメージデコーダ。
【請求項９】
前記イメージ導出ユニットが、前記ハイダイナミックレンジイメージの前記復元及び前記ローダイナミックレンジイメージに基づいて、あるいは、前記第２のローダイナミックレンジイメージ、前記第１のカラーマッピングを記述するデータ、及び、前記第２のカラーマッピングを記述するデータに基づいて、他のイメージを決定する、請求項６又は７に記載のイメージデコーダ。
【請求項１０】
前記イメージ信号入力部が、メモリから前記イメージ信号をリードするリードユニットに接続される、請求項６又は７に記載のイメージデコーダ。
【請求項１１】
前記イメージ信号入力部が、イメージ信号のソースへのネットワーク接続に接続可能である、請求項６又は７に記載のイメージデコーダ。
【手続補正書】
【提出日】平成29年3月10日(2017.3.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
レコードを配置するための開口部を有するケースと、
前記ケース内の液槽に接続された振動装置であって、前記液槽はその頂部近くに位置する減衰構造を有し、前記減衰構造は前記液槽内で液面位置とレコード位置との間の位置まで延在する振動装置と
を備える、レコード洗浄器。
【請求項２】
前記振動装置は、超音波変換器である、請求項１に記載のレコード洗浄器。
【請求項３】
前記超音波変換器が取り付けられる、前記液槽の非剛性の可撓性壁部をさらに備える、請求項２に記載のレコード洗浄器。
【請求項４】
液洗サイクルまたは乾燥サイクルの現在の期間を表示するためのユーザインターフェースをさらに備える、請求項１に記載のレコード洗浄器。
【請求項５】
前記液槽と流体連通する液体貯留槽をさらに備える、請求項１に記載のレコード洗浄器。
【請求項６】
それを越えた場合に液体が前記液槽から前記貯留槽内へと排出される流出レベルを有する、請求項５に記載のレコード洗浄器。
【請求項７】
前記流出レベルは、レコードが前記レコード洗浄器内に置かれるときにレコードラベルが位置するレベルより下方にある、請求項６に記載のレコード洗浄器。
【請求項８】
前記振動装置は、液洗サイクル中に約２００ワットの出力を発生させる１つまたは複数の超音波変換器を備える、請求項１に記載のレコード洗浄器。
【請求項９】
筐体と、
流出レベルまたは最大液体レベルを有する、前記筐体内に配設された液槽と、
前記液槽の少なくとも１つの壁部を形成するゴム弾性壁部と、
前記ゴム弾性壁部に取り付けられた超音波変換器と、
を備える、レコード洗浄器。
【請求項１０】
前記流出レベルまたは最大液体レベルに近い高さに少なくとも部分的に配設され、洗浄サイクル中にレコードが前記筐体内に配設される位置に向かって内向きに延び、さらに前記流出レベルまたは最大液体レベルよりも下の位置まで下向きに延びる波減衰構造をさらに備える、請求項９に記載のレコード洗浄器。
【請求項１１】
液槽内にレコードを保持するステップと、
ポンプを使用して貯留槽から前記液槽へと液体を移送するステップと、
液洗サイクル中に前記液槽内で前記レコードを回転させるステップと、
超音波装置を使用して、前記液洗サイクル中に前記液槽内の前記液体を振動させるステップと、
両側に液体を有する壁構造を提供することによって前記液槽内の前記液体の表面レベルの近くで振動力を遮断するステップであって、前記壁構造は前記超音波装置と前記レコードとの間で横向きに位置するステップと、
を含む、レコード洗浄器を使用してレコードを洗浄する方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】レコード洗浄器、及びレコードを洗浄する方法
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３８】
一般に、以下の請求の範囲では、使用される用語は、請求された発明を本明細書で開示された特定の実施形態に限定するものと解釈されるべきではない。したがって、本発明の範囲は、全面的に以下の請求の範囲によって決定される。
（項目１）
レコードを配置するための開口部を有するケースと、
前記ケース内の液槽に接続された振動装置であって、前記液槽はその頂部近くに位置する減衰構造を有し、前記減衰構造は前記液槽内で液面位置とレコード位置との間の位置まで延在する振動装置と
を備える、レコード洗浄器。
（項目２）
前記振動装置は、超音波変換器である、項目１に記載のレコード洗浄器。
（項目３）
前記超音波変換器が取り付けられる、前記液槽の非剛性の可撓性壁部をさらに備える、項目２に記載のレコード洗浄器。
（項目４）
液洗サイクルまたは乾燥サイクルの現在の期間を表示するためのユーザインターフェースをさらに備える、項目１に記載のレコード洗浄器。
（項目５）
前記ユーザインターフェースは、ユーザがサイクルまたはサイクルの組み合わせを選択することを可能にする、項目４に記載のレコード洗浄器。
（項目６）
前記ユーザインターフェースは、ユーザが前記サイクルのうちの少なくとも１つに関する強度を選択することを可能にする、項目４に記載のレコード洗浄器。
（項目７）
液洗サイクルまたは乾燥サイクル中にレコードを回転させるためのローラをさらに備える、項目１に記載のレコード洗浄器。
（項目８）
前記液槽と流体連通する液体貯留槽をさらに備える、項目１に記載のレコード洗浄器。
（項目９）
それを越えた場合に液体が前記液槽から前記貯留槽内へと排出される流出レベルを有する、項目８に記載のレコード洗浄器。
（項目１０）
前記流出レベルは、レコードが前記レコード洗浄器内に置かれるときにレコードラベルが位置するレベルより下方にある、項目９に記載のレコード洗浄器。
（項目１１）
前記振動装置は、液洗サイクル中に約２００ワットの出力を発生させる１つまたは複数の超音波変換器を備える、項目１に記載のレコード洗浄器。
（項目１２）
前記振動装置は、４つの超音波変換器を備える、項目１に記載のレコード洗浄器。
（項目１３）
筐体と、
流出レベルまたは最大液体レベルを有する、前記筐体内に配設された液槽と、
前記液槽の少なくとも１つの壁部を形成するゴム弾性壁部と、
前記ゴム弾性壁部に取り付けられた超音波変換器と、
を備える、レコード洗浄器。
（項目１４）
前記流出レベルまたは最大液体レベルに近い高さに少なくとも部分的に配設され、洗浄サイクル中にレコードが前記筐体内に配設される位置に向かって内向きに延び、さらに前記流出レベルまたは最大液体レベルよりも下の位置まで下向きに延びる波減衰構造をさらに備える、項目１３に記載のレコード洗浄器。
（項目１５）
液槽内にレコードを保持するステップと、
ポンプを使用して貯留槽から前記液槽へと液体を移送するステップと、
液洗サイクル中に前記液槽内で前記レコードを回転させるステップと、
超音波装置を使用して、前記液洗サイクル中に前記液槽内の前記液体を振動させるステップと、
両側に液体を有する壁構造を提供することによって前記液槽内の前記液体の表面レベルの近くで振動力を遮断するステップであって、前記壁構造は前記超音波装置と前記レコードとの間で横向きに位置するステップと、
を含む、レコード洗浄器を使用してレコードを洗浄する方法。
（項目１６）
前記超音波装置が取り付けられる非剛性の可撓性壁部を提供するステップをさらに含む、項目１５に記載の方法。
（項目１７）
ユーザインターフェース上でユーザによって選択された強度または時間設定に応じて、前記超音波装置を使用して前記レコードを液洗するステップをさらに含む、項目１５に記載の方法。
（項目１８）
前記液洗が進行するにつれて異なる光の位置を表示するステップをさらに含む、項目１７に記載の方法。
（項目１９）
前記液洗サイクルが完了すると前記液槽から前記貯留槽へと水を自動的に排出するステップをさらに含む、項目１５に記載の方法。
（項目２０）
液洗サイクル中に前記超音波装置を使用して少なくとも２００ワットの出力を発生させるステップをさらに含む、項目１５に記載の方法。
（項目２１）
前記超音波装置が４つの超音波変換器からなる、項目１５に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成29年3月10日(2017.3.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
検体センシング装置から検体データを受け取る装置であって、
ハウジングと、
前記ハウジングに取り付けられたディスプレイと、
前記ハウジング内に取り付けられたプロセッサと、
命令を格納するメモリであって、前記プロセッサによって命令が実行された際に、該プロセッサに、
ユーザの入力に応答して、前記ディスプレイ上の現在のユーザインターフェース画面からホーム画面へとナビゲートさせ、前記現在のユーザインターフェース画面から前記ホーム画面へとナビゲートする際に、検体センシング装置が期限切れかどうかをチェックさせ、前記検体センシング装置が期限切れである場合には、センサの期限切れの通知を表示させる命令、
前記検体センシング装置の期限切れまでの残り時間を計算させる命令、
前記検体センシング装置の期限切れまでの前記残り時間の表示を含む前記ホーム画面を表示させる命令、
前記検体センシング装置から検体情報を受け取らせる命令、および
前記受け取った検体情報を前記ディスプレイに表示させる命令
を格納するメモリと
を備えることを特徴とする装置。
【請求項２】
前記センサの期限切れの通知は、前記ホーム画面へとナビゲートする前に前記センサの期限切れの通知を確認することを要求する、請求項１記載の装置。
【請求項３】
前記ホーム画面が、推定された残存インスリンの量を示す情報を含む、請求項１記載の装置。
【請求項４】
前記推定された残存インスリンの量の表示が人型のアイコンを含み、前記推定された残存インスリンの量は、前記人型のアイコンが埋められている割合で表される、請求項３記載の装置。
【請求項５】
前記表示される検体情報は、数値による現在の検体レベル、過去の検体レベルのグラフィカル表現、および前記数値による現在の検体レベルの傾向を表す矢印を含む、請求項１記載の装置。
【請求項６】
前記プロセッサに、現在の検体レベルが、高い検体レベルの閾値より高い、低い検体レベルの閾値より低い、予測される高い検体レベルの閾値より高い、または予測される低い検体レベルの閾値より低いかどうかを決定させる命令を更に含む、請求項１記載の装置。
【請求項７】
前記プロセッサに、所定の期間内に２回以上の検体レベルのスキャンを許可させない命令を更に含む、請求項１記載の装置。
【請求項８】
検体モニタリングシステムの読取器装置を動作させる方法であって、
前記読取器装置を用いて新たなセンサをスキャンする工程であって、前記新たなセンサのスキャンがタイムアウトする前に所定の時間の長さだけ待機することを含む、スキャンする工程と、
前記新たなセンサが、以前に別の読取器装置とペアリングされたか否かをチェックする工程と、
前記新たなセンサが既に別の読取器装置とペアリングされている場合には、前記読取器装置と前記新たなセンサとのペアリングを許可しない工程と、
ペアリングされたセンサのウォーミングアップのために所定の時間の長さだけ待機する工程と、
前記所定の時間の長さだけ待機した後に、前記ペアリングされたセンサの期限切れまでの残り時間の表示を含むホーム画面を表示する工程と、
前記ペアリングされたセンサを用いてグルコースのスキャンを開始する工程と、
前記グルコースのスキャンの結果を表示する工程であって、表示は、数値による現在のグルコースレベル、過去の所定の期間についてのグルコースレベルの履歴のグラフィカル表現、および現在のグルコースの傾向の矢印による表現を同時に表示することを含む工程と
を有してなることを特徴とする方法。
【請求項９】
前記新たなセンサが次の所定の長さの時間以内に期限切れになるときには、センサの期限切れが近いことの通知を表示する工程を更に含む、請求項８記載の方法。
【請求項１０】
残り時間の通知は状況依存的なものであり、センサの期限切れ前の残り時間がどれだけあるかに基づいて表示の単位が変化する、請求項９記載の方法。
【請求項１１】
前記センサの期限切れ前の残り時間が３日より長いときには、前記残り時間は１日単位で表示され、前記センサの期限切れ前の残り時間が１時間〜１日であるときには、前記残り時間は１時間単位で表示され、前記センサの期限切れ前の残り時間が１時間未満であるときには、前記残り時間は１分単位で表示される、請求項１０記載の方法。
【請求項１２】
前記センサの期限切れ前の残り時間が０に達したら、前記読取器装置は自動的に前記ホーム画面に戻るようナビゲートする、請求項１１記載の方法。
【請求項１３】
高いまたは低いグルコース値の表示を表示する工程を更に含む、請求項８記載の方法。
【請求項１４】
前記高いまたは低いグルコース値の表示を選択する工程と、高いまたは低いグルコースの通知画面へとナビゲートする工程とを更に含み、該高いまたは低いグルコースの通知画面は、次のグルコースのスキャンのリマインダを設定するための選択肢を含む、請求項１３記載の方法。
【請求項１５】
予測される高いまたは低いグルコース値の表示を表示する工程を更に含む、請求項８記載の方法。
【請求項１６】
前記予測される高いまたは低いグルコース値の表示を選択する工程と、予測される高いまたは低いグルコースの通知画面へとナビゲートする工程とを更に含み、該予測される高いまたは低いグルコースの通知画面は、次のグルコースのスキャンのリマインダを設定するための選択肢を含む、請求項１５記載の方法。
【請求項１７】
読取器装置をマスキングモードで動作させる方法であって、
読取器装置のディスプレイにセンサデータが表示されないようにするマスキングモードに入る工程を有してなることを特徴とする方法。
【請求項１８】
前記マスキングモードは、医療の専門家によってのみ作動または非作動にすることができる、請求項１７記載の方法。
【請求項１９】
前記読取器装置の前記ディスプレイに、センサのスキャンが完了したことの通知が結果を含まずに表示される、請求項１７記載の方法。
【請求項２０】
所定の時間間隔の後に現在のセンサデータをスキャンすることのリマインダを設定する工程を更に含む、請求項１７記載の方法。
【請求項２１】
手動でスキャンが行われた際には、次のリマインダがリセットされる、請求項２０記載の方法。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成29年4月19日(2017.4.19)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３９
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３９】
式（１）：補正済みタイムスタンプ＝タイムスタンプ＋／−レーンのフィルレベル＋／−基準フィルレベル
一実施形態においては、補正論理モジュール１１８は、計算に一貫性が得られ得るように、すべての値を共通の単位に変換してもよい。たとえば、レーンのフィルレベルおよび基準フィルレベルは、ビット数であってもよい。補正論理モジュール１１８は、クロックサイクル毎の既知のビット数およびクロックサイクルの周波数に基づいて、フィルレベルおよび基準レベルのビット数をクロックサイクルまたはナノ秒の単位に変換してもよい。たとえば、回路１００が６６ビット／クロックサイクルを読出し、回路１００が１ナノ秒当たり２．１クロックサイクルを有する場合、クロックサイクルまたはナノ秒のいずれかの点から補正済みタイムスタンプが計算され得る。
【手続補正書】
【提出日】平成29年3月14日(2017.3.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ディスプレイ装置用の筐体であって、前記ディスプレイ装置は、デジタル・コンテンツを表示するように構成された表示画面と、前記表示画面の背面に対して固定された構造アセンブリとを備え、前記筐体は、
本体と、
前記本体に接続された１つまたは複数のハンドルと、
前記本体を前記ディスプレイ装置に着脱可能に固定するように構成されたロック機構とを備え、
前記本体は、前記ディスプレイ装置と結合し、またそこから分離して、輸送および取扱の際に前記ディスプレイ装置に構造的剛性を提供するように構成され、
前記本体は、少なくとも前記ディスプレイ装置に結合し、外周を取り囲んで保護するように構成された、筐体。
【手続補正書】
【提出日】平成29年3月9日(2017.3.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ｘ≦０．３、０≦ｙ≦１であり、球状の一次粒子の凝集体から作られる二次粒子の形態で、Ｍが金属又は半金属又はこれらの混合物である式Ｌｉ０．９＋ｘＦｅ１−ｙＭｙ（ＰＯ４）のリチウム遷移金属リン酸塩化合物において、１２５０−１６００ｇ／ｌのタップ密度を有し、一次粒子が０．０２− ２μｍの範囲の粒径を有し、二次粒子が５−４０μｍの平均粒径（ｄ５０）及び１６−４０ｍ２／ｇのＢＥＴ表面を有する、リチウム遷移金属リン酸塩化合物。
【請求項２】
バルク空隙率が６５−８０％である、請求項１に記載のリチウム遷移金属リン酸塩。
【請求項３】
タップ空隙率が５５−６５％である、請求項１又は２に記載のリチウム遷移金属リン酸塩。
【請求項４】
バルク密度が７５０−１２５０ｇ／ｌである、請求項１から３のいずれか一項に記載のリチウム遷移金属リン酸塩。
【請求項５】
プレス密度が２０００−２８００ｇ／ｌである、請求項１から４のいずれか一項に記載のリチウム遷移金属リン酸塩。
【請求項６】
ＬｉＦｅＰＯ４、ＬｉＭｎＰＯ４又はＬｉ０．９＋ｘＦｅ１−ｙＭｎｙＰＯ４である、請求項１から５のいずれか一項に記載のリチウム遷移金属リン酸塩。
【請求項７】
一次粒子が、一次粒子表面上の少なくとも一部に導電性炭素の堆積物を有する、請求項１から６のいずれか一項に記載のリチウム遷移金属リン酸塩。
【請求項８】
（ａ）Ｌｉ０．９＋ｘＦｅ１−ｙＭｙ（ＰＯ４）を粒子の形態で提供する工程、
（ｂ）水性懸濁液を調製し、任意選択的に、炭素前駆体化合物を加える工程、
（ｃ）水性懸濁液をミリング処理に供し、懸濁液に導入されるミリングエネルギーが８００−２５００ｋＷｈ／ｔの値に設定される工程、
（ｄ）ミリングした懸濁液をスプレー乾燥させ、Ｌｉ０．９＋ｘＦｅ１−ｙＭｙ（ＰＯ４）の凝集体を得る工程、
（ｅ）凝集体を熱処理する工程
を含む、請求項１から７のいずれか一項に記載のリチウム遷移金属リン酸塩の製造のための方法。
【請求項９】
炭素前駆体化合物が、デンプン、マルトデキストリン、ゼラチン、ポリオール、糖質、例えば、マンノース、フルクトース、スクロース、ラクトース、グルコース、ガラクトース、部分的に水溶性のポリマー又はこれらの混合物から選択される、請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
工程（ｂ）において、さらなる水溶性バインダー及び／又は追加の分散剤が添加される、請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
工程（ｂ）の懸濁液が、６から８のｐＨ値に設定される、請求項８から１０のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１２】
工程（ｃ）の前に、任意選択的に事前ミリング処理又は分散処理を含む、請求項８から１１のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１３】
工程（ｃ）におけるミリングが、段階的又は連続的に実施される、請求項８から１２のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１４】
ミリングが、研磨ビーズを有するボールミルによって実施され、研磨ビーズの直径が、５０−２００μｍ、好ましくは９０−１１０μｍの範囲である、請求項１３に記載の方法。
【請求項１５】
ミリング工程（ｃ）中に分散剤が加えられる、請求項８から１４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１６】
ミリング工程（ｃ）の後、さらなる分散処理が実施される、請求項８から１５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１７】
工程（ｄ）のスプレー乾燥が、１２０−５００℃、好ましくは２００−３７０℃の入口乾燥ガス温度で実施される、請求項８から１６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１８】
工程（ｅ）における熱処理が、５００−８５０℃の温度で実施される熱分解である、請求項８から１７のいずれか一項に記載の方法。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成29年7月24日(2017.7.24)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
溶質の溶液からの溶質の結晶の核形成を開始する、又は溶質の溶液から溶質の結晶質を生成する、あるいはその組み合わせであるプロセスであって、溶質の溶液を非晶質の異種の表面を備えた基質と接触させる工程を含み、ここで基質の非晶質の異種の表面は：
１）予め形成された核形成サイトアレイを組込み、
２）静的な、動的な又は流動している、あるいはその組み合わせの条件下で結晶化される溶質を含む溶液と直接接触するように配置され、
及び、３）溶液への溶解に化学的な耐性を有する
ことを特徴とするプロセス。
【請求項２】
溶質の溶液は、溶質で過飽和である又は過飽和になることを特徴とする、請求項１記載のプロセス。
【請求項３】
プロセスは、基質及び溶質の溶液を周囲温度と異なる温度へ加熱する、冷却する又は熱的に調節する工程、及び周囲温度と等しい又は異なる温度で過飽和溶液をもたらすためにその後溶質の溶液及び基質を加熱する、冷却する又は熱的に調節する工程の少なくとも１つの追加の工程を含むことを特徴とする、請求項１記載のプロセス。
【請求項４】
プロセスは、基質の表面が溶液と接触することによって形成された結晶を、基質から又は溶液からあるいはその組み合わせから分離する工程をさらに含むことを特徴とする、請求項１記載のプロセス。
【請求項５】
予め形成された核形成サイトアレイは、刻み目、くぼみ、狭間、隆起、チャネル、段、ねじれ又は段丘、あるいはその組み合わせのアレイを含むことを特徴とする、請求項１記載のプロセス。
【請求項６】
予め形成された核形成サイトアレイを組込んだ非晶質の異種の表面は、予め形成された核形成サイトアレイがない同様の表面と比較して、接触角、線張力、濡れ性又は表面エネルギーあるいはその組み合わせを溶液で変更することを特徴とする、請求項１記載のプロセス。
【請求項７】
予め形成された核形成サイトアレイは、表面上で彫る、エッチングする、圧延する、インプリントをする、リトグラフをする又は追加的に印刷するあるいはその組み合わせができるように、手動、機械的又は化学的な方法あるいはその組み合わせの手段によって表面上で操作されることを特徴とする、請求項１記載のプロセス。
【請求項８】
基質はポリプロピレン、ポリエチレン、ポリテトラフルオロエチレン、ポリアクリラート、ポリアクリルアミド、ポリスチレン、ジビニルベンゼン又はビニルベンゼン、あるいはその組み合わせを含むことを特徴とする、請求項１記載のプロセス。
【請求項９】
基質はガラス基質であることを特徴とする、請求項１記載のプロセス。
【請求項１０】
非晶質の異種の表面を備えた基質を第２の基質に付着させることを特徴とする、請求項１記載のプロセス。
【請求項１１】
第２の基質は溶液への溶解に耐性がある材料であることを特徴とする、請求項１０記載のプロセス。
【請求項１２】
溶液から溶質の結晶を生成するための複数の基質を含むキットであって、ここで各基質は：
１）基質の表面上に予め形成された核形成サイトアレイを組込み、
２）静的な、動的な又は流動している、あるいはその組み合わせの条件下で結晶化される溶質を含む溶液と直接接触するように配置され、
及び、３）溶液への溶解に化学的な耐性を有し、
ここで、各基質は、キット中の他の予め形成された核形成サイトアレイと同じ又は異なる予め形成された核形成サイトアレイを含むことを特徴とするキット。
【請求項１３】
基質の表面上の予め形成された核形成サイトアレイは、刻み目、くぼみ、狭間、隆起、チャネル、段、ねじれ又は段丘、あるいはその組み合わせのアレイを含むことを特徴とする、請求項１２記載のキット。
【請求項１４】
予め形成された核形成サイトアレイを組込んだ基質の表面は、予め形成された核形成サイトアレイがない同様の表面と比較して、接触角、線張力、濡れ性又は表面エネルギーあるいはその組み合わせを溶液で変更することを特徴とする、請求項１２記載のキット。
【請求項１５】
予め形成された核形成サイトアレイは、表面上で彫る、エッチングする、圧延する、インプリントをする、リトグラフをする又は追加的に印刷するあるいはその組み合わせができるように、手動、機械的又は化学的な方法あるいはその組み合わせの手段によって表面上で操作されることを特徴とする、請求項１２記載のキット。
【請求項１６】
基質はポリプロピレン、ポリエチレン、ポリテトラフルオロエチレン、ポリアクリラート、ポリアクリルアミド、ポリスチレン、ジビニルベンゼン又はビニルベンゼン、あるいはその組み合わせを含むことを特徴とする、請求項１２記載のキット。
【請求項１７】
基質はガラス基質であることを特徴とする、請求項１２記載のキット。
【請求項１８】
非晶質の異種の表面を備えた基質を、複数の第２の基質に付着させることを特徴とする、請求項１２記載のキット。
【請求項１９】
複数の第２の基質は溶液への溶解に化学的な耐性を有することを特徴とする、請求項１８記載のキット。
【請求項２０】
キットは、温度を制御する又は温度を調節するあるいはその組み合わせである手段を含むことを特徴とする、請求項１２記載のキット。
【手続補正書】
【提出日】平成29年2月7日(2017.2.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６０】
本発明の範囲及び趣旨から逸脱することなく、本開示の予測可能な修正及び変更が当業者には自明であろう。本発明は、説明を目的として本出願に記載される実施形態に限定されるべきものではない。本発明の実施態様の一部を以下の項目［１］−［１２］に記載する。
［項目１］
概して対向する第１及び第２の主要表面と、互いに分離可能な隣接した第１及び第２の層と、前記第１及び第２の層内に延在するくぼみの配列と、を有する高分子多層フィルム。
［項目２］
前記第１の層が、ポリカーボネート、ポリアミド６、ポリアミド６６、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、セルロースアセトブチレート、ポリメチルメタクリレート、アクリロニトリルブタジエンスチレン、又はポリブチレンテレフタレートのうちの少なくとも１つを含み、前記第２の層がポリオレフィンを含む、項目１に記載の高分子多層フィルム。
［項目３］
前記第１の層がポリエチレンを含み、前記第２の層がポリプロピレンを含む、項目１に記載の高分子多層フィルム。
［項目４］
少なくとも第１及び第２の分離可能な高分子層をニップに押し出して高分子多層フィルムを供給する工程を含み、前記ニップが、高分子多層フィルムのうちの少なくとも第１及び第２の層内に延在するくぼみを付与する構造化表面を有する第１のロールを備える、前記項目のいずれか一項に記載の物品を製造する方法。
［項目５］
概して対向する第１及び第２の主要表面と、第１及び第２の主要表面の間に延在する開口部の配列と、互いに分離可能な少なくとも第１及び第２の隣接層とを有する高分子多層フィルムであって、各開口部が、第１及び第２の主要表面からの開口部を貫通する一連の面積を最小面積から最大面積を範囲として有し、最小面積が主要表面のうちの少なくとも片側にはない、高分子多層フィルム。
［項目６］
前記第１の層が、ポリカーボネート、ポリアミド６、ポリアミド６６、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、セルロースアセトブチレート、ポリメチルメタクリレート、アクリロニトリルブタジエンスチレン、又はポリブチレンテレフタレートのうちの少なくとも１つを含み、前記第２の層がポリオレフィンを含む、項目５に記載の高分子多層フィルム。
［項目７］
１２５マイクロメートル超の厚さを有する、項目５又は６のいずれかに記載の高分子多層フィルム。
［項目８］
１ｃｍ２当たり少なくとも３０個の開口部を有する、項目５〜７のいずれか一項に記載の高分子多層フィルム。
［項目９］
開口部が、１００マイクロメートル以下の最大寸法を有する、項目５〜８のいずれか一項に記載の高分子多層フィルム。
［項目１０］
流動抵抗試験によって測定した場合、２５０レイリー〜２１５０レイリーの範囲の流動抵抗を有する、項目５〜９のいずれか一項に記載の高分子多層フィルム。
［項目１１］
高分子多層フィルムの製造方法であって、前記方法が、
少なくとも２つの分離可能な高分子層をニップに押し出して高分子多層フィルムを供給する工程であって、前記ニップが、前記高分子多層フィルムの第１の主要表面を貫通するくぼみを付与する構造化表面を有する第１のロールを備える、工程と、
前記くぼみを有する前記第１の主要表面を冷却ロールに通すと同時に、前記高分子多層フィルムの、概して対向する第２の主要表面に熱源を適用する工程であって、前記熱源からの熱を加えた結果、開口部が形成され、項目５〜１０のいずれか一項に記載の高分子多層フィルムを供給する、工程と、を含む、方法。
［項目１２］
開口部を有する前記高分子多層フィルムのうちの少なくとも前記第１及び第２の層を分離する工程を更に含む、項目１１に記載の方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
概して対向する第１及び第２の主要表面と、互いに分離可能な隣接した第１及び第２の層と、前記第１及び第２の層内に延在するくぼみの配列と、を有する高分子多層フィルム。
【請求項２】
前記第１の層が、ポリカーボネート、ポリアミド６、ポリアミド６６、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、セルロースアセトブチレート、ポリメチルメタクリレート、アクリロニトリルブタジエンスチレン、又はポリブチレンテレフタレートのうちの少なくとも１つを含み、前記第２の層がポリオレフィンを含む、請求項１に記載の高分子多層フィルム。
【請求項３】
少なくとも第１及び第２の分離可能な高分子層をニップに押し出して高分子多層フィルムを供給する工程を含み、前記ニップが、高分子多層フィルムのうちの少なくとも第１及び第２の層内に延在するくぼみを付与する構造化表面を有する第１のロールを備える、請求項１又は２に記載の物品を製造する方法。
【請求項４】
概して対向する第１及び第２の主要表面と、第１及び第２の主要表面の間に延在する開口部の配列と、互いに分離可能な少なくとも第１及び第２の隣接層とを有する高分子多層フィルムであって、各開口部が、第１及び第２の主要表面からの開口部を貫通する一連の面積を最小面積から最大面積を範囲として有し、最小面積が主要表面のうちの少なくとも片側にはない、高分子多層フィルム。
【請求項５】
高分子多層フィルムの製造方法であって、前記方法が、
少なくとも２つの分離可能な高分子層をニップに押し出して高分子多層フィルムを供給する工程であって、前記ニップが、前記高分子多層フィルムの第１の主要表面を貫通するくぼみを付与する構造化表面を有する第１のロールを備える、工程と、
前記くぼみを有する前記第１の主要表面を冷却ロールに通すと同時に、前記高分子多層フィルムの、概して対向する第２の主要表面に熱源を適用する工程であって、前記熱源からの熱を加えた結果、開口部が形成され、請求項４に記載の高分子多層フィルムを供給する、工程と、を含む、方法。
【手続補正書】
【提出日】平成29年2月24日(2017.2.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
断熱ダンネージ製品であって、
皺を寄せて永久変形されて複数のエアポケットを形成する、紙シート製の少なくとも１つの非平面状の内側層であって、前記変形されたシートは周縁部と、上面および底面とを有する内側層と、
前記少なくとも１つの内側層を包囲する少なくとも１つのシート材製の外側層であって、前記少なくとも１つの内側層の４辺全てと前記上面および底面において、前記外側層の間に前記少なくとも１つの内側層を取り込むために、周縁部が密封されている外側層とを備え、
前記少なくとも１つの内側層が、前記少なくとも１つの外側層の隣接部分に対して自由に移動できる複数の主要部を有する、断熱ダンネージ製品。
【請求項２】
前記少なくとも１つのシート材製の外側層が紙を含む、請求項１に記載の断熱ダンネージ製品。
【請求項３】
前記少なくとも１つの外側層が、前記少なくとも１つの内側層の境界を画定するために周縁部が密封された、上部外側層および下部外側層を含む、請求項１または２に記載の断熱ダンネージ製品。
【請求項４】
前記少なくとも１つの外側層が、前記内側層の１辺を包み込み、前記内側層の他の３辺の周縁において密封された単一のシートにより形成されている、請求項１〜３のいずれか一項に記載の断熱ダンネージ製品。
【請求項５】
前記少なくとも１つの外側層に１つ以上の折り目を備え、前記内側層は前記折り目により分離された不連続な複数の部分を備える、請求項１〜４のいずれか一項に記載の断熱ダンネージ製品。
【請求項６】
断熱ダンネージ製品を製造する方法であって、
複数のエアポケットを形成するために、皺を寄せることにより、紙シートを含む少なくとも１つの非平面状の内側層を永久変形させる工程と、
前記少なくとも１つの内側層の４辺全てと上面および底面において、前記少なくとも１つの内側層を少なくとも１つのシート材の外側層で包囲する工程と、
前記内側層が、前記少なくとも１つの外側層の隣接部分に対して自由に移動できる複数の主要部を有するように、前記外側層の内部に前記少なくとも１つの内側層を取り込むために、前記少なくとも１つの外側層を周縁部で密封する工程と、を備える方法。
【請求項７】
前記変形させる工程が、ロール状またはファンフォールド状の紙を比較的低密度のダンネージ製品に変換することを含む、請求項６に記載の方法。
【請求項８】
前記包囲する工程が、前記少なくとも１つの内側層を紙製の前記外側層で包囲することを含む、請求項６または７に記載の方法。
【請求項９】
前記包囲する工程が、前記少なくとも１つの内側層を２層の紙の間に載置することを含む、請求項６〜８のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１０】
前記包囲する工程が、前記少なくとも１つの内側層を粘着性のコーティングを有するシート材で包囲することを含む、請求項６〜９のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１１】
前記包囲する工程が、前記少なくとも１つの内側層の両側において、前記少なくとも１つの内側層を２つの別々のシートで包囲することを含む、請求項６〜１０のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１２】
少なくとも、前記少なくとも１つの外側層に折り目を形成する工程を更に備える、請求項６〜１１のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１３】
前記形成する工程が、前記少なくとも１つの内側層の複数の部分を折り目で分離するように、前記少なくとも１つの内側層の前記複数の部分間において、前記少なくとも１つの外側層に折り目を形成することを含む、請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
前記形成する工程が、前記少なくとも１つの内側層の３つの部分を分離するために、２つの折り目を形成することを含む、請求項１２または１３に記載の方法。
【請求項１５】
容器の３面を覆うように該容器内に前記ダンネージ製品を載置する工程を備える、請求項６〜１４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１６】
前記容器を閉じる際、前記載置する工程を繰り返して前記容器の全面を覆う工程を更に備える、請求項１５に記載の方法。
【請求項１７】
前記ダンネージ製品を容器内に載置し、前記容器内において前記ダンネージ製品の上に冷却要素を載置し、輸送対象品を加える前に別のダンネージ製品を前記冷却要素の上に載置する工程を備える、請求項６〜１６のいずれか一項に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成29年1月30日(2017.1.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０２３４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０２３４】
患者２０例にＨＬＡ適合組み合わせ移植片を移植して、５〜８６ヶ月の追跡調査を行った。そのうち１９例がＧＶＨＤを発症することなくキメラになった。１７例でキメラ状態が持続し（６ヶ月超）、このうち１４例は免疫抑制剤を中止した。この１７例の患者のうち２例は薬量漸減中であり、２０例中４例は薬物中止に失敗した（６ヶ月を超えるキメラ状態維持の失敗、または拒絶反応エピソードのいずれかのため）。全２０例の患者は、現在、最終観察時点で優れた移植片機能を有しており、移植手術から約５日の入院期間の後に退院した。これらの患者には３〜１０×１０6 ＣＤ３４+ 細胞／ｋｇ体重及び少なくとも１×１０6 ＣＤ３+ Ｔ細胞／ｋｇ体重を要した。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
固形臓器移植のレシピエントに混合キメリズムを少なくとも６ヶ月間維持させ、前記レシピエントに拒絶発現または移植対宿主疾患がなくて前記６ヶ月間の後で免疫抑制剤を中止するための工学的に作製された造血細胞組成物であって、
前記固形臓器のドナーと前記レシピエントとはＨＬＡ−適合しており、
少なくとも５×１０5 ＣＤ３４+ 細胞／ｋｇレシピエント体重と、１．５×１０5 〜１×１０10ＣＤ３+ Ｔ細胞／ｋｇレシピエント体重とを含んでおり、
前記ＣＤ３４+ 細胞は、８５％より高い純度に純化されており、
前記ＣＤ３４+ 細胞に対する前記ＣＤ３+ Ｔ細胞の割合は０．２５より大きい
ことを特徴とする造血細胞組成物。
【請求項２】
１．７×１０7 ＣＤ３４+ 細胞／ｋｇレシピエント体重未満を含むことを特徴とする請求項１記載の造血細胞組成物。
【請求項３】
５×１０5 〜１．７×１０7 ＣＤ３４+ 細胞／ｋｇレシピエント体重を含むことを特徴とする請求項１記載の造血細胞組成物。
【請求項４】
前記ドナーは、生体ドナーまたは死体ドナーであることを特徴とする請求項１記載の造血細胞組成物。
【請求項５】
少なくとも１×１０6 ＣＤ３４+ 細胞／ｋｇレシピエント体重と、少なくとも１×１０6 ＣＤ３+ Ｔ細胞／ｋｇレシピエント体重とを含んでいることを特徴とする請求項１記載の造血細胞組成物。
【請求項６】
少なくとも４×１０6 ＣＤ３４+ 細胞／ｋｇレシピエント体重と、少なくとも１．５×１０6 ＣＤ３+ Ｔ細胞／ｋｇレシピエント体重とを含んでいることを特徴とする請求項１記載の造血細胞組成物。
【請求項７】
前記ＣＤ３４+ 細胞は、９５％より高い純度に純化されていることを特徴とする請求項１記載の造血細胞組成物。
【請求項８】
少なくとも４×１０6 ＣＤ３４+ 細胞／ｋｇレシピエント体重と、少なくとも５×１０6 ＣＤ３+ Ｔ細胞／ｋｇレシピエント体重とを含んでいることを特徴とする請求項１記載の造血細胞組成物。
【請求項９】
前記ＣＤ３４+ 細胞に対する前記ＣＤ３+ Ｔ細胞の割合は１より大きいことを特徴とする請求項１記載の造血細胞組成物。
【請求項１０】
前記固形臓器は、心臓、腸、肺、膵臓及び腎臓からなる群より選ばれることを特徴とする請求項１記載の造血細胞組成物。
【請求項１１】
ＨＬＡ適合は、前記ドナーと前記レシピエントとの間で同一であるＨＬＡ−Ａ、ＨＬＡ−Ｂ及びＨＬＡ−ＤＲを含むことを特徴とする請求項１記載の造血細胞組成物。
【請求項１２】
１．７×１０7 ＣＤ３４+ 細胞／ｋｇレシピエント体重未満と、少なくとも１×１０6 ＣＤ３+ Ｔ細胞／ｋｇレシピエント体重とを含んでいることを特徴とする請求項１記載の造血細胞組成物。
【請求項１３】
１×１０6 〜１．７×１０7 ＣＤ３４+ 細胞／ｋｇレシピエント体重と、少なくとも１×１０6 ＣＤ３+ Ｔ細胞／ｋｇレシピエント体重とを含んでいることを特徴とする請求項１記載の造血細胞組成物。
【請求項１４】
前記固形臓器のドナーから単離されることを特徴とする請求項１記載の造血細胞組成物。
【請求項１５】
前記混合キメリズムは、少なくとも１％及び９５％未満の循環ドナー造血細胞を有すると定義されることを特徴とする請求項１記載の造血細胞組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成29年3月9日(2017.3.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
磁気共鳴分光撮像を実行する方法であって、
ａ）磁気共鳴装置であって、（ｉ）第１の方向に沿って背景磁場を提供する一次磁石と、（ｉｉ）少なくとも１つの無線周波数コイルと、（ｉｉｉ）関心領域を定義するように制御することができる少なくとも１つの勾配コイルとを含む、磁気共鳴装置を提供することと、
ｂ）少なくとも１つの共振コイルの視野内に補助スピン・リザーバを位置決めすることであって、前記補助スピン・リザーバ（ＳＳＲ）は複数の分子を含む、位置決めすることと、
ｃ）研究する試料又は対象者を前記視野内に導入することと、
ｄ）ＲＦパルスを前記試料又は対象者内に導入することと、
ｅ）（ｉ）前記試料又は対象者及び（ｉｉ）前記ＳＳＲのうちの少なくとも一方から、関心のある１組の核の三次元空間データを収集することと、
ｆ）（ｉ）前記少なくとも１つの無線周波数コイルの回路及び（ｉｉ）前記ＳＳＲの内容物のうちの少なくとも一方を調整することであって、それにより、前記関心のある１組の核の核磁化と、前記少なくとも１つの無線周波数コイルとの間にフィードバックを誘導して、前記関心のある１組の核の前記核磁化のベクトル方向を所望の角度に回転させる、調整することと、
を含む、方法。
【請求項２】
前記関心のある１組の核の前記核磁化の前記ベクトル方向は、ゼロに回転する、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記関心のある１組の核の、前記空間データの有用なレンダリングを生成するのに十分な三次元空間データが得られるまで、前記ステップ（ｄ）、（ｅ）および（ｆ）を繰り返すことを更に含む、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
第１の無線周波数コイルは、前記試料又は対象者内にＲＦパルスを導入するために使用され、第２の無線周波数コイルは、前記関心のある１組の核の前記核磁化と前記第２の無線周波数コイルとの間に電磁フィードバックを誘導するために使用される、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記関心領域内の１Ｈの三次元空間データを収集することを更に含む、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記１Ｈ空間データを前記関心のある１組の核の前記空間データと結合して処理することを更に含む、請求項５に記載の方法。
【請求項７】
前記１Ｈ空間データと、前記関心のある１組の核の前記空間データとを使用して、前記関心領域の３Ｄ像レンダリングを形成することを更に含む、請求項６に記載の方法。
【請求項８】
前記３Ｄレンダリングは、解剖学的領域での前記関心のある核の分布を示す、請求項７に記載の方法。
【請求項９】
前記関心のある１組の核は、バイオマーカを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項１０】
前記バイオマーカは、１９Ｆを含む、請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
１９Ｆ−ＦＤＧを含む有利な化学物質を、撮像前に前記対象者に投与することを更に含む、請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
前記バイオマーカは、１９Ｆ−フルオロデオキシグルコースの代謝産物質を含む、請求項１０に記載の方法。
【請求項１３】
前記関心のある１組の核は、１９Ｆ−ＦＤＧ−６−リン酸塩を含む、請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
前記対象者での１９Ｆ−ＦＤＧ又は少なくとも１つのその代謝産物の存在を示す信号から得られるデータを分析することであって、それにより、前記対象者内の疾病の症状の識別に役立つ、分析することを更に含む、請求項１１に記載の方法。
【請求項１５】
磁気共鳴分光撮像を実行する方法であって、
ａ）磁気共鳴装置であって、（ｉ）第１の方向に沿って背景磁場を提供する一次磁石と、（ｉｉ）少なくとも１つの無線周波数コイルと、（ｉｉｉ）関心領域を定義するように制御することができる少なくとも１つの勾配コイルとを含む、磁気共鳴装置を提供することと、
ｂ）少なくとも１つの共振コイルの視野内に補助スピン・リザーバを位置決めすることであって、前記補助スピン・リザーバ（ＳＳＲ）は複数の分子を含む、位置決めすることと、
ｃ）研究する試料又は対象者を前記視野内に導入することと、
ｄ）ＲＦパルスを前記試料又は対象者内に導入することと、
ｅ）（ｉ）前記少なくとも１つの無線周波数コイルの回路及び（ｉｉ）前記ＳＳＲの内容物のうちの少なくとも一方を調整することであって、それにより、前記関心のある１組の核の核磁化と、前記少なくとも１つの無線周波数コイルとの間に電磁フィードバックを誘導して、前記関心のある１組の核の前記核磁化のベクトル方向を９０度回転させる、調整することと、
ｆ）（ｉ）前記試料又は対象者及び（ｉｉ）前記ＳＳＲのうちの少なくとも一方から、関心のある１組の核の三次元空間データを収集することと、
を含む、方法。
【請求項１６】
前記試料又は対象者及び（ｉｉ）前記ＳＳＲのうちの少なくとも一方から、関心のある１組の核の三次元空間データを収集することを更に含む、請求項１５に記載の方法。
【請求項１７】
前記関心のある１組の核の、前記空間データの有用なレンダリングを生成するのに十分な三次元空間データが得られるまで、ステップ（ｄ）、（ｅ）、及び（ｆ）を繰り返すことを更に含む、請求項１５に記載の方法。
【請求項１８】
第１の無線周波数コイルは、前記試料又は対象者内にＲＦパルスを導入するために使用され、第２の無線周波数コイルは、前記関心のある１組の核の前記核磁化と前記第２の無線周波数コイルとの間に電磁フィードバックを誘導するために使用される、請求項１６に記載の方法。
【請求項１９】
前記関心領域内の１Ｈの三次元空間データを収集することを更に含む、請求項１６に記載の方法。
【請求項２０】
前記１Ｈ空間データを前記関心のある１組の核の前記空間データと結合して処理することを更に含む、請求項１６に記載の方法。
【請求項２１】
前記関心のある１組の核はバイオマーカを含む、請求項１５に記載の方法。
【請求項２２】
前記バイオマーカは１９Ｆを含む、請求項２１に記載の方法。