【手続補正書】
【提出日】平成29年3月30日(2017.3.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
フレキシブル基板（１６０）のための真空処理システム（１００、２００、４００）であって、
前記フレキシブル基板を供給するための供給ロール及び前記フレキシブル基板（１６０）を収めるための巻き取りロールのうちの１つを収容するように適合された第１のチャンバ（１１０、３１０、４１０）、
前記フレキシブル基板を供給するための前記供給ロール及び前記フレキシブル基板（１６０）を収めるための前記巻き取りロールのうちの１つを収容するように適合された第２のチャンバ（１２０、３２０、４２０）、
前記第１のチャンバ（１１０、３１０、４１０）と前記第２のチャンバ（１２０、３２０、４２０）の間のメンテナンスゾーン（１３０、３３０、４３０）、
前記フレキシブル基板上に材料を堆積するための第１の処理チャンバ（１４０、３４０、４４０）であって、前記第２のチャンバ（１２０、３２０、４２０）が、前記メンテナンスゾーン（１３０、３３０、４３０）と前記第１の処理チャンバ（１４０、３４０、４４０）の間に設けられる、第１の処理チャンバ（１４０、３４０、４４０）を備え、
前記メンテナンスゾーン（１３０、３３０、４３０）が、前記第１のチャンバ（１１０、３１０、４１０）及び前記第２のチャンバ（１２０、３２０、４２０）のうちの少なくとも１つへのメンテナンスアクセス、又は前記第１のチャンバ（１１０、３１０、４１０）及び前記第２のチャンバ（１２０、３２０、４２０）のうちの少なくとも１つのメンテナンスアクセスを可能にする、真空処理システム（１００、２００、４００）。
【請求項２】
前記処理システム（１００、２００、４００）が、前記メンテナンスゾーン（１３０、３３０、４３０）を介して、前記第１及び／又は前記第２のチャンバ（１２０、３２０、４２０）へのアクセス、前記第１のチャンバ（１１０、３１０、４１０）及び／又は前記第２のチャンバ（１２０、３２０、４２０）を制御するための制御オプション、制御要素、並びに前記第１のチャンバ（１１０、３１０、４１０）及び／又は前記第２のチャンバ（１２０、３２０、４２０）の点検のうちの少なくとも１つを提供するように適合される、請求項１に記載の真空処理システム。
【請求項３】
前記第１のチャンバ（１１０、３１０、４１０）及び前記第２のチャンバ（１２０、３２０、４２０）のうちの少なくとも１つが、それぞれ前記第１のチャンバ（１１０、３１０、４１０）の径方向から及び前記第２のチャンバ（１２０、３２０、４２０）の径方向からアクセス可能であるように、前記メンテナンスゾーン（１３０、３３０、４３０）が設けられる、請求項１又は２に記載の真空処理システム。
【請求項４】
前記真空処理システム（１００、２００、４００）が、前記基板を供給し、前記第１のチャンバ（１１０、３１０、４１０）及び前記第２のチャンバ（１２０、３２０、４２０）のうちの少なくとも１つから前記フレキシブル基板を取り除くためのローディング／アンローディングシステムを更に備える、請求項１から３のいずれか一項に記載の真空処理システム。
【請求項５】
第２の処理チャンバ（２４０、３５０、４５０）を更に備え、前記第２の処理チャンバは、特に、前記第１のチャンバ（１１０、３１０、４１０）が前記メンテナンスゾーン（１３０、３３０、４３０）と前記第２の処理チャンバ（２４０、３５０、４５０）の間に設けられるように位置付けされる、請求項１から４のいずれか一項に記載の真空処理システム。
【請求項６】
前記第１の処理チャンバ（１４０、３４０、４４０）、前記第２の処理チャンバ（２４０、３５０、４５０）、前記第１のチャンバ（１１０、３１０、４１０）、及び前記第２のチャンバ（１２０、３２０、４２０）が別々のチャンバである、請求項１から５のいずれか一項に記載の真空処理システム。
【請求項７】
前記第１の処理チャンバ（１４０、３４０、４４０）、前記第２の処理チャンバ（２４０、３５０、４５０）、前記第１のチャンバ（１１０、３１０、４１０）、及び前記第２のチャンバ（１２０、３２０、４２０）が、真空処理のために適合され、且つ個別に排気可能である、請求項１から６のいずれか一項に記載の真空処理システム。
【請求項８】
前記第１の処理チャンバ（１４０、３４０、４４０）を前記第１のチャンバ（１１０、３１０、４１０）又は前記第２の処理チャンバ（２４０、３５０、４５０）に接続する通路（１５０）を更に備え、前記通路（１５０）が、特に、前記メンテナンスゾーン（１３０、３３０、４３０）の上方又は下方に設けられ、特に、前記通路、前記第１のチャンバ（１１０、３１０、４１０）、及び前記第２のチャンバ（１２０、３２０、４２０）が、前記メンテナンスゾーン（１３０、３３０、４３０）を取り囲む、請求項１から７のいずれか一項に記載の真空処理システム。
【請求項９】
前記通路（１５０）が、前記メンテナンスゾーンの上方で延在する上側蓋又は前記メンテナンスゾーン（１３０、３３０、４３０）の下方で延在する底部側トンネルによって設けられる、請求項８に記載の真空処理システム。
【請求項１０】
前記第１のチャンバ（４１０）及び前記第２のチャンバ（４２０）の延長部分（４１１、４２１）によって形成されている通路を更に備える、請求項１から７のいずれか一項に記載の真空処理システム。
【請求項１１】
前記第１の処理チャンバ（１４０、３４０、４４０）及び前記第２の処理チャンバ（２４０、３５０、４５０）のうちの少なくとも１つが、回転軸（１４３）及び１つ又は複数の堆積源（１４１）を有する処理ドラムを備え、前記堆積源が、それぞれの処理チャンバの水平中央線の高さ又はその下方に、特に前記処理ドラムの前記回転軸（１４３）の高さ又はその下方に配置される、請求項１から１０のいずれか一項に記載の真空処理システム。
【請求項１２】
前記第１の処理チャンバ（１４０、３４０、４４０）及び前記第２の処理チャンバ（２４０、３５０、４５０）のうちの少なくとも１つが、１つ又は複数の堆積源を設ける第１の部分（１４６、３４６）、及び前記真空処理システムの通路（１５０）との連通を可能にする第２の部分（１４７、３４７）を備え、前記第１の部分（１４６、３４６）及び前記第２の部分（１４７、３４７）が、垂直方向に対して傾斜した線に沿って接続される、請求項１から１１のいずれか一項に記載の真空処理システム。
【請求項１３】
前記第１の処理チャンバ（１４０、３４０、４４０）及び前記第２の処理チャンバ（２４０、３５０、４５０）のうちの少なくとも１つが、処理ドラムを備え、前記処理ドラムの周りのフレキシブル基板の巻き付け角度が、処理中に１８０度未満である、請求項１から１２のいずれか一項に記載の真空処理システム。
【請求項１４】
真空処理システム（１００、２００、４００）を取り付けるための方法であって、
請求項１から４及び６から１２のいずれか一項に記載の真空処理システム（１００、２００、４００）を設けることと、
第２の処理チャンバ（２４０、３５０、４５０）を前記真空処理システムに取り付けることであって、前記真空処理システムの第１のチャンバ（１１０、３１０、４１０）が、前記第２の処理チャンバ（２４０、３５０、４５０）とメンテナンスゾーン（１３０、３３０、４３０）の間に設けられる、取り付けることと
を含む方法。
【請求項１５】
通路（１５０）によって前記第１の処理チャンバ（１４０、３４０、４４０）と前記第２の処理チャンバ（２４０、３５０、４５０）を接続することを更に含み、前記通路（１５０）が、特に、前記メンテナンスゾーン（１３０、３３０、４３０）の上方で延在する上側蓋又は前記メンテナンスゾーン（１３０、３３０、４３０）の下方で延在する底部側トンネルによって設けられる、請求項１４に記載の方法。