(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
水ガラス系の薬液注入工法に用いるゲルタイム２分から２０時間の浸透性懸濁型薬液であり、
（Ａ）薬液中の微粒子消石灰濃度（Ｗ／Ｖ）を０．６％から２％の範囲内とし、
（Ｂ）モル比が２．５から４．５の範囲の水ガラスを用いて薬液中のＳｉＯ2 濃度（Ｗ／Ｖ）を２．３％から８％の範囲内とし、
（Ｃ）前記微粒子消石灰濃度に対するＳｉＯ2 濃度の比を４．５未満とし、
（Ｄ）微粒子高炉スラグ微粉末濃度（Ｗ／Ｖ）を４％以上の範囲としたものであり、ホモゲル強度とは独立して、ゲルタイムを任意に設定可能とし、かつ、ゲルタイムとは独立して、ホモゲル強度を任意に設定可能としたものであることを特徴とする水ガラス系浸透性懸濁型薬液。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】
本発明は、水ガラス系の薬液注入工法に用いる水ガラス系浸透性懸濁型薬液に関するものであり、特に、ゲルタイムを非常に長くしながら砂質土の間隙に浸透させて所定の強度を発揮できる水ガラス系浸透性懸濁型薬液に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来から、水ガラス系の薬液注入工法においては、対象となる地盤の性質により、薬液は最適なゲルタイムや薬液のみの固結強度であるホモゲル強度などを選定しながら使用されている。しかるに、ゲルタイムが非常に長い水ガラス系の浸透性懸濁型薬液の分野では、かなずしも十分な性能の薬液が提供されていない。
【０００３】
本発明者らは、特願平６−２９０３６９において微粒子消石灰濃度を変えるだけで、ホモゲル強度とは独立して、ゲルタイムを任意に設定する手段を提供したが、微粒子消石灰濃度を変えるだけであったので、ゲルタイムを十分に延ばすことができなかった。
【０００４】
そこで、本発明は、全く新しい手段によって、従来から用いられている浸透性懸濁型薬液の性能を大幅に改善しようとするものである。
【０００５】
溶液型薬液に比較してホモゲル強度の大きいことが要求される水ガラス系の懸濁型薬液においては、水硬性成分としてセメントや微粒子高炉スラグ粉末が使用され、浸透性を向上させるために微粒子セメントや微粒子高炉スラグ微粉末が使用されている。
【０００６】
しかるに、微粒子高炉スラグ微粉末の水硬性が潜在的なものであることから、潜在水硬性を顕在化させるための刺激剤として、微粒子消石灰や水酸化ナトリウムなどを併用する方法が一般にとられている。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
工事の進捗による地層の性質の変化、例えば、砂の粒度構成や密度などの変化による地盤の透水係数や地耐力などの変化に迅速に対応するためには、使用する薬液のゲルタイム及び／またはホモゲル強度の水準を、徐々にまたは急激に変更できることを可能とする必要があり、このために、ゲルタイム及びホモゲル強度を互いに独立して設定できるようにすることが望まれている。
【０００８】
上記の課題を解決するためには、なるべく長いゲルタイムを任意に設定することを可能にする手段と、なるべく大きいホモゲル強度を任意に設定することを可能にする手段及びゲルタイムとホモゲル強度とを互いに独立した状態の下で個別に設定できるような手段を開発することが望まれると共に、経済性と浸透性において従来の薬液よりも優れていることが望まれている。
【０００９】
本発明の目的は、上記の各課題を解決した水ガラス系の浸透性懸濁型薬液を提供することにある。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
上記の目的を達成するための本発明は、水ガラス系の薬液注入工法に用いるゲルタイム２分から２０時間の浸透性懸濁型薬液であり、
（Ａ）薬液中の微粒子消石灰濃度（Ｗ／Ｖ）を０．６％から２％の範囲内とし、
（Ｂ）モル比が２．５から４．５の範囲の水ガラスを用いて薬液中のＳｉＯ2 濃度（Ｗ／Ｖ）を２．３％から８％の範囲内とし、
（Ｃ）前記微粒子消石灰濃度に対するＳｉＯ2 濃度の比を４．５未満とし、
（Ｄ）微粒子高炉スラグ微粉末濃度（Ｗ／Ｖ）を４％以上の範囲としたものであり、ホモゲル強度とは独立して、ゲルタイムを任意に設定可能とし、かつ、ゲルタイムとは独立して、ホモゲル強度を任意に設定可能としたものである。
【００１１】
上記の本発明では、最適な微粒子消石灰及び／またはＳｉＯ２の濃度を設定することにより、ホモゲル強度とは独立して、ゲルタイムを数分から数十時間の範囲内で任意に設定することができ、微粒子消石灰濃度に対するＳｉＯ２濃度の比を設定することによって、ホモゲルの強度発現を保証させつつ、微粒子高炉スラグ微粉末濃度を変えることにより、ゲルタイムとは独立して、ホモゲル強度を１ｋｇｆ／ｃｍ２から２００ｋｇｆ／ｃｍ２の範囲内で任意に設定できるようにしたものである。
【００１２】
【本発明の背景及び経緯】
本発明者らは、特願平６−２９０３６９において、微粒子消石灰濃度とゲルタイムとの相関関係を明らかにして、微粒子消石灰濃度を変えるだけで、ホモゲル強度とは独立して、ゲルタイムを任意に設定する手段を提供し、また、微粒子高炉スラグ微粉末とホモゲル強度との相関関係を明らかにして、微粒子高炉スラグ微粉末濃度を変えるだけで、ゲルタイムとは独立して、ホモゲル強度を任意に設定する手段を提供してきた。
【００１３】
しかし、特願平６−２９０３６９の発明は、微粒子消石灰濃度を変えるだけであったので、スラグを硬化させる範囲でゲルタイムを十分に延ばすことができなかった。そこで、本発明は、最適な微粒子消石灰及び／またはＳｉＯ２の濃度を設定することによって、ホモゲル強度とは独立して、数分から数十時間の範囲内でゲルタイムを任意に設定することができるようにしたものである。
【００１４】
又、本発明者らは、特願平６−１９３８５４において３号水ガラス水溶液濃度が、４０％（薬液濃度に換算すると２０％）の場合の水酸化カルシウム濃度とホモゲル強度との関係を明らかにした。この場合、水酸化カルシウム濃度が、２．５％（薬液濃度に換算すると１．２５％）以下になると、強度が発現しないことを明らかにした。
このときの微粒子消石灰濃度に対するＳｉＯ２濃度の比は５．８以上であり、水酸化カルシウム濃度が薬液濃度で１．２５％以下になると、薬液濃度で２０％の水ガラスが水酸化カルシウムの全量を消費してしまうことから、微粒子高炉スラグ微粉末の水和刺激剤としての水酸化カルシウムが残存しなくなって、強度が発現しなくなることを明らかにしている。
【００１５】
この現象は、水酸化カルシウムが水ガラス中のＳｉＯ２と反応してケイ酸カルシウムゲルを生成するため、薬液中の水酸化カルシウムが消費されてしまうことによるものであり、水酸化カルシウムの消費量は、薬液中のＳｉＯ２濃度に依存すると考えられる。
そこで、本発明は、微粒子消石灰濃度に対するＳｉＯ２濃度の比を、ホモゲル強度の発現性を支配する重要なファクターとして構成要件に導入している。
【００１６】
同様に、特願平６−１９３８５４において、水酸化カルシウム濃度が３．０％（薬液濃度に換算すると１．５％）になると、初期強度は小さいが７日強度は正常に発現することを明らかにした。このときの微粒子消石灰濃度に対するＳｉＯ２濃度の比は約４．８であった。
【００１７】
同様に、特願平６−１９３８５４において、水酸化カルシウム濃度が３．５％（薬液濃度に換算すると１．７５％）以上になると、ほぼ十分なホモゲル強度が発現することを明らかにし、このときの微粒子消石灰濃度に対するＳｉＯ２濃度の比が約４．１以下であることも明らかにしている。
【００１８】
しかして、微粒子消石灰濃度を小さくするだけでゲルタイムを長くすると、前述したように強度が発現しなくなる限界値が存在することで、ゲルタイムを極端に長くすることはできなかった。このことは、薬液中のＳｉＯ２濃度を小さくすると、ＳｉＯ２による微粒子消石灰の消費量が減少することを示しており、微粒子消石灰濃度を小さくしても、微粒子高炉スラグ微粉末の刺激剤としての微粒子消石灰が残存することが予測された。
【００１９】
そこで、本発明者等は、上記の両提案における実施例の成果を踏まえて、この仮説を鋭意検討したところ、本発明は、最適な微粒子消石灰濃度における条件（Ａ）とＳｉＯ２濃度の条件（Ｂ）を設定すること、すなわち、微粒子消石灰濃度を小さくしたことに見合うだけ、ＳｉＯ２濃度を小さくすることによって、あるいは、ＳｉＯ２濃度を小さくしたことに見合うだけ、微粒子消石灰濃度を小さくすることによって、ゲルタイムを長くすることができるようにし、さらに、前記条件（Ａ）（Ｂ）の範囲内で、微粒子消石灰濃度に対するＳｉＯ２濃度の比を４．５未満にする条件（Ｃ）及び微粒子高炉スラグ微粉末濃度（Ｗ／Ｖ）を４％以上の範囲にする条件（Ｄ）を設定することによって、スラグが硬化を始めるホモゲルの強度発現を保証できるようにしながら、微粒子高炉スラグ微粉末の濃度を変えることによってホモゲル強度を任意に設定できるようにしたものである。
【００２０】
通常、水ガラス系の薬液では、水ガラス濃度を小さくすると、ゲルタイムは短くなると言われており、実際に、微粒子消石灰濃度が２．１％以上の場合は、水ガラス濃度を小さくする、すなわち、ＳｉＯ２濃度を小さくすると、ゲルタイムは短くなっっている。（図１参照）
【００２１】
又、微粒子消石灰濃度が１．９％以下になると、ＳｉＯ２濃度とゲルタイムとの関係は、極大点を持つようになる結果としてゲルタイムが長くなる範囲が出現（図１参照）することを見出だしており、ゲルタイムを長くする手段のあることが分かった。
【００２２】
本発明は、以上の手段を見出だしたことによって完成することができたものであり、以下の各実施例においてこれを検証することが出来る。
尚、実施例に使用した材料は、以下のとおりである。
微粒子消石灰            ；平均粒子径が約６μｍの微粒子微粉末微粒子消石灰、市販品。
水ガラス          ；モル比の異なる水ガラス市販品。
微粒子高炉スラグ微粉末  ；平均粒子径が約４μｍの微粒子高炉スラグ微粉末、市販品。
【００２３】
実施例の試験方法は、以下のとおりである。
ゲルタイム  ；回転粘度計で測定した本発明の薬液の粘性が１００ｃｐｓになるまでの経過時間。
ホモゲル強度；φ５０ｍｍ×１００ｍｍのプラスチック製型枠にゲル化直前の本発明の薬液を流し込み成型して、圧縮試験機を用いて所定の材齢で測定したホモゲル強度。
【００２４】
実施例の図中では、使用材料濃度などを以下のとおりに略記している。
微粒子消石灰濃度                          ；ＣＨ濃度
ＳｉＯ２濃度                              ；Ｓｉ濃度
微粒子高炉スラグ微粉末濃度                        ；ＳＧ濃度
微粒子消石灰濃度に対するＳｉＯ２濃度の比  ；Ｓｉ／ＣＨ
ゲルタイム                                  ；Ｇ．Ｔ
【００２５】
【実施例−１】
微粒子高炉スラグ微粉末濃度を１２．５％一定とした場合の微粒子消石灰濃度別のＳｉＯ２濃度とゲルタイムとの関係を図１に示した。使用した水ガラスのモル比は３である。前記図１の結果から、ゲルタイムは、２分から２０時間まで設定できることが分かる。
【００２６】
微粒子消石灰濃度別のゲルタイム曲線は、それぞれ極大点を持ち、極大点は微粒子消石灰濃度が小さくなるに伴って、ＳｉＯ２濃度の小さい方にシフトしていた。極大点の位置は、微粒子消石灰濃度に対するＳｉＯ２濃度の比がおよそ２．７の位置にある。
【００２７】
また、ＳｉＯ２濃度が２．３％以上の場合には、ゲルタイムを実測することができたが、ＳｉＯ２濃度が２．３％未満になると、本発明の薬液の粘性は、時間の経過と共に増大していくものの、１００ｃｐｓまでには至らず、粘性の増大が停滞してしている。この理由は、ＳｉＯ２濃度が２．３％未満になると、ゲルは生成するが、ゲル濃度が小さすぎることによって、粘度が１００ｃｐｓまでには至らなかったことによる。
そこで、本発明では、ＳｉＯ２濃度の範囲を、十分なゲル化が期待できる２．３％以上とした。
【００２８】
又、微粒子消石灰濃度を２．１％以上にすると、ゲルタイムを長くすることができなくなるので、本発明では、微粒子消石灰濃度を２％以下にしている。
【００２９】
【実施例−２】
微粒子消石灰濃度と微粒子高炉スラグ微粉末濃度を一定とした場合のＳｉＯ２濃度とホモゲル強度との関係を図２に示している。使用した水ガラスのモル比は３である。ＳｉＯ２濃度が０．９％と１．８％の場合は、ゲル化が不十分であったことから、ゲルタイム及びホモゲル強度は実測できなかった。
【００３０】
微粒子消石灰濃度に対するＳｉＯ２濃度の比が大きくなるに従って、強度発現性は低下しており、その比が４．２に至ると、初期強度の発現は小さくなるが７日強度は、正常に発現している。しかし、その比が４．８以上となると強度は発現されなかった。
因みに、微粒子消石灰濃度に対するＳｉＯ２濃度の比が大きくなると、微粒子消石灰は水ガラスのゲル化反応に消費されてしまい、微粒子高炉スラグ微粉末の水和刺激剤としての微粒子消石灰が残存しなくなるものであり、その限界値は、４．２と４．８の中間に存在するからである。
【００３１】
Ｗ７及びＷ８の配合では、強度が発現しなかったが、この理由は、微粒子消石灰濃度に対するＳｉＯ２濃度の比が４．８以上になったことによるもので、後述するように微粒子消石灰濃度を大きくすれば、強度を発現するようになる。さらに、ＳｉＯ２濃度が７．２％のときでも、微粒子消石灰濃度を２％にすると、微粒子消石灰濃度に対するＳｉＯ２濃度の比が３．６になり、強度発現の可能領域になっている。
【００３２】
【実施例−３】
微粒子高炉スラグ微粉末濃度を一定とした場合についても検証している。
強度が発現しなくなる場合について、その微粒子消石灰濃度に対するＳｉＯ２濃度の比の限界値を確認するためであったが、微粒子消石灰濃度に対するＳｉＯ２濃度の比が４．５前後になるような条件を選択して試験した結果を図３に示している。
【００３３】
使用した水ガラスのモル比は３であったが、微粒子消石灰濃度に対するＳｉＯ２濃度の比が４に近い場合は、初期強度の発現性は小さいが７日強度は正常に発現している。又、７日強度は、微粒子消石灰濃度が大きいほど大きくなった。
【００３４】
一方、微粒子消石灰濃度に対するＳｉＯ２濃度の比が５に近くになると強度が発現しなくなることから、強度が発現しなくなる微粒子消石灰濃度に対するＳｉＯ２濃度の比の限界値は、４．５程度と考えられる。 
尚、微粒子消石灰濃度に対するＳｉＯ２濃度の比が、４．５となる限界値を図１に破線で併記しているが、本発明では、微粒子消石灰濃度に対するＳｉＯ２濃度の範囲をこの破線よりＳｉＯ２濃度の小さい範囲にしている。
【００３５】
ＳｉＯ２濃度が２．３％未満になると、ゲル化が不十分になるので、このときの微粒子消石灰濃度に対するＳｉＯ２濃度の比が４．５になる微粒子消石灰濃度を求めている。これによると、微粒子消石灰濃度は、約０．５％になることから、０．５％未満になるとホモゲル強度の発現は保証できなくなる。
そこで、本発明では、微粒子消石灰濃度を０．６％以上に設定しており、この場合のゲルタイムの最大値は、２０時間よりかなり長くなるものと予想される。
【００３６】
ゲルタイムを長くすることのできる微粒子消石灰濃度は、２％以下であったので、このときの微粒子消石灰濃度に対するＳｉＯ２濃度の比が４．５になるＳｉＯ２濃度を求めると、ＳｉＯ２濃度は９％になる。従って、ＳｉＯ２濃度が９％以上になると、ホモゲル強度の発現を保証できなくなることから、本発明では、ＳｉＯ２濃度を８％以下にしている。
【００３７】
【実施例−４】
微粒子消石灰濃度とＳｉＯ２濃度を一定とした場合の微粒子高炉スラグ微粉末濃度とホモゲル強度との関係を図４に示した。尚、使用した水ガラスのモル比は３である。
微粒子高炉スラグ微粉末濃度が、大きくなるに従ってホモゲル強度は増大している。しかしながら、微粒子高炉スラグ微粉末濃度が大きくなるとゲルタイムも短くなっており、微粒子高炉スラグ微粉末がゲルタイムに寄与していることが示唆されている。
【００３８】
水ガラス系浸透性懸濁型薬液の材齢７日のホモゲル強度は、少なくとも１ｋｇｆ／ｃｍ２程度の強度発現が要求される。微粒子高炉スラグ微粉末濃度が小さくなると、ホモゲル強度は小さくなり、微粒子高炉スラグ微粉末濃度が４％の時には、ホモゲルの７日強度が１．１ｋｇｆ／ｃｍ２であったので、本発明では微粒子高炉スラグ微粉末の濃度を４％以上にしている。
【００３９】
微粒子高炉スラグ微粉末の濃度については、その上限を特定していないが、微粒子高炉スラグ微粉末濃度を大きくすれば、当然のこととして粘性は増大するものであるから、例え、流動化剤を併用しても地盤注入が困難となる粘性の上限は、必然的に存在することになる。
そこで、微粒子高炉スラグ微粉末濃度は、地盤の性質あるいは工法などによって異なってくる状況に合わせてその値を適宜に設定することになる。
【００４０】
微粒子高炉スラグ微粉末濃度を４３．８％としたときのホモゲルの７日強度は、２００ｋｇｆ／ｃｍ２であったので、本発明が提案した薬液でも、少なくとも２００ｋｇｆ／ｃｍ２程度のホモゲルの７日強度の発現が、期待できるものである。
【００４１】
水ガラス系浸透性懸濁型薬液に要求される材齢７日のホモゲル強度は、通常１０ｋｇｆ／ｃｍ２程度であるので、微粒子高炉スラグ微粉末濃度は１５％程度で十分である。この条件を満足するのは、例えば、Ｓ２またはＳ３のような配合であり、使用材料の濃度が小さいために、これらの薬液の粘性は、２．５〜３ｃｐｓ程度と小さくなり、浸透性に優れた特性を示している。
【００４２】
【実施例−５】
ＳｉＯ２濃度と微粒子高炉スラグ微粉末濃度を一定とした場合の微粒子消石灰濃度とホモゲル強度との関係は、図５に示されている。尚、使用した水ガラスのモル比は３である。
微粒子消石灰濃度が大きくなるに従って、ホモゲル強度は増大し、ゲルタイムが短くなっている。Ｃ１の配合では、強度が発現しなかったが、これは、微粒子消石灰濃度に対するＳｉＯ２濃度の比が４．５以上になったことによるものである。
【００４３】
【実施例−６】
微粒子高炉スラグ微粉末濃度を一定とした場合の水ガラスのモル比（ＳｉＯ２／Ｎａ２Ｏ）とホモゲル強度との関係を図６に示した。
図示のように、水ガラスのモル比が、１．５と２の場合はゲル化しておらず、水ガラスのモル比が２の場合には、微粒子消石灰濃度をさらに増大させてもゲル化しなかった。
【００４４】
水ガラスのモル比が、２．５の場合はゲル化反応が進行してゲルタイムは８分を示しており、強度発現も正常であった。又、水ガラスのモル比が２．５の場合は、水ガラス濃度を変えても、ゲルタイムは６分から８分の範囲で大きな変化が無かった。
【００４５】
水ガラスのモル比が３の場合は、実施例−１から実施例−５で説明したように良好な試験結果が得られている。
【００４６】
水ガラスのモル比が４の場合は、モル比が３の場合より、ゲルタイムを延ばすことができた。初期の強度発現は小さかったが、材齢７日のホモゲル強度は正常であった。
従って、本発明の課題である数分以上でなるべく長いゲルタイムを任意に設定できる可能のある水ガラスに必要なモル比の範囲は、２．５から４．５の範囲である。
【００４７】
本発明の薬液に、この種の薬液に常用されているゲルタイム遅延剤（例えば、リン酸二水素ナトリウム）、流動化剤、分散剤等を併用できることは、当然である。
【００４８】
本発明は、水ガラス系浸透性懸濁型薬液を配合する場合において、前記条件（Ａ）（Ｂ）の範囲内で、微粒子消石灰濃度に対するＳｉＯ２濃度の比を４．５未満にする条件（Ｃ）及び微粒子高炉スラグ微粉末濃度（Ｗ／Ｖ）を４％以上の範囲にする条件（Ｄ）を設定することによって、スラグが硬化を始めるホモゲルの強度発現を保証しており、ＳｉＯ２濃度を条件（Ｂ）で限定した範囲内で変化させることにより、ホモゲル強度とは独立して、ゲルタイムを任意に設定することを可能にし、かつ、ゲルタイムと独立して、ホモゲル強度を任意に設定することを可能にしたものである。
【００４９】
図１のＳｉＯ２濃度が破線より小さい範囲内で、かつ、ＳｉＯ２濃度の２．３％以上の範囲内では、ＳｉＯ２濃度を変化させることによってかなりの範囲でゲルタイムを変化させることができる。又、図２から分かるように、ＳｉＯ２濃度を変化させても材齢７日のホモゲル強度は、それほど変化しない。
従って、ホモゲル強度の変化がを少ないことを活用すると、ＳｉＯ２濃度を変化させることによって、ホモゲル強度とは独立させて、ゲルタイムを変えることができるものである。
【００５０】
又、図５から分かるように、微粒子消石灰濃度を変化させることにより、ゲルタイムを変えることができる。しかして、微粒子消石灰濃度を変化させると、ホモゲル強度も変化してしまうので、微粒子高炉スラグ微粉末濃度をホモゲル強度の変化に見合うように調整する必要もあるが、ホモゲル強度とは独立させた形態で、ゲルタイムを変えることができる。
【００５１】
次に、図４から分かるように微粒子高炉スラグ微粉末濃度を変化させることにより、ホモゲル強度を変えることができる。しかして、微粒子高炉スラグ微粉末濃度を変化させると、ゲルタイムも変化してしまうので、微粒子消石灰及び／またはＳｉＯ２の濃度をゲルタイムの変化に見合うだけ調整する必要もあるが、ゲルタイムとは独立して、ホモゲル強度を任意に設定することが可能である。
【００５２】
［使用材料］
本発明の薬液に使用する微粒子消石灰は、浸透性を重視するためにＪＩＳ  Ｒ９００１（工業用石灰）の規定の中で、実施例に用いた粒子径約６μｍ程度、あるいはそれ以下のものを用いている。
【００５３】
本発明の薬液に使用する微粒子高炉スラグ微粉末は、浸透性を重視するためにＪＩＳ  Ａ６２０６（コンクリート用微粒子高炉スラグ微粉末）の規定の中で、実施例に用いた粒子径約４μｍ程度、あるいはそれ以下のものを用いている。
【００５４】
【発明の効果】
本発明による水ガラス系浸透性懸濁型薬液は、水ガラス系の薬液注入工法に用いるゲルタイム２分から２０時間の浸透性懸濁型薬液であり、
（Ａ）薬液中の微粒子消石灰濃度（Ｗ／Ｖ）を０．６％から２％の範囲内とし、
（Ｂ）モル比が２．５から４．５の範囲の水ガラスを用いて薬液中のＳｉＯ2 濃度（Ｗ／Ｖ）を２．３％から８％の範囲内とし、
（Ｃ）前記微粒子消石灰濃度に対するＳｉＯ2 濃度の比を４．５未満とし、
（Ｄ）微粒子高炉スラグ微粉末濃度（Ｗ／Ｖ）を４％以上の範囲としたものであり、以下の効果を発揮させながら、水ガラス系浸透性懸濁型薬液を適切な品質の下に選択可能にしてその設計幅を拡大させている。
【００５５】
▲１▼  微粒子消石灰濃度を小さくしたことに見合うだけ、ＳｉＯ２濃度を小さくする、あるいはＳｉＯ２濃度を小さくしたことに見合うだけ、微粒子消石灰濃度を小さくすることで、ホモゲル強度とは独立して、ゲルタイムを２分から２０時間の範囲内で任意に設定することができる。
【００５６】
▲２▼  微粒子消石灰濃度に対するＳｉＯ２濃度の比を設定することで、ホモゲルの強度発現を保証しつつ微粒子高炉スラグ微粉末濃度を変えることにより、ゲルタイムとは独立して、材齢７日のホモゲル強度を１ｋｇｆ／ｃｍ２から２００ｋｇｆ／ｃｍ２の範囲内で任意に設定することができる。
【００５７】
▲３▼  ゲルタイムを長くするための微粒子消石灰と水ガラスの使用量を少なくし、浸透性に優れさせる微粒子高炉スラグ微粉末濃度を小さくして経済的にできる。
【図面の簡単な説明】
【図１】高炉スラグ微粉末濃度を１２．５％一定とした場合の消石灰濃度別のＳｉＯ２濃度とゲルタイムとの関係を示すグラフ。
【図２】消石灰濃度と高炉スラグ微粉末濃度を一定とした場合のＳｉＯ２濃度とホモゲル強度との関係を示す表。
【図３】消石灰濃度に対するＳｉＯ２濃度の比が４．５前後になるような条件を選択して試験した結果を示す表。
【図４】消石灰濃度とＳｉＯ２濃度を一定とした場合の高炉スラグ微粉末濃度とホモゲル強度との関係を示す表。
【図５】ＳｉＯ２濃度と高炉スラグ微粉末濃度を一定とした場合の消石灰濃度とホモゲル強度との関係を示す表。
【図６】高炉スラグ微粉末濃度を一定とした場合の水ガラスのモル比とホモゲル強度との関係を示す表。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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