(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
光透過性基板上に少なくとも、有機色素を含有する記録層、金属からなる光反射層及び保護層が順次積層された光記録媒体であって、光反射層は、光透過性基板面に対する入射角をθとしてθ−２θ法で測定したＸ線回折スペクトルの（１１１）面によるＸ線回折強度をＩ（１１１）  、（２００）面によるＸ線回折強度をＩ（２００）  としたとき、Ｉ（２００）  ／Ｉ（１１１）  ≧０．４９である銀を主成分とする薄膜である、光記録媒体。
【請求項２】
光透過性基板に形成されたグルーブの深さが１５０〜２００ｎｍであり、グルーブの幅が０．２〜０．４μｍである、請求項１に記載の光記録媒体。
【請求項３】
グルーブピッチが０．５〜１．５μｍである、請求項１又は２に記載の光記録媒体。
【請求項４】
記録層における有機色素は、アゾ系色素及び／又はシアニン系色素である、請求項１〜３のうちのいずれか１項に記載の光記録媒体。
【請求項５】
光透過性基板上に少なくとも、有機色素を含有する記録層、スパッタリング法による金属からなる光反射層及び保護層を順次積層する光記録媒体の製造方法であって、
スパッタリング法による光反射層の形成において、スパッタリング室内のスパッタリングガス圧力を制御することによって、光透過性基板面に対する入射角をθとしてθ−２θ法で測定したＸ線回折スペクトルの（１１１）面によるＸ線回折強度をＩ（１１１）  、（２００）面によるＸ線回折強度をＩ（２００）  としたとき、Ｉ（２００）  ／Ｉ（１１１）  ≧０．４９である銀を主成分とする薄膜を形成する、光記録媒体の製造方法。
【請求項６】
スパッタリング室内のスパッタリングガス圧力を０．２３〜０．５３Ｐａの範囲とする、請求項５に記載の光記録媒体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、光記録媒体及びその製造方法に関し、より詳しくは、記録層に有機色素、光反射層に銀をそれぞれ用いた耐高温高湿特性に優れる光記録媒体及びその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
大容量情報記録媒体として、種々の記録原理に基づいた有機記録層や無機記録層を備えた追記型や書換型の光ディスクが開発され、有機色素記録層を用いた追記型光ディスクでは、ＣＤ−Ｒ、ＤＶＤ−Ｒが実用化されている。
【０００３】
この追記型光記録媒体の一般的な構造は、光透過性基板上に有機色素を主成分とする記録層及びスパッタリング法で成膜された金属からなる光反射層がこの順に設けられ、更に樹脂からなる保護層が光反射層上にこれを覆うように設けられたものである。貼り合わせ型光記録媒体の場合には、前記構造の記録可能な光記録媒体を一方に用いるか、又は両方に用いて接着層を介して貼り合わせた構造とされている。なお、光透過性基板の表面（光透過性基板の記録層と接する側の面）には通常、照射されるレーザ光の走査を案内し、レーザ光が照射予定位置を正確にたどるように、予め凹状の案内溝（一般にプレグルーブと称する）が形成されている。
【０００４】
この追記型光記録媒体において、光反射層の金属成分としては、コストダウンや高反射特性の追求のため、金から銀へ代替する要望が高まり、銀を主成分とする光反射層（銀反射層）がＣＤ−Ｒ、ＤＶＤ−Ｒにおいて実用化に至っている。しかし、銀は金に比べ化学的安定性が劣る。そのため、銀反射層を有する光記録媒体では高温高湿環境において、金を用いた光反射層（金反射層）に比べ、反射率の低下または光反射層と記録層との相互作用等に起因するエラーの増加などの問題が生じ易い。これらの問題は、特にＤＶＤ−Ｒのように記録密度を高めた媒体に大きな影響を及ぼす。このように、銀反射層を有する光記録媒体は、十分高い耐久性を有しているとは言えず、ＤＶＤ−Ｒのように記録密度が高まってきている昨今において、さらなる改善が望まれている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
そこで、本発明の目的は、金反射層に比べコストダウン効果や高反射特性が得られる銀反射層を使用しながら、耐高温高湿特性にも優れる光記録媒体を提供することにある。また、本発明の目的は、前記光記録媒体の製造方法を提供することにある。
【０００６】
本発明者は、耐高温高湿特性を向上させるために、銀のスパッタリング成膜条件と高温高湿保存後の特性との関係を検討した結果、成膜条件によって初期の反射特性、ジッター特性及びエラー特性は変化ないものの、高温高湿保存後のエラーの増加を抑制できることが分かった。
【０００７】
そして、成膜条件によって優れた耐高温高湿特性が得られた光反射層の銀の結晶構造を検討した結果、特開平７−１１０９６４号公報に開示されているような薄膜評価法のひとつである、光透過性基板面に対する入射角をθとしてθ−２θ法で測定したＸ線回折スペクトルの（１１１）面によるＸ線回折強度をＩ（１１１）、（２００）面によるＸ線回折強度をＩ（２００）  としたとき、Ｉ（２００）  ／Ｉ（１１１）＞０．４０となるような銀の多結晶構造であることを突き止めた。
【０００８】
光反射層をこのような銀の多結晶薄膜とすることによって、高温高湿保存後の波形歪みが抑えられ、エラーの増加が非常に抑えられた、長寿命の優れたＣＤ−ＲまたはＤＶＤ−Ｒを作成できることを見い出し、本発明を完成した。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
すなわち、本発明は、光透過性基板上に少なくとも、有機色素を含有する記録層、金属からなる光反射層及び保護層が順次積層された光記録媒体であって、光反射層は、光透過性基板面に対する入射角をθとしてθ−２θ法で測定したＸ線回折スペクトルの（１１１）面によるＸ線回折強度をＩ（１１１）  、（２００）面によるＸ線回折強度をＩ（２００）  としたとき、Ｉ（２００）  ／Ｉ（１１１）  ≧０．４９である銀を主成分とする薄膜である光記録媒体である。
【００１０】
前記光記録媒体において、光透過性基板に形成されたグルーブの深さは例えば１５０〜２００ｎｍであり、グルーブの幅は例えば０．２〜０．４μｍである。
前記光記録媒体において、グルーブピッチ（隣り合うグルーブ同士の間隔）は例えば０．５〜１．５μｍである。
前記光記録媒体において、記録層における有機色素は、アゾ系色素及び／又はシアニン系色素であることが好ましい。
【００１１】
また、本発明は、光透過性基板上に少なくとも、有機色素を含有する記録層、スパッタリング法による金属からなる光反射層及び保護層を順次積層する光記録媒体の製造方法であって、
スパッタリング法による光反射層の形成において、スパッタリング室（チャンバー）内のスパッタリングガス圧力を制御することによって、光透過性基板面に対する入射角をθとしてθ−２θ法で測定したＸ線回折スペクトルの（１１１）面によるＸ線回折強度をＩ（１１１）  、（２００）面によるＸ線回折強度をＩ（２００）としたとき、Ｉ（２００）  ／Ｉ（１１１）  ≧０．４９である銀を主成分とする薄膜を形成する、光記録媒体の製造方法である。
前記製造方法において、スパッタリング室内のスパッタリングガス圧力を例えば０．２３〜０．５３Ｐａの範囲とするとよい。
【００１２】
【発明の実施の形態】
本発明の光記録媒体の構成は、従来の追記型の光記録媒体と基本的に同様であり、プレグルーブが形成された光透過性基板上に、レーザー光によって記録再生を行う有機色素を含有する記録層が設けられ、前記記録層上に光反射率を得るための光反射層が設けられ、さらに前記光反射層上に記録層及び光反射層を保護するための保護層が設けられているものである。
【００１３】
貼り合わせ型光記録媒体は、このような層構成の光記録媒体を一方に用いるか、又は両方に用いて接着層を介して貼り合わせることによって得られる。あるいは、接着層が光反射層上の保護層を兼ねている光記録媒体も本発明に含まれる。また、光透過性基板の耐傷性を高めるために、前記基板の記録層とは反対側の面に有機保護層を設けてもよい。
【００１４】
前記光透過性基板の材料としては、例えば、ポリメタクリル酸メチル等のアクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリスチレン樹脂、エポキシ樹脂、ポリエステル樹脂、塩化ビニル樹脂、オレフィン樹脂等の熱可塑性樹脂や、ガラス等の無機材料を利用することができる。樹脂材料を用いた場合は主として射出成形により、ガラスを用いた場合は主として２Ｐ法により、母型のプレグルーブを転写することにより基板が得られる。プレグルーブは通常、スパイラル状に形成される。基板の厚みは通常、ＣＤ−Ｒ用の場合は１．２ｍｍ程度で、ＤＶＤ−Ｒ用の場合は０．６ｍｍ程度である。
【００１５】
本発明において、光透過性基板に形成されたグルーブの深さ（ｄ）  は、例えば１５０〜２００ｎｍであり、好ましくは１６０〜１９０ｎｍであり、グルーブの幅（ｗ）  は、例えば０．２〜０．４μｍであり、好ましくは０．２５〜０．３５μｍである。本発明において、グルーブピッチ（Ｇｐ）は、例えば０．５〜１．５μｍであり、好ましくは０．６〜１．０μｍであり、より好ましくは０．７〜０．９μｍである。このような構成とすることによって、高密度記録が達成される。
【００１６】
図１は、グルーブ深さ（ｄ）  、グルーブ幅（ｗ）  及びグルーブピッチ（Ｇｐ）の各寸法を説明するための光記録媒体の部分断面図である。図１において、光透過性基板（１）  表面には、グルーブ（１ａ）とランド（１ｂ）とが形成されている。基板（１）  上に以下に述べる有機色素記録層（２）  が形成されている。記録層（２）  上に光反射層（３）が形成され、光反射層（３）  上に保護層（４）  が形成されている。グルーブ幅（ｗ）  は、グルーブ深さ（ｄ）  の１／２の深さ位置におけるグルーブ幅である。グルーブピッチ（Ｇｐ）は、隣り合うグルーブ（１ａ）（１ａ）同士の間隔であり、例えば、隣り合うグルーブ（１ａ）（１ａ）の幅（ｗ）  方向中心同士の間隔である。本発明の光記録媒体にランド記録又はグルーブ記録を行う場合には、トラックピッチはグルーブピッチ（Ｇｐ）に等しい。ランド＆グルーブ記録を行う場合には、トラックピッチはグルーブピッチ（Ｇｐ）とは異なる値となる。
【００１７】
前記基板上に有機色素を主成分とする記録層を形成する。
記録層に用いる有機色素としては、シアニン系色素、フタロシアニン系色素、ナフタロシアニン系色素、アントラキノン系色素、アゾ系色素、含金属アゾ色素、トリフェニルメタン系色素、スクワリリウム系色素、クロコニウム系色素、ホルマザン系、アズレニウム系色素、ジチオール金属錯塩系色素、インドアニリン金属錯体色素等が挙げられる。これらのうち、スピンコートに用いる溶媒選択の幅広さ、吸収波長の微調整の容易さ等の点で、シアニン系色素、含金属アゾ色素が好ましい。含金属アゾ色素とシアニン色素とで塩形成された色素を用いることも好ましい。これらの色素は、それぞれ、単独であるいは混合して、ＣＤ−Ｒ用の場合は７８０ｎｍ付近、ＤＶＤ−Ｒ用の場合６３０−６６０ｎｍ付近の光吸収特性を考慮した上で用いられる。この記録層に耐光性を向上させるため、一重項酸素クエンチャー、紫外線吸収剤等を混合してもよい。色素カチオンと一重項酸素クエンチャーアニオンとのイオン結合体を有機色素として用いることも好ましい。
【００１８】
ＤＶＤ−Ｒ用の光記録媒体の場合、シアニン系色素として一般式（Ｉ）で示されるシアニン系色素を用いることができる。
【化１】
0003600177.tif 000002
（ここで、Ａ及びＡ’  は、同一又は異なって、置換基を有しても良い芳香族環又は置換基を有しても良い縮合芳香族環を表し、Ｒ１及びＲ１’は、同一又は異なって、置換又は非置換のアルキル基を表し、Ｒ２、Ｒ２’、Ｒ３、Ｒ３’は、同一又は異なって、置換又は非置換のアルキル基又は置換又は非置換のアリール基を表し、Ｘ−は陰イオンを表す。）
Ｒ１、Ｒ１’、Ｒ２、Ｒ２’、Ｒ３、Ｒ３’が表す置換又は非置換のアルキル基としては、炭素原子数１〜４の置換又は非置換のアルキル基が挙げられる。
Ｘ−が表す陰イオンとしては、ＣｌＯ４−、ＢＦ４−、ＰＦ６−、ハロゲンイオン等が挙げられ、ＣｌＯ４−が好ましい。
【００１９】
ＤＶＤ−Ｒ用の光記録媒体の場合、限定されないが、次式で示される含金属アゾ色素とシアニン色素とで塩形成された色素を用いることができる。
【化２】
0003600177.tif 000003
（ここで、Ａ及びＡ’  は、同一又は異なって、置換基を有しても良い芳香族環又は置換基を有しても良い縮合芳香族環を表し、Ｒ１及びＲ１’は、同一又は異なって、置換又は非置換のアルキル基を表し、Ｒ２、Ｒ２’、Ｒ３、Ｒ３’は、同一又は異なって、置換又は非置換のアルキル基又は置換又は非置換のアリール基を表す。Ｒ１１及びＲ１２は、同一又は異なって、置換又は非置換のアルキル基を表し、ｍは１又は２を表し、Ｍは、１価〜３価の遷移金属を表す。）
Ｍが表す遷移金属としては、Ｎｉ、Ｃｏ、Ｆｅ、Ｃｕ等が挙げられ、Ｃｏ、Ｎｉが好ましい。
Ｒ１、Ｒ１’、Ｒ２、Ｒ２’、Ｒ３、Ｒ３’、Ｒ１１、Ｒ１２が表す置換又は非置換のアルキル基としては、炭素原子数１〜４の置換又は非置換のアルキル基が挙げられる。
含金属アゾ色素とシアニン色素とは塩形成されるような割合で用いられる。
【００２０】
上記式で示される塩形成された色素には、例えば、次式で示される塩形成された色素が含まれる。
【化３】
0003600177.tif 000004
（ここで、Ｒ１、Ｒ１’、Ｒ２、Ｒ２’、Ｒ３、Ｒ３’、Ｒ１１、Ｒ１２、ｍ、及びＭは、それぞれ、上記式におけるのと同義である。Ｒ４は、水素原子、置換又は非置換のアルキル基、置換又は非置換のアリール基、又はハロゲン原子を表す。）
Ｒ１、Ｒ１’、Ｒ２、Ｒ２’、Ｒ３、Ｒ３’、Ｒ４、Ｒ１１、Ｒ１２が表す置換又は非置換のアルキル基としては、炭素原子数１〜４の置換又は非置換のアルキル基が挙げられる。
含金属アゾ色素とシアニン色素とは塩形成されるような割合で用いられる。
【００２１】
記録層の形成は、有機溶剤に有機色素を溶解した塗布液を調製し、この塗布液を前記基板上にスピンコートすることにより好ましく行うことができる。塗布液に用いる有機溶剤としては、アルコール系、ケトン系、エステル系、エーテル系、芳香族系、ハロゲン化アルキル系等から、用いる色素に応じて適宜選択すればよい。スピンコート後、必要に応じて塗膜を乾燥させる。
記録層の膜厚は、レーザ光等の記録光のパワーに対する記録感度、使用する波長、光反射層の光学定数、記録層の材質等に応じて適宜選択され、通常、５０〜５００ｎｍの範囲である。
【００２２】
前記記録層上に、銀又は銀を含む合金を用いてスパッタリング法によって銀を主成分とする光反射層を形成する。
銀を含む合金としては、銀に加え、金、銅、パラジウム、アンチモン、ロジウム、白金、チタン、モリブデン、ジルコニウム、タンタル、タングステン、バナジウム等から選ばれる１種以上の元素を含むものが挙げられるが、高反射率を得るためにはＡｇの含有率を９５原子％以上とすることが好ましい。
【００２３】
銀は導電性が高い材料であり、ＤＣスパッタリングにより成膜することが好ましい。
光反射層の形成において、銀を主成分とする薄膜（銀薄膜）の膜厚分布を一定にするためには、（有機色素膜が形成された）基板の直上に基板よりも大きな径を有するターゲットを配することが望ましく、基板を自転させる場合もある。基板とターゲット間の距離は３０〜６０ｍｍにすることが一般的である。この距離が３０ｍｍ未満であると、熱によるダメージを受けたり、面内での膜厚分布差が大きくなる等の問題が起こりやすい。逆にこの距離が６０ｍｍを超えると、スパッタされたターゲット原子とスパッタリングガスとの衝突が多くなり、スパッタされたターゲット原子の利用効率が低下し生産的ではない。
【００２４】
スパッタリングを行うための導入ガスとしては、不活性な希ガスが一般的に用いられ、扱い易さやコストの面からアルゴンガスが主に選択される。
【００２５】
本発明においては、スパッタリング室内のスパッタリングガス圧力を制御することによって、光透過性基板面に対する入射角をθとしてθ−２θ法で測定したＸ線回折スペクトルの（１１１）面によるＸ線回折強度をＩ（１１１）  、（２００）面によるＸ線回折強度をＩ（２００）  としたとき、Ｉ（２００）  ／Ｉ（１１１）  ＞０．４０である銀を主成分とする薄膜を形成する。
【００２６】
スパッタリング室内ガス圧力は、ターゲット基板間の距離、スパッタ装置の設定などによって異なるが、今回実験で用いたのと同型の装置では従来、５〜１０Ｐａ程度のガス圧力でスパッタリングが行われている。スパッタリングガス圧力を変化させると、スパッタリングによって形成される薄膜の膜質に影響を与えることが知られている。一般的に室温に近い基板温度では、スパッタリングガス圧力が大きいほど、スパッタリング層が柱状構造で成長するため、疎な膜構造となり、逆にスパッタリングガス圧力が小さいほど緻密な膜構造となる。
【００２７】
銀薄膜を形成する場合においても、スパッタリング室内ガス圧力を変化させてスパッタリングすると、薄膜の結晶配向性が変化する。入射角をθとしてθ−２θ法で測定したＸ線回折スペクトルにおいて、アルゴンガス圧力が０．２３〜８．１７Ｐａ程度の範囲では、アルゴンガス圧力が大きいほど、薄膜結晶中の銀の面心立方格子の（２００）  面と（１１１）  面の相対強度比Ｉ（２００）  ／Ｉ（１１１）  は小さくなり、アルゴンガス圧力が小さいほど、相対強度比Ｉ（２００）  ／Ｉ（１１１）  は大きくなる。
【００２８】
スパッタリングパワーを大きくしたり、あるいはスパッタリング時間を長くすると、アルゴンガス圧力が一定ならば、上記各面の強度はそれぞれ増加してゆくものの、両者の相対強度比はほぼ変化しない。つまり両者の相対強度比は、２ｋＷ〜６ｋＷの範囲のスパッタリングパワーや、１秒〜６秒の範囲のスパッタリング時間によって制御することは困難である。
【００２９】
本発明において、放電が行われる限界付近である０．２３Ｐａのアルゴンガス圧力でスパッタリングを行うと、相対強度比Ｉ（２００）  ／Ｉ（１１１）  ＝０．５５〜０．６０付近の銀薄膜となり、この媒体では、高温高湿保存（例えば、８０℃、８０％ＲＨ、１００時間保存、いわゆるアーカイバル試験）  後の特性も初期特性とほぼ変化せず良好である。これより大きい強度比Ｉ（２００）  ／Ｉ（１１１）  を有する銀薄膜は、アルゴンガス圧力を小さくしても放電が安定に継続して起こらないために、現在用いられている通常のスパッタリング装置では作製することが困難である。
【００３０】
アルゴンガス圧力を大きくすると強度比Ｉ（２００）  ／Ｉ（１１１）  が小さくなり、０．７３Ｐａのアルゴンガス圧力でスパッタリングを行うと、強度比Ｉ（２００）  ／Ｉ（１１１）  ＝０．４７付近の銀薄膜が得られる。この媒体では、高温高湿試験保存後の特性も初期特性とほぼ変化せず良好である。１．００Ｐａのアルゴンガス圧力でスパッタリングを行うと、強度比Ｉ（２００）  ／Ｉ（１１１）  ＝０．４１付近の銀薄膜が得られる。強度比Ｉ（２００）  ／Ｉ（１１１）  ＞０．４０の銀薄膜を有する媒体では、高温高湿試験保存後においても、市販のＤＶＤ−Ｖｉｄｅｏプレイヤーでモザイク等の再生不具合が発生せず、実用的には十分な耐高温高湿特性を有する。このことから、反射膜形成におけるスパッタリングガス圧力を０．２３〜１．００Ｐａの範囲とすることが好ましく、０．２３〜０．７３Ｐａの範囲とすることがより好ましい。
【００３１】
このように、相対強度比Ｉ（２００）  ／Ｉ（１１１）  すなわち銀薄膜の微細構造と、光記録媒体の耐高温高湿特性との間に密接な関連がある。すなわち、光反射層が相対強度比Ｉ（２００）  ／Ｉ（１１１）  ＞０．４０である銀を主成分とする薄膜であれば、光記録媒体の反射特性、ジッター特性及びエラー特性は、高温高湿保存後においても実用的観点から良好である。この強度比Ｉ（２００）  ／Ｉ（１１１）  は０．４１以上であることが好ましく、０．４７〜０．６０の範囲であることがさらに好ましい。強度比Ｉ（２００）  ／Ｉ（１１１）  の上限は特に定められないが、スパッタリングによる薄膜作製の観点からは０．６０程度である。
【００３２】
一方、強度比Ｉ（２００）  ／Ｉ（１１１）  が小さくなるに従って、光記録媒体の特性のうち特にＰＩエラーが初期に対して高温高湿保存後に増加していく傾向にある。ＰＩエラーは  ＤＶＤ  Ｓｐｅｃｉｆｉｃａｔｉｏｎｓ  ｆｏｒ  Ｒｅｃｏｒｄａｂｌｅ  Ｄｉｓｃ，  Ｖｅｒ  １．０，  Ｐａｒｔ  １の２．１．７．３  章及び３．２章に記載されている。Ｉ（２００）  ／Ｉ（１１１）  が０．４０以下になると、市販のＤＶＤ−Ｖｉｄｅｏプレイヤーでモザイク等の再生不具合が発生しやすい。
【００３３】
スパッタリング時のアルゴンガス圧力の増減と相対強度比Ｉ（２００）  ／Ｉ（１１１）の大小との関係は、本発明者が検討したところ、異なるスパッタリング装置においても差異はない。異なるスパッタリング装置においては、アルゴンガス圧力を同じとした場合に、Ｉ（２００）  及びＩ（１１１）  の絶対強度が異なることはある。いずれのスパッタリング装置を用いた場合においても、アルゴンガス圧力を調整し、相対強度比Ｉ（２００）  ／Ｉ（１１１）  ＞０．４０を有する銀薄膜を形成すれば、実用上十分な耐高温高湿保存特性を有する光記録媒体が得られる。
【００３４】
前記銀を主成分とする光反射層の厚みは、特に限定されることなく、例えば１０〜５００ｎｍ程度であり、ＤＶＤ−Ｒの場合には５０〜２００ｎｍ程度である。銀薄膜の膜厚は一般的に、スパッタリングの投入パワー及び／又はスパッタリング時間により制御される。しかし、これらの条件は、スパッタリング装置のスパッタリング室の大きさや形等の構造、磁場の強さ等の状態、スパッタリングターゲットのエロージョンの進行具合（スパッタリングターゲットの使用状況によって変わる目減りの状態）、基板とターゲット間の距離等の様々な要因によって変化するため、一概には記せない。
【００３５】
銀薄膜の膜厚は、アルゴンガスのスパッタリング室内への導入量の変更によっても制御できる。アルゴンガス導入量が少ないと、スパッタリングによる放電が生じにくくなり、銀薄膜の膜厚は小さくなる。アルゴンガス導入量が極端に多いと、スパッタされたターゲット原子の平均自由行程が小さくなるため、この場合にも、銀薄膜の膜厚は小さくなる。このため、アルゴンガス導入量は、放電が安定に継続して起こり、また平均自由行程が小さくなりすぎないような範囲に設定される。従来、一般的にアルゴンガス導入量は１０〜１００ｓｃｃｍの範囲であった。本発明においては、スパッタリング室内ガス圧力を０．２３〜１．００Ｐａの範囲とするために、例えばスパッタリング装置としてＣＤ−Ｃｏａｔ１２００  （芝浦（株）製）を用いる場合には、アルゴンガス導入量を２〜１０ｓｃｃｍの範囲とすることが好ましい。この範囲では、アルゴンガス導入量が多いほど膜厚は大きくなる傾向にある。
【００３６】
前記光反射層上に保護層を形成する。保護層は記録層及び光反射層を保護することができればよく、保護層の構成材料は特に限定されない。保護層の材料としては、保護層を容易に形成できること等の理由から、紫外線硬化型樹脂、特にアクリル系の紫外線硬化型樹脂が好ましく用いられる。保護層は、光反射層上に紫外線硬化型樹脂を硬化後の厚み２〜２０μｍで塗布した後、紫外線照射により硬化させて形成される。塗布は、光反射層の損傷を避けるためにスピンコート法により行うことが好ましいが、スクリーン印刷法、ディッピング法又はスプレーコート法等により行ってもよい。
【００３７】
このようにして、本発明の光記録媒体が得られる。
貼り合わせ型の光記録媒体とする場合は、さらに、得られた光記録媒体を一方に用いるか、又は両方に用いて接着層を介して貼り合わせる。接着層に用いる貼り合わせ剤としては、加熱硬化型接着剤、紫外線硬化型接着剤、ホットメルト接着剤、粘着性接着剤等が挙げられるが、作業性、生産性の点で紫外線硬化型接着剤が好ましい。接着層は、スピンコート法やスクリーン印刷法によって形成することができる。
【００３８】
【実施例】
以下に、実施例及び比較例を挙げて本発明をより具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
【００３９】
［実施例１］
光透過性基板として、周期的に蛇行したグルーブとプレピット（Ｐｒｅ−Ｐｉｔ）  が設けられたランド部とを有する直径１２０ｍｍ、厚さ０．６ｍｍのポリカーボネート基板を用いた。
図１を参照して、グルーブ深さ（ｄ）  は１７０ｎｍであり、グルーブ幅（ｗ）  は０．２９μｍであり、グルーブピッチ（Ｇｐ）は０．７４μｍであった。
【００４０】
記録層用の色素としては、下記構造式で示される含金属アゾ色素とシアニン色素とで塩形成された色素を用いた。この色素をテトラフルオロプロパノールに溶解して２重量％の塗布溶液を調製し、この塗布溶液を前記基板上に乾燥後の膜厚（ランド部における膜厚）が６０ｎｍとなるようにスピンコート法により塗布した。
【００４１】
【化４】
0003600177.tif 000005
【００４２】
次いで、有機色素記録層上に光反射層として、平均厚さ１９０ｎｍの銀薄膜を、成膜アルゴンガス圧力０．２３Ｐａ（スパッタリング室内へのアルゴンガス導入量：２ｓｃｃｍ）、成膜パワー４ｋＷ、ターゲット−基板間距離４７ｍｍ、成膜時間４秒の条件で、スパッタリング装置を用いたＤＣマグネトロンスパッタリング法により形成した。スパッタリング装置は、ＣＤ−Ｃｏａｔ１２００  （芝浦（株）製）を用いた。
【００４３】
この条件で成膜した銀薄膜についてＸ線回折スペクトルを測定した。測定にはＪＥＯＬ製  ＪＤＸ８０３０を用い、測定条件は、使用Ｘ線に管電圧５０ｋＶ、管電流４０ｍＡで発生させ単色化したＣｕ−ｋα線、広角ゴニオメーターを用いて、発散スリットの発散角を１°、散乱スリットの発散角を１゜として、受光スリットの幅を０．４ｍｍ、走査速度を１．２０°／ｍｉｎ  、計数はサンプリング幅を０．０４°とした。Ｉ（２００）  ／Ｉ（１１１）  は０．５８であった。
【００４４】
この光反射層上に紫外線硬化型樹脂ＳＤ−３１８（大日本インキ化学（株）製）をスピンコート法により硬化後の厚さが６μｍとなるように塗布し、紫外線照射装置で紫外線を照射して硬化させて、保護層を形成した。
【００４５】
得られた光記録媒体２枚を次のようにして貼り合わせた。２枚の光記録媒体の保護層上にそれぞれ、紫外線硬化型接着剤  ＳＫ７０００  （ソニーケミカル（株）製）をスクリーン印刷法により塗布し、紫外線を照射し、２枚の媒体を保護層同士が向かい合うようにして貼り合わせた。
【００４６】
得られた光記録媒体について、評価装置ＤＤＵ−１０００（（株）パルステック工業製）を用い、線速度３．５ｍ／ｓｅｃ  でＥＦＭ信号を最適記録レーザーパワー（Ｐｏ  ）で記録し、高温高湿保存試験（８０℃、８０％ＲＨ、１００時間保存）  を行った。この試験前後でのＰＩエラーをｎ＝５で評価した（半径２３〜２５ｍｍ）。ＰＩエラーのデコーダーは  Ｍ−５２９８Ｅ（  ＫＥＮＷＯＯＤ（株）製）を用いた。また、前記試験後に実機再生テストを５機種の市販ＤＶＤ−Ｖｉｄｅｏ  プレイヤーを用いて行った。この結果、高温高湿保存試験後においても平均ＰＩエラーの増加は見られず、市販ＤＶＤ−Ｖｉｄｅｏ  プレイヤーでの再生でも全く問題なく、良好な特性であった。
【００４７】
表１に、銀薄膜の成膜条件と、高温高湿保存試験によるＰＩエラー増加率（％）、ＤＶＤ−Ｖｉｄｅｏ  プレイヤーでの再生評価を示す。
（再生評価）
通常再生：５機種のＤＶＤ−Ｖｉｄｅｏ  プレイヤー全てにおいて、再生に問題がなかった場合
再生不良：５機種のＤＶＤ−Ｖｉｄｅｏ  プレイヤーのうち、１機種でもモザイク等の不良が発生した場合
【００４８】
［実施例２］
銀薄膜の成膜パワーを３ｋＷとした以外は、実施例１と同様にして光記録媒体の作製を行い、実施例１と同様に評価を行った。Ｉ（２００）  ／Ｉ（１１１）  は０．５５であった。
【００４９】
［実施例３］
銀薄膜の成膜パワーを２ｋＷとした以外は、実施例１と同様にして光記録媒体の作製を行い、実施例１と同様に評価を行った。Ｉ（２００）  ／Ｉ（１１１）  は０．５４であった。
【００５０】
［実施例４］
銀薄膜の成膜パワーを３ｋＷ、成膜時間を５秒とした以外は、実施例１と同様にして光記録媒体の作製を行い、実施例１と同様に評価を行った。Ｉ（２００）  ／Ｉ（１１１）  は０．５６であった。
【００５１】
［実施例５］
銀薄膜の成膜パワーを３ｋＷ、成膜時間を３秒とした以外は、実施例１と同様にして光記録媒体の作製を行い、実施例１と同様に評価を行った。Ｉ（２００）  ／Ｉ（１１１）  は０．４９であった。
【００５２】
［実施例６］
銀薄膜の成膜パワーを３ｋＷ、アルゴンガス圧力を０．５３Ｐａ（アルゴンガス導入量：５ｓｃｃｍ）とした以外は、実施例１と同様にして光記録媒体の作製を行い、実施例１と同様に評価を行った。Ｉ（２００）  ／Ｉ（１１１）  は０．４９であった。
【００５３】
［実施例７］
銀薄膜の成膜パワーを３ｋＷ、アルゴンガス圧力を０．７３Ｐａ（アルゴンガス導入量：７ｓｃｃｍ）とした以外は、実施例１と同様にして光記録媒体の作製を行い、実施例１と同様に評価を行った。Ｉ（２００）  ／Ｉ（１１１）  は０．４７であった。
【００５４】
［実施例８］
銀薄膜の成膜パワーを３ｋＷ、アルゴンガス圧力を１．００Ｐａ（アルゴンガス導入量：１０ｓｃｃｍ）とした以外は、実施例１と同様にして光記録媒体の作製を行い、実施例１と同様に評価を行った。Ｉ（２００）  ／Ｉ（１１１）  は０．４１であった。
【００５５】
［比較例１］
銀薄膜の成膜パワーを３ｋＷ、アルゴンガス圧力を１．４５Ｐａ（アルゴンガス導入量：１５ｓｃｃｍ）とした以外は、実施例１と同様にして光記録媒体の作製を行い、実施例１と同様に評価を行った。Ｉ（２００）  ／Ｉ（１１１）  は０．３８であった。
【００５６】
［比較例２］
銀薄膜の成膜パワーを３ｋＷ、アルゴンガス圧力を２．７５Ｐａ（アルゴンガス導入量：３０ｓｃｃｍ）とした以外は、実施例１と同様にして光記録媒体の作製を行い、実施例１と同様に評価を行った。Ｉ（２００）  ／Ｉ（１１１）  は０．２８であった。
【００５７】
［比較例３］
銀薄膜の成膜パワーを３ｋＷ、アルゴンガス圧力を４．３２Ｐａ（アルゴンガス導入量：５０ｓｃｃｍ）とした以外は、実施例１と同様にして光記録媒体の作製を行い、実施例１と同様に評価を行った。Ｉ（２００）  ／Ｉ（１１１）  は０．１７であった。
【００５８】
【表１】
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【００５９】
表１より、アルゴンガス圧力を小さくすると強度比Ｉ（２００）  ／Ｉ（１１１）  が大きくなる傾向が見られた。
実施例１〜８では、高温高湿保存試験後のＰＩエラー増加は見られないか又は僅かであり、ＤＶＤ−Ｖｉｄｅｏ  プレイヤーでの再生不良は起こらなかった。Ｉ（２００）  ／Ｉ（１１１）  ≧０．４７である実施例１〜７では、特に良好な結果が得られた。よって、相対強度比Ｉ（２００）  ／Ｉ（１１１）  ＞０．４０の関係を満たせば信頼性の高いディスクが得られることが示された。
これに対して、比較例１〜３では、高温高湿保存試験後にＰＩエラーは顕著に増加し、ＤＶＤ−Ｖｉｄｅｏ  プレイヤーで再生不良が見られた。
【００６０】
【発明の効果】
本発明によれば、銀を主成分とする光反射膜を使用しながら耐高温高湿特性に優れた光記録媒体を提供することができる。この光記録媒体では、金反射膜を有する光記録媒体に比べコストダウン効果や高反射特性が得られる。
【図面の簡単な説明】
【図１】グルーブ深さ（ｄ）  、グルーブ幅（ｗ）  及びグルーブピッチ（Ｇｐ）の各寸法を説明するための本発明の光記録媒体の一例の部分断面図である。
【符号の説明】
（１）  光透過性基板
（２）  有機色素記録層
（１ａ）グルーブ
（１ｂ）ランド
（ｄ）  グルーブ深さ
（ｗ）  グルーブ幅
（Ｇｐ）グルーブピッチ
（３）  光反射層
（４）  保護層
【図１】
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