【手続補正書】
【提出日】平成29年8月25日(2017.8.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５２】
本発明の種々の実施形態について説明した。これら及び他の実施形態は、下記特許請求の範囲の範囲内である。
本発明の実施態様の一部を以下の〔態様１〕−〔態様６０〕に記載する。
〔態様１〕
材料の均一性を特徴づける方法であって、
該材料の画像中の対象領域内の均一性を測定するサイズスケールのセットを選択することと、
該サイズスケールのセット内の対象となる選択されたサイズスケールより小さい該画像中の特性を抑制することと、
該対象となるサイズスケールに等しいパッチに該画像を分割することと、
各パッチ内の均一性値を算出することと、を含む、方法。
〔態様２〕
前記特性を抑制することが、ローパスフィルタで前記画像を処理することを含む、態様１に記載の方法。
〔態様３〕
前記ローパスフィルタが、前記対象となるサイズスケールの所定の比率に等しいカットオフ周波数を有するボックスフィルタを含む、態様２に記載の方法。
〔態様４〕
前記ローパスフィルタが、二次元のガウスカーネルを含む、態様２に記載の方法。
〔態様５〕
前記均一性値が、前記パッチの選択された特徴の標準偏差、四分位範囲（ＩＱＲ）、中央絶対偏差、又は情報エントロピーのうち少なくとも１つを決定することにより算出される、態様１〜４のいずれか一項に記載の方法。
〔態様６〕
前記パッチの前記選択された特徴が、前記パッチを透過した光又は前記パッチを含む前記材料の表面から反射した光の強度を含む、態様５に記載の方法。
〔態様７〕
前記均一性値が、前記パッチを透過した前記光の強度の前記四分位範囲（ＩＱＲ）を決定することにより算出される、態様５に記載の方法。
〔態様８〕
前記特性を除去する前に、前記対象領域を所定のサイズに拡大縮小することを更に含む、態様１〜７のいずれか一項に記載の方法。
〔態様９〕
前記特性を除去する前に、前記対象領域を校正することを更に含む、態様１〜８のいずれか一項に記載の方法。
〔態様１０〕
前記パッチの前記均一性値を統合して、前記対象領域についての均一性値を決定することを更に含む、態様１〜８のいずれか一項に記載の方法。
〔態様１１〕
前記対象領域内のパッチの選択された配列の前記均一性値を統合して、前記対象領域についての均一性値を提供することを更に含む、態様１〜１０のいずれか一項に記載の方法。
〔態様１２〕
前記材料が、織布、不織布、紙、コーティング、ポリマーフィルム、及びそれらの組み合わせから選択される、態様１〜１１のいずれか一項に記載の方法。
〔態様１３〕
前記材料が、不織布である、態様１２に記載の方法。
〔態様１４〕
前記対象領域を含む前記材料の表面に光を透過させることにより、又は該表面から光を反射させることにより、前記画像が得られる、態様１〜１３のいずれか一項に記載の方法。
〔態様１５〕
前記材料から光受信装置に向かって光を透過させることにより、前記画像が得られる、態様１４に記載の方法。
〔態様１６〕
材料の均一性を特徴づける方法であって、
該材料から光受信装置に向かって光を透過させることにより、該材料の対象領域の画像を得ることと、
該対象領域内の均一性を測定する段階的なサイズスケールのセットを選択することと、
ローパスフィルタを画像に畳み込みして、該段階的なサイズスケールのセット内の対象となる選択されたサイズスケールより小さい該画像中の特性を抑制することと、
該対象となるサイズスケールに等しいパッチに該画像を分割することであって、該パッチがそれぞれ画素配列を含む、ことと、
該配列における該画素の該光強度の標準偏差を決定して、各パッチ内の均一性値を算出することと、を含む、方法。
〔態様１７〕
前記ローパスフィルタが、前記配列内の前記画素の所定の比率に等しい幅を有するボックスフィルタを含む、態様１６に記載の方法。
〔態様１８〕
前記ローパスフィルタが、前記配列における選択された画素を、該選択された画素を取り囲む前記画素の前記光強度の加重平均で置き換え、該加重平均が、二次元のガウスカーネルにより決定される、態様１７に記載の方法。
〔態様１９〕
選択された不均一性を分析するのに理想的な画素サイズを決定することと、前記特性を除去する前に、前記対象領域を該理想的な画素サイズに拡大縮小することと、を更に含む、態様１６〜１８のいずれか一項に記載の方法。
〔態様２０〕
前記特性を除去する前に、前記対象領域を校正することを更に含む、態様１６〜１９のいずれか一項に記載の方法。
〔態様２１〕
前記パッチの前記均一性値を統合して、前記対象領域についての均一性値を決定することを更に含む、態様１６〜２０のいずれか一項に記載の方法。
〔態様２２〕
前記対象領域内のパッチの選択された配列の前記均一性値を統合して、前記対象領域についての均一性値を提供することを更に含む、態様１６〜２１のいずれか一項に記載の方法。
〔態様２３〕
前記材料が、織布、不織布、紙、コーティング、ポリマーフィルム、及びそれらの組み合わせから選択される、態様１６〜２２のいずれか一項に記載の方法。
〔態様２４〕
前記材料が、不織布である、態様２４に記載の方法。
〔態様２５〕
装置であって、
材料のウェブを照射する少なくとも１つの光源と、
該材料における対象領域を透過した光又は該対象領域から反射した光を捕捉して、該対象領域の画像を生成するカメラと、
プロセッサであって、該対象領域内の均一性を測定するサイズスケールのセットの入力に応じて、
ローパスフィルタを該画像に畳み込みして、該サイズスケールのセット内の対象となる選択されたサイズスケールより小さい該画像中の特性を抑制することと、
該対象となるサイズスケールに等しいパッチに該画像を分割することであって、該パッチがそれぞれ画素配列を含む、ことと、
各パッチ内の均一性値を算出することと、を行う、プロセッサと、を備える、装置。
〔態様２６〕
前記プロセッサが、前記配列における前記画素の光強度の標準偏差、四分位範囲（ＩＱＲ）、中央絶対偏差、又は情報エントロピーのうち少なくとも１つを決定することにより、前記均一性値を算出する、態様２５に記載の装置。
〔態様２７〕
前記プロセッサが、前記四分位範囲（ＩＱＲ）を決定することにより、前記均一性値を算出する、態様２５又は２６に記載の装置。
〔態様２８〕
前記ローパスフィルタが、前記配列内の前記画素の所定の比率に等しい幅を有するボックスフィルタを含む、態様２５〜２７のいずれか一項に記載の装置。
〔態様２９〕
前記ローパスフィルタが、前記配列における選択された画素を、該選択された画素を取り囲む前記画素の前記光強度の加重平均で置き換え、該加重平均が、二次元のガウスカーネルにより決定される、態様２５〜２７のいずれか一項に記載の装置。
〔態様３０〕
前記プロセッサが更に、前記材料中の選択された不均一性を分析するのに理想的な画素サイズを決定し、かつ前記特性を除去する前に、前記対象領域を該理想的な画素サイズに拡大縮小する、態様２５〜２９のいずれか一項に記載の装置。
〔態様３１〕
前記プロセッサが、前記特性を除去する前に、前記対象領域を校正する、態様２５〜３０のいずれか一項に記載の装置。
〔態様３２〕
前記プロセッサが、前記パッチの前記均一性値を統合して、前記対象領域についての均一性値を決定する、態様２５〜３１のいずれか一項に記載の装置。
〔態様３３〕
前記プロセッサが、前記対象領域内のパッチの選択された配列の前記均一性値を統合して、前記対象領域についての均一性値を提供する、態様２５〜３２のいずれか一項に記載の装置。
〔態様３４〕
前記材料が、不織布及びポリマーフィルムから選択される、態様２５〜３３のいずれか一項に記載の装置。
〔態様３５〕
前記材料が、不織布である、態様３４に記載の装置。
〔態様３６〕
前記カメラが、前記対象領域を透過した光を捕捉する、態様２５〜３５のいずれか一項に記載の装置。
〔態様３７〕
前記カメラが、散乱した光のみを捕捉して、前記画像を形成する、態様３６に記載の装置。
〔態様３８〕
ダークストライプが、前記光源を横切って配置され、前記カメラが、該ダークストライプに真っ直ぐに向けられる、態様３６に記載の装置。
〔態様３９〕
ウェブ材料が製造される際、リアルタイムに該ウェブ材料を検査し、かつ該ウェブ材料の表面における対象領域の均一性レベルを計算する方法であって、
該材料から光受信装置に向かって光を透過させることにより、該対象領域の画像を得ることと、
該対象領域内の均一性を測定するサイズスケールのセットを選択することと、
ローパスフィルタを該画像に畳み込みして、該サイズスケールのセット内の対象となる選択されたサイズスケールより小さい該画像中の特性を抑制することと、
該対象となるサイズスケールに等しいパッチに該画像を分割することであって、該パッチがそれぞれ画素配列を含む、ことと、
各パッチ内の均一性値を算出することと、を含む、方法。
〔態様４０〕
前記均一性値が、前記配列における前記画素の前記光強度の前記四分範囲（ＩＱＲ）を決定することにより算出される、態様３９に記載の方法。
〔態様４１〕
前記ローパスフィルタが、前記配列内の前記画素の所定の比率に等しい幅を有するボックスフィルタを含む、態様３９又は４０に記載の方法。
〔態様４２〕
前記ローパスフィルタが、前記配列における選択された画素を、該選択された画素を取り囲む前記画素の前記光強度の加重平均で置き換え、該加重平均が、二次元のガウスカーネルにより決定される、態様３９又は４０に記載の方法。
〔態様４３〕
選択された不均一性を分析するのに理想的な画素サイズを決定することと、前記特性を除去する前に、前記対象領域を該理想的な画素サイズに拡大縮小することと、を更に含む、態様３９〜４２のいずれか一項に記載の方法。
〔態様４４〕
前記特性を除去する前に、前記対象領域を校正することを更に含む、態様３９〜４３のいずれか一項に記載の方法。
〔態様４５〕
前記パッチの前記均一性値を統合して、前記対象領域についての均一性値を決定することを更に含む、態様３９〜４４のいずれか一項に記載の方法。
〔態様４６〕
前記対象領域内のパッチの選択された配列の前記均一性値を統合して、前記対象領域についての均一性値を提供することを更に含む、態様３９〜４５のいずれか一項に記載の方法。
〔態様４７〕
前記材料が、不織布である、態様３９〜４６のいずれか一項に記載の方法。
〔態様４８〕
リアルタイムにウェブ材料を検査するためのオンラインコンピュータ化検査システムであって、該システムが、
材料のウェブを照射する少なくとも１つの光源と、
該材料における対象領域を透過した光又は該対象領域から反射した光を捕捉して、該対象領域の画像を生成するカメラと、
該対象領域における該材料の均一性を特徴づけるソフトウェアを実行するコンピュータであって、該コンピュータが、プロセッサであって、該対象領域内の均一性を測定するサイズスケールのセットの入力に応じて、
ローパスフィルタを該画像に畳み込みして、該サイズスケールのセット内の対象となる選択されたサイズスケールより小さい該画像中の特性を抑制することと、
該対象となるサイズスケールに等しいパッチに該画像を分割することであって、該パッチがそれぞれ画素配列含む、ことと、
各パッチ内の均一性値を算出することと、を行う、プロセッサを含む、コンピュータと、を含む、システム。
〔態様４９〕
ウェブ検査モデルを記憶するメモリを更に備え、前記コンピュータが、前記対象領域における前記均一性を該モデルと比較し、かつ前記材料中の不均一性欠陥の重大度を計算するソフトウェアを実行する、態様４８に記載のシステム。
〔態様５０〕
前記欠陥の前記重大度をユーザに出力するユーザインターフェイスを更に備える、態様４８又は４９に記載のシステム。
〔態様５１〕
前記材料が、不織布である、態様４８〜５０のいずれか一項に記載のシステム。
〔態様５２〕
オンラインコンピュータ化検査システムを使用して、ウェブ材料の表面における１つ又は２つ以上の対象領域の画像をその製造中に受信させることと、
該対象領域内の均一性を測定するサイズスケールのセットを選択させることと、
ローパスフィルタを該画像に畳み込みして、該サイズスケールのセット内の対象となる選択されたサイズスケールより小さい該画像中の特性を抑制させることと、
該対象となるサイズスケールに等しいパッチに該画像を分割させることであって、該パッチがそれぞれ画素配列を含む、ことと、
各パッチ内の均一性値を計算させることと、をコンピュータプロセッサに行わせるソフトウェア命令を含む、非一時的なコンピュータ可読媒体。
〔態様５３〕
前記均一性値が、前記配列における前記画素の前記光強度の前記四分範囲（ＩＱＲ）を決定することにより算出される、態様５２に記載のコンピュータ可読媒体。
〔態様５４〕
前記ローパスフィルタが、前記配列内の前記画素の所定の比率に等しい幅を有するボックスフィルタを含む、態様５２又は５３に記載のコンピュータ可読媒体。
〔態様５５〕
前記ローパスフィルタが、前記配列における選択された画素を、該選択された画素を取り囲む前記画素の前記光強度の加重平均で置き換え、該加重平均が、二次元のガウスカーネルにより決定される、態様５２又は５３に記載のコンピュータ可読媒体。
〔態様５６〕
前記プロセッサが更に、選択された不均一性を分析するのに理想的な画素サイズを決定し、かつ前記特性を除去する前に、前記対象領域を該理想的な画素サイズに拡大縮小する、態様５２〜５５のいずれか一項に記載のコンピュータ可読媒体。
〔態様５７〕
前記プロセッサが、前記特性を除去する前に、前記対象領域を校正する、態様５２〜５６のいずれか一項に記載のコンピュータ可読媒体。
〔態様５８〕
前記プロセッサが、前記パッチの前記均一性値を統合して、前記対象領域についての均一性値を決定する、態様５２〜５７のいずれか一項に記載のコンピュータ可読媒体。
〔態様５９〕
前記プロセッサが、前記対象領域内のパッチの選択された配列の前記均一性値を統合して、前記対象領域についての均一性値を提供する、態様５２〜５８のいずれか一項に記載のコンピュータ可読媒体。
〔態様６０〕
前記材料が、不織布である、態様５２〜５９のいずれか一項に記載のコンピュータ可読媒体。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
材料の均一性を特徴づける方法であって、
該材料の画像中の対象領域内の均一性を測定するサイズスケールのセットを選択することと、
該サイズスケールのセット内の対象となる選択されたサイズスケールより小さい該画像中の特性を抑制することと、
該対象となるサイズスケールに等しいパッチに該画像を分割することと、
各パッチ内の均一性値を算出することと、
を含む、方法。
【請求項２】
前記特性を抑制することが、ローパスフィルタで前記画像を処理することを含み、任意に、前記ローパスフィルタが、前記対象となるサイズスケールの所定の比率に等しいカットオフ周波数を有するボックスフィルタ、又は、二次元のガウスカーネルを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記特性を除去する前に、前記対象領域を校正すること、前記パッチの前記均一性値を統合して、前記対象領域についての均一性値を決定すること、又は、前記対象領域内のパッチの選択された配列の前記均一性値を統合して、前記対象領域についての均一性値を提供すること、の少なくとも一つを更に含む、請求項１又は２に記載の方法。
【請求項４】
前記材料が、織布、不織布、紙、コーティング、ポリマーフィルム、及びそれらの組み合わせから選択される、請求項１〜３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項５】
材料の均一性を特徴づける方法であって、
該材料から光受信装置に向かって光を透過させることにより、該材料の対象領域の画像を得ることと、
該対象領域内の均一性を測定する段階的なサイズスケールのセットを選択することと、
ローパスフィルタを画像に畳み込みして、該段階的なサイズスケールのセット内の対象となる選択されたサイズスケールより小さい該画像中の特性を抑制することと、
該対象となるサイズスケールに等しいパッチに該画像を分割することであって、該パッチがそれぞれ画素配列を含む、ことと、
該配列における該画素の該光強度の標準偏差を決定して、各パッチ内の均一性値を算出することと、
を含む、方法。
【請求項６】
装置であって、
材料のウェブを照射する少なくとも１つの光源と、
該材料における対象領域を透過した光又は該対象領域から反射した光を捕捉して、該対象領域の画像を生成するカメラと、
プロセッサであって、該対象領域内の均一性を測定するサイズスケールのセットの入力に応じて、
ローパスフィルタを該画像に畳み込みして、該サイズスケールのセット内の対象となる選択されたサイズスケールより小さい該画像中の特性を抑制することと、
該対象となるサイズスケールに等しいパッチに該画像を分割することであって、該パッチがそれぞれ画素配列を含む、ことと、
各パッチ内の均一性値を算出することと、
を行う、プロセッサと、
を備える装置。
【請求項７】
前記プロセッサが、前記配列における前記画素の光強度の標準偏差、四分位範囲（ＩＱＲ）、中央絶対偏差、又は情報エントロピーのうち少なくとも１つを決定することにより、前記均一性値を算出する、請求項６に記載の装置。
【請求項８】
前記材料が、不織布及びポリマーフィルムから選択される、請求項６又は７に記載の装置。
【請求項９】
リアルタイムにウェブ材料を検査するためのオンラインコンピュータ化検査システムであって、該システムが、
材料のウェブを照射する少なくとも１つの光源と、
該材料における対象領域を透過した光又は該対象領域から反射した光を捕捉して、該対象領域の画像を生成するカメラと、
該対象領域における該材料の均一性を特徴づけるソフトウェアを実行するコンピュータであって、該コンピュータが、プロセッサであって、該対象領域内の均一性を測定するサイズスケールのセットの入力に応じて、
ローパスフィルタを該画像に畳み込みして、該サイズスケールのセット内の対象となる選択されたサイズスケールより小さい該画像中の特性を抑制することと、
該対象となるサイズスケールに等しいパッチに該画像を分割することであって、該パッチがそれぞれ画素配列を含む、ことと、
各パッチ内の均一性値を算出することと、
を行うプロセッサ、を含むコンピュータと、
を含むシステム。