【手続補正書】
【提出日】平成29年3月16日(2017.3.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
約２０〜７０質量％の１種または複数の金属−Ｍｏ−Ｂ、金属−Ｍｏ2−Ｂ2もしくは金属2−Ｍｏ2−Ｂ2の三元系ホウ化物セラミックスであって、式中、金属がＮｉまたはＦｅである三元系ホウ化物セラミックスと、
ほぼ０〜６０質量％の１種または複数の二元系ホウ化モリブデンと、
ほぼ０〜５０質量％の１種または複数の二元系金属ホウ化物であって、Ｃｒ、Ｆｅ、およびＮｉから選択される１種または複数の二元系金属ホウ化物と
を含む溶射粉末。
【請求項２】
前記１種または複数の二元系ホウ化モリブデンが、ほぼ２０〜６０質量％である、請求項１に記載の溶射粉末。
【請求項３】
前記１種または複数の二元系金属ホウ化物が、ほぼ１０〜５０質量％である、請求項１または２に記載の溶射粉末。
【請求項４】
前記１種または複数の三元系ホウ化物セラミックス、前記１種または複種の二元系ホウ化モリブデン、および前記１種または複数の二元系金属ホウ化物の粒径が、０．１μｍ以上１０μｍ以下である、請求項１に記載の溶射粉末。
【請求項５】
凝集後かつ焼結後の状態において、前記粉末の粒径が、ほぼ５〜１２５μｍ（マイクロメートル）の範囲である、請求項４に記載の溶射粉末。
【請求項６】
凝集後かつ焼結後の状態において、前記粉末の粒径が、ほぼ１０〜４５μｍ（マイクロメートル）の範囲である、請求項４に記載の溶射粉末。
【請求項７】
ほぼ１０質量％までの１種または複数のナノおよびサブミクロンサイズの強化固体潤滑剤をさらに含み、前記１種または複数のナノおよびサブミクロンサイズの強化固体潤滑剤が、ＢＮ、ＷＳ2またはＭｏＳ2を含む、請求項１に記載の溶射粉末。
【請求項８】
前記１種または複数の三元系ホウ化物セラミックス、前記１種または複数の二元系ホウ化モリブデン、前記１種または複数の二元系金属ホウ化物、および前記１種または複数のナノおよびサブミクロンサイズの強化固体潤滑剤の粒径が、０．１μｍ以上１０μｍ以下である、請求項７に記載の溶射粉末。
【請求項９】
凝集後かつ焼結後の状態において、前記粉末の粒径が、ほぼ５〜１２５μｍ（マイクロメートル）の範囲である、請求項８に記載の溶射粉末。
【請求項１０】
凝集後かつ焼結後の状態において、前記粉末の粒径が、ほぼ１０〜４５μｍ（マイクロメートル）の範囲である、請求項８に記載の溶射粉末。
【請求項１１】
組成混合物を粉砕して粉砕組成混合物を形成するステップであって、前記組成混合物が、
ほぼ０〜８０質量％（ほぼ８０質量％まで）の１種または複数の金属であって、前記１種または複数の金属が、Ｍｏ、Ｃｒ、Ｆｅ、およびＮｉから選択される金属と、
ほぼ０〜８０質量％（ほぼ８０質量％まで）の１種または複数の二元系ホウ化物セラミックスであって、前記１種または複数の二元系金属ホウ化物が、Ｍｏ、Ｃｒ、Ｆｅ、およびＮｉから選択される二元系ホウ化物セラミックスと、
０〜１０質量％の１種または複数の固体潤滑剤と
を含むステップと、
前記粉砕組成物を凝集させて凝集組成物を形成するステップと、
前記凝集組成物を焼結して溶射複合粉末を形成するステップであって、前記溶射複合粉末が、
約２０〜７０質量％の１種または複数の金属−Ｍｏ−Ｂ、金属−Ｍｏ2−Ｂ2もしくは金属2−Ｍｏ2−Ｂ2の三元系ホウ化物セラミックスであって、式中、金属がＮｉまたはＦｅである三元系ホウ化物セラミックスと、 
ほぼ０〜６０質量％の１種または複数の二元系ホウ化モリブデンと、
ほぼ０〜５０質量％の１種または複数の二元系金属ホウ化物であって、Ｃｒ、Ｆｅ、およびＮｉから選択される１種または複数の二元系金属ホウ化物と
を含むステップと
を含む、溶射粉末の製造方法。
【請求項１２】
粒径が０．１μｍ以上１０μｍ以下である、前記１種または複数の三元系ホウ化物セラミックス、前記１種または複数の二元系ホウ化モリブデン、および前記１種または複数の二元系金属ホウ化物が用意される、請求項１１に記載の溶射粉末の製造方法。
【請求項１３】
前記溶射複合粉末を形成する粒子の粒径が５μｍ以上１２５μｍ以下となるように凝集させるおよび焼結するステップをさらに含む、請求項１２に記載の溶射粉末の製造方法。
【請求項１４】
前記溶射複合粉末を形成する粒子の粒径が１０μｍ以上４５μｍ以下となるように凝集させるおよび焼結するステップをさらに含む、請求項１２に記載の溶射粉末の製造方法。
【請求項１５】
焼結が、ほぼ８５０℃以上ほぼ１３００℃以下の温度でほぼ１〜５時間行われる、請求項１３または１４に記載の溶射粉末の製造方法。
【請求項１６】
前記溶射複合粉末が０〜１０質量％の１種または複数のナノおよびサブミクロンサイズの強化固体潤滑剤をさらに含み、前記１種または複数のナノおよびサブミクロンサイズの強化固体潤滑剤がＢＮ、ＷＳ2またはＭｏＳ2を含む、請求項１１に記載の溶射粉末の製造方法。
【請求項１７】
粒径が０．１μｍ以上１０μｍ以下である、前記１種または複数の三元系ホウ化物セラミックス、前記１種または複数の二元系ホウ化モリブデン、前記１種または複数の二元系金属ホウ化物、および１種または複数のナノおよびサブミクロンサイズの強化固体潤滑剤が用意される、請求項１１に記載の溶射粉末の製造方法。
【請求項１８】
前記溶射複合粉末を形成する粒子の粒径が５μｍ以上１２５μｍ以下となるように凝集させるおよび焼結するステップをさらに含む、請求項１７に記載の溶射粉末の製造方法。
【請求項１９】
前記溶射複合粉末を形成する粒子の粒径が１０μｍ以上４５μｍ以下となるように凝集させるおよび焼結するステップをさらに含む、請求項１７に記載の溶射粉末の製造方法。
【請求項２０】
焼結が、ほぼ８５０℃以上ほぼ１３００℃以下の温度でほぼ１〜５時間行われる、請求項１８または１９に記載の溶射粉末の製造方法。
【請求項２１】
前記１種または複数の二元系ホウ化モリブデンがほぼ２０〜６０質量％である、請求項１１から２０のいずれか１項に記載の溶射粉末の製造方法。
【請求項２２】
前記１種または複数の二元系金属ホウ化物がほぼ１０〜５０質量％である、請求項１１から２１のいずれか１項に記載の溶射粉末の製造方法。
【請求項２３】
約２０〜７０質量％の１種または複数の金属−Ｍｏ−Ｂ、金属−Ｍｏ2−Ｂ2もしくは金属2−Ｍｏ2−Ｂ2の三元系ホウ化物セラミックスであって、式中、金属がＮｉまたはＦｅである三元系ホウ化物セラミックスと、
ほぼ０〜６０質量％の１種または複数の二元系ホウ化モリブデンと、
ほぼ０〜５０質量％の１種または複数の二元系金属ホウ化物であって、Ｃｒ、Ｆｅ、およびＮｉから選択される１種または複数の二元系金属ホウ化物と
を含む溶射粉末から形成された溶射皮膜。
【請求項２４】
ＢＮ、ＷＳ2またはＭｏＳ2を含む、ほぼ０〜１０質量％の１種または複数のナノおよびサブミクロンサイズの強化固体潤滑剤をさらに含む、請求項２３に記載の溶射皮膜。
【請求項２５】
前記１種または複数の二元系ホウ化モリブデンがほぼ２０〜６０質量％である、請求項２３または２４に記載の溶射皮膜。
【請求項２６】
前記１種または複数の二元系金属ホウ化物がほぼ１０〜５０質量％である、請求項２３から２５のいずれか１項に記載の溶射皮膜。
【請求項２７】
溶射皮膜の厚さがほぼ５０〜３００μｍである、請求項２３から２６のいずれか１項に記載の溶射皮膜。
【請求項２８】
基板上に溶射皮膜を形成する方法であって、
約２０〜７０質量％の１種または複数の金属−Ｍｏ−Ｂ、金属−Ｍｏ2−Ｂ2もしくは金属2−Ｍｏ2−Ｂ2の三元系ホウ化物セラミックスであって、式中、金属がＮｉまたはＦｅである三元系ホウ化物セラミックスと、
ほぼ０〜６０質量％の１種または複数の二元系ホウ化モリブデンと、
ほぼ０〜５０質量％の１種または複数の二元系金属ホウ化物であって、Ｃｒ、Ｆｅ、およびＮｉから選択される１種または複数の二元系金属ホウ化物と
を含む溶射粉末を用意するステップと、
前記基板上に前記溶射粉末を溶射するステップと
を含む方法。
【請求項２９】
前記溶射ステップで用いられる溶射粉末が、ほぼ５〜１２５μｍ（マイクロメートル）の範囲の粒径から構成される、請求項２８に記載の溶射皮膜形成方法。
【請求項３０】
前記溶射ステップで用いられる溶射粉末が、ほぼ１０〜４５μｍ（マイクロメートル）の範囲の粒径から構成される、請求項２８に記載の溶射皮膜形成方法。
【請求項３１】
前記溶射ステップが、プラズマ溶射、フレーム溶射、爆発溶射、コールドガス溶射、アーク溶射、または高速フレーム溶射によって行われる、請求項２８から３０のいずれか１項に記載の溶射皮膜形成方法。
【請求項３２】
前記溶射粉末が０〜１０質量％の１種または複数のナノおよびサブミクロンサイズの強化固体潤滑剤をさらに含み、前記１種または複数のナノおよびサブミクロンサイズの強化固体潤滑剤が、ＢＮ、ＷＳ2またはＭｏＳ2を含む、請求項２８から３１のいずれか１項に記載の溶射皮膜形成方法。
【請求項３３】
前記溶射ステップによって、ほぼ５０〜３００μｍの厚さを有する皮膜が前記基板上に前記溶射粉末から形成される、請求項２８から３２のいずれか１項に記載の溶射皮膜形成方法。
【請求項３４】
前記基板が金属である、請求項２８から３３のいずれか１項に記載の溶射皮膜形成方法。
【請求項３５】
前記金属が鋼である、請求項３４に記載の溶射皮膜形成方法。
【請求項３６】
前記皮膜が溶融金属に対して耐腐食性を有することを特徴とする、請求項２８から３５のいずれか１項に記載の溶射皮膜形成方法。
【請求項３７】
前記溶融金属が亜鉛である、請求項３６に記載の溶射皮膜形成方法。
【請求項３８】
前記皮膜が優れた耐熱衝撃性を有することを特徴とする、請求項２８から３７のいずれか１項に記載の溶射皮膜形成方法。
【請求項３９】
前記皮膜が、気孔率１％未満の緻密な超微細構造の均質な組織形態を有することを特徴とする、請求項２８から３８のいずれか１項に記載の溶射皮膜形成方法。
【請求項４０】
前記皮膜が、８９５±６１ＨＶ０．３のビッカース硬さを有することを特徴とする、請求項２８から３９のいずれか１項に記載の溶射皮膜形成方法。
【請求項４１】
前記皮膜が、高耐摩耗性および低摩擦を有することを特徴とする、請求項２８から４０のいずれか１項に記載の溶射皮膜形成方法。
【請求項４２】
前記１種または複数の二元系ホウ化モリブデンが、ほぼ２０〜６０質量％である、請求項２８から４１のいずれか１項に記載の溶射皮膜形成方法。
【請求項４３】
前記１種または複数の二元系金属ホウ化物が、ほぼ１０〜５０質量％である、請求項２８から４２のいずれか１項に記載の溶射皮膜形成方法。