【手続補正書】
【提出日】平成29年4月13日(2017.4.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
イオン源と、質量分析器と、質量分析アパーチャ（ＭＲＡ）とを備えたイオン注入システムであって、
前記イオン源は、ビームラインに沿って伝播する複数のイオンを有するイオンビームを発生するように構成され、
前記質量分析器は、第１の質量対電荷比を有するイオンが第２の質量対電荷比を有するイオンよりも大きく曲げられるように、前記イオンビーム内の前記イオンの各々の軌道を曲げる磁場を生成するように構成され、前記第２の質量対電荷比が前記第１の質量対電荷比とは異なり、前記イオンの各々の前記軌道が対応する面内にあり、
前記ＭＲＡは、開口を有し、
前記イオンビーム中の前記イオンの第１の部分は、前記イオンビームが前記ＭＲＡに近づくときに前記開口を通過し、かつ前記イオンビームが前記ＭＲＡを出た後では前記イオンビーム中にあるように、前記ＭＲＡが配置され、前記イオンビームが前記ＭＲＡを出た後では前記イオンの第２の部分が前記イオンビーム中にないように、前記ＭＲＡは、前記イオンビームが前記ＭＲＡに近づくときに前記イオンビーム中の前記イオンの前記第２の部分の動きを変え、
前記開口の端部の少なくとも一部分が、フィンを組み込み、前記フィンが前表面および後表面を有し、前記前表面に対する垂線は、前記イオンビームが前記ＭＲＡに近づくときに前記イオンビームに向かう成分を有し、前記後表面に対する垂線は、前記イオンビームが前記ＭＲＡを出るときに前記イオンビームに向かう成分を有し、前記フィンが、ビームパスの方向に平行である垂線を有する前記前表面の上の先端部分を有し、
前記前表面が、前記開口に向かう方向に前記先端部分から遠くへ湾曲して、前記先端部分に隣接する前記前表面の内側凸セクションを形成する、イオン注入システム。
【請求項２】
前記内側凸セクションに衝突するイオンが、前記イオンビームの外へ偏向される、請求項１に記載のイオン注入システム。
【請求項３】
前記前表面が、前記開口から遠くの方向に前記先端部分から遠くへ湾曲して、前記先端部分に隣接する前記前表面の外側凸セクションおよび前記前表面の前記凸セクションに隣接する前記前表面の外側凹セクションを形成する、請求項１に記載のイオン注入システム。
【請求項４】
前記外側凸セクションに衝突するイオンが、前記イオンビームの外に偏向される、請求項３に記載のイオン注入システム。
【請求項５】
前記前表面が、前記開口から遠くの方向に前記先端部分から遠くへ湾曲して、前記前表面の外側凸セクションを形成する、請求項１に記載のイオン注入システム。
【請求項６】
前記フィンの少なくとも一部分は、前記フィンの第１のセグメントが前記フィンの第２のセグメントのものとは異なる電荷および／または異なる磁気極性を有するようにセグメント化される、請求項１に記載のイオン注入システム。
【請求項７】
前記第１のセグメントは、前記外側凹セクションがイオンの前記第２の部分の前記イオンを引き付けるような電荷を有する、請求項６に記載のイオン注入システム。
【請求項８】
前記フィンが、前記全体の開口の周りの前記端部から延びる、請求項１に記載のイオン注入システム。
【請求項９】
前記開口の幅が調節可能であり、前記幅が、前記面内にある方向に測定され、前記開口の前記幅を調節することが、どのイオンが前記イオンの前記第１の部分内にあるかを変える、請求項１に記載のイオン注入システム。
【請求項１０】
前記ＭＲＡが、
４つの側面であって、少なくとも１つの側面が、直線的に移動可能であり、前記少なくとも１つの直線的に移動可能な側面のうちの１つまたは複数を直線的に移動させることが、高さおよび／または前記幅を調節する、４つの側面を備える、請求項９に記載のイオン注入システム。
【請求項１１】
前記少なくとも１つの側面のうちの前記４つの側面の各々は、前記高さが測定される前記方向に平行な方向に直線的に移動可能であり、前記高さが測定される前記方向に平行な方向に直線的に移動可能であり、
開口サイズ動作範囲内の任意の開口サイズは、前記幅が測定される前記方向に平行な前記方向におよび／または前記高さが測定され前記開口の前記高さを調節する前記方向に平行な前記方向に前記４つの側面のうちの少なくとも２つを直線的に移動させることによって実現され得る、請求項１０に記載のイオン注入システム。
【請求項１２】
前記開口の高さが調節可能であり、前記高さが前記面に垂直な方向に測定され、前記開口の前記高さを調節することは、どのイオンが前記イオンの前記第１の部分であるかを変える、請求項１に記載のイオン注入システム。
【請求項１３】
前記開口の幅が調節可能であり、前記幅が、前記面内にある方向に測定され、前記開口の前記幅を調節することが、どのイオンが前記イオンの前記第１の部分内にあるかを変える、請求項１に記載のイオン注入システム。
【請求項１４】
前記開口の高さが調節可能であり、前記高さが前記面に垂直な方向に測定され、前記開口の前記高さを調節することは、どのイオンが前記イオンの前記第１の部分であるかを変え、
前記ＭＲＡが、
４つの側面であって、少なくとも１つの側面が、直線的に移動可能であり、前記少なくとも１つの直線的に移動可能な側面のうちの１つまたは複数を直線的に移動させることが、前記高さおよび／または前記幅を調節する、４つの側面を備える、請求項１３に記載のイオン注入システム。
【請求項１５】
前記少なくとも１つの側面のうちの第１の側面は、前記幅が測定される前記方向に平行な方向に直線的に移動可能であり、前記幅が測定される前記方向に平行な前記方向に前記第１の側面を直線的に移動させることが、前記開口の前記幅を調節する、請求項１４に記載のイオン注入システム。
【請求項１６】
前記少なくとも１つの側面のうちの第１の側面は、前記高さが測定される前記方向に平行な方向に直線的に移動可能であり、
前記高さが測定される前記方向に平行な前記方向に前記第１の側面を直線的に移動させることが、前記開口の前記高さを調節する、請求項１４に記載のイオン注入システム。
【請求項１７】
前記少なくとも１つの側面のうちの前記４つの側面の各々は、前記高さが測定される前記方向に平行な方向に直線的に移動可能であり、前記高さが測定される前記方向に平行な方向に直線的に移動可能である、請求項１４に記載のイオン注入システム。
【請求項１８】
開口サイズ動作範囲内の任意の開口サイズは、前記幅が測定される前記方向に平行な前記方向におよび／または前記高さが測定され前記開口の前記高さを調節する前記方向に平行な前記方向に前記４つの側面のうちの少なくとも２つを直線的に移動させることによって実現され得る、請求項１４に記載のイオン注入システム。
【請求項１９】
ある開口サイズに関して、前記あるサイズのための開口位置動作範囲内の任意の開口位置は、前記幅が測定される前記方向に平行な前記方向におよび／または前記高さが測定され前記開口の前記高さを調節する前記方向に平行な前記方向に前記４つの側面のうちの少なくとも２つを直線的に移動させることによって実現され得る、請求項１７に記載のイオン注入システム。
【請求項２０】
ある開口サイズに関して、前記あるサイズのための開口位置動作範囲内の任意の開口位置は、前記幅が測定される前記方向に平行な前記方向におよび／または前記高さが測定され前記開口の前記高さを調節する前記方向に平行な前記方向に前記４つの側面のうちの少なくとも２つを直線的に移動させることによって実現され得る、請求項１８に記載のイオン注入システム。
【請求項２１】
前記４つの側面の各々が、対応する端部の長さに沿って対応するフィンを有する、請求項１４に記載のイオン注入システム。
【請求項２２】
前記開口のパス位置が調節可能であり、前記パス位置がビームパスに沿った方向に測定され、
前記開口の前記パス位置を調節することが、どのイオンが前記イオンの前記第１の部分内にあるかを変える、請求項１２に記載のイオン注入システム。
【請求項２３】
前記開口のパス位置が調節可能であり、前記パス位置がビームパスに沿った方向に測定され、
前記開口の前記パス位置を調節することが、どのイオンが前記イオンの前記第１の部分であるかを変える、請求項１３に記載のイオン注入システム。
【請求項２４】
前記複数のイオンが、同位元素を含む、請求項１２に記載のイオン注入システム。
【請求項２５】
前記ＭＲＡが、前記開口に隣接する端部を有し、前記端部がフェイス表面および側部表面を有し、前記フェイス表面に対する垂線が、ビームパスと平行であり、前記側部表面に対する垂線が、前記ビームパスに対して垂直であり、前記フェイス表面に隣接する前記ＭＲＡの少なくとも一部分は、前記フェイス表面に隣接する前記ＭＲＡの前記少なくとも一部分の第１のセグメントが、前記ＭＲＡの前記少なくとも一部分の第２のセグメントとは異なる電荷および／または異なる磁気極性を有するようにセグメント化され、
前記開口に隣接する端部の少なくとも一部分が、前記フィンを組み込み、
前記フィンの少なくとも一部分が、前記フェイス表面に隣接する前記ＭＲＡのの前記少なくとも一部分の前記第１のセグメントが前記フィンの第１のセグメントとなるように、セグメント化され、
前記フィンの前記第１のセグメントが、前記フィンの第２のセグメントのものとは異なる電荷および／または異なる磁気極性を有する、請求項１に記載のイオン注入システム。
【請求項２６】
前記第１のセグメントは、前記第１のセグメントが複数のイオンの前記第２の部分のイオンを引き付けるような電荷を有する、請求項２５に記載のイオン注入システム。
【請求項２７】
前記フィンの前記第１のセグメントが、前記前表面の前記外側凹セクションが前記複数のイオンの前記第２の部分のイオンを引き付けるような電荷を有する、請求項２５に記載のイオン注入システム。
【請求項２８】
前記フィンの前記第２のセグメントが、前記複数のイオンの前記第２の部分のイオンのうちのイオンを反発するような電荷を有する、請求項２５に記載のイオン注入システム。
【請求項２９】
前記前表面が、前記開口から遠くの方向に前記前表面の上の前記先端部分から遠くへ湾曲して、前記前表面の前記先端部分と前記前表面の前記外側凹セクションとの間に、前記前表面の前記外側凹セクションに隣接する前記先端部分に隣接する前記前表面の外側凸セクションを形成する、請求項２５に記載のイオン注入システム。
【請求項３０】
前記イオンビームが前記ＭＲＡに近づくときに前記質量分析器から出力された前記イオンビーム中の前記複数のイオンのうちのイオンであって、前記前表面の前記内側凸セクションに衝突するイオンが、前記イオンビームの外へ偏向される、請求項２９に記載のイオン注入システム。
【請求項３１】
前記イオンビームが前記ＭＲＡに近づくときに前記質量分析器から出力された前記イオンビーム中の前記複数のイオンのうちのイオンであって、前記前表面の前記内側凸セクションに衝突するイオンが、前記イオンビームの外へ偏向される、請求項２５に記載のイオン注入システム。
【請求項３２】
前記フィンの前記第１のセグメントが、前記フィンの前記第２のセグメントのものとは異なる磁気極性を有する、請求項２５に記載のイオン注入システム。
【請求項３３】
前記フィンの前記第１のセグメントが、前記フィンの前記第２のセグメントのものとは異なる電荷を有する、請求項２５に記載のイオン注入システム。
【請求項３４】
前記フィンの第３のセグメントが、中性電荷を有する、請求項３３に記載のイオン注入システム。
【請求項３５】
前記フィンの前記第１のセグメントが、正電荷を有し、前記フィンの前記第２のセグメントが、負電荷を有する、請求項３３に記載のイオン注入システム。