【手続補正書】
【提出日】平成29年2月16日(2017.2.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８６】
リソグラフィ評価例２
Ｚｒ金属製反射防止コーティング調合物の性能を、ＡＺ（登録商標）２１１０Ｐフォトレジスト（ＡＺ  Ｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃ  Ｍａｔｅｒｉａｌｓ  ＵＳＡ  Ｃｏｒｐ．，Ｓｏｍｅｒｖｉｌｌｅ，ＮＪの製品）を用いて評価した。ケイ素ウェハを、例１からの調合物でコーティングし、そして３５０℃で１２０秒間ベークして２００ｎｍ厚のフィルムを形成した。次いで、ＡＺ（登録商標）ＥＸＰ  ＡＸ２１１０Ｐを用いて、１６０ｎｍのフォトレジストフィルムを上面にコーティングし、そして１００℃で６０秒間ベークした。次いで、０．８５の開口数（ＮＡ）、０．８５アウターシグマ及び０．５５インナーシグマのＹダイポール照明を用いて１９３ｎｍ  Ｎｉｋｏｎ  ３０６Ｄ露光ツールを使用してウェハを画像形成した。次いで、露光されたウェハを１１０℃で６０秒間ベークし、ＡＺ（登録商標）３００ＭＩＦ現像剤（ＴＭＡＨ）を用いて３０秒間現像した。走査電子顕微鏡で観察した時、上から見たパターン及び断面パターンは、プロセスウィンドウ中で大きな崩壊を示さなかった。パターンプロフィルは、３０ｍＪ／ｃｍ２の感光速度でライン／スペース８０ｎｍ、１６０ｎｍピッチで観察された。
本願は特許請求の範囲に記載の発明に係るものであるが、本願の開示は以下も包含する：
１．
少なくとも一種の金属酸化物ジカルボキシレート及び有機溶媒を含むスピンオン組成物であって、前記金属酸化物ジカルボキシレートが、前記溶媒中で可溶性かまたはコロイド安定性であり、及び前記金属酸化物ジカルボキシレートが熱処理の間に分解して硬化した金属酸化物フィルムを与えることができる、前記スピンオン組成物。
２．
ジカルボキシレートのカルボキシレートが、置換されたＣ３〜Ｃ６カルボキシレート、置換されていないＣ３〜Ｃ６カルボキシレート、飽和Ｃ３〜Ｃ６カルボキシレート、不飽和Ｃ３〜Ｃ６カルボキシレート、分枝状Ｃ３〜Ｃ６カルボキシレート、及び非分枝状Ｃ３〜Ｃ６カルボキシレートからなる群から選択され、そして大概はプロピオネートである、上記１に記載の組成物。
３．
金属酸化物ジカルボキシレート中の金属が、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｈｆ、Ｔａ、Ｗ、Ｒｅ、及びＩｒから選択される少なくとも一種の高屈折性金属である、上記１または２に記載の組成物。
４．
金属酸化物ジカルボキシレートがナノパーティクルである、上記１〜３のいずれか一つに記載の組成物。
５．
金属酸化物ジカルボキシレートがジルコニウム酸化物ジカルボキシレートまたはチタン酸化物ジカルボキシレートである、上記１〜４のいずれか一つに記載の組成物。
６．
有機ポリマー、無機ポリマー及びこれらの混合物からなる群から選択される少なくとも一種のポリマーを更に含む、上記１〜５のいずれか一つに記載の組成物。
７．
ポリマーが、疎水性部分を含む構造（１）の少なくとも一種の単位、発色団部分を含む構造（２）の少なくとも一種の単位、架橋性部分（３）を含む構造（３）の少なくとも一種の単位、任意選択的に及び該ポリマーを架橋することができる基を含む単位を含むことができ、ここで構造１〜３は以下の式で表すことができる、上記６に記載の組成物。
【化１０】
2016532739.tif 000001
式中、Ｒ１〜Ｒ９は、独立して、水素及びＣ１〜Ｃ４アルキルから選択され；Ｗ１は完全にもしくは部分的にフッ素化された基であり；Ｘは、Ｆ、Ｈ及びＯＨからなる群から選択され；Ｗ２は、発色団基を含む有機部分であり；そしてＷ３Ｙは架橋性部位を含む。
８．
電子デバイスを製造する方法であって、
ａ．上記１〜７のいずれか一つに記載の組成物を施用して金属酸化物ジカルボキシレートフィルムを形成し、及び
ｂ．コーティングされた基材を加熱して、それによって硬化された金属酸化物フィルムを形成する、
ことを含む、前記方法。
９．
加熱ステップの後の金属酸化物フィルムの金属含有率が１０〜８５重量％の範囲である、上記８に記載の方法。  
１０．
フォトレジストフィルムを、金属フィルム上に形成する、上記８または９に記載の方法。
１１．
フォトレジストフィルムを、約１２ｎｍ〜約２５０ｎｍの範囲の放射線で画像形成し、そして現像してパターンを形成する、上記８〜１０のいずれか一つに記載の方法。
１２．
加熱ステップが２００℃〜５００℃の範囲である、上記８〜１１のいずれか一つに記載の方法。
１３．
金属がジルコニウムまたはチタンである、上記８〜１２のいずれか一つに記載の方法。
１４．
加熱ステップの後の金属酸化物フィルムの金属含有率が１０〜７０重量％の範囲である、上記８〜１３のいずれか一つに記載の方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも一種の金属酸化物ジカルボキシレート及び有機溶媒を含むスピンオン組成物であって、前記金属酸化物ジカルボキシレートが、前記溶媒中で可溶性かまたはコロイド安定性であり、及び前記金属酸化物ジカルボキシレートが、約３０〜約２００秒間の約２００℃〜約３００℃の間の温度での熱処理の間に分解して硬化した金属酸化物フィルムを与えることができ、及び前記溶媒が、エチレングリコールモノアルキルエーテル、ジエチレングリコールジアルキルエーテル、プロピレングリコールモノアルキルエーテル、プロピレングリコールジアルキルエーテル、アセテートエステル、ヒドロキシアセテートエステル、ラクテートエステル、エチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート、アルコキシアセテートエステル、（非）環状ケトン、アセトアセテートエステル、ピルベートエステル、プロピオネートエステル、またはこれらの溶媒の混合物を含む、前記スピンオン組成物。
【請求項２】
ジカルボキシレートのカルボキシレートが、置換されたＣ３〜Ｃ６カルボキシレート、置換されていないＣ３〜Ｃ６カルボキシレート、飽和Ｃ３〜Ｃ６カルボキシレート、不飽和Ｃ３〜Ｃ６カルボキシレート、分枝状Ｃ３〜Ｃ６カルボキシレート、及び非分枝状Ｃ３〜Ｃ６カルボキシレートからなる群から選択される、請求項１に記載の組成物。
【請求項３】
ジカルボキシレートのカルボキシレートがプロピオネートである、請求項１に記載の組成物。
【請求項４】
金属酸化物ジカルボキシレート中の金属が、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｈｆ、Ｔａ、Ｗ、Ｒｅ、及びＩｒから選択される少なくとも一種の高屈折性金属である、請求項１に記載の組成物。
【請求項５】
金属酸化物ジカルボキシレートがナノパーティクルである、請求項１に記載の組成物。
【請求項６】
ジカルボキシレートのカルボキシレートがプロピオネートである、請求項５に記載の組成物。
【請求項７】
金属酸化物ジカルボキシレートがジルコニウム酸化物ジカルボキシレートまたはチタン酸化物ジカルボキシレートである、請求項１に記載の組成物。
【請求項８】
ジカルボキシレートのカルボキシレートがプロピオネートである、請求項７に記載の組成物。
【請求項９】
有機ポリマー、無機ポリマー及びこれらの混合物からなる群から選択される少なくとも一種のポリマーを更に含む、請求項１に記載の組成物。
【請求項１０】
ポリマーが、疎水性部分を含む構造（１）の少なくとも一種の単位、発色団部分を含む構造（２）の少なくとも一種の単位、架橋性部分（３）を含む構造（３）の少なくとも一種の単位、任意選択的に及び該ポリマーを架橋することができる基を含む単位を含むことができ、ここで構造１〜３は以下の式で表すことができる、請求項９に記載の組成物。
【化１】
2016532739.tif 000002
式中、Ｒ１〜Ｒ９は、独立して、水素及びＣ１〜Ｃ４アルキルから選択され；Ｗ１は完全にもしくは部分的にフッ素化された基であり；Ｘは、Ｆ、Ｈ及びＯＨからなる群から選択され；Ｗ２は、発色団基を含む有機部分であり；そしてＷ３Ｙは架橋性部位を含む。
【請求項１１】
電子デバイスを製造する方法であって、
ａ．請求項１〜１０のいずれか一つに記載の組成物を施用して金属酸化物ジカルボキシレートフィルムを形成し、及び
ｂ．コーティングされた基材を加熱して、それによって硬化された金属酸化物フィルムを形成する、
ことを含む、前記方法。
【請求項１２】
加熱ステップの後の金属酸化物フィルムの金属含有率が１０〜８５重量％の範囲である、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
金属が、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｈｆ、Ｔａ、Ｗ、Ｒｅ、及びＩｒからなる群から選択される少なくとも一種の高屈折性金属である、請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
フォトレジストフィルムを、金属フィルム上に形成する、請求項１１〜１３のいずれか一つに記載の方法。
【請求項１５】
フォトレジストフィルムを、約１２ｎｍ〜約２５０ｎｍの範囲の放射線で画像形成し、そして現像してパターンを形成する、請求項１４に記載の方法。
【請求項１６】
加熱ステップが２００℃〜５００℃の範囲である、請求項１１〜１５のいずれか一つに記載の方法。
【請求項１７】
金属がジルコニウムである、請求項１１〜１６のいずれか一つに記載の方法。
【請求項１８】
金属がチタンである、請求項１１〜１６のいずれか一つに記載の方法。
【請求項１９】
加熱ステップの後の金属酸化物フィルムの金属含有率が１０〜７０重量％の範囲である、請求項１１〜１８のいずれか一つに記載の方法。
【請求項２０】
少なくとも一種の金属酸化物ジカルボキシレート及び有機溶媒を含むスピンオン組成物であって、前記金属酸化物ジカルボキシレートが、前記溶媒中で可溶性かまたはコロイド安定性であり、及び前記金属酸化物ジカルボキシレートが、約３０〜約２００秒間の約２００℃〜約３００℃の間の温度での熱処理の間に分解して硬化した金属酸化物フィルムを与えることができ、及び前記金属酸化物ジカルボキシレートがナノパーティクルである、前記スピンオン組成物。
【請求項２１】
少なくとも一種の金属酸化物ジカルボキシレート及び有機溶媒を含むスピンオン組成物であって、前記金属酸化物ジカルボキシレートが、前記溶媒中で可溶性かまたはコロイド安定性であり、及び前記金属酸化物ジカルボキシレートが、約３０〜約２００秒間の約２００℃〜約３００℃の間の温度での熱処理の間に分解して硬化した金属酸化物フィルムを与えることができ、及び有機ポリマー、無機ポリマー及びこれらの混合物からなる群から選択される少なくとも一種のポリマーを更に含む、前記スピンオン組成物。