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(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
蒸気タービンとガスタービンから成る複合プラントにおいて、ガスタービンロータ及び動静翼の冷却空気に供せられる軸流圧縮機からの吐出空気の熱の一部を取り出し、同熱を熱交換器によって復水と熱交換させて低温蒸気を生成し、この低温蒸気をガスタービン燃焼器の尾筒に導いて尾筒冷却に供するとともに、尾筒内の排熱ガスにより加熱させて高温蒸気を生成し、同高温蒸気を蒸気タービンの動力蒸気に供することを特徴とする蒸気、ガスタービン複合プラントの廃熱による蒸気生成システム。
【請求項２】
前記ガスタービン燃焼器の尾筒は尾筒背側中央部から冷却蒸気が供給され、同中央部の上流端又は下流端の一方、或いは両方より蒸気が排出される構造であることを特徴とする請求項１記載の蒸気、ガスタービン複合プラントの廃熱による蒸気生成システム。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】
本発明はガスタービンのロータ、動静翼の冷却に供する空気を予冷した廃熱により蒸気を生成し、その蒸気により燃焼器尾筒を冷却する蒸気生成システムに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
通常蒸気タービン、ガスタービン複合プラントにおいては、ガスタービンからの排気を排熱回収ボイラに導き、その熱を回収して蒸気を発生させ、蒸気タービンを駆動する方式が採用されているが、その他にも全体熱効率向上のために複合プラントに付随する機器の廃熱も極力回収するように意図されている。
図３は従来の複合プラントの系統図で付随機器の廃熱回収の例を示す。図３において軸流圧縮機２１の吐出空気の一部を空気管系２２に導き、空気冷却器２３で冷却してガスタービン２４のロータ及び動静翼の冷却に供する。
空気冷却器２３の冷却水は主蒸気タービン２５の複水器２６から導かれた復水によって行なわれ、復水は空気冷却器２３の吐出空気の熱により昇温して排ガスボイラ２７の蒸気源となる。また空気冷却器２３の冷却水に海水或いは工業用水が供されることもあり、この場合には、吐出空気との熱交換後は、高温廃水として廃棄される。なお、図中２８は復水プンプ、２９はグランド蒸気復水器、３０は煙突、３１は空気フィルターである。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
このような、ガスタービンロータ及び動静翼の冷却空気に供せられる軸流圧縮機の吐出空気の熱は、空気冷却器内で冷却水としての復水の昇温によって回収されるか、乃至は、冷却水の昇温とともに廃棄される。このことは複合プラントの全体効率を低下させており、廃熱の有効利用を考慮する必要がある。
本発明はこのような問題点を解消するためになされたもので、ガスタービン燃焼器の尾筒冷却と蒸気タービンの動力蒸気として吐出空気の熱を利用することのできる蒸気生成システムを提供しようとするものである。
【０００４】
【課題を解決するための手段】
このため本発明は、蒸気タービンとガスタービンから成る複合プラントにおいて、ガスタービンロータ及び動静翼の冷却空気に供せられる軸流圧縮機からの吐出空気の熱の一部を取り出し、同熱を熱交換器によって復水と熱交換させて低温蒸気を生成し、同低温蒸気をガスタービン燃焼器の尾筒に導いて尾筒冷却に供するとともに、尾筒内の排熱ガスにより加熱させて高温蒸気を生成し、同高温蒸気を蒸気タービンの動力蒸気に供するようにしたものであり、また前記ガスタービン燃焼器の尾筒は尾筒背側中央部から冷却蒸気が供給され、同中央部の上流端又は下流端の一方、或いは両方より蒸気が排出されるようにしてなるもので、これを課題解決のための手段とするものである。
【０００５】
【作用】
本発明では軸流圧縮機から燃焼器に吐出される吐出空気の一部を取り出し、これを熱交換器（蒸気発生器）で復水器から送水される復水と熱交換させて低温蒸気を生成させる。
生成された低温蒸気を低温蒸気管を通してガスタービン燃焼器に付属している尾筒に導き、尾筒の冷却に供する。
低温蒸気は、ここで尾筒内の排熱ガスにより加熱されて高温蒸気となる。この高温蒸気を回収し、高温蒸気管を通して主蒸気タービンの動力用蒸気に供する。
【０００６】
【実施例】
以下、本発明の実施例を図１に基づいて説明すると、図１及び図２は本発明の実施例を示し、図１は複合プラントの系統図である。図１において軸流圧縮機１から燃焼器２に吐出される吐出空気の一部を取り出し、これを熱交換器（蒸気発生器）３で復水器４から送水される復水と熱交換させて低温蒸気を生成させる。
生成された低温蒸気を低温蒸気管５を通してガスタービン燃焼器２に付属している尾筒１４に導き尾筒の冷却に供する。また低温蒸気は、尾筒内の排熱ガスにより加熱されて高温蒸気となる。
この高温蒸気を回収し、高温蒸気管６を通して主蒸気タービン７の動力用蒸気に供する。なお、図中８はガスタービン、９は発電機、１０は排ガスボイラ、１１は煙突、１２は復水ポンプ、１３はグランド蒸気復水器、１４は空気フィルターである。
【０００７】
次に図２によって本発明で使用されるガスタービン燃焼器尾筒の概略を説明する。本実施例の尾筒１４は、燃焼ガスにより最も温度の高くなる尾筒背面の中央部１２より冷却蒸気が供給され、同中央部１２の上流端又は下流端１３の一方、若しくは両方の近傍より蒸気が排出される構造となっている。このような構造とすることにより尾筒は効率よく冷却される。
【０００８】
【発明の効果】
以上詳細に説明した如く本発明によれば、従来ガスタービン冷却空気とする交換熱を大気に放出していたものを、低温蒸気生成に利用でき、更に将来のガスタービンの大型化に伴う燃焼器尾筒の冷却を考慮して、同低温蒸気を尾筒冷却に供するとともに、それによって生成される高温蒸気を主蒸気タービンの動力用に供することができ、また軸流圧縮機の吐出空気の熱による復水の低温蒸気化と低温蒸気の尾筒冷却蒸気への転用、加えて燃焼器排熱ガスによる尾筒冷却蒸気の高温蒸気化及び高温蒸気の主蒸気タービンの動力蒸気への適用と連続した組合せによって、悉くの熱の有効利用が考慮されており、複合プラントの全体熱効率の向上に寄与することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施例に係る複合プラントの系統図である。
【図２】本発明に係るガスタービン燃焼器の尾筒の概略図である。
【図３】従来の複合プラントの系統図である。
【符号の説明】
１        軸流圧縮機
２        燃焼器
３        熱交換器（蒸気発生器）
７        主蒸気タービン
８        ガスタービン
９        発電機
１２      中央部
１３      上流端又は下流端
１４      尾筒
【図１】
0003592748.tif 000002
【図２】
0003592748.tif 000003
【図３】
0003592748.tif 000004
(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
非円筒形状軸受中で回転自在な滑らかな表面の円筒形状の水平軸を備えており、
軸受表面（２）が少なくとも３つの頂点（３）を有している浅いシヌソイド波形状であり、この中の１つの波の頂点（３）のみが軸受の中心線（７）に対して平行状態で長手方向に延出している溝（８）を有している、
ことを特徴としている空気軸受（１）。
【請求項２】
軸受（１）が３つまたは５つの波の頂点（３）を有している、ことを特徴としている請求項１に記載の空気軸受。
【請求項３】
複数の波の間の軸受表面（２）が軸受（１）の小さい方の直径（５）上に位置しており、複数の波の頂点（３）が軸受の大きな方の直径（４）上に位置している、ことを特徴としている請求項１または２に記載の空気軸受。
【請求項４】
複数の波の頂点（３）が軸受の中心線（７）の回りで隣接する頂点（３）に対し略120度毎に配置されている、ことを特徴としている請求項１乃至３のいずれか１項に記載の空気軸受。
【発明の詳細な説明】
この発明は空気軸受に関係しており、より詳細には改良された空力学軸受に関係している。
自己作動式空力学軸受は1940年から知られており、２つの間に微小な半径方向隙間を介して滑らかな表面の円筒形状をした軸受に回転自在に支持された滑らかな表面の円筒形状をした水平軸を備えている。軸受中の圧力分布は気体薄層が収斂／発散通路を通過する際の剪断の様子によって変化する。なお収斂／発散通路は軸の重さにより自動的に創出される。
軸の速度が増大するにつれて軸は真の同心状態に向かい移行するが、真の同心状態には決して到達しない。そして或る速度では、回転している軸の中心が軸の回転速度の半分の回転速度で軸受の中心の回りを回転し始めるという重大な不安定現象が突発するという欠点を従来の空気軸受は有している。これにより、軸の回りの圧力分布の歪みを創出していた機構が破壊され、その結果として負荷容量が全体として失われて非常に急速な膠着が生じる。
この発明の目的は、上述した如き従来の欠点を軽減し克服する改良された空気軸受を提供することである。
この発明に従った空気軸受は、非円筒形状の軸受中で回転自在な滑らかな表面の円筒形状の水平軸を備えており、軸受表面が少なくとも３つの頂点を有している浅いシヌソイド波形状であり、この中の１つの波の頂点のみが軸受の中心線に対して平行状態で長手方向に延出している溝を有している。
好ましくは、軸受は３つまたは５つの波を有している。さらには、複数の波の間の軸受表面は軸受の小さい方の直径上に位置し、複数の波の頂点は軸受の大きな方の直径上に位置している、ことが好ましい。
空気軸受の好ましい構造では、複数の波の頂点が軸受の中心線の回りで隣接する頂点に対し略120度毎に配置されている。
実施例
この発明に従った空気軸受の一実施例を例示の為だけに添付の図面を参照しながらこれから記載するが、添付の図面は上記一実施例の概略的な横断面である。
改良された空力学軸受１は非円形状をしており、軸受表面２は垂直平坦面において３つの頂点３を有した浅いシヌソイド波形状の輪郭をしている。３つの頂点３は破線で示されている大きな方の直径の円上に位置しており、３つの頂点３の間の軸受表面２は破線で示されている小さな方の直径の円上に位置している。
円筒形状の軸６は軸受１の中心を通過する中心線７の回りに回転する。３つの頂点３は隣接する頂点に対して略120度毎に配置されている。最上位置の頂点３には軸受１の中心線７に対して平行状態で長手方向に延出している溝８が形成されている。
この改良された軸受１は、空力学軸受システムの操作速度領域の範囲内での軸の回転速度の半分の速度での軸の円運動の不安定を無くしている。この軸受１は、軸の回転速度の半分の速度での軸の円運動の設定を阻止しているとともに、軸と軸受の両者が真円形状をしている通常の空気潤滑軸受と比較すると軸受の剛性が高いという重大な利点を有している。長手方向の溝は軸受の動的な安定性をさらに高めている。
図示の軸受１は、軸受表面に３つの波を有しているが、波の数は例えば５つへも増大することが出来る。
0003592713.tif 000002
(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
アンバーガラス溶融窯で溶融したアンバーガラスに、カララントフォアハースにおいて着色剤としてＣr2Ｏ3を含有しレドックスNo.が−１０〜＋１０のフリットを添加し、ガラス中にＣr2Ｏ3を０．０２〜０．１２wt％含有させることを特徴とする、ガラスの色調がＣＩＥ表示（１０mm換算）で明度Ｙ＝３〜１５％、主波長λd＝５６５〜５８３nm、刺激純度Ｐｅ＝９９％以下の枯葉茶色ガラスの製造方法
【請求項２】
請求項１の製造方法において、前記フリットがＣr2Ｏ3を１〜４wt％含有するものであることを特徴とする枯葉茶色ガラスの製造方法
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、ワインボトル用などとして需要の多い薄い茶色、いわゆる枯葉茶色のガラスの製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来、枯葉茶色のガラスは、還元性ガラスの原材料にクロム酸化物を含有させたバッチをガラス溶融窯で溶融することで製造している。また、ＮｉやＣｒなどを適当な比率で含有するフリットやペレットをカララントフォアハースにおいてフリント（無色透明）ガラスに投入し、枯葉茶に近似した色調のガラスを得ることもできる
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
従来の枯葉茶色のガラスは、所定の配合のバッチをガラス溶融窯で溶融して製造しなければならないから、特に少量生産の場合に製造能率が悪く、コスト高となっていた。
【０００４】
また、ＮｉやＣｒなどを適当な比率で含有するフリットやペレットを、カララントフォアハースにおいてフリント（無色透明）ガラスに投入する方法は、あくまで枯葉茶色に近似した色調であり、かつ、コスト高となる。ガラスのリサイクルの観点から無色透明ガラスを着色するよりアンバーガラスの色相を変化させるほうがリサイクルの推進に貢献することとなる。
【０００５】
本発明は、溶融炉においては所定のバッチにより所定の色調のアンバーガラスを溶融し、その後カララントフォアハースで着色剤を加えることで、枯葉茶色のガラスを容易に製造することを可能にするものである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
本発明は、アンバーガラス溶融窯で溶融したアンバーガラスに、カララントフォアハースにおいて着色剤としてＣr2Ｏ3を含有しレドックスNo.が−１０〜＋１０のフリットを添加し、ガラス中にＣr2Ｏ3を０．０２〜０．１２wt％含有させることを特徴とする、ガラスの色調がＣＩＥ表示（１０mm換算）で明度Ｙ＝３〜１５％、主波長λd＝５６５〜５８３nm、刺激純度Ｐｅ＝９９％以下の枯葉茶色ガラスの製造方法である。
【０００７】
従来、アンバーガラスの溶融窯にカララントフォアハースを接続することは、フリントガラスの場合ほど一般的ではないが、アンバーガラスの溶融窯にカララントフォアハースを接続し、溶融したアンバーガラスにカララントフォアハースで着色剤を添加することで、容易に枯葉茶色のガラスを得ることができる。
【０００８】
ガラス中のＣｒ２Ｏ３の濃度が０．０２％より少ない場合には、ガラスの色調がほとんどアンバー色のみであって、枯葉茶色の特徴である黄味に欠ける。ガラス中のＣｒ２Ｏ３の濃度が０．１２％よりも多い場合には、Ｃｒ３＋の着色が強くなりすぎ、全体的な色味は緑色となる。
【０００９】
着色剤としては、Ｃr2Ｏ3を含有するフリットを用いる。フリットにおけるＣr2Ｏ3の含有量は１〜４wt％程度が好ましい。含有量が１wt％よりも少ない場合には、ガラス中へのフリットの添加率が多くなりすぎ、製造条件が困難になる。含有量が４wt％よりも多いときにはクロムの結晶物が析出し、フリットがガラス化しなくなる。
【００１０】
フリットを用いる場合には、その還元度を素地のアンバーガラスとほぼ同じ（レドックスＮｏ．で±１０以内程度）とし、泡の発生を防ぐことが望ましい。着色剤を加えた後の色調は、クロム濃度が高いほど、また、還元度が高いほど明度（Ｙ％）は高く主波長（λｄ）は短波長側となるので、クロム濃度と還元度を調整することで所望の枯葉茶色を得ることができる。還元度を調整するには、フリットにコークスやクロマイト（クロム鉄鋼）などの還元剤をを適当量加えればよい。
【００１１】
【発明の実施の形態】
（実施例１〜５）
表１に示すように、Ｃｒ２Ｏ３濃度がほぼ等しく、還元度（レドックスＮｏ．）の異なるフリット１〜フリット４の４種のフリットを作成した。フリットの還元度は重クロム酸カリとクロマイト（クロム鉄鋼）の割合を変えることにより調整した。クロマイトの割合を多くすると還元度が大きくなる。すなわち、フリット１からフリット４にかけて、次第に重クロム酸カリが減少し、クロマイトが増加する配合となっている。
【表１】
0003592577.tif 000002
【００１２】
溶融窯で溶解したアンバーガラスに、カララントフォアハースにおいて、フリット１〜フリット４を表２に示す割合で添加し、ガラス中のＣr2Ｏ3濃度が０．０２wt％、０．０４wt％又は０．０６wt％となるように実施例、及び、比較例１〜６のガラスを作成した。素地となるアンバーガラスのカレットを溶融したガラスの色調は、明度Ｙ＝５．１％、主波長λd＝５９０nm、刺激純度Ｐｅ＝９９．５％（１０mm換算）であった。これら実施例、及び、比較例１〜６のガラスの色調（１０mm換算）を表３に示す。
【表２】
0003592577.tif 000003
【表３】
0003592577.tif 000004
【００１３】
表３を見るとわかるように、Ｃr2Ｏ3濃度が同じ場合は還元度が高くなるほど、還元度が同じ場合にはＣr2Ｏ3濃度が高くなるほど主波長が短くなって、かつ、色が薄くなる。つまり、明度（Ｙ％）が高くなる傾向がある。実施例、比較例２〜５の場合はいずれも所望の枯葉茶色の色調となっている。比較例１の場合は主波長がやや長く、所望の枯葉茶色とはいえない。なお、実施例及び比較例２のガラスについては、光の波長と透過率の関係を調べたので、その結果の透過率曲線を図１に示す。
【００１４】
本発明においては、素地となるアンバーガラスに、その色調や還元度に応じて、特許請求の範囲に記載した範囲内における適宜量のＣr2Ｏ3を含有するフリットを混入し、ガラス中にＣr2Ｏ3を０．０２〜０．１２wt％含有させることで、容易に所望の枯葉茶色のガラスを得ることができる。
【００１５】
【発明の効果】
本発明においては、溶融したアンバーガラスに、カララントフォアハースで着色剤を加えることで所望の枯葉茶色のガラスを製造できるので、バッチを変えることなく、容易に枯葉茶色のガラスを製造でき、少量生産の場合であっても製造能率がよく、製造コストも下げることができる。
【００１６】
また、バッチを溶融窯で溶融して枯葉茶色のガラスを製造する場合、ガラスの色調が所望のものと異なる場合があるが、本発明はカララントフォアハースで着色剤を添加するものであるから、所望の色調に容易に補正することが可能である。
【００１７】
また、バッチを溶融窯で溶融して枯葉茶色のガラスを製造する場合、ガラスの色調が所望のものと異なる場合があるが、本発明はカララントフォアハースで着色剤を添加するものであるから、所望の色調に容易に補正することが可能である。
【図面の簡単な説明】
【図１】実施例及び比較例２のガラスの透過率曲線の説明図である。
【図１】
0003592577.tif 000005
(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
一般式（化１）
【化１】
0003592534.tif 000015
［ただし、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6およびＲ7は水素原子またはハロゲン原子で部分的に置換または非置換の一価炭化水素基、ａは１または２］で示される有機けい素化合物。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は文献未収載の新規な有機けい素化合物に関するものであり、ポリマー末端等にＳｉ−Ｈ基を有するシリルフェニル基を導入するための原料として有用な有機けい素化合物に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来ポリマー末端等にＳｉ−Ｈ基を有するシリルフェニル基を導入するための安価な即ち工業的に有利な原料はなかった。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
前記の目的のために工業的に有利な原料を得ることを課題とする。
【０００４】
【課題を解決するための手段】
一般式（化２）
【化２】
0003592534.tif 000002
［ただし、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6およびＲ7は水素原子またはハロゲン原子で部分的に置換または非置換の一価炭化水素基、ａは１または２］で示される有機けい素化合物。
【０００５】
【発明の実施の形態】
本発明の有機けい素化合物は一般式（化１）で示される。
本発明における有機けい素化合物のＲ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6およびＲ7のハロゲン原子で部分的に置換または非置換一価炭化水素基としてはメチル基、エチル基、プロピル基などのアルキル基；シクロヘキシル基などのシクロアルキル基；ビニル基、アリル基などのアルケニル基；フェニル基、トリル基などのアリール基あるいはこれらの基の水素原子が部分的にハロゲン原子で置換された基である。
【０００６】
次に本発明の有機けい素化合物を（化３）〜（化８）で例示するが、これらは例であり、本発明の有機けい素化合物はこれらに限定されるものではない。以下の各化学式においてメチル基はＭｅ、フェニル基はＰｈと略記する。
【化３】
0003592534.tif 000003
【化４】
0003592534.tif 000004
【化５】
0003592534.tif 000005
【化６】
0003592534.tif 000006
【化７】
0003592534.tif 000007
【化８】
0003592534.tif 000008
【０００７】
本発明の有機けい素化合物の合成法について以下に説明する。
例えば一般式（化９）または（化１０）のシリル化ジハロアニリン誘導体をマグネシウムと反応させ、グリニヤ試薬を調製し、トリオルガノクロロシランと反応させることにより、本発明の化合物を合成することができる。この反応において溶剤としてＴＨＦ等のエーテル系溶剤を使用する必要があり、反応温度は４０〜７０℃が好ましい。ここでＸはハロゲン原子である（以下同様）。
【化９】
0003592534.tif 000009
【化１０】
0003592534.tif 000010
【０００８】
本発明の化合物は、ポリマー末端に反応性シリル基を導入するための中間体として有用である。本発明の化合物を末端に導入したポリマーは、ビニル基を有する化合物との白金触媒によるヒドロシリル化反応により硬化物を得ることができる。この硬化物はポリマーの分子量により樹脂、エラストマー、ゲル状物の形態にすることが可能である。これら硬化物は接着剤、ゲル、シーリング材、コーティング材、離型剤などに有用である。
【０００９】
【実施例】
次に、本発明の実施例を挙げる。
（実施例１）
撹拌機、温度計、ジムロート、滴下ロートを備えた  １，０００ｍｌの四つ口フラスコにマグネシウム粉末  ２６．７ｇ、テトラヒドロフラン５００ｇおよびヨウ素  ０．０５ｇを仕込み加熱しながら下記一般式（化１１）
【化１１】
0003592534.tif 000011
で示されるシリル化ジクロロアニリン２４７ｇを滴下ロートから滴下し、６０〜７０℃／２４時間、反応させることによりグリニヤ試薬を調製した。次いでこれを室温まで冷却した後、ジメチルクロロシラン  ９４．６ｇを滴下ロートから滴下した。次いで６０〜７０℃で２時間熟成した後、生成したマグネシウム塩をろ過し、ろ液を減圧蒸留したところ、沸点  １２４〜  １２６℃／４ｍｍＨｇの留分  ６８．６ｇが得られた。この留分を  １Ｈ−ＮＭＲおよびＩＲにより分析したところ、下記化合物（化１２）であることが確認された。
【化１２】
0003592534.tif 000012
【００１０】
１Ｈ−ＮＭＲ分析結果
δ０．２５（ｓ，Ｎ−Ｓｉ−ＣＨ３  ：９Ｈ）
δ０．３５（ｓ，Ｃ−Ｓｉ−ＣＨ３  ：６Ｈ）
δ３．００（ｓ，Ｎ−ＣＨ３  ：３Ｈ）
δ４．４８（ｍ，Ｓｉ−Ｈ：１Ｈ）
δ６．７  〜  ７．１（ｍ，ａｒｏｍ：３Ｈ）
［赤外線吸収スペクトル］
１５８１．３４ｃｍ−１    にａｒｏｍに由来する特性吸収
２１２１．３１ｃｍ−１    にＳｉ  Ｈに由来する特性吸収が各々認められた。
【００１１】
次に撹拌機、温度計、ジムロート、滴下ロートを付した  ５００ｍｌ四つ口フラスコにマグネシウム粉末６．８ｇ、テトラヒドロフラン１５０ｇおよびヨウ素  ０．０２ｇを仕込み、加熱しながら前記で得られた留分  ６８．６ｇを滴下ロートより滴下し、７０℃／３６時間反応させることによりグリニヤ試薬を調製した。室温まで冷却した後、ジメチルクロロシラン  ２６．５ｇを滴下ロートより滴下した。７０℃で３時間熟成した後、生成したマグネシウム塩をろ過し、ロ液を減圧蒸留したところ、沸点  １２９〜  １３１℃／３ｍｍＨｇの留分  ２４．９ｇ（収率：１０．１％）が得られた。この留分を  １Ｈ−ＮＭＲ、ＩＲおよび元素分析により分析したところ、下記化合物（化１３）であることが確認された。
【化１３】
0003592534.tif 000013
【００１２】
（  １Ｈ−ＮＭＲ分析結果）
δ０．４５（ｓ，Ｎ−Ｓｉ−ＣＨ３  ：９Ｈ）
δ０．５５（ｓ，Ｃ−Ｓｉ−ＣＨ３  ：１２Ｈ）
δ３．１０（ｓ，Ｎ−ＣＨ３  ：３Ｈ）
δ４．４  〜  ４．７（ｍ，Ｓｉ−Ｈ：２Ｈ）
δ７．１  〜  ７．３（ｍ，ａｒｏｍ：３Ｈ）
［赤外線吸収スペクトル（図１）］
１５６７．８４  ｃｍ−１  にａｒｏｍに由来する特性吸収
２１１７．４６  ｃｍ−１  にＳｉ  Ｈに由来する特性吸収が各々認められた。
0003592534.tif 000014
実測値、理論値ともＣ：Ｈ：Ｎ：Ｓｉ＝１４：２９：１：３であり、これはＣ１４Ｈ２９ＮＳｉ３であった。以上の分析結果から（化１３）で示される構造式であることが確認された。
【００１３】
【発明の効果】
本発明の文献未収載の新規な有機けい素化合物はポリマー末端等に、Ｓｉ−Ｈ基を有するシリルフェニル基を導入するための安価で有用な原料である。
【図面の簡単な説明】
【図１】実施例で合成した本発明の文献未収載の新規な有機けい素化合物の１例である（化１３）の赤外吸収スペクトルのチャートである。
【図１】
0003592534.tif 000016
(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
筒部に平面状の頂部が一体に成形された略盆状であり、頂部の表面にマークが打刻され、筆記具の軸筒やキャップの尾端に嵌着される金属製の筆記具用蓋栓において、
前記筒部の内面先端部分にテーパー部が形成され、底面にマークが形成されたポンチを下降させて頂部にマークを打刻するために、前記蓋栓を円柱状のベースに被せた際、前記筒部の内面先端とポンチの周面との間に０．１ｍｍ程度の微小な隙間ができることを特徴とする筆記具用蓋栓。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
本発明は、筆記具の軸筒やキャップの尾端に嵌着される金属製の筆記具用蓋栓に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
筆記具、ことに軸筒やキャップが金属で成形された高級筆記具は、軸筒やキャップの尾端に略盆状をした金属製の蓋栓が嵌着されることが多く、これにより高級感を出しやすい利点がある。そして、蓋栓の頂部に商標などのマークが打刻されることがある。
【０００３】
金属製の蓋栓の頂部に商標などのマークが打刻する方法は図４に示すとおりである。すなわち、円柱状のベースＢに、筒部１１に頂部１２が一体に成形された略盆状の蓋栓１を被せて位置決めする。そして、底面にマークが形成されたポンチＰを下降させて頂部１２にマークを打刻する。ここで、ベースＢとポンチＰの軸線は正確に一致している。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、蓋栓の頂部表面にマークを打刻するとき、マークの中心と頂部の中心を一致させる必要がある。もし、マークの中心が頂部の中心から少しでもずれると、見た目に見苦しく、筆記具の商品価値が著しく低下する。このため、蓋栓１を円柱状のベースＢに被せるとき、筒部の内周面とベースＢの外周面とのクリアランスを極力小さくしてベースＢの軸線の直角方向の位置決めを正確にする必要がある。
【０００５】
しかし、ポンチＰで頂部１２にマークを打刻した時、蓋栓の筒部の内周面とベースＢの外周面とのクリアランスを小さくすると、ポンチＰで打刻した反動で筒部がベースＢを強く締め付け、蓋栓をベースＢから抜き取る作業が困難になることが判明した。
【０００６】
そこで本発明は、マークの中心と頂部の中心を一致させることができるとともに、ベースＢから容易に抜き取ることが可能な筆記具用蓋栓を提供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
かかる目的を達成するために、本発明は、筒部に平面状の頂部が一体に成形された略盆状であり、頂部の表面にマークが打刻され、筆記具の軸筒やキャップの尾端に嵌着される金属製の筆記具用蓋栓において、筒部の内面先端部分にテーパー部を形成し、底面にマークが形成されたポンチを下降させて頂部にマークを打刻するために、蓋栓を円柱状のベースに被せた際、蓋栓の筒部の内面先端とポンチの周面との間に０．１ｍｍ程度の微小な隙間ができるようにする。すなわち、ポンチで蓋栓の頂部にマークを打刻した時、その反動で蓋栓の筒部、とりわけ筒部の先端部が少し縮径することを見出し、筒部の内面先端とポンチの周面との間に０．１ｍｍ程度の微小な隙間を形成することにより本発明を完成した。
【０００８】
【発明の実施の形態】
以下に、図面に基づいて本発明の実施の形態を具体的に説明する。図１は、本発明の蓋栓を軸筒の尾端に嵌着した回転繰出式ボールペンを示すが、キャップの尾端に嵌着するものであってもよい。。図１において、金属製の軸筒２の先端に同じく金属製の前軸３が回転自由に接続されており、これを正逆回転することにより、ボールペンのペン体部４が前軸３の先端開口３１から出没する。また、軸筒２の尾端に蓋栓１が嵌着されている。そして、蓋栓１の頂部１２表面には、図２に示すように、マークＭが打刻されている。
【０００９】
蓋栓１は、金属製、例えばステンレス製であり、図３に示すように、外面が円弧状の筒部１１と平面状の頂部１２が一体に成形された略盆状体である。筒部１１の外周の直径は約１０ｍｍであり、高さは約３ｍｍである。筒部１１の内周面１４は、マークＭを頂部１２の表面に打刻するために、ベースＢに蓋栓１を被せたときにベースＢの外周面に接触して位置決めの機能を果たすが、内周面１４の奥底部には段部１５が形成されており、軸筒１２の尾端に嵌着したときに、軸筒１２側の係止部（図示せず）が段部１５に係合して抜け落ちないようになっている。
【００１０】
そして、筒部１１の内面先端部にテーパー部１３が形成されている。テーパー部１３の高さＨは例えば０．４ｍｍであり、幅Ｌ（内周面１４の内径と筒部１１開口の内径の差の１／２）は例えば０．１ｍｍである。本願発明の目的を達成するためには、テーパー部１３の幅Ｌは０．１ｍｍ程度で十分である。一方、テーパー部１３の高さＨを大きくすると、ベースＢに蓋栓１を被せたときにベースＢの外周面に接触して位置決めの機能を果たす内周面１４の長さが短くなり、この機能を十分には果たしにくくなる。従って、内周面１４は、その位置決め機能を完全に果たせるだけの長さを確保する必要がある。
【００１１】
しかして、マークＭを頂部１２の表面に打刻するために、図４に示すように、ベースＢに蓋栓１を被せるが、このとき、蓋栓１の内周面１４はベースＢの外周面に接触し、蓋栓１の頂部１２の中心とポンチＰの軸線が一致する。そして、ポンチＰを下降させて頂部１２の表面にマークＭを打刻すると、マークの中心と頂部の中心が一致する。また、打刻する反動で筒部１１の先端部が幾分縮径するが、筒部１１の内面先端部にテーパー部１３が形成されているので、筒部１１の内面先端部がベースＢを締め付けることがない。従って、マークＭを打刻した後に、蓋栓１をベースＢから容易に抜き取ることができる。
【００１２】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明は、筒部に平面状の頂部が一体に成形された略盆状であり、頂部の表面にマークが打刻され、筆記具の軸筒やキャップの尾端に嵌着される金属製の筆記具用蓋栓において、筒部の内面先端部分にテーパー部を形成し、底面にマークが形成されたポンチを下降させて頂部にマークを打刻するために、蓋栓を円柱状のベースに被せた際、蓋栓の筒部の内面先端とポンチの周面との間に０．１ｍｍ程度の微小な隙間ができるようにしたので、マークの中心と頂部の中心を一致させることができるとともに、ベースＢから容易に抜き取ることが可能な筆記具用蓋栓とすることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の蓋栓を軸筒の尾端に嵌着した筆記具の説明図である。
【図２】マークＭの説明図である。
【図３】蓋栓の断面図である。
【図４】マークＭの打刻方法の説明図である。
【符号の説明】
１    蓋栓
１１    筒部
１２    頂部
１３    テーパー部
１４    筒部の内周面
１５    段部
２    軸筒
３    前軸
３１    前軸の先端開口
４    ボールペンのペン体部
Ｐ    ポンチ
Ｂ    ベース
Ｍ    マーク
【図１】
0003592110.tif 000002
【図２】
0003592110.tif 000003
【図３】
0003592110.tif 000004
【図４】
0003592110.tif 000005
(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
真空容器にシリコン原料ガスと酸素含有ガスを導入し、シリコン基板の所定部位にシリコン酸化膜を作製する方法において、電子線のエネルギーを１００〜１０００ｅＶで、かつ電流密度を０．０１ｍＡ／ｃｍ２  〜１０００Ａ／ｃｍ２  の範囲に調整し、ビーム径を１０オングストローム〜１ｍｍの範囲に絞った電子線を走査するか、前記基板を移動してシリコン酸化膜作製部位に照射し、シリコン酸化膜を形成することを特徴とするシリコン酸化膜の作製方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】
本発明は、シリコン基板の所定部位にシリコン酸化膜を作製する方法に関し、具体的には、電解効果トランジスタのゲート酸化膜、素子間分離用のアイソレーション膜、外界からの素子保護用パッシベーション膜等、半導体デバイスに使用するシリコン酸化膜の作製方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来、シリコン基板上にシリコン酸化膜を形成する方法として、熱酸化法が知られている。熱酸化法には、▲１▼スチーム酸化、▲２▼ドライ酸化、▲３▼ウエット酸化などがあるが、いずれもシリコン基板表面のシリコンと酸素分子との熱反応により、基板全面に酸化膜を形成する方法である。図３は、従来の熱酸化法で作製されたシリコン酸化膜の断面を示した図である。シリコン基板１を加熱装置３で加熱して基板全面にシリコン酸化膜２を作製する様子を示したものである。
【０００３】
上記の熱酸化法では、成膜速度を上げるために基板温度を１０００℃以上に加熱して酸化膜を形成しているが、半導体集積回路の高集積化に伴い、上記の加熱は他の成長膜の特性を変化させる恐れが高く、低温の成膜法が要望されていた。そこで、紫外線をシリコン基板及び原料ガスに照射してそれぞれを励起して低温でシリコン基板を形成する方法が提案された。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、上記の酸化膜形成方法では、基板全面に酸化膜が形成されるため、半導体デバイスを構成するためには、別途リソグラフィやエッチング等の工程が必要になる。また、上記工程は、成長膜の不純物混入の原因となり、膜質を劣化させる恐れがあるため、デバイス作製において問題となる。
【０００５】
そこで、本発明は、上記の欠点を解消し、基板を高温にさらすことなく、シリコン基板表面の所望領域だけに成膜することができるシリコン酸化膜の作製方法を提供しようとするものである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
本発明は、真空容器にシリコン原料ガスと酸素含有ガスを導入し、シリコン基板の所定部位にシリコン酸化膜を作製する方法において、電子線のエネルギーを１００〜１０００ｅＶで、かつ電流密度を０．０１ｍＡ／ｃｍ２  〜１０００Ａ／ｃｍ２  の範囲に調整し、ビーム径を１０オングストローム〜１ｍｍの範囲に絞った電子線を走査するか、前記基板を移動してシリコン酸化膜作製部位に照射し、シリコン酸化膜を形成することを特徴とするシリコン酸化膜の作製方法である。
【０００７】
【発明の実施の形態】
図１は、本発明の方法を実施するための成膜装置の概念図である。まず、真空容器５内の移動ステージ１０上にシリコン基板１を設置し、高真空に排気した後、シリコン基板１の背面を加熱装置３で必要に応じて加熱し、次に、真空容器５内にシラン系ガス１１をノズル１２から、酸素含有ガス１３をノズル１４からそれぞれ導入する。電子線４は、電子銃６を構成するブランキング装置８のアパーチャー９を通過した後、偏向電極７により走査させ、シリコン基板１の所定の領域に照射することによって、該領域にシリコン酸化膜２を堆積する。
【０００８】
本発明における電子線の照射条件としては、電流密度が０．０１ｍＡ／ｃｍ２  〜１０００Ａ／ｃｍ２  、好ましくは０．１ｍＡ／ｃｍ２  〜１００Ａ／ｃｍ２  、より好ましくは０．１Ａ／ｃｍ２  〜１０Ａ／ｃｍ２  の範囲で選択することにより、電子線を走査させながら描画する際の成膜速度を速くし、膜質を向上させることができる。
【０００９】
また、電子線のエネルギーは、１００〜１０００ｅＶの範囲で選択することにより、成長膜に影響を与えることなく、成膜速度を速くし、膜質を向上させることができる。
電子線の照射角は任意の方向で良い。基板に垂直であれば基板表面の凹凸によらず、電子線のプロファイルに応じた均一な酸化膜が得られる。基板に斜めに入射すると、照射角度を基板と水平に近い角度とし、ビームを偏向することによりバッシベーション膜等の大面積酸化膜を作製することができる。
【００１０】
真空容器に原料ガスを導入するときの圧力は、１０−４〜１０−６Ｔｏｒｒ、好ましくは５×１０−６〜５×１０−５Ｔｏｒｒの範囲が、成膜速度を速くし、良質の膜を得るのに適している。
シリコン基板の温度は、室温から２００℃の範囲で選択すると、成膜速度が速く、良質の膜が得られる。
【００１１】
本発明では、電子線のビーム径を１０オングストローム〜１ｍｍの範囲に絞ることにより、所望形状の部位にシリコン酸化膜を容易に作製することができる。
【００１２】
シリコン原料ガスとしては、ＳｉＨ４  ，Ｓｉ２  Ｈ６  ，Ｓｉ２  Ｈ２  Ｃｌ４  などを使用することができ、また、酸素含有ガスとしては、Ｏ２  ，Ｎ２  Ｏ，ＮＯ等を使用することができる。シリコン原料ガスと酸素含有ガスの混合比は、Ｏ／Ｓｉの原子比で０．１〜１０、好ましくは１〜４、特に好ましくは１．５〜２．５の範囲が適している。
【００１３】
【実施例】
図１の成膜装置を用いてシリコン基板の表面にシリコン酸化膜を形成した。まず、シリコン基板を設置し、真空容器を２．０×１０−１０  Ｔｏｒｒに真空排気した後、Ｓｉ２  Ｈ６  を１．２×１０−５Ｔｏｒｒ、Ｏ２  を６×１０−６Ｔｏｒｒとなるように導入した。基板温度は室温とした。電子線は、エネルギーを１０００ｅＶ、電流密度を０．２ｍＡ／ｃｍ２  とし、ビーム径を０．５ｍｍとして走査しながらシリコン基板上に垂直に照射して図２の描画パターンに沿ってシリコン酸化膜を形成した。描画パターンは、直径０．５ｍｍの点描画１５、幅０．５ｍｍの線走査１６及び３ｍｍ×４．４ｍｍの面走査１７からなり、それぞれの成膜時間は、３０分間、４時間及び４時間とした。得られた膜厚は、それぞれ２５００オングストローム、３００オングストローム及び１００オングストロームであった。
【００１４】
【発明の効果】
本発明は、上記の構成を採用することにより、次のような効果を得ることができる。
▲１▼本発明の電子線を走査することにより、任意形状のシリコン酸化膜をシリコン基板上に描画することができるため、従来法におけるリソグラフィやエッチング工程を省略することが可能になった。
▲２▼シリコン基板を室温か比較的低温で成膜することができるため、他の成長膜の損傷を防止することが可能になった。
▲３▼高真空中で成膜することができるので、不純物濃度の少ない優れたシリコン酸化膜の作製が可能になった。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の方法を実施するための成膜装置の概念図である。
【図２】実施例で成膜した酸化膜パターン図である。
【図３】従来の熱酸化法による酸化膜作製状況を説明するための説明図である。
【図１】
0003592806.tif 000002
【図２】
0003592806.tif 000003
【図３】
0003592806.tif 000004
(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
ホルダ−１の先部に略湾曲状とされた両側一対の受片２が所定間隔をおいて並設され、該受片２間には略半円形状の可動刃４が嵌合自在に軸着され、該可動刃４はその弧状外周縁に沿って鋸歯状刃体６が形成され、可動刃４には流体圧シリンダ８が接続され、上記受片２の基端部には各々固定掴持片３が立設されると共に、該固定掴持片３に対応すべく可動刃４の背部に掴持部７が形成されてなることを特徴とする、廃材用切断装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、主として木製廃材を切断せしめるさいに使用する廃材用切断装置に関する。
【０００２】
従来より、廃材の切断装置としては、出願人等が先に開示した金属製廃材などの切断装置（実公昭６３−４８３４０号公報、実公平６−４１７７６号公報、実公平７−５００９５号公報、特許第３０５６０６９号公報等参照）が知られている。
そして、かかる切断装置は、直線状とされた一対の固定刃と可動刃とが軸を介してスリ合せ自在に軸着されると共に、可動刃の基端部に流体圧シリンダが連結された基本構成よりなり、流体圧シリンダの作動により可動刃を固定刃にスリ合せて金属製廃材などを切断せしめるものとされている。
【０００３】
ところで、上述のごとく構成された従来例は、固定刃と可動刃とが各々直線状に形成されているから、物理的・機械的強度が大な金属製廃材を確実に切断せしめることが出来る反面、金属製廃材に比して物理的・機械的強度の劣る木製廃材を切断せしめるさいにはその性状に起因して確実なる切断がしずらいものである。
【０００４】
本発明は、かかる従来例の問題点を一挙に解決し、主として木製廃材を確実に切断せしめることが出来るのみならず、被切断物等を掴持して移動せしめることが出来る、廃材用切断装置を提供しようとするものである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
即ち、請求項１記載の発明は、ホルダ−１の先部に略湾曲状とされた両側一対の受片２が所定間隔をおいて並設され、該受片２間には略半円形状の可動刃４が嵌合自在に軸着され、該可動刃４はその弧状外周縁に沿って鋸歯状刃体６が形成され、可動刃４には流体圧シリンダ８が接続され、上記受片２の基端部には各々固定掴持片３が立設されると共に、該固定掴持片３に対応すべく可動刃４の背部に掴持部７が形成されてなることを特徴とする、廃材用切断装置を要旨とするものである。
【０００６】
そして、本発明のかかる廃材用切断装置は、両側の受片２に木製廃材などの被切断物Ａを横架状に保持せしめつつ、流体圧シリンダ８の作動により刃体６が鋸歯状とされた可動刃４を受片２間に嵌合せしめ、鋸歯状刃体６を被切断物Ａに食込ませてその逃げを防止せしめつつ確実に切断せしめることが出来るのみならず、流体圧シリンダ８の作動により可動刃４を介して掴持部７を固定掴持片３方向に可動せしめ、固定掴持片３との間に所要の被切断物Ａやその切断片などを掴持せしめることが出来るものである。
【０００７】
【発明の実施の形態】
以下に、本発明の実施例の形態を図面に示す一実施例に基づいて説明する。
図１及び図２は本発明の一実施例を示すもので、同図中、１は後記するパワ−ショベル１０の多関節ア−ム１１に取付け自在とされたホルダ−、２は該ホルダ−１の先部に所定間隔をおいて並列状に取付けられた両側一対の湾曲状受片、３は該両側の受片２に各々対向すべくその基端がわに一体に立設された湾曲状の固定掴持片である。４は両側受片２の中間部位に軸５を介して嵌合自在に軸着された略半円形状の可動刃、６は該可動刃４の弧状外周縁に沿って所定ピッチ毎に形成された鋸歯状の刃体、７は前記固定掴持片３に対向すべく該可動刃４の背部に切欠き形成された湾曲状の掴持部、８は可動刃４を可動せしめるべくその背部下端に取付け部材９を介して連結された油圧シリンダで、該油圧シリンダ８の基端部は受片２の基端部に枢着されている。その他、１０はパワ−ショベル、１１は該パワ−ショベル１０を構成する旋回・屈曲自在な多関節ア−ム、Ａは木製廃材などの被切断物を示す。
【０００８】
上述のごとく構成された切断装置は、図３に示すように、パワ−ショベル１０の多関節ア−ム１１先部に所要の取付け部材を介して取付け、所要の被切断物Ａを切断せしめる。
即ち、図４に示すように、油圧シリンダ８の作動により軸５を支点として可動刃４を開作動せしめ、両側の受片２間に被切断物Ａを横架状に保持せしめる。しかるのち、油圧シリンダ８の作動により刃体６が鋸歯状とされた可動刃４を閉作動せしめて受片２内に嵌合せしめ、鋸歯状刃体６を被切断物Ａに食込ませてその逃げを防止せしめつつ切断せしめる。このさい、被切断物Ａを受片２内に保持せしめつつ可動刃４により切断せしめるものであるから、木製廃材などの切断を常に確実に行なうことが出来る。
【０００９】
また、上述のごとく構成された切断装置は、被切断物Ａの切断のみならず、被切断物Ａやその切断片などを掴持せしめて移動せしめることが出来る。
即ち、図５に示すように、流体圧シリンダ８の作動により軸５を支点として可動刃４を閉作動せしめることにより掴持部７と固定掴持片３との間を拡開せしめる。しかるのち、被切断物Ａやその切断片などに固定掴持片３を当てがいつつ、油圧シリンダ８の作動により可動刃４を開作動せしめることにより掴持部７と固定掴持片３との間に掴持せしめ、所要の場所に移動せしめるものである。
【００１０】
なお、上記実施例において、可動刃４は油圧シリンダ８により作動せしめるものとされているが、エアシリンダなどの流体圧シリンダを採用してもよいものである。
【００１１】
【発明の効果】
請求項１記載の発明によれば以上の次第で、ホルダ−１の先部に略湾曲状とされた両側一対の受片２が所定間隔をおいて並設され、該受片２間には略半円形状の可動刃４が嵌合自在に軸着され、該可動刃４はその弧状外周縁に沿って鋸歯状刃体６が形成され、可動刃４には流体圧シリンダ８が接続され、上記受片２の基端部には各々固定掴持片３が立設されると共に、該固定掴持片３に対応すべく可動刃４の背部に掴持部７が形成されているから、両側の受片２間に被切断物Ａを横架状に保持せしめつつ、流体圧シリンダ８の作動により刃体６が鋸歯状とされた可動刃４を受片２内に嵌合せしめ、鋸歯状刃体６を被切断物Ａに食込ませてその逃げを防止せしめつつ確実に切断せしめることが出来るものであって、特に木製廃材などの被切断物Ａを確実に切断せしめることが出来るのみならず、流体圧シリンダ８の作動により可動刃４を介して掴持部７を可動せしめ、固定掴持片３との間に被切断物Ａやその切断片などを確実に掴持して所要の場所に移動せしめることが出来るものである。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施例を示す斜視図である。
【図２】図１の平面図である。
【図３】実施例をパワ−ショベル１０に取付けた状態を示す側面図である。
【図４】被切断物Ａの切断状態を示す一部破砕断面図である。
【図５】被切断物Ａなどの掴持状態を示す側面図である。
【符号の説明】
１  ホルダ−
２  受片
３  固定掴持片
４  可動刃
６  刃体
７  掴持部
８  油圧シリンダ
Ａ  被切断物
【図１】
0003553514.tif 000002
【図２】
0003553514.tif 000003
【図３】
0003553514.tif 000004
【図４】
0003553514.tif 000005
【図５】
0003553514.tif 000006
(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
ワークを配置するテーブルと、
スキージを用いて上記テーブルに配置されたワークにスクリーン印刷をおこなう印刷部と、
上記印刷部と上記テーブルとの間に配置され、印刷領域に空間を持つようにリング状に形成され、自己の内周に沿って上記印刷部を回転可能に取り付ける印刷部取り付け機構と
を備えたことを特徴とするスクリーン印刷装置。
【請求項２】
上記印刷部取り付け機構は、上記印刷部の印刷可能領域の略中央を中心として上記印刷部を回転可能にしていることを特徴とする請求項１記載のスクリーン印刷装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は、印刷方向を変えることができるスクリーン印刷装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来のスクリーン印刷装置のスキージの移動方向は、スクリーン印刷装置に対して固定されている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
スクリーン製版のパターン形状、或いは、ワークの形状によっては、印刷方向を変えて行った方が印刷結果が向上する場合がある。
【０００４】
この発明は、印刷方向を自由に変えることができるスクリーン印刷装置を提供することを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
この発明に係るスクリーン印刷装置は、ワークに対してスクリーン製版を用いてスクリーン印刷するスクリーン印刷装置において、
スクリーン印刷の印刷方向を変更可能にしたことを特徴とする。
【０００６】
上記スクリーン印刷装置は、
ワークを搬出入する基台と、
スキージを有する印刷部と、
上記印刷部の取り付け方向を変更可能にして上記印刷部を上記基台に対して取り付ける印刷部取り付け機構と
を備えたことを特徴とする。
【０００７】
上記印刷部取り付け機構は、上記印刷部を上記基台に対して回転可能に取り付ける回転機構を備えたことを特徴とする。
【０００８】
上記回転機構は、上記印刷部の印刷可能領域の略中央を中心として上記印刷部を回転可能にしていることを特徴とする。
【０００９】
上記印刷部取り付け機構は、上記印刷部の取り付け方向を変更可能にして上記印刷部を上記基台に対して装着する装着機構を備えたことを特徴とする。
【００１０】
上記スクリーン印刷装置は、更に、
上記スクリーン製版の取り付け方向を変更可能にしてスクリーン製版を上記基台に対して取り付けるスクリーン製版取り付け機構を備えたことを特徴とする。
【００１１】
【発明の実施の形態】
実施の形態１．
図１のスクリーン印刷装置は、印刷部９１と印刷部取り付け機構９８と基台９９から構成されている。印刷部９１には、版固定治具８１、版固定治具８２を用いてスクリーン製版９５が取り付けられている。また、印刷部９１には、スキージ９６とスクレッパ９７とが矢印Ｙ方向に移動可能に取り付けられている。矢印Ｙの方向が印刷方向である。印刷部９１は、印刷部取り付け機構９８に対して、Ｃを中心として回転可能に取り付けられている。印刷部取り付け機構９８は、回転支持ドーナツ板５５を有している。回転支持ドーナツ板５５は、支持柱５１と支持柱５２に対して固定ボルト６１と固定ボルト６２により固定されている。支持柱５１と支持柱５２は、基台９９に固定されている。基台９９は、テーブル９４を有している。テーブル９４には、矢印Ｘの方向から長尺ワーク９３が搬入され、搬出されていく。
【００１２】
図２は、印刷部取り付け機構９８の平面図である。
回転支持ドーナツ板５５は、印刷領域に空間を持つリング状の形状をしている。回転支持ドーナツ板５５は、固定ボルト６１〜固定ボルト６４により支持柱５１〜支持柱５４に固定されている。印刷部９１には、回転ローラ７１〜回転ローラ７４が回転支持ドーナツ板５５の内周に接するように取り付けられている。印刷部９１は、回転支持ドーナツ板５５の上に乗せられ、回転ローラ７１〜回転ローラ７４の位置決めに従って、回転支持ドーナツ板５５の上をスライドしながら回転可能になっている。
【００１３】
図３は、印刷部取り付け機構９８と基台９９との平面透視図である。
図２及び図３に示すように、Ｃは印刷領域の中心（テーブル９４の中心）であり、回転支持ドーナツ板５５の内側は、スキージ９６及びスクレッパ９７が矢印Ｙの方向に移動しながら、スクリーン印刷を行うのに十分な空間を有している。図２及び図３の場合は、長尺ワーク９３の搬出入方向Ｘとスキージ９６の印刷方向Ｙは、同一方向である。
【００１４】
図２及び図３において、印刷部９１を印刷部取り付け機構９８の上でスライドさせ、矢印Ｒの方向に９０度だけ回転させた場合を、図４及び図５に示す。
図４及び図５の場合は、長尺ワーク９３の搬出入方向Ｘとスキージ９６の印刷方向Ｙは、９０度変更されている。
【００１５】
前述した印刷部取り付け機構９８によれば、回転角度は自由自在であり、０度〜３６０度の範囲で印刷方向を変えることができる。
【００１６】
前述した例において、印刷部９１を回転するのではなく、印刷部取り付け機構９８に対して印刷部９１を着脱自在にすることにより印刷方向を変えるようにしても構わない。例えば、印刷部９１を印刷部取り付け機構９８から持ち上げ、９０度回転させてから再び印刷部取り付け機構９８に取り付ける装着機構を設けるようにしても構わない。
【００１７】
また、印刷部９１と印刷部取り付け機構９８との回転機構は、図示したものに限らず、凹凸のはめ込み機構や溝機構やリニアガイドを用いるものであっても構わない。
【００１８】
また、図示したものは、印刷部９１の回転によりスクリーン製版９５もともに回転する場合を示したが、スクリーン製版９５のみを印刷部９１と独立させて、取り付け方向を変更可能にするスクリーン製版取り付け機構を備えるようにしても構わない。
【図面の簡単な説明】
【図１】印刷部９１と印刷部取り付け機構９８と基台９９を有するスクリーン印刷装置を示す図。
【図２】印刷部取り付け機構９８の平面図。
【図３】印刷部取り付け機構９８と基台９９の透視平面図。
【図４】印刷部取り付け機構９８の平面図。
【図５】印刷部取り付け機構９８と基台９９の透視平面図。
【符号の説明】
５１，５２，５３，５４  支持柱、５５  回転支持ドーナツ板、６１，６２，６３，６４  固定ボルト、７１，７２，７３，７４  回転ローラ、８１，８２，８３，８４  版固定治具、９１  印刷部、９３  長尺ワーク、９４  テーブル、９５  スクリーン製版、９６  スキージ、９７  スクレッパ、９８  印刷部取り付け機構、９９  基台。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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