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【手続補正書】
【提出日】平成29年11月7日(2017.11.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ａ）未加水分解前駆体ポリマー及びｂ）加水分解剤の反応生成物を含む、加水分解ポリマー材料であって、
前記ａ）未加水分解前駆体ポリマーが、
ｉ）モノマー混合物、及び
ｉｉ）ケトン、エステル、アセトニトリル、又はこれらの混合物を含む有機溶媒、を含む重合性組成物の重合生成物を含み、
前記ｉ）モノマー混合物が、
１）前記モノマー混合物中のモノマーの総重量に対して８〜４０重量％の無水マレイン酸、
２）前記モノマー混合物中のモノマーの総重量に対して４８〜７５重量％のジビニルベンゼン、及び
３）前記モノマー混合物中のモノマーの総重量に対して０〜２０重量％のスチレン系モノマーであって、スチレン、アルキル置換スチレン、又はこれらの組み合わせである、前記スチレン系モノマー、を含み、
前記重合性組成物が、重合の前には単一の相であり、
前記加水分解ポリマー材料が、複数のカルボン酸基を有し、かつ少なくとも１００ｍ２／ｇに等しいＢＥＴ比表面積を有する、加水分解ポリマー材料。
【請求項２】
加水分解ポリマー材料を製造する方法であって、
ｉ）モノマー混合物と、
ｉｉ）ケトン、エステル、アセトニトリル、又はこれらの混合物を含む有機溶媒と、を含む、重合性組成物であって、
前記ｉ）モノマー混合物が、
１）前記モノマー混合物中のモノマーの総重量に対して８〜４０重量％の無水マレイン酸、
２）前記モノマー混合物中のモノマーの総重量に対して４８〜７５重量％のジビニルベンゼン、及び
３）前記モノマー混合物中のモノマーの総重量に対して０〜２０重量％のスチレン系モノマーであって、スチレン、アルキル置換スチレン、又はこれらの組み合わせである、前記スチレン系モノマー、を含み、
重合の前には単一の相である前記重合性組成物を調製する工程と、
前記重合性組成物を重合させることによって未加水分解前駆体ポリマーを生成する工程と、
前記未加水分解前駆体ポリマーを加水分解剤と反応させることによって、複数のカルボン酸基を有し、かつ少なくとも１００ｍ２／ｇに等しいＢＥＴ比表面積を有する前記加水分解ポリマー材料を生成する工程と、を含む、方法。
【手続補正書】
【提出日】平成29年10月30日(2017.10.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
約１−１０％のアルギン酸、約１−１０％の生体付着性化合物、及び約１−１０％のＬ−乳酸を含む組成物であって、
ここで、アルギン酸は１００，０００乃至２００，０００の間の平均分子量を持ち；及び
前記組成物は、射精液に接触していない時は非マトリックス状態を、及び射精液と接触している時はマトリックス状態を持つ
ことを特徴とする組成物。
【請求項２】
アルギン酸のマンヌロン酸塩：グルクロン酸塩の比率は、約０．２５対約２．０、約０．３対約１．０、約０．３対約０．６、又は約０．３５対約０．４５である、ことを特徴とする請求項１に記載の組成物。
【請求項３】
約３−５％のアルギン酸、約２．５−６％の生体付着性化合物、及び約１−７％のＬ−乳酸を含む、請求項１に記載の組成物。
【請求項４】
生体付着性化合物は、キサンタンガム、アルギン酸、ヒドロキシプロピルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロース、カルボキシルメチルセルロースナトリウム、キトサン、ポリカルボフィル、及びカルボポールから成る群から選択される、ことを特徴とする請求項１に記載の組成物。
【請求項５】
組成物は約１．５乃至３．５のｐＨを有する、ことを特徴とする請求項１に記載の組成物。
【請求項６】
緩衝剤、増粘剤、保水剤、及び防腐剤の１以上を更に含む、請求項１に記載の組成物。
【請求項７】
緩衝剤は、クエン酸、酒石酸カリウム、安息香酸、ソルビン酸、フマル酸、アスコルビン酸、ステアリン酸、オレイン酸、酒石酸、酒石酸水素カリウム、エデト酸、エチレンジアミン四酢酸、酢酸、及びリンゴ酸から成る群から選択される、ことを特徴とする請求項６に記載の組成物。
【請求項８】
増粘剤は、キサンタンガム、ヒドロキシプロピルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロース、カルボキシルメチルセルロースナトリウム、キトサン、ポリカルボフィル、カルボポール、ジェランガム、ポロクサマー、カラギーナン、及びイオタカラギーナンから成る群から選択される、ことを特徴とする請求項６に記載の組成物。
【請求項９】
防腐剤は、安息香酸、安息香酸ナトリウム、メチルパラベン、エチルパラベン、ブチルパラベン、プロピルパラベン、塩化ベンジルアルコニウム、硝酸フェニル水銀、及びクロルヘキシジンから成る群から選択される、ことを特徴とする請求項６に記載の組成物。
【請求項１０】
保水剤は、グリセロール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ソルビトール、及びトリアセチンから成る群から選択される、請求項６に記載の組成物。
【請求項１１】
組成物は薬学的に許容可能な担体を更に含む、ことを特徴とする請求項１に記載の組成物。
【請求項１２】
薬学的に許容可能な担体は水又はワセリンである、ことを特徴とする請求項１１に記載の組成物。
【請求項１３】
組成物は、受胎の予防、又は性行為感染症の拡散の危険性の減少のためのものである、ことを特徴とする請求項１に記載の組成物。
【請求項１４】
組成物は炎症の阻害のためのものである、ことを特徴とする請求項１に記載の組成物。
【請求項１５】
組成物は、性活動の前又は後の局所適用のためのものである、ことを特徴とする請求項１３に記載の組成物。
【請求項１６】
組成物は、性活動の少なくとも１５分前、少なくとも３０分前、少なくとも１時間前、１．５時間前、少なくとも２時間前、少なくとも２．５時間前、少なくとも３時間前、少なくとも３．５時間前、少なくとも４時間前、少なくとも４．５時間前、少なくとも５時間前、少なくとも６時間前、少なくとも７時間前、少なくとも８時間前、少なくとも９時間前、少なくとも１０時間前、又は少なくとも１２時間前に適用される、ことを特徴とする請求項１５に記載の組成物。
【請求項１７】
組成物は、性活動後５分以内、１０分以内、１５分以内、２０分以内、３０分以内、４５分以内、１時間以内、２時間以内、３時間以内、４時間以内、５時間以内、６時間以内、７時間以内、８時間以内、９時間以内、或いは１０時間以内に適用される、ことを特徴とする請求項１５に記載の組成物。
【請求項１８】
組成物は、組成物の約１−１０グラム、約３−７グラム、又は約４−６グラムを含む投与量で投与される、ことを特徴とする請求項１３に記載の組成物。
【請求項１９】
約３−５％のアルギン酸、約２．５−６％の生体付着性化合物、及び約１−７％のＬ−乳酸を含む組成物であって、
ここで、アルギン酸は、約０．２〜０．４のマンヌロン酸塩：グルクロン酸塩の比率を持ち、
アルギン酸は１００，０００乃至２００，０００の間の平均分子量を持つ
ことを特徴とする組成物。
【請求項２０】
組成物は約１．５乃至３．５のｐＨを有する、ことを特徴とする請求項１９に記載の組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成29年10月13日(2017.10.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ＳＥＱ  ＩＤ  ＮＯ：９のアミノ酸配列を有する軽鎖可変領域とＳＥＱ  ＩＤ  ＮＯ：１０のアミノ酸配列を有する重鎖可変領域とを含む、単離された抗体。
【請求項２】
モノクローナル抗体である、請求項１に記載の抗体。
【請求項３】
その配列が、ＳＥＱ  ＩＤ  ＮＯ：９のアミノ酸配列を有する軽鎖可変領域とＳＥＱ  ＩＤ  ＮＯ：１０のアミノ酸配列を有する重鎖可変領域とを含む抗体をコードする、核酸。
【請求項４】
ＳＥＱ  ＩＤ  ＮＯ：９のアミノ酸配列を有する軽鎖可変領域とＳＥＱ  ＩＤ  ＮＯ：１０のアミノ酸配列を有する重鎖可変領域とを含む抗体を発現する、抗体発現細胞株。
【請求項５】
ＳＥＱ  ＩＤ  ＮＯ：１１のアミノ酸配列を有する軽鎖可変領域とＳＥＱ  ＩＤ  ＮＯ：１２のアミノ酸配列を有する重鎖可変領域とを含む、単離された抗体。
【請求項６】
モノクローナル抗体である、請求項５に記載の抗体。
【請求項７】
その配列が、ＳＥＱ  ＩＤ  ＮＯ：１１のアミノ酸配列を有する軽鎖可変領域とＳＥＱ  ＩＤ  ＮＯ：１２のアミノ酸配列を有する重鎖可変領域とを含む抗体をコードする、核酸。
【請求項８】
ＳＥＱ  ＩＤ  ＮＯ：１１のアミノ酸配列を有する軽鎖可変領域とＳＥＱ  ＩＤ  ＮＯ：１２のアミノ酸配列を有する重鎖可変領域とを含む抗体を発現する、抗体発現細胞株。
【手続補正書】
【提出日】平成29年10月24日(2017.10.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも１種のジエンエラストマー、強化充填剤、及び式（Ｉ）に対応する１，３−双極子化合物をベースとする、ゴム組成物。
Ｑ−Ａ−Ｂ      （Ｉ）
（式中、
Ｑは、少なくとも１つ、好ましくは１つの窒素原子を含む、双極子を含み、
Ａは、好ましくは２価であり、ＱをＢに連結する１原子又は原子団であり、
Ｂは、式（ＩＩ）に対応する環を含み、
【化１】
2017501240.tif 000001
(II)
式中：
Ｚ、Ｙ、Ｒ及びＲ’の４つの記号のうち３つは、同じであるか又は異なり、それぞれ１原子又は原子団を表し、Ｚ及びＹは、それらが結合している炭素原子と一緒になって環を形成することが可能であり、
４番目の記号Ｚ、Ｙ、Ｒ又はＲ’は、Ａへの直接的結合を示す）
【請求項２】
Ｒ’が、Ａへの直接的結合を示す、請求項１に記載のゴム組成物。
【請求項３】
Ｚ及びＹが、それぞれ水素原子であるか、又は
Ｚ及びＹが、それらが結合している炭素原子と一緒になって環を形成している、請求項２に記載のゴム組成物。
【請求項４】
Ｒが、水素原子、又は少なくとも１個のヘテロ原子を含み得る炭素ベースの基を表す、請求項２又は３に記載のゴム組成物。
【請求項５】
１，３−双極子化合物が、ニトリルオキシド、ニトリルイミン及びニトロンからなる群から選択される、請求項１から４までのいずれか１項に記載のゴム組成物。
【請求項６】
Ｑが−Ｃ≡Ｎ→Ｏ単位を含む、請求項５に記載のゴム組成物。
【請求項７】
Ｑが、式（ＩＩＩ）：
【化２】
2017501240.tif 000002
(III)
（式中、
Ｒ1〜Ｒ5の５つの記号のうち４つは、同じであるか又は異なり、それぞれ１原子又は原子団であり、５番目の記号は、Ａへの直接的結合を示し、Ｒ1及びＲ5は、どちらもＨ以外であることが知られている）
に対応する単位を含む、請求項６に記載のゴム組成物。
【請求項８】
Ｒ1、Ｒ3及びＲ5が、それぞれ、１〜６個の炭素原子のアルキル基である、請求項７に記載のゴム組成物。
【請求項９】
１，３−双極子化合物の量が、ジエンエラストマーを構成するモノマー単位１００モルあたり、０から３モル当量の間のイミダゾール環である、請求項１から８までのいずれか１項に記載のゴム組成物。
【請求項１０】
強化充填剤が有機充填剤又は無機強化充填剤を含む、請求項１から９までのいずれか１項に記載のゴム組成物。
【請求項１１】
有機充填剤がカーボンブラックであり、無機強化充填剤がシリカである、請求項１０に記載のゴム組成物。
【請求項１２】
請求項１から１１までのいずれか１項に記載のゴム組成物を含むタイヤ。
【手続補正書】
【提出日】平成29年8月18日(2017.8.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
トリマルトール鉄(III)及び賦形剤を含む、貧血を伴う又は伴わない鉄欠乏の治療又は予防に使用するための製剤であって、トリマルトール鉄(III)は、３０ｍｇ元素鉄製剤として空腹時に１日２回経口投与され、トリマルトール鉄(III)の割合はトリマルトール鉄(III)と賦形剤の総合重量の少なくとも６０％であり、貧血を伴う又は伴わない鉄欠乏が、活動性炎症性疾患又は急性慢性炎症の結果であるか又はそれに伴うものである、前記製剤。
【請求項２】
鉄欠乏が炎症性腸疾患における鉄欠乏性貧血である、請求項１に記載の製剤。
【請求項３】
炎症性腸疾患がクローン病である、請求項２に記載の製剤。
【請求項４】
炎症性腸疾患が潰瘍性大腸炎である、請求項２に記載の製剤。
【請求項５】
トリマルトール鉄(III)の３０ｍｇ元素鉄製剤が１日２回、１回は朝食前及び１回は就寝前に投与される、請求項１〜４のいずれか１項に記載の製剤。
【請求項６】
トリマルトール鉄(III)の３０ｍｇ元素鉄製剤が最大１２週間投与される、請求項１〜５のいずれか１項に記載の製剤。
【請求項７】
トリマルトール鉄(III)の３０ｍｇ元素鉄製剤がその後、３０ｍｇ〜１２０ｍｇ元素鉄の範囲で１日１回、又は２日、３日、４日、５日、６日もしくは７日に１回投与される、請求項６に記載の製剤。
【請求項８】
トリマルトール鉄(III)の３０ｍｇ元素鉄製剤が維持用量として無期限に投与される、請求項１〜５のいずれか１項に記載の製剤。
【請求項９】
トリマルトール鉄(III)の３０ｍｇ元素鉄製剤がサイズ１カプセルである、請求項１〜８のいずれか１項に記載の製剤。
【請求項１０】
トリマルトール鉄(III)の３０ｍｇ元素鉄製剤が、
２３１．５ｍｇのトリマルトール鉄(III)
９１．５ｍｇのラクトース一水和物   
３．０ｍｇのラウリル硫酸ナトリウム
９．０ｍｇのクロスポビドン
０．６ｍｇのコロイド状二酸化ケイ素
３．０ｍｇのステアリン酸マグネシウム
を含む、請求項１〜９のいずれか１項に記載の製剤。
【請求項１１】
トリマルトール鉄(III)及び賦形剤を含む、貧血を伴う又は伴わない鉄欠乏の治療又は予防に使用するための製剤であって、トリマルトール鉄(III)は、３０ｍｇ元素鉄サイズ１カプセルとして空腹時に１日２回、１回は朝食前及び１回は就寝前に最大１２週間経口投与され、トリマルトール鉄(III)の割合はトリマルトール鉄(III)と賦形剤の総合重量の少なくとも６０％であり、貧血を伴う又は伴わない鉄欠乏が、活動性炎症性疾患又は急性慢性炎症の結果であるか又はそれに伴うものである、前記製剤。
【請求項１２】
２３１．５ｍｇのトリマルトール鉄(III)と一つ又は複数のその他の賦形剤とを含み、トリマルトール鉄(III)の割合はトリマルトール鉄(III)と賦形剤の総合重量の少なくとも６０％であるトリマルトール鉄(III)製剤。
【請求項１３】
２３１．５ｍｇのトリマルトール鉄(III)
９１．５ｍｇのラクトース一水和物
３．０ｍｇのラウリル硫酸ナトリウム
９．０ｍｇのクロスポビドン
０．６ｍｇのコロイド状二酸化ケイ素
３．０ｍｇのステアリン酸マグネシウム
を含むトリマルトール鉄(III)製剤。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７５】
８日間にわたって見られた網状赤血球中のヘモグロビン（Ｈｂ）含有量の改善率は、正常な生理的機能への鉄の取込みを示す証拠であるので、投与された用量に伴う臨床的利益と解釈される。
本発明の態様
態様１  貧血を伴う又は伴わない鉄欠乏の治療又は予防に使用するためのＳＴ１０であって、前記ＳＴ１０は、３０ｍｇ製剤として空腹時に１日２回経口投与され、ＳＴ１０の割合はＳＴ１０と賦形剤の総合重量の少なくとも６０％であるＳＴ１０。
態様２  鉄欠乏が炎症性腸疾患における鉄欠乏性貧血である、態様１に記載の使用。
態様３  炎症性腸疾患がクローン病である、態様２に記載の使用。
態様４  炎症性腸疾患が潰瘍性大腸炎である、態様２に記載の使用。
態様５  前記ＳＴ１０の３０ｍｇ製剤が１日２回、１回は朝食前及び１回は就寝前に投与される、態様１〜４に記載の使用。
態様６  ＳＴ１０の３０ｍｇ製剤が最大１２週間投与される、前記態様のいずれかに記載の使用。
態様７  ＳＴ１０の３０ｍｇ製剤がその後、１０ｍｇ〜１２０ｍｇの範囲で１日１回、又は２日、３日、４日、５日、６日もしくは７日に１回投与される、態様６に記載の使用。
態様８  ＳＴ１０の３０ｍｇ製剤が維持用量として無期限に投与される、態様１〜５に記載の使用。
態様９  ＳＴ１０の３０ｍｇ製剤がサイズ１カプセルである、前記態様のいずれかに記載の使用。
態様１０  ＳＴ１０の３０ｍｇ製剤が、
２３１．５ｍｇのＳＴ１０
９１．５ｍｇのラクトース一水和物
３．０ｍｇのラウリル硫酸ナトリウム
９．０ｍｇのクロスポビドン
０．６ｍｇのコロイド状二酸化ケイ素
３．０ｍｇのステアリン酸マグネシウム
を含む、前記態様のいずれかに記載の使用。
態様１１  貧血を伴う又は伴わない鉄欠乏の治療又は予防に使用するためのＳＴ１０であって、前記ＳＴ１０は、３０ｍｇのサイズ１カプセルとして空腹時に１日２回、１回は朝食前及び１回は就寝前に最大１２週間経口投与され、ＳＴ１０の割合は、ＳＴ１０と賦形剤の総合重量の少なくとも６０％であるＳＴ１０。
態様１２  貧血を伴う又は伴わない鉄欠乏が、活動性炎症性疾患又は急性慢性炎症の結果であるか又はそれに伴うものである、前記態様のいずれかに記載の使用。
態様１３  貧血を伴う又は伴わない鉄欠乏に苦しむ患者の治療法であって、該方法は、患者に３０ｍｇのＳＴ１０製剤を空腹時に１日２回経口投与することを含み、ＳＴ１０の割合はＳＴ１０と賦形剤の総合重量の少なくとも６０％である方法。
態様１４  ３０ｍｇのＳＴ１０製剤であって、２３１．５ｍｇのＳＴ１０と一つ又は複数のその他の賦形剤とを含み、ＳＴ１０の割合はＳＴ１０と賦形剤の総合重量の少なくとも６０％である３０ｍｇのＳＴ１０製剤。
態様１５  ３０ｍｇのＳＴ１０製剤であって、
２３１．５ｍｇのＳＴ１０
９１．５ｍｇのラクトース一水和物
３．０ｍｇのラウリル硫酸ナトリウム
９．０ｍｇのクロスポビドン
０．６ｍｇのコロイド状二酸化ケイ素
３．０ｍｇのステアリン酸マグネシウム
を含む３０ｍｇのＳＴ１０製剤。
【手続補正書】
【提出日】平成29年10月6日(2017.10.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
水性ビヒクル、着色剤、第１ポリマーおよび第２ポリマーを含むインクジェットインクであって、前記着色剤が自己分散性であるかまたは分散剤によって分散され、前記第１ポリマーが架橋したポリウレタンであり、かつ前記水性ビヒクルに分散性であり、および前記第２ポリマーが、前記水性ビヒクルに可溶なアニオン性ポリマーであり、かつアクリル、ポリウレタン、加水分解されたスチレン無水マレイン酸（ＳＭＡ）およびスチレンアクリル酸ポリマー（ＳＡ）からなる群から選択される１つまたは複数のメンバーであり、前記第１ポリマーおよび前記第２ポリマーが前記分散剤とは異なる、インクジェットインク。
【請求項２】
前記着色剤が分散剤によって分散される、請求項１に記載のインク。
【請求項３】
前記第２ポリマーがポリウレタンである、請求項２に記載のインク。
【請求項４】
前記分散剤が架橋している、請求項３に記載のインク。
【請求項５】
前記インクがオフセット媒体上に印刷される、請求項３に記載のインク。
【請求項６】
前記インクが織物上に印刷される、請求項３に記載のインク。
【請求項７】
前記第２ポリマーがアクリルである、請求項２に記載のインク。
【請求項８】
前記インクがオフセット媒体上に印刷される、請求項７に記載のインク。
【請求項９】
前記インクが織物上に印刷される、請求項７に記載のインク。
【請求項１０】
前記着色剤が自己分散性である、請求項１に記載のインク。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１４５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１４５】
【表２】
2017501287.tif 000001
以下、本明細書に記載の主な発明について列記する。
（１）  水性ビヒクル、着色剤、第１ポリマーおよび第２ポリマーを含むインクジェットインクであって、前記着色剤が自己分散性であるかまたは分散剤によって分散され、前記第１ポリマーが架橋したポリウレタンであり、かつ前記水性ビヒクルに分散性であり、および前記第２ポリマーが、前記水性ビヒクルに可溶なアニオン性ポリマーであり、かつアクリル、ポリウレタン、加水分解されたスチレン無水マレイン酸（ＳＭＡ）およびスチレンアクリル酸ポリマー（ＳＡ）からなる群から選択される１つまたは複数のメンバーであり、前記第１ポリマーおよび前記第２ポリマーが前記分散剤とは異なる、インクジェットインク。
（２）  前記着色剤が分散剤によって分散される、（１）に記載のインク。
（３）  前記第２ポリマーがポリウレタンである、（２）に記載のインク。
（４）  前記分散剤が架橋している、（３）に記載のインク。
（５）  前記インクがオフセット媒体上に印刷される、（３）に記載のインク。
（６）  前記インクが織物上に印刷される、（３）に記載のインク。
（７）  前記第２ポリマーがアクリルである、（２）に記載のインク。
（８）  前記分散剤が架橋している、（７）に記載のインク。
（９）  前記インクがオフセット媒体上に印刷される、（７）に記載のインク。
（１０）  前記インクが織物上に印刷される、（７）に記載のインク。
（１１）  前記着色剤が自己分散性である、（１）に記載のインク。
（１２）  前記第２ポリマーがポリウレタンである、（１１）に記載のインク。
（１３）  前記インクがオフセット媒体上に印刷される、（１２）に記載のインク。
（１４）  前記インクが織物上に印刷される、（１２）に記載のインク。
（１５）  前記第２ポリマーがアクリルである、（１１）に記載のインク。
（１６）  前記インクがオフセット媒体上に印刷される、（１５）に記載のインク。
（１７）  前記インクが織物上に印刷される、（１５）に記載のインク。
（１８）  水性ビヒクル、着色剤、第１ポリマーおよび第２ポリマーからなるインクジェットインクであって、前記着色剤が自己分散性であるかまたは分散剤によって分散され、前記第１ポリマーが架橋したポリウレタンであり、かつ前記水性ビヒクルに分散性であり、および前記第２ポリマーが、前記水性ビヒクルに可溶なアニオン性ポリマーであり、かつアクリル、ポリウレタン、加水分解されたスチレン無水マレイン酸（ＳＭＡ）およびスチレンアクリル酸ポリマー（ＳＡ）からなる群から選択される１つまたは複数のメンバーであり、前記第１ポリマーおよび前記第２ポリマーが前記分散剤とは異なる、インクジェットインク。
【手続補正書】
【提出日】平成29年10月19日(2017.10.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも１つの層で覆われた少なくとも１つの面を含む繊維基材を含む紙であって、該層が：
- 乾燥重量で100部の顔料と、
- 乾燥重量で5部〜50部の、140℃〜200℃の範囲の温度への曝露に耐性があり、かつガラス転移温度が20℃よりも低い1つ以上のバインダ、特にガラス転移温度が20℃以下、好ましくは10℃以下である1つ以上のアクリル系バインダと、
- 乾燥重量で0部〜15部の、例えばポリビニルアルコールなどの増粘剤と、を含むか、又はこれらからなる、前記紙。
【請求項２】
前記層が、ガラス転移温度が20℃以下であるアクリル系バインダを乾燥重量で10部〜30部、好ましくは乾燥重量で15部〜25部、さらにより好ましくは乾燥重量で19部含むことを特徴とする、請求項1記載の紙。
【請求項３】
前記層が、ポリビニルアルコールを乾燥重量で5部〜10部、より好ましくは乾燥重量で8部含むことを特徴とする、請求項1又は請求項2記載の紙。
【請求項４】
前記繊維基材が、木質繊維など、特にユーカリの漂白化学パルプから得られる木質繊維などの、平均長さが0.5mm〜1.5mmの範囲である短いセルロース繊維を乾燥重量で70%〜90%含むことを特徴とする、請求項1〜3のいずれか1項記載の紙。
【請求項５】
前記基材が、短いセルロース繊維を乾燥重量で80%含むことを特徴とする、請求項4記載の紙。
【請求項６】
前記繊維基材が、少なくとも1つの鉱物充填剤、好ましくは炭酸カルシウム、カオリン又は二酸化チタンを、10〜30重量%含むことを特徴とする、請求項1〜5のいずれか1項記載の紙。
【請求項７】
前記紙が、70〜90の範囲、好ましくは75〜85の範囲の白色度を有することを特徴とする、請求項1〜6のいずれか1項記載の紙。
【請求項８】
200℃で5分間アニールを行った後の、前記紙のCIE LAB座標から算出される該紙の色調差ΔEが、アニール前の該紙と比較して5よりも小さい、好ましくは2よりも小さいことを特徴とする、請求項1〜7のいずれか1項記載の紙。
【請求項９】
少なくとも1つの面を覆う前記層において、該層の表面の全体又は一部に0.5μm〜15μm厚の導電性インクの層が印刷されることを特徴とする、請求項1〜8のいずれか1項記載の紙。
【請求項１０】
請求項1〜8のいずれか1項記載の紙の製造方法であって、該方法が：
- 繊維パルプを用いて繊維基材を形成すること、
- 該繊維基材の少なくとも1つの表面を、乾燥重量で100部の顔料と、乾燥重量で5部〜50部の、140℃〜200℃の範囲の温度への曝露に耐性があり、かつガラス転移温度が20℃よりも低い、1つ以上のバインダ、特にガラス転移温度が20℃以下、好ましくは10℃以下である1つ以上のアクリル系バインダと、乾燥重量で0部〜15部の増粘剤と、を含む層でコーティングして少なくとも部分的に覆うことからなる工程を含むことを特徴とする、前記方法。
【請求項１１】
前記繊維パルプの精製度が50°SR未満、好ましくは40°SR未満、さらにより好ましくは35°SR程度であることを特徴とする、請求項10記載の方法。
【請求項１２】
前記層は、抄紙機のサイズプレスを用いたコーティングによって塗工されることを特徴とする、請求項10又は請求項11記載の方法。
【請求項１３】
導電性製品の製造方法であって、該方法が：
請求項1〜8のいずれか1項記載の紙から製造された支持体の少なくとも1つの領域を、導電性インクを用いた印刷によって覆うこと、
導電層又は連続トラックが該支持体上に形成されるように、該支持体及び該インクをアニールすることからなる工程を含む、前記方法。
【請求項１４】
前記アニールの温度が100℃〜300℃、好ましくは180℃〜220℃の範囲であることを特徴とする、請求項13記載の方法。
【請求項１５】
前記支持体上に印刷によって堆積される前記インクの層が、0.5μm〜15μm、好ましくは1μm〜10μmの範囲であることを特徴とする、請求項13又は請求項14記載の方法。
【請求項１６】
前記導電性インクは、スクリーン印刷、フレキソグラフィ、又はヘリオグラフィタイプの印刷方法を用いて堆積されることを特徴とする、請求項13〜15のいずれか1項記載の方法。
【請求項１７】
導電性インクが印刷された層で覆われた面を含む繊維基材を含む紙であって、
- 繊維パルプを用いて繊維基材を形成すること、
- 該繊維基材の少なくとも1つの表面を、乾燥重量で100部の顔料と、乾燥重量で5部〜50部の、140℃〜200℃の範囲の温度への曝露に耐性があり、かつガラス転移温度が20℃よりも低い、1つ以上のバインダ、特にガラス転移温度が20℃以下、好ましくは10℃以下である1つ以上のアクリル系バインダと、乾燥重量で0部〜15部の増粘剤と、を含む層でコーティングして少なくとも部分的に覆うこと、
- 該層の少なくとも1つの領域を、導電性インクを用いた印刷によって覆うこと、
- 導電層又は連続トラックが支持体上に形成されるように該コーティングが施された基材及び該インクをアニールすることからなる工程により得られる、前記紙。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８７】
この例では、ユーカリから得られ、Cenibra（登録商標）の名称で知られる木質セルロース繊維を含み、特に顔料及びバインダを含む層で覆われた基材を各々有する複数の紙を製造した。これらの種々の紙について、層に用いるバインダの種類を変え、用いたバインダの種類ごとに、シートの面外における紙のシートの変形を測定した。より具体的には、この比較例では、ガラス転移温度Tgが7℃であるAcronal LN 579 S（アクリル酸エステル及びアクリロニトリル）タイプのバインダ（実施例1のバインダ6）を用い、更に、ガラス転移温度Tgが25℃であるAcronal S728（ブチルアクリレート及びスチレン）タイプのバインダ（実施例1のバインダ4）を用いた。これにより得られた紙に対し、120℃で10分間のアニール工程を行った。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１１４】
本実施態様では、パルパーで均質な繊維パルプを調製した。パルプは、水と、基材のクリームシェードを得るための黄色の着色剤（乾燥重量でごくわずかな含有量）と、Cenibra（登録商標）タイプのユーカリから得た、乾燥重量で約80%の木質セルロース繊維と、Omyacarb（登録商標）の名称で公知の、乾燥重量で約20%の炭酸カルシウム（CaCO3）を含んだ。
【手続補正書】
【提出日】平成29年10月20日(2017.10.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
反応空間内で基板上に硫化マグネシウム薄膜を堆積する方法であって、当該方法は、
気相マグネシウム反応物質を前記反応空間に提供する工程と、
過剰な気相マグネシウム反応物質及び反応副生成物を除去する工程と、
硫黄を含む第２の気相反応物質を前記反応空間に提供する工程と、
過剰な第２の気相反応物質及び反応副生成物を除去する工程と、
を含む、１つ以上の堆積サイクルを含む、方法。
【請求項２】
前記気相マグネシウム反応物質を前記反応空間に提供する前に、前記第２の気相反応物質は、前記反応空間に提供される、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記硫化マグネシウム薄膜は、マグネシウム以外の少なくとも１種の金属を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記気相マグネシウム反応物質は、少なくとも１つのシクロペンタジエニル（Ｃｐ）配位子を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記気相マグネシウム反応物質はＭｇ（Ｃｐ）２又はその誘導体である、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
マグネシウムは、その上に前記硫化マグネシウム薄膜が形成されつつある前記基板の部分に存在しない、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
前記第２の気相反応物質はＨ２Ｓである、請求項１に記載の方法。
【請求項８】
前記第２の気相反応物質は、硫黄原子、硫黄含有プラズマ、又は硫黄ラジカルを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項９】
前記硫化マグネシウム薄膜が堆積される前記基板の表面は、ケイ素を含まない、請求項１に記載の方法。
【請求項１０】
前記硫化マグネシウム薄膜が堆積される前記基板の表面は、ＩｎＧａＡｓを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項１１】
前記硫化マグネシウム薄膜を堆積する前に、ｅｘ  ｓｉｔｕ又はｉｎ  ｓｉｔｕで前記基板を前処理反応物質に曝露する工程を更に含む、請求項１に記載の方法。
【請求項１２】
堆積された前記硫化マグネシウム薄膜は、約１Å〜約２０Åの厚さを有する、請求項１に記載の方法。
【請求項１３】
反応空間内で基板の表面上に金属硫化物薄膜を堆積する方法であって、当該方法は、
前記基板を第１の気相金属反応物質と接触させる工程と、
過剰な気相金属反応物質及び反応副生成物を前記基板から除去する工程と、
前記基板を第２の気相硫黄反応物質と接触させる工程と、
過剰な気相硫黄反応物質及び反応副生成物を前記基板から除去する工程と、
を含む、１つ以上の堆積サイクルを含み、
前記気相金属反応物質は、シクロペンタジエニル（Ｃｐ）配位子又はβ−ジケトナート配位子と、Ｍｇ、Ｃａ、Ｙ、Ｓｃ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｌａ、及びその他のランタニドからなる群から選択される金属と、を含む、
方法。
【請求項１４】
前記第１の気相金属反応物質を前記反応空間に導入する前に、前記第２の気相硫黄反応物質は、前記反応空間に導入される、請求項１３に記載の方法。
【請求項１５】
前記第１の気相金属反応物質は、少なくとも１つのシクロペンタジエニル（Ｃｐ）配位子を含む、請求項１３に記載の方法。
【請求項１６】
前記第１の気相金属反応物質の金属はＭｇである、請求項１３に記載の方法。
【請求項１７】
前記第１の気相金属反応物質はＭｇ（Ｃｐ）２又はその誘導体である、請求項１３に記載の方法。
【請求項１８】
前記第１の気相金属反応物質は、シクロペンタジエニル（Ｃｐ）又はその誘導体を含み、前記金属は、Ｃａ、Ｌａ若しくはその他のランタニド、Ｓｃ、又はＹである、請求項１３に記載の方法。
【請求項１９】
前記第１の気相金属反応物質は、その上に前記金属硫化物薄膜が形成されつつある前記基板の部分に存在しない金属を含む、請求項１３に記載の方法。
【請求項２０】
前記第２の気相硫黄反応物質はＨ２Ｓである、請求項１３に記載の方法。
【請求項２１】
前記第２の気相硫黄反応物質は、硫黄原子、硫黄含有プラズマ、又は硫黄ラジカルを含む、請求項１３に記載の方法。
【請求項２２】
前記金属硫化物薄膜はＭｇＳを含む、請求項１３に記載の方法。
【請求項２３】
前記金属硫化物薄膜が堆積される前記基板の表面は、ケイ素を含まない、請求項１３に記載の方法。
【請求項２４】
前記金属硫化物薄膜は、１種を超える金属を含む、請求項１３に記載の方法。
【請求項２５】
前記金属硫化物薄膜を堆積する前に、ｅｘ  ｓｉｔｕ又はｉｎ  ｓｉｔｕで前記基板を前処理反応物質に曝露する工程を更に含む、請求項１３に記載の方法。
【請求項２６】
堆積された前記金属硫化物薄膜は、約１Å〜約２０Åの厚さを有する、請求項１３に記載の方法。
【請求項２７】
反応空間内で基板の表面上に金属硫化物薄膜を堆積する方法であって、当該方法は、
前記基板を第１の気相金属反応物質と接触させる工程と、
過剰な気相金属反応物質及び反応副生成物を前記基板から除去する工程と、
前記基板を第２の気相硫黄反応物質と接触させる工程と、
過剰な気相硫黄反応物質及び反応副生成物を前記基板から除去する工程と、
を順に含む、１つ以上の堆積サイクルを含み、
前記第１の気相金属反応物質は、Ｍｇ、Ｃａ、Ｙ、Ｓｃ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｌａ、及びその他のランタニドからなる群から選択される金属を含み、
前記金属硫化物薄膜が堆積される前記基板の表面は、ＩｎＧａＡｓを含む、
方法。
【請求項２８】
過剰な反応物質を除去するステップは、前記基板をパージガスに曝露するステップを含む、請求項２７に記載の方法。
【請求項２９】
過剰な反応物質を除去するステップは、前記基板をパージガスに曝露するステップを含む、請求項１３に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成29年11月1日(2017.11.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ａ）２つの対向する主表面を有する基材と、
（ｂ）該基材の該対向する主表面のうち一方と直接接触している第１の層であって、該第１の層は、低熱伝導性の有機層又は低熱伝導性の無機積層体である、第１の層と、
（ｃ）該第１の層と直接接触している第２の層であって、該第２の層は、低熱伝導性の有機層又は低熱伝導性の無機積層体であり、該第２の層は、該第１の層において選択された該有機層又は該無機積層体と同一ではない、第２の層と、を含む、真空断熱パネル用外被を含む物品。
【請求項２】
前記低熱伝導性の無機積層体は、低熱伝導性の非金属無機材料又は低熱伝導性の金属材料を含む、請求項１に記載の物品。
【請求項３】
前記低熱伝導性の無機積層体は、低熱伝導性の金属材料及び低放射性の金属材料を含む、請求項１に記載の物品。
【請求項４】
追加の低伝導性の有機層又は熱融着層の少なくとも１つを更に含む、請求項１〜３のいずれか一項に記載の物品。
【請求項５】
前記基材は、難燃材料を含み、所望により前記難燃材料は前記第１の層に対向する前記基材の対向する主表面と直接接触している、請求項１〜４のいずれか一項に記載の物品。
【請求項６】
前記低熱伝導性の非金属無機材料は、酸化アルミニウム、酸化ケイ素、酸化アルミニウムケイ素、窒化アルミニウムケイ素、及び酸窒化アルミニウムケイ素、ＣｕＯ、ＴｉＯ２、ＩＴＯ、Ｓｉ３Ｎ４、ＴｉＮ、ＺｎＯ、酸化亜鉛アルミニウム、ＺｒＯ２、イットリア安定化ジルコニア、並びにＣａ２ＳｉＯ４のうち少なくとも１種から選択される、請求項２及び４〜５のいずれか一項に記載の物品。
【請求項７】
前記低熱伝導性の金属材料は、Ｔｉ、Ｓｒ、Ｖ、Ｍｎ、Ｎｉ、Ｃｒ、Ｓｎ、及びＣｏのうち少なくとも１種から選択される、請求項３〜５のいずれか一項に記載の物品。
【請求項８】
前記低放射性の金属材料は、アルミニウム、銀、金、銅、錫、クロム、ニッケル、白金、タングステン、亜鉛、マグネシウム、モリブデン、ロジウム、ケイ素、及び／又はこれらの合金若しくは組み合わせのうち少なくとも１種から選択される、請求項３〜５のいずれか一項に記載の物品。
【請求項９】
前記真空断熱パネル用外被の酸素透過速度は、０．１ｃｃ／ｍ２／日未満であり、湿気透過速度は、０．１ｇ／ｍ２／日未満である、請求項１〜８のいずれか一項に記載の物品。
【請求項１０】
（ａ）２つの対向する主表面を有する基材と、
（ｂ）該基材の該対向する主表面のうち一方と直接接触している第１の層であって、該第１の層は、低熱伝導性の有機層又は低熱伝導性の無機積層体である、第１の層と、
（ｃ）該第１の層と直接接触している第２の層であって、該第２の層は、低熱伝導性の有機層又は低熱伝導性の無機積層体であり、該第２の層は、該第１の層において選択された該有機層又は該無機積層体と同一ではない、第２の層と、を含み、
該低熱伝導性の無機積層体は、少なくとも１種の低熱伝導性の非金属無機材料及び少なくとも１種の低熱伝導性の金属材料を含む、バリアフィルム。
【手続補正書】
【提出日】平成29年11月15日(2017.11.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
放射線源によって放出されたイオン化放射線を検出するための検出モジュールであって、
入射イオン化放射線に応答してシンチレーション光子を放出するための第１のシンチレータ素子と、
シンチレーション光子を捕捉するための、前記第１のシンチレータ素子に光学的に結合された第１の感光素子と、
前記第１の感光素子を支持するためのフレキシブル基板と
を備え、
前記フレキシブル基板が、前記第１のシンチレータ素子の少なくとも２つの表面をカバーするために前記第１のシンチレータ素子の周りに折り曲げられる、
検出モジュール。
【請求項２】
シンチレーション光子を捕捉するための第２の感光素子を更に備え、
前記フレキシブル基板が実質的に平らであり、
前記第１の感光素子が、前記実質的に平らなフレキシブル基板の第１の表面に位置され、前記第２の感光素子が、前記第１の表面とは反対側の前記実質的に平らなフレキシブル基板の第２の表面に位置される、
請求項１に記載の検出モジュール。
【請求項３】
前記第１の感光素子及び／又は前記第２の感光素子が、実質的に有機材料、特にポリマーからなる、請求項２に記載の検出モジュール。
【請求項４】
前記フレキシブル基板が、実質的に有機材料、特にポリマーからなる、請求項１に記載の検出モジュール。
【請求項５】
シンチレーション光子が前記フレキシブル基板を通過するのを防ぐために、前記フレキシブル基板が、不透明層を含むか、又は実質的に不透明材料からなる、請求項１に記載の検出モジュール。
【請求項６】
前記第１の感光素子及び／又は前記第２の感光素子が、前記フレキシブル基板に印刷される、請求項２に記載の検出モジュール。
【請求項７】
前記フレキシブル基板が、前記第１の感光素子を支持するための第１の支持層と、前記第２の感光素子を支持するための第２の支持層とを含み、
前記第１の支持層と前記第２の支持層とが、接着剤によって、特に前記第１の支持層と前記第２の支持層との間に不透明層を形成する光絶縁接着剤によって互いに取り付けられる、
請求項２に記載の検出モジュール。
【請求項８】
前記第１のシンチレータ素子が、前記放射線源に面する第１の表面を有して、実質的に立方形状であり、
前記フレキシブル基板が、前記第１の表面に直交して配置された前記第１のシンチレータ素子の第２の表面に平行に配置される、
請求項１に記載の検出モジュール。
【請求項９】
前記入射イオン化放射線のスペクトル分布に関する情報を提供するための読出し電子回路を更に備え、
前記フレキシブル基板が、感光素子を前記読出し電子回路に接続するための接続回路構成を含む、
請求項１に記載の検出モジュール。
【請求項１０】
第２のシンチレータ素子を更に備え、
前記フレキシブル基板が、前記第１のシンチレータ素子と前記第２のシンチレータ素子との間に配置され、
前記第１の感光素子が、前記第１のシンチレータ素子に光学的に結合され、前記第２の感光素子が、前記第２のシンチレータ素子に光学的に結合される、
請求項２に記載の検出モジュール。
【請求項１１】
第２、第３、及び第４のシンチレータ素子を更に備え、
前記第１及び第３のシンチレータ素子が、第１のスタックとして配置され、前記第２及び第４のシンチレータ素子が、第２のスタックとして配置され、１つのスタックにおける一方のシンチレータ素子が、前記放射線源と前記スタックにおける他方のシンチレータ素子との間に位置され、
前記フレキシブル基板が、前記第１のスタックと前記第２のスタックとの間に、前記第１のスタック及び前記第２のスタックの側面に平行に配置される、
請求項２に記載の検出モジュール。
【請求項１２】
第３及び第４の感光素子を更に備え、
前記第１、第２、第３、第４の感光素子がそれぞれ、対応する前記第１、第２、第３、又は第４のシンチレータ素子と光学的に結合され、
前記第３の感光素子が、前記実質的に平らなフレキシブル基板の前記第１の表面に位置され、
前記第４の感光素子が、前記実質的に平らなフレキシブル基板の前記第２の表面に位置される、
請求項１１に記載の検出モジュール。
【請求項１３】
検査領域内で被験者を支持するための被験者支持体と、
前記検査領域の第１の側に、又は前記検査領域内の前記被験者内に配置された、イオン化放射線を放出するための放射線源と、
前記放射線源によって放出されたイオン化放射線を検出するための、前記検査領域の第２の側に配置された請求項１に記載の検出モジュールと、
検出されたイオン化放射線のスペクトル分布に基づいて画像を提供するための撮像ユニットとを備える、撮像デバイス。
【手続補正書】
【提出日】平成29年10月17日(2017.10.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
モバイルデバイスにおける方法であって、前記方法は、
前記モバイルデバイスが低電力状態に入ったことに応答して、少なくとも部分的にスリープカウンタの第１の値と第１のタイムスタンプとを取得することと、ここにおいて、前記第１のタイムスタンプがローカルネットワーク時間を基準とする、
ページング信号を収集するために高電力状態に入ることと、
前記高電力状態にある間に前記スリープカウンタの第２の値と第２のタイムスタンプとを取得することと、ここにおいて、前記第２のタイムスタンプが前記ローカルネットワーク時間を基準とする、
前記低電力状態に戻ることと、
前記第１のタイムスタンプと前記第２のタイムスタンプとの間の第１の差と、前記スリープカウンタの前記第１の値と前記スリープカウンタの前記第２の値との間の第２の差とに少なくとも部分的に基づいて、前記スリープカウンタの増分サイクルを推定することと、
前記モバイルデバイスが前記低電力状態にある間に前記推定された増分サイクルに少なくとも部分的に基づいて衛星測位システム（ＳＰＳ）位置フィックスを実行することを試みることと
を備える、方法。
【請求項２】
前記ページング信号の収集に少なくとも部分的に基づいて前記ローカルネットワーク時間を決定することをさらに備える、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記スリープカウンタの前記推定された増分サイクルに少なくとも部分的に基づいてシステムクロック時間を伝搬することをさらに備える、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記システムクロック時間が、前記第２の差と前記スリープカウンタの前記推定された増分サイクルとの乗算に少なくとも部分的に基づく量だけ伝搬される、請求項３に記載の方法。
【請求項５】
前記伝搬されたシステムクロック時間に少なくとも部分的に基づいて、１つまたは複数のＳＰＳ信号の収集を開始することをさらに備える、請求項３に記載の方法。
【請求項６】
前記モバイルデバイスの温度に少なくとも部分的に基づいて、前記１つまたは複数のＳＰＳ信号の収集のための時間不確実性を決定することをさらに備える、請求項５に記載の方法。
【請求項７】
前記時間不確実性は、不確実性が前記ローカルネットワーク時間であることに少なくとも部分的に基づいてさらに決定される、請求項６に記載の方法。
【請求項８】
前記モバイルデバイスが前記低電力状態にある間に前記ＳＰＳ位置フィックスを実行するようにとの要求を受信することをさらに備える、請求項１に記載の方法。
【請求項９】
前記低電力状態がスリープ状態を備える、請求項１に記載の方法。
【請求項１０】
前記第１のタイムスタンプおよび前記第２のタイムスタンプがページングスロット中に取得される、請求項１に記載の方法。
【請求項１１】
請求項１ないし１０のいずれか一項に記載の方法を実行するために、モバイルデバイスの１つまたは複数のプロセッサによって実行可能である、その上に記憶された機械可読命令を備える非一時的記憶媒体。
【請求項１２】
モバイルデバイスにおいて使用するための装置であって、前記装置は、
前記モバイルデバイスが低電力状態に入ったことに応答して、少なくとも部分的にスリープカウンタの第１の値と第１のタイムスタンプとを取得するための手段と、ここにおいて、前記第１のタイムスタンプがローカルネットワーク時間を基準とする、
ページング信号を収集するために高電力状態に入るための手段と、
前記高電力状態にある間に前記スリープカウンタの第２の値と第２のタイムスタンプとを取得するための手段と、ここにおいて、前記第２のタイムスタンプが前記ローカルネットワーク時間を基準とする、
前記低電力状態に戻るための手段と、
前記第１のタイムスタンプと前記第２のタイムスタンプとの間の第１の差と、前記スリープカウンタの前記第１の値と前記スリープカウンタの前記第２の値との間の第２の差とに少なくとも部分的に基づいて、前記スリープカウンタの増分サイクルを推定するための手段と、
前記モバイルデバイスが前記低電力状態にある間に前記推定された増分サイクルに少なくとも部分的に基づいて衛星測位システム（ＳＰＳ）位置フィックスを実行することを試みるための手段と
を備える装置。
【請求項１３】
前記ページング信号の収集に少なくとも部分的に基づいて前記ローカルネットワーク時間を決定するための手段をさらに備える、請求項１２に記載の装置。
【請求項１４】
前記スリープカウンタの前記推定された増分サイクルに少なくとも部分的に基づいてシステムクロック時間を伝搬するための手段をさらに備える、請求項１２に記載の装置。
【請求項１５】
前記システムクロック時間が、前記第２の差と前記スリープカウンタの前記推定された増分サイクルとの乗算に少なくとも部分的に基づく量だけ伝搬される、請求項１４に記載の装置。
【手続補正書】
【提出日】平成29年11月16日(2017.11.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
原子炉であって、
放射性燃料供給源と、
前記放射性燃料供給源において核反応を引き起こし、前記放射性燃料供給源において中性子により駆動される核分裂反応を支持するための中性子を生成するために、前記放射性燃料供給源に向かって誘導されるガンマ線を生成するように構成された放出器装置と、
前記放射性燃料供給源および前記放出器装置を格納するための格納システムと、
前記原子炉の外部への伝達のために前記原子炉から熱を抽出するように構成された熱抽出システムと、
を備える、原子炉。
【請求項２】
前記放出器装置は、荷電粒子を加速するためのキャパシタ要素をさらに備え、前記キャパシタ要素は一対の電極を含み、前記電極のうちの少なくとも１つは、ダイヤモンドまたはダイヤモンド状物質で少なくとも部分的にコーティングされている、請求項１に記載の原子炉。
【請求項３】
前記荷電粒子の供給源は高密度プラズマ束陽子入射器装置である、請求項２に記載の原子炉。
【請求項４】
前記核反応を支持するための中性子を作るために前記原子炉内で提供または循環される物質と相互作用するための陽子の供給源をさらに備える、請求項１〜３のいずれかに記載の原子炉。
【請求項５】
放電の間に均一な電流フローを提供するために前記キャパシタ要素の周囲に配列された複数の光スイッチをさらに備える、請求項２または３に記載の原子炉。
【請求項６】
前記光スイッチの一つ一つはダイヤモンド結晶からなる、請求項５に記載の原子炉。
【請求項７】
前記光スイッチは、前記放射性燃料供給源の放射性崩壊の速度を少なくとも部分的に制御するために、前記放出器装置の動作の間に均一な電流フローを促進する制御された様式で活性化される、請求項５に記載の原子炉。
【請求項８】
前記放出器装置において冷却液を循環させるための少なくとも１つの冷却システムをさらに備える、請求項１〜７のいずれかに記載の原子炉。
【請求項９】
前記原子炉は複数の前記放出器装置を備え、前記放出器装置の全部が、前記放射性燃料供給源に向かって誘導されるガンマ線を生成するように構成されている、請求項１〜８のいずれかに記載の原子炉。
【請求項１０】
前記放出器装置は多角形形状容器内に提供され、前記多角形状容器は、前記放射性燃料供給源の一部および熱交換器を前記多角形状容器の各壁内に備える、請求項１〜９のいずれかに記載の原子炉。
【請求項１１】
前記放出器装置は、荷電粒子を加速するためのキャパシタ要素をさらに備える、前記キャパシタ要素は一対の電極を含み、前記電極のうちの少なくとも１つは、ダイヤモンド状炭素物質で少なくとも部分的にコーティングされている、請求項１〜１０のいずれかに記載の原子炉。
【請求項１２】
前記原子炉は未臨界状態で動作され、前記放射性燃料供給源の放射性崩壊速度は、前記放出器装置からのガンマ線の放出を制御する制御システムにより少なくとも部分的に制御される、請求項１〜１１のいずれかに記載の原子炉。
【請求項１３】
原子炉であって、
放射性燃料供給源と、
前記放射性燃料供給源において核反応を引き起こすために前記放射性燃料供給源に向かって誘導されるエネルギービームを生成するように構成された放出器装置であって、前記放出器装置は、
荷電粒子の供給源と、
前記荷電粒子を加速するための複数のキャパシタ要素であって、前記キャパシタ要素のそれぞれは一対の電極を含み、前記キャパシタ要素の電極のうちの少なくとも１つは、ダイヤモンドまたはダイヤモンド状炭素で少なくとも部分的にコーティングされている、キャパシタ要素と、
前記荷電粒子を伝達するために前記キャパシタ要素を通して形成された導管と、
を備える、放出器装置と、
前記放出器装置を冷却するための冷却システムと、
前記原子炉の外部への伝達のために前記原子炉から熱を抽出するように構成された熱抽出システムと、
を備える、原子炉。
【請求項１４】
前記荷電粒子の供給源は高密度プラズマ束陽子入射器装置である、請求項１３に記載の原子炉。
【請求項１５】
前記核反応を支持するための中性子を作るために前記原子炉内で提供または循環される物質と相互作用するための陽子の供給源をさらに備える、請求項１３または１４に記載の原子炉。
【請求項１６】
放電の間に均一な電流フローを提供するために前記キャパシタ要素の周囲に配列された複数の光スイッチをさらに備える、請求項１３〜１５のいずれかに記載の原子炉。
【請求項１７】
前記光スイッチの一つ一つはダイヤモンド結晶からなる、請求項１６に記載の原子炉。
【請求項１８】
前記光スイッチは、前記放射性燃料供給源の放射性崩壊の速度を少なくとも部分的に制御するために、前記放出器装置の動作の間に均一な電流フローを促進する制御された様式で活性化される、請求項１６に記載の原子炉。
【請求項１９】
前記原子炉は複数の前記放出器装置を備え、前記放出器装置の全部が、前記放射性燃料供給源に向かって誘導されるエネルギービームを生成するように構成されている、請求項１３〜１８のいずれかに記載の原子炉。
【請求項２０】
前記複数のキャパシタ要素はキャパシタ・アレイを形成するためにスタックされ、前記キャパシタ・アレイは、前記キャパシタ・アレイを通して形成される導管を通って前記荷電粒子を加速するように構成され、前記キャパシタ要素の一つ一つは、ダイヤモンドまたはダイヤモンド状炭素を含む少なくとも１つの電極、および前記キャパシタ要素の放電の間における活性化のために構成された少なくとも１つの光スイッチを備える、請求項１３〜１９のいずれかに記載の原子炉。