(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
マスクホルダに保持されたフォトマスク面と露光チャックに保持されたガラス基板面との間に形成されるギャップを所定のギャップとなるようにプロキシミテイギャップ制御を行なって露光を行なうプロキシミテイ露光方法において、
前記フォトマスクよりも大きな前記ガラス基板に対して少なくとも２回の露光ステップで分割して露光を行なうように、該フォトマスクに対する前記露光チャック上の該ガラス基板の水平方向相対位置を各露光ステップに対応する所定位置に順次位置決めし、位置決めされた各所定位置でそれぞれ前記プロキシミテイギャップ制御を行なって露光処理を行なう、複数の露光ステップからなる露光工程と、
最後の露光ステップでの露光処理の終了後に、前記フォトマスクに対して前記露光チャックを相対的に下降させて所定の搬出位置に設定し、該搬出位置で該露光チャックから露光済みのガラス基板を搬出する搬出工程と、
前記露光チャックを相対的に下降させたままの状態で、前記フォトマスクに対する該露光チャックの水平方向相対位置を最初の露光ステップに対応する位置まで戻す戻し工程と、
前記最初の露光ステップに対応する相対位置まで戻された前記露光チャック上に新たなガラス基板を搬入する搬入工程と
前記搬入工程の後前記露光チャックを前記フォトマスクに対して相対的に所定量上昇させ、その後前記露光工程を開始させる工程とを具え、前記露光工程によって前記新たなガラス基板に対する露光処理が行なわれるようにしたプロキシミテイ露光方法。
【請求項２】
マスクホルダに保持されたフォトマスク面と露光チャックに保持されたガラス基板面との間に形成されるギャップを所定のギャップとなるようにプロキシミテイギャップ制御を行なって露光を行なうプロキシミテイ露光装置において、
所定の搬入位置において、露光すべき新たなガラス基板を前記露光チャックに搬入する搬入手段と、
前記搬入位置とは異なる所定の搬出位置において、露光済みのガラス基板を前記露光チャックから搬出する搬出手段と
前記フォトマスクに対する前記露光チャックの水平方向相対位置の位置決めを行なう水平移動手段と、
前記フォトマスクに対する前記露光チャックの垂直方向相対位置の位置決めを行なう垂直移動手段と、
前記水平移動手段及び垂直移動手段を制御して、前記フォトマスクよりも大きな前記ガラス基板に対して少なくとも２回の露光ステップで分割して露光を行なうように、該フォトマスクに対する前記露光チャック上の該ガラス基板の水平方向相対位置を各露光ステップに対応する所定位置に順次位置決めし、位置決めされた各所定位置でそれぞれ前記プロキシミテイギャップ制御を行なって露光処理を行なう第１の制御手段と、
前記水平移動手段及び垂直移動手段を制御して、露光済みのガラス基板を前記所定の搬出位置まで搬送し、該搬出位置で前記搬出手段による該ガラス基板の搬出が行なわれるようにし、さらに前記所定の搬入位置まで前記露光チャックを相対的に移動させ、該搬入位置で前記搬入手段による新たなガラス基板の搬入が行なわれるようにする第２の制御手段と具え、前記マスクホルダは、前記フォトマスクを上面側で吸着する吸着窓を有する上面マスクホルダと前記フォトマスクを下面側で吸着する吸着窓を有する下面マスクホルダとからなり、前記上面マスクホルダと前記下面マスクホルダの両方の吸着窓によって前記フォトマスクの外周形状に沿った部分を吸着保持するように構成されてなることを特徴とするプロキシミテイ露光装置。
【請求項３】
請求項１に記載のプロキシミテイ露光方法を用いた液晶ディスプレイの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は、液晶ディスプレイの製造工程においてガラス基板上にパターンを形成するプロキシミティ露光装置に係り、特にフォトマスクよりも大きなガラス基板に対して露光を行うことのできるプロキシミティ露光方法及び装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
液晶ディスプレイ（ＬＣＤ：Ｌｉｑｕｉｄ  Ｃｒｙｓｔａｌ  Ｄｉｓｐｌａｙ）は、ＣＲＴ（Ｃａｔｈｏｄｅ  Ｒａｙ  Ｔｕｂｅ）に比べて薄型化、軽量化が可能であるため、ＣＴＶ（Ｃｏｌｏｒ  Ｔｅｌｅｖｉｓｉｏｎ）やＯＡ機器等のディスプレイ装置として採用され、画面サイズも１０型以上の大形化が図られ、より一層の高精細化及びカラー化が押し進められている。
【０００３】
液晶ディスプレイは、フォトリソグラフィ技術によりガラス基板の表面に微細なパターンを描画して作られる。露光装置はこの微細パターンをガラス基板上に描画するものである。この露光装置としては、マスクパターンをレンズ又はミラーを用いてガラス基板上に投影するプロジェクション方式と、フォトマスクとガラス基板との間に微小なギャップを設けてマスクパターンを転写するプロキシミティ方式とがある。プロキシミティ方式の露光装置は、プロジェクション方式に比べてパターン解像性能が劣るものの、照射光学系が非常にシンプルであり、スループットが高く、装置コストから見たコストパフォーマンスも優れており、生産性の高い量産用装置に適したものである。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
プロキシミティ方式の露光装置においては、フォトマスクとガラス基板との間隔が微小ギャップ（セパレーションギャップ）となるようにガラス基板の位置決め制御、いわゆるプロキシミティギャップ制御を行っているが、このプロキシミティギャップ制御の高速化が露光装置のスループットを向上する上での重要な課題である。ところが、液晶ディスプレイのサイズが大型化するに伴って、ガラス基板のサイズも３００×４００ｍｍのものから、１０型クラスのパネルを４面取れる３６０×４６０ｍｍ〜３７０×４７０ｍｍへと移行し、現在では１０．４〜１２．１型クラスのパネルを６面又は１５型クラスのパネルを２面取ることのできる５５０×６５０ｍｍ以上のサイズのガラス基板に対してプロキシミティ方式の露光装置を適用することが命題となっている。
【０００５】
ガラス基板のサイズが大型化されると、プロキシミティギャップ制御の高速化が困難になると共に大型のガラス基板を短時間で搬送することが重要な課題となってきた。以下、この課題について図７を用いて説明する。
【０００６】
図７に示すように、ガラス基板１は露光チャック２の上に吸着保持される。露光チャック２は図示していない３つのチルト駆動モータによってＺ軸方向に駆動制御され、プロキシミティギャップ制御を行う。フォトマスク３は、その外周全体に渡って設けられた吸着型のマスクホルダ４によって下側から吸着保持されている。すなわち、フォトマスク３の形状が正方形の場合、マスクホルダ４はその正方形の外周に沿って配置される。露光チャック２はガラス基板１をマスクホルダ４の内壁面に沿うようにして挿入する。ギャップ検出器５Ｂ〜８ＢはＬＥＤとＣＣＤリニアイメージセンサから構成され、フォトマスク３に形成されたギャップ窓５Ｃ〜８Ｃを介してガラス基板１とフォトマスク３との間のギャップを測定する。チルト駆動モータはこの検出ギャップが４箇所ともに数十μｍ程度のギャップとなるようにプロキシミティギャップ制御を行う。
【０００７】
このプロキシミティギャップ制御を行うには、まず、露光チャック２をチルト駆動モータによってＺ軸方向に移動してガラス基板１をプロキシミティギャップ制御開始位置に位置決めすることが必要である。従来は、露光チャック２をチルト駆動モータでＺ軸方向に移動し、ガラス基板１をプロキシミティギャップ制御開始位置に位置決めしていた。ところが、ガラス基板の大型化に伴いフォトマスク３も大型化したために、図７に示すように、フォトマスク３、マスクホルダ４、ガラス基板１及び露光チャック２によって囲まれた空間に空気が溜まり、この空気溜まりによってフォトマスク３が図のように凸状にたわむようになった。露光チャック２の上昇及びプロキシミティギャップ制御開始位置への停止に伴ってフォトマスク３のたわみ量は増大し、最大たわみ量に達し、その後は空間に溜まった空気の排出に伴って、徐々にたわみ量も減少するという特性を示す。
【０００８】
従来の露光装置は、露光チャック２がプロキシミティギャップ制御開始位置に停止してから所定時間経過時点でプロキシミティギャップ制御を開始していた。ところが、フォトマスクが大型化すると、フォトマスク３のたわみ量が所定時間内に許容たわみ量以下に到達しないので、所定時間経過時点でプロキシミティギャップ制御を行ったとしても、安定したギャップ量を得ることができないため、製品の微細条件が不安定になるという問題を有していた。また、プロキシミティギャップ制御が完了してから露光が完了するまでの間にギャップが変化するために、露光ぼけ量が大きくなり、高精細な製品が作成できなくなるという問題も有していた。
【０００９】
また、従来のプロキシミティ露光装置では、フォトマスク３のマスクホルダ４内にガラス基板１及び露光チャック２を挿入することができなければならない。ところが、１０．４〜１２．１型クラスのパネルを６面又は１５型クラスのパネルを２面取ることのできる５５０×６５０ｍｍ以上のサイズのガラス基板１に対して従来のプロキシミティ露光装置を用いて露光を行う場合には、フォトマスク３の大きさをこのガラス基板１よりも十分大きくしなければならない。フォトマスク３が大きくなると、それに伴ってフォトマスク３の自重によるたわみ量も大きくなり、また、露光チャック２の上昇に伴う図７のような凸状のたわみ量も大きくなり、プロキシミティギャップ制御に至るまでの時間が大幅に増大するという問題を有する。また、フォトマスク３が大きくなると、それに伴ってマスクパターンを作成するためのコストも上昇し、コスト低減の意味からも好ましくないという問題を有していた。
【００１０】
また、タクト作業により多数のガラス基板に対して順次露光処理を施す場合に、露光チャックからの露光済みのガラス基板の搬出作業と露光チャックヘの新たなガラス基板の搬入作業とが幅湊しないようにすることが従来は考えられておらず、そのため、タクト作業に時間がかかり、作業効率を向上させることができない、という問題点があった。
【００１１】
本発明は、フォトマスクよりも大きなサイズのガラス基板に対してプロキシミティ露光を高速にかつ効率的に行うことのできるプロキシミティ露光装置を提供することを目的とする。
【００１２】
【課題を解決するための手段】
請求項１に記載された本発明に係るプロキシミティ露光方法は、マスクホルダに保持されたフォトマスク面と露光チャックに保持されたガラス基板面との間に形成されるギャップを所定のギャップとなるようにプロキシミテイギャップ制御を行なって露光を行なうプロキシミテイ露光方法において、前記フォトマスクよりも大きな前記ガラス基板に対して少なくとも２回の露光ステップで分割して露光を行なうように、該フォトマスクに対する前記露光チャック上の該ガラス基板の水平方向相対位置を各露光ステップに対応する所定位置に順次位置決めし、位置決めされた各所定位置でそれぞれ前記プロキシミテイギャップ制御を行なって露光処理を行なう、複数の露光ステップからなる露光工程と、最後の露光ステップでの露光処理の終了後に、前記フォトマスクに対して前記露光チャックを相対的に下降させて所定の搬出位置に設定し、該搬出位置で該露光チャックから露光済みのガラス基板を搬出する搬出工程と、前記露光チャックを相対的に下降させたままの状態で、前記フォトマスクに対する該露光チャックの水平方向相対位置を最初の露光ステップに対応する位置まで戻す戻し工程と、前記最初の露光ステップに対応する相対位置まで戻された前記露光チャック上に新たなガラス基板を搬入する搬入工程と前記搬入工程の後前記露光チャックを前記フォトマスクに対して相対的に所定量上昇させ、その後前記露光工程を開始させる工程とを具え、前記露光工程によって前記新たなガラス基板に対する露光処理が行なわれるようにしたものである。
【００１３】
請求項２に記載された本発明に係るプロキシミティ露光装置は、マスクホルダに保持されたフォトマスク面と露光チャックに保持されたガラス基板面との間に形成されるギャップを所定のギャップとなるようにプロキシミテイギャップ制御を行なって露光を行なうプロキシミテイ露光装置において、所定の搬入位置において、露光すべき新たなガラス基板を前記露光チャックに搬入する搬入手段と、前記搬入位置とは異なる所定の搬出位置において、露光済みのガラス基板を前記露光チャックから搬出する搬出手段と前記フォトマスクに対する前記露光チャックの水平方向相対位置の位置決めを行なう水平移動手段と、前記フォトマスクに対する前記露光チャックの垂直方向相対位置の位置決めを行なう垂直移動手段と、前記水平移動手段及び垂直移動手段を制御して、前記フォトマスクよりも大きな前記ガラス基板に対して少なくとも２回の露光ステップで分割して露光を行なうように、該フォトマスクに対する前記露光チャック上の該ガラス基板の水平方向相対位置を各露光ステップに対応する所定位置に順次位置決めし、位置決めされた各所定位置でそれぞれ前記プロキシミテイギャップ制御を行なって露光処理を行なう第１の制御手段と、前記水平移動手段及び垂直移動手段を制御して、露光済みのガラス基板を前記所定の搬出位置まで搬送し、該搬出位置で前記搬出手段による該ガラス基板の搬出が行なわれるようにし、さらに前記所定の搬入位置まで前記露光チャックを相対的に移動させ、該搬入位置で前記搬入手段による新たなガラス基板の搬入が行なわれるようにする第２の制御手段とを具え、前記マスクホルダは、前記フォトマスクを上面側で吸着する吸着窓を有する上面マスクホルダと前記フォトマスクを下面側で吸着する吸着窓を有する下面マスクホルダとからなり、前記上面マスクホルダと前記下面マスクホルダの両方の吸着窓によって前記フォトマスクの外周形状に沿った部分を吸着保持するように構成されてなることを特徴とする。
【００１４】
この発明に係るプロキシミテイ露光方法によれば、新たなガラス基板を搬入する搬入工程と露光済みのガラス基板を搬出する搬出工程とを異なる位置で行なうようにしているので、ガラス基板の搬入作業と搬出作業とが幅湊することなく、全体として効率的な流れで、プロキシミテイ露光処理のためのタクト作業を遂行させることができる。例えば、前記搬出工程において露光チャックから露光済みのガラス基板の搬出を開始すると直ちに（つまり露光済みのガラス基板を露光チャックから取り外したら直ちに）前記戻し工程を開始することができる。すなわち、露光チャックから露光済みのガラス基板が外されれば、露光済みのガラス基板の搬出作業を続行している最中でも、前記戻し工程を行なうことができる。また、搬入工程においては、最初の露光ステップに対応する相対位置まで露光チャックが戻されたときに該露光チャック上に新たなガラス基板を置けばよいので、露光チャックが該位置に達する前に、すなわち、前記戻し工程を行なっている最中において、さらには、前記露光済みのガラス基板の搬出作業を続行している最中であっても、搬入工程の搬入開始作業（新たなガラス基板のハンドリング作業など）を行なうことができる。このように、搬出工程、戻し工程、搬入工程における各作業を一部同時並行的に遂行することができるので、プロキシミテイ露光処理のためのタクト作業の効率を高め、全体として作業時間を短縮することができる。また、この発明に係るプロキシミテイ露光装置によれば、上記方法の実施に適した装置が提供され、上記と同様の効果が期待できる。
【００１５】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の一実施の形態を添付図面に従って説明する。図３は本発明に係るプロキシミティ露光装置の概略構成を示す図である。図では、ローダユニット５、基板搬入ユニット６及びアライメントステージユニット７について示し、他の部分（基板搬出ユニットやアンローダユニットなど）については、図示を省略している。
【００１６】
ローダユニット５はガラス基板１Ａを順次供給するものであり、インライン対応ローラコンベア方式を採用している。なお、カセットタイプ方式でもよいことはいうまでもない。ローダユニット５には、水冷のローダクーリングプレート５１が設けられている。ローダクーリングプレート５１はローダユニット５内を上下方向に移動して、上昇時にガラス基板１Ａに接触して、ガラス基板１Ａの温度調節すなわち冷却を行うようになっている。
【００１７】
基板搬入ユニット６はＸ・θ・Ｚの３軸で構成されており、ローダユニット５上のガラス基板１Ａを基板搬入ユニット６の上部に設けられた基板ローダセンタリングユニット９に搬入し、基板ローダセンタリングユニット９上でセンタリング位置決めされたガラス基板１Ｂを露光チャック２上に搬入する。基板搬入ユニット６のＸ・θ軸はリニアモータで駆動され、Ｚ軸はサーボモータで駆動されるようになっている。ここで、Ｘ軸はローダユニット５からアライメントステージユニット７に向かう方向が＋Ｘ方向であり、逆が−Ｘ方向である。なお、基板搬入ユニット６の詳細については後述する。
【００１８】
基板搬入ユニット６及び基板ローダセンタリングユニット９の上部には、恒温送風ユニット（ＨＥＰＡユニット）８が設けられている。恒温送風ユニット８は、設定温度±０．１°Ｃに調整されたエアーを０．１２μｍの粒子を集塵可能なフィルタを通してガラス基板１Ｂにダウンフローし、露光チャック２に搬入される前のガラス基板１Ｂの温度調整すなわち冷却を行うようになっている。また、基板搬入ユニット６の上側にはアライメントステージユニット７に搬入前のガラス基板１Ｂのセンタリングを行う基板センタリングユニット９が設けられている。この基板センタリングユニット９は、ガラス基板の多品種に対応しており、パルスモータ駆動方式によって、Ｙ軸方向におけるガラス幅の切り換えを自動で行ってセンタリングを行えるように構成されている。
【００１９】
アライメントステージユニット７は、露光チャック２、チルティングＺステージ１０及びガラス基板アライメントステージ（Ｘ・Ｙ・θ軸基板用テーブル）１１などで構成される。露光チャック２は基板搬入ユニット６によって搬入されて来たガラス基板１を吸着保持する。チルティングＺステージ１０は露光チャック２を平行に昇降する粗動ステージと、ガラス基板１をチルティングしてプロキシミティギャップ制御を行う３点接触型のチルト駆動モータとから構成される。ガラス基板アライメントステージ１１は、Ｘ・Ｙ・θ軸を駆動して、フォトマスク３に対してガラス基板１をアライメントする。なお、この実施の形態では、アライメントの前に、エッジ検出センサ（図示せず）を用いてガラス基板のエッジを非接触で検出し、その検出位置に基づいて、ガラス基板アライメントステージ１１を駆動させてプリアライメントを行うようになっている。また、図２には示されていないが、基板アライメントステージ１１には、ガラス基板１を保持した露光チャック２をそのままＸ軸方向にステップ移動させるためのステップテーブルが設けられている。ステップテーブルは光学式のリニアスケールを用いたクローズドループ制御にて位置決めされる。
【００２０】
フォトマスク３は上面マスクホルダ４Ｕと下面マスクホルダ４ＤＦ及び４ＤＲによって、その周辺付近を吸着保持されるようになっている。図３は、この上面マスクホルダ４Ｕと下面マスクホルダ４ＤＦ及び４ＤＲの詳細を示す図である。上面マスクホルダ４Ｕはフォトマスク３のＹ軸方向に沿った左右両側付近の上面部分を吸着窓４２及び４３で真空吸着して保持する。上面マスクホルダ４Ｕは図に示すように上面方向から見た形状が長方形をしている。吸着窓４２及び４３は、フォトマスク３との接する部分に設けられている。下面マスクホルダ４ＤＦはフォトマスク３のＸ軸方向に沿った前面側付近の下面部分を吸着窓で真空吸着して保持する。下面マスクホルダ４ＤＲはフォトマスク３のＸ軸方向に沿った後面側付近の下面部分を吸着窓で真空吸着して保持する。このようにフォトマスク３は、上面マスクホルダ４Ｕと下面マスクホルダ４ＤＦ及び４ＤＲによって、従来のマスクホルダと同様に４辺付近を真空吸着にて保持されるので、従来のマスクホルダと同じようにフォトマスク３の自重たわみを極力小さくすることができる。
【００２１】
なお、フォトマスク３の四隅には従来と同様に長方形のギャップ窓５Ｃ〜８Ｃが設けられている。フォトマスク３の上面側には、ギャップ窓５Ｃ及び６Ｃに対応して設けられたギャップ検出器と、フォトマスク３とガラス基板１とに設けられたアライメントパターンからの反射光に基づいて両者の位置合わせ（高精度アライメント）を行うアライメント検出器とを備えているが、本発明の説明とは直接関係ないのでここでは省略してある。また、この実施の形態では、上面マスクホルダ４Ｕと下面マスクホルダ４ＤＦ及び４ＤＲとでフォトマスク３を真空吸着保持する前に、３つの基準ピン３１〜３３及び３つのプッシャーピン３４〜３６によってピンアライメントによる位置決めを行う。すなわち、基準ピンは固定されているので、これらの基準ピン３１〜３３に対して３つのプッシャーピン３４〜３６のピンを押し当てることによって、ピンアライメントによる位置決めを行う。
【００２２】
ピンアライメントが終了したら、上面マスクホルダ４Ｕと下面マスクホルダ４ＤＦ及び４ＤＲとでフォトマスク３をそれぞれ真空吸着で保持し、ガラス基板１とフォトマスク３との間のプロキシミティギャップ制御をギャップ検出器を用いて行い、その後にアライメント検出器を用いて高精度アライメントを行う。高精度アライメントでは、フォトマスク３を基準に顕微鏡（図示せず）の移動量とアライメントマークのアライメント検出器のセンタからのズレ量を求め、それをガラス基板アライメントステージ１１にフィードバックし、フォトマスク３とガラス基板との位置合わせを行う。また、このアライメントステージユニット７には図示してない露光ユニットからの紫外線をガラス基板１Ｃ上のフォトマスク３に照射するための光学系などが存在する。なお、この露光ユニットからの紫外線が既に露光されたエリアのガラス基板に照射しないような露光シャッタなどが設けられている。
【００２３】
次に、図１及び図２を用いて、本発明のプロキシミティ露光装置の露光動作について説明する。図１及び図２は、図３のアライメントステージユニット７の一部を図面の表側（＋Ｙ方向）から見た側面図及び上面から見た上面図を示す。すなわち、ガラス基板１は基板搬入ユニット６によって左側から露光チャック２に搬入され、そこでプロキシミティギャップ制御処理、露光処理及びステップ移動処理を経て図示していない別の基板搬出ユニットによって右側に位置するアンローダユニット側に搬出される。図１及び図２はこの一連の処理の流れを示している。
【００２４】
図１（Ａ）は、フォトマスク３が上面マスクホルダ４Ｕ（図示せず）と下面マスクホルダ４ＤＦ及び４ＤＲによって吸着保持され、このフォトマスク３に対してガラス基板１の右側半分が対向するように基板搬入ユニット６によってローダユニット５からガラス基板１が露光チャック２上に搬入された状態を示す上面図である。図１（Ｂ）は図１（Ａ）に対応した側面図である。なお、上面図においては、ステップテーブル４１に関しては図示を省略してある。
【００２５】
図１（Ｂ）のようにガラス基板１の右側半分とフォトマスク３との位置決めが終了した時点で、基板アライメントステージ１１のＺ軸を駆動して、露光チャック２及びステップテーブル４１を上昇させて、図１（Ｃ）のように搬入用アーム６１上のガラス基板１を露光チャック２上に移し代える。このとき、搬入用アーム６１は露光チャック２の案内溝６３に沿って退避する。図１（Ｄ）は搬入用アーム６１が退避した状態を示す上面図である。搬入用アーム６１が退避したら、３点接触型のチルト駆動モータ（図示せず）を駆動して、図１（Ｅ）に示すようなプロキシミティギャップ制御位置までガラス基板１を上昇する。そして、所定時間経過後にギャップ検出器を用いてプロキシミティギャップ制御を行い、アライメント検出器を用いて高精度アライメントを行う。高精度アライメントが終了した時点で、それぞれの検出系すなわちギャップ検出器及びアライメント検出器などを退避させて、図１（Ｆ）に示すようにガラス基板１の右側半分に１回目の露光を行う。
【００２６】
１回目の露光が終了したら、基板アライメントステージ１１のＺ軸を駆動して、ガラス基板１、露光チャック２及びステップテーブル４１をフォトマスク３から微少距離だけ下降して、今度はステップテーブル４１をアンローダユニット側（＋Ｘ方向）にステップ移動させて、図１（Ｇ）及び図１（Ｈ）のようにガラス基板１の左側半分とフォトマスク３との位置決めを行う。そして、図２（Ａ）及び図２（Ｂ）のように、プロキシミティギャップ制御、高精度アライメント、検出系の退避を行うと共にアンローダユニット（図示せず）側の基板搬出ユニット（図示せず）の搬出アーム８１を露光チャック２の案内溝６３に進入させる。そして、図２（Ｃ）のように２回目の露光をガラス基板１の左側半分に行う。図２（Ｃ）のようにガラス基板１の左側半分の露光が終了した時点で、図２（Ｄ）及び図２（Ｅ）のように、基板アライメントステージ１１のＺ軸を駆動して、露光チャック２及びステップテーブル４１を下降させて、露光チャック２上の露光済のガラス基板１を搬出用アーム８１上に移し代える。次に、図２（Ｆ）のように搬出用アーム８１を基板搬出用ユニットに退避させると同時に露光チャック２及びステップテーブル４１をローダユニット側（−Ｘ方向）にステップ移動させ、図１（Ａ）及び図１（Ｂ）のような初期状態に戻す。そして、次のガラス基板１の右側半分がフォトマスク３に対向するように、基板搬入ユニット６の搬入アーム６１によってローダユニット５からガラス基板１を露光チャック２上に搬入する。そして、前述と同様の処理を繰り返す。
【００２７】
以上のような一連の処理を行うことによって、１回目の露光でパターン４枚分の露光をガラス基板１の左側半分に行い、２回目の露光でパターン４枚分の露光をガラス基板１の右側半分に行う。なお、１回目で２枚分、２回目で４枚分のパターンを露光をしてもよいし、１回目で４枚分、２回目で２枚分のパターンを露光してもよいことはいうまでもない。
【００２８】
図５及び図６は基板搬入ユニット６の詳細を示す図である。なお、基板搬出ユニットも同様の構成なので、ここでは説明を省略する。図５（Ａ）及び図５（Ｂ）は、ガラス基板１をローダユニット５から基板センタリングユニット９に搬入する状態を示す図であり、図５（Ａ）がその上面図を、図５（Ｂ）がその側面図を示す。なお、図５（Ａ）及び図５（Ｂ）で点線で示された搬入用アーム６１はＸ軸リニアモータ６２の駆動によって案内溝６３に沿ってローダユニット５側に移動した状態を示すものである。この場合、搬入用アーム６１のコの字型の先端部分はガラス基板１をローダユニット５から持ち上げ、Ｘ軸リニアモータ６２の駆動によって図５（Ａ）及び図５（Ｂ）のように基板センタリングユニット９側に移動する。
【００２９】
基板センタリングユニット９によってガラス基板１のセンタリングが終了したら、今度は基板搬入ユニット６はガラス基板１をアライメントステージユニット７に搬入する。図５（Ｃ）は、基板搬入ユニット６のθ軸リニアモータ６５の駆動によって反時計方向に９０度回転した状態を示す上面図である。図６（Ａ）は、図５（Ｃ）の状態からさらに反時計方向に９０度回転し、Ｘ軸リニアモータ６２の駆動によって露光チャック２側にガラス基板１を搬入した状態を示す上面図である。図６（Ｂ）は基板アライメントステージ１１のＺ軸を駆動して、露光チャック２及びステップテーブル４１を上昇させて、図１（Ｃ）のように搬入用アーム６１上のガラス基板１を露光チャック２上に移し代える直前を示す側面図である。搬入用アーム６１は、ガラス基板１を露光チャック２上に移し代えた時点で露光チャック２に設けられた案内溝６３に沿って退避する。以上のような一連の処理を経て、ガラス基板１はローダユニット５上から露光チャック２上に移動される。なお、基板搬出ユニットも同様の動作にて、基板の搬出作業を行う。
【００３０】
なお、上述の実施の形態では、ステップテーブルがＸ軸方向に移動する場合について説明したが、Ｙ軸方向に移動するようなものであってもよい。さらに、上述の実施の形態では、上面マスクホルダ４Ｕが長方形をしているが、これは下面マスクホルダ４ＤＦ，４ＤＲのような形状でもよい。
【００３１】
【発明の効果】
この発明のプロキシミティ露光装置によれば、フォトマスクよりも大きなサイズのガラス基板に対して高速かつ効率的にプロキシミティ露光を行うことができるという効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図１】図３のアライメントステージユニットの一部を図面の表側から見た図であり、プロキシミティ露光時における動作状態の前半を示す図である。
【図２】図３のアライメントステージユニットの一部を図面の表側から見た図であり、プロキシミティ露光時における動作状態の後半を示す図である。
【図３】本発明に係るプロキシミティ露光装置の概略構成を示す図である。
【図４】図３の上面マスクホルダと下面マスクホルダの詳細を示す図である。
【図５】基板搬入ユニットの詳細構成を示す図である。
【図６】基板搬入ユニットの詳細構成を示す別の図である。
【図７】従来のプロキシミティ露光装置の問題点を説明するための図である。
【符号の説明】
１…ガラス基板、２…露光チャック、３…マスク、４…マスクホルダ、４ＤＦ，４ＤＲ…下面マスクホルダ、４Ｕ…上面マスクホルダ、５Ｂ〜８Ｂ…ギャップ検出器、５Ｃ〜８Ｃ…ギャップ窓、５…ローダユニット、６…基板搬入ユニット、７…アライメントステージユニット、８…恒温送風ユニット（ＨＥＰＡユニット）、９…基板センタリングユニット、１０…チルティングＺステージ、１１…ガラス基板アライメントステージ、３１〜３３…基準ピン、３４〜３６…プッシャーピン、４１…ステップテーブル、５１…ローダクーリングプレート、６１…搬入用アーム、６２…Ｘ軸リニアモータ、６３…案内溝、６４…Ｚ軸サーボモータ、６５…θ軸リニアモータ、８１…搬出用アーム
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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