【手続補正書】
【提出日】平成29年2月2日(2017.2.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
鋳造システムであって、
炉であって、
側壁と、
入口断面積を画定する入口であって、前記側壁を通って画定された入口と、
複数の出口であって、各出口が出口断面積を画定し、前記側壁を通って画定される、複数の出口と、
前記入口と前記複数の出口との間の空洞であって、前記空洞が、前記入口から前記複数の出口に向かって先細りする、空洞と、を備える、炉と、
複数の金型であって、各金型が前記炉の前記出口のうちの１つと整列する、複数の金型と、を備える、鋳造システム。
【請求項２】
前記出口断面積の合計が、前記入口断面積と実質的に一致する、請求項１に記載の鋳造システム。
【請求項３】
前記側壁が、
第１の側壁と、
第２の側壁と、を備え、前記空洞が、前記第１の側壁と前記第２の側壁との間に画定され、前記第１の側壁が、前記第２の側壁と平行ではない、請求項１に記載の鋳造システム。
【請求項４】
前記複数の出口が、第１の出口および第２の出口を備え、前記第１の出口が、前記第１の側壁を通って延在し、前記第２の出口が、前記第２の側壁を通って延在する、請求項３に記載の鋳造システム。
【請求項５】
前記第１の出口が、第１の出口断面積を画定し、前記第２の出口が、第２の出口断面積を画定し、前記第２の出口断面積が、前記第１の出口断面積と実質的に一致する、請求項４に記載の鋳造システム。
【請求項６】
前記金型が、底部開放型の金型である、請求項１に記載の鋳造システム。
【請求項７】
エネルギー源を備え、前記エネルギー源が、前記炉内で物質にエネルギーを与えるように構造化され、前記物質の一部が、前記炉内で前記空洞を画定する固化したスカルを形成する、請求項１に記載の鋳造システム。
【請求項８】
各出口が、注入リップを備え、各注入リップが、前記鋳造システムの前記金型のうちの１つと整列する、請求項１に記載の鋳造システム。
【請求項９】
前記側壁を通る前記入口が入口断面積を画定し、
前記側壁を通る各出口が出口断面積を画定し、
前記側壁を通って画定された前記入口の前記断面積が、前記出口断面積の総計よりも大きい、請求項１に記載の鋳造システム。
【請求項１０】
前記入口および前記複数の出口の各出口が、前記側壁に画定された低縁部を備え、
前記入口の前記低縁部が、各出口の前記低縁部よりも低い、請求項１に記載の鋳造システム。
【請求項１１】
鋳造システムと共に使用するための炉であって、
側壁と、
前記側壁によって画定された空洞であって、
第１の端部と、
第２の端部であって、前記空洞が、前記第１の端部から前記第２の端部まで狭まる、第２の端部と、を備える、空洞と、
前記第１の端部における入口であって、前記側壁を通って画定された入口であり、入口容量を画定する、入口と、
前記第２の端部における出口であって、前記側壁を通って画定された出口であり、出口容量を画定する、出口と、を備える、炉。
【請求項１２】
前記側壁が、
第１の側壁と、
第２の側壁と、を備え、前記空洞が、前記第１の側壁と前記第２の側壁との間に画定され、前記第１の側壁が、前記第２の側壁に対して角度を成して配向される、請求項１１に記載の炉。
【請求項１３】
前記空洞内に、前記第１の端部と前記第２の端部との間に狭まった形状を画定する物質のスカルをさらに備える、請求項１１に記載の炉。
【請求項１４】
前記出口が、第１の出口であり、前記炉が、出口容量を画定する第２の出口を備え、前記第１の出口と前記第２の出口の前記出口容量の合計が、前記入口容量と実質的に一致する、請求項１１に記載の炉。
【請求項１５】
前記入口が低縁部を備え、前記出口が低縁部を備え、前記出口の前記低縁部が、前記入口の前記低縁部よりも高い、請求項１１に記載の炉。
【請求項１６】
前記空洞が、前記第１の端部と前記第２の端部との間の流路を画定し、前記空洞が、
前記入口付近の前記流路に対して横方向の第１の断面積と、
前記出口付近の前記流路に対して横方向の第２の断面積と、を備え、前記第１の断面積が前記第２断面積よりも大きい、請求項１１に記載の炉。
【請求項１７】
前記入口容量が、前記出口容量と実質的に一致する、請求項１１に記載の炉。
【請求項１８】
前記入口容量が、前記出口容量を超える、請求項１１に記載の炉。
【請求項１９】
鋳造システムと共に使用するための炉であって、
溶融物質を担持するための担持手段であって、
溶融物質を受容するための受容手段であって、前記受容手段が受容容量を備え、側壁を通って画定された入口をさらに備える、受容手段と、
溶融物質を送達するための送達手段であって、前記送達手段が送達容量を備え、前記送達容量が前記受容容量と実質的に等しく、前記送達手段が前記側壁を通って画定された出口をさらに備える、送達手段と、を備える、担持手段と、
前記受容手段から前記送達手段まで前記担持手段を狭めるための狭小化手段と、を備える、炉。
【請求項２０】
前記狭小化手段が、非平行な側壁を備える、請求項１９に記載の炉。
【請求項２１】
前記狭小化手段が、前記担持手段と一体の物質のスカルを備える、請求項１９に記載の炉。
【請求項２２】
前記側壁を通る前記入口が入口断面積を画定し、
前記側壁を通る前記出口が出口断面積を画定し、
前記側壁を通って画定された前記入口の前記断面積が、前記側壁を通って画定された前記出口の前記断面積よりも大きい、請求項１９に記載の炉。
【請求項２３】
前記入口および前記出口のそれぞれが、前記側壁に画定された低縁部を備え、前記入口の前記低縁部が、前記出口の前記低縁部よりも低い、請求項１９に記載の炉。
【請求項２４】
鋳造システムであって、
側壁を含む炉と、
エネルギー源と、
前記炉内に一体的に形成された物質のスカルと、を備え、物質の前記スカルが、
入口断面積を画定する入口であって、前記側壁を通って画定された入口と、
出口断面積を画定する出口であって、前記側壁を通って画定された出口と、
前記入口と前記出口との間の空洞であって、前記空洞が、前記入口から前記出口に向かって先細りする、空洞と、を備える、鋳造システム。
【請求項２５】
前記出口断面積が、前記入口断面積未満である、請求項２４に記載の鋳造システム。
【請求項２６】
前記スカルが、各々出口断面積を備える複数の出口を備え、前記出口断面積の合計が前記入口断面積と実質的に一致する、請求項２４に記載の鋳造システム。
【請求項２７】
複数の金型を備え、各出口が前記金型のうちの１つと整列する、請求項２６に記載の鋳造システム。
【請求項２８】
前記入口および前記出口のそれぞれが、前記側壁に画定された低縁部を備え、前記入口の前記低縁部が、前記出口の前記低縁部よりも低い、請求項２４に記載の鋳造システム。
【請求項２９】
物質を鋳造するための方法であって、
入口に溶融物質を通して炉内に入れるステップと、
前記炉内の前記溶融物質にエネルギーを選択的に印加して、前記炉内で物質のスカルを形成するステップであって、物質の前記スカルが空洞を画定する、ステップと、
前記炉の出口に前記溶融物質を通すステップであって、前記空洞が、前記入口から前記出口まで先細りする、ステップと、
金型内に前記溶融物質を通すステップと、を含む、方法。
【請求項３０】
前記入口が入口容量を備え、前記出口が、前記入口容量に等しいか、またはそれ未満のうちの１つである出口容量を備える、請求項２９に記載の方法。
【請求項３１】
鋳造システムと共に使用するための炉であって、
入口断面積を画定する入口と、
出口断面積を画定する出口であって、前記出口断面積が、前記入口断面積未満である、出口と、
前記入口と前記出口との間の空洞であって、前記空洞が、前記入口から前記出口に向かって先細りする、空洞と、を備える、炉。
【請求項３２】
第１の側壁と、
第２の側壁と、をさらに備え、前記空洞が、前記第１の側壁と前記第２の側壁との間に画定され、前記第１の側壁が、前記第２の側壁に対して約１度〜約１０度の角度を成して配向される、請求項３１に記載の炉。
【請求項３３】
前記入口および前記出口が、各々低縁部を備え、前記入口の前記低縁部が、前記出口の前記低縁部よりも低い、請求項３１に記載の炉。
【請求項３４】
第２の出口をさらに備え、前記空洞が、前記入口から前記第２の出口に向かって先細りする、請求項３１に記載の炉。
【請求項３５】
請求項３１に記載の炉と、
前記炉の前記出口と整列する金型と、を備える、鋳造システム。
【請求項３６】
前記金型が、底部開放型の金型を備える、請求項３５に記載の鋳造システム。
【請求項３７】
エネルギー源をさらに備え、前記エネルギー源が、前記炉内で物質にエネルギーを与えるように構造化され、前記物質の一部が、前記炉内で前記空洞を画定する固化したスカルを形成する、請求項３５に記載の鋳造システム。
【請求項３８】
鋳造システムと共に使用するための炉であって、
入口断面積を画定する入口と、
複数の出口であって、各出口が出口断面積を画定し、各出口断面積が、前記入口断面積未満である、複数の出口と、
前記入口と前記複数の出口との間の空洞であって、前記空洞が、前記入口から前記複数の出口に向かって先細りする、空洞と、を備える、炉。
【請求項３９】
前記出口断面積の合計が、前記入口断面積と実質的に一致する、請求項３８に記載の炉。
【請求項４０】
第１の側壁と、
第２の側壁と、をさらに備え、前記空洞が、前記第１の側壁と前記第２の側壁との間に画定され、前記第１の側壁が、前記第２の側壁に対して約１度〜約１０度の角度を成して配向される、請求項３８に記載の炉。
【請求項４１】
前記複数の出口が、第１の出口および第２の出口を備え、前記第１の出口が、前記第１の側壁を通って延在し、前記第２の出口が、前記第２の側壁を通って延在する、請求項４０に記載の炉。
【請求項４２】
前記第１の出口が、第１の出口断面積を画定し、前記第２の出口が、第２の出口断面積を画定し、前記第２の出口断面積が、前記第１の出口断面積と実質的に一致する、請求項４１に記載の炉。
【請求項４３】
請求項３８に記載の炉と、
複数の金型であって、各金型が前記出口のうちの１つと整列する、金型と、を備える、鋳造システム。
【請求項４４】
エネルギー源をさらに備え、前記エネルギー源が、前記炉内で物質にエネルギーを与えるように構造化され、前記物質の一部が、前記炉内で前記空洞を画定する固化したスカルを形成する、請求項４３に記載の鋳造システム。
【請求項４５】
鋳造システムであって、
炉と、
エネルギー源と、
前記炉内に形成された物質のスカルと、を備え、物質の前記スカルが、
入口断面積を画定する入口と、
出口断面積を画定する出口と、
前記入口と前記出口との間の空洞であって、前記空洞が、前記入口から前記出口に向かって先細りする、空洞と、を備える、鋳造システム。
【請求項４６】
前記出口断面積が、前記入口断面積未満である、請求項４５に記載の鋳造システム。
【請求項４７】
前記スカルが、各々出口断面積を備える複数の出口を備え、前記出口断面積の合計が前記入口断面積と実質的に一致する、請求項４５に記載の鋳造システム。
【請求項４８】
物質を鋳造するための方法であって、
炉の入口に溶融物質を通すステップであって、前記入口が入口容量を備える、ステップと、
前記炉の先細りした空洞に前記溶融物質を通すステップと、
前記炉の複数の出口に前記溶融物質を通すステップであって、各出口が出口容量を備え、前記出口容量の合計が前記入口容量と実質的に一致し、前記先細りした空洞が前記入口から前記複数の出口まで狭まる、ステップと、
複数の金型内に前記溶融物質を通すステップと、を含む、方法。
【請求項４９】
前記方法が、連続鋳造法である、請求項４８に記載の方法。
【請求項５０】
前記炉に向かってエネルギーを指向して、中に先細りした物質のスカルを形成するステップをさらに含む、請求項４８に記載の方法。
【請求項５１】
前記入口が、前記炉内の側壁を通って画定される、請求項４８に記載の方法。
【請求項５２】
前記複数の出口が、前記炉内の側壁を通って画定される、請求項４８に記載の方法。
【請求項５３】
物質を鋳造するための方法であって、
炉の入口に溶融物質を通すステップであって、前記入口が入口容量を備える、ステップと、
前記炉の先細りした空洞に前記溶融物質を通すステップと、
前記炉の出口に前記溶融物質を通すステップであって、前記出口が出口容量を備え、前記出口容量が前記入口容量未満であり、前記先細りした空洞が前記入口から前記出口まで均一に狭まる、ステップと、
金型内に前記溶融物質を通すステップと、を含む、方法。
【請求項５４】
前記方法が、連続鋳造法を含む、請求項５３に記載の方法。
【請求項５５】
前記炉に向かってエネルギーを指向して、中に先細りした物質のスカルを形成するステップをさらに含む、請求項５３に記載の方法。
【請求項５６】
前記入口が、前記炉内の側壁を通って画定される、請求項５３に記載の方法。
【請求項５７】
前記出口が、前記炉内の側壁を通って画定される、請求項５３に記載の方法。
【請求項５８】
物質を鋳造するための方法であって、
炉の入口に溶融物質を通すステップであって、前記入口が入口断面積を備える、ステップと、
前記炉の空洞に前記溶融物質を通すステップと、
前記炉の出口に前記溶融物質を通すステップであって、前記出口が出口断面積を備え、前記出口断面積が前記入口断面積未満であり、前記空洞が、前記入口から前記出口に向かって先細りする、ステップと、
金型内に前記溶融物質を通すステップと、を含む、方法。
【請求項５９】
出発物質にエネルギーを印加して、前記溶融物質を形成するステップをさらに含む、請求項５８に記載の方法。
【請求項６０】
前記方法が、連続鋳造法を含む、請求項５８に記載の方法。
【請求項６１】
物質を鋳造するための方法であって、
炉の入口に溶融物質を通すステップであって、前記入口が入口断面積を備える、ステップと、
前記炉の空洞に前記溶融物質を通すステップと、
前記炉の出口に前記溶融物質を通すステップであって、前記出口が出口断面積を備え、前記入口断面積が前記出口断面積と実質的に一致し、前記空洞が、前記入口から前記出口に向かって先細りする、ステップと、を含む、方法。
【請求項６２】
前記方法が、連続鋳造法を含む、請求項６１に記載の方法。
【請求項６３】
物質を鋳造するための方法であって、
炉の入口に溶融物質を通すステップと、
前記炉の空洞に前記溶融物質を通すステップと、
前記炉の出口に前記溶融物質を通すステップであって、前記空洞が、前記入口から前記出口に向かって均一に先細りする、ステップと、を備える、方法。
【請求項６４】
前記方法が、連続鋳造法を含む、請求項６３に記載の方法。
【請求項６５】
前記入口が入口容量を備え、前記出口が出口容量を備え、前記入口容量が前記出口容量に実質的に等しい、請求項６３に記載の方法。
【請求項６６】
前記炉が、複数の出口を備える、請求項６３に記載の方法。
【請求項６７】
前記炉が、複数の入口を備える、請求項６６に記載の方法。
【請求項６８】
鋳造システムであって、
炉であって、
入口断面積を画定する入口と、
複数の出口であって、各出口が出口断面積を画定する、複数の出口と、
前記入口と前記複数の出口との間の空洞であって、前記空洞が、前記入口から前記複数の出口に向かって先細りする、空洞と、を備える、炉と、
複数の金型であって、１つの金型が前記炉の各出口と整列する、複数の金型と、を備える、鋳造システム。
【請求項６９】
前記出口断面積の合計が、前記入口断面積と実質的に一致する、請求項６８に記載の鋳造システム。
【請求項７０】
前記炉が、
第１の側壁と、
第２の側壁と、を備え、前記空洞が、前記第１の側壁と前記第２の側壁との間に画定され、前記第１の側壁が、前記第２の側壁と平行ではない、請求項６８に記載の鋳造システム。
【請求項７１】
前記複数の出口が、第１の出口および第２の出口を備え、前記第１の出口が、前記第１の側壁を通って延在し、前記第２の出口が、前記第２の側壁を通って延在する、請求項７０に記載の鋳造システム。
【請求項７２】
前記第１の出口が、第１の出口断面積を画定し、前記第２の出口が、第２の出口断面積を画定し、前記第２の出口断面積が、前記第１の出口断面積と実質的に一致する、請求項７１に記載の鋳造システム。
【請求項７３】
前記金型が、底部開放型の金型である、請求項６８に記載の鋳造システム。
【請求項７４】
エネルギー源を備え、前記エネルギー源が、前記炉内で物質にエネルギーを与えるように構造化され、前記物質の一部が、前記炉内で前記空洞を画定する固化したスカルを形成する、請求項６８に記載の鋳造システム。
【請求項７５】
各出口が、注入リップを備え、各注入リップが、前記鋳造システムの金型と整列する、請求項６８に記載の鋳造システム。
【請求項７６】
鋳造システムと共に使用するための炉であって、
空洞であって、
第１の端部と、
第２の端部であって、前記空洞が、前記第１の端部と前記第２の端部との間で狭まる、第２の端部と、を備える、空洞と、
前記第１の端部における入口であって、前記入口が入口容量を画定する、入口と、
前記第２の端部における出口であって、前記出口が出口容量を画定する、出口と、を備える、炉。
【請求項７７】
第１の側壁と、
第２の側壁と、を備え、前記空洞が、前記第１の側壁と前記第２の側壁との間に画定され、前記第１の側壁が、前記第２の側壁に対して角度を成して配向される、請求項７６に記載の炉。
【請求項７８】
前記空洞が、物質のスカルを備え、物質の前記スカルが、前記第１の端部と前記第２の端部との間に狭まった形状を画定する、請求項７６に記載の炉。
【請求項７９】
前記出口が、第１の出口であり、前記炉が、出口容量を画定する第２の出口を備え、前記第１の出口と前記第２の出口の前記出口容量の合計が、前記入口容量と実質的に一致する、請求項７６に記載の炉。
【請求項８０】
前記入口が低縁部を備え、前記出口が低縁部を備え、前記出口の前記低縁部が、前記入口の前記低縁部よりも高い、請求項７６に記載の炉。
【請求項８１】
鋳造システムであって、
炉であって、
入口断面積を画定する入口と、
複数の出口であって、各出口が、前記入口断面積未満の出口断面積を画定する、複数の出口と、
前記入口と前記複数の出口との間の空洞であって、前記空洞が、前記入口から前記出口まで継続的に縮小される空洞断面積を画定する、空洞と、を備える、炉と、
複数の金型であって、１つの金型が前記炉の各出口と整列する、複数の金型と、を備える、鋳造システム。
【請求項８２】
前記出口断面積の合計が、前記入口断面積と実質的に一致する、請求項８１に記載の鋳造システム。
【請求項８３】
前記炉が、
第１の壁と、
第２の壁と、を備え、前記空洞が、前記第１の壁と前記第２の壁との間に少なくとも部分的に画定され、前記第１の壁が、前記第２の壁と平行ではない、請求項８１に記載の鋳造システム。
【請求項８４】
前記複数の出口が、第１の出口および第２の出口を備え、前記第１の出口が、前記第１の壁を通って延在し、前記第２の出口が、前記第２の壁を通って延在する、請求項８３に記載の鋳造システム。
【請求項８５】
前記第１の出口が、第１の出口断面積を画定し、前記第２の出口が、第２の出口断面積を画定し、前記第２の出口断面積が、前記第１の出口断面積と実質的に一致する、請求項８４に記載の鋳造システム。
【請求項８６】
前記金型が、底部開放型の金型である、請求項８１に記載の鋳造システム。
【請求項８７】
エネルギー源を備え、前記エネルギー源が、前記炉内で物質にエネルギーを与えるように構造化され、前記物質の一部が、前記炉内で前記空洞を少なくとも部分的に画定する固化したスカルを形成する、請求項８１に記載の鋳造システム。
【請求項８８】
各出口が、注入リップを備え、各注入リップが、前記鋳造システムの金型と整列する、請求項８１に記載の鋳造システム。
【請求項８９】
前記入口が入口低縁部を備え、前記出口が出口低縁部を備え、前記出口低縁部が、前記入口低縁部よりも高い、請求項８１に記載の鋳造システム。
【請求項９０】
鋳造システムと共に使用するための炉であって、
空洞であって、
第１の端部と、
第２の端部であって、前記空洞が、前記第１の端部から前記第２の端部まで継続的に縮小される空洞断面積を画定する、第２の端部と、を備える、空洞と、
前記第１の端部における入口であって、前記入口が入口容量を画定する、入口と、
前記第２の端部における出口であって、前記出口が出口容量を画定する、出口と、を備える、炉。
【請求項９１】
第１の壁と、
第２の壁と、を備え、前記空洞が、前記第１の壁と前記第２の壁との間に画定され、前記第１の壁が、前記第２の壁に対して角度を成して配向される、請求項９０に記載の炉。
【請求項９２】
前記空洞が、物質のスカルを備え、物質の前記スカルが、前記第１の端部と前記第２の端部との間に傾斜形状を画定する、請求項９０に記載の炉。
【請求項９３】
前記出口が、第１の出口であり、前記炉が、出口容量を画定する第２の出口を備え、前記第１の出口と前記第２の出口の前記出口容量の合計が、前記入口容量と実質的に一致する、請求項９０に記載の炉。
【請求項９４】
鋳造システムであって、
エネルギー源と、
炉であって、側壁と、前記炉内に一体的に形成された物質のスカルと、を含む炉と、を備え、物質の前記スカルが、
入口断面積を画定する入口であって、前記側壁を通って画定された入口と、
出口断面積を画定する出口であって、前記側壁を通って画定された出口と、
前記入口と前記出口との間の空洞であって、前記空洞が、前記入口から前記出口に向かって継続的に縮小される空洞断面積を画定する、空洞と、を備える、鋳造システム。
【請求項９５】
前記入口が入口断面積を画定し、前記出口が、前記入口断面積未満の出口断面積を画定する、請求項９４に記載の鋳造システム。
【請求項９６】
前記入口が入口低縁部を備え、前記出口が出口低縁部を備え、前記出口低縁部が、前記入口低縁部よりも高い、請求項９４に記載の鋳造システム。
【請求項９７】
前記スカルが、複数の出口を備え、前記出口断面積の合計が前記入口断面積と実質的に一致する、請求項９４に記載の鋳造システム。
【請求項９８】
鋳造システムと共に使用するための装置であって、
側壁を備える炉と、
前記炉内に一体的に形成された物質のスカルと、を備え、物質の前記スカルが、
入口断面積を画定する入口であって、前記側壁を通って画定された入口と、
出口断面積を画定する出口であって、前記側壁を通って画定された出口と、
前記入口と前記出口との間の空洞であって、前記空洞が、前記入口から前記出口に向かって継続的に縮小される空洞断面積を画定する、空洞と、を備える、装置。
【請求項９９】
前記入口が入口断面積を画定し、前記出口が、前記入口断面積未満の出口断面積を画定する、請求項９８に記載の装置。
【請求項１００】
前記入口が入口低縁部を備え、前記出口が出口低縁部を備え、前記出口低縁部が、前記入口低縁部よりも高い、請求項９８に記載の装置。
【請求項１０１】
前記スカルが、複数の出口を備え、前記出口断面積の合計が前記入口断面積と実質的に一致する、請求項９８に記載の装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６０】
上の説明において、特定の詳細が、本明細書で説明される物品および方法の様々な実施形態の完全な理解を提供するために記載される。しかしながら、当業者は、本明細書で説明される実施形態がこれらの詳細を伴わずに実施され得ることを理解するであろう。他の例において、物品および方法に関連付けられた周知の構造および方法は、本明細書で説明される実施形態の不必要に曖昧な記述を避けるために、詳細に図示されないか、または説明されないことがある。また、この開示は、物品もしくは方法の様々な実施形態の様々な特徴、態様、および利点を説明している。この開示が、当業者が有用であることを見出し得る任意の組み合わせまたは下位の組み合わせにおいて、本明細書で説明される様々な実施形態の様々な特徴、態様、および利点のいずれかを組み合わせることによって達成され得る、多数の代替的な実施形態を包含することが理解される。
以上説明したように、本発明は以下の形態を有する。
［形態１］
鋳造システムであって、
炉であって、
入口断面積を画定する入口と、
複数の出口であって、各出口が出口断面積を画定する、複数の出口と、
前記入口と前記複数の出口との間の空洞であって、前記空洞が、前記入口から前記複数の出口に向かって先細りする、空洞と、を備える、炉と、
複数の金型であって、１つの金型が前記炉の各出口と整列する、複数の金型と、を備える、鋳造システム。
［形態２］
前記出口断面積の合計が、前記入口断面積と実質的に一致する、形態１に記載の鋳造システム。
［形態３］
前記炉が、
第１の側壁と、
第２の側壁と、を備え、前記空洞が、前記第１の側壁と前記第２の側壁との間に画定され、前記第１の側壁が、前記第２の側壁と平行ではない、形態１に記載の鋳造システム。
［形態４］
前記第１の側壁が、前記第２の側壁に対して約１度〜約１０度の角度を成して配向される、形態３に記載の鋳造システム。
［形態５］
前記複数の出口が、第１の出口および第２の出口を備え、前記第１の出口が、前記第１の側壁を通って延在し、前記第２の出口が、前記第２の側壁を通って延在する、形態３に記載の鋳造システム。
［形態６］
前記第１の出口が、第１の出口断面積を画定し、前記第２の出口が、第２の出口断面積を画定し、前記第２の出口断面積が、第１の出口断面積と実質的に一致する、形態５に記載の鋳造システム。
［形態７］
前記空洞が、長手方向軸を画定し、前記出口が、前記長手方向軸に対して対称的に配置される、形態１に記載の鋳造システム。
［形態８］
前記金型が、底部開放型の金型である、形態１に記載の鋳造システム。
［形態９］
エネルギー源を備え、前記エネルギー源が、前記炉内で物質にエネルギーを与えるように構造化され、前記物質の一部が、前記炉内で前記空洞を画定する固化したスカルを形成する、形態１に記載の鋳造システム。
［形態１０］
各出口が、注入リップを備え、各注入リップが、前記鋳造システムの金型と整列する、形態１に記載のシステム。
［形態１１］
前記炉が、流体ベースの冷却システムを備える、形態１に記載の鋳造システム。
［形態１２］
前記複数の金型が、平行鋳造のために配置される、形態１に記載の鋳造システム。
［形態１３］
鋳造システムと共に使用するための炉であって、
空洞であって、
第１の端部と、
第２の端部であって、前記空洞が前記第１の端部と前記第２の端部との間で狭まる、第２の端部と、を備える、空洞と、
第１の端部における入口であって、前記入口が入口容量を画定する、入口と、
第２の端部における出口であって、前記出口が出口容量を画定する、出口と、を備える、炉。
［形態１４］
第１の側壁と、
第２の側壁と、を備え、前記空洞が、前記第１の側壁と前記第２の側壁との間に画定され、前記第１の側壁が、前記第２の側壁に対して角度を成して配向される、形態１３に記載の炉。
［形態１５］
前記空洞が、第１の端部と第２の端部との間で約１度〜約１０度先細りする、形態１３に記載の炉。
［形態１６］
前記空洞が、第１の端部から第の２端部まで約４度先細りする、形態１５に記載の炉。
［形態１７］
前記空洞が、物質のスカルを備え、前記物質のスカルが、前記第１の端部と前記第２の端部との間に狭まった形状を画定する、形態１３に記載の炉。
［形態１８］
前記出口が、第１の出口であり、前記炉が、出口容量を画定する第２の出口を備え、前記第１の出口と前記第２の出口の前記出口容量の合計が、前記入口容量と実質的に一致する、形態１３に記載の炉。
［形態１９］
前記空洞が、長手方向軸を画定し、前記第１の出口および前記第２の出口が、前記長手方向軸に対して対称的に配置される、形態１８に記載の炉。
［形態２０］
前記入口が低縁部を備え、前記出口が低縁部を備え、前記出口の前記低縁部が、前記入口の前記低縁部よりも高い、形態１３に記載の炉。
［形態２１］
流体ベースの冷却システムを備える、形態１３に記載の炉。
［形態２２］
前記空洞が、前記第１の端部と前記第２の端部との間の流路を画定し、前記空洞が、
前記入口付近の前記流路に対して横方向の第１の断面積と、
前記出口付近の前記流路に対して横方向の第２の断面積と、を備え、前記第１の断面積が前記第２断面積よりも大きい、形態１３に記載の炉。
［形態２３］
前記入口容量が、前記出口容量と実質的に一致する、形態１３に記載の炉。
［形態２３］
前記入口容量が、前記出口容量を超える、形態１３に記載の炉。
［形態２５］
鋳造システムと共に使用するための炉であって、
前記溶融物質を担持するための担持手段であって、
溶融物質を受容するための受容手段であって、前記受容手段が受容容量を備える、受容手段と、
溶融物質を送達するための送達手段であって、前記送達手段が送達容量を備え、前記送達容量が前記受容容量と実質的に等しい、送達手段と、を備える、担持手段と、
前記受容手段と前記送達手段との間の前記担持手段を狭めるための狭小化手段と、を備える、炉。
［形態２６］
前記送達手段が、第１および第２の送達手段を備える、形態２５に記載の炉。
［形態２７］
前記狭小化手段が、非平行な側壁を備える、形態２５に記載の炉。
［形態２８］
前記狭小化手段が、物質のスカルを備える、形態２５に記載の炉。
［形態２９］
鋳造システムであって、
物質を受容するように構造化された炉と、
前記炉内で物質にエネルギーを与えるように構造化されたエネルギー源と、を備え、前記物質の一部が前記炉内で物質のスカルを形成し、物質の前記スカルが、
入口断面積を画定する入口と、
出口断面積を画定する出口と、
前記入口と前記出口との間の空洞であって、前記空洞が前記入口から前記出口に向かって先細りする、空洞と、を備える、鋳造システム。
［形態３０］
前記出口断面積が、前記入口断面積未満である、形態２９に記載の鋳造システム。
［形態３１］
前記スカルが、各々出口断面積を備える複数の出口を備え、前記出口断面積の合計が前記入口断面積と実質的に一致する、形態２９に記載の鋳造システム。
［形態３２］
複数の金型を備え、各出口が１つの金型と整列する、形態３１に記載の鋳造システム。
［形態３３］
前記エネルギー源が、電子ビーム銃およびプラズマ発生デバイスを含む群から選択される、形態２９に記載の鋳造システム。
［形態３４］
物質を鋳造するための方法であって、
炉の入口に溶融物質を通すことであって、前記入口が入口容量を備える、通すことと、
前記炉の先細りした空洞に前記溶融物質を通すことと、
前記炉の複数の出口に前記溶融物質を通すことであって、各出口が出口容量を備え、前記出口容量の前記合計が前記入口容量と実質的に一致する、通すことと、
複数の金型内に前記溶融物質を通すことと、を含む、方法。
［形態３５］
出発物質にエネルギーを印加して、前記溶融物質を形成することを含む、形態３４に記載の方法。
［形態３６］
前記複数の金型を同時に充填することを含む、形態３４に記載の方法。
［形態３７］
前記方法が、連続鋳造法である、形態３４に記載の方法。
［形態３８］
前記炉に向かってエネルギーを指向して、中に先細りした物質のスカルを形成することを含む、形態３４に記載の方法。
［形態３９］
物質を鋳造するための方法であって、
入口に溶融物質を通して炉内に入れることと、
前記炉内の前記溶融物質にエネルギーを選択的に印加して、前記炉内で物質のスカルを形成することであって、物質の前記スカルが空洞を画定する、形成することと、
前記炉の出口に前記溶融物質を通すことであって、前記空洞が前記入口から前記出口まで先細りする、通すことと、
金型内に前記溶融物質を通すことと、を含む、方法。
［形態４０］
前記入口が入口容量を備え、前記出口が、前記入口容量に等しいか、またはそれ未満のうちの１つである出口容量を備える、形態３９に記載の方法。
［形態４１］
前記方法が、連続鋳造法である、形態３９に記載の方法。
［形態４２］
前記金型から鋳造物質を取り除くことを含む、形態４１に記載の方法。
［形態４３］
前記炉内の前記溶融物質にエネルギーを印加して、溶融物質中の封入物を除去することを含む、形態３９に記載の方法。