【誤訳訂正書】
【提出日】平成29年5月19日(2017.5.19)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも一つのパーソナルケア成分および少なくとも一つの両末端官能化イオン性シリコーンを含有し、
両末端官能化イオン性シリコーンが、式：
Ｍ１ａＭ２ｂＭ３ｃＤ１ｄＤ２ｅＤ３ｆＴ１ｇＴ２ｈＴ３ｉＱｊ  （Ｉ）
を有し、式中：
Ｍ１＝Ｒ１Ｒ２Ｒ３ＳｉＯ１／２
Ｍ２＝Ｒ４Ｒ５Ｒ６ＳｉＯ１／２
Ｍ３＝Ｒ７Ｒ８Ｒ９ＳｉＯ１／２
Ｄ１＝Ｒ１０Ｒ１１ＳｉＯ２／２
Ｄ２＝Ｒ１２Ｒ１３ＳｉＯ２／２
Ｄ３＝Ｒ１４Ｒ１５ＳｉＯ２／２
Ｔ１＝Ｒ１６ＳｉＯ３／２
Ｔ２＝Ｒ１７ＳｉＯ３／２
Ｔ３＝Ｒ１８ＳｉＯ３／２
Ｑ＝ＳｉＯ４／２
であり、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０、Ｒ１１、Ｒ１３、Ｒ１５およびＲ１６は各々独立して、１〜６０の炭素原子を有する脂肪族、芳香族または一価のフッ化炭化水素基であり；
Ｒ４、Ｒ１２およびＲ１７は各々独立して、式−Ａ−Ｉｘ−Ｍｎｙ＋を有するイオン対を有する一価の基、または式−Ｒ’−Ｎ＋（Ｒ’’）２−Ｒ’’’−Ｉ−を有する双性イオンであり、式中、Ａは、少なくとも一つの離間原子を有する離間部分であり、該離間部分は二価の炭化水素基およびヒドロカルボノキシ基からなる群より選択され、Ｉ−はスルホン酸塩−ＳＯ３−であり、Ｒ’は１〜２０の炭素原子を有する二価の炭化水素基であり、Ｒ’’は１〜２０の炭素原子を有する一価の炭化水素基であり、Ｒ’’’は２〜２０の炭素原子を有する二価の炭化水素基であり、そしてＭは各々独立して、水素、またはアルカリ金属、アルカリ土類金属、遷移金属、第四級アンモニウム基およびホスホニウム基から選択されるカチオンであり；
Ｒ７、Ｒ１４およびＲ１８は各々独立して、−ＣＨ２ＣＨ（Ｒ１９）（ＣｎＨ２ｎ）−Ｏ−（Ｃ２Ｈ４Ｏ）ｏ−（Ｃ３Ｈ６Ｏ）ｐ−（Ｃ４Ｈ８Ｏ）ｑ−Ｒ１９であり、式中、Ｒ１９は水素または上記定義のＲ１基であり；上付き文字ｘおよびｙは正の整数であり、但しｘ＝ｎｙであり；下付き文字ｎは各々独立して０〜６の値を有し、そして下付き文字ｏ、ｐおよびｑは各々独立して０〜１０００の値を有し、但しｏ＋ｐ＋ｑ≧ｌであり；そして、
下付き文字ａ、ｃ、ｄ、ｅ、ｆ、ｇ、ｈ、ｉおよびｊは各々独立して０または正の整数であり、但し２≦ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＋ｅ＋ｆ＋ｇ＋ｈ＋ｉ＋ｊ≦４５００およびｂ≧２である、パーソナルケア組成物。
【請求項２】
両末端官能化イオン性シリコーン（Ｉ）において、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０、Ｒ１１、Ｒ１３、Ｒ１５およびＲ１６基の各々が、独立して、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｎ−ペンチル、イソペンチル、ネオペンチル、ｔｅｒｔ−ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、メチルシクロヘキシル、ナフチル、トリル、キシリル、エチルフェニルおよびベンジルから選択される、請求項１に記載のパーソナルケア組成物。
【請求項３】
両末端官能化イオン性シリコーン（Ｉ）において、二価の離間基Ａが、アルキレン基−（ＣＨＲ２０）−ｍ（式中、Ｒ２０は、水素原子またはＲ１基であり、そして下付き文字ｍは、１〜１００の範囲の正の整数である）である、請求項１に記載のパーソナルケア組成物。
【請求項４】
両末端官能化イオン性シリコーン（Ｉ）において、二価の離間基Ａが、−（ＣＨＲ２１）ｋＣ６Ｈ４（ＣＨ２）ｒ−、−ＣＨ２ＣＨ（Ｒ’）（ＣＨ２）ｋＣ６Ｈ４−または−ＣＨ２ＣＨ（Ｒ２２）（ＣＨ２）ｒＣ６Ｈ３Ｒ２３−（式中、Ｒ’は、水素またはＲ１基であり、Ｒ２１は、水素またはＲ１基であり、Ｒ２２は、水素またはＲ１基であり、Ｒ２３は、１〜２０の炭素原子の一価の基であり、そして下付き文字ｋおよびｒは、０、または正の整数であり、但し、０≦ｋ＋ｒ≦１００の制限を受ける）から選択されるアリーレン基である、請求項１に記載のパーソナルケア組成物。
【請求項５】
両末端官能化イオン性シリコーン（Ｉ）において、二価の離間基Ａが、−（ＣＨＲ２４）ｓ−（Ｏ−ＣＨＲ２４ＣＨ２）ｓ’および−Ｏ−（ＣＨ２）ｔ−（式中、Ｒ２４は、水素またはＲ１基であり、ｓは、０〜５０の値を有し、ｓ’は、１〜５０の値を有し、そしてｔは、０〜５０の値を有し、但し、１≦ｓ＋ｓ’＋ｔ≦１００の制限を受ける）から選択される炭化水素基である、請求項１に記載のパーソナルケア組成物。
【請求項６】
両末端官能化イオン性シリコーン（Ｉ）において、Ｍ＋が、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｃｓ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｂａ、Ｚｎ、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｇａ、Ａｌ、Ｍｎ、Ｃｒ、Ａｇ、Ａｕ、Ｐｔ、Ｐｄ、ＲｕおよびＲｈから選択される、請求項１に記載のパーソナルケア組成物。
【請求項７】
両末端官能化イオン性シリコーン（Ｉ）において、双性イオンにおけるＲ’が、１〜２０の炭素原子を有する二価の炭化水素基であり、Ｒ’’が、１〜２０の炭素原子を有する一価の炭化水素基であり、そしてＲ’’’が、２〜２０の炭素原子を有する二価の炭化水素基である、請求項１に記載のパーソナルケア組成物。
【請求項８】
両末端官能化イオン性シリコーン（Ｉ）において、下付き文字ａ、ｃ、ｄ、ｅ、ｆ、ｇ、ｈ、ｉおよびｊが、各々独立して、０、または正の整数であり、但し２≦ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＋ｅ＋ｆ＋ｇ＋ｈ＋ｉ＋ｊ≦４５００、ｂ≧２の制限を受ける、請求項１に記載のパーソナルケア組成物。
【請求項９】
両末端官能化イオン性シリコーン（Ｉ）において、下付き文字ｂが、２であり；下付き文字ａ、ｃ、ｅ、ｆ、ｇ、ｈ、ｉおよびｊが０であり；下付き文字ｄが、５〜１０００であり、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ１０およびＲ１１が、メチルまたはエチルであり；Ｒ４が、−ＣＨ２ＣＨ（ＨまたはＣＨ３）−Ａ−ＳＯ３Ｍであり；Ａが、二価のベンジル基であり；そして、Ｍ＋が、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ａｇ、第四級アンモニウム基、アンモニウム塩またはホスホニウム基である、請求項８に記載のパーソナルケア組成物。
【請求項１０】
両末端官能化イオン性シリコーン（Ｉ）が、スルホン酸ナトリウムキャップされたポリジメチルシロキサン、スルホン酸銀キャップされたポリジメチルシロキサン、スルホン酸マグネシウムキャップされたポリジメチルシロキサン、スルホン酸カルシウムキャップされたポリジメチルシロキサン、スルホン酸亜鉛キャップされたポリジメチルシロキサン、およびスルホン酸トリエタノールアンモニウムキャップされたポリジメチルシロキサンの少なくとも一つである、請求項１に記載のパーソナルケア組成物。
【請求項１１】
少なくとも一つの非官能化シリコーンを更に含有する、請求項１に記載のパーソナルケア組成物。
【請求項１２】
少なくとも一つの有機溶媒を更に含有する、請求項１に記載のパーソナルケア組成物。
【請求項１３】
油中水または水中油エマルジョンとして製剤化される、請求項１に記載のパーソナルケア組成物。
【請求項１４】
パーソナルケア組成物が、デオドラント、スプレー、スティックおよびロールオン式製品を含む、制汗剤、制汗／デオドラント、シェービング製品、スキンローション、保湿剤、化粧水、バス製品、洗浄剤製品、シャンプー、コンディショナー、一体化シャンプー／コンディショナー、ムース、スタイリングジェル、ヘアスプレー、毛髪染料、ヘアカラー製品、ヘアブリーチ、ウェーブ製品、ヘアストレートナー、マニキュア液、マニキュアの除光液、ネイルクリームおよびローション、甘皮柔軟剤、日焼止め、防虫剤、アンチエイジング製品、口紅、ファンデーション、フェイスパウダー、アイライナー、アイシャドー、ほお紅、化粧品、マスカラ、保湿製剤、ファンデーション、身体および手用製剤、スキンケア製剤、顔および首用製剤、トニック、整髪料、整髪補助剤、エアロゾル固定剤、香料製剤、アフターシェーブローション、化粧品製剤、ぼかし用途、夜用／昼用スキンケア製剤、カラーリングのないヘア製剤、日焼け製剤、合成または非合成固形せっけん、液体ハンドソープ、毛穴パック、パーソナルケア用の不織布の応用、ベビーローション、ベビーバスおよびシャンプー、ベビーコンディショナー、髭剃り用剤、きゅうりの薄切り、スキンパッド、化粧落とし、洗顔製品、コールドクリーム、日焼け止め製品、ムース、スプリッツ、ペーストパックおよび泥、フェイスマスク、コロンおよび化粧水、ヘアキューティクルコート、シャワージェル、洗顔料およびボディソープ、洗い流すパーソナルケア製品、ジェル、フォームバス、スクラブ洗顔剤、収斂剤、ネイルコンディショナー、アイシャドースティック、フェイスまたはアイパウダー、リップクリーム、リップグロス、ヘアケアポンプスプレーおよび他の非エアロゾルスプレー、縮毛調整ジェル、ヘアリーブインコンディショナー、ヘアポマード、髪の絡みをほぐす製品、ヘア固定剤、ヘアブリーチ製品、スキンローション、プレシェーブローションおよび電気シェーバープレローション、無水型クリームおよびローション、油／水、水／油、多相、およびマクロおよびマイクロエマルジョン、耐水性クリームおよびローション、抗にきび製剤、マウスウォッシュ、マッサージオイル、歯磨き粉、クリアジェルおよびスティック、軟膏基剤、局所創傷治療製品、エアロゾルタルク、バリアスプレー、ビタミンおよびアンチエイジング製剤、ハーブ抽出製剤、バスソルト、バスおよびボディミルク、ヘアスタイリング補助剤、髪、目、ツメ、および肌への柔らかい固体の塗布、放出制御パーソナルケア製品、ヘアコンディショニングミスト、スキンケア保湿ミスト、肌用拭き取りティッシュ（繊維）、毛穴用拭き取り繊維、毛穴洗浄剤、シミ消し、スキンエクスフォリエーター、皮膚の落屑の促進剤、肌用ウェットティッシュおよびクロス、脱毛製剤、パーソナルケア潤滑剤、ネイルカラー製剤、皮膚に塗布する医薬組成物の局所適用のドラッグデリバリーシステム、およびそれらの組み合わせからなる群より選択される、請求項１に記載のパーソナルケア組成物。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１４
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１４】
ここで、末端官能化イオン性シリコーン（Ｉ）において、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０、Ｒ１１、Ｒ１３、Ｒ１５およびＲ１６基の各々は、好ましくはメチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｎ−ペンチル、イソペンチル、ネオペンチル；ｎ−ヘキシル基等のヘキシル；ｎ−ヘプチル基等のヘプチル；ｎ−オクチル、イソオクチル基等のオクチル、および２，２，４−トリメチルペンチル基；ｎ−ノニル基等のノニル；ｎ−デシル基等のデシル；シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチルラジカル、およびメチルシクロヘキシルラジカル等のシクロアルキル基である。代表的な芳香族基は、フェニル、ナフチル；ｏ−、ｍ−およびｐ−トリル、キシリル、エチルフェニル、およびベンジルを含む。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１５
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１５】
基Ｒ４、Ｒ１２およびＲ１７において、イオン対−Ａ−Ｉｘ−Ｍｎｙ＋の二価の炭化水素離間基Ａは、例えば、−（ＣＨＲ２０）−ｍ（式中、Ｒ２０は、水素または上記定義のＲ１基であり、そして下付き文字ｍは、１〜１００、そして好ましくは１〜２０の正の整数である）等のアルキレン基；または−（ＣＨＲ２１）ｋＣ６Ｈ４（ＣＨ２）ｒ−、−ＣＨ２ＣＨ（Ｒ’）（ＣＨ２）ｋＣ６Ｈ４−、−ＣＨ２ＣＨ（Ｒ２２）（ＣＨ２）ｒＣ６Ｈ３Ｒ２３−（式中、Ｒ’は、水素または上記定義のＲ１基であり、Ｒ２１は、水素または上記定義のＲ１基であり、Ｒ２２は、水素または上記定義のＲ１基であり、Ｒ２３は、１〜２０の炭素原子の一価の基であり、そして下付き文字ｋおよびｒは、０または正の整数であり、但し、０≦ｋ＋ｒ≦１００の制限を受ける）等のアリーレン基であってよい。
【誤訳訂正４】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１９
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１９】
双性イオンにおいて、Ｒ’は、１〜２０の炭素原子を有する二価の炭化水素基、例えば、−（ＣＨ２）ｓ−であり；Ｒ’’は、１〜２０の炭素原子を有する一価の炭化水素基、例えば、−ＣＨ２ＣＨ３；そして、Ｒ’’’は、２〜２０の炭素原子を有する二価の炭化水素基、例えば、−（ＣＨ２）４−である。
【誤訳訂正５】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２１】
末端官能化イオン性シリコーン（Ｉ）において、下付き文字ａ、ｃ、ｄ、ｅ、ｆ、ｇ、ｈ、ｉおよびｊは、各々独立して、０または２≦ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＋ｅ＋ｆ＋ｇ＋ｈ＋ｉ＋ｊ≦４５００、ｂ≧２の制限を受ける正の整数である。一つの実施態様において、下付き文字ｂは、２であり；下付き文字ａ、ｃ、ｅ、ｆ、ｇ、ｈ、ｉおよびｊが０であり；下付き文字ｄは、５〜１０００、より好ましくは１０〜５００、そして最も好ましくは１０〜２００であり；Ｒ５、Ｒ６、Ｒ１０およびＲ１１は、メチルまたはエチルあり；Ｒ４は、−ＣＨ２ＣＨ（ＨまたはＣＨ３）−Ａ−ＳＯ３Ｍ；Ａは、二価のベンジル基であり；そしてＭは、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、銀、または第四級アンモニウム基、アンモニウム塩またはホスホニウム基である。
【誤訳訂正６】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２２
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２２】
イオン性シリコーン（Ｉ）の例は、スルホン酸ナトリウムキャップされたポリジメチルシロキサン、スルホン酸銀キャップされたポリジメチルシロキサン、スルホン酸マグネシウムキャップされたポリジメチルシロキサン、スルホン酸カルシウムキャップされたポリジメチルシロキサン、スルホン酸亜鉛キャップされたポリジメチルシロキサンおよびスルホン酸トリエタノールアンモニウムキャップされたポリジメチルシロキサンを含む。
【誤訳訂正７】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００６９
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００６９】
三つ口の５００ミリリットルのフラスコに、１８．１６グラム（１５４．０ミリモル）のα−メチルスチレン、および２７．２×１０−５グラムの白金触媒を入れた。得られた混合物の温度を１１５℃にした後、ヒドロシリル化反応の完了まで連続攪拌下、９．４０グラム（７０．０ミリモル）のｌ，ｌ，３，３−テトラメチルジシロキサンを滴下した。１Ｈ  ＮＭＲにおける水素化ケイ素のピークの消失によってヒドロシリル化の完了が示された。得られた混合物を１５０℃で２時間油浴に入れることによるバキュームストリッピングで未反応のα−メチルスチレンを除き、それにより、２３．２グラムのアラルキレン置換ジシロキサンを得た（収率：９０％）。