Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成29年10月13日(2017.10.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
格納式スラスタアセンブリ（ｒｅｔｒａｃｔａｂｌｅ  ｔｈｒｕｓｔｅｒ  ａｓｓｅｍｂｌｙ）（１０）の可動スラスタ支持管（ｔｈｒｕｓｔｅｒ  ｓｕｐｐｏｒｔ  ｐｉｐｅ）（２０）と、開口部（５０）を有する土台板（ｆｏｕｎｄａｔｉｏｎ  ｐａｔｅ）（２２）との間を密封する密封アセンブリ（ｓｅａｌｉｎｇ  ａｓｓｅｍｂｌｙ）（１９）であって、
前記開口部（５０）と前記スラスタ支持管（２０）との間を空気注入状態で密封する空気注入式密封環（ｓｅａｌｉｎｇ  ｒｉｎｇ）（１０６）を備えることを特徴とする、密封アセンブリ（１９）。
【請求項２】
半径方向内側（ｒａｄｉａｌ  ｉｎｎｅｒ  ｓｉｄｅ）（８２）と半径方向外側（ｒａｄｉａｌ  ｏｕｔｅｒ  ｓｉｄｅ）（８３）とを有する環状（ａｎｎｕｌａｒ）本体（８０）を更に備え、前記本体（８０）は、前記空気注入式密封環（１０６）を格納する収納部（１０８）を更に備えることを特徴とする、請求項１に記載の密封アセンブリ（１９）。
【請求項３】
前記本体（８０）は、前記空気注入式密封環（１０６）に連結され該空気注入式密封環（１０６）に空気を供給する空気供給路（１１０）を更に備えることを特徴とする、請求項２に記載の密封アセンブリ（１９）。
【請求項４】
前記本体（８０）の前記半径方向内側（８２）に配置され前記スラスタ支持管（２０）を密封する第１内側密封環（ｉｎｎｅｒ  ｓｅａｌｉｎｇ  ｒｉｎｇ）（９０）、及び／又は
前記本体（８０）の前記半径方向内側（８２）に配置され前記スラスタ支持管（２０）を引っ掻き出す第１内側引掻環（ｉｎｎｅｒ  ｓｃａｐｅｒ  ｒｉｎｇ）（８６）を更に備えることを特徴とする、請求項２又は３に記載の密封アセンブリ（１９）。
【請求項５】
前記第１内側密封環（９０）は、前記空気注入式密封環（１０６）より前記土台板（２２）の被水側（ｗａｔｅｒ−ａｖｅｒｔｅｄ  ｓｉｄｅ）（２２Ａ）に遠く配置されており、及び／又は
前記第１内側引掻環（８６）は、前記空気注入式密封環（１０６）より前記土台板（２２）の面水側（ｗａｔｅｒ−ｆａｃｉｎｇ  ｓｉｄｅ）（２２Ｂ）に近く配置されていることを特徴とする、請求項４に記載の密封アセンブリ（１９）。
【請求項６】
前記本体（８０）の前記半径方向外側（８３）に配置され前記開口部（５０）を密封する一方、前記本体（８０）の前記開口部（５０）内半径方向移動を許容する外側密封環（１０４）、及び／又は
前記本体（８０）の前記半径方向内側（８２）に配置され前記スラスタ支持管（２０）を密封する第２内側密封環（９６）を更に備えることを特徴とする、請求項２〜５のうちいずれか一項に記載の密封アセンブリ（１９）。
【請求項７】
前記第１内側密封環（９０）は、前記空気注入式密封環（１０６）より前記土台板（２２）の被水側（２２Ａ）に遠く配置されており、及び／又は
前記第２内側密封環（９６）は、前記空気注入式密封環（１０６）より前記土台板（２２）の被水側（２２Ａ）に遠く配置されていることを特徴とする、請求項６に記載の密封アセンブリ（１９）。
【請求項８】
前記本体（８０）の前記半径方向内側（８２）に配置され前記スラスタ支持管（２０）に対する童心位置にて前記本体（８０）を保持する滑り軸受（８４）、及び／又は  前記本体（８０）の前記半径方向内側（８２）に配置され前記スラスタ支持管（２０）を引っ掻き出す（ｓｃｒａｐｉｎｇ）第２内側引掻環（８７）を更に備えることを特徴とする、請求項２〜７のうちいずれか一項に記載の密封アセンブリ（１９）。
【請求項９】
前記滑り軸受（８４）は、前記空気注入式密封環（１０６）より前記土台板（２２）の被水側（２２Ａ）に遠く配置されていて、及び／又は
前記第２内側引掻環（８７）は、前記空気注入式密封環（１０６）より前記土台板（２２）の被水側（２２Ａ）に遠く配置されていることを特徴とする、請求項８に記載の密封アセンブリ（１９）。
【請求項１０】
前記第１内側引掻環（８６）、前記空気注入式密封環（１０６）、前記滑り軸受（８４）、前記第２内側引掻環（８７）、前記第１内側密封環（９０）及び前記第２内側密封環（９６）は、前記土台板（２２）の前記面水側（２２Ｂ）から前記被水側（２２Ａ）に向かう方向に上の順番で配列されていることを特徴とする、請求項８又は９に記載の密封アセンブリ（１９）。
【請求項１１】
前記密封環（９０、９６、１０４）のうち少なくとも一つが分離型（ｓｐｌｉｔ−ｔｙｐｅ）シールであって、及び／又は
前記密封環（９０、９６、１０４）のうち少なくとも一つが曲脚（ｏｄｄ  ｌｅｇ）状のＶ形断面を有することを特徴とする、請求項４〜１０のうちいずれか一項に記載の密封アセンブリ（１９）。
【請求項１２】
前記第１内側密封環（９０）を収容する第１カートリッジ（９５）、及び／又は
前記第２内側密封環（９６）を収容する第２カートリッジ（１００）、及び／又は
前記第２内側引掻環（８７）を収容する第３カートリッジ（９４）を更に備えることを特徴とする、請求項４〜１１のうちいずれか一項に記載の密封アセンブリ（１９）。
【請求項１３】
前記カートリッジ（９４、９５、１００）のうち少なくとも一つは分離型（ｓｐｌｉｔ−ｔｙｐｅ）であることを特徴とする、請求項１２に記載の密封アセンブリ（１９）。
【請求項１４】
中央開口部（５０）を有する土台板（２２）を更に備え、
前記中央開口部（５０）の内側半径は前記本体（８０）の外側半径より大きく、その間に所定の隙間（Ｃ）を区画することを特徴とする、請求項２〜１３のうちいずれか一項に記載の密封アセンブリ（１９）。
【請求項１５】
格納式スラスタアセンブリ（１０）であって、
スラスタ部（１２）と、
駆動装置（１８）と、
前記スラスタ部（１２）と前記駆動装置（１８）とを連結するスラスタ支持管（２０）と、
請求項１〜１４のうちいずれか一項に記載の密封アセンブリ（１９）とを備えることを特徴とする、格納式スラスタアセンブリ（１０）。
【手続補正書】
【提出日】平成29年10月19日(2017.10.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
センサクロックを同期させるための方法であって、
第1のセンサの第1のセンサクロックおよび第2のセンサの第2のセンサクロックを同時に第1の時点で補正するステップと、
前記第1のセンサがプロセッサによってポーリングされるときに、前記第1のセンサから前記プロセッサにデータサンプルを前記プロセッサに転送するステップと、
前記第2のセンサが前記プロセッサによってポーリングされるときに、前記第2のセンサからデータサンプルを転送するステップと、
前記第1のセンサクロックおよび前記第2のセンサクロックを同時に第2の時点で補正するステップとを含み、
前記第1のセンサのサンプリング周期は、前記第2のセンサのサンプリング周期とは異なり、かつ前記第2のセンサのサンプリング周期の倍数であり、
前記第1のセンサクロックの2回の補正間の時間間隔は、第1のセンサクロックが、その時間間隔にわたって前記プロセッサのプロセッサクロックと十分に整合するように選択され、前記時間間隔は、前記第1の時点と前記第2の時点との間であり、かつ前記第1のセンサの前記サンプリング周期の倍数であり、
前記時間間隔にわたって、前記第1のセンサおよび前記第2のセンサはそれぞれのサンプリング周期において厳密に一度だけポーリングされ、前記第1のセンサのあらゆるポーリングが、前記第2のセンサのポーリングと一致し、
前記プロセッサが、前記第1および第2のセンサをポーリングするためのスリープ状態から起動するように構成される、センサクロックを同期させるための方法。
【請求項２】
前記第1のセンサクロックを補正するステップは、
前記プロセッサのプロセッサクロックに関連する情報を受信するステップと、
前記情報に基づいて前記第1のセンサクロックを補正するステップとをさらに含む、請求項1に記載の方法。
【請求項３】
前記プロセッサクロックに関連する前記情報は、前記プロセッサと前記第1のセンサとの間の専用線、データレディ割込み(DRI)線、またはデータ接続を介して受信される、請求項2に記載の方法。
【請求項４】
前記プロセッサクロックに関連する前記情報は周波数または周期を含む、請求項2に記載の方法。
【請求項５】
コンピューティングデバイスであって、
第1のセンサの第1のセンサクロックおよび第2のセンサの第2のセンサクロックを同時に第1の時点で補正するための手段と、
前記第1のセンサがプロセッサによってポーリングされるときに、前記第1のセンサから前記プロセッサにデータサンプルを転送するための手段と、
前記第2のセンサがプロセッサによってポーリングされるときに、前記第2のセンサから前記プロセッサにデータサンプルを転送するための手段と、
前記第1のセンサクロックおよび前記第2のセンサクロックを同時に第2の時点で補正するための手段とを含み、
前記第1のセンサのサンプリング周期は、前記第2のセンサのサンプリング周期とは異なり、かつ前記第2のセンサのサンプリング周期の倍数であり、
前記第1のセンサクロックの2回の補正間の時間間隔は、第1のセンサクロックが、その時間間隔にわたって前記プロセッサのプロセッサクロックと十分に整合するように選択され、前記時間間隔は、前記第1の時点と前記第2の時点との間であり、かつ前記第1のセンサの前記サンプリング周期の倍数であり、
前記時間間隔にわたって、前記第1のセンサおよび前記第2のセンサはそれぞれのサンプリング周期において厳密に一度だけポーリングされ、前記第1のセンサのあらゆるポーリングが、前記第2のセンサのポーリングと一致し、
前記プロセッサが、前記第1および第2のセンサをポーリングするためのスリープ状態から起動するように構成される、コンピューティングデバイス。
【請求項６】
前記第1のセンサクロックを補正するための前記手段は、
前記プロセッサのプロセッサクロックに関連する情報を受信するための手段と、
前記情報に基づいて前記第1のセンサクロックを補正するための手段とをさらに含む、請求項5に記載のコンピューティングデバイス。
【請求項７】
前記プロセッサクロックに関連する前記情報は、前記プロセッサと前記第1のセンサとの間の専用線、データレディ割込み(DRI)線、またはデータ接続を介して受信される、請求項6に記載のコンピューティングデバイス。
【請求項８】
前記プロセッサクロックに関連する前記情報は周波数または周期を含む、請求項6に記載のコンピューティングデバイス。
【請求項９】
プロセッサによって実行されるとき、前記プロセッサに、請求項１から４のいずれか一項に記載の方法を実行させるコードを含むコンピュータ可読記録媒体。
【手続補正書】
【提出日】平成28年12月13日(2016.12.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
膜層と、
支持メッシュと、を備え、
前記膜層及び前記支持メッシュは、１０％未満のＥＵＶ（極紫外線）光吸収率のモノリシック構造を形成し、
前記膜層は、金属‐セラミック組成物で構成される、装置。
【請求項２】
前記金属‐セラミック組成物は、ジルコニウムと、ジルコニウムジボライドと、を含む、請求項１記載の装置。
【請求項３】
前記ＥＵＶ光の波長は、１３．５ナノメータとする、請求項１記載の装置。
【請求項４】
前記膜層の厚さは、２０〜２５ナノメータ未満又はそれと同等とする、請求項１記載の装置。
【請求項５】
前記支持メッシュの各バーは、０．５〜２ミクロンの幅を有する、請求項１記載の装置。
【請求項６】
前記支持メッシュの各バーは、５０〜２００ナノメータの厚さを有する、請求項１記載の装置。
【請求項７】
前記支持メッシュの各バーは、２０〜３００ミクロンのピッチを有する、請求項１記載の装置。
【請求項８】
前記支持メッシュは、ホウ素メッシュを含む、請求項１記載の装置。
【請求項９】
前記支持メッシュは、平均０．３パーセント〜４パーセントのＥＵＶ光吸収率とする、請求項１記載の装置。
【請求項１０】
前記支持メッシュは、ジルコニウム、ホウ素、ジルコニウムジボライド、炭素、ケイ素、ニオビウム、及びモリブデンから成る組、並びにその組み合わせから選択された材料である、請求項１記載の装置。
【請求項１１】
前記支持メッシュは、前記膜層に構造上の支持を付与するように構成され、更に前記膜層における亀裂を捕捉するように機能する、請求項１記載の装置。
【請求項１２】
前記支持メッシュは、六角形構造を備える、請求項１１記載の装置。
【請求項１３】
ＥＵＶ透過膜装置を組み立てる方法であって、
ＥＵＶ透過材料の均一で薄い膜層を基板に堆積させるステップと、
前記膜層より上からフォトレジスト層を堆積させるステップと、
１つのマスクのパターンに従って前記ＥＵＶ光源によってフォトレジストを溶かし、メッシュの所望形状が得られるような態様とするステップと、
支持メッシュ材料をマスクに充填し、前記支持メッシュ材料が前記膜層の材料に接合してモノリシック構造を形成するような態様とするステップと、を含み、
前記構造は、１０パーセント未満のＥＵＶ光吸収率とし、
前記堆積された膜材料は、金属‐セラミック組成物で構成される、方法。
【請求項１４】
ＥＵＶ光は、１３．５ナノメータの波長を有する、請求項１３記載の方法。
【請求項１５】
前記金属‐セラミック組成物は、ジルコニウムと、ジルコニウムジボライドとを含む、請求項１３記載の方法。
【請求項１６】
前記膜層の厚さは、２０〜２５ナノメータ未満又はそれと同等とする、請求項１３記載の方法。
【請求項１７】
前記所望の形状は、六角形構造である、請求項１３記載の方法。
【請求項１８】
前記支持メッシュは、ジルコニウム、ホウ素、ジルコニウムジボライド、炭素、ケイ素、ニオビウム、及びモリブデンから成る組、並びにその組み合わせから選択された材料とする、請求項１３記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成29年11月13日(2017.11.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
コンテンツを求める将来の要求を変更するように命令を処理するための方法であって、
サフィックスプロキシとして構成されたプロキシサーバにおいて、コンテンツを求める要求を受信するステップであって、前記コンテンツは実行可能命令を含み、要求された前記コンテンツはスクリプトを含む、ステップと、
要求された前記コンテンツを、クラウドベース・アプリケーションをホストするサーバから取り出し、要求された前記コンテンツを前記プロキシサーバにおいて記憶するステップと、
前記クラウドベース・アプリケーションのユニフォーム・リソース・ロケータ（ＵＲＬ）アドレスを生成するように構成された前記実行可能命令のうちの少なくとも１つの実行可能命令を識別するために、要求された前記コンテンツを解析するステップと、
代替命令を呼び出すために、識別された前記少なくとも１つの命令をラップすることによって、要求された前記コンテンツを変更するステップであって、前記代替命令は、サフィックスプロキシの識別情報を前記ＵＲＬにサフィックス追加して、サフィックス追加されたＵＲＬを作成するように構成された、ステップと、
前記プロキシサーバにおいて、ラップされた前記少なくとも１つの命令を含む変更された前記コンテンツを記憶するステップと、
ラップされた前記少なくとも１つの命令を含む変更された前記コンテンツをクライアントデバイスに送信するステップと、
前記プロキシサーバにおいて、前記クライアントデバイスによって実行されるドキュメント・オブジェクト・モデル（ＤＯＭ）に対するランタイムの変更を監視して、サフィックス追加された前記ＵＲＬに対して少なくとも読み取り及び書き込みを行うときに、前記ＤＯＭに対する読み取り及び書き込みランタイムアクセスの何れも制御するステップと
を含む方法。
【請求項２】
請求項１に記載の方法であって、前記スクリプトはＪａｖａＳｃｒｉｐｔ及びカスケーディング・スタイル・シート（ＣＳＳ）のファイルのうちの何れかである、方法。
【請求項３】
請求項１に記載の方法であって、
ラップされた前記命令を含むように変更された、要求された前記コンテンツが、前記プロキシサーバに記憶されているかどうかを判定するステップと、
ラップされた前記少なくとも１つの命令を含むように変更された、要求された前記コンテンツが、前記プロキシサーバに記憶されているときに、要求された前記コンテンツを前記サーバから取り出すことなく、変更された前記コンテンツを前記クライアントデバイスに送信するステップと
をさらに含む方法。
【請求項４】
コンテンツを求める将来の要求を変更するように命令を処理するためのサフィックスプロキシとして機能するシステムであって、
プロセッサと、
前記命令を含むメモリと
を含み、前記命令は、前記プロセッサにより実行されると、前記システムに、
コンテンツを求める要求を受信するステップであって、前記コンテンツは実行可能命令を含み、要求された前記コンテンツはスクリプトを含む、ステップと、
要求された前記コンテンツを、クラウドベース・アプリケーションをホストするサーバから取り出し、要求された前記コンテンツを記憶するステップと、
前記クラウドベース・アプリケーションのユニフォーム・リソース・ロケータ（ＵＲＬ）アドレスを生成するように構成された前記実行可能命令のうちの少なくとも１つの実行可能命令を識別するために、要求された前記コンテンツを解析するステップと、
代替命令を呼び出すために、識別された前記少なくとも１つの命令をラップすることによって、要求された前記コンテンツを変更するステップであって、前記代替命令は、サフィックスプロキシの識別情報を前記ＵＲＬにサフィックス追加して、サフィックス追加されたＵＲＬを作成するように構成された、ステップと、
ラップされた前記少なくとも１つの命令を含む変更された前記コンテンツを記憶するステップと、
ラップされた前記少なくとも１つの命令を含む変更された前記コンテンツをクライアントデバイスに送信するステップと、
前記クライアントデバイスによって実行されるドキュメント・オブジェクト・モデル（ＤＯＭ）に対するランタイムの変更を監視して、サフィックス追加された前記ＵＲＬに対して少なくとも読み取り及び書き込みを行うときに、前記ＤＯＭに対する読み取り及び書き込みランタイムアクセスの何れも制御するステップと
を実行させる、システム。
【請求項５】
請求項４に記載のシステムであって、前記スクリプトはＪａｖａＳｃｒｉｐｔ及びカスケーディング・スタイル・シート（ＣＳＳ）のファイルのうちの何れかである、システム。
【請求項６】
請求項４に記載のシステムであって、
ラップされた前記命令を含むように変更された、要求された前記コンテンツが、前記プロキシサーバに記憶されているかどうかを判定するステップと、
ラップされた前記少なくとも１つの命令を含むように変更された、要求された前記コンテンツが、前記プロキシサーバに記憶されているときに、要求された前記コンテンツを前記サーバから取り出すことなく、変更された前記コンテンツを前記クライアントデバイスに送信するステップと
を実行するようにさらに構成されたシステム。
【手続補正書】
【提出日】平成29年11月20日(2017.11.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
極端紫外線（ＥＵＶ）基板検査システムの製造方法であって、
ＥＵＶ光源を提供する工程と、
アパーチャを通して基板上にＥＵＶ光源のＥＵＶ照明を向ける工程と、
光検出器上への、基板から反射された減弱した軸外光線を有するマスク照明を検出する工程と、
光検出器からのイメージデータをコンピューティングデバイスに転送する工程と、
コンピューティングデバイス上でイメージデータを処理する工程とを含む方法。
【請求項２】
ＥＵＶ光源を提供する工程は、複数のＥＵＶ点光源を提供する工程を含む、請求項１記載の方法。
【請求項３】
アパーチャを通してＥＵＶ光源のＥＵＶ照明を向ける工程は、ウェハ又はＥＵＶマスク上に斜めの角度でＥＵＶイメージセンサのアパーチャを通してＥＵＶ点光源のＥＵＶ照明を向ける工程を含む、請求項１記載の方法。
【請求項４】
光検出器上へのマスク照明を検出する工程は、複数のアパーチャを有するＥＵＶイメージセンサ又は時間遅延積分（ＴＤＩ）センサ上へのマスク照明を検出する工程を含む、請求項１記載の方法。
【請求項５】
光検出器からのイメージデータをコンピューティングデバイスに転送する工程は、基板の欠陥の位置を特定するために、ＥＵＶイメージセンサからの明視野、暗視野、又は回折パターンのイメージセンサデータをイメージプロセッサに転送する工程を含む、請求項１記載の方法。
【請求項６】
アパーチャを通してＥＵＶ照明を向けるＥＵＶ光源と、
基板から反射された減弱した軸外光線を有するマスク照明を検出する光検出器と、
光検出器によって検出されたイメージデータを処理するコンピューティングデバイスとを含むＥＵＶ基板検査システム。
【請求項７】
ＥＵＶ光源は、複数のＥＵＶ点光源を含む、請求項６記載のシステム。
【請求項８】
アパーチャは、光検出器のアパーチャを含む、請求項６記載のシステム。
【請求項９】
光検出器は、複数のアパーチャを有するＥＵＶイメージセンサ、又はＴＤＩセンサを含む、請求項６記載のシステム。
【請求項１０】
イメージデータは、基板の欠陥の位置を特定するために、ＥＵＶイメージセンサからイメージプロセッサに転送された明視野、暗視野、又は回折パターンのイメージセンサデータを含む、請求項６記載のシステム。
【請求項１１】
アパーチャを通してＥＵＶ照明を向けるＥＵＶ光源と、
前記アパーチャを有し、減弱した軸外光線を有するマスク照明を検出する光検出器とを含むＥＵＶ点光源の装置。
【請求項１２】
ＥＵＶ光源は、複数のＥＵＶ光源を含む、請求項１１記載の装置。
【請求項１３】
アパーチャは、複数のアパーチャを含む、請求項１１記載の装置。
【請求項１４】
光検出器は、ＴＤＩセンサを有するＥＵＶイメージセンサを含む、請求項１１記載の装置。
【請求項１５】
アパーチャは、斜めの角度で光検出器を貫通する、請求項１１記載の装置。
【手続補正書】
【提出日】平成29年7月4日(2017.7.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電流測定装置であって、
第１端部と第２端部とを有する電気的導体コイルと、第１スクリーンと、第２スクリーンとを備え、
前記第１スクリーンは、前記コイルを取り囲み、前記コイルの前記第２端部から前記コイルの前記第１端部の近くに至る電流経路を与えるように構成され、
前記第２スクリーンは、前記第１スクリーンと前記コイルとを取り囲む
ことを特徴とする電流測定装置。
【請求項２】
請求項１に記載の電流測定装置であって、
前記コイルはループを構成し、前記第１端部は前記第２端部の近くに位置する
ことを特徴とする電流測定装置。
【請求項３】
請求項２に記載の電流測定装置であって、
前記ループは開いているか開くことができ、前記第１端部と前記第２端部との間に隙間を形成する
ことを特徴とする電流測定装置。
【請求項４】
請求項１から３のいずれか一項に記載の電流測定装置であって、
前記導体コイルはロゴスキーコイルを備える
ことを特徴とする電流測定装置。
【請求項５】
請求項４に記載の電流測定装置であって、
前記ロゴスキーコイルは、クリップ−アラウンドコイルか、閉ループコイルか、プリント回路ロゴスキーコイルか、または非導電性巻型に巻かれたコイルか、のいずれかである
ことを特徴とする電流測定装置。
【請求項６】
請求項１から５のいずれか一項に記載の電流測定装置であって、
前記第１スクリーンの第１端部が前記コイルの前記第１端部の近くに位置し、前記第１スクリーンの第２端部が前記コイルの前記第２端部の近くに位置する
ことを特徴とする電流測定装置。
【請求項７】
請求項６に記載の電流測定装置であって、
前記第１スクリーンの前記第２端部は前記コイルの前記第２端部に電気的に接続される
ことを特徴とする電流測定装置。
【請求項８】
請求項１から７のいずれか一項に記載の電流測定装置であって、
前記第２スクリーンの第１端部が前記コイルの前記第１端部の近くに位置し、前記第２スクリーンの第２端部が前記コイルの前記第２端部の近くに位置する
ことを特徴とする電流測定装置。
【請求項９】
請求項１から８のいずれか一項に記載の電流測定装置であって、
前記第２スクリーンは電気的に接地されている
ことを特徴とする電流測定装置。
【請求項１０】
請求項１から９のいずれか一項に記載の電流測定装置であって、
前記第２スクリーンは、前記第１スクリーンおよび前記コイルから電気的に絶縁されている
ことを特徴とする電流測定装置。
【請求項１１】
請求項１から１０のいずれか一項に記載の電流測定装置であって、
前記第１スクリーン、かつ／または、前記第２スクリーンは、静電スクリーンである
ことを特徴とする電流測定装置。
【請求項１２】
請求項１から１１のいずれか一項に記載の電流測定装置であって、
前記第１スクリーン、かつ／または、前記第２スクリーンは、外部導体から前記コイルへの容量結合を低減するように構成される
ことを特徴とする電流測定装置。
【請求項１３】
請求項１から１２のいずれか一項に記載の電流測定装置であって、
前記電流測定装置は、巻型を備え、
前記コイルが前記巻型の周囲に位置する
ことを特徴とする電流測定装置。
【請求項１４】
請求項１から１３のいずれか一項に記載の電流測定装置であって、
前記電流測定装置は、電気的積分器を備える
ことを特徴とする電流測定装置。
【請求項１５】
請求項１４に記載の電流測定装置であって、
前記積分器の第１入力端子が、前記導体コイルの前記第１端部に電気的に接続される
ことを特徴とする電流測定装置。
【請求項１６】
請求項１４または１５に記載の電流測定装置であって、
前記積分器の第２入力端子が、前記第１スクリーンの前記第１端部に電気的に接続される
ことを特徴とする電流測定装置。
【請求項１７】
請求項１４から１６のいずれか一項に記載の電流測定装置であって、
前記積分器は出力電圧を与えるように配置され、
前記出力電圧は実質的に、前記導体コイルの前記第１端部と、前記第１スクリーンの前記第１端部との間の、電位差の時間積分に比例する
ことを特徴とする電流測定装置。
【請求項１８】
電気導体を流れる電流を測定する方法であって、
請求項１から１７のいずれか一項に記載の電流測定装置を用いる
ことを特徴とする方法。
【手続補正書】
【提出日】平成29年9月25日(2017.9.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
少なくとも１つの動作設定値のある一定値について、動作パラメータは、動作段階の持続時間とは無関係に、任意の有意義な数学的期待値を計算できるようにするためには明らかにあまりにも不安定過ぎることが見出され得る。この種の状況を直ちに確認し、次の段階に移るように動作段階を中断するために、本試験方法は、次のステップ、すなわち、
前記サンプリングウィンドウの各動作パラメータについてサンプリングされた値の歪度の指標を計算するステップと、
各動作パラメータについてフィルタリングされた信号の時間微分の分散を計算するステップと、
少なくとも１つの動作パラメータについてサンプリングされた値の歪度の指標が所定の上側閾値を超え、かつ／またはサンプル値の分散および少なくとも１つの動作パラメータについてフィルタリングされた信号の時間微分の分散がそれぞれの所定の上側閾値を超える場合に、前記動作設定値の値を変化させるステップと、
をさらに含むことができる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の動作段階のシーケンスにわたって装置の少なくとも１つの動作パラメータ（Ｘ）を評価するための技術試験方法であって、各段階が、装置の少なくとも１つの動作設定値の安定した値に対応し、装置が、各動作段階について少なくとも次のステップ、すなわち、
経時的に少なくとも１つの動作パラメータ（Ｘ）の値をサンプリングするステップ（Ｓ２０１）と、
各動作パラメータ（Ｘ）についてフィルタリングされた信号（Ｘｆｉｌｔ）を得るためにサンプリングされた値をフィルタリングするステップ（Ｓ２０６）と、
前記動作段階中にサンプリングウィンドウの各動作パラメータ（Ｘ）についてサンプリングされた値の分散を計算するステップ（Ｓ２０５）と、
各動作パラメータ（Ｘ）についてフィルタリングされた信号（Ｘｆｉｌｔ）の時間微分の絶対値を計算するステップ（Ｓ２０７）と、
各動作パラメータ（Ｘ）について、サンプリングされた値の前記分散およびフィルタリングされた信号（Ｘｆｉｌｔ）の時間微分の絶対値が少なくとも所定の最小持続時間にわたってそれぞれの所定の下側閾値に満たない場合に、前記少なくとも１つの動作設定値の値を変化させるステップ（Ｓ２１１）と、
を含む、技術試験方法。
【請求項２】
動作設定値の値が、たとえ少なくとも１つの動作パラメータ（Ｘ）について、サンプリングされた値の分散および／またはフィルタリングされた値の時間微分の絶対値が依然としてそれらのそれぞれの下側閾値より小さくなくても、動作設定値の値が、所定の時間（ｔ２）の後に変化される（Ｓ２１１）、請求項１に記載の技術試験方法。
【請求項３】
少なくとも１つの動作パラメータ（Ｘ）の値が、規則的な時間間隔でサンプリングされる（Ｓ２０１）、請求項１または２に記載の技術試験方法。
【請求項４】
サンプリングされた値の前記フィルタリング（Ｓ２０６）が、少なくとも１つのカルマンフィルタによって行われる、請求項１から３のいずれか一項に記載の技術試験方法。
【請求項５】
次のステップ、すなわち、
前記サンプリングウィンドウの各動作パラメータ（Ｘ）についてサンプリングされた値の歪度の指標を計算するステップ（Ｓ２０４）と、
各動作パラメータ（Ｘ）について前記サンプリングウィンドウのフィルタリングされた信号（Ｘｆｉｌｔ）の時間微分の分散を計算するステップ（Ｓ２０８）と、
少なくとも１つの動作パラメータについてサンプリングされた値の歪度の指標が所定の上側閾値を超え、かつ／またはサンプル値の分散および少なくとも１つの動作パラメータについてフィルタリングされた信号の時間微分の分散がそれぞれの所定の上側閾値を超える場合に、前記動作設定値の値を変化させるステップ（Ｓ２１１）と、
を同じく含む、請求項１から４のいずれか一項に記載の技術試験方法。
【請求項６】
前記サンプリングウィンドウが、移動ウィンドウである、請求項１から５のいずれか一項に記載の技術試験方法。
【請求項７】
装置が、エンジンである、請求項１から６のいずれか一項に記載の技術試験方法。
【請求項８】
前記エンジンが、液体推進剤ロケットエンジン（１）である、請求項７に記載の技術試験方法。
【請求項９】
前記液体推進剤ロケットエンジン（１）が、ターボポンプ供給システムを含む、請求項８に記載の技術試験方法。
【請求項１０】
装置の少なくとも１つの動作パラメータ（Ｘ）を受信するための少なくとも１つのデータ入力、および少なくとも１つの動作設定値を前記装置に送信するための少なくとも１つのデータ出力を持つ電子制御ユニット（３）であって、前記電子制御ユニット（３）は、
前記動作設定値の安定した値に対応する装置の動作段階を順序付け、
経時的に少なくとも１つの動作パラメータ（Ｘ）の値をサンプリングし、
各動作パラメータ（Ｘ）についてフィルタリングされた信号（Ｘｆｉｌｔ）を得るためにサンプリングされた値をフィルタリングし、
前記動作段階中にサンプリングウィンドウの各動作パラメータ（Ｘ）についてサンプリングされた値の分散を計算し、
各動作パラメータ（Ｘ）についてフィルタリングされた信号（Ｘｆｉｌｔ）の時間微分の絶対値を計算し、かつ
各動作パラメータ（Ｘ）について、サンプリングされた値の前記分散およびフィルタリングされた信号（Ｘｆｉｌｔ）の時間微分の絶対値が少なくとも所定の最小持続時間にわたってそれぞれの所定の下側閾値に満たない場合に、前記少なくとも１つの動作設定値の値を変化させる
ように構成される、電子制御ユニット（３）。
【手続補正書】
【提出日】平成29年4月14日(2017.4.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
それ故、本発明の対象は、支持基材（１）を有し、該基材はその片面上に、金属クラスター（２）からなる層からなるカラーシフトエフェクト構造体、スペーサー層（３）及び電磁波反射層（６）を有するセキュリティエレメント、特に、セキュリティラベルのためのセキュリティエレメントであって、該スペーサー層（３）は、同一又は異なる組成の、互いに上下に位置する二つの部分層（４、５）からなり、その際、前記クラスター層（２）が面する第一の部分層（４）の該クラスター層に対する粘着力が、第二の部分層（５）に対するそれの粘着力よりも大きく、そして、前記電磁波反射層（６）が面する第二の部分層（５）の該電磁波反射層に対する粘着力が、前記第一の部分層（４）に対する粘着力よりも大きいことを特徴とする、上記のセキュリティエレメントである。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６６】
ラベルを貼り付けた後に、それが操作された場合、つまり、保護すべきオブジェクトから剥がそうとした場合に、二つの部分層４及び５が設けられた領域においては、該構成物は、スペーサー層のそれら二つの部分層の間で剥離する。部分層４だけが存在する別の領域においては、接着層８が保護すべきオブジェクトから剥がれる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
支持基材（１）を有し、該基材はその片面上に、金属クラスター（２）からなる層からなるカラーシフトエフェクト構造体、スペーサー層（３）及び電磁波反射層（６）を有するセキュリティエレメント、特に、セキュリティラベルのためのものであって、該スペーサー層（３）が、同一又は異なる組成の、互いに上下に位置する二つの部分層（４、５）からなり、その際、前記クラスター層（２）が面する第一の部分層（４）の該クラスター層に対する粘着力が、第二の部分層（５）に対するそれの粘着力よりも大きく、そして、前記電磁波反射層（６）が面する第二の部分層（５）の該電磁波反射層（６）に対する粘着力が、前記第一の部分層（４）に対する粘着力よりも大きいことを特徴とする、上記のセキュリティエレメント。
【手続補正４】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１０】
前記ポジ又はネガの文字、数字、記号、符号、線、ギロッシュの形態に形成された部分層（４、５）が、操作の後に、脱色が引き起こされていることを特徴とする、請求項８に記載のセキュリティエレメント。
【手続補正５】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１１】
金属クラスターからなる前記クラスター層（２）が、アルミニウム、金、パラジウム、白金、クロム、銀、銅、ニッケル、タンタル、チタン、スズ、亜鉛、モリブデン又はＡｕ／Ｐｄ、Ｃｕ／Ｎｉ又はＣｒ／Ｎｉからなるようなそれの合金か、又はコロイダル金属クラスターからなることを特徴とする、請求項１〜１０のいずれか一つに記載のセキュリティエレメント。
【手続補正書】
【提出日】平成29年11月2日(2017.11.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
物品であって、
基材と、
前記基材上に配置された、交互積層自己集合によって形成された複数の層と、を含み、前記層の一部が、リン含有表面処理剤を含む無機酸化物ナノ粒子を含む、物品。
【請求項２】
前記無機酸化物ナノ粒子は、負に帯電した基を含む前記リン含有表面処理剤を含む、請求項１に記載の物品。
【請求項３】
前記無機酸化物ナノ粒子が、少なくとも１．６０の屈折率を有する、請求項１又は２に記載の物品。
【請求項４】
前記無機酸化物ナノ粒子は、ジルコニアを含む、請求項３に記載の物品。
【請求項５】
前記リン含有表面処理剤は、有機リン酸又はこれらの塩である、請求項１〜４のいずれか一項に記載の物品。
【請求項６】
前記リン含有表面処理剤は、少なくとも２個の負に帯電した基を含み、
前記負に帯電した基の少なくとも１つは、負に帯電したリン含有基である、請求項１〜５のいずれか一項に記載の物品。
【請求項７】
前記リン含有表面処理剤は、以下の一般構造
【化１】
2017504060.tif 000001
（式中、Ｌは酸素、若しくは場合によりＯＨ基で置換されているアルキレン基であり、又は、Ｌ−Ｒ２はＨ、ＯＨ、若しくはＣ１〜Ｃ１２であり、
Ｒ１はＯＨであり、
Ｒ２は、ＰＯ３Ｈ２、ＳＯ３Ｈ、ＣＯＯＨである）、を有する酸、又は
それらの塩である、請求項１〜５のいずれか一項に記載の物品。
【請求項８】
前記リン含有表面処理剤を含む前記無機酸化物ナノ粒子を含む層が、リン含有材料ではないポリカチオンを含む層と交互になり二重層を形成している、請求項１〜７のいずれか一項に記載の物品。
【請求項９】
前記基材は光透過性の無機又は有機ポリマー材料である、請求項１〜８のいずれか一項に記載の物品。
【請求項１０】
前記基材は、光学フィルム、建築用フィルム、温室用フィルム、窓用フィルム、保護フィルム、窓割り製品、太陽光チューブ用フィルム、道路標識用フィルム、業務用グラフィックフィルム、太陽光発電フロントシート用フィルム、太陽熱発電集光ミラー、又は白熱電球の透光カバーである、請求項１〜９のいずれか一項に記載の物品。
【手続補正書】
【提出日】平成29年9月1日(2017.9.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
乳房パラメータマップを生成する医療イメージング装置であって、
画像ユニット、ラスタユニット、規定ユニット、生成ユニット、及び供給ユニット、を有し、
前記画像ユニットは、乳房の画像データを提供し、
前記ラスタユニットは、いくつかのサブポーションを有する予め規定されたラスタを提供し、
前記サブポーションは、乳房ボリュームをセグメント化し、
前記規定ユニットは、前記ラスタの前記サブポーションに従って、前記乳房にいくつかのサブボリュームを規定し、前記規定は、前記画像データにおける身体特性の識別、及び前記ラスタのサブポーション及び前記識別された身体特性に従う前記画像データのセグメント化、を含み、
前記生成ユニットは、乳房サブボリュームごとに乳房パラメータを生成し、
前記供給ユニットは、乳房パラメータマップにおいて前記乳房サブボリュームごとの乳房パラメータを提供し、各乳房パラメータが、その乳房サブボリュームに割り当てられる、医療イメージング装置。
【請求項２】
前記画像ユニットが、Ｘ線源及びＸ線検出器を有する、請求項１に記載の医療イメージング装置。
【請求項３】
前記供給ユニットがディスプレイを有する、請求項１又は２に記載の医療イメージング装置。
【請求項４】
乳房パラメータマップを生成する医療イメージング方法であって、
ａ）乳房の画像データを提供するステップと、
ｂ）乳房ボリュームをセグメント化するいくつかのサブポーションを有する予め規定されたラスタを提供するステップと、
ｃ）前記ラスタのサブポーションに従って、乳房にいくつかのサブボリュームを規定するステップであって、前記規定が、前記画像データにおける身体特性の識別、及び前記ラスタのサブポーション及び前記識別された身体特性に従う前記画像データのセグメント化、を含む、ステップと、
ｅ）乳房サブボリュームごとに乳房パラメータを生成するステップと、
ｆ）乳房パラメータマップにおいて、乳房サブボリュームごとの乳房パラメータを提供するステップであって、各乳房パラメータが、その乳房サブボリュームに割り当てられる、ステップと、
を有する医療イメージング方法。
【請求項５】
前記ラスタが、放射状、グリッド形状、又は円グラフとしての形状に形作られる、請求項４に記載の医療イメージング方法。
【請求項６】
前記ラスタは、予め規定された身体特性に対して予め規定される座標系に基づく、請求項４又は５に記載の医療イメージング方法。
【請求項７】
前記乳房の画像データが、少なくとも２つの視角において取得される、請求項４乃至６のいずれか１項に記載の医療イメージング方法。
【請求項８】
前記乳房の画像データがＣＣ及び／又はＭＬＯビューである、請求項４乃至７のいずれか１項に記載の医療イメージング方法。
【請求項９】
前記乳房パラメータが、乳房密度、乳腺体積分率、乳腺組織ボリューム、乳房組織ボリューム、脂肪組織ボリューム、脂肪体積分率、含水量、石灰化の数、病変及び／又は嚢胞又はその組み合わせのうちの１つである、請求項４乃至８のいずれか１項に記載の医療イメージング方法。
【請求項１０】
前記乳房パラメータが、スペクトルイメージングによる２つの基礎物質への乳房の物質分解に関連する、請求項４乃至９のいずれか１項に記載の医療イメージング方法。
【請求項１１】
前記２つの基礎物質が、アルミニウム及びＰＭＭＡである、請求項１０に記載の医療イメージング方法。
【請求項１２】
前記乳房パラメータは、スペクトルイメージングにより導出され、嚢胞流体ボリューム、固体の病変ボリューム、筋肉組織ボリューム、脂肪組織ボリューム、乳腺組織ボリューム又はその組み合わせに関する、請求項４乃至１１のいずれか１項に記載の医療イメージング方法。
【請求項１３】
請求項１乃至３のいずれか１項に記載の医療イメージング装置を制御するためのコンピュータプログラムであって、処理ユニットによって実行されるとき、請求項４乃至１２のいずれか１項に記載の方法の各ステップを実施するように適応されるコンピュータプログラム。
【請求項１４】
請求項１３に記載のコンピュータプログラムを記憶したコンピュータ可読媒体。
【手続補正書】
【提出日】平成29年1月13日(2017.1.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
鼻道を画定する鼻を有する使用者の鼻道を開放させるように適合されたアイウェアシステムであって、前記アイウェアシステムは、
使用者の鼻に隣接して配置可能に構成されたブリッジ部を有する装着可能フレームと、
前記使用者の鼻の上に鼻道に隣接して選択的に配置可能に構成された鼻取付部材と、を備え、
前記鼻取付部材は、前記使用者の鼻に隣接して前記装着可能フレームを配置することに応答して、前記装着可能フレームに向けて付勢され、使用者の鼻道を開放させるように適合されている、システム。
【請求項２】
前記装着可能フレームに結合され、かつ前記装着可能フレームが使用者に配置されると使用者と接触するように構成されたライナーであって、該ライナーは圧縮性材料から形成されている、ライナーと、
前記装着可能フレームに選択的に取り付け可能に構成され、かつ前記装着可能フレームに取り付けられると前記ライナーを圧縮するように適合されたクリップとをさらに備え、前記クリップは、前記使用者の鼻に隣接して前記装着可能フレームを配置することに応答して、前記鼻取付部材を前記装着可能フレームに向けて付勢するように構成されている、請求項１に記載のシステム。
【請求項３】
前記クリップに結合される周囲バリア部材をさらに備え、前記周囲バリア部材は、前記クリップが前記装着可能フレームに取り付けられ、かつ前記装着可能フレームが使用者の鼻に隣接して配置されるときに、前記装着可能フレームと使用者との間における粉塵の通過を軽減するために使用者と接触するように構成されている、請求項２に記載のシステム。
【請求項４】
前記クリップは第１クリップ部材と、第１クリップ部材に枢動可能に結合された第２クリップ部材とを備える、請求項２に記載のシステム。
【請求項５】
第１クリップ部材は、第２クリップ部材に対して、開放位置と閉鎖位置との間で枢動可能であり、第１クリップ部材と第２クリップ部材との間の角度は、第１クリップ部材および第２クリップ部材が開放位置から閉鎖位置に向かって枢動するにつれて減少する、請求項４に記載のシステム。
【請求項６】
第１クリップ部材および第２クリップ部材は、第１クリップ部材および第２クリップ部材が閉鎖位置にあるときに、ロック状態となるように構成されている、請求項５に記載のシステム。
【請求項７】
鼻取付部材は、前記装着可能フレームに向かって磁気的に付勢されるように構成されている、請求項１に記載のシステム。
【請求項８】
前記装着可能フレームに結合されたフレーム磁石と、前記鼻取付部材に結合され、かつ前記フレーム磁石に磁気的に引き付けられる鉄体とをさらに備える、請求項１に記載のシステム。
【請求項９】
前記鼻取付部材は、使用者の双方の鼻孔の間に延在するように構成された鼻ストリップを備える、請求項１に記載のシステム。
【請求項１０】
前記鼻取付部材は、使用者の鼻孔の各々に隣接して配置可能な一対の鼻要素を含む、請求項１に記載のシステム。
【請求項１１】
前記装着可能フレームは、ゴーグルレンズと係合するように適合されたゴーグルフレームである、請求項１に記載のシステム。
【請求項１２】
装着可能フレームを有するアイウェアとともに使用するための呼吸改善システムであって、前記呼吸改善システムは、
使用者の鼻の上に鼻道に隣接して選択的に配置可能に構成された鼻取付部材と、
前記装着可能フレームに選択的に取り付け可能に構成されたクリップと、を備え、
前記クリップおよび鼻取付部材は、使用者の鼻道を開放するために、前記鼻取付部材をクリップに向けて付勢するように、互いに向かって磁気的に引き付けられる、システム。
【請求項１３】
前記クリップに結合された周囲バリア部材をさらに備え、前記周囲バリア部材は、前記クリップが装着可能フレームに取り付けられ、かつ前記装着可能フレームが使用者の鼻に隣接して配置されるときに、前記装着可能フレームと使用者との間における粉塵の通過を軽減するように構成されている、請求項１２に記載のシステム。
【請求項１４】
前記クリップは第１クリップ部材と、第１クリップ部材に枢動可能に結合された第２クリップ部材とを備える、請求項１２に記載のシステム。
【請求項１５】
第１クリップ部材は、第２クリップ部材に対して、開放位置と閉鎖位置との間で枢動可能であり、第１クリップ部材と第２クリップ部材との間の角度は、第１クリップ部材および第２クリップ部材が開放位置から閉鎖位置に向かって枢動するにつれて減少する、請求項１４に記載のシステム。
【請求項１６】
第１クリップ部材および第２クリップ部材は、第１クリップ部材および第２クリップ部材が閉鎖位置にあるときに、ロック状態となるように構成されている、請求項１５に記載のシステム。
【請求項１７】
前記鼻取付部材は、前記装着可能フレームに向かって磁気的に付勢されるように構成されている、請求項１２に記載のシステム。
【請求項１８】
前記クリップに結合されたクリップ磁石と、前記鼻取付部材に結合され、かつ前記クリップ磁石に磁気的に引き付けられる鼻磁石とをさらに備える、請求項１２に記載のシステム。
【請求項１９】
前記鼻取付部材は、使用者の双方の鼻孔の間に延在するように構成された鼻ストリップを備える、請求項１２に記載のシステム。
【請求項２０】
圧縮性バリア部材を有するゴーグルを装着している使用者の鼻気道を改善する方法であって、前記方法は、
前記ゴーグル上において圧縮性バリア部材を圧縮して、該バリア部材内に凹部を形成することと、
使用者に対して使用者の鼻孔に隣接して鼻取付部材を取り付けることと、
前記圧縮性バリア部材が圧縮された後に、前記ゴーグルを装着者に配置することと、を含み、前記ゴーグルの装着者への配置は、前記鼻取付部材を前記バリア部材内に形成された凹部内に移動するように付勢し、前記鼻取付部材の凹部内への移動は使用者の鼻気道を拡張させる、方法。
【手続補正書】
【提出日】平成29年10月16日(2017.10.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
３次元物体のプリンティング方法であって、前記方法は、
複数のノズルを有するプリンティングヘッドにインクを供給するステップであって、前記インクは少なくともキャリア液、微粒子、及び分散剤を含むことを特徴とするステップと、
前記複数のノズルから前記インクを分配して第１の層を形成するステップと、
前記第１の層を前記分散剤のバーンオフ温度以下の温度まで加熱し前記キャリア液を蒸発させるステップと、
３次元物体が構築されるまで前記第１の層の上に追加する層を繰り返し分配し加熱するステップと、
を具備することを特徴とする３次元物体のプリンティング方法。
【請求項２】
前記インクには金属微粒子が含まれることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記インクにはセラミック微粒子が含まれることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記微粒子の大きさは約５ナノメータと１０マイクロメータとの間であることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記キャリア液を蒸発させるために先に分配した層を加熱するステップは、電磁源、熱したトレイ、及び熱風のうちの少なくとも１つにより行われることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記分散剤は、前記キャリア液が蒸発した後前記微粒子を相互に結合させることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項７】
先に分配した層の上に新しい層を形成するためにインクを分配する前に前記先に分配した層を冷却するステップをさらに具備することを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項８】
先に分配した層のうち約５％から３０％の間で素材を削り取るために均し装置を用いるステップをさらに具備することを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項９】
前記均し装置が前記先に分配した層の素材を削り取るときに、微粒子の屑の散乱を防止するためにパイプを介して吸引力を加えるステップをさらに具備することを特徴とする請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
前記分散剤の少なくとも一部を分解させるために前記分散剤の前記バーンオフ温度以上まで先に分配した層を加熱するステップをさらに具備することを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項１１】
前記分散剤の少なくとも一部を分解させるために前記先に分配した層を加熱するステップは、レーザ、集光させた直線状のレーザビーム、集光させた走査型のペンシルレーザビーム、直線状の白熱電球からの集光させた光、及び放電灯ランプ電球からの集光させた光のうちの少なくとも１つにより加熱するステップを具備することを特徴とする請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
前記分散剤の少なくとも一部を分解させるステップは、前記３次元物体から前記分散剤を実質的にすべて除去するステップを含むことを特徴とする請求項１０に記載の方法。
【請求項１３】
前記分散剤の少なくとも一部を分解させるステップは、前記３次元物体中の残留分散剤の最終的な濃度を０．１％未満にするステップを具備することを特徴とする請求項１０に記載の方法。
【請求項１４】
３次元物体をプリンティングするための付加製造システムであって、前記システムは、
第１の層を形成するために、少なくともキャリア液、微粒子、及び分散剤を含むインクを分配するための複数のノズルを有するプリンティングヘッドと、
前記キャリア液を蒸発させるために、前記第１の層を前記分散剤のバーンオフ温度以下の温度まで熱を供給するよう構成されたエネルギー源と、
３次元物体が構築されるまで前記第１の層の上に追加する層を繰り返し分配し加熱するよう前記プリンティングヘッド及び前記エネルギー源に命令するよう構成されたプロセッサと、
を具備することを特徴とする付加製造システム。
【請求項１５】
前記プロセッサはさらに、プリンティングされた前記３次元物体の温度を、所定の温度範囲内に維持するために前記エネルギー源を制御するよう構成されていることを特徴とする請求項１４に記載の付加製造システム。
【請求項１６】
前記加熱された第１の層と前記複数のノズルとの間に温度バッファをさらに含むことを特徴とする請求項１４に記載の付加製造システム。
【請求項１７】
先に分配した層から素材を削り取るよう構成された均し装置をさらに含むことを特徴とする請求項１４に記載の付加製造システム。
【請求項１８】
前記エネルギー源はさらに、前記分散剤の少なくとも一部を分解させるために前記分散剤の前記バーンオフ温度以上まで先に分配した層に熱を供給するよう構成されていることを特徴とする請求項１４に記載の付加製造システム。
【請求項１９】
前記分散剤の少なくとも一部を分解させるために前記分散剤の前記バーンオフ温度以上まで熱を供給するよう構成された付加的なエネルギー源をさらに含むことを特徴とする請求項１４に記載の付加製造システム。
【請求項２０】
複数のノズルを有するプリンティングヘッドにインクを供給するステップであって、前記インクは少なくともキャリア液、微粒子、及び分散剤を含むことを特徴とするステップと、
前記複数のノズルから前記インクを分配して第１の層を形成するステップと、
前記第１の層を前記分散剤のバーンオフ温度以下の温度まで加熱し前記キャリア液を蒸発させるステップと、
３次元物体が構築されるまで前記第１の層の上に追加する層を繰り返し分配し加熱するステップと、
を具備する付加製造過程を用いて製造された３次元物体。
【手続補正書】
【提出日】平成29年10月27日(2017.10.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項５】
支持体（１）が、導流部材、搬送ウイング（６）及びプラスチック材料の処理及び粉砕用の部材（４）を表面上に有するディスク（１０）からなるか、又は、中央支持部分（１２）及びこの中央支持部分（１２）から出発する複数の桁部材（１１）からなり、中央支持部分（１２）が、導流部材（５）と、必要に応じて、搬送ウイング（６）を支持するか、及び／又は、桁部材（１１）が、搬送ウイング（６）、プラスチック材料の処理及び粉砕用の部材（４）と、必要に応じて導流部材（５）を支持していることを特徴とする請求項１〜４の何れか１に記載の粉砕装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項３０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項３０】
搬送ウイング（６’）が、回転軸線（Ｂ）から半径方向に出発し、導流部材（５）の縁まで直線状の経路を辿り、この直線が、湾曲部、すなわち、経路に対する又はつながっている搬送ウイング（６）の最前部（４１）に対する接線になっていることを特徴とする請求項１〜２９の何れか１に記載の粉砕装置