(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
一酸化炭素を含む水素リッチなガスに空気を混合する空気混合器と、ガス流通管の内部に選択酸化触媒が充填されることによって選択酸化触媒層が形成されており、空気混合部で生成された混合ガスを前記選択酸化触媒層に流通させることによって一酸化炭素を選択的に酸化する選択酸化触媒器とからなるＣＯ除去装置において、
前記選択酸化触媒器には、
選択酸化触媒層のガス流通方向途中において、ガス流通管内の中央寄りを流通するガスと外周寄りを流通するガスとを混合撹拌するガス混合撹拌部と、
当該ガス混合撹拌部より上流側において前記選択酸化触媒層を周りから冷却できるよう設けられた冷却部とが備えられていることを特徴とするＣＯ除去装置。
【請求項２】
前記冷却部は、
前記ガス流通管の外周に隣接して設けられた冷却媒体の流路からなることを特徴とする請求項１記載のＣＯ除去装置。
【請求項３】
前記ガス混合撹拌部は、
前記ガス流通管の内面に突出して設けられた部材であることを特徴とする請求項１または２記載のＣＯ除去装置。
【請求項４】
前記ガス混合撹拌部は、
前記ガス流通管の内面に沿って環状に配された部材からなることを特徴とする請求項１または２記載のＣＯ除去装置。
【請求項５】
前記ガス混合撹拌部は、
ワッシャリング状の部材からなることを特徴とする請求項４記載のＣＯ除去装置。
【請求項６】
前記ガス混合撹拌部は、
前記ガス流通管の管径が、上流側より下流側の方で小さく設定されることによって形成されていることを特徴とする請求項１または２記載のＣＯ除去装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、発熱を伴いながらガスを触媒反応させる反応装置に関し、特に燃料電池発電システムに用いるＣＯ除去装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
燃料電池発電システムにおいては、通常、燃料電池の燃料極に水素リッチなガスを供給すると共に空気極に空気を供給し、電気化学的に反応させて発電を行う。
この水素リッチなガスは、比較的容易かつ安価に入手することができる天然ガス，ナフサ等の軽質炭化水素やメタノール等のアルコール類を燃料とし、図９に示すように、この燃料に水蒸気を混合して、改質器１０１で水蒸気改質することにより生成している。
【０００３】
改質器１０１における水蒸気改質反応は、改質用触媒層を高温に加熱しながら行われるが、この際、水素と共に一酸化炭素も副生される。
燃料電池１０４の燃料極には、白金などの触媒が用いられているが、一酸化炭素は、この触媒を劣化させて発電性能を低下させる原因となるので、改質器１０１の下流にＣＯ変成器１０２を設け、下記反応式のように一酸化炭素を水蒸気で変成することにより一酸化炭素の濃度を低減してから燃料電池１０４に供給するようにしているものが多い。
【０００４】
ＣＯ＋Ｈ２Ｏ→ＣＯ２＋Ｈ２
ただし、ＣＯ変成器１０３では、一酸化炭素の濃度を１％程度までしか低減することができず、固体高分子型（ＰＥＦＣ）のように比較的低温で作動する燃料電池の場合は、電極触媒の劣化が生じやすいので、更に改質ガス中の一酸化炭素の濃度を低減する必要がある。
【０００５】
そこで、例えば、特開平８−１００１８４号公報に開示されている燃料電池発電システムのように、ＣＯ除去装置１０３を設け、改質ガスに少量の空気を添加混合し、選択酸化触媒層を通過させて下記反応式のように一酸化炭素を選択的に酸化することにより一酸化炭素を除去してから燃料電池１０４に供給する方法がとられている。
【０００６】
２ＣＯ＋Ｏ２→２ＣＯ２
ＣＯ除去装置においては、選択性を良好に保つこと、即ちできるだけ水素を燃焼させることなく一酸化炭素をよく燃焼させることが望まれ、そのために選択酸化触媒層を適正な温度範囲に保つことが重要である。適正な温度範囲は、触媒の種類によっても異なるが、例えばルテニウム触媒では１４０℃〜１９０℃程度のものがよく知られ、選択酸化触媒層の温度が、この温度範囲より高くなると酸化反応の選択性が悪くなり、この温度範囲より低くなると一酸化炭素が効率よく燃焼されない。
【０００７】
選択酸化触媒層内ではガスが選択酸化反応することにより発熱するので、選択酸化触媒層の温度を上記の適温に保つことを考慮して、通常は選択酸化触媒層を冷却しながら運転している。
ところで、このようなＣＯ除去装置において、選択酸化触媒内では、改質ガスと空気の混合物が選択酸化触媒に最初に接触する入口付近では反応が急激に進行しやすい。そのため入口付近で高温となり、酸素がほとんど消費されてしまうという状態に陥りやすい。そして、入口側で酸素が消費されてしまうと、出口側では酸素不足の状態になるため、メタン生成反応などの副反応が生じる傾向もある。
【０００８】
従って、ＣＯ除去装置で副反応を抑え高反応率を得るためには、選択酸化触媒層が適正な温度範囲を越えることなく、且つ選択酸化触媒層のガス入口側から出口側にかけてできるだけ分散して選択酸化反応を進行させるようコントロールすることが必要である。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】
このような制御は、選択酸化触媒層の部分ごとに、空気の供給や冷却を細かく制御すれば可能とも考えられるが、簡素な装置構成のＣＯ除去装置では、温度コントロールを細かく行うことは難しい。
例えば、現在、比較的簡単な構成のＣＯ除去装置としては、円筒管の中に選択酸化触媒を充填した選択酸化触媒器を設け、改質ガスと空気を混合してその入口部に送り込むと共に、選択酸化触媒層を冷却する冷却水を円筒管の周りに流して温度調節しながら運転するものが知られている。このようなＣＯ除去装置では、選択酸化触媒層の外周部は冷却水に近いので比較的低温となり、中央部は比較的高温となる傾向となる。そのため、選択酸化触媒層の中央部の温度が適温となるよう冷却制御できたとしても、外周部を流れるガスは、適温よりも低くなり反応が十分に進行しないので、それだけ反応率が低くなってしまう。一方、選択酸化触媒層の外周部の温度を適温に制御すると、中央部の温度が高くなり過ぎ、入口付近で酸素が消費されてしまう傾向になる。
【００１０】
このような課題に対して、特開平８−４７６２１号公報に開示されているＣＯ除去装置のように、燃料ガスの上流側から順に第１反応器、第２反応器、第３反応器を設け、各反応器の入口に別々に空気を分配して供給したり、選択酸化触媒層において、入口側の触媒充填密度を低く調整することは、反応を入口側から出口側にかけて分散して行わせたり、選択酸化触媒層の適正な温度分布を得るのに有効とは考えられるが、空気の分配機構を設けたり触媒の充填密度調整を行う必要があるので、この点で装置構成の簡素さに欠ける。
【００１１】
なお、上述したような課題は、ＣＯ除去装置だけではなく、ガスを触媒槽に供給し、当該触媒槽を通過させることによって発熱しながら反応させる反応装置においては共通するものと考えられる。
本発明は上記課題に鑑みてなされたものであって、比較的簡単な装置構成であって、且つ副反応を抑え高反応率で所望の反応（ＣＯの選択酸化反応）を行うことのできる反応装置、並びにＣＯ除去装置を提供することを目的とする。
【００１２】
【課題を解決する手段】
上記課題を解決するために、本発明のＣＯ除去装置では、一酸化炭素を含む水素リッチなガスに空気を混合する空気混合器と、ガス流通管の内部に選択酸化触媒が充填されて選択酸化触媒層が形成された選択酸化触媒器とを備えるものであって、この選択酸化触媒器に、選択酸化触媒層のガス流通方向途中において、ガス流通管内の中央寄りを流通するガスと外周寄りを流通するガスとを混合撹拌するガス混合撹拌部を設け、このガス混合撹拌部より上流側において選択酸化触媒層を周りから冷却できるよう冷却部を設ける構成とした。
【００１３】
この構成によれば、一酸化炭素を含む水素リッチなガスが空気と混合された後、まず選択酸化触媒層の上流部を流通しながら選択酸化反応が行われる。
この上流部においては、冷却部で選択酸化触媒が周りから冷却されるので、冷却部から遠い中央寄りを通過するガスは比較的高温で、冷却部に近い外周寄りを通過するガスは比較的低温となる。従って、冷却部によって、触媒層中央部の温度が適温となるように冷却を調整すれば、中央部を通過するガスは選択触媒層でよく反応する。一方、触媒層の外周寄りを通過するガスは、低目の温度となり、十分に反応しない状態で上流部を通過する。従って、選択酸化触媒層の上流部において外周寄りを通過したガスには、未反応の一酸化炭素及び空気がある程度含まれていることになる。
【００１４】
次に、ガス混合撹拌部においては、中央寄りのガスと外周寄りのガスとが混合撹拌され、ガス温度も平均化される。
そして、上記外周寄りを通過したガスに含まれていた未反応の一酸化炭素及び空気は、混合撹拌されたガス中に移行され、混合撹拌されたガスが選択酸化触媒層の下流部を通過するときに選択酸化反応される。
【００１５】
従って、選択酸化触媒層の上流部及び下流部のいずれにおいても、温度が高くなりすぎることなく且つ選択酸化触媒反応がなされることになる。
また、選択酸化触媒器の上流側に設けられた空気混合器で空気が混合されるようになっているので、空気分配機構のようなものは必要なく、その点で装置構成が簡素である。
【００１６】
ガス混合撹拌部についても、例えばガス流通管の内面にワッシャリング状の部材を設けることにより簡単に形成でき、冷却部も、選択酸化触媒層を周りから冷却できればよいので簡単な構成とすることができる。
このように、本発明のＣＯ除去装置は、全体的に簡単な装置構成とすることができる。
【００１７】
【発明の実施の形態】
（実施の形態１）
図１は、本発明の一実施形態にかかるＣＯ除去装置の概略構成図であり、図２はその動作説明図である。
このＣＯ除去装置１は、上記図９で説明したＣＯ除去装置１０３と同様、改質器及びＣＯ変成器で製造された改質ガス（一酸化炭素を含む水素リッチなガス）中の一酸化炭素を除去して燃料電池に供給するものであって、改質ガスに空気を混合させる空気混合器２及び選択酸化触媒器３とから構成されている。
【００１８】
空気混合器２は、選択酸化触媒器３に送り込まれる改質ガスに、空気を数％混合するものであって、従来から一般的にＣＯ除去装置に用いられているものを適用することができる。
ここでは、空気混合器２は、図示するように、改質ガスが送り込まれる配管２１に、空気ポンプ（不図示）からの空気用配管２２が合流するようになっており、装置運転中は、配管２１を流通する改質ガス中のＣＯ濃度を測定しながら、Ｏ２／ＣＯ比の値が適当な範囲に入るように、空気ポンプから送り込む空気量を調整するものとする。通常このＯ２／ＣＯ比の値は、０．５〜３程度の範囲に設定するのが適当とされている。
【００１９】
空気混合器２としては、これ以外に、ガスバーナに一般的に用いられている空気吸引機構を適用して、改質ガスをノズルから噴射して周囲の空気を吸い込むエゼクタ機構を用いることもできる。
選択酸化触媒器３は、ガス流通管３０と、そのガス流通管３０に選択触媒が充填されることによって形成された選択酸化触媒層４０と、選択酸化触媒層４０のガス流通方向途中において、ガス流通管３０内の中央寄りを流通するガスと外周寄りを流通するガスとを混合撹拌するガス混合撹拌部５０と、ガス混合撹拌部５０より上流側において選択酸化触媒層４０を冷却できるよう設けられた冷却部６０とから構成されている。
【００２０】
図３は、ＣＯ除去装置１の一例を示す斜視図である。図示したものは円筒型の一例であって、本図では選択酸化触媒器３の内部構造を表わすために、選択酸化触媒層４０は示していない。
図３のガス流通管３０は、その上端が蓋３１で塞がれ、上記配管２１はこの蓋３１に連結されている。また、ガス流通管３０内の底部には、選択酸化触媒層４０を形成するために選択酸化触媒を載置する網状の載置台３２が設置されている。
【００２１】
また、選択酸化触媒器３の組み立てや選択酸化触媒の詰め替えを容易に行うことができるように、蓋３１は着脱可能な構成としている。
なお、選択酸化触媒器３のガス流通管３０は、一般的には図３のように円筒形状の金属板からなる管を用いることが好ましいが、角筒形状の管を用いることもできる。
【００２２】
選択酸化触媒は、従来からＣＯ除去装置に用いられている触媒を用いればよい。なお、一般的な選択酸化触媒は、１００℃〜２５０℃程度の温度範囲内で一酸化炭素の選択酸化作用を有するが、近年、数十℃〜１５０℃程度で選択酸化する触媒も開発されている。
選択酸化触媒の具体例としては、白金（Ｐｔ），金（Ａｕ），ロジウム（Ｒｈ），ルテニウム（Ｒｕ）といった金属を１種以上含有する触媒を挙げることができる。適正な温度範囲は、触媒の種類によっても異なるが、市販のルテニウム触媒の活性温度域（優れた選択酸化性を示す温度域）は、大体１４０〜１９０℃である。
【００２３】
選択酸化触媒層４０は、このような触媒を、ハニカム状に成型したアルミナ多孔体に担持させたもの、或は、粒状のアルミナ担体や粒状のゼオライト等に担持させたものを、ガス流通管３０内に充填することによって形成されている。
通常、選択酸化触媒層４０の体積は、配管２１から送り込まれる改質ガスの選択酸化触媒層に対する空間速度が１０００〜１５，０００ｈｒ−１の範囲内に入るように設定する。
【００２４】
冷却部６０は、選択酸化触媒層４０の上流部４１をその外側から冷却するものであって、特に、酸化反応が活発に起こりやすい選択酸化触媒層４０のガス入口付近を冷却するものである。
この冷却部６０は、冷却媒体を流通させて冷却する水冷式または空冷式が一般的である。
【００２５】
水冷式の冷却部６０は、選択酸化触媒層４０の上流部４１において、冷却水の流通路を、選択酸化触媒層４０の側面に沿って設けることによって形成することができる。
具体的には、ガス流通管３０が円筒形の場合は、図３のようにその周りに円筒管を設けて二重円筒形状とし、その外側の円環状通路に冷却水を流通させるようにすれば、構成が簡素で且つ選択酸化触媒層４０を周りから効果的に冷却できる冷却部６０を構成することができる。この他に、ガス流通管３０の外周に、冷却水用の配管をコイル状に巻きつけることによっても冷却部６０を構成することができる。
【００２６】
一方、空冷式の場合は、ガス流通管３０の周囲に、冷却水流通路の代わりに冷却フィンを設け大気中の放熱させることによって、冷却部６０を形成することができる。
空冷式の方が簡素ではあるが、水冷式にするとそれに隣接する選択酸化触媒層４０の外周部の温度を１００℃付近にコントロールすることは比較的容易に行える点でより好ましい。
【００２７】
ここで、ガス混合撹拌部５０及び冷却部６０の機能について、図２を参照しながら説明する。
一般的に、ガス流通管内の触媒層をガスが通過するときは、その流れ方向にほぼ平行に流れるので、選択酸化触媒層４０の上流部４１を流通するガスも、ガス流通管３０内の中央寄りを流通するガス（図２の白抜矢印Ａ）及び外周寄りを流通するガス（図２の白抜矢印Ｂ）は、ガス流通管３０の内面に沿って平行に流れ、相互に混合撹拌されることはない。
【００２８】
従って、上流部４１の外周寄りを流通するガスＢは、冷却部６０に近いところを通過するので、中央寄りを流通するガスＡよりも温度が低くなる。
ここで冷却部６０が、中央寄りを流通するガスＡが選択酸化反応に適したとなるように冷却を行うものとすると、中央部を通過するガスＡは上流部４１でよく選択酸化反応され、外周寄りを通過するガスＢは、比較的低温のため十分に反応が進行しないまま上流部４１を通過する。従って、このガスＢには、未反応の一酸化炭素及び空気が含まれる。
【００２９】
ガス混合撹拌部５０は、この中央寄りを流通するガスＡと外周寄りを流通するガスＢとを混合撹拌することによって、選択酸化触媒層４０の下流部４２に導かれるガスを均一化するものである。
ガス混合撹拌部５０を通過したガス（図２の白抜矢印Ｃ）は、上記のガスＡとガスＢとが成分的にも温度的にも均一化されたものである。従って、このガスＣは、ガスＢよりは高い温度となり、ガスＣ中に含まれる未反応の一酸化炭素及び空気は、ガスＣが下流部４２を通過するときに選択酸化反応されることになる。
【００３０】
なお、選択酸化触媒層４０自体においても、触媒担持体の形状に従ってガスは多少拡散されるので、ガスを混合撹拌する機能が多少は有するものと考えれられるが、中央寄りを流通するガスＡと外周寄りを流通するガスＢとを混合撹拌して均一化できるほどではない。ガス混合撹拌部５０は、通常の触媒層が持つ混合撹拌機能よりも強い混合撹拌機能を持つものであって、その望ましい形態については後で説明する。
【００３１】
（ガス混合撹拌部５０の設置位置及び冷却部６０の設置範囲について）
ガス混合撹拌部５０を設ける位置について考察すると、選択酸化触媒層４０において、上流部４１の体積が全体の１／３以上を占めるようにするべきである。これは、上流部４１の体積比率がこれより小さいと、選択酸化触媒層の入口に近いところでガスが混合撹拌されてしまうので、上流部における反応が過剰となって温度が高くなりやすく、それに伴って下流部において酸素不足傾向になりやすいためである。
【００３２】
従って、選択酸化触媒層４０の入口側から出口側までの距離をＬ１、選択酸化触媒層４０の入口側からガス混合撹拌部５０までの距離をＬ２とすると、
Ｌ２／Ｌ１≧１／３となるように設定することが望ましいということが言える。ガス混合撹拌部５０を設ける箇所の数については、通常は一ヶ所でよいが、場合によっては２ヶ所以上にガス混合撹拌部５０を設けた方がよいと考えられる。
【００３３】
その理由を図２において説明すると、下流部４２内を流通するガスＣについても、外周部を流通するガスは中央部を流通するガスと比べて冷却されやすいため、下流部４２の外周部で徐々に反応が進行しにくくなる傾向が生じることもある。特に、下流部４２のガス流通方向長さが大きい場合には、そのような傾向が生じやすい。
【００３４】
従って、そのような場合には、下流部４２の中にもガス混合撹拌部を設ける（ガス混合撹拌部５０を２ヶ所以上に設ける）ことによって、反応の低下を抑えることが望ましいと考えられる。
なお、ガス混合撹拌部５０を２ヶ所以上に設ける場合は、１／３≦Ｌ２／Ｌ１≦１／２となる範囲に１ヶ所以上、２／３≦Ｌ２／Ｌ１≦３／４となる範囲にも１ヶ所以上設けることが望ましい。
【００３５】
冷却部６０の設置範囲については、選択酸化触媒層４０の入口近傍における急激な酸化反応を抑制するために、選択酸化触媒層の入口から流通方向長さに対して少なくとも１／４程度下流側までの範囲が必要と考えられる。即ち冷却部６０を配設する流通方向長さ（冷却領域の長さ）をＬ３とすると、１／４≦Ｌ３／Ｌ１とすべきである。
【００３６】
そして、選択酸化触媒層の形状や運転条件にもよるが、水冷方式の場合は、Ｌ３／Ｌ１が１／２程度になるよう設定するのが適当と考えられる。
運転時には、選択酸化触媒層４０の上流部４１における触媒層中央部の温度が、適温（通常は１４０〜１９０℃程度）の範囲に入るように、冷却部６０に冷却媒体を流通させる。
【００３７】
図３のＣＯ除去装置の場合、冷却部６０には、水ポンプ（不図示）から冷却水が送り込まれるが、選択酸化触媒層４０の入口付近の中央部が最も高温となりやすいので、その部分の温度を監視しながら、当該温度が適温の範囲に入るように冷却水の流量を制御する。
なお、空冷式の場合は、水冷式と比べて冷却力が低いので、水冷式の場合よりも冷却領域の長さＬ３を大きく設定する必要があると考えられる。
【００３８】
（ガス混合撹拌部５０の形態について）
ガス混合撹拌部５０の幾つかの形態について、具体例を挙げながら説明する。
▲１▼  先ず、ガス混合撹拌部５０の代表的な形態として、ガス流通管３０の内面に沿って、外周寄りを流通するガスＢの進路を妨げるように、突出する部材を環状に配設したものを挙げることができる。
【００３９】
この場合、その突出部材によって進路が妨げれたガスＢは、中央部側へと導かれるので、中央寄りを流通するガスＡと混合撹拌され、選択酸化触媒層４０の下流部４２に導かれる（図２参照）。
この形態の具体例として、ガス流通管３０が円筒状の場合には、図３に示すようにワッシャリング状の部材をガス流通管３０の内面に取り付けることによってガス混合撹拌部５０を形成することが挙げられる。
【００４０】
このようなワッシャリング状部材を用いると、部材の形状がシンプルなため作製が容易であるし、ガス流通管３０の内部に固定具や溶接で取り付ける際も、比較的容易に取り付けることができる。
別の具体例として、図４（ａ）のように、複数の板片状の部材５１をガス流通管３０の内面に環状に取り付けることによってガス混合撹拌部５０を形成することもできる。
【００４１】
更に、上記図４（ａ）の変形例として、図４（ｂ）のように、複数の板片状の部材５２をガス流通管３０の内面に、ひねりを加えた状態で環状に取り付けることによってガス混合撹拌部５０を形成してもよい。
このように部材５２にひねりを加えて、いわばプロペラ状に取り付けることによって、外周寄りを流通するガスＢを中央部側へ導いて中央寄りを流通するガスＡと混合撹拌する作用と共に、選択酸化触媒層４０の下流部４２に導かれるガスを旋回させることによって混合撹拌する作用も生じることになる。
▲２▼  次に、ガス混合撹拌部５０を形成しようとする場所において、ガス流通管３０の管径を上流側よりも下流側で絞ることによってガス混合撹拌部５０を形成する形態を挙げることができる。
【００４２】
図５は、この形態に該当するＣＯ除去装置の概略構成を示す図であって、ガス流通管３０において、上流側よりも下流側の方が管径が小さくなるよう変化する径縮小部分５３が設けられている。
この径縮小部分５３においては、選択酸化触媒が充填されていても、内部が空洞になっていてもよい。
【００４３】
この場合も、上記の突出部材を設ける場合と同様に、外周寄りを流通するガスは、径縮小部分５３で中央部側へ導かれて、中央寄りを流通するガスと混合撹拌され、選択酸化触媒層４０の下流部４２に導かれる。
なお、図５の例では、ガス流通管３０の管径はガス混合撹拌部５０の下流側で再び拡大し、選択酸化触媒層４０の下流部４２は上流部４１とほぼ同等の径で形成されているが、ガス流通管３０の管径をガス混合撹拌部５０の下流側で拡大させず、下流部４２の径を上流部４１の径よりも小さく形成してもよい。
【００４４】
但し、下流部４２の体積を一定とすれば、下流部４２の径を小さく設定するほど、ガス流通方向の長さを大きく設定しなければならないので、コンパクトな装置とするためには、図５のようにガス混合撹拌部５０の下流側で管径を再び拡大させる方が有利である。
▲３▼  ガス混合撹拌部５０の別の形態として、例えば、円筒状のガス流通管３０において、図３の例とは逆に、ガス流通管３０内部の中央部に円形の邪魔板を設置し、外周部ではガスが流通できるようにしておくことによっても、ガス混合撹拌部５０は形成できる。
【００４５】
この場合、中央寄りを流通するガスＡが邪魔板で進路が妨げれ、外周部側へと導かれるので、外周寄りを流通するガスＢと混合撹拌され、選択酸化触媒層４０の下流部４２に導かれることになる。
▲４▼  次に、ガス混合撹拌部５０を形成する部材を固定する形態に関して、例えば、上記のワッシャリング状部材や円形の邪魔板を用いる場合、その固定方法としては、ガス流通管３０の内面に取り付ける以外に、選択酸化触媒層４０の中に挟みこんで固定することも可能である。特に、選択酸化触媒層４０の担持体として、上記のハニカム状に成形したアルミナ多孔体のような一定形状の成型物を用いる場合は、このような固定方法でも十分である。
▲５▼  更に▲４▼の変形例として、ワッシャリング状部材や円形の邪魔板を用いる代わりに、選択酸化触媒層４０において、その外周部もしくは中央部に充填物を充填することにより、ガス流通路を部分的に閉塞することによっても、ガス混合撹拌部５０を形成することができる。
【００４６】
（実施の形態２）
図６は、角筒型のＣＯ除去装置の一例を示す斜視図である。
ＣＯ除去装置１において、ガス流通管３０が角筒形の場合は、選択酸化触媒層の上流部を取り巻くように冷却部を配設してもよいが、本図のように、一対の平面状の冷却水路からなる冷却部６０を、選択酸化触媒層の上流部を挟み込むように配設してもよい。、
この場合、選択酸化触媒層の上流部を流れるガスは、冷却部６０に隣接する両側部（図６では左右両側部）では比較的低温、中央部では比較的高温となる。
【００４７】
従って、ガス混合撹拌部５０としては、両側部を流通するガスと中央部を流通するガスが混合撹拌されるように、この両側部を遮断する形状の部材を設ければよく、具体的には、図６に示すような一対の長方形状の板状部材を設ければよい。
なお、上記実施の形態１，２では、ＣＯ除去装置について説明したが、本発明は、ＣＯ除去装置に限らず、ガスを触媒槽に供給し、当該触媒槽を通過させることによって発熱しながら反応させる反応装置に適用するが可能であって、同様の効果を得ることができる。
【００４８】
【実施例】
上記実施の形態（図３のような円筒型のＣＯ除去装置）に基づき、以下の各仕様で実施例のＣＯ除去装置を作製した。
また、ガス混合撹拌部５０を設けない比較例のＣＯ除去装置も作製し、これら実施例及び比較例の各ＣＯ除去装置を運転しながら、選択酸化触媒層内の温度測定、並びにＣＯ除去装置から出てくる改質ガスのＣＯ濃度測定を行った。
【００４９】
ガス流通管３０の材質：ＳＵＳ３１６、選択酸化触媒：Ｒｕ／アルミナペレット（ＮＥケムキャット製）、改質ガス組成：水素７９％、二酸化炭素２０％、一酸化炭素１％については、すべての実施例及び比較例に共通である。
（実施例１）
Ｌ／Ｄ＝７（Ｄは選択酸化触媒層の直径、Ｌは選択酸化触媒層の長さ）、
ガス混合撹拌部５０の設置場所：一ヶ所（Ｌ２／Ｌ１＝０．６の点）、
ガス混合撹拌部５０：ワッシャリング状の金属板、
ワッシャリング状金属板の厚さ５ｍｍ、
ガス流通管３０の内径Ｄ１に対するワッシャリング状金属板の内径Ｄ２の比率Ｄ２／Ｄ１＝０．８
冷却部６０は水冷方式、Ｌ３／Ｌ１＝０．６
Ｏ２／ＣＯ比＝１．７、
温度測定点：触媒層入口から０．５ｃｍの点、以降触媒出口側まで等間隔に合計８点。
（実施例２）
ガス混合撹拌部５０の設置場所：二ヶ所（Ｌ２／Ｌ１＝０．５及び０．８の点）、
その他の仕様は実施例１と同様。
（実施例３）
Ｌ／Ｄ＝５６、
ガス混合撹拌部５０の設置場所：三ヶ所（Ｌ２／Ｌ１＝０．４、０．７及び０．９の点）、
ワッシャリング状金属板の厚さ約２ｍｍ、
ガス流通管３０の内径Ｄ１に対するワッシャリング状金属板の内径Ｄ２の比率Ｄ２／Ｄ１＝０．８
冷却部６０は冷却フィンによる空冷方式（冷却領域は全域）、
その他の仕様は実施例１と同様。
（実施例４）
ガス混合撹拌部５０の設置場所：二ヶ所（Ｌ２／Ｌ１＝０．２及び０．７の点）、
その他の仕様は実施例１と同様。
（比較例１）
Ｏ２／ＣＯ比＝１．０、
ガス混合撹拌部はなし、
冷却部は冷却フィンによる空冷方式（冷却領域は全域）、
その他の仕様は実施例１と同様。
（比較例２）
ガス混合撹拌部はなし、
冷却部は冷却フィンによる空冷方式（冷却領域は全域）、
その他の仕様は実施例１と同様。
（比較例３）
ガス混合撹拌部はなし、
その他の仕様は実施例１と同様。
（比較例４）
Ｌ／Ｄ＝５６、
Ｏ２／ＣＯ比＝１．３、
ガス混合撹拌部はなし、
冷却部は冷却フィンによる空冷方式（冷却領域は全域）、
その他の仕様は実施例１と同様。
【００５０】
【表１】
0003604941.tif 000002
【００５１】
表１に各実施例及び比較例の特徴を簡単にまとめた。また、表１には、改質ガスのＣＯ濃度測定値も記載されている。
図７は、実施例１，２，４及び比較例１のＣＯ除去装置について、図８は、実施例３及び比較例４のＣＯ除去装置について、運転時の触媒層内温度を測定した結果を示すものであって、各測定点における相対長と測定温度との関係を示す特性図である。なお、相対長の数値は、触媒層入口から温度測定点までの距離を、触媒層全長（入口から出口までの距離）で割った値である。
【００５２】
図７及び表１のＣＯ濃度測定値から次のことが分かる。
実施例１，２，４では、ガス流通方向の略全域にわたって、温度が大体１４０〜１９０℃の範囲内に納まっており、温度分布も均一的である。また、ＣＯ濃度も低い値を示している。
これに対して、比較例１，３では、触媒層入口付近では、温度が１４０〜１８０℃の範囲内に納まっているが、下流側では１４０℃を下回り、特に出口付近では１００℃未満に低下している。そして、ＣＯ濃度もかなり高い値を示している。
【００５３】
これは、実施例１，２，４ではガス混合撹拌部があるために、下流側でも反応がよく起こっているのに対して、比較例１，３ではガス混合撹拌部がないために、下流側では反応があまり起こっていないことによるものと考えられる。
また、実施例１，２と実施例４とを比べると、実施例４では、触媒層入口付近で１９０℃程度まで上昇しており、ＣＯ濃度が３５ｐｐｍであるのに対して、実施例１，２では、ガス流通方向の略全域にわたって温度が１４０〜１８０℃の範囲内に納まっており、温度分布が均一的であって、ＣＯ濃度も１０ｐｐｍ以下まで低減されている。
【００５４】
実施例４では、実施例１，２ほどＣＯ濃度が低レベルとならないのは、ガス混合撹拌部が入口近く（Ｌ２／Ｌ１＜１／３に該当する位置）にあるため、触媒層入口付近で酸素が多めに消費され、出口付近で酸素不足気味になったためと考えられる。
これは、ガス混合撹拌部を設ける位置はＬ２／Ｌ１≧１／３とするのがよいことを裏付けている。
【００５５】
なお、図７において、実施例１，２，４及び比較例１，３いずれのグラフも、上流側で山形に変化し、相対長（Ｌ３／Ｌ１）１／２程度のところで１５０℃前後に低下している。
これより、実施例１，２，４のような触媒層の形状で、水冷式の場合、相対長１／２程度までの範囲を水冷するのが適当であることが考察される。
【００５６】
図８は、空冷方式の実施例３と比較例４とについて比較した結果であるが、この両者の比較からも上記と同様のことが言える。即ち、実施例３では、ガス流通方向の略全域にわたって、温度が大体１４０〜１８０℃の範囲内に納まっており温度分布も均一的である。また、ＣＯ濃度も１０ｐｐｍ以下の低い値を示している。
【００５７】
これに対して、比較例４では、触媒層入口付近では、温度が１４０〜１８０℃の範囲内に納まっているが、下流側では１４０℃を下回り、特に出口付近では１００℃未満に低下している。そして、ＣＯ濃度もかなり高い値を示している。
なお、実施例３では、水冷式と比べて冷却力の小さい空冷方式でも、このように良好な温度分布が得られているが、これは、Ｌ／Ｄ＝５６とかなりガス流れ方向に長い形状でありガス流通管の表面積が大きいことが寄与しているものと考えられる。
【００５８】
また、図８の実施例３についてのグラフを観察すると、下流側ではやや階段状に温度が変化している。これは、ガス混合撹拌部が三ヶ所設けてあり、各ガス混合撹拌部の直下流側では温度の低下が小さいことを示している。
このことから、実施例３のようにガス流れ方向に長い形状の場合は、温度分布を均一化するためには、ガス混合撹拌部を複数ヶ所に設けることが有効であることがわかる。
【００５９】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明は、ＣＯ除去装置において、一酸化炭素を含む水素リッチなガスに空気を混合する空気混合器と、ガス流通管の内部に選択酸化触媒が充填されて選択酸化触媒層が形成された選択酸化触媒器とを備えるものであって、この選択酸化触媒器に、選択酸化触媒層のガス流通方向途中において、ガス流通管内の中央寄りを流通するガスと外周寄りを流通するガスとを混合撹拌するガス混合撹拌部を設け、このガス混合撹拌部より上流側において選択酸化触媒層を周りから冷却できるよう冷却部を設ける構成とすることにより、全体的に簡単な装置構成であって、且つ選択酸化触媒層の上流部から下流部にかけて、温度が高くなり過ぎることなく且つ均一的に選択酸化触媒反応がなされるため、高い反応率を得ることができる。
【００６０】
また、ＣＯ除去装置に限らず、ガスを触媒槽に供給し、当該触媒槽を通過させることによって発熱しながら反応させる反応装置には適用することが可能であって、同様の効果を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】実施の形態１にかかるＣＯ除去装置の概略構成図である。
【図２】図１に示すＣＯ除去装置の動作説明図である。
【図３】図１に示すＣＯ除去装置の具体例を示す斜視図である。
【図４】図１に示すＣＯ除去装置の具体例・変形例を示す部分斜視図である。
【図５】実施の形態１にかかるＣＯ除去装置の概略構成図である。
【図６】実施の形態２にかかる角筒型のＣＯ除去装置の一例を示す斜視図である。
【図７】実施例及び比較例のＣＯ除去装置について、運転時の触媒層内温度を測定した結果を示す特性図である。
【図８】実施例及び比較例のＣＯ除去装置について、運転時の触媒層内温度を測定した結果を示す特性図である。
【図９】一般的な燃料電池発電システムの一例を示す構成図である。
【符号の説明】
１    ＣＯ除去装置
２    空気混合器
３    選択酸化触媒器
３０    ガス流通管
４０    選択酸化触媒層
４１    上流部
４２    下流部
５０    ガス混合撹拌部
６０    冷却部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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