【手続補正書】
【提出日】平成29年10月31日(2017.10.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
流れ制御アセンブリであって、
流体をポンプするための流体ポンプと、
流体の流れに抗する流量抵抗アセンブリであって、当該流量抵抗アセンブリが第１のアセンブリ構成および第２のアセンブリ要素を含む、前記流量抵抗アセンブリと、
前記第１のアセンブリ要素が流体チャンネルの長さを含み、流体チャンネルが前記第１のアセンブリ要素に面する表面に形成されて流体を搬送することと、
前記第２のアセンブリ要素が前記第１のアセンブリ要素に対して移動することができ、前記第２のアセンブリ要素の面する表面が前記第１のアセンブリ要素の面する表面と前記流体チャンネルの流体に接触して前記第１のアセンブリ要素の流体チャンネル内にあるべき流体の流れを保持し、前記第１のアセンブリ要素が第１のポートおよび第２のポートを含むことと、
前記流体チャンネルに関して流体チャンネルの長さに沿った第１の場所で位置決めされた前記第１のポートの開口と、
前記流体チャンネルに関して流体チャンネルの長さに沿った第２の場所で位置決めされた前記第２のポートの開口と、
前記第２のアセンブリ要素は、第１のアセンブリ要素の軸について回転可能であり、
前記軸についての前記第１のアセンブル要素に対する前記第２のアセンブリ要素の第１の角度位置は、前記流体チャンネルの第１のチャンネル部分への前記第１のポートの開口と前記第２のポートの開口の双方の完全な開いた設定であり、前記第１のチャンネル部分が連続的であることと、
前記第１のポートの開口は、前記軸に対して固定された半径で存在することと、
前記第２のポートの開口は、前記軸に対いて前記固定された半径で存在することと、
前記流体チャンネルは、第２のチャンネル部分を含み、前記第２のチャンネル部分の流体チャンネルの幅が変化し可変流量抵抗を提供することと、を含む流れ制御アセンブリ。
【請求項２】
前記流体チャンネルが、前記第１のポートの開口および前記第２のポートの開口に対して移動可能であり、前記第１のポート、前記第１の場所と前記第２の場所との間の前記流体チャンネルの一部、および前記第２のポートの組合せを通る流量抵抗を調整する、請求項１に記載の流れ制御アセンブリ。
【請求項３】
前記第１のポートの開口が、前記第２のポートの開口に対して固定されたオフセット距離にあるように配置される、請求項２に記載の流れ制御アセンブリ。
【請求項４】
前記第１の場所の前記第１のポートの開口内の前記流体チャンネルの孔と、前記第２の場所の前記第２のポートの開口内の前記流体チャンネルの孔とが、前記第１のポートから前記第２のポートへ前記流体チャンネルに沿って通過する流体の流量抵抗の量を制御する、請求項１に記載の流れ制御アセンブリ。
【請求項５】
前記流体チャンネルを通る流体の流れに直交した前記流体チャンネルの断面流れ面積が前記長さに沿って変化する、請求項１に記載の流れ制御アセンブリ。
【請求項６】
前記流体チャンネルを通る流体の流れに直交した前記流体チャンネルの幅が前記長さに沿って変化する、請求項１に記載の流れ制御アセンブリ。
【請求項７】
前記第１のアセンブル要素の面する表面が平坦であり、前記第２のアセンブリ要素の面する表面が平坦である、請求項１に記載の流れ制御アセンブリ。
【請求項８】
前記流体チャンネルの長さが湾曲される、請求項７に記載の流れ制御アセンブリ。
【請求項９】
前記第１のアセンブリ要素の表面が円筒状の面である、請求項１に記載の流れ制御アセンブリ。
【請求項１０】
前記第１のポートは、前記流体チャンネルの固定された位置に存在し、前記第２のポートの開口が前記第１のポートの開口に対して前記流体チャンネルの長さに沿って移動可能である、請求項１に記載の流れ制御アセンブリ。
【請求項１１】
前記第１の場所の前記流体チャンネルの幅は、流体が第１のポートの開口を介して第１の場所で前記流体チャンネルに通路に流れる第１の孔を規定する、請求項１に記載の流れ制御アセンブリ。
【請求項１２】
前記第２の場所の前記流体チャンネルの幅は、第２の位置の前記流体チャンネルからの流体が前記流体チャンネルから前記第２のポートの開口を介して前記第２のポートに流れる第２の孔を規定する、請求項１１に記載の流れ制御アセンブリ。
【請求項１３】
前記流体チャンネルによって提供される前記第１の孔、前記第２の孔および流れの抵抗は、対象のレシピエントへの流体の流れを調整する、請求項１２に記載の流れ制御アセンブリ。
【請求項１４】
流れ制御装置であって、
流体を搬送するように動作可能なチャンネルを含み、前記チャンネルの幅が前記チャンネルの長さに沿って変化する、第１の流れ制御アセンブリ要素と、
前記第１の流れ制御アセンブリ要素と接触する第２の流れ制御アセンブリ要素であって、前記第２の流れ制御アセンブリ要素が、前記チャンネルと流体連結する第１のポートを備え、前記第２の流れ制御アセンブリ要素の前記第１のポートの位置が、前記第１の流れ制御アセンブリ要素上に配置される前記チャンネルに対して調整可能であり、前記チャンネルを通る流体の流量率を制御する、前記第２の流れ制御アセンブリ要素と、
前記第２の流れ制御アセンブリ要素が第２のポートを含み、第２の流れ制御アセンブリ要素の前記第２のポートが前記第１の流れ制御アセンブリ要素に配置されたチャンネルと流体連結することと、
前記第１の流れ制御アセンブリ要素に対する前記第２の流れ制御アセンブリ要素の角度の回転の変化と前記チャンネルを介しての流体の流量率の変化との間の関係は線形であることと、
前記第２の流れ制御アセンブリ要素は、前記第１の流れ制御アセンブリ要素に対して軸の回りに回転可能であり、前記軸の周りの前記第１の流れ制御アセンブリ要素に対する前記第２の流れ制御アセンブリ要素の少なくとも１つの角度位置は、前記第１のポートの開口および前記第２のポートの開口の双方の完全な閉塞であることと、
前記第１のポートの開口は、前記軸に対して固定された半径に存在することと、
前記第２のポートの開口は、前記軸に対して前記固定された半径に存在することと、を含む流れ制御装置。
【請求項１５】
前記チャンネルは、前記第１の流れ制御アセンブリ要素の平坦な面上に配置される、請求項１４に記載の流れ制御装置。
【請求項１６】
前記第２の流れ制御アセンブリ要素が、剛体材料から製造されており、
前記第２の流れ制御アセンブリ要素の前記第１のポートおよび前記第２のポートが、前記第２の流れ制御アセンブリ要素上にそれぞれの固定された場所に配置される、請求項１５に記載の流れ制御装置。
【請求項１７】
前記第２の流れ制御アセンブリ要素は、前記第１のポートおよび前記第２のポートが前記第１の流れ制御アセンブリ要素上に配置される前記流体通路と流体連結する平坦な表面領域を含み、
前記第２の流れ制御アセンブリ要素の表面領域が、前記チャンネルを摺動可能に覆い、前記表面領域および前記チャンネルの組合せが、前記第１のポートと前記第２のポートとの間の流体密封流路を生成し、流体は、前記第１のポートから前記チャンネルの第１の場所へ入力され、前記流体密封流路を通過し、前記チャンネルの第２の場所から前記第２のポートへ出力される、請求項１６に記載の流れ制御装置。
【請求項１８】
前記チャンネルが、前記第１の流れ制御アセンブリ要素の実質的に平坦な面に配置され、
前記第１のポートが、前記第２の流れ制御アセンブリ要素の実質的に平坦な面を通って配置され、前記第２の流れ制御アセンブリ要素の実質的に平坦な面が、前記第１の流れ制御アセンブリ要素の実質的に平坦な面と接触する、請求項１４に記載の流れ制御装置。
【請求項１９】
前記第２の流れ制御アセンブリ要素が、前記第１の流れ制御アセンブリ要素に対して回転し、前記第１の流れ制御アセンブリ要素に対する前記第２の流れ制御アセンブリ要素の前記回転の角度の変化が、前記チャンネルおよび前記第１のポートを通過する流体の流量率を制御する、請求項１８に記載の流れ制御装置。
【請求項２０】
前記流体チャンネル内の流体に接触する前記第２のアセンブリ要素の面する表面の部分は、前記第１のポートの開口と前記第２のポートの開口との間に連続的に延在し、前記第１のポートの開口と前記第２のポートの開口との間の流体チャンネル内にあるべき流体の流れを保持する、請求項１に記載の流れ制御アセンブリ。
【請求項２１】
前記第２のアセンブリ要素の面する表面は、第１の表面部分と第２の表面部分とを含み、前記第１の表面部分は前記流体チャンネルの流体に接触し、前記第２の表面部分は前記第１のアセンブリ要素の面する表面に接触して前記流体チャンネルに流体を保持し、他方流体が前記第１のポートから前記第２のポートに搬送される、請求項１に記載の流れ制御アセンブリ。
【請求項２２】
前記第１の表面部分と前記第１のアセンブリ要素の前記流体チャンネルの対応する壁は、前記第１のポートの開口と前記第２のポートの開口との間の流体通路を規定する、請求項２１に記載の流れ制御アセンブリ。
【請求項２３】
前記第２のポートの開口は、前記流体チャンネルから単一方向の流れのみにおいて前記流体チャンネルから流体を受け取る、請求項１に記載の流れ制御アセンブリ。
【請求項２４】
前記第１のアセンブリ要素の面する表面に対する前記第２のアセンブリ要素の面する表面の接触は、前記第１のポートから前記第２のポートへの下流の方向において前記流体チャンネルを介して流体の流れを制限する、請求項１に記載の流れ制御アセンブリ。
【請求項２５】
前記第１のアセンブリ要素の面する表面に接触する前記第１のアセンブリ要素の面する表面は、前記流体チャンネルを介して単一方向への流体の流れを制御する、請求項１に記載の流れ制御アセンブリ。
【請求項２６】
第２のチャンネル部分を通る流体の流れに直交した前記第２のチャンネル部分の断面流れ面積は、前記長さに沿って非線形に変化する、請求項１に記載の流れ制御アセンブリ。
【請求項２７】
前記流量抵抗アセンブリは、第２のアセンブリ要素の回転の角度につき、流れ抵抗において線形の抵抗変化を提供する、請求項２６に記載の流れ制御アセンブリ。
【請求項２８】
流れ制御アセンブリはさらに、前記流量抵抗アセンブリと流体ポンプとが一体化されたカセットフレームを含み、流れ制御アセンブリは、閉じたループ制御アルゴリズムを介して流れ調整を提供するために流体ポンプおよび流量抵抗アセンブリを制御する流体送出システの空洞内に挿入することができる、請求項１に記載の流れ制御アセンブリ。
【請求項２９】
流れ制御アセンブリであって、
流体をポンプするための流体ポンプと、
流体の流れに抗する流量抵抗アセンブリであって、当該流量抵抗アセンブリが第１のアセンブリ構成および第２のアセンブリ要素を含む、前記流量抵抗アセンブリと、
前記第１のアセンブリ要素が流体チャンネルの長さを含み、流体チャンネルが前記第１のアセンブリ要素に面する表面に形成されて流体を搬送することと、
前記第２のアセンブリ要素が前記第１のアセンブリ要素に対して移動することができ、前記第２のアセンブリ要素の面する表面が前記第１のアセンブリ要素の面する表面と前記流体チャンネルの流体に接触して前記第１のアセンブリ要素の流体チャンネル内にあるべき流体の流れを保持し、前記第１のアセンブリ要素が第１のポートおよび第２のポートを含むことと、
前記流体チャンネルに関して流体チャンネルの長さに沿った第１の場所で位置決めされた前記第１のポートの開口と、
前記流体チャンネルに関して流体チャンネルの長さに沿った第２の場所で位置決めされた前記第２のポートの開口であって、前記第１のポートの開口内への前記第１の場所の前記流体チャンネルの幅は、第２のポートの開口内への前記第２の場所の前記流体チャンネルの幅と異なる、前記第２のポートの開口と、
前記流体チャンネルは、第１のチャンネル部分と第２のチャンネル部分とを含み、前記第１のチャンネル部分は、前記第２のアセンブリ要素が回転する回転軸から第１の半径で配置され、前記第２のチャンネル部分は、前記回転軸から第２の半径で配置されることと、を含む流れ制御アセンブリ。
【請求項３０】
前記第１のポートの開口は、第１の半径で前記第１のチャンネル部分上に移動可能に存在し、
前記第２のチャンネル部分の開口は、第２の半径で前記第２のチャンネル部分上に移動可能に存在する、請求項２９に記載の流れ制御アセンブリ。
【請求項３１】
前記流体チャンネルはさらに、前記第１のチャンネル部分を前記第２のチャンネル部分に接続する第３のチャンネル部分を含み、前記第３のチャンネル部分は、前記第２のチャンネル部分の前記第１のチャンネル部分に対して直交する、請求項３０に記載の流れ制御アセンブリ。
【請求項３２】
前記第１のチャンネル部分は、第１の半径に沿って３６０度で延在する連続的なチャンネルであり、
前記第２のチャンネル部分は、第２の半径に沿った不連続なチャンネルである、請求項３１に記載の流れ制御アセンブリ。
【請求項３３】
前記連続的なチャンネルを通る流体の流れに直交する前記連続的なチャンネルの断面流れ面積は固定であり、
前記不連続なチャンネルを通る流体の流れに直交する前記不連続なチャンネルの断面流れ面積は変化する、請求項３２に記載の流れ制御アセンブリ。
【請求項３４】
前記第１のチャンネル部分の断面流れ面積は、前記第１のチャンネル部分の長さに沿って変化し、
前記第２のチャンネル部分の断面流れ面積は、前記第２のチャンネル部分の長さに沿って変化する、請求項２９に記載の流れ制御アセンブリ。
【請求項３５】
前記軸に関する前記第１のアセンブリ要素に対する第２のアセンブリ要素の少なくとも１つの角度位置は、前記第１のポートの開口および前記第２のポートの開口の双方の完全な閉塞となる、請求項１に記載の流れ制御アセンブリ。
【請求項３６】
前記流体チャンネルは、前記第２のアセンブリ要素の円筒状の表面上に配置される、請求項１に記載の流れ制御アセンブリ。
【請求項３７】
前記第１のチャンネル部分は、前記第２のチャンネル部分に対してオフセットされ、
前記第２のチャンネル部分は、前記第１のチャンネル部分に対して平行である、請求項３６に記載の流れ制御アセンブリ。
【請求項３８】
前記第１の流れ制御アセンブリ要素に対する前記第２の流れ制御アセンブリ要素の回転角度の変化と前記チャンネルを流れる流体の流速の変化との間の関係は、線形である、請求項１に記載の流れ制御アセンブリ。
【請求項３９】
第２のチャンネル部分は、前記第１のポートの開口および前記第２のポートの開口が第２のチャンネル部分上に存在する選択可能な角度位置の範囲において増加する流れの抵抗を提供する傾斜したチャンネル部分である、請求項１に記載の流れ制御アセンブリ。