(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
２枚の基板が対向配置され、前記２枚の基板のうち一方の前記基板に反射性部材が形成された液晶電気光学素子において、
前記反射性部材上には光学薄膜が積層されてなり、
前記光学薄膜は、所定の光の波長λに対して略λ／２の膜厚で積層されてなり、
前記反射性部材及び前記光学薄膜の積層体の前記波長λに対する反射率が、前記反射性部材の前記波長λに対する反射率より高く、
前記２枚の基板のうち他方の前記基板には反射防止膜が配設されてなり、
前記反射防止膜は、前記波長λに対して略λ／４の膜厚で配設されてなり、
前記反射性部材はＡｌ−Ｍｇ混合物からなることを特徴とする液晶電気光学素子。
【請求項２】
前記光学薄膜は、ＳｉＯ、Ｍｇ２Ｆ、ＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、ＭｇＯ、Ｔａ２Ｏ５、ＺｎＯ、ＴｉＯ、ＣａＦ、ＡｌＦ３、ＴｉＯ２、ＭｇＦ２、ＣｅＯ２、Ｇｅ、Ｃｕ、Ａｕ、ＺｎＳ−氷晶石からなる群より選ばれる薄膜を含むことを特徴とする請求項１に記載の液晶電気光学素子。
【請求項３】
前記液晶電気光学素子は、リバース型ＰＤＬＣモード、ＴＮモード、又はＳＴＮモードであることを特徴とする請求項１又は２に記載の液晶電気光学素子。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】
本発明は、ディスプレイ、各種表示素子、プロジェクターなどに応用される表示素子に関し、さらにこれを用いた表示体の構造に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来、軽量薄型の表示装置として液晶を用いた表示装置が開発されている。特にネマチック液晶を２枚の基板間に挾持させて配向させ、電界を印加したときの応答を偏光板を介して検出する表示装置が近年特に注目されている。しかし、このような表示装置は偏光板を用いるために、偏光板に光がほとんど吸収されるため表示が暗い欠点がある。そこで、近年偏光板を用いない表示装置として、光散乱を用いた液晶表示装置が開発されている（アメリカ特許３６０００６０、４６８８９００、４８９１１５２、４８１８０７０などに示されている）。これらの液晶表示装置は、高分子のマトリックス中に液晶が孤立したドロップレットとして存在し、電圧が印加されていないときは光吸収、あるいは光散乱状態、電圧が印加されると電圧方向に液晶分子が配列し光透過状態となる。そのためこれらの表示装置は、透過型を主体に検討されているが、コントラストが実用には充分ではないため、これを改良するために、本出願人によって新たな表示モードを反射型として使用することが提案されている（特願平２−３０９３１６、特願平３−１３２６８など）。新たな表示モードとは、配向処理された粒子状あるいは針状高分子と液晶を混合分散させたもので、電圧が印加されていないときに光透過状態、電圧が印加されると光散乱状態になるものである。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記反射型表示素子においても、入射光の利用効率がまだ低いため満足なコントラスト、明るさが得られていないのが現状である。一般の液晶表示素子は、いわゆるコモン電極とセグメント電極などの対向する一対の電極間に挾持された液晶層に電極により電界を印加する事によって、表示を可能にしている。しかし、複数の電極線を短絡すること無しに基板上に形成するために、電極線とそれに隣接する電極線の間は通常数μｍ程度の隙間、あるいは絶縁層が形成されている。そのため、この隙間、あるいは絶縁層に接している液晶層は電界が印加されるがなく、表示には関与していない。このように、全基板面積に対して電界が印加されないために表示に関与しない部分を除いた残りの部分の割合を通常、開口率と呼ぶ。近年、表示素子の高精細化が進み、画素数、つまり、電極線数が増加すると相対的に、開口率が低下してしまい、表示画質としては暗いものとなった。ＴＦＴ、ＭＩＭなどに代表されるいわゆるアクティブ素子を使用した液晶表示体の場合のほうが、単純マトリックスに代表される液晶表示体の場合より、低下の度合は顕著であった。また、透過型表示素子では、バックライトの光量を増加させることによって開口率が低下したことによる明るさの低下を補えるが、反射型の場合は周囲の光を利用するだけなので、この開口率による明るさの低下問題は非常に顕著、かつ深刻であった。
【０００４】
これらの問題点を解決するために、反射型液晶表示素子にする方法がある。つまり、通常は透明電極で作られている対向電極あるいは画素電極を反射性の部材で形成する方法である。しかし、それだけでは表示品位の向上が十分ではなく、さらに改良が望まれていた。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
本発明の液晶電気光学素子は、２枚の基板が対向配置され、前記２枚の基板のうち一方の前記基板に反射性部材が形成された液晶電気光学素子において、前記反射性部材上には光学薄膜が積層されてなり、前記光学薄膜は、所定の光の波長λに対して略λ／２の膜厚で積層されてなり、前記反射性部材及び前記光学薄膜の積層体の前記波長λに対する反射率が、前記反射性部材の前記波長λに対する反射率より高く、前記２枚の基板のうち他方の前記基板には反射防止膜が配設されてなり、前記反射防止膜は、前記波長λに対して略λ／４の膜厚で配設されてなり、前記反射性部材はＡｌ−Ｍｇ混合物からなることを特徴とする。
前記光学薄膜は、ＳｉＯ、Ｍｇ２Ｆ、ＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、ＭｇＯ、Ｔａ２Ｏ５、ＺｎＯ、ＴｉＯ、ＣａＦ、ＡｌＦ３、ＴｉＯ２、ＭｇＦ２、ＣｅＯ２、Ｇｅ、Ｃｕ、Ａｕ、ＺｎＳ−氷晶石からなる群より選ばれる薄膜を含むことを特徴とする。
前記液晶電気光学素子は、リバース型ＰＤＬＣモード、ＴＮモード、又はＳＴＮモードであることを特徴とする。
【０００６】
【実施例】
（実施例１）
本実施例では、反射型リバースＰＤＬＣ液晶表示素子に反射電極上に積層膜を積層し反射率を向上させた場合について示す。リバースＰＤＬＣとは、液晶と高分子、必要ならば二色性色素が混合され、電圧無印加時には液晶と高分子の配向状態が同じなので入射光が散乱されず透明状態、二色性色素が存在すれば二色性色素の吸収により着色状態である。また、電圧が印加されると液晶、二色性色素が電界方向に配向するため入射光が散乱される散乱状態、白濁状態になるものである。
【０００７】
代表的な断面図を図１に示す。図１は画素電極に電界が印加されている場合を示している。画素電極に電界が印加されると、その電界が作用する範囲の液晶分子は電界の方向に配向し、それにつられて二色性色素も電界方向に配向する。そのため、画素の表示状態は、電界が印加されていなかったときの二色性色素の吸収による着色状態から、液晶と高分子の屈折率の不一致により散乱された白濁状態に変化する。つまり、二色性色素がほぼ全ての波長を吸収するように配合しておけば、電界が印加されていない状態で黒、電界が印加されると白の白黒表示が偏光板無しで可能となる。
【０００８】
ＭＩＭ素子の画素電極は透明電極とし、また対向電極は反射電極とし、その反射電極はＡｌ−Ｍｇ（Ｍｇが３重量％）合金を２０００Åの膜厚にスパッタすることにより形成した。さらにその反射電極の上に、ＳｉＯからなる積層膜をその膜厚が約０．２７μｍになるようにスパッタにより形成した。ＭＩＭ素子を持つ素子基板と対向電極を持つ対向基板に配向剤を塗布した後、ツイスト角が１８０度になるようにラビング処理を施し、シール剤を介して張り合わせ、セル厚１０μｍの液晶セルを作った。この隙間に液晶ＴＬ−２０２（メルク社製）に、
【０００９】
【化１】
0003569296.tif 000002
【００１０】
で表される紫外線硬化型モノマ−を液晶：モノマー＝９５：５（重量比）で混合し、パネル中に真空下で封入した。さらにモノマーを高分子にするために、封入したパネルを４０度の雰囲気下で、合計照射量が５００ｍＪ／ｃｍ２になるように紫外線を１５分間照射した。このようにして得られた液晶表示素子の電界が印加されていないときの断面の概略図を図２に示す。
【００１１】
この様にして得られた液晶表示素子は、電圧が印加されていないときはほぼ透明で光を透過し、画素部分は鏡状である。電圧を印加すると白濁する。そのコントラストは、約１：５であり、反射電極上にＳｉＯからなる積層膜を形成しなかった場合の１：３．５から向上している。
【００１２】
液晶中には、カイラル成分、２色性色素、重合開始剤などが含まれていてもよい。液晶は、通常の液晶表示素子に使用されているものが好ましく使用できるが、散乱度を良好にするためには、液晶の複屈折率異方性、Δｎ、が０．１２以上、好ましくは０．１５以上が望ましい。また、アクティブ素子で駆動するためには、液晶単体の比抵抗は１×１０９Ω・ｃｍ以上、さらに好ましくは２×１０１１Ω・ｃｍ以上が、保持率を高く保ち表示品質を良好にするためには望ましい。
【００１３】
反射電極とする反射性部材は、Ａｌ、Ｃｒ、Ｍｇ、Ａｇ、Ａｕ、Ｐｔなどの金属単体、あるいは混合物などが好ましく、さらにはＡｌ、Ｃｒ、Ａｌ−Ｍｇ混合物が好ましく、特に安定性、反射率の点からＡｌ−Ｍｇ混合物が好ましい。Ｍｇの添加量は、０．１〜１０重量％が望ましく、特に０．５〜５重量％が安定性、反射率、操作性などの点から好ましい。反射性部材は、液晶高分子複合体と直接接する側に形成されてもよいし、基板を挟んで反対側に形成されてもよい。
【００１４】
反射電極の上に形成される積層膜は、ＳｉＯ、Ｍｇ２Ｆ、ＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、ＭｇＯ、Ｔａ２Ｏ５、ＺｎＯ、ＴｉＯ、ＣａＦ、ＡｌＦ３、ＭｇＦ２、ＣｅＯ２、Ｇｅ、Ｃｕ、Ａｕ、ＺｎＳ−氷晶石などが挙げられる。それらの膜厚は、反射率を増加させたい光の波長をλ（μｍ）とすると、だいたいλ／２（μｍ）の厚さにすることが望ましい。
【００１５】
カイラル成分としては、通常のＴＮ、ＳＴＮ、ＦＴＮに使用されているＣＢ−１５、Ｃ−１５、Ｓ８１１、Ｓ１０８２（以上Ｍｅｒｃｋ社製）、ＣＭ−１９、ＣＭ、ＣＭ−２０、ＣＭ−２１、ＣＭ−２２（以上チッソ社製）などのものが好ましく使用される。その添加量は、０．０１〜１０重量％であり、好ましくは０．１〜５重量％である。０．０１重量％以下では効果が少なく、１０重量％以上では駆動電圧が高くなり、通常の素子では駆動が出来ない。
【００１６】
２色性色素としては通常のＧＨに使用されているアゾ系、アントラキノン系、ナフトキノン系、ペリレン系、キノフタロン系、アゾメチン系などが好ましく使用される。その中でも、耐光性の点からアントラキノン系単独、あるいは必要に応じて他の色素との混合したものが特に好ましい。これらの２色性色素は必要な色によって、適宜混合されて使用される。
【００１７】
高分子はリバース型ＰＤＬＣモードになるものならなんでもよいが、液晶素子製造の簡便性から紫外線硬化型モノマーが望ましい。紫外線硬化型モノマーとしては、単官能アクリレート、２官能アクリレートあるいは多官能アクリレートなどが好ましく使用される。散乱度を向上させるために、これらのモノマーは最低１個のベンゼン環をその分子構造中に含むことが望ましい。これらのモノマーには、カイラル性の成分を含むものでも良い。また、これらのモノマーは単独あるいは他のモノマー、オリゴマーと混合した後、紫外線を照射され高分子化されても良い。
【００１８】
本実施例では、ツイスト角が１８０度のリバース型ＰＤＬＣモードについて示したが、通常のＴＮモード、ＴＮモードに位相差板を組み合わせたもの、あるいはツイスト角度が１８０〜２７０度のＳＴＮモードおよびＳＴＮモードに位相差板を組み合わせたもの、ＧＨモードあるいはＧＨモードと位相差板を組み合わせたものでも同様の効果が期待できる。
【００１９】
また本実施例では、ＭＩＭ素子への応用について実施例を示したが、ラテラル型ＭＩＭ素子、バックトウバック型ＭＩＭ素子、バックトウバックラテラル型ＭＩＭ素子、スタティック駆動、時分割駆動、ＴＦＴ素子を使用した駆動でも同様の効果が期待できる。
【００２０】
（実施例２）
本実施例では、反射型リバースＰＤＬＣ液晶表示素子に反射電極上に積層膜を積層し反射率を向上させ、かつ液晶高分子複合体を挟んで反射板と反対側の基板には、特定の波長を選択的に透過反射する光学薄膜が液晶高分子複合体と接触するように積層されている場合について示す。
【００２１】
反射板と液晶高分子複合体を挟んで対向する透明電極上に、特定の波長を選択的に透過反射する光学薄膜を積層した。具体的には、ＴｉＯ２からなる膜をｎｄ＝λ／４（ｎはＴｉＯ２の屈折率、ｄは膜厚、λは希望する透過波長）になるように成膜した。それ以外は、全く実施例１と同様にして液晶表示素子を作製した。このようにして得られた液晶表示素子の電界が印加されていないときの断面の概略図を図３に示す。得られた液晶表示素子のコントラストは、１：４．５であり選択的に透過反射する光学薄膜がなかった場合より、コントラストは向上している。
【００２２】
液晶中には、カイラル成分、２色性色素、重合開始剤などが含まれていてもよい。液晶は、通常の液晶表示素子に使用されているものが好ましく使用できるが、散乱度を良好にするためには、液晶の複屈折率異方性、Δｎ、が０．１５以上、好ましくは０．１８以上さらに好ましくは０．２以上が望ましい。また、アクティブ素子で駆動するためには、液晶単体の比抵抗は１×１０１０Ω・ｃｍ以上、さらに好ましくは２×１０１２Ω・ｃｍ以上が保持率を高く保ち、表示品質を良好にするためには望ましい。
【００２３】
反射電極とする反射性部材は、Ａｌ、Ｃｒ、Ｍｇ、Ａｇ、Ａｕ、Ｐｔなどの金属単体、あるいは混合物などが好ましく、さらにはＡｌ、Ｃｒ、Ａｌ−Ｍｇ混合物が好ましく、特に安定性、反射率の点からＡｌ−Ｍｇ混合物が好ましい。
【００２４】
反射電極の上に形成される積層膜は、ＳｉＯ、Ｍｇ２Ｆ、ＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、ＭｇＯ、Ｔａ２Ｏ５、ＺｎＯ、ＴｉＯ、ＣａＦ、ＡｌＦ３、ＭｇＦ２、ＣｅＯ２、Ｇｅ、Ｃｕ、Ａｕ、ＺｎＳ−氷晶石などが挙げられる。それらの膜厚は、反射率を増加させたい光の波長をλ（μｍ）とすると、だいたいλ／２（μｍ）の厚さにすることが望ましい。さらには、各画素が特定の波長をそれぞれ透過吸収するようにその厚さを制御しても良い。
【００２５】
カイラル成分としては、通常のＴＮ、ＳＴＮ、ＦＴＮに使用されているＣＢ−１５、Ｃ−１５、Ｓ８１１、Ｓ１０８２（以上Ｍｅｒｃｋ社製）、ＣＭ−１９、ＣＭ、ＣＭ−２０、ＣＭ−２１、ＣＭ−２２（以上チッソ社製）などのものが好ましく使用される。その添加量は、０．０１〜５ｗｔ％であり、好ましくは０．１〜２ｗｔ％である。
【００２６】
２色性色素としては通常のＧＨに使用されているアゾ系、アントラキノン系、ナフトキノン系、ペリレン系、キノフタロン系、アゾメチン系などが好ましく使用される。その中でも、耐光性の点からアントラキノン系が特に好ましい。これらの２色性色素は必要な色によって、適宜混合されて使用される。
【００２７】
高分子はリバース型ＰＤＬＣモードになるものならなんでもよいが、液晶素子製造の簡便性から紫外線硬化型モノマーが望ましい。紫外線硬化型モノマーとしては、単官能アクリレート、２官能アクリレートあるいは多官能アクリレートなどが好ましく使用される。散乱度を向上させるために、これらのモノマーは最低１個のベンゼン環をその分子構造中に含むことが望ましい。これらのモノマーには、カイラル性の成分を含むものでも良い。また、これらのモノマーは単独あるいは他のモノマー、オリゴマーと混合した後、紫外線を照射され高分子化されても良い。
【００２８】
本実施例では、ツイスト角が１８０度のリバース型ＰＤＬＣモードについて示したが、通常のＴＮモード、ＴＮモードに位相差板を組み合わせたもの、あるいはツイスト角度が１８０〜２７０度のＳＴＮモードおよびＳＴＮモードに位相差板を組み合わせたもの、ＧＨモードあるいはＧＨモードと位相差板を組み合わせたものでも同様の効果が期待できる。
【００２９】
また本実施例では、ＴＦＴ素子への応用について実施例を示したが、ＭＩＭ素子、ラテラル型ＭＩＭ素子、バックトウバック型ＭＩＭ素子、バックトウバックラテラル型ＭＩＭ素子、スタティック駆動、時分割駆動を使用した駆動でも同様の効果が期待できる。
【００３０】
（実施例３）
本実施例では、さらに基板を挟んで液晶高分子複合体と反対側に反射防止膜を形成した例を示す。液晶高分子複合体を挟んで反射電極と反対側になる基板の電極が形成されない面に、反射防止膜としてＭｇＦ２をｎｄ＝λ／４（ｎはＭｇＦ２の屈折率、ｄはその膜厚、λは反射を減少させたい中心波長）をほぼ満足するように成膜した。それ以外は実施例２と全く同様にして液晶表示素子を作製した。得られた液晶表示素子の電界が印加されていないときの断面の概略図を図４に示す。得られた液晶表示素子は、コントラストは変わらないものの、基板表面の反射、周囲の写り込みが低減されたため、表示されている文字、画像などが見やすいものとなった。
【００３１】
液晶中には、カイラル成分、２色性色素、重合開始剤などが含まれていてもよい。液晶は、通常の液晶表示素子に使用されているものが好ましく使用できるが、散乱度を良好にするためには、液晶の複屈折率異方性、Δｎ、が０．１５以上、好ましくは０．１８以上さらに好ましくは０．２以上が望ましい。また、アクティブ素子で駆動するためには、液晶単体の比抵抗は１×１０１０Ω・ｃｍ以上、さらに好ましくは２×１０１２Ω・ｃｍ以上が保持率を高く保ち、表示品質を良好にするためには望ましい。
【００３２】
反射電極とする反射性部材は、Ａｌ、Ｃｒ、Ｍｇ、Ａｇ、Ａｕ、Ｐｔなどの金属単体、あるいは混合物などが好ましく、さらにはＡｌ、Ｃｒ、Ａｌ−Ｍｇ混合物が好ましく、特に安定性、反射率の点からＡｌ−Ｍｇ混合物が好ましい。
【００３３】
カイラル成分としては、通常のＴＮ、ＳＴＮ、ＦＴＮに使用されているＣＢ−１５、Ｃ−１５、Ｓ８１１、Ｓ１０８２（以上Ｍｅｒｃｋ社製）、ＣＭ−１９、ＣＭ、ＣＭ−２０、ＣＭ−２１、ＣＭ−２２（以上チッソ社製）などのものが好ましく使用される。その添加量は、０．０１〜５ｗｔ％であり、好ましくは０．１〜２ｗｔ％である。
【００３４】
２色性色素としては通常のＧＨに使用されているアゾ系、アントラキノン系、ナフトキノン系、ペリレン系、キノフタロン系、アゾメチン系などが好ましく使用される。その中でも、耐光性の点からアントラキノン系が特に好ましい。これらの２色性色素は必要な色によって、適宜混合されて使用される。
【００３５】
高分子はリバース型ＰＤＬＣモードになるものならなんでもよいが、液晶素子製造の簡便性から紫外線硬化型モノマ−が望ましい。紫外線硬化型モノマ−としては、単官能アクリレ−ト、２官能アクリレ−トあるいは多官能アクリレ−トなどが好ましく使用される。散乱度を向上させるために、これらのモノマーは最低１個のベンゼン環をその分子構造中に含むことが望ましい。これらのモノマ−には、カイラル性の成分を含むものでも良い。また、これらのモノマーは単独あるいは他のモノマー、オリゴマーと混合した後、紫外線を照射され高分子化されても良い。
【００３６】
本実施例では、ツイスト角が１８０度のリバース型ＰＤＬＣモードについて示したが、通常のＴＮモード、ＴＮモードに位相差板を組み合わせたもの、あるいはツイスト角度が１８０〜２７０度のＳＴＮモードおよびＳＴＮモードに位相差板を組み合わせたもの、ＧＨモードあるいはＧＨモードと位相差板を組み合わせたものでも同様の効果が期待できる。
【００３７】
また本実施例では、ＴＦＴ素子への応用について実施例を示したが、ＭＩＭ素子、ラテラル型ＭＩＭ素子、バックトウバック型ＭＩＭ素子、バックトウバックラテラル型ＭＩＭ素子、スタティック駆動、時分割駆動を使用した駆動でも同様の効果が期待できる。
【００３８】
（実施例４）
本実施例では、開口率を向上させるために、素子上まで反射電極を形成した例を示す。基板上にＭＩＭ素子を形成した後、その上にアクリル樹脂からなる絶縁層を約２０００Åの厚さにスピンコートにより形成した。つぎに、素子と反射電極を接続するためにコンタクトホールを絶縁層に開けた後、Ａｌ−Ｍｇ合金（Ｍｇが３重量％）をスパッタにより２０００Åの厚さに形成し、反射電極とした。また、紫外線硬化形モノマーを、
【００３９】
【化２】
0003569296.tif 000003
【００４０】
で表されるモノマーにした以外は、実施例１と全く同様にして液晶表示素子を作製した。得られた液晶表示素子の電界が印加されていないときの断面の概略図を図５に示す。得られた液晶表示素子は、開口率が向上したため、コントラストは１：７と実施例１のものより向上している。
【００４１】
液晶中には、カイラル成分、２色性色素、重合開始剤などが含まれていてもよい。液晶は、通常の液晶表示素子に使用されているものが好ましく使用できるが、散乱度を良好にするためには、液晶の複屈折率異方性、Δｎ、が０．１５以上、好ましくは０．１８以上さらに好ましくは０．２以上が望ましい。また、アクティブ素子で駆動するためには、液晶単体の比抵抗は１×１０１０Ω・ｃｍ以上、さらに好ましくは２×１０１２Ω・ｃｍ以上が保持率を高く保ち、表示品質を良好にするためには望ましい。
【００４２】
反射電極とする反射性部材は、Ａｌ、Ｃｒ、Ｍｇ、Ａｇ、Ａｕ、Ｐｔなどの金属単体、あるいは混合物などが好ましく、さらにはＡｌ、Ｃｒ、Ａｌ−Ｍｇ混合物が好ましく、特に安定性、反射率の点からＡｌ−Ｍｇ混合物が好ましい。
【００４３】
カイラル成分としては、通常のＴＮ、ＳＴＮ、ＦＴＮに使用されているＣＢ−１５、Ｃ−１５、Ｓ８１１、Ｓ１０８２（以上Ｍｅｒｃｋ社製）、ＣＭ−１９、ＣＭ、ＣＭ−２０、ＣＭ−２１、ＣＭ−２２（以上チッソ社製）などのものが好ましく使用される。その添加量は、０．０１〜５ｗｔ％であり、好ましくは０．１〜２ｗｔ％である。
【００４４】
２色性色素としては通常のＧＨに使用されているアゾ系、アントラキノン系、ナフトキノン系、ペリレン系、キノフタロン系、アゾメチン系などが好ましく使用される。その中でも、耐光性の点からアントラキノン系が特に好ましい。これらの２色性色素は必要な色によって、適宜混合されて使用される。
【００４５】
高分子はリバース型ＰＤＬＣモードになるものならなんでもよいが、液晶素子製造の簡便性から紫外線硬化型モノマ−が望ましい。紫外線硬化型モノマ−としては、単官能アクリレ−ト、２官能アクリレ−トあるいは多官能アクリレ−トなどが好ましく使用される。散乱度を向上させるために、これらのモノマーは最低１個のベンゼン環をその分子構造中に含むことが望ましい。これらのモノマ−には、カイラル性の成分を含むものでも良い。また、これらのモノマーは単独あるいは他のモノマー、オリゴマーと混合した後、紫外線を照射され高分子化されても良い。
【００４６】
本実施例では、ツイスト角が１８０度のリバース型ＰＤＬＣモードについて示したが、通常のＴＮモード、ＴＮモードに位相差板を組み合わせたもの、あるいはツイスト角度が１８０〜２７０度のＳＴＮモードおよびＳＴＮモードに位相差板を組み合わせたもの、ＧＨモードあるいはＧＨモードと位相差板を組み合わせたものでも同様の効果が期待できる。
【００４７】
また本実施例では、ＴＦＴ素子への応用について実施例を示したが、ＭＩＭ素子、ラテラル型ＭＩＭ素子、バックトウバック型ＭＩＭ素子、バックトウバックラテラル型ＭＩＭ素子、スタティック駆動、時分割駆動を使用した駆動でも同様の効果が期待できる。
【００４８】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明による各種の光学薄膜と液晶高分子複合体からなる液晶セルを組み合わせることにより、見やすく、コントラストが改良された液晶表示素子が製造できるようになった。
【図面の簡単な説明】
【図１】反射型リバースＰＤＬＣの概略を示す図。
【図２】反射電極上に、反射率を増加させる積層膜を形成した液晶表示素子の電界無印加時の概略断面図。。
【図３】反射率増加膜と、特定波長を選択的に透過反射する光学薄膜を積層した液晶表示素子の電界無印加時の概略断面図。
【図４】反射増加膜、選択的透過反射光学薄膜、反射防止膜を形成した液晶表示素子の電界無印加時の概略断面図。
【図５】開口率を向上するために、素子上にまで反射電極を形成した液晶表示素子の断面の概略図。
【符号の説明】
１−１  入射光
１−２    反射光
１−３  基板
１−４  電極
１−５  配向膜
１−６  液晶
１−７  高分子
１−８  入射光の光路
１−９  反射性の部材
１−１０  ２端子あるいは３端子素子
１−１１  絶縁材
１−１２  コンタクトホール
２−１  反射率を増加させる積層膜
３−１  特定波長を選択的に透過反射する光学薄膜
４−１  反射防止膜
【図１】
0003569296.tif 000004
【図２】
0003569296.tif 000005
【図３】
0003569296.tif 000006
【図４】
0003569296.tif 000007
【図５】
0003569296.tif 000008