(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
チタンまたはチタン系合金で構成された基材の表面の少なくとも一部に、直接、前記基材と異なる色彩を有するチタン化合物で構成される異色層を形成する工程と、
前記異色層の表面の一部に、マスキング被膜を被覆する工程と、
剥離剤を用いて、前記基材の表面に直接設けられた前記異色層のうち前記マスキング被膜が被覆されていない部位を除去する工程と、
前記マスキング被膜を除去する工程とを有することを特徴とする表面処理方法。
【請求項２】
前記剥離剤は、前記基材の変色を生じることなく、前記異色層を除去することができるものである請求項１に記載の表面処理方法。
【請求項３】
前記剥離剤は、１０〜３０ｖｏｌ％の硫酸と、１０〜３０ｖｏｌ％の硝酸とを含むものである請求項２に記載の表面処理方法。
【請求項４】
基材の表面の少なくとも一部に、チタンまたはチタン系合金で構成される被覆層を形成する工程と、
前記被覆層の表面の少なくとも一部に、直接、前記被覆層と異なる色彩を有するチタン化合物で構成される異色層を形成する工程と、
前記異色層の表面の一部にマスキング被膜を被覆する工程と、
剥離剤を用いて、前記被覆層の表面に直接設けられた前記異色層のうち前記マスキング被膜が被覆されていない部位を除去する工程と、
前記マスキング被膜を除去する工程とを有することを特徴とする表面処理方法。
【請求項５】
基材の表面の少なくとも一部に、下地層を形成する工程と、
前記下地層の表面の少なくとも一部に、チタンまたはチタン系合金で構成される被覆層を形成する工程と、
前記被覆層の表面の少なくとも一部に、直接、前記被覆層と異なる色彩を有するチタン化合物で構成される異色層を形成する工程と、
前記異色層の表面の一部にマスキング被膜を被覆する工程と、
剥離剤を用いて、前記被覆層の表面に直接設けられた前記異色層のうち前記マスキング被膜が被覆されていない部位を除去する工程と、
前記マスキング被膜を除去する工程とを有することを特徴とする表面処理方法。
【請求項６】
前記剥離剤は、前記被覆層の変色を生じることなく、前記異色層を除去することができるものである請求項４または５に記載の表面処理方法。
【請求項７】
前記剥離剤は、１０〜３０ｖｏｌ％の硫酸と、１０〜３０ｖｏｌ％の硝酸とを含むものである請求項６に記載の表面処理方法。
【請求項８】
前記被覆層は、イオンプレーティングにより形成されたものである請求項４ないし７のいずれかに記載の表面処理方法。
【請求項９】
前記基材は、チタンまたはチタン系合金で構成されたものである請求項４ないし８のいずれかに記載の表面処理方法。
【請求項１０】
前記基材は、ステンレスまたは真鍮で構成されたものである請求項４ないし９のいずれかに記載の表面処理方法。
【請求項１１】
前記被覆層の平均厚さは、０．１〜５．０μｍである請求項４ないし１０のいずれかに記載の表面処理方法。
【請求項１２】
前記異色層は、炭窒化チタン（ＴｉＣＮ）で構成されるものである請求項１ないし１１のいずれかに記載の表面処理方法。
【請求項１３】
前記異色層は、イオンプレーティングにより形成されたものである請求項１ないし１２のいずれかに記載の表面処理方法。
【請求項１４】
前記異色層を除去する工程は、１５〜１００℃の前記剥離剤に浸漬して行うものである請求項１ないし１３のいずれかに記載の表面処理方法。
【請求項１５】
前記異色層を除去する工程は、前記剥離剤に５〜１２０分間浸漬して行うものである請求項１ないし１４のいずれかに記載の表面処理方法。
【請求項１６】
前記異色層の平均厚さは、０．１〜５．０μｍである請求項１ないし１５のいずれかに記載の表面処理方法。
【請求項１７】
前記マスキング被膜の平均厚さは、１００〜２０００μｍである請求項１ないし１６のいずれかに記載の表面処理方法。
【請求項１８】
請求項１ないし１７のいずれかに記載の表面処理方法を用いて製造されたことを特徴とする装飾品。
【請求項１９】
前記装飾品は、時計用外装部品である請求項１８に記載の装飾品。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、表面処理方法および装飾品に関する。
【０００２】
【従来の技術】
時計用外装部品のような装飾品には、優れた美的外観が要求される。
【０００３】
従来、このような目的を達成するために、異なる色彩を有する２種以上の材料を用いて、これらを所定のパターンに配し、目的とする模様、文字、目盛り等を形成することが広く行われていた。
【０００４】
特に、銀色のチタンと、灰色〜黒色の異色物質とを用いた装飾品は、例えば、以下に説明するような方法で製造されてきた。
【０００５】
図４は、チタンと異色物質とを用いた従来の装飾品の製造方法を説明するための図である。
【０００６】
まず、チタンで構成された基材２０の表面の一部（４ａ）に、有機塗料で構成されるマスキング被膜４０を形成する（４ｂ）。
【０００７】
次いで、マスキング被膜４０が形成された基材２０の表面に、イオンプレーティングにより、微小な孔（図示せず）を有する異色層３０を被覆する（４ｃ）。
【０００８】
その後、前記工程（４ｃ）で得られた、マスキング被膜４０および異色層３０が被覆された基材２０を、マスキング被膜４０を溶解することが可能なマスキング被膜除去液中に浸漬する。これにより、異色層３０の微小な孔からマスキング被膜除去液が含浸し、マスキング被膜４０が溶解する。その結果、マスキング被膜４０上に形成された異色層３０は、マスキング被膜４０を介して基材２０と密着していた状態から開放され、微小な力を加えることにより、除去することが可能となる。このようにして、異色層３０を除去することにより、装飾品１０が得られる（４ｄ）。
【０００９】
しかし、このような方法で装飾品１０を製造した場合、異色層３０を被覆する工程（４ｃ）において、マスキング被膜４０が、イオンプレーティングによる熱で膨れや剥離を生じたり、ガスを発生することがあった。これにより、異色層３０を目的とする形状に被覆することができなかったり、基材２０や異色層３０に変色を生じる場合が有り、満足な美的外観が得られないことがあった。また、異色層３０の形成条件等によっては、異色層３０に十分な大きさ、十分な数の孔が形成されず、マスキング被膜除去液が十分に含浸できない場合があった。このような場合、マスキング被膜４０の除去が不十分となり、その結果、異色層３０の除去も不十分となることがあった。また、このような方法で製造された装飾品１０は、基材２０と異色層３０との密着性にも劣る。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の目的は、異なる色彩を有する２種以上の材料を用いて、美的外観に優れた装飾品を提供すること、および前記装飾品を提供することができる表面処理方法を提供することにある。
【００１１】
【課題を解決するための手段】
このような目的は、下記（１）〜（１９）の本発明により達成される。
【００１２】
（１）  チタンまたはチタン系合金で構成された基材の表面の少なくとも一部に、直接、前記基材と異なる色彩を有するチタン化合物で構成される異色層を形成する工程と、
前記異色層の表面の一部に、マスキング被膜を被覆する工程と、
剥離剤を用いて、前記基材の表面に直接設けられた前記異色層のうち前記マスキング被膜が被覆されていない部位を除去する工程と、
前記マスキング被膜を除去する工程とを有することを特徴とする表面処理方法。
【００１３】
（２）  前記剥離剤は、前記基材の変色を生じることなく、前記異色層を除去することができるものである上記（１）に記載の表面処理方法。
（３）  前記剥離剤は、１０〜３０ｖｏｌ％の硫酸と、１０〜３０ｖｏｌ％の硝酸とを含むものである上記（２）に記載の表面処理方法。
【００１４】
（４）  基材の表面の少なくとも一部に、チタンまたはチタン系合金で構成される被覆層を形成する工程と、
前記被覆層の表面の少なくとも一部に、直接、前記被覆層と異なる色彩を有するチタン化合物で構成される異色層を形成する工程と、
前記異色層の表面の一部にマスキング被膜を被覆する工程と、
剥離剤を用いて、前記被覆層の表面に直接設けられた前記異色層のうち前記マスキング被膜が被覆されていない部位を除去する工程と、
前記マスキング被膜を除去する工程とを有することを特徴とする表面処理方法。
【００１５】
（５）  基材の表面の少なくとも一部に、下地層を形成する工程と、
前記下地層の表面の少なくとも一部に、チタンまたはチタン系合金で構成される被覆層を形成する工程と、
前記被覆層の表面の少なくとも一部に、直接、前記被覆層と異なる色彩を有するチタン化合物で構成される異色層を形成する工程と、
前記異色層の表面の一部にマスキング被膜を被覆する工程と、
剥離剤を用いて、前記被覆層の表面に直接設けられた前記異色層のうち前記マスキング被膜が被覆されていない部位を除去する工程と、
前記マスキング被膜を除去する工程とを有することを特徴とする表面処理方法。
【００１６】
（６）  前記剥離剤は、前記被覆層の変色を生じることなく、前記異色層を除去することができるものである上記（４）または（５）に記載の表面処理方法。
（７）  前記剥離剤は、１０〜３０ｖｏｌ％の硫酸と、１０〜３０ｖｏｌ％の硝酸とを含むものである上記（６）に記載の表面処理方法。
【００１７】
（８）  前記被覆層は、イオンプレーティングにより形成されたものである上記（４）ないし（７）のいずれかに記載の表面処理方法。
【００１８】
（９）  前記基材は、チタンまたはチタン系合金で構成されたものである上記（４）ないし（８）のいずれかに記載の表面処理方法。
【００１９】
（１０）  前記基材は、ステンレスまたは真鍮で構成されたものである上記（４）ないし（９）のいずれかに記載の表面処理方法。
（１１）  前記被覆層の平均厚さは、０．１〜５．０μｍである上記（４）ないし（１０）のいずれかに記載の表面処理方法。
【００２０】
（１２）  前記異色層は、炭窒化チタン（ＴｉＣＮ）で構成されるものである上記（１）ないし（１１）のいずれかに記載の表面処理方法。
【００２１】
（１３）  前記異色層は、イオンプレーティングにより形成されたものである上記（１）ないし（１２）のいずれかに記載の表面処理方法。
【００２２】
（１４）  前記異色層を除去する工程は、１５〜１００℃の前記剥離剤に浸漬して行うものである上記（１）ないし（１３）のいずれかに記載の表面処理方法。
【００２３】
（１５）  前記異色層を除去する工程は、前記剥離剤に５〜１２０分間浸漬して行うものである上記（１）ないし（１４）のいずれかに記載の表面処理方法。
【００２４】
（１６）  前記異色層の平均厚さは、０．１〜５．０μｍである上記（１）ないし（１５）のいずれかに記載の表面処理方法。
【００２５】
（１７）  前記マスキング被膜の平均厚さは、１００〜２０００μｍである上記（１）ないし（１６）のいずれかに記載の表面処理方法。
【００２６】
（１８）  上記（１）ないし（１７）のいずれかに記載の表面処理方法を用いて製造されたことを特徴とする装飾品。
【００２７】
（１９）  前記装飾品は、時計用外装部品である上記（１８）に記載の装飾品。
【００２８】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の表面処理方法および装飾品の好適な実施形態について、添付図面を参照しつつ説明する。
【００２９】
図１は、本発明の表面処理方法の第１実施形態を示す断面図である。
図１に示すように、本実施形態の表面処理方法は、基材２Ａの表面の少なくとも一部（１ａ）に、基材２Ａと異なる色彩を有するチタン化合物で構成される異色層３を形成する工程（１ｂ）と、異色層３の表面の一部に、マスキング被膜４を被覆する工程（１ｃ）と、剥離剤を用いて、マスキング被膜４が被覆されていない部位の異色層３を除去する工程（１ｄ）と、マスキング被膜４を除去する工程（１ｅ）とを有する。
【００３０】
［基材］
基材２Ａは、チタンまたはチタン系合金で構成されている。
【００３１】
基材２Ａの製造方法は、特に限定されず、例えば、プレス加工、切削加工、鍛造加工、鋳造加工、粉末冶金焼結、金属粉末射出成形（ＭＩＭ）、ロストワックス法等が挙げられる。
【００３２】
また、基材２Ａの表面に対しては、例えば、鏡面研磨加工、すじ目加工、ホーニング加工、マーキング加工等による表面仕上げ加工が施されていてもよい。
【００３３】
また、後述する異色層３の形成に先立ち、基材２Ａに対して、例えば、アルカリ洗浄、酸洗浄、水洗、有機溶剤洗浄等の洗浄処理や、ブラスト処理、エッチング処理、ボンバード処理等の前処理が施されているのが好ましい。これにより、基材２Ａと異色層３との密着性が向上する。
【００３４】
［異色層の形成］
基材２Ａの表面に、異色層３を形成する（１ｂ）。
【００３５】
異色層３は、基材２Ａと異なる色彩を有するチタン化合物で構成されている。異色層３がチタン化合物で構成されることにより、基材２Ａと異色層３との密着性は、特に優れたものとなる。
【００３６】
異色層３を構成するチタン化合物としては、例えば、炭窒化チタン（ＴｉＣＮ）、炭化チタン（ＴｉＣ）、窒化チタン（ＴｉＮ）、窒化アルミチタン（ＴｉＡｌＮ）等が挙げられるが、炭窒化チタンで構成されるものであるのが特に好ましい。異色層３が炭窒化チタンで構成されることにより、異色層３と基材２Ａとの色彩の違いが顕著なものとなるとともに、異色層３と基材２Ａとの密着性が特に優れたものとなる。これにより、特に、美的外観に優れ、かつ耐久性にも優れた装飾品１Ａを得ることが可能となる。
【００３７】
異色層３の形成方法は、特に限定されず、例えば、噴霧塗装、静電塗装、電着塗装等の塗装、熱ＣＶＤ、プラズマＣＶＤ、レーザーＣＶＤ等の化学蒸着法（ＣＶＤ）、真空蒸着、スパッタリング、イオンプレーティング、電解メッキ、浸漬メッキ、無電解メッキ、溶射等が挙げられるが、この中でも特に、イオンプレーティングが好ましい。イオンプレーティングによれば、基材２Ａとの密着性に優れ、かつ均一な膜厚を有する異色層３を比較的容易に形成することができる。
【００３８】
異色層３の平均厚さは、特に限定されないが、例えば、０．１〜５．０μｍであるのが好ましく、０．５〜２．０μｍであるのがより好ましい。
【００３９】
異色層３の平均厚さが前記下限値未満であると、異色層３にピンホールが発生し易くなり、得られる装飾品１Ａの美的外観が低下する可能性がある。
【００４０】
一方、異色層３の平均厚さが前記上限値を超えると、異色層３の各部位における膜厚のバラツキが大きくなる傾向を示す。また、異色層３の内部応力が高くなり、結果として、異色層３と基材２Ａとの密着性が低下したり、クラックが発生し易くなる。
【００４１】
なお、異色層３の各部位における組成、色彩は、一定であっても、一定でなくてもよい。例えば、異色層３は、その厚さ方向の基材２Ａ側（図中下側）において、組成式中におけるＮ（窒素）の含有量が多く、その表面側（図中下側）において、Ｃ（炭素）の含有量が多いものであってもよい。
【００４２】
また、異色層３は、図示の構成では基材２Ａの全面に形成されているが、基材２Ａの表面の少なくとも一部に形成されるものであればよい。
【００４３】
［マスキング被膜の被覆］
次に、このような異色層３の表面の一部に、マスキング被膜４を被覆する（１ｃ）。このマスキング被膜４は、後述する異色層３を除去する工程において、被覆した部位の異色層３を保護するマスクとして機能する。
【００４４】
マスキング被膜４としては、異色層３を除去する工程において、被覆した部位の異色層３を保護する機能を有するものであればいかなるものでもよいが、後述するマスキング被膜４を除去する工程において、容易に除去することができるものであるのが好ましい。
【００４５】
このようなマスキング被膜４を構成する材料としては、例えば、アクリル系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリスルホン系樹脂、エポキシ系、フッ素系、ビニル系、ゴム系等の樹脂材料を用いることができる。
【００４６】
マスキング被膜４の形成方法は、特に限定されず、例えば、ディッピング、刷毛塗り、噴霧塗装、静電塗装、電着塗装等の塗装、電解メッキ、浸漬メッキ、無電解メッキ等の湿式メッキ、熱ＣＶＤ、プラズマＣＶＤ、レーザーＣＶＤ等の化学蒸着法（ＣＶＤ）、真空蒸着、スパッタリング、イオンプレーティング等の乾式メッキ、溶射等が挙げられる。
【００４７】
マスキング被膜４の平均厚さは、特に限定されないが、例えば、１００〜２０００μｍであるのが好ましく、５００〜１０００μｍであるのがより好ましい。
【００４８】
マスキング被膜４の平均厚さが前記下限値未満であると、マスキング被膜４にピンホールが発生し易くなる傾向がある。このため、後述する異色層３の除去の工程において、マスキング被膜４が被覆された部位の異色層３の一部が溶解、剥離する等して、得られる装飾品１Ａの美的外観が低下する可能性がある。
【００４９】
一方、マスキング被膜４の平均厚さが前記上限値を超えると、マスキング被膜４の各部位における膜厚のバラツキが大きくなる傾向を示す。また、マスキング被膜４の内部応力が高くなり、結果として、マスキング被膜４と異色層３との密着性が低下したり、クラックが発生し易くなる。
【００５０】
また、マスキング被膜４は透明であることが好ましい。これにより異色層３との密着状態を外部から視認することが可能となる。
【００５１】
マスキング被膜４は、異色層３の表面に、直接、所望の形状となるように形成されるものに限定されない。例えば、異色層３の表面のほぼ全面に、マスキング被膜４の構成材料を被覆した後、その一部を除去することにより、所望のパターンを有するマスキング被膜４としてもよい。
【００５２】
異色層３の表面のほぼ全面に被覆されたマスキング被膜４の一部を除去する方法としては、例えば、除去したい部位のマスキング被膜４に、レーザー光を照射する方法等が挙げられる。このとき用いられるレーザーとしては、例えば、Ｎｅ−Ｈｅレーザー、Ａｒレーザー、ＣＯ２レーザー等の気体レーザーや、ルビーレーザー、半導体レーザー、ＹＡＧレーザー、ガラスレーザー等が挙げられる。
【００５３】
［異色層の除去］
次に、マスキング被膜４が被覆されていない部位の異色層３を除去する（１ｄ）。
【００５４】
異色層３の除去は、異色層３を除去することが可能で、かつマスキング被膜４を実質的に溶解、剥離しない剥離剤を用いて行う。
【００５５】
異色層３の除去に用いられる剥離剤は、異色層３を除去することが可能であり、かつマスキング被膜４を実質的に溶解、剥離しないものであれば、特に限定されないが、液体、気体等の流体であるのが好ましく、その中でも特に、液体であるのが好ましい。これにより、異色層３の除去を容易かつ確実に行うことが可能となる。
【００５６】
剥離剤としては、例えば、硝酸、硫酸、アンモニア、過酸化水素、水、二硫化炭素、四塩化炭素等の無機溶媒や、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、アセトン、ジエチルケトン、メチルイソブチルテトン（ＭＩＢＫ）、メチルイソプロピルケトン（ＭＩＰＫ）、シクロヘキサノン等のケトン系溶媒、メタノール、エタノール、イソプロパノール、エチレングリコール、ジエチレングリコール（ＤＥＧ）、グリセリン等のアルコール系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、１，２−ジメトキシエタン（ＤＭＥ）、１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、テトラヒドロピラン（ＴＨＰ）、アニソール、ジエチレングリコールジメチルエーテル（ジグリム）等のエーテル系溶媒、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、フェニルセロソルブ等のセロソルブ系溶媒、ヘキサン、ペンタン、ヘプタン、シクロヘキサン等の脂肪族炭化水素系溶媒、トルエン、キシレン、ベンゼン等の芳香族炭化水素系溶媒、ピリジン、ピラジン、フラン、ピロール、チオフェン等の芳香族複素環化合物系溶媒、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（ＤＭＡ）等のアミド系溶媒、ジクロロメタン、クロロホルム、１，２−ジクロロエタン等のハロゲン化合物系溶媒、酢酸エチル、酢酸メチル、ギ酸エチル等のエステル系溶媒、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、スルホラン等の硫黄化合物系溶媒、アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル系溶媒、ギ酸、酢酸、トリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸等の有機酸系溶媒等の有機溶媒等から選択される１種または２種以上を混合したものや、これらに、硝酸、硫酸、塩化水素、フッ化水素、リン酸等の酸性物質、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、水酸化カルシウム、水酸化マグネシウム、アンモニア等のアルカリ性物質、過マンガン酸カリウム（ＫＭｎＯ４）、二酸化マンガン（ＭｎＯ２）、二クロム酸カリウム（Ｋ２Ｃｒ２Ｏ７）、オゾン、濃硫酸、硝酸、サラシ粉、過酸化水素、キノン類等の酸化剤、チオ硫酸ナトリウム（Ｎａ２Ｓ２Ｏ３）、硫化水素、過酸化水素、ヒドロキノン類等の還元剤を混合したもの等が挙げられるが、その中でも特に、１０〜３０ｖｏｌ％の硫酸と、１０〜３０ｖｏｌ％の硝酸とを含む溶液であるのが好ましい。
【００５７】
剥離剤として、このような溶液を用いることにより、基材２Ａ、マスキング被膜４に実質的なダメージを与えることなく、マスキング被膜４が被覆されていない部位の異色層３を容易に除去することができる。
【００５８】
異色層３を除去する方法としては、例えば、剥離剤を噴霧する方法、液体状態の剥離剤に浸漬する方法（ディッピング）、液体状態の剥離剤に浸漬した状態で電解する方法等が挙げられるが、この中でも特に、液体状態の剥離剤に浸漬する方法が好ましい。これにより、異色層３の除去をさらに容易かつ確実に行うことが可能となる。また、異色層３の除去は、例えば、超音波振動を与えながら行ってもよい。
【００５９】
異色層３の除去を液体状態の剥離剤に浸漬することにより行う場合、剥離剤の温度は、特に限定されないが、例えば、１５〜１００℃であるのが好ましく、５０〜１００℃であるのがより好ましく、７０〜１００℃であるのがさらに好ましい。
【００６０】
剥離剤の温度が前記下限値未満であると、異色層３の厚さ等によっては、マスキング被膜４が被覆されていない部位の異色層３を十分に除去するのに要する時間が長くなり、装飾品１Ａの生産性が低下する場合がある。
【００６１】
一方、剥離剤の温度が前記上限値を超えると、剥離剤の蒸気圧、沸点等によっては、剥離剤の揮発量が多くなり、異色層３の除去に必要な剥離剤の量が多くなる傾向を示す。
【００６２】
また、剥離剤への浸漬時間は、特に限定されないが、例えば、５〜１２０分間であるのが好ましく、２０〜６０分間であるのがより好ましい。
【００６３】
剥離剤への浸漬時間が前記下限値未満であると、異色層３の厚さ、剥離剤の温度等によっては、マスキング被膜４が被覆されていない部位の異色層３を十分に除去するのが困難となる場合がある。
【００６４】
一方、剥離剤への浸漬時間が前記上限値を超えると、装飾品１Ａの生産性が低下する。
【００６５】
［マスキング被膜の除去］
その後、マスキング被膜４を除去することにより、装飾品１Ａが得られる。
【００６６】
マスキング被膜４の除去は、いかなる方法で行ってもよいが、マスキング被膜４を除去することが可能であり、かつ基材２Ａおよび異色層３に対して、実質的にダメージを与えないマスキング被膜除去剤を用いて行うのが好ましい。
【００６７】
このようなマスキング被膜除去剤を用いることにより、マスキング被膜４の除去を容易かつ確実に行うことができる。
【００６８】
マスキング被膜４の除去に用いられるマスキング被膜除去剤は、特に限定されないが、液体、気体等の流体であるのが好ましく、その中でも特に、液体であるのが好ましい。これにより、マスキング被膜４の除去をさらに容易かつ確実に行うことが可能となる。
【００６９】
マスキング被膜除去剤としては、例えば、硝酸、硫酸、アンモニア、過酸化水素、水、二硫化炭素、四塩化炭素等の無機溶媒や、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、アセトン、ジエチルケトン、メチルイソブチルテトン（ＭＩＢＫ）、メチルイソプロピルケトン（ＭＩＰＫ）、シクロヘキサノン等のケトン系溶媒、メタノール、エタノール、イソプロパノール、エチレングリコール、ジエチレングリコール（ＤＥＧ）、グリセリン等のアルコール系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、１，２−ジメトキシエタン（ＤＭＥ）、１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、テトラヒドロピラン（ＴＨＰ）、アニソール、ジエチレングリコールジメチルエーテル（ジグリム）等のエーテル系溶媒、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、フェニルセロソルブ等のセロソルブ系溶媒、ヘキサン、ペンタン、ヘプタン、シクロヘキサン等の脂肪族炭化水素系溶媒、トルエン、キシレン、ベンゼン等の芳香族炭化水素系溶媒、ピリジン、ピラジン、フラン、ピロール、チオフェン等の芳香族複素環化合物系溶媒、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（ＤＭＡ）等のアミド系溶媒、ジクロロメタン、クロロホルム、１，２−ジクロロエタン等のハロゲン化合物系溶媒、酢酸エチル、酢酸メチル、ギ酸エチル等のエステル系溶媒、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、スルホラン等の硫黄化合物系溶媒、アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル系溶媒、ギ酸、酢酸、トリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸、フッ酸等の有機酸系溶媒等の有機溶媒等から選択される１種または２種以上を混合したものや、これらに、硝酸、硫酸、塩化水素、フッ化水素、リン酸等の酸性物質、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、水酸化カルシウム、水酸化マグネシウム、アンモニア等のアルカリ性物質、過マンガン酸カリウム（ＫＭｎＯ４）、二酸化マンガン（ＭｎＯ２）、二クロム酸カリウム（Ｋ２Ｃｒ２Ｏ７）、オゾン、濃硫酸、硝酸、サラシ粉、過酸化水素、キノン類等の酸化剤、チオ硫酸ナトリウム（Ｎａ２Ｓ２Ｏ３）、硫化水素、過酸化水素、ヒドロキノン類等の還元剤を混合したもの等が挙げられる。
【００７０】
マスキング被膜４を除去する方法としては、例えば、マスキング被膜除去剤を噴霧する方法、液体状態のマスキング被膜除去剤に浸漬する方法、液体状態のマスキング被膜除去剤に浸漬した状態で電解する方法等が挙げられるが、この中でも特に、液体状態のマスキング被膜除去剤に浸漬する方法が好ましい。これにより、マスキング被膜４の除去をさらに容易かつ確実に行うことが可能となる。また、マスキング被膜４の除去は、例えば、超音波振動を与えながら行ってもよい。
【００７１】
マスキング被膜４の除去を、液体状態のマスキング被膜除去剤に浸漬することにより行う場合、マスキング被膜除去剤の温度は、特に限定されないが、例えば、１５〜１００℃であるのが好ましく、３０〜５０℃であるのがより好ましい。
【００７２】
マスキング被膜除去剤の温度が前記下限値未満であると、マスキング被膜４の厚さ等によっては、マスキング被膜４を十分に除去するのに要する時間が長くなり、装飾品１Ａの生産性が低下する場合がある。
【００７３】
一方、マスキング被膜除去剤の温度が前記上限値を超えると、マスキング被膜除去剤の蒸気圧、沸点等によっては、マスキング被膜除去剤の揮発量が多くなり、マスキング被膜４の除去に必要なマスキング被膜除去剤の量が多くなる傾向を示す。
【００７４】
また、マスキング被膜除去剤への浸漬時間は、特に限定されないが、例えば、５〜６０分間であるのが好ましく、５〜３０分間であるのがより好ましい。
【００７５】
マスキング被膜除去剤への浸漬時間が前記下限値未満であると、マスキング被膜４の厚さ、マスキング被膜除去剤の温度等によっては、マスキング被膜４を十分に除去するのが困難となる場合がある。
【００７６】
一方、マスキング被膜除去剤への浸漬時間が前記上限値を超えると、装飾品１Ａの生産性が低下する。
以上説明したような表面処理方法により、装飾品１Ａが得られる。
【００７７】
装飾品１Ａは、装飾性を備えた物品であればいかなるものでもよいが、例えば、置物等のインテリア、エクステリア用品、宝飾品、時計ケース、時計バンド、文字盤、時計用針等の時計用外装部品、メガネ、ネクタイピン、カフスボタン、指輪、ネックレス、ブレスレット、ブローチ、ペンダント、イヤリング、ピアス等の装身具、ライターまたはそのケース、ゴルフクラブ等のスポーツ用品、銘板、パネル、賞杯、その他ハウジング等を含む各種機器部品、各種容器等が挙げられる。この中でも特に、時計用外装部品が好ましい。時計用外装部品は、装飾品として外観の美しさが要求されるとともに、実用品として、パターンの視認性、緻密性等が要求されるが、本発明の表面処理方法によればこれらの要件を全て満足することができる。
【００７８】
次に、本発明の表面処理方法および装飾品の第２実施形態について説明する。
図２は、本発明の表面処理方法の第２実施形態を示す断面図である。
【００７９】
以下、第２実施形態の表面処理方法および該方法を用いて製造される第２実施形態の装飾品について、前記第１実施形態との相違点を中心に説明し、同様の事項の説明については、その説明を省略する。
【００８０】
図２に示すように、本実施形態の表面処理方法は、基材２Ｂの表面の少なくとも一部（２ａ）に、チタンまたはチタン系合金で構成される被覆層５を形成する工程（２ｂ）と、被覆層５の表面の少なくとも一部に、被覆層５と異なる色彩を有するチタン化合物で構成される異色層３を形成する工程（２ｃ）と、異色層３の表面の一部にマスキング被膜４を被覆する工程（２ｄ）と、剥離剤を用いて、マスキング被膜４が被覆されていない部位の異色層３を除去する工程（２ｅ）と、マスキング被膜４を除去する工程（２ｆ）とを有する。
【００８１】
すなわち、基材２Ｂ上に被覆層５を形成し、さらに、被覆層５の表面の少なくとも一部に異色層３を形成する以外は、前述した第１実施形態と同様である。
【００８２】
本実施形態においては、異色層３は、被覆層５の表面に形成される。したがって、前述した第１実施形態の基材２Ａが、異色層３と異なる色彩を有するチタンまたはチタン系合金で構成されるものであったのに対し、本実施形態の基材２Ｂは、これらに限定されず、いかなる材料で構成されるものであってもよい。すなわち、基材２Ｂは、いかなる色彩を有するものであってもよい。
【００８３】
このように基材２Ｂの構成材料の選択の幅が広がることにより、例えば、基材２Ｂの加工性が向上し、複雑な形状を有する装飾品１Ｂを容易に得ることが可能となる。また、基材２Ｂの構成材料として、比重の小さい材料、安価な材料を選択することにより、装飾品１Ｂの軽量化、生産コストの低減等を図ることも可能となる。
【００８４】
基材２Ｂを構成する材料としては、チタン、チタン系合金の他、例えば、Ｆｅ、Ｃｕ、Ｎｉ、Ｚｎ、Ｍｇ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｍｏ、Ｎｂ、Ａｌ、Ｖ、Ｚｒ、Ｓｎ、Ａｕ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ａｇ等の各種金属や、これらのうち少なくとも１種を含む合金等の金属材料や、プラスチック等が挙げられるが、この中でも特に、ステンレス（Ｆｅ−Ｃｒ系合金またはＦｅ−Ｃｒ−Ｎｉ系合金）または真鍮（Ｃｕ−Ｚｎ系合金）で構成されたものが好ましい。
【００８５】
被覆層５は、チタンまたはチタン系合金で構成されている。
被覆層５は、前述した第１実施形態における基材２Ａと同様、異色層３と異なる色彩を有している。これにより、本実施形態で得られる装飾品１Ｂは、前述した第１実施形態の装飾品１Ａと同様、美的外観に優れたものとなる。
【００８６】
被覆層５の形成方法は、特に限定されず、例えば、電解メッキ、浸漬メッキ、無電解メッキ等の湿式メッキ、熱ＣＶＤ、プラズマＣＶＤ、レーザーＣＶＤ等の化学蒸着法（ＣＶＤ）、真空蒸着、スパッタリング、イオンプレーティング等の乾式メッキ、溶射、金属箔の接合等が挙げられるが、その中でも特に、イオンプレーティングが好ましい。イオンプレーティングによれば、基材２Ｂとの密着性に優れ、かつ均一な膜厚を有する被覆層５を比較的容易に形成することができる。
【００８７】
被覆層５の平均厚さは、特に限定されないが、例えば、０．１〜５．０μｍであるのが好ましく、０．５〜２．０μｍであるのがより好ましい。
【００８８】
被覆層５の平均厚さが前記下限値未満であると、被覆層５にピンホールが発生し易くなり、得られる装飾品１Ｂの美的外観が低下する可能性がある。
【００８９】
一方、被覆層５の平均厚さが前記上限値を超えると、被覆層５の各部位における膜厚のバラツキが大きくなる傾向を示す。また、被覆層５の内部応力が高くなり、密着性が低下したりクラックが発生し易くなる。
【００９０】
なお、被覆層５は、図示の構成では基材２Ｂの全面に形成されているが、基材２Ｂの表面の少なくとも一部に形成されるものであればよい。
【００９１】
次に、本発明の表面処理方法および装飾品の第３実施形態について説明する。
図３は、本発明の表面処理方法の第３実施形態を示す断面図である。
【００９２】
以下、第３実施形態の表面処理方法および該方法を用いて製造される第３実施形態の装飾品について、前記第１、第２実施形態との相違点を中心に説明し、同様の事項の説明については、その説明を省略する。
【００９３】
図３に示すように、本実施形態の表面処理方法は、基材２Ｃの表面の少なくとも一部（３ａ）に、下地層６を形成する工程（３ｂ）と、下地層６の表面の少なくとも一部に、チタンまたはチタン系合金で構成される被覆層５を形成する工程（３ｃ）と、被覆層５の表面の少なくとも一部に、被覆層５と異なる色彩を有するチタン化合物で構成される異色層３を形成する工程（３ｄ）と、異色層３の表面の一部にマスキング被膜４を被覆する工程（３ｅ）と、剥離剤を用いて、マスキング被膜４が被覆されていない部位の異色層３を除去する工程（３ｆ）と、マスキング被膜４を除去する工程（３ｇ）とを有する。
【００９４】
すなわち、基材２Ｃ上に下地層６を形成し、さらに、下地層６の表面の少なくとも一部に被覆層５を形成する以外は、前述した第２実施形態と同様である。
【００９５】
本実施形態の表面処理方法では、被覆層５の形成に先立ち、基材２Ｃの表面に下地層６を形成する。
【００９６】
下地層６を形成することにより、例えば、基材２Ｃと被覆層５との密着性の向上、得られる装飾品１Ｃの耐食性の向上等の効果が得られる。その結果、得られる装飾品１Ｃは、特に耐久性に優れたものとなる。
【００９７】
下地層６を構成する材料としては、例えば、Ｃｕ、Ａｕ、Ｎｉ、Ｐｄ、Ｃｒ、Ｓｎ、Ｚｎ、Ａｇ、Ｆｅ、Ｉｎ等の各種金属や、これらのうち少なくとも１種を含む合金等が挙げられる。
【００９８】
下地層６の形成方法は、特に限定されないが、例えば、電解メッキ、浸漬メッキ、無電解メッキ等の湿式メッキ、熱ＣＶＤ、プラズマＣＶＤ、レーザーＣＶＤ等の化学蒸着法（ＣＶＤ）、真空蒸着、スパッタリング、イオンプレーティング等の乾式メッキ、溶射、金属箔の接合等が挙げられる。
【００９９】
下地層６の平均厚さは、特に限定されないが、例えば、０．１〜２０μｍであるのが好ましく、０．５〜１０μｍであるのがより好ましい。
【０１００】
下地層６の平均厚さが前記下限値未満であると、下地層６の効果が十分に発揮されない可能性がある。
【０１０１】
一方、下地層６の平均厚さが前記上限値を超えると、下地層６の各部位における膜厚のバラツキが大きくなる傾向を示す。また、下地層６の内部応力が高くなり、クラックが発生し易くなる。
【０１０２】
なお、下地層６は、図示の構成では基材２Ｃの全面に形成されているが、基材２Ｃの表面の少なくとも一部に形成されるものであればよい。
【０１０３】
以上、本発明の表面処理方法および装飾品の好適な実施形態について説明したが、本発明は、これらに限定されるものではない。
【０１０４】
例えば、前述した第３実施形態の表面処理方法、装飾品においては、下地層は、その全体にわたって均一な組成を有するものとして説明したが、これに限定されない。例えば、下地層は、組成の異なる２層以上の層が積層されたものであってもよいし、厚さ方向に組成が順次変化するもの（傾斜材料）であってもよい。
【０１０５】
また、装飾品の表面の少なくとも一部には、耐食性、耐候性、耐水性、耐油性、耐摩耗性、耐変色性等を付与し、防錆、防汚、防曇、防傷等の効果を向上する保護層等が形成されていてもよい。
【０１０６】
【実施例】
次に、本発明の具体的実施例について説明する。
【０１０７】
１．装飾品の製造
（実施例１）
以下に示すような表面処理を施すことにより、装飾品（腕時計ケース）を製造した。
【０１０８】
まず、チタンを用いて、鍛造により、腕時計ケースの形状を有する基材を作製し、その後、必要箇所を切削、研磨した。
【０１０９】
次に、この基材を洗浄した。基材の洗浄としては、まず、アルカリ電解脱脂を３０秒間行い、次いで、アルカリ浸漬脱脂を３０秒間行った。その後、中和を１０秒間、水洗を１０秒間、純水洗浄を１０秒間行った。
【０１１０】
このようにして洗浄を行った基材の表面に対して、異色層の形成を行った。
異色層の形成は、以下に説明するようなイオンプレーティングにより行った。
【０１１１】
まず、基材をイオンプレーティング装置内に取付け、その後、装置内を予熱しながら、イオンプレーティング装置内を２×１０−５Ｔｏｒｒまで排気（減圧）した。
【０１１２】
さらに、イオンプレーティング装置内を２×１０−６Ｔｏｒｒまで排気（減圧）し、アルゴンガス流量４７０ｍｌ／分で、ボンバード処理を５分間行った。
【０１１３】
引き続き、イオンプレーティング装置内の雰囲気ガスを、窒素とアセチレンとの混合ガスで置換し、６×１０−４Ｔｏｒｒとした後、イオン化電流、雰囲気ガスの組成、イオンプレーティング装置内の真空度を表１に示すように順次変化させ、炭窒化チタン（ＴｉＣＮ）で構成される異色層（黒色）を形成した。なお、ターゲットとしては、チタンを用いた。形成された異色層の平均厚さは、１．５μｍであった。
【０１１４】
【表１】
0003601784.tif 000002
【０１１５】
次に、異色層の表面の一部に、マスキング被膜を所定の形状に形成した。
マスキング被膜の形成は、ゴム系樹脂を刷毛塗りすることにより、異色層の表面の一部を被覆し、その後、１８０〜２００℃で、３０分間乾燥することにより行った。形成されたマスキング被膜の平均厚さは、５００μｍであった。
【０１１６】
次に、剥離剤を用いて、マスキング被膜が被覆されていない部位の異色層の除去を行った。
【０１１７】
異色層の除去は、マスキング被膜が被覆された基材を剥離剤に浸漬することにより行った。このとき、剥離剤として、１０ｖｏｌ％の硫酸と、１０ｖｏｌ％の硝酸と、８０ｖｏｌ％の水とからなる水溶液を用いた。また、本工程における剥離剤の温度、剥離剤への浸漬時間は、それぞれ８０℃、３０分であった。
【０１１８】
その後、ハロゲン化合物系溶媒、ケトン系溶媒よりなるマスキング被膜除去剤に浸漬することにより、マスキング被膜を除去した。また、本工程におけるマスキング被膜除去剤の温度、マスキング被膜除去剤への浸漬時間は、それぞれ３０℃、３０分であった。
【０１１９】
なお、異色層の厚さは、ＪＩＳ  Ｈ  ５８２１の顕微鏡断面試験方法により測定した。
【０１２０】
（実施例２）
剥離剤として、３０ｖｏｌ％の硫酸と、１０ｖｏｌ％の硝酸と、６０ｖｏｌ％の水とからなる水溶液を用いた以外は、前記実施例１と同様にして、表面処理方法を施し、装飾品を製造した。
【０１２１】
（実施例３）
剥離剤として、１０ｖｏｌ％の硫酸と、３０ｖｏｌ％の硝酸と、６０ｖｏｌ％の水とからなる水溶液を用いた以外は、前記実施例１と同様にして、表面処理方法を施し、装飾品を製造した。
【０１２２】
（実施例４）
剥離剤として、３０ｖｏｌ％の硫酸と、３０ｖｏｌ％の硝酸と、４０ｖｏｌ％の水とからなる水溶液を用いた以外は、前記実施例１と同様にして、表面処理方法を施し、装飾品を製造した。
【０１２３】
（実施例５）
基材の構成材料として、チタン系合金（合金組成：Ｔｉ−Ａｌ６％−Ｖ４％（ｗｔ％））を用い、異色層の形成に先立ち、チタンで構成される被覆層を形成した以外は、前記実施例１と同様にして、表面処理方法を施し、装飾品を製造した。
【０１２４】
なお、被覆層の形成は、以下に説明するようなイオンプレーティングにより行った。
【０１２５】
まず、基材をイオンプレーティング装置内に取付け、その後、装置内を予熱しながら、イオンプレーティング装置内を２×１０−６Ｔｏｒｒまで排気（減圧）した。
【０１２６】
さらに、アルゴンガスで、ボンバード処理を５分間行った後、イオン化電圧：４０Ｖ、イオン化電流：４０Ａ、基板電圧：２０Ａ、時間：２０分間という条件で、イオンプレーティングを行うことにより被覆層を形成した。なお、ターゲットとしては、チタンを用いた。形成された被覆層の平均厚さは、１．５μｍであった。
【０１２７】
なお、被覆層の厚さは、ＪＩＳ  Ｈ  ５８２１の顕微鏡断面試験方法により測定した。
【０１２８】
（実施例６）
剥離剤として、３０ｖｏｌ％の硫酸と、１０ｖｏｌ％の硝酸と、６０ｖｏｌ％の水とからなる水溶液を用いた以外は、前記実施例５と同様にして、表面処理方法を施し、装飾品を製造した。
【０１２９】
（実施例７）
剥離剤として、１０ｖｏｌ％の硫酸と、３０ｖｏｌ％の硝酸と、６０ｖｏｌ％の水とからなる水溶液を用いた以外は、前記実施例５と同様にして、表面処理方法を施し、装飾品を製造した。
【０１３０】
（実施例８）
剥離剤として、３０ｖｏｌ％の硫酸と、３０ｖｏｌ％の硝酸と、４０ｖｏｌ％の水とからなる水溶液を用いた以外は、前記実施例５と同様にして、表面処理方法を施し、装飾品を製造した。
【０１３１】
（実施例９）
基材の構成材料として、真鍮（Ｃｕ−Ｚｎ系合金）を用い、被覆層の形成に先立ち、Ｃｕ系合金（合金組成：Ｃｕ６０％−Ｓｎ４０％（ｗｔ％））で構成される下地層を形成した以外は、前記実施例１と同様にして、表面処理方法を施し、装飾品を製造した。
【０１３２】
なお、下地層の形成は、浴温：６０℃、電流密度：３Ａ／ｄｍ２、時間：２分間という条件で行った。形成された下地層の平均厚さは、３μｍであった。
【０１３３】
（実施例１０）
剥離剤として、３０ｖｏｌ％の硫酸と、１０ｖｏｌ％の硝酸と、６０ｖｏｌ％の水とからなる水溶液を用いた以外は、前記実施例９と同様にして、表面処理方法を施し、装飾品を製造した。
【０１３４】
（実施例１１）
剥離剤として、１０ｖｏｌ％の硫酸と、３０ｖｏｌ％の硝酸と、６０ｖｏｌ％の水とからなる水溶液を用いた以外は、前記実施例９と同様にして、表面処理方法を施し、装飾品を製造した。
【０１３５】
（実施例１２）
剥離剤として、３０ｖｏｌ％の硫酸と、３０ｖｏｌ％の硝酸と、４０ｖｏｌ％の水とからなる水溶液を用いた以外は、前記実施例９と同様にして、表面処理方法を施し、装飾品を製造した。
【０１３６】
（比較例）
以下に示すような表面処理を施すことにより、図４に示すような装飾品（腕時計ケース）を製造した。
【０１３７】
まず、チタンを用いて、鍛造により、腕時計ケースの形状を有する基材を作製し、その後、必要箇所を切削、研磨した。
【０１３８】
次に、この基材を洗浄した。基材の洗浄としては、まず、アルカリ電解脱脂を３０秒間行い、次いで、アルカリ浸漬脱脂を３０秒間行った。その後、中和を１０秒間、水洗を１０秒間、純水洗浄を１０秒間行った。
【０１３９】
このようにして洗浄を行った基材の表面の一部に、マスキング被膜（平均厚さ：５００μｍ）を所定の形状に形成した。
【０１４０】
マスキング被膜の形成は、ゴム系樹脂を刷毛塗りすることにより、基材の表面の一部を被覆し、その後、１８０〜２００℃で、３０分間乾燥することにより行った。
【０１４１】
その後、マスキング被膜が形成された基材の表面に異色層（平均厚さ：１．５μｍ）を形成した。
異色層の形成は、以下に説明するようなイオンプレーティングにより行った。
【０１４２】
まず、基材をイオンプレーティング装置内に取付け、その後、装置内を予熱しながら、イオンプレーティング装置内を２×１０−５Ｔｏｒｒまで排気（減圧）した。
【０１４３】
さらに、イオンプレーティング装置内を２×１０−６Ｔｏｒｒまで排気（減圧）し、アルゴンガス流量４７０ｍｌ／分で、ボンバード処理を５分間行った。
【０１４４】
引き続き、イオンプレーティング装置内の雰囲気ガスを、窒素とアセチレンとの混合ガスで置換し、６×１０−４Ｔｏｒｒとした後、イオン化電流、雰囲気ガスの組成、イオンプレーティング装置内の真空度を表１に示すように順次変化させ、炭窒化チタン（ＴｉＣＮ）で構成される異色層を形成した。なお、ターゲットとしては、チタンを用いた。
【０１４５】
次に、マスキング被膜除去液を用いて、マスキング被膜の除去を行った。
マスキング被膜の除去は、マスキング被膜および異色層が被覆された基材をマスキング被膜除去液に浸漬することにより行った。このとき、マスキング被膜除去液として、ハロゲン化合物系溶媒、ケトン系溶媒を用いた。また、本工程におけるマスキング被膜除去液の温度、マスキング被膜除去液への浸漬時間は、それぞれ３０℃、３０分であった。
【０１４６】
なお、異色層の厚さは、ＪＩＳ  Ｈ  ５８２１の顕微鏡断面試験方法により測定した。
【０１４７】
２．装飾品の外観評価
上記実施例１〜１２および比較例で製造した各装飾品について、目視および顕微鏡による観察を行い、これらの外観を以下の３段階の基準に従い、評価した。なお、以下の３段階の基準における「外観不良」とは、異色層の膨れ・剥離、被覆層の膨れ・剥離、基材の変色、異色層の変色、被覆層の変色、マスキング被膜の残存の少なくとも一つが発生している状態を指す。
○：目視および顕微鏡による観察で外観不良が認められない。
△：目視による観察では外観不良が認められないが、顕微鏡による観察で一部の外観不良が認められる。
×：目視による観察で外観不良が認められる。
【０１４８】
３．基材と異色層との密着性評価
上記実施例１〜１２および比較例で製造した各装飾品について、ＪＩＳ  Ｈ  ８１６６に準じ、試料を１５０℃にて１０分間加熱し、常温の水で急冷したときの、異色層の剥離、膨れを、以下の４段階の基準に従い、評価した。
◎：異色層の剥離、膨れが全くないもの。
○：異色層の剥離、膨れがほとんどないもの。
△：異色層の剥離、膨れが若干あるもの。
×：異色層の剥離、膨れが激しいもの。
これらの結果を表２に示す。
【０１４９】
【表２】
0003601784.tif 000003
【０１５０】
表２から明らかなように、本発明の表面処理方法を用いて製造された装飾品は、いずれも優れた美的外観を有しており、異色層の密着性にも優れている。これに対し、比較例の表面処理方法により製造された装飾品は、美的外観に劣り、異色層の密着性にも劣っている。
【０１５１】
【発明の効果】
以上述べたように、本発明の表面処理方法によれば、美的外観に優れた装飾品を容易かつ迅速に製造することができる。
【０１５２】
また、異色層の密着性にも優れ、耐久性に優れた装飾品が得られる。
また、基材の構成材料等を選択することにより、複雑な形状を有する装飾品を容易に製造することが可能となり、また、装飾品の軽量化、製造コストの低減等を達成することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の表面処理方法の第１実施形態を示す断面図である。
【図２】本発明の表面処理方法の第２実施形態を示す断面図である。
【図３】本発明の表面処理方法の第３実施形態を示す断面図である。
【図４】従来の表面処理方法を説明するための断面図である。
【符号の説明】
１Ａ、１Ｂ、１Ｃ    装飾品
２Ａ、２Ｂ、２Ｃ    基材
３                  異色層
４                  マスキング被膜
５                  被覆層
６                  下地層
１０                装飾品
２０                基材
３０                異色層
４０                マスキング被膜
【図１】
0003601784.tif 000004
【図２】
0003601784.tif 000005
【図３】
0003601784.tif 000006
【図４】
0003601784.tif 000007