【手続補正書】
【提出日】平成29年8月16日(2017.8.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
処理デバイス用の処理装置であって、
処理真空チャンバと、
材料用の少なくとも１つの蒸発源であって、前記少なくとも１つの蒸発源が、
少なくとも１つの蒸発るつぼと、
前記少なくとも１つの蒸発るつぼと流体連通している、一又は複数の排出口を有する少なくとも１つの分配管と
を備える蒸発源と
前記処理真空チャンバと連結された保守真空チャンバであって、前記少なくとも１つの蒸発源を、前記処理真空チャンバと前記保守真空チャンバとの間で移送することができる、保守真空チャンバと
を備える処理装置。
【請求項２】
前記少なくとも１つの蒸発源が、前記分配管に対する支持体を含む、請求項１に記載の処理装置。
【請求項３】
前記支持体が、第１のドライバに連結可能であり又は前記第１のドライバを含み、前記第１のドライバが、前記蒸発源の並進運動のために構成される、請求項２に記載の処理装置。
【請求項４】
前記蒸発源の前記蒸発るつぼ及び前記分配管は、前記処理真空チャンバから前記保守真空チャンバへ及び前記保守真空チャンバから前記処理真空チャンバへ移送することができ、前記分配管に対する前記支持体が、前記処理真空チャンバから前記保守真空チャンバへ及び前記保守真空チャンバから前記処理真空チャンバへ移送されない、請求項２又は３に記載の処理装置。
【請求項５】
前記保守真空チャンバ及び前記処理真空チャンバの連結部が開口を含み、前記開口が、前記処理真空チャンバから前記保守真空チャンバへ及び前記保守真空チャンバから前記処理真空チャンバへの前記蒸発源の前記移送のために構成される、請求項１から４の何れか一項に記載の処理装置。
【請求項６】
前記開口を閉鎖するように構成された密閉デバイスを更に含み、前記密閉デバイスが、前記開口を実質的に真空気密に密閉するように構成される、請求項５に記載の処理装置。
【請求項７】
前記密閉デバイスは、前記少なくとも１つの蒸発源に取り付けられる、請求項６に記載の処理装置。
【請求項８】
少なくとも前記分配管及び前記蒸発るつぼが、前記密閉デバイスに対して移動可能である、請求項６又は７に記載の処理装置。
【請求項９】
前記処理真空チャンバの中に配置され、少なくとも２つのトラックを有する蒸発源支持体システムを更に含み、前記蒸発源支持体システムの前記少なくとも２つのトラックが、少なくとも前記処理真空チャンバ内で前記蒸発源の並進運動のために構成される、請求項１から８の何れか一項に記載の処理装置。
【請求項１０】
前記少なくとも２つのトラックのうちの各々が、第１のトラックセクション及び第２のトラックセクションを含み、前記第１のトラックセクション及び前記第２のトラックセクションが分離可能である、請求項９に記載の処理装置。
【請求項１１】
前記第１のトラックセクションが、前記蒸発源と共に、前記処理真空チャンバから前記保守真空チャンバへ及び前記保守真空チャンバから前記処理真空チャンバへ移送可能であるように構成される、請求項１０に記載の処理装置。
【請求項１２】
前記蒸発るつぼ、前記分配管、及び前記分配管の支持体が、前記処理真空チャンバと前記保守真空チャンバとの間で一緒に移送される、請求項２に記載の処理装置。
【請求項１３】
前記保守真空チャンバ内に設けられ、前記蒸発源及び前記第１のトラックセクションのうち少なくとも一つを受けるように構成された回転可能なデバイスを更に備える、請求項１０又は１１に記載の処理装置。
【請求項１４】
前記保守真空チャンバ内に設けられ、前記蒸発源を受けるように構成された回転可能なデバイスを更に備える、請求項１から１２の何れか一項に記載の処理装置。
【請求項１５】
前記少なくとも１つの蒸発源の第１の蒸発源と前記少なくとも１つの蒸発源の第２の蒸発源が、前記回転可能なデバイス上に背中合わせに位置づけられる、請求項１３又は１４に記載の処理装置。
【請求項１６】
第１の蒸発源プラットフォーム部分と第２の蒸発源プラットフォーム部分を更に備える、請求項１３又は１４に記載の処理装置。
【請求項１７】
前記蒸発源の媒体供給部を提供するか又は収容する連結デバイスを更に備え、前記連結デバイスの少なくとも一部が大気環境を提供する、請求項１から１６の何れか一項に記載の処理装置。
【請求項１８】
大気圧を維持するように構成された蒸発器制御ハウジングを更に備える、請求項１７に記載の処理装置。
【請求項１９】
バルブを介して前記処理真空チャンバと連結されたもう１つの真空チャンバを更に含み、前記もう１つの真空チャンバが、前記処理真空チャンバ内への及び前記処理真空チャンバからの基板の搬送のために構成される、請求項１から１８の何れか一項に記載の処理装置。
【請求項２０】
処理デバイス用の処理装置であって、
処理真空チャンバと、
材料用の少なくとも１つの蒸発源であって、
少なくとも１つの蒸発るつぼと、
前記少なくとも１つの蒸発るつぼと流体連通している、一又は複数の排出口を有する少なくとも１つの分配管と
前記処理真空チャンバと連結された保守真空チャンバであって、前記少なくとも１つの蒸発源を、前記処理真空チャンバから前記保守真空チャンバへ移送することができる保守真空チャンバと
を備え、
前記保守真空チャンバ及び前記処理真空チャンバの連結部が、前記処理真空チャンバから前記保守真空チャンバへの前記少なくとも１つの蒸発源の前記移送のために構成された開口を含み、前記開口が、前記少なくとも１つの蒸発源に取り付けられた密閉デバイスによって閉鎖可能である、処理装置。
【請求項２１】
処理真空チャンバから保守真空チャンバへ又は前記保守真空チャンバから前記処理真空チャンバへ蒸発源を移送するための方法であって、
前記処理真空チャンバと前記保守真空チャンバとの間に提供された開口を通して、前記処理真空チャンバから前記保守真空チャンバへ又は前記保守真空チャンバから前記処理真空チャンバへ、前記蒸発源の蒸発るつぼ及び分配管を移動させることを含む方法。
【請求項２２】
更に、
前記開口を通して、前記処理真空チャンバから前記保守真空チャンバへ又は前記保守真空チャンバから前記処理真空チャンバへ、前記蒸発源の前記蒸発るつぼ及び前記分配管と共に前記処理真空チャンバの中に配置された蒸発源支持体システムのトラックの２つのトラックセクションのうちの第１のトラックセクションを移動させること、及び
前記蒸発源に取り付けられた密閉デバイスを使用して、前記開口を密閉すること
の少なくとも一方を含む、請求項２１に記載の方法。
【請求項２３】
前記蒸発源と更なる蒸発源が位置を交換できるように回転可能なデバイスを回転させることを更に含む、請求項２０又は２１に記載の方法。
【請求項２４】
処理真空チャンバと、
材料用の少なくとも１つの蒸発源と、
前記処理真空チャンバと接続され、その間に開口を有する保守真空チャンバであって、前記開口を通して、前記少なくとも１つの蒸発源を、前記処理真空チャンバと前記保守真空チャンバとの間で移送することができる、保守真空チャンバと、
前記少なくとも１つの蒸発源に取り付けられて、前記開口を閉鎖するように構成された密閉デバイスと
を備える処理装置。
【請求項２５】
処理真空チャンバと、
材料用の少なくとも１つの蒸発源と、
開口を通して、前記処理真空チャンバと連結された保守真空チャンバと
前記少なくとも１つの蒸発源に取り付けられて、前記開口を閉鎖するように構成された密閉デバイスと
を備える処理装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】処理デバイス用の処理装置、及び処理真空チャンバから保守真空チャンバへ又は保守真空チャンバから処理真空チャンバへ蒸発源を移送するための方法
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００３】
ＯＬＥＤディスプレイデバイスの製造時に遭遇する課題がある。１つの例では、デバイスの起こり得る汚染を防止するために、２つのガラスパネルの間でＯＬＥＤをカプセル化するのに必要ないくつかの大きな労力を要する工程がある。別の例では、ディスプレイスクリーン及びガラスパネルのサイズが異なると、処理及びディスプレイデバイスを形成するために使用される処理ハードウェアの実質的な再構築が必要となり得る。一般的に、ＯＬＥＤデバイスは、大面積基板で製造されることが望ましい。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
本明細書に記載の実施形態による処理装置は、蒸発源１０００の補修及び／又は差し替えを促進し、処理装置のダウンタイムを短縮することができる。処理真空チャンバ１１０から独立して換気することができる保守真空チャンバ１５０を処理真空チャンバ１１０に取り付けることによって、例えば、蒸発源１０００の排気後に、蒸発源１０００を交換し、真空システムを換気せずに及び／又は生産を停止せずに、保守真空チャンバ１５０の中で蒸発源１０００を補修することが可能になる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
図１Ａから図１Ｃは、蒸発源１００が異なる位置にある処理装置１００を示す。図１Ａ及び図１Ｂでは、蒸発源１０００は、処理真空チャンバ１１０の中に位置し、図１Ｃでは、蒸発源１０００は、例えば、補修及び／又は差し替えのために、保守真空チャンバ１５０の中に位置する。図１Ａから図１Ｃには、１つの蒸発源が図示されているが、いくつかの例では、２つ又はそれを上回る蒸発源１０００を処理装置１００の中に提供することもできる。例として、第１の蒸発源を処理真空チャンバ１１０の中に位置付けることができ、第２の蒸発源を保守真空チャンバ１５０の中に位置付けることができる。第１の蒸発源は、デバイス、特に内部に有機材料を含むデバイスを製造するために作動させることができ、その一方で、保守真空チャンバ１５０の中に位置する第２の蒸発源は、同時に補修及び／又は差し替えることができ、処理装置のダウンタイムを更に短縮する又は回避することさえできる。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３２】
いくつかの実施態様では、更なるトラックが、マスクフレーム１３１及び／又はマスク１３２を支持するように提供される。本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせることができる、いくつかの実施形態によれば、蒸発源１００は、処理真空チャンバ１１０内に４つのトラックを含むことができる。例えば、マスク１３２洗浄のためなど、処理真空チャンバ１１０からマスク１３２のうちの１つを移動させるために、マスクフレーム１３１及びマスク１３２を基板１２１の搬送トラック上に移動させることができる。次に、それぞれのマスクフレームは、基板１２１の搬送トラック上で処理真空チャンバ１１０を出入りすることができる。処理真空チャンバ１１０内へ及び処理真空チャンバ１１０から分離した搬送トラックをマスクフレーム１３１に提供することが可能であるにせよ、処理装置２００の所有コストは、ただ２つのトラック、即ち、基板１２１に対する搬送トラックが、処理真空チャンバ１１０内に及び処理真空チャンバ１１０から延びる場合に、削減することができ、加えて、マスクフレーム１３１は、適切なアクチュエータ又はロボットによって基板１２１に対する搬送トラックのそれぞれに移動することができる。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３５】
図１Ａから図１Ｃに示されるように、少なくとも２つのトラック２２０、例えば、直線的ガイドは、処理真空チャンバ１１０内で蒸発源１０００の並進運動の方向を提供する。蒸発源１０００の両側に、それぞれのマスクが提供される。マスク１３２は、並進運動の方向に基本的に平行に延びることができる。更に、蒸発源１０００の対向する側面における基板１２１はまた、並進運動の方向に基本的に平行に延びることができる。いくつかの実施形態によれば、基板１２１は、バルブ１０５を介して、処理真空チャンバ１１０内へ及び処理真空チャンバ１１０から移動させることができる。処理装置１００は、基板１２１各々の搬送用のそれぞれの搬送トラックを含むことができる。例えば、搬送トラックは、図１Ａから図１Ｃに示される基板位置に平行に、処理真空チャンバ１１０内へかつ処理真空チャンバ１１０から延びることができる。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５２】
本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせることができる、いくつかの実施形態によれば、保守真空チャンバ１５０及び処理真空チャンバ１１０の連結部が開口（図１から図３の参照番号「１５２」で示される）を含み、開口が、処理真空チャンバ１１０から保守真空チャンバ１５０へ及び保守真空チャンバ１５０から処理真空チャンバ１１０への蒸発源１０００の移送のために構成される。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５７】
本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせることができる、いくつかの実施形態によれば、処理装置４００は、保守真空チャンバ１５０の中に提供される回転可能なデバイス４３０を含む。回転可能なデバイス４３０は、蒸発源１０００及び／又は第１のトラックセクション（図３Ａ及び３Ｂの中では参照番号「２２１」で示される）を受け取るように構成することができる。例として、回転可能なデバイス４３０は、回転可能なプラットフォームとすることができる。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８０】
分配管１００６は、内側が中空の空間６１０を有している。第１の加熱ユニット６１５は、分配管１００６を加熱するために提供される。例として、分配管１００６は、蒸発るつぼ１００４によって提供される有機材料の蒸気が、分配管１００６の壁の内側部分で液化しない温度まで加熱することができる。２つ又はそれを上回る加熱シールド６１７が、分配管１００６の管周囲に提供される。加熱シールドは、第１の加熱ユニット６１５により提供される熱エネルギーを内側が中空の空間６１０の方に反射し返すように構成される。これを考慮して、分配管１００６を加熱するのに必要なエネルギー、即ち、第１の加熱ユニット６１５に提供されるエネルギーは、加熱シールド６１７が熱損失を低下させるので、低下させることができる。更に、他の分配管及び／又はマスク若しくは基板への熱伝達を低下させることができる。本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせることができる、いくつかの実施形態によれば、２つ又はそれを上回る熱シールド６１７は、例えば、１０の熱シールド層など、５又はそれを上回る熱シールド層のような２又はそれを上回る熱シールド層を含むことができる。
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８３】
外側加熱ユニットなどの第２の加熱ユニット６２５を蒸発るつぼ１００４の筐体内に提供することができる。第２の加熱ユニット６２５は、少なくとも蒸発るつぼ１００４の壁の一部に沿って延びるとすることができる。本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせることができる、いくつかの実施形態によれば、一又は複数の中央加熱要素６２６を提供することができる。図６Ｂは、２つの中央加熱要素を示す。中央加熱要素６２６は、中央加熱要素６２６に電力を供給するための導体６２９を含むことができる。いくつかの実施態様によれば、蒸発るつぼ１００４は、シールド６２７を更に含むことができる。シールド６２７は、第２の加熱ユニット６２５、及び存在する場合には、中央加熱要素６２６によって提供される熱エネルギーを蒸発るつぼ１００４の筐体内に反射し返すように構成することができる。蒸発るつぼ１００４内での有機材料の効率的加熱を提供することができる。
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８４】
いくつかの実施形態によれば、図６Ａ及び図６Ｂに関して例示的に示されるように、蒸発るつぼ１００４は、分配管１００６の下側に提供される。本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせることができる更なる実施形態によれば、蒸気導管６３２は、分配管１００６の中央部分又は分配管１００６の下端と分配管１００６の上端との間の別の位置で分配管１００６に提供することができる。図６Ｃは、分配管１００６及び分配管１００６の中央部分に提供される蒸発導管６３２を有する蒸発源の例を示す。有機材料の蒸気は、蒸発るつぼ１００４の中で発生し、蒸気導管６３２を通って分配管１００６の中央部分に案内される。蒸気は、複数の開口又は排出口６１２を通って分配管１００６を出る。分配管１００６は、本明細書に記載された他の実施形態に関して説明されたように、支持体１００２によって支持される。本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせることができる更なる実施形態によれば、２つ又はそれを上回る蒸気導管６３２が、分配管１００６の長さに沿って異なる位置に提供できる。例として、蒸気導管６３２は、１つの蒸発るつぼ１００４かいくつかの蒸発るつぼ１００４かのどちらかに連結することができる。例えば、各蒸気導管６３２は、対応する蒸発るつぼを有することができる。代替的には、蒸発るつぼ１００４は、分配管１００６に連結されている２つ又はそれを上回る蒸気導管６３２と流体連通することができる。
【手続補正１３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８９】
本明細書に記載される実施形態によれば、処理真空チャンバから保守真空チャンバへ又は保守真空チャンバから処理真空チャンバへ蒸発源を移送するための方法は、大面積基板を処理する装置の対応する構成要素と通信しているＣＰＵ、メモリ、ユーザインターフェース、及び入出力装置を有することができる、コンピュータプログラム、ソフトウェア、コンピュータソフトウェア製品及び相互関連コントローラを用いて実行することができる。