(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
加工槽内に充満した加工液中で電極とワークとを相対移動させながら前記ワークを放電加工する放電加工機において、
導電性物質または半導体物質の粉体を混入した加工液を収容する加工液タンクと、
前記加工槽から前記加工液タンク内に前記加工液を流入するときに、前記加工液タンク内で前記加工液の流通経路が形成されるように前記加工液タンク内に立設された複数個の障壁板と、
前記加工液タンク内の前記加工液の流通経路の前段部または後段部から前記加工液を前記加工槽に供給する加工液供給手段と、
前記粉体を混入しない加工液を用いて加工する時には前記加工液供給手段により前記加工液の流通経路の後段部から供給される加工液を、前記粉体を混入した加工液を用いて加工する時には前記加工液供給手段により前記加工液の流通経路の前段部から供給される加工液を、それぞれ前記加工槽に導入できるよう、加工液の流通経路を切り換える切換手段と、
を具備したことを特徴とする放電加工機の加工液供給装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、加工槽内に充満した加工液中で電極とワークとを相対移動させながらワークを放電加工する放電加工機に関し、特に通常の加工液および導電性物質または半導体物質の粉体を混入した加工液を加工槽に供給するよう構成された放電加工機の加工液供給装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
プラスチック金型等を製作する場合に、放電加工により鏡面加工を行うことがあるが、一般に、放電加工による鏡面加工は、油等の通常の加工液中での荒加工後、シリコンやクロム等の半導体物質の粉体、グラファイト等の導電性物質の粉体を通常の加工液中に混入した加工液中で仕上加工を行うものである。
【０００３】
ところで、荒加工時には油等の通常の加工液、仕上加工時には導電性物質または半導体物質の粉体を混入した加工液を加工槽内に供給する必要があるが、その装置として例えば、特公平７−１１５２５９号公報に開示する放電加工機の加工液処理装置がある。即ち、
（１）  同公報図１３〜図１７には荒加工用の通常の加工液、仕上加工用の粉末混入
加工液を別々に収容する加工液タンクを設けた、いわゆる２槽式のもの。
（２）  同公報図７〜図１２及び図１８〜図２２には荒加工用の通常の加工液を収容する加工液タンクを設け、仕上加工時に導電性物質または半導体物質の粉体を
通常の加工液に逆洗、混入する、いわゆる１槽式逆洗方式もの。
が開示されている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、２槽式の場合には、荒加工用の通常の加工液および仕上加工用の粉体混入加工液をそれぞれ収容する２つの加工液タンクが必要であるために、機械の設置スペースが大きくなってしまう。また、１槽式逆洗方式の場合には、通常の加工液中に導電性物質または半導体物質の粉体を逆洗、回収する装置を設ける必要があるので、コストアップにつながるばかりでなく、その制御が複雑になってしまう。
【０００５】
そこで、本発明は加工液中から導電性物質または半導体物質の粉体を回収、逆洗する工程を用いることなく、通常の加工液および粉体混入加工液を必要に応じて加工槽に切換供給することができるようにした放電加工機の加工液供給装置を提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
本発明は上記課題を解決するために、下記のような構成とされている。加工槽内に充満した加工液中で電極とワークとを相対移動させながら前記ワークを放電加工する放電加工機において、導電性物質または半導体物質の粉体を混入した加工液を収容する加工液タンクと、前記加工槽から前記加工液タンク内に前記加工液を流入するときに、前記加工液タンク内で前記加工液の流通経路が形成されるように前記加工液タンク内に立設された複数個の障壁板と、前記加工液タンク内の前記加工液の流通経路の前段部または後段部から前記加工液を前記加工槽に供給する加工液供給手段と、前記粉体を混入しない加工液を用いて加工する時には前記加工液供給手段により前記加工液の流通経路の後段部から供給される加工液を、前記粉体を混入した加工液を用いて加工する時には前記加工液供給手段により前記加工液の流通経路の前段部から供給される加工液を、それぞれ前記加工槽に導入できるよう、加工液の流通経路を切り換える切換手段と、を具備してなる放電加工機の加工液供給装置。
【０００７】
加工液タンク内に導電性物質または半導体物質の粉体を混入した加工液をあらかじめ収容しておき、放電加工中に加工槽から加工液タンクに加工液が流入されるとき、加工液タンク内に複数個立設された障壁板により加工液タンク内に形成された流通経路を加工液が通過することで、加工液中に混入している導電物質または半導体物質の粉体とが分離する。よって、荒加工時には加工液タンク内に形成された流通経路の後段部の加工液、仕上加工時には流通経路の前段部の加工液を加工液の供給経路を切り換えながら加工液供給手段により加工槽内に供給すれば、荒加工及び仕上加工に適した加工液を簡単に、かつ加工液タンク内に収容した粉体混入加工液中から加工槽内に供給することができ
る。
【０００８】
【発明の実施の形態】
以下本発明の実施形態を図面に従って説明する。
図１は本発明による加工液供給装置を備えた放電加工機を示す概略構成説明図、図２は図１に示す加工液供給装置の加工液タンクを示す斜視図である。
【０００９】
放電加工機１の加工槽３内に設けられたテーブル５上にワーク７が載置され、ワーク７及びテーブル５上面は、導電性物質または半導体物質の粉体９（以下、「粉体９」とする）が混入した加工槽３内に充満された加工液１１中に浸漬している。加工液１１は加工液供給ポンプ１３により加工液タンク１５からホース等の供給管１７を通って加工槽３内に供給され、加工槽３内の使用済の加工液１１は、加工槽３に設けられたホース等の排出管１９を通って加工液タンク１５内に回収、収容されるようにして、加工槽３と加工液タンク１５との間を循環している。
【００１０】
また、ＮＣ・電源装置２１は、ＮＣプログラムからの制御データに基づき、Ｘ軸送りモータ２３、Ｙ軸送りモータ２５、Ｚ軸送りモータ２７にサーボ出力をそれぞれ送出し、放電加工機１の電極ヘッド２９及び絶縁プレート３１を介して電極３３を装着した主軸３５の移動を制御する移動制御手段３７と、電極３３とワーク７との極間にパルス電圧を印加する電源３９とを具備している。
【００１１】
移動制御手段３７により制御されるＺ軸送りモータ２７は、主軸３５に装着された電極３３を加工進行方向へ移動させる、つまり、ワーク７に対して送り込み、または退避させるサーボモータであり、Ｘ軸送りモータ２３及びＹ軸送りモータ２５は、主軸３５に装着された電極３３を加工進行方向と垂直な平面内で相互に直交する２軸方向に移動させるサーボモータである。
【００１２】
こうして、Ｘ軸送りモータ２３及びＹ軸送りモータ２５による移動の合成により電極３３をワーク７に対して相対的な二次元運動をさせることができ、さらに、Ｘ軸送りモータ２３、Ｙ軸送りモータ３５、Ｚ軸送りモータ２７による移動の合成により電極３３をワーク７に対して相対的な三次元運動をさせることもできる。このように、本発明の放電加工機１は、加工液１１中で電極３３とワーク７との極間に粉体９を介在させ、電極３３とワーク７との間で相対移動を行いながら、ワーク７を放電加工するのである。
【００１３】
ところで、加工液タンク１５内には、粉体９が混入された加工液１１が収容され、図１に上方より見た図、図２に斜視図として示されているように、障壁板４１が加工液タンク１５底面より複数個直立状態に設けられ、互いに対面する側壁間に屈曲した加工液１１の流通経路が形成されるよう接合されている。そして、加工液１１の導入口に近い流通経路部分に、粉体９の多く含まれる加工液１１を加工液タンク１５より加工槽３に供給するための供給管１７ａ  が取付けられ、また、加工液タンク１５の加工液１１の導入口より遠い末端部分に、粉末９の殆ど含まれていない加工液１１を加工槽３に供給するための供給管１７ｂ  が取付られている。
【００１４】
そして、前記２つの供給管１７ａ  、１７ｂ  は、加工液供給の切換バルブ４３を介して、加工液供給ポンプ１３、加工槽３への供給管１７、加工液の温度調節のためのオイルマチック４５、を通って加工槽３に接続されていて、ワーク７の荒加工または仕上加工に応じて加工槽３に粉体９の多く含まれる加工液１１か、粉体９の殆ど含まれない加工液１１のどちらか一方を切換供給するようになっている。
【００１５】
これは、加工液タンク１５内に障壁板４１が設けられていて、加工槽３より還流される粉体９を含む加工液１１が、加工液１１の流通経路が長く屈曲状体で形成され、そのために経路途中で粉体９が順次沈澱し、加工液タンク１５の加工液１１の導入口近くに取付られた供給管１７ａ  または加工液１１の導入口より離れた位置に取付られた供給管１７ｂ  から吸い上げられた加工液１１とでは、加工液１１中の導電性物質または半導体物質の粉体９の含有量が異なるので、ワーク７に行うべき放電加工の必要加工条件に適合した加工液１１を加工槽３に供給できることになる。
【００１６】
また、加工槽３よりの加工液１１の排出管１９は、２経路に流路を分離され、それぞれ切換バルブ４７，４９が設けられており、その切換により、それぞれフィルタ５１、マグネットセパレータ５３を介して荒加工時に生ずる加工液１１中の加工屑の回収、仕上加工時に生じる加工液１１中の加工屑と粉体９の分離をした後、加工槽３よりの加工液１１が加工液タンク１５に回収される。
【００１７】
なお、図１に示すように、加工液１１中に混入された粉体９は、加工液タンク１５の側壁に取付られた障壁板４１が形成する流通経路の屈曲部分下部位置に多く沈澱する傾向が見受けられるので、荒加工時は供給管１７ｂ  より粉体９の含まれない加工液１１を加工槽３に供給するようにし、仕上加工に際し、障壁板４１を加工液タンク１５底面より上方に持ち上げることにより、底部に沈澱した粉体９を加工液１１中に拡散させて、同じ供給管１７ｂ  で加工槽３に供給するようにしても同様の効果が得られる。
【００１８】
【発明の効果】
本発明によれば、加工液タンク内に導電性物質または半導体物質の粉体を混入した加工液をあらかじめ収容しておき、放電加工中に加工槽から加工液タンクに加工液が流入されるとき、加工液タンク内に複数個立設された障壁板により加工液タンク内に屈曲形成された流通経路を加工液が通過することにより、加工液中の導電性物質または半導体物質の粉体が沈澱して溜り、加工液と導電性物質または半導体物質の粉体とが分離するようにした。
よって、荒加工時には加工液タンク内に形成された流通経路の前段部の加工液の流路、精密加工ができる仕上加工時には流通経路の後段部の加工液の流路を切換手段で切り換ながら加工液供給手段により加工液を加工槽内に供給すれば、荒加工及び仕上加工に適した加工液を簡単に、かつ加工液タンク内に還流収容した粉体混入加工液中から加工槽に供給することができる。
【００１９】
また、加工液タンクを１個設けるだけでよいので、加工液タンクの省スペース化が図れるとともに、単に加工液タンク中に加工液を屈曲流通するようにするための障壁板を設けると云う簡単な構成で、導電性物質または半導体物質の粉体を加工液タンク内の加工液中から沈澱、分離することができるので、加工液供給装置に導電性物質または半導体物質の粉体を逆洗、回収するための装置を設ける必要がなく、コストダウンを図ることができる。さらに、加工液の取水口の位置を移動させれば、粉体混入加工液中の導電性物質または半導体物質の粉体の濃度を調節することも可能である。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明による加工液供給装置を備えた放電加工機の概略構成説明図である。
【図２】図１に示す加工液供給装置の加工液タンクを示す斜視図である。
【符号の説明】
１  放電加工機
３  加工槽
７  ワーク
９  導電性物質または半導体物質の粉体
１１  加工液
１３  加工液供給ポンプ
１５  加工液タンク
１７  供給管
１７ａ  供給管
１７ｂ  供給管
４１  障壁板
４３  加工液切換バルブ。
【図１】
0003569599.tif 000002
【図２】
0003569599.tif 000003