【手続補正書】
【提出日】平成29年5月26日(2017.5.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
試料（２）の高解像度スキャニング顕微鏡法のための顕微鏡において、
試料（２）を照明するための照明装置（３）と、
試料（２）にわたって少なくとも１つの点スポットまたは線スポット（１４）をスキャンするため、および、点スポットまたは線スポット（１４）を検出平面（１８）において静止した回折限界の個別画像（１７）へと結像させるための結像装置（４）と、
位置解像度でさまざまなスキャン位置について前記検出平面（１８）における前記個別画像（１７）を検出するための検出器装置（１９）と、
前記検出器装置（１９）のデータから前記スキャン位置の前記個別画像（１７）の回折構造を評価するため、および、回折限界を超えて高められた解像度を有する試料（１７）の画像を生成するための評価装置（Ｃ）とを有しており、
前記検出器装置（１９）は、
ピクセル（２５）を有し、前記個別画像（１７）よりも大きい検出器アレイ（２４）と、
前記検出器アレイ（２４）に前置され、検出平面（１８）からの放射を非結像式に前記検出器アレイ（２４）のピクセル（２５）へ分配する非結像式の再分配部材（２０〜２１；３０〜３４；３０〜３５）とを有しており、
当該顕微鏡はさらに、次の実施形態のうち１つまたは複数を有しており、すなわち、
‐  前記検出器アレイに前置された複数の再分配部材が設けられており、
‐  前記検出器アレイのピクセルの少なくとも一部について個々のピクセルにそれぞれ少なくとも２つの再分配部材からの放射が割り当てられており、
‐  個々のピクセルのところでそれぞれ異なる再分配部材からの少なくとも２つの光ファイバが終わっており、
‐  前記再分配部材は、ファイバの数および／またはファイバの配置および／またはファイバ直径および／またはファイバ断面の形状に関して相違するファイババンドルであり、
‐  前記再分配部材は試料光を検出するために光軸へ入るように旋回挿入可能またはスライド挿入可能に配置されており、
‐  信号評価にあたって個別ピクセルの統合により前記検出器アレイの個別信号の数が減少し、
‐  検出器ピクセルの読出しは、少なくとも部分的に試料光が照射される領域でのみ行われ、
‐  再分配部材の取替および／または画像サイズを適合化するためのズーム光学系／集束光学系の調整および／または制御信号を用いた前記検出器アレイの個別ピクセルの統合によって調整が制御ループで行われ、
‐  前記調整は制御量として画像コントラストおよび／または画像鮮明度および／または信号／雑音比を含んでおり、
‐  検出器アレイに後置された評価回路で選択的にチャネルが読み出され、および／または以後の処理のためにまとめられる、顕微鏡。
【請求項２】
前記再分配部材は、光ファイバ（２１）からなるバンドル（２０）を含んでおり、検出平面（１８）に配置された入力部（２２）および出力部（２３）を有し、前記光ファイバ（２１）は、前記出力部において前記入力部（２２）とは幾何学的に相違するように配置され、前記検出器アレイ（２４）のピクセル（２５）のところで終わる
ことを特徴とする、請求項１に記載の顕微鏡。
【請求項３】
前記光ファイバはマルチモード光ファイバである、請求項２に記載の顕微鏡。
【請求項４】
前記光ファイバ（２１）は、前記出力部（２３）で隣接する光ファイバ（２１）が前記入力部（２２）でも隣接し、それにより相並んで位置するピクセル（２５）の放射強度依存的なクロストークを最低限に抑えるように、前記入力部（２２）から前記出力部（２３）へ延びていることを特徴とする、請求項２または３に記載の顕微鏡。
【請求項５】
前記再分配部材は、検出平面（１８）からの放射を前記検出器アレイ（２４）のピクセル（２５）へと導く、それぞれ異なって傾いたミラー部材（３１）を備えるミラー（３０）、特にファセットミラー、ＤＭＤ、またはアダプティブミラーを含んでおり、前記検出器アレイ（２４）のピクセル（２５）は前記ミラー部材（３１）の幾何学配置とは相違する幾何学配置を有していることを特徴とする、請求項１に記載の顕微鏡。
【請求項６】
前記結像装置（４）は前記検出器装置（１９）に個別画像（１７）のサイズを適合化させるために結像方向において検出平面（１８）に前置されたズーム光学系（２７）を有していることを特徴とする、請求項１乃至５のいずれか１項に記載の顕微鏡。
【請求項７】
前記照明装置（３）と前記結像装置（４）は１つのスキャン装置（１０）を共有しており、それにより前記照明装置（３）は前記結像装置により結像されるスポット（１４）と一致する回折限界の点スポットまたは線スポットで試料（２）を照明し、前記ズーム光学系も前記照明装置（３）の構成要素となるように配置されることを特徴とする、請求項６に記載の顕微鏡。
【請求項８】
前記検出器アレイ（２４）は検出器ラインであることを特徴とする、請求項１乃至７のいずれか１項に記載の顕微鏡。
【請求項９】
前記検出器ラインはＡＰＤラインまたはＰＭＴラインであることを特徴とする、請求項８に記載の顕微鏡。
【請求項１０】
試料（２）の高解像度のスキャニング顕微鏡法のための方法であって、
試料（２）が照明され、
試料（２）上をスキャンをしながら導かれる少なくとも１つの点スポットまたは線スポット（１４）が個別画像（１７）へと結像され、前記スポット（１４）は回折限界で個別画像（１７）へと結像され、個別画像（１７）は静止するように検出平面（１８）に位置しており、
さまざまなスキャン位置について個別画像（１７）が検出され、それにより個別画像（１７）の回折構造が検出され、
各々のスキャン位置について個別画像（１７）の回折構造が評価され、回折限界を超えて高められた解像度を有する試料（２）の画像が生成され、
ピクセル（２５）を有し、個別画像（１７）よりも大きい検出器アレイ（２４）が提供され、
検出平面（１８）からの個別画像の放射が非結像式に前記検出器アレイ（２４）のピクセル（２５）へ再分配され、
当該方法はさらに、次の実施形態のうち１つまたは複数を有しており、すなわち、
‐  前記検出器アレイに前置された複数の再分配部材が設けられており、
‐  前記検出器アレイのピクセルの少なくとも一部について個々のピクセルにそれぞれ少なくとも２つの再分配部材からの放射が割り当てられており、
‐  個々のピクセルのところでそれぞれ異なる再分配部材に属する少なくとも２つの光ファイバが終わっており、
‐  前記再分配部材は、ファイバの数および／またはファイバの配置および／またはファイバ直径および／またはファイバ断面の形状に関して相違するファイババンドルであり、
‐  前記再分配部材は試料光を検出するために光軸へ入るように旋回挿入可能またはスライド挿入可能に配置されており、
‐  信号評価にあたって個別ピクセルの統合により前記検出器アレイの個別信号の数が減少し、
‐  検出器ピクセルの読出しは少なくとも部分的に試料光が照射される領域でのみ行われ、
‐  再分配部材の取替および／または画像サイズを適合化するためのズーム光学系／集束光学系の調整および／または制御信号を用いた前記検出器アレイの個別ピクセルの統合による調整が制御ループで行われ、
‐  前記調整は制御量として画像コントラストおよび／または画像鮮明度および／または信号／雑音比を含んでおり、
‐  前記検出器アレイに後置された評価回路で選択的にチャネルが読み出され、および／または以後の処理のためにまとめられることを特徴とする方法。
【請求項１１】
個別画像（１７）の放射は、光ファイバ（２１）からなるバンドル（２０）によって再分配され、前記バンドルは、検出平面（１８）に配置された入力部（２２）および出力部（２３）を有し、前記光ファイバ（２１）が、前記出力部において前記入力部（２２）とは幾何学的に相違するように配置され、前記検出器アレイ（２４）のピクセル（２５）のところで終わることを特徴とする、請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
前記光ファイバはマルチモード光ファイバである、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
前記光ファイバ（２１）は、前記出力部（２３）で隣接する光ファイバ（２１）が前記入力部（２２）でも隣接し、それにより相並んで位置するピクセル（２５）の放射強度依存的なクロストークを最低限に抑えるように、前記入力部（２２）から前記出力部（２３）へ導かれることを特徴とする、請求項１１または１２に記載の方法。
【請求項１４】
各々の光ファイバ（２１）には放射によって個々に照射され、前記出力部（２３）で隣接する光ファイバ（２１）に割り当てられたピクセル（２５）の干渉信号が検出され、キャリブレーションマトリクスが作製され、これを用いて試料（２）の顕微鏡法において相並んで位置するピクセル（２５）の放射強度依存的なクロストークが修正されることによって、前記光ファイバ（２１）からなるバンドル（２０）と前記検出器アレイ（２４）がキャリブレーションされることを特徴とする、請求項１０，１１または１２に記載の方法。
【請求項１５】
個別画像（１７）の放射はそれぞれ異なって傾いたミラー部材（３１）を備えるミラー（３０）、特にファセットミラー、ＤＭＤ、またはアダプティブミラーによって再分配され、前記ミラー（３０）によって検出平面（１８）からの放射が前記検出器アレイ（２４）のピクセル（２５）へと導かれ、前記検出器アレイ（２４）のピクセル（２５）は前記ミラー部材（３１）の幾何学配置とは相違する幾何学配置を有していることを特徴とする、請求項１０に記載の方法。
【請求項１６】
検出器アレイ（２４）として検出器ラインが使用されることを特徴とする、請求項１０乃至１５のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１７】
前記検出器ラインはＡＰＤラインまたはＰＭＴラインであることを特徴とする、請求項１６に記載の方法。
【請求項１８】
前記検出器アレイ（２４）の個々のピクセル（２５）の信号が相互相関により評価されることによって、点スポットまたは線スポット（１４）のスキャンの移動方向が判定されることを特徴とする、請求項１０乃至１６のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１９】
試料（２）で静止している点スポットまたは線スポット（１４）で、回折限界の前記個別画像（１７）の時間的変化が判定されて評価されることによって、前記試料（２）における変化が検出されることを特徴とする、請求項１０乃至１８のいずれか１項に記載の方法。
【請求項２０】
前記評価回路はＦＰＧＡまたはマイクロコントローラである、請求項１に記載の顕微鏡。
【請求項２１】
前記評価回路はＦＰＧＡまたはマイクロコントローラである、請求項１０に記載の方法。