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【手続補正書】
【提出日】平成29年11月16日(2017.11.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
流体ディスペンサと光学センサとを含む流体ディスペンシングシステムの較正方法であって、
（ｉ）前記光学センサを用いて外部参照点の位置を得る工程と、
（ｉｉ）前記流体ディスペンサを前記外部参照点まで移動させる工程と、
（ｉｉｉ）前記流体ディスペンサで前記外部参照点に流体を投与する工程と、
（ｉｖ）前記光学センサを用いて投与された流体の位置を得る工程と、
（ｖ）前記外部参照点の位置と前記投与された流体の位置との間の距離を計算する工程と、
（ｖｉ）少なくとも部分的に計算された距離に基づいて訂正値を決定する工程と、
（ｖｉｉ）前記訂正値を用いて投与される流体の載置精度を改良する工程と、
を備えたことを特徴とする方法。
【請求項２】
前記外部参照点は、タイル上に位置決めされており、
前記タイルは、少なくとも１つの追加の外部参照点を含んでおり、
前記工程（ｉ）乃至（ｖｉｉ）は、前記少なくとも１つの追加の外部参照点のためにも実施され、
訂正値を決定する工程は、少なくとも部分的に、前記外部参照点の各々に対応する計算された距離を平均化することによって得られる値に基づく
ことを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記タイルは、少なくとも８個の外部参照点を有している
ことを特徴とする請求項２に記載の方法。
【請求項４】
前記外部参照点及び前記投与された流体の各々は、重心を有しており、
距離を計算する前記工程は、更に、前記外部参照点の重心及び前記投与された流体の重心の間の距離を計算する工程を含んでいる
ことを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記投与される流体は、更に、当該流体の一滴を含んでいる
ことを特徴とする請求項４に記載の方法。
【請求項６】
前記工程（ｉ）乃至（ｖｉｉ）は、制御部によって自動的に実施される
ことを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項７】
前記工程（ｉ）乃至（ｖｉｉ）を、少なくとも１回繰り返す工程
を更に備えたことを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項８】
前記計算された距離が上限値より小さくなるまで、前記工程（ｉ）乃至（ｖｉｉ）を繰り返す工程
を更に備えたことを特徴とする請求項７に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成29年6月30日(2017.6.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
患者から血液を集めるため患者の動脈に接続される動脈血ラインと、
患者へ血液を戻すため患者の静脈に接続される静脈血ラインと、
透析器と、
患者から前記透析器へ、そして再び患者へ血液を輸送するため、前記動脈血ラインおよび前記静脈血ラインに接続されている血液流路と、
透析溶液を保管するためのタンクと、
前記タンクから前記透析器へ、そして再び前記タンクへ透析液を輸送するため、前記血液流路から隔離されている透析液流路と、
前記透析器の後で前記透析液を前記タンクへ戻す前に、前記透析液流路の透析液から尿毒症毒素を除去するため、前記透析器の下流で前記透析液流路に接続されているフィルタと、
第１ポンプモータと第１ポンプアクチュエータとを含み、前記透析液流路を経て前記透析器へ透析液を送入するため前記透析器の上流で前記透析液流路に接続されている第１ポンプであって、前記第１ポンプアクチュエータが、内部側壁を形成する中央空洞を有するハウジングと、前記空洞に偏心状態で配置されているロータとを含む非変形部品を有する摺動ベーン構造を含み、前記ロータが、前記ロータの周囲で径方向に整列された複数のスロットと、前記スロットに摺動可能に配置され、前記空洞の内部側壁と密閉を行って前記透析液流路を経て透析液を送入するベーン室を作成するため前記スロットに対して出入摺動するように前記スロットに摺動可能に配置されたベーンとを有する、第１ポンプと、
第２ポンプモータと第２ポンプアクチュエータとを含み、前記透析液流路を経て透析液を送入するため前記透析器の下流で前記透析液流路に接続されている第２ポンプであって、前記第２ポンプアクチュエータが、内部側壁を形成する中央空洞を有するハウジングと、前記空洞に偏心状態で配置されているロータとを含む非変形部品を有する摺動ベーン構造を含み、前記ロータが、前記ロータの周囲で径方向に整列された複数のスロットと、前記スロットに摺動可能に配置され、前記空洞の内部側壁と密閉を行って前記透析液流路を経て透析液を送入するベーン室を作成するため前記スロットに対して出入摺動するように前記スロットに摺動可能に配置されたベーンとを有する、第２ポンプと、
第３ポンプモータと第３ポンプアクチュエータとを含み、前記血液流路を経て血液を送入するため前記血液流路に接続されている第３ポンプであって、前記第３ポンプアクチュエータが、内部側壁を形成する中央空洞を有するハウジングと、前記空洞に偏心状態で配置されているロータとを含む非変形部品を有する摺動ベーン構造を含み、前記ロータが、前記ロータの周囲で径方向に整列された複数のスロットと、前記スロットに摺動可能に配置され、前記空洞の内部側壁と密閉を行って前記血液流路を経て血液を送入するベーン室を作成するため前記スロットに対して出入摺動するように前記スロットに摺動可能に配置されたベーンとを有する、第３ポンプと、
前記ポンプモータの動作を制御するため前記第１、第２、および第３のポンプモータに接続されているプロセッサと、
を含む、血液透析システム。
【請求項２】
さらに、
再利用式透析機械および使い捨てカートリッジであって、前記使い捨てカートリッジが前記再利用式透析機械に対して接続および分断可能である、再利用式透析機械および使い捨てカートリッジ、
を含み、
前記第１、第２、および第３のポンプモータが前記再利用式透析機械に配置され、前記第１、第２、および第３のポンプアクチュエータが前記使い捨てカートリッジに配置される、請求項１の血液透析システム。
【請求項３】
透析液流路内での圧力を測定する一つ以上の圧力センサと、血液流路内での圧力を測定する一つ以上のセンサと、をさらに備え、
前記透析器が、前記血液流路と前記透析液流路とを分離する半透膜を含み、前記プロセッサが、前記半透膜において所定の圧力差を維持するように前記圧力センサを監視して前記ポンプモータを制御する、請求項１の血液透析システム。
【請求項４】
前記プロセッサが、前記透析液流路に対する前記血液流路の前記透析器での圧力差をほぼゼロに維持する、請求項３の血液透析システム。
【請求項５】
前記プロセッサが、前記透析液流路に対する前記血液流路の前記透析器での圧力差をほぼゼロに維持して限界ろ過を行う、請求項３の血液透析システム。
【請求項６】
前記第１、第２、および第３のポンプモータが回転式電動モータである、請求項１の血液透析システム。
【手続補正書】
【提出日】平成29年4月6日(2017.4.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２】
前記ベースに取り付けられたホースリールと、前記ホースリールに巻き取られたホースとを備え、前記ホースリールは、前記ホースを前記ホースリールに巻き取るための第１方向と前記ホースを前記ホースリールから引き出させるための第２方向とに前記ベース内で回動するよう適合された
請求項１に記載の衣類処理システム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項５】
前記解除可能ロック機構は、前記ホースリールに連結されたラチェット歯と歯止めとを備え、前記ラチェット歯は、前記ホースリールが前記第２方向に動いている間は前記第１方向に動かないように、前記歯止めによって選択的に噛合されるよう配置されている
請求項４に記載の衣類処理システム。
【手続補正３】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項７】
前記ラチェット歯は逃げ領域を形成し、前記第２方向に所定の角度回転しきると、前記歯止めは前記逃げ領域に入り、前記歯止めは、前記逃げ領域に入ることで前記ラチェット歯を解放し、前記ホースリールが前記バネの付勢によって前記第１回転方向に回転できるようにする
請求項６に記載の衣類処理システム。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
使用に際し、ダブル内腔チューブ１６が伸ばされることで、ホースリール７０及びラチェットホイール８６は、図１６Ａ及び１６Ｂに描かれた第２引き出し方向「ｓ」に回転する。ラチェットホイール８６が第２方向「ｓ」に回転すると、歯止め８８は枢動してラチェット歯８６ａと噛合したり、この噛合を解除したりする。ダブル内腔ホース１６が手などから離れると、歯止め８８はラチェット歯８６ａと噛合してラチェットホイール８６及びホースリール７０を回転させないようにする。これにより、使用のための所望の長さでダブル内腔ホース１６を固定する。ホースリール７０からダブル内腔ホース１６をさらに伸長すると、ホースリール７０及びラチェットホイール８６はさらに回転して、歯止め８８はラチェットホイール８６の逃げ領域９２の１つに入る。逃げ領域９２では、歯止め８８は自由に動き、バネ９０の作用で外側を指す姿勢になる。よって、ダブル内腔ホース１６が手などから離れると、歯止め８８は枢動して図１６Ｃに描かれた解除の姿勢を取って、ラチェットホイール８６及びホースリール７０を、バネコイル７８の作用で第１方向「ｆ」に回転可能な状態にする。これにより、ダブル内腔ホース１６はホースリール７０に自動的に巻き取られる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
図１３、１４、１７、及び１８を参照して、自動ホースリール機構３２の中央固定シャフト８０について説明する。中央シャフト８０は、各端でクランプ又はロック９４、９６その他の従来の手段を介して、前後のハブ７４、７６へ固定される。中央固定シャフト８０は、蒸気生成器２８と水タンク２２とからそれぞれ延在するコネクタチューブ３７、３９（図４）に接続された蒸気用流体ポート９８と水用ポート１００とを備える。中央固定シャフト８０は、蒸気流体ポート９８に流体連通している中央内腔１０２と、水ポート１００に流体連通している側方内腔又はオフセット内腔１０４とを備える。中央固定シャフト８０は、中央内腔１０２に流体連通している蒸気用周縁内腔１０６と、サイド内腔１０４に流体連通している水用周縁内腔１０８とをさらに備える。蒸気用周縁内腔１０６と水用周縁内腔１０８はそれぞれ、回転リング８４の蒸気排出ポート１１０及び排水ポート１１２に流体連通している。蒸気排出ポート１１０と排水ポート１１２は、ダブル内腔ホース１６の蒸気用のチューブ３４ｔ（蒸気用の内腔３４）と水用のチューブ３６ｔ（水用の内腔３６）とに流体的に結合されている。蒸気排出ポート１１０と排水ポート１１２は、回転リング８４の部品であるので、ホースリール７０が回転すると回転リング８４と共に回転する。よって、蒸気排出ポート１１０と排水ポート１１２とは、蒸気及び水用周縁内腔１０６、１０８と常に流体連通している。シール８２は、回転リング８４の回転中の回転リング８４と中央固定シャフト８０との間の封止を保つために１つ又は複数設けられる。
【手続補正書】
【提出日】平成28年12月2日(2016.12.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
無線ＬＡＮにおける通信方法であって、
ＡＰ（ａｃｃｅｓｓ  ｐｏｉｎｔ）が、ＳＴＡ（ｓｔａｔｉｏｎ）が隣接するＡＰをスキャンできるように隣接ＡＰ情報を提供するためにビーコンフレームを生成するステップと、
前記ＡＰが前記ＳＴＡへ前記隣接ＡＰ情報を含む前記ビーコンフレームを送信するステップとを含み、
前記隣接ＡＰ情報は、複数の隣接ＡＰのプライマリチャネルの帯域を示す動作クラスフィールドと、前記複数の隣接ＡＰのプライマリチャネルを示すチャネル番号フィールドを含む、方法。
【請求項２】
無線ＬＡＮにおけるＡＰ（ａｃｃｅｓｓ  ｐｏｉｎｔ）であって、
無線信号を送信及び受信するＲＦ（ｒａｄｉｏ  ｆｒｅｑｕｅｎｃｙ）部と、
前記ＲＦ部と動作可能に（ｏｐｅｒａｔｉｖｅｌｙ）接続したプロセッサとを備え、
前記プロセッサは、ＳＴＡ（ｓｔａｔｉｏｎ）が隣接するＡＰをより早くスキャンできるように隣接ＡＰ情報を提供するためにビーコンフレームを生成し、前記ＳＴＡへ前記隣接ＡＰ情報を含む前記ビーコンフレームを送信するように構成され、
前記隣接ＡＰ情報は、複数の隣接ＡＰのプライマリチャネルの帯域を示す動作クラスフィールドと、前記複数の隣接ＡＰのプライマリチャネルを示すチャネル番号フィールドを含む、ＡＰ。
【請求項３】
前記隣接ＡＰ情報は、ＴＢＴＴ情報ヘッダフィールドと、前記複数の隣接ＡＰのそれぞれに対する複数のＴＢＴＴ情報フィールドのそれぞれをさらに含み、
前記ＴＢＴＴ情報ヘッダフィールドは、ＴＢＴＴ情報カウントフィールドとＴＢＴＴ情報長さフィールドを含み、
前記ＴＢＴＴ情報カウントフィールドは前記複数のＴＢＴＴ情報フィールドの数についての情報を含み、
前記ＴＢＴＴ情報長さフィールドは前記複数のＴＢＴＴ情報フィールドに含まれる一つのＴＢＴＴ情報フィールドのオクテットの長さについての情報を含み、
前記複数のＴＢＴＴ情報フィールドのそれぞれは、前記複数の隣接ＡＰのそれぞれに関する情報を含み、
前記長さについての情報は、前記複数のＴＢＴＴ情報フィールドのそれぞれが前記複数の隣接ＡＰのそれぞれの基本サービスセット指示子（ＢＳＳＩＤ）を含むか否かによって変化する、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記隣接ＡＰ情報は、ＴＢＴＴ情報ヘッダフィールドと、前記複数の隣接ＡＰのそれぞれに対する複数のＴＢＴＴ情報フィールドのそれぞれをさらに含み、
前記ＴＢＴＴ情報ヘッダフィールドは、ＴＢＴＴ情報長さフィールドを含み、
前記ＴＢＴＴ情報長さフィールドは、前記複数のＴＢＴＴ情報フィールドに含まれる一つのＴＢＴＴ情報フィールドのオクテットの長さについての情報を含み、
前記ＴＢＴＴ情報長さフィールドに含まれる情報が第１の値を含む時、前記複数のＴＢＴＴ情報フィールドのそれぞれは、ＴＢＴＴオフセットフィールドを含み、
前記ＴＢＴＴ情報長さフィールドに含まれる情報が第２の値を示す時、前記複数のＴＢＴＴ情報フィールドのそれぞれが、前記ＴＢＴＴオフセットフィールドと、基本サービスセット指示子（ＢＳＳＩＤ）フィールドを含み、
前記ＴＢＴＴオフセットフィールドは、ビーコンフレームの送信時間についての情報を含み、
前記ＢＳＳＩＤフィールドは、前記複数の隣接ＡＰに含まれる隣接ＡＰを特定するための情報を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記ビーコンフレームは前記隣接ＡＰにより送信されたフレームであり、
前記ビーコンフレームの送信時間は、前記ＴＢＴＴオフセットフィールドが含まれ、前記ＡＰにより送信されたビーコンフレームのＴＢＴＴに基づいて決定される、請求項４に記載の方法。
【請求項６】
前記ＴＢＴＴ情報ヘッダフィールドは、ＴＢＴＴ情報フィールドタイプをさらに含み、
前記ＴＢＴＴ情報フィールドタイプは、前記ＴＢＴＴ情報フィールドの構成についての情報を含む、請求項５に記載の方法。
【請求項７】
前記隣接ＡＰ情報は、ＴＢＴＴ情報ヘッダフィールドと、前記複数の隣接ＡＰのそれぞれに対する複数のＴＢＴＴ情報フィールドのそれぞれをさらに含み、
前記ＴＢＴＴ情報ヘッダフィールドは、ＴＢＴＴ情報カウントフィールドとＴＢＴＴ情報長さフィールドを含み、
前記ＴＢＴＴ情報カウントフィールドは前記複数のＴＢＴＴ情報フィールドの数についての情報を含み、
前記ＴＢＴＴ情報長さフィールドは前記複数のＴＢＴＴ情報フィールドに含まれる一つのＴＢＴＴ情報フィールドのオクテットの長さについての情報を含み、
前記複数のＴＢＴＴ情報フィールドのそれぞれは、前記複数の隣接ＡＰのそれぞれに関する情報を含み、
前記長さについての情報は、前記複数のＴＢＴＴ情報フィールドのそれぞれが前記複数の隣接ＡＰのそれぞれの基本サービスセット指示子（ＢＳＳＩＤ）を含むか否かによって変化する、請求項２に記載のＡＰ。
【請求項８】
前記隣接ＡＰ情報は、ＴＢＴＴ情報ヘッダフィールドと、前記複数の隣接ＡＰのそれぞれに対する複数のＴＢＴＴ情報フィールドのそれぞれをさらに含み、
前記ＴＢＴＴ情報ヘッダフィールドは、ＴＢＴＴ情報長さフィールドを含み、
前記ＴＢＴＴ情報長さフィールドは、前記複数のＴＢＴＴ情報フィールドに含まれる一つのＴＢＴＴ情報フィールドのオクテットの長さについての情報を含み、
前記ＴＢＴＴ情報長さフィールドに含まれる情報が第１の値を含む時、前記複数のＴＢＴＴ情報フィールドのそれぞれは、ＴＢＴＴオフセットフィールドを含み、
前記ＴＢＴＴ情報長さフィールドに含まれる情報が第２の値を示す時、前記複数のＴＢＴＴ情報フィールドのそれぞれが、前記ＴＢＴＴオフセットフィールドと、基本サービスセット指示子（ＢＳＳＩＤ）フィールドを含み、
前記ＴＢＴＴオフセットフィールドは、ビーコンフレームの送信時間についての情報を含み、
前記ＢＳＳＩＤフィールドは、前記複数の隣接ＡＰに含まれる隣接ＡＰを特定するための情報を含む、請求項２に記載のＡＰ。
【請求項９】
前記ビーコンフレームは前記隣接ＡＰにより送信されたフレームであり、
前記ビーコンフレームの送信時間は、前記ＴＢＴＴオフセットフィールドが含まれ、前記ＡＰにより送信されたビーコンフレームのＴＢＴＴに基づいて決定される、請求項８に記載のＡＰ。
【請求項１０】
前記ＴＢＴＴ情報ヘッダフィールドは、ＴＢＴＴ情報フィールドタイプをさらに含み、
前記ＴＢＴＴ情報フィールドタイプは、前記ＴＢＴＴ情報フィールドの構成についての情報を含む、請求項９に記載のＡＰ。
【手続補正書】
【提出日】平成29年7月21日(2017.7.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
メッセージデータを保護するための方法であって、
前記メッセージデータに対して直接実施されたハッシュ関数から生成された出力に依存するパディングビットで、前記メッセージデータをパディングするステップと、
前記パディングされたメッセージデータを圧縮して、圧縮データを生成するステップであって、前記圧縮データの全体の可変長が前記パディングビットに依存する、ステップと、
前記圧縮データを暗号化して、暗号化メッセージデータを生成するステップと
を含む方法。
【請求項２】
前記メッセージデータが、前記ハッシュ関数への入力であり、
前記パディングビットが、前記メッセージデータに基づいて生成された前記ハッシュ関数の出力である、請求項1に記載の方法。
【請求項３】
前記パディングビットが前記メッセージデータにプレフィックスされる、請求項1に記載の方法。
【請求項４】
前記パディングビットが、前記パディングビットの末尾が受信機によって判断されるように制約される、請求項1に記載の方法。
【請求項５】
メッセージデータに対して直接実施されたハッシュ関数から生成された出力に依存するパディングビットで、メッセージデータをパディングするための手段と、
前記パディングされたメッセージデータを圧縮して、圧縮データを生成するための手段であって、前記圧縮データの全体の可変長が前記パディングビットに依存する、手段と、
前記圧縮データを暗号化して、暗号化メッセージデータを生成するための手段と
を備える遠隔局。
【請求項６】
前記メッセージデータが、前記ハッシュ関数への入力であり、
前記パディングビットが、前記メッセージデータに基づいて生成された前記ハッシュ関数の出力である、請求項5に記載の遠隔局。
【請求項７】
前記パディングビットが前記メッセージデータにプレフィックスされる、請求項5に記載の遠隔局。
【請求項８】
前記パディングビットが、前記パディングビットの末尾が受信機によって判断されるように制約される、請求項5に記載の遠隔局。
【請求項９】
遠隔局であって、
ハードウェアとして実装されたプロセッサを備え、前記プロセッサが、
メッセージデータに対して直接実施されたハッシュ関数から生成された出力に依存するパディングビットで、メッセージデータをパディングし、
前記パディングされたメッセージデータを圧縮して、圧縮データを生成し、前記圧縮データの全体の可変長が前記パディングビットに依存し、
前記圧縮データを暗号化して、暗号化メッセージデータを生成するように構成された、遠隔局。
【請求項１０】
前記メッセージデータが、前記ハッシュ関数への入力であり、
前記パディングビットが、前記メッセージデータに基づいて生成された前記ハッシュ関数の出力である、請求項9に記載の遠隔局。
【請求項１１】
前記パディングビットが前記メッセージデータにプレフィックスされる、請求項9に記載の遠隔局。
【請求項１２】
前記パディングビットが、前記パディングビットの末尾が受信機によって判断されるように制約される、請求項9に記載の遠隔局。
【請求項１３】
非一時的コンピュータ可読記録媒体であって、
コンピュータに、メッセージデータに対して直接実施されたハッシュ関数から生成された出力に依存するパディングビットで、メッセージデータをパディングさせるためのコードと、
コンピュータに、前記パディングされたメッセージデータを圧縮させて、圧縮データを生成するためのコードであって、前記圧縮データの全体の可変長が前記パディングビットに依存する、コードと、
コンピュータに、前記圧縮データを暗号化させて、暗号化メッセージデータを生成するためのコードと
を含む非一時的コンピュータ可読記録媒体。
【請求項１４】
前記メッセージデータが、前記ハッシュ関数への入力であり、
前記パディングビットが、前記メッセージデータに基づいて生成された前記ハッシュ関数の出力である、請求項13に記載の非一時的コンピュータ可読記録媒体。
【請求項１５】
前記パディングビットが前記メッセージデータにプレフィックスされる、請求項13に記載の非一時的コンピュータ可読記録媒体。
【請求項１６】
前記パディングビットが、前記パディングビットの末尾が受信機によって判断されるように制約される、請求項13に記載の非一時的コンピュータ可読記録媒体。
【手続補正書】
【提出日】平成29年4月26日(2017.4.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
毛をつまみ、引き抜くことによって肌から毛を除去するための脱毛装置であって、
把持部及び取付部を持つ筐体と、
軸、第１及び第２の端部、及び、使用中に前記軸の周りに回転するようにマウントされた、前記毛をつまむためのツイーザ要素の少なくとも１つの組を持つツイーザ部と、
回転運動を付与して前記軸周りに前記ツイーザ要素を回転させるために、前記筐体内に配置されて前記ツイーザ部と係合する駆動要素と、
を有し、
前記ツイーザ部は、前記第１の端部によって前記取付部に片持ち梁のようにマウントされ、
前記ツイーザ部は、前記第２の端部に隣接する当接面を持つ非回転シャフトを有し、前記ツイーザ要素は、前記当接面と前記取付部との間の前記シャフト周りに回転するように構成され、
前記取付部の内部にマウントされて、前記ツイーザ要素のつまみ動作を起こさせるために、前記ツイーザ部にバイアス力を与える前記基端ばねと、前記ツイーザ要素のつまみ動作を起こさせるために、前記ツイーザ要素に力を付与するように、前記当接面に対して動作する前記遠位ばねと、から成る群から選択された少なくとも１つを更に有する、脱毛装置。
【請求項２】
前記ツイーザ部は、ユーザによって前記取付部に取り付けられることができる一方、前記取付部から外されることができる、請求項１記載の脱毛装置。
【請求項３】
前記ツイーザ部及び前記取付部は、係合バヨネットタイプの取付具を備える、請求項２記載の脱毛装置。
【請求項４】
前記駆動要素は、前記取付部の内部にマウントされる駆動ホイールを有し、前記ツイーザ部は、前記駆動ホイールと係合するための歯を持つ、請求項１乃至３のいずれか１項に記載の脱毛装置。
【請求項５】
前記取付部の内部にマウントされて、前記ツイーザ要素のつまみ動作を起こさせるために、前記ツイーザ部にバイアス力を与える前記基端ばねを更に有する、請求項１乃至４のいずれか１項に記載の脱毛装置。
【請求項６】
前記シャフトが、真っ直ぐである、請求項１記載の脱毛装置。
【請求項７】
前記当接面は、６０度から８８度の間の角度で前記シャフトに対して傾いている、請求項１又は６に記載の脱毛装置。
【請求項８】
前記ツイーザ要素のつまみ動作を起こさせるために、前記ツイーザ要素に力を付与するように、前記当接面に対して動作する前記遠位ばねを更に有する、請求項１、６又は７のいずれか１項に記載の脱毛装置。
【請求項９】
前記ツイーザ部は、複数のディスクを有し、前記ツイーザ要素は、隣接するディスクの表面に係合することによって形成されている、請求項１乃至８のいずれか１項に記載の脱毛装置。
【請求項１０】
前記ツイーザ部は、前記ツイーザ要素と前記脱毛装置の非回転部分との間の回転を促すためのベアリング要素を前記ツイーザ要素のいずれかの側に更に有する、請求項１乃至９のいずれか１項に記載の脱毛装置。
【請求項１１】
前記ツイーザ部は、覆われておらず、これにより、前記ツイーザ要素は、前記ツイーザ部の全周に亘って露出している、請求項１乃至１０のいずれか１項に記載の脱毛装置。
【請求項１２】
前記第２の端部から前記第１の端部に向かって、前記ツイーザ部に亘って除去可能に付与され得る付属スリーブを更に有する、請求項１乃至１１のいずれか１項に記載の脱毛装置。
【請求項１３】
前記ツイーザ部は、防水である、請求項１乃至１２のいずれか１項に記載の脱毛装置。
【請求項１４】
請求項１乃至１３のいずれか１項に記載の脱毛装置と、前記ツイーザ部の除去後に、前記取付部に選択的に接続されることができる付属品と、を有する、キット。
【請求項１５】
前記付属品は、前記ツイーザ部の長さとは異なる長さを持つ代替的なツイーザ部を有する、請求項１４記載のキット。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成29年4月12日(2017.4.12)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】請求項４
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【請求項４】
前記中心電極が前記電荷を前記エアギャップスイッチから前記先端部を通り抜けるように導き、そして前記接地電極が前記先端部の外側の面に取り付けられる、請求項１に記載のデバイス。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】請求項１３
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【請求項１３】
歯科に用いられる放電洗浄デバイスを利用する方法であって、
第１電圧の電力を生成する電源と、
前記電源に結合され、前記第１電圧の電力を前記第１電圧より高い第２電圧の電力に変換する回路と、
前記回路を作動するためのスイッチと、
前記回路に結合され、スパイクを形成する点火器と、
前記点火器に結合され、導電性になり電荷を蓄積し、そして導電性の溶液に放出するための高電圧スパイクを生成する電荷蓄積要素であって、前記電荷蓄積要素が、前記電荷を蓄積するためのコンデンサと、前記コンデンサを放電するためのエアギャップスイッチまたは変圧器の少なくとも一方とを含む、前記電荷蓄積要素と、
第１の電荷を有する中心電極、第２の電荷を有する接地電極、および穿孔された絶縁材から成り前記中心電極の部分を囲繞する層を有する先端部であって、前記第１の電荷と前記第２の電荷が反対であり、前記中心電極が、前記電荷蓄積要素から前記電荷を得て、前記先端部を貫通するように前記電荷を導き、この結果、前記導電性の溶液が前記の穿孔された絶縁材を貫通して前記先端部に進入する際、音響衝撃波が前記デバイスを出て前記導電性の溶液内に進む、前記先端部と
を備える放電洗浄デバイスを得るステップと、
前記デバイスの前記先端部を前記導電性の溶液中に配置するステップと、
前記スイッチを前記デバイスに対して作用させ前記導電性の溶液中にスパークを放出するステップと
を含む方法。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】請求項１６
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【請求項１６】
前記先端部を作用させるステップが、前記先端部からＵＶ放射、水和電子、ＯＨ基、Ｈ２Ｏ２、ナノ粒子、または陽イオンのうちの少なくとも１つを放出するステップをさらに含む、請求項１３に記載の方法。
【誤訳訂正４】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】請求項１８
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【請求項１８】
歯科に用いられる放電洗浄デバイスを利用する方法であって、
第１の電圧の電力を生成する電源と、
前記電源に結合され、前記第１の電圧の電力を前記第１の電圧より高い第２の電圧の電力に変換する回路と、
前記回路を作動するためのスイッチと、
前記回路に結合され、スパイクを形成する点火器と、
前記点火器に結合され、導電性になり電荷を蓄積し、そして導電性の溶液に放出するための高電圧スパイクを生成する電荷蓄積要素であって、前記電荷蓄積要素がコンデンサと、エアギャップスイッチまたは変圧器の少なくとも一方とを含む、前記電荷蓄積要素と、
入口と出口を有し、前記電荷蓄積要素に結合する、前記導電性の溶液を貯蔵するための貯蔵槽であって、前記導電性の溶液が前記入口を介してデバイスに進入し、前記出口を介して前記デバイスから出て、前記貯蔵槽が、前記電荷蓄積要素から電荷を受け取るとともに、前記電荷をスパークとして前記導電性の溶液中に放出する中心電極をさらに備える貯蔵槽とを備える放電洗浄デバイスを得るステップと、
前記スイッチで前記回路を作動させ、これによって、前記電荷をスパークとして前記導電性の溶液中に放出させ、続いてその導電性の溶液を前記貯蔵槽から放出するステップと
を含む方法。
【誤訳訂正５】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００８２
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００８２】
図３を参照すると、１つまたは複数の蓄電池２０２が、電圧および電流を供給して回路を作動する（Ｓ３１０）。図２では手持ち式デバイスに適合するのに十分に小さい低電圧ＤＣ電源２０５およびタイミング回路４２０が低電圧を高電流／電圧に変換する（Ｓ３２０）。高電圧点火器スイッチ回路２０９が、電流が低い極めて鋭い高電圧スパイクを生成する（Ｓ３３０）。高電圧スパイクがエアギャップスイッチ２０８を切断する（Ｓ３４０）。スパークがエアギャップを埋める際、この隙間は導電性になり、それによって蓄積された全てのエネルギーを完全に放出することが可能になる（Ｓ３５０）。本発明の種々の実施形態において、このエネルギーは図１における高電圧コンデンサ１０９のようなコンデンサに蓄積される。図２および図３に戻ると、蓄積されたエネルギーが放出される際、装置２１０先端部の先端部は液体溶液中にあり、先端部２１０を貫通して進むエネルギーが液体中に音響衝撃波を形成する（Ｓ３６０）。波がひとたび形成されると、工程は蓄電池２０２が継続して電圧を回路に供給するので繰り返される（Ｓ３１０）。
【誤訳訂正６】
【訂正対象書類名】図面
【訂正対象項目名】図３
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【図３】
2015528370.tif 000001
【誤訳訂正書】
【提出日】平成29年7月12日(2017.7.12)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】請求項４
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【請求項４】
前記圧力依存ダイヤモンドアーチファクト参照スペクトルの前記マグニチュードを調整する前記ステップは、前記圧力依存ダイヤモンドアーチファクト参照スペクトルと前記ＡＴＲスペクトルデータの初期セットにおける前記対応する圧力依存ダイヤモンドアーチファクトとの間で最良フィットをもたらすマグニチュードを求めるステップを含む、請求項２に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成29年4月20日(2017.4.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
陽電子放出型断層撮影（ＰＥＴ）システムであって、
ＰＥＴ検出器により検出された、検出された同時イベントペアを、連続的に記録するメモリと、
被検体を支持し、連続的な移動で前記ＰＥＴ検出器の視野を通って移動する被検体支持体と、
前記の記録された同時ペアを、複数の空間的に定められた仮想フレームの各々に分類する分類ユニットと、
各仮想フレームの前記の分類された同時ペアをフレーム画像へと再構成し、前記フレーム画像を共通の延長された画像へと結合する再構成ユニットと、
を含み、
前記検出された同時イベントペアのうちのいくつかの前記検出されたイベントは、２の異なる仮想フレームに位置付けられ、前記分類ユニットは、前記同時イベントペアを前記２の仮想フレームのうちの１に割り振る、
システム。
【請求項２】
前記被検体支持体の移動の軸に沿ったある長さに沿って連続的仮想フレームを設定するフレーム化ユニット、
をさらに含む請求項１に記載のシステム。
【請求項３】
前記の設定された仮想フレームの前記長さは、
スキャンのプロトコル、
視野長さ、
分散型コンピューティング設定
前記被検体支持体の速度、
画像品質、及び
被検体の解剖学的特徴
のうち少なくとも１に基づく、請求項２に記載のシステム。
【請求項４】
前記分類ユニットは、検出されたイベントを２の異なる仮想フレーム内に有する各同時イベントペアを、飛行時間情報に基づいて分類する、請求項１乃至３のうちいずれか１項に記載のシステム。
【請求項５】
前記分類ユニットは、検出されたイベントを２の異なる仮想フレーム内に有する各同時イベントペアを、該イベントペアを引き起こした消滅イベントの投影された場所に基づいて分類する、請求項１乃至４のうちいずれか１項に記載のシステム。
【請求項６】
各仮想フレームの位置は、前記被検体支持体の初期位置及び速度と前記同時ペアの時間とに基づいて決定される、請求項１乃至５のうちいずれか１項に記載のシステム。
【請求項７】
前記再構成ユニットは、さらに、各仮想フレームを独立して再構成する、請求項１乃至６のうちいずれか１項に記載のシステム。
【請求項８】
前記延長された画像を表示するディスプレイ装置、をさらに含み、
前記延長された画像は、各仮想フレーム構成が完了されたときに大きくなる、
請求項１乃至７のうちいずれか１項に記載のシステム。
【請求項９】
陽電子放出型断層撮影（ＰＥＴ）の方法であって、
検出された同時イベントペアをメモリに記録する間に、被検体支持体上の被検体をＰＥＴ検出器の視野を通って連続的に移動させるステップと、
記録された同時イベントペアを、複数の空間的に定められた仮想フレームの各々に分類するステップと、
各仮想フレームについての前記の分類された同時イベントを共通の延長された画像へと再構成するステップと、
を含み、
前記検出された同時イベントペアが２の異なる仮想フレームに位置付けられる場合に、同時ペアを２の仮想フレームのうち１に割り振るステップ、
により特徴付けられる方法。
【請求項１０】
各フレーム画像の再構成を、対応する仮想フレームが前記視野を通過したとき始めるステップ、
をさらに含む請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
同時イベントペアが、検出されたイベントを２の異なる仮想フレーム内に有し、分類するステップは、飛行時間情報に基づいて分類するステップを含む、請求項９乃至１０のうちいずれか１項に記載の方法。
【請求項１２】
同時イベントペアが、検出されたイベントを２の異なる仮想フレーム内に有し、分類するステップは、前記イベントペアを引き起こした消滅イベントの投影された場所に基づいて分類するステップを含む、請求項９乃至１１のうちいずれか１項に記載の方法。
【請求項１３】
各仮想フレーム構成がディスプレイ装置上に完了したときに大きくなる前記延長された画像を表示するステップ、
をさらに含む請求項９乃至１２のうちいずれか１項に記載の方法。
【請求項１４】
１又は複数の電子データ処理装置を、請求項９乃至１３のうちいずれか１項に記載の方法を実行するよう制御するソフトウェアを担体する非一時的コンピュータ読取可能記憶媒体。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成29年10月2日(2017.10.2)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】請求項４
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【請求項４】
前記ビニル芳香族モノマーが、全ての前記ビニル芳香族モノマーの総重量に基づいて１０重量％以上の多官能性ビニル芳香族モノマーを含む、請求項３に記載のコーティング組成物。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成29年11月1日(2017.11.1)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００４０
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００４０】
【数５】
2015528537.tif 000001
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ピストンヘッド（７）およびピストンスカート（１５）を有し、前記ピストンヘッド（７）は、円周状のリング部（８）を有し、該リング部（８）の領域において、円周状の冷却チャネル（５）および円周状のリング支持体（４）を有している内燃機関用のピストン（１）であって、
前記リング支持体（４）は、前記冷却チャネル（５）の壁部（１１）を形成すると共に、該壁部（１１）によって該冷却チャネル（５）と直接接しており、
前記冷却チャネル（５）は、その断面において、中央部分にくびれ（１２）を有しており、
前記冷却チャネル（５）の前記断面は、軸方向において、高さ（Ｈ１）と、ピストンクラウンに対向する前記くびれ（１２）の側面の領域における第１の最大半径方向幅（Ｂ１）と、該くびれ（１２）の該ピストンクラウンと反対側の側面の領域における第２の最大半径方向幅（Ｂ２）と、該くびれ（１２）の領域における第３の最少半径方向幅（ｂ）とを有し、
【数６】
2015528537.tif 000002
であり、
前記リング支持体（４）が、前記冷却チャネル（５）に隣接した、軸方向高さ（Ｈ２）を有する面を有し、
【数７】
2015528537.tif 000003
であり、
前記冷却チャネル（５）の上端及び下端は、双方ともドーム状に形成されている
ことを特徴とする、ピストン。
【請求項２】
前記くびれ（１２）は、前記冷却チャネル（５）の軸方向高さ（１３）の半分の位置にある
ことを特徴とする、請求項１に記載のピストン。
【請求項３】
前記冷却チャネル（５）の前記断面は、点対称に構成されている
ことを特徴とする、請求項１または２に記載のピストン。
【請求項４】
前記冷却チャネル（５）の前記断面は、半径方向に延びる軸に対して軸対称に構成されている
ことを特徴とする、請求項１または２に記載のピストン。
【請求項５】
前記断面における前記くびれ（１２）は、前記冷却チャネル（５）の内側から半径方向外側に延出する円周状の突出部によって形成されている
ことを特徴とする、請求項１、２または４のいずれかに記載のピストン。
【請求項６】
前記冷却チャネル（５）の前記断面は、腎臓形に構成されている
ことを特徴とする、請求項５に記載のピストン。
【請求項７】
前記リング支持体（４）が、半径方向内側に向かって広がる断面を有している
ことを特徴とする、請求項１〜５のいずれかに記載のピストン。
【請求項８】
前記ピストン（１）が、鋳造工程により形成され、前記冷却チャネル（５）が該ピストン(１)内の挿入部品（６）により形成されている
ことを特徴とする、請求項１〜６のいずれかに記載のピストン。
【請求項９】
前記挿入部品（６）は、変形工程により形成される板金部（１４）である
ことを特徴とする、請求項８に記載のピストン。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成29年9月21日(2017.9.21)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００６
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００６】
シランを含む組成物は、清浄及び活性化されたガラス表面に親水性を与えるために使用されている。これらの組成物のうちのいくつかの選好は、水性組成物の適用（以下「塗布」とも言う）の直前、又はそれと同時に活性化される表面のためのものである。しかしながら、そのような組成物は、典型的には、表面を事前に清浄することを必要とする。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１６
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１６】
いくつかの態様において、本発明は、以前に清浄された基材（以下「基板」とも言う）（例えば、本開示の方法によって清浄されたもの、又は本開示の組成物で清浄されたもの）の清浄度を決定する方法を特徴とし、本方法は、以前に清浄された表面を０℃〜２５℃の温度で水蒸気に曝露する工程と、凝縮が生じるか否かを観察する工程と、霧が存在する場合、表面が汚れていると決定する工程と、霧が生じないか、又は水蒸気への曝露後３０秒を超えて存在しない場合、表面がきれいであると決定する工程と、を含む。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
多機能性水性組成物であって、
前記多機能性水性組成物が適用される基材表面に保護特性を提供するように選択される、双性イオン性シラン、スルホネート官能性のシラン並びにそれらの組み合わせから選択される親水性シランと、
前記多機能性水性組成物に清浄特性、湿潤特性又はこれらの両方を提供するように選択される、少なくとも２つの異なる界面活性剤と、
水と、
を含み、
前記多機能性水性組成物が、硬質表面清浄及び保護組成物である、
多機能性水性組成物。
【請求項２】
水溶性アルカリ金属ケイ酸塩及びポリアルコキシシランのうちの少なくとも１つを更に含む、請求項１に記載の多機能性水性組成物。
【請求項３】
前記スルホネート官能性の双性イオン性シランが、以下の式（Ｉ）又は式（ＩＩ）：
(Ｒ１Ｏ)ｐ-Ｓｉ(Ｒ２)ｑ-Ｗ-Ｎ＋(Ｒ３)(Ｒ４)-(ＣＨ２)ｍ-ＳＯ３−           （Ｉ）
(Ｒ１Ｏ)ｐ-Ｓｉ(Ｒ２)ｑ-ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２-Ｎ＋(ＣＨ３) ２-(ＣＨ２)ｍ-ＳＯ３−  （ＩＩ）
を有し、式中、
各Ｒ１は、独立して、水素、メチル基又はエチル基であり、
各Ｒ２は、独立して、メチル基又はエチル基であり、
各Ｒ３及びＲ４は、独立して、飽和又は不飽和、直鎖、分枝状又は環状有機基であって、これらは互いに、任意に基Ｗの原子とで、結合して環を形成してよく、
Ｗは有機連結基であり、
ｐは、１〜３の整数であり、
ｍは、１〜４の整数であり、
ｑは、０又は１であり、
ｐ＋ｑは３である、
請求項１に記載の多機能性水性組成物。
【請求項４】
液体多機能性水性組成物であって、
前記液体多機能性水性組成物が適用される基材表面に保護特性を提供するように選択される、スルホネート官能性で双性イオン性の親水性シランと、
前記液体多機能性水性組成物に清浄特性、湿潤特性又はこれらの両方を提供するように選択される、界面活性剤と、
水と、
水溶性アルカリ金属ケイ酸塩、ポリアルコキシシラン及び無機シリカゾルのうちの少なくとも１つと
を含み、
前記液体多機能性水性組成物が硬質表面清浄及び保護組成物である、 
液体多機能性水性組成物。
【請求項５】
シリカ質表面を清浄及び保護する方法であって、
請求項１〜４のいずれか一項に記載の多機能性水性組成物を前記シリカ質表面に適用する工程と、
前記シリカ質表面に前記多機能性水性組成物を擦り込んで、前記シリカ質表面を清浄及び保護する工程と
を含む、方法。
【請求項６】
シリカ質表面を清浄及び保護する方法であって、前記方法が、
多機能性水性組成物を前記シリカ質表面に適用する工程であって、前記多機能性水性組成物が
前記多機能性水性組成物が適用される基材表面に保護特性を提供するように選択される、スルホネート官能性で双性イオン性の親水性シランと、
前記多機能性水性組成物に清浄特性、湿潤特性又はこれらの両方を提供するように選択される、界面活性剤と、
水と
を含み、前記界面活性剤の全重量の前記スルホネート官能性で双性イオン性の親水性シランの全重量に対する比が少なくとも１：２である、工程と、
前記シリカ質表面に前記多機能性水性組成物を擦り込んで、前記シリカ質表面を清浄及び保護する工程と
を含む、方法。
【手続補正書】
【提出日】平成29年10月6日(2017.10.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
３次元プリンティングのためのシステムであって、
垂直軸線周りで回転するように構成されている回転トレイと、
複数の分離されたノズルを有するインクジェット・プリンティング・ヘッドと、
トレイの上に３次元のオブジェクトをプリントするなどのために、該インクジェット・プリンティング・ヘッドを制御して、回転の間に、構築材料の液滴を積み重ねてディスペンシングするように構成されているコントローラと
を備え、
該コントローラは、ヘッドが該トレイの所定の領域の上にあるときに、該構築材料の任意のディスペンシングを終了させるように構成されているシステム。
【請求項２】
前記所定の領域は、複数の扇形の形状を有している、請求項１に記載のシステム。
【請求項３】
オブジェクトが前記回転トレイ上にプリントされる方位角度のレンジは、少なくとも５°で、３５０°未満である、請求項１または２に記載のシステム。
【請求項４】
前記コントローラは、前記プリンティング・ヘッドが前記所定の領域の上にいる間に、半径方向に沿って前記トレイに対して移動するように、前記プリンティング・ヘッドに信号を送るように構成されている、請求項１乃至３のいずれか１項に記載のシステム。
【請求項５】
前記コントローラは、前記トレイおよび前記インクジェット・プリンティング・ヘッドのうちの少なくとも１つに、前記垂直軸線に対して平行な垂直方向に沿って移動して、前記ヘッドが前記所定の領域の上にある間に、前記トレイと前記インクジェット・プリンティング・ヘッドとの間の垂直方向の距離を変化させるように信号を送るように構成されている、請求項１乃至４のいずれか１項に記載のシステム。
【請求項６】
少なくとも１つのプリンティング・ヘッドに関して、異なるノズルが、軸線から異なる距離にあり、かつ異なるディスペンシング・レートで前記構築材料をディスペンシングする、請求項１乃至５のいずれか１項に記載のシステム。
【請求項７】
半径方向に沿って独立し、かつ異なる方位角度でトレイに対して往復式に移動するように構成されている複数のインクジェット・プリンティング・ヘッドが設けられている、請求項１乃至６のいずれか１項に記載のシステム。
【請求項８】
前記コントローラは、前記インクジェット・プリンティング・ヘッドの半径方向の位置に応答可能にトレイの回転速度を変化させるように構成されている、請求項１乃至７のいずれか１項に記載のシステム。
【請求項９】
前記コントローラは、ビットマップ・マスクを記憶しているコンピュータ可読媒体にアクセスし、前記ビットマップ・マスクによってマスクされていない前記トレイの上の場所だけに関して、前記オブジェクトの形状に関連するプリンティング・データを獲得するように構成されている、請求項１乃至８のいずれか１項に記載のシステム。
【請求項１０】
前記プリンティング・ヘッドに進入する前に、前記構築材料を加熱するためのプレ・ヒータ・エレメントをさらに含む、請求項１乃至９のいずれか１項に記載のシステム。
【請求項１１】
放射線源をさらに含み、該放射線源は、半径方向に沿って、前記トレイに対して往復式に移動するように構成されており、前記プリンティング・ヘッドも、該放射線源と非同時に、前記半径方向に沿って、前記トレイに対して往復式に移動するように構成されている、請求項１乃至１０のいずれか１項に記載のシステム。
【請求項１２】
放射線源をさらに含み、該放射線源は、層を放射するように構成されており、エネルギーが、異なるレートで、前記トレイの中心から相違する距離にある場所に送達されるようになっている、請求項１乃至１０のいずれか１項に記載のシステム。
【請求項１３】
放射線源をさらに含み、該放射線源とヘッドとの間の方位角分離は、約０．３ωラジアンから約０．７５ωラジアンにあり、ωは、前記ヘッドおよび該放射線源に対する前記トレイの平均角速度である、請求項１乃至１０のいずれか１項に記載のシステム。
【請求項１４】
ディスペンスされた構築材料を真っ直ぐにするためのローラをさらに含む、請求項１乃至１３のいずれか１項に記載のシステム。
【請求項１５】
オブジェクトを製作する方法であって、前記オブジェクトの形状に対応する３次元プリンティング・データを受け取る工程と、データを３次元プリンティングのためのシステムに給送する工程と、前記データに基づいて前記オブジェクトをプリントするように前記システムを動作させる工程とを含み、前記システムは、請求項１乃至１４のいずれか１項に記載のシステムである、方法。
【手続補正書】
【提出日】平成29年7月11日(2017.7.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも１つの平坦化層を含む複数の層を備えるエレクトロクロミックデバイスであって、該少なくとも１つの平坦化層は、該少なくとも１つの平坦化層の下面と接触する下地層の上部表面粗さよりも小さい上部表面粗さを有するエレクトロクロミックデバイス。
【請求項２】
底部から頂部まで
基材；
下部透明導電体層；
第１エレクトロクロミック層；
イオン伝導体層；
第２エレクトロクロミック層；及び
上部透明導電体層
を備え、
（ａ）該第１エレクトロクロミック層が主エレクトロクロミック層であり、該第２エレクトロクロミック層が副エレクトロクロミック層である、又は（ｂ）該第１エレクトロクロミック層が副エレクトロクロミック層であり、該第２エレクトロクロミック層が主エレクトロクロミック層である、請求項１に記載のエレクトロクロミックデバイス。
【請求項３】
前記少なくとも１つの平坦化層が次の少なくとも１つ又は次のいずれか：
下部透明導電体層；
第１エレクトロクロミック層；
イオン伝導体層；
第２エレクトロクロミック層；及び
上部透明導電体層
である、請求項２に記載のエレクトロクロミックデバイス。
【請求項４】
前記少なくとも１つの平坦化層は、次の少なくとも１つ又は次のそれぞれの上に配置されている、請求項２に記載のエレクトロクロミックデバイス：
前記基材の上部表面かつ前記下部透明導電体層の下；
該下部透明導電体層の上部表面かつ前記第１エレクトロクロミック層の下；
該第１エレクトロクロミック層の上部表面かつ前記イオン伝導体層の下；
該イオン伝導体層の上部表面かつ前記第２エレクトロクロミック層の下；
該第２エレクトロクロミック層の上部表面かつ前記上部透明導電体層の下；及び
該上部透明導電体層の上部表面。
【請求項５】
前記上部表面の粗さが１ｎｍ〜３００ｎｍである、請求項１に記載のエレクトロクロミックデバイス。
【請求項６】
前記少なくとも１つの平坦化層は、光散乱、曇り、ピンホール、亀裂及び電気的短絡のうちの少なくとも１つが低減されている、請求項２に記載のエレクトロクロミックデバイス。
【請求項７】
前記上部透明導電体層の上部表面上に反射防止層をさらに備える、請求項２に記載のエレクトロクロミックデバイス。
【請求項８】
前記エレクトロクロミックデバイスの全ての層が平坦化層である、請求項１に記載のエレクトロクロミックデバイス。
【請求項９】
底部から頂部まで、
基材;
異なる透明導電体層材料の少なくとも１つの副層を含む下部透明導電体層；
異なるエレクトロクロミック材料の少なくとも１つの副層を含む第１エレクトロクロミック層；
異なるイオン伝導体材料の少なくとも１つの副層を含むイオン伝導体層；
異なるエレクトロクロミック材料の少なくとも１つの副層を含む第２エレクトロクロミック層；及び
異なる透明導電体層材料の少なくとも１つの副層を含む上部透明導電体層
を備え、
（ａ）該第１エレクトロクロミック層が主エレクトロクロミック層であり、該第２エレクトロクロミック層が副エレクトロクロミック層である、又は（ｂ）該第１エレクトロクロミック層が副エレクトロクロミック層であり、該第２エレクトロクロミック層が主エレクトロクロミック層である、請求項１に記載のエレクトロクロミックデバイス。
【請求項１０】
前記少なくとも１つの平坦化層が次の少なくとも１つ又は次のいずれかである、請求項９に記載のエレクトロクロミックデバイス：
前記下部透明導電体層又はその少なくとも１つの副層；
前記第１エレクトロクロミック層又はその少なくとも１つの副層；
前記イオン伝導体層又はその少なくとも１つの副層；
前記第２エレクトロクロミック層又はその少なくとも１つの副層；及び
前記上部透明導電体層又はその少なくとも１つの副層。
【請求項１１】
前記少なくとも１つの平坦化層が次の少なくとも１つ又は次のいずれか上にある、請求項９に記載のエレクトロクロミックデバイス：
前記下部透明導電体層又はその少なくとも１つの副層；
前記第１エレクトロクロミック層又はその少なくとも１つの副層；
前記イオン伝導体層又はその少なくとも１つの副層；
前記第２エレクトロクロミック層又はその少なくとも１つの副層；及び
前記上部透明導電体層又はその少なくとも１つの副層。
【請求項１２】
前記層の少なくとも１つが異なる材料の２つの副層を含み、前記少なくとも１つの平坦化層が該２つの副層間に配置されている、請求項９に記載のエレクトロクロミックデバイス。
【請求項１３】
前記上部透明導電体層の上部表面上に反射防止層をさらに備え、該反射防止層が少なくとも１つの副層を備える、請求項２に記載のエレクトロクロミックデバイス。
【請求項１４】
前記少なくとも１つの平坦化層が絶縁材料、イオン伝導材料、電子伝導材料又は半導体材料を含む、請求項１〜１３のいずれかに記載のエレクトロクロミックデバイス。
【請求項１５】
請求項２に記載のエレクトロクロミックデバイスの製造方法であって、
基材上に配置された下部透明導電体層の上部表面上に第１エレクトロクロミック層を形成させ；
該第１エレクトロクロミック層の上部表面上にイオン伝導体層を形成させ；
該イオン伝導体層の上部表面上に第２エレクトロクロミック層を形成させ；及び
該第２エレクトロクロミック層の上部表面上に上部透明導電体層を形成させること
を含み、
該少なくとも１つの平坦化層を浸漬塗布、回転塗布、電気泳動、ゾルゲル被覆、インクジェット印刷、ロール塗布、スプレー塗布、スプレー熱分解、静電塗装、振動メッシュ塗布、メニスカス塗布、カーテン塗装、流し塗り、原子層被覆、スパッタリング、蒸着又は化学蒸着よりなる群から選択される少なくとも１つの技術によって形成させる方法。