(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
ハイドロタルク石型クレーの製法であって、Mg2+、Zn2+、Cu2+、Ni2+、Co2+、Mn2+及びFe2+よりなる群から選ばれる１種以上の２価の金属イオンM2+並びにAl3+、Fe3+、Co3+、Mn3+及びCr3+よりなる群から選ばれる１種以上の３価の金属イオンM3+を含有する溶液を、カーボネートを含まない溶液で6〜14の間で選択的に選ばれたpHを示し且つ内位添加剤を含有する溶液に、添加して混合物を形成し、その後、該混合物から式：
【化１】
Ｍ2+2xＭ3+2（ＯＨ）4x+4Ａn-2/n・ｚＨ2Ｏ
（式中、ｘは1.5〜5の間にあり、nは1又は3〜8の間の数であり、AはpH依存性でカーボネートを含まない無機硼素含有陰イオン、バナジウムメタレート類よりなる群から選ばれる１種以上の陰イオンであり、zは0〜4の間にある）
の物質を回収することを含み、7.7Åよりも大きなX-線回折d(001)を有するハイドロタルク石型クレーを得る製法。
【請求項２】
前記２価の金属イオンM2+は、Mg2+、Zn2+及びNi2+よりなる群から選ばれる請求項１に記載の製法。
【請求項３】
前記３価の金属イオンM3+は、Al3+、Fe3+、Co3+及びCr3+よりなる群から選ばれる請求項１に記載の製法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】
本発明はハイドロタルク石結晶構造を有する陰イオンクレー組成物、さらに詳しくは、実質的にカーボネートを含まず、かつ金属水酸化物の正に帯電した層の間に割り込んで位置する１種以上のｐＨ依存性陰イオン、例えば硼素含有陰イオン又は周期律表第Ｖｂ族もしくは第ＶＩｂ族メタレートを含有する、陰イオンハイドロタルク石型クレーに関し、そしてそのような陰イオンクレーをそれらの成分から製造する直接的で簡略化された製法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
クレー鉱石は、積み重なった金属又は非金属酸化物及び水酸化物の無数の層からなる。一般に見られる陽イオンクレーの場合、中間層の陽イオン（Ｎａ＋、Ｃａ２＋等）電荷は負に帯電した酸化物／水酸化物層を中和する。これよりはずっと一般的ではない陰イオンクレーは、陰イオンが割り込んで位置している正に帯電した金属酸化物／水酸化物層を有する。これらの多くは、Ｍｇ及びＡｌのような主要族金属並びにＮｉ、Ｃｏ、Ｃｒ、Ｚｎ、Ｆｅ等のような遷移金属の複数の水酸化物に基づく。これらのクレーはブルース石［Ｍｇ（ＯＨ）２］に似た構造を有する。このブルース石は、２価のイオンがヒドロキシル基によって八面を囲まれており、その八面体は端を共有して無数の層を形成する。これらの陰イオンクレーでは、２価イオンのいくつかが同一構造状にＡｌ３＋のような３価イオンに置き換えられている。そこで、Ｍｇ２＋、Ａｌ３＋、ＯＨ−層は正に帯電し、層の間に陰イオンを割り込ませることによって帯電のバランスを必要とする。そのようなクレーの１つは、カーボネートイオンが格子間陰イオンである、ハイドロタルク石である。菱面体ハイドロタルク石は理想単位格子式［Ｍｇ６Ａｌ２（ＯＨ）１６］ＣＯ３・４Ｈ２Ｏを有する。しかしながら、ハイドロタルク石のＭｇ／Ａｌ比は１．７−４の間で変化させることができ、様々な他の２価及び３価イオンをマグネシウム及びアルミニウムの代わりにすることができる。さらに、ハイドロタルク石においてはカーボネートである陰イオンは、天然及び合成のいずれのものにも変えることができ、これらは、天然のものではＮＯ３−、Ｃｌ−、ＯＨ−、ＳＯ４２−等のような様々な簡単な陰イオンに、そして合成のものではより複雑な支柱（ｐｉｌｌａｒｉｎｇ）有機、無機及び有機−無機イオンの組み合わせに置き換えられる。大きな支柱陰イオンを含有するハイドロタルク石は一般に、簡単な陰イオンを含有するハイドロタルク石をより大きな支柱陰イオンで置き換えることによって製造される。置換法は、好ましい置換陰イオンの存在下でのイオン交換及び酸処理が用いられてきた。クレー構造の層の分離に用いられる支柱の大きさを変えることによって、クレーの孔の大きさを個々の用途に合わせることができる。
【０００３】
ハイドロタルク石クレーの製法は多くの文献のテーマであった。例えば、米国特許第４，５３９，３０６号及び第４，５３９，１９５号があり、これらはハイドロタルク石の薬学的用途に関するものである。ミヤタ等の米国特許第３，７９６，７９２号、第３，８７９，５２３号及び第３，８７９，５２５号には、２価陰イオン層置換を行った多数のハイドロタルク石の記載があり、Ｂ４Ｏ７２−及び遷移金属陰イオンＣｒＯ４２−、Ｃｒ２Ｏ７２−、ＭｏＯ４２−及びＭｏ２Ｏ７２−を含有するハイドロタルク石が含まれる。組成物及び製法が共に記載されており、組成物は触媒、吸収剤、乾燥剤等に有用であると記されている。ミヤタ等はＣｌａｙ  ａｎｄ  Ｃｌａｙ  Ｍｉｎｅｒａｌｓ、２５、ｐｐ．１４−１８（１９７７）で、（１）ＭｇＣｌ２及びＡｌ２（ＳＯ４）３含有溶液と水酸化ナトリウムの溶液とを混合することによって、又は（２）ＭｇＣｌ２及びＡｌＣｌ３の溶液と水酸化ナトリウムの溶液及びクロム酸ナトリウムの溶液とを混合することによって、間に入る陰イオンとしてＳＯ４２−又はＣｒＯ４２−を含有するＭｇＡｌハイドロタルク石を製造することを記している。
【０００４】
米国特許第４，４５８，０２６号及び第４，４７６，３２４号並びにＪｏｕｒｎａｌ  ｏｆ  Ｃａｔａｌｙｓｉｓ、９４、５４７−５７（１９８５）において、Ｒｅｉｃｈｌｅは、より小さな陰イオン及びまた大きな有機陰イオン、例えば長鎖脂肪族アルファ−オメガジカルボキシレートを含有する合成ハイドロタルク石を用いる、アルドール縮合を含めた接触反応について記載している。この物質は、２価及び３価イオン源を好ましい陰イオンの塩基性溶液に滴加することによって製造している。
【０００５】
ミヤタ及びクムラはＣｈｅｍｉｓｔｒｙ  Ｌｅｔｔｅｒｓ、ｐｐ．８４３−８（１９７３）で、ジカルボキシレート陰イオンと共にＺｎ２＋及びＡｌ３＋を含有するハイドロタルク石型クレーについて記し、ジカルボキシレート陰イオンをシュウ酸塩、マロン酸塩、コハク酸塩、アジピン酸塩及びセバシン酸塩に沿って変えるにつれて、Ｘ線回折で得られる中間層間隔が９．４オングストロームから約１９オングストロームに広がることを示している。この研究から、カルボキシレート陰イオンは、層にほぼ垂直な格子内にあることが分かる。
【０００６】
Ｐｉｎｎａｖａｉａ等はＳｙｎｔｈｅｔｉｃ  Ｍｅｔａｌｓ、３４、６０９−１５（１９８９）で、ハイドロタルク石の塩化物又は窒化物を遷移元素メタレートの塩と交換することにより製造したＶ１０Ｏ２８６−のような支柱陰イオンを有するいくつかのＺｎ２Ａｌ、Ｚｎ２Ｃｒ及びＮｉ３Ａｌハイドロタルク石のＥＸＡＦＳ研究を報告している。Ｍｏ７Ｏ２４６−及び一連のケギン（Ｋｅｇｇｉｎ）型イオン、例えばαー［Ｈ２Ｗ１２Ｏ４０］６−、を用いた同様な物質も交換によって製造された。    最近、２つの米国特許第４，７７４，２１２号及び第４，８４３，１６８号が出され、これらには、まず有機陰イオンが支柱となったハイドロタルク石をあるｐＨで製造し、次に異なるｐＨで有機陰イオンを大きな遷移元素メタレートで部分的に又は完全に置き換えることによって製造した、大きな有機、無機及び有機−無機混合陰イオンで支えられたハイドロタルク石が記載されている。これらの特許には、そのような物質が、ｔ−ブチルエチルベンゼンのｔ−ブチルスチレンへの接触脱水素に並びに他の触媒反応に用いることが記載されている。
【０００７】
分子篩の触媒の用途としての成功は、形状選択触媒として作用することができる他の多孔質無機材料についての研究を促進してきた。支柱陽イオンクレーはこの研究の一部として研究されてきたが、それは、少数の有用な大きな陽イオン及び多くの材料を完全に支えた後に残る開口容積量に関するものであった。また、より高い温度で触媒として使用している間に支柱がつぶれるので、いくつかの陽イオン支柱については、熱安定性に乏しいことが支障となっていた。陽イオン支柱クレーは通常は酸性である。
【０００８】
通常は塩基性クレーである陰イオンクレーもまた、上記のように検討されてきたが、報告された研究では、実質的に触媒の可能性を有する陰イオンクレー、すなわち、反応に対して開かれた有用な触媒部位を含む詰め込みが不完全な路を有する、中間層の間隔が大きなクレーの例は少ない。また、ハイドロタルク石の製造時のｐＨが限定されているので、小さな非支柱陰イオンを有するものでも、そのような物質の製造例は多くなく、これまで製造されてきた大きな支柱陰イオンを有するこれらのハイドロタルク石は数が少なく、時間のかかる方法によるものである。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の目的は、ｐＨ依存性で実質的にカーボネートを含まない硼素含有陰イオン及び遷移元素メタレートによって支えられた、中間層の間隔かなり大きなハイドロタルク石型クレーを製造する、簡略化されたかつ直接的な方法を見いだすことである。この方法はまた、ハイドロタルク石型クレーに組み込むことができる大きな陰イオンの数及びハイドロタルク石の２価及び３価金属イオンと置換することができる金属イオンの範囲を広げるものである。そのようなハイドロタルク石型クレーはより開かれた路を持つことができ、陰イオン層に触媒的に活性なイオンを含み、広い範囲の炭化水素変換反応を触媒する。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
ここに記載の発明の１つの態様は、ハイドロタルク石型クレーの製法であって、Ｍｇ２＋、Ｚｎ２＋、Ｃｕ２＋、Ｎｉ２＋、Ｃｏ２＋、Ｍｎ２＋及びＦｅ２＋よりなる群から選ばれる１種以上の２価の金属イオン並びにＡｌ３＋、Ｆｅ３＋、Ｃｏ３＋、Ｍｎ３＋及びＣｒ３＋よりなる群から選ばれる１種以上の３価の金属イオンを含有する溶液を、実質的にカーボネートを含まない溶液に加え、該溶液のｐＨは約６−１４の間で選択的に選び、内位添加剤を含有させて混合物を形成し、そしてその後、この混合物から式：
Ｍ２＋２ｘＭ３＋２（ＯＨ）４ｘ＋４Ａｎ−２／ｎ・ＺＨ２Ｏ
（式中、ｘは１．５−５であり、ｎは１−８であり、ＡはｐＨ依存性の実質的にカーボネートを含まない無機陰イオンよりなる群から選ばれる１種以上の陰イオンであり、そしてＺは０−約４である）
の物質を回収することよりなる、約７．７オングストロームより大きいＸ線回折ｄ（００１）値を有する、上記のハイドロタルク石型クレーの製法である。本発明の別の態様は、式：
Ｍ２＋２ｘＭ３＋２（ＯＨ）４ｘ＋４Ａｎ−２／ｎ・ＺＨ２Ｏ
（式中、Ｍ２＋はＭｇ２＋、Ｚｎ２＋、Ｃｕ２＋、Ｎｉ２＋、Ｃｏ２＋、Ｍｎ２＋及びＦｅ２＋よりなる群から選ばれる１種以上の金属イオンであり、Ｍ３＋はＡｌ３＋、Ｆｅ３＋、Ｃｏ３＋、Ｍｎ３＋及びＣｒ３＋よりなる群から選ばれる１種以上の金属イオンであり、ｘは１．５−５であり、ｎは１又は３−８であり、ＡはｐＨ依存性の実質的にカーボネートを含まない無機陰イオンよりなる群から選ばれる１種以上の陰イオンであり、そしてＺは０−約４である）
のハイドロタルク石型クレーであって、該ハイドロタルク石型クレーは約７．７オングストロームより大きいＸ線回折ｄ（００１）値を有する。
【００１１】
本発明のハイドロタルク石型クレーを製造するには、実質的に二酸化炭素を含まない条件下の溶液中で、マグネシウム、亜鉛、銅、ニッケル、コバルト、マンガン及び鉄よりなる群から選ばれる金属の１種以上の２価金属イオン化合物、好ましくは窒化物、硫化物又は塩化物と、アルミニウム、鉄、コバルト、マンガン及びクロムよりなる群から選ばれる１種以上の３価金属イオン化合物を混合する。１種以上の２価金属化合物がマグネシウム、亜鉛又はニッケルの化合物であり、そして１種以上の３価金属化合物がアルミニウム、鉄、コバルト又はクロムの化合物であると、さらに好ましい。
【００１２】
２価及び３価金属化合物の溶液は、内位添加剤を含有する実質的にカーボネートを含まない溶液に加える。内位添加剤とは、水又は水性塩基に溶解したとき、ハイドロタルク石型クレーの形成に好ましい１種以上の陰イオンを（ｐＨを適当に調整した後）もたらすものを意味する。例えば、Ｈ３ＢＯ３は、溶液のｐＨによって、イオン：Ｂ（ＯＨ）４−、［Ｂ３Ｏ３（ＯＨ）４］−、［Ｂ３Ｏ３（ＯＨ）５］２−、［Ｂ４Ｏ５（ＯＨ）４］２−等を溶液中にもたらすことができる内位添加剤である。ＮａＶＯ３は、溶液のｐＨによって、イオン：Ｖ２Ｏ７４−、Ｖ４Ｏ１２４−、Ｖ１０Ｏ２８６−等を溶液中にもたらすことができる内位添加剤である。他の遷移元素メタレートの場合の内位添加剤及びそれらのｐＨ依存性挙動は、当業者には公知である。そのような情報については、ケパート，Ｄ．Ｌ．の″Ｔｈｅ  Ｅａｒｌｙ  Ｔｒａｎｓｉｔｉｏｎ  Ｍｅｔａｌｓ″、アカデミック・プレス、ロンドン（１９７２）に記されている。
【００１３】
以下の表１では、本発明で用いうるいくつかの陰イオンが相当量、安定して存在するｐＨ範囲を示す。
【００１４】
【表１】
0003569293.tif 000002
２価及び３価イオン溶液を加える溶液のｐＨは酸又は塩基で調整して、ハイドロタルク石の製造に好ましい陰イオン成分が溶液に存在するように、ｐＨ依存性の内位添加剤の平衡を変える。ハイドロタルク石型クレーが形成される範囲にｐＨを維持するためには、このｐＨ調整は約６−１４の範囲内に保たなければならない。
【００１５】
以下の表２では、様々な２価及び３価金属イオンの組み合わせを含むハイドロタルク石型クレーが形成されるおおよそのｐＨ範囲を示す。
【００１６】
【表２】
0003569293.tif 000003
例えば、マグネシウム塩及びアルミニウム塩を水中で混合し、そして実質的にカーボネートを含まない、硼素含有溶液（Ｈ３ＢＯ３）に加える。ハイドロタルク石型クレーを製造するためのおおよそのｐＨ範囲は８−１４である。クレーへの組み込みに必要な硼素含有陰イオンＢ（ＯＨ）４−の量を最大にするには、内位添加剤溶液のｐＨを１０．５以上にしなければならない。マグネシウム及びアルミニウムのハイドロタルク石型クレーに［Ｂ３Ｏ３（ＯＨ）４］−支柱を代わりに組み込むには、陰イオンの形成に最適なｐＨ範囲を７．５−９．５であり、これは８−１４のハイドロタルク石形成範囲内にある。表１及び表２を参照されたい。
【００１７】
ｐＨ依存性の実質的にカーボネートを含まない無機陰イオンは、ｐＨ依存性の実質的にカーボネートを含まない硼素含有陰イオン、周期律表第Ｖｂ族メタレート又は周期律表第ＶＩｂ族メタレートである。好ましいのは、ｐＨ依存性で実質的にカーボネートを含まない硼素含有陰イオン又はバナジウム、ニオブ、タンタル、モリブデンもしくはタングステンのメタレートである。さらに好ましいのは、Ｂ（ＯＨ）４−、［Ｂ３Ｏ３（ＯＨ）４］−、［Ｂ３Ｏ３（ＯＨ）５］２−、［Ｂ４Ｏ５（ＯＨ）４］２−、Ｖ２Ｏ７４−、ＨＶ２Ｏ７３−、Ｖ４Ｏ１２４−、Ｖ３Ｏ９３−又はＶ１０Ｏ２８６−である。最も好ましいのは、［Ｂ３Ｏ３（ＯＨ）４］−、Ｖ２Ｏ７４−又はＶ４Ｏ１２４−である。本発明に有用な支柱となる陰イオンにはまた、Ｎｂ６Ｏ１９８−、ＨＮｂ６Ｏ１９７−、Ｈ２Ｎｂ６Ｏ１９６−、ＮｂＯ４３−、Ｔａ６Ｏ１９８−、ＨＴａ６Ｏ１９７−、ＴａＯ４３−、Ｍｏ７Ｏ２４６−、ＨＷ６Ｏ２１５−、及び約６より上のｐＨで安定なＰＷ１１Ｏ３９７−及びＳｉＷ１１Ｏ３９７−のようなケギン型イオンが含まれる。
【００１８】
内位添加剤溶液がｐＨ調整のために塩基を必要とするならば、水酸化アンモニウム、アルカリ金属水酸化物、例えば水酸化ナトリウム又は水酸化テトラアルキルアンモニウムが好ましい。ｐＨ調整に酸が必要ならば、硝酸又は塩酸のような鉱酸を用いることができる。このｐＨ調整は、ハイドロタルク石の形成及び沈殿のために必要である。形成溶液は一般にしばらくの間、好ましくは約４０−約９０℃の温度で加熱して、ハイドロタルク石型クレーの形成を促進する必要がある。    好ましい２価金属化合物対３価金属化合物のモル比は約１．５−約５である。２価金属化合物対３価金属化合物１モル当たりの内位添加剤のモルは、組み込む陰イオンの電荷によって変わり、構造に組み込む各３価イオンは、間隙層において過剰の負の電荷が必要であることが分かる。一般に、反応を確実に完了させるために、過剰の陰イオン成分を加える。
【００１９】
２価及び３価金属イオン化合物は一緒に混合するのが最適であり、温めた内位添加剤溶液に撹拌しながらゆっくりと加える。内位添加剤溶液のｐＨは、組み込む陰イオンにより、約６−１４の範囲にすべきである。当業者であれば理解しうるように、ゆくりと添加するほどそして温度を高くする（オートクレーブを使用しうる）ほど、より大きな結晶が生じる傾向にある。カーボネートイオンは中間層として非常に好まれるので、クレー製造中、二酸化炭素又はカーボネートイオンへの暴露は避けられず、本発明のカーボネートを実質的に含まないハイドロタルク石型クレー中に０−２重量％の炭素が生じる。
【００２０】
一般に、本発明によって製造される陰イオン支柱クレーは理想式：
Ｍ２＋２ｘＭ３＋２（ＯＨ）４ｘ＋４Ａｎ−２／ｎ・ＺＨ２Ｏ
（式中、ＡはＢ（ＯＨ）４−のような簡単な陰イオン、又は［Ｂ３Ｏ３（ＯＨ）４］−もしくは（Ｖ４Ｏ１２）４−のような支柱陰イオンである）
を有する。これらは一般に白色の微結晶固体である。式中、ｘの値は１．５−５、より好ましくは１．７５−４である。ｎの値は３−８、より好ましくは１又は３−６である。
【００２１】
本発明のハイドロタルク石型物質の表面積は、ＢＥＴ法で測定して、一般に約１０−約５０ｍ２／ｇである。
【００２２】
以下の表３のいくつかの代表的なＸ線回折データから、少なくとも［Ｂ３Ｏ３（ＯＨ）４］−陰イオンがハイドロタルク石型クレーの格子に、だいたい垂直のかつ広がった位置で組み込まれていることが分かる。
【００２３】
【表３】
0003569293.tif 000004
本発明の陰イオン性ハイドロタルク石型クレーは、乾燥剤、吸収剤として、及び熱活性化後は、間に入れる陰イオンを変えうるだけでなく、用いる２価及び３価金属イオンの種類も変えうるため塩基性度が変わる塩基性触媒として、種々の目的に有用であることを見いだした。これらのクレーは、炭化水素の脱水素、酸化、異性化及びアンモキシデーションを効果的に触媒するクレーとして気相又は液相不均質触媒反応における炭化水素変換に用いることができる。
【００２４】
ハイドロタルク石型クレーを熱によって活性化するには、これらを約５００℃に焼成して、実質的に全ての水和水及び構造水を追い出して、表面積が約５０ｍ２／ｇより大きい物質を得る。この段階で、焼成生成物は再水和によって、ハイドロタルク石構造に一般に戻ることができる。しかしながら、これ以上の焼成及びこれ以上の高い温度での焼成は表面積を減少させるが、一般に触媒特性に影響を及ぼさないので、この温度にのみ焼成する必要はない。結晶質又は非晶質であるより高い温度での焼成生成物は、主として２成分又は３成分酸化物の混合物である。
【００２５】
脱水素化反応は熱又は酸化によるものである。例えば、低級アルキルエチルベンゼン又はプロピルベンゼンのような物質は、置換スチレン又はシメンに脱水素化しうる。そして、キシレンは酸素及びアンモニアを用いるアンモキシデーションによってジシアノベンゼンに選択的に変換しうる。さらに、キシレンのような芳香族化合物は、本発明の生成物によって異性化することができる。また、これらは、酸素を使用する又は使用しないメタンの高級炭化水素への変換の触媒に用いることができる。
【００２６】
これらの陰イオンハイドロタルク石型クレーを用いたこのような炭化水素変換を実施する際、操作温度は一般に約８０−約９００℃、より好ましくは約１００−約８５０℃である。触媒操作に有用な全圧はどこでも約０．１−数百ａｔｍであるが、約１−約３００ａｔｍの全圧が好ましい。これらの操作に有用な毎時重量空間速度は約０．１−約２０ｈｒ−１、より好ましくは約０．５−約５ｈｒ−１である。メタン酸化カップリングの場合、空間速度は当業者には明らかなように、ずっと高い値である。触媒脱水素また酸化に酸素を用いるならば、酸素−炭化水素供給モル比は、当業者には明らかなように、かなり広い範囲で変化させることができる。Ｃ１−Ｃ１０脂肪族炭化水素及びＣ１−Ｃ５低級アルキル置換芳香族化合物のような炭化水素を用いることができる。
【００２７】
本発明の支柱クレーは無機支持体、例えばシリカ、アルミナ、シリカ−アルミナ等によって支持されてあるいは支持されないで用いることができる。これらは支持されないで用いるのが好ましい。触媒粒度は、支柱クレーが支持されたものであるかどうか、そして反応器の種類が例えば固定床又は懸濁（ｅｂｕｌｌａｔｅｄ）床反応器であるかどうかによって決まる。
【００２８】
以下の実施例は本発明の特定の具体例を説明するためのものである。しかしながら、これらの実施例は新規な本発明の範囲を限定するものではなく、当業者には明らかなように、本発明の精神から逸脱することなく様々な変更は可能である。
【００２９】
【実施例】
全体説明
分析データ（例えば、Ｎａ、Ｍｇ、Ａｌについての）は、原子吸光又は誘導結合プラズマ法によって得た。カーボネート分析はＣＯ２発生による体積の測定によって、そしてＣ及びＨは高精度Ｃ、Ｈ分析によって行った。粉末ＸＲＤを用いて、結晶度のチェック及びｄ（００１）間隔（層間隔）の測定を行った。結晶度が不十分であったり、あるいは中間層が大きすぎて、ｄ（００１）間隔の測定ができない場合、好ましい配向ＸＲＤ、ＰＯ−ＸＲＤによって測定した。表面積は、ＢＥＴ法により窒素を用いて測定した。ある種の支柱生成物の均質性の測定に、走査電子顕微鏡（ＳＥＭ）を用いた。
【００３０】
メタン変換の実施例１８では、メタン及び酸素を、１ａｔｍの３ｍｌ触媒床を有する１５ｍｍ  Ｉ．Ｄ．石英プラグフローモードマイクロリアクターに一緒に入れた。予備配合槽から供給される組成物は３０％ＣＨ４、６％Ｏ２及び６４％Ｎ２であった。ガス生成物を水冷凝縮器に通し、その後、オンラインガスクロマトグラフィーによって検査した。反応温度は８５０℃であり、これは、触媒床の上部、中部及び低部の中心に置いた３つの熱電対を備えた３区分からなる電気炉によって調整した。
【００３１】
比較実施例１
温度計、還流冷却器及び機械撹拌機を備えた５００ｍｌの三つ口丸底フラスコに、２００ｍｌの脱イオン水、１０．６ｇのＮａ２ＣＯ３及び２８．０ｇのＮａＯＨペレットを入れた。５１．３ｇのＭｇ（ＮＯ３）２・６Ｈ２Ｏ、３７．５ｇのＡｌ（ＮＯ３）３・９Ｈ２Ｏ及び１６０ｍｌの脱イオン水を含む第２溶液を製造し、約１時間撹拌しながら、第１溶液に滴加した。添加が完了した後、ゼラチン状混合物を約１５時間、７５−８５℃で加熱した。次に、冷却した混合物を濾過し、水で繰り返し洗浄し、真空下、１１５℃にて一晩乾燥した。この生成物のＭｇ／Ａｌ比は１．８２であった。カーボネート含有率は１１．３４重量％であり、０．４４のＣＯ３２−／Ａｌ３＋モル比に相当した。ＸＲＤパターンをハイドロタルク石に対して割り出し、ｄ（００３）間隔は７．６４オングストロームであることが分かった。生成物の式はほぼＭｇ４Ａｌ２（ＯＨ）１２ＣＯ３・４Ｈ２Ｏである。
【００３２】
比較実施例２
温度計、還流冷却器及び機械撹拌機を備えた５００ｍｌの三つ口丸底フラスコに、２１０ｍｌの脱イオン水、１０．６ｇのＮａ２ＣＯ３及び３４．６ｇのＮａＯＨペレットを入れた。７６．９ｇのＭｇ（ＮＯ３）２・６Ｈ２Ｏ、３７．５ｇのＡｌ（ＮＯ３）３・９Ｈ２Ｏ及び２００ｍｌの脱イオン水を含む第２溶液を製造し、約１時間撹拌しながら、第１溶液に滴加した。添加が完了した後、ゼラチン状混合物を約１５時間、７５−８５℃で加熱した。次に、冷却した混合物を濾過し、水で繰り返し洗浄し、真空下、１１５℃にて一晩乾燥した。この生成物のＭｇ／Ａｌ比は３．０であった。カーボネート含有率は９．９４重量％であり、０．５４のＣＯ３２−／Ａｌ３＋モル比に相当した。ＸＲＤパターンをハイドロタルク石に対して割り出し、ｄ（００１）間隔は７．６４オングストロームであることが分かった。生成物の式はほぼＭｇ６Ａｌ２（ＯＨ）１６ＣＯ３・４Ｈ２Ｏである。
【００３３】
比較実施例３
温度計、還流冷却器及び機械撹拌機を備えた５００ｍｌの三つ口丸底フラスコに、２００ｍｌの脱イオン水、３．９８ｇのＮａ２ＣＯ３及び１０．５１ｇのＮａＯＨペレットを入れた。１９．６１ｇのＺｎ（ＮＯ３）２・６Ｈ２Ｏ、１４．１ｇのＡｌ（ＮＯ３）３・９Ｈ２Ｏ及び１６０ｍｌの脱イオン水を含む第２溶液を製造し、約１時間撹拌しながら、第１溶液に滴加した。添加が完了した後、ゼラチン状混合物（ｐＨ＝１０）を約１５時間、７５−８５℃で加熱した。次に、冷却した混合物を濾過し、水で繰り返し洗浄し、真空下、１１５℃にて一晩乾燥した。この生成物のＺｎ／Ａｌ比は１．８２であった。カーボネート含有率は８．８９重量％であり、０．４２のＣＯ３２−／Ａｌ３＋モル比に相当した。ＸＲＤパターンをハイドロタルク石に対して割り出し、ｄ（００１）間隔は７．８オングストロームであることが分かった。生成物の式はほぼＺｎ４Ａｌ２（ＯＨ）１２ＣＯ３・４Ｈ２Ｏである。
【００３４】
実施例４
温度計、還流冷却器及び機械撹拌機を備えた５００ｍｌの三つ口丸底フラスコに、２００ｍｌの脱ガス、脱イオン水、２０．８６８ｇ（０．３３７５モル）のＨ３ＢＯ３及び２５．５４ｇ（０．６３７５モル）のＮａＯＨペレットを入れた。３８．４６ｇのＭｇ（ＮＯ３）２・６Ｈ２Ｏ（０．１５モル）、２８．１３ｇ（０．０７５モル）のＡｌ（ＮＯ３）３・９Ｈ２Ｏ及び２００ｍｌの水を含む第２溶液を製造し、約１時間撹拌しながら、第１溶液に滴加した。添加が完了した後、ゼラチン状混合物（ｐＨ＝約９）を約１５時間、７５−８０℃で加熱した。次に、冷却した混合物を濾過し、水で繰り返し洗浄し、真空下、７０℃にて一晩乾燥した。生成物の式は、ほぼＭｇ４Ａｌ２（ＯＨ）１２［Ｂ３Ｏ３（ＯＨ）４］２・Ｈ２Ｏである。この生成物のＭｇ／Ａｌ比は１．９０であった。硼素含有率は９．９１重量％であり、２．８の［Ｂ３Ｏ３（ＯＨ）４］−／Ａｌ３＋モル比に相当した。粉末ＸＲＤによるｄ（００１）間隔は約１０．９オングストロームであった。
【００３５】
実施例５
温度計、還流冷却器及び機械撹拌機を備えた１ｌの三つ口丸底フラスコに、２００ｍｌの脱イオン水、２０．８６８ｇのＨ３ＢＯ３及び２５．５４４ｇのＮａＯＨペレットを入れた。３８．４６ｇのＭｇ（ＮＯ３）２・６Ｈ２Ｏ、２８．１３ｇのＡｌ（ＮＯ３）３・９Ｈ２Ｏ及び２００ｍｌの水を含む第２溶液を製造し、約１時間撹拌しながら、第１溶液に滴加した。添加が完了した後、ゼラチン状混合物（ｐＨ＝約８．５）を約１５時間、７５−８０℃で加熱した。次に、冷却した混合物を濾過し、水で繰り返し洗浄し、真空下、７０℃にて一晩乾燥した。生成物の式は、ほぼＺｎ４Ａｌ２（ＯＨ）１２［Ｂ３Ｏ３（ＯＨ）４］２・Ｈ２Ｏである。この生成物のＭｇ２＋／Ａｌ３＋比は１．９０であることが分かった。硼素含有率は６．６１重量％であり、２．５３の［Ｂ３Ｏ３（ＯＨ）４］−／Ａｌ３＋モル比に相当した。ＸＲＤによるｄ（００１）間隔は約１０．９オングストロームであった。
【００３６】
実施例６、７及び８
０．１５モルの（Ｍｇ＋Ｚｎ）ＮＯ３、０．０７５モルのＡｌ（ＮＯ３）３（２８．１３ｇ）及び４００ｍｌの脱イオン、脱ガス水を１時間にわたって、０．６３７５モルのＮａＯＨ（２５．５４ｇ）、０．３３７５モルのＨ３ＢＯ３（２０．８７ｇ）及び４００ｍｌの脱イオン、脱ガス水の撹拌溶液に加えた。残りの製造手順は、他の実施例と同じである。生成物の式は、Ｚｎ４−ｘＭｇｘＡｌ２（ＯＨ）１２［Ｂ３Ｏ３（ＯＨ）４］２・Ｈ２Ｏ（式中、ｘは１−３である）である。生成物のＭｇ２＋／Ａｌ３＋モル比は１．７ー１．９である。［Ｂ３Ｏ３（ＯＨ）４］−／Ａｌ３＋モル比は約２．５であった。粉末ＸＲＤからｄ（００１）間隔は１０．９オングストロームとなった。
【００３７】
実施例９
温度計、還流冷却器及び機械撹拌機を備えた５００ｍｌの三つ口丸底フラスコに、２００ｍｌの脱イオン水、１０．０ｇのＨ３ＢＯ３及び３２．０ｇのＮａＯＨペレットを入れた。５１．３ｇのＭｇ（ＮＯ３）２・６Ｈ２Ｏ、３７．５ｇのＡｌ（ＮＯ３）３・９Ｈ２Ｏ及び１６０ｍｌの脱イオン水を含む第２溶液を製造し、窒素の下で約１時間撹拌しながら、第１溶液に滴加した。添加が完了した後、ゼラチン状混合物（ｐＨ＝約１１）を約１５時間、８０ー８５℃で加熱した。次に、冷却した混合物を空気中で濾過し、水で繰り返し洗浄し、真空下、１１５℃にて一晩乾燥した。この生成物のＭｇ／Ａｌ比は１．９３であった。この物質のＢ（ＯＨ）４−及びカーボネート含有量はそれぞれ、１８．８１重量％及び３．９重量％であることが分かった。生成物の式は、ほぼＭｇ４Ａｌ２（ＯＨ）１２［Ｂ（ＯＨ）４］２・Ｈ２Ｏである。ｄ（００１）間隔は約８．０オングストロームであった。
【００３８】
実施例１０、１１、１２及び１３
０．１５モルの（Ｍｇ＋Ｚｎ）ＮＯ３、０．０７５モルのＡｌ（ＮＯ３）３（２８．１３ｇ）及び４００ｍｌの脱イオン、脱ガス水を１時間にわたって、０．６３７５モルのＮａＯＨ（２５．５４ｇ）、０．１５モルのＨ３ＢＯ３（９．２７ｇ）及び４００ｍｌの脱イオン、脱ガス水の撹拌溶液に加えた。残りの製造手順は、他の実施例と同じである。生成物の式は、Ｚｎ４−ｘＭｇｘＡｌ２（ＯＨ）１２［Ｂ（ＯＨ）４］２・Ｈ２Ｏ（式中、ｘは０−３である）である。４種の生成物のそれぞれのｄ（００１）値は約８．０オングストロームである。
【００３９】
実施例１４
温度計、還流冷却器及び機械撹拌機を備えた１ｌの三つ口丸底フラスコに、２７５ｍｌの脱イオン水、１２．２ｇのＮａＶＯ３及び２８．０４８ｇのＮａＯＨペレットを入れた。５１．２８６ｇのＭｇ（ＮＯ３）２・６Ｈ２Ｏ及び３７．５１ｇのＡｌ（ＮＯ３）３・９Ｈ２Ｏ並びに２００ｍｌの水を含有する第２溶液を製造し、約１時間撹拌しながら、第１溶液に滴加した。添加が完了した後、ゼラチン状混合物（ｐＨ＝１０．８）を約１５時間、８０ー８５℃で加熱した。次に、冷却した混合物を濾過し、水で繰り返し洗浄し、真空下、７０℃にて一晩乾燥した。粉末ＸＲＤからのｄ（００１）値は約１０．５オングストロームである。式Ｍｇ８Ａｌ４（ＯＨ）２４（Ｖ２Ｏ７）・４Ｈ２Ｏについて計算した元素分析は、Ｍｇ，１９．５；Ａｌ，１０．８；Ｈ，３．２；Ｖ，１０．２である。観察値は、Ｍｇ，１８．３；Ａｌ，８．０；Ｈ，３．８；Ｖ，９．９である。モル比はＭｇ／Ａｌ＝２．５４及びＶ／Ａｌ＝０．６６である。
【００４０】
実施例１５
温度計、還流冷却器及び機械撹拌機を備えた１ｌの三つ口丸底フラスコに、２７５ｍｌの脱イオン水、２４．４ｇのＮａＶＯ３及び２４．０４ｇのＮａＯＨペレットを入れた。５１．２８６ｇのＭｇ（ＮＯ３）２・６Ｈ２Ｏ及び３７．５１ｇのＡｌ（ＮＯ３）３・９Ｈ２Ｏ並びに２００ｍｌの水を含有する第２溶液を製造し、約１時間撹拌しながら、第１溶液に滴加した。添加が完了した後、ゼラチン状混合物（ｐＨ＝９．５）を約１５時間、８０ー８５℃で加熱した。次に、冷却した混合物を濾過し、水で繰り返し洗浄し、真空下、７０℃にて一晩乾燥した。これは、９．７オングストロームのｄ（００１）値を有する粉末ＸＲＤパターンを示す。式Ｍｇ８Ａｌ１４（ＯＨ）２４（Ｖ４Ｏ１０）・４Ｈ２Ｏについて計算した元素分析は、Ｍｇ，１６．６；Ａｌ，９．２；Ｈ，２．７；Ｖ，１７．３である。観察値は、Ｍｇ，１８．７；Ａｌ，７．８；Ｈ，２．８；Ｖ，１７．８である。モル比はＭｇ／Ａｌ＝２．６６及びＶ／Ａｌ＝１．２である。
【００４１】
実施例１６
温度計、還流冷却器及び機械撹拌機を備えた１ｌの三つ口丸底フラスコに、２７５ｍｌの脱イオン水、１２．２ｇのＮａＶＯ３及び２４．４ｇのＮａＯＨペレットを入れた。５１．２８６ｇのＭｇ（ＮＯ３）２・６Ｈ２Ｏ及び２７．５１ｇのＡｌ（ＮＯ３）３・９Ｈ２Ｏ並びに２００ｍｌの水を含有する第２溶液を製造し、約１時間撹拌しながら、第１溶液に滴加した。添加が完了した後、ゼラチン状混合物（ｐＨ＝８．８）を約１５時間、８０ー８５℃で加熱した。次に、冷却した混合物を濾過し、水で繰り返し洗浄し、真空下、７０℃にて一晩乾燥した。生成物の式はＭｇ６Ａｌ３（ＯＨ）１８（ＨＶ２Ｏ７）・ＺＨ２Ｏである。
【００４２】
実施例１７
初めの方の実施例で製造した亜鉛−マグネシウム−アルミニウムハイドロタルク石のいくつかを、計量したハイドロタルク石を焼成器に入れ、温度が約４５０℃に達するまで、温度を１分当たり２０℃で上昇させることによって焼成した。物質を約１５時間、約４５０℃に保ち、次に８０−１００メッシュにふるい、これを実施例１８で用いた。
【００４３】
実施例１８
実施例１７の手順で製造した熱によって活性化したハイドロタルク石を、前記の方法によって、メタンの酸化を触媒する能力について試験した。結果を以下の表４に示す。
【００４４】
【表４】
0003569293.tif 000005