【手続補正書】
【提出日】平成29年9月14日(2017.9.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７９】
図８に示されるもの等の構成は、代替的にセキュリティ文書１００の一体的な部分としてセキュリティ要素を組み入れることにより達成することができ、この場合において、全体として文書はセキュリティ物品を構成する。この場合において、文書基材１０１は、好ましくは透明なポリマーフィルムであり、上記の方法で基材ウェブ１、２１を構成する。パターンＰは、上記の方法により基材ウェブに直接的に適用される。レンズアレイ等の他の特徴を、パターンＰの反対側の上方又はその上の基材に適用して所望の光学的効果を形成してよい。不透明層を、窓領域において現れるパターンを残して、文書表面の残りに亘って印刷してよい。
本開示は以下も包含する。
［１］
基材ウェブ上のパターンの製造方法であって、方法が、
突起及びくぼみの表面レリーフ構造を有する製造ツールであって、突起が基材ウェブに適用される所望のパターンに対応している製造ツールを与えることと、
製造ツール上の表面レリーフ構造の突起に硬化性材料を塗布することと、
第一の位置において、表面レリーフ構造上の塗布された硬化性材料と、基材ウェブとの接触をもたらすことと、
基材ウェブの移送方向に沿って互いに離間している、第一の位置から第二の位置へ、接触した基材ウェブ及び表面レリーフ構造を共に移送することと、
第二の位置において基材ウェブを表面レリーフ構造から分離し、パターンを形成する硬化性材料が基材ウェブに付着して運ばれることと、
基材ウェブ及び表面レリーフ構造が第一及び第二の位置の間で接触している間、及び／又は基材ウェブが第二の位置において表面レリーフ構造から分離した後に、少なくとも１つの硬化エネルギー源への曝露により、基材ウェブ上の硬化性材料を硬化させることと、
を含む方法。
［２］
基材ウェブが第二の位置において表面レリーフ構造から分離されたときに、少なくとも部分的に硬化したパターンを形成する材料が基材ウェブに付着して運ばれるように、基材ウェブと表面レリーフ構造が第一及び第二の位置の間で接触している間に、硬化性材料が硬化エネルギー源への曝露により少なくとも部分的に硬化する、上記態様１に記載の方法。
［３］
表面レリーフ構造が実質的に円柱であり、第一及び第二の位置がその外周上の離間した位置であることによって、円柱が回転したときに、基材ウェブと表面レリーフ構造が円柱の外周の部分に沿って移送される、上記態様１又は２に記載の方法。
［４］
円柱の外周の前記部分が、円柱の全外周の少なくとも８分の１であり、好ましくは円柱の全外周の少なくとも４分の１であり、さらに好ましくは円柱の全外周の少なくとも３分の１であり、最も好ましくは円柱の全外周の少なくとも半分である、上記態様３に記載の方法。
［５］
表面レリーフ構造が、ローラーの表面に形成され、又はローラーで運ばれるスリーブ又はシートとして形成される、上記態様３又は４に記載の方法。
［６］
第一及び第二の位置が、基材ウェブの移送方向に沿って互いに５０ｍｍ〜３５０ｍｍ、好ましくは１００〜２５０ｍｍ離間している、上記態様１〜５のいずれかに記載の方法。
［７］
基材ウェブ上の任意のある点の第一の位置から第二の位置への移動時間は、０．２秒〜２秒であり、より好ましくは０．４秒〜１秒である、上記態様１〜６のいずれかに記載の方法。
［８］
基材ウェブが、表面レリーフ構造の上流に配置された第一の支持ローラーと表面レリーフ構造の下流に配置された第二の支持ローラーにより、実質的に円柱状の表面レリーフ構造との接触を維持しており、第一及び第二の支持ローラーが、好ましくは実質的に円柱状の表面レリーフ構造の中心から離れる方向に向かって基材ウェブに力を適用する、上記態様３〜７のいずれかに記載の方法。
［９］
第一及び第二の支持ローラーが、各々の支持ローラーと実質的に円柱状の表面レリーフ構造との間の基材ウェブに圧縮力を生じさせない、上記態様８に記載の方法。
［１０］
第一及び第二の位置の間において、基材ウェブが、基材ウェブの張力により、表面レリーフ構造との接触を維持しており、基材ウェブの張力が、好ましくは１０〜１００Ｎ、より好ましくは２５〜５０Ｎである、上記態様１〜９のいずれかに記載の方法。
［１１］
第一及び第二の位置の間において、表面レリーフ構造に対して基材ウェブの接触を維持するように、１つ又はそれより多くの対立ローラーが与えられており、１つ又は各対立ローラーが、０．００１以下〜０．５ＭＰａの圧力、より好ましくは０．０５〜０．２ＭＰａの圧力を、各々の対立ローラーと表面レリーフ構造との間の基材ウェブに適用する、上記態様１〜１０のいずれかに記載の方法。
［１２］
硬化性材料が、１つ又はそれより多くのローラーを含む転写ローラーアセンブリから表面レリーフ構造に塗布される、上記態様１〜１１のいずれかに記載の方法。
［１３］
転写ローラーアセンブリが、既定の厚みの硬化性材料の層を転写するように適合した計測ローラー、好ましくはアニロックスローラーを含む、上記態様１２に記載の方法。
［１４］
転写ローラーアセンブリが、計測ローラーと表面レリーフ構造との間に、計測ローラーから表面レリーフ構造へ硬化性材料を転写するアプリケーションローラー、好ましくはオフセットローラーをさらに含む、上記態様１３に記載の方法。
［１５］
アプリケーションローラーの表面が、計測ローラーの表面と比較して滑らかである、上記態様１４に記載の方法。
［１６］
計測ローラーがセルのパターンを規定する表面を有し、セルの横方向の寸法が、基材ウェブに適用される所望のパターンに対応する表面レリーフ構造の突起の最小の横方向の寸法より小さい、上記態様１３〜１５のいずれかに記載の方法。
［１７］
アプリケーションローラーと計測ローラーが、互いに異なる表面速度で回転し、アプリケーションローラーと計測ローラーの表面速度の違いが、好ましくは４０％を超えず、より好ましくは３０％未満である、上記態様１４〜１６のいずれかに記載の方法。
［１８］
アプリケーションローラーと計測ローラーが、その軸方向に沿って互いに対して振動する、上記態様１４〜１７のいずれかに記載の方法。
［１９］
転写ローラーアセンブリが、転写ローラーアセンブリを形成するローラーの１つ又はそれより多く、好ましくは計測ローラー及び／又はアプリケーションローラーから任意の過剰の硬化性材料を除去するように適合した、１つ又はそれより多くのワイピング手段を含む、上記態様１２〜１８のいずれかに記載の方法。
［２０］
第二の位置の下流の表面レリーフ構造を洗浄して基材ウェブの分離の後に残っている任意の過剰の硬化性材料を除去すること、好ましくは表面レリーフ構造との接触をもたらすように配置された洗浄表面であって、表面レリーフ構造より柔らかい洗浄表面を含む洗浄メカニズムを用いることをさらに含む、上記態様１〜１９のいずれかに記載の方法。
［２１］
洗浄メカニズムが、洗浄ローラー、支持ローラーの周りに配置された洗浄ウェブ、柔軟なブレード又はスキージーを含む、上記態様２０に記載の方法。
［２２］
その未硬化状態において、硬化性材料の粘度が２３℃において０．１〜５Ｐａ．ｓ、より好ましくは０．４〜２Ｐａ．ｓ、さらに好ましくは０．６〜１．２Ｐａ．ｓである上記態様１〜２１のいずれかに記載の方法。
［２３］
硬化性材料が、放射線硬化性材料、好ましくはＵＶ硬化性材料であり、硬化エネルギー源が、放射線源、好ましくはＵＶ源である、上記態様１〜２２のいずれかに記載の方法。
［２４］
硬化性材料の光学的密度が０．１以上であり、より好ましくは０．２５以上であり、さらに好ましくは０．５以上である、上記態様１〜２３のいずれかに記載の方法。
［２５］
硬化性材料が、可視スペクトル内の照明下で見える少なくとも１種の着色剤を含む、上記態様１〜２４のいずれかに記載の方法。
［２６］
硬化性材料が、可視スペクトル内の照明下で見えず、かつ、非可視照明、好ましくはＵＶ又はＩＲ下において、可視スペクトルで放射する少なくとも１種の物質を含む、上記態様１〜２５のいずれかに記載の方法。
［２７］
硬化性材料が、発光性、りん光、蛍光、磁性、サーモクロミック、フォトクロミック、玉虫色の、金属性、光学的に変動する又は真珠光沢のある顔料のいずれかを含む、上記態様１〜２６のいずれかに記載の方法。
［２８］
基材ウェブが、重力に対して表面レリーフ構造の下方に配置されており、少なくとも、基材ウェブと表面レリーフ構造が互いに接触している、上記態様１〜２７のいずれかに記載の方法。
［２９］
表面レリーフ構造からのウェブの分離の後に、基材ウェブ上で運ばれる少なくとも部分的に硬化した材料を硬化エネルギー源に再曝露して、材料を完全に硬化させることをさらに含む、少なくとも上記態様２に記載の方法。
［３０］
基材ウェブが、硬化エネルギーを透過させるフィルム、好ましくはＵＶ透過フィルムを含む、上記態様１〜２９のいずれかに記載の方法。
［３１］
表面レリーフ上の突起が、最小の寸法が５〜５０ミクロン、好ましくは５〜３０ミクロン、より好ましくは１０〜２０ミクロンである突起を含む、上記態様１〜３０のいずれかに記載の方法。
［３２］
上記態様１〜３１のいずれかに記載の方法による基材と、基材上に形成されたパターンとを含む、物品。
［３３］
集束要素のアレイ、好ましくはレンズ又はミラーのアレイをさらに含み、それを通してパターンが見えるように構成された、上記態様３２に記載の物品。
［３４］
パターンが、実質的に同一のマイクロ画像のアレイと、集束要素のアレイ及びマイクロ画像のアレイのピッチとを含み、その相対位置は、集束要素のアレイがマイクロ画像のアレイと協働してモアレ効果によるマイクロ画像の拡大版を作り出すようなものである、上記態様３３に記載の物品。
［３５］
パターンが画像要素のアレイを含み、各画像要素が画像の部分を表し、少なくとも２つの異なる画像からの画像要素がアレイを横切って交互に配置されており、それによって少なくとも２つの異なる画像の異なる１つが、集束要素のアレイにより観察角度に応じて観察者に向けられる、上記態様３４に記載の物品。
［３６］
物品が、セキュリティ要素であり、好ましくはスレッド、細片、フォイル、又はパッチである、上記態様３２〜３５のいずれかに記載の物品。
［３７］
物品がセキュリティ文書、好ましくは紙幣、身分証明書、運転免許証、パスポート又は証明書である、上記態様３２〜３５のいずれかに記載の物品。
［３８］
基材ウェブ上にパターンを製造する装置であって、装置が、
突起及びくぼみの表面レリーフ構造を有する製造ツールであって、突起が基材ウェブに適用される所望のパターンに対応している製造ツールと、
製造ツール上の表面レリーフ構造の突起に硬化性材料を塗布するように適合した転写アセンブリと、
移送アセンブリであって、
第一の位置において、表面レリーフ構造上の塗布された硬化性材料と、基材ウェブとの接触をもたらし、
基材ウェブの移送方向に沿って互いに離間している、第一の位置から第二の位置へ、接触した基材ウェブと表面レリーフ構造を共に移送し、
第二の位置において表面レリーフ構造から基材ウェブを分離して、パターンを形成する硬化性材料が基材ウェブに付着して運ばれるように構成された移送アセンブリと、
基材ウェブと表面レリーフ構造が第一及び第二の位置の間で接触している間、及び／又は基材ウェブが第二の位置において表面レリーフ構造から分離した後に、硬化エネルギーに硬化性材料を曝露するように適合した少なくとも１つの硬化エネルギー源と、
を含む、装置。
［３９］
基材ウェブが第二の位置において表面レリーフ構造から分離したときに、少なくとも部分的に硬化したパターンを形成する材料が基材ウェブに付着して運ばれるように、少なくとも１つの硬化エネルギー源は、基材ウェブと表面レリーフ構造が第一及び第二の位置の間で接触している間に、硬化エネルギーに硬化性材料を曝露するように適合した硬化エネルギー源を含む、上記態様３８に記載の装置。
［４０］
少なくとも１つの硬化エネルギー源が、第二の位置において基材ウェブが表面レリーフ構造から分離した後に、硬化性材料を硬化エネルギーに曝露するように適合した硬化エネルギー源を含む、上記態様３８又は３９に記載の装置。
［４１］
表面レリーフ構造が実質的に円柱であり、第一及び第二の位置が、その外周上の離間した位置である、上記態様３８〜４０のいずれかに記載の装置。
［４２］
移送アセンブリが、表面レリーフ構造の上流に配置された第一の支持ローラーと、表面レリーフ構造の下流に配置された第二の支持ローラーとを含み、第一及び第二の支持ローラーが、基材ウェブと実質的に円柱状の表面レリーフ構造との接触を維持するように構成されており、第一及び第二の支持ローラーが、好ましくは実質的に円柱状の表面レリーフ構造の中心から離れる方向に向かって基材ウェブに力を適用するように構成されている、上記態様４１に記載の装置。
［４３］
第一及び第二の支持ローラーが、各々の支持ローラーと実質的に円柱状の表面レリーフ構造との間の基材ウェブに圧縮力を生じさせないように配置されている、上記態様４２に記載の装置。
［４４］
移送アセンブリが、基材ウェブの張力により、第一及び第二の位置の間で基材ウェブと表面レリーフ構造との接触を維持するように構成されており、基材ウェブの張力が、好ましくは１０〜１００Ｎ、より好ましくは２５〜５０Ｎである、上記態様３８〜４３のいずれかに記載の装置。
［４５］
移送アセンブリが、表面レリーフ構造に対して基材ウェブの接触を維持するように適合した第一及び第二の位置の間の１つ又はそれより多くの対立ローラーを更に含み、１つ又は各対立ローラーが、各々の対立ローラーと表面レリーフ構造との間の基材ウェブに０．００１以下〜０．５ＭＰａの圧力、より好ましくは０．０５〜０．２ＭＰａの圧力を適用するように構成された、上記態様３８〜４４のいずれかに記載の装置。
［４６］
基材ウェブの分離の後に残っている任意の過剰の硬化性材料を表面レリーフ構造から除去するように構成された第二の位置の下流に位置した洗浄メカニズムをさらに含み、洗浄メカニズムが、好ましくは表面レリーフ構造との接触をもたらすように配置された洗浄表面であって、表面レリーフ構造より柔らかい洗浄表面を含む、上記態様３８〜４５のいずれかに記載の装置。
［４７］
洗浄メカニズムが、洗浄ローラー、支持ローラーの周りに配置された洗浄ウェブ、柔軟なブレード又はスキージーを含む、上記態様３８〜４６のいずれかに記載の装置。
［４８］
基材ウェブが、重力に対して表面レリーフ構造の下方に配置されており、少なくとも、基材ウェブと表面レリーフ構造が互いに接触している、上記態様３８〜４７のいずれかに記載の装置。
［４９］
上記態様１〜３１のいずれかに記載の方法を実施するように適合した、上記態様３８〜４８のいずれかに記載の装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材ウェブ上のパターンの製造方法であって、方法が、
突起及びくぼみの表面レリーフ構造を有する製造ツールであって、突起が基材ウェブに適用される所望のパターンに対応している製造ツールを与えることと、
製造ツール上の表面レリーフ構造の突起に硬化性材料を塗布することと、
第一の位置において、表面レリーフ構造上の塗布された硬化性材料と、基材ウェブとの接触をもたらすことと、
基材ウェブの移送方向に沿って互いに離間している、第一の位置から第二の位置へ、接触した基材ウェブ及び表面レリーフ構造を共に移送することと、
第二の位置において基材ウェブを表面レリーフ構造から分離し、パターンを形成する硬化性材料が基材ウェブに付着して運ばれることと、
基材ウェブ及び表面レリーフ構造が第一及び第二の位置の間で接触している間、及び／又は基材ウェブが第二の位置において表面レリーフ構造から分離した後に、少なくとも１つの硬化エネルギー源への曝露により、基材ウェブ上の硬化性材料を硬化させることと、
を含む方法。
【請求項２】
基材ウェブが第二の位置において表面レリーフ構造から分離されたときに、少なくとも部分的に硬化したパターンを形成する材料が基材ウェブに付着して運ばれるように、基材ウェブと表面レリーフ構造が第一及び第二の位置の間で接触している間に、硬化性材料が硬化エネルギー源への曝露により少なくとも部分的に硬化する、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
表面レリーフ構造が実質的に円柱であり、第一及び第二の位置がその外周上の離間した位置であることによって、円柱が回転したときに、基材ウェブと表面レリーフ構造が円柱の外周の部分に沿って移送される、請求項１又は２に記載の方法。
【請求項４】
円柱の外周の前記部分が、円柱の全外周の少なくとも４分の１である、請求項３に記載の方法。
【請求項５】
基材ウェブが、表面レリーフ構造の上流に配置された第一の支持ローラーと表面レリーフ構造の下流に配置された第二の支持ローラーにより、実質的に円柱状の表面レリーフ構造との接触を維持している、請求項３又は４に記載の方法。
【請求項６】
第一及び第二の支持ローラーが、各々の支持ローラーと実質的に円柱状の表面レリーフ構造との間の基材ウェブに圧縮力を生じさせない、請求項５に記載の方法。
【請求項７】
第一及び第二の位置の間において、基材ウェブが、基材ウェブの張力により、表面レリーフ構造との接触を維持している、請求項１〜６のいずれか１項に記載の方法。
【請求項８】
第一及び第二の位置の間において、表面レリーフ構造に対して基材ウェブの接触を維持するように、１つ又はそれより多くの対立ローラーが与えられており、１つ又は各対立ローラーが、０．００１以下〜０．５ＭＰａの圧力を、各々の対立ローラーと表面レリーフ構造との間の基材ウェブに適用する、請求項１〜７のいずれか１項に記載の方法。
【請求項９】
第二の位置の下流の表面レリーフ構造を洗浄して基材ウェブの分離の後に残っている任意の過剰の硬化性材料を除去することをさらに含む、請求項１〜８のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１０】
洗浄することが、表面レリーフ構造との接触をもたらすように配置された洗浄表面であって、表面レリーフ構造より柔らかい洗浄表面を含む洗浄メカニズムを用いる、請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
洗浄メカニズムが、洗浄ローラー、支持ローラーの周りに配置された洗浄ウェブ、柔軟なブレード又はスキージーを含む、請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
硬化性材料の光学的密度が０．１以上である、請求項１〜１１のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１３】
硬化性材料が、可視スペクトル内の照明下で見える少なくとも１種の着色剤を含み、及び／又は
硬化性材料が、可視スペクトル内の照明下で見えず、かつ、非可視照明下において、可視スペクトルで放射する少なくとも１種の物質を含む、請求項１〜１２のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１４】
表面レリーフ上の突起が、最小の寸法が５〜５０ミクロンである突起を含む、請求項１〜１３のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１５】
基材ウェブ上にパターンを製造する装置であって、装置が、
突起及びくぼみの表面レリーフ構造を有する製造ツールであって、突起が基材ウェブに適用される所望のパターンに対応している製造ツールと、
製造ツール上の表面レリーフ構造の突起に硬化性材料を塗布するように適合した転写アセンブリと、
移送アセンブリであって、
第一の位置において、表面レリーフ構造上の塗布された硬化性材料と、基材ウェブとの接触をもたらし、
基材ウェブの移送方向に沿って互いに離間している、第一の位置から第二の位置へ、接触した基材ウェブと表面レリーフ構造を共に移送し、
第二の位置において表面レリーフ構造から基材ウェブを分離して、パターンを形成する硬化性材料が基材ウェブに付着して運ばれるように構成された移送アセンブリと、
基材ウェブと表面レリーフ構造が第一及び第二の位置の間で接触している間、及び／又は基材ウェブが第二の位置において表面レリーフ構造から分離した後に、硬化エネルギーに硬化性材料を曝露するように適合した少なくとも１つの硬化エネルギー源と、
を含む、装置。
【請求項１６】
基材ウェブが第二の位置において表面レリーフ構造から分離したときに、少なくとも部分的に硬化したパターンを形成する材料が基材ウェブに付着して運ばれるように、少なくとも１つの硬化エネルギー源は、基材ウェブと表面レリーフ構造が第一及び第二の位置の間で接触している間に、硬化エネルギーに硬化性材料を曝露するように適合した硬化エネルギー源を含む、請求項１５に記載の装置。
【請求項１７】
表面レリーフ構造が実質的に円柱であり、第一及び第二の位置が、その外周上の離間した位置である、請求項１５又は１６に記載の装置。
【請求項１８】
移送アセンブリが、表面レリーフ構造の上流に配置された第一の支持ローラーと、表面レリーフ構造の下流に配置された第二の支持ローラーとを含み、第一及び第二の支持ローラーが、基材ウェブと実質的に円柱状の表面レリーフ構造との接触を維持するように構成されている、請求項１７に記載の装置。
【請求項１９】
第一及び第二の支持ローラーが、各々の支持ローラーと実質的に円柱状の表面レリーフ構造との間の基材ウェブに圧縮力を生じさせないように配置されている、請求項１８に記載の装置。
【請求項２０】
基材ウェブの分離の後に残っている任意の過剰の硬化性材料を表面レリーフ構造から除去するように構成された第二の位置の下流に位置した洗浄メカニズムをさらに含む、請求項１５〜１９のいずれか１項に記載の装置。
【請求項２１】
洗浄メカニズムが、表面レリーフ構造との接触をもたらすように配置された洗浄表面であって、表面レリーフ構造より柔らかい洗浄表面を含む、請求項２０に記載の装置。
【請求項２２】
洗浄メカニズムが、洗浄ローラー、支持ローラーの周りに配置された洗浄ウェブ、柔軟なブレード又はスキージーを含む、請求項２０又は２１に記載の装置。