(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
（Ａ）下記一般式（Ｉ）：
【化１】
0003582747.tif 000006
（上記式中、Ｒａ  およびＲｂ  はそれぞれ独立して、ハロゲン原子または１価の炭化水素基であり、同じでも異なっていてもよく；ｐは０〜３の整数であり；ｑは０〜４の整数であり；Ｘは、−（Ｒｃ  −）Ｃ（−Ｒｄ  ）−、−Ｃ（＝Ｒｅ  ）−、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ２  −、炭素原子数６以上の脂肪族炭化水素基、炭素原子数６以上の脂環式炭化水素基もしくは炭素原子数６以上の芳香族炭化水素基であり、Ｒｃ  およびＲｄ  はそれぞれ独立して水素原子または１価の炭化水素基を表し、Ｒｅ  は２価の炭化水素基を表す）
で示される末端基を少なくとも１つ含むポリカーボネート重合体、および、
（Ｂ）上記式（Ｉ）で示される末端基を含有しないポリカーボネート
を含む透明ポリカーボネート樹脂組成物。
【請求項２】
成分（Ａ）９９〜１重量部に対して、成分（Ｂ）１〜９９重量部が含まれる請求項１記載の樹脂組成物。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、特定の末端構造を有するポリカーボネートを含むポリカーボネート樹脂組成物に関する。さらに詳しくは、レンズ、プリズム、光ディスク、シート、フィルムなど透明性、色相安定性を要求される用途に好適な前記樹脂組成物に関する。
【０００２】
【発明が解決しようとする課題】
ポリカーボネートは、その透明性を生かし、レンズ、プリズム、光ディスク、シート、フィルムなどの広範な用途に利用されている。特に、レンズや光ディスクのような光学用途に関しては、優れた透明性および色相が要求され、成形時の滞留安定性（熱安定性、色相安定性など）が要求される。このため成形時には、ポリカーボネートに、耐熱安定剤などの各種添加剤を添加して成形時の滞留安定性を高めている。
【０００３】
しかしながら添加剤を含有する樹脂組成物は、成形時に添加剤がプレートアウトを生じるという問題点がある。特にレンズ、光ディスクなどの光学用途においては、添加剤をなるべく使用せず、滞留安定性に優れた樹脂組成物を用いることが望ましい。
【０００４】
本発明は、成形時の滞留安定性（熱安定性および色相安定性）に優れたポリカーボネート樹脂組成物を提供することを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、添加剤をなるべく使用せず、ポリカーボネー卜の滞留安定牲を高めることについて鋭意検討した結果、特定の末端基を有するポリカーボネート重合体を使用すると、成形時の滞留安定性を高めることができることを見出して本発明を完成するに至った。
【０００６】
すなわち、本発明の樹脂組成物は、（Ａ）下記一般式（Ｉ）：
【０００７】
【化２】
0003582747.tif 000002
（上記式中、Ｒａ  およびＲｂ  はそれぞれ独立して、ハロゲン原子または１価の炭化水素基であり、同じでも異なっていてもよく；ｐは０〜３の整数であり；ｑは０〜４の整数であり；Ｘは、−（Ｒｃ  −）Ｃ（−Ｒｄ  ）−、−Ｃ（＝Ｒｅ  ）−、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ２  −、炭素原子数６以上の脂肪族炭化水素基、炭素原子数６以上の脂環式炭化水素基もしくは炭素原子数６以上の芳香族炭化水素基であり、Ｒｃ  およびＲｄ  はそれぞれ独立して水素原子または１価の炭化水素基を表し、Ｒｅ  は２価の炭化水素基を表す）
で示される末端基を少なくとも１つ含むポリカーボネート重合体、および、
（Ｂ）上記式（Ｉ）で示される末端基を含有しないポリカーボネート
を含む。
【０００８】
本発明のポリカーボネート樹脂組成物は、上記式（Ｉ）で示される特定の末端構造を有する成分（Ａ）ポリカーボネート重合体を含むことにより、成形時の滞留安定性に優れ、よって耐熱安定剤などの添加剤を使用する必要がなく、あるいは使用してもその使用量を著しく低減できるので、金型汚れを著しく低減することが出来る。
【０００９】
【発明の実施の形態】
本発明における成分（Ａ）は、前記式（Ｉ）で示される特定構造を末端基に少なくとも１つ有するポリカーボネート重合体である。
【００１０】
このような末端基は、一般式（ＩＩ）：
【００１１】
【化３】
0003582747.tif 000003
（上記式中、Ｒａ  、Ｒｂ  、ｐ、ｑおよびＸは上記と同義である）
で示されるジヒドロキシ化合物（以下では、ｏ，ｐ−ビスフェノール類と称する）から導かれ、式中Ｘと結合している炭素のパラ（ｐ−）位にあるヒドロキシ基がポリマーユニット末端部に結合することにより形成される。
【００１２】
上記式中、好ましくはｐ＝ｑ＝０（すなわち、置換基Ｒａ  およびＲｂ  がない場合）である。また、Ｘは好ましくは、アルキリデン基例えばイソプロピリデン  （すなわち、−（ＣＨ３  ）Ｃ（ＣＨ３  ）−）基等である。
【００１３】
一般式（ＩＩ）で示されるジヒドロキシ化合物（ｏ，ｐ−ビスフェノール類）としては、具体的には、
２，４′−ジヒドロキシジフェニル−１，１−メタン、
２，４′−ジヒドロキシジフェニル−１，１−エタン、
２，４′−ジヒドロキシジフェニル−２，２−プロパン、
２，４′−ジヒドロキシジフェニル−２，２−ブタン、
２，４′−ジヒドロキシジフェニル−２，２−オクタン、
２，４′−ジヒドロキシジフェニル−１，１−シクロペンタン、
２，４′−ジヒドロキシジフェニル−１，１−シクロヘキサン、
２，４′−ジヒドロキシジフェニル−３，３−イサチン、
２，４′−ジヒドロキシジフェニル−９，９−フルオレン、
２，４′−ジヒドロキシジフェニル−１，１′−ｐ−ジイソプロピルベンゼン、
２，４′−ジヒドロキシジフェニル−１，１′−ｍ−ジイソプロピルベンゼン、
１−メチル−１−（４−ヒドロキシフェニル）−４−（ジメチル−２−ヒドロキシフェニル）メチル−シクロヘキサン、
２−〔１−［３−（４−ヒドロキシフェニル）−４−メチルシクロヘキシル］−１−メチルエチル〕−フェノール、
２，４′−［１−メチル−４−（１−メチルエチル）−１，３−シクロへキサンジイル］ビスフェノール、
２，４′−ジヒドロキシジフェニルエーテル、
２，４′−ジヒドロキシジフェニルスルフィド、
２，４′−ジヒドロキシジフェニルスルホキシド、
２，４′−ジヒドロキシジフェニルスルホン、
カテコールなどが挙げられる。
【００１４】
このｏ，ｐ−ビスフェノール類は、後述する他のジヒドロキシ化合物（すなわち、ポリカーボネートの骨格を形成する、ｏ，ｐ−ビスフェノール類以外のジヒドロキシ化合物）の異性体であることが好ましい。
【００１５】
これらのうちでも、特に２，４′−ジヒドロキシジフェニル−２，２−プロパン（以下、ｏ，ｐ−ビスフェノールＡ、またはｐ−ＢＰＡと称する）が好ましく、工業的にも有用である。
【００１６】
この一般式（ＩＩ）で示されるｏ，ｐ−ビスフェノール類は、Ｘと結合している炭素のオルト（ｏ−）位炭素に結合しているヒドロキシ基の反応性がＸ基の立体障害により、Ｘと結合している炭素のｐ−位炭素に結合しているヒドロキシ基に比べて著しく低く、ポリカーボネートやポリアリーレートの製造に際して使用する１価のヒドロキシ化合物などの末端封止剤とほとんど同様な作用をし、一般式（Ｉ）で示される末端基として導入されると考えられる。このことは１３Ｃ−ＮＭＲ分析により確認することができる。
【００１７】
本発明の成分（Ａ）を構成するポリカーボネートの骨格を形成する、ｏ，ｐ−ビスフェノール類以外のジヒドロキシ化合物は、特に限定されないが、下記一般式（ＩＩＩ）：
【００１８】
【化４】
0003582747.tif 000004
（上記式中、２つのＯＨ基がＹに対してｏ−位およびｐ−位になることはない；ＲＡ  およびＲＢ  はそれぞれ独立して、ハロゲン原子または１価の炭化水素基であり、同じでも異なっていてもよく；ＰおよびＱはそれぞれ独立して、０〜４の整数であり；Ｙは、−（ＲＣ  −）Ｃ（−ＲＤ  ）−、−Ｃ（＝ＲＥ  ）−、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ２  −、炭素原子数６以上の脂肪族炭化水素基、炭素原子数６以上の脂環式炭化水素基もしくは炭素原子数６以上の芳香族炭化水素基であり、ＲＣ  およびＲＤ  はそれぞれ独立して水素原子または１価の炭化水素基であり、ＲＥ  は２価の炭化水素基である）
で示される。
【００１９】
上記ジヒドロキシ化合物は、一般に、ｐ，ｐ−ビスフェノール類、ｏ，ｍ−ビスフェノール類、ｍ，ｍ−ビスフェノール類などとして知られている。
【００２０】
このようなジヒドロキシ化合物としては、具体的には、
ビス（４−ヒドロキシフェニル）メタン、
１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エタン、
２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン、
２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ブタン、
２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）オクタン、
ビス（４−ヒドロキシフェニル）フェニルメタン、
２，２−ビス（４−ヒドロキシ−１−メチルフェニル）プロパン、
１，１−ビス（４−ヒドロキシ−ｔ−ブチルフェニル）プロパン、
２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３−ブロモフェニル）プロパン、
４，４′−ジヒドロキシジフェニル−１，１′−ｐ−ジイソプロピルベンゼン、
４，４′−ジヒドロキシジフェニル−１，１′−ｍ−ジイソプロピルベンゼン、
４，４′−ジヒドロキシジフェニル−９，９−フルオレン、
などのビス（４−ヒドロキシアリール）アルカン類、
１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロペンタン、
１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、
１−メチル−１−（４−ヒドロキシフェニル）−４−（ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）メチル−シクロヘキサン、
４−［１−［３−（４−ヒドロキシフェニル）−４−メチルシクロヘキシル］−１−メチルエチル］−フェノール、
４，４′−［１−メチル−４−（１−メチルエチル）−１，３−シクロヘキサンジイル］ビスフェノール、
２，２，２′，２′−テトラヒドロ−３，３，３′，３′−テトラメチル−１，１′−スピロビ−［ＩＨ−インデン］−６，６′−ジオール、などのビス（ヒドロキシアリール）シクロアルカン類、
４，４′−ジヒドロキシジフェニルエーテル、
４，４′−ジヒドロキシ−３，３′−ジメチルフェニルエーテルなどのジヒドロキシアリールエーテル類、
４，４′−ジヒドロキシジフェニルスルフィド、
４，４′−ジヒドロキシ−３，３′−ジメチルジフェニルスルフィドなどのジヒドロキシジアリールスルフィド類、
４，４′−ジヒドロキシジフェニルスルホキシド、
４，４′−ジヒドロキシ−３，３′−ジメチルジフェニルスルホキシドなどのジヒドロキシジアリールスルホキシド類、
４，４′−ジヒドロキシジフェニルスルホン、
４，４′−ジヒドロキシ−３，３′−ジメチルジフェニルスルホンなどのジヒドロキシジアリールスルホン類、
４，４′−ジヒドロキシジフェニル−３，３−イサチンなどのジヒドロキシジアリールイサチン類が挙げられる。
【００２１】
また上記一般式（ＩＩＩ）以外のジヒドロキシ化合物としては、
３，６−ジヒドロキシ−９，９−ジメチルキサンテンなどのジヒドロキシジアリールキサンテン類、
レゾルシンおよび３−メチルレゾルシン、３−エチルレゾルシン、３−プロピルレゾルシン、３−ブチルレゾルシン、３−ｔ−ブチルレゾルシン、３−フェニルレゾルシン、３−クミルレゾルシン、２，３，４，６−テトラフルオロレゾルシン、２，３，４，６−テトラブロモレゾルシンなどの置換レゾルシン、
ハイドロキノンおよび３−メチルハイドロキノン、３−エチルハイドロキノン、３−プロピルハイドロキノン、３−ブチルハイドロキノン、３−ｔ−ブチルハイドロキノン、３−フェニルハイドロキノン、３−クミルハイドロキノン、２，３，５，６−テトラメチルハイドロキノン、２，３，５，６−テトラ−ｔ−ブチルハイドロキノン、２，３，５，６−テトラフルオロハイドロキノン、２，３，５，６−テトラブロモハイドロキノン、などの置換ハイドロキノンなどが挙げられる。
【００２２】
これらのうちでは、特に２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン  （以下ｐ，ｐ−ビスフェノールＡまたはｐ，ｐ−ＢＰＡともいう）が好ましく、工業上有用である。
【００２３】
上記のｏ，ｐ−ビスフェノール類、ｏ，ｐ−ビスフェノール類以外のジヒドロキシ化合物の好ましい製造方法を以下に述べる。
【００２４】
ｏ，ｐ−ビスフェノール類は、従来公知のジヒドロキシ化合物の合成方法によつて合成し、次いでこれを単離することにより得ることができる。具体的にはたとえば、１価のヒドロキシ化合物とカルボニル化合物とを、塩酸あるいは強酸型のイオン交換樹脂などの酸触媒の存在下で反応させて、次いで反応混合物からｏ，ｐ−ビスフェノール類を単離することにより得られる。
【００２５】
より具体的には、フェノールとアセトンとを酸触媒下に反応させると、ｐ，ｐ−ＢＰＡ［２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン］とともに副生物としてのｏ，ｐ−ＢＰＡを含む反応混合物が得られる。
【００２６】
この反応混合物からｏ，ｐ−ＢＰＡおよびｐ，ｐ−ＢＰＡをそれぞれ精製分離する場合には、ｐ，ｐ−ＢＰＡは、反応混合物に過剰のフェノールを加え、これを溶解させた後冷却して、ｐ，ｐ−ＢＰＡとフェノールとのアダクト（付加物）として晶析させる。析出したアダクト結晶は、濾過、遠心分離などにより母液と分離する。一方ｏ，ｐ−ＢＰＡは、母液中にフェノールあるいは他の副生物とともに比較的高濃度で存在しており、他の溶媒を用いて晶析精製を繰り返したり、または蒸留精製で９９％以上の純度でｏ，ｐ−ＢＰＡを得ることができる。
【００２７】
また精製分離する前の反応混合物を、直接、精密蒸留することにより高純度ｏ，ｐ−ＢＰＡを得ることもできる。
【００２８】
一方、ｏ，ｐ−ビスフェノール類以外のジヒドロキシ化合物は、ｏ，ｐ−ビスフェノール類を製造するに際に示したような従来公知の合成方法により合成することができ、得られた合成物を精製することにより純度９９重量％以上のジヒドロキシ化合物を得ることが好ましい。たとえば前記のようにフェノールとアセトンとを酸触媒下に反応させて得られる反応混合物から、フェノールとｐ，ｐ−ＢＰＡとのアダクト（付加物）として晶析精製することにより得られる。また必要によって、この晶析精製を２回以上繰り返し行い、減圧蒸留、ストリッピング、バブリングなどの公知の技術でフェノールを除去することで９９．９５重量％以上のｐ，ｐ−ＢＰＡを得ることができる。
【００２９】
本発明における成分（Ａ）ポリカーボネートの原料として、上記のような一般式（ＩＩ）で示されるｏ，ｐ−ビスフェノール類が、一般式（ＩＩＩ）で示されるｏ，ｐ−ビスフェノール類以外のジヒドロキシ化合物と混合された状態で用いても良いし、それぞれ単独で使用されても良い。
【００３０】
本発明における成分（Ａ）ポリカーボネート重合体は、式（Ｉ）で示される末端基を全末端基に対して任意の割合で有していても良いが、０．１％以上有しているのが好ましく、より好ましくは１０％以上である。このような割合で式（Ｉ）で示される末端基を有していれば、樹脂組成物の滞留安定性は充分に向上される。下限値より少ない割合であると、充分な滞留安定性が得られない傾向にある。また、上限値は特に限定されないが、多くなると滞留安定性はあまり変わらず、Ｔｇが低下する傾向にあり、ポリカーボネート樹脂組成物自体の流動特性が変化する。
【００３１】
本発明における成分（Ａ）ポリカーボネート重合体は、ｏ，ｐ−ビスフェノール類とともに他の末端封止剤から導かれる末端基を有していてもなんら支障ない。
【００３２】
また本発明における成分（Ａ）ポリカーボネート重合体は、公知のホスゲン法（界面重合法、溶液重合法）、溶融法、固相重合法のいずれの方法でも製造することができる。
【００３３】
ホスゲン法では、ホスゲンなどのハロゲン化カルボニル化合物、ハロホーメート化合物と、前述の式  （ＩＩＩ）で示されるジヒドロキシ化合物と、式（ＩＩ）で示されるｏ，ｐ−ビスフェノール類とを、必要に応じて他の末端封止剤を加えて、公知の方法で反応させることにより、上記式（Ｉ）で示される末端基を少なくとも１つ有するポリカーボネート重合体を製造することができる。
【００３４】
また溶融法では、ジフェニルカーボネート、ジトリールカーボネート、ビス  （クロロフェニル）カーボネート、ｍ−クレジルカーボネート、ジナフチルカーボネート、ビス（ジフェニル）カーボネート、ジエチルカーボネート、ジメチルカーボネート、ジブチルカーボネート、ジシクロへキシルカーボネートなどの炭酸ジエステルと前述の一般式（ＩＩＩ）で示されるジヒドロキシ化合物と、式（ＩＩ）で示されるｏ，ｐ−ビスフェノール類とを、必要に応じて他の末端封止剤を加えて、公知の方法で加熱溶融重合させることにより、上記式（Ｉ）で示される末端基を少なくとも１つ有するポリカーボネート重合体を製造することができる。
【００３５】
固相重合法では、上述のホスゲン法または溶融法で製造される分子量の低いポリカーボネートを結晶化させ、高温下に重合を進めることにより、上記式（Ｉ）で示される末端基を少なくとも１つ有するポリカーボネート重合体を製造することができる。
【００３６】
また上記のようなポリカーボネートの製造方法において、ホスゲンあるいは炭酸ジエステルとともに、ジカルボン酸、ジカルボン酸ハライドあるいはジカルボン酸エステルを使用することによりポリエステルカーボネートを製造することができる。
【００３７】
このようなジカルボン酸あるいはジカルボン酸エステルとしては、
テレフタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸クロリド、イソフタル酸クロリド、テレフタル酸ジフェニル、イソフタル酸ジフェニルなどの芳香族シカルボン酸類；
コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、デカン二酸、トデカン二酸、セバシン酸クロリド、デカン二酸クロリド、ドデカン二酸クロリド、セバシン酸ジフェニル、デカン二酸ジフェニル、ドデカン二酸ジフェニルなどの脂肪族ジカルボン酸類；
シクロプロパンジカルボン酸、１，２−シクロブタンジカルボン酸、１，３−シクロブタンジカルボン酸、１，２−シクロペンタンジカルボン酸、１，３−シクロペンタンジカルボン酸、１，２−シクロヘキサンジカルボン酸、１，３−シクロヘキサンジカルボン酸、１，４−シクロヘキサンジカルボン酸；
シクロプロパンジカルボン酸クロリド、１，２−シクロブタンジカルボン酸クロリド、１，３−シクロブタンジカルボン酸クロリド、１，２−シクロペンタンジカルボン酸クロリド、１，３−シクロペンタンジカルボン酸クロリド、１，２−シクロヘキサンジカルボン酸クロリド、１，３−シクロヘキサンジカルボン酸クロリド、１，４−シクロヘキサンジカルボン酸クロリド；
シクロプロパンジカルボン酸ジフェニル、１，２−シクロブタンジカルボン酸ジフェニル、１，３−シクロブタンジカルボン酸ジフェニル、１，２−シクロペンタンジカルボン酸ジフェニル、１，３−シクロペンタンジカルボン酸ジフェニル、１，２−シクロヘキサンジカルボン酸ジフェニル、１，３−シクロヘキサンジカルボン酸ジフェニル、１，４−シクロヘキサンジカルボン酸ジフェニルなどの脂環式ジカルボン酸類を挙げることができる。
【００３８】
また上記のようなポリエステルカーボネートの製造方法において、ホスゲンあるいは炭酸ジエステルなどのカーボネート前駆体を用いず、ジカルボン酸、ジカルボン酸ハライドあるいはジカルボン酸エステルのみを使用すると、ポリエステルを製造することができる。特に芳香族ジカルボン酸類を用いると、ポリアリーレートと通称されるポリマーを得ることができる。
【００３９】
また成分（Ａ）ポリカーボネートを製造するに際して、上記のようなジヒドロキシ化含物とともに、１分子中に３個以上の官能基を有する多官能化合物を用いることもできる。
【００４０】
このような多官能化合物としては、フェノール性水酸基またはカルボキシル基を有する化合物が好ましく、特にフェノール性水酸基を３個有する化合物が好ましい。具体的には、たとえば、
１，１，１−トリス（４−ヒドロキシフェニル）エタン、２，２′，２″−トリス（４−ヒドロキシフェニル）ジイソプロピルベンゼン、α−メチル−α，α′，α″−トリス（４−ヒドロキシフェニル）−１，４−ジエチルベンゼン、α，α′，α″−トリス（４−ヒドロキシフェニル）−１，３，５−トリイソプロピルベンゼン、フロログリシン、４，６−ジメチル−２，４，６−トリ（４−ヒドロキシフェニル）−ヘプタン−２、１，３，５−トリ（４−ヒドロキシフェニル）ベンゼン、２，２−ビス−［４，４−（４，４′−ジヒドロキシフェニル）−シクロヘキシル］−プロパン、トリメリット酸、１，３，５−ベンゼントリカルボン酸、ピロメリット酸などが挙げられる。
【００４１】
これらのうち、１，１，１−トリス（４−ヒドロキシフェニル）エタン、α，α′，α″−トリス（４−ヒドロキシフェニル）−１，３，５−トリイソプロピルベンゼンなどが好ましく用いられる。
【００４２】
多官能化合物が用いられる場含には、多官能化合物はジヒドロキシ化合物１モルに対して、通常０．０３モル以下、好ましくは０．００１〜０．０２モル、さらに好ましくは０．００１〜０．０１モルの量で用いることができる。
【００４３】
成分（Ａ）ポリカーボネートを製造する方法において、前述したホスゲン法では、触媒として、三級アミン、四級アンモニウム塩、三級ホスフィン、四級ホスニウム塩、含窒素複素環化合物およびその塩、イミノエーテルおよびその塩、アミド基を有する化合物などが使用される。
【００４４】
このホスゲン法では、反応の際に生じる塩酸などのハロゲン化水素の補足剤として多量のアルカリ金属化合物あるいはアルカリ土類金属化合物が使用されるので、製造後のポリマー中に、こうした不純物が残留しないように充分な洗浄、精製をすることが好ましい。
【００４５】
溶融法、固相重合法では、触媒として、（ａ）アルカリ金属化合物および／またはアルカリ土類金属化合物を用いることが好ましい。
【００４６】
アルカリ金属化合物およぴアルカリ土類金属化合物としては、具体的には、アルカリ金属およびアルカリ土類金属の有機酸塩、無機酸塩、酸化物、水酸化物、水素化物あるいはアルコラートなどが好ましく挙げられる。
【００４７】
より具体的に、アルカリ金属化合物としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸リチウム、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、酢酸リチウム、ステアリン酸ナトリウム、ステアリン酸カリウム、ステアリン酸リチウム、水素化ホウ素ナトリウム、水素化ホウ素リチウム、フェニル化ホウ素ナトリウム、安息香酸ナトリウム、安息香酸カリウム、安息香酸リチウム、リン酸水素二ナトリウム、リン酸水素二カリウム、リン酸水素二リチウム、ビスフェノールＡの二ナトリウム塩、二カリウム塩、二リチウム塩、フェノールのナトリウム塩、カリウム塩、リチウム塩などを挙げることができる。
【００４８】
またアルカリ土類金属化合物としては、具体的に、水酸化カルシウム、水酸化バリウム、水酸化マグネシウム、水酸化ストロンチウム、炭酸水素カルシウム、炭酸水素バリウム、炭酸水素マグネシウム、炭酸水素ストロンチウム、炭酸カルシウム、炭酸バリウム、炭酸マグネシウム、炭酸ストロンチウム、酢酸カルシウム、酢酸バリウム、酢酸マグネシウム、酢酸ストロンチウム、ステアリン酸カルシウム、ステアリン酸バリウム、ステアリン酸マグネシウム、ステアリン酸ストロンチウムなどを挙げることができる。
【００４９】
これら２種以上組合わせて用いることもできる。
【００５０】
このような（ａ）アルカリ金属化合物および／またはアルカリ土類金属化合物は、上記ジヒドロキシ化合物合計１モルに対して、１０−８〜１０−３モル好ましくは１０−７〜２×１０−６モルさらに好ましくは１０−７〜８×１０−７モルの量で用いられる。
【００５１】
触媒として、（ａ）アルカリ金属化合物および／またはアルカリ土類金属化合物を、ジヒドロキシ化合物１モルに対して１０−８〜１０−３モルの量で使用すると、高い重合活性で重合体を製造できるとともに、得られる重合体に悪影響を及ぼさない量で後述する酸性化合物を添加して、これら化合物が示す塩基性を充分に中和するかあるいは弱めることができる。
【００５２】
また溶融法、固相重合法では、触媒として、上記のような（ａ）アルカリ金属化合物および／またはアルカリ土類金属化合物とともに、（ｂ）塩基性化合物を用いることも好ましい。
【００５３】
このような（ｂ）塩基性化合物としては、たとえば高温で易分解性あるいは揮発性の含窒素塩基性化合物が挙げられ、具体的には、以下のような化合物を挙げることができる。
【００５４】
テトラメチルアンモニウムヒドロキシド（Ｍｅ４  ＮＯＨ）、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド（Ｅｔ４  ＮＯＨ）、テトラブチルアンモニウムヒドロキシド（Ｂｕ４  ＮＯＨ）、トリメチルベンジルアンモニウムヒドロキシド（Ｐｈ−ＣＨ２  （Ｍｅ）３  ＮＯＨ）などのアルキル、アリール、アルアリール基などを有するアンモニウムヒドロオキシド類［ここで、メチル基＝Ｍｅ、エチル基＝Ｅｔ、ブチル基＝Ｂｕ、フェニル基＝Ｐｈと略記する、以下同様］、
トリメチルアミン、トリエチルアミン、ジメチルベンジルアミン、トリフェニルアミンなどの三級アミン類、
Ｒ２  ＮＨ（式中Ｒはメチル、エチルなどのアルキル基、フェニル、トルイルなどのアリール基などである）で示される二級アミン類、
ＲＮＨ２  （式中Ｒは上記と同じである）で示される一級アミン類、
２−メチルイミダゾール、２−フェニルイミダゾールなどのイミダゾール類、グアニジン類、
あるいはアンモニア、テトラメチルアンモニウムボロハイドライド（Ｍｅ４  ＮＢＨ４  ）、テトラブチルアンモニウムボロハイドライド（Ｂｕ４  ＮＢＨ４  ）、テトラブチルアンモニウムテトラフェニルボレート（Ｂｕ４  ＮＢＰｈ４  ）、テトラメチルアンモニウムテトラフェニルボレート（Ｍｅ４  ＮＢＰｈ４  ）などの塩基性塩。
【００５５】
これらのうち、テトラアルキルアンモニウムヒドロキシド類、特に金属不純物の少ない電子用テトラアルキルアンモニウムヒドロキシド類が好ましいく用いられる。
【００５６】
上記のような（ｂ）含窒素塩基性化合物は、ジヒドロキシ化合物合計１モルに対して、１０−６〜１０−１モル、好ましくは１０−５〜１０−２モルの量で用いることができる。
【００５７】
触媒として（ａ）アルカリ金属化合物および／またはアルカリ土類金属化合物と（ｂ）含窒素塩基性化合物とを上記のような量で組合せて用いると、重縮合反応を十分な速度で進行させることができ、高分子量のポリマーを、高い重合活性で生成させることができて好ましい。
【００５８】
溶融法、固相重合法では上記のような触媒を用いるので、反応生成物に、酸性化合物を添加して中和することが好ましい。
【００５９】
この酸性化合物としては、ベンゼンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸などのスルホン酸、ベンゼンスルホン酸メチル、ベンゼンスルホン酸エチル、ベンゼンスルホン酸ブチル、ベンゼンスルホン酸オクチル、ベンゼンスルホン酸フェニル、ｐ−トルエンスルホン酸メチル、ｐ−トルエンスルホン酸エチル、ｐ−トルエンスルホン酸ブチル、ｐ−トルエンスルホン酸オクチル、ｐ−トルエンスルホン酸フェニルなどのスルホン酸エステルなどが用いられる。
【００６０】
溶融法、固相重合法では、ホスゲン法のような精製を基本的に行わないので、触媒を中和した後の重合体に減圧処理を施すことが好ましい。
【００６１】
このような減圧処理をするに際しては、処理装置は特に限定されないが、たとえば減圧装置付反応器が用いられてもよく、減圧装置付押出機が用いられてもよい。
【００６２】
反応器が用いられる際は、縦型槽型反応器、横型槽型反応器いずれでもよく、好ましくは横型槽型反応器が好ましく用いられる。
【００６３】
上記のような反応器を用いて行なわれる減圧処理は、０．０５〜７５０ｍｍＨｇ好ましくは０．０５〜５ｍｍＨｇの圧力下で行なわれる。
【００６４】
このような減圧処理は、押出機を用いて行なう場合には、１０秒〜１５分間程度、また反応器を用いる場合には、５分〜３時間程度の時間で行なうことが好ましい。また減圧処理は、２４０〜３５０℃程度で行なうことが好ましい。
【００６５】
また減圧処理が押出機においてなされる際は、ベント付の一軸押出機、二軸押出機のいずれが用いられてもよく、押出機で減圧処理をしながらペレタイズすることもできる。
【００６６】
減圧処理が押出機においてなされる際は、減圧処理は、圧力１〜７５０ｍｍＨｇ好ましくは５〜７００ｍｍＨｇの条件下で行なわれる。
【００６７】
上記のような処理を行なう事によって、ポリカーボネート中に残留する原料モノマーが低減されるかまたは完全に除去される。
【００６８】
本発明に係る樹脂組成物は、上記した（Ａ）と共に、成分（Ｂ）として、前記式（Ｉ）で示される末端基を含有しないポリカーボネートを含む。
【００６９】
（Ｂ）ポリカーボネートは特に限定されず、慣用の製造法から、ジヒドロキシ化合物とカーボネート前駆体との反応によって得られる。例えば上記した（Ａ）ポリカーボネートの製造方法において、ｏ，ｐ−ビスフェノール類を使用しないこと以外は同様にして製造できる。
【００７０】
本発明の樹脂組成物は、上記成分（Ａ）および（Ｂ）を任意の割合で含むことができるが、好ましくは（Ａ）９９〜１重量部に対して（Ｂ）１〜９９重量部、より好ましくは（Ａ）９５〜５重量部に対して（Ｂ）５〜９５重量部含む。（Ａ）の量が少なすぎると、熱安定性および色相安定性に優れたポリカーボネート樹脂組成物が得られにくくなり、また、（Ａ）の量が多すぎると樹脂組成物の流動性が変化する。
【００７１】
本発明の樹脂組成物を製造するための方法に特に制限はなく、通常の方法が満足に使用できる。しかしながら一般に溶融混合法が望ましい。少量の溶剤の使用も可能であるが、一般に必要ない。例えば各成分をペレット、粉末、細片状態などで、ターンブルミキサー、ヘンシェルミキサーで代表される高速ミキサーで分散混合した後、溶融混練装置に導入する。装置としては１軸もしくは多軸押出機、バンバリ―ミキサ―、ロ―ラ―、ニ―ダ―等を例として挙げることができ、これらを回分的または連続的に運転する。
【００７２】
かくして得られる本発明の樹脂組成物は、成分（Ａ）ポリカーボネートの末端基自体が酸化防止剤として作用するので、他の耐熱安定剤を添加する必要がほとんどなく、金型汚れが低減できる。
【００７３】
本発明の樹脂組成物は、特に、レンズ、光ディスクなどの光学用に好適である。
【００７４】
本発明の樹脂組成物は、耐熱安定剤の添加をほとんど必要としないが、本発明の目的を損なわない範囲で、下記に示すような通常の耐熱安定剤を添加することができる。
【００７５】
このような耐熱安定剤としては、具体的には、たとえば、リン系安定剤、フェノール系安定剤、有機チオエーテル系安定剤、ヒンダードアミン系安定剤などを挙げることができる。
【００７６】
リン系安定剤としては、リン酸、亜リン酸、次亜リン酸、ピロリン酸、ポリリン酸、リン酸エステルおよび亜リン酸エステルを用いることができる。
【００７７】
このようなリン酸エステルとしては、具体的に、たとえば、
トリメチルホスフェート、
トリエチルホスフェート、
トリブチルホスフェート、
トリオクチルホスフェート、
トリデシルホスフェート、
トリオクタデシルホスフェート、
ジステアリルペンタエリスリチルジホスフェート、
トリス（２−クロロエチル）ホスフェート、
トリス（２，３−ジクロロプロピル）ホスフェートなどのトリアルキルホスフェート、
トリシクロヘキシルホスフェートなどのトリシクロアルキルホスフェート、
トリフェニルホスフェート、
トリクレジルホスフェート、
トリス（ノニルフェニル）ホスフェート、
２−エチルフェニルジフェニルホスフェートなどのトリアリールホスフェートなどを挙げることができる。
【００７８】
また、亜リン酸エステルとしては、下記一般式：
【００７９】
【化５】
Ｐ（ＯＲ）３  
（上記式中、Ｒは脂環式炭化水素基、脂肪族炭化水素基または芳香族炭化水素基を表す。これらは同一であっても異なっていてもよい。）
で示される化合物を挙げることができる。
【００８０】
このような式で示される化合物として、たとえば、
トリメチルホスファイト、
トリエチルホスファイト、
トリブチルホスファイト、
トリオクチルホスファイト、
トリス（２−エチルヘキシル）ホスファイト、
トリノニルホスファイト、
トリデシルホスファイト、
トリオクタデシルホスファイト、
トリステアリルホスファイト、
トリス（２−クロロエチル）ホスファイト、
トリス（２，３−ジクロロプロピル）ホスファイトなどのトリアルキルホスファイト、
トリシクロヘキシルホスファイトなどのトリシクロアルキルホスファイト、
トリフェニルホスファイト、
トリクレジルホスファイト、
トリス（エチルフェニル）ホスファイト、
トリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、
トリス（ノニルフェニル）ホスファイト、
トリス（ヒドロキシフェニル）ホスファイトなどのトリアリールホスファイト、
フェニルジデシルホスファイト、
ジフェニルデシルホスファイト、
ジフェニルイソオクチルホスファイト、
フェニルイソオクチルホスファイト、
２−エチルヘキシルジフェニルホスファイトなどのアリールアルキルホスファイトなどを挙げることができる。
【００８１】
さらに亜リン酸エステルとして、
ジステアリルペンタエリスリチルジホスファイト、
ビス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ペンタエリスリチルジホスファイトなどを挙げることができる。
【００８２】
これらの化合物は、単独で、あるいは組み合わせて用いることができる。
【００８３】
これらのうち、亜リン酸エステルが好ましく、さらに芳香族亜リン酸エステルが好ましく、特にトリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイトが好ましく用いられる。
【００８４】
フェノール系安定剤としては、たとえば、ｎ−オクタデシル−３−（４−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−ｔ−ブチルフェニル）プロピオネート、テトラキス  ［メチレン−３−（３′，５′−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］メタン、１，１，３−トリス（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−ｔ−ブチルフェニル）ブタン、ジステアリル（４−ヒドロキシ−３−メチル−５−ｔ−ブチル）ベンジルマロネート、４−ヒドロキシメチル−２，６−ジ−ブチルフェノールなどが挙げられ、これらを単独で用いても２種以上混合して用いてもよい。
【００８５】
チオエーテル系安定剤としては、たとえば、ジラウリル・チオジプロピオネート、ジステアリル・チオジプロピオネート、ジミリスチル−３，３′−チオジプロピオネート、ジトリデシル−３，３′−チオジプロピオネート、ペンタエリスリトール−テトラキス−（β−ラウリル−チオプロピオネート）などを挙げることができる。
【００８６】
これらは単独で用いても２種以上混合して用いてもよい。
【００８７】
またヒンダードアミン系安定剤としては、たとえば、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）セバケート、１−［２−｛３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ｝エチル］−４−｛３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ｝−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、８−ベンジル−７，７，９，９−テトラメチル−３−オクチル−１，２，３−トリアザスピロ［４，５］ウンデカン−２，４−ジオン、４−ベンゾイルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、２−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２−ｎ−ブチルマロン酸ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）、テトラキス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）１，２，３，４−ブタンテトラカルボキシレートなどを挙げることができる。
【００８８】
これらは単独で用いても２種以上混合して用いてもよい。
【００８９】
これらの耐熱安定剤は、樹脂成分１００重量部に対して、０．００１〜５重量部、好ましくは０．００５〜０．５重量部、さらに好もしくは０．０１〜０．３重量部の量で用いられることが望ましい。
【００９０】
また、酸性物質捕捉剤として、１分子中にエポキシ基を１個以上有する化合物が用いられる。具体的には、
エポキシ化大豆油、
エポキシ化アマニ油、
フェニルグリシジルエーテル、
アリルグリシジエーテル、
ｔ−ブチルフェニルグリシジルエーテル、
３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３′，４′−エポキシシクロヘキシルカルボキシレート、
３，４−エポキシ−６−メチルシクロヘキシルメチル−３′，４′−エポキシ−６′−メチルシクロヘキシルカルボキシレート、
２，３−エポキシシクロヘキシルメチル−３′，４′−エポキシシクロヘキシルカルボキシレート、
４−（３，４−エポキシ−５−メチルシクロヘキシル）ブチル−３′，４′−エポキシシクロヘキシルカルボキシレート、
３，４−エポキシシクロヘキシルエチレンオキシド、
シクロヘキシルメチル３，４−エポキシシクロヘキシルカルボキシレート、
３，４−エポキシ−６−メチルシクロヘキシルメチル−６′−メチルシクロヘキシルカルボキシレート、
ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、
テトラブロモビスフェノールＡグリシジルエーテル、
フタル酸のジグリシジルエステル、
ヘキサヒドロフタル酸のジグリシジルエステル、
ビス−エポキシジシクロペンタジエニルエーテル、
ビス−エポキシエチレングリコール、
ビス−エポキシシクロヘキシルアジペート、
ブタジエンジエポキシド、
テトラフェニルエチレンエポキシド、
オクチルエポキシタレート、
エポキシ化ポリブタジエン、
３，４−ジメチル−１，２−エポキシシクロヘキサン、
３，５−ジメチル−１，２−エポキシシクロヘキサン、
３−メチル−５−ｔ−ブチル−１，２−エポキシシクロヘキサン、
オクタデシル−２，２−ジメチル−３，４−エポキシシクロヘキシルカルボキシレート、
Ｎ−ブチル−２，２−ジメチル−３，４−エポキシシクロヘキシルカルボキシレート、
シクロヘキシル−２−メチル−３，４−エポキシシクロヘキシルカルボキシレート、
Ｎ−ブチル−２−イソプロピル−３，４−エポキシ−５−メチルシクロヘキシルカルボキシレート、
オクタデシル−３，４−エポキシシクロヘキシルカルボキシレート、
２−エチルヘキシル−３′，４′−エポキシシクロヘキシルカルボキシレート、
４，６−ジメチル−２，３−エポキシシクロヘキシル−３′，４′−エポキシシクロヘキシルカルボキシレート、
４，５−エポキシ無水テトラヒドロフタル酸、
３−ｔ−ブチル−４，５−エポキシ無水テトラヒドロフタル酸、
ジエチル４，５−エポキシ−シス−１，２−シクロヘキシルジカルボキシレート、
ジ−ｎ−ブチル−３−ｔ−ブチル−４，５−エポキシ−シス−１，２−シクロヘキシルジカルボキシレートなどを挙げることができる。
【００９１】
これらのうち、脂環式エポキシ化合物が好ましく用いられ、特に３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３′，４′−エポキシシクロヘキシルカルボキシレートが好ましく用いられる。
【００９２】
これらは単独で用いても２種以上混合して用いてもよい。
【００９３】
このような、エポキシ化合物を、樹脂成分に対して、１〜２０００ｐｐｍ  の量で、好ましくは１０〜１０００ｐｐｍ  の量で添加することが好ましい。
【００９４】
また紫外線吸収剤としては、一般的な紫外線吸収剤でよく、特に限定されないが、たとえば、サリチル酸系紫外線吸収剤、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、シアノアクリレート系紫外線吸収剤などを挙げることができる。
【００９５】
サリチル酸系紫外線吸収剤としては、具体的には、フェニルサリシレート、ｐ−ｔ−ブチルフェニルサリシレートが挙げられる。
【００９６】
ベンゾフェノン系紫外線吸収剤としては、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２，２′−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２，２′−ジヒドロキシ−４，４′−ジメトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−２′−カルボキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−５−スルホベンゾフェノントリヒドレート、２−ヒドロキシ−４−ｎ−オクトキシベンゾフェノン、２，２′，４，４′−テトラヒドロキシベンゾフェノン、４−ドデシロキシ−２−ヒドロキシベンゾフェノン、ビス（５−ベンゾイル−４−ヒドロキシ−２−メトキシフェニル）メタン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン−５−スルホン酸などが挙げられる。
【００９７】
ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤としては、２−（２′−ヒドロキシ−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′−ｔ−ブチル−５′−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−ｔ−ブチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−５′−ｔ−オクチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−ｔ−アミルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−［２′−ヒドロキシ−３′−（３″，４″，５″，６″−テトラヒドロフタルイミドメチル）−５′−メチルフェニル］ベンゾトリアゾール、２，２′−メチレンビス［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェノール］などを挙げることができる。
【００９８】
シアノアクリレート系紫外線吸収剤としては、２−エチルヘキシル−２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリレート、エチル−２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリレートなどを挙げることができる。これらを単独で用いても、２種以上混合して用いてもよい。
【００９９】
これらの紫外線吸収剤は、樹脂成分１００重量部に対して、通常０．００１〜５重量部、好ましくは０．００５〜１．０重量部、さらに好ましくは０．０１〜０．５重量部の量で用いることができる。
【０１００】
さらに、離型剤としては、一般的な離型剤でよく、特に限定されない。
【０１０１】
たとえば、炭化水素系離型剤としては、天然、合成パラフィン類、ポリエチレンワックス類、フルオロカーボン類などを挙げることができる。
【０１０２】
脂肪酸系離型剤としては、ステアリン酸、ヒドロキシステアリン酸などの高級脂肪酸、オキシ脂肪酸類などを挙げることができる。
【０１０３】
脂肪酸アミド系離型剤としては、ステアリン酸アミド、エチレンビスステアロアミドなどの脂肪酸アミド、アルキレンビス脂肪酸アミド類などを挙げることができる。
【０１０４】
アルコール系離型剤としては、ステアリルアルコール、セチルアルコールなどの脂肪族アルコール、多価アルコール、ポリグリコール、ポリグリセロール類などを挙げることができる。
【０１０５】
脂肪酸エステル系離型剤としては、ブチルステアレート、ペンタエリスリトールテトラステアレートなどの脂肪酸低級アルコールエステル、脂肪酸多価アルコールエステル、脂肪酸ポリグリコールエステル類などを挙げることができる。  シリコーン系離型剤としては、シリコーンオイル類などを挙げることができる。
これらは単独で用いても、２種以上混合してもよい。
【０１０６】
これらの離型剤は、樹脂成分１００重量部に対して、通常、０．００１〜５重量部、好ましくは０．００５〜１重量部、さらに好ましくは０．０１〜０．５重量部の量で用いることができる。
【０１０７】
さらに、着色剤としては、顔料であってもよく、染料であってもよい。着色剤には、無機系と有機系の着色剤があるが、どちらを使用してもよく、また、組み合わせて用いてもよい。
【０１０８】
無機系着色剤として、具体的には、二酸化チタン、ベンガラなどの酸化物、アルミナホワイトなどの水酸化物、硫化亜鉛などの硫化物、セレン化物、紺青などのフェロシアン化物、ジンククロメート、モリブデンレッドなどのクロム酸塩、硫酸バリウムなどの硫酸塩、炭酸カルシウムなどの炭酸塩、群青などの硅酸塩、マンガンバイオレットなどのリン酸塩、カーボンブラックなどの炭素、ブロンズ粉やアルミニウム粉などの金属粉着色剤などが挙げられる。
【０１０９】
有機系着色剤としては、具体的には、ナフトールグリーンＢなどのニトロソ系、ナフトールイエローＳなどのニトロ系、リソールレッドやボルドー１０Ｂ、ナフトールレッド、クロモフタールイエローなどのアゾ系、フタロシアニンブルーやファストスカイブルーなどのフタロシアニン系、インダントロンブルーやキナクリドンバイオレット、ジオクサジンバイオレットなどの縮合多環系着色剤などが挙げられる。
【０１１０】
これらの着色剤は、単独で用いても組み合わせて用いてもよい。
【０１１１】
これらの着色剤は、樹脂成分１００重量部に対して、通常１×１０−６〜５重量部、好ましくは１×１０−６〜３重量部、さらに好ましくは１×１０−５〜１重量部の量で用いることができる。
【０１１２】
【実施例】
以下、本発明を実施例により説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。
【０１１３】
なお、以下の実施例及び比較例では、次のポリカーボネート樹脂、及び添加剤を用いた。
【０１１４】
（Ａ）ポリカーボネート重合体：以下の製造例より得られたポリカーボネートを用いた。
【０１１５】
［製造例］
アセトンとフェノールとからカチオン交換樹脂を用いて粗ビスフェノールＡ  （ｐ，ｐ−ＢＰＡ）を調製した。この粗ビスフェノールＡとフェノールとを１対５（重量比）で混合し、この混合物を８０℃に加熱して均一溶液とした後、４２℃に冷却し、析出してきた固体を窒素雰囲気下で濾過した。
【０１１６】
次いで、濾取した固体を溶融フェノールで洗浄し、白色の固体としてビスフェノールＡとフェノールとの付加体を得た。
【０１１７】
この付加体は、ビスフェノールＡとフェノールが１：１のモル比で結合した付加体であるが、フェノールをビスフェノールＡ１モルに対して０．５８モルだけ過剰に含有する混合物の形態をなしており、この混合物中におけるビスフェノールＡとフェノールとのモル比は、１：１．５８であった。
【０１１８】
この付加体に再びフェノールを粗ビスフェノールＡとフェノールとを１対５  （重量比）で混合し、この混合物を８０℃に加熱して均一溶液とした後、４２℃に冷却し、析出してきた固体を窒素雰囲気下で濾過した。
【０１１９】
次いで、濾取した固体を溶融フェノールで洗浄し、白色の固体としてビスフェノールＡとフェノールとの付加体を得た。ビスフェノールＡとフェノールとのモル比は、１：１．５２であった。
【０１２０】
この付加体を窒素を吹き込みながら１８０℃に加熱し、５０ｔｏｒｒの減圧でフェノールを除去した後、精製ビスフェノールＡ（ｐ，ｐ−ＢＰＡ）を得た。
【０１２１】
ＨＰＬＣにより分析したところ、純度は９９．９７重量％であった。
【０１２２】
また元素分析によると、Ｆｅ，Ｎｉ，Ｃｒ含有量は０．０５ｐｐｍ  以下、Ｃｌ，Ｓ含有量は０．１ｐｐｍ  以下であった。
【０１２３】
次に、晶析精製の際に得られた母液とフェノール洗浄液を回収し、減圧蒸留により、粗ｏ，ｐ−ビスフェノール（ｏ，ｐ−ＢＰＡ）を得た。これを、トルエン溶媒を用いて晶析精製を３回繰り返し、ＨＰＬＣで分析される純度が９９．５３重量％の精製ｏ，ｐ−ＢＰＡを得た。
【０１２４】
元素分析によると、Ｆｅ，Ｎｉ，Ｃｒ含有量は０．０５ｐｐｍ  以下、Ｃｌ，Ｓ含有量は０．１ｐｐｍ  以下であった。
【０１２５】
次に、２ｍ３  の槽型撹拌槽に、上記方法で得られた精製ｐ，ｐ−ＢＰＡ  ２００モル、精製ｏ，ｐ−ＢＰＡ  ６モル（ｐ，ｐ−ＢＰＡ  １モルに対して３×１０−２モル）、ジクロロメタン２００リットルおよびイオン交換水２００リットルを入れ、窒素を吹き込みながら懸濁液とした。
【０１２６】
次に上記懸濁液に、ハイドロサルファイトナトリウム６０ｇおよび水酸化ナトリウム５４０モルを溶解した水溶液を１１０リットル供給し、１５℃で上記のジヒドロキシ化合物を溶解した。この溶液にホスゲン２５０モルを４．２モル／分の速度で供給した。反応温度は３６℃まで上昇した。
【０１２７】
ホスゲンの吹き込み終了後、トリエチルアミン３２ｇを添加して、反応液をさらに６０分間撹拌し、重合反応を行なった。その後、反応液を静置し、有機層を分液し、塩酸により中和し、電解質がなくなるまでイオン交換水で洗浄した。得られたポリカーボネートのジクロロメタン溶液にトルエン１００リットル、イオン交換水２５０リットルを加え、９８℃まで加熱することによりジクロロメタンとトルエンを留去して、ポリカーボネートの粉体を得た。
【０１２８】
得られたポリカーボネートの極限粘度［ＩＶ］は０．４９ｄｌ／ｇであり、ｏ，ｐ−ＢＰＡ由来の末端基（前記一般式（Ｉ）において、Ｘ＝イソプロピリデン基、ｐ＝ｑ＝０）は全末端基中９２％であった。
【０１２９】
以上の製造例より得られたポリカーボネートをＰＣ（Ａ）と呼ぶ。
（Ｂ）ポリカーボネート：前記式（Ｉ）で示される末端基を含有しない、慣用の方法より得られたポリカーボネート樹脂、ＬＥＸＡＮ（商標）１４５（日本ジーイープラスチック（株）製）、［ＩＶ］＝０．４９ｄｌ／ｇ、このポリカーボネート樹脂をＰＣ（Ｂ）と呼ぶ。
任意成分：添加剤
Ｓｔａｂ．−１：フェノール系酸化防止剤（マークＡ０５０：旭電化工業（株）製）、
Ｓｔａｂ．−２：リン系酸化防止剤（マーク２１１２：旭電化工業（株）製）。
【０１３０】
実施例１〜５及び比較例１〜３
（１）樹脂組成物の製造
ＰＣ（Ａ）およびＰＣ（Ｂ）を表１に示す割合で配合し、実施例４〜５および比較例２〜３ではさらに各添加剤を配合し、１軸押出機（Ｌ／Ｄ＝１７．５）を用いて２８０℃で溶融混練し、ペレットを作成した。
（２）評価
初期物性評価
各組成のペレットを大隈社製１５０トン成形機にて、シリンダー温度２８０℃、金型温度８０℃にて射出成形し、３ｍｍ厚の成型品を作成した。成型品の黄色度
（ＹＩ）、光線透過率、及びヘイズを下記方法に従って測定した。
［黄色度（ＹＩ）］
上記成型品を用いて、日本電色工業（株）のＣｏｌｏｒ  ａｎｄ  Ｄｅｆｆｅｒｅｎｃｅ  Ｍｅｔｅｒ  ＮＤ−１００１  ＤＰ  を用い透過法で測定したＸ値、Ｙ値、Ｚ値を、次式に代入して算出した。
【０１３１】
【数１】
ＹＩ＝１００（１．２７７Ｘ−１．０６０Ｚ）／Ｙ
［光線透過率］
ＡＳＴＭ  Ｄ  １００３の方法に従い、上記成型品を用いて測定した。
［ヘイズ］
日本電色工業（株）製のＮＤＨ−２００を用い、上記成型品のヘイズを測定した。
成形時の滞留安定性評価および金型汚れの評価
［滞留安定性］
３５０℃の温度で成形を行い色相（ＹＩ）を測定し、その温度で１５分間シリンダー内に樹脂を滞留させた後、成形を行い、色相（ＹＩ）を測定し、滞留前後の変化量ΔＹＩを比較した。
［金型汚れ］
アーブルグ社製５０トン成形機をシリンダー温度２９０℃、金型温度８０℃、サイクルタイム１０秒に設定し、直径８ｃｍ、厚さ１．２ｍｍのレンズ金型にて、連続１００００ショット成形し、金型汚れを目視にて判定した。判定の基準は以下の通り。
【０１３２】
◎  ：汚れがまったく認められない
○  ：ごくわずかに汚れが認められる
△  ：汚れは少ないが、目視ではっきり分かる
×  ：汚れが多い
以上の結果を表１に示す。
【０１３３】
【表１】
0003582747.tif 000005
【０１３４】
【発明の効果】
本発明の樹脂組成物は、熱安定性および色相安定性に優れ、しかも安定剤等の添加剤をほとんど必要としないので、成形時の金型汚れが少ない。したがって、成形生産性に優れ、レンズ、プリズム、光ディスク、シート、フィルムなど透明性を要求される用途の材料として特に好適である。