Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成29年6月12日(2017.6.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも第１の主表面上に剥離面を備える剥離ライナーである第１の基材と、
共形裏材であり、かつ第１の主表面を備える第２の基材と、
前記剥離ライナーの前記第１の主表面と接触する第１の主表面と、前記共形裏材の前記第１の主表面と接触する第２の主表面とを備える第１の接着層と、を備え、
前記第１の接着層が、前記剥離ライナーの少なくとも横方向の大きさにわたってほぼ交互に並んだパターンで配置された、第１の感圧接着剤の複数のストライプ及び第２の感圧接着剤の複数のストライプを備え、
前記第２の感圧接着剤の前記ストライプの平均厚さが、前記第１の感圧接着剤の前記ストライプの平均厚さよりも、少なくとも１．２倍大きく、前記共形裏材の厚さが、前記第１の接着層の厚さの少なくとも約４倍である、物品。
【請求項２】
前記第１の感圧接着剤が、シリコーンエラストマーを含むシリコーン系接着剤であり、前記第２の感圧接着剤が有機高分子感圧接着剤である、請求項１に記載の物品。
【請求項３】
前記シリコーンエラストマーが、尿素系シリコーンブロックコポリマー、オキサミド系シリコーンブロックコポリマー、アミド系シリコーンブロックコポリマー、及びウレタン系シリコーンブロックコポリマー、並びにこれらの混合物及びブレンドからなる群から選択されるシリコーンブロックコポリマーエラストマーである、請求項２に記載の物品。
【請求項４】
前記有機高分子感圧接着剤が、スチレンブロックコポリマーエラストマー、天然ゴムエラストマー、（メタ）アクリレートエラストマー、並びにこれらの混合物及びブレンドからなる群から選択される有機エラストマーを含む、請求項２に記載の物品。
【請求項５】
前記第１の感圧接着剤及び前記第２の感圧接着剤の横方向に隣接するストライプの少なくとも選択された複数の対が、それぞれ、前記対の前記第１の感圧接着剤ストライプと前記対の前記第２の感圧接着剤ストライプとの間に間隙を備え、この間隙は、前記第１の基材の前記剥離面の露出部分を備え、前記剥離面のこの露出部分は、いずれの感圧接着剤とも接触しない、請求項１に記載の物品。
【請求項６】
前記第１の感圧接着剤及び前記第２の感圧接着剤の横方向に隣接するストライプの少なくとも選択された複数の対が、それぞれ、前記対の前記第２の感圧接着剤ストライプの側方縁部の副表面と概ね側面接触する、前記対の前記第１の感圧接着剤ストライプの側方縁部の副表面を備える、請求項１に記載の物品。
【請求項７】
第１の主表面を備える第１の基材と、
第１の主表面を備える第２の基材と、
前記第１の基材の前記第１の主表面と接触する第１の主表面、及び前記第２の基材の前記第１の主表面と接触する第２の主表面を備える第１の接着層と、を備え、
前記第１の接着層が、前記剥離ライナーの少なくとも横方向の大きさにわたってほぼ交互に並んだパターンで配置される、第１のシリコーン系感圧接着剤の複数のストライプ及び第２の有機高分子感圧接着剤の複数のストライプを備え、
前記第１のシリコーン系感圧接着剤の前記ストライプが、約１０％超から約５５％までである、前記第１の接着層の体積分率を提供し、
前記第１の接着層が、３００００分を超える高湿／静的剪断試験結果を示す、物品。
【手続補正書】
【提出日】平成29年6月9日(2017.6.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
芯の周りに巻かれた両面接着テープのロールであって、前記テープが、第１の主接着面及び第２の主接着面と、前記第２の主接着面を与える構造用接着剤を含む少なくとも１つの接着剤層とを有し、
−前記第１の主接着面が第１のライナーによって保護され、
−前記第２の主接着面が第２のライナーによって保護され、
−前記第２のライナーが、前記第２の主面の２つの縁部にわたって延びてテープの第１及び第２の副面のそれぞれの少なくとも一部を覆う、ロール。
【請求項２】
前記接着テープが、前記第１の主接着面及び第２の主接着面を与える構造用接着剤を含む前記接着剤層からなる、請求項１に記載のロール。
【請求項３】
前記第２のライナーが、前記構造用接着剤を含む前記接着剤層の前記第１及び第２の副面のそれぞれを覆う、請求項１又は２に記載のロール。
【請求項４】
前記第２のライナーが、前記テープの前記第１及び第２の副面のそれぞれの端部を超えて延び、前記第１のライナー上に折り畳まれる、請求項１〜３のいずれか一項に記載のロール。
【請求項５】
前記第１のライナー（１）が、前記第１の主接着面（５）の幅を超えない幅を有する、請求項１〜４のいずれか一項に記載のロール。
【請求項６】
前記第１のライナー（１）が非延伸性である、請求項１〜５のいずれか一項に記載のロール。
【請求項７】
前記第２のライナーが延伸性である、請求項１〜６のいずれか一項に記載のロール。
【請求項８】
第１及び第２の主接着面と、前記第２の主接着面を与える構造用接着剤を含む少なくとも１つの接着剤層とを含む両面接着テープのロールを製造する方法であって、
−前記接着テープを準備する工程と、
−前記テープの前記第１の主面に第１のライナーを取り付ける工程と、
−前記テープの前記第２の主面及び第１及び第２の副面のそれぞれの少なくとも一部に第２のライナーを取り付ける工程と、
−前記テープを芯の周りに巻き取る工程と、を含む方法。
【手続補正書】
【提出日】平成29年6月7日(2017.6.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
その少なくとも第１の主表面上にフルオロシリコーン剥離表面を備える第１の剥離ライナーと、
前記剥離ライナーの前記第１の主表面上に配設され、前記剥離ライナーの横方向範囲にわたって概ね交互のパターンで配置される第１の感圧接着剤及び第２の感圧接着剤の複数のストライプを備える主要接着剤層と、を備え、
前記第１の感圧接着剤は、それぞれが少なくとも１つの極性部分を備えるハードセグメントを備えるシリコーンブロックコポリマーエラストマーを備えるシリコーン系感圧接着剤であり、
前記第２の感圧接着剤は、有機ポリマー感圧接着剤であり、
前記第１の感圧接着剤は、前記主要接着剤層のうちで１１％より大きく約８０％までの体積分率を与え、
前記主要接着剤層は、３００００分より大きい高湿度下の静的せん断試験結果を示す、物品。
【請求項２】
前記シリコーンブロックコポリマーエラストマーが、尿素系シリコーンブロックコポリマー、オキサミド系シリコーンブロックコポリマー、アミド系シリコーンブロックコポリマー、及びウレタン系シリコーンブロックコポリマー、並びにそれらの混合物及び配合物から成る群から選択される、請求項１に記載の物品。
【請求項３】
前記第１の感圧接着剤及び前記第２の感圧接着剤の横方向に隣接するストライプのうちの少なくとも選択された対が、前記対の前記第１の感圧接着剤のストライプと前記対の前記第２の感圧接着剤のストライプとの間に間隙を各々備え、前記間隙は、いずれの感圧接着剤にも接触していない露出したフルオロシリコーン剥離表面を備える、請求項１に記載の物品。
【請求項４】
前記第１の感圧接着剤及び前記第２の感圧接着剤の横方向に隣接するストライプのうちの少なくとも選択された対がそれぞれ、前記対の前記第１の感圧接着剤ストライプの側縁部の小表面を備え、前記対の前記第１の感圧接着剤ストライプは、前記対の前記第２の感圧接着剤ストライプの側縁部の小表面と概ね側面接触している、請求項１に記載の物品。
【請求項５】
前記第１の感圧接着剤が、前記主要接着剤層の前記第１の剥離ライナーに面した表面上に剥離ライナー側面積分率を提供し、また前記第１の剥離ライナーとは反対側である前記主要接着剤層の前記表面上に反対側面積分率を提供し、前記主要接着剤層は、前記第１の感圧接着剤の前記剥離ライナー側面積分率の前記第１の感圧接着剤の前記反対側面積分率に対する比であるシリコーン表面富化係数を示し、前記シリコーン表面富化比は、少なくとも約１．２である、請求項１に記載の物品。
【請求項６】
前記主要接着剤層が、約２０％〜約５０％の間隙面積分率を備える、請求項１に記載の物品。
【請求項７】
第１の感圧接着剤の第１の前駆体コーティング溶液をコーティングダイ内の複数の横方向に離間している開口部の第１のセットを通して、第２の感圧接着剤の第２の前駆体コーティング溶液を同じコーティングダイ内の複数の離間している開口部の第２のセットを通して同時に吐出する工程であって、
前記第１のセットの前記開口部及び前記第２のセットの前記開口部は、前記第１の前駆体液及び第２の前駆体液の概ね交互の流れがダイから吐出され、前記コーティングダイを連続的に通過している剥離ライナーのフルオロシリコーン剥離表面上に堆積されるように、互いに概ね交互のパターンで配置されている、工程と、
堆積された第１の前駆体コーティング溶液及び第２の前駆体コーティング溶液から溶媒を除去して、前記第１の前駆体コーティング溶液を前記第１の感圧接着剤状態に凝固させ、前記第２の前駆体コーティング溶液を前記第２の感圧接着剤状態に凝固させ、それによって、前記剥離ライナー上に前記第１及び第２の感圧接着剤の概ね交互のストライプを形成する工程であって、
前記第１の感圧接着剤は、少なくとも１つの極性部分を各々備えるハードセグメントを備えるシリコーンブロックコポリマーエラストマーを含む、シリコーン系感圧接着剤であり、前記第２の感圧接着剤は、有機ポリマー感圧接着剤である、工程と、を含む、物品の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成29年4月17日(2017.4.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも1つのインダクタを含む第1の層であって、前記少なくとも1つのインダクタが基板貫通ビアインダクタを含む、第1の層と、
前記少なくとも1つのインダクタに結合された少なくとも1つのバラクタを含む第2の層と
を含み、前記少なくとも1つのインダクタおよび前記少なくとも1つのバラクタが、調整可能なダイプレクサを集合的に形成する、3次元(3D)集積回路(IC)(3DIC)。
【請求項２】
前記少なくとも1つのバラクタが、ガラス基板上シリコン(SOG)バラクタを含む、請求項1に記載の3DIC。
【請求項３】
前記少なくとも1つの基板貫通ビアインダクタが、ガラス貫通ビア(TGV)インダクタを含む、請求項1に記載の3DIC。
【請求項４】
前記少なくとも1つのインダクタおよび前記少なくとも1つのバラクタが、前記調整可能なダイプレクサ内にローパス(LP)フィルタを含む、請求項1に記載の3DIC。
【請求項５】
前記第1の層内の複数の第2のインダクタに結合された前記第2の層内に配置された第2のバラクタをさらに含み、前記第2のバラクタおよび前記複数の第2のインダクタが、前記調整可能なダイプレクサのLPフィルタを集合的に形成する、請求項1に記載の3DIC。
【請求項６】
前記少なくとも1つのバラクタが、前記調整可能なダイプレクサ内のフィルタのノッチ周波数を調整するように構成される、請求項1に記載の3DIC。
【請求項７】
前記少なくとも1つの基板貫通ビアインダクタが、前記調整可能なダイプレクサ内のフィルタのための遮断周波数を制御するように構成される、請求項1に記載の3DIC。
【請求項８】
調整可能なダイプレクサを形成する方法であって、
3次元(3D)集積回路(IC)(3DIC)の第1の層にインダクタを形成するステップと、
前記3DICの第2の層にバラクタを形成するステップと、
前記インダクタおよび前記バラクタが、前記調整可能なダイプレクサのためのフィルタを形成するように、前記3DICにおいて前記バラクタを前記インダクタに電気的に結合するステップと
を含み、前記第1の層の前記インダクタが基板貫通ビアインダクタである、方法。
【請求項９】
前記バラクタを前記基板貫通ビアインダクタに電気的に結合するステップが、基板搬送を実施するステップと、金属と金属のボンディングを使用するステップとを含む、請求項8に記載の方法。
【請求項１０】
前記バラクタを前記基板貫通ビアインダクタに電気的に結合するステップが、前記第2の層を前記第1の層上にダイ積層するステップと、フリップチップバンプを使用するステップとを含む、請求項8に記載の方法。
【請求項１１】
前記基板貫通ビアインダクタを形成するステップが、ガラス貫通ビア(TGV)インダクタを形成するステップを含む、請求項8に記載の方法。
【請求項１２】
第1の周波数帯域を有する第1の信号を送受信するように構成された第1の周波数ポートと、
前記第1の周波数帯域とは別の第2の周波数帯域を有する第2の周波数信号を送受信するように構成された第2の周波数ポートと、
アンテナポートと、
前記第1の周波数ポートと前記アンテナポートとの間の、前記第1の周波数帯域内で信号を通過させるように構成された第1のパスフィルタと、
前記第2の周波数ポートと前記アンテナポートとの間の、前記第2の周波数帯域内で信号を通過させるように構成された第2のパスフィルタと、
バラクタおよび可変基板貫通ビアインダクタのうちの少なくとも1つを含み、前記第1の周波数ポートと、前記第2の周波数ポートと、前記アンテナポートとのうちの少なくとも2つの間の、調整可能なノッチ帯域を提供するように構成された少なくとも1つのノッチフィルタと
を含む、調整可能なダイプレクサ集積回路(IC)。
【請求項１３】
前記バラクタが高Qバラクタを含み、Qが2GHzで100よりも大きいか、または100と等しい、請求項12に記載の調整可能なダイプレクサIC。
【請求項１４】
前記可変基板貫通ビアインダクタが高Qインダクタを含み、Qが1GHzで30よりも大きいか、または30と等しい、請求項12に記載の調整可能なダイプレクサIC。
【請求項１５】
前記ノッチフィルタが、前記第1の周波数帯域において前記信号の高調波を阻止するように構成される、請求項12に記載の調整可能なダイプレクサIC。
【手続補正書】
【提出日】平成29年4月5日(2017.4.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
インダクタの磁界を修正する方法であって、
密封されたエンクロージャ内のイオン化された磁性粒子を含む構成要素の電極に印加される電位を調整することによって前記イオン化された磁性粒子の動きを選択的に制御することによってインダクタの磁界を修正するステップを含む方法。
【請求項２】
前記電極は、前記インダクタの前記磁界を横断するように位置付けられる、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記電位は、前記イオン化された磁性粒子を前記電極に対して前記インダクタの前記磁界を横断する方向に移動させる、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記イオン化された磁性粒子は、第１の形態に配置されたときに、前記インダクタの前記磁界を第１の量だけ調整し、
前記イオン化された磁性粒子は、第２の形態に配置されたときに、前記インダクタの前記磁界を第２の量だけ調整し、
前記第１の量は前記第２の量とは異なる、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記イオン化された磁性粒子の動きを選択的に制御するステップは、電子デバイスに組み込まれたプロセッサにおいて開始される、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記インダクタに電流を印加するステップをさらに含み、前記インダクタは前記電流に応答して前記磁界を生成する、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
前記インダクタの前記磁界を修正すると、前記インダクタの実効インダクタンスが修正される、請求項１に記載の方法。
【請求項８】
１つまたは複数のインダクタパラメータを選択するステップと、
前記１つまたは複数のインダクタパラメータに基づいて前記インダクタの前記磁界を修正するステップとをさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項９】
インダクタと、
前記インダクタに電流が印加されたときに前記インダクタの磁界に作用するように前記インダクタに近接して位置付けられた第１の可変磁束密度構成要素であって、密封されたエンクロージャ内のイオン化された磁性粒子を含み、電極間に電位が印加されたことに応答して前記イオン化された磁性粒子を動かすように構成された電極を備える第１の可変磁束密度構成要素とを備える装置。
【請求項１０】
前記第１の可変磁束密度構成要素は、前記インダクタの前記磁界を横断するように位置付けられる、請求項９に記載の装置。
【請求項１１】
前記第１の可変磁束密度構成要素は、前記イオン化された磁性粒子と前記電極とを含むインダクタンス制御構成要素を含む、請求項９に記載の装置。
【請求項１２】
前記イオン化された磁性粒子のうちの少なくとも１つは、鉄系化合物を含む、請求項９に記載の装置。
【請求項１３】
前記イオン化された磁性粒子のうちの少なくとも１つは、
ナノスケールＦｅ３Ｏ４コアと、
ＳｉＯ２シェルとを備える、請求項１２に記載の装置。
【請求項１４】
前記第１の可変磁束密度構成要素に結合されたコントローラをさらに備え、前記コントローラは、前記第１の可変磁束密度構成要素に制御信号を印加することによって前記インダクタの実効インダクタンスを制御するように構成される、請求項９に記載の装置。
【請求項１５】
命令を記憶する非一時的コンピュータ可読媒体であって、前記命令は、プロセッサによって実行されたときに、前記プロセッサに、請求項１に記載の方法を実行させる、非一時的コンピュータ可読媒体。
【手続補正書】
【提出日】平成29年2月13日(2017.2.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
デバイスの製造方法であって、前記方法が、
前記デバイスの基板（１０２）の裏面を薄くするステップであって、前記基板（１０２）を貫通して延在するかまたは部分的に貫通して延在する第１のビア（１１２）の部分および第２のビア（１１４）の部分を露出させる、ステップと、
前記基板（１０２）の前記裏面に第１のダイオード（１３２）を形成するステップであって、前記第１のダイオード（１３２）が、前記第１のビア（１１２）に結合されている、ステップと、
前記デバイスの層を形成するステップであって、前記層が前記基板（１０２）とは別個である、ステップと、
半導体材料を含む第２のダイオード（１２８）を形成するステップであって、前記第２のダイオード（１２８）が、前記第２のビア（１１４）上に形成され、前記層が前記第２のダイオード（１２８）と前記基板（１０２）の前記裏面との間に配置されている、ステップと
を含む、方法。
【請求項２】
前記層の開口部を選択的にパターン化するステップであって、前記層が前記基板（１０２）の前記裏面上に堆積された分離層（１２６）を含み、前記開口部が前記基板（１０２）に接触する、ステップと、
前記開口部内に再配線層（１３４）を堆積させるステップであって、前記第１のダイオード（１３２）が、前記開口部内の前記基板（１０２）と接触する前記再配線層（１３４）に基づいて形成され、前記再配線層（１３４）が前記第１のダイオード（１３２）を前記第１のビア（１１２）に結合する、ステップと
をさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記第２のダイオード（１２８）が前記第２のビア（１１４）に結合されており、前記半導体材料がｎ型半導体材料を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記第２のビア（１１４）上に前記ｎ型半導体材料を堆積させるステップと、
前記ｎ型半導体材料上に再配線層（１３４）を堆積させるステップであって、前記第２のダイオード（１２８）が、前記ｎ型半導体材料と接触する前記再配線層（１３４）に基づいて形成される、ステップと
をさらに含む、請求項３に記載の方法。
【請求項５】
前記第１のダイオード（１３２）および前記第２のダイオード（１２８）が、実質的に反対の極性を有する、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記第１のダイオード（１３２）が、ショットキーバリアダイオードである、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
前記第１のダイオード（１３２）が、静電放電イベントに応答して前記基板（１０２）内に電流を提供するように構成される、請求項１に記載の方法。
【請求項８】
基板（１０２）と、
前記基板（１０２）の裏面から延在する第１のビア（１１２）と、
前記基板（１０２）の前記裏面の第１のダイオード（１３２）であって、前記第１のビア（１１２）に結合されており、静電放電イベントに応答して前記基板（１０２）内に電流を提供するように構成されている、第１のダイオード（１３２）と、
前記基板（１０２）とは別個である層と、
前記基板（１０２）の前記裏面から延在する第２のビア（１１４）と、
半導体材料を含む第２のダイオード（１２８）であって、前記第２のダイオード（１２８）が前記第２のビア（１１４）上に形成されており、前記層が前記第２のダイオード（１２８）と前記基板（１０２）の前記裏面との間に配置されている、第２のダイオード（１２８）と
を備える、デバイス。
【請求項９】
前記第１のダイオード（１３２）が、前記層の開口部内で前記基板（１０２）と接触する再配線層（１３４）を介して形成されており、前記層が前記基板（１０２）上に堆積された分離層（１２６）を含む、請求項８に記載のデバイス。
【請求項１０】
前記第１のダイオード（１３２）が、ショットキーバリアダイオードを含む、請求項８に記載のデバイス。
【請求項１１】
前記第１のダイオード（１３２）および前記第２のダイオード（１２８）が、少なくとも１つの半導体ダイに組み込まれている、請求項８に記載のデバイス。
【請求項１２】
前記第２のダイオード（１２８）が、前記第２のビア（１１４）に結合されており、別の静電放電イベントに応答して前記基板（１０２）内に正極性を有する電流を提供するように構成されており、前記半導体材料が、ｎ型半導体材料を含む、請求項８に記載のデバイス。
【請求項１３】
前記第２のダイオード（１２８）が、前記第２のビア（１１４）に結合された前記ｎ型半導体材料と接触する再配線層（１３４）を介して形成されている、請求項１２に記載のデバイス。
【請求項１４】
前記第１のビア（１１２）および前記第２のビア（１１４）が、金属で充填されたビアである、請求項８に記載のデバイス。
【請求項１５】
前記基板（１０２）が、ｐ型埋込み式基板（１０２）を含む、請求項１３に記載のデバイス。
【手続補正書】
【提出日】平成29年4月7日(2017.4.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガラス基板と、
第１のセットのガラス貫通ビアと第２のセットのガラス貫通ビアとを備えるインダクタ構造体とを備える電子デバイスであって、
前記第１のセットのガラス貫通ビアおよび前記第２のセットのガラス貫通ビアが、前記ガラス基板の第１の表面の第１の金属配線を前記第１の表面の反対側の前記ガラス基板の第２の表面の第２の金属配線に結合させ、
前記第１のセットのガラス貫通ビアの各ビアが第１の横断面形状を有し、前記第２のセットのガラス貫通ビアの各ビアが前記第１の横断面形状と異なる第２の横断面形状を有し、前記第２のセットのガラス貫通ビアが前記インダクタ構造体に対する電磁遮蔽を提供する、電子デバイス。
【請求項２】
前記第１の横断面形状が、円形の横断面を有する、請求項１に記載の電子デバイス。
【請求項３】
前記第２の横断面形状が、非円形の横断面を有する、請求項１に記載の電子デバイス。
【請求項４】
前記インダクタ構造体がトロイダルインダクタ構造体であり、前記第１のセットのガラス貫通ビアが、前記トロイダルインダクタ構造体の内部領域に対応し、前記第２のセットのガラス貫通ビアが、前記トロイダルインダクタ構造体の外部領域に対応するか、または、
前記インダクタ構造体が、半分に曲げたソレノイドインダクタ構造体であり、前記第１のセットのガラス貫通ビアが、前記半分に曲げたソレノイドインダクタ構造体の内部領域に対応し、そして、前記第２のセットのガラス貫通ビアが、前記半分に曲げたソレノイドインダクタ構造体の外部領域に対応するか、または、
前記インダクタ構造体が、Ｓ字型にされたインダクタ構造体であり、前記第１のセットのガラス貫通ビアが、前記Ｓ字型にされたインダクタ構造体の第１の領域に対応し、そして、前記第２のセットのガラス貫通ビアが、前記Ｓ字型にされたインダクタ構造体の第２の領域に対応する、請求項１に記載の電子デバイス。
【請求項５】
前記トロイダルインダクタ構造体のＱ係数が、前記第２のセットのガラス貫通ビアの遮蔽能力に少なくとも部分的に基づく、請求項４に記載の電子デバイス。
【請求項６】
前記第１の横断面形状が円形の横断面形状を有し、前記第２の横断面形状が非円形の横断面形状を有する、請求項１に記載の電子デバイス。
【請求項７】
前記第２の横断面形状が、前記第１の横断面形状より大きい幅を有する、請求項１に記載の電子デバイス。
【請求項８】
前記第２の横断面形状が、長円体の横断面、楕円形の横断面、長方形の横断面、および凹形の横断面のうちの少なくとも一つを有する、請求項１に記載の電子デバイス。
【請求項９】
前記第１のセットのガラス貫通ビアが第１のビアおよび第３のビアを備え、前記第２のセットのガラス貫通ビアが第２のビアを備え、第１のセットの金属配線のうちの第１の金属配線が前記第１のビアおよび前記第２のビアを電気的に結合させ、第２のセットの金属配線のうちの第２の金属配線が前記第２のビアおよび前記第３のビアを電気的に結合させ、
前記第１の金属配線が第１の形状を有し、前記第２の金属配線が第２の形状を有するか、または、
前記第１の金属配線の第１の形状と前記第２の金属配線の第２の形状とが同じ形状である、請求項１に記載の電子デバイス。
【請求項１０】
ガラス基板の表面にガラス貫通ビアハードマスクをパターニングして非円形の横断面を有する空洞を作成するステップと、
前記空洞を介して前記ガラス基板の一部分をエッチングするステップと、
前記エッチングされた部分に導電材料を適用してガラス貫通ビアを形成するステップであって、前記ガラス貫通ビアがインダクタ構造体に統合され、前記インダクタ構造体が、第１のセットのガラス貫通ビアと第２のセットのガラス貫通ビアとを備え、前記第１のセットのガラス貫通ビアの各ビアが第１の横断面形状を有し、前記第２のセットのガラス貫通ビアの各ビアが第２の横断面形状を有し、前記第１のセットのガラス貫通ビアおよび前記第２のセットのガラス貫通ビアが、前記ガラス基板の第１の表面上の第１の金属配線を前記第１の表面の反対側の前記ガラス基板の第２の表面上の第２の金属配線に結合させ、前記第１の横断面形状が前記第２の横断面形状と異なり、前記第２のセットのガラス貫通ビアが前記インダクタ構造体に対する電磁遮蔽を提供する、ステップと
を含む、方法。
【請求項１１】
前記第２の横断面形状が、非円形の横断面を有する、請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
前記第１の横断面形状が、円形の横断面を有する、請求項１０に記載の方法。
【請求項１３】
前記インダクタ構造体がトロイダルインダクタ構造体であり、前記第１のセットのガラス貫通ビアが、前記トロイダルインダクタ構造体の内部領域に対応し、前記第２のセットのガラス貫通ビアが、前記トロイダルインダクタ構造体の外部領域に対応し、前記第１のセットのガラス貫通ビアの各ビアが、前記第２のセットのガラス貫通ビアの対応するビアに関して角度オフセットされた、請求項１０に記載の方法。
【請求項１４】
前記第１のセットのガラス貫通ビアが第１の数のビアを含み、前記第２のセットのガラス貫通ビアが第２の数のビアを含み、ビアの前記第１の数がビアの前記第２の数と同じである、請求項１０に記載の方法。
【請求項１５】
請求項１０から１４のいずれか一項に記載の方法に従った動作を実行するためにコンピュータによって実行可能な命令を記憶する非一時的コンピュータ可読記憶媒体。
【手続補正書】
【提出日】平成29年4月19日(2017.4.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ケーブルハーネスの配線図をスクリーン上に表示するステップ（６０１）と、
ケーブルハーネス生産支持体上に設置すべき少なくとも１本のケーブルを決定するステップ（６０３）と、
前記配線図上に前記決定された少なくとも１本のケーブルに結びつけられた少なくとも１つの進路を表示するステップ（６０４）と、
前記ケーブルハーネス生産支持体上に設置すべき少なくとも１つのコネクタを決定するステップ（６０７）と、
前記コネクタに接続すべきケーブルの第２のリストを表示するステップ（６０８）と、
前記第２のリスト中の少なくとも１本のケーブルを選択するステップ（６０９）と、
前記選択された少なくとも１本のケーブルに対してユーザーが実施すべき少なくとも１つの作業に関する情報ウィンドウを表示するステップ（６１０）であって、前記情報ウィンドウが、前記作業の実施のために使用すべき少なくとも１つの工具の指定を含んでいるステップと、
ケーブルに対する作業実施用の前記少なくとも１つの工具に結びつけられた第１の識別子を決定するステップと、
前記情報ウィンドウ内で指定された前記少なくとも１つの工具に結びつけられた第２の識別子と前記第１の識別子とを比較するステップと、を含む、ケーブルハーネスの生産を支援する方法において、
第１の識別子と第２の識別子が対応しない場合にエラーメッセージを表示するステップと、
第１の識別子と第２の識別子が対応した場合に、前記選択された少なくとも１本のケーブルに対しユーザーが実施すべき後続する少なくとも１つの作業に関する情報ウィンドウを表示するステップと、
第１の識別子と第２の識別子が対応した場合に前記作業に関する情報を表示するステップ、のうちの少なくとも１つをさらに含む、ケーブルハーネスの生産を支援する方法。
【請求項２】
前記スクリーンに結びつけられた固定表面上に少なくとも１つのケーブル進行要素を固定するための少なくとも１つの指示を、前記配線図上に表示するステップをさらに含む請求項１に記載の方法。
【請求項３】
リスト中からユーザーが少なくとも１本のケーブルを選択するため、前記ケーブルハーネス生産支持体上に設置すべきケーブルの第１のリストを表示するステップをさらに含む、請求項１又は２に記載の方法。
【請求項４】
前記少なくとも１つのケーブルに対する作業実施用工具に結びつけられたデータ媒体を読取ることによって前記第１の識別子が決定される、請求項１〜３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項５】
前記第１の識別子が、前記少なくとも１つのケーブルに対する作業実施用工具に取付けられたラベル上でスキャンされる、請求項４に記載の方法。
【請求項６】
第１の識別子と第２の識別子が対応した場合、前記選択された少なくとも１本のケーブルと対応させて前記第１の識別子を記録するステップをさらに含む、請求項１〜５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項７】
プロセッサによりロードされ実行される場合に、請求項１〜６のいずれか一項に記載の方法を実施するための命令を含む、コンピュータプログラム。
【請求項８】
ケーブルハーネス（１００）の生産支持体において、
少なくとも１つのケーブルハーネス生産支援データ表示スクリーン（１０１）と、
前記少なくとも１つの表示スクリーンに結びつけられ、少なくとも１つのケーブル進行要素（２００、２１１）を収容するように構成されている少なくとも１つの固定表面（１０３、４００）と、
請求項１〜６のいずれか一項に記載の方法を実施するように構成された処理ユニットと、を含む、ケーブルハーネス生産支持体。
【請求項９】
前記少なくとも１つの固定表面が、少なくとも１つの延長部材（３００、３０５）を収容するように構成され、前記延長部材が複数の進行要素を収容するように構成されている、請求項８に記載の支持体。
【請求項１０】
前記固定表面が、少なくとも１つの吸盤付きケーブル進行要素または少なくとも１つの延長部材を固定するための少なくとも１つの平担な部分を含む、請求項８又は９に記載の支持体。
【請求項１１】
前記固定表面または前記延長部材が、少なくとも１つのケーブル進行要素または少なくとも１つの延長部材の第２の協働要素と協働するための少なくとも１つの第１の協働要素を含んでおり、前記協働が、前記少なくとも１つのケーブル進行要素または前記延長部材の固定を可能にする、請求項８〜１０のいずれか一項に記載の支持体。
【請求項１２】
前記第１の協働要素が１つの穴を含んでおり、前記第２の協働要素のロッドを前記少なくとも１つの穴の中に挿入することにより前記少なくとも１つのケーブル進行要素または前記延長部材を固定するためのものである、請求項１１に記載の支持体。
【請求項１３】
少なくとも１つの発光スクリーンを含む請求項８〜１２のいずれか一項に記載の支持体。
【請求項１４】
少なくとも１つのタッチスクリーンを含む、請求項８〜１３のいずれか一項に記載の支持体。
【請求項１５】
少なくとも１つのオーバーヘッドプロジェクションスクリーンを含む、請求項８〜１４のいずれか一項に記載の支持体。
【請求項１６】
さらに通信インターフェイスを含む、請求項８〜１５のいずれか一項に記載の支持体。
【請求項１７】
前記通信インターフェイスが、表示すべきケーブルハーネス生産支援データを表わす信号を受信するように構成されている、請求項１６に記載の支持体。
【請求項１８】
前記通信インターフェイスが、ユーザーインターフェイスデータを受信するように構成されている、請求項１６又は１７に記載の支持体。
【請求項１９】
ケーブルハーネス生産システムにおいて、
請求項８〜１８のいずれか一項に記載の少なくとも１つの支持体と、
少なくとも１つのケーブル進行要素と／または、
複数の進行要素を収容するように構成された少なくとも１つの延長部材と、を含む、ケーブルハーネス生産システム。
【請求項２０】
前記少なくとも１つのケーブル進行要素および／または前記延長部材が固定用吸盤を含む、請求項１９に記載のシステム。
【請求項２１】
前記少なくとも１つのケーブル進行要素および／または前記延長部材が、前記支持体の前記固定表面の第１の協働要素と協働するための少なくとも１つの第２の協働要素を含んでおり、前記協働が前記少なくとも１つのケーブル進行要素または前記延長部材の固定を可能にしている、請求項１９に記載のシステム。
【請求項２２】
前記第２の協働要素が、前記少なくとも１つのケーブル進行要素または前記延長部材を固定するための第１の固定要素の穴の中に挿入されるように構成されたロッドを含んでいる、請求項２１に記載のシステム。
【請求項２３】
前記延長部材が、少なくとも１つの吸盤付きケーブル進行要素または少なくとも１つの延長部材を固定するための少なくとも１つの平担な部分を含む、請求項１９〜２２のいずれか一項に記載のシステム。
【手続補正書】
【提出日】平成29年4月21日(2017.4.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板処理チャンバの内面を保護するためのライナーアセンブリであって、
外面及び処理容積を画定する内面を有するリング形状の本体を有する下方ライナーであって、前記リング形状の本体はその内部を通る複数のガス流路を含み、前記複数のガス流路は前記外面を前記処理容積に結合する、下方ライナーと、
前記複数のガス流路と揃えられた複数のフローガイドを含む、前記リング形状の本体の上方に配置された上方ライナーと
を備えた、ライナーアセンブリ。
【請求項２】
前記リング形状の本体の前記複数のガス流路と反対側にある排気開口部と、前記排気開口部と前記複数のガス流路の間で前記リング形状の本体を通る基板開口部とをさらに有する、請求項１に記載のライナーアセンブリ。
【請求項３】
前記下方ライナーがさらに前記上方ライナーと対向する上面を備え、前記複数のガス流路の各々は垂直部分と結合された水平部分を備える、請求項１に記載のライナーアセンブリ。
【請求項４】
前記水平部分は前記リング形状の本体の前記外面に対して開かれ、前記垂直部分は、前記リング形状の部分の上面に対して開かれる上端と、前記水平部分と結合する下端とを有する、請求項３に記載のライナーアセンブリ。
【請求項５】
前記上方ライナーは、半径方向内向きに延在するリップを有するリング形状の本体を含み、前記リップは中心開口部を画定する、請求項１に記載のライナーアセンブリ。
【請求項６】
前記リップは、前記下方ライナーから離れて配置される、請求項５に記載のライナーアセンブリ。
【請求項７】
前記上方ライナーの前記リング形状の本体は、前記下方ライナーに面する湾曲した内面を有する、請求項５に記載のライナーアセンブリ。
【請求項８】
前記複数のフローガイドは、前記内面に形成される、請求項７に記載のライナーアセンブリ。
【請求項９】
前記上方ライナーと前記下方ライナーは石英を含む、請求項１に記載のライナーアセンブリ。
【請求項１０】
基板処理チャンバの内面を保護するためのライナーアセンブリであって、
外面と内面を有するリング形状の本体を有するライナー本体を備え、前記リング形状の本体は、複数の傾斜したチャネルと結合する複数の水平チャネルを有し、
前記リング形状の本体の前記内面に装着された注入リングを更に備え、前記注入リングはそこを通って形成される複数の水平チャネルを有し、前記複数の水平チャネルの各々は、前記複数の傾斜したチャネルの１つに揃えられ、結合される、ライナーアセンブリ。
【請求項１１】
前記注入リングを通って形成される前記複数の水平チャネルは互いに平行である、請求項１０に記載のライナーアセンブリ。
【請求項１２】
前記リング形状の本体の前記内面に取り付けられた複数の注入ブロックを更に備え、各注入ブロックはそこを通って形成される水平チャネルを含み、各注入ブロックの前記水平チャネルは前記複数の傾斜したチャネルの１つに揃えられる、請求項１０に記載のライナーアセンブリ。
【請求項１３】
前記注入ブロックを通って形成される前記水平チャネルは互いに平行である、請求項１２に記載のライナーアセンブリ。
【請求項１４】
基板を処理するための方法であって、
複数の加熱素子からの放射エネルギーを基板処理チャンバ内部に配向すること、及び
前記処理チャンバ内に配置されるライナーアセンブリ内に形成される複数のガス流路を使用して処理ガスの流れを調整することを含み、前記ライナーアセンブリは、外面及び処理容積を画定する内面を有するリング形状の本体を備え、前記リング形状の本体は、前記外面を前記処理容積に結合する複数のガス流路を含み、前記ライナーアセンブリはさらに前記リング形状の本体の上方に配置された上方ライナーを備え、前記上方ライナーは前記複数のガス流路と揃えられた複数のフローガイドを含む、方法。
【請求項１５】
前記処理ガスの流れを調整することは、前記流れを複数の傾斜したチャネルを通るように配向することを含む、請求項１４に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成29年4月12日(2017.4.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第1の方向に巻かれた第1のコイルセクションと、
前記第1のコイルセクションと同一平面上にあり前記第1の方向とは反対の第2の方向に巻かれた第2のコイルセクションと
を含む、第1のコイル構造と、
第2のコイル構造と、
フェライトブロック構造であって、縦方向に延びるスロットによって分離される2つのフェライトブロックセクションと、前記第1のコイル構造から延びる少なくとも1つのワイヤと、前記フェライトブロック構造中の前記縦方向に延びるスロットの一部分を通って延び、前記第2のコイル構造から延びる少なくとも1つのワイヤとを含む、フェライトブロック構造とを含む、充電パッド。
【請求項２】
前記第1のコイルセクションが第1の柱の周りに巻かれ、前記第2のコイルセクションが第2の柱の周りに巻かれ、前記縦方向に延びるスロットが、前記第1の柱と前記第2の柱との間を延びる幾何学的な線に実質的に平行である、請求項1に記載のパッド。
【請求項３】
前記第1の柱および前記第2の柱からの磁束が反対の方向である、請求項2に記載のパッド。
【請求項４】
前記第2のコイル構造が第1の柱の周りに巻かれ、前記縦方向に延びるスロットが前記第1の柱と実質的に交差する、請求項1に記載のパッド。
【請求項５】
前記第2のコイル構造が垂直な磁束と相互作用する、請求項4に記載のパッド。
【請求項６】
前記フェライトブロック構造中の前記縦方向に延びるスロットが、前記第1のコイル構造の前記第1のコイルセクションおよび前記第2のコイルセクションの中心を通り、前記第2のコイル構造の中心を通る、請求項1に記載のパッド。
【請求項７】
前記第2のコイル構造が、前記フェライトブロック構造と前記第1のコイル構造との間に位置する、または
前記フェライトブロック構造が、複数のフェライトタイルを含むモジュール式フェライトブロック組立体である、請求項1に記載のパッド。
【請求項８】
前記フェライトブロック構造を支持する底板と、
前記第1のコイル構造を支持するパッドカバーとを追加で含み、前記底板が、前記第1のコイル構造、前記第2のコイル構造、およびそれらの間に配設される前記フェライトブロック構造によって、前記パッドカバーに固定される、請求項1に記載のパッド。
【請求項９】
前記2つのフェライトブロックセクションの各々が、複数のフェライトブロックの実質的に連続的な組立体である、または
前記第1のコイル構造および前記第2のコイル構造が、前記フェライトブロック構造の一側面に主に配設される、請求項1に記載のパッド。
【請求項１０】
フェライトタイルの角の各々が少なくともわずかな面取りを含む、請求項2に記載のパッド。
【請求項１１】
フェライトタイルが、
複数の実質的に長方形のフェライトタイルと、
少なくとも1つの面取りされた角を有する複数のフェライトタイルとを含み、前記面取りされた角がフェライトブロック組立体を通って延びる開口を形成するように互いに隣接して位置するように、前記複数のフェライトタイルのうちの4つが配置される、請求項2に記載のパッド。
【請求項１２】
前記第1のコイル構造が、前記第1のコイルセクションから延びる第1のワイヤと、前記第2のコイルセクションから延びる第2のワイヤとを含み、
前記第2のコイル構造が、前記第2のコイル構造の内部から延びる第3のワイヤと、前記第2のコイル構造の外部から延びる第4のワイヤとを含み、少なくとも前記第1のワイヤ、前記第2のワイヤ、および前記第3のワイヤが、前記フェライトブロック構造中の前記縦方向に延びるスロットの一部分を通って延びる、請求項1に記載のパッド。
【請求項１３】
前記第1のワイヤおよび前記第2のワイヤが、前記第2のコイル構造の中心を通過し、前記第2のコイル構造を間にして前記第1のコイル構造の前記第1のコイル部分および前記第2のコイル部分と反対側で、前記第2のコイル構造を横切る、請求項12に記載のパッド。
【請求項１４】
前記第2のコイル構造を支持する支持板を追加で含む、請求項13に記載のパッド。
【請求項１５】
前記支持板が、
前記第2のコイル構造の前記内部に位置する第1の複数の溝セグメントと、
前記第2のコイル構造の前記外部に位置し前記第1の複数の溝セグメントと協調して前記第2のコイル構造を横切って延びる少なくとも3つのワイヤ経路を画定する第2の複数の溝セグメントとを含み、
前記第1のワイヤ、前記第2のワイヤ、および前記第3のワイヤが、前記少なくとも3つのワイヤ経路内に保持される、請求項14に記載のパッド。
【手続補正書】
【提出日】平成29年4月24日(2017.4.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ビデオスクリーン又はフィルムに表示される画像の少なくとも一部をカメラにより取得し、それを示す信号を生成するステップであって、前記画像の少なくとも一部が、ソフトウェア視覚化アプリケーションを識別する符号化された情報を有し、前記ソフトウェア視覚化アプリケーションは前記符号化された情報なしには利用できない、ステップと、
前記符号化された情報を識別し読み取るステップと、
前記符号化された情報から読み取られた前記ソフトウェア視覚化アプリケーションのコンピュータ実行可能命令を実行するステップと、
を含む方法。
【請求項２】
前記符号化された情報が、前記画像に付加されるバーコードに含められる、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記バーコードは、前記画像が生成されるときに前記画像に付加される、請求項２に記載の方法。
【請求項４】
前記バーコードは、前記画像が生成された後に前記画像に付加される、請求項２に記載の方法。
【請求項５】
前記バーコードが、最大２０００バイトのデータを有する、請求項２乃至４のいずれか１項に記載の方法。
【請求項６】
前記バーコードは、解剖学的情報又はオーバレイ情報が位置しない前記画像の矩形領域に位置される、請求項２乃至５のいずれか１項に記載の方法。
【請求項７】
前記バーコードは、前記画像の周辺に沿って位置する、請求項２乃至５のいずれか１項に記載の方法。
【請求項８】
前記情報が、オーバレイ情報であり、前記方法が、前記表示される画像上に前記オーバレイ情報を重ね合せるステップを更に有する、請求項１乃至７のいずれか１項に記載の方法。
【請求項９】
前記オーバレイ情報は、前記画像内の解剖学的構造上に重ね合わせられる標識を含む、請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
前記表示上の前記符号化された情報のロケーション及びスケールから前記オーバレイ情報のロケーション及びスケールを自動的に較正するステップ、
を有する請求項８又は９のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１１】
前記ソフトウェア視覚化アプリケーションは、前記画像を表示するコンピューティングシステム上に位置する、請求項１乃至８のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１２】
前記ソフトウェア視覚化アプリケーションは、前記画像を表示するコンピューティングシステムから遠隔に位置し、ネットワークを通じてアクセスされる、請求項１乃至８のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１３】
前記識別され読み取られた符号化された情報を医療リポートに自動的に追加するステップ、
を有する、請求項１乃至１０のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１４】
前記ソフトウェア視覚化アプリケーションは、前記画像を操作する命令を含む、請求項１乃至１３のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１５】
スキャンされた解剖学的構造が表示される第１の領域と、情報が表示されない第２の領域と、を有し、前記第２の領域が、実行されるソフトウェア視覚化アプリケーションを識別する前記符号化された情報を有し、前記ソフトウェア視覚化アプリケーションは前記符号化された情報なしには利用できない、画像。
【手続補正書】
【提出日】平成29年3月28日(2017.3.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
モバイルデバイスにおけるターゲットキーワードによる音声アクティブ化を制御するための方法であって、前記方法は、
前記モバイルデバイスの音声アクティブ化ユニットが非アクティブ状態にある間に入力サウンドストリームを受信することと、
前記入力サウンドストリームがしきい値サウンド強度を越えるとき、前記モバイルデバイスのスピーチ検出器をアクティブ化することと、
前記スピーチ検出器が前記入力サウンドストリームがスピーチを含むと決定するとき、前記入力サウンドが前記ターゲットキーワードを含むかどうかを検出するために音声アクティブ化ユニットをアクティブ化することと、
前記入力サウンドストリームから少なくとも１つのサウンド特徴を抽出することと、
前記少なくとも１つのサウンド特徴が非ターゲットキーワードを示すとき、前記音声アクティブ化ユニットを非アクティブ化することと
を備える、方法。
【請求項２】
前記少なくとも１つのサウンド特徴の非ターゲットキーワードステータスに対応する第１のメトリックを決定することと、
前記第１のメトリックを前記入力サウンドストリームに基づく第２のメトリックと比較することと、ここにおいて、前記少なくとも１つのサウンド特徴は、前記比較の結果に基づいて前記非ターゲットキーワードを示すことを決定される、
をさらに備える、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記少なくとも１つのサウンド特徴からキーワードスコアおよび非キーワードスコアを決定することをさらに備える、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記音声アクティブ化ユニットを非アクティブ化することは、前記非キーワードスコアが、前記キーワードスコアを第１のスコアしきい値よりも多く超えるとき、前記音声アクティブ化ユニットを非アクティブ化することを含む、請求項３に記載の方法。
【請求項５】
前記音声アクティブ化ユニットを非アクティブ化することは、第１の時間期間の間の前記非キーワードスコアの第１の平均および第２の時間期間の間の前記非キーワードスコアの第２の平均に基づいて、前記音声アクティブ化ユニットを非アクティブ化することを含む、請求項３に記載の方法。
【請求項６】
前記音声アクティブ化ユニットを非アクティブ化することは、前記第１の平均が、前記第２の平均より第２のスコアしきい値よりも多く大きいとき、前記音声アクティブ化ユニットを非アクティブ化することを含む、請求項５に記載の方法。
【請求項７】
前記音声アクティブ化ユニットを非アクティブ化した後に受信された後続する入力サウンドストリームがスピーチを示すとき、前記音声アクティブ化ユニットを再アクティブ化することと、
前記後続する入力サウンドストリームから抽出された少なくとも１つのサウンド特徴が非ターゲットキーワードを示すとき、前記音声アクティブ化ユニットを非アクティブ化することと
をさらに備える、請求項１に記載の方法。
【請求項８】
前記音声アクティブ化機能が非アクティブ化された回数をカウントすることさらに備え、
ここにおいて、前記音声アクティブ化ユニットを再アクティブ化することは、前記音声アクティブ化ユニットが非アクティブ化された前記回数が特定の数よりも少ないとき、前記音声アクティブ化ユニットを再アクティブ化することを含む、
請求項７に記載の方法。
【請求項９】
前記音声アクティブ化ユニットが非アクティブ化された前記回数が、前記特定の数以上である場合、前記受信された入力サウンドストリームにおける無音の持続時間を決定することと、
前記無音の持続時間が特定の時間期間を超える場合、前記音声アクティブ化ユニットを再アクティブ化することと
をさらに備える、請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
前記音声アクティブ化ユニットが非アクティブ化された前記回数が、前記特定の数以上である場合、前記受信された入力サウンドストリームのコンテキストにおける変化を検出することと、
前記受信された入力サウンドストリームの前記コンテキストにおける前記変化が検出された場合、前記音声アクティブ化ユニットを再アクティブ化することと
をさらに備える、請求項８に記載の方法。
【請求項１１】
前記音声アクティブ化ユニットが非アクティブ化された前記回数が、前記特定の数以上である場合、特定の時間期間の間、前記入力サウンドストリームを受信することを非アクティブ化することをさらに備える、請求項８に記載の方法。
【請求項１２】
前記入力サウンドストリームを受信することは、前記入力サウンドストリームがスピーチを示すかどうかを決定することを含む、請求項８に記載の方法。
【請求項１３】
前記音声アクティブ化ユニットが非アクティブ化された前記回数が、前記特定の数以上である場合、特定の時間期間の間、前記入力サウンドストリームがスピーチを示すかどうかを決定することを非アクティブ化することをさらに備える、請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
ターゲットキーワードによる音声アクティブ化を制御するためのモバイルデバイスであって、前記モバイルデバイスは、
前記モバイルデバイスの音声アクティブ化ユニットが非アクティブ状態にある間に入力サウンドストリームを受信するための手段と、
前記入力サウンドストリームがしきい値サウンド強度を越えるとき、前記モバイルデバイスのスピーチ検出器をアクティブ化するための手段と、
前記スピーチ検出器が前記入力サウンドストリームがスピーチを含むと決定するとき、前記入力サウンドが前記ターゲットキーワードを含むかどうかを検出するために音声アクティブ化ユニットをアクティブ化するための手段と、
前記入力サウンドストリームから少なくとも１つのサウンド特徴を抽出するための手段と、
前記少なくとも１つのサウンド特徴が非ターゲットキーワードを示すとき、前記音声アクティブ化ユニットを非アクティブ化するための手段と
を備える、モバイルデバイス。
【請求項１５】
モバイルデバイスにおけるターゲットキーワードによる音声アクティブ化を制御するための命令を記憶した非一時的なコンピュータ可読記憶媒体であって、前記命令は、プロセッサに請求項１から請求項１３のうちのいずれか一項の方法を行わせる、非一時的なコンピュータ可読記憶媒体。