(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
精錬鍋の上部に真空槽が昇降自在に配設され、該真空槽の下端を前記精錬鍋の溶鋼に浸漬して該溶鋼を吸い上げ脱ガス等を行う真空精錬設備において、
前記真空槽を垂直ガイド支柱に沿って昇降させる真空槽昇降装置と、前記真空槽の上方に配設され、上部が固定ダクトに摺動自在に接続されると共に下端開口部が前記真空槽の上端開口部にシールリングを介して載置状態に接続されるスライドダクトと、該スライドダクトの下降限を規制するダクト下限ストッパーとを具備し、前記真空槽の昇降に連動して前記スライドダクトを昇降可能とすると共に、前記真空槽の所定距離以上の下降動作によって前記真空槽を前記スライドダクトから分離可能としたことを特徴とする真空精錬設備。
【請求項２】
前記スライドダクトは前記固定ダクトに摺動自在に嵌合され、前記スライドダクトと前記固定ダクトの摺動嵌合面には環状シールが介設されていることを特徴とする請求項１記載の真空精錬設備。
【請求項３】
前記スライドダクトの下部の筒状接続部に合金添加シュートが取付けられ、該合金添加シュートは合金添加装置に連通連結される上部固定シュートと該上部固定シュートに摺動自在に取付けられる下部昇降シュートとから形成され、該下部昇降シュートの下端は前記筒状接続部に着脱自在に接続されると共に、該下部昇降シュートの側壁部は前記スライドダクトに固定連結されることを特徴とする請求項１又は２記載の真空精錬設備。
【請求項４】
前記筒状接続部の頂部にシール装置を具備するランス挿入開口部が設けられ、該シール装置を通して長尺の酸素ランスが前記精錬鍋に向けて進退可能に取付けられていることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の真空精錬設備。
【請求項５】
前記真空槽昇降装置が前記垂直ガイド支柱に沿って昇降する昇降台を具備し、該昇降台に前記真空槽を着脱自在に把持可能な真空槽把持装置が取付けられていることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の真空精錬設備。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、溶鋼等の真空脱ガス法に用いる真空精錬設備に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来、真空槽の下端を精錬鍋内の溶鋼中に浸漬し、溶鋼を吸い上げて脱ガスを行う真空精錬設備として、図１３及び図１４に示す形態の真空精錬設備Ｂ、Ｃがある。
図１３に示す真空精錬設備Ｂは、精錬鍋１００を真空槽１０１まで鍋押し上げ装置１０２を用いて押し上げ、真空槽１０１の下端を精錬鍋１００内の溶鋼中に浸漬させるようにしたものである。
【０００３】
一方、図１４に示す真空精錬設備Ｃは、中央部が支持台１０３によって揺動自在に支持されている揺動アーム１０４の一端に真空槽１０５を載置すると共に、揺動アーム１０４の他端に油圧シリンダ１０６を取付け、油圧シリンダ１０６の作動によって真空槽１０５を下降して、その下端を精錬鍋１０７内の溶鋼中に浸漬させるようにしたものである。
かかる構成によって、真空精錬設備Ｂ，Ｃは、いずれも、精錬鍋１００、１０７から溶鋼を吸い上げることによって脱ガスを行うことができる。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、上記した従来の真空精錬設備Ｂ、Ｃは、未だ、以下の解決すべき課題を有していた。
即ち、図１３に示すように、真空精錬設備Ｂにおいては、精錬鍋１００と溶鋼とを押し上げなければならないために、鍋押し上げ装置１０２は大きな推力を必要とし、そのため大型化し、この大型化によって鍋押し上げ装置１０２を設置するためのピットも大きくしなければならない。従って、真空精錬設備Ｂの設備費は高額となり、また、設置床面の耐久性の点から問題があった。
【０００５】
一方、図１４に示すように、真空精錬設備Ｃにおいては、真空槽１０５は真空ダクト１０８を真空槽１０５の昇降に追随して昇降させるためにスイベルジョイントを用いて真空槽１０５に接続する必要があり、このスイベルジョイントは、高温かつ大量の粉塵が通過するため大型のものとする必要がある。また、スイベルジョイント保護のため、スイベルジョイントの上流側にガスクーラーを設ける必要がある。さらに、通常、真空槽１０５には、酸素供給装置や合金供給装置等が取付けられている。従って、油圧シリンダ１０６は、真空槽１０５の重量のみならず、真空ダクト１０８、スイベルジョイント、ガスクーラー、酸素供給装置、合金供給装置等の重量物も一体的に昇降しなくてはならず、油圧シリンダ１０６が大型化し、油圧シリンダ１０６を設置する基礎も大型化し、真空精錬設備Ｃの設備費は真空精錬設備Ｂと同様に高額なものとなっていた。
【０００６】
また、真空槽１０５を交換するためには、真空槽１０５を別の昇降ウインチによって真空精錬設備Ｃから切り離し、補修位置まで搬送する必要があり、ユーティリティの供給装置等も複雑なものとなっていた。
【０００７】
本発明は、このような事情に鑑みなされたものであり、真空槽を昇降する真空槽昇降装置の昇降重量を軽減することによって真空精錬設備の設備費の低減を図ることができると共に、真空槽の補修作業も円滑に行うことができる真空精錬設備を提供することを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
前記目的に沿う請求項１記載の真空精錬設備は、精錬鍋の上部に真空槽が昇降自在に配設され、該真空槽の下端を前記精錬鍋の溶鋼に浸漬して該溶鋼を吸い上げ脱ガス等を行う真空精錬設備において、前記真空槽を垂直ガイド支柱にそって昇降させる真空槽昇降装置と、前記真空槽の上方に配設され、上部が固定ダクトに摺動自在に接続されると共に下端開口部が前記真空槽の上端開口部にシールリングを介して載置状態に接続されるスライドダクトと、該スライドダクトの下降限を規制するダクト下限ストッパーとを具備し、前記真空槽の昇降に連動して前記スライドダクトを昇降可能とすると共に、前記真空槽の所定距離以上の下降動作によって前記真空槽を前記スライドダクトから分離可能としている。
【０００９】
請求項２記載の真空精錬設備は、請求項１記載の真空精錬設備において、前記スライドダクトは前記固定ダクトに摺動自在に嵌合され、前記スライドダクトと前記固定ダクトの摺動嵌合面には環状シールが介設されている。
【００１０】
請求項３記載の真空精錬設備は、請求項１又は２記載の真空精錬設備において、前記スライドダクトの下部の筒状接続部に合金添加シュートが取付けられ、該合金添加シュートは合金添加装置に連通連結される上部固定シュートと該上部固定シュートに摺動自在に取付けられる下部昇降シュートとから形成され、該下部昇降シュートの下端は前記筒状接続部に着脱自在に接続されると共に、該下部昇降シュートの側壁部は前記スライドダクトに固定連結される。
【００１１】
請求項４記載の真空精錬設備は、請求項１〜３のいずれか１項に記載の真空精錬設備において、前記筒状接続部の頂部にシール装置を具備するランス挿入開口部が設けられ、該シール装置を通して長尺の酸素ランスが前記精錬鍋に向けて進退可能に取付けられている。
請求項５記載の真空精錬設備は、請求項１〜４のいずれか１項に記載の真空精錬設備において、前記真空槽昇降装置が前記垂直ガイド支柱に沿って昇降する昇降台を具備し、該昇降台に前記真空槽を着脱自在に把持可能な真空槽把持装置が取付けられている。
【００１２】
【発明の実施の形態】
続いて、添付した図面を参照しつつ、本発明を具体化した実施の形態につき説明し、本発明の理解に供する。
【００１３】
まず、図１〜図３を参照して本発明の一実施の形態に係る真空精錬設備Ａの全体構成を説明する。
本実施の形態では、図１に示すように、真空精錬設備Ａは、複数の支柱１０の上部を上架フレーム１１によって連結することによって構成される建屋１２の一角に設置されている。
床面１３上には精錬鍋移送台車１４が載置されており、精錬鍋移送台車１４の上面には精錬鍋１５が載置されている。精錬鍋１５の上部には真空槽１６が昇降自在に配設されており、この真空精１６は、その下端を精錬鍋１５の溶鋼１７に浸漬して溶鋼１７を吸い上げ脱ガス等を行うことができる。
【００１４】
床面１３上には、精錬鍋移送台車１４に並設された状態で垂直ガイド支柱１８が立設されており、垂直ガイド支柱１８には昇降台１９が昇降自在に取付けられている。図１に示すように、昇降台１９は、垂直ガイド支柱１８に昇降自在に取付けられる縦長の昇降フレーム２０と、基部が昇降フレーム２０に直交状態に取付けられると共に先部が真空槽１６に向けて水平に伸延する真空槽載置ビーム２１とを具備する。そして、真空槽載置ビーム２１の先部には真空槽把持装置２９が取付けられており、この真空槽把持装置２９に真空槽１６が着脱自在に取付けられている。
【００１５】
図１及び図２に示すように真空槽１６の上部には、真空ダクト２３が配設されている。真空ダクト２３は、上部が建屋１２の一部をなす小横架ビーム２４にブラケット２５を介して固定連結されると共に下部に伸縮ダクト２７を具備する固定ダクト２６と、上部が固定ダクト２６の下端に摺動自在に嵌合されると共に、下部に筒状接続部２２を具備するスライドダクト２８とから構成され、筒状接続部２２の下端開口部は真空槽１６の上端開口部にシールリングの一例であるＯリング５３を介して載置状態に接続されている。また、スライドダクト２８は、筒状接続部２２と共に、真空槽１６の昇降に連動して昇降するように構成されている。
【００１６】
図１及び図２に示すように、スライドダクト２８はダクト昇降フレーム３１上に載置されており、ダクト昇降フレーム３１は建屋１２の一部をなす固定垂直支柱３０に昇降自在に取付けられている。
図１に示すように、筒状接続部２２の頂部にはランス挿入開口部３２が設けられ、このランス挿入開口部３２を貫通して長尺の酸素ランス３３が精錬鍋１５に向けて進退自在に取付けられている。酸素ランス３３の頂部はランス昇降フレーム３４上に載置されており、ランス昇降フレーム３４は、建屋１２の一部をなす固定垂直支柱３５に昇降自在に取付けられている。
【００１７】
図３に示すように、真空ダクト２３の背部には合金添加シュート３６が配設されている。合金添加シュート３６は建屋１２の一部をなす水平ビーム３７に固定連結される上部固定シュート３８と、上部固定シュート３８に摺動自在に取付けられる二つの下部昇降シュート３９、４０とから形成され、最下段の下部昇降シュート４０の下端は筒状接続部２２に着脱連結装置４１を介して着脱自在に連結されている。
【００１８】
次に、上記した全体構成を有する真空精錬設備Ａの各部の構成について、図１〜図１２を参照して詳細に説明する。
（真空槽１６）
図１に示すように、真空槽１６は縦長の筒体から構成されており、内部には溶鋼流入空間が設けられている。一方、真空槽１６の外面の上部と中間部には、それぞれ、真空槽把持装置２９によって把持される第１の受けブラケット４２と、図示しない真空槽交換台車上に載置される第２の受けブラケット４３が取付けられている。
【００１９】
（昇降台１９）
図１に示すように、昇降台１９の昇降フレーム２０は上下の案内車輪４４、４５を具備しており、この案内車輪４４、４５によって垂直ガイド支柱１８に沿って円滑に昇降されることになる。
【００２０】
昇降台１９を昇降するための真空槽昇降装置４６として各種形態のものが考えられるが、本実施の形態では、真空槽昇降装置４６は、昇降フレーム２０の上端にプーリ４７を取付け、一端が垂直ガイド支柱１８の上端に結着されているワイヤ４８の他端を下方に伸延してプーリ４７に巻回した後上方に伸延し、垂直ガイド支柱１８の上端に設置されているプーリ４９に巻回した後下方に伸延し、床面１３上に設置されている巻き取りウインチ５０に巻回することによって構成されている。
【００２１】
かかる構成によって、巻き取りウインチ５０を作動することによって、昇降台１９を垂直ガイド支柱１８に沿って昇降することができ、この昇降に連動して、真空槽把持装置２９及び真空槽１６も一体的に昇降することができる。また、真空槽昇降装置４６は、従来と異なり、真空槽把持装置２９及び真空槽１６のみを昇降すればよく、重量物である真空ダクト２３や、合金添加シュート３６や、後述するランス昇降装置７９等は昇降する必要がないので、駆動力を可及的に小さくすることができる。即ち、真空槽昇降装置４６を可及的に小型化することができる。
【００２２】
（筒状接続部２２）
図４に示すように、筒状接続部２２は後述するスライドダクト２８の一部を形成すると共に、真空槽１６にスライドダクト２８を接続するために用いられるものである。図２に示すように、筒状接続部２２の下部には水冷ジャケット構造の環状フランジ５１が取付けられている。そして、環状フランジ５１は、真空槽１６の頂部に取付けられた水冷ジャケット構造の環状フランジ５２の上面に整合状態に載置されている。
【００２３】
真空槽１６と筒状接続部２２との間のシール性を高めるため、環状フランジ５１、５２間にはシールリングの一例であるゴム製のＯリング５３が装着されている。即ち、筒状接続部２２の重量によってＯリング５３を圧縮することによって高い気密性を得ることができる。また、真空槽１６内が真空発生装置によって減圧状態となった際は、筒状接続部２２と真空槽１６のシール性はさらに高められることになる。
【００２４】
図２に示すように、筒状接続部２２の周壁の一部には側方接続部５４が設けられており、この側方接続部５４にスライドダクト２８の本体部が気密状態に連設されている。また、図２、図３及び図７に示すように、筒状接続部２２の頂部には後述するランス挿入開口部３２が形成されている。
【００２５】
（真空ダクト２３）
真空ダクト２３は真空槽１６内を真空にするために用いられるものであり、その下端に設けた筒状接続部２２を介して真空槽１６に接続されると共に、その上端は図示しない真空発生装置に接続されている。
図５に示すように、真空ダクト２３は、固定ダクト２６に対してスライドダクト２８が摺動自在に嵌合することによって構成されるが、固定ダクト２６とスライドダクト２８との間のシール性を確保するため、以下の構成となっている。
【００２６】
即ち、図６に示すように、スライドダクト２８の上端には、上下端に上、下フランジ５５、５６を具備する筒状シール部５７が取付けられており、筒状シール部５７の内面には複数の環状シール５８が装着されている。そして、これらの環状シール５８の内面は、水冷ジャケット構造を有する固定ダクト２６の周壁に摺動自在に当接されている。また、上フランジ５５上には、内周面に環状溝を具備する厚肉のシール取付リング５９が取付けられており、環状溝内には、外部から供給される圧力気体によって膨張し、固定ダクト２６の周壁に押圧されるタイヤ状のゴム製シール５９ａが嵌着されている。
また、図６に示すように、シール取付リング５９の上面には、円周方向に間隔を開けて複数の案内ローラ６０がブラケット６１を介して取付けられており、各案内ローラ６０の外周面は固定ダクト２６の外周面に転動自在に当接されている。
【００２７】
固定ダクト２６の一部をなす伸縮ダクト２７は、図２及び図３に示すように、伸縮ダクト本体６２の上、下端にフランジ付蛇腹部６３、６４を取付けると共に、タイロッド６５によってフランジ付蛇腹部６３、６４のフランジ同士を連結することによって構成されている。
かかる構成によって、大きなスイベルジョイントを用いることなく、十分なシール性を確保し、かつ、固定ダクト２６とスライドダクト２８間の相対的な摺動のみならず一定の相対回転を可能とすることによって、筒状接続部２２の昇降時の芯のずれ、即ち、筒状接続部２２に対する真空ダクト２３の前後左右方向の横揺れを吸収することができ、真空ダクト２３及び筒状接続部２２の円滑な昇降動作を確保することができる。
【００２８】
また、図１及び図２に示すように、スライドダクト２８が載置されるダクト昇降フレーム３１は、ダクト昇降装置６６によって固定垂直支柱３０に沿って昇降可能な構成となっている。即ち、ダクト昇降装置６６は、ダクト昇降フレーム３１の上端にプーリ６７を取付け、一端が固定垂直支柱３０の上端に結着されているワイヤ６８の他端を下方に伸延してプーリ６７に巻回した後上方に伸延し、固定垂直支柱３０の上端に設置されているプーリ６９に巻回した後に、床面１３上に立設されている垂直支柱７０の上端に設置されている巻き取りウインチ７１に巻回することによって構成されている。
【００２９】
かかる構成によって、巻き取りウインチ７１を作動することによって、ダクト昇降フレーム３１を固定垂直支柱３０に沿って昇降することができ、この昇降によって、スライドダクト２８を真空槽１６と同期して昇降することができる。
なお、ダクト昇降装置６６を不要として、スライドダクト２８を筒状接続部２２と共に真空槽１６の上部に載置する構成とすることもできる。この場合も、スライドダクト２８を真空槽１６と同期して昇降することができる。
【００３０】
また、固定垂直支柱３０の下部にはダクト下限ストッパー３０ａが取付けられており、ダクト昇降フレーム３１の下限を設定している。従って、スライドダクト２８の下限が規制されることになり、真空槽昇降装置４６を作動して真空槽１６を下降した際、スライドダクト２８も下限位置までは一体的に下降することになるが、真空槽昇降装置４６を作動して真空槽１６をさらに下降する、即ち、昇降槽１６の所定距離以上下降すると、真空槽１６のみが下降して真空槽１６は筒状接続部２２から分離され、その後、真空槽１６を真空槽把持装置２９から離脱することによって、図示しない真空槽交換台車上に真空槽１６のみを積載することができる。
【００３１】
（ランス挿入開口部３２）
図７及び図８に示すように、筒状接続部２２の頂部には水冷ジャケット構造の環状台座７２が形成されており、この環状台座７２上には環状台座７２と同一の外径を有する水冷ジャケット構造の蓋板７３が縁切線７４から接離自在に載置されている。なお、環状台座７２と蓋板７３との間にはシール装置の一例であるＯリング７２ａが介設されている。蓋板７３の中央部に開口が設けられており、開口周縁部上には同様にシール装置の一例である筒状シール部７４ａの下端が連設されている。筒状シール部７４ａの内面には複数の環状シール７５が装着されている。そして、これらの環状シール７５の内面は酸素ランス３３の外周面に摺動自在に当接されている。
【００３２】
また、筒状シール部７４ａの上部にはフランジ７６が連設されており、フランジ７６は、上端がランス昇降フレーム３４に結着されている吊支チェン７７の下端に連結されている。なお、図７において、７８は、酸素ランス３３を下降した際に弛む吊支チェン７７を収納するためのチェン保持筒である。
かかる構成によって、酸素ランス３３と筒状接続部２２とのシール性を十分に確保することができ、真空下で、酸素を精錬鍋１５中の溶鋼１７に吹き付けることができる。
【００３３】
また、図１に示すように、酸素ランス３３を昇降させるランス昇降装置７９は、本実施の形態では、ランス昇降フレーム３４の上部に設けたブラケット８０にワイヤ８１の一端を結着し、ワイヤ８１の他端を、固定垂直支柱３５の上端に取付けられているプーリ８２に巻回し、その後、同様に固定垂直支柱３５ａの上端に設置されている巻き取りウインチ８３に巻回することによって構成されている。
【００３４】
（合金添加シュート３６）
図３及び図９（ａ）、（ｂ）、（ｃ）に示すように、合金添加シュート３６は、縦長の筒体からなると共に上部が合金添加装置３６ａに連通連結されている上部固定シュート３８と、上部固定シュート３８に摺動自在に取付けられる同様に縦長の筒体からなる二つの下部昇降シュート３９、４０とから望遠鏡状に形成されており、下段の下部昇降シュート４０の下部は着脱連結装置４１を介して筒状接続部２２の周壁に設けられた合金投入口８４に着脱自在に接続されている。そして、上部固定シュート３８の下端と上段の下部昇降シュート３９の上端にはそれぞれ抜け止め防止片３８ａ、３９ａが取付けられており、上段の下部昇降シュート３９の下端と下段の下部昇降シュート４０の上端にはそれぞれ抜け止め防止片３９ｂ、４０ａが取付けられている。
【００３５】
また、下段の下部昇降シュート４０の側壁部は２つの連結アーム８５によって真空ダクト２３のスライドダクト２８に固定連結されている。
かかる構成によって、真空槽１６の昇降に連動して、筒状接続部２２及びスライドダクト２８のみならず、下部昇降シュート３９、４０を一体的に昇降することができる。この際、合金添加装置３６ａは上部固定シュート３８に連通連結されているので、真空槽１６を任意の高さ位置に保持した状態で合金を精錬鍋１５内の溶鋼１７中に投入することができる。
【００３６】
下段の下部昇降シュート４０を筒状接続部２２の合金投入口８４に着脱自在に接続する着脱連結装置４１は、本実施の形態においては、以下の構成を有する。即ち、図３に示すように、筒状接続部２２の合金投入口８４は、合金を精錬鍋１５や真空槽１６に投入しない場合には蓋体８４ａによって閉塞されている。そして、合金を投入するに際して、蓋体８４ａは旋回装置８４ｂによって旋回移動され、合金投入口８４が開くことになる。また、下段の下部昇降シュート４０の下端には、合金投入口８４に向けて先部が伸延する傾斜固定筒４１ａの上端が連設されており、傾斜固定筒４１ａ内には先部に環状フランジ４１ｂを有する連絡筒４１ｃが摺動自在に取付けられており、この環状フランジ４１ｂは駆動シリンダ４１ｄ、４１ｅによって合金投入口８４の対応する環状フランジ８４ｃに押圧状態に当接されることになる。
【００３７】
（真空槽把持装置２９）
図１及び図１０に示すように、真空槽把持装置２９は、矩形板から形成される真空槽載置板８６の基部が昇降台１９の真空槽載置ビーム２１の先部に固定連結されており、真空槽載置板８６の先部には、真空槽１６を挿通するための開口８７が設けられている。また、開口８７には円周方向に間隔をあけて３つの受けブラケット貫通溝８７ａ〜８７ｃが設けられている。そして、各受けブラケット貫通溝８７ａ〜８７ｃは、それぞれ矩形板からなる旋回受け座８８ａ〜８８ｃによって閉塞されている。
【００３８】
また、これらの旋回受け座８８ａ〜８８ｃは、旋回シリンダ８９ａ〜８９ｃによって枢軸９０ａ〜９０ｃ周りに旋回可能に構成されており、図１０に実線で示す真空槽受け位置と、仮想線で示す真空槽挿通位置との間で旋回されることになる。そして、旋回シリンダ８９ａ〜８９ｃを作動して旋回受け座８８ａ〜８８ｃを真空槽挿通位置に移動した後、真空槽載置板８６を下降して真空槽１６の第１の受けブラケット４２を受けブラケット貫通溝８７ａ〜８７ｃを通して真空槽載置板８６の上方まで下降し、その後、旋回シリンダ８９ａ〜８９ｃを作動して旋回受け座８８ａ〜８８ｃを真空槽載置位置に移動した後、真空槽載置板８６を上昇して旋回受け座８８ａ〜８８ｃの上面に第１の受けブラケット４２の下面を当接させることによって、真空槽載置板８６上に真空槽１６を載置することができる。
【００３９】
また、本実施の形態では、図１０及び図１１に示すように、旋回受け座８８ａ〜８８ｃを真空槽受け位置に固定するためのクランプ装置９１ａ〜９１ｃを有している。各クランプ装置９１ａ〜９１ｃは、実質的に、エアシリンダ９２と、各旋回受け座８８ａ〜８８ｃの側壁に設けられたクランプ片嵌入孔９３に嵌入されるクランプ片９４とから構成されている。
【００４０】
さらに、本実施の形態では、図１０及び図１２に示すように、真空槽載置板８６上には、真空槽１６を水平方向の押圧力を与えて、各旋回受け座８８ａ〜８８ｃに突設されたＬ字状のストッパープレート９５ａ〜９５ｃに真空槽１６に取付けられた第１の受けブラケット４２を押し付け、真空槽１６の位置決め・固定を行う位置決め装置が９６ａ、９６ｂが載置されている。そして、各位置決め装置９６ａ、９６ｂは、実質的に、電動シリンダ９７と、真空槽１６の外周壁９８を押圧することができる押圧棒９９とから構成されている。
【００４１】
かかる構成によって、真空槽載置板８６上の所定位置に真空槽１６を確実に載置固定することができる。
また、昇降台１９に真空槽把持装置２９を積載することにより、真空槽１６を交換する際には、地上側の真空槽交換台車等の真空槽受け装置に真空槽１６を積載し、その後、真空槽把持装置２９を開にして、真空槽１６と昇降台１９とを切り離すことによって、真空槽１６を容易に交換することができる。一方、真空槽１６を昇降台１９に載置する作業は、上記した作業を逆の手順によって行うことによって容易に行うことができる。
なお、図示の実施の形態におけるその他の構成について説明すると、図２及び図３において、９９ａは、ランス挿入開口部３２において、蓋板７３を環状台座７２にクランプするためのエアシリンダである。
【００４２】
次に、上記した構成を有する真空精錬設備Ａを用いた溶鋼精錬作業について図１〜図３を参照して以下説明する。
まず、転炉から精錬鍋移送台車１４に載せて精錬鍋１５を真空槽１６の直下まで移送する。次に、真空槽昇降装置４６を作動して昇降台１９と共に真空槽１６を下降してその下部を精錬鍋１５内の溶鋼１７中に浸漬する。この際、ダクト昇降装置６６も連動して作動し、真空槽１６に同期してスライドダクト２８及びスライドダクト２８と一体をなす筒状接続部２２も下降し、真空槽１６とスライドダクト２８とは気密状態に接続された状態を保持できる。その後、真空ダクト２３を介して真空槽１６の内部を真空にして溶鋼１７を真空槽１６内に吸引し、脱ガスを行う。
【００４３】
溶鋼精錬作業が終了した後は、真空槽昇降装置４６を作動して真空槽１６を上昇し、精錬鍋移送台車１４で精錬後の溶鋼を次の工程を行う個所に移送すると共に、転炉から精錬鍋移送台車１４に載せて新しい精錬鍋１５を真空槽１６の直下まで移送し、同様にして精錬作業を行うことができる。
【００４４】
また、真空槽１６が溶損し交換が必要となった場合は、地上側の真空槽交換台車等の真空槽受け装置に真空槽１６を積載し、その後、真空槽把持装置２９を開にして、真空槽１６と昇降台１９とを切り離すことによって、真空槽１６を容易に交換することができる。
【００４５】
以上、本発明を、一実施の形態を参照して説明してきたが、本発明は何ら上記した実施の形態に記載の構成に限定されるものではなく、特許請求の範囲に記載されている事項の範囲内で考えられるその他の実施の形態や変形例も含むものである。
【００４６】
【発明の効果】
請求項１〜５記載の真空精錬設備においては、上方に位置する固定ダクトと、真空槽昇降装置によって昇降される真空槽とをスライドダクトを介して接続するようにしているので、スライドダクトの自重と真空槽内に発生する真空力のみによってスライドダクトと真空槽との気密性を確保することができ、従来のような大型のスイベルジョイントが不要となり、真空槽を昇降するために必要な真空槽昇降装置の小型化を図ることができ、真空精錬設備の設備費の低減を図ることができる。
【００４７】
また、ダクト下限ストッパーによってスライドダクトの下降限が規制されているので、真空槽を所定距離以上下降することによって真空槽をスライドダクトから容易に分離して真空槽交換台車上に載置することができ、真空槽の補修作業を迅速かつ円滑に行うことができる。
【００４８】
請求項２記載の真空精錬設備においては、スライドダクトは固定ダクトに摺動自在に嵌合され、スライドダクトと固定ダクトの摺動嵌合面には環状シールが介設されているので、スライドダクトの円滑な昇降動作を確保しながら、真空ダクトの気密性も確保することができる。
【００４９】
請求項３記載の真空精錬設備においては、スライドダクト下部の筒状接続部には伸縮可能な合金添加シュートを介して合金添加装置が接続されているので、真空槽を任意の高さ位置に保持した状態で合金を精錬鍋内の溶鋼中に添加することができる。
【００５０】
請求項４記載の真空精錬設備においては、筒状接続部の頂部にシール装置を具備するランス挿入開口部が設けられ、シール装置を通して長尺の酸素ランスが精錬鍋に向けて進退可能に取付けられているので、十分な真空を保持しながら酸素を精錬鍋中の溶鋼に吹き付けることができる。
【００５１】
請求項５記載の真空精錬設備においては、昇降台に真空槽を着脱自在に把持可能な真空槽把持装置が取付けられているので、真空槽を交換する際には、地上側の真空槽受け装置に真空槽を積載した後、真空槽把持装置を開にして真空槽を昇降台から切り離すことができ、また、真空槽を昇降台に積載する際には、真空槽把持装置を用いて容易に昇降台に取付けることができる。従って、真空槽の補修作業を容易に行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施の形態に係る真空精錬設備の全体構成を示す正面図である。
【図２】同要部拡大正面図である。
【図３】同要部拡大側面図である。
【図４】スライドダクトの縦断面図である。
【図５】固定ダクトに対するスライドダクトの摺動状態説明図である。
【図６】固定ダクトとスライドダクトの摺動部の拡大構造説明図である。
【図７】ランス挿入開口部の正断面図である。
【図８】同平面図である。
【図９】合金添加シュートの伸縮動作の説明図である。
【図１０】真空槽把持装置の平面図である。
【図１１】同要部拡大説明図である。
【図１２】同要部拡大説明図である。
【図１３】従来の真空精錬設備の全体構成説明図である。
【図１４】従来の真空精錬設備の全体構成説明図である。
【符号の説明】
Ａ  真空精錬設備                    １０    支柱
１１    上架フレーム                    １２    建屋
１３    床面                                          １４    精錬鍋移送台車
１５    精錬鍋                              １６  真空槽
１７  溶鋼                                                １８  垂直ガイド支柱
１９    昇降台                                          ２０    昇降フレーム
２１    真空槽載置ビーム                ２２    筒状接続部
２３    真空ダクト                              ２４    小横架ビーム
２５    ブラケット                    ２６  固定ダクト
２７  伸縮ダクト                                ２８  スライドダクト
２９    真空槽把持装置                          ３０    固定垂直支柱
３０ａ  ダクト下限ストッパー          ３１    ダクト昇降フレーム
３２    ランス挿入開口部              ３３    酸素ランス
３４    ランス昇降フレーム            ３５    固定垂直支柱
３５ａ  固定垂直支柱                ３６  合金添加シュート
３６ａ  合金添加装置                ３７  水平ビーム
３８  上部固定シュート              ３８ａ  抜け止め防止片
３９    下部昇降シュート                      ３９ａ  抜け止め防止片
３９ｂ  抜け止め防止片              ４０    下部昇降シュート
４０ａ  抜け止め防止片              ４１    着脱連結装置
４１ａ  傾斜固定筒                  ４１ｂ  環状フランジ
４１ｃ  連絡筒                      ４１ｄ  駆動シリンダ
４１ｅ  駆動シリンダ                ４２  第１の受けブラケット
４３    第２の受けブラケット          ４４    案内車輪
４５    案内車輪                          ４６  真空槽昇降装置
４７  プーリ                                            ４８  ワイヤ
４９    プーリ                                          ５０  巻き取りウインチ
５１    環状フランジ                    ５２  環状フランジ
５３    Ｏリング                                  ５４  側方接続部
５５    上フランジ                    ５６  下フランジ
５７  筒状シール部                                ５８  環状シール
５９    シール取付リング                      ５９ａ  ゴム製シール
６０  案内ローラ                    ６１    ブラケット
６２  伸縮ダクト本体                ６３    フランジ付蛇腹部
６４  フランジ付蛇腹部              ６５    タイロッド
６６  ダクト昇降装置                ６７  プーリ
６８  ワイヤ                        ６９    プーリ
７０  垂直支柱                      ７１    巻き取りウインチ
７２  環状台座                      ７２ａ  Ｏリング
７３    蓋板                                          ７４  縁切線
７４ａ  筒状シール部（シール装置）  ７５    環状シール
７６  フランジ                      ７７  吊支チェン
７８  チェン保持筒                  ７９    ランス昇降装置
８０  ブラケット                    ８１    ワイヤ
８２  プーリ                        ８３    巻き取りウインチ
８４  合金投入口                    ８４ａ  蓋体
８４ｂ  旋回装置                    ８４ｃ  環状フランジ
８５  連結アーム                    ８６  真空槽載置板
８７  開口                                                ８７ａ  受けブラケット貫通溝
８７ｂ  受けブラケット貫通溝        ８７ｃ  受けブラケット貫通溝
８８ａ  旋回受け座                  ８８ｂ  旋回受け座
８８ｃ  旋回受け座                  ８９ａ  旋回シリンダ
８９ｂ  旋回シリンダ                ８９ｃ  旋回シリンダ
９０ａ  枢軸                        ９０ｂ  枢軸
９０ｃ  枢軸                        ９１ａ  クランプ装置
９１ｂ  クランプ装置                ９１ｃ  クランプ装置
９２  エアシリンダ                  ９３  クランプ片嵌入孔
９４  クランプ片                    ９５ａ  ストッパープレート
９５ｂ  ストッパープレート          ９５ｃ  ストッパープレート
９６ａ  位置決め装置                ９６ｂ  位置決め装置
９７  電動シリンダ                  ９８  外周壁
９９  押圧棒                        ９９ａ  エアシリンダ
【図１】
0003554466.tif 000002
【図２】
0003554466.tif 000003
【図３】
0003554466.tif 000004
【図４】
0003554466.tif 000005
【図５】
0003554466.tif 000006
【図６】
0003554466.tif 000007
【図７】
0003554466.tif 000008
【図８】
0003554466.tif 000009
【図９】
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【図１０】
0003554466.tif 000011
【図１１】
0003554466.tif 000012
【図１２】
0003554466.tif 000013
【図１３】
0003554466.tif 000014
【図１４】
0003554466.tif 000015