(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
レチクルに形成すべきプロセスパターンを予め登録しておくプロセスパターン登録部を備えてなるプロセスパターンデータ発生システムを使用してプロセスパターンデータを発生させるプロセスパターンデータ発生方法において、
前記レチクルに形成すべきプロセスパターンの登録が各プロセスパターンの各層における配置位置が決められたプロセスパターン群を単位として行われているプロセスパターン登録部を備え、かつ、テクノロジーを同一とするウエハ処理プロセスごとに、プロセスパターンデータ発生条件として、チップサイズのみを入力する専用のプロセスパターンデータ発生システムを使用してプロセスパターンデータを発生させることを特徴とするプロセスパターンデータ発生方法。
【請求項２】
前記専用のプロセスパターンデータ発生システムのプロセスパターン登録部に登録するプロセスパターンに使用優先順位を付けておくことを特徴とする請求項１記載のプロセスパターンデータ発生方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体デバイスの製造工程において使用されるレチクルにプロセスパターンを形成するために必要なプロセスパターンデータを発生させるプロセスパターンデータ発生方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
図４は従来のプロセスパターンデータ発生方法を示す図であり、図４中、１はプロセスパターンデータ発生システム、ＵＰ１、ＵＰ２、ＵＰ３、ＵＰ４はテクノロジーの異なる複数のウエハ処理プロセス、ＰＤ１、ＰＤ２、ＰＤ３、ＰＤ４はウエハ処理プロセスＵＰ１、ＵＰ２、ＵＰ３、ＵＰ４が必要とするプロセスパターンデータを示している。
【０００３】
即ち、従来においては、テクノロジーの異なる複数のウエハ処理プロセスＵＰ１、ＵＰ２、ＵＰ３、ＵＰ４の実行が予定される場合であっても、１個のプロセスパターンデータ発生システム１を使用して、複数のウエハ処理プロセスＵＰ１、ＵＰ２、ＵＰ３、ＵＰ４が必要とするプロセスパターンデータＰＤ１、ＰＤ２、ＰＤ３、ＰＤ４を発生させるようにしていた。
【０００４】
図５は従来のプロセスパターンデータ発生方法において実行される内容を示す図であり、図５中、２はプロセスパターンが登録されているプロセスパターン登録部である。
【０００５】
即ち、従来においては、まず、ウエハ処理プロセス担当者からデータ処理担当者に対して、製造する品種ごとに、プロセスパターンデータ発生条件として、パターンの種類、パターンの親子関係、パターンの配置位置、層名、シフト、レジスト、チップサイズが指示される（ステップＳ１）。
【０００６】
これに対応して、データ処理担当者は、プロセスパターンデータ発生システム１に対して、プロセスパターンデータ発生条件として、指示された内容であるパターンの種類、パターンの親子関係、パターンの配置位置、層名、シフト、レジスト、チップサイズの情報を入力することになる（ステップＳ２）。
【０００７】
この結果、プロセスパターン登録部２からプロセスパターンデータの読出しが行われ（ステップＳ３）、パターンの種類、パターンの親子関係、パターンの配置位置、層名などの各種判定が行われ（ステップＳ４）、条件に適合したプロセスパターンデータが発生される（ステップＳ５）。
【０００８】
図６はプロセスパターン登録部２に登録されている同種類のプロセスパターンの一例を示す図であり、図６中、３は登録名をＡとするプロセスパターン、４は登録名をＢとするプロセスパターン、５は登録名をＣとするプロセスパターン、６は登録名をＤとするプロセスパターンである。
【０００９】
即ち、従来においては、プロセスパターン登録部２に対するプロセスパターンの登録は、一種類のデータレイヤに同種類の一部形状の異なるプロセスパターンを登録名を異にして登録することにより行われていた。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】
このように、従来のプロセスパターンデータ発生方法においては、１個のプロセスパターンデータ発生システム１を使用して、複数のウエハ処理プロセスＵＰ１、ＵＰ２、ＵＰ３、ＵＰ４が必要とするプロセスパターンデータＰＤ１、ＰＤ２、ＰＤ３、ＰＤ４を発生させるようにしていたので、ウエハ処理プロセス担当者は、製造する品種ごとに、パターンの種類、パターンの親子関係、パターンの配置位置、層名等の各種情報をデータ処理担当者に指示する必要があった。
【００１１】
このため、ウエハ処理プロセス担当者は、指示内容の準備に多大な時間を要すると共に、データ処理担当者は、プロセスパターンデータ発生システムに対する指示内容の入力に多大な時間を要してしまい、プロセスパターンデータの発生を短時間で行うことができないという問題点があると共に、ウエハ処理プロセス担当者による指示ミスや、データ処理担当者による入力ミスが発生してしまい、信頼性を低下させてしまう場合があるという問題点があった。
【００１２】
本発明は、かかる点に鑑み、プロセスパターンデータの発生に要する時間を短縮することができ、かつ、信頼性の高いプロセスパターンデータを発生させることができるようにしたプロセスパターンデータ発生方法を提供することを目的とする。
【００１３】
【課題を解決するための手段】
本発明中、第１の発明は、レチクルに形成すべきプロセスパターンを予め登録しておくプロセスパターン登録部を備えてなるプロセスパターンデータ発生システムを使用してプロセスパターンデータを発生させるプロセスパターンデータ発生方法において、レチクルに形成すべきプロセスパターンの登録が各プロセスパターンの各層における配置位置が決められたプロセスパターン群を単位として行われているプロセスパターン登録部を備え、かつ、テクノロジーを同一とするウエハ処理プロセスごとに、プロセスパターンデータ発生条件として、チップサイズのみを入力する専用のプロセスパターンデータ発生システムを使用してプロセスパターンデータを発生させるというものである。
【００１４】
本発明中、第１の発明によれば、レチクルに形成すべきプロセスパターンの登録が各プロセスパターンの各層における配置位置が決められたプロセスパターン群を単位として行われているプロセスパターン登録部を備え、かつ、テクノロジーを同一とするウエハ処理プロセスごとに、プロセスパターンデータ発生条件として、チップサイズのみを入力する専用のプロセスパターンデータ発生システムを使用してプロセスパターンデータを発生させるとしているので、テクノロジーを同一とするウエハ処理プロセスごとにプロセスパターンデータを発生させるための各種条件を固定化することができ、これによって、プロセスパターンデータを発生させるために必要な情報量を低減し、プロセスパターンデータ発生処理工程数を低減することができる。
【００１５】
本発明中、第２の発明は、第１の発明において、専用のプロセスパターンデータ発生システムのプロセスパターン登録部に登録するプロセスパターンに使用優先順位を付けておくというものである。
【００１６】
本発明中、第２の発明によれば、第１の発明と同様に、プロセスパターンデータを発生させるために必要な情報量を低減し、プロセスパターンデータ発生処理工程数を低減することができると共に、スクライブ内領域不足が発生しないようにし、任意のチップサイズに対応することができる。
【００１７】
【発明の実施の形態】
図１は本発明の一実施形態を示す図である。図１中、８−１、８−２、８−３、８−４はそれぞれテクノロジーを異にするウエハ処理プロセスＵＰ１、ＵＰ２、ＵＰ３、ＵＰ４に対応して用意されたプロセスパターンデータ発生システムである。
【００１８】
即ち、本発明の一実施形態においては、テクノロジーを異にするウエハ処理プロセスＵＰ１、ＵＰ２、ＵＰ３、ＵＰ４に対応して、それぞれ、専用のプロセスパターンデータ発生システム８−１、８−２、８−３、８−４が用意される。
【００１９】
したがって、ウエハ処理プロセス担当者からデータ処理担当者に対して、ウエハプロセスＵＰｉ（但し、ｉ＝１、２、３、４であり、以下、同様である。）が指定された場合には、データ処理担当者は、ウエハプロセスＵＰｉに専用のプロセスパターンデータ発生システム８−ｉを使用してプロセスパターンデータＰＤｉの発生処理を行うことになる。
【００２０】
図２は本発明の一実施形態において実行される内容を示す図であり、図２中、９−１、９−２、９−３、９−４はそれぞれウエハプロセスＵＰ１、ＵＰ２、ＵＰ３、ＵＰ４で使用するプロセスパターンが登録されているプロセスパターン登録部である。
【００２１】
図３はプロセスパターン登録部９−１、９−２、９−３、９−４に対するプロセスパターンの登録方法を説明するための図であり、本発明の一実施形態においては、各層に使用する同種類の一部形状の違うプロセスパターンは同一の登録名で登録される。
【００２２】
即ち、本発明の一実施形態においては、プロセスパターン登録部９−１、９−２、９−３、９−４に対するプロセスパターンの登録は、同種類の一部形状の異なるプロセスパターン群を単位として、各プロセスパターンの各層における配置位置を決めた状態で行われる。
【００２３】
また、本発明の一実施形態においては、プロセスパターン登録部９−１、９−２、９−３、９−４に登録するプロセスパターンに使用上の優先順位を付けておくようにする。
【００２４】
図３においては、１層目、２層目、３層目、４層目において使用する同種類の一部形状の異なるプロセスパターン１０−１、１０−２、１０−３、１０−４を登録名Ａで登録している例を示している。なお、登録時のデータレイヤは、プロセスパターン発生処理に合わせて登録するようにする。
【００２５】
そこで、本発明の一実施形態においては、図２に示すように、ウエハ処理プロセス担当者からデータ処理担当者に対して、プロセスパターンデータ発生条件として、ウエハ処理プロセスの種類及びチップサイズのみが指示されることになる（ステップＰ１）。
【００２６】
ここに、例えば、ウエハ処理プロセスとしてＵＰｉが指示されると、プロセスパターンデータ作成者は、プロセスパターンデータ発生システム８−ｉに対して、プロセスパターンデータ発生条件として、チップサイズのみを入力することになる（ステップＱｉ−１）。
【００２７】
この結果、プロセスパターン登録部９−ｉからチップサイズで指定されたプロセスパターンデータＰＤｉの読出しが行われ（ステップＱｉ−２）、プロセスパターンデータＰＤｉが発生される（ステップＱｉ−３）。
【００２８】
このように、本発明の一実施形態においては、テクノロジーを異にするウエハ処理プロセスＵＰ１、ＵＰ２、ＵＰ３、ＵＰ４に対応してそれぞれ専用のプロセスパターンデータ発生システム８−１、８−２、８−３、８−４を用意するとしているので、テクノロジーを同一とするウエハ処理プロセスＵＰ１、ＵＰ２、ＵＰ３、ＵＰ４ごとに、チップサイズを除き、パターンの種類、パターンの親子関係、パターンの配置位置、層名等のプロセスパターン発生条件を固定化することができる。
【００２９】
この結果、ウエハ処理プロセス担当者は、データ処理担当者に対して、ウエハ処理プロセスの種類及びチップサイズのみを指示すれば足り、データ処理担当者は、指示されたウエハ処理プロセスに対応して用意されているプロセスパターンデータ発生システムに対して、チップサイズのみを入力するだけで、必要とするプロセスパターンデータを発生させることができる。
【００３０】
このように、本発明の一実施形態によれば、プロセスパターンデータを発生させるために必要な情報量を低減し、プロセスパターンデータ発生処理工程数を低減することができるので、プロセスパターンデータの発生に要する時間を短縮することができ、かつ、信頼性の高いプロセスパターンデータを発生させることができる。
【００３１】
【発明の効果】
以上のように、本発明中、第１の発明によれば、テクノロジーを同一とするウエハ処理プロセスごとにプロセスパターンデータを発生させるための各種条件を固定化することができ、これにより、プロセスパターンデータを発生させるために必要な情報量を低減し、プロセスパターンデータ発生処理工程数を低減することができるので、プロセスパターンデータ発生に要する時間を短縮することができ、かつ、信頼性の高いプロセスパターンデータを発生させることができる。
【００３２】
また、本発明中、第２の発明によれば、第１の発明と同様に、プロセスパターンデータの発生に要する時間を短縮することができ、かつ、信頼性の高いプロセスパターンデータを発生させることができると共に、任意のチップサイズに対応することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施形態を示す図である。
【図２】本発明の一実施形態において実行される内容を示す図である。
【図３】本発明の一実施形態を実行するためのプロセスパターンデータ発生システムが備えるプロセスパターン登録部に対するプロセスパターンの登録方法を説明するための図である。
【図４】従来のプロセスパターンデータ発生方法を示す図である。
【図５】図４に示す従来のプロセスパターンデータ発生方法において実行される内容を示す図である。
【図６】図４に示す従来のプロセスパターンデータ発生方法を実行するためのプロセスパターンデータ発生システムが備えるプロセスパターン登録部に登録されている同種類のプロセスパターンの一例を示す図である。
【符号の説明】
１、８−ｉ  プロセスパターンデータ発生システム
２、９−ｉ  プロセスパターン登録部
【図１】
0003582285.tif 000002
【図２】
0003582285.tif 000003
【図３】
0003582285.tif 000004
【図４】
0003582285.tif 000005
【図５】
0003582285.tif 000006
【図６】
0003582285.tif 000007