(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
処理液を溜める液溜め部及びこの液溜め部に連通する液吐出口を有する液吐出ヘッドと、この液吐出ヘッドの液溜め部に処理液を加圧給送する液給送手段とを備えてなる基板処理装置において、
上記液吐出ヘッドの液溜め部を外部に連通する開閉可能な連通手段と、上記液給送手段により処理液を給送するときに上記連通手段を閉状態にし、上記液給送手段による処理液の給送を停止したときに上記連通手段を開状態にして上記液溜め部を外部に連通する減圧制御手段とを設けたことを特徴とする基板処理装置。
【請求項２】
上記液吐出ヘッドは処理液を供給する基板を挟むように上下に一対配置され、上記連通手段はそれぞれの液吐出ヘッドに設けられていることを特徴とする請求項１記載の基板処理装置。
【請求項３】
上記液吐出ヘッドは表面に塗布液が供給された基板の端縁を挟むように上下に一対配置され、上記処理液として上記基板の塗布液を溶解する溶剤を吐出するものであって、上記基板の端縁における溶解物を含んだ溶剤廃液を上記一対の液吐出ヘッドに跨って配置された溶剤排出流路部材を介して系外に排出する溶剤排出手段を設けたことを特徴とする請求項１記載の基板処理装置。
【請求項４】
上記液吐出ヘッドは長尺で、長手方向に沿って複数の液吐出口が形成されたものであり、一端に上記液供給手段と連通する供給口を有し、他端に上記連通手段と連通する減圧口を有することを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の基板処理装置。
【請求項５】
上記液吐出ヘッドは長尺で、長手方向に沿ってスリット状の液吐出口が形成されたものであり、一端に上記液供給手段と連通する供給口を有し、他端に上記連通手段と連通する減圧口を有することを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の基板処理装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、基板に溶剤等の所定の処理液を供給して所定の処理を施す基板処理装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来、液晶表示器等の製造工程において、フォトレジスト液等が塗布されて表面に薄膜が形成されたガラス基板等の角形基板に対し、その端縁に形成された不要薄膜を溶剤で溶解して除去するという除去処理が施されている。このような不要薄膜を溶解除去する基板処理装置として、例えば、図７に示すような構成の溶剤を供給する液吐出ヘッドを備えたものが知られている（特開平６−９７０６７号公報）。
【０００３】
この基板処理装置は、複数の管状のノズル２００が長手方向に沿って接続された液吐出ヘッド２０１と、この液吐出ヘッド２０１に接続された溶剤を給送するための配管２０２とから構成されているものである。この基板処理装置は、液吐出ヘッド２０１を基板Ｂの端縁に沿わせて水平方向に相対移動させながらノズル２００から溶剤を吐出し、基板Ｂの端縁の不要薄膜を溶解除去する。すなわち、上記液吐出ヘッド２０１は内部に液溜め部が形成されており、溶剤は加圧された状態で図略の加圧容器から配管２０２を介して液溜め部に給送され、この液溜め部の溶剤がノズル２００から基板Ｂの表面に吐出されて端縁の不要薄膜を溶解除去する。配管２０２は不要薄膜を溶解除去した後に閉じられ、液吐出ヘッド２０１に対する加圧容器からの溶剤の給送が停止される。
【０００４】
なお、このように基板端縁の不要薄膜を除去することで、基板を搬送する搬送機構が基板端縁を把持してもその基板端縁からの発塵を防ぐことができる。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、上記従来の基板処理装置においては、配管２０２が閉じられて加圧容器からの溶剤の給送が停止されても、液吐出ヘッド２０１内の液溜め部には溶剤が残留しており、しかも、その液溜め部は残圧による加圧状態にあるため、液溜め部が外気圧と同じ圧力に減圧されるまでノズル２００から不要な溶剤が吐出されることになり、その結果、溶剤が不要な箇所に付着したり、その後の乾燥工程において乾燥不足が生じたりするという問題点を有していた。
【０００６】
本発明は、上記の問題点を解決するためになされたものであり、溶剤等の所定の処理液の加圧給送が停止された後の液吐出ヘッドからの処理液の不要な吐出を抑制することのできる基板処理装置を提供することを目的とするものである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
請求項１記載の発明は、処理液を溜める液溜め部及びこの液溜め部に連通する液吐出口を有する液吐出ヘッドと、この液吐出ヘッドの液溜め部に処理液を加圧給送する液給送手段とを備えてなる基板処理装置において、液吐出ヘッドの液溜め部を外部に連通する開閉可能な連通手段と、上記液給送手段により処理液を給送するときに上記連通手段を閉状態にし、上記液給送手段による処理液の給送を停止したときに上記連通手段を開状態にして上記液溜め部を外部に連通する減圧制御手段とを設けたことを特徴とするものである。
【０００８】
この発明によれば、液給送手段の作動が停止したとき、閉状態にあった連通手段が作動して開状態とされることにより液吐出ヘッドの液溜め部が外部に連通され、その結果、液溜め部内の圧力が減圧されて液吐出ヘッドからの処理液の不要な吐出が抑制される。
【０００９】
請求項２記載の発明は、請求項１記載の基板処理装置において、上記液吐出ヘッドは処理液を供給する基板を挟むように上下に一対配置され、上記連通手段はそれぞれの液吐出ヘッドに設けられていることを特徴とするものである。
【００１０】
この発明によれば、基板の両面に同時に所定の処理液が供給され、液給送手段の作動が停止したとき、それぞれの連通手段が作動して液吐出ヘッドの液溜め部が外部に連通され、液溜め部内の圧力が減圧される。その結果、それぞれの液吐出ヘッドからの処理液の不要な吐出が抑制され、短時間で基板の両面への処理液の供給が終了する。
【００１１】
請求項３記載の発明は、請求項１記載の基板処理装置において、上記液吐出ヘッドは表面に塗布液が供給された基板の端縁を挟むように上下に一対配置され、上記処理液として上記基板の塗布液を溶解する溶剤を吐出するものであって、上記基板の端縁における溶解物を含んだ溶剤廃液を上記一対の液吐出ヘッドに跨って配置された溶剤排出流路部材を介して系外に排出する溶剤排出手段を設けたことを特徴とするものである。
【００１２】
この発明によれば、表面に塗布液が供給された基板の端縁両面にその塗布液を溶解する溶剤が供給され、この基板の端縁に供給された溶剤は溶解物を含んだ溶剤廃液として一対の液吐出ヘッドに跨って配置された溶剤排出流路部材を介して系外に排出される。
【００１３】
請求項４記載の発明は、請求項１乃至３のいずれかに記載の基板処理装置において、上記液吐出ヘッドは長尺で、長手方向に沿って複数の液吐出口が形成されたものであり、一端に上記液供給手段と連通する供給口を有し、他端に上記連通手段と連通する減圧口を有することを特徴とするものである。
【００１４】
この発明によれば、上記液給送手段が作動しているときには液吐出ヘッドの一端の供給口から処理液が供給され、上記液給送手段の作動が停止したときには他端の減圧口から減圧される。
【００１５】
請求項５記載の発明は、請求項１乃至３のいずれかに記載の基板処理装置において、上記液吐出ヘッドは長尺で、長手方向に沿ってスリット状の液吐出口が形成されたものであり、一端に上記液供給手段と連通する供給口を有し、他端に上記連通手段と連通する減圧口を有することを特徴とするものである。
【００１６】
この発明によれば、上記液給送手段が作動しているときには液吐出ヘッドの一端の供給口から処理液が供給され、上記液給送手段の作動が停止したときには他端の減圧口から減圧される。
【００１７】
【発明の実施の形態】
図１は本発明に係る基板処理装置の平面図、図２はその要部縦断面図、図３は図１の左方から見た溶剤吐出手段の構成図である。この実施形態における基板処理装置１は、フォトレジスト液等の塗布液を塗布して基板の表面に薄膜を形成したのち、その基板端縁に溶剤を吐出して基板端縁の不要薄膜を溶解除去するようにしたもので、薄膜形成手段と不要薄膜除去手段とを一体に備えたものである。
【００１８】
これらの図において、基板処理装置１は、基板Ｂの表面にフォトレジスト液等の塗布液を塗布する塗布処理空間を囲繞する環状フード２、この環状フード２内に設けられるとともに、基板Ｂを保持した状態で回転可能とされた昇降自在の基板支持手段３、基板Ｂの昇降を許容する退避位置と基板Ｂにおける塗布液供給位置との間で移動可能に構成されるとともに、その塗布液供給位置で基板Ｂの表面に塗布液を供給する塗布液供給手段４及び基板Ｂの上昇位置における水平面内で進退移動可能に構成されるとともに、基板Ｂの端縁に溶剤を吐出して不要薄膜を溶解除去する溶剤吐出手段５から構成されている。
【００１９】
上記環状フード２は、上方が開放した偏平形状を有するものであり、円形の底板２１と、この底板２１の外周縁部に沿って延設された環状溝部２２と、この環状溝部２２の外周縁部から内側斜め上方に突設された環状堰部２３とを備えている。上記環状溝部２２の底部は底板２１よりも低い位置に設定されるとともに、上記環状堰部２３の上縁部は底板２１よりも高い位置に設定されている。この結果、底板２１の上部には環状堰部２３に囲まれた基板収納空間２４が形成され、この基板収納空間２４内で基板Ｂに塗布及び不要薄膜の除去が施されるようになっている。
【００２０】
上記環状溝部２２の適所にはドレンパイプ２２１が接続されており、塗布液供給手段４から基板Ｂの表面に供給され、基板Ｂの回転による遠心力により飛ばされた余剰の塗布液が環状堰部２３に捕捉されて環状溝部２２に捕集されたのち、ドレンパイプ２２１を通って系外に排出されるようになっている。
【００２１】
上記基板支持手段３は、環状フード２の底板２１の中心部分を上下方向に貫通した支持軸３１と、この支持軸３１の上端部に固定された水平姿勢の回転支持板３２と、支持軸３１の下端部に設けられた回転昇降機構３３とを備えている。この回転昇降機構３３は、図略のモータやギア等からなる駆動手段が内装され、この駆動手段の駆動により支持軸３１が回転し、かつ、昇降するようになっている。回転支持板３２は、上面に載置された基板Ｂの位置ずれを防止して基板Ｂを確実に保持するべく吸着手段等を備え、載置された基板Ｂの下面から基板Ｂを吸引している。そして、基板Ｂを回転支持板３２に対して給排するときには図２の実線で示すように回転昇降機構３３の駆動により上方位置に上昇され、塗布液供給手段４により塗布液を供給して基板Ｂを回転させるときには図２の鎖線で示すように回転昇降機構３３の駆動により下方位置に降下されるようになっている。
【００２２】
上記塗布液供給手段４は、フォトレジスト液等の塗布液を吐出するノズル４１１を備えた回動アーム４１、塗布液の蓄えられた塗布液タンク４２及び塗布液タンク４２内の塗布液を回動アーム４１に給送する給送ポンプ４３を備えている。回動アーム４１は、基端の支持軸４１２を中心にして図１の実線で示した基板Ｂ外方の退避位置と、鎖線で示した基板Ｂ上の塗布液供給位置との間で回動するようになっており、塗布液供給位置において給送ポンプ４３が駆動されて回動アーム４１に塗布液が給送されることにより、ノズル４１１から基板Ｂ上に塗布液を吐出するようになっている。
【００２３】
上記溶剤吐出手段５は、環状フード２の上方位置に配置され、上方位置に上昇された回転支持板３２上に保持されている基板Ｂの相対向する端縁に対応する位置にそれぞれ配設されている。それぞれの溶剤吐出手段５は、図３に示すように、本体フレームＦ上に固定された一対の支持体５１、５２、この一対の支持体５１、５２間に配設された一対のガイドシャフト５３、５４（なお、図３ではガイドシャフト５３は見えていない。図１参照）、このガイドシャフト５３、５４に摺動自在に装着された可動枠体５５、この可動枠体５５上に搭載されたモータ５６により駆動される一対のリンク機構５７、５８、及びこのリンク機構５７、５８の先端にピン結合によって支持された液吐出ヘッド５９とを備えている。モータ５６の回転軸５６１にはギア５６２が連結され、このギア５６２には同形のギア５６３が噛合されている。上記リンク機構５７、５８は、その基端がギア５６２、５６３に連結した軸にそれぞれ連結されており、モータ５６の正逆転によりギア５６２、５６３が回転駆動されることによって伸縮し、液吐出ヘッド５９を基板Ｂに対して進退移動するようになっている。すなわち、液吐出ヘッド５９は、リンク機構５７、５８により、基板Ｂの端縁における溶剤吐出位置と、回転支持板３２上において基板Ｂの給排を可能とする基板Ｂ外方に離間した退避位置との間で進退移動する。
【００２４】
また、上記溶剤吐出手段５は、次のような揺動機構を備えている。すなわち、図１に示すように、一方の支持体５１内にモータ５１１が配設されており、その回転軸がベベルギア機構５１２を介して円板５１３に連結されている。円板５１３にはリンク５１４の一端が偏心してピン結合され、このリンク５１４の他端はロッド５１５の一端にピン結合されている。このロッド５１５の他端は可動枠体５５の一端に連結されている。この構成において、モータ５１１により円板５１３が回転駆動されると、これに伴ってリンク５１４が直線上を往復駆動される。これにより、可動枠体５５がガイドシャフト５３、５４に沿って往復移動し、液吐出ヘッド５９が基板Ｂの端縁に沿って揺動する。その結果、液吐出ヘッド５９の吐出口から吐出された溶剤が基板Ｂの端縁に均等に供給される。
【００２５】
上記液吐出ヘッド５９は、基板Ｂの長辺よりも若干長めに形成されており、図４及び図５を参照してその構造を説明する。図４は液吐出ヘッド５９の断面図と配管系を示した図であり、図５は図４に示す上部液吐出ヘッド５９ａの内部の正面図である。これらの図において、液吐出ヘッド５９は、基板Ｂの端縁上方から下方に向けて溶剤を吐出する上部液吐出ヘッド５９ａと、基板Ｂの端縁下方から上方に向けて溶剤を吐出する下部液吐出ヘッド５９ｂを備え、両液吐出ヘッド５９ａ、５９ｂが基板Ｂを挟むように上下に配置されている。各液吐出ヘッド５９ａ、５９ｂは、長尺形状の厚みの異なる２枚の板部材５９１、５９２を面接合することによって構成されている。一方の板部材５９１の一面側には、周囲を残して長手方向に沿って凹溝５９１ａが形成されており、その幅方向の一方側の縁には凹溝５９１ａと外部空間とを連通する小径の溝５９１ｂが長手方向に所定のピッチを有して多数形成されている。この一方の板部材５９１に他方の板部材５９２を面接合することにより、凹溝５９１ａは液溜め部５９３を構成し、多数の溝５９１ｂは液溜め部５９３と外部空間とを連通する多数の液吐出口５９４を構成する。
【００２６】
上記液溜め部５９３には、加圧容器６１等を含む液給送手段６０から溶剤が加圧給送される。すなわち、加圧容器６１から導出された配管６２はフィルタ６３を介して配管６４に接続されている。配管６４は２方向に分岐され、一方の分岐管６４１は制御弁Ｖ１を介して配管６５の一端に接続されている。配管６５には流量計Ｍ１と流量調整用の制御弁Ｖ２が設けられている。配管６５の他端は上部液吐出ヘッド５９ａの液溜め部５９３の長手方向の一端に連通接続されている。上記配管６４の他方の分岐管６４２は制御弁Ｖ３を介して配管６７の一端に接続されている。配管６７には流量計Ｍ２と流量調整用の制御弁Ｖ４が設けられている。配管６７の他端は下部液吐出ヘッド５９ｂの液溜め部５９３の長手方向の一端に連通接続されている。すなわち、上下の液吐出ヘッド５９ａ、５９ｂは、その一端に液給送手段６０と連通する供給口を有している。
【００２７】
また、上部液吐出ヘッド５９ａと下部液吐出ヘッド５９ｂには、液溜め部５９３を外部空間に連通する開閉可能な連通手段７０がそれぞれ配設されている。この連通手段７０は、液溜め部５９３の長手方向の他端に一端が連通接続された配管７１と、この配管７１の他端に接続された制御弁Ｖ５とを備えている。すなわち、上下の液吐出ヘッド５９ａ、５９ｂは、その他端に連通手段７０と連通する減圧口を有している。また、液吐出ヘッド５９の背面側である板部材５９１側には溶剤排出手段８０が配設されている。この溶剤排出手段８０は、上部液吐出ヘッド５９ａと下部液吐出ヘッド５９ｂの両方に跨って配設された溶剤排出流路部材８１と、この溶剤排出流路部材８１内のエアーを吸引することにより基板端縁の洗浄後の溶解物を含んだ溶剤廃液を系外に排出する排気ブロア８２とを備えている。溶剤排出流路部材８１は配管８３の一端に接続されている。配管８３の他端は制御弁Ｖ６を介して配管８４の一端に接続され、配管８４の他端は廃液と排気を分離するドレンボックス８５に接続されている。ドレンボックス８５には配管８６の一端が接続され、配管８６の他端は排気ブロア８２に接続されている。
【００２８】
上記制御弁Ｖ１、Ｖ３、Ｖ５及びＶ６は、制御部９０により開閉制御される。なお、上記制御弁Ｖ２及びＶ４は、手動で開閉調整が行なわれる。上記制御部９０は、ＣＰＵやＲＯＭ等により構成されており、ＲＯＭには基板処理装置１の全体の動作を制御するプログラムが格納されている。ＣＰＵはそのプログラムに従って配管系の各制御弁や各手段のモータ等の動作を駆動回路を介して制御するようになっている。
【００２９】
なお、上記溶剤は、例えば、塗布液がフォトレジスト液である場合は、アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類や、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類や、トルエン、キシレン、ベンゼン等の芳香族炭化水素や、四塩化炭素、トリクロルエチレン等のハロゲン化炭化水素等が用いられる。また、塗布液が染色剤である場合は、３０〜６０゜Ｃの温湯や、メタノール、エタノール、プロパノール等の低級アルコールや、アセトン等が用いられる。
【００３０】
上記のように構成された基板処理装置１は、次のように動作する。まず、回転昇降機構３３を動作させて回転支持板３２を上方位置に上昇させ、回転支持板３２上に基板Ｂを載置する。その後、回転支持板３２を下方位置に下降させ、次いで退避位置にある回動アーム４１を基板Ｂの塗布液供給位置に移動させて塗布液供給手段４の回動アーム４１のノズル４１１から基板Ｂの表面中心部分に所定量の塗布液を吐出する。その後、回動アーム４１を退避位置に移動させ、環状フード２内で回転支持板３２を回転させて遠心力で塗布液を基板Ｂの外周方向に拡散移動させ、基板Ｂの外面全域に均一な塗布液の薄膜を形成する。このとき、基板Ｂの表面端縁と裏面端縁にも不可避的に薄膜が形成されてしまう。裏面端縁に薄膜が形成されるのは、表面側で拡散移動した塗布液が基板裏面側に回り込むからである。余剰の塗布液は、遠心力で基板Ｂから飛ばされて環状フード２の環状堰部２３に捕捉され、ドレンパイプ２２１から系外に排出される。基板Ｂの外面に薄膜が形成されると、回転支持板３２は回転を停止し、上方位置に上昇する。
【００３１】
回転支持板３２が上方位置に上昇すると、溶剤吐出手段５の退避位置にあった液吐出ヘッド５９が基板Ｂ側に前進移動し、基板Ｂの端縁を上部液吐出ヘッド５９ａと下部液吐出ヘッド５９ｂとで挟む位置にまで達すると、その位置で前進移動を停止する。この状態で、溶剤排出手段８０の制御弁Ｖ６を開状態にし、排気ブロア８２を作動させて溶剤排出流路部材８１内のエアーを配管８３、８４、ドレンボックス８５及び配管８６を介して吸引する。同時に制御弁Ｖ１、Ｖ３を開状態にし、各制御弁Ｖ５を閉状態にする。加圧容器６１は、予め窒素ガス等の加圧気体が導入されて加圧状態とされている。そのため、加圧容器６１内の溶剤が配管６２等を介して各分岐された最終位置の配管６５、６７に給送され、上部液吐出ヘッド５９ａと下部液吐出ヘッド５９ｂの各液溜め部５９３に加圧された状態で供給される。それによって、各液溜め部５９３の内部も加圧された状態となり、各液吐出口５９４から溶剤が吐出される。吐出された溶剤は基板Ｂの両面端縁の不要薄膜を溶解する。不要薄膜を溶解した溶剤は、溶剤排出流路部材８１内に吸引されて配管８３、８４を介してドレンボックス８５に廃液として排出される。
【００３２】
基板Ｂの端縁の不要薄膜が溶解除去されると、加圧容器６１への窒素ガス等の加圧気体の導入が停止されるとともに、制御弁Ｖ１、Ｖ３が閉じられて液溜め部５９３への溶剤の供給が停止される。同時に今まで閉状態となっていた各連通手段７０の制御弁Ｖ５が開状態にされ、各液溜め部５９３が外部と連通された状態となる。それにより各液溜め部５９３内部の圧力が減圧され、溶剤の供給が停止された後の残圧による吐出口５９４からの不要な吐出が抑制される。配管７１の径は、液吐出口５９４の径や個数等に対応して、各液溜め部５９３内部の圧力が減圧され液吐出口５９４からの不要な吐出が抑制されるような値に適宜設定される。なお、連通手段７０の制御弁Ｖ５を開状態にする時間は、例えば、２秒乃至５秒程度で十分であり、その後は閉状態にしてもよい。
【００３３】
その後、液吐出ヘッド５９は退避位置に後退移動し、回転支持板３２が９０゜回転して不要薄膜の除去されていない端縁が液吐出ヘッド５９側に向けられ、続いて液吐出ヘッド５９が再度前進移動して上記と同様に溶剤が吐出され、その端縁の不要薄膜を溶解除去する。不要薄膜が溶解除去されると、上記と同様にして溶剤の供給が停止される。基板Ｂのすべての端縁の不要薄膜が溶解除去されると、液吐出ヘッド５９は退避位置に後退移動し、基板Ｂは不図示の基板搬出ロボット等によって回転支持板３２から搬出され、以後、上述の動作が繰り返し実行される。
【００３４】
なお、本発明の基板処理装置は、上記の実施形態のものに限定されるものではなく、以下の種々の実施形態のものも採用し得るものである。
【００３５】
すなわち、上記の実施形態においては、液吐出ヘッド５９は、基板Ｂの長辺よりも若干長めに形成されているが、かかる液吐出ヘッドを用いる代わりに基板Ｂの各辺よりも短いものを採用し、この液吐出ヘッドを基板Ｂの端縁に沿って一方の端部から他方の端部へ移動させながら不要薄膜の溶解除去を行なうようにしてもよい。
【００３６】
また、上記の実施形態においては、各液吐出ヘッド５９ａ、５９ｂの液吐出口５９４は、２枚の板部材５９１、５９２を面接合することにより形成されているが、従来のような管状のノズルを用いて構成してもよい。また、各液吐出ヘッド５９ａ、５９ｂの液吐出口５９４は、スリット状に形成するようにすることもできる。
【００３７】
また、上記の実施形態においては、薄膜形成手段と不要薄膜除去手段とを一体に備えたものであるが、薄膜形成手段は別の装置に構成し、本発明の基板処理装置としては不要薄膜除去手段のみで構成するようにすることもできる。
【００３８】
また、本発明の基板処理装置は、不要薄膜を除去するようにしたものに限らず、基板の表面に所定の処理液を供給して所定の処理を行なう基板処理装置であれば種々の用途に適用できるものである。すなわち、図６に示すように、配管１００からフォトレジスト液１０１を加圧した状態で液吐出ヘッド１０２の液溜め部１０３に給送し、そのスリット状の液吐出口１０４から基板Ｂの表面にフォトレジスト液１０１を供給して液吐出ヘッド１０２を相対移動させ、基板Ｂ表面の所定領域にフォトレジスト液１０１を塗布して薄膜を形成するようにした装置にも適用できる。
【００３９】
この装置は、液吐出ヘッド１０２が多数の液吐出口を備えたものではなく、幅広の１個のスリット状の液吐出口を備えたものであり、このような場合でもフォトレジスト液１０１の給送を停止すると液溜め部１０３内の残圧により不要なフォトレジスト液１０１が液吐出口１０４から吐出される。しかし、この液吐出ヘッド１０２に、上記の実施形態におけるのと同様の構成である、液溜め部１０３を外部に連通する開閉可能な連通手段を設けておき、液溜め部１０３へのフォトレジスト液１０１の給送を停止すると同時に液溜め部１０３を外部に連通させるとフォトレジスト液１０１の不要な吐出が抑制される。
【００４０】
【発明の効果】
請求項１記載の基板処理装置は、液吐出ヘッドの液溜め部を外部に連通する開閉可能な連通手段を設け、処理液を給送するときに連通手段を閉状態にし、処理液の給送を停止したときに連通手段を開状態にするようにしたので、処理液の加圧給送が停止されたときに液溜め部内の圧力が減圧され、処理液の加圧給送が停止された後の液吐出ヘッドからの処理液の不要な吐出が抑制される。
【００４１】
請求項２記載の基板処理装置は、液吐出ヘッドが基板を挟むように上下に一対配置され、連通手段がそれぞれの液吐出ヘッドに設けられているので、各液吐出ヘッドからの処理液の不要な吐出が抑制されるとともに、短時間で基板の両面へ処理液を供給することができる。
【００４２】
請求項３記載の基板処理装置は、液吐出ヘッドが表面に塗布液の供給された基板の端縁を挟むように上下に一対配置され、処理液として基板の塗布液を溶解する溶剤を吐出するものであって、基板の端縁における溶解物を含んだ溶剤廃液を溶剤排出流路部材を介して系外に排出する溶剤排出手段を設けているので、溶解物を含んだ溶剤廃液を溶剤排出手段により系外に排出することができる。
【００４３】
請求項４及び５記載の基板処理装置は、液吐出ヘッドの一端に液給送手段と連通する供給口を有し、他端に連通手段と連通する減圧口を有しているので、液給送手段が作動しているときには液吐出ヘッドの一端の供給口から液溜め部に処理液を供給することができ、上記液給送手段の作動が停止したときには他端の減圧口から液溜め部内の圧力を減圧することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施形態に係る基板処理装置の平面図である。
【図２】図１の基板処置装置の要部縦断面図である。
【図３】図１の基板処置装置の溶剤吐出手段を構成図である。
【図４】図１の基板処置装置の溶剤吐出手段を構成する液吐出ヘッドの断面図と配管系を示す図である。
【図５】図４の液吐出ヘッドを構成する上部液吐出ヘッド内部の正面図である。
【図６】本発明の他の実施形態に係る基板処理装置の液吐出ヘッド部分の断面図である。
【図７】従来の基板処理装置の液吐出ヘッド部分の斜視図である。
【符号の説明】
１  基板処理装置
２  環状フード
３  基板支持手段
４  塗布液供給手段
５  溶剤吐出手段
５９、１０２  液吐出ヘッド
５９３、１０３  液溜め部
５９４、１０４  吐出口
６０  液給送手段
７０  連通手段
８０  溶剤排出手段
９０  制御部
【図１】
0003602225.tif 000002
【図２】
0003602225.tif 000003
【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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