【手続補正書】
【提出日】平成29年1月6日(2017.1.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
物質を処理する方法であって、前記物質は表面を有し、前記方法は、
前記物質の前記表面と液体との接触面をもたらす前記液体で前記物質を覆うステップと、
前記物質の前記表面と光のパルスとの相互作用が、前記液体と前記物質の前記表面との前記接触面において一時的熱水層を生成する局所圧力および温度を生じさせるように、前記物質の前記表面に前記光のパルスを方向付けるステップであって、前記一時的熱水層は少なくとも部分的に前記物質を溶解するステップとを備える方法。
【請求項２】
物質を処理する方法であって、前記物質は表面を有し、光のパルスを前記物質の前記表面に方向付ける前記ステップは、前記物質の前記表面に光のパルスを方向付けるためのレーザーを使用することを備える請求項１に記載の方法。
【請求項３】
物質を処理する方法であって、前記物質は表面を有し、光のパルスを前記物質の前記表面に方向付ける前記ステップは、前記物質の前記表面に光のパルスを方向付けるための可視または紫外線波長のレーザーを使用することを備える請求項１に記載の方法。
【請求項４】
物質を処理する方法であって、前記物質は表面を有し、光のパルスを前記物質の前記表面に方向付ける前記ステップは、前記物質の前記表面に光のパルスを方向付けるための可視または紫外線波長のレーザーのアレイを使用することを備える請求項１に記載の方法。
【請求項５】
物質を処理する方法であって、前記物質は表面を有し、光のパルスを前記物質の前記表面に方向付ける前記ステップは、前記物質の前記表面と前記光のパルスとの相互作用が、前記液体と前記物質の前記表面との前記接触面において一時的熱水層を生成する局所圧力および温度を生じさせるように、前記物質の前記表面に前記光のパルスを方向付けることを備え、前記一時的熱水層は前記液体内に懸濁される粒子を生成する前記物質を少なくとも部分的に溶解する請求項１に記載の方法。
【請求項６】
物質を処理する方法であって、前記物質は表面を有し、汚染物質は前記物質に関連付けられ、光のパルスを前記物質の前記表面に方向付ける前記ステップは、前記物質の前記表面と前記光のパルスとの相互作用が、前記液体と前記物質の前記表面との前記接触面において一時的熱水層を生成する局所圧力および温度を生じさせるように、前記物質の前記表面に前記光のパルスを方向付けることを備え、前記一時的熱水層は前記液体内に懸濁される粒子を生成する前記物質を少なくとも部分的に溶解し、前記汚染物質を少なくとも部分的に溶解または除去する請求項１に記載の方法。
【請求項７】
物質を処理する方法であって、前記物質は表面を有し、ベリリウム汚染物質は前記物質に関連付けられ、光のパルスを前記物質の前記表面に方向付ける前記ステップは、前記物質の前記表面と前記光のパルスとの相互作用が、前記液体と前記物質の前記表面との前記接触面において一時的熱水層を生成する局所圧力および温度を生じさせるように、前記物質の前記表面に前記光のパルスを方向付けることを備え、前記一時的熱水層は前記液体内に懸濁される粒子を生成する前記物質を少なくとも部分的に溶解し、前記ベリリウム汚染物質を少なくとも部分的に溶解または除去する請求項１に記載の方法。
【請求項８】
物質を処理する方法であって、前記物質は表面を有し、放射能汚染物質は前記物質に関連付けられ、光のパルスを前記物質の前記表面に方向付ける前記ステップは、前記物質の前記表面と前記光のパルスとの相互作用が、前記液体と前記物質の前記表面との前記接触面において一時的熱水層を生成する局所圧力および温度を生じさせるように、前記物質の前記表面に前記光のパルスを方向付けることを備え、前記一時的熱水層は前記液体内に懸濁される粒子を生成する前記物質を少なくとも部分的に溶解し、前記放射能汚染物質を少なくとも部分的に溶解または除去する請求項１に記載の方法。
【請求項９】
物質を処理する方法であって、前記物質は表面を有し、希土酸化物汚染物質は前記物質に関連付けられ、光のパルスを前記物質の前記表面に方向付ける前記ステップは、前記物質の前記表面と前記光のパルスとの相互作用が、前記液体と前記物質の前記表面との前記接触面において一時的熱水層を生成する局所圧力および温度を生じさせるように、前記物質の前記表面に前記光のパルスを方向付けることを備え、前記一時的熱水層は前記液体内に懸濁される粒子を生成する前記物質を少なくとも部分的に溶解し、前記希土酸化物汚染物質を少なくとも部分的に溶解または除去する請求項１に記載の方法。
【請求項１０】
物質を処理する方法であって、前記物質は表面を有し、前記物質を液体で覆う前記ステップは、前記物質を酸性の液体で覆うことを備える請求項１に記載の方法。
【請求項１１】
物質を処理する方法であって、前記物質は表面を有し、前記物質を液体で覆う前記ステップは、前記物質をアルカリ性の液体で覆うことを備える請求項１に記載の方法。
【請求項１２】
物質を処理する方法であって、前記物質は表面を有し、光のパルスを前記物質の前記表面に方向付ける前記ステップは、前記物質の前記表面に光のパルスを方向付けるためのレーザーを使用することを備え、前記光のパルスは重複する配置で前記物質の前記表面に方向付けられる請求項１に記載の方法。
【請求項１３】
物質を処理する方法であって、前記物質は表面を有し、光のパルスを前記物質の前記表面に方向付ける前記ステップは、複数のパルスが重複するように、前記物質の前記表面に光の前記複数のパルスを方向付けるためのレーザーを使用することを備える請求項１に記載の方法。
【請求項１４】
物質を処理する方法であって、前記物質は表面を有し、前記物質の前記表面に光の複数の第２のパルスを方向付けるための第２のレーザーを使用することをさらに備える請求項１に記載の方法。
【請求項１５】
物質を処理する方法であって、前記物質は表面を有し、前記物質の前記表面に光の第２の複数のパルスを方向付けるための第２のレーザーを使用することをさらに備え、前記物質の前記表面に方向付けられる光の前記複数のパルスを重複させるように、光の前記第２の複数のパルスは前記物質の前記表面に方向付けられる請求項１に記載の方法。
【請求項１６】
物質を処理する方法であって、前記物質は表面を有し、汚染物質は前記物質に関連付けられ、前記方法は、
前記物質の前記表面と液体との接触面をもたらす前記液体で前記物質を覆うステップと、
前記物質の前記表面と光のパルスとの相互作用が、前記液体と前記物質の前記表面との前記接触面において一時的熱水層を生成する局所圧力および温度を生じさせるように、前記物質の前記表面に前記光のパルスを方向付けるステップであって、前記一時的熱水層は前記液体内に懸濁される粒子を生成する前記物質を少なくとも部分的に溶解し、前記汚染物質を少なくとも部分的に溶解または除去するステップとを備える方法。
【請求項１７】
物質を処理する方法であって、前記物質は表面を有し、汚染物質は前記物質に関連付けられ、ベリリウム汚染物質は前記物質に関連付けられ、光のパルスを前記物質の前記表面に方向付ける前記ステップは、前記物質の前記表面と前記光のパルスとの相互作用が、前記液体と前記物質の前記表面との前記接触面において一時的熱水層を生成する局所圧力および温度を生じさせるように、前記物質の前記表面に前記光のパルスを方向付けることを備え、前記一時的熱水層は前記液体内に懸濁される粒子を生成する前記物質を少なくとも部分的に溶解し、前記ベリリウム汚染物質を少なくとも部分的に溶解または除去する請求項１６に記載の方法。
【請求項１８】
物質を処理する方法であって、前記物質は表面を有し、汚染物質は前記物質に関連付けられ、放射能汚染物質は前記物質に関連付けられ、光のパルスを前記物質の前記表面に方向付ける前記ステップは、前記物質の前記表面と前記光のパルスとの相互作用が、前記液体と前記物質の前記表面との前記接触面において一時的熱水層を生成する局所圧力および温度を生じさせるように、前記物質の前記表面に前記光のパルスを方向付けることを備え、前記一時的熱水層は前記液体内に懸濁される粒子を生成する前記物質を少なくとも部分的に溶解し、前記放射能汚染物質を少なくとも部分的に溶解または除去する請求項１６に記載の方法。
【請求項１９】
物質を処理する方法であって、前記物質は表面を有し、汚染物質は前記物質に関連付けられ、希土酸化物汚染物質は前記物質に関連付けられ、光のパルスを前記物質の前記表面に方向付ける前記ステップは、前記物質の前記表面と前記光のパルスとの相互作用が、前記液体と前記物質の前記表面との前記接触面において一時的熱水層を生成する局所圧力および温度を生じさせるように、前記物質の前記表面に前記光のパルスを方向付けることを備え、前記一時的熱水層は前記液体内に懸濁される粒子を生成する前記物質を少なくとも部分的に溶解し、前記希土酸化物汚染物質を少なくとも部分的に溶解または除去する請求項１６に記載の方法。
【請求項２０】
物質を処理する方法であって、前記物質は表面を有し、汚染物質は前記物質に関連付けられ、鉛汚染物質は前記物質に関連付けられ、光のパルスを前記物質の前記表面に方向付ける前記ステップは、前記物質の前記表面と前記光のパルスとの相互作用が、前記液体と前記物質の前記表面との前記接触面において一時的熱水層を生成する局所圧力および温度を生じさせるように、前記物質の前記表面に前記光のパルスを方向付けることを備え、前記一時的熱水層は前記液体内に懸濁される粒子を生成する前記物質を少なくとも部分的に溶解し、前記鉛汚染物質を少なくとも部分的に溶解または除去する請求項１６に記載の方法。
【請求項２１】
物質を処理する方法であって、前記物質は表面を有し、汚染物質は前記物質に関連付けられ、含鉛ペイント汚染物質は前記物質に関連付けられ、光のパルスを前記物質の前記表面に方向付ける前記ステップは、前記物質の前記表面と前記光のパルスとの相互作用が、前記液体と前記物質の前記表面との前記接触面において一時的熱水層を生成する局所圧力および温度を生じさせるように、前記物質の前記表面に前記光のパルスを方向付けることを備え、前記一時的熱水層は前記液体内に懸濁される粒子を生成する前記物質を少なくとも部分的に溶解し、前記含鉛ペイント汚染物質を少なくとも部分的に溶解または除去する請求項１６に記載の方法。
【請求項２２】
物質を処理するための装置であって、前記物質は表面を有し、前記装置は、
前記物質の前記表面と液体との接触面をもたらす前記液体で前記物質を覆うための手段と、
前記物質の前記表面と光のパルスとの相互作用が、前記液体と前記物質の前記表面との前記接触面において一時的熱水層を生成する局所圧力および温度を生じさせるように、前記物質の前記表面に前記光のパルスを方向付けるための手段であって、前記一時的熱水層は少なくとも部分的に前記物質を溶解する手段とを備える装置。
【請求項２３】
物質を処理するための装置であって、前記物質は表面を有し、光のパルスを前記物質の前記表面に方向付けるための前記手段は、前記物質の前記表面に光のパルスを方向付けるためのレーザー手段を備える請求項２２に記載の装置。
【請求項２４】
物質を処理するための装置であって、前記物質は表面を有し、光のパルスを前記物質の前記表面に方向付けるための前記手段は、前記物質の前記表面に光のパルスを方向付けるための可視または紫外線波長のレーザー手段を備える請求項２２に記載の装置。
【請求項２５】
物質を処理するための装置であって、前記物質は表面を有し、光のパルスを前記物質の前記表面に方向付けるための前記手段は、前記物質の前記表面に光のパルスを方向付けるための可視または紫外線波長のレーザー手段のアレイを備える請求項２２に記載の装置。
【請求項２６】
物質を処理する方法であって、
前記物質の前記表面と液体との接触面をもたらす前記液体で前記物質を覆う前記ステップは、前記物質の前記表面と水との接触面をもたらす前記水で前記物質を覆うステップを備え、
前記物質の前記表面上に光のパルスを方向付ける前記ステップが、１０００ｎｍから２００ｎｍの範囲の波長を有するレーザーを用いて前記物質の前記表面に光のパルスを方向付けるステップを備える、請求項１に記載の方法。
【請求項２７】
物質を処理する方法であって、
前記物質の前記表面と液体との接触面をもたらす前記液体で前記物質を覆う前記ステップは、前記物質の前記表面と水との接触面をもたらす前記物質を前記水で覆うステップを備え、
前記物質の前記表面上に光のパルスを方向付けるステップは、１０００ｎｍから２００ｎｍの範囲にある波長を有するレーザーのアレイを使用して前記物質の前記表面に光のパルスを方向付けるステップを備える、請求項１に記載の方法。
【請求項２８】
物質を処理するための装置であって、
前記物質の前記表面と液体との接触面をもたらす前記液体で前記物質を覆う前記手段は、前記物質の前記表面と水との接触面をもたらす前記水で前記物質を覆う手段を備え、
前記物質の前記表面上に光のパルスを方向付ける前記手段は、１０００ｎｍから２００ｎｍの範囲の光のパルスを前記物質の前記表面に方向付けるレーザー手段を備える、請求項２２に記載の装置。
【請求項２９】
物質を処理するための装置であって、
前記物質の前記表面と液体との接触面をもたらす前記液体で前記物質を覆う前記手段は、前記物質の前記表面と水との接触面をもたらす前記水で前記物質を覆う手段を備え、
前記物質の前記表面上に光のパルスを方向付ける手段は、１０００ｎｍから２００ｎｍの範囲の光のパルスを前記物質の前記表面に方向付けるためのレーザー手段のアレイを備える、請求項２２に記載の装置。