(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ａ）入力レーザービームを物体ビームと参照ビームに分割し、
（ｂ）上記物体ビームと参照ビームをホログラフィック記録層に進行させるとともに、
上記物体ビームは、物体マスクを通過した後に上記ホログラフィック記録層の一方の表面に入射し、
上記参照ビームは、上記ホログラフィック記録層を通過した後に全内部反射されてホログラフィック記録層に入る角度で、上記ホログラフィック記録層の他方の表面に入射し、
上記ホログラフィック記録層において上記物体ビームと参照ビームを重ね合わせ、
（ｃ）  上記物体ビームと参照ビームによって照明される上記ホログラフィック記録層上のそれぞれの領域が同一の大きさを有し且つ上記ホログラフィック記録層上で上記物体ビームと参照ビームによって照明される領域が重ね合わされるように、上記物体ビームと参照ビームの少なくとも一方を一方向に拡幅または圧縮し、
（ｄ）  上記重ね合わされた物体ビームと参照ビームが上記ホログラフィック記録層を横切るように上記入力レーザービームを動かし、上記物体ビームと参照ビームが上記ホログラフィック記録層を横断する際に、上記ホログラフィック層上の各点における上記物体ビームと参照ビームの相対位相を一定に保つことを特徴とするホログラフィック記録層に全内部反射ホログラムを記録する方法。
【請求項２】
上記重ね合わされた物体ビームと参照ビームが保護グラフィック記録層を移動するとき、上記物体ビームと参照ビームが重ね合わされるホログラフィック記録層と上記物体マスクとの間隔が一定に維持されるように、上記物体ビームと参照ビームが重ね合わされるホログラフィック記録層と上記物体マスクとの間隔が測定されて調整されることを特徴とする請求項１の方法。
【請求項３】
上記入力レーザービームは、該入力レーザービームが上記ホログラフィック記録層を横切ってラスタスキャンするように、スキャナ装置によって移動される請求項１の方法。
【請求項４】
上記入力レーザービームがガウスのエネルギー密度分布を有することを特徴とする請求項１の方法。
【請求項５】
入力レーザービームを物体ビームと参照ビームに分割し、
マスクを介してホログラフィック記録層の一方の表面に上記物体ビームを入射し、
上記参照ビームを、プリズムを介して上記ホログラフィック記録層の他方の表面に斜めに入射し、上記ホログラフィック記録層を通過した後に上記ホログラフィック記録層の一方の表面で全内部反射させる、ホログラフィック記録層に全内部反射ホログラムを記録する方法において、
上記物体ビームと参照ビームの光学経路の少なくとも一方に光学要素を設け、上記入力レーザビームが移動するとき、上記物体ビームと参照ビームによって照明される上記ホログラフィック記録層上のそれぞれの領域が同一の大きさを有し且つ上記ホログラフィック記録層上で上記物体ビームと参照ビームによって照明される領域が重ね合わされるように、上記少なくとも上記物体ビームと参照ビームの一方を一方向に拡幅又は圧縮し、
上記物体ビームと参照ビームが上記ホログラフィック記録層を横切るように上記入力レーザービームを移動するとともに、上記物体ビームと参照ビームが上記ホログラフィック記録層を横断する際に上記ホログラフィック層上の各点における上記物体ビームと参照ビームの相対位相を一定に保つことを特徴とする方法。
【請求項６】
上記光学要素が、プリズム、シリンドリカルレンズ、回折格子のいずれかであることを特徴とする請求項５の方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】
本発明は、概略、全内部反射ホログラフィの分野に関する。特に、それは、マイクロリソグラフィに用いられるような全内部反射ホログラフィに関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来、全内部反射（ＴＩＲ：ｔｏｔａｌ  ｉｎｔｅｒｎａｌ  ｒｅｆｌｅｃｔｉｏｎ）ホログラムは、図１に図示するような幅広のレーザービームで作られている（参考文献１から６）。これらのうち１つでは、物体ビーム１は、マスク透明体２を介して、大きなプリズム５と光学的に接する基質４上のホログラフィック記録層３に進行する。一方、参照ビーム６はプリズム５の別の面を介して進行し、ホログラフィック層３の表面で全反射される。これら２つのビームの光学的干渉が、ホログラフィック層の感光材料に記録される。一度定着されると、オリジナルの参照ビーム６と逆方向に進行するレーザービームによってそれを照らすことでホログラムが再生される。
【０００３】
ＴＩＲホログラムは、大きな幾何学領域に亘って、イメージを記録したり、再生したりすることができる。現在の感光ポリマー記録材料を用いると、ＴＩＲホログラムは高解像度のフォトリソグラフィに対して著しい潜在能力を示す。
【０００４】
例えば、マイクロ電子工学産業に対応する場合のように、ＴＩＲホログラフィをフォトリソグラフィに適用する際に直面する問題の一つは、再生されたイメージの明るさが、それらの領域に亘って、極めて均一（好ましくは±２％以上）であることを必要とするということである。これを従来技術で達成するためには、ホログラムを記録する際に、幅広のレーザービームがその波面上で優れた均一性を有することが望ましい。残念ながら、レーザービームの光は自然に変化するので、これを達成するのは困難である。すなわち、多くのビームはガウスの密度分布をしており、それらの両端部は中央部よりも暗いからである。
【０００５】
原理的には、ビームを必要以上に拡大してその中央部だけを使用することにより、記録層に均一な光の場所を得ることはできる。しかし、この方法を達成するためにビームを均一化することは、結局のところ、利用できる光を犠牲にすることである。±２％の均一性を達成するためには、レーザーエネルギーの僅か２％しか利用できず、露光時間が実用性を超えて増大すると見積もられている。
【０００６】
その表面において整然とした有効不均一性（例えばガウス分布）をもってホログラムを記録し、次いで、プリント中に、ホログラム領域で再生ビームをスキャンさせると共に、スキャン中にビーム密度又はスキャン速度を変化させることにより上記不均一性を補償することで、プリント露光の均一性は達成できる。
【０００７】
しかしながら、低いホログラム効率と低いレーザーパワーの両方の妥協の産物であるために、必然的にプリント時間が長くなり、結果的に低効率となっており、多くの産業に適用するには好ましくないものであった。また、ガウス密度分布の仮定は過度な単純化でもある。
【０００８】
また、均一性を高める上述の方法は、共に、物体ビームと参照ビームを生成するために、ＵＶ（一般に３６４ｍｍ）で操作する低収差視準レンズ（又はミラー）を必要とする。例えば、広範囲の平坦な板状ディスプレイを製作するための、大径（例えば、８″，１２″，２０″）のホログラムにとって、これは最も好ましくないものとなる。
【０００９】
マイクロリソグラフィックの適用に対して広領域ＴＩＲホログラムを製造する際に直面する別の問題は、再生像の焦点深度に関係している。ＴＩＲホログラムが正確に例えばシリコンウェハー上にイメージを印刷するためには、ウェハー表面は投射イメージに対して正確に配置される必要がある。もし、ウェハー表面がイメージの前後に僅かな距離でもずれると、プリントされたイメージは焦点の合わないものとなる。一般に、イメージにおける特徴部分が０．５μｍ以下の大きさであれば、ウェハー表面は±０．２μｍ以下の精度で配置されなければならない。これを容易にするためには、再生イメージ中のすべての特徴部分がホログラムの表面から同一の距離に置かれるのが好ましい。従来技術を用いた場合、記録中における物体マスクとホログラフィック層の間隔はそれらの領域で同一（±０．１μｍ以下まで）であることが要求される。しかしながら、十分平坦な物体マスクや十分平坦な記録層を得ることは困難であり、また、ホログラム記録中、それらを平坦に保持するように支持するのは困難であるから、必要な平行度は実行不可能なものとなる。
【００１０】
以上の問題を解決するうえで、機械的（及びその他の）不安定性に対してホログラム形成上の高感度性を考慮に入れることが最も重要である。ホログラムは、光学的干渉パターンの記録であるから、記録表面上の任意の点で干渉する物体ビームと参照ビームの相対位相が露光中に実質的に一定であれば、うまく形成される。これを定量化するためには、相対位相は一定の範囲（位相の２／１０の範囲）であるのが好ましい。これは、ホログラフィック層上の任意の点において、物体ビームと参照ビームの光学経路との相対長さが、記録操作中、３０ｎｍ以上まで変化してはならないことを意味し、もしもこの条件が破られると、干渉パターンは洗い流され、ホログラムは消失することになる。
【００１１】
【発明の概要】
本発明の目的は、全内部反射ホログラムが、広い領域に亘って高度な露光の均一性をもって記録できる方法を提供することである。
【００１２】
本発明の第１の側面では、以下の方法を含む全内部反射ホログラムを記録方法が提供される。この方法は、（ａ）入力レーザービームを物体ビームと参照ビームに分割し、（ｂ）上記物体ビームと参照ビームをホログラフィック記録層に進行させるとともに、上記物体ビームは、物体マスクを通過した後に上記ホログラフィック記録層の一方の表面に入射し、上記参照ビームは、上記ホログラフィック記録層を通過した後に全内部反射されてホログラフィック記録層に入る角度で、上記ホログラフィック記録層の他方の表面に入射し、上記ホログラフィック記録層において上記物体ビームと参照ビームを重ね合わせ、（ｃ）上記物体ビームと参照ビームによって照明される上記ホログラフィック記録層上のそれぞれの領域が同一の大きさを有し且つ上記ホログラフィック記録層上で上記物体ビームと参照ビームによって照明される領域が重ね合わされるように、上記物体ビームと参照ビームの少なくとも一方を一方向に拡幅または圧縮し、（ｄ）上記重ね合わされた物体ビームと参照ビームが上記ホログラフィック記録層を横切るように上記入力レーザービームを動かし、上記物体ビームと参照ビームが上記ホログラフィック記録層を横断する際に、上記ホログラフィック層上の各点における上記物体ビームと参照ビームの相対位相を一定に保つことを特徴とする。
【００１３】
本発明にかかる方法は、記録層に亘って均一な露光を得るために特に有益である。この場合、入力ビームは好ましくはラスタパターンで上記層を横切るようにスキャナ装置で動かされる。
【００１４】
この方法は、記録層に特に不均一な露光を故意に導入するために使用してもよく、この場合、入力レーザビームの密度又はスキャナの動作のいずれかがスキャン進路を介して適度に変化させられる。
【００１５】
その方法は、マスクとホログラフィック層の一部分または複数部分を選択的に露光するために用いてもよく、露光部間でマスクを交換することができる。
【００１６】
その方法によれば、ホログラム再生中にプリントされるイメージを正確に焦点合わせすることができるように一定の間隔を得るために、物体の透明体と記録層の場所的な間隔を、例えば本出願人による特許出願ＥＰ−Ａ−０４２１６４５に記載されている技術を用いて測定し、調整することができる。
【００１７】
構成ビームをスキャンする別の利点は、特に広範囲を視準する光学装置やビーム孔により形成されるレーザースペックル（レーザーの斑点）の問題を相当解消できることで、これにより再生イメージの品質を高めることができる。
【００１８】
ビームの分割前に機械的スキャニングが行われる以上の方法によれば、スキャナ装置の動作における不規則性によりレーザー波面に生じる不安定性は、物体ビームと参照ビームの両方に共通している。したがって、記録層におけるそれらの相対位相を実質的に一定に保つことができる。
【００１９】
従来技術で記載されているＴＩＲホログラフィでは、物体ビームはほぼ直角にホログラフィック層に入射し、参照ビームはほぼ４５°で入射する。したがって、物体ビームと参照ビームを記録層に向けるのにミラーだけを使用するならば、物体ビームによって占有される領域よりも２倍大きな記録層の領域を参照ビームは照明することになるとともに、物体ビームよりも２倍速い速度で記録層をスキャンすることになる。その結果、記録層上でのホログラム露光が変化する。上述の方法のステップ（ｂ）で必要とされるビームの重なり（ビームはスキャン中も重なったままである。）は、（ｉ）ホログラフィック層における参照ビームの入射平面でビームを圧縮するために、参照ビームの経路中に光学要素を用いる；又は（ｉｉ）ホログラフィック層における参照ビームの入射平面でビームを拡幅するために、物体ビームの経路中に光学要素を設ける、ことのいずれかによって適正に得ることができる。
【００２０】
ステップ（ｂ）におけるビーム配列により、干渉ビームの相対位相が安定する。ビームの相対位相は、例えばスキャナ装置の傾き（左右の揺れ、前後の揺れ、および横揺れ）により生じるスキャンビームの角度変化に敏感である。スキャナの傾きに対する感度は、重ね合わせたビーム間を正確に配置することにより著しく減少する。
【００２１】
入力ビームの移動から発生する物体ビームと参照ビームの移動により生じる記録媒体におけるビームの不整列を、ホログラフィック層のすべての部分で考慮に入れて最小にするように、物体ビームと参照ビームの経路を配置する別の工程を上記方法に付加してもよい。この方法により、スキャナ装置の移動における不規則性に対して、ホログラムに記録される光学的干渉パターンの感度を弱めることができる。
【００２２】
本発明の第２の側面によれば、全内部反射ホログラムを記録する装置が提供される。この装置は、（ａ）入力レーザービームを、物体ビームと参照ビームに分割する手段；（ｂ）物体ビームと参照ビームをホログラフィック記録層に向け、それにより、物体ビームは物体マスクを通過した後にホログラフィック記録層の表面に入射され、参照ビームは、ホログラフィック記録層を通過した後に全内部反射されてホログラフィック記録層に戻る角度でホログラフィック記録層の表面に入射され、物体ビームと参照ビームは、これらのビームがホログラフィック記録層を横切る際に整列されるように、ホログラフィック記録層で重ね合わされる手段；（ｃ）物体ビームと参照ビームがホログラフィック記録層を横切るように入力レーザービームを移動させる手段、を備えている。
【００２３】
物体ビームが、参照ビームよりも小さな入射角をもってホログラフィック層に到達する場合ものでは、本発明における第２の特徴部分（ｂ）に、（ｉ）屈折又は回折により一方向にビームを圧縮するために、参照ビームの通路内に、プリズム、シリンドリカルレンズ装置、または回折格子を設けるか、（ｉｉ）屈折または回折により一方向にビームを拡幅するために、物体ビームの通路内に、プリズム、シリンドリカルレンズ装置、または回折格子を設ける、のが好ましい。
【００２４】
特徴（ｂ）、（ｃ）によれば、スキャナ装置の移動における不規則性に対して光学的干渉パターンの感度を弱めるために、正確に（その正確性はスキャナ装置に存在する傾きの大きさに主に依存する。）ビームを重ねることができる。
【００２５】
特徴（ｂ）、（ｃ）は、物体ビームと参照ビームの経路を設けるという副次的な目的のために設けるのが好ましく、記録層のすべての部分を考慮し、入力ビームの移動により起こる物体ビームと参照ビームの角移動から発生する記録層におけるビームの不整列が最小になる。このように、例えばスキャナ装置の機械的傾きにより生じるビームの角変化に対して、干渉する物体ビームと参照ビームのそれぞれの位相の感度が低下する。
【００２６】
再生されたイメージのすべての部分がホログラフィック層から同一距離にあるようにスキャニングが行われる場合、物体の透明体とホログラフィック層のすべての部分の間隔をそれらの領域上で測定する手段と、露光が行われる場所の間隔をビームのスキャン中に一定に保持する間隔調整手段を設ける。
【００２７】
【実施例】
添付図面を参照し、実施例により本発明を詳細に説明する。図２の装置において、寸法１０ｃｍ×１０ｃｍのガラス基質の上に引き延ばされたホログラフィック記録材料の薄い（一般に２０μｍ）層を有するホログラフィックプレート７が、４５°，４５°，９０°の角度を有するガラスプリズム１０の短辺に光学的に接触して設けてある。適当なホログラフィック記録材料は、Ｄｕｐｏｎｔ  ｄｅ  Ｎｅｍｏｕｒｓ  ＆  Ｃｏ．により製造され、ＨＲＳ−３５２により識別されるようなホログラフィック・フォトポリマーの一つであり、これはＵＶ中で感度を有し、屈折率の変化として光学干渉パターンを記録する。プリズム１０に対するホログラフィックプレート７の光学的接触は、低揮発性を有し、ガラスのそれに近い屈折率を有する透明な液体であるキシレンを用いて行われる。
【００２８】
記録層８の上方には、これに近接して、ガラス板１４表面のクロム層１３にエッチングされた特徴部分１２を有する物体マスク１１が配置されている。そのマスクは、ピエゾ電気変換器（図示せず）上に配置されており、これにより記録層から所定の距離の位置に平行にマスクを配置することができる。
【００２９】
２つの互いにコヒーレントなレーザービーム、すなわち物体ビーム１５と参照ビーム１６が、このシステムを照明する。これら２つは、３６４ｎｍの波長で動作し、高い時間干渉性をビームに付与するエタロンを含むアルゴン・イオンレーザー１７から導かれる。レーザーの出力１８は、これを２ｃｍ径（１／ｅ２の密度位置により定義される）のガウス分布を有する視準ビーム２０に変形するビーム拡大器１９を通過する。そのビーム２０は、それぞれＹ軸とＺ軸（図中には一方向のステージ移動しか図示していない。）に平行に移動する２つのコンピュータ制御されたステージ２３に設けたミラー２２を有する機械的スキャナ装置２１に入射する。上記ステージは、そのシステムからＸ軸と平行に出て行く入力ビーム２４が、大きなビームスリッタ２５を通ってラスタスキャンされるように、動作する。ステップサイズ、すなわちスキャン動作の連続した移動距離を５ｍｍ（すなわちビーム径の１／４）とすることで、ホログラフィック層において一体化される光の密度を均一にすることができる。それぞれのスキャン移動の速度ｖは、以下のように、ホログラムを露光するのに必要なエネルギー密度Ｅから決定される。
【００３０】
【数１】
0003602560.tif 000002
【００３１】
ここで、Ｐは入力ビーム２４のパワー、Ｓはスキャンの連続した移動のステップサイズである。したがって、必要な露光エネルギー密度が２０ｍＴ／ｃｍ２であれば、入力ビームにおけるパワーは１００ｍＷで、ステップサイズは５ｍｍ、必要なスキャン速度は１０ｃｍ／ｓである。
【００３２】
ホログラフィック層におけるビームのスキャン動作は、機械スキャナの回転動作により生じるものであってもよい。
【００３３】
ビームスリッタ２５で運ばれ、物体ビーム１５を形成するビームの部分は、ミラー２６で反射され、物体マスク１１に直角な入射角をもって到達し、記録層８を照明する。ビームスリッタ２５で反射され、参照ビーム１６を形成するビームの部分は、ミラー２７で反射され、補助ガラスプリズム２８の一面に直角に入射する。補助プリズム２８で屈折したビームは、ホログラフィックプレート７を支持するプリズム１０の斜面を通過し、ホログラフィック層８に４５°の角度をもって到達し、その上で、層８の上面で全内部反射される。
【００３４】
物体ビーム１５と参照ビーム１６は全く異なる角度をもってホログラフィック層８に入射するが、それらは同一領域を照明することが図面から分かる。また、入力ビーム２４がビームスリッタ２５を横切ってスキャンされると、物体ビーム１５と参照ビーム１６が同一速度で層８を横切る。これは、層８におけるビーム投影断面を補正するために、層８における参照ビームの入射面で参照ビーム１６を圧縮する機能を有する補助プリズムによるものである。一般に、物体ビーム１５と参照ビーム１６の入射角をそれぞれθｏ，θｒとすれば、必要な圧縮係数ｃ、すなわち補助プリズム２８から透過し、そこに入射される光の幅Ｗ2，Ｗ1の比率は次式で与えられる。
【００３５】
【数２】
0003602560.tif 000003
【００３６】
圧縮係数Ｃを生じさせるために、図２に示すように向けられた補助プリズム２８の２つの面間に必要な角度φは、次式より計算される。
【００３７】
【数３】
0003602560.tif 000004
【００３８】
ここで、ｎは、補助プリズム材料の屈折率である。したがって、θｏ＝０°，θｒ＝４５°の特定の形状のものでは、必要な圧縮係数は０．７０７である。そこで、プリズム材料の屈折率を１．５とすれば、補助プリズム２８の２つの面間に必要な角度φは３２°である。
【００３９】
ホログラフィック層８における物体ビームと参照ビームの径を同一にするのは、物体ビーム１５を広げるために、物体ビームの経路中に補助プリズム２８を設けることで、代わりに達成することができる。
【００４０】
物体ビーム１５と参照ビーム１６の経路が、スキャナ装置２１の傾き（前後の揺れ、横揺れ、又は左右の揺れ）に対する、ホログラフィック層に記録された光学的干渉パターンの感度を弱めるために配置されている。
【００４１】
物体ビーム１５と参照ビーム１６は、ホログラフィック層８で正確に一列に整列されることがまず必要である。ビームを一直上に並べる精度は、スキャナ装置２１に存在する傾きの程度に依存するが、スキャナの傾斜が０．１ｍＲであれば、ビーム１５と１６は１／２ｍｍ以下に整列される。これは、ビームスリッタ２５の前で入力ビーム２４にナイフエッジを入れ、物体ビームと参照ビーム中におけるナイフエッジの投影が記録層の平面で一致するまで、物体ビームと参照ビームの経路上で光学要素の位置と方向を調整することで達成できる。ＵＶビーム中の影は、蛍光スクリーンの助けをかりて観察することができる。
【００４２】
次に考慮すべきことは、スキャナ装置の傾きにより、入力ビーム２４の角移動により生じる、ホログラフィック層におけるビームの不整合を最小にすることである。この最小化には、２つの平面（ＸＹとＸＺ）における入力ビームの角移動を考慮すべきであるし、また、ホログラフィック層８のすべての部分を考慮すべきである。物体ビームと参照ビームのそれぞれの部分の長さに符号を付した図３を参照すると、スキャナの傾きに対する光学的干渉パターンの感度は、以下の関係に配置されると低く保たれる。
【００４３】
【数４】
0003602560.tif 000005
【００４４】
ここで、ｎはガラスの屈折率である。ビーム経路が上記条件を満足すれば、ホログラムの記録に関して、スキャナ装置の傾きにかなり容認できる。マスク１１の近くで物体ビームの経路に補助プリズム２８を設けることで、スキャナの傾きに対する干渉パターンの感度を弱めることができるが、マスク１１とホログラフィックプレート７の接近化を犠牲にしなければならないかもしれない。なぜならは、ＸＹ平面における入力ビームの傾きに対する感度を最小にするための、物体ビームと参照ビームのそれぞれの光学距離に関する条件と、ＸＺ平面に関する対応条件が類似しているからである。
【００４５】
レーザービーム１５と１６がそれらのスキャンを終了すると、ホログラフィックプレート７がプリズム１０から除去され、ホログラフィック層８が定着される。ホログラム効率が、ホログラフィック露光と定着の間の時間遅れに依存するこれらのホログラフィック材料に対して、ホログラフィック層のそれぞれの部分に関して露光と定着の間の時間遅れを同一にするために、徐々にプレートを定着プロセスに入れることで適正に行われる。非コヒーレントなＵＶ光で定着する場合、ＵＶ光源、コンデンサ、及びホログラフィック露光装置を有する視準光学装置を組み合わせ、非コヒーレントＵＶビームがホログラム作成用ビーム後方のホログラフィック層をスキャンするようにスキャン装置を修正することで、達成できる。その後、ホログラムを再生することができる。
【００４６】
参考文献：（１）Ｋ．Ｓｔｅｔｓｏｎ“Ｈｏｌｏｇｒａｐｈｙ  ｗｉｔｈ  Ｔｏｔａｌｌｙ  Ｉｎｔｅｒｎａｌｌｙ  Ｒｅｆｌｅｃｔｅｄ  Ｌｉｇｈｔ（全内部反射光を用いたホログラフィ）”Ａｐｐｌｉｅｄ  Ｐｈｙｓｉｃｓ  Ｌｅｔｔｅｒｓ、ｖｏｌ．１１，ｐ．２２５（１９６７）
（２）Ｉ．Ｎ．Ｒｏｓｓ、Ｇ．Ｍ．Ｄａｉｖｉｓ、Ｄ．Ｋｌｅｍｉｔｚ、“Ｈｉｇｈ  Ｒｅｓｏｌｕｔｉｏｎ  Ｈｏｌｏｇｒａｐｈｉｃ  Ｉｍａｇｅ  Ｐｒｏｊｅｃｔｉｏｎ  ａｔ  Ｖｉｓｉｂｌｅ  ａｎｄ  Ｕｌｔｒａｖｉｏｌｅｔ  Ｗａｖｅｌｅｎｇｔｈｓ（可視波長及び紫外波長での高解像度ホログラフィックイメージ投影）”、Ａｐｐｌｉｅｄ  Ｏｐｔｉｃｓ、ｖｏｌ．２７、ｐ．９６７（１９８８）．
（３）Ｒ．Ｄａｎｄｌｉｋｅｒ、Ｊ．Ｂｒｏｏｋ、“Ｈｏｌｏｇｒａｐｈｉｃ  Ｐｈｏｔｏｌｉｔｈｏｇｒａｐｈｙ  ｆｏｒ  Ｓｕｂｍｉｃｒｏｎ  ＶＬＳＴ  Ｓｔｒｕｃｔｕｒｅｓ（超微小ＶＬＳＩ構造に対するホログラフィック・フォトリソグラフィ）”、ＩＥＥＥ  Ｃｏｎｆ．Ｐｒｏｃ．Ｈｏｌｏｇｒａｐｈｉｃ  Ｓｙｓｔｅｍｓ、Ｃｏｍｐｏｎｅｎｔｓ  ａｎｄ  Ａｐｐｌｉｃａｔｉｏｎｓ、Ｂａｔｈ、Ｕ．Ｋ．、ｐ．３１１（１９８９）．
（４）Ｓ．Ｇａｒｙ、Ｍ．Ｈａｍｉｄ、“Ｈｏｌｏｇｒａｐｈｉｃ  Ｍｉｃｒｏｌｉｔｈｏｇｒａｐｙ  ｆｏｒ  Ｆｌａｔ  Ｐａｎｅｌ  Ｄｉｓｐｌａｙｓ（平坦な板に表示するためのホログラフィック・マイクロリソグラフィ）”、ＳＩＤ  ９１  Ｄｉｇｅｓｔ  ｐｐ．８５４−８５７（１９９１）．
（５）Ｂ．Ａ．Ｏｍａｒ、Ｆ．ｃｌｕｂｅ、Ｍ．Ｈａｍｉｄ、Ｄ．Ｓｔｒｕｃｈｅｎ、Ｓ．Ｇａｒｙ、“Ａｄｖａｎｃｅｓ  ｉｎ  Ｈｏｌｏｇｒａｐｈｉｃ  Ｌｉｔｈｏｇｒａｐｈｙ（ホログラフィック・リソグラフィの進歩）”、Ｓｏｌｉｄ  Ｓｔａｔｅ  Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ、ｐｐ．８９−９３、Ｓｅｐｔ．１９９１．
（６）Ｆ．Ｃｌｕｂｓ、Ｓ．Ｇａｒｙ、Ｍ．Ｈａｍｉｄ、Ｂ．Ｏｍａｒ、Ｄ．Ｓｔｒｕｃｈｅｎ、Ｊ−Ｃ  Ｔｉｓｓｅｒａｎｄ、“Ｈｏｌｏｇｒａｐｈｉｃ  Ｍａｓｋ−Ａｌｉｇｎｅｒ（ホログラフィック・マスク整列）”、ＳＰＩＴＥ  Ｏｐｔｉｃａｌ／Ｌａｓｅｒ  Ｍｉｃｒｏｌｉｔｈｏｇｒａｐｈｙ  Ｖ、ｖｏｌ．１６７４  ｐｐ．７８３−７９２（１９９２）．
【図面の簡単な説明】
【図１】ＴＩＲホログラムの原理を示す図である。
【図２】高度な露光均一性をもって全内部反射ホログラムを記録する好適な実施例を示す図である。
【図３】物体ビームと参照ビームの経路のそれぞれの断面の長さを示す図である。
【符号の説明】
８…ホログラフィック層、１０…プリズム、１１…物体マスク、１２…特徴部分、１３…クロム層、１４…ガラス板、１５…物体ビーム、１６…参照ビーム、２５…ビームスリッタ、２８…補助プリズム。
【図１】
0003602560.tif 000006
【図２】
0003602560.tif 000007
【図３】
0003602560.tif 000008