【手続補正書】
【提出日】平成28年11月18日(2016.11.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１０２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１０２】
様々な代表的実施形態が、上述されている。これら及び他の実施形態は以下の特許請求の範囲に含まれる。
本発明の実施態様の一部を以下の項目［１］−［３４］に記載する。
［項目１］
支持体から解放される、移動する材料ウェブと、
ローラー上に装着されたスタンプであって、前記スタンプが、基部表面と、台形の断面形状を有し、かつ前記基部表面から上方に延びるパターン要素の連続した規則的アレイと、を含み、前記スタンピング要素がそれぞれ、実質的に平面状のスタンピング表面を含む、スタンプと、
前記スタンピング要素の前記スタンピング表面に少なくとも周期的に接触するインク付け表面を含むインク付けローラーであって、前記インク付け表面がインク組成物で含浸され、前記組成物が、前記ウェブ材料の主表面に結合して、前記スタンピング表面上の前記パターン要素のアレイに従った自己組織化単分子層（ＳＡＭ）を上部に形成するように選択されたチオール官能基を有する有機硫黄化合物を含有する、インク付けローラーと、を含む、システム。
［項目２］
前記スタンプ上の前記パターン要素が、約０．２５マイクロメートル〜約５マイクロメートルの横方向寸法と、前記基部表面に関連した高さと、を有する、実質的に平面状のスタンピング表面を含み、前記パターン要素の前記横方向寸法に対する前記パターン要素の高さのアスペクト比が約１．５〜約５．０である、項目１に記載のシステム。
［項目３］
前記プリントローラーと前記スタンプとの間に接着剤層を更に含む、項目１に記載のシステム。
［項目４］
前記接着剤層と前記スタンプとの間にエラストマー材の層を更に含む、項目１に記載のシステム。
［項目５］
前記スタンプが空気支持スリーブ上に装着される、項目１に記載のシステム。
［項目６］
前記インク付け表面がエラストマーポリマーを含む、項目１に記載のシステム。
［項目７］
前記エラストマーポリマーがポリ（ジメチルシロキサン）を含む、項目６に記載のシステム。
［項目８］
前記プリントローラーが、前記インク組成物を連続的に供給される、項目１に記載のシステム。
［項目９］
前記再インク付けローラーが、前記再インク付けローラー内の流体継ぎ手からインク組成物を連続的に供給される、項目１に記載のシステム。
［項目１０］
ローラーから解放される、移動する材料ウェブと、
プリントローラーに取り付けられたエラストマースタンプであって、前記スタンプが、前記材料ウェブの主表面と接触するスタンピング表面を含む、エラストマースタンプと、
有機硫黄化合物及び有機溶媒を含有するインク組成物を前記スタンピング表面にインク付けするための装置であって、前記インク付けのための装置が、前記インク組成物で含浸されたインク付け表面を有する再インク付けローラーを含み、前記インク付け表面が、前記スタンプの前記スタンピング表面に少なくとも周期的に接触する、装置と、を含む、システム。
［項目１１］
前記再インク付けローラーの前記インク付け表面がエラストマーポリマーを含む、項目１０に記載のシステム。
［項目１２］
前記エラストマーポリマーがポリ（ジメチルシロキサン）を含む、項目１１に記載のシステム。
［項目１３］
前記再インク付けローラーが、前記インク組成物を連続的に供給される、項目１０に記載のシステム。
［項目１４］
前記再インク付けローラーが、前記再インク付けローラー内の流体継ぎ手からインクを連続的に供給される、項目１３に記載のシステム。
［項目１５］
前記材料ウェブが、第１のローラーと第２のローラーとの間で張力がかけられる、項目１０に記載のシステム。
［項目１６］
ウェブ材料を支持体から解放する工程と、
官能基化分子を含有するインク組成物で含浸されたエラストマースタンプを提供する工程であって、前記官能基化分子が、前記基材材料に結合するように選択された官能基を含む、工程と、
前記官能基を前記ウェブ材料と結合させて、前記スタンピング表面上のパターン要素の配置に従った、前記官能基化材料の自己組織化単分子層（ＳＡＭ）を前記ウェブ材料の主表面上に形成するのに十分なプリント時間、前記スタンプの前記スタンピング表面を、前記ウェブ材料の前記主表面と接触させる工程と、
前記スタンプの前記スタンピング表面を再インク付けローラーと少なくとも周期的に接触させる工程であって、前記再インク付けローラーが、前記インク組成物で含浸されたインク付け表面を含む、工程と、を含む、方法。
［項目１７］
前記スタンピング表面を、前記ウェブ材料の前記主表面から除去する工程を更に含む、項目１６に記載の方法。
［項目１８］
前記スタンプが、基部表面と、前記基部表面から離れるように延びるパターン要素の配置と、を含み、前記パターン要素が、約５マイクロメートル未満の横方向寸法と、前記基部表面に関連した高さと、を有するスタンピング表面を含み、前記パターン要素の前記横方向寸法に対する前記パターン要素の高さのアスペクト比が少なくとも１．５である、項目１６に記載の方法。
［項目１９］
前記ウェブ材料が、少なくとも約１０フィート／分（約３．０メートル／分）の速度で移動する、項目１６に記載の方法。
［項目２０］
前記スタンピング表面が、約１マイクロメートル〜約５マイクロメートルの横方向寸法を有するパターン要素を含む、項目１６に記載の方法。
［項目２１］
前記パターン要素が台形の断面形状を有する、項目１６に記載の方法。
［項目２２］
前記プリント時間が約１０秒未満である、項目１６に記載の方法。
［項目２３］
前記ウェブ材料の表面上の前記ＳＡＭの厚さが、約５０Å未満である、項目１６に記載の方法。
［項目２４］
前記スタンピング表面がポリ（ジメチルシロキサン）を含む、項目１６に記載の方法。
［項目２５］
前記官能基化分子が有機硫黄化合物である、項目１６に記載の方法。
［項目２６］
前記有機硫黄化合物が、アルキルチオール類及びアリールチオール類の少なくとも１つから選択される、項目２５に記載の方法。
［項目２７］
前記ウェブ材料の前記主表面が金属である、項目１６に記載の方法。
［項目２８］
前記金属が銀である、項目２７に記載の方法。
［項目２９］
前記パターン要素が、前記スタンプの前記基部表面上に規則的かつ連続的なアレイを形成する、項目１６に記載の方法。
［項目３０］
前記スタンピング表面が、実質的に平坦であり、かつ溝により分離されたパターン要素の規則的アレイを含み、前記パターン要素が、台形の断面形状を有する、項目１６に記載の方法。
［項目３１］
前記ウェブ材料が、第１の支持体と第２の支持体との間で張力がかけられ、前記第１の支持体と前記第２の支持体との間の前記ウェブ材料内の張力が、少なくとも１０ポンド／リニアインチ（１．８Ｎ／ｍｍ）である、項目１６に記載の方法。
［項目３２］
前記ウェブ材料の前記表面が、ＳＡＭを有さない範囲を含み、前記方法が、前記ＳＡＭを有さない範囲をエッチングする工程を更に含む、項目１７に記載の方法。
［項目３３］
前記スタンプがプリントローラー上に装着される、項目１６に記載の方法。
［項目３４］
前記プリントローラーと前記スタンプとの間にフォーム材料の層を更に含む、項目３３に記載の方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持体から解放される、移動する材料ウェブと、
ローラー上に装着されたスタンプであって、前記スタンプが、基部表面と、台形の断面形状を有し、かつ前記基部表面から上方に延びるパターン要素の連続した規則的アレイと、を含み、前記スタンピング要素がそれぞれ、実質的に平面状のスタンピング表面を含む、スタンプと、
前記スタンピング要素の前記スタンピング表面に少なくとも周期的に接触するインク付け表面を含むインク付けローラーであって、前記インク付け表面がインク組成物で含浸され、前記組成物が、前記ウェブ材料の主表面に結合して、前記スタンピング表面上の前記パターン要素のアレイに従った自己組織化単分子層（ＳＡＭ）を上部に形成するように選択されたチオール官能基を有する有機硫黄化合物を含有する、インク付けローラーと、を含む、システム。
【請求項２】
前記スタンプ上の前記パターン要素が、約０．２５マイクロメートル〜約５マイクロメートルの横方向寸法と、前記基部表面に関連した高さと、を有する、実質的に平面状のスタンピング表面を含み、前記パターン要素の前記横方向寸法に対する前記パターン要素の高さのアスペクト比が約１．５〜約５．０である、請求項１に記載のシステム。
【請求項３】
前記スタンプが空気支持スリーブ上に装着される、請求項１に記載のシステム。
【請求項４】
ローラーから解放される、移動する材料ウェブと、
プリントローラーに取り付けられたエラストマースタンプであって、前記スタンプが、前記材料ウェブの主表面と接触するスタンピング表面を含む、エラストマースタンプと、
有機硫黄化合物及び有機溶媒を含有するインク組成物を前記スタンピング表面にインク付けするための装置であって、前記インク付けのための装置が、前記インク組成物で含浸されたインク付け表面を有する再インク付けローラーを含み、前記インク付け表面が、前記スタンプの前記スタンピング表面に少なくとも周期的に接触する、装置と、を含む、システム。
【請求項５】
ウェブ材料を支持体から解放する工程と、
官能基化分子を含有するインク組成物で含浸されたエラストマースタンプを提供する工程であって、前記官能基化分子が、前記基材材料に結合するように選択された官能基を含む、工程と、
前記官能基を前記ウェブ材料と結合させて、前記スタンピング表面上のパターン要素の配置に従った、前記官能基化材料の自己組織化単分子層（ＳＡＭ）を前記ウェブ材料の主表面上に形成するのに十分なプリント時間、前記スタンプの前記スタンピング表面を、前記ウェブ材料の前記主表面と接触させる工程と、
前記スタンプの前記スタンピング表面を再インク付けローラーと少なくとも周期的に接触させる工程であって、前記再インク付けローラーが、前記インク組成物で含浸されたインク付け表面を含む、工程と、を含む、方法。
【請求項６】
前記スタンプが、基部表面と、前記基部表面から離れるように延びるパターン要素の配置と、を含み、前記パターン要素が、約５マイクロメートル未満の横方向寸法と、前記基部表面に関連した高さと、を有するスタンピング表面を含み、前記パターン要素の前記横方向寸法に対する前記パターン要素の高さのアスペクト比が少なくとも１．５である、請求項５に記載の方法。