(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
電子写真用の有機光導電体であって、
導電性基体と、
前記基体上に１マイクロメートル以上の厚さの層を形成する、３０％以上の自己架橋率を有するポリビニルブチラールからなるバインダー成分と、
前記バインダー成分全体にわたって均一に分散した顔料成分とからなる、光導電体。
【請求項２】
電子写真用の有機光導電体であって、
導電性基体と、
前記基体上に１マイクロメートル以上の厚さの層を形成する、３０％以上の自己架橋率を有するポリビニルブチラールからなるバインダー成分と、
前記バインダー成分全体にわたって均一に分散したｘ−無金属フタロシアニン顔料成分とからなる、光導電体。
【請求項３】
前記バインダー成分が、１５０から３００℃の熱への暴露によって自己架橋している、請求項１又は２に記載の光導電体。
【請求項４】
前記バインダー成分が、電子ビーム放射への暴露によって自己架橋している、請求項１又は２に記載の光導電体。
【請求項５】
前記バインダー成分が、紫外線放射への暴露によって自己架橋している、請求項１又は２に記載の光導電体。
【請求項６】
前記バインダー成分が、Ｘ線放射への暴露によって自己架橋している、請求項１又は２に記載の光導電体。
【請求項７】
前記バインダー成分からなる層の上に追加の層を形成するポリマー成分を更に含む、請求項１又は２に記載の光導電体。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】
本発明は一般に、電子写真用の光導電体に関する。本発明は、良好な速度及び安定性と、乾式及び湿式トナー電子写真用の多層光導電体に対する向上した接着性とを有する、正帯電性の有機光導電体材料である。
【０００２】
【従来の技術】
電子写真においては、帯電した表面上にある領域を選択的に露光することによって、光導電性材料の表面上に潜像が形成される。露光表面上の領域と非露光表面上の領域との間には、静電荷密度の差が生じさせられる。顔料成分と熱可塑性成分とを含む静電トナーによって、可視画像が発現される。こうしたトナーは、光導電体表面、現像電極及びトナーの相対的な静電荷に応じて、露光された光導電体表面又は未露光の光導電体表面のどちらかに選択的に付着させられる。この光導電体は正に帯電させられても負に帯電させられてもよく、トナーの系も同様に、正又は負に帯電した粒子を含むことができる。レーザプリンタの場合に好ましい具体例は、光導電体とトナーが同一の極性を有するが、異なった電荷レベルを有するということである。
【０００３】
この場合、用紙シート又は中間転写媒体には、トナーの電荷とは逆の静電電荷が与えられ、光導電体表面からの現像画像のパターンのままで、光導電体表面からトナーを用紙シート又は中間転写媒体上に転写させながら、光導電体表面付近を通過させられる。直接転写の後で、或いは中間転写媒体を使用した場合には間接転写の後で、１組の融着ローラがトナーを用紙に定着させ、プリント画像を生じさせる。
【０００４】
従って、この重要な光導電体表面は、電子写真技術分野において、様々な研究開発の主題となってきた。電子写真用光導電体表面に適するものとして、数多くの光導電体材料が開示されている。例えば、アモルファスシリコン（Ｓｉ）、三セレン化二ヒ素（Ａｓ２Ｓｅ３）、硫化カドミウム（ＣｄＳ）、セレン（Ｓｅ）、酸化チタン（ＴｉＯ２）、及び酸化亜鉛（ＺｎＯ）のような無機化合物が、光導電体として働く。しかしながらこれらの無機材料は、低製造コスト、レーザダイオード又は他の発光ダイオード（ＬＥＤ）に対する高速応答、及び非毒性による安全性といった、電子写真技術分野における現在の必要条件を満たさない。
【０００５】
そこで、光導電体表面についての電子写真技術分野における最近の進歩は、有機光導電体（ＯＰＣ）の如き有機材料を使用することによってもたらされている。典型的には、現在市販されているＯＰＣは負帯電タイプであり、電荷発生層の上部表面に堆積されたより厚い電荷移動材料層の下側に、一般に約１マイクロメートル未満の厚さの薄い電荷発生材料層を有する。こうした負帯電タイプのＯＰＣは、下記の用途における電子写真複写機及びプリンタの場合に十分な性能を示す。
【０００６】
ａ．１色又は２色の乾燥粉末現像剤を使用するか、又はモノクロ複写専用の液体現像剤を使用する、下位機種（毎分４〜１０枚のコピー）と上位機種（毎分５０枚を越えるコピー）の電子写真システム。
【０００７】
ｂ．１００サイクル未満の推定耐用寿命を有する、高画像品質（約１８００  ＤＰＩ以上）のカラープルーフィングシステム（ｃｏｌｏｒ  ｐｒｏｏｆｉｎｇ  ｓｙｓｔｅｍ）、リソグラフプレート印刷システム、及びマスター電子写真印刷システム。
【０００８】
しかしながら、従来技術の負荷電性ＯＰＣは、次のような幾つかの欠点をも有している。
１．  負コロナ帯電プロセス中に大量のオゾンが発生され、環境上の問題点を生じさせる。この問題は、活性炭フィルタのようなオゾン吸収剤を設置することによって、またコロナ帯電の代わりに接触式負帯電を使用することによって対処されてきた。しかしながらこうしたオゾン対応策は、それ自体の欠点を有し、工業向けの解決策としては有利なものではない。
【０００９】
２．負コロナ帯電によって得られる電荷パターンの均一性は一般に、正コロナ帯電によって得られる電荷パターンの均一性に比べて劣っている。そして電荷パターンの均一性が低いほどノイズが多く、最終画像における精細度は低い。
【００１０】
３．乾燥微粉末プロセスと液体トナープロセスを含む微粒子トナープロセスでは、設計者は、負荷電トナーの場合よりも正荷電トナーの場合の方が、高い電荷安定性を得ることが可能である。従って、正帯電性ＯＰＣ（（＋）ＯＰＣ）は、レーザプリンタの場合のような、放電領域が現像される画像にとって好ましい。
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】
特定の形態のフタロシアニン顔料粉末は、優れた光導電性を示すことが知られている。こうしたフタロシアニン顔料は、導電性基体上に付着させられる電子写真用光導電体における高分子バインダーマトリックス中に、混合物として使用されてきた。こうしたフタロシアニン／バインダー光導電体では、光電荷の発生と電荷移動がフタロシアニン顔料粒子内で起こり、一方バインダーは不活性である。従ってこの光導電体は、フタロシアニン／バインダーの単層で形成することが可能である。こうした単層の光導電体は、フタロシアニン顔料の正孔（正電荷）移動性のために、非常に優れた正帯電ＯＰＣであることが知られている。
【００１２】
この場合にこれらの単層光導電体では、電荷移動分子を添加することも、別個の電荷移動層を備えることも不必要である。フタロシアニン顔料含量は、電荷発生機能と電荷移動機能の両方を果たすのに十分であるためには恐らく約１０から３０重量％の範囲内であり、その場合のバインダー含量は約９０から７０重量％の範囲内である。上記の単一の光導電体層は、必要とされる電荷受入と、その結果として生じる画像のコントラストとを得るために、約３μｍを越える厚さであることが一般的である。
【００１３】
そこで本発明の最初の課題は、高サイクル高品質の電子写真プロセスにおいて、電荷受入、暗減衰（ｄａｒｋ  ｄｅｃａｙ）及び光放電（ｐｈｏｔｏｄｉｓｃｈａｒｇｅ）を含む安定した電気的特性を示す（＋）ＯＰＣを提供することである。書込ヘッドがＬＥＤアレイ又はレーザダイオードである現在のディジタル画像化システムは、非常に短い露出時間（５０ナノ秒未満）に亙る非常に高い光密度（約１００ｅｒｇ／ｃｍ２）を有し、その結果、約１０から３０ｅｒｇ／ｃｍ２の光強度と、数１００マイクロ秒から数ミリ秒の間の露出時間を用いる光入力複写機に比較してより厳しい条件をＯＰＣに対してもたらすことになる。
【００１４】
残念ながら、こうした安定した電気的特性を与える製品は、現在の市場には存在しない。これは、電子写真プロセスにおいて頻繁にコロナ帯電装置と強烈な光源とに露出される時に、こうした（＋）ＯＰＣが不安定性を示すからである。本発明者は、レーザ印刷プロセスのために必要とされる強力な吸収と高い光強度と短い露出時間という条件において、上記不安定性が更に増すことを発見している。この光導電体の不安定性は、比較的少ない数のレーザ印刷反復サイクルの後の、暗減衰の著しい増加として示される。またこの不安定性は、反復サイクル後の表面電位の低減として現れる。こうした不安定性は、画像コントラストの劣性変化を引き起こし、画像品質の信頼性に関する問題点を生じさせる。
【００１５】
好ましくは、望ましい電子写真性能は、各々のビーム毎に０．０５マイクロ秒に同期させられた、ビームスキャナと集束レンズとを含む光学システムを通過した波長７８０ｎｍ又は８３０ｎｍのレーザダイオードビームを使用する場合に、約６０から１００Ｖ／μｍの高い電荷受入と、約５Ｖ／秒未満の低い暗減衰と、表面電荷の少なくとも９０％の光放電として定義され得る。
【００１６】
アクリル樹脂、フェノキシ樹脂、ポリ酢酸ビニルやポリビニルブチラールを含むビニルポリマー、ポリスチレン、ポリエステル、ポリアミド、ポリイミド、ポリカーボネート、メタクリル酸メチル、ポリスルホン、ポリアリラート、フタル酸ジアリル樹脂、ポリエチレン、ポリ塩化ビニルやフッ素樹脂を含むハロゲン化ポリマー等のような、フタロシアニン顔料用の従来のバインダーが使用される時には、許容可能な電荷受入と光放電とが得られる。しかしながら、電荷受入と光放電とに関して適切な性能を生じさせるこれらのポリマーの中で、上記のＬＥＤアレイ又はレーザダイオードの厳格な露出条件の下で望ましい安定性を示すものは１つもない。
【００１７】
従来のＯＰＣは、現時点では、特に磁性担体とトナーを含む２成分現像剤を使用する高速度高サイクルの用途、及びポリウレタンのような丈夫なクリーニングブレード材料を使用する用途において脆弱な耐磨耗性を示す、熱可塑性バインダーで作られる。一般に、機械的に磨耗する表面を有するＯＰＣは、低い電荷受入と、高い暗減衰率と、低速度と、低いコントラストという、低劣な電気写真特性を示す。
【００１８】
本発明の第２の課題は、機械的強度に基づく卓越した耐久性と、耐溶剤性と、熱安定性とを有するＯＰＣを提供することである。このＯＰＣは、高サイクル用途における耐磨耗性を確保するために、機械的に丈夫でなければならない。このＯＰＣは、液体トナー用途において変質又は損失を受けないように、耐溶剤性でなければならない。更にこのＯＰＣは、様々な温度において、又は様々な温度であった後に、特に現在のレーザプリンタの場合には典型的には約７０℃である高温度において、又はその高温度であった後に、予測可能で反復可能な性能を確保するために、熱的に安定していなければならない。
【００１９】
また、従来の熱可塑性バインダーは、液体トナー用途に使用される溶剤中で、より高い可溶性を示す。例えば、上位機種用途に関連した１２００  ＤＰＩを越える非常に高い解像度を得るために必要とされる湿潤環境においては、液体担体がＯＰＣバインダーを部分的に溶解させる傾向があり、このことは低劣な解像度をもたらす。更に水性インク印刷用途では、水はこうした従来のバインダーで作られたＯＰＣの導電性に対して悪影響を与え、この作用は温度が高ければ高いほど増大する。
【００２０】
また、従来の熱可塑性バインダーは、電子写真に関して重要な電気特性における著しい熱劣化を示し、これは電荷受入の減少と暗減衰率の増大とコントラスト電位の低減の形で反映される。
【００２１】
本発明の第３の課題は、バインダー材料に加えて、上記ＯＰＣの寿命に悪影響を及ぼす可能性がある架橋剤や架橋可能コポリマー材料、或いは架橋触媒を更に与える必要なしに、ＯＰＣ用の架橋バインダーを提供することである。
【００２２】
従って、ＯＰＣに関するこれらの機械的、化学的、熱的な耐久性要件を満たすためには、独自の架橋可能ポリマーバインダー材料が得られなければならない。
【００２３】
一般には、エポキシ、フェノール樹脂、ポリウレタン等のような架橋ポリマーが知られている。たとえば電子部品パッケージング産業における繊維強化プラスチックの場合には、ガラス転移温度（Ｔｇ）における大きな改善が、熱、放射（電子ビーム、紫外線、Ｘ線等）及び／又は水蒸気を用いて架橋することによって得られる。しかしながらＯＰＣ用途に関しては、電荷発生分子（染料、顔料等）や電荷移動分子の如き光導電成分が、従来の架橋プロセスで使用される熱、高エネルギー照射及び水蒸気に弱いので、一般的な架橋の原理を自由に適用することは不可能である。従って、架橋を行った後では、これらの分子は電荷発生分子又は電荷移動分子として働く形態においては、架橋生成物中に存在しない可能性がある。これが、ヒドラゾン、アリールアミン、ピラゾリン、もしくはトリフェニルメタンのような正孔輸送分子の場合でも、ジフェニルスルホン、フルオレノン、もしくはキノンのような電子輸送分子の場合でも、或いは光導電体が単層もしくは多重層の場合でも、架橋光導電体バインダーにおける従来の試みがこれまで成功していない理由である。こうした試みは全て、架橋バインダー中における輸送分子の適合性の不十分さをもたらし、結果的に好ましからざる光放電特性を生じさせる。
【００２４】
本発明の第４の課題は、他のポリマー層に対する優れた付着性を有するＯＰＣ用の架橋バインダーを提供することである。こうして、層間の界面において容易に分離して剥がれすぎることのない、多層ＯＰＣを作ることが可能である。
【００２５】
従来の熱可塑性プラスチックバインダーの中では、ポリビニルブチラール（ＰＶＢ）が、光導電体技術分野の用途における様々な種類の光導電性顔料について、良好な分散性と良好な薄膜形成性とにおいて、最良のバインダーであると考えられている。しかし依然として、単層（＋）ＯＰＣ中でのフタロシアニン顔料用に熱可塑性ＰＶＢを使用しても、７８０ｎｍレーザダイオードに対する光応答、電気的安定性、熱及び液体トナーに対する環境安定性とに関して、他の従来の熱可塑性バインダーと比較して優れた性能が与えられるわけではない。更に、２層光導電体の電荷発生層のためのバインダーとして熱可塑性ＰＶＢを使用することは、一般に、電荷発生層（ＣＧＬ）のバインダーと、電荷移動層（ＣＴＬ）のバインダー（一般にポリカーボネート、ポリエステル、ポリイミド、ポリスチレン等のフェニルポリマー）との間の非相溶性に伴う付着不良に起因した、乏しい接着性をもたらす。
【００２６】
本発明は、長寿命の用途のための架橋可能バインダーを使用する種類の、赤外線感知光導電体の製造方法を提供することを目標とする。
【００２７】
【課題を解決するための手段】
本発明は、ＯＰＣ用の自己架橋ポリビニルブチラール（ＰＶＢ）バインダーである。非架橋形態のこのバインダーは、米国Ｍｏｎｓａｎｔｏ  Ｃｏ．からＢｕｔｖａｒＴＭとして、また日本の積水化学株式会社からＳｌｅｋＴＭとして入手可能である。本発明者は、約２時間に亙って約１５０から３００℃においてこのＰＶＢを単に熱硬化させることによって、このＰＶＢを自己架橋させることが可能であることを見い出した。他の自己架橋方法、例えば電子ビーム放射、紫外線放射、又はＸ線放射も、熱を用いて本発明者が得たのと同様の結果をもたらすと考えられる。この架橋を完了させるためには、架橋剤も架橋可能なコポリマーも触媒も必要としない。
【００２８】
自己架橋後に、上記のＰＶＢは優れた機械的耐久性と優れた耐溶剤性とを有する。これに加えて、この自己架橋ＰＶＢのガラス転移温度（Ｔｇ）は、約６５℃から約１７０℃に上昇する。更に、従来の光導電体顔料をこの自己架橋ＰＶＢ中に分散すると、これらは良好に分散し、その結果として得られるＯＰＣは、良好な電荷受容性と、低い暗減衰と、そして一般に、良好な光放電特性とを有する。
【００２９】
特に、ｘ−無金属（ｘ−ｍｅｔａｌ  ｆｒｅｅ）フタロシアニン（ｘ−Ｈ２Ｐｃ）顔料を使用する（＋）単層ＯＰＣのための用途に関しては、１５０から３００℃の熱硬化プロセスによってバインダーの自己架橋条件下に置かれる時に、７８０ｎｍレーザに暴露した場合に著しい光応答の向上が得られることが観察される。この場合には、上記のｘ−Ｈ２Ｐｃ−ＰＶＢ系は、顔料の形態変化をもたらさないことが確認された。架橋ｘ−Ｈ２Ｐｃ−ＰＶＢにおける光応答の向上は、十分には解明されていない。しかしながら、架橋プロセス後のＰＶＢ中の高反応性ヒドロキシ（−ＯＨ）基の還元に関係があるのではないかと推定されている。一般的に言って、無金属フタロシアニン顔料における光―物理プロセスは、そのＮ原子の孤立電子対の挙動に大きく依存している。熱可塑性ＰＶＢの遊離−ＯＨ基とこれらのＮ原子との間の相互作用（例えば、水素結合）は、光励起プロセス又は熱励起プロセスの下での自由キャリヤの発生を制限する可能性がある。更に本発明者は、例えば焼成条件（焼成温度と焼成時間）を変化させることによるデバイス内での−ＯＨ含量の調整により、光応答と暗減衰との間でのバランス調整が可能となること、即ち、最低の暗減衰で最高の光応答の実現が可能となることをも見い出した。
【００３０】
ｘ−Ｈ２Ｐｃ／自己架橋ＰＶＢを用いた（＋）単層ＯＰＣにおける光応答の増大はまた、自己架橋電荷発生層（ＣＧＬ）を使用する（−）２層ＯＰＣ構造においても認められる。この層もまた、反復サイクルと熱及び湿度における環境変化とに対するデバイスの安定性の著しい改善をもたらす。
【００３１】
また、自己架橋ＰＶＢを有するＯＰＣは付着性の改善を示し、従って本発明によって形成された多層ＯＰＣは、改善された層間結合とより長い経済寿命とを得るものである。
【００３２】
【実施例】
添付図面を参照すると、これらの図面には、本発明の幾つかの実施例の略断面図が示されている。ＯＰＣには、導電性基体１と光導電体層２とが備えられる。光導電体層２は、独立した電荷発生層２ａと、独立した電荷移動層２ｂとを含むことが可能である。電荷障壁層３を、基体１と光導電体層２との間に任意に配置可能である。更に光導電体層２の上方には、電荷注入バリヤー層４と放出層５とを順に、任意に配置可能である。更には、ＯＰＣで一般的に使用される他の層（例えば湾曲防止層、オーバーコート層等）の使用も可能である。
【００３３】
導電性基体１は不透明であっても概ね透明であっても良く、必要とされる機械的特性を有する様々な適切な材料から構成されてよい。更に、この基体自体は均質であっても層状であっても良く、層状である場合には、導電性の表面を有する。従ってこの基体は、非導電性の材料の層と、無機又は有機組成物を含む導電性材料の層とから構成できる。非導電性の材料としては、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリアミド、ポリイミド、ポリウレタン等を含む、この目的のための様々な公知の樹脂が使用可能である。この電気絶縁性又は導電性の基体は、硬質であっても、柔軟性であっても良く、例えば円筒、シート、ロール、継ぎ目なし柔軟性ベルト等の、任意の様々な形状を有することが可能である。この基体の導電性部分は、例えば真空蒸着法のような任意の適切な被覆方式によってその基体の絶縁部分上に形成されることが可能な、導電性金属層であってもよい。この導電性層は均質の金属であってもよい。典型的な金属には、アルミニウム、銅、金、ジルコニウム、ニオブ、タンタル、バナジウム、ハフニウム、チタン、ニッケル、ステンレススチール、クロム、タングステン、モリブデン等と、これらの混合物又は合金とを含む。
【００３４】
光導電体２は、単層であっても２層であってもよい。単層である場合には、この単層が電荷発生機能と電荷移動機能の両方を果たす。２層である場合には、一方の層が電荷発生機能を果たし、他方の層が電荷移動機能を果たす。
【００３５】
任意の適切な電荷発生（光電荷発生）層２Ａを、基体１又は障壁層３に設けることができる。光電荷発生層用の材料の例は、
薄膜形成ポリマー材料中に分散させられた非晶質セレンと、三方晶系セレンと、セレン−テルルとセレン―テルル―ヒ素とヒ化セレンとを含むグループから選択されたセレン合金とのような、無機光導電性粒子と、
米国特許第３，３５７，９８９号に開示されたｘ形態の無金属フタロシアニンと、金属フタロシアニン（バナジルフタロシアニン、銅フタロシアニン、チタニルフタロシアニン、アルミニウムフタロシアニン、ハロインジウムフタロシアニン、マグネシウムフタロシアニン、亜鉛フタロシアニン、イットリウムフタロシアニン）ようなフタロシアニン顔料と、
スクアリリウム（ｓｑｕａｒｙｌｉｕｍ）と、
「Ｍｏｎａｓｔｒａｌ  Ｒｅｄ」、「Ｍｏｎａｓｔｒａｌ  Ｖｉｏｌｅｔ」、「Ｍｏｎａｓｔｒａｌ  Ｒｅｄ  Ｙ」の商品名でＤｕ  Ｐｏｎｔから市販されている製品の如きキナクリドン（ｑｕｉｎａｃｒｉｄｏｎｅ）と、「Ｈｏｓｔａｐｅｒｍ  ｏｒａｎｇｅ」、「Ｖａｔ  ｏｒａｎｇｅ  １」、「Ｖａｔ  ｏｒａｎｇ  ３」の商品名で市販されている製品の如きジブロモアンタントロン（ｄｉｂｒｏｍｏａｎｔｈａｎｔｈｒｏｎｅ）顔料と、ベンゾイミダゾールペリレンと、
米国特許第３，４４２，７８１号に開示された置換２，４−ジアミノトリアジンと、
「Ｉｎｄｏｆａｓｔ  Ｄｏｕｂｌｅ  Ｓｃａｒｌｅｔ」、「Ｉｎｄｏｆａｓｔ  Ｖｉｏｌｅｔ  Ｌａｋｅ  Ｂ」、「Ｉｎｄｏｆａｓｔ  Ｂｒｉｌｌｉａｎｔ  Ｓｃａｒｌｅｔ」、「Ｉｎｄｏｆａｓｔ  Ｏｒａｎｇｅ」の商品名でＡｌｌｉｅｄ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎから入手可能な製品の如き多核芳香族キノンと、ベンゾフラノンと、チオピロロピロール（ｔｈｉｏｐｙｒｒｏｌｌｏｐｙｒｏｌｅ）等を含む。光導電性層の光電荷発生層の特性を増強又は低減させる多層光電荷発生組成物を使用することが可能である。このタイプの構成の例は、米国特許第４，４１５，６３９号に開示されている。当業界で公知の他の適切な光電荷発生材料も、必要に応じて使用可能である。
【００３６】
光電荷発生組成物又は顔料を、樹脂質バインダー組成物中に様々な量で含むことが可能である。光電荷発生材料は、バインダー成分を基準として約８重量％から約５０重量％の範囲内で含まれることが好ましい。
【００３７】
光電荷発生層２Ａは、一般に約０．１マイクロメートルから約５．０マイクロメートルの範囲内の厚さを有し、好ましくは約０．３マイクロメートルから約３．０マイクロメートルの範囲内の厚さを有する。光電荷発生層２Ａの厚みは、バインダー含量に関係付けられる。一般的に、バインダー含量が大きければ大きいほど、光電荷発生のために必要とされる層の厚みは増大しなければならない。本発明の目的が実現される場合には、これらの範囲外の厚みを選択することも可能である。
【００３８】
光電荷発生層２Ａ被覆混合物を混合して、予め乾燥された基体１又は障壁層３に対してその光電荷発生層２Ａ被覆混合物を塗布するために、任意の適切な従来の方式を使用することが可能である。典型的な塗布方式は、吹き付け、浸し塗り、ローラ塗り、ワイヤ巻回ロッドコーティング等を含む。被覆を塗布する際に使用される溶剤を殆ど全て除去するための塗布被覆の乾燥は、炉による乾燥、赤外放射乾燥、空気乾燥等のような任意の適切な従来の方式によって行われてよい。
【００３９】
電荷移動層２Ｂは、電荷発生層２Ａからの光励起正孔又は電子の注入を促進することが可能であり、また表面電荷を選択的に放電させるために有機層を通して上記正孔又は電子の移動を可能にする、任意の適切な透明有機ポリマー材料又は非ポリマー材料を含んでもよい。電荷移動層２Ｂは、正孔又は電子を移動させる働きをするばかりでなく、磨耗又は化学的腐食から光電荷発生層２Ａを保護し、従ってＯＰＣの動作寿命を引き延ばす。電荷移動層２Ｂは、電子写真で使用される波長（例えば４００ｎｍから９００ｎｍ）の光に露出される時には、どんな場合にも、僅かな放電を生じるだけでなければならない。一般に電荷移動層２Ｂは、その層を通して露光が行われる時に入射照射の殆どがその層２Ｂの下に位置する電荷発生層２Ａによって利用されることを確保するために、光導電体がその範囲内で使用されなければならない波長範囲内において透明である。透明基体と共に使用されるときには、その基体を通過する光すべてによって、その基体を通して画像の露光又は消去が行われることが可能である。この場合には、電荷移動層２Ｂは使用波長範囲内の光を通過させる必要はない。電荷発生層２Ａと組み合わされた電荷移動層２Ｂは、照射が無い場合には電荷移動層２Ｂの上部表面に印加された静帯電を伝導しない程度の絶縁性を有する絶縁体である。
【００４０】
電荷移動層２Ｂは、通常は電気的に不活性な薄膜形成ポリマー材料を電気的に活性にするために、これらのポリマー材料中に分散させられた活性化化合物又は電荷移動分子を含んでもよい。これらの電荷移動分子は、光電荷発生正孔の注入を促進することが不可能であり且つこれらの正孔を移動させることが不可能であるポリマー材料に加えることが可能である。多層光導電体に使用される特に好ましい移動層は、少なくとも１つの電荷移動芳香族アミンを約２５重量％から７５重量％と、これらの芳香族アミンがその中に溶解可能なポリマー薄膜形成樹脂を約７５重量％から約２５重量％を含む。
【００４１】
従来のＯＰＣの場合には、塩化メチレン又は他の適切な溶媒中に可溶性である任意の適切な不活性バインダーを使用可能である。塩化メチレン中に可溶である典型的な不活性樹脂バインダーは、ポリカーボネート樹脂、ポリビニルカルバゾール、ポリエステル、ポリアリレート、ポリアクリレート、ポリエーテル、ポリスルホン等を含む。分子量は約２０，０００から約１，５００，０００の間で変化することが可能である。これらのバインダーを溶解させることが可能な他の溶媒は、テトラヒドロフラン、トルエン、トリクロロエチレン、１，１，２−トリクロロエタン、１，１，１−トリクロロエタン等を含む。
【００４２】
電荷移動層の厚さは、一般的に、約１０μｍから約５０μｍの範囲内であってよく、好ましくは、約２０μｍから約３５μｍの範囲内であってよい。最適の厚さは約２３μｍから約３１μｍの範囲内であってよい。
【００４３】
本発明のＯＰＣの場合には、電荷発生層２Ｂのバインダー樹脂は自己架橋ポリビニルブチラール（ＰＶＢ）でなければならない。その他の層も自己架橋ＰＶＢを含むことが可能である。
【００４４】
ＰＶＢは次式を有し、
【００４５】
【化１】
0003604731.tif 000002
【００４６】
前式中で、Ｒは、従来の官能性置換基を有するか又は有しないアルキル、アリル、アリールであり、
ｌ＝  ５０から９５ｍｏｌ％
ｍ＝  ０．５から１５ｍｏｌ％
ｎ＝  ５から３５ｍｏｌ％
である。
【００４７】
このＰＶＢ架橋は、単純にそのＰＶＢを約１５０から３００℃に加熱することによって行われる。その焼成時間は厚みとバインダー含量に応じて決まり、数分から数時間の間であってよい。他の架橋方法、例えば、電子ビーム、紫外線又はＸ線の照射によっても、熱を使用して得られた結果と同様の結果が得られると考えられる。この架橋反応は、同じ一つのＰＶＢポリマー鎖上の別々の場所からの−ＯＨ基と−Ｏ−基、又は、別々のＰＶＢポリマー鎖からの−ＯＨ基と−Ｏ−基が相互に反応して橋かけ結合を形成することに起因すると考えられる。
【００４８】
導電性基体１の上部表面には、障壁層３を塗布することが可能である。正荷電ＯＰＣ用の電子障壁層３は、光レセプターの画像形成表面から正孔が上記導電層に向かって移動することを可能にする。負荷電ＯＰＣの場合には、反対側の光導電層に対して導電層から正孔注入が生じることを防止するために、バリヤーを形成することが可能な任意の適切な正孔障壁層を使用可能である。この障壁層の厚さは、約２０Åから約４０００Åの範囲内であってよく、好ましくは約１５０Åから約２０００Åの範囲内であってよい。
【００４９】
任意のオーバーコート層である電荷注入バリヤー層４と放出層５は、電気絶縁性又は僅かに半導性である無機又は有機のポリマーから形成可能である。これらのオーバーコート層の厚みは約２μｍから約８μｍの範囲内であってよく、好ましくは約３μｍから約６μｍの範囲内であってよい。この厚さの最適範囲は約３μｍから約５μｍである。
【００５０】
架橋試験手順
架橋反応の量を間接的に調べた。本発明者の試験Ｉでは、始めにＯＰＣのサンプルの重量（Ｍ１）を測定し、その後で、そのサンプルをジクロロメタン溶媒浴中に沈めた。その後、数時間に亙って上記浴中にサンプルを浸漬状態のままとし、浸漬後に８０℃で１時間に亙って乾燥させた。その後、サンプルの重量（Ｍ２）を再び測定し、差（Ｍ１−Ｍ２）を確定した。サンプルの損失部分が既に上記溶媒中に溶解されてしまい、架橋によって保護されることがなかったと仮定すれば、式（Ｍ１−Ｍ２）／Ｍ１は架橋％を表す。
【００５１】
ＰＶＢに関する幾つかの架橋試験の結果が、次の表１に示されている。
【００５２】
【表１】
0003604731.tif 000003
【００５３】
上記表１から、サンプル２が２００℃での硬化後に８０％自己架橋したことが明らかである。
【００５４】
ＯＰＣ試験手順
ａ）レーザ応答：  十分に摩砕されたＯＰＣサンプルを、１８０ｍｍの直径を有するＡｌドラムの周りに巻き付けた。このドラムを、毎秒３インチにセットした速度で回転させた。このＯＰＣを、最初に、開始位置（０度位置）においてコロナ帯電によって帯電させ、その次に、７８０ｎｍレーザに露出した（２０度において出力２ｍＷ）。３０度の位置に置かれた静電プローブ（Ｔｒｅｋ，Ｍｏｄｅｌ  ３６２）によって、レーザ走査に露出されたＯＰＣの表面電位（Ｖｅ）と露出されていないＯＰＣの表面電位（Ｖｏ）とを検出した。このＶｏ値（ボルト）は電荷受入に相当し、Ｖｅ値はレーザ応答に相当する。
【００５５】
ｂ）寿命試験：  ＯＰＣサンプルに対して、上記と同一の条件を用いて「帯電、レーザ露出、ＬＥＤ消去」の反復サイクルを行った。サイクルに伴ったＶｅとＶｏの帯電の変化がＯＰＣ寿命の情報を与えるだろう。尚、Ｖｏ（１）＝１番目のサイクルのＶｏ、Ｖｏ（１０００）＝１０００番目のサイクルのＶｏである。
【００５６】
ｃ）熱安定性試験：  Ａｌドラムの内側に加熱器を組み込むことによって、加熱状態下で試験ａと試験ｂとを行った。熱電対と温度調整装置とを使用して、設定温度を調整した。
【００５７】
実施例
実施例１  レーザ応答及び暗減衰に対する架橋の影響の調査
ステンレススチールのビーズ（４ｍｍ）とボールミルとを使用して、１６ｇのｘ−Ｈ２Ｐｃと、８４ｇのポリビニルブチラール（Ａｌｄｒｉｃｈ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ）と、９００ｇのジクロロメタンとを２４時間に亙って共に粉砕した。その懸濁液を、ドクターブレードを使用してＡｌ／マイラー基体上に塗布し、室温で４時間に亙って乾燥させた。そのＯＰＣサンプルを、ＯＰＣの同一の多数の断片にわけた。これらのＯＰＣを、様々な温度で様々な時間に亙って炉内で焼成した。その後で、焼成したＯＰＣサンプルを、上記の試験ａ、ｂ、ｃに使用した。その結果を次の表２に示す。
【００５８】
【表２】
0003604731.tif 000004
【００５９】
架橋の度合いが低いサンプルに比較して、架橋の度合いが高いサンプルほど、良好なレーザ応答と低い暗減衰とを生じさせる。
【００６０】
実施例２  架橋の寿命試験効果の調査
上記の実施例１に説明されたＯＰＣサンプルの幾つかに１０００サイクル寿命試験を行った。その結果を次の表３に示す。
【００６１】
【表３】
0003604731.tif 000005
【００６２】
この表は、架橋したサンプルが、非架橋のサンプルに比べて高い電気的安定性を有することを明らかにしている。
【００６３】
実施例３  架橋に対する高焼成温度における焼成時間の影響の調査
２２５から２５０℃の温度において様々な焼成時間に亙ってＯＰＣサンプルを焼成したということを除いて、実施例１で説明したＯＰＣ調合を繰り返した。これらのＯＰＣサンプルを、室温と５５℃とにおいて、レーザ応答試験ａ）と寿命試験ｂ）とによって試験した。この場合にサンプルの電気的安定性は、比率
ＤＶ（Ｒ．Ｔ．）＝室温（Ｒ．Ｔ．）で測定されたＶｏ（１０００）／Ｖｏ（１）と、
ＤＶ（５５）＝サンプルを加熱することによって５５℃で測定されたＶｏ（１０００）／Ｖｏ（１）とによって定義される。この結果を次の表４に示す。
【００６４】
【表４】
0003604731.tif 000006
【００６５】
これらの結果から見て、焼成時間の変化が、ＯＰＣサンプルのヒドロキシ含量の変化を結果的に生じさせる可能性があるということを理解されたい。２時間に亙って８０℃で焼成されたサンプルは、低いレーザ応答と低い熱安定性、即ち、低寿命を示している。１０分間から３０分間に亙って２２５℃と２５０℃で焼成したサンプルは、レーザ応答の改善と、寿命と熱安定性の改善とを示した。これは、サンプルが（特に表面において）部分的に架橋させられたことに起因すると考えられる。これが意味することは、表面がＯＰＣのその他の大部分に比べて少ない量のヒドロキシ（−ＯＨ）しか含まないか、或いは全くヒドロキシ基を含まないということである。２時間に亙って２５０℃で焼成されたサンプルは、全くヒドロキシ基を含まなかった。このことは、この特定の焼成条件が非常に良好なレーザ応答を与えるが、ＯＰＣの大部分におけるヒドロキシ基の欠如のために低劣な熱安定性と寿命とをもたらすということに帰結した。
【００６６】
実施例４  架橋した電荷発生層を含む２重層ＯＰＣの調製
ステンレススチールビーズとボールミルとを使用して、５ｇのｘ−Ｈ２Ｐｃと、５ｇのポリビニルブチラール（ＰＶＢ）と、１９０ｇのジクロロメタンとを４８時間に亙って共に粉砕した。その懸濁液を、ドクターブレードを使用してＡｌ／マイラー基体上に塗布し、８０℃で２０分間に亙って乾燥させた後に０．５μｍの厚さを得た。そのＯＰＣサンプルを、ＯＰＣの同一の２つの断片に分けた。一方のＯＰＣの断片を更に２時間に亙って２００℃で焼成し、その層の不溶性を検出することによって試験した。
【００６７】
その後で、４００ｇのｐ−トリルアミンと、６００ｇのポリカーボネート（ＭａｋｒａｌｏｎＴＭ）とを、５６００ｇのジクロロメタン中に共に溶解させた。その結果として得られた溶液を、上記で調製した電荷発生薄膜の上部表面上に浸漬によりコーティングし、１３５℃で２０分間に亙って乾燥させ、電荷発生薄膜の上部表面上に約１８μｍの厚さの電荷移動薄膜を形成した。
【００６８】
これら２つのサンプルのレーザ電子写真性能を表５に示す。
【００６９】
【表５】
0003604731.tif 000007
【００７０】
この結果から、架橋ＣＧＬサンプルが安定性の改善を示すことが理解される。なお、これらのサンプルは負コロナ帯電器によって帯電させられたものであることに留意されたい。
【００７１】
実施例５  付着試験
更に、上記のサンプル１とサンプル２とに、引張りタイプの付着試験を行った。この試験では、１片の強力な接着テープを電荷移動薄膜の上部表面に張り付け、その接着テープを、電荷移動薄膜が剥がれて電荷発生薄膜から１ｃｍ離れるまで、垂直方向に上向きに引っ張った。この分離を生じさせるのに要した力を測定し、その結果の一部を表６に示す。
【００７２】
【表６】
0003604731.tif 000008
【００７３】
これらの結果は、自己架橋サンプル２が非架橋サンプル１の１３倍を越える大きさの、非常に大きな付着性を有することを示している。
【００７４】
実施例６  ＩＲスペクトル
図５と図６は、様々な温度で焼成した、２種類のポリビニルブチラールであるＢｕｔｖａｒＴＭ  Ｂ−７６と同Ｂ−９８（Ｍｏｎｓａｎｔｏ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ）のＦｔ−ＩＲスペクトルを示す。
【００７５】
両方の場合とも、３５００（ｃｍ−１）の波数において検出された−ＯＨ基の還元と共に、架橋ＰＶＢが形成されたということが、上記の結果から認識される。
【００７６】
本発明の好ましい実施例を上記に示し、説明してきたが、本発明は上記実施例だけに限定されるものではなく、特許請求の範囲内で様々な形で実施可能であるということが明確に理解されねばならない。
【００７７】
以下に本発明の種々の構成要件の組み合わせから成る実施態様を例示的に示す。
１．自己架橋ポリビニルブチラールバインダー成分。
【００７８】
２．電子写真用の有機光導電体であって、
導電性基体と、
前記基体上に約１マイクロメートル以上の厚さの層を形成する、自己架橋ポリビニルブチラールを含むバインダー成分と、及び
前記バインダー成分全体に亙って均一に分布した顔料成分とからなる、前記光導電体。
【００７９】
３．前記バインダー成分が、約１５０から３００℃の熱に暴露することによって自己架橋する、上記２に記載の光導電体。
【００８０】
４．前記バインダー成分が、電子ビーム放射への暴露によって自己架橋する、上記２に記載の光導電体。
【００８１】
５．前記バインダー成分が、紫外線放射への暴露によって自己架橋する、上記２に記載の光導電体。
【００８２】
６．前記バインダー成分が、Ｘ線放射への暴露によって自己架橋する、上記２に記載の光導電体。
【００８３】
７．前記バインダー成分の層の上に追加の層を形成するポリマー成分をも更に含む、上記２に記載の光導電体。
【００８４】
【発明の効果】
以上の如く本発明によれば、自己架橋後のＰＶＢは優れた機械的耐久性と優れた耐溶剤性を有すると共に、ガラス転移温度も上昇する。また従来の光導電体顔料は自己架橋ＰＶＢ中に良好に分散し、結果として得られるＯＰＣは良好な電荷受容性、低い暗減衰、良好な光放電特性を有する。さらに、自己架橋ＰＶＢを有するＯＰＣは向上した接着性を示し、本発明により製造された多層ＯＰＣは改善された層間接着性と、より長い経済寿命を有する。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１の実施例の略断面図である。
【図２】本発明の第２の実施例の略断面図である。
【図３】本発明の第３の実施例の略断面図である。
【図４】本発明の第４の実施例の略断面図である。
【図５】様々な温度で焼成したポリビニルブチラールＢｕｔｖａｒＴＭ  Ｂ−７６（Ｍｏｎｓａｎｔｏ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ）のＦｔ−ＩＲスペクトルを示すグラフである。
【図６】様々な温度で焼成したポリビニルブチラールＢｕｔｖａｒＴＭ  Ｂ−９８（Ｍｏｎｓａｎｔｏ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ）のＦｔ−ＩＲスペクトルを示すグラフである。
【符号の説明】
１      導電性基体
２      光導電体層
２Ａ  電荷発生層
２Ｂ  電荷移動層
３    電荷障壁層
４    電荷注入バリヤー層
５    放出層
【図１】
0003604731.tif 000009
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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