【手続補正書】
【提出日】平成29年10月23日(2017.10.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
低減されたレベルのヘテロ原子化合物及び２〜４環多核芳香族炭化水素を有する炭化水素ラフィネートを生成する方法であって、
約１６５℃〜約４３０℃の沸点範囲を有する原油留分であって、ヘテロ原子化合物及び２〜４環多核芳香族炭化水素を含む前記原油留分を含有する、炭化水素供給原料を提供する工程、
ヘテロ原子化合物を含有する少なくとも１つのヘテロ原子化合物豊富ストリーム及び前記２〜４環多核芳香族炭化水素を含有するヘテロ原子化合物希薄ストリームを形成するように、ヘテロ原子抽出システムの少なくとも１つの抽出容器内で、加圧二酸化炭素及び水から形成されるイオン性液体を含む調整可能溶媒を用いて、前記ヘテロ原子化合物の少なくとも一部分を前記炭化水素供給原料から抽出する工程であって、
第１のヘテロ原子化合物豊富ストリームおよび第１のヘテロ原子化合物希薄ストリームを形成するように、第１の極性を有する前記ヘテロ原子化合物の第１の部分であって、第１の圧力で作動する前記ヘテロ原子抽出システムの第１の抽出容器内で抽出される前記ヘテロ原子化合物の前記第１の部分を、前記炭化水素供給原料から抽出し、前記第１のヘテロ原子化合物豊富ストリームが前記調整可能溶媒を含有する工程、
第２のヘテロ原子化合物豊富ストリームおよび第１のヘテロ原子化合物希薄ストリームを形成するように、前記第１の極性よりも低い第２の極性を有する前記ヘテロ原子化合物の第２の部分であって、前記ヘテロ原子化合物の前記第１の部分を抽出した後に、前記第１の圧力よりも高い第２の圧力で作動する前記ヘテロ原子抽出システムの第２の抽出容器内で抽出される前記ヘテロ原子化合物の前記第２の部分を、前記第１のヘテロ原子化合物希薄ストリームから抽出し、前記第２のヘテロ原子化合物豊富ストリームが前記調整可能溶媒を含有する工程、および
前記ヘテロ原子化合物希薄ストリームおよび第３のヘテロ原子化合物豊富ストリームを形成するように、前記第２の極性よりも低い第３の極性を有する前記ヘテロ原子化合物の第３の部分であって、前記ヘテロ原子化合物の前記第２の部分を抽出した後に、前記第１の圧力及び前記第２の圧力よりも大きい第３の圧力で作動する前記ヘテロ原子抽出システムの第３の抽出容器内で抽出される前記ヘテロ原子化合物の前記第３の部分を、前記第２のヘテロ原子化合物希薄ストリームから抽出し、前記第３のヘテロ原子化合物豊富ストリームが前記調整可能溶媒を含有する工程、
を含む、前記ヘテロ原子化合物の少なくとも一部分を前記炭化水素供給原料から抽出する工程、および
前記炭化水素ラフィネートを形成するように、非プロトン溶媒を含む溶媒系を用いて、前記２〜４環多核芳香族炭化水素を前記ヘテロ原子化合物希薄ストリームから抽出する工程、
を含む、方法。
【請求項２】
前記炭化水素供給原料からの前記ヘテロ原子化合物の少なくとも９９重量％が、前記ヘテロ原子化合物豊富ストリーム中に抽出される、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記非プロトン溶媒が、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、及び芳香族化合物から選択される、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記非プロトン溶媒が、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、及び芳香族化合物から選択され、前記溶媒系が、プロトン共溶媒を更に含む、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
ヘテロ原子化合物及び２〜４環多核芳香族炭化水素を、前記ヘテロ原子化合物及び前記２〜４環多核芳香族炭化水素を含有する炭化水素供給原料から抽出するための方法であって、
前記ヘテロ原子化合物の少なくとも１つの標的部分を、加圧二酸化炭素及び水から形成されるイオン性液体を含む水性溶媒を用いて前記炭化水素供給原料から抽出する工程であって、前記水性溶媒の温度が、前記二酸化炭素の臨界温度超〜約１５０℃であり、前記ヘテロ原子化合物の各標的部分の、前記炭化水素供給原料からの前記抽出が、
抽出容器に別個に、または混合物として、
前記炭化水素供給原料または前記炭化水素供給原料から誘導された供給ストリームと、
前記水性溶媒と、を供給する工程であって、
それによって前記抽出容器内での前記炭化水素供給原料または前記供給ストリームの、前記水性溶媒との組み合わせが、抽出混合物を形成する、供給する工程と、
前記抽出混合物中に前記ヘテロ原子化合物の前記標的部分との溶媒錯体を選択的に形成するように、前記水性溶媒を調整する工程であって、それによって前記抽出混合物が、少なくともヘテロ原子化合物豊富相とヘテロ原子化合物希薄相とに分離し、前記ヘテロ原子化合物豊富相が、前記水性溶媒を含有する、調整する工程と、
前記ヘテロ原子化合物希薄相を、前記抽出容器からヘテロ原子化合物希薄ストリームとして取り出す工程と、
前記ヘテロ原子化合物豊富相を、前記抽出容器からヘテロ原子化合物豊富ストリームとして取り出す工程と、
任意選択で前記ヘテロ原子化合物希薄ストリームを、前記炭化水素供給原料から誘導された供給ストリームとして、前記供給ストリームからのヘテロ原子化合物の追加の標的部分の抽出のために、前記抽出容器から追加の抽出容器に移す工程と、
を含む、工程と、
前記ヘテロ原子化合物の全ての標的部分が前記炭化水素供給原料から抽出された後に、前記２〜４環多核芳香族炭化水素を含有する前記ヘテロ原子化合物希薄ストリームを、ＰＡＨ抽出器に移す工程と、
前記２〜４環多核芳香族炭化水素を、非プロトン溶媒を含む溶媒系を用いて、前記ＰＡＨ抽出器内で前記ヘテロ原子化合物希薄ストリームから抽出する工程と、
を含む、方法。
【請求項６】
前記ヘテロ原子化合物の少なくとも１つの標的部分を前記炭化水素供給原料から抽出する工程が、
第１の圧力で作動する第１の抽出容器内で、第１の極性を有する前記ヘテロ原子化合物の第１の標的部分を抽出する工程と、
前記第１の部分を抽出した後に、前記第１の圧力よりも大きい第２の圧力で作動する第２の抽出容器内で、前記ヘテロ原子化合物の第２の標的部分であって、前記第１の極性よりも低い第２の極性を有する前記ヘテロ原子化合物の前記第２の部分を抽出する工程と、
前記ヘテロ原子化合物の前記第２の部分を抽出した後に、前記第１の圧力及び前記第２の圧力よりも大きい第３の圧力で作動する第３の抽出容器内で、前記ヘテロ原子化合物の第３の標的部分であって、前記第２の極性よりも低い第３の極性を有する前記ヘテロ原子化合物の前記第３の部分を抽出する工程と、を含む、請求項５に記載の方法。
【請求項７】
前記水性溶媒を調整する工程が、
前記水性溶媒を共に調整して、前記ヘテロ原子化合物の前記標的部分との溶媒錯体を選択的に形成する、前記抽出容器内の前記抽出混合物の抽出圧及び抽出温度を設定する工程を含み、前記抽出圧が、２バール〜３００バールであり、前記抽出混合物の前記抽出温度が、二酸化炭素の臨界温度超〜約１５０℃である、請求項５に記載の方法。
【請求項８】
前記ヘテロ原子化合物の少なくとも２つの標的部分が、前記炭化水素供給原料から取り出され、前記ヘテロ原子化合物の各標的部分を前記炭化水素供給原料から抽出する工程が、
前記ヘテロ原子化合物豊富ストリームをそれぞれの駆出容器に移す工程と、
前記水性溶媒中の前記ヘテロ原子化合物の溶解度を減少させ、ヘテロ原子化合物の混合物を前記水性溶媒から駆出するように、前記それぞれの駆出容器を減圧する工程と、
ヘテロ原子化合物回収ストリームを形成するように、ヘテロ原子化合物の前記混合物を前記水性溶媒から分離する工程と、
を更に含む、請求項５に記載の方法。
【請求項９】
前記ヘテロ原子化合物回収ストリームを、ヘテロ原子化合物分留塔に移す工程と、
前記分留塔内の前記ヘテロ原子化合物回収ストリーム中のヘテロ原子化合物の前記混合物を、複数のヘテロ原子化合物溶質留分に分留する工程と、
ヘテロ原子化合物を前記ヘテロ原子化合物溶質留分から回収する工程と、
を更に含む、請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
前記ヘテロ原子化合物の少なくとも１つの標的部分を、前記炭化水素供給原料から抽出する工程が、前記ヘテロ原子化合物の１つの標的部分を前記炭化水素供給原料から抽出する工程を含み、前記ヘテロ原子化合物の前記１つの標的部分が、９０重量％超の前記炭化水素供給原料中に存在する前記ヘテロ原子化合物を含む、請求項５に記載の方法。
【請求項１１】
前記ヘテロ原子化合物の少なくとも１つの標的部分を、ＰＡＨ希薄ヘテロ原子化合物豊富ストリームから抽出する工程を更に含み、前記ＰＡＨ希薄ヘテロ原子化合物豊富ストリームが、前記ヘテロ原子化合物の前記１つの標的部分の、前記炭化水素供給原料からの抽出中に形成される前記ヘテロ原子化合物豊富ストリームである、請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
前記ヘテロ原子化合物の少なくとも１つの標的部分を、前記ＰＡＨ希薄ヘテロ原子化合物豊富ストリームから抽出する工程が、
第１の圧力で作動する第１の抽出容器内で、第１の極性を有する前記ヘテロ原子化合物の第１の標的部分を抽出する工程と、
前記第１の部分を抽出した後に、前記第１の圧力よりも大きい第２の圧力で作動する第２の抽出容器内で、前記ヘテロ原子化合物の第２の標的部分であって、前記第１の極性よりも低い第２の極性を有する前記ヘテロ原子化合物の前記第２の部分を抽出する工程と、
前記ヘテロ原子化合物の前記第２の部分を抽出した後に、前記第１の圧力及び前記第２の圧力よりも大きい第３の圧力で作動する第３の抽出容器内で、前記ヘテロ原子化合物の第３の標的部分であって、前記第１の極性よりも低い第３の極性を有する前記ヘテロ原子化合物の前記第３の部分を抽出する工程と、
を含む、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
前記ヘテロ原子化合物の各標的部分を、前記ＰＡＨ希薄ヘテロ原子化合物豊富ストリームから抽出する工程が、
各ヘテロ原子化合物豊富相をそれぞれの駆出容器に移す工程と、
前記水性溶媒中の前記ヘテロ原子化合物の溶解度を減少させ、ヘテロ原子化合物の混合物を前記水性溶媒から駆出するように、前記駆出容器を減圧する工程と、
ヘテロ原子化合物回収ストリームを形成するように、ヘテロ原子化合物の前記混合物を前記水性溶媒から分離する工程と、
を更に含む、請求項１１に記載の方法。
【請求項１４】
前記ヘテロ原子化合物回収ストリームを、ヘテロ原子化合物分留塔に移す工程と、
前記分留塔内の前記ヘテロ原子化合物回収ストリーム中のヘテロ原子化合物の前記混合物を、複数のヘテロ原子化合物溶質留分に分離する工程と、
ヘテロ原子化合物を前記ヘテロ原子化合物溶質留分から回収する工程と、
を更に含む、請求項１３に記載の方法。
【請求項１５】
前記２〜４環多核芳香族炭化水素を抽出する工程が、
前記ヘテロ原子化合物希薄相を、前記ＰＡＨ抽出器内で前記溶媒系と化合する工程であって、それによって前記ヘテロ原子化合物希薄相が、ＰＡＨ豊富相とＰＡＨ希薄相とに分離し、前記ＰＡＨ豊富相が、多核芳香族炭化水素の混合物を含む、化合する工程と、
前記ＰＡＨ豊富相を、前記ＰＡＨ抽出器からＰＡＨ回収ストリームとして取り出す工程と、
前記ＰＡＨ希薄相を、前記ＰＡＨ抽出器から希薄ラフィネートとして取り出す工程と、
を含む、請求項５に記載の方法。
【請求項１６】
前記ＰＡＨ回収ストリームをＰＡＨ分留塔に移す工程と、
前記ＰＡＨ分留塔内の前記ＰＡＨ回収ストリーム中の多核芳香族炭化水素の前記混合物を、複数のＰＡＨ溶質留分に分離する工程と、
多核芳香族炭化水素を前記ＰＡＨ溶質留分から回収する工程と、
を更に含む、請求項１５に記載の方法。
【請求項１７】
前記ヘテロ原子化合物が、ピロール、ピリジン、キノリン、カルバゾール、インドール、ニッケルテトラフェニルポルフィリン、バナジルテトラフェニルポルフィリン、チオフェン、ベンゾチオフェン、ジベンゾチオフェン、７、８、９、１０−テトラヒドロ−ベンゾ［ｂ］ナフト［２、３−ｄ］チオフェン、またはそれらの組み合わせを含み、
前記２〜４環多核芳香族炭化水素が、ベンズアントラセン、ナフタレン、アントラセン、ピレン、フェナントレン、テトラセン、またはそれらの組み合わせを含む、請求項５に記載の方法。