(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
表面弾性波を発生させる表面弾性波発生手段と、
前記表面弾性波が表面を伝搬される表面弾性波伝搬手段と、
前記表面弾性波伝搬手段の前記表面弾性波が伝搬される伝搬路に対向する位置に、前記表面弾性波伝搬手段との間に空隙をおいて配置された可動電極によって構成されたグレーティングと、
前記表面弾性波伝搬手段を挟んで前記グレーティングに対向する位置に配置された固定電極と、
前記グレーティングを前記伝搬路に接触させるように、前記可動電極と前記固定電極との間に静電引力を発生させる静電引力発生手段と、
を有することを特徴とする表面弾性波制御素子。
【請求項２】
前記グレーティングを構成する可動電極は、カンチレバー形状に形成されている請求項１に記載の表面弾性波制御素子。
【請求項３】
前記グレーティングを構成する可動電極は、前記伝搬路に接触されるフラップ部と、該フラップ部の両端に設けられ、前記フラップ部が前記伝搬路に接触されるときにねじられるトーションバー部とを有する請求項１に記載の表面弾性波制御素子。
【請求項４】
表面弾性波を発生させる表面弾性波発生手段と、
前記表面弾性波が表面を伝搬される表面弾性波伝搬手段と、
電圧を印加することで変形する圧電体素子と、
前記圧電体素子に備えられ、前記表面弾性波伝搬手段の前記表面弾性波が伝搬される伝搬路に対向する位置に、前記表面弾性波伝搬手段との間に空隙をおいて配置されたグレーティングと、を有し、
前記グレーティングの端部は前記圧電体素子に電圧を印加することで前記伝播路に接触することを特徴とする表面弾性波制御素子。
【請求項５】
請求項１から４のいずれか１項に記載の表面弾性波制御素子と、前記伝搬路のうち、前記グレーティングに対向する箇所を通過した前記表面弾性波が伝搬される位置にインクを供給するためのインク供給手段とを有する表面弾性波制御素子を用いたインクジェットヘッド。
【請求項６】
前記インク供給手段は、前記インクを移送するために用いられるキャピラリーを有する請求項５に記載の表面弾性波制御素子を用いたインクジェットヘッド。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、プリンタ、ファクシミリ、複写機等の画像形成装置に用いられる出力手段であって、インクを微細化して被記録媒体に転移させることにより画像記録を行う表面弾性波制御素子、および該表面弾性波制御素子を用いたインクジェットヘッドに関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来から、プリンタ等の画像形成装置に用いられる記録方式として、ノズルからインク液滴を吐出して被記録媒体に付着させることにより画像記録を行ういわゆるインクジェット記録方式が用いられている。インクジェット記録方式としては、ヒーターによりインク中にバブルを形成して、この圧力によりインクを吐出するバブルジェット方式や、ピエゾ圧電素子のバルクの電気機械変位を用いてインクを吐出させるいわゆるコンティニュアス型もしくはオンデマンド型のピエゾジェット方式等があり、これらの記録方式は広く商品化されている。
【０００３】
上記のものは、一般的に細かい画素ドットを形成するために、ノズルやヒーター、あるいはピエゾ圧電素子が微細加工により作製されている。このため、微細構造のノズル内では、インク目詰まりが起こり易い。また、バブルジェット方式ではインクがヒーター上で焦げる可能性があり、そのインク焦げを防止するためには、画像記録に使用できるインク材質が制限されてしまう。また、ピエゾジェット方式では、ドライバの実装やノズルへの供給エネルギーの問題から、高密度で長尺マルチ化した印字ヘッドを形成することが困難となっている。
【０００４】
一方、近年において、例えば塩川等により、表面弾性波（Ｓｕｒｆａｃｅ  Ａｃｏｕｓｔｉｃ  Ｗａｖｅ）のストリーミング現象を利用した微小流体素子が「電子情報通信学会技術研究報告、ＵＳ８９−５１、Ｐ４１〜４６」に開示され、また、表面弾性波をインク中に放出してインクを飛翔させる液滴ジェット装置が特開平２−２６９０５８号公報に提案されている。
【０００５】
図１３は、従来の表面弾性波を用いた液滴ジェット装置を示す概略図である。
【０００６】
図１３に示すように、従来の液滴ジェット装置は、圧電基板１０１の表面に設けられた交差指電極（インターデジタルトランスデューサ）１０２（以下、「ＩＤＴ１０２」という。）に、数ＭＨｚから数百ＭＨｚの交流高周波電気信号を発生する交流電気信号発生器１０４と、その交流高周波電気信号を間欠信号に変換するパルス信号発生器１０５とによる電気信号を入力することにより、圧電基板１０１に表面弾性波を励振させ、表面弾性波の進行波によって伝搬面上の液体１０３を飛翔させるものである。
【０００７】
このような表面弾性波を用いた液滴ジェット装置では、ノズルを用いる必要をなくすことが可能となるため、インク目詰まりおよびインク焦げのないオンデマンド型のインクジェットを提供することができる。さらに、ピエゾ圧電素子のバルクの変位を利用するピエゾジェット方式に比べて、弾性体の表面に集中した弾性波エネルギーを高効率でインクに供給できるため、入力パワーの点で有利となる。
【０００８】
しかしながら、上記のような構成の液滴ジェット装置において、インク吐出部をマルチ化して印字速度を向上させるには、ＩＤＴ１０２の数を増やし、かつ交流電気信号発生器１０４およびパルス信号発生器１０５をＩＤＴ１０２と同数に増やす必要がある。そのため、インク吐出部のマルチ化を図る場合には、表面弾性波の発振回路１０４，１０５の構成およびその発振回路の制御動作を簡素化することが困難となる。また、数ＭＨｚから数百ＭＨｚの高周波信号に対応する交流電気信号発生器１０４やパルス信号発生器１０５を、１００乃至１０００個にマルチ化することは、圧電基板１０１上の回路を小型集積化する上で困難であった。
【０００９】
そこで、この問題を解決する方法として、インク導入路へのインク流入を制御することによってインク吐出制御を実現し、表面弾性波の発振回路の構成およびその発振回路の制御動作が簡素化されたインクジェットヘッドが、特開平４−２９４１４６号公報に提案されている。
【００１０】
図１４は、特開平４−２９４１４６号公報に提案された従来のインクジェットヘッドを示す概略図である。
【００１１】
図１４に示す従来のインクジェットヘッドでは、圧電基板２０１上に設けられたＩＤＴ２０２により発生した表面弾性波は、複数のインク導出路２０３のそれぞれから供給されたインク２０４を吐出させる。インク導出路２０３へのインク供給は、圧電体支持部２０５に支持されたバイモルフ圧電体２０６に電圧を印加し、バイモルフ圧電体２０６を反り変形させることにより行われる。
【００１２】
この従来のインクジェットヘッドによれば、表面弾性波を発生させる手段であるＩＤＴ２０２は一つでよいため、交流電気信号発生器やパルス信号発生器を複数設ける必要がなく、表面弾性波の発振回路の構成およびその発振回路の制御動作が簡素化されている。さらには、圧電基板２０１上の回路を小型集積化することが可能となる。
【００１３】
【発明が解決しようとする課題】
図１４に示した従来のインクジェットヘッドでは、表面弾性波の発振回路の構成およびその発振回路の制御動作を簡素化するために、表面弾性波を間欠的に発振する構成ではなく、表面弾性波を連続的に発生させ、かつ必要に応じてインク導出路にインクを供給する構成が採用されている。しかしながら、このような構成では、インクが表面弾性波によって液滴として飛翔されて消費された後に再びインク導出路に供給される際に、毛細管現象による一定の時間（リフィル時間）が必要となる。そのため、他の従来の方法に比べてリフィル時間に要する分だけ印字速度が遅くなり、結果として十分な印字速度を達成できないという問題があった。
【００１４】
そこで本発明は、インク吐出部のマルチ化を行った場合でも表面弾性波の発振回路の構成およびその発振回路の制御動作を簡素化することができ、さらに印字速度の高速化を図ることができる表面弾性波制御素子および該表面弾性波制御素子を用いたインクジェットヘッドを提供することを目的とする。
【００１５】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するため、本発明の表面弾性波制御素子は、表面弾性波を発生させる表面弾性波発生手段と、前記表面弾性波が表面を伝搬される表面弾性波伝搬手段と、前記表面弾性波伝搬手段の前記表面弾性波が伝搬される伝搬路に対向する位置に、前記表面弾性波伝搬手段との間に空隙をおいて配置された可動電極によって構成されたグレーティングと、前記表面弾性波伝搬手段を挟んで前記グレーティングに対向する位置に配置された固定電極と、前記グレーティングを前記伝搬路に接触させるように、前記可動電極と前記固定電極との間に静電引力を発生させる静電引力発生手段と、を有することを特徴とする。
【００１６】
上記のように構成された本発明の表面弾性波制御素子によれば、グレーティングが伝搬路に接触されていない状態では、表面弾性波発生手段で発生された表面弾性波は、表面弾性波が伝搬される伝搬路のグレーティングに対向する箇所を通過する。一方、静電引力発生手段を作動させて可動電極と固定電極との間に静電引力を発生させると、可動電極が固定電極に吸引されてグレーティングが伝搬路に接触させられる。このように静電引力発生手段によってグレーティングが伝搬路に接触された状態では、表面弾性波伝搬手段の表面を伝搬されてきた表面弾性波は、その大部分がグレーティングによって反射される。このように、本発明では、静電引力発生手段によって表面弾性波の伝搬および遮断が制御されるので、表面弾性波を間欠的に発生させるための手段を備える必要がなく、インク吐出部のマルチ化を行った場合でも表面弾性波の発振回路の構成およびその発振回路の制御動作を簡素化することが可能となる。
【００１８】
さらに、前記グレーティングを構成する可動電極は、カンチレバー形状に形成されている構成としてもよく、あるいは前記表面弾性波伝搬手段の表面に接触されるフラップ部と、該フラップ部の両端に設けられ、前記フラップ部が前記表面弾性波伝搬手段の表面に接触されるときにねじられるトーションバー部とを有する構成としてもよい。
【００１９】
また、本発明の他の表面弾性波制御素子は、表面弾性波を発生させる表面弾性波発生手段と、前記表面弾性波が表面を伝搬される表面弾性波伝搬手段と、電圧を印加することで変形する圧電体素子と、前記圧電体素子に備えられ、前記表面弾性波伝搬手段の前記表面弾性波が伝搬される伝搬路に対向する位置に、前記表面弾性波伝搬手段との間に空隙をおいて配置されたグレーティングと、を有し、前記グレーティングの端部は前記圧電体素子に電圧を印加することで前記伝播路に接触することを特徴とする。
【００２０】
また、本発明の表面弾性波制御素子を用いたインクジェットヘッドは、上記本発明の表面弾性波制御素子と、前記表面弾性波伝搬手段の前記表面弾性波が伝搬される伝搬路のうち、前記グレーティングに対向する箇所を通過した前記表面弾性波が伝搬される位置にインクを供給するためのインク供給手段とを有する。
【００２１】
上記のように構成された本発明の表面弾性波制御素子を用いたインクジェットヘッドによれば、グレーティングが表面弾性波伝搬手段の表面に接触されていない状態で、インク供給手段によって表面弾性波伝搬手段の表面における所定の位置にインクを供給しつつ表面弾性波を発生させると、その表面弾性波はインクに伝搬されてインク液滴が飛翔される。一方、グレーティングが表面弾性波伝搬手段の表面に接触されると、表面弾性波の大部分はグレーティングによって反射されて表面弾性波の伝搬が遮断されるため、インク液滴は飛翔されない。このように、本発明ではインク供給手段の制御を行わないので、従来技術では必要とされていたインク供給時間（リフィル時間）を省くことができ、印字速度の向上を図ることが可能となる。
【００２２】
さらに、前記インク供給手段は、前記インクを移送するために用いられるキャピラリーを有する構成とすることが好ましい。
【００２３】
【発明の実施の形態】
次に、本発明の実施形態について図面を参照して説明する。
【００２４】
（第１の実施形態）
図１は本発明の表面弾性波制御素子を用いたインクジェットヘッドの第１の実施形態を示す斜視図である。
【００２５】
図１に示すように、本実施形態のインクジェットヘッドは、圧電体からなる表面弾性波伝搬手段である圧電基板１、表面弾性波を発生させるための表面弾性波発生手段である交差指電極２（以下、「ＩＤＴ２」という。）、数ＭＨｚから数百ＭＨｚの高周波信号を発生する交流電気信号発生器４、表面弾性波の進行波９に周期的な摂動を与えるためのグレーティング５、および圧電基板１の表面に対するグレーティング５の接触状態と非接触状態との切り替えを行うためのグレーティング変位手段である変位機構を有する表面弾性波制御素子６と、圧電基板１表面の所定位置にインク３を供給するためのキャピラリー７を備えたインク供給部とを有する。
【００２６】
なお、圧電基板１を構成する圧電体の材料には、ＬｉＮｂＯ３、ＬｉＴａＯ３、ＳｉＯ２（水晶）等の圧電体結晶、ＰＺＴ，ＰＬＺＴ等の圧電性セラミックスなどを用いることができる。また、シリコン基板の上にＺｎＯ、ＡｌＮ、ＰＺＴ等からなる圧電体膜を形成することによって、圧電基板１を構成してもよい。
【００２７】
本実施形態のインクジェットヘッドは、交流電気信号発生器４にて発生された電気信号をＩＤＴ２に入力し、圧電基板１に表面弾性波を励振させ、表面弾性波の進行波９（図１中、模式的に矢印で示す）にて、その伝搬面上に供給されたインク３を飛翔させて液滴８を形成し、被記録媒体（不図示）にこの液滴８を付着させて画像記録を行うものである。さらに、変位機構によって、圧電基板１の表面に対するグレーティング５の非接触状態と接触状態との切り替えを行い、インク３へ表面弾性波を伝搬させ、あるいはグレーティング５で表面弾性波を反射させてインク３への表面弾性波の伝搬を遮断することにより、液滴８の吐出制御を行うものである。
【００２８】
図２は、図１に示したインクジェットヘッドを、表面弾性波の伝搬方向に沿って切断した場合の断面図であり、同図（ａ）はグレーティングが圧電基板の表面に接触されていない状態を示す図、同図（ｂ）はグレーティングが圧電基板の表面に接触されている状態を示す図である。
【００２９】
図２（ａ）に示すように、グレーティング５が圧電基板１の表面（すなわち表面弾性波の伝搬面）に接触されていない状態では、ＩＤＴ２で発生した表面弾性波は圧電基板１の表面を伝搬し、グレーティング５に対向する箇所を通過して、圧電基板１上に供給されたインク３に到達し、液滴８を飛翔させる。一方、図２（ｂ）に示すように、グレーティング５が圧電基板１の表面に接触されている状態では、ＩＤＴ２で発生され圧電基板１の表面を伝搬された表面弾性波は、ほとんどがグレーティング５によって反射されるため、インク３に到達する表面弾性波のエネルギーでは液滴８を形成するのに十分ではなく、液滴８の飛翔は行われない。
【００３０】
ここで、本実施形態のインクジェットヘッドに用いられる表面弾性波制御素子６について、図３および図４を参照して説明する。図３は図１に示したインクジェットヘッドの圧電基板とグレーティングとを示す断面図、図４は図３に示した圧電基板およびグレーティングを示す平面図である。
【００３１】
上述したように、グレーティング５は表面弾性波の伝搬方向に周期的な摂動を与えるものであって、表面弾性波の反射器として用いられるものである。
【００３２】
本実施形態におけるグレーティング５は、可動電極としての複数のストリップ５ａが互いに平行に配置されて構成されたストリップ型グレーティングである。グレーティング５の材料としては、金属、半導体、誘電体等の様々の材料を用いることが可能である。中でも、グレーティング５の材料に金属を用いることは、電界短絡効果による電気的摂動が重畳され、表面弾性波の反射量を大きく取ることが出来るため、より好ましい。ここで、図３もしくは図４において、ｄはストリップ５ａの幅、ｇはストリップ５ａ同士の間隔、ｐはグレーティングピッチ、θｉは表面弾性波の入射角、θｒは表面弾性波の反射角を表す。
【００３３】
表面弾性波がグレーティング５にて反射するには、Ｂｒａｇｇ条件（位相整合条件）が成り立つことが必要である。入射表面弾性波の伝搬速度をｖｉ、反射表面弾性波の伝搬速度をｖｒ、表面弾性波の周波数をｆとすると、表面弾性波がグレーティング５にて反射するには、グレーティングピッチｐは以下の式（１）および式（２）の位相整合条件が成立すればよい。なお、ｖｒ、ｖｉは圧電基板１の物性値である。
【００３４】
ｆ・ｃｏｓθｉ／ｖｉ＋ｆ・ｃｏｓθｒ／ｖｒ＝ｍ／ｐ（ｍは整数）…式（１）
ｓｉｎθｉ／ｖｉ＝ｓｉｎθｒ／ｖｒ…式（２）
グレーティングピッチｐは、グレーティング５に入射する表面弾性波の周波数ｆに依存する。そのため、グレーティングピッチｐは、表面弾性波の周波数ｆが高くなるにつれて小さくする必要がある。しかし、グレーティングピッチｐに対するストリップ幅ｄの比（ｄ／ｐ）が０．１以下であると、グレーティング５を作製する際にストリップ５ａの断線が起こり、また前記の比（ｄ／ｐ）が０．９以上であると、隣接するストリップ５ａ同士が互いに導通してしまう場合が発生する。このため、前記の比（ｄ／ｐ）は、０．１≦ｄ／ｐ≦０．９の範囲であることが好ましい。
【００３５】
入射および反射表面弾性波とグレーティング５との位置関係は、グレーティング５によって反射された表面弾性波がインク３（図１参照）に到達されない条件であれば、式（１）および（２）の条件を満たしている限り、どのような位置関係をとってもよい。
【００３６】
また、グレーティング５によって表面弾性波が全反射される必要はなく、グレーティング５によって表面弾性波の進行波を遮断したときに、インク３に到達する表面弾性波のエネルギーが液滴８（図１参照）を形成することができない程度に減衰されていればよい。そのため、グレーティング５のストリップ５ａは、上記の程度に表面弾性波のエネルギーを減衰できるだけの本数が設けられていればよい。
【００３７】
なお、特に、表面弾性波の入射角θｉおよび表面弾性波の反射角θｒが共に０である場合（垂直入射条件）には、以下の式（３）の位相整合条件が成り立つようにグレーティングピッチｐを一致させる。ここで、λは表面弾性波の波長である。
【００３８】
ｐ＝ｍλ／２（ｍは整数）…式（３）
また、変位機構が、固定電極１４（図５参照）と、可動電極と固定電極との間に静電引力を発生させる静電引力発生部とからなる場合には、変位機構の変位力として静電引力を利用することが可能である。表面弾性波の伝搬面上に空隙をおいて配置された可動電極と固定電極との間に電圧を印加することにより、静電引力によって可動電極が表面弾性波伝搬面に接触される。
【００３９】
次に、本実施形態のインクジェットヘッドを構成する表面弾性波制御素子の変位機構について、図５を参照して説明する。図５は、図１に示したインクジェットヘッドのＡ−Ａ線における断面図である。
【００４０】
変位機構は、カンチレバー型の複数の可動電極からなるクレーティング５を圧電基板１に固定する固定部１３と、圧電基板１の裏面側に設けられた固定電極６と、可動電極と固定電極１４との間に静電引力を発生させる静電引力発生手段である電源１０およびスイッチ（ＳＷ）１１とを有する。グレーティング５は、圧電基板１の表面弾性波伝搬面との間に空隙１２を有している。
【００４１】
上記のように構成された変位機構では、スイッチ１１を入れると、グレーティング５の各可動電極と固定電極１４との間に静電引力が発生し、グレーティング５は固定電極１４側に引力を受け、たわみ変形して圧電基板１の表面弾性波伝搬面に接触する。グレーティング５が前述の式（１）および（２）の条件を満たすように構成されているのであれば、圧電基板１の伝搬面に接触されたグレーティング５により、圧電基板１の伝搬面を進行する表面弾性波は反射される。
【００４２】
また、スイッチ１１を切ると、グレーティング５と固定電極６との間に発生していた静電引力が消滅し、グレーティング５は図５に示す状態に戻り、圧電基板１とは非接触状態となる。このとき、表面弾性波は圧電基板１の伝搬面を進行する。
【００４３】
次に、図１等に示した表面弾性波制御素子の製造工程について説明する。
【００４４】
本実施形態における表面弾性波制御素子６は、まず、固定電極１４として機能する導電性のシリコン基板の上に、圧電体からなる圧電体膜をスパッタ法により成膜する。このとき、圧電体膜の厚みは２０μｍに形成する。このように構成された圧電基板１では、表面弾性波の伝搬速度は３４００ｍ／ｓｅｃであった。
【００４５】
次に、圧電基板１上に、真空蒸着方法とフォトリソグラフィプロセスとエッチング工程とにより、３００ｎｍ厚みのＡｌ薄膜からなる櫛形電極の形状を有するＩＤＴ２を形成する。ＩＤＴ２の櫛形電極の交差幅は５ｍｍに、線幅は励振周波数５０ＭＨｚに合わせた６８μｍに設ける。なお、ＩＤＴ対数は２０とする。
【００４６】
次に、この圧電基板１上に、後の工程で除去される樹脂膜よりなるスペーサ層を形成する。続いて、ＩＤＴ２の形成方法と同様の方法により、圧電基板１およびスペーサ層の上にＡｌ薄膜を３００ｎｍの厚さに蒸着し、フォトリソグラフィプロセスとエッチング工程とにより、スペーサ層の上にはグレーティング５を形成し、圧電基板１上には固定部１３を形成する。
【００４７】
最後に、酸素ガスによるプラズマエッチングによりスペーサ層を除去し、圧電基板１とグレーティング５との間に空隙１２を形成する。以上の工程により、本実施形態における表面弾性波制御素子が構成される。
【００４８】
次に、上記説明した本実施形態のインクジェットヘッドの動作について説明する。
【００４９】
なお、本実施形態のインクジェットヘッドは、垂直入射条件（θｉ＝θｒ＝０）に適合するように構成され、グレーティングピッチｐは３４μｍ、グレーティング５の長さは２００μｍ、幅は２０μｍに形成され、ストリップ本数は２０本に設けられている。また、グレーティング５の可動電極である各カンチレバーは、圧電基板１の表面から高さが０．５μｍの位置に、空隙１２をおいて圧電基板１に対向するように配置されている。
【００５０】
本実施形態のインクジェットヘッドでは、電源１０に接続されたスイッチ１１を切った状態で、キャピラリー７から圧電基板１上にインク３を供給しつつ、交流電気信号発生器４より５０ＭＨｚ、１Ｗの励振周波数信号をＩＤＴ２に印加すると、圧電基板１の表面に励起された表面弾性波が圧電基板１上のインク３に伝搬され、液滴８が飛翔される。
【００５１】
一方、スイッチ１１を入れ、グレーティング５と固定電極６との間に電源１０によって５０Ｖの電圧を印加すると、静電引力によってグレーティング５が圧電基板１の伝搬面に接触されるため、インク３への表面弾性波の伝搬が遮断され、液滴８は飛翔されない。
【００５２】
このように、本実施形態では、変位機構を用いて圧電基板１に対するグレーティング５の接触動作および非接触動作を行い、ＩＤＴ２で発生された表面弾性波を間欠的にインク３に伝搬させる構成とすることにより、交流電気信号発生器４で発生した電気信号を間欠信号に変換するための手段が不要になるため、表面弾性波の発振回路の構成およびその発振回路の制御動作を簡素化することができる。
【００５３】
さらに、本実施形態のインクジェットヘッドでは、圧電基板１上にインク３を供給するインク供給部の制御を行わないので、従来技術では必要とされていたインク導出路への毛細管現象によるインク供給時間（リフィル時間）を省くことが可能となるため、印字速度の向上を図ることができる。
【００５４】
（第２の実施形態）
図６は、本発明のインクジェットヘッドの第２の実施形態を示す斜視図である。
【００５５】
本実施形態のインクジェットヘッドは、固定電極として機能するシリコン基板３２の上に形成された圧電体からなる圧電体膜２１、ＩＤＴ２２、交流電気信号発生器２４、グレーティング２５ａ，２５ｂ，２５ｃ、および各グレーティング毎に備えられた変位機構を有する表面弾性波制御素子２６と、ガラス板３０にダイシングソーによって溝を形成することにより設けられた複数のキャピラリー２７ａ，２７ｂ，２７ｃを備えたインク供給部とを有する。本実施形態では、各グレーティングのピッチｐは５００μｍに設けられている。また、ＩＤＴ２２の櫛形電極の交差幅および線幅、各グレーティングの長さおよび幅の寸法は、第１の実施形態にて説明した各寸法と同じ寸法に形成されている。なお、表面弾性波制御素子２６のＩＤＴ２２、交流電気信号発生器２４、および変位機構の詳細な構成は、図１等を参照して説明した表面弾性波制御素子６の各構成と同様であるので、詳しい説明は省略する。
【００５６】
本実施形態における各変位機構は、図５に示した第１の実施形態における変位機構と同様に、カンチレバー型の可動電極からなるグレーティング２５ａ，２５ｂ，２５ｃを圧電基板２１に固定する固定部（不図示）と、表面に圧電体膜２１が設けられた固定電極としてのシリコン基板３２と、可動電極と固定電極（シリコン基板３２）との間に静電引力を発生させる静電引力発生手段である電源２８およびスイッチ（ＳＷ）２９ａ，２９ｂ，２９ｃとを有する。各グレーティングは、圧電体膜２１との間に空隙（不図示）を有している。
【００５７】
キャピラリー２７ａ，２７ｂ，２７ｃは変位機構の数と同数に設けられ、溝幅は１００μｍに形成されている。各キャピラリーは、ＩＤＴ２２で発生して各グレーティングに対向する箇所を通過した表面弾性波が伝搬される位置に配置されている。また、シリコン基板３２およびシリコン基板３２に隣接されたガラス板３０の下部には、インク２３が収容されたインク供給槽３１が取り付けられている。インク２３は、インク供給槽３１から毛細管現象によって各キャピラリー中を上昇して移送され、圧電体膜２１上に供給される。
【００５８】
本実施形態のインクジェットヘッドでは、電源２８に接続された各スイッチを切った状態で、各キャピラリーから圧電体膜２１上にインク２３を供給しつつ、交流電気信号発生器２４より５０ＭＨｚ、１Ｗの励振周波数信号をＩＤＴ２２に印加すると、圧電基板２１の圧電体膜２１の表面に励起された表面弾性波が圧電基板２１上のインク２３に伝搬され、液滴が飛翔される。
【００５９】
一方、スイッチ２９ａを入れ、グレーティング２５ａと固定電極（シリコン基板３２）との間に電源２８によって５０Ｖの電圧を印加すると、静電引力によってグレーティング２５ａが圧電体膜２１に接触される。そのため、キャピラリー２７ａから圧電体膜２１上に供給されたインク２３への表面弾性波の伝搬が遮断され、そのインク２３からは液滴が飛翔されない。これと同様に、スイッチ２９ｂを入れ、グレーティング２５ｂと固定電極（シリコン基板３２）との間に５０Ｖの電圧を印加すると、キャピラリー２７ｂから圧電体膜２１上に供給されたインク２３からは液滴が飛翔されない。また、スイッチ２９ｃを入れ、グレーティング２５ｃと固定電極（シリコン基板３２）との間に５０Ｖの電圧を印加した場合にも、キャピラリー２７ｃから圧電体膜２１上に供給されたインク２３からは液滴が飛翔されない。
【００６０】
以上説明したように、本実施形態によれば、インクの吐出を各キャピラリー毎に個別に制御することが可能な、マルチ化したインクジェットヘッドを提供することができる。本実施形態のインクジェットヘッドでは、交流電気信号発生器２４やパルス信号発生器を各キャピラリー毎に個別に設ける必要がなく、インク吐出部のマルチ化を行った場合でも表面弾性波の発振回路の構成およびその発振回路の制御動作を簡素化することができる。
【００６１】
また、本実施形態では、圧電体膜２１上にインク２３を供給するインク供給部の制御を行わないので、従来技術では必要とされていたインク導出路への毛細管現象によるインク供給時間（リフィル時間）を省くことが可能となるため、印字速度の向上を図ることができる。
【００６２】
なお、本実施形態では、それぞれ３つのグレーティングおよびキャピラリーが設けられた例を図示して説明したが、グレーティングおよびキャピラリーは、マルチ化されるインク吐出部の数の分だけ設けることができる。
【００６３】
（第３の実施形態）
図７は、本発明のインクジェットヘッドの第３の実施形態を示す斜視図である。
【００６４】
図７に示すように、本実施形態では、交流電気信号発生器４４に接続された複数のＩＤＴ４２ａ，４２ｂ，４２ｃが圧電体膜４１上に一列に配列されて設けられているとともに、各ＩＤＴから表面弾性波が伝搬される位置には、グレーティング２５ａ，２５ｂ，２５ｃがそれぞれ配置されている。なお、圧電体膜４１、シリコン基板５２、各ＩＤＴ、交流電気信号発生器４４、および各グレーティング毎に備えられた変位機構を有する表面弾性波制御素子４６、電源４８、各スイッチ、ガラス板５０、インク供給槽５１の各構成は、図６に示したインクジェットヘッドと同様であるので、詳しい説明は省略する。
【００６５】
また、本実施形態では、シリコン基板５２とシリコン基板５２に隣接されたガラス板５０との隙間に、圧電体膜４１上にインク４３を供給するためのキャピラリー４７が設けられている。キャピラリー４７の縦幅は、一列に配列されたグレーティング２５ａ，２５ｂ，２５ｃの一方の端部から他方の端部までの距離と同程度となるように形成されている。さらに、圧電体膜４１およびガラス板５０の下部には、インク４３が収容されたインク供給槽５１が取り付けられている。インク４３は、インク供給槽５１から毛細管現象によってキャピラリー４７中を上昇して移送され、圧電体膜４１ｂ上に供給される。本実施形態では、１つのキャピラリー４７によってインク供給が行われる。
【００６６】
本実施形態のインクジェットヘッドでは、電源４８に接続された各スイッチを切った状態で、キャピラリー４７から圧電体膜４１上にインク４３を供給しつつ、５０ＭＨｚ、１Ｗの励振周波数信号を交流電気信号発生器４４から各ＩＤＴ４２ａ，４２ｂ，４２ｃに印加すると、圧電体膜４１の表面に励起された表面弾性波が圧電体膜４１上のインク４３に伝搬され、液滴が飛翔される。
【００６７】
一方、スイッチ４９ａを入れ、グレーティング４５ａと固定電極（シリコン基板５２）との間に電源４８によって５０Ｖの電圧を印加すると、グレーティング４５ａが静電引力によって圧電体膜４１に接触される。そのため、ＩＤＴ４２ａによって発生した表面弾性波の伝搬が遮断され、表面弾性波の伝搬方向においてＩＤＴ４２ａおよびグレーティング４５ａの下流側に供給されたインク４３からは、液滴が飛翔されない。これと同様に、スイッチ４９ｂを入れ、グレーティング４５ｂと固定電極との間に５０Ｖの電圧を印加すると、表面弾性波伝搬方向においてＩＤＴ４２ｂおよびグレーティング４５ｂの下流側に供給されたインク４３からは、液滴が飛翔されない。また、スイッチ４９ｃを入れ、グレーティング４５ｃと固定電極との間に５０Ｖの電圧を印加した場合にも、表面弾性波伝搬方向においてＩＤＴ４２ｃおよびグレーティング４５ｃの下流側に供給されたインク４３からは、液滴が飛翔されない。
【００６８】
以上説明したように、本実施形態によっても、インク吐出部がマルチ化されたインクジェットヘッドを提供することができる。本実施形態のインクジェットヘッドでは、交流電気信号発生器４４やパルス信号発生器を各ＩＤＴ毎に個別に設ける必要がなく、インク吐出部のマルチ化を行った場合でも表面弾性波の発振回路の構成およびその発振回路の制御動作を簡素化することができる。
【００６９】
また、本実施形態においても、圧電体膜４１上にインク４３を供給するインク供給部の制御を行わないので、従来技術では必要とされていたインク導出路への毛細管現象によるインク供給時間（リフィル時間）を省くことが可能となるため、印字速度の向上を図ることができる。
【００７０】
（第４の実施形態）
図８は、本発明のインクジェットヘッドの第４の実施形態を示す斜視図である。
【００７１】
圧電体膜６１上には、ＩＤＴ６２で発生した表面弾性波の進行波６９に周期的な摂動を与えるためのグレーティング６５が設けられている。グレーティング６５には、圧電体膜６１に対するグレーティング６５の接触状態と非接触状態との切り替えを行う変位機構が備えられている。なお、図８に示すインクジェットヘッドの圧電体膜６１、シリコン基板７６、ＩＤＴ６２、交流電気信号発生器６４、圧電基板６１上にインク６３を供給するキャピラリー６７等の各構成は、図１に示したインクジェットヘッドと同様であるので、詳しい説明は省略する。本実施形態においても、圧電体膜６１、シリコン基板７６、ＩＤＴ６２、交流電気信号発生器６４、グレーティング６５および変位機構によって、表面弾性波制御素子６６が構成される。
【００７２】
本実施形態のインクジェットヘッドも、図１に示したインクジェットヘッドと同様に、交流電気信号発生器６４にて発生された電気信号をＩＤＴ６２に入力し、圧電体膜６１に表面弾性波を励振させ、表面弾性波の進行波６９にて、その伝搬面上に供給されたインク６３を飛翔させて液滴６８を形成し、被記録媒体（不図示）にこの液滴６８を付着させて画像記録を行う。さらに、変位機構によって、圧電体膜６１に対するグレーティング６５の非接触状態と接触状態との切り替えを行い、インク６３へ表面弾性波を伝搬させ、あるいはグレーティング６５で表面弾性波を反射させてインク６３への表面弾性波の伝搬を遮断することにより、液滴６８の吐出制御を行う。
【００７３】
次に、本実施形態のインクジェットヘッドを構成する表面弾性波制御素子６６の変位機構について、図９を参照して説明する。図９は、図８に示したインクジェットヘッドを構成する表面弾性波制御素子の変位機構を示す斜視図である。
【００７４】
図９に示すように、グレーティング６５は、圧電体層６１の表面に接触されるフラップ７０ａと、その両端に設けられフラップ７０ａが圧電体層６１の表面に接触されるときにねじられるトーションバー７０ｂとで構成されるフラップ型の可動電極７０からなる。各可動電極７０のそれぞれのトーションバー７０ｂは、圧電体層６１上に設けられたスペーサ７３上に形成された支持層７１に固定支持されている。スペーサ７３は、可動電極７０と圧電体膜６１との間に空隙７２を形成している。本実施形態における変位機構は、固定電極（シリコン基板７６）と、可動電極７０と固定電極との間に静電引力を発生させる静電引力発生手段である電源７４およびスイッチ（ＳＷ）７５とを有する。なお、可動電極７０および支持層７１は導電性材料によって構成されている。
【００７５】
図１０は、図９に示した可動部材のフラップおよびトーションバーを、フラップの一部が圧電体膜に接触された状態で示す断面図である。
【００７６】
本実施形態における変位機構では、スイッチ７５（図９参照）を入れると、フラップ７０ａと固定電極であるシリコン基板７６との間に静電引力が発生し、トーションバー７０ｂが捩じり回転して、フラップ７０ａが撓んだ状態で圧電体膜６１に接触する。可動電極と固定電極との間に印加する電圧の大きさを変えるとフラップ７０ａの撓み量が変化し、フラップ７０ａの圧電体膜６１に対する接触部分の長さｇが変化する。本実施形態では、この接触部分がグレーティング６５のストリップとして用いられている。これにより、本実施形態のグレーティング６５では、ストリップ幅を電圧により変化させることが可能である。
【００７７】
本実施形態のグレーティング６５も、前述した式（１）および（２）を満たすように設けられている。そのため、圧電体膜６１に接触されたフラップ７０ａによって、伝搬面を進行する表面弾性波は反射される。
【００７８】
一方、スイッチ７５を切ると、フラップ７０ａとシリコン基板６１ａとの間に発生していた静電引力が消滅するため、トーションバー７０ｂのねじれが解消される。これにより、フラップ７０ａは図９に示す状態に戻り、圧電体膜６１とは非接触状態となり、表面弾性波は圧電基板６１の伝搬面を進行する。
【００７９】
次に、図８等に示した表面弾性波制御素子の製造工程について説明する。
【００８０】
本実施形態における表面弾性波制御素子６６では、固定電極として機能する導電性のシリコン基板７６の上に、圧電体層である圧電体膜６１をスパッタ法により成膜する。このとき、圧電体膜６１の厚みは２０μｍに形成する。このように構成された圧電体膜６１では、表面弾性波の伝搬速度は３４００ｍ／ｓｅｃであった。
【００８１】
次に、圧電体膜６１上に、真空蒸着方法とフォトリソグラフィプロセスとエッチング工程とにより、３００ｎｍ厚みのＡｌ薄膜からなる櫛形電極の形状を有するＩＤＴ６２を形成する。ＩＤＴ６２の櫛形電極の交差幅は５ｍｍに、線幅は励振周波数５０ＭＨｚに合わせた幅に設ける。なお、ＩＤＴ対数は２０とする。
【００８２】
次に、この圧電体膜６１上に、樹脂膜よりなるスペーサ層を形成する。続いて、ＩＤＴ２２の形成方法と同様の方法により、スペーサ層の上にＡｌ薄膜を３００ｎｍの厚さに蒸着し、フォトリソグラフィプロセスとエッチング工程とにより、フラップ７０ａとトーションバー７０ｂとからなる可動電極７０および支持層７１を形成する。
【００８３】
最後に、酸素ガスによるプラズマエッチングにより、可動電極７０の下方部分のスペーサ層を除去し、圧電体膜６１と可動部材７０との間に空隙７２を構成するとともに、圧電体膜６１と支持層７１との間にスペーサ７３を形成する。以上の工程により、本実施形態における表面弾性波制御素子６６が構成される。
【００８４】
次に、上記説明した本実施形態のインクジェットヘッドの動作について説明する。
【００８５】
なお、本実施形態のインクジェットヘッドは、垂直入射条件（θｉ＝θｒ＝０）に適合するように構成され、さらにグレーティングピッチｐは３４μｍとなるように設けられ、またストリップ本数（フラップ７０ａの本数）は２０本に設けられている。
【００８６】
本実施形態のインクジェットヘッドでは、電源７４に接続されたスイッチ７５を切った状態で、キャピラリー６７から圧電体膜６１上にインク６３を供給しつつ、交流電気信号発生器６４より５０ＭＨｚ、１Ｗの励振周波数信号をＩＤＴ６２に印加すると、圧電体膜６１に励起された表面弾性波が圧電体膜６１上のインク６３に伝搬され、液滴６８が飛翔される。
【００８７】
一方、スイッチ７５を入れた状態で、グレーティング６５と固定電極（シリコン基板７６）との間に電源７４から５０Ｖの電圧を印加すると、グレーティング６５のフラップ７０ａが静電引力によって圧電体膜６１に接触されるため、インク６３への表面弾性波の伝搬が遮断され、液滴６８は飛翔されない。
【００８８】
このように、本実施形態においても、変位機構を用いて圧電体膜６１に対するグレーティング６５の接触動作および非接触動作を行い、ＩＤＴ６２で発生された表面弾性波を間欠的にインク６３に伝搬させる構成とすることにより、交流電気信号発生器６４で発生した電気信号を間欠信号に変換するための手段が不要になるため、インク吐出部のマルチ化を行った場合でも表面弾性波の発振回路の構成およびその発振回路の制御動作を簡素化することができる。
【００８９】
さらに、本実施形態のインクジェットヘッドでは、圧電体膜６１上にインク６３を供給するインク供給部の制御を行わないので、従来技術では必要とされていたインク導出路への毛細管現象によるインク供給時間（リフィル時間）を省くことが可能となるため、印字速度の向上を図ることができる。
【００９０】
（第５の実施形態）
図１１は本発明のインクジェットヘッドの第５の実施形態を示す斜視図である。
【００９１】
本実施形態のインクジェットヘッドでは、表面弾性波の進行波８９の進行方向に対して斜めに配置され、９０゜反射条件（θｒ＋θｉ＝９０゜）に適合するように設定されたグレーティング８５が表面弾性波制御素子８６に用いられている。なお、グレーティング８５は、前述の式（１）および（２）を満たすように設けられている。その他、図１１に示すインクジェットヘッドの圧電基板８１、ＩＤＴ８２、交流電気信号発生器８４、グレーティング８５に備えられた変位機構およびキャピラリー８７等の各構成は、図１に示したインクジェットヘッドの各構成と同様であるので、詳しい説明は省略する。
【００９２】
本実施形態のインクジェットヘッドも、図１に示したインクジェットヘッドと同様に、変位機構の電源に接続されたスイッチ（不図示）を切った状態で、キャピラリー８７から圧電基板８１上にインク８３を供給しつつ、交流電気信号発生器８４より５０ＭＨｚ、１Ｗの励振周波数信号をＩＤＴ８２に印加すると、圧電基板８１の表面に励起された表面弾性波が圧電基板８１上のインク８３に伝搬され、液滴８８が飛翔される。
【００９３】
一方、スイッチを入れ、グレーティング８５と固定電極（不図示）との間に５０Ｖの電圧を印加すると、静電引力によってグレーティング８５が圧電基板８１の伝搬面に接触される。このとき、表面弾性波は、進行波８９の進行方向に対して９０°に傾いた方向に反射されるため、インク８３への表面弾性波の伝搬が遮断され、液滴８８は飛翔されない。
【００９４】
このように、本実施形態においても、変位機構を用いて圧電基板８１に対するグレーティング８５の接触動作および非接触動作を行い、ＩＤＴ８２で発生された表面弾性波を間欠的にインク８３に伝搬させる構成とすることにより、交流電気信号発生器８４で発生した電気信号を間欠信号に変換するための手段が不要になるため、インク吐出部のマルチ化を行った場合でも表面弾性波の発振回路の構成およびその発振回路の制御動作を簡素化することができる。
【００９５】
さらに、本実施形態のインクジェットヘッドでは、圧電基板８１上にインク８３を供給するインク供給部の制御を行わないので、従来技術では必要とされていたインク導出路への毛細管現象によるインク供給時間（リフィル時間）を省くことが可能となるため、印字速度の向上を図ることができる。
【００９６】
（第６の実施形態）
図１２は、本発明のインクジェットヘッドの第６の実施形態における、表面弾性波制御素子の変位機構を示す斜視図である。
【００９７】
本実施形態における変位機構は、２つの圧電体９２ａが３つの電極９２ｂによってサンドイッチされた状態に構成されたバイモルフ型圧電体素子９３と、バイモルフ型圧電体素子９３と圧電基板９１との間に空隙を形成するためのスペーサー９４と、バイモルフ型圧電体素子９３の表面側および裏面側の電極９２ｂに電圧を印加するための電源９６ａ，９６ｂと、各電源に接続されたスイッチ（ＳＷ）９７ａ，９７ｂとを有する。カンチレバー型の可動電極からなるグレーティング９５は、バイモルフ型圧電体素子９３の裏面側の電極９２ｂに一方の端部が接続されている。
【００９８】
上記のように構成されたバイモルフ型圧電体素子９３では、スイッチ９７ａ，９７ｂを閉じてバイモルフ型圧電体素子９３に電圧を印加すると、圧電体９２ａが変形することによって、バイモルフ型圧電体素子９３の自由端が圧電基板９１の表面に対して垂直な方向である図示Ｚ方向に変位する。この変位を利用することにより、圧電基板９１の表面にグレーティング９５が接触される。このとき、圧電基板９１を進行する表面弾性波は、グレーティング９５によって反射される。
【００９９】
なお、本実施形態のインクジェットヘッドの圧電基板９１、グレーティング９５および不図示のＩＤＴ、交流電気信号発生器、キャピラリーの各構成は、図１に示したインクジェットヘッドの各構成と同様であるので、詳しい説明は省略する。
【０１００】
次に、本実施形態のインクジェットヘッドにおける表面弾性波制御素子の製造工程について説明する。
【０１０１】
本実施形態における表面弾性波制御素子の圧電基板９１は、１２８゜Ｙ−Ｘカットが施されたＬｉＮｂＯ３基板によって構成する。次に、圧電基板９１上に、真空蒸着方法とフォトリソグラフィプロセスとエッチング工程とにより、３００ｎｍ厚みのＡｌ薄膜からなる櫛形電極の形状を有するＩＤＴを形成する。ＩＤＴの櫛形電極の交差幅は５ｍｍに、線幅は励振周波数５０ＭＨｚに合わせた幅に設ける。なお、ＩＤＴ対数は２０とする。
【０１０２】
次に、圧電基板９１上の所定の位置にエポキシ系接着剤を塗布し、バイモルフ型圧電体素子９３を接着し、そのエポキシ系接着剤を硬化させる。これにより、圧電基板９１とバイモルフ型圧電体素子９３との間に、厚みが１μｍのスペーサー９４を形成する。以上の工程により、本実施形態における表面弾性波制御素子が構成される。
【０１０３】
なお、バイモルフ型圧電体素子９３はＰＺＴからなり、一枚の圧電体９２ａの厚みが８０μｍ、幅が２００μｍ、長手方向の長さが１ｍｍに形成されている。また、グレーティング９５のカンチレバー型可動電極は、バイモルフ型圧電体素子９３の裏面側の電極９３ｂの一部をカンチレバー型に形成することによって構成されている。各カンチレバー型可動電極の長さは２００μｍに設けられている。
【０１０４】
次に、上記説明した本実施形態のインクジェットヘッドの動作について説明する。
【０１０５】
なお、本実施形態におけるグレーティング９５は、垂直入射条件（θｉ＝θｒ＝０）に適合し、さらにグレーティングピッチｐが前述の式（３）を満たすように構成されている。
【０１０６】
本実施形態のインクジェットヘッドでは、各電源９６ａ，９６ｂに接続されたスイッチ９７ａ，９７ｂを切った状態で、キャピラリーから圧電基板９１上にインクを供給しつつ、交流電気信号発生器より５０ＭＨｚ、１Ｗの励振周波数信号をＩＤＴに印加すると、圧電基板９１に励起された表面弾性波が圧電基板９１上のインクに伝搬され、液滴が飛翔される。
【０１０７】
一方、各スイッチ９７ａ，９７ｂを入れ、グレーティング９５と固定電極との間に電源９６ａ，９６ｂによって２０Ｖの電圧を印加すると、バイモルフ型圧電体素子９３の変形によってグレーティング９５が圧電基板９１に接触されるため、インクへの表面弾性波の伝搬が遮断され、液滴は飛翔されない。
【０１０８】
このように、本実施形態では、電圧が印加されると変形する圧電体９２ａによって端部が変位するバイモルフ型圧電体素子９３でグレーティング変位手段が構成され、さらに圧電体素子９３の端部が変位するとグレーティング９５が圧電基板９１の表面に接触されるように構成されている。そのため、バイモルフ型圧電体素子９３によって圧電基板９１に対するグレーティング９５の接触動作および非接触動作が行われ、ＩＤＴで発生された表面弾性波が間欠的にインクに伝搬されるので、交流電気信号発生器で発生した電気信号を間欠信号に変換するための手段が不要になるため、インク吐出部のマルチ化を行った場合でも表面弾性波の発振回路の構成およびその発振回路の制御動作を簡素化することができる。
【０１０９】
さらに、本実施形態のインクジェットヘッドでは、圧電基板９１上にインクを供給するインク供給部の制御を行わないので、従来技術では必要とされていたインク導出路への毛細管現象によるインク供給時間（リフィル時間）を省くことが可能となるため、印字速度の向上を図ることができる。
【０１１０】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明の表面弾性波制御素子は、表面弾性波伝搬手段との間に空隙をおいて配置されたグレーティングを伝搬路に接触させるための静電引力発生手段または圧電体素子が備えられており、それらによって表面弾性波の伝搬および遮断が制御されるため、表面弾性波を間欠的に発生させるための手段を備える必要がなく、インク吐出部のマルチ化を行った場合でも表面弾性波の発振回路の構成およびその発振回路の制御動作を簡素化することができる。
【０１１１】
また、本発明の表面弾性波制御素子を用いたインクジェットヘッドは、本発明の表面弾性波制御素子と、表面弾性波伝搬手段の表面における所定の位置にインクを供給するためのインク供給手段とを有するので、インク吐出部のマルチ化を行った場合でも上記のように表面弾性波の発振回路の構成およびその発振回路の制御動作を簡素化することができるとともに、インク供給手段の制御を行う必要がないことからインク供給時間（リフィル時間）を省くことができ、印字速度の向上を図ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の表面弾性波制御素子を用いたインクジェットヘッドの第１の実施形態を示す斜視図である。
【図２】図１に示したインクジェットヘッドを、表面弾性波の伝搬方向に沿って切断した場合の断面図であり、同図（ａ）はグレーティングが圧電基板の表面に接触されていない状態を示す図、同図（ｂ）はグレーティングが圧電基板の表面に接触されている状態を示す図である。
【図３】図１に示したインクジェットヘッドの圧電基板とグレーティングとを示す断面図である。
【図４】図３に示した圧電基板およびグレーティングを示す平面図である。
【図５】図１に示したインクジェットヘッドのＡ−Ａ線における断面図である。
【図６】本発明のインクジェットヘッドの第２の実施形態を示す斜視図である。
【図７】本発明のインクジェットヘッドの第３の実施形態を示す斜視図である。
【図８】本発明のインクジェットヘッドの第４の実施形態を示す斜視図である。
【図９】図８に示したインクジェットヘッドを構成する表面弾性波制御素子の変位機構を示す斜視図である。
【図１０】図９に示した可動部材のフラップおよびトーションバーを、フラップの一部が圧電体膜に接触された状態で示す断面図である。
【図１１】本発明のインクジェットヘッドの第５の実施形態を示す斜視図である。
【図１２】本発明のインクジェットヘッドの第６の実施形態における、表面弾性波制御素子の変位機構を示す斜視図である。
【図１３】従来の、表面弾性波を用いた液滴ジェット装置を示す概略図である。
【図１４】従来のインクジェットヘッドを示す概略図である。
【符号の説明】
１，８１，９１    圧電基板
２，２２，４２ａ，４２ｂ，４２ｃ，６２，８２    ＩＤＴ
３，２３，４３，６３，８３    インク
４，２４，４４，６４，８４    交流電気信号発生器
５，２５ａ，２５ｂ，２５ｃ，４５ａ，４５ｂ，４５ｃ，６５，８５，９５    グレーティング
５ａ    ストリップ
６，２６，４６，６６，８６    表面弾性波制御素子
７，２７ａ，２７ｂ，２７ｃ，４７，６７，８７    キャピラリー
８，６８，８８    液滴
９，６９，８９    進行波
１０，２８，４８，９６ａ，９６ｂ    電源
１１，２９ａ，２９ｂ，４９ａ，４９ｂ，４９ｃ，７５，９７ａ，９７ｂ  ＳＷ
１２    空隙
１３    固定部
１４    固定電極
２１，４１，６１    圧電体膜
３０，５０    ガラス板
３１，５１    インク供給槽
３２，５２，７６    シリコン基板
７０    可動電極
７０ａ  フラップ
７０ｂ  トーションバー
７１    支持層
７２    空隙
７３，９４    スペーサ
７４    電源
９２ａ  圧電体
９２ｂ  電極
９３    バイモルフ型圧電体素子
【図１】
0003596847.tif 000002
【図２】
0003596847.tif 000003
【図３】
0003596847.tif 000004
【図４】
0003596847.tif 000005
【図５】
0003596847.tif 000006
【図６】
0003596847.tif 000007
【図７】
0003596847.tif 000008
【図８】
0003596847.tif 000009
【図９】
0003596847.tif 000010
【図１０】
0003596847.tif 000011
【図１１】
0003596847.tif 000012
【図１２】
0003596847.tif 000013
【図１３】
0003596847.tif 000014
【図１４】
0003596847.tif 000015