(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
長手方向と直交する方向に延びる複数の分割スリットが前記長手方向に所定の間隔を開けて形成されたセラミック基板を所定の間隔をあけて送り出すセラミック基板供給装置と、
前記セラミック基板供給装置から供給された前記セラミック基板を搬送する搬送ベルト（２）と、
前記搬送ベルト（２）の搬送経路中に配置されて搬送されてきた前記セラミック基板を前記分割スリットに沿って分割する基板分割機構（５，１０）とを具備するセラミックチップ分割装置であって、
前記セラミック基板供給装置と前記基板分割機構との間に配置されて前記搬送ベルトにより搬送されるセラミック基板の姿勢が正常であるか否かを判定する姿勢判定装置（１６，１７）と、
前記姿勢判定装置がセラミック基板の姿勢の異常を判定すると、姿勢が異常なセラミック基板が前記基板分割機構（５，１０）により分割されないように前記基板分割機構を非作動状態にした後に前記姿勢が異常なセラミック基板を前記搬送ベルト（２）上から排除し、排除終了後に前記基板分割機構を作動状態に自動復帰させる基板排除機構（９，１８，７１）とを具備したことを特徴とするセラミックチップ分割装置。
【請求項２】
前記姿勢判定装置は、セラミック基板が反転しているか否かを検出する反転検出器（１６）と、セラミック基板が重なり合っているか否かを検出する重なり検出器（１７）とを備えている請求項１に記載のセラミックチップ分割装置。
【請求項３】
前記基板分割機構は前記搬送ベルトの上側に配置された上側ローラ（１０）と、前記搬送ベルトの下側に配置されて前記上側ローラと前記セラミック基板を挟むことにより前記セラミック基板を分割する下側ローラ（５）とを具備し、
前記基板排除機構は、
前記姿勢判定装置（１６，１７）がセラミック基板の姿勢の異常を判定するまでは前記上側ローラ（１０）を作動位置に位置させ、前記姿勢判定装置がセラミック基板の姿勢の異常を判定すると所定時間経過後に前記上側ローラ（１０）を非作動位置に位置させ、基板排除後は前記上側ローラ（１０）を前記作動位置に復帰させる上側ローラ自動位置決め機構（７，８，９，１１，７１）と、
前記姿勢判定装置（１６，１７）と前記基板分割機構（５，１０）との間に配置されて、前記搬送ベルト（２）によるセラミック基板の搬送を阻止する前進位置と前記搬送ベルトにおるセラミック基板の搬送を許容する後退位置との間を移動するストッパ部材（１８１）を備え、前記姿勢判定装置がセラミック基板の姿勢の異常を判定すると、前記ストッパ部材を前記前進位置に移動させて前記ストッパ部材（１８１）より手前にあるセラミック基板の搬送を阻止し、前記所定時間経過後に前記ストッパ部材（１８１）を前記後退位置に移動させる基板搬送阻止装置（１８）とからなる請求項１または２に記載のセラミックチップ分割装置。
【請求項４】
前記基板分割機構は前記搬送ベルトの上側に配置された上側ローラ（１０）と、前記搬送ベルト（２）の下側に配置されて前記上側ローラ（１０）と前記セラミック基板を挟むことにより前記セラミック基板を分割する下側ローラ（５）とを具備し、
前記基板排除機構は、前記姿勢判定装置（１６，１７）がセラミック基板の姿勢の異常を判定するまでは前記上側ローラ（１０）を作動位置に位置させ、前記姿勢判定装置がセラミック基板の姿勢の異常を判定すると前記上側ローラを非作動位置に位置させ、所定時間経過後に前記上側ローラを前記作動位置に自動復帰させる上側ローラ自動位置決め機構（９）により構成されている請求項１または２に記載のセラミックチップ分割装置。
【請求項５】
長手方向と直交する方向に延びる複数の分割スリットが前記長手方向に所定の間隔を開けて形成されたセラミック基板を搬送する無端の搬送ベルト（２）と、
前記搬送ベルトの上側に配置され且つ回転中心線が前記搬送ベルトの搬送方向と直交する方向に延びる上側ローラ（１０）と、
前記上側ローラを回転自在に支持する上側ローラ支持機構を備えた上側ベース（７）と、
前記上側ベース（７）に取付けられたガイドローラ及び前記上側ローラに案内されて前記搬送ベルトとの間で前記セラミック基板を挟む追従ベルト（１２）と、
前記搬送ベルトの下側に配置され且つ回転中心線が前記搬送ベルトの搬送方向と直交する方向に延びる下側ローラ（５）と、
前記下側ローラを回転自在に支持する下側ローラ支持機構（６）とを具備し、前記上側ローラと前記下側ローラとの間で前記セラミック基板を前記分割スリットに沿って分割するセラミックチップ分割装置であって、
前記上側ベース（７）を分割動作を行うための作動位置または分割動作を行うことができない非作動位置に位置させる上側ベース位置決め装置（８，９，７１）と、
前記上側ローラ（１０）及び下側ローラ（５）の手前に配置されて前記搬送ベルトにより搬送されるセラミック基板の姿勢が正常であるか否かを判定する姿勢判定装置（１６，１７）と、
前記姿勢判定装置（１６，１７）と前記上側ローラ（１０）及び前記下側ローラ（５）との間に配置され、前記搬送ベルト（２）によるセラミック基板の搬送を阻止する前進位置または前記搬送ベルトにおけるセラミック基板の搬送を許容する後退位置に置かれるストッパ部材（１８１）と前記ストッパ部材を移動させる駆動装置を備えた基板搬送阻止装置（１８）とを具備し、
前記上側ベース位置決め装置（８，９，７１）は、前記姿勢判定装置（１６，１７）から判定信号が出力されると、予め定めたシーケンスに従って前記上側ベースを非作動位置に移動させた後に前記上側ベースを前記作動位置に復帰させるように構成され、
また前記基板搬送阻止装置（１８）は、前記姿勢判定装置から判定信号が出力されると、予め定めたシーケンスに従って前記ストッパ部材を前記前進位置に移動させた後前記ストッパ部材（１８１）を前記後退位置に戻すように構成されていることを特徴とするセラミックチップ分割装置。
【請求項６】
前記上側ベース位置決め装置（８，９，７１）の前記シーケンスは、前記判定信号が出力された後前記姿勢判定装置（１６，１７）と前記上側ローラ（１０）及び下側ローラ（５）との間に位置するセラミック基板を分割するのに必要な第１の予め定めた時間を経過した後に前記上側ベース（７）を非作動位置に移動させ、その後姿勢が異常なセラミック基板を排出するのに必要な第２の予め定めた時間経過した後に前記上側ベース（７）を作動位置に復帰させるように定められており、
基板搬送阻止装置（１８）の前記シーケンスは、前記判定信号が出力されると前記ストッパ部材（１８１）を直ちに前記前進位置に移動させ、その後第１の予め定めた時間経過した後に前記ストッパ部材（１８１）を前記後退位置に戻すように定められている請求項５に記載のセラミックチップ分割装置。
【請求項７】
前記上側ベース位置決め装置（８，９，７１）の前記シーケンスは、前記上側ベース（７）が非作動位置に移動した後に前記第２の予め定めた時間が経過するまでに前記姿勢判定装置（１６，１７）が判定信号を出力すると、更に第３の予め定めた時間経過した後に前記上側ベース（７）を動作位置に復帰させるように定められている請求項６に記載のセラミックチップ分割装置。
【請求項８】
長手方向と直交する方向に延びる複数の分割スリットが前記長手方向に所定の間隔を開けて形成されたセラミック基板を所定の間隔をあけて送り出すセラミック基板供給装置と、
前記セラミック基板供給装置から供給された前記セラミック基板を搬送する無端の搬送ベルト（２）と、
前記搬送ベルトの上側に配置され且つ回転中心線が前記搬送ベルトの搬送方向と直交する方向に延びる上側ローラ（１０）と、
前記上側ローラを回転自在に支持する上側ローラ支持機構を備えた上側ベース（７）と、
前記上側ベース（７）に取付けられたガイドローラ（１３１〜１３３）及び前記上側ローラ（１０）に案内されて前記搬送ベルト（２）との間で前記セラミック基板を挟む追従ベルト（１２）と、
前記搬送ベルトの下側に配置され且つ回転中心線が前記搬送ベルトの搬送方向と直交する方向に延びる下側ローラ（５）と、
前記下側ローラを回転自在に支持する下側ローラ支持機構（６）とを具備し、前記上側ローラの前記回転中心線（ＣＬ２）が前記搬送方向の前方側に位置するように前記上側ローラの前記回転中心線（ＣＬ１）と前記下側ローラ（５）の前記回転中心線とが前記搬送方向（１５）にずらされて配置され、
前記上側ローラ（１０）と前記下側ローラ（５）との間で前記セラミック基板を前記分割スリットに沿って分割するセラミックチップ分割装置であって、
前記上側ベース（７）を分割動作を行うための作動位置または分割動作を行うことができない非作動位置に位置させる上側ベース位置決め装置（８，９，７１）と、
前記下側ローラの手前に配置されて前記搬送ベルトによって搬送されるセラミック基板が反転しているか否かを検出する反転検出器（１６）と、
前記下側ローラの手前に配置されて前記搬送ベルトによって搬送される複数のセラミック基板が重なり合っているか否かを検出する重なり検出器（１７）と、前記反転検出器及び前記重なり検出器と前記下側ローラとの間に配置され、前記搬送ベルトによるセラミック基板の搬送を阻止する前進位置または前記搬送ベルトにおけるセラミック基板の搬送を許容する後退位置に置かれるストッパ部材（１８１）と前記ストッパ部材を移動させる駆動装置を備えた基板搬送阻止装置（１８）と、
前記セラミック基板供給装置は、前記反転検出器（１６）及び前記重なり検出器（１７）の少なくとも一方が検出信号を出力すると、予め定めたシーケンスに従ってセラミック基板の供給を停止した後に供給を再開するように構成され、
前記上側ベース位置決め装置（８，９，７１）は、前記反転検出器及び前記重なり検出器の少なくとも一方が検出信号を出力すると、予め定めたシーケンスに従って前記上側ベース（７）を非作動位置に移動させた後に前記上側ベースを前記作動位置に復帰させるように構成され、
また前記基板搬阻止装置（１８）は、前記反転検出器（１６）及び前記重なり検出器（１７）の少なくとも一方が検出信号を出力すると、予め定めたシーケンスに従って前記ストッパ部材を前記前進位置に移動させた後前記ストッパ部材（１８１）を前記後退位置に戻すように構成されていることを特徴とするセラミックチップ分割装置。
【請求項９】
前記ベース位置決め装置（８，９，７１）の前記シーケンスは、前記検出信号が出力された後前記反転検出器（１６）及び前記重なり検出器（１７）と前記下側ローラ（５）との間に位置するセラミック基板を分割するのに必要な第１の予め定めた時間経過した後に前記上側ベース（７）を非作動位置に移動させ、その後姿勢が異常なセラミック基板を排出するのに必要な第２の予め定めた時間経過した後に前記上側ベース（７）を動作位置に復帰させるように定められており、
基板搬送阻止装置（１８）の前記シーケンスは、前記検出信号が出力されると前記ストッパ部材（１８１）を直ちに前記前進位置に移動させ、その後前記第１の予め定めた時間経過した後に前記ストッパ部材を前記後退位置に戻すように定められており、
前記セラミック基板供給装置の前記シーケンスは、前記検出信号が出力されると直ちにセラミック基板の供給を停止し、前記検出信号が出力されて前記第１及び第２の予め定めた時間が経過した後に前記セラミック基板の供給を再開するように定められている請求項８に記載のセラミックチップ分割装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】
本発明は、セラミック基板を分割してチップ電子部品の基板に用いるセラミックチップを製造するセラミックチップ分割装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
図８（Ａ）は、チップ抵抗器をに用いるセラミックチップを製造する場合に用いるセラミック基板１０１の一例を示している。このセラミック基板１０１には、長手方向と直交する方向に延びる複数の分割スリットＳ…が長手方向に所定の間隔を開けて形成されている。図８（Ｂ）に示すように、通常この分割スリットＳはセラミック基板１０１の両面に対向するように形成されている。なおこの分割スリットＳ…をセラミック基板１０１の片面にのみ形成してもよいのは勿論である。このセラミック基板１０１では、分割スリットＳ…を形成した後に、セラミック基板１０１の幅方向（長手方向と直交する方向）の両側端面と、セラミック基板１０１の表面の縁部分を覆うように電極構成用導電層１０２，１０２が形成されている。なおこの電極構成用導電層１０２，１０２の構成は、任意であり、セラミック基板１０１の表面だけに形成されるものでも、表面と側面に跨がって形成されるものでも、表面と側面と裏面に跨がって形成されるものでもいずれでもよい。また電極構成用導電層１０２，１０２の構造は、導電層が１層からなる単層構造でも、複数の導電層が重ねられて形成される多層構造でもいずれでもよい。
【０００３】
このようなセラミック基板１０１からセラミックチップを形成するために、従来は図８（Ｃ）に概念的に示すようなセラミックチップ分割機構を用いている。１０３は大径の上側ローラであり、１０４は小径の下側ローラである。上側ローラ１０３は、セラミック基板１０１を下側に押すように図示しない付勢機構によって付勢されている。上側ローラ１０３の回転中心線と下側ローラ１０４の回転中心線とはセラミック基板１０１の搬送方向（矢印で示した方向）にずらされて配置されいる。上側ローラ１０３と下側ローラ１０４との間でセラミック基板１０１が挟持された状態で、下側ローラ１０４とセラミック基板１０１との対向点を支点とし上側ローラ１０３とセラミック基板１０１との対向点を力点としてセラミック基板１０１に力が加わり、分割スリットＳに沿って１個のセラミックチップが分割される。ちなみに１個のセラミックチップの縦横の寸法は、一般的に１．６×０．８ｍｍ以下である。なお図示していないが、セラミック基板１０１の搬送は主として下側ローラ１０４の上を通過するように移動する搬送ベルトによって行われる。また搬送ベルトの外に、上側ローラにガイドされて移動し、少なくともセラミック基板１０１が分割される際に搬送ベルトとの間でセラミック基板を挟み込む追従ベルトを用いている。そして搬送ベルトには、図示しないセラミック基板供給装置からセラミック基板が所定の間隔をあけて順次供給される。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
セラミック基板供給装置としては、一般に市販されている自動部品供給装置が利用される。しかしながらセラミック基板供給装置から搬送ベルトに正しくセラミック基板が供給されない場合がある。その発生確率は、セラミック基板供給装置の性能によって決まるが、発生確率を零にすることは難しい。上側ローラ１０３及び下側ローラ１０４の径寸法及び材質、上側ローラ１０３の付勢力等は、搬送ベルトによって搬送されてくるセラミック基板の姿勢を予め想定して定めているため、想定しない姿勢でセラミック基板が搬送されてきた場合、分割不良が発生し、歩留まりが悪くなる。
【０００５】
本発明の目的は、搬送ベルトによって搬送されてくるセラミック基板の姿勢が予め想定した姿勢（正常な姿勢）とは異なる場合に、姿勢が異常なセラミック基板を自動的に排除した後に、分割作業を自動的に再開するセラミックチップ分割装置を提供することにある。
【０００６】
本発明の他の目的は、セラミック基板が反転して搬送されきたり、重なって搬送されてきた場合に、それらの姿勢が異常なセラミック基板を自動的に排除した後に、分割作業を自動的に再開するセラミックチップ分割装置を提供することにある。
【０００７】
本発明の別の目的は、搬送ベルトによって搬送されてくるセラミック基板の姿勢が予め想定した姿勢（正常な姿勢）とは異なる場合に、複雑な排除装置を用いることなく姿勢が異常なセラミック基板を自動的に排除した後に、分割作業を自動的に再開するセラミックチップ分割装置を提供することにある。
【０００８】
本発明の他の目的は、姿勢が異常なセラミック基板の前に搬送されているセラミック基板を分割した後に、異常なセラミック基板を排除することができるセラミックチップ分割装置を提供することにある。
【０００９】
本発明の更に他の目的は、姿勢が異常なセラミック基板を絶対に分割することがないセラミックチップ分割装置を提供することにある。
【００１０】
本発明の更に別の目的は、姿勢が異常なセラミック基板を排除中に更に姿勢が異常なセラミック基板を検出した場合には、後から検出した姿勢が異常なセラミック基板も排出できるセラミックチップ分割装置を提供することにある。
【００１１】
本発明の他の目的は、姿勢が異常なセラミック基板の排除中は搬送ベルトに更にセラミック基板を供給することがないセラミックチップ分割装置を提供することにある。
【００１２】
【課題を解決するための手段】
本発明のセラミックチップの分割装置は、長手方向と直交する方向に延びる複数の分割スリットが長手方向に所定の間隔を開けて形成されたセラミック基板を搬送ベルトにより搬送する。ここで搬送ベルトは、連続生産を可能にするためには、閉ループ状に構成された無端のベルトが好ましい。搬送ベルトは、セラミック基板を搬送し得るものであれば、その材質及び構造は任意であり、コンベアのように複数の素材を連結して構成されるものも含まれる。セラミック基板を分割する際に、セラミック基板が滑らないように表面部にゴム等の摩擦抵抗の大きな材料層を形成しておくのが好ましい。
【００１３】
搬送ベルトの搬送経路中には、搬送されてきたセラミック基板を分割スリットに沿って分割する基板分割機構を配置する。基板分割機構の構成は任意であるが、上側ローラと下側ローとの間でセラミック基板を挟んで基板を分割する機構が好ましい。この場合には、搬送ベルトの上側に回転中心線が搬送ベルトの搬送方向と直交する方向に延びる大径の上側ローラを配置する。なお追従ベルトを用いる場合には、上側ローラは追従ベルトをガイドするガイドローラとしての機能も有する。上側ローラの構造は、セラミック基板の分割に用いることができるものであればどのような構造でもよいが、セラミック基板に広く力を加えるために、外周面部にはゴム等の弾力性を有する弾力層を有しているのが好ましい。上側ローラのほぼ全体を弾力性材料によって形成してもよい。外周面部に弾力層があると、分割されるセラミック基板の面に沿って上側ローラの表面部が変形するため、セラミック基板が破損するのを防止できる。
【００１４】
上側ローラは、上側ローラ支持機構によって回転自在に支持されている。上側ローラ支持機構は、上側ローラが回転中心線を中心にして回転するように支持できる構造であればいかなる構造であってもよい。なお上側ローラに案内されて搬送ベルトとの間でセラミック基板を挟む追従ベルトを用いてもよい。追従ベルトは、セラミック基板を分割する前に搬送ベルトで搬送されてきたセラミック基板を搬送ベルトと協働して挟み、分割されたセラミックチップを搬送ベルトに押し付けて、セラミックチップが飛び散らないようにする機能を有している。追従ベルトの構造は、搬送ベルトの構造と同様でよい。
【００１５】
搬送ベルトの下側には、回転中心線が搬送ベルトの搬送方向と直交する方向に延びる小径の下側ローラを設ける。この下側ローラは、下側ローラ支持機構に回転自在に支持されている。上側ローラと下側ローラの位置関係は、セラミック基板を分割できれば任意であるが、上側ローラの回転中心線と下側ローラの回転中心線とを搬送方向にずらしておくのが好ましい。ずらす方向は、上側ローラの回転中心線が下側ローラの回転中心線よりも搬送方向の前方（セラミック基板が移動していく方向）に位置するように、言い換えると下側ローラの回転中心線が上側ローラの回転中心線よりも手前側に位置するようにずらすのが好ましい。上側ローラの回転中心線と下側ローラの回転中心線とをずらす場合のずらし量（上側ローラの回転中心線を通る垂線と下側ローラの回転中心線を通る垂線との間の寸法）は、分割するセラミックチップの寸法によって定める。
【００１６】
本発明においては、セラミック基板供給装置と基板分割機構との間に、搬送ベルトにより搬送されるセラミック基板の姿勢が正常であるか否かを判定する姿勢判定装置を配置する。この姿勢判定装置は、予め想定したセラミック基板の姿勢が正常であるか否かを判定できるものであれば、どの様なセンサを用いてもよく、またどの様な構成を備えていてもよい。例えば、セラミック基板が反転しているか否かを検出する反転検出器１６や、セラミック基板が重なり合っているか否かを検出する重なり検出器１７等をセンサとして用いることができる。反転検出器１６と重なり検出器１７の二種類の検出器を用意すれば、セラミック基板がどのような状態で供給されても、安価且つ簡単にほぼセラミック基板の姿勢を正確に判定できる。またテレビカメラのビデオ信号から姿勢を判定する姿勢判定装置を用いることもできる。
【００１７】
本発明では、姿勢判定装置がセラミック基板の姿勢の異常を判定すると、姿勢が異常なセラミック基板が基板分割機構により分割されないように、基板分割機構を非作動状態にした後に姿勢が異常なセラミック基板を搬送ベルト２上から排除し、排除終了後に基板分割機構を作動状態に自動復帰させる基板排除機構を設ける。基板排除機構の構成は、特に限定されるものではなく、上側ローラを作動位置から非作動位置に退避させて搬送ベルトを更に送ることにより、姿勢が異常なセラミック基板を排除してもよく、またエアーノズルを搬送ベルトに隣接して配置してエアーの吹き付けにより姿勢が異常なセラミック基板を排除してもよく、また真空吸着装置により姿勢が異常なセラミック基板を排除するようにしてもよい。搬送ベルトを利用してセラミック基板の排除を行う場合には、搬送ベルトを停止させる必要はないが、エアーノズルや真空吸着装置を用いる場合には、搬送ベルトを停止させてセラミック基板の排除動作を行うのが好ましい。
【００１８】
上側ローラを作動位置から非作動位置に退避させて搬送ベルトを更に送ることにより、姿勢が異常なセラミック基板を排除する場合の基板排除機構は、例えば上側ローラ自動位置決め機構（７，８，９，１１，７１）と基板搬送阻止装置１８とから構成することができる。ここで上側ローラ自動位置決め機構は、姿勢判定装置（１６，１７）がセラミック基板の姿勢の異常を判定するまでは上側ローラ１０を作動位置（下側ローラ５と協働して基板を分割する位置）に位置させ、姿勢判定装置がセラミック基板の姿勢の異常を判定すると所定時間経過後に上側ローラ１０を非作動位置（搬送ベルト２から上方に離れて搬送ベルト上のセラミック基板の通過を許容する位置）に位置させ、基板排除後は上側ローラ１０を作動位置に復帰させるように構成すればよい。また基板搬送阻止装置１８は、姿勢判定装置（１６，１７）と基板分割機構（５，１０）との間に配置されて、搬送ベルト２によるセラミック基板の搬送を阻止する前進位置と搬送ベルトにおるセラミック基板の搬送を許容する後退位置との間を移動するストッパ部材１８１を備え、姿勢判定装置がセラミック基板の姿勢の異常を判定すると、ストッパ部材を前進位置に移動させてストッパ部材１８１より手前にあるセラミック基板の搬送を阻止し、所定時間経過後にストッパ部材１８１を後退位置に移動させるように構成すればよい。このような構成にすると、姿勢判定装置（１６，１７）がセラミック基板の姿勢の異状を判定した後に、ストッパ部材１８１が手前のセラミック基板の搬送を阻止する。ストッパ部材１８１が搬送を阻止している間、ストッパ部材の搬送方向前方に位置している正常な姿勢のセラミック基板は分割される。この正常な姿勢のセラミック基板の分割が終了した後、上側ローラ１０が非作動位置に移動するとともにストッパ部材１８１が後退位置に移動し、ストッパ部材１８１によって止められていた姿勢が異常なセラミック基板を含むセラミック基板が搬送ベルト２によって搬送されて排除される。このような構成によると、姿勢が異常なセラミック基板を排除する際に姿勢が正常なセラミック基板を排除する率が低下して、製造効率が高くなる。
【００１９】
なお多少製造効率が下がってもよいのであれば、基板搬送阻止装置１８を用いずに、上側ローラ自動位置決め機構だけで基板排除機構を構成してもい。この場合、上側ローラ自動位置決め機構は、姿勢判定装置（１６，１７）がセラミック基板の姿勢の異常を判定するまでは上側ローラ１０を作動位置に位置させ、姿勢判定装置がセラミック基板の姿勢の異常を判定すると上側ローラを非作動位置に位置させ、所定時間経過後に上側ローラを作動位置に自動復帰させるように動作すればよい。ここで「所定時間」とは、搬送ベルトによって少なくとも姿勢が異常なセラミック基板を排出できる時間である。なおこの場合に、姿勢判定装置がセラミック基板の姿勢の異常を判定した後に、ある一定時間が経過した後に上側ローラを非作動位置に移動させてもよい。この「一定時間」とは、姿勢判定装置と基板分割機構との間にあるセラミック基板を分割できる時間よりも短い時間にする。なおこのようにすると前述の基板搬送阻止装置１８を用いる場合と同様に、製造効率を高めることができる。しかしセラミック基板供給装置の性能によって、セラミック基板の供給状態には差が生じるため、この「一定時間」はかなり短いものとなる可能性がある。
【００２０】
上側ローラ支持機構が上側ベースに固定されていて、上側ローラが上側ベースと一緒に移動する場合には、上側ローラを移動するために上側ベースを移動させる必要がある。このような場合には、上側ローラ自動位置決め機構（７，８，９，１１，７１）に代えて上側ベース位置決め装置（８，９，７１）を用いればよい。上側ベース位置決め装置（８，９，７１）を用いた場合にも、上側ローラが移動することには変わりがなく、上側ベース位置決め装置の動作のシーケンス及び基板搬送阻止装置の動作のシーケンスは、上側ローラ自動位置決め装置を用いる場合と同じである。即ち上側ベース位置決め装置のシーケンスは、判定信号が出力された後姿勢判定装置（１６，１７）と上側ローラ１０及び下側ローラ５との間に位置するセラミック基板を分割するのに必要な第１の予め定めた時間経過した後に上側ベース７を非作動位置に移動させ、その後姿勢が異常なセラミック基板を排出するのに必要な第２の予め定めた時間経過した後に上側ベース７を作動位置に復帰させるように定める。また基板搬送阻止装置１８のシーケンスは、判定信号が出力されるとストッパ部材１８１を直ちに前進位置に移動させ、その後第１の予め定めた時間経過した後にストッパ部材１８１を後退位置に戻すように定める。
【００２１】
姿勢判定装置（１６，１７）が判定信号を出力した後に姿勢が異常なセラミック基板を排除するまでの間に更に姿勢が異常なセラミック基板を姿勢判定装置（１６，１７）の存在を判定した場合には、上側ベース位置決め装置（８，９，７１）のシーケンスを、上側ベース７が非作動位置に移動した後に第２の予め定めた時間が経過するまでに姿勢判定装置（１６，１７）が判定信号を出力すると、更に第３の予め定めた時間経過した後に上側ベース７を動作位置に復帰させるように定めればよい。なお上側ベース位置決め装置は上側ローラ自動位置決め装置の一つであるから、このシーケンスは上側ローラ自動位置決め装置を用いると考えた場合に当然使用できる。
【００２２】
搬送ベルトの搬送を利用して姿勢が異常なセラミック基板を排除する場合には、セラミック基板供給装置からのセラミック基板の供給を停止する必要は必ずしもない。しかしながらセラミック基板の排除動作を実行するにあたって、セラミック基板供給装置からのセラミック基板の供給を停止させてもよい。その場合、例えばセラミック基板供給装置は、反転検出器１６及び重なり検出器１７の少なくとも一方が検出信号を出力すると、予め定めたシーケンスに従ってセラミック基板の供給を停止した後に供給を再開するように構成すればよい。その場合のセラミック基板供給装置の動作シーケンスは、例えば検出信号が出力されると直ちにセラミック基板の供給を停止し、検出信号が出力されて前述の第１及び第２の予め定めた時間が経過した後にセラミック基板の供給を再開するように定めればよい。このようにセラミック基板供給装置を制御すると、正常でありながら排除されるセラミック基板の数を減らすことができて、製造効率を高めることができる。
【００２３】
【作用】
本発明では、セラミック基板供給装置から搬送ベルトに正しくセラミック基板が供給されていない場合には、姿勢判定装置がセラミック基板の姿勢の異常を判定する。そして基板排除機構は、姿勢が異常なセラミック基板が基板分割機構により分割されないように、基板分割機構を非作動状態にした後に姿勢が異常なセラミック基板を搬送ベルト上から排除し、排除終了後に基板分割機構を作動状態に自動復帰させる。したがって本発明によれば、セラミック基板が反転して搬送されきたり、重なって搬送されてきた場合に、それらの姿勢が異常なセラミック基板を自動的に排除した後に、分割作業を自動的に再開することができる。
【００２４】
【実施例】
以下図面を参照して本発明の実施例を詳細に説明する。図１は、本発明のセラミックチップ分割装置の一実施例の概略構成図であり、同図において１は装置全体を支持するための主フレームである。この主フレーム１には、ゴム製の無端の搬送ベルト２を駆動してガイドする搬送ベルト駆動ガイド機構３と、搬送ベルト２の張りを調節する第１のベルト張り調整装置４と、セラミック基板分割用の下側ローラ５を支持する下側ローラ支持機構６（図２参照）とが固定されている。また主フレーム１には、上側ベース７を上下動させる際のガイドとして用いられる一対のスライドガイド８，８と、上側ベース７の駆動源として設けられたエスケープシリンダ７１及び荷重シリンダ９とが固定されている。そして上側ベース７には、セラミック基板分割用の上側ローラ１０を支持する上側ローラ支持機構１１と、追従ベルト１２をガイドする追従ベルトガイド機構１３と、追従ベルト１２の張りを調節する第２のベルト張り調整装置１４とが取り付けられている。なお主フレーム１及び上側ベース７には、その他の機構や装置等の機器も取付けられている。
【００２５】
搬送ベルト駆動ガイド機構３は、図示しない駆動用モータによって回転駆動される駆動ローラ３１と、２つ従動ローラ３２〜３３とから構成される。これらのローラ３１〜３３は、搬送ベルト２をガイドするガイドローラを構成する。駆動ローラ３１は、図示しない主電源スイッチがオン状にある場合で、図示しない制御装置から停止信号が出力されない限り一定の回転速度で回転している。またこれらのローラ３１〜３３のうち、従動ローラ３３は搬送ベルト２の張りを調整する第１のベルト張り調整装置４のローラ支持機構によって位置調整されるテンションローラとして機能する。即ち、従動ローラ３３は、ガイドローラを構成するだけでなく、第１のベルト張り調整装置４の部品としても用いられている。
【００２６】
なお図示していないが、搬送ベルト２の手前側（矢印１５で示す搬送方向と反対の方向）には、セラミック基板を搬送ベルト２上に所定の間隔をあけて送り出すセラミック基板供給装置が配置されている。セラミック基板供給装置は、細長いセラミック基板を表面を上に向けた状態で、セラミック基板の長手方向が矢印１５で示す搬送方向に向くようにして、セラミック基板を搬送ベルト２の上に供給する。なおこの種の部品供給装置は一般に市販されているので説明は省略する。
【００２７】
第１のベルト張り調整装置４は、主フレーム１に固定された軸４１と軸４１に中間部分が回転自在に支持されたテンションアーム４２とからなるローラ支持機構と、このローラ支持機構を駆動するための駆動力を発生する駆動源としての流体シリンダ４３とを備えている。テンションアーム４２の一端には、前述の従動ローラ３３が回動自在に支持されており、他端は流体シリンダ４３の動作軸に駆動可能に結合されている。本実施例では、流体シリンダ４３としてエアーシリンダを用いている。工場内には通常エアー供給源が配置されているため、流体シリンダ４３としてエアーシリンダを用いることは容易であり、しかもエアーシリンダは制御が容易でしかも安価であるため、操作性がよく、装置全体の価格を下げることができる。
【００２８】
下側ローラ５は、超硬合金製の棒状ローラから構成される。セラミック基板から１．６×０．８ｍｍのセラミックチップを分割する場合、下側ローラの直径寸法は約３ｍｍのものを用いる。本実施例では、下側ローラ５を図２に概略的に示し、図３（Ａ）及び（Ｂ）に具体的に示した下側ローラ支持機構６によって支持している。図３（Ａ）は図２の下側ローラ支持機構６の要部正面図であり、図３（Ｂ）は図２の下側ローラ支持機構６の要部平面図である。これらの図において、下側ローラ支持機構６は、所定の間隔を開けて配置した一対のフレーム板６１，６２に両端が支持された第１及び第２の回転軸６３，６４を備えている。第１及び第２の回転軸６３，６４は、下側ローラ５の回転中心線ＣＬ１の下側に位置して下側ローラ５の回転中心線ＣＬ１の両側に配置され且つそれぞれ下側ローラ５の回転中心線ＣＬｌと平行に延びる第１及び第２の回転中心線Ｃ１及びＣ２を中心にして回転するように配置されている。
【００２９】
第１の回転軸６３には、連続して並べられた６個のベアリング６５ａ〜６５ｆが回転自在に嵌合されている。これらのベアリング６５ａ〜６５ｆはそれぞれ第１の回転軸を中心にして回動する回転体を構成し、ベアリング６５ａ〜６５ｆは全体として第１の回転部材を構成している。本実施例では、６個のベアリング６５ａ〜６５ｆを用いて１つの回転部材を構成しているが、軸線方向の寸法が長いベアリングを用いる場合には、１つのベアリングによって１つの回転部材を構成してもよい。また第２の回転軸６４には、２つのベアリング６５ｇ及び６５ｈが回転自在に嵌合されている。この２つのベアリング６５ｇ及び６５ｈは、それぞれ第２の回転部材を構成している。即ち本実施例では、１つのベアリングによって１つの第２の回転部材が構成されている。２つのベアリング６５ｇ及び６５ｈは、連続して並べられた６個のベアリング６５ａ〜６５ｆからなる第１の回転部材の長手方向（軸線方向）両側に位置するようにそれぞれ配置されている。なお本実施例においては、第１の回転軸６３とベアリング６５ａ〜６５ｆとにより第１の回転手段が構成され、第２の回転軸６４と２つのベアリング６５ｇ及び６５ｈによって第２の回転手段が構成されている。
【００３０】
第１の回転軸６３に支持されたベアリング６５ａ〜６５ｆ（複数の回転体）と第２の回転軸６４に支持されたベアリング６５ｇ及び６５ｈ（複数の回転体）の外径寸法ｒ１  及びｒ２  とその配置構成は、ベアリング６５ａ〜６５ｈの外周面の一部が、下側ローラ５に沿い且つ下側ローラ５が回転し得るように下側ローラ５を下側から支持する支持面を形成するように定められている。本実施例においては、この考え方を具体化するために図４に示すような構成を採用している。即ち、第１及び第２の回転中心線Ｃ１及びＣ２間の寸法Ｄを、第１の回転部材（６５ａ〜６５ｆ）の半径ｒ１  と第２の回転部材（６５ｇと６５ｈ）の半径ｒ２  とを加算した値より小さく且つ第１及び第２の回転部材のそれぞれの外周面で下側ローラ５を支持し得るように定める。なお本実施例では、第１及び第２の回転部材を構成するベアリング６５ａ〜６５ｈは、直径寸法が等しい同規格のベアリングである。
【００３１】
本実施例においては、一連のベアリング６５ａ〜６５ｆの長手方向の両側にそれぞれベアリング６５ｇ及び６５ｈを配置することにより、第１の回転部材と第２の回転部材とが下側ローラ５の長手方向に交互に配置された状態を形成しているが、第１の回転軸６３に取り付けるベアリングと第２の回転軸６４に取り付けるベアリングとを交互に並ぶように、別の言い方をすると互い違いに並ぶようにして、第１の回転部材と第２の回転部材とが下側ローラ５の長手方向に交互に配置された状態を形成してもよい。
【００３２】
本実施例では、第１及び第２の回転部材をベアリングによって第１及び第２の回転軸とは別体に構成しているが、一対のフレーム板６１及び６２に両端を回転自在に支持させた第１及び第２の回転軸の外周部に第１及び第２の回転部材をそれぞれ一体に形成してもよい。即ち回転する第１及び第２の回転軸の一部が第１及び第２の回転部材を構成するようにしてもよい。
【００３３】
本実施例では、ベアリングの外周面の一部によって構成する支持面で支持した下側ローラ５が長手方向に移動するのを阻止するために、下側ローラ支持機構に、下側ローラ５の長手方向両側に位置して下側ローラの長手方向への移動を阻止する移動阻止面（Ｓ１及びＳ２）を設けている。具体的には、一対のフレーム板６１及び６２の内側側面、即ち対向面Ｓ１及びＳ２により移動阻止面を構成している。
【００３４】
上側ローラ支持機構１１は、図５に示すように、一対の支持フレーム１１１及び１１２を備えている。一方の支持フレーム１１１は上側ベース７の壁部によって構成された平板状構造を有しており、他方の支持フレーム１１２は縦断面形状が逆Ｌ字状をなす形状を有している。一対の支持フレーム１１１及び１１２の双方には一対の軸受１１３及び１１４が固定され、一対の軸受１１３及び１１４には上側ローラ１０が固定される回転軸１１５が支持されている。回転軸１１５の一端には雄ねじが形成され、この雄ねじには抜け止めナット１１６が螺合されている。このような構造によって、上側ローラ１０を支持する回転軸１１５の軸線は、搬送方向と直交する水平方向に延びる回転中心線を構成している。この回転軸１１５に支持された上側ローラ１０は、金属製の円筒体１０ａの外周に環状のゴム製の弾力層１０ｂが接合された構造を有している。弾力層１０ｂは、追従ベルト１２をガイドし且つセラミック基板を分割するのに適した弾力性を有している。
【００３５】
追従ベルトガイド機構１３は、上側ベースに回転自在に固定された第１及び第２の追従ローラ１３１及び１３２と、追従ベルト１２の張りを調節する第２のベルト張り調整装置１４のテンションローラを構成する追従ローラ１３３と、上側ローラ１０とによって構成されている。追従ローラ１３３は、上側ベース７に固定されて追従ローラ１３３を水平方向に位置調整可能に支持する図示しないローラ支持機構に支持されており、このローラ支持機構はエアシリンダからなる流体シリンダ１４１によって駆動されている。
【００３６】
なお本実施例においては、搬送ベルト２の上側に配置された上側ローラ１０と、搬送ベルト２の下側に配置されて上側ローラ１０とセラミック基板を挟むことによりセラミック基板を分割する下側ローラ５等により基板分割機構が構成されている。
【００３７】
上側ベース７をスライドガイド８，８及びエスケープシリンダ７１によって上下動させる。上側ベース７を押し上げたり下げたりするエスケープシリンダ７１もエアーシリンダによって構成されている。上側ベース７と、スライドガイド８，８と、エスケープシリンダ７１と、荷重シリンダ９と、上側ローラ支持機構１１とは、上側ローラ自動位置決め機構を構成している。この上側ローラ自動位置決め機構は、反転検出器１６と重なり検出器１７とによって構成される姿勢判定装置がセラミック基板の姿勢の異常を判定するまでは上側ローラ１０を作動位置（下側ローラと協働してセラミック基板を分割する位置、即ち図１に示した位置）に位置させ、姿勢判定装置がセラミック基板の姿勢の異常を判定すると所定時間経過（第１の予め定めた時間）後に上側ローラ１０を非作動位置（下側ローラと協働してセラミック基板を分割することができない位置、即ち図１に示した位置から上に所定距離移動した位置）に位置させ、基板排除後（姿勢が異常なセラミック基板を排出するのに必要な第２の予め定めた時間経過した後）は上側ローラ１０を作動位置に復帰させるシーケンスに従って動作する。なお上側ローラ１０は、上側ベース７と一緒に移動するため、別の言い方をすると、スライドガイド８，８とエスケープシリンダ７１と荷重シリンダ９とは、上側ベース７を分割動作を行うための作動位置または分割動作を行うことができない非作動位置に位置させる上側ベース位置決め装置を構成している。このように表現した場合、上側ベース位置決め装置は、姿勢判定装置から判定信号が出力されると、予め定めたシーケンスに従って上側ベース７を非作動位置に移動させた後に上側ベース７を作動位置に復帰させるものと表現できる。
【００３８】
図１に示した上側ベース７または上側ローラ１０を下側ローラ５に向かって付勢する付勢機構が設けられている。この付勢機構は荷重シリンダ９である。
【００３９】
反転検出器１６は、搬送ベルト２上のセラミック基板が反転しているか否かを検出し、重なり検出器１７は、セラミック基板が重なり合っているか否かを検出する。これら反転検出器１６及び重なり検出器１７は、図示しないセラミック基板供給装置と基板分割機構（５，１０）との間に配置されて搬送ベルト２により搬送されるセラミック基板の姿勢が正常であるか否かを判定する前述の姿勢判定装置を構成する。反転検出器１６及び重なり検出器１７は、それぞれ搬送ベルト２に向かって光を照射し、反射してきた光の状態からセラミック基板の状態を判定するように構成されている。この種の検出器としては、例えばキーエンス株式会社が光電スイッチの名称で販売している検出器を用いることができる。
【００４０】
セラミック基板の表面には、オーバーコート等の表面処理が施されているため、表面と裏面とでは光の反射率または反射量が異なる。そこで反転検出器１６は予め定めた基準値より光の反射率または反射量が多いか少ないかにより、搬送されてきたセラミック基板が表か裏かを判定して、セラミック基板が反転している場合（裏面を上に向けている場合）を検出すると検出信号を出力する。また２枚のセラミック基板が部分的に重なった場合、基板が重なっている部分から反射される光は、他の部分から反射される光よりも強くなる。そこで重なり検出器１７は、反射してくる光の量に大きな変動があるか否かを検出し、反射光の変動量が基準値以上ある場合に、基板が重なったと判定して検出信号を出力する。
【００４１】
反転検出器１６及び重なり検出器１７から出力される検出信号は、姿勢判定装置の判定信号として、エスケープシリンダ７１及び荷重シリンダ９の図示しない駆動装置と基板搬送阻止装置１８とに入力される。荷重シリンダ９は、判定信号を受けとると、前述のシーケンスに従って動作する。なお姿勢判定装置の構成は、本実施例に限定されるものではなく、検出センサとしてカメラを用い、カメラからのビデオ信号に基づいて画像処理技術により、セラミック基板の姿勢が正常であるか異常であるかを判定して判定信号を出力するような周知の姿勢判定装置を用いてもよいのは勿論である。
【００４２】
基板搬送阻止装置１８は、姿勢判定装置（１６，１７）と基板分割機構（５，１０）との間に配置されて、搬送ベルト２によるセラミック基板の搬送を阻止する前進位置と搬送ベルト２によるセラミック基板の搬送を許容する後退位置（図１の状態）との間を移動するストッパ部材１８１を備えている。基板搬送阻止装置１８は、姿勢判定装置を構成する反転検出器１６及び重なり検出器１７の少なくとも一方が検出信号（判定信号）を出力すると、予め定めたシーケンスに従ってストッパ部材１８１を前進位置に移動させてストッパ部材１８１より手前にあるセラミック基板の搬送を阻止した後、ストッパ部材１８１を後退位置に戻すように構成されている。具体的にこのシーケンスは、判定信号が出力されるとストッパ部材１８１を直ちに前進位置に移動させ、その後第１の予め定めた時間経過した後にストッパ部材１８１を後退位置に戻すように定められている。なおストッパ部材１８１の駆動源として、エアシリンダを用いることができる。
【００４３】
本実施例においては、前述の上側ローラ自動位置決め機構と基板搬送阻止装置１８から、姿勢判定装置（１６，１７）がセラミック基板の姿勢の異常を判定すると、姿勢が異常なセラミック基板が基板分割機構（５，１０）により分割されないように基板分割機構を非作動状態にした後に姿勢が異常なセラミック基板を搬送ベルト２上から排除し、排除終了後に基板分割機構を作動状態に自動復帰させる基板排除機構が構成されている。次に、この基板排除機構の動作を簡単に説明する。
【００４４】
まず図示しないセラミック基板供給装置から搬送ベルト２上に所定の間隔をあけて送り出されたセラミック基板の姿勢の異常を姿勢判定装置（１６，１７）が検出して判定信号が出力されると、基板搬送阻止装置１８はストッパ部材１８１を直ちに前進位置に移動させて、ストッパ部材１８１より手前にある（セラミック基板供給装置側または搬送方向１５と反対側にある）セラミック基板の通過を阻止する。ストッパ部材１８１が前進位置に移動した後に、第１の予め定めた時間経過するまでは、上側ローラ１０は作動位置に置かれており、その間にストッパ部材１８１と下側ローラ５との間にあるセラミック基板を分割する。第１の予め定めた時間が経過した後、基板搬送阻止装置１８はストッパ部材１８１を後退位置に戻すとともに、上側ローラ自動位置決め機構（７，８，９，１１，７１）またはベース位置決め装置（８，９，７１）は、上側ローラ１０または上側ベース７を非作動位置に移動させる。この状態でも搬送ベルト２は搬送動作を継続しているため、搬送ベルト上のセラミック基板は移動する。その後上側ローラ自動位置決め機構またはベース位置決め装置は、姿勢が異常なセラミック基板を排出するのに必要な第２の予め定めた時間経過した後に上側ローラ１０または上側ベース７を作動位置に復帰させる。この第２の予め定めた時間の間に、姿勢が異常なセラミック基板は搬送方向に移動し、図示しないセラミックチップ収容器内に落下して、搬送ベルト２上から排出される。第２の予め定めた時間が経過した後、上側ローラ自動位置決め機構（７，８，９，１１，７１）またはベース位置決め装置（８，９，７１）は、上側ローラ１０または上側ベース７を作動位置に復帰させる。これによってセラミック基板の分割作業が自動的に再開される。
【００４５】
図示しないセラミックチップ収容器内に落下した、分割されないセラミック基板は、後に「ふるい」の原理を応用した自動選別機を用いて集められて、セラミック基板供給装置に戻される。
【００４６】
本実施例においては、姿勢の異常なセラミック基板を排除している間も、セラミック基板供給装置を作動させているが、この期間セラミック基板供給装置を停止させてもよい。この場合には、セラミック基板供給装置の動作のシーケンスを、判定信号（検出信号）が出力されると直ちにセラミック基板の供給を停止し、判定信号が出力されて第１及び第２の予め定めた時間が経過した後にセラミック基板の供給を再開するように定めればよい。このようにすると姿勢が異常なセラミック基板を排出している間に更に姿勢が異常なセラミック基板が供給されるのを防止できる。姿勢が異常なセラミック基板が供給される確率は、非常に少ないため、搬送ベルト２の駆動と同様にセラミック基板供給装置を常時作動させても実質的に問題はない。しかしながらセラミック基板供給装置を常時作動させる場合に更に精度を高めるためには、例えば、姿勢が異常なセラミック基板を排出している間に（前述の第２の予め定めた時間の間に）更に姿勢が異常なセラミック基板が供給されたことを姿勢判定装置が検出した場合には、前述の第２の予め定めた時間に更に第３の予め定めた時間を加算し、この第３の予め定めた時間が経過した後に上側ベースを作動位置に復帰させるようにすればよい。
【００４７】
本実施例においては、上側ローラ１０を非作動位置に変位させて、搬送ベルト２を更に送ることにより姿勢が異常なセラミック基板を搬送ベルト上から排除しているが、姿勢が異常なセラミック基板の排除はこれに限定されるものではない。例えば、搬送ベルト２の側方から姿勢が異常なセラミック基板にエアーを吹き付けて、搬送ベル２上からセラミック基板を排除するようにしてもよい。またその他の方法により排除してもよいのは勿論である。
【００４８】
本実施例においては、基板搬送阻止装置１８を用いることにより、ストッパ部材１８１より搬送方向前方側に位置する（ストッパ部材１８１の位置を既に通過して分割機構の手前側に位置する）セラミック基板の分割を行える利点があるが、基板搬送阻止装置１８を用いずに基板排除機構を構成してもよい。基板搬送阻止装置１８を用いない場合には、姿勢判定装置（１６，１７）が判定信号を出力すると同時または一定の短い時間経過後に、上側ローラ自動位置決め機構またはベース位置決め装置を動作させて、上側ローラ１０または上側ベース７を非作動位置に移動させる。そしてその後に、上側ローラ自動位置決め機構（７，８，９，１１，７１）またはベース位置決め装置（８，９，７１）が、姿勢が異常なセラミック基板を排出するのに必要な予め定めた時間経過した後に上側ローラ１０または上側ベース７を作動位置に復帰させればよい。
【００４９】
本実施例のセラミックチップ分割装置には、下側ローラ５が下側ローラ支持機構６によって支持されているか否かを検出し、下側ローラ５が下側ローラ支持機構６によって支持されていないときには警報信号を発生する下側ローラ検出装置が設けてある。この下側ローラ検出装置は、付勢機構を構成する荷重シリンダ９によって付勢されている上側ローラ１０の位置を直接または間接的に検出する位置検出手段２２と、上側ローラ１０が予め定めた基準位置よりも下側に位置していることを位置検出手段２２が検出すると警報信号を発生する警報信号発生手段２３とから構成される。本実施例で用いる位置検出手段２２は、上側ローラ１０または上側ベース７が作動位置にあるときに、上側ベース７が基準位置より下がっているか否かを検出する。例えば、上側ベース７に反射板２２１を固定して、この反射板２２１に位置検出用センサ２２２から光を照射し、上側ベース７が基準位置より下がって反射板２２１から反射光が戻ってこなくなったことを検出して、上側ローラ１０または上側ベース７が予め定めた基準位置よりも下側に位置していると判断する。
【００５０】
位置検出手段２２の構成は実施例に限定されるものではなく、例えば位置検出手段２２をリミットスイッチを用いて構成することもできる。図６は、リミットスイッチを位置検出用センサ２２２´とする場合の構成の一例を示している。この場合には、上側ベース７に設けた支持軸２２３に一端が回動自在に固定され、中間部分が主フレーム１に固定された支持軸２２４に回動自在に固定されたアーム２２５の他端で、リミットスイッチからなる位置検出用センサ２２２´を操作する。下側ローラ５の直径寸法は小さいため、下側ローラ５が無い場合に、上側ベース７が変位する量は僅かである。そこでこの例では、アーム２２５の長さを適宜に設定することにより、上側ベース７の変位量を増幅している。このようにすると、確実に下側ローラ５の有無を検出することができる。
【００５１】
下側ローラ検出装置から警報信号が出力されているときには、セラミックチップ分割装置を停止させるかまたは非動作状態にするとともに、ブザーやランプ、または文字情報により下側ローラが無いことを表示する。
【００５２】
また本実施例では、追従ベルト１２が搬送ベルト２から離れる方向に移動した後に、搬送ベルト２または追従ベルト１２に貼り付いたセラミックチップを搬送ベルト２または追従ベルト１２からそれぞれ掻き取る第１及び第２の掻き取り器２４及び２５を備えている。これら第１及び第２の掻き取り器２４及び２５は、先端が対応するベルト２，１２と接触するスクレーパ２４１及び２５１と該スクレーパをベルトに向かって付勢するスクレーパ付勢機構とから構成される。そして各掻き取り器２４及び２５に対しては、スクレーパ２４１，２５１がベルト２，１２に接触しているか否かを検出して、接触していないことを検出すると警報信号を発生するスクレーパ接触検出器が設けられている。
【００５３】
図７（Ａ）は、第１及び第２の掻き取り器２４及び２５の取付け状態の一例を示している。なおこの例では、追従ベルト１２をガイドする追従ローラ１３２が、搬送ベルト２を駆動ガイドする駆動ローラ３１よりも、搬送方向後方に配置された変形例である。このような構成にすると、追従ベルト１２から掻き取り器２４によって掻き取ったセラミックチップを図示しないセラミックチップ収納器に直接落下させることができる。第１の掻き取り器２４は、上側ベース７に取付けられている。図７（Ａ）では、第１の掻き取り器２４が、追従ベルト１２に接触しない状態で描かれているが、実際には図示しないスクレーパ付勢機構によって付勢されて、スクレーパ２４１の先端が追従ベルト１２の表面に接触する。
【００５４】
第２の掻き取り器２５は、図７（Ｂ）に示すように、駆動ローラ３１の下側に配置されており、また第２の掻き取り器２５はスクレーパ２５１によって掻き取ったセラミックチップの落下方向を規制する落下方向規制ガード２５２及び２５３を備えている。この落下方向規制ガード２５２及び２５３は、スクレーパ２５１によって掻き取ったセラミックチップが側方（紙面の厚み方向）に飛び散らないようにセラミックチップの落下方向を規制する。図７（Ｃ）には、第２の掻き取り器２５が取付けられた主フレーム１の背面側の状態を示している。第２の掻き取り器２５は、主フレーム１に形成したガイド溝１ａに嵌合されて上下方向に移動するスライダ２５４に固定されている。このスライダ２５４は、一端が主フレーム１に固定されたバネ２５５によって常時上の方向に引っ張られている。その結果、第２の掻き取り器２５の本体が搬送ベルト２側に引っ張られて、スクレーパ２５１の先端が搬送ベルトに押し付けられる。ガイド溝１ａの斜め上側には、スライダ２５４の上端部に設けた突起部２５４ａによって駆動されるリミットスイッチ２５６が取付けられている。スクレーパ２５１が磨耗したり、外れたりした場合には、スライダ２５４が上に移動して、その突起部２５４ａがリミットスイッチ２５６をオンさせる。これによってスクレーパ２５１の磨耗や外れを検出する。リミットスイッチ２５６がオンすると、警報信号発生手段２３から警報信号が出力される。この例では、スライダ２５４、バネ２５５、ガイド溝１ａによってスクレーパ付勢機構が構成され、スライダ２５４の突起部２５４ａとリミットスイッチ２５６と、警報信号発生手段２３とによりスクレーパ接触検出器が構成されている。なお第１の掻き取り器２４に対しても、図７（Ｃ）に示した構造と同様のスクレーパ付勢機構及びスクレーパ接触検出器が設けられている。本実施例では、警報信号発生手段２３を位置検出手段２２の出力と、第１及び第２の掻き取り器２４及び２５のスクレーパ接触検出器の一部として兼用しているが、各検出手段に対して別個に警報信号発生手段を設けてもよい。またリミットスイッチ２５６の出力をそのまま警報信号として、ブザーやランブ等の表示手段を作動させ、更にその警報信号により装置を停止または非動作状態にするようにしてもよい。
【００５５】
以下本願明細書に記載した複数の発明のうち、いくつかの発明についてその構成要件を列挙する。
【００５６】
（１）長手方向と直交する方向に延びる複数の分割スリットが前記長手方向に所定の間隔を開けて形成されたセラミック基板を搬送する無端の搬送ベルト２と、
前記搬送ベルトの上側に配置された上側ローラ１０と、
前記上側ローラを回転自在に支持する上側ローラ支持機構と、
前記上側ローラに案内されて前記搬送ベルトとの間で前記セラミック基板を挟む追従ベルト１２と、
前記搬送ベルトの下側に配置された下側ローラ５と、
前記下側ローラを回転自在に支持する下側ローラ支持機構６とを具備し、
前記上側ローラと前記下側ローラとの間で前記セラミック基板を前記分割スリットに沿って分割するセラミックチップ分割装置であって、
前記上側ローラ１０を分割動作を行うための作動位置または分割動作を行うことができない非作動位置に位置させる上側ローラ自動位置決め装置７１と、
前記上側ローラ１０及び下側ローラ５の手前に配置されて前記搬送ベルトにより搬送されるセラミック基板の姿勢が正常であるか否かを判定する姿勢判定装置（１６，１７）と、
前記姿勢判定装置（１６，１７）と前記上側ローラ１０及び前記下側ローラ５との間に配置され、前記搬送ベルト２によるセラミック基板の搬送を阻止する前進位置または前記搬送ベルトにおけるセラミック基板の搬送を許容する後退位置に置かれるストッパ部材１８１と前記ストッパ部材を移動させる駆動装置を備えた基板搬送阻止装置１８とを具備し、
前記上側ローラ自動位置決め装置（７，８，９，１１，７１）は、前記姿勢判定装置（１６，１７）から判定信号が出力されると、予め定めたシーケンスに従って前記上側ベースを非作動位置に移動させた後に前記上側ベースを前記作動位置に復帰させるように構成され、
また前記基板搬阻止装置１８は、前記姿勢判定装置から判定信号が出力されると、予め定めたシーケンスに従って前記ストッパ部材を前記前進位置に移動させた後前記ストッパ部材１８１を前記後退位置に戻すように構成されていることを特徴とするセラミックチップ分割装置。
【００５７】
（２）前記上側ローラ自動位置決め装置（７，８，９，１１，７１）の前記シーケンスは、前記判定信号が出力された後前記姿勢判定装置（１６，１７）と前記上側ローラ１０及び下側ローラ５との間に位置するセラミック基板を分割するのに必要な第１の予め定めた時間経過した後に前記上側ローラ１０を非作動位置に移動させ、その後姿勢が異常なセラミック基板を排出するのに必要な第２の予め定めた時間経過した後に前記上側ローラ１０を作動位置に復帰させるように定められており、
基板搬送阻止装置１８の前記シーケンスは、前記判定信号が出力されると前記ストッパ部材１８１を直ちに前記前進位置に移動させ、その後第１の予め定めた時間経過した後に前記ストッパ部材１８１を前記後退位置に戻すように定められている上記（１）に記載のセラミックチップ分割装置。
【００５８】
（３）前記上側ローラ自動位置決め装置（７，８，９，１１，７１）の前記シーケンスは、前記上側ローラ１０が非作動位置に移動した後に前記第２の予め定めた時間が経過するまでに前記姿勢判定装置（１６，１７）が判定信号を出力すると、更に第３の予め定めた時間経過した後に前記上側ローラ１０を動作位置に復帰させるように定められている上記（２）に記載のセラミックチップ分割装置。
【００５９】
（４）長手方向と直交する方向に延びる複数の分割スリットが前記長手方向に所定の間隔を開けて形成されたセラミック基板を所定の間隔をあけて送り出すセラミック基板供給装置と、
前記セラミック基板供給装置から供給された前記セラミック基板を搬送する無端の搬送ベルト２と、
前記搬送ベルトの上側に配置され且つ回転中心線が前記搬送ベルトの搬送方向と直交する方向に延びる上側ローラ１０と、
前記上側ローラを回転自在に支持する上側ローラ支持機構と、
前記上側ローラ１０に案内されて前記搬送ベルト２との間で前記セラミック基板を挟む追従ベルト１２と、
前記搬送ベルトの下側に配置され且つ回転中心線が前記搬送ベルトの搬送方向と直交する方向に延びる下側ローラ５と、
前記下側ローラを回転自在に支持する下側ローラ支持機構６とを具備し、
前記上側ローラの前記回転中心線ＣＬ２が前記搬送方向の前方側に位置するように前記上側ローラの前記回転中心線ＣＬ１と前記下側ローラ５の前記回転中心線とが前記搬送方向１５にずらされて配置され、
前記上側ローラ１０と前記下側ローラ５との間で前記セラミック基板を前記分割スリットに沿って分割するセラミックチップ分割装置であって、
前記上側ローラ１０を分割動作を行うための作動位置または分割動作を行うことができない非作動位置に位置させる上側ローラ自動位置決め装置（７，８，９，１１，７１）と、
前記下側ローラの手前に配置されて前記搬送ベルトによって搬送されるセラミック基板が反転しているか否かを検出する反転検出器１６と、
前記下側ローラの手前に配置されて前記搬送ベルトによって搬送される複数のセラミック基板が重なり合っているか否かを検出する重なり検出器１７と、
前記反転検出器及び前記重なり検出器と前記下側ローラとの間に配置され、前記搬送ベルトによるセラミック基板の搬送を阻止する前進位置または前記搬送ベルトにおけるセラミック基板の搬送を許容する後退位置に置かれるストッパ部材１８１と前記ストッパ部材を移動させる駆動装置を備えた基板搬送阻止装置１８と、
前記セラミック基板供給装置は、前記反転検出器１６及び前記重なり検出器１７の少なくとも一方が検出信号を出力すると、予め定めたシーケンスに従ってセラミック基板の供給を停止した後に供給を再開するように構成され、
前記上側ローラ自動位置決め装置７１は、前記反転検出器及び前記重なり検出器の少なくとも一方が検出信号を出力すると、予め定めたシーケンスに従って前記上側ローラ１０を非作動位置に移動させた後に前記上側ローラを前記作動位置に復帰させるように構成され、
また前記基板搬送阻止装置１８は、前記反転検出器１６及び前記重なり検出器１７の少なくとも一方が検出信号を出力すると、予め定めたシーケンスに従って前記ストッパ部材を前記前進位置に移動させた後前記ストッパ部材１８１を前記後退位置に戻すように構成されていることを特徴とするセラミックチップ分割装置。
【００６０】
（５）前記ベース位置決め装置（８，９，７１）の前記シーケンスは、前記検出信号が出力された後前記反転検出器１６及び前記重なり検出器１７と前記下側ローラ５との間に位置するセラミック基板を分割するのに必要な第１の予め定めた時間経過した後に前記上側ベース７を非作動位置に移動させ、その後姿勢が異常なセラミック基板を排出するのに必要な第２の予め定めた時間経過した後に前記上側ベース７を動作位置に復帰させるように定められており、
基板搬送阻止装置１８の前記シーケンスは、前記検出信号が出力されると前記ストッパ部材１８１を直ちに前記前進位置に移動させ、その後前記第１の予め定めた時間経過した後に前記ストッパ部材を前記後退位置に戻すように定められており、
前記セラミック基板供給装置の前記シーケンスは、前記検出信号が出力されると直ちにセラミック基板の供給を停止し、前記検出信号が出力されて前記第１及び第２の予め定めた時間が経過した後に前記セラミック基板の供給を再開するように定められている上記（６）に記載のセラミックチップ分割装置。
【００６１】
【発明の効果】
本発明によれば、セラミック基板供給装置から搬送ベルトに正しくセラミック基板が供給されていない場合には、姿勢判定装置がセラミック基板の姿勢の異常を判定し、基板排除機構が姿勢が異常なセラミック基板が基板分割機構により分割されないように、基板分割機構を非作動状態にした後に姿勢が異常なセラミック基板を搬送ベルト上から排除し、排除終了後に基板分割機構を作動状態に自動復帰させるので、セラミック基板が反転して搬送されきたり、重なって搬送されてきた場合に、それらの姿勢が異常なセラミック基板を自動的に排除した後に、分割作業を自動的に再開することができる利点がある。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明のセラミックチップ分割装置の一実施例の概略構成図である。
【図２】下側ローラ支持機構の要部斜視図である。
【図３】（Ａ）は図２の下側ローラ支持機構の要部斜視図であり、（Ｂ）は図２の下側ローラ支持機構の要部平面図である。
【図４】下側ローラの支持条件の説明に用いる概念図である。
【図５】上側ローラ支持機構の構造を示す断面図である。
【図６】位置検出器の例を示す概念図である。
【図７】（Ａ）は第１及び第２の掻き取り器及びの取付状態の一例を示す図であり、（Ｂ）は図７（Ａ）のＢ−Ｂ線断面図であり、（Ｃ）は第２の掻き取り器のスクレーパ付勢機構及びスクレーパ接触検出器の一例を示す図である。
【図８】（Ａ）はチップ抵抗器をに用いるセラミックチップを製造する場合に用いるセラミック基板の一例を示しており、（Ｂ）は図８（Ａ）のＢ−Ｂ線断面図であり、（Ｃ）はセラミック基板を分割する際の状態を説明するために用いる図である。
【符号の説明】
１  主フレーム
２  搬送ベルト
３  搬送ベルト駆動ガイド機構
４  第１のベルト張り調整装置
５  下側ローラ
６  下側ローラ支持機構
７  上側ベース
８  スライドガイド
９  荷重シリンダ
１０  上側ローラ
１１  上側ローラ支持機構
１２  追従ベルト
１３  追従ベルトガイド機構
１４  第２のベルト張り調整装置
１６  反転検出器
１７  重なり検出器
１８  基板搬送阻止装置
２０  アーム
２１  バネ
２２  位置検出手段
２３  警報発生手段
２４  第１の掻き取り器
２５  第２の掻き取り器
７１  エスケープシリンダ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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