【手続補正書】
【提出日】平成29年3月13日(2017.3.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
微細化結晶性材料をコンディショニングする方法であって、
微細化結晶性粒子を送出ガス内でエアロゾル化するステップであって、前記微細化結晶性粒子がアモルファス材料及び残留溶媒の一方又は両方を含有する、ステップと；
室内で（in a chamber）、微細化結晶性粒子を、キャリアガス及び溶媒蒸気を含むコンディショニングガスと連続的に混合するステップと；
エアロゾル化微細化結晶性粒子を、前記微細化結晶性粒子のアニーリングを生じさせるのに十分な時間でコンディショニングガスと接触を維持するステップであって、前記アニーリングがアモルファス材料の存在の低減又は残留溶媒の量の低減の一方又は両方をもたらす、ステップと；
微細化結晶性粒子をコンディショニングガスから分離するステップと
を含む、方法。
【請求項２】
微細化結晶性粒子が約０．１〜６００秒間コンディショニングガスと混合される、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
微細化結晶性粒子が約２〜６秒間コンディショニングガスと混合される、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
微細化結晶性粒子が約３秒間コンディショニングガスと混合される、請求項２に記載の方法。
【請求項５】
微細化結晶性粒子が水溶性であり、コンディショニングガス中に含まれる溶媒蒸気が水性溶媒蒸気であり、約２０℃〜１００℃の範囲の温度及び相対湿度が約０．０５％〜９５％の範囲であるコンディショニングガスが供給される、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
微細化結晶性粒子が非水溶性であり、コンディショニングガス中に含まれる溶媒蒸気が有機溶媒蒸気であり、約２０℃〜１００℃の範囲の温度及び非水性溶媒の相対飽和度が約０．０５％〜９５％の範囲であるコンディショニングガスが供給される、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
微細化結晶性粒子が水溶性材料と非水溶性材料の混合物であり、コンディショニングガス中に含まれる溶媒蒸気が水性溶媒蒸気及び有機溶媒蒸気を含み、約１０℃〜１００℃の範囲の温度並びに水性溶媒の相対湿度が約０．０５％〜９５％の範囲及び非水性溶媒の相対飽和度が約０．０５％〜９５％の範囲であるコンディショニングガスが供給される、請求項１に記載の方法。
【請求項８】
微細化結晶性粒子がジェットミルを使用して製造され、送出ガスがジェットミルを出るガス流を含む、請求項１から７のいずれか一項に記載の方法。
【請求項９】
コンディショニングガスが、約１〜１０部のコンディショニングガスと約１部のエアロゾル化微細化結晶性粒子の比で、エアロゾル化微細化結晶性粒子と混合される、請求項１から８のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１０】
（００３５段落）
約２０標準立方フィート毎分（ＳＣＦＭ）から約５００ＳＣＦＭまでの範囲の流量でコンディショニングガスを供給すること、及び約２０ＳＣＦＭから７５ＳＣＦＭまでの流量で送出ガスを供給することにより、コンディショニングガスが送出ガスと混合される、請求項１から９のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１１】
微細化結晶性粒子が約０．１μｍ〜約１００μｍの範囲の粒径を有する、請求項１から１０のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１２】
コンディショニングガスが、微細化結晶性粒子と混合される間、約２５標準立方フィート毎分（ＳＣＦＭ）から約３００ＳＣＦＭまでの範囲の流量で供給される、請求項１から１１のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１３】
エアロゾル化微細化結晶性粒子が、コンディショニングガスと混合される間、約２５標準立方フィート毎分（ＳＣＦＭ）から約２００ＳＣＦＭまでの範囲の流量で供給される、請求項１から１２のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１４】
コンディショニングガスが窒素ガスを含む、請求項１から１３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１５】
微細化結晶性粒子が密室内でコンディショニングガスと混合される、請求項１から１４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１６】
微細化結晶性材料のプロセス内コンディショニングのためのシステムであって、
少なくとも１つの結晶性材料を微細化するためのデバイスを含む微細化ゾーンと；
微細化ゾーンと流体連通している混合ゾーンであって、少なくとも１つの微細化結晶性材料が微細化ゾーンから混合ゾーンへ送られそこでコンディショニングガスと混合される、混合ゾーンと；
混合ゾーンと流体連通しているコンディショニングガス供給ゾーンであって、所望の温度及び溶媒蒸気濃度でコンディショニングガスを混合ゾーンへ供給して少なくとも１つの微細化結晶性材料と混合させる、コンディショニングガス供給ゾーンと；
混合ゾーンと流体連通しているコンディショニングゾーンであって、少なくとも１つの微細化結晶性材料とコンディショニングガスの混合物がコンディショニングゾーンに送られ所望の滞留時間の間維持される、コンディショニングゾーンと；
コンディショニング済み微細化結晶性材料がコンディショニングガスから分離されコンディショニング済み活性剤が収集される、分離及び収集ゾーンと
を含む、システム。
【請求項１７】
微細化結晶性材料が水溶性であり、コンディショニングガス供給ゾーンが、約２０℃〜１００℃の範囲の温度及び相対湿度が約０．０５％〜９５％の範囲であるコンディショニングガスを供給するように構成されている、請求項１６に記載のシステム。
【請求項１８】
微細化結晶性材料が非水溶性であり、コンディショニングガス供給ゾーンが、約２０℃〜１００℃の範囲の温度及び流動するコンディショニングガス流中の非水性溶媒の相対飽和度が約０．０５％〜９０％の範囲であるコンディショニングガスを供給するように構成されている、請求項１６に記載のシステム。
【請求項１９】
微細化結晶性材料が水溶性材料と非水溶性材料の混合物であり、コンディショニングガス供給ゾーンが、約２０℃〜３０℃の範囲の温度並びに流動するコンディショニングガス流中の相対湿度が５０〜７５％及び非水性溶媒の相対飽和度が約５０％〜７５％の範囲であるコンディショニングガスを供給するように構成されている、請求項１６に記載のシステム。
【請求項２０】
コンディショニングガス供給ゾーンが、約２５℃の温度及び相対湿度が約６５％であるコンディショニングガスを供給するように構成されている、請求項１６に記載のシステム。
【請求項２１】
コンディショニングゾーンが、少なくとも１つの微細化結晶性材料とコンディショニングガスの混合物を約０．５〜６０秒の滞留時間でコンディショニングゾーン内に維持するように構成されている、請求項１６に記載のシステム。
【請求項２２】
コンディショニングゾーンが、少なくとも１つの微細化結晶性材料とコンディショニングガスの混合物を約１〜約１０秒の滞留時間でコンディショニングゾーン内に維持するように構成されている、請求項１６に記載のシステム。
【請求項２３】
コンディショニングゾーンが、少なくとも１つの微細化結晶性材料とコンディショニングガスの混合物を約３秒の滞留時間でコンディショニングゾーン内に維持するように構成されている、請求項１６に記載のシステム。
【請求項２４】
微細化ゾーンが、少なくとも１つの結晶性材料を微細化するように構成されたジェットミルを含む、請求項１６に記載のシステム。
【請求項２５】
コンディショニングガス供給ゾーンが、約１５０標準立方フィート毎分（ＳＣＦＭ）から約３００ＳＣＦＭまでの範囲の流量でコンディショニングガスを混合ゾーンへ供給するように構成されている、請求項１６に記載のシステム。
【請求項２６】
微細化ゾーンが、約３５標準立方フィート毎分（ＳＣＦＭ）から約２００ＳＣＦＭまでの範囲の流量で、少なくとも１つの微細化結晶性材料をエアロゾル化粒子状材料として混合ゾーンへ送るように構成されている、請求項１６に記載のシステム。
【請求項２７】
混合ゾーンが分散ヘッド組立体を含み、コンディショニングガス及び微細化結晶性材料が分散ヘッド組立体で混合される、請求項１６に記載のシステム。
【請求項２８】
分散ヘッド組立体が、コンディショニングガス及び少なくとも１つの微細化結晶性材料の混合を制御するように構成された混合ヘッドを含む、請求項２７に記載のシステム。
【請求項２９】
混合ヘッドが、コンディショニングガスを注入ノズルへ送るように構成された注入ノズル入口を含み、混合ヘッドが、微細化結晶性材料を注入ノズルへ送るように構成された送出ガス入口を含み、注入ノズルが、コンディショニングガスを少なくとも１つの微細化結晶性材料と混合させるように構成されている、請求項２８に記載のシステム。
【請求項３０】
微細化結晶性材料とコンディショニングガスの混合物のコンディショニングゾーンにおける滞留時間は、コンディショニングゾーンの形状を調整することにより改変することができる、請求項１６に記載のシステム。
【請求項３１】
微細化結晶性材料とコンディショニングガスの混合物のコンディショニングゾーンにおける滞留時間は、微細化結晶性材料とコンディショニングガスの混合物が混合ゾーンからコンディショニングゾーンへ送られる速度を調整することにより改変することができる、請求項１６に記載のシステム。
【請求項３２】
分離及び収集ゾーンがサイクロン式収集機を含む、請求項１６に記載のシステム。
【請求項３３】
微細化ゾーンが、約０．１μｍ〜約１０μｍの範囲の粒径を有する微細化結晶性材料を供給するように構成されている、請求項１６に記載のシステム。
【請求項３４】
微細化ゾーンが安全バリア内に収容されている、請求項１６に記載のシステム。
【請求項３５】
コンディショニング済み微細化結晶性粒子を保持室で収集するステップをさらに含む、請求項１から１５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項３６】
第２のコンディショニングガスを調製するステップと、コンディショニング済み微細化結晶性粒子が保持室中に維持されている間に第２のコンディショニングガスを前記コンディショニング済み微細化結晶性粒子と混合するステップとをさらに含み、第２のコンディショニングガスとコンディショニング済み微細化結晶性粒子の前記混合が、微細化結晶性粒子の第２のコンディショニングを実現するのに十分な時間で行われる、請求項３５に記載の方法。
【請求項３７】
コンディショニング済み粒子が絶えず流動状態で保持室内で維持される、請求項３５及び３６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項３８】
微細化粒子の第２のコンディショニングが、アモルファス材料の存在の低減又は残留溶媒の量の低減の一方又は両方をもたらす、請求項３５から３７のいずれ一項に記載の方法。
【請求項３９】
第２のコンディショニングガスを調製するステップと、コンディショニング済み微細化結晶性粒子が保持室中に維持されている間に第２のコンディショニングガスを前記コンディショニング済み微細化結晶性粒子と混合するステップとをさらに含み、第２のコンディショニングガスとコンディショニング済み微細化結晶性粒子の前記混合が、微細化結晶性粒子の第２のコンディショニングを実現するのに十分な時間で行われる、請求項１から１５のいずれ一項に記載の方法。
【請求項４０】
微細化粒子の第２のコンディショニングが、アモルファス材料の存在の低減又は残留溶媒の量の低減の一方又は両方をもたらす、請求項３９に記載の方法。
【請求項４１】
微細化結晶性粒子がグリコピロニウム又は薬学的に許容可能なその塩を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項４２】
微細化結晶性粒子が、フッ化物、塩化物、臭化物、ヨウ化物、硝酸、硫酸、リン酸、ギ酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、プロピオン酸、酪酸、乳酸、クエン酸、酒石酸、リンゴ酸、マレイン酸、コハク酸、安息香酸、ｐ−クロロ安息香酸、ジフェニル酢酸若しくはトリフェニル酢酸、ｏ−ヒドロキシ安息香酸、ｐ−ヒドロキシ安息香酸、１−ヒドロキシナフタレン−２−カルボン酸、３−ヒドロキシナフタレン−２−カルボン酸、メタンスルホン酸、及びベンゼンスルホン酸塩から選ばれる薬学的に許容可能な塩を含む、請求項４１に記載の方法。
【請求項４３】
グリコピロニウムの薬学的に許容可能な塩が、３−［（シクロペンチルヒドロキシフェニルアセチル）オキシ］−１，１−ジメチルピロリジニウムブロミドである、請求項４２に記載の方法。
【請求項４４】
微細化結晶性粒子が、ブデソニド又は薬学的に許容可能なその塩を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項４５】
溶媒の蒸気が、溶媒の飽和蒸気圧未満の蒸気圧で維持された溶媒を含む、請求項１に記載の方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７７】
提供される方法は、処理しようとする特定の材料に適合させることができる。例えば、グリコピロニウムは、本明細書に記載のシステム及び方法を使用してコンディショニングできる活性剤である。結晶性グリコピロニウムの微細化は多量のアモルファス含有物を含む微細化材料を生じさせることがあり、特定の実施形態において、結晶性グリコピロニウム粒子のアモルファス材料を低減又は除去するように本発明の方法を適合させることができる。本明細書に従ってコンディショニングされるグリコピロニウムは、任意の結晶形、異性体型、又は異性体型の混合物であってもよい。この点において、グリコピロニウムの形態は、グリコピロニウムの活性及び／又は安定性を最適化するように選択されてもよい。適切であれば、グリコピロニウムは塩（例えばアルカリ金属塩若しくはアミン塩、又は酸付加塩として）、エステル、又は溶媒和物（水和物）として提供されてもよい。適切な対イオンとしては、例えば、フッ化物、塩化物、臭化物、ヨウ化物、硝酸、硫酸、リン酸、ギ酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、プロピオン酸、酪酸、乳酸、クエン酸、酒石酸、リンゴ酸、マレイン酸、コハク酸、安息香酸、ｐ−クロロ安息香酸、ジフェニル酢酸若しくはトリフェニル酢酸、ｏ−ヒドロキシ安息香酸、ｐ−ヒドロキシ安息香酸、１−ヒドロキシナフタレン−２−カルボン酸、３−ヒドロキシナフタレン−２−カルボン酸、メタンスルホン酸、及びベンゼンスルホン酸が挙げられる。本明細書に記載の方法の特定の実施形態において、グリコピロニウムの臭化物塩、すなわち（３−［（シクロペンチルヒドロキシフェニルアセチル）オキシ］−１、１−ジメチルピロリジニウムブロミド）が使用される。グリコピロニウムの臭化物塩は一般にグリコピロラートと呼ばれる。グリコピロラートは市販されており、米国特許第２，９５６，０６２号で述べられる手順に従って調製でき、その内容は参照により本明細書に組み込まれている。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１１７】
グリコピロラート（３−［（シクロペンチルヒドロキシフェニルアセチル）オキシ］−１，１−ジメチルピロリジニウムブロミド）を粗大結晶活性剤として製造業者（Ｂｏｅｈｒｉｎｇｅｒ  Ｉｎｇｅｌｈｅｉｍ  Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ，Ｉｎｃ．、Ｐｅｔｅｒｓｂｕｒｇ、ＶＡ  ２３８０５）から受領した。次いでグリコピロラート（ＧＰ）をジェットミル処理により微細化して粒径分布を減少させた。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１４１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１４１】
両方のバッチについての、蒸気収着によるアモルファス含量及び粒子モルフォロジーも評価した。図１１は、微細化フルチカゾンの両方のバッチについての２５℃におけるエタノール蒸気収着等温線を示す。図１１で見られるように、バッチ１（アニーリング未処理、上図）は実質的にアモルファスのままであったが（６０％ｐ／ｐｏで重量減少）、一方バッチ２（アニーリング処理、下図）は安定であり、結晶化の事象を示さなかった。図１２はバッチ１及びバッチ２の材料のＳＥＭ像を示し、図１２を参照することにより分かるように、バッチ２（右）のアニーリング済み材料は、バッチ１（左）のアニーリング未処理材料よりも滑らかな表面及びより丸みを帯びた縁部を示した。