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【手続補正書】
【提出日】平成29年11月1日(2017.11.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
圧電デバイスによって赤外線信号を検出するステップと、
前記検出された赤外線信号に基づいて赤外線信号の表現を取得するステップと、
前記圧電デバイスによって、組み合された超音波および赤外線信号を検出するステップと、
前記検出された組み合わされた超音波および赤外線信号に基づいて組み合わされた表現を取得するステップと、
前記赤外線信号の表現および前記組み合わされた表現に基づいて出力表現を生成するステップと、
前記検出された赤外線信号に応答して前記圧電デバイスによって超音波信号を送るステップとを含む方法。
【請求項２】
前記組み合わされた表現を前記赤外線信号の表現と比較するステップをさらに含み、
前記出力表現が、前記比較から生成される請求項1に記載の方法。
【請求項３】
前記組み合わされた表現、前記赤外線信号の表現、および前記出力表現のうちの1つまたは複数が、画像である請求項1に記載の方法。
【請求項４】
前記圧電デバイスは、超音波トランスミッタと、超音波レシーバおよび赤外線レシーバとして働き得るレシーバとのうちの１つまたは両方を含む請求項1に記載の方法。
【請求項５】
超音波エネルギーまたは赤外線エネルギーをレンズによって前記圧電デバイスに集めるステップをさらに含む請求項1に記載の方法。
【請求項６】
前記圧電デバイスは、超音波レシーバおよび赤外線レシーバとして働き得るレシーバを含む請求項4に記載の方法。
【請求項７】
前記検出された赤外線信号に応答してディスプレイを制御するステップをさらに含む請求項4に記載の方法。
【請求項８】
前記圧電デバイスが、前記ディスプレイ内に配置される請求項7に記載の方法。
【請求項９】
前記検出された赤外線信号に応答して、前記圧電デバイスのフレームレートを調整するステップをさらに含む請求項8に記載の方法。
【請求項１０】
前記検出された赤外線信号に基づいて、前記圧電デバイスに対して相対的な物体の動きを判定するステップをさらに含む請求項7に記載の方法。
【請求項１１】
前記検出された赤外線信号が、物体からの熱を検出することに対応する請求項7に記載の方法。
【請求項１２】
前記物体からの検出された熱に応答して、前記圧電デバイスによって超音波信号を送るステップをさらに含む請求項11に記載の方法。
【請求項１３】
前記検出された赤外線信号に基づいて、前記圧電デバイスに対して相対的な前記物体の位置を判定するステップをさらに含む請求項11に記載の方法。
【請求項１４】
前記物体が前記圧電デバイスから離れて移動したと判定するステップと、
前記物体が前記圧電デバイスから離れて移動したという判定に応答してさらなる超音波信号を送らないと決定するステップとをさらに含む請求項12に記載の方法。
【請求項１５】
前記圧電デバイスの超音波トランスミッタによって超音波信号を送るステップと、
前記圧電デバイスの圧電レシーバによって、前記送られた超音波信号から生じる反射された超音波信号を検出するステップと、
前記検出された反射された超音波信号から前記組み合わされた表現を形成するステップと、
前記組み合わされた表現をメモリに記憶するステップとをさらに含む請求項1に記載の方法。
【請求項１６】
前記出力表現に応答してディスプレイを制御するステップをさらに含む請求項1に記載の方法。
【請求項１７】
前記出力表現から生体測定を行うステップをさらに含む請求項1に記載の方法。
【請求項１８】
圧電デバイスによって赤外線信号を検出し、
前記検出された赤外線信号に応答して、前記圧電デバイスによって超音波信号を送り、
前記検出された赤外線信号に基づいて赤外線信号の表現を取得し、
検出された超音波信号および前記検出された赤外線信号に基づいて組み合わされた表現を取得し、
前記赤外線信号の表現および前記組み合わされた表現からの出力表現を表示するように構成されたプロセッサを含む装置。
【請求項１９】
前記プロセッサが、前記赤外線信号の表現を前記組み合わされた表現と比較するように構成され、
前記出力表現が、前記比較から表示される請求項18に記載の装置。
【請求項２０】
前記プロセッサと通信する前記圧電デバイスをさらに含み、前記圧電デバイスが、赤外線信号を検出し、超音波信号を送り、反射された超音波信号を検出するように構成される請求項18に記載の装置。
【請求項２１】
前記プロセッサが、前記圧電デバイスによって検出された信号から前記赤外線信号の表現および前記組み合わされた表現を形成するように構成される請求項20に記載の装置。
【請求項２２】
超音波エネルギーまたは赤外線エネルギーを前記圧電デバイス上に集めるように構成されたレンズをさらに含む請求項20に記載の装置。
【請求項２３】
赤外線信号を検出するとともに、前記検出された赤外線信号に応答して超音波信号を送るための手段と、
プロセッサとを含み、前記プロセッサが、
前記検出された赤外線信号に基づいて赤外線信号の表現を取得し、
前記赤外線信号の表現および組み合わされた表現から出力表現を生成し、
前記検出された赤外線信号に応答してディスプレイを制御するように構成され、
圧電デバイスが前記ディスプレイに配置される装置。
【請求項２４】
前記プロセッサが、前記組み合わされた表現を前記赤外線信号の表現と比較するように構成され、
前記出力表現が、前記比較から生成される請求項23に記載の装置。
【請求項２５】
前記プロセッサが、前記組み合わされた表現、前記赤外線信号の表現、または前記出力表現を記憶するように構成される請求項23に記載の装置。
【請求項２６】
前記検出された超音波信号が、前記送られた超音波信号から生じる反射された超音波信号であり、
前記プロセッサが前記組み合わされた表現を形成するように構成される請求項23に記載の装置。
【手続補正書】
【提出日】平成29年10月12日(2017.10.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
サンプルの表面欠陥の人間による目視検査用の欠陥検査システムであって、前記欠陥検査システムは、
一平面内に形成された光源のアレイを備える、サンプルの表面を照光するための照明システムであって、前記光源のアレイが、前記平面内のサンプルに向かう照光方向の範囲を規定し、この範囲が少なくとも９０度に及ぶ照明システムと、
前記光源の出力の強度を徐々に変えるように前記アレイ内の光源を制御する制御装置であって、各光源は、前記サンプルの各点が、シーケンス内のそれぞれの時点で単一入射方向での最大光源強度を持つ照明分布で照光されるように、前記シーケンス内の前記それぞれの時点で他の光源よりも大きい強度を有し、前記最大光源強度が提供される方向が時間と共に変化して前記照光方向の範囲に及ぶ、制御装置と、
を備える、欠陥検査システム。
【請求項２】
サンプルの表面欠陥の自動検査用の欠陥検査システムであって、前記欠陥検査システムは、
一平面内に形成された光源のアレイを備える、サンプルの表面を照光するための照明システムであって、前記光源のアレイが、前記平面内のサンプルに向かう照光方向の範囲を規定し、この範囲が少なくとも９０度に及ぶ照明システムと、
前記光源の出力の強度を徐々に変えるように前記アレイ内の光源を制御する制御装置であって、各光源は、前記サンプルの各点が、シーケンス内のそれぞれの時点で単一入射方向での最大光源強度を持つ照明分布で照光されるように、前記シーケンス内の前記それぞれの時点で他の光源よりも大きい強度を有し、前記最大光源強度が提供される方向が時間と共に変化して前記照光方向の範囲に及ぶ、制御装置と、
少なくとも１つのカメラと、
光源動作シーケンスで連続する画像を撮影するようにカメラを制御するためのコントローラと、
画像を処理して少なくとも１つの差分画像を導出し、前記差分画像に基づいて欠陥検出を提供するためのプロセッサとを備え、
前記差分画像が、他では滑らかな表面上のランダムに存在する表面欠陥によって引き起こされる陰影位置の変化を強調する、
欠陥検査システム。
【請求項３】
前記照光方向の範囲は、少なくとも１３５度、又は更には少なくとも１８０度の範囲である、請求項１又は２に記載の欠陥検査システム。
【請求項４】
前記光源は、全てが同じ周期を有するが、異なる位相である正弦波強度プロファイルで前記光源の強度を変化するように前記光源のアレイを制御する、請求項１乃至３の何れか一項に記載の欠陥検査システム。
【請求項５】
前記平面に垂直な方向で前記照明システムに対して可動であるサンプルプラットフォームをさらに備える、請求項１乃至４の何れか一項に記載の欠陥検査システム。
【請求項６】
前記光源のアレイは、前記光源のサブアレイを複数備え、各サブアレイがそれぞれの平面内に形成され、異なるサブアレイに関する平面の法線方向は一列である、請求項１乃至５の何れか一項に記載の欠陥検査システム。
【請求項７】
前記制御装置は、それぞれのシーケンスに応じて前記それぞれの平面内に形成される前記光源のサブアレイからの前記光源の前記出力の強度を徐々に変え、前記それぞれのシーケンス内のそれぞれの時点で、前記サブアレイからの各光源は前記サブアレイからの他の光源よりも大きい強度を有し、
前記それぞれの平面内の光源の各サブアレイからの照明分布の最大光源強度の単一入射方向は、異なるそれぞれの平面で異なる、請求項６に記載の欠陥検査システム。
【請求項８】
前記サンプルプラットフォームは、前記それぞれの平面に垂直な前記一列に沿った方向で前記照明システムに対して可動である、請求項６又は７に記載の欠陥検査システム。
【請求項９】
車体パネル塗装作業検査システムを備える、請求項１乃至８の何れか一項に記載の欠陥検査システム。
【請求項１０】
サンプルの欠陥の人間による目視検査を可能にするためにサンプルの表面に照明を提供する方法であって、当該方法は、
一平面内に形成された光源のアレイを使用して前記サンプルの表面を照光するステップであって、前記光源のアレイが、前記平面内の前記サンプルに向かう照光方向の範囲を規定し、この範囲が少なくとも９０度に及ぶステップと、
前記光源の出力の強度を徐々に変えるように前記アレイ内の光源を制御するステップであって、各光源は、前記サンプルの各点が、シーケンス内のそれぞれの時点で単一入射方向での最大光源強度を持つ照明分布で照光されるように、前記シーケンス内の前記それぞれの時点で他の光源よりも大きい強度を有し、前記最大光源強度が提供される方向が時間と共に変化して前記照光方向の範囲に及ぶ、ステップと、
を含む、方法。
【請求項１１】
サンプルの欠陥の自動検査を可能にするためにサンプルの表面に照明を提供する方法であって、
一平面内に形成された光源のアレイを使用して前記サンプルの表面を照光するステップであって、前記光源のアレイが、前記平面内の前記サンプルに向かう照光方向の範囲を規定し、この範囲が少なくとも９０度に及ぶステップと、
前記光源の出力の強度を徐々に変えるように前記アレイ内の光源を制御するステップであって、各光源は、前記サンプルの各点が、シーケンス内のそれぞれの時点で単一入射方向での最大光源強度を持つ照明分布で照光されるように、前記シーケンス内の前記それぞれの時点で他の光源よりも大きい強度を有し、前記最大光源強度が提供される方向が時間と共に変化して前記照光方向の範囲に及ぶ、ステップと、
光源動作シーケンスで連続するカメラ画像を撮影するステップと、
画像を処理して、少なくとも１つの差分画像を導出するステップであって、前記差分画像が、他では滑らかな表面上のランダムに存在する表面欠陥によって引き起こされる陰影位置の変化を強調するステップと、
前記差分画像に基づいて欠陥検出を提供するステップと、
を含む、方法。
【請求項１２】
全てが同じ周期を有するが異なる位相である正弦波強度プロファイルで、前記光源の強度を変えるように前記光源のアレイを制御するステップを有する、請求項１０又は１１に記載の方法。
【請求項１３】
前記平面に対して垂直な方向に前記光源のアレイに対して前記サンプルを移動させるステップを有する、請求項１０乃至１２の何れか一項に記載の方法。
【請求項１４】
光源のサブアレイを複数備える光源のアレイを使用して前記サンプルを照明するステップを有し、各サブアレイがそれぞれの平面内に形成され、異なるサブアレイに関する平面は平行である、請求項１０乃至１３の何れか一項に記載の方法。
【請求項１５】
前記それぞれの平面の各々の内の光源の各サブアレイからの照明分布の最大光源強度の単一入射方向が、異なるそれぞれの平面で異なるように前記サンプルを照光するように、前記光源のサブアレイの前記光源を制御するステップを有する、請求項１４に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成29年7月4日(2017.7.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電気回路の少なくとも１つの熱源（２３）が内部に埋没している試料（１２）である密封された被検査デバイス（ＤＵＴ）において前記電気回路に電流が流れた時に生成されたホットスポット（２７）をロックインサーモグラフィ（ＬＩＴ）により位置特定するための方法であり、ロックイン周波数で非調波励起検査信号を前記試料（１２）の前記電気回路へ印加して前記ホットスポット（２７）を生成するための前記熱源（２３）を活性化し、前記非調波励起検査信号を電気回路に印加しながら赤外線センサ（１６）を用いて前記試料（１２）を撮影して前記試料（１２）のＩＲ画像を取得し、前記試料（１２）内部の熱伝搬に相関している、前記撮影により取得された熱応答信号を検出する方法において、
単一の選択された周波数で非調波信号を印加することで前記非調波励起検査信号を印加し、前記熱応答信号にフーリエ変換（ＦＴ）を行って前記熱応答信号を基本の調波信号と高調波信号とを含む周波数スペクトルに分解することで複数の特定周波数で周波数固有の複数の応答信号を取得し、
前記周波数固有の応答信号の各々の位相ずれを測定し、
前記周波数固有の応答信号の前記位相ずれから周波数対位相ずれ曲線を取得し、
前記特定周波数の１つにそれぞれが対応する複数の画像を表示することを特徴とする方法。
【請求項２】
請求項１に記載の方法において、
前記フーリエ変換は高速フーリエ変換（ＦＦＴ）である方法。
【請求項３】
請求項１に記載の方法において、
方形パルス検査信号の印加することで前記非調波励起検査信号を印加する方法。
【請求項４】
請求項１に記載の方法において、さらに、
前記熱源（２３）の深度位置の特定を向上させるように、前記周波数対位相ずれ曲線の傾斜を平方根関数により平滑化する方法。
【請求項５】
請求項１に記載の方法において、さらに、
熱波伝搬の解析解により、または、熱波伝搬の有限要素モデリングにより、理論的な試料固有の周波数対位相ずれ曲線を計算し、
前記理論的な試料固有の周波数対位相ずれ曲線を測定した周波数対位相ずれ曲線に相関させて前記試料（１２）における前記熱源（２３）の深度位置を特定する方法。
【請求項６】
請求項１に記載の方法において、
検査信号を外部ソースから取得し、前記赤外線センサ（１６）としてのＩＲカメラを前記外部ソースから取得した信号に同期させることで前記非調波励起検査信号を印加する方法。
【請求項７】
試料（１２）である密封された被検査デバイス（ＤＵＴ）内部の欠陥の位置特定のためのシステムであって、
前記試料（１２）を搭載するためのベンチと、
前記試料（１２）にロックイン周波数で非調波励起検査信号を印加するための励振源と、
前記非調波励起検査信号を電気回路に印加しながら、前記試料（１２）を撮影して前記試料（１２）のＩＲ画像を取得するための赤外線センサ（１６）としての赤外線カメラと、
前記撮影により取得された熱応答信号を受信するプロセッサ（３０）とを備え、
前記プロセッサ（３０）は、
単一の選択された周波数で前記非調波励起検査信号を印加し、
前記熱応答信号にフーリエ変換（ＦＴ）を行って前記熱応答信号を基本の調波信号と高調波信号とを含む周波数スペクトルに分解することで複数の特定周波数で周波数固有の複数の応答信号を取得し、
前記周波数固有の複数の応答信号の各々の位相ずれを測定し、
前記試料（１２）の深度位置にそれぞれ関係する前記周波数固有の複数の応答信号または周波数固有の画像の測定された位相ずれから周波数対位相ずれ曲線を取得し、
前記特定周波数の１つにそれぞれ対応する複数の画像を表示する
ことによって前記赤外線センサ（１６）からデータを読み取り、前記赤外線センサ（１６）の赤外線画像を使用して熱波形を生成するように構成されている、システム。
【請求項８】
請求項７に記載のシステムにおいて、
前記プロセッサ（３０）は、前記熱応答信号に高速フーリエ変換（ＦＦＴ）を行うように構成されているシステム。
【請求項９】
請求項７のシステムにおいて、
前記励振源は、前記試料（１２）に前記非調波励起検査信号として方形パルス検査信号を印加するように構成されているシステム。
【請求項１０】
請求項７に記載のシステムにおいて、
ホットスポット（２７）を生成するための熱源（２３）を活性化するために前記試料（１２）の前記電気回路に印加される前記非調波励起検査信号に対応する同期信号を受信するように構成された同期信号入力部を備え、
前記プロセッサ（３０）は、前記同期信号を受信し、前記赤外線センサ（１６）を操作して前記同期信号に相関する時間周期で前記試料（１２）の一連の赤外線画像を撮影するようにさらに構成されているシステム。
【請求項１１】
請求項７のシステムにおいて、
前記赤外線センサ（１６）は、２次元配列センサを備え、
前記プロセッサ（３０）は、前記２次元配列センサの各画素に前記フーリエ変換（ＦＴ）を適用して前記画素の各々の周波数固有の応答信号を取得するように構成されているシステム。
【手続補正書】
【提出日】平成29年8月9日(2017.8.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
表面；
前記表面を少なくとも部分的に被覆する遷移金属イオン；ならびに
互いに異なっている第一の標的分子および第二の標的分子を含む粒子であって、
ここで、前記粒子は、前記粒子を具体化する１つ以上の基質分子または原子から形成され、ならびに
ここで、前記遷移金属イオンは、前記粒子表面の前記基質分子または原子、ならびに前記第一の標的分子のうちの少なくとも１つおよび前記第二の標的分子のうちの少なくとも１つと配位結合を形成し、それによって、前記第一および第二の標的分子を前記粒子に結合している、粒子。
【請求項２】
前記粒子が、ナノ粒子である、請求項１に記載の粒子。
【請求項３】
前記粒子が、５から２００ｎｍの直径を有する、請求項２に記載の粒子。
【請求項４】
前記基質分子が、合成ポリマー、金属もしくはメタロイドコンポジット、生物学的物質、セラミック、ガラス、および酸化金属から選択される、請求項１から３のいずれか一項に記載の粒子。
【請求項５】
前記遷移金属イオンが、アルミニウム、ロジウム、白金、スカンジウム、チタン、バナジウム、クロム、ルテニウム、マンガン、鉄、コバルト、ニッケル、銅、モリブデン、ジルコニウム、および亜鉛から選択される、請求項１から４のいずれか一項に記載の粒子。
【請求項６】
前記金属イオンが、クロムである、請求項５に記載の粒子。
【請求項７】
リガンドをさらに含み、ここで、前記リガンドは、エチレンジアミン、テトラメチルエチレンジアミン、イミノ二酢酸、ニトリロ三酢酸、トリフェニルホスフィン、シュウ酸、１，１０−フェナントロリン、８−ヒドロキシキノリン、サリチル酸、クロリド、アセテート、ブロミド、ナイトレート、パークロレート、ミョウバン、サルフェート、およびピリジンから選択される、請求項１から６のいずれか一項に記載の粒子。
【請求項８】
前記第一および第二の標的分子の各々が、独立して、タンパク質、ポリヌクレオチド、炭水化物、脂質、薬物、標識剤、合成ポリマー、およびナノ粒子から選択される、請求項１から７のいずれか一項に記載の粒子。
【請求項９】
前記第一の標的分子が、抗体であり、および前記第二の標的分子が、酵素である、請求項８に記載の粒子。
【請求項１０】
粒子を具体化する１つ以上の基質分子または原子から形成された粒子；
遷移金属イオンと配位結合を形成するための基を有するリガンド；
前記１つ以上の基質分子または原子と配位結合を形成するための遷移金属イオン；
を含む組成物。
【請求項１１】
前記粒子が、５から２００ｎｍの直径を有するナノ粒子である、請求項１０に記載の組成物。
【請求項１２】
前記リガンドが、エチレンジアミン、テトラメチルエチレンジアミン、イミノ二酢酸、ニトリロ三酢酸、トリフェニルホスフィン、シュウ酸、１，１０−フェナントロリン、８−ヒドロキシキノリン、サリチル酸、クロリド、アセテート、ブロミド、ナイトレート、パークロレート、ミョウバン、サルフェート、およびピリジンから選択される、請求項１０または１１に記載の組成物。
【請求項１３】
前記遷移金属イオンが、アルミニウム、ロジウム、白金、スカンジウム、チタン、バナジウム、クロム、ルテニウム、マンガン、鉄、コバルト、ニッケル、銅、モリブデン、ジルコニウム、および亜鉛から選択される、請求項１０から１２のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項１４】
第一の標的分子および第二の標的分子をさらに含み、ここで、前記第一および第二の標的分子は、互いに異なっており、前記第一および第二の標的分子の各々が、独立して、タンパク質、ポリヌクレオチド、炭水化物、脂質、薬物、標識剤、合成ポリマー、およびナノ粒子から選択される、請求項１０から１３のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項１５】
前記組成物が、バッファーも含む、請求項１０から１４のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項１６】
複数の遷移金属イオンから形成され：
表面；ならびに
互いに異なっている第一の捕捉分子（ｃａｐｔｕｒｅ  ｍｏｌｅｃｕｌｅ）および第二の捕捉分子
を含む粒子であって、
ここで、前記粒子の前記遷移金属イオンは、前記粒子表面にて、前記第一および第二の捕捉分子と配位結合を形成し、それによって、前記第一および第二の捕捉分子を前記粒子と結合する粒子。
【請求項１７】
第一の標的分子を第二の標的分子に結合させるためであり：
遷移金属イオンを提供すること；
表面を有し、粒子を具体化する１つ以上の基質分子または原子から形成される粒子を提供すること；
前記第一の標的分子および前記第二の標的分子を所定の比率で提供すること；
前記遷移金属イオンおよび前記粒子を、前記遷移金属イオンが前記粒子表面の前記基質分子または原子、ならびに前記第一の標的分子のうちの少なくとも１つおよび前記第二の標的分子のうちの少なくとも１つと配位結合を形成するように、前記第一および第二の標的分子と接触させ、それによって、前記第一および前記第二の標的分子を、前記粒子によって互いに結合させること、
を含むプロセス。
【請求項１８】
前記粒子が、５から２００ｎｍの直径を有するナノ粒子である、請求項１７に記載のプロセス。
【請求項１９】
前記遷移金属イオンが、アルミニウム、ロジウム、白金、スカンジウム、チタン、バナジウム、クロム、ルテニウム、マンガン、鉄、コバルト、ニッケル、銅、モリブデン、ジルコニウム、および亜鉛から選択される、請求項１７または１８に記載のプロセス。
【請求項２０】
前記第一および第二の標的分子の各々が、独立して、タンパク質、ポリヌクレオチド、炭水化物、脂質、薬物、標識剤、合成ポリマー、およびナノ粒子から選択される、請求項１７から１９のいずれか一項に記載のプロセス。
【手続補正書】
【提出日】平成29年6月21日(2017.6.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図３】
2016534312.tif 000001
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
粉末３８は内部チャンバ２４の内部に配置され、プレート３２上に載置される。内部チャンバ２４の内側にアクセスし、粉末３８の投入及び回収ができるよう、プレート３２は内部チャンバ２４から取り外し可能である。他の実施形態では、粉末３８は管３６を介して内部チャンバ２４へと投入され、処理後にプレート３２と管３６を通じて高速でガスを流すことで内部チャンバ２４から排出されてもよい。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
流動化ガス４０は、入口２８Ａ及び２８Ｂを通じて内部チャンバ２４の内側に案内される。流動化ガス４０は、任意の適切な形状の加熱炉２０を通じる配管によって入口２８Ａと２８Ｂに供給される。流動化ガス４０は、圧縮され、プレート３２を含む内部チャンバ２４を取り囲む。プレート３２は、流動化ガス４０がプレート３２を通ることのできる複数のオリフィスすなわち開口部を含む。流動化ガス４０は、粉末３８を通じて浸透し出口３０の管３６を通じて内部チャンバ２４から出る。
【手続補正書】
【提出日】平成29年8月7日(2017.8.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
シーリング溝を有する表面であって、前記表面が、
エラストマシールを受容するように構成されたシーリング溝が形成されている表面を含み、前記シーリング溝が、
完全な鳩尾形状を有する第１の部分と、半鳩尾形状の非連続的な形状を有する少なくとも一つの第２の部分とを有し、前記第１の部分と前記少なくとも一つの第２の部分が前記シーリング溝の周縁の少なくとも一部を形成する、表面。
【請求項２】
前記完全な鳩尾形状が、前記シーリング溝の外壁から半径方向内側に伸びるタブを形成している、請求項１に記載の表面。
【請求項３】
前記完全な鳩尾形状が、前記シーリング溝の内壁から半径方向外側に伸びるタブを形成している、請求項１に記載の表面。
【請求項４】
前記完全な鳩尾形状が、前記シーリング溝の内壁から半径方向外側に、且つ前記シーリング溝の外壁から半径方向内側に伸びるタブを形成している、請求項１に記載の表面。
【請求項５】
前記鳩尾の壁が前記鳩尾の底面から６０度の角度をなす、請求項１に記載の表面。
【請求項６】
前記完全な鳩尾形状の狭い部分が４．５８ｍｍの開口を有し、前記半鳩尾形状の狭い部分が５．７１ｍｍの開口を有する、請求項１に記載の表面。
【請求項７】
前記タブが、前記シーリング溝の前記外壁に沿った１２の等距離に離間された位置にある、請求項２に記載の表面。
【請求項８】
前記外壁における前記タブへの及び前記タブからの遷移部が、１ｍｍの半径を有する、請求項２に記載の表面。
【請求項９】
底部と側壁とを含むチャンバ本体、及び開位置と閉位置との間で可動なリッドアセンブリ、並びに
前記リッドアセンブリ及び前記チャンバ本体のうちの一方の表面に形成されており、且つエラストマシールを受容するように構成された、シーリング溝であって、
完全な鳩尾形状を有する第１の部分と、半鳩尾形状を有する少なくとも一つの第２の部分とを有し、前記第１の部分と前記少なくとも一つの第２の部分が前記シーリング溝の周縁の少なくとも一部を形成する、シーリング溝
を備える、真空処理チャンバ。
【請求項１０】
前記完全な鳩尾形状が、前記シーリング溝の外壁から半径方向内側に伸びるタブを形成している、請求項９に記載の真空処理チャンバ。
【請求項１１】
前記完全な鳩尾形状が、前記シーリング溝の内壁から半径方向外側に伸びるタブを形成している、請求項９に記載の真空処理チャンバ。
【請求項１２】
前記鳩尾の壁が前記鳩尾の底面から６０度の角度をなす、請求項９に記載の真空処理チャンバ。
【請求項１３】
前記鳩尾の前記底面が、前記シーリング溝が形成された前記表面の４．１７ｍｍ下方に形成されている、請求項１２に記載の真空処理チャンバ。
【請求項１４】
前記完全な鳩尾形状の狭い部分が４．５８ｍｍの開口を有し、前記半鳩尾形状の狭い部分が５．７１ｍｍの開口を有する、請求項９に記載の真空処理チャンバ。
【請求項１５】
前記タブが、前記シーリング溝の前記外壁に沿った１２の等距離に離間された位置にある、請求項１０に記載の真空処理チャンバ。
【手続補正書】
【提出日】平成29年5月17日(2017.5.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
８０質量％（Ｍａ％）を超えるクロム含有量を有し、２〜２０質量％の鉄、０〜５質量％のドーパント、及び、０〜２質量％の酸素を含有する粉末又は粉末顆粒であって、９５質量％を超えるクロム含有量を有しクロム含有粒子を形成するクロム豊富な領域を有する粉末又は粉末顆粒において、該クロム含有粒子が、少なくとも部分的に、細孔を有することを特徴とする粉末又は粉末顆粒。
【請求項２】
前記クロム含有粒子が、ＡＳＭハンドブックによる分類に従って、少なくとも部分的に、多孔状と分類されることを特徴とする請求項１に記載の粉末又は粉末顆粒。
【請求項３】
前記クロム含有粒子が、定量的画像解析法による測定で２０体積％を超える平均空隙率を有することを特徴とする、請求項１又は２に記載の粉末又は粉末顆粒。
【請求項４】
前記クロム含有粒子が、レーザー回折法による測定で２０μｍを超える粒径ｄ５０を有し、ＢＥＴ法による測定で０．０５ｍ２／ｇを超える表面積を有することを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の粉末又は粉末顆粒。
【請求項５】
前記細孔が、少なくとも領域により、開孔であるか架橋されていることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の粉末又は粉末顆粒。
【請求項６】
前記粉末又は粉末顆粒が、スカンジウム、イットリウム、ランタノイド、チタン、ジルコニウム及びハフニウムからなる群から選ばれる少なくとも１つのドーパント０．００５〜５質量％を含有することを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載の粉末又は粉末顆粒。
【請求項７】
前記粉末又は粉末顆粒が、０．００２〜２質量％の酸素を含有することを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載の粉末又は粉末顆粒。
【請求項８】
前記粉末又は粉末顆粒が、鉄含有量が６０質量％を超える鉄豊富な領域を含有することを特徴とする請求項１〜７のいずれか１項に記載の粉末又は粉末顆粒。
【請求項９】
前記鉄豊富な領域が、少なくとも部分的に、鉄含有粒子を有していることを特徴とする請求項８に記載の粉末又は粉末顆粒。
【請求項１０】
前記鉄豊富な領域が、非結合の鉄/元素状の鉄及び酸化鉄からなる群から選ばれる少なくとも１つの形状を有していることを特徴とする請求項８又は９に記載の粉末又は粉末顆粒。
【請求項１１】
前記鉄豊富な領域が、前記クロム含有粒子の細孔に少なくとも部分的にインターカレートされていることを特徴とする請求項８〜１０のいずれか１項に記載の粉末又は粉末顆粒。
【請求項１２】
前記鉄豊富な領域が、前記クロム含有粒子に、拡散結合を介して少なくとも部分的に結合していることを特徴とする請求項８〜１１のいずれか１項に記載の粉末又は粉末顆粒。
【請求項１３】
前記ドーパントが少なくとも部分的に、酸化物として、粒子の形状で存在することを特徴とする請求項１〜１２のいずれか１項に記載の粉末又は粉末顆粒。
【請求項１４】
前記ドーパントが、「クロム含有粒子中にインターカレートされている形状」及び「クロム含有粒子の表面に析出されている形状」からなる群から選ばれる少なくとも１つの形状で存在することを特徴とする請求項１〜１３のいずれか１項に記載の粉末又は粉末顆粒。
【請求項１５】
前記クロム豊富な領域が、ＥＮ  ＩＳＯ  １４５７７−１による４ＧＰａ以下の平均ナノハードネスＨＩＴ  ０．００５/５/１/５を有することを特徴とする請求項１〜１４のいずれか１項に記載の粉末又は粉末顆粒。
【請求項１６】
前記粉末又は粉末顆粒が、レーザー回折法に依って測定して、１０μｍ＜ｄ５０＜８００μｍを満たす粒子サイズ／顆粒サイズｄ５０を、有することを特徴とする請求項１〜１４のいずれか１項に記載の粉末又は粉末顆粒。
【請求項１７】
部品の粉末冶金による製造のための、請求項１〜１６のいずれか１項に記載の粉末又は粉末顆粒の使用。
【請求項１８】
１，１００℃〜１，５５０℃において、酸化物及び水酸化物からなる群から選ばれる少なくとも１つのクロム含有化合物を、炭素源及び水素を、少なくとも部分的に、順に存在させて、還元することからなることを特徴とする、請求項１〜１６のいずれか１項に記載の粉末又は粉末顆粒の製造方法。
【請求項１９】
前記ドーパントが、還元前に、クロム含有化合物と混合されることを特徴とする、請求項１８に記載の方法。
【請求項２０】
６０質量％を超える鉄含有量を有する鉄含有粒子が還元後に添加されることを特徴とする、請求項１８又は１９に記載の方法。
【請求項２１】
前記粉末又は粉末顆粒が、前記鉄含有粒子の添加後に、４００℃＜Ｔ＜１，２００℃の温度Ｔでアニールされることを特徴とする、請求項２０に記載の方法。
【請求項２２】
前記クロム含有化合物が単独で顆粒化されるか又はドーパントと共に顆粒化されることを特徴とする請求項１８〜２１のいずれか１項に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成29年10月2日(2017.10.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
チェックバルブユニットであって、
ハウジングであって、インレットポートと、アウトレットポートと、前記インレットポートおよび前記アウトレットポートと流体連通状態のチャンバーであって、それによって前記インレットポートから前記チャンバーを経て前記アウトレットポートに至る流路を画定するチャンバーと、を画定し、前記チャンバーは第１のバルブシートおよび第２のバルブシートを含んでいる、ハウジングと、
シールディスクであって、前記シールディスク自体を横切る圧力差のみに応答して、前記第１のバルブシート上に着座した位置から前記第２のバルブシート上に着座した位置へと移動可能である、前記チャンバー内に配置されたシールディスクと、
前記チャンバーの下流側で前記流路の中に配置されるか、前記チャンバーの中に配置されるか、あるいは前記流路および前記チャンバーの両方の中に配置される音響減衰部材と、
を備えるチェックバルブユニット。
【請求項２】
前記音響減衰部材は干渉によってノイズ圧力波を減衰させる多孔質材を含む、請求項１に記載のチェックバルブユニット。
【請求項３】
前記音響減衰部材は、内燃エンジン内の温度に対して耐熱性を有する、請求項１に記載のチェックバルブユニット。
【請求項４】
前記音響減衰部材は、多孔質材の連続的なプラグである、請求項１に記載のチェックバルブユニット。
【請求項５】
前記音響減衰部材は、前記流路内の流れの方向と概ね整列させられた、それを貫通する一つ以上の穿孔を有する、請求項１に記載のチェックバルブユニット。
【請求項６】
第１の音響減衰部材が前記インレットポートに近接して前記流路内に配置され、かつ、第２の音響減衰部材が前記アウトレットポートに近接して前記流路内に配置される、請求項１に記載のチェックバルブユニット。
【請求項７】
第１の音響減衰部材が前記チャンバー内に配置されかつ前記第１のバルブシートあるいは前記第２のバルブシートのいずれかを形成し、かつ、第２の音響減衰部材が前記アウトレットポートに近接して前記流路内に配置される、請求項１に記載のチェックバルブユニット。
【請求項８】
それとの流体連通のための前記アウトレットポートとの流体接続部を有するベンチュリー部分をさらに備える、請求項１に記載のチェックバルブユニット。
【請求項９】
第１の音響減衰部材が、前記アウトレットポートに近接して前記流路内に配置される、請求項８に記載のチェックバルブユニット。
【請求項１０】
第２の音響減衰部材が、前記インレットポートに近接して前記流路内に配置される、請求項９に記載のチェックバルブユニット。
【請求項１１】
第２の音響減衰部材が前記チャンバー内に配置される、請求項９に記載のチェックバルブユニット。
【請求項１２】
前記チャンバーと流体連通状態のベンチュリー部分をさらに備え、前記ベンチュリー部分の排出セクションは前記チャンバーのアウトレットポートを画定し、かつ、前記音響減衰部材は前記排出セクション内に配置される、請求項１に記載のチェックバルブユニット。
【請求項１３】
前記ハウジングはさらに、
第２のチャンバーであって、第２のインレットポートと、それと流体連通状態の第２のアウトレットポートであって、それによって前記インレットポートから前記チャンバーを経て前記アウトレットポートに至る流路を画定する第２のアウトレットポートと、を有し、前記第２のチャンバーは第１のバルブシートおよび第２バルブシートを含む、第２のチャンバーと、
前記第１のバルブシート上に着座した位置から前記第２のバルブシート上に着座した位置へと移動可能である、前記第２のチャンバー内に配置されたシール部材と、を画定し、
前記第２のチャンバーの前記アウトレットポートは、前記音響減衰部材の下流側に前記ベンチュリー部分の前記排出セクションとの流体接続部を有する、請求項１２に記載のチェックバルブユニット。
【請求項１４】
前記音響減衰部材は、干渉によってノイズ圧力波を減衰させる多孔質材を含む、請求項１２に記載のチェックバルブユニット。
【請求項１５】
前記音響減衰部材は内燃エンジン内の温度に対して耐熱性を有する、請求項１２に記載のチェックバルブユニット。
【請求項１６】
前記音響減衰部材は多孔質材の連続的なプラグである、請求項１２に記載のチェックバルブユニット。
【請求項１７】
前記音響減衰部材は、前記流路内の流れの方向と概ね整列させられた、それを貫通する一つ以上の穿孔を有する、請求項１２に記載のチェックバルブユニット。
【請求項１８】
前記排出セクションは前記音響減衰部材を収容するためのキャニスターを含み、前記キャニスターは、前記音響減衰部材のためのシートを画定する前記ベンチュリー部分の前記排出セクションの一部としての第１のキャニスター部分と、前記キャニスターの第１のチャンバー内で前記音響減衰部材を取り囲むために前記第１のキャニスター部分と係合させられる第２のキャニスター部分と、を備える、請求項１２に記載のチェックバルブユニット。
【請求項１９】
前記キャニスターは、前記第１のチャンバーから上流側で前記ベンチュリー部分の前記排出セクションの少なくとも一部を取り囲む第２のチャンバーを形成する二重チャンバー化キャニスターである、請求項１８に記載のチェックバルブユニット。
【請求項２０】
前記排出セクションは前記第１のキャニスター部分から上流側の位置においてそこから外側に延在するカラーを含み、前記カラーは前記第２のキャニスター部分と係合させられ、これによって前記第２のチャンバーを形成する、請求項１９に記載のチェックバルブユニット。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成29年6月21日(2017.6.21)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
内燃機関用燃料噴射装置（１０）であって、低圧タンク（１２）から燃料（Ｆ）を吸引し、前記燃料を入口弁（２０）に向けて送る低圧ポンプ（１６）を備え、前記入口弁（２０）が、高圧ポンプ（２２）の入口を制御し、前記高圧ポンプ（２２）が、前記燃料を加圧し、前記加圧された燃料を、少なくとも１つの噴射器（３２）が連結されたマニホールド（３０、４４）に向けて送る、燃料噴射装置（１０）において、
前記装置（１０）が、前記マニホールド（３０、４４）とは別個の高圧蓄圧手段（２４）と、前記高圧ポンプ（２２）の出口と前記マニホールド（３０、４４）との間に流体連通して配置された高圧弁（２８）とをさらに備え、前記高圧蓄圧手段（２４）が、加圧燃料を貯留し、前記マニホールド（３０、４４）へ送達し、前記低圧ポンプ（１６）、前記入口弁（２０）及び前記高圧弁（２８）が、中央電子装置（４２）により制御されることを特徴とする燃料噴射装置（１０）。
【請求項２】
前記低圧ポンプ（１６）は、前記高圧蓄圧手段内側の圧力（Ｐａｃｃ）が、予め設定された閾値（Ｐ１）よりも下がったときにのみ駆動され、前記高圧蓄圧手段内側の前記圧力（Ｐａｃｃ）が、前記予め設定された閾値（Ｐ１）を超えたときに停止される電動ポンプである、請求項１に記載の装置（１０）。
【請求項３】
前記低圧ポンプ（１６）は、前記高圧蓄圧手段内側の圧力（Ｐａｃｃ）が、予め設定された閾値（Ｐ１）よりも下がったときにのみ駆動され、前記高圧蓄圧手段内側の前記圧力（Ｐａｃｃ）が、前記予め設定された閾値（Ｐ１）を超えたときに接続が断たれる、または、迂回される機械式ポンプである、請求項１に記載の装置（１０）。
【請求項４】
前記マニホールドが、複数の噴射器（３２）に並行して燃料を供給するコモンレール（４４）であり、前記レール（４４）上に配置され、前記タンク（１２）につながる戻り用低圧管路が設けられた第２の高圧弁（４６）を、前記装置（１０）がさらに備える、請求項１から３のいずれか一項に記載の装置（１０）。
【請求項５】
前記高圧ポンプ（２２）と前記高圧蓄圧手段（２４）との間に配置された一方向弁をさらに備え、前記高圧ポンプ（２２）が停止されたときに、前記高圧蓄圧手段（２４）内の加圧された燃料が、前記高圧ポンプ（２２）へ流れ戻ることを前記一方向弁が禁止する、請求項１から４のいずれか一項に記載の装置（１０）。
【請求項６】
前記高圧ポンプ（２２）を前記マニホールド（３０、４４）へ直接連結する迂回通路と、前記迂回通路に配置された常閉制御弁とをさらに備え、前記マニホールド（３０、４４）内で必要な燃料の圧力が、前記蓄圧手段（２４）内の燃料の圧力よりも優るときにのみ前記制御弁が開く、請求項１から５のいずれか一項に記載の装置（１０）。
【請求項７】
請求項１から６のいずれか一項に記載の燃料噴射装置（１０）を制御する機関管理制御工程（１００）であって、
蓄圧器圧力（Ｐａｃｃ）が、圧力閾値（Ｐ１）よりも優るときに、前記低圧ポンプ（１６）を停止することにより省エネルギーモード（ＥＳＭ）に入るステップを含み、前記蓄圧手段（２４）が、必要な燃料を必要な圧力で前記噴射器に送達する、機関管理制御工程（１００）。
【請求項８】
前記閾値（Ｐ１）が一定で、予め設定されている、請求項７に記載の工程（１００）。
【請求項９】
前記閾値（Ｐ１）が、燃料が噴射されるべき圧力（Ｐｄｅｍ）として可変である、請求項７に記載の工程（１００）。
【請求項１０】
前記省エネルギーモード（ＥＳＭ）が、
−  前記機関の動作モードを判定するステップ（１１０）と、前記機関が「非踏み込み」モードで動作している場合、
−  前記蓄圧器圧力（Ｐａｃｃ）を前記閾値（Ｐ１）と比較するステップ（１３０）と
を含む、請求項７から９のいずれか一項に記載の燃料噴射装置（１０）を制御する機関管理制御工程（１００）。
【請求項１１】
前記蓄圧器圧力（Ｐａｃｃ）が、前記閾値（Ｐ１）よりも下がった場合、前記低圧ポンプ（１６）を作動することにより前記省エネルギーモード（ＥＳＭ）を終了するステップをさらに含む、請求項７から１０のいずれか一項に記載の工程（１００）。
【請求項１２】
前記判定するステップ（１１０）において、前記機関の前記動作モードが「踏み込み」であると識別された場合、かつ、前記蓄圧器圧力（Ｐａｃｃ）が、噴射に要求される圧力（Ｐｄｅｍ）より劣る場合、前記蓄圧手段（２４）が、圧力を蓄積するように前記低圧ポンプ（１６）を動かすステップ（１５０）をさらに含む、請求項１０に記載の工程（１００）。
【手続補正書】
【提出日】平成29年7月10日(2017.7.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
家具又は同様のもののドアに装着されたヒンジ（10）であって、
前壁（11’）と側壁(11’’)とを有するヒンジアームを含み、前記アーム(11)は家具の固定部（12）に固定可能であり、
家具のドアに固定可能であり、且つ、複数の可動接続レバー（16,18,20,23）を含む関節システム（15）によってヒンジアームに接続された箱を含み、
前記ヒンジの閉じ方向へ作動するバネ手段と、
ハウジング本体（30）と長手の軸（1）に従ってリニアに移動可能な作動部材（31）とを含む減速装置とを含み、
前記ハウジング本体（30）はヒンジアーム（11）の前記壁(11’,11’’)の一つに配置されるように支持され且つ同調されており、且つ、
前記減速装置(29)の前記作動部材（31）はヒンジの関節システム(15)の前記接続レバー（16,18,20,23）の一つによって作動可能なように同調且つ配置されており、
前記関節システム(15)は7つの関節軸(17,19,21,22,24,25,26)を含む形式であることを特徴とする、ヒンジ。
【請求項２】
前記ハウジング本体（30）は前記ヒンジアーム（11）の前記前壁(11’)に配置されるよう支持されていることを特徴とする、請求項1に記載のヒンジ。
【請求項３】
前記ハウジング本体（30）は前記ヒンジアーム（11）の前記側壁(11’’)に配置されるよう支持されていることを特徴とする、請求項1に記載のヒンジ。
【請求項４】
前記減速装置（29）の前記作動部材（31）は、サイドウイング、又は、前記ヒンジの前記関節システム(15)の前記接続レバー（16,18,20,23）の一つの突起によって作動されるよう、同調および配置されていることを特徴とする、請求項3に記載のヒンジ。
【請求項５】
前記ハウジング本体（30）は前記ヒンジアーム（11）の前記前壁(11’)に固定されることを特徴とする、請求項1〜4のいずれかに記載のヒンジ。
【請求項６】
前記ハウジング本体（30）は前記ヒンジアーム（11）の前記側壁(11’’)の一つに固定されることを特徴とする、請求項1〜5のいずれかに記載のヒンジ。
【請求項７】
前記ヒンジアーム（11）は固定ベース(13)によって家具の前記固定部（12）に固定可能であり、前記ハウジング本体（30）は前記固定ベース(13)に固定されることを特徴とする、請求項1〜4のいずれかに記載のヒンジ。
【請求項８】
前記ハウジング本体（30）は家具の前記固定部（12）に固定可能であり、前記ハウジング本体（30）は前記固定ベース(13)に固定されることを特徴とする、請求項1〜4のいずれかに記載のヒンジ。
【請求項９】
前記接続レバー(18)は前記減速装置（29）の前記作動部材（31）のためのスラスト表面（18’）を有し、前記スラスト表面（31)は前記作動部材(31)の前記長手の軸に直交する面の近く延在する搖動アークに沿って、前記作動部材(31)上で作動するために同調し、且つ、配置されていることを特徴とする、請求項１〜８のいずれかに記載のヒンジ(10)。
【請求項１０】
前記スラスト面(18)は、前記ヒンジの閉じ動作の終わりの部分において、同じ接触面（31’）に接する面（S）に属する一連の点において、作動部材(31)の上で作動し、前記面（S）は、前記作動部材(31)の軸（1）に直交する面(L)に対して、−25°〜‐12°を含む初期値から開始し、＋12°〜＋25°を含む最終値までの角度(α)を徐々に占めることを特徴とする、請求項９に記載のヒンジ。
【請求項１１】
前記初期値は前記作動部材(31)の軸（1）に直交する面(L)に対して、−20°〜‐16°を含み、前記最終値は＋14°〜＋18°を含むことを特徴とする、請求項１０に記載のヒンジ。
【請求項１２】
前記ハウジング本体(30)は前記ヒンジアーム(11)に外部から適用される別様装置であることを特徴とする、請求項１〜１１のいずれかに記載のヒンジ。
【請求項１３】
前記ハウジング本体(30)は前記ヒンジアーム(11)と一体であることを特徴とする、請求項１〜４のいずれかに記載のヒンジ。
【請求項１４】
前記家具の前記固定部（12）は前記ヒンジアーム用の固定面を有し、前記作動部材（31）の前記長手の軸は前記ヒンジアーム(11)の固定面に関して５°〜１５°を含む角度で傾斜していることを特徴とする、請求項1〜13のいずれかに記載のヒンジ。
【請求項１５】
前記減速装置(29)は流体リニア型であることを特徴とする、請求項１〜１４のいずれかに記載のヒンジ。
【請求項１６】
前記減速装置(29)は、
部屋（33）を規定するシリンダ（32）と、
前記部屋(33)内のピストン(34)とを含み、ピストン(34)は軸ロッド（35）と環状溝(34’)とを含み、
前記ピストン（34)の前記環状溝(34’)に配置された環状のガスケット（36）と、
環状の容量補償要素(37)と、
前記ピストンロッド(35)と前記ピストン部屋(33)の内面との間の環状シールガスケット(38)と、
バネ戻り手段(39)と、
シリンダ(32)の後端に固定可能な、前記部屋(33)用の環状閉じカバー(40)とを含み、
前記ピストンロッド（35）はカバー（40）を通って延在し、前記シールガスケット（38）および容量補償要素（37）は前記ピストン（34）の閉じた軸穴に圧入されることを特徴とする、請求項１５に記載のヒンジ。
【請求項１７】
前記シリンダ(32)は前記作動部材（31）に設けられた軸シート（41）に適合することを特徴とする、請求項１６に記載のヒンジ。
【請求項１８】
前記部屋(33)は前記シリンダ部屋（33）の内面の少なくとも部分に沿って長手に延在する液体用の少なくとも一つの通路溝を有することを特徴とする、請求項１６または１７に記載のヒンジ。
【請求項１９】
前記バネ戻し手段は、前記シリンダ（32）の前壁(32’)と前記減速装置（29）の前記ピストン（34）との間の前記部屋（33）に延在するヘリカルバネ（39）を含むことを特徴とする、請求項１６〜１８のいずれか一つに記載のヒンジ。
【請求項２０】
前記ハウジング本体(30)は前記ヒンジアーム(11)に設けられた開口に係合するクイック固定手段を含むことを特徴とする、請求項１〜１９のいずれか一つに記載のヒンジ。
【請求項２１】
前記クイック固定手段は前記ヒンジアーム(11)前記開口(43)の横方向に対向する端部(46)にスライド式に係合可能な前記ハウジング本体(30)の下壁(45)から突出する横方向に対向するウイング(44)を含むことを特徴とする、請求項２０に記載のヒンジ。
【請求項２２】
前記クイック固定手段は、固定された安全要素（securing）と、後退した位置から同じハウジング本体から突出した位置まで移動可能な前記本体にスライド可能に支持された可動安全要素とを含み、前記可動要素は、前記作動部材が前記ハウジング本体に挿入されたとき、前記後退した位置から前記突出した位置まで移動するように構成されかつ配置される、請求項２１に記載のヒンジ。