【手続補正書】
【提出日】平成29年7月13日(2017.7.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも１つの照明ビームを含むスキャトロメトリ測定システムであって、ターゲット面上の少なくとも１つの照明ビームの垂直投影が、ターゲット測定方向に関して平行な成分と垂直な成分との両方を含む、スキャトロメトリ測定システム。
【請求項２】
前記少なくとも１つの照明ビームが、前記ターゲットに関して対向照明ビームの少なくとも１つの対を含む、請求項１に記載のスキャトロメトリ測定システム。
【請求項３】
前記少なくとも１つの対が２対を含む、請求項２に記載のスキャトロメトリ測定システム。
【請求項４】
前記少なくとも１つの対が単一対を含み、その照明ビームが２つの測定方向に沿ってターゲットのスキャトロメトリ測定を可能にするように配置されている、請求項２に記載のスキャトロメトリ測定システム。
【請求項５】
前記照明ビームが瞳面の周辺に配置されている、請求項１に記載のスキャトロメトリ測定システム。
【請求項６】
前記照明ビームが、特定の範囲内の波長対ピッチ比でターゲットの少なくとも１つの測定可能な１次回折像を生じるように配置される、請求項５に記載のスキャトロメトリ測定システム。
【請求項７】
前記照明ビームが、前記ターゲットの少なくとも１つの測定可能な２次回折像を生じるように配置されている、請求項５に記載のスキャトロメトリ測定システム。
【請求項８】
瞳面で前記少なくとも１つの照明ビームの位置を決定するように設定された瞳照明マスクを含む、請求項１に記載のスキャトロメトリ測定システム。
【請求項９】
前記少なくとも１つの照明ビームが複数のアポダイズ化ビームを含み、前記アポダイズ化が前記ビームの回折像間のオーバーラップを減少させるように設定されている、請求項１に記載のスキャトロメトリ測定システム。
【請求項１０】
前記アポダイズ化が振幅および相の少なくとも１つに関係し、そして前記ターゲット上の各照明スポットのサイズを最小限に抑えつつ、前記ビームの回折像間のオーバーラップを減少するように設定されている、請求項９に記載のスキャトロメトリ測定システム。
【請求項１１】
請求項１に記載のスキャトロメトリ測定システムによって生じる回折像。
【請求項１２】
請求項１１に記載の少なくとも１つの回折像を含むスキャトロメトリ測定。
【請求項１３】
ターゲットにより規定されるターゲット軸および前記ターゲット軸に対して垂直な軸の軸外の瞳面中に位置する少なくとも１つの照明ビームを含むスキャトロメトリ測定システム。
【請求項１４】
前記少なくとも１つの照明ビームが、前記ターゲットに関して対向照明ビームの少なくとも１つの対を含む、請求項１３に記載のスキャトロメトリ測定システム。
【請求項１５】
前記少なくとも１つの対が２対を含む、請求項１４に記載のスキャトロメトリ測定システム。
【請求項１６】
前記少なくとも１つの対が単一対を含み、その照明ビームが２つの測定方向に沿ってターゲットのスキャトロメトリ測定を可能にするように配置されている、請求項１４に記載のスキャトロメトリ測定システム。
【請求項１７】
前記照明ビームが瞳面の周辺に配置されている、請求項１３に記載のスキャトロメトリ測定システム。
【請求項１８】
前記照明ビームが、特定の範囲内の波長対ピッチ比でターゲットの少なくとも１つの測定可能な１次回折像を生じるように配置される、請求項１７に記載のスキャトロメトリ測定システム。
【請求項１９】
前記照明ビームが、前記ターゲットの少なくとも１つの測定可能な２次回折像を生じるように配置されている、請求項１７に記載のスキャトロメトリ測定システム。
【請求項２０】
瞳面で前記少なくとも１つの照明ビームの位置を決定するように設定された瞳照明マスクを含む、請求項１３に記載のスキャトロメトリ測定システム。
【請求項２１】
前記少なくとも１つの照明ビームが複数のアポダイズ化ビームを含み、前記アポダイズ化が前記ビームの回折像間のオーバーラップを減少させるように設定されている、請求項１３に記載のスキャトロメトリ測定システム。
【請求項２２】
前記アポダイズ化が振幅および相の少なくとも１つに関係し、そして前記ターゲット上の各照明スポットのサイズを最小限に抑えつつ、前記ビームの回折像間のオーバーラップを減少するように設定されている、請求項２１に記載のスキャトロメトリ測定システム。
【請求項２３】
請求項１３に記載のスキャトロメトリ測定システムによって生じる回折像。
【請求項２４】
請求項２３に記載の少なくとも１つの回折像を含むスキャトロメトリ測定。
【請求項２５】
スキャトロメトリ測定システムによって生じる回折像を含み、前記システムが、ターゲット軸および前記ターゲット軸に対して垂直な軸の軸外の瞳面中に位置する少なくとも１つの照明ビームを含む、スキャトロメトリ測定。
【請求項２６】
少なくとも１つの照明ビームでスキャトロメトリターゲットを照明するステップを含む方法であって、ターゲット面上の前記少なくとも１つの照明ビームの垂直投影が、ターゲットのターゲット測定方向に関して平行な成分と垂直な成分との両方を含む、方法。
【請求項２７】
前記少なくとも１つの照明ビームが、前記ターゲットに関して対向照明ビームの少なくとも１つの対を含む、請求項２６に記載の方法。
【請求項２８】
前記少なくとも１つの対が２対を含む、請求項２７に記載の方法。
【請求項２９】
前記少なくとも１つの対が単一対を含み、前記方法が、前記ターゲットのスキャトロメトリ測定を２つの測定方向に沿って可能にするように前記照明ビームを配置することをさらに含む、請求項２７に記載の方法。
【請求項３０】
前記少なくとも１つの照明ビームがターゲット軸および前記ターゲット軸に対して垂直な軸の軸外の瞳面中に位置し、前記方法が瞳面の周辺に前記少なくとも１つの照明ビームを配置することをさらに含む、請求項２６に記載の方法。
【請求項３１】
瞳面で前記少なくとも１つの照明ビームの位置を決定するように瞳照明マスクを設定することをさらに含む、請求項３０に記載の方法。
【請求項３２】
特定の範囲内の波長対ピッチ比で前記ターゲットの少なくとも１つの測定可能な１次回折像を生じるように前記少なくとも１つの照明ビームを配置することをさらに含む、請求項２６に記載の方法。
【請求項３３】
前記ターゲットの少なくとも１つの測定可能な２次回折像を生じるように前記少なくとも１つの照明ビームを配置することをさらに含む、請求項２６に記載の方法。
【請求項３４】
イメージング瞳面内の各ビームの特定の回折次数を調整するようにターゲットおよび照明パラメータを設定することをさらに含む、請求項３３に記載の方法。
【請求項３５】
前記少なくとも１つの照明ビームが複数のアポダイズ化ビームを含み、前記ビームの回折像間のオーバーラップを減少させるように前記ビームのアポダイズ化を設定することをさらに含む、請求項２６に記載の方法。
【請求項３６】
前記アポダイズ化が振幅および相の少なくとも１つに関係し、前記方法が、前記ターゲットの各照明スポットのサイズを最小限に抑えつつ、前記ビームの回折像間のオーバーラップを減少させるようにアポダイズ化を設定することをさらに含む、請求項３５に記載の方法。
【請求項３７】
各照明ビームから順次回折像を取り込むことをさらに含む、請求項２６に記載の方法。
【請求項３８】
前記ターゲットから回折した少なくとも１つの照明ビームの各々の少なくとも１つの回折像を測定することをさらに含む、請求項２６に記載の方法。
【請求項３９】
測定時間枠内で順次照明ビームを適用することをさらに含む、請求項３８に記載の方法。
【請求項４０】
少なくとも１つの照明ビームがインコヒーレントであるように設定することをさらに含む、請求項３８に記載の方法。