【手続補正書】
【提出日】平成29年11月15日(2017.11.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式Ｉ：
【化１】
2016540755.tif 000001
に示される構造を含む化合物：
式中、
Ｒは独立して−（ＣＨ２）ｎ−であって、式中ｎは０、１、２または３であり；
ＲＸ１は独立して
【化２】
2016540755.tif 000002
または
【化３】
2016540755.tif 000003
から成る群から選択され、
式中、
【化４】
2016540755.tif 000004
はＲＸ１基の−（ＣＨ２）ｎ−基への結合点を示し；及び
ＲＸ４は分岐型または直鎖の低級アルキル（Ｃ１−Ｃ２０）；水酸基；ハロゲン（Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ）；ニトリル（ＣＮ）；ボロン酸（ＢＯ２Ｈ２）；カルボン酸（ＣＯＯＨ）；カルボン酸エステル（ＣＯＯＲＸ２）；第１級アミド（ＣＯＮＨ２）；第２級アミド（ＣＯＮＨＲＸ２）；第３級アミド（ＣＯＮＲＸ２ＲＸ３）；スルホンアミド（ＳＯ２ＮＨ２）；Ｎ−アルキルスルホンアミド（ＳＯＮＨＲＸ２）から成る群から独立して選択され、
ＲＸ２及びＲＸ３が独立して、それぞれの存在について、分岐型または直鎖の低級アルキル（Ｃ１−Ｃ２０）；フェニル（Ｃ６Ｈ５）；ＲＸ４で置換したフェニル環（ＲＸ４Ｃ６Ｈ４）、式中、ＲＸ４は上記で定義した通りである；カルボン酸（ＣＯＯＨ）；カルボン酸エステル（ＣＯＯＲＸ５）、式中ＲＸ５は分岐型または直鎖の低級アルキル（Ｃ１−Ｃ２０）である；及びシクロアルキルから成る群から選択され、ここで、ＲＸ２＝ＲＸ３＝（ＣＨ２）nであり、
Ｘは−Ｈ、−ＯＨ、−ＯＭｅ、−Ｏ−アリル、−Ｆ、−ＯＥｔ、−ＯＰｒ、−ＯＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ３及び−アジドから成る群から独立して選択され；
Ｒ’は−Ｈ、−ＯＡｃ；−ＯＢｚ；−Ｐ（ＮｉＰｒ２）（ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＮ）；及び−ＯＳｉＭｅ２ｔＢｕから成る群から独立して選択され；
Ｒ’’は水素、４，４’−ジメトキシトリチル（ＤＭＴ）及びトリホスフェート（−Ｐ（Ｏ）（ＯＨ）−Ｏ−Ｐ（Ｏ）（ＯＨ）−Ｏ−Ｐ（Ｏ）（ＯＨ）２）またはそれらの塩から成る群から独立して選択される；
及びそれらの塩；
であって、次の例外：
ｎ＝３である場合、ＲＸ１はＣＨ３で有り得なく；及び
ｎ＝２であり、及びＲＸ１が
【化５】
2016540755.tif 000005
及びＲＸ４がヒドロキシルである場合、ＲＸ１は
【化６】
2016540755.tif 000006
で有り得ない、前記化合物。
【請求項２】
ＲＸ４が分岐型または直鎖の低級アルキル（Ｃ１−Ｃ６）；−ＯＨ；−Ｆ及びカルボン酸（ＣＯＯＨ）から成る群から独立して選択される、請求項１に記載の化合物。
【請求項３】
Ｘが−Ｈ、−ＯＨ、−ＯＭｅ及び−Ｆから成る群から独立して選択される、請求項１に記載の化合物。
【請求項４】
Ｒ’が−Ｈ、−ＯＡｃ及び−Ｐ（ＮｉＰｒ２）（ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＮ）から成る群から選択される、請求項１に記載の化合物。
【請求項５】
Ｒ’’がトリホスフェート（−Ｐ（Ｏ）（ＯＨ）−Ｏ−Ｐ（Ｏ）（ＯＨ）−Ｏ−Ｐ（Ｏ）（ＯＨ）２）である、請求項１に記載の化合物。
【請求項６】
請求項１から６のいずれかに記載の化合物を含む核酸分子。
【請求項７】
式Ｉ：
【化７】
2016540755.tif 000007
に示される構造を含む化合物：
式中、
Ｒは独立して−（ＣＨ２）ｎ−であって、式中ｎは０、１、２、３、４、５、６、７、８、９または１０であり；
ＲＸ１は独立して
【化８】
2016540755.tif 000008
または
【化９】
2016540755.tif 000009
から成る群から選択され、
式中、
【化１０】
2016540755.tif 000010
はＲＸ１基の−（ＣＨ２）ｎ−基への結合点を示し；及び
ＲＸ４は分岐型または直鎖の低級アルキル（Ｃ１−Ｃ２０）；水酸基；ハロゲン（Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ）；ニトリル（ＣＮ）；ボロン酸（ＢＯ２Ｈ２）；カルボン酸（ＣＯＯＨ）；カルボン酸エステル（ＣＯＯＲＸ２）；第１級アミド（ＣＯＮＨ２）；第２級アミド（ＣＯＮＨＲＸ２）；第３級アミド（ＣＯＮＲＸ２ＲＸ３）；スルホンアミド（ＳＯ２ＮＨ２）；Ｎ−アルキルスルホンアミド（ＳＯＮＨＲＸ２）から成る群から独立して選択され、
ＲＸ２及びＲＸ３が独立して、それぞれの存在について、分岐型または直鎖の低級アルキル（Ｃ１−Ｃ２０）；フェニル（Ｃ６Ｈ５）；ＲＸ４で置換したフェニル環（ＲＸ４Ｃ６Ｈ４）、式中、ＲＸ４は上記で定義した通りである；カルボン酸（ＣＯＯＨ）；カルボン酸エステル（ＣＯＯＲＸ５）、式中ＲＸ５は分岐型または直鎖の低級アルキル（Ｃ１−Ｃ２０）である；及びシクロアルキルから成る群から選択され、ここで、ＲＸ２＝ＲＸ３＝（ＣＨ２）nであり、
Ｘは−Ｈ、−ＯＨ、−ＯＭｅ、−Ｏ−アリル、−Ｆ、−ＯＥｔ、−ＯＰｒ、−ＯＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ３及び−アジドから成る群から独立して選択され；
Ｒ’は−Ｈ、−ＯＡｃ；−ＯＢｚ；−Ｐ（ＮｉＰｒ２）（ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＮ）；及び−ＯＳｉＭｅ２ｔＢｕから成る群から独立して選択され；
Ｒ’’はトリホスフェート（−Ｐ（Ｏ）（ＯＨ）−Ｏ−Ｐ（Ｏ）（ＯＨ）−Ｏ−Ｐ（Ｏ）（ＯＨ）２）である； 
及びそれらの塩；
であって、次の例外：
ｎ＝４である場合、ＲＸ１はＨで有り得なく；
ｎ＝３である場合、ＲＸ１はＣＨ３で有り得なく；
ｎ＝０である場合、ＲＸ１は−ＣＨ（ＣＨ３）２で有り得なく；及び
ｎ＝２であり、及びＲＸ１が
【化１１】
2016540755.tif 000011
及びＲＸ４がヒドロキシルである場合、ＲＸ１は
【化１２】
2016540755.tif 000012
で有り得ない、前記化合物。
【請求項８】
ＲＸ４が分岐型または直鎖の低級アルキル（Ｃ１−Ｃ６）；−ＯＨ；−Ｆ及びカルボン酸（ＣＯＯＨ）から成る群から独立して選択される、請求項７に記載の化合物。
【請求項９】
Ｘが−Ｈ、−ＯＨ、−ＯＭｅ及び−Ｆから成る群から独立して選択される、請求項７に記載の化合物。
【請求項１０】
Ｒ’が−Ｈ、−ＯＡｃ及び−Ｐ（ＮｉＰｒ２）（ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＮ）から成る群から選択される、請求項７に記載の化合物。
【請求項１１】
請求項７から１０のいずれかに記載の化合物を含む核酸分子。
【請求項１２】
式Ｉ：
【化１３】
2016540755.tif 000013
を有する化合物であって、
式中、
Ｒは独立して−（ＣＨ２）ｎ−であって、式中ｎは０、１、２または３であり；
ＲＸ１は独立して
【化１４】
2016540755.tif 000014
または
【化１５】
2016540755.tif 000015
から成る群から選択され、
式中、
【化１６】
2016540755.tif 000016
はＲＸ１基の−（ＣＨ２）ｎ−基への結合点を示し；及び
ＲＸ４は分岐型または直鎖の低級アルキル（Ｃ１−Ｃ２０）；水酸基；ハロゲン（Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ）；ニトリル（ＣＮ）；ボロン酸（ＢＯ２Ｈ２）；カルボン酸（ＣＯＯＨ）；カルボン酸エステル（ＣＯＯＲＸ２）；第１級アミド（ＣＯＮＨ２）；第２級アミド（ＣＯＮＨＲＸ２）；第３級アミド（ＣＯＮＲＸ２ＲＸ３）；スルホンアミド（ＳＯ２ＮＨ２）；Ｎ−アルキルスルホンアミド（ＳＯＮＨＲＸ２）から成る群から独立して選択され、
ＲＸ２及びＲＸ３が独立して、それぞれの存在について、分岐型または直鎖の低級アルキル（Ｃ１−Ｃ２０）；フェニル（Ｃ６Ｈ５）；ＲＸ４で置換したフェニル環（ＲＸ４Ｃ６Ｈ４）、式中、ＲＸ４は上記で定義した通りである；カルボン酸（ＣＯＯＨ）；カルボン酸エステル（ＣＯＯＲＸ５）、式中ＲＸ５は分岐型または直鎖の低級アルキル（Ｃ１−Ｃ２０）である；及びシクロアルキルから成る群から選択され、ここで、ＲＸ２＝ＲＸ３＝（ＣＨ２）nであり、
Ｘは−Ｈ、−ＯＨ、−ＯＭｅ、−Ｏ−アリル、−Ｆ、−ＯＥｔ、−ＯＰｒ、−ＯＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ３及び−アジドから成る群から独立して選択され；
Ｒ’は−Ｈ、−ＯＡｃ；−ＯＢｚ；−Ｐ（ＮｉＰｒ２）（ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＮ）；及び−ＯＳｉＭｅ２ｔＢｕから成る群から独立して選択され；
Ｒ’’は水素、４，４’−ジメトキシトリチル（ＤＭＴ）及びトリホスフェート（−Ｐ（Ｏ）（ＯＨ）−Ｏ−Ｐ（Ｏ）（ＯＨ）−Ｏ−Ｐ（Ｏ）（ＯＨ）２）またはそれらの塩から成る群から独立して選択される、化合物の製造方法であって、
前記方法は、式ＩＸ
【化１７】
2016540755.tif 000017
〔式中、
ＲＸ６がヨードまたは臭素基であり；
ＲＸ７及びＲＸ８は独立して、それぞれの存在について、水素または保護基であり；
Ｘは−Ｈ、−ＯＨ、−ＯＭｅ、−Ｏ−アリル、−Ｆ、−ＯＥｔ、−ＯＰｒ、−ＯＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ３及び−アジドから成る群から独立して選択される〕を有する化合物を提供すること；及び
ＲＸ１−Ｒ−ＮＨ２、一酸化炭素及び溶媒の存在下でのパラジウム（０）触媒反応により式ＩＸを有する前記化合物を変換させること；及び
式Ｉを有する前記化合物を単離することを含む、前記方法。
【請求項１３】
ＲＸ４が分岐型または直鎖の低級アルキル（Ｃ１−Ｃ６）；−ＯＨ；−Ｆ及びカルボン酸（ＣＯＯＨ）から成る群から独立して選択される、請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
Ｒ’が−Ｈ、−ＯＡｃ及び−Ｐ（ＮｉＰｒ２）（ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＮ）から成る群から選択される、請求項１２に記載の方法。
【請求項１５】
Ｒ’’は水素またはトリホスフェート（−Ｐ（Ｏ）（ＯＨ）−Ｏ−Ｐ（Ｏ）（ＯＨ）−Ｏ−Ｐ（Ｏ）（ＯＨ）２）；またはそれらの塩である、請求項１２に記載の方法。
【請求項１６】
式Ｉ：
【化１８】
2016540755.tif 000018
に示される構造を含む化合物：
式中、
Ｒは独立して−（ＣＨ２）ｎ−であって、式中ｎは０、１、２、３、４、５、６、７、８、９または１０であり；
ＲＸ１は独立して
【化１９】
2016540755.tif 000019
または
【化２０】
2016540755.tif 000020
から成る群から選択され、
式中、
【化２１】
2016540755.tif 000021
はＲＸ１基の−（ＣＨ２）ｎ−基への結合点を示し；及び
ＲＸ４は分岐型または直鎖の低級アルキル（Ｃ１−Ｃ２０）；水酸基；ハロゲン（Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ）；ニトリル（ＣＮ）；ボロン酸（ＢＯ２Ｈ２）；カルボン酸（ＣＯＯＨ）；カルボン酸エステル（ＣＯＯＲＸ２）；第１級アミド（ＣＯＮＨ２）；第２級アミド（ＣＯＮＨＲＸ２）；第３級アミド（ＣＯＮＲＸ２ＲＸ３）；スルホンアミド（ＳＯ２ＮＨ２）；Ｎ−アルキルスルホンアミド（ＳＯＮＨＲＸ２）から成る群から独立して選択され、
ＲＸ２及びＲＸ３が独立して、それぞれの存在について、分岐型または直鎖の低級アルキル（Ｃ１−Ｃ２０）；フェニル（Ｃ６Ｈ５）；ＲＸ４で置換したフェニル環（ＲＸ４Ｃ６Ｈ４）、式中、ＲＸ４は上記で定義した通りである；カルボン酸（ＣＯＯＨ）；カルボン酸エステル（ＣＯＯＲＸ５）、式中ＲＸ５は分岐型または直鎖の低級アルキル（Ｃ１−Ｃ２０）である；及びシクロアルキルから成る群から選択され、ここで、ＲＸ２＝ＲＸ３＝（ＣＨ２）nであり、
Ｘは−Ｈ、−ＯＨ、−ＯＭｅ、−Ｏ−アリル、−Ｆ、−ＯＥｔ、−ＯＰｒ、−ＯＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ３及び−アジドから成る群から独立して選択され；
Ｒ’は−Ｈ、−ＯＡｃ；−ＯＢｚ；−Ｐ（ＮｉＰｒ２）（ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＮ）；及び−ＯＳｉＭｅ２ｔＢｕから成る群から独立して選択され；
Ｒ’’は水素もしくはトリホスフェート（−Ｐ（Ｏ）（ＯＨ）−Ｏ−Ｐ（Ｏ）（ＯＨ）−Ｏ−Ｐ（Ｏ）（ＯＨ）２）またはそれらの塩である、化合物の製造方法であって、
前記方法は、式ＩＸ
【化２２】
2016540755.tif 000022
〔式中、
ＲＸ６がヨードまたは臭素基であり；
ＲＸ７及びＲＸ８は独立して、それぞれの存在について、水素または保護基であり；
Ｘは−Ｈ、−ＯＨ、−ＯＭｅ、−Ｏ−アリル、−Ｆ、−ＯＥｔ、−ＯＰｒ、−ＯＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ３及び−アジドから成る群から独立して選択される〕を有する化合物を提供すること；及び
ＲＸ１−Ｒ−ＮＨ２、一酸化炭素及び溶媒の存在下でのパラジウム（０）触媒反応により式ＩＸを有する前記化合物を変換させること；及び
式Ｉを有する前記化合物を単離することを含む、前記方法。
【請求項１７】
ｎが１、２または３である、請求項１６に記載の方法。
【請求項１８】
ＲＸ４は分岐型または直鎖の低級アルキル（Ｃ１−Ｃ６）；−ＯＨ；−Ｆ及びカルボン酸（ＣＯＯＨ）から成る群から独立して選択される、請求項１６に記載の方法。
【請求項１９】
Ｒ’が−Ｈ、−ＯＡｃ及び−Ｐ（ＮｉＰｒ２）（ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＮ）から成る群から選択される、請求項１６に記載の方法。
【請求項２０】
前記保護基がトリフェニルメチル、ｐ−アニシルジフェニルメチル、ジ−ｐ−アニシルジフェニルメチル、ｐ−ジメトキシトリチルトリチル、ホルミル、ｔ−ブチルオキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニル、２−クロロベンジルオキシカルボニル、４−クロロベンゾイルオキシカルボニル、２，４−ジクロロベンジルオキシカルボニル、フルフリルカルボニル、ｔ−アミルオキシカルボニル、アダマンチルオキシカルボニル、２−フェニルプロピル-（２）−オキシカルボニル、２−（４−ビフェニル）プロピル-（２）−オキシカルボニル、２−ニトロフェニルスルフェニル及びジフェニルホスフィニルから成る群から選択される、請求項１２または１６に記載の方法。
【請求項２１】
式Ｉ：
【化２３】
2016540755.tif 000023
を有する化合物であって、
式中、
Ｒは独立して−（ＣＨ２）ｎ−であって、式中ｎは０、１、２、３、４、５、６、７、８、９または１０であり；
ＲＸ１は独立して
【化２４】
2016540755.tif 000024
または
【化２５】
2016540755.tif 000025
から成る群から選択され、
式中、
【化２６】
2016540755.tif 000026
はＲＸ１基の−（ＣＨ２）ｎ−基への結合点を示し；及び
ＲＸ４は分岐型または直鎖の低級アルキル（Ｃ１−Ｃ２０）；水酸基；ハロゲン（Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ）；ニトリル（ＣＮ）；ボロン酸（ＢＯ２Ｈ２）；カルボン酸（ＣＯＯＨ）；カルボン酸エステル（ＣＯＯＲＸ２）；第１級アミド（ＣＯＮＨ２）；第２級アミド（ＣＯＮＨＲＸ２）；第３級アミド（ＣＯＮＲＸ２ＲＸ３）；スルホンアミド（ＳＯ２ＮＨ２）；Ｎ−アルキルスルホンアミド（ＳＯＮＨＲＸ２）から成る群から独立して選択され、
ＲＸ２及びＲＸ３が独立して、それぞれの存在について、分岐型または直鎖の低級アルキル（Ｃ１−Ｃ２０）；フェニル（Ｃ６Ｈ５）；ＲＸ４で置換したフェニル環（ＲＸ４Ｃ６Ｈ４）、式中、ＲＸ４は上記で定義した通りである；カルボン酸（ＣＯＯＨ）；カルボン酸エステル（ＣＯＯＲＸ５）、式中ＲＸ５は分岐型または直鎖の低級アルキル（Ｃ１−Ｃ２０）である；及びシクロアルキルから成る群から選択され、ここで、ＲＸ２＝ＲＸ３＝（ＣＨ２）nであり、
Ｘは−Ｈ、−ＯＨ、−ＯＭｅ、−Ｏ−アリル、−Ｆ、−ＯＥｔ、−ＯＰｒ、−ＯＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ３及び−アジドから成る群から独立して選択され；
Ｒ’は−Ｈ、−ＯＡｃ；−ＯＢｚ；−Ｐ（ＮｉＰｒ２）（ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＮ）；及び−ＯＳｉＭｅ２ｔＢｕから成る群から独立して選択され；
Ｒ’’は水素、４，４’−ジメトキシトリチル（ＤＭＴ）及びトリホスフェート（−Ｐ（Ｏ）（ＯＨ）−Ｏ−Ｐ（Ｏ）（ＯＨ）−Ｏ−Ｐ（Ｏ）（ＯＨ）２）またはそれらの塩から成る群から独立して選択される、化合物の製造方法であって、
前記方法は、式ＩＸ
【化２７】
2016540755.tif 000027
〔式中、
ＲＸ６がヨードまたは臭素基であり；
ＲＸ７及びＲＸ８は独立して、それぞれの存在について、水素または保護基であり、ここで、前記保護基はトリフェニルメチル、ｐ−アニシルジフェニルメチル、ジ−ｐ−アニシルジフェニルメチル、ｐ−ジメトキシトリチルトリチル、ホルミル、ｔ−ブチルオキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニル、２−クロロベンジルオキシカルボニル、４−クロロベンゾイルオキシカルボニル、２，４−ジクロロベンジルオキシカルボニル、フルフリルカルボニル、ｔ−アミルオキシカルボニル、アダマンチルオキシカルボニル、２−フェニルプロピル-（２）−オキシカルボニル、２−（４−ビフェニル）プロピル-（２）−オキシカルボニル、２−ニトロフェニルスルフェニル及びジフェニルホスフィニルから成る群から選択され；
Ｘは−Ｈ、−ＯＨ、−ＯＭｅ、−Ｏ−アリル、−Ｆ、−ＯＥｔ、−ＯＰｒ、−ＯＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ３及び−アジドから成る群から独立して選択される〕を有する化合物を提供すること；及び
ＲＸ１−Ｒ−ＮＨ２、一酸化炭素及び溶媒の存在下でのパラジウム（０）触媒反応により式ＩＸを有する前記化合物を変換させること；及び
式Ｉを有する前記化合物を単離することを含む、前記方法。
【請求項２２】
Ｘが−Ｈ、−ＯＭｅ及び−Ｆから成る群から選択される、請求項２１に記載の方法。
【請求項２３】
ｎが１、２または３である、請求項２１に記載の方法。
【請求項２４】
ＲＸ４は分岐型または直鎖の低級アルキル（Ｃ１−Ｃ６）；−ＯＨ；−Ｆ及びカルボン酸（ＣＯＯＨ）から成る群から独立して選択される、請求項２１に記載の方法。
【請求項２５】
Ｒ’が−Ｈ、−ＯＡｃ及び−Ｐ（ＮｉＰｒ２）（ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＮ）から成る群から選択される、請求項２１に記載の方法。
【請求項２６】
Ｒ’’は水素またはトリホスフェート（−Ｐ（Ｏ）（ＯＨ）−Ｏ−Ｐ（Ｏ）（ＯＨ）−Ｏ−Ｐ（Ｏ）（ＯＨ）２）；またはそれらの塩である、請求項２１に記載の方法。
【請求項２７】
ＲＸ６がヨード基である、請求項１２、１６または２１に記載の方法。
【請求項２８】
ＲＸ７及びＲＸ８が水素である、請求項１２、１６または２１に記載の方法。
【請求項２９】
前記パラジウム（０）触媒反応が０．１及び２気圧の間の一酸化炭素気圧で行われる、請求項１２、１６または２１に記載の方法。
【請求項３０】
前記溶媒がジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、ジクロロメタン（ＤＣＭ）、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、酢酸エチル、アセトン、アセトニトリル（ＭｅＣＮ）、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）及びプロピレンカーボネートから成る群から選択される、請求項１２、１６または２１に記載の方法。
【請求項３１】
式ＩＡ：
【化２８】
2016540755.tif 000028
を有する化合物であって、
式中、
Ｒは独立して−（ＣＨ２）ｎ−であって、式中ｎは０、１、２、３、４、５、６、７、８、９または１０であり；
ＲＸ１は独立して
【化２９】
2016540755.tif 000029
または
【化３０】
2016540755.tif 000030
から成る群から選択され；
【化３１】
2016540755.tif 000031
はＲＸ１基の−（ＣＨ２）ｎ−基への結合点を示し；及び
ＲＸ４は分岐型または直鎖の低級アルキル（Ｃ１−Ｃ２０）；水酸基；ハロゲン（Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ）；ニトリル（ＣＮ）；ボロン酸（ＢＯ２Ｈ２）；カルボン酸（ＣＯＯＨ）；カルボン酸エステル（ＣＯＯＲＸ２）；第１級アミド（ＣＯＮＨ２）；第２級アミド（ＣＯＮＨＲＸ２）；第３級アミド（ＣＯＮＲＸ２ＲＸ３）；スルホンアミド（ＳＯ２ＮＨ２）；Ｎ−アルキルスルホンアミド（ＳＯＮＨＲＸ２）から成る群から独立して選択され；
ＲＸ２及びＲＸ３が独立して、それぞれの存在について、分岐型または直鎖の低級アルキル（Ｃ１−Ｃ２０）；フェニル（Ｃ６Ｈ５）；式中ＲＸ４は上記で定義した通りである、ＲＸ４で置換したフェニル環（ＲＸ４Ｃ６Ｈ４）；カルボン酸（ＣＯＯＨ）；式中ＲＸ５は分岐型または直鎖の低級アルキル（Ｃ１−Ｃ２０）である、カルボン酸エステル（ＣＯＯＲＸ５）；及びシクロアルキルから成る群から選択され、ここで、ＲＸ２＝ＲＸ３＝（ＣＨ２）ｎであり、
Ｘは−Ｈ、−ＯＨ、−ＯＭｅ、−Ｏ−アリル、−Ｆ、−ＯＥｔ、−ＯＰｒ、−ＯＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ３及び−アジドから成る群から独立して選択される、前記化合物；及びそれらの塩
を含む核酸分子の製造方法であって；
複数のヌクレオチド及び式ＩＡを有する少なくとも１つの化合物を有する核酸分子を合成することを含む、前記方法。
【請求項３２】
標的分子についての結合親和性を有する核酸アプタマーの選択方法であって：
（ａ）標的と候補混合物を接触させることであって、ここで少なくとも１つの、または各々の、前記候補混合物の核酸アプタマーにおける１つの、いくつかの、または全てのピリミジンにおける修飾核酸アプタマーを含有する前記候補混合物が請求項１から５および７から１０のいずれかに記載の化合物を含有し、ここで前記標的分子についての結合親和性を有する核酸アプタマーは核酸アプタマー標的分子複合体を形成する、接触させること；
（ｂ）前記候補混合物から前記核酸アプタマー標的分子複合体を分割すること；
（ｃ）前記核酸アプタマー標的分子複合体を分離し、遊離核酸アプタマーを生成すること；
（ｄ）前記候補混合物中の他の核酸に比べて前記標的分子からの増加した分離半減期を有する核酸アプタマーを産生するために、前記遊離核酸アプタマーを増幅すること；
（ｅ）１つの、いくつかの、または全てのピリミジンが請求項１から５および７から１０のいずれかに記載の化合物を含み、そこで前記核酸アプタマーが前記標的分子についての結合親和性を有する、少なくとも１つの核酸アプタマーを同定すること
を含む、前記方法。
【請求項３３】
工程ａ）からｄ）を前記標的分子に結合可能な核酸配列に富む核酸アプタマーの前記混合物と繰り返し、前記標的分子に結合可能な核酸配列にさらに富むために、前記標的分子に結合する時に遅いオフ速度を有し、前記標的分子に結合する時に遅いオフ速度を有する、請求項３２に記載の方法。
【請求項３４】
前記核酸アプタマーの解離速度が約２分から約３６０分である、請求項３２に記載の方法。
【請求項３５】
前記核酸アプタマーの解離速度が約２分以上である、請求項３２に記載の方法。
【請求項３６】
前記標的分子がタンパク質またはペプチドである、請求項３２に記載の方法。
【請求項３７】
前記標的分子がＰＳＣＫ９タンパク質、ＰＳＭＡタンパク質、ＥＲＢＢ２タンパク質及びＥＲＢＢ３タンパク質から成る群から選択される、請求項３２に記載の方法。
【請求項３８】
前記少なくとも１つの核酸アプタマーが前記標的分子に１００ｎＭ未満、または約０．１ｎＭから約１００ｎｍの平衡結合定数（Ｋｄ）で結合することが出来る請求項３２に記載の方法。
【請求項３９】
遅いオフ速度の富化過程に前記候補混合物を曝すことをさらに含む、請求項３２に記載の方法。
【請求項４０】
前記遅いオフ速度の富化過程が工程（ｂ）に先立ち行われる、請求項３２に記載の方法。
【請求項４１】
前記遅いオフ速度の富化過程が競争剤分子の追加、希釈工程、希釈工程が後続する競争剤分子の追加の組み合わせ、競争剤分子の追加が後続する希釈工程の組み合わせ、及び同時の競争剤分子の追加及び希釈工程の組み合わせから成る群から選択される、請求項３２に記載の方法。
【請求項４２】
前記競争剤分子がポリアニオンである、請求項４１に記載の方法。
【請求項４３】
前記競争剤分子がオリゴヌクレオチド、ｄＮＴＰｓ、ヘパリン及びデキストラン硫酸から成る群から選択される、請求項４１に記載の方法。