Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成29年9月29日(2017.9.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
(a)  第一溶媒を含む第一溶液を受け入れるための第一ウェルと、
(b)  前記第一ウェルと流体連通している第一インピーダンスを有する第一チャネルと、
(c)  第二溶媒を含む第二溶液を受け入れるための第二ウェルと、
(d)  前記第二ウェルと流体連通している第二インピーダンスを有する第二チャネルと、
(e)  前記第一及び第二チャネルを通じて前記第一及び第二ウェルからそれぞれ流れた第一及び第二ストリームを受け入れるための第三チャネルであって、
前記第三チャネルは、第三ストリームを提供するために、前記チャネルに導入される前記第一及び第二ストリームを流すように構成された第一領域と、前記第一及び第二ストリームの内容物を混合するように構成された第二領域を備える、第三チャネルと、
(f)  前記第三ストリームを受け入れるための第三ウェルと、を備え、
前記第一インピーダンスは、前記第二インピーダンスとは異なるため、前記第一チャネルと前記第二チャネルを通る流速が異なる、デバイス。
【請求項２】
前記第三ウェルは、第三溶液で満たされると、前方圧力が前記第一ウェル及び前記第二ウェルに加わるまで前記第一ウェル及び前記第二ウェルからの流体動作を停止させる背圧を前記第三チャネルにもたらすように構成されている、請求項１に記載のデバイス。
【請求項３】
前記第三ウェルへの流体動作を停止させるように構成されたバルブを更に備える、請求項１に記載のデバイス。
【請求項４】
前記第一インピーダンスと前記第二インピーダンスとの差異は、チャネル長、チャネルの高さ、チャネル幅、チャネル表面及びそれらの組み合わせからなる群より選択される第一チャネルと第二チャネルの特性の差異から生じる、請求項１に記載のデバイス。
【請求項５】
前記第一インピーダンスと前記第二インピーダンスとの比率は、2.5:1から3:1である、請求項１に記載のデバイス。
【請求項６】
前記第一インピーダンスと前記第二インピーダンスの比率は、前記第二チャネルとは異なる長さを有する第一チャネルから生じる、請求項５に記載のデバイス。
【請求項７】
第三マイクロチャネルの前記第二領域は、約20ミクロンから約400ミクロンの流体力学的直径を有する、請求項１に記載のデバイス。
【請求項８】
第三マイクロチャネルの前記第二領域は、マイクロミキサーを備える、請求項１に記載のデバイス。
【請求項９】
第三マイクロチャネルの前記第二領域は、カオス的移流マイクロミキサーを備える、請求項１に記載のデバイス。
【請求項１０】
第三マイクロチャネルの前記第二領域は、浅浮き彫り構造を備える、請求項1に記載のデバイス。
【請求項１１】
前記浅浮き彫り構造は、複数のヘリンボーン浅浮き彫り構造を含む、請求項１０に記載のデバイス。
【請求項１２】
第三マイクロチャネルの前記第二領域は、主フロー方向を有し、
1又は複数の表面は、そこで規定される少なくとも一つの溝又は突出物を有し、
前記少なくとも一つの溝又は突出物は、主方向に対して角度を形成する配向を有する、請求項1に記載のデバイス。
【請求項１３】
圧力源と第一入口及び第二入口との間における接続を封止し、同じ圧力が前記第一入口と前記第二入口に伝わることができるように構成された圧力分岐管を更に備える、請求項1に記載のデバイス。
【請求項１４】
前記第一入口、第二入口及び圧力分岐管との間で封止された接続を維持するように構成された締め付けデバイスを更に備える、請求項13に記載のデバイス。
【請求項１５】
前記圧力源は、前記圧力分岐管との接続が封止されるように構成されたシリンジを備える、請求項13に記載のデバイス。
【手続補正書】
【提出日】平成29年10月17日(2017.10.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
このために、本発明は、ヘッドアップディスプレイスクリーンとして使用することを目的とする積層グレージングであり、
・２枚のガラス板と、
・これら２枚のガラス板の間に配置された粘弾性プラスチック中間層であって、振動−音響減衰特性を有する粘弾性プラスチック材料製の少なくとも１つの層を含み、かつ積層グレージングの上部から下部に向かってくさび状に減少する断面を有する粘弾性プラスチック中間層と、
を含む積層グレージングであって、該中間層が、この中間層が間に組み入れられている各々の厚みが２．１ｍｍの２枚のガラス板で構成された２５ｍｍ×３００ｍｍの表面積を有する積層グレージングバーの、ＩＳＯ  １６９４０標準規格にしたがって２０℃で機械インピーダンス測定（ＭＩＭ）により測定される第２共振モードの共振振動数ｆ2が７６０Ｈｚと１０００Ｈｚの間であり、同じ条件下でＭＩＭにより測定される同じバーの第２共振モードの損失係数η2が０．２５以上であるようなものである、積層グレージングを提供する。他の態様では、振動−音響減衰特性を有する積層グレージングを形成するために２枚のガラス板の間に組み入れることを目的とした粘弾性プラスチック中間層は、振動−音響減衰特性を有する粘弾性プラスチック製の少なくとも１つの層を含む。
【手続補正書】
【提出日】平成29年11月20日(2017.11.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式（Ａ）：
【化１】
2017500295.tif 000001
式中、
Ｒ１は、水素、アルキル、アシル、または酸素保護基であり；
Ｒ２は、水素、アルキル、アシル、酸素保護基、−［（ＣＨ２）ｎ−Ｏ］ｘ−［（ＣＨ２）ｎ−Ｏ］ｙ−Ｒ”、または−［（ＣＨ２）ｎ−Ｏ］ｘ−［（ＣＨ２）ｎ−Ｏ］ｙ−（ＣＨ２）ｎ−ＮＲ１０−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−Ｒ”であり；
各Ｒ３の出現は、独立して、アルキル、アリールアルキル、または−ＯＲ８であり；
Ｒ４、Ｒ５およびＲ６は、各々独立して、水素またはアルキルであり；
Ｒ７は、−ＯＲ９または−ＳＲ９であり；
Ｒ８は、水素、アルキル、アシル、または酸素保護基であり；
Ｒ９は、水素、アルキル、酸素保護基（酸素原子に付いている場合）、または硫黄保護基（硫黄原子に付いている場合）であり；
Ｒ１０は、水素、アルキル、アシル、または窒素保護基であり；
Ｒ’は、水素または酸素保護基であり；
Ｒ”は、水素、アルキル、アシル、または酸素保護基であり；
各ｎの出現は、独立して１〜８の整数であり；
ｋは、０〜２の整数であり；
ｘは、１〜８の整数であり；および
ｙは、０〜８の整数である；
で表される化合物、またはその薬学的に許容し得る塩。
【手続補正書】
【提出日】平成29年10月16日(2017.10.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
３次元物品を製造する方法であって、
第１の固形粒子を含んでいる物品インク組成物を準備する工程、
液状担体中の第２の固形粒子と分散物とを含んでいる支持体インク組成物を準備する工程であって、前記第２の固形粒子が前記第１の固形粒子とは異なるものである工程、
プリントヘッドから前記物品インク組成物を施与して、前記第１の固形粒子の物品層を形成する工程、
前記プリントヘッドから前記支持体インク組成物を施与して、前記第２の固形粒子の支持体層を形成する工程、
前記物品層および前記支持体層を加熱して、前記液状担体を蒸発させる工程であって、前記分散物が前記支持体層の結合剤の役割をする工程、および
物品の部分および支持体構造物を含んでいるプリントされた物品を構築する工程であって、前記プリントされた物品が一連の層を施与することによって構築され、各層が次の層が施与される前に乾燥される工程
を含む、方法。
【請求項２】
前記第１の固形粒子が金属粒子である、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記プリントされた物品から前記支持体構造物を除去する工程をさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記支持体構造物を除去する工程が、機械的な力をかける工程を含む、請求項３に記載の方法。
【請求項５】
前記支持体構造物を除去する工程が、前記プリントされた物品を焼結する前または後に前記プリントされた物品を水溶液中に浸漬する工程を含む、請求項３に記載の方法。
【請求項６】
前記支持体構造物を除去する工程が、前記プリントされた支持体構造物に熱をかける工程を含む、請求項３に記載の方法。
【請求項７】
前記支持体構造物が、前記物品の部分を焼結する第２の温度よりも低い第１の温度で融解しまたは崩壊する、請求項６に記載の方法。
【請求項８】
以下の工程を含むプロセスを使用して製造される３次元物品を支持する構造物をプリントするための支持体インク組成物であって、前記以下の工程が、
第１の固形粒子を含んでいる物品インク組成物を準備する工程、
液状担体中の第２の固形粒子と分散物とを含んでいる支持体インク組成物を準備する工程であって、前記第２の固形粒子が前記第１の固形粒子とは異なるものである工程、
プリントヘッドから前記物品インク組成物を施与して、前記第１の固形粒子の物品層を形成する工程、
前記プリントヘッドから前記支持体インク組成物を施与して、前記第２の固形粒子の支持体層を形成する工程、
前記物品層および前記支持体層を加熱して、前記液状担体を蒸発させる工程であって、前記分散物が前記支持体層の結合剤の役割をする工程、および
物品の部分および支持体構造物を含んでいるプリントされた物品を構築する工程であって、前記プリントされた物品が一連の層を施与することによって構築され、各層が次の層が施与される前に乾燥される工程
を含む、支持体インク組成物。
【請求項９】
前記第２の固形粒子が、前記支持体インク組成物の約６０重量パーセント未満である、請求項８に記載の支持体インク組成物。
【請求項１０】
前記第２の固形粒子が、炭酸カルシウム、硫酸カルシウム、硫酸マグネシウム、炭酸ナトリウムおよび重炭酸ナトリウムを含む群から選ばれた無機塩からつくられたものである、請求項８に記載の支持体インク組成物。
【請求項１１】
前記第２の固形粒子が、酸化亜鉛、酸化マグネシウム、酸化ケイ素（シリカ）、酸化アルミニウム（アルミナ）、酸化チタン（チタニア）および酸化イットリウム（イットリア）を含む群から選ばれた金属酸化物からつくられたものである、請求項８に記載の支持体インク組成物。
【請求項１２】
前記第２の固形粒子が、炭化ケイ素、炭化タングステンおよび炭化チタンを含む群から選ばれた金属炭化物からつくられたものである、請求項８に記載の支持体インク組成物。
【請求項１３】
前記第２の固形粒子が、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン、ポリスチレン、ポリアミドおよびポリオキシメチレンを含む群から選ばれたポリマー材料からつくられたものである、請求項８に記載の支持体インク組成物。
【請求項１４】
前記液状担体が、前記支持体インク組成物の約４０重量パーセント超である、請求項８に記載の支持体インク組成物。
【請求項１５】
前記液状担体が、ジプロピレングリコールメチルエーテル、ジエチレングリコールブチルエーテル、ジメトキシエタンおよびエチレングリコールジメチルエーテルを含む群から選ばれたグリコールエーテルを含んでいる、請求項８に記載の支持体インク組成物。
【請求項１６】
前記分散物が、前記支持体インク組成物の約１０重量パーセント未満である、請求項８に記載の支持体インク組成物。
【請求項１７】
前記分散物が、Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ １８０、Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ １９０、Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ ２０１３、Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ １６３、Ｓｏｌｓｐｅｒｓｅ ３９０００、Ｓｏｌｓｐｅｒｓｅ ３３０００、Ｓｏｌｓｐｅｒｓｅ ３５０００、Ｒｈｅｏｓｐｅｒｓｅ ３０２０、Ｒｈｅｏｓｐｅｒｓｅ ３４５０、Ｒｈｅｏｓｐｅｒｓｅ ３６２０、Ｅｆｋａ ７７０１、Ｅｆｋａ ７７３１およびＥｆｋａ ７７３２を含む群から選ばれた少なくとも１種のポリマー分散剤を含んでいる、請求項８に記載の支持体インク組成物。
【請求項１８】
前記分散物が、ラウリル硫酸ナトリウム、臭化セチルテトラアンモニウムおよびスルホコハク酸ジオクチルを含む群から選ばれた少なくとも１種のイオン性分散剤を含んでいる、請求項８に記載の支持体インク組成物。
【請求項１９】
前記支持体インク組成物が、表面改質剤としての役割をする、ポリブチラールまたは少なくとも１種のセルロースポリマーを含んでおり、前記少なくとも１種のセルロースポリマーが、エチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロースおよび酢酸セルロースを含む群から選ばれたものである、請求項８に記載の支持体インク組成物。
【請求項２０】
前記支持体インク組成物が、前記第２の固形粒子として使用される約２６重量パーセントのチタニア、前記分散剤として使用される約２重量パーセントのＤｉｓｐｅｒｂｙｋ １９０および表面改質剤として使用される１重量パーセント未満のＢｕｔｖａｒ Ｂ−９０を含んでいる、請求項８に記載の支持体インク組成物。
【請求項２１】
前記支持体インク組成物が、前記第２の固形粒子として使用される約３２重量パーセントの硫酸カルシウム、前記分散剤として使用される約２重量パーセントのＤｉｓｐｅｒｂｙｋ １９０および表面改質剤として使用される２重量パーセント未満のＢｕｔｖａｒ Ｂ−９０を含んでいる、請求項８に記載の支持体インク組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成29年4月19日(2017.4.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
高分子マトリックスおよび複数の少なくとも第１の金属−有機構造体（metal-organic framework）（ＭＯＦ）を含む混合マトリックス高分子膜であって、該複数の第１のＭＯＦが、共有結合または水素結合またはファン・デル・ワールス相互作用によって高分子マトリックスに付着している、混合マトリックス高分子膜。
【請求項２】
（ａ）複数の第１のＭＯＦが共有結合によって高分子マトリックスに付着しているか、
（ｂ）第１のＭＯＦがゼオライト型イミダゾレート構造体（zeolitic imidazolate framework）（ＺＩＦ）であるか、
（ｃ）第１のＭＯＦが等網目状金属−有機構造体−３（isoreticular metal-organic framework-3）（ＩＲＭＯＦ−３）であるか、
（ｄ）第１のＭＯＦとは異なる複数の少なくとも第２のＭＯＦをさらに含むか、
（ｅ）第１または第２のＭＯＦが、Ｚｎ、Ｃｕ、Ｃｏ、もしくはＦｅ、またはそれらの任意の組み合わせを含むか、
（ｆ）１〜９９％の官能化イミダゾールを含むか、
（ｇ）第１または第２のＭＯＦが約０．１〜５ｎｍの細孔サイズを有するか、
（ｈ）ポリマーがポリイミドを含むか、
（ｉ）ＭＯＦを５〜９０モルパーセント含むか、
（ｊ）実質的にボイドフリーであるか、または膜中のボイドの大部分が直径５オングストローム以下であるか、
（ｋ）平膜、スパイラル膜、管状膜、または中空糸膜であるか、
（ｌ）薄膜であるか、または
（ｍ）第１のガスを第２のガスから分離することができる、
請求項１記載の混合マトリックス高分子膜。
【請求項３】
第１のＭＯＦがゼオライト型イミダゾレート構造体（ＺＩＦ）である場合、
（ａ）高分子マトリックスへのＺＩＦの付着が、高分子マトリックスとＺＩＦのイミダゾレート配位子上の官能基との間で形成されているか、または
（ｂ）ＺＩＦがＺＩＦ−８−９０である、請求項２記載の混合マトリックス高分子膜。
【請求項４】
高分子マトリックスへのＺＩＦの付着が、高分子マトリックスとＺＩＦのイミダゾレート配位子上の官能基との間で形成されている場合、ＺＩＦが、メチルイミダゾールカルボキシアルデヒド配位子、メチルイミダゾール配位子、またはそれらの組み合わせを含む、請求項３記載の混合マトリックス高分子膜。
【請求項５】
ＺＩＦのイミダゾレート配位子が、少なくとも２種類の官能基で官能化されている、請求項４記載の混合マトリックス高分子膜。
【請求項６】
少なくとも２種類の官能基が、アミノ基およびイミン官能基である、請求項５記載の混合マトリックス高分子膜。
【請求項７】
第１のＭＯＦとは異なる複数の少なくとも第２のＭＯＦをさらに含む場合、
（ａ）第１のＭＯＦがＺＩＦであり、第２のＭＯＦがＩＲＭＯＦ−３であるか、または
（ｂ）第１のＭＯＦが第１のＺＩＦであり、第２のＭＯＦが第１のＺＩＦとは異なるＺＩＦである、
請求項２記載の混合マトリックス高分子膜。
【請求項８】
ポリマーがポリイミドを含む場合、ポリイミドが６−ＦＤＡ−デュレンまたは６ＦＤＡ−ＤＡＭを含む、請求項２記載の混合マトリックス高分子膜。
【請求項９】
第１のガスを第２のガスから分離することができる場合、第１のガスがオレフィンであり、第２のガスがパラフィンである、請求項２記載の混合マトリックス高分子膜。
【請求項１０】
少なくとも第１の成分が非透過物の形態で第１の面上に保持され、少なくとも第２の成分が透過物の形態で膜を通って第２の面へ透過するように、複数の成分の混合物を請求項１〜９記載の混合マトリックス高分子膜のうちのいずれか一つの第１の面上に接触させる工程を含む、少なくとも１つの成分を複数の成分の混合物から分離するための方法。
【請求項１１】
（ａ）第１の成分が第１のガスであり、第２の成分が第２のガスであるか、
（ｂ）非透過物および／または透過物が精製工程に供されるか、または
（ｃ）混合物を膜へ供給する圧力が、２０〜６５℃の範囲の温度で１〜８ａｔｍである、
請求項１０記載の方法。
【請求項１２】
第１の成分が第１のガスであり、第２の成分が第２のガスである場合、第１のガスがオレフィンであり、第２のガスがパラフィンである、請求項１１記載の方法。
【請求項１３】
（ａ）少なくとも第１のＭＯＦを少なくとも１種類の官能基で官能化する工程；および
（ｂ）複数の第１のＭＯＦをポリマーへ共有結合または水素結合またはファン・デル・ワールス相互作用によって付着させる工程
を含む、請求項１〜９のいずれか一項記載の混合マトリックス高分子膜を製造する方法。
【請求項１４】
（ａ）複数の第１のＭＯＦが共有結合によって高分子マトリックスに付着しているか、
（ｂ）少なくとも１種類の官能基がアミノ基またはイミン官能基であるか、
（ｃ）第１のＭＯＦが、少なくとも２種類の官能基を含むＺＩＦであるか、または
（ｄ）ポリマーがポリイミドである、
請求項１３記載の方法。
【請求項１５】
（ａ）第１のＭＯＦが、少なくとも２種類の官能基を含むＺＩＦである場合、少なくとも２種類の官能基が、アミノ基およびイミン官能基であるか、または
（ｂ）ポリマーがポリイミドである場合、ポリイミドが６−ＦＤＡ−デュレンまたは６ＦＤＡ−ＤＡＭであり、かつ透過物がガス状Ｈ２を含んでいてもよい、
請求項１３記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成29年11月2日(2017.11.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数のＬＥＤと、１つ又は複数の光学素子と、前記複数のＬＥＤ及び前記光学素子に動作可能に結合されたコントローラとを含むＬＥＤベースの照明ユニットであって、前記コントローラは、可能値の範囲内の検出された電気信号の特性の値に基づいて、前記複数のＬＥＤの複数の所定の分布から一つの所定の分布を選択することに応じて、前記一つの所定の分布の複数のＬＥＤに電圧を印加することか、又は複数の所定の照明効果から選択された照明効果を達成するように前記１つ若しくは複数の光学素子を構成することの少なくとも一方を実行するようにする、ＬＥＤベースの照明ユニット。
【請求項２】
前記検出された電気信号の特性は、前記電気信号の二乗平均平方根（ＲＭＳ）である、請求項１に記載のＬＥＤベースの照明ユニット。
【請求項３】
前記１つ又は複数の光学素子は、前記検出された電気信号の特性の値に基づいて、前記複数のＬＥＤによって放射された光のビーム幅又は角度を規定するように構成可能である複数のコリメータを含む、請求項１に記載のＬＥＤベースの照明ユニット。
【請求項４】
前記複数の所定の分布は、前記複数のＬＥＤによって生成される光ビームの幅が、前記可能値の範囲内の前記電気信号の特性の値の位置に対応するように選択される、請求項１に記載のＬＥＤベースの照明ユニット。
【請求項５】
前記複数の所定の分布は、前記複数のＬＥＤによって生成される光の全体的強度が、前記可能値の範囲内の前記電気信号の特性の値の位置に対応するように選択される、請求項１に記載のＬＥＤベースの照明ユニット。
【請求項６】
前記複数の所定の分布は、前記複数のＬＥＤによって生成される光ビームの角度が、前記可能値の範囲内の前記電気信号の特性の値の位置に対応するように選択される、請求項１に記載のＬＥＤベースの照明ユニット。
【請求項７】
前記複数の所定の分布は、面上に前記複数の所定の照明効果パターンを前記複数のＬＥＤに生成させるように選択される、請求項１に記載のＬＥＤベースの照明ユニット。
【請求項８】
前記電気信号はＡＣ電圧を含み、前記ＡＣ電圧をＤＣ電圧に変換するＡＣ−ＤＣ変換器を更に含む、請求項１に記載のＬＥＤベースの照明ユニット。
【請求項９】
前記ＤＣ電圧及び前記コントローラの出力に基づいて、パルス幅変調電流を前記複数のＬＥＤに供給するドライバを更に含む、請求項８に記載のＬＥＤベースの照明ユニット。
【請求項１０】
前記複数の所定の分布は、前記複数のＬＥＤの複数の所定のサブセットを含む、請求項１に記載のＬＥＤベースの照明ユニット。
【請求項１１】
前記複数のＬＥＤは、ＬＥＤの線形ストリップを含み、前記複数の所定の分布は、ストリップに沿った電圧を印加された前記ＬＥＤの先端が、前記可能値の範囲内の前記電気信号の特性の値の位置に対応するように選択される、請求項１に記載のＬＥＤベースの照明ユニット。
【請求項１２】
前記１つ又は複数の光学素子は、前記複数のＬＥＤから調節可能な距離に配置される少なくとも１つのレンズを含み、前記調節可能な距離は、前記検出された電気信号の特性の値に基づいて選択される、請求項１に記載のＬＥＤベースの照明ユニット。
【請求項１３】
前記１つ又は複数の光学素子は、前記検出された電気信号の特性の値に基づいて駆動される切り替え可能拡散器を含む、請求項１に記載のＬＥＤベースの照明ユニット。
【請求項１４】
コントローラによって、調光器スイッチに関連付けられた電気信号を検出するステップと、前記コントローラによって、可能値の範囲内の検出された電気信号の特性の値を決定するステップと、a）前記コントローラによって、前記特性の値に基づいて、複数のＬＥＤの複数の所定の分布から一つの所定の分布を選択するのに応じて、前記一つの所定の分布の複数のＬＥＤに電圧を印加することか、又はｂ）前記コントローラによって、前記特性の値に基づいて複数の所定の照明効果から選択された照明効果を達成するように前記１つ若しくは複数の光学素子を構成することの少なくとも一方を実行するようにするステップと、を含む、照明制御方法。
【請求項１５】
複数の光源と、１つ又は複数の光学素子と、前記複数の光源及び前記光学素子に動作可能に結合されたコントローラとを含む照明ユニットであって、前記コントローラは、調光器スイッチからの検出された電気信号の二乗平均平方根の値に基づいて、前記複数の光源の複数の所定の分布から一つの所定の分布を選択することに応じて、前記一つの所定の分布の複数の光源に電圧を印加することか、又は複数の所定の照明効果から選択された照明効果を達成するように前記１つ若しくは複数の光学素子を構成することの少なくとも一方を実行するようにする、照明ユニット。
【手続補正書】
【提出日】平成29年9月29日(2017.9.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
超電導体テープを形成する方法であって、
基板上に超伝導体層を堆積するステップと、
前記超電導体層の表面上に第１の金属よりなる金属層を形成するステップと、
前記金属層内に合金種を注入し、前記合金種の注入後に前記第１の金属が金属合金を形成するステップと、
を含む方法。
【請求項２】
前記金属層と前記超電導体層を前記基板上に第１のパターンを規定するパターン化された積層体として設けるステップをさらに備える、請求項１記載の方法。
【請求項３】
前記基板は金属テープを備え、前記方法は前記注入ステップ中に前記金属テープを前記合金種のイオンを含む注入領域中を連続的に引くステップを更に備える、請求項１記載の方法。
【請求項４】
前記基板は、基板ベースと、結晶方位を有する材料よりなる中間層とを備える、請求項１記載の方法。
【請求項５】
前記金属層を前記注入後にアニールするステップを更に備える、請求項１記載の方法。
【請求項６】
前記合金種は前記第１の金属に対して０．１％から３０％のモル比率をなす、請求項１記載の方法。
【請求項７】
前記合金種を注入するステップは、第１組の条件の下で第１の注入を実行するステップと、第２組の条件の下で第２の注入を実行するステップとを備え、前記第２組の条件は前記第１組の条件と、種の種類、イオンエネルギー又はイオンドーズ量のうちの少なくとも一つが相違する、請求項１記載の方法。
【請求項８】
超電導体テープを処理する方法であって、
前記超電導体テープを超電導体層と金属層とを備える自立テープとして準備するステップと、
イオンを注入領域内に第１の方向に沿って向けるステップと、
前記超電導体テープを前記第１の方向に対して垂直の引き軸に沿って前記注入領域中を引き、前記金属層にイオンを照射するステップと、
を備える、方法。
【請求項９】
前記超電導体テープを前記注入中に第１の真空室内の第１のリールと第２の真空室内の第２のリールとの間で引くステップを更に備える、請求項８記載の方法。
【請求項１０】
前記超電導体テープ近傍の前記イオンのイオンドーズ量を測定するステップと、
前記引くステップの速度を前記測定イオンドーズ量に基づいて調整するステップと、
を更に備える請求項８記載の方法。
【請求項１１】
前記超電導体テープを冷却ローラに沿って引くことによって、前記超電導体テープを引く間に冷却するステップを更に備える、請求項８記載の方法。
【請求項１２】
前記注入中に前記超導電体テープの抵抗率測定を実行するステップと、
前記測定された抵抗率に基づいて前記テープの速度を調整するステップと、
を更に備える、請求項８記載の方法。
【請求項１３】
前記注入中に前記イオンと前記金属層との間の反応を促進するのに有効なガス種を前記注入領域に導入するステップを更に備える、請求項８記載の方法。
【請求項１４】
前記金属層は前記超電導体層の第１の面に配置された第１の金属層であり、前記超導電体テープは前記超導電体層の第２の面に配置された第２の金属層を備え、前記超導電体テープは前記第１の金属層がイオンに暴露されるとき第１の向きであり、前記方法は更に、
前記超電導体テープの向きをひっくり返し、前記第２の金属層がイオンに暴露されるようにするステップと、
前記超導電体テープを前記引き軸に沿って引くステップと、
を備える、請求項８記載の方法。
【請求項１５】
テープをイオン注入するためのイオン注入装置であって、
イオンビームを第１の方向に沿って案内する注入チャンバと、
前記注入チャンバの第１の側に配置され、第１のリールを収容する第１の真空室と、
前記注入チャンバの前記第１の側と反対の第２の側に配置され、第２のリールを収容する第２の真空室とを備え、前記第１及び第２のリールが前記テープを前記第１の方向に対して垂直の方向に前記イオンビーム中を引くように相互動作する、
テープイオン注入用イオン注入装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】超電導体テープを形成する方法及び処理する方法、テープイオン注入用イオン注入装置
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
他の実施形態では、非接触又は接触熱センサ（図示せず）によって複数点でテープ１３０の温度測定を実行することができる。特定の実施形態では、温度測定量は制御システム１６０に、ローラ１３６，１３８，１４０，１４２に供給する加熱及び冷却を調整する入力として送信することができる。これは、テープ１３０の温度が注入中適切な温度に維持されるとともに巻き取りリール１２６又は１２８に巻き取られる際に適切な温度になるようにするために使用される。他の実施形態では、イオン源の距離を制御システムに対して較正するためにイオンビーム１１２を遮断するかイオンビームのより大きな部分又はより小さな部分をファラデーセンサ１４４，１４８に暴露する機能（図示せず）をテープ１３０に付加もしくは生成することができる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３４】
様々な実施形態では、イオン注入条件はイオン種及び金属層の材料並びに金属層の厚さに従って調整することができる。図３Ａ−３Ｃは銀層内への様々な種のイオン注入の計算結果を示し、注入された種の濃度を銀層の表面からの深さの関数として（注入プロファイル）として示す。図３Ａにおいて、１５０ｋｅＶ（曲線３０２）及び３００ｋｅＶ（曲線３０４）のエネルギーにおける銀層へのホウ素注入のシミュレーションの結果が示されている。図に示すように、ホウ素は１５０ｋｅＶで約２５０ｎｍの深さにおいてピーク濃度に達し、３００ｋｅＶで約４００ｎｍの深さにおいてピーク濃度に達する。図３Ｂは、５０ｋｅＶ（曲線３１２）、１５０ｋｅＶ（曲線３１４）、３００ｋｅＶ（曲線３１６）でのホウ素注入の結果及びこの３つの注入エネルギーの合成（曲線３１８）が示されている。図３Ｃは、５０ｋｅＶ（曲線３２２）、１５０ｋｅＶ（曲線３２４）、３００ｋｅＶ（曲線３２６）での炭素注入の結果及びこの３つの注入エネルギーの合成（曲線３２８）が示されている。曲線３１８及び３２８の結果から明らかなように、各イオン種に対して示されるそれぞれ３つの注入を実行することによって〜４５０ｎｍの銀層内にホウ素及び炭素の均一な分布を達成することができる。これらの結果は一例にすぎないが、銀等の金属層内に平坦な注入プロファイルを達成するためにどのように複数のイオン注入を利用できるかを説明している。
【手続補正５】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１Ｃ
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１Ｃ】
2017500698.tif 000001
【手続補正６】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図３−１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図３−１】
2017500698.tif 000002
【手続補正書】
【提出日】平成29年11月10日(2017.11.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
照光パターンで表面を照光する照明システムであって、互いに空間的に分散された関係で位置する複数の照明ユニットを含み、前記複数の照明ユニットがそれぞれ、前記表面に照光フットプリントを生成する光ビームを放出し、前記照光フットプリントは、垂直照度分布と水平照度分布とを有し、更に、放出される光ビームが合わさって前記照光パターンを生み出し、それぞれの光ビームによって前記表面に生成される前記照光フットプリントの強度は、前記水平照度分布の長さに沿って変化し、正規化された照光強度値が、前記水平照度分布の約４０％から８０％を含む中央領域では約０．６と１．０との間の範囲内であって、前記水平照度分布の各端部ではより一様でなく、それぞれの光ビームによって前記表面に生成される前記照光フットプリントの前記強度は、前記垂直照度分布の長さに沿って変化し、正規化された照光強度値が、前記垂直照度分布の約７０％から９０％を含む中央領域では約０．８と１．０との間の範囲内であって、前記垂直照度分布の各端部ではより一様でない、照明システム。
【請求項２】
前記水平照度分布に沿った一様な強度の中央領域の長さは、前記水平照度分布の両端でのより一様でない強度の長さの合計よりも短い、請求項１に記載の照明システム。
【請求項３】
前記垂直照度分布に沿った一様な強度の中央領域の長さは、前記垂直照度分布の両端でのより一様でない強度の長さの合計よりも長い、請求項１に記載の照明システム。
【請求項４】
前記複数の照明ユニットはそれぞれ、複数のＬＥＤベースの光源を備える、請求項１に記載の照明システム。
【請求項５】
前記表面が壁である、請求項１に記載の照明システム。
【請求項６】
第１の照明ユニットによって放出される光ビームの水平照度分布の少なくとも一端のより一様でない強度が、隣接する照明ユニットによって放出される光ビームの水平照度分布の少なくとも一端のより一様でない強度と重なり合う、請求項１に記載の照明システム。
【請求項７】
照光パターンで表面を照光する照明ユニットであって、互いに空間的に分散された関係で位置するＬＥＤベースの複数の光源を含み、前記複数の光源がそれぞれ、前記表面に照光フットプリントを生成する光ビームを放出し、前記照光フットプリントは、垂直照度分布と水平照度分布とを有し、更に、放出される光ビームが合わさって前記照光パターンを生み出し、それぞれの光ビームによって前記表面に生成される前記照光フットプリントの強度は、前記水平照度分布の長さに沿って変化し、前記強度は、前記水平照度分布の約４０％から８０％を含む中央領域では、前記水平照度分布の各端部よりも一様であり、それぞれの光ビームによって前記表面に生成される前記照光フットプリントの前記強度は、前記垂直照度分布の長さに沿って変化し、前記強度は、前記垂直照度分布の約７０％から９０％を含む中央領域では、前記垂直照度分布の各端部よりも一様である、照明ユニット。
【請求項８】
前記水平照度分布に沿った一様な強度の中央領域の長さは、水平照度分布の両端でのより一様でない強度の長さの合計よりも短い、請求項７に記載の照明ユニット。
【請求項９】
前記垂直照度分布に沿った一様な強度の中央領域の長さは、前記垂直照度分布の両端でのより一様でない強度の長さの合計よりも長い、請求項７に記載の照明ユニット。
【請求項１０】
第１の光源によって放出される光ビームの水平照度分布の少なくとも一端のより一様でない強度が、隣接する光源によって放出される光ビームの水平照度分布の少なくとも一端のより一様でない強度と重なり合う、請求項７に記載の照明ユニット。
【請求項１１】
照光パターンで表面を照光するための方法であって、互いに空間的に分散された関係で位置する複数の照明ユニットを提供するステップを含み、前記複数の照明ユニットがそれぞれ、前記表面に照光フットプリントを生成する光ビームを放出し、前記照光フットプリントは垂直照度分布と水平照度分布を有し、更に、放出される光ビームが合わさって照光パターンを生み出し、それぞれの光ビームによって前記表面に生成される前記照光フットプリントの強度は、前記水平照度分布の長さに沿って変化し、正規化された照光強度値が、前記水平照度分布の約４０％から８０％を含む中央領域では約０．６と１．０の間の範囲内であって、前記水平照度分布の各端部ではより一様でなく、光ビームそれぞれの前記強度は、前記垂直照度分布の長さに沿って変化し、前記強度は、前記垂直照度分布の中央領域で、前記垂直照度分布の各端部よりも一様である、方法。
【請求項１２】
前記複数の照明ユニットのうちの２つ以上を互いに空間的に分散させるステップを更に含む、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
前記複数の照明ユニットはそれぞれ、複数のＬＥＤベースの光源を備える、請求項１１に記載の方法。
【請求項１４】
前記水平照度分布に沿った一様な強度の中央領域の長さは、前記水平照度分布の両端でのより一様でない強度の長さの合計よりも短い、請求項１１に記載の方法。
【請求項１５】
前記垂直照度分布に沿った一様な強度の中央領域の長さは、前記垂直照度分布の両端でのより一様でない強度の長さの合計よりも長い、請求項１１に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成29年6月19日(2017.6.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
トランスデューサヘッドおよびウォブル検出システムを含む光学デジタルストレージシステムにおいてトラッキングエラー信号を提供するための方法であって、
前記ウォブル検出システムから第１の周波数を有するウォブル信号を受け取ることを含み、前記ウォブル検出システムは、ランドおよび溝に対する前記トランスデューサヘッドの位置を検出する光学ピックアップユニットを含み、前記ランド上において中心に位置する前記光学ピックアップユニットについての前記ウォブル信号は、前記溝上において中心に位置する前記光学ピックアップユニットについての前記ウォブル信号とは１８０度位相が異なり、前記ウォブル信号は、前記ランドと前記溝との間の中間の位置について振幅が変調され、前記方法はさらに、
前記ウォブル検出システムからプライマリトラックエラー信号を受け取ることと、
移動の第１の方向について正であり、前記第１の方向と反対である移動の第２の方向について負である積信号を生成するために前記ウォブル信号を同期信号と乗算することと、
前記プライマリトラックエラー信号と９０度位相の異なる直交トラックエラー信号を得るよう前記積信号を積分することとを含み、前記直交トラックエラー信号および前記トラックエラー信号の組合せは、データトラックにわたる前記トランスデューサヘッドの動きに関する方向情報を提供する、方法。
【請求項２】
前記直交トラックエラー信号および前記トラックエラー信号は各々独立して、前記ヘッドがトラックにわたって移動する際の振動パターンを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記直交トラックエラー信号は、前記移動の第１の方向についての前記トラックエラー信号に先行する、請求項１または２に記載の方法。
【請求項４】
前記トラックエラー信号は、前記移動の第２の方向についての前記直交トラックエラー信号に先行する、請求項１〜３のいずれか１項に記載の方法。
【請求項５】
前記直交トラックエラー信号は、前記積信号が移動の第１の方向について正であり、かつ、第１の方向と反対である移動の第２の方向について負であるように変化する、請求項１〜４のいずれか１項に記載の方法。
【請求項６】
前記直交トラックエラー信号および前記トラックエラー信号は、前記ヘッドがトラックにわたって移動する際に、各々独立してシヌソイド関数によって近似される、請求項１〜５のいずれか１項に記載の方法。
【請求項７】
前記トラックエラー信号は、線形関数によって近似される領域の第１のセットを含む、請求項１〜６のいずれか１項に記載の方法。
【請求項８】
前記直交トラックエラー信号は、線形関数によって近似される領域の第２のセットを含む、請求項７に記載の方法。
【請求項９】
線形関数によって近似される前記領域の第１のセットと、線形関数によって近似される前記領域の第２のセットとは、ランドまたは溝からの前記トランスデューサヘッドの変位に対する非オーバーラップ部分を含む、請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
線形関数によって近似される前記領域の第１のセットと、線形関数によって近似される前記領域の第２のセットとは、前記データトラックにわたる前記トランスデューサヘッドの移動の完全な線形化を提供する、請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
光学ストレージシステムにおいてトラッキングエラー信号を提供するための装置であって、
トランスデューサヘッドと、
前記トランスデューサヘッドにおいて位置決めされる光学ピックアップユニットを含むウォブル検出システムとを含み、前記ウォブル検出システムは、ランドおよび溝に対する前記トランスデューサヘッドの位置を検出し、前記ウォブル検出システムは第１の周波数を有するウォブル信号を提供し、ランドについての前記ウォブル信号は溝についての前記ウォブル信号と位相が１８０度異なり、前記ウォブル信号は、前記ランドと前記溝との間の中間の位置について振幅が変調され、前記装置はさらに、
移動の第１の方向について正であり、かつ、前記移動の第１の方向と反対の移動の第２の方向について負である積信号を提供するよう、前記ウォブル信号を前記第１の周波数を有する方形波信号と乗算する同期乗算器と、
前記トラックエラー信号と９０度位相が異なる直交トラックエラー信号を得るよう前記積信号を積分する積分器とを含み、前記直交トラックエラー信号および前記トラックエラー信号の組合せは、データトラックにわたる前記トランスデューサヘッドの動きに関する方向情報を提供する、装置。
【請求項１２】
前記方形波信号が前記ウォブル信号と同じ位相にあることを保証する位相ロックループをさらに含む、請求項１１に記載の装置。
【請求項１３】
前記直交トラックエラー信号および前記トラックエラー信号は各々独立して、振動パターンを含む、請求項１１または１２に記載の装置。
【請求項１４】
前記直交トラックエラー信号は、前記移動の第１の方向について前記トラックエラー信号に先行し、前記直交トラックエラー信号は、前記移動の第２の方向について前記トラックエラー信号に遅れる、請求項１１〜１３のいずれか１項に記載の装置。
【請求項１５】
前記直交トラックエラー信号は、前記トランスデューサヘッドの移動方向における変化についての不連続性を示す、請求項１１〜１４のいずれか１項に記載の装置。
【請求項１６】
前記直交トラックエラー信号および前記トラックエラー信号は各々独立してシヌソイド関数によって近似される、請求項１１〜１５のいずれか１項に記載の装置。
【請求項１７】
前記トラックエラー信号は、線形関数によって近似される領域の第１のセットを含み、前記直交トラックエラー信号は、線形関数によって近似される領域の第２のセットを含む、請求項１１〜１６のいずれか１項に記載の装置。
【請求項１８】
線形関数によって近似される前記領域の第１のセットと、線形関数によって近似される前記領域の第２のセットとは、ランドまたは溝からの前記トランスデューサヘッドの変位に対する非オーバーラップ部分を含む、請求項１７に記載の装置。
【請求項１９】
線形関数によって近似される前記領域の第１のセットと、線形関数によって近似される前記領域の第２のセットとは、前記データトラックにわたる前記トランスデューサヘッドの移動の完全な線形化を提供する、請求項１８に記載の装置。
【手続補正書】
【提出日】平成29年10月12日(2017.10.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
コンピュータにより実施される方法であって、
展開されたコンピュータシステムにおける技術的案件を示すユーザ案件説明入力を受信する案件説明ユーザ入力メカニズムを有する案件説明ユーザインタフェースディスプレイを表示することと、
前記展開されたコンピュータシステムの環境を示す診断環境データを受信することと、
前記診断環境データに基づいて、前記展開されたコンピュータシステムの前記環境に対応する診断環境を生成することと、
前記診断環境における前記技術的案件を再現するユーザ再現入力を受信するユーザ再現ディスプレイを生成することと、
開発者によるレビューのために前記ユーザ再現入力を記録することと、
前記診断環境における前記技術的案件のための修正プログラムを生成する開発者入力を受信することと、
前記展開されたコンピュータシステムに適用するために前記修正プログラムを記憶することと、
を含む、コンピュータにより実施される方法。
【請求項２】
前記技術的案件が前記診断環境において再現されたことを確認するユーザ入力を受信すること、
を更に含む、請求項１に記載のコンピュータにより実施される方法。
【請求項３】
診断環境を生成することは、
前記展開されたコンピュータシステムを再現するコンピュータシステムインスタンスを生成し、前記診断環境に前記修正プログラムを適用するためのユーザ入力を受信するユーザアプリケーション入力メカニズムを表示すること、
を含む、請求項１に記載のコンピュータにより実施される方法。
【請求項４】
前記修正プログラムが前記診断環境における前記技術的案件に対処するか否かを検証するユーザ検証入力を受信するユーザ検証入力メカニズムを表示することを更に含み、ユーザ検証入力メカニズムを表示することは、前記展開されたコンピュータシステムにおける画面を模倣する画面を表示することと、前記展開されたコンピュータシステムにおいて前記技術的案件に遭遇したときのステップを前記診断環境において実行するユーザ入力を受信することとを含む、請求項３に記載のコンピュータにより実施される方法。
【請求項５】
診断環境を生成することは、
前記診断環境データに基づいて仮想コンピュータシステムインスタンスを準備することと、
ユーザを前記仮想コンピュータシステムインスタンスにマッピングすることであって、それにより前記ユーザは前記仮想コンピュータシステムインスタンスへのアクセスを有することと、
技術サポート人員を前記仮想コンピュータシステムインスタンスにマッピングすることであって、それにより前記技術サポート人員は前記仮想コンピュータシステムインスタンスへのアクセスを有することと、
を含む、請求項３に記載のコンピュータにより実施される方法。
【請求項６】
前記ユーザ案件説明入力および前記診断環境データを受信した後に、前記展開されたコンピュータシステムに適用することができる潜在的に関連する修正プログラムを識別するために修正プログラムサービスに問い合わせることと、
前記展開されたコンピュータシステムにユーザが適用するための前記潜在的に関連する修正プログラムを表示することと、
前記ユーザが前記展開されたコンピュータシステムに前記潜在的に関連する修正プログラムを適用する場合において、前記適用された潜在的に関連する修正プログラムが前記技術的案件に対処していないとき、前記ユーザに、前記技術的案件に対処するためのプロセスフローに戻るためのリンクを送信すること、
を更に含む、請求項１に記載のコンピュータにより実施される方法。
【請求項７】
展開されたコンピューティングシステムインスタンスにおいて遭遇する技術的案件を説明するユーザ入力を受信する案件報告コンポーネントと、
前記展開されたコンピューティングシステムインスタンスから収集された環境データに基づいて、仮想コンピューティングシステムインスタンスを生成する仮想環境サービスと、
前記仮想コンピューティングシステムインスタンスにおける前記技術的案件を再現するユーザ再現入力を受信し、開発者によるレビューのために前記ユーザ再現入力を記録し、前記仮想コンピューティングシステムインスタンスにおける前記技術的案件のための修正プログラムを生成する開発者入力を受信する仮想マシン制御システムと、
システムの機能部分であり、前記案件報告コンポーネント、前記仮想環境サービス
および前記仮想マシン制御システムによって、ユーザ入力の受信、前記仮想コンピューティングシステムインスタンスの生成、ならびに前記ユーザ再現入力および前記開発者入力の受信を容易にするために起動される、コンピュータプロセッサと、
を備える、システム。
【請求項８】
コンピュータによって実行されると、前記コンピュータに、
展開されたコンピュータシステムインスタンスにおける技術的案件を示すユーザ案件説明入力を受信する案件説明ユーザ入力メカニズムを有する案件説明ユーザインタフェースディスプレイを表示することと、
前記展開されたコンピュータシステムインスタンスの環境を示す診断環境データを受信することと、
前記診断環境データに基づいて、前記展開されたコンピュータシステムインスタンスを模倣する、前記展開されたコンピュータシステムインスタンスの前記環境に対応する診断環境を生成することと、
前記診断環境における前記技術的案件を再現するユーザ再現入力を受信するユーザ再現ディスプレイを生成することと、
開発者によるレビューのために前記ユーザ再現入力を記録することと、
前記技術的案件が前記診断環境において再現可能であることを検証するユーザ再現入力を受信するユーザ再現ディスプレイを生成することと、
前記診断環境における前記技術的案件のための修正プログラムを生成する開発者入力を受信することと、
前記展開されたコンピュータシステムインスタンスに適用するために前記修正プログラムを記憶することと、
を含むステップを実行させるコンピュータ可読命令を記憶するコンピュータ可読ストレージ媒体。
【手続補正書】
【提出日】平成29年10月5日(2017.10.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ネットワーク仮想化を管理するための電気通信ネットワークに関連する仮想化関連情報を解析するための方法であって、前記方法は、
ハードウェアプロセッサを備える、仮想化関連情報を収集および解析するための情報コンセントレータにおいて、
仮想化関連情報を受信するステップと、
前記受信した情報に基づいてネットワーク仮想化関連データのセットを求めるステップと、
前記ネットワーク仮想化関連データのセットを、仮想化決定を下すためのノードに差し向けるステップとを備える、方法。
【請求項２】
前記ネットワーク仮想化関連データのセットを、仮想化決定を下すためのノードに差し向けるステップは、当該データを、
仮想化オーケストレータ、
ネットワークオーケストレータ、
アプリケーションレベルオーケストレータ、
ネットワーク機能仮想化オーケストレータ、
クラウドオーケストレータ、
サービスオーケストレータ、および
ポリシー機能
のうちの少なくとも１つに差し向けるステップを備える、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
仮想化関連情報を受信するステップは、仮想化関連情報を受信するためのプラグインモジュールを介して情報を受信するステップを備える、請求項１または２に記載の方法。
【請求項４】
仮想化関連情報を受信するステップは、
システム性能インジケータ、
クラウド管理情報、および
外部ネットワークに関連する情報
のうちの少なくとも１つを受信するステップを含む、請求項１〜３のいずれか１項に記載の方法。
【請求項５】
前記ネットワーク仮想化関連データのセットを差し向けるステップは、前記情報コンセントレータと前記仮想化オーケストレータとの間の双方向通信用のオーケストレーションプラグインに動作を差し向けるステップを備える、請求項１〜４のいずれか１項に記載の方法。
【請求項６】
ネットワーク仮想化関連データのセットを求めるステップは、受信した前記仮想化関連情報を解析するステップと、ネットワーク仮想化動作を識別するステップとを備える、請求項１〜５のいずれか１項に記載の方法。
【請求項７】
受信した前記仮想化関連情報を解析するステップは、
受信した前記仮想化関連情報をフィルタリングするステップ、
受信した前記仮想化関連情報にアルゴリズムを適用するステップ、および
受信した前記仮想化関連情報の内部の傾向またはパターンを検出するステップ
のうちの少なくとも１つを備える、請求項６に記載の方法。
【請求項８】
ネットワーク仮想化関連データのセットを求めるステップは、
ネットワーク仮想化動作ルールを提供するためのルールデータベース、および
ネットワーク状態情報を維持するための状態データベース
の少なくとも一方からの情報を用いるステップを備える、請求項１〜７のいずれか１項に記載の方法。
【請求項９】
仮想化関連情報を受信するステップは、
前記電気通信ネットワークに関する情報、
別の電気通信ネットワークに関する情報、
電気通信ネットワークではないエンティティに関する情報、および
前記電気通信ネットワークの加入者に影響する状況またはイベントに関する情報
のうちの少なくとも１つを受信するステップを備える、請求項１〜８のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１０】
前記ネットワーク仮想化関連データのセットは、
少なくとも１つの付加的なネットワークリソースをネットワークコンポーネントに割当てることに関連する情報、
少なくとも１つのネットワークリソースをネットワークコンポーネントから除去することに関連する情報、
ネットワークリソース使用または要件における傾向に関する情報、
将来のネットワークリソース使用または要件を予測することに関する情報、および
緊急事態の通知を提供することに関する情報
のうちの少なくとも１つを備える、請求項１〜９のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１１】
ネットワーク仮想化を管理するための電気通信ネットワークに関連する仮想化関連情報を解析するためのシステムであって、前記システムは、
電気通信ネットワークに関連する仮想化関連情報を解析するための情報コンセントレータを備え、前記情報コンセントレータは、
前記仮想化関連情報を受信するための第１のインターフェイスと、
前記受信した情報を収集および解析するための、当該情報に基づいてネットワーク仮想化関連データのセットを求めるための、かつ、前記ネットワーク仮想化関連データのセットを、仮想化決定を下すためのノードに差し向けるための解析エンジンとを備える、システム。
【請求項１２】
コンピュータのプロセッサによって実行されると、当該コンピュータに以下のステップを処理させるためのコンピュータ実行可能命令を有している、コンピュータ読取可能プログラムであって、前記ステップは、
ハードウェアプロセッサを備える、仮想化関連情報を収集および解析するための情報コンセントレータにおいて、
仮想化関連情報を受信するステップと、
受信した前記仮想化関連情報に基づいてネットワーク仮想化関連データのセットを求めるステップと、
前記ネットワーク仮想化関連データのセットを、仮想化決定を下すためのノードに差し向けるステップとを備える、コンピュータ読取可能プログラム。
【請求項１３】
コンピュータのプロセッサによって実行されると、当該コンピュータに請求項１〜１０のいずれか１項に記載の方法を処理させるためのコンピュータ実行可能命令を格納している、コンピュータ読取可能プログラム。
【手続補正書】
【提出日】平成29年10月2日(2017.10.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光入口及び光出口を備えた保護筒を有する顕微鏡対物レンズと、
前記顕微鏡対物レンズに固着されて、前記光出口はシールするが前記光入口はシールしない保護要素であって、前記保護要素が透明保護コーティングを含み、前記保護要素の透明部分が前記光出口と位置合わせされ、前記保護要素が前記顕微鏡対物レンズを損傷することなく前記顕微鏡対物レンズから分離可能である、保護要素と、
を備える半液浸系顕微鏡対物レンズ。
【請求項２】
前記透明保護コーティングが、ポリビニルアルコール、又はペンダントカルボキシル基若しくはカルボキシレート基を有するポリマーのうちの少なくとも１つを含む、請求項１に記載の半液浸系顕微鏡対物レンズ。
【請求項３】
半液浸系顕微鏡対物レンズを、多光子吸収剤及び重合性化合物を含む液状フォトレジストに浸漬することであって、半液浸系顕微鏡対物レンズが：
光入口及び光出口を備えた保護筒を有する顕微鏡対物レンズと、
前記顕微鏡対物レンズに固着されて、前記光出口はシールするが前記光入口はシールしない保護要素であって、前記保護要素の透明部分が前記光出口と位置合わせされ、前記保護要素が前記顕微鏡対物レンズを損傷することなく前記顕微鏡対物レンズから分離可能である、保護要素と、を備える、ことと、
前記多光子吸収剤による多光子吸収が生じ、前記重合性化合物の少なくとも部分的な重合化が生じて、露光されたフォトレジストがもたらされるような条件下で、画像毎の方式で前記半液浸系顕微鏡対物レンズを通して液状フォトレジスト内へとレーザー光を方向付けることと、
前記露光されたフォトレジストを現像することと、
を含む、多光子結像方法。
【請求項４】
前記保護要素が透明保護コーティングを含む、請求項３に記載の多光子結像方法。
【請求項５】
前記透明保護コーティングが化学的に架橋されている、請求項４に記載の多光子結像方法。