【誤訳訂正書】
【提出日】平成29年9月4日(2017.9.4)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
イオン注入機を保守する方法であって、
第１の期間通常動作モードで前記イオン注入機を操作する段階と、
グリッチ率を低減させるべく前記第１の期間の後、第１のプラズマアシストコンディショニングを行う段階であり、プラズマアシストコンディショニングは、前記イオン注入機内の複数の引出電極に印加される電圧を変更することによって行われる段階と、
前記第１のプラズマアシストコンディショニングの後、第２の期間通常動作モードで前記イオン注入機を操作する段階と、
前記第２の期間の後、プラズマアシストクリーニングを行う段階であり、プラズマアシストクリーニングは、イオン源チャンバと前記複数の引出電極との間の距離を変更すること、および前記イオン源チャンバにおいて用いられるソースガスを変更すること、によって行われる段階と、を備える
方法。
【請求項２】
前記イオン注入機の前記グリッチ率はモニタされ、前記第１のプラズマアシストコンディショニングは、前記モニタされるグリッチ率が第１の閾値を超える場合に開始される
請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記第２の期間の後、第２のプラズマアシストコンディショニングを行う段階と、
前記第２のプラズマアシストコンディショニングの後、第３の期間通常動作モードで前記イオン注入機を操作する段階であって、前記プラズマアシストクリーニングは前記第３の期間の後に行われる段階と、をさらに備える
請求項１または２に記載の方法。
【請求項４】
前記イオン注入機の前記グリッチ率はモニタされ、前記第１のプラズマアシストコンディショニングおよび前記第２のプラズマアシストコンディショニングは、前記モニタされるグリッチ率が第１の閾値を超える場合に開始される
請求項３に記載の方法。
【請求項５】
前記第１の期間は、第１の予め定められた時間長を含み、前記第２の期間は、第２の予め定められた時間長を含み、前記第２の予め定められた時間長は前記第１の予め定められた時間長未満である
請求項３または４に記載の方法。
【請求項６】
前記プラズマアシストコンディショニングを行う段階および前記通常動作モードで操作する段階は、それぞれ予め定められた回数行われ、前記プラズマアシストクリーニングは前記予め定められた回数の後開始される
請求項１から５の何れか一項に記載の方法。
【請求項７】
前記複数の引出電極に印加される前記電圧を変更する段階は、前記通常動作モード中に用いられる電圧より正側の負の電圧で前記複数の引出電極をバイアスする段階を備え、前記プラズマアシストコンディショニングは、通常動作モード中に用いられる電力レベルより大きい電力レベルで前記イオン源内のプラズマ発生器を操作する段階をさらに備える
請求項１から６の何れか一項に記載の方法。
【請求項８】
前記距離を変更する段階は、前記イオン源チャンバと前記複数の引出電極との間の前記距離を増加させる段階を備える
請求項１から７の何れか一項に記載の方法。
【請求項９】
イオン注入機を保守する方法であって、
通常動作モードで前記イオン注入機を操作する段階と、
前記イオン注入機内のグリッチ率をモニタする段階であり、複数のグリッチは、材料が前記イオン注入機内に配置された引出電極を覆う結果である段階と、
前記グリッチ率を低減させるべく、前記モニタされるグリッチ率が予め定められた閾値を超えるときはいつもプラズマアシストコンディショニングを行うべく前記通常動作モードを中断する段階であり、前記プラズマアシストコンディショニングは、前記イオン注入機内の複数の引出電極に印加される電圧を変更することによって行われる段階と、
前記引出電極上の材料の厚さが予め定められた値を超えると決定される場合にプラズマアシストクリーニングを行う段階であり、前記プラズマアシストクリーニングは、イオン源チャンバと前記複数の引出電極との間の距離を増加させること、および前記イオン源チャンバにおいて用いられるソースガスを変更すること、によって行われる段階と、を備える
方法。
【請求項１０】
前記決定は、行われるプラズマアシストコンディショニングの回数に基づいて成される
請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
前記決定は、連続するプラズマアシストコンディショニング間の時間の期間が予め定められた値未満である場合に成される
請求項９または１０に記載の方法。
【請求項１２】
前記複数の引出電極に印加される前記電圧を変更する段階は、前記通常動作モード中に用いられる電圧より正側の負の電圧で前記複数の引出電極をバイアスする段階を備え、前記プラズマアシストコンディショニングは通常動作モード中に用いられる電力レベルより大きい電力レベルで前記イオン源内のプラズマ発生器を操作する段階をさらに備える
請求項９から１１の何れか一項に記載の方法。
【請求項１３】
イオン注入機を保守する方法であって、
通常動作モードで前記イオン注入機を操作する段階であり、ソースガスはイオン源チャンバへ供給され、前記イオン注入機内のプラズマ発生器は第１の電力レベルで操作され、前記イオン注入機内の複数の引出電極は、イオンビームを形成するように、前記イオン源チャンバの複数の壁に印加される電圧より負の第１のセットのバイアス電圧にバイアスされる段階と、
前記イオン注入機内のグリッチ率をモニタする段階であり、複数のグリッチは、材料が前記イオン注入機内に配置された前記複数の引出電極を覆う結果である段階と、
前記複数の引出電極から材料を除去すべく、前記モニタされるグリッチ率が予め定められた閾値を超えるときはいつもプラズマアシストコンディショニングを行うべく前記通常動作モードを中断する段階であり、前記プラズマアシストコンディショニング中、前記プラズマ発生器は、前記第１の電力レベルより大きい第２の電力レベルで操作され、イオンビームが形成されないように、前記複数の引出電極は前記第１のセットより正側の負の電圧である第２のセットのバイアス電圧にバイアスされる段階と、
前記複数の引出電極上の材料の厚さが予め定められた値を超えると決定される場合にプラズマアシストクリーニングを行う段階であり、前記プラズマアシストクリーニング中、前記複数の引出電極は、それらの通常位置から、前記イオン源チャンバよりさらに遠くの位置へと移動させられ、前記ソースガスはクリーニングガスへと変更される段階と、を備える
方法。
【請求項１４】
前記決定は、行われるプラズマアシストコンディショニングの回数に基づいて成される
請求項１３に記載の方法。
【請求項１５】
前記決定は、連続するプラズマアシストコンディショニング間の時間の期間が予め定められた値未満である場合に成される
請求項１３または１４に記載の方法。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００５
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００５】
イオン注入は複数の太陽電池をドープする実行可能な方法として立証されてきた。イオン注入の使用は、複数の拡散炉などの既存の技術に必要な複数の工程段階を除去する。例えば、炉拡散の代わりにイオン注入が用いられる場合、レーザーエッジアイソレーション段階は除去される。なぜなら、イオン注入は所望の表面のみをドープするからである。複数の工程段階の除去の他に、イオン注入を用いて、より高い電池効率が立証されてきた。イオン注入は、太陽電池の表面全体のブランケット注入、または太陽電池の一部のみの選択的（またはパターンのある）注入を行う能力も提供する。イオン注入を用いた高スループットでの選択注入は、炉拡散に用いられる高価で時間のかかるリソグラフィ段階またはパターニング段階を回避する。選択注入は、複数の新しい太陽電池のデザインも可能にする。イオン注入機の製造スループット、またはその信頼性のいかなる向上も、世界中の複数の太陽電池製造業者にとって有益であろう。これは、代替エネルギー源としての複数の太陽電池の採用を加速すると言ってよい。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１１】
第３の実施形態において、イオン注入機を保守する方法が開示される。この方法は、通常動作モードで注入機を操作する段階であり、ソースガスはイオン源チャンバに供給され、イオン注入機内のプラズマ発生器は第１の電力レベルで操作され、イオン注入機内の複数の引出電極はイオンビームを形成するようにイオン源チャンバの複数の壁に印加される電圧よりも負の、第１のセットのバイアス電圧にバイアスされる段階と、イオン注入機内のグリッチ率をモニタする段階であり、複数のグリッチは、材料がイオン注入機内に配置された複数の引出電極を覆う結果である段階と、複数の引出電極から材料を除去すべく、モニタされるグリッチ率が予め定められた閾値を超えるときはいつもプラズマアシストコンディショニングを行うべく通常動作モードを中断する段階であり、プラズマアシストコンディショニング中は、プラズマ発生器は第１の電力レベルより大きい第２の電力レベルで操作され、複数の引出電極は、イオンビームが形成されないように、第１のセットよりも正側の負の電圧である第２のセットのバイアス電圧でバイアスされる段階と、複数の引出電極上の材料の厚さが予め定められた値を超えると決定される場合に、プラズマアシストクリーニングを行う段階であり、プラズマアシストクリーニング中、複数の引出電極はそれらの通常位置から、イオン源チャンバよりさらに遠くの位置へと移動させられ、ソースガスはクリーニングガスへと変更される段階と、を備える。
【誤訳訂正４】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１６
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１６】
図３Ａは、イオン源３００の引出開口部３０５に近接して配置される１または複数の引出電極３１０と共にイオン源３００を含む、代表的なイオン注入機のいくつかの構成要素を示している。イオン源は、複数のチャンバ壁３０２によって画定されるイオン源チャンバ３０１を含む。イオン源は、ＲＦアンテナなどにより、エネルギーがイオン源チャンバ３０１に注入される誘電体窓（図示せず）を含んでよい。別の実施形態においては、イオン源チャンバ３０１にプラズマ３３０を生成すべく、間接加熱陰極（ＩＨＣ）が用いられてよい。言うまでもなく、イオン源チャンバ３０１内にプラズマ３３０を生成すべく、ほかの複数のメカニズムが用いられてよい。当技術分野で既知の、ＲＦアンテナ、ＩＨＣ、ベルナス（Ｂｅｒｎａｓ）ヒータ、および、ほかの複数の装置を含む異なる複数のメカニズムが、プラズマ発生器として用いられてよい。イオン源チャンバ３０１の複数のチャンバ壁３０２のうちの１または複数は、バイアス電圧がこれらのチャンバ壁３０２に印加されうるように、導電性材料で作られてよい。これらの導電性チャンバ壁の１つはフェースプレート３０７と呼ばれ、イオン源チャンバ３０１内で生成される複数のイオンが通過する引出開口部３０５を含む。これらのイオンは、ビーム光学系を使用してワークピースに向けられる。ビーム光学系はフェースプレート３０７および引出電極３１０を含む。例えば、複数の引出電極３１０は抑制電極３１０ａおよびグランド電極３１０ｂを含んでよい。通常動作中、イオン源チャンバ３０１の複数のチャンバ壁３０２は、約＋１０ｋＶなどの、通常動作電圧にバイアスされてよい。言うまでもなく、ほかの複数の電圧が用いられてよく、本開示はこの実施形態に限定されるものではない。抑制電極３１０ａは、約−３６ｋＶなどの、一層負の電位にバイアスされてよい。グランド電極３１０ｂは、−３０ｋＶなどの、より正側の負のバイアス電圧にバイアスされてよい。このセットのバイアス電圧は、通常動作電圧と呼ばれてよい。通常動作中、一般に１または複数の所望のドーパントを含むソースガスは、ノズル（図示せず）を通してイオン源チャンバ３０１に供給される。このソースガスの流量は、約５ｓｃｃｍであってよい。ＲＦアンテナまたはＩＨＣなどのプラズマ発生器は、ソースガスにエネルギーを与え、イオン源チャンバ３０１内にプラズマ３３０を生成すべく用いられる。複数の引出電極３１０に印加された複数の負の電圧は、引出開口部３０５を通して陽イオンを引きつけてイオンビーム３２０を形成する。言うまでもなく、ほかの複数の電圧、および複数の流量が用いられてよく、本開示は特定の実施形態に限定されるものではない。
【誤訳訂正５】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１８
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１８】
プラズマアシストコンディショニング中、図３Ｂに示すように、プラズマ３５０の境界は振動し、イオン源チャンバ３０１内から、引出開口部３０５と抑制電極３１０ａおよびグランド電極３１０ｂとの間の引出領域３０８へと拡張する。コンディショニングを始めるべく、複数の引出電極３１０に印加される複数の電圧が変更されてよい。例えば、一実施形態において、これらのバイアス電圧は通常動作中に用いられる電圧より一層正側の負であってよい。例えば、一実施形態において、グランド電極３１０ｂが０Ｖにバイアスされる間、抑制電極３１０ａは−６ｋＶにバイアスされてよい。別の実施形態において、抑制電極３１０ａに印加されるバイアス電圧もまた０Ｖであってよい。これらの低減されたバイアス電圧は、イオンビーム生成においては無効と言ってよい。いくつかの実施形態において、プラズマ発生器は、その電力レベルが、測定されたイオンビーム電流に基づいて変調されるように、閉ループ態様で操作されてよい。ゆえに、この実施形態においては、複数の引出電極３１０に印加される複数のバイアス電圧の変更は、プラズマ発生器が所望のイオンビーム電流の維持を試みるとき、追加的な電力をプラズマ発生器に供給させうる。この増大された電力はイオン源チャンバ３０１内に高密度プラズマを生成しうる。ほかの複数の実施形態において、プラズマ発生器は開ループ構成で操作されてよい。この実施形態においては、プラズマ発生器に印加される電力は、本明細書において説明される効果を生むべく変調されてよい。プラズマアシストコンディショニング中、イオン源チャンバ３０１のチャンバ壁３０２およびフェースプレート３０７は、それらの通常動作電圧にバイアスされてよく、または０Ｖなどの異なる電圧にバイアスされてよい。
【誤訳訂正６】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１９
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１９】
変更された複数の引出電圧によるこの高密度プラズマは、プラズマ発生器が所望の引出電流の維持を試みるとき、プラズマ３５０を振動させる。これは、同様に、プラズマ電位およびプラズマの境界の両方を振動させる。振動するプラズマは引出領域３０８（すなわち、フェースプレート３０７と複数の引出電極３１０との間の領域）において複数の振動するバイアス電圧を形成する。拡張されたプラズマおよび複数のバイアス電圧の組み合わせは、取り囲む複数の引出電極３１０上へのイオン衝撃を引き起こす。このメカニズムはプラズマアシストコンディショニングと呼ばれる。所望の継続時間が経過した後、複数の引出電極３１０の複数のバイアス電圧、およびイオン源チャンバ３０１の複数のチャンバ壁３０２は、それらの通常動作電圧に戻され、イオンビーム３２０が再び形成される。この短い中断はプロセスガス、ソースの状態、またはビーム光学系を変更しなくてよい。ゆえに、いくつかの例においては、約２分またはそれより短い間に元のイオンビーム３２０は復元されうる。いくつかの実施形態において、コンディショニングは１分未満で完了される。このコンディショニングは複数の引出電極３１０からいくらかの材料を除去しうる。しかしながら、いくつかの実施形態において、短い継続時間およびコンディショニング中に用いられる複数の低い電圧は、相当量の材料を除去しえない。むしろ、複数の引出電極３１０の複数の表面がコンディショニングされ得るのみであり、それにより、これらの表面は、コンディショニングが始まる前よりなめらかになりうる。換言すると、一般的にアークが始まる、複数の引出電極３１０の表面上の複数の小さな尖りは、プラズマアシストコンディショニングによってなめらかにされうる。これらの表面のなめらかさは、それらのアークの傾向を低減させ得て、それにより、グリッチ率を低減させる。材料が特定の厚さを有している場合、プラズマアシストコンディショニングは全ての材料を除去しえず、望むようにグリッチ率に強い影響を与え得ないことはあり得る。一例において、約１００ミクロンの厚さを有する材料は、厚すぎて、プラズマアシストコンディショニングで全ては除去され得ないと言ってよい。言うまでもなく、より厚い材料堆積物を除去できる、プラズマアシストコンディショニングの複数のパラメータの複数の変更は可能である。
【誤訳訂正７】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２４
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２４】
Ｂ＋イオンビームを用いる一実験において、１分間のプラズマアシストコンディショニングの実行は、グリッチ率を毎時６７から毎時３０へと低減させた。１時間のアルゴンプラズマアシストクリーニングの実行は、Ｂ＋イオンビームに対するグリッチ率を毎時８０から毎時３８へと低減させた。別の試験において、グリッチ率は毎時約３４から毎時約８へと低減された。各方法を用いる複数の利点は、各々を実行する相対的な継続時間、または各々に対する相対的なスループットの影響に比較されうる。