【事件の表示】
　特許第５９１２５５９号発明「ＦｅＰｔ−Ｃ系スパッタリングターゲットの製造方法」の特許異議申立事件について、次のとおり決定する。
【結　論】
　特許第５９１２５５９号の請求項１ないし１９に係る特許を維持する。
【理　由】
第１．手続の経緯
　特許第５９１２５５９号は、平成２４年１月１３日（優先権主張　平成２３年３月３０日）に出願された特願２０１２−５６９６号について、平成２８年４月８日に設定登録がされたものであり、その後、その請求項１−１９に係る特許に対し、特許異議申立人　特許業務法人  藤央特許事務所により特許異議の申立てがされたものである。
第２．本件発明の認定
　上記特許に係る発明は、その特許請求の範囲の請求項１−１９に記載された次の事項により特定されるとおりのもの（以下、「本件発明１」などといい、全体をまとめて「本件発明」という。）と認められる。
【請求項１】
「Ｐｔを４０〜６０ａｔ％含有して残部がＦｅおよび不可避的不純物からなるＦｅＰｔ系合金粉末に不可避的不純物を含むＣ粉末を添加し、酸素の存在する雰囲気下で混合して混合粉末を作製した後、作製した該混合粉末を加圧下で加熱して成形することを特徴とするＦｅＰｔ−Ｃ系スパッタリングターゲットの製造方法。」
【請求項２】
「Ｐｔを４０ａｔ％以上６０ａｔ％未満、Ｆｅ、Ｐｔ以外の１種以上の金属元素を０ａｔ％よりも多く２０ａｔ％以下含有し、かつ、Ｐｔと前記１種以上の金属元素の合計が６０ａｔ％以下であり、残部がＦｅおよび不可避的不純物からなるＦｅＰｔ系合金粉末に不可避的不純物を含むＣ粉末を添加し、酸素の存在する雰囲気下で混合して混合粉末を作製した後、作製した該混合粉末を加圧下で加熱して成形することを特徴とするＦｅＰｔ−Ｃ系スパッタリングターゲットの製造方法。」
【請求項３】−【請求項１９】略
第３．申立理由の概要
　特許異議申立人は、証拠として下記甲第１−８号証（以下、「甲１−８」という。）を提出し、下記申立理由１）−４）により、本件発明１−１９は、特許法第１１３条第２号又は第４号に該当し、取り消すべきものである旨、主張している。
１）本件発明１、６−１２、１４、１９は、本件特許の優先日前に出願され、特許法第１８４条の１５第２項の規定により読み替えた同法第４１条第３項の規定により、甲２によって出願公開されたものとみなされる特願２０１０−２８３５６７号（以下「先願２」という。）の願書に最初に添付された明細書、請求の範囲又は図面（以下、「先願２明細書」という。）に記載された発明と実質的に同一であって、特許法第２９条の２の規定により特許を受けることができないものであるから、その発明に係る特許は取り消すべきものである。
２）本件発明２−１９は、本件特許の優先日前に出願され、特許法第４１条第３項の規定により、甲３によって出願公開されたものとみなされる特願２０１１−１９１７９号（以下「先願３」という。）の願書に最初に添付された明細書、請求の範囲又は図面（以下、「先願３明細書」という。）に記載された発明、又は、甲４によって出願公開されたものとみなされる特願２０１１−１９１７８号（以下「先願４」という。）の願書に最初に添付された明細書、請求の範囲又は図面（以下、「先願４明細書」という。）に記載された発明と実質的に同一であって、特許法第２９条の２の規定により特許を受けることができないものであるから、その発明に係る特許は取り消すべきものである。
３）本件発明１、６−１２、１４、１７−１９は、本件特許の優先日前に頒布された刊行物である甲１に記載された発明に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものであって、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないものであるから、その発明に係る特許は取り消すべきものである。
４）本件発明１−１９に係る特許は、特許請求の範囲の記載が下記の点で不備のため、特許法第３６条第６項第１号に規定する要件を満たしていない特許出願に対してされたものであるから、取り消すべきものである。
甲１：Ｊ．Ｆ．Ｈｕ，”Ｅｘｃｈａｎｇｅ　ｃｏｕｐｌｉｎｇ　ａｓｓｉｓｔｅｄ　ＦｅＰｔＣ　ｐｅｒｐｅｎｄｉｃｕｌａｒ　ｒｅｃｏｒｄｉｎｇ　ｍｅｄｉａ”，Ａｐｐｌｉｅｄ　Ｐｈｙｓｉｃｓ　Ｌｅｔｔｅｒｓ，２００８年　８月オンライン公開、Ｖｏｌ．９３，Ｉｓｓｕｅ　７，０７２５０４
甲２：国際公開第２０１２／８６３３５号
甲３：特開２０１２−１７８２１０号公報
甲４：特開２０１２−１７８２１１号公報
甲５：特公平８−６１７４号公報
甲６：特開昭５８−１９０８２６号公報
甲７：田代　襄　他、石炭の破砕性と自然発火性との関係、日本鉱業会誌　９０（１０３３）、１８６、１９７４年３月
甲８：板垣　晴彦、粉砕機における石炭の自然発火特性について、産業安全研究所研究報告　ＲＩＩＳ−ＲＲ　第９２号　第１３５〜１４７頁、１９９３年
１．申立理由１）について
（１）先願２明細書の記載事項
　本件特許の優先日前に出願され、特許法第１８４条の１５第２項の規定により読み替えた同法第４１条第３項の規定により、甲２によって出願公開されたものとみなされる先願２明細書には、「Ｃ粒子が分散したＦｅ−Ｐｔ系スパッタリングターゲット」（発明の名称）について、次の記載がある。
（ア）「【０００９】
　本発明の課題は、高価な同時スパッタ装置を用いることなくグラニュラー構造磁性薄膜の作製を可能にする、Ｃ粒子が分散したＦｅ−Ｐｔ系スパッタリングターゲットを提供することであり、さらには、スパッタリング時に発生するパーティクル量を低減した高密度なスパッタリングターゲットを提供することを課題とする。」
（イ）「【００１１】
　このような知見に基づき、本発明は、
　１）原子数における組成比が式：（Ｆｅ１００−Ｘ−ＰｔＸ）１００−Ａ−ＣＡ（但し、Ａは２０≦Ａ≦５０、Ｘは３５≦Ｘ≦５５を満たす数）で表される焼結体スパッタリングターゲットであって、合金中に微細分散したＣ粒子を有し、かつ相対密度が９０％以上であることを特徴とするスパッタリングターゲット
　２）原子数における組成比が式：（Ｆｅ１００−Ｘ−Ｙ−ＰｔＸ−ＣｕＸＹ）１００−Ａ−ＣＡ（但し、Ａは２０≦Ａ≦５０、Ｘは３５≦Ｘ≦５５、Ｙは０．５≦Ｙ≦１５を満たす数）で表される焼結体スパッタリングターゲットであって、合金中に微細分散したＣ粒子を有し、かつ相対密度が９０％以上であることを特徴とするスパッタリングターゲット
・・・を提供する。」
（ウ）「【００２３】
　また、本発明のスパッタリングターゲットは、酸素濃度が５００ｗｔｐｐｍ以下であることが、特に有効である。これは、本発明のスパッタリングターゲットをスパッタして作製された磁性薄膜において、Ｆｅ−Ｐｔ磁性粒子中の酸素量が減少することになるので、作製された磁性薄膜は良好な磁気特性が得られるからである。」
（エ）「【００２４】
　本発明のスパッタリングターゲットは、粉末焼結法によって作製する。作製にあたり、各原料粉末（Ｆｅ粉末、Ｐｔ粉末、Ｃｕ粉末、Ｃ粉末）を用意する。・・・
　さらに原料粉末として、合金粉末（Ｆｅ−Ｐｔ粉、Ｆｅ−Ｃｕ粉、Ｐｔ−Ｃｕ粉、Ｆｅ−Ｐｔ−Ｃｕ粉）を用いてもよい。特にＰｔを含む合金粉末はその組成にもよるが、原料粉末中の酸素量を少なくするために有効である。合金粉末を用いる場合も、粒径が０．５μｍ以上１０μｍ以下のものを用いることが望ましい。
【００２５】
　そして、上記の粉末を所望の組成になるように秤量し、ボールミル等の公知の手法を用いて粉砕を兼ねて混合する。
【００２６】
　こうして得られた混合粉末をホットプレスで成型・焼結する。ホットプレス以外にも、プラズマ放電焼結法、熱間静水圧焼結法を使用することもできる。焼結時の保持温度は、スパッタリングターゲットの組成にもよるが、多くの場合、１２００〜１４００℃の温度範囲とする。
【００２７】
　次に、ホットプレスから取り出した焼結体に等方熱間加圧加工を施す。等方熱間加圧加工は焼結体の密度向上に有効である。等方熱間加圧加工時の保持温度は焼結体の組成にもよるが、多くの場合、１２００〜１４００℃の温度範囲である。また加圧力は１００Ｍｐａ以上に設定する。
　このようにして得られた焼結体を旋盤で所望の形状に加工することにより、本発明のスパッタリングターゲットは作製できる。
【００２８】
　以上により、合金中にＣ粒子が均一に微細分散し、且つ高密度なＣ粒子が分散したＦｅ−Ｐｔ系スパッタリングターゲットを作製することができる。このようにして製造した本発明のスパッタリングターゲットは、グラニュラー構造磁性薄膜の成膜に使用するスパッタリングターゲットとして有用である。」
（オ）「【００３０】
（実施例１）
・・・
【００３１】
　次に、秤量した粉末を粉砕媒体のジルコニアボールと共に容量１０リットルのボールミルポットに封入し、４時間回転させて混合・粉砕した。そしてボールミルから取り出した混合粉末をカーボン製の型に充填しホットプレスした。
　ホットプレスの条件は、真空雰囲気、昇温速度３００℃／時間、保持温度１２００℃、保持時間２時間とし、昇温開始時から保持終了まで３０ＭＰａで加圧した。保持終了後はチャンバー内でそのまま自然冷却させた。
　次にホットプレスの型から取り出した焼結体に熱間等方加圧加工を施した。熱間等方加圧加工の条件は、昇温速度３００℃／時間、保持温度１３５０℃、保持時間２時間とし、昇温開始時からＡｒガスのガス圧を徐々に高めて、１３５０℃保持中は１５０ＭＰａで加圧した。保持終了後は炉内でそのまま自然冷却させた。
　こうして作製された焼結体の密度をアルキメデス法で測定し、相対密度を計算したところ９６．６％であった。」
（カ）「【００５９】
（実施例５）
　原料粉末として平均粒径１０μｍのＦｅ−Ｐｔ合金粉末、平均粒径１μｍのＣ粉末を用意した。Ｃ粉末は市販の無定形炭素を用いた。
　これらの粉末を以下の原子数比で、合計重量が２６００ｇとなるように秤量した。
　原子数比：（Ｆｅ５０−Ｐｔ５０）６０−Ｃ４０
【００６０】
　次に、秤量した粉末を粉砕媒体のジルコニアボールと共に容量１０リットルのボールミルポットに封入し、８時間回転させて混合・粉砕した。そしてボールミルから取り出した混合粉末をカーボン製の型に充填しホットプレスした。
　ホットプレスの条件は、真空雰囲気、昇温速度３００℃／時間、保持温度１２００℃、保持時間２時間とし、昇温開始時から保持終了まで３０ＭＰａで加圧した。保持終了後はチャンバー内でそのまま自然冷却させた。
　次にホットプレスの型から取り出した焼結体に熱間等方加圧加工を施した。熱間等方加圧加工の条件は、昇温速度３００℃／時間、保持温度１３５０℃、保持時間２時間とし、昇温開始時からＡｒガスのガス圧を徐々に高めて、１３５０℃保持中は１５０ＭＰａで加圧した。保持終了後は炉内でそのまま自然冷却させた。
　こうして作製された焼結体の密度をアルキメデス法で測定し、相対密度を計算したところ９７．１％であった。」
（キ）「【００６４】【表１】
」
（２）甲２の記載事項
　甲２の段落［０００９］、［００１１］、［００２３］−［００２９］、［００３１］、［００３２］、［００６０］、［００６１］および［００８３］［表１］には、先願２明細書の前記記載事項（ア）−（カ）と同様の事項が記載されている。
（３）引用発明（甲２発明）の認定
　「（１）」「（２）」によれば、先願２明細書には、
「Ｆｅ−Ｐｔ合金粉末にＣ粉末を添加し、ボールミルポットに封入して混合・粉砕した混合粉末を、カーボン製の型に充填し、ホットプレスにより１２００℃、３０ＭＰａで２時間加圧保持した後、熱間等方加圧加工により１３５０℃、１５０ＭＰａで２時間加圧保持してなる、（Ｆｅ５０−Ｐｔ５０）６０−Ｃ４０スパッタリングターゲットの製造方法。」の発明（以下、「甲２発明」という。）が記載されている。
（３）本件発明１と引用発明との対比・判断
　本件発明１と甲２発明とを対比すると、少なくとも下記（相違点１）で相違している。
（相違点１）
　ＦｅＰｔ系合金粉末とＣ粉末との混合粉末を、本件発明１では、酸素の存在する雰囲気下で混合することにより作製しているのに対し、甲２発明では、混合を行う雰囲気が不明である点。
　（相違点１）につき、特許異議申立人は、混合時の雰囲気について、先願２明細書に特段の言及もないことから、雰囲気の条件に関しては特に制限していないと解され、通常の雰囲気、即ち大気に開放された雰囲気等で混合することも暗に含んでいると認められ、そうすると、先願２明細書には、Ｆｅ−Ｐｔ合金粉末とＣ粉末との混合粉末を、酸素の存在する雰囲気下で混合することが、実質的に記載されているといえると主張している。
　しかしながら、混合粉末を作製するための混合時の雰囲気は、使用する材料粉末や作製する混合粉末に応じて選択されるものであって、甲２発明で、混合粉末を作製する雰囲気の条件に関して「特に制限していない」ことをもって、当該雰囲気を「酸素の存在する雰囲気」に該当する「大気に開放された雰囲気」とすることを暗に含んでいるとはいえない。
　また、先願２明細書の記載事項（ウ）には、製造するスパッタリングターゲットを、酸素含有量の小さいものとすることも記載されており、当該記載からは、混合時の雰囲気において酸素が存在しない方がよいことがむしろ示唆されるものであって、この点からも、甲２発明で混合粉末を作製する雰囲気が「酸素の存在する雰囲気」であるとはいえない。
　よって、本件発明１と甲２発明とは、（相違点１）で実質的に相違するから、両者が実質的に同一であるとはいえない。
（４）小括
　したがって、本件発明１は、先願２明細書に記載され、甲２により出願公開されたものとみなされる発明と実質的に同一であるとはいえないから、特許法第２９条の２の規定により特許を受けることができないものであるとはいえない。
　また、本件発明６−１２、１４、１９は、本件発明１を引用し、本件発明１をさらに限定する発明であるから、先願２明細書に記載され、甲２により出願公開されたものとみなされる発明と実質的に同一であるとはいえず、特許法第２９条の２の規定により特許を受けることができないものであるとはいえない。
２．申立理由２）について
（１）先願３明細書の記載事項
　本件特許の優先日前に出願され、特許法第４１条第３項の規定により、甲３によって出願公開されたものとみなされる先願３明細書には、「磁気記録媒体膜形成用スパッタリングターゲットおよびその製造方法」（発明の名称）について、次の記載がある。
（ア）「【０００７】
　本発明は、前述の課題に鑑みてなされたもので、規則化温度を低下させたＦｅＰｔ（Ａｕ／Ｃｕ）−Ｃ膜を成膜することができると共にパーティクルの発生が抑制可能な磁気記録媒体膜形成用スパッタリングターゲットおよびその製造方法を提供することを目的とする。」
（イ）「【０００９】
　この磁気記録媒体膜形成用スパッタリングターゲットでは、一般式：｛（ＦｅＸＰｔ１００−Ｘ）（１００−ｙ）Ａｙ｝（１００−ｚ）Ｃｚ、ここでＡがＡｕおよびＣｕの少なくとも一方からなる金属であり、原子比により３０≦ｘ≦８０、１≦ｙ≦３０、３≦ｚ≦６３で表される組成を有した焼結体からなるので、１つのターゲットでＡ（ＡｕおよびＣｕの少なくとも一方）により規則化温度を低下させたＦｅＰｔＡ−Ｃ膜を成膜できると共に、Ｆｅ，Ｐｔ，Ａの金属マトリックス中に介在してＣ単体のパーティクルが発生し難くなることで、スパッタリング時の異常放電の発生を抑制することができる。」
（ウ）「【００２２】
　この磁気記録媒体膜形成用スパッタリングターゲットの製造方法は、図１に示すように、ＡｕＰｔ合金粉と、ＣｕＰｔ合金粉と、ＡｇＰｔ合金粉と、ＦｅＰｔ合金粉と、Ｐｔ粉と、グラファイト粉またはカーボンブラック粉と、の混合粉末を、真空または不活性ガス雰囲気中でホットプレスする工程を有している。
　特に、カーボンブラック粉としては、アセチレンガスの発熱分解により生成された、いわゆるアセチレンブラックを使用することが好ましい。
【００２３】
　上記ＡｕＰｔ合金粉は、Ａｕ：１０〜９０原子％を含有するＡｕＰｔ合金粉であることが好ましい。また、上記ＣｕＰｔ合金粉は、Ｃｕ：１０〜９０原子％を含有するＣｕＰｔ合金粉であることが好ましい。また、上記ＡｇＰｔ合金粉は、Ａｇ：５〜５０原子％を含有するＡｇＰｔ合金粉であることが好ましい。また、上記ＦｅＰｔ合金粉は、Ｆｅ：８０〜９５原子％を含有するＦｅＰｔ合金粉であることが好ましい。さらに、上記Ｐｔ粉は、平均粒径が１〜５μｍのものを用い、さらにグラファイト粉またはカーボンブラック粉は、平均粒径が０．０２〜２０μｍのものを用いるとよい。
【００２４】
　なお、ＡｕＰｔ合金粉およびＣｕＰｔ合金粉、ＡｇＰｔ合金粉、ＦｅＰｔ合金粉は、平均粒径が１０〜３０μｍのものを用いることが好ましい。これらの平均粒径を上記範囲とした理由は、１０μｍ未満であると、収率よく回収することが困難となるためであり、３０μｍを超えると、ターゲットの十分高い密度が得られずパーティクルが発生しやすくなるためである。
【００２５】
　この製法の一例について詳述すれば、例えば、まず上記所定組成割合となるＡｕＰｔ合金粉、ＣｕＰｔ合金粉、ＡｇＰｔ合金粉、ＦｅＰｔ合金粉をそれぞれガスアトマイズ法により作製し、平均粒径が１０〜３０μｍとなるように篩分して粉末を回収する。
　Ｐｔ粉については市販のものを用いればよく、例えばＰｔ粉については純度が３Ｎ〜４Ｎで平均粒径１〜５μｍの粉末を用意すればよい。
  【００２６】
　カーボンブラック粉は、アセチレンガスを原料として燃焼と熱分解とを周期的に繰り返すことによりアセチレンガスの発熱分解により生成された、いわゆるアセチレンブラックを使用する。このカーボンブラック粉としては、例えば平均粒径３５ｎｍ、比表面積（ＢＥＴ値）７０ｍ２／ｇの粉末を用いる。
  【００２７】
　次に、このＡｕＰｔ合金粉とＣｕＰｔ合金粉とＡｇＰｔ合金粉とＦｅＰｔ合金粉とＰｔ粉とグラファイト粉またはカーボンブラック粉とを上記所定のターゲット組成となるように秤量し、これらをボールミル混合用の容器に混合用の粉砕媒体となる５ｍｍφのジルコニアボール等と共に投入し、容器内をＡｒガスで置換した後蓋を閉める。さらに、この容器を、２〜１６時間回転させ、原料を混合して混合粉末とする。
  【００２８】
　次に、得られた混合粉末を真空中にてホットプレスにより成型焼結し、得られた焼結体を機械加工により所定のターゲット寸法に加工する。なお、十分高い密度の焼結体を得るためには、２００ｋｇｆ／ｃｍ２以上の加圧力でホットプレスする必要があるが、モールドの機械強度とプレス装置の最大荷重による制限を受ける。このためホットプレスは、１１００〜１６００℃の範囲で保持時間：３〜１２時間、加圧力：３５０ｋｇｆ／ｃｍ２にて行うことが好ましい。
　こうして得られた焼結体を、バッキングプレートに接合してターゲットとする。」
（エ）「【００４０】【表１】
」
（２）甲３の記載事項
　甲３の段落【０００７】、【０００９】、【００２６】、【００２７】、【００２９】、【００３０】、【００３２】、【００３３】および【００４７】【表１】には、先願３明細書の前記記載事項（ア）−（エ）と同様の事項が記載されている。
（３）先願４明細書の記載事項
　本件特許の優先日前に出願され、特許法第４１条第３項の規定により、甲４によって出願公開されたものとみなされる先願４明細書には、「磁気記録媒体膜形成用スパッタリングターゲットおよびその製造方法」（発明の名称）について、次の記載がある。
（オ）「【０００７】
　本発明は、前述の課題に鑑みてなされたもので、規則化温度を低下させたＦｅＰｔＡｇ−Ｃ膜を成膜することができると共にパーティクルの発生が抑制可能な磁気記録媒体膜形成用スパッタリングターゲットおよびその製造方法を提供することを目的とする。」
（カ）「【０００９】
  この磁気記録媒体膜形成用スパッタリングターゲットでは、一般式：｛（ＦｅＸＰｔ１００−Ｘ）（１００−ｙ）Ａｇｙ｝（１００−ｚ）Ｃｚ、ここで原子比により３０≦ｘ≦８０、１≦ｙ≦３０、３≦ｚ≦６３で表される組成を有した焼結体からなるので、１つのターゲットでＡｇにより規則化温度を低下させたＦｅＰｔＡｇ−Ｃ膜を成膜できると共に、ＣがＦｅ，Ｐｔ，Ａｇの金属マトリックス中に介在してＣ単体のパーティクルが発生し難くなることで、スパッタリング時の異常放電の発生を抑制することができる。」
（キ）「【００２０】
　この磁気記録媒体膜形成用スパッタリングターゲットの製造方法は、図１に示すように、ＡｇＰｔ合金粉と、ＡｕＰｔ合金粉と、ＣｕＰｔ合金粉と、ＦｅＰｔ合金粉と、Ｐｔ粉と、グラファイト粉またはカーボンブラック粉と、の混合粉末を、真空または不活性ガス雰囲気中でホットプレスする工程を有している。
　特に、カーボンブラック粉としては、アセチレンガスの発熱分解により生成された、いわゆるアセチレンブラックを使用することが好ましい。
【００２１】
　上記ＡｇＰｔ合金粉は、Ａｇ：５〜９５原子％を含有するＡｇＰｔ合金粉であることが好ましい。また、上記ＡｕＰｔ合金粉は、Ａｕ：１０〜９０原子％を含有するＡｕＰｔ合金粉であることが好ましい。また、上記ＣｕＰｔ合金粉は、Ｃｕ：１０〜９０原子％を含有するＣｕＰｔ合金粉であることが好ましい。また、上記ＦｅＰｔ合金粉は、Ｆｅ：８０〜９５原子％を含有するＦｅＰｔ合金粉であることが好ましい。さらに、上記Ｐｔ粉は、平均粒径が１〜５μｍのものを用い、さらにグラファイト粉またはカーボンブラック粉は、平均粒径が０．０２〜２０μｍのものを用いるとよい。
【００２２】
　なお、ＡｇＰｔ合金粉およびＡｕＰｔ合金粉、ＣｕＰｔ合金粉、ＦｅＰｔ合金粉は、平均粒径が１０〜３０μｍのものを用いることが好ましい。これらの平均粒径を上記範囲とした理由は、１０μｍ未満であると、収率よく回収することが困難となるためであり、３０μｍを超えると、ターゲットの十分高い密度が得られずパーティクルが発生しやすくなるためである。
【００２３】
　この製法の一例について詳述すれば、例えば、まず上記所定組成割合となるＡｇＰｔ合金粉およびＡｕＰｔ合金粉、ＣｕＰｔ合金粉、ＦｅＰｔ合金粉をそれぞれガスアトマイズ法により作製し、平均粒径が１０〜３０μｍとなるように篩分して粉末を回収する。
　Ｐｔ粉については市販のものを用いればよく、例えばＰｔ粉については純度が３Ｎ〜４Ｎで平均粒径１〜５μｍの粉末を用意すればよい。
【００２４】
　カーボンブラック粉は、アセチレンガスを原料として燃焼と熱分解とを周期的に繰り返すことによりアセチレンガスの発熱分解により生成された、いわゆるアセチレンブラックを使用する。このカーボンブラック粉としては、例えば平均粒径３５ｎｍ、比表面積（ＢＥＴ値）７０ｍ２／ｇの粉末を用いる。
【００２５】
　次に、このＡｇＰｔ合金粉とＡｕＰｔ合金粉とＣｕＰｔ合金粉とＦｅＰｔ合金粉とＰｔ粉とグラファイト粉またはカーボンブラック粉とを上記所定のターゲット組成となるように秤量し、これらをボールミル混合用の容器に混合用の粉砕媒体となる５ｍｍφのジルコニアボール等と共に投入し、容器内をＡｒガスで置換した後蓋を閉める。さらに、この容器を、２〜１６時間回転させ、原料を混合して混合粉末とする。
【００２６】
　次に、得られた混合粉末を真空中にてホットプレスにより成型焼結し、得られた焼結体を機械加工により所定のターゲット寸法に加工する。なお、十分高い密度の焼結体を得るためには、２００ｋｇｆ／ｃｍ２以上の加圧力でホットプレスする必要があるが、モールドの機械強度とプレス装置の最大荷重による制限を受ける。このためホットプレスは、９５０〜１３００℃の範囲で保持時間：３〜１２時間、加圧力：３５０ｋｇｆ／ｃｍ２にて行うことが好ましい。
　こうして得られた焼結体を、バッキングプレートに接合してターゲットとする。」
（ク）「【００３８】【表１】
」
（４）甲４の記載事項
　甲４の段落【０００７】、【０００９】、【００２４】、【００２５】、【００２７】−【００３１】および【００４５】【表１】には、先願４明細書の前記記載事項（オ）−（ク）と同様の事項が記載されている。
（５）甲５の記載事項
　甲５には、「酸化物薄膜製造用スパツタリングタ−ゲツトの原料粉末調製法及びその製造法」（発明の名称）について、次の記載がある。
（ケ）「【請求項１】ＩＩ　Ａ族元素、ＩＩＩ　Ｂ族元素及び銅を主成分とし、各成分のうちの少なくとも１つの成分が金属粉末であり、他の成分が酸化物又は加熱により酸化物となる化合物の粉末である酸化物薄膜製造用スパツタリングターゲツトの原料粉末の調製法において、
各成分を酸素又は空気雰囲気下で不活性溶媒中で混合し、該混合物を酸素又は空気雰囲気下で乾燥することにより、金属粉末を徐々に表面酸化しながら他の成分と混合することを特徴とするＩＩ　Ａ族−ＩＩＩ　Ｂ族−銅系酸化物薄膜製造用スパツタリングターゲツトの原料粉末調製法。」
（コ）「従来の上記混合法により出発原料を混合し、これを焼結してスパツタリングターゲツトを製造すると、原料の混合中、成形中又は焼結中に金属粉末が急激に酸化され、激しい発熱が生じるとともに、その体積が変化し、このため出発原料を成形して得られた成形物及び焼結して得られたスパツタリングターゲツトが自壊するという問題点を有していた。
　本発明は、金属粉末表面の酸化物形成を他の原料との混合工程にて行うことにより、金属粉末の表面を酸化物の被膜で覆い、金属粉末の急激な酸化による成形品及びスパツタリングターゲツト用焼結品の自壊作用を防止しうる原料粉末の調製法及びスパツタリングターゲツトの製造法を提供する。」（第２頁左欄第２８行−第４０行）
（サ）「本発明は、原料粉末を酸素又は空気雰囲気下で混合及び乾燥することにより金属粉末の表面を酸化し、金属粉末の急激な酸化による成形物及びスパツタリングターゲツトの自壊を防止しえた点に特徴を有するものである。」（第２頁右欄第１９行−第２２行）
（６）甲６の記載事項
　甲６には、「強磁性酸化物及び製造法」（発明の名称）について、次の記載がある。
（シ）「１．　フェロマンガン合金粉末と、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｍｇ、Ｃｏ、Ｚｎ等の酸化物、又は塩、又はその溶液又はスラリー等容物質の一種又は二種以上を、Ｆｅの酸化物成分として３６〜６０モル％、Ｍｎ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｍｇ、Ｃｏ、Ｚｎの酸化物成分の一種又は二種以上で４０〜６４モル％の範囲に調整秤取し、これに酸素、又は酸根を含む液を加え粉砕混合することによって該混和物中の合金粉末の一次粒子の表面及び微粉末の大部分を酸化することによって該粒子内部のＦｅイオンの均一性を保ち、該混和物を８００℃〜１４５０℃に加熱してなる軟磁性酸化物。」（特許請求の範囲）
（ス）「もしもこの粉体が爆発範囲内の空気と混合されると爆発する。したがって実際の作業上不十分に酸化した合金の粗粒を乾式粉砕すると、爆発の危険のあることは当然である。」（第２頁右下欄第５行−第７行）
（７）甲７の記載事項
　甲７には、次の記載がある。
（セ）「粉化した石炭が自然発火しやすい理由は、主として、粉化のため酸素と反応する表面積が増加するためであるが、このほか、伝熱性が悪くなるとか、酸素の供給がよくなることなどが理由とされている。」（１８６頁中欄第３行−第７行）
（８）甲８の記載事項
　甲８には、次の記載がある。
（ソ）「炭じん（微粉炭）の発火や爆発の問題は、石炭が利用されて以来の問題であり、古くから研究がなされてきた。」（１３６頁左欄第３行−第５行）
（タ）「中心の最高到達温度の低減にあたっては、雰囲気の酸素濃度が高い場合には堆積面の温度を下げるよりも堆積厚を薄くした方が効果的であったが、酸素濃度が低い場合には堆積厚を薄くしても中心温度の上昇はあまり抑制されなかった。」（１４７頁右欄第９行−第１３行）
（９）引用発明（甲３発明、甲４発明）の認定
　「（１）」「（２）」によれば、先願３明細書の実施例１には、
「ＡｇＰｔ合金粉とＡｕＰｔ合金粉とＣｕＰｔ合金粉とＦｅＰｔ合金粉とＰｔ粉とグラファイト粉またはカーボンブラック粉とを、ボールミル混合用の容器に投入し、容器内をＡｒガスで置換した後、原料を混合して混合粉末とし、ホットプレスにより１１００〜１６００℃、３５０ｋｇｆ／ｃｍ２で３〜１２時間加圧保持してなる、（Ｆｅ５０．１Ｐｔ３９．５Ｃｕ１０．４）６４．５Ｃ３５．５スパッタリングターゲットの製造方法。」の発明（以下、「甲３発明」という。）が記載されている。
　また、「（３）」「（４）」によれば、先願４明細書の実施例１には、
「ＡｇＰｔ合金粉とＡｕＰｔ合金粉とＣｕＰｔ合金粉とＦｅＰｔ合金粉とＰｔ粉とグラファイト粉またはカーボンブラック粉とを、ボールミル混合用の容器に投入し、容器内をＡｒガスで置換した後、原料を混合して混合粉末とし、ホットプレスにより９５０〜１３００℃、３５０ｋｇｆ／ｃｍ２で３〜１２時間加圧保持してなる、（Ｆｅ４９．７Ｐｔ４０．１Ａｇ１０．２）６４．８Ｃ３５．２スパッタリングターゲットの製造方法。」の発明（以下、「甲４発明」という。）が記載されている。
（１０）本件発明２と甲３発明、甲４発明との対比・判断
　本件発明２と甲３発明、甲４発明とを対比すると、少なくとも下記（相違点１）、（相違点２）で相違している。
（相違点１）
　Ｃ粉末を添加して混合粉末を作製する原料が、本件発明２では、単一種の「ＦｅＰｔ系合金粉末」であって、「Ｐｔを４０ａｔ％以上６０ａｔ％未満、Ｆｅ、Ｐｔ以外の１種以上の金属元素を０ａｔ％よりも多く２０ａｔ％以下含有」するのに対し、甲３発明および甲４発明では、Ｆｅ、Ｐｔ以外の原料を含まない「ＦｅＰｔ合金粉」と、「ＡｇＰｔ合金粉」、「ＡｕＰｔ合金粉」、「ＣｕＰｔ合金粉」および「Ｐｔ粉」の少なくともいずれかとを組み合わせたものである点。
（相違点２）
　ＦｅＰｔ系合金粉末とＣ粉末との混合粉末を、本件発明２では、酸素の存在する雰囲気下で混合することにより作製しているのに対し、甲３発明および甲４発明では、Ａｒガス雰囲気下で混合することにより作製している点。
　まず（相違点２）について検討する。
　特許異議申立人は、前記「（５）」「（６）」によれば、酸素、空気又は酸根を含む雰囲気下又は液中で混合や粉砕混合を行って、混合中に金属粉末を酸化させておくことにより、混合後に金属粉末が急激に酸化して激しい発熱や、爆発・発火が生じるのを抑制することは周知の技術であり、また、前記「（７）」「（８）」によれば、酸素を含む雰囲気内で炭素粉末を処理する際に、粉化した石炭の自然発火や微粉炭の発火・爆発の問題も、従来から知られている課題であるから、混合粉末の原料として「グラファイト粉」や「カーボンブラック粉」が用いられる甲３発明又は甲４発明においては、炭素粉末の発火・爆発という従来から知られている課題を考慮して、酸素を含む雰囲気下で混合を行うことは、単なる周知技術の転換にすぎないと主張している。
　また、特許異議申立人は、Ｃ粉末は表面が活性であり、酸素を吸着すると酸か熱が発生して自然発火も発生しうることは技術常識であるから、Ｃ粉末を酸素の存在しない雰囲気下で混合し、その後これが大気に触れると急激な酸素の吸着および酸化により発火しうることは、極めて容易に認識できたことであるというべきことであり、ＦｅＰｔ合金粉末とＣ粉末とを混合する場合には、金属粉末やＣ粉末の爆発や発火を防ぐ観点から、酸素の存在する雰囲気下で混合して混合粉末を作製することは至極当然のことであって、甲３発明又は甲４発明において、酸素を含む雰囲気下で混合を行うことは、発火防止という課題解決の具体化手段における微差にすぎないとも主張している。
　しかしながら、前記「（５）」「（６）」によれば、混合後の大気暴露時における「酸化による発熱」や「発火」という課題が周知であるのは、「金属粉末」であって、「Ｃ粉末」にも同様の周知の課題があることは示されていないし、混合時の雰囲気を「酸素を含む雰囲気」とすることで、「Ｃ粉末」の「酸化による発熱」や「発火」を防止できることが示されているともいえない。
　また、前記「（７）」「（８）」によれば、「Ｃ粉末」の「発火」は、「酸素を含む雰囲気内で炭素粉末を処理する際」の課題であるから、「Ｃ粉末」の「混合時」にも発火が生じうることを示していると解され、混合後の大気暴露時の発火を防止するため、混合時の雰囲気を「酸素を含む雰囲気」とすることを示すものではない。
　そうすると、前記「（５）」−「（８）」からは、ＦｅＰｔ合金粉末とＣ粉末との混合時の雰囲気を「酸素を含む雰囲気」とすることにより、混合後の大気暴露時における「発火」を防止することが、周知技術であることが示されているとはいえない。
　さらに、甲３、先願３明細書、甲４および先願４明細書には、混合後の大気暴露時の発火を防止するという課題について、何ら記載されていないし、混合粉末の原料を「ボールミル混合用の容器に投入」した直後の、「大気雰囲気」である「容器」内を、あえて「Ａｒガスで置換」してから混合することは、むしろ酸素を含む雰囲気である「大気雰囲気」での混合は行わないことを示すものであるといえるから、甲３発明又は甲４発明において、「Ｃ粉末」の「混合時」を「酸素を含む雰囲気」として、「混合後の大気暴露時」に発火が生じるのを防止することは、課題解決の具体化手段における微差にすぎないともいえない。
　よって、（相違点１）について検討するまでもなく、本件発明２と甲３発明および甲４発明とは、（相違点２）で実質的に相違するから、本件発明２と甲３発明および甲４発明が実質的に同一であるとはいえない。
（１１）小括
　したがって、本件発明２は、先願３明細書に記載され、甲３により出願公開されたものとみなされる発明、並びに、先願４明細書に記載され、甲４により出願公開されたものとみなされる発明と、実質的に同一であるとはいえないから、特許法第２９条の２の規定により特許を受けることができないものであるとはいえない。
　また、本件発明３−１９は、本件発明２を引用し、本件発明２をさらに限定する発明であるから、先願３明細書に記載され、甲３により出願公開されたものとみなされる発明、並びに、先願４明細書に記載され、甲４により出願公開されたものとみなされる発明と実質的に同一であるとはいえず、特許法第２９条の２の規定により特許を受けることができないものであるとはいえない。
３．申立理由３）について
（１）甲１の記載事項
　甲１には、次の記載がある。なお、「日本語訳」については、特許異議申立書に添付された「甲第１号証部分抄訳」を参酌した。
（ア）「In this work, ECA perpendicular media with the structure of glass/CrRu 30nm/MgO 2nm/L10 FePtC/fcc FePtC were prepared by an ultrahigh vacuum magnetron sputtering system. The CrRu and MgO act as the underlayer and the buffer layer. The formation of the L10 ordered FePt was achieved by heteroepitaxial growth by following the relationship of CrRu(002)110||MgO(100)001||FePt(001)×100.8-10 The substrate temperatures for the deposition of the CrRu underlayer and the MgO buffer layer were 350 and 80 ℃, respectively. Different deposition temperatures were used to control the FePtC phases with soft (room temperature) and hard magnetic properties (350℃). Three inch diameter composite targets were used, Cr90Ru10 (99.9% purity), MgO (99.99% purity), (Fe50Pt50)79C21 (99.99% purity). The working pressure of the Ar gas used for film deposition was 3 mTorr for CrRu and MgO and 10 mTorr for FePtC. The substrate was held at the required temperature for 15 min prior to sputtering.」（０７２５０４−１頁右欄第１５行−第３２行）
（日本語訳：「本研究では、ガラス／ＣｒＲｕ　３０ｎｍ／ＭｇＯ　２ｎｍ／Ｌ１０　ＦｅＰｔＣ／ｆｃｃとなる構造を有する交換結合補強型垂直媒体を超高真空マグネトロンスパッタリングシステムにより準備した。ここでＣｒＲｕ及びＭｇＯは下地及びバッファ層として働く。Ｌ１０構造を有するＦｅＰｔＣはＣｒＲｕ（００２）＜１１０＞｜｜ＭｇＯ（１００）＜００１＞｜｜ＦｅＰｔ（００１）×＜１００＞８−１０の関係に従い、ヘテロエピタキシャル成長方法により得られた。ＣｒＲｕ下地層及びＭｇＯバッファ層の堆積のための基板温度はそれぞれ３５０℃及び８０℃であった。ＦｅＰｔＣ相は異なる堆積温度を用いることにより軟磁性（室温）又は硬磁性（３５０℃）に調整した。Ｃｒ９０Ｒｕ１０（純度９９．９％）、ＭｇＯ（純度９９．９９％）、（Ｆｅ５０Ｐｔ５０）７９Ｃ２１（純度９９．９９％）の直径３インチの複合型ターゲットが用いられた。フィルム堆積に用いられるアルゴンガスの動作圧は、ＣｒＲｕ及びＭｇＯについては３ｍＴｏｒｒ，ＦｅＰｔＣについては１０ｍＴｏｒｒであった。基板はスパッタリングの前に１５分間所定温度に保持した。」）
（２）引用発明（甲１発明）の認定
　「（１）」によれば、甲１には複合型ターゲットが記載され、そのうち本件発明１の「ＦｅＰｔ−Ｃ系」に相当する「（Ｆｅ５０Ｐｔ５０）７９Ｃ２１（純度９９．９９％）」の部分に着目すると、
「（Ｆｅ５０Ｐｔ５０）７９Ｃ２１（純度９９．９９％）からなるＦｅＰｔ−Ｃ系スパッタリングターゲット。」の発明（以下、「甲１発明」という。）が記載されている。
（３）本件発明１と甲１発明との対比・判断
　本件発明１と甲１発明とを対比すると、少なくとも下記（相違点１）で相違している。
（相違点１）
　本件発明１は、「ＦｅＰｔ−Ｃ系スパッタリングターゲット」の「製造方法」についての発明であって、「混合粉末」の原料につき、「Ｐｔを４０〜６０ａｔ％含有して残部がＦｅおよび不可避的不純物からなるＦｅＰｔ系合金粉末」と、「不可避的不純物を含むＣ粉末」とからなることが特定され、「混合粉末を作製する工程」につき、「酸素の存在する雰囲気下で混合」されることが特定され、「成形工程」につき、「作製した該混合粉末を加圧下で加熱して成形する」ことが特定されているのに対し、甲１発明は、スパッタリングターゲットの「製造方法」についての発明でなく、混合粉末の原料、混合工程、成形工程の特定がない点。
　（相違点１）について、特許異議申立人は、「２．（１０）本件発明２と甲３発明、甲４発明との対比・判断」の記載の中での主張と同様に、「ＦｅＰｔ系合金粉末」と「Ｃ粉末」との混合工程を、「酸素の存在する雰囲気下」で行うようにすることは、当業者が極めて容易に想到できたことであり、また、「作製した該混合粉末を加圧下で加熱して成形する」ことにより、スパッタリングターゲットを「製造」することは、当該技術分野における周知技術にすぎないと主張している。
　しかしながら、スパッタリングターゲットを製造するに際し、混合粉末を加圧下で加熱して成形することが周知技術であるとしても、スパッタリングターゲットの「製造」について特定のない甲１発明においては、「混合粉末を加圧下で加熱して成形する」方法を選択する動機づけもないし、当該方法を選択したとしても、混合粉末の原料に「ＦｅＰｔ系合金粉末」と「Ｃ粉末」とを用いる動機づけはない。
　また、「２．（１０）本件発明２と甲３発明、甲４発明との対比・判断」で述べたように、「２．（５）甲５の記載事項」−「２．（８）甲８の記載事項」からは、「金属粉末」の混合後の大気暴露時における「酸化による発熱」や「発火」という課題が周知であることがいえるのみであって、「Ｃ粉末」の混合後の大気暴露時における「酸化による発熱」や「発火」という課題が周知であるとはいえず、混合時の雰囲気を「酸素の存在する雰囲気」とすることにより、前記「酸化による発熱」や「発火」を抑制することが周知の技術であるともいえないから、甲１発明のスパッタリングターゲットを製造する際に、「混合粉末を加圧下で加熱して成形する」方法を選択し、混合粉末の原料に「ＦｅＰｔ系合金粉末」と「Ｃ粉末」とを用いたとしても、「Ｃ粉末」の混合後の大気暴露時における「発火」を抑制するため、混合時の雰囲気を「酸素の存在する雰囲気」とすることが、当業者が容易になし得ることであるとはいえない。
　したがって、本件発明１は、甲１発明から、当業者が容易に発明をすることができたものであるとはいえない。
（４）小括
　したがって、本件発明１は、甲１に記載された発明から、当業者が容易に発明をすることができたものであるとはいえない。
　また、本件発明６−１２、１４、１７−１９は、本件発明１を引用し、本件発明１をさらに限定する発明であるから、甲１に記載された発明から、当業者が容易に発明をすることができたものであるとはいえない。
４．申立理由４）について
　特許異議申立人は、本件明細書の実施例では、発火を防止するという課題を解決できることが確認されたのは、Ｃ粉末含有量については３３．４ａｔ％、４０ａｔ％、６０ａｔ％の３点のみであって、Ｃ粉末含有量が３３．４ａｔ％未満の場合に発火防止の課題が解決できるかどうかは明らかでなく、より具体的には、３３．４ａｔ％未満という少ないＣ粉末含有量においては、混合時の雰囲気にかかわらず、酸素の吸着熱により発火が生じないと推測され、本件発明で解決しようとする課題がそもそも生じないといえるから、本件発明１−１９は、課題を解決するに必要な構成が欠如しており、それにより、課題を解決できないものまで不当に広く含むものであると主張している。
　また、同じく本件明細書の実施例においては、混合時雰囲気を大気か、Ａｒ−２０％Ｏ２である場合が記載されているのみであって、雰囲気中の酸素含有量が極めて少量である場合には、混合時にＣ粉末表面にほとんど酸素が吸着せず、混合後の大気暴露時にＣ粉末が発火する可能性があるから、本件明細書の記載から、混合時の酸素含有量が２０％未満の場合に、本件発明の課題を解決できることが裏付けられているとはいえないことも主張している。
　しかしながら、本件発明におけるＣ粉末の「発火」は、Ｃ粉末に酸素が吸着して発生した吸着熱が原因であるから、「３３．４ａｔ％未満」という少ない含有量のＣ粉末で、「発火」に至るかは明らかでなくとも、本件発明のように、混合時雰囲気を酸素を含む雰囲気とすれば、混合時にＣ粉末に酸素が予め吸着するため、発火の原因となる「混合後の大気暴露時」の「酸素の吸着」が減少することは明らかである。
　混合時雰囲気についても同様に、酸素含有量が２０％未満であっても、混合時にＣ粉末に酸素が吸着することで、混合後の大気暴露時に吸着する酸素の量は少なくなるといえる。
　よって、本件発明においては、Ｃ粉末含有量や酸素含有量の多寡によらず、「酸素の存在する雰囲気下」で「混合粉末を作製」することにより、Ｃ粉末の「発火」の可能性に改善が図られることが、当業者であれば認識できるから、本件発明１−１９の発明特定事項により、本件発明の課題を解決できることが裏付けられていないとはいえない。
　したがって、本件発明１−１９が、課題を解決するに必要な構成が欠如しており、それにより、課題を解決できないものまで不当に広く含むものであるとはいえないから、特許異議申立の理由によっては、本件特許の請求項１−１９の記載が、特許法第３６条第６項第１号に規定する要件を満たしていないとすることはできない。
第４．むすび
　以上のとおりであるから、異議申立人が主張する申立理由１）−４）によっては、請求項１−１９に係る特許を取り消すことはできない。
　したがって、結論のとおり決定する。
【異議決定日】
平成２９年１月６日（２０１７．１．６）