(57)【要約】      （修正有）【課題】縦型フレーム洗浄装置を提供する。【解決手段】フレームと、フィードモジュール２００と、洗浄モジュール３００と、一時保管モジュール４００と、排出モジュール５００と、を備えている。フレームは支持ユニット及び固着部を含む。フィードモジュールは第一基板取り出しユニットと、第一オープンフレーム機構と、第一搬送ユニットと、を具備している。洗浄モジュールは排水ユニット、乾燥ユニット、及び第二搬送ユニットで構成され、排水ユニットは複数の排水部材を含み、乾燥ユニットは複数の乾燥部材を含み、排水ユニット及び乾燥ユニットはフレームの移動経路の両側に配置されている。一時保管モジュールは複数の一時保管部と、スライドと、活動部と、第三搬送ユニットと、を備え、スライドは一時保管部の間に配置され、活動部はスライドに滑動可能に設置されている。排出モジュールは第二基板取り出しユニットと、第二オープンフレーム機構と、第四搬送ユニットと、を具備している。【選択図】図１
0003232704.tif 000002
【実用新案登録請求の範囲】
【請求項１】
基板に対する洗浄に適用する縦型フレーム洗浄装置であって、
少なくとも１つのフレームと、
フィードモジュールと、
前記フィードモジュールの第１方向に配置されている洗浄モジュールと、
前記洗浄モジュールの前記第１方向に配置されている一時保管モジュールと、
前記一時保管モジュールの前記第１方向に配置されている排出モジュールと、を備え、
少なくとも１つの前記フレームは、
支持ユニットと、
前記支持ユニットに可動に連結されている固着部であって、少なくとも１つの前記フレームは前記固着部により前記基板を固着して前記基板の法線を地面に平行させている固着部と、を含み、
前記フィードモジュールは、
第一基板取り出しユニットと、
第一収容部及び第一オープンフレーム部を含み、前記第一収容部は少なくとも１つの前記フレームを収容するために適用し、前記第一オープンフレーム部は前記第一収容部に配置され、前記第一オープンフレーム部により少なくとも１つの前記フレームを固定すると共に前記固着部を前記支持ユニットに対して開閉させる第一オープンフレーム機構と、
少なくとも１つの前記フレームを前記第１方向に沿って搬送するために適用する第一搬送ユニットと、を具備し、
前記洗浄モジュールは、
複数の排水部材を含む排水ユニットと、
複数の乾燥部材を含む乾燥ユニットであって、前記排水ユニット及び前記乾燥ユニットは少なくとも１つの前記フレームの移動経路の両側に配置されている乾燥ユニットと、
少なくとも１つの前記フレームを前記第１方向に沿って搬送するために適用する第二搬送ユニットと、を備え、
前記一時保管モジュールは、
第２方向に沿って隣接するように配置されている複数の一時保管部と、
複数の前記一時保管部の間に配置されていると共に前記第２方向に沿って延伸しているスライドと、
前記スライドに滑動可能に設置されている活動部と、
複数の前記一時保管部及び前記活動部に配置されている第三搬送ユニットと、を含み、
前記排出モジュールは、
第二基板取り出しユニットと、
第二収容部及び第二オープンフレーム部を含み、前記第二収容部は少なくとも１つの前記フレームを収容するために適用し、前記第二オープンフレーム部は前記第二収容部に配置され、且つ前記第二オープンフレーム部により少なくとも１つの前記フレームを固定すると共に前記固着部を前記支持ユニットに対して開閉させる第二オープンフレーム機構と、
第四搬送ユニットと、を具備していることを特徴とする縦型フレーム洗浄装置。
【請求項２】
前記固着部は固着部材を備え、前記第一オープンフレーム機構はオープンフレームセンサーをさらに備え、且つ前記オープンフレームセンサーは前記第一オープンフレーム部に電気的に接続していることを特徴とする請求項１に記載の縦型フレーム洗浄装置。
【請求項３】
前記フィードモジュールはイメージセンサーをさらに備え、前記イメージセンサーは前記第一基板取り出しユニット及び前記基板の相対的位置を検出するために用いていることを特徴とする請求項１に記載の縦型フレーム洗浄装置。
【請求項４】
前記洗浄モジュールは前記第１方向及び第３方向に沿って往復擺動するスイングメカニズムをさらに備え、且つ前記排水ユニットは前記スイングメカニズムに連結されていることを特徴とする請求項１に記載の縦型フレーム洗浄装置。
【請求項５】
複数の前記排水部材の一部分は現像液源に接続し、且つ複数の前記排水部材の他の部分は洗浄液源に接続していることを特徴とする請求項１に記載の縦型フレーム洗浄装置。
【請求項６】
前記洗浄モジュールは前記乾燥ユニットの前記第１方向に配置されている静電気消除ユニットをさらに備えていることを特徴とする請求項１に記載の縦型フレーム洗浄装置。
【請求項７】
前記第一搬送ユニット、前記第二搬送ユニット、前記第三搬送ユニット、及び前記第四搬送ユニットは、
複数のモーターと、
複数のローラーと、をそれぞれ備え、
複数の前記モーターは複数のギア及び複数の駆動軸により複数の前記ローラーを駆動し、複数の前記ギアは平歯車或いは傘歯車であることを特徴とする請求項１に記載の縦型フレーム洗浄装置。
【請求項８】
前記第一搬送ユニット、前記第二搬送ユニット、前記第三搬送ユニット、及び前記第四搬送ユニットはそれぞれ搬送制御ユニット及び複数の位置センサーをさらに備え、少なくとも１つの前記フレームの数量は複数であり、複数の前記位置センサーのうちの何れか１つの位置センサーが、複数の前記フレームのうちの何れか１つのフレームと他のフレームとの距離が閾値未満であることを検出すると、前記搬送制御ユニットが前記フレームに対応する前記モーターの作動を停止するように制御することを特徴とする請求項７に記載の縦型フレーム洗浄装置。
【請求項９】
複数の前記乾燥部材はガス源に接続し、前記洗浄モジュールの底部には集水部材及び少なくとも１つの液量センサーが配置されていることを特徴とする請求項１に記載の縦型フレーム洗浄装置。
【請求項１０】
前記フィードモジュールと前記一時保管モジュールとの間に連結されていると共に前記洗浄モジュールと平行して配置されているリフローモジュールをさらに備え、前記リフローモジュールは少なくとも１つの前記フレームを前記第１方向とは反対になる方向に沿って搬送するために適用している第五搬送ユニットを含むことを特徴とする請求項１に記載の縦型フレーム洗浄装置。
【考案の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本考案は、縦型フレーム洗浄装置に関し、更に詳しくは、基板を固着すると共に搬送中に洗浄を行う縦型フレーム洗浄装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
回路基板は先端技術電子産業において重要な製品である。一般的には、基板表面に回路を敷設した後、特殊な薬剤及び溶剤により洗浄、現像、エッチング、及び剥離等の処理ステップを行わなければ、各プロセス及び製品が使用上の仕様要求及び既定の精度に達しなかった。
【考案の概要】
【考案が解決しようとする課題】
【０００３】
しかしながら、現在市場では基板に対し上述の処理ステップを行う場合の標準化されたフローチャート用設備がなく、基板の表面が劣化しやすく、且つ生産速度、薬用量、搬送等の面でも統一された制御フローチャートがなかった。
【０００４】
そこで、本考案者は上記の欠点が改善可能と考え、鋭意検討を重ねた結果、基板を固着すると共に搬送中に洗浄を行う縦型フレーム洗浄装置を研究開発し、プロセス自動化の改善及び製品の歩留まり向上効果を達成する。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
上記課題を解決するために、本考案のある態様の縦型フレーム洗浄装置は、基板に対する洗浄に適用し、且つ縦型フレーム洗浄装置は少なくとも１つのフレームと、フィードモジュールと、洗浄モジュールと、一時保管モジュールと、排出モジュールと、を備えている。フレームは支持ユニット及び固着部を含み、固着部は支持ユニットに可動に連結され、フレームは固着部により基板を固着すると共に基板の法線を地面に平行させる。フィードモジュールは第一基板取り出しユニットと、第一オープンフレーム機構と、第一搬送ユニットと、を具備し、第一オープンフレーム機構は第一収容部及び第一オープンフレーム部で構成されている。第一収容部はフレームを収容するために適用し、第一オープンフレーム部は第一収容部に配置され、第一オープンフレーム機構は第一オープンフレーム部によりフレームを固定すると共に固着部を支持ユニットに対し開閉させる。第一搬送ユニットはフレームを第１方向に沿って搬送するために適用している。洗浄モジュールはフィードモジュールの第１方向に配置され、且つ排水ユニットと、乾燥ユニットと、第二搬送ユニットと、を備えている。排水ユニットは複数の排水部材を含み、乾燥ユニットは複数の乾燥部材を含み、排水ユニット及び乾燥ユニットはフレームの移動経路の両側に配置されている。第二搬送ユニットはフレームを第１方向に沿って搬送するために適用している。一時保管モジュールは洗浄モジュールの第１方向に配置され、且つ複数の一時保管部と、スライドと、活動部と、第三搬送ユニットと、を備えている。一時保管部は第２方向に沿って隣接するように配置され、スライドはこれら一時保管部の間に配置されていると共に第２方向に沿って延伸している。活動部はスライドに滑動可能に設置され、第三搬送ユニットは一時保管部及び活動部に配置されている。排出モジュールは一時保管モジュールの第１方向に配置され、且つ第二基板取り出しユニットと、第二オープンフレーム機構と、第四搬送ユニットと、を備えている。第二オープンフレーム機構は第二収容部及び第二オープンフレーム部を含み、第二収容部はフレームを収容するために適用し、第二オープンフレーム部は第二収容部に配置され、第二オープンフレーム機構は第二オープンフレーム部によりフレームを固定すると共に固着部を支持ユニットに対し開閉させる。
【０００６】
本考案の好適例において、上述の固着部は固着部材を備え、第一オープンフレーム機構は第一オープンフレーム部に電気的に接続しているオープンフレームセンサーをさらに含む。
【０００７】
本考案の好適例において、上述のフィードモジュールは第一基板取り出しユニット及び基板の相対的位置を検出するために用いているイメージセンサーをさらに備えている。
【０００８】
本考案の好適例において、上述の洗浄モジュールは第１方向及び第３方向に沿って往復擺動するスイングメカニズムをさらに備え、排水ユニットはスイングメカニズムに連結されている。
【０００９】
本考案の好適例において、上述の排水部材の一部分は現像液源に接続し、排水部材の他の部分は洗浄液源に接続している。
【００１０】
本考案の好適例において、上述の洗浄モジュールは乾燥ユニットの前記第１方向に配置されている静電気消除ユニットをさらに備えている。
【００１１】
本考案の好適例において、上述の第一搬送ユニット、第二搬送ユニット、第三搬送ユニット、及び第四搬送ユニットは複数のモーター及び複数のローラーをそれぞれ備え、これらモーターは複数のギア及び複数の駆動軸によりローラーを駆動し、ギアは平歯車或いは傘歯車である。
【００１２】
本考案の好適例において、上述の第一搬送ユニット、第二搬送ユニット、第三搬送ユニット、及び第四搬送ユニットは搬送制御ユニット及び複数の位置センサーをそれぞれさらに備え、フレームの数量は複数である。これら位置センサーのうちの何れか１つの位置センサーがこれらフレームのうちの何れか１つのフレームと他のフレームとの距離が閾値未満であることを検出すると、搬送制御ユニットがフレームに対応するモーターの作動を停止するように制御する。
【００１３】
本考案の好適例において、上述の乾燥部材はガス源に接続し、洗浄モジュールの底部には集水部材及び少なくとも１つの液量センサーが配置されている。
【００１４】
本考案の好適例において、縦型フレーム洗浄装置はフィードモジュールと一時保管モジュールとの間に連結されていると共に洗浄モジュールに平行に配置されているリフローモジュールをさらに備え、リフローモジュールは前記フレームを第１方向とは反対になる方向に沿って搬送するために適用している第五搬送ユニットを含む。
【考案の効果】
【００１５】
これにより、本考案に係る縦型フレーム洗浄装置は第一基板取り出しユニット、第一オープンフレーム機構、第二基板取り出しユニット、及び第二オープンフレーム機構によりそれぞれ基板をフレームに取り付けるかフレームから取り外し、第一搬送ユニット、第二搬送ユニット、第三搬送ユニット、及び第四搬送ユニットが洗浄モジュール及び一時保管モジュールを通過する過程で処理作業を完了し、プロセスの自動化及び製品の歩留まりを高める効果を達成している。
【００１６】
本明細書及び図面の記載により、少なくとも、以下の事項が明らかとなる。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】本考案の第１実施形態による縦型フレーム洗浄装置を示す外観斜視図である。
【図２】複数のトレイを示す概略側面図である。
【図３】図１に示す一実施形態の縦型フレーム洗浄装置のフレームを示す外観斜視図である。
【図４】図３に示すフレームの固着部を示す外観斜視図である。
【図５】図３に示すフレームがリフローモジュールから供給モジュールに向けて移動する外観斜視図である。
【図６】図５に示すフレームが第一オープンフレーム機構に向けて移行する外観斜視図である。
【図７】図６の別角度の概略拡大図である。
【図８】本考案の一実施形態に係るフィードモジュールを示す外観斜視図である。
【図９】基板が装填されたフレームがフィードモジュールから洗浄モジュールに搬送される斜視概略図である。
【図１０】本考案の一実施形態に係る第一搬送ユニットを示す外観斜視図である。
【図１１】図１０に示す第一搬送ユニットの部分の概略正面図である。
【図１２】本考案の一実施形態に係る洗浄モジュールの部分を示す斜視図である。
【図１３】図１２に示す洗浄モジュールの集水部材と液量センサーを示す斜視図である。
【図１４】本考案の一実施形態に係る洗浄モジュールの他の部分を示す斜視図である。
【図１５】本考案の一実施形態に係る一時保管モジュールを示す外観斜視図である。
【図１６】図１５に示す一時保管モジュールがフレームを一時保管部に移動する斜視図である。
【図１７】図１６に示すフレームが一時保管モジュールから排出モジュールに移動する斜視図である。
【図１８】本考案の一実施形態に係る排出モジュールを示す外観斜視図である。
【図１９】本考案の一実施形態に係るリフローモジュールを示す外観斜視図である。
【考案を実施するための形態】
【００１８】
本考案における好適な実施の形態について、添付図面を参照して説明する。尚、以下に説明する実施の形態は、実用新案登録請求の範囲に記載された本考案の内容を限定するものではない。また、以下に説明される構成の全てが、本考案の必須要件であるとは限らない。ちなみに、以下の実施例で述べる上、下、左、右、前、後等の方向用語は、添付図面の方向を参照するためのものにすぎない。よって、使用している方向用語は説明のために用いているにすぎず、本考案を制限するものではない。なお、本実施例では、同一または類似の要素には同一または類似の符号を付している。
【００１９】
図１は本考案の第１実施形態による縦型フレーム洗浄装置を示す外観斜視図である。図２は複数のトレイを示す概略側面図である。本実施例に係る縦型フレーム洗浄装置１は、例えば、縦型固着フレームに湿式及び黄色光を用いて基板２（図８参照）に対する洗浄を行う設備であり、少なくとも１つのフレーム１００（図３参照）と、フィードモジュール２００と、洗浄モジュール３００と、一時保管モジュール４００と、排出モジュール５００と、を備えている。フィードモジュール２００は縦型フレーム洗浄装置１の上流端から基板２を受け取ってフレーム１００に載置する。洗浄モジュール３００はフィードモジュール２００の第１方向Ｄ１に配置され、基板２に対する洗浄及び現像等の作業プロセスを実行する。一時保管モジュール４００は洗浄モジュール３００の第１方向Ｄ１に配置され、基板２及びフレーム１００を一時的に保管すると共に排出モジュール５００に搬送するために用いている。排出モジュール５００は一時保管モジュール４００の第１方向Ｄ１に配置され、洗浄及び現像が完了した基板２をフレーム１００から取り出して下流端に搬送し、後続の作業プロセスを実行するために用いている。好ましくは、縦型フレーム洗浄装置１は排出モジュール５００から基板２を取り出した後にフレーム１００をフィードモジュール２００に戻すように搬送して次の基板２を載置するために用いているリフローモジュール６００をさらに備えている。
【００２０】
図２と図８を参照すれば、本実施例の基板２は長方形板状を呈し、縦型フレーム洗浄装置１に搬送する前にはトレイ３に載置され、搬送用の台車またはトレーラー等の搬送装置により積み重ねられた基板２及びトレイ３が縦型フレーム洗浄装置１のフィードモジュール２００の入口箇所に搬送され、縦型フレーム洗浄装置１内部のモジュール及び部材により基板２をトレイ３から取り出して作業を行う。
【００２１】
図３は図１に示す一実施形態の縦型フレーム洗浄装置のフレームを示す外観斜視図である。図４は図３に示すフレームの固着部を示す外観斜視図である。本実施例のフレーム１００はほぼ長方形を呈し、基板２を載置して固定するために用い（図９参照）、且つ支持ユニット１１０及び固着部１２０を備えている。固着部１２０は支持ユニット１１０に可動に連結されている。
【００２２】
また、図３は図１に示す一実施形態の縦型フレーム洗浄装置のフレームを示す外観斜視図である。図４は図３に示すフレームの固着部を示す外観斜視図である。図５は図３に示すフレームがリフローモジュールから供給モジュールに向けて移動する外観斜視図である。図６は図５に示すフレームが第一オープンフレーム機構に向けて移行する外観斜視図である。図７は図６の別角度の概略拡大図である。図８は本考案の一実施形態に係るフィードモジュールを示す外観斜視図である。図９は基板が装填されたフレームがフィードモジュールから洗浄モジュールに搬送される斜視概略図である。本実施例では、フィードモジュール２００は第一基板取り出しユニット２１０と、第一オープンフレーム機構２２０と、第一搬送ユニット２３０と、を備えている。フレーム１００が前の基板を排出モジュール５００から取り出した後、リフローモジュール６００の第五搬送ユニット６１０（図５では図示省略、図１９参照）がフィードモジュール２００の第一オープンフレーム機構２２０に向けて移動する。縦型フレーム洗浄装置１全体が占める体積を減少させるため、リフローモジュール６００と第一オープンフレーム機構２２０との間には高度差を有し、フレーム１００をリフローモジュール６００の高度から第一オープンフレーム機構２２０がある高度に移動させる。具体的には、フィードモジュール２００は第一スライド２５０及び第二スライド２６０をさらに備え、第一スライド２５０は第１方向Ｄ１に直交する第２方向Ｄ２に沿って延伸し、第二スライド２６０は第１方向Ｄ１及び第２方向Ｄ２に直交する第３方向Ｄ３に沿って延伸し、第二スライド２６０はフィードモジュール２００とリフローモジュール６００との間に配置されている。これにより、フレーム１００は洗浄モジュール３００に平行しているリフローモジュール６００に沿ってフィードモジュール２００及びリフローモジュール６００の接合箇所まで移動した後、第二スライド２６０に沿って第一オープンフレーム機構２２０の高度まで移動し、基板２をフレーム１００に取り付けた後、第一スライド２５０に沿って第一搬送ユニット２３０まで移動すると共に洗浄モジュール３００に向けて搬送する。これにより、縦型フレーム洗浄装置１全体の体積が縮小するのみならず、各モジュールが処理フローチャート上で同期で処理可能になり、生産速度が向上する。ちなみに、他の可能な実施形態では、縦型フレーム洗浄装置１はリフローモジュール６００を備えていなくともよく、直接人力で、または台車等の設備によりフィードモジュール２００箇所に空のフレーム１００を提供して基板２を取り付けてもよく、本考案はこれらに限定されるものではない。
【００２３】
一方、第一オープンフレーム機構２２０は第一収容部２２２及び第一オープンフレーム部２２４を備え、第一収容部２２２はフレーム１００を収容するために適用し、第一オープンフレーム部２２４は第一収容部２２２に配置され、第一オープンフレーム機構２２０は第一オープンフレーム部２２４によりフレーム１００を固定すると共に固着部１２２を支持ユニット１１０に対して開閉させる。詳しくは、第一基板取り出しユニット２１０は、例えばロボットアームであり、吸引、磁気吸着、或いは狭着等の方式により基板２を所定の目標位置に取り出す。フレーム１００は図７に示すように第二スライド２６０に沿って第一オープンフレーム機構２２０の高度まで下降すると共に第一収容部２２２内部まで移動した後、第一オープンフレーム部２２４が図７に示すように第２方向Ｄ２とは反対になる方向に沿って移動すると共にボックス１２６と嵌合されてフレーム１００を固定する。この際、電流が第一オープンフレーム部２２４から固着部１２０に入力されると共に固着部材１２２を駆動させて支持ユニット１１０に対して一定の角度回転し、フレーム１００により基板２を収容した状態が形成される。この際、第一基板取り出しユニット２１０が図８に示すように基板２をトレイ３から取り出すと共にフレーム１００に載置する。基板２がフレーム１００の基板２を収容する位置に正確に配置されると、第一オープンフレーム部２２４が電流の入力を停止すると共に固着部１２０から離間し、この際、固着部材１２２が復位するように回転し、これによりフレーム１００が固着部１２０により基板２を固着して基板２の法線を地面に平行させる。
【００２４】
ちなみに、固着部１２０により固着部材１２２を回転するように駆動する機構はボックス１２６中に配置され、作業中にボックス１２６内部の状況を直接確認することは難しく、ボックス１２６内部の部材が故障するのを防止するため、第一オープンフレーム機構２２０はオープンフレームセンサー２２６をさらに備えている。オープンフレームセンサー２２６は第一オープンフレーム部２２４に配置されていると共に第一オープンフレーム部２２４に電気的に接続している。第一オープンフレーム部２２４がボックス１２６に嵌合されると共に電流を入力すると、オープンフレームセンサー２２６が第一オープンフレーム機構２２０が固着部１２０を作動させる電流の大きさを検出し、電流値が設定した閾値未満である場合、ボックス１２６内部の部材が損壊している可能性がある。この場合、保守人員がフレーム１００を取り外して内部を確認し、フレーム１００に固着されている基板２の安定性を維持する。
【００２５】
このほか、第一基板取り出しユニット２１０が取り出す基板２とフレーム１００との間の配置精度を確保するため、好ましくは、フィードモジュール２００はイメージセンサー２４０をさらに備えている。イメージセンサーは、例えば、電荷結合素子（Charge-coupled Device, CCD）を有している撮影機器であり、第一基板取り出しユニット２１０及び基板２の相対的位置を検出するために用いている。これにより、第一基板取り出しユニット２１０を基板２に配置する対位精度を大幅に向上している。
【００２６】
図９は基板が装填されたフレームがフィードモジュールから洗浄モジュールに搬送される斜視概略図である。図１０は本考案の一実施形態に係る第一搬送ユニットを示す外観斜視図である。図１１は図１０に示す第一搬送ユニットの部分の概略正面図である。基板２をフレーム１００にスムーズに配置して固着部１２０により固着した後、第一搬送ユニット２３０が基板２が載置されたフレーム１００を第１方向Ｄ１に沿って洗浄モジュール３００に向けて搬送する。図１０と図１１に示すように、第一搬送ユニット２３０は複数のモーター２３１及び複数のローラー２３２を備えている。具体的には、第一搬送ユニット２３０は複数のギア２３３及び複数の駆動軸２３４をさらに含み、モーター２３１はこれらギア２３３及びこれら駆動軸２３４によりこれらローラー２３２を駆動する。フレーム１００が図１１に示すようにボックス１２６によりローラー２３２に接触すると、ローラー２３２がモーター２３１により駆動されてフレーム１００を連動させて第１方向Ｄ１に沿って移動させる（図１２参照）。ちなみに、これらギア２３３は平歯車或いは傘歯車であり、駆動軸２３４とギア２３３との間にはチェーンによる寸動現象が発生せず、ローラー２３２がボックス１２６に接触する部分には滑り止め部材２３７がさらに配置され、フレーム１００とローラー２３２との間で相対的な滑動が生じないようにしている。滑り止め部材２３７は例えば平坦なＯリングであるが、本考案はこれに制限せず、上述の配置によりフレーム１００の搬送速度及び安定性が向上する。
【００２７】
このほか、製造過程では１回で複数のフレーム１００を搬送する必要があり、前方のフレーム１００が元の場所に停留し、後方のフレーム１００が持続的に移動することで両者が衝突して損壊するのを避けるため、好ましくは、第一搬送ユニット２３０が搬送制御ユニット２３５及び複数の位置センサー２３６をさらに備えている。搬送制御ユニット２３５及び位置センサー２３６はモーター２３１に電気的に接続している。具体的には、これら位置センサー２３６は、例えば、光学センサーであり、それぞれ等間隔または不等間隔でフレーム１００の移動経路に配置されている。これら位置センサー２３６のうちの何れか１つの位置センサー２３６がこれらフレーム１００のうちの何れか１つのフレーム１００と他のフレームとの距離が閾値未満であることを検出すると、搬送制御ユニット２３５が信号を発信し、フレーム１００に対応するモーター２３１の作動を停止するように制御する。これにより、後方のフレーム１００が第１方向Ｄ１に沿って継続して移動しなくなり（図１２参照）、別々の２つのフレーム１００が衝突するのを防止している。ちなみに、下述する伝動機構、搬送制御ユニット２３５、位置センサー２３６、及び滑り止め部材２３７における第二搬送ユニット３３０、第三搬送ユニット４４０、第四搬送ユニット５３０、及び第五搬送ユニット６１０の配置は全て第一搬送ユニット２３０と相似するため、後述は、その説明を省略する。
【００２８】
図１２は本考案の一実施形態に係る洗浄モジュールの部分を示す斜視図である。図１３は図１２に示す洗浄モジュールの集水部材と液量センサーを示す斜視図である。図１４は本考案の一実施形態に係る洗浄モジュールの他の部分を示す斜視図である。本実施例の洗浄モジュール３００は排水ユニット３１０と、乾燥ユニット３２０と、第二搬送ユニット３３０と、を備えている。第二搬送ユニット３３０は排水ユニット３１０及び乾燥ユニット３２０の底部に配置されている。詳しくは、排水ユニット３１０は複数の排水部材３１２を備え、フレーム１００にある基板２に対し洗浄及び現像等の作業を行う。乾燥ユニット３２０は複数の乾燥部材３２２を備え、排水ユニット３１０及び乾燥ユニット３２０はフレーム１００の移動経路の両側に配置されている。これにより、フレーム１００が第１方向Ｄ１に沿って搬送する過程で同時に基板２の両側に対する加工を行う。更に詳しくは、洗浄液及び現像液を所定の方向に基板２の表面に均一に噴霧し、好ましくは、排水部材３１２の一部分を現像液源（図示せず）に接続し、排水部材３１２の他の部分を洗浄液源（図示せず）に接続する。また、洗浄モジュール３００は回転盤やカムのようなスイングメカニズム３４０をさらに備え、スイングメカニズム３４０は第１方向Ｄ１及び第３方向Ｄ３に沿って往復回転または擺動し、排水ユニット３１０はスイングメカニズム３４０に連結されている。これにより、スイングメカニズム３４０が往復擺動することで、排水部材３１２から噴霧する現像液及び洗浄液が基板２の表面に均等に散布され、基板２の加工品質が高まる。
【００２９】
現像液を基板２の表面に十分に作用させた後、基板２を載置しているフレーム１００を複数回洗浄し、液を切って基板２の表面の現像液の濃度を所定の基準まで低下させる。本実施例に係る縦型フレーム洗浄装置１は基板２の法線が地面に平行しているため、基板２の表面に残留する薬剤が重力の作用を受けて基板２から落ちやすく、基板２の両側の表面の状態が一致するように維持されるため、歩留まりがさらに高まる。
【００３０】
一方、基板２から滴り落ちる薬液が設備を汚染しないようにするため、好ましくは、洗浄モジュール３００の底部に集水部材３６０及び少なくとも１つの液量センサー３７０が配置されている。集水部材３６０は、例えば、開口部が設けられている集水トレイであり、集水部材３６０の薬液量が一定以上となった場合、液量センサー３７０が信号を発信して現場の保守人員を呼び、排液状況を検査させることで設備の損傷を防止する。
【００３１】
基板２が現像及び複数回の洗浄、液を切る等のステップを経た後、図１４に示すように洗浄モジュール３００の後段で乾燥処理を行う。具体的には、乾燥部材３２２はガス源（図示せず）に接続し、基板２に載置されたフレームが乾燥部材３２２の中央領域を通過すると、乾燥部材３２２が空気を高圧で高速に噴出し、最後まで残留しているわずかな現像液や洗浄液を基板２の表面から除去する。乾燥効率を高めるため、乾燥部材３２２から吹き出す空気は昇温処理を経た熱風であり、基板２の表面に静電気が発生して後続のプロセスに影響を与えないようにするため、好ましくは、洗浄モジュール３００が静電気消除ユニット３５０をさらに備えている。静電気消除ユニット３５０は乾燥ユニット３２０の第１方向Ｄ１に設置され、静電気消除ユニット３５０は例えば静電気消除棒であり、非接触方式で乾燥後の基板２の表面に生じた静電気を消除する。
【００３２】
図１５は本考案の一実施形態に係る一時保管モジュールを示す外観斜視図である。図１６は図１５に示す一時保管モジュールがフレームを一時保管部に移動する斜視図である。基板２の乾燥及び静電気消除等のステップが完了した後、第二搬送ユニット３３０がフレーム１００を第１方向Ｄ１に沿って一時保管モジュール４００に向けて搬送する。図１５と図１６に示すように、一時保管モジュール４００は複数の一時保管部４１０と、活動部４２０と、スライド４３０と、第三搬送ユニット４４０と、を備え、これら一時保管部４１０は第２方向Ｄ２に沿って隣接するように配置され、活動部４２０はスライド４３０に滑動可能に設置され、スライド４３０はこれら一時保管部４１０の間に配置されていると共に第２方向Ｄ２に沿って延伸し、第三搬送ユニット４４０はこれら一時保管部４１０及び活動部４２０に配置されている。具体的には、フレーム１００の排出モジュール５００から基板２を取り外す作業には時間がかかり、フレーム１００が排出モジュール５００に向けて搬送できなくなって後方の洗浄モジュール３００から搬送されてきたフレーム１００を阻害することがないようにするため、縦型フレーム洗浄装置１は一時保管モジュール４００にフレーム１００を一時的に保管する。更に詳しくは、一時保管モジュール４００は一時保管制御ユニット４５０をさらに備え、乾燥処理が完了したフレーム１００を洗浄モジュール３００から一時保管モジュール４００に搬送する際に、一時保管制御ユニット４５０が現在どの一時保管部４１０が空でフレーム１００を収容できる状態にあるかを検出し、且つ活動部４２０をスライド４３０に沿って第２方向Ｄ２上のフレーム１００と同じ位置まで滑動するように制御する。この際、第三搬送ユニット４４０がフレーム１００を活動部４２０に移動するように駆動し、次いで、活動部４２０がスライド４３０に沿って第２方向Ｄ２上の一時保管制御ユニット４５０が検出したフレーム１００を収容可能な一時保管部４１０と同じ位置まで移動した後、活動部４２０にある第三搬送ユニット４４０がフレーム１００を選択した一時保管部４１０に移動するように駆動して一時保管する。これにより、限られた空間内に複数のフレームを保管し、且つ排出モジュール５００の作業が完了すると、時間順で先に洗浄モジュール３００から一時保管モジュール４００に移動されたフレーム１００が優先的に一時保管部４１０から排出モジュール５００に向けて移動され、後から来た方を先に出すというような制限はない。
【００３３】
図１７は図１６に示すフレームが一時保管モジュールから排出モジュールに移動する斜視図である。図１８は本考案の一実施形態に係る排出モジュールを示す外観斜視図である。図１９は本考案の一実施形態に係るリフローモジュールを示す外観斜視図である。本実施例の排出モジュール５００は第二基板取り出しユニット５１０と、第二オープンフレーム機構５２０と、第四搬送ユニット５３０と、を備えている。第二基板取り出しユニット５１０及び第一基板取り出しユニット２１０は相似するロボットアームであり、第二オープンフレーム機構５２０は第二収容部５２２及び第二オープンフレーム部５２４を含み、第二オープンフレーム機構５２０の作動原理は第一オープンフレーム機構２２０と類似する。基板２が載置されたフレーム１００を第二収容部５２２内部に移動する際に、第二オープンフレーム部５２４がボックス１２６に嵌合され、固定フレーム１００は固着部１２２を支持ユニット１１０に対して開閉させる。この際に第二基板取り出しユニット５１０がフレーム１００にある基板２を取り出し、排出モジュール５００の準備が整ったトレイ３に積み重ね、基板２の現像及び洗浄作業を完了する。
【００３４】
また、上述のしたように、基板２をフレーム１００から取り出した後、第四搬送ユニット５３０が空のフレーム１００をリフローモジュール６００に向けて搬送する。本実施例では、リフローモジュール６００はフィードモジュール２００及び一時保管モジュール４００の間に連結されていると共に洗浄モジュール３００と平行するように配置され、換言すれば、リフローモジュール６００及び洗浄モジュール３００が一時保管モジュール４００をフレーム１００を搬送及び回収するための出入口として共用している。一方、リフローモジュール６００はフレーム１００を第１方向Ｄ１とは反対になる方向に沿って搬送するために適用している第五搬送ユニット６１０を備えている。これにより、使用後のフレーム１００を再度フィードモジュール２００に戻して新しい基板２を受け取り、製造ライン上での自動循環を実現している。
【００３５】
上記説明は、本考案を説明するためのものであって、実用新案登録請求の範囲に記載の考案を限定し、或いは範囲を限縮するように解すべきではない。また、本考案の各部構成は、上記実施例に限らず、実用新案登録請求の範囲に記載の技術的範囲内で種々の変形が可能であることは勿論である。
【符号の説明】
【００３６】
１  縦型フレーム洗浄装置
１００  フレーム
１１０  支持ユニット
１２０  固着部
１２２  固着部材
１２６  ボックス
２００  フィードモジュール
２１０  第一基板取り出しユニット
２２０  第一オープンフレーム機構
２２２  第一収容部
２２４  第一オープンフレーム部
２２６  オープンフレームセンサー
２３０  第一搬送ユニット
２３１  モーター
２３２  ローラー
２３３  ギア
２３４  駆動軸
２３５  搬送制御ユニット
２３６  位置センサー
２３７  滑り止め部材
２４０  イメージセンサー
２５０  第一スライド
２６０  第二スライド
３００  洗浄モジュール
３１０  排水ユニット
３１２  排水部材
３２０  乾燥ユニット
３２２  乾燥部材
３３０  第二搬送ユニット
３４０  スイングメカニズム
３６０  集水部材
３７０  液量センサー
４００  一時保管モジュール
４１０一時保管部
４２０  活動部
４３０  スライド
４４０  第三搬送ユニット
４５０  一時保管制御ユニット
５００  排出モジュール
５１０  第二基板取り出しユニット
５２０  第二オープンフレーム機構
５２２  第二収容部  第二収容部
５２４  第二オープンフレーム部
５３０  第四搬送ユニット
６００  リフローモジュール
６１０  第五搬送ユニット
２  基板
３  トレイ
Ｄ１  第１方向
Ｄ２  第２方向
Ｄ３  第３方向
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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