(57)【要約】      （修正有）【課題】フォトマスクボックスを提供する。【解決手段】フォトマスクボックスであって、ボックス体、複数の圧迫ホールド部材２０、複数の連接部材３０を有する。ボックス体の内部には収容空間を有し、フォトマスクを収容する。各圧迫ホールド部材２０はボックス体内に設置され、各圧迫ホールド部材２０はフォトマスクのサイズに基づき、そのボックス体に設置する位置を調整され、フォトマスクの側辺をそれぞれ圧迫ホールドする。複数の連接部材３０は相互に対応する各圧迫ホールド部材２０にそれぞれ通して設置し、これにより各圧迫ホールド部材２０をボックス体内に固定する。こうしてフォトマスクのサイズの違いに応じて各圧迫ホールド部材２０を交換する必要がないため、フォトマスクボックスの製造コストを引き下げることができる。【選択図】図１Ｃ
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【実用新案登録請求の範囲】
【請求項１】
フォトマスクボックスであって、ボックス体、複数の圧迫ホールド部材、複数の連接部材を有し、
前記ボックス体の内部には、収容空間を有し、フォトマスクを収容し、
前記複数の圧迫ホールド部材は、前記ボックス体内に設置され、前記各圧迫ホールド部材は、前記フォトマスクのサイズに基づき、その前記ボックス体に設置する位置を調整され、前記フォトマスクの側辺をそれぞれ圧迫ホールドし、
前記複数の連接部材は、相互に対応する前記各圧迫ホールド部材にそれぞれ通して設置し、これにより前記各圧迫ホールド部材を前記ボックス体内に固定することを特徴とするフォトマスクボックス。
【請求項２】
前記各圧迫ホールド部材は、圧迫ホールド部、固定部を有し、
前記固定部は、前記圧迫ホールド部の相対する側に設置され、
前記圧迫ホールド部は、前記フォトマスクの側辺を圧迫ホールドし、
前記固定部は、前記ボックス体内に固定されることを特徴とする請求項１に記載のフォトマスクボックス。
【請求項３】
前記圧迫ホールド部は、Ｌ型であることを特徴とする請求項２に記載のフォトマスクボックス。
【請求項４】
前記圧迫ホールド部は、緩衝部材を有し、
前記緩衝部材は、前記フォトマスクの側辺に接触することを特徴とする請求項２に記載のフォトマスクボックス。
【請求項５】
前記圧迫ホールド部は、凹槽を有し、
前記緩衝部材は、前記凹槽に設置されることを特徴とする請求項４に記載のフォトマスクボックス。
【請求項６】
前記固定部は、少なくとも１個の定位穿孔を有し、
前記各連接部材は、相互に対応する定位穿孔に固定されることを特徴とする請求項２に記載のフォトマスクボックス。
【請求項７】
前記各定位穿孔の長さは、前記連接部材の直径より大きく、
これにより、前記圧迫ホールド部材の前記ボックス体に設置する位置を調整することを特徴とする請求項６に記載のフォトマスクボックス。
【請求項８】
前記フォトマスクボックスは、少なくとも１個の螺合固定部材をさらに有し、
前記各螺合固定部材を、前記連接部材と前記固定部との間、或いは／及び前記固定部と前記ボックス体との間に設置することを特徴とする請求項７に記載のフォトマスクボックス。
【請求項９】
前記ボックス体は、上蓋体と下蓋体を有し、
前記上蓋体、前記下蓋体は、それぞれ内表面、外表面を有し、
前記上蓋体と前記下蓋体とが合わさった後には、収容空間が形成されることを特徴とする請求項１に記載のフォトマスクボックス。
【請求項１０】
前記各連接部材は、前記各圧迫ホールド部材を、前記上蓋体の内表面上、或いは前記下蓋体の内表面上に固定することを特徴とする請求項９に記載のフォトマスクボックス。
【請求項１１】
前記上蓋体の外表面には、第一定位構造を有し、
前記下蓋体の外表面には、第二定位構造を有し、
前記上蓋体の外表面を、前記下蓋体の外表面にスタッキングする時、前記第一定位構造と前記第二定位構造とは、嵌合されることを特徴とする請求項９に記載のフォトマスクボックス。
【請求項１２】
前記第一定位構造は、少なくとも１個の定位凸ブロックを有し、
前記第二定位構造は、少なくとも１個の定位凹槽を有し、
前記定位構造と前記第二定位構造とが嵌合される時、前記少なくとも１個の定位凸ブロックと前記少なくとも１個の定位凹槽は対応して嵌合されることを特徴とする請求項１１に記載のフォトマスクボックス。
【請求項１３】
前記上蓋体と前記下蓋体とは、それぞれ一体成型により製造されることを特徴とする請求項９に記載のフォトマスクボックス。
【請求項１４】
前記上蓋体の外表面或いは／及び前記下蓋体の外表面には、少なくとも１個の把持部をさらに有することを特徴とする請求項９に記載のフォトマスクボックス。
【請求項１５】
前記上蓋体或いは／及び前記下蓋体は、透明材質、或いは抗静電剤を含む材料により製造されることを特徴とする請求項９に記載のフォトマスクボックス。
【請求項１６】
前記フォトマスクボックスは、少なくとも１個の気密棒をさらに有し、
前記少なくとも１個の気密棒は、前記上蓋体と前記下蓋体とが合わさる位置に設置されることを特徴とする請求項９に記載のフォトマスクボックス。
【請求項１７】
前記上蓋体の一側には、少なくとも１個の第一係合構造を有し、
前記下蓋体の一側には、少なくとも１個の第二係合構造を有し、
前記上蓋体と前記下蓋体とが合わさると、前記少なくとも１個の第一係合構造は、前記少なくとも１個の第二係合構造に係合されることを特徴とする請求項９に記載のフォトマスクボックス。
【請求項１８】
前記上蓋体或いは前記下蓋体内の相対する２個の角には、補助サポート部をそれぞれ設置し、
前記フォトマスクの相対する二辺角は、前記補助サポート部に設置されることを特徴とする請求項９に記載のフォトマスクボックス。
【請求項１９】
前記補助サポート部には、補助緩衝部材をさらに設置し、
前記補助緩衝部材は、前記フォトマスクの辺角に接続することを特徴とする請求項１８に記載のフォトマスクボックス。
【考案の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本考案はフォトマスクボックスに関し、特に複数の圧迫ホールド部材を有するフォトマスクボックスで、各圧迫ホールド部材は各種サイズのフォトマスクに適用可能なフォトマスクボックスに関する。
【背景技術】
【０００２】
テクノロジーの発展に従い、人類の生活は利便性を増し、伝世製品はよりコンパクトに発展している。電子パーツもそれに従い、ナノレベルまで縮小し、製造技術も日進月歩の変化を遂げている。半導体の最適な製造方法、及び製造に必要な装置を開発しなければ、実際の応用には投入できない。
【０００３】
ウエハは、半導体チップ製造において重要な材料である。
ウエハは、サイズに応じて、数十から数百もの半導体を製造することができる。
フォトマスクは、半導体チップを製造する犀の金型である。
半導体チップの製造時には、先ず半導体チップのＩＣ回路設計構造に基づきフォトマスクを製造し、フォトマスクとは異なるウエハ上に沈積する材料の薄膜を利用し、半導体チップの製造を完成する。
フォトマスクのリソグラフィー製造工程技術能力は、通常、製造工程能力において、重要な役割を演じる。
フォトマスク製造であろうと、フォトマスク使用の能力であろうと、この技術領域における成熟度を表している。
【０００４】
ウエハ、或いはフォトマスクに関する技術において、技術上の進歩と成熟度に比較し、より重要なのは、製造効率の向上と製造コストの低下である。
なぜなら、同一面積において、より多くのチップを製造できる製造工程は非常に優位であるからだ。
よって、フォトマスクをいかにしてうまく使用し、メンテナンスするかは、リソグラフィー工程技術におけるキーポイントである。
【０００５】
フォトマスクの使用及びメンテナンスにおいては、現在では多くが、フォトマスクボックスの技術に頼っている。
フォトマスクボックスとは、その名の通り、フォトマスクを保管するボックスで、これによりフォトマスクは外界の微粒子や化学汚染を避けることができる。
この分野の従来の技術では、フォトマスクボックスは、ボックス体内部に固定の圧迫棒を設置し、これによりフォトマスクをフォトマスクボックス内部の位置に固定している。
しかし、異なるサイズのフォトマスクに対応し、フォトマスクを確実にフォトマスクボックス内部に固定するため、フォトマスクボックス内部の固定圧迫棒も交換しなければならない。
従来の技術を例とすると、多くは、コの字型の圧迫棒を使用しフォトマスクを固定している。
しかし、コの字型圧迫棒の開口幅は一定であるため、フォトマスクのサイズが変われば、コの字型の圧迫棒は使用できなくなる。
よって、他のサイズのコの字型の圧迫棒に交換しなければならず、異なるフォトマスクのサイズに基づき、異なるサイズの圧迫棒を製造しなければならない。
これでは、使用において不便で、また全体的なコストも高騰してしまう。
【考案の概要】
【考案が解決しようとする課題】
【０００６】
前記先行技術には、使用において不便で、また全体的なコストも高騰するという欠点がある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本考案は、複数の圧迫ホールド部材をフォトマスクボックス体内に設置し、各圧迫ホールド部材は、フォトマスクのサイズに応じて、フォトマスクボックス体に設置する位置を調整し、フォトマスクの側辺をそれに圧迫ホールドし、且つ各種異なるサイズのフォトマスクに適用可能で、全体的な製造コストを引き下げることができるフォトマスクボックスに関する。本考案によるフォトマスクボックスは、フォトマスクボックス内に、複数の圧迫ホールド部材を有し、該各圧迫ホールド部材は、フォトマスクのフォトマスクボックス内に固定され、各種サイズのフォトマスクに適用することができる。
【０００８】
本考案によるフォトマスクボックスは、外表面に複数の定位構造を有し、該各定位構造により、フォトマスクボックスは、もう一つのフォトマスクボックスに堅固にスタッキングされ、多数のフォトマスクボックスを保管する空間を効果的に減らすことができる。
【０００９】
本考案によるフォトマスクボックスは、ボックス体、複数の圧迫ホールド部材、複数の連接部材を有する。
該ボックス体の内部には、収容空間を有し、フォトマスクを収容する。
該各圧迫ホールド部材は、該ボックス体内に設置され、該フォトマスクのサイズに基づき、その該ボックス体に設置する位置を調整され、且つ該フォトマスクの側辺をそれぞれ圧迫ホールドする。
該各連接部材は、相互に対応する該各圧迫ホールド部材にそれぞれ通して設置し、これにより該各圧迫ホールド部材を該ボックス体内に固定する。
【００１０】
本考案によるフォトマスクボックスにおいて、該ボックス体は、上蓋体と下蓋体を有する。
該上蓋体、該下蓋体は、それぞれ内表面、外表面を有し、該上蓋体と該下蓋体とが合わさった後には、収容空間が形成される。
該上蓋体の外表面には、第一定位構造を有し、該下蓋体の外表面には、第二定位構造を有する。
該上蓋体の外表面を、該下蓋体の外表面にスタッキングする時、該第一定位構造と該第二定位構造とは、嵌合される。
【００１１】
本考案の実施形態は、複数の圧迫ホールド部材をフォトマスクボックス体内に設置し、各圧迫ホールド部材は、フォトマスクのサイズに応じて、フォトマスクボックス体に設置する位置を調整し、フォトマスクの側辺をそれに圧迫ホールドし、且つ各種異なるサイズのフォトマスクに適用可能で、全体的な製造コストを引き下げることができる。
【考案の効果】
【００１２】
本考案のフォトマスクボックス内には、各圧迫ホールド部材と相互に対応する各連接部材を有し、フォトマスクをフォトマスクボックス内に固定することができる。
特に、各圧迫ホールド部材は、各種サイズのフォトマスクに適用できるため、フォトマスクに適したサイズの圧迫ホールド部材に交換する必要がない。
また、フォトマスクボックスの上蓋体の外表面の定位構造には、下蓋体の外表面に相互に対応する定位構造を有し、これにより多数のフォトマスクボックスは、相互に堅固にスタッキングされ、各フォトマスクボックスを保管する空間を節減することができる。
よって、組み立て方式により製造される従来のフォトマスクボックスに比べ、本考案のフォトマスクボックスの上下蓋体は、一体成型を採用し、並びに抗静電剤を含む或いは／及び透明材質材料を使用し製造され、及び把持部の設計などにより、気密性を向上させ、静電気発生の可能性を低下させ、フォトマスクボックス内部のフォトマスクの保存状態を直接目で見ることができ、外部の顆粒及び水蒸気汚染の可能性を回避し、及び運搬の利便性を高めることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１Ａ】本考案の第一実施形態によるフォトマスクボックスの立体図である。
【図１Ｂ】本考案の第一実施形態によるフォトマスクボックスの組み立て図である。
【図１Ｃ】図１ＢのＡ区域の拡大図である。
【図１Ｄ】本考案の第一実施形態におけるフォトマスクの収容模式図である。
【図１Ｅ】図１ＢのＡ区域の断面図である。
【図１Ｆ】図１ＢのＡ区域の断面図である。
【図１Ｇ】図１ＢのＢ区域の拡大図である。
【図２Ａ】本考案の第二実施形態によるスタッキング前の２個のフォトマスクボックスの模式図である。
【図２Ｂ】本考案の第二実施形態によるスタッキング後の２個のフォトマスクボックスの模式図である。
【考案を実施するための形態】
【００１４】
以下に図面を参照しながら本考案を実施するための最良の形態について詳細に説明する。
【実施例１】
【００１５】
図１Ａ〜図１Ｇは本考案の第一実施形態によるフォトマスクボックスの立体図、組み立て図、Ａ区域の拡大図、フォトマスク収容模式図、Ａ区域の断面図、Ｂ区域の拡大図である。
図に示す通り、本実施形態によるフォトマスクボックス１は、ボックス体１０、複数の圧迫ホールド部材２０、複数の連接部材３０を有する。
ボックス体１０の内部には、収容空間１１０を有し、収容空間１１０内にはフォトマスク２を収容することができる。
各圧迫ホールド部材２０は、ボックス体１０内に設置され、各圧迫ホールド部材２０は、フォトマスク２のサイズに基づき、そのボックス体１０に設置する位置を調整され、フォトマスク２の側辺２２をそれぞれ圧迫ホールドする。
各連接部材３０は、相互に対応する各圧迫ホールド部材２０にそれぞれ通して設置し、これにより各圧迫ホールド部材２０をボックス体１０内に固定する。
【００１６】
本実施形態のボックス体１０は、上蓋体１２０、下蓋体１３０を有する。
上蓋体１２０は、内表面１２１、外表面１２２を有し、下蓋体も、内表面１３１、外表面１３２を有する。
上蓋体１２０と下蓋体１３０を合わせた後、上蓋体１２０の内表面１２１と下蓋体１３０の内表面１３１との間には、収容空間１１０を形成する。
こうして、フォトマスク２は、上蓋体１２０と下蓋体１３０との間の収容空間１１０内に、収容される。
本実施形態の下蓋体１３０の内表面１３１の中央には、少なくとも１個の強化構造１４０をさらに設置し、下蓋体１３０の強度と構造を強化する。
本実施形態の上蓋体１２０と下蓋体１３０は、それぞれ一体成型で、且つ射出成型を利用して製作され、従来の組み立て方式により製造されるフォトマスクボックスに比べ、以下の長所を有する。
すなわち、ボックス体１０の機密性を効果的に高められるため、ボックス体１０は、軽量化しつつ、外部の汚染顆粒や水蒸気の侵入を防ぐことができ、ボックス体１０内の汚染顆粒と水蒸気を効果的に低下させることができる。
【００１７】
本実施形態の上蓋体１２０と下蓋体１３０は、抗静電剤を含む材料（抗静電高分子を含む高分子複合材料など）により製造され、ボックス体１０内での静電気の発生を防ぎ、粉塵或いは微粒子などの汚染顆粒の吸着を減らすことができる。上蓋体１２０或いは下蓋体１３０の内の少なくとも一つは、透明材質により製造し、これにより使用者は、ボックス体１０内に、フォトマスク２が保管されているか、或いはフォトマスク２に損壊がないかどうかを、直接見ることができる。
【００１８】
図１Ｄ、図１Ｅ、図１Ｆに示す通り、本実施形態の各圧迫ホールド部材２０は、下蓋体１３０内に設置される。
各圧迫ホールド部材２０は、圧迫ホールド部２１０、固定部２２０を有する。
固定部２２０は、圧迫ホールド部２１０の相対する側に設置される。
圧迫ホールド部２１０は、Ｌ型を呈し、第一端部２１０１、第二端部２１０２を有する。
フォトマスク２をボックス体１０の収容空間１１０内に置くと、圧迫ホールド部２１０の第一端部２１０２は、フォトマスク２の頂点面を圧迫ホールドする。
圧迫ホールド部２１０の第二端部２１０２は、フォトマスク２の側辺２２を圧迫ホールドし、且つ各圧迫ホールド部材２０の第二端部２１０２を利用し、フォトマスク２を圧迫ホールドし、フォトマスク２を、下蓋体１３０の強化構造１４０上方において、オーバーハングするように維持する。
本実施形態の固定部２２０は、長方形の板体で、少なくとも１個の定位穿孔２２１を有する。
定位穿孔２２１は、長方形の穴である。
圧迫ホールド部材２０が下蓋体１３０に設置されると、連接部材３０は、圧迫ホールド部材２０の定位穿孔２２１内に通して設置され、連接部材３０を、定位穿孔２２１に対応する下蓋体１３０の固定穴１３３に固定する。
こうして、連接部材３０は、定位穿孔２２１に固定され、圧迫ホールド部材２０は、下蓋体１３０に固定される。
【００１９】
圧迫ホールド部材２０が下蓋体１３０に固定する前には、圧迫ホールド部材２０の圧迫ホールド部２１０が、フォトマスク２の側辺２２をすでに圧迫ホールドしていることを確認しなければならない。
これにより、圧迫ホールド部材２０の固定部２２０の設置される下蓋体１３０の位置を確認することができる。
すなわち、フォトマスク２のサイズの差異に従い、圧迫ホールド部材２０の圧迫ホールド部２１０は、フォトマスク２のサイズに基づき、フォトマスク２へ移動し調整され、圧迫ホールド部２１０がフォトマスク２の側辺２２を圧迫ホールドした後は、連接部材３０を利用し、圧迫ホールド部材２０の固定部２２０を下蓋体１３０の適当な位置に固定することができる。
【００２０】
本実施形態の圧迫ホールド部材２０の定位穿孔２２１の長さは、連接部材３０の直径より長く、圧迫ホールド部材２０の圧迫ホールド部２１０は、フォトマスク２へと移動する距離の範囲は、定位穿孔２２１の長さである。
本実施形態の各圧迫ホールド部材２０は、下蓋体１３０に設置されるが、これに限定されず、各圧迫ホールド部材２０は、上蓋体１２０に設置することもできる。
各圧迫ホールド部材２０を、上蓋体１２０に固定する方式は、各圧迫ホールド部材２０を下蓋体１３０に固定する方式と同様であるため、ここでは説明を省く。
【００２１】
本実施形態の圧迫ホールド部材２０の圧迫ホールド部２１０は、Ｌ型で、圧迫ホールド部２１０の第二端部２０１２は、フォトマスク２の底面２３に未接続である。
よって、フォトマスク２の厚みは、圧迫ホールド部２１０の制限を受けることはない。
フォトマスク２を下蓋体１３０に置く時、フォトマスク２の厚みが異なれば。フォトマスク２の下蓋体１３０を突出する高さも異なる。
同時に、圧迫ホールド部材２０の固定部２２０と下蓋体１３０との間の距離も異なる。
よって、圧迫ホールド部材２０の固定部２２０と下蓋体１３０との間の距離に従い、連接部材３０を下蓋体１３０の螺合固定孔１３３に固定する深さを調整し、これにより圧迫ホールド部材２０を下蓋体１３０に固定する。
こうして、フォトマスク２を収容空間１１０内に固定する。
【００２２】
例えば、フォトマスク２が比較的薄いなら、圧迫ホールド部材２０の固定部２２０と下蓋体１３０との距離が小さければ小さいほど、連接部材３０が螺合固定孔１３３に固定される深さは深くなることを示している。
反対に、フォトマスク２の厚みが厚いなら、圧迫ホールド部材２０の固定部２２０と下蓋体１３０との間の距離が大きければ大きいほど、連接部材３０が螺合固定孔１３３に固定される深さは浅くなることを示している。
上記により明らかなように、本実施形態の各圧迫ホールド部材２０は、各種サイズのフォトマスクに適用でき、他のサイズの圧迫ホールド部材２０に交換する必要はない。
【００２３】
また、連接部材３０を螺合固定孔１３３に固定する深さが浅ければ浅いほど、連接部材３０と圧迫ホールド部材２０の固定部２２０との間の距離、及び固定部２２０と下蓋体１３０との間の距離は、より大きくなる。
よって、連接部材３０と圧迫ホールド部材２０の固定部２２０との間、或いは固定部２２０と下蓋体１３０との間には、少なくとも１個の螺合固定部材３１０をさらに設置する（図１Ｆ参照）。
連接部材３０が、圧迫ホールド部材２０の固定部２２０を固定しようとする時には、先ず螺合固定部材３１０を、固定部２２０上に設置し、定位穿孔２２１に対応させ、連接部材３０が螺合固定部材３１０に通して設置された後、定位穿孔２２１に通して設置され、下蓋体１３０の螺合固定孔１３３に固定される。
こうして、圧迫ホールド部材２０の連接部材３０に対する移動の発生を回避することができる。
【００２４】
フォトマスク２と接触する圧迫ホールド部２１０の第二端部２１０の表面には、緩衝部材２１２をさらに設置する。
緩衝部材２１２は、フォトマスク２の側辺２２に接触することで、フォトマスク２と圧迫ホールド部材２０とが衝突し汚染顆粒が生じることを回避でき、且つ緩衝部材２１２とフォトマスク２との間の摩擦力は比較的大きいため、フォトマスク２をボックス体１０内に固定し、フォトマスク２のボックス体１０内での移動を回避できる。
本実施形態の緩衝部材２１２は、圧迫ホールド部２１０に嵌めて設置され、圧迫ホールド部２１０は、凹槽２１１に設置される。
緩衝部材２１２は、緩衝部２１３、嵌合部２１４を有する。
嵌合部２１４は、緩衝部２１３と相対する一側に設置される。
嵌合部２１４は、凹槽２１１内に設置され、緩衝部２１３は、フォトマスク２の側辺２２に接触する。
【００２５】
本実施形態の緩衝部材２１２は、少なくとも１個の凸部２１４０をさらに有する。
凸部２１４０は、嵌合部２１４が凹槽２１１に接触する少なくとも片側に設置され、凸部２１４と凹槽２１１との間に生じる比較的大きな摩擦力を利用し、緩衝部材２１２は、凹槽２１１内に固定される。
【００２６】
図１Ｂ、図１Ｇに示す通り、下蓋体１３０の少なくとも２個の相対する角位置には、補助サポート部９０をそれぞれさらに設置する。
フォトマスク２が、下蓋体１３０に置かれると、フォトマスク２の相対する辺角は、各補助サポート部９０位置に位置される。
各補助サポート部９０により、フォトマスク２を補助サポートすることができる。
本実施形態の補助サポート部９０は、設置槽で、補助サポート部９０内には、補助緩衝部材９１０をさらに設置する。
補助緩衝部材９１０と、圧迫ホールド部２１０に設置される緩衝部材２１２の作用は相同で、フォトマスク２の辺角を押さえ、これによりフォトマスク２と下蓋体１３０との衝突を回避することができる。
本実施形態の補助緩衝部材９１０の設置方式は、圧迫ホールド部２１０に設置される緩衝部材２１２と相同で、補助サポート部９９上には、設置凹槽９２０を設置し、補助緩衝部材９１０は、設置凹槽９２０内に設置される。
補助緩衝部材９１０は、ゴム、シリコン、或いは軟性で且つ摩擦係数が大きい材料により製造される。
補助サポート部９０は、上蓋体１２０に設置されるが、ここでは説明を省く。
【００２７】
図２Ａ、図２Ｂは、本考案の第二実施形態によるスタッキング前の２個のフォトマスクボックスの模式図、及びスタッキング後の２個のフォトマスクボックスの模式図である。
図に示す通り、本実施形態のフォトマスクボックス１の、上記した実施形態のフォトマスクボックス１との相違点は以下の通りである。
上蓋体１２０の外表面１２２と下蓋体１３０の外表面１３２には、第一定位構造１４０、及び第二定位構造４２０をそれぞれ設置する。
第一定位構造４１０は、少なくとも１個の定位凸ブロック４１１を有し、下蓋体１３０の外表面１３２には、第二定位構造４２０を有する。
第二定位構造４２０は、少なくとも１個の定位凹槽４２１を有する。
フォトマスクボックス１をもう一つのフォトマスクボックス１にスタッキングする時には、フォトマスクボックス１の上蓋体１２０の外表面１２２を、もう一つのフォトマスクボックス１の下蓋体１３０の外表面１３２にスタッキングし、定位凸ブロック４１１と定位凹槽４２１とは対応して嵌合する。
こうして、各フォトマスクボックス１は、堅固に相互にスタッキングされ、各フォトマスクボックス１を補完する空間を圧縮することができる。
さらに、上蓋体１２０の外表面１２２、及び下蓋体１３０の外表面１３２には、少なくとも１個の把持部５０をそれぞれ設置する。
使用者がフォトマスクボックス１を運ぶ時には、使用者の手は、各把持部５０を把持し、これによりフォトマスクボックス１を便利に押したり運んだりすることができる。
この他、フォトマスクボックス１０の一側には、複数の輸送パーツ８０を設置する。
本実施形態では、各輸送パーツ８０は、キャスターである。
これにより、使用者は、フォトマスクボックス１を便利に押して動かすことができる。
【００２８】
上蓋体１２０の一側には、少なくとも１個の第一係合構造７１０を有し、下蓋体１３０の一側には、少なくとも１個の第二係合構造７２０を有する。
上蓋体１２０と下蓋体１３０が合わさると、少なくとも１個の第一係合構造７１０は、少なくとも１個の第二係合構造７２０に係合する。
本考案は、第一係合構造７１０と第二係合構造７２０の型式に制限を加えるものではなく、上蓋体１２０と下蓋体１３０を固定可能な係合構造であれば、すべて本考案の技術特徴に含まれる。
本考案の上蓋体１２０と下蓋体１３０の合わさった位置には、少なくとも１個の気密棒６０を設置する。
これにより、上蓋体１２０は、下蓋体１３０に緊密に接合され、ボックス体１０の気密性をさらに高めることができる。
【符号の説明】
【００２９】
１  フォトマスクボックス
２  フォトマスク
２１  頂点面
２２  側辺
２３  底面
１０  ボックス体
１１０  収容空間
１２０  上蓋体
１２１  内表面
１２２  外表面
１３０  下蓋体
１３１  内表面
１３２  外表面
１３３  螺合固定孔
１４０  強化構造
２０  圧迫ホールド部材
２１０  圧迫ホールド部
２１０１  第一端部
２１０２  第二端部
２１１  凹槽
２１２  緩衝部材
２１３  緩衝部
２１４  嵌合部
２１４０  凸部
２２０  固定部
２２１  定位穿孔
３０  連接部材
３１０  螺合固定部材
４１０  第一定位構造
４１１  第一定位凸ブロック
４２０  第二定位構造
４２１  第二定位凹槽
５０  把持部
６０  気密棒
７１０  第一係合構造
７２０  第二係合構造
８０  輸送パーツ
９０  補助サポート部
９１０  補助緩衝部材
９２０  設置凹槽
【図１Ａ】
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【図１Ｂ】
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【図１Ｃ】
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【図１Ｄ】
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【図１Ｅ】
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【図１Ｆ】
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【図１Ｇ】
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【図２Ａ】
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【図２Ｂ】
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