(57)【要約】  マスク１２に対するスキージ５３の位置に応じてスキージ方向Ｄ５３におけるマスク１２と基板１０との相対的な位置関係を変化させることで、半田１４が基板１０に印刷される位置を補正する。したがって、マスク１２に印刷される半田１４の位置のずれを抑制することが可能となっている。
2017017776.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
パターン孔を有するマスクを保持するマスク保持部と、
前記マスクとの間に隙間を設けつつ前記マスクに対向させて基板を保持する基板保持部と、
前記基板保持部により保持される前記基板の反対側で前記マスクに当接するスキージを有し、スキージ方向へ前記スキージを移動させることで前記パターン孔を介して前記マスク上のペーストを前記基板に印刷する印刷部と、
前記マスクに対する前記スキージの位置に応じて前記スキージ方向における前記マスクと前記基板との相対的な位置関係を変化させることで、前記ペーストが前記基板に印刷される位置を補正する制御部と
を備える印刷機。
【請求項２】
前記制御部は、前記スキージの移動に伴って連続的に前記基板を前記マスクに対して相対移動させることで、前記ペーストが前記基板に印刷される位置を補正する請求項１に記載の印刷機。
【請求項３】
前記制御部は、前記マスク保持部に保持された前記マスクの前記パターン孔と前記基板保持部に保持された前記基板との間の位置ずれに基づき求めた速度で、前記基板を前記マスクに対して相対移動させる請求項２に記載の印刷機。
【請求項４】
前記マスク保持部に保持された前記マスクの前記パターン孔と前記基板保持部に保持された前記基板との間の位置ずれを、前記マスクおよび前記基板のそれぞれに設けられたフィデューシャルマークの位置を測定した結果に基づき検出する検出部をさらに備え、
前記制御部は、前記検出部の検出結果に基づき求めた速度で、前記基板を前記マスクに対して相対移動させる請求項３に記載の印刷機。
【請求項５】
前記スキージ方向において前記マスクを仮想的に分割した複数の領域を設定する設定部を備え、
前記スキージは、前記領域の境界に到達すると一時停止した後に移動を再開する間欠移動を実行し、
前記制御部は、前記スキージが前記境界で一時停止している停止期間に前記基板を前記マスクに対して相対的に変位させることで、前記スキージが一時停止中の前記境界の前記スキージ方向の下流側の前記領域を介して前記ペーストが前記基板に印刷される位置を補正する請求項１に記載の印刷機。
【請求項６】
前記制御部は、前記スキージが移動している移動期間は前記基板と前記マスクとの位置関係を固定する請求項５に記載の印刷機。
【請求項７】
前記設定部は、前記領域の前記境界が前記マスクの前記パターン孔に重複しないように前記各領域を設定する請求項５または６に記載の印刷機。
【請求項８】
前記停止期間に前記基板を前記マスクに対して相対的に変位させる量を作業者が入力可能な入力操作部をさらに備え、
前記制御部は、前記入力操作部に入力された量だけ、前記停止期間において前記基板を前記マスクに対して相対的に変位させる請求項５ないし７のいずれか一項に記載の印刷機。
【請求項９】
前記設定部は、前記スキージ方向において前記マスクを仮想的に分割した３以上の前記領域を設定し、
前記入力操作部では、前記停止期間に前記基板を前記マスクに対して相対的に変位させる量を前記境界毎に入力できる請求項８に記載の印刷機。
【請求項１０】
前記マスク保持部は、前記マスクの長尺方向を前記スキージ方向に一致させて前記マスクを保持し、
前記基板保持部は、前記基板の長尺方向を前記スキージ方向に一致させて前記基板を保持する請求項１ないし９のいずれか一項に記載の印刷機。
【請求項１１】
パターン孔を有するマスクとの間に隙間を設けつつ前記マスクに基板を対向させる工程と、
前記基板の反対側で前記マスクに当接するスキージをスキージ方向へ移動させることで、前記パターン孔を介して前記マスク上のペーストを前記基板に印刷する工程と
を備え、
ペーストを前記基板に印刷する工程では、前記マスクに対する前記スキージの位置に応じて前記スキージ方向における前記マスクと前記基板との相対的な位置関係を変化させることで、前記ペーストが前記基板に印刷される位置を補正する印刷方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、パターン孔を有するマスクにスキージを摺動させることで、マスクに対向する基板にパターン孔を介してペーストを印刷する印刷技術に関する。
【背景技術】
【０００２】
特許文献１の印刷装置は、パターン孔を有するマスクに基板を当接させ、ペーストが供給されたマスクにスキージを摺動させることで、パターン孔を介してペーストを基板に印刷するスクリーン印刷を行う。かかる印刷装置において、基板の適切な箇所にペーストを印刷するためには、マスクのパターン孔と基板との位置合わせが重要となる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２０００−２１１１０３号公報
【特許文献２】特開２０１２−２３２５３６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、特許文献２でも指摘されているように、基板の製造過程における熱変形等が原因となって、基板が設計寸法に比べて伸縮する場合がある。あるいは、マスクが経年的に撓む場合がある。このような場合、マスクのパターン孔と基板とを適切に位置合わせできず、マスクに印刷されるペーストの位置がずれてしまうおそれがあった。【０００５】
この発明は上記課題に鑑みなされたものであり、マスクに印刷されるペーストの位置のずれを抑制することを可能とする技術の提供を目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の印刷機は、上記の目的を達成するために、パターン孔を有するマスクを保持するマスク保持部と、マスクとの間に隙間を設けつつマスクに対向させて基板を保持する基板保持部と、基板保持部により保持される基板の反対側でマスクに当接するスキージを有し、スキージ方向へスキージを移動させることでパターン孔を介してマスク上のペーストを基板に印刷する印刷部と、マスクに対するスキージの位置に応じてスキージ方向におけるマスクと基板との相対的な位置関係を変化させることで、ペーストが基板に印刷される位置を補正する制御部とを備える。【０００７】
本発明の印刷方法は、上記の目的を達成するために、パターン孔を有するマスクとの間に隙間を設けつつマスクに基板を対向させる工程と、基板の反対側でマスクに当接するスキージをスキージ方向へ移動させることで、パターン孔を介してマスク上のペーストを基板に印刷する工程とを備え、ペーストを基板に印刷する工程では、マスクに対するスキージの位置に応じてスキージ方向におけるマスクと基板との相対的な位置関係を変化させることで、ペーストが基板に印刷される位置を補正する。【０００８】
このように構成された本発明（印刷機、印刷方法）では、マスクに対するスキージの位置に応じてスキージ方向におけるマスクと基板との相対的な位置関係を変化させることで、ペーストが基板に印刷される位置を補正する。したがって、マスクに印刷されるペーストの位置のずれを抑制することが可能となっている。【０００９】
この際、制御部は、スキージの移動に伴って連続的に基板をマスクに対して相対移動させることで、ペーストが基板に印刷される位置を補正するように、印刷機を構成しても良い。これによって、マスクに印刷されるペーストの位置のずれを抑制することが可能となる。【００１０】
この際、制御部は、マスク保持部に保持されたマスクのパターン孔と基板保持部に保持された基板との間の位置ずれに基づき求めた速度で、基板をマスクに対して相対移動させるように、印刷機を構成しても良い。このようにスキージの移動に伴って連続的に基板をマスクに対して相対移動させる速度を設定することで、マスクに印刷されるペーストの位置のずれをより確実に抑制することが可能となる。【００１１】
具体的には、マスク保持部に保持されたマスクのパターン孔と基板保持部に保持された基板との間の位置ずれを、マスクおよび基板のそれぞれに設けられたフィデューシャルマークの位置を測定した結果に基づき検出する検出部をさらに備え、制御部は、検出部の検出結果に基づき求めた速度で、基板をマスクに対して相対移動させるように、印刷機を構成すると良い。【００１２】
あるいは、スキージ方向においてマスクを仮想的に分割した複数の領域を設定する設定部を備え、スキージは、領域の境界に到達すると一時停止した後に移動を再開する間欠移動を実行し、制御部は、スキージが境界で一時停止している停止期間に基板をマスクに対して相対的に変位させることで、スキージが一時停止中の境界のスキージ方向の下流側の領域を介してペーストが基板に印刷される位置を補正するように、印刷機を構成しても良い。これによって、マスクに印刷されるペーストの位置のずれを抑制することが可能となる。【００１３】
この際、制御部は、スキージが移動している移動期間は基板とマスクとの位置関係を固定するように、印刷機を構成しても良い。【００１４】
また、設定部は、領域の境界がマスクのパターン孔に重複しないように各領域を設定するように、印刷機を構成しても良い。かかる構成では、スキージが一時停止する位置がパターン孔に重複しないように各領域が設定される。そのため、スキージがパターン孔にペーストを押し込んで基板に印刷している途中でスキージが停止して基板がマスクに対して変位されることが無く、好適である。【００１５】
また、停止期間に基板をマスクに対して相対的に変位させる量を作業者が入力可能な入力操作部をさらに備え、制御部は、入力操作部に入力された量だけ、停止期間において基板をマスクに対して相対的に変位させるように、印刷機を構成しても良い。【００１６】
この際、設定部は、スキージ方向においてマスクを仮想的に分割した３以上の領域を設定し、入力操作部では、停止期間に基板をマスクに対して相対的に変位させる量を境界毎に入力できるように、印刷機を構成しても良い。かかる構成では、停止期間に基板をマスクに対して相対的に変位させる量を、移動再開後のスキージにより印刷される領域毎に適切化することができ、好適である。【００１７】
また、マスク保持部は、マスクの長尺方向をスキージ方向に一致させてマスクを保持し、基板保持部は、基板の長尺方向をスキージ方向に一致させて基板を保持するように、印刷機を構成しても良い。つまり、基板の変形やマスクの撓みに起因したマスクのパターン孔と基板との位置ずれの影響は、マスクおよび基板の長尺方向において顕著となる。これに対して、かかる構成は、マスクに印刷されるペーストの位置のずれを当該長尺方向において効果的に抑制することが可能となる。
【発明の効果】
【００１８】
本発明によれば、マスクに印刷されるペーストの位置のずれを抑制することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】本発明に係る印刷機の構成の一例を模式的に示す部分側面図である。
【図２】図１の印刷機の構成を模式的に示す部分平面図である。
【図３】図１の印刷機が備える電気的構成を示すブロック図である。
【図４】図１に示す印刷機が実行する印刷動作におけるマスクと基板との位置関係を模式的に示す平面図である。
【図５】マスクの撓みの影響を模式的に示す側面図である。
【図６】印刷位置のずれを抑制する第１制御例を示すフローチャートである。
【図７】図６のフローチャートに従って実行される動作を模式的に示す側面図である。
【図８】印刷位置のずれを抑制する第２制御例におけるマスクと基板との位置関係を模式的に示す平面図である。
【図９】印刷位置のずれを抑制する第２制御例を示すフローチャートである。
【図１０】図９のフローチャートに従って実行される動作を模式的に示す側面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
図１は本発明に係る印刷機の構成の一例を模式的に示す部分側面図である。なお、図１においてマスク１２については断面で記載し、パターン孔１２１を示している。図２は図１の印刷機の構成を模式的に示す部分平面図である。図１、図２および以下の図では、Ｘ方向およびＹ方向を水平方向としてＺ方向を鉛直方向とするＸＹＺ直交座標軸を適宜示す。印刷機１は、Ｘ方向の上流側（矢印の反対側）から搬入された基板１０にペースト状の半田を印刷し、印刷済みの基板１０をＸ方向の下流側（矢印側）に搬出する。
【００２１】
つまり、印刷機１は、Ｘ方向の上流側で並列に配置された１対の搬入コンベア２１、２１と、Ｘ方向の下流側で並列に配置された一対の搬出コンベア２２、２２と、Ｘ方向において搬入コンベア２１、２１と搬出コンベア２２、２２の間に配置された印刷ステージ３とを備える。そして、印刷ステージ３は搬入コンベア２１、２１により印刷機１内に搬入された基板１０を受け取り、あるいは印刷済みの基板１０を搬出コンベア２２、２２に受け渡す。
【００２２】
印刷ステージ３はＸ方向およびＹ方向へ移動可能なＸＹテーブル３１と、ＸＹテーブル３１に対して昇降可能な昇降テーブル３２と、昇降テーブル３２の上面に取り付けられた基板保持部３５とを有する。したがって、ＸＹテーブル３１および昇降テーブル３２を適宜駆動することで、基板保持部３５により支持された基板１０をＸ方向、Ｙ方向およびＺ方向へ自在に移動させることができる。また、基板保持部３５は、並列に配置された一対のコンベア３５１、３５１と、両コンベア３５１、３５１の間に配置された複数のバックアップピン３５３を有する。
【００２３】
かかる構成を具備する印刷ステージ３は、搬入コンベア２１とコンベア３５１との高さを揃えた状態で搬入コンベア２１からコンベア３５１へ基板１０を受け取ると、バックアップピン３５３で基板１０を支持しつつ、不図示の固定器具で基板１０を固定する。こうして、基板１０は１対のコンベア３５１、３５１の上で水平に保持される。続いて、印刷ステージ３は基板１０を作業位置（図１の基板１０の位置）にまで上昇させて、基板１０の表面（上面）をマスク１２の裏面（下面）に近接させる。この作業位置において基板１０の表面は半田の印刷を受ける。基板１０への印刷が完了すると、印刷ステージ３は基板１０を作業位置から下降させ、搬出コンベア２２とコンベア３５１との高さを揃えた状態でコンベア３５１から搬出コンベア２２へ基板１０を受け渡す。一方、搬出コンベア２２は印刷ステージ３から受け取った基板１０を印刷機１外に搬出する。
【００２４】
印刷機１は基板保持部３５の上方に、マスク１２を保持するマスク保持部４と、マスク１２を介して基板１０に印刷を行う印刷部５とを備える。マスク保持部４はＸ方向の両端に配置された一対のマスク固定具４１、４１を有し、マスク１２のＸ方向の両端はマスク保持具４１、４１に固定される。印刷部５はＸ方向に平行な固定レール５１と、固定レール５１に沿ってＸ方向に移動可能な印刷ヘッド５２とを有する。印刷ヘッド５２は例えば特開２０１０−１７９６２８号公報と同様の構成を具備している。つまり、印刷ヘッド５２は、Ｙ方向に平行なスキージ５３をその下端に有しており、スキージ５３をマスク１２の表面（上面）に当接させた状態でＸ方向へ移動することで、マスク１２の表面を摺動して、マスク１２の表面に供給された半田１４を基板１０に印刷する。なお、作業位置にある基板１０の表面は、マスク１２の裏面に対して若干のギャップを空けつつマスク１２の裏面に対向しており、スキージ５３はいわゆるギャップ印刷を実行する。したがって、マスク１２の裏面のうち、スキージ５３の先端により表側から押圧された部分が基板１０の表面に接する一方、その他の部分は基板１０の表面から僅かに離れている。
【００２５】
また、印刷機１は、上方を向いて印刷ステージ３に取り付けられたマスク撮像カメラ６１を備える。マスク撮像カメラ６１は印刷ステージ３に伴ってＸ方向およびＹ方向へ移動可能である。したがってマスク１２の裏面に設けられたマスクフィデューシャルマークＦ１２（図４）の直下へマスク撮像カメラ６１を移動させることで、マスクフィデューシャルマークＦ１２をマスク撮像カメラ６１により撮像できる。
【００２６】
さらに、印刷機１は、マスク保持部４により保持されたマスク１２からＹ方向に外れた位置で下方を向いて設けられた基板撮像カメラ６２を備える。基板撮像カメラ６２は、Ｘ方向に平行な固定レール６３に沿ってＸ方向に移動可能である。したがって、印刷ステージ３により基板１０をＹ方向へ移動させつつ基板撮像カメラ６２をＹ方向へ移動させて、基板１０の表面に設けられた基板フィデューシャルマークＦ１０の直上へ基板撮像カメラ６２を移動させることで、基板フィデューシャルマークＦ１０を基板撮像カメラ６２により撮像できる。
【００２７】
図３は図１の印刷機が備える電気的構成を示すブロック図である。印刷機１は、ＣＰＵ(Central Processing Unit)やＲＡＭ(Random Access Memory)で構成された演算部９を備える。演算部９は所定のプログラムを実行することで、主制御部９１、設定部９２、駆動制御部９３および画像処理部９４を内部に構築する。主制御部９１は設定部９２、駆動制御部９３および画像処理部９４を用いて印刷機１での動作を統括的に制御する機能を担い、設定部９２は印刷機１での動作の制御に必要な制御パラメーターの値を設定する機能を担い、駆動制御部９３は印刷機１の各部の駆動を制御する機能を担い、画像処理部９４はマスク撮像カメラ６１や基板撮像カメラ６２が撮像した画像に画像処理を施す機能を担う。
【００２８】
印刷機１は、例えば液晶ディスプレイで構成された表示部７１と、キーボードやマウスで構成された入力操作部７２とを備える。そして、設定部９２は、制御パラメーターを作業者に設定させる設定画面や、制御パラメーターの現在値等を表示部７１に表示する。また、設定部９２は、作業者による入力操作部７２への入力操作を受け付けて、当該入力操作に応じて制御パラメーターの値を更新する。なお、表示部７１および入力操作部７２は例えばタッチパネル等で一体的に構成しても構わない。
【００２９】
印刷機１は、印刷ステージ３を駆動するステージ駆動部Ｍ３と、コンベア３５１を駆動するコンベア駆動部Ｍ３５１と、印刷ヘッド５２を駆動するヘッド駆動部Ｍ５２とを備える。ステージ駆動部Ｍ３は、ＸＹテーブル３１をＸ方向に駆動するＸ軸モーター、ＸＹテーブル３１をＹ方向に駆動するＹ軸駆動モーター、および昇降テーブル３２を昇降させるＺ軸モーターで構成される。そして、駆動制御部９３がステージ駆動部Ｍ３を制御することで、ＸＹテーブル３１の水平面内での位置および昇降テーブル３２の高さを調整する。コンベア駆動部Ｍ３５１は、コンベア３５１を駆動するコンベアモーターで構成される。そして、駆動制御部９３がコンベア駆動部Ｍ３５１を制御することで、搬入コンベア２１からコンベア３５１への基板１０の受け取りや、コンベア３５１から搬出コンベア２２への基板１０の受け渡しを実行する。ヘッド駆動部Ｍ５２は、印刷ヘッド５２をＸ方向に駆動するＸ軸モーターで構成される。そして、駆動制御部９３が印刷ヘッド５２を制御することで、印刷ヘッド５２のＸ方向への位置を調整する。
【００３０】
上述の通り印刷機１はマスク撮像カメラ６１および基板撮像カメラ６２を備える。そして、画像処理部９４はマスク撮像カメラ６１が撮像したマスクフィデューシャルマークＦ１２の画像に基づき、マスクフィデューシャルマークＦ１２の位置を測定する。また、画像処理部９４は基板撮像カメラ６２が撮像した基板フィデューシャルマークＦ１０の画像に基づき、基板フィデューシャルマークＦ１０の位置を測定する。そして、印刷動作では、フィデューシャルマークＦ１０、Ｆ１２の位置の測定結果に基づき、マスク１２と基板１０との相対的な位置関係が調整される。
【００３１】
図４は図１に示す印刷機が実行する印刷動作におけるマスクと基板との位置関係を模式的に示す平面図である。実際の印刷動作では、マスク１２の裏面に基板１０の表面を対向させるため、平面視においてマスク１２の裏側に基板１０は隠れるが、図４ではＸ方向へのマスク１２と基板１０との位置関係を示すために、マスク１２と基板１０とをＹ方向にずらして表示する。
【００３２】
基板１０はＸ方向に長尺でＹ方向に短尺な長方形状を有する。基板１０の表面の四隅のそれぞれには基板フィデューシャルマークＦ１０が設けられている。さらに、基板１０の表面には、例えばランドといった半田の印刷対象箇所１０１が設けられている。なお、図４では１個の印刷対象箇所１０１のみが示されているが、実際の基板１０には複数の印刷対象箇所１０１が設けられている。
【００３３】
マスク１２も基板１０に対応して、Ｘ方向に長尺でＹ方向に短尺な長方形状を有する。また、基板１０の四隅に設けられた基板フィデューシャルマークＦ１０に対応して、マスク１２の裏面の四隅のそれぞれには、マスクフィデューシャルマークＦ１２が設けられている。ここで、マスクフィデューシャルマークＦ１２はマスク１２の裏面に設けられていることから、図４においてマスクフィデューシャルマークＦ１２はマスク１２を透かして表示されている。さらに、マスク１２にはパターン孔１２１が貫通して設けられている。なお、図４では１個のパターン孔１２１のみが示されているが、実際のマスク１２には、基板１０の複数の印刷対象箇所１０１に対応して複数のパターン孔１２１が設けられている。ちなみに、マスク１２は基板１０よりも大きく形成されており、図４では、マスク１２のうち設計寸法を有する基板１０に対応する範囲（基板対応範囲１２０）が仮想線で示されている。
【００３４】
ところで、基板１０の製造過程における熱変形等が原因となって、基板１０が設計寸法に比べて伸縮する場合があり、図４の例では、基板１０がＸ方向において設計寸法よりも伸びている。そのため、Ｘ方向の上流側の端においてマスクフィデューシャルマークＦ１２に対して基板フィデューシャルマークＦ１０を一致させると、Ｘ方向の下流側の端においてマスクフィデューシャルマークＦ１２に対して基板フィデューシャルマークＦ１０がずれ量ΔＦだけＸ方向の下流側にずれる。その結果、例えばＸ方向の中央では、印刷対象箇所１０１が対応するパターン孔１２１に対してずれ量Δ１０１（＝ΔＦ／２）だけＸ方向の下流側へずれる。このように、互いに対応するパターン孔１２１と印刷対象箇所１０１とがずれた状態では、パターン孔１２１を介して半田が印刷される位置が印刷対象箇所１０１からずれてしまう。
【００３５】
また、同様の状況は、基板１０が設計寸法に比べて伸びた場合のみならず、マスク１２が経年的に撓んだ場合にも起こりうる。図５はマスクの撓みの影響を模式的に示す側面図であり、特にマスク１２のうちの基板対応範囲１２０を示す。なお、同図においては、撓みのないマスク１２が上側に示され、撓んだ状態のマスク１２が下側に示されている。撓んだ状態のマスク１２は、撓みのないマスク１２に比べて実質的にＸ方向にずれ量Δ１２だけ縮んでおり、撓んだ状態のマスク１２のパターン孔１２１は、撓みのないマスク１２のパターン孔１２１に比べてずれ量Δ１２１だけＸ方向にずれる。したがって、撓んだ状態のマスク１２を用いて印刷動作を行った場合、図４に示した基板１０が伸びた場合と同様の印刷位置のずれが生じる。そこで、本実施形態の主制御部９１は所定のプログラムを実行することで、印刷位置のずれを抑制する制御を実行する。
【００３６】
図６は印刷位置のずれを抑制する第１制御例を示すフローチャートである。図７は図６のフローチャートに従って実行される動作を模式的に示す側面図である。図７では、マスク１２のうち基板対応範囲１２０のみが示されている。図６および図７に示す第１制御例では、Ｘ方向に平行なスキージ方向Ｄ５３にスキージ５３を移動させることで印刷動作を行う。特に、スキージ５３への移動に伴って、マスク１２に対して基板１０を連続的に移動させることで、基板１０における半田の印刷位置を補正する。
【００３７】
ステップＳ１０１では、主制御部９１はステージ駆動部Ｍ３およびコンベア駆動部Ｍ３５１を制御することで、基板１０を搬入する。これによって、搬入コンベア２１から印刷ステージ３のコンベア３５１へ基板１０が搬入される。ステップＳ１０２では、マスク撮像カメラ６１がマスク１２の各マスクフィデューシャルマークＦ１２の直下に順に移動して、各マスクフィデューシャルマークＦ１２を撮像する。また、そして、画像処理部９４が各マスクフィデューシャルマークＦ１２の撮像画像に基づき、各マスクフィデューシャルマークＦ１２の位置を算出する。こうして、マスク１２の各マスクフィデューシャルマークＦ１２の位置が計測される。ステップＳ１０３では、基板撮像カメラ６２が基板１０の各基板フィデューシャルマークＦ１０の直上に順に移動して、各基板フィデューシャルマークＦ１０を撮像する。そして、画像処理部９４が各基板フィデューシャルマークＦ１０の撮像画像に基づき、各基板フィデューシャルマークＦ１０の位置を算出する。こうして、基板１０の各基板フィデューシャルマークＦ１０の位置が計測される。
【００３８】
ステップＳ１０４では、主制御部９１が印刷動作において基板１０を移動させる速度（基板速度Ｖ１０）を算出する。具体的には、スキージ５３がＸ方向の両端のマスクフィデューシャルマークＦ１２の間を移動するのに要する時間をスキージ時間Ｔ５３とすると、次式
Ｖ１０＝ΔＦ／Ｔ５３  …式（１）
が成立するように基板速度Ｖ１０を定める。この際、スキージ５３がスキージ方向Ｄ５３へ移動する速度をスキージ速度Ｖ５３とし、Ｘ方向の両端のマスクフィデューシャルマークＦ１２の間の距離をマーク間距離Ｌ１２とすると、次式
Ｔ５３＝Ｌ１２／Ｖ５３  …式（２）
が成立する。よって、式（１）は、次式
Ｖ１０＝（ΔＦ／Ｌ１２）×Ｖ５３  …式（３）
に変形できる。
【００３９】
つまり、主制御部９１は、フィデューシャルマークＦ１０、Ｆ１２の位置の測定結果に基づきずれ量ΔＦおよびマーク間距離Ｌ１２を求め、これらの比をスキージ速度Ｖ５３に乗ずることで基板速度Ｖ１０を算出できる。なお、スキージ方向Ｄ５３の図中矢印側を正方向として、Ｘ方向両端の基板フィデューシャルマークＦ１０の距離がＸ方向両端のマスクフィデューシャルマークＦ１２の間の距離より長い場合（すなわち基板１０が相対的に伸びている場合）は、基板速度Ｖ１０を負の値に設定する。この際、基板１０はスキージ方向Ｄ５３に対して逆方向（負方向、図７の左方向）へ移動する。一方、Ｘ方向両端の基板フィデューシャルマークＦ１０の距離がＸ方向両端のマスクフィデューシャルマークＦ１２の間の距離より短い場合（すなわち基板１０が相対的に縮んでいる場合）は、基板速度Ｖ１０を正の値に設定する。この場合、基板１０はスキージ方向Ｄ５３に対して順方向（正方向、図７の右方向）へ移動する。
【００４０】
ステップＳ１０５では、主制御部９１はステージ駆動部Ｍ３を制御することで、基板１０を作業位置にまで上昇させて、マスク１２に対して基板１０の位置合わせを実行する。こうして作業位置に上昇した基板１０の表面は、マスク１２の裏面に対して若干のギャップを空けて、マスク１２の裏面に対向する。また、この位置合わせにより、図７の「ステップＳ１０５」の欄に示すように、スキージ方向Ｄ５３の上流側の端では、フィデューシャルマークＦ１２の位置とフィデューシャルマークＦ１０の位置とがスキージ方向Ｄ５３において一致する。一方、スキージ方向Ｄ５３の下流側の端では、フィデューシャルマークＦ１２の位置とフィデューシャルマークＦ１０との位置とがスキージ方向Ｄ５３にずれ量ΔＦだけずれる。なお、図７の例では、基板１０がマスク１２に対して伸びており、基板フィデューシャルマークＦ１０がマスクフィデューシャルマークＦ１２よりスキージ方向Ｄ５３の下流側へずれている。
【００４１】
ステップＳ１０６では、主制御部９１はヘッド駆動部Ｍ５２を制御することで、スキージ５３の先端（マスク１２に接する端）を開始位置へ移動させる。この開始位置はスキージ方向Ｄ５３の上流端のマスクフィデューシャルマークＦ１２よりスキージ方向Ｄ５３の上流側に設定されている。そして、ステップＳ１０７では、主制御部９１はヘッド駆動部Ｍ５２を制御することでスキージ５３のスキージ方向Ｄ５３への移動を開始する。これによって、スキージ５３は、スキージ方向Ｄ５３の上流端のマスクフィデューシャルマークＦ１２に到るまでにスキージ速度Ｖ５３まで加速され、その後はスキージ速度Ｖ５３で等速移動する。
【００４２】
そして、スキージ５３がスキージ方向Ｄ５３の上流側のマスクフィデューシャルマークＦ１２に到達すると（ステップＳ１０８で「ＹＥＳ」）、主制御部９１はステージ駆動部Ｍ３を制御することで基板１０の移動を開始する（ステップＳ１０９）。これによって、基板１０はステップＳ１０４で算出された基板速度Ｖ１０で移動する。
【００４３】
なお、図７の例では、基板１０がマスク１２に対して伸びているため、基板速度Ｖ１０は負の値に設定されている。したがって、基板１０はスキージ方向Ｄ５３に対して逆方向へ移動し、図７の「印刷途中」の欄に示すように、スキージ速度Ｖ５３の向きと基板速度Ｖ１０の向きは互いに逆となる。また、「印刷途中」の欄では、スキージ５３の先端がスキージ方向Ｄ５３の両端のマスクフィデューシャルマークＦ１２の中央に位置した状態が示されており、スキージ方向Ｄ５３の両端それぞれにおいて、マスクフィデューシャルマークＦ１２と基板フィデューシャルマークＦ１０との位置ずれの量は、「ステップＳ１０５」の欄におけるずれ量ΔＦの半分となっている。
【００４４】
こうしてスキージ５３の移動に伴って基板１０が基板速度Ｖ１０で連続的に移動することで、スキージ５３の先端が位置する部分において、マスク１２のパターン孔１２１と基板１０の印刷対象箇所１０１との位置ずれが補正される。その結果、スキージ５３によりパターン孔１２１に押し込まれた半田１４が印刷される位置と、当該パターン孔１２１に対応する印刷対象箇所１０１との位置との間の位置ずれが補正される。
【００４５】
スキージ５３がスキージ方向Ｄ５３の下流側のマスクフィデューシャルマークＦ１２に到達すると（ステップＳ１１０で「ＹＥＳ」）、主制御部９１はステージ駆動部Ｍ３を制御することで基板１０の移動を終了し（ステップＳ１１１）、続いてヘッド駆動部Ｍ５２を制御することでスキージ５３の移動を終了する（ステップＳ１１２）。こうして基板１０およびスキージ５３の移動が停止すると、ステップＳ１１３において主制御部９１はステージ駆動部Ｍ３およびコンベア駆動部Ｍ３５１を制御することで、基板１０を搬出する（ステップＳ１１３）。これによって、印刷ステージ３のコンベア３５１から搬出コンベア２２を介して基板１０が搬出される。
【００４６】
このように、以上に説明した実施形態では、マスク１２に対するスキージ５３の位置に応じてスキージ方向Ｄ５３におけるマスク１２と基板１０との相対的な位置関係を変化させることで、半田１４が基板１０に印刷される位置を補正する。したがって、マスク１２に印刷される半田１４の位置のずれを抑制することが可能となっている。
【００４７】
特に主制御部９１は、スキージ５３の移動に伴って連続的に基板１０をマスク１２に対して相対移動させることで、半田１４が基板１０に印刷される位置を補正する。これによって、マスク１２に印刷される半田１４の位置のずれを抑制することが可能となっている。
【００４８】
さらに、主制御部９１は、マスク保持部４に保持されたマスク１２のパターン孔１２１と基板保持部３５に保持された基板１０との間の位置ずれ（ずれ量ΔＦ）に基づき基板速度Ｖ１０を算出し、基板１０をマスク１２に対して基板速度Ｖ１０で相対移動させる。このように基板速度Ｖ１０を設定することで、マスク１２に印刷される半田１４の位置のずれをより確実に抑制することが可能となっている。
【００４９】
具体的には、画像処理部９４がマスクフィデューシャルマークＦ１２および基板フィデューシャルマークＦ１０それぞれの位置を測定した結果に基づき、ずれ量ΔＦを求める。こうして、各フィデューシャルマークＦ１０、Ｆ１２の位置の実測結果を用いることで、ずれ量ΔＦを的確に求めることができる。その結果、マスク１２に印刷される半田１４の位置のずれをより確実に抑制することが可能となっている。
【００５０】
また、マスク保持部４は、マスク１２の長尺方向（Ｘ方向）をスキージ方向Ｄ５３に一致させてマスクを保持し、基板保持部３５は、基板１０の長尺方向（Ｘ方向）をスキージ方向Ｄ５３に一致させて基板に保持する。つまり、基板１０の変形やマスク１２の撓みに起因したマスク１２のパターン孔１２１と基板１０の印刷対象箇所１０１との位置ずれの影響は、マスク１２および基板１０基板の長尺方向（Ｘ方向）において顕著となる。これに対して、かかる構成は、マスク１２に印刷される半田１４の位置のずれを当該長尺方向（Ｘ方向）において効果的に抑制することが可能となる。
【００５１】
また、印刷機１内に搬入された基板１０を作業位置に位置決めする印刷ステージ３が具備されており、主制御部９１は印刷ステージ３により基板１０を移動させることで、印刷動作中においてマスク１２に対して基板１０を移動させている。かかる構成では、印刷ステージ３が作業位置への基板１０への位置決めのみならず、印刷動作中におけるマスク１２に対する基板１０の移動も実行する。よって、印刷動作中にマスク１２に対して基板１０を移動させるために新たな機構を設ける必要が無く、印刷機１の構成の簡素化および低コスト化を図ることができる。
【００５２】
図８は印刷位置のずれを抑制する第２制御例におけるマスクと基板との位置関係を模式的に示す平面図である。実際の印刷動作では、マスク１２の裏面に基板１０の表面を対向させるため、平面視においてマスク１２の裏側に基板１０は隠れるが、図８ではＸ方向へのマスク１２と基板１０との位置関係を示すために、マスク１２と基板１０とをＹ方向にずらして表示する。なお、図８のうち図４と共通する部分については相当符号を付して説明を省略する。
【００５３】
第２制御例では、設定部９２は、スキージ方向Ｄ５３においてマスク１２の基板対応範囲１２０を仮想的に分割して複数の領域１２２を設定する。互いに隣接する領域１２２の境界１２３はＹ方向に平行な直線形状を有し、特に設定部９２は、マスク１２のパターン孔１２１の位置を示すデータあるいはマスク撮像カメラ６１によるマスク１２の撮像画像に基づき、各境界１２３がマスク１２のパターン孔１２１に重複しないように、複数の領域１２２を設定する。そして、スキージ５３は領域１２２の境界１２３に到達すると所定時間だけ一時停止した後に移動を再開する間欠移動を実行する。これに対して、主制御部９１は、スキージ５３が境界１２３で一時停止している停止期間に基板１０をマスク１２に対して相対的に変位させることで、移動を再開したスキージ５３により摺動される領域１２２のパターン孔１２１を介して半田１４が基板１０に印刷される位置を補正する。
【００５４】
図９は印刷位置のずれを抑制する第２制御例を示すフローチャートである。図１０は図９のフローチャートに従って実行される動作を模式的に示す側面図である。図１０では、マスク１２のうち基板対応範囲１２０のみが示されている。ステップＳ２０１では、主制御部９１はステージ駆動部Ｍ３およびコンベア駆動部Ｍ３５１を制御することで、基板１０を搬入する。ステップＳ２０２では、画像処理部９４が各マスクフィデューシャルマークＦ１２の撮像画像に基づき、各マスクフィデューシャルマークＦ１２の位置を計測する。ステップＳ２０３では、画像処理部９４が各基板フィデューシャルマークＦ１０の撮像画像に基づき、各基板フィデューシャルマークＦ１０の位置を計測する。
【００５５】
ステップＳ２０４では、設定部９２がオフセット量Δ１０を各境界１２３について設定する。ここで、オフセット量Δ１０は、スキージ５３が境界１２３で一時停止している停止期間に基板１０をマスク１２に対して変位させる変位量であり、各境界１２３について設定される。具体的には、設定部９２は、各フィデューシャルマークＦ１０、Ｆ１２の位置の測定結果に基づきマスク１２と基板１０との間のずれ量ΔＦを算出する。そして、対象となる境界１２３にスキージ方向Ｄ５３の下流側で隣接する領域１２２のスキージ方向Ｄ５３への長さＬ１２２とマーク間距離Ｌ１２との比（Ｌ１２２／Ｌ１２）をずれ量ΔＦに乗じる。こうして求められた値（＝ΔＦ×Ｌ１２２／Ｌ１２）が、対象となる境界１２３でのオフセット量Δ１０として設定される。
【００５６】
なお、スキージ方向Ｄ５３の図中矢印側を正方向として、Ｘ方向両端の基板フィデューシャルマークＦ１０の距離がＸ方向両端のマスクフィデューシャルマークＦ１２の間の距離より長い場合（すなわち基板１０が相対的に伸びている場合）は、オフセット量Δ１０を負の値に設定する。この際、基板１０はスキージ方向Ｄ５３に対して逆方向（負方向、図１０の左方向）へ変位する。一方、Ｘ方向両端の基板フィデューシャルマークＦ１０の距離がＸ方向両端のマスクフィデューシャルマークＦ１２の間の距離より短い場合（すなわち基板１０が相対的に縮んでいる場合）は、オフセット量Δ１０を正の値に設定する。この場合、基板１０はスキージ方向Ｄ５３に対して順方向（正方向、図１０の右方向）へ変位する。
【００５７】
ステップＳ２０５では、主制御部９１はステージ駆動部Ｍ３を制御することで、基板１０を作業位置にまで上昇させて、マスク１２に対して基板１０の位置合わせを実行する。こうして作業位置に上昇した基板１０の表面は、マスク１２の裏面に対して若干のギャップを空けて、マスク１２の裏面に対向する。また、この位置合わせにより、図１０の「ステップＳ２０５」の欄に示すように、スキージ方向Ｄ５３の上流側の端では、フィデューシャルマークＦ１２の位置とフィデューシャルマークＦ１０の位置とがスキージ方向Ｄ５３において一致する。一方、スキージ方向Ｄ５３の下流側の端では、フィデューシャルマークＦ１２の位置とフィデューシャルマークＦ１０との位置とがスキージ方向Ｄ５３にずれ量ΔＦだけずれる。なお、図１０の例では、基板１０がマスク１２に対して伸びており、基板フィデューシャルマークＦ１０がマスクフィデューシャルマークＦ１２よりスキージ方向Ｄ５３の下流側へずれている。
【００５８】
ステップＳ２０６では、主制御部９１はヘッド駆動部Ｍ５２を制御することで、スキージ５３の先端を開始位置へ移動させる。そして、ステップＳ２０７では、主制御部９１はヘッド駆動部Ｍ５２を制御することでスキージ５３のスキージ方向Ｄ５３への移動を開始する。
【００５９】
そして、スキージ５３が領域１２２の境界１２３に到達すると（ステップＳ２０８で「ＹＥＳ」）、主制御部９１はヘッド駆動部Ｍ５２を制御することで、スキージ５３を境界１２３上に一時停止させる（ステップＳ２０９）。続いて、主制御部９１はステージ駆動部Ｍ３を制御することで、ステップＳ２０４で設定されたオフセット量Δ１０だけ基板１０を変位させる（ステップＳ２１０）。なお、図１０の例では、基板１０がマスク１２に対して伸びているため、オフセット量Δ１０は負の値に設定されている。したがって、図１０の「ステップＳ２１０」の欄に示すように、基板１０はスキージ方向Ｄ５３に対して逆方向へ変位する。
【００６０】
基板１０の変位が完了すると、主制御部９１はヘッド駆動部Ｍ５２を制御することで、スキージ方向Ｄ５３へのスキージ５３の移動を再開する（ステップＳ２１１）。これによって、直前の停止期間でスキージ５３の先端が当接していた境界１２３にスキージ方向Ｄ５３の下流側で隣接する領域１２２（摺動対象領域１２２）をスキージ５３が摺動し、摺動対象領域１２２のパターン孔１２１に押し込まれた半田１４が基板１０に印刷される。しかも、直前の停止期間において基板１０がオフセット量Δ１０だけマスク１２に対して変位しているため、摺動対象領域１２２においてマスク１２のパターン孔１２１と基板１０の印刷対象箇所１０１との位置ずれが補正されている。その結果、スキージ５３によりパターン孔１２１に押し込まれた半田１４が印刷される位置と、当該パターン孔１２１に対応する印刷対象箇所１０１との位置との間の位置ずれが補正される。なお、スキージ５３が領域１２２を摺動している移動期間は、マスク１２と基板１０との位置関係は固定されている。
【００６１】
ステップＳ２１２では、主制御部９１は、終了位置（基板対応範囲１２０のスキージ方向Ｄ５３の下流端）にスキージ５３が到達したかを判断する。そして、スキージ５３が終了位置に到達していない場合（ステップＳ２１２で「ＮＯ」の場合）はステップＳ２０８に戻る。これにより、スキージ５３が領域１２２の境界１２３に到達する度に、スキージ５３が一時停止し（ステップＳ２０９）、その停止期間に基板１０がオフセット量Δ１０だけ変位する（ステップＳ２１０）。
【００６２】
主制御部９１は、終了位置にスキージ５３が到達したと判断すると（ステップＳ２１２で「ＹＥＳ」）、ヘッド駆動部Ｍ５２を制御することでスキージ５３の移動を終了する（ステップＳ２１３）。そして、ステップＳ２１４において主制御部９１はステージ駆動部Ｍ３およびコンベア駆動部Ｍ３５１を制御することで、基板１０を搬出する。
【００６３】
このように、以上に説明した実施形態では、マスク１２に対するスキージ５３の位置に応じてスキージ方向Ｄ５３におけるマスク１２と基板１０との相対的な位置関係を変化させることで、半田１４が基板１０に印刷される位置を補正する。したがって、マスク１２に印刷される半田１４の位置のずれを抑制することが可能となっている。
【００６４】
特に設定部９２が、スキージ方向Ｄ５３においてマスク１２を仮想的に分割した複数の領域１２２を設定し、スキージ５３は、領域１２２の境界１２３に到達すると一時停止した後に移動を再開する間欠移動を実行する。そして、主制御部９１は、スキージ５３が境界１２３で一時停止している停止期間に基板１０をマスク１２に対して相対的に変位させることで、スキージ５３が一時停止中の境界１２３のスキージ方向Ｄ５３の下流側の領域を介して半田１４が基板１０に印刷される位置を補正する。これによって、マスク１２に印刷される半田１４の位置のずれを抑制することが可能となっている。
【００６５】
また、設定部９２は、領域１２２の境界１２３がマスク１２のパターン孔１２１に重複しないように各領域１２２を設定する。かかる構成では、スキージ５３が一時停止する位置がパターン孔１２１に重複しないように各領域１２２が設定される。そのため、スキージ５３が半田１４をパターン孔１２１に押し込んで基板１０に印刷している途中でスキージ５３が停止して基板１０がマスク１２に対して変位されることが無く、好適である。
【００６６】
また、印刷機１内に搬入された基板１０を作業位置に位置決めする印刷ステージ３が具備されており、主制御部９１は印刷ステージ３により基板１０を移動させることで、スキージ５３の停止期間に基板１０をマスク１２に対して変位させている。かかる構成では、印刷ステージ３が作業位置への基板１０への位置決めのみならず、マスク１２に対する基板１０の変位も実行する。よって、マスク１２に対して基板１０を変位させるために新たな機構を設ける必要が無く、印刷機１の構成の簡素化および低コスト化を図ることができる。
【００６７】
このように上記実施形態では、印刷機１が本発明の「印刷機」の一例に相当し、マスク保持部４が本発明の「マスク保持部」の一例に相当し、マスク１２が本発明の「マスク」の一例に相当し、パターン孔１２１が本発明の「パターン孔」の一例に相当し、基板保持部３５が本発明の「基板保持部」の一例に相当し、基板１０が本発明の「基板」の一例に相当し、印刷部５が本発明の「印刷部」の一例に相当し、スキージ５３が本発明の「スキージ」の一例に相当し、スキージ方向Ｄ５３が本発明の「スキージ方向」の一例に相当し、半田１４が本発明の「ペースト」の一例に相当し、主制御部９１が本発明の「制御部」の一例に相当し、マスク撮像カメラ６１、基板撮像カメラ６２および画像処理部９４が協働して本発明の「検出部」の一例として機能し、マスクフィデューシャルマークＦ１２および基板フィデューシャルマークＦ１０のそれぞれが本発明の「フィデューシャルマーク」の一例に相当し、設定部９２が本発明の「設定部」の一例に相当し、領域１２２が本発明の「領域」の一例に相当し、境界１２３が本発明の「境界」の一例に相当する。
【００６８】
なお、本発明は上記実施形態に限定されるものではなく、その趣旨を逸脱しない限りにおいて上述したものに対して種々の変更を加えることが可能である。例えば、第１制御例における基板速度Ｖ１０の設定の仕方を適宜変更しても良い。つまり、第１制御例では、スキージ方向Ｄ５３の両端の基板フィデューシャルマークＦ１０の間の距離と、スキージ方向Ｄ５３の両端のマスクフィデューシャルマークＦ１２の間の距離との差をずれ量ΔＦとして求め、当該ずれ量ΔＦに基づき基板速度Ｖ１０を設定していた。しかしながら、スキージ方向Ｄ５３の両端の印刷対象箇所１０１の間の距離と、スキージ方向Ｄ５３の両端のパターン孔１２１の間の距離との差をずれ量ΔＦとして求め、当該ずれ量ΔＦに基づき基板速度Ｖ１０を設定することもできる。あるいは、入力操作部７２を介して作業者が入力した値を、主制御部９１が基板速度Ｖ１０に設定するように構成することもできる。
【００６９】
また、第２制御例において、領域１２２を設定する仕方を適宜変更しても良い。例えば、入力操作部７２を介して作業者が入力した内容に基づき、設定部９２が領域１２２の個数や各領域１２２の範囲を設定するように構成しても良い。
【００７０】
また、オフセット量Δ１０を設定する仕方を適宜変更しても良い。例えば、対象となる境界１２３に対してスキージ方向Ｄ５３の下流側で隣接する領域１２２において、パターン孔１２１と印刷対象箇所１０１とのずれ量を各パターン孔１２１について求め、これらのずれ量の二乗和平方根が最小となるように、オフセット量Δ１０を設定しても良い。この場合、ステップＳ２０５では、最初にスキージ５３の摺動が実行される領域１２２に関し、パターン孔１２１と印刷対象箇所１０１とのずれ量を各パターン孔１２１について求め、これらのずれ量の二乗和平方根が最小となるように、マスク１２と基板１０との位置合わせを行うと良い。
【００７１】
さらに、スキージ５３の停止期間に基板１０をマスク１２に対して相対的に変位させるオフセット量Δ１０を、作業者が入力操作部７２に入力可能であるように構成しても良い。かかる構成では例えば、主制御部９１は、マスク１２および基板１０それぞれの撮像画像を表示部７１に表示する。一方、作業者はこれらの画像からパターン孔１２１と印刷対象箇所１０１とのずれ量を視認しつつ、入力操作部７２にオフセット量Δ１０を入力できる。そして、主制御部９１は、作業者により入力操作部７２に入力されたオフセット量Δ１０だけ、基板１０をマスク１２に対して変位させる。
【００７２】
この際、第２制御例で例示したように、スキージ方向Ｄ５３においてマスク１２を仮想的に分割した３以上の領域１２２を設定した場合、オフセット量Δ１０を境界１２３毎に入力できるように入力操作部７２を構成しても良い。かかる構成では、スキージ５３の停止期間に基板１０基板をマスク１２に対して相対的に変位させるオフセット量Δ１０を、移動再開後のスキージ５３により印刷される領域１２２毎に適切化することができ、好適である。
【００７３】
また、上記の第１・第２制御例では、マスク１２を固定しつつ基板１０を動かすことで、マスク１２と基板１０との相対的な位置関係を変化させていた。しかしながら、基板１０を固定しつつマスク１２を動かすことで、マスク１２と基板１０との相対的な位置関係を変化させることもできる。この場合、スキージ５３とマスク１２との位置関係が保たれるように、マスク１２の移動の際にはスキージ５３もマスク１２と一体的に動かすことが好適となる。
【００７４】
また、スキージ５３の摺動を開始する開始位置、およびスキージ５３の摺動を終了する終了位置についても適宜変更が可能である。
【００７５】
また、上記実施形態では、スキージ方向Ｄ５３はＸ方向（基板搬送方向）に平行であった。しかしながら、スキージ方向Ｄ５３はＹ方向に平行であっても構わない。あるいは、Ｘ方向およびＹ方向の両方向にスキージ５３を摺動できるように構成しても構わない。
【００７６】
また、ペーストの種類は半田に限られない。
【符号の説明】
【００７７】
１…印刷機
３…印刷ステージ
３５…基板保持部
４…マスク保持部
４１…マスク固定具
５…印刷部
５３…スキージ
Ｄ５３…スキージ方向
６１…マスク撮像カメラ（検出部）
６２…基板撮像カメラ（検出部）
７２…入力操作部
９１…主制御部（制御部）
９２…設定部
９４…画像処理部（検出部）
１０…基板
１０１…印刷対象箇所
１２…マスク
１２１…パターン孔
１２２…領域
１２３…境界
１４…半田
Ｆ１０…基板フィデューシャルマーク
Ｆ１２…マスクフィデューシャルマーク
ΔＦ…ずれ量（マスクのパターン孔と基板との間の位置ずれ）
Ｖ１０…基板速度（基板をマスクに対して相対移動させる速度）
Δ１０…オフセット量（基板をマスクに対して変位させる量）
【図１】
2017017776.tif 000003
【図２】
2017017776.tif 000004
【図３】
2017017776.tif 000005
【図４】
2017017776.tif 000006
【図５】
2017017776.tif 000007
【図６】
2017017776.tif 000008
【図７】
2017017776.tif 000009
【図８】
2017017776.tif 000010
【図９】
2017017776.tif 000011
【図１０】
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【手続補正書】
【提出日】平成28年4月22日(2016.4.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（削除）
【請求項２】
（削除）
【請求項３】
（削除）
【請求項４】
パターン孔を有するマスクを保持するマスク保持部と、
前記マスクとの間に隙間を設けつつ前記マスクに対向させて基板を保持する基板保持部と、
前記基板保持部により保持される前記基板の反対側で前記マスクに当接するスキージを有し、スキージ方向へ前記スキージを移動させることで前記パターン孔を介して前記マスク上のペーストを前記基板に印刷する印刷部と、
前記スキージの移動に伴って連続的に前記基板を前記マスクに対して相対移動させることで、前記ペーストが前記基板に印刷される位置を補正する制御部と、
前記マスク保持部に保持された前記マスクの前記パターン孔と前記基板保持部に保持された前記基板との間の位置ずれを、前記マスクおよび前記基板のそれぞれに設けられたフィデューシャルマークの位置を測定した結果に基づき検出する検出部と
を備え、
前記制御部は、前記検出部の検出結果に基づき求めた速度で、前記基板を前記マスクに対して相対移動させる印刷機。
【請求項５】
パターン孔を有するマスクを保持するマスク保持部と、
前記マスクとの間に隙間を設けつつ前記マスクに対向させて基板を保持する基板保持部と、
前記基板保持部により保持される前記基板の反対側で前記マスクに当接するスキージを有し、スキージ方向へ前記スキージを移動させることで前記パターン孔を介して前記マスク上のペーストを前記基板に印刷する印刷部と、
前記マスクに対する前記スキージの位置に応じて前記スキージ方向における前記マスクと前記基板との相対的な位置関係を変化させることで、前記ペーストが前記基板に印刷される位置を補正する制御部と、
前記スキージ方向において前記マスクを仮想的に分割した複数の領域を設定する設定部と
を備え、
前記スキージは、前記領域の境界に到達すると一時停止した後に移動を再開する間欠移動を実行し、
前記制御部は、前記スキージが前記境界で一時停止している停止期間に前記基板を前記マスクに対して相対的に変位させることで、前記スキージが一時停止中の前記境界の前記スキージ方向の下流側の前記領域を介して前記ペーストが前記基板に印刷される位置を補正する印刷機。
【請求項６】
前記制御部は、前記スキージが移動している移動期間は前記基板と前記マスクとの位置関係を固定する請求項５に記載の印刷機。
【請求項７】
前記設定部は、前記領域の前記境界が前記マスクの前記パターン孔に重複しないように前記各領域を設定する請求項５または６に記載の印刷機。
【請求項８】
前記停止期間に前記基板を前記マスクに対して相対的に変位させる量を作業者が入力可能な入力操作部をさらに備え、
前記制御部は、前記入力操作部に入力された量だけ、前記停止期間において前記基板を前記マスクに対して相対的に変位させる請求項５ないし７のいずれか一項に記載の印刷機。
【請求項９】
前記設定部は、前記スキージ方向において前記マスクを仮想的に分割した３以上の前記領域を設定し、
前記入力操作部では、前記停止期間に前記基板を前記マスクに対して相対的に変位させる量を前記境界毎に入力できる請求項８に記載の印刷機。
【請求項１０】
前記マスク保持部は、前記マスクの長尺方向を前記スキージ方向に一致させて前記マスクを保持し、
前記基板保持部は、前記基板の長尺方向を前記スキージ方向に一致させて前記基板を保持する請求項４ないし９のいずれか一項に記載の印刷機。
【請求項１１】
パターン孔を有するマスクとの間に隙間を設けつつ前記マスクに基板を対向させる工程と、
前記マスクの前記パターン孔と前記基板との間の位置ずれを、前記マスクおよび前記基板のそれぞれに設けられたフィデューシャルマークの位置を測定した結果に基づき検出する工程と、
前記基板の反対側で前記マスクに当接するスキージをスキージ方向へ移動させることで、前記パターン孔を介して前記マスク上のペーストを前記基板に印刷する工程と
を備え、
ペーストを前記基板に印刷する工程では、前記マスクの前記パターン孔と前記基板との間の位置ずれを検出した結果に基づき求めた速度で、前記スキージの移動に伴って連続的に前記基板を前記マスクに対して相対移動させることで、前記ペーストが前記基板に印刷される位置を補正する印刷方法。
【請求項１２】
パターン孔を有するマスクとの間に隙間を設けつつ前記マスクに基板を対向させる工程と、
前記基板の反対側で前記マスクに当接するスキージをスキージ方向へ移動させることで、前記パターン孔を介して前記マスク上のペーストを前記基板に印刷する工程と
を備え、
前記スキージ方向において前記マスクを仮想的に分割した複数の領域が設定されており、
ペーストを前記基板に印刷する工程では、
前記領域の境界に到達すると一時停止した後に移動を再開する間欠移動を前記スキージに実行させ、
前記スキージが前記境界で一時停止している停止期間に前記基板を前記マスクに対して相対的に変位させることで、前記スキージが一時停止中の前記境界の前記スキージ方向の下流側の前記領域を介して前記ペーストが前記基板に印刷される位置を補正する印刷方法。
【請求項１３】
前記制御部は、前記スキージ方向の上流側において前記基板と前記マスクとの前記フィデューシャルマークが一致する一方、前記スキージ方向の下流側において前記基板と前記マスクとの前記フィデューシャルマークが前記スキージ方向にずれ量ΔＦだけずれた状態から前記スキージの移動を前記印刷部に開始させる請求項４に記載の印刷機。
【請求項１４】
前記制御部は、前記ずれ量ΔＦに基づき決定された速度で、前記基板を前記マスクに対して相対移動させる請求項１３に記載の印刷機。
【国際調査報告】
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