(57)【要約】  感光性樹脂組成物は、成分Ａとして、式１で表される構造を有する高分子化合物、及び、成分Ｂとして、赤外線吸収剤を含有する。平版印刷版原版は、支持体上に、成分Ａとして、式１で表される構造を有する高分子化合物、及び、成分Ｂとして、赤外線吸収剤を含有する記録層を有する。式１中、Ｒ１は（ｘ＋２）価の芳香族炭化水素環基を表し、ｘは１〜４の整数を表す。2017038423.tif 000051
2017038423.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
成分Ａとして、下記式１で表される構造を有する高分子化合物、及び、
成分Ｂとして、赤外線吸収剤を含有する
感光性樹脂組成物。
【化１】
2017038423.tif 000045
式１中、Ｒ１は（ｘ＋２）価の芳香族炭化水素環基を表し、ｘは１〜４の整数を表す。
【請求項２】
成分Ａが、下記式２で表される構造を有する高分子化合物である、請求項１に記載の感光性樹脂組成物。
【化２】
2017038423.tif 000046
式２中、Ｒ２はそれぞれ独立に、アルキル基又はアリール基を表し、ｘは１〜４の整数を表し、ｙは０〜３の整数を表す。
【請求項３】
成分Ａが、下記式３で表される構造を有する高分子化合物である、請求項１又は２に記載の感光性樹脂組成物。
【化３】
2017038423.tif 000047
式３中、Ｒ２はそれぞれ独立に、アルキル基又はアリール基を表し、ｙは０〜３の整数を表す。
【請求項４】
ポジ型感光性樹脂組成物である、請求項１〜３のいずれか１項に記載の感光性樹脂組成物。
【請求項５】
支持体上に、
成分Ａとして、下記式１で表される構造を有する高分子化合物、及び、成分Ｂとして、赤外線吸収剤を含有する記録層を有する
平版印刷版原版。
【化４】
2017038423.tif 000048
式１中、Ｒ１は（ｘ＋２）価の芳香族炭化水素環基を表し、ｘは１〜４の整数を表す。
【請求項６】
成分Ａが、下記式２で表される構造を有する高分子化合物である、請求項５に記載の平版印刷版原版。
【化５】
2017038423.tif 000049
式２中、Ｒ２はそれぞれ独立に、アルキル基又はアリール基を表し、ｘは１〜４の整数を表し、ｙは０〜３の整数を表す。
【請求項７】
成分Ａが、下記式３で表される構造を有する高分子化合物である、請求項５又は６に記載の平版印刷版原版。
【化６】
2017038423.tif 000050
式３中、Ｒ２はそれぞれ独立に、アルキル基又はアリール基を表し、ｙは０〜３の整数を表す。
【請求項８】
ポジ型平版印刷版原版である、請求項５〜７のいずれか１項に記載の平版印刷版原版。
【請求項９】
前記記録層が、下層及び上層の２層構造であり、前記下層及び前記上層の少なくとも１層に成分Ａ及び成分Ｂを含有する、請求項５〜８のいずれか１項に記載の平版印刷版原版。
【請求項１０】
前記支持体と前記記録層との間に、中間層を更に有する、請求項５〜９のいずれか１項に記載の平版印刷版原版。
【請求項１１】
請求項５〜１０のいずれか１項に記載の平版印刷版原版を像様露光する露光工程、及び、
露光した平版印刷版原版をｐＨ８．５〜１３．５のアルカリ水溶液を用いて現像する現像工程、をこの順で含む
平版印刷版の製版方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、感光性樹脂組成物、平版印刷版原版及び平版印刷版の製版方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、種々の感光性組成物が可視画像形成材料や平版印刷版材料として使用されている。特に、平版印刷分野における近年におけるレーザーの発展は目ざましく、特に近赤外から赤外に発光領域を持つ固体レーザーや半導体レーザーは、高出力、かつ、小型の物が容易に入手できるようになっている。平版印刷の分野においては、コンピュータ等のディジタルデータから直接製版する際の露光光源として、これらのレーザーは非常に有用である。
赤外線レーザー用ポジ型平版印刷版原版は、アルカリ可溶性のバインダー樹脂と、光を吸収し熱を発生するＩＲ染料（赤外線吸収染料）等とを必須成分とする。このＩＲ染料等が、未露光部（画像部）では、バインダー樹脂との相互作用によりバインダー樹脂の現像液に対する溶解性を実質的に低下させる現像抑制剤として働き、露光部（非画像部）では、発生した熱によりＩＲ染料等とバインダー樹脂との相互作用が弱まり、アルカリ現像液に溶解して平版印刷版を形成する。
赤外線レーザー用ポジ型平版印刷版原版は、アルカリ可溶性のバインダー樹脂と、光を吸収し熱を発生するＩＲ染料（赤外線吸収染料）等とを必須成分とする。このＩＲ染料等が、未露光部（画像部）では、バインダー樹脂との相互作用によりバインダー樹脂の現像液に対する溶解性を実質的に低下させる現像抑制剤として働き、露光部（非画像部）では、発生した熱によりＩＲ染料等とバインダー樹脂との相互作用が弱まり、アルカリ現像液に溶解して平版印刷版を形成する。【０００３】
従来の平版印刷版原版としては、特開２００５−９１４２９号公報、特開２００５−２５８０７０号公報、特開２００３−３１５９９５号公報、又は、特開２００６−２２５４３２号公報に記載の平版印刷版原版が知られている。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、このような感光性のポジ型樹脂組成物を適用した平版印刷版材料では、露光領域におけるアルカリ水溶液への溶解性がより良好な特性を示す樹脂組成物からなる記録層を用いると、未露光領域における画像形成層の強度が低下し、現像性と耐刷性の両立が困難となっている。
また、近年印刷市場においてコストダウンの要求が高まっており、安価な印刷資材の使用が広まりつつある。安価な印刷資材の中には、粗大な粒子を含む紙材やインキが存在し、これらを用いて印刷すると、粗大な粒子が画像部を損傷させ、それにより、著しく印刷枚数が低下する。
以上の問題を解決するために、ポリウレタン樹脂やポリアミド樹脂、フェノール樹脂を含むアルカリ溶解性に優れた記録層を設けた平版印刷版原版が開示されている（特開２００５−９１４２９号公報、特開２００５−２５８０７０号公報、特開２００３−３１５９９５号公報、又は、特開２００６−２２５４３２号公報参照）。この平版印刷版原版によれば、耐薬品性には優れるものの、露光部の現像性又は耐刷性のいずれかに改良の余地がある。【０００５】
本発明の一実施形態が解決しようとする課題は、耐刷性及び耐薬品性に優れた平版印刷版を得ることができ、かつアルカリ水溶液現像性に優れた感光性樹脂組成物、耐刷性及び耐薬品性に優れた平版印刷版を得ることができ、かつアルカリ水溶液現像性に優れた平版印刷版原版、並びに、上記平版印刷版原版を用いた平版印刷版の製版方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記課題は、以下の＜１＞、＜５＞又は＜１１＞に記載の手段により解決された。好ましい実施態様である＜２＞〜＜４＞及び＜６＞〜＜１０＞とともに以下に記載する。
＜１＞成分Ａとして、下記式１で表される構造を有する高分子化合物、及び、成分Ｂとして、赤外線吸収剤を含有する感光性樹脂組成物、【０００７】
【化１】
2017038423.tif 000003
【０００８】
式１中、Ｒ１は（ｘ＋２）価の芳香族炭化水素環基を表し、ｘは１〜４の整数を表す。【０００９】
＜２＞成分Ａが、下記式２で表される構造を有する高分子化合物である、＜１＞に記載の感光性樹脂組成物、【００１０】
【化２】
2017038423.tif 000004
【００１１】
式２中、Ｒ２はそれぞれ独立に、アルキル基又はアリール基を表し、ｘは１〜４の整数を表し、ｙは０〜３の整数を表す。【００１２】
＜３＞成分Ａが、下記式３で表される構造を有する高分子化合物である、＜１＞又は＜２＞に記載の感光性樹脂組成物、【００１３】
【化３】
2017038423.tif 000005
【００１４】
式３中、Ｒ２はそれぞれ独立に、アルキル基又はアリール基を表し、ｙは０〜３の整数を表す。【００１５】
＜４＞ポジ型感光性樹脂組成物である、＜１＞〜＜３＞のいずれか１つに記載の感光性樹脂組成物、
＜５＞支持体上に、成分Ａとして、下記式１で表される構造を有する高分子化合物、及び、成分Ｂとして、赤外線吸収剤を含有する記録層を有する平版印刷版原版、【００１６】
【化４】
2017038423.tif 000006
【００１７】
式１中、Ｒ１は（ｘ＋２）価の芳香族炭化水素環基を表し、ｘは１〜４の整数を表す。【００１８】
＜６＞成分Ａが、下記式２で表される構造を有する高分子化合物である、＜５＞に記載の平版印刷版原版、【００１９】
【化５】
2017038423.tif 000007
【００２０】
式２中、Ｒ２はそれぞれ独立に、アルキル基又はアリール基を表し、ｘは１〜４の整数を表し、ｙは０〜３の整数を表す。【００２１】
＜７＞成分Ａが、下記式３で表される構造を有する高分子化合物である、＜５＞又は＜６＞に記載の平版印刷版原版、【００２２】
【化６】
2017038423.tif 000008
【００２３】
式３中、Ｒ２はそれぞれ独立に、アルキル基又はアリール基を表し、ｙは０〜３の整数を表す。【００２４】
＜８＞ポジ型平版印刷版原版である、＜５＞〜＜７＞のいずれか１つに記載の平版印刷版原版、
＜９＞上記記録層が、下層及び上層の２層構造であり、上記下層及び上記上層の少なくとも１層に成分Ａ及び成分Ｂを含有する、＜５＞〜＜８＞のいずれか１つに記載の平版印刷版原版、
＜１０＞上記支持体と上記記録層との間に、中間層を更に有する、＜５＞〜＜９＞のいずれか１つに記載の平版印刷版原版、
＜１１＞＜５＞〜＜１０＞のいずれか１つに記載の平版印刷版原版を像様露光する露光工程、及び、露光した平版印刷版原版をｐＨ８．５〜１３．５のアルカリ水溶液を用いて現像する現像工程、をこの順で含む平版印刷版の製版方法。
【発明の効果】
【００２５】
本発明の一実施形態によれば、耐刷性及び耐薬品性に優れた平版印刷版を得ることができ、かつアルカリ水溶液現像性に優れた感光性樹脂組成物、耐刷性及び耐薬品性に優れた平版印刷版を得ることができ、かつアルカリ水溶液現像性に優れた平版印刷版原版、並びに、上記平版印刷版原版を用いた平版印刷版の製版方法を提供することができる。
【発明を実施するための形態】
【００２６】
以下において、本開示の内容について詳細に説明する。以下に記載する構成要件の説明は、本開示の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本開示はそのような実施態様に限定されるものではない。なお、本願明細書において「〜」とはその前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味で使用される。
本明細書における基（原子団）の表記において、置換及び無置換を記していない表記は、置換基を有さないものと共に置換基を有するものをも包含するものである。例えば、「アルキル基」とは、置換基を有さないアルキル基（無置換アルキル基）のみならず、置換基を有するアルキル基（置換アルキル基）をも包含するものである。
また、本明細書における化学構造式は、水素原子を省略した簡略構造式で記載する場合もある。
なお、本明細書中において、“（メタ）アクリレート”はアクリレート及びメタクリレートを表し、“（メタ）アクリル”はアクリル及びメタクリルを表し、“（メタ）アクリロイル”はアクリロイル及びメタクリロイルを表す。
また、本開示において、「質量％」と「重量％」とは同義であり、「質量部」と「重量部」とは同義である。
また、本開示において、２以上の好ましい態様の組み合わせは、より好ましい態様である。
【００２７】
（感光性樹脂組成物）
本開示の感光性樹脂組成物は、成分Ａとして、下記式１で表される構造を有する高分子化合物、及び、成分Ｂとして、赤外線吸収剤を含有する。
また、本開示の感光性樹脂組成物は、ポジ型感光性樹脂組成物であることが好ましい。
【００２８】
【化７】
2017038423.tif 000009
【００２９】
式１中、Ｒ１は（ｘ＋２）価の芳香族炭化水素環基を表し、ｘは１〜４の整数を表す。
【００３０】
本発明者らが鋭意検討した結果、感光性樹脂組成物又は後述する平版印刷版原版の感光層に、式１で表される構造を有する高分子化合物と赤外線吸収剤とを含有することにより、耐刷性及び耐薬品性に優れた平版印刷版を得ることができ、かつアルカリ水溶液現像性に優れた感光性樹脂組成物又は平版印刷版原版を提供することができることを見出した。
これによる優れた効果の作用機構は明確ではないが、以下のように推定している。
本発明者らの検討により、印刷における耐刷性には樹脂の膜強度が重要であり、膜強度は高分子化合物間の相互作用の影響が大きいことが分かってきた。特に、低品質な印刷資材においてはこの効果が顕著であり、一般的なアクリル樹脂やポリウレタン樹脂では十分な膜強度を付与することは難しい。これは印刷資材（紙、インキ等）に含まれる無機塩粒子（炭酸カルシウムやカオリン等）が印刷中に溶出し、これが印刷版の画像部に研磨的に作用することで、磨耗が促進してしまうためであると考えられる。これに対し、本開示における高分子化合物は、例えば、高分子化合物間の相互作用の大きいアミド構造を有するため、高分子化合物間の相互作用が大きく、印刷に用いられる薬品（クリーナーや有機化合物）に対し、耐性が極めて高く、かつ画像部強度に優れ、高耐刷となると考えている。また、フェノール性水酸基を有することにより、高分子化合物のアルカリ溶解性が高くなることに加え、現像液の浸透速度が速く、露光部のアルカリ水溶液現像性が優れると推測する。また、相互作用が非常に高く、凝集性が高いアミド結合を複数有するため、耐刷性に優れる。これは、樹脂の膜強度が向上し、印刷版の画像部の磨耗が抑制される効果によるものと推定している。
上記の結果、画像部の強度（耐刷性）と耐薬品性との両立が可能となったものと考えている。
以下、まずは本開示の感光性樹脂組成物の必須成分である、式１で表される構造を有する高分子化合物及び赤外線吸収剤について説明する。
【００３１】
＜式１で表される構造を有する高分子化合物＞
本開示の感光性樹脂組成物は、成分Ａとして、下記式１で表される構造を有する高分子化合物（以下、「特定高分子化合物」ともいう。）を含有する。
【００３２】
【化８】
2017038423.tif 000010
【００３３】
式１中、Ｒ１は（ｘ＋２）価の芳香族炭化水素環基を表し、ｘは１〜４の整数を表す。
【００３４】
式１におけるｘ個のヒドロキシ基は、芳香族炭化水素環に直接結合した基、すなわち、フェノール性ヒドロキシ基であることが好ましい。
式１におけるｘは、１又は２であることが好ましく、１であることがより好ましい。上記態様であると、耐刷性及び耐薬品性により優れた平版印刷版を得ることができ、また、アルカリ水溶液現像性により優れる。
式１のＲ１における（ｘ＋２）価の芳香族炭化水素環基は、芳香族炭化水素環から（ｘ＋２）個の水素原子を除いた基であることが好ましい。
上記芳香族炭化水素環としては、特に制限はないが、ベンゼン環又はナフタレン環であることが好ましく、ベンゼン環であることがより好ましい。
また、上記芳香族炭化水素環は、芳香環上に置換基を有していてもよい。
置換基としては、アルキル基、アリール基、ハロゲン原子、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アシル基等が挙げられる。また、上記置換基は、更に置換基により置換されていてもよいし、また、２以上の置換基が結合して環を形成していてもよい。また、置換基の炭素数は、０〜２０であることが好ましく、０〜１２であることがより好ましく、０〜８であることが更に好ましい。
成分Ａは、式１で表される構造を１種のみ有していても、２種以上有していてもよい。
また、成分Ａは、下記式２で表される構造を有する高分子化合物であることが好ましい。上記態様であると、耐刷性及び耐薬品性により優れた平版印刷版を得ることができ、また、アルカリ水溶液現像性により優れる。
【００３５】
【化９】
2017038423.tif 000011
【００３６】
式２中、Ｒ２はそれぞれ独立に、アルキル基又はアリール基を表し、ｘは１〜４の整数を表し、ｙは０〜３の整数を表す。
【００３７】
式２におけるｘは、１又は２であることが好ましく、１であることがより好ましい。上記態様であると、耐刷性及び耐薬品性により優れた平版印刷版を得ることができ、また、アルカリ水溶液現像性により優れる。
式２におけるｙは、０又は１であることが好ましく、０であることがより好ましい。
式２におけるＲ２は、炭素数１〜８のアルキル基又は炭素数６〜１２のアリール基であることが好ましい。
また、式２のベンゼン環上における式２以外の他の構造との結合位置は、特に制限はなく、アミド基のｏ位であっても、ｍ位であっても、ｐ位であってもよいが、ｍ位又はｐ位であることが好ましく、ｐ位であることがより好ましい。
また、成分Ａは、下記式３で表される構造を有する高分子化合物であることがより好ましい。上記態様であると、式３におけるアミド基とヒドロキシ基とが脱水縮合して環化しベンゾオキサゾール環を形成することが可能であり、現像後のポストベーク等の熱等により環化してベンゾオキサゾール環を形成するため、耐刷性、特に熱処理（バーニング）後の耐刷性及び耐薬品性により優れた平版印刷版を得ることができる。
【００３８】
【化１０】
2017038423.tif 000012
【００３９】
式３中、Ｒ２はそれぞれ独立に、アルキル基又はアリール基を表し、ｙは０〜３の整数を表す。
【００４０】
式３におけるｙは、０又は１であることが好ましく、０であることがより好ましい。
式３におけるＲ２は、炭素数１〜８のアルキル基又は炭素数６〜１２のアリール基であることが好ましい。
また、式３のベンゼン環上における式３以外の他の構造との結合位置は、特に制限はないが、アミド基のｐ位又はヒドロキシ基のｐ位であることが好ましい。
【００４１】
また、成分Ａは、ポリアミド樹脂であることが好ましく、直鎖ポリアミド樹脂であることがより好ましく、２官能アミノ化合物と２官能カルボキシ化合物又はその等価体とを重縮合した樹脂であることが更に好ましい。
上記カルボキシ化合物の等価体としては、カルボン酸ハライド化合物、及び、カルボン酸エステル化合物が好ましく挙げられる。
中でも、反応活性や反応速度の観点から、成分Ａとしては、２官能アミノ化合物と２官能カルボン酸ハライド化合物とを重縮合した樹脂であることが特に好ましい。
【００４２】
本開示において、「主鎖」とは樹脂を構成する高分子化合物の分子中で相対的に最も長い結合鎖を表し、「側鎖」とは主鎖から枝分かれしている炭素鎖を表す。
また、成分Ａは、アルキレンオキシ基を主鎖に有する樹脂であることが好ましい。上記態様によれば、得られる平版印刷版の画像形成性及び耐刷性に優れた感光性樹脂組成物を得ることができる。
上記アルキレンオキシ基としては、炭素数２〜１０のアルキレンオキシ基が好ましく、炭素数２〜８のアルキレンオキシ基がより好ましく、炭素数２〜４のアルキレンオキシ基が更に好ましく、エチレンオキシ基、プロピレンオキシ基、又はイソプロピレンオキシ基が特に好ましい。
また、上記アルキレンオキシ基は、ポリアルキレンオキシ基であってもよい。
ポリアルキレンオキシ基としては、繰り返し数２〜５０のポリアルキレンオキシ基が好ましく、繰り返し数２〜４０のポリアルキレンオキシ基がより好ましく、繰り返し数２〜３０のポリアルキレンオキシ基が更に好ましい。
ポリアルキレンオキシ基の構成繰り返し単位の好ましい炭素数は、上記アルキレンオキシ基の好ましい炭素数と同様である。
【００４３】
また、成分Ａは、フェノール性ヒドロキシ基が結合している構造として、ベンゼン構造、ジフェニルメタン構造、ジフェニルスルホン構造、ベンゾフェノン構造、ビフェニル構造、ナフタレン構造、アントラセン構造又はターフェニル構造を有していることが好ましく、ジフェニルメタン構造、ジフェニルスルホン構造、ベンゾフェノン構造又はビフェニル構造を有していることがより好ましく、ジフェニルメタン構造又はビフェニル構造を有していることが更に好ましい。
【００４４】
また、成分Ａは、式４で表される構成繰り返し単位を有する樹脂であることが好ましく、式４で表される構成繰り返し単位を有するポリアミド樹脂であることがより好ましく、式４で表される構成繰り返し単位を９０質量％以上有するポリアミド樹脂であることが更に好ましく、式４で表される構成繰り返し単位からなるポリアミド樹脂であることが特に好ましい。なお、成分Ａ、特に式４で表される構成繰り返し単位からなるポリアミド樹脂である場合、末端構造は、重縮合反応停止時のクエンチ剤等にもよるが、水素原子、ヒドロキシ基、及び、アルコキシ基よりなる群から選ばれた基が挙げられる。
また、成分Ａは、式４で表される構成繰り返し単位を１種のみ有していても、２種以上有していてもよい。
【００４５】
【化１１】
2017038423.tif 000013
【００４６】
式４中、ＲＡ１は二価の連結基を表し、ＲＡ２は（ｘＡ＋２）価の芳香族炭化水素環基を表し、ＲＡ３は二価の連結基を表し、ｘＡは１〜４の整数を表し、ｎＡは０又は１を表す。
【００４７】
なお、式４におけるＲＡ２、並びに、ＲＡ２に結合するｘＡ個のヒドロキシ基及びアミド結合が式１で表される構造に該当する。
式４におけるＲＡ２及びｘＡは、式１におけるＲ１及びｘとそれぞれ同義であり、好ましい態様もそれぞれ同様である。
式４におけるＲＡ１は、アルキレン基、シクロアルキレン基、アリーレン基、又は、これらの基を２以上結合した基であることが好ましく、アルキレン基、シクロアルキレン基、アリーレン基、又は、ビフェニレン基であることがより好ましく、アルキレン基、又は、フェニレン基であることが更に好ましく、ｍ−フェニレン基、又は、ｐ−フェニレン基であることが特に好ましい。
上記アルキレン基、シクロアルキレン基、アリーレン基、及び、これらの基を２以上結合した基は、置換基を有していてもよいが、有しないことが好ましい。
置換基としては、アルキル基、アリール基、ハロゲン原子、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アシル基等が挙げられる。また、上記置換基は、更に置換基により置換されていてもよいし、また、２以上の置換基が結合して環を形成していてもよい。また、置換基の炭素数は、０〜２０であることが好ましく、０〜１２であることがより好ましく、０〜８であることが更に好ましい。
ＲＡ１の炭素数は、１〜３０であることが好ましく、３〜２０であることがより好ましい。
【００４８】
式４におけるｎＡは、１であることが好ましい。
式４におけるＲＡ３は、アルキレン基、シクロアルキレン基、芳香族炭化水素環基、又は、アルキレン基、シクロアルキレン基、芳香族炭化水素環基、カルボニル基、スルホニル基及びフルオレニル基よりなる群から選ばれた基と芳香族炭化水素環基とを結合した基であることが好ましく、芳香族炭化水素環基、又は、メチレン基、２，２−プロパンジイル基、ビストリフルオロメチルメチレン基、スルホニル基及びフルオレニル基よりなる群から選ばれた基と芳香族炭化水素環基とを結合した基であることがより好ましい。
上記アルキレン基、シクロアルキレン基、芳香族炭化水素環基、並びに、アルキレン基、シクロアルキレン基、芳香族炭化水素環基、カルボニル基、スルホニル基及びフルオレニル基よりなる群から選ばれた基と芳香族炭化水素環基とを結合した基は、置換基を有していてもよいが、有しないことが好ましい。
置換基としては、アルキル基、アリール基、ハロゲン原子、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アシル基等が挙げられる。また、上記置換基は、更に置換基により置換されていてもよいし、また、２以上の置換基が結合して環を形成していてもよい。また、置換基の炭素数は、０〜２０であることが好ましく、０〜１２であることがより好ましく、０〜８であることが更に好ましい。
また、ＲＡ３における芳香族炭化水素環基は、ヒドロキシ基を有する芳香族炭化水素環基であることが好ましく、１〜４個のヒドロキシ基を有する芳香族炭化水素環基であることがより好ましく、１個のヒドロキシ基を有する芳香族炭化水素環基であることが特に好ましい。
【００４９】
また、上記式４で表される構成繰り返し単位は、下記式４−１〜式４−６のいずれか１つで表される構成繰り返し単位であることが好ましい。
【００５０】
【化１２】
2017038423.tif 000014
【００５１】
式４−１〜式４−６中、Ｙ１〜Ｙ６はそれぞれ独立に、二価の連結基を表し、Ｘ１及びＸ２はそれぞれ独立に、単結合、アルキレン基又はカルボニル基を表し、ＲＡ４〜ＲＡ７はそれぞれ独立に、水素原子又はアルキル基を表す。
【００５２】
式４−１〜式４−６におけるＹ１〜Ｙ６は、式４におけるＲＡ１と同義であり、好ましい態様も同様である。
式４−１〜式４−６におけるＸ１及びＸ２はそれぞれ独立に、単結合、メチレン基又はカルボニル基であることが好ましく、単結合であることがより好ましい。
ＲＡ４〜ＲＡ７におけるアルキル基は、置換基を有していてもよい。
置換基としては、ハロゲン原子、アルキル基、及び、アリール基が挙げられ、ハロゲン原子が好ましく挙げられ、フッ素原子がより好ましく挙げられる。
式４−１〜式４−６におけるＲＡ４〜ＲＡ７はそれぞれ独立に、水素原子、メチル基又はトリフルオロメチル基であることが好ましく、メチル基又はトリフルオロメチル基であることがより好ましい。
また、ＲＡ４及びＲＡ５は同じ基であることが好ましく、ＲＡ６及びＲＡ７は同じ基であることが好ましい。
【００５３】
成分Ａにおける式４−１〜式４−６のいずれかで表される構成繰り返し単位の含有量は、１０〜１００質量％であることが好ましく、１０〜１００質量％であることがより好ましく、３０〜１００質量％であることが更に好ましく、５０〜１００質量％であることが特に好ましい。
【００５４】
成分Ａの重量平均分子量Ｍｗは、１０，０００〜５００，０００であることが好ましく、１０，０００〜２００，０００であることがより好ましく、２０，０００〜１００，０００であることが更に好ましい。
本開示における重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）を用いた標準ポリスチレン換算法により算出することができる。ＧＰＣカラムとしては、ポリスチレン架橋ゲルを充填したもの（ＴＳＫｇｅｌ  ＳｕｐｅｒＡＷＭ−Ｈ；東ソー（株）製）を、ＧＰＣ溶媒としてはＮ−メチルピロリドン（リン酸、臭化リチウム各０．０１ｍｏｌ／Ｌ）を使用することが可能である。
以下、成分Ａについて、具体例を挙げて説明する。
【００５５】
成分Ａは、オルト位にフェノール性水酸基を有するジアニリン化合物と、カルボン酸ハライド基を２つ以上含む化合物又はカルボキシ基を２つ以上含む化合物とを逐次重合反応により生成されるポリマーであることが好ましい。
成分Ａの好ましい具体例を表１に示す。具体例ＰＡ−１〜ＰＡ−３５は、表１に記載された、オルト位にフェノール性水酸基を有するジアニリン化合物と、カルボン酸ハライド基を２つ以上含む化合物又はカルボキシ基を２つ以上含む化合物と、任意に、その他のジアミン化合物とを表１に記載された割合（モル比）で反応してできた高分子化合物を意味する。
また、表１中には、ＰＡ−１〜ＰＡ−３５の重量平均分子量（Ｍｗ）を示すが、本開示に用いられる成分Ａはこれらに限定されない。なお、ポリマーの重量平均分子量は、ＧＰＣ法により測定した値である
【００５６】
【表１】
2017038423.tif 000015
【００５７】
表１に記載した化合物を含む、本開示に用いられる成分Ａの合成に使用される好ましい化合物の具体的な構造は、下記の通りである。
【００５８】
【化１３】
2017038423.tif 000016
【００５９】
【化１４】
2017038423.tif 000017
【００６０】
【化１５】
2017038423.tif 000018
【００６１】
【化１６】
2017038423.tif 000019
【００６２】
【化１７】
2017038423.tif 000020
【００６３】
【化１８】
2017038423.tif 000021
【００６４】
【化１９】
2017038423.tif 000022
【００６５】
上記の中でも、成分Ａとしては、ＰＡ−１、ＰＡ−２、ＰＡ−３、ＰＡ−７、ＰＡ−９、ＰＡ−１１、ＰＡ−１３又はＰＡ−１７が好ましい。
【００６６】
本開示の感光性樹脂組成物の全固形分質量に対して、成分Ａの含有量は１０〜９０質量％であることが好ましく、２０〜８０質量％であることがより好ましく、３０〜８０質量％であることが更に好ましい。特定高分子化合物の含有量が上記範囲であれば、塗布性に優れた感光性樹脂組成物を得ることができる。
なお、固形分とは、溶剤等の揮発性成分を除いた成分の量である。
【００６７】
＜赤外線吸収剤＞
本開示の感光性樹脂組成物は、成分Ｂとして、赤外線吸収剤を含有する。
赤外線吸収剤としては、赤外光を吸収し熱を発生する染料であれば特に制限はなく、赤外線吸収剤として知られる種々の染料を用いることができる。
本開示に用いることができる赤外線吸収剤としては、市販の染料及び文献（例えば「染料便覧」有機合成化学協会編集、昭和４５年刊）に記載されている公知のものが利用できる。具体的には、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染料、アントラキノン染料、フタロシアニン染料、カルボニウム染料、キノンイミン染料、メチン染料、シアニン染料などの染料が挙げられる。本開示において、これらの染料のうち、赤外光又は近赤外光を少なくとも吸収するものが、赤外光又は近赤外光を発光するレーザーでの利用に適する点で好ましく、シアニン染料が特に好ましい。
【００６８】
そのような赤外光又は近赤外光を少なくとも吸収する染料としては、例えば、特開昭５８−１２５２４６号、特開昭５９−８４３５６号、特開昭５９−２０２８２９号、特開昭６０−７８７８７号等の各公報に記載されているシアニン染料、特開昭５８−１７３６９６号、特開昭５８−１８１６９０号、特開昭５８−１９４５９５号等の各公報に記載されているメチン染料、特開昭５８−１１２７９３号、特開昭５８−２２４７９３号、特開昭５９−４８１８７号、特開昭５９−７３９９６号、特開昭６０−５２９４０号、特開昭６０−６３７４４号等の各公報に記載されているナフトキノン染料、特開昭５８−１１２７９２号公報等に記載されているスクワリリウム色素、英国特許４３４，８７５号明細書記載のシアニン染料等を挙げることができる。
また、染料として米国特許第５，１５６，９３８号明細書記載の近赤外吸収増感剤も好適に用いられ、また、米国特許第３，８８１，９２４号明細書記載の置換されたアリールベンゾ（チオ）ピリリウム塩、特開昭５７−１４２６４５号公報（米国特許第４，３２７，１６９号明細書）記載のトリメチンチアピリリウム塩、特開昭５８−１８１０５１号、同５８−２２０１４３号、同５９−４１３６３号、同５９−８４２４８号、同５９−８４２４９号、同５９−１４６０６３号、同５９−１４６０６１号の各公報に記載されているピリリウム系化合物、特開昭５９−２１６１４６号公報記載のシアニン色素、米国特許第４，２８３，４７５号明細書に記載のペンタメチンチオピリリウム塩等や特公平５−１３５１４号、同５−１９７０２号公報に開示されているピリリウム化合物等が、市販品としては、エポリン社製のＥｐｏｌｉｇｈｔ  ＩＩＩ−１７８、Ｅｐｏｌｉｇｈｔ  ＩＩＩ−１３０、Ｅｐｏｌｉｇｈｔ  ＩＩＩ−１２５等が特に好ましく用いられる。
また、染料として特に好ましい別の例として米国特許第４，７５６，９９３号明細書中に式（Ｉ）、（ＩＩ）として記載されている近赤外吸収染料を挙げることができる。
【００６９】
これらの染料のうち特に好ましいものとしては、シアニン色素、フタロシアニン染料、オキソノール染料、スクアリリウム色素、ピリリウム塩、チオピリリウム染料、ニッケルチオレート錯体が挙げられる。更に、下記式（ａ）で表されるシアニン色素は、本開示における上層に使用した場合に、露光による溶解抑制作用の解除が良好であり、且つ、安定性、経済性に優れるため最も好ましい。
【００７０】
【化２０】
2017038423.tif 000023
【００７１】
式（ａ）中、Ｘ1は、水素原子、ハロゲン原子、ジアリールアミノ基、Ｘ2−Ｌ1又は以下に示す基を表す。Ｘ2は、酸素原子又は硫黄原子を表す。Ｌ1は、炭素数１〜１２の炭化水素基、ヘテロ原子を有する芳香族環基、又は、ヘテロ原子を含む炭素数１〜１２の炭化水素基を示す。なお、ここでヘテロ原子とは、Ｎ、Ｓ、Ｏ、ハロゲン原子、Ｓｅを表す。
【００７２】
【化２１】
2017038423.tif 000024
【００７３】
上記式中、Ｘａ−は後述するＺａ−と同様に定義され、Ｒaは、水素原子、アルキル基、アリール基、置換又は無置換のアミノ基、及び、ハロゲン原子よりなる群から選択される置換基を表す。
【００７４】
Ｒ11及びＲ12はそれぞれ独立に、炭素数１〜１２の炭化水素基を表す。感光性樹脂組成物の保存安定性から、Ｒ21及びＲ22は、炭素数２個以上の炭化水素基であることが好ましく、更に、Ｒ21とＲ22とは互いに結合し、５員環又は６員環を形成していることが特に好ましい。
【００７５】
Ａｒ1及びＡｒ2は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基を表す。好ましい芳香族炭化水素基としては、ベンゼン環及びナフタレン環が挙げられる。また、好ましい置換基としては、炭素数１〜１２の炭化水素基、ハロゲン原子、炭素数１〜１２のアルコキシ基が挙げられる。
Ｙ11及びＹ12は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、硫黄原子又は炭素数３〜１２のジアルキルメチレン基を表す。Ｒ23及びＲ24は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０の炭化水素基を表す。好ましい置換基としては、炭素数１〜１２のアルコキシ基、カルボキシル基、スルホ基が挙げられる。
Ｒ25、Ｒ26、Ｒ27及びＲ28は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、水素原子又は炭素数１〜１２の炭化水素基を表し、原料の入手性から、好ましくは水素原子である。また、Ｚａ−は、対アニオンを表す。ただし、式（ａ）で表されるシアニン色素がその構造内にアニオン性の置換基を有し、電荷の中和が必要ない場合は、Ｚａ−は必要ない。好ましいＺａ−は、感光性樹脂組成物の保存安定性から、ハロゲン化物イオン、過塩素酸イオン、テトラフルオロボレートイオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン及びスルホン酸イオンであり、特に好ましくは、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン及びアレーンスルホン酸イオンである。
【００７６】
好適に用いることのできる式（ａ）で表されるシアニン色素の具体例としては、特開２００１−１３３９６９号公報の段落００１７〜００１９、特開２００２−４０６３８号公報の段落００１２〜００３８、特開２００２−２３３６０号公報の段落００１２〜００２３に記載されたものを挙げることができる。
上層が含有する赤外線吸収剤として特に好ましくは、以下に示すシアニン染料Ａである。
【００７７】
【化２２】
2017038423.tif 000025
【００７８】
本開示の感光性樹脂組成物に赤外線吸収剤を添加する際の添加量としては、感光性樹脂組成物の全固形分に対し、０．０１〜５０質量％であることが好ましく、０．１〜３０質量％であることがより好ましく、１．０〜３０質量％であることが特に好ましい。添加量が０．０１質量％以上であると、高感度となり、また、５０質量％以下であると、層の均一性が良好であり、層の耐久性に優れる。
【００７９】
＜他のアルカリ可溶性樹脂＞
本開示の感光性樹脂組成物は、成分Ａ以外のアルカリ可溶性樹脂（他のアルカリ可溶性樹脂）を含有していてもよい。
本開示において、「アルカリ可溶性」とは、３０℃、ｐＨ１３．０の水酸化ナトリウム水溶液５ｇ中で樹脂０．０１ｇが２００秒以内で溶解することを意味する。
本開示の感光性樹脂組成物に用いられる、成分Ａ以外のアルカリ可溶性樹脂としては、アルカリ性現像液に接触すると溶解する特性を有するものであれば特に制限はないが、高分子中の主鎖及び側鎖のいずれか又はその両方に、フェノール性ヒドロキシ基、スルホン酸基、リン酸基、スルホンアミド基、活性イミド基等の酸性の官能基を有するものが好ましく、このような、アルカリ可溶性を付与する酸性の官能基を有するモノマーを１０モル％以上含む樹脂が挙げられ、２０モル％以上含む樹脂がより好ましい。アルカリ可溶性を付与するモノマーの共重合成分が１０モル％以上であれば、アルカリ可溶性が十分得られ、また、現像性に優れる。
【００８０】
また、他のアルカリ可溶性樹脂としては、ノボラック樹脂も好ましく挙げられる。
本開示に用いることができるノボラック樹脂としては、フェノールホルムアルデヒド樹脂、ｍ−クレゾールホルムアルデヒド樹脂、ｐ−クレゾールホルムアルデヒド樹脂、ｍ−／ｐ−混合クレゾールホルムアルデヒド樹脂、フェノール／クレゾール（ｍ−，ｐ−，又はｍ−／ｐ−混合のいずれでもよい。）混合ホルムアルデヒド樹脂等のノボラック樹脂やピロガロールアセトン樹脂が好ましく挙げられる。
また更に、米国特許第４，１２３，２７９号明細書に記載されているように、ｔ−ブチルフェノールホルムアルデヒド樹脂、オクチルフェノールホルムアルデヒド樹脂のような、炭素数３−８のアルキル基を置換基として有するフェノールとホルムアルデヒドとの縮重合体が挙げられる。また、その重量平均分子量（Ｍｗ）が５００以上であることが好ましく、１，０００〜７００，０００であることがより好ましい。また、その数平均分子量（Ｍｎ）が５００以上であることが好ましく、７５０〜６５０，０００であることがより好ましい。分散度（重量平均分子量／数平均分子量）は、１．１〜１０であることが好ましい。
【００８１】
上記他のアルカリ可溶性樹脂は、重量平均分子量が２，０００以上、かつ数平均分子量が５００以上のものが好ましく、重量平均分子量が５，０００〜３００，０００で、かつ数平均分子量が８００〜２５０，０００であることがより好ましい。また、上記他のアルカリ可溶性樹脂の分散度（重量平均分子量／数平均分子量）は、１．１〜１０であることが好ましい。
本開示の感光性樹脂組成物に所望により含まれる他のアルカリ可溶性樹脂は、１種単独で使用しても、２種以上を併用してもよい。
本開示における感光性樹脂組成物の全固形分中に対する他のアルカリ可溶性樹脂の含有量は、０〜９８質量％であることが好ましく、０〜８０質量％であることがより好ましい。また、他のアルカリ可溶性樹脂は、本開示に用いられる成分Ａ１００質量部に対し、８０質量部以下の割合で含むことが好ましい。
【００８２】
＜酸発生剤＞
本開示の感光性樹脂組成物には、感度向上の観点から、酸発生剤を含有することが好ましい。
本開示において酸発生剤とは、光又は熱により酸を発生する化合物であり、赤外線の照射や、１００℃以上の加熱によって分解し酸を発生する化合物を指す。発生する酸としては、スルホン酸、塩酸等のｐＫａが２以下の強酸であることが好ましい。この酸発生剤から発生した酸によって、露光部画像記録層への現像液の浸透性が高くなり、記録層のアルカリ水溶液に対する溶解性がより向上するものである。
【００８３】
本開示において好適に用いられる酸発生剤としては、ヨードニウム塩、スルホニウム塩、ホスホニウム塩、ジアゾニウム塩等のオニウム塩が挙げられる。具体的には、米国特許第４，７０８，９２５号明細書や特開平７−２０６２９号公報に記載されている化合物を挙げることができる。特に、スルホン酸イオンを対イオンとするヨードニウム塩、スルホニウム塩、ジアゾニウム塩が好ましい。ジアゾニウム塩としては、米国特許第３，８６７，１４７号明細書記載のジアゾニウム化合物、米国特許第２，６３２，７０３号明細書記載のジアゾニウム化合物や特開平１−１０２４５６号公報及び特開平１−１０２４５７号公報に記載されているジアゾ樹脂も好ましい。また、米国特許第５，１３５，８３８号明細書や米国特許第５，２００，５４４号明細書に記載されているベンジルスルホナート類も好ましい。更に、特開平２−１０００５４号公報、特開平２−１０００５５号公報及び特願平８−９４４４号公報に記載されている活性スルホン酸エステルやジスルホニル化合物類も好ましい。他にも、特開平７−２７１０２９号公報に記載されている、ハロアルキル置換されたＳ−トリアジン類も好ましい。
更に、上記特開平８−２２０７５２号公報において、「酸前駆体」として記載されている化合物、あるいは、特開平９−１７１２５４号公報において「（ａ）活性光線の照射により酸を発生しうる化合物」として記載されている化合物なども本開示における酸発生剤として適用しうる。
【００８４】
中でも、感度と安定性の観点から、酸発生剤としてオニウム塩化合物を用いることが好ましい。以下、オニウム塩化合物について説明する。
本開示において好適に用い得るオニウム塩化合物としては、赤外線露光、及び、露光により赤外線吸収剤から発生する熱エネルギーにより分解して酸を発生する化合物として知られる化合物を挙げることができる。本開示に好適なオニウム塩化合物としては、感度の観点から、公知の熱重合開始剤や結合解離エネルギーの小さな結合を有する、以下に述べるオニウム塩構造を有するものを挙げることができる。
本開示において好適に用いられるオニウム塩としては、公知のジアゾニウム塩、ヨードニウム塩、スルホニウム塩、アンモニウム塩、ピリジニウム塩、アジニウム塩等が挙げられ、中でも、トリアリールスルホニウム、又は、ジアリールヨードニウムのスルホン酸塩、カルボン酸塩、ＢＦ4−、ＰＦ6−、ＣｌＯ4−などが好ましい。
本開示において酸発生剤として用いうるオニウム塩としては、下記式（III）〜式（V）で表されるオニウム塩が挙げられる。
【００８５】
【化２３】
2017038423.tif 000026
【００８６】
上記式（III）中、Ａｒ11及びＡｒ12はそれぞれ独立に、置換基を有していてもよい炭素数６〜２０のアリール基を表す。このアリール基が置換基を有する場合の好ましい置換基としては、ハロゲン原子、ニトロ基、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数１〜１２のアルコキシ基又は炭素数６〜１２のアリールオキシ基が挙げられる。Ｚ11−はハロゲン化物イオン、過塩素酸イオン、テトラフルオロボレートイオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、スルホン酸イオン、及び、ペルフルオロアルキルスルホン酸イオン等フッ素原子を有するスルホン酸イオンよりなる群から選択される対イオンを表し、好ましくは、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、アリールスルホン酸イオン及びペルフルオロアルキルスルホン酸よりなる群から選択される対イオンである。
上記式（IV）中、Ａｒ21は、置換基を有していてもよい炭素数６〜２０のアリール基を表す。好ましい置換基としては、ハロゲン原子、ニトロ基、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数６〜１２のアリールオキシ基、炭素数１〜１２のアルキルアミノ基、炭素数２〜１２のジアルキルアミノ基、炭素数６〜１２のアリールアミノ基又は炭素数１２〜２４のジアリールアミノ基が挙げられる。Ｚ21−はＺ11−と同義の対イオンを表す。
上記式（V）中、Ｒ31、Ｒ32及びＲ33は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０の炭化水素基を表す。好ましい置換基としては、ハロゲン原子、ニトロ基、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数１〜１２のアルコキシ基又は炭素数６〜１２のアリールオキシ基が挙げられる。Ｚ31−はＺ11−と同義の対イオンを表す。
【００８７】
本開示において、好適に用いることができる式（III）で表されるオニウム塩の具体例（ＯＩ−１〜ＯＩ−１０）、式（IV）で表されるオニウム塩の具体例（ＯＮ−１〜ＯＮ−５）、及び、式（V）で表されるオニウム塩の具体例（ＯＳ−１〜ＯＳ−６）を以下に挙げる。
【００８８】
【化２４】
2017038423.tif 000027
【００８９】
【化２５】
2017038423.tif 000028
【００９０】
【化２６】
2017038423.tif 000029
【００９１】
【化２７】
2017038423.tif 000030
【００９２】
また、上記式（III）〜式（V）で表される化合物の別の例としては、特開２００８−１９５０１８号公報の段落００３６〜００４５において、ラジカル重合開始剤の例として記載の化合物を、本開示における酸発生剤として好適に用いることができる。
【００９３】
本開示に用いられる酸発生剤として好ましいオニウム塩の別の例として、下記式（VI）で表されるアジニウム塩化合物が挙げられる。
【００９４】
【化２８】
2017038423.tif 000031
【００９５】
式（VI）中、Ｒ41、Ｒ42、Ｒ43、Ｒ44、Ｒ45、及びＲ46は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子又は一価の置換基を表す。
一価の置換基としては、例えば、ハロゲン原子、アミノ基、置換アミノ基、置換カルボニル墓、水酸基、置換オキシ基、チオール基、チオエーテル基、シリル基、ニトロ基、シアノ基、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環基、スルホ基、置換スルホニル基、スルホナト基、置換スルフィニル基、ホスホノ基、置換ホスホノ基、ホスホナト基、及び、置換ホスホナト基等が挙げられ、導入可能な場合には更に置換基を有していてもよい。
【００９６】
式（VI）で表される化合物としては、式（VI）で表される化合物における特定構造の骨格（カチオン部）が、Ｒ41を介して結合し、カチオン部が分子中に２個以上含まれる化合物（多量体型）も包含され、このような化合物も好適に用いられる。
Ｚ41−はＺ11−と同義の対イオンを表す。
上記式（VI）で表されるアジニウム塩化合物の具体例としては、特開２００８−１９５０１８号公報の段落００４７〜００５６に記載の化合物を挙げることができる。
また、特開昭６３−１３８３４５号公報、特開昭６３−１４２３４５号公報、特開昭６３−１４２３４６号公報、特開昭６３−１４３５３７号公報並びに特公昭４６−４２３６３号公報の各公報に記載のＮ−Ｏ結合を有する化合物群もまた、本開示における酸発生剤として好適に用いられる。
本開示に用いうる酸発生剤のより好ましい例として、下記化合物ＰＡＧ−１〜ＰＡＧ−５が挙げられる。なお、Ｍｅはメチル基を表す。
【００９７】
【化２９】
2017038423.tif 000032
【００９８】
これらの酸発生剤を本開示の感光性樹脂組成物中に含有させる場合、これらの化合物は１種単独で使用してもよく、また、２種以上を組み合わせて使用してもよい。
酸発生剤の添加量は、感光性樹脂組成物の全固形分に対し、０．０１〜５０質量％であることが好ましく、０．１〜４０質量％であることがより好ましく、０．５〜３０質量％であることが更に好ましい。添加量が上記範囲において、酸発生剤の添加効果である感度の向上が見られるとともに、非画像部における残膜の発生が抑制される。
【００９９】
＜酸増殖剤＞
本開示の感光性樹脂組成物には、酸増殖剤を添加してもよい。
本開示における酸増殖剤とは、比較的に強い酸の残基で置換された化合物であって、酸触媒の存在下で容易に脱離して新たに酸を発生する化合物である。すなわち、酸触媒反応によって分解し、再び酸（以下、式でＺＯＨと記す。）を発生する。１反応で１つ以上の酸が増えており、反応の進行に伴って加速的に酸濃度が増加することにより、飛躍的に感度が向上する。この発生する酸の強度は、酸解離定数（ｐＫａ）として３以下であり、更に２以下であることが好ましい。これよりも弱い酸であると、酸触媒による脱離反応を引き起こすことができない。
このような酸触媒に使用される酸としては、ジクロロ酢酸、トリクロロ酢酸、メタンスルホン酸、エタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸、及び、ナフタレンスルホン酸等が挙げられる。
【０１００】
酸増殖剤は、国際公開第９５／２９９６８号公報、国際公開第９８／２４０００号公報、特開平８−３０５２６２号公報、特開平９−３４１０６号公報、特開平８−２４８５６１号公報、特表平８−５０３０８２号公報、米国特許第５，４４５，９１７号明細書、特表平８−５０３０８１号公報、米国特許第５，５３４，３９３号明細書、米国特許第５，３９５，７３６号明細書、米国特許第５，７４１，６３０号明細書、米国特許第５，３３４，４８９号明細書、米国特許第５，５８２，９５６号明細書、米国特許第５，５７８，４２４号明細書、米国特許第５，４５３，３４５号明細書、米国特許第５，４４５，９１７号明細書、欧州特許第６６５，９６０号公報、欧州特許第７５７，６２８号公報、欧州特許第６６５，９６１号公報、米国特許第５，６６７，９４３号明細書、特開平１０−１５９８号公報等の各公報に記載の酸増殖剤を１種、あるいは２種以上組み合わせて用いることができる。
【０１０１】
本開示における酸増殖剤の好ましい具体例としては、例えば、特開２００１−６６７６５号公報の段落００５６〜００６７に記載される化合物を挙げることができる。中でも、例示化合物（ＡＤＤ−１）、（ＡＤＤ−２）、（ＡＤＤ−３）として記載された下記化合物を好適に用いることができる。
【０１０２】
【化３０】
2017038423.tif 000033
【０１０３】
酸増殖剤の添加量としては、感光性樹脂組成物の全固形分に対し、０．０１〜２０質量％であることが好ましく、０．０１〜１０質量％であることが好ましく、０．１〜５質量％であることが更に好ましい。酸増殖剤の添加量が上記範囲において、酸増殖剤を添加する効果が充分に得られ、感度向上が達成されるとともに、画像部の膜強度低下が抑制される。
【０１０４】
＜その他の添加剤＞
本開示の感光性樹脂組成物は、その他の添加剤として、現像促進剤、界面活性剤、焼き出し剤／着色剤、可塑剤、ワックス剤等を含んでもよい。
また、本開示の感光性樹脂組成物は、平版印刷版原版において後述する溶剤を含有していてもよい。本開示の感光性樹脂組成物の固形分濃度は、特に制限はないが、１〜５０質量％であることが好ましい。
【０１０５】
〔現像促進剤〕
本開示の感光性樹脂組成物には、感度を向上させる目的で、酸無水物類、フェノール類、及び、有機酸類等の現像促進剤を添加してもよい。
酸無水物類としては、環状酸無水物が好ましく、具体的に環状酸無水物としては、米国特許第４，１１５，１２８号明細書に記載されている無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、３，６−エンドオキシテトラヒドロ無水フタル酸、テトラクロロ無水フタル酸、無水マレイン酸、クロロ無水マレイン酸、α−フェニル無水マレイン酸、無水コハク酸、無水ピロメリット酸などが使用できる。非環状の酸無水物としては、無水酢酸などが挙げられる。
フェノール類としては、ビスフェノールＡ、２，２’−ビスヒドロキシスルホン、ｐ−ニトロフェノール、ｐ−エトキシフェノール、２，４，４’−トリヒドロキシベンゾフェノン、２，３，４−トリヒドロキシベンゾフェノン、４−ヒドロキシベンゾフェノン、４，４’，４”−トリヒドロキシトリフェニルメタン、及び、４，４’，３”，４”−テトラヒドロキシ−３，５，３’，５’−テトラメチルトリフェニルメタンなどが挙げられる。
有機酸類としては、特開昭６０−８８９４２号公報、特開平２−９６７５５号公報などに記載されており、具体的には、ｐ−トルエンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、ｐ−トルエンスルフィン酸、エチル硫酸、フェニルホスホン酸、フェニルホスフィン酸、リン酸フェニル、リン酸ジフェニル、安息香酸、イソフタル酸、アジピン酸、ｐ−トルイル酸、３，４−ジメトキシ安息香酸、フタル酸、テレフタル酸、４−シクロヘキセン−１，２−ジカルボン酸、エルカ酸、ラウリン酸、ｎ−ウンデカン酸、及び、アスコルビン酸などが挙げられる。
上記の酸無水物、フェノール類及び有機酸類の感光性樹脂組成物の全固形分に占める割合は、０．０５〜２０質量％が好ましく、０．１〜１５質量％がより好ましく、０．１〜１０質量％が特に好ましい。
【０１０６】
〔界面活性剤〕
本開示の感光性樹脂組成物には、塗布性を良化するため、また、現像条件に対する処理の安定性を広げるため、特開昭６２−２５１７４０号公報や特開平３−２０８５１４号公報に記載されているような非イオン界面活性剤、特開昭５９−１２１０４４号公報、特開平４−１３１４９号公報に記載されているような両性界面活性剤、特開昭６２−１７０９５０号公報、特開平１１−２８８０９３号公報、特開２００３−５７８２０号公報に記載されているようなフッ素含有のモノマー共重合体を添加することができる。
非イオン界面活性剤の具体例としては、ソルビタントリステアレート、ソルビタンモノパルミテート、ソルビタントリオレート、ステアリン酸モノグリセリド、及び、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル等が挙げられる。
両性活性剤の具体例としては、アルキルジ（アミノエチル）グリシン、アルキルポリアミノエチルグリシン塩酸塩、２−アルキル−Ｎ−カルボキシエチル−Ｎ−ヒドロキシエチルイミダゾリニウムベタインやＮ−テトラデシル−Ｎ，Ｎ−ベタイン型（例えば、商品名「アモーゲンＫ」：第一工業製薬（株）製）等が挙げられる。
界面活性剤の感光性樹脂組成物の全固形分に占める割合は、０．０１〜１５質量％が好ましく、０．０１〜５質量％がより好ましく、０．０５〜２．０質量％が更に好ましい。
【０１０７】
〔焼き出し剤／着色剤〕
本開示の感光性樹脂組成物には、露光による加熱後直ちに可視像を得るための焼き出し剤や、画像着色剤としての染料や顔料を加えることができる。
焼き出し剤及び着色剤としては、例えば、特開２００９−２２９９１７号公報の段落０１２２〜０１２３に詳細に記載され、ここに記載の化合物を本開示にも適用しうる。
これらの焼き出し剤及び着色剤は、感光性樹脂組成物の全固形分に対し、０．０１〜１０質量％の割合で添加することが好ましく、０．１〜３質量％の割合で添加することがより好ましい。
【０１０８】
〔可塑剤〕
本開示の感光性樹脂組成物には、塗膜の柔軟性等を付与するために可塑剤を添加してもよい。例えば、ブチルフタリル、ポリエチレングリコール、クエン酸トリブチル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジブチル、フタル酸ジヘキシル、フタル酸ジオクチル、リン酸トリクレジル、リン酸トリブチル、リン酸トリオクチル、オレイン酸テトラヒドロフルフリル、並びに、アクリル酸又はメタクリル酸のオリゴマー及びポリマー等が用いられる。
これらの可塑剤は、感光性樹脂組成物の全固形分に対し、０．５〜１０質量％の割合で添加することが好ましく、１．０〜５質量％の割合で添加することがより好ましい。
【０１０９】
〔ワックス剤〕
本開示の感光性樹脂組成物には、キズに対する抵抗性を付与する目的で、表面の静摩擦係数を低下させる化合物（ワックス剤）を添加することもできる。具体的には、米国特許第６，１１７，９１３号明細書、特開２００３−１４９７９９号公報、特開２００３−３０２７５０号公報、又は、特開２００４−１２７７０号公報に記載されているような、長鎖アルキルカルボン酸のエステルを有する化合物などを挙げることができる。
ワックス剤の添加量としては、感光性樹脂組成物の全固形分中に占める割合が０．１〜１０質量％であることが好ましく、０．５〜５質量％であることがより好ましい。
【０１１０】
＜各成分の組成比＞
本開示の感光性樹脂組成物の全固形分質量に対して、特定高分子化合物の含有量は１０〜９０質量％であることが好ましく、赤外線吸収剤の含有量は０．０１〜５０質量％であることが好ましく、他のアルカリ可溶性樹脂の含有量は０〜８０質量％であることが好ましく、酸発生剤の含有量は０〜３０質量％であることが好ましく、酸増殖剤の含有量は０〜２０質量％であることが好ましく、現像促進剤の含有量は０〜２０質量％であることが好ましく、界面活性剤の含有量は０〜５質量％であることが好ましく、焼き出し剤／着色剤の含有量は０〜１０質量％であることが好ましく、可塑剤の含有量は０〜１０質量％であることが好ましく、ワックス剤の含有量は０〜１０質量％であることが好ましい。
【０１１１】
本開示の感光性樹脂組成物は、耐久性に優れた樹脂パターン形成を必要とする種々の分野、例えば、レジスト、ディスプレイ、平版印刷版原版などの種々の分野に適用することができるが、好感度で記録可能であり、画像形成性に優れ、形成された画像部の耐久性が良好であることから、以下に詳述する赤外線感応性ポジ型平版印刷版原版へ適用することにより本開示の感光性樹脂組成物の効果が著しいといえる。
【０１１２】
（平版印刷版原版）
本開示の平版印刷版原版は、支持体上に、成分Ａとして、上記式１で表される構造を有する高分子化合物、及び、成分Ｂとして、赤外線吸収剤を含有する記録層を有することを特徴とする。
また、上記記録層は、本開示の感光性樹脂組成物を少なくとも用いて形成された層であることが好ましい。
また、本開示の平版印刷版原版は、ポジ型平版印刷版原版であることが好ましい。
更に、本開示の平版印刷版原版は、親水性表面を有する支持体上に、下層及び上層をこの順に有する記録層を有してなるポジ型平版印刷版原版であって、成分Ａ及び成分Ｂを下層及び上層のいずれか又はその両方に含有することが好ましく、下層又は上層に含有することがより好ましく、下層のみに含有することが更に好ましい。
【０１１３】
＜記録層＞
本開示の平版印刷版原版における記録層は、成分Ａ、及び、成分Ｂを含有し、また、任意に、他のアルカリ可溶性樹脂、酸発生剤、酸増殖剤、現像促進剤、界面活性剤、焼き出し剤／着色剤、可塑剤、又は、ワックス剤等を含有していてもよい。
上記記録層における成分Ａ、成分Ｂ、他のアルカリ可溶性樹脂、酸発生剤、酸増殖剤、現像促進剤、界面活性剤、焼き出し剤／着色剤、可塑剤、及び、ワックス剤の好ましい態様は、上述した本開示の感光性樹脂組成物における好ましい態様と同様である。
また、上記記録層におけるこれら成分の好ましい含有量は、上述した本開示の感光性樹脂組成物における感光性樹脂組成物の全固形分に対する好ましい含有量と同様である。
本開示に用いられる記録層は、本開示の感光性樹脂組成物の各成分を溶剤に溶かして、適当な支持体上に塗布することにより形成することができる。
ここで使用する溶剤としては、エチレンジクロライド、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、メタノール、エタノール、プロパノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、１−メトキシ−２−プロパノール、２−メトキシエチルアセテート、１−メトキシ−２−プロピルアセテート、ジメトキシエタン、乳酸メチル、乳酸エチル、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、テトラメチルウレア、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、スルホラン、γ−ブチロラクトン、及び、トルエン等を挙げることができるが、これに限定されるものではない。これらの溶剤は、単独又は混合して使用される。
【０１１４】
＜下層及び上層の形成＞
また、本開示の平版印刷版原版における記録層は、支持体上に、下層及び上層をこの順に有する記録層（以下、「２層構造の平版印刷版原版」ともいう。）であることが好ましい。
下層及び上層は、原則的に２つの層を分離して形成することが好ましい。
２つの層を分離して形成する方法としては、例えば、下層に含まれる成分と、上層に含まれる成分との溶剤溶解性の差を利用する方法、又は、上層を塗布した後、急速に溶剤を乾燥、除去する方法等が挙げられる。後者の方法を併用することにより、層間の分離が一層良好に行われることになるため好ましい。
以下、これらの方法について詳述するが、２つの層を分離して塗布する方法はこれらに限定されるものではない。
【０１１５】
下層に含まれる成分と上層に含まれる成分との溶剤溶解性の差を利用する方法としては、上層用塗布液を塗布する際に、下層に含まれる成分のいずれもが不溶な溶剤系を用いるものである。これにより、二層塗布を行っても、各層を明確に分離して塗膜にすることが可能になる。例えば、下層成分として、上層成分であるアルカリ可溶性樹脂を溶解するメチルエチルケトンや１−メトキシ−２−プロパノール等の溶剤に不溶な成分を選択し、該下層成分を溶解する溶剤系を用いて下層を塗布及び乾燥し、その後、アルカリ可溶性樹脂を主体とする上層をメチルエチルケトンや１−メトキシ−２−プロパノール等で溶解し、塗布及び乾燥することにより二層化が可能になる。
【０１１６】
次に、２層目（上層）を塗布後に、極めて速く溶剤を乾燥させる方法としては、ウェブの走行方向に対してほぼ直角に設置したスリットノズルより高圧エアーを吹きつけることや、蒸気等の加熱媒体を内部に供給されたロール（加熱ロール）よりウェブの下面から伝導熱として熱エネルギーを与えること、あるいはそれらを組み合わせることにより達成できる。
【０１１７】
本開示の感光性樹脂組成物は、上記の上層及び下層のいずれか又はその両方に含まれることが好ましく、下層のみに含まれることがより好ましい。
【０１１８】
本開示の平版印刷版原版の支持体上に塗布される下層成分の乾燥後の塗布量は、０．５〜４．０ｇ／ｍ2の範囲にあることが好ましく、０．６〜２．５ｇ／ｍ2の範囲にあることがより好ましい。０．５ｇ／ｍ2以上であると、耐刷性に優れ、４．０ｇ／ｍ2以下であると、画像再現性及び感度に優れる。
また、上層成分の乾燥後の塗布量は、０．０５〜１．０ｇ／ｍ2の範囲にあることが好ましく、０．０８〜０．７ｇ／ｍ2の範囲であることがより好ましい。０．０５ｇ／ｍ2以上であると、現像ラチチュード、及び、耐傷性に優れ、１．０ｇ／ｍ2以下であると、感度に優れる。
下層及び上層を合わせた乾燥後の塗布量としては、０．６〜４．０ｇ／ｍ2の範囲にあることが好ましく、０．７〜２．５ｇ／ｍ2の範囲にあることがより好ましい。０．６ｇ／ｍ2以上であると、耐刷性に優れ、４．０ｇ／ｍ2以下であると、画像再現性及び感度に優れる。
【０１１９】
＜上層＞
本開示における２層構造の平版印刷版原版の上層は、本開示の感光性樹脂組成物を用いて形成することもできるが、本開示の感光性樹脂組成物以外の樹脂組成物を用いて形成することが好ましい。
本開示における２層構造の平版印刷版原版の上層は、熱によりアルカリ水溶液への溶解性が向上する赤外線感応性のポジ型記録層であることが好ましい。
上層における熱によりアルカリ水溶液への溶解性が向上する機構には特に制限はなく、バインダー樹脂を含み、加熱された領域の溶解性が向上するものであれば、いずれも用いることができる。画像形成に利用される熱としては、赤外線吸収剤を含む下層が露光された場合に発生する熱が挙げられる。
熱によりアルカリ水溶液への溶解性が向上する上層としては、例えば、ノボラック、ウレタン等の水素結合能を有するアルカリ可溶性樹脂を含む層、水不溶性且つアルカリ可溶性樹脂と溶解抑制作用のある化合物とを含む層、アブレーション可能な化合物を含む層、などが好ましく挙げられる。
【０１２０】
また、上層に、更に赤外線吸収剤を添加することにより、上層で発生する熱も画像形成に利用することができる。赤外線吸収剤を含む上層の構成としては、例えば、赤外線吸収剤と水不溶性且つアルカリ可溶性樹脂と溶解抑制作用のある化合物とを含む層、赤外線吸収剤と水不溶性且つアルカリ可溶性樹脂と酸発生剤とを含む層などが好ましく挙げられる。
【０１２１】
〔水不溶性かつアルカリ可溶性樹脂〕
上記記録層における上層には、水不溶性かつアルカリ可溶性樹脂を含有することが好ましい。水不溶性かつアルカリ可溶性樹脂を含有することで、赤外線吸収剤と水不溶性かつアルカリ可溶性樹脂が有する極性基との間に相互作用が形成され、ポジ型の感光性を有する層が形成される。
一般的な水不溶性かつアルカリ可溶性樹脂については以下に詳述するが、中でも、例えば、ポリアミド樹脂、エポキシ樹脂、ポリアセタール樹脂、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、ポリスチレン系樹脂、及び、ノボラック型フェノール系樹脂等を好ましく挙げることができる。
本開示に用いることができる水不溶性かつアルカリ可溶性樹脂としては、アルカリ性現像液に接触すると溶解する特性を有するものであれば特に制限はないが、高分子中の主鎖及び側鎖のいずれか又はその両方に酸性基を含有する単独重合体、これらの共重合体、又は、これらの混合物であることが好ましい。
このような酸性基を有する水不溶性かつアルカリ可溶性樹脂としては、フェノール性水酸基、カルボキシ基、スルホン酸基、リン酸基、スルホンアミド基、活性イミド基等の官能基を有することが好ましい。したがって、このような樹脂は、上記官能基を有するエチレン性不飽和モノマーを１つ以上含むモノマー混合物を共重合することによって好適に生成することができる。上記官能基を有するエチレン性不飽和モノマーは、アクリル酸、メタクリル酸の他に、下式で表される化合物及びその混合物が好ましく例示できる。なお、下式中、Ｒ40は水素原子又はメチル基を表す。
【０１２２】
【化３１】
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【０１２３】
本開示に用いることができる水不溶性かつアルカリ可溶性樹脂としては、上記重合性モノマーの他に、他の重合性モノマーを共重合させて得られる高分子化合物であることが好ましい。この場合の共重合比としては、フェノール性ヒドロキシ基、カルボキシ基、スルホン酸基、リン酸基、スルホンアミド基、活性イミド基等の官能基を有するモノマーのようなアルカリ可溶性を付与するモノマーを１０モル％以上含むことが好ましく、２０モル％以上含むものがより好ましい。アルカリ可溶性を付与するモノマーの共重合成分が１０モル％以上であると、アルカリ可溶性が十分得られ、また、現像性に優れる。
【０１２４】
使用可能な他の重合性モノマーとしては、下記に挙げる化合物を例示することができる。
アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル、アクリル酸ベンジル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸シクロヘキシル、メタクリル酸ベンジル等のアルキルアクリレートやアルキルメタクリレート。２−ヒドロキシエチルアクリレート又は２−ヒドロキシエチルメタクリレート等の脂肪族ヒドロキシ基を有するアクリル酸エステル類、及びメタクリル酸エステル類。アクリルアミド、メタクリルアミド、Ｎ−メチルアクリルアミド、Ｎ−エチルアクリルアミド、Ｎ−フェニルアクリルアミド、等のアクリルアミド若しくはメタクリルアミド。ビニルアセテート、ビニルクロロアセテート、ビニルブチレート、安息香酸ビニル等のビニルエステル類。スチレン、α−メチルスチレン、メチルスチレン、クロロメチルスチレン等のスチレン類。Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニルピリジン、アクリロニトリル、メタクリロニトリル等のその他の窒素原子含有モノマー。Ｎ−メチルマレイミド、Ｎ−エチルマレイミド、Ｎ−プロピルマレイミド、Ｎ−ブチルマレイミド、Ｎ−フェニルマレイミド、Ｎ−２−メチルフェニルマレイミド、Ｎ−２，６−ジエチルフェニルマレイミド、Ｎ−２−クロロフェニルマレイミド、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド、Ｎ−ラウリルマレイミド、Ｎ−ヒドロキシフェニルマレイミド等のマレイミド類。
これらの他のエチレン性不飽和モノマーのうち、好適に使用されるのは、（メタ）アクリル酸エステル類、（メタ）アクリルアミド類、マレイミド類、及び、（メタ）アクリロニトリルである。
【０１２５】
また、アルカリ可溶性樹脂としては、本開示の感光性樹脂組成物の任意成分としてあげた他のアルカリ可溶性樹脂として挙げたノボラック樹脂も好ましく挙げられる。
また、上記の水不溶性かつアルカリ可溶性樹脂を本開示の樹脂組成物に用いることも可能である。
【０１２６】
更に、本開示における上層中には、本開示の平版印刷版原版の効果を損なわない範囲で他の樹脂を併用することができる。上層自体は、特に非画像部領域において、アルカリ可溶性を発現することを要するため、この特性を損なわない樹脂を選択する必要がある。この観点から、併用可能な樹脂としては、水不溶性かつアルカリ可溶性樹脂が挙げられる。一般的な水不溶性かつアルカリ可溶性樹脂については以下に詳述するが、中でも、例えば、ポリアミド樹脂、エポキシ樹脂、ポリアセタール樹脂、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、ポリスチレン系樹脂、ノボラック型フェノール系樹脂等を好ましく挙げることができる。
また、混合する量としては、上記水不溶性かつアルカリ可溶性樹脂に対して５０質量％以下であることが好ましい。
【０１２７】
上記水不溶性かつアルカリ可溶性樹脂は、重量平均分子量が２，０００以上、かつ数平均分子量が５００以上のものが好ましく、重量平均分子量が５，０００〜３００，０００で、かつ数平均分子量が８００〜２５０，０００であることがより好ましい。また、上記アルカリ可溶性樹脂の分散度（重量平均分子量／数平均分子量）は、１．１〜１０であることが好ましい。
他の樹脂組成物におけるアルカリ可溶性樹脂は、１種単独で使用しても、２種以上を併用してもよい。
本開示における他の樹脂組成物の全固形分中に対するアルカリ可溶性樹脂の含有量は、全固形分中、２．０〜９９．５質量％であることが好ましく、１０．０〜９９．０質量％であることがより好ましく、２０．０〜９０．０質量％であることが更に好ましい。アルカリ可溶性樹脂の添加量が２．０質量％以上であると記録層（感光層）の耐久性に優れ、また、９９．５質量％以下であると、感度、及び、耐久性の両方に優れる。
【０１２８】
〔赤外線吸収剤〕
上記他の樹脂組成物には、赤外線吸収剤を含んでいてもよい。
赤外線吸収剤としては、赤外光を吸収し熱を発生する染料であれば特に制限はなく、上述した、本開示の感光性樹脂組成物において用いられる赤外線吸収剤を同様に用いることができる。
特に好ましい染料は、上記式（ａ）で表されるシアニン染料である。
【０１２９】
上層に赤外線吸収剤を含有することで、感度が良好となる。
上層における赤外線吸収剤の添加量としては、上層全固形分に対し、０．０１〜５０質量％であることが好ましく、０．１〜３０質量％であることがより好ましく、１．０〜１０質量％であることが特に好ましい。添加量が０．０１質量％以上であることで感度が改良され、また、５０質量％以下であると、層の均一性が良好であり、層の耐久性に優れる。
【０１３０】
〔その他の成分〕
その他、２層構造の平版印刷版原版における上層は、酸発生剤、酸増殖剤、現像促進剤、界面活性剤、焼き出し剤／着色剤、可塑剤、又は、ワックス剤等を含んでもよい。これらの成分は、上述した、本開示の樹脂組成物において用いられるそれぞれの成分を同様に用いることができ、好ましい態様も同様である。
【０１３１】
＜下層＞
本開示における２層構造の平版印刷版原版の下層は、本開示の感光性樹脂組成物を塗布することにより形成されることが好ましい。
本開示の感光性樹脂組成物を下層に用いることにより、画像形成性や耐刷性に優れた印刷版を得ることができる。
また、本開示の感光性樹脂組成物を下層に用いることにより、特に低品質のインク、紙等の資材を用いた場合に耐刷性が向上する。
上記のような効果が得られる詳細な機構は不明であるが、印刷における耐刷性は下層に用いられる樹脂の膜強度が重要であると推測されることから、バインダー間の相互作用（水素結合など）が強いため膜強度の高い本開示の感光性樹脂組成物を下層に用いることにより、耐刷性が向上すると推定している。
【０１３２】
本開示の感光性樹脂組成物を上層に用いる場合、下層も本開示の感光性樹脂組成物により形成することが好ましいが、下層を本開示の感光性樹脂組成物以外の樹脂組成物を用いて形成してもよい。その場合の下層の好ましい態様は、上記で説明した上層の好ましい態様と同様である。
【０１３３】
＜支持体＞
本開示の平版印刷版原版に使用される支持体としては、必要な強度と耐久性を備えた寸度的に安定な板状物であれば特に制限はなく、例えば、紙、プラスチック（例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン等）がラミネートされた紙、金属板（例えば、アルミニウム、亜鉛、銅等）、プラスチックフィルム（例えば、二酢酸セルロース、三酢酸セルロース、プロピオン酸セルロース、酪酸セルロース、酢酸酪酸セルロース、硝酸セルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリビニルアセタール等）、上記の如き金属がラミネート若しくは蒸着された紙、又は、プラスチックフィルム等が挙げられる。
【０１３４】
なお、本開示の画像形成材料を平版印刷版原版に適用する場合の支持体としては、ポリエステルフィルム又はアルミニウム板が好ましく、その中でも寸度安定性がよく、比較的安価であるアルミニウム板は特に好ましい。好適なアルミニウム板は、純アルミニウム板及びアルミニウムを主成分とし、微量の異元素を含む合金板であり、更にアルミニウムがラミネート又は蒸着されたプラスチックフィルムでもよい。アルミニウム合金に含まれる異元素には、ケイ素、鉄、マンガン、銅、マグネシウム、クロム、亜鉛、ビスマス、ニッケル、及び、チタンなどが挙げられる。合金中の異元素の含有量は１０質量％以下であることが好ましい。
【０１３５】
本開示において特に好適なアルミニウムは、純アルミニウムであるが、完全に純粋なアルミニウムは精錬技術上製造が困難であるので、僅かに異元素を含有するものでもよい。
このように本開示に適用されるアルミニウム板は、その組成が特定されるものではなく、従来より公知公用の素材のアルミニウム板を適宜に利用することができる。本開示で用いられるアルミニウム板の厚みは、０．１〜０．６ｍｍであることが好ましく、０．１５〜０．４ｍｍであることがより好ましく、０．２〜０．３ｍｍであることが特に好ましい。
【０１３６】
このようなアルミニウム板には、必要に応じて粗面化処理、陽極酸化処理などの表面処理を行ってもよい。アルミニウム支持体の表面処理については、例えば、特開２００９−１７５１９５号公報の段落０１６７〜０１６９に詳細に記載されるような、界面活性剤、有機溶剤又はアルカリ性水溶液などによる脱脂処理、表面の粗面化処理、陽極酸化処理などが適宜、施される。
陽極酸化処理を施されたアルミニウム表面は、必要により親水化処理が施される。
親水化処理としては、２００９−１７５１９５号公報の段落０１６９に開示されているような、アルカリ金属シリケート（例えばケイ酸ナトリウム水溶液）法、フッ化ジルコン酸カリウム或いは、ポリビニルホスホン酸で処理する方法などが用いられる。
また、特開２０１１−２４５８４４号公報に記載された支持体も好ましく用いられる。
【０１３７】
＜下塗層（中間層）＞
本開示の平版印刷版原版は、必要に応じて支持体と記録層との間に、下塗層（中間層）を有することが好ましい。
下塗層成分としては、種々の有機化合物が用いられ、例えば、カルボキシメチルセルロース、デキストリン等のアミノ基を有するホスホン酸類、有機ホスホン酸、有機リン酸、有機ホスフィン酸、アミノ酸類、並びに、ヒドロキシ基を有するアミンの塩酸塩等が好ましく挙げられる。また、これら下塗層成分は、１種単独で用いても、２種以上混合して用いてもよい。下塗層に使用される化合物の詳細、下塗層の形成方法は、特開２００９−１７５１９５号公報の段落０１７１〜０１７２に記載され、これらの記載は本開示にも適用される。
下塗層の形成量は、２〜２００ｍｇ／ｍ2であることが好ましく、５〜１００ｍｇ／ｍ2であることがより好ましい。形成量が上記範囲であると、十分な耐刷性能が得られる。
【０１３８】
＜バックコート層＞
本開示の平版印刷版原版の支持体裏面には、必要に応じてバックコート層が設けられる。かかるバックコート層としては、特開平５−４５８８５号公報記載の有機高分子化合物及び特開平６−３５１７４号公報記載の有機又は無機金属化合物を加水分解及び重縮合させて得られる金属酸化物からなる被覆層が好ましく用いられる。これらの被覆層のうち、Ｓｉ（ＯＣＨ3）4、Ｓｉ（ＯＣ2Ｈ5）4、Ｓｉ（ＯＣ3Ｈ7）4、Ｓｉ（ＯＣ4Ｈ9）4などのケイ素のアルコキシ化合物が安価で入手し易く、それから得られる金属酸化物の被覆層が耐現像液に優れており特に好ましい。
【０１３９】
（平版印刷版の製版方法）
本開示の平版印刷版の製版方法は、本開示の平版印刷版原版を像様露光する露光工程、及び、露光した平版印刷版原版をｐＨ８．５〜１３．５のアルカリ水溶液を用いて現像する現像工程、をこの順で含む。
本開示の平版印刷版の製版方法によれば、耐刷性及び耐薬品性に優れた平版印刷版を得ることができ、かつアルカリ水溶液現像性に優れる。
以下、本開示の平版印刷版の製版方法の各工程について詳細に説明する。
【０１４０】
＜露光工程＞
本開示の平版印刷版の製版方法は、本開示の平版印刷版原版を像様露光する露光工程を含む。
上記露光工程においては、所望の像を形成するように、任意の形状で像様露光を行うことができる。
本開示の平版印刷版原版の像様露光に用いられる活性光線の光源としては、近赤外から赤外領域に発光波長を持つ光源が好ましく、固体レーザー、半導体レーザーがより好ましい。中でも、本開示においては、波長７５０〜１，４００ｎｍの赤外線を放射する固体レーザー又は半導体レーザーにより像様露光されることが特に好ましい。
レーザーの出力は、１００ｍＷ以上が好ましく、露光時間を短縮するため、マルチビームレーザデバイスを用いることが好ましい。また、１画素あたりの露光時間は２０μ秒以内であることが好ましい。
平版印刷版原版に照射されるエネルギーは、１０〜３００ｍＪ／ｃｍ2であることが好ましい。上記範囲であると、硬化が十分に進行し、また、レーザーアブレーションを抑制し、画像が損傷を防ぐことができる。
【０１４１】
本開示における露光は、光源の光ビームをオーバーラップさせて露光することができる。オーバーラップとは、副走査ピッチ幅がビーム径より小さいことをいう。オーバーラップは、例えば、ビーム径をビーム強度の半値幅（ＦＷＨＭ）で表したとき、ＦＷＨＭ／副走査ピッチ幅（オーバーラップ係数）で定量的に表現することができる。本開示ではこのオーバーラップ係数が、０．１以上であることが好ましい。
【０１４２】
本開示に使用することができる露光装置の光源の走査方式は、特に限定はなく、円筒外面走査方式、円筒内面走査方式、平面走査方式などを用いることができる。また、光源のチャンネルは単チャンネルでもマルチチャンネルでもよいが、円筒外面方式の場合にはマルチチャンネルが好ましく用いられる。
【０１４３】
＜現像工程＞
本開示の平版印刷版の製版方法は、露光された平版印刷版原版をｐＨ８．５〜１３．５のアルカリ水溶液（以下、「現像液」ともいう。）を用いて現像する現像工程を含む。
現像工程に使用される現像液は、ｐＨ８．５〜１３．５の水溶液であり、ｐＨ１２〜１３．５のアルカリ水溶液がより好ましい。界面活性剤は処理性の向上に寄与する。
上記現像液に用いられる界面活性剤は、アニオン性、ノニオン性、カチオン性、及び、両性の界面活性剤のいずれも用いることができるが、既述のように、アニオン性、ノニオン性の界面活性剤が好ましい。
本開示における現像液に用いられるアニオン性、ノニオン性、カチオン性、及び、両性界面活性剤としては、特開２０１３−１３４３４１号公報の段落０１２８〜０１３１に記載のものを使用することができる。
【０１４４】
また、水に対する安定な溶解性及び混濁性の観点から、ＨＬＢ（Hydrophile-Lipophile Balance）値が、６以上であることが好ましく、８以上であることがより好ましい。
上記現像液に用いられる界面活性剤としては、アニオン性界面活性剤及びノニオン界面活性剤が好ましく、スルホン酸又はスルホン酸塩を含有するアニオン性界面活性剤及び、芳香環とエチレンオキサイド鎖を有するノニオン界面活性剤が特に好ましい。
界面活性剤は、１種単独又は組み合わせて使用することができる。
界面活性剤の現像液中における含有量は、０．０１〜１０質量％が好ましく、０．０１〜５質量％がより好ましい。
【０１４５】
上記現像液をｐＨ８．５〜１３．５に保つためには、緩衝剤として炭酸イオン、炭酸水素イオンが存在することで、現像液を長期間使用してもｐＨの変動を抑制でき、ｐＨの変動による現像性低下、現像カス発生等を抑制できる。炭酸イオン、炭酸水素イオンを現像液中に存在させるには、炭酸塩と炭酸水素塩とを現像液に加えてもよいし、炭酸塩又は炭酸水素塩を加えた後にｐＨを調整することで、炭酸イオンと炭酸水素イオンとを発生させてもよい。炭酸塩及び炭酸水素塩は、特に限定されないが、アルカリ金属塩であることが好ましい。アルカリ金属としては、リチウム、ナトリウム、カリウムが挙げられ、ナトリウムが特に好ましい。これらは１種単独でも、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【０１４６】
炭酸塩及び炭酸水素塩の総含有量は、現像液の全質量に対して、０．３〜２０質量％が好ましく、０．５〜１０質量％がより好ましく、１〜５質量％が特に好ましい。総量が０．３質量％以上であると現像性、及び、処理能力が十分であり、２０質量％以下であると沈殿や結晶を生成し難くなり、更に現像液の廃液処理時、中和の際にゲル化し難くなり、廃液処理が容易である。
【０１４７】
また、アルカリ濃度の微少な調整、非画像部感光層の溶解を補助する目的で、補足的に他のアルカリ剤、例えば有機アルカリ剤を併用してもよい。有機アルカリ剤としては、モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、モノイソプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、トリイソプロピルアミン、ｎ−ブチルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、モノイソプロパノールアミン、ジイソプロパノールアミン、エチレンイミン、エチレンジアミン、ピリジン、及び、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド等を挙げることができる。これらの他のアルカリ剤は、単独又は２種以上を組み合わせて用いられる。
上記現像液には上記の他に、湿潤剤、防腐剤、キレート化合物、消泡剤、有機酸、有機溶剤、無機酸、無機塩などを含有することができる。ただし、水溶性高分子化合物を添加すると、特に現像液が疲労した際に版面がベトツキやすくなるため、添加しないことが好ましい。
【０１４８】
湿潤剤としては、特開２０１３−１３４３４１号公報の段落０１４１に記載の湿潤剤を好適に用いることができる。湿潤剤は単独で用いてもよいが、２種以上併用してもよい。湿潤剤の添加量は、現像剤の全質量に対し、０．１〜５質量％の範囲が好ましい。
【０１４９】
防腐剤としては、特開２０１３−１３４３４１号公報の段落０１４２に記載の防腐剤を好適に用いることができる。種々のカビ、殺菌に対して効力のあるように２種以上の防腐剤を併用することが好ましい。防腐剤の添加量は、細菌、カビ、酵母等に対して、安定に効力を発揮する量であって、細菌、カビ、酵母の種類によっても異なるが、現像液の全質量に対して、０．０１〜４質量％の範囲が好ましい。
【０１５０】
キレート化合物としては、特開２０１３−１３４３４１号公報の段落０１４３に記載のキレート化合物を好適に用いることができる。キレート剤は現像液組成中に安定に存在し、印刷性を阻害しないものが選ばれる。添加量は、現像液の全質量に対して、０．００１〜１．０質量％の範囲が好ましい。
【０１５１】
消泡剤としては、特開２０１３−１３４３４１号公報の段落０１４４に記載の消泡剤を好適に用いることができる。消泡剤の含有量は、現像液の全重量に対して、０．００１〜１．０質量％の範囲が好ましい。
【０１５２】
有機酸としては、特開２０１３−１３４３４１号公報の段落０１４５に記載の有機酸を好適に用いることができる。有機酸の含有量は、現像液の全質量に対して、０．０１〜０．５質量％が好ましい。
【０１５３】
有機溶剤としては、例えば、脂肪族炭化水素類（ヘキサン、ヘプタン、“アイソパーＥ、Ｈ、Ｇ”（エッソ化学（株）製）、ガソリン、若しくは、灯油等）、芳香族炭化水素類（トルエン、キシレン等）、又は、ハロゲン化炭化水素（メチレンジクロライド、エチレンジクロライド、トリクレン、モノクロルベンゼン等）や、極性溶剤が挙げられる。
【０１５４】
極性溶剤としては、アルコール類（メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ベンジルアルコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、２−エトキシエタノール等）、ケトン類（メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等）、エステル類（酢酸エチル、乳酸メチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等）、及び、その他（トリエチルホスフェート、トリクレジルホスフェート、Ｎ−フェニルエタノールアミン、Ｎ−フェニルジエタノールアミン等）等が挙げられる。
【０１５５】
また、上記有機溶剤が水に不溶な場合は、界面活性剤等を用いて水に可溶化して使用することも可能である。現像液が有機溶剤を含有する場合は、安全性、引火性の観点から、溶剤の濃度は４０質量％未満が好ましい。
【０１５６】
無機酸及び無機塩としては、リン酸、メタリン酸、第一リン酸アンモニウム、第二リン酸アンモニウム、第一リン酸ナトリウム、第二リン酸ナトリウム、第一リン酸カリウム、第二リン酸カリウム、トリポリリン酸ナトリウム、ピロリン酸カリウム、ヘキサメタリン酸ナトリウム、硝酸マグネシウム、硝酸ナトリウム、硝酸カリウム、硝酸アンモニウム、硫酸ナトリウム、硫酸カリウム、硫酸アンモニウム、亜硫酸ナトリウム、亜硫酸アンモニウム、硫酸水素ナトリウム、硫酸ニッケルなどが挙げられる。無機塩の含有量は、現像液の全質量に対し、０．０１〜０．５質量％が好ましい。
【０１５７】
現像の温度は、現像可能であれば特に制限はないが、６０℃以下であることが好ましく、１５〜４０℃であることがより好ましい。自動現像機を用いる現像処理においては、処理量に応じて現像液が疲労してくることがあるので、補充液又は新鮮な現像液を用いて処理能力を回復させてもよい。また、特開平９−９６９１０号公報に記載されているような自動現像装置を用いて、現像補充液を補充するタイミングを決定する基準電導度を処理疲労と炭酸ガス疲労との比を配慮して適性な値に、自動的に設定することにより、現像液の活性度を長期に渡って良好な状態に維持してもよい。現像及び現像後の処理の一例としては、アルカリ現像を行い、後水洗工程でアルカリを除去し、ガム引き工程でガム処理を行い、乾燥工程で乾燥する方法が例示できる。また、他の例としては、炭酸イオン、炭酸水素イオン及び界面活性剤を含有する水溶液を用いることにより、前水洗、現像及びガム引きを同時に行う方法が好ましく例示できる。よって、前水洗工程は特に行わなくともよく、一液を用いるだけで、更には一浴で前水洗、現像及びガム引きを行ったのち、乾燥工程を行うことが好ましい。現像の後は、スクイズローラ等を用いて余剰の現像液を除去してから乾燥を行うことが好ましい。得られた平版印刷版に不必要な画像部がある場合には、その不必要な画像部の消去が行われる。このような消去は、例えば特公平２−１３２９３号公報に記載されているような消去液を不必要画像部に塗布し、そのまま放置した後に水洗することにより行う方法が好ましいが、特開平５−１７４８４２号公報に記載されているようなオプティカルファイバーで導かれた活性光線を不必要画像部に照射した後、現像する方法も利用できる。
【０１５８】
現像工程は、擦り部材を備えた自動処理機により好適に実施することができる。自動処理機としては、例えば、画像露光後の平版印刷版原版を搬送しながら擦り処理を行う、特開平２−２２００６１号公報、特開昭６０−５９３５１号公報に記載の自動処理機や、シリンダー上にセットされた画像露光後の平版印刷版原版を、シリンダーを回転させながら擦り処理を行う、米国特許第５１４８７４６号、同５５６８７６８号、英国特許第２２９７７１９号の各明細書に記載の自動処理機等が挙げられる。中でも、擦り部材として、回転ブラシロールを用いる自動処理機が特に好ましい。
【０１５９】
本開示に使用する回転ブラシロールは、画像部の傷つき難さ、更には、平版印刷版原版の支持体における腰の強さ等を考慮して適宜選択することができる。回転ブラシロールとしては、ブラシ素材をプラスチック又は金属のロールに植え付けて形成された公知のものが使用できる。例えば、特開昭５８−１５９５３３号公報、特開平３−１００５５４号公報に記載のものや、実公昭６２−１６７２５３号公報に記載されているような、ブラシ素材を列状に植え込んだ金属又はプラスチックの溝型材を芯となるプラスチック又は金属のロールに隙間なく放射状に巻き付けたブラシロールが使用できる。
ブラシ素材としては、プラスチック繊維（例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート等のポリエステル系、ナイロン６．６、ナイロン６．１０等のポリアミド系、ポリアクリロニトリル、ポリ（メタ）アクリル酸アルキル等のポリアクリル系、ポリプロピレン、ポリスチレン等のポリオレフィン系の合成繊維）を使用することができ、例えば、繊維の毛の直径は２０〜４００μｍ、毛の長さは５〜３０ｍｍのものが好適に使用できる。
回転ブラシロールの外径は３０〜２００ｍｍが好ましく、版面を擦るブラシの先端の周速は０．１〜５ｍ／ｓｅｃが好ましい。回転ブラシロールは、複数本用いることが好ましい。
【０１６０】
回転ブラシロールの回転方向は、平版印刷版原版の搬送方向に対し、同一方向であっても、逆方向であってもよいが、２本以上の回転ブラシロールを使用する場合は、少なくとも１本の回転ブラシロールが同一方向に回転し、少なくとも１本の回転ブラシロールが逆方向に回転することが好ましい。これにより、非画像部の感光層の除去が更に確実となる。更に、回転ブラシロールをブラシロールの回転軸方向に揺動させることも効果的である。
【０１６１】
現像工程の後、連続的又は不連続的に、得られた平版印刷版を乾燥する乾燥工程を設けることが好ましい。乾燥は熱風、赤外線、遠赤外線等によって行う。
本開示の平版印刷版の製版方法において好適に用いられる自動処理機としては、現像部と乾燥部とを有する装置が用いられ、平版印刷版原版に対して、現像槽で、現像とガム引きとが行なわれ、その後、乾燥部で乾燥されて平版印刷版が得られる。
【０１６２】
また、耐刷性等の向上を目的として、現像後の印刷版を非常に強い条件で加熱することもできる。加熱温度は、２００〜５００℃の範囲であることが好ましい。温度が低いと十分な画像強化作用が得られず、高すぎる場合には支持体の劣化、画像部の熱分解といった問題を生じる恐れがある。
このようにして得られた平版印刷版はオフセット印刷機に掛けられ、多数枚の印刷に好適に用いられる。
【実施例】
【０１６３】
以下、実施例により本発明の実施形態を詳細に説明するが、本開示はこれらに限定されるものではない。なお、本実施例において、「部」、「％」とは、特に断りのない限り、「質量部」、「質量％」を意味する。【０１６４】
（合成例）
＜成分Ａ：式１で表される構造を有する高分子化合物の合成＞
〔ＰＡ−１の合成〕
コンデンサー及び撹拌機を取り付けた３つ口フラスコに、ＳＡ−１（４，４’−ジアミノ−３，３’−ジヒドロキシビフェニル（東京化成工業（株）製））を１１．８１ｇ、オルト−アミノフェノール（東京化成工業（株）製）０．０５４６ｇ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（関東化学（株）製）８３．１５ｇを秤取し、反応液を室温（１０℃〜３０℃、以下同様）とし、均一溶液とした。次いで、イソフタロイルジクロリド（東京化成工業（株）製）１０．１５ｇをＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（関東化学（株）製）３２．６８ｇに溶解し、室温中、滴下ロートを用いて３０分かけて滴下し、その後室温で３０分撹拌して反応させた。上記反応液を純水５００ｍＬ、アセトン５００ｍＬの混合液にあけ、ポリマーを析出させた。これを濾取、洗浄、乾燥し、重量平均分子量４５，０００のバインダーポリマー（ＰＡ−１）１８．９ｇを得た。
目的物であることは、ＮＭＲスペクトル、ＩＲスペクトル、ＧＰＣ（ポリスチレン換算）から確認した。同様にして、ＰＡ−１〜ＰＡ−３５を合成することができる。
なお、ＰＡ−１の構造は下記の通りである。【０１６５】
【化３２】
2017038423.tif 000035
【０１６６】
実施例中、「重量平均分子量」は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）を用いた標準ポリスチレン換算法により算出した。ただし、ＧＰＣカラムとしてポリスチレン架橋ゲルを充填したもの（ＴＳＫｇｅｌ  ＳｕｐｅｒＡＷＭ−Ｈ；東ソー（株）製）、ＧＰＣ溶媒としてＮ−メチルピロリドン（リン酸、臭化リチウム各０．０１ｍｏｌ／Ｌ）を用いた。【０１６７】
（実施例１〜２０、及び、比較例１〜３）
＜支持体の作製＞
厚さ０．３ｍｍの材質１Ｓのアルミニウム合金板に対し、下記処理Ａ〜処理Ｆのうちいずれかの処理を施し、平版印刷版用支持体を製造した。なお、全ての処理工程の間には水洗処理を施し、水洗処理の後にはニップローラーで液切りを行った。【０１６８】
〔処理Ａ〕
（Ａ−ａ）機械的粗面化処理（ブラシグレイン法）
パミスの懸濁液（比重１．１ｇ／ｃｍ3）を研磨スラリー液としてアルミニウム板の表面に供給しながら、回転する束植ブラシにより機械的粗面化処理を行った。
研磨材のメジアン径（μｍ）を３０μｍ、ブラシ本数を４本、ブラシの回転数（ｒｐｍ）を２５０ｒｐｍとした。束植ブラシの材質は６，１０−ナイロンで、ブラシ毛の直径０．３ｍｍ、毛長５０ｍｍであった。ブラシは、φ３００ｍｍのステンレス製の筒に穴をあけて密になるように植毛した。束植ブラシ下部の２本の支持ローラ（φ２００ｍｍ）の距離は３００ｍｍであった。束植ブラシはブラシを回転させる駆動モータの負荷が、束植ブラシをアルミニウム板に押さえつける前の負荷に対して１０ｋＷプラスになるまで押さえつけた。ブラシの回転方向はアルミニウム板の移動方向と同じであった。【０１６９】
（Ａ−ｂ）アルカリエッチング処理
上記で得られたアルミニウム板に、カセイソーダ濃度２６質量％、アルミニウムイオン濃度６．５質量％のカセイソーダ水溶液を、温度７０℃でスプレー管により吹き付けてエッチング処理を行った。その後、スプレーによる水洗を行った。アルミニウム溶解量は、１０ｇ／ｍ2であった。【０１７０】
（Ａ−ｃ）酸性水溶液中でのデスマット処理
次に、硝酸水溶液中でデスマット処理を行った。デスマット処理に用いる硝酸水溶液は、次工程の電気化学的な粗面化に用いた硝酸の廃液を用いた。その液温は３５℃であった。デスマット液はスプレーにて吹き付けて３秒間デスマット処理を行った。【０１７１】
（Ａ−ｄ）電気化学的粗面化処理
硝酸電解６０Ｈｚの交流電圧を用いて連続的に電気化学的な粗面化処理を行った。このときの電解液は、温度３５℃、硝酸１０．４ｇ／Ｌの水溶液に硝酸アルミニウムを添加してアルミニウムイオン濃度を４．５ｇ／Ｌに調整した電解液を用いた。交流電源波形としては、電流値がゼロからピークに達するまでの時間ｔｐが０．８ｍｓｅｃ、ｄｕｔｙ比１：１、台形の矩形波交流を用いて、カーボン電極を対極として電気化学的な粗面化処理を行った。補助アノードにはフェライトを用いた。電流密度は電流のピーク値で３０Ａ／ｄｍ2、補助陽極には電源から流れる電流の５％を分流させた。電気量（Ｃ／ｄｍ2）はアルミニウム板が陽極時の電気量の総和で１８５Ｃ／ｄｍ2であった。その後、スプレーによる水洗を行った。【０１７２】
（Ａ−ｅ）アルカリエッチング処理
上記で得られたアルミニウム板に、カセイソーダ濃度５質量％、アルミニウムイオン濃度０．５質量％のカセイソーダ水溶液を、温度５０℃でスプレー管により吹き付けてエッチング処理を行った。その後、スプレーによる水洗を行った。アルミニウム溶解量は、０．５ｇ／ｍ2であった。【０１７３】
（Ａ−ｆ）酸性水溶液中でのデスマット処理
次に、硫酸水溶液中でデスマット処理を行った。デスマット処理に用いる硫酸水溶液は、硫酸濃度１７０ｇ／Ｌ、アルミニウムイオン濃度５ｇ／Ｌの液を用いた。その液温は、３０℃であった。デスマット液はスプレーにて吹き付けて３秒間デスマット処理を行った。【０１７４】
（Ａ−ｇ）電気化学的粗面化処理
塩酸電解６０Ｈｚの交流電圧を用いて連続的に電気化学的な粗面化処理を行った。電解液は、液温３５℃、塩酸６．２ｇ／Ｌの水溶液に塩化アルミニウムを添加してアルミニウムイオン濃度を４．５ｇ／Ｌに調整した電解液を用いた。電流値がゼロからピークに達するまでの時間ｔｐが０．８ｍｓｅｃ、ｄｕｔｙ比１：１、台形の矩形波交流を用いて、カーボン電極を対極として電気化学的な粗面化処理を行った。補助アノードにはフェライトを用いた。
電流密度は電流のピーク値で２５Ａ／ｄｍ2であり、塩酸電解における電気量（Ｃ／ｄｍ2）はアルミニウム板が陽極時の電気量の総和で６３Ｃ／ｄｍ2であった。その後、スプレーによる水洗を行った。【０１７５】
（Ａ−ｈ）アルカリエッチング処理
上記で得られたアルミニウム板に、カセイソーダ濃度５質量％、アルミニウムイオン濃度０．５質量％のカセイソーダ水溶液を、温度５０℃でスプレー管により吹き付けてエッチング処理を行った。その後、スプレーによる水洗を行った。アルミニウム溶解量は、０．１ｇ／ｍ2であった。【０１７６】
（Ａ−ｉ）酸性水溶液中でのデスマット処理
次に、硫酸水溶液中でデスマット処理を行った。具体的には、陽極酸化処理工程で発生した廃液（硫酸１７０ｇ／Ｌ水溶液中にアルミニウムイオン５ｇ／Ｌを溶解）を用い、液温３５℃で４秒間デスマット処理を行った。デスマット液はスプレーにて吹き付けて３秒間デスマット処理を行った。【０１７７】
（Ａ−ｊ）陽極酸化処理
二段給電電解処理法の陽極酸化装置（第一及び第二電解部長各６ｍ、第一及び第二給電部長各３ｍ、第一及び第二給電極部長各２．４ｍ）を用いて陽極酸化処理を行った。第一及び第二電解部に供給した電解液としては、硫酸を用いた。電解液は、いずれも、硫酸濃度５０ｇ／Ｌ（アルミニウムイオンを０．５質量％含む。）、温度２０℃であった。その後、スプレーによる水洗を行った。【０１７８】
（Ａ−ｋ）シリケート処理
非画像部の親水性を確保するため、２．５質量％３号ケイ酸ソーダ水溶液を用いて５０℃で７秒間ディップしてシリケート処理を施した。Ｓｉの付着量は１０ｍｇ／ｍ2であった。その後、スプレーによる水洗を行った。【０１７９】
〔処理Ｂ〕
（Ｂ−ａ）機械的粗面化処理（ブラシグレイン法）
パミスの懸濁液（比重１．１ｇ／ｃｍ3）を研磨スラリー液としてアルミニウム板の表面に供給しながら、回転する束植ブラシにより機械的粗面化処理を行った。
研磨材のメジアン径（μｍ）を３０μｍ、ブラシ本数を４本、ブラシの回転数（ｒｐｍ）を２５０ｒｐｍとした。束植ブラシの材質は６，１０−ナイロンで、ブラシ毛の直径０．３ｍｍ、毛長５０ｍｍであった。ブラシは、φ３００ｍｍのステンレス製の筒に穴をあけて密になるように植毛した。束植ブラシ下部の２本の支持ローラ（φ２００ｍｍ）の距離は３００ｍｍであった。束植ブラシはブラシを回転させる駆動モータの負荷が、束植ブラシをアルミニウム板に押さえつける前の負荷に対して１０ｋＷプラスになるまで押さえつけた。ブラシの回転方向はアルミニウム板の移動方向と同じであった。【０１８０】
（Ｂ−ｂ）アルカリエッチング処理
上記で得られたアルミニウム板に、カセイソーダ濃度２６質量％、アルミニウムイオン濃度６．５質量％のカセイソーダ水溶液を、温度７０℃でスプレー管により吹き付けてエッチング処理を行った。その後、スプレーによる水洗を行った。アルミニウム溶解量は、１０ｇ／ｍ2であった。【０１８１】
（Ｂ−ｃ）酸性水溶液中でのデスマット処理
次に、硝酸水溶液中でデスマット処理を行った。デスマット処理に用いる硝酸水溶液は、次工程の電気化学的な粗面化に用いた硝酸の廃液を用いた。その液温は３５℃であった。デスマット液はスプレーにて吹き付けて３秒間デスマット処理を行った。【０１８２】
（Ｂ−ｄ）電気化学的粗面化処理
硝酸電解６０Ｈｚの交流電圧を用いて連続的に電気化学的な粗面化処理を行った。このときの電解液は、温度３５℃、硝酸１０．４ｇ／Ｌの水溶液に硝酸アルミニウムを添加してアルミニウムイオン濃度を４．５ｇ／Ｌに調整した電解液を用いた。交流電源波形としては、電流値がゼロからピークに達するまでの時間ｔｐが０．８ｍｓｅｃ、ｄｕｔｙ比１：１、台形の矩形波交流を用いて、カーボン電極を対極として電気化学的な粗面化処理を行った。補助アノードにはフェライトを用いた。電流密度は電流のピーク値で３０Ａ／ｄｍ2、補助陽極には電源から流れる電流の５％を分流させた。電気量（Ｃ／ｄｍ2）はアルミニウム板が陽極時の電気量の総和で１８５Ｃ／ｄｍ2であった。その後、スプレーによる水洗を行った。【０１８３】
（Ｂ−ｅ）アルカリエッチング処理
上記で得られたアルミニウム板に、カセイソーダ濃度５質量％、アルミニウムイオン濃度０．５質量％のカセイソーダ水溶液を、温度５０℃でスプレー管により吹き付けてエッチング処理を行った。その後、スプレーによる水洗を行った。アルミニウム溶解量は、０．５ｇ／ｍ2であった。【０１８４】
（Ｂ−ｆ）酸性水溶液中でのデスマット処理
次に、硫酸水溶液中でデスマット処理を行った。デスマット処理に用いる硫酸水溶液は、硫酸濃度１７０ｇ／Ｌ、アルミニウムイオン濃度５ｇ／Ｌの液を用いた。その液温は、３０℃であった。デスマット液はスプレーにて吹き付けて３秒間デスマット処理を行った。【０１８５】
（Ｂ−ｇ）電気化学的粗面化処理
塩酸電解６０Ｈｚの交流電圧を用いて連続的に電気化学的な粗面化処理を行った。電解液は、液温３５℃、塩酸６．２ｇ／Ｌの水溶液に塩化アルミニウムを添加してアルミニウムイオン濃度を４．５ｇ／Ｌに調整した電解液を用いた。電流値がゼロからピークに達するまでの時間ｔｐが０．８ｍｓｅｃ、ｄｕｔｙ比１：１、台形の矩形波交流を用いて、カーボン電極を対極として電気化学的な粗面化処理を行った。補助アノードにはフェライトを用いた。
電流密度は電流のピーク値で２５Ａ／ｄｍ2であり、塩酸電解における電気量（Ｃ／ｄｍ2）はアルミニウム板が陽極時の電気量の総和で６３Ｃ／ｄｍ2であった。その後、スプレーによる水洗を行った。【０１８６】
（Ｂ−ｈ）アルカリエッチング処理
上記で得られたアルミニウム板に、カセイソーダ濃度５質量％、アルミニウムイオン濃度０．５質量％のカセイソーダ水溶液を、温度５０℃でスプレー管により吹き付けてエッチング処理を行った。その後、スプレーによる水洗を行った。アルミニウム溶解量は、０．１ｇ／ｍ2であった。【０１８７】
（Ｂ−ｉ）酸性水溶液中でのデスマット処理
次に、硫酸水溶液中でデスマット処理を行った。具体的には、陽極酸化処理工程で発生した廃液（硫酸１７０ｇ／Ｌ水溶液中にアルミニウムイオン５ｇ／Ｌを溶解）を用い、液温３５℃で４秒間デスマット処理を行った。デスマット液はスプレーにて吹き付けて３秒間デスマット処理を行った。【０１８８】
（Ｂ−ｊ）第１段階の陽極酸化処理
直流電解による陽極酸化装置を用いて第１段階の陽極酸化処理を行った。電解浴としては硫酸１７０ｇ／Ｌ水溶液中にアルミニウムイオン７ｇ／Ｌを溶解した溶液を使用し、液温４３℃、電流密度３０Ａ／ｄｍ2の条件下で陽極酸化処理を行った。マイクロポアの深さは２７μｍ、得られた被膜量は０．１３ｇ／ｍ2であった。【０１８９】
（Ｂ−ｋ）ポアワイド処理
上記陽極酸化処理したアルミニウム板を、温度３５℃、カセイソーダ濃度５質量％、アルミニウムイオン濃度０．５質量％のカセイソーダ水溶液に１秒間浸漬し、ポアワイド処理を行った。その後、スプレーによる水洗を行った。【０１９０】
（Ｂ−ｌ）第２段階の陽極酸化処理
直流電解による陽極酸化装置を用いて第２段階の陽極酸化処理を行った。電解浴としては硫酸１７０ｇ／Ｌ水溶液中にアルミニウムイオン７ｇ／Ｌを溶解した溶液を使用し、液温５５℃、電流密度２０Ａ／ｄｍ2の条件下で陽極酸化処理を行った。得られた被膜量は２．６ｇ／ｍ2であった。【０１９１】
（Ｂ−ｍ）シリケート処理
非画像部の親水性を確保するため、２．５質量％３号ケイ酸ソーダ水溶液を用いて５０℃で７秒間ディップしてシリケート処理を施した。Ｓｉの付着量は１０ｍｇ／ｍ2であった。その後、スプレーによる水洗を行った。【０１９２】
〔処理Ｃ〕
（Ｃ−ａ）アルカリエッチング処理
アルミニウム板に、カセイソーダ濃度２６質量％、アルミニウムイオン濃度６．５質量％のカセイソーダ水溶液を、温度７０℃でスプレー管により吹き付けてエッチング処理を行った。その後、スプレーによる水洗を行った。後に電気化学的粗面化処理を施す面のアルミニウム溶解量は、１．０ｇ／ｍ2であった。【０１９３】
（Ｃ−ｂ）酸性水溶液中でのデスマット処理（第１デスマット処理）
次に、酸性水溶液中でデスマット処理を行った。デスマット処理に用いる酸性水溶液は、硫酸１５０ｇ／Ｌの水溶液を用いた。その液温は３０℃であった。デスマット液はスプレーにより吹き付けて、３秒間デスマット処理した。その後、水洗処理を行った。【０１９４】
（Ｃ−ｃ）塩酸水溶液中での電気化学的粗面化処理
次に、塩酸濃度１４ｇ／Ｌ、アルミニウムイオン濃度１３ｇ／Ｌ、硫酸濃度３ｇ／Ｌの電解液を用い、交流電流を用いて電解粗面化処理を行った。電解液の液温は３０℃であった。アルミニウムイオン濃度は塩化アルミニウムを添加して調整した。交流電流の波形は正と負の波形が対称な正弦波であり、周波数は５０Ｈｚ、交流電流１周期におけるアノード反応時間とカソード反応時間は１：１、電流密度は交流電流波形のピーク電流値で７５Ａ／ｄｍ2であった。また、電気量はアルミニウム板がアノード反応に預かる電気量の総和で４５０Ｃ／ｄｍ2であり、電解処理は１２５Ｃ／ｄｍ2ずつ４秒間の通電間隔を開けて４回に分けて行った。アルミニウム板の対極にはカーボン電極を用いた。その後、水洗処理を行った。【０１９５】
（Ｃ−ｄ）アルカリエッチング処理
電気化学的粗面化処理後のアルミニウム板を、カセイソーダ濃度５質量％、アルミニウムイオン濃度０．５質量％のカセイソーダ水溶液を、温度３５℃でスプレー管により吹き付けてエッチング処理を行った。電気化学的粗面化処理が施された面のアルミニウムの溶解量は０．１ｇ／ｍ2であった。その後、水洗処理を行った。【０１９６】
（Ｃ−ｅ）酸性水溶液中でのデスマット処理
次に、酸性水溶液中でのデスマット処理を行った。デスマット処理に用いる酸性水溶液は、陽極酸化処理工程で発生した廃液（硫酸１７０ｇ／Ｌ水溶液中にアルミニウムイオン５．０ｇ／Ｌ溶解）を用いた。液温は３０℃であった。デスマット液はスプレーに吹き付けて３秒間デスマット処理を行った。【０１９７】
（Ｃ−ｆ）陽極酸化処理
二段給電電解処理法の陽極酸化装置（第一及び第二電解部長各６ｍ、第一及び第二給電部長各３ｍ、第一及び第二給電極部長各２．４ｍ）を用いて陽極酸化処理を行った。第一及び第二電解部に供給した電解液としては、硫酸を用いた。電解液は、いずれも、硫酸濃度５０ｇ／Ｌ（アルミニウムイオンを０．５質量％含む。）、温度２０℃であった。その後、スプレーによる水洗を行った。【０１９８】
（Ｃ−ｇ）シリケート処理
非画像部の親水性を確保するため、２．５質量％３号ケイ酸ソーダ水溶液を用いて５０℃で７秒間ディップしてシリケート処理を施した。Ｓｉの付着量は１０ｍｇ／ｍ2であった。その後、スプレーによる水洗を行った。【０１９９】
〔処理Ｄ〕
（Ｄ−ａ）アルカリエッチング処理
アルミニウム板に、カセイソーダ濃度２６質量％、アルミニウムイオン濃度６．５質量％のカセイソーダ水溶液を、温度７０℃でスプレー管により吹き付けてエッチング処理を行った。その後、スプレーによる水洗を行った。後に電気化学的粗面化処理を施す面のアルミニウム溶解量は、５ｇ／ｍ2であった。【０２００】
（Ｄ−ｂ）酸性水溶液中でのデスマット処理
次に、硝酸水溶液中でデスマット処理を行った。デスマット処理に用いる硝酸水溶液は、次工程の電気化学的な粗面化に用いた硝酸の廃液を用いた。その液温は３５℃であった。デスマット液はスプレーにて吹き付けて３秒間デスマット処理を行った。【０２０１】
（Ｄ−ｃ）電気化学的粗面化処理
硝酸電解６０Ｈｚの交流電圧を用いて連続的に電気化学的な粗面化処理を行った。このときの電解液は、温度３５℃、硝酸１０．４ｇ／Ｌの水溶液に硝酸アルミニウムを添加してアルミニウムイオン濃度を４．５ｇ／Ｌに調整した電解液を用いた。交流電源波形としては電流値がゼロからピークに達するまでの時間ｔｐが０．８ｍｓｅｃ、ｄｕｔｙ比１：１、台形の矩形波交流を用いて、カーボン電極を対極として電気化学的な粗面化処理を行った。補助アノードにはフェライトを用いた。電流密度は電流のピーク値で３０Ａ／ｄｍ2、補助陽極には電源から流れる電流の５％を分流させた。電気量（Ｃ／ｄｍ2）はアルミニウム板が陽極時の電気量の総和で２５０Ｃ／ｄｍ2であった。その後、スプレーによる水洗を行った。【０２０２】
（Ｄ−ｄ）アルカリエッチング処理
上記で得られたアルミニウム板に、カセイソーダ濃度５質量％、アルミニウムイオン濃度０．５質量％のカセイソーダ水溶液を、温度５０℃でスプレー管により吹き付けてエッチング処理を行った。その後、スプレーによる水洗を行った。アルミニウム溶解量は、０．２ｇ／ｍ2であった。【０２０３】
（Ｄ−ｅ）酸性水溶液中でのデスマット処理
次に、硫酸水溶液中でデスマット処理を行った。デスマット処理に用いる硫酸水溶液は、硫酸濃度１７０ｇ／Ｌ、アルミニウムイオン濃度５ｇ／Ｌの液を用いた。その液温は、３０℃であった。デスマット液はスプレーにて吹き付けて３秒間デスマット処理を行った。【０２０４】
（Ｄ−ｆ）電気化学的粗面化処理
塩酸電解６０Ｈｚの交流電圧を用いて連続的に電気化学的な粗面化処理を行った。電解液は、液温３５℃、塩酸６．２ｇ／Ｌの水溶液に塩化アルミニウムを添加してアルミニウムイオン濃度を４．５ｇ／Ｌに調整した電解液を用いた。交流電源波形としては、電流値がゼロからピークに達するまでの時間ｔｐが０．８ｍｓｅｃ、ｄｕｔｙ比１：１、台形の矩形波交流を用いて、カーボン電極を対極として電気化学的な粗面化処理を行った。補助アノードにはフェライトを用いた。電流密度は電流のピーク値で２５Ａ／ｄｍ2であり、塩酸電解における電気量（Ｃ／ｄｍ2）はアルミニウム板が陽極時の電気量の総和で６３Ｃ／ｄｍ2であった。その後、スプレーによる水洗を行った。【０２０５】
（Ｄ−ｇ）アルカリエッチング処理
上記で得られたアルミニウム板に、カセイソーダ濃度５質量％、アルミニウムイオン濃度０．５質量％のカセイソーダ水溶液を、温度５０℃でスプレー管により吹き付けてエッチング処理を行った。その後、スプレーによる水洗を行った。アルミニウム溶解量は、０．１ｇ／ｍ2であった。【０２０６】
（Ｄ−ｈ）酸性水溶液中でのデスマット処理
次に、硫酸水溶液中でデスマット処理を行った。具体的には、陽極酸化処理工程で発生した廃液（硫酸１７０ｇ／Ｌ水溶液中にアルミニウムイオン５ｇ／Ｌを溶解）を用い、液温３５℃で４秒間デスマット処理を行った。デスマット液はスプレーにて吹き付けて３秒間デスマット処理を行った。【０２０７】
（Ｄ−ｉ）陽極酸化処理
二段給電電解処理法の陽極酸化装置（第一及び第二電解部長各６ｍ、第一及び第二給電部長各３ｍ、第一及び第二給電極部長各２．４ｍ）を用いて陽極酸化処理を行った。第一及び第二電解部に供給した電解液としては、硫酸を用いた。電解液は、いずれも、硫酸濃度５０ｇ／Ｌ（アルミニウムイオンを０．５質量％含む。）、温度２０℃であった。その後、スプレーによる水洗を行った。【０２０８】
（Ｄ−ｊ）シリケート処理
非画像部の親水性を確保するため、２．５質量％３号ケイ酸ソーダ水溶液を用いて５０℃で７秒間ディップしてシリケート処理を施した。Ｓｉの付着量は１０ｍｇ／ｍ2であった。その後、スプレーによる水洗を行った。【０２０９】
〔処理Ｅ〕
（Ｅ−ａ）アルカリエッチング処理
アルミニウム板に、カセイソーダ濃度２６質量％、アルミニウムイオン濃度６．５質量％のカセイソーダ水溶液を、温度７０℃でスプレー管により吹き付けてエッチング処理を行った。その後、スプレーによる水洗を行った。後に電気化学的粗面化処理を施す面のアルミニウム溶解量は、５ｇ／ｍ2であった。【０２１０】
（Ｅ−ｂ）酸性水溶液中でのデスマット処理
次に、硝酸水溶液中でデスマット処理を行った。デスマット処理に用いる硝酸水溶液は、次工程の電気化学的な粗面化に用いた硝酸の廃液を用いた。その液温は３５℃であった。デスマット液はスプレーにて吹き付けて３秒間デスマット処理を行った。【０２１１】
（Ｅ−ｃ）電気化学的粗面化処理
硝酸電解６０Ｈｚの交流電圧を用いて連続的に電気化学的な粗面化処理を行った。このときの電解液は、温度３５℃、硝酸１０．４ｇ／Ｌの水溶液に硝酸アルミニウムを添加してアルミニウムイオン濃度を４．５ｇ／Ｌに調整した電解液を用いた。交流電源波形としては電流値がゼロからピークに達するまでの時間ｔｐが０．８ｍｓｅｃ、ｄｕｔｙ比１：１、台形の矩形波交流を用いて、カーボン電極を対極として電気化学的な粗面化処理を行った。補助アノードにはフェライトを用いた。電流密度は電流のピーク値で３０Ａ／ｄｍ2、補助陽極には電源から流れる電流の５％を分流させた。電気量（Ｃ／ｄｍ2）はアルミニウム板が陽極時の電気量の総和で２５０Ｃ／ｄｍ2であった。その後、スプレーによる水洗を行った。【０２１２】
（Ｅ−ｄ）アルカリエッチング処理
上記で得られたアルミニウム板に、カセイソーダ濃度５質量％、アルミニウムイオン濃度０．５質量％のカセイソーダ水溶液を、温度５０℃でスプレー管により吹き付けてエッチング処理を行った。その後、スプレーによる水洗を行った。アルミニウム溶解量は、０．２ｇ／ｍ2であった。【０２１３】
（Ｅ−ｅ）酸性水溶液中でのデスマット処理
次に、硫酸水溶液中でデスマット処理を行った。デスマット処理に用いる硫酸水溶液は、硫酸濃度１７０ｇ／Ｌ、アルミニウムイオン濃度５ｇ／Ｌの液を用いた。その液温は、３０℃であった。デスマット液はスプレーにて吹き付けて３秒間デスマット処理を行った。【０２１４】
（Ｅ−ｆ）電気化学的粗面化処理
塩酸電解６０Ｈｚの交流電圧を用いて連続的に電気化学的な粗面化処理を行った。電解液は、液温３５℃、塩酸６．２ｇ／Ｌの水溶液に塩化アルミニウムを添加してアルミニウムイオン濃度を４．５ｇ／Ｌに調整した電解液を用いた。交流電源波形としては、電流値がゼロからピークに達するまでの時間ｔｐが０．８ｍｓｅｃ、ｄｕｔｙ比１：１、台形の矩形波交流を用いて、カーボン電極を対極として電気化学的な粗面化処理を行った。補助アノードにはフェライトを用いた。電流密度は電流のピーク値で２５Ａ／ｄｍ2であり、塩酸電解における電気量（Ｃ／ｄｍ2）はアルミニウム板が陽極時の電気量の総和で６３Ｃ／ｄｍ2であった。その後、スプレーによる水洗を行った。【０２１５】
（Ｅ−ｇ）アルカリエッチング処理
上記で得られたアルミニウム板に、カセイソーダ濃度５質量％、アルミニウムイオン濃度０．５質量％のカセイソーダ水溶液を、温度５０℃でスプレー管により吹き付けてエッチング処理を行った。その後、スプレーによる水洗を行った。アルミニウム溶解量は、０．１ｇ／ｍ2であった。【０２１６】
（Ｅ−ｈ）酸性水溶液中でのデスマット処理
次に、硫酸水溶液中でデスマット処理を行った。具体的には、陽極酸化処理工程で発生した廃液（硫酸１７０ｇ／Ｌ水溶液中にアルミニウムイオン５ｇ／Ｌを溶解）を用い、液温３５℃で４秒間デスマット処理を行った。デスマット液はスプレーにて吹き付けて３秒間デスマット処理を行った。【０２１７】
（Ｅ−ｉ）第１段階の陽極酸化処理
直流電解による陽極酸化装置を用いて第１段階の陽極酸化処理を行った。
電解浴としては硫酸１７０ｇ／Ｌ水溶液中にアルミニウムイオン７ｇ／Ｌを溶解した溶液を使用し、液温４３℃、電流密度３０Ａ／ｄｍ2の条件下で陽極酸化処理を行った。マイクロポアの深さは２７μｍ、得られた被膜量は０．１３ｇ／ｍ2であった。【０２１８】
（Ｅ−ｊ）ポアワイド処理
上記陽極酸化処理したアルミニウム板を、温度３５℃、カセイソーダ濃度５質量％、アルミニウムイオン濃度０．５質量％のカセイソーダ水溶液に１秒間浸漬し、ポアワイド処理を行った。その後、スプレーによる水洗を行った。【０２１９】
（Ｅ−ｋ）第２段階の陽極酸化処理
直流電解による陽極酸化装置を用いて第２段階の陽極酸化処理を行った。電解浴としては硫酸１７０ｇ／Ｌ水溶液中にアルミニウムイオン７ｇ／Ｌを溶解した溶液を使用し、液温４０℃、電流密度２０Ａ／ｄｍ2の条件下で陽極酸化処理を行った。得られた被膜量は２．６ｇ／ｍ2であった。【０２２０】
（Ｅ−ｌ）シリケート処理
非画像部の親水性を確保するため、２．５質量％３号ケイ酸ソーダ水溶液を用いて５０℃で７秒間ディップしてシリケート処理を施した。Ｓｉの付着量は１０ｍｇ／ｍ2であった。その後、スプレーによる水洗を行った。【０２２１】
〔処理Ｆ〕
（Ｆ−ａ）アルカリエッチング処理
アルミニウム板に、カセイソーダ濃度２６質量％、アルミニウムイオン濃度６．５質量％のカセイソーダ水溶液を、温度７０℃でスプレー管により吹き付けてエッチング処理を行った。その後、スプレーによる水洗を行った。後に電気化学的粗面化処理を施す面のアルミニウム溶解量は、５ｇ／ｍ2であった。【０２２２】
（Ｆ−ｂ）酸性水溶液中でのデスマット処理
次に、硝酸水溶液中でデスマット処理を行った。デスマット処理に用いる硝酸水溶液は、次工程の電気化学的な粗面化に用いた硝酸の廃液を用いた。その液温は３５℃であった。デスマット液はスプレーにて吹き付けて３秒間デスマット処理を行った。【０２２３】
（Ｆ−ｃ）電気化学的粗面化処理
硝酸電解６０Ｈｚの交流電圧を用いて連続的に電気化学的な粗面化処理を行った。このときの電解液は、温度３５℃、硝酸１０．４ｇ／Ｌの水溶液に硝酸アルミニウムを添加してアルミニウムイオン濃度を４．５ｇ／Ｌに調整した電解液を用いた。交流電源波形としては、電流値がゼロからピークに達するまでの時間ｔｐが０．８ｍｓｅｃ、ｄｕｔｙ比１：１、台形の矩形波交流を用いて、カーボン電極を対極として電気化学的な粗面化処理を行った。補助アノードにはフェライトを用いた。電流密度は電流のピーク値で３０Ａ／ｄｍ2、補助陽極には電源から流れる電流の５％を分流させた。電気量（Ｃ／ｄｍ2）はアルミニウム板が陽極時の電気量の総和で２５０Ｃ／ｄｍ2であった。その後、スプレーによる水洗を行った。【０２２４】
（Ｆ−ｄ）アルカリエッチング処理
上記で得られたアルミニウム板に、カセイソーダ濃度５質量％、アルミニウムイオン濃度０．５質量％のカセイソーダ水溶液を、温度５０℃でスプレー管により吹き付けてエッチング処理を行った。その後、スプレーによる水洗を行った。アルミニウム溶解量は、０．２ｇ／ｍ2であった。【０２２５】
（Ｆ−ｅ）酸性水溶液中でのデスマット処理
次に、陽極酸化処理工程で発生した廃液（硫酸１７０ｇ／Ｌ水溶液中にアルミニウムイオン５ｇ／Ｌを溶解）を用い、液温３５℃で４秒間デスマット処理を行った。硫酸水溶液中でデスマット処理を行った。デスマット液はスプレーにて吹き付けて３秒間デスマット処理を行った。【０２２６】
（Ｆ−ｆ）陽極酸化処理
二段給電電解処理法の陽極酸化装置（第一及び第二電解部長各６ｍ、第一及び第二給電部長各３ｍ、第一及び第二給電極部長各２．４ｍ）を用いて陽極酸化処理を行った。第一及び第二電解部に供給した電解液としては、硫酸を用いた。電解液は、いずれも、硫酸濃度５０ｇ／Ｌ（アルミニウムイオンを０．５質量％含む。）、温度２０℃であった。その後、スプレーによる水洗を行った。【０２２７】
（Ｆ−ｇ）シリケート処理
非画像部の親水性を確保するため、２．５質量％３号ケイ酸ソーダ水溶液を用いて５０℃で７秒間ディップしてシリケート処理を施した。Ｓｉの付着量は１０ｍｇ／ｍ2であった。その後、スプレーによる水洗を行った。【０２２８】
＜下塗層の形成＞
上述の様に作製された支持体Ａ〜Ｆ上に、以下に示す下塗層塗布液１を塗布した後、８０℃で１５秒間乾燥し、下塗層を設けて支持体Ａ−１〜Ｆ−１とした。乾燥後の被覆量は、１５ｍｇ／ｍ2であった。【０２２９】
−下塗層塗布液１−
・重量平均分子量２．８万の下記共重合体：０．３部
・メタノール：１００部
・水：１部【０２３０】
【化３３】
2017038423.tif 000036
【０２３１】
なお、Ｅｔはエチル基を表し、括弧の右下の数値は、モル比を表す。【０２３２】
＜画像記録層の形成＞
得られた支持体Ａ−１〜Ｆ−１に、下記組成の下層形成用塗布液組成物（I）を、ワイヤーバーで塗布したのち、１５０℃の乾燥オーブンで４０秒間乾燥して塗布量を１．０ｇ／ｍ2となるようにし、下層を設けた。下層を設けた後、下記組成の上層形成用塗布液組成物（II）をワイヤーバーで塗布し上層を設けた。塗布後１５０℃、４０秒間の乾燥を行い、下層と上層とを合わせた塗布量が１．２ｇ／ｍ2となる平版印刷版原版を得た。【０２３３】
−下層形成用塗布液組成物（I）−
・表２に記載の特定高分子化合物（成分Ａ）：３．５部
・ｍ，ｐ−クレゾールノボラック（ｍ／ｐ比＝６／４、重量平均分子量６，０００）：０．６部
・赤外線吸収剤（ＩＲ色素（１）：下記構造）：０．２部
・４，４’−ビスヒドロキシフェニルスルホン：０．３部
・テトラヒドロフタル酸：０．４部
・ｐ−トルエンスルホン酸：０．０２部
・３−メトキシ−４−ジアゾジフェニルアミンヘキサフルオロホスフェート：０．０６部
・エチルバイオレットの対イオンを６−ヒドロキシナフタレンスルホン酸に変えたもの：０．１５部
・フッソ系界面活性剤（メガファックＦ−７８０、ＤＩＣ（株）製）：０．０７部
・メチルエチルケトン：３０部
・１−メトキシ−２−ブチロラクトン：１５部
・γ−ブチロラクトン：１５部【０２３４】
【化３４】
2017038423.tif 000037
【０２３５】
−上層形成用塗布液組成物（II）−
・ノボラック樹脂（ｍ−クレゾール／ｐ−クレゾール／フェノール＝３／２／５、Ｍｗ８，０００）：０．６８部
・赤外線吸収剤（ＩＲ色素（１）：上記構造）：０．０４５部
・フッ素系界面活性剤（メガファックＦ−７８０、大日本インキ化学工業（株）製）：０．０３部
・メチルエチルケトン：１５．０部
・１−メトキシ−２−プロパノール：３０．０部
・１−（４−メチルベンジル）−１−フェニルピペリジニウムの５−ベンゾイル−４−ヒドロキシ−２−メトキシベンゼンスルホン酸塩：０．０１部【０２３６】
得られた平版印刷版原版を用いて、以下の評価を行い、結果を下記表２に示す。【０２３７】
＜非画像部現像時間の評価＞
平版印刷版原版をＣｒｅｏ社製Ｔｒｅｎｄｓｅｔｔｅｒ  ＶＸにて露光エネルギーを変えてテストパターンを画像状に描き込みを行った。その後、富士フイルム（株）製現像液ＸＰ−Ｄ（希釈して、電導度を４３ｍＳ／ｃｍとしたもの）を仕込んだ現像浴に浸漬させ、現像温度３０℃で非画像部の現像に要する時間を測定した。画像濃度が、Ａｌ支持体の画像濃度と同等となった浸漬時間を非画像部現像時間とした。この時の現像時間が、２０秒未満であるものを１、２０秒以上６０秒未満であるものを２、６０秒以上１５０秒未満であるものを３、１５０秒以上のものを４とした。非画像部現像時間が短いほど、非画像部におけるアルカリ水溶液への溶解性が良好であり、アルカリ水溶液現像性（ハイライト再現性）が良好である。結果を表２に示す。【０２３８】
＜ノンバーニング耐刷性の評価＞
平版印刷版原版をＣｒｅｏ社製Ｔｒｅｎｄｓｅｔｔｅｒにて、ビーム強度９Ｗ、ドラム回転速度１５０ｒｐｍで、テストパターンを画像状に描き込みを行った。その後、富士フイルム（株）製現像液ＸＰ−Ｄ（希釈して、電導度４３ｍＳ／ｃｍとしたもの）を仕込んだ富士フイルム（株）製ＰＳプロセッサーＬＰ９４０Ｈを用い、現像温度３０℃、現像時間は、非画像部現像時間の評価が「１」ならば２０秒、非画像部現像時間の評価が「２」ならば６０秒、非画像部現像時間の評価が「３」ならば１５０秒、非画像部現像時間の評価が「４」ならば２００秒とし、現像を行った。これを、小森コーポレーション（株）製印刷機リスロンを用いて連続して印刷した。インキとしては、低品位資材のモデルとして、炭酸カルシウムを含有させた東洋インキ（株）製特練墨インキを使用した。この際、どれだけの枚数が充分なインキ濃度を保って印刷できるかを目視にて測定し、耐刷性を評価した。枚数が多いほど耐刷性に優れるものと評価する。結果を表２に示す。【０２３９】
＜バーニング耐刷性の評価＞
平版印刷版原版をＣｒｅｏ社製Ｔｒｅｎｄｓｅｔｔｅｒにて、ビーム強度９Ｗ、ドラム回転速度１５０ｒｐｍで、テストパターンを画像状に描き込みを行った。その後、富士フイルム（株）製現像液ＸＰ−Ｄ（希釈して、電導度４３ｍＳ／ｃｍとしたもの）を仕込んだ富士フイルム（株）製ＰＳプロセッサーＬＰ９４０Ｈを用い、現像温度３０℃、現像時間は、非画像部現像時間の評価が「１」ならば２０秒、非画像部現像時間の評価が「２」ならば６０秒、非画像部現像時間の評価が「３」ならば１５０秒、非画像部現像時間の評価が「４」ならば２００秒とし、現像を行った。次いで、２６０℃のオーブンで６分間加熱した。これを、小森コーポレーション（株）製印刷機リスロンを用いて連続して印刷した。インキとしては、低品位資材のモデルとして、炭酸カルシウムを含有させた東洋インキ（株）製特練墨インキを使用した。この際、どれだけの枚数が充分なインキ濃度を保って印刷できるかを目視にて測定し、バーニング耐刷性を評価した。この時の耐刷性が、ノンバーニングの耐刷性と比較して、１５０％以上向上したものを１、１３０％以上１５０％未満であるものを２、１１０％以上１３０％未満であるものを３、１１０％未満のものを４とした。ノンバーニングと比較して向上率が高いほど、バーニング耐刷性に優れるものと評価する。結果を表２に示す。【０２４０】
＜耐薬品性の評価＞
平版印刷版原版を、上記耐刷性の評価と同様にして露光、現像及び印刷を行った。この際、５，０００枚印刷する毎に、クリーナー（富士フイルム（株）製、マルチクリーナー）で版面を拭く工程を加え、耐薬品性を評価した。この時の耐刷性が、上述の耐刷枚数の９５％以上１００％以下であるものを１、８０％以上９５％未満であるものを２、６０％以上８０％未満であるものを３、６０％未満であるものを４とした。クリーナーで版面を拭く工程を加えた場合であっても、耐刷指数に変化が小さいほど耐薬品性に優れるものと評価する。結果を以下の表２に示す。【０２４１】
【表２】
2017038423.tif 000038
【０２４２】
表２の結果より明らかなように、本開示の感光性樹脂組成物を用いた場合、現像性及び耐刷性が向上していることが分かる。
なお、表２に記載したＣＰ−１〜ＣＰ−３は、以下の方法により合成した。【０２４３】
＜比較例１（ＣＰ−１）の合成例＞
コンデンサー及び撹拌機を取り付けた３つ口フラスコに、４，４’−ジアミノジフェニルメタン（東京化成工業（株）製）を９．９１ｇ、アニリン（東京化成工業（株）製）０．０４２３ｇ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（関東化学（株）製）７９．５９ｇを秤取し、反応液を室温とし、均一溶液とした。次いで、イソフタロイルジクロリド（東京化成工業（株）製）１０．１５ｇをＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（関東化学（株）製）３４．１１ｇに溶解し、室温中、滴下ロートを用いて３０分かけて滴下し、その後室温で３０分撹拌して反応させた。上記反応液を純水５００ｍＬ、アセトン５００ｍＬの混合液にあけ、ポリマーを析出させた。これを濾取、洗浄、乾燥し、重量平均分子量５１，０００のバインダーポリマー（ＣＰ−１）１７．８ｇを得た。目的物であることは、ＮＭＲスペクトル、ＩＲスペクトル、ＧＰＣ（ポリスチレン換算）から確認した。【０２４４】
＜比較例２（ＣＰ−２）の合成例＞
コンデンサー及び撹拌機を取り付けた３つ口フラスコに、３，５−ジアミノ安息香酸（東京化成工業（株）製）を７．６１ｇ、アニリン（東京化成工業（株）製）０．０４２３ｇ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（関東化学（株）製）７０．４４ｇを秤取し、反応液を室温とし、均一溶液とした。次いで、イソフタロイルジクロリド（東京化成工業（株）製）１０．１５ｇをＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（関東化学（株）製）３０．１９ｇに溶解し、室温中、滴下ロートを用いて３０分かけて滴下し、その後室温で３０分撹拌して反応させた。上記反応液を純水５００ｍＬ、アセトン５００ｍＬの混合液にあけ、ポリマーを析出させた。これを濾取、洗浄、乾燥し、重量平均分子量４９，０００のバインダーポリマー（ＣＰ−２）１５．１ｇを得た。目的物であることは、ＮＭＲスペクトル、ＩＲスペクトル、ＧＰＣ（ポリスチレン換算）から確認した。【０２４５】
＜比較例３（ＣＰ−３）の合成例＞
コンデンサー及び撹拌機を取り付けた３つ口フラスコに、Ｎ，Ｎ’−ジメチルホルムアミド（和光純薬工業（株）製）５．８０ｇを秤量し、窒素フローしながら６５℃で３０分撹拌した。次いで滴下ロートに４−メタクリルアミドベンゼンスルホンアミド（富士フイルムファインケミカルズ（株）製）７．２１ｇ、メタクリル酸メチル（和光純薬工業（株）製）３．００ｇ、アクリロニトリル（東京化成工業（株）製）２．１２ｇ、Ｎ，Ｎ’−ジメチルホルムアミド（和光純薬工業（株）製）２３．０ｇ、アソビスイソブチロニトリル（和光純薬工業（株）製）０．３２４ｇを秤量し、溶解させ、２時間かけてフラスコに滴下した。更に６５℃で３時間撹拌した。反応液を純水０．５Ｌ、メタノール０．５Ｌの混合液に滴下し、ポリマーを析出させた。これを濾取、洗浄、乾燥し、重量平均分子量５３，０００のバインダーポリマー（ＣＰ−３）１１．２ｇを得た。目的物であることは、ＮＭＲスペクトル、ＩＲスペクトル、ＧＰＣ（ポリスチレン換算）から確認した。【０２４６】
【化３５】
2017038423.tif 000039
【０２４７】
なお、ＣＰ−１〜ＣＰ−３における括弧の右下の数値は、モル比を表す。【０２４８】
（実施例２１〜４０、及び、比較例４〜６）
＜支持体の作製＞
実施例１〜２０と同様にして、支持体Ａ〜Ｆを作製した。【０２４９】
＜下塗層の形成＞
実施例１〜２０と同様にして、下塗層を有する支持体Ａ−１〜Ｆ−１を作製した。【０２５０】
＜記録層の形成＞
得られた支持体Ａ−１〜Ｆ−１に、下記組成の下層形成用塗布液組成物（III）を、ワイヤーバーで塗布したのち、１５０℃の乾燥オーブンで４０秒間乾燥して塗布量を１．０ｇ／ｍ2となるようにし、下層を設けた。下層を設けた後、下記組成の上層形成用塗布液組成物（IV）をワイヤーバーで塗布し上層を設けた。塗布後１５０℃、４０秒間の乾燥を行い、下層と上層とを合わせた塗布量が１．２ｇ／ｍ2となる平版印刷版原版を得た。【０２５１】
−下層形成用塗布液組成物（III）−
・Ｎ−（ｐ−アミノスルホニルフェニル）メタクリルアミド／メタクリル酸メチル／アクリロニトリル＝３５／３５／３０（モル比）の共重合体（重量平均分子量６．５万）：３．５部
・ｍ，ｐ−クレゾールノボラック（ｍ／ｐ比＝６／４、重量平均分子量６，０００）：０．６部
・赤外線吸収剤（上記ＩＲ色素（１））：０．２部
・４，４’−ビスヒドロキシフェニルスルホン：０．３部
・テトラヒドロフタル酸：０．４部
・ｐ−トルエンスルホン酸：０．０２部
・３−メトキシ−４−ジアゾジフェニルアミンヘキサフルオロホスフェート：０．０６部
・エチルバイオレットの対イオンを６−ヒドロキシナフタレンスルホン酸に変えたもの：０．１５部
・フッソ系界面活性剤（メガファックＦ−７８０、ＤＩＣ（株）製）：０．０７部
・メチルエチルケトン：３０部
・１−メトキシ−２−ブチロラクトン：１５部
・γ−ブチロラクトン：１５部【０２５２】
−上層形成用塗布液組成物（IV）−
・表３に記載の特定高分子化合物（成分Ａ）：０．３部
・ノボラック樹脂（ｍ−クレゾール／ｐ−クレゾール／フェノール＝３／２／５、Ｍｗ８，０００）：０．４部
・赤外線吸収剤（上記ＩＲ色素（１））：０．０４５部
・フッ素系界面活性剤（メガファックＦ−７８０、ＤＩＣ（株）製）：０．０３部
・メチルエチルケトン：１５．０部
・１−メトキシ−２−プロパノール：３０．０部
・１−（４−メチルベンジル）−１−フェニルピペリジニウムの５−ベンゾイル−４−ヒドロキシ−２−メトキシベンゼンスルホン酸塩：０．０１部【０２５３】
得られた各平版印刷版原版に対して、実施例１と同様の条件で評価を行った結果を下記表３に示す。【０２５４】
【表３】
2017038423.tif 000040
【０２５５】
表３の結果より明らかなように、本開示の感光性樹脂組成物を用いた場合、耐薬品性、現像性、及び、耐刷性のいずれも優れていることが分かる。【０２５６】
（実施例４１〜６０、及び、比較例７〜９）
＜支持体の作製＞
実施例１〜２０と同様にして、支持体Ａ〜Ｆを作製した。【０２５７】
＜下塗層の形成＞
上述の様に作製された支持体Ａ〜Ｆ上に、以下に示す下塗層塗布液２を塗布した後、８０℃で１５秒間乾燥し、下塗層を設けて支持体Ａ−２〜Ｆ−２とした。乾燥後の被覆量は、１５ｍｇ／ｍ2であった。【０２５８】
−下塗層塗布液２−
・β−アラニン：０．５部
・メタノール：９５部
・水：５部【０２５９】
＜記録層の形成＞
得られた支持体Ａ−２〜Ｆ−２に、下記組成の下層形成用塗布液組成物（V）を、塗布量が１．５ｇ／ｍ2となるようワイヤーバーで塗布したのち、１６０℃の乾燥オーブンで４０秒間乾燥し、直ちに１７〜２０℃の冷風で支持体の温度が３５℃になるまで冷却し、下層を設けた。下層を設けた後、下記組成の上層形成用塗布液組成物（VI）を塗布量が０．５ｇ／ｍ2になるようワイヤーバーで塗布したのち、１３０℃で４０秒間乾燥し、更に２０〜２６℃の風で徐冷し、上層を設け、平版印刷版原版を得た。【０２６０】
−下層形成用塗布液組成物（V）−
・表４に記載の特定高分子化合物（成分Ａ）：０．８部
・赤外線吸収剤（ＩＲ色素（１）：上記構造）：０．０１７部
・クリスタルヴァイオレット（保土谷化学工業（株）製）：０．０１７部
・メガファックＦ−１７７（ＤＩＣ（株）製、フッ素系界面活性剤）：０．０１５部
・γ−ブチロラクトン：１０部
・メチルエチルケトン：１０部
・１−メトキシ−２−プロパノール：８部【０２６１】
−上層形成用塗布液組成物（VI）−
・スチレン／アクリロニトリル／メタクリル酸コポリマー（組成比６９ｍｏｌ％／２５ｍｏｌ％／６ｍｏｌ％、重量平均分子量４５，０００）：２０部
・アルカリ可溶性樹脂：下記ポリウレタン１：１０部
・エチルバイオレット：０．０３部
・メガファックＦ−１７７（ＤＩＣ（株）製、フッ素系界面活性剤）：０．０５部
・３−ペンタノン：６０部
・プロピレングリコールモノメチルエーテル−２−アセテート：８部【０２６２】
＜＜ポリウレタン１の合成＞＞
下記式で表されるジイソシアネート化合物とジオール化合物とを１：１のモル比となるように重合させた（重量平均分子量３６，０００）。【０２６３】
【化３６】
2017038423.tif 000041
【０２６４】
得られた平版印刷版原版に対して、現像処理に下記特定現像液Ａを用いた以外は実施例１と同様の条件で評価を行った。結果を下記表４に示す。【０２６５】
−特定現像液Ａの組成−
・水：７９６部
・炭酸ナトリウム：１２．８部
・炭酸水素ナトリウム：７．０部
・グルコン酸ナトリウム：１５．５部
・ソフタゾリンＬＰＢ−Ｒ（３０％水溶液、川研ファインケミカル（株）製）：１５４．０部
・ソフタゾリンＬＡＯ（３０％水溶液、川研ファインケミカル（株）製）：３８．０部
・エチレンジアミンジサクシネート：６．７部
特定現像液ＡのｐＨは、９．８５であった。【０２６６】
【表４】
2017038423.tif 000042
【０２６７】
表４の結果より明らかなように、本開示の感光性樹脂組成物を用いた場合、耐薬品性、現像性、及び、耐刷性のいずれも優れていることが分かる。【０２６８】
（実施例６１〜８０、及び、比較例１０〜１２）
＜支持体の作製＞
実施例１〜２０と同様にして、支持体Ａ〜Ｆを作製した。【０２６９】
＜下塗層の形成＞
実施例１〜２０と同様にして、下塗層を有する支持体Ａ−１〜Ｆ−１を作製した。【０２７０】
＜記録層の形成＞
得られた支持体Ａ−１〜Ｆ−１に、下記組成の下層形成用塗布液組成物（VII）を、塗布量が１．５ｇ／ｍ2となるようワイヤーバーで塗布したのち、１６０℃の乾燥オーブンで４０秒間乾燥し、直ちに１７〜２０℃の冷風で支持体の温度が３５℃になるまで冷却し、下層を設けた。下層を設けた後、下記組成の上層形成用塗布液組成物（VIII）を塗布量が０．５ｇ／ｍ2になるようワイヤーバーで塗布したのち、１３０℃で４０秒間乾燥し、更に２０〜２６℃の風で徐冷し、上層を設け、平版印刷版原版を得た。【０２７１】
−下層形成用塗布液組成物（VII）−
・Ｎ−フェニルマレイミド／メタクリル酸／メタクリルアミドコポリマー（共重合比６０ｍｏｌ％／１５ｍｏｌ％／２５ｍｏｌ％、重量平均分子量＝５０，０００）：０．８部
・赤外線吸収剤（ＩＲ色素（１）：上記構造）：０．０１７部
・クリスタルヴァイオレット（保土谷化学工業（株）製）：０．０１７部
・メガファックＦ−１７７（ＤＩＣ（株）製、フッ素系界面活性剤）：０．０１５部
・γ−ブチロラクトン：１０部
・メチルエチルケトン：１０部
・１−メトキシ−２−プロパノール：８部【０２７２】
−上層形成用塗布液組成物（VIII）−
・表５に記載の特定高分子化合物（成分Ａ）：２０部
・アルカリ可溶性樹脂（上記ポリウレタン１）：１０部
・エチルバイオレット：０．０３部
・メガファックＦ−１７７（ＤＩＣ（株）製、フッ素系界面活性剤）：０．０５部
・３−ペンタノン：６０部
・プロピレングリコールモノメチルエーテル−２−アセテート：８部【０２７３】
得られた各平版印刷版原版に対して、実施例１と同様の条件で評価を行った結果を下記表５に示す。【０２７４】
【表５】
2017038423.tif 000043
【０２７５】
表５の結果から明らかなように、本開示の感光性樹脂組成物を用いた場合、耐薬品性、現像性、及び、耐刷性のいずれも優れていることが分かる。【０２７６】
（実施例８１〜１００、及び、比較例１３〜１５）
＜支持体の作製＞
実施例１〜２０と同様にして、支持体Ａ〜Ｆを作製した。【０２７７】
＜下塗層の形成＞
実施例１〜２０と同様にして、下塗層を有する支持体Ａ−１〜Ｆ−１を作製した。【０２７８】
＜記録層の形成＞
得られた支持体Ａ−１〜Ｆ−１に、下記組成の塗布液組成物（IX）を、ワイヤーバーで塗布したのち、１４０℃の乾燥オーブンで５０秒間乾燥して塗布量を１．０ｇ／ｍ2となる平版印刷版原版を得た。【０２７９】
−塗布液組成物（IX）−
・ｍ，ｐ−クレゾールノボラック（ｍ／ｐ比＝６／４、重量平均分子量５，０００）：０．４７４部
・表６に記載の特定高分子化合物（成分Ａ）：２．３７部
・赤外線吸収剤（上記ＩＲ色素（１））：０．１５５部
・２−メトキシ−４−（Ｎ−フェニルアミノ）ベンゼンジアゾニウム・ヘキサフルオロホスフェート：０．０３部
・テトラヒドロ無水フタル酸：０．１９部
・エチルバイオレットの対イオンを６−ヒドロキシ−β−ナフタレンスルホン酸にしたもの：０．１１部
・フッ素系界面活性剤（メガファックＦ−７８０、ＤＩＣ（株）製）：０．０７部
・ｐ−トルエンスルホン酸：０．００８部
・ビス−ｐ−ヒドロキシフェニルスルホン：０．１３部
・３，３’−チオジプロピオン酸ジミリスチル：０．０４部
・ラウリルステアレート：０．０２部
・γ−ブチロラクトン：１３部
・メチルエチルケトン：２４部
・１−メトキシ−２−プロパノール：１１部【０２８０】
得られた平版印刷版原版に対して、現像処理に富士フイルム（株）製現像液ＬＨ−ＤＳを用いた以外は実施例１と同様の条件で評価を行った結果を下記表６に示す。【０２８１】
【表６】
2017038423.tif 000044
【０２８２】
表６の結果から明らかなように、本開示の感光性樹脂組成物を用いた場合、耐薬品性、現像性、及び、耐刷性のいずれも優れていることが分かる。【０２８３】
２０１５年８月３１日に出願された日本国特許出願２０１５−１７１０３８号の開示は、その全体が参照により本明細書に取り込まれる。
また、２０１６年６月２９日に出願された日本国特許出願２０１６−１２９３５０号の開示は、その全体が参照により本明細書に取り込まれる。
本明細書に記載された全ての文献、特許出願、及び、技術規格は、個々の文献、特許出願、及び、技術規格が参照により取り込まれることが具体的かつ個々に記された場合と同程度に、本明細書中に参照により取り込まれる。
【手続補正書】
【提出日】平成29年12月14日(2017.12.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持体上に、
成分Ａとして、下記式２で表される構造を有する高分子化合物、及び、成分Ｂとして、赤外線吸収剤を含有する記録層を有する
平版印刷版原版。
【化１】
2017038423.tif 000052
式２中、Ｒ２はそれぞれ独立に、アルキル基又はアリール基を表し、ｘは１〜４の整数を表し、ｙは０〜３の整数を表す。
【請求項２】
成分Ａが、下記式３で表される構造を有する高分子化合物である、請求項１に記載の平版印刷版原版。
【化２】
2017038423.tif 000053
式３中、Ｒ２はそれぞれ独立に、アルキル基又はアリール基を表し、ｙは０〜３の整数を表す。
【請求項３】
ポジ型平版印刷版原版である、請求項１又は２に記載の平版印刷版原版。
【請求項４】
前記記録層が、下層及び上層の２層構造であり、前記下層及び前記上層の少なくとも１層に成分Ａ及び成分Ｂを含有する、請求項１〜３のいずれか１項に記載の平版印刷版原版。
【請求項５】
前記支持体と前記記録層との間に、中間層を更に有する、請求項１〜４のいずれか１項に記載の平版印刷版原版。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれか１項に記載の平版印刷版原版を像様露光する露光工程、及び、
露光した平版印刷版原版をｐＨ８．５〜１３．５のアルカリ水溶液を用いて現像する現像工程、をこの順で含む
平版印刷版の製版方法。
【国際調査報告】
2017038423.tif 000054
2017038423.tif 000055
2017038423.tif 000056
2017038423.tif 000057