(57)【要約】本発明は、防汚性、耐擦傷性、及び、防曇性に優れた光学部材を提供する。本発明の光学部材は、複数の凸部が可視光の波長以下のピッチで設けられる凹凸構造を表面に有し、上記複数の凸部の各々は、先端に親水性部分を有し、好ましくは、上記複数の凸部の各々は、疎水性樹脂で構成され、かつ、上記先端が親水性材料で覆われており、上記親水性材料は、二酸化ケイ素を含有するものであり、上記親水性材料の厚みは、３０ｎｍ以下であるものである。
2017115694.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の凸部が可視光の波長以下のピッチで設けられる凹凸構造を表面に有し、
前記複数の凸部の各々は、先端に親水性部分を有することを特徴とする光学部材。
【請求項２】
前記複数の凸部の各々は、疎水性樹脂で構成され、かつ、前記先端が親水性材料で覆われていることを特徴とする請求項１に記載の光学部材。
【請求項３】
前記親水性材料は、二酸化ケイ素を含有することを特徴とする請求項２に記載の光学部材。
【請求項４】
前記親水性材料の厚みは、３０ｎｍ以下であることを特徴とする請求項２又は３に記載の光学部材。
【請求項５】
前記複数の凸部の各々は、疎水性樹脂で構成され、かつ、前記先端が表面改質されていることを特徴とする請求項１に記載の光学部材。
【請求項６】
請求項２〜４のいずれかに記載の光学部材の製造方法であって、
前記複数の凸部の各々の先端に、前記親水性材料を成膜する工程を含むことを特徴とする光学部材の製造方法。
【請求項７】
前記工程は、プラズマデポジション法によって行われることを特徴とする請求項６に記載の光学部材の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学部材、及び、光学部材の製造方法に関する。より詳しくは、ナノメートルサイズの凹凸構造を表面に有する光学部材、及び、上記光学部材の製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
微細な凹凸構造を表面に有する部材は、様々な用途での適用が検討されている（例えば、特許文献１〜５参照）。特に、ナノメートルサイズの凹凸構造（ナノ構造）を表面に有する光学部材は、優れた反射防止性を有することが知られている。このような凹凸構造によれば、空気層から基材にかけて屈折率が連続的に変化するため、反射光を劇的に減少させることができる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００３−１７２８０８号公報
【特許文献２】特開２００７−１７８７２４号公報
【特許文献３】特開２０１４−１５３５２４号公報
【特許文献４】特許第５００５１１４号公報
【特許文献５】特開２０００−３０８６０３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、従来の光学部材では、防汚性、耐擦傷性、及び、防曇性が不充分であり、改善の余地があった。【０００５】
凸部が疎水性樹脂で構成される場合、汚れをはじきやすくすることができる。しかしながら、一旦、汚れが凸部の間隙（凹部）に入り込んでしまうと、特に、その中の表面張力が低い液体成分を拭き取ることができない。例えば、汚れを拭き取る際にワイパーを用いる場合、ワイパーの繊維は、その径が大きいために、凸部の間隙に入りにくい。よって、ワイパーと溶剤とを組み合わせて用いることになるが、凸部が疎水性樹脂で構成されているため、水溶液を用いることができない。一方、凸部が親水性樹脂で構成される場合、凸部の間隙に入り込んだ汚れが広がりやすくなる。以上の結果、付着した汚れは、その反射率が光学部材の反射率と大きく異なるため、視認されやすくなってしまう。そのため、防汚性を高める点において改善の余地があった。【０００６】
また、防汚性を高めるために、フッ素系材料を凹凸構造の表面上に塗布することによって、凹凸構造に疎水性を付与する方法も考えられる。しかしながら、凹凸構造とフッ素系材料との密着性が低いため、汚れを拭き取る際にフッ素系材料も一緒に拭き取られてしまう。そのため、耐擦傷性を高める点においても改善の余地があった。【０００７】
更に、凸部が疎水性樹脂で構成される場合、水を広げる速度が不充分であり、防曇性を高める点においても改善の余地があった。【０００８】
上記特許文献１は、凹凸構造の表面上にポリテトラフルオロエチレンからなる撥水皮膜が形成された構成を開示している。しかしながら、上記特許文献１に記載の発明では、凹凸構造と撥水皮膜との密着性が低いため、撥水皮膜が剥離しやすい。また、撥水皮膜は薄いため、その強度が弱く、拭き取りの際にポリテトラフルオロエチレンの濃度が低下しやすい。更に、ポリテトラフルオロエチレンによって凹凸構造に疎水性が付与されるため、水を広げる速度が不充分である。以上より、耐擦傷性及び防曇性を高める点において改善の余地があった。【０００９】
上記特許文献２は、基材と金型との間に、フッ素化合物を含む光硬化性樹脂組成物を供給し圧延した後、硬化させることによって凹凸構造を形成する方法を開示している。しかしながら、上記特許文献２に記載の発明では、凹凸構造の表面におけるフッ素化合物の濃度が不充分である。また、フッ素化合物によって凹凸構造に疎水性が付与されるため、水を広げる速度が不充分である。以上より、防汚性及び防曇性を高める点において改善の余地があった。【００１０】
上記特許文献３は、凹凸構造の表面上にパーフルオロアルキルポリエーテルカルボン酸を含むフッ素系潤滑剤による潤滑層が形成された構成を開示している。しかしながら、上記特許文献３に記載の発明では、凹凸構造と潤滑層との密着性が弱いため、潤滑層が剥離しやすい。また、フッ素系潤滑剤によって凹凸構造に疎水性が付与されるため、水を広げる速度が不充分である。以上より、耐擦傷性及び防曇性を高める点において改善の余地があった。【００１１】
上記特許文献４は、フッ素を含有する外部離型剤で金型の表面を処理し、基材と金型との間に、内部離型剤を含む活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を供給した後、硬化させることによって凹凸構造を形成する方法を開示している。しかしながら、上記特許文献４に記載の発明では、凹凸構造の表面における内部離型剤の濃度が不充分である。また、内部離型剤によって凹凸構造に疎水性が付与されるため、水を広げる速度が不充分である。以上より、防汚性及び防曇性を高める点において改善の余地があった。【００１２】
上記特許文献５は、筋状の微細な凹凸構造を表面に有する構成を開示している。しかしながら、上記特許文献５に記載の発明では、凸部の間隙に入り込んだ汚れを拭き取りにくい。また、凸部（凹部）が筋状に配置されているため、水を広げる速度が不充分である。以上より、防汚性及び防曇性を高める点において改善の余地があった。【００１３】
本発明は、上記現状に鑑みてなされたものであり、防汚性、耐擦傷性、及び、防曇性に優れた光学部材、並びに、上記光学部材の製造方法を提供することを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
本発明者らは、防汚性、耐擦傷性、及び、防曇性に優れた光学部材について種々検討したところ、ナノ構造の複数の凸部の各々が、その一部に親水性部分を有する構成に着目した。そして、各凸部が先端に親水性部分を有する構成とすることで、汚れが先端に集まって拭き取りやすくなるため、優れた防汚性が得られることを見出した。また、親水性部分と各凸部との密着性が高いため、優れた耐擦傷性が得られることを見出した。更に、各凸部の先端の親水性部分によって水を広げる速度が高まるため、優れた防曇性が得られることを見出した。以上により、上記課題をみごとに解決することができることに想到し、本発明に到達したものである。【００１５】
すなわち、本発明の一態様は、複数の凸部が可視光の波長以下のピッチで設けられる凹凸構造を表面に有し、上記複数の凸部の各々は、先端に親水性部分を有する光学部材であってもよい。【００１６】
本発明の別の一態様は、上記光学部材の製造方法であって、上記複数の凸部の各々の先端に、親水性材料を成膜する工程を含む光学部材の製造方法であってもよい。
【発明の効果】
【００１７】
本発明によれば、防汚性、耐擦傷性、及び、防曇性に優れた光学部材、並びに、上記光学部材の製造方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】実施形態の光学部材を示す断面模式図である。
【図２】実施形態の光学部材の製造プロセスを説明するための断面模式図である（工程ａ〜ｅ）。
【図３】実施例１における硬化樹脂層完成時の断面ＳＥＭ写真である。
【図４】実施例１の光学部材の断面ＳＥＭ写真である。
【図５】比較例３の光学部材の製造プロセスを説明するための断面模式図である（工程ａ〜ｄ）。
【図６】防曇性の評価方法を説明するための断面模式図である。
【図７】別の実施形態の光学部材を示す断面模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００１９】
以下に実施形態を掲げ、本発明について図面を参照して更に詳細に説明するが、本発明はこれらの実施形態のみに限定されるものではない。また、各実施形態の構成は、本発明の要旨を逸脱しない範囲において適宜組み合わされてもよいし、変更されてもよい。
【００２０】
［実施形態］
図１は、実施形態の光学部材を示す断面模式図である。図１に示すように、光学部材１は、基材２、硬化樹脂層３、及び、親水性材料５を備えている。硬化樹脂層３は、複数の凸部（突起）４が可視光の波長以下のピッチ（隣接する凸部４の頂点間の距離）Ｐで設けられる凹凸構造を表面に有している。よって、光学部材１は、モスアイ構造（蛾の目状の構造）を有する反射防止部材に相当する。これにより、光学部材１は、モスアイ構造による優れた反射防止性（低反射性）を示すことができる。複数の凸部４の各々の先端は、親水性材料５で覆われている。
【００２１】
基材２の材料としては特に限定されず、例えば、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、メチルメタクリレート（ＭＭＡ）等が挙げられる。基材２は、上記材料以外に、可塑剤等の添加剤を適宜含んでいてもよい。
【００２２】
基材２の形状としては特に限定されず、例えば、フィルム状、シート状等が挙げられる。光学部材１をフィルム状にする場合は、フィルム状の基材２を用いればよく、例えば、トリアセチルセルロースフィルム（ＴＡＣフィルム）等が好ましく用いられる。また、基材２が偏光板の一部を構成する形態が好ましい。
【００２３】
基材２の厚みは特に限定されないが、透明性及び加工性を確保する観点から、５０μｍ以上、１００μｍ以下であることが好ましい。
【００２４】
凸部４の形状は特に限定されず、例えば、柱状の下部と半球状の上部とによって構成される形状（釣鐘状）、錐体状（コーン状、円錐状）等の、先端に向かって細くなる形状（テーパー形状）が挙げられる。また、凸部４は、枝突起を有する形状であってもよい。枝突起とは、モスアイ構造を形成する金型を作製するための陽極酸化及びエッチングを行う過程で形成されてしまった、間隔が不規則な部分に対応する凸部を示す。図１中、隣接する凸部４の間隙の底辺は傾斜した形状となっているが、傾斜せずに水平な形状であってもよい。
【００２５】
隣接する凸部４間のピッチＰは、可視光の波長（７８０ｎｍ）以下であれば特に限定されないが、モアレ、虹ムラ等の光学現象を充分に防止する観点から、１００ｎｍ以上、４００ｎｍ以下であることが好ましく、１００ｎｍ以上、２００ｎｍ以下であることがより好ましい。本明細書中、隣接する凸部間のピッチは、測定機として日立ハイテクノロジーズ社製の走査型電子顕微鏡（製品名：Ｓ−４７００）を用い、撮影された平面写真から読み取った、１μｍ角の領域内における、枝突起を除くすべての隣接する凸部間の距離の平均値を示す。なお、隣接する凸部間のピッチの測定は、メイワフォーシス社製のオスミウムコーター（製品名：Ｎｅｏｃ−ＳＴ）を用いて、凹凸構造上に、和光純薬工業社製の酸化オスミウムＶＩＩＩ（厚み：５ｎｍ）を塗布した状態で行った。
【００２６】
凸部４の高さは特に限定されないが、後述する凸部４の好ましいアスペクト比と両立させる観点から、５０ｎｍ以上、６００ｎｍ以下であることが好ましく、１００ｎｍ以上、３００ｎｍ以下であることがより好ましい。本明細書中、凸部の高さは、測定機として日立ハイテクノロジーズ社製の走査型電子顕微鏡（製品名：Ｓ−４７００）を用い、撮影された断面写真から読み取った、枝突起を除く連続して並んだ１０個の凸部の高さの平均値を示す。ただし、１０個の凸部を選択する際は、欠損や変形した部分（試料を準備する際に変形させてしまった部分等）がある凸部を除くものとする。試料としては、光学部材の特異的な欠陥がない領域でサンプリングされたものが用いられ、例えば、光学部材が連続的に製造されるロール状である場合、その中央付近でサンプリングされたものを用いる。なお、凸部の高さの測定は、メイワフォーシス社製のオスミウムコーター（製品名：Ｎｅｏｃ−ＳＴ）を用いて、凹凸構造上に、和光純薬工業社製の酸化オスミウムＶＩＩＩ（厚み：５ｎｍ）を塗布した状態で行った。
【００２７】
凸部４のアスペクト比は特に限定されないが、０．８以上、１．５以下であることが好ましい。凸部４のアスペクト比が１．５以下である場合、モスアイ構造の加工性が充分に高まり、スティッキングが発生したり、モスアイ構造を形成する際の転写具合が悪化したりする（金型が詰まったり、巻き付いてしまう、等）懸念が低くなる。凸部４のアスペクト比が０．８以上である場合、モアレ、虹ムラ等の光学現象を充分に防止し、良好な反射特性を実現することができる。本明細書中、凸部のアスペクト比は、測定機として日立ハイテクノロジーズ社製の走査型電子顕微鏡（製品名：Ｓ−４７００）を用い、上述したような方法で測定された各凸部のピッチと高さとの比（高さ／ピッチ）で示す。
【００２８】
凸部４の配置は特に限定されず、ランダムに配置されていても、規則的に配置されていてもよい。モアレの発生を充分に防止する観点からは、ランダムに配置されていることが好ましい。
【００２９】
凸部４は、疎水性樹脂で構成され、かつ、先端が親水性材料５で覆われている。これにより、凸部４は、親水性材料５で覆われている親水性部分（先端）と、疎水性樹脂が露出している疎水性部分とを有することになる。本明細書中、親水性部分は、凸部の先端以外の部分よりも表面張力が高い部分を指し、好ましくは、水の接触角が３０°以下の部分である。凸部の先端以外の部分は、水の接触角が９０°よりも大きい部分であることが好ましい。本明細書中、親水性材料は、凸部を構成する疎水性樹脂よりも表面張力が高い材料を指し、好ましくは、水の接触角が３０°以下の材料である。疎水性樹脂は、水の接触角が９０°よりも大きい樹脂であることが好ましい。本明細書中、表面張力は、浸透速度法を用いて測定される。浸透速度法は、カラム中に対象物を一定の圧力で押し固めて充填し、関係式：ｈ２／ｔ＝（ｒ・γｃｏｓθ）／２ηから、対象物の表面張力を決定する方法である。上記関係式中、ｈは水の浸透高さを示し、ｔは時間を示し、ｒは充填された対象物の毛管半径を示し、γは表面張力を示し、ηは水の粘度を示し、θは水の接触角を示す。表面張力が小さいほど接触角が大きくなり、疎水性がより高いことを示す。
【００３０】
疎水性樹脂のうち公知のものとしては、例えば、旭硝子社製のナノインプリント用樹脂（製品名：ＮＩＦ−Ａ−１）、東洋合成工業社製のナノインプリント用樹脂（製品名：ＰＡＫ−０２）、三井化学社製のナノインプリント用樹脂（製品名：ＦＲＯＭＰ（登録商標））等が挙げられる。疎水性樹脂としては、これらの他に、ウレタンアクリレート、多官能アクリレート、単官能モノマー、フッ素含有化合物、重合開始剤等の混合物（後述する樹脂組成物）の硬化物、又は、その積層体を用いることもできる。
【００３１】
親水性材料５としては、例えば、酸化物、窒化物等が挙げられ、中でも、無機酸化物、無機窒化物等が好ましく用いられる。無機酸化物としては、例えば、二酸化ケイ素（ＳｉＯ２）、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）、五酸化タンタル（Ｔａ２Ｏ５）等が挙げられる。無機窒化物としては、窒化ケイ素（ＳｉＮ、Ｓｉ３Ｎ４）等が挙げられる。親水性材料５は、二酸化ケイ素を含有することが好ましい。
【００３２】
親水性材料５の厚みは、３０ｎｍ以下であることが好ましい。親水性材料５の厚みが３０ｎｍ以下である場合、親水性材料５が凸部４の先端を覆う状態を好ましく実現することができる。本明細書中、親水性材料の厚みは、凸部の頂点側の表面から、凸部の頂点とは反対側の表面までの距離（図１中の厚みＴに相当）を指す。
【００３３】
以上より、本実施形態によれば、複数の凸部４の各々の先端が親水性材料５で覆われているため、下記（ｉ）〜（ｉｖ）の効果を奏することができる。
（ｉ）光学部材１の表面（凹凸構造の表面）に汚れが付着する場合、汚れが凸部４の先端に集まるため、拭き取りやすくなる。更に、凸部４において、親水性材料５で覆われている親水性部分（先端）と、疎水性樹脂が露出している疎水性部分との境界が存在するため、汚れが多量に付着する場合（例えば、汚れのサイズが、隣接する凸部４間のピッチＰよりも大きい場合）であっても、汚れがその境界を越えて、凸部４の間隙（凹部）の深部に入り込むことを防止することができる。この効果は、上記境界に存在する段差が大きいほど更に高まる。以上より、光学部材１は、優れた防汚性を示すことができる。
（ｉｉ）光学部材１の表面（凹凸構造の表面）に汚れが付着しても、汚れが凸部４の先端毎に分散された状態（ナノ分散状態）になるため、汚れが視認されにくくなる。
（ｉｉｉ）親水性材料５と凸部４との密着性が高いため、光学部材１は、優れた耐擦傷性を示すことができる。
（ｉｖ）親水性材料５によって水を広げる速度が高まるため、光学部材１は、優れた防曇性を示すことができる。
【００３４】
次に、本実施形態の光学部材の製造プロセスについて、図２を参照して例示する。図２は、実施形態の光学部材の製造プロセスを説明するための断面模式図である（工程ａ〜ｅ）。
【００３５】
（ａ）樹脂組成物の塗布
まず、図２（ａ）に示すように、基材２の表面上に樹脂組成物６を塗布する。樹脂組成物６の塗布方法としては特に限定されず、例えば、スプレー方式、グラビア方式、スロットダイ方式等で塗布する方法が挙げられる。
【００３６】
樹脂組成物６は、活性エネルギー線の照射によって硬化（重合）するものであることが好ましい。本明細書中、活性エネルギー線は、紫外線、可視光線、赤外線、プラズマ等を指す。樹脂組成物６は、紫外線によって硬化するものであることが好ましい。
【００３７】
樹脂組成物６は、ウレタンアクリレート、多官能アクリレート、単官能モノマー、フッ素含有化合物、重合開始剤等を適宜含んでいてもよい。
【００３８】
ウレタンアクリレートとしては、例えば、新中村化学工業社製のウレタンアクリレート（製品名：ＵＡ−７１００）、新中村化学工業社製のウレタンアクリレート（製品名：Ｕ−４ＨＡ）、共栄社化学社製のウレタンアクリレート（製品名：ＵＡ−３０６Ｈ）、共栄社化学社製のウレタンアクリレート（製品名：ＡＨ−６００）等が挙げられる。樹脂組成物６は、１種類のウレタンアクリレートを含んでいてもよく、複数種類のウレタンアクリレートを含んでいてもよい。
【００３９】
多官能アクリレートとしては、例えば、ペンタエリスリトールトリアクリレート、エトキシ化ペンタエリスリトールテトラアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、エトキシ化（４モル付加物）ビスフェノールＡジアクリレート等が挙げられる。ペンタエリスリトールトリアクリレートのうち公知のものとしては、例えば、新中村化学工業社製の多官能アクリレート（製品名：Ａ−ＴＭＭ−３ＬＭ−Ｎ）等が挙げられる。エトキシ化ペンタエリスリトールテトラアクリレートのうち公知のものとしては、例えば、新中村化学工業社製の多官能アクリレート（製品名：ＡＴＭ−３５Ｅ）等が挙げられる。１，６−ヘキサンジオールジアクリレートのうち公知のものとしては、例えば、新中村化学工業社製の多官能アクリレート（製品名：Ａ−ＨＤ−Ｎ）等が挙げられる。トリプロピレングリコールジアクリレートのうち公知のものとしては、例えば、新中村化学工業社製の多官能アクリレート（製品名：ＡＰＧ−２００）等が挙げられる。エトキシ化（４モル付加物）ビスフェノールＡジアクリレートのうち公知のものとしては、例えば、新中村化学工業社製の多官能アクリレート（製品名：Ａ−ＢＰＥ−４）等が挙げられる。樹脂組成物６は、１種類の多官能アクリレートを含んでいてもよく、複数種類の多官能アクリレートを含んでいてもよい。
【００４０】
単官能モノマーとしては、例えば、Ｎ−アクリロイルモルホリン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルメタクリルアミド、Ｎ−メトキシ−Ｎ−メチル−３−フェニル−アクリルアミド等が挙げられる。Ｎ−アクリロイルモルホリンのうち公知のものとしては、例えば、ＫＪケミカルズ社製の単官能モノマー（製品名：ＡＣＭＯ（登録商標））等が挙げられる。Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミドのうち公知のものとしては、例えば、ＫＪケミカルズ社製の単官能モノマー（製品名：ＤＭＡＡ（登録商標））等が挙げられる。Ｎ，Ｎ−ジエチルアクリルアミドのうち公知のものとしては、例えば、ＫＪケミカルズ社製の単官能モノマー（製品名：ＤＥＡＡ（登録商標））等が挙げられる。Ｎ，Ｎ−ジメチルメタクリルアミドのうち公知のものとしては、例えば、東京化成工業社製の単官能モノマー（製品コード：Ｄ０７４５）等が挙げられる。Ｎ−メトキシ−Ｎ−メチル−３−フェニル−アクリルアミドのうち公知のものとしては、例えば、シグマアルドリッチ社製の単官能モノマー等が挙げられる。樹脂組成物６は、１種類の単官能モノマーを含んでいてもよく、複数種類の単官能モノマーを含んでいてもよい。単官能モノマーは、Ｎ−アクリロイルモルホリン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド、及び、Ｎ，Ｎ−ジエチルアクリルアミドからなる群より選択される少なくとも１つのモノマーを含むことが好ましい。
【００４１】
フッ素含有化合物は、構成成分としてフッ素含有モノマーを含んでいる。フッ素含有化合物は、更に、アクリレートモノマー等の他のモノマー成分を含んでいてもよい。
【００４２】
フッ素含有化合物は、反応性基を有することが好ましい。本明細書中、反応性基は、光、熱等の外部エネルギーによって他の成分と反応する部位を指す。このような反応性基としては、例えば、アルコキシシリル基、シリルエーテル基、アルコキシシリル基が加水分解されたシラノール基、カルボキシル基、水酸基、エポキシ基、ビニル基、アリル基、アクリロイル基、メタクリロイル基等が挙げられる。反応性基としては、反応性及び取り扱い性の観点から、アルコキシシリル基、シリルエーテル基、シラノール基、エポキシ基、ビニル基、アリル基、アクリロイル基、又は、メタクリロイル基が好ましく、ビニル基、アリル基、アクリロイル基、又は、メタクリロイル基がより好ましく、アクリロイル基、又は、メタクリロイル基が更に好ましい。
【００４３】
フッ素含有化合物は、反応性基に加えて、フルオロアルキル基、フルオロオキシアルキル基、フルオロアルケニル基、フルオロアルカンジイル基、及び、フルオロオキシアルカンジイル基からなる群より選択される少なくとも１つを含む部位を有することが好ましい。フルオロアルキル基、フルオロオキシアルキル基、フルオロアルケニル基、フルオロアルカンジイル基、及び、フルオロオキシアルカンジイル基は、各々、アルキル基、オキシアルキル基、アルケニル基、アルカンジイル基、及び、オキシアルカンジイル基が有する水素原子の少なくとも一部がフッ素原子で置換された置換基である。フルオロアルキル基、フルオロオキシアルキル基、フルオロアルケニル基、フルオロアルカンジイル基、及び、フルオロオキシアルカンジイル基は、いずれも主にフッ素原子及び炭素原子から構成される置換基であり、その構造中に分岐部が存在していてもよく、これらの置換基は複数連結していてもよい。
【００４４】
フッ素含有化合物の構成成分であるフッ素含有モノマーの一例としては、下記一般式（Ａ）で表される。
Ｒｆ１−Ｒ２−Ｄ１  （Ａ）
上記一般式（Ａ）中、Ｒｆ１は、フルオロアルキル基、フルオロオキシアルキル基、フルオロアルケニル基、フルオロアルカンジイル基、及び、フルオロオキシアルカンジイル基からなる群より選択される少なくとも１つを含む部位を表す。Ｒ２は、アルカンジイル基、アルカントリイル基、又は、それらから導出されるエステル構造、ウレタン構造、エーテル構造、トリアジン構造を表す。Ｄ１は、反応性基を表す。
【００４５】
上記一般式（Ａ）で表されるフッ素含有モノマーとしては、例えば、２，２，２−トリフルオロエチルアクリレート、２，２，３，３，３−ペンタフロオロプロピルアクリレート、２−パーフルオロブチルエチルアクリレート、３−パーフルオロブチル−２−ヒドロキシプロピルアクリレート、２−パーフルオロヘキシルエチルアクリレート、３−パーフルオロヘキシル−２−ヒドロキシプロピルアクリレート、２−パーフルオロオクチルエチルアクリレート、３−パーフルオロオクチル−２−ヒドロキシプロピルアクリレート、２−パーフルオロデシルエチルアクリレート、２−パーフルオロ−３−メチルブチルエチルアクリレート、３−パーフルオロ−３−メトキシブチル−２−ヒドロキシプロピルアクリレート、２−パーフルオロ−５−メチルヘキシルエチルアクリレート、３−パーフルオロ−５−メチルヘキシル−２−ヒドロキシプロピルアクリレート、２−パーフルオロ−７−メチルオクチル−２−ヒドロキシプロピルアクリレート、テトラフルオロプロピルアクリレート、オクタフルオロペンチルアクリレート、ドデカフルオロヘプチルアクリレート、ヘキサデカフルオロノニルアクリレート、ヘキサフルオロブチルアクリレート、２，２，２−トリフルオロエチルメタクリレート、２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピルメタクリレート、２−パーフルオロブチルエチルメタクリレート、３−パーフルオロブチル−２−ヒドロキシプロピルメタクリレート、２−パーフルオロオクチルエチルメタクリレート、３−パーフルオロオクチル−２−ヒドロキシプロピルメタクリレート、２−パーフルオロデシルエチルメタクリレート、２−パーフルオロ−３−メチルブチルエチルメタクリレート、３−パーフルオロ−３−メチルブチル−２−ヒドロキシプロピルメタクリレート、２−パーフルオロ−５−メチルヘキシルエチルメタクリレート、３−パーフルオロ−５−メチルヘキシル−２−ヒドロキシプロピルメタクリレート、２−パーフルオロ−７−メチルオクチルエチルメタクリレート、３−パーフルオロ−７−メチルオクチルエチルメタクリレート、テトラフルオロプロピルメタクリレート、オクタフルオロペンチルメタクリレート、ドデカフルオロヘプチルメタクリレート、ヘキサデカフルオロノニルメタクリレート、１−トリフルオロメチルトリフルオロエチルメタクリレート、ヘキサフルオロブチルメタクリレート、トリアクリロイル−ヘプタデカフルオロノネニル−ペンタエリスリトール等が挙げられる。
【００４６】
また、フッ素含有モノマーの好適な材料としては、例えば、フルオロポリエーテル部位を有する材料が挙げられる。フルオロポリエーテル部位は、フルオロアルキル基、オキシフルオロアルキル基、オキシフルオロアルキルジイル基等からなる部位であり、下記一般式（Ｂ）又は（Ｃ）に代表される構造である。
ＣＦｎ１Ｈ（３−ｎ１）−（ＣＦｎ２Ｈ（２−ｎ２））ｋＯ−（ＣＦｎ３Ｈ（２−ｎ３））ｍＯ−  （Ｂ）
−（ＣＦｎ４Ｈ（２−ｎ４））ｐＯ−（ＣＦｎ５Ｈ（２−ｎ５））ｓＯ−  （Ｃ）
上記一般式（Ｂ）及び（Ｃ）中、ｎ１は１〜３の整数であり、ｎ２〜ｎ５は１又は２であり、ｋ、ｍ、ｐ、及び、ｓは０以上の整数である。ｎ１〜ｎ５の好ましい組み合わせとしては、ｎ１が２又は３、ｎ２〜ｎ５が１又は２である組み合わせであり、より好ましい組み合わせとしては、ｎ１が３、ｎ２及びｎ４が２、ｎ３及びｎ５が１又は２である組み合わせである。
【００４７】
フルオロポリエーテル部位に含まれる炭素数は、４以上、１２以下であることが好ましく、４以上、１０以下であることがより好ましく、６以上、８以下であることが更に好ましい。炭素数が４未満である場合、表面エネルギーが低下する懸念がある。炭素数が１２よりも多い場合、溶媒への溶解性が低下する懸念がある。なお、フッ素含有モノマーは、１分子当たりに複数のフルオロポリエーテル部位を有していてもよい。
【００４８】
反応性基を有するフッ素含有化合物のうち公知のものとしては、例えば、ダイキン工業社製のフッ素系添加剤（製品名：オプツール（登録商標）ＤＡＣ−ＨＰ）、旭硝子社製のフッ素系添加剤（製品名：Ａｆｌｕｉｄ）、ＤＩＣ社製のフッ素系添加剤（製品名：メガファック（登録商標）ＲＳ−７６−ＮＳ）、ＤＩＣ社製のフッ素系添加剤（製品名：メガファックＲＳ−９０）、ネオス社製のフッ素系添加剤（製品名：フタージェント（登録商標）６０１ＡＤ）、油脂製品社製のフッ素系添加剤（製品名：Ｃ１０ＧＡＣＲＹ）、油脂製品社製のフッ素系添加剤（製品名：Ｃ８ＨＧＯＬ）等が挙げられる。フッ素含有化合物は、紫外線によって重合するものであることが好ましく、−ＯＣＦ２−鎖及び／又は＝ＮＣＯ−鎖を有することが好ましい。樹脂組成物６は、１種類のフッ素含有化合物を含んでいてもよく、複数種類のフッ素含有化合物を含んでいてもよい。
【００４９】
重合開始剤としては、例えば、光重合開始剤等が挙げられる。光重合開始剤は、活性エネルギー線に対して活性であり、モノマーを重合する重合反応を開始させるために添加されるものである。光重合開始剤としては、例えば、ラジカル重合開始剤、アニオン重合開始剤、カチオン重合開始剤等を用いることができる。このような光重合開始剤としては、例えば、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルトリクロロアセトフェノン、２，２’−ジエトキシアセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン等のアセトフェノン類；ベンゾフェノン、４，４’−ビスジメチルアミノベンゾフェノン、２−クロロチオキサントン、２−メチルチオキサントン、２−エチルチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン等のケトン類；ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル等のベンゾインエーテル類；ベンジルジメチルケタール、ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン等のベンジルケタール類、等が挙げられる。光重合開始剤のうち公知のものとしては、ＢＡＳＦ社製の光重合開始剤（製品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標）８１９）、ＢＡＳＦ社製の光重合開始剤（製品名：ＬＵＣＩＲＩＮ（登録商標）  ＴＰＯ）等が挙げられる。
【００５０】
樹脂組成物６は、溶剤を含有しないことが好ましい。すなわち、樹脂組成物６は、無溶剤系であることが好ましい。樹脂組成物６が無溶剤系である場合、溶剤の使用に係るコスト、及び、環境面での負荷（使用時の臭気等）を低減することができる。更に、溶剤を乾燥させて除去するための装置が不要であり、装置コストを低減することができる。一方、樹脂組成物６が溶剤を含有する場合、揮発性が高くなるため、塗布性が低下してしまう懸念がある。
【００５１】
（ｂ）凹凸構造の形成
図２（ｂ）に示すように、塗布された樹脂組成物６に、金型７を基材２とは反対側から押し付け、樹脂組成物６の基材２とは反対側の表面に凹凸構造を形成する。
【００５２】
金型７としては、例えば、下記の方法で作製されるものを用いることができる。まず、アルミニウム製の基材の表面上に、絶縁層としての二酸化ケイ素と、純アルミニウムとが順に成膜された基板を作製する。この際、例えば、アルミニウム製の基材をロール状にすることで、絶縁層及び純アルミニウムの層を連続的に形成することができる。次に、この基板の表面に形成された純アルミニウムの層に対して、陽極酸化及びエッチングを交互に繰り返すことによって、モスアイ構造の雌型（金型７）を作製することができる。この際、陽極酸化を行う時間、及び、エッチングを行う時間を調整することによって、金型７の凹凸構造を変化させることができる。アルミニウム製の基材の代わりに、ガラス基板を用いてもよい。
【００５３】
金型７の形状としては特に限定されず、例えば、平板状、ロール状等が挙げられる。
【００５４】
金型７には、離型処理が施されていることが好ましい。金型７に離型処理を施すことによって、後述する工程（ｄ）において、金型７を硬化樹脂層３から容易に剥離することができる。離形処理は、シランカップリング剤による表面処理であることが好ましい。シランカップリング剤としては、フッ素系シランカップリング剤が好ましく用いられる。
【００５５】
（ｃ）樹脂組成物の硬化
凹凸構造が形成された樹脂組成物６を硬化させる。その結果、図２（ｃ）に示すような硬化樹脂層３（疎水性樹脂）が形成される。樹脂組成物６の硬化は、活性エネルギー線の照射によって行われることが好ましい。活性エネルギー線の照射は、基材２側から行ってもよく、樹脂組成物６側から行ってもよい。また、樹脂組成物６に対する活性エネルギー線の照射回数は特に限定されず、１回のみであってもよいし、複数回であってもよい。
【００５６】
（ｄ）金型の剥離
図２（ｄ）に示すように、金型７を硬化樹脂層３から剥離する。硬化樹脂層３の基材２とは反対側の表面に形成された凹凸構造は、複数の凸部４が可視光の波長以下のピッチＰで設けられる構造、すなわち、モスアイ構造に相当する。
【００５７】
（ｅ）親水性材料の成膜
複数の凸部４の各々の先端に、親水性材料５を成膜する。その結果、図２（ｅ）に示すような光学部材１が完成する。親水性材料５の成膜方法としては、プラズマデポジション法、化学蒸着（ＣＶＤ）法、ウエット処理法等が挙げられ、中でも、プラズマデポジション法（物理蒸着（ＰＶＤ）法）が好ましく用いられる。プラズマデポジション法は、プラズマ化されたイオン原子（例えば、不活性ガスのイオン原子）をターゲット（親水性材料）に衝突させることによって、ターゲットを構成する粒子を飛び出させ、対象物に堆積する方法である。親水性材料５の成膜時には、酸素（Ｏ２）、二酸化炭素（ＣＯ２）、窒素（Ｎ２）等の反応性ガスを用いてもよい。
【００５８】
上述した製造プロセスにおいて、例えば、基材２をロール状にすれば、上記工程（ａ）〜（ｅ）を連続的に効率良く行うことができる。
【００５９】
以下に、実施例及び比較例を挙げて本発明をより詳細に説明するが、本発明はこれらの例によって限定されるものではない。
【００６０】
（実施例１）
実施例１の光学部材を、以下の製造プロセスによって作製した。
【００６１】
（ａ）樹脂組成物の塗布
まず、基材２の表面上に、第一理化社製のバーコーター（製品名：Ｎｏ．０５）を用いて樹脂材料Ａを塗布した。そして、塗布された樹脂材料Ａ上に、Ｓｏｎｏ−Ｔｅｋ社製の超音波スプレー（ノズルの製品名：Ｖｏｒｔｅｘ）を用いて樹脂材料Ｂをスプレー塗布した。その結果、樹脂材料Ａ、及び、樹脂材料Ｂが積層された状態の樹脂組成物６を形成した。樹脂組成物６は、無溶剤系であった。
【００６２】
基材２としては、易接着処理が施された富士フイルム社製のＴＡＣフィルム（製品名：フジタック（登録商標）ＴＤ８０ＵＬ）を用いた。基材２の厚みは、８０μｍであった。
【００６３】
樹脂材料Ａとしては、下記材料の混合物を用いた。ここで、各材料に付した数値は、樹脂材料Ａ中の各材料の濃度を示す。樹脂材料Ａの厚みは、１１μｍであった。
・新中村化学工業社製のウレタンアクリレート（製品名：ＵＡ−７１００）：３１重量％
・新中村化学工業社製の多官能アクリレート（製品名：ＡＴＭ−３５Ｅ）：４０重量％
・新中村化学工業社製の多官能アクリレート（製品名：Ａ−ＴＭＭ−３ＬＭ−Ｎ）：２７．５重量％
・ＢＡＳＦ社製の光重合開始剤（製品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ８１９）：１．５重量％
【００６４】
樹脂材料Ｂとしては、下記材料の混合物を用いた。ここで、各材料に付した数値は、樹脂材料Ｂ中の各材料の濃度を示す。樹脂材料Ｂの厚みは、２μｍであった。
・ＫＪケミカルズ社製の単官能モノマー（製品名：ＡＣＭＯ）：９０重量％
・ダイキン工業社製のフッ素系添加剤（製品名：オプツールＤＡＣ−ＨＰ）：１０重量％
なお、フッ素含有化合物として用いた「オプツールＤＡＣ−ＨＰ」は、その固形分濃度が２０重量％であった。
【００６５】
（ｂ）凹凸構造の形成
塗布された樹脂組成物６に、金型７を基材２とは反対側から押し付け、樹脂組成物６の基材２とは反対側の表面に凹凸構造を形成した。
【００６６】
金型７としては、下記の方法で作製したものを用いた。まず、ガラス基板上に、アルミニウムをスパッタリング法によって成膜した。次に、成膜されたアルミニウムに対して、陽極酸化及びエッチングを交互に繰り返すことによって、多数の微小な穴（凹部）（隣り合う穴の底点間の距離が可視光の波長以下）が設けられた陽極酸化層を形成した。具体的には、陽極酸化、エッチング、陽極酸化、エッチング、陽極酸化、エッチング、陽極酸化、エッチング、及び、陽極酸化を順に行う（陽極酸化：５回、エッチング：４回）ことによって、アルミニウムの内部に向かって細くなる形状（テーパー形状）を有する微小な穴（凹部）を多数形成し、その結果、凹凸構造を有する金型７が得られた。本実施例においては、陽極酸化条件、及び、エッチング条件を下記の通りとした。
＜陽極酸化条件＞
・電極（白金）−サンプル（アルミニウム）間距離：１５０ｍｍ
・処理液：シュウ酸（０．０５ｍｏｌ／Ｌ）
・処理温度：５℃
・処理時間：１分
・印加電圧：８０Ｖ
＜エッチング条件＞
・処理液：リン酸（８ｍｏｌ／Ｌ）
・処理温度：３０℃
・処理時間：２０分
金型７を走査型電子顕微鏡で観察したところ、隣接する凹部間のピッチは２００ｎｍ、凹部の深さは２００〜２５０ｎｍであった。なお、金型７には、ダイキン工業社製のフッ素系添加剤（製品名：オプツールＤＳＸ）によって事前に離型処理を施した。
【００６７】
（ｃ）樹脂組成物の硬化
凹凸構造が形成された樹脂組成物６に、Ｆｕｓｉｏｎ  ＵＶ  ｓｙｓｔｅｍｓ社製のＵＶランプ（製品名：ＬＩＧＨＴ  ＨＡＮＭＡＲ６Ｊ６Ｐ３）を用いて、基材２側から紫外線（照射量：１Ｊ／ｃｍ２）を照射して硬化させた。その結果、硬化樹脂層３（疎水性樹脂）が形成された。
【００６８】
（ｄ）金型の剥離
金型７を硬化樹脂層３から剥離した。その結果、図３に示すような状態が得られた。図３は、実施例１における硬化樹脂層完成時の断面ＳＥＭ写真である。
【００６９】
硬化樹脂層３の仕様は、下記の通りであった。
凸部４の形状：釣鐘状
隣接する凸部４間のピッチＰ：２００ｎｍ
凸部４の高さ：１５０〜２００ｎｍ
凸部４を構成する疎水性樹脂の表面張力：１２ｄｙｎ／ｃｍ
【００７０】
（ｅ）親水性材料の成膜
複数の凸部４の各々の先端に、アルバック社製のプラズマデポジション方式のスパッタリング装置（製品名：ＳＨ−３５０ＥＬ−Ｃ０６）を用いて、親水性材料５を成膜した。その結果、図４に示すような光学部材１が完成した。図４は、実施例１の光学部材の断面ＳＥＭ写真である。本実施例においては、スパッタリング条件を下記の通りとした。
＜スパッタリング条件＞
・電源：ＲＦ
・周波数：１３．５６ＭＨｚ
・バックグラウンドの真空度：６×１０−４Ｐａ
・スパッタガス：アルゴンガス
・反応性ガス：酸素ガス
・スパッタリング時の真空度：４×１０−１Ｐａ
【００７１】
親水性材料５としては、二酸化ケイ素を用いた。親水性材料５の厚みは、３０ｎｍであった。二酸化ケイ素の表面張力は、６５ｄｙｎ／ｃｍであり、凸部４を構成する疎水性樹脂の表面張力（１２ｄｙｎ／ｃｍ）よりも高かった。
【００７２】
（比較例１）
無アルカリガラス基板を準備した。無アルカリガラス基板の厚みは、０．５ｍｍであった。
【００７３】
（比較例２）
無アルカリガラス基板の表面上に、リンレイ社製の防曇塗料（製品名：油膜とり  くもり止めスプレー  ＣＨ４０）が塗布されたものを準備した。
【００７４】
（比較例３）
比較例３の光学部材を、以下の製造プロセスによって作製した。図５は、比較例３の光学部材の製造プロセスを説明するための断面模式図である（工程ａ〜ｄ）。
【００７５】
（ａ）樹脂組成物の塗布
まず、図５（ａ）に示すように、基材１０２の表面上に、第一理化社製のバーコーター（製品名：Ｎｏ．０５）を用いて、樹脂組成物１０６を塗布した。
【００７６】
基材１０２としては、富士フイルム社製のＴＡＣフィルム（製品名：フジタックＴＤ６０ＵＬ）を用いた。基材１０２の厚みは、６０μｍであった。
【００７７】
樹脂組成物１０６としては、下記材料の混合物を用いた。樹脂組成物１０６の厚みは、１１μｍであった。樹脂組成物１０６は、無溶剤系であった。
・新中村化学工業社製の多官能アクリレート（製品名：Ａ−ＴＭＭ−３ＬＭ−Ｎ）：３８．４重量部
・新中村化学工業社製の多官能アクリレート（製品名：ＡＴＭ−３５Ｅ）：２５．６重量部
・ＫＪケミカルズ社製の単官能モノマー（製品名：ＡＣＭＯ）：３４重量部
・ダイキン工業社製のフッ素系添加剤（製品名：オプツールＤＡＣ−ＨＰ）：０．０７重量部
・ＢＡＳＦ社製の光重合開始剤（製品名：ＬＵＣＩＲＩＮ  ＴＰＯ）：０．５重量部
【００７８】
（ｂ）凹凸構造の形成
図５（ｂ）に示すように、塗布された樹脂組成物１０６に、金型１０７を基材１０２とは反対側から押し付け、樹脂組成物１０６の基材１０２とは反対側の表面に凹凸構造を形成した。
【００７９】
金型１０７としては、下記の方法で作製したものを用いた。まず、ガラス基板上に、アルミニウムをスパッタリング法によって成膜した。次に、成膜されたアルミニウムに対して、陽極酸化及びエッチングを交互に繰り返すことによって、多数の微小な穴（凹部）（隣り合う穴の底点間の距離が可視光の波長以下）が設けられた陽極酸化層を形成した。具体的には、陽極酸化、エッチング、陽極酸化、エッチング、陽極酸化、エッチング、陽極酸化、エッチング、及び、陽極酸化を順に行う（陽極酸化：５回、エッチング：４回）ことによって、アルミニウムの内部に向かって細くなる形状（テーパー形状）を有する微小な穴（凹部）を多数形成し、その結果、凹凸構造を有する金型１０７が得られた。本比較例においては、１回の陽極酸化を行う時間を３１６秒とし、１回のエッチングを行う時間を８２５秒とした。金型１０７を走査型電子顕微鏡で観察したところ、隣接する凹部間のピッチは１００ｎｍ、凹部の深さは２００〜２５０ｎｍであった。なお、金型１０７には、ダイキン工業社製のフッ素系添加剤（製品名：オプツールＤＳＸ）によって事前に離型処理を施した。
【００８０】
（ｃ）樹脂組成物の硬化
凹凸構造が形成された樹脂組成物１０６に、Ｆｕｓｉｏｎ  ＵＶ  ｓｙｓｔｅｍｓ社製のＵＶランプ（製品名：ＬＩＧＨＴ  ＨＡＮＭＡＲ６Ｊ６Ｐ３）を用いて、基材１０２側から紫外線（照射量：１Ｊ／ｃｍ２）を照射して硬化させた。その結果、図５（ｃ）に示すような硬化樹脂層１０３が形成された。
【００８１】
（ｄ）金型の剥離
図５（ｄ）に示すように、金型１０７を硬化樹脂層１０３から剥離した。その結果、光学部材１０１が完成した。
【００８２】
硬化樹脂層１０３の仕様は、下記の通りであった。
凸部１０４の形状：釣鐘状
隣接する凸部１０４間のピッチＱ：１００ｎｍ
凸部１０４の高さ：１５０〜２００ｎｍ
【００８３】
（比較例４）
隣接する凸部１０４間のピッチＱを２００ｎｍに変更したこと以外、比較例３と同様にして、光学部材を作製した。
【００８４】
（比較例５）
硬化樹脂層１０３に凹凸構造を形成しなかったこと以外、比較例３と同様にして、光学部材を作製した。
【００８５】
（比較例６）
樹脂組成物１０６において、比較例３でフッ素含有化合物として用いた「オプツールＤＡＣ−ＨＰ」の含有量を１．０重量部に変更したこと以外、比較例４と同様にして、光学部材を作製した。
【００８６】
［評価１］
実施例１、及び、比較例１〜６について、防汚性を評価した。評価結果を表１に示す。
【００８７】
防汚性の評価としては、各例のサンプルの表面に付着した指紋が拭き取れるかどうかを評価した。具体的には、まず、各例のサンプルの表面に指紋を付着させて、温度２５℃、湿度４０〜６０％の環境下で３日間放置した。その後、ＫＢセーレン社製の不織布（製品名：ザヴィーナ（登録商標））を用いて、各例のサンプルの表面を一方向に５０回拭き、指紋が拭き取れるかどうかを、照度１００ｌｘの環境下で観察した。評価指標としては、○：指紋が完全に拭き取れる、△：大部分の指紋が拭き取れない、×：指紋が全く拭き取れない、を用いた。
【００８８】
【表１】
2017115694.tif 000003
【００８９】
表１に示すように、実施例１は防汚性に優れていた。一方、比較例１は実施例１と同様に防汚性に優れていたが、比較例２、比較例５、及び、比較例６は実施例１よりも防汚性が劣り、比較例３、及び、比較例４は実施例１よりも防汚性が更に劣っていた。
【００９０】
［評価２］
実施例１、及び、比較例１〜６について、耐擦傷性を評価した。評価結果を表２に示す。
【００９１】
耐擦傷性の評価としては、各例のサンプルに対する水拭き前後での水の接触角の変化を評価した。つまり、各例のサンプルの表面に存在する層（例えば、実施例１における親水性材料５）が拭き取られたかどうかを、各例のサンプルに対する水拭き前後での水の接触角の変化から判断した。具体的には、まず、各例のサンプルの表面に対する水の接触角を測定した。次に、ＫＢセーレン社製の不織布（製品名：ザヴィーナ）に水を浸み込ませたものを用いて、各例のサンプルの表面を２０回拭いた後、各例のサンプルの表面に対する水の接触角を再度測定した。判定基準は、○：水拭き前後での水の接触角の変化が１°未満である、×：水拭き前後での水の接触角の変化が１°以上である、とした。接触角は、協和界面科学社製のポータブル接触角計（製品名：ＰＣＡ−１）を用いて、θ／２法（θ／２＝ａｒｃｔａｎ（ｈ／ｒ）、θ：接触角、ｒ：液滴の半径、ｈ：液滴の高さ）で測定された、３箇所の接触角の平均値とした。ここで、１箇所目の測定点としては、各例のサンプルの中央部分を選択し、２箇所目及び３箇所目の測定点としては、１箇所目の測定点から２０ｍｍ以上離れ、かつ、１箇所目の測定点に対して互いに点対称な位置にある２点を選択した。
【００９２】
【表２】
2017115694.tif 000004
【００９３】
表２に示すように、実施例１は耐擦傷性に優れていた。一方、比較例１、比較例４、比較例５、及び、比較例６は耐擦傷性に優れていたが、比較例２、及び、比較例３は耐擦傷性が劣っていた。
【００９４】
［評価３］
実施例１、及び、比較例１〜６について、防曇性を評価した。評価結果を表３、表４、及び、表５に示す。
【００９５】
防曇性の評価としては、各例のサンプルの曇り度合いを評価した。防曇性の評価方法について、図６を参照して以下に説明する。図６は、防曇性の評価方法を説明するための断面模式図である。
【００９６】
まず、アクリル製の箱２１０内に、紙２１１、ヒーター２１２、及び、加湿器２１３を設置した。アクリル製の箱２１０（長さ：４００ｍｍ、幅：３００ｍｍ、高さ：３５０ｍｍ）としては、一部の面がガラス基板２１４（厚み：０．７ｍｍ）で構成されたものを用いた。ガラス基板２１４の紙２１１側の表面の一部には、各例のサンプルを、パナック社製の粘着剤（製品名：ＰＤＳ１）を介して貼り付けた。なお、図６中では、実施例１の光学部材１が貼り付けられた状態を代表的に示しており、硬化樹脂層３（凹凸構造）が紙２１１側に向くように、光学部材１を配置した。これは、他の例についても同様である。例えば、比較例２については、防曇塗料が塗布された面が紙２１１側に向くように、サンプルを配置した。また、比較例３については、硬化樹脂層１０３が紙２１１側に向くように、サンプル（光学部材１０１）を配置した。各例のサンプルと紙２１１とは、対向する表面間の距離が１００ｍｍとなるように配置した。
【００９７】
次に、ヒーター２１２、及び、加湿器２１３を作動させ、アクリル製の箱２１０内の温度、湿度、及び、露点温度、並びに、ガラス基板２１４の紙２１１側の表面温度（以下、単に、ガラス表面温度とも言う。）を測定した。ここで、ヒーター２１２、及び、加湿器２１３の出力を調整することによって、露点温度をガラス表面温度よりも１〜３℃程度高くなるように設定した。これにより、ガラス基板２１４（各例のサンプル）近傍の湿度が１１０％程度である環境を実現することができた。なお、アクリル製の箱２１０の外部の温度は２４．９℃、湿度は２３．４％であった。
【００９８】
上記の環境下で、アクリル製の箱２１０の外部から各例のサンプルを通して、紙２１１をカメラ２１５で撮影した。カメラ２１５とガラス基板２１４の紙２１１とは反対側の表面との間の距離は、５００ｍｍであった。紙２１１のガラス基板２１４側の表面には、直径０．５ｍｍ、１．０ｍｍ、１．５ｍｍ、２．０ｍｍ、２．５ｍｍ、３．０ｍｍの６種類の丸印（点）がペンで描かれており、これらの丸印のうち、どの大きさの丸印が撮影できなくなる（見えなくなる）かどうかを、経過時間毎に評価した。表３〜５中の結果において、「Ｘ」は、直径Ｘｍｍ以下の丸印が撮影できなかった（見えなかった）ことを示す。すなわち、上記「Ｘ」が大きい値であるほど、各例のサンプルの曇り度合いが高いことを示す。判定基準は、下記の通りとした。
○：評価中、Ｘが０であった。すなわち、すべての丸印を撮影できた。
△：評価中、Ｘの最大値が０．５以上、１．５以下であった。
×：評価中、Ｘの最大値が２．０以上、３．０以下であった。
【００９９】
【表３】
2017115694.tif 000005
【０１００】
【表４】
2017115694.tif 000006
【０１０１】
【表５】
2017115694.tif 000007
【０１０２】
表３に示すように、実施例１においては、評価中にすべての丸印を撮影することができ、防曇性に優れていた。一方、比較例２、及び、比較例３は実施例１と同様に防曇性に優れていたが、比較例４、比較例５、及び、比較例６は実施例１よりも防曇性が劣り、比較例１は実施例１よりも防曇性が更に劣っていた。
【０１０３】
以上より、実施例１は、防汚性、耐擦傷性、及び、防曇性に優れていた。一方、比較例１は、防汚性及び耐擦傷性に優れていたが、防曇性が劣っていた。比較例２、及び、比較例３は、防曇性に優れていたが、防汚性及び耐擦傷性が劣っていた。比較例４、比較例５、及び、比較例６は、耐擦傷性に優れていたが、防汚性及び防曇性が劣っていた。
【０１０４】
［別の実施形態］
上述した実施形態においては、各凸部の先端の親水性部分として、先端が親水性材料で覆われている構成を示したが、図７に示すような、先端が表面改質されている構成であってもよい。図７は、別の実施形態の光学部材を示す断面模式図である。図７に示すように、光学部材１’は、基材２、及び、硬化樹脂層３を備えている。硬化樹脂層３において、複数の凸部４の各々の先端は、表面改質された部分８を有している。
【０１０５】
表面改質された部分８を形成する方法としては、例えば、以下（１）〜（３）の方法が挙げられる。
【０１０６】
（１）複数の凸部４の各々の先端に対して、鹸化処理を施す。
鹸化処理は、例えば、凸部４の先端を水酸化ナトリウム水溶液に浸すことによって行われる。これにより、凸部４の先端の表面に、−ＯＨ基、−ＣＯＯＨ基等の親水性基が形成される。その結果、凸部４の先端に、親水性部分（表面改質された部分８）が形成される。
【０１０７】
（２）複数の凸部４の各々の先端に対して、親水性材料を接触させる。
親水性材料を接触させる方法としては、例えば、親水性材料が粘着層に練り込まれた粘着部材を準備し、その粘着部材を粘着層側から凸部４の先端に接触させる方法が挙げられる。この際、親水性材料に重合性モノマーを添加すれば、活性エネルギー線の照射によって硬化（重合）することができる。これにより、凸部４の先端に、親水性部分（表面改質された部分８）が形成される。
【０１０８】
（３）複数の凸部４の各々の先端に対して、プラズマエッチング処理を施す。
プラズマエッチング処理は、例えば、アルゴン（Ａｒ）、ヘリウム（Ｈｅ）等の不活性ガスを用いて行われる。これにより、凸部４の先端の表面に、−ＯＨ基、−ＣＯＯＨ基等の親水性基が形成される。その結果、凸部４の先端に、親水性部分（表面改質された部分８）が形成される。
【０１０９】
［付記］
以下に、本発明の光学部材及びその製造方法の好ましい特徴の例を挙げる。各例は、本発明の要旨を逸脱しない範囲において適宜組み合わされてもよい。
【０１１０】
上記複数の凸部の各々は、疎水性樹脂で構成され、かつ、上記先端が親水性材料で覆われていてもよい。これにより、上記親水性部分を好ましく実現することができる。
【０１１１】
上記親水性材料は、二酸化ケイ素を含有するものであってもよい。これにより、上記親水性材料を効果的に利用することができる。
【０１１２】
上記親水性材料の厚みは、３０ｎｍ以下であってもよい。これにより、上記親水性材料が上記複数の凸部の各々の先端を覆う状態を好ましく実現することができる。
【０１１３】
上記複数の凸部の各々は、疎水性樹脂で構成され、かつ、上記先端が表面改質されていてもよい。これにより、上記親水性部分を好ましく実現することができる。
【０１１４】
以下に、本発明の光学部材の製造方法の好ましい特徴の例を挙げる。
【０１１５】
上記工程は、プラズマデポジション法によって行われてもよい。これにより、上記親水性材料の成膜を効率的に行うことができる。
【符号の説明】
【０１１６】
１、１’、１０１：光学部材
２、１０２：基材
３、１０３：硬化樹脂層
４、１０４：凸部
５：親水性材料
６、１０６：樹脂組成物
７、１０７：金型
８：表面改質された部分
２１０：アクリル製の箱
２１１：紙
２１２：ヒーター
２１３：加湿器
２１４：ガラス基板
２１５：カメラ
Ｐ、Ｑ：ピッチ
Ｔ：厚み
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【国際調査報告】
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