(57)【要約】  本発明の課題は、高いガスバリアー性及び耐熱性を有するガスバリアー性フィルムと、当該ガスバリアー性フィルムを用い、蛍光体粒子含有層との高温高湿環境下での密着性と、サイドリーク耐性に優れた蛍光体粒子含有の光学フィルムを提供することである。  本発明のガスバリアー性フィルムは、樹脂基材上に、ガスバリアー層と、接着層をこの順で有し、前記ガスバリアー層が、少なくともケイ素原子を含む無機酸化物を含有し、前記接着層が、少なくともアクリロイル基を含む化合物と、ケイ素原子を含む化合物を含有し、かつ当該接着層の層厚が、１００〜１０００ｎｍの範囲内であることを特徴とする。
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
樹脂基材上に、ガスバリアー層と接着層をこの順で有するガスバリアー性フィルムであって、
前記ガスバリアー層が、少なくともケイ素原子を含む無機酸化物を含有し、
前記接着層が、少なくとも未反応のアクリロイル基を含む化合物と、ケイ素原子を含む化合物を含有し、かつ当該接着層の層厚が、１００〜１０００ｎｍの範囲内であることを特徴とするガスバリアー性フィルム。
【請求項２】
前記接着層の層厚が、１００〜５００ｎｍの範囲内であることを特徴とする請求項１に記載のガスバリアー性フィルム。
【請求項３】
前記接着層が含有する前記未反応のアクリロイル基を含む化合物が、アクリロイル基含有シランカップリングポリマーであることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載のガスバリアー性フィルム。
【請求項４】
前記接着層が、平均粒径が３００〜１０００ｎｍの範囲内にある有機微粒子を含有することを特徴とする請求項１から請求項３までのいずれか一項に記載のガスバリアー性フィルム。
【請求項５】
請求項１から請求項４までのいずれか一項に記載のガスバリアー性フィルムを製造するガスバリアー性フィルムの製造方法であって、
樹脂基材上に、少なくともケイ素原子を含む無機酸化物より構成されるガスバリアー層を形成した後、当該ガスバリアー層上に、少なくとも未反応のアクリロイル基を含む化合物と、ケイ素原子を含む化合物を含有する接着層を、層厚が１００〜１０００ｎｍの範囲内で形成することを特徴とするガスバリアー性フィルムの製造方法。
【請求項６】
前記接着層を形成した後、当該接着層に活性光線照射処理を行わないことを特徴とする請求項５に記載のガスバリアー性フィルムの製造方法。
【請求項７】
樹脂基材上に、ガスバリアー層と接着層をこの順で有するガスバリアー性フィルムを備えた光学フィルムであって、
前記ガスバリアー層が、少なくともケイ素原子を含む無機酸化物を含有し、
前記接着層が、下記で規定する条件（１）を満たす接着層１又は条件（２）を満たす接着層２であり、
条件（１）：前記接着層１が、少なくともアクリロイル基を含む化合物と、ケイ素原子を含む化合物を含有し、かつ当該接着層の層厚が、１００〜１０００ｎｍの範囲内である。
条件（２）：前記接着層２が、平均一次粒径が３０〜１００ｎｍの範囲内にある無機微粒子と、平均一次粒径が３００〜１０００ｎｍの範囲内にある有機微粒子及びバインダー成分を含有する。
かつ、当該接着層に隣接して蛍光体粒子含有層が配置されていることを特徴とする光学フィルム。
【請求項８】
前記蛍光体粒子含有層が、蛍光体粒子として量子ドットを含有する量子ドット含有層であることを特徴とする請求項７に記載の光学フィルム。
【請求項９】
前記接着層１の層厚が、１００〜５００ｎｍの範囲内であることを特徴とする請求項７又は請求項８に記載の光学フィルム。
【請求項１０】
前記接着層１が含有する前記アクリロイル基を含む化合物が、アクリロイル基含有シランカップリングポリマーであることを特徴とする請求項７から請求項９までのいずれか一項に記載の光学フィルム。
【請求項１１】
前記接着層１が、平均粒径が３００〜１０００ｎｍの範囲内にある有機微粒子を含有することを特徴とする請求項７から請求項１０までのいずれか一項に記載の光学フィルム。
【請求項１２】
前記接着層２が含有する前記無機微粒子が、シリカ粒子であることを特徴とする請求項７又は請求項８に記載の光学フィルム。
【請求項１３】
前記接着層２の層厚が、前記無機微粒子の平均一次粒径以上で、かつ前記有機微粒子の平均一次粒径未満であることを特徴とする請求項７、請求項８又は請求項１２に記載の光学フィルム。
【請求項１４】
前記接着層２が、バインダー成分としてシランカップリング剤を含有することを特徴とする請求項７、請求項８、請求項１２又は請求項１３に記載の光学フィルム。
【請求項１５】
前記シランカップリング剤が、ポリマータイプのシランカップリング剤であることを特徴とする請求項１６に記載の光学フィルム。
【請求項１６】
前記接着層２が、バインダー成分としてアクリロイル基含有化合物を含有することを特徴とする請求項７、請求項８、請求項１２、請求項１３、請求項１４又は請求項１５に記載の光学フィルム。
【請求項１７】
前記アクリロイル基含有化合物が、アクリルポリマーであることを特徴とする請求項１６に記載の光学フィルム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ガスバリアー性フィルムとその製造方法、及び光学フィルムに関する。更に詳しくは、本発明は、高いガスバリアー性及び耐熱性を有するガスバリアー性フィルムと、当該ガスバリアー性フィルムを有し、蛍光体粒子含有層との高温高湿環境下での密着性と、サイドリーク耐性に優れた蛍光体粒子含有の光学フィルムに関する。
【背景技術】
【０００２】
食品、包装材料、医薬品などの分野で、従来、樹脂基材の表面に金属酸化物などの無機化合物からなる蒸着膜や樹脂などの塗布膜を設け、水蒸気や酸素などの透過を防ぐガスバリアー層を備えたガスバリアー性フィルムが知られている。【０００３】
また、近年、液晶表示素子（ＬＣＤ）、太陽電池（ＰＶ）、有機エレクトロルミネッセンス素子（以下、「有機ＥＬ素子」ともいう。）、蛍光体粒子である量子ドット（以下、「ＱＤ」、あるいは「ＱＤ粒子」ともいう。）を有するＱＤフィルムなどを用いた電子デバイス分野においても、軽くて割れにくく、フレキシブル性を持たせることを目的として樹脂基材を用いたガスバリアー性フィルムの要望が高まっている。【０００４】
上記フレキシブル性を備えた電子デバイス、特に、液晶表示装置（例えば、ＬＣＤＴＶ等。）の色再現性を拡大する波長変換部材として、様々な波長で発光する量子ドットを含む量子ドット含有層を透光性シート部材で挟持してシート状にした光学フィルム（以下、「ＱＤフィルム」ともいう。）が検討されている。このＱＤフィルムで使用されているＱＤ粒子は、水分や酸素等に対する耐性が十分ではないため、ＱＤ粒子含有層を水分や酸素による劣化を保護するため、ＱＤ粒子含有層を挟持する透光性シート部材として、ガスバリアー性フィルムでラミネートする必要がある。【０００５】
このようなガスバリアー性フィルムでは、無機材料より構成されるガスバリアー層と、それに隣接する位置に、紫外線（ＵＶ）を照射することによって硬化する紫外線硬化型樹脂を含有する紫外線硬化樹脂層を設けることがある。このような紫外線硬化樹脂層としては、例えば、ガスバリアー層の表面を保護するための保護層（ハードコート層）が挙げられる。また、特許文献１には、量子ドット（ＱＤ）として機能する蛍光体粒子を紫外線硬化樹脂や熱硬化樹脂に分散させた量子ドット層（発光層）を挟持するようにガスバリアー性フィルムを配置する構成が開示されている。【０００６】
しかしながら、上記の様なガスバリアー性フィルムと、ＱＤ粒子含有層とを積層した構成においては、例えば、高温高湿環境下で長期間にわたり保存した際に、密着性が劣化するという問題が発現した。また、ＱＤ粒子含有層は、層厚として数十μｍという膜厚が必要とされるため、ＱＤ粒子含有層の上面あるいは下面をガスバリアー性フィルムで保護しても、厚膜構成のＱＤ粒子含有層の側面部（断面部、あるいはエッジ部ともいう。）より、水分や酸素が侵入することにより、端部に位置しているＱＤ粒子がダメージを受けることとなるため、ＱＤ粒子含有層自身としても、ある程度のガスバリアー耐性が求められている。【０００７】
上記問題であるガスバリアー性フィルムとＱＤ粒子含有層との密着性を改良する方法としては、フレキシブル性の樹脂基材の一方の面に、無機酸化物の薄膜を設け、更に、該無機酸化物上に、シランカップリング剤を含む薄膜を成膜して、ＱＤ粒子含有層を密着させる方法が開示されている（例えば、特許文献２参照。）。【０００８】
ここでは、シランカップリング剤としては、ビニル基、メタクリロキシ基（メタクリロイル基）、アミノ基、エポキシ基、メルカプト基等で変性されたものが開示されている。この特許文献２に開示の技術では、シランカップリング剤より構成される薄膜を設けることで、無機酸化物の薄層（無機バリアー層）と、熱溶融性のヒートシール性樹脂との密着性の向上を図っている。【０００９】
上記提案されている方法では、シランカップリング剤の効果により、ＱＤ粒子含有層と無機酸化物層間の密着性は向上するが、ガスバリアー性フィルムが熱変形を受けた際に、ガスバリアー性が低下するという問題や、ガスバリアー性フィルムとＱＤ粒子含有層間の屈折率差が大きくなり、光学的なロスにより、ＱＤ粒子による発光の外部への取り出し効率が低下するという問題を有している。【００１０】
以上のような状況を踏まえ、高いガスバリアー性及び耐熱性を有し、かつ高温高湿環境下においても優れた密着性を有する、電子デバイス用のガスバリアー性フィルムと、発光効率に優れた蛍光体粒子を含有する光学フィルムの開発が求められている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１１】
【特許文献１】特表２０１３−５４４０１８号公報
【特許文献２】特開平１０−１５６９９８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
本発明は、上記問題・状況に鑑みてなされたものであり、その解決課題は、高いガスバリアー性及び耐熱性を有するガスバリアー性フィルムと、当該ガスバリアー性フィルムを用い、蛍光体粒子含有層との高温高湿環境下での密着性、サイドリーク耐性に優れるとともに、発光効率に優れた蛍光体粒子含有の光学フィルムを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
本発明に係る上記課題を解決すべく、上記問題の原因等について検討した結果、樹脂基材上に、ガスバリアー層と、接着層をこの順で有し、前記ガスバリアー層が、少なくともケイ素原子を含む無機酸化物を含有し、前記接着層が、少なくともアクリロイル基を含む化合物と、ケイ素原子を含む化合物を含有し、かつ所定の層厚の接着層構成とすることを特徴とするガスバリアー性フィルムにより、高いガスバリアー性及び耐熱性を有するガスバリアー性フィルムを実現でき、かつガスバリアー性フィルムが、樹脂基材上に、ガスバリアー層と接着層とをこの順に有し、前記ガスバリアー層が、少なくともケイ素原子を含む無機酸化物を含有し、前記接着層が、特定の条件（１）を満たす接着層１又は条件（２）を満たす接着層２とし、かつ、前記蛍光体粒子含有層と前記接着層を、隣接して配置されることを特徴とする光学フィルムにより、ＱＤ粒子の水分や酸素による劣化を抑制し、かつ蛍光体粒子含有層との高温高湿環境下での密着性と、サイドリーク耐性に優れるとともに、発光効率に優れた蛍光体粒子含有の光学フィルムを得ることができることを見いだした。【００１４】
すなわち、本発明に係る課題は、以下の手段により解決される。【００１５】
１．樹脂基材上に、ガスバリアー層と接着層をこの順で有するガスバリアー性フィルムであって、
前記ガスバリアー層が、少なくともケイ素原子を含む無機酸化物を含有し、
前記接着層が、少なくとも未反応のアクリロイル基を含む化合物と、ケイ素原子を含む化合物を含有し、かつ当該接着層の層厚が、１００〜１０００ｎｍの範囲内であることを特徴とするガスバリアー性フィルム。【００１６】
２．前記接着層の層厚が、１００〜５００ｎｍの範囲内であることを特徴とする第１項に記載のガスバリアー性フィルム。【００１７】
３．前記接着層が含有する前記未反応のアクリロイル基を含む化合物が、アクリロイル基含有シランカップリングポリマーであることを特徴とする第１項又は第２項に記載のガスバリアー性フィルム。【００１８】
４．前記接着層が、平均粒径が３００〜１０００ｎｍの範囲内にある有機微粒子を含有することを特徴とする第１項から第３項までのいずれか一項に記載のガスバリアー性フィルム。【００１９】
５．第１項から第４項までのいずれか一項に記載のガスバリアー性フィルムを製造するガスバリアー性フィルムの製造方法であって、
樹脂基材上に、少なくともケイ素原子を含む無機酸化物より構成されるガスバリアー層を形成した後、当該ガスバリアー層上に、少なくとも未反応のアクリロイル基を含む化合物と、ケイ素原子を含む化合物を含有する接着層を、層厚が１００〜１０００ｎｍの範囲内で形成することを特徴とするガスバリアー性フィルムの製造方法。【００２０】
６．前記接着層を形成した後、当該接着層に活性光線照射処理を行わないことを特徴とする第５項に記載のガスバリアー性フィルムの製造方法。【００２１】
７．樹脂基材上に、ガスバリアー層と接着層をこの順で有するガスバリアー性フィルムを備えた光学フィルムであって、
前記ガスバリアー層が、少なくともケイ素原子を含む無機酸化物を含有し、
前記接着層が、下記で規定する条件（１）を満たす接着層１又は条件（２）を満たす接着層２であり、
条件（１）：前記接着層１が、少なくともアクリロイル基を含む化合物と、ケイ素原子を含む化合物を含有し、かつ当該接着層の層厚が、１００〜１０００ｎｍの範囲内である。【００２２】
条件（２）：前記接着層２が、平均一次粒径が３０〜１００ｎｍの範囲内にある無機微粒子と、平均一次粒径が３００〜１０００ｎｍの範囲内にある有機微粒子及びバインダー成分を含有する。【００２３】
かつ、当該接着層に隣接して蛍光体粒子含有層が配置されていることを特徴とする光学フィルム。【００２４】
８．前記蛍光体粒子含有層が、蛍光体粒子として量子ドットを含有する量子ドット含有層であることを特徴とする第７項に記載の光学フィルム。【００２５】
９．前記接着層１の層厚が、１００〜５００ｎｍの範囲内であることを特徴とする第７項又は第８項に記載の光学フィルム。【００２６】
１０．前記接着層１が含有する前記アクリロイル基を含む化合物が、アクリロイル基含有シランカップリングポリマーであることを特徴とする第７項から第９項までのいずれか一項に記載の光学フィルム。【００２７】
１１．前記接着層１が、平均粒径が３００〜１０００ｎｍの範囲内にある有機微粒子を含有することを特徴とする第７項から第１０項までのいずれか一項に記載の光学フィルム。【００２８】
１２．前記接着層２が含有する前記無機微粒子が、シリカ粒子であることを特徴とする第７項又は第８項に記載の光学フィルム。【００２９】
１３．前記接着層２の層厚が、前記無機微粒子の平均一次粒径以上で、かつ前記有機微粒子の平均一次粒径未満であることを特徴とする第７項、第８項又は第１２項に記載の光学フィルム。【００３０】
１４．前記接着層２が、バインダー成分としてシランカップリング剤を含有することを特徴とする第７項、第８項、第１２項又は第１３項に記載の光学フィルム。【００３１】
１５．前記シランカップリング剤が、ポリマータイプのシランカップリング剤であることを特徴とする第１６項に記載の光学フィルム。【００３２】
１６．前記接着層２が、バインダー成分としてアクリロイル基含有化合物を含有することを特徴とする第７項、第８項、第１２項、第１３項、第１４項又は第１５項に記載の光学フィルム。【００３３】
１７．前記アクリロイル基含有化合物が、アクリルポリマーであることを特徴とする第１６項に記載の光学フィルム。
【発明の効果】
【００３４】
本発明によれば、高いガスバリアー性及び耐熱性を有するガスバリアー性フィルムと、当該ガスバリアー性フィルムを用い、蛍光体粒子含有層との高温高湿環境下での密着性と、サイドリーク耐性に優れるとともに、発光効率に優れた蛍光体粒子含有の光学フィルムを提供することができる。【００３５】
本発明の効果の発現機構ないし作用機構については、明確にはなっていないが、以下のように推察している。【００３６】
本発明のガスバリアー性フィルムにおいては、樹脂基材上に、ケイ素原子を含む無機酸化物を含有するガスバリアー層と共に、アクリロイル基を含む化合物とケイ素原子を含む化合物を含有し、層厚が１００〜１０００ｎｍの範囲内にある接着層を形成することにより、高いガスバリアー性及び耐熱性を有するガスバリアー性フィルムを実現でき、更に当該ガスバリアー性フィルムを、蛍光体粒子含有層を有する光学フィルムに適用することにより、両者の密着性及び蛍光体粒子含有層のサイドリーク耐性を向上させることができたものである。【００３７】
このような効果を発現することができる技術的な作用機構としては、ケイ素原子を含む無機酸化物より構成されるガスバリアー層上に、未反応のアクリロイル基（以下、単にアクリロイル基ともいう。）を含む化合物とケイ素原子を含む化合物を含有する接着層を設けることにより、ガスバリアー層が含有するケイ素原子と、接着層が含有するケイ素原子とが相互作用し、接着層内部において、ガスバリアー層との界面側にケイ素原子が多く配向することにより、ケイ素原子の濃度傾斜構造が形成され、それに連動して接着層内の硬度が傾斜構造を有することになる。その結果、ガスバリアー性フィルムとして、高温環境下で熱変形を受けた際にも、この傾斜構造を有する硬度パターンにより、応力を効果的に緩和することができ、その結果、優れた耐熱性とガスバリアー性を得ることができると推測している。【００３８】
また、未反応のアクリロイル基を含む化合物を含有する接着層と、蛍光体粒子含有層とを隣接配置して、光学フィルムを形成することにより、熱エネルギーを付与した際に、接着層と蛍光体粒子含有層の界面に存在するアクリロイル基の反応が進行し、接着層自身の硬度が加熱と共に上昇することから、ガスバリアー層に加わる応力を吸収するとともに、接着層と蛍光体粒子含有層の界面における密着性の向上と、加えて、アクリロイル基の反応により蛍光体粒子含有層の硬度が進行し、厚膜構成の蛍光体粒子含有層のサイドリークを防止することができたものと推測している。【００３９】
また、本発明の光学フィルムにおいては、蛍光体粒子含有層に隣接した位置に、平均粒径と屈折率の異なる無機微粒子と有機微粒子を含有する接着層を形成することにより、蛍光体粒子含有層で発光した光が効率よく外部に取り出され、発光効率を高めることができることを見出した。【００４０】
上記効果が発現する機構としては、平均粒径が小さい無機微粒子が接着層内部で、蛍光体粒子含有層から放射された光の散乱効果をもたらし、有機微粒子の平均粒径が、接着層を構成するバインダー成分の層厚よりも大きいため、蛍光体粒子含有層と接着層の界面で形成される凹凸部により屈折率が平均化されることから、光学的に改善が見られると推定している。【００４１】
更に、表面に凹凸構造を有する接着層上に、蛍光体粒子含有層を形成することにより、蛍光体粒子含有層を構成する樹脂成分が、凹凸構造の間隙部に入り込むことによるアンカー効果を発現し、加えて、接着層を構成するバインダー成分として、シランカップリング剤を適用することにより、蛍光体粒子含有層との間で、強い結合を形成することで、密着性を向上させることができるものである。【００４２】
同様に、ケイ素原子を含む無機酸化物より構成されるガスバリアー層上に、バインダー成分としてシランカップリング剤等をバインダー成分として適用することにより、ガスバリアー層が含有するケイ素原子と、接着層が含有するケイ素原子とが相互作用することにより、接着層内部において、ガスバリアー層界面側にケイ素原子が多く配向することにより、ケイ素原子の濃度傾斜構造が形成され、それに連動して接着層内の硬度に関しても傾斜構造を有することにより、密着性を向上させることができるものと推測している。
【図面の簡単な説明】
【００４３】
【図１】ガスバリアー性フィルムの構成の一例を示す概略断面図
【図２】ガスバリアー性フィルムの接着層におけるアクリロイル基の配向状態の一例を示す概略断面図
【図３】ガスバリアー層と、無機微粒子と有機微粒子を含有する接着層とを有するガスバリアー性フィルムの構成の一例を示す概略断面図
【図４Ａ】ガスバリアー性フィルムと蛍光体粒子含有層より構成される光学フィルムの構成の一例を示す概略断面図
【図４Ｂ】ガスバリアー性フィルムで蛍光体粒子含有層を挟持した構成の光学フィルムの構成の一例を示す概略断面図
【図５Ａ】ガスバリアー性フィルムと蛍光体粒子含有層を積層した構成の光学フィルムの他の一例を示す概略断面図
【図５Ｂ】一対のガスバリアー性フィルムで蛍光体粒子含有層を挟持した構成の光学フィルムの他の一例を示す概略断面図
【発明を実施するための形態】
【００４４】
本発明のガスバリアー性フィルムは、樹脂基材上に、ガスバリアー層と、接着層をこの順で有するガスバリアー性フィルムであって、前記ガスバリアー層が、少なくともケイ素原子を含む無機酸化物を含有し、前記接着層が、少なくともアクリロイル基を含む化合物と、ケイ素原子を含む化合物を含有し、かつ当該接着層の層厚が、１００〜１０００ｎｍの範囲内であることを特徴とする。この特徴は、各請求項に係る発明に共通する又は対応する技術的特徴である。
【００４５】
本発明においては、本発明の目的とする効果をより発現できる観点から、接着層の層厚が１００〜５００ｎｍの範囲内とすることが、良好な密着性を維持することができると共に、サイドリーク耐性をより一層向上させることができる点で好ましい。
【００４６】
また、接着層が含有する前記アクリロイル基を含む化合物として、アクリロイル基含有シランカップリングポリマーを用いることが、本発明の目的効果である密着性をより向上させることができる点で好ましい。
【００４７】
また、接着層が、平均粒径が３００〜１０００ｎｍの範囲内にある有機微粒子を含有することが、耐熱性をより向上させることができる点で好ましい。
【００４８】
本発明のガスバリアー性フィルムの製造方法としては、樹脂基材上に、少なくともケイ素原子を含む無機酸化物より構成されるガスバリアー層を形成した後、当該ガスバリアー層上に、少なくともアクリロイル基を含む化合物と、ケイ素原子を含む化合物を含有する接着層を、層厚が１００〜１０００ｎｍの範囲内で形成することを特徴とする。更に、ガスバリアー性フィルム製造時に、活性光線、例えば、紫外線照射による硬化処理を施さないことが、密着性及びサイドリーク耐性をさらに向上させることができる点で好ましい態様である。
【００４９】
また、本発明の光学フィルムは、蛍光体粒子含有層の少なくとも一方の面側に、ガスバリアー性フィルムを具備し、前記ガスバリアー性フィルムが、樹脂基材上に、ガスバリアー層と接着層とをこの順に有し、前記ガスバリアー層が、少なくともケイ素原子を含む無機酸化物を含有し、前記接着層が、前記特定の条件（１）を満たす接着層１又は条件（２）を満たす接着層２とし、かつ、前記蛍光体粒子含有層と前記接着層を、隣接して配置されることを特徴とする。
【００５０】
すなわち、第１の構成の光学フィルムでは、ガスバリアー性フィルムを構成する接着層が、少なくともアクリロイル基を含む化合物と、ケイ素原子を含む化合物を含有し、かつ当該接着層の層厚が、１００〜１０００ｎｍの範囲内である接着層１である。また、第２の構成の光学フィルムでは、ガスバリアー性フィルムを構成する接着層が、平均一次粒径が３０〜１００ｎｍの範囲内にある無機微粒子と、平均一次粒径が３００〜１０００ｎｍの範囲内にある有機微粒子及びバインダー成分を含有する接着層２であることを特徴とする。
【００５１】
本発明においては、本発明の目的とする効果をより発現できる観点から、蛍光体粒子含有層が、蛍光体粒子として量子ドットを含有する量子ドット含有層であることが、より優れた発光特性を得ることができる点で好ましい。
【００５２】
また、接着層が含有する無機微粒子がシリカ粒子であることが、接着層を構成するバインダー成分と近似の屈折率を有し、接着層内で効率的な光散乱効果を発現させることができ、より高い発光効率を実現することができる観点から好ましい。
【００５３】
また、接着層の層厚として、含有する無機微粒子の平均一次粒径以上で、かつ有機微粒子の平均一次粒径未満の条件とすることにより、蛍光体粒子含有層と接着層の界面に形成する凹凸構造により、屈折率が平均化させることにより、より高い発光効率を実現することができる観点から好ましい。
【００５４】
また、接着層を構成するバインダー成分として、シランカップリング剤、更にはポリマータイプのシランカップリング剤を用いることにより、蛍光体粒子含有層と接着層間での密着性、あるいは、接着層とガスバリアー層間における密着性をより向上させることができる観点から好ましい。
【００５５】
同じく、接着層を構成するバインダー成分として、アクリロイル基含有化合物、更にはアクリルポリマーを含有させることにより、蛍光体粒子含有層と接着層間での密着性、あるいは、接着層とガスバリアー層間における密着性をより向上させることができる観点から好ましい。
【００５６】
以下、本発明とその構成要素、及び本発明を実施するための形態・態様について詳細な説明をする。なお、本願において、「〜」は、その前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味で使用する。また、各図の説明で、構成要素の後の括弧内に記載の数字は、各図に記載している符号を示してある。
【００５７】
《ガスバリアー性フィルム及び光学フィルムの全体構成》
〔ガスバリアー性フィルムの構成〕
本発明のガスバリアー性フィルムは、樹脂基材上に、ガスバリアー層と、接着層をこの順で有し、前記ガスバリアー層が、少なくともケイ素原子を含む無機酸化物を含有し、前記接着層１が、少なくともアクリロイル基を含む化合物と、ケイ素原子を含む化合物を含有し、かつ当該接着層１の層厚が、１００〜１０００ｎｍの範囲内であることを特徴とする。
【００５８】
また、本発明でいう「ガスバリアー性フィルム」とは、ＪＩＳ  Ｋ  ７１２９−１９９２に準拠した方法で測定された水蒸気透過度（略称：ＷＶＴＲ、温度：３８℃、相対湿度（ＲＨ）：１００％）が１．０ｇ／ｍ２・２４ｈ以下のフィルムであることを意味する。
【００５９】
水蒸気透過度は、例えば、水蒸気透過度測定装置（商品名：パーマトラン  モコン社製）により、３８℃、１００％ＲＨの雰囲気下で測定することができる。
【００６０】
図１は、ガスバリアー性フィルムの構成の一例を示す概略断面図である。
【００６１】
図１において、ガスバリアー性フィルム（１）は、樹脂基材（２）上に、少なくともケイ素原子を含む無機酸化物より構成されるガスバリアー層（３）と、その上に、接着層１（４）を有する構成である。
【００６２】
本発明においては、当該接着層１が、少なくとも未反応のアクリロイル基を含む化合物と、ケイ素原子を含む化合物を含有し、かつ層厚が、１００〜１０００ｎｍの範囲内であることを特徴とする。
【００６３】
更には、接着層１の層厚が、１００〜５００ｎｍの範囲内であること、あるいは、接着層１が含有するアクリロイル基を含む化合物が、アクリロイル基含有シランカップリングポリマーであることが好ましい態様である。
【００６４】
図２は、ガスバリアー性フィルムの接着層１におけるアクリロイル基の配向状態の一例を示す概略断面図である。
【００６５】
図２に記載のガスバリアー性フィルム（１）は、樹脂基材（２）、ガスバリアー層（３）及び接着層１（４）で構成され、耐熱性や密着性の向上に寄与するアクリロイル基（５）が接着層１の表面領域に配向している状態を模式図として示している。
【００６６】
本発明に係る「アクリロイル基」とは、下記に示す構造で表される、アクリル酸由来のアシル基である。
【００６７】
【化１】
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【００６８】
〈アクリロイル基の定量〉
本発明においては、接着層１の表面領域におけるアクリロイル基量（ｍｏｌ／ｍ２）は、下記の方法により求めることができる。
【００６９】
本発明でいう接着層１の表面領域とは、最表面部から深さ方向で１０ｎｍまでの領域をいい、当該表面領域に対し、下記の測定方法に準じて、アクリロイル基量（ｍｏｌ／ｍ２）を測定して求めることができる。
【００７０】
具体的には臭素含有の溶液に接着層付きバリアフィルムを１０分間含浸し、十分乾燥させたサンプルのＸＰＳ測定を行うことにより、表面のＢｒ量の比率を定量化することで未反応のアクリレート基を定量化することができる。
【００７１】
本発明においては、接着層１の表面領域におけるアクリロイル基の含有量としては、０．１ｍｏｌ／ｍ２以上であることが好ましく、さらに好ましくは０．５ｍｏｌ／ｍ２以上である。
【００７２】
また、第２の構成の光学フィルムに適用するガスバリアー性フィルムとしては、樹脂基材上に、ガスバリアー層と接着層２とをこの順に有し、ガスバリアー層が、少なくともケイ素原子を含む無機酸化物を含有し、接着層２が、平均一次粒径が３０〜１００ｎｍの範囲内にある無機微粒子と、平均一次粒径が３００〜１０００ｎｍの範囲内にある有機微粒子及びバインダー成分を含有する構成であることを特徴とする。
【００７３】
図３は、ガスバリアー層と、無機微粒子と有機微粒子を含有する接着層２とを有する第２の構成のガスバリアー性フィルムの構成の一例を示す概略断面図である。
【００７４】
図３に示すガスバリアー性フィルム（１０１）においては、樹脂基材（１０２）上に、少なくともケイ素原子を含む無機酸化物より構成されるガスバリアー層（１０３）と、その上に、第２の実施形態である接着層２（１０４）を有する構成である。
【００７５】
本発明においては、第２の実施形態である接着層２（１０４）は、平均一次粒径が３０〜１００ｎｍの範囲内にある無機微粒子（１０６）と、平均一次粒径が３００〜１０００ｎｍの範囲内にある有機微粒子（１０７）及びバインダー成分（１０５）により構成されている。
【００７６】
更には、接着層２（１０４）が含有する無機微粒子（１０６）が、シリカ粒子であることが好ましい構成である。
【００７７】
また、接着層２（１０４）の層厚が、無機微粒子（１０６）の平均一次粒径以上で、かつ有機微粒子（１０７）の平均一次粒径未満であることが好ましい態様である。上記条件を満たすバインダー成分の層厚は、３０ｎｍ以上、１０００ｎｍ未満となるが、現実的な層厚としては、１００ｎｍ以上、１０００ｎｍ未満であり、更に好ましくは、１００〜８００ｎｍの範囲であり、特に好ましくは２００〜５００ｎｍの範囲内である。
【００７８】
本発明でいう接着層２（１０４）の層厚とは、図３で示すように、大粒子である有機微粒子（１０７）が、表面上部より突出して、凹凸構造を形成している場合には、ガスバリアー層（１０３）との界面をＡとし、接着層（４）表面における凹構造の底面をＢとした時、ＡからＢまでの厚さの平均値（ｈｄ）を、接着層２（１０４）の層厚と定義する。
【００７９】
〔光学フィルムの構成〕
本発明の光学フィルムは、本発明で規定する構成よりなるガスバリアー性フィルムと、蛍光体粒子を含有する蛍光体粒子含有層とを有する構成で、本発明のガスバリアー性フィルムを構成する表面領域にアクリロイル基を有する接着層と、蛍光体粒子含有層とが隣接して配置され、接着層が、少なくともアクリロイル基を含む化合物と、ケイ素原子を含む化合物を含有し、かつ当該接着層の層厚が、１００〜１０００ｎｍの範囲内である接着層１（第１の実施形態）、又は接着層が、平均一次粒径が３０〜１００ｎｍの範囲内にある無機微粒子と、平均一次粒径が３００〜１０００ｎｍの範囲内にある有機微粒子及びバインダー成分を含有する接着層２（第２の実施形態）であることを特徴とする。
【００８０】
（第１の構成の光学フィルム）
第１の構成の光学フィルムにおいては、接着層として、少なくともアクリロイル基を含む化合物と、ケイ素原子を含む化合物を含有し、かつ当該接着層の層厚が、１００〜１０００ｎｍの範囲内である接着層１を適用することを１つの特徴とする。
【００８１】
図４Ａ及び図４Ｂは、接着層１（４、４Ａ、４Ｂ）を有するガスバリアー性フィルムと、蛍光体粒子含有層より構成される光学フィルムの第１の構成の一例を示す概略断面図である。
【００８２】
図４Ａに示す構成の光学フィルム（１０）では、樹脂基材（２）上に、ガスバリアー層（３）と、少なくともアクリロイル基を含む化合物と、ケイ素原子を含む化合物を含有し、かつ層厚が、１００〜１０００ｎｍの範囲内である接着層１（４）を積層した構成のガスバリアー性フィルム（１）と、当該接着層１（４）に対向する位置に、樹脂バインダー（８）中に蛍光体粒子（７、ＱＤ粒子）を分散して構成する蛍光体粒子含有層（６）を配置した構成の一例を示してある。蛍光体粒子含有層（６）のガスバリアー性フィルムを設けた反対側の面には、蛍光体粒子への水分や酸素等による影響を防止するため、封止部材（９）等を設ける構成が好ましい。
【００８３】
図４Ｂに示す光学フィルム（１０）では、蛍光体粒子（７）を含有する蛍光体粒子含有層（６）を、一対の接着層１を有するガスバリアー性フィルム（１Ａ及び１Ｂ）で挟持している構成を示してある。図４Ｂに示す光学フィルム（１０）でも、各ガスバリアー性フィルムを構成する表面領域にアクリロイル基を有する接着層１（４Ａ及び４Ｂ）と、蛍光体粒子含有層（６）がそれぞれ隣接した位置に配置されている。
【００８４】
（第２の構成の光学フィルム）
第２の構成の本発明の光学フィルムにおいては、接着層として、平均一次粒径が３０〜１００ｎｍの範囲内にある無機微粒子と、平均一次粒径が３００〜１０００ｎｍの範囲内にある有機微粒子及びバインダー成分を含有する接着層２を適用することを１つの特徴とする。
【００８５】
図５Ａ及び図５Ｂは、接着層２を有するガスバリアー性フィルムと蛍光体粒子含有層より構成される第２の構成の光学フィルム（Ｆ）の構成の一例を示す概略断面図である。
【００８６】
図５Ａに示す構成の光学フィルム（Ｆ）では、樹脂基材（１０２Ａ）上に、ガスバリアー層（１０３Ａ）と、無機微粒子（１０６Ａ）、有機微粒子（１０７Ａ）及びバインダー成分（１０５Ａ）を含有する接着層２（１０４Ａ）を積層した構成のガスバリアー性フィルム（１０１Ａ）と、当該接着層２（１０４Ａ）に隣接する位置に、樹脂バインダー（１１０）中に蛍光体粒子（１０９、ＱＤ粒子）を分散して構成する蛍光体粒子含有層（１０８）を配置した構成の第２の構成の光学フィルムの構成の一例を示してある。蛍光体粒子含有層（１０８）のガスバリアー性フィルム（１０１Ａ）を設けた反対側の面には、蛍光体粒子（１０９）への水分や酸素等による影響を防止するため、封止部材（１１１）等を設ける構成が好ましい。
【００８７】
図５Ｂは、一対の第２の実施形態である接着層２を有するガスバリアー性フィルムで蛍光体粒子含有層を挟持した構成の光学フィルムの一例を示す概略断面図である。
【００８８】
図５Ｂに示す光学フィルム（Ｆ）では、蛍光体粒子（１０９）を含有する蛍光体粒子含有層（１０８）の両面を、本発明に係る第２の構成であるガスバリアー性フィルム（１０１Ａ及び１０１Ｂ）で挟持している構成を示してある。この時、蛍光体粒子含有層（８）の両面に隣接する位置に、ガスバリアー性フィルム（１０１Ａ及び１０１Ｂ）の接着層２（１０４Ａ及び１０４Ｂ）を配置させる。
【００８９】
本発明の光学フィルム（Ｆ）が図５Ｂで示すような構成をとる場合、ガスバリアー性フィルム（１０１Ａ及び１０１Ｂ）は、本発明で規定する条件を満たす同一構造のガスバリアー性フィルムであっても、あるいは、ガスバリアー性フィルム（１０１Ａ及び１０１Ｂ）が、それぞれ異なる構成のガスバリー性フィルムである場合には、ガスバリアー性フィルム（１Ａ及び１Ｂ）の少なくとも一方が、本発明で規定する接着層２を有するガスバリアー性フィルムであればよい。
【００９０】
《ガスバリアー性フィルムの構成について》
はじめに、本発明のガスバリアー性フィルムの各構成要素の詳細について説明する。
【００９１】
［樹脂基材］
本発明のガスバリアー性フィルムに適用可能な樹脂基材としては、ガスバリアー層及び接着層を保持することができるものであれば特に限定されるものではない。当該樹脂基材としては、通常、フレキシブル性を有するプラスチックフィルムまたはシートが用いられ、無色透明な樹脂からなるフィルムまたはシートが好ましく用いられる。用いられる樹脂基材は、本発明に係るガスバリアー層や接着層の他に、更に、目的により適宜設けられる各種機能層（ハードコート層等）や、光学フィルムを構成する蛍光体粒子含有層を保持できるフィルムであれば、材質や厚み等に特に制限はなく、使用目的等に応じて適宜選択することができる。
【００９２】
本発明に適用可能な樹脂基材としては、例えば、ポリ（メタ）アクリル酸エステル、ポリエチレンテレフタレート（略称：ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート（略称：ＰＥＮ）、ポリカーボネート（略称：ＰＣ）、ポリアリレート、ポリ塩化ビニル（略称：ＰＶＣ）、ポリエチレン（略称：ＰＥ）、ポリプロピレン（略称：ＰＰ）、ポリスチレン（略称：ＰＳ）、ナイロン（略称：Ｎｙ）、芳香族ポリアミド、ポリエーテルエーテルケトン、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリイミド、ポリエーテルイミド、シクロオレフィンポリマー、シクロオレフィンコポリマー等の樹脂成分により構成される各樹脂フィルムや、有機無機ハイブリッド構造を有するシルセスキオキサンを基本骨格とした耐熱透明フィルム（例えば、製品名Ｓｉｌａ−ＤＥＣ、チッソ株式会社製）、さらには前記樹脂を２層以上積層して構成される積層型樹脂フィルム等を挙げることができる。
【００９３】
樹脂基材の厚さは、特に制限されないが、５〜３００μｍであることが好ましく、１０〜１００μｍであることがより好ましい。該樹脂基材上には、必要に応じて、透明導電層、プライマー層、クリアハードコート層等の各種機能層を有していてもよい。適用可能な各種機能層については、上述したもののほか、特開２００６−２８９６２７号公報の段落番号「００３６」〜「００３８」に記載されている機能層を、目的に応じて適宜選択して採用できる。
【００９４】
また、本発明に係る樹脂基材は、透明であることが好ましい。樹脂基材が透明であり、樹脂基材上に形成する層も透明であることにより、透明なガスバリアー性フィルムとすることが可能となるため、有機ＥＬ素子等の透明基板とすることも可能となるからである。本発明でいう「透明」とは、ＪＩＳ  Ｓ３１０７（２０１３）に準拠する方法で測定される可視光透過率が５０％以上であることをいい、好ましくは６５％以上、より好ましくは８０％以上、さらに好ましくは９０％以上である。
【００９５】
樹脂基材は、表面平滑性が高いものが好ましい。表面平滑性としては、平均表面粗さ（Ｒａ）が２ｎｍ以下であるものが好ましい。下限は特にないが、実用上、０．０１ｎｍ以上である。必要に応じて、樹脂基材の両面、少なくともガスバリアー層を設ける側を研摩し、平滑性を向上させておいてもよい。
【００９６】
樹脂基材においては、本発明に係るガスバリアー層を設ける側に、密着性向上のための公知の種々の処理、例えば、コロナ放電処理、火炎処理、酸化処理、またはプラズマ処理や、後述する平滑層の積層等を行ってもよく、あるいは上記各処理を組み合わせて行うこともできる。
【００９７】
［ガスバリアー層］
本発明のガスバリアー性フィルムは、樹脂基材上に少なくとも１層のケイ素原子を含む無機酸化物より構成されるガスバリアー層を有することを、特徴の一つとする。ここで、本発明に係るガスバリアー層は、樹脂基材表面に直接形成される態様の他に、樹脂基材とガスバリアー層の間に下地層（例えば、平滑層、プライマー層）、アンカーコート層（アンカー層）等の各種機能層が、必要に応じて設けられている態様であってもよい。
【００９８】
ガスバリアー層は、少なくともケイ素原子を含む無機化合物により構成されている。すなわち、ケイ素原子を含む無機酸化物（組成：ＳｉＯｘ）である。
【００９９】
ガスバリアー層における化学組成は、ＸＰＳ表面分析装置（例えば、アルバックファイ社製ＱＵＡＮＴＥＲＡＳＸＭ）を用いて、原子組成比を測定することで求めることができる。また、ガスバリアー層の側面を切り出し、露出させた切断面をＸＰＳ表面分析装置で原子組成比を測定することでも求めることができる。また、ガスバリアー層における化学組成は、ガスバリアー層を形成する際に用いる原料の種類や量、ならびに成膜時の形成条件や形成した後の改質処理条件等により、制御することができる。
【０１００】
ガスバリアー層を構成するケイ素原子を含む無機化合物の含有量は、特に限定されないが、ガスバリアー層全質量に対し、５０質量％以上であることが好ましく、８０質量％以上であることがより好ましく、９５質量％以上であることがさらに好ましく、９８質量％以上であることが特に好ましく、１００質量％であること、すなわち、ガスバリアー層が無機化合物のみから構成されることが最も好ましい。
【０１０１】
ガスバリアー層を、主成分としてケイ素原子を含む無機化合物より構成することにより、高い緻密性を有し、優れたガスバリアー性を発現させることができる。ここで、ガスバリアー層のガスバリアー性とは、前述のとおり、ＪＩＳ  Ｋ  ７１２９−１９９２に準拠した方法で測定された水蒸気透過度（略称：ＷＶＴＲ、温度：３８℃、相対湿度（ＲＨ）：１００％）が、１．０ｇ／（ｍ２・２４ｈ）以下であることを意味し、０．１ｇ／（ｍ２・２４ｈ）以下であることが好ましく、０．０１ｇ／（ｍ２・２４ｈ）以下であることがより好ましい。
【０１０２】
ガスバリアー層の形成方法は、特に制限されないが、例えば、ケイ素含有化合物を用い、物理気相成長法（ＰＶＤ法）や化学気相成長法（ＣＶＤ法）などの気相成膜法で形成する方法や、ケイ素化合物（例えば、ポリシラザン等）を含む塗布液を塗布してガスバリアー層形成用前駆体を含む塗膜を形成した後、真空紫外線等による改質処理を施してガスバリアー層を形成する方法（以下、塗布法とも称する）などが挙げられる。
【０１０３】
以下、代表的な気相成膜法及び塗布法と、当該塗布法で形成した塗膜に対する具体的な改質方法について説明する。
【０１０４】
〔ガスバリアー層の気相成膜法による形成〕
本発明に適用可能な気相成膜法の代表例として、物理気相成長法（ＰＶＤ法）及び化学気相成長法（ＣＶＤ法）について、その詳細を説明する。
【０１０５】
物理気相成長法（Ｐｈｙｓｉｃａｌ  Ｖａｐｏｒ  Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ、ＰＶＤ法）とは、気相中で基材等の表面に物理的手段により、目的とする物質、例えば、ケイ素原子含有膜等の薄膜を堆積する方法であり、物理的な成膜手段としては、例えば、スパッタ法（例えば、ＤＣスパッタ法、ＲＦスパッタ法、イオンビームスパッタ法、マグネトロンスパッタ法等）、真空蒸着法、イオンプレーティング法などが挙げられる。
【０１０６】
スパッタ法は、真空チャンバー内にターゲットを設置し、高電圧をかけてイオン化した希ガス元素（通常は、アルゴン）をターゲットに衝突させて、ターゲット表面よりケイ素原子をはじき出し、樹脂基材に付着・堆積させる方法である。このとき、チャンバー内に窒素ガスや酸素ガスを流すことにより、アルゴンガスによってターゲットからはじき出されたケイ素原子と、窒素や酸素とを反応させてケイ素原子を含む無機酸化物層を形成する、反応性スパッタ法を用いてもよい。
【０１０７】
一方、化学気相成長法（Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｖａｐｏｒ  Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ、ＣＶＤ法）とは、樹脂基材上に、目的とする薄膜成分であるケイ素原子を含む原料ガスを供給し、樹脂基材表面または気相での化学反応によりケイ素原子を含有する無機酸化物膜を堆積する方法である。また、化学反応を活性化する目的で、プラズマなどを発生させる方法などがあり、熱ＣＶＤ法、触媒化学気相成長法、光ＣＶＤ法、真空プラズマＣＶＤ法、大気圧プラズマＣＶＤ法など公知のＣＶＤ方式等が挙げられる。特に限定されるものではないが、製膜速度や処理面積の観点から、プラズマＣＶＤ法を適用することが好ましい。
【０１０８】
真空プラズマＣＶＤ法や大気圧又は大気圧近傍の圧力下でのプラズマＣＶＤ法により得られるガスバリアー層は、原材料（原料ともいう）であるケイ素含有化合物、分解ガス、分解温度、投入電力などの条件を選ぶことで、目的とする組成からなるケイ素原子含有酸化物を製造できるため好ましい。プラズマＣＶＤ法によるバリア層の形成条件の詳細については、例えば、国際公開第２０１２／０６７１８６号の段落（００３３）〜（００５１）に記載される条件を適宜採用することにより、ケイ素原子を含む無機酸化物を含むガスバリアー層を形成することができる。
【０１０９】
〔ガスバリアー層の塗布法による形成〕
本発明に係るガスバリアー層は、例えば、ケイ素原子を含む無機化合物を含有するガスバリアー層形成用塗布液を、樹脂基材上に塗布して形成される塗膜を、後述する改質処理を施して形成する方法（塗布法）で形成してもよい。以下、本発明に係るケイ素元素を含む無機化合物（以下、ケイ素化合物という。）を例に挙げて説明する。
【０１１０】
（ケイ素化合物）
本発明に係るケイ素化合物としては、ケイ素化合物を含有する塗布液の調製が可能であれば特に限定はされない。例えば、ポリシラザン化合物、シラザン化合物、アミノシラン化合物、シリルアセトアミド化合物、シリルイミダゾール化合物、およびその他の窒素を含有するケイ素化合物などが用いられる。
【０１１１】
以下、本発明に係る塗布法に好適に用いられる各ケイ素化合物について、その詳細を説明する。
【０１１２】
〈ポリシラザン化合物〉
本発明に好ましく用いられるポリシラザン化合物（以下、単にポリシラザンともいう。）とは、ケイ素−窒素結合を有するポリマーである。具体的に、その構造内にＳｉ−Ｎ、Ｓｉ−Ｈ、Ｎ−Ｈなどの結合を有し、ＳｉＯ２、Ｓｉ３Ｎ４、および両方の中間固溶体ＳｉＯｘＮｙなどのセラミック前駆体無機ポリマーである。
【０１１３】
本発明に用いられるポリシラザンの例としては、特に限定されず、公知のものが挙げられる。例えば、特開２０１３−０２２７９９号公報の段落（００４３）〜同（００５８）や特開２０１３−２２６７５８号公報の段落（００３８）〜同（００５６）などに具体的に記載されている化合物を適宜採用することができる。
【０１１４】
また、ポリシラザンは、有機溶媒に溶解した溶液状態でも市販されており、ポリシラザン溶液の市販品としては、ＡＺエレクトロニックマテリアルズ株式会社製のＮＮ１２０−１０、ＮＮ１２０−２０、ＮＡＸ１２０−２０、ＮＮ１１０、ＮＮ３１０、ＮＮ３２０、ＮＬ１１０Ａ、ＮＬ１２０Ａ、ＮＬ１２０−２０、ＮＬ１５０Ａ、ＮＰ１１０、ＮＰ１４０、ＳＰ１４０等が挙げられる。
【０１１５】
本発明で使用できるポリシラザン化合物の他の例としては、例えば、上記ポリシラザンにケイ素アルコキシドを反応させて得られるケイ素アルコキシド付加ポリシラザン（例えば、特開平５−２３８８２７号公報参照。）、グリシドールを反応させて得られるグリシドール付加ポリシラザン（例えば、特開平６−１２２８５２号公報参照。）、アルコールを反応させて得られるアルコール付加ポリシラザン（例えば、特開平６−２４０２０８号公報参照。）、金属カルボン酸塩を反応させて得られる金属カルボン酸塩付加ポリシラザン（例えば、特開平６−２９９１１８号公報参照。）、金属を含むアセチルアセトナート錯体を反応させて得られるアセチルアセトナート錯体付加ポリシラザン（例えば、特開平６−３０６３２９号公報参照。）、金属微粒子を添加して得られる金属微粒子添加ポリシラザン（例えば、特開平７−１９６９８６号公報参照。）などの、低温でセラミック化するポリシラザン化合物が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【０１１６】
〈シラザン化合物〉
本発明に好ましく用いられる単量体であるシラザン化合物の例として、ジメチルジシラザン、トリメチルジシラザン、テトラメチルジシラザン、ペンタメチルジシラザン、ヘキサメチルジシラザン、および１，３−ジビニル−１，１，３，３−テトラメチルジシラザンなどが挙げられるが、これらに限定されない。
【０１１７】
〈アミノシラン化合物〉
本発明に好ましく用いられるアミノシラン化合物の例として、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルジメチルエトキシシラン、３−アリールアミノプロピルトリメトキシシラン、プロピルエチレンジアミンシラン、Ｎ−［３−（トリメトキシシリル）プロピル］エチレンジアミン、３−ブチルアミノプロピルトリメチルシラン、３−ジメチルアミノプロピルジエトキシメチルシラン、２−（２−アミノエチルチオエチル）トリエトキシシラン、およびビス（ブチルアミノ）ジメチルシランなどが挙げられるが、これらに限定されない。
【０１１８】
〈シリルアセトアミド化合物〉
本発明に好ましく用いられるシリルアセトアミド化合物の例として、Ｎ−メチル−Ｎ−トリメチルシリルアセトアミド、Ｎ，Ｏ−ビス（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル）アセトアミド、Ｎ，Ｏ−ビス（ジエチルヒドロゲンシリル）トリフルオロアセトアミド、Ｎ，Ｏ−ビス（トリメチルシリル）アセトアミド、Ｎ−トリメチルシリルアセトアミド等が挙げられるが、これらに限定されない。
【０１１９】
〈シリルイミダゾール化合物〉
本発明に好ましく用いられるシリルイミダゾール化合物の例として、１−（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル）イミダゾール、１−（ジメチルエチルシリル）イミダゾール、１−（ジメチルイソプロピルシリル）イミダゾール、およびＮ−トリメチルシリルイミダゾールなどが挙げられるが、これらに限定されない。
【０１２０】
〈その他の窒素を含有するケイ素化合物〉
本発明において、上述の窒素を含有するケイ素化合物の他に、例えば、ビス（トリメチルシリル）カルボジイミド、トリメチルシリルアジド、Ｎ，Ｏ−ビス（トリメチルシリル）ヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ´−ビス（トリメチルシリル）尿素、３−ブロモ−１−（トリイソプロピルシリル）インドール、３−ブロモ−１−（トリイソプロピルシリル）ピロール、Ｎ−メチル−Ｎ，Ｏ−ビス（トリメチルシリル）ヒドロキシルアミン、３−イソシアネートプロピルトリエトキシシラン、およびシリコンテトライソチオシアナートなどが用いられるがこれらに限定されない。
【０１２１】
中でも、成膜性、クラック等の欠陥が少ないこと、残留有機物の少なさの点で、パーヒドロポリシラザン、オルガノポリシラザン等のポリシラザン；シルセスキオキサン等のポリシロキサン等が好ましく、ガスバリアー性能が高く、屈曲時および高温高湿条件下であってもガスバリアー性能が維持されることから、ポリシラザンがより好ましく、パーヒドロポリシラザン（ＰＨＰＳ）が特に好ましい。
【０１２２】
ポリシラザンを用いる場合、改質処理前のガスバリアー層中におけるポリシラザンの含有率としては、ガスバリアー層の全質量を１００質量％としたとき、１００質量％、すなわち、全層をポリシラザンで形成することができる。また、ガスバリアー層がポリシラザン以外の構成材料を含む場合には、層中におけるポリシラザンの含有率は、１０〜９９質量％の範囲内であることが好ましく、４０〜９５質量％の範囲内であることがより好ましく、特に好ましくは７０〜９５質量％の範囲内である。
【０１２３】
上記のようなガスバリアー層の塗布法による形成方法は、特に制限されず、公知の方法が適用できるが、有機溶媒中にケイ素化合物および必要に応じて触媒を含むガスバリアー層形成用塗布液を公知の湿式塗布方法により塗布し、この溶媒を蒸発させて除去し、次いで、改質処理を行う方法が好ましい。
【０１２４】
（塗布法により形成されたガスバリアー層の改質処理）
本発明における塗布法により形成されたガスバリアー層の改質処理とは、ケイ素化合物の酸化ケイ素または酸窒化ケイ素等への転化反応を指し、具体的にはガスバリアー性フィルムが全体としてガスバリアー性（水蒸気透過率が、好ましくは１×１０−３ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下）を発現するに貢献できるレベルのケイ素元素を含む無機酸化物薄膜を形成する処理をいう。
【０１２５】
前駆体であるケイ素化合物の酸化ケイ素または酸窒化ケイ素等への転化反応は、公知の方法を適宜選択して適用することができる。改質処理としては、具体的には、プラズマ処理、紫外線照射処理（例えば、エキシマ照射処理）、加熱処理が挙げられる。ただし、加熱処理による改質の場合、ケイ素化合物の置換反応による酸化ケイ素層または酸窒化ケイ素層の形成には、４５０℃以上の高温が必要であるため、プラスチック等のフレキシブル基板においては、適応が難しい。このため、熱処理は、適用する上限温度に制限を設け、他の改質処理と組み合わせて行うことが好ましい。
【０１２６】
したがって、改質処理としては、プラスチック基板への適応という観点から、より低温で、転化反応が可能なプラズマ処理や紫外線照射処理による転化方法が好ましい。
【０１２７】
〈プラズマ処理〉
本発明において、改質処理として用いることのできるプラズマ処理は、公知の方法を用いることができるが、好ましくは大気圧プラズマ処理等を挙げることができる。大気圧近傍でのプラズマＣＶＤ処理を行う大気圧プラズマＣＶＤ法は、真空下のプラズマＣＶＤ法に比べ、減圧環境にする必要がなく、大型の真空設備を必要としないため、生産性や経済性に優れているほか、プラズマ密度が高密度であるために成膜速度が速く、さらには通常のＣＶＤ法の条件に比較して、大気圧下という高圧力条件では、ガスの平均自由行程が非常に短いため、極めて均質の膜が得られる。
【０１２８】
大気圧プラズマ処理の場合は、放電ガスとしては窒素ガスまたは長周期型周期表の第１８族原子を含むガス、具体的には、ヘリウム、ネオン、アルゴン、クリプトン、キセノン、ラドン等が用いられる。これらの中でも窒素、ヘリウム、アルゴンが好ましく用いられ、特に窒素がコストも安く好ましい。
【０１２９】
〈加熱処理〉
ケイ素化合物を含有する塗膜を他の改質処理、好適には後述のエキシマ照射処理等と組み合わせて、加熱処理することで、改質処理を効率よく行うことができる。
【０１３０】
また、ゾル・ゲル法を用いてガスバリアー層を形成する場合には、加熱処理を用いることが好ましい。加熱温度としては、好ましくは５０〜３００℃の温度範囲内であり、より好ましくは７０〜２００℃の温度範囲内で、加熱時間は好ましくは０．００５〜６０分間の範囲内であり、より好ましくは０．０１〜１０分間の範囲内で、加熱・乾操することにより、縮合反応が進行し、ガスバリアー層を形成することができる。
【０１３１】
加熱処理方法としては、例えば、ヒートブロック等の発熱体に樹脂基材を接触させ熱伝導により塗膜を加熱する方法、抵抗線等による外部ヒーターにより雰囲気を加熱する方法、ＩＲヒーターの様な赤外領域の光を用いた方法等が挙げられるが、特に限定はされない。また、ケイ素化合物を含有する塗膜の平滑性を維持できる方法を適宜選択してよい。
【０１３２】
〈紫外線照射処理〉
改質処理の方法の１つとして、紫外線照射による処理が好ましい。紫外線（紫外光と同義）によって生成されるオゾンや活性酸素原子は高い酸化能力を有しており、低温で高い緻密性と絶縁性を有する酸化ケイ素膜または酸窒化ケイ素膜を形成することが可能である。
【０１３３】
この紫外線照射により、樹脂基材が加熱され、セラミックス化（シリカ転化）に寄与するＯ２とＨ２Ｏや、紫外線吸収剤、ポリシラザン自身が励起、活性化されるため、ポリシラザンが励起し、ポリシラザンのセラミックス化が促進され、また得られるガスバリアー層が一層緻密になる。紫外線照射は、塗膜形成後であればいずれの時点で実施しても有効である。
【０１３４】
紫外線照射処理においては、常用されているいずれの紫外線発生装置を使用することも可能である。
【０１３５】
なお、本発明でいう紫外線とは、一般には、１０〜４００ｎｍの範囲内に波長を有する電磁波をいうが、後述する真空紫外線（１０〜２００ｎｍ）処理以外の紫外線照射処理の場合は、好ましくは２１０〜３７５ｎｍの波長範囲内の紫外線を用いる。
【０１３６】
紫外線の照射は、照射されるガスバリアー層を担持している樹脂基材がダメージを受けない範囲で、照射強度や照射時間を設定することが好ましい。
【０１３７】
樹脂基材としてプラスチックフィルムを用いた場合を例にとると、例えば、２ｋＷ（８０Ｗ／ｃｍ×２５ｃｍ）のランプを用い、樹脂基材表面の照射強度が２０〜３００ｍＷ／ｃｍ２、好ましくは５０〜２００ｍＷ／ｃｍ２になるように樹脂基材−紫外線照射ランプ間の距離を設定し、０．１秒〜１０分間の照射を行うことができる。
【０１３８】
一般に、紫外線照射処理時の樹脂基材温度が１５０℃以上になると、プラスチックフィルム等の場合には、樹脂基材が変形したり、その強度が劣化したりする等、樹脂基材の特性が損なわれる場合が多い。しかしながら、ポリイミド等の耐熱性の高いフィルムの場合には、より高温での改質処理が可能である。したがって、この紫外線照射時の樹脂基材温度としては、一般的な上限はなく、樹脂基材の種類によって当業者が適宜設定することができる。また、紫外線照射雰囲気に特に制限はなく、空気中で実施することができる。
【０１３９】
このような紫外線の発生手段としては、例えば、メタルハライドランプ、高圧水銀ランプ、低圧水銀ランプ、キセノンアークランプ、カーボンアークランプ、エキシマランプ（１７２ｎｍ、２２２ｎｍ、３０８ｎｍの単一波長、例えば、ウシオ電機株式会社製、ＭＤエキシマ社製など）、ＵＶ光レーザー、等が挙げられるが、特に限定されない。また、発生させた紫外線をガスバリアー層に照射する際には、効率向上と均一な照射を達成する観点から、発生源からの紫外線を反射板で反射させてからガスバリアー層に当てることが好ましい。
【０１４０】
紫外線照射は、バッチ処理でも連続処理でも可能であり、使用する樹脂基材の形状によって適宜選定することができる。例えば、バッチ処理の場合には、ガスバリアー層を表面に有する積層体を上記のような紫外線発生源を具備した紫外線焼成炉で処理することができる。紫外線焼成炉自体は一般に知られており、例えば、アイグラフィクス株式会社製の紫外線焼成炉を使用することができる。また、ガスバリアー層を表面に有する積層体が長尺フィルム状である場合には、これを搬送させながら上記のような紫外線発生源を具備した乾燥ゾーンで連続的に紫外線を照射することによりセラミックス化することができる。紫外線照射に要する時間は、使用する樹脂基材やガスバリアー層の組成、濃度にもよるが、一般に０．１秒〜１０分であり、好ましくは０．５秒〜３分である。
【０１４１】
〈真空紫外線照射処理：エキシマ照射処理〉
本発明において、ガスバリアー層形成における最も好ましい改質処理方法は、真空紫外線照射による処理（エキシマ照射処理ともいう。）である。真空紫外線照射による処理は、ポリシラザン化合物内の原子間結合力より大きい１００〜２００ｎｍの光エネルギーを用い、好ましくは１００〜１８０ｎｍの波長の光エネルギーを用い、原子の結合を光量子プロセスと呼ばれる光子のみの作用により、直接切断しながら活性酸素やオゾンによる酸化反応を進行させることで、比較的低温（約２００℃以下）で、酸化ケイ素膜の形成を行う方法である。なお、エキシマ照射処理を行う際は、上述したように熱処理を併用することが好ましく、その際の熱処理条件の詳細は上述したとおりである。
【０１４２】
本発明において、エキシマ照射処理における放射線源は、１００〜１８０ｎｍの範囲内の波長の光を発生させるものであれば良いが、好適には約１７２ｎｍに最大放射を有するエキシマラジエータ（例えば、Ｘｅエキシマランプ）、約１８５ｎｍに輝線を有する低圧水銀蒸気ランプ、並びに２３０ｎｍ以下の波長成分を有する中圧および高圧水銀蒸気ランプ、および約２２２ｎｍに最大放射を有するエキシマランプである。
【０１４３】
このうち、Ｘｅエキシマランプは、波長の短い１７２ｎｍの紫外線を単一波長として放射することができることから、発光効率に優れている。この光は、酸素の吸収係数が大きいため、微量な酸素でラジカルな酸素原子種やオゾンを高濃度で発生することができる。
【０１４４】
また、波長の短い１７２ｎｍの光のエネルギーは、有機物の結合を解離させる能力が高いことが知られている。この活性酸素やオゾンと紫外線放射が持つ高いエネルギーによって、短時間でポリシラザン塗膜の改質を実現できる。
【０１４５】
エキシマランプは光の発生効率が高いため、低い電力の投入で点灯させることが可能である。また、光による温度上昇の要因となる波長の長い光は発せず、紫外線領域、すなわち短い波長でエネルギーを照射するため、解射対象物の表面温度の上昇が抑えられる特徴を持っている。このため、熱の影響を受けやすいとされるポリエチレンテレフタレート（略称：ＰＥＴ）などのフレシキブルフィルム材料を樹脂基材として用いたガスバリアー性フィルムの作製に適している。
【０１４６】
紫外線照射時の反応には、酸素が必要であるが、真空紫外線は、酸素による吸収があるため紫外線照射工程での効率が低下しやすいことから、真空紫外線の照射は、可能な限り酸素濃度および水蒸気濃度の低い状態で行うことが好ましい。すなわち、真空紫外線照射時の酸素濃度は、１０〜２００００体積ｐｐｍの範囲内とすることが好ましく、より好ましくは５０〜１００００体積ｐｐｍの範囲内である。また、転化プロセスの間の水蒸気濃度は、好ましくは１０００〜４０００体積ｐｐｍの範囲内である。
【０１４７】
真空紫外線照射時に用いられ、照射雰囲気を満たすガスとしては、乾燥不活性ガスとすることが好ましく、特にコストの観点から乾燥窒素ガスとすることが好ましい。酸素濃度の調整は照射庫内へ導入する酸素ガス、不活性ガスの流量を計測し、流量比を制御することで調整可能である。
【０１４８】
真空紫外線照射工程において、ポリシラザン塗膜が受ける塗膜面での真空紫外線の照度は１ｍＷ／ｃｍ２〜１０Ｗ／ｃｍ２の範囲内であることが好ましく、３０〜２００ｍＷ／ｃｍ２の範囲内であることがより好ましく、５０〜１６０ｍＷ／ｃｍ２の範囲内であることがさらに好ましい。真空紫外線の照度が１ｍＷ／ｃｍ２以上であれば、十分な改質効率が得られ、１０Ｗ／ｃｍ２以下であれば、塗膜にアブレーションを生じにくく、樹脂基材にダメージを与えにくい。
【０１４９】
塗膜面における真空紫外線の照射エネルギー量（積算光量）は、１０〜１００００ｍＪ／ｃｍ２の範囲内であることが好ましく、１００〜８０００ｍＪ／ｃｍ２の範囲内であることがより好ましく、２００〜６０００ｍＪ／ｃｍ２の範囲内であることがさらに好ましい。真空紫外線の照射エネルギー量が１０ｍＪ／ｃｍ２以上であれば、改質が十分に進行させることができる。１００００ｍＪ／ｃｍ２以下であれば、過剰改質によるクラック発生や、樹脂基材の熱変形の発生を抑制することができる。
【０１５０】
また、改質に用いられる真空紫外光は、ＣＯ、ＣＯ２及びＣＨ４の少なくとも一種を含むガスで形成されたプラズマにより発生させてもよい。さらに、ＣＯ、ＣＯ２及びＣＨ４の少なくとも一種を含むガス（以下、炭素含有ガスとも称する）は、炭素含有ガスを単独で使用してもよいが、希ガスまたはＨ２を主ガスとして、炭素含有ガスを少量添加することが好ましい。プラズマの生成方式としては容量結合プラズマなどが挙げられる。
【０１５１】
ガスバリアー層の膜組成は、ＸＰＳ表面分析装置を用いて、原子組成比を測定することで求めることができる。また、ガスバリアー層を切断して切断面をＸＰＳ表面分析装置で原子組成比を測定することでも求めることができる。
【０１５２】
また、ガスバリアー層の膜密度は、目的に応じて適切に設定されうる。例えば、ガスバリアー層の膜密度は、１．５〜２．６ｇ／ｃｍ３の範囲にあることが好ましい。この範囲であれば、膜の緻密度がより高くなり、ガスバリアー性の劣化や、湿度による膜の酸化劣化が起こりくい。
【０１５３】
該ガスバリアー層が２層以上の積層構造である場合、各ガスバリアー層は同じ組成であっても異なる組成であってもよい。また、ガスバリアー層が２層以上の積層構造である場合、ガスバリアー層は真空成膜法により形成される層のみからなってもよいし、塗布法により形成される層のみからなってもよいし、真空成膜法により形成される層と塗布法により形成される層との組み合わせであってもよい。
【０１５４】
また、前記ガスバリアー層は、応力緩和性や、後述の金属原子含有層の形成で使用される紫外線を吸収させるなどの観点から、窒素元素または炭素元素を含むことも好ましい。これらの元素を含むことで、応力緩和や紫外線吸収などの性質を有するようになり、ガスバリアー層と金属原子含有層との密着性を向上させることでガスバリアー性が向上するなどの効果が得られ好ましい。
【０１５５】
ガスバリアー層における化学組成は、ガスバリアー層を形成する際にケイ素化合物等の種類および量、ならびにケイ素化合物を含む層を改質する際の条件等により、制御することができる。
【０１５６】
［接着層］
本発明の光学フィルムを構成するガスバリアー性フィルムにおいては、樹脂基材上に、ガスバリアー層と接着層とを有し、接着層が、下記で規定する条件（１）を満たす接着層１又は条件（２）を満たす接着層２であることを特徴とする。
【０１５７】
条件（１）：少なくともアクリロイル基を含む化合物と、ケイ素原子を含む化合物を含有し、かつ当該接着層の層厚が、１００〜１０００ｎｍの範囲内である接着層１。
【０１５８】
条件（２）：平均一次粒径が３０〜１００ｎｍの範囲内にある無機微粒子と、平均一次粒径が３００〜１０００ｎｍの範囲内にある有機微粒子及びバインダー成分を含有する接着層２。
【０１５９】
〔接着層１〕
前述の図１に示すように、本発明のガスバリアー性フィルム（１）においては、樹脂基材（２）上にガスバリアー層（３）を有し、更にその上に、少なくとも未反応のアクリロイル基を含む化合物と、ケイ素原子を含む化合物を含有し、かつ層厚が、１００〜１０００ｎｍの範囲内である接着層１（４）を設けることを特徴とする。
【０１６０】
更には、図２で例示するように、接着層１（４）の表面領域に、特定量の未反応のアクリロイル基（５、ＣＨ２＝ＣＨ−Ｃ（＝Ｏ）−）が存在していることが好ましい。ここでいうアクリロイル基とは、アクリル酸由来のアシル基である。図２に示すように接着層１（４）の表面領域に、特定量のアクリロイル基（５）が存在している形態について特に制限はない。本発明に係る接着層１（４）は、１００〜１０００ｎｍの厚膜として形成することを特徴とし、接着層１の層厚はＴＥＭ等の観察手段によって確認することができる。
【０１６１】
本発明に係る接着層１においては、アクリロイル基を含む化合物と、ケイ素原子を含む化合物とを、それぞれ個別に含有させても、あるいは、同一構造中にアクリロイル基とケイ素原子を含む化合物を用いてもよい。アクリロイル基を含む化合物としては、アクリレート化合物等のアクリロイル基含有化合物（含むアクリロイル基含有ポリマー）やアクリロイル基を含有するアクリルシランカップリング剤等を挙げることができる。また、ケイ素原子を含む化合物としては、シランカップリング剤、二酸化ケイ素粒子（シリカ粒子）等を挙げることができる。
【０１６２】
（アクリロイル基を含む化合物）
本発明において、アクリロイル基を含む化合物としては、特に制限はないが、アクリレート化合物等のアクリロイル基含有化合物（含むアクリロイル基含有ポリマー）やアクリロイル基を含有するアクリルシランカップリング剤等を好適に用いることができる。
【０１６３】
〈アクリロイル基含有化合物〉
アクリロイル基含有化合物（以下、アクリレート化合物ともいう。）としては、ポリマータイプ及びモノマータイプがあり、例えば、ポリオールポリアクリレート、エポキシアクリレート、ウレタンアクリレート、アクリルモノマー等が挙げられる。
【０１６４】
ポリオールポリアクリレートとは、ポリオールと、アクリル酸とのエステル化合物である。ここで選ばれるポリオールに特に制限はないが、例えば、１，３−プロパンジオール、１，４−ブタンジオール、１，３−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、ネオペンチルグリコール、３−メチル−１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、２−メチル−１，８−オクタンジオール、１，９−ノナンジオール、２−エチル−２−ブチル−１，３−プロパンジオール、２，４−ジエチル−１，５−ペンタンジオール、１，１０−デカンジオール、１，１２−ドデカンジオール、ポリオレフィンポリオール、水添ポリオレフィンポリオール等の鎖状脂肪族ポリオールが挙げられ、さらには、１，４−シクロヘキサンジメタノール、１，３−シクロヘキサンジメタノール、トリシクロ［５．２．１．０２，６］デカンジメタノール、２−メチルシクロヘキサン−１，１−ジメタノール等の脂環構造を有するポリオールが挙げられ、さらには、トリマートリオール、ｐ−キシリレングリコール、ビスフェノールＡエチレンオキサイド付加物、ビスフェノールＦエチレンオキサイド付加物、ビフェノールエチレンオキサイド付加物等の芳香環を有するポリオールが挙げられ、さらには、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコール等のポリエーテルポリオールが挙げられ、さらには、ポリヘキサメチレンアジペート、ポリヘキサメチレンサクシネート、ポリカプロラクトン等のポリエステルポリオールが挙げられ、さらには、α，ω−ポリ（１，６−ヘキシレンカーボネート）ジオール、α，ω−ポリ（３−メチル−１，５−ペンチレンカーボネート）ジオール、α，ω−ポリ［（１，６−ヘキシレン：３−メチル−ペンタメチレン）カーボネート］ジオール、α，ω−ポリ［（１，９−ノニレン：２−メチル−１，８−オクチレン）カーボネート］ジオール等の（ポリ）カーボネートジオールが挙げられる。これらは単独でも、あるいは２種以上を適宜組み合わせて使用してもよい。
【０１６５】
エポキシアクリレートとは、エポキシ樹脂の末端エポキシ基にアクリル酸を付加させることで得られる化合物である。この際選ばれるエポキシ樹脂に、特に制限はない。具体的には、例えば、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、ノボラック型エポキシ樹脂、グリシジルエステル型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂等が挙げられる。これらは単独でも、あるいは２種以上を適宜組み合わせて使用してもよい。
【０１６６】
ウレタンアクリレートとは、ポリオールとポリイソシアネートと水酸基含有アクリレート、またはポリオールとイソシアナト基含有アクリレートとを反応させることで得られる化合物である。このとき、選ばれるポリオール、ポリイソシアネート、水酸基含有アクリレート、イソシアナト基含有アクリレートに特に制限はない。ポリオールは、ポリオールポリアクリレートにおいて使用されるポリオールと同様である。ポリイソシアネートとしては、例えば、１，４−シクロヘキサンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、メチレンビス（４−シクロヘキシルイソシアネート）、１，３−ビス（イソシアナトメチル）シクロヘキサン、１，４−ビス（イソシアナトメチル）シクロヘキサン、２，４−トリレンジイソシアネート、２，６−トリレンジイソシアネート、ジフェニルメタン−４，４’−ジイソシアネート、１，３−キシリレンジイソシアネート、１，４−キシリレンジイソシアネート、リシントリイソシアネート、リシンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、２，４，４−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、２，２，４−トリメチルヘキサンメチレンジイソシアネートおよびノルボルナンジイソシアネート等が挙げられる。これらは単独でも、あるいは２種以上を適宜組み合わせて使用してもよい。水酸基含有アクリレートとしては、例えば、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、３−ヒドロキシプロピルアクリレート、２−ヒドロキシブチルアクリレート、４−ヒドロキシブチルアクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピルアクリレート、２−ヒドロキシ−３−（ｏ−フェニルフェノキシ）プロピルアクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリルアミド等が挙げられる。これらは単独でも、あるいは２種以上を適宜組み合わせて使用してもよい。イソシアナト基含有アクリレートとしては、２−イソシアナトエチルアクリレート等が挙げられる。これらは単独でも、あるいは２種以上を適宜組み合わせて使用してもよい。
【０１６７】
アクリルモノマーは、上述したアクリロイル基含有化合物から、前記ポリオールポリアクリレート、前記エポキシアクリレートおよび前記ウレタンアクリレートを除いた化合物である。
【０１６８】
アクリルモノマーとしては、例えば、グリシジルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート等の環状エーテル基を有するアクリロイル含有化合物、シクロヘキシルアクリレート、イソボルニルアクリレート、ジシクロペンテニルアクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチルアクリレート、ジシクロペンタニルアクリレート、ジシクロペンタニルエチルアクリレート、４−ｔｅｒｔ−ブチルシクロヘキシルアクリレート等の環状脂肪族基を有する単官能アクリロイル基含有化合物、ラウリルアクリレート、イソノニルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、イソブチルアクリレート、ｔｅｒｔ−ブチルアクリレート、イソオクチルアクリレート、イソアミルアクリレート等の鎖状脂肪族基を有する単官能アクリロイル基含有化合物、ベンジルアクリレート、フェノキシエチルアクリレート等の芳香環を有する単官能アクリロイル基含有化合物、ポリエチレングリコールジアクリレート、デカンジオールジアクリレート、ノナンジオールジアクリレート、ヘキサンジオールジアクリレート、トリシクロデカンジメタノールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート等の多官能アクリロイル基含有化合物を挙げることができる。
【０１６９】
又、アクリレート化合物モノマーやメタアクリレート化合物モノマーとしては、市販品としても入手することが可能であり、例えば、新中村化学社製より販売されている光硬化性モノマー（商標名：ＮＫエステル）である、単官能アクリレート（例えば、Ａ−ＬＥＮ−１０、ＡＭ−９０Ｇ、ＡＭ−１３０Ｇ、ＡＭＰ−２０ＧＹ、Ａ−ＳＡ、Ｓ−１８００Ａ等）、２官能アクリレート（例えば、７０１Ａ、Ａ−２００、Ａ−４００、Ａ−６００、Ａ−１０００、Ａ−Ｂ１２０６ＰＥ、ＡＢＥ−３００、Ａ−ＢＰＥ−１０、Ａ−ＢＰＥＦ、Ａ−ＨＤ−Ｎ、ＡＰＧ−２００、Ａ−ＰＴＭＧ−６５等）、多官能アクリレート（例えば、Ａ−９３００，Ａ−ＧＬＹ−９Ｅ、Ａ−ＴＭＭ−３、Ａ−ＴＭＰＴ、ＡＤ−ＴＭＰ、Ａ−ＴＭＭＴ、Ａ−ＤＰＨ等）、また、メタアクリレート化合物モノマーとしては、単官能メタアクリレート（例えば、ＣＢ−１、Ｍ−９０Ｇ、ＰＨＥ−１Ｇ、Ｓ、ＳＡ等）、２官能メタアクリレート（例えば、１Ｇ〜４Ｇ、ＢＰＥ−８０Ｎ、ＤＣＰ、ＨＤ−Ｎ、ＨＯＤ−Ｎ、ＮＰＧ、９ＰＧ等）を挙げることができる。
【０１７０】
〈アクリロイル基を含有するアクリルシランカップリング剤〉
本発明でいうアクリロイル基を含有するアクリルシランカップリング剤は、同一構造中に、アクリロイル基とケイ素原子を含む化合物であり、モノマータープであってもポリマータイプであってもよい。
【０１７１】
アクリロイル基を含有するシランカップリング剤（アクリロイル基含有シランカップリング剤）としては、３−アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、３−アクリロイルオキシプロピルトリエトキシシラン、３−アクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、３−アクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシランなどが挙げられる。
【０１７２】
また、アクリロイル基含有シランカップリング剤の市販品としては、モノマータイプとしては、信越シリコーン社製のＫＢＭ−５１０３（３−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン）、ＫＭＢ−５０２（３−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン）、ＫＢＭ−５０３（３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン）、ＫＢＥ−５０２（３−メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン）、ＫＢＥ−５０３（３−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン）、ダウコーニング社製のＺ−６０３０（３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン）、同Ｚ−６０３３（３−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン）、東京化成工業社製のＡ１５９７（３−（トリメトキシシリル）プロピルアクリレート）、同Ｄ４６７９（３−〔ジメトキシ（メチル）シリル〕プロピルメタクリレート）、Ｍ０７２５（３−（トリメトキシシリル）プロピルメタクリレート）、Ｍ１３２４（３−〔トリス（トリメチルシリロキシ）シリル〕プロピルメタクリレート、Ｍ１５３０（３−〔ジメトキシ（メチル）シリル〕プロピルメタクリレート、Ｍ２５２５（３−メトキシジメチルシリル）プロピルアクリレート、Ｔ２６７６（３−（トリエトキシシリル）メタクリレート等を挙げることができ、また、ポリマータイプとしては、Ｘ−１２−１０４８（信越シリコーン社製）等が挙げられる。これらのアクリロイル基含有シランカップリング剤は、１種のみが単独で用いられてもよいし、２種以上が併用されてもよい。また、アクリロイル基含有シランカップリング剤以外の「アクリロイル基およびアルコキシシリル基を一分子中に含む化合物」としては、例えば、（メタ）アクリロイル基を導入したポリオルガノシルセスキオキサンや、不飽和二重結合を含有するポリシロキサン変性アクリル樹脂などの有機無機ハイブリッド材料などが挙げられる。これらの材料は従来公知の知見を参照しつつ独自に調液してもよいし、市販品を用いてもよい。
【０１７３】
（ケイ素原子を含む化合物）
〈シランカップリング剤〉
本発明に適用可能なシランカップリング剤としては、特に限定されることはなく、以下に列挙するシランカップリング剤を挙げることができる。
【０１７４】
具体的には、例えば、メチルトリメトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、トリメチルメトキシシラン、ｎ−プロピルトリメトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、ジエチルジエトキシシラン、ｎ−ブチルトリメトキシシラン、ｎ−ヘキシルトリエトキシシラン、ｎ−オクチルトリメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、シクロヘキシルメチルジメトキシシラン、ビニルトリクロルシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス（β−メトキシエトキシ）シラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、γ−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−フェニル−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−クロロプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、ビス−（３−〔トリエトキシシリル〕プロピル）テトラスルフィド、γ−イソシアネートプロピルトリエトキシシラン等が挙げられる。さらには、エポキシ基（グリシドキシ基）、アミノ基、メルカプト基、（メタ）アクリロイル基等の官能基を有するシランカップリング剤と、これらの官能基と反応性を有する官能基を含有するシランカップリング剤、他のカップリング剤、ポリイソシアネートなどを、各官能基について任意の割合で反応させて得られる加水分解性シリル基を有する化合物も使用できる。
【０１７５】
また、シランカップリング剤は、市販品としても入手することができる。例えば、官能基としてビニル基を有するＫＢＭ−１００３、ＫＢＥ−１００３、官能基としてエポキシ基を有するＫＢＭ−３０３、ＫＢＭ−４０２、ＫＭＢ−４０３、ＫＢＥ−４０２、ＫＢＥ−４０３、官能基としてスチリル基を有するＫＢＭ−１４０３、官能基としてアミノ基を有するＫＢＭ−６０２、ＫＢＭ−６０３、ＫＢＭ−９０３、ＫＢＥ−９０３、ＫＢＥ−９１０３、ＫＢＭ−５７３、ＫＢＭ−５７５、官能基としてイソシアヌレート基を有するＫＢＭ−９６５９、官能基としてウレイド基を有するＫＢＥ−５８５、官能基としてメルカプト基を有するＫＢＭ−８０２、ＫＢＭ−８０３等（以上、信越シリコーン社製）を挙げることができる。
【０１７６】
更に、ダウコーニング社より市販されている、官能基としてアミノ基を有するＺ−６６１０、Ｚ−６０１１、Ｚ−６０２０、Ｚ−６０９４、Ｚ−６８８３、Ｚ−６０３２、官能基としてエポキシ基を有するＺ−６０４０、Ｚ−６０４４、Ｚ−６０４３、官能基としてビニル基を有するＺ−６０７５、Ｚ−６３００、Ｚ−６５１９等を挙げることができる。
【０１７７】
その他には、東京化成工業社製のホームページに「シランカップリング剤」として記載されている、オレフィニルシラン類、グリシジルオキシアルキルシラン類、アルキルシラン類、アリールシラン類、アリールアルキルシラン類、フルオロアルキルシラン類等を挙げることができる。
【０１７８】
〈二酸化ケイ素粒子（シリカ粒子）〉
本発明に係る接着層では、ケイ素原子を含む化合物として、二酸化ケイ素粒子（シリカ粒子）を用いることができる。
【０１７９】
二酸化ケイ素としては、気相法、溶融法、ゾル・ゲル法等により作製されたシリカ粒子が使用できる。また、シリカ粒子としては、公知のものを使用することができる。また、その形状は、球状でも不定形のものでもよく、通常のコロイダルシリカに限らず中空粒子、多孔質粒子、コア／シェル型粒子等であっても構わない。
【０１８０】
シリカ粒子としては、具体的には、例えば、日本アエロジル株式会社製のアエロジル−２００、２００Ｖ、３００、Ｒ９７２、Ｒ９７２Ｖ、Ｒ９７４、Ｒ９７６、Ｒ９７６Ｓ、Ｒ２０２、Ｒ８１２，Ｒ８０５、ＯＸ５０、ＴＴ６００、ＲＹ５０、ＲＸ５０、ＮＹ５０、ＮＡＸ５０、ＮＡ５０Ｈ、ＮＡ５０Ｙ、ＮＸ９０、ＲＹ２００Ｓ、ＲＹ２００、ＲＸ２００、Ｒ８２００、ＲＡ２００Ｈ、ＲＡ２００ＨＳ、ＮＡ２００Ｙ、Ｒ８１６、Ｒ１０４、ＲＹ３００、ＲＸ３００、Ｒ１０６等が挙げられる。
【０１８１】
また、コロイダルシリカを挙げることができる。コロイダルシリカとは、珪酸ナトリウムの酸等による複分解やイオン交換樹脂層を通過させて得られるシリカゾルを加熱熟成して得られるものであり、例えば、特開昭５７−１４０９１号公報、特開昭６０−２１９０８３号公報、特開昭６０−２１９０８４号公報、特開昭６１−２０７９２号公報、特開昭６１−１８８１８３号公報、特開昭６３−１７８０７号公報、特開平４−９３２８４号公報、特開平５−２７８３２４号公報、特開平６−９２０１１号公報、特開平６−１８３１３４号公報、特開平６−２９７８３０号公報、特開平７−８１２１４号公報、特開平７−１０１１４２号公報、特開平７−１７９０２９号公報、特開平７−１３７４３１号公報、および国際公開第９４／２６５３０号などに記載されているものである。
【０１８２】
更には、有機溶媒にナノレベルのコロイダルシリカを安定して分散することができるオルガノシリカゾルを用いることが好ましい。
【０１８３】
有機溶媒分散シリカゾルであるオルガノシリカゾルは、日産化学工業（株）より市販されており、一般グレードとしては、メタノールシリカゾル（分散媒：メタノール、平均粒子径：１０〜１５ｎｍ）、ＭＡ−ＳＴ−Ｍ（分散媒：メタノール、平均粒子径：２０〜２５ｎｍ）、ＭＡ−ＳＴ−Ｌ（分散媒：メタノール、平均粒子径：４０〜５０ｎｍ）、ＩＰＡ−ＳＴ（分散媒：イソプロピルアルコール、平均粒子径：１０〜１５ｎｍ）、ＩＰＡ−ＳＴ−Ｌ（分散媒：イソプロピルアルコール、平均粒子径：４０〜５０ｎｍ）、ＥＧ−ＳＴ（分散媒：エチレングリコール、平均粒子径：１０〜１５ｎｍ）、ＰＭＡ−ＳＴ（分散媒：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、平均粒子径：１０〜１５ｎｍ）、ＭＥＫ−ＳＴ−４０（分散媒：メチルエチルケトン、平均粒子径：１０〜１５ｎｍ）等、また、表面改質グレードとしては、ＭＥＫ−ＥＣ−２１３０Ｙ（分散媒：メチルエチルケトン、平均粒子径：１０〜１５ｎｍ、シリカ含有量：３０質量％）、ＭＥＫ−ＡＣ−２１４０Ｚ（分散媒：メチルエチルケトン、平均粒子径：１０〜１５ｎｍ、シリカ含有量：４０質量％）、ＭＥＫ−ＡＣ−４１３０Ｙ（分散媒：メチルエチルケトン、平均粒子径：４０〜５０ｎｍ、シリカ含有量：３０質量％）、ＭＥＫ−ＡＣ−５１４０Ｚ（分散媒：メチルエチルケトン、平均粒子径：７０〜１００ｎｍ、シリカ含有量：４０質量％）、ＰＧＭ−ＡＣ−２１４０Ｙ（分散媒：プロピレングリコールモノメチルエーテル、平均粒子径：１０〜１５ｎｍ、シリカ含有量：４２質量％）、ＰＧＭ−ＡＣ−４１３０Ｙ（分散媒：プロピレングリコールモノメチルエーテル、平均粒子径：４０〜５０ｎｍ、シリカ含有量：３０質量％）、ＭＩＢＫ−ＡＣ−２１４０Ｚ（分散媒：メチルイソブチルケトン、平均粒子径：１０〜１５ｎｍ、シリカ含有量：４０質量％）等を挙げることができる。
【０１８４】
本発明において、シリカ粒子の粒径は、特に制限はないが、その平均粒径が３〜２００ｎｍであることが好ましい。一次粒子の状態で分散された二酸化ケイ素の一次粒子の平均粒径（塗布前の分散液状態での粒径）は、３〜２００ｎｍであるのがより好ましく、３〜１００ｎｍであるのがさらに好ましく、３〜５０ｎｍであるのが特に好ましい。
【０１８５】
（その他の添加剤）
本発明においては、接着層が、平均粒径が３００〜１０００ｎｍの範囲内にある有機微粒子を含有することが、耐熱性をより向上させることができる観点から好ましい。
【０１８６】
本発明に適用可能な有機微粒子として、下記に樹脂成分により構成される有機微粒子を挙げることができるが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【０１８７】
１）アクリル樹脂：ポリメチルメタクリレート、ポリエチルメタクリレート、プロピルメタクリレート、ジメチルアミノエチルメタクリレート、メチルアクリレート、エチルアクリレート、メトキシエチルアクリレート
２）共重合アクリル樹脂：１）で挙げた樹脂のモノマーと塩化ビニル、塩化ビニリデン、ビニルピリジン、スチレン、アクリロニトリル、アクリル酸、メタクリル酸との共重合樹脂
３）塩化ビニル樹脂：ポリ塩化ビニル、塩化ビニルと酢酸ビニル、塩化ビニリデン、アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、マレイン酸エステル、アクリロニトリルとの共重合樹脂
４）ポリ酢酸ビニル及びその部分鹸化樹脂
５）スチロール樹脂：ポリスチレン、スチレンとアクリロニトリルの共重合樹脂
６）塩化ビニリデン樹脂：ポリ塩化ビニリデン、塩化ビニリデンとアクリロニトリル共重合樹脂
７）アセタール樹脂：ポリビニルホルマール、ポリブチルブチラール
８）繊維素樹：酢酸セルロース、プロピオン酸セルロース、酪酸セルロース、硝酸セルロース
９）メラミン樹脂：メラミン−ホルムアルデヒド縮合樹脂、ベンゾグアナミン−メラミン−ホルムアルデヒド縮合樹脂
これらの有機微粒子の分散物はポリマーを有機溶媒に溶解し、激しく撹拌しながら水又はゼラチン水溶液と混合し分散する方法、あるいは乳化重合、沈殿重合、又はパール重合によってモノマーを重合しつつ粒子状に析出する方法、あるいはマット剤の微粒子粉末を、攪拌機、ホモジナイザー、コロイドミル、フロージェットミキサー、超音波分散機等を用いて水やゼラチン水溶液に分散することで得られる。
【０１８８】
有機微粒子の平均粒径は好ましくは３００〜１０００ｎｍであるが、より好ましくは４００〜９００ｎｍである。尚、有機微粒子の平均粒径は電子顕微鏡を用い、投影面積から円相当径を算出して求められる。
【０１８９】
（接着層１の形成方法）
本発明に係る接着層の形成方法としては、上記説明した接着層の各構成材料を適当な溶媒に溶解させた溶液（接着層形成用塗布液）をガスバリアー層の表面に塗布し、乾燥させる方法が例示される。
【０１９０】
接着層の形成方法は特に制限されず、接着層形成材料を含む接着層形成用塗布液を、ディップ法、スプレー法、スライドコート法、バーコート法、ロールコーター法、ダイコーター法、グラビアコーター法、スクリーン印刷法等、公知の方法によりガスバリアー層上に塗布し、空気や窒素などの雰囲気下で乾燥処理により、有機溶媒を除去して形成することができる。
【０１９１】
上記接着層形成用塗布液には適当な光重合開始剤を添加しておき、上記塗布液を塗布し、乾燥させて得られた塗膜に、光照射処理を施してアクリロイル基含有化合物の一部を重合させてもよい。ただし、完全に重合させてしまうと、接着層に含まれる未反応のアクリロイル基がなくなってしまうため、重合は完全には行うべきではない。
【０１９２】
溶媒としては、例えば、トルエン、キシレン、その他高沸点の芳香族系溶媒；酢酸ブチル、酢酸エチル、セロソルブアセテートなどのエステル系溶媒；メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンなどのケトン系溶媒；メタノール、エタノール、イソプロピルアルコールなどのアルコール系溶媒；ジエチルエーテル、ジブチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、エチレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルジエチレングリコールモノメチルエーテル等のエーテル系溶媒などが挙げられる。
【０１９３】
また、光重合開始剤としては、近赤外線、可視光線、紫外線等の光照射により、ラジカル重合の開始に寄与するラジカルを発生する化合物であれば、特に制限はない。光重合開始剤としては、例えば、アセトフェノン、アセトフェノンベンジルケタール、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン、キサントン、フルオレノン、ベンズアルデヒド、フルオレン、アントラキノン、トリフェニルアミン、カルバゾール、３−メチルアセトフェノン、４−クロロベンゾフェノン、４，４’−ジメトキシベンゾフェノン、４，４’−ジアミノベンゾフェノン、ベンゾインプロピルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンジルジメチルケタール、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、チオキサントン、ジエチルチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノ−プロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン−１，４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル−（２−ヒドロキシ−２−プロピル）ケトン、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド、ビス−（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチルペンチルフォスフィンオキシド、オリゴ（２−ヒドロキシ−２−メチル−１−（４−（１−メチルビニル）フェニル）プロパノン）等が挙げられる。また、光重合開始剤として、メタロセン化合物を使用することもできる。これらの光重合開始剤は、それぞれ単独で、あるいは２種以上を組み合わせて使用することができる。
【０１９４】
〔接着層２〕
図３に示すように、本発明に係る第２の構成のガスバリアー性フィルム（１０１）においては、樹脂基材（１０２）上にガスバリアー層（１０３）を有し、更にその上に、平均一次粒径が３０〜１００ｎｍの範囲内にある無機微粒子（１０６）と、平均一次粒径が３００〜１０００ｎｍの範囲内にある有機微粒子（１０７）及びバインダー成分（１０５）を含有する接着層２（１０４）を有することを特徴とする。
【０１９５】
本発明に係る接着層２においては、接着層２が含有する無機微粒子がシリカ粒子であることが好ましい態様である。
【０１９６】
また、バインダー成分が、シランカップリング剤であること、更にはポリマータイプのシランカップリング剤であることが好ましい。
【０１９７】
また、バインダー成分が、アクリロイル基含有化合物であること、更にはアクリルポリマーであることが好ましい態様である。
【０１９８】
〔無機微粒子〕
本発明に係る接着層では、平均一次粒径が３０〜１００ｎｍの範囲内にある無機微粒子を含有することを１つの特徴とする。
【０１９９】
本発明に適用可能な無機微粒子としては、例えば、酸化チタン、酸化亜鉛、アルミナ（酸化アルミニウム）、シリカ（酸化ケイ素）、酸化スズ、酸化アンチモン、酸化インジウム、酸化ビスマス、酸化マグネシウム、酸化鉛、酸化タンタル、酸化イットリウム、酸化コバルト、酸化銅、酸化マンガン、酸化セレン、酸化鉄、酸化ジルコニウム、酸化ゲルマニウム、酸化ニオブ、酸化モリブデン、酸化バナジウム等からなる微粒子が挙げることができるが、その中でも、酸化チタン粒子（ＴｉＯ２）又は、シリカ粒子（二酸化ケイ素、ＳｉＯ２）が好ましく、更には、シリカ粒子であることが好ましい。
【０２００】
〈二酸化ケイ素粒子（シリカ粒子）〉
本発明に係る接着層では、無機微粒子として、シリカ粒子（二酸化ケイ素粒子）を用いることが好ましい。なお、シリカ粒子の屈折率は，１．４４〜１．５０の範囲である。
【０２０１】
二酸化ケイ素としては、前述の接着層１の形成に用いる二酸化ケイ素粒子（シリカ粒子）と同様のものを挙げることができる。
【０２０２】
〈酸化チタン粒子〉
酸化チタンは、アナターゼ型（正方晶）二酸化チタンやブルッカイト型（斜方晶）酸化チタンを含むことが好ましい。また、酸化チタンのＢＥＴ比表面積が、１０〜３００ｍ２／ｇであることが好ましく、さらに２０〜１００ｍ２／ｇであることが好ましい。また、酸化チタンの粒度分布はシャープであることが好ましい。酸化チタンの屈折率は、２．５０〜２．７２の範囲である。
【０２０３】
本発明においては、水系の酸化チタンゾルを用いることが好ましい。酸化チタンゾルとしては、固形分率４０％以下であることが好ましく、より好ましくは３０％以下である。
【０２０４】
水系の酸化チタンゾルとしては、市販品を使用しても、あるいは調製して使用してもよい。調製方法としては、従来公知のいずれの方法も用いることができ、例えば、特開昭６３−１７２２１号公報、特開平７−８１９号公報、特開平９−１６５２１８号公報、特開平１１−４３３２７号公報、特開昭６３−１７２２１号公報、特開平７−８１９号公報、特開平９−１６５２１８号公報、特開平１１−４３３２７号公報等に記載された事項を参照にすることができる。
【０２０５】
また、酸化チタン粒子は、市販品としても入手可能であり、例えば、日本アエロジル社製の市販品Ｔ−８０５、Ｔ−６０４、テイカ社製の市販品ＭＴ−１００Ｓ、ＭＴ−１００Ｂ、ＭＴ−５００ＢＳ、ＭＴ−６００、ＭＴ−６００ＳＳ、ＪＡ−１、富士チタン社製の市販品ＴＡ−３００ＳＩ、ＴＡ−５００、ＴＡＦ−１３０、ＴＡＦ−５１０、ＴＡＦ−５１０Ｔ、出光興産社製の市販品ＩＴ−Ｓ、ＩＴ−ＯＡ、ＩＴ−ＯＢ、ＩＴ−ＯＣ等の中から、平均一次粒径が３０〜１００ｎｍの範囲内にある酸化チタン粒子を選択して用いることができる。
【０２０６】
また、石原産業社製の市販品も適用することができ、超微粒子酸化チタンの焼成法で製造されているＴＯＯ−５５シリーズである、ＴＴＯ−５５（Ａ）（ルチル結晶、表面処理：Ａｌ（ＯＨ）３、平均粒径：３０〜５０ｎｍ）、ＴＴＯ−５５（Ｂ）（ルチル結晶、表面処理：Ａｌ（ＯＨ）３、平均粒径：３０〜５０ｎｍ）、ＴＴＯ−５５（Ｃ）（ルチル結晶、表面処理：Ａｌ（ＯＨ）３／ステアリン酸、平均粒径：３０〜５０ｎｍ）等を挙げることができる。
【０２０７】
〈無機微粒子の粒径〉
本発明において、シリカ粒子等の無機微粒子の粒径は、平均一次粒径が３０〜１００ｎｍの範囲内にあることを特徴とするが、好ましくは３０〜８０ｎｍの範囲内であり、さらに好ましくは、４０〜７０ｎｍの範囲内である。
【０２０８】
シリカ粒子を含めた本発明に係る無機微粒子の平均一次粒径は、透過型電子顕微鏡によって無機微粒子を１００００倍に拡大して撮影し、ランダムに３００個の粒子を一次粒子として観察し、画像解析によりフェレ径の数平均径として測定値を算出して得られた値である。
【０２０９】
また、光学フィルムを作製した後、その断面を切り出した後、その断面部を透過型電子顕微鏡で撮影し、存在している無機微粒子の直径をランダムに３００個計測し、算術平均値として、平均一次粒径を求めることもできる。この時、無機微粒子が円形でない場合には、同一面積の円相当の直径を求め、これを無機微粒子の直径とした。
【０２１０】
〈無機微粒子の添加量〉
本発明に係る無機微粒子の接着層中への添加量は、特に制限はなく、接着層の全固形分量に対し、０．５〜５０質量％の範囲内であり、好ましくは、１．０〜４０質量％の範囲内であり、さらに好ましくは、５．０〜３０質量％の範囲内である。
【０２１１】
〔有機微粒子〕
本発明に係る接着層では、平均一次粒径が３００〜１０００ｎｍの範囲内にある有機微粒子を含有することを１つの特徴とする。
【０２１２】
本発明に適用可能な有機微粒子として、下記に示す樹脂成分により構成される平均一次粒径が３００〜１０００ｎｍの範囲内にある有機微粒子を挙げることができるが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【０２１３】
１）アクリル樹脂：ポリメチルメタクリレート、ポリエチルメタクリレート、プロピルメタクリレート、ジメチルアミノエチルメタクリレート、メチルアクリレート、エチルアクリレート、メトキシエチルアクリレート等
２）共重合アクリル樹脂：１）で挙げた樹脂のモノマーと塩化ビニル、塩化ビニリデン、ビニルピリジン、スチレン、アクリロニトリル、アクリル酸、メタクリル酸との共重合樹脂等
３）塩化ビニル樹脂：ポリ塩化ビニル、塩化ビニルと酢酸ビニル、塩化ビニリデン、アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、マレイン酸エステル、アクリロニトリルとの共重合樹脂等
４）ポリ酢酸ビニル及びその部分鹸化樹脂
５）スチロール樹脂：ポリスチレン、スチレンとアクリロニトリルの共重合樹脂等
６）塩化ビニリデン樹脂：ポリ塩化ビニリデン、塩化ビニリデンとアクリロニトリル共重合樹脂等
７）アセタール樹脂：ポリビニルホルマール、ポリブチルブチラール等
８）繊維素樹：酢酸セルロース、プロピオン酸セルロース、酪酸セルロース、硝酸セルロース等
９）メラミン樹脂：メラミン−ホルムアルデヒド縮合樹脂、ベンゾグアナミン−メラミン−ホルムアルデヒド縮合樹脂等
これらの有機微粒子の分散物は、ポリマーを有機溶媒に溶解し、激しく撹拌しながら水又はゼラチン水溶液と混合し分散する方法、あるいは乳化重合、沈殿重合、又はパール重合によってモノマーを重合しつつ粒子状に析出する方法、あるいはマット剤の微粒子粉末を、攪拌機、ホモジナイザー、コロイドミル、フロージェットミキサー、超音波分散機等を用いて水やゼラチン水溶液に分散することで得られる。
【０２１４】
有機微粒子の平均一次粒径は、透過型電子顕微鏡によって有機微粒子を１００００倍に拡大して撮影し、ランダムに３００個の粒子を一次粒子として観察し、画像解析によりフェレ径の数平均径として測定値を算出して求めることができる。
【０２１５】
また、光学フィルムを作製した後、その断面を切り出した後、その断面部を透過型電子顕微鏡で撮影し、存在している有機微粒子の直径をランダムに３００個計測し、算術平均値として、平均一次粒径を求めることもできる。この時、有機微粒子が円形でない場合には、同一面積の円相当の直径を求め、これを有機微粒子の直径とした。
【０２１６】
有機微粒子の平均粒径は、３００〜１０００ｎｍであることが特徴であるが、好ましくは４００〜９００ｎｍである。
【０２１７】
本発明に係る有機微粒子の接着層中への添加量は、特に制限はなく、接着層の全固形分に対し、０．５〜５０質量％の範囲内であり、好ましくは、１．０〜４０質量％の範囲内であり、さらに好ましくは、５．０〜３０質量％の範囲内である。
【０２１８】
また、本発明に係る接着層における無機微粒子と有機微粒子の質量比としては、特に制限はなく、無機微粒子：有機微粒子として、１：９９〜９９：１の範囲内で適宜選択することができ、好ましくは、１０：９０〜９０：１０の範囲内であり、より好ましくは２０：８０〜８０：２０の範囲内である。
【０２１９】
〔バインダー成分〕
本発明に係る接着層は、上記説明した無機微粒子及び有機微粒子とともに、バインダー成分を含有している。
【０２２０】
バインダー成分として、特に制限はないが、シランカップリング剤、ポリマータイプのシランカップリング剤、アクリロイル基含有化合物、アクリルポリマー等が好ましい態様であり、更に詳しくは、アクリロイル基含有化合物として、シランカップリング剤を構造中に含むアクリロイル基含有のアクリルシランカップリング剤やポリマータイプのアクリルシランカップリング剤等を挙げることができる。
【０２２１】
（シランカップリング剤）
〈モノマータイプのシランカップリング剤〉
本発明に適用可能なシランカップリング剤の具体例としては、前記接着層１の形成に適用可能なシランカップリング剤と同様の化合物を挙げることができる。
【０２２２】
〈アクリロイル基を含有するアクリルシランカップリング剤〉
本発明でいうアクリロイル基を含有するアクリルシランカップリング剤は、同一構造中に、未反応のアクリロイル基とケイ素原子を含む化合物であり、モノマータイプであってもポリマータイプであってもよい。アクリロイル基を含有するアクリルシランカップリング剤の具体例としては、前述の接着層１の形成に適用可能なアクリロイル基を含有するアクリルシランカップリング剤と同様の化合物を挙げることができる。
【０２２３】
（アクリロイル基含有化合物）
アクリロイル基含有化合物（以下、アクリレート化合物ともいう。）としては、ポリマータープ及びモノマータイプがあり、例えば、ポリオールポリアクリレート、エポキシアクリレート、ウレタンアクリレート、アクリルモノマー等が挙げられる。アクリロイル基含有化合物の具体例としては、前述の接着層１の形成に適用可能なアクリロイル基含有化合物と同様の化合物を挙げることができる。
【０２２４】
（接着層２の層厚）
本発明に係る接着層２の層厚は、無機微粒子の平均一次粒径以上で、かつ有機微粒子の平均一次粒径未満であることが好ましい態様であり、上記条件を満たすバインダー成分の層厚は、３０ｎｍ以上、１０００ｎｍ未満となるが、現実的な層厚としては、１００ｎｍ以上、１０００ｎｍ未満であり、更に好ましくは、１００〜８００ｎｍの範囲であり、特に好ましくは２００〜５００ｎｍの範囲内である。
【０２２５】
（接着層２のその他の添加剤及び形成方法）
本発明に係る接着層２の形成方法としては、上記説明した接着層２の各構成材料を適当な溶媒に溶解させた溶液（接着剤層形成用塗布液）をガスバリアー層の表面に塗布し、乾燥させる方法が例示される。
【０２２６】
接着層２の形成方法は特に制限されず、接着層形成材料を含む接着剤層形成用塗布液を、ディップ法、スプレー法、スライドコート法、バーコート法、ロールコーター法、ダイコーター法、グラビアコーター法、スクリーン印刷法等、公知の方法によりガスバリアー層上に塗布し、空気や窒素などの雰囲気下で乾燥処理により、有機溶媒を除去して形成することができる。
【０２２７】
上記接着層形成用塗布液には適当な光重合開始剤を添加しておき、上記塗布液を塗布し、乾燥させて得られた塗膜に、光照射処理を施してアクリロイル基含有化合物の一部を重合させてもよい。
【０２２８】
溶媒としては、例えば、トルエン、キシレン、その他高沸点の芳香族系溶媒；酢酸ブチル、酢酸エチル、セロソルブアセテートなどのエステル系溶媒；メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンなどのケトン系溶媒；メタノール、エタノール、イソプロピルアルコールなどのアルコール系溶媒；ジエチルエーテル、ジブチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、エチレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルジエチレングリコールモノメチルエーテル等のエーテル系溶媒などが挙げられる。
【０２２９】
また、光重合開始剤としては、近赤外線、可視光線、紫外線等の光の照射により、ラジカル重合の開始に寄与するラジカルを発生する化合物であれば、特に制限はない。光重合開始剤としては、例えば、アセトフェノン、アセトフェノンベンジルケタール、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン、キサントン、フルオレノン、ベンズアルデヒド、フルオレン、アントラキノン、トリフェニルアミン、カルバゾール、３−メチルアセトフェノン、４−クロロベンゾフェノン、４，４’−ジメトキシベンゾフェノン、４，４’−ジアミノベンゾフェノン、ベンゾインプロピルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンジルジメチルケタール、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、チオキサントン、ジエチルチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノ−プロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン−１，４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル−（２−ヒドロキシ−２−プロピル）ケトン、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド、ビス−（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチルペンチルフォスフィンオキシド、オリゴ（２−ヒドロキシ−２−メチル−１−（４−（１−メチルビニル）フェニル）プロパノン）等が挙げられる。また、光重合開始剤として、メタロセン化合物を使用することもできる。これらの光重合開始剤は、それぞれ単独で、あるいは２種以上を組み合わせて使用することができる。
【０２３０】
〔ガスバリアー性フィルムの他の構成層〕
本発明のガスバリアー性フィルムにおいては、樹脂基材上にガスバリアー層及び接着層１又は接着層２を形成することを特徴とするが、本発明の目的効果を損なわない範囲で、その他の機能性層を設けてもよい。
【０２３１】
具体的な他の機能性層としては、下地層（平滑層、プライマー層ともいう）、アンカーコート層（アンカー層ともいう。）、ブリードアウト防止層、ならびに保護層、吸湿層や帯電防止層の機能化層などが挙げられる。
【０２３２】
（下地層：平滑層、プライマー層）
本発明のガスバリアー性フィルムは、例えば、樹脂基材とガスバリアー層との間に下地層として平滑層やプライマー層を有していてもよい。下地層は突起等が存在する樹脂基材の粗面を平坦化するために、あるいは、樹脂基材に存在する突起により、ガスバリアー層に生じた凹凸やピンホールを埋めて平坦化するために設けられる。このような下地層は、いずれの材料で形成されてもよいが、炭素含有ポリマーから構成されることが好ましい。
【０２３３】
また、下地層は、炭素含有ポリマー、例えば、硬化性樹脂を含む構成であることが好ましい。硬化性樹脂としては特に制限されず、活性エネルギー線硬化性材料等に対して紫外線等の活性エネルギー線を照射し硬化させて得られる活性エネルギー線硬化性樹脂や、熱硬化性材料を加熱することにより硬化して得られる熱硬化性樹脂等が挙げられる。該硬化性樹脂は、単独でもまたは２種以上組み合わせて用いてもよい。
【０２３４】
下地層の形成に用いられる活性エネルギー線硬化性材料として、具体的には、ＪＳＲ株式会社製のＵＶ硬化型有機／無機ハイブリッドハードコート材  ＯＰＳＴＡＲ（登録商標）シリーズ（シリカ微粒子に重合性不飽和基を有する有機化合物を結合させてなる化合物）を用いることができる。また、熱硬化性材料として、具体的には、クラリアント社製のトゥットプロムシリーズ（有機ポリシラザン）、セラミックコート株式会社製のＳＰ  ＣＯＡＴ耐熱クリアー塗料、アデカ社製のナノハイブリッドシリコーン、ＤＩＣ株式会社製のユニディック（登録商標）Ｖ−８０００シリーズ、ＥＰＩＣＬＯＮ（登録商標）  ＥＸＡ−４７１０（超高耐熱性エポキシ樹脂）、信越化学工業株式会社製のシリコーン樹脂  Ｘ−１２−２４００（商品名）、日東紡績株式会社製の無機・有機ナノコンポジット材料ＳＳＧコート、アクリルポリオールとイソシアネートプレポリマーとからなる熱硬化性ウレタン樹脂、フェノール樹脂、尿素メラミン樹脂、エポキシ樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、シリコーン樹脂、ポリアミドアミン−エピクロルヒドリン樹脂等が挙げられる。
【０２３５】
下地層の平滑性は、ＪＩＳ  Ｂ  ０６０１：２００１年で規定される表面粗さで表現される値で、最大断面高さＲｔ（ｐ）が、１０〜３０ｎｍの範囲内であることが好ましい。
【０２３６】
表面粗さは、ＡＦＭ（原子間力顕微鏡）で、極小の先端半径の触針を持つ検出器で連続測定した凹凸の断面曲線から算出され、極小の先端半径の触針により測定方向が数十μｍの区間内を多数回測定し、微細な凹凸の振幅に関する粗さである。
【０２３７】
下地層の厚さとしては、特に制限されないが、０．１〜１０μｍの範囲内が好ましい。
【０２３８】
（アンカーコート層（アンカー層））
本発明に係る樹脂基材の表面には、接着性（密着性）の向上を目的として、アンカーコート層（アンカー層）を易接着層として形成してもよい。このアンカーコート層に用いられるアンカーコート剤としては、ポリエステル樹脂、イソシアネート樹脂、ウレタン樹脂、アクリル樹脂、エチレンビニルアルコール樹脂、ビニル変性樹脂、エポキシ樹脂、変性スチレン樹脂、変性シリコーン樹脂、およびアルキルチタネート等を、１種または２種以上併せて使用することができる。上記アンカーコート剤は、市販品を使用してもよい。具体的には、シロキサン系ＵＶ硬化型ポリマー溶液（信越化学工業株式会社製、「Ｘ−１２−２４００」の３％イソプロピルアルコール溶液）を用いることができる。
【０２３９】
また、アンカーコート層の厚さは、特に制限されないが、０．５〜１０．０μｍ程度が好ましい。
【０２４０】
（ブリードアウト防止層）
本発明のガスバリアー性フィルムは、ブリードアウト防止層をさらに有することができる。ブリードアウト防止層は、下地層を有するフィルムを加熱した際に、フィルム基材中から未反応のオリゴマー等が表面へ移行して、接触する面を汚染するブリードアウト現象を抑制する目的で、下地（平滑）層を有する樹脂基材の反対面に設けられる。ブリードアウト防止層は、この機能を有していれば、基本的に下地（平滑）層と同じ構成をとっても構わない。
【０２４１】
ブリードアウト防止層に含ませることが可能な化合物としては、分子中に２個以上の重合性不飽和基を有する多価不飽和有機化合物、あるいは分子中に１個の重合性不飽和基を有する単価不飽和有機化合物等のハードコート剤を挙げることができる。
【０２４２】
ブリードアウト防止層の厚さとしては、１〜１０μｍの範囲内、好ましくは２〜７μｍの範囲内である。
【０２４３】
［ガスバリアー性フィルムの用途］
本発明のガスバリアー性フィルムは、種々の用途に用いられうるが、アクリロイル基を有する接着層の露出表面（未反応のアクリロイル基が露出している）に隣接するように、紫外線硬化樹脂層が設けられる用途に好適に用いられる。この紫外線硬化樹脂層としては、紫外線硬化型樹脂の硬化物からなる層であれば特に制限はないが、その機能としては、ガスバリアー層を保護するための保護層のほか、量子ドット（蛍光体粒子）を含む樹脂層としての機能が挙げられる。量子ドット（蛍光体粒子）は水蒸気や酸素との接触により劣化しやすいことから、上記紫外線硬化樹脂層が量子ドット層である場合には、前述した図３Ａで示すような少なくとも１枚のガスバリアー性フィルムを用い、ガスバリアー性フィルムを構成する接着層と、蛍光体粒子含有層とが隣接して配置されている構成とすること、あるいは、図３Ｂで示すように、２枚のガスバリアー性フィルムを用い、蛍光体粒子含有層の両面に、それぞれのアクリロイル基を含む化合物を含有する接着層が隣接密着するように配置する光学フィルムを構成する。
【０２４４】
〔光学フィルム〕
以下、本発明のガスバリアー性フィルムを用い、ガスバリアー性フィルムの接着層と、蛍光体粒子含有層が隣接して配置されている光学フィルムの構成について説明する。
【０２４５】
本発明に係る蛍光体粒子としては、様々な態様の発光デバイスにおいて従来用いられている種々の蛍光体粒子を用いることができるが、量子ドットとして機能する粒子を用いることが好ましい。特に、後述する半導体ナノ粒子を用いることが好ましい。
【０２４６】
以下、蛍光体粒子含有層の好ましい例として、その主要な構成要素である量子ドット及び樹脂等について、説明する。
【０２４７】
（量子ドット）
一般に、ナノメートルサイズの半導体物質で量子閉じ込め（ｑｕａｎｔｕｍ  ｃｏｎｆｉｎｅｍｅｎｔ）効果を示す蛍光体粒子は、「量子ドット」とも称されている。このような量子ドットは、半導体原子が数百個から数千個集まった１０数ｎｍ程度以内の小さな塊であるが、励起源から光を吸収してエネルギー励起状態に達すると、量子ドットのエネルギーバンドギャップに相当するエネルギーを放出する。
【０２４８】
したがって、量子ドットは、量子サイズ効果によりユニークな光学特性を有することが知られている。具体的には、（１）粒子のサイズを制御することにより、様々な波長、色を発光させることができる、（２）吸収帯が広く、単一波長の励起光で様々なサイズの微粒子を発光させることができる、（３）蛍光スペクトルが良好な対称形である、（４）有機色素に比べて耐久性、耐退色性に優れる、といった特徴を有する。
【０２４９】
本発明に係る量子ドット含有層が含有する量子ドットは公知のものであってもよく、当業者に既知の任意の方法を使用して生成することができる。例えば、好適な量子ドット及び好適な量子ドットを形成するための方法には、米国特許第６２２５１９８号明細書、米国特許出願公開第２００２／００６６４０１号明細書、米国特許第６２０７２２９号明細書、同第６３２２９０１号明細書、同第６９４９２０６号明細書、同第７５７２３９３号明細書、同第７２６７８６５号明細書、同第７３７４８０７号明細書、米国特許出願第２０１１／２９９２９９号明細書、米国特許第６８６１１５５号明細書、特開２０１２−１３３１５８号公報、２０１２−１６９４６０号公報、２０１４−０７８３８１号公報、２０１５−０９９６３６号公報、２０１５−１０３７２８号公報、２０１５−１２７３６２号公報等に記載されている内容を参照することができる。
【０２５０】
本発明に係る量子ドットは、任意の材料、好適には無機材料、より好適には無機導体又は半導体材料から生成される。好適な半導体材料には、II−VI族、III−Ｖ族、IV−VI族及びIV族の半導体を含む、任意の種類の半導体が含まれる。
【０２５１】
好適な半導体材料には、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｓｎ、Ｓｅ、Ｔｅ、Ｂ、Ｃ（ダイアモンドを含む。）、Ｐ、ＢＮ、ＢＰ、ＢＡｓ、ＡｌＮ、ＡｌＰ、ＡｌＡｓ、ＡｌＳｂ、ＧａＮ、ＧａＰ、ＧａＡｓ、ＧａＳｂ、ＩｎＮ、ＩｎＰ、ＩｎＡｓ、ＩｎＳｂ、ＡｌＮ、ＡｌＰ、ＡｌＡｓ、ＡｌＳｂ、ＧａＮ、ＧａＰ、ＧａＡｓ、ＧａＳｂ、ＺｎＯ、ＺｎＳ、ＺｎＳｅ、ＺｎＴｅ、ＣｄＳ、ＣｄＳｅ、ＣｄＳｅＺｎ、ＣｄＴｅ、ＨｇＳ、ＨｇＳｅ、ＨｇＴｅ、ＢｅＳ、ＢｅＳｅ、ＢｅＴｅ、ＭｇＳ、ＭｇＳｅ、ＧｅＳ、ＧｅＳｅ、ＧｅＴｅ、ＳｎＳ、ＳｎＳｅ、ＳｎＴｅ、ＰｂＯ、ＰｂＳ、ＰｂＳｅ、ＰｂＴｅ、ＣｕＦ、ＣｕＣｌ、ＣｕＢｒ、ＣｕＩ、Ｓｉ３Ｎ４、Ｇｅ３Ｎ４、Ａｌ２Ｏ３、（Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ）２（Ｓ、Ｓｅ、Ｔｅ）３、Ａｌ２ＣＯ、及び二つ以上のこのような半導体の適切な組合せが含まれるが、これらに限定されない。
【０２５２】
本発明においては、次のようなコア／シェル型の量子ドット、例えば、ＣｄＳｅ／ＺｎＳ、ＩｎＰ／ＺｎＳ、ＰｂＳｅ／ＰｂＳ、ＣｄＳｅ／ＣｄＳ、ＣｄＴｅ／ＣｄＳ、ＣｄＴｅ／ＺｎＳ等も好ましく使用できる。
【０２５３】
（樹脂）
本発明に係る量子ドット含有層には、量子ドットを保持するバインダーとして樹脂を用いることができる。例えば、以下の樹脂を用いることができる。
【０２５４】
ポリカーボネート系、ポリアリレート系、ポリスルホン（ポリエーテルスルホンも含む。）系、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系、ポリエチレン系、ポリプロピレン系、セロファン系、セルロースジアセテート、セルローストリアセテート、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート等のセルロースエステル系、ポリ塩化ビニリデン系、ポリビニルアルコール系、エチレンビニルアルコール系、シンジオタクティックポリスチレン系、ノルボルネン系、ポリメチルペンテン系、ポリエーテルケトン系、ポリエーテルケトンイミド系、ポリアミド樹脂、フッ素樹脂、ナイロン系、ポリメチルメタクリレート等のアクリル系樹脂等を挙げることができる。
【０２５５】
量子ドット含有層は、厚さが５０〜２００μｍの範囲内であることが好ましい。
【０２５６】
なお、量子ドット含有層における量子ドットの含有量は、使用する化合物によって最適量は異なるが、一般的には１５〜６０体積％の範囲内であることが好ましい。
【０２５７】
《電子デバイス》
本発明のガスバリアー性フィルムは、空気中の化学成分（酸素、水、窒素酸化物、硫黄酸化物、オゾン等）によって性能が劣化するデバイスに好ましく適用できる。すなわち、本発明では、本発明のガスバリアー性フィルムと、電子デバイス本体と、を含む電子デバイスを提供することができる。
【０２５８】
本発明のガスバリアー性フィルムを具備した電子デバイスに用いられる電子デバイス本体の例としては、例えば、有機エレクトロルミネッセンス素子（有機ＥＬ素子）、液晶表示素子（ＬＣＤ）、薄膜トランジスタ、タッチパネル、電子ペーパー、太陽電池（ＰＶ）、蛍光体粒子である量子ドットを有するＱＤフィルム等を挙げることができる。本発明の効果がより効率的に得られるという観点から、該電子デバイス本体は有機ＥＬ素子または太陽電池が好ましく、有機ＥＬ素子がより好ましい。
【実施例】
【０２５９】
以下、実施例に基づいて本発明の効果をより具体的に実証するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。実施例において「％」の表示を用いるが、特に断りがない限り「質量％」を表す。なお、特記しない限り、「％」及び「部」は、それぞれ、「質量％」及び「質量部」を意味する。また、下記実施例において、特記しない限り、操作は室温（２５℃）、相対湿度４０〜５０％の環境下で行った。また、構成材料の末尾で括弧内に記載した数値は、各図面に記載の各構成材料の符号を示す。【０２６０】
実施例１
《ガスバリアー性フィルムの作製》
〔ガスバリアー性フィルム１の作製〕
下記の方法に従って、ガスバリアー性フィルム１を作製した。【０２６１】
（樹脂基材の準備）
厚さ５０μｍの両面易接着層付きポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（帝人デュポンフィルム（株）製、ＫＥＬ８６Ｗ）を、樹脂基材（２）として用いた。【０２６２】
（下地層の形成）
ＪＳＲ株式会社製のＵＶ硬化型有機／無機ハイブリッドハードコート材  ＯＰＳＴＡＲ  Ｚ７５０１を酢酸ブチルで固形分濃度３５％まで希釈した塗布液を、乾燥膜厚が２μｍとなるように上記樹脂基材の一方の易接着面側にバーコーターで塗布した後、乾燥条件として８０℃で２分間の乾燥を行った。次いで、空気雰囲気下で、照度が７００ｍＷ／ｃｍ２、照射エネルギー量が２５０ｍＪ／ｃｍ２の条件で高圧水銀ランプにより紫外線照射処理を施して、下地層を形成した。【０２６３】
（ガスバリアー層の形成：真空プラズマＣＶＤ法）
特許第４２６８１９５号公報に記載されている、対向する一対の成膜ロール群より構成されている成膜部を有する装置を２台並列配置したタイプ（第１成膜部、第２成膜部を有する）のロール・トゥ・ロール型真空ＣＶＤ成膜装置を用いて、ガスバリアー層を形成した。成膜条件は、搬送速度：７ｍ／ｍｉｎ、原料ガス（ヘキサメチルジシロキサン、略称：ＨＭＤＳＯ）の供給量：１５０ｍＬ／ｍｉｎ、酸素ガスの供給量：１５０ｍＬ／ｍｉｎ、真空度：１．５Ｐａ、印加電力：４．５ｋｗとして、膜厚が１５０ｎｍのガスバリアー層（３、組成ＳｉＯｘ）を形成した。【０２６４】
（ガスバリアー層の表面改質処理）
上記形成したガスバリアー層（３）の露出表面に対して、以下の方法により表面改質処理としてコロナ処理を施した。【０２６５】
〈コロナ処理〉
コロナ処理装置（春日電機社製）を用い、出力：３００Ｗ、電極長：２４０ｍｍ、ワーク電極間距離：３．０ｍｍ、搬送速度：４ｍ／ｍｉｎの条件で、ガスバリアー層の露出表面の表面改質処理（コロナ処理）を行った。【０２６６】
（接着層１（４）の形成）
アクリロイル基を含有する化合物として、多官能アクリレート化合物であるジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（略称：ＤＰＥＨＡ）を、酢酸ブチルを用いて固形分濃度５質量％まで希釈した溶液に、ケイ素原子含有化合物として、オルガノシリカゾルであるＰＧＭ−ＡＣ−２１４０Ｙ（分散媒：プロピレングリコールモノメチルエーテル、平均粒子径：１０〜１５ｎｍ、シリカ含有量：４２質量％、日産化学工業社製）を、上記アクリロイル基を含有する化合物の固形分１００質量％に対して５０質量％相当分添加して、更に重合開始剤としてＢＡＳＦジャパン社製のイルガキュア１８４を、上記アクリロイル基を含有する化合物固形分１００質量％に対して、３質量％相当分添加して、接着層形成用塗布液１を調製した。【０２６７】
次いで、この接着層形成用塗布液１を用い、乾燥後の層厚が８００ｎｍとなるように上記ガスバリアー層上にバーコーターで塗布した後、乾燥条件として８０℃で１分間の乾燥を行った。次いで、空気雰囲気下で、照度が５００ｍＷ／ｃｍ２、照射エネルギー量が２００ｍＪ／ｃｍ２の条件で高圧水銀ランプにより紫外線照射処理を施して、第１の実施形態の接着層１（４）を形成して、ガスバリアー性フィルム１（１）を作製した。【０２６８】
〔ガスバリアー性フィルム２の作製〕
上記ガスバリアー性フィルム１の作製において、接着層１（４）の層厚を１００ｎｍに変更した以外は同様にして、ガスバリアー性フィルム２を作製した。【０２６９】
〔ガスバリアー性フィルム３の作製〕
上記ガスバリアー性フィルム１の作製において、接着層１（４）の層厚を５００ｎｍに変更した以外は同様にして、ガスバリアー性フィルム３を作製した。【０２７０】
〔ガスバリアー性フィルム４の作製〕
上記ガスバリアー性フィルム１の作製において、接着層４（４）を下記の方法に従って形成した以外は同様にして、ガスバリアー性フィルム４を作製した。接着層４（４）は、前記接着層１に対し、重合開始剤を除き、紫外線照射処理を行わない方法で形成した。【０２７１】
（接着層４の形成）
アクリロイル基を含有する化合物として、多官能アクリレート化合物であるジペンタエリスリトールヘキサアクリレートを、酢酸ブチルで固形分濃度５質量％まで希釈した溶液に、ケイ素原子含有化合物として、オルガノシリカゾルであるＰＧＭ−ＡＣ−２１４０Ｙ（分散媒：プロピレングリコールモノメチルエーテル、平均粒子径：１０〜１５ｎｍ、シリカ含有量：４２質量％、日産化学工業社製）を、上記アクリロイル基を含有する化合物の固形分１００質量％に対して５０質量％相当添加して、接着層形成用塗布液４を調製した。【０２７２】
次いで、この接着層形成用塗布液４を用い、乾燥後の層厚が３００ｎｍとなるようにガスバリアー層上にバーコーターで塗布した後、乾燥条件として８０℃で１分間の乾燥を行って、接着層４（４）を形成した。【０２７３】
〔ガスバリアー性フィルム５の作製〕
上記ガスバリアー性フィルム１の作製において、下記の方法で調製した接着層形成用塗布液５を用いて接着層５（４）を形成した以外は同様にして、ガスバリアー性フィルム５を作製した。【０２７４】
（接着層５の形成）
アクリロイル基とケイ素原子を同時に含有する末端アクリルシランカップリング剤ポリマーとして、信越シリコーン社製のＸ−１２−１０４８（略称：ＡＳＣＰ）を、酢酸ブチルで固形分濃度５質量％まで希釈した溶液に、ケイ素原子含有化合物として、オルガノシリカゾルであるＰＧＭ−ＡＣ−２１４０Ｙ（分散媒：プロピレングリコールモノメチルエーテル、平均粒子径：１０〜１５ｎｍ、シリカ含有量：４２質量％、日産化学工業社製）を、上記アクリロイル基を含有する化合物の固形分１００質量％に対して、５０質量％相当添加して、更に重合開始剤としてＢＡＳＦジャパン社製のイルガキュア１８４を、上記アクリロイル基を含有する化合物固形分１００質量％に対して、３．０質量％相当分添加して、接着層形成用塗布液５を調製した。【０２７５】
次いで、この接着層形成用塗布液５を用い、乾燥後の層厚が３００ｎｍとなるようにガスバリアー層上にバーコーターで塗布した後、乾燥条件として８０℃で１分間の乾燥を行った。次いで、空気雰囲気下で、照度が５００ｍＷ／ｃｍ２、照射エネルギー量が２００ｍＪ／ｃｍ２の条件で高圧水銀ランプにより紫外線照射処理を施して、接着層５（４）を形成した。【０２７６】
〔ガスバリアー性フィルム６の作製〕
上記ガスバリアー性フィルム１の作製において、下記の方法で調製した接着層形成用塗布液６を用いて接着層６（４）を形成した以外は同様にして、ガスバリアー性フィルム６を作製した。【０２７７】
（接着層６の形成）
アクリロイル基とケイ素原子を同時に含有する末端アクリルシランカップリング剤ポリマーとして、信越シリコーン社製のＸ−１２−１０４８（略称：ＡＳＣＰ）を、酢酸ブチルで固形分濃度５質量％まで希釈した溶液に、シランカップリング剤モノマー（略称：ＳＣＭ）として、アクリロイル基含有シランカップリング剤  ＫＢＭ−５１０３（３−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、信越シリコーン社製）を、アクリロイル基を含有する化合物の固形分１００質量％に対して、５０質量％相当分添加して、更に重合開始剤としてＢＡＳＦジャパン社製のイルガキュア１８４を上記アクリロイル基を含有する化合物固形分１００質量％に対して、３．０質量％相当分添加して、接着層形成用塗布液６を調製した。【０２７８】
次いで、この接着層形成用塗布液６を用い、乾燥後の層厚が３００ｎｍとなるようにガスバリアー層上にバーコーターで塗布した後、乾燥条件として８０℃で１分間の乾燥を行った。次いで、空気雰囲気下で、照度が５００ｍＷ／ｃｍ２、照射エネルギー量が２００ｍＪ／ｃｍ２の条件で高圧水銀ランプにより紫外線照射処理を施して、第１の実施形態の接着層６（４）を形成した。【０２７９】
〔ガスバリアー性フィルム７の作製〕
上記ガスバリアー性フィルム６の作製で用いた接着層形成用塗布液６に、更に、ケイ素原子含有化合物として、オルガノシリカゾルであるＰＧＭ−ＡＣ−２１４０Ｙ（分散媒：プロピレングリコールモノメチルエーテル、平均粒子径：１０〜１５ｎｍ、シリカ含有量：４２質量％、日産化学工業社製）を、アクリロイル基を含有する化合物の固形分１００質量％に対して、３０質量％相当分添加して、接着層形成用塗布液７を調製した。【０２８０】
上記ガスバリアー性フィルム６の作製において、接着層形成用塗布液６に代えて、上記調製した接着層形成用塗布液７を用いて接着層７（４）を形成した以外は同様にして、ガスバリアー性フィルム７を作製した。【０２８１】
〔ガスバリアー性フィルム８の作製〕
上記ガスバリアー性フィルム７の作製において、接着層形成用塗布液７に、更に、アクリル基含有ポリマー（略称：ＡＰ）として、星光ＰＭＣ社製のＨＩＬ−２０７０を、アクリロイル基を含有する化合物の固形分１００質量％に対して、１００質量％相当分添加して、接着層形成用塗布液８を調製し、それを用いて接着層８（４）を形成した以外は同様にして、ガスバリアー性フィルム８を作製した。【０２８２】
〔ガスバリアー性フィルム９の作製〕
上記ガスバリアー性フィルム８の作製において、高圧水銀ランプにより紫外線照射処理を行わなかった以外は同様にして、ガスバリアー性フィルム９を作製した。【０２８３】
〔ガスバリアー性フィルム１０の作製〕
上記ガスバリアー性フィルム９の作製において、接着層形成用塗布液９に、更に、有機微粒子として、ポリメチルメタクリレート微粒子（平均粒径：８００ｎｍ）を、アクリロイル基を含有する化合物の固形分１００質量％に対して１．０質量％相当量添加して、接着層形成用塗布液１０を調製し、それを用いて接着層１０（４）を形成した以外は同様にして、ガスバリアー性フィルム１０を作製した。【０２８４】
〔ガスバリアー性フィルム１１の作製〕
上記ガスバリアー性フィルム６の作製において、接着層形成用塗布液６より、アクリロイル基とケイ素原子を同時に含有する末端アクリルシランカップリング剤ポリマーである信越シリコーン社製のＸ−１２−１０４８（略称：ＡＳＣＰ）を除き、かつ接着層の層厚を１０ｎｍに変更した以外は同様にして、ガスバリアー性フィルム１１を作製した。【０２８５】
〔ガスバリアー性フィルム１２の作製〕
上記ガスバリアー性フィルム７の作製において、接着層（４）の層厚を８０ｎｍに変更した以外は同様にして、ガスバリアー性フィルム１２を作製した。【０２８６】
〔ガスバリアー性フィルム１３の作製〕
上記ガスバリアー性フィルム７の作製において、接着層（４）の層厚を１２００ｎｍに変更した以外は同様にして、ガスバリアー性フィルム１３を作製した。【０２８７】
上記作製した各ガスバリアー性フィルムの構成を、表１に示す。【０２８８】
【表１】
2017033665.tif 000004
【０２８９】
なお、表１に略称で記載した各構成材料の詳細は、以下の通りである。【０２９０】
〈未反応のアクリレート基含有化合物〉
ＤＰＥＨＡ：ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート
ＡＳＣＰ：ポリマータイプの末端アクリルシランカップリング剤（信越シリコーン社製、Ｘ−１２−１０４８）
〈シランカップリング剤〉
ＳＣＭ：モノマータイプのシランカップリング剤（ＫＢＭ−５１０３（３−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、信越シリコーン社製）
〈アクリロイル基含有ポリマー〉
ＡＰ：アクリロイル基含有ポリマー（星光ＰＭＣ社製、ＨＩＬ−２０７０）。【０２９１】
《光学フィルムの作製》
〔光学フィルム１０１の作製〕
下記の方法に従い、図４Ｂに記載の構成からなる光学フィルム１０１を作製した。【０２９２】
（１）ガスバリアー性フィルム（１Ａ）の準備
上記作製したガスバリアー性フィルム１を、図４Ｂに示すガスバリアー性フィルム１（１Ａ）として準備した。【０２９３】
（２）蛍光体粒子層の形成
（蛍光体粒子の調製）
Ｓｅ粉末０．７８９６ｇを、トリオクチルホスフィン（ＴＯＰ）７．４ｇ中に添加し、その混合物を１５０℃まで窒素気流下で加熱して、ＴＯＰ−Ｓｅストック溶液を調製した。別途、酸化カドミウム（ＣｄＯ）の０．４５０ｇ及びステアリン酸の８．０ｇをアルゴン雰囲気下、三口フラスコ中で１５０℃まで加熱した。【０２９４】
ＣｄＯが溶解した後、このＣｄＯ溶液を室温まで冷却した。このＣｄＯ溶液に、トリオクチルホスフィンオキサイド（ＴＯＰＯ）を８．０ｇ及び１−ヘプタデシル−オクタデシルアミン（ＨＤＡ）を１２．０g添加し、その混合物を再び１５０℃まで加熱した後、これにＴＯＰ−Ｓｅストック溶液を素早く添加した。【０２９５】
その後、チャンバーの温度を２２０℃まで加熱し、更に一定の速度で１２０分かけて２５０℃まで上昇させた（０．２５℃／分）。その後、温度を１００℃まで下げ、酢酸亜鉛二水和物を添加撹拌して溶解させた後、ヘキサメチルジシリルチアンのトリオクチルホスフィン溶液を滴下し、数時間撹拌を続けて反応を終了させ、ＣｄＳｅ／ＺｎＳからなる蛍光体粒子（７）を得た。【０２９６】
（蛍光体粒子含有層形成用塗布液１の調製）
蛍光体粒子に内包される蛍光体粒子成分の粒径を赤色と緑色に発光するように調整し、更にその内包する蛍光体粒子の赤色、緑色成分が０．７５ｍｇ、４．１２ｍｇになるようにトルエン溶媒に分散させ、更にエポキシアクリレート  ＤＩＣ（株）製ＵＶ硬化型樹脂ユニディックＶ−５５００に、光重合開始剤イルガキュア１８４（ＢＡＳＦジャパン製）を、固形分比（質量％）の値として、樹脂／開始剤：９５／５になるように調整したＵＶ硬化樹脂を加え、蛍光体粒子の含有率が１．０質量％になる蛍光体粒子含有層形成用塗布液１を調製した。【０２９７】
（蛍光体粒子含有層形成用塗布液１の塗布）
調製した蛍光体粒子含有層形成用塗布液１を、ガスバリアー性フィルム１（１Ａ）を構成する接着層１（４Ａ）上に乾燥層厚が１００μｍになるように塗布し、７５℃で３分間加熱して、蛍光体粒子含有層（６）を形成した。ただし、紫外線照射による硬化処理は、この段階では行わない。なお、括弧内の数字は、図４Ｂに記載した符号である。【０２９８】
（３）ガスバリアー性フィルム（１Ｂ）の付与
上記作製したガスバリアー性フィルム１を、図４Ｂに示すガスバリアー性フィルム１（１Ｂ）として準備した。【０２９９】
次いで、上記作製した蛍光体粒子層（６）面と、ガスバリアー性フィルム１（１Ｂ）の接着層（４Ｂ）面とを貼合した後、高圧水銀ランプを使用して、硬化条件；２．５Ｊ／ｃｍ２で硬化を行って、光学フィルム１０１（１０）を作製した。【０３００】
〔光学フィルム１０２〜１１３の作製〕
上記光学フィルムフィルム１０１の作製において、ガスバリアー性フィルム１（１Ａ）及びガスバリアー性フィルム１（１Ｂ）として用いたガスバリアー性フィルム１に代えて、上記作製したガスバリアー性フィルム２〜１３を用いた以外は同様にして、光学フィルム１０２〜１１３を作製した。【０３０１】
《ガスバリアー性フィルムの評価》
〔耐熱性の評価〕
上記作製したガスバリアー性フィルムについて、作製直後に、ＪＩＳ  Ｋ  ７１２９−１９９２に準拠した方法で、水蒸気透過度測定装置（商品名：パーマトラン  モコン社製）を用いて水蒸気透過度１（略称：ＷＶＴＲ、温度：３８℃、相対湿度（ＲＨ）：１００％、ｇ／ｍ２・２４ｈ）を測定した。【０３０２】
次いで、湿度制御はせずに、８０℃の環境下で１０００時間放置した後、同様に水蒸気透過度２を測定し、水蒸気透過度１に対する水蒸気透過度２の低下率（百分率）を測定し、下記の基準に従い、耐熱性の評価を行った。【０３０３】
５：水蒸気透過度の低下率が、５．０％未満である
４：水蒸気透過度の低下率が、５．０％以上、１０％未満である
３：水蒸気透過度の低下率が、１０％以上、２０％未満である
２：水蒸気透過度の低下率が、２０％以上、３０％未満である
１：水蒸気透過度の低下率が、３０％以上である
《光学フィルムの評価》
〔耐久性：密着性の評価〕
上記で作製した各光学フィルムを、高温高湿条件（６０℃、９０％ＲＨ）下で５００時間静置した後、各光学フィルムにおける接着層と蛍光体粒子層間の密着性を評価した。【０３０４】
各光学フィルムを、幅５０ｍｍ、長さ２００ｍｍに断裁した後、ＪＩＳ  Ｂ  ７７２１に規定する引張試験機を用いて、剥離力を測定した。各光学フィルムの端部について、接着層と蛍光体粒子層を剥離した後、それぞれを引張試験機に挟み込み、引っ張り速度３００ｍ／ｍｉｎで剥離した端部から１８０°方向に向かって引き剥がすのに要する力を測定し、下記基準に基づいて、密着性を５段階で評価した。【０３０５】
５：剥離強度が、５．０Ｎ以上
４：剥離強度が、４．０Ｎ以上、５．０Ｎ未満
３：剥離強度が、３．０Ｎ以上、４．０Ｎ未満
２：剥離強度が、２．０Ｎ以上、３．０Ｎ未満
１：剥離強度が、２．０Ｎ未満
〔サイドリーク耐性の評価〕
上記で作製した各光学フィルムを、高温高湿条件（６０℃、９０％ＲＨ）下で５００時間静置した後に、下記の方法に従って、サイドリーク耐性を評価した。【０３０６】
作製直後と、上記高温高湿条件（６０℃、９０％ＲＨ）で強制劣化処理を施した各光学フィルムを、それぞれ４５０ｎｍに発光する青色ＬＥＤの上に置き、１００倍の光学顕微鏡（株式会社モリテックス製  ＭＳ−８０４、レンズＭＰ−ＺＥ２５−２００）を用いて、光学フィルム端部領域において発光しない領域の巾をランダムに６点計測し、その平均値を算出した。次いで、作製直後のサンプルに対し、強制劣化処理によるサンプルの未発光領域の成長率を測定し、下記の基準に従ってサイドリーク耐性を評価した。【０３０７】
５：端部の未発光領域の成長率が、０．１％未満である
４：端部の未発光領域の成長率が、０．１％以上、１．０％未満である
３：端部の未発光領域の成長率が、１．０％以上、２．５％未満である
２：端部の未発光領域の成長率が、２．５％以上、５．０％未満である
１：端部の未発光領域の成長率が、５．０％以上である
以上により得られた各評価結果を、表２に示す。【０３０８】
【表２】
2017033665.tif 000005
【０３０９】
表２に記載の結果より明らかなように、アクリロイル基を含む化合物と、ケイ素原子を含む化合物を含有し、層厚が１００〜１０００ｎｍの範囲内にある接着層を有する本発明のガスバリアー性フィルムは、比較例に対し、ガスバリアー層の耐熱性に優れ、かつそれを用いた蛍光体粒子含有層を有する光学フィルムは、比較例に対し、高温高湿環境下で保存された後の密着性及びサイドリーク耐性に優れていることが分かる。【０３１０】
実施例２
《光学フィルムの作製》
下記の方法に従って、光学フィルム２０１〜２１６を作製した。なお、下記の説明において、各構成要素の後の括弧内に記載した数値は、それぞれ図５Ａ及び図５Ｂに記載の符号番号である。【０３１１】
［光学フィルム２０１の作製］
下記の方法に従って、光学フィルム２０１を作製した
〔ガスバリアー性フィルム５１の作製〕
（樹脂基材（１０２Ａ）の準備）
厚さ５０μｍの両面易接着層付きポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（帝人デュポンフィルム（株）製、ＫＥＬ８６Ｗ）を、樹脂基材（１０２Ａ）として用いた。【０３１２】
（下地層の形成）
ＪＳＲ株式会社製のＵＶ硬化型有機／無機ハイブリッドハードコート材  ＯＰＳＴＡＲＺ７５０１を酢酸ブチルで固形分濃度３５％まで希釈した塗布液を、乾燥膜厚が２μｍとなるように上記樹脂基材の一方の易接着面側にバーコーターで塗布した後、乾燥条件として８０℃で２分間の乾燥を行った。次いで、空気雰囲気下で、照度が７００ｍＷ／ｃｍ２、照射エネルギー量が２５０ｍＪ／ｃｍ２の条件で高圧水銀ランプにより紫外線照射処理を施して、下地層を形成した。【０３１３】
（ガスバリアー層（１０３Ａ）の形成：真空プラズマＣＶＤ法）
特許第４２６８１９５号公報に記載されている、対向する一対の成膜ロール群より構成されている成膜部を有する装置を２台並列配置したタイプ（第１成膜部、第２成膜部を有する）のロール・トゥ・ロール型真空ＣＶＤ成膜装置を用いて、ガスバリアー層（１０３Ａ）を形成した。成膜条件は、搬送速度７ｍ／ｍｉｎ、原料ガス（ヘキサメチルジシロキサン、ＨＭＤＳＯ）の供給量１５０ｍＬ／ｍｉｎ、酸素ガスの供給量１５０ｍＬ／ｍｉｎ、真空度１．５Ｐａ、印加電力４．５ｋｗとして、膜厚１５０ｎｍのガスバリアー層（組成ＳｉＯｘ）を形成した。【０３１４】
（ガスバリアー層の表面改質処理）
上記形成したガスバリアー層（１０３Ａ）の露出表面に対して、以下の方法により表面改質処理としてコロナ処理を施した。【０３１５】
〈コロナ処理〉
コロナ処理装置（春日電機社製）を用い、出力３００Ｗ、電極長２４０ｍｍ、ワーク電極間距離３．０ｍｍ、搬送速度４ｍ／ｍｉｎの条件で、ガスバリアー層５１の露出表面の表面改質処理（コロナ処理）を行った。【０３１６】
（接着層５１（１０４Ａ）の形成）
バインダー成分（１０５Ａ）として、アクリロイル基含有化合物（多官能アクリレート化合物）であるジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（略称：ＤＰＥＨＡ）を、酢酸ブチルで固形分濃度５％まで希釈した溶液に、無機微粒子（１０６Ａ）として、石原産業社製のＴＴＯ−５５（Ａ）（酸化チタン、焼結法、ルチル結晶、表面処理：Ａｌ（ＯＨ）３、平均一次粒径：４５ｎｍ）を上記アクリロイル基含有化合物の固形分１００質量％に対して、８０質量％相当量添加し、有機微粒子（１０７Ａ）として、ポリメチルメタクリレート微粒子（略称：ＰＭＭＡ  平均一次粒径：８００ｎｍ）をアクリロイル基含有化合物の固形分１００質量％に対して、１．０質量％相当量添加して、更に重合開始剤としてＢＡＳＦジャパン社製のイルガキュア１８４を、アクリロイル基含有化合物の固形分１００質量％に対して、３．０質量％相当量添加して、接着層形成用塗布液５１を調製した。【０３１７】
次いで、この接着層形成用塗布液５１を用い、乾燥後の層厚が１０００ｎｍとなるように上記ガスバリアー層（１０３Ａ）上にバーコーターで塗布した後、乾燥条件として８０℃で１分間の乾燥を行った。次いで、空気雰囲気下で、照度が５００ｍＷ／ｃｍ２、照射エネルギー量が２００ｍＪ／ｃｍ２の条件で高圧水銀ランプにより紫外線照射処理を施して、接着層５１（１０４Ａ）を形成して、ガスバリアー性フィルム５１（１０１Ａ）を作製した。【０３１８】
〔光学フィルムの形成〕
下記の方法に従って、ガスバリアー性フィルム５１（１０１Ａ）上に、蛍光体粒子含有層（１０８）を形成し、更にその表面をガスバリアー性フィルム５１（１０１Ｂ）で封止して、図５Ｂに記載の構成からなる光学フィルム２０１（Ｆ）を作製した。【０３１９】
（蛍光体粒子含有層の形成）
〈蛍光体粒子（１０９）の調製〉
Ｓｅ粉末０．７８９６ｇを、トリオクチルホスフィン（略称：ＴＯＰ）７．４ｇ中へ添加し、混合物を１５０℃まで窒素気流下で加熱して、ＴＯＰ−Ｓｅストック溶液を調製した。別途、酸化カドミウム（ＣｄＯ）の０．４５０ｇ及びステアリン酸の８．０ｇをアルゴン雰囲気下、三口フラスコ中で１５０℃まで加熱した。【０３２０】
ＣｄＯが溶解した後、このＣｄＯ溶液を室温まで冷却した。このＣｄＯ溶液に、トリオクチルホスフィンオキサイド（略称：ＴＯＰＯ）を８．０ｇ及び１−ヘプタデシル−オクタデシルアミン（略称：ＨＤＡ）を１２ｇ．０添加し、その混合物を再び１５０℃まで加熱した後、ＴＯＰ−Ｓｅストック溶液を素早く添加した。【０３２１】
その後、チャンバーの温度を２２０℃まで加熱し、更に一定の速度で１２０分かけて２５０℃まで上昇させた（０．２５℃／分）。その後、温度を１００℃まで下げ、酢酸亜鉛二水和物を添加撹拌して溶解させた後、ヘキサメチルジシリルチアンのトリオクチルホスフィン溶液を滴下し、数時間撹拌を続けて反応を終了させ、ＣｄＳｅ／ＺｎＳからなる蛍光体粒子（１０９）を得た。【０３２２】
〈蛍光体粒子層形成用塗布液５１の調製〉
蛍光体粒子に内包される蛍光体粒子成分の粒径を赤色と緑色に発光するように調整し、更にその内包する蛍光体粒子の赤色、緑色成分が０．７５ｍｇ、４．１２ｍｇになるようにトルエン溶媒に分散させ、更に、樹脂成分（１１０）としてエポキシアクリレート  ＤＩＣ（株）製ＵＶ硬化型樹脂ユニディックＶ−５５００に、光重合開始剤イルガキュア１８４（ＢＡＳＦジャパン製）を、固形分比（質量％）で樹脂／開始剤：９５／５になるように調整したＵＶ硬化樹脂を加え、蛍光体粒子の含有率が１．０質量％になる蛍光体粒子層形成用塗布液５１を調製した。【０３２３】
〈蛍光体粒子層形成用塗布液５１の塗布〉
調製した蛍光体粒子層形成用塗布液５１を、ガスバリアー性フィルム５１（図５Ｂに記載の１０１Ａ）を構成する接着層５１（１０４Ａ）上に、乾燥層厚が１０００μｍになるように塗布し、７５℃で３分間加熱して、蛍光体粒子層（１０８）を形成した。ただし、紫外線照射による硬化処理は、この段階では行わない。【０３２４】
（３）ガスバリアー性フィルム５１（１０１Ｂ）の付与
上記作製したガスバリアー性フィルム５１を、ガスバリアー性フィルム（１０１Ｂ）として準備した。【０３２５】
次いで、上記作製した蛍光体粒子層（１０８）面と、ガスバリアー性フィルム（１０１Ｂ）の接着層（１０４Ｂ）面とを貼合した後、高圧水銀ランプを使用して、硬化条件；２．５Ｊ／ｃｍ２で硬化を行って、光学フィルム２０１（Ｆ）を作製した。【０３２６】
［光学フィルム２０２の作製］
上記光学フィルム２０１の作製において、ガスバリアー性フィルム５１に代えて、下記の方法で作製したガスバリアー性フィルム５２を用いた以外は同様にして、光学フィルム２０２を作製した。【０３２７】
〔ガスバリアー性フィルム５２の作製〕
上記ガスバリアー性フィルム５１の作製において、接着層５１に代えて、下記の構成からなる接着層５２を用いた以外は同様にして、ガスバリアー性フィルム５２を作製した。【０３２８】
（接着層５２（１０４Ａ）の形成）
バインダー成分（１０５Ａ）として、アクリロイル基含有化合物（多官能アクリレート化合物）であるジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（略称：ＤＰＥＨＡ）を、酢酸ブチルで固形分濃度５％まで希釈した溶液に、無機微粒子（１０６Ａ）として、ＰＧＭ−ＡＣ−４１３０Ｙ（シリカ粒子、分散媒：プロピレングリコールモノメチルエーテル、平均一次粒径：４５ｎｍ、シリカ含有量：３０質量％）を上記アクリロイル基含有化合物の固形分１００％に対して８０％添加して、有機微粒子（１０７Ａ）として、ポリメチルメタクリレート微粒子（平均一次粒径：８００ｎｍ）をアクリロイル基含有化合物の固形分１００％に対して１％添加して、更に重合開始剤としてＢＡＳＦジャパン社製のイルガキュア１８４をアクリロイル基含有化合物の固形分１００％に対して３％添加して、接着層形成用塗布液５２を調製した。【０３２９】
次いで、この接着層形成用塗布液５２を用い、乾燥後の層厚が８００ｎｍとなるようにガスバリアー層上にバーコーターで塗布した後、乾燥条件として８０℃で１分間の乾燥を行った。次いで、空気雰囲気下で、照度が５００ｍＷ／ｃｍ２、照射エネルギー量が２００ｍＪ／ｃｍ２の条件で高圧水銀ランプにより紫外線照射処理を施して、接着層５２（１０４Ａ）を形成して、ガスバリアー性フィルム５２（１０１Ａ）を作製した。【０３３０】
［光学フィルム２０３の作製］
上記光学フィルム２０２の作製において、ガスバリアー性フィルム５２に代えて、下記の方法で作製したガスバリアー性フィルム５３を用いた以外は同様にして、光学フィルム２０３を作製した。【０３３１】
〔ガスバリアー性フィルム５３の作製〕
上記ガスバリアー性フィルム５２の作製において、接着層５２の層厚を５００ｎｍに変更した以外は同様にして、ガスバリアー性フィルム５３を作製した。【０３３２】
［光学フィルム２０４の作製］
上記光学フィルム２０３の作製において、ガスバリアー性フィルム５３に代えて、下記の方法で作製したガスバリアー性フィルム５４を用いた以外は同様にして、光学フィルム２０４を作製した。【０３３３】
〔ガスバリアー性フィルム５４の作製〕
上記ガスバリアー性フィルム５３の作製において、接着層５３に代えて、下記の構成からなる接着層５４を用いた以外は同様にして、ガスバリアー性フィルム５４を作製した。【０３３４】
（接着層５４（１０４Ａ）の形成）
バインダー成分（１０５Ａ）として、ポリマータイプのシランカップリング剤である信越シリコーン社製のＸ−１２−１０４８（略称：ＡＳＣＰ）を、酢酸ブチルで固形分濃度５質量％まで希釈した溶液に、無機微粒子（１０６Ａ）として、ＰＧＭ−ＡＣ−４１３０Ｙ（分散媒：プロピレングリコールモノメチルエーテル、平均一次粒径：４５ｎｍ、シリカ含有量：３０質量％）を上記ポリマータイプのシランカップリング剤（ＡＳＣＰ）の固形分１００質量％に対して、８０質量％相当量添加して、有機微粒子（１０７Ａ）として、ポリメチルメタクリレート微粒子（平均一次粒径：８００ｎｍ）を、ポリマータイプのシランカップリング剤（ＡＳＣＰ）の固形分１００質量％に対して、１．０質量％相当量添加して、更に重合開始剤としてＢＡＳＦジャパン社製のイルガキュア１８４をポリマータイプのシランカップリング剤（ＡＳＣＰ）の固形分１００質量％に対して、３．０質量％相当量添加して、接着層形成用塗布液５４を調製した。【０３３５】
次いで、上記調製した接着層形成用塗布液５４を用い、乾燥後の層厚が５００ｎｍとなるようにガスバリアー層（１０３Ａ）上にバーコーターで塗布した後、乾燥条件として８０℃で１分間の乾燥を行った。次いで、空気雰囲気下で、照度が５００ｍＷ／ｃｍ２、照射エネルギー量が２００ｍＪ／ｃｍ２の条件で高圧水銀ランプによる紫外線照射処理を施して、接着層５４（１０４Ａ）を形成して、ガスバリアー性フィルム５４（１０１Ａ）を作製した。【０３３６】
［光学フィルム２０５の作製］
上記光学フィルム２０４の作製において、ガスバリアー性フィルム５４に代えて、下記の方法で作製したガスバリアー性フィルム５５（１０１Ａ）を用いた以外は同様にして、光学フィルム２０５を作製した。【０３３７】
〔ガスバリアー性フィルム５５の作製〕
上記ガスバリアー性フィルム５４の作製において、接着層５４に代えて、下記の構成からなる接着層５５を用いた以外は同様にして、ガスバリアー性フィルム５５を作製した。【０３３８】
（接着層５５（１０４Ａ）の形成）
バインダー成分（１０５Ａ）として、ポリマータイプのシランカップリング剤である信越シリコーン社製のＸ−１２−１０４８（略称：ＡＳＣＰ）を、酢酸ブチルで固形分濃度５．０質量％まで希釈した溶液に、更に第２のバインダー成分として、シランカップリング剤モノマー（略称：ＳＣＭ）である、アクリロイル基含有シランカップリング剤  ＫＢＭ−５１０３（３−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、信越シリコーン社製）をポリマータイプのシランカップリング剤（ＡＳＣＰ）の固形分１００質量％に対して、１０．０質量％相当量添加し、次いで、無機微粒子（１０６Ａ）として、ＰＧＭ−ＡＣ−４１３０Ｙ（分散媒：プロピレングリコールモノメチルエーテル、平均一次粒径：４５ｎｍ、シリカ含有量：３０質量％）を上記ポリマータイプのシランカップリング剤（ＡＳＣＰ）の固形分１００質量％に対して８０質量％相当量添加して、有機微粒子（１０７Ａ）として、ポリメチルメタクリレート微粒子（平均一次粒径：８００ｎｍ）をポリマータイプのシランカップリング剤（ＡＳＣＰ）の固形分１００質量％に対して１．０質量％相当量添加して、更に重合開始剤としてＢＡＳＦジャパン社製のイルガキュア１８４をポリマータイプのシランカップリング剤（ＡＳＣＰ）の固形分１００質量％に対して３．０質量％相当量添加して、接着層形成用塗布液５５を調製した。【０３３９】
次いで、この接着層形成用塗布液５５を用い、乾燥後の層厚が３００ｎｍとなるようにガスバリアー層（１０３Ａ）上にバーコーターで塗布した後、乾燥条件として８０℃で１分間の乾燥を行った。次いで、空気雰囲気下で、照度が５００ｍＷ／ｃｍ２、照射エネルギー量が２００ｍＪ／ｃｍ２の条件で高圧水銀ランプにより紫外線照射処理を施して、接着層５５（１０４Ａ）を形成して、ガスバリアー性フィルム５５を作製した。【０３４０】
［光学フィルム２０６の作製］
上記光学フィルム２０５の作製において、ガスバリアー性フィルム５５に代えて、下記の方法で作製したガスバリアー性フィルム５６を用いた以外は同様にして、光学フィルム２０６を作製した。【０３４１】
〔ガスバリアー性フィルム５６の作製〕
上記ガスバリアー性フィルム５５の作製において、接着層形成用塗布液５５に対し、更に、アクリロイル基含有ポリマー（略称：ＡＰ）として、星光ＰＭＣ社製のＨＩＬ−２０７０を、ポリマータイプのシランカップリング剤（ＡＳＣＰ）の固形分１００質量％に対して１０質量％相当量添加して、接着層形成用塗布液５６を調製し、それを用いて接着層５６を形成した以外は同様にして、ガスバリアー性フィルム５６を作製した。【０３４２】
［光学フィルム２０７の作製］
上記光学フィルム２０６の作製において、ガスバリアー性フィルム５６に代えて、下記の方法で作製したガスバリアー性フィルム５７を用いた以外は同様にして、光学フィルム１０７を作製した。【０３４３】
〔ガスバリアー性フィルム５７の作製〕
上記ガスバリアー性フィルム５６の作製において、接着層形成用塗布液５６の調製に用いた無機微粒子（ＳｉＯ２、平均一次粒径：４５ｎｍ）を、平均一次粒径が３０ｎｍのシリカ粒子に変更した以外は同様にして調製した接着層形成用塗布液５７を用いて接着層５７を形成した以外は同様にして、ガスバリアー性フィルム５７を作製した。【０３４４】
［光学フィルム２０８の作製］
上記光学フィルム２０６の作製において、ガスバリアー性フィルム５６に代えて、下記の方法で作製したガスバリアー性フィルム５８を用いた以外は同様にして、光学フィルム２０８を作製した。【０３４５】
〔ガスバリアー性フィルム５８の作製〕
上記ガスバリアー性フィルム５６の作製において、接着層形成用塗布液５６の調製に用いた無機微粒子（ＳｉＯ２、平均一次粒径：４５ｎｍ）を、平均一次粒径が９０ｎｍのシリカ粒子に変更して調製した接着層形成用塗布液５８を用いて接着層５８を形成した以外は同様にして、ガスバリアー性フィルム５８を作製した。【０３４６】
［光学フィルム２０９の作製］
上記光学フィルム２０６の作製において、ガスバリアー性フィルム５６に代えて、下記の方法で作製したガスバリアー性フィルム５９を用いた以外は同様にして、光学フィルム２０９を作製した。【０３４７】
〔ガスバリアー性フィルム５９の作製〕
上記ガスバリアー性フィルム５６の作製において、接着層形成用塗布液５６の調製に用いた有機微粒子（ＰＭＭＡ、平均一次粒径：８００ｎｍ）を、平均一次粒径が３００ｎｍのＰＭＭＡ粒子に変更して調製した接着層形成用塗布液５９を用い、更に層厚を２００ｎｍに変更して接着層５９を形成した以外は同様にして、ガスバリアー性フィルム５９を作製した。【０３４８】
［光学フィルム２１０の作製］
上記光学フィルム２０６の作製において、ガスバリアー性フィルム５６に代えて、下記の方法で作製したガスバリアー性フィルム６０を用いた以外は同様にして、光学フィルム２１０を作製した。【０３４９】
〔ガスバリアー性フィルム６０の作製〕
上記ガスバリアー性フィルム５６の作製において、接着層形成用塗布液５６の調製に用いた有機微粒子（ＰＭＭＡ、平均一次粒径：８００ｎｍ）を、平均一次粒径が１０００ｎｍのＰＭＭＡ粒子に変更して調製した接着層形成用塗布液６０を用い、更に層厚を６００ｎｍに変更して接着層６０を形成した以外は同様にして、ガスバリアー性フィルム６０を作製した。【０３５０】
［光学フィルム２１１の作製］
上記光学フィルム２０６の作製において、ガスバリアー性フィルム５６に代えて、下記の方法で作製したガスバリアー性フィルム６１を用いた以外は同様にして、光学フィルム２１１を作製した。【０３５１】
〔ガスバリアー性フィルム６１の作製〕
上記ガスバリアー性フィルム５６の作製において、接着層形成用塗布液５６の調製に用いた有機微粒子（ＰＭＭＡ）を除いて調製した接着層形成用塗布液６１を用いて接着層６１を形成した以外は同様にして、ガスバリアー性フィルム６１を作製した。【０３５２】
［光学フィルム２１２の作製］
上記光学フィルム２０６の作製において、ガスバリアー性フィルム５６に代えて、下記の方法で作製したガスバリアー性フィルム６２を用いた以外は同様にして、光学フィルム２１２を作製した。【０３５３】
〔ガスバリアー性フィルム６２の作製〕
上記ガスバリアー性フィルム５６の作製において、接着層形成用塗布液５６の調製に用いた無機微粒子（シリカ粒子）を除いて調製した接着層形成用塗布液６２を用いて接着層６２を形成した以外は同様にして、ガスバリアー性フィルム６２を作製した。【０３５４】
［光学フィルム２１３の作製］
上記光学フィルム２１１の作製において、ガスバリアー性フィルム６１に代えて、下記の方法で作製したガスバリアー性フィルム６３を用いた以外は同様にして、光学フィルム２１３を作製した。【０３５５】
〔ガスバリアー性フィルム６３の作製〕
上記ガスバリアー性フィルム６１の作製において、接着層形成用塗布液６１の調製に用いた無機微粒子（シリカ粒子）を更に除いて調製した接着層形成用塗布液６３を用いて接着層６３を形成した以外は同様にして、ガスバリアー性フィルム６３を作製した。【０３５６】
［光学フィルム２１４の作製］
上記光学フィルム２０６の作製において、ガスバリアー性フィルム５６に代えて、下記の方法で作製したガスバリアー性フィルム６４を用いた以外は同様にして、光学フィルム２１４を作製した。【０３５７】
〔ガスバリアー性フィルム６４の作製〕
上記ガスバリアー性フィルム５６の作製において、接着層形成用塗布液５６の調製に用いた無機微粒子（平均一次粒径：４５ｎｍ）を、平均一次粒径が１５ｎｍのシリカ粒子（オルガノシリカゾル、ＰＧＭ−ＡＣ−２１４０Ｙ（分散媒：プロピレングリコールモノメチルエーテル、平均粒子径：１５ｎｍ、日産化学工業社製）に変更して調製した接着層形成用塗布液６４を用いて接着層６４を形成した以外は同様にして、ガスバリアー性フィルム６４を作製した。【０３５８】
［光学フィルム２１５の作製］
上記光学フィルム２１４の作製において、ガスバリアー性フィルム６４に代えて、下記の方法で作製したガスバリアー性フィルム６５を用いた以外は同様にして、光学フィルム２１５を作製した。【０３５９】
〔ガスバリアー性フィルム６５の作製〕
上記ガスバリアー性フィルム６４の作製において、接着層形成用塗布液６４の調製に用いた有機微粒子（ＰＭＭＡ、平均一次粒径：８００ｎｍ）を、平均一次粒径が２００ｎｍのＰＭＭＡ粒子に変更して調製した接着層形成用塗布液６５を用い、層厚が３００ｎｍの接着層６５を形成した以外は同様にして、ガスバリアー性フィルム６５を作製した。【０３６０】
［光学フィルム２１６の作製］
上記光学フィルム２０６の作製において、ガスバリアー性フィルム５６に代えて、下記の方法で作製したガスバリアー性フィルム６６を用いた以外は同様にして、光学フィルム２１６を作製した。【０３６１】
〔ガスバリアー性フィルム６６の作製〕
上記ガスバリアー性フィルム５６の作製において、接着層形成用塗布液５６の調製に用いた有機微粒子（ＰＭＭＡ、平均一次粒径：８００ｎｍ）を、平均一次粒径が１００ｎｍのＰＭＭＡ粒子に変更して調製した接着層形成用塗布液６６を用い、層厚が３００ｎｍの接着層６６を形成した以外は同様にして、ガスバリアー性フィルム６６を作製した。【０３６２】
上記作製した各光学フィルムの構成を、表３に示す。【０３６３】
【表３】
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【０３６４】
なお、表３に略称で記載した各構成材料の詳細は、以下の通りである。【０３６５】
〈微粒子〉
ＰＭＭＡ：ポリメチルメタクリレート
〈シランカップリング剤〉
ＡＳＣＰ：ポリマータイプの末端アクリルシランカップリング剤（信越シリコーン社製、Ｘ−１２−１０４８）
ＳＣＭ：モノマータイプのシランカップリング剤（ＫＢＭ−５１０３（３−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、信越シリコーン社製）
〈アクリロイル基含有化合物〉
ＤＰＥＨＡ：ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（アクリロイル基官有化合物）
ＡＰ：アクリロイル基含有ポリマー（星光ＰＭＣ社製、ＨＩＬ−２０７０）
《光学フィルムの評価》
〔耐久性：密着性の評価〕
上記で作製した各光学フィルムについて、高温高湿条件（６０℃９０％ＲＨ）下に５００時間静置した後に、各光学フィルムにおける接着層と蛍光体粒子層との間の密着性を、実施例１に記載の方法と同様にして、密着性を評価した。【０３６６】
〔発光効率の評価〕
上記作製した各光学フィルムを、４５０ｎｍに発光する青色ＬＥＤ上に置き、コニカミノルタ社製の分光放射輝度計「ＣＳ−２０００」を用いて発光効率を測定した。【０３６７】
次いで、光学フィルム２０１の発光効率を１００とした時の各光学フィルムの相対発光効率を求め、下記の基準に従って、(相対)発光効率の評価を行った。【０３６８】
５：相対発光効率が、１１５以上である
４：相対発光効率が、１０５以上、１１５未満である
３：相対発光効率が、９５以上、１０５未満である
２：相対発光効率が、８５以上、９５未満である
１：相対発光効率が、８５未満である
以上により得られた各評価結果を、表４に示す。【０３６９】
【表４】
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【０３７０】
表４に記載の結果より明らかなように、本発明で規定する構成よりなるガスバリアー性フィルムを具備した光学フィルムは、比較例に対し、高温高湿環境下で保存された後の密着性及び発光効率に優れていることが分かる。
【産業上の利用可能性】
【０３７１】
本発明によれば、高いガスバリアー性及び耐熱性を有するガスバリアー性フィルムと、当該ガスバリアー性フィルムを用い、蛍光体粒子含有層との高温高湿環境下での密着性と、サイドリーク耐性に優れるとともに、発光効率に優れた蛍光体粒子含有の光学フィルムを提供することができ、本発明のガスバリアー性フィルムを具備した光学フィルムは、有機エレクトロルミネッセンス素子（有機ＥＬ素子）、液晶表示素子（ＬＣＤ）、薄膜トランジスタ、タッチパネル、電子ペーパー、太陽電池（ＰＶ）、蛍光体粒子である量子ドットを有するＱＤフィルム等に適用することができる。
【符号の説明】
【０３７２】
１、１０１  ガスバリアー性フィルム
１Ａ、１Ｂ、１０１Ａ、１０１Ｂ  ガスバリアー性フィルム
２、２Ａ、２Ｂ、１０２、１０２Ａ、１０２Ｂ  樹脂基材
３、３Ａ、３Ｂ、１０３、１０３Ａ、１０３Ｂ  ガスバリアー層
４、４Ａ、４Ｂ、１０４、１０４Ａ、１０４Ｂ  接着層
５  アクリロイル基
６  蛍光体粒子含有層
７  蛍光体粒子
８  樹脂バインダー
９  封止部材
１０、Ｆ  光学フィルム
１０５、１０５Ａ、１０５Ｂ  バインダー成分
１０６、１０６Ａ、１０６Ｂ  無機微粒子
１０７、１０７Ａ、１０７Ｂ  有機微粒子
１０８  蛍光体粒子含有層
１０９  蛍光体粒子
１１０  樹脂バインダー
１１１  封止部材
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４Ａ】
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【図４Ｂ】
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【図５Ａ】
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【図５Ｂ】
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【国際調査報告】
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