【事件の表示】
　特許第５８２３１１９号発明「紫外赤外線カット用光学フィルタ」の特許異議申立事件について，次のとおり決定する。
【結　論】
　特許第５８２３１１９号の明細書及び特許請求の範囲を訂正請求書に添付された訂正明細書及び特許請求の範囲のとおり，訂正後の請求項〔１−９〕について訂正することを認める。
　特許第５８２３１１９号の請求項１ないし４，６ないし９に係る特許を維持する。
　特許第５８２３１１９号の請求項５に係る特許についての特許異議の申立てを却下する。　
【理　由】
第１　手続の経緯
　特許５８２３１１９号の請求項１〜請求項９に係る特許（以下，それぞれ「本件特許１」〜「本件特許９」といい，総称して「本件特許」という。）についての特許出願は，特願２０１０−２９０４２７号として平成２２年１２月２７日に出願され，平成２７年１０月１６日に特許権の設定の登録がされたものである。
　本件特許について，平成２７年１１月２５日に特許掲載公報が発行されたところ，発行の日から６月以内である平成２８年５月２３日に，特許異議申立人　石井良夫から特許異議の申立がされた（異議２０１６−７００４６３号）。
　その後の手続の経緯の概要は，以下のとおりである。
平成２８年　７月２２日付け：審尋
平成２８年　８月１２日差出：回答書
平成２８年　９月　８日付け：取消理由通知書
平成２８年１１月１１日差出：訂正請求書
平成２８年１１月１１日差出：意見書（特許権者）
平成２８年１１月１７日付け：通知書
（特許法１２０条の５第５項の規定による，訂正請求があった旨の通知）
平成２８年１２月２６日差出：意見書（特許異議申立人）
平成２９年　１月２５日付け：訂正拒絶理由通知書
平成２９年　２月１４日差出：意見書（特許権者）
平成２９年　３月　６日付け：取消理由通知書（決定の予告）
平成２９年　４月１３日差出：訂正請求書
（以下，この訂正請求書による訂正の請求を「本件訂正請求」という。なお，特許法１２０条の５第７項の規定により，平成２８年１１月１１日差出の訂正請求書による訂正の請求は，取り下げられたものとみなす。）
平成２９年　４月１３日差出：意見書（特許権者）
平成２９年　４月１８日付け：通知書
（特許法１２０条の５第５項の規定による，訂正請求があった旨の通知）
平成２９年　５月１７日差出：意見書（特許異議申立人）
（この意見書を，以下「特許異議申立人意見書」という。）
第２　本件訂正請求について
　１　請求の趣旨及び訂正事項
　(1) 請求の趣旨
　本件訂正請求の趣旨は，「特許第５８２３１１９号の明細書，特許請求の範囲を本請求書に添付した訂正明細書，特許請求の範囲のとおり，訂正後の請求項１〜９について訂正することを求める。」というものである。
　(2) 訂正事項
　本件訂正請求において特許権者が求める訂正事項は，以下のとおりである。なお，下線は訂正箇所を示す。
　ア　訂正事項１
　特許請求の範囲の請求項１の記載を，
「　透明基板上に積層される複数の構造体を備え，
　該複数の構造体は，光吸収構造体と近赤外光反射構造体と紫外光反射構造体とを有し
　前記光吸収構造体は，色素を含有する１つの層構造によって形成され，
近赤外波長領域のうち近赤外吸収波長領域の光を吸収するとともに，紫外波長領域のうち紫外吸収波長領域の光を吸収する光吸収特性を有し，当該光吸収特性は光吸収の極大点であるピークを含み，かつ前記近赤外吸収波長領域内における光吸収の極大点であるピークの光吸収率は前記紫外吸収波長領域における光吸収の極大点であるピークの光吸収率よりも大きく，
　前記近赤外光反射構造体は，
可視光を透過するための透過波長領域と，少なくとも前記近赤外波長領域の一部の光を反射して前記近赤外波長領域の一部の光の通過を阻止する阻止領域との間にある第１遷移波長領域を有し，
　前記紫外光反射構造体は，
可視光を透過するための透過波長領域と，少なくとも前記紫外波長領域の一部の光を反射して前記紫外波長領域の一部の光の通過を阻止する阻止領域との間にある第２遷移波長領域を有し，
　
前記光吸収構造体の前記近赤外吸収波長領域と，前記近赤外光反射構造体の前記第１遷移波長領域とが重なっているとともに，前記近赤外吸収波長領域内における光吸収の極大点であるピークの波長が前記第１遷移波長領域に重なっていることで，前記光吸収構造体と前記近赤外光反射構造体とが協働して，前記第１遷移波長領域の光を減衰させ，
　
前記光吸収構造体の前記紫外吸収波長領域と，前記紫外光反射構造体の前記第２遷移波長領域とが重なっているとともに，前記紫外吸収波長領域内における光吸収の極大点であるピークの波長が前記第２遷移波長領域に重なっていることで，前記光吸収構造体と前記紫外光反射構造体とが協働して，前記第２遷移波長領域の光を減衰させる
と訂正する（請求項１の記載を引用して記載された請求項２〜請求項９についても，請求項１の記載の訂正に伴い連動して訂正する。）。
　なお，訂正事項１による訂正前の特許請求の範囲の請求項１の記載は，次のとおりである。
「　透明基板上に積層される複数の構造体を備え，
　該複数の構造体は，光吸収構造体と近赤外光反射構造体と紫外光反射構造体とを有し
　前記光吸収構造体は，色素を含有する１つの層構造によって形成され，近赤外波長領域を吸収する近赤外吸収波長領域に対応したピーク及び紫外波長領域を吸収する紫外吸収波長領域に対応したピークをそれぞれ有し，かつ前記近赤外吸収波長領域に対応したピークは前記紫外吸収波長領域に対応したピークよりも光吸収率が大きい光吸収特性を有し，
　前記近赤外光反射構造体は，少なくとも前記近赤外波長領域の一部を反射して前記近赤外波長領域の阻止領域へ向かう遷移波長領域を有し，
　前記紫外光反射構造体は，少なくとも前記紫外波長領域の一部を反射して前記紫外波長領域の阻止領域に向かう遷移波長領域を有し，
　前記光吸収構造体のうち前記近赤外吸収波長領域に対応したピークと前記近赤外光反射構造体の前記近赤外波長領域の阻止領域へ向かう遷移領域とが実質的に重なり，
　前記光吸収構造体の前記紫外吸収波長領域に対応したピークと，前記紫外光反射構造体の前記紫外波長領域の阻止領域に向かう遷移領域とが実質的に重なることを特徴とする紫外赤外線カット用光学フィルタ。」
　イ　訂正事項２
　特許請求の範囲の請求項５の記載を削除する（請求項５の記載を引用して記載された請求項６〜請求項９についても，請求項５の記載の削除に伴い連動して訂正する。）。
　ウ　訂正事項３
　特許請求の範囲の請求項６の記載を，
「　前記透明基板に対し何れの面からも前記光吸収構造体に入射する紫外線を遮蔽するようにしたことを特徴とする請求項１〜
４
と訂正する（請求項６の記載を引用して記載された請求項７〜請求項９についても，請求項６の記載の訂正に伴い連動して訂正する。）。
　なお，訂正事項３による訂正前の特許請求の範囲の請求項６の記載は，次のとおりである。
「　前記透明基板に対し何れの面からも前記光吸収構造体に入射する紫外線を遮蔽するようにしたことを特徴とする請求項１〜５の何れか１つの請求項に記載の紫外赤外線カット用光学フィルタ。」
　エ　訂正事項４
　特許請求の範囲の請求項７の記載を，
「　撮像光学系と，請求項１〜
４，
のいずれか１つの請求項
と訂正する（請求項７の記載を引用して記載された請求項８及び請求項９についても，請求項７の記載の訂正に伴い連動して訂正する。）。
　なお，訂正事項４について，訂正請求書には「
何れか
いずれか
「　撮像光学系と，請求項１〜６に記載の紫外赤外線カット用光学フィルタと，前記撮像光学系に入射して前記紫外赤外線カット用光学フィルタを透過した光を電気信号に変換する撮像素子とから成ることを特徴とする撮像装置。」
　オ　訂正事項５
　特許請求の範囲の請求項８の記載を，
「　前記紫外赤外線カット用光学フィルタの前記光吸収構造体は前記
第１
と訂正する（請求項８の記載を引用して記載された請求項９についても，請求項８の記載の訂正に伴い連動して訂正する。）。
　なお，訂正事項５による訂正前の特許請求の範囲の請求項８の記載は，次のとおりである。
「　前記紫外赤外線カット用光学フィルタの前記光吸収構造体は前記遷移波長領域を有する前記近赤外光反射構造体よりも前記撮像素子側に配置したことを特徴とする請求項７に記載の撮像装置。」
　カ　訂正事項６
　明細書の段落【００１８】の記載を，
「　上記目的を達成するための本発明に係る紫外赤外線カット用光学フィルタは，透明基板上に積層される複数の構造体を備え，該複数の構造体は，光吸収構造体と近赤外光反射構造体と紫外光反射構造体とを有し　前記光吸収構造体は，色素を含有する１つの層構造によって形成され，
近赤外波長領域のうち近赤外吸収波長領域の光を吸収するとともに，紫外波長領域のうち紫外吸収波長領域の光を吸収する光吸収特性を有し，当該光吸収特性は光吸収の極大点であるピークを含み，かつ前記近赤外吸収波長領域内における光吸収の極大点であるピークの光吸収率は前記紫外吸収波長領域における光吸収の極大点であるピークの光吸収率よりも大きく，
可視光を透過するための透過波長領域と，少なくとも前記近赤外波長領域の一部の光を反射して前記近赤外波長領域の一部の光の通過を阻止する阻止領域との間にある第１遷移波長領域を有し，
可視光を透過するための透過波長領域と，少なくとも前記紫外波長領域の一部の光を反射して前記紫外波長領域の一部の光の通過を阻止する阻止領域との間にある第２遷移波長領域を有し，前記光吸収構造体の前記近赤外吸収波長領域と，前記近赤外光反射構造体の前記第１遷移波長領域とが重なっているとともに，前記近赤外吸収波長領域内における光吸収の極大点であるピークの波長が前記第１遷移波長領域に重なっていることで，前記光吸収構造体と前記近赤外光反射構造体とが協働して，前記第１遷移波長領域の光を減衰させ，前記光吸収構造体の前記紫外吸収波長領域と，前記紫外光反射構造体の前記第２遷移波長領域とが重なっているとともに，前記紫外吸収波長領域内における光吸収の極大点であるピークの波長が前記第２遷移波長領域に重なっていることで，前記光吸収構造体と前記紫外光反射構造体とが協働して，前記第２遷移波長領域の光を減衰させる
と訂正する。
　なお，訂正事項６による訂正前の明細書の段落【００１８】の記載は，次のとおりである。
「　上記目的を達成するための本発明に係る紫外赤外線カット用光学フィルタは，透明基板上に積層される複数の構造体を備え，該複数の構造体は，光吸収構造体と近赤外光反射構造体と紫外光反射構造体とを有し前記光吸収構造体は，色素を含有する１つの層構造によって形成され，近赤外波長領域を吸収する近赤外吸収波長領域に対応したピーク及び紫外波長領域を吸収する紫外吸収波長領域に対応したピークをそれぞれ有し，かつ前記近赤外吸収波長領域に対応したピークは前記紫外吸収波長領域に対応したピークよりも光吸収率が大きい光吸収特性を有し，前記近赤外光反射構造体は，少なくとも前記近赤外波長領域の一部を反射して前記近赤外波長領域の阻止領域へ向かう遷移波長領域を有し，前記紫外光反射構造体は，少なくとも前記紫外波長領域の一部を反射して前記紫外波長領域の阻止領域に向かう遷移波長領域を有し，前記光吸収構造体のうち前記近赤外吸収波長領域に対応したピークと前記近赤外光反射構造体の前記近赤外波長領域の阻止領域へ向かう遷移領域とが実質的に重なり，前記光吸収構造体の前記紫外吸収波長領域に対応したピークと，前記紫外光反射構造体の前記紫外波長領域の阻止領域に向かう遷移領域とが実質的に重なることを特徴とする。」
　２　訂正の適否
　以下，本件訂正請求による訂正前の請求項１を，「訂正前請求項１」といい，訂正前請求項１に係る発明を「訂正前発明１」という。また，他の請求項及び訂正後についても同様とする。
　(1) 特許法１２０条の５第４項について
　本件訂正請求は，特許法１２０条の５第４項に規定する一群の請求項である，〔請求項１〜請求項９〕ごとにされたものである。
　したがって，本件訂正請求は，特許法１２０条の５第４項の規定に適合する。
　(2) 訂正事項１について
　訂正事項１による訂正は，訂正前発明１の構成を明らかにするとともに，訂正後発明１を発明の詳細な説明の【００４６】，図４，図９等に記載された発明に整合させ，さらに，訂正前請求項１に記載された用語を統一する訂正である。この点は，請求項１の記載を引用して記載された請求項２〜９との関係においても同様である。
　したがって，訂正事項１による訂正は，特許法１２０条の５第２項ただし書３号に掲げる「明瞭でない記載の釈明」を目的とする訂正に該当する。また，訂正事項１による訂正は，願書に添付した明細書，特許請求の範囲又は図面に記載した事項の範囲内においてしたものであり，かつ，実質上特許請求の範囲を拡張し，又は変更するものでもない。
　(3) 訂正事項２について
　訂正事項２による訂正は，請求項を削除する訂正であり，この点は，請求項５の記載を引用して記載された請求項６〜請求項９との関係においても同様である。
　したがって，訂正事項２による訂正は，特許法１２０条の５第２項ただし書１号に掲げる「特許請求の範囲の減縮」を目的とする訂正に該当する。また，訂正事項２による訂正は，願書に添付した明細書，特許請求の範囲又は図面に記載した事項の範囲内においてしたものであり，かつ，実質上特許請求の範囲を拡張し，又は変更するものでもない。
　(4) 訂正事項３及び訂正事項４について
　訂正事項３及び訂正事項４による訂正は，訂正事項２による訂正と整合するように，請求項６及び請求項７の引用記載を訂正するものである。この点は，請求項６の記載を引用して記載された請求項７〜請求項９，及び請求項７の記載を引用して記載された請求項８及び請求項９との関係においても同様である。
　したがって，訂正事項３及び訂正事項４による訂正は，特許法１２０条の５第２項ただし書３号に掲げる「明瞭でない記載の釈明」を目的とする訂正に該当する。また，訂正事項３及び訂正事項４による訂正は，願書に添付した明細書，特許請求の範囲又は図面に記載した事項の範囲内においてしたものであり，かつ，実質上特許請求の範囲を拡張し，又は変更するものでもない。
　(5) 訂正事項５について
　訂正事項５による訂正は，訂正事項１による訂正と整合するように，請求項８に記載された用語を訂正するものである。この点は，請求項８の記載を引用して記載された請求項９との関係においても同様である。
　したがって，訂正事項５による訂正は，特許法１２０条の５第２項ただし書３号に掲げる「明瞭でない記載の釈明」を目的とする訂正に該当する。また，訂正事項５による訂正は，願書に添付した明細書，特許請求の範囲又は図面に記載した事項の範囲内においてしたものであり，かつ，実質上特許請求の範囲を拡張し，又は変更するものでもない。
　(6) 訂正事項６について
　まず，訂正事項６による訂正は，訂正事項１による訂正と整合するように，段落【００１８】の記載を訂正するものである。
　したがって，訂正事項６による訂正は，特許法１２０条の５第２項ただし書３号に掲げる「明瞭でない記載の釈明」を目的とする訂正に該当する。また，訂正事項６による訂正は，願書に添付した明細書，特許請求の範囲又は図面に記載した事項の範囲内においてしたものであり，かつ，実質上特許請求の範囲を拡張し，又は変更するものでもない。
　次に，訂正事項６は，訂正事項１による訂正との整合を図るものであるから，訂正事項６による訂正に係る請求項は，請求項１，及び請求項１の記載を引用して記載された，請求項２〜請求項４，請求項６〜請求項９である。これに対して，本件訂正請求は，特許法１２０条の５第４項に規定する一群の請求項である，〔請求項１〜請求項９〕ごとにされたものである。
　そうしてみると，本件訂正請求は，願書に添付した明細書の訂正に係る請求項を含む一群の請求項の全てについて行われたものである。
　(7) 特許異議申立人の意見について
　特許異議申立人は，概略，「前記光吸収構造体の前記紫外吸収波長領域と，前記紫外光反射構造体の前記第２遷移波長領域とが重なっているとともに，前記紫外吸収波長領域内における光吸収の極大点であるピークの波長が前記第２遷移波長領域に重なっていることで，前記光吸収構造体と前記紫外光反射構造体とが協働して，前記第２遷移波長領域の光を減衰させる」についての訂正は，特許法１２０条の５第９項で準用する同法１２６条５項に規定する要件を満たさないと主張する。
　しかしながら，上記訂正は，願書に添付した明細書，特許請求の範囲又は図面に記載された事項から自明な事項の範囲内においてしたものであるから，特許異議申立人の意見は採用できない。
　(8) 小括
　以上のとおりであるから，本件訂正請求による訂正は，特許法１２０条の５第２項１号及び３号に掲げる事項を目的とするものであり，かつ，同条９項において準用する同法１２６条５項及び６項の規定に適合する。また，本件訂正請求は，同法１２０条の５第４項及び同条９項において準用する同法１２６条４項の規定に適合する。
　したがって，訂正請求書に添付された訂正明細書及び特許請求の範囲のとおり，訂正後の請求項〔１〜９〕について訂正することを認める。
第３　取消理由についての判断
　１　本件特許発明について
　前記「第２」のとおり，本件訂正請求による訂正を認めることとなった。したがって，特許法１２８条の規定により，本件特許の特許請求の範囲の請求項１〜請求項４，請求項６〜請求項９に係る発明（以下，それぞれ「本件特許発明１」〜「本件特許発明４」，「本件特許発明６」〜「本件特許発明９」といい，総称して「本件特許発明」という。）は，本件訂正後の特許請求の範囲の請求項１〜請求項４，請求項６〜請求項９に記載された，次の事項により特定されるものである。
「【請求項１】
　透明基板上に積層される複数の構造体を備え，
　該複数の構造体は，光吸収構造体と近赤外光反射構造体と紫外光反射構造体とを有し
　前記光吸収構造体は，色素を含有する１つの層構造によって形成され，近赤外波長領域のうち近赤外吸収波長領域の光を吸収するとともに，紫外波長領域のうち紫外吸収波長領域の光を吸収する光吸収特性を有し，当該光吸収特性は光吸収の極大点であるピークを含み，かつ前記近赤外吸収波長領域内における光吸収の極大点であるピークの光吸収率は前記紫外吸収波長領域における光吸収の極大点であるピークの光吸収率よりも大きく，
　前記近赤外光反射構造体は，可視光を透過するための透過波長領域と，少なくとも前記近赤外波長領域の一部の光を反射して前記近赤外波長領域の一部の光の通過を阻止する阻止領域との間にある第１遷移波長領域を有し，
　前記紫外光反射構造体は，可視光を透過するための透過波長領域と，少なくとも前記紫外波長領域の一部の光を反射して前記紫外波長領域の一部の光の通過を阻止する阻止領域との間にある第２遷移波長領域を有し，
　前記光吸収構造体の前記近赤外吸収波長領域と，前記近赤外光反射構造体の前記第１遷移波長領域とが重なっているとともに，前記近赤外吸収波長領域内における光吸収の極大点であるピークの波長が前記第１遷移波長領域に重なっていることで，前記光吸収構造体と前記近赤外光反射構造体とが協働して，前記第１遷移波長領域の光を減衰させ，
　前記光吸収構造体の前記紫外吸収波長領域と，前記紫外光反射構造体の前記第２遷移波長領域とが重なっているとともに，前記紫外吸収波長領域内における光吸収の極大点であるピークの波長が前記第２遷移波長領域に重なっていることで，前記光吸収構造体と前記紫外光反射構造体とが協働して，前記第２遷移波長領域の光を減衰させることを特徴とする紫外赤外線カット用光学フィルタ。
【請求項２】
　前記紫外光反射構造体は前記近赤外光反射構造体との間に前記光吸収構造体を挟んで配置したことを特徴とする請求項１に記載の紫外赤外線カット用光学フィルタ。
【請求項３】
　前記近赤外光反射構造体の少なくとも１つは紫外線遮蔽機能を有することを特徴とする請求項１又は２に記載の紫外赤外線カット用光学フィルタ。
【請求項４】
　前記紫外光反射構造体は複数の無機薄膜を積層したことを特徴とする請求項１〜３の何れか１つの請求項に記載の紫外赤外線カット用光学フィルタ。
【請求項６】
　前記透明基板に対し何れの面からも前記光吸収構造体に入射する紫外線を遮蔽するようにしたことを特徴とする請求項１〜４の何れか１つの請求項に記載の紫外赤外線カット用光学フィルタ。
【請求項７】
　撮像光学系と，請求項１〜４，６のいずれか１つの請求項に記載の紫外赤外線カット用光学フィルタと，前記撮像光学系に入射して前記紫外赤外線カット用光学フィルタを透過した光を電気信号に変換する撮像素子とから成ることを特徴とする撮像装置。
【請求項８】
　前記紫外赤外線カット用光学フィルタの前記光吸収構造体は前記第１遷移波長領域を有する前記近赤外光反射構造体よりも前記撮像素子側に配置したことを特徴とする請求項７に記載の撮像装置。
【請求項９】
　前記撮像光学系中に，前記紫外赤外線カット用光学フィルタを駆動する駆動部材を備えた請求項７又は８に記載の撮像装置。」
　２　取消理由の概要
　本件訂正請求による訂正前の，本件特許１〜本件特許９に対して，平成２９年３月６日付けで特許権者に通知した取消理由の概要は，以下のとおりである。
　(1) 特許法３６条６項２号について
　請求項１には，「ピーク」と「遷移領域」の関係について，「実質的に重なり」と記載されている。したがって，訂正前発明１〜訂正前発明９は，明確であるということができない。
　したがって，本件特許１〜本件特許９は，特許法３６条６項２号に規定する要件を満たしていない特許出願に対してされたものであるから，取り消されるべきものである。
　(2) 特許法３６条６項１号について
　本件特許の発明の詳細な説明には，訂正前発明５のような構成を具備した「紫外赤外線カット用光学フィルタ」は記載されてない。したがって，訂正前発明５及び訂正前発明６〜訂正前発明９（訂正前発明５の構成を含むもの）は，発明の詳細な説明に記載したものであるということができない。
　したがって，本件特許６〜本件特許９は，特許法３６条６項１号に規定する要件を満たしていない特許出願に対してされたものであるから，取り消されるべきものである。
　(3) 特許法１７条の２第３項について
　前記(1)のとおりであるから，訂正前発明１の「前記光吸収構造体の前記紫外吸収波長領域に対応したピークと，前記紫外光反射構造体の前記紫外波長領域の阻止領域に向かう遷移領域とが実質的に重なる」構成については，本件特許の願書に最初に添付した明細書，特許請求の範囲又は図面に記載した範囲内の事項であるということができない。訂正前発明２〜訂正前発明９についても同様である。
　したがって，本件特許１〜本件特許９は，特許法１７条の２第３項に規定する要件を満たしていない補正をした特許出願に対してされたものであるから，取り消されるべきものである。
　３　取消理由に対する当合議体の判断
　(1) 特許法３６条６項２号について
　本件訂正請求により，請求項１の「実質的に重なり」という記載は改められ，訂正後請求項１に記載のとおり，「ピーク」と「遷移領域」の関係は明らかとなった。
　本件特許１〜本件特許９は，特許法１２８条の規定により，もはや同法３６条６項２号に規定する要件を満たしていない特許出願に対してされたものであるということができない。
　(2) 特許法３６条６項１号について
　本件訂正請求により，請求項５は削除された。また，訂正後請求項６〜訂正後請求項９は，請求項５を引用しないものとなった。
　本件特許６〜本件特許９は，特許法１２８条の規定により，もはや同法３６条６項１号に規定する要件を満たしていない特許出願に対してされたものであるということができない。
　(3) 特許法１７条の２第３項について
　本件訂正請求により，請求項１の「実質的に重なり」という記載は改められ，訂正後請求項１に記載のとおり，「ピーク」と「遷移領域」の関係は明らかとなった。
　本件特許１〜本件特許９は，特許法１２８条の規定により，もはや同法１７条の２第３項に規定する要件を満たしていない補正をした特許出願に対してされたものであるということができない。
　４　取消理由通知において採用しなかった特許異議申立の理由（進歩性）について
　(1) 甲１の記載
　本件特許の出願前に頒布された刊行物である甲１（特表２００５−５２６９７６号公報）には，以下の記載がある。なお，下線は当合議体が付したものである。
　ア　「【特許請求の範囲】
【請求項１】
　ディテクターと併用するのに好適なフィルターであって，
　
近赤外波長の帯域にわたり法線入射光を実質的に反射しかつ可視波長にわたり法線入射光を実質的に透過する干渉素子と，
　
可視波長にわたり非一様に光を吸収する吸収素子と，を備え，
　
ここで，該吸収素子は，高分子マトリックス中に分散された着色剤を含み，
　該
ディテクターと組み合わせたときに，相対応答がヒトの眼の視覚応答とほぼ同じであるディテクターシステムを生成するフィルター
　イ　「【０００２】
　本発明は，所望のスペクトル応答を生成するフィルターを備えたディテクターシステムに関する。より詳細には，本発明は，ヒトの眼の分光応答度と実質的に一致する分光応答度を有するディテクターシステムおよびそのためのフィルターに関する。」
　ウ　「【背景技術】
【０００３】
　エレクトロニックディテクターは，情景または被写体の輝度の測定値を提供するために，写真および関連分野で長い間使用されてきた。測定値が少なくともそのままでヒトの眼により感知される輝度を表すように，硫化カドミウム光電セルのようなディテクターが使用されてきた。これらのディテクターの分光応答度は，可視領域にピークを有し，少なくともおおざっぱにいえば，ヒトの眼の応答度とほぼ同じである。しかしながら，そのようなディテクターは，多くの用途に理想的であるとはいえない特性を有する。
【０００４】
　つい最近では，ヒトの眼の応答とより良好な一致を示すように，光フィルターが他のディテクターと併用されるようになってきている。
…（省略）…
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
　ヒトの眼の応答をシミュレートすることのできる他のディテクターシステム，とりわけ，良好な帯域外除去性（すなわち，近赤外および紫外の波長における応答が無視できる），可視波長における所望の応答への良好な一致性，および良好な耐候性を備えたシステムに対する必要性が依然として存在する。」
　エ　「【課題を解決するための手段】
【００１０】
　本出願は，組み合わされたフィルター／ディテクターシステムがヒトの眼の応答とよく一致するように，ディテクターの前に配置されたフィルターが光を選択的に透過する，ディテクターシステムを開示する。フィルターは，干渉素子と吸収素子とを備える。吸収素子は，好ましくは，１種以上の特別に調製された顔料または他の着色剤を分散してなる高分子フィルムである。また，干渉素子は，好ましくは高分子であり，いくつかの実施形態では，共押出ポリマー多層フィルムである。干渉素子は，法線入射時，可視領域において高い平均透過率（少なくとも約５０％，より好ましくは少なくとも約７０％）を提供し，かつ近赤外領域中に伸びた反射帯域全体にわたり低い透過率（約５％未満，より好ましくは約２％未満または１％未満）を提供する。干渉素子の反射帯域は，近赤外光に対するディテクターシステムの感度が無視できるように，近赤外中に十分遠くまで伸びる。吸収素子は，可視域で非一様な透過（好ましくは，干渉素子と組み合わせたときにスペクトルの可視部においてほぼヒトの眼の応答をもつディテクターシステムを提供するのに好適な鐘形特性を有する透過）を提供する１種以上の所定の着色剤を有する。
【００１１】
　フィルターは，シリコンフォトダイオードのような半導体フォトダイオードと併用すべく作製することができる。高分子干渉フィルムに適用されるかまたはディテクター表面に適用される吸収性フィルムを含めて，さまざまなフィルター構成を開示する。吸収素子はまた，好適な接着剤層により干渉素子に固着させることができるか，または干渉素子の１層以上の個別層中に組み込むことができる。」
　オ　「【００１６】
　図１は，ディテクターシステム１００の実施形態を示している。ディテクターシステムは，フィルターアセンブリー１１０とディテクターアセンブリー１１２とを備える。フィルターアセンブリー１１０は，少なくとも２つのアパーチャー１１６，１１８を有するフィルターハウジング１１４を備える。アパーチャー１１６は，フィルター素子１２０を収容するように構成される。一構成では，ハウジング１１４は，フィルター材料の既存のストリップの周りに射出成形された不透過性熱可塑性材料で作製される。」
（当合議体注：図１は以下の図である。）
　カ　「【００１９】
　図２に示されるように，フィルター素子１２０は，好ましくは，２種の主コンポーネント，すなわち，（１）反射干渉素子１２１ａと（２）吸収素子１２１ｂとから構成された比較的薄いポリマー系フィルムである。素子は，好ましくは，設計に柔軟性をもたせるために，かつ低重量および小サイズとの適合性をもたせるために，フィルムまたはフィルムラミネートの形態をとる。これら観点は，いくつかのディテクターシステム用途で重要な考慮点になりうる。これに関連して，「フィルム」とは，その厚さが一般的には約０．２５ｍｍ（１０００分の１０インチまたは「ミル」）以下である伸長された光学体を意味する。いくつかの場合には，フィルムは，好適な反射性もしくは透過性を有する剛性基材のような他の光学体または他のフィルムに接合または適用することができる。フィルムはまた，自立性であるかまたは他の可撓性層に接合されているかにかかわらず，物理的に可撓性の形態をとることができる。本明細書中で使用される「フィルム体」という用語は，単独であるかまたは他のコンポーネントと組み合わされているかにかかわらず，フィルムを意味するものとする。
【００２０】
　素子１２１ａ，１２１ｂはいずれも，アパーチャー１１６を完全に満たし，ディテクターアクティブ領域１２２を覆うかまたは他の形でその上に延在する。アパーチャーを使用しないことも，ディテクターアクティブ領域よりも小さいアパーチャー使用することも可能である。いくつかの実施形態では，素子１２１ａ，１２１ｂは，互いに共延的でありうる。他の実施形態では，吸収素子１２１ｂは，ディテクターのアクティブ領域１２２上に直接コーティングしうるか，または干渉素子１２１ａがアパーチャー１１６を覆った状態で所定の位置にディテクターを保持する光透過性ポッティング材料中に混合しうる。アパーチャーを使用するかしないかにかかわらず，コンポーネントは，ディテクターアクティブ領域に当たる実質的にすべて光が干渉素子と吸収素子の両方を透過した光となるように配置される。
【００２１】
　好ましくは，干渉素子１２１ａは，典型的には数十層もしくは数百層の交互ポリマー層の共押出を行った後，場合により，多層押出物を１つ以上の多重化ダイに通し，次に，押出物を延伸するかもしくは他の方法で配向させて最終フィルムを形成することより作製される多層高分子フィルム（またはフィルム体）である。得られるフィルムは，主としてスペクトルの近赤外領域に置かれた反射帯域を提供するように厚さおよび屈折率の調節がなされた典型的には数十層もしくは数百層の個別マイクロ層から構成される。」
（当合議体注：図２は以下の図である。）
　キ　「【００２７】
　干渉素子１２１ａは，他の選択肢として，マイクロ層（たとえば，高屈折率マイクロ層用にはＴｉＯ2および低屈折率マイクロ層用にはＳｉＯ2）の屈折率が等方的であるより多くの従来の真空堆積無機多層フィルムを備えることができる。
…（省略）…
【００２９】
　どの技術を選択するかに関係なく，干渉素子１２１ａは，主として近赤外領域にある分光帯域で法線入射光を実質的に反射し，かつ可視波長領域のほとんどまたは実質的にすべてにわたり法線入射光を実質的に透過するように作製される。干渉素子は，好ましくは，可視領域において少なくとも約５０％，より好ましくは少なくとも約７０％の平均透過率を提供し，かつ近赤外領域中に伸びた反射帯域全体にわたり約５％未満，より好ましくは約２％未満または１％未満の透過率を提供する。シリコンフォトダイオードを利用するディテクターシステムでは，５％，２％，および１％の透過率限界は，好ましくは，約８００ｎｍ〜約１１００ｎｍ，または約７００ｎｍ〜約１２００ｎｍの範囲が対象となる。多くの場合，干渉素子の吸収は無視できるので，所与の波長の反射パーセントと透過パーセントとを合せると約１００％になる。
【００３０】
　フィルター素子１２０の他の主コンポーネントは，吸収素子１２１ｂである。これもまた，好ましくは，製造を容易にするためにかつ設計に柔軟性をもたせるために，ポリマー系のフィルムまたはフィルム体である。吸収素子１２１ｂは，１種以上の着色剤を含有する。着色剤としては，可視波長にわたり非一様に吸収する顔料または染料を挙げることができる。さらに，好適な着色剤はヒトの眼の感度（たとえば，少なくとも可視波長領域にわたる標準的明所視視覚応答Ｖ（λ））とよく一致する効果的な応答度を有するディテクターシステムを提供しうることが判明している。」
　ク　「【００３９】
　好ましくは，吸収素子１２１ｂは，目標関数とよく一致する可視領域の性能を有するディテクターシステムに提供する主要なシステムコンポーネントである。干渉素子１２１ａは，これとは対照的に，その透過率が可視域全体にわたり比較的一定しているので，可視領域におけるディテクターシステムの性能にそれほど影響を及ぼさない。しかしながら，干渉素子１２１ａは，望ましくは，近赤外領域で主要な影響を及ぼすことにより，その波長領域におけるディテクターアセンブリー１１２の高い感度を打ち消すブロッキング機能（低透過率，高反射率）を提供する。この構成の利点は，近赤外ブロッキングと，
ヒトの眼の応答に一致させるのに必要な可視領域における正確な変動（鐘形関数）
吸収素子の透過スペクトルは，干渉素子の透過スペクトルよりも，入射角の関数として波長シフトを起こしにくい。
したがって，可視領域の鐘形関数を主として吸収コンポーネントに関連づけ，可視域以外（近赤外および場合により紫外）の光の除去を主として干渉リフレクターに関連づけることが有利である。
【００４０】
　図３は，ディテクターシステム１００の全分光応答への種々のシステムコンポーネントの寄与を理想化された形で示している。
曲線２００は，典型的なシリコンフォトダイオードディテクターの分光応答度
を表し
吸収素子
の透過パーセントを表
曲線２０２は，可視領域でほぼ鐘形応答を提供
法線入射時における干渉素子の透過パーセントを表す曲線２０４は，短波長帯域端２０４ａおよび長波長帯域端２０４ｂにより境界づけられた強い反射帯域を有
反射帯域の高反射率は，帯域のほとんどにわたり，低い透過パーセント
を提供
半値透過点または半値反射点として測定される帯域端２０４ａは
可視領域に近接し
位置する
【００４１】
　半値透過点または半値反射点として測定される長波長帯域端２０４ｂは，好ましくは，ディテクターの応答が減少する長波長領域に近接し，そしてディテクター応答度が赤外領域中にどの程度まで伸びているかに依存して，斜入射光による角度シフトを許容し製造許容差に適合するように，好ましくは，ディテクター応答度が無視できるようになる波長よりも少なくとも約５０ｎｍ長波長側に置かれる。シリコンフォトダイオードの場合，帯域端２４０ｂは，好ましくは約１１５０〜１２００ｎｍの間，場合により約１２００〜１３５０ｎｍに置かれる。しかしながら，干渉素子が１／４波長スタックまたは顕著な三次反射を生成する他の構造を含んでいれば，より高次の反射帯域が紫外領域に存在し（図３に部分的に示されている），長波長帯域端２４０ｂが約１２００ｎｍ以上に位置すれば，可視スペクトルの青色端に部分的に入り込む可能性があることに留意されたい。三次以上の反射帯域は，紫外領域におけるディテクターシステム応答を許容しうる程度に低いレベルに保持するのに役立ちうる（吸収素子がその波長領域で顕著な透過率を有する場合）。
…（省略）…
【００４３】
　
ディテクターシステム応答
は，曲線２０６により表される
　ケ　「【００５２】
　素子１２１ａ，１２１ｂが，異なるコンポーネントとして保持される場合，吸収素子は，光路中で干渉素子の前に配置することができるか（すなわち，ディテクターアクティブ領域に向かって伝播する光は，干渉素子を透過する前に吸収素子を透過する），またはその逆に配置することができる。吸収素子が干渉素子の前にある場合，ディテクターシステムにより反射される光が少なくなるので，迷光が減少する。干渉素子が吸収素子の前にある場合，光フィルターに吸収される光の全量が少なくなるので，長寿命化に有益でありうる。」
　コ　「【図面の簡単な説明】
【００８０】
【図１】ディテクターシステムの斜視図である。
【図２】ディテクターシステム用のフィルターアセンブリーの断面図である。ここで，ディテクターアセンブリーは，完全に係合した状態でかつ仮想的に示されている。
【図２ａ】図２に類似するがそれとは別のフィルターアセンブリーの断面図である。
【図２ｂ】図２に類似するがそれとは別のフィルターアセンブリーの断面図である。
【図３】
ディテクターシステムの種々のコンポーネントの相対分光透過または相対分光応答のグラフ
（当合議体注：図３は，以下の図である。）
　(2) 甲１発明
　甲１には，特許請求の範囲の請求項１に記載された「フィルター」をディテクターと組み合わせたディテクターシステムの分光応答が，図３に示されたものである，次の発明が記載されている（以下「甲１発明」という。）。
「　近赤外波長の帯域にわたり法線入射光を実質的に反射しかつ可視波長にわたり法線入射光を実質的に透過する干渉素子と，
　可視波長にわたり非一様に光を吸収する吸収素子と，を備え，
　ここで，該吸収素子は，高分子マトリックス中に分散された着色剤を含み，
　ディテクターと組み合わせたときに，相対応答がヒトの眼の視覚応答とほぼ同じであるディテクターシステムを生成するフィルターであって，
ディテクターシステムの種々のコンポーネントの相対分光透過または相対分光応答のグラフは，下記のとおりであり，
　ここで，
曲線２００は，典型的なシリコンフォトダイオードディテクターの分光応答度を表し，
　吸収素子の透過パーセントを表す曲線２０２は，可視領域でほぼ鐘形応答を提供し，
　法線入射時における干渉素子の透過パーセントを表す曲線２０４は，短波長帯域端２０４ａおよび長波長帯域端２０４ｂにより境界づけられた強い反射帯域を有し，反射帯域の高反射率は，帯域のほとんどにわたり，低い透過パーセントを提供し，半値透過点または半値反射点として測定される帯域端２０４ａは可視領域に近接して位置し，
ディテクターシステム応答は，曲線２０６により表される，
　フィルター。
グラフ：
」
　(3) 対比
　本件特許発明１と甲１発明を対比すると，以下のとおりである。
　ア　光吸収構造体及び近赤外光反射構造体
　甲１発明の「フィルター」は，「可視波長にわたり非一様に光を吸収する吸収素子」を備える。また，甲１発明の「フィルター」は，「近赤外波長の帯域にわたり法線入射光を実質的に反射しかつ可視波長にわたり法線入射光を実質的に透過する干渉素子」を備える。
　ここで，甲１発明の「吸収素子」及び「干渉素子」は，それぞれ，本件特許発明１の「光吸収構造体」及び「近赤外光反射構造体」に相当する。また，甲１発明の「フィルター」と本件特許発明１の「紫外赤外線カット用光学フィルタ」は，「複数の構造体を備え，該複数の構造体は，光吸収構造体と近赤外光反射構造体」「を有し」という構成において共通する。
　イ　光吸収構造体の光学特性
　まず，甲１発明の「吸収素子」は，「高分子マトリックス中に分散された着色剤を含」むものである。したがって，甲１発明の「吸収素子」と本件特許発明１の「光吸収構造体」は，「色素を含有する」「構造によって形成され」という構成において共通する。
　次に，甲１発明のグラフは，「ディテクターシステムの種々のコンポーネントの相対分光透過または相対分光応答のグラフ」であるから，単なる模式図とは異なり，「波長（ｎｍ）」と「相対的な透過率または応答」の関係を定量的に把握可能なグラフといえる。
　そこで，甲１発明のグラフについてみると，甲１発明の「吸収素子」は，概ね，波長６００ｎｍ〜８００ｎｍにかけて，相対的な透過率が低下する波長領域，すなわち，光を吸収する波長領域を有する。また，甲１発明の「吸収素子」は，概ね波長２００ｎｍ〜５００ｎｍにかけて，相対的な透過率が低下する波長領域，すなわち，光を吸収する波長領域を有する。そして，甲１発明の「吸収素子」は，これら波長領域において，光吸収の極大点，すなわちピークを有する。そうしてみると，甲１発明の「吸収素子」は，本件特許発明１でいう「近赤外波長領域のうち近赤外吸収波長領域の光を吸収するとともに，紫外波長領域のうち紫外吸収波長領域の光を吸収する光吸収特性を有し，当該光吸収特性は光吸収の極大点であるピークを含」むものである。
　ウ　遷移領域の重なり（近赤外吸収波長領域）
　甲１発明の「フィルター」において，「法線入射時における干渉素子の透過パーセントを表す曲線２０４は，短波長帯域端２０４ａおよび長波長帯域端２０４ｂにより境界づけられた強い反射帯域を有し，反射帯域の高反射率は，帯域のほとんどにわたり，低い透過パーセントを提供し，半値透過点または半値反射点として測定される帯域端２０４ａは可視領域に近接して位置する」。また，甲１発明のグラフからは，甲１発明の「干渉素子」が，「半値透過点または半値反射点として測定される帯域端２０４ａ」を境に，短波長側（可視光側）で高い光の透過パーセントを有し長波長側（近赤外側）で低い光の透過パーセントを有する特性を看取できる。
　そうしてみると，甲１発明の「干渉素子」は，本件特許発明１でいう「可視光を透過するための透過波長領域と，少なくとも前記近赤外波長領域の一部の光を反射して前記近赤外波長領域の一部の光の通過を阻止する阻止領域との間にある第１遷移波長領域を有し」ている。
　加えて，前記イで述べたとおり，甲１発明の「吸収素子」は，波長６００ｎｍ〜８００ｎｍの波長領域において，光吸収の極大点，すなわちピークを有するところ，甲１のグラフからは，このピークと「半値透過点または半値反射点として測定される帯域端２０４ａ」近傍の波長領域が重なっている様子が看取できる。さらに，甲１のグラフからは，「吸収素子の透過パーセントを表す曲線２０２」と「干渉素子の透過パーセントを表す曲線２０４」の協働により，「半値透過点または半値反射点として測定される帯域端２０４ａ」における「曲線２０６により表される」「ディテクターシステム応答」が減衰させられている様子が看取できる。
　そうしてみると，甲１発明の「フィルター」と本件特許発明１の「紫外赤外線カット用光学フィルタ」は，「前記光吸収構造体の前記近赤外吸収波長領域と，前記近赤外光反射構造体の前記第１遷移波長領域とが重なっているとともに，前記近赤外吸収波長領域内における光吸収の極大点であるピークの波長が前記第１遷移波長領域に重なっていることで，前記光吸収構造体と前記近赤外光反射構造体とが協働して，前記第１遷移波長領域の光を減衰させ」という構成において一致する。
　エ　遷移領域の重なり（紫外吸収波長領域）
　前記ウと同様の議論により，甲１発明の「干渉素子」は，本件特許発明１でいう「可視光を透過するための透過波長領域と，少なくとも前記紫外波長領域の一部の光を反射して前記紫外波長領域の一部の光の通過を阻止する阻止領域との間にある第２遷移波長領域を有し」ている。また，甲１発明の「フィルター」と本件特許発明１の「紫外赤外線カット用光学フィルタ」は，「前記光吸収構造体の前記紫外吸収波長領域と」，「前記第２遷移波長領域とが重なっているとともに，前記紫外吸収波長領域内における光吸収の極大点であるピークの波長が前記第２遷移波長領域に重なっていることで」，「前記第２遷移波長領域の光を減衰させ」という構成において一致する。
　オ　紫外赤外線カット用光学フィルタ
　甲１発明のグラフを参照すると，甲１発明の「フィルター」は，概ね４００ｎｍ以下の波長領域及び８００ｎｍ以上の波長領域において，低い透過率を具備する様子を看取できる。したがって，甲１発明の「フィルター」は，紫外線及び赤外線をカットするフィルターということができるから，甲１発明の「フィルター」は，本件特許発明１の「紫外赤外線カット用光学フィルタ」に相当する。
　(4) 一致点及び相違点
　ア　一致点
　本件特許発明１と甲１発明は，次の構成で一致する。
「　複数の構造体を備え，
　該複数の構造体は，光吸収構造体と近赤外光反射構造体を有し
　前記光吸収構造体は，色素を含有する構造によって形成され，近赤外波長領域のうち近赤外吸収波長領域の光を吸収するとともに，紫外波長領域のうち紫外吸収波長領域の光を吸収する光吸収特性を有し，当該光吸収特性は光吸収の極大点であるピークを含み，
　前記近赤外光反射構造体は，可視光を透過するための透過波長領域と，少なくとも前記近赤外波長領域の一部の光を反射して前記近赤外波長領域の一部の光の通過を阻止する阻止領域との間にある第１遷移波長領域を有し，
　可視光を透過するための透過波長領域と，少なくとも前記紫外波長領域の一部の光を反射して前記紫外波長領域の一部の光の通過を阻止する阻止領域との間にある第２遷移波長領域を有し，
　前記光吸収構造体の前記近赤外吸収波長領域と，前記近赤外光反射構造体の前記第１遷移波長領域とが重なっているとともに，前記近赤外吸収波長領域内における光吸収の極大点であるピークの波長が前記第１遷移波長領域に重なっていることで，前記光吸収構造体と前記近赤外光反射構造体とが協働して，前記第１遷移波長領域の光を減衰させ，
　前記光吸収構造体の前記紫外吸収波長領域と，前記第２遷移波長領域とが重なっているとともに，前記紫外吸収波長領域内における光吸収の極大点であるピークの波長が前記第２遷移波長領域に重なっていることで，前記第２遷移波長領域の光を減衰させる紫外赤外線カット用光学フィルタ。」
　イ　相違点
　本件特許発明１と甲１発明は，以下の点で相違する，又は，一応相違する。
（相違点１）
　本件特許発明１の「紫外赤外線カット用光学フィルタ」は，「透明基板上に積層される」複数の構造体を備えるのに対して，甲１発明の「フィルター」は，「透明基板上に積層される」複数の構造体を備えるものであるか，一応，明らかではない点。
（相違点２）
　本件特許発明１の「紫外赤外線カット用光学フィルタ」は，「紫外光反射構造体」を有し，この「紫外光反射構造体」が，第２遷移波長領域を有し，「前記光吸収構造体と前記紫外光反射構造体とが協働して」第２遷移波長領域の光を減衰させているのに対して，甲１発明の「フィルター」は，「干渉素子」が「紫外光反射構造体」の機能を兼ねている点。
（相違点３）
　本件特許発明１の「光吸収構造体」は，色素を含有する「１つの層」構造によって形成されているのに対して，甲１発明の「吸収素子」は，色素を含有する「１つの層」構造によって形成されたものであるか，一応，明らかではない点。
　また，本件特許発明１の「光吸収構造体」は，「前記近赤外吸収波長領域内における光吸収の極大点であるピークの光吸収率は前記紫外吸収波長領域における光吸収の極大点であるピークの光吸収率よりも大きく」という構成を具備するのに対して，甲１発明の「吸収素子」は，この構成を具備しない（近赤外吸収波長領域のピークと紫外吸収波長領域のピークの大小関係が，逆である）点。
　(5) 判断
　事案に鑑みて，相違点３について判断する。
　甲１発明の「吸収素子の透過パーセントを表す曲線２０２は，可視領域でほぼ鐘形応答を提供」するように設計されるものである。また，「鐘形応答」に関して，甲１の段落【００３９】には，「ヒトの眼の応答に一致させるのに必要な可視領域における正確な変動（鐘形関数）」と記載されている。
　そうしてみると，甲１発明の「吸収素子」の「鐘形応答」は，「ヒトの眼の応答に一致させるのに必要な可視領域における正確な変動（鐘形関数）」に対応して設計されたものである。したがって，当業者が甲１発明の「吸収素子の透過パーセントを表す曲線２０２」を，相違点３に係る「前記近赤外吸収波長領域内における光吸収の極大点であるピークの光吸収率は前記紫外吸収波長領域における光吸収の極大点であるピークの光吸収率よりも大きく」したものとするためには，何らかの積極的な動機付けが必要というべきである。
　しかしながら，甲１には，甲１発明の「吸収素子の透過パーセントを表す曲線２０２」を，相違点３に係る「前記近赤外吸収波長領域内における光吸収の極大点であるピークの光吸収率は前記紫外吸収波長領域における光吸収の極大点であるピークの光吸収率よりも大きく」したものとすることについて，記載も示唆もない。
　かえって，甲１の段落【００３９】には，「吸収素子の透過スペクトルは，干渉素子の透過スペクトルよりも，入射角の関数として波長シフトを起こしにくい。」との利点とともに，「したがって，可視領域の鐘形関数を主として吸収コンポーネントに関連づけ，可視域以外（近赤外および場合により紫外）の光の除去を主として干渉リフレクターに関連づけることが有利である。」と記載されている。
　このような甲１の記載を勘案すると，甲１発明に接した当業者が，甲１発明の「吸収素子の透過パーセントを表す曲線２０２」を，相違点３に係る「前記近赤外吸収波長領域内における光吸収の極大点であるピークの光吸収率は前記紫外吸収波長領域における光吸収の極大点であるピークの光吸収率よりも大きく」したものとすることには，阻害要因があるというべきである。
　(6) 特許異議申立人の主張について
　特許異議申立人は，光吸収構造体の色素として周知であるフタロシアニン系色素を指摘し，甲１発明において相違点３に係る構成を克服することは容易である旨，主張する（特許異議申立書の２３頁１６行〜２４頁１２行，特許異議申立人意見書の８頁９〜１５行）。
　しかしながら，前記(5)のとおりであるから，甲１発明に基づいて相違点３に係る構成を克服することが容易であるとすることはできない。
　なお，甲１発明が前提とする撮像素子は，シリコンＰＩＮフォトダイオードディテクターであり（【００６５】），通常の撮像素子よりも近赤外波長領域の感度が高いものである。したがって，仮に，甲１発明が前提とする撮像素子を，通常の撮像素子に替えた場合を想定したとしても，「前記近赤外吸収波長領域内における光吸収の極大点であるピークの光吸収率」は，小さい方に修正されるのみである。
　(7) 小括
　したがって，本件特許発明１は，甲１発明に基づいて，当業者が容易に発明できたものであるということはできない。
　(8) 本件特許発明２〜本件特許発明４，本件特許発明６〜本件特許発明９について
　本件特許発明２〜本件特許発明４，本件特許発明６〜本件特許発明９は，本件特許発明１の構成に対して，さらに他の発明特定事項を加えた発明である。
　したがって，本件特許発明１と同様の理由により，本件特許発明２〜本件特許発明４，本件特許発明６〜本件特許発明９も，甲１発明に基づいて，当業者が容易に発明できたものであるということはできない。
　５　取消理由通知において採用しなかった他の特許異議申立理由について
　(1) 特許異議申立人は，特許請求の範囲の請求項６の「前記透明基板に対し何れの面からも前記光吸収構造体に入射する紫外線を遮蔽するようにした」の記載を指摘して，本件特許６〜本件特許９は，特許法３６条６項２号に規定する要件を満たしていない特許出願に対してされたものであると主張する。
　しかしながら，本件特許発明は「透明基板上に積層される複数の構造体を備え」た「紫外赤外線カット用光学フィルタ」である。したがって，請求項６の上記記載が，入射する紫外線の方向を，透明基板の面を基準にして特定したものであることは，当業者において明らかである。また，「紫外線を遮蔽するようにした」との機能的記載が，本件特許発明の各構造体の配置が「紫外線を遮蔽するようにした」関係にあることを示すことも明らかである。
　したがって，本件特許６〜本件特許９は，特許法３６条６項２号に規定する要件を満たしていない特許出願に対してされたものであるということはできない。
　(2) 特許異議申立人は，本件特許の発明の詳細な説明には，本件特許発明の「紫外赤外線カット用光学フィルタ」へ入射する光の入射角の条件について，何らの記載も示唆もないと指摘して，本件特許は，特許法３６条４項１号に規定する要件を満たしていない特許出願に対してされたものであると主張する。
　しかしながら，本件特許の発明の詳細な説明には，本件特許発明の「紫外赤外線カット用光学フィルタ」について明確に説明されている。そして，当業者は，本件特許発明の「紫外赤外線カット用光学フィルタ」を製造することができ，また，本件特許発明の「紫外赤外線カット用光学フィルタ」を利用することができる。
　したがって，本件特許は，特許法３６条４項１号に規定する要件を満たしていない特許出願に対してされたものであるということはできない。
　(3) 特許異議申立人は，特許請求の範囲の請求項１の「紫外吸収波長領域に対応したピーク」の記載を指摘して，本件特許は，願書に最初に添付した明細書，特許請求の範囲又は図面の範囲内でしたものであるということができないと主張する。
　しかしながら，本件訂正請求による訂正は認められることとなり，特許異議申立人が指摘する上記記載は，発明の詳細な説明の【００４６】，図４，図９等に記載された発明と整合するものとされた。
　したがって，本件特許は，特許法１７条の２第３項に規定する要件を満たしていない補正をした特許出願に対してされたものであるということはできない。
第４　まとめ
　以上のとおり，取消理由通知に記載した取消理由及び特許異議申立書に記載した特許異議申立理由によっては，本件特許１〜本件特許４，本件特許６〜本件特許９を取り消すことはできない。また，他に本件特許１〜本件特許４，本件特許６〜本件特許９を取り消すべき理由を発見しない。したがって，本件特許１〜本件特許４，本件特許６〜本件特許９は，特許法１１３条１項各号のいずれかに該当すると認めない。
　そして，本件特許５は削除された。
　よって，結論のとおり決定する。
【異議決定日】
平成２９年７月２４日（２０１７．７．２４）
【訂正の要旨】
審決（決定）の【理由】欄参照。
（５４）【発明の名称】
紫外赤外線カット用光学フィルタ
　【技術分野】
　【０００１】
　本発明は、所定の波長領域の光の透過を制限する紫外赤外線カット用光学フィルタに関するものである。
　【背景技術】
　【０００２】
　ビデオカメラ等の撮像装置に使用される固体撮像素子は、人眼の感度特性に対応させるために、分光透過率等の光学特性を調節するフィルタと組み合わせて使用されることがある。具体的には、近赤外線カットフィルタや紫外線カットフィルタ、又はこれらを１枚のフィルタで実現した紫外赤外線カットフィルタ等がある。
　【０００３】
　これらの光学フィルタは所望の波長領域の光の透過を制限するために、光学フィルタの基材内に特定の波長の光を吸収する材料を練り込んだり、基材上に塗布したりすることにより特定の波長の光を吸収している。このような吸収タイプの光学フィルタとしては、特許文献１〜４に示すように、金属イオンや色素等を基材に練り込んだり、樹脂バインダ中に特定波長の光を吸収する特性を有する色素等を分散させた有機薄膜を基材上に塗布する方法が提案されている。
　【０００４】
　また特許文献５には、基材上に屈折率の異なる２種類以上の薄膜を積層し、薄膜の干渉を利用し特定の波長の光を反射させるものが開示されている。この反射タイプの赤外線カットフィルタは、透過波長領域における透過率を高く、かつ平坦に作製可能なため色再現性が良く、また吸収タイプの赤外線カットフィルタと比較すると、薄く作製できると云う利点を有している。
　【０００５】
　反射タイプの光学フィルタは、真空蒸着法やＩＡＤ法、イオンプレーティング法、スパッタ法等により透明基板上に多層膜を積層することにより作製され、近年では軽量化や任意形状への加工等の要望に伴い、合成樹脂透明基板も用いられてきている。
　【０００６】
　特許文献６、７では、光学フィルタの薄型化のために、複数の薄膜の積層体である近赤外光反射構造体と、赤外波長領域に吸収帯を有する色素をバインダに分散させた有機薄膜による光吸収構造体とを組合わせたハイブリッドタイプが提案されている。この構成により、反射構造体の赤外波長領域の反射率を小さく設計することができるため、反射構造体の積層数が少なくなり、薄型化を達成することができる。
　【先行技術文献】
　【特許文献】
　【０００７】
　【特許文献１】特開２００１−１３３６２３号公報
　【特許文献２】特開２００５−９９８２０号公報
　【特許文献３】特開２０００−７８７０号公報
　【特許文献４】特開２００２−３０３７２０号公報
　【特許文献５】特開２００３−１６１８３１号公報
　【特許文献６】特開２００６−３０１４８９号公報
　【特許文献７】特開２００８−５１９８５号公報
　【特許文献８】特開２００５−６２４３０号公報
　【特許文献９】特開２００５−１４８２８３号公報
　【特許文献１０】特開平５−１３４１１３号公報
　【発明の概要】
　【発明が解決しようとする課題】
　【０００８】
　特許文献５に示すような反射タイプの光学フィルタは構成上、光を透過させる透過波長領域と、透過を妨げる不透過波長領域と、透過波長領域から不透過波長領域へと遷移する遷移波長領域とを備えており、透過率と反射率が共に約５０％となる波長を有している。このうち、遷移波長領域の帯域は波長領域で０ｎｍ、つまり存在しないことが望ましいが、実際に実現は困難であるため、例えば５０ｎｍ程度の波長領域の間で、透過率を理想的には１００→０％、又は０→１００％へと変化させている。
　【０００９】
　上述の反射タイプのフィルタをビデオカメラ等の撮像光学系において使用すると、入射した入射光のうち、遷移波長領域に該当する波長の一部がフィルタを透過した後に撮像素子等で反射し、その一部が再度撮像素子側から光学フィルタ面に入射してしまう。反射タイプの光学フィルタにおいては、この再入射光の一部が再度光学フィルタで反射され、その反射光が撮像素子に再び到達することにより、ゴースト光が発生し、画像を劣化させてしまうことがある。
　【００１０】
　ゴースト光が問題となる場合には、吸収材料を使用した吸収タイプの光学フィルタを使用することが好ましい。銅イオンや赤外吸収機能を有する色素を用いた赤外線カットフィルタは反射率が小さく、反射タイプのようにゴースト光が問題となることは殆どない。しかし、色素のみで赤外波長領域光を遮蔽する吸収タイプの光学フィルタによって、カメラやビデオカメラ等の撮像光学系に利用できるような分光を得るものは、現在のところ開発されていない。
　【００１１】
　前述したように特許文献１〜４の吸収タイプの光学フィルタにおいては、吸収成分のみで７００〜１１００ｎｍ又は１２００ｎｍ程度まで近赤外光領域に渡る不透過波長領域の透過率を制限している。しかし、理想的な０％に近付けると、透過波長領域である可視波長領域の透過率まで低下したり、透過波長領域に大きなリップルが発生する問題がある。更に、吸収層に相応の厚みを必要とし、特に基板内に吸収剤を分散させたような場合には、概ね０．３〜０．５ｍｍ以上の厚みの基板が必要となり、近年の光学フィルタの薄型化・小型化への要望を達成することが困難となる。
　【００１２】
　特許文献６、７のようなハイブリッドタイプの光学フィルタであっても、可視波長領域の透過率を高くすると、概ね可視波長領域の一部と重なる遷移波長領域、特に無機薄膜で形成された近赤外側の半値波長において、大きな吸収を得ることができない。そのため、この波長領域の反射を大きく低減することはできず、上述の赤外線によるゴースト光の強度を低減することが困難となる。
　【００１３】
　更に、特許文献６、７で用いられるような赤外線吸収用の色素は、一般に紫外線の影響で分光特性が変化し易いという問題を有する場合がある。色素の紫外線に対する対策としては、特許文献８で基板に紫外線吸収剤を含有させ、色素を含む赤外線吸収層に紫外線が入射することを防止する赤外線カットフィルタが開示されている。しかし、この特許文献８のような構成においては、赤外線吸収層の片方の面のみしか紫外光吸収効果がないため、赤外線カットフィルタの配置方向に限定が生ずる。
　【００１４】
　特許文献９には、上記問題がある場合にこれを解決するため、色素を含む赤外線吸収層の両面に紫外線吸収層を設けた赤外線カットフィルタが開示されている。しかし、この特許文献９の赤外線カットフィルタの分光特性は色素にのみよって決定されており、上述のようにカメラやビデオカメラの撮像光学系に求められるような赤外線カットフィルタを色素のみで作製することは困難である。具体的には、赤外線を十分に遮蔽しようとすると、透過波長領域の透過率が低下してしまうことになる。
　【００１５】
　また同様に、特許文献１０に開示されているように、紫外線吸収層にカーボンナノチューブを利用した場合には、カーボンナノチューブの吸収特性を考慮すると、可視波長領域にまで吸収が発生し、可視波長領域の透過率まで低減してしまい、コスト的にも問題がある。
　【００１６】
　本発明の第１の目的は、上述の問題点を解消し、薄型化を妨げることなく、ゴースト光の発生を低減し赤外線遮蔽機能を有する紫外赤外線カット用光学フィルタを提供することにある。
　【００１７】
　本発明の第２の目的は、第１の目的に加えて、紫外線遮蔽機能を有する紫外赤外線カット用光学フィルタを提供することにある。
　【課題を解決するための手段】
　【００１８】
　上記目的を達成するための本発明に係る紫外赤外線カット用光学フィルタは、透明基板上に積層される複数の構造体を備え、該複数の構造体は、光吸収構造体と近赤外光反射構造体と紫外光反射構造体とを有し　前記光吸収構造体は、色素を含有する１つの層構造によって形成され、
近赤外波長領域のうち近赤外吸収波長領域の光を吸収するとともに、紫外波長領域のうち紫外吸収波長領域の光を吸収する光吸収特性を有し、当該光吸収特性は光吸収の極大点であるピークを含み、かつ前記近赤外吸収波長領域内における光吸収の極大点であるピークの光吸収率は前記紫外吸収波長領域内における光吸収の極大点であるピークの光吸収率よりも大きく
可視光を透過するための透過波長領域と、少なくとも前記近赤外波長領域の一部の光を反射して前記近赤外波長領域の一部の光の通過を阻止する阻止領域との間にある第１遷移波長領域を有し
可視光を透過するための透過波長領域と、少なくとも前記紫外波長領域の一部の光を反射して前記紫外波長領域の一部の光の通過を阻止する阻止領域との間にある第２遷移波長領域を有し
前記光吸収構造体の前記近赤外吸収波長領域と、前記近赤外光反射構造体の前記第１遷移波長領域とが重なっているとともに、前記近赤外吸収波長領域内における光吸収の極大点であるピークの波長が前記第１遷移波長領域に重なっていることで、前記光吸収構造体と前記近赤外光反射構造体とが協働して、前記第１遷移波長領域の光を減衰させ、前記光吸収構造体の前記紫外吸収波長領域と、前記紫外光反射構浩体の前記第２遷移波長領域とが重なっているとともに、前記紫外吸収波長領域内における光吸収の極大点であるピークの波長が前記第２遷移波長領域に重なっていることで、前記光吸収構造体と前記紫外光反射構造体とが協働して、前記第２遷移波長領域の光を減衰させる
　【００１９】
　また、本発明に係る紫外赤外線カット用光学フィルタは、撮像光学系と、撮像光学系に入射して紫外赤外線カット用光学フィルタを透過した光を電気信号に変換する撮像素子とから成る撮像装置に用いることを特徴とする。
　【発明の効果】
　【００２０】
　本発明に係る紫外赤外線カット用光学フィルタによれば、近赤外線反射機能に加えて、近赤外線遮蔽機能を近赤外吸収色素を含有した樹脂層による光の吸収により実現するため、薄型化が可能で、ゴースト光を低減することができる。また、所望の吸収特性を得るために、複数の吸収材料を組合わせる必要が少ないために、透過波長領域でリップルを発生させる虞れが低く、コストを低減することができる。
　【００２１】
　また、本発明に係る紫外赤外線カット用光学フィルタによれば、上述の効果に加えて、紫外線遮蔽機能を有し、紫外光による赤外線吸収層の光学特性の変化を少なくできる。
　【図面の簡単な説明】
　【００２２】
　【図１】実施例１の光学フィルタの構成図である。
　【図２】近赤外光反射構造体による分光透過率のグラフ図である。
　【図３】光吸収構造体の分光吸収率のグラフ図である。
　【図４】赤外線カットフィルタの分光特性のグラフ図である。
　【図５】従来例の有機薄膜層によるフィルタの分光透過率のグラフ図である。
　【図６】他の近赤外光反射構造体の分光透過率のグラフ図である。
　【図７】他の光吸収構造体に使用する色素の分光透過率のグラフ図である。
　【図８】実施例２の光学フィルタの構成図である。
　【図９】実施例３の光学フィルタの構成図である。
　【図１０】実施例４の光学フィルタの構成図である。
　【図１１】変形例１の光学フィルタの構成図である。
　【図１２】変形例２の光学フィルタの構成図である。
　【図１３】実施例５の撮像装置の光学的構成図である。
　【図１４】実施例６の光量絞り装置の斜視図である。
　【発明を実施するための形態】
　【００２３】
　本発明を図示の実施例に基づいて詳細に説明する。
　【実施例１】
　【００２４】
　図１は少なくとも近赤外光領域の光の透過を制限する赤外線カットフィルタとして機能する実施例１の光学フィルタ１の構成図を示している。この光学フィルタ１においては、透明基板２上に、所望の波長領域に吸収を有する色素を樹脂バインダ中に分散させて構成した有機薄膜から成る光吸収構造体３が成膜されている。また、この光吸収構造体３上には、複数の蒸着膜を積層することにより構成した無機薄膜から成る近赤外光反射構造体４ａが成膜されている。更に、透明基板２の反対の面には、同様に無機薄膜から成る近赤外光反射構造体４ｂが設けられている。
　【００２５】
　透明基板２は合成樹脂材から成る例えば板厚０．１ｍｍのノルボルネン系材料であるＡｒｔｏｎ（ＪＳＲ製、製品名）フィルムが使用されている。Ａｒｔｏｎフィルムはガラス転移温度（Ｔｇ）が１００℃以上あり、曲げ弾性率が約３０００ＭＰａ程度と比較的高く、透明基板２の割れやうねりを低減できる。実施例１においてはＡｒｔｏｎフィルムを使用したが、この他にポリイミド系の樹脂フィルム等も好適な材料の１つである。更には、可視波長領域において透明性を有するものであれば、例えばＰＥＴ、ＰＥＮ、ポリエステル系、アクリル系、アラミド系、ＰＣ（ポリカーボネート）、アセテート、ポリ塩化ビニル、ＰＶＡ（ポリビニルアルコール）等の使用が可能である。
　【００２６】
　光吸収構造体３は色素を分散させた樹脂層を、例えばスピンコート法により塗工することにより形成されている。光吸収構造体３を構成する樹脂バインダにはアクリル系樹脂を用いているが、このアクリル系樹脂は透明基板２と樹脂層との密着の観点から、一部にスチレンを含有しているアクリル−スチレン共重合樹脂を選択している。
　【００２７】
　なお、アクリル系樹脂以外にも可視波長領域において透光性が高ければ、ポリスチレン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、フッ素樹脂、、ＰＣ系樹脂、ポリイミド系樹脂、、ポリオレフィン系樹脂等が考えられる。これらの樹脂は単体又は２種類以上を混合して用いてもよく、また共重合体として用いることもできる。つまり、可視波長領域における吸収が小さい材料であればよく、透明基板２となる材料や、前後のプロセス、フィルタに要求される特性、色素との相性等の様々な要素を考慮し、最適な樹脂バインダを選択すればよい。
　【００２８】
　樹脂バインダは透明基板２との屈折率差が小さいものがより好ましい。透明基板２と光吸収構造体３とが隣接する場合に、屈折率差を小さくすることで、透明基板２と樹脂の界面での反射を小さくし、膜厚を薄くしても干渉効果による影響をより小さくすることが可能である。また同様の理由から、透明基板２と光吸収構造体３との間に接着層や応力緩和層等の機能膜層を挿入する場合であっても、透明基板２、機能膜層、光吸収構造体３の三者の屈折率が近いものがより好ましい。
　【００２９】
　光吸収構造体３の塗工はスピンコート法に限らず、ディップコート法、グラビアコート法、スプレーコート法、キスコート法、ダイコート法、ナイフコート法、ブレードコート法、バーコータ法等であっても、同様の膜を形成することができる。つまり、所望の分光を満足する膜厚や、形状、生産性等を考慮して、最適な成膜方法を選択すればよい。
　【００３０】
　光吸収構造体３の樹脂層が乾燥することで発生する硬化収縮に起因する応力に関しては、光吸収構造体３の膜厚を薄くすることで低減することが可能である。この際に、所望の吸収特性を維持するために、色素の濃度調整や、例えばスピンコート法であれば回転速度等の塗工プロセスの調整が必要となる。
　【００３１】
　有機薄膜により構成された光吸収構造体３の場合に、色素成分は水分に弱いため、樹脂バインダ中に分散させても、特に温度や湿度等の周囲環境から、樹脂が少なからず吸水してしまい、色素成分がその影響を受けて光学特性が変化してしまうことがある。このため、光吸収構造体３よりも表層側に近赤外光反射構造体４ａを配置している。
　【００３２】
　近赤外光反射構造体４ａ、４ｂはそれぞれ少なくとも２種類以上の無機薄膜を積層して成膜され、反射構造体４ａ、４ｂは１つの薄膜積層構造体として機能し、或る波長領域の透過を制限している。
　【００３３】
　透明基板２に合成樹脂材を使用した場合には、近赤外光反射構造体４ａ、４ｂの成膜プロセスに起因する熱の問題が発生する。ガラス透明基板と比較して、ガラス転移温度が極端に低い樹脂透明基板の場合には、透明基板２と膜との線膨張係数の差に起因する透明基板２の反りや、この反りに伴う膜面のクラックの発生等が考えられる。そこで、成膜中に発生する熱への施策が必要である。具体的には、透明基板２としてガラス転移温度の高い材料を選択したり、成膜中での低温プロセスを採用することが考えられる。
　【００３４】
　近赤外光反射構造体４ａ、４ｂの成膜においては成膜装置に吸熱機構を設け、放射冷却効果により成膜中に透明基板２に発生する熱を除去する手法を選択した。その際に、成膜プロセスで到達する透明基板２上の最高温度を予め測定し、その温度に耐え得る材料を選択する必要がある。実施例１では、成膜プロセスの安定性を考慮し、先に実験した到達最高温度に或る程度の許容値を加味し、ガラス転移温度を適性判断のパラメータとし、約７０℃以上のガラス転移温度を有する透明基板２を選択している。
　【００３５】
　また、近赤外光反射構造体４ａ、４ｂの成膜中の温度を通常の成膜温度の場合よりも、何らかのアシストを付加したり、スパッタ等の比較的に高エネルギで成膜し、膜密度が高くなるプロセスを選択することがより好ましい。具体的には、スパッタ法、ＩＡＤ法、イオンプレーティング法、ＩＢＳ法、クラスタ蒸着法等の膜厚を比較的正確に制御でき、再現性の高い膜を得ることができる成膜法であればよい。蒸着以外の物理的又は化学的成膜方法で形成してもよいし、ゾルゲル法などのウェットプロセスで成膜してもよく、必要とされる膜の性質や、透明基板２を含めた各材料の制約条件等から最適な方法を選択すればよい。
　【００３６】
　図２は板厚０．１ｍｍのＡｒｔｏｎフィルムから成る透明基板２に、近赤外光反射構造体４ａ、４ｂのみを成膜した場合の反射タイプのフィルタの分光透過率特性のグラフ図である。このフィルタは可視波長領域で透過率が高く、紫外波長領域から可視波長領域にかけての領域の波長の透過を防止する第１阻止波長領域Ｗ１、可視波長領域から近赤外波長領域にかけての波長領域に第２阻止波長領域Ｗ２を有している。更に、第２阻止波長領域Ｗ２から近赤外波長にかけての波長領域に第３阻止波長領域Ｗ３を有し、３つの阻止波長領域Ｗ１〜Ｗ３により構成されている。
　【００３７】
　ここで、１つの阻止波長領域を構成する薄膜積層構造を１つのブロックとして考えると、第１〜第３阻止波長領域Ｗ１〜Ｗ３を形成する３つのブロックにより形成される。それぞれを第１〜３スタックとすると、３つのスタックはそれぞれ異なる中心波長を有する。この中心波長をλとした場合に、高屈折率材料と低屈折率材料とを、それぞれ交互にλ／４ずつ積層した構成を基本とし、所望の光学特性を得るために、各層の膜厚に概ね０．７〜１．３倍程度の微調を加えて積層する。
　【００３８】
　近赤外光反射構造体４ａ、４ｂの薄膜積層構造は、ＩＡＤ法により複数層の無機質から成る誘電体膜を順次に積層することにより形成している。一般に、このような多層膜においては膜応力が非常に大きくなり、光学系の薄型化の観点から透明基板２の板厚を薄くした場合には、透明基板２に反りが生ずる虞れがある。この対策として、図１に示すように透明基板２の両面に反射構造体４ａ、４ｂをそれぞれ成膜すると、理想的には透明基板２の両面に同じ材料、膜厚、膜質で積層することになり、膜応力を低減できることになる。
　【００３９】
　しかし、その場合には膜の構成設計が困難となり、透明基板２の片面に設計した場合と同じ積層数となるように膜設計を行うと、光学特性が大きく犠牲となる虞れがある。また、光学特性と膜応力の緩和を同時に満足させるためには、積層数が増加し、フィルタ製作の工数アップの要因となる。膜応力による透明基板２の反りが問題となる場合には、図１に示すように薄膜積層構造体を透明基板２の両面に分割して配置することが好適な手法となる。
　【００４０】
　以上の説明は透明基板２に近赤外光反射構造体４ａ、４ｂのみを配置した場合であるが、加えて実施例１では、光吸収構造体３と近赤外光反射構造体４ａ、４ｂとの応力バランスを加味することも必要となる。それぞれの応力を予め測定しておき、透明基板２の両面への配置を最適化することにより、透明基板２の両面の応力バランスを取ることが好ましい。
　【００４１】
　従って、実施例１では透明基板２上に先ず光吸収構造体３を形成し、その上層に近赤外光反射構造体４ａによる２９層の薄膜を成膜し、その後に透明基板２の反対の面に近赤外光反射構造体４ｂによる２１層の薄膜を成膜している。このような反射構造体４ａ、４ｂから成る誘電体膜の材料には、高屈折率材料にはＴｉＯ２、低屈折率材料にはＳｉＯ２を使用し、ＴｉＯ２とＳｉＯ２を交互に積層した。
　【００４２】
　この他に、成膜手法によっても異なるが、一般的に高屈折率材料にはＮｂ２Ｏ５、ＺｒＯ２、Ｔａ２Ｏ５等が使用され、低屈折率材用にはＭｇＦ２を使用する場合もある。設計上や成膜上の理由から、中間屈折率材料であるＡｌ２Ｏ３等を一部の層で使用する場合もあるが、適宜に最適な材料の組合わせを選択すればよい。
　【００４３】
　ただし、透明基板２や空気との界面の層と、中心波長λが異なる各スタック同士が隣接している層等においては、微調の範囲を超えることがあり、例えば０．５倍のλ／４程度の膜厚になることがある。更に、全層の中で上述した界面層とは別に数層、例えば全層が４０層であれば１〜３層程度、微調の範囲を超える層がある場合もある。また、設計によっては中間屈折率材料を加えた３種類以上の材料により構成されることもある。
　【００４４】
　このように、無機薄膜だけで形成された近赤外光反射構造体４ａ、４ｂによる赤外線カットフィルタは、遷移波長領域の赤外光半値波長でゴースト光の強度が最大となるので、光吸収構造体３を用いて赤外光半値波長の光を吸収させることが好ましい。
　【００４５】
　一般に、近赤外光反射構造体のみで赤外線カットフィルタを構成した場合に、図２に示すようにこの赤外光半値波長は、可視波長領域の一部であり遷移波長領域の６００〜７５０ｎｍの範囲内に形成されることが多い。また、前述のような光吸収構造体３を含んで赤外線カットフィルタを構成する場合は、光吸収構造体３の光吸収特性も考慮して、図４に示すように近赤外光反射構造体の遷移波長領域を赤外側にシフトさせてもよい。つまり、赤外光半値波長を６５０〜７５０ｎｍ範囲の遷移波長領域内に形成するようにしてもよい。
　【００４６】
　このように、赤外光半値波長が形成される遷移波長領域が６００〜７５０ｎｍの間において、光吸収構造体３は吸収波長領域を有することが好ましい。更には、可視波長領域から近赤外波長領域である４００〜１２００ｎｍ程度までの波長領域において、上述の半値波長を含む６５０〜８００ｎｍ程度の波長領域中に、最大の吸収特性を有することがより好ましい。これは６５０ｎｍよりも短い波長に吸収のピークを有する特性であると、本来必要とする透過波長領域の光も大きく吸収してしまうためである。また、８００ｎｍよりも長い波長において吸収ピークを有する特性であると、遷移波長領域で十分な吸収を得ることができない虞れがある。
　【００４７】
　また、実施例１の光学フィルタ１のように、ハイブリッドタイプのフィルタの場合には、有機薄膜による吸収と無機薄膜による反射を考慮し、所望の波長が赤外光半値波長となるように、予め調整することが必要となる場合がある。
　【００４８】
　図３は光吸収構造体３のシアニン系の色素をアクリル系の樹脂バインダ中に分散させた場合の所定の吸収波長領域を有する分光特性を示し、所望の吸収を得られるように色素の濃度及び膜厚を調整し、膜状に塗工して形成している。このように分散された色素は、近赤外光反射構造体４ａ、４ｂにより形成された近赤外光を透過する透過波長領域から不透過波長領域に遷移する遷移波長領域の分光透過率の赤外光半値波長を含む波長近傍に吸収帯を有している。
　【００４９】
　光吸収構造体３には赤外光吸収色素としてシアニン系の色素を用いたが、これに限定されることはない。例えば、アゾ系やフタロシアニン系、ナフタロシアニン系、ジイモニウム系、ポリメチン系、アンスラキノン系、ナフトキノン系、トリフェニルメタン系、アミニウム系、ピリリウム系、スクワリリウム系等の色素を単体又は混合して用いることができる。ただし、赤外線カットフィルタの色再現性を考慮し、透過波長領域における吸収が小さく、透過波長領域における透過率が平坦又は連続的に変化する色素が好ましい。
　【００５０】
　この際に、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）やトルエン、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）等の溶剤を添加し、塗工後に乾燥工程を経て揮発させることが一般的であるが、色素や樹脂バインダ、塗工法等の関係から最適な溶剤を適宜に選択すればよい。例えば、溶媒はケトン系に限らず、シクロヘキサン、トルエン等の炭化水素系、酢酸メチル、酢酸エチル等のエステル系、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル系、メタノール、エタノール等のアルコール系、ジメチルホルムアミド等のアミン系の溶媒や水を、色素・樹脂バインダの溶解性や揮発性等を考慮し、単体又は２種類以上の混合物として最適な組合わせになるように選択すればよい。
　【００５１】
　また、光吸収構造体３に酸化防止剤を添加することで、色素の劣化を低減することができる場合もある。酸化防止剤としては、フェノール系、ビンダードフェノール系、アミン系、ビンダードアミン系、硫黄系、リン酸系、亜リン酸系等が挙げられる。
　【００５２】
　図４は上述の方法により製作された光学フィルタ１の分光透過率特性のグラフ図を示し、図２に示す近赤外光反射構造体４ａ、４ｂ、図３に示す光吸収構造体３の分光特性を合成したものとなる。赤外線カットフィルタによるゴースト光の強度は、簡易的には（赤外線カットフィルタの分光透過率）・（赤外線カットフィルタの分光反射率）で計算された値が目安となる。光学フィルタを無機薄膜のみで構成した場合に、ゴースト光の強度は赤外光半値波長で最大となり、透過率５０％、反射率５０％と仮定すると、その値は概ね２５％程度となる。
　【００５３】
　実用的には、ゴースト光の強度は少なくとも１５〜１６％程度までは低減する必要がある。従って、例えば強度を１６％以下にまで低減するには、光吸収構造体３を組合わせた場合に、少なくとも透過率４０％、反射率４０％となるように光吸収構造体３の、前記した赤外光半値波長での吸収率は２０％程度以上が必要となる。
　【００５４】
　簡易的な計算では、近赤外光反射構造体４ａ、４ｂのみでのゴースト光の最大強度が上述の２５％程度であるのに対し、実施例１で作製した光学フィルタ１の遷移波長領域でのゴースト光の最大強度は８％以下となる。ゴースト光に関しては、撮像素子の感度特性、遷移波長領域から不透過波長領域において発生する不要光の合計値などによってもその影響は異なる。しかし、実施例１で作製された光学フィルタ１は遷移波長領域での最大強度を３割以上低減しており、多くの光学系でゴースト光の発生を低減することができる。
　【００５５】
　透明基板２の全面に上述した光吸収構造体３、近赤外光反射構造体４ａ、４ｂを成膜した後に、所望の形状に打ち抜くことで１０ｍｍの正方形状に加工する。なお、成膜時に透明基板２上にマスクを施すことで、所望の範囲を部分的に成膜し、成膜後にそれぞれを切り抜く方法でも、同様のフィルタを作製することができる。
　【００５６】
　図５は比較のために、特許文献７を基に作製した比較例の光学フィルタの分光透過率のグラフ図である。図５（ａ）は有機薄膜層によるグラフ図、図５（ｂ）は基板の両面に分割し配置した２つの無機薄膜層によるグラフ図、図５（ｃ）はこれらの有機薄膜層と無機薄膜層とにより作製されたグラフ図を示している。
　【００５７】
　図５（ｂ）から無機薄膜層で形成される赤外光半値波長は、６５０ｎｍ付近の波長であることが分かる。また、図５（ｃ）から有機薄膜層と無機薄膜層を構成した場合であっても、赤外光半値波長は６５０ｎｍ付近であり、図５（ｂ）とほぼ同様の波長となっていることが分かる。また、図５（ａ）に示された有機薄膜層の特性から、特許文献７で提示されている有機薄膜層の遷移波長領域での吸収率、特に赤外光半値波長における吸収率は、最大でも１０％程度と極めて小さい値となっていることが予測される。
　【００５８】
　透過波長領域、不透過波長領域においては、透過率又は反射率の何れかが０に近付くため、上述のように簡易的にはゴースト光の強度は遷移波長領域での透過率と反射率とを乗じた値が支配的となる。従って、この遷移波長領域に十分な吸収を得ることができない場合には、透過率が低いと反射率が高くなり、反射率が低いと透過率が高くなるため、ゴースト光の強度を低減することは極めて困難である。
　【００５９】
　撮像素子の感度特性やフィルタの配置位置等、光学系全体での構成によってもゴースト光の影響は微妙に異なるが、特許文献７で得られる図５（ａ）のような光学特性では、ゴースト光を十分に低減することは困難である。
　【００６０】
　実施例１では光吸収構造体３の成膜後の硬化方法として熱硬化法を用いているが、他の活性エネルギ線、例えば可視光線、電子線、プラズマ、赤外線、紫外線等を用いてもよい。活性エネルギ線の照射量は樹脂組成物の硬化が進行するエネルギ量であればよく、必要に応じて光重合開始剤や酸化防止剤を添加すればよい。
　【００６１】
　光重合開始剤としては、例えばベンゾフェノン、ベンジル、４，４−ジメチルアミノベンゾフェノン、２−クロロチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、ベンゾインエチルエーテル、ジエトキシアセトフェノン、ベンジルジメチルケタール、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオフェノン、１−ヒドロキシシクヘキシルフェニルケトン、テトラメチルチウラムモノスルフィド、テトラメチルチウラムジスルフィド、ヒドラゾン、α−アシロキシムエステル等が挙げられるが、これらに限定されるものでなく、単独又は複数で用いてもよい。
　【００６２】
　電子線硬化開始剤としては、ベンゾフェノン、２−エチルアントラキノン、２，４−ジエチルチオキサントン、メチルオルソベンゾイルベンゾエート、イソプロピルチオキサントン、ジエトキシアセトフェノン、ベンジルジメチルケタール、１−ヒドロキシシクロヘキシル−フェニルケトン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、ビス−フェニルホスフィンオキサイド、メチルベンゾイルホルメート、１，７−ビスアクリジニルヘプタン、９−フェニルアクリジン等が挙げられるが、これらに限定されるものでなく、単独又は複数で用いてもよい。
　【００６３】
　熱重合開始剤としては、過酸化ベンゾイル、ｔ−ブチルパーベンゾエイト、クメンヒドロパーオキサイド、ジイソプロピルパーオキシジカーボネート、ジ−ｎ−プロピルパーオキシジカーボネート、ジ（２−エトキシエチル）パーオキシジカーボネート、ｔ−ブチルパーオキシネオデカノエート、ｔ−ブチルパーオキシビバレート、（３，５，５−トリメチルヘキサノイル）パーオキシド、ジプロピオニルパーオキシド、ジアセチルパーオキシド、２，２−アゾビスイソブチロニトリル、２，２−アゾビス（２−メチルブチロニトリル）、１，１−アゾビス（シクロヘキサン−１−カルボニル）、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）、２，２−アゾビス（２，４−ジメチル−４−メトキシバレロニトリル）、ジメチル２，２−アゾビス（２−メチルプロピオネート）、４，４−アゾビス（４−シアノバレリック酸）等が挙げられるが、これらに限定されるものでなく、単独又は複数で用いてもよい。
　【００６４】
　図６は他の近赤外光反射構造体４ａ、４ｂの分光特性を示し、近赤外光反射構造体４ａ、４ｂは共に紫外線における第１阻止波長領域Ｗ４を有し、近赤外光反射構造体４ａは少なくとも第２阻止波長領域Ｗ５を遮蔽し、他方の近赤外光反射構造体４ｂは少なくとも第３阻止波長領域Ｗ６を遮蔽するように設計されている。
　【００６５】
　光吸収構造体３は図７に示すような分光透過率を有するシアニン系の色素と、アクリル−スチレン共重合樹脂から成る樹脂バインダと、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）とメチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）を１：９（重量比）の割合で混合した溶媒とから成る塗布溶液を使用する。この塗布溶液をスピンコート法により、所望の分光を得られる厚さに成膜し、乾燥炉で乾燥・硬化させる。
　【００６６】
　この光吸収構造体３上に、第１阻止波長領域Ｗ４と第２阻止波長領域Ｗ５とを遮蔽する近赤外光反射構造体４ａが真空蒸着法により成膜されている。次に、透明基板２の反対面に、第１阻止波長領域Ｗ４と第３阻止波長領域Ｗ６とを遮蔽する近赤外光反射構造体４ｂを真空蒸着法で成膜している。
　【００６７】
　実施例１の光学フィルタ１はゴースト光を低減すると共に、透明基板２の両面に配置した紫外線遮蔽機能を有する近赤外光反射構造体４ａ、４ｂにより、光吸収構造体３に紫外線が何れの面からも入射することを防止している。
　【実施例２】
　【００６８】
　図８は紫外赤外線カットフィルタ又は赤外線カットフィルタとして機能する実施例２の光学フィルタ１１の構成図を示している。透明基板１２の片面に光吸収構造体１３と近赤外光反射構造体１４が積層され、その反対の面には例えば裏面からの反射を防止し、可視波長領域における透過率を高くするための複数の無機薄膜を積層した反射防止構造体１５が成膜されている。なお、この反射防止構造体１５には、光吸収構造体１３と近赤外光反射構造体１４を配置した反対面との応力を平衡させる機能を持たせている。
　【００６９】
　なお、樹脂層である光吸収構造体１３が表層に露出すると、表層での反射率が問題となる場合があるので、光吸収構造体１３を表層に配置するような場合にはこのような反射防止構造体１５を光吸収構造体１３上に成膜することで改善することができる。
　【００７０】
　近赤外光反射構造体１４は実施例１のように透過波長領域から不透過波長領域に遷移する遷移波長領域を有し、光吸収構造体１３が吸収する波長の一部と遷移波長領域が重なることが必要である。
　【００７１】
　そして、近赤外光反射構造体１４が紫外線に対する遮蔽機能を有していれば、実施例２の光学フィルタ１１は近赤外光反射構造体１４側から入射する紫外光に対し、光吸収構造体１３に入射する紫外線を低減する紫外線遮蔽機能をすることになる。
　【実施例３】
　【００７２】
　図９は紫外赤外線カットフィルタとして機能する実施例３の光学フィルタ２１の構成図を示し、紫外光反射構造体が使用されている。透明基板２２には例えば板厚０．１ｍｍのＡｒｔｏｎフィルムを使用している。
　【００７３】
　図９（ａ）の光学フィルタ２１ａは透明基板２２の片面側に、透明基板２２側から光吸収構造体２３、近赤外光反射構造体２４が形成され、透明基板２２の反対の面に紫外光反射構造体２５が成膜されている。光吸収構造体２３、反射構造体２４は実施例１の光吸収構造体３、近赤外光反射構造体４ａ、４ｂと同様にして形成され、近赤外光反射構造体２４は紫外線遮蔽機能を有している。
　【００７４】
　透明基板２２の波長５８９ｎｍでの屈折率は１．５２程度であり、光吸収構造体２３のアクリル−スチレン共重合樹脂の屈折率は１．４９程度であり、比較的屈折率差が小さい材料を組み合わせる構成としている。
　【００７５】
　この光学フィルタ２１ａは実施例１で説明した図４に示すような分光透過率特性を有するように設計がされ、更に紫外光反射構造体２５が設けられている側の面からの紫外線の入射を制限し、両面からの紫外線の入射を阻止している。
　【００７６】
　このように、光吸収構造体２３を表層に配置する場合に、図９（ｂ）の光学フィルタ２１ｂに示すように、更にその表層側に紫外光反射構造体２６を配置することもできる。
　【００７７】
　図９（ｃ）、（ｄ）の光学フィルタ２１ｃ、２１ｄにおいては、透明基板２２の片面に光吸収構造体２３、近赤外光反射構造体２４が形成され、反対の面に紫外線遮蔽機能を有しない近赤外光反射構造体２７、紫外光反射構造体２５が形成されている。なお、光学フィルタ２１ｃにおいては紫外光反射構造体２５が最表層に、光学フィルタ２１ｄにおいては近赤外光反射構造体２７が最表層に配置されている。
　【００７８】
　図９（ｅ）、（ｆ）の光学フィルタ２１ｅ、２１ｆにおいては、透明基板２２の片面には近赤外光反射構造体２４が形成され、反対の面には光吸収構造体２３、近赤外光反射構造体２７、紫外光反射構造体２５が形成されている。光学フィルタ２１ｅと２１ｆでは近赤外光反射構造体２７と紫外光反射構造体２５が入れ換わっている。
　【００７９】
　このようにして、何れの光学フィルタ２１ａ〜２１ｆにおいても、ゴースト光を低減し、両面から光吸収構造体２３への紫外線の入射を防止している。
　【実施例４】
　【００８０】
　図１０は紫外赤外線カットフィルタとして機能する実施例４の光学フィルタ３１の構成図を示し、紫外光吸収構造体が使用されている。透明基板３２の一方の面に、透明基板３２側から光吸収構造体３３と紫外線遮蔽機能を有する近赤外光反射構造体３４が形成されている。透明基板３２の反対の面に、透明基板３２側から紫外光吸収構造体３５と紫外線遮蔽機能を有しない近赤外光反射構造体３６とが形成されている。
　【００８１】
　紫外光吸収構造体３５はスチレン樹脂と、スチレン樹脂に対して１．０ｗｔ％のベンゾフェノン系の紫外線吸収剤である２，４−ジヒドロキシベンゾフェノンとスチレン樹脂から成る樹脂バインダとＭＩＢＫとから成る塗布溶液を、スピンコート法により成膜して、乾燥炉で乾燥・硬化させる。
　【００８２】
　次に、光吸収構造体３３上に、低屈折率材料であるＳｉＯ２と高屈折率材料であるＴｉＯ２とから成り、図６の第１阻止波長領域Ｗ４と第２阻止波長領域Ｗ５とを遮蔽する近赤外光反射構造体３４を真空蒸着法で成膜する。また、紫外光吸収構造体３５上に第３阻止波長領域Ｗ６を遮蔽する近赤外光反射構造体３６を同様に成膜する。
　【００８３】
　紫外線吸収剤として、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノンを用いたが、これ以外にも、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−ベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ｎ−オクトキシ−ベンゾフェノン等のベンゾフェノン系や、２−（２’−ヒドロキシ−５’−ｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）−エンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−５’−ｔ−オクチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’，５’−ジ−ｔ−アミル−２−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール等のベンゾトリアゾール系や、２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、４−ｔ−ブチルフェニル−２−ヒドロキシベンゾエート、フェニル−２−ヒドロキシベンゾエート等のベンゾエート系等を利用できるが、これらに限定されたものではない。また、これらの紫外線吸収剤は単独又は複数を混合して用いてもよい。
　【００８４】
　近赤外光反射構造体３４、３６を双方共に紫外線を遮蔽するように膜設計すると、所望の分光次第では両面で膜応力を均衡させることが難しく、光学フィルタ３１の反りを低減できない場合がある。
　【００８５】
　実施例４では、近赤外光反射構造体３６は紫外線遮蔽機能を有しないが、反射構造体３６と透明基板３２の間に紫外光吸収構造体３５が配置されており、光学フィルタ３１の両面において、光吸収構造体３３に紫外線が入射することを防止できる。
　【００８６】
　光吸収構造体３３、近赤外光反射構造体３４、３６、紫外光吸収構造体３５の硬化や成膜時に熱が発生し、膜応力・熱応力による変形、水分による分光の変化等が生じ易い。このことから、透明基板３２は耐熱性つまりガラス転移点Ｔｇが高く、曲げ弾性率が大きく、吸水率が小さいことが好ましい。
　【００８７】
　図１１は実施例４の変形例１の光学フィルタ３１’を示している。このように、透明基板３２の片面に光吸収構造体３３、紫外光吸収構造体３５、近赤外光反射構造体３６を順次に成膜し、反対の面に近赤外光反射構造体３４を設けた構成としてもよい。
　【００８８】
　また、図１２は変形例２の光学フィルタ３１”を示している。透明基板３２の片面に紫外光吸収構造体３５、光吸収構造体３３、近赤外光反射構造体３４を順次に設け、その反対の面に近赤外光反射構造体３６を配置した構成とすることもできる。
　【００８９】
　このようにして、ゴースト光を低減すると共に、光学フィルタ３１の配置方向に関係なく、光吸収構造体３３に紫外線が入射せず、光吸収構造体３３の分光変化が少ない光学フィルタ３１、３１’、３１”が得られる。
　【実施例５】
　【００９０】
　図１３は実施例１〜４による光学フィルタを用いた実施例５のビデオカメラ等の撮像装置の光学的構成図を示している。光路に沿って対物レンズ４１、絞り羽根４２を有する光量絞り装置４３、レンズ４４〜４６、光学フィルタ部４７、固体撮像素子４８が配列されている。対物レンズ４１、光量絞り装置４３、レンズ４４〜４６から成る撮像光学系４９を透過した被写界による光線を、光学フィルタ部４７でＣＣＤやＣＭＯＳセンサから成る固体撮像素子４８の特性に合わせて制限し、適正な画像を得るようになっている。
　【００９１】
　例えば、実施例１で作製された光学フィルタ１を光学フィルタ部４７に配置し、撮像装置に組み込んで使用することにより、紫外線、赤外線を遮蔽すると共にゴースト光の発生が低減され、画像の高精度化を実現できる。また、光学フィルタ部４７を配置する際に、光学フィルタ１の反射によるゴースト光をより低減できるように、近赤外光反射構造体４ａに対し光吸収構造体３の位置を固体撮像素子４８に近い位置になるようにする。
　【００９２】
　具体的には、撮像光学系４９を透過して固体撮像素子４８に結像した光量を判断して、駆動部材により光学フィルタ部４７を駆動する。被写界の光量が通常の撮影に十分な量であるときは、固体撮像素子４８を覆うように光学フィルタ部４７を移動させ、光量が不十分なときは固体撮像素子４８にかからないように光学フィルタ部４７を光路外に退避させる。
　【００９３】
　光学フィルタ部４７の光学フィルタ１の有無により、結像する光線に光路差が発生し、画像が劣化してしまうことがあるが、このような場合には光学フィルタ１の透明基板２と同じ材質の透明基板２をダミーとして挿入することにより、画像劣化を低減できる。
　【００９４】
　また、従来においてはゴースト光を低減するために、光路に対して光学フィルタを傾けて配置することがあったが、本発明では光学フィルタ１によりゴースト光が低減するので、傾けた配置が不要となり、撮影光学系の小型化に対応することが可能である。
　【００９５】
　また、実施例２、３、４で作製された光学フィルタ１１、２１、３１を光学フィルタ部４７として配置し、組み込んで使用することにより、同様に紫外線、赤外線による光学特性の変化を著しく低減した撮像装置を得ることが可能である。また、光学フィルタの何れの面から光が入射しても、紫外線が吸収構造体３に至るまでに遮蔽されるような構成となっていれば、光学フィルタを撮像光学系に配置する際に、何れの面を入射光側に向けてもよく、作業性が向上する。
　【実施例６】
　【００９６】
　図１４は実施例５のビデオカメラ、デジタルスチルカメラ等の撮像装置の撮影光学系に使用するのに適した光量絞り装置の斜視図を示している。光量絞り装置５１は図１３に示す固体撮像素子４８への入射光量を制御するために設けられており、被写界の光量が大きくなるに従って、絞り羽根４２が小さく絞り込まれてゆく構造とされている。
　【００９７】
　このとき、絞り羽根４２の小絞り状態時に発生する干渉等による像性能の劣化対策として、絞り羽根４２の近傍にＮＤ（Ｎｅｕｔｒａｌ　Ｄｅｎｓｉｔｙ）フィルタ５２が配置されている。これにより被写界の明るさが大きくても、絞り羽根４２の開口が極端に小さくなることを防止している。
　【００９８】
　被写界からの入射光はこの光量絞り装置５１を通過し、撮像光学系４９を経て固体撮像素子４８に到達することにより、電気信号に変換され画像が生成される。
　【００９９】
　この光量絞り装置５１内に、実施例１〜４で作製された光学フィルタ１、１１、２１、３１の何れかが配置されている。また、ＮＤフィルタ５２の位置に、ＮＤフィルタ５２の代りに光学フィルタ１、１１、２１、３１を配置することも可能であるし、絞り羽根４２を支持する絞り羽根支持板５３に固定するように配置することもできる。
　【０１００】
　この場合に、光学フィルタの位置や光量絞り装置５１の機械的な機構にも依存するが、光学フィルタは最適な形状に切断すればよく、この光学フィルタを撮像光学系４９に配置することにより、画像のより高精度化を寄与することができる。このように作製された光量絞り装置５１は、ゴースト光の発生を著しく低減することが可能となる。
　【符号の説明】
　【０１０１】
　１、１１、２１ａ〜２１ｆ、３１、３１’、３１”　光学フィルタ
　２、１２、２２、３２　透明基板
　３、１３、２３、３３　光吸収構造体
　４ａ、４ｂ、１４、２４、２７、３４、３６　近赤外光反射構造体
　１５　反射防止構造体
　２５　紫外光反射構造体
　３５　紫外光吸収構造体
　４２　絞り羽根
　４３、５１　光量絞り装置
　４７　光学フィルタ部
　４８　固体撮像素子
　４９　撮像光学系
　５２　ＮＤフィルタ
（５７）【特許請求の範囲】
　【請求項１】
　透明基板上に積層される複数の構造体を備え、
　該複数の構造体は、光吸収構造体と近赤外光反射構造体と紫外光反射構造体とを有し
　前記光吸収構造体は、色素を含有する１つの層構造によって形成され、
近赤外波長領域のうち近赤外吸収波長領域の光を吸収するとともに、紫外波長領域のうち紫外吸収波長領域の光を吸収する光吸収特性を有し、当該光吸収特性は光吸収の極大点であるピークを含み、かつ前記近赤外吸収波長領域内における光吸収の極大点であるピークの光吸収率は前記紫外吸収波長領域内における光吸収の極大点であるピークの光吸収率よりも大きく
　前記近赤外光反射構造体は、
可視光を透過するための透過波長領域と、少なくとも前記近赤外波長領域の一部の光を反射して前記近赤外波長領域の一部の光の通過を阻止する阻止領域との間にある第１遷移波長領域を有し
　前記紫外光反射構造体は、
可視光を透過するための透過波長領域と、少なくとも前記紫外波長領域の一部の光を反射して前記紫外波長領域の一部の光の通過を阻止する阻止領域との間にある第２遷移波長領域を有し
　
前記光吸収構造体の前記近赤外吸収波長領域と、前記近赤外光反射構造体の前記第１遷移波長領域とが重なっているとともに、前記近赤外吸収波長領域内における光吸収の極大点であるピークの波長が前記第１遷移波長領域に重なっていることで、前記光吸収構造体と前記近赤外光反射構造体とが協働して、前記第１遷移波長領域の光を減衰させ、
　
前記光吸収構造体の前記紫外吸収波長領域と、前記紫外光反射構造体の前記第２遷移波長領域とが重なっているとともに、前記紫外吸収波長領域内における光吸収の極大点であるピークの波長が前記第２遷移波長領域に重なっていることで、前記光吸収構造体と前記紫外光反射構造体とが協働して、前記第２遷移波長領域の光を減衰させる
　【請求項２】
　前記紫外光反射構造体は前記近赤外光反射構造体との間に前記光吸収構造体を挟んで配置したことを特徴とする請求項１に記載の紫外赤外線カット用光学フィルタ。
　【請求項３】
　前記近赤外光反射構造体の少なくとも１つは紫外線遮蔽機能を有することを特徴とする請求項１又は２に記載の紫外赤外線カット用光学フィルタ。
　【請求項４】
　前記紫外光反射構造体は複数の無機薄膜を積層したことを特徴とする請求項１〜３の何れか１つの請求項に記載の紫外赤外線カット用光学フィルタ。
　【請求項５】
（削除）
　【請求項６】
　前記透明基板に対し何れの面からも前記光吸収構造体に入射する紫外線を遮蔽するようにしたことを特徴とする請求項１〜
４
　【請求項７】
　撮像光学系と、請求項１〜
４、
のいずれか１つの請求項
　【請求項８】
　前記紫外赤外線カット用光学フィルタの前記光吸収構造体は前記
第１
　【請求項９】
　前記撮像光学系中に、前記紫外赤外線カット用光学フィルタを駆動する駆動部材を備えた請求項７又は８に記載の撮像装置。