(57)【要約】      （修正有）【課題】施術者が被施術者の足指の爪にネイル等を施す際に、被施術者の脚部を支えて被施術者の脚姿勢を維持し、フットネイルの施術を補助すると共に、施術の利便性を高めることができるフットネイル施術用補助具を提供する。【解決手段】フットネイル施術用補助具１００は、被施術者が着座する椅子の座部に配置される補助具本体１０と、補助具本体から上方へ向けて隆起可能に設けられ、椅子に座った被施術者の脚部裏側を下方から支持するための脚支持部材２０と、脚支持部材から前方へ延出させて設けられ、被施術者が少なくとも足裏かかと部を載せるための足置きテーブル３０と、足置きテーブルの前方側に配され、被施術者の足指の爪に施したネイル樹脂に光を照射する光照射装置を載せるための施術テーブル４０と、を備える。【選択図】図１
0003201442.tif 000002
【実用新案登録請求の範囲】
【請求項１】
被施術者が着座する椅子の座部に配置される補助具本体と、
前記補助具本体から上方へ向けて隆起可能に設けられ、前記椅子に座った被施術者の脚部裏側を下方から支持するための脚支持部材と、
前記脚支持部材から前方へ延出させて設けられ、前記被施術者が少なくとも足裏かかと部を載せるための足置きテーブルと、
前記足置きテーブルの前方側に配され、前記被施術者の足指の爪に施したネイル樹脂に光を照射する光照射装置を載せるための施術テーブルと、
を備えることを特徴とするフットネイル施術用補助具。
【請求項２】
前記施術テーブルの表面は、鏡面によって形成されていることを特徴とする請求項１に記載のフットネイル施術用補助具。
【請求項３】
前記施術テーブルは、前記足置きテーブル側へ折り畳み自在に形成されていることを特徴とする請求項１または請求項２に記載のフットネイル施術用補助具。
【請求項４】
前記施術テーブルは、前記足置きテーブルから進退自在に形成されていることを特徴とする請求項１または請求項２に記載のフットネイル施術用補助具。
【請求項５】
前記脚支持部材は、隆起高さの調整機構を備えていることを特徴とする請求項１から４のいずれか１項に記載のフットネイル施術用補助具。
【請求項６】
前記足置きテーブルおよび施術テーブルは、それぞれ左足側と右足側のテーブルに分離形成されていることを特徴とする請求項１から５のいずれか１項に記載のフットネイル施術用補助具。
【請求項７】
前記補助具本体の前記椅子の座部との接触部の一部、前記足置きテーブルおよび前記施術テーブルの一部には、滑り止め部材が配設されていることを特徴とする請求項１から６のいずれか１項に記載のフットネイル施術用補助具。
【請求項８】
前記補助具本体の少なくとも後方部分の上面高さは、前方から後方に向かって順次低くなるように形成されていることを特徴とする請求項１から７のいずれか１項に記載のフットネイル施術用補助具。
【考案の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本考案は、施術者が被施術者の足指の爪にネイル等を施す際に、被施術者の脚部を支えて施術を補助するためのフットネイル施術用補助具に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来より、ネイルサロンにおいて、施術者が被施術者の爪にネイルを施す際に使用する補助具や補助台等が種々提案されている。例えば、特許文献１には、被施術者の手の平側を仮固定する基台と、該基台に手の平側を固定した状態において親指から小指の５本の指の間を一定の間隔で維持する指間隔維持部材とで構成されたネイル施術用補助具が提案されている。
【０００３】
また、特許文献２には、対面して配置される施術者用椅子と被施術者用椅子との間を区画して設置されるテーブルと、該テーブルの一端側に設置された補助テーブルとから構成され、テーブルの補助テーブルとの接合面とは反対側の端部に回転機構を設け、該回転機構の回転軸によってテーブルを回転することにより、施術者用椅子と被施術者用椅子との間を連通するようにしたネイルおよびフットケア施術用テーブルが提案されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０１４−１４７４４２号公報
【特許文献２】特開平１０−２６２７３０号公報
【考案の概要】
【考案が解決しようとする課題】
【０００５】
ところで、特許文献１に記載のネイル施術用補助具は、手指の爪のネイル施術専用の補助具であり、フットネイル（足指のネイル）の施術に使用することはできない。
【０００６】
他方、特許文献２に記載のネイルおよびフットケア施術用テーブルは、ネイルケアの場合にはテーブルを施術者と被施術者の間に位置させ、他方、フットケアの場合にはテーブルを施術者の側方に退避させて、ネイルケアとフットケアとを同じ場所で施術できるようにし、被施術者の移動の負担を軽減している。
【０００７】
しかしながら、特許文献２に記載のネイルおよびフットケア施術用テーブルによって、被施術者の移動の負担が軽減されても、被施術者はネイルケア等が終了するまで同じ脚姿勢を維持しなければならず、脚姿勢の維持の負担は軽減されない。特に、ジェルネイルを施術する場合には、光照射によりジェルネイル（ネイル樹脂）が硬化するまでの間、同じ脚姿勢を維持しなければならない。
【０００８】
そこで、本考案の目的は、上記の事情に鑑みて、施術者が被施術者の足指の爪にネイル等を施す際に、被施術者の脚部を支えて被施術者の脚姿勢を維持し易くし、フットネイルの施術を補助すると共に、施術の利便性を高めることができるフットネイル施術用補助具を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記目的を達成するために、本考案に係るフットネイル施術用補助具は、被施術者が着座する椅子の座部に配置される補助具本体と、前記補助具本体から上方へ向けて隆起可能に設けられ、前記椅子に座った被施術者の脚部裏側を下方から支持するための脚支持部材と、前記脚支持部材から前方へ延出させて設けられ、前記被施術者が少なくとも足裏のかかと部を載せるための足置きテーブルと、前記足置きテーブルの前方側に配され、前記被施術者の足指の爪に施したネイル樹脂に光を照射する光照射装置を載せるための施術テーブルと、を備えることを特徴とする。
【００１０】
前記フットネイル施術用補助具の構成において、前記施術テーブルの表面は、鏡面によって形成されていることが好ましい。
【００１１】
前記施術テーブルは、前記足置きテーブル側へ折り畳み自在に形成されていることが好ましい。
【００１２】
あるいは、前記施術テーブルは、前記足置きテーブルから進退自在に形成されていることが好ましい。
【００１３】
また、前記脚支持部材は、隆起高さの調整機構を備えていることが好ましい。
【００１４】
さらに、前記足置きテーブルおよび施術テーブルは、それぞれ左足側と右足側のテーブルに分離形成されていることが好ましい。
【００１５】
そして、前記補助具本体の前記椅子の座部との接触部の一部、前記足置きテーブルおよび前記施術テーブルの一部には、滑り止め部材が配設されていることが好ましい。
【００１６】
加えて、前記補助具本体の少なくとも後方部分の上面高さは、前方から後方に向かって順次低くなるように形成されていることが好ましい。
【考案の効果】
【００１７】
本考案に係るフットネイル施術用補助具によれば、施術者が被施術者の足指の爪にネイル等を施す際に、被施術者の脚部を支えて被施術者の脚姿勢を維持し易くし、フットネイルの施術を補助すると共に、施術の利便性を高めることができるという優れた効果を発揮する。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】本考案の第１の実施形態に係るフットネイル施術用補助具の斜視図である。
【図２】第１の実施形態に係るフットネイル施術用補助具の作用の説明に供する模式図である。
【図３】第２の実施形態に係るフットネイル施術用補助具の要部拡大図である。
【図４】第３の実施形態に係るフットネイル施術用補助具の斜視図である。
【図５】第４の実施形態に係るフットネイル施術用補助具の斜視図である。
【考案を実施するための形態】
【００１９】
以下、図面を参照して、本考案の第１から第４の実施形態に係るフットネイル施術用補助具について説明する。ただし、図面において、同一又は類似の部材や部分には同一又は類似の符号を付している。また、図面は模式的に図示しており、実際の寸法や比率等とは必ずしも一致しない。さらに、図面相互間において、互いの寸法の関係や比率が異なる部分が含まれることがある。
【００２０】
〔第１の実施形態〕
まず、図１を参照して、本考案の第１の実施形態に係るフットネイル施術用補助具の構成について説明する。図１は本考案の第１の実施形態に係るフットネイル施術用補助具の斜視図である。
【００２１】
図１に示すように、本実施形態に係るフットネイル施術用補助具１００は、補助具本体１０、脚支持部材２０、足置きテーブル３０、および施術テーブル４０を備える。以下、各構成要素について説明する。
【００２２】
補助具本体１０は、ネイルサロンを訪れた被施術者が着座する椅子１（図２参照）の座部２上に配設される。補助具本体１０は、椅子１の座部２の大きさに合わせて形成された扁平な直方体状の部材であり、本実施形態では、例えば、ウレタン等のクュション部材によって形成されている。図１において、補助具本体１０の左側が後方側Ｂであり、右側が前方側Ｆである。
【００２３】
脚支持部材２０は、椅子１に座った被施術者の脚部裏側を下方から支持するための部材である。脚支持部材２０は、補助具本体１０から上方へ向けて隆起可能なフレーム部材２１と、当該フレーム部材２１に張設された布部材２５と、から構成される。フレーム部材２１の基端部２２は、補助具本体１０の後方側（基端側）の上端部に回動可能に軸支されている。フレーム部材２１の中間部には、山形状に屈曲可能な間接部２３が設けられている。フレーム部材２１の前端部には、左右方向ＬＲに沿って係合バー２４が設けられている。
【００２４】
補助具本体１０は、隆起高さの調整機構１１を備えている。本実施形態の隆起高さの調整機構１１は、補助具本体１０の上面に左右方向ＬＲに沿って形成された複数の係止溝１２と、これらの係止溝１２に係止される上記係合バー２４と、によって構成されている。補助具本体１０の上面に複数の係止溝１２が形成されているので、複数の係止溝１２における係合バー２４の係止位置を変更することにより、脚支持部材２０の隆起高さおよび傾斜角度を段階的に変化させることができる。本実施形態では、補助具本体１０の上面に４つの係止溝１２が形成されているので、脚支持部材２０の隆起高さおよび傾斜角度が４段階で調整可能となっているが、係止溝１２の数は例示の数に限定されない。
【００２５】
足置きテーブル３０は、被施術者が足裏を載せるための板状部材であり、少なくとも足裏のかかと部が載るように構成されていればよい。足置きテーブル３０は、係合バー２４によって脚支持部材２０と連結されている。上記足置きテーブル３０は補助具本体１０上に支持され、脚支持部材２０から前方へ延出させて設けられている。本実施形態の足置きテーブル３０の延出長さは、例えば、脚支持部材２０の前端部から約１６ｃｍの長さに形成されているが、当該延出長さは例示であって限定されない。
【００２６】
施術テーブル４０は、光照射装置５０を載せるための板状部材である（図２参照）。光照射装置５０は、被施術者の足指の爪に施したジェルネイル（ネイル樹脂）に光を照射して硬化させるための装置である。施術テーブル４０は、足置きテーブル３０の前方側に延出させて配される。本実施形態の施術テーブル４０の延出長さは、例えば、足置きテーブル３０の前端部から約１６ｃｍの長さに形成されているが、当該延出長さは例示であって限定されない。
【００２７】
本実施形態の足置きテーブル３０および施術テーブル４０は、それぞれ左足側足置きテーブル３０Ｌと右足側足置きテーブル３０Ｒ、左足側施術テーブル４０Ｌと右足側施術テーブル４０Ｒに分離形成されている。施術テーブル４０Ｌ，４０Ｒは、足置きテーブル３０Ｌ，３０Ｒ側へ折り畳み自在に形成されている。
【００２８】
具体的には、施術テーブル４０Ｌ，４０Ｒの後端部（基端部）４３が足置きテーブル３０Ｌ，３０Ｒの前端部（先端部）に軸支されており、補助具本体１０の前面と施術テーブル４０Ｌ，４０Ｒの前端部（先端部）との間に折り畳み可能な支持部材４１が掛け渡されている。支持部材４１は、当該支持部材４１の中間部に内側のみに折り畳み可能な間接部４２を有する。支持部材４１の間接部４２を手動で内側へ折り畳むと、施術テーブル４０Ｌ，４０Ｒは足置きテーブル３０Ｌ，３０Ｒ側へ折り畳まれる。他方、支持部材４１の間接部４２を外側へ手動で延ばすと、施術テーブル４０Ｌ，４０Ｒは足置きテーブル３０Ｌ，３０Ｒから前方へ延出された状態となり、当該間接部４２が内側へと手動で折り畳まれるまで延出状態を維持する。
【００２９】
本実施形態の施術テーブル４０Ｌ，４０Ｒの表面（上面）は、鏡面４５によって形成されていることが好ましい。施術テーブル４０Ｌ，４０Ｒの表面に鏡を取り付けてもよいし、あるいは、施術テーブル４０Ｌ，４０Ｒをステンレス鋼板等の金属板によって形成し、金属板の表面を鏡面仕上げしても構わない。施術テーブル４０Ｌ，４０Ｒの表面を鏡面４５で構成するのは、光照射装置５０の光照射効率を向上させるためであり、詳細は後述する。
【００３０】
補助具本体１０の椅子１の座部２との接触部の一部には、滑り止め部材６１が配設されている。本実施形態では、補助具本体１０の下面の周囲に滑り止め部材６１が配設されている。また、足置きテーブル３０Ｌ，３０Ｒおよび施術テーブル４０Ｌ，４０Ｒの一部にも、滑り止め部材６２が配設されている。本実施形態では、足置きテーブル３０Ｌ，３０Ｒおよび施術テーブル４０Ｌ，４０Ｒの周縁部に滑り止め部材６２が配設されている。滑り止め部材６１，６２としては、例えば、ラバーテープなどが挙げられる。
【００３１】
次に、図１および図２を参照して、本実施形態に係るフットネイル施術用補助具１００の動作について説明する。図１に示すように、脚支持部材２０のフレーム部材２１は、中間部に山形状に屈曲可能な間接部２３を有する。本実施形態に係るフットネイル施術用補助具１００の初期状態において、脚支持部材２０のフレーム部材２１の間接部２３は延ばした状態であり、脚支持部材２０は補助具本体１０の上面に平坦な状態で配されている。また、施術テーブル４０Ｌ，４０Ｒの支持部材４１の間接部４２も内側に折り畳まれており、施術テーブル４０Ｌ，４０Ｒは足置きテーブル３０Ｌ，３０Ｒ側に折り畳まれている。
【００３２】
図２に示すように、本実施形態に係るフットネイル施術用補助具１００は、被施術者３が施術用の椅子１に座る際に、被施術者３が膝を立てて形成された当該椅子１の座部２の前半部側の空間領域に設置して使用される。施術者は椅子１の座部２の前半部側に本実施形態に係るフットネイル施術用補助具１００を設置すると共に、脚支持部材２０のフレーム部材２１の間接部２３を屈曲させて、被施術者３の膝を立てた状態の脚部４の下側で当該脚支持部材２０を隆起させる。本実施形態に係るフットネイル施術用補助具１００は、図１および図２に示すように、隆起高さの調整機構１１を備えており、補助具本体１０の上面に形成された複数の係止溝１２における係合バー２４の係止位置を変更することにより、脚支持部材２０の隆起高さおよび傾斜角度を段階的に変化させることができる。したがって、被施術者３の体系に合わせて脚支持部材２０の隆起高さおよび傾斜角度を調整することができる。
【００３３】
被施術者３の脚部は脚支持部材２０に載せられ、当該脚支持部材２０は下側から脚部裏側を支持することになる。脚支持部材２０のフレーム部材２１には布部材２５が張設されているので、適度な柔軟性をもたせて脚部裏側を支えることができ、被施術者３の脚姿勢を維持し易くする。
【００３４】
足置きテーブル３０Ｌ，３０Ｒは、脚支持部材２０と連結されており、当該脚支持部材２０を隆起させた状態で補助具本体１０上に支持され、脚支持部材２０から前方へ延出されている。したがって、被施術者３は少なくとも足裏５のかかと部５ａを足置きテーブル３０に載せることが可能である。
【００３５】
フットネイルの施術時には、施術テーブル４０Ｌ，４０Ｒの支持部材４１の間接部４２を外側へ延ばして、足置きテーブル３０Ｌ，３０Ｒから前方へ施術テーブル４０Ｌ，４０Ｒを延出させる。本実施形態では、足置きテーブル３０Ｌ，３０Ｒおよび施術テーブル４０Ｌ，４０Ｒが左足用と右足用のテーブルに分離形成されている。したがって、左足指の爪をネイル施術する際には、左足側施術テーブル４０Ｌのみを延出させればよく、他方、右足指の爪をネイル施術する際には、右足側施術テーブル４０Ｒのみを延出させればよい。一人の被施術者３に対して、一人の施術者がネイル施術を片足ずつ行うのが通常だからである。
【００３６】
施術テーブル４０Ｌ，４０Ｒを延出させたときに、当該施術テーブル４０Ｌ，４０Ｒ上に設ける光照射装置５０は、概ね半割円筒体状を呈しており、内部に光を照射する複数の発光ダイオード（ＬＥＤ）が配設されている。被施術者３の足指の爪に施したジェルネイルは、例えば、ジェル状の光硬化樹脂によって構成されており、紫外線ランプやＬＥＤの光を照射することによって光硬化する。施術テーブル４０Ｌ，４０Ｒの表面を鏡面４５によって形成するのは、ジェルネイルの硬化処理における光照射装置５０の光照射効率を向上させるためである。
【００３７】
以上説明したように、第１の実施形態に係るフットネイル施術用補助具１００によれば、施術者が被施術者３の足指の爪にネイル等を施す際に、被施術者３の脚部４を支えて被施術者３の脚姿勢を維持し、フットネイルの施術を補助することができる。また、被施術者３の脚姿勢が維持されるので、施術者側にとっても施術の利便性を高めることができる。
【００３８】
また、第１の実施形態に係るフットネイル施術用補助具１００によれば、隆起高さの調整機構１１により脚支持部材２０の隆起高さおよび傾斜角度を段階的に変更可能であるので、被施術者３の体系に合わせて脚支持部材２０の隆起高さおよび傾斜角度を容易に調整することができる。
【００３９】
さらに、第１の実施形態に係るフットネイル施術用補助具１００によれば、施術テーブル４０Ｌ，４０Ｒの表面を鏡面４５によって形成しているので、ジェルネイルの硬化処理における光照射装置５０の光照射効率を向上させることができる。
【００４０】
またさらに、第１の実施形態に係るフットネイル施術用補助具１００によれば、施術テーブル４０Ｌ，４０Ｒが足置きテーブル３０Ｌ，３０Ｒ側へ折り畳み自在に形成されているので、ジェルネイルの光硬化処理を行う必要時のみに施術テーブル４０Ｌ，４０Ｒを足置きテーブル３０Ｌ，３０Ｒから前方へと延出させることができる。
【００４１】
そして、第１の実施形態に係るフットネイル施術用補助具１００によれば、足置きテーブル３０Ｌ，３０Ｒおよび施術テーブル４０Ｌ，４０Ｒは、それぞれ左足側と右足側のテーブルに分離形成されているので、被施術者３のフトネイルを片足ずつ施術することができる。
【００４２】
加えて、補助具本体１０の椅子１の座部２との接触部の一部、足置きテーブル３０Ｌ，３０Ｒおよび施術テーブル４０Ｌ，４０Ｒの一部には、滑り止め部材６１，６２が配設されているので、補助具本体１０の位置ずれや、施術テーブル４０Ｌ，４０Ｒにおける光照射装置５０の位置ずれなどを防止することができる。
【００４３】
〔第２の実施形態〕
次に、図３を参照して、本考案の第２の実施形態に係るフットネイル施術用補助具２００の構成について説明する。図３は第２の実施形態に係るフットネイル施術用補助具の要部拡大図である。なお、図３において、滑り止め部材６１，６２については、図示を省略する。また、第１の実施形態と同一の構成要素については、同一の符号を付して説明を省略する。
【００４４】
図３に示すように、第２の実施形態に係るフットネイル施術用補助具２００は、施術テーブル２４０が足置きテーブル２３０から進退自在に形成されている点が、第１の実施形態のフットネイル施術用補助具１００と異なる。
【００４５】
具体的には、足置きテーブル２３０Ｌ，２３０Ｒの下面の両側には、それぞれ一定のガイドフレーム２３１が設けられており、これらのガイドフレーム２３１に沿って施術テーブル２４０Ｌ，２４０Ｒが進退移動可能に構成されている。ガイドフレーム２３１の前端側（先端側）にはストッパ２３２が設けられており、施術テーブル２４０Ｌ，２４０Ｒの後端側（基端側）に設けられた係合部材２４１が上記ストッパ２３２に係止されて、ガイドフレーム２３１からの施術テーブル２４０Ｌ，２４０Ｒの離脱を防止するように構成されている。
【００４６】
第２の実施形態に係るフットネイル施術用補助具２００は、基本的に第１の実施形態のフットネイル施術用補助具１００と同様の作用効果を奏する。特に、第２の実施形態に係るフットネイル施術用補助具２００によれば、施術テーブル２４０Ｌ，２４０Ｒが足置きテーブル２３０Ｌ，２３０Ｒから進退自在に形成されているので、当該フットネイル施術用補助具２００の初期状態のコンパクト化を図ることができるという有利な効果を奏する。
【００４７】
〔第３の実施形態〕
次に、図４を参照して、本考案の第３の実施形態に係るフットネイル施術用補助具３００の構成について説明する。図４は第３の実施形態に係るフットネイル施術用補助具の斜視図である。なお、第１の実施形態と同一の構成要素については、同一の符号を付して説明を省略する。
【００４８】
図４に示すように、第３の実施形態に係るフットネイル施術用補助具３００は、補助具本体３１０の上面高さが前方から後方に向かって順次低くなるように形成されている点が、第１の実施形態のフットネイル施術用補助具１００と異なる。
【００４９】
具体的には、補助具本体３１０の足置きテーブル３０Ｌ，３０Ｒを支持する部位は略水平に形成されている。この補助具本体３１０の足置きテーブル３０Ｌ，３０Ｒを支持する部位から後方側の部分は、補助具本体３１０の上面高さが前方から後方に向かって順次低くなるように形成されている。すなわち、当該補助具本体３１０の後方側の部分は、前方から後方へ向けて順次肉厚が減少しており、補助具本体３１０の上面が前方から後方へ向けて下り傾斜するように形成されている。したがって、補助具本体３１０の後部の高さが、第１の実施形態の補助具本体１０の後部の高さよりも低く形成されている。
【００５０】
第３の実施形態に係るフットネイル施術用補助具３００は、基本的に第１の実施形態のフットネイル施術用補助具１００と同様の作用効果を奏する。特に、第３の実施形態に係るフットネイル施術用補助具３００によれば、補助具本体３１０の上面高さが前方から後方に向かって順次低くなるように形成されており、補助具本体３１０の後部の高さが低く形成されている。したがって、第３の実施形態に係るフットネイル施術用補助具３００は、被施術者が脚部を脚支持部材２０に載せたときに、脚部側の臀部が補助具本体３１０の角部や側面に当たり難くなり、被施術者は不快感なく脚姿勢を保持することができるという有利な効果を奏する。
【００５１】
〔第４の実施形態〕
次に、図５を参照して、本考案の第４の実施形態に係るフットネイル施術用補助具４００の構成について説明する。図５は第４の実施形態に係るフットネイル施術用補助具の斜視図である。なお、第１および第２の実施形態と同一の構成要素については、同一の符号を付して説明を省略する。
【００５２】
図５に示すように、第４の実施形態に係るフットネイル施術用補助具４００は、補助具本体４１０の肉厚が全体として薄く形成されている点が、第１の実施形態のフットネイル施術用補助具１００と異なる。
【００５３】
具体的には、第４の実施形態に係るフットネイル施術用補助具４００では、補助具本体４１０の肉厚が全体として薄く形成されているので、第１の実施形態に係る補助具本体１０に比して、補助具本体４１０の全体の高さが低く形成されている。すなわち、補助具本体４１０は、全体として、隆起高さの調整機構１１の係止溝１２を形成するに足りる薄い肉厚を有している。また、補助具本体４１０の後端部は、後方側へと延出されている。
【００５４】
上述のように、第４の実施形態では、補助具本体４１０の肉厚が全体として薄く形成されている。したがって、図５では図示を省略しているが、第２の実施形態のように、施術テーブル２４０を足置きテーブル２３０から進退自在な構造に形成することが好ましい（図３参照）。
【００５５】
第４の実施形態に係るフットネイル施術用補助具４００は、基本的に第１の実施形態のフットネイル施術用補助具１００と同様の作用効果を奏する。特に、第４の実施形態に係るフットネイル施術用補助具４００によれば、補助具本体４１０の全体の高さが低く形成されており、補助具本体３１０の後部の高さが低く形成されている。したがって、第４の実施形態に係るフットネイル施術用補助具４００は、第３の実施形態に係るフットネイル施術用補助具３００と同様に、被施術者が脚部を脚支持部材２０に載せたときに、脚部側の臀部が補助具本体３１０の角部や側面に当たり難くなり、被施術者は不快感なく脚姿勢を保持することができるという有利な効果を奏する。
【００５６】
〔他の実施形態〕
以上、本考案の好適な実施形態を説明したが、これらは本考案の説明のための例示であり、本考案の範囲をこれらの実施形態にのみ限定する趣旨ではない。本考案は、その要旨を逸脱しない範囲で、上記実施形態とは異なる種々の態様で実施することができる。
【００５７】
第１および第３の実施形態では、施術テーブル４０Ｌ，４０Ｒが足置きテーブル３０Ｌ，３０Ｒ側に折り畳み可能に形成されている。また、第２および第４の実施形態では、施術テーブル２４０Ｌ，２４０Ｒが足置きテーブル２３０Ｌ，２３０Ｒから進退可能に形成されている。これらの態様に限定されず、足置きテーブルおよび施術テーブルは固定であっても構わない。
【００５８】
また、第１から第４の実施形態では、足置きテーブル３０Ｌ，３０Ｒ、２３０Ｌ，２３０Ｒおよび施術テーブル４０Ｌ，４０Ｒ、２４０Ｌ，２４０Ｒがそれぞれ左足側と右足側のテーブルに分離形成されている。これらの態様に限定されず、足置きテーブルおよび施術テーブルは左足側と右足側とが一体形成されていてもよい。
【００５９】
さらに、第１および第２の実施形態では、隆起高さの調整機構１１が段階的に調整可能に構成されている。これに限定されず、脚支持部材２０の間接部２３の開閉角度を順次調整可能な機構として構成し、無段階で連続的に調整可能に構成してもよい。
【符号の説明】
【００６０】
１    椅子、
２    座部、
３    被施術者、
４    脚部、
５    足裏、
５ａ    かかと部、
１０    補助具本体、
２０    脚支持部材、
２１    隆起高さの調整機構、
３０、２３０    足置きテーブル、
３０Ｌ、２３０Ｌ    左足側の足置きテーブル、
３０Ｒ、２３０Ｒ    右足側の足置きテーブル、
３１    鏡面、
４０、２４０    施術テーブル、
４０Ｌ、２４０Ｌ    左足側の施術テーブル、
４０Ｒ、２４０Ｒ    右足側の施術テーブル、
５０    光照射装置、
６１、６２    滑り止め部材、
１００、２００、３００、４００    フットネイル施術用補助具。
【図１】
0003201442.tif 000003
【図２】
0003201442.tif 000004
【図３】
0003201442.tif 000005
【図４】
0003201442.tif 000006
【図５】
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