(57)【要約】  本発明により、基材上に、少なくとも１層の反射防止層を有し、反射防止層は、基材側の面とは反対側の最表面から基材に向かう方向に２０ｎｍ以下の厚みの領域（Ｓ）内に、１分子中に架橋基を３つ以上持ち、架橋基当量が４５０以下であり、フッ素原子及びシロキサン結合の少なくとも一種を含む部位を有する滑り剤（ａ）と、少なくとも１分子中に架橋基を３つ以上持ち、架橋基当量が４５０以下であり、フッ素原子及びシロキサン結合のいずれも有さない硬化性化合物（ｂ）と、光重合開始剤（ｃ）と、を含む硬化性組成物の硬化物を含み、領域（Ｓ）の断面方向の素材分布において、滑り剤（ａ）の含有率が５１％以上となる領域を有する、反射防止フィルム、及び上記反射防止フィルムを簡便に製造することができる方法が提供される。
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材上に、少なくとも１層の反射防止層を有し、
前記反射防止層は、前記基材側の面とは反対側の最表面から前記基材に向かう方向に２０ｎｍ以下の厚みの領域（Ｓ）内に、
１分子中に架橋基を３つ以上持ち、架橋基当量が４５０以下であり、フッ素原子及びシロキサン結合の少なくとも一種を含む部位を有する滑り剤（ａ）と、
少なくとも１分子中に架橋基を３つ以上持ち、架橋基当量が４５０以下であり、フッ素原子及びシロキサン結合のいずれも有さない硬化性化合物（ｂ）と、
光重合開始剤（ｃ）と、を含む硬化性組成物の硬化物を含み、
前記領域（Ｓ）の断面方向の素材分布において、前記滑り剤（ａ）の含有率が５１％以上となる領域を有する、反射防止フィルム。
【請求項２】
前記反射防止層の前記基材側の面とは反対側の最表面を、荷重２００ｇの条件でスチールウールで１０往復擦った後の前記反射防止フィルムの反射率をＲＡ、スチールウールで擦る前の前記反射防止フィルムの反射率をＲ０としたとき、ＲＡ−Ｒ０で表される反射率変化が０．２５％以下である、請求項１に記載の反射防止フィルム。
【請求項３】
前記滑り剤（ａ）の前記架橋基が（メタ）アクリロイル基である、請求項１又は２に記載の反射防止フィルム。
【請求項４】
前記滑り剤（ａ）の前記フッ素原子及びシロキサン結合の少なくとも一種を含む部位は、フルオロアルキル基である、請求項１〜３のいずれか１項に記載の反射防止フィルム。
【請求項５】
前記滑り剤（ａ）の前記フッ素原子及びシロキサン結合の少なくとも一種を含む部位は、ポリジメチルシロキサン基又はポリエーテル変性ジメチルシロキサン基である、請求項１〜３のいずれか１項に記載の反射防止フィルム。
【請求項６】
前記滑り剤（ａ）は、側鎖に前記フッ素原子及びシロキサン結合の少なくとも一種を含む部位と前記架橋基を持ち、重量平均分子量が６，０００以上である化合物（ａ１）である、請求項４又は５に記載の反射防止フィルム。
【請求項７】
前記化合物（ａ１）は、前記架橋基がＣ−Ｃ結合又はＣ−Ｏ結合で主鎖に連結している、請求項６に記載の反射防止フィルム。
【請求項８】
前記滑り剤（ａ）は、前記フッ素原子及びシロキサン結合の少なくとも一種を含む部位に、前記架橋基が直接又は連結基を介して結合した、重量平均分子量が６，０００未満である化合物（ａ２）である、請求項４又は５に記載の反射防止フィルム。
【請求項９】
前記化合物（ａ２）は、
下記一般式（Ｍ−２）で表される基を１つ有する化合物、
下記一般式（Ｍ−３）で表される基を１つ有する化合物、
下記一般式（Ｍ−１）で表される基を２つ有する化合物、
下記一般式（Ｍ−２）で表される基を２つ有する化合物、又は、
下記一般式（Ｍ−３）で表される基を２つ有する化合物である、請求項８に記載の反射防止フィルム。
【化１】
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一般式（Ｍ−１）中、Ｒ１は水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキルオキシ基、アルケニルオキシ基、アルキルオキシアルキル基、又はアルケニルオキシアルキル基表す。Ｒ１１及びＲ１２は各々独立に水素原子又はメチル基を表す。＊は結合位置を表す。
一般式（Ｍ−２）中、Ｒ２１〜Ｒ２３は各々独立に水素原子又はメチル基を表す。＊は結合位置を表す。
一般式（Ｍ−３）中、Ｒ３１〜Ｒ３５は各々独立に水素原子又はメチル基を表す。＊は結合位置を表す。
【請求項１０】
前記化合物（ａ２）は、前記フッ素原子及びシロキサン結合の少なくとも一種を含む部位と、前記架橋基とがＣ−Ｃ結合又はＣ−Ｏ結合を介して結合している、請求項８に記載の反射防止フィルム。
【請求項１１】
前記反射防止層は、平均一次粒径が２５０ｎｍ以下の粒子（ｄ）を有する、請求項１〜１０のいずれか１項に記載の反射防止フィルム。
【請求項１２】
前記反射防止層の前記基材側とは反対側の表面に前記粒子（ｄ）によって形成された凹凸形状を有する、請求項１１に記載の反射防止フィルム。
【請求項１３】
前記基材の可視光の透過率が８０％以上である、請求項１〜１２のいずれか１項に記載の反射防止フィルム。
【請求項１４】
前記反射防止層には、前記基材の表面に直交する方向に前記粒子（ｄ）が複数存在しない、請求項１２に記載の反射防止フィルム。
【請求項１５】
請求項１２に記載の反射防止フィルムの製造方法であって、
前記基材上に、
前記滑り剤（ａ）、前記硬化性化合物（ｂ）、前記光重合開始剤（ｃ）、前記粒子（ｄ）、及び溶剤を含む組成物を塗布し、前記溶剤を揮発させ、前記粒子（ｄ）が存在しない部分の厚みが前記粒子（ｄ）の平均一次粒径の０．８倍以上の厚さとなる層（Ａ）を設ける工程（１）と、
前記層（Ａ）中の前記硬化性化合物（ｂ）の一部を硬化させ、硬化された化合物（ｂｃ）を得る工程（２）と、
前記層（Ａ）中の前記硬化性化合物（ｂ）及び前記化合物（ｂｃ）からなる群より選択される化合物の一部を、加熱により前記基材に浸透させるか又は揮発させ、前記層（Ａ）の前記基材側とは反対の最表面に前記粒子（ｄ）からなる凹凸形状を形成する工程（３）と、
前記層（Ａ）中に残存する、前記滑り剤（ａ）、前記硬化性化合物（ｂ）及び前記化合物（ｂｃ）からなる群より選択される化合物を硬化させて、前記反射防止層を形成する工程（４）と、
をこの順に有する、反射防止フィルムの製造方法。
【請求項１６】
前記工程（１）と前記工程（２）の間、前記工程（２）と前記工程（３）の間、又は前記工程（３）と前記工程（４）の間に、
前記硬化性化合物（ｂ）とは相溶しない化合物（ｅ）を含む層（Ｅ）を、前記層（Ａ）の前記基材側の面とは反対側の面上に設ける工程（Ｅ１）を有し、
前記工程（Ｅ１）に引き続いて行う前記工程（２）、前記工程（３）又は前記工程（４）の後に、前記層（Ｅ）を除去する工程（Ｅ２）を有する、請求項１５に記載の反射防止フィルムの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、反射防止フィルム、及び反射防止フィルムの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
陰極管表示装置（ＣＲＴ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）、蛍光表示ディスプレイ（ＶＦＤ）、フィールドエミッションディスプレイ（ＦＥＤ）、及び液晶表示装置（ＬＣＤ）のような画像表示装置では、表示面での外光の反射によるコントラスト低下や像の映り込みを防止するために反射防止フィルムを設けることがある。また、ショールームのガラス表面など、画像表示装置以外でも反射防止フィルムにより反射防止機能を付与する場合がある。【０００３】
ディスプレイの前面に配置されて用いられる反射防止フィルムとして、特許文献１には、活性エネルギー線の照射により重合し得る反応基を１分子中に少なくとも３つ以上を有しかつ、ポリジメチルシロキサンと、ジイソシアネート又はトリイソシアネートと、重合性反応基含有ポリエステルとをウレタン結合形成したポリオルガノシロキサンを含む反射防止フィルムが記載されている。【０００４】
またプラスチック成型品にも、その表面を損傷から保護する等の観点から、塗膜で被覆されるのが一般的であり、特許文献２には、１分子中にポリシロキサン部位と５個以上の（メタ）アクリロイルオキシ基とを有する特定の構造の（メタ）アクリレート化合物、ウレタン（メタ）アクリレート、および光重合開始剤からなる硬化性樹脂組成物が記載されている。【０００５】
一方、反射防止フィルムとして、基材表面に周期が可視光の波長以下の微細な凹凸形状を有する反射防止フィルム、いわゆるモスアイ（ｍｏｔｈ  ｅｙｅ）構造を有する反射防止フィルムが知られている。モスアイ構造により、可視光にとっては空気から基材の内部のバルク材料に向かって屈折率が連続的に変化する屈折率傾斜層を作り出し、光の反射を防止することができる。【０００６】
モスアイ構造を有する反射防止フィルムとして、特許文献３には、透明樹脂モノマーと微粒子を含有する塗布液を透明基材上に塗布し、硬化して微粒子が分散した透明樹脂を形成し、その後、透明樹脂をエッチングすることにより製造されたモスアイ構造を有する反射防止フィルムが記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】日本国特許第５０５５７６３号公報
【特許文献２】日本国特許第５６２５９３１号公報
【特許文献３】日本国特開２００９−１３９７９６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかしながら、液晶表示装置（ＬＣＤ）や有機ＥＬ表示装置（ＯＬＥＤ）に代表される薄型で軽量なディスプレイが普及し、ディスプレイの使用される物品、状況、および使用形態が広域化、複雑化していく中で、特許文献１〜３の技術では、必要な耐擦傷性（主にスチールウール擦り）がまだ不足しており、更に性能向上させる必要がある。更に反射防止性能も特許文献１に記載されるレベルでは不十分である。【０００９】
本発明の課題は、良好な反射防止性能を有し、耐擦傷性試験前後の反射率の変化が小さく、実用的な耐擦傷性に優れた反射防止フィルムを提供すること、また上記反射防止フィルムを簡便に製造する方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明者らは、鋭意検討し、上記課題を解決するためには、反射防止層の、特に表面の極浅い領域を形成する、素材そのものの架橋基密度と滑り性の両立が重要であるという結論に至った。特に反射防止層が表面に凹凸形状からなるモスアイ構造を有している場合が顕著である。従来の滑り剤は滑り性のみが重視されており、素材そのものの架橋基密度が高くないため、モスアイ構造の凸部の最表面に存在したとしても、耐擦傷性試験の最初は有効に働くが、直ぐに削られてしまい、滑り性が維持できず、反射防止層に傷が付いてしまう。これに対して、架橋基密度が高く、滑り性のある特定の素材を用いることで、モスアイ構造の凸部の最表面に架橋密度が高く、かつ滑り性を有する被膜が形成されるため、繰り返し擦られる耐擦傷性試験時に凸部に集中する荷重に耐えることができ、凹凸形状を維持することができ、かつ傷付きを防止できることを見出した。すなわち、下記手段により上記課題を解決できることを見出した。【００１１】
＜１＞
基材上に、少なくとも１層の反射防止層を有し、
上記反射防止層は、上記基材側の面とは反対側の最表面から上記基材に向かう方向に２０ｎｍ以下の厚みの領域（Ｓ）内に、
１分子中に架橋基を３つ以上持ち、架橋基当量が４５０以下であり、フッ素原子及びシロキサン結合の少なくとも一種を含む部位を有する滑り剤（ａ）と、
少なくとも１分子中に架橋基を３つ以上持ち、架橋基当量が４５０以下であり、フッ素原子及びシロキサン結合のいずれも有さない硬化性化合物（ｂ）と、
光重合開始剤（ｃ）と、を含む硬化性組成物の硬化物を含み、
上記領域（Ｓ）の断面方向の素材分布において、上記滑り剤（ａ）の含有率が５１％以上となる領域を有する、反射防止フィルム。
＜２＞
上記反射防止層の上記基材側の面とは反対側の最表面を、荷重２００ｇの条件でスチールウールで１０往復擦った後の上記反射防止フィルムの反射率をＲＡ、スチールウールで擦る前の上記反射防止フィルムの反射率をＲ０としたとき、ＲＡ−Ｒ０で表される反射率変化が０．２５％以下である、＜１＞に記載の反射防止フィルム。
＜３＞
上記滑り剤（ａ）の上記架橋基が（メタ）アクリロイル基である、＜１＞又は＜２＞に記載の反射防止フィルム。
＜４＞
上記滑り剤（ａ）の上記フッ素原子及びシロキサン結合の少なくとも一種を含む部位は、フルオロアルキル基である、＜１＞〜＜３＞のいずれか１項に記載の反射防止フィルム。
＜５＞
上記滑り剤（ａ）の上記フッ素原子及びシロキサン結合の少なくとも一種を含む部位は、ポリジメチルシロキサン基又はポリエーテル変性ジメチルシロキサン基である、＜１＞〜＜３＞のいずれか１項に記載の反射防止フィルム。
＜６＞
上記滑り剤（ａ）は、側鎖に上記フッ素原子及びシロキサン結合の少なくとも一種を含む部位と上記架橋基を持ち、重量平均分子量が６，０００以上である化合物（ａ１）である、＜４＞又は＜５＞に記載の反射防止フィルム。
＜７＞
上記化合物（ａ１）は、上記架橋基がＣ−Ｃ結合又はＣ−Ｏ結合で主鎖に連結している、＜６＞に記載の反射防止フィルム。
＜８＞
上記滑り剤（ａ）は、上記フッ素原子及びシロキサン結合の少なくとも一種を含む部位に、上記架橋基が直接又は連結基を介して結合した、重量平均分子量が６，０００未満である化合物（ａ２）である、＜４＞又は＜５＞に記載の反射防止フィルム。
＜９＞
上記化合物（ａ２）は、
下記一般式（Ｍ−２）で表される基を１つ有する化合物、
下記一般式（Ｍ−３）で表される基を１つ有する化合物、
下記一般式（Ｍ−１）で表される基を２つ有する化合物、
下記一般式（Ｍ−２）で表される基を２つ有する化合物、又は、
下記一般式（Ｍ−３）で表される基を２つ有する化合物である、＜８＞に記載の反射防止フィルム。【００１２】
【化１】
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【００１３】
一般式（Ｍ−１）中、Ｒ１は水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキルオキシ基、アルケニルオキシ基、アルキルオキシアルキル基、又はアルケニルオキシアルキル基表す。Ｒ１１及びＲ１２は各々独立に水素原子又はメチル基を表す。＊は結合位置を表す。
一般式（Ｍ−２）中、Ｒ２１〜Ｒ２３は各々独立に水素原子又はメチル基を表す。＊は結合位置を表す。
一般式（Ｍ−３）中、Ｒ３１〜Ｒ３５は各々独立に水素原子又はメチル基を表す。＊は結合位置を表す。
＜１０＞
上記化合物（ａ２）は、上記フッ素原子及びシロキサン結合の少なくとも一種を含む部位と、上記架橋基とがＣ−Ｃ結合又はＣ−Ｏ結合を介して結合している、＜８＞に記載の反射防止フィルム。
＜１１＞
上記反射防止層は、平均一次粒径が２５０ｎｍ以下の粒子（ｄ）を有する、＜１＞〜＜１０＞のいずれか１項に記載の反射防止フィルム。
＜１２＞
上記反射防止層の上記基材側とは反対側の表面に上記粒子（ｄ）によって形成された凹凸形状を有する、＜１１＞に記載の反射防止フィルム。
＜１３＞
上記基材の可視光の透過率が８０％以上である、＜１＞〜＜１２＞のいずれか１項に記載の反射防止フィルム。
＜１４＞
上記反射防止層には、上記基材の表面に直交する方向に上記粒子（ｄ）が複数存在しない、＜１２＞に記載の反射防止フィルム。
＜１５＞
＜１２＞に記載の反射防止フィルムの製造方法であって、
上記基材上に、
上記滑り剤（ａ）、上記硬化性化合物（ｂ）、上記光重合開始剤（ｃ）、上記粒子（ｄ）、及び溶剤を含む組成物を塗布し、上記溶剤を揮発させ、上記粒子（ｄ）が存在しない部分の厚みが上記粒子（ｄ）の平均一次粒径の０．８倍以上の厚さとなる層（Ａ）を設ける工程（１）と、
上記層（Ａ）中の上記硬化性化合物（ｂ）の一部を硬化させ、硬化された化合物（ｂｃ）を得る工程（２）と、
上記層（Ａ）中の上記硬化性化合物（ｂ）及び上記化合物（ｂｃ）からなる群より選択される化合物の一部を、加熱により上記基材に浸透させるか又は揮発させ、上記層（Ａ）の上記基材側とは反対の最表面に上記粒子（ｄ）からなる凹凸形状を形成する工程（３）と、
上記層（Ａ）中に残存する、上記滑り剤（ａ）、上記硬化性化合物（ｂ）及び上記化合物（ｂｃ）からなる群より選択される化合物を硬化させて、上記反射防止層を形成する工程（４）と、
をこの順に有する、反射防止フィルムの製造方法。
＜１６＞
上記工程（１）と上記工程（２）の間、上記工程（２）と上記工程（３）の間、又は上記工程（３）と上記工程（４）の間に、
上記硬化性化合物（ｂ）とは相溶しない化合物（ｅ）を含む層（Ｅ）を、上記層（Ａ）の上記基材側の面とは反対側の面上に設ける工程（Ｅ１）を有し、
上記工程（Ｅ１）に引き続いて行う上記工程（２）、上記工程（３）又は上記工程（４）の後に、上記層（Ｅ）を除去する工程（Ｅ２）を有する、＜１５＞に記載の反射防止フィルムの製造方法。
【発明の効果】
【００１４】
本発明によれば、良好な反射防止性能を有し、耐擦傷性試験前後の反射率変化が小さく、実用的な耐擦傷性に優れた反射防止フィルムを提供することができ、また上記反射防止フィルムを簡便に製造することができる方法を提案することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】本発明の反射防止フィルムの製造方法の一例を示す模式図である。
【図２】本発明の反射防止フィルムの一例を示す断面模式図である。
【図３】本発明の反射防止フィルムの一例を示す断面模式図である。
【図４】本発明の反射防止フィルムの一例を示す断面模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
以下、本発明に係る好ましい実施の形態について詳細に説明する。以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施態様に限定されるものではない。
また、「（メタ）アクリレート」はアクリレート及びメタクリレートの少なくとも一種を表し、「（メタ）アクリル」はアクリル及びメタクリルの少なくとも一種を表し、「（メタ）アクリロイル」は、アクリロイル及びメタクリロイルの少なくとも一種を表す。
【００１７】
［反射防止フィルム］
本発明の反射防止フィルムは、
基材上に、少なくとも１層の反射防止層を有し、
上記反射防止層は、上記基材側の面とは反対側の最表面から上記基材に向かう方向に２０ｎｍ以下の厚みの領域（Ｓ）内に、
１分子中に架橋基を３つ以上持ち、架橋基当量が４５０以下であり、フッ素原子及びシロキサン結合の少なくとも一種を含む部位を有する滑り剤（ａ）と、
少なくとも１分子中に架橋基を３つ以上持ち、架橋基当量が４５０以下であり、フッ素原子及びシロキサン結合のいずれも有さない硬化性化合物（ｂ）と、
光重合開始剤（ｃ）と、を含む硬化性組成物の硬化物を含み、
上記領域（Ｓ）の断面方向の素材分布において、上記滑り剤（ａ）の含有率が５１％以上となる領域を有する、反射防止フィルムである。
図３及び図４は、それぞれ本発明の反射防止フィルムの一例を示す断面模式図である。
【００１８】
＜滑り剤（ａ）＞
滑り剤（ａ）について説明する。
滑り剤（ａ）は、１分子中に架橋基を３つ以上持ち、架橋基当量が４５０以下であり、フッ素原子及びシロキサン結合の少なくとも一種を含む部位（以下、この部位を「低摩擦部位」ともいう）を有する。
架橋基としては、ラジカル反応性基又はラジカル反応性基以外の反応性基が挙げられ、ラジカル反応性基であることが好ましい。
ラジカル反応性基としては、付加重合可能な不飽和結合を有する基（例えば（メタ）アクリロイル基、（メタ）アクリルアミド基、（メタ）アクリロニトリル基、アリル基、ビニル基、スチレン構造、ビニルエーテル構造、アセチレン構造等）、−ＳＨ、−ＰＨ、ＳｉＨ、−ＧｅＨ、ジスルフィド構造等が挙げられ、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基等の重合性官能基（重合性の炭素−炭素不飽和二重結合を有する基）が好ましく、中でも、（メタ）アクリロイル基及び−Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ＝ＣＨ２が好ましく、（メタ）アクリロイル基が最も好ましい。
ラジカル反応性基以外の反応性基としては、エポキシ基、アミノ基、ボロン酸基、ボロン酸エステル基、オキシラニル基、オキセタニル基、水酸基、カルボキシル基、イソシアネート基等が挙げられる。
【００１９】
滑り剤（ａ）の架橋基当量とは、滑り剤（ａ）の分子量を、滑り剤（ａ）に含まれる架橋基の数で除した値であり、硬化後の膜強度の観点から４５０以下であり、３５０以下であることがより好ましく、３００以下であることが更に好ましい。
なお、たとえば架橋基がアクリロイル基又はメタクリロイル基の場合の架橋基当量をアクリル当量と呼ぶこともある。
【００２０】
滑り剤（ａ）は、反射防止層内での偏在性の観点から、側鎖に低摩擦部位と架橋基を持ち、重量平均分子量が６，０００以上である化合物（ａ１）であるか、または、最表面の強度の観点から低摩擦部位に、架橋基が直接又は連結基を介して結合した、重量平均分子量が６，０００未満である化合物（ａ２）であることが好ましい。
上記化合物（ａ１）はポリマーであることが好ましく、上記化合物（ａ１）の重量平均分子量は、６０００〜１００，０００であることが好ましく、８，０００〜８０，０００であることがより好ましい。
上記化合物（ａ２）はモノマー又はオリゴマーであることが好ましく、上記化合物（ａ２）の重量平均分子量は、９００〜６，０００であることが好ましく、１３００〜５０００であることがより好ましい。
なお、滑り剤（ａ）の重量平均分子量は、後述する硬化性化合物（ｂ）の重量平均分子量と同様の方法で求められる。
【００２１】
上記化合物（ａ１）は、耐薬品および耐久性の観点から、架橋基がＣ−Ｃ結合又はＣ−Ｏ結合で主鎖に連結していることが好ましい。
上記化合物（ａ２）も同様に、耐薬品および耐久性の観点から、低摩擦部位と、架橋基とがＣ−Ｃ結合又はＣ−Ｏ結合を介して結合していることが好ましい。
【００２２】
上記化合物（ａ１）は、側鎖に低摩擦部位を有する繰り返し単位と、側鎖に架橋基を有する繰り返し単位とを有することが好ましい。
側鎖に架橋基を有する繰り返し単位としては、特開２００９−７９１２６号公報の［００２８］〜［００４４］に記載されたものを参照することができる。
【００２３】
上記化合物（ａ２）は、
下記一般式（Ｍ−２）で表される基を１つ有する化合物、
下記一般式（Ｍ−３）で表される基を１つ有する化合物、
下記一般式（Ｍ−１）で表される基を２つ有する化合物、
下記一般式（Ｍ−２）で表される基を２つ有する化合物、又は、
下記一般式（Ｍ−３）で表される基を２つ有する化合物であることが好ましい。
【００２４】
【化２】
2017146180.tif 000004
【００２５】
一般式（Ｍ−１）中、Ｒ１は水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキルオキシ基、アルケニルオキシ基、アルキルオキシアルキル基、又はアルケニルオキシアルキル基表す。Ｒ１１及びＲ１２は各々独立に水素原子又はメチル基を表す。＊は結合位置を表す。
一般式（Ｍ−２）中、Ｒ２１〜Ｒ２３は各々独立に水素原子又はメチル基を表す。＊は結合位置を表す。
一般式（Ｍ−３）中、Ｒ３１〜Ｒ３５は各々独立に水素原子又はメチル基を表す。＊は結合位置を表す。
【００２６】
上記化合物（ａ２）が上記一般式（Ｍ−２）で表される基を１つ有する化合物である場合、低摩擦部位を含んでなる主鎖の片末端に、架橋基を有する基である上記一般式（Ｍ−２）で表される基が直接又は連結基を介して結合していることが好ましい。
上記化合物（ａ２）が上記一般式（Ｍ−３）で表される基を１つ有する化合物である場合、低摩擦部位を含んでなる主鎖の片末端に、架橋基を有する基である上記一般式（Ｍ−３）で表される基が直接又は連結基を介して結合していることが好ましい。
上記化合物（ａ２）が上記一般式（Ｍ−１）で表される基を２つ有する化合物である場合、低摩擦部位を含んでなる主鎖の両末端に、架橋基を有する基である上記一般式（Ｍ−１）で表される基が直接又は連結基を介して結合していることが好ましい。ここで、２つの一般式（Ｍ−１）で表される基は同じでもよいし、異なってもよい。
上記化合物（ａ２）が上記一般式（Ｍ−２）で表される基を２つ有する化合物である場合、低摩擦部位を含んでなる主鎖の両末端に、架橋基を有する基である上記一般式（Ｍ−２）で表される基が直接又は連結基を介して結合していることが好ましい。ここで、２つの一般式（Ｍ−２）で表される基は同じでもよいし、異なってもよい。
上記化合物（ａ２）が上記一般式（Ｍ−３）で表される基を２つ有する化合物である場合、低摩擦部位を含んでなる主鎖の両末端に、架橋基を有する基である上記一般式（Ｍ−３）で表される基が直接又は連結基を介して結合していることが好ましい。ここで、２つの一般式（Ｍ−３）で表される基は同じでもよいし、異なってもよい。
【００２７】
滑り剤（ａ）は、フッ素原子を含む低摩擦部位を有する場合は、フッ素原子を含む部位としてはフルオロアルキル基であることが好ましい。フッ素原子を含む部位を有する滑り剤（ａ）としては、例えば、下記一般式（１）に示すような構造で表すことができるが、本発明はこれに制限されるものではない。なお、本発明では、化学式において、炭化水素鎖を炭素（Ｃ）及び水素（Ｈ）の記号を省略した簡略構造式で記載する場合もある。
【００２８】
一般式（１）
【００２９】
【化３】
2017146180.tif 000005
【００３０】
一般式（１）中、Ｒは水素原子又はフッ素原子を表す。
【００３１】
滑り剤（ａ）がシロキサン結合を含む低摩擦部位を有する場合のシロキサン結合の構造を下記一般式（Ｐ）に示す。
【００３２】
【化４】
2017146180.tif 000006
【００３３】
上記一般式（Ｐ）中、Ｒｐ１及びＲｐ２はそれぞれ独立に、水素原子、一価の炭化水素基、アルコキシ基、又はアリーロキシ基を表す。ｎは２以上の整数を表す。
上記一価の炭化水素基としては、アルキル基、アリール基、アルケニル基、アルキニル基、アラルキル基等が例示できる。
Ｒｐ１及びＲｐ２としては、水素原子、炭素数が１〜２０である一価の炭化水素基、炭素数が１〜２０であるアルコキシ基、又は、炭素数が６〜２０であるアリーロキシ基であることが好ましく、炭素数が１〜２０であるアルキル基又は炭素数が６〜２０であるアリール基であることがより好ましく、炭素数が１〜２０であるアルキル基であることがさらに好ましく、メチル基であることが最も好ましい。
また、ｎは６〜１００の整数であることが好ましく、ｎが８〜６５の整数であることが更に好ましく、ｎが１０〜３５の整数であることが最も好ましい。
【００３４】
滑り剤（ａ）が有するシロキサン結合を含む部位としては、ポリジメチルシロキサン基もしくはポリエーテル変性ジメチルシロキサン基が有用である。本発明では特に、繰り返し数ｎが６〜１００のポリジメチルシロキサン基またはポリエーテル変性ジメチルシロキサン基がより好ましく、ｎが８〜６５が更に好ましく、ｎが１０〜３５が最も好ましく用いられる。
ポリジメチルシロキサン基またはポリエーテル変性ジメチルシロキサン基の繰り返し数ｎが６以上であると、疎水性が発揮され、空気界面への偏在能が強くなり、低摩擦部位が表面に露出することができ、かつ低摩擦部位としても短すぎず、滑り性を向上させることができる。繰り返し数ｎが１００以下であると、偏在性は十分であり、架橋基密度も小さくならず、架橋して得られる膜の強度が高くなり、耐擦傷性試験に有効に働く。
【００３５】
シロキサン結合を含む部位を有する滑り剤（ａ）としては、シリコーン系ポリマー（化合物（Ａ１））、及びシリコーン系モノマー又はオリゴマー（化合物（Ａ２））を用いることができる。化合物（Ａ１）及び化合物（Ａ２）について、以下に詳細に説明する。
【００３６】
≪化合物（Ａ１）≫
化合物（Ａ１）は、上記化合物（ａ１）のうち、低摩擦部位がシロキサン結合を有する部位である場合である。すなわち、化合物（Ａ１）は、側鎖にシロキサン結合を含む部位と架橋基を持ち、重量平均分子量が６，０００以上である化合物（シリコーン系ポリマー）である。化合物（Ａ１）の具体例を下記一般式（２）に示す。
【００３７】
一般式（２）
【００３８】
【化５】
2017146180.tif 000007
【００３９】
一般式（２）中、Ｒ１は水素原子又はメチル基を表し、Ｒ２は２価の連結鎖を表し、Ｒ３は水素原子又は一価の有機基を表し、ｎは５〜１００の整数を表す。各繰り返し単位におけるＲ１、Ｒ２、Ｒ３はそれぞれ同じでも異なっていてもよい。
【００４０】
一般式（２）中、Ｒ２は２価の連結鎖を表し、具体的には、置換若しくは無置換のアルキレン基、置換若しくは無置換のアリーレン基、内部に連結基（例えば、エーテル結合、エステル結合、アミド結合など）を有する置換若しくは無置換のアルキレン基、内部に連結基を有する置換若しくは無置換のアリーレン基が挙げられ、置換若しくは無置換のアルキレン基、置換若しくは無置換のアリーレン基、内部に連結基を有するアルキレン基が好ましく、無置換のアルキレン基、無置換のアリーレン基、内部にエーテル結合あるいはエステル結合を有するアルキレン基が更に好ましく、無置換のアルキレン基、内部にエーテル結合あるいはエステル結合を有するアルキレン基が特に好ましい。置換基は、ハロゲン、水酸基、メルカプト基、カルボキシル基、エポキシ基、アルキル基、アリール基等が挙げられ、これら置換基は更に置換されていても良い。
一般式（２）におけるｎは５〜１００の整数を表し、７〜６５の整数であることが好ましく、９〜３５の整数であることがより好ましい。
【００４１】
特開２００９−７９１２６号公報の段落［００１２］〜［００４８］に記載の含ケイ素ポリマー（Ａ）のうち、アクリル当量が本発明の範囲を満たすＰ−１０、Ｐ−１２〜Ｐ−１４は滑り剤（ａ）として適宜用いることができる。シロキサン結合を有する滑り剤（ａ）の具体例を以下に示すが、本発明はこれらに制限されるものではない。また、下記具体例において、各モノマー単位の括弧に付記されている数字は、ポリマー中の各モノマー単位のモル比を表す。
【００４２】
【化６】
2017146180.tif 000008
【００４３】
上記一般式（２）で表される構造を有する市販シリコーン系ポリマーの例としては、アクリット８ＳＳ−７２３（大成ファインケミカル株式会社製）、アクリット８ＳＳ−１０２４（大成ファインケミカル株式会社製）などが挙げられる。
【００４４】
≪化合物（Ａ２）≫
化合物（Ａ２）は、上記化合物（ａ２）のうち、低摩擦部位がシロキサン結合を有する部位である場合である。すなわち、化合物（Ａ２）は、シロキサン結合を有する部位に、架橋基が直接又は連結基を介して結合した、重量平均分子量が６，０００未満である化合物（シリコーン系モノマー又はオリゴマー）である。
【００４５】
化合物（Ａ２）として好適に用いることのできる、架橋基を有するシリコーン系モノマー又はオリゴマーとしては、下記一般式（４）で表される化合物、及び下記一般式（５）で表される化合物が挙げられるが、本発明はこれらに制限されるものではない。
下記一般式（４）で表される化合物は、低摩擦部位を含んでなる主鎖の片末端に、架橋基を有する基である上記一般式（Ｍ−３）で表される基が連結基を介して結合している化合物である。
下記一般式（５）で表される化合物は、低摩擦部位を含んでなる主鎖の片末端に、架橋基を有する基である上記一般式（Ｍ−２）で表される基が連結基を介して結合している化合物である。
【００４６】
一般式（４）
【００４７】
【化７】
2017146180.tif 000009
【００４８】
一般式（４）中、Ｒ４１は２価の連結鎖を表し、Ｒ４２は水素原子又は一価の有機基を表し、ｎは４〜１００の整数を表す。
【００４９】
一般式（４）中、Ｒ４１は２価の連結鎖を表し、具体的には、置換若しくは無置換のアルキレン基、置換若しくは無置換のアリーレン基、内部に連結基（例えば、エーテル結合、エステル結合、アミド結合など）を有する置換若しくは無置換のアルキレン基、内部に連結基を有する置換若しくは無置換のアリーレン基が挙げられ、置換若しくは無置換のアルキレン基、置換若しくは無置換のアリーレン基、内部に連結基を有するアルキレン基が好ましく、無置換のアルキレン基、無置換のアリーレン基、内部にエーテル結合あるいはエステル結合を有するアルキレン基が更に好ましく、無置換のアルキレン基、内部にエーテル結合あるいはエステル結合を有するアルキレン基が特に好ましい。置換基は、ハロゲン、水酸基、メルカプト基、カルボキシル基、エポキシ基、アルキル基、アリール基等が挙げられ、これら置換基は更に置換されていても良い。
一般式（４）におけるＲ４１は、内部にエーテル結合などを有する無置換のアルキレン基であることが好ましく、＊（ＣＨ２）３＊であることがより好ましい。
一般式（４）におけるＲ４２は水素原子又は一価の有機基を表し、水素原子、炭素数１〜２０の一価炭化水素基でることが好ましい。
一般式（４）におけるｎは４〜１００の整数を表し、６〜６５の整数であることが好ましく、８〜３５の整数であることがより好ましい。
【００５０】
上記一般式（４）で表される化合物の具体的な例としては、下記化合物（Ｓ−１）、（Ｓ−２）が挙げられる。ただし、本発明はこれらに限定されない。
化合物（Ｓ−１）：上記一般式（４）において、ｎが１０であり、Ｒ４１が−（ＣＨ２）３−であり、Ｒ４２がＣＨ３である化合物。
化合物（Ｓ−２）：上記一般式（４）において、ｎが２１であり、Ｒ４１が−（ＣＨ２）３−であり、Ｒ４２がＣＨ３である化合物。
【００５１】
一般式（５）
【００５２】
【化８】
2017146180.tif 000010
【００５３】
一般式（５）中、Ｒ５１は２価の連結鎖を表し、Ｒ５２は水素原子又は一価の有機基を表し、ｎは２〜１００の整数を表す。
【００５４】
一般式（５）中、Ｒ５１及びＲ５２の具体例及び好ましい範囲は、それぞれ上記一般式（４）におけるＲ４１及びＲ４２と同様である。
一般式（５）中のｎの好ましい範囲は、上記一般式（４）におけるｎと同様である。
上記一般式（５）で表される化合物の具体的な例としては、下記化合物（Ｓ−３）が挙げられる。ただし、本発明はこれらに限定されない。
化合物（Ｓ−３）：上記一般式（５）において、ｎが１０であり、Ｒ５１が−（ＣＨ２）３−であり、Ｒ５２がＣＨ３である化合物。
【００５５】
また、前述の一般式（４）において、ｎが１０であり、Ｒ４１が−ＣＯＮＨ（ＣＨ２）３−であり、Ｒ４２が−ＣＨ３である化合物である下記化合物（Ｓ−９）も好ましい。
（Ｓ−９）
【００５６】
【化９】
2017146180.tif 000011
【００５７】
前述の一般式（５）において、ｎが１０であり、Ｒ５１が−ＣＯＮＨ（ＣＨ２）３−であり、Ｒ５２が−ＣＨ３である化合物である下記化合物（Ｓ−１０）も好ましい。
【００５８】
（Ｓ−１０）
【００５９】
【化１０】
2017146180.tif 000012
【００６０】
化合物（Ａ２）として好適に用いることのできる、架橋基を有するシリコーン系モノマー又はオリゴマーとしては、上記一般式（４）で表される化合物、及び上記一般式（５）で表される化合物の他に、更に、下記一般式（６）で表される化合物、及び下記一般式（７）で表される化合物もが挙げられるが、本発明はこれらに制限されるものではない。
下記一般式（６）で表される化合物は、低摩擦部位を含んでなる主鎖の両末端に、架橋基を有する基である上記一般式（Ｍ−３）で表される基が連結基を介して結合している化合物である。
下記一般式（６）で表される化合物は、低摩擦部位を含んでなる主鎖の片末端に、架橋基を有する基である上記一般式（Ｍ−２）で表される基が連結基を介して結合し、低摩擦部位を含んでなる主鎖の他方の片末端に、架橋基を有する基である上記一般式（Ｍ−２）で表される基が連結基を介して結合している化合物である。
【００６１】
一般式（６）
【００６２】
【化１１】
2017146180.tif 000013
【００６３】
一般式（６）中、Ｒ６１及びＲ６２は、それぞれ独立に２価の連結鎖を表し、ｎは４〜１００の整数を表す。
一般式（６）中のＲ６１及びＲ６２の具体例及び好ましい範囲は、上記一般式（４）におけるＲ４１と同様である。
一般式（６）中のｎの好ましい範囲は、上記一般式（４）におけるｎと同様である。
【００６４】
上記一般式（６）で表される化合物の具体的な例としては、下記化合物（Ｓ−４）〜（Ｓ−６）が挙げられる。ただし、本発明はこれらに限定されない。
化合物（Ｓ−４）：上記一般式（６）において、ｎが９であり、Ｒ６１及びＲ６２が−（ＣＨ２）３−である化合物。
化合物（Ｓ−５）：上記一般式（６）において、ｎが２０であり、Ｒ６１及びＲ６２が−（ＣＨ２）３−である化合物。
化合物（Ｓ−６）：上記一般式（６）において、ｎが４０であり、Ｒ６１及びＲ６２が−（ＣＨ２）３−である化合物。
【００６５】
一般式（７）
【００６６】
【化１２】
2017146180.tif 000014
【００６７】
一般式（７）中、Ｒ７１及びＲ７２はそれぞれ独立に２価の連結鎖を表し、ｎは２〜１００の整数を表す。
一般式（７）中のＲ７１及びＲ７２の具体例及び好ましい範囲は、上記一般式（４）におけるＲ４１と同様である。
一般式（７）中のｎの好ましい範囲は、上記一般式（４）におけるｎと同様である。
上記一般式（７）で表される化合物の具体的な例としては、下記化合物（Ｓ−７）および（Ｓ−８）が挙げられる。ただし、本発明はこれらに限定されない。
化合物（Ｓ−７）：上記一般式（７）において、ｎが２０であり、Ｒ７１及びＲ７２が−（ＣＨ２）３−である化合物。
化合物（Ｓ−８）：上記一般式（７）において、ｎが４０であり、Ｒ７１及びＲ７２が−（ＣＨ２）３−である化合物。
【００６８】
また、前述の一般式（６）において、ｎが１０であり、Ｒ６１及びＲ６２が−ＣＯＮＨ（ＣＨ２）３−である化合物である下記化合物（Ｓ−１１）も好ましい。
（Ｓ−１１）
【００６９】
【化１３】
2017146180.tif 000015
【００７０】
前述の一般式（７）において、ｎが１０であり、Ｒ７１及びＲ７２が−ＣＯＮＨ（ＣＨ２）３−である化合物である下記化合物（Ｓ−１２）も好ましい。
【００７１】
（Ｓ−１２）
【００７２】
【化１４】
2017146180.tif 000016
【００７３】
＜硬化性化合物（ｂ）＞
硬化性化合物（ｂ）は、少なくとも１分子中に架橋基を３つ以上持ち、架橋基当量が４５０以下であり、フッ素原子及びシロキサン結合のいずれも有さない化合物である。
硬化性化合物（ｂ）の架橋基の具体例及び好ましい範囲は、前述の滑り剤（ａ）の架橋基と同様である。
硬化性化合物（ｂ）の架橋基当量とは、硬化性化合物（ｂ）の分子量を、硬化性化合物（ｂ）に含まれる架橋基の数で除した値であり、膜強度の観点から４５０以下であり、３５０以下であることがより好ましく、２５０以下であることが更に好ましい。
硬化性化合物（ｂ）として、ラジカル反応性基を有する化合物を少なくとも１種用いることが好ましい。
ラジカル反応性基としては、付加重合可能な不飽和結合を有する基（例えば（メタ）アクリロイル基、（メタ）アクリルアミド基、（メタ）アクリロニトリル基、アリル基、ビニル基、スチレン構造、ビニルエーテル構造、アセチレン構造等）、−ＳＨ、−ＰＨ、ＳｉＨ、−ＧｅＨ、ジスルフィド構造等が挙げられる。
硬化性化合物（ｂ）として、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基等の重合性官能基（重合性の炭素−炭素不飽和二重結合）を有する化合物がを少なくとも１種用いることが好ましく、中でも、（メタ）アクリロイル基及び−Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ＝ＣＨ２を有する化合物を少なくとも１種用いることが好ましく、（メタ）アクリロイル基を有する化合物を少なくとも１種用いることがより好ましく、１分子中に（メタ）アクリロイル基を２個以上有する化合物を少なくとも１種用いることがさらに好ましい。
硬化性化合物（ｂ）としては１種の化合物を単独で用いてもよいし、２種以上の化合物を併用してもよい。
特に、本発明の反射防止フィルムが、基材としてハードコート層付き基材を用いる場合は、硬化性化合物（ｂ）として、少なくとも２種の硬化性化合物を用い、そのうち少なくとも１種がラジカル反応性基を有する化合物であり、別の少なくとも１種が、反射防止フィルムの製造方法における工程（３）で基材に浸透する化合物であり、ラジカル反応性基を有さず、かつラジカル反応性基以外の反応性基を有する化合物であることが好ましい。
【００７４】
硬化性化合物（ｂ）としては、下記硬化性化合物（ｂ−１）〜（ｂ−３）が挙げられ、これらのうち２種以上を併用することが好ましく、３種すべてを併用することがより好ましい。
硬化性化合物（ｂ−１）：分子量が４００以上であり、ラジカル反応性基を有する化合物
硬化性化合物（ｂ−２）：ラジカル反応性基を有するシランカップリング剤
硬化性化合物（ｂ−３）：分子量が４００未満であり、ラジカル反応性基を有さず、かつラジカル反応性基以外の反応性基を有する化合物又は、分子量が３００未満であり、加熱時に揮発する化合物
【００７５】
硬化性化合物（ｂ）の分子量は、硬化性化合物の構造式から一義的に求められる場合は構造式から求めたものであり、高分子化合物のように分布を有するなど構造式から一義的に求められない場合はゲル浸透クロマトグラフィーを用いて測定した重量平均分子量とする。
【００７６】
本発明における重量平均分子量は、ゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）により下記の条件で測定された値である。
［溶媒］  テトラヒドロフラン
［装置名］  ＴＯＳＯＨ  ＨＬＣ−８２２０ＧＰＣ
［カラム］  ＴＯＳＯＨ  ＴＳＫｇｅｌ  Ｓｕｐｅｒ  ＨＺＭ−Ｈ
（４．６ｍｍ×１５ｃｍ）を３本接続して使用。
［カラム温度］  ２５℃
［試料濃度］  ０．１質量％
［流速］  ０．３５ｍｌ／ｍｉｎ
［校正曲線］  ＴＯＳＯＨ製ＴＳＫ標準ポリスチレン  重量平均分子量（Ｍｗ）＝２８０００００〜１０５０までの７サンプルによる校正曲線を使用。
【００７７】
≪硬化性化合物（ｂ−１）≫
硬化性化合物（ｂ−１）は、分子量が４００以上であり、ラジカル反応性基を有する化合物である。
硬化性化合物（ｂ−１）は基材に浸透しにくい化合物であることが好ましい。
硬化性化合物（ｂ−１）の分子量は４００〜１０００００が好ましく、１０００〜５００００がより好ましい。
硬化性化合物（ｂ−１）は、（分子量／ラジカル反応性基量）で表される官能基当量が、４５０以下であることが好ましく、４００以下であることがより好ましく、３５０以下であることが更に好ましい。
硬化性化合物（ｂ−１）は、アルコキシシリル基に代表される加水分解性シランカップリング基を有さない（すなわちシランカップリング剤ではない）ことが好ましい。
【００７８】
硬化性化合物（ｂ−１）としては、アルキレングリコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類、ポリオキシアルキレングリコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類、多価アルコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類、エチレンオキシドあるいはプロピレンオキシド付加物の（メタ）アクリル酸ジエステル類、エポキシ（メタ）アクリレート類、ウレタン（メタ）アクリレート類、ポリエステル（メタ）アクリレート類等を挙げることができる。
硬化性化合物（ｂ−１）の具体例としては、ＫＡＹＡＲＡＤ  ＤＰＨＡ、同ＤＰＨＡ−２Ｃ、同ＰＥＴ−３０、同ＴＭＰＴＡ、同ＴＰＡ−３２０、同ＴＰＡ−３３０、同ＲＰ−１０４０、同Ｔ−１４２０、同Ｄ−３１０、同ＤＰＣＡ−２０、同ＤＰＣＡ−３０、同ＤＰＣＡ−６０、同ＧＰＯ−３０３（日本化薬（株）製）、ＮＫエステルＡ−ＴＭＰＴ、Ａ−ＴＭＭＴ、Ａ−ＴＭＭ３、Ａ−ＴＭＭ３Ｌ、Ａ−９５５０（新中村化学工業（株）製）、Ｖ＃３ＰＡ、Ｖ＃４００、Ｖ＃３６０９５Ｄ、Ｖ＃１０００、Ｖ＃１０８０、ビスコート＃８０２（大阪有機化学工業（株）製）等のポリオールと（メタ）アクリル酸のエステル化物、Ｓｉｒｉｕｓ−５０１、ＳＵＢＡＲＵ−５０１（大阪有機化学工業（株）製）等のデンドリマー型多官能アクリレートを挙げることができる。また紫光ＵＶ−１４００Ｂ、同ＵＶ−１７００Ｂ、同ＵＶ−６３００Ｂ、同ＵＶ−７５５０Ｂ、同ＵＶ−７６００Ｂ、同ＵＶ−７６０５Ｂ、同ＵＶ−７６１０Ｂ、同ＵＶ−７６２０ＥＡ、同ＵＶ−７６３０Ｂ、同ＵＶ−７６４０Ｂ、同ＵＶ−６６３０Ｂ、同ＵＶ−７０００Ｂ、同ＵＶ−７５１０Ｂ、同ＵＶ−７４６１ＴＥ、同ＵＶ−３０００Ｂ、同ＵＶ−３２００Ｂ、同ＵＶ−３２１０ＥＡ、同ＵＶ−３３１０ＥＡ、同ＵＶ−３３１０Ｂ、同ＵＶ−３５００ＢＡ、同ＵＶ−３５２０ＴＬ、同ＵＶ−３７００Ｂ、同ＵＶ−６１００Ｂ、同ＵＶ−６６４０Ｂ、同ＵＶ−２０００Ｂ、同ＵＶ−２０１０Ｂ、同ＵＶ−２２５０ＥＡ、同ＵＶ−２７５０Ｂ（日本合成化学（株）製）、ＵＬ−５０３ＬＮ（共栄社化学（株）製）、ユニディック１７−８０６、同１７−８１３、同Ｖ−４０３０、同Ｖ−４０００ＢＡ（大日本インキ化学工業（株）製）、ＥＢ−１２９０Ｋ、ＥＢ−２２０、ＥＢ−５１２９、ＥＢ−１８３０，ＥＢ−４８５８（ダイセルＵＣＢ（株）製）、ハイコープＡＵ−２０１０、同ＡＵ−２０２０（（株）トクシキ製）、アロニックスＭ−１９６０（東亜合成（株）製）、アートレジンＵＮ−３３２０ＨＡ，ＵＮ−３３２０ＨＣ，ＵＮ−３３２０ＨＳ、ＵＮ−９０４（根上工業（株）製）、ＮＫオリゴＵ−４ＨＡ、Ｕ−１５ＨＡ（新中村化学工業（株）製）などの３官能以上のウレタンアクリレート化合物、アロニックスＭ−８１００，Ｍ−８０３０，Ｍ−９０５０（東亞合成（株）製、ＫＲＭ−８３０７（ダイセルサイテック（株）製）などの３官能以上のポリエステル化合物なども好適に使用することができる。
【００７９】
≪硬化性化合物（ｂ−２）≫
硬化性化合物（ｂ−２）は、ラジカル反応性基を有するシランカップリング剤である。
硬化性化合物（ｂ−２）の分子量は１００〜５０００が好ましく、２００〜２０００がより好ましい。
硬化性化合物（ｂ−２）は、基材に浸透しにくい化合物であることが好ましい。
硬化性化合物（ｂ−２）は、（分子量／ラジカル反応性基量）で表される官能基当量が、４５０以下であることがより好ましく、４００以下であることがより好ましく、３５０以下であることが更に好ましい。
硬化性化合物（ｂ−２）の具体例としては、３−（メタ）アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−（メタ）アクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、３−（メタ）アクリロキシプロピルジメチルメトキシシラン、３−（メタ）アクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、３−（メタ）アクリロキシプロピルトリエトキシシラン、２−（メタ）アクリロキシエチルトリメトキシシラン、２−（メタ）アクリロキシエチルトリエトキシシラン、４−（メタ）アクリロキシブチルトリメトキシシラン、４−（メタ）アクリロキシブチルトリエトキシシラン等を上げることが出来る。具体的には、ＫＢＭ−５０３、ＫＢＭ−５１０３（信越化学工業（株）製）や、特開２０１４−１２３０９１記載のシランカップリング剤Ｘ−１２−１０４８、Ｘ−１２−１０４９、Ｘ−１２−１０５０（信越化学工業（株）製）等を用いることが出来る。
また、下記式（１０）で示されるアクリロイル基含有トリメトキシシランも好ましく用いることができる。
式（１０）
【００８０】
【化１５】
2017146180.tif 000017
【００８１】
≪硬化性化合物（ｂ−３）≫
硬化性化合物（ｂ−３）は、分子量が４００未満であり、ラジカル反応性基を有さず、かつラジカル反応性基以外の反応性基を有する化合物である。
硬化性化合物（ｂ−３）は、２５℃では基材に浸透しにくく、加熱時に基材に浸透しやすい化合物であることが好ましい。
硬化性化合物（ｂ−３）が有するラジカル反応性基以外の反応性基としては、基材（基材がハードコート層等の機能層を有する場合は機能層）を構成する化合物と反応する基であることが好ましく、エポキシ基、アミノ基、ボロン酸基、ボロン酸エステル基、オキシラニル基、オキセタニル基、水酸基、カルボキシル基、イソシアネート基等が挙げられる。
硬化性化合物（ｂ−３）の分子量は１００以上４００未満が好ましく、２００以上３００以下がより好ましい。
硬化性化合物（ｂ−３）はラジカル反応性基以外の反応性基を２個以上有することが好ましい。
硬化性化合物（ｂ−３）の具体例としては、セロキサイド２０２１Ｐ、セロキサイド２０８１、エポリードＧＴ−３０１、エポリードＧＴ−４０１、ＥＨＰＥ３１５０ＣＥ（以上、ダイセル化学工業（株）製）、ＯＸＴ−１２１、ＯＸＴ−２２１、ＯＸ−ＳＱ、ＰＮＯＸ−１００９（以上、東亞合成（株）製）、ＫＢＭ−３０３、ＫＢＭ−４０２、ＫＢＭ−４０３、ＫＢＥ−４０２、ＫＢＥ−４０３、ＫＢＭ−４８０３（以上、信越化学工業（株）製）が挙げられる。
【００８２】
硬化性組成物中の全固形分に対する硬化性化合物（ｂ）の含有量は、５０〜９８質量％が好ましく、５５〜９５質量％がより好ましく、６０〜９０質量％が更に好ましい。
【００８３】
＜光重合開始剤（ｃ）＞
本発明における反射防止層の領域（Ｓ）は、前述の滑り剤（ａ）、前述の硬化性化合物（ｂ）及び光重合開始剤（ｃ）を含む硬化性組成物の硬化物を含む。
光重合開始剤（ｃ）としては、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類、アゾ化合物、過酸化物類、２，３−ジアルキルジオン化合物類、ジスルフィド化合物類、フルオロアミン化合物類、芳香族スルホニウム類、ロフィンダイマー類、オニウム塩類、ボレート塩類、活性エステル類、活性ハロゲン類、無機錯体、クマリン類などが挙げられる。光重合開始剤（ｃ）の具体例、及び好ましい態様、市販品などは、特開２００９−０９８６５８号公報の段落［０１３３］〜［０１５１］に記載されており、本発明においても同様に好適に用いることができる。
【００８４】
「最新ＵＶ硬化技術」｛（株）技術情報協会｝（１９９１年）、ｐ．１５９、及び、「紫外線硬化システム」加藤清視著（平成元年、総合技術センター発行）、ｐ．６５〜１４８にも種々の例が記載されており、光重合開始剤（ｃ）として本発明に有用である。
【００８５】
光重合開始剤（ｃ）の含有量は、硬化性組成物（反射防止層形成用組成物）に含まれる重合可能な化合物を重合させるのに十分多く、かつ開始点が増えすぎないよう十分少ない量に設定するという理由から、反射防止層形成用組成物中の全固形分に対して、０．５〜８質量％が好ましく、１〜５質量％がより好ましい。
【００８６】
本発明における反射防止層の領域（Ｓ）には、前述の滑り剤（ａ）、前述の硬化性化合物（ｂ）及び前述の光重合開始剤（ｃ）を含む硬化性組成物の硬化物を含むが、上記硬化性組成物はその他の成分を含有していてもよい。
【００８７】
本発明の反射防止フィルムは、領域（Ｓ）の断面方向の素材分布において、滑り剤（ａ）の含有率が５１％以上となる領域を有する。
滑り剤（ａ）の含有率は、反射防止層の基材側の面とは反対側の最表面から２０ｎｍまでの間の任意の領域（Ｓ）内に存在するフッ素原子及びシリコーン（シロキサン結合）の最大含有量をＸとし、滑り剤（ａ）を単独で硬化させて膜にした場合の膜中のフッ素原子及びシリコーン（シロキサン結合）の合計量をＹとしたとき、１００＊（Ｘ／Ｙ）で表される値（単位：％）とする。ここで、反射防止層の断面方向の素材分布は、フィルムをミクロトームで切削し、断面を飛行時間型二次イオン質量分析装置（ＴＯＦ−ＳＩＭＳ）で分析した時に、滑り剤（ａ）を含めた素材分布として検出され、この領域の膜厚も同様にＴＯＦ−ＳＩＭＳの断面情報から測定することができる。
本発明の反射防止フィルムは、領域（Ｓ）内に上記滑り剤（ａ）の含有率が５１％以上である領域を有し、５５％超１００％未満である領域を有することが好ましく、６０％以上である領域を有することがより好ましく、７０％以上である領域を有することが更に好ましい。
領域（Ｓ）内に滑り剤（ａ）の含有率が５１％以上である領域を有する場合、滑り剤（ａ）が反射防止層の膜内部まで分布しておらず（すなわち、反射防止層の最表面付近に偏在しており）、滑り性、及び膜硬度を向上させることができる。
なお、フッ素原子及びシリコーン（シロキサン結合）の合計量は、飛行時間二次イオン質量分析（ＴＯＦ−ＳＩＭＳ）で測定したＦ−フラグメントあるいはＳｉ２Ｃ５Ｈ１５Ｏ＋フラグメントの比率で測定するか、入射角度を適宜調整したＸＰＳ（Ｘ−ｒａｙ  Ｐｈｏｔｏｅｌｅｃｔｒｏｎ  Ｓｐｅｃｔｒｏｓｃｏｐｙ）分析で測定したＦ／ＣあるいはＳｉ／Ｃの比率で測定することができる。滑り剤（ａ）のみを硬化した単膜を、ＴＯＦ−ＳＩＭＳもしくはＸＰＳで測定することにより、含有率１００％として定義でき、本発明の反射防止フィルムを単膜と同じ測定方法で測定することで、反射防止フィルム中の含有率が判明する。
【００８８】
本発明の反射防止フィルムの反射防止層の膜厚は５０〜２００ｎｍであることが好ましく、６０〜１９０ｎｍであることがより好ましい。
【００８９】
（基材）
基材は、反射防止フィルムの基材として一般的に使用される透光性を有する基材であれは特に制限はないが、プラスチック基材又はガラス基材が好ましい。
プラスチック基材としては、種々用いることができ、例えば、セルロース系樹脂；セルロースアシレート（トリアセテートセルロース、ジアセチルセルロース、アセテートブチレートセルロース）等、ポリエステル樹脂；ポリエチレンテレフタレート等、（メタ）アクリル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリカーボネート、ポリスチレン、オレフィン系樹脂等を含有する基材が挙げられ、セルロースアシレート、ポリエチレンテレフタレート、又は（メタ）アクリル系樹脂を含有する基材が好ましく、セルロースアシレートを含有する基材がより好ましく、セルロースアシレートフィルムであることが特に好ましい。セルロースアシレートとしては、特開２０１２−０９３７２３号公報に記載の基材等を好ましく用いることが出来る。
基材の厚さは、通常、１０μｍ〜１０００μｍ程度であるが、取り扱い性が良好で、透光性が高く、かつ十分な強度が得られるという観点から２０μｍ〜２００μｍが好ましく、２５μｍ〜１００μｍがより好ましい。
基材の透光性としては、可視光の透過率（好ましくは波長４００ｎｍ以上７５０ｎｍ以下の平均透過率）が８０％以上であることが好ましく、９０％以上であることがより好ましい。
【００９０】
本発明の反射防止フィルムは、反射防止層の基材側の面とは反対側の最表面を、荷重２００ｇの条件でスチールウールで１０往復擦った後の反射防止フィルムの反射率をＲＡ、スチールウールで擦る前の反射防止フィルムの反射率をＲ０としたとき、ＲＡ−Ｒ０で表される反射率変化が０．２５％以下であることが好ましく、０．２０％以下であるとより好ましく、０．１５％以下であると更に好ましい。
但し、反射率ＲＡは、擦り速度を１３ｃｍ／秒、荷重を２００ｇ／ｃｍ２、スチールウールと反射防止フィルム表面との接触面積を１ｃｍ×１ｃｍとして、フィルム表面をスチールウールで１０往復擦った際の反射率を示す。
【００９１】
＜粒子（ｄ）＞
本発明の反射防止フィルムの反射防止層は、平均一次粒径が２５０ｎｍ以下の粒子（ｄ）を有することが好ましい。
粒子（ｄ）としては、金属酸化物粒子、樹脂粒子、金属酸化物粒子のコアと樹脂のシェルを有する有機無機ハイブリッド粒子などが挙げられるが、膜強度に優れる観点から金属酸化物粒子が好ましい。
金属酸化物粒子としては、シリカ粒子、チタニア粒子、ジルコニア粒子、五酸化アンチモン粒子などが挙げられるが、多くの樹脂と屈折率が近いためヘイズを発生しにくく、かつ後述するモスアイ構造が形成し易い観点からシリカ粒子が好ましい。
樹脂粒子としては、ポリメタクリル酸メチル粒子、ポリスチレン粒子、メラミン粒子などが挙げられる。
【００９２】
粒子（ｄ）の平均一次粒子径は、粒子が並んでモスアイ構造を形成できる観点から１５０ｎｍ以上２５０ｎｍ以下であることがより好ましく、１７０ｎｍ以上２２０ｎｍ以下であることが更に好ましい。
粒子（ｄ）として、１種のみ使用してもよいし、平均一次粒子径の異なる２種以上の粒子を用いてもよい。
【００９３】
粒子（ｄ）の平均一次粒子径は、体積平均粒径の累積の５０％粒子径を指す。
より具体的には、エタノール中に含有量が３５質量％となるように粒子を添加し、超音波で１０分以上分散して粒子の分散液を調製し、この分散液について電子顕微鏡写真により測定することが出来る。分散液を滴下してＳＥＭ（Ｓｃａｎｎｉｎｇ  Ｅｌｅｃｔｒｏｎ  Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｅ）像を撮影し、一次粒子１００個のそれぞれの直径を測長してその体積を算出し、累積の５０％粒子径を平均一次粒子径とすることができる。粒子が球径でない場合には、長径と短径の平均値をその一次粒子の直径とみなす。
【００９４】
粒子（ｄ）の形状は、球形が最も好ましいが、不定形等の球形以外であっても問題無い。また、粒子は結晶質でも、アモルファスのいずれでもよい。
【００９５】
粒子（ｄ）は塗布液中での分散性向上、膜強度向上、凝集防止のために表面処理された無機微粒子を使用することが好ましい。表面処理方法の具体例及びその好ましい例は、特開２００７−２９８９７４号公報の［０１１９］〜［０１４７］に記載のものと同様である。
特に、樹脂との結着性を付与し、膜強度を向上させる観点から、粒子表面を不飽和二重結合および粒子表面と反応性を有する官能基を有する化合物で表面修飾し、粒子表面に不飽和二重結合を付与することが好ましい。
【００９６】
平均一次粒子径が１５０ｎｍ以上２５０ｎｍ以下の粒子の具体的な例としては、シーホスターＫＥ−Ｐ２０（平均一次粒子径２００ｎｍ、日本触媒（株）製アモルファスシリカ）、エポスターＳ（平均一次粒子径２００ｎｍ、日本触媒（株）製メラミン・ホルムアルデヒド縮合物）、エポスターＭＡ―ＭＸ１００Ｗ（平均一次粒子径１７５ｎｍ、日本触媒（株）製ポリメタクリル酸メチル（ＰＭＭＡ）系架橋物などを好ましく用いることができる。
【００９７】
粒子（ｄ）としては、表面のヒドロキシル基量が適度に多く、かつ硬い粒子であるという理由から、焼成シリカ粒子であることが特に好ましい。
焼成シリカ粒子は、加水分解が可能なシリコン化合物を水と触媒とを含む有機溶媒中で加水分解、縮合させることによってシリカ粒子を得た後、シリカ粒子を焼成するという公知の技術により製造することができ、たとえば特開２００３−１７６１２１号公報、特開２００８−１３７８５４号公報などを参照することができる。
焼成シリカ粒子を製造する原料のシリコン化合物としては特に限定されないが、テトラクロロシラン、メチルトリクロロシラン、フェニルトリクロロシラン、ジメチルジクロロシラン、ジフェニルジクロロシラン、メチルビニルジクロロシラン、トリメチルクロロシラン、メチルジフェニルクロロシラン等のクロロシラン化合物；テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトライソプロポキシシラン、テトラブトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、トリメトキシビニルシラン、トリエトキシビニルシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３−（２−アミノエチルアミノ）プロピルトリメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、３−クロロプロピルメチルジメトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、ジメトキシジエトキシシラン、トリメチルメトキシシラン、トリメチルエトキシシラン等のアルコキシシラン化合物；テトラアセトキシシラン、メチルトリアセトキシシラン、フェニルトリアセトキシシラン、ジメチルジアセトキシシラン、ジフェニルジアセトキシシラン、トリメチルアセトキシシラン等のアシロキシシラン化合物；ジメチルシランジオール、ジフェニルシランジオール、トリメチルシラノール等のシラノール化合物；等が挙げられる。上記例示のシラン化合物のうち、アルコキシシラン化合物が、より入手し易く、かつ、得られる焼成シリカ粒子に不純物としてハロゲン原子が含まれることが無いので特に好ましい。本発明にかかる焼成シリカ粒子の好ましい形態としては、ハロゲン原子の含有量が実質的に０％であり、ハロゲン原子が検出されないことが好ましい。
焼成温度は特に限定されないが、８００〜１３００℃が好ましく、１０００℃〜１２００℃がより好ましい。
【００９８】
反射防止層における粒子（ｄ）の含有率は、０．１０〜０．３０ｇ／ｍ２が好ましく、０．１４〜０．２４ｇ／ｍ２がより好ましく、０．１６〜０．２０ｇ／ｍ２であることが更に好ましい。
【００９９】
［反射防止層の最表面に粒子（ｄ）によって形成された凹凸形状を有する反射防止フィルム］
本発明の反射防止フィルムの好ましい態様の１つとして、反射防止層の最表面に粒子（ｄ）によって形成された凹凸形状を有する反射防止フィルムが挙げられる。図４は、この態様の本発明の反射防止フィルムの一例を示す断面模式図である。
粒子（ｄ）によって形成された凹凸形状はモスアイ構造であることが好ましい。
反射防止層が粒子（ｄ）を含む場合、前述の滑り剤（ａ）及び硬化性化合物（ｂ）等が硬化して形成された樹脂からなる平坦な部分（膜）の基材側の面とは反対の表面から、粒子（ｄ）が突出して凸部となり、粒子（ｄ）同士の間が凹部となって、反射防止層の表面に凹凸形状を形成していることが好ましい。このとき、前述の滑り剤（ａ）及び硬化性化合物（ｂ）等が硬化して形成された樹脂からなる平坦な部分（膜）から突出した粒子（ｄ）の突出した部分の表面には、前述の滑り剤（ａ）及び硬化性化合物（ｂ）等が硬化した硬化物が被膜となって覆っていることが好ましい。
そして、この態様においても、本発明の反射防止フィルムの反射防止層は、基材側の面とは反対側の最表面から基材に向かう方向に２０ｎｍ以下の厚みの領域（Ｓ）内に、滑り剤（ａ）と、硬化性化合物（ｂ）と、光重合開始剤（ｃ）とを含む硬化性組成物の硬化物を含み、領域（Ｓ）の断面方向の素材分布において、滑り剤（ａ）の含有率が５１％以上となる領域を有する。好ましくは前述の粒子（ｄ）の突出した部分の表面を覆う被膜が２０ｎｍ以下の厚みの領域（Ｓ）であり、この領域（Ｓ）内に滑り剤（ａ）の含有率が５１％以上となる領域を有することが好ましい。
【０１００】
（モスアイ構造）
モスアイ構造とは、光の反射を抑制するための物質（材料）の加工された表面であって、周期的な微細構造パターンをもった構造のことを指す。特に、可視光の反射を抑制する目的の場合には、７８０ｎｍ未満の周期の微細構造パターンをもった構造のことを指す。微細構造パターンの周期が３８０ｎｍ未満であると、反射光の色味が小さくなり好ましい。また、モスアイ構造の凹凸形状の周期が１００ｎｍ以上であると波長３８０ｎｍの光が微細構造パターンを認識でき、反射防止性に優れるため好ましい。モスアイ構造の有無は、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）、原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）等により表面形状を観察し、上記微細構造パターンが出来ているかどうか調べることによって確認することができる。
【０１０１】
本発明の反射防止フィルムの好ましい実施形態の一例を図２に示す。
図２の反射防止フィルム１０は、基材１と反射防止層２とを有する。反射防止層２は、基材１と反対側の表面に平均一次粒径が例えば１５０ｎｍ以上２５０ｎｍ以下の粒子３により形成された凹凸形状からなるモスアイ構造を有する。
反射防止層２は、平均一次粒径が１５０ｎｍ以上２５０ｎｍ以下の粒子３と、樹脂４とを含んでなる。
また、図２には記載されていないが、基材と反射防止層の間にその他の層を有していてもよく、ハードコート層を有することが好ましい。
反射防止フィルムにおける基材、反射防止層、ハードコート層の材料については本発明の反射防止フィルムの製造方法において説明したものと同じである。
【０１０２】
反射防止フィルムの反射防止層の凹凸形状は、隣り合う凸部の頂点間の距離Ａと、隣り合う凸部の頂点間の中心と凹部との距離Ｂとの比であるＢ／Ａが０．５以上であることが好ましく、０．６以上がより好ましく、０．７以上が更に好ましい。Ｂ／Ａが０．５以上であると、凸部同士の距離に対して凹部の深さが大きくなり、空気から反射防止層内部にかけてより緩やかに屈折率が変化する屈折率傾斜層を作ることができるため、反射率をより低減できる。
Ｂ／Ａは、硬化後の反射防止層における樹脂と粒子の体積比により制御することができる。そのため、樹脂と粒子の配合比を適切に設計することが重要である。また、樹脂がモスアイ構造を作製する工程の中で基材に浸透したり、揮発したりすることにより反射防止層における樹脂と粒子の体積比が反射防止層形成用組成物中の配合比と異なる場合もあるため、基材とのマッチングを適切に設定することも重要である。
【０１０３】
凸部を形成する粒子は均一に、適度な充填率で敷き詰められていることが好ましい。上記観点から、凸部を形成する粒子の含有量は、反射防止層全体で均一になるように調整されるのが好ましい。充填率は、ＳＥＭなどにより表面から凸部を形成する粒子を観察したときの最も表面側に位置した粒子の面積占有率（粒子占有率）として測定することができ、２５％〜８４％であり、２５〜７０％が好ましく、３０〜６５％がより好ましい。
【０１０４】
本発明における反射防止層には、基材の表面に直交する方向に粒子（ｄ）が複数存在しない（すなわち基材の表面に直交する方向に互いに重なる粒子（ｄ）が存在しない）ことが反射率及び、ヘイズが低く好ましい。
【０１０５】
［反射防止フィルムの製造方法］
本発明の反射防止フィルムの製造方法は、特に限定されないが、反射防止層が前述の粒子（ｄ）を含有する態様の反射防止フィルムの製造方法としては、
基材上に、
滑り剤（ａ）、硬化性化合物（ｂ）、光重合開始剤（ｃ）、粒子（ｄ）、及び溶剤を含む組成物を塗布し、溶剤を揮発させ、粒子（ｄ）が存在しない部分の厚みが粒子（ｄ）の平均一次粒径の０．８倍以上の厚さとなる層（Ａ）を設ける工程（１）と、
層（Ａ）中の硬化性化合物（ｂ）の一部を硬化させ、硬化された化合物（ｂｃ）を得る工程（２）と、
層（Ａ）中の硬化性化合物（ｂ）及び化合物（ｂｃ）からなる群より選択される化合物の一部を、加熱により基材に浸透させるか又は揮発させ、層（Ａ）の基材側の面とは反対の表面に粒子（ｄ）からなる凹凸形状を形成する工程（３）と、
層（Ａ）中に残存する、硬化性化合物（ｂ）及び化合物（ｂｃ）からなる群より選択される化合物を硬化させて、反射防止層を形成する工程（４）と、
をこの順に有する、反射防止フィルムの製造方法であることが好ましい。
本発明の反射防止フィルムの製造方法の一例を示す模式図を図１に示す。
【０１０６】
〔工程（１）〕
工程（１）は、図１の（１）に示すように、基材（図１の符号１）上に、滑り剤（ａ）、硬化性化合物（ｂ）、光重合開始剤（ｃ）、平均一次粒径が２５０ｎｍ以下の微粒子（ｄ）（図１の符号３）、及び溶剤を含む組成物を塗布し、上記溶剤を揮発させ、上記粒子（ｄ）が存在しない部分の厚みが上記粒子（ｄ）の平均一次粒径の０．８倍以上の厚さとなる層（Ａ）（図１の符号４）を設ける工程である。
【０１０７】
上記工程（１）で用いられる滑り剤（ａ）、硬化性化合物（ｂ）、光重合開始剤（ｃ）、粒子（ｄ）は前述のとおりである。
【０１０８】
＜溶剤＞
溶剤としては、粒子（ｄ）と極性が近いものを選ぶのが分散性を向上させる観点で好ましい。具体的には、例えば粒子（ｄ）が金属酸化物粒子の場合にはアルコール系の溶剤が好ましく、メタノール、エタノール、２−プロパノール、１−プロパノール、ブタノールなどが挙げられる。また、例えば粒子（ｄ）に疎水化表面修飾が施された金属樹脂粒子の場合には、ケトン系、エステル系、カーボネート系、アルカン、芳香族系等の溶剤が好ましく、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、炭酸ジメチル、酢酸メチル、アセトン、メチレンクロライド、シクロヘキサノンなどが挙げられる。これらの溶剤は、分散性を著しく悪化させない範囲で複数種混ぜて用いてもかまわない。
【０１０９】
工程（１）で用いる組成物（反射防止層形成用組成物）は、滑り剤（ａ）、硬化性化合物（ｂ）、光重合開始剤（ｃ）、粒子（ｄ）、及び溶剤以外の成分を含有していてもよく、たとえば、粒子（ｄ）の分散剤、レベリング剤、防汚剤等を含有していてもよい。
【０１１０】
上記組成物の基材上への塗布方法としては、特に限定されず公知の方法を用いることができる。例えば、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法、ダイコート法等が挙げられる。
【０１１１】
工程（１）での層（Ａ）における粒子（ｄ）の含有率は、０．１０〜０．３０ｇ／ｍ２が好ましく、０．１４〜０．２４ｇ／ｍ２がより好ましく、０．１６〜０．２０ｇ／ｍ２であることが更に好ましい。０．１０ｇ／ｍ２以上であればモスアイ構造の凸部が数多く形成できるため反射防止性がより向上しやすく、０．３０ｇ／ｍ２以下であると、液中での凝集が生じにくく、モスアイ構造をうまく形成しやすい。
【０１１２】
＜粒子（ｄ）の分散剤＞
粒子（ｄ）の分散剤は、粒子同士の凝集力を低下させることにより、粒子（ｄ）を均一に配置させ易くすることができる。分散剤としては、特に限定されないが、硫酸塩、リン酸塩などのアニオン性化合物、脂肪族アミン塩、四級アンモニウム塩などのカチオン性化合物、非イオン性化合物、高分子化合物が好ましく、吸着基と立体反発基それぞれの選択の自由度が高いため高分子化合物がより好ましい。分散剤としては市販品を用いることもできる。例えば、ビックケミー・ジャパン（株）製のＤＩＳＰＥＲＢＹＫ１６０、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ１６１、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ１６２、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ１６３、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ１６４、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ１６６、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ１６７、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ１７１、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ１８０、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ１８２、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ２０００、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ２００１、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ２１６４、Ｂｙｋｕｍｅｎ、ＢＹＫ−２００９、ＢＹＫ−Ｐ１０４、ＢＹＫ−Ｐ１０４Ｓ、ＢＹＫ−２２０Ｓ、Ａｎｔｉ−Ｔｅｒｒａ２０３、Ａｎｔｉ−Ｔｅｒｒａ２０４、Ａｎｔｉ−Ｔｅｒｒａ２０５（以上商品名）などが挙げられる。
【０１１３】
本発明においては、工程（１）の前に、基材上に機能層を設けてもよい。基材上に機能層を有する場合は、その機能層と基材との積層体を「基材」と呼ぶ。基材の層（Ａ）を設けようとする面上に機能層を設けた場合には、工程（１）においては機能層上に層（Ａ）を設け、以降の工程を行うものとする。機能層としてはハードコート層が好ましい。
【０１１４】
本発明では、基材は、ハードコート層を有する基材（「ハードコート層付き基材」ともいう）であることが好ましく、ハードコート層上に上記工程（１）における組成物が塗布されることが好ましい。
【０１１５】
＜層（Ａ）＞
層（Ａ）は、基材上に塗布された反射防止層形成用組成物から溶剤を揮発させ、粒子（ｄ）が存在しない部分の厚みを、粒子（ｄ）の平均一次粒径の０．８倍以上の厚さとした層であり、滑り剤（ａ）、硬化性化合物（ｂ）、光重合開始剤（ｃ）、粒子（ｄ）を含む。
層（Ａ）は本発明の製造方法によって、後に反射防止層となる層である。
層（Ａ）に含まれる硬化性化合物（ｂ）は、硬化されることで、樹脂となるものである。この樹脂は反射防止層の凹凸形状の凹部を形成するものである。
層（Ａ）に含まれる粒子（ｄ）は、得られた反射防止フィルムにおいて、樹脂からなる膜の表面から突出し、凹凸形状の凸部を形成する。
なお、本発明においては、滑り剤（ａ）も架橋基を有しているので、滑り剤（ａ）同士で又は硬化性化合物（ｂ）とともに硬化されて硬化物となり、凹部に存在するが、前述のように、この硬化物は凸部を形成する粒子（ｄ）の表面を覆う被膜中に存在することが好ましい。
層（Ａ）は工程（２）で一部が硬化されるため、硬化前と硬化後で含有する成分が異なるが、本発明では便宜的にいずれの段階においても層（Ａ）と呼ぶこととする。工程（３）及び（４）の前後においても同様に層（Ａ）と呼ぶ。
【０１１６】
工程（１）において、塗布された層（Ａ）中、基材の表面に直交する方向に粒子（ｄ）が複数存在しないことが好ましい。ここで、基材の表面に直交する方向に粒子（ｄ）が複数存在しないとは、基材の面内の１０μｍ×１０μｍを走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）で３視野観察した際に、表面に直交する方向に複数重なって存在しない（単独で存在する）粒子（ｄ）の個数の割合が、８０％以上であることを表し、好ましくは９５％以上である。
【０１１７】
工程（１）において、層（Ａ）中の粒子（ｄ）が存在しない部分の膜厚は、粒子（ｄ）の平均一次粒径の０．８倍以上であり、好ましくは０．８倍以上２．０倍以下であり、０．９倍以上１．５倍以下が更に好ましく、１．０倍以上１．２倍以下が特に好ましい。これにより、粒子（ｄ）が凝集しにくくなり、好ましい凹凸形状が得られやすい。
【０１１８】
〔工程（２）〕
工程（２）は、図１の（２）に示すように、工程（１）の層（Ａ）４中の硬化性化合物（ｂ）の一部を硬化させ、硬化された化合物（ｂｃ）を得る工程である。
なお工程（２）では、滑り剤（ａ）が硬化されてもよいし、硬化されなくてもよい。
化合物（ｂｃ）は、滑り剤（ａ）と硬化性化合物（ｂ）とが硬化されたものを含んでいてもよい。
工程（２）で硬化性化合物（ｂ）の一部を硬化させることにより、粒子（ｄ）３を動きにくくして、粒子（ｄ）が凝集することを抑制することができる。
硬化性化合物（ｂ）の一部を硬化させるとは、硬化性化合物（ｂ）のすべてではなく、一部のみを硬化させることを表す。工程（２）で硬化性化合物（ｂ）の一部のみを硬化させることで、未硬化の硬化性化合物（ｂ）を、後述する工程（３）で加熱により基材へ浸透させることができ、層（Ａ）の粒子（ｄ）が存在しない部分の厚みを小さくし、粒子（ｄ）を突出させて、良好な凹凸形状（モスアイ構造）を形成することができる。
【０１１９】
硬化性化合物（ｂ）が光硬化性の化合物であって、工程（２）において光（好ましくは紫外線）を照射することにより、硬化性化合物（ｂ）の一部を硬化させることが好ましい。
工程（２）において、硬化性化合物（ｂ）の一部を硬化させる条件としては、反射防止層形成用組成物から粒子（ｄ）を除いた組成物を基材上に２μｍの厚さで塗布し、硬化させた場合に、硬化率が２〜２０％となる条件とすることが好ましく、硬化率が３〜１５％となる条件であることがより好ましく、硬化率が５〜１０％となる条件であることが更に好ましい。
【０１２０】
上記硬化率は、
｛（１−硬化後の残存重合性官能基数）／硬化前の重合性官能基数｝×１００％
であり、以下の方法で測定される。
なお、重合性官能基とは、重合性の炭素−炭素不飽和二重結合を有する基である。
より具体的には、Ｔｈｅｒｍｏ  ｅｌｅｃｔｒｏｎ  ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎのＮＩＣＯＬＥＴ６７００  ＦＴ−ＩＲを使用して硬化前の硬化性化合物そのものをＫＢｒ−ＩＲ測定し、カルボニル基のピーク（１６６０−１８００ｃｍ−１）面積と重合性の炭素−炭素不飽和二重結合のピーク高さ（８０８ｃｍ−１）を求め、硬化後の一回反射のＩＲ測定から同様にカルボニル基ピーク面積に対する重合性の炭素−炭素不飽和二重結合のピークを求め、紫外線照射前後で比較することにより硬化率を算出した。ここで硬化率の計算に際し、８０８ｃｍ−１における測定深度を８２１ｎｍ、１６６０−１８００ｃｍ−１における深度を３８４ｎｍとして規格化している。
【０１２１】
工程（２）において、紫外線を１〜９０ｍＪ／ｃｍ２の照射量で照射することが好ましく、１．２〜４０ｍＪ／ｃｍ２の照射量で照射することがより好ましく、１．５〜１０ｍＪ／ｃｍ２の照射量で照射することが更に好ましい。
【０１２２】
工程（２）において、基材の層（Ａ）を有する側とは反対側から紫外線を照射して硬化性化合物（ｂ）の一部を硬化させることが好ましい。これにより、特に層（Ａ）の基材側の領域を硬化させることができ、粒子（ｄ）を動かないようしたまま、その後の工程で粒子（ｄ）による凸部を形成しやすい。
【０１２３】
工程（２）は、酸素濃度を０．１〜５．０体積％とした環境下で行うことが好ましく、酸素濃度を０．５〜１．０体積％とした環境下で行うことがより好ましい。酸素濃度を上記範囲とすることで、特に層（Ａ）の基材側の領域を硬化させることができる。
【０１２４】
化合物（ｂｃ）は、硬化性化合物（ｂ）の硬化物である。
化合物（ｂｃ）の分子量は特に限定されない。また、化合物（ｂｃ）は、未反応の重合性官能基を有していてもよい。
【０１２５】
〔工程（３）〕
工程（３）は、図１の（３）に示すように、層（Ａ）４中の硬化性化合物（ｂ）及び化合物（ｂｃ）からなる群より選択される化合物の一部を、加熱により基材に浸透させるか、又は揮発させることにより層（Ａ）の基材と反対側の表面に粒子（ｄ）３からなる凹凸形状を形成する工程である。ここで、加熱により基材に浸透させるか、又は揮発させる硬化性化合物（ｂ）は、工程（２）で硬化されなかった硬化性化合物（ｂ）であることが好ましい。
なお工程（３）では、滑り剤（ａ）は基材に浸透しないことが好ましく、また揮発しないことが好ましい。
【０１２６】
硬化性化合物（ｂ）及び化合物（ｂｃ）からなる群より選択される化合物の一部を、基材（基材が機能層を有する場合は機能層であってもよい）に浸透させる工程（３）において、基材及び層（Ａ）を有する積層体を加熱することが好ましい。加熱することによって、効果的に硬化性化合物（ｂ）及び化合物（ｂｃ）からなる群より選択される化合物の一部を基材に浸透させることができる。加熱における温度は、基材のガラス転移温度より小さいことが好ましく、具体的には、６０〜１５０℃であることが好ましく、８０〜１２０℃であることがより好ましい。
【０１２７】
工程（３）が、硬化性化合物（ｂ）及び化合物（ｂｃ）からなる群より選択される化合物の一部を揮発させる工程である場合には、硬化性化合物（ｂ）は、１ａｔｍにおける沸点が１５０℃以下のものが好ましく、分子量が３００以下のものが好ましい。具体的には、ブレンマーＧＭＲが好ましい。
１ａｔｍは１０１３２５Ｐａである。
【０１２８】
工程（３）では、層（Ａ）中の硬化性化合物（ｂ）及び化合物（ｂｃ）からなる群より選択される化合物の一部を、加熱により基材に浸透させるか、又は揮発させることにより層（Ａ）の表面に凹凸形状が形成される。この凹凸形状の凸部は粒子（ｄ）であり、凹部は層（Ａ）中に残存する滑り剤（ａ）、硬化性化合物（ｂ）及び化合物（ｂｃ）からなる群より選択される化合物である。
【０１２９】
〔工程（４）〕
工程（４）は、図１の（４）に示すように、層（Ａ）中に残存する、滑り剤（ａ）、硬化性化合物（ｂ）及び化合物（ｂｃ）からなる群より選択される化合物を硬化させる工程である。
工程（４）における硬化は光硬化であることが好ましく、紫外線照射による硬化であることがより好ましい。紫外線の照射量は３００ｍＪ／ｃｍ２以上が好ましく、酸素濃度０．０１体積％以下の環境下で硬化させることが好ましい。
工程（４）では、層（Ａ）中に残存する、滑り剤（ａ）、硬化性化合物（ｂ）及び化合物（ｂｃ）からなる群より選択される化合物を硬化させることで樹脂とし、この樹脂を凹部、樹脂から突出した粒子（ｄ）３を凸部とする凹凸形状からなるモスアイ構造を有する反射防止層が形成される。
工程（４）の後において、平均面粗さＲａは、１５ｎｍ以上が好ましく、３０ｎｍ以上が更に好ましく、４０ｎｍ以上が最も好ましい。
【０１３０】
〔工程（Ｅ１）及び工程（Ｅ２）〕
本発明においては、工程（１）と工程（２）の間、工程（２）と工程（３）の間、又は工程（３）と工程（４）の間に、
硬化性化合物（ｂ）と相溶しない化合物（ｅ）を含む層（Ｅ）を、層（Ａ）の基材側の面とは反対の面に設ける工程（Ｅ１）を有し、
工程（Ｅ１）に引き続いて行う上記工程（２）、上記工程（３）又は上記工程（４）の後に、層（Ｅ）を除去する工程（Ｅ２）を有することが好ましい。
工程（Ｅ１）は、工程（１）から工程（３）の間に有することが好ましく、工程（２）と工程（３）の間に有することがより好ましい。
工程（Ｅ２）は、工程（４）の後に有することが好ましい。
【０１３１】
＜層（Ｅ）＞
層（Ｅ）は、硬化性化合物（ｂ）と相溶しない化合物（ｅ）（以下、単に「化合物（ｅ）」ともいう）を含む。
層（Ｅ）は、層（Ａ）中の粒子（ｄ）が凝集しないようにするために設けられることが好ましく、最終的には除去されることが好ましい。
化合物（ｅ）が硬化性化合物（ｂ）と相溶しないとは、２５℃において化合物（ｅ）を硬化性化合物（ｂ）に対して５質量％混合、撹拌した際に不溶解物が残る事である。
また、化合物（ｅ）は熱により硬化しない化合物であることが好ましい。化合物（ｅ）を熱により硬化しない化合物とすることで、本発明の製造方法において化合物（ｅ）の除去前に加熱プロセスを含んでいても、粒子（ｄ）によるモスアイ構造を形成しやすいため好ましい。
特に工程（３）の前に層（Ｅ）を設ける場合は、層（Ｅ）に含まれる化合物（ｅ）の沸点は、工程（３）における加熱温度以上であることが好ましい。
【０１３２】
化合物（ｅ）として、塗布によって層（Ｅ）を設ける場合は、５０℃において液状の油性成分であることが好ましく、シリコーン系油性成分、炭化水素系油性成分、エステル系油性成分、天然動植物油脂類、半合成油脂類、高級脂肪酸、高級アルコール、又はフッ素系油性成分であることがより好ましい。
【０１３３】
≪シリコーン系油性成分≫
シリコーン系油性成分は、固体状、半固体状および液状のいずれであってもよい。シリコーン系油性成分としては、例えば、シリコーン油、シリコーン系界面活性剤、シリコーン樹脂、シリコーンワックス、および、シリコーン系ゲル化剤を使用することができる。
【０１３４】
シリコーン油としては、例えば、ジメチルポリシロキサン（例えば、信越化学工業製ＫＦ９６シリーズ）、トリストリメチルシロキシメチルシラン、カプリリルメチコン、フェニルトリメチコン、テトラキストリメチルシロキシシラン、メチルフェニルポリシロキサン，メチルヘキシルポリシロキサン、メチルハイドロジェンポリシロキサン、ジメチルシロキサン・メチルフェニルシロキサン共重合体等の低粘度から高粘度の直鎖又は分岐状のオルガノポリシロキサン；オクタメチルシクロテトラシロキサン、デカメチルシクロペンタシロキサン、ドデカメチルシクロヘキサシロキサン，テトラメチルテトラハイドロジェンシクロテトラシロキサン、テトラメチルテトラフェニルシクロテトラシロキサン等の環状オルガノポリシロキサン；アミノ変性オルガノポリシロキサン；ピロリドン変性オルガノポリシロキサン；ピロリドンカルボン酸変性オルガノポリシロキサン；高重合度のガム状ジメチルポリシロキサン、ガム状アミノ変性オルガノポリシロキサン、ガム状のジメチルシロキサン・メチルフェニルシロキサン共重合体等のシリコーンゴム；及びシリコーンガムまたはゴムの環状オルガノポリシロキサン溶液；トリメチルシロキシケイ酸、トリメチルシロキシケイ酸の環状シロキサン溶液（例えば、信越化学工業製：ＫＦ−７３１２Ｊ等）；ステアロキシリコーン等の高級アルコキシ変性シリコーン；高級脂肪酸変性シリコーン；アルキル変性シリコーン；長鎖アルキル変性シリコーン；アミノ酸変性シリコーン；フッ素変性シリコーン；シリコーン樹脂の溶解物等が挙げられる。
【０１３５】
シリコーン系界面活性剤としては、例えば、直鎖又は分岐状ポリオキシエチレン変性オルガノポリシロキサン、直鎖又は分岐状ポリオキシエチレンポリオキシプロピレン変性オルガノポリシロキサン、直鎖又は分岐状ポリオキシエチレン・アルキル共変性オルガノポリシロキサン、直鎖又は分岐状ポリオキシエチレンポリオキシプロピレン・アルキル共変性オルガノポリシロキサン、直鎖又は分岐状ポリグリセリン変性オルガノポリシロキサン、直鎖又は分岐状ポリグリセリン・アルキル共変性オルガノポリシロキサンが挙げられる（具体例としては、信越化学工業性シリコーン系乳化剤：ＫＦ−６０１１、６０４３、６０２８、６０３８、６１００，６１０４、６１０５等が挙げられる）。また、ポリオキシエチレン変性部分架橋型オルガノポリシロキサン、ポリグリセリン変性部分架橋型ポルガノポリシロキサン等を他の油性成分と共存させた状態（例えば、信越化学工業製：ＫＳＧシリーズ；ＫＳＧ−２１０、７１０、３１０、３２０、３３０、３４０、３２０Ｚ、３５０Ｚ、８１０、８２０、８３０、８４０、８２０Ｚ、８５０Ｚ等）で用いてもよい。
【０１３６】
シリコーン樹脂としては、例えば、アクリル／シリコーングラフト共重合体、アクリル／シリコーンブロック共重合体等からなるアクリルシリコーン樹脂が挙げられる（具体例としては、信越化学工業製：アクリル／シリコーングラフト共重合体の環状オルガノポリシロキサン溶液：ＫＰ−５４５等が挙げられる）。また、ピロリドン部分、長鎖アルキル部分、ポリオキシアルキレン部分及びフルオロアルキル部分、カルボン酸等のアニオン部分の中から選択される少なくとも１種を分子中に含有するアクリルシリコーン樹脂を使用することもできる。さらにこのシリコーン樹脂は、Ｒ83ＳｉＯ0.5単位とＳｉＯ2単位とから構成される樹脂、Ｒ83ＳｉＯ0.5単位とＲ82ＳｉＯ単位とＳｉＯ2単位とから構成される樹脂、Ｒ83ＳｉＯ0.5単位とＲ8ＳｉＯ1.5単位とから構成される樹脂、Ｒ83ＳｉＯ0.5単位とＲ82ＳｉＯ単位とＲ8ＳｉＯ1.5単位とから構成される樹脂、並びに、Ｒ83ＳｉＯ0.5単位、Ｒ82ＳｉＯ単位、Ｒ8ＳｉＯ1.5単位及びＳｉＯ2単位から構成される樹脂の少なくとも１種からなるシリコーン網状化合物であることが好ましい。式中のＲ8は、置換又は非置換の炭素原子数１〜３０の１価炭化水素基である。また、ピロリドン部分、長鎖アルキル部分、ポリオキシアルキレン部分、ポリグリセリン部分、フルオロアルキル部分、アミノ部分の中から選択される少なくとも１種を分子中に含有するシリコーン網状化合物を使用することもできる。
【０１３７】
シリコーンワックスとしては、例えば、アクリル／シリコーングラフト共重合体、アクリル／シリコーンブロック共重合体等からなるアクリルシリコーンワックスが挙げられる（具体例としては、信越化学工業製：アクリル／シリコーングラフト共重合体の環状オルガノポリシロキサン溶液：ＫＰ−５６１Ｐ、５６２Ｐ等が挙げられる）。また、ピロリドン部分、長鎖アルキル部分、ポリオキシアルキレン部分及びフルオロアルキル部分、カルボン酸等のアニオン部分の中から選択される少なくとも１種を分子中に含有するアクリルシリコーンワックスを使用することもできる。また、このシリコーンワックスは、５員環以上のラクトン化合物の開環重合物であるポリラクトンを結合させたポリラクトン変性ポリシロキサンであることが好ましい。さらに、このシリコーンワックスは、α−オレフィンとジエンとからなる不飽和基を有するオレフィンワックスと１分子中１個以上のＳｉＨ結合を有するオルガノハイドロジェンポリシロキサンとを付加反応させることによって得られるシリコーン変性オレフィンワックスである。上記α―オレフィンとしてはエチレン、プロピレン、１−ブテン、１−ヘキセン、４−メチル１−ペンテン等の炭素原子数２〜１２のα―オレフィンが好ましく、上記ジエンとしてはブタジエン、イソプレン、１，４−ヘキサジエン、ビニルノルボルネン、エチリデンノルボルネン、ジシクロペンタジエン等が好ましい。ＳｉＨ結合を有するオルガノハイドロジェンポリシロキサンとしては直鎖状構造のもの、シロキサン分岐型構造のもの等が使用できる。
【０１３８】
シリコーン系ゲル化剤としては、例えば、非変性の部分架橋型オルガノポリシロキサン、アルキル変性部分架橋型オリガノポリシロキサン、シリコーン分岐型アルキル変性部分架橋型オリガノポリシロキサン等の非変性または変性の部分架橋型オリガノポリシロキサン等のゲル化成分と、シクロペンタシロキサン、ジメチコン、ミネラルオイル、イソドデカン、トリオクタノイン、スクワラン等の種々のオイル成分とを含むゲル混合物等が挙げられる。上記ゲル混合物には、上記ゲル化成分と上記オイル成分とが共存した状態で含まれる。上記ゲル混合物としては、例えば、信越化学工業製のＫＳＧシリーズ（商品名）、特に、ＫＳＧ−１５、１６、４１、４２、４３、４４、０４２Ｚ、０４５Ｚ（いずれも商品名）等が挙げられる。
【０１３９】
≪炭化水素系油性成分≫
炭化水素系油性成分としては、流動パラフィン，軽質流動イソパラフィン、重質流動イソパラフィン，ワセリン，ｎ−パラフィン，イソパラフィン，イソドデカン、イソヘキサデカン、ポリイソブチレン、水素化ポリイソブチレン、ポリブテン，オゾケライト，セレシン，マイクロクリスタリンワックス，パラフィンワックス、ポリエチレンワックス、ポリエチレン・ポリピロピレンワックス、スクワラン，スクワレン、プリスタン，ポリイソプレン、ロウ等が例示される。
【０１４０】
≪エステル系油性成分≫
エステル系油性成分としては、オクタン酸ヘキシルデシル、オクタン酸セチル，ミリスチン酸イソプロピル，パルミチン酸イソプロピル，ステアリン酸ブチル，ラウリン酸ヘキシル，ミリスチン酸ミリスチル，オレイン酸オレイル，オレイン酸デシル，ミリスチン酸オクチルドデシル，ジメチルオクタン酸ヘキシルデシル，乳酸セチル，乳酸ミリスチル，フタル酸ジエチル，フタル酸ジブチル，酢酸ラノリン，モノステアリン酸エチレングリコール，モノステアリン酸プロピレングリコール，ジオイレイン酸プロピレングリコール，モノステアリン酸グリセリル，モノオレイン酸グリセリル，トリ２−エチルヘキサン酸グリセリル，トリ２−エチルヘキサン酸トリメチロールプロパン、トリエチルヘキサン酸ジトリメチロールプロパン、（イソステアリン酸／セバシン酸）ジトリメチロールプロパン、トリオクタン酸トリメチロールプロパン、トリイソステアリン酸トリメチロールプロパン、アジピン酸ジイソプロピル、アジピン酸ジイソブチル、アジピン酸２−ヘキシルデシル、アジピン酸ジ−２−ヘプチルウンデシル、リンゴ酸ジイソステアリル、モノイソステアリン酸水添ヒマシ油、モノイソステアリン酸Ｎ−アルキルグリコール、イソステアリン酸オクチルドデシル、イソステアリン酸イソプロピル、イソステアリン酸イソセチル、ジ−２−エチルヘキサン酸エチレングリコール、２−エチルヘキサン酸セチル、テトラ−２−エチルヘキサン酸ペンタエリスリトール、オクチルドデシルガムエステル、オレイン酸エチル、オレイン酸オクチルドデシル、ジカプリン酸ネオペンチルグリコール、クエン酸トリエチル、コハク酸２−エチルヘキシル、コハク酸ジオクチル、ステアリン酸イソセチル、セバシン酸ジイソプロピル、セバシン酸ジ−２−エチルヘキシル、セバシン酸ジエチル、セバシン酸ジオクチル、セバシン酸ジブチルオクチル、パリミチン酸セチル、パルミチン酸オクチルドデシル、パルミチン酸オクチル、パルミチン酸２−エチルヘキシル、パルミチン酸２−ヘキシルデシル、パルミチン酸２−ヘプチルウンデシル、１２−ヒドロキシステアリル酸コレステリル、ジペンタエリスリトール脂肪酸エステル、ミリスチン酸２−ヘキシルデシル、ラウリン酸エチル、Ｎ−ラウロイル−Ｌ−グルタミン酸−２−オクチルドデシルエステル、Ｎ−ラウロイル−Ｌ−グルタミン酸ジ（コレステリル／ベヘニル／オクチルドデシル）、Ｎ−ラウロイル−Ｌ−グルタミン酸ジ（コレステリル／オクチルドデシル）、Ｎ−ラウロイル−Ｌ−グルタミン酸ジ（フィトステリル／ベヘニル／オクチルドデシル）、Ｎ−ラウロイル−Ｌ−グルタミン酸ジ（フィトステリル／オクチルドデシル）、Ｎ−ラウロイルサルコシンイソプロピル、リンゴ酸ジイソステアリル、ジオクタン酸ネオペンチルグリコール、ネオペンタン酸イソデシル、ネオペンタン酸イソトリデシル、ネオペンタン酸イソステアリル、イソノナン酸イソノニル、イソノナン酸イソトリデシル、イソノナン酸オクチル、イソノナン酸イソトリデシル、ジネオペンタン酸ジエチルペンタンジオール、ジネオペンタン酸メチルペンタンジオール、ネオデカン酸オクチルドデシル、ジオクタン酸２−ブチル−２−エチル−１，３−プロパンジオール、テトラオクタン酸ペンタエリスリチル、水素添加ロジンペンタエリスリチル、トリエチルヘキサン酸ペンタエリスリチル、（ヒドロキシステアリン酸／ステアリン酸／ロジン酸）ジペンタエリスリチル、テトライソステアリン酸ポリグリセリル、ノナイソステアリン酸ポリグリセリル−１０、デカ（エルカ酸／イソステアリン酸／リシノレイン酸）ポリグリセリル−８、（ヘキシルデカン酸／セバシン酸）ジグリセリルオリゴエステル、ジステアリン酸グリコール（ジステアリン酸エチレングリコール）、ダイマージリノール酸ジイソプロピル、ダイマージリノール酸ジイソステアリル、ダイマージリール酸ジ（イソステアリル／フィトステリル）、ダイマージリノール酸（フィトステリル／ベヘニル）、ダイマージリノール酸（フィトステリル／イソステアリル／セチル／ステアリル／ベヘニル）、ダイマージリノール酸ダイマージリノレイル、ジイソステアリン酸ダイマージリノレイル、ダイマージリノレイル水添ロジン縮合物、ダイマージリノール酸硬化ヒマシ油、ヒドロキシアルキルダイマージリノレイルエーテル、トリイソオクタン酸グリセリル、トリイソステアリン酸グリセリル、トリミリスチン酸グリセリル、トリイソパルミチン酸グリセリル、トリオクタン酸グリセリル、トリオレイン酸グリセリル、ジイソステアリン酸グリセリル、トリ（カプリル酸／カプリン酸）グリセリル、トリ（カプリル酸／カプリン酸／ミリスチン酸／ステアリン酸）グリセリル、水添ロジントリグリセリド（水素添加エステルガム）、ロジントリグリセリド（エステルガム）、ベヘン酸エイコサン二酸グリセリル、ジ−２−ヘプチルウンデカン酸グリセリル、ミリスチン酸イソステアリン酸ジグリセリル、酢酸コレステリル、ノナン酸コレステリル、ステアリン酸コレステリル、イソステアリン酸コレステリル、オレイン酸コレステリル、１２−ヒドロキシステアリン酸コレステリル、マカデミアナッツ油脂肪酸コレステリル、マカデミアナッツ油脂肪酸フィトステリル、イソステアリン酸フィトステリル、軟質ラノリン脂肪酸コレステリル、硬質ラノリン脂肪酸コレステリル、長鎖分岐脂肪酸コレステリル、長鎖α−ヒドロキシ脂肪酸コレステリル、リシノレイン酸オクチルドデシル、ラノリン脂肪酸オクチルドデシル、エルカ酸オクチルドデシル、イソステアリン酸硬化ヒマシ油、アボカド油脂肪酸エチル、ラノリン脂肪酸イソプロピル等が例示される。
【０１４１】
≪天然動植物油脂類及び半合成油脂類≫
天然動植物油脂類及び半合成油脂類として、アボガド油、アマニ油、アーモンド油、イボタロウ、エノ油、オリーブ油、カカオ脂、カポックロウ、カヤ油、カルナウバロウ、肝油、キャンデリラロウ、牛脂、牛脚脂、牛骨脂、硬化牛脂、キョウニン油、鯨ロウ、硬化油、小麦胚芽油、ゴマ油、コメ胚芽油、コメヌカ油、サトウキビロウ、サザンカ油、サフラワー油、シアバター、シナギリ油、シナモン油、ジョジョバロウ、オリーブスクワラン、セラックロウ、タートル油、大豆油、茶実油、ツバキ油、月見草油、トウモロコシ油、豚脂、ナタネ油、日本キリ油、ヌカロウ、胚芽油、馬脂、パーシック油、パーム油、パーム核油、ヒマシ油、硬化ヒマシ油、ヒマシ油脂肪酸メチルエステル、ヒマワリ油、ブドウ油、ベイベリーロウ、ホホバ油、水添ホホバエステル、マカデミアナッツ油、ミツロウ、ミンク油、綿実油、綿ロウ、モクロウ、モクロウ核油、モンタンロウ、ヤシ油、硬化ヤシ油、トリヤシ油脂肪酸グリセライド、羊脂、落花生油、ラノリン、液状ラノリン、還元ラノリン、ラノリンアルコール、硬質ラノリン、酢酸ラノリン、ラノリン脂肪酸イソプロピル、ＰＯＥ（ポリオキシエチレン）ラノリンアルコールエーテル、ＰＯＥラノリンアルコールアセテート、ラノリン脂肪酸ポリエチレングリコール、ＰＯＥ水素添加ラノリンアルコールエーテル、卵黄油等が挙げられる。
【０１４２】
≪高級脂肪酸≫
高級脂肪酸としては、例えば、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、ベヘン酸、ウンデシレン酸、オレイン酸、リノール酸、リノレン酸、アラキドン酸、エイコサペンタエン酸（ＥＰＡ）、ドコサヘキサエン酸（ＤＨＡ）、イソステアリン酸、１２−ヒドロキシステアリン酸等が挙げられる。
【０１４３】
≪高級アルコール≫
高級アルコールとしては、例えば、ラウリルアルコール、ミリスチルアルコール、パルミチルアルコール、ステアリルアルコール、ベヘニルアルコール、ヘキサデシルアルコール、オレイルアルコール、イソステアリルアルコール、ヘキシルドデカノール、オクチルドデカノール、セトステアリルアルコール、２−デシルテトラデシノール、コレステロール、シトステロール、フィトステロール、ラノステロール、ＰＯＥコレステロールエーテル、モノステアリルグリセリンエーテル（バチルアルコール）、モノオレイルグリセリルエーテル（セラキルアルコール）等が挙げられる。
【０１４４】
≪フッ素系油性成分≫
フッ素系油性成分としては、パーフルオロポリエーテル、パーフルオロデカリン、パーフルオロオクタン等が挙げられる。
【０１４５】
モスアイ構造を形成する粒子の凝集を抑制し、反射防止フィルムの白濁感を小さくする観点から、化合物（ｅ）は５０℃において液体である事が好ましく、２５℃において液体である事がさらに好ましい。また、化合物（ｅ）の少なくとも１種は沸点が１１０℃以上であることが好ましい。沸点が１１０℃以上であれば、常温で揮散しにくくなり、層（Ａ）の硬化が完了するまで層（Ｅ）として存在させることができるので、好ましい。
【０１４６】
また、上記観点から沸点が１１０℃以上である化合物（ｅ）の２５℃における動粘度は０．１ｍｍ２／ｓ〜１０００００ｍｍ２／ｓであることが好ましく、０．１ｍｍ２／ｓ〜１００００ｍｍ２／ｓがより好ましく、０．１ｍｍ２／ｓ〜１００ｍｍ２／ｓである事が最も好ましい。
【０１４７】
化合物（ｅ）は１種単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
【０１４８】
層（Ｅ）における化合物（ｅ）の含有量は、層（Ｅ）の全質量に対して５０〜１００質量％が好ましく、７０〜１００質量％がより好ましく、９０〜１００質量％がさらに好ましい。
【０１４９】
工程（Ｅ２）において、層（Ｅ）の除去方法は特に限定されないが、基材および硬化後の層（Ａ）を溶解させずに、化合物（ｅ）を溶解させる溶剤を用いる方法、化合物（ｅ）の沸点より高い温度で加熱して化合物（ｅ）を揮発させる方法、アルカリ溶液で化合物（ｅ）を溶解させる方法などが好ましい。
基材および硬化後の層（Ａ）を溶解させずに、化合物（ｅ）を溶解させる溶剤としては特に限定されないが、基材がトリアセチルセルロースである場合、メタノール、エタノール、２−プロパノール、１−プロパノール、ｎ−ブタノール、イソブタノール、ジアセトンアルコール、メトキシプロパノールなどのアルコール系溶剤やメチルイソブチルケトン、メチルブチルケトン等のケトン系溶剤、トルエン、キシレン等の芳香族系溶剤、シクロヘキサン、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等が好ましい。これらの溶剤は複数種混ぜて用いてもよい。
【０１５０】
化合物（ｅ）を揮発させる場合の加熱温度としては、基材のガラス転移温度よりも低くかつ化合物（ｅ）の沸点より高い温度であることが好ましく、具体的には、６０〜１８０℃であることが好ましく、８０〜１３０℃であることがより好ましい。
【０１５１】
アルカリ溶液で溶解させる場合の溶液としては、水酸化ナトリウム、あるいは水酸化カリウムの水溶液を用いることが好ましい。
【０１５２】
＜その他の層＞
前述のように、基材と層（Ａ）の間にはその他の層を形成してもよい。この場合、基材とその他の層からなる積層体を基材と呼ぶ。その他の層としては、種々の機能層が挙げられるが、特にハードコート層が好ましい。
【０１５３】
（ハードコート層）
ハードコート層は、硬化性化合物の架橋反応、又は、重合反応により形成することが好ましい。例えば、ハードコート層は、多官能モノマー及び／又は多官能オリゴマーを含むハードコート層形成用組成物を基材上に塗布し、多官能モノマーや多官能オリゴマーを架橋反応、又は、重合反応させることにより形成することが好ましい。
多官能モノマーや多官能オリゴマーの官能基（重合性基）としては、光、電子線、放射線重合性のものが好ましく、中でも光（好ましくは紫外線）重合性官能基が好ましい。
光重合性官能基としては、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基等の不飽和の重合性官能基等が挙げられ、中でも、（メタ）アクリロイル基が好ましい。
【０１５４】
ハードコート層における硬化性化合物については、特開２０１４−２４０９５６号公報の［００２１］〜［００２７］の記載を本発明においても参照することができる。
【０１５５】
ハードコート層の膜厚は、フィルムに充分な耐久性、耐衝撃性を付与する観点から、通常０．６μｍ〜５０μｍ程度であり、好ましくは５μｍ〜２０μｍである。
また、ハードコート層の強度は、鉛筆硬度試験で、Ｈ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることがさらに好ましい。さらに、ＪＩＳ  Ｋ  ５６００−５−４（１９９９）に従うテーバー試験で、試験前後の試験片の摩耗量が少ないほど好ましい。
ハードコート層を設けることにより、例えば鉛筆硬度試験を実施した際に、プラスチック基材（セルロースアシレート基材又はアクリル基材など）の傷つきをより防止することができる。
【０１５６】
ハードコート層が硬化性化合物を含有してなる場合に、工程（２）において、ハードコート層の硬化性化合物が硬化しないことが好ましい。これにより、工程（３）で層（Ａ）中の硬化性化合物（ｂ）及び化合物（ｂｃ）からなる群より選択される化合物の一部をハードコート層に浸透させやすくなる。
ハードコート層の硬化性化合物が、工程（２）において硬化されないようにするためには、以下の態様が挙げられる。なお、以下の態様においてはハードコート層形成用組成物と反射防止層形成用組成物に含まれる硬化性化合物は光硬化性化合物である。また、工程（３）においては、層（Ａ）の硬化性化合物（ｂ）の一部を加熱によりハードコート層に浸透させるものとする。
【０１５７】
ハードコート層が硬化性化合物を含有するハードコート層用組成物を硬化してなり、工程（２）の硬化による硬化率の上昇量が５％未満であることが好ましく、３％未満が更に好ましく、１．５％未満が最も好ましい。
【０１５８】
ハードコート層付き基材上に反射防止層を設ける場合には、以下の態様１〜４が好ましい。
【０１５９】
態様１：ハードコート層形成用組成物に光ラジカル重合開始剤Ａを含有し、反射防止層形成用組成物に光ラジカル重合開始剤Ａを含有する態様
この態様では、基材上にハードコート層形成用組成物を塗布し、紫外線を比較的弱い露光量で照射し、光ラジカル重合開始剤Ａの一部を開裂させてラジカルを発生させ、一部は開裂させない。このとき、ハードコート層の硬化性化合物の一部が硬化される。その後、ハードコート層上に反射防止層形成用組成物を塗布し、工程（２）で硬化性化合物（ｂ）の一部を硬化させる。その後、工程（３）で未硬化の硬化性化合物（ｂ）の一部をハードコート層に浸透させ、工程（４）で紫外線を照射し、ハードコート層の硬化性化合物と未硬化の硬化性化合物（ｂ）を硬化させる。
【０１６０】
態様２：ハードコート層形成用組成物に光ラジカル重合開始剤Ａと、熱によりラジカルを発生する熱ラジカル重合開始剤を含有し、反射防止層形成用組成物に光ラジカル重合開始剤Ａを含有する態様
この態様では、基材上にハードコート層形成用組成物を塗布し、比較的強い露光量で紫外線を照射し、光ラジカル重合開始剤Ａをほぼすべて開裂させてラジカルを発生させる。このとき、ハードコート層の硬化性化合物の一部が硬化される。その後、ハードコート層上に反射防止層形成用組成物を塗布し、工程（２）で硬化性化合物（ｂ）の一部を硬化させる。その後、工程（３）で未硬化の硬化性化合物（ｂ）の一部をハードコート層に浸透させ、工程（４）で紫外線を照射し、未硬化の硬化性化合物（ｂ）を硬化させる。そして、その後、加熱して、ハードコート層中の熱重合開始剤を開裂させてラジカルを発生させて硬化性化合物を硬化させる。なお、熱ラジカル重合開始剤からラジカルを発生させるための温度は、工程（３）の浸透の温度よりも高いことが好ましく、たとえば１００〜１８０℃であることが好ましい。熱ラジカル重合開始剤は、ＶＦ−０９６、ＶＡｍ−１１（以上、和光純薬工業（株）製）などを好適に用いることができる。
【０１６１】
態様３：ハードコート層形成用組成物にランプＡを用いて紫外線を照射させることでラジカルを発生する光ラジカル重合開始剤Ａを含有し、反射防止層形成用組成物に光ラジカル重合開始剤Ａと、ランプＢを用いて紫外線を照射させてラジカルを発生する光ラジカル重合開始剤Ｂを含有する態様
この態様では、基材上にハードコート層形成用組成物を塗布し、ランプＡを用いて紫外線を比較的弱い露光量で照射し、光ラジカル重合開始剤Ａの一部を消費し、一部を残す。このとき、ハードコート層の硬化性化合物の一部が硬化される。その後、ハードコート層上に反射防止層形成用組成物を塗布し、工程（２）でランプＢを用いて紫外線を照射して硬化性化合物（ｂ）の一部を硬化させる。その後、工程（３）で未硬化の硬化性化合物（ｂ）の一部をハードコート層に浸透させ、工程（４）でランプＡを用いて紫外線を照射し、ハードコート層の硬化性化合物と未硬化の硬化性化合物（ｂ）を硬化させる。ランプＡと光ラジカル重合開始剤Ａの組み合わせとしては、例えば、特定の波長スペクトルが強い高圧水銀灯とイルガキュア９０７、イルガキュア３６９が挙げられる。また、ランプＢと光ラジカル重合開始剤Ｂの組み合わせとしては、例えば、比較的ブロードな波長スペクトルを持つメタルハライドランプとイルガキュア１２７、イルガキュア１８４等が挙げられる。また、比較的波長の長いＵＶ−ＬＥＤ光を用いて、開始剤の開裂波長をずらすことも好ましい。
【０１６２】
態様４：ハードコート層形成用組成物に熱によりラジカルを発生する熱ラジカル重合開始剤を含有し、反射防止層形成用組成物に光ラジカル重合開始剤Ａを含有する態様
この態様では、基材上にハードコート層形成用組成物を塗布し、少し熱をかけて熱ラジカル重合開始剤の一部を消費し、一部を残す。このとき、ハードコート層の硬化性化合物の一部が硬化される。その後、ハードコート層上に反射防止層形成用組成物を塗布し、工程（２）で紫外線を照射して硬化性化合物（ｂ）の一部を硬化させる。その後、工程（３）で未硬化の硬化性化合物（ｂ）の一部をハードコート層に浸透させ、工程（４）で紫外線を照射し、未硬化の硬化性化合物（ｂ）を硬化させる。そして、その後、加熱して、ハードコート層中の熱ラジカル重合開始剤によりラジカルを発生させて硬化性化合物を硬化させる。なお、熱ラジカル重合開始剤からラジカルを発生させるための温度は、工程（３）の浸透の温度よりも高いことが好ましく、たとえば１００〜１８０℃であることが好ましい。
【０１６３】
本発明の製造方法で製造された反射防止フィルムは、偏光板保護フィルムとして好適に用いることができる。
本発明の製造方法で製造された反射防止フィルムを用いた偏光板保護フィルムは、偏光子と貼り合せて偏光板とすることができ、液晶表示装置などに好適に用いることができる。
【実施例】
【０１６４】
以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、試薬、物質量とその割合、操作等は本発明の趣旨から逸脱しない限り適宜変更することができる。従って、本発明の範囲は以下の具体例に制限されるものではない。【０１６５】
（基材１の作製）【０１６６】
（アセチル置換度）
セルロースアシレートのアセチル置換度については以下の方法で測定した。
アセチル置換度は、ＡＳＴＭ  Ｄ−８１７−９１に準じて測定した。【０１６７】
（エア層用セルロースアシレート溶液の調製）
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、エア層用セルロースアシレート溶液を調製した。【０１６８】
エア層用セルロースアシレート溶液の組成
・セルロースアシレート（アセチル置換度２．８６）  １００質量部
・式（Ｉ）の糖エステル化合物                          ３質量部
・式（ＩＩ）の糖エステル化合物                        １質量部
・シリカ粒子分散液（平均粒径１６ｎｍ）  “ＡＥＲＯＳＩＬ  Ｒ９７２”、日本アエロジル（株）製                          ０．０２６質量部
・メチレンクロライド                              ３７７質量部
・メタノール                                        ６１質量部
・ブタノール                                      ２．６質量部【０１６９】
式（Ｉ）【０１７０】
【化１６】
2017146180.tif 000018
【０１７１】
式（ＩＩ）【０１７２】
【化１７】
2017146180.tif 000019
【０１７３】
（ドラム層用セルロースアシレート溶液の調製）
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、ドラム層用セルロースアシレート溶液を調製した。【０１７４】
ドラム層用セルロースアシレート溶液の組成
・セルロースアシレート（アセチル置換度２．８６）  １００質量部
・式（Ｉ）の糖エステル化合物                          ３質量部
・式（ＩＩ）の糖エステル化合物                        １質量部
・シリカ粒子分散液（平均粒径１６ｎｍ）  “ＡＥＲＯＳＩＬ  Ｒ９７２”、日本アエロジル（株）製                          ０．０９１質量部
・メチレンクロライド                              ３３９質量部
・メタノール                                        ７４質量部
・ブタノール                                          ３質量部【０１７５】
（コア層用セルロースアシレート溶液の調製）
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、コア層用セルロースアシレート溶液を調製した。【０１７６】
コア層用セルロースアシレート溶液の組成
・セルロースアシレート（アセチル置換度２．８６）  １００質量部
・式（Ｉ）の糖エステル化合物                      ８．３質量部
・式（ＩＩ）の糖エステル化合物                    ２．８質量部
・メチレンクロライド                              ２６６質量部
・メタノール                                        ５８質量部
・ブタノール                                      ２．６質量部【０１７７】
（共流延による製膜）
流延ダイとして、共流延用に調整したフィードブロックを装備して、３層構造のフィルムを成形できるようにした装置を用いた。上記エア層用セルロースアシレート溶液、コア層用セルロースアシレート溶液、及びドラム層用セルロースアシレート溶液を流延口から−７℃に冷却したドラム上に共流延した。このとき、厚みの比がエア層／コア層／ドラム層＝７／９０／３となるように各ドープの流量を調整した。
直径３ｍのドラムである鏡面ステンレス支持体上に流延した。ドラム上で３４℃の乾燥風を３００ｍ３／分で当てた。
そして、流延部の終点部から５０ｃｍ手前で、流延して回転してきたセルロースアシレートフィルムをドラムから剥ぎ取った後、両端をピンテンターで把持した。剥離の際、搬送方向（長手方向）に８％の延伸を行った。【０１７８】
ピンテンターで保持されたセルロースアシレートウェブを乾燥ゾーンに搬送した。初めの乾燥では４５℃の乾燥風を送風し、次に１１０℃で５分乾燥した。このとき、セルロースアシレートウェブを幅手方向に倍率を１０％で延伸しながら搬送した。
ピンテンターからウェブを離脱させたあと、ピンテンターで保持されていた部分を連続的に切り取り、ウェブの幅方向両端部に１５ｍｍの幅で１０μｍの高さの凹凸をつけた。このときのウェブの幅は１６１０ｍｍであった。搬送方向に１３０Ｎのテンションをかけながら１４０℃で１０分乾燥した。さらに、ウェブが所望の幅になるように幅方向端部を連続的に切り取り、膜厚６０μｍの基材１を作製した。このとき、１４０℃乾燥後に切り取られる幅方向端部とウェブ中央部の膜厚は同じであった。【０１７９】
フジタック  ＴＧ６０ＵＬは、富士フイルム株式会社製のセルロースアシレートフィルムである。【０１８０】
（ハードコート層付き基材の作製）
＜ハードコート層Ａ、ハードコート層Ｂ、ハードコート層Ｃの形成＞
フジタックＴＧ６０ＵＬ上に、下記組成のハードコート層Ａ形成用塗布液又はハードコート層Ｂ形成用塗布液を塗布し、窒素パージにより酸素濃度１．０体積％となるよう調整しながら、空冷メタルハライドランプで照射量２０ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して硬化し、膜厚８μｍのハードコート層Ａ又はハードコート層Ｂを形成した。【０１８１】
なお試料１０２に用いたハードコート層付き基材は、基材１上に、下記組成のハードコート層Ｃ形成用塗布液を塗布し、窒素パージにより酸素濃度１．０体積％となるよう調整しながら、空冷メタルハライドランプで照射量１０００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して硬化し、膜厚８μｍのハードコート層Ｃを形成したものである。【０１８２】
（ハードコート層Ａ形成用塗布液の組成）
ＵＮＩＤＩＣ１７−８０６      ５５．８質量部
イルガキュア１２７              １．９質量部
メチルエチルケトン            ２４．５質量部
メチルイソブチルケトン          ８．９質量部
酢酸メチル                      ８．９質量部【０１８３】
（ハードコート層Ｂ形成用塗布液の組成）
ＵＮＩＤＩＣ１７−８０６      ５５．８質量部
イルガキュア１２７              １．９質量部
メチルエチルケトン            ２４．５質量部
酢酸メチル                    １７．８質量部【０１８４】
（ハードコート層Ｃ形成用塗布液の組成）
ＰＥＴ−３０                  ３３．４質量部
ＶＦ−０９６                    １．４質量部
イルガキュア１２７              ０．２質量部
メチルエチルケトン            ３５．８質量部
酢酸メチル                    ２９．３質量部【０１８５】
ＵＮＩＤＩＣ１７−８０６：ウレタンアクリレート（ＤＩＣ（株）製、固形分８０％溶液）
ＰＥＴ−３０：ペンタエリストールトリアクリレート６０％とペンタエリストールテトラアクリレート４０％の混合物（ＫＡＹＡＲＡＤ  ＰＥＴ−３０（日本化薬（株）社製））
イルガキュア１２７：光重合開始剤（ＢＡＳＦジャパン製）
ＶＦ−０９６：２，２’−アゾビス［Ｎ−（２−プロペニル）−２−メチルプロピオンアミド］：熱重合開始剤【０１８６】
（反射防止層Ａａ１形成用塗布液の調製）
下記反射防止層Ａａ１の組成となるように各成分をミキシングタンクに投入し、６０分間攪拌し、３０分間超音波分散機により分散し、孔径５μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過して反射防止層形成用塗布液とした。【０１８７】
（反射防止層Ａａ１形成用塗布液の組成）
Ｓｉｒｉｕｓ−５０１            ２．５質量部
化合物Ｂ                        ３．９質量部
ＫＢＭ−４８０３                ４．５質量部
エタノール                    １５．３質量部
メチルエチルケトン            ３２．２質量部
アセトン                      １５．３質量部
イルガキュア１２７              ０．４質量部
シリカ粒子分散液α            ２５．９質量部
化合物Ｄ                      ０．０８質量部【０１８８】
反射防止層Ａｂ１形成用塗布液中の化合物Ｄは含フッ素ポリマーであって、滑り剤（ａ）であり、Ｓｉｒｉｕｓ−５０１、化合物Ｂ、及びＫＢＭ−４８０３は硬化性化合物（ｂ）であり、イルガキュア１２７は光重合開始剤（ｃ）であり、シリカ粒子分散液α中のシリカ粒子は粒子（ｄ）であり、エタノール、メチルエチルケトン、及びアセトンは溶剤である。【０１８９】
反射防止層Ａａ１形成用塗布液の調製と同様にして、滑り剤（ａ）としての含フッ素ポリマー化合物Ｄ、及び硬化性化合物（ｂ）の代わりに表１に記載の滑り剤（ａ）及び硬化性化合物（ｂ）を用いて、反射防止層Ａａ２、Ａａ４、Ａａ５の形成用塗布液を調製した。反射防止層Ａａ３形成用塗布液は、硬化性化合物（ｂ）として、Ｓｉｒｕｓ−５０１及びＫＢＭ−４８０３の代わりにＵ−１５ＨＡを用いたこと以外は、Ａａ４と同様に調製した。【０１９０】
（反射防止層Ａｂ１形成用塗布液の調製）
下記反射防止層Ａｂ１の組成となるように各成分をミキシングタンクに投入し、６０分間攪拌し、３０分間超音波分散機により分散し、孔径５μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過して反射防止層形成用塗布液とした。【０１９１】
（反射防止層Ａｂ１形成用塗布液の組成）
Ｓｉｒｉｕｓ−５０１            ２．５質量部
化合物Ｂ                        ３．９質量部
ＫＢＭ−４８０３                ４．５質量部
エタノール                    １５．３質量部
メチルエチルケトン            ３２．２質量部
アセトン                      １５．３質量部
イルガキュア１２７              ０．４質量部
シリカ粒子分散液α            ２５．９質量部
Ｐ−１０                      ０．０８質量部【０１９２】
反射防止層Ａｂ１形成用塗布液の調製と同様にして、滑り剤（ａ）としてのシリコーン系ポリマーＰ−１０、及び硬化性化合物（ｂ）の代わりに表１に記載の滑り剤（ａ）及び硬化性化合物（ｂ）を用いて、反射防止層Ａｂ２〜Ａｂ８形成用塗布液を調製した。【０１９３】
（反射防止層Ａｃ１形成用塗布液の調製）
下記反射防止層Ａｃ１の組成となるように各成分をミキシングタンクに投入し、６０分間攪拌し、３０分間超音波分散機により分散し、孔径５μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過して反射防止層形成用塗布液とした。【０１９４】
（反射防止層Ａｃ１形成用塗布液の組成）
Ｓｉｒｉｕｓ−５０１            ２．５質量部
化合物Ｂ                        ３．９質量部
ＫＢＭ−４８０３                ４．５質量部
エタノール                    １５．３質量部
メチルエチルケトン            ３２．２質量部
アセトン                      １５．３質量部
イルガキュア１２７              ０．４質量部
シリカ粒子分散液α            ２５．９質量部
化合物Ｓ−１                  ０．１２質量部【０１９５】
反射防止層Ａｃ１形成用塗布液の調製と同様にして、滑り剤（ａ）としてのシリコーン系モノマー化合物Ｓ−１、及び硬化性化合物（ｂ）の代わりに表１に記載の滑り剤（ａ）及び硬化性化合物（ｂ）を用いて、反射防止層Ａｃ２〜Ａｃ２０形成用塗布液を作製した。【０１９６】
化合物Ｂ：下記式（１０）で示されるアクリル基含有トリメトキシシラン（信越化学工業（株）製）
式（１０）【０１９７】
【化１８】
2017146180.tif 000020
【０１９８】
化合物Ｃ：下記構造の含フッ素ポリマーＳＰ−１３（重量平均分子量１９０００）の固形分濃度４０質量％のメチルエチルケトン（ＭＥＫ）溶液【０１９９】
【化１９】
2017146180.tif 000021
【０２００】
化合物Ｄ：下記式（１２）で表される構造の含フッ素ポリマー（重量平均分子量１１０００）の固形分濃度４０質量％のＭＥＫ溶液
式（１２）【０２０１】
【化２０】
2017146180.tif 000022
【０２０２】
化合物Ｅ：下記式（１３）で表される構造の含フッ素ポリマー（重量平均分子量１７０００）の固形分濃度４０質量％のＭＥＫ溶液
式（１３）【０２０３】
【化２１】
2017146180.tif 000023
【０２０４】
化合物Ｆ：下記式（１４）で表される構造の含フッ素ポリマー（重量平均分子量１１０００）の固形分濃度４０質量％のＭＥＫ溶液
式（１４）【０２０５】
【化２２】
2017146180.tif 000024
【０２０６】
＜シリコーン系ポリマー（Ｐ−１０）の合成＞
ポリジメチルシロキサン末端がメタクリルオキシプロピル基で修飾されたモノマー（ＭＣＲ−Ｍ１１、Ｇｅｌｅｓｔ社製）（０．２モル）、メタクリル酸アリル（０．８モル）、及び、２，２’−アゾビス（２−メチルブチロニトリル）（和光純薬工業（株）製）（０．０５モル）の、１−メトキシ−２−プロパノール（３００ｇ）溶液を、窒素気流下、８０℃の１−メトキシ−２−プロパノール（３００ｇ）中に４時間かけて滴下した。滴下終了後、さらに８５℃で３時間撹拌し、ポリマー（Ｐ−１０）を得た。このポリマー（Ｐ−１０）を、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー法により測定したところ、重量平均分子量は１．９万であった。さらに得られたポリマー（Ｐ−１０）は、核磁気共鳴（ＮＭＲ）により構造を同定した。【０２０７】
【化２３】
2017146180.tif 000025
【０２０８】
上記と同様の方法により、以下に示す構造のシリコーン系ポリマー（Ｐ−１１）を合成した。【０２０９】
【化２４】
2017146180.tif 000026
【０２１０】
＜シリコーン系ポリマー（Ｐ−１２）の合成＞
ポリジメチルシロキサン末端がメタクリルオキシプロピル基で修飾されたモノマー（ＭＣＲ−Ｍ１１、Ｇｅｌｅｓｔ社製）（０．１モル）、以下の構造の化合物（Ｍ−１）（０．９モル）及び２，２’−アゾビス（２−メチルブチロニトリル）（和光純薬工業（株）製）（０．０５モル）の、１−メトキシ−２−プロパノール（３００ｇ）溶液を、窒素気流下、８０℃の１−メトキシ−２−プロパノール（３００ｇ）中に４時間かけて滴下した。滴下終了後、さらに８５℃で３時間撹拌し、ポリマー（Ｐ−１２）の前駆体（Ｑ−１２）の１−メトキシ−２−プロパノール溶液を得た。【０２１１】
【化２５】
2017146180.tif 000027
【０２１２】
【化２６】
2017146180.tif 000028
【０２１３】
得られた（Ｑ−１２）の１−メトキシ−２−プロパノール溶液を０℃に冷却し、４，４−ジメチルアミノピリジン（０．８モル）を１時間かけて滴下し、徐々に室温（２５℃）に昇温させ、室温で２時間反応させることによって、シリコーン系ポリマー（Ｐ−１２）を得た。このポリマー（Ｐ−１２）を、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー法により測定したところ、重量平均分子量は１．４万であった。さらに得られたポリマー（Ｐ−１２）は、ＮＭＲにより構造を同定した。下記式でｎ≒８である。【０２１４】
【化２７】
2017146180.tif 000029
【０２１５】
上記と同様の方法により、シリコーン系ポリマー（Ｐ−１３）と（Ｐ−１４）を合成した。【０２１６】
【化２８】
2017146180.tif 000030
【０２１７】
＜化合物（Ｓ−１）〜（Ｓ−８）＞
化合物（Ｓ−１）〜（Ｓ−８）は、前述の一般式（４）〜（７）の具体例として記載した化合物である。【０２１８】
＜シリコーン系モノマー（Ｓ−９）＞
前述の一般式（４）において、ｎが１０であり、Ｒ４１が−ＣＯＮＨ（ＣＨ２）３−であり、Ｒ４２が−ＣＨ３である化合物である。
（Ｓ−９）【０２１９】
【化２９】
2017146180.tif 000031
【０２２０】
＜シリコーン系モノマー（Ｓ−１０）＞
前述の一般式（５）において、ｎが１０であり、Ｒ５１が−ＣＯＮＨ（ＣＨ２）３−であり、Ｒ５２が−ＣＨ３である化合物である。【０２２１】
（Ｓ−１０）【０２２２】
【化３０】
2017146180.tif 000032
【０２２３】
＜シリコーン系モノマー（Ｓ−１１）＞
前述の一般式（６）において、ｎが１０であり、Ｒ６１及びＲ６２が−ＣＯＮＨ（ＣＨ２）３−である化合物である。【０２２４】
（Ｓ−１１）【０２２５】
【化３１】
2017146180.tif 000033
【０２２６】
＜シリコーン系モノマー（Ｓ−１２）＞
前述の一般式（７）において、ｎが１０であり、Ｒ７１及びＲ７２が−ＣＯＮＨ（ＣＨ２）３−である化合物である。【０２２７】
（Ｓ−１２）【０２２８】
【化３２】
2017146180.tif 000034
【０２２９】
＜シリコーン系モノマー＞
化合物（Ｓ−１３）：一般式（４）において、ｎが４であり、Ｒ４１が−（ＣＨ２）３−であり、Ｒ４２が−ＣＨ3である化合物である。
化合物（Ｓ−１４）：一般式（４）において、ｎが１６０であり、Ｒ４１が−（ＣＨ２）３−であり、Ｒ４２が−ＣＨ3である化合物である。
化合物（Ｓ−１５）：一般式（６）において、ｎが２であり、Ｒ６１及びＲ６２が−（ＣＨ２）３−である化合物である。
化合物（Ｓ−１６）：一般式（６）において、ｎが１０２であり、Ｒ６１及びＲ６２が−（ＣＨ２）３−である化合物である。【０２３０】
シリカ粒子分散液α、β、γはそれぞれ以下の方法で調製した。【０２３１】
（シリカ粒子分散液αの調製）
ＫＥ−Ｐ２０を電気炉を用いて１０５０℃で１時間焼成した後、冷却して、次いで粉砕機を用いて粉砕した。焼成したＫＥ−Ｐ２０  ５ｋｇを、加熱ジャケットを備えた容量２０Ｌのヘンシェルミキサ（三井鉱山株式会社製ＦＭ２０Ｊ型）に仕込んだ。焼成したＫＥ−Ｐ２０を撹拌しているところに、３−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン（信越化学工業株式会社製ＫＢＭ５１０３）４５ｇを、メチルアルコール９０ｇに溶解させた溶液を滴下して混合した。その後、混合撹拌しながら１５０℃まで約１時間かけて昇温し、１５０℃で１２時間保持して加熱処理を行った加熱処理では、掻き落とし装置を撹拌羽根とは逆方向に常時回転させながら、壁面付着物の掻き落としを行った。また、適宜、へらを用いて壁面付着物を掻き落とすことも行った。加熱後、冷却し、ジェット粉砕分級機を用いて解砕および分級を行い、シランカップリング剤で表面処理された粒子を得た。この粒子の表面にはアクリロイル基が付与されている。
ＭＥＫ８０質量部、上記シリカ粒子２０質量部をミキシングタンクに投入し、１０分間攪拌後、攪拌を継続しながら３０分間超音波分散することにより、固形分濃度２０質量％のシリカ粒子分散液αを調製した。
シリカ粒子分散液αに含まれるシリカ粒子の平均一次粒径は１８０ｎｍである。【０２３２】
（シリカ粒子分散液βの調製）
ＫＥ−Ｐ３０を電気炉を用いて１０５０℃で１時間焼成した後、冷却して、次いで粉砕機を用いて粉砕した。焼成したＫＥ−Ｐ３０  ５ｋｇを、加熱ジャケットを備えた容量２０Ｌのヘンシェルミキサ（三井鉱山株式会社製ＦＭ２０Ｊ型）に仕込んだ。焼成したＫＥ−Ｐ３０を撹拌しているところに、３−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン（信越化学工業株式会社製ＫＢＭ５１０３）３０ｇを、メチルアルコール９０ｇに溶解させた溶液を滴下して混合した。その後、混合撹拌しながら１５０℃まで約１時間かけて昇温し、１５０℃で１２時間保持して加熱処理を行った加熱処理では、掻き落とし装置を撹拌羽根とは逆方向に常時回転させながら、壁面付着物の掻き落としを行った。また、適宜、へらを用いて壁面付着物を掻き落とすことも行った。加熱後、冷却し、ジェット粉砕分級機を用いて解砕および分級を行い、シランカップリング剤で表面処理された粒子を得た。この粒子の表面にはアクリロイル基が付与されている。
ＭＥＫ８０質量部、上記シリカ粒子  ２０質量部をミキシングタンクに投入し、１０分間攪拌後、攪拌を継続しながら３０分間超音波分散することにより、固形分濃度２０質量％のシリカ粒子分散液βを調製した。
シリカ粒子分散液βに含まれるシリカ粒子の平均一次粒径は２７０ｎｍである。【０２３３】
（シリカ粒子分散液γの調製）
ＰＬ−７（扶桑化学製）を電気炉を用いて１０５０℃で１時間焼成した後、冷却して、次いで粉砕機を用いて粉砕した。焼成したＰＬ−７  ５ｋｇを、加熱ジャケットを備えた容量２０Ｌのヘンシェルミキサ（三井鉱山株式会社製ＦＭ２０Ｊ型）に仕込んだ。焼成したＰＬ−７を撹拌しているところに、３−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン（信越化学工業株式会社製ＫＢＭ５１０３）６５ｇを、メチルアルコール９０ｇに溶解させた溶液を滴下して混合した。その後、混合撹拌しながら１５０℃まで約１時間かけて昇温し、１５０℃で１２時間保持して加熱処理を行った加熱処理では、掻き落とし装置を撹拌羽根とは逆方向に常時回転させながら、壁面付着物の掻き落としを行った。また、適宜、へらを用いて壁面付着物を掻き落とすことも行った。加熱後、冷却し、ジェット粉砕分級機を用いて解砕および分級を行い、シランカップリング剤で表面処理された粒子を得た。この粒子の表面にはアクリロイル基が付与されている。
ＭＥＫ８０質量部、上記シリカ粒子  ２０質量部をミキシングタンクに投入し、１０分間攪拌後、攪拌を継続しながら３０分間超音波分散することにより、固形分濃度２０質量％のシリカ粒子分散液γを調製した。
シリカ粒子分散液γに含まれるシリカ粒子の平均一次粒径は９０ｎｍである。【０２３４】
Ｕ−１５ＨＡ：ウレタンアクリレート（アクリル当量１３９、新中村化学工業（株）製）
Ｘ−１２−１０４８：アクリル基含有トリメトキシシラン（アクリル当量３７０、信越化学工業（株）製）
Ｓｉｒｉｕｓ−５０１：デンドリマー型多官能アクリレート（アクリル当量１１０、大阪有機化学工業（株）製）
ＫＢＭ−４８０３：グリシドキシオクチルトリメトキシシラン（エポキシ当量３０６、信越化学工業（株）製）
ＫＥ−Ｐ２０：シーホスターＫＥ−Ｐ２０（平均一次粒径２００ｎｍ、日本触媒（株）製アモルファスシリカ）
ＫＥ−Ｐ３０：シーホスターＫＥ−Ｐ３０（平均一次粒径３００ｎｍ、日本触媒（株）製アモルファスシリカ）
ＰＬ−７：クォートロンＰＬ−７超高純度コロイダルシリカ（平均一次粒径１００ｎｍ、扶桑化学工業（株）製）
８ＳＳ−７２３：アクリット８ＳＳ−７２３（架橋基当量３３８、大成ファインケミカル株式会社製）
８ＳＳ−１０２４：アクリット８ＳＳ−１０２４（架橋基当量２６３、大成ファインケミカル株式会社製）
ＵＭＳ−１８２：重合性基含有ポリジメチルシロキサン（分子量６，５００、アクリル当量５４５、Ｇｅｌｅｓｔ（株）製）
Ｘ−２２−１６４Ｃ：両末端型メタクリロイル基含有ポリジメチルシロキサンモノマー（分子量４８００、アクリル当量２４００、信越化学工業（株）製）
Ｘ−２２−１６４：両末端型メタクリロイル基含有ポリジメチルシロキサンモノマー（分子量３８０、アクリル当量１９０、信越化学工業（株）製）【０２３５】
下記工程（１）〜（４）により、反射防止フィルム試料１〜２３及び１０１〜１１１を作製した。【０２３６】
［工程（１）  反射防止層形成用塗布液の塗布］
ハードコート層付き基材のハードコート層上に、反射防止層形成塗布液をダイコーターを用いて２．８ｍｌ／ｍ２塗布し、室温で９０秒乾燥させた。
サンプルの一部を切り出し、空冷メタルハライドランプで６００ｍＪ／ｃｍ２照射して硬化させた後、ミクロトームで切削して断面を出し、５０００倍でＳＥＭ観察を行い、粒子に対する樹脂の厚みを測定した。すべての実施例及び比較例において、粒子が存在しない部分の樹脂の厚みは粒子の平均一次粒径の０．８倍以上の厚さであった。【０２３７】
［工程（２）］
工程（２）に反射防止層側から、空冷メタルハライドランプを用いて、酸素濃度１．０％環境において、２．０ｍＪ／ｃｍ２照射して、硬化率６％のサンプルを作成した。空冷メタルハライドランプとしては、アイグラフィックス（株）製のＭ０４−Ｌ４１を用いた。
照射量の測定は、アイグラフィック社製  アイ紫外線積算照度計  ＵＶ  ＭＥＴＥＲ  ＵＶＰＦ−Ａ１にＨＥＡＤ  ＳＥＮＳＥＲ  ＰＤ−３６５を取り付け、測定レンジ０．０にて測定した。
試料１０２については、基材の反射防止層側の界面とは反対側から光照射を実施した。【０２３８】
（オイル塗布）
下記組成のオイル液（いずれも信越化学工業製のシリコーンオイル）を、反射防止層の上に、ダイコーターを用いて６００ｎｍの厚さになるように塗布した。
オイル液の組成
ＫＦ９６−１０ｃｓ        ３０．０質量部
ＫＦ９６−０．６５ｃｓ    ７０．０質量部【０２３９】
［工程（３）］
工程（２）の後の基材、ハードコート層、及び反射防止層を有する積層体を１２０℃で５分処理し、硬化性化合物の一部を基材へ浸透させた。【０２４０】
［工程（４）］
酸素濃度が０．０１体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら、前述の空冷メタルハライドランプで６００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して、反射防止層の硬化性化合物を硬化させて樹脂とした。
サンプルの一部を切り出し、ミクロトームで切削して断面を出し、５０００倍でＳＥＭ観察を行い、粒子に対する樹脂（粒子が存在しない部分）の厚みを測定した。工程（１）後のＳＥＭ観察像と比較して、樹脂の厚みが粒子の平均一次粒径の０．４倍以上減膜しているものを工程（３）で硬化性化合物の一部が浸透したと判断した。【０２４１】
（オイル除去）
オイル塗布を行った例については、メチルイソブチルケトンに浸漬後、更にメチルイソブチルケトンを掛け流して、オイルを除去した。【０２４２】
（加熱処理）
ハードコート層形成用組成物に熱重合開始剤を含有する試料１０２については、工程（４）の後、１５０℃で５分間熱処理し、ハードコート層を硬化させた。【０２４３】
【表１】
2017146180.tif 000035
【０２４４】
［スチールウール耐性（耐擦傷性試験）］
反射防止フィルムの反射防止層表面をラビングテスターを用いて、以下の条件でこすりテストを行うことで、耐擦傷性の指標とした。
評価環境条件：２５℃、相対湿度６０％
こすり材：スチールウール（日本スチールウール（株）製、ゲレードＮｏ．００００）
試料と接触するテスターのこすり先端部（１ｃｍ×１ｃｍ）に巻いて、バンド固定
移動距離（片道）：１３ｃｍ、
こすり速度：１３ｃｍ／秒、
荷重：２００ｇ／ｃｍ２、
先端部接触面積：１ｃｍ×１ｃｍ、
こすり回数：１０往復
こすり終えた試料の裏側に油性黒インキ（寺西化学工業（株）製、マジック補充用インキ黒）を塗り、反射光で目視観察して、こすり部分の傷を評価した。
Ａ＋：傷の本数が０本である
Ａ  ：傷の本数が１本以上２本以内である
Ｂ  ：傷の本数が３本以上５本以内である
Ｃ  ：傷の本数が６本以上である【０２４５】
［鏡面反射率］
反射防止フィルムの裏面（基材側）をサンドペーパーで粗面化した後に油性黒インキで処理し、裏面反射をなくしたフィルム試料を作製した。
（鏡面反射率）
分光光度計Ｖ−５５０（日本分光（株）製）にユニットＡＲＭ−５００∨を装着して、４５０〜６５０ｎｍの波長領域において入射角５°における反射率を測定し、平均したものを鏡面反射率とした。
（スチールウール耐擦傷性試験前後の鏡面反射率差）
上記スチールウール耐擦傷性試験後の鏡面反射率をＲＡとし、スチールウールで擦る前の鏡面反射率をＲ０として、（ＲＡ−Ｒ０）で表される反射率変化を算出した。【０２４６】
［滑り剤（ａ）の低摩擦部位の含有率］
フィルムをミクロトームで切削し、断面を飛行時間型二次イオン質量分析装置（ＴＯＦ−ＳＩＭＳ）で分析し、最表面から２０ｎｍ深さまでの領域（表面近傍）の状態を観察した。Ｘを反射防止層の表面近傍におけるフッ素量あるいはシリコーン（シロキサン結合）量、Ｙを滑り剤（ａ）単膜でのフッ素量、あるいはシリコーン（シロキサン結合）量としたときの１００＊（Ｘ／Ｙ）を算出した。滑り剤（ａ）の低摩擦部位を表す二次イオンとしてはＦ−フラグメントあるいはＳｉ２Ｃ５Ｈ１５Ｏ＋フラグメントを検出した。【０２４７】
【表２】
2017146180.tif 000036
【０２４８】
表２の結果より、本発明のアクリル当量が小さく、架橋密度が高い滑り剤（ａ）を、反射防止層における基材と反対側の表面近傍に多く含有した試料は、低反射率と耐スチールウール擦りが良好であり、スチールウール擦り後の反射率上昇も小さく、実用上の耐擦傷性に優れたことを確認した。【０２４９】
また試料Ｎｏ．１３と２２に以下のけん化処理を行った。１．５ｍｏｌ／ｌの水酸化ナトリウム水溶液を調製し、５５℃に保温した。０．０１ｍｏｌ／ｌの希硫酸水溶液を調製し、３５℃に保温した。作製した光学フィルムを上記の水酸化ナトリウム水溶液に２分間浸漬した後、水に浸漬し水酸化ナトリウム水溶液を十分に洗い流した。次いで、上記の希硫酸水溶液に１分間浸漬した後、水に浸漬し希硫酸水溶液を十分に洗い流した。最後に試料を１２０℃で十分に乾燥させた。
試料Ｎｏ．１３はけん化処理後もスチールウール耐性Ａ＋を維持し良好であったのに対し、試料Ｎｏ．２２はスチールウール耐性がＡに劣化したことを確認した。
【産業上の利用可能性】
【０２５０】
本発明によれば、良好な反射防止性能を有し、耐擦傷性試験前後の反射率変化が小さく、実用的な耐擦傷性に優れた反射防止フィルムを提供することができ、また上記反射防止フィルムを簡便に製造することができる方法を提案することができる。【０２５１】
本発明を詳細にまた特定の実施態様を参照して説明したが、本発明の精神と範囲を逸脱することなく様々な変更や修正を加えることができることは当業者にとって明らかである。
本出願は、２０１６年２月２５日出願の日本特許出願（特願２０１６−０３３７８６）に基づくものであり、その内容はここに参照として取り込まれる。
【符号の説明】
【０２５２】
１  基材
２  反射防止層
３  粒子
４  層（Ａ）、樹脂
１０  反射防止フィルム
Ａ  隣り合う凸部の頂点間の距離
Ｂ  隣り合う凸部の頂点間の中心と凹部との距離
Ｓ  領域（Ｓ）
ｔ  領域（Ｓ）の膜厚
【図１】
2017146180.tif 000038
【図２】
2017146180.tif 000039
【図３】
2017146180.tif 000040
【図４】
2017146180.tif 000041
【国際調査報告】
2017146180.tif 000042
2017146180.tif 000043
2017146180.tif 000044
2017146180.tif 000045