【事件の表示】
　特許第５７３３４９７号発明「二重気孔構造研磨パッド」の特許異議申立事件について、次のとおり決定する。
【結　論】
　特許第５７３３４９７号の特許請求の範囲を訂正請求書に添付された訂正特許請求の範囲のとおり、訂正後の〔１−３〕について訂正することを認める。
　特許第５７３３４９７号の請求項１ないし３に係る特許を維持する。
【理　由】
１．手続の経緯
　本件特許第５７３３４９７号の請求項１〜３に係る特許についての出願は、平成２７年４月２４日付けでその特許権の設定登録がされ、その後、その特許について、特許異議申立人山田宏基（以下「特許異議申立人」という）により特許異議の申立てがされ、平成２８年３月１８日付けで取消理由が通知され、その指定期間内である平成２８年６月２２日付けで意見書の提出及び訂正請求があり、平成２８年９月５日付けで特許異議申立人から意見書が提出され、平成２８年１０月１４日付けで取消理由通知（決定の予告）がされ、平成２９年１月１６日付けで意見書の提出及び訂正請求がされたものである。
　なお、特許法第１２０条の５第７項の規定により、平成２８年６月２２日付けの訂正の請求は、取り下げられたものとみなす。
　また、特許異議申立人には平成２８年９月５日付けの意見書の提出の機会を与えており、訂正請求によって権利が相当程度減縮されていることも考慮し、特許法第１２０条の５第５項ただし書の規定における特別の事情にあたるとして、特許異議申立人には再度の意見書の提出の機会を与えていない。
２．平成２９年１月１６日付けの訂正請求による訂正の適否
（１）訂正の内容
　本件訂正請求による訂正の内容は、以下のアないしキのとおりである。
ア　訂正事項１
　請求項１及び２に係る「第１の気孔」を「第１のマクロ気孔」に訂正する。
イ　訂正事項２
　請求項１に係る「孔壁が厚さ１５〜５５μｍ」を、「孔壁が、ポロメリック研磨層の表面に存在する第１の気孔群を光学鏡検法において観察したとき、測定面積（Ａ）内に存在する気孔の数（Ｐ）；各気孔の平均面積（ＭＰＡ）から、各孔壁の平均厚さ（ｗ）に、式：
ｗ　＝（Ａ／πＰ）１／２−（ＭＰＡ／π）１／２
を適用した、壁の平均厚さが１５〜５５μｍ」に訂正する。
ウ　訂正事項３
　請求項１に係る「２５℃で測定した貯蔵弾性率１０〜６０ＭＰａ」を、「孔壁を形成するポリマーの、キャストフィルムの動的機械分析により２５℃で測定した貯蔵弾性率が１０〜６０ＭＰａであり、ここで、キャストフィルムが気泡および他の欠点を含まない、厚さ３００ミクロンの、独立したフィルムであり、測定が、引張測定を、薄膜治具を用い、周波数１０ｒａｄ／ｓｅｃおよび温度２５℃で、ASTM D5026-06 Standard Test Method for Plastics: Dynamic Mechanical Properties: In Tensionにしたがって、長さ２０ｍｍ、幅６．５ｍｍの寸法を有するサンプルについて行ったものであり、」に訂正する。
エ　訂正事項４
　請求項１に係る「孔壁内に」を「そして孔壁が、孔壁内に」に訂正する。
オ　訂正事項５
　請求項１に係る「第２の気孔」を「球状である第２のミクロ気孔」に、請求項３に係る「第２の気孔群」を「第２のミクロ気孔群」に、それぞれ訂正する。
カ　訂正事項６
　請求項１に係る「織物または不織構造に作って形成する」を「織物または不織構造に形成して、研磨パッドを形成する、」に訂正する。
キ　訂正事項７
　請求項３に係る「１０〜５５％」を「１０〜５５体積％」に訂正する。
（２）訂正の目的の適否、新規事項の有無、一群の請求項及び特許請求の範囲の拡張・変更の存否
ア　訂正事項１について
　上記訂正事項１は、本件特許明細書の段落【００１４】に記載されているように、後述する「第２のミクロ気孔」との違いを明確化するため、「マクロ」の語を補ったものであるから、特許法第１２０条の５第２項第３号に規定する明瞭でない記載の釈明を目的とするものである。
　第１の気孔がマクロ孔であることは、本件特許明細書の段落【００１２】及び【００１４】の記載から明らかであるから、上記訂正事項１は、願書に添付した明細書、特許請求の範囲又は図面に記載された事項の範囲内の訂正であり、特許法第１２０条の５第９項で準用する第１２６条第５項の規定に適合する。
　また、上記訂正事項１は、明瞭でない記載を明瞭な記載に訂正したものであり、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものではないから、特許法第１２０条の５第９項で準用する第１２６条第６項の規定に適合する。
イ　訂正事項２について
　上記訂正事項２は、孔壁の厚さの範囲のみを規定していたものを、本件特許明細書の段落【００２１】の記載にしたがい、孔壁の平均厚さを特定の式によって算出されるものとし、平均厚さを求めるために測定する面及び位置を特定するように減縮したものであるから、特許法第１２０条の５第２項第１号に規定する特許請求の範囲の減縮を目的とするものである。
　上記訂正事項２の孔壁の平均厚さｗを求める式及び該式中に用いられる測定値並びに測定値を得るための手法については、本件特許明細書の段落【００２１】に記載されているから、上記訂正事項２は、願書に添付した明細書、特許請求の範囲又は図面に記載された事項の範囲内の訂正であり、特許法第１２０条の５第９項で準用する第１２６条第５項の規定に適合する。
　また、上記訂正事項２は、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものではないことも明らかであるから、特許法第１２０条の５第９項で準用する第１２６条第６項の規定に適合する。
ウ　訂正事項３について
　上記訂正事項３は、貯蔵弾性率の測定条件を温度のみで規定していたものを、本件特許明細書の段落【００２０】の記載にしたがい、貯蔵弾性率を特定の条件によって測定されるものに減縮したものであるから、特許法第１２０条の５第２項第１号に規定する特許請求の範囲の減縮を目的とするものである。
　上記訂正事項３の貯蔵弾性率の測定条件は、本件特許明細書の段落【００２０】に記載されているから、上記訂正事項３は、願書に添付した明細書、特許請求の範囲又は図面に記載された事項の範囲内の訂正であり、特許法第１２０条の５第９項で準用する第１２６条第５項の規定に適合する。
　また、上記訂正事項３は、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものではないことも明らかであるから、特許法第１２０条の５第９項で準用する第１２６条第６項の規定に適合する。
エ　訂正事項４について
　上記訂正事項４は、上記訂正事項３で貯蔵弾性率を有するのが「孔壁を形成するポリマー」であると訂正したことに伴い、「孔壁内に第２のミクロ気孔を有する」という記載が「孔壁」についてのものであることを明示するため、「そして孔壁が、」の語を補ったものであるから、特許法第１２０条の５第２項第３号に規定する明瞭でない記載の釈明を目的とするものである。
　上記訂正事項４について、ミクロ気孔群が孔壁内に存在することは、本件特許明細書の段落【００１４】の記載から明らかであるから、上記訂正事項４は、願書に添付した明細書、特許請求の範囲又は図面に記載された事項の範囲内の訂正であり、特許法第１２０条の５第９項で準用する第１２６条第５項の規定に適合する。
　また、上記訂正事項４は、請求項１に元々そのように記載されていた内容を再度明示するように訂正したものであり、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものではないから、特許法第１２０条の５第９項で準用する第１２６条第６項の規定に適合する。
オ　訂正事項５について
　上記訂正事項５は、本件特許明細書の段落【００１４】に記載されているように、前述した「第１のマクロ気孔」との違いを明確化するため、「ミクロ」の語を補うとともに形状を明確化したものであるから、特許法第１２０条の５第２項第３号に規定する明瞭でない記載の釈明を目的とするものである。
　第２の気孔が球状のミクロ孔であることは、本件特許明細書の段落【００１４】の記載から明らかであるから、上記訂正事項５は、願書に添付した明細書、特許請求の範囲又は図面に記載された事項の範囲内の訂正であり、特許法第１２０条の５第９項で準用する第１２６条第５項の規定に適合する。
　また、上記訂正事項５は、明瞭でない記載を明瞭な記載に訂正したものであり、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものではないから、特許法第１２０条の５第９項で準用する第１２６条第６項の規定に適合する。
カ　訂正事項６について
　上記訂正事項６に関する訂正前の請求項１に係る記載に対応する外国語書面の部分は、「wherein the porous polishing layer is either fixed to a polymeric film or sheet substrate or formed into a woven or non-woven structure to form the polishing pad.」という記載であった。しかし、最後の部分の「・・・ to form the polishing pad.」について、「研磨パッドを形成する」という部分が訳出されておらず、「作って形成する」という不明瞭な表現となっていた。そこで、上記訂正事項６は、当該部分を訳出することで誤訳訂正をするものであるから、特許法第１２０条の５第２項第２号に規定する誤記又は誤訳の訂正を目的とするものである。
　上記訂正事項６について、この一文が対応する外国語書面の明細書には、「The porous polishing layer is either fixed to a polymeric film or sheet substrate or formed into a woven or non-woven structure to form the polishing pad.」と、請求項１と同様の記載があり、対応する本件特許明細書の箇所として段落【００１０】には、「多孔質研磨層は、ポリマーフィルム基材に固定するか、あるいは織物または不織構造に形成して、研磨パッドを形成する。」という翻訳もされている。
　そうすると、上記訂正事項６は、外国語書面に記載した事項の範囲内の訂正であるとともに、願書に最初に添付した明細書、特許請求の範囲又は図面に記載された事項の範囲内の訂正でもあるから、特許法第１２０条の５第９項で準用する第１２６条第５項の規定に適合する。
　また、上記訂正事項６は、誤訳を含む不明瞭な記載を明確にしたものであり、訂正請求項１に係る発明により保護される対象が拡張されたり、発明のカテゴリーや目的が変更されるものではないから、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものではなく、特許法第１２０条の５第９項で準用する第１２６条第６項の規定に適合する。
キ　訂正事項７について
　上記訂正事項７は、気孔率の単位を単に「％」で表記していたため、質量百分率か体積百分率か明確でなく、本件特許明細書の段落【００１５】の記載との整合性が不明確であったものを、「体積％」に訂正して気孔率の単位を体積基準に特定し、段落【００１５】の記載との整合を図るものであるから、特許法第１２０条の５第２項第３号に規定する明瞭でない記載の釈明を目的とするものである。
　気孔率の単位が体積基準であることは、本件特許明細書の段落【００１５】に記載されているから、上記訂正事項７は、願書に添付した明細書、特許請求の範囲又は図面に記載された事項の範囲内の訂正であり、特許法第１２０条の５第９項で準用する第１２６条第５項の規定に適合する。
　また、上記訂正事項７は、明瞭でない記載を明瞭な記載に訂正したものであり、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものではないから、特許法第１２０条の５第９項で準用する第１２６条第６項の規定に適合する。
ク　一群の請求項について
  訂正前の請求項１〜３は、請求項２及び３が、訂正の請求の対象である請求項１の記載を引用する関係にあるから、訂正前において一群の請求項に該当するものである。したがって、上記訂正事項１〜７による訂正の請求は、一群の請求項ごとにされたものであるから、特許法第１２０条の５第９項で準用する第１２６条第４項の規定に適合する。
（３）むすび
　したがって、上記訂正請求による訂正事項１〜７は、特許法第１２０条の５第２項ただし書第１号ないし第３号に掲げる事項を目的とするものであり、かつ、同条第９項で準用する同法第１２６条第４項から第６項までの規定に適合するので、訂正後の請求項〔１−３〕について訂正を認める。
３．当審の判断
（１）取消理由通知に記載した取消理由について
ア　訂正後の請求項１〜３に係る発明
　上記訂正請求により訂正された訂正後の請求項１〜３に係る発明（以下「本件発明１」〜「本件発明３」という）は、以下に示すとおりのものである。
「【請求項１】
　磁性、光学および半導体基材の少なくとも１種の研磨に有効な研磨パッドであって、多孔質研磨層を含み、多孔質研磨層がポリウレタンマトリックス内に二重気孔構造を有し、二重気孔構造が第１のマクロ気孔群を有し、第１のマクロ気孔群が孔壁を有し、孔壁が、ポロメリック研磨層の表面に存在する第１の気孔群を光学鏡検法において観察したとき、測定面積（Ａ）内に存在する気孔の数（Ｐ）；各気孔の平均面積（ＭＰＡ）から、各孔壁の平均厚さ（ｗ）に、式：
ｗ　＝（Ａ／πＰ）１／２−（ＭＰＡ／π）１／２
を適用した、壁の平均厚さが１５〜５５μｍであり、孔壁を形成するポリマーの、キャストフィルムの動的機械分析により２５℃で測定した貯蔵弾性率が１０〜６０ＭＰａであり、ここで、キャストフィルムが気泡および他の欠点を含まない、厚さ３００ミクロンの、独立したフィルムであり、測定が、引張測定を、薄膜治具を用い、周波数１０ｒａｄ／ｓｅｃおよび温度２５℃で、ASTM D5026-06 Standard Test Method for Plastics: Dynamic Mechanical Properties: In Tensionにしたがって、長さ２０ｍｍ、幅６．５ｍｍの寸法を有するサンプルについて行ったものであり、そして孔壁が、孔壁内に球状である第２のミクロ気孔群を含有し、第２のミクロ気孔群の平均孔径が５〜３０μｍであり、および多孔質研磨層を、ポリマーフィルムまたはシート基材に固定するか、あるいは織物または不織構造に形成して、研磨パッドを形成する、研磨パッド。
　【請求項２】
　第１のマクロ気孔の平均直径が、少なくとも３５μｍである、請求項１の研磨パッド。
　【請求項３】
　孔壁の横断面内に位置する第２のミクロ気孔群の気孔率が、１０〜５５体積％である、請求項１又は２の研磨パッド。」
イ　特許法第３６条第６項第１号
　本件発明１〜３の記載が、以下の（ア）〜（オ）のとおり、発明の詳細な説明の記載と整合するようになったため、本件発明１〜３に係る特許は、特許法第３６条第６項第１号に規定する要件を満たしていない特許出願にされたものではない。
（ア）請求項１の「第１のマクロ気孔群」が有する「孔壁の平均厚さ」については、上記訂正事項２のとおり訂正されたことにより、気孔計測測定方法としてポロメリック研磨層の表面に存在する気孔を光学鏡検法により観察し測定した値に、特定の式を適用することで算出されるものであることが、請求項１に記載されたため、発明の詳細な説明に記載されたものと整合する。
（イ）請求項１の「２５℃で測定した弾性貯蔵率」については、上記訂正事項３及び４のとおり訂正されたことにより、発明の詳細な説明に記載されたものと整合する。
（ウ）請求項１〜３の「第１のマクロ気孔」及び「第２のミクロ気孔」については、訂正事項１及び５のとおり訂正されたことにより、各気孔の大きさや形状の違いについて明示されたため、発明の詳細な説明に記載されたものと整合する。
（エ）請求項１の「多孔質研磨層」については、上記訂正事項６のとおり訂正されたことにより、発明の詳細な説明に記載されたものと整合する。
（オ）請求項３の「第２のミクロ気孔群の気孔率」については、上記訂正事項７のとおり訂正されたことにより、単位が「体積％」であることが明示されたため、発明の詳細な説明に記載されたものと整合する。
ウ　特許法第２９条第２項
（ア）刊行物の記載
　平成２８年３月１８日付け取消理由通知において引用した甲第１号証（特開昭６４−５８４７５号公報）には、「研磨パッド」について、図面とともに以下の事項が記載されている。
ａ　「１．ポリウレタンを主体とする高分子材料の微孔質シートからなる研磨用表面を有し、該研磨用表面の大部分にマクロポアが開口した研磨パッドであって、
　該マクロポアの開口部の大部分が５０〜２００μｍの直径を有し、該マクロポアの深さが該開口部の直径の少なくとも１．５倍であり、そして該マクロポアの直径が底部から表面開口部に向かって徐々に大きくなっている研磨パッド。
・・・（中略）・・・
　３．前記微孔質シートのマクロポアを相互に隔てる壁体がマイクロポアを含み、該マイクロポアの平均ポア直径が、前記マクロポアの平均ポア直径の１０分の１を越えない特許請求の範囲第１項または第２項に記載の研磨パッド。」（１ページ左下欄５行〜右下欄５行）
ｂ　「本発明は、半導体用ウェーハ、金属サンプル、メモリーディスク表面、光学部品レンズ、ウェーハ用マスクなどの研削、ラッピング、形作り、および研磨に用いられる研磨パッドに関する。」（１ページ右下欄８〜１１行）
ｃ　「本発明の研磨パッドの製造工程を、第５図〜第８図に基づいて説明する。
　本発明の研磨パッドは、従来の多孔質体の製造技術を利用する。従来の溶媒−非溶媒系の凝固浴処理によって、第５図に示すような、第１の基材６に微孔質シート５が積層された研磨パッドを形成する。この研磨パッドのスキン層５１を除去すれば、第３図に示す従来の研磨パッドが構成される。しかし、本発明の研磨パッドを作製するには、第５図のスキン層５１を除去せずに、或いは，必要に応じて極めて軽度にバフ掛けを行い、このスキン層５１上に第２の基材７を接着して、第６図に示すような材料を形成する。次いで、第６図に示す材料を反転して、第１の基材６を除去すれば，この材料は、第７図に示すような外観を呈する。最後に、第７図の材料から多孔質ベース層５４を除去して、下部のマクロポア５２を露出させ開口する。」（３ページ右下欄１６行〜４ページ左上欄１２行）
　以上の記載によれば、甲第１号証には以下の発明が記載されていると認められる。
　「半導体用ウェーハ、メモリーディスク表面、光学部品レンズの研磨に用いられる研磨パッドであって、ポリウレタンを主体とする高分子材料の微孔質シートからなる研磨用表面の大部分にマクロポアが開口しており、前記微孔質シートのマクロポアを相互に隔てる壁体がマイクロポアを含み、該マクロポアの開口部の大部分が５０〜２００μｍの直径を有し、該マイクロポアの平均ポア直径が、前記マクロポアの平均ポア直径の１０分の１を越えないものであり、第２の基材上に微孔質シートを接着して研磨パッドを得る、研磨パッド。」（以下「引用発明」という）
（イ）対比
　本件発明１と引用発明とを対比する。
　引用発明の「半導体用ウェーハ、メモリーディスク表面、光学部品レンズの研磨に用いられる研磨パッド」は、本件発明１の「磁性、光学および半導体基材の少なくとも１種の研磨に有効な研磨パッド」に相当する。また、引用発明の「微孔質シート」、「マクロポア」、「壁体」、「マイクロポア」は、それぞれ本件発明１の「多孔質研磨層」、「第１のマクロ気孔」、「孔壁」又は「壁」、「第２のミクロ気孔」に相当することも明らかである。
　そして、引用発明の「研磨パッド」は、その構造について、「微孔質シート」が、「ポリウレタンを主体とする高分子材料」からなるものであり、「研磨用表面の大部分にマクロポアが開口して」おり、さらに、「前記微孔質シートのマクロポアを相互に隔てる壁体がマイクロポアを含」んでいることから、本件発明１の「研磨パッド」が「多孔質研磨層を含み、多孔質研磨層がポリウレタンマトリックス内に二重気孔構造を有し、二重気孔構造が第１のマクロ気孔群を有し、第１のマクロ気孔群が孔壁を有し、そして孔壁が、孔壁内に第２のミクロ気孔群を含有し」た構造を限度として一致するものと認められる。
　また、引用発明の「該マクロポアの開口部の大部分が５０〜２００μｍの直径を有し、該マイクロポアの平均ポア直径が、前記マクロポアの平均ポア直径の１０分の１を越えないものであ」るという条件を考えると、引用発明の「マイクロポアの平均ポア直径」は、５〜２０μｍの範囲にあるものと言え、本件発明１の「第２のミクロ気孔群の平均孔径が５〜３０μｍ」に対して、「第２のミクロ気孔群の平均孔径が５〜２０μｍ」である点では一致するものである。
　さらに、引用発明の「研磨パッド」が、「第２の基材上に微孔質シートを接着して研磨パッドを得る」ものである点は、本件発明１の「研磨パッド」が、「多孔質研磨層を、ポリマーフィルムまたはシート基材に固定するか、あるいは織物または不織構造に形成して、研磨パッドを形成する」ものである点と対比して、「多孔質研磨層を、ポリマーフィルムまたはシート基材に固定して、研磨パッドを形成する」ものである点で一致するものと認められる。
　そうすると、本件発明１は引用発明と下記の点で一致し、また、相違するものと認められる。
＜一致点＞
　「磁性、光学および半導体基材の少なくとも１種の研磨に有効な研磨パッドであって、多孔質研磨層を含み、多孔質研磨層がポリウレタンマトリックス内に二重気孔構造を有し、二重気孔構造が第１のマクロ気孔群を有し、第１のマクロ気孔群が孔壁を有し、そして孔壁が、孔壁内に第２のミクロ気孔群を含有し、第２のミクロ気孔群の平均孔径が５〜２０μｍであり、および多孔質研磨層を、ポリマーフィルムまたはシート基材に固定して、研磨パッドを形成する、研磨パッド。」である点。
＜相違点１＞
　本件発明１の第１のマクロ気孔の孔壁について、その平均厚さが、「ポロメリック研磨層の表面に存在する第１の気孔群を光学鏡検法において観察したとき、測定面積（Ａ）内に存在する気孔の数（Ｐ）；各気孔の平均面積（ＭＰＡ）から、各孔壁の平均厚さ（ｗ）に、式：ｗ＝（Ａ／πＰ）１／２−（ＭＰＡ／π）１／２を適用した、壁の平均厚さが１５〜５５μｍ」であり、孔壁を形成するポリマーの貯蔵弾性率が、「キャストフィルムの動的機械分析により２５℃で測定した貯蔵弾性率が１０〜６０ＭＰａであり、ここで、キャストフィルムが気泡および他の欠点を含まない、厚さ３００ミクロンの、独立したフィルムであり、測定が、引張測定を、薄膜治具を用い、周波数１０ｒａｄ／ｓｅｃおよび温度２５℃で、ASTM D5026-06 Standard Test Method for Plastics: Dynamic Mechanical Properties: In Tensionにしたがって、長さ２０ｍｍ、幅６．５ｍｍの寸法を有するサンプルについて行ったもの」であるのに対し、引用発明のマクロポアを相互に隔てる壁体は、本件発明１の上記特定の方法で孔壁の平均厚さ及び形成するポリマーの貯蔵弾性率を求めて、それらの値を特定の範囲としたものではない点。
＜相違点２＞
　本件発明１の第２のミクロ気孔について、その形状が「球状である」のに対し、引用発明のマイクロポアの形状は不明である点。
（ウ）判断
　上記相違点１について検討すると、引用発明においては、削り屑や使用済みスラリー洗浄が容易になされ得る研磨パッドを提供することを目的に（「（発明が解決しようとする問題点）」参照）、マクロポアの開口部直径の大きさを特定のものにすることを主題としており、マクロポアを相互に隔てる壁体の厚さを考慮するものではない。そのため、上記本件発明１の相違点１に係る構成のうち、マクロ気孔の孔壁の平均厚さを、光学鏡検法の測定及び式により算出する方法が、仮に当該技術分野で周知であったとしても、引用発明において当該周知の方法を適用して壁体の厚さを特定のものとする動機がない。
　また、引用発明においては、微孔質シートを形成するポリウレタンを主体とする高分子材料について、その貯蔵弾性率を考慮するものではない。そして、本件発明１は、単に研磨パッドの硬度を調整するために貯蔵弾性率を設定するものではなく、特定の平均厚さである孔壁を備えた二重気孔構造を有する多孔質研磨層に対し、その孔壁を形成するポリマーの貯蔵弾性率を特定の手法により測定して定めたものである。そうすると、上記本件発明１の相違点１に係る構成のうち貯蔵弾性率については、引用発明において、パッドの硬さの指標として周知の貯蔵弾性率を単に適用してその数値範囲を最適化又は好適化した単なる設計的事項であるとすることはできない。
　さらに、上記相違点１を解消する証拠については、他に発見することはできない。
　次に、上記相違点２について検討すると、引用発明のマクロポアを相互に隔てる壁体に含まれるマイクロポアは、甲第１号証の図面を見る限り、球状ではなく不規則な形状をした孔であると認められる。そして、引用発明において、当該マイクロポアを球状に変えようとする積極的な動機は認められない。一方、研磨パッドの技術分野において、マクロポアを相互に隔てる壁体に含まれるマイクロポアの形状を球状にすることが、従来周知の技術事項であることを示す証拠も存在しない。
　よって、本件発明１は、引用発明及び従来周知の技術事項に基づいて、当業者が容易に想到するものとはいえない。
（エ）本件発明２及び３について
　本件発明２及び３は、本件発明１を引用するものであるから、本件発明１と同様に、引用発明及び従来周知の技術事項に基づいて、当業者が容易に想到するものとはいえない。
（オ）まとめ
　したがって、本件発明１〜３は、上記引用発明及び従来周知の技術事項に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものではない。
　よって、本件発明１〜３に係る特許は、特許法第２９条第２項の規定に違反してされたものではない。
（２）取消理由通知において採用しなかった特許異議申立理由について
　特許異議申立人は、訂正前の請求項１〜３に係る特許について、甲第２号証（特開２００９−１０１５０４号公報）及び甲第３号証（特許第５７３３４９７号公報）を提出し、それぞれを主引用例とすることで、本件発明１〜３は特許法第２９条第２項の規定に違反してされたものであるから特許を取り消すべきものである旨主張している。
　しかし、甲第２号証は、上記３．（１）ウ（イ）で示した＜相違点＞について、引用発明と同様に相違するものであり、本件発明１〜３は、甲第２号証及び従来周知の技術から当業者が容易に想到することができたものとは認められない。
　また、甲第３号証は、本件特許の特許公報そのものであって、公知日が平成２７年６月１０日であるから、本件発明１〜３に対する公知文献とはなり得ない。
　したがって、特許異議申立人の上記主張は理由がない。
４．むすび
　以上のとおりであるから、取消理由通知に記載した取消理由及び特許異議申立書に記載した特許異議申立理由によっては、本件発明１〜３に係る特許を取り消すことはできない。
　また、他に本件発明１〜３に係る特許を取り消すべき理由を発見しない。
　よって、結論のとおり決定する。
【異議決定日】
平成２９年２月２８日（２０１７．２．２８）
【訂正の要旨】
審決（決定）の【理由】欄参照。
（５７）【特許請求の範囲】
　【請求項１】
　磁性、光学および半導体基材の少なくとも１種の研磨に有効な研磨パッドであって、多孔質研磨層を含み、多孔質研磨層がポリウレタンマトリックス内に二重気孔構造を有し、二重気孔構造が第１の
マクロ
マクロ
、ポロメリック研磨層の表面に存在する第１の気孔群を光学鏡検法において観察したとき、測定面積（Ａ）内に存在する気孔の数（Ｐ）；各気孔の平均面積（ＭＰＡ）から、各孔壁の平均厚さ（ｗ）に、式：
ｗ　＝（Ａ／πＰ）１／２−（ＭＰＡ／π）１／２
を適用した、壁の平均
孔壁を形成するポリマーの、キャストフィルムの動的機械分析により
が
であり
ここで、キャストフィルムが気泡および他の欠点を含まない、厚さ３００ミクロンの、独立したフィルムであり、測定が、引張測定を、薄膜治具を用い、周波数１０ｒａｄ／ｓｅｃおよび温度２５℃で、ＡＳＴＭ　Ｄ５０２６−０６　”Ｓｔａｎｄａｒｄ　Ｔｅｓｔ　Ｍｅｔｈｏｄ　ｆｏｒ　Ｐｌａｓｔｉｃｓ：Ｄｙｎａｍｉｃ　Ｍｅｃｈａｎｉｃａｌ　Ｐｒｏｐｅｒｔｉｅｓ：Ｉｎ　Ｔｅｎｓｉｏｎ”にしたがって、長さ２０ｍｍ、幅６．５ｍｍの寸法を有するサンプルについて行ったものであり、そして孔壁が、
球状である
ミクロ
ミクロ
形成して、研磨パッドを
、
　【請求項２】
　第１の
マクロ
　【請求項３】
　孔壁の横断面内に位置する第２の
ミクロ
体積