(57)【要約】【課題】メタノールガスに触媒反応を起こさせる触媒に金属多孔質体、または金属多孔質体に遷移金属材料をメッキ等で表面処理をしたことにより、効率的（濃度／時間）に滅菌作用の優れたメタノールラジカルガスを発生させることができる滅菌ガス発生装置を提供する。【解決手段】滅菌ガス発生装置１の触媒９ａに金属多孔質体を成形したもの、または金属多孔質体にメッキ等の表面処理をしたものを採用している。滅菌ガス発生器コントローラ２の制御によりメタノールＡを気化機構３に取り込み、メタノールを気化し、触媒９ａによって気化したメタノールＢに対し触媒作用を制御する。これによってメタノールラジカルガスを生成することができ、該ガスは滅菌室に導かれる。【選択図】図１
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【実用新案登録請求の範囲】
【請求項１】
メタノールタンクを含むメタノール備蓄部と、
前記メタノール備蓄部のメタノールを吸い上げ、メタノールを噴霧することによりメタノールを気化するメタノール気化機構と、
エアノズルによりメタノール気化機構に空気を供給するエアポンプと、
気化したメタノールを前記空気と混合し、触媒反応により滅菌ガス化する滅菌ガス発生部と、
前記滅菌ガス発生部に備えられ、金属多孔質体で構成される触媒部と、
前記メタノール備蓄部，メタノール気化機構，エアポンプおよび滅菌ガス発生部を制御する滅菌ガス発生器制御手段と、
を備え、
メタノールラジカルガスを生成し滅菌室に該メタノールラジカルガスを供給することを特徴とする滅菌ガス発生装置。
【請求項２】
前記滅菌ガス発生部の触媒部は、
遷移金属材料により形成される金属多孔質体の層を用いることを特徴とする請求項１記載の滅菌ガス発生装置。
【請求項３】
前記滅菌ガス発生部の触媒部は、
金属多孔質体に遷移金属材料をメッキ等の表面処理をしたものを用いることを特徴とする請求項１記載の滅菌ガス発生装置。
【請求項４】
前記金属多孔質体の金属材料は、
銅(Cu)，白金(Pt)または、ニッケル(Ni)であることを特徴とする請求項１，２または３記載の滅菌ガス発生装置。
【請求項５】
前記金属多孔質体の遷移金属は、
銅(Cu)であり、
前記触媒部は、
前記銅(Cu)多孔質体の層の下部にセラミックボールの層を配置し、さらにその下に真鍮などの金属網を設けたことを特徴とする請求項２記載の滅菌ガス発生装置。
【請求項６】
メタノール気化機構は、
メタノールサブタンクから供給されるメタノールを噴霧するノズルと、
金属メッシュと、
前記金属メッシュを加熱するヒータと、
前記金属メッシュに設置した温度センサと、
を含んでメタノール気化部を構成し、
前記エアポンプから供給される空気と混合して、空気混合気化メタノールを前記滅菌ガス発生部に供給することを特徴とする請求項１，２，３，４または５記載の滅菌ガス発生装置。
【請求項７】
前記滅菌ガス発生器制御手段は、
滅菌ガス発生信号を発生させることにより運転を開始し、
メタノールを気化するための気化ヒータを加熱制御し、予め設定した気化のための温度に達したとき、その温度を保つように前記気化ヒータをＯＮ／ＯＦＦ制御し、
前記気化ヒータ加熱開始とともに触媒ヒータの加熱を開始し、
その後、前記エアポンプによる空気供給およびメタノール供給ポンプによるメタノール供給を開始し、
前記触媒ヒータの加熱により予め設定してある所定の触媒温度に達したとき、触媒の自己反応熱により上昇し、供給される空気量を制御することにより所定の温度範囲を維持するように制御することを特徴とする請求項１乃至６のいずれかに記載の滅菌ガス発生装置。
【請求項８】
前記予め設定した気化のための温度は、略１２０℃，
前記所定の触媒温度は、略２５０℃，
前記所定の温度範囲は、略３５０℃〜略５００℃
であることを特徴とする請求項７記載の滅菌ガス発生装置。
【請求項９】
前記滅菌ガス発生器制御手段は、前記触媒ヒータのＯＮ／ＯＦＦが所定回以上繰り返されると、上位システムに異常を示す信号を送り、該滅菌ガス発生装置を停止させることを特徴とする請求項７または８記載の滅菌ガス発生装置。
【請求項１０】
前記発生させたメタノールラジカルガスを冷却する冷却機構を設けたことを特徴とする請求項１乃至９のいずれかに記載の滅菌ガス発生装置。
【考案の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本考案は、滅菌作用のあるメタノールラジカルガスを発生させる滅菌ガス発生装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
介護現場などで用いる介護製品などの滅菌は、介護の対象を体力のない高齢者にしていることから、重要なことである。
従来より、滅菌を行うガス、例えばメタノールラジカルガスなどを生成し、該ガスを滅菌対象となる製品を配置した滅菌室や滅菌チャンバに供給して滅菌が行われている。
この滅菌用のガスは、短時間に生成でき、しかも滅菌用のガス自体に滅菌に大幅に効果のある成分（濃度なども含む）を含むことが要請されている。
【０００３】
特許文献１，２は滅菌用ガスとしてメタノールラジカルガスを発生させる滅菌ガス発生装置などの提案を行っている。
この提案によれば、この滅菌ガス発生装置により生成したメタノールラジカルガスは該特許出願以前に存在する従来装置に比較し、種々の優位性があることが示されている。
しかしながら、この滅菌ガス発生装置により発生するメタノールラジカルガスは、ガス濃度を滅菌作用を発揮できる濃度まで上げるために相当の時間を必要とし、さらなる濃度の上昇を期待できないものと考えられる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特許第４２９２２３４号公報
【特許文献２】特許第５４６３３７８号公報
【考案の概要】
【考案が解決しようとする課題】
【０００５】
本考案は上記種々の状況を鑑みてなしたもので、その目的は、メタノールガスに触媒反応を起こさせる触媒に金属多孔質体を用いることにより、効率的（濃度／時間）に滅菌作用の優れたメタノールラジカルガスを発生させることができる滅菌ガス発生装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
前記目的を達成するために本考案による請求項１記載の滅菌ガス発生装置は、メタノールタンクを含むメタノール備蓄部と、前記メタノール備蓄部のメタノールを吸い上げ、メタノールを噴霧することによりメタノールを気化するメタノール気化機構と、エアノズルによりメタノール気化機構に空気を供給するエアポンプと、気化したメタノールを前記空気と混合し、触媒反応により滅菌ガス化する滅菌ガス発生部と、前記滅菌ガス発生部に備えられ、金属多孔質体で構成される触媒部と、前記メタノール備蓄部，メタノール気化機構，エアポンプおよび滅菌ガス発生部を制御する滅菌ガス発生器制御手段とを備え、メタノールラジカルガスを生成し滅菌室に該メタノールラジカルガスを供給することを特徴とする。
本考案による請求項２記載の滅菌ガス発生装置は、請求項１記載の考案において、前記滅菌ガス発生部の触媒部は、遷移金属材料により形成される金属多孔質体の層を用いることを特徴とする。
本考案による請求項３記載の滅菌ガス発生装置は、請求項１記載の考案において、前記滅菌ガス発生部の触媒部は、金属多孔質体に遷移金属材料をメッキ等の表面処理をしたものを用いることを特徴とする。
本考案による請求項４記載の滅菌ガス発生装置は、請求項１，２または３記載の考案において、前記金属多孔質体の金属材料は、銅(Cu)，白金(Pt)または、ニッケル(Ni)であることを特徴とする。
本考案による請求項５記載の滅菌ガス発生装置は、請求項２記載の考案において、前記金属多孔質体の遷移金属は、銅(Cu)であり、前記触媒部は、前記銅(Cu)多孔質体の層の下部にセラミックボールの層を配置し、さらにその下に真鍮などの金属網を設けたことを特徴とする。
本考案による請求項６記載の滅菌ガス発生装置は、請求項１，２，３，４または５記載の考案において、メタノール気化機構は、メタノールサブタンクから供給されるメタノールを噴霧するノズルと、金属メッシュと、前記金属メッシュを加熱するヒータと、前記金属メッシュに設置した温度センサと、を含んでメタノール気化部を構成し、前記エアポンプから供給される空気と混合して、空気混合気化メタノールを前記滅菌ガス発生部に供給することを特徴とする。
本考案による請求項７記載の滅菌ガス発生装置は、請求項１乃至６のいずれかに記載の考案において、前記滅菌ガス発生器制御手段は、滅菌ガス発生信号を発生させることにより運転を開始し、メタノールを気化するための気化ヒータを加熱制御し、予め設定した気化のための温度に達したとき、その温度を保つように前記気化ヒータをＯＮ／ＯＦＦ制御し、前記気化ヒータ加熱開始とともに触媒ヒータの加熱を開始し、その後、前記エアポンプによる空気供給およびメタノール供給ポンプによるメタノール供給を開始し、前記触媒ヒータの加熱により予め設定してある所定の触媒温度に達したとき、触媒の自己反応熱により上昇し、供給される空気量を制御することにより所定の温度範囲を維持するように制御することを特徴とする。
本考案による請求項８記載の滅菌ガス発生装置は、請求項７記載の考案において、前記予め設定した気化のための温度は、略１２０℃，前記所定の触媒温度は、略２５０℃，前記所定の温度範囲は、略３５０℃〜略５００℃であることを特徴とする。
本考案による請求項９記載の滅菌ガス発生装置は、請求項７または８記載の考案において、前記滅菌ガス発生器制御手段は、前記触媒ヒータのＯＮ／ＯＦＦが所定回以上繰り返されると、上位システムに異常を示す信号を送り、該滅菌ガス発生装置を停止させることを特徴とする。
本考案による請求項１０記載の滅菌ガス発生装置は、請求項１乃至９のいずれかに記載の考案において、前記発生させたメタノールラジカルガスを冷却する冷却機構を設けたことを特徴とする。
【考案の効果】
【０００７】
上記構成によれば、従前に比較しメタノールラジカルガスを効率的に生成することができる。例えば、従来と略同じ温度条件，湿度条件の下で、滅菌ガス発生装置のガス発生工程にかかる時間を短縮させることができる。しかも従来のメタノールラジカルガス濃度より大幅に濃度の高いメタノールラジカルガスを発生させることができる。
このように発生させた本考案によるメタノールラジカルガスは滅菌室に供給することにより、滅菌対象となる種々の製品の滅菌処理の効果が大で、かつ、短時間で滅菌処理ができるという効果をもたらすものである。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
【図１】本考案による滅菌ガス発生装置の実施の形態を示すブロック図である。
【図２】触媒反応を生じる金属多孔質体で構成された円形状のブロック層複数個を搭載する多孔質体支持部の実施の形態を示す平面図である。
【図３】触媒反応を生じる金属多孔質体で構成された円形状のブロック層複数個を搭載する多孔質体支持部の実施の形態を断面で示した正面図である。
【図４】多孔質体支持部に金属多孔質体のブロック層を多層に重ねた状態を断面で示した正面図である。
【図５】滅菌室を備えたメンテナンスルームに本考案による滅菌ガス発生装置を設置した実施の形態を示すブロック図である。
【図６】滅菌ガス発生器（滅菌ガス発生装置）のメタノールラジカルガス発生のシーケンスを説明するためのタイミングチャートである。
【図７】図６の滅菌ガス発生装置を用いてガスを発生させる際、ガス濃度が上昇，下降するときの時刻，経過時間に対する触媒温度等の各温度，湿度，室内圧力およびガス濃度データ値を記録した触媒評価試験データの表を示す図である。
【図８】図７の触媒評価試験データをグラフ化した図である。
【考案を実施するための形態】
【０００９】
以下、図面を参照して本考案の実施の形態を詳しく説明する。
滅菌ガス発生触媒は、メタノール混合気と反応させることにより滅菌ガスを発生する触媒であり、本考案では触媒に用いられるものは金属多孔質体で、銅(Cu)、白金(Pt)、ニッケル(Ni)等の種々の遷移金属が用いられる。または、これ等の遷移金属をメッキ等の表面処理を施したものが用いられる。
【００１０】
図１は、本考案による滅菌ガス発生装置の実施の形態を示すブロック図である。
この実施の形態による滅菌ガス発生装置１は、メタノールＡを供給するためのメタノールタンク５，電磁バルブ８，メタノールサブタンク６，メタノール気化機構３，触媒９ａが配置された触媒ルーム９，冷却機構１１，熱電対７，１２，ファン１３，エアポンプ４，フレキシブルバルブ４ｂおよび滅菌ガス発生器コントローラ２を備えている。
メタノールタンク５，電磁バルブ８およびメタノールサブタンク６によってメタノール備蓄部が構成され、メタノールサブタンク６は、メタノールを吸い上げるメタノール供給ポンプ６ｂおよび液面センサ６ａを有している。
【００１１】
メタノール気化機構３は、メタノール供給ポンプ６ｂから供給されたメタノールを噴霧する噴霧ノズル３ｄ，噴霧ノズル３ｄからメタノールを噴霧されるステンレスメッシュ３ａ，ステンレスメッシュ３ａの温度をモニタする温度センサ３ｂ，気化ヒータ３ｃを有している。メタノール気化部は、メタノール供給ポンプ６ｂ，噴霧ノズル３ｄおよびメタノールを気化する気化器を含んで構成される。
また、滅菌ガス発生装置１は輻射熱を遮蔽するパンチングプレート（図示されていない）および空気供給ノズル４ｃを備え、これらによってキャブレタ部が構成される。
【００１２】
触媒ルーム９は煙突状の筐体形状であり、この中に気化したメタノールを触媒反応により滅菌ガス化する触媒（図４に示すＣｕ多孔質体１８ｃ）９ａおよび触媒を熱するための触媒ヒータ９ｂを備えている。
触媒ヒータ９ｂは、滅菌ガス発生器コントローラ２によってＯＮ／ＯＦＦのコントロールが行われる。
【００１３】
冷却機構１１は、高温で熱せられた触媒を介して発生した滅菌ガスをラジエタ構造の流路を通過させることにより冷却する機構である。メタノールサブタンク６は、滅菌ガス発生装置１内に設置され、外部タンクであるメタノールタンク５から供給されるメタノールＡを貯蔵するタンクである。
メタノール気化機構３は、メタノールサブタンク６に溜められたメタノールをメタノール供給ポンプ６ｂにより汲み上げ、汲み上げられたメタノールを噴霧ノズル３ｄによって気化ヒータ３ｃにより１２０℃〜１３０℃に熱せられたステンレスメッシュ３ａ上に噴霧する。メタノール気化機構３はこのような動作によりメタノールを蒸気化する。蒸気化されたメタノールはメタノール気化機構３の上部に設けられている触媒反応を行う触媒ルーム９に送り出される。
【００１４】
滅菌ガス発生器コントローラ２は、メタノールサブタンク６，エアポンプ４，触媒ルーム９およびメタノール気化機構３それぞれに対し下記(1) 〜(6) に示す制御を行う。
(1) メタノールサブタンク６にメタノール量を一定に保つための液面センサ６ａが備えられ、この液面センサ６ａが常にメタノールを検知するようにメタノール供給経路５ａに設置された電磁バルブ８を開閉制御する。
メタノールＡは滅菌ガス発生器コントローラ２の制御によりメタノールタンク５からメタノールサブタンク６に供給され、メタノールサブタンク６の液面が常に一定に保たれる。
【００１５】
(2) メタノール気化機構３はステンレスメッシュ３ａを有しており、このステンレスメッシュ３ａを加熱するための気化ヒータ３ｃが備わっている。また、ステンレスメッシュ３ａの温度を検知するための温度センサ３ｂが配置されている。
滅菌ガス発生器コントローラ２はメタノール気化機構３のステンレスメッシュ３ａを１２０℃〜１３０℃の間の任意に設定した温度まで加熱する制御を行う。気化ヒータ３ｃのＯＮ／ＯＦＦ制御を行い、ステンレスメッシュ３ａを加熱し温度センサ３ｂによって温度モニタすることによってステンレスメッシュ３ａの温度を設定した温度に保つ。
【００１６】
(3) 滅菌ガス発生器コントローラ２はメタノール気化機構３の上部に設けた触媒ヒータ９ｂのＯＮ／ＯＦＦ制御を行う。
気化したメタノールＢとエアポンプ４から供給された空気Ｃとの混合気が触媒反応する最適な温度となるように触媒ヒータ９ｂの制御を行う。
この実施の形態は、触媒温度が２５０℃以上を保つように制御され、通常、触媒９ａは自己反応熱により５００℃付近を上限に上昇するため、触媒温度が２５０℃に達すると触媒ヒータ９ｂはＯＦＦとなる。
滅菌ガス発生の指令を受けている間、触媒温度が２５０℃を下回った場合には触媒ヒータ９ｂをＯＮする。この動作が複数回（２〜１０回に任意に設定可能である）繰り返された場合、図示しない上位システムに異常信号を発信して異常状態を報告する。上位システムは異常状態の報告を受けると、滅菌ガス発生装置１の動作を全て停止するような指令を出力する。
【００１７】
(4) 滅菌ガス発生器コントローラ２はエアポンプ４から供給される空気Ｃの量を制御する。
滅菌ガス発生器コントローラ２は３５０℃〜５００℃の間の任意に設定した温度を保つように熱電対７により触媒温度をモニタし、エアポンプ４の空気供給経路４ａに設置されたフレキシブルバルブ４ｂの開度をコントロールする。空気量を増加させれば、触媒反応温度が上がり、減少させれば触媒反応温度が下がる。
【００１８】
(5) 滅菌ガス発生器コントローラ２はメタノール供給ポンプ６ｂから供給されるメタノール量をコントロールする。通常は一定になるように設定されているが、実験等ではこのメタノール量をコントロールする機能が使用される。
メタノール供給ポンプ６ｂが電磁ポンプの場合はＯＮ／ＯＦＦ比を調整することにより、チューブポンプの場合はモータの回転数を変えることにより、メタノール供給量を３ｃｃ／ｍｉｎ〜１０ｃｃ／ｍｉｎの任意の範囲内でコントロールすることができる。
【００１９】
(6) 滅菌ガス発生器コントローラ２は上記各装置部の制御を行うのに伴い、メタノール気化機構３，触媒ヒータ９ｂ，フレキシブルバルブ４ｂおよびメタノール供給ポンプ６ｂについてシーケンス制御を行う。
【００２０】
滅菌ガス発生器コントローラ２の一連の制御により各装置部は以下のようになる。
a)メタノール気化機構３の気化温度が設定された温度１２０℃〜１３０℃に達する。上記(3) の動作である。
b)触媒温度が設定した温度２２０℃に達する。
c)上記a)とb)の条件が成立したとき、エアポンプ４を作動させて空気を供給する。以降、(4) の状態を保持する。
d)同時にメタノール供給ポンプ６ｂを作動させメタノール気化機構３にメタノールを供給する。
e)触媒温度が２５０℃に達した時点で触媒ヒータ９ｂをＯＦＦする。以降(3) の状態を保持する。
【００２１】
図２は、触媒反応を生じる金属多孔質体で構成された円形状のブロック層複数個を搭載する多孔質体支持部の実施の形態を示す平面図、図３は、同じく多孔質体支持部の実施の形態を断面で示した正面図である。
多孔質体支持部１８は、大口径の真鍮パイプを所定の厚さで切り出し、外周部１８ｅを形成し、真鍮パイプ１７を中央で支持するため１２０°角度で形成された３個の腕部よりなるブリッジ部１８ｄにより構成されている。
金属多孔質体で構成された円形状のブロック層１８ｃ（図４参照）は、ブリッジ部１８ｄの上に搭載される。開口部１８ｆの部分に下からメタノールＢが上昇し、円形状のブロック層１８ｃ内を通過することにより触媒反応が引き起こされる。
【００２２】
図４は、多孔質体支持部に金属多孔質体のブロック層を多層に重ねた状態を断面で示した正面図である。
触媒に用いられる金属多孔質体の材料は、銅(Cu)、白金(Pt)、ニッケル(Ni)等の種々の遷移金属である。
金属多孔質体で構成されたブロック層１８ｃは、遷移金属材料をプレスなどすることにより任意の形に成形することができる。この実施の形態は、遷移金属材料が銅(Cu)であり、円形状に成形されている。任意の厚さにプレスすることにより気孔率を下げ金属体の占める割合を調整することが可能である。金属多孔質体の構造において、その気孔径は０．３ｍｍから１．５ｍｍが良い。
【００２３】
多孔質体支持部１８の最も底部には真鍮網１８ａが搭載され、セラミックボール１８ｂで形成された層を載せ、さらにその上にＣｕ多孔質体のブロック層１８ｃを積み重ねた状態である。
図４に示すようにメタノールＢ（メタノール混合気）は多孔質体支持部１８の下部から矢印に示すように上昇し、真鍮網１８ａ，セラミックボール１８ｂで形成された層を通り、ブロック層１８ｃ内に入って触媒反応が引き起こされる。
この実施の形態では触媒に遷移金属材料の多孔質体を用いているが、これら遷移金属をメッキ等の表面処理を施したもの多数でブロック体に類似する形を作り、その中にメタノールＢを通す構造にしても、金属多孔質体で構成した触媒と同様の触媒の効果を得ることが可能である。
【００２４】
図５は、滅菌室を備えたメンテメンスルームに本考案による滅菌ガス発生装置を設置した実施の形態を示すブロック図である。
メンテナンスルーム３０に本考案による滅菌ガス発生装置１を配置し、メタノールラジカルガス供給経路１６と滅菌質空気吸入管１４を滅菌室２０に結合している。滅菌室２０には滅菌対象となる介護製品５０が置かれている。滅菌室２０の空気はフィルタ４６を介して温湿度装置３８に取り入れられる。給水タンク３９からバルブ４４を経由して加湿器４７に給水される。加湿器４７ではヒータをＯＮ／ＯＦＦ制御し、バルブ４４の開閉を行って空気を取り入れることにより、一定の湿度の空気が作られる。滅菌室から送られた空気と加湿器４７から送られた一定の湿度の空気とは混合され、温湿度装置３８に送られる。
【００２５】
温湿度装置３８ではヒータにより温度管理された空気が滅菌室２０にブロワ３７により送り込まれる。この空気の温度を熱電対４５で監視し、温湿度装置３８内のヒータをＯＮ／ＯＦＦ制御することにより、滅菌室２０に適切な温度，湿度の空気を供給することができる。
排水タンク４１は、加湿器４７で溜まった水を排水するためのものである。また、滅菌室２０からフィルタ４６を介して送られる空気から排出された水も排水タンク４１に送られる。
滅菌室２０内は差圧計３５，温湿度センサ３６によりその内部環境が検出され、チャンバ内攪拌ブロワ３３によって、滅菌ガス発生装置１からのメタノールラジカルガスも攪拌されて滅菌室２０内の滅菌する環境が形成される。
【００２６】
滅菌室２０のメタノールラジカルガスを含んだ空気は、インバータ制御により駆動される排気ブロワ２５によって排気装置に送られる。排気装置では熱電対２７で温度を検出することによりヒータ２３のＯＮ／ＯＦＦ制御が行われ、メタルハニカム触媒２６が加熱されて触媒反応が促進される。メタルハニカム触媒反応がなされた空気は排気される。熱電対２８により排気空気の温度が検出される。
制御盤４２は上記各制御を行い、シーケンサとしての機能を有している。
制御盤４２に備えられている操作パネル４３によって、必要な温度設定値などやデータを入力することができる。そして、メンテナンスルーム３０および滅菌ガス発生装置１のコントロールを行うことが可能である。
【００２７】
図６は、滅菌ガス発生器（滅菌ガス発生装置）のメタノールラジカルガス発生のシーケンスを説明するためのタイミングチャートである。
滅菌ガス発生装置１の各装置部分の間の制御タイミングを示したものである。
時刻ｔ１で滅菌ガス発生信号により運転を開始する。気化ヒータ３ｃ，触媒ヒータ９ｂがＯＮとなり、ステンレスメッシュ３ａおよび触媒９ａの加熱を開始する。気化器温度が上昇して時刻ｔ２に設定されている温度１２０℃に達する。同時に触媒温度も上昇し時刻ｔ３で温度が２２０℃に達し、さらに上昇し時刻ｔ５では温度２５０℃となる。
時刻ｔ３ではエアポンプ４，メタノール供給ポンプ６ｂも起動され、空気およびメタノールの供給を開始する。触媒ヒータ９ｂは触媒温度が２５０℃に達すると、ＯＦＦとなる。この後は、触媒の温度は触媒の自己反応熱により上昇し、エアポンプ４のフレキシブルバルブ４ｂの開閉制御により供給される空気量がコントロールされ、３５０℃〜５００℃の任意の温度を維持することができる。
【００２８】
冷却機構１１のファンは熱電対１２の温度が４０℃以上になるとＯＮし、４０℃以下になるとＯＦＦする。何らかの異常により触媒の自己反応による温度が維持できなくなり、触媒温度が２５０℃以下になった場合、触媒ヒータ９ｂがＯＮする。触媒ヒータ９ｂのＯＮ／ＯＦＦが５回繰り返されると、異常と判断され装置は停止するように設定されている。例として時刻ｔ１４のときに触媒温度が２５０℃を下回った場合、触媒ヒータ９ｂはＯＮし、その後、時刻ｔ２３までの間に５回ＯＮ／ＯＦＦが繰り返されたため、時刻ｔ２３で、装置は停止する。
【００２９】
図７は、図６の滅菌ガス発生装置を用いてガスを発生させる際、ガス濃度が上昇，下降するときの時刻，経過時間に対する触媒温度等の各温度，湿度，室内圧力およびガス濃度データ値を記録した触媒評価試験データの表を示す図、図８は、図７の触媒評価試験データをグラフ化した図である。
当初、室温が３５℃に達してから一定時間経過後、時刻１０：００〜１０：０３の間にガス発生工程に入る。ガス発生工程は時刻１２：０３まで約２時間続き、その後に滅菌工程に移行する。
ガス発生工程において、滅菌ガス触媒温度は時刻１０：２３に４１０℃前後に達し、時刻１２：０３までは、約４１０℃前後を維持している。
このガス発生工程は約１時間で１０００ＰＰＭに達し、２時間で１７００ＰＰＭに達している。これは、同じ温度条件，同じ湿度条件および同じ加熱の温度設定での従来装置でのガス濃度の１０００ＰＰＭに達するのに比較し倍速である。また従来装置はガス発生工程でガス濃度の上昇の速度が遅く、略２時間以上かかって１０００ＰＰＭ程度に達し、それ以上のガス濃度に達するまでにはさらに時間がかかるため、１０００ＰＰＭ程度に達したときに滅菌工程に入らざるを得ないものであった。よって、本考案によるガス濃度は従来装置に比較し、高いガス濃度状態で滅菌ができるため、滅菌室での滅菌効率がよいものとなった。
【００３０】
ガス発生工程において、滅菌ガス出口温度は約２時間後には４０℃程度であり、この時ガス濃度は約１７００ＰＰＭであり、滅菌工程において、徐々に下がり、１時間２０分後には滅菌ガス出口温度は２５℃程度に、ガス濃度は約６００ＰＰＭとなり、滅菌室で滅菌対象の製品の十分な滅菌を実現することが可能となる。
１時間２０分後の滅菌工程の終了後、引き続き、排気工程に入る。このとき、排気触媒温度および排気温度は濃厚な滅菌ガスの反応熱により急激に上昇するが、排気動作がなされると、その後は、急激に温度は低下する。排気工程では滅菌室の圧力はマイナス表示となる。
【００３１】
以上、触媒評価試験データの実施の形態の一例について説明したが、温度，湿度条件などの設定をこの一例より異なる数値に設定しても、ガス発生の速度および濃度上昇の傾向は、図７，８に示す触媒評価試験データと同じ傾向を示すものである。
【産業上の利用可能性】
【００３２】
滅菌作用のあるメタノールラジカルガスを発生させる滅菌ガス発生装置で、多くの製品の滅菌に用いることができるものである。
【符号の説明】
【００３３】
１  滅菌ガス発生装置（滅菌ガス発生器）
２  滅菌ガス発生器コントローラ
３  メタノール気化機構
３ａ  ステンレスメッシュ
３ｂ  温度センサ
３ｃ  気化ヒータ
３ｄ  噴霧メズル
４  エアポンプ
４ａ  空気供給経路
４ｂ  フレキシブルバルブ
５  メタノールタンク
５ａ  メタノール供給経路
６  メタノールサブタンク
７，１２  熱電対
８  電磁バルブ
９  触媒ルーム
９ａ  触媒
９ｂ  触媒ヒータ
１１  冷却機構
１３  ファン
１４  滅菌室空気吸入管
１６  メタノールラジカルガス供給経路
１７  真鍮パイプ
１８  多孔質体支持部
１８ａ  真鍮網
１８ｂ  セラミックボール
１９  押え板
【図１】
0003198482.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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