(57)【要約】  MRMトランジションに対応した最適なコリジョンエネルギ（CE）値を自動的に決める際に、チューニング時CE値決定部（３１）は所定のCE値変化範囲内でCE値の変化率が略一定になるようにMRM測定を実行する複数のCE値を決め、チューニング時制御部（３２）は決められたCE値でMRM測定を実行する。従来はチューニング時のCE値のステップ幅が一定であるが、本発明ではCE値が相対的に大きい範囲では小さい範囲よりもステップ幅が大きくなる。CE値が大きい範囲ではCE値の変化に対するイオン強度の変化が緩やかになるので、ステップ幅を大きくしてもイオン強度の最大点に近いイオン強度を与えるCE値を最適値として見つけることができる。一方、CE値が大きい範囲ではステップ幅を大きくしているので、一定の小さいステップ幅でCE値を変えながらMRM測定を繰り返す場合に比べて測定回数を大幅に減らすことができ、測定の効率化を図ることができる。
2018011861.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
分析結果が良好になるように分析条件の一つであるパラメータ値を最適化する機能を有する分析装置において、
a)前記パラメータ値について数値の変化率が略一定であるように決められた複数の数値のそれぞれにおいて分析を実行するように当該装置の各部を制御してそれぞれ分析結果を取得する分析制御部と、
b)前記分析制御部の制御の下で得られた分析結果に基づいて前記パラメータ値の最適な値を見つける最適値決定部と、
を備えることを特徴とする分析装置。
【請求項２】
請求項１に記載の分析装置であって、
前記パラメータ値は電圧値であることを特徴とする分析装置。
【請求項３】
請求項２に記載の分析装置であって、
前記パラメータ値は化合物依存性のある電圧値であることを特徴とする分析装置。
【請求項４】
請求項２又は３に記載の分析装置であって、
当該装置は質量分析装置であり、前記パラメータ値は分析対象であるイオンに対する操作を行うための電圧値であることを特徴とする分析装置。
【請求項５】
請求項４に記載の分析装置であって、当該装置は試料由来のイオンを解離させるコリジョンセルを有する質量分析装置であり、
前記パラメータ値は、前記コリジョンセルでイオンを解離させる際のコリジョンエネルギ値を決める電圧値であることを特徴とする分析装置。
【請求項６】
請求項４に記載の分析装置であって、
前記パラメータ値は、分析対象であるイオンを後段に輸送するためのイオン輸送光学系に印加される電圧値であることを特徴とする分析装置。
【請求項７】
分析条件の一つであるパラメータ値を変化させつつそれぞれ試料に対する分析を実行し、それによって得られた分析結果により試料に関する情報を取得する分析装置において、
a)前記パラメータ値について数値の変化率が略一定であるように決められた複数の数値のそれぞれにおいて分析を実行するように当該装置の各部を制御してそれぞれ分析結果を取得する分析制御部と、
b)前記分析制御部の制御の下で得られた複数の分析結果を合わせて、又は前記パラメータ値の変化に対するその分析結果の変化に基づいて試料に関する情報を取得する分析結果処理部と、
を備えることを特徴とする分析装置。
【請求項８】
請求項７に記載の分析装置であって、当該装置は試料由来のイオンを解離させるコリジョンセルを有する質量分析装置であり、
前記パラメータ値は、前記コリジョンセルでイオンを解離させる際のコリジョンエネルギ値であることを特徴とする分析装置。
【請求項９】
請求項８に記載の分析装置であって、
前記分析結果はマススペクトルであり、前記分析結果処理部は異なるパラメータ値の下で得られたマススペクトルを統合することを特徴とする分析装置。
【請求項１０】
請求項８に記載の分析装置であって、
前記分析結果は特定のイオンの強度信号であり、前記分析結果処理部はパラメータ値の変化に対するイオン強度信号の変化を示すグラフを作成することを特徴とする分析装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は分析装置に関し、さらに詳しくは、分析に関する所定のパラメータ値を複数段階に変化させてそのパラメータ値毎に分析結果を得ることができる分析装置に関する。本発明は例えば、イオンをコリジョンセル内で解離させる際のコリジョンエネルギを複数段階に変化させることが可能であるタンデム四重極型質量分析装置やＱ−ＴＯＦ型質量分析装置などの質量分析装置に好適である。
【背景技術】
【０００２】
タンデム四重極型質量分析装置は、イオンを衝突誘起解離（ＣＩＤ）により解離させるコリジョンセルを挟んでその前後に四重極マスフィルタを備え、前段の四重極マスフィルタで選択された特定の質量電荷比を有するイオン（プリカーサイオン）をコリジョンセルにおいてコリジョンガスと衝突させることで解離させ、それにより生成されたプロダクトイオンを後段の四重極マスフィルタにおいて質量電荷比に応じて分離して検出することができる。また、Ｑ−ＴＯＦ型質量分析装置は、タンデム四重極型質量分析装置における後段の四重極マスフィルタを飛行時間型質量分析計に置き換えたものである。【０００３】
こうした質量分析装置においてコリジョンセルでのイオンの解離効率は、プリカーサイオンがコリジョンセルに導入される時点で有しているエネルギ（以下、慣用に従って「コリジョンエネルギ」という）に依存し、解離効率が低いと生成されるプロダクトイオンの量が少なく検出感度が低くなる。また一般に、ＣＩＤによるイオンの解離の態様はコリジョンエネルギによって相違するため、化合物が相違することで生成されるプリカーサイオンが相違するとコリジョンエネルギの最適値が相違するのはもちろんであるが、たとえ同一種の化合物でプリカーサイオンが同一であっても、観測したいプロダクトイオンが相違するとコリジョンエネルギの最適値は相違する。そのため、多重反応モニタリング（ＭＲＭ）測定を行う際には、目的化合物についてＭＲＭトランジション（プリカーサイオンとプロダクトイオンの組み合わせ）毎に予めコリジョンエネルギの最適値を調べておき、目的試料を分析する際に設定されるＭＲＭトランジションに応じてコリジョンエネルギを切り換える制御が行われる。【０００４】
従来一般に、最適なコリジョンエネルギ値（以下、適宜「ＣＥ値」と略す）を調べるチューニングの際には、所定のＣＥ値範囲に亘り所定のステップ幅で以てＣＥ値を段階的に変化させながら、その各ＣＥ値の下でＭＲＭ測定を行ってイオン強度信号を取得し、イオン強度信号が最大になるＣＥ値を最適なＣＥ値として求めるようにしている（なお、実際にはＣＥ値が段階的に変化されるのではなく例えばコリジョンセルの入口電極やコリジョンセル内に配置されるイオンガイドに印加される直流電圧の値が段階的に変化されるのであるが、本明細書中では慣用的にこの電圧値もＣＥ値と記載することとし、一部、「電圧値」との用語をそのまま使用する。）この方法では、ＣＥ値のステップ幅を大きくすると十分に解離効率が高いＣＥ値が見つからないおそれがある。一方、ＣＥ値のステップ幅を小さくすると十分に解離効率が高いＣＥ値を見つけることが可能となるものの、測定の繰り返し回数が多くなってチューニングに時間が掛かってしまうという問題がある。【０００５】
上記問題を解決するために特許文献１に記載の質量分析装置では、まず粗いステップ幅でＣＥ値を変化させつＭＲＭ測定を実行し、イオン強度を比較してイオン強度が最大になるＣＥ値を見つける。そのあと、その見いだされたＣＥ値を中心とする狭いＣＥ値範囲で細かいステップ幅でＣＥ値を変化させつつＭＲＭ測定を実行し、イオン強度を比較してイオン強度が最大になるＣＥ値を見つける。このように粗密２段階のＣＥ値の走査を行うことで、少ない測定回数で以て最適なＣＥ値を見つけることができる。
しかしながら、こうした方法では測定回数自体は少なくなるものの、複数のＣＥ値の中から最もイオン強度が高くなるＣＥ値を選択するような処理に比べて、制御、データ処理ともにアルゴリズムが複雑になる。また、ＣＥ値とイオン強度との関係が特殊な場合（例えば所定のＣＥ値範囲内でイオン強度のピークが二以上存在する、或いはＣＥ値の変化に対してイオン強度のピークが急峻である等）には、最適なＣＥ値を適切に見つけられない場合がある。【０００６】
こうした課題はＣＥ値の最適化に限らず、質量分析装置において最適化が必要な全ての制御パラメータ、例えばイオンレンズに印加されるレンズ電圧、デクラスタリング電位（ＤＰ）、エレクトロスプレイイオン化法や大気圧化学イオン化法等によるイオン源に用いられるネブライズガスや乾燥ガスのガス流量、そうしたイオン源や生成されたイオンをイオン源から後段へと輸送する加熱キャピラリの加熱温度、さらには大気圧光イオン化（ＡＰＰＩ）イオン源が使用される場合のレーザ強度、などについても同様である。また、質量分析装置に限らず、他の様々な分析装置、例えばガスクロマトグラフ装置、液体クロマトグラフ装置、分光測定装置など、分析に関するパラメータ値を最適化する必要がある分析装置一般における課題でもある。【０００７】
また、質量分析装置では、ＣＥ値の最適化以外に、複数の異なるＣＥ値の下でＭＳ／ＭＳ分析を行うことで得られた分析結果を利用することがある。例えば非特許文献１には、測定対象物が糖ペプチドやＮ-結合型糖鎖である場合に、ＣＥ値を変化させながら糖鎖由来のプロダクトイオン（オキソニウムイオン）の強度を観測しＣＥ値とイオン強度との関係をグラフ化するとその強度変化が糖鎖構造に特異的になることを利用し、糖鎖構造を推測する手法が開示されている。また、非特許文献２には、異なるＣＥ値の下で得られたマススペクトル（ＭＳ／ＭＳスペクトル）を統合することで、プリカーサイオンのピークを残しながら多様なプロダクトイオンが観測できるマススペクトルを作成することが開示されている。
こうした分析を行う際にも、より少ない測定回数で以て目的とするグラフやマススペクトルを作成するための情報が得られれば、それだけ分析効率が向上する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】国際公開第２０１３／０６５１７３号
【非特許文献】
【０００９】
【非特許文献１】「EreximTM Application Suite  LCMS- 8060/8050向け糖鎖定性・定量解析ソフトウェア」、［online］、株式会社島津製作所、［平成２８年６月２９日検索］、インターネット＜URL: http://www.an.shimadzu.co.jp/lcms/erexim/index.htm＞
【非特許文献２】「不純物分析に便利な機能“Stepped Collision Energy”」、［online］、サーモフィッシャーサイエンティフィック株式会社、［平成２８年６月１日検索］、インターネット＜URL: https://www.thermofisher.com/content/dam/LifeTech/japan/FAQs/_PDFs/Stepped-Collision-Energy-JA.pdf＞
【非特許文献３】「A New, Fast and Sensititve LC/MS/MS Method for the Accurate Quantitation and Confirmation of Fluoroquinolone Antibiotics in Food Priducts」、［online］、Applied Biosystems社、［平成２８年７月１１日検索］、インターネット＜URL: http://www3.appliedbiosystems.com/cms/groups/psm_marketing/documents/generaldocuments/cms_050556.pdf＞
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
本発明は上記課題を解決するために成されたものであり、その主たる目的は、複雑な制御やデータ処理を行うことなく、効率良くつまりは少ない測定回数で以てＣＥ値等のパラメータ値の最適値を見つけることができる分析装置を提供することである。
また本発明の他の目的は、複数の異なるパラメータ値の下でそれぞれ測定や分析を行った結果に基づいて試料に関する情報を得る際に、効率良くつまりは少ない測定回数で以て適切な分析結果を得ることができる分析装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
上記課題を解決するために成された本発明の第１の態様は、分析結果が良好になるように分析条件の一つであるパラメータ値を最適化する機能を有する分析装置において、
a)前記パラメータ値について数値の変化率が略一定であるように決められた複数の数値のそれぞれにおいて分析を実行するように当該装置の各部を制御してそれぞれ分析結果を取得する分析制御部と、
b)前記分析制御部の制御の下で得られた分析結果に基づいて前記パラメータ値の最適な値を見つける最適値決定部と、
を備えることを特徴としている。【００１２】
本発明に係る第１の態様、及び後述する第２の態様の分析装置は、分析条件の一つであるパラメータ値を変化させて測定や分析を行うことが可能でありさえすれば、特にその分析装置の種類を問わない。また、多くの場合、上記パラメータ値は分析装置を構成する電極等の素子に印加される又は分析装置を構成する部品や素子を駆動するために印加される電圧値である。例えば本発明に係る分析装置が質量分析装置である場合、上記パラメータ値は分析対象であるイオンに対する操作を行うための電圧値とすればよい。
一例として、本発明に係る分析装置は試料由来のイオンを解離させるコリジョンセルを有する質量分析装置、例えばトリプル四重極型質量分析装置やＱ−ＴＯＦ型質量分析装置であり、上記パラメータ値はコリジョンセルでイオンを解離させる際のコリジョンエネルギ値（ＣＥ値）を決める電圧値とすることができる。また、本発明に係る分析装置が質量分析装置である場合、上記パラメータ値は、デクラスタリング電位や、分析対象であるイオンを後段に輸送するためのイオンガイド、サンプリングコーン、頂部にオリフィスが形成されたスキマー、イオンの軌道を偏向させるデフレクタなどのイオン輸送光学系に印加される電圧値であるものとしてもよい。なお、非特許文献３などにも開示されているように、前記パラメータ値である上記電圧値は、通常、化合物に応じて異なる、つまりは化合物依存性のある電圧値である。【００１３】
非特許文献１にも記載されているように、トリプル四重極型質量分析装置においてＣＥ値を変化させつつ特定のＭＲＭトランジションにおけるイオン強度を観測すると、ＭＲＭトランジションによってイオン強度が最大になるＣＥ値つまりは最適なＣＥ値は異なる。ＣＥ値の変化に対しイオン強度はピーク状に変化するが、そのピークの幅はＣＥ値が大きくなるほど広くなる傾向にある。そのため、ＣＥ値を同じステップ幅で変化させると、ＣＥ値が相対的に小さい範囲では一つステップ幅に対するイオン強度の変化量は大きいが、ＣＥ値が相対的に大きい範囲では一つステップ幅に対するイオン強度の変化量が小さくなる。即ち、ＣＥ値が相対的に大きい範囲では小さいステップ幅でそれぞれ測定を行っても、イオン強度の変化が小さいためにあまり測定の意味がないということができる。【００１４】
これに対し、本発明の第１の態様に係る分析装置をタンデム四重極型質量分析装置に適用した場合、分析制御部は、ＣＥ値の変化率が略一定であるように決められた複数のＣＥ値のそれぞれにおいて分析を実行するように当該装置の各部を制御する。ＣＥ値の変化率が略一定になるように複数のＣＥ値を定めると、ＣＥ値が小さい範囲ではステップ幅は小さく、ＣＥ値が相対的に大きい範囲ではステップ幅は大きくなる。
なお、ここで「略一定」としたのは、例えば、パラメータ値の数値を丸めるために四捨五入、切り捨て、切り上げなどの処理を行う場合に、厳密な意味での一定とはならないためである。こうした丸め処理を行うと、所定の各ＣＥ値範囲ではステップ幅が一定であり、且つ、或るＣＥ値範囲からＣＥ値が大きい方向のＣＥ値範囲毎にステップ幅が段階的に大きくなる。【００１５】
ＣＥ値が大きくなるほどそのステップ幅は大きくなるので、ＣＥ値が小さいときのステップ幅をステップ幅一定である従来装置と同じにしたとすると測定回数は従来装置に比べて少なくて済む。そして最適化決定部は、上記分析制御部の制御の下で得られた、パラメータ値の異なる数値毎の分析結果に基づいて、そのパラメータ値の最適値を見つける。上記タンデム四重極型質量分析装置の例でいえば、異なるＣＥ値毎に得られたプロダクトイオンのイオン強度を比較して最大の強度を与えるＣＥ値を最適値とすればよい。上述したようにＣＥ値が大きい範囲ではＣＥ値の変化に対するイオン強度の変化は緩やかになるので、その範囲にイオン強度の最大点が存在する場合に、ＣＥ値のステップ幅が大きくても真のイオン強度の最大点に近いイオン強度が得られるＣＥ値を的確に得ることができる。即ち、測定回数が少なくてもＣＥ値の最適値を採り逃がすことがない。【００１６】
また上記課題を解決するために成された本発明の第２の態様は、分析条件の一つであるパラメータ値を変化させつつそれぞれ試料に対する分析を実行し、それによって得られた分析結果により試料に関する情報を取得する分析装置において、
a)前記パラメータ値について数値の変化率が略一定であるように決められた複数の数値のそれぞれにおいて分析を実行するように当該装置の各部を制御してそれぞれ分析結果を取得する分析制御部と、
b)前記分析制御部の制御の下で得られた複数の分析結果を合わせて、又は前記パラメータ値の変化に対するその分析結果の変化に基づいて、試料に関する情報を取得する分析結果処理部と、
を備えることを特徴としている。【００１７】
この第２の態様でも、所定のパラメータ値の数値を変化させる際に、一定のステップ幅でなく数値の変化率が略一定であるような可変のステップ幅で以て数値を変化させるのは第１の態様と同じである。【００１８】
上述したようにトリプル四重極型質量分析装置では、ＣＥ値の変化とイオン強度との関係を示すグラフ上に現れるピークの幅はＣＥ値が大きくなるほど広くなる傾向にある。これは、ＣＥ値が大きくなるほど同じステップ幅に対するプロダクトイオンの解離の態様の変化が小さくなることを意味する。そのため、ＣＥ値が大きい範囲では小さいステップ幅で測定を行っても分析結果の差が小さい。換言すれば、ＣＥ値が大きい範囲ではステップ幅を大きくしても特異的な分析結果を採り逃がす可能性は小さく、試料に関する適切な情報を取得することができる。【００１９】
本発明の第２の態様に係る分析装置をタンデム四重極型質量分析装置に適用した場合、上記分析結果はマススペクトルであり、上記分析結果処理部は異なるパラメータ値の下で得られた複数のマススペクトルを統合する構成とすることができる。マススペクトルを統合する際には、単に複数のマススペクトル上のピークの強度を加算してもよいが、目的に応じて、強度に適宜の重み付けを行ったり、或いは、既知である不所望のピークを除去したりする等の適宜の処理を加えてもよい。【００２０】
また別の例として、上記分析結果は特定のイオンの強度信号であり、上記分析結果処理部はパラメータ値の変化に対するイオン強度信号の変化を示すグラフを作成する構成としてもよい。この構成によれば、非特許文献１に開示されているような、試料中の目的物質の構造に特異的なグラフを従来よりも少ない測定回数で以て、つまりは効率良く作成することができる。
【発明の効果】
【００２１】
本発明に係る第１の態様の分析装置によれば、一定のステップ幅でパラメータ値の数値を変化させる場合に比べて、少ない測定回数で以てＣＥ値等のパラメータ値の最適値を見つけることができる。
また本発明の第２の態様の分析装置によれば、複数の異なるパラメータ値の下でそれぞれ測定や分析を行った結果に基づいて試料に関する情報を得る際に、少ない測定回数で以て適切な分析結果を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００２２】
【図１】本発明の第１実施例であるトリプル四重極型質量分析装置の概略構成図。
【図２】第１実施例のトリプル四重極型質量分析装置と従来装置とにおけるＣＥ値チューニング時のＣＥ値の変化を示す模式図。
【図３】第１実施例のトリプル四重極型質量分析装置におけるＣＥ値チューニング時に設定されるＣＥ値の一例を示す図。
【図４】トリプル四重極型質量分析装置におけるＣＥ値と特定のＭＲＭトランジションのイオン強度との関係を示すグラフ。
【図５】本発明の第２実施例であるトリプル四重極型質量分析装置の概略構成図。
【図６】本発明の第２実施例であるトリプル四重極型質量分析装置におけるマススペクトルの統合処理の説明図。
【図７】本発明の第３実施例であるトリプル四重極型質量分析装置の概略構成図。
【図８】本発明の第３実施例であるトリプル四重極型質量分析装置において作成されるイオン強度変化を示すグラフの一例を示す図。
【発明を実施するための形態】
【００２３】
以下、本発明の第１実施例であるトリプル四重極型質量分析装置について、添付図面を参照して説明する。図１は第１実施例のトリプル四重極型質量分析装置の概略構成図である。
【００２４】
本実施例の質量分析装置１０は、略大気圧であるイオン化室１１と図示しない高性能の真空ポンプにより真空排気される高真空の分析室１４との間に、段階的に真空度が高められた第１、第２中間真空室１２、１３を備えた多段差動排気系の構成である。イオン化室１１には、試料液に電荷を付与しながら噴霧するＥＳＩ用イオン化プローブ１５が設置され、イオン化室１１と次段の第１中間真空室１２との間は細径のキャピラリ１６を通して連通している。第１中間真空室１２と第２中間真空室１３との間は頂部に小孔を有するスキマー１８で隔てられ、第１中間真空室１２と第２中間真空室１３にはそれぞれ、イオンを収束させつつ後段へ輸送するためのイオンレンズ１７、１９が設置されている。分析室１４には、多重極型イオンガイド２２が内部に設置されたコリジョンセル２１を挟んで前段には前段四重極マスフィルタ２０が、後段には後段四重極マスフィルタ２３及びイオン検出器２４が設置されている。
【００２５】
この質量分析装置１０において、ＥＳＩ用イオン化プローブ１５に試料液が到達すると、該プローブ１５先端から電荷が付与された試料液が噴霧される。噴霧された帯電液滴は静電気力により分裂しながら微細化され、その過程で試料由来のイオンが飛び出す。生成されたイオンはキャピラリ１６を通して第１中間真空室１２に送られ、イオンレンズ１７で収束されてスキマー１８頂部の小孔を経て第２中間真空室１３に送られる。そして、試料成分由来のイオンはイオンレンズ１９で収束されて分析室１４に送られ、前段四重極マスフィルタ２０の長軸方向の空間に導入される。なお、ＥＳＩに限らず、ＡＰＣＩやＡＰＰＩによりイオン化を行ってもよいことは当然である。
【００２６】
ＭＳ／ＭＳ分析時には、前段四重極マスフィルタ２０及び後段四重極マスフィルタ２３の各ロッド電極にはそれぞれ所定の電圧（高周波電圧と直流電圧とが重畳された電圧）が印加され、コリジョンセル２１内には所定ガス圧となるようにＣＩＤガスが供給される。前段四重極マスフィルタ２０に送り込まれた各種イオンの中で、前段四重極マスフィルタ２０の各ロッド電極に印加されている電圧に応じた特定の質量電荷比を有するイオンのみが該フィルタ２０を通過し、プリカーサイオンとしてコリジョンセル２１に導入される。コリジョンセル２１内でプリカーサイオンはＣＩＤガスに衝突して解離し、各種のプロダクトイオンが生成される。このときの解離の態様は、コリジョンエネルギやコリジョンセル２１内のガス圧などの解離条件に依存するから、ＣＥ値を変化させると生成されるプロダクトイオンの種類も変化する。生成された各種プロダクトイオンが後段四重極マスフィルタ２３に導入されると、後段四重極マスフィルタ２３の各ロッド電極に印加されている電圧に応じた特定の質量電荷比を有するプロダクトイオンのみが該フィルタ２３を通過し、イオン検出器２４に到達し検出される。
【００２７】
イオン検出器２４による検出信号はＡ／Ｄ変換器２５においてデジタル値に変換され、データ処理部４０に入力される。データ処理部４０はチューニング時データ処理部４１を機能ブロックとして含む。また各部の動作をそれぞれ制御する分析制御部３０は、チューニング時ＣＥ値決定部３１と、チューニング時制御部３２とを機能ブロックとして含む。中央制御部５０には入力部５１や表示部５２が付設され、入出力のインターフェイスや統括的な制御を担う。なお、中央制御部５０、分析制御部３０、データ処理部４０などの機能の一部は、汎用のパーソナルコンピュータをハードウエア資源とし該コンピュータに予めインストールされた専用のアプリケーションソフトウエアをコンピュータ上で実行することにより実現されるものとすることができる。
【００２８】
次に、本実施例のトリプル四重極型質量分析装置において特徴的なＣＥ値チューニング時の動作について、図２〜図４を参照して説明する。図２〜図４は本実施例のトリプル四重極型質量分析装置におけるＣＥ値チューニング時の説明図であり、図２はＣＥ値チューニング時のＣＥ値の変化を示す模式図、図３はＣＥ値チューニング時に設定されるＣＥ値の一例を示す図、図４はＣＥ値と特定のＭＲＭトランジションのイオン強度との関係を示すグラフである。
【００２９】
例えば入力部５１からのユーザの指示に基づき、中央制御部５０から分析制御部３０にＣＥ値チューニングの実行が指示されると、チューニング時ＣＥ値決定部３１は所定のＭＲＭトランジションに従ったＭＲＭ測定を実行するＣＥ値を以下のように決定する。
【００３０】
例えば非特許文献１中にも記載されているように、トリプル四重極型質量分析装置において、ＣＥ値とイオン強度との関係を異なるＭＲＭトランジションについて調べると図４に示すようなグラフになることが知られている。図４から分かるように、イオン強度の変化を示すピークの形状はほぼガウス分布に従ったものとなるが、そのピークの幅はＣＥ値が大きくなるほど大きくなる。即ち、ＣＥ値が相対的に大きいときには小さいときに比べてイオン強度の変化が緩やかになる。従来、ＣＥ値チューニング時には、図２（ａ）に示すように、ＣＥ値の大きさに依らずＭＲＭ測定を実行するＣＥ値の刻み、つまりステップ幅ｕは一定であるが、上述したようにイオン強度の変化が緩やかであればステップ幅を小さくしておく意味はあまりなく、ステップ幅を広げてもイオン強度の変化を適切に捉えることが可能である。そこで、ここではステップ幅を一定とせず、図２（ｂ）に示すように、ＣＥ値が大きい範囲では小さい範囲に比べてステップ幅を広げる（ここではｕn＞ｕm＞ｕ1）ようにしている。
【００３１】
即ち、チューニング時ＣＥ値決定部３１は、図２中に示すようにユーザにより設定された又は自動的に決められた、ＣＥ値を変化させるＣＥ値変化範囲（ＣＥmin〜ＣＥmax）の中で、そのＣＥ値の変化率がほぼ目標値になるようにステップ幅を決める。いま、或るＣＥ値をＵ1、それよりも一段階大きいＣＥ値をＵ2としたとき、変化率は（Ｕ2−Ｕ1）／Ｕ2又は（Ｕ2−Ｕ1）／Ｕ1である。したがって、図２（ｂ）に示すように、ＣＥ値が大きくなるほどＵ2−Ｕ1、つまりステップ幅は大きくなる。なお、図２はあくまでも概念を示すものであり、ＣＥ値範囲の中でＣＥ値が小さいステップ幅ｕ1を従来装置におけるステップ幅ｕよりも小さくするとは限らない。
【００３２】
ＣＥ値の変化率の目標値を小さくするほどＣＥ値のステップ幅は相対的に小さくなりイオン強度の最大点を確実に捉えられる可能性が高まるものの、それだけ測定回数が増える。そこで、ＣＥ値の変化率の目標値は１０％、５％など、或る決まった値としておいてもよいが、ユーザが適宜に設定又は変更できるようにするか、或いは適宜の目標値が自動的に決められるようにしてもよい。目標値を自動的に決める際には例えば、ＣＥ値変化範囲全体の分析総回数を予め決めておき、その分析総回数とＣＥ値変化範囲とから変化率の目標値を計算することができる。
【００３３】
いま一例として、ＣＥ値変化範囲（ＣＥmin〜ＣＥmax）：１０〜６０[Ｖ]、変化率の目標値：１０％としたときの、実際のＣＥ値の数値を図３に示す。ただし、電圧調整の制御が複雑になるのを避けるためＣＥ値は整数とし、小数点以下の数値は四捨五入で丸めている。そのため、ＣＥ値が１０〜１５[Ｖ]の範囲ではステップ幅は等しく１[Ｖ]であり、ＣＥ値が１５〜２５[Ｖ]の範囲ではステップ幅は等しく２[Ｖ]であり、段階的にステップ幅は大きくなる。つまり、ＣＥ値が大きくなるに伴い、隣接するステップ幅が必ず大きくなるというわけではない。言い換えれば、ここではＣＥ値の変化率が一定（１０％）になるように各ＣＥ値が計算されるものの、実際のＣＥ値では変化率は一定ではなく、あくまでもほぼ一定となっている。
【００３４】
上記のようにしてＭＲＭ測定を実行すべきＣＥ値が定まると、チューニング時制御部３２は質量分析装置１０の各部を制御して試料に対する所定のＭＲＭトランジションの下でのＭＲＭ測定を実行する。このとき、ＭＲＭトランジションで指定されている特定の質量電荷比を有するプリカーサイオンが前段四重極マスフィルタ２０を通過するように、該マスフィルタ２０のロッド電極に印加される電圧は設定される。また、同じＭＲＭトランジションで指定されている特定の質量電荷比を有するプロダクトイオンが後段四重極マスフィルタ２３を通過するように、該マスフィルタ２３のロッド電極に印加される電圧は設定される。また、ＣＥ値が例えば図３に示した値に順次切り替わるように、イオンガイド２２（又はコリジョンセル２１の入口電極）に印加される直流電圧が切り替えられる。そして、データ処理部４０には、そのＣＥ値の切り替え毎に、後段四重極マスフィルタ２３を通り抜けたプロダクトイオンの強度信号データが入力される。このデータはチューニング時データ処理部４１内のメモリに一時的に記憶される。
【００３５】
決められた全てのＣＥ値に対するイオン強度信号データが得られると、チューニング時データ処理部４１は各ＣＥ値に対するイオン強度を比較して、最大の強度を与えるＣＥ値を見つける。そして、みつけたＣＥ値をそのＭＲＭトランジションに対するＣＥ値の最適値として記憶する。図４からも分かるように、ＭＲＭトランジションが異なるとＣＥ値の最適値も異なるため、複数のＭＲＭトランジションについてＣＥ値の最適値を求める必要がある場合には、ＭＲＭトランジション毎に上述したように異なるＣＥ値に対するＭＲＭ測定を実行し、その結果に基づいてイオン強度が最大となるＣＥ値を見つければよい。
【００３６】
以上のように本実施例のトリプル四重極型質量分析装置では、ＣＥ値チューニングを行う際にＣＥ値のステップ幅を一定ではなく可変とし、ＣＥ値が大きい範囲では小さな範囲よりもステップ幅を広げている。図３の例では、ＭＲＭ測定を実行するＣＥ値の数は２０であるが、例えばステップ幅を１[Ｖ]一定とした場合には同じＣＥ値変化範囲全体をカバーするのに５１回のＭＲＭ測定が必要になる。このように本実施例のトリプル四重極型質量分析装置では、測定回数を大幅に減らしながらイオン強度が最大となるＣＥ値を的確に見つけ、最適な分析条件を自動的に設定することができる。
【００３７】
なお、上記説明ではＣＥ値のチューニングについて述べたが、イオンを後段へ輸送するためのサンプリングコーンやオリフィスが頂部に形成されたスキマーなどに印加されるコーン電圧やオリフィス電圧、デクラスタリング電位など、質量分析装置におけるそのほかの様々な制御用のパラメータ値の最適化や、質量分析装置以外の様々な分析装置における制御用のパラメータ値の最適化にも同様の手法を適用可能であることは明白である。
【００３８】
次に、本発明の第２実施例であるトリプル四重極型質量分析装置について、添付図面を参照して説明する。図５は第２実施例のトリプル四重極型質量分析装置の概略構成図であり、第１実施例の装置と同じ構成要素には同じ符号を付して詳しい説明を省略する。
【００３９】
この第２実施例のトリプル四重極型質量分析装置では、ＣＥ値を最適化するＣＥ値チューニング時ではなく、異なるＣＥ値の下でプロダクトスキャン測定を行うことで得られた複数のマススペクトル（ＭＳ／ＭＳスペクトル）を統合して一つのマススペクトルを作成する際に、第１実施例と同様のＣＥ値決定手法を用いる。そのために、分析制御部３０は統合スペクトル取得時ＣＥ値決定部３３、及び統合スペクトル取得時制御部３４を含み、データ処理部４０はスペクトル一次記憶部４２及びスペクトル統合部４３を含む。
【００４０】
例えば入力部５１からのユーザの指示に基づき、中央制御部５０から分析制御部３０に統合スペクトル作成処理の実行が指示されると、統合スペクトル取得時ＣＥ値決定部３３は第１実施例におけるチューニング時ＣＥ値決定部３１と同様にして、プロダクトイオンスキャン測定を実行する複数のＣＥ値を決定する。ただし、一般的に、このときにプロダクトイオンスキャン測定を実行すべきＣＥ値の点数はＣＥ値チューニング時にＭＲＭ測定をすべきＣＥ値の点数に比べて少なくてよく、数点〜多くても十点程度で十分である。したがって、ＣＥ値の変化率の目標値は例えば５０％等、ＣＥ値チューニング時における目標値に比べてかなり大きくてよい。
【００４１】
ＣＥ値が定まると、統合スペクトル取得時制御部３４は質量分析装置１０の各部を制御して試料に対する所定のプリカーサイオンに対するプロダクトイオンスキャン測定を実行する。このとき、予め指定されている特定の質量電荷比を有するプリカーサイオンが前段四重極マスフィルタ２０を通過するように、該マスフィルタ２０のロッド電極に印加される電圧は設定される。また、所定の質量電荷比範囲に亘る質量走査が行われるように、後段四重極マスフィルタ２３のロッド電極に印加される電圧は走査される。また、決められたＣＥ値に順次切り替わるように、イオンガイド２２（又はコリジョンセル２１の入口電極）に印加される直流電圧が切り替えられる。そして、データ処理部４０には、そのＣＥ値の切り替え毎に、所定の質量電荷比範囲に亘るプロダクトイオンスペクトルデータが入力される。このデータはＣＥ値に対応してスペクトル一時記憶部４２に一時的に記憶される。
【００４２】
決められた全てのＣＥ値に対するプロダクトイオンスペクトルデータが得られると、スペクトル統合部４３は、ＣＥ値毎に得られたプロダクトイオンスペクトルデータを全て記憶部４２から読み出し、図６に示すように、それらを統合して一つのマススペクトルを作成する。最も単純な統合処理としては、単に質量電荷比毎に全てのマススペクトルにおけるイオン強度を加算し、イオン強度軸を適当に調整したうえでマススペクトルを作成すればよい。また、必要に応じてイオン強度に適宜の重み付けを行ったうえで加算処理する等、適宜の処理を加えてもよい。
【００４３】
従来のようにＣＥ値のステップ幅が一定であると、特にＣＥ値が大きいときに生成され易いプロダクトイオンの量が多くなる等、イオン強度に片寄りが生じたマススペクトルが作成される傾向にある。これに対し、ＣＥ値が大きくなるほどステップ幅を広げることで、各ＣＥ値に対するマススペクトルが互いに類似性の低い特異的なものとなり易い。それによって、様々プロダクトイオンが片寄りなく観測される統合マススペクトルを作成することができる。
【００４４】
続いて、本発明の第３実施例であるトリプル四重極型質量分析装置について、添付図面を参照して説明する。図７は第３実施例のトリプル四重極型質量分析装置の概略構成図であり、第１実施例の装置と同じ構成要素には同じ符号を付して詳しい説明を省略する。
【００４５】
この第３実施例のトリプル四重極型質量分析装置では、ＣＥ値を最適化するＣＥ値チューニング時ではなく、ＣＥ値を変化させたときにそれぞれのＣＥ値の下のＭＲＭ測定で得られたイオン強度の変化を示すプロファイルを作成する際に、第１実施例と同様のＣＥ値を決定手法を用いる。そのために、分析制御部３０はＣＥ値依存プロファイル取得時ＣＥ値決定部３５、及びＣＥ値依存プロファイル取得時制御部３６を含み、データ処理部４０はＣＥ値依存プロファイル作成部４４を含む。
【００４６】
例えば入力部５１からのユーザの指示に基づき、中央制御部５０から分析制御部３０に統合スペクトル作成処理の実行が指示されると、ＣＥ値依存プロファイル取得時ＣＥ値決定部３５は第１実施例におけるチューニング時ＣＥ値決定部３１と同様にして、ＭＲＭ測定を実行する複数のＣＥ値を決定する。このときにＭＲＭ測定を実行すべきＣＥ値の点数はＣＥ値チューニング時にＭＲＭ測定をすべきＣＥ値の点数と同程度でよく、それ故に、ＣＥ値の変化率の目標値もＣＥ値チューニング時における目標値と同程度でよい。
【００４７】
ＣＥ値が定まると、ＣＥ値依存プロファイル取得時制御部３６は第１実施例と同様に、目的試料に対して、予め設定されているＭＲＭトランジションに従って決められた各ＣＥ値におけるＭＲＭ測定を順次実行する。異なるＣＥ値の下でＭＲＭ測定によって得られたイオン強度データがＣＥ値依存プロファイル作成部４４に入力される。ＣＥ値依存プロファイル作成部４４は、得られたデータに基づいて、図８に示すような、ＣＥ値とイオン強度との関係を示すグラフ、つまりＣＥ値依存プロファイルを作成する。目的試料が例えば糖鎖である場合、ＣＥ値依存プロファイルはその糖鎖構造に特異的なものとなる。そのため、ユーザはこうして得られたＣＥ値依存プロファイルに基づいて糖鎖構造を推定することができる。
【００４８】
また、上記実施例はいずれも本発明の一例であるから、上記記載以外の点において、本発明の趣旨の範囲で適宜に変形、追加、修正を行っても本願請求の範囲に包含されることは明らかである。
【符号の説明】
【００４９】
１０…質量分析装置
１１…イオン化室
１２…第１中間真空室
１３…第２中間真空室
１４…分析室
１５…ＥＳＩ用イオン化プローブ
１６…キャピラリ
１７、１９…イオンレンズ
１８…スキマー
１９…イオンレンズ
２０…前段四重極マスフィルタ
２１…コリジョンセル
２２…多重極型イオンガイド
２３…後段四重極マスフィルタ
２４…イオン検出器
２５…Ａ／Ｄ変換器
３０…分析制御部
３１…チューニング時ＣＥ値決定部
３２…チューニング時制御部
３３…統合スペクトル取得時ＣＥ値決定部
３４…統合スペクトル取得時制御部
３５…ＣＥ値依存プロファイル取得時ＣＥ値決定部
３６…ＣＥ値依存プロファイル取得時制御部
４０…データ処理部
４１…チューニング時データ処理部
４２…スペクトル一次記憶部
４３…スペクトル統合部
４４…ＣＥ値依存プロファイル作成部
５０…中央制御部
５１…入力部
５２…表示部
【図１】
2018011861.tif 000003
【図２】
2018011861.tif 000004
【図３】
2018011861.tif 000005
【図４】
2018011861.tif 000006
【図５】
2018011861.tif 000007
【図６】
2018011861.tif 000008
【図７】
2018011861.tif 000009
【図８】
2018011861.tif 000010
【手続補正書】
【提出日】平成30年8月3日(2018.8.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
分析結果が良好になるように分析条件の一つであるパラメータ値を最適化する機能を有する分析装置において、
a)前記パラメータ値について数値の絶対値が相対的に小さいときには小さな変化幅で該数値を変化させ、数値の絶対値が相対的に大きいときにはそれが大きいほど大きな変化幅で該数値を変化させるように決められた複数の数値のそれぞれにおいて分析を実行するように、当該装置の各部を制御してそれぞれ分析結果を取得する分析制御部と、
b)前記分析制御部の制御の下で得られた分析結果に基づいて前記パラメータ値の最適な値を見つける最適値決定部と、
を備えることを特徴とする分析装置。
【請求項２】
請求項１に記載の分析装置であって、
前記パラメータ値について前記決められた複数の数値は、その数値と変化幅との比が略一定であることを特徴とする分析装置。
【請求項３】
請求項１に記載の分析装置であって、
前記パラメータ値は電圧値であることを特徴とする分析装置。
【請求項４】
請求項３に記載の分析装置であって、
前記パラメータ値は化合物依存性のある電圧値であることを特徴とする分析装置。
【請求項５】
請求項３又は４に記載の分析装置であって、
当該装置は質量分析装置であり、前記パラメータ値は分析対象であるイオンに対する操作を行うための電圧値であることを特徴とする分析装置。
【請求項６】
請求項５に記載の分析装置であって、当該装置は試料由来のイオンを解離させるコリジョンセルを有する質量分析装置であり、
前記パラメータ値は、前記コリジョンセルでイオンを解離させる際のコリジョンエネルギ値を決める電圧値であることを特徴とする分析装置。
【請求項７】
請求項５に記載の分析装置であって、
前記パラメータ値は、分析対象であるイオンを後段に輸送するためのイオン輸送光学系に印加される電圧値であることを特徴とする分析装置。
【請求項８】
分析条件の一つであるパラメータ値を変化させつつそれぞれ試料に対する分析を実行し、それによって得られた分析結果により試料に関する情報を取得する分析装置において、
a)前記パラメータ値について数値の絶対値が相対的に小さいときには小さな変化幅で該数値を変化させ、数値の絶対値が相対的に大きいときにはそれが大きいほど大きな変化幅で該数値を変化させるように決められた複数の数値のそれぞれにおいて分析を実行するように、当該装置の各部を制御してそれぞれ分析結果を取得する分析制御部と、
b)前記分析制御部の制御の下で得られた複数の分析結果を合わせて、又は前記パラメータ値の変化に対するその分析結果の変化に基づいて試料に関する情報を取得する分析結果処理部と、
を備えることを特徴とする分析装置。
【請求項９】
請求項８に記載の分析装置であって、
前記パラメータ値について前記決められた複数の数値は、その数値と変化幅との比が略一定であることを特徴とする分析装置。
【請求項１０】
請求項８に記載の分析装置であって、当該装置は試料由来のイオンを解離させるコリジョンセルを有する質量分析装置であり、
前記パラメータ値は、前記コリジョンセルでイオンを解離させる際のコリジョンエネルギ値であることを特徴とする分析装置。
【請求項１１】
請求項１０に記載の分析装置であって、
前記分析結果はマススペクトルであり、前記分析結果処理部は異なるパラメータ値の下で得られたマススペクトルを統合することを特徴とする分析装置。
【請求項１２】
請求項１０に記載の分析装置であって、
前記分析結果は特定のイオンの強度信号であり、前記分析結果処理部はパラメータ値の変化に対するイオン強度信号の変化を示すグラフを作成することを特徴とする分析装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
【非特許文献１】「EreximTM Application Suite  LCMS- 8060/8050向け糖鎖定性・定量解析ソフトウェア」、［online］、株式会社島津製作所、［平成２８年６月２９日検索］、インターネット＜URL: http://www.an.shimadzu.co.jp/lcms/erexim/index.htm＞
【非特許文献２】「不純物分析に便利な機能“Stepped Collision Energy”」、［online］、サーモフィッシャーサイエンティフィック株式会社、［平成２８年６月１日検索］、インターネット＜URL: https://www.thermofisher.com/content/dam/LifeTech/japan/FAQs/_PDFs/Stepped-Collision-Energy-JA.pdf＞
【非特許文献３】「A New, Fast and Sensitive LC/MS/MS Method for the Accurate Quantitation and Confirmation of Fluoroquinolone Antibiotics in Food Products」、［online］、Applied Biosystems社、［平成２８年７月１１日検索］、インターネット＜URL: http://www3.appliedbiosystems.com/cms/groups/psm_marketing/documents/generaldocuments/cms_050556.pdf＞
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
上記課題を解決するために成された本発明の第１の態様は、分析結果が良好になるように分析条件の一つであるパラメータ値を最適化する機能を有する分析装置において、
a)前記パラメータ値について数値の絶対値が相対的に小さいときには小さな変化幅で該数値を変化させ、数値の絶対値が相対的に大きいときにはそれが大きいほど大きな変化幅で該数値を変化させるように決められた複数の数値のそれぞれにおいて分析を実行するように、当該装置の各部を制御してそれぞれ分析結果を取得する分析制御部と、
b)前記分析制御部の制御の下で得られた分析結果に基づいて前記パラメータ値の最適な値を見つける最適値決定部と、
を備えることを特徴としている。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
これに対し、本発明の第１の態様に係る分析装置をタンデム四重極型質量分析装置に適用した場合、分析制御部は、パラメータ値の数値の絶対値が相対的に小さいときには小さな変化幅で該数値を変化させ、数値の絶対値が相対的に大きいときにはそれが大きいほど大きな変化幅で該数値を変化させるように決められた、即ち、ＣＥ値の変化率（ＣＥ値と変化幅との比）が略一定であるように決められた複数のＣＥ値のそれぞれにおいて分析を実行するように当該装置の各部を制御する。ＣＥ値の変化率が略一定になるように複数のＣＥ値を定めると、ＣＥ値が小さい範囲ではステップ幅は小さく、ＣＥ値が相対的に大きい範囲ではステップ幅は大きくなる。
なお、ここで「略一定」としたのは、例えば、パラメータ値の数値を丸めるために四捨五入、切り捨て、切り上げなどの処理を行う場合に、厳密な意味での一定とはならないためである。こうした丸め処理を行うと、所定の各ＣＥ値範囲ではステップ幅が一定であり、且つ、或るＣＥ値範囲からＣＥ値が大きい方向のＣＥ値範囲毎にステップ幅が段階的に大きくなる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
また上記課題を解決するために成された本発明の第２の態様は、分析条件の一つであるパラメータ値を変化させつつそれぞれ試料に対する分析を実行し、それによって得られた分析結果により試料に関する情報を取得する分析装置において、
a)前記パラメータ値について数値の絶対値が相対的に小さいときには小さな変化幅で該数値を変化させ、数値の絶対値が相対的に大きいときにはそれが大きいほど大きな変化幅で該数値を変化させるように決められた複数の数値のそれぞれにおいて分析を実行するように、当該装置の各部を制御してそれぞれ分析結果を取得する分析制御部と、
b)前記分析制御部の制御の下で得られた複数の分析結果を合わせて、又は前記パラメータ値の変化に対するその分析結果の変化に基づいて、試料に関する情報を取得する分析結果処理部と、
を備えることを特徴としている。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３１】
即ち、チューニング時ＣＥ値決定部３１は、図２中に示すようにユーザにより設定された又は自動的に決められた、ＣＥ値を変化させるＣＥ値変化範囲（ＣＥmin〜ＣＥmax）の中で、そのＣＥ値の変化率がほぼ目標値になるようにステップ幅を決める。いま、或るＣＥ値をＵ1、それよりも一段階大きいＣＥ値をＵ2としたとき、変化率は（Ｕ2−Ｕ1）／Ｕ2又は（Ｕ2−Ｕ1）／Ｕ1である。したがって、図２（ｂ）に示すように、ＣＥ値が大きくなるほどＵ2−Ｕ1、つまりステップ幅は大きくなる。なお、図２はあくまでも概念を示すものであり、ＣＥ値範囲の中でＣＥ値が小さいときのステップ幅ｕ1を従来装置におけるステップ幅ｕよりも小さくするとは限らない。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３９】
この第２実施例のトリプル四重極型質量分析装置では、ＣＥ値を最適化するＣＥ値チューニング時ではなく、異なるＣＥ値の下でプロダクトスキャン測定を行うことで得られた複数のマススペクトル（ＭＳ／ＭＳスペクトル）を統合して一つのマススペクトルを作成する際に、第１実施例と同様のＣＥ値決定手法を用いる。そのために、分析制御部３０は統合スペクトル取得時ＣＥ値決定部３３、及び統合スペクトル取得時制御部３４を含み、データ処理部４０はスペクトル一時記憶部４２及びスペクトル統合部４３を含む。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４９】
１０…質量分析装置
１１…イオン化室
１２…第１中間真空室
１３…第２中間真空室
１４…分析室
１５…ＥＳＩ用イオン化プローブ
１６…キャピラリ
１７、１９…イオンレンズ
１８…スキマー
２０…前段四重極マスフィルタ
２１…コリジョンセル
２２…多重極型イオンガイド
２３…後段四重極マスフィルタ
２４…イオン検出器
２５…Ａ／Ｄ変換器
３０…分析制御部
３１…チューニング時ＣＥ値決定部
３２…チューニング時制御部
３３…統合スペクトル取得時ＣＥ値決定部
３４…統合スペクトル取得時制御部
３５…ＣＥ値依存プロファイル取得時ＣＥ値決定部
３６…ＣＥ値依存プロファイル取得時制御部
４０…データ処理部
４１…チューニング時データ処理部
４２…スペクトル一時記憶部
４３…スペクトル統合部
４４…ＣＥ値依存プロファイル作成部
５０…中央制御部
５１…入力部
５２…表示部
【国際調査報告】
2018011861.tif 000011
2018011861.tif 000012
2018011861.tif 000013
2018011861.tif 000014