(57)【要約】      （修正有）【課題】型を用いることなく品質を保持しながら模様が形成される革素材を提供する。【解決手段】この革素材１００は、皮革１の銀面２はそのままとし、裏面３から直線的に漉きを交差状に行う。漉きを施した部分５の厚さを漉きを施していない部分６の厚さの１／３以下とすることで、当該漉き部分５の皮革１の厚さが薄くなり、柔かくなり曲がりやすくなる。厚さが薄くなることで銀面２が多少窪んで僅かな凹部を形成する。これにより、皮革１の銀面２に格子状ないし菱形格子状の模様４が形成される。皮革１の銀面２に対して何らの加工を施すものではないので、銀面２の品質をそのまま保持しこの質感を生かした形で模様４のデザインを行える。また、水分や加圧を行う必要がないため、皮革１の変形や不必要な圧縮が不要である。【選択図】図１
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【実用新案登録請求の範囲】
【請求項１】
皮革の裏面を略直線的に複数箇所に漉き、当該漉きを加えた部分の厚さが１．２ｍｍ以下であることを特徴とする革素材。
【請求項２】
皮革の裏面を略直線的に複数箇所に漉き、当該漉きを加えた部分の厚さがそれ以外の部分の厚さの１／２以下であることを特徴とする革素材。
【請求項３】
前記漉きは、互いに交差する請求項１又は２に記載の革素材。
【請求項４】
前記漉きは、複数の菱形を作るように設けられる請求項１又は２に記載の革素材。
【考案の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本考案は、型を用いることなく品質を保持しながら模様が形成された革素材に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来から、革の表面に模様を形成する方法として、特許文献１に記載されているような技術が知られている。この技術は、皮革の表面に模様を型押しにより形成するものであり、型押しで形成された凸部の表面を削り取り、型押しで圧縮された凹部を水分を含ませて元に戻し、当該型に基づく模様を皮革面に形成するものである。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００１−１２３２００号公報
【考案の概要】
【考案が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、上記従来の模様の形成方法では、模様を形成するために型を準備しなければならないため、少量生産には不向きである。また、水を含ませることにより皮革の品質が低下するおそれがある。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
そこで、本考案に係る革素材は、皮革の裏面を略直線的に複数箇所に漉き、当該漉きを加えた部分の厚さが１．２ｍｍ以下であることを特徴とする。
【０００６】
また、別の観点では、本考案に係る革素材は、皮革の裏面を略直線的に複数箇所に漉き、当該漉きを加えた部分の厚さがそれ以外の部分の厚さの１／２以下であることを特徴とする。
【０００７】
上記考案において、前記漉きは互いに交差する、又は複数の菱形を作るように設けるようにするのが好ましい。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
【図１】本考案の実施の形態１に係る革素材を示す断面図である。
【図２】図１に示した革素材の一部平面図である。
【図３】図１に示した革素材を変形させた状態を示す説明図である。
【図４】筆入れに本革素材を適用した例を示す説明図である。
【考案を実施するための形態】
【０００９】
図１は、本考案の実施の形態１に係る革素材を示す断面図である。図２は、図１に示した革素材の一部平面図であり、（ａ）は表面を示し（ｂ）は裏面を示す。この革素材１００は、皮革１の銀面２はそのままとし、裏面３から略直線的に漉きを交差状に行う。漉きを施した部分５の厚さＤ２は、それ以外の漉きを施していない部分６の厚さＤ１の、１／２以下とするのが好ましい。皮革１の種類は、銀付革、アニリン仕上げ革、ボックスカーフ、エナメル革、タンニン革等の一般的なものを用いることができる。
【００１０】
漉きを施した部分５の厚さＤ２を漉きを施していない部分６の厚さＤ１の１／２以下とすることで、当該漉き部分５の皮革１の厚さが相当薄くなる。これにより、漉きを加えた部分５が柔かくなり曲がりやすくなる。また、厚さによっては光の透過性が高まると共に、厚さが薄くなることで銀面２が多少窪んで僅かな凹部を形成する（図示省略）。これにより、皮革１の銀面２に格子状ないし菱形格子状の模様４が形成される。また、皮革１の銀面２に対して何らの加工を施すものではないので、銀面２の品質をそのまま保持しこの質感を生かした形で模様４のデザインを行える。また、水分や加圧を行う必要がないため、皮革１の変形や不必要な圧縮が不要である。
【００１１】
更に、曲がる動きを繰り返すことで、漉き部分５の銀面２に細かい皴が生じて、これが模様４の強さとなる。即ち、使用により皴が増えて模様４が強く現れてくるので、模様４の経時変化を楽しむことができる。また、導光板やＥＬパネル等のような面光源等の表面にこの革素材１００を載せることで漉き部分５が浮き出てくる。漉き部分５は、曲げ等を加えなければ平坦なままであり、光を背後から照射することで初めて模様４を認識できるようにできる。例えば、自動車の内装等に用いることで夜間に銀面２に模様４を浮き出すようにできる。
【００１２】
別の観点では、この漉き部分５の厚さは、皮革１の厚さにかかわらず一定することで、模様４の状態、柔かさや光の透過性を確保できる。具体的には、１．２ｍｍ以下となるように漉くのが好ましい。皮革１の種類によるが、同種及び同処理の皮革１であれば厚さにより柔かさや模様４の強さ等の特性がほぼ決まる。このため、厚さを所定の厚さ以下に漉くことで、曲げ易さや模様４の表現具合を調整できる。
【００１３】
上記漉き部分５は、図２に示すように、直線的に行い且つ互いが交差して全体として複数の菱形からなるパターン模様４になるようにする。漉き部分５は略直線的に設けられ、その幅は漉きの工具の先端刃の形状により決定される。また、工具の角度や押付力により漉きの幅が決定される。これらは適宜、公知の工具を用いて均一の幅で行うものとする。
【００１４】
図１に示したように、漉き部分５の直線方向に直交方向の断面が山形になるように漉く。更に、銀面２に対して漉き部分５に合わせて直線的に加圧を加えても良い。この加圧は、所定幅を有するローラにより行うのが好ましい。これにより、強制的に漉きによる模様４（凹部）を銀面２に表すと共に曲げ易くする。また、銀面２を平面のまま曲げるとシャープな直線が形成されないので、予め曲げが生じる部分を強制的に作り、当該部分で自然と曲がるようにすれば、使用前の状態でも模様４が楽しめ且つ使用経時変化でも漉き部分で鮮明な模様４が得られるようになる。
【００１５】
図３は、この革素材を湾曲させた状態を示す説明図である。菱形のパターンを形成した革素材１００は、菱形の部分が上下左右方向及び斜め方向のいずれにも曲がりやすいので、全体として自由に変形させやすい。このため、この革素材１００は様々な製品に適用可能となる。例えばハンドバック、筆入れ等である。
【００１６】
図４に筆入れに本革素材を適用した例を示す。筆入れ５０は、曲率が大きな曲げを行うことになるところ、菱形形状の模様４を漉きで形成した革素材１００であれば、上下左右方向及び斜め方向に自由に変形できるので、全体として上手く変形して形の良い筆入れを製作できる。
【符号の説明】
【００１７】
１００  革素材
１  皮革
２  銀面
３  裏面
５  漉き部分
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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