(57)【要約】【課題】連通管を有する噴射装置を提供する。【解決手段】連通管を有する回路板エッチング用噴射装置１０に関し、この噴射装置は、伝送機構１と、ノズル機構２と、を含み、ノズル機構は、伝送機構の一側に対応して配置され、ノズル機構は、連通管２１及び連通管と相互に連通する複数の噴射管２２を含み、各噴射管は、相互に間隔をおいて並列され、各噴射管は、複数のノズル２２１を有する。これにより、各ノズルの噴射力が相当し、回路板が受ける力を均一にさせ、回路板の製品の歩留まりを向上させる。【選択図】図１
0003197122.tif 000002
【実用新案登録請求の範囲】
【請求項１】
伝送機構と、該伝送機構の一側に対応して配置されるノズル機構と、を含み、該ノズル機構は、連通管及び該連通管と相互に連通する複数の噴射管を含み、該噴射管は、相互に間隔をおいて並列され、各該噴射管は、複数のノズルを有する、連通管を有する噴射装置。
【請求項２】
更に、吸引機構を含み、該吸引機構は、該伝送機構の一側に近隣して設置され、該吸引機構は、相互に間隔をおいて並列される複数の吸引管を含み、各該吸引管は、複数の吸引ヘッドを有する請求項１に記載の連通管を有する噴射装置。
【請求項３】
更に、除液溝、第１還流管路及び第２還流管路を含み、該第１還流管路の一端は、該吸引管に連通され、他端は、該除液溝に連通され、該第２還流管路の一端は、該除液溝に連通され、他端は、該連通管に連通される請求項１に記載の連通管を有する噴射装置。
【請求項４】
前記噴射機構は、該伝送機構の上方に配置される請求項１に記載の連通管を有する噴射装置。
【請求項５】
更に、補助ノズル機構を含み、該補助ノズル機構は、該伝送機構の下方に設置される請求項４に記載の連通管を有する噴射装置。
【請求項６】
前記補助ノズル機構は、補助連通管及び該補助連通管と相互に連通する複数の補助噴射管を含み、該補助噴射管は、相互に間隔をおいて並列され、各該補助噴射管は、複数の補助ノズルを有する請求項５に記載の連通管を有する噴射装置。
【請求項７】
更に、除液溝、第１還流管路、第２還流管路及び第３還流管路を含み、該第１還流管路の一端は、該吸引管に連通し、他端は、該除液溝に連通し、該第２還流管路の一端は、該除液溝に連通し、他端は、該連通管に連通し、該第３還流管路一端は、該除液溝に連通され、他端は、該補助連通管に連通される請求項６に記載の連通管を有する噴射装置。
【請求項８】
前記除液溝は、該伝送機構の下方に配置される請求項３又は７に記載の連通管を有する噴射装置。
【請求項９】
前記伝送機構は、積層配列される複数の上伝送ホイール組及び複数の下伝送ホイール組を含み、各該吸引ヘッドは、該上伝送ホイール組の間に設置される請求項１に記載の連通管を有する噴射装置。
【考案の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本考案は、回路板に対して加工処理を行う噴射装置に関し、特に、連通管を有する噴射装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
回路板製造過程において、通常、噴射装置を使用して回路板に対してエッチング処理を行い、噴射装置は、主に伝送機構、ノズル機構及び吸引機構を含み、噴射装置に噴射及び吸引機能を同時にもたせ、伝送機構が回路板をノズル機構及び吸引機構の下方まで搬送し、ノズル機構は、回路板に対してエッチング液、現像液又は洗浄液等の処理液を噴射し、吸引機構は、回路板上の処理液を即座に吸引し、回路板上の処理液が過度になることを防止し、回路板に過度又は不均一なエッチングの状況が生じることを回避する。
【０００３】
しかしながら、回路板が徐々に軽薄化へ発展するに伴い、上記噴射装置は、以下の欠点を発生し、ノズル機構の各ノズルの回路板に対する噴射力の相違により、回路板が受ける力が不均一になり、加工処理の過程で皺、湾曲等の状況を発生し、加工処理の精確性及び回路板の製品歩留まりの低下を招く。
【０００４】
これに鑑み、本考案者は、上記既存技術に対して、研究に専念し、学理の運用を合わせ、上記問題点を解決に尽力することが本考案者の改良の目標となっている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００９−１４１３１３号公報
【特許文献２】特開２００１−１０７２６８号公報
【考案の概要】
【考案が解決しようとする課題】
【０００６】
本考案の目的は、各ノズルの噴射力の相当を利用し、回路板が受ける力を均一にし、回路板の製品歩留まりを向上させる、連通管を有する噴射装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
前記の目的を達成する為、本考案が提供する連通管を有する噴射装置は、伝送機構と、該伝送機構の一側に対応して配置されるノズル機構と、を含み、該ノズル機構は、連通管及び該連通管と相互に連通する複数の噴射管を含み、該噴射管は、相互に間隔をおいて並列され、各該噴射管は、複数のノズルを有する。
【考案の効果】
【０００８】
本考案は、以下の効果を有する：
第１、各噴射管が連通管と相互に連通し、各ノズルの噴射力を相当させ、回路板の受ける力を均一にさせ、回路板が加工処理過程で皺、湾曲等の状況を発生することを防止し、加工処理の精確性を向上する。
第２、本考案の噴射装置は、更に除液溝、第１還流管路及び第２還流管路を含み、吸引機構が吸引した処理液をノズル機構に循環再使用させ、噴射装置が環境保護省エネルギー、コスト節減の利点を有する。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】本考案の噴射装置の説明図である。
【図２】本考案の噴射装置の俯瞰図である。
【図３】本考案の噴射装置の使用状態説明図である。
【図４】本考案の噴射装置のもう１つの使用状態説明図である。
【図５】本考案の噴射装置の更にもう１つの使用状態説明図である。
【図６】本考案の噴射装置のもう１つの実施例の使用状態説明図である。
【考案を実施するための形態】
【００１０】
本考案の詳細な説明及び技術内容について、図面を合わせて以下に説明するが、図面は、ただ参考及び説明に用いるのみであり、本考案に制限を加えるものではない。
【００１１】
図１〜図５に示すように、本考案は、連通管を有する噴射装置を提供し、その噴射装置１０は、主に伝送機構１及びノズル機構２を含む。
【００１２】
図１、図５に示すように、転送機構１は、上下に積層して配列される複数の上伝送ホイール組１１及び複数の下伝送ホイール組１２を含み、回路板１００は、上伝送ホイール組１１及び下伝送ホイール組１２の間に安置され、上伝送ホイール組１１及び下伝送ホイール組１２は、共同で回路板１００をノズル機構２及び吸引機構３の下方まで搬送する。
【００１３】
図１〜図５に示すように、ノズル機構２は、伝送機構１の一側に対応して配置され、詳細な説明は、以下の通りであり、ノズル機構２は、伝送機構１の上方に配置され、ノズル機構２は、連通管２１及び連通管２１と相互に連通する複数の噴射管２２を含み、各噴射管２２は、相互に間隔をおいて配列され、各噴射管２２は、複数のノズル２２１を有する。
【００１４】
図１〜図５に示すように、本考案の噴射装置１０は、更に吸引機構３を含み、吸引機構３は、伝送機構１の一側に近隣して設置され、吸引機構３は、相互に間隔をおいて並列される複数の吸引管３１を含み、各吸引管３１は、複数の吸引ヘッド３１１を有し、各吸引ヘッド３１１は、複数の上伝送ホイール組１１の間に設置される。
【００１５】
図１、図３、図５に示すように、本考案の噴射装置１０は、更に補助ノズル機構４を含み、補助ノズル機構４は、伝送機構１の下方に設置され、補助ノズル機構４は、補助連通管４１及び補助連通管４１と相互に連通する複数の補助噴射管４２を含み、各補助噴射管４２は、相互に間隔をおいて並列され、各補助噴射管４２は、複数の補助ノズル４２１を有する。
【００１６】
図１、図３に示すように、本考案の噴射装置１０は、更に、除液溝５、第１還流管路６、第２還流管路７及び第３還流管路８を含み、第１還流管路６一端は、各吸引管３１に連通し、他端は、除液溝５に連通し、第２還流管路７一端は、除液溝５に連通し、他端は、連通管２１に連通し、第３還流管路８一端は、除液溝５に連通し、他端は、連通管４１に連通する。そのうち、除液溝５は、伝送機構１の下方に配置される。
【００１７】
図１〜図３に示すように、本考案の噴射装置１０の組み合わせは、噴射機構２を利用して伝送機構１の一側に対応して配置され、噴射機構２は、連通管２１及び連通管２１と相互に連通する複数の噴射管２２を含み、各噴射管２２は、相互に間隔をおいて並列され、各噴射管２２は、複数のノズル２２１を有し、吸引機構３は、伝送機構１の一側に近隣して設置され、吸引機構３は、相互に間隔をおいて並列される複数の吸引管３１を含み、各吸引管３１は、複数の吸引ヘッド３１１を有する。これにより、各ノズル２２１の噴射力は、相当し、回路板１００が受ける力を均一にさせ、回路板１００の製品の歩留まりを向上させる。
【００１８】
図３〜図５を参照し、それは、本考案の噴射装置１０の使用状態であり、上伝送ホイール組１１及び下伝送ホイール組１２は、共同で回路板１００をノズル機構２及び吸引機構３の下方まで搬送し、ノズル機構２は、回路板１００に対して、エッチング液、現像液又は洗浄液等の処理液を噴射し、吸引機構３は、回路板１００上の処理液を即座に吸引し、回路板１００上の処理液が過度になることを防止し、回路板１００に過度又は不均一なエッチングの状況が発生することを回避する。
【００１９】
また、図３に示すように、各噴射管２２は、連通管２１と相互に連通し、各ノズル２２１の噴射力を相当させる。各補助噴射管４２は、補助連通管４１と相互に連通し、各補助ノズル４２１の噴射力を相当させる。従って、各ノズル２２１、各補助ノズル４２１の回路板１００に対する噴射力が相当し、回路板１００が受ける力を均一にさせ、回路板１００の加工処理過程で皺、湾曲等の状況が発生することを防止し、加工処理の精確性を向上させる。
【００２０】
また、図３に示すように、本考案の噴射装置１０は、更に、除液溝５、第１還流管路６、第２還流管路７及び第３還流管路８を含み、第１還流管路６一端は、各吸引管３１に連通し、他端は、除液溝５に連通し、第２還流管路７一端は、除液溝５に連通し、他端は、連通管２１に連通する。第３還流管路８一端は、除液溝５に連通し、他端は、補助連通管４１に連通する。これにより、吸引機構３が吸引した処理液は、ノズル機構２及び補助ノズル機構４に循環再使用させることができ、噴射装置１０に環境保護省エネルギー、コスト節減の利点をもたせる。
【００２１】
図６を参照し、それは、本考案の噴射装置１０のもう１つの実施例であり、図６の実施例は、図１〜図５の実施例と概ね同一であるが、図６の実施例と図１〜図５の実施例との相違する箇所は、図６の実施例の噴射装置１０が直立式噴射装置であることにある。
【００２２】
以下に詳細に説明し、図６の実施例の噴射装置１０は、直立式噴射装置であり、直立式噴射装置の伝送機構１は、伝送ホイール組及び伝送ホイール組により連動される固定フレームを含み、回路板１００は、固定フレームに固定され、且つ回路板１００は、地面と垂直に配置され、ノズル機構２は、直立方式で伝送機構１の一側に対応して配置され、ノズル機構２が回路板に対して噴射するエッチング液、現像液又は洗浄液等の処理液は、直接下向きに滴り落ちるので、直立式噴射装置は、吸引機構３を必要としない。
【００２３】
また、各噴射管２２は、連通管２１と相互に連通し、各ノズル２２１の噴射力を相当させ、回路板１００が受ける力を均一にさせ、回路板１００が加工処理過程で皺、湾曲等の状況を発生することを防止し、加工処理の精確性を向上する。上記のように、本考案の連通管を有する噴射装置は、予期する使用目的を確かに達成し、従来の欠陥を解決し、産業利用性、新規性及び進歩性を有する。
【符号の説明】
【００２４】
１０  噴射装置
１  伝送機構
１１  上伝送ホイール組
１２  下伝送ホイール組
２  ノズル機構
２１  連通管
２２  噴射管
２２１  ノズル
３  吸引機構
３１  吸引管
３１１  吸引ヘッド
４  補助ノズル機構
４１  補助連通管
４２  補助噴射管
４２１  補助ノズル
５  除液溝
６  第１還流管路
７  第２還流管路
８  第３還流管路
１００  回路板
【図１】
0003197122.tif 000003
【図２】
0003197122.tif 000004
【図３】
0003197122.tif 000005
【図４】
0003197122.tif 000006
【図５】
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【図６】
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【手続補正書】
【提出日】平成27年2月17日(2015.2.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】実用新案登録請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【実用新案登録請求の範囲】
【請求項１】
伝送機構と、該伝送機構の一側に対応して配置されるノズル機構と、を含み、該ノズル機構は、連通管及び該連通管と相互に連通する複数の噴射管を含み、該噴射管は、相互に間隔をおいて並列され、各該噴射管は、複数のノズルを有する、連通管を有する噴射装置。
【請求項２】
更に、吸引機構を含み、該吸引機構は、該伝送機構の一側に近隣して設置され、該吸引機構は、相互に間隔をおいて並列される複数の吸引管を含み、各該吸引管は、複数の吸引ヘッドを有する請求項１に記載の連通管を有する噴射装置。
【請求項３】
更に、除液溝、第１還流管路及び第２還流管路を含み、該第１還流管路の一端は、該吸引管に連通され、他端は、該除液溝に連通され、該第２還流管路の一端は、該除液溝に連通され、他端は、該連通管に連通される請求項２に記載の連通管を有する噴射装置。
【請求項４】
前記ノズル機構は、該伝送機構の上方に配置される請求項２に記載の連通管を有する噴射装置。
【請求項５】
更に、補助ノズル機構を含み、該補助ノズル機構は、該伝送機構の下方に設置される請求項４に記載の連通管を有する噴射装置。
【請求項６】
前記補助ノズル機構は、補助連通管及び該補助連通管と相互に連通する複数の補助噴射管を含み、該補助噴射管は、相互に間隔をおいて並列され、各該補助噴射管は、複数の補助ノズルを有する請求項５に記載の連通管を有する噴射装置。
【請求項７】
更に、除液溝、第１還流管路、第２還流管路及び第３還流管路を含み、該第１還流管路の一端は、該吸引管に連通し、他端は、該除液溝に連通し、該第２還流管路の一端は、該除液溝に連通し、他端は、該連通管に連通し、該第３還流管路一端は、該除液溝に連通され、他端は、該補助連通管に連通される請求項６に記載の連通管を有する噴射装置。
【請求項８】
前記除液溝は、該伝送機構の下方に配置される請求項３又は７に記載の連通管を有する噴射装置。
【請求項９】
前記伝送機構は、積層配列される複数の上伝送ホイール組及び複数の下伝送ホイール組を含み、各該吸引ヘッドは、該上伝送ホイール組の間に設置される請求項２に記載の連通管を有する噴射装置。