(57)【要約】      （修正有）【課題】簡易な方法で精度高く処理液の吐出量を測定することのできる吐出量測定用器具、吐出量測定用基板、吐出量測定用器具着脱装置及びそれを備えた基板処理装置を提供する。【解決手段】吐出された処理液を受ける容器７１と、容器７１内に取り外し自在に配置された高吸水性高分子材料を含む処理液吸収材７２とを備えた吐出量測定用器具７０を用いて、基板処理装置の処理液供給部から吐出される処理液の吐出量を測定する。【選択図】図６
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【実用新案登録請求の範囲】
【請求項１】
基板に処理液を吐出する処理液供給部を有する基板処理装置において、前記処理液供給部からの処理液の吐出量を測定するために用いられる吐出量測定用器具であって、
吐出された処理液を受ける容器と、
前記容器内に取り外し自在に配置された高吸水性高分子材料を含む処理液吸収材と、を備えることを特徴とする吐出量測定用器具。
【請求項２】
請求項１に記載の吐出量測定用器具を載置する載置部を有し、
前記載置部に前記吐出量測定用器具を載置した状態で、前記基板処理装置の搬送機構によって搬送することができるように構成されたことを特徴とする吐出量測定用基板。
【請求項３】
請求項２に記載の吐出量測定用基板を保持する保持部と、
複数の前記吐出量測定用器具を収納することができる器具収納ケースと、
前記器具収納ケースから未使用の吐出量測定用器具を取り出し、前記吐出量測定用基板に載置すると共に、処理液が吐出された使用済みの前記吐出量測定用器具を前記吐出量測定用基板から取り外し、前記器具収納ケースに収納するための器具移動手段と、を備えることを特徴とする吐出量測定用器具着脱装置。
【請求項４】
前記器具収納ケースは、前記吐出量測定用器具着脱装置から取り外し自在であることを特徴とする請求項３に記載の吐出量測定用器具着脱装置。
【請求項５】
更に前記吐出量測定用器具の重量を計測する重量計測部を備えることを特徴とする請求項３又は４に記載の吐出量測定用器具着脱装置。
【請求項６】
前記器具移動手段と、前記重量計測部とを制御する制御部を更に備え、
前記制御部は、前記器具移動手段により前記器具収納ケースから未使用の吐出量測定用器具を前記吐出量測定用基板に載置する前に、前記重量計測部で前記未使用の吐出量測定用器具の重量を計測し、その後、処理液が吐出された使用済みの前記吐出量測定用器具を前記器具収納ケースに収納する前に、前記重量計測部で前記吐出量測定用器具の重量を計測するように制御することを特徴とする請求項５に記載の吐出量測定用器具着脱装置。
【請求項７】
請求項３乃至６に記載の吐出量測定用器具着脱装置を備えた基板処理装置。
【考案の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本考案は、基板に供給する処理液の吐出量を測定するための吐出量測定用器具、吐出量測定用基板、吐出量測定用器具着脱装置及びそれを備えた基板処理装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体装置の製造過程では、例えばフォトリソグラフィー工程など、処理液を用いて液処理を行う工程がある。例えば、塗布工程においては、基板上に塗布液を供給して塗布膜を形成する。この時、供給される塗布液の吐出量が正確でなければ、基板上に形成される塗布膜が均一ではなくなってしまう。したがって、処理液の吐出量は精度良く制御しなければならない。
【０００３】
そのため、基板処理装置においては、処理液供給ノズルから供給される処理液の吐出量を定期的に測定して、設定通りに処理液が吐出されているか否かを確認する必要がある。吐出量が設定値から外れている場合には、例えばポンプの設定圧を変更して、処理液供給ノズルから供給される吐出量を調整する。
【０００４】
処理液の吐出量の測定方法としては、例えば、処理液供給ノズルの下にシャーレを設置して、その中に処理液を吐出し、その後、装置外の重量計に乗せて重さを計り、その重さから吐出量を算出する方法がある。しかしながら、この方法は、処理液がシャーレ内に吐出されてから重さを計る間に処理液が揮発してしまい正確に測定することができない恐れがあった。また、処理液が吐出されたシャーレを洗浄するために、処理液を拭き取らなければならず、多くの時間を要していた。
【０００５】
これに対して、特許文献１では、静電容量計を設けたウエハ型治具の容量計測用貯留部に処理液を吐出し、静電容量の変化によって吐出量を算出する方法が記載されている。しかしながら、この方法では、例えば容量計測用貯留部に供給された処理液の形状が歪んでいる場合には、正確に測定することができない。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２０１４−７２４０１公報（特許請求の範囲）
【考案の概要】
【考案が解決しようとする課題】
【０００７】
本考案は、上記事情に鑑みてなされたものであり、簡易な方法で精度高く吐出量を測定することのできる吐出量測定用器具、吐出量測定用基板、吐出量測定用器具着脱装置及びそれを備えた基板処理装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本考案に係る吐出量測定用器具は、基板に処理液を吐出する処理液供給部を有する基板処理装置において、処理液供給部からの処理液の吐出量を測定するために用いられる吐出量測定用器具であって、吐出された処理液を受ける容器と、容器内に取り外し自在に配置された高吸水性高分子材料を含む処理液吸収材と、を備えることを特徴とする。
【０００９】
以上の吐出量測定用器具によれば、処理液供給部から吐出された処理液は、当該吐出量測定用器具の容器内に配置された高吸水性高分子材料に吸収される。高吸水性高分子材料は、処理液を吸収するとゲル状に固まるため、その後、装置外で重量を計測しても処理液が揮発する恐れがなく、正確に吐出量を測定することができる。
【００１０】
また、本考案に係る吐出量測定用基板は、吐出量測定用器具を載置する載置部を有し、当該載置部に吐出量測定用器具を載置した状態で、基板処理装置の搬送機構によって搬送することができるように構成されたことを特徴とする。
【００１１】
この吐出量測定用基板によれば、上述の吐出量測定用器具を基板処理装置内で人手を介することなく自動的に搬送することができるため、作業者が基板処理装置内に侵入する必要がない。したがって、被液等の恐れもなく安全に吐出量を測定することができる。
【００１２】
本考案に係る吐出量測定用器具着脱装置は、上述の吐出量測定用基板を保持する保持部と、複数の吐出量測定用器具を収納することができる器具収納ケースと、当該器具収納ケースから未使用の吐出量測定用器具を取り出し、吐出量測定用基板に載置すると共に、処理液が吐出された使用済みの吐出量測定用器具を吐出量測定用基板から取り外し、器具収納ケースに収納するための器具移動手段と、を備えることを特徴とする。また、器具収納ケースは、前記吐出量測定用器具着脱装置から取り外し自在であってもよい。このように構成することにより、吐出量測定用基板からの吐出量測定用器具の着脱についても人手を介することがなく、被液の恐れが低減する。
【００１３】
この吐出量測定用器具着脱装置は、前記吐出量測定用器具の重量を計測する重量計測部を備えてもよい。さらに、器具移動手段と、重量計測部とを制御する制御部を備え、器具移動手段により器具収納ケースから未使用の吐出量測定用器具を吐出量測定用基板に載置する前に、重量計測部で未使用の吐出量測定用器具の重量を計測し、その後処理液が吐出された使用済みの吐出量測定用器具を器具収納ケースに収納する前に重量計測部で吐出量測定用器具の重量を計測するように制御してもよい。
【００１４】
以上の構成により、処理液供給部から吐出された処理液は、吐出量測定用基板上に載置された未使用の吐出量測定用器具に収容され、その後、吐出量測定用器具着脱装置内において重量を計測された後に器具収納ケースに収納される。既に未使用の吐出量測定用器具の重量が計測されているため、使用済みの吐出量測定用器具の重量との差分に基づき、処理液供給部から吐出された処理液の吐出量が正確に算出される。したがって、作業者が吐出量測定用器具の重量を計測する必要がなく、被液の恐れが更に低減する。
【００１５】
本考案の基板処理装置は、当該基板処理装置内に上述の吐出量測定用器具着脱装置を備えていてもよい。
【考案の効果】
【００１６】
本考案に係る吐出量測定用器具、吐出量測定用基板、吐出量測定用器具着脱装置及びそれを備えた基板処理装置によれば、簡易な方法で精度高く処理液の吐出量を測定することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】本考案に係る基板処理装置の実施形態を示す概略平面図である。
【図２】本考案に係る基板処理装置の実施形態を示す概略斜視図である。
【図３】本考案に係る基板処理装置の実施形態を示す概略縦断面図である。
【図４】（ａ）基板に対する回転塗布処理を示す説明図である。       （ｂ）吐出量測定用基板に載置された吐出量測定用器具に処理液を供給することを示す説明図である。
【図５】本考案に係る吐出量測定用基板の実施形態を示す概略平面図である。
【図６】本考案に係る吐出量測定用器具の実施形態を示す概略斜視図である。
【図７】本考案に係る吐出量測定用器具着脱装置の実施形態を示す概略平面図である。
【図８】本考案に係る吐出量測定用器具着脱装置の実施形態を示す概略断側面図である。
【図９】本考案の実施形態における器具収納ケースの概略断面図である。
【図１０】本考案に係る基板処理装置の実施形態における制御部の構成図である。
【考案を実施するための形態】
【００１８】
以下に、この考案の実施形態について、添付図面に基づいて詳細に説明する。まず、本考案に係る基板処理装置の構成及び動作の概略について説明する。
【００１９】
本考案に係る基板処理装置は、例えば塗布現像装置１により構成される。塗布現像装置１には、図１に示すように、キャリアブロックＢＫ１から露光ブロックＢＫ４まで順に、キャリアブロックＢＫ１、処理ブロックＢＫ２、インターフェイスブロックＢＫ３、露光ブロックＢＫ４が連結されている。
【００２０】
キャリアブロックＢＫ１では、搬送機構Ｃが、載置台１０上に載置された密閉型のキャリア１１からウエハＷ（基板）を取り出して、キャリアブロックＢＫ１に隣接された処理ブロックＢＫ２に受け渡す。また、搬送機構Ｃは、処理ブロックＢＫ２にて処理された後のウエハＷを受け取ってキャリア１１に戻すように構成されている。本実施形態において、本考案に係る吐出量測定用器具着脱装置は、器具交換モジュール５０として構成され、キャリアブロックＢＫ１の載置台１０の上方に配置される。この器具交換モジュール５０については、後述する。
【００２１】
処理ブロックＢＫ２は、図２に示すように、現像処理を行うための第１のブロック（ＤＥＶ層）Ｂ１、レジスト膜の下層側に反射防止膜を形成するための第２のブロック（ＢＣＴ層）Ｂ２、レジスト液の塗布処理を行うための第３のブロック（ＣＯＴ層）Ｂ３、レジスト膜の上層側に反射防止膜を形成するための第４のブロック（ＴＣＴ層）Ｂ４を下から順に積層して構成されている。
【００２２】
図１は、第３のブロック（ＣＯＴ層）Ｂ３の概略平面図を示しており、他のブロックもほぼ同じ配置となっている。第１のブロック（ＤＥＶ層）Ｂ１は、例えば一つのＤＥＶ層Ｂ１内に現像ユニットが２段に積層されている。そしてＤＥＶ層Ｂ１内には、これら２段の現像ユニットにウエハＷを搬送するための共通の搬送機構Ａ１が設けられている（図３参照）。この搬送機構Ａ１を挟んで、現像液をウエハＷに供給して露光後の塗布膜を現像する現像部（不図示）と、現像処理の前処理及び後処理を行うための加熱・冷却処理部（不図示）とが配置される。また、第２のブロック（ＢＣＴ層）Ｂ２と第４のブロック（ＴＣＴ層）Ｂ４とは、各々反射防止膜を形成するための薬液をスピンコーティングによりウエハＷに塗布する塗布部（不図示）と、塗布処理の前処理及び後処理を行うための加熱・冷却処理部（不図示）と、これらの間でウエハＷの受け渡しを行なう基板搬送手段である搬送機構Ａ２、Ａ４とを備えている（図３参照）。そして、第３のブロック（ＣＯＴ層）Ｂ３においては、搬送機構Ａ３を挟んで、レジスト液をスピンコーティングによりウエハＷに塗布する塗布モジュール３０と、レジスト膜を形成したウエハＷに加熱処理を行うための加熱・冷却処理モジュール４０とが配置される。
【００２３】
ＢＣＴ層Ｂ２、ＣＯＴ層Ｂ３、ＴＣＴ層Ｂ４において、例えばウエハＷはこの順に搬送され、反射防止膜、レジスト膜、反射防止膜が順番に形成される。
【００２４】
処理ブロックＢＫ２には、図１及び図３に示すように、キャリアブロックＢＫ１側に棚ユニットＵ５が設けられ、この棚ユニットＵ５の各部同士の間では、棚ユニットＵ５の近傍に設けられた昇降自在な搬送機構ＥによってウエハＷが搬送される。また、処理ブロックＢＫ２のインターフェイスブロックＢＫ３側には、棚ユニットＵ６が設けられる。
【００２５】
ＤＥＶ層Ｂ１内の上部には、棚ユニットＵ５に設けられた受け渡しユニットＣＰＬ１１から棚ユニットＵ６に設けられた受け渡しユニットＣＰＬ１２にウエハＷを直接搬送するための専用の搬送手段であるシャトルアームＦが設けられている（図３参照）。レジスト膜やさらに反射防止膜が形成されたウエハＷは、受け渡しユニットＢＦ３やＴＲＳ４を介して搬送機構Ｅにより受け渡しユニットＣＰＬ１１に受け渡され、ここからシャトルアームＦにより棚ユニットＵ６の受け渡しユニットＣＰＬ１２に直接搬送される。
【００２６】
次いで、ウエハＷはインターフェイスアームＩにより露光ブロックＢＫ４に搬送され、ここで所定の露光処理が行われた後、棚ユニットＵ６の受け渡しユニットＴＲＳ６に載置されて処理ブロックＢＫ２に戻される。処理ブロックＢＫ２に戻されたウエハＷは、第１のブロック（ＤＥＶ層）Ｂ１にて現像処理が行われ、基板搬送手段である搬送機構Ａ１により受け渡しユニットＴＲＳ３に受け渡される（図３参照）。
【００２７】
その後、ウエハＷは搬送機構Ｃを介してキャリア１１に戻される。なお、図１において棚ユニットＵ１〜Ｕ４には各々加熱・冷却処理モジュール４０が積層されている。
【００２８】
次に、本考案に係る吐出量測定用器具、吐出量測定用基板、吐出量測定用器具着脱装置の構成について、詳細に説明する。本実施形態では、例えばＣＯＴ層Ｂ３に含まれる塗布モジュール３０において、スピンチャック３１上に保持したウエハＷの表面に処理液ノズル３２から供給される処理液Ｒ（図４（ａ）参照）の吐出量を測定する。なお、処理液ノズル３２が本考案に係る基板処理装置の処理液供給部に該当する。
【００２９】
本考案では、例えば、図５に示すような円盤形状を有した測定用ウエハ６０を用いて処理液Ｒの吐出量を測定する。この測定用ウエハ６０は、本考案に係る吐出量測定用基板に該当する。測定用ウエハ６０は、搬送機構Ｃ、Ａ１〜４及びＦにより搬送自在に構成されている。例えば、測定用ウエハ６０は、キャリアブロックＢＫ１の載置台１０に載置されたキャリア１１に収納される。
【００３０】
測定用ウエハ６０は、処理液を収容する器具７０を載置するための載置面６１を有している。この載置面６１には、例えば、載置された器具７０の移動範囲を制限するための規制部材６２及び６３が設けられる。この例では、１つの器具７０を載置する載置部６４は、２つの壁状の規制部材６２と、２つの円柱状の規制部材６３とから構成される。ここで規制部材６２及び６３は、器具７０の測定用ウエハ６０上での移動を制限するものであれば、どのような形状であってもよい。また、載置部６４は、測定用ウエハ６０の載置面６１に設けられた凹部（図示せず）であってもよく、その凹部内に器具７０を嵌め込むようにしてもよい。
【００３１】
本実施形態において、上述の載置部６４は、測定用ウエハ６０の載置面６１に同心円上に複数設けられる。１つの載置部６４に１つの器具７０が載置されるので、測定用ウエハ６０には複数個の器具７０を載置することができる。図４（ｂ）に示すように、スピンチャック３１に保持された測定用ウエハ６０上の各器具７０に、処理液ノズル３２から処理工程１回分の処理液Ｒが供給される。各器具７０は、測定用ウエハ６０上で同心円上に配置されているので、スピンチャック３１が回転すると測定用ウエハ６０も回転し、処理液ノズル３２に対して器具７０が移動する。
【００３２】
図６は、本実施形態における吐出量測定用器具である器具７０を示している。器具７０は、容器７１と、処理液吸収材７２とから構成される。容器７１は、庇部７３と収容部７４とを有している。収容部７４は、例えば中空の円柱からなる胴部７４１と、胴部７４１の下端部を密閉する底部７４２とからなる。胴部７４１には、器具７０のＩＤを表すバーコード７５が貼付されている。庇部７３は、収容部７４の底部７４２の反対側の端部７４３と接続し、例えば平面視で円環状に形成される。容器７１の材料としては、例えばＰＴＦＥやＰＦＡなどの樹脂が挙げられる。
【００３３】
収容部７４の内部には、処理液吸収材７２が配置される。処理液吸収材７２として、例えば、綿状パルプに高吸水性高分子物質を均一に混合した吸収体が用いられる。収容部７４内に配置された処理液吸収材７２は、例えば収容部７４の内側面から突出した押さえ部材７４４により固定され、塗布現像装置１内で搬送される際に、容器７１から処理液吸収材７２が飛び出さないようになっている。ここで綿状パルプとしては、化学パルプシート、古紙パルプシートが挙げられる。また、高吸水性高分子物質としては、デンプン系、セルロース系、合成ポリマー系、ポリアクリル酸ナトリウム系のものが挙げられる。
【００３４】
処理液Ｒが器具７０に供給されると、高吸水性高分子物質が吸水性を有するために、処理液吸収材７２が処理液Ｒを吸収する。これにより、処理液Ｒが処理液吸収材７２に吸収された状態で器具７０の収容部７４内に保持される。そのため、器具７０を移動させても処理液Ｒが収容部７４から漏れ出てしまうことがなく、処理液Ｒの吐出量を精度高く測定することができる。ここで、高吸水性高分子物質が吸収した処理液Ｒをゲル状等に凝固させる性質（凝固性）を有する場合には、処理液吸収材７２に含まれる高吸水性高分子物質が処理液Ｒを吸収するとゲル状に凝固するため、処理液Ｒは揮発することなく器具７０内にとどまり、処理液Ｒの吐出量をより一層精度高く測定することができる。
【００３５】
図７及び図８を参照して、本実施形態の器具交換モジュール５０について説明する。器具交換モジュール５０は、筐体５１内に器具移動アーム５２、重量センサ５３、器具収納ケース５４、保持台５５を有している。保持台５５は、その上面に保持ピン５５１を複数有している。また、筐体５１は、本考案に係る吐出量測定用基板である測定用ウエハ６０を、搬送機構Ｃにより器具交換モジュール５０内に搬入し、当該器具交換モジュール５０外部へと搬出するための搬入出口５６を備えている。器具交換モジュール５０内に搬入された測定用ウエハ６０は、保持台５５の表面上に設けられた保持ピン５５１に保持される。本実施形態においては、器具交換モジュール５０、器具移動アーム５２、重量センサ５３、器具収納ケース５４、保持ピン５５１が、本考案における吐出量測定用器具着脱装置、器具移動手段、重量計測部、器具収納ケース、保持部にそれぞれ該当する。
【００３６】
器具移動アーム５２は、駆動部５２１、アーム部５２２、ピンセット５２３、昇降機構５２４を有している。駆動部５２１は、レール５７上を移動することができ、またその中心軸Ｏを回転軸として回転することができる。このようにして、器具移動アーム５２は、水平方向に移動自在であり、且つ回転自在に構成される。アーム部５２２は、その一端が駆動部５２１に接続されており、他端にはピンセット５２３がねじ止めされている。このピンセット５２３は、器具７０の庇部７３を下方から保持することができる。また、アーム部５２２は、本体部５２２Ａと、伸長部５２２Ｂとからなり、通常時には本体部５２２Ａ内に伸長部５２２Ｂを収納し、アーム部５２２を伸ばす際には本体部５２２Ａから伸長部５２２Ｂが伸びるように構成される。アーム部５２２の本体部５２２Ａにはまた、昇降機構５２４が接続されており、アーム部５２２は鉛直軸方向に昇降自在である。以上の構成により、器具移動アーム５２は、器具収納ケース５４、測定用ウエハ６０及び重量センサ５３の間で器具７０を移動させることができる。
【００３７】
図８に示すように、重量センサ５３は、例えば器具収納ケース５４と保持台５５の間に配置される。重量センサ５３には、センサ部５３１上にバーコード読み取り機５３２が設けられる。器具７０を重量センサ５３に載置して重量を計測する前に、このバーコード読み取り機５３２で器具７０のバーコードを読み取り、器具ＩＤを取得する。
【００３８】
器具収納ケース５４は、器具交換モジュール５０に複数配置することができる。本実施形態では、筐体５１の内部に例えば２つの器具収納ケース５４が配置される。この器具収納ケース５４は、器具交換モジュール５０から取り外し可能に構成されてもよい。この場合、器具収納ケース５４ごと持ち運びが可能となり、器具７０の入れ替えが容易となる。
【００３９】
器具収納ケース５４は、図９に示すように、ケーシング５４１内に複数の棚部５４２を有する。各棚部５４２は、例えば上方に突出した壁状の係止部５４３を複数備えている。係止部５４３は、器具７０を器具収納ケース５４に収納する際に、器具収納ケース５４内で器具７０が動かないように固定する。
【００４０】
本実施形態では、器具移動アーム５２及び重量センサ５３は、制御部８０によりその動作が制御される。図１０を参照すると、制御部８０は、例えばプログラム格納部８１と、中央処理装置８２と、器具移動アーム制御部８３と、重量センサ制御部８４と、を有する。
【００４１】
プログラム格納部８１には、例えば、一連の処理を行うための処理プログラムや、ウエハＷを搬送するための搬送プログラム等の制御プログラムが格納されている。なお、プログラム格納部８１は、例えば、ハードディスク、コンパクトディスク、フラッシュメモリ、フレキシブルディスク、メモリカードなどの記憶媒体として構成される。
【００４２】
プログラム格納部８１に格納された制御プログラムは、中央処理装置８２にインストールされて実行される。中央処理装置８２には、コンピュータ読み取り可能な記憶媒体が備えられており、当該記憶媒体には制御プログラムを実行させるソフトウェアが記憶されている。中央処理装置８２は、制御プログラムに基づいて、器具移動アーム制御部８３、重量センサ制御部８４に制御信号を出力するように構成されている。
【００４３】
器具移動アーム制御部８３は、器具移動アーム５２の動作を制御する。器具移動アーム制御部８３は、器具移動アーム５２の駆動部５２１と、アーム部５２２と、昇降機構５２４とを駆動させることにより、ピンセット５２３の位置を移動させる。ピンセット５２３が器具７０を保持した状態で移動することで、器具７０を器具交換モジュール５０内で移動させることができる。
【００４４】
例えば、器具移動アーム制御部８３は、器具収納ケース５４から器具７０を取り出して、重量センサ５３や保持台５５上の測定用ウエハ６０に器具７０を載置するよう器具移動アーム５２を制御する。また、重量センサ５３や測定用ウエハ６０に載置された器具７０を受け取り、器具収納ケース５４に器具７０を収納する。
【００４５】
重量センサ制御部８４は、重量センサ５３に載置された器具７０のＩＤを取得するようにバーコード読み取り機５３２を制御する。重量センサ制御部８４は重量記憶部（不図示）を備えており、読み取られたＩＤは、重量記憶部に記憶される。同時に、センサ部５３１により重量が計測され、器具７０のＩＤと関連付けられて重量が重量記憶部に記憶される。重量センサ制御部８４はまた、吐出量算出部（不図示）を備えており、例えば未使用の器具７０の重量と、この器具７０と同じＩＤの使用済みの器具７０の重量とを重量記憶部から読みだし、これらの重量の差分から処理液の吐出量を算出する。算出された吐出量は、重量センサ制御部８４の送信信号により、例えば装置外部の表示装置に表示される。なお、重量から吐出量を算出する際には、通常は処理液の比重を用いればよいが、高吸水性高分子物質と処理液との反応によって凝固等が生じる場合には、予め実験等により求めた重量と吐出量との関係式を用いてもよい。
【００４６】
次に、以上により構成される本実施形態の動作について、添付の図面を用いて説明する。なお、塗布現像装置１における塗布現像処理については、既に述べているので省略する。以下では、第３のブロック（ＣＯＴ層）Ｂ３の塗布モジュール３０において処理液ノズル３２から吐出される処理液Ｒの吐出量を測定する例について説明する。
【００４７】
まず、キャリアブロックＢＫ１において、搬送機構Ｃがキャリア１１から測定用ウエハ６０を取り出し、器具交換モジュール５０内に搬入出口５６から測定用ウエハ６０を搬入し、保持台５５上に載置する（図１及び図７参照）。
【００４８】
すると、中央処理装置８２は器具移動アーム制御部８３に制御信号を送信し、器具移動アーム５２は器具収納ケース５４から器具７０を取り出して重量センサ５３上に載せる。中央処理装置８２は更に重量センサ制御部８４に制御信号を送信し、重量センサ５３は、器具７０のＩＤを読み込むと共に器具７０の重量を計測する。このとき器具７０は未使用の状態であり、容器７１には処理液を吸収していない状態の処理液吸収材７２が配置されている。器具７０のＩＤが読み込まれ、重量が計測されると、中央処理装置８２は器具移動アーム制御部８３に制御信号を送信し、器具移動アーム５２は、そのピンセット５２３に器具７０を保持して測定用ウエハ６０の載置部６４に載置する（図７及び図８参照）。
【００４９】
測定用ウエハ６０には複数個の載置部６４が設けられており、複数の器具７０を載置することができる。以上の動作は、測定用ウエハ６０に載置される器具７０の個数分行われる。この例では、測定用ウエハ６０上に２つの器具７０を載置するため、以上の動作を２回行う。なお、載置する器具７０の個数は、吐出量を測定するノズルの本数などに応じて適宜設定すればよく、必ずしも複数の器具７０を載置しなくてもよい。
【００５０】
設定された個数の器具７０が測定用ウエハ６０に載置されると、搬送機構Ｃが、搬入出口５６から測定用ウエハ６０を取り出し、棚ユニットＵ５のＴＲＳ３に受け渡す。搬送機構ＥによりＴＲＳ３からＢＦ３に受け渡された測定用ウエハ６０は、搬送機構Ａ３により一の塗布モジュール３０に搬入される（図１及び図３参照）。
【００５１】
すると、塗布モジュール３０のスピンチャック３１に保持された測定用ウエハ６０の上方に処理液ノズル３２が移動し、器具７０上に停止して処理液Ｒを供給する（図４（ｂ））。次に、スピンチャック３１が回転し、処理液ノズル３２が次の器具７０上に配置される位置で回転を停止する。その後、処理液ノズル３２から処理液Ｒが供給される。このとき、次の器具７０への処理液Ｒの供給は、処理液ノズル３２ではなく、他の処理液ノズルから行ってもよい。器具７０に供給された処理液Ｒは、器具７０の処理液吸収材７２に吸収されて凝固する。
【００５２】
各器具７０に処理液Ｒが供給されると、測定用ウエハ６０は搬送機構Ａ３により塗布モジュール３０から搬出され、ＢＦ３及びＴＲＳ３を介して搬送機構Ｃにより器具交換モジュール５０に搬送される（図３参照）。
【００５３】
器具交換モジュール５０に搬送された測定用ウエハ６０は、器具交換モジュール５０内の保持台５５に保持される。その後、中央処理装置８２が器具移動アーム制御部８３に制御信号を送信し、器具移動アーム５２が測定用ウエハ６０上に載置された器具７０をつかみ、重量センサ５３に置く。すると、バーコード読み取り機５３２が器具７０のＩＤを読み取ると共に、センサ部５３１が使用済みの器具７０の重量を計測する。中央処理装置８２は重量センサ制御部８４に制御信号を送信し、重量センサ制御部８４は、未使用の器具７０の重量と、この未使用の器具７０と同一のＩＤを有する使用済みの器具７０の重量とを重量記憶部から読み出し、これら重量の差分から処理液Ｒの重量を算出し、更に処理液Ｒの吐出量を算出する。そして、例えば、装置外部の表示装置に処理液Ｒの吐出量を表示するように、表示装置に信号を送信する。
【００５４】
第１実施形態によれば、吐出量測定対象の処理液Ｒは、器具７０の処理液吸収材７２に供給された後にゲル状に凝固するため、処理液Ｒの揮発の恐れを考慮せずに処理液Ｒの吐出量を正確に測定することができる。
【００５５】
また、測定用ウエハ６０に器具７０を載置して、塗布現像装置１の中で各搬送機構により器具７０を搬送するため、作業員が塗布現像装置１内部に入る必要がなく、怪我や被液の恐れを減少させることができる。そして、器具交換モジュール５０の中で器具７０の交換を行うため、更に被液の恐れを少なくすることができる。なお、器具７０は使い捨てにしてもよく、その場合、器具交換モジュール５０から器具収納ケース５４を取り出し、その後、器具収納ケース５４に収納された使用済みの器具７０をそのまま捨ててもよい。または、器具７０の容器７１内に配置される使用済み処理液吸収材７２を未使用の処理液吸収材７２に交換してもよい。また、器具収納ケース５４は、器具交換モジュール５０から取り外し可能に構成してもよいし、単に器具搬入搬出口を設けてそこから使用済み器具７０と未使用の器具７０を入れ替えるように構成してもよい。
【００５６】
以上の実施形態では、器具交換モジュール５０に重量センサ５３を設けていたが、本考案に係る吐出量測定用器具着脱装置に重量計測部を設けることは必須ではない。吐出量測定用器具着脱装置に重量計測部がない場合には、例えば基板処理装置外部の重量計を用いて器具７０の重量を測定すればよい。しかし、器具交換モジュール５０に重量センサ５３を設けて、測定用ウエハ６０上の器具７０を交換する際に、器具交換モジュール５０内部で重量を測定するように構成すると、更に被液の恐れがなくなり好ましい。重量センサ５３の配置としては、保持台５５と器具収納ケース５４の間の位置に限らず、器具収納ケース５４の棚部５４２にそれぞれ設けるようにしてもよい。
【００５７】
以上、いくつかの実施形態を参照しながら本考案を説明したが、本考案は前記の実施形態に限定されることなく、添付の実用新案登録請求の範囲に含まれる事項の範囲で種々の変形が可能である。
【００５８】
また、上記の実施形態では、本考案を半導体ウエハに適用した場合について説明したが、半導体ウエハ以外の例えばＦＰＤ（フラットパネルディスプレイ）、フォトマスク用のマスクレチクルなどの他の基板についても適用できる。また、塗布現像装置に限らず、洗浄装置などの他の処理液を使用する基板処理装置についても適用することができる。
【符号の説明】
【００５９】
１    塗布現像装置
３０  塗布モジュール
５０  器具交換モジュール
５２  器具移動アーム
５３  重量センサ
５４  器具収納ケース
６０  測定用ウエハ
７０  器具
７１  容器
７２  処理液吸収材
８０  制御部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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