(57)【要約】  実質的にAlが無添加であり、かつSiおよびMnの添加量の多い鉄損の低い無方向性電磁鋼板を提供する。  Ｃ：0.0050％以下、Si：2.0〜6.0％、Mn：1.0〜3.0％、Ｐ：0.20％以下、Ｓ：0.0050％以下、Ｎ：0.0050％以下およびAl：0.0050％以下を含有し、残部Feおよび不可避的不純物の成分組成と、平均直径50〜500ｎｍのSi−Mn窒化物の個数密度が１個／μｍ3以下とする。【特許請求の範囲】
【請求項１】
質量％で、
Ｃ：0.0050％以下、
Si：2.0〜6.0％、
Mn：1.0〜3.0％、
Ｐ：0.20％以下、
Ｓ：0.0050％以下、
Ｎ：0.0050％以下および
Al：0.0050％以下
を含有し、残部Feおよび不可避的不純物の成分組成を有し、平均直径50〜500ｎｍのSi−Mn窒化物の個数密度が１個／μｍ3以下である無方向性電磁鋼板。
【請求項２】
前記成分組成は、さらに、質量％で、
Sn：0.01〜0.50％および
Sb：0.01〜0.50％
から選ばれる１種または２種を含有する請求項１に記載の無方向性電磁鋼板。
【請求項３】
前記成分組成は、さらに、質量％で、
Ca：0.0001〜0.0300％、
Mg：0.0001〜0.0300％および
REM：0.0001〜0.0300％
から選ばれる１種または２種以上を含有する請求項１または２に記載の無方向性電磁鋼板。
【請求項４】
前記成分組成は、さらに、質量％で、
Ni：0.01〜5.00％および
Co：0.01〜5.00％
から選ばれる１種もしくは２種を含有する請求項１、２または３に記載の無方向性電磁鋼板。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれかに記載の成分組成を有するスラブを熱間圧延して熱延板とする熱間圧延工程と、該熱延板をコイルに巻き取る巻取工程と、一回または中間焼鈍を挟む二回の冷間圧延を行って冷延板とする冷間圧延工程と、該冷延板に仕上焼鈍を行う仕上焼鈍工程と、を有し、
前記熱間圧延後の熱延板に800℃〜650℃の間の平均冷却速度が30℃/ｓ以上の冷却を施してから、前記巻き取りを650℃以下で行う無方向性電磁鋼板の製造方法。
【請求項６】
請求項１〜４のいずれかに記載の成分組成を有するスラブを熱間圧延して熱延板とする熱間圧延工程と、該熱延板をコイルに巻き取る巻取工程と、熱延板焼鈍を施した後、一回または中間焼鈍を挟む二回の冷間圧延を行って冷延板とする冷間圧延工程と、該冷延板に仕上焼鈍を行う仕上焼鈍工程と、を有し、
前記熱間圧延後の熱延板に800℃〜650℃の間の平均冷却速度が30℃/ｓ以上の冷却を施してから、前記巻き取りを650℃以下で行い、
前記熱延板焼鈍後に800℃〜650℃の間の平均冷却速度が30℃/ｓ以上の冷却を施す無方向性電磁鋼板の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、無方向性電磁鋼板およびその製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
無方向性電磁鋼板は、例えばモータなどの鉄心材料として広く使用されている、軟磁性材料の一種である。近年、電気機器の高効率化が、世界的な電力節減さらには地球環境保全の動向の中で強く要望されている。このため、回転機あるいは中小型変圧器等の鉄心材料として広く使用されている、無方向性電磁鋼板においても、磁気特性の向上に対する要請がさらに強まってきている。特に、回転機の高効率化が進展する電気自動車用、あるいはコンプレッサ用モータにおいては、その傾向が顕著である。上記の要求に対応するため、従来は、SiやAlなどの合金元素の添加、板厚の低減、表面状態の制御、析出物の制御による粒成長性向上などにより、低鉄損化を図ってきた。【０００３】
たとえば、特許文献１には、Siを1.0％以上、Alを0.7％以上添加し、冷間圧延後の鋼板表面の粗度、仕上焼鈍の雰囲気の水素−水蒸気の分圧比を制御することにより、鋼板表層のAl酸化物層が減少し、鉄損が低減することが開示されている。【０００４】
ところで、最近、モータのリサイクルを図る観点から、使用済みのモータコアを溶解し、鋳物としてモータ枠等に再利用しようという動きがある。特許文献１に開示の電磁鋼板は、Alが添加されているため、これを再利用すると、鋳込み時の溶鋼粘度が増大し、引け巣が生じるという問題がある。そのため、モータコアを鋳物銑としてリサイクルする場合には、Alは実質的に無添加であることが望ましい。【０００５】
実質的にAlが無添加である、鉄損の優れた無方向性電磁鋼板の作製方法としては、特許文献２に開示の技術がある。これは、Si：0.01〜１％、Mn：1.5％以下を添加し、予備脱酸における溶存酸素量を適切に調整することにより、SiO2−MnO−Al2O3系介在物が非延性化し、仕上焼鈍における粒成長性が向上するという技術である。この技術で適用しているSiおよびMnの添加量は比較的少なく、Siおよび／またはMnの添加量増による、さらなる鉄損低減が望まれている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特許第3490048号
【特許文献２】特許第4218136号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は、上記した事情に鑑みてなされたもので、実質的にAlが無添加であり、かつSiおよびMnの添加量の多い鉄損の低い無方向性電磁鋼板と、該無方向性電磁鋼板を容易に製造する方法とを提案することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
発明者らは、上記課題の解決に向けて鋭意検討を重ねた。その結果、Al無添加鋼でSiおよびMnを多く添加した鋼は、熱間圧延後の巻き取り温度を低下してSi-Mn窒化物の析出を抑制することにより、仕上焼鈍時の粒成長性が向上し、鉄損を低減できることを見出し、本発明を開発するに至った。【０００９】
まず、本発明を開発する契機となった実験について説明する。
＜実験１＞
発明者らは、鉄損に優れる無方向性電磁鋼板を開発するべく、Mn量増加による鉄損低減効果に改めて着目し、鉄損に及ぼすMnの影響を調査した。なお、以下の成分組成に関する「％」表示は特に断らない限り「質量％」を意味する。
Ｃ：0.002％、Si：2.0％、Ｐ：0.01％、Ｓ：0.002％、Al：0.001％およびＮ：0.0015％を含有する鋼をベースとし、これらにMnを0.5〜3.0％の範囲で変化させて添加した鋼塊を供試材とした。これらの供試材を熱間圧延して板厚2.0mmの熱延板とした。その際、熱間圧延後の冷却は、800℃〜650℃の間の平均冷却速度を35℃/ｓとして行った。次いで、650℃の温度で巻き取り処理を施した後、1000℃×10ｓの熱延板焼鈍を実施した。なお、熱延板焼鈍後の800〜650℃の間の平均冷却速度は35℃/sとした。その後、冷間圧延して板厚0.25mmの冷延板とし、最後に、20vol％Ｈ2−80vol％Ｎ2雰囲気下で1000℃×10ｓの仕上焼鈍を施した。かくして得られた鋼板の鉄損Ｗ15/50を25cmエプスタイン装置で測定した。【００１０】
図１に、Mn量と鉄損Ｗ15/50との関係を示す。Mn量が1.0％未満ではMn量の増加にともない鉄損が低下するという、従来知見と同様の結果が得られた。しかしながら、Mn量が1.0％以上では、同1.0％未満での鉄損の下降度合（図中の鎖線）に従うことなく、Mn量の増加にともなう鉄損の低下は小さくなってほとんど低下しないことが新たにわかった。この原因を調査するために、仕上焼鈍後の鋼板の断面ミクロ組織を光学顕微鏡で観察したところ、Mn量が1.0％以上の鋼板では、結晶粒径が小さくなることが分かった。また、抽出レプリカ法を用いて透過型電子顕微鏡（TEM）で鋼板の析出物観察を行ったところ、Mn量が1.0％以上の鋼板では、微細なSi−Mn窒化物が多数認められた。なお、本発明におけるSi−Mn窒化物とは、ＥＤＳ（エネルギー分散型Ｘ線分析：Energy dispersive X-ray spectrometry）により得られる原子数比で、ＳｉおよびＭｎの比率の合計が10％以上、Ｎの比率が５％以上となる析出物とする。【００１１】
ここで、前記析出物観察の結果について、図２に、Mn量と平均直径50ｎｍ〜500ｎｍのSi−Mn窒化物の個数密度との関係を示す。Mn量1.0％以上では、Si−Mn窒化物の個数密度が１個/μm3を超えていることが分かった。このことから、鉄損が増加した理由は、Si−Mn窒化物の個数密度の増加にともなう粒成長性の低下により、ヒステリシス損が増加したためと考えられる。【００１２】
＜実験２＞
高Mn鋼のSi−Mn窒化物の個数密度を低減するため、引き続いて、鉄損に及ぼす熱延板の巻き取り温度の影響を調査した。すなわち、Ｃ：0.002％、Si：2.0％、Mn:2.0％、Ｐ：0.02％、Ｓ：0.002％、Al：0.001％およびＮ：0.0015％を含有する鋼塊を供試材とした。この供試材を熱間圧延して板厚2.0mmの熱延板とした。その際、熱間圧延後の冷却は800℃〜650℃の間の平均冷却速度を35℃/ｓとした。次いで、500〜700℃の温度で巻き取り処理を施した後、1000℃×10ｓの熱延板焼鈍を実施した。なお、熱延板焼鈍後の800〜650℃の間の平均冷却速度は35℃/sとした。その後、冷間圧延して板厚0.25ｍｍの冷延板とし、最後に、20vol％Ｈ2−80vol％Ｎ2雰囲気下で1000℃×10ｓの仕上焼鈍を施した。かくして得られた鋼板の鉄損Ｗ15/50を25cmエプスタイン装置で測定した。【００１３】
熱延板の巻き取り温度と鉄損Ｗ15/50との関係を図３に示す。図３に示すとおり、巻き取り温度を650℃以下にすると、鉄損が低下することが分かった。この原因を調査するために、仕上焼鈍後の鋼板の断面ミクロ組織の光学顕微鏡観察を行ったところ、巻き取り処理温度を650℃以下にすると、結晶粒径が大きくなることが分かった。
そこで、抽出レプリカ法を用いてTEMで仕上焼鈍板の析出物の観察を行った。図４に熱延板の巻き取り温度と平均直径50nm〜500nmのSi−Mn窒化物の個数密度との関係を示す。同図に示すように、巻き取り温度を650℃以下にすると、Si−Mn窒化物が１個/μm3以下に減少することがわかる。
以上のとおり、巻き取り温度を650℃以下にすると、Mn量が1.0％以上の場合にあっても巻き取り処理中のSi−Mn窒化物の析出が抑制され、仕上焼鈍における粒成長性を向上できることが分かった。ここで、巻き取り温度を650℃以下にすると、Si−Mn窒化物の析出が抑制される理由は明らかではないが、巻き取り温度を低下することでSiおよびMnの拡散が十分に起こらず、Si−Mn窒化物の析出が起こらなかったためと考えられる。【００１４】
これらの結果から、実質的にAl無添加で、SiおよびMnを多く添加した鋼は、熱間圧延後の巻き取り温度を適切な条件とすることによって、Si−Mn窒化物の析出が抑制され、鉄損が低減することが分かった。本発明は、上記の新規な知見に基づき開発したものである。【００１５】
すなわち、本発明の要旨構成は、次のとおりである。
１．質量％で、
Ｃ：0.0050％以下、
Si：2.0〜6.0％、
Mn：1.0〜3.0％、
Ｐ：0.20％以下、
Ｓ：0.0050％以下、
Ｎ：0.0050％以下および
Al：0.0050％以下
を含有し、残部Feおよび不可避的不純物の成分組成を有し、平均直径50〜500ｎｍのSi−Mn窒化物の個数密度が１個／μｍ3以下であることを特徴とする無方向性電磁鋼板。【００１６】
２．前記成分組成は、さらに、質量％で、
Sn：0.01〜0.50％および
Sb：0.01〜0.50％
から選ばれる１種または２種を含有する前記１に記載の無方向性電磁鋼板。【００１７】
３．前記成分組成は、さらに、質量％で、
Ca：0.0001〜0.0300％、
Mg：0.0001〜0.0300％および
REM：0.0001〜0.0300％
から選ばれる１種または２種以上を含有する前記１または２に記載の無方向性電磁鋼板。【００１８】
４．前記成分組成は、さらに、質量％で、
Ni：0.01〜5.00％および
Co：0.01〜5.00％
から選ばれる１種もしくは２種を含有する前記１、２または３に記載の無方向性電磁鋼板。【００１９】
５．前記１〜４のいずれかに記載の成分組成を有するスラブを熱間圧延して熱延板とする熱間圧延工程と、該熱延板をコイルに巻き取る巻取工程と、一回または中間焼鈍を挟む二回の冷間圧延を行って冷延板とする冷間圧延工程と、該冷延板に仕上焼鈍を行う仕上焼鈍工程と、を有し、
前記熱間圧延後の熱延板に800℃〜650℃の間の平均冷却速度が30℃/ｓ以上の冷却を施してから、前記巻き取りを650℃以下で行うことを特徴とする無方向性電磁鋼板の製造方法。【００２０】
６．前記１〜４のいずれかに記載の成分組成を有するスラブを熱間圧延して熱延板とする熱間圧延工程と、該熱延板をコイルに巻き取る巻取工程と、熱延板焼鈍を施した後、一回または中間焼鈍を挟む二回の冷間圧延を行って冷延板とする冷間圧延工程と、該冷延板に仕上焼鈍を行う仕上焼鈍工程と、を有し、
前記熱間圧延後の熱延板に800℃〜650℃の間の平均冷却速度が30℃/ｓ以上の冷却を施してから、前記巻き取りを650℃以下で行い、
前記熱延板焼鈍後に800℃〜650℃の間の平均冷却速度が30℃/ｓ以上の冷却を施すことを特徴とする無方向性電磁鋼板の製造方法。
【発明の効果】
【００２１】
本発明によれば、実質的にAlが無添加でありながら、SiおよびMnの添加量を多くすることによって低鉄損を実現した無方向性電磁鋼板を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２２】
【図１】Mn量と鉄損Ｗ15/50との関係を示すグラフである。
【図２】Mn量と平均直径50ｎｍ〜500ｎｍのSi−Mn窒化物の個数密度の関係を示すグラフである。
【図３】熱延板の巻き取り温度と鉄損Ｗ15/50との関係を示すグラフである。
【図４】熱延板の巻き取り温度と平均直径50nm〜500nmのSi−Mn窒化物の個数密度との関係を示すグラフである。
【発明を実施するための形態】
【００２３】
次に、本発明の無方向性電磁鋼板における成分組成について説明する。
Ｃ：0.0050％以下
Ｃは、製品板における磁気時効を引き起こすため0.0050％以下に制限する。好ましくは、0.0040％以下である。一方、Ｃを0.0005％未満に抑制するには、多大の製造コストを要するため、コスト面からはＣ量を0.0005％以上とすることが好ましい。
【００２４】
Si：2.0〜6.0％、
Siは、鋼の固有抵抗を高め、鉄損低減に有効な元素であるため、2.0％以上で積極的に添加する。ただし、過剰に添加すると著しく脆化して冷間圧延することが困難となるため、上限は6.0％とする。好ましくは2.5〜4.0％の範囲である。
【００２５】
Mn：1.0〜3.0％
Mnは、鋼の固有抵抗を高め、鉄損低減に有効な元素であるため、1.0％を超えて積極的に添加する。しかし、3.0％を超えると冷間圧延性が低下したり、磁束密度の低下を招いたりするため、上限は3.0％とする。好ましくは1.0〜2.0％の範囲である。より好ましくは、1.2％以上、さらに好ましくは1.4％以上である。
【００２６】
Ｐ：0.20％以下
Ｐは、固溶強化能に優れるため、硬さ調整、打抜加工性の改善に有効な元素である。0.20％を超えると、脆化が顕著となるため、上限は0.20％とする。好ましくは0.050％以下である。一方、Ｐを0.0005％未満に抑制するには、多大の製造コストを要するため、コスト面からはＰ量を0.0005％以上とすることが好ましい。
【００２７】
Ｓ：0.0050％以下
Ｓは、硫化物を生成して、鉄損を増加させる有害元素であるため、上限を0.0050％とする。好ましくは0.0040％以下である。一方、Ｓを0.0001％未満に抑制するには、多大の製造コストを要するため、コスト面からはＳ量を0.0001％以上とすることが好ましい。
【００２８】
Ｎ：0.0050％以下
Ｎは、上記したようにSi−Mn窒化物を生成して、鉄損を増加させる有害元素であるため、上限を0.0050％とする。好ましくは0.0030％以下で、さらに好ましくは0.0015％以下である。一方、Ｎを0.0001％未満に抑制するには、多大の製造コストを要するため、コスト面からはＮ量を0.0001％以上とすることが好ましい。
【００２９】
Al：0.0050％以下
Alは、リサイクルの観点から実質無添加であることが望ましく、また、微量に存在すると、微細なAlNを形成して粒成長を阻害し、磁気特性を害するため、上限を0.0050％とする。好ましくは0.0030％以下である。
なお、上記の実質無添加であるとは、ゼロを含み、不可避混入分を許容する範囲でAlが存在することを意味する。
【００３０】
Sn、Sb：0.01〜0.50％
SnおよびSbは、集合組織を改善するため、磁束密度向上に有効な元素である。両元素とも、0.01％以上添加しなければ効果がないが、0.50％を超えて添加しても、上記効果が飽和する。よって、それぞれ0.01〜0.50％の範囲とする。好ましくは0.03〜0.50％の範囲である。
【００３１】
Ca、Mg、REM：0.0001〜0.0300％
Ca、MgおよびREMは、いずれもＳを固定し、硫化物の微細析出を抑制するため、鉄損低減に有効な元素である。いずれも0.0001％以上添加しなければ効果がないが、0.0300％を超えて添加しても、上記効果は飽和する。よって、それぞれ0.0001〜0.0300％の範囲とする。好ましくは0.0020〜0.0300％の範囲である。
【００３２】
Ni、Co：0.01〜5.00％
Ni、Coは鋼の固有抵抗を高め、鉄損低減に有効な元素である。両元素とも、0.01％以上添加しなければ効果がないが、5.00％超えて添加すると、合金コストが上昇する。よって、それぞれ0.01〜5.00％の範囲とする。好ましくは0.05〜5.00％の範囲である。
【００３３】
本発明の無方向性電磁鋼板は、上記成分以外の残部は、Feおよび不可避的不純物である。ただし、本発明の効果を阻害しない範囲内であれば、他の成分の含有を拒むものではない。
【００３４】
本発明では、鋼板内における平均直径50ｎｍ〜500ｎｍのSi−Mn窒化物の個数密度を１個／μｍ3以下に抑える。個数密度が１個／μｍ3を超えると、仕上げ焼鈍板の鉄損が十分に低下しない。好ましくは、0.8個／μｍ3以下、より好ましくは、0.7個／μｍ3以下である。
ここで、Si−Mn窒化物は、抽出レプリカ法を用いてTEMで観察する。その際、Si−Mn窒化物の直径および数が偏らない程度の視野で計測する。具体的には、10000倍以上の視野にて1000μｍ2の範囲の観察を行うことが好ましい。この観察において、磁壁移動に大きな影響を及ぼす直径50nm〜500nmのSi−Mn窒化物を対象とし、形状が等方的でないものについては長径と短径の平均をそのSi−Mn窒化物の直径とする。Si−Mn窒化物の個数密度はレプリカ作製過程における電解工程で試料表面を通電した全電荷が、Feの２価イオンに電解されるのに消費され，電解時に残滓として残る析出物がすべてレプリカ上に補足されるとして計算する。本発明者らの通常のレプリカ作製においては試料表面積において３Ｃ／ｃｍ2の電気量で電解を行うので、試料表面から約1.1μmの厚さ内にある析出物がレプリカ上で観察される。
【００３５】
次に、本発明の無方向性電磁鋼板の製造方法について述べる。
本発明の無方向性電磁鋼板は、その製造に用いる鋼素材として、上記した成分組成を有するものを用い、かつ熱間圧延後の冷却条件および巻き取り温度が規定の範囲内であれば、公知の無方向性電磁鋼板の製造方法を用いて製造することができる。例えば、転炉あるいは電気炉などの精錬プロセスで上記所定の成分組成に調整した鋼を溶製し、脱ガス設備等で二次精錬し、連続鋳造して鋼スラブとした後、熱間圧延し、必要に応じて熱延板焼鈍した後、酸洗し、冷間圧延し、仕上焼鈍し、さらに歪取焼鈍する方法を採用することができる。
【００３６】
上記熱間圧延を施した熱延板の板厚は、1.0〜5.0mmとすることが好ましい。板厚が1.0mm未満では熱間圧延での圧延トラブルが増加し、一方、5.0mm超えでは、次工程の冷延圧下率が高くなり過ぎ、集合組織が劣化するからである。
【００３７】
ここで、熱間圧延後の冷却は800℃〜650℃の間の平均冷却速度を30℃/ｓ以上とすることが肝要である。なぜなら、平均冷却速度が30℃/ｓ未満の場合、熱延後の冷却中にSi-Mn窒化物が多く析出し、鉄損が増加するためである。一方、冷却歪みによる変形を抑制する観点からは、800℃〜650℃の間の平均冷却速度を300℃/ｓ以下とすることが好ましい。
【００３８】
熱間圧延後の平均冷却速度を高めるには、例えば、水温を30℃以下とした冷却水を熱間圧延後のランナウトテーブル上で鋼板に噴霧する等の方法があり、さらに冷却速度を高めるため、鋼板上で水膜を作らないように冷却水のノズルは異なる向きで交互に配置することが好ましい。
【００３９】
上記の冷却を施した熱延板は、コイルに巻き取るが、このコイルとする巻き取り温度は650℃以下とする必要があり、600℃以下とするとより好ましく、さらに好ましくは550℃以下である。なぜなら、巻き取り温度の低減に伴いSi-Mn窒化物の析出が低下し、特に550℃以下となると析出がほとんど認められなくなるためである。一方、300℃未満では窒化物の析出量は変わらなくなり、設備能力が過剰となることから巻き取り温度を300℃以上とすることが好ましい。
【００４０】
なお、熱延板には、必要に応じて熱延板焼鈍を施してもよい。ただし、熱延板焼鈍を施さないほうが本発明の効果は顕著に現れる。熱延板焼鈍によりSi−Mn窒化物が熱延板焼鈍後の冷却過程で析出し易いためである。
熱延板焼鈍を施す場合には、均熱温度は900〜1200℃の範囲とするのが好ましい。すなわち、均熱温度が900℃未満であると、熱延板焼鈍の効果が十分に得られないため、磁気特性が向上せず、一方、1200℃を超えると、コスト的に不利となる他、スケール起因の表面疵が発生する。熱延板焼鈍後はSi−Mn窒化物の析出を抑制するため、前記のとおり、800℃〜650℃までの冷却速度を30℃/ｓ以上とする冷却を施す。
【００４１】
次に、熱延板もしくは熱延焼鈍板の冷間圧延は、１回または中間焼鈍を挟む２回以上とするのが好ましい。特に、最終の冷間圧延は、板温が200℃程度の温度で圧延する温間圧延とすることは、磁束密度を向上する効果が大きいので、設備上や生産制約上、コスト的に問題がければ、温間圧延とするのが好ましい。
なお、上記冷延板の板厚（最終板厚）は、0.1〜0.5mmの範囲とするのが好ましい。なぜなら、0.1mm未満では、生産性が低下し、一方、0.5mm超えでは鉄損の低減効果が小さいからである。
【００４２】
上記最終板厚とした冷延板に施す仕上焼鈍は、連続焼鈍炉で、700〜1200℃の温度で、１〜300秒間均熱するのが好ましい。均熱温度が700℃未満では、再結晶が十分に進行せず良好な磁気特性が得られないことに加え、連続焼鈍における板形状の矯正効果が十分に得られない。一方、1200℃を超えると、結晶粒が粗大化し、靭性が低下するからである。また、均熱時間が１秒未満では結晶粒径の制御が難しくなり、300秒を超えると、生産性が低下するからである。
【００４３】
上記仕上焼鈍後の鋼板は、その後、層間抵抗を高めて鉄損を低減するため、鋼板表面に絶縁被膜を被成するのが好ましい。特に、良好な打抜き性を確保したい場合には、樹脂を含有する半有機の絶縁被膜を適用することが望ましい。
【００４４】
絶縁被膜を被成した無方向性電磁鋼板は、ユーザーにおいて、さらに歪取焼鈍を施してから使用してもよいし、歪取焼鈍を施さずにそのまま使用してもよい。また、ユーザーにおいて打抜加工を施した後に、歪取焼鈍を施してもよい。なお、上記歪取焼鈍は、750℃×２時間程度の条件で行うのが一般的である。
【実施例１】
【００４５】
転炉−真空脱ガス処理の精錬プロセスにて、表１に示す成分組成を有するNo.１〜51の鋼を溶製し、連続鋳造法でスラブとした後、スラブを1140℃で１時間加熱し板厚2.0mmまで熱間圧延を行い、表２に示す条件で熱間圧延後の冷却および巻き取り処理を行った。引き続き、上記熱延板に、1000℃×30秒の熱延板焼鈍を施した後、該鋼板を酸洗し、板厚0.25mmまで冷間圧延を行った。なお、熱延板焼鈍後の800〜650℃の平均冷却速度は32℃/ｓとした。その後、20vol％Ｈ2−80vol％Ｎ2雰囲気下で1000℃×10ｓの仕上焼鈍を施し、鋼板に絶縁被膜を塗布して無方向性電磁鋼板とした。最後に、鉄損Ｗ15/50を30mm×280mmのエプスタイン試験片を用いて25cmエプスタイン装置で評価し、さらに仕上焼鈍板のSi−Mn窒化物の個数密度を、抽出レプリカ法を用いてTEMで測定した。その結果を表２に示す。なお、Si−Mn窒化物の個数密度は、10000倍で1000μｍ2の範囲の視野を観察したときに存在していたSi−Mn窒化物の個数から算出した。【００４６】
表２から、鋼素材の成分組成と巻き取り処理条件を本発明の範囲に制御することにより、鉄損に優れる無方向性電磁鋼板を容易に得られることがわかる。【００４７】
【表１】
2018097006.tif 000002
【００４８】
【表２】
2018097006.tif 000003
【実施例２】
【００４９】
転炉−真空脱ガス処理の精錬プロセスで、表１で製造したNo.１〜51のスラブを、熱延板焼鈍をせず、その他は実施例１と同様の処理を施して無方向性電磁鋼板とした。最後に、鉄損Ｗ15/50を30mm×280mmのエプスタイン試験片を用いて25cmエプスタイン装置で評価し、さらに仕上焼鈍板のSi-Mn窒化物の個数密度を、実施例１と同様の抽出レプリカ法を用いてTEMで測定した。その結果を表３に示す。【００５０】
表３から、鋼素材の成分組成と巻き取り処理条件を本発明の範囲に制御することにより、鉄損に優れる無方向性電磁鋼板を容易に得られることがわかる。【００５１】
【表３】
2018097006.tif 000004
【図１】
2018097006.tif 000005
【図２】
2018097006.tif 000006
【図３】
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【図４】
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【手続補正書】
【提出日】平成30年6月5日(2018.6.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
質量％で、
Ｃ：0.0050％以下、
Si：2.0〜6.0％、
Mn：1.0〜3.0％、
Ｐ：0.20％以下、
Ｓ：0.0050％以下、
Ｎ：0.0050％以下および
Al：0.0050％以下
を含有し、残部Feおよび不可避的不純物の成分組成を有し、平均直径50〜500ｎｍのSi−Mn窒化物の個数密度が１個／μｍ3以下である無方向性電磁鋼板。
【請求項２】
前記成分組成は、さらに、質量％で、
Sn：0.01〜0.50％および
Sb：0.01〜0.50％
から選ばれる１種または２種を含有する請求項１に記載の無方向性電磁鋼板。
【請求項３】
前記成分組成は、さらに、質量％で、
Ca：0.0001〜0.0300％、
Mg：0.0001〜0.0300％および
REM：0.0001〜0.0300％
から選ばれる１種または２種以上を含有する請求項１または２に記載の無方向性電磁鋼板。
【請求項４】
前記成分組成は、さらに、質量％で、
Ni：0.01〜5.00％および
Co：0.01〜5.00％
から選ばれる１種もしくは２種を含有する請求項１、２または３に記載の無方向性電磁鋼板。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれかに記載の成分組成を有するスラブを熱間圧延して熱延板とする熱間圧延工程と、該熱延板をコイルに巻き取る巻取工程と、一回または中間焼鈍を挟む二回の冷間圧延を行って冷延板とする冷間圧延工程と、該冷延板に仕上焼鈍を行う仕上焼鈍工程と、を有し、
前記熱間圧延後の熱延板に800℃〜650℃の間の平均冷却速度が30℃/ｓ以上の冷却を施してから、前記巻き取りを650℃以下で行う、平均直径50〜500ｎｍのSi−Mn窒化物の個数密度が１個／μｍ3以下である無方向性電磁鋼板の製造方法。
【請求項６】
請求項１〜４のいずれかに記載の成分組成を有するスラブを熱間圧延して熱延板とする熱間圧延工程と、該熱延板をコイルに巻き取る巻取工程と、熱延板焼鈍を施した後、一回または中間焼鈍を挟む二回の冷間圧延を行って冷延板とする冷間圧延工程と、該冷延板に仕上焼鈍を行う仕上焼鈍工程と、を有し、
前記熱間圧延後の熱延板に800℃〜650℃の間の平均冷却速度が30℃/ｓ以上の冷却を施してから、前記巻き取りを650℃以下で行い、
前記熱延板焼鈍後に800℃〜650℃の間の平均冷却速度が30℃/ｓ以上の冷却を施す、平均直径50〜500ｎｍのSi−Mn窒化物の個数密度が１個／μｍ3以下である無方向性電磁鋼板の製造方法。
【国際調査報告】
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