(57)【要約】      （修正有）【課題】金属材質であるシール面が互いに当接するときに発生する補正運動および調節運動により、真空封止性が向上し、寿命が長く延びるシーリングディスクを提供する。【解決手段】開放位置または閉鎖位置に往復に移動することにより、全金属弁の弁口を開き、又は封止することが可能な真空封止用シーリングディスク１０であり、一体的に連接する、台座２０と、シール板３０と、を備える。シーリングディスク１０のシール板３０に第１のシール面３２が形成されており、シーリングディスク１０が閉鎖位置にある場合には、第１のシール面３２が全金属製の真空弁の弁口に直接当接する。【選択図】図３
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【実用新案登録請求の範囲】
【請求項１】
開放位置または閉鎖位置に往復に移動して、弁体の弁口を開き、又は封止することが可能なシーリングディスクにおいて、
外縁に第１のシール面を有し、前記閉鎖位置にある場合には、前記第１のシール面だけで、前記弁体の前記弁口における第２のシール面に当接し、シール板の前記第１のシール面は、力を受けると回転して、前記第２のシール面に当接して前記弁口を封止する状態を保持し、前記シール板の前記第１のシール面と、弁体の前記弁口における前記第２のシール面とは、金属材質であることを特徴とする、
シーリングディスク。
【請求項２】
前記シール板は、第１の連接箇所に台座が環接されており、前記第１の連接箇所の環状面に対して、第１のなす角で前記第１の連接箇所から離れる方向へ伸びる第１のウィングプレートと、第２の連接箇所が前記第１のウィングプレートに環接されており、前記第１のウィングプレートに対して、第２のなす角で前記台座の第１の面から離れる方向へ伸びることにより、前記第１の連接箇所の前記環状面との第３のなす角を成し、その端縁に前記第１のシール面が位置する第２のウィングプレートと、を備えることを特徴とする、請求項１に記載のシーリングディスク。
【請求項３】
前記シール板は金属材質からなり、前記弁体は金属製の真空弁であり、前記シール板の前記第１のシール面は、前記力を受けると回転して前記第２のシール面に当接して、前記弁口を封止して真空状態を保持することを特徴とする、請求項２に記載のシーリングディスク。
【請求項４】
前記台座はキャリアに連接されており、前記力は、閉じ力と、大気圧力と、を含み、前記閉じ力は、前記弁体の内部から、前記キャリアを経由して、前記第２のウィングプレートと前記第１のウィングプレートを連接する前記第２の連接箇所および／又は前記台座とに加えられ、前記大気圧力は、前記弁体の外部から、前記シール板に加えられることを特徴とする、請求項３に記載のシーリングディスク。
【請求項５】
前記力は、閉じ力と、大気圧力と、を含み、前記閉じ力は、前記弁体の内部から、前記台座に直接加えられて、前記台座を経由して、前記シール板に間接的に加えられ、前記大気圧力は、前記弁体の外部から、前記シール板に加えられることを特徴とする、請求項３に記載のシーリングディスク。
【請求項６】
前記弁体は、全金属製の超高真空弁であることを特徴とする、請求項３に記載のシーリングディスク。
【請求項７】
前記第１のなす角の角度は、５度〜４５度の範囲であり、前記第３のなす角の角度は、５度〜４５度の範囲であり、前記第１のなす角の角度、前記第２のなす角の角度および前記第３のなす角の角度の合計は、合わせて１８０度であることを特徴とする、請求項２に記載のシーリングディスク。
【請求項８】
前記シール板の前記第１のシール面は、前記力により変形して回転して、前記第２のシール面に当接して、前記弁口を封止する状態を保持することを特徴とする、請求項５に記載のシーリングディスク。
【請求項９】
前記シール板の前記第１のシール面は、ポリッシュ処理を行った面であることを特徴とする、請求項５に記載のシーリングディスク。
【請求項１０】
前記台座は、前記第１の面に対向する第２の面を有し、前記第２の面に位置決め部材が設けられており、前記位置決め部材により、前記シーリングディスクを前記弁体に組付ける過程中に、前記シーリングディスクの前記弁体の前記弁口に対する位置を位置決めすることを特徴とする、請求項２に記載のシーリングディスク。
【考案の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本考案は、シーリングディスクに関し、特に、真空封止用のシーリングディスクに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来の真空弁は、Ｏリングというゴム製の弾性材料を、弁板と弁体との間にある封止要素とすることが一般的である。Ｏリングは、押さえによる変形により、封止効果を達成するため、封止性があまり高くない弁体にしか適用できない。このため、このような封止要素は、高真空システムに適用することができず、高温環境にも適用することができない。
【０００３】
また、ある高真空システムは、ゴム製の封止要素の代わりに、全金属弁を採用する。しかし、これは二つの金属層が互いに当接することにより封止面を形成するものであるが、加える閉じ力が、弁の開閉回数の増加に従って、増加しなければならないため、寿命が短縮する。また、金属層が加熱または冷却により、寸法が変化することで、二つの金属層が相対運動してせん断変形を発生して、封止面が破壊される虞がある。
【考案の概要】
【考案が解決しようとする課題】
【０００４】
上記に鑑み、本考案の主な目的は、超高真空システムに適用することが可能なシーリングディスクを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本考案に係るシーリングディスクは、開放位置または閉鎖位置に往復に移動して、真空弁の弁口を開き、又は封止することが可能なシーリングディスクにおいて、第１の面を有する台座と、台座と環接し、シーリングディスクが閉鎖位置にある場合には、真空弁の内部からの閉じ力と、真空弁の外部からの大気圧力と、を同時に受けることにより、変形が発生して、シール板の第１のシール面は、閉じ力および大気圧力により回転して、真空弁の弁口における第２のシール面に当接して、弁口を超高真空に封止する状態を保持し、シール板の第１のシール面と、弁体の弁口における第２のシール面とは、金属材質であるシール板と、を少なくとも備え、シール板は、第１の連接箇所が台座と環接し、第１の連接箇所の環状面に対して、第１のなす角で第１の連接箇所から離れる方向へ伸びる第１のウィングプレートと、第２の連接箇所が第１のウィングプレートと環接し、第１のウィングプレートに対して、第２のなす角で台座の第１の面から離れる方向へ伸びることにより、第１の連接箇所の環状面との第３のなす角を成し、その端縁に第１のシール面が位置し、シール板の第１のシール面は、円弧状面または球状面である第２のウィングプレートと、を備えることを特徴とする。
【０００６】
本考案に係るシーリングディスクは、シール板は、曲がった板、波板または弧状板であり、第１のなす角の角度は、５度〜４５度の範囲であり、第３のなす角の角度は、５度〜４５度の範囲であり、第１のなす角の角度、第２のなす角の角度および第３のなす角の角度の合計は、合わせて１８０度であることを特徴とする。
【０００７】
本考案に係るシーリングディスクは、閉じ力は、台座に直接に加えられて、台座を経由してシール板に間接に加えられ、又は閉じ力は、第２のウィングプレートと第１のウィングプレートとを連接する第２の連接箇所と、台座とに、同時に直接に加えられることを特徴とする。
【０００８】
本考案に係るシーリングディスクは、台座は、第１の面に対向する第２の面を有し、第２の面に位置決め部材が設けられており、位置決め部材により、シーリングディスクを真空弁に組付ける過程中に、シーリングディスクの真空弁の弁口に対する位置を位置決めすることを特徴とする。
【０００９】
本考案に係るシーリングディスクは、シール板の第１のシール面は、ポリッシュ処理を行った面であり、シール板は、台座と一体化になるように台座に環接されており、又は台座に脱着可能に環接されていることを特徴とする。
【００１０】
本考案に係るシーリングディスクは、真空弁は、全金属製の高周波マスクゲート弁（Ｈｉｇｈ  ｆｒｅｑｕｅｎｃｙ  ｍａｓｋ  ｇａｔｅ  ｖａｌｖｅ）であることを特徴とする。
【００１１】
本考案に係るシーリングディスクは、開放位置または閉鎖位置に往復に移動して、弁体の弁口を開き、又は封止することが可能なシーリングディスクにおいて、その外縁は第１のシール面を有し、閉鎖位置にある場合には、第１のシール面だけで、弁体の弁口における第２のシール面に当接し、シール板の第１のシール面は、力を受けると回転して、第２のシール面に当接して弁口を封止する状態を保持し、シール板の第１のシール面と、弁体の弁口における第２のシール面とは、金属材質であることを特徴とする。
【００１２】
本考案に係るシーリングディスクは、シール板は、第１の連接箇所に台座が環接されており、第１の連接箇所の環状面に対して、第１のなす角で第１の連接箇所から離れる方向へ伸びる第１のウィングプレートと、第２の連接箇所が第１のウィングプレートに環接されており、第１のウィングプレートに対して、第２のなす角で台座の第１の面から離れる方向へ伸びることにより、第１の連接箇所の環状面との第３のなす角を成し、その端縁に第１のシール面が位置する第２のウィングプレートと、を備えることを特徴とする。
【００１３】
本考案に係るシーリングディスクは、シール板は金属材質を採用し、弁体は金属製の真空弁であり、シール板の第１のシール面は、力を受けると回転して第２のシール面に当接して、弁口を封止して真空状態を保持することを特徴とする。
【００１４】
本考案に係るシーリングディスクは、台座はキャリアに連接されており、力は、閉じ力と、大気圧力と、を含み、閉じ力は、弁体の内部から、キャリアを経由して、第２のウィングプレートと第１のウィングプレートを連接する第２の連接箇所および／又は台座とに加えられ、大気圧力は、弁体の外部から、シール板に加えられることを特徴とする。
【００１５】
本考案に係るシーリングディスクは、力は、閉じ力と、大気圧力と、を含み、閉じ力は、弁体の内部から、台座に直接に加えられて、台座を経由して、シール板に間接に加えられ、大気圧力は、弁体の外部から、シール板に加えられることを特徴とする。
【００１６】
本考案に係るシーリングディスクは、弁体は、全金属製の超高真空弁であることを特徴とする。
【００１７】
本考案に係るシーリングディスクは、第１のなす角の角度は、５度〜４５度の範囲であり、第３のなす角の角度は、５度〜４５度の範囲であり、第１のなす角の角度、第２のなす角の角度および第３のなす角の角度の合計は、合わせて１８０度であることを特徴とする。
【００１８】
本考案に係るシーリングディスクは、シール板の第１のシール面は、力により変形して回転して、第２のシール面に当接して、弁口を封止する状態を保持することを特徴とする。
【００１９】
本考案に係るシーリングディスクは、シール板の第１のシール面は、ポリッシュ処理を行った円弧状面または球状面であることを特徴とする。
【００２０】
本考案に係るシーリングディスクは、台座は、第１の面に対向する第２の面を有し、第２の面に位置決め部材が設けられており、位置決め部材により、シーリングディスクを真空弁に組付ける過程中に、シーリングディスクの弁体の弁口に対する位置を位置決めすることを特徴とする。
【考案の効果】
【００２１】
本考案に係るシーリングディスクには、次のような効果がある。
（１）真空弁の弁口にシール板の第１のシール面を直接当接することにより、真空封止という効果を達成することができ、更に、超高真空封止という効果を達成することもでき、パッキンやガスケットを別に利用する必要がない。
【００２２】
（２）超高真空環境において、漏れが発生しないため、仕様が厳しく要請される弁体（例えば、全金属の高周波マスクゲート弁）に適用することができる。
【００２３】
（３）超高真空環境においても、真空弁の内部からの閉じ力と、真空弁の外部からの大気圧力とが、シーリングディスクに同時に加えられるため、高い真空封止性を保持することができる。
【００２４】
（４）シール板の第１のシール面は、第２のシール面に対して回転し、第２のシール面と持続に接触することにより、金属材質であるシール面が互いに当接するときの潤滑効果が増加し、補正運動および調節運動が発生するため、封止性が増加し、寿命が長く延びる。
【図面の簡単な説明】
【００２５】
【図１】本考案の実施形態に係るシーリングディスクを上方から見た斜視図である。
【図２】本考案の実施形態に係るシーリングディスクを下方から見た斜視図である。
【図３】本考案の実施形態に係るシーリングディスクを示す断面図である。
【図４】本考案の実施形態に係るシーリングディスクが開放位置にある状態を示す断面図である。
【図５】本考案の実施形態に係るシーリングディスクが閉鎖位置にある状態を示す断面図である。
【考案を実施するための形態】
【００２６】
以下、本考案の実施の形態を図面に基づいて説明する。本考案の実施形態の図面における各部材の比例およびレイアウトは、説明を容易に理解するために示され、実際の比例およびレイアウトではない。また、理解を便利にするために、下記の実施形態では同じ部品について、同じ符号を付して説明する。
【００２７】
本考案に係るシーリングディスクは、真空弁の開放位置または閉鎖位置を往復して移動することにより、真空弁の弁口を開き、又は封止することができる。
本考案が適用可能な真空弁は、全金属弁（Ａｌｌ−Ｍｅｔａｌ  Ｖａｌｖｅ）であり、例えば、全金属の高周波マスクゲート弁を例にして説明する。全金属の高周波マスクゲート弁は、真空度が超高真空クラスに達成することができ、これにより、本考案に係るシーリングディスクの高封止性および構造強度を説明することができる。しかし、本考案が適用可能な真空弁は、ゲートバルブに限定されず、例えばアングルバルブ、振り子バルブ、各種バルブなどにも適用可能である。上記の真空弁は、例えば金属弁、すなわち、金属材質を採用した弁であり、全金属弁であることが好ましい。弁口は、金属材質を採用することが好ましい。本考案に係るシーリングディスクは、実際に使用する場合によって、各種の材質を採用する弁体に適用することもできるため、金属弁に限定されない。本考案に係るシーリングディスクは、例えば片側シール型、又は両側シール型である。片側シール型のシーリングディスクを例にして説明する。片側シール型のシーリングディスクは、一体的に連接する、シール板と、台座と、を備える。本考案に係るシーリングディスクは、両側シール型である場合に、シール板で構成される。
【００２８】
具体的には、図１から図５に示すように、本考案の実施形態では、片側シール型のシーリングディスクを例に説明する。本考案に係るシーリングディスク１０は、真空弁１００の弁口１０２の開き又は封止に適用することができる。真空弁１００は、例えば全金属の高周波マスクゲート弁であるが、これに限定されない。
本考案に係るシーリングディスク１０は、一体的に連接する、台座２０と、シール板３０と、を備える。台座２０とシール板３０との材質は、例えばステンレスやバネ鋼などの金属材料を採用するが、これらに限定されない。シーリングディスク１０の台座２０の第１の側にある第１の面２２は、キャリア１１０と連接するためのものである。キャリア１１０は、例えば真空弁１００と連接する駆動要素（図示せず）であり、シーリングディスク１０を、開放位置または閉鎖位置に往復に移動することにより、真空弁１００の弁口１０２を開き、又は封止する。しかし、本考案はこれに限定されない。本考案は、例えばキャリア１１０を省略してもよい。すなわち、シーリングディスク１０は、選択的に真空弁１００の駆動要素と直接に連接してもよい。一方、キャリア１１０は、例えば、真空弁１００の駆動要素の部件でもよい。
台座２０は、例えば円柱体であるが、これに限定されない。キャリア１１０は、例えばキャリアプレート、シャフト、接続ロッドなどのシーリングディスク１０と連接する連接部材であるが、これに限定されない。キャリア１１０は、例えば、ネジによる接続により、シーリングディスク１０の台座２０の第１の面２２と連接するため、台座２０の第１の面２２は、例えば、一つ又は複数のねじ穴２１を有するが、これに限定されない。ねじ穴２１の深さは、台座２０を貫通しない程度であることが好ましい。また、キャリア１１０の面には、例えば、対応する数量を有するねじ穴（図示せず）が設けられている。キャリア１１０がキャリアプレートであることを例にして説明すると、キャリア１１０は、台座２０の第１の側を収容する収容空間１１４を有することが好ましい。キャリア１１０の収容空間１１４の面は、台座２０の第１の面２２と接触することが好ましい。
【００２９】
一方、シーリングディスク１０の台座２０の第２の側は、第１の面２２に対向する第２の面２４を有する。台座２０の第２の面２４には、位置決め部材２６が選択的に設けられている。位置決め部材２６は、例えば位置決め溝であるが、これに限定されない。
シーリングディスク１０の台座２０の第２の面２４に位置決め部材２６が設けられている場合には、真空弁１００にシーリングディスク１０を組付ける過程中に、例えば、ジグなどの工具を位置決め部材２６に差し込むことにより、シーリングディスク１０の真空弁１００の弁口１０２に対する位置を位置決めすることができる。例として、位置決め部材２６の中心軸線は、台座２０及びシーリングディスク１０の中心軸線と同じであることが好ましい。シーリングディスク１０により真空弁１００の弁口１０２を封止するときに、シーリングディスク１０の中心軸線は、例えば弁口１０２の中心軸線と同軸である。
【００３０】
本考案の実施形態において、シーリングディスク１０のシール板３０は、台座２０の第１の側または第２の側の側辺に一体的に環接されている。シール板３０は、台座２０の第２の側の側辺に一体的に環接されていることが好ましい。
シール板３０は第１のシール面３２を有する。第１のシール面３２は、シール板３０のいずれかの位置に位置する。第１のシール面３２は、シール板３０の外縁に位置することが好ましい。弁口１０２は第２のシール面１０４を有する。第２のシール面１０４は、弁口１０２の内側に位置することが好ましい。シーリングディスク１０のシール板３０の断面形態は、例えば曲がった板、波板または弧状板であり、これにより、構造の強度および剛性を増加することができ、すなわち、構造の靭性を増加することができる。これにより、シーリングディスク１０は強度および剛性を両立する靭性構造を得ることができるが、本考案はこれに限定されない。シール板３０の断面形態は、例えば平板である。
本考案に係るシーリングディスク１０が真空封止に適用される場合には、本考案に係るシーリングディスク１０は、真空弁１００の内部から、シーリングディスク１０に加えられる閉じ力Ｆを受けることができるとともに、真空弁１００が真空状態にあるときに、真空弁１００の外部から、シーリングディスク１０に加えられる大気圧力を受けることもできる。真空弁１００の真空度が高いほど、上記の閉じ力Ｆおよび大気圧力は高い。例として、シーリングディスク１０が厚さ約１．８ｍｍのステンレスである場合には、受けられる閉じ力Ｆが約５００Ｋｇであり、真空になるときに、真空度約７．３３×１０−１１ｔｏｒｒ程度に達することができる。
本考案は超伝導加速器の電子ビームチャネルに取り付けられた全金属高周波マスクゲート弁に適用可能なため、本考案に係るシーリングディスク１０の各機能および指標（例えば密封性、清潔度および構造強度など）は、確実に超高真空弁の仕様の要求に満足することができる。
【００３１】
本考案に係るシーリングディスク１０のシール板３０は、例えば、一体的に連接する、第１のウィングプレート３４と、第２のウィングプレート３６と、を備える。第１のウィングプレート３４及び／又は第２のウィングプレート３６は、例えば平板、湾曲板、又は曲げ板であるが、これに限定されない。平板を例とすると、第１のウィングプレート３４の傾斜方向は第２のウィングプレート３６と異なる。
第１のウィングプレート３４は、第１の連接箇所３５で台座２０と環接し、第１の連接箇所３５の環状面に対して、第１のなす角Ａ１で第１の連接箇所３５から離れる方向へ伸びる。第２のウィングプレート３６は、第２の連接箇所３７で第１のウィングプレート３４と環接し、第１のウィングプレート３４に対して、第２のなす角Ａ２で台座２０の第１の面２２から離れる方向へ伸びる。これにより、第２のウィングプレート３６と第１の連接箇所３５の環状面とは、第３のなす角Ａ３を成す。第１のシール面３２は、第２のウィングプレート３６の端縁に位置する。
【００３２】
キャリア１１０がシーリングディスク１０の台座２０の第１の面２２と連接し、閉じ力Ｆがキャリア１１０に加えられる場合に、閉じ力は、例えばキャリア１１０を経由して、台座２０の第１の面２２及び／又はシール板３０に加えられて、シーリングディスク１０が閉鎖位置にあり、シール板３０の第１のシール面３２で、真空弁１００の弁口１０２における第２のシール面１０４に当接する。第１のシール面３２は、例えば第２のシール面１０４とラインコンタクトする。
第１のシール面３２の表面の形態は、例えば円弧状面または球状面であるが、これに限定されない。第２のシール面１０４は、例えば斜面、円弧状面または球状面であるが、これに限定されない。シーリングディスク１０が開放位置から閉鎖位置に移動すると、第１のシール面３２は第２のシール面１０４に接触し、真空弁１００の内部から加えられる閉じ力Ｆにより、シーリングディスク１０が若干弾性的に変形しても、第１のシール面３２は回転して（弁口１０２に向き、又は弁口１０２から離れる方向で）、第２のシール面１０４に当接する。
【００３３】
一方、閉鎖位置にあるときには、エアー抜きにより真空弁の真空度がどんどん高くなると、真空弁１００の内部から加えられる閉じ力Ｆにより、シーリングディスク１０が真空弁の外部へ押さえられ、真空弁の外部から加えられる大気圧力により、シーリングディスク１０が真空弁の内部へ押さえられる。
シール板３０が若干弾性的に変形しても、第１のシール面３２は、加えられる閉じ力Ｆ及び大気圧力により、回転して第２のシール面１０４に当接する。換言すると、シール板３０の第１のシール面３２は、真空弁１００の弁口１０２における第２のシール面１０４に直接に当接するときに、円弧状面または球状面である第１のシール面３２の第２のシール面１０４に対する回転が許容され、これにより、第１のシール面３２が第２のシール面１０４に持続に当接する。このため、真空封止性を良く保持することができ、また、金属材質を採用するシール面が互に当接するときに発生する補正運動および調節運動により、封止性を向上することができ、寿命を長く延ばすこともでき、金属間の衝突による摩耗（Ａｂｒａｓｉｏｎ）を回避することができる。
【００３４】
第１のなす角Ａ１の角度は、例えば５度〜４５度の範囲であり、１０度〜２５度の範囲であることが好ましく、１５度であることが更に好ましい。第３のなす角Ａ３の角度は、例えば５度〜４５度の範囲であり、１０度〜２５度の範囲であることが好ましく、１５度であることが更に好ましい。第１のなす角Ａ１の角度、第２のなす角Ａ２の角度および第３のなす角Ａ３の角度の合計は、合わせて１８０度である。このため、本考案に係るシーリングディスク１０が真空封止に適用される場合には、本考案に係るシール板３０は、真空弁１００の内部からキャリア１１０に加えられる閉じ力Ｆだけでなく、真空弁１００が真空になった後、真空弁１００の外部に加えられる大気圧力も受けるため、真空封止状態を良く保持することができる。
一方、曲げ板の形態であるシール板３０を例とすると、本考案に係るシーリングディスク１０のシール板３０は、一体的に連接する、第１のウィングプレート３４と、第２のウィングプレート３６と、を備えることに限定されず、シール板３０は、例えば、上記の第２のウィングプレート３６と連接する別の第１のウィングプレートを更に備えてもよく、そして例えば、上記の別の第１のウィングプレートと連接する別の第２のウィングプレート３６を更に備えてもよい。
【００３５】
キャリア１１０がシーリングディスク１０と連接する場合には、キャリア１１０は、台座２０と連接し、シール板３０に当接することが好ましく、そして第２のウィングプレート３６と第１のウィングプレート３４とを連接する第２の連接箇所３７及び台座２０に同時に当接することが好ましい。これにより、閉じ力Ｆがキャリア１１０に加えられるときに、この閉じ力Ｆは、キャリア１１０を経由して、シール板３０と台座２０とに同時に直接に加えられる。これにより、シーリングディスク１０は、閉鎖位置にあり、第１のシール面３２で真空弁１００の弁口１０２の第２のシール面１０４に直接当接する。
一方、キャリア１１０がシール板３０に当接しない場合、閉じ力Ｆは、例えば台座２０を経由して、シール板３０に間接に加えられる。第１のウィングプレート３４の厚さは、例えば、第２のウィングプレート３６の厚さと同じであるが、これに限定されない。第１のウィングプレート３４の投影長さは、例えば、第２のウィングプレート３６の投影長さと同じであるが、これに限定されない。第１のウィングプレート３４の投影長さは、凡そ第２のウィングプレート３６の投影長さの０．８〜１．５倍範囲であるが、これに限定されない。台座２０の投影長さは、凡そ第１のウィングプレート３４の投影長さの２〜５倍範囲であるが、これに限定されない。上記の数値は、例にして挙げたにすぎず、本考案はこれに限定されない。
【００３６】
本考案に係るシーリングディスク１０のシール板３０の第１のシール面３２は、ポリッシュ処理などの機械加工プロセスを選択的に行う。ドライポリッシュ技術を採用することが好ましく、例えば、ドライブラスティング（Ｄｒｙ  ｂｌａｓｔｉｎｇ）技術や流体ジェットポリッシュ（Ｆｌｕｉｄ−ｊｅｔ  ｐｏｌｉｓｈｉｎｇ）技術を採用する。これは、研磨粒子を噴射することにより、表面粗さを減少し、潤滑性を増加するものであり、その表面粗さ（Ｒａ）は、約０．３μｍ以下であることが好ましく、約０．１μｍ以下であることが更に好ましい。本考案は、特定のポリッシュ技術の種類および研磨粒子の材質に限定されず、第１のシール面が弁口を真空封止することが可能な表面粗さ及び潤滑性を有すればよい。
【００３７】
本考案の別の実施形態において、シーリングディスクは、例えば両側シール型である。上記の実施形態に係る片側シール型のシーリングディスクに比べて、本実施形態の上記の実施形態と相違する点は、両側シール型のシール板の両側が、第１のシール面と第３のシール面（図示せず）とをそれぞれ有し、第１のシール面は真空弁の弁口を封止するためのものであり、第３のシール面は台座の第４のシール面（図示せず）に当接するためのものであることにある。すなわち、本実施形態に係る両側シール型のシール板は、台座に一体的に連接されていない。第３のシール面の材質および形態は、例えば第１のシール面と同じである。
【００３８】
本考案に係るシーリングディスクには、次のような効果がある。
（１）真空弁の弁口にシール板の第１のシール面を直接当接することにより、真空封止という効果を達成することができ、更に、超高真空封止という効果を達成することもでき、パッキンやガスケットを別に利用する必要がない。
【００３９】
（２）超高真空環境において、漏れが発生しないため、仕様が厳しく要請される弁体（例えば、全金属の高周波マスクゲート弁）に適用することができる。
【００４０】
（３）超高真空環境においても、真空弁の内部からの閉じ力と、真空弁の外部からの大気圧力とが、シーリングディスクに同時に加えられるため、高い真空封止性を保持することができる。
【００４１】
（４）シール板の第１のシール面は、第２のシール面に対して回転し、第２のシール面と持続に接触することにより、金属材質であるシール面が互いに当接するときの潤滑効果が増加し、補正運動および調節運動が発生するため、封止性が増加し、寿命が長く延びる。
【００４２】
以上、本考案の特定の例を参照して説明したが、それらの例は、説明のためだけのものであり、本考案を限定するものではなく、この分野の通常の知識を有する者には、本考案の要旨および実用新案登録請求の範囲を逸脱することなく、ここで開示された実施形態に変更、追加、または、削除を施してもよいことがわかる。
【産業上の利用可能性】
【００４３】
本考案は、超高真空システムに適用することが可能なシーリングディスクを提供する。
【符号の説明】
【００４４】
１０  シーリングディスク
２０  台座
２１  ねじ穴
２２  第１の面
２４  第２の面
２６  位置決め部材
３０  シール板
３２  第１のシール面
３４  第１のウィングプレート
３５  第１の連接箇所
３６  第２のウィングプレート
３７  第２の連接箇所
１００  真空弁
１０２  弁口
１０４  第２のシール面
１１０  キャリア
１１４  収容空間
Ａ１  第１のなす角
Ａ２  第２のなす角
Ａ３  第３のなす角
Ｆ  閉じ力
【図１】
0003231502.tif 000003
【図２】
0003231502.tif 000004
【図３】
0003231502.tif 000005
【図４】
0003231502.tif 000006
【図５】
0003231502.tif 000007
【手続補正書】
【提出日】令和3年1月29日(2021.1.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】実用新案登録請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【実用新案登録請求の範囲】
【請求項１】
開放位置または閉鎖位置に往復に移動して、弁体の弁口を開き、又は封止することが可能なシーリングディスクにおいて、
外縁に第１のシール面を有し、前記閉鎖位置にある場合には、前記第１のシール面だけで、前記弁体の前記弁口における第２のシール面に当接し、シール板の前記第１のシール面は、力を受けると前記第２のシール面に沿って滑動して、前記第２のシール面に当接して前記弁口を封止する状態を保持し、前記シール板の前記第１のシール面と、弁体の前記弁口における前記第２のシール面とは、金属材質であることを特徴とする、
シーリングディスク。
【請求項２】
前記シール板は、第１の連接箇所に台座が環接されており、前記第１の連接箇所の環状面に対して、第１のなす角で前記第１の連接箇所から離れる方向へ伸びる第１のウィングプレートと、第２の連接箇所が前記第１のウィングプレートに環接されており、前記第１のウィングプレートに対して、第２のなす角で前記台座の第１の面から離れる方向へ伸びることにより、前記第１の連接箇所の前記環状面との第３のなす角を成し、その端縁に前記第１のシール面が位置する第２のウィングプレートと、を備えることを特徴とする、請求項１に記載のシーリングディスク。
【請求項３】
前記シール板は金属材質からなり、前記弁体は金属製の真空弁であり、前記シール板の前記第１のシール面は、前記力を受けると前記第２のシール面に沿って滑動して前記第２のシール面に当接して、前記弁口を封止して真空状態を保持することを特徴とする、請求項２に記載のシーリングディスク。
【請求項４】
前記台座はキャリアに連接されており、前記力は、閉じ力と、大気圧力と、を含み、前記閉じ力は、前記弁体の内部から、前記キャリアを経由して、前記第２のウィングプレートと前記第１のウィングプレートを連接する前記第２の連接箇所および／又は前記台座とに加えられ、前記大気圧力は、前記弁体の外部から、前記シール板に加えられることを特徴とする、請求項３に記載のシーリングディスク。
【請求項５】
前記力は、閉じ力と、大気圧力と、を含み、前記閉じ力は、前記弁体の内部から、前記台座に直接加えられて、前記台座を経由して、前記シール板に間接的に加えられ、前記大気圧力は、前記弁体の外部から、前記シール板に加えられることを特徴とする、請求項３に記載のシーリングディスク。
【請求項６】
前記弁体は、全金属製の超高真空弁であることを特徴とする、請求項３に記載のシーリングディスク。
【請求項７】
前記第１のなす角の角度は、５度〜４５度の範囲であり、前記第３のなす角の角度は、５度〜４５度の範囲であり、前記第１のなす角の角度、前記第２のなす角の角度および前記第３のなす角の角度の合計は、合わせて１８０度であることを特徴とする、請求項２に記載のシーリングディスク。
【請求項８】
前記シール板の前記第１のシール面は、前記力により前記第２のシール面に沿って滑動して、前記第２のシール面に当接して、前記弁口を封止する状態を保持することを特徴とする、請求項５に記載のシーリングディスク。
【請求項９】
前記シール板の前記第１のシール面は、ポリッシュ処理を行った面であることを特徴とする、請求項５に記載のシーリングディスク。
【請求項１０】
前記台座は、前記第１の面に対向する第２の面を有し、前記第２の面に位置決め部材が設けられており、前記位置決め部材により、前記シーリングディスクを前記弁体に組付ける過程中に、前記シーリングディスクの前記弁体の前記弁口に対する位置を位置決めすることを特徴とする、請求項２に記載のシーリングディスク。