(57)【要約】  高い屈折率を発現可能な、新規の有機金属化合物及び有機金属化合物の混合物、並びにこれらの製造方法及びこれらを含むフィラーを提供する。下記一般式（１）で表される構造を有する有機金属化合物である。  式（１）中、Ｍは金属元素を示し、Ａは炭素原子数１〜８のアルキル基を示し、Ｌは配位子を示し、Ｑは下記一般式（２）で表される有機基を示し、ｐ’は１以上の整数を示し、ｑは０以上の整数を示し、ｒは０〜６の整数を示す。但し、ｐ’＋ｑ＋ｒは３〜８の整数である。2017099192.tif 000025
2017099192.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記一般式（１）で表される構造を有する有機金属化合物。
【化１】
2017099192.tif 000021
（式（１）中、Ｍは金属元素を示し、Ａは炭素原子数１〜８のアルキル基を示し、Ｌは配位子を示し、Ｑは下記一般式（２）で表される有機基を示し、ｐ’は１以上の整数を示し、ｑは０以上の整数を示し、ｒは０〜６の整数を示す。但し、ｐ’＋ｑ＋ｒは３〜８の整数である。）
【化２】
2017099192.tif 000022
（式（２）中、環Ｙ１及び環Ｙ２は同一の又は異なる芳香族炭化水素環を示し、Ｒは単結合、置換基を有してもよいメチレン基、置換基を有してもよく、２個の炭素原子間にヘテロ原子を含んでもよいエチレン基、−Ｏ−で示される基、−ＮＨ−で示される基、又は−Ｓ−で示される基を示し、Ｒ３ａ及びＲ３ｂは独立にシアノ基、ハロゲン原子、又は１価炭化水素基を示し、環Ｚ１及び環Ｚ２は同一の又は異なる芳香族炭化水素環を示し、Ｘ１及びＸ２は独立に単結合又は−Ｓ−で示される基を示し、Ｒ２ａ及びＲ２ｂは独立に１価炭化水素基、水酸基、−ＯＲ４ａで示される基、−ＳＲ４ｂで示される基、アシル基、アルコキシカルボニル基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、メルカプト基、カルボキシル基、アミノ基、カルバモイル基、−ＮＨＲ４ｃで示される基、−Ｎ（Ｒ４ｄ）２で示される基、（メタ）アクリロイルオキシ基、スルホ基、又は１価炭化水素基、−ＯＲ４ａで示される基、−ＳＲ４ｂで示される基、アシル基、アルコキシカルボニル基、−ＮＨＲ４ｃで示される基、もしくは−Ｎ（Ｒ４ｄ）２で示される基に含まれる炭素原子に結合した水素原子の少なくとも一部が１価炭化水素基、水酸基、−ＯＲ４ａで示される基、−ＳＲ４ｂで示される基、アシル基、アルコキシカルボニル基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、メルカプト基、カルボキシル基、アミノ基、カルバモイル基、−ＮＨＲ４ｃで示される基、−Ｎ（Ｒ４ｄ）２で示される基、（メタ）アクリロイルオキシ基、メシルオキシ基、もしくはスルホ基で置換された基を示し、Ｒ４ａ〜Ｒ４ｄは独立に１価炭化水素基を示し、ｎ１及びｎ２は独立に０〜４の整数を示し、ｍ１及びｍ２は独立に０以上の整数を示す。）
【請求項２】
下記一般式（３）で表される有機金属化合物。
【化３】
2017099192.tif 000023
（式（３）中、Ｍ、Ａ、Ｌ、Ｑ、ｑ及びｒは前記と同じであり、Ｇは独立に水素原子、又は下記一般式（４）で表される有機金属構造を示し、ｐは１以上の整数を示し、ｐ＋ｑ＋ｒは３〜８の整数である。）
【化４】
2017099192.tif 000024
（式（４）中、Ｍ、Ａ、Ｌ及びＱは前記と同じであり、ｐｉ及びｑｉは独立に０以上の整数を示し、ｒｉは０〜６の整数を示す。但し、ｐｉ＋ｑｉ＋ｒｉは２〜７の整数である。Ｇｉは水素原子又はＧと同様の有機金属構造を示す［但し、有機金属構造である場合のＧｉにおいて、Ｇにおけるｐｉ、ｑｉ、ｒｉ及びＧｉはｐｉ＋１、ｑｉ＋１、ｒｉ＋１及びＧｉ＋１と表し、ｐｉ＋１、ｑｉ＋１、ｒｉ＋１及びＧｉ＋１は、相互に独立に並びにＧｉにおいて対応するｐｉ、ｑｉ、ｒｉ及びＧｉとそれぞれ独立にｐｉ、ｑｉ、ｒｉ及びＧｉと同じであり、これはＧｉ＋１以降にも同様に適用する。］。）
【請求項３】
前記ＭがＴｉ、Ｚｒ又はＨｆである請求項１又は２記載の有機金属化合物。
【請求項４】
前記環Ｚ１及び環Ｚ２がベンゼン環又はナフタレン環である請求項１〜３の何れか１項記載の有機金属化合物。
【請求項５】
前記Ｘ１及びＸ２が単結合である請求項１〜４の何れか１項記載の有機金属化合物。
【請求項６】
請求項１〜５の何れか１項記載の有機金属化合物の混合物。
【請求項７】
下記一般式（５）で表される金属アルコキシドと下記一般式（６ａ）で表されるジオール化合物とを反応させることを含む、請求項１〜５の何れか１項記載の有機金属化合物又は請求項６記載の混合物の製造方法。
Ｌｒ―Ｍ−（Ｏ−Ａ）ｈ        （５）
（式（５）中、Ｌ、ｒ、Ｍ及びＡは前記と同じであり、ｈは１〜８の整数を示し、ｈ＋ｒは３〜８の整数を示す。）
ＨＯ−Ｑ−ＯＨ          （６ａ）
（式（６ａ）中、Ｑは前記と同じである。）
【請求項８】
請求項７記載の製造方法により得られる有機金属化合物又はその混合物。
【請求項９】
請求項１〜６及び８の何れか１項記載の有機金属化合物又はその混合物を含むフィラー。
【請求項１０】
更に、分散剤を含む請求項９記載のフィラー。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機金属化合物、及び有機金属化合物の混合物、並びにこれらの製造方法及びこれらを含むフィラーに関する。
【背景技術】
【０００２】
金属アルコキシドは、電子材料分野において原料として好ましく用いられている。このような金属アルコキシドとしては、例えば、特許文献１に開示されているものが挙げられる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００４−３５９６３６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
金属アルコキシドは、加工性に優れている点から、光学部材に使用される材料においてもその利用が期待されている。しかしながら、金属アルコキシド単独では、光学部材にも使用できるような屈折率を得ることができない。【０００５】
本発明は、高い屈折率を発現可能な、新規の有機金属化合物、及び有機金属化合物の混合物、並びにこれらの製造方法及びこれらを含むフィラーを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明者らは、上述した課題を解決するために鋭意検討を重ねた。その結果、金属アルコキシドと特定のジオール化合物とを反応させることにより、高い屈折率を発現可能な、新規の有機金属化合物が得られることを見出し、本発明を完成するに至った。具体的に、本発明は以下のものを提供する。【０００７】
本発明の第１の態様は、下記一般式（１）で表される構造を有する有機金属化合物である。
【化１】
2017099192.tif 000003
（式（１）中、Ｍは金属元素を示し、Ａは炭素原子数１〜８のアルキル基を示し、Ｌは配位子を示し、Ｑは下記一般式（２）で表される有機基を示し、ｐ’は１以上の整数を示し、ｑは０以上の整数を示し、ｒは０〜６の整数を示す。但し、ｐ’＋ｑ＋ｒは３〜８の整数である。）
【化２】
2017099192.tif 000004
（式（２）中、環Ｙ１及び環Ｙ２は同一の又は異なる芳香族炭化水素環を示し、Ｒは単結合、置換基を有してもよいメチレン基、置換基を有してもよく、２個の炭素原子間にヘテロ原子を含んでもよいエチレン基、−Ｏ−で示される基、−ＮＨ−で示される基、又は−Ｓ−で示される基を示し、Ｒ３ａ及びＲ３ｂは独立にシアノ基、ハロゲン原子、又は１価炭化水素基を示し、環Ｚ１及び環Ｚ２は同一の又は異なる芳香族炭化水素環を示し、Ｘ１及びＸ２は独立に単結合又は−Ｓ−で示される基を示し、Ｒ２ａ及びＲ２ｂは独立に１価炭化水素基、水酸基、−ＯＲ４ａで示される基、−ＳＲ４ｂで示される基、アシル基、アルコキシカルボニル基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、メルカプト基、カルボキシル基、アミノ基、カルバモイル基、−ＮＨＲ４ｃで示される基、−Ｎ（Ｒ４ｄ）２で示される基、（メタ）アクリロイルオキシ基、スルホ基、又は１価炭化水素基、−ＯＲ４ａで示される基、−ＳＲ４ｂで示される基、アシル基、アルコキシカルボニル基、−ＮＨＲ４ｃで示される基、もしくは−Ｎ（Ｒ４ｄ）２で示される基に含まれる炭素原子に結合した水素原子の少なくとも一部が１価炭化水素基、水酸基、−ＯＲ４ａで示される基、−ＳＲ４ｂで示される基、アシル基、アルコキシカルボニル基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、メルカプト基、カルボキシル基、アミノ基、カルバモイル基、−ＮＨＲ４ｃで示される基、−Ｎ（Ｒ４ｄ）２で示される基、（メタ）アクリロイルオキシ基、メシルオキシ基、もしくはスルホ基で置換された基を示し、Ｒ４ａ〜Ｒ４ｄは独立に１価炭化水素基を示し、ｎ１及びｎ２は独立に０〜４の整数を示し、ｍ１及びｍ２は独立に０以上の整数を示す。）【０００８】
本発明の第２の態様は、下記一般式（３）で表される有機金属化合物である。
【化３】
2017099192.tif 000005
（式（３）中、Ｍ、Ａ、Ｌ、Ｑ、ｑ及びｒは前記と同じであり、Ｇは独立に水素原子、又は下記一般式（４）で表される有機金属構造を示し、ｐは１以上の整数を示し、ｐ＋ｑ＋ｒは３〜８の整数である。）
【化４】
2017099192.tif 000006
（式（４）中、Ｍ、Ａ、Ｌ及びＱは前記と同じであり、ｐｉ及びｑｉは独立に０以上の整数を示し、ｒｉは０〜６の整数を示す。但し、ｐｉ＋ｑｉ＋ｒｉは２〜７の整数である。Ｇｉは水素原子又はＧと同様の有機金属構造を示す［但し、有機金属構造である場合のＧｉにおいて、Ｇにおけるｐｉ、ｑｉ、ｒｉ及びＧｉはｐｉ＋１、ｑｉ＋１、ｒｉ＋１及びＧｉ＋１と表し、ｐｉ＋１、ｑｉ＋１、ｒｉ＋１及びＧｉ＋１は、相互に独立に並びにＧｉにおいて対応するｐｉ、ｑｉ、ｒｉ及びＧｉとそれぞれ独立にｐｉ、ｑｉ、ｒｉ及びＧｉと同じであり、これはＧｉ＋１以降にも同様に適用する。］。）【０００９】
本発明の第３の態様は、第１の態様又は第２の態様に記載の有機金属化合物の混合物である。【００１０】
本発明の第４の態様は、下記一般式（５）で表される金属アルコキシドと下記一般式（６ａ）で表されるジオール化合物とを反応させることを含む、本発明の第１の態様又は第２の態様に記載の有機金属化合物又は第３の態様に記載の混合物の製造方法である。
Ｌｒ―Ｍ−（Ｏ−Ａ）ｈ        （５）
（式（５）中、Ｌ、ｒ、Ｍ及びＡは前記と同じであり、ｈは１〜８の整数を示し、ｈ＋ｒは３〜８の整数を示す。）
ＨＯ−Ｑ−ＯＨ          （６ａ）
（式（６ａ）中、Ｑは前記と同じである。）【００１１】
本発明の第５の態様は、第１の態様から第３の態様の何れか一つに記載の有機金属化合物又はその混合物を含むフィラーである。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、高い屈折率を発現可能な、新規の有機金属化合物及び有機金属化合物の混合物、並びにこれらの製造方法及びこれらを含むフィラーを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】（ａ）は（原料に用いた）ジオール化合物のＸＰＳスペクトル、（ｂ）はジルコニウムブトキシドとジオール化合物の混合比がモル比で１：４である原料を反応させて得られた有機金属化合物を含む反応生成物のＸＰＳスペクトル、（ｃ）はジルコニウムブトキシドとジオール化合物の混合比がモル比で１：１である原料を反応させて得られた有機金属化合物を含む反応生成物のＸＰＳスペクトルを示すグラフである。
【図２】（ａ）は（原料に用いた）ジオール化合物のＸＰＳスペクトル、（ｂ）はチタニウムブトキシドとジオール化合物の混合比がモル比で１：４である原料を反応させて得られた有機金属化合物を含む反応生成物のＸＰＳスペクトル、（ｃ）はチタニウムブトキシドとジオール化合物の混合比がモル比で１：１である原料を反応させて得られた有機金属化合物を含む反応生成物のＸＰＳスペクトルを示すグラフである。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
以下、本発明の具体的な実施形態について説明する。なお、本発明は、以下の実施形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を変更しない範囲で種々の変更が可能である。
【００１５】
＜有機金属化合物＞
本発明に係る有機金属化合物は、下記一般式（１）で表される構造を有する。
【化５】
2017099192.tif 000007
【００１６】
上記一般式（１）は、下記一般式（１ａ）で表すこともできる。一般式（１ａ）について、本明細書における一般式（１）についての記載が準用される。
【化６】
2017099192.tif 000008
（式（１ａ）中、Ｍ、Ａ、Ｌ、Ｑ、ｑ、ｒ、及びｐ’は式（１）と同じであり、＊は結合手であることを示す。）
【００１７】
上記式（１）中、Ｍは金属元素であり、具体的に、例えば、Ｓｃ、Ｙ、Ｌａ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ａｌ、Ｓｉ、Ｐ、Ｎｂ、Ｇｅ、Ｆｅ、Ｖ、Ｃｅ、Ｔａ、Ｓｂ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｂｉ、Ｔｅ、Ｗ、Ｃｏ，Ｎｉ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｃｕ、Ｚｎ等が挙げられる。中でも、Ｓｃ、Ｙ、Ｌａをはじめとするランタノイド、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ等の３〜４族の金属元素が好ましく、４族の金属元素がより好ましく、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆが更に好ましく、Ｔｉ、Ｈｆが更に好ましく用いられる。これら金属元素は、配位数が３〜８であるため、式（１）で表される構造を有する有機金属化合物は、三次元的に連なった形状をとることができる。三次元的に連なった形状としては、例えば、ＭがＴｉである上記有機金属化合物は、Ｔｉが例えば６配位構造をとると、通常、正八面体、略八面体等の八面体構造が複数連なった形状になると考えられる。また、ＭがＺｒである上記有機金属化合物は、Ｚｒが例えば８配位構造をとると、通常、ねじれ四角柱が頂点共有で複数連なった形状になると考えられる。このように、上記有機金属化合物は、三次元的に連なった形状をとることができるため、後述するようにフィラーとしての機能を発現しやすくなると考えられる。
【００１８】
上記式（１）において、ｐ’は１以上の整数を示し、ｑは０以上の整数を示し、ｒは０〜６の整数を示す。ｐ’＋ｑ＋ｒは、３〜８の整数であり、上述したＭの配位数である。式（１）において、ｐ’は、−（Ｏ−Ｑ−Ｏ）−（Ｏ−Ｑ−Ｏ）−（Ｏ−Ｑ−Ｏ）−・・・というような直列的な連結数の個数ではなく、Ｍに直接結合する、−（Ｏ−Ｑ−Ｏ）−で表される基の個数である。
【００１９】
例えば、ｐ’＝４、ｑ＝０、ｒ＝０である（金属Ｍの配位子が４である）場合には、一例として、下記式で表される有機金属化合物（ポリマー）の形態をとる場合があると考えられる。本明細書において、「Ｍの配位子」とは、Ｍに配位結合している配位子（上記式（１）におけるＬ）のみならず、Ｍに結合しているものを意味し、例えば、配位結合している原子、分子、イオン等のほか、基をも含む概念であり、具体的には、式（１）における（Ａ−Ｏ）−で表されるアルコキシ基、及び、−（Ｏ−Ｑ−Ｏ）−で表される基、並びに、式（３）における−（Ｏ−Ｑ−Ｏ−Ｇ）で表される基をも含む。また、本明細書において、「Ｍの配位数」とは、上記意味における「Ｍの配位子」の数を意味することがある。
【００２０】
【化７】
2017099192.tif 000009
【００２１】
また、例えば、ｐ’＋ｑ＋ｒ＝６、ｒ＝２である（金属Ｍの配位子が６である）場合には、一例として、下記式で表される有機金属化合物の形態をとる場合があると考えられる。
【００２２】
【化８】
2017099192.tif 000010
（＊は一般式（１）〜（３）におけるＡ又はＱとの結合手であることを示す。）
【００２３】
ｐ’＋ｑ＋ｒとしては、好ましくは４〜６の整数であり、より好ましくは４である。
ｐ’としては、好ましくは３〜８の整数であり、より好ましくは４〜６の整数であり、更に好ましくは４である。
【００２４】
ｑとしては、好ましくは０〜６の整数であり、より好ましくは０〜４の整数であり、更に好ましくは０〜２の整数である。ｑとしては、式（１）中におけるＭが、一般式（１）で表される構造を有する有機金属化合物を構成するＭのうち末端のＭではない場合、好ましくは０〜４の整数であり、より好ましくは０〜２の整数であり、更に好ましくは０である。ｑとしては、式（１）中におけるＭが、一般式（１）で表される構造を有する有機金属化合物を構成する唯一のＭである場合又は複数のＭのうち末端のＭである場合、好ましくは０〜４の整数であり、より好ましくは０〜２の整数であり、更に好ましくは０である。
【００２５】
ｒとしては、好ましくは０〜４の整数であり、より好ましくは０〜２の整数であり、更に好ましくは０である。
【００２６】
上記式（１）において、アルキル基Ａは炭素原子数１〜８の直鎖又は分岐のアルキル基、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基等が挙げられる。中でも、アルキル基Ａとしては炭素原子数１〜６のアルキル基が好ましく、炭素原子数２〜５のアルキル基がより好ましく、炭素原子数４のアルキル基が更に好ましく、なかでもｎ−ブチル基が特に好ましい。
【００２７】
上記式（１）において、配位子Ｌは、屈折率を制御し、形状を制御するために適宜選択される。配位子Ｌは少なくとも一箇所で金属元素Ｍに結合していればよく、単座配位子であっても、多座配位子であってもよい。また二座配位子であっても二座で一つの金属元素Ｍに結合していなくてもよい。多座配位子の場合、例えば、配位子Ｌは、２以上のＭと配位していてもよく、この場合、式（１）におけるＬｒ以外の部分構造がＬに対しｒの数分、配位していることになる。また、例えば、配位子Ｌは一つの金属元素Ｍに対しｒ＝２の数で配位していてもよい。
【００２８】
上記配位子Ｌとしては、例えば、水、アミン系、カルボン酸系等の配位子が挙げられる。アミン系の配位子としては、エチレンジアミン四酢酸（ＥＤＴＡ）、エチレンジアミン、１，３−プロパンジアミン、ジエチレントリアミン、ペンタメチルジエチレントリアミン、ヘキサメチルトリエチレンテトラミン、トリス［２−（ジメチルアミノ）エチル］アミン、トリ（ピリジニルメチル）アミン等が挙げられるがこれに限定されない。
カルボン酸系の配位子としては、シュウ酸、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバシン酸等の飽和脂肪族ジカルボン酸類が挙げれるがこれに限定されない。その他、アセチルアセトン、ベンゾイルアセトン、ヘキサフルオロアセチルアセトン等のβ−ジケトン類；アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル等のβ−ケトエステル類；エチレングリコール等のグリコール類；オキシ酢酸等のグリコール酸類；ピリジンイミン、アルキルイミノピリジン、アルキルビピリジニルアミン、アルキル置換トリピリジン、ジ（アルキルアミノ）アルキルピリジン、エチレンジアミンジピリジン、その他の複素環化合物；等の配位子であってもよい。
【００２９】
上記式（１）において、有機基Ｑは下記一般式（２）で表される有機基である。
【化９】
2017099192.tif 000011
【００３０】
上記一般式（２）は、下記一般式（２ａ）で表すこともできる。一般式（２ａ）について、本明細書における一般式（２）についての記載が準用される。
【化１０】
2017099192.tif 000012
（式（２ａ）中、環Ｙ１、環Ｙ２、Ｒ、Ｒ３ａ、Ｒ３ｂ、環Ｚ１、環Ｚ２、Ｘ１、Ｘ２、Ｒ２ａ、Ｒ２ｂ、ｎ１、ｎ２、ｍ１及びｍ２は式（２）と同じであり、＊は一般式（１）、（３）及び（４）等の上記一般式においてＱに隣接する酸素原子（Ｏ）との結合手であることを示す。）
【００３１】
上記式（２）中において、環Ｙ１及び環Ｙ２は同一の又は異なる芳香族炭化水素環を示す。具体的には、環Ｙ１及び環Ｙ２としては、例えば、ベンゼン環、縮合多環式芳香族炭化水素環［例えば、縮合二環式炭化水素環（例えば、ナフタレン環等のＣ８−２０縮合二環式炭化水素環、好ましくはＣ１０−１６縮合二環式炭化水素環）、縮合三環式芳香族炭化水素環（例えば、アントラセン環、フェナントレン環等）等の縮合２乃至４環式芳香族炭化水素環］等が挙げられる。中でも、環Ｙ１及び環Ｙ２は、ベンゼン環又はナフタレン環であるのが好ましい。なお、環Ｙ１及び環Ｙ２は、同一でも異なっていてもよく、例えば、一方の環がベンゼン環、他方の環がナフタレン環等であってもよい。特に、環Ｙ１及び環Ｙ２がベンゼン環であり、Ｒが単結合である場合、上記一般式（１）で表される有機金属化合物は、フルオレン骨格を有し、光学的特性及び熱的特性に更に優れる。
【００３２】
上記式（２）中において、Ｒは単結合、置換基を有してもよいメチレン基、置換基を有してもよく、２個の炭素原子間にヘテロ原子を含んでもよいエチレン基、−Ｏ−で示される基、−ＮＨ−で示される基、又は−Ｓ−で示される基を示す。その中でも、Ｒは単結合であることが好ましい。ここで、置換基としては、例えば、シアノ基、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子等）、１価炭化水素基［例えば、アルキル基（メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ｔ−ブチル基等のＣ１−６アルキル基）、アリール基（フェニル基等のＣ６−１０アリール基）等］等が挙げられ、ヘテロ原子としては、例えば、酸素原子、窒素原子、イオウ原子、珪素原子等が挙げられる。
【００３３】
上記一般式（２）中において、Ｒ３ａ及びＲ３ｂは、独立にシアノ基、ハロゲン原子、又は１価炭化水素基を示し、ｎ１及びｎ２は独立に０〜４の整数を示す。具体的には、Ｒ３ａ及びＲ３ｂとしては、通常、非反応性置換基、例えば、シアノ基、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子等）、１価炭化水素基［例えば、アルキル基、アリール基（フェニル基等のＣ６−１０アリール基）等］等が挙げられ、シアノ基又はアルキル基であることが好ましく、アルキル基であることが特に好ましい。アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ｔ−ブチル基等のＣ１−６アルキル基（例えば、Ｃ１−４アルキル基、特にメチル基）等が例示できる。なお、ｎ１が２以上の整数である場合、Ｒ３ａは互いに異なっていてもよく、同一であってもよい。また、ｎ２が２以上の整数である場合、Ｒ３ｂは互いに異なっていてもよく、同一であってもよい。更に、Ｒ３ａとＲ３ｂとは、同一であってもよく、異なっていてもよい。また、環Ｙ１及び環Ｙ２に対するＲ３ａ及びＲ３ｂの結合位置（置換位置）は、特に限定されない。好ましい置換数ｎ１及びｎ２としては、０又は１、特に０である。なお、ｎ１及びｎ２は、互いに同一でも異なっていてもよい。
【００３４】
上記一般式（２）中において、環Ｚ１及び環Ｚ２は同一の又は異なる芳香族炭化水素環を示す。具体的には、環Ｚ１及び環Ｚ２としては、例えば、ベンゼン環、縮合多環式芳香族炭化水素環［例えば、縮合二環式炭化水素環（例えば、ナフタレン環等のＣ８−２０縮合二環式炭化水素環、好ましくはＣ１０−１６縮合二環式炭化水素環）、縮合三環式芳香族炭化水素環（例えば、アントラセン環、フェナントレン環等）等の縮合２乃至４環式芳香族炭化水素環］等が挙げられる。環Ｚ１及び環Ｚ２のうち少なくとも何れかが縮合多環式芳香族炭化水素環であってもよく、環Ｚ１及び環Ｚ２の何れもが同一の又は異なる縮合多環式芳香族炭化水素環であってもよい。また、環Ｚ１及び環Ｚ２は、ベンゼン環又はナフタレン環であることが好ましい。
【００３５】
上記一般式（２）中において、Ｘ１及びＸ２は独立に単結合又は−Ｓ−で示される基を示し、単結合であることが好ましい。
【００３６】
上記一般式（２）において、Ｒ２ａ及びＲ２ｂは独立に、１価炭化水素基、水酸基、−ＯＲ４ａで示される基、−ＳＲ４ｂで示される基、アシル基、アルコキシカルボニル基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、メルカプト基、カルボキシル基、アミノ基、カルバモイル基、−ＮＨＲ４ｃで示される基、−Ｎ（Ｒ４ｄ）２で示される基、（メタ）アクリロイルオキシ基、スルホ基、又は１価炭化水素基、−ＯＲ４ａで示される基、−ＳＲ４ｂで示される基、アシル基、アルコキシカルボニル基、−ＮＨＲ４ｃで示される基、もしくは−Ｎ（Ｒ４ｄ）２で示される基に含まれる炭素原子に結合した水素原子の少なくとも一部が１価炭化水素基、水酸基、−ＯＲ４ａで示される基、−ＳＲ４ｂで示される基、アシル基、アルコキシカルボニル基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、メルカプト基、カルボキシル基、アミノ基、カルバモイル基、−ＮＨＲ４ｃで示される基、−Ｎ（Ｒ４ｄ）２で示される基、（メタ）アクリロイルオキシ基、メシルオキシ基、もしくはスルホ基で置換された基を示し、Ｒ４ａ〜Ｒ４ｄは独立に１価炭化水素基を示す。
【００３７】
一般式（２）におけるＲ２ａ及びＲ２ｂについての上記記載は下記のように表すことができる。
Ｒ２ａ及びＲ２ｂは、独立に、置換基群Ａ又はＢを示す。
置換基群Ａは、１価炭化水素基、水酸基、−ＯＲ４ａで示される基、−ＳＲ４ｂで示される基、アシル基、アルコキシカルボニル基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、メルカプト基、カルボキシル基、アミノ基、カルバモイル基、−ＮＨＲ４ｃで示される基、−Ｎ（Ｒ４ｄ）２で示される基、（メタ）アクリロイルオキシ基、又はスルホ基を示す。
置換基群Ｂは、１価炭化水素基、−ＯＲ４ａで示される基、−ＳＲ４ｂで示される基、アシル基、アルコキシカルボニル基、−ＮＨＲ４ｃで示される基、又は−Ｎ（Ｒ４ｄ）２で示される基に含まれる炭素原子に結合した水素原子の少なくとも一部が置換基群Ｃで置換された基を示す。
置換基群Ｃは、１価炭化水素基、水酸基、−ＯＲ４ａで示される基、−ＳＲ４ｂで示される基、アシル基、アルコキシカルボニル基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、メルカプト基、カルボキシル基、アミノ基、カルバモイル基、−ＮＨＲ４ｃで示される基、−Ｎ（Ｒ４ｄ）２で示される基、（メタ）アクリロイルオキシ基、メシルオキシ基、又はスルホ基を示す。
【００３８】
上記一般式（２）において、Ｒ２ａ及びＲ２ｂの数のｍ１及びｍ２は独立に０以上の整数を示す。ｍ１、ｍ２は、環Ｚ１及び環Ｚ２の種類に応じて選択でき、例えば、０〜４、好ましくは０〜３、より好ましくは０〜２である。ｍ１、ｍ２が２以上の整数である場合、Ｒ２ａ及びＲ２ｂは、互いに異なっていてもよく、同一であってもよい。
【００３９】
具体的には、Ｒ２ａ及びＲ２ｂとしては、例えば、アルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基等のＣ１−１２アルキル基、好ましくはＣ１−８アルキル基、より好ましくはＣ１−６アルキル基等）、シクロアルキル基（シクロへキシル基等のＣ５−１０シクロアルキル基、好ましくはＣ５−８シクロアルキル基、より好ましくはＣ５−６シクロアルキル基等）、アリール基（例えば、フェニル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基等のＣ６−１４アリール基、好ましくはＣ６−１０アリール基、より好ましくはＣ６−８アリール基等）、アラルキル基（ベンジル基、フェネチル基等のＣ６−１０アリール−Ｃ１−４アルキル基等）等の１価炭化水素基；水酸基；アルコキシ基（メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基等のＣ１−１２アルコキシ基、好ましくはＣ１−８アルコキシ基、より好ましくはＣ１−６アルコキシ基等）、シクロアルコキシ基（シクロへキシルオキシ基等のＣ５−１０シクロアルコキシ基等）、アリールオキシ基（フェノキシ基等のＣ６−１０アリールオキシ基）、アラルキルオキシ基（例えば、ベンジルオキシ基等のＣ６−１０アリール−Ｃ１−４アルキルオキシ基）等の−ＯＲ４ａで示される基［式中、Ｒ４ａは１価炭化水素基（上記例示の１価炭化水素基等）を示す。］；アルキルチオ基（メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、ブチルチオ基等のＣ１−１２アルキルチオ基、好ましくはＣ１−８アルキルチオ基、より好ましくはＣ１−６アルキルチオ基等）、シクロアルキルチオ基（シクロへキシルチオ基等のＣ５−１０シクロアルキルチオ基等）、アリールチオ基（フェニルチオ基等のＣ６−１０アリールチオ基）、アラルキルチオ基（例えば、ベンジルチオ基等のＣ６−１０アリール−Ｃ１−４アルキルチオ基）等の−ＳＲ４ｂで示される基［式中、Ｒ４ｂは１価炭化水素基（上記例示の１価炭化水素基等）を示す。］；アシル基（アセチル基等のＣ１−６アシル基等）；アルコキシカルボニル基（メトキシカルボニル基等のＣ１−４アルコキシ−カルボニル基等）；ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等）；ニトロ基；シアノ基；メルカプト基；カルボキシル基；アミノ基；カルバモイル基；アルキルアミノ基（メチルアミノ基、エチルアミノ基、プロピルアミノ基、ブチルアミノ基等のＣ１−１２アルキルアミノ基、好ましくはＣ１−８アルキルアミノ基、より好ましくはＣ１−６アルキルアミノ基等）、シクロアルキルアミノ基（シクロへキシルアミノ基等のＣ５−１０シクロアルキルアミノ基等）、アリールアミノ基（フェニルアミノ基等のＣ６−１０アリールアミノ基）、アラルキルアミノ基（例えば、ベンジルアミノ基等のＣ６−１０アリール−Ｃ１−４アルキルアミノ基）等の−ＮＨＲ４ｃで示される基［式中、Ｒ４ｃは１価炭化水素基（上記例示の１価炭化水素基等）を示す。］；ジアルキルアミノ基（ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジプロピルアミノ基、ジブチルアミノ基等のジ（Ｃ１−１２アルキル）アミノ基、好ましくはジ（Ｃ１−８アルキル）アミノ基、より好ましくはジ（Ｃ１−６アルキル）アミノ基等）、ジシクロアルキルアミノ基（ジシクロへキシルアミノ基等のジ（Ｃ５−１０シクロアルキル）アミノ基等）、ジアリールアミノ基（ジフェニルアミノ基等のジ（Ｃ６−１０アリール）アミノ基）、ジアラルキルアミノ基（例えば、ジベンジルアミノ基等のジ（Ｃ６−１０アリール−Ｃ１−４アルキル）アミノ基）等の−Ｎ（Ｒ４ｄ）２で示される基［式中、Ｒ４ｄは独立に１価炭化水素基（上記例示の１価炭化水素基等）を示す。］；（メタ）アクリロイルオキシ基；スルホ基；上記の１価炭化水素基、−ＯＲ４ａで示される基、−ＳＲ４ｂで示される基、アシル基、アルコキシカルボニル基、−ＮＨＲ４ｃで示される基、もしくは−Ｎ（Ｒ４ｄ）２で示される基に含まれる炭素原子に結合した水素原子の少なくとも一部が上記の１価炭化水素基、水酸基、−ＯＲ４ａで示される基、−ＳＲ４ｂで示される基、アシル基、アルコキシカルボニル基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、メルカプト基、カルボキシル基、アミノ基、カルバモイル基、−ＮＨＲ４ｃで示される基、−Ｎ（Ｒ４ｄ）２で示される基、（メタ）アクリロイルオキシ基、メシルオキシ基、もしくはスルホ基で置換された基［例えば、アルコキシアリール基（例えば、メトキシフェニル基等のＣ１−４アルコキシＣ６−１０アリール基）、アルコキシカルボニルアリール基（例えば、メトキシカルボニルフェニル基、エトキシカルボニルフェニル基等のＣ１−４アルコキシ−カルボニルＣ６−１０アリール基等）］等が挙げられる。
【００４０】
これらのうち、代表的には、Ｒ２ａ及びＲ２ｂは、１価炭化水素基、−ＯＲ４ａで示される基、−ＳＲ４ｂで示される基、アシル基、アルコキシカルボニル基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、−ＮＨＲ４ｃで示される基、−Ｎ（Ｒ４ｄ）２で示される基等であってもよい。
【００４１】
また、好ましいＲ２ａ及びＲ２ｂとしては、１価炭化水素基［例えば、アルキル基（例えば、Ｃ１−６アルキル基）、シクロアルキル基（例えば、Ｃ５−８シクロアルキル基）、アリール基（例えば、Ｃ６−１０アリール基）、アラルキル基（例えば、Ｃ６−８アリール−Ｃ１−２アルキル基）等］、アルコキシ基（Ｃ１−４アルコキシ基等）等が挙げられる。特に、Ｒ２ａ及びＲ２ｂは、アルキル基［Ｃ１−４アルキル基（特にメチル基）等］、アリール基［例えば、Ｃ６−１０アリール基（特にフェニル基）等］等の１価炭化水素基（特に、アルキル基）であることが好ましい。
【００４２】
また、本発明の有機金属化合物は、下記一般式（３）で表される有機金属化合物である。
【化１１】
2017099192.tif 000013
【００４３】
上記式（３）中、Ｍ、Ａ、Ｌ、Ｑ、ｑ及びｒは前記と同じであり、Ｇは独立に水素原子、又は下記一般式（４）で表される有機金属構造を示す。ｐは１以上の整数であり、好ましくは３〜８の整数であり、より好ましくは４〜６の整数であり、更に好ましくは４である。ｑは、好ましくは０〜４の整数であり、より好ましくは０〜２の整数であり、更に好ましくは０である。ｒは、好ましくは０〜４の整数であり、より好ましくは０〜２の整数であり、更に好ましくは０である。ｐ＋ｑ＋ｒは、３〜８の整数であり、好ましくは４〜６の整数であり、より好ましくは４である。
【００４４】
【化１２】
2017099192.tif 000014
【００４５】
上記一般式（４）は、下記一般式（４ａ）で表すこともできる。一般式（４ａ）について、本明細書における一般式（４）についての記載が準用される。
【化１３】
2017099192.tif 000015
（式（４ａ）中、Ｍ、Ａ、Ｌ、Ｑ、ｐｉ、ｑｉ、ｒｉ、及びＧｉは式（４）と同じであり、＊は一般式（３）においてＭに隣接する（Ａ−Ｏ）ｑ−で表されるアルコキシ基との結合手であることを示す。）
【００４６】
上記式（４）中、Ｍ、Ａ、Ｌ及びＱは前記と同じであり、ｐｉ及びｑｉは独立に０以上の整数を示し、ｒｉは０〜６の整数を示す。但し、ｐｉ＋ｑｉ＋ｒｉは２〜７の整数である。Ｇｉは水素原子又はＧと同様の有機金属構造を示す。
但し、有機金属構造である場合のＧｉにおいて、Ｇにおけるｐｉ、ｑｉ、ｒｉ及びＧｉはｐｉ＋１、ｑｉ＋１、ｒｉ＋１及びＧｉ＋１と表し、ｐｉ＋１、ｑｉ＋１、ｒｉ＋１及びＧｉ＋１は、相互に独立に並びにＧｉにおいて対応するｐｉ、ｑｉ、ｒｉ及びＧｉとそれぞれ独立にｐｉ、ｑｉ、ｒｉ及びＧｉと同じであり、これはＧｉ＋１以降にも同様に適用する。
【００４７】
即ち、例えば、Ｇｉ＋１は、Ｇｉと同じく水素原子又はＧと同様の有機金属構造を示すが、後者の有機金属構造である場合のＧｉ＋１としては、Ｇｉにおいて表されるｐｉ＋１、ｑｉ＋１、ｒｉ＋１及びＧｉ＋１はｐｉ＋２、ｑｉ＋２、ｒｉ＋２及びＧｉ＋２と表す。同様に、Ｇｉ＋２は、Ｇｉ＋１と同じく水素原子又はＧと同様の有機金属構造を示すが、後者の有機金属構造である場合のＧｉ＋２としては、Ｇｉ＋１において表されるｐｉ＋２、ｑｉ＋２、ｒｉ＋２及びＧｉ＋２はｐｉ＋３、ｑｉ＋３、ｒｉ＋３及びＧｉ＋３と表す。このように、一般式（３）で表される有機金属化合物は、Ｇ、Ｇｉ、Ｇｉ＋１、Ｇｉ＋２、Ｇｉ＋３（以下、省略）等がＧと同様の有機金属構造である場合（本明細書において、これらの有機金属構造を総じて「Ｇｉ」で表すことがある。）、該Ｇｉで表される、Ｇと同様の有機金属構造、及び、一般式−Ｏ−Ｑ−Ｏ−で表される構造を介して、状況が許す限り実質的に無限大にＭが連結されたポリマーであってもよい。
【００４８】
本明細書において、上述の「ｐｉ＋１、ｑｉ＋１、ｒｉ＋１及びＧｉ＋１は、・・・ｐｉ、ｑｉ、ｒｉ及びＧｉと同じであり」とは、ｐｉ＋１については、ｐｉの定義と同じく０以上の整数を示し、ｑｉ＋１については、ｑｉの定義と同じく０以上の整数を示し、ｒｉ＋１については、ｒｉの定義と同じく０〜６の整数を示すことを意味する。これらの定義の通りｐｉ＋１、ｑｉ＋１及びｒｉ＋１は、相互に一部又は全部が重複する範囲の整数を示すが、上述の「相互に独立に」とは、ｐｉ＋１、ｑｉ＋１及びｒｉ＋１は相互に同一又は異なった整数であってよいことを意味する。
【００４９】
本明細書において、上述の「ｐｉ＋１、ｑｉ＋１、ｒｉ＋１及びＧｉ＋１は、・・・Ｇｉにおいて対応するｐｉ、ｑｉ、ｒｉ及びＧｉとそれぞれ独立に」とは、ｐｉ＋１とｐｉとが相互に同一又は異なった整数であってよく、ｑｉ＋１とｑｉとが相互に同一又は異なった整数であってよく、ｒｉ＋１とｒｉとが相互に同一又は異なった整数であってよいことを意味する。
【００５０】
そして、本明細書において、上述の「これはＧｉ＋１以降にも同様に適用する」とは、例えば、Ｇと同様の有機金属構造であるＧｉ＋１の場合、Ｇｉにおいて表されるｐｉ＋１、ｑｉ＋１、ｒｉ＋１及びＧｉ＋１はｐｉ＋２、ｑｉ＋２、ｒｉ＋２及びＧｉ＋２と表され、該ｐｉ＋２、ｑｉ＋２及びｒｉ＋２は相互に同一又は異なった整数であってよく、また、ｐｉ＋２とｐｉ＋１とが相互に同一又は異なった整数であってよく、ｑｉ＋２とｑｉ＋１とが相互に同一又は異なった整数であってよく、ｒｉ＋２とｒｉ＋１とが相互に同一又は異なった整数であってよいことを意味する。
【００５１】
上述した本発明に係る有機金属化合物は、無機（金属）材料が複合されることにより、有機化合物単独の場合に比べ高い屈折率を発現することができる。特に、金属Ｍとして、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆを有する有機金属化合物においては、可視域で透明、且つ高い屈折率を期待できるものである。例えば、後述の一般式（６ａ）で表されるジオール化合物の屈折率が１．６〜１．７２程度であるのに対し、該ジオール化合物に後述の一般式（５）で表される金属アルコキシドを反応させることにより、屈折率が１．７２を超える（例えば、１．７５〜１．８程度の）有機金属化合物を得ることができる。
【００５２】
＜有機金属化合物の混合物＞
本発明の有機金属化合物の混合物は、上述した有機金属化合物の複数種の混合物である。一般に、上述した有機金属化合物を製造する際には、ｐｉ＝ｐｉ＋１＝ｐｉ＋２、ｑｉ＝ｑｉ＋１＝ｑｉ＋２、ｒｉ＝ｒｉ＋１＝ｒｉ＋２のような有機金属化合物を一様に製造することは難しい。よって、本発明の有機金属化合物は、例えば、ｐｉ、ｐｉ＋１、ｐｉ＋２が相互に同一又は異なり、ｑｉ、ｑｉ＋１、ｑｉ＋２が相互に同一又は異なり、ｒｉ、ｒｉ＋１、ｒｉ＋２が相互に同一又は異なった有機金属化合物同士の混合物であってよい。有機金属化合物の混合物は、下記の有機金属化合物の製造方法による反応生成物であってもよい。
【００５３】
＜有機金属化合物の製造方法＞
本発明の有機金属化合物の製造方法は、下記一般式（５）で表される金属アルコキシドと下記一般式（６ａ）で表されるジオール化合物とを反応させることを含む。式（５）で表される金属アルコキシドのアルコキシド基（Ｏ−Ａ）が、式（６ａ）で表されるジオール化合物のＯＨ基と置換することにより、式（１）又は（３）で示される有機金属化合物が合成される。
Ｌｒ―Ｍ−（Ｏ−Ａ）ｈ        （５）
（式（５）中、Ｌ、ｒ、Ｍ及びＡは前記と同じであり、ｈは１〜８の整数を示し、ｈ＋ｒは３〜８の整数であり、好ましくは４〜６の整数であり、更に好ましくは４である。）
ＨＯ−Ｑ−ＯＨ          （６ａ）
（式（６ａ）中、Ｑは前記と同じである。）
【００５４】
上記反応に際しての条件は、少なくとも上記金属アルコキシド及びジオール化合物を溶解し得る溶媒を使用して混合溶液を作製し、適宜加温・撹拌して反応させ、ろ過等の分離方法により有機金属化合物を抽出すればよい。また、上記反応において、反応速度を早くするために触媒を用いてもよい。更に、得られた反応生成物は、シリカ、シリカゲル、シリカ・アルミナ、ゼオライト等の担体に担持させてもよい。得られた反応生成物を担体に担持させることにより、反応生成物を分離しやすくなり、空気中で安定であるため取り扱いも容易になる。
【００５５】
上記溶媒としては、特に制限されないが、例えば、メタノール、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、１−ブタノール、２−ブタノール、１−ペンタノール、１−ヘキサノール、１−オクタノール、メトキシエタノール、エトキシエタノール、ブトキシエタノール、メトキシプロパノール、エトキシプロパノール、プロパルギルアルコール、１−ブチン−３−オール、２−ブチン−１，４−ジオール、３，５−ジメチル−１−ヘキシン−３−オール等のアルコール類；トルエン、キシレン、ベンゼン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の炭化水素類；ジエチルエーテル、ジプロピルエーテル、ジブチルエーテル等のエーテル類等が挙げられる。
【００５６】
金属アルコキシドとジオール化合物との混合比は、所望する有機金属化合物によって適宜調整すればよいが、９５：５〜１０：９０（モル比）であることが好ましく、７０：３０〜２５：７５であることがより好ましく、５０：５０〜２０：８０（モル比）であることがより好ましい。
【００５７】
式（５）で表される金属アルコキシドとして、例えば、タンタルエトキシド、タンタル−ｎ−プロポキシド、タンタル−ｉ−プロポキシド、タンタル−ｎ−ブトキシド、ニオブエトキシド、ニオブ−ｎ−プロポキシド、ニオブ−ｉ−プロポキシド、ニオブ−ｎ−ブトキシド、チタンエトキシド、チタン−ｎ−プロポキシド、チタン−ｉ−プロポキシド、チタン−ｎ−ブトキシド、ジルコニウムエトキシド、ジルコニウム−ｎ−プロポキシド、ジルコニウム−ｉ−プロポキシド、ジルコニウム−ｎ−ブトキシド、ハフニウムエトキシド、ハフニウム−ｎ−プロポキシド、ハフニウム−ｉ−プロポキシド、ハフニウム−ｎ−ブトキシド、ゲルマニウムエトキシド、ゲルマニウム−ｎ−プロポキシド、ゲルマニウム−ｉ−プロポキシド、ゲルマニウム−ｎ−ブトキシド、スズエトキシド、スズ−ｎ−プロポキシド、スズ−ｉ−プロポキシド、スズ−ｎ−ブトキシド、ビスマスエトキシド、ビスマス−ｎ−プロポキシド、ビスマス−ｉ−プロポキシド、ビスマス−ｎ−ブトキシド、ビスマス−２−エトキシエトキシド、ビスマス−１−メトキシ−２−プロポキシド、ランタンエトキシド、ランタン−ｉ−プロポキシド、ランタン−ｎ−ブトキシド、ランタン−２−エトキシエトキシド、ランタン−１−メトキシ−２−プロポキシド、イットリウムエトキシド、イットリウム−ｉ−プロポキシド、イットリウム−ｎ−ブトキシド、イットリウム−２−エトキシエトキシド、イットリウム−１−メトキシ−２−プロポキシド、シリコンエトキシド、鉄−２−エトキシエトキシド、鉄−１−メトキシ−２−プロポキシド、マンガン−２−エトキシエトキシド、マンガン−１−メトキシ−２−プロポキシド、コバルト−２−エトキシエトキシド、ニッケル−２−エトキシエトキシド、ニッケル−１−メトキシ−２−プロポキシド、銅−２−エトキシエトキシド、亜鉛−２−エトキシエトキシド等が挙げられる。好ましい具体例としては、チタン−ｎ−ブトキシド、ジルコニウムエトキシド、ジルコニウム−ｎ−プロポキシド、ジルコニウム−ｉ−プロポキシド、ジルコニウム−ｎ−ブトキシド、ハフニウムエトキシド、ハフニウム−ｎ−プロポキシド、ハフニウム−ｉ−プロポキシド、ハフニウム−ｎ−ブトキシド等が挙げられる。これら金属アルコキシドの製造方法は、特に限定されないが、特開平２００４−３５９６３６号公報に記載される方法等が挙げられる。
【００５８】
式（６ａ）で表されるジオール化合物として、好ましい具体例としては、下記式で表される化合物が挙げられる。
【化１４】
2017099192.tif 000016
【化１５】
2017099192.tif 000017
【００５９】
これらジオール化合物の製造方法は、特に限定されないが、例えば、下記式（６）で表されるジオール化合物は、例えば、酸触媒の存在下、下記式（７）で表される化合物及び／又は下記式（８）で表される化合物と、下記式（９）で表される化合物とを反応させることにより合成することができる。なお、適宜、下記式（７）で表される化合物及び下記式（８）で表される化合物の組み合わせ方や添加量等を調整することにより、上記式（６）で表される所望のジオール化合物を得ることができる。また、反応後に、例えば、シリカゲルカラムクロマトグラフィー等の公知の分離方法により、目的とするジオール化合物を分離してもよい。
【００６０】
【化１６】
2017099192.tif 000018
【化１７】
2017099192.tif 000019
（上記一般式（６）、（７）、（８）、及び（９）中、Ｘ１、Ｘ２、環Ｙ１、環Ｙ２、環Ｚ１、Ｚ２、Ｒ、Ｒ１、Ｒ２ａ、Ｒ２ｂ、Ｒ３ａ、Ｒ３ｂ、ｍ１、ｍ２、ｎ１、及びｎ２は上記の通りである。）
【００６１】
上記式（６）で表されるジオール化合物の合成に用いられる溶媒としては、上述した金属アルコキシド化合物とジオール化合物との反応に用いられる溶媒と同様のものを使用することができる。また、式（６）で表されるジオール化合物の合成に用いられる酸触媒、反応条件等としては、例えば、特開２０１１−２０１７９１号公報又は特開２００２−２５５９２９号公報において、特許請求の範囲に記載されたフルオレン系化合物の製造方法に用いることができると記載されているものが挙げられる。
【００６２】
＜フィラー＞
上述した有機金属化合物又はその混合物は、フィラーとしても好ましく用いられる。上記有機金属化合物又はその混合物を含むフィラーを各種組成物に含有することにより、組成物に高い屈折率を付与することができる。
【００６３】
更に、上記フィラーは、他の分散剤を含んでいてもよい。これにより、高い屈折率を有する組成物を得るためのフィラーとしての機能をより発現しやすくなる。このようなフィラーは、高い屈折率を必要とされる、レンズ、プリズム、フィルタ、画像表示材料、光ディスク用基板、光ファイバー、光導波路、ケーシング材料、フィルム、コーティング材料等の光学部材の用途で使用される各種組成物に好ましく用いられる。例えば、液晶表示ディスプレイや有機ＥＬディスプレイ等において、ＩＴＯ等の透明導電性材料性の基板（屈折率２．０）上に形成する硬化膜（屈折率１．８）を形成する硬化性組成物に、上述した有機金属化合物又はその混合物をフィラーとして好ましく用いることができる。
【００６４】
上記有機金属化合物又はその混合物と、併用して用いられる分散剤としては、特に限定されないが、公知の分散剤としては、ポリマー分散剤が好ましく、例えば、アクリル系共重合体分散剤、ポリウレタン系分散剤、ポリエステル系分散剤、ポリエチレンイミン系分散剤、ポリアリルアミン系分散剤等が挙げられる。中でもポリウレタン系分散剤が好ましい。これらポリマー分散剤を使用すると、上記有機金属化合物の分散性及び分散安定性を改善することができる。
【実施例】
【００６５】
以下、実施例を示して本発明を更に具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。【００６６】
［実施例１］
まず、ジルコニウムブトキシド［Ｚｒ（ＯＣ４Ｈ９）４］を下記に説明する方法により得た。
無水四塩化ジルコニウム［ＺｒＣｌ４］１００ｇ［０．４２９モル］をトルエン７００ｇに分散させ１−ブタノール１４０ｇ［理論量に対して１．１当量］を冷却しながら滴下し無水四塩化ジルコニウムを溶解した。この溶液に冷却しながらアンモニアガス［ＮＨ３］４４ｇ［理論量に対して１．５当量］を導入し５時間撹拌を行ないジルコニウムブトキシド［Ｚｒ（ＯＣ４Ｈ９）４］を合成した。生成した塩化アンモニウム［ＮＨ４Ｃｌ］を減圧ろ過し、更にろ過器上の塩化アンモニウムケーキ中に残存するジルコニウムブトキシド溶液を少量のトルエンで洗い出し、ジルコニウムブトキシド１４２ｇ［仕込み四塩化ジルコニウムに対する収率；８６％］のトルエン／ブタノール溶液１０３０ｇを得た。【００６７】
得られたジルコニウムブトキシドのトルエン／ブタノール溶液中のＣｌを分析したところ、ジルコニウムブトキシド（疎精製物）に対して１９０ｐｐｍであった。【００６８】
このジルコニウムブトキシド溶液に協和化学工業（株）製キョーワード１０００［Ｍｇ４．５Ａｌ２（ＯＨ）１３ＣＯ３・３．５Ｈ２Ｏ］を２．１ｇ［ジルコニウムブトキシドに対して１．５ｗｔ％相当］加え、室温で３時間撹拌した後、減圧ろ過した。ろ過器上のケーキ中に残存するジルコニウムブトキシド溶液を少量のトルエンで洗い出し、ジルコニウムブトキシド１３７ｇ［仕込み四塩化ジルコニウムに対する収率；８３％］のトルエン／ブタノール溶液１０９０ｇを得た。得られたジルコニウムブトキシドのトルエン／ブタノール溶液中のＣｌを分析したところ、ジルコニウムブトキシド（精製物）に対して８ｐｐｍであった。【００６９】
ジルコニウムブトキシド中の塩素の定量分析は、希ＮａＯＨ水により加水分解させた後、上澄みをろ過し、イオンクロマト法により行なった。溶液中のジルコニウムブトキシド含有量は、１／１００ＭのＥＤＴＡ標準液を使用してキレート滴定により行なった。【００７０】
次に、得られたジルコニウムブトキシドのトルエン／ブタノール溶液と、下記式で示されるジオール化合物とを、モル比で、ジルコニウムブトキシド：ジオール化合物＝１：４となるように混合し、９０℃で３０分間撹拌した後、放冷し、濾過して固形分を回収し、乾燥して、有機金属化合物を含む反応生成物を得た。
【化１８】
2017099192.tif 000020
【００７１】
また、ジルコニウムブトキシドのトルエン／ブタノール溶液と、上記式で示されるジオール化合物を、モル比でジルコニウムブトキシド：ジオール化合物＝１：１となるように混合した以外は、上述した方法と同様にして有機金属化合物を含む反応生成物を得た。【００７２】
得られた各反応生成物をＸ線光電子分光装置（ＸＰＳ）にて分析した結果を図１に示す。なお、図１（ａ）に示すスペクトルは（原料に用いた）ジオール化合物の分析結果であり、（ｂ）に示すスペクトルはジルコニウムブトキシドとジオール化合物の混合比がモル比で１：４である、有機金属化合物を含む反応生成物の分析結果、（ｃ）に示すスペクトルはジルコニウムブトキシドとジオール化合物の混合比がモル比で１：１である、有機金属化合物を含む反応生成物の分析結果である。【００７３】
測定条件は、下記の通りである。
分析装置：ＰＨＩ社製  「ＸＰＳ５７００」
Ｘ線源：単色化  ＡｌＫα（１４８６．６ｅＶ）２００Ｗ
測定領域：４００μｍ径
検出角：４５°
中和電子銃：使用【００７４】
Ｘ線光電子分光装置（ＸＰＳ）により酸素（Ｏ１ｓ電子）について観測した結果、図１（ａ）（ｂ）（ｃ）に示すように、ジルコニウムブトキシドの混合比が大きくなるほど（モル比でジルコニウムブトキシド：ジオール化合物＝１：１の場合の方が、同１：４の場合に比べて）、図１中ｘで示すＱ−ＯＨ基に由来する５３６ｅＶ付近のピークが見られなくなり、図１中ｙで示す５３３．５ｅＶ付近のピークが、図中ｙ’で示す５３１．４ｅＶ付近のピークへと次第に低エネルギー側にシフトしていることが確認された。これにより、ジオール化合物の−Ｏ−Ｑ−ＯＨ基とジルコニウムブトキシドのブトキシ基とが置換されて有機金属化合物が合成され、ジルコニウムブトキシドの混合比が大きくなることで、置換する基（Ｚｒ−（Ｏ−Ｑ−）基に由来する酸素原子）が増えている（ジルコニウムが結合することで、内殻電子が放出されやすくなる）ことが確認された。【００７５】
［実施例２］
まず、チタニウムブトキシド［Ｔｉ（ＯＣ４Ｈ９）４］を下記に説明する方法により得た。
無水四塩化チタニウム［ＴｉＣｌ４］１００ｇ［０．５２７モル］をトルエン８００ｇに溶解させ１−ブタノール１８８ｇ［理論量に対して１．２当量］を冷却しながら滴下した。この溶液に冷却しながらアンモニアガス［ＮＨ３］５４ｇ［理論量に対して１．５当量］を導入し４時間撹拌を行ないチタニウムブトキシド［Ｔｉ（ＯＣ４Ｈ９）４］を合成した。生成した塩化アンモニウム［ＮＨ４Ｃｌ］を減圧ろ過し、更にろ過器上の塩化アンモニウムケーキ中に残存するチタニウムブトキシド溶液を少量のトルエンで洗い出し、チタニウムブトキシド１７０ｇ［仕込み四塩化チタニウムに対する収率；９５％］のトルエン／ブタノール溶液１２４０ｇを得た。【００７６】
得られたチタニウムブトキシドのトルエン／ブタノール溶液中のＣｌを分析したところ、チタニウムブトキシド（疎精製物）に対して４００ｐｐｍであった。【００７７】
このチタニウムブトキシド溶液に協和化学工業（株）製キョーワード１０００［Ｍｇ４．５Ａｌ２（ＯＨ）１３ＣＯ３・３．５Ｈ２Ｏ］を３．４ｇ［チタニウムブトキシドに対して２．０ｗｔ％相当］加え、室温で３時間撹拌した後、減圧ろ過した。ろ過器上のケーキ中に残存するチタニウムブトキシド溶液を少量のトルエンで洗い出し、チタニウムブトキシド１６８ｇ［仕込み四塩化チタニウムに対する収率；９４％］のトルエン／ブタノール溶液１３１０ｇを得た。【００７８】
得られたチタニウムブトキシドのトルエン／ブタノール溶液中のＣｌを分析したところ、チタニウムブトキシド（精製物）に対して１０ｐｐｍであった。各分析は、ジルコニウムブトキシドと同様にして行った。【００７９】
次に、上記ジルコニウムブトキシドを用いた場合と同様に、得られたチタニウムブトキシドのトルエン／ブタノール溶液と、上記ジオール化合物とを、モル比でチタニウムブトキシド：ジオール化合物＝１：４及び１：１となるようそれぞれ混合して反応を行った。【００８０】
得られた反応生成物をＸ線光電子分光装置（ＸＰＳ）にて分析した結果を図２に示す。なお、図２（ａ）に示すスペクトルは（原料に用いた）ジオール化合物の分析結果であり、（ｂ）に示すスペクトルはチタニウムブトキシドとジオール化合物の混合比がモル比で１：４である、有機金属化合物を含む反応生成物の分析結果、（ｃ）に示すスペクトルはチタニウムブトキシドとジオール化合物の混合比がモル比で１：１である、有機金属化合物を含む反応生成物の分析結果である。【００８１】
Ｘ線光電子分光装置（ＸＰＳ）により酸素（Ｏ１ｓ電子）について観測した結果、図２（ａ）（ｂ）（ｃ）に示すように、チタニウムブトキシドの混合比が大きくなるほど（モル比でチタニウムブトキシド：ジオール化合物＝１：１の場合の方が、同１：４の場合に比べて）、図２中ｙで示す５３３．４ｅＶ付近のピークが、次第に図２中ｙ’で示す５３１．７ｅＶ付近のピークへと低エネルギー側にシフトしていることが確認された。これにより、ジオール化合物の−Ｏ−Ｑ−ＯＨ基とチタニウムブトキシドのブトキシ基とが置換されて有機金属化合物が合成され、チタニウムブトキシドの混合比が大きくなることで、置換する基（Ｔｉ−（Ｏ−Ｑ−）基に由来する酸素原子）が増えていることが確認された。
【図１】
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【図２】
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【国際調査報告】
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