(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記化学式１で表される化合物：
［化学式１］
【化１】
0006989029.tif 000108
上記化学式１中、
Ｙ１はＯまたはＳであり、
Ａｒ１〜Ａｒ３のうちの一つは下記化学式２で表され、残りは水素であり、
Ａｒ４〜Ａｒ７のうちの一つは置換または非置換のジベンゾフラン；または置換または非置換のジベンゾチオフェンであり、残りは水素であり、
Ａｒ１が下記化学式２で表される場合、Ａｒ７は水素であり、
［化学式２］
【化２】
0006989029.tif 000109
上記化学式２中、
Ｘはそれぞれ独立して、ＮまたはＣＨであり、Ｘのうちの２個以上がＮであり、
Ｙ２はＯまたはＳであり、
Ｒ１〜Ｒ３はそれぞれ独立して、水素；重水素；ハロゲン；ヒドロキシ；シアノ；ニトリル；ニトロ；アミノ；置換または非置換の炭素数１〜６０のアルキル；置換または非置換の炭素数１〜６０のハロアルキル；置換または非置換の炭素数１〜６０のチオアルキル；置換または非置換の炭素数１〜６０のアルコキシ；置換または非置換の炭素数１〜６０のハロアルコキシ；置換または非置換の炭素数３〜６０のシクロアルキル；または置換または非置換の炭素数２〜６０のアルケニルであり、
ａは１〜３の整数であり、
ｂは１〜４の整数であり、
ｃは１〜５の整数である。
【請求項２】
上記化学式１は、下記化学式１−１〜１−５で表される化合物の中から選択されるいずれか一つである、請求項１に記載の化合物：
［化学式１−１］
【化３】
0006989029.tif 000110
［化学式１−２］
【化４】
0006989029.tif 000111
［化学式１−３］
【化５】
0006989029.tif 000112
［化学式１−４］
【化６】
0006989029.tif 000113
［化学式１−５］
【化７】
0006989029.tif 000114
上記化学式１−１〜１−５中、
Ｙ１、Ｙ２、Ｘ、Ｒ１〜Ｒ３、ａ、ｂおよびｃに対する説明は請求項１で定義した通りであり、
Ｙ３は、ＯまたはＳであり、
Ｒ４およびＲ５はそれぞれ独立して、水素；重水素；ハロゲン；ヒドロキシ；シアノ；ニトリル；ニトロ；アミノ；置換または非置換の炭素数１〜６０のアルキル；置換または非置換の炭素数１〜６０のハロアルキル；置換または非置換の炭素数１〜６０のチオアルキル；置換または非置換の炭素数１〜６０のアルコキシ；置換または非置換の炭素数１〜６０のハロアルコキシ；置換または非置換の炭素数３〜６０のシクロアルキル；置換または非置換の炭素数２〜６０のアルケニル；置換または非置換の炭素数６〜６０のアリール；置換または非置換の炭素数６〜６０のアリールオキシ；または置換または非置換のＯ、Ｎ、ＳｉおよびＳのうちの１個以上を含む炭素数２〜６０のヘテロアリールであり、
ｄは１〜３の整数であり、
ｅは１〜４の整数である。
【請求項３】
Ｘは全てＮである、請求項１または２に記載の化合物。
【請求項４】
Ｒ１〜Ｒ３はそれぞれ独立して、水素または重水素である、請求項１から３のいずれか一項に記載の化合物。
【請求項５】
上記化学式１で表される化合物は、下記化合物で構成される群から選択されるいずれか一つである、請求項１に記載の化合物：
【化８】
0006989029.tif 000115
【化９】
0006989029.tif 000116
【化１０】
0006989029.tif 000117
【化１１】
0006989029.tif 000118
【化１２】
0006989029.tif 000119
【化１３】
0006989029.tif 000120
【化１４】
0006989029.tif 000121
【化１５】
0006989029.tif 000122
【化１６】
0006989029.tif 000123
【化１７】
0006989029.tif 000124
【化１８】
0006989029.tif 000125
【化１９】
0006989029.tif 000126
【化２０】
0006989029.tif 000127
【化２１】
0006989029.tif 000128
【化２２】
0006989029.tif 000129
【化２３】
0006989029.tif 000130
【化２４】
0006989029.tif 000131
【化２５】
0006989029.tif 000132
【化２６】
0006989029.tif 000133
。
【請求項６】
第１電極と、前記第１電極に対向して備えられた第２電極と、前記第１電極と前記第２電極との間に備えられた１層以上の有機物層と、を含む有機発光素子であって、前記有機物層のうちの１層以上は、請求項１から請求項５のいずれか一項に記載の化合物を含むものである、有機発光素子。
【請求項７】
前記有機物層は発光層を含み、前記発光層は２種以上のホスト物質を含む、請求項６に記載の有機発光素子。
【請求項８】
前記２種以上のホスト物質は請求項１から請求項５のいずれか一項に記載の化合物を含む、請求項７に記載の有機発光素子。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
[関連出願の相互参照]
本出願は、２０１８年１０月２２日付の韓国特許出願第１０−２０１８−０１２５８９８号および２０１９年１０月２１日付の韓国特許出願第１０−２０１９−０１３０５９７号に基づく優先権の利益を主張し、当該韓国特許出願の文献に開示された全ての内容は本明細書の一部として含まれる。
【０００２】
本発明は、新規なヘテロ環化合物およびこれを含む有機発光素子に関する。
【背景技術】
【０００３】
一般的に、有機発光現象とは、有機物質を利用して電気エネルギーを光エネルギーに転換させる現象をいう。有機発光現象を利用する有機発光素子は、広い視野角、優れたコントラスト、速い応答時間を有し、輝度、駆動電圧および応答速度特性に優れて多くの研究が進められている。
【０００４】
有機発光素子は、一般的に正極と負極および前記正極と負極との間に有機物層を含む構造を有する。前記有機物層は、有機発光素子の効率と安全性を高めるために、それぞれ異なる物質から構成された多層の構造からなる場合が多く、例えば、正孔注入層、正孔輸送層、発光層、電子輸送層、電子注入層などからなる。このような有機発光素子の構造において、２つの電極の間に電圧をかけると、正極からは正孔が、負極からは電子が有機物層に注入され、注入された正孔と電子が接した時、エキシトン（ｅｘｃｉｔｏｎ）が形成され、このエキシトンが再び底状態に落ちる時、光が出るようになる。
【０００５】
このような有機発光素子に使用される有機物に対して新たな材料の開発が要求され続けている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】韓国特許公開第１０−２０００−００５１８２６号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は、新規なヘテロ環化合物およびこれを含む有機発光素子に関する。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明は、下記化学式１で表される化合物を提供する：
【０００９】
［化学式１］
【化１】
0006989029.tif 000002
上記化学式１中、
Ｙ１はＯまたはＳであり、
Ａｒ１〜Ａｒ３のうちの一つは下記化学式２で表され、残りは水素であり、
Ａｒ４〜Ａｒ７のうちの一つは置換または非置換のジベンゾフラン；または置換または非置換のジベンゾチオフェンであり、残りは水素であり、
Ａｒ１が下記化学式２で表される場合、Ａｒ７は水素であり、
［化学式２］
【化２】
0006989029.tif 000003
上記化学式２中、
Ｘはそれぞれ独立して、ＮまたはＣＨであり、Ｘのうちの２個以上がＮであり、
Ｙ２はＯまたはＳであり、
Ｒ１〜Ｒ３はそれぞれ独立して、水素；重水素；ハロゲン；ヒドロキシ；シアノ；ニトリル；ニトロ；アミノ；置換または非置換の炭素数１〜６０のアルキル；置換または非置換の炭素数１〜６０のハロアルキル；置換または非置換の炭素数１〜６０のチオアルキル；置換または非置換の炭素数１〜６０のアルコキシ；置換または非置換の炭素数１〜６０のハロアルコキシ；置換または非置換の炭素数３〜６０のシクロアルキル；または置換または非置換の炭素数２〜６０のアルケニルであり、
ａは１〜３の整数であり、
ｂは１〜４の整数であり、
ｃは１〜５の整数である。
【００１０】
また、本発明は、第１電極と、前記第１電極に対向して備えられた第２電極と、前記第１電極と前記第２電極との間に備えられた１層以上の有機物層と、を含む有機発光素子であって、前記有機物層のうちの１層以上は、上記化学式１で表される化合物を含む、有機発光素子を提供する。
【発明の効果】
【００１１】
上記化学式１で表される化合物は、有機発光素子の有機物層の材料として用いられ、有機発光素子において効率の向上、低い駆動電圧および／または寿命特性を向上させることができる。特に、上記化学式１で表される化合物は、正孔注入、正孔輸送、正孔注入および輸送、発光、電子輸送、または電子注入材料として使用できる。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】基板１、正極２、発光層３、負極４からなる有機発光素子の例を示すものである。
【図２】基板１、正極２、正孔注入層５、正孔輸送層６、電子遮断層７、発光層３、電子輸送層８、電子注入層９および負極４からなる有機発光素子の例を示すものである。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
以下、本発明の理解を助けるためにより詳しく説明する。
【００１４】
本発明は、上記化学式１で表される化合物を提供する。
【００１５】
本明細書において、
【化３】
0006989029.tif 000004
および
【化４】
0006989029.tif 000005
は、他の置換基に連結される結合を意味する。
【００１６】
本明細書において、「置換または非置換の」という用語は、重水素；ハロゲン基；ニトリル基；ニトロ基；ヒドロキシ基；カルボニル基；エステル基；イミド基；アミノ基；ホスフィンオキシド基；アルコキシ基；アリールオキシ基；アルキルチオキシ基；アリールチオキシ基；アルキルスルホキシ基；アリールスルホキシ基；シリル基；ホウ素基；アルキル基；シクロアルキル基；アルケニル基；アリール基；アラルキル基；アラルケニル基；アルキルアリール基；アルキルアミン基；アラルキルアミン基；ヘテロアリールアミン基；アリールアミン基；アリールホスフィン基；またはＮ、ＯおよびＳ原子のうちの１個以上を含むヘテロ環基からなる群から選択される１個以上の置換基で置換または非置換されるか、前記例示された置換基のうちの２以上の置換基が連結された置換または非置換されることを意味する。例えば、「２以上の置換基が連結された置換基」は、ビフェニル基であってもよい。すなわち、ビフェニル基は、アリール基であってもよく、２個のフェニル基が連結された置換基と解釈されてもよい。
【００１７】
本明細書において、カルボニル基の炭素数は特に限定されないが、炭素数１〜４０であることが好ましい。具体的には、下記のような構造の化合物であってもよいが、これに限定されるものではない。
【００１８】
【化５】
0006989029.tif 000006
【００１９】
本明細書において、エステル基は、エステル基の酸素が、炭素数１〜２５の直鎖、分枝鎖もしくは環鎖アルキル基、または炭素数６〜２５のアリール基で置換されていてもよい。具体的には、下記構造式の化合物であってもよいが、これに限定されるものではない。
【００２０】
【化６】
0006989029.tif 000007
【００２１】
本明細書において、イミド基の炭素数は特に限定されないが、炭素数１〜２５であることが好ましい。具体的には、下記のような構造の化合物であってもよいが、これに限定されるものではない。
【００２２】
【化７】
0006989029.tif 000008
【００２３】
本明細書において、シリル基は、具体的には、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、ｔ−ブチルジメチルシリル基、ビニルジメチルシリル基、プロピルジメチルシリル基、トリフェニルシリル基、ジフェニルシリル基、フェニルシリル基などがあるが、これらに限定されるものではない。
【００２４】
本明細書において、ホウ素基は、具体的には、トリメチルホウ素基、トリエチルホウ素基、ｔ−ブチルジメチルホウ素基、トリフェニルホウ素基、フェニルホウ素基などがあるが、これらに限定されるものではない。
【００２５】
本明細書において、ハロゲン基の例としては、フッ素、塩素、臭素、またはヨウ素がある。
【００２６】
本明細書において、前記アルキル基は、直鎖もしくは分枝鎖であってもよく、炭素数は特に限定されないが、１〜４０であることが好ましい。一実施形態によれば、前記アルキル基の炭素数は１〜２０である。また一つの実施形態によれば、前記アルキル基の炭素数は１〜１０である。また一つの実施形態によれば、前記アルキル基の炭素数は１〜６である。アルキル基の具体的な例としては、メチル、エチル、プロピル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ブチル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｓｅｃ−ブチル、１−メチルブチル、１−エチルブチル、ペンチル、ｎ−ペンチル、イソペンチル、ネオペンチル、ｔｅｒｔ−ペンチル、ヘキシル、ｎ−ヘキシル、１−メチルペンチル、２−メチルペンチル、４−メチル−２−ペンチル、３，３−ジメチルブチル、２−エチルブチル、ヘプチル、ｎ−ヘプチル、１−メチルヘキシル、シクロペンチルメチル、シクロヘキシルメチル、オクチル、ｎ−オクチル、ｔｅｒｔ−オクチル、１−メチルヘプチル、２−エチルヘキシル、２−プロピルペンチル、ｎ−ノニル、２，２−ジメチルヘプチル、１−エチルプロピル、１，１−ジメチルプロピル、イソヘキシル、２−メチルペンチル、４−メチルヘキシル、５−メチルヘキシルなどがあるが、これらに限定されるものではない。
【００２７】
本明細書において、前記アルケニル基は、直鎖もしくは分枝鎖であってもよく、炭素数は特に限定されないが、２〜４０であることが好ましい。一実施形態によれば、前記アルケニル基の炭素数は２〜２０である。また一つの実施形態によれば、前記アルケニル基の炭素数は２〜１０である。また一つの実施形態によれば、前記アルケニル基の炭素数は２〜６である。具体的な例としては、ビニル、１−プロペニル、イソプロペニル、１−ブテニル、２−ブテニル、３−ブテニル、１−ペンテニル、２−ペンテニル、３−ペンテニル、３−メチル−１−ブテニル、１，３−ブタジエニル、アリル、１−フェニルビニル−１−イル、２−フェニルビニル−１−イル、２，２−ジフェニルビニル−１−イル、２−フェニル−２−（ナフチル−１−イル）ビニル−１−イル、２，２−ビス（ジフェニル−１−イル）ビニル−１−イル、スチルベニル基、スチレニル基などがあるが、これらに限定されるものではない。
【００２８】
本明細書において、シクロアルキル基は特に限定されないが、炭素数３〜６０であることが好ましく、一実施形態によれば、前記シクロアルキル基の炭素数は３〜３０である。また一つの実施形態によれば、前記シクロアルキル基の炭素数は３〜２０である。また一つの実施形態によれば、前記シクロアルキル基の炭素数は３〜６である。具体的には、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、３−メチルシクロペンチル、２，３−ジメチルシクロペンチル、シクロヘキシル、３−メチルシクロヘキシル、４−メチルシクロヘキシル、２，３−ジメチルシクロヘキシル、３，４，５−トリメチルシクロヘキシル、４−ｔｅｒｔ−ブチルシクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチルなどがあるが、これらに限定されるものではない。
【００２９】
本明細書において、アリール基は特に限定されないが、炭素数６〜６０であることが好ましく、単環式アリール基または多環式アリール基であってもよい。一実施形態によれば、前記アリール基の炭素数は６〜３０である。一実施形態によれば、前記アリール基の炭素数は６〜２０である。前記単環式アリール基としては、フェニル基、ビフェニル基、ターフェニル基などであってもよいが、これらに限定されるものではない。前記多環式アリール基としては、ナフチル基、アントラセニル基、フェナントリル基、ピレニル基、ペリレニル基、クリセニル基、フルオレニル基などであってもよいが、これらに限定されるものではない。
【００３０】
本明細書において、フルオレニル基は置換されていてもよく、置換基２個が互いに結合してスピロ構造を形成してもよい。前記フルオレニル基が置換される場合、
【化８】
0006989029.tif 000009
などであってもよい。ただし、これらに限定されるものではない。
【００３１】
本明細書において、ヘテロ環基は、異種元素としてＯ、Ｎ、ＳｉおよびＳのうちの１個以上を含むヘテロ環基であって、炭素数は特に限定されないが、炭素数２〜６０であることが好ましい。ヘテロ環基の例としては、チオフェン基、フラニル基、ピロール基、イミダゾール基、チアゾール基、オキサゾール基、オキサジアゾール基、トリアゾル基、ピリジル基、ビピリジル基、ピリミジル基、トリアジニル基、アクリジニル基、ピリダジニル基、ピラジニル基、キノリニル基、キナゾリニル基、キノキサリニル基、フタラジニル基、ピリドピリミジニル基、ピリドピラジニル基、ピラジノピラジニル基、イソキノリル基、インドール基、カルバゾール基、ベンゾオキサゾール基、ベンゾイミダゾール基、ベンゾチアゾール基、ベンゾカルバゾール基、ベンゾチオフェン基、ジベンゾチオフェン基、ベンゾフラニル基、フェナントロリン基（ｐｈｅｎａｎｔｈｒｏｌｉｎｅ）、イソオキサゾリル基、チアジアゾリル基、フェノチアジニル基、およびジベンゾフラニル基などがあるが、これらにのみ限定されるものではない。
【００３２】
本明細書において、アラルキル基、アラルケニル基、アルキルアリール基、アリールアミン基中のアリール基は、上述したアリール基に関する説明が適用可能である。本明細書において、アラルキル基、アルキルアリール基、アルキルアミン基中のアルキル基は、上述したアルキル基に関する説明が適用可能である。本明細書において、ヘテロアリールアミン中のヘテロアリールは、上述したヘテロ環基に関する説明が適用可能である。本明細書において、アラルケニル基中のアルケニル基は、上述したアルケニル基に関する説明が適用可能である。本明細書において、アリーレンは、２価の基であることを除けば、上述したアリール基に関する説明が適用可能である。本明細書において、ヘテロアリーレンは、２価の基であることを除けば、上述したヘテロ環基に関する説明が適用可能である。本明細書において、炭化水素環は１価の基ではなく、２個の置換基が結合して形成したことを除けば、上述したアリール基またはシクロアルキル基に関する説明が適用可能である。本明細書において、ヘテロ環は１価の基ではなく、２個の置換基が結合して形成したことを除けば、上述したヘテロ環基に関する説明が適用可能である。
【００３３】
好ましくは、上記化学式１は、下記化学式１−１〜１−５で表される化合物の中から選択されるいずれか一つであり得る。
【００３４】
［化学式１−１］
【化９】
0006989029.tif 000010
［化学式１−２］
【化１０】
0006989029.tif 000011
［化学式１−３］
【化１１】
0006989029.tif 000012
［化学式１−４］
【化１２】
0006989029.tif 000013
［化学式１−５］
【化１３】
0006989029.tif 000014
【００３５】
上記化学式１−１〜１−５中、
Ｙ１、Ｙ２、Ｘ、Ｒ１〜Ｒ３、ａ、ｂおよびｃに対する説明は先に定義した通りであり、
Ｙ３は、ＯまたはＳであり、
Ｒ４およびＲ５はそれぞれ独立して、水素；重水素；ハロゲン；ヒドロキシ；シアノ；ニトリル；ニトロ；アミノ；置換または非置換の炭素数１〜６０のアルキル；置換または非置換の炭素数１〜６０のハロアルキル；置換または非置換の炭素数１〜６０のチオアルキル；置換または非置換の炭素数１〜６０のアルコキシ；置換または非置換の炭素数１〜６０のハロアルコキシ；置換または非置換の炭素数３〜６０のシクロアルキル；置換または非置換の炭素数２〜６０のアルケニル；置換または非置換の炭素数６〜６０のアリール；置換または非置換の炭素数６〜６０のアリールオキシ；または置換または非置換のＯ、Ｎ、ＳｉおよびＳのうちの１個以上を含む炭素数２〜６０のヘテロアリールであり、
ｄは１〜３の整数であり、
ｅは１〜４の整数である。
好ましくは、Ｘは全てＮである。
好ましくは、Ｒ１〜Ｒ３はそれぞれ独立して、水素または重水素であり得る。
好ましくは、上記化学式１で表される化合物は、下記化合物で構成される群から選択される。
【００３６】
【化１４】
0006989029.tif 000015
【化１５】
0006989029.tif 000016
【化１６】
0006989029.tif 000017
【化１７】
0006989029.tif 000018
【化１８】
0006989029.tif 000019
【化１９】
0006989029.tif 000020
【化２０】
0006989029.tif 000021
【化２１】
0006989029.tif 000022
【化２２】
0006989029.tif 000023
【化２３】
0006989029.tif 000024
【化２４】
0006989029.tif 000025
【化２５】
0006989029.tif 000026
【化２６】
0006989029.tif 000027
【化２７】
0006989029.tif 000028
【化２８】
0006989029.tif 000029
【化２９】
0006989029.tif 000030
【化３０】
0006989029.tif 000031
【化３１】
0006989029.tif 000032
【化３２】
0006989029.tif 000033
【００３７】
上記化学式１で表される化合物は、下記反応式１のような製造方法で製造することができる。前記製造方法は、後述する製造例でより具体化される。
【００３８】
［反応式１］
【化３３】
0006989029.tif 000034
【００３９】
上記反応式１中のＸ'を除いた残りの定義は先に定義した通りであり、Ｘ'はハロゲンであり、より好ましくはブロモ、またはクロロである。前記反応は鈴木カップリング反応で、パラジウム触媒と塩基の存在下で行うことが好ましく、鈴木カップリング反応のための反応基は当業界で公知のものによって変更可能である。前記製造方法は、後述する製造例でより具体化される。
【００４０】
また、本発明は、前記化学式１で表される化合物を含む有機発光素子を提供する。一例として、本発明は、第１電極と、前記第１電極に対向して備えられた第２電極と、前記第１電極と前記第２電極との間に備えられた１層以上の有機物層と、を含む有機発光素子であって、前記有機物層のうちの１層以上は、前記化学式１で表される化合物を含む、有機発光素子を提供する。
【００４１】
本発明の有機発光素子の有機物層は、単層構造からなってもよいが、２層以上の有機物層が積層された多層構造からなってもよい。例えば、本発明の有機発光素子は、有機物層として正孔注入層、正孔輸送層、発光層、電子輸送層、電子注入層などを含む構造を有し得る。しかし、有機発光素子の構造はこれに限定されず、より少数の有機物層を含んでもよい。
【００４２】
また、前記有機物層は正孔注入層、正孔輸送層、または正孔注入と輸送を同時に行う層を含むことができ、前記正孔注入層、正孔輸送層、または正孔注入と輸送を同時に行う層は、前記化学式１で表される化合物を含む。
【００４３】
また、前記有機物層は発光層を含むことができ、前記発光層は、前記化学式１で表される化合物を含む。
【００４４】
また、前記有機物層は電子輸送層、または電子注入層を含むことができ、前記電子輸送層、または電子注入層は、前記化学式１で表される化合物を含む。
【００４５】
また、前記電子輸送層、電子注入層、または電子輸送および電子注入を同時に行う層は、前記化学式１で表される化合物を含む。
【００４６】
また、前記有機物層は発光層および電子輸送層を含み、前記電子輸送層は、前記化学式１で表される化合物を含んでもよい。
【００４７】
また、本発明に係る有機発光素子は、基板上に、正極、１層以上の有機物層、および負極が順次に積層された構造（ｎｏｒｍａｌ  ｔｙｐｅ）の有機発光素子であり得る。また、本発明に係る有機発光素子は、基板上に、負極、１層以上の有機物層、および正極が順次に積層された逆方向構造（ｉｎｖｅｒｔｅｄ  ｔｙｐｅ）の有機発光素子であり得る。例えば、本発明の一実施形態による有機発光素子の構造は、図１および２に例示されている。
【００４８】
図１は、基板１、正極２、発光層３、負極４からなる有機発光素子の構造が例示されている。この構造において、前記化学式１で表される化合物は、前記発光層に含まれ得る。
【００４９】
図２は、基板１、正極２、正孔注入層５、正孔輸送層６、電子遮断層７、発光層３、電子輸送層８、電子注入層９および負極４からなる有機発光素子の構造が例示されている。この構造において、前記化学式１で表される化合物は、前記正孔注入層、正孔輸送層、電子遮断層、発光層、電子輸送層および電子注入層のうちの１層以上に含まれ得る。
【００５０】
具体的には、前記有機物層は発光層を含み得、前記発光層は２種以上のホスト物質を含み得る。
【００５１】
この時、前記２種以上のホスト物質は前記化学式１で表される化合物を含み得る。
【００５２】
本発明に係る有機発光素子は、前記有機物層のうちの１層以上が前記化学式１で表される化合物を含むことを除けば、当該技術分野で知られている材料および方法で製造され得る。また、前記有機発光素子が複数の有機物層を含む場合、前記有機物層は、同一の物質または異なる物質で形成され得る。
【００５３】
例えば、本発明に係る有機発光素子は、基板上に、第１電極、有機物層、および第２電極を順次に積層させて製造することができる。この時、スパッタリング法（ｓｐｕｔｔｅｒｉｎｇ）や電子ビーム蒸発法（ｅ−ｂｅａｍ  ｅｖａｐｏｒａｔｉｏｎ）などのＰＶＤ（ｐｈｙｓｉｃａｌ  Ｖａｐｏｒ  Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）方法を用いて、基板上に金属または導電性を有する金属酸化物またはこれらの合金を蒸着させて正極を形成し、その上に正孔注入層、正孔輸送層、発光層、および電子輸送層を含む有機物層を形成した後、その上に負極として用いられる物質を蒸着させて製造することができる。この方法以外にも、基板上に、負極物質から有機物層、正極物質を順に蒸着させて有機発光素子を作ることができる。
【００５４】
また、前記化学式１で表される化合物は、有機発光素子の製造時、真空蒸着法のみならず、溶液塗布法によって有機物層に形成され得る。ここで、溶液塗布法とは、スピンコーティング、ディップコーティング、ドクターブレーディング、インクジェットプリンティング、スクリーンプリンティング、スプレー法、ロールコーティングなどを意味するが、これらにのみ限定されるものではない。
【００５５】
この方法以外にも、基板上に、負極物質から有機物層、正極物質を順に蒸着させて有機発光素子を製造することができる（ＷＯ２００３／０１２８９０）。ただし、製造方法はこれに限定されるものではない。
【００５６】
一例として、前記第１電極は正極であり、前記第２電極は負極であるか、または、前記第１電極は負極であり、前記第２電極は正極である。
【００５７】
前記正極物質としては、通常有機物層への正孔注入が円滑となるように仕事関数の大きい物質が好ましい。前記正極物質の具体的な例としては、バナジウム、クロム、銅、亜鉛、金などの金属、またはこれらの合金；亜鉛酸化物、インジウム酸化物、インジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）、インジウム亜鉛酸化物（ＩＺＯ）などの金属酸化物；ＺｎＯ：ＡｌまたはＳＮＯ２：Ｓｂなどの金属と酸化物との組み合わせ；ポリ（３−メチルチオフェン）、ポリ[３，４−（エチレン−１，２−ジオキシ）チオフェン]（ＰＥＤＯＴ）、ポリピロールおよびポリアニリンなどの導電性高分子などがあるが、これらにのみ限定されるものではない。
【００５８】
前記負極物質としては、通常有機物層への電子注入が容易となるように仕事関数の小さい物質であることが好ましい。前記負極物質の具体的な例としては、マグネシウム、カルシウム、ナトリウム、カリウム、チタニウム、インジウム、イットリウム、リチウム、ガドリニウム、アルミニウム、銀、スズおよび鉛などの金属、またはこれらの合金；ＬｉＦ／ＡｌまたはＬｉＯ２／Ａｌなどの多層構造物質などがあるが、これらにのみ限定されるものではない。
【００５９】
前記正孔注入層は電極から正孔を注入する層であって、正孔注入物質としては、正孔を輸送する能力を有し、正極からの正孔注入効果、発光層または発光材料に対して優れた正孔注入効果を有し、発光層で生成された励起子の電子注入層または電子注入材料への移動を防止し、また、薄膜形成能力の優れた化合物が好ましい。正孔注入物質のＨＯＭＯ（ｈｉｇｈｅｓｔ  ｏｃｃｕｐｉｅｄ  ｍｏｌｅｃｕｌａｒ  ｏｒｂｉｔａｌ）が正極物質の仕事関数と周辺有機物層のＨＯＭＯとの間であることが好ましい。正孔注入物質の具体的な例としては、金属ポルフィリン（ｐｏｒｐｈｙｒｉｎ）、オリゴチオフェン、アリールアミン系の有機物、ヘキサニトリルヘキサアザトリフェニレン系の有機物、キナクリドン（ｑｕｉｎａｃｒｉｄｏｎｅ）系の有機物、ペリレン（ｐｅｒｙｌｅｎｅ）系の有機物、アントラキノンおよびポリアニリンとポリチオフェン系の導電性高分子などがあるが、これらにのみ限定されるものではない。
【００６０】
前記正孔輸送層は、正孔注入層から正孔を受け取って発光層まで正孔を輸送する層であって、正孔輸送物質としては、正極や正孔注入層から正孔輸送を受けて発光層に移し得る物質で、正孔に対する移動性の大きい物質が好適である。具体的な例としては、アリールアミン系の有機物、導電性高分子、および共役部分と非共役部分が共にあるブロック共重合体などがあるが、これらにのみ限定されるものではない。
【００６１】
前記発光物質としては、正孔輸送層と電子輸送層から正孔および電子の輸送をそれぞれ受けて結合させることにより可視光線領域の光を発し得る物質で、蛍光や燐光に対する量子効率の良い物質が好ましい。具体的な例としては、８−ヒドロキシ−キノリンアルミニウム錯体（Ａｌｑ３）；カルバゾール系化合物；二量体化スチリル（ｄｉｍｅｒｉｚｅｄ  ｓｔｙｒｙｌ）化合物；ＢＡｌｑ；１０−ヒドロキシベンゾキノリン−金属化合物；ベンゾキサゾール、ベンズチアゾールおよびベンズイミダゾール系の化合物；ポリ（ｐ−フェニレンビニレン）（ＰＰＶ）系の高分子；スピロ（ｓｐｉｒｏ）化合物；ポリフルオレン、ルブレンなどがあるが、これらにのみ限定されるものではない。
【００６２】
前記発光層は、ホスト材料およびドーパント材料を含むことができる。ホスト材料は、縮合芳香族環誘導体またはヘテロ環含有化合物などがある。具体的には、縮合芳香族環誘導体としては、アントラセン誘導体、ピレン誘導体、ナフタレン誘導体、ペンタセン誘導体、フェナントレン化合物、フルオランテン化合物などがあり、ヘテロ環含有化合物としては、カルバゾール誘導体、ジベンゾフラン誘導体、ラダー型フラン化合物、ピリミジン誘導体などがあるが、これらに限定されない。
【００６３】
ドーパント材料としては、芳香族アミン誘導体、スチリルアミン化合物、ホウ素錯体、フルオランテン化合物、金属錯体などがある。具体的には、芳香族アミン誘導体としては、置換または非置換のアリールアミノ基を有する縮合芳香族環誘導体で、アリールアミノ基を有するピレン、アントラセン、クリセン、ペリフランテンなどがあり、スチリルアミン化合物としては、置換または非置換のアリールアミンに少なくとも１個のアリールビニル基が置換されている化合物で、アリール基、シリル基、アルキル基、シクロアルキル基、およびアリールアミノ基からなる群より１または２以上選択される置換基が置換または非置換される。具体的には、スチリルアミン、スチリルジアミン、スチリルトリアミン、スチリルテトラアミンなどがあるが、これらに限定されない。また、金属錯体としては、イリジウム錯体、白金錯体などがあるが、これらに限定されない。
【００６４】
前記電子輸送層は、電子注入層から電子を受け取って発光層まで電子を輸送する層で、電子輸送物質としては、負極から電子注入をよく受けて発光層に移し得る物質で、電子に対する移動性の大きい物質が好適である。具体的な例としては、８−ヒドロキシキノリンのＡｌ錯体；Ａｌｑ３を含む錯体；有機ラジカル化合物；ヒドロキシフラボン−金属錯体などがあるが、これらにのみ限定されるものではない。電子輸送層は、従来技術により使用されているような、任意の所望するカソード物質と共に使用可能である。特に、適切なカソード物質の例は、低い仕事関数を有し、アルミニウム層またはシルバー層が後に続く通常の物質である。具体的には、セシウム、バリウム、カルシウム、イッテルビウム、およびサマリウムであり、各場合、アルミニウム層またはシルバー層が後に続く。
【００６５】
前記電子注入層は電極から電子を注入する層で、電子を輸送する能力を有し、負極からの電子注入効果、発光層または発光材料に対して優れた電子注入効果を有し、発光層で生成された励起子の正孔注入層への移動を防止し、また、薄膜形成能力の優れた化合物が好ましい。具体的には、フルオレノン、アントラキノジメタン、ジフェノキノン、チオピランジオキシド、オキサゾール、オキサジアゾール、トリアゾール、イミダゾール、ペリレンテトラカルボン酸、フルオレニリデンメタン、アントロンなどとそれらの誘導体、金属錯体化合物、および含窒素５員環誘導体などがあるが、これらに限定されない。
【００６６】
前記金属錯体化合物としては、８−ヒドロキシキノリナトリチウム、ビス（８−ヒドロキシキノリナト）亜鉛、ビス（８−ヒドロキシキノリナト）銅、ビス（８−ヒドロキシキノリナト）マンガン、トリス（８−ヒドロキシキノリナト）アルミニウム、トリス（２−メチル−８−ヒドロキシキノリナト）アルミニウム、トリス（８−ヒドロキシキノリナト）ガリウム、ビス（１０−ヒドロキシベンゾ[ｈ]キノリナト）ベリリウム、ビス（１０−ヒドロキシベンゾ[ｈ]キノリナト）亜鉛、ビス（２−メチル−８−キノリナト）クロロガリウム、ビス（２−メチル−８−キノリナト）（ｏ−クレゾラート）ガリウム、ビス（２−メチル−８−キノリナト）（１−ナフトラート）アルミニウム、ビス（２−メチル−８−キノリナト）（２−ナフトラート）ガリウムなどがあるが、これらに限定されない。
【００６７】
本発明に係る有機発光素子は、使用される材料によって、前面発光型、後面発光型、または両面発光型であり得る。
【００６８】
また、前記化学式１で表される化合物は、有機発光素子以外にも、有機太陽電池または有機トランジスターに含まれ得る。
【００６９】
以下、前記化学式１で表される化合物およびこれを含む有機発光素子の製造について実施例で具体的に説明する。しかし、下記の実施例は本発明を例示するためのものであり、本発明の範囲がこれらによって限定されるものではない。
【００７０】
製造例１：中間体化合物Ｑ−４の製造
（ａ）化合物Ｑ−１の製造
【化３４】
0006989029.tif 000035
【００７１】
ブロモ−３−フルオロ−４−ヨードベンゼン（１−ｂｒｏｍｏ−３−ｆｌｕｏｒｏ−４−ｉｏｄｏｂｅｎｚｅｎｅ）（５０ｇ、１６６．６ｍｍｏｌ）、５−クロロ−２−メトキシフェニルボロン酸（５−ｃｈｌｏｒｏ−２−ｍｅｔｈｏｘｙｐｈｅｎｙｌ）ｂｏｒｏｎｉｃ  ａｃｉｄ）（３１．１ｇ、１６６．６ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）（８００ｍＬ）に溶かした。そこに炭酸ナトリウム（Ｎａ２ＣＯ３）２Ｍ溶液（２５０ｍＬ）、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）［Ｐｄ（ＰＰｈ３）４］（３．８ｇ、３ｍｏｌ％）を入れて、１２時間還流させた。反応が終わった後、常温で冷却させ、生成された混合物を水とトルエンで３回抽出した。トルエン層を分離した後、硫酸マグネシウム（ｍａｇｎｅｓｉｕｍ  ｓｕｌｆａｔｅ）で乾燥してろ過した濾液を減圧蒸留して得られた混合物をクロロホルム、エタノールを用いて３回再結晶して、化合物Ｑ−１（２７．５ｇ、収率５１％、ＭＳ：［Ｍ＋Ｈ］＋＝３１４）を得た。
【００７２】
（ｂ）化合物Ｑ−２の製造
【化３５】
0006989029.tif 000036
【００７３】
化合物Ｑ−１（２５．０ｇ、１５０ｍｍｏｌ）をジクロロメタン（Ｄｉｃｈｌｏｒｏｍｅｔａｈｎｅ）（３００ｍＬ）に溶かした後、０℃で冷却させた。ボロントリブロミド（ｂｏｒｏｎ  ｔｒｉｂｒｏｍｉｄｅ）（７．９ｍＬ、８３．２ｍｍｏｌ）をゆっくり滴下した後、１２時間攪拌した。反応が終了した後、水で３回洗浄し、硫酸マグネシウム（ｍａｇｎｅｓｉｕｍ  ｓｕｌｆａｔｅ）で乾燥してろ過した濾液を減圧蒸留し、カラムクロマトグラフィーで精製して、化合物Ｑ−２（２３．７ｇ、収率９９％、ＭＳ：［Ｍ＋Ｈ］＋＝３００）を得た。
【００７４】
（ｃ）化合物Ｑ−３の製造
【化３６】
0006989029.tif 000037
【００７５】
化合物Ｑ−２（２０．０ｇ、６６．４ｍｍｏｌ）を蒸留されたジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）（２００ｍＬ）に溶かした。これを０℃で冷却させ、そこに水素化ナトリウム（ｓｏｄｉｕｍ  ｈｙｄｒｉｄｅ）（１．８ｇ、７２．９ｍｍｏｌ）をゆっくり滴下した。２０分間攪拌した後、１００℃で１時間攪拌した。反応が終了した後、常温で冷却し、エタノール（Ｅｔｈａｎｏｌ）（１００ｍＬ）をゆっくりと入れた。前記混合物を減圧蒸留して得られた混合物をクロロホルム、酢酸エチルで再結晶して、化合物Ｑ−３（１５．２ｇ、収率８１％、ＭＳ：［Ｍ＋Ｈ］＋＝２８０）を得た。
【００７６】
（ｄ）化合物Ｑ−４の製造
【化３７】
0006989029.tif 000038
【００７７】
化合物Ｑ−３（１５．０ｇ、５３．３ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（１５０ｍＬ）に溶かした後、−７８℃に温度を下げ、１．７Ｍ  ｔｅｒｔ−ブチルリチウム（ｔ−ＢｕＬｉ）（３１．８ｍＬ、５３．３ｍｍｏｌ）をゆっくりと加えた。同一温度で１時間攪拌した後、ホウ酸トリイソプロピル（Ｂ（ＯｉＰｒ）３）（１４．２ｍＬ、１０７．０ｍｍｏｌ）を加え、常温で温度を徐々に上げながら３時間攪拌した。反応混合物に２Ｎ塩酸水溶液（１００ｍＬ）を加え、１．５時間常温で攪拌した。生成された沈殿物をろ過し、水とエチルエーテル（ｅｔｈｙｌ  ｅｔｈｅｒ）で順次洗浄した後、真空乾燥した。乾燥後、エチルエーテルに分散させて２時間攪拌した後、ろ過し乾燥して、化合物Ｑ−４（１２．２ｇ、収率９３％、ＭＳ：［Ｍ＋Ｈ］＋＝２４７））を製造した。
【００７８】
製造例２：中間体化合物Ｒ−４の製造
（ａ）化合物Ｒ−１の製造
【化３８】
0006989029.tif 000039
【００７９】
５−クロロ−２−メトキシフェニルボロン酸の代わりに４−クロロ−２−メトキシフェニルボロン酸を使用したことを除いては、製造例１のＱ−１の製造方法と同様の方法で、Ｒ−１（２７．５ｇ、収率５１％、ＭＳ：［Ｍ＋Ｈ］＋＝３１４）を製造した。
【００８０】
（ｂ）化合物Ｒ−２の製造
【化３９】
0006989029.tif 000040
【００８１】
化合物Ｑ−１の代わりに化合物Ｒ−１を使用したことを除いては、製造例１のＱ−２の製造方法と同様の方法で、Ｒ−２（２３．７ｇ、収率９９％、ＭＳ：［Ｍ＋Ｈ］＋＝３００）を製造した。
【００８２】
（ｃ）化合物Ｒ−３の製造
【化４０】
0006989029.tif 000041
【００８３】
化合物Ｑ−２の代わりに化合物Ｒ−２を使用したことを除いては、製造例１のＱ−３の製造方法と同様の方法で、Ｒ−３（１５．２ｇ、収率８１％、ＭＳ：［Ｍ＋Ｈ］＋＝２８０）を製造した。
【００８４】
（ｄ）化合物Ｒ−４の製造
【化４１】
0006989029.tif 000042
【００８５】
化合物Ｑ−３の代わりに化合物Ｒ−３を使用したことを除いては、製造例１のＱ−４の製造方法と同様の方法で、Ｒ−４（１２．２ｇ、収率９３％、ＭＳ：［Ｍ＋Ｈ］＋＝２４７）を製造した。
【００８６】
製造例３：中間体化合物Ｐ−４の製造
（ａ）化合物Ｐ−１の製造
【化４２】
0006989029.tif 000043
【００８７】
窒素雰囲気で２，０００ｍＬ丸底フラスコに、４−ブロモレソルシノール（５０ｇ、０．２６ｍｏｌ）と３−クロロ−２−フルオロフェニルボロン酸（４６．１ｇ、０．２１ｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（５００ｍＬ）に溶かした後、１．５Ｍ炭酸カリウム水溶液（４００ｍＬ）を添加し、ビス（トリ−ｔｅｒｔ−ブチルホスフィン）パラジウム（０）（１．３５ｇ、２．３６ｍｍｏｌ）を入れた後、１時間加熱攪拌した。常温で温度を下げ、水層を分離して除去し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧濃縮させ、ヘキサンを用いて再結晶化させた後、乾燥して、化合物Ｐ−１（４９．８ｇ、収率７９％、ＭＳ：［Ｍ＋Ｈ］＋＝２３９）を製造した。
【００８８】
（ｂ）化合物Ｐ−２の製造
【化４３】
0006989029.tif 000044
【００８９】
５００ｍＬ丸底フラスコに、化合物Ｐ−１（４９．８ｇ、０．２１ｍｏｌ）と炭酸カルシウム（５７．７ｇ、０．４２ｍｏｌ）をＮ−メチル−２−ピロリドン（２００ｍＬ）に溶かした後、２時間加熱攪拌した。常温で温度を下げ、水に逆沈殿させてろ過した。ジクロロメタンに完全に溶かした後、水で洗浄し無水硫酸マグネシウムで乾燥し減圧濃縮させ、エタノールを用いて再結晶化させた後、乾燥して、化合物Ｐ−２（３１．８ｇ、収率７０％、ＭＳ：［Ｍ＋Ｈ］＋＝２１９）を製造した。
【００９０】
（ｃ）化合物Ｐ−３の製造
【化４４】
0006989029.tif 000045
【００９１】
５００ｍＬ丸底フラスコに、化合物Ｐ−２（３１．８ｇ、０．１５ｍｏｌ）をアセトニトリル（１５０ｍＬ）に溶かし、炭酸カルシウム（３３．１ｇ、０．２４ｍｏｌ）を水（１５０ｍＬ）に溶かして入れた後、０℃でノナフルオロブタンスルホニルフルオリド（２８．７ｍＬ、０．１６ｍｏｌ）を３０分間ゆっくり滴下した。以降、室温で３時間攪拌した。反応が完了するとろ過してジクロロメタンに完全に溶かした後、水で洗浄し無水硫酸マグネシウムで乾燥し減圧濃縮させ、エタノールを用いて再結晶化させた後、乾燥して、化合物Ｐ−３（５３．３ｇ、収率７３％、ＭＳ：［Ｍ＋Ｈ］＋＝５０１）を製造した。
【００９２】
（ｄ）化合物Ｐ−４の製造
【化４５】
0006989029.tif 000046
【００９３】
化合物Ｐ−３（５３．３ｇ、０．１１ｍｏｌ）、４，４，５，５−テトラメチル−［１，３，２］−ジオキサボロラン（２８．４ｇ、１７．８５ｍｏｌ）、［１，１'−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン］パラジウム（ＩＩ）ジクロリド（Ｐｄ（ｄｐｐｆ）Ｃｌ２）（０．７８ｇ、１．０６ｍｍｏｌ）、酢酸カリウム（ＫＯＡｃ）（３１．３ｇ、０．３２ｍｏｌ）をジオキサン（６５０ｍＬ）に入れて、還流条件で８時間攪拌した。常温で温度を下げ、溶媒を減圧濃縮した。この濃縮液をクロロホルム（ＣＨＣｌ３）に完全に溶かした後、水で洗浄し生成物が溶けている溶液を減圧濃縮し、カラムクロマトグラフィーを用いて精製して、化合物Ｐ−４（３０．１ｇ、収率８６％、ＭＳ：［Ｍ＋Ｈ］＋＝３２９）を得た。
【００９４】
製造例４：中間体化合物Ｓ２の製造
（ａ）化合物Ｓ１の製造
【化４６】
0006989029.tif 000047
【００９５】
窒素雰囲気で１，０００ｍＬ丸底フラスコに、４−クロロジベンゾフラン（７５ｇ、０．３７ｍｏｌ）をジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）（７００ｍＬ）に溶かした後、０℃でＮ−ブロモスクシンイミド（ＮＢＳ）（６９．２ｇ、０．３９ｍｏｌ）を５回に分けて添加した後、室温で３時間攪拌した。以降、溶液を減圧した後、酢酸エチルに溶かして水で洗浄し、有機層を分離し減圧して溶媒を全て除去した。これをカラムクロマトグラフィーを用いて、化合物Ｓ１（９２．５ｇ、収率８９％、ＭＳ：［Ｍ＋Ｈ］＋＝２８０）を得た。
【００９６】
（ｂ）化合物Ｓ２の製造
【化４７】
0006989029.tif 000048
【００９７】
化合物Ｓ１（９２．５ｇ、０．３３ｍｏｌ）、４，４，５，５−テトラメチル−［１，３，２］−ジオキサボロラン（８７．９ｇ、０．３５ｍｏｌ）、［１，１'−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン］パラジウム（ＩＩ）ジクロリド（Ｐｄ（ｄｐｐｆ）Ｃｌ２）（２．４１ｇ、３．３０ｍｍｏｌ）、酢酸カリウム（ＫＯＡｃ）（９７．１ｇ、０．９９ｍｏｌ）をジオキサン（１０００ｍＬ）に入れて、還流条件で９時間攪拌した。常温で温度を下げ、溶媒を減圧濃縮した。この濃縮液をクロロホルム（ＣＨＣｌ３）に完全に溶かし、水で洗浄し生成物が溶けている溶液を減圧濃縮し、エタノールを用いて再結晶化させた後、乾燥および精製して、化合物Ｓ２（１１５ｇ、収率６７％、ＭＳ：［Ｍ＋Ｈ］＋＝３２９）を得た。
【００９８】
製造例５：中間体化合物Ｕ−４の製造
（ａ）３−ブロモ−２−メトキシフェニルボロン酸の製造
【化４８】
0006989029.tif 000049
【００９９】
１，３−ジブロモ−２−メトキシベンゼン（１１３．２ｇ、４２６．４ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（１，０００ｍＬ）に溶かした後、−７８℃に温度を下げ、１．７Ｍ  ｔｅｒｔ−ブチルリチウム（ｔ−ＢｕＬｉ）（２５１．７ｍＬ、４２６．４ｍｍｏｌ）をゆっくりと加えた。同一温度で１時間攪拌した後、ホウ酸トリイソプロピル（Ｂ（ＯｉＰｒ）３）（１１３．２ｍＬ、８５２．４ｍｍｏｌ）を加え、常温で温度を徐々に上げながら３時間攪拌した。反応混合物に２Ｎ塩酸水溶液（８００ｍＬ）を加え、１．５時間常温で攪拌した。生成された沈殿物をろ過し、水とエチルエーテル（ｅｔｈｙｌｅｔｈｅｒ）で順次洗浄した後、真空乾燥した。乾燥後、クロロホルムと酢酸エチルで再結晶し乾燥して、３−ブロモ−２−メトキシフェニルボロン酸（８９．６ｇ、収率９１％、ＭＳ：［Ｍ＋Ｈ］＋＝２３０）を製造した。
【０１００】
（ｂ）化合物Ｕ−１の製造
【化４９】
0006989029.tif 000050
【０１０１】
ブロモ−３−フルオロ−４−ヨードベンゼンの代わりに４−クロロ−１−フルオロ−２−ヨードベンゼンを使用し、５−クロロ−２−メトキシフェニルボロン酸の代わりに３−ブロモ−２−メトキシフェニルボロン酸を使用したことを除いては、製造例１のＱ−１の製造方法と同様の方法で、Ｕ−１（５５．８ｇ、収率５３％、ＭＳ：［Ｍ＋Ｈ］＋＝３１４）を製造した。
【０１０２】
（ｃ）化合物Ｕ−２の製造
【化５０】
0006989029.tif 000051
【０１０３】
化合物Ｑ−１の代わりに化合物Ｕ−１を使用したことを除いては、製造例１のＱ−２の製造方法と同様の方法で、Ｕ−２（３９．７ｇ、収率８３％、ＭＳ：［Ｍ＋Ｈ］＋＝３００）を製造した。
【０１０４】
（ｄ）化合物Ｕ−３の製造
【化５１】
0006989029.tif 000052
【０１０５】
化合物Ｑ−２の代わりに化合物Ｕ−２を使用したことを除いては、製造例１のＱ−３の製造方法と同様の方法で、Ｕ−３（３１．４ｇ、収率８４％、ＭＳ：［Ｍ＋Ｈ］＋＝２８０）を製造した。
【０１０６】
（ｅ）化合物Ｕ−４の製造
【化５２】
0006989029.tif 000053
【０１０７】
化合物Ｑ−３の代わりに化合物Ｕ−３を使用したことを除いては、製造例１のＱ−４の製造方法と同様の方法で、Ｕ−４（２５．５ｇ、収率９７％、ＭＳ：［Ｍ＋Ｈ］＋＝２４７）を製造した。
【０１０８】
製造例６：中間体化合物Ａ１の製造
【化５３】
0006989029.tif 000054
【０１０９】
２，４−ジクロロ−６−（ジベンゾ［ｂ，ｄ］フラン−４−イル）−１，３，５−トリアジン（５０．０ｇ、１５８．７ｍｍｏｌ）とフェニル−ｄ５−ボロン酸（２０．２ｇ、１５８．７ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（５００ｍＬ）に分散させた後、２Ｍ炭酸カリウム水溶液（ａｑ．Ｋ２ＣＯ３）（２３８ｍＬ、４７６．２ｍｍｏｌ）を添加し、テトラキストリフェニルホスフィノパラジウム［Ｐｄ（ＰＰｈ３）４］（５．５ｇ、３ｍｏｌ％）を入れた後、５時間攪拌還流した。常温で温度を下げ、生成された固体をろ過した。ろ過された固体をクロロホルムと酢酸エチルで再結晶しろ過した後、乾燥して、化合物Ａ１（３９．１ｇ、収率６８％、ＭＳ：［Ｍ＋Ｈ］＋＝３６３）を製造した。
【０１１０】
製造例７：中間体化合物Ａ２の製造
【化５４】
0006989029.tif 000055
【０１１１】
２，４−ジクロロ−６−（ジベンゾ［ｂ，ｄ］フラン−４−イル）−１，３，５−トリアジンの代わりに２，４−ジクロロ−６−（ジベンゾ［ｂ，ｄ］フラン−３−イル）−１，３，５−トリアジンを使用したことを除いては、製造例６のＡ１の製造方法と同様の方法で、Ａ２（４２．５ｇ、収率７４％、ＭＳ：［Ｍ＋Ｈ］＋＝３６３）を製造した。
【０１１２】
製造例８：中間体化合物Ａ４の製造
【化５５】
0006989029.tif 000056
【０１１３】
２，４−ジクロロ−６−（ジベンゾ［ｂ，ｄ］フラン−４−イル）−１，３，５−トリアジンの代わりに２，４−ジクロロ−６−（ジベンゾ［ｂ，ｄ］フラン−１−イル）−１，３，５−トリアジンを使用したことを除いては、製造例６のＡ１の製造方法と同様の方法で、Ａ４（３３．９ｇ、収率５９％、ＭＳ：［Ｍ＋Ｈ］＋＝３６３）を製造した。
【０１１４】
製造例９：中間体化合物Ａ５の製造
【化５６】
0006989029.tif 000057
【０１１５】
２，４−ジクロロ−６−（ジベンゾ［ｂ，ｄ］フラン−４−イル）−１，３，５−トリアジンの代わりに２，４−ジクロロ−６−（ジベンゾ［ｂ，ｄ］チオフェン−４−イル）−１，３，５−トリアジンを使用したことを除いては、製造例６のＡ１の製造方法と同様の方法で、Ａ５（４２．８ｇ、収率７５％、ＭＳ：［Ｍ＋Ｈ］＋＝３７９）を製造した。
【０１１６】
製造例１０：中間体化合物Ｂ１の製造
【化５７】
0006989029.tif 000058
【０１１７】
窒素雰囲気で２，４−ジクロロ−６−フェニル−１，３，５−トリアジン（２０ｇ、８８．９ｍｍｏｌ）とジベンゾ［ｂ，ｄ］フラン−４−イルボロン酸（１８．９ｇ、８８．９ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（４００ｍＬ）に入れて、攪拌および還流した。以降、炭酸カリウム（３６．９ｇ、２６６．７ｍｍｏｌ）を水（３７ｍＬ）に溶かして投入し、十分に攪拌した後、テトラキストリフェニルホスフィノパラジウム（３．１ｇ、２．７ｍｍｏｌ）を投入した。２時間反応後、常温で冷却した後、有機層と水層を分離した後、有機層を蒸留した。これを再び化合物Ｂ１の理論収量に対して２０倍のクロロホルム（６３５ｍＬ）に投入して溶かし、水で２回洗浄した後、有機層を分離して無水硫酸マグネシウムを入れて攪拌した後、ろ過して濾液を減圧蒸留した。濃縮した化合物をクロロホルムと酢酸エチルで再結晶して、白い固体化合物Ｂ１（２０．６ｇ、収率６５％、ＭＳ：［Ｍ＋Ｈ］＋＝３５８．１）を製造した。
【０１１８】
製造例１１：中間体化合物Ｂ２の製造
【化５８】
0006989029.tif 000059
【０１１９】
ジベンゾ［ｂ，ｄ］フラン−４−イルボロン酸の代わりにジベンゾ［ｂ，ｄ］フラン−３−イルボロン酸を使用したことを除いては、製造例１０のＢ１の製造方法と同様の方法で、Ｂ２（１８．４ｇ、収率５８％、ＭＳ：［Ｍ＋Ｈ］＋＝３５８．１）を製造した。
【０１２０】
製造例１２：中間体化合物Ｂ３の製造
【化５９】
0006989029.tif 000060
【０１２１】
ジベンゾ［ｂ，ｄ］フラン−４−イルボロン酸の代わりにジベンゾ［ｂ，ｄ］フラン−２−イルボロン酸を使用したことを除いては、製造例１０のＢ１の製造方法と同様の方法で、Ｂ３（２４．４ｇ、収率７７％、ＭＳ：［Ｍ＋Ｈ］＋＝３５８．１）を製造した。
【０１２２】
製造例１３：中間体化合物Ｂ４の製造
【化６０】
0006989029.tif 000061
【０１２３】
ジベンゾ［ｂ，ｄ］フラン−４−イルボロン酸の代わりにジベンゾ［ｂ，ｄ］フラン−１−イルボロン酸を使用したことを除いては、製造例１０のＢ１の製造方法と同様の方法で、Ｂ４（２１．９ｇ、収率６９％、ＭＳ：［Ｍ＋Ｈ］＋＝３５８．１）を製造した。
【０１２４】
製造例１４：中間体化合物Ｂ５の製造
【化６１】
0006989029.tif 000062
【０１２５】
ジベンゾ［ｂ，ｄ］フラン−４−イルボロン酸の代わりにジベンゾ［ｂ，ｄ］チオフェン−４−イルボロン酸を使用したことを除いては、製造例１０のＢ１の製造方法と同様の方法で、Ｂ５（２１．６ｇ、収率６５％、ＭＳ：［Ｍ＋Ｈ］＋＝３７４）を製造した。
【０１２６】
実施例１：化合物１の製造
（ａ）中間体１−１の製造
【化６２】
0006989029.tif 000063
【０１２７】
窒素雰囲気で化合物Ａ１（２０ｇ、５５．２ｍｍｏｌ）と化合物Ｑ−４（１３．６ｇ、５５．２ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（４００ｍＬ）に入れて、攪拌および還流した。以降、炭酸カリウム（２２．９ｇ、１６５．７ｍｍｏｌ）を水（２３ｍＬ）に溶かして投入し、十分に攪拌した後、テトラキストリフェニルホスフィノパラジウム（１．９ｇ、１．７ｍｍｏｌ）を投入した。１時間反応後、常温で冷却した後、有機層と水層を分離した後、有機層を蒸留した。これを再び中間体１−１の理論収量に対して２０倍のクロロホルム（５８３ｍＬ）に投入して溶かし、水で２回洗浄した後、有機層を分離して無水硫酸マグネシウムを入れて攪拌した後、ろ過して濾液を減圧蒸留した。濃縮した化合物をクロロホルムと酢酸エチルで再結晶して、白い固体化合物の中間体１−１（１８．４ｇ、収率６３％、ＭＳ：［Ｍ＋Ｈ］＋＝５２９．１）を製造した。
【０１２８】
（ｂ）中間体１−２の製造
【化６３】
0006989029.tif 000064
【０１２９】
窒素雰囲気で中間体１−１（１５ｇ、２８．４ｍｍｏｌ）とビス（ピナコラート）ジボロン（１１．２ｇ、２８．４ｍｍｏｌ）をジオキサン（３００ｍＬ）に入れて、攪拌および還流した。その後、第３リン酸カリウム（１８．１ｇ、８５．２ｍｍｏｌ）を投入し、十分に攪拌した後、パラジウムジベンジリデンアセトンパラジウム（０．５ｇ、０．９ｍｍｏｌ）およびトリシクロヘキシルホスフィン（０．５ｇ、１．７ｍｍｏｌ）を投入した。５時間反応後、常温で冷却した後、有機層をろ過処理して塩を除去した後、ろ過された有機層を蒸留した。これを再び中間体１−２の理論収量に対して１０倍のクロロホルム（１７６ｍＬ）に投入して溶かし、水で２回洗浄した後、有機層を分離して、無水硫酸マグネシウムを入れて攪拌した後、ろ過して濾液を減圧蒸留した。濃縮した化合物をクロロホルムとエタノールで再結晶して、白い固体化合物の中間体１−２（１２．７ｇ、収率７２％、ＭＳ：［Ｍ＋Ｈ］＋＝６２１．２）を製造した。
【０１３０】
（ｃ）化合物１の製造
【化６４】
0006989029.tif 000065
【０１３１】
窒素雰囲気で中間体１−２（１０ｇ、１６．１ｍｍｏｌ）と４−ブロモジベンゾ［ｂ，ｄ］チオフェン（４．２ｇ、１６．１ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（２００ｍＬ）に入れて、攪拌および還流した。以降、炭酸カリウム（６．７ｇ、４８．４ｍｍｏｌ）を水（７ｍＬ）に溶かして投入し、十分に攪拌した後、テトラキストリフェニルホスフィノパラジウム（０．６ｇ、０．５ｍｍｏｌ）を投入した。１時間反応後、常温で冷却した後、有機層と水層を分離した後、有機層を蒸留した。これを再び化合物１の理論収量に対して２０倍のクロロホルム（２１８ｍＬ）に投入して溶かし、水で２回洗浄した後、有機層を分離して無水硫酸マグネシウムを入れて攪拌した後、ろ過して濾液を減圧蒸留した。濃縮した化合物をクロロホルムと酢酸エチルで再結晶して、白い固体化合物１（７．２ｇ、収率６６％、ＭＳ：［Ｍ＋Ｈ］＋＝６７７．２）を製造した。
【０１３２】
実施例２：化合物２の製造
（ａ）中間体２−１の製造
【化６５】
0006989029.tif 000066
【０１３３】
化合物Ａ１の代わりに化合物Ａ２を使用したことを除いては、実施例１の中間体１−１の製造方法と同様の方法で、中間体２−１（２１．６ｇ、収率７４％、ＭＳ：［Ｍ＋Ｈ］＋＝５２９．１）を製造した。
【０１３４】
（ｂ）中間体２−２の製造
【化６６】
0006989029.tif 000067
【０１３５】
中間体１−１の代わりに中間体２−１を使用したことを除いては、実施例１の中間体１−２の製造方法と同様の方法で、中間体２−２（１３．６ｇ、収率７７％、ＭＳ：［Ｍ＋Ｈ］＋＝６２１．２）を製造した。
【０１３６】
（ｃ）化合物２の製造
【化６７】
0006989029.tif 000068
【０１３７】
中間体１−２の代わりに中間体２−２を使用したことを除いては、実施例１の化合物１の製造方法と同様の方法で、化合物２（８．７ｇ、収率８０％、ＭＳ：［Ｍ＋Ｈ］＋＝６７７．２）を製造した。
【０１３８】
実施例３：化合物３の製造
（ａ）中間体３−１の製造
【化６８】
0006989029.tif 000069
【０１３９】
化合物Ａ１の代わりに化合物Ａ４を使用したことを除いては、実施例１の中間体１−１の製造方法と同様の方法で、中間体３−１（２０．４ｇ、収率７０％、ＭＳ：［Ｍ＋Ｈ］＋＝５２９．１）を製造した。
【０１４０】
（ｂ）中間体３−２の製造
【化６９】
0006989029.tif 000070
【０１４１】
中間体１−１の代わりに中間体３−１を使用したことを除いては、実施例１の中間体１−２の製造方法と同様の方法で、中間体３−２（１０．６ｇ、収率６０％、ＭＳ：［Ｍ＋Ｈ］＋＝６２１．２）を製造した。
【０１４２】
（ｃ）化合物３の製造
【化７０】
0006989029.tif 000071
【０１４３】
中間体１−２の代わりに中間体３−２を使用したことを除いては、実施例１の化合物１の製造方法と同様の方法で、化合物３（５．７ｇ、収率５２％、ＭＳ：［Ｍ＋Ｈ］＋＝６７７．２）を製造した。
【０１４４】
実施例４：化合物４の製造
（ａ）中間体４−１の製造
【化７１】
0006989029.tif 000072
【０１４５】
化合物Ａ１の代わりに化合物Ａ５を使用したことを除いては、実施例１の中間体１−１の製造方法と同様の方法で、中間体４−１（１９．８ｇ、収率６８％、ＭＳ：［Ｍ＋Ｈ］＋＝５２９．１）を製造した。
【０１４６】
（ｂ）中間体４−２の製造
【化７２】
0006989029.tif 000073
【０１４７】
中間体１−１の代わりに中間体４−１を使用したことを除いては、実施例１の中間体１−２の製造方法と同様の方法で、中間体４−２（１０．２ｇ、収率５８％、ＭＳ：［Ｍ＋Ｈ］＋＝６２１．２）を製造した。
【０１４８】
（ｃ）化合物４の製造
【化７３】
0006989029.tif 000074
【０１４９】
中間体１−２の代わりに中間体４−２を使用したことを除いては、実施例１の化合物１の製造方法と同様の方法で、化合物４（６．５ｇ、収率６０％、ＭＳ：［Ｍ＋Ｈ］＋＝６９３．２）を製造した。
【０１５０】
実施例５：化合物５の製造
（ａ）中間体５−１の製造
【化７４】
0006989029.tif 000075
【０１５１】
化合物Ａ１の代わりに化合物Ｂ１を使用したことを除いては、実施例１の中間体１−１の製造方法と同様の方法で、中間体５−１（１７．２ｇ、収率５９％、ＭＳ：［Ｍ＋Ｈ］＋＝５２９．１）を製造した。
【０１５２】
（ｂ）中間体５−２の製造
【化７５】
0006989029.tif 000076
【０１５３】
中間体１−１の代わりに中間体５−１を使用したことを除いては、実施例１の中間体１−２の製造方法と同様の方法で、中間体５−２（１１．３ｇ、収率６４％、ＭＳ：［Ｍ＋Ｈ］＋＝６１６．２）を製造した。
【０１５４】
（ｃ）化合物５の製造
【化７６】
0006989029.tif 000077
【０１５５】
中間体１−２の代わりに中間体５−２を使用したことを除いては、実施例１の化合物１の製造方法と同様の方法で、化合物５（６．４ｇ、収率６０％、ＭＳ：［Ｍ＋Ｈ］＋＝６５６．２）を製造した。
【０１５６】
実施例６：化合物６の製造
（ａ）中間体６−１の製造
【化７７】
0006989029.tif 000078
【０１５７】
化合物Ａ１の代わりに化合物Ｂ２を使用したことを除いては、実施例１の中間体１−１の製造方法と同様の方法で、中間体６−１（２２．５ｇ、収率７７％、ＭＳ：［Ｍ＋Ｈ］＋＝５２９．１）を製造した。
【０１５８】
（ｂ）中間体６−２の製造
【化７８】
0006989029.tif 000079
【０１５９】
中間体１−１の代わりに中間体６−１を使用したことを除いては、実施例１の中間体１−２の製造方法と同様の方法で、中間体６−２（１１．８ｇ、収率６７％、ＭＳ：［Ｍ＋Ｈ］＋＝６１６．２）を製造した。
（ｃ）化合物６の製造
【化７９】
0006989029.tif 000080
【０１６０】
中間体１−２の代わりに中間体６−２を使用したことを除いては、実施例１の化合物１の製造方法と同様の方法で、化合物６（５．９ｇ、収率５５％、ＭＳ：［Ｍ＋Ｈ］＋＝６５６．２）を製造した。
【０１６１】
実施例７：化合物７の製造
（ａ）中間体７−１の製造
【化８０】
0006989029.tif 000081
【０１６２】
化合物Ａ１の代わりに化合物Ｂ３を使用したことを除いては、実施例１の中間体１−１の製造方法と同様の方法で、中間体７−１（２０．４ｇ、収率７０％、ＭＳ：［Ｍ＋Ｈ］＋＝５２９．１）を製造した。
【０１６３】
（ｂ）中間体７−２の製造
【化８１】
0006989029.tif 000082
【０１６４】
中間体１−１の代わりに中間体７−１を使用したことを除いては、実施例１の中間体１−２の製造方法と同様の方法で、中間体７−２（１０．４ｇ、収率５９％、ＭＳ：［Ｍ＋Ｈ］＋＝６１６．２）を製造した。
【０１６５】
（ｃ）化合物７の製造
【化８２】
0006989029.tif 000083
【０１６６】
中間体１−２の代わりに中間体７−２を使用したことを除いては、実施例１の化合物１の製造方法と同様の方法で、化合物７（６．５ｇ、収率６１％、ＭＳ：［Ｍ＋Ｈ］＋＝６５６．２）を製造した。
【０１６７】
実施例８：化合物８の製造
（ａ）中間体８−１の製造
【化８３】
0006989029.tif 000084
【０１６８】
化合物Ａ１の代わりに化合物Ｂ４を使用したことを除いては、実施例１の中間体１−１の製造方法と同様の方法で、中間体８−１（１９ｇ、収率６５％、ＭＳ：［Ｍ＋Ｈ］＋＝５２９．１）を製造した。
【０１６９】
（ｂ）中間体８−２の製造
【化８４】
0006989029.tif 000085
【０１７０】
中間体１−１の代わりに中間体８−１を使用したことを除いては、実施例１の中間体１−２の製造方法と同様の方法で、中間体８−２（９．７ｇ、収率５５％、ＭＳ：［Ｍ＋Ｈ］＋＝６１６．２）を製造した。
【０１７１】
（ｃ）化合物８の製造
【化８５】
0006989029.tif 000086
【０１７２】
中間体１−２の代わりに中間体８−２を使用したことを除いては、実施例１の化合物１の製造方法と同様の方法で、化合物８（５．４ｇ、収率５１％、ＭＳ：［Ｍ＋Ｈ］＋＝６５６．２）を製造した。
【０１７３】
実施例９：化合物９の製造
（ａ）中間体９−１の製造
【化８６】
0006989029.tif 000087
【０１７４】
化合物Ａ１の代わりに化合物Ｂ５を使用したことを除いては、実施例１の中間体１−１の製造方法と同様の方法で、中間体９−１（１４．６ｇ、収率５２％、ＭＳ：［Ｍ＋Ｈ］＋＝５４５．１）を製造した。
【０１７５】
（ｂ）中間体９−２の製造
【化８７】
0006989029.tif 000088
【０１７６】
中間体１−１の代わりに中間体９−１を使用したことを除いては、実施例１の中間体１−２の製造方法と同様の方法で、中間体９−２（１２．１ｇ、収率６９％、ＭＳ：［Ｍ＋Ｈ］＋＝６３２．２）を製造した。
【０１７７】
（ｃ）化合物９の製造
【化８８】
0006989029.tif 000089
【０１７８】
中間体１−２の代わりに中間体９−２を使用したことを除いては、実施例１の化合物１の製造方法と同様の方法で、化合物９（７．３ｇ、収率６９％、ＭＳ：［Ｍ＋Ｈ］＋＝６７２．２）を製造した。
【０１７９】
実施例１０：化合物１０の製造
（ａ）中間体１０−１の製造
【化８９】
0006989029.tif 000090
【０１８０】
窒素雰囲気で化合物Ｒ−４（２０ｇ、８１．３ｍｍｏｌ）と化合物Ｂ２（２９ｇ、８１．３ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（４００ｍＬ）に入れて、攪拌および還流した。以降、炭酸カリウム（３３．７ｇ、２４３．９ｍｍｏｌ）を水（３４ｍＬ）に溶かして投入し、十分に攪拌した後、テトラキストリフェニルホスフィノパラジウム（２．８ｇ、２．４ｍｍｏｌ）を投入した。１時間反応後、常温で冷却した後、有機層と水層を分離した後、有機層を蒸留した。これを再び中間体１０−１の理論収量に対して２０倍のクロロホルム（８５０ｍＬ）に投入して溶かし、水で２回洗浄した後、有機層を分離して無水硫酸マグネシウムを入れて攪拌した後、ろ過して濾液を減圧蒸留した。濃縮した化合物をクロロホルムと酢酸エチルで再結晶して、白い固体化合物の中間体１０−１（２８．１ｇ、収率６６％、ＭＳ：［Ｍ＋Ｈ］＋＝５２４．１）を製造した。
【０１８１】
（ｂ）中間体１０−２の製造
【化９０】
0006989029.tif 000091
【０１８２】
窒素雰囲気で中間体１０−１（１５ｇ、２８．４ｍｍｏｌ）とビス（ピナコラート）ジボロン（７．２ｇ、２８．４ｍｍｏｌ）をジオキサン（３００ｍＬ）に入れて、攪拌および還流した。以降、第３リン酸カリウム（１８．１ｇ、８５．２ｍｍｏｌ）を投入し、十分に攪拌した後、パラジウムジベンジリデンアセトンパラジウム（０．５ｇ、０．９ｍｍｏｌ）およびトリシクロヘキシルホスフィン（０．５ｇ、１．７ｍｍｏｌ）を投入した。５時間反応後、常温で冷却した後、有機層をろ過処理して塩を除去した後、ろ過された有機層を蒸留した。これを再び中間体１０−２の理論収量に対して１０倍のクロロホルム（１７５ｍＬ）に投入して溶かし、水で２回洗浄した後、有機層を分離して無水硫酸マグネシウムを入れて攪拌した後、ろ過して濾液を減圧蒸留した。濃縮した化合物をクロロホルムとエタノールで再結晶して、白い固体化合物の中間体１０−２（１１．７ｇ、収率６７％、ＭＳ：［Ｍ＋Ｈ］＋＝６１６．２）を製造した。
【０１８３】
（ｃ）化合物１０の製造
【化９１】
0006989029.tif 000092
【０１８４】
窒素雰囲気で中間体１０−２（２０ｇ、３２．７ｍｍｏｌ）と４−ブロモジベンゾ［ｂ，ｄ］フラン（８ｇ、３２．７ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（４００ｍＬ）に入れて、攪拌および還流した。以降、炭酸カリウム（１３．５ｇ、９８ｍｍｏｌ）を水（１４ｍＬ）に溶かして投入し、十分に攪拌した後、テトラキストリフェニルホスフィノパラジウム（１．１ｇ、１ｍｍｏｌ）を投入した。１時間反応後、常温で冷却した後、有機層と水層を分離した後、有機層を蒸留した。これを再び化合物１０の理論収量に対して２０倍のクロロホルム（４２８ｍＬ）に投入して溶かし、水で２回洗浄した後、有機層を分離して無水硫酸マグネシウムを入れて攪拌した後、ろ過して濾液を減圧蒸留した。濃縮した化合物をクロロホルムと酢酸エチルで再結晶して、白い固体化合物１０（１６．７ｇ、収率７８％、ＭＳ：［Ｍ＋Ｈ］＋＝６５６．２）を製造した。
【０１８５】
実施例１１：化合物１１の製造
（ａ）中間体１１−１の製造
【化９２】
0006989029.tif 000093
【０１８６】
化合物Ｒ−４の代わりに化合物Ｐ−４を使用したことを除いては、実施例１０の中間体１０−１の製造方法と同様の方法で、中間体１１−１（２１．７ｇ、収率５１％、ＭＳ：［Ｍ＋Ｈ］＋＝５２４．１）を製造した。
【０１８７】
（ｂ）中間体１１−２の製造
【化９３】
0006989029.tif 000094
【０１８８】
中間体１０−１の代わりに中間体１１−１を使用したことを除いては、実施例１０の中間体１０−２の製造方法と同様の方法で、中間体１１−２（８．７ｇ、収率５０％、ＭＳ：［Ｍ＋Ｈ］＋＝６１６．２）を製造した。
【０１８９】
（ｃ）化合物１１の製造
【化９４】
0006989029.tif 000095
【０１９０】
中間体１０−２の代わりに中間体１１−２を使用したことを除いては、実施例１０の化合物１０の製造方法と同様の方法で、化合物１１（２７．６ｇ、収率６５％、ＭＳ：［Ｍ＋Ｈ］＋＝５２４．１）を製造した。
【０１９１】
実施例１２：化合物１２の製造
（ａ）中間体１２−１の製造
【化９５】
0006989029.tif 000096
【０１９２】
化合物Ｒ−４の代わりに化合物Ｓ２を使用したことを除いては、実施例１０の中間体１０−１の製造方法と同様の方法で、中間体１２−１（３４ｇ、収率８０％、ＭＳ：［Ｍ＋Ｈ］＋＝５２４．１）を製造した。
【０１９３】
（ｂ）中間体１２−２の製造
【化９６】
0006989029.tif 000097
【０１９４】
中間体１０−１の代わりに中間体１２−１を使用したことを除いては、実施例１０の中間体１０−２の製造方法と同様の方法で、中間体１２−２（１１ｇ、収率６３％、ＭＳ：［Ｍ＋Ｈ］＋＝６１６．２）を製造した。
【０１９５】
（ｃ）化合物１２の製造
【化９７】
0006989029.tif 000098
【０１９６】
中間体１０−２の代わりに中間体１２−２を使用したことを除いては、実施例１０の化合物１０の製造方法と同様の方法で、化合物１２（３０．２ｇ、収率７１％、ＭＳ：［Ｍ＋Ｈ］＋＝５２４．１）を製造した。
【０１９７】
実施例１３：化合物１３の製造
（ａ）中間体１３−１の製造
【化９８】
0006989029.tif 000099
【０１９８】
化合物Ｒ−４の代わりに化合物Ｕ−４を使用したことを除いては、実施例１０の中間体１０−１の製造方法と同様の方法で、中間体１３−１（２９．８ｇ、収率７０％、ＭＳ：［Ｍ＋Ｈ］＋＝５２４．１）を製造した。
【０１９９】
（ｂ）中間体１３−２の製造
【化９９】
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【０２００】
中間体１０−１の代わりに中間体１３−１を使用したことを除いては、実施例１０の中間体１０−２の製造方法と同様の方法で、中間体１３−２（９．１ｇ、収率５３％、ＭＳ：［Ｍ＋Ｈ］＋＝６１６．２）を製造した。
【０２０１】
（ｃ）化合物１３の製造
【化１００】
0006989029.tif 000101
【０２０２】
中間体１０−２の代わりに中間体１３−２を使用したことを除いては、実施例１０の化合物１０の製造方法と同様の方法で、化合物１３（３１．５ｇ、収率７４％、ＭＳ：［Ｍ＋Ｈ］＋＝５２４．１）を製造した。
【０２０３】
実施例１４：化合物１４の製造
【化１０１】
0006989029.tif 000102
【０２０４】
窒素雰囲気で中間体６−２（２０ｇ、３２．７ｍｍｏｌ）と３−ブロモジベンゾ［ｂ，ｄ］フラン（８ｇ、３２．７ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（４００ｍＬ）に入れて、攪拌および還流した。以降、炭酸カリウム（１３．５ｇ、９８ｍｍｏｌ）を水（１４ｍＬ）に溶かして投入し、十分に攪拌した後、テトラキストリフェニルホスフィノパラジウム（１．１ｇ、１ｍｍｏｌ）を投入した。２時間反応後、常温で冷却した後、有機層と水層を分離した後、有機層を蒸留した。これを再び化合物１４の理論収量に対して２０倍のクロロホルム（４２８ｍＬ）に投入して溶かし、水で２回洗浄した後、有機層を分離して無水硫酸マグネシウムを入れて攪拌した後、ろ過して濾液を減圧蒸留した。濃縮した化合物をクロロホルムと酢酸エチルで再結晶して、白い固体化合物１４（１５ｇ、収率７０％、ＭＳ：［Ｍ＋Ｈ］＋＝６５６．２）を製造した。
【０２０５】
実施例１５：化合物１５の製造
【化１０２】
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【０２０６】
窒素雰囲気で中間体６−２（１０ｇ、４０．６ｍｍｏｌ）と２−ブロモジベンゾ［ｂ，ｄ］フラン（１０ｇ、４０．６ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（２００ｍＬ）に入れて、攪拌および還流した。以降、炭酸カリウム（１６．９ｇ、１２１．９ｍｍｏｌ）を水（１７ｍＬ）に溶かして投入し、十分に攪拌した後、テトラキストリフェニルホスフィノパラジウム（１．４ｇ、１．２ｍｍｏｌ）を投入した。１時間反応後、常温で冷却した後、有機層と水層を分離した後、有機層を蒸留した。これを再び化合物１５の理論収量に対して２０倍のクロロホルム（４２５ｍＬ）に投入して溶かし、水で２回洗浄した後、有機層を分離して無水硫酸マグネシウムを入れて攪拌した後、ろ過して濾液を減圧蒸留した。濃縮した化合物をクロロホルムと酢酸エチルで再結晶して、白い固体化合物１５（１５．３ｇ、収率７２％、ＭＳ：［Ｍ＋Ｈ］＋＝５２４．１）を製造した。
【０２０７】
実施例１６：化合物１６の製造
【化１０３】
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【０２０８】
２−ブロモジベンゾ［ｂ，ｄ］フランの代わりに１−ブロモジベンゾ［ｂ，ｄ］フランを使用したことを除いては、実施例１５の化合物１５の製造方法と同様の方法で、化合物１６（１１．７ｇ、収率５５％、ＭＳ：［Ｍ＋Ｈ］＋＝５２４．１）を製造した。
【０２０９】
＜実験例１＞
ＩＴＯ（ｉｎｄｉｕｍ  ｔｉｎ  ｏｘｉｄｅ）が１，３００Åの厚さに薄膜コーティングされたガラス基板を洗剤を溶かした蒸留水に入れて超音波洗浄した。この時、洗剤としてはフィッシャー社（Ｆｉｓｃｈｅｒ  Ｃｏ．）製品を使用し、蒸留水としてはミリポア社（Ｍｉｌｌｉｐｏｒｅ  Ｃｏ．）製品のフィルタ（Ｆｉｌｔｅｒ）で２次ろ過した蒸留水を使用した。ＩＴＯを３０分間洗浄した後、蒸留水で２回繰り返し超音波洗浄を１０分間進行した。蒸留水洗浄が終わった後、イソプロピルアルコール、アセトン、メタノールの溶剤で超音波洗浄をし乾燥させた後、プラズマ洗浄機に輸送させた。また、酸素プラズマを用いて前記基板を５分間洗浄した後、真空蒸着機に基板を輸送させた。
こうして準備されたＩＴＯ透明電極上に、下記ＨＩ−１化合物を５０Åの厚さに熱真空蒸着して、正孔注入層を形成した。前記正孔注入層上に、下記ＨＴ−１化合物を２５０Åの厚さに熱真空蒸着して正孔輸送層を形成し、ＨＴ−１蒸着膜上に下記ＨＴ−２化合物を５０Åの厚さに真空蒸着して電子遮断層を形成した。前記ＨＴ−２蒸着膜上に発光層として、前記実施例１で製造した化合物１、下記ＹＧＨ−１化合物、および燐光ドーパントＹＧＤ−１を４４：４４：１２の重量比で共蒸着して、４００Å厚さの発光層を形成した。前記発光層上に、下記ＥＴ−１化合物を２５０Åの厚さに真空蒸着して電子輸送層を形成し、前記電子輸送層上に、下記ＥＴ−２化合物とＬｉを９８：２の重量比で真空蒸着して、１００Å厚さの電子注入層を形成した。前記電子注入層上に、１，０００Åの厚さにアルミニウムを蒸着して負極を形成した。
【０２１０】
【化１０４】
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【０２１１】
前記過程で、有機物の蒸着速度は０．４〜０．７Å／ｓｅｃを維持し、アルミニウムは２Å／ｓｅｃの蒸着速度を維持し、蒸着時の真空度は１×１０−７〜５×１０−８ｔｏｒｒを維持した。
【０２１２】
＜実験例２〜１７および比較実験例１〜５＞
前記実験例１で実施例１の化合物１の代わりに下記表１に記載された化合物を使用したことを除いては、前記実験例１と同様の方法で、有機発光素子を製造した。下記表１のＣＥ１〜ＣＥ５の化合物は以下の通りである。
【０２１３】
【化１０５】
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【０２１４】
前記実験例および比較実験例で有機発光素子を１０ｍＡ／ｃｍ２の電流密度から電圧および効率を測定し、５０ｍＡ／ｃｍ２の電流密度から寿命を測定して、その結果を下記表１に示す。この時、ＬＴ９５は、初期輝度に対して９５％となるまでの時間を意味する。
【０２１５】
【表１】
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【０２１６】
上記表１に示すように、本発明の化合物を発光層物質として使用する場合、比較実験例に比べて効率および寿命に優れた特性を示すことを確認することができた。これは、トリアジンとジベンゾフラン置換基の連続的な結合およびトリアジン基の隣にジベンゾフラン基とジベンゾチオフェン基が置換されることで、電気的安定性が増加するとみなされる。
【符号の説明】
【０２１７】
１：基板
２：正極
３：発光層
４：負極
５：正孔注入層
６：正孔輸送層
７：電子遮断層
８：電子輸送層
９：電子注入層
【図１】
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【図２】
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