(57)【要約】  本発明は、ＮＫ１受容体拮抗作用を有し、抗悪性腫瘍剤投与に伴う悪心及び嘔吐の予防又は治療に有用な新規化合物を提供することを課題とする。式（Ｉ）で表される化合物：2017099049.tif 000040〔式中、Ｗはフッ素原子等、環Ａはシクロアルキル等、Ｘ１はＣＨ又はＮ、Ｒはメチル等、Ｙは０から２、Ｕ１、Ｕ２及びＵ３はそれぞれ独立して単結合等をそれぞれを表す。〕又はその薬理学的に許容される塩に関する。本発明の化合物、又はその薬理学的に許容される塩は、優れたＮＫ１受容体拮抗作用を有し、抗悪性腫瘍剤投与に伴う悪心及び嘔吐の予防又は治療薬として有用である。
2017099049.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式（Ｉ）で表される化合物：
【化１】
2017099049.tif 000032
〔式中、
Ｗは、水素原子又はフッ素原子であり；
環Ａは、以下の（ａ）〜（ｄ）からなる群から選択される基：
【化２】
2017099049.tif 000033
（式中、
＊を付された結合は、Ｕ２との結合部位であり；
ｋは、１〜５の整数であり；
ｒは、１又は２であり；
ｍ及びｎは、それぞれ独立して、１、２又は３である。）；
Ｘ１は、ＣＨ、又はＮであり；
Ｒは、メチル、ヒドロキシ、又はハロゲン原子であり；
Ｙは、０、１又は２であり（ただし、Ｙが２であるとき、２つのＲは互いに異なっていてもよい。）；
Ｕ１、Ｕ２及びＵ３は、それぞれ独立して、単結合、カルボニル又は置換基群αから選択される任意の基を有していてもよいメチレンであり（ただし、環Ａが前記（a）で表される基であるとき、Ｕ１又はＵ２のいずれか一方は、カルボニルである。）；
置換基群αは、ハロゲン原子、ヒドロキシ、Ｃ１−６アルキル、及びＣ１−６アルコキシからなる群である。〕
又はその薬理学的に許容される塩。
【請求項２】
Ｘ１がＮである、請求項１に記載の化合物、又はその薬理学的に許容される塩。
【請求項３】
Ｗがフッ素原子である、請求項１又は２に記載の化合物、又はその薬理学的に許容される塩。
【請求項４】
式（Ｉａ）で表される、請求項３に記載の化合物：
【化３】
2017099049.tif 000034
〔式中、
環Ｂは、以下の式で表される基：
【化４】
2017099049.tif 000035
（式中、
＊を付された結合は、Ｕ２との結合部位である。）；
Ｕ１、Ｕ２及びＵ３は、請求項１と同じ意味である。〕
又はその薬理学的に許容される塩。
【請求項５】
式（Ｉｂ）で表される、請求項４に記載の化合物：
【化５】
2017099049.tif 000036
〔式中、
Ｕ４、Ｕ５及びＵ６は、それぞれ独立して、単結合又は置換基群αから選択される任意の基を有していてもよいメチレンであり；
置換基群αは、請求項１と同じ意味である。〕
又はその薬理学的に許容される塩。
【請求項６】
式（Ｉｃ）で表される、請求項５に記載の化合物：
【化６】
2017099049.tif 000037
〔式中、
Ｕ７及びＵ８は、それぞれ独立して、単結合又は置換基群βから選択される任意の基を有していてもよいメチレンであり；
置換基群βは、フッ素原子及びメチルからなる群である。〕
又はその薬理学的に許容される塩。
【請求項７】
式（Ｉｄ）で表される、請求項６に記載の化合物：
【化７】
2017099049.tif 000038
〔式中、
Ｕ９は、単結合又はメチレンである。〕
又はその薬理学的に許容される塩。
【請求項８】
式（Ｉｅ）で表される、請求項１に記載の化合物：
【化８】
2017099049.tif 000039
〔式中、
Ｕ１０及びＵ１１は、それぞれ独立して、単結合又はメチレンである。〕
又はその薬理学的に許容される塩。
【請求項９】
請求項１から８の何れかに記載の化合物、又はその薬理学的に許容される塩を含有する医薬組成物。
【請求項１０】
抗悪性腫瘍剤投与に伴う悪心及び嘔吐の予防用の医薬組成物である、請求項９に記載の医薬組成物。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、医薬品として有用なＮＫ１受容体拮抗剤に関する。【０００２】
さらに詳しく述べれば、本発明は、サブスタンスＰ／ニューロキニン１（ＮＫ１）受容体拮抗作用を有し、抗悪性腫瘍剤投与に伴う悪心及び嘔吐（ＣＩＮＶ）等の予防又は治療薬として有用なＮＫ１受容体拮抗剤又はその薬理学的に許容される塩に関する。
【背景技術】
【０００３】
ＣＩＮＶは、延髄外側網様体に存在する嘔吐中枢が刺激を受けることによって発現する。延髄の最後野及び孤束核にはＮＫ１受容体が存在し、ＮＫ１受容体は、嘔吐に強く関与していると考えられている。
抗悪性腫瘍剤の投与により、消化管に存在する腸クロム親和性（ＥＣ）細胞からのセロトニン分泌が亢進し、セロトニンが消化管の５−Hydroxytryptamine３（５−ＨＴ３）受容体を介して嘔吐中枢を直接刺激する。また、セロトニンが第４脳室最後野に存在する化学受容器引金帯（ＣＴＺ）を介して嘔吐中枢を刺激することにより、悪心及び嘔吐が発現する。サブスタンスＰは、セロトニンと同様、消化管のＥＣ細胞内に存在し、抗悪性腫瘍剤投与により分泌が促進される。近年、サブスタンスＰが、ＣＴＺに存在するＮＫ１受容体を介して、又は中枢神経系のＮＫ１受容体に結合することにより嘔吐を誘発することが明らかにされ、ＮＫ１受容体が制吐剤の開発ターゲットとして注目されている（非特許文献１）。【０００４】
アプレピタント（Aprepitant）は、抗悪性腫瘍剤投与に伴う悪心及び嘔吐に対する予防薬として承認された、世界初の選択的ＮＫ１受容体拮抗剤である。アプレピタントの作用機序は、ＣＩＮＶの誘発経路の１つである、サブスタンスＰと中枢神経系ＮＫ１受容体の結合を選択的に阻害し、ＣＩＮＶを予防すると考えられている。アプレピタントは、ＣＩＮＶの予防薬として販売されている（非特許文献２）。【０００５】
アプレピタントは、チトクロムＰ４５０（ＣＹＰ）３Ａ４により代謝されることが知られている。また、アプレピタントは、ＣＹＰ３Ａ４に対する用量依存的阻害作用、ＣＹＰ３Ａ４の誘導作用及びＣＹＰ２Ｃ９の誘導作用を有していることも知られている。そのため、アプレピタントは、ＣＹＰ３Ａ４を阻害若しくは誘導する薬剤、又はＣＹＰ３Ａ４若しくはＣＹＰ２Ｃ９により代謝される薬剤と薬物間相互作用を起こす可能性がある。例えば、アプレピタントのＣＹＰ３Ａ４阻害作用によって、デキサメタゾンの代謝が阻害される場合があり、デキサメタゾンは、アプレピタントと併用する場合に用量調整が必要になるとする報告がある（非特許文献３）。【０００６】
そのため、アプレピタントの使用には、アプレピタントのＣＹＰ３Ａ４阻害作用に基づく薬物間相互作用に十分な注意が必要であり、ＣＩＮＶの予防薬として新規なＮＫ１受容体拮抗剤が望まれている。【０００７】
ＮＫ１受容体拮抗作用を有すると主張される化合物が、特許文献１〜４に記載されている。【０００８】
しかしながら、前記文献には、本願発明のＮＫ１受容体拮抗剤は、記載も示唆もされていない。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００９】
【特許文献１】特表2003-511377号公報
【特許文献２】特開2006-45208号公報
【特許文献３】特開2007-197428号公報
【特許文献４】国際公開第2008/133344号
【非特許文献】
【００１０】
【非特許文献１】P. J. Heskethら、「European Journal of Cancer」、２００３年、第３９巻、ｐ．１０７４−１０８０
【非特許文献２】Toni M. Dandoら、「Drugs」、２００４年、第６４巻、第７号、ｐ．７７７−７９４
【非特許文献３】Jacqueline B. McCreaら、「CLINICAL PHARMACOLOGY & THERAPEUTICS」、２００３年、第７４巻、第１号、ｐ．１７−２４
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
本発明は、ＮＫ１受容体拮抗作用を有し、抗悪性腫瘍剤投与に伴う悪心及び嘔吐の予防又は治療に有用な新規化合物を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明は、下記式（Ｉ）で表される化合物又はその薬理学的に許容される塩に関する。【００１３】
すなわち、本発明は、下記の〔１〕〜〔１０〕等に関する。
〔１〕式（Ｉ）で表される化合物：
【化１】
2017099049.tif 000003
〔式中、
Ｗは、水素原子又はフッ素原子であり；
環Ａは、以下の（ａ）〜（ｄ）からなる群から選択される基：
【化２】
2017099049.tif 000004
（式中、
＊を付された結合は、Ｕ２との結合部位であり；
ｋは、１〜５の整数であり；
ｒは、１又は２であり；
ｍ及びｎは、それぞれ独立して、１、２又は３である。）；
Ｘ１は、ＣＨ、又はＮであり；
Ｒは、メチル、ヒドロキシ、又はハロゲン原子であり；
Ｙは、０、１又は２であり（ただし、Ｙが２であるとき、２つのＲは互いに異なっていてもよい。）；
Ｕ１、Ｕ２及びＵ３は、それぞれ独立して、単結合、カルボニル又は置換基群αから選択される任意の基を有していてもよいメチレンであり（ただし、環Ａが前記（a）で表され
る基であるとき、Ｕ１又はＵ２のいずれか一方は、カルボニルである。）；
置換基群αは、ハロゲン原子、ヒドロキシ、Ｃ１−６アルキル、及びＣ１−６アルコキシからなる群である。〕
又はその薬理学的に許容される塩。
〔２〕Ｘ１がＮである、前記〔１〕に記載の化合物、又はその薬理学的に許容される塩。
〔３〕Ｗがフッ素原子である、前記〔１〕又は〔２〕に記載の化合物、又はその薬理学的に許容される塩。
〔４〕式（Ｉａ）で表される、前記〔３〕に記載の化合物：
【化３】
2017099049.tif 000005
〔式中、
環Ｂは、以下の式で表される基：
【化４】
2017099049.tif 000006
（式中、
＊を付された結合は、Ｕ２との結合部位である。）；
Ｕ１、Ｕ２及びＵ３は、前記〔１〕と同じ意味である。〕
又はその薬理学的に許容される塩。
〔５〕式（Ｉｂ）で表される、前記〔４〕に記載の化合物：
【化５】
2017099049.tif 000007
〔式中、
Ｕ４、Ｕ５及びＵ６は、それぞれ独立して、単結合又は置換基群αから選択される任意の基を有していてもよいメチレンであり；
置換基群αは、前記〔１〕と同じ意味である。〕
又はその薬理学的に許容される塩。
〔６〕式（Ｉｃ）で表される、前記〔５〕に記載の化合物：
【化６】
2017099049.tif 000008
〔式中、
Ｕ７及びＵ８は、それぞれ独立して、単結合又は置換基群βから選択される任意の基を有していてもよいメチレンであり；
置換基群βは、フッ素原子及びメチルからなる群である。〕
又はその薬理学的に許容される塩。
〔７〕式（Ｉｄ）で表される、前記〔６〕に記載の化合物：
【化７】
2017099049.tif 000009
〔式中、
Ｕ９は、単結合又はメチレンである。〕
又はその薬理学的に許容される塩。
〔８〕式（Ｉｅ）で表される、前記〔１〕に記載の化合物：
【化８】
2017099049.tif 000010
〔式中、
Ｕ１０及びＵ１１は、それぞれ独立して、単結合又はメチレンである。〕
又はその薬理学的に許容される塩。
〔９〕前記〔１〕から〔８〕の何れかに記載の化合物、又はその薬理学的に許容される塩を含有する医薬組成物。
〔１０〕抗悪性腫瘍剤投与に伴う悪心及び嘔吐の予防用の医薬組成物である、前記〔９〕に記載の医薬組成物。
【発明の効果】
【００１４】
本発明の化合物は、優れたＮＫ１受容体拮抗作用を有する。したがって、本発明の化合物又はその薬理学的に許容される塩は、抗悪性腫瘍剤投与に伴う悪心及び嘔吐の予防又は治療薬として有用である。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
以下、本発明の実施の形態についてより詳細に説明する。
【００１６】
本発明において、各用語は、特に断らない限り、以下の意味を有する。
【００１７】
「Ｃ１−６アルキル」とは、炭素数１〜６の直鎖状又は分岐状のアルキル基をいい、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル等が挙げられる。
「Ｃ１−６アルコキシ」とは、炭素数１〜６の直鎖状又は分岐状のアルコキシ基をいい、例えば、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ等が挙げられる。
【００１８】
「置換基群αから選択される任意の基を有していても良いメチレン」とは、置換基群αから選択される同一又は異なる基を１〜２個有していてもよいことをいい、無置換又は１個有するのが好ましい。
「置換基群βから選択される任意の基を有していても良いメチレン」とは、置換基群βから選択される同一又は異なる基を１〜２個有していてもよいことをいい、無置換又は１個有するのが好ましい。
【００１９】
本発明の式（Ｉ）で表される化合物において、１つ又はそれ以上の不斉炭素原子が存在する場合、本発明は、各々の不斉炭素原子がＲ配置の化合物、Ｓ配置の化合物及びそれらの任意の組み合わせの化合物も包含する。また、それらのラセミ化合物、ラセミ混合物、単一のエナンチオマー及びジアステレオマー混合物も本発明の範囲に含まれる。本発明の式（Ｉ）で表される化合物において、シス−トランス異性体が存在する場合、本発明は、そのシス−トランス異性体のいずれも包含する。
【００２０】
本発明において、立体化学の決定は、当技術分野で周知の方法で行うこともできる（例えば、「特論  ＮＭＲ立体化学」（講談社）、（２０１２年発行）、５９ページ参照）。
【００２１】
本発明の式（Ｉ）で表される化合物は、必要に応じて常法に従い、その薬理学的に許容される塩にすることもできる。このような塩としては、酸付加塩又は塩基との塩を挙げることができる。
【００２２】
酸付加塩としては、塩酸、臭化水素酸、ヨウ化水素酸、硫酸、硝酸、リン酸等の鉱酸との酸付加塩、ギ酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、メタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸、プロピオン酸、クエン酸、コハク酸、酒石酸、フマル酸、酪酸、シュウ酸、マロン酸、マレイン酸、乳酸、リンゴ酸、炭酸、安息香酸、グルタミン酸、アスパラギン酸等の有機酸との酸付加塩を挙げることができる。
【００２３】
塩基との塩としては、リチウム、ナトリウム、カリウム、カルシウム、マグネシウム等の無機塩基との塩、Ｎ−メチル−Ｄ−グルカミン、Ｎ，Ｎ’−ジベンジルエチレンジアミン、トリエチルアミン、ピペリジン、モルホリン、ピロリジン、アルギニン、リジン、コリン等の有機塩基との塩を挙げることができる。
【００２４】
本発明において、薬理学的に許容される塩には、水又はエタノール等の医薬品として許容される溶媒との溶媒和物も含まれる。
【００２５】
本発明の式（Ｉ）で表される化合物は、例えば、以下の方法若しくはそれに準じた方法、又は文献記載の方法若しくはそれに準じた方法に従い、製造することができる。
【００２６】
本発明の式（Ｉ）で表される化合物の一つの実施態様において、環Ａは、チアゾリル、ピロリル、イミダゾリル、チエニル、フリル、ピリジル等の５又は６員環ヘテロアリル；ピペラジニル、テトラヒドロフリル、モルホリニル等の３〜８員環ヘテロシクロアルキル；インドリル、ベンズイミダゾリル、イミダゾピラジニル、イミダゾピリジニル等の複素環化合物であってもよい。
【００２７】
本発明の式（Ｉ）で表される化合物の一つの実施態様において、Ｙは、０が好ましい。
【００２８】
本発明の式（Ｉ）で表される化合物の一つの実施態様において、Ｕ１及びＵ２は下記（１）から（６）からなる群から選択される基が好ましい：
（１）Ｕ１は単結合であり、Ｕ２は単結合である；
（２）Ｕ１は単結合であり、Ｕ２は置換基群αから選択される任意の基を有していても良いメチレンである；
（３）Ｕ１は単結合であり、Ｕ２はカルボニルである；
（４）Ｕ１は置換基群αから選択される任意の基を有していても良いメチレンであり、Ｕ２はカルボニルである；
（５）Ｕ１はカルボニルであり、Ｕ２は置換基群αから選択される任意の基を有していても良いメチレンである；及び
（６）Ｕ１は置換基群αから選択される任意の基を有していても良いメチレンであり、Ｕ２は置換基群αから選択される任意の基を有していても良いメチレンである。
【００２９】
本発明の式（Ｉ）で表される化合物は、例えば、スキーム１から１１（Scheme1 to 11）に示す方法若しくはそれに準じた方法、又は文献記載の方法若しくはそれに準じた方法に従い、化合物（ＩＡ）〜（ＩＫ）として、製造することができる。
【００３０】
式（ＩＡ）で表される化合物は、例えば、Scheme 1に記載のProcess 1の方法に従い、製造することができる。
【化９】
2017099049.tif 000011
式中、Ｗ、Ｒ、Ｙ、Ｘ１及びＵ３は前記と同じ意味を持つ。環Ａは前記の（ｂ）の基である。Ｕ１は単結合であり、Ｕ２は単結合である。
【００３１】
工程１（Process 1）
化合物（１）を、不活性溶媒中、環状ケトン化合物と反応させ、次いで酢酸を添加又は非添加の条件にて還元剤を作用させることにより、化合物（ＩＡ）を製造することもできる。不活性溶媒としては、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、１，２−ジメトキシエタン、ベンゼン、トルエン、キシレン、これらの混合溶媒などが挙げられる。還元剤としては、水素化ホウ素ナトリウム、シアノ水素化ホウ素ナトリウム、水素化トリアセトキシホウ素ナトリウム、２−ピコリンボランなどが挙げられる。反応温度は通常０℃から還流温度である。反応時間は使用する原料物質や溶媒、反応温度などにより異なるが、通常１０分〜７日間である。工程１により合成できる化合物としては、例えば、実施例１、６、１２等が挙げられる。
【００３２】
式（ＩＢ）で表される化合物は、例えば、Scheme 2に記載のProcess 2の方法に従い、製造することができる。
【化１０】
2017099049.tif 000012
式中、Ｗ、Ｒ、Ｙ、Ｘ１及びＵ３は前記と同じ意味を持つ。環Ａは前記の（ｂ）、（ｃ）及び（ｄ）からなる群から選択される基である。Ｕ１は単結合であり、Ｒ１は水素原子又はＣ１−６アルキルである。
【００３３】
工程２（Process 2）
化合物（１）を、不活性溶媒中、化合物（２）と反応させ、次いで酢酸を添加又は非添加の条件にて還元剤を作用させることにより、化合物（ＩＢ）を製造することもできる。不活性溶媒としては、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、１，２−ジメトキシエタン、ベンゼン、トルエン、キシレン、これらの混合溶媒などが挙げられる。還元剤としては、水素化ホウ素ナトリウム、シアノ水素化ホウ素ナトリウム、水素化トリアセトキシホウ素ナトリウム、２−ピコリンボランなどが挙げられる。反応温度は通常０℃から還流温度である。反応時間は使用する原料物質や溶媒、反応温度などにより異なるが、通常１０分〜７日間である。工程２により合成できる化合物としては、例えば、実施例４、５、７、８、１１、１３、１４等が挙げられる。
【００３４】
式（ＩＣ）で表される化合物は、例えば、Scheme 3に記載のProcess 3の方法に従い、製造することができる。
【化１１】
2017099049.tif 000013
式中、Ｗ、Ｒ、Ｙ、Ｘ１及びＵ３は前記と同じ意味を持つ。環Ａは前記の（ｂ）、（ｃ）及び（ｄ）からなる群から選択される基である。Ｕ１は単結合であり、Ｕ２は置換基群αから選択される任意の基を有していてもよいメチレンである。Ｌ１は塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等の脱離基を表す。
【００３５】
工程３（Process 3）
化合物（１）を、不活性溶媒中、塩基存在下又は非存在下、化合物（３）と反応させることにより、化合物（ＩＣ）を製造することもできる。不活性溶媒としては、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、１，２−ジメトキシエタン、ベンゼン、トルエン、キシレン、これらの混合溶媒などが挙げられる。塩基としては、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸セシウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、トリエチルアミン、ピリジン、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン、２，６−ルチジン、１，８−ジアザビシクロ［５，４，０］−７−ウンデセンなどが挙げられる。反応温度は通常０℃から還流温度である。反応時間は使用する原料物質や溶媒、反応温度などにより異なるが、通常３０分〜７日間である。工程３により合成できる化合物としては、例えば、実施例９等が挙げられる。
【００３６】
式（ＩＤ）で表される化合物は、例えば、Scheme 4に記載のProcess 4A又は4Bの方法に従い、製造することができる。
【化１２】
2017099049.tif 000014
式中、Ｗ、Ｒ、Ｙ、Ｘ１及びＵ３は前記と同じ意味を持つ。環Ａは前記の（ｂ）、（ｃ）及び（ｄ）からなる群から選択される基である。Ｕ１は単結合であり、Ｕ２はカルボニルである。
【００３７】
工程４Ａ（Process 4A）
化合物（１）を、不活性溶媒中、塩基存在下又は非存在下、縮合剤を用いてカルボン酸化合物と縮合反応させることにより、化合物（ＩＤ）を製造することもできる。不活性溶媒としては、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、１，２−ジメトキシエタン、ベンゼン、トルエン、キシレン、これらの混合溶媒などが挙げられる。塩基としては、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸セシウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、トリエチルアミン、ピリジン、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン、２，６−ルチジン、１，８−ジアザビシクロ［５，４，０］−７−ウンデセンなどが挙げられる。縮合剤としては1,1'-カルボニルジイミダゾール（ＣＤＩ）、1-ヒドロキシベンゾトリアゾール（ＨＯＢｔ）、N,N'-ジシクロヘキシルカルボジイミド（ＤＣＣ）、1-(3-ジメチルアミノプロピル)-3-エチルカルボジイミド塩酸塩（Water Soluble Carbodiimide hydrochloride（ＷＳＣＤ・ＨＣｌ））、ＰｙＢＯＰ（登録商標）、ＰｙＢｒｏＰ（登録商標）、O-(7-アザベンゾトリアゾール-1-イル)-N,N,N',N'-テトラメチルウロニウムヘキサフルオロリン酸塩（ＨＡＴＵ）、O-(ベンゾトリアゾール-1-イル)-N,N,N',N'-テトラメチルウロニウムヘキサフルオロリン酸塩（ＨＢＴＵ）などが挙げられる。反応温度は通常０℃から還流温度である。反応時間は使用する原料物質や溶媒、反応温度などにより異なるが、通常３０分〜７日間である。工程４Ａにより合成できる化合物としては、例えば、実施例２、３等が挙げられる。
【００３８】
工程４Ｂ（Process 4B）
化合物（１）を、不活性溶媒中、塩基存在下又は非存在下、酸クロリド化合物と反応させることにより、化合物（ＩＤ）を製造することもできる。不活性溶媒としては、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、１，２−ジメトキシエタン、ベンゼン、トルエン、キシレン、これらの混合溶媒などが挙げられる。塩基としては、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸セシウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、トリエチルアミン、ピリジン、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン、２，６−ルチジン、１，８−ジアザビシクロ［５，４，０］−７−ウンデセンなどが挙げられる。反応温度は通常０℃から還流温度である。反応時間は使用する原料物質や溶媒、反応温度などにより異なるが、通常１０分〜７日間である。
【００３９】
式（ＩＥ）で表される化合物は、例えば、Scheme 5に記載のProcess 5の方法に従い、製造することができる。
【化１３】
2017099049.tif 000015
式中、Ｗ、Ｒ、Ｙ、Ｘ１及びＵ３は前記と同じ意味を持つ。環Ａは前記の（ａ）、（ｂ）、（ｃ）及び（ｄ）からなる群から選択される基である。Ｕ１は単結合であり、Ｕ２はカルボニルである。
【００４０】
工程５（Process 5）
化合物（１）を、不活性溶媒中、塩基存在下又は非存在下、化合物（４）のような活性エステル化合物と反応させることにより、化合物（ＩＥ）を製造することもできる。不活性溶媒としては、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、１，２−ジメトキシエタン、ベンゼン、トルエン、キシレン、これらの混合溶媒などが挙げられる。塩基としては、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸セシウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、トリエチルアミン、ピリジン、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン、２，６−ルチジン、１，８−ジアザビシクロ［５，４，０］−７−ウンデセンなどが挙げられる。反応温度は通常０℃から還流温度である。反応時間は使用する原料物質や溶媒、反応温度などにより異なるが、通常３０分〜７日間である。工程５により合成できる化合物としては、例えば、実施例１０等が挙げられる。
【００４１】
式（ＩＦ）で表される化合物は、例えば、Scheme 6に記載のProcess 6の方法に従い、製造することができる。
【化１４】
2017099049.tif 000016
式中、Ｗ、Ｒ、Ｙ、Ｘ１及びＵ３は前記と同じ意味を持つ。環Ａは前記の（ａ）の基である。Ｕ１は単結合であり、Ｕ２はカルボニルである。
【００４２】
工程６（Process 6）
化合物（１）を、不活性溶媒中、塩基存在下又は非存在下、縮合剤を用いて環状カルボン酸化合物と反応させることにより、化合物（ＩＦ）を製造することもできる。不活性溶媒としては、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、１，２−ジメトキシエタン、ベンゼン、トルエン、キシレン、これらの混合溶媒などが挙げられる。塩基としては、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸セシウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、トリエチルアミン、ピリジン、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン、２，６−ルチジン、１，８−ジアザビシクロ［５，４，０］−７−ウンデセンなどが挙げられる。縮合剤としてはＣＤＩ、トリホスゲンなどが挙げられる。反応温度は通常０℃から還流温度である。反応時間は使用する原料物質や溶媒、反応温度などにより異なるが、通常３０分〜７日間である。
【００４３】
式（ＩＧ）で表される化合物は、例えば、Scheme 7に記載のProcess 7の方法に従い、製造することができる。
【化１５】
2017099049.tif 000017
式中、Ｗ、Ｒ、Ｙ、Ｘ１及びＵ３は前記と同じ意味を持つ。環Ａは前記の（ａ）、（ｂ）、（ｃ）及び（ｄ）からなる群から選択される基である。Ｕ１は置換基群αから選択される任意の基を有していてもよいメチレンであり、Ｕ２はカルボニルである。Ｌ１は塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等の脱離基を表す。
【００４４】
工程７（Process 7）
化合物（１）を、不活性溶媒中、塩基存在下又は非存在下、化合物（５）と反応させることにより、化合物（ＩＧ）を製造することもできる。不活性溶媒としては、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、１，２−ジメトキシエタン、ベンゼン、トルエン、キシレン、これらの混合溶媒などが挙げられる。塩基としては、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸セシウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、トリエチルアミン、ピリジン、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン、２，６−ルチジン、１，８−ジアザビシクロ［５，４，０］−７−ウンデセンなどが挙げられる。反応温度は通常０℃から還流温度である。反応時間は使用する原料物質や溶媒、反応温度などにより異なるが、通常３０分〜７日間である。
【００４５】
式（ＩＨ）で表される化合物は、例えば、Scheme 8に記載のProcess 8A又は8Bの方法に従い、製造することができる。
【化１６】
2017099049.tif 000018
式中、Ｗ、Ｒ、Ｙ、Ｘ１及びＵ３は前記と同じ意味を持つ。環Ａは前記の（ａ）、（ｂ）、（ｃ）及び（ｄ）からなる群から選択される基である。Ｕ１はカルボニルであり、Ｕ２は置換基群αから選択される任意の基を有していてもよいメチレンである。
【００４６】
工程８Ａ（Process 8A）
化合物（１）を、不活性溶媒中、塩基存在下又は非存在下、縮合剤を用いてカルボン酸化合物と縮合反応させることにより、化合物（ＩＨ）を製造することもできる。不活性溶媒としては、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、１，２−ジメトキシエタン、ベンゼン、トルエン、キシレン、これらの混合溶媒などが挙げられる。塩基としては、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸セシウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、トリエチルアミン、ピリジン、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン、２，６−ルチジン、１，８−ジアザビシクロ［５，４，０］−７−ウンデセンなどが挙げられる。縮合剤としてはＣＤＩ、ＨＯＢｔ、ＤＣＣ、ＷＳＣＤ・ＨＣｌ、ＰｙＢＯＰ（登録商標）、ＰｙＢｒｏＰ（登録商標）、ＨＡＴＵ、ＨＢＴＵなどが挙げられる。反応温度は通常０℃から還流温度である。反応時間は使用する原料物質や溶媒、反応温度などにより異なるが、通常３０分〜７日間である。
【００４７】
工程８Ｂ（Process 8B）
化合物（１）を、不活性溶媒中、塩基存在下又は非存在下、酸クロリド化合物と反応させることにより、化合物（ＩＨ）を製造することもできる。不活性溶媒としては、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、１，２−ジメトキシエタン、ベンゼン、トルエン、キシレン、これらの混合溶媒などが挙げられる。塩基としては、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸セシウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、トリエチルアミン、ピリジン、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン、２，６−ルチジン、１，８−ジアザビシクロ［５，４，０］−７−ウンデセンなどが挙げられる。反応温度は通常０℃から還流温度である。反応時間は使用する原料物質や溶媒、反応温度などにより異なるが、通常１０分〜７日間である。
【００４８】
式（ＩＪ）で表される化合物は、例えば、Scheme 9に記載のProcess 9の方法に従い、製造することができる。
【化１７】
2017099049.tif 000019
式中、Ｗ、Ｒ、Ｙ、Ｘ１及びＵ３は前記と同じ意味を持つ。環Ａは前記の（ａ）、（ｂ）、（ｃ）及び（ｄ）からなる群から選択される基である。Ｕ２は置換基群αから選択される任意の基を有していてもよいメチレンである。Ｒ１は水素原子又はＣ１−６アルキルを表す。
【００４９】
工程９（Process 9）
化合物（１）を、不活性溶媒中、化合物（６）と反応させ、次いで酢酸を添加又は非添加の条件にて還元剤を作用させることにより、化合物（ＩＪ）を製造することもできる。不活性溶媒としては、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、１，２−ジメトキシエタン、ベンゼン、トルエン、キシレン、これらの混合溶媒などが挙げられる。還元剤としては、水素化ホウ素ナトリウム、シアノ水素化ホウ素ナトリウム、水素化トリアセトキシホウ素ナトリウム、２−ピコリンボランなどが挙げられる。反応温度は通常０℃から還流温度である。反応時間は使用する原料物質や溶媒、反応温度などにより異なるが、通常１０分〜７日間である。
【００５０】
式（ＩＫ）で表される化合物は、例えば、Scheme 10に記載のProcess 10の方法に従い、製造することができる。
【化１８】
2017099049.tif 000020
式中、Ｗ、Ｒ、Ｙ、Ｘ１及びＵ３は前記と同じ意味を持つ。環Ａは前記の（ａ）、（ｂ）、（ｃ）及び（ｄ）からなる群から選択される基である。Ｕ１は置換基群αから選択される任意の基を有していてもよいメチレンであり、Ｕ２は置換基群αから選択される任意の基を有していてもよいメチレンである。Ｌ１は塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等の脱離基を表す。
【００５１】
工程１０（Process 10）
化合物（１）を、不活性溶媒中、塩基存在下又は非存在下、化合物（７）と反応させることにより、化合物（ＩＫ）を製造することもできる。不活性溶媒としては、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、１，２−ジメトキシエタン、ベンゼン、トルエン、キシレン、これらの混合溶媒などが挙げられる。塩基としては、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸セシウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、トリエチルアミン、ピリジン、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン、２，６−ルチジン、１，８−ジアザビシクロ［５，４，０］−７−ウンデセンなどが挙げられる。反応温度は通常０℃から還流温度である。反応時間は使用する原料物質や溶媒、反応温度などにより異なるが、通常３０分〜７日間である。
【００５２】
化合物（１）のうちＸ１が炭素原子である化合物（１−１）は、例えば、Scheme 11に記載のProcess 11から17の方法に従い、製造することができる。
【００５３】
【化１９】
2017099049.tif 000021
式中のＷは前記と同じ意味を持つ。ＰＧは保護基である。
【００５４】
工程１１（Process 11）
化合物（８）を、不活性溶媒中、塩基と反応させ、次いでトリフルオロメタンスルホニル化試薬と反応させることにより、化合物（９）を製造することもできる。不活性溶媒としては、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、１，２−ジメトキシエタン、ベンゼン、トルエン、キシレン、これらの混合溶媒などが挙げられる。塩基としては、トリエチルアミン、ピリジン、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン、２，６−ルチジン、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルピリジン、水素化ナトリウム、リチウムジイソプロピルアミド、ナトリウムビス（トリメチルシリル）アミド、リチウムビス（トリメチルシリル）アミド、カリウムビス（トリメチルシリル）アミドなどが挙げられる。トリフルオロメタンスルホニル化試薬としては、トリフルオロメタンスルホン酸無水物、Ｎ−フェニルビス（トリフルオロメタンスルホンイミド）、Ｎ−（５−クロロ−２−ピリジル）トリフルイミドなどが挙げられる。反応温度は通常−７８℃から還流温度である。反応時間は使用する原料物質や溶媒、反応温度などにより異なるが、通常１０分〜７日間である。
【００５５】
工程１２（Process 12）
化合物（９）と化合物（１０）とを、不活性溶媒中、塩基及びパラジウム触媒存在下、カップリング反応を行い、化合物（１１）を製造することもできる。不活性溶媒としては、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、１，２−ジメトキシエタン、ベンゼン、トルエン、キシレン、エタノール、水、これらの混合溶媒が挙げられる。塩基としては、例えば、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸セシウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、フッ化カリウム、フッ化セシウム、トリエチルアミン、ピリジン、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン、２，６−ルチジン、１，８−ジアザビシクロ［５，４，０］−７−ウンデセンなどが挙げられる。パラジウム触媒としては、［１，１’−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン］パラジウム（ＩＩ）ジクロリド  ジクロロメタン錯体（１：１）、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）などが挙げられる。反応温度は通常０℃から還流温度である。反応時間は使用する原料物質や溶媒、反応温度などにより異なるが、通常３０分〜７日間である。上記カップリング反応は、マイクロウェーブ反応装置（Ｂｉｏｔａｇｅ）を用いて行うこともできる。マイクロウェーブ反応装置を用いて反応を行う場合、使用する原料物質、溶媒、及び機種などにより異なるが、圧力範囲：１〜３０ｂａｒ、出力領域：１〜４００Ｗ、反応温度：室温〜３００℃、反応時間：１分〜１日間の条件下で反応を行うことができる。
【００５６】
工程１３（Process 13）
化合物（１１）のベンジル基を脱保護し、次いでｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基で保護することにより化合物（１２）を製造することもできる。
【００５７】
工程１４（Process 14）
化合物（１２）のオレフィンを接触還元法などにより還元し、化合物（１３）を製造することもできる。接触還元法は、例えば、化合物（１２）を水素ガス雰囲気下、不活性溶媒中、触媒を用いることにより行うことができる。不活性溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール、酢酸エチル、テトラヒドロフラン、酢酸が挙げられる。触媒としては、例えば、パラジウム炭素粉末、ロジウム炭素粉末、白金炭素粉末、酸化白金（IV）、バナジウムでドープされた白金炭素粉末が挙げられる。反応温度は通常室温から還流温度である。反応時間は使用する原料物質や溶媒、反応温度などにより異なるが、通常３０分〜７日間である。
【００５８】
工程１５（Process 15）
化合物（１３）を、不活性溶媒中、アルカリ加水分解を行うことにより、化合物（１４）を製造することもできる。不活性溶媒としては、メタノール、エタノール、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、水、これらの混合溶媒などが挙げられる。塩基としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシドなどが挙げられる。反応温度は、通常０℃から還流温度である。反応時間は使用する原料物質や溶媒、反応温度などにより異なるが、通常３０分〜７日間である。なお、アルカリ加水分解に変えて、酸加水分解、又は加水素分解による方法により化合物（１４）を製造することもできる。
【００５９】
工程１６（Process 16）
化合物（１４）と化合物（１５）とを、不活性溶媒中、縮合剤を用いて縮合反応させることにより、化合物（１６）を製造することもできる。不活性溶媒としては、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、１，２−ジメトキシエタン、ベンゼン、トルエン、キシレン、これらの混合溶媒などが挙げられる。塩基としては、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸セシウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、トリエチルアミン、ピリジン、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン、２，６−ルチジン、１，８−ジアザビシクロ［５，４，０］−７−ウンデセンなどが挙げられる。縮合剤としてはＣＤＩ、ＨＯＢｔ、ＤＣＣ、ＷＳＣＤ・ＨＣｌ、ＰｙＢＯＰ（登録商標）、ＰｙＢｒｏＰ（登録商標）、ＨＡＴＵ、ＨＢＴＵなどが挙げられる。反応温度は通常０℃から還流温度である。反応時間は使用する原料物質や溶媒、反応温度などにより異なるが、通常３０分〜７日間である。
【００６０】
工程１７（Process 17）
化合物（１６）のｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基を脱保護し、化合物（１−１）を製造することもできる。
【００６１】
上記に示したスキームは、本発明の式（Ｉ）で表される化合物又はその製造中間体を製造する為の方法の例示である。上記スキームは、当業者の容易に理解され得るようなスキームへの様々な改変が可能である。
【００６２】
上記に示したスキームにおいて、化合物（１）の代わりに化合物（１）の塩を原料として用いることもできる。化合物（１）の塩を用いる場合、フリー体として用いるために塩基等を加えて、反応を実施することができる。
【００６３】
上記に示したスキームにおいて、官能基の種類により保護基が必要な場合は、常法に従い適宜導入及び除去の操作を組み合わせて実施をすることもできる。
【００６４】
本発明の式（Ｉ）で表される化合物及びその製造中間体は、必要に応じて、当該技術分野の当業者にとって周知の単離及び精製手段である、溶媒抽出、晶析、再結晶、クロマトグラフィー、分取高速液体クロマトグラフィー等により、単離及び精製することもできる。
【００６５】
本発明の化合物は、優れたＮＫ１受容体拮抗作用を有するので、ＮＫ１受容体が介在する種々の疾患の予防又は治療薬としても使用できる。例えば、本発明の化合物は、制吐剤として有用であり、特に抗悪性腫瘍剤（例えば、シスプラチン）投与に伴う消化器症状（例えば、悪心及び嘔吐）の予防薬として有用である。本発明の好ましい化合物は、抗悪性腫瘍剤投与に伴う急性期の悪心及び嘔吐のみならず、抗悪性腫瘍剤投与に伴う遅発期の悪心及び嘔吐に対しても有用である。
【００６６】
また、一つの実施態様として、本発明の化合物は、優れたＮＫ１受容体拮抗作用を有するので、例えば、術後の悪心及び嘔吐（ＰＯＮＶ）、放射線療法に伴う悪心及び嘔吐、モルヒネ誘発嘔吐、若しくは乗り物酔いの予防薬、又は統合失調症、社会不安障害、不安及びうつ病、アルコール依存症、過敏性腸症候群、潰瘍性大腸炎、咳嗽、喘息、アトピー性皮膚炎、乾癬、掻痒症、疼痛、偏頭痛、耳鳴、前立腺肥大症、過活動膀胱、若しくは尿失禁の治療薬としても用いることもできる。
【００６７】
本発明の医薬組成物は、用法に応じ種々の剤型のものが使用される。このような剤型としては、例えば、散剤、顆粒剤、細粒剤、ドライシロップ剤、錠剤、カプセル剤、注射剤、液剤、軟膏剤、坐剤、貼付剤を挙げることができ、経口又は非経口的に投与される。
【００６８】
本発明の医薬組成物は、式（Ｉ）で表される化合物又はその薬理学的に許容される塩、及び少なくとも１つの医薬品添加物を用いて調製される。これら医薬組成物は、その剤型に応じ製剤学的に公知の手法により、適切な賦形剤、崩壊剤、結合剤、滑沢剤、希釈剤、緩衝剤、等張化剤、防腐剤、湿潤剤、乳化剤、分散剤、安定化剤、溶解補助剤等の医薬品添加物と適宜混合、希釈又は溶解することにより調製することもできる。
【００６９】
本発明の医薬組成物を予防又は治療に用いる場合、その有効成分である本発明の式（Ｉ）で表される化合物又はその薬理学的に許容される塩の投与量は、患者の年齢、性別、体重、疾患及び治療の程度等により適宜決定される。成人に対する投与量は、経口投与の場合、例えば、０．１〜１０００ｍｇ／日、０．１〜５００ｍｇ／日、０．１〜１００ｍｇ／日、又は０．１〜５０ｍｇ／日の範囲で定めることもでき、１日投与量を１回、２回、３回又は４回に分けて投与してもよい。また、非経口投与の場合、例えば、０．１〜１０００ｍｇ／日、０．１〜５００ｍｇ／日、０．１〜１００ｍｇ／日、又は０．１〜５０ｍｇ／日の範囲で定めることもでき、１日投与量を１回、２回、３回又は４回に分けて投与してもよい。
【００７０】
本発明の医薬組成物を抗悪性腫瘍剤投与に伴う悪心及び嘔吐の予防用の医薬組成物として用いる場合、抗悪性腫瘍剤の投与前に本薬を投与して用いることもできる。例えば、化学療法において、抗悪性腫瘍剤の投与直前〜１時間３０分前に本薬を患者に投与し、２日目以降は、午前中に投与して用いることもできる。
【００７１】
一つの実施態様として、本発明の式（Ｉ）で表される化合物、又はその薬理学的に許容される塩は、ＮＫ１受容体拮抗薬以外の他の薬剤と組み合わせて使用することもできる。組み合わせて使用することができる他の薬剤としては、例えば、コルチコステロイド、５−ＨＴ３受容体拮抗型制吐剤の薬剤が挙げられる。
【００７２】
本発明の式（Ｉ）で表される化合物、又はその薬理学的に許容される塩と他の薬剤とを組み合わせて使用する場合、これらの有効成分を一緒に含有する製剤、又はこれらの有効成分の個々を別々に製剤化した製剤として投与することができる。別々に製剤化した場合、それらの製剤を別々に、又は同時に投与することができる。
【００７３】
また、本発明の式（Ｉ）で表される化合物、又はその薬理学的に許容される塩の投与量は、組み合わせて使用する他の薬剤の投与量に応じて、適宜減量してもよい。
【実施例】
【００７４】
本発明の内容を以下の参考例、実施例及び試験例でさらに詳細に説明するが、本発明はその内容に限定されるものでない。【００７５】
参考例１
{４−[(Ｓ)−４−{[(Ｒ)−１−(３，５−ビストリフルオロメチルフェニル)エチル]メチルカルバモイル}−３−(４−フルオロ−２−メチルフェニル)ピペラジン−１−イル]シクロヘキシル}酢酸メチル
(Ｓ)−２−(４−フルオロ−２−メチルフェニル)ピペラジン−１−カルボン酸[(Ｒ)−１−(３，５−ビストリフルオロメチルフェニル)エチル]メチルアミド  メタンスルホン酸塩（１：１）（０．０５９ｇ）、(４−オキソシクロヘキシル)酢酸メチル（０．０２６ｇ）及びトリエチルアミン（０．０２０ｇ）のテトラヒドロフラン（３ｍL）溶液を室温にて１０分間撹拌した。反応混合物に室温にてナトリウムトリアセトキシボロヒドリド（０．０４２ｇ）及び酢酸（０．０１２ｇ）を加え、同温にて終夜撹拌した。反応混合物に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下留去した。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル／メタノール）で精製し、表題化合物（０．０５０ｇ）を得た。【００７６】
参考例２及び３
ｃｉｓ−４−エトキシカルボニルメチルシクロヘキサンカルボン酸ベンジル（参考例２）及びｔｒａｎｓ−４−エトキシカルボニルメチルシクロヘキサンカルボン酸ベンジル（参考例３）
４−エトキシカルボニルメチルシクロヘキサンカルボン酸（８．９６ｇ）のジクロロメタン（５０ｍＬ）溶液に室温にてＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（０．０１０ｍＬ）を加えた後、塩化オキサリル（１０．６２ｇ）を滴下し、同温にて２時間撹拌した。反応混合物を減圧下濃縮し、残渣にジクロロメタンを加えて再度濃縮した。この操作を合計３回繰り返した。得られた残渣にジクロロメタン（５０ｍＬ）及びトリエチルアミン（６．３５ｇ）を加えた後、氷冷下にてベンジルアルコール（５．４３ｇ）を滴下し、室温で終夜撹拌した。反応混合物に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下留去した。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル）で精製し、参考例２の化合物（２．５１ｇ）及び参考例３の化合物（３．４３ｇ）をそれぞれ得た。上記クロマトグラフィーにおいて、低極性側の化合物が参考例２の化合物であり、高極性側の化合物が参考例３の化合物であった。【００７７】
参考例４
ｃｉｓ−４−エトキシカルボニルメチルシクロヘキサンカルボン酸
水素ガス雰囲気下、ｃｉｓ−４−エトキシカルボニルメチルシクロヘキサンカルボン酸ベンジル（２．５１ｇ）及び１０％パラジウム−炭素（０．３０ｇ、ｗｅｔ）のエタノール（２０ｍＬ）懸濁液を室温にて終夜撹拌した。反応混合物をセライト（登録商標）を通してろ過し、ろ液を減圧下濃縮して表題化合物（１．８１ｇ）を得た。【００７８】
参考例５
参考例４と同様の方法により、対応する原料を用いて参考例５の化合物を合成した。【００７９】
参考例６
ｃｉｓ−{４−[(Ｓ)−４−{[(Ｒ)−１−(３，５−ビストリフルオロメチルフェニル)エチル]メチルカルバモイル}−３−(４−フルオロ−２−メチルフェニル)ピペラジン−１−カルボニル]シクロヘキシル}酢酸エチル
(Ｓ)−２−(４−フルオロ−２−メチルフェニル)ピペラジン−１−カルボン酸[(Ｒ)−１−(３，５−ビストリフルオロメチルフェニル)エチル]メチルアミド  メタンスルホン酸塩（０．０５９ｇ）、ｃｉｓ−４−エトキシカルボニルメチルシクロヘキサンカルボン酸（０．０３２ｇ）及びＮ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン（０．０３９ｇ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド溶液に室温にてＯ−（７−アザベンゾトリアゾール−１−イル）−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルウロニウムヘキサフルオロリン酸塩（０．０７６ｇ）を加え、同温にて終夜撹拌した。反応混合物に水を加え、酢酸エチルで２回抽出した。合わせた有機層を飽和食塩水で２回洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下留去した。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝８０／２０〜０／１００）で精製し、表題化合物（０．０７０ｇ）を得た。【００８０】
参考例７
参考例６と同様の方法により、対応する原料を用いて参考例７の化合物を合成した。【００８１】
参考例８
ｃｉｓ−(４−ヒドロキシメチルシクロヘキシル)酢酸エチル
アルゴンガス雰囲気下、ｃｉｓ−４−エトキシカルボニルメチルシクロヘキサンカルボン酸（０．４３ｇ）のテトラヒドロフラン（１０ｍＬ）溶液に室温にてボラン−テトラヒドロフランコンプレックス（１．０ｍｏｌ／Ｌ テトラヒドロフラン溶液、３．０ｍＬ）を滴下した。室温にてその混合物を終夜撹拌後、同温にて水を加えた。飽和食塩水を加えた後、酢酸エチルにて抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下留去した。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝６０／４０〜０／１００）で精製し、表題化合物（０．３３ｇ）を得た。【００８２】
参考例９
参考例８と同様の方法により、対応する原料を用いて参考例９の化合物を合成した。【００８３】
参考例１０
ｃｉｓ−(４−ホルミルシクロヘキシル)酢酸エチル
ｃｉｓ−(４−ヒドロキシメチルシクロヘキシル)酢酸エチル（０．３３ｇ）のジクロロメタン（１０ｍＬ）溶液に氷冷下にてデス・マーチンペルヨージナン（０．８５ｇ）を加え、室温にて４時間撹拌した。反応混合物を酢酸エチルにて希釈し、１．０ｍｏｌ／Ｌ  水酸化ナトリウム水溶液、飽和食塩水で洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下留去した。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝８５／１５〜０／１００）で精製し、表題化合物（０．２０ｇ）を得た。【００８４】
参考例１１
参考例１０と同様の方法により、対応する原料を用いて参考例１１の化合物を合成した。【００８５】
参考例１２〜１４
参考例１と同様の方法により、対応する原料を用いて参考例１２〜１４の化合物を合成した。【００８６】
参考例１５
ｃｉｓ−４−ヒドロキシメチルシクロヘキサンカルボン酸メチル
ｃｉｓ−シクロヘキサン−１，４−ジカルボン酸モノメチル（１．０ｇ）のテトラヒドロフラン（５０ｍＬ）溶液に氷冷下にてボラン−ジメチルスルフィドコンプレックス（０．６１ｇ）を加え、同温にて１５分間、室温にて４時間撹拌した。反応混合物に室温にてメタノール（０．１７ｇ）を加えて２０分間撹拌した後、減圧下濃縮した。残渣に室温にてメチルｔｅｒｔ−ブチルエーテル（３０ｍＬ）を加えて暫く撹拌後、不溶物をセライト（登録商標）を通してろ過し、ろ液を減圧下濃縮した。残渣に１．０ｍｏｌ／Ｌ  水酸化ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルにて抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下留去して表題化合物（０．８７ｇ）を得た。【００８７】
参考例１６
参考例１５と同様の方法により、対応する原料を用いて参考例１６の化合物を合成した。【００８８】
参考例１７
ｃｉｓ−４−ホルミルシクロヘキサンカルボン酸メチル
アルゴンガス雰囲気下、ジメチルスルホキシド（０．９０ｇ）のジクロロメタン（４０ｍＬ）溶液に−７８℃にて塩化オキサリル（０．７３ｇ）を加え、同温にて５分間撹拌した。反応混合物に−７８℃にてｃｉｓ−４−ヒドロキシメチルシクロヘキサンカルボン酸メチル（０．８３ｇ）のジクロロメタン（１０ｍＬ）溶液を滴下し、同温にて３０分間撹拌した。反応混合物に−７８℃にてトリエチルアミン（２．４３ｇ）を加え、同温にて１５分撹拌した。反応混合物に氷冷下にて１．０ｍｏｌ／Ｌ  塩酸（１５ｍＬ）を加え、有機層を分取した。有機層を水、飽和食塩水にて洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下留去して表題化合物（０．７８ｇ）を得た。【００８９】
参考例１８
参考例１７と同様の方法により、対応する原料を用いて参考例１８の化合物を合成した。【００９０】
参考例１９及び２０
参考例１と同様の方法により、対応する原料を用いて参考例１９及び２０の化合物を合成した。【００９１】
参考例２１
{４−[(Ｓ)−４−{[(Ｒ)−１−(３，５−ビストリフルオロメチルフェニル)エチル]メチルカルバモイル}−３−(４−フルオロ−２−メチルフェニル)ピペラジン−１−イルメチル]フェニル}酢酸メチル
(Ｓ)−２−(４−フルオロ−２−メチルフェニル)ピペラジン−１−カルボン酸[(Ｒ)−１−(３，５−ビストリフルオロメチルフェニル)エチル]メチルアミド  メタンスルホン酸塩（０．０８０ｇ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（０．３２ｍＬ）溶液に室温にてＮ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン（０．０３９ｇ）を加え、同温にて３０分間撹拌した。反応混合物に氷冷下にて(４−ブロモメチルフェニル)酢酸メチル（０．０３６ｇ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（０．１５ｍＬ）溶液を加え、室温にて３０分間撹拌した。反応混合物に水を加え、酢酸エチルにて抽出した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下留去した。残渣をアミノプロピルシリル化シリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル）で精製し、表題化合物（０．０８６ｇ）を得た。【００９２】
参考例２２
４−エトキシカルボニルメチルピペリジン−１−カルボン酸４−ニトロフェニル
ピペリジン−４−イル酢酸エチル（０．２０ｇ）のテトラヒドロフラン（１８ｍＬ）溶液に室温にてクロロギ酸４−ニトロフェニル（０．２６ｇ）及びトリエチルアミン（０．３６ｇ）を加え、同温にて１２時間撹拌した。反応混合物をろ過し、ろ液を減圧下濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル）で精製し、表題化合物（０．３３ｇ）を得た。【００９３】
参考例２３
{１−[(Ｓ)−４−{[(Ｒ)−１−(３，５−ビストリフルオロメチルフェニル)エチル]メチルカルバモイル}−３−(４−フルオロ−２−メチルフェニル)ピペラジン−１−カルボニル]ピペリジン−４−イル}酢酸エチル
(Ｓ)−２−(４−フルオロ−２−メチルフェニル)ピペラジン−１−カルボン酸[(Ｒ)−１−(３，５−ビストリフルオロメチルフェニル)エチル]メチルアミド  メタンスルホン酸塩（０．０５１ｇ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（０．５０ｍＬ）溶液に室温にてトリエチルアミン（０．０１７ｇ）を加え、同温にて３０分間撹拌した。反応混合物に室温にて４−エトキシカルボニルメチルピペリジン−１−カルボン酸４−ニトロフェニル（０．０４３ｇ）を加え、１２０℃で１５時間撹拌した。反応混合物を室温に冷却し、水を加え、酢酸エチルにて抽出した。水層を酢酸エチルにて再抽出し、合わせた有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下留去した。残渣をアミノプロピルシリル化シリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル）で精製し、表題化合物を得た。【００９４】
参考例２４
３−[(Ｓ)−４−{[(Ｒ)−１−(３，５−ビストリフルオロメチルフェニル)エチル]メチルカルバモイル}−３−(４−フルオロ−２−メチルフェニル)ピペラジン−１−イルメチル]ビシクロ[１．１．１]ペンタン−１−カルボン酸メチル
(Ｓ)−２−(４−フルオロ−２−メチルフェニル)ピペラジン−１−カルボン酸[(Ｒ)−１−(３，５−ビストリフルオロメチルフェニル)エチル]メチルアミド  メタンスルホン酸塩（０．１２ｇ）及び３−ホルミルビシクロ[１．１．１]ペンタン−１−カルボン酸メチル（０．０４９ｇ）のテトラヒドロフラン（５．３ｍＬ）溶液に室温にてＮ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン（０．０５５ｇ）を加え、同温にて３０分間撹拌した。反応混合物に室温にてナトリウムトリアセトキシボロヒドリド（０．０９０ｇ）及び酢酸（０．０２６ｇ）を加え、同温にて１２時間撹拌した。反応混合物に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルにて抽出した。抽出液を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下留去した。残渣をアミノプロピルシリル化シリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル）で精製し、表題化合物（０．０４８ｇ）を得た。【００９５】
参考例２５
１−ベンジル−５−(４−フルオロ−２−メチルフェニル)−１，２，３，６−テトラヒドロピリジン−４−カルボン酸エチル
水素化ナトリウム（含有率６０％、０．６７ｇ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（１５ｍＬ）懸濁液に氷冷下にて１−ベンジル−３−オキソピペリジン−４−カルボン酸エチル塩酸塩（２．０ｇ）を加え、氷冷下にて５分間撹拌した。反応混合物に氷冷下にてＮ−フェニルビス（トリフルオロメタンスルホンイミド）（２．６４ｇ）を加え、同温にて２時間撹拌した。反応混合物に水を加え、酢酸エチルにて抽出した。有機層を飽和塩化アンモニウム水溶液、飽和食塩水にて洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下留去した。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝９１／９〜５０／５０）で精製し、１−ベンジル−５−トリフルオロメタンスルホニルオキシ−１，２，３，６−テトラヒドロピリジン−４−カルボン酸エチル（２．８２ｇ）を得た。アルゴンガス雰囲気下、１−ベンジル−５−トリフルオロメタンスルホニルオキシ−１，２，３，６−テトラヒドロピリジン−４−カルボン酸エチル（２．８２ｇ）、４−フルオロ−２−メチルフェニルボロン酸（１．５５ｇ）、トルエン（２０ｍＬ）及び水（２ｍＬ）の混合物に室温にてテトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）（０．３９ｇ）及び炭酸カリウム（０．９３ｇ）を加え、１００℃にて終夜撹拌した。反応混合物を室温に冷却後、水を加え、酢酸エチルにて抽出した。有機層を飽和塩化アンモニウム水溶液、飽和食塩水にて洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下留去した。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝９１／９〜５０／５０）で精製し、表題化合物（２．２９ｇ）を得た。【００９６】
参考例２６
５−(４−フルオロ−２−メチルフェニル)−１，２，３，６−テトラヒドロピリジン−４−カルボン酸エチル塩酸塩
１−ベンジル−５−(４−フルオロ−２−メチルフェニル)−１，２，３，６−テトラヒドロピリジン−４−カルボン酸エチル（２．２９ｇ）の酢酸エチル（２０ｍＬ）溶液に室温にて塩化水素溶液（４．０ｍｏｌ／Ｌ 酢酸エチル溶液、１．７８ｍＬ）を加えた。この混合物に室温にてｎ−ヘキサン（２０ｍＬ）を加え、同温にて１時間撹拌した。析出した結晶をろ取し、減圧下乾燥して粗生成物を得た。この粗生成物とエタノール（７５ｍＬ）及びメタノール（１５ｍＬ）の混合物に室温にて１０％パラジウム−炭素（０．８ｇ、ｗｅｔ）を加え、水素ガス雰囲気下、室温にて終夜撹拌した。反応混合物をセライト（登録商標）を通してろ過し、ろ液を減圧下濃縮して表題化合物（１．９８ｇ）を得た。【００９７】
参考例２７
５−(４−フルオロ−２−メチルフェニル)−３，６−ジヒドロ−２Ｈ−ピリジン−１，４−ジカルボン酸１−ｔｅｒｔ−ブチル４−エチルエステル
５−(４−フルオロ−２−メチルフェニル)−１，２，３，６−テトラヒドロピリジン−４−カルボン酸エチル塩酸塩（１．９４ｇ）及びトリエチルアミン（１．４４ｇ）のアセトニトリル（５０ｍＬ）溶液に室温にて二炭酸ジ−ｔｅｒｔ−ブチル（２．１２ｇ）を加え、同温にて２日間撹拌した。反応混合物を減圧下濃縮し、残渣に水を加え、酢酸エチルにて抽出した。有機層を飽和食塩水にて洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下留去した。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝９５／５〜５０／５０）で精製し、表題化合物（１．７０ｇ）を得た。【００９８】
参考例２８
３−(４−フルオロ−２−メチルフェニル)ピペリジン−１，４−ジカルボン酸１−ｔｅｒｔ−ブチル４−エチルエステル
水素ガス雰囲気下、５−(４−フルオロ−２−メチルフェニル)−３，６−ジヒドロ−２Ｈ−ピリジン−１，４−ジカルボン酸１−ｔｅｒｔ−ブチル４−エチルエステル（１．６９ｇ）及び酸化白金（IV）（０．２１ｇ）の酢酸（８ｍＬ）懸濁液を室温にて２４時間撹拌した。反応混合物をセライト（登録商標）を通してろ過し、ろ液を減圧下濃縮した。残渣にトルエンを加え２回共沸した。残渣に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルにて抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下留去した。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝９５／５〜５０／５０）で精製し、表題化合物（０．６２ｇ）を得た。【００９９】
参考例２９
３−(４−フルオロ−２−メチルフェニル)ピペリジン−１，４−ジカルボン酸１−ｔｅｒｔ−ブチル
３−(４−フルオロ−２−メチルフェニル)ピペリジン−１，４−ジカルボン酸１−ｔｅｒｔ−ブチル４−エチルエステル（０．６２ｇ）のメタノール（８ｍＬ）溶液に室温にてナトリウムメトキシド（２８％メタノール溶液、０．６６ｍＬ）を加え、５時間還流した。反応混合物に１．０ｍｏｌ／Ｌ  水酸化ナトリウム水溶液（５．１ｍＬ）及びテトラヒドロフラン（２０ｍＬ）を加え、この混合物を６０℃にて終夜撹拌した。反応混合物に１．０ｍｏｌ／Ｌ  塩酸（１０ｍＬ）と飽和食塩水を加え、酢酸エチルにて抽出した。水層を酢酸エチルにて再抽出した。合わせた有機層を飽和食塩水で２回洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下留去して表題化合物（０．５９ｇ）を得た。【０１００】
参考例３０
[(Ｓ)−１−(３，５−ビストリフルオロメチルフェニル)エチル]メチルアミン  Ｄ−（＋）−リンゴ酸塩
アルゴンガス雰囲気下、１−(３，５−ビストリフルオロメチルフェニル)エタノン（１０．２５ｇ）のメタノール（１５ｍＬ）溶液に室温にてメチルアミン（９．８ｍｏｌ／Ｌ メタノール溶液、１０．２ｍＬ）を加え、室温にて２４時間撹拌した。反応混合物に氷
冷下にて水素化ホウ素ナトリウム（０．９５ｇ）を加え、同温にて３０分間撹拌した。反応混合物に氷冷下にて水素化ホウ素ナトリウム（０．５８ｇ）を加え、同温にて４時間撹拌した。反応混合物を減圧下濃縮し、残渣に飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルにて抽出した。水層を酢酸エチルにて再抽出した。合わせた有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下留去して残渣を得た。得られた残渣を酢酸エチル（９０ｍＬ）溶解させ、ここに室温にてＬ−（−）−リンゴ酸（４．８３ｇ）を加え、同温にて終夜撹拌した。得られた懸濁液を氷冷下にて３時間撹拌した。結晶をろ取し、ろ液に炭酸ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルにて抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下留去して残渣を得た。この残渣の酢酸エチル（５５ｍＬ）溶液に室温にてＤ−（＋）−リンゴ酸（３．２１ｇ）を加え、同温にて３時間撹拌した。析出した結晶をろ取し、減圧下乾燥した。得られた粗結晶を酢酸エチル（６５ｍＬ）に加熱溶解させ、室温にて１時間、氷冷下１．５時間撹拌した。析出した結晶をろ取し、減圧下乾燥して表題化合物（４．７６ｇ）を得た。【０１０１】
参考例３１
(３Ｓ，４Ｓ)−４−{[(Ｓ)−１−(３，５−ビストリフルオロメチルフェニル)エチル]メチルカルバモイル}−３−(４−フルオロ−２−メチルフェニル)ピペリジン−１−カルボン酸ｔｅｒｔ−ブチル
[(Ｓ)−１−(３，５−ビストリフルオロメチルフェニル)エチル]メチルアミン  Ｄ−（＋）−リンゴ酸塩（１．０３ｇ）に飽和炭酸ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。水層を酢酸エチルで再抽出し、合わせた有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下留去した。残渣をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドに溶解させ、室温にて３−(４−フルオロ−２−メチルフェニル)ピペリジン−１，４−ジカルボン酸１−ｔｅｒｔ−ブチル（０．５７ｇ）、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン（０．６６ｇ）及びＯ−（７−アザベンゾトリアゾール−１−イル）−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルウロニウムヘキサフルオロリン酸塩（１．２９ｇ）を加え、同温にて終夜撹拌した。反応混合物に水を加え、酢酸エチルにて抽出した。水層を酢酸エチルにて再抽出し、合わせた有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下留去した。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝９５／５〜５０／５０）で精製し、表題化合物（０．３９ｇ）を得た。【０１０２】
参考例３２
(３Ｓ，４Ｓ)−３−(４−フルオロ−２−メチルフェニル)ピペリジン−４−カルボン酸[(Ｓ)−１−(３，５−ビストリフルオロメチルフェニル)エチル]メチルアミド塩酸塩
(３Ｓ，４Ｓ)−４−{[(Ｓ)−１−(３，５−ビストリフルオロメチルフェニル)エチル]メチルカルバモイル}−３−(４−フルオロ−２−メチルフェニル)ピペリジン−１−カルボン酸ｔｅｒｔ−ブチル（０．３９ｇ）のエタノール（５ｍＬ）溶液に室温にて塩化水素溶液（４．０ｍｏｌ／Ｌ 酢酸エチル溶液、０．６６ｍＬ）を加え、５０℃で５時間撹拌
した。反応混合物を室温に冷却し、溶媒を減圧下濃縮した。得られた残渣に酢酸エチル及びジエチルエーテルを加え、析出した結晶をろ取し、減圧下乾燥して表題化合物（０．２３ｇ）を得た。【０１０３】
参考例３３〜３５
参考例１と同様の方法により、対応する原料を用いて参考例３３〜３５の化合物を合成した。【０１０４】
実施例１
{４−[(Ｓ)−４−{[(Ｒ)−１−(３，５−ビストリフルオロメチルフェニル)エチル]メチルカルバモイル}−３−(４−フルオロ−２−メチルフェニル)ピペラジン−１−イル]シクロヘキシル}酢酸
{４−[(Ｓ)−４−{[(Ｒ)−１−(３，５−ビストリフルオロメチルフェニル)エチル]メチルカルバモイル}−３−(４−フルオロ−２−メチルフェニル)ピペラジン−１−イル]シクロヘキシル}酢酸メチル（０．０４３ｇ）、テトラヒドロフラン（１ｍＬ）、メタノール（１ｍＬ）及び水（０．３ｍＬ）の混合物に室温下、水酸化リチウム一水和物（０．０１４ｇ）を加え、同温にて終夜撹拌した。反応混合物に１．０ｍｏｌ／Ｌ  塩酸（０．３３ｍＬ）及び水を加え、酢酸エチルにて抽出した。有機層を無水硫酸マグネシウムにて乾燥した。溶媒を減圧下濃縮し、表題化合物（０．０３ｇ）を得た。【０１０５】
実施例２
ｃｉｓ−{４−[(Ｓ)−４−{[(Ｒ)−１−(３，５−ビストリフルオロメチルフェニル)エチル]メチルカルバモイル}−３−(４−フルオロ−２−メチルフェニル)ピペラジン−１−カルボニル]シクロヘキシル}酢酸
ｃｉｓ−{４−[(Ｓ)−４−{[(Ｒ)−１−(３，５−ビストリフルオロメチルフェニル)エチル]メチルカルバモイル}−３−(４−フルオロ−２−メチルフェニル)ピペラジン−１−カルボニル]シクロヘキシル}酢酸エチル（０．０６６ｇ）、テトラヒドロフラン（１ｍＬ）、メタノール（１ｍＬ）及び水（０．３ｍＬ）の混合物に室温下、水酸化リチウム一水和物（０．０４８ｇ）を加え、同温にて終夜撹拌した。反応混合物に１．０ｍｏｌ／Ｌ  塩酸（１．１５ｍＬ）及び水を加え、酢酸エチルにて抽出した。有機層を無水硫酸マグネシウムにて乾燥した。溶媒を減圧下濃縮し、表題化合物（０．０６ｇ）を得た。【０１０６】
実施例３
ｔｒａｎｓ−{４−[(Ｓ)−４−{[(Ｒ)−１−(３，５−ビストリフルオロメチルフェニル)エチル]メチルカルバモイル}−３−(４−フルオロ−２−メチルフェニル)ピペラジン−１−カルボニル]シクロヘキシル}酢酸
ｔｒａｎｓ−{４−[(Ｓ)−４−{[(Ｒ)−１−(３，５−ビストリフルオロメチルフェニル)エチル]メチルカルバモイル}−３−(４−フルオロ−２−メチルフェニル)ピペラジン−１−カルボニル]シクロヘキシル}酢酸エチル（０．０６２ｇ）、テトラヒドロフラン（１ｍＬ）、メタノール（１ｍＬ）及び水（０．３ｍＬ）の混合物に室温下、水酸化リチウム一水和物（０．０１９ｇ）を加え、同温にて終夜撹拌した。反応混合物に１．０ｍｏｌ／Ｌ  塩酸（０．４５ｍＬ）及び水を加え、酢酸エチルにて抽出した。有機層を無水硫酸マグネシウムにて乾燥した。溶媒を減圧下濃縮し、表題化合物（０．０４ｇ）を得た。【０１０７】
実施例４
ｃｉｓ−{４−[(Ｓ)−４−{[(Ｒ)−１−(３，５−ビストリフルオロメチルフェニル)エチル]メチルカルバモイル}−３−(４−フルオロ−２−メチルフェニル)ピペラジン−１−イルメチル]シクロヘキシル}酢酸
ｃｉｓ−{４−[(Ｓ)−４−{[(Ｒ)−１−(３，５−ビストリフルオロメチルフェニル)エチル]メチルカルバモイル}−３−(４−フルオロ−２−メチルフェニル)ピペラジン−１−イルメチル]シクロヘキシル}酢酸エチル（０．０６２ｇ）、テトラヒドロフラン（１ｍＬ）、メタノール（１ｍＬ）及び水（０．３ｍＬ）の混合物に室温下、水酸化リチウム一水和物（０．０１９ｇ）を加え、同温にて終夜撹拌した。反応混合物に１．０ｍｏｌ／Ｌ  塩酸（０．４６ｍＬ）及び水を加え、酢酸エチルにて抽出した。有機層を無水硫酸マグネシウムにて乾燥した。溶媒を減圧下濃縮し、表題化合物（０．０６ｇ）を得た。【０１０８】
実施例５
ｔｒａｎｓ−{４−[(Ｓ)−４−{[(Ｒ)−１−(３，５−ビストリフルオロメチルフェニルエチル]メチルカルバモイル}−３−(４−フルオロ−２−メチルフェニル)ピペラジン−１−イルメチル]シクロヘキシル}酢酸
ｔｒａｎｓ−{４−[(Ｓ)−４−{[(Ｒ)−１−(３，５−ビストリフルオロメチルフェニル)エチル]メチルカルバモイル}−３−(４−フルオロ−２−メチルフェニル)ピペラジン−１−イルメチル]シクロヘキシル}酢酸エチル（０．０６５ｇ）、テトラヒドロフラン（１ｍＬ）、メタノール（１ｍＬ）及び水（０．３ｍＬ）の混合物に室温下、水酸化リチウム一水和物（０．０２０ｇ）を加え、同温にて終夜撹拌した。反応混合物に１．０ｍｏｌ／Ｌ  塩酸（０．４５ｍＬ）及び水を加え、酢酸エチルにて抽出した。有機層を無水硫酸マグネシウムにて乾燥した。溶媒を減圧下濃縮し、表題化合物（０．０６ｇ）を得た。【０１０９】
実施例６
４−[(Ｓ)−４−{[(Ｒ)−１−(３，５−ビストリフルオロメチルフェニル)エチル]メチルカルバモイル}−３−(４−フルオロ−２−メチルフェニル)ピペラジン−１−イル]シクロヘキサンカルボン酸
４−[(Ｓ)−４−{[(Ｒ)−１−(３，５−ビストリフルオロメチルフェニル)エチル]メチルカルバモイル}−３−(４−フルオロ−２−メチルフェニル)ピペラジン−１−イル]シクロヘキサンカルボン酸エチル（０．０４０ｇ）、テトラヒドロフラン（１ｍＬ）、メタノール（１ｍＬ）及び水（０．３ｍＬ）の混合物に室温下、水酸化リチウム一水和物（０．０２６ｇ）を加え、同温にて２日間撹拌した。反応混合物に２．０ｍｏｌ／Ｌ  塩酸（０．５０ｍＬ）を加え、酢酸エチルにて抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムにて乾燥した。溶媒を減圧下濃縮し、表題化合物（０．０３６ｇ）を得た。【０１１０】
実施例７
ｃｉｓ−４−[(Ｓ)−４−{[(Ｒ)−１−(３，５−ビストリフルオロメチルフェニル)エチル]メチルカルバモイル}−３−(４−フルオロ−２−メチルフェニル)ピペラジン−１−イルメチル]シクロヘキサンカルボン酸
ｃｉｓ−４−[(Ｓ)−４−{[(Ｒ)−１−(３，５−ビストリフルオロメチルフェニル)エチル]メチルカルバモイル}−３−(４−フルオロ−２−メチルフェニル)ピペラジン−１−イルメチル]シクロヘキサンカルボン酸メチル（０．０５３ｇ）、テトラヒドロフラン（１ｍＬ）、メタノール（１ｍＬ）及び水（０．３ｍＬ）の混合物に室温下、水酸化リチウム一水和物（０．０３５ｇ）を加え、同温にて２日間撹拌した。反応混合物に２．０ｍｏｌ／Ｌ  塩酸（０．５０ｍＬ）を加え、酢酸エチルにて抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムにて乾燥した。溶媒を減圧下濃縮し、表題化合物（０．０４０ｇ）を得た。【０１１１】
実施例８
ｔｒａｎｓ−４−[(Ｓ)−４−{[(Ｒ)−１−(３，５−ビストリフルオロメチルフェニル)エチル]メチルカルバモイル}−３−(４−フルオロ−２−メチルフェニル)ピペラジン−１−イルメチル]シクロヘキサンカルボン酸
ｔｒａｎｓ−４−[(Ｓ)−４−{[(Ｒ)−１−(３，５−ビストリフルオロメチルフェニル)エチル]メチルカルバモイル}−３−(４−フルオロ−２−メチルフェニル)ピペラジン−１−イルメチル]シクロヘキサンカルボン酸メチル（０．０５８ｇ）、テトラヒドロフラン（１ｍＬ）、メタノール（１ｍＬ）及び水（０．３ｍＬ）の混合物に室温下、水酸化リチウム一水和物（０．０３８ｇ）を加え、同温にて２日間撹拌した。反応混合物に２．０ｍｏｌ／Ｌ  塩酸（０．５０ｍＬ）を加え、酢酸エチルにて抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムにて乾燥した。溶媒を減圧下濃縮し、表題化合物（０．０５２ｇ）を得た。【０１１２】
実施例９
{４−[(Ｓ)−４−{[(Ｒ)−１−(３，５−ビストリフルオロメチルフェニル)エチル]メチルカルバモイル}−３−(４−フルオロ−２−メチルフェニル)ピペラジン−１−イルメチル]フェニル}酢酸
{４−[(Ｓ)−４−{[(Ｒ)−１−(３，５−ビストリフルオロメチルフェニル)エチル]メチルカルバモイル}−３−(４−フルオロ−２−メチルフェニル)ピペラジン−１−イルメチル]フェニル}酢酸メチル（０．０８４ｇ）、テトラヒドロフラン（１ｍＬ）、メタノール（０．５ｍＬ）及び水（０．５ｍＬ）の混合物に室温下、水酸化リチウム一水和物（０．０１６ｇ）を加え、同温にて１１時間撹拌した。反応混合物に２．０ｍｏｌ／Ｌ  塩酸（０．１９ｍＬ）を及び水を加え、酢酸エチルにて抽出した。有機層を無水硫酸マグネシウムにて乾燥した。溶媒を減圧下濃縮し、表題化合物（０．０８１ｇ）を得た。【０１１３】
実施例１０
{１−[(Ｓ)−４−{[(Ｒ)−１−(３，５−ビストリフルオロメチルフェニル)エチル]メチルカルバモイル}−３−(４−フルオロ−２−メチルフェニル)ピペラジン−１−カルボニル]ピペリジン−４−イル}酢酸
{１−[(Ｓ)−４−{[(Ｒ)−１−(３，５−ビストリフルオロメチルフェニル)エチル]メチルカルバモイル}−３−(４−フルオロ−２−メチルフェニル)ピペラジン−１−カルボニル]ピペリジン−４−イル}酢酸エチル（０．１１ｇ）、テトラヒドロフラン（１．６ｍＬ）、メタノール（０．８ｍＬ）及び水（０．８ｍＬ）の混合物に室温下、水酸化リチウム一水和物（０．０２１ｇ）を加え、同温にて４時間撹拌した。反応混合物に２．０ｍｏｌ／Ｌ  塩酸（０．２５ｍＬ）を及び水を加え、酢酸エチルにて抽出した。有機層を無水硫酸マグネシウムにて乾燥した。溶媒を減圧下濃縮し、表題化合物（０．１０ｇ）を得た。【０１１４】
実施例１１
３−[(Ｓ)−４−{[(Ｒ)−１−(３，５−ビストリフルオロメチルフェニル)エチル]メチルカルバモイル}−３−(４−フルオロ−２−メチルフェニル)ピペラジン−１−イルメチル]ビシクロ[１．１．１]ペンタン−１−カルボン酸
３−[(Ｓ)−４−{[(Ｒ)−１−(３，５−ビストリフルオロメチルフェニル)エチル]メチルカルバモイル}−３−(４−フルオロ−２−メチルフェニル)ピペラジン−１−イルメチル]ビシクロ[１．１．１]ペンタン−１−カルボン酸メチル（０．０４８ｇ）、テトラヒドロフラン（１ｍＬ）、メタノール（０．５ｍＬ）及び水（０．５ｍＬ）の混合物に室温下、水酸化リチウム一水和物（０．０１０ｇ）を加え、同温にて４時間撹拌した。反応混合物に２．０ｍｏｌ／Ｌ  塩酸（０．１２ｍＬ）を及び水を加え、酢酸エチルにて抽出した。有機層を無水硫酸マグネシウムにて乾燥した。溶媒を減圧下濃縮し、表題化合物（０．０５０ｇ）を得た。【０１１５】
実施例１２
{４−[(３Ｓ，４Ｓ)−４−{[(Ｓ)−１−(３，５−ビストリフルオロメチルフェニル)エチル]メチルカルバモイル}−３−(４−フルオロ−２−メチルフェニル)ピペリジン−１−イル]シクロヘキシル}酢酸
{４−[(３Ｓ，４Ｓ)−４−{[(Ｓ)−１−(３，５−ビストリフルオロメチルフェニル)エチル]メチルカルバモイル}−３−(４−フルオロ−２−メチルフェニル)ピペリジン−１−イル]シクロヘキシル}酢酸メチル（０．０４２ｇ）、テトラヒドロフラン（１ｍＬ）、メタノール（１ｍＬ）及び水（０．３ｍＬ）の混合物に室温下、水酸化リチウム一水和物（０．０２０ｇ）を加え、同温にて終夜撹拌した。反応混合物に１．０ｍｏｌ／Ｌ  塩酸（０．４７ｍＬ）及び水を加え、酢酸エチルにて抽出した。有機層を無水硫酸マグネシウムにて乾燥した。溶媒を減圧下濃縮し、表題化合物（０．０３０ｇ）を得た。【０１１６】
実施例１３
ｃｉｓ−{４−[(３Ｓ，４Ｓ)−４−{[(Ｓ)−１−(３，５−ビストリフルオロメチルフェニル)エチル]メチルカルバモイル}−３−(４−フルオロ−２−メチルフェニル)ピペリジン−１−イルメチル]シクロヘキシル}酢酸
ｃｉｓ−{４−[(３Ｓ，４Ｓ)−４−{[(Ｓ)−１−(３，５−ビストリフルオロメチルフェニル)エチル]メチルカルバモイル}−３−(４−フルオロ−２−メチルフェニル)ピペリジン−１−イルメチル]シクロヘキシル}酢酸エチル（０．０３５ｇ）、テトラヒドロフラン（１ｍＬ）、メタノール（１ｍＬ）及び水（０．３ｍＬ）の混合物に室温下、水酸化リチウム一水和物（０．０１１ｇ）を加え、同温にて終夜撹拌した。反応混合物に１．０ｍｏｌ／Ｌ  塩酸（０．２６ｍＬ）及び水を加え、酢酸エチルにて抽出した。有機層を無水硫酸マグネシウムにて乾燥した。溶媒を減圧下濃縮し、表題化合物（０．０２０ｇ）を得た。【０１１７】
実施例１４
ｔｒａｎｓ−{４−[(３Ｓ，４Ｓ)−４−{[(Ｓ)−１−(３，５−ビストリフルオロメチルフェニル)エチル]メチルカルバモイル}−３−(４−フルオロ−２−メチルフェニル)ピペリジン−１−イルメチル]シクロヘキシル}酢酸
ｔｒａｎｓ−{４−[(３Ｓ，４Ｓ)−４−{[(Ｓ)−１−(３，５−ビストリフルオロメチルフェニル)エチル]メチルカルバモイル}−３−(４−フルオロ−２−メチルフェニル)ピペリジン−１−イルメチル]シクロヘキシル}酢酸エチル（０．０３９ｇ）、テトラヒドロフラン（１ｍＬ）、メタノール（１ｍＬ）及び水（０．３ｍＬ）の混合物に室温下、水酸化リチウム一水和物（０．０１２ｇ）を加え、同温にて終夜撹拌した。反応混合物に１．０ｍｏｌ／Ｌ  塩酸（０．２９ｍＬ）及び水を加え、酢酸エチルにて抽出した。有機層を無水硫酸マグネシウムにて乾燥した。溶媒を減圧下濃縮し、表題化合物（０．０３０ｇ）を得た。【０１１８】
上記参考例１〜３５の化学構造式、並びに実施例１〜１４の化学構造式、及び物性値を表１〜６に示す。表中の略号は、Ｒｅｆ．Ｎｏ．は参考例番号、Ｅｘ．Ｎｏ．は実施例番号、Ｓｔｒ．は化学構造式、Ｐｈｙｓｉｃａｌ  ｄａｔａは物性値、１Ｈ−ＮＭＲはプロトン核磁気共鳴スペクトル、ＣＤＣｌ３はクロロホルム−ｄ１をそれぞれ示す。また、ＭＳは質量分析を示し、ＥＳＩ_ＡＰＣＩはエレクトロスプレーイオン化法−大気圧化学イ
オン化法のマルチイオン化法により測定したことを示す。【０１１９】
【表１】
2017099049.tif 000022
【０１２０】
【表２】
2017099049.tif 000023
【０１２１】
【表３】
2017099049.tif 000024
【０１２２】
【表４】
2017099049.tif 000025
【０１２３】
【表５】
2017099049.tif 000026
【０１２４】
【表６】
2017099049.tif 000027
【０１２５】
試験例１
ヒトＮＫ１受容体に対する親和性
（１）ヒトＮＫ１受容体発現ベクターの調製
ヒト成人正常組織由来脳ｃＤＮＡ（バイオチェイン）を鋳型として、配列番号１に示したフォワードプライマー、配列番号２に示したリバースプライマーを用いて、ＰＣＲ酵素ＰｒｉｍｅＳＴＡＲ  Ｍａｘ  ＤＮＡ  Ｐｏｌｙｍｅｒａｓｅ又はＰｒｉｍｅＳＴＡＲ  ＧＸＬ  ＤＮＡ  Ｐｏｌｙｍｅｒａｓｅ（登録商標、タカラバイオ）によりＰＣＲを実施した。増幅産物をＺｅｒｏ  Ｂｌｕｎｔ  ＰＣＲ  Ｃｌｏｎｉｎｇ  Ｋｉｔ（登録商標、ライフテクノロジーズ）を用いてプラスミド（ｐＣＲ−ＢｌｕｎｔＩＩ−ＴＯＰＯ  （登録商標）、ライフテクノロジーズ）に組み込んだ。常法により、増幅産物が組み込まれたプラスミドを用いて大腸菌（ワンショットＴＯＰ１０コンピテントセル、ライフテクノロジーズ）を形質転換した。この大腸菌を５０μｇ／ｍＬのカナマイシンを含むＬＢ寒天培地にて１日培養した。培養後、コロニーを選択し、５０μｇ／ｍＬのカナマイシンを含むＬＢ培地にて培養した。培養後、Ｑｕａｎｔｕｍ  Ｐｒｅｐ  Ｐｌａｓｍｉｄ  Ｍｉｎｉｐｒｅｐ  Ｋｉｔ（バイオラッド）を用いてプラスミドを精製した。このプラスミドを制限酵素ＸｈｏＩ及びＨｉｎｄＩＩＩ（Ｎｅｗ  Ｅｎｇｌａｎｄ  Ｂｉｏｌａｂｓ）で約２時間二重消化した後、１％アガロース電気泳動を行い、切断された断片をＴａＫａＲａ  ＲＩＣＯＣＨＩＰ（タカラバイオ）を用いて回収・精製した。別にベクター（ｐｃＤＮＡ３．１（−）（登録商標）、ライフテクノロジーズ）により形質転換された大腸菌からもプラスミドを精製し、制限酵素ＸｈｏＩ及びＨｉｎｄＩＩＩ（Ｎｅｗ  Ｅｎｇｌａｎｄ  Ｂｉｏｌａｂｓ）で約２時間二重消化した後、１％アガロース電気泳動を行い、切断されたベクターをＴａＫａＲａ  ＲＩＣＯＣＨＩＰ（タカラバイオ）を用いて回収・精製した。ｐＣＲ−Ｂｌｕｎｔ−ＩＩから切断された断片と制限酵素処理されたｐｃＤＮＡ３．１（−）ベクターをＤＮＡ  Ｌｉｇａｔｉｏｎ  Ｋｉｔ＜Ｍｉｇｈｔｙ  Ｍｉｘ＞（タカラバイオ）を用いてライゲーション反応を行った。ライゲーション後のプラスミドを用いて常法により、大腸菌（ワンショットＴＯＰ１０コンピテントセル、ライフテクノロジーズ）を形質転換した。この大腸菌を５０μｇ／ｍＬのアンピシリンを含むＬＢ寒天培地にて１日培養した。培養後、コロニーを選択し、５０μｇ／ｍＬのアンピシリンを含むＬＢ培地にて培養した後、Ｑｕａｎｔｕｍ  Ｐｒｅｐ  Ｐｌａｓｍｉｄ  Ｍｉｎｉｐｒｅｐ  Ｋｉｔ（バイオラッド）を用いてプラスミドを精製した。得られたプラスミドのタンパク質をコードする塩基配列（配列番号３）は、公知のデータベース（ＮＣＢＩ）に登録されているヒトタキキニン受容体１（ＴＡＣＲ１、ＮＫ１R）の塩基配列（ＮＭ＿００１０５８．３）と完全一致した。したがって、クローニングした遺伝子配列はヒトＮＫ１受容体の塩基配列であり、翻訳されるアミノ酸配列はヒトＮＫ１受容体であることが確認された。配列番号３に示した塩基配列が挿入されたｐｃＤＮＡ３．１（−）（登録商標）を、ヒトＮＫ１受容体発現プラスミドとした。【０１２６】
（２）ヒトＮＫ１受容体発現細胞の調製
（２−１）２９３Ｔ細胞の培養
２９３Ｔ細胞（理化学研究所）は抗生物質ペニシリン−ストレプトマイシン溶液（ライステクノロジーズ、最終濃度：ペニシリンとして１００Ｕ／ｍＬ、ストレプトマイシン１００μｇ／ｍＬ）およびウシ胎児血清（最終濃度：１０％）を添加したＤ−ＭＥＭ（Ｄｕｌｂｅｃｃｏ’ｓ  Ｍｏｄｉｆｉｅｄ  Ｅａｇｌｅ  Ｍｅｄｉｕｍ）液体培地（低グルコース、Ｌ−グルタミン含有、和光純薬工業）を用いて、５％ＣＯ２ガス条件のインキュベーター内で３７℃にて培養した。
（２−２）２９３Ｔ細胞の継代
ほぼコンフルエントに達した細胞をＰＢＳ（Ｐｈｏｓｐｈａｔｅ  Ｂｕｆｆｅｒｅｄ  Ｓａｌｉｎｅ、和光純薬工業）にて洗浄し、０．０５％トリプシン−ＥＤＴＡ（ライステクノロジーズ）にて剥がし、上記液体培地にて懸濁した。懸濁した細胞をスプレットレシオが１：１０になるように上記液体培地で希釈し、培養した。
（２−３）ヒトＮＫ１受容体発現細胞の準備
コンフルエントに達した細胞をＰＢＳにて洗浄し、０．０５％トリプシン−ＥＤＴＡ（ライステクノロジーズ）にて剥がし、ウシ胎児血清（最終濃度：１０％）を添加したＤ−ＭＥＭ液体培地（低グルコース、Ｌ−グルタミン含有、和光純薬工業）に懸濁した。懸濁した細胞を上記液体培地で希釈し、ポリＤ−リジンコートした９６ウェルマイクロプレート（ＢＤ  Ｂｉｏｃｏａｔ（登録商標）、日本ベクトン・ディッキンソン）の各ウェルに細胞数５ｘ１０４個／ウェル、液体培地量が１００μＬ／ウェルになるように調製し、播種した。播種後、その細胞を５％ＣＯ２ガス条件のインキュベーター内で３７℃にて約４〜５時間培養し、ヒトＮＫ１受容体発現プラスミド導入用細胞とした。
（２−４）ヒトＮＫ１受容体発現プラスミドの２９３Ｔ細胞への導入
ヒトＮＫ１受容体発現プラスミド導入のために、リポフェクタミン２０００（登録商標、ライフテクノロジーズ）を使用した。ヒトＮＫ１受容体発現プラスミドを０．２μｇ／２５μＬ／ウェルになるようにＯｐｔｉ−ＭＥＭ（登録商標）Ｉ  Ｒｅｄｕｃｅｄ−Ｓｅｒｕｍ  Ｍｅｄｉｕｍ（ライフテクノロジーズ）にて希釈した。同時に、リポフェクタミン２０００（登録商標、ライフテクノロジーズ）を０．４μＬ／２５μＬ／ウェルになるようにＯｐｔｉ−ＭＥＭ（登録商標）Ｉ  Ｒｅｄｕｃｅｄ−Ｓｅｒｕｍ  Ｍｅｄｉｕｍ（ライフテクノロジーズ）にて希釈し、室温で５分間インキュベートした。５分後、ヒトＮＫ１受容体発現プラスミド／リポフェクタミン２０００の複合体形成のために、希釈したヒトＮＫ１受容体発現プラスミドと希釈したリポフェクタミン２０００とを混合し、室温で２０〜２５分間インキュベートした。インキュベーション後、複合体液を上記ヒトＮＫ１受容体発現プラスミド導入用細胞に５０μＬ／ウェルずつ添加し、５％ＣＯ２ガス条件のインキュベーター内で３７℃にて約４８時間培養した。この４８時間培養後の細胞をヒトＮＫ１受容体発現細胞として各種アッセイに使用した。【０１２７】
（３）ヒトＮＫ１受容体結合親和性の測定
（３−１）ヒトＮＫ１受容体発現細胞からの膜画分の調製
ヒトＮＫ１受容体発現細胞を１７５ｃｍ２  培養フラスコ（日本ベクトン・ディッキンソン）内で作製した。ヒトＮＫ１受容体発現プラスミドとリポフェクタミン２０００の複合体形成反応は上記２−４に記載の方法から培養面積の比率計算にてスケールアップして実施した。ヒトＮＫ１受容体発現細胞を膜画分調製用緩衝液（５０ｍＭトリス（和光純薬工業）、１２０ｍＭ塩化ナトリウム（和光純薬工業）、５ｍＭ塩化カリウム（和光純薬工業）、１ｍＭエチレンジアミン四酢酸（シグマ）、０．００２ｍｇ／ｍＬキモスタチン（ペプチド研究所）、０．０４ｍｇ／バシドラシン（和光純薬工業）、０．００５ｍｇ／ｍＬホスホラミドン（ペプチド研究所）、０．５ｍＭフェニルメチルスルフォニルフルオライド（和光純薬工業）、ｐＨ７．４）にて回収し、１，８８０ｇで１０分間遠心分離し、細胞沈査を膜画分調製用緩衝液に懸濁した。１回の凍結融解をした後、細胞をＤｏｕｎｃｅ型ホモジナイザー（氷冷下、１０００ｒｐｍ、２０回）を用いて破砕した。破砕した細胞懸濁液を２０，０００ｒｐｍ、１０分間遠心分離し、上清を捨て細胞沈査を得た。細胞沈査を膜画分調製用緩衝液に再懸濁後、Ｄｏｕｎｃｅ型ホモジナイザー（氷冷下、１０００ｒｐｍ、３０回）を用いて破砕し、細胞懸濁液を２０，０００ｒｐｍ、１０分間遠心分離し、上清を捨て細胞沈査を得た。同様の破砕と遠心分離操作を再度繰り返し、最終細胞沈査を得た。最終細胞沈査を受容体結合試験用緩衝液（５０ｍＭトリス（和光純薬工業）、３ｍＭ塩化マンガン（和光純薬工業）、０．００２ｍｇ／ｍＬキモスタチン（ペプチド研究所）、０．０４ｍｇ／バシドラシン（和光純薬工業）、０．０２％ウシ血清アルブミン（シグマ）、ｐＨ７．４）に懸濁し、ＢＣＡ  Ｐｒｏｔｅｉｎ  Ａｓｓａｙ  Ｋｉｔ（ピアス）を用いてタンパク濃度を測定した。
（３−２）受容体結合試験
９６ウェルアッセイプレート（グライナー）に上記受容体結合試験用緩衝液２２．５μＬ／ウェルを分注し、８０倍濃度に１００％ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）で調製した試験化合物ＤＭＳＯ溶液を２．５μＬ／ウェル（最終濃度：１ｎＭ〜１００ｎＭ）ずつ添加し、混合した。放射性標識リガンドは１２５Ｉ−サブスタンスＰ（Ｓｕｂｓｔａｎｃｅ  Ｐ，［１２５Ｉ］Ｔｙｒ８−、パーキンエルマー）を使用した。１２５Ｉ−サブスタンスＰを１２５ｐｍｏｌ／２５μＬ／ウェルになるように受容体結合試験用緩衝液で希釈し、９６ウェルアッセイプレートに添加し、混合した。ヒトＮＫ１受容体発現細胞から調製した膜画分は８〜１０μｇ／ウェルになるように受容体結合試験用緩衝液で希釈し、２７Ｇの注射針をスムーズに通過できるまで均一に懸濁し、１５０μＬ／ウェルで９６ウェルアッセイプレートに添加し、室温で６０分間振盪しながらインキュベートした。０．３％ポリエチレンイミンで前処理したマルチスクリーン９６ウェルフィルタープレート（ミリポア）にて反応液を吸引濾過し、洗浄液（５０ｍＭトリス、０．０２％ウシ血清アルブミン、ｐＨ７．４）で４回洗浄することにより反応を終結させた。マイクロプレート底部を６０℃で乾燥させた後、マイクロシンチ２０（パーキンエルマー）を１００μＬ／ウェルで分注し、プレート上部をトップシールＡ（パーキンエルマー）にて密栓し、５〜１０分間振盪した後、トップカウントＮＸＴ（登録商標）（パーキンエルマー）にて放射活性を測定した。各ウェルの放射活性は、アプレピタント１０μＭ添加時の放射活性（非特異的結合）を差し引くことで算出した。１２５Ｉ−サブスタンスＰの結合率％  ＝  （試験化合物添加群の放射活性）／（媒体添加群の放射活性）ｘ  １００を算出し、Ｍｉｃｒｏｓｏｆｔ  Ｅｘｃｅｌ（登録商標）（Ｍｉｃｒｏｓｏｆｔ  Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ）を用いて結合率％を試験化合物濃度に対してプロットし、５０％阻害濃度の逆対数値ｐＩＣ５０を算出した。これらの結果を表７に示した。表中、Ｅｘ．Ｎｏ．は実施例番号を、ｐＩＣ５０は５０％阻害濃度の逆対数値をそれぞれ示す。【０１２８】
（４）結果
【表７】
2017099049.tif 000028
表７に示したように、本発明の化合物は、ヒトＮＫ１受容体に高い結合親和性を示すことが明らかとなった。【０１２９】
試験例２
ヒトＮＫ１受容体に対する阻害作用
（１）ヒトＮＫ１受容体発現細胞の調製
試験例１の２−３及び２−４と同様な方法にて作製した。【０１３０】
（２）細胞内カルシウム濃度上昇抑制作用の検討
ヒトＮＫ１受容体発現細胞を洗浄液（２０ｍＭ  ＨＥＰＥＳ／Ｈａｎｋ’ｓ  Ｂａｌａｎｃｅｄ  Ｓａｌｔ  Ｓｏｌｕｔｉｏｎ  （ＨＢＳＳ）  ｐＨ７．３）３００μL／ウェルで洗浄した。蛍光カルシウム指示薬（Ｆｌｕｏ−４  Ｄｉｒｅｃｔ  Ｃａｌｃｉｕｍ  Ａｓｓａｙ  Ｋｉｔ、ライフテクノロジーズ、０．４２ｍＭプロベネシド含有および０．１％ウシ血清アルブミン含有：同製品プロトコールにて調製）１５０μL／ウェルで各ウェルに添加し、３７℃にて３０分間インキュベーター内でインキュベーションした。その後、８０倍濃度に１００％ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）で調製した試験化合物ＤＭＳＯ溶液を２．５μＬ／ウェル（最終濃度：０．１、１、１０μＭ）ずつ添加し、混合後、さらに３７℃にて３０分間インキュベーター内でインキュベーションした。３０分後速やかに細胞内カルシウム濃度を測定した。
細胞内カルシウム濃度は、ＦＤＳＳ（登録商標）７０００（浜松ホトニクス）を用いて蛍光シグナルとして測定した。蛍光シグナルは読み込み開始から１０秒後にアッセイバッファー（２０ｍＭ  ＨＥＰＥＳ／Ｈａｎｋ’ｓ  Ｂａｌａｎｃｅｄ  Ｓａｌｔ  Ｓｏｌｕｔｉｏｎ  （ＨＢＳＳ）  ｐＨ７．３、０．１％ウシ血清アルブミン含有）にて０．４μＭまたは４μＭに調製したサブスタンスＰ（ペプチド研究所）溶液を５０μＬ／ウェル（最終濃度：０．１または１μＭ）で自動添加し、１２０秒まで測定した。
媒体（ＤＭＳＯ）を添加した群の蛍光シグナルを１００％、サブスタンスＰ添加前の蛍光シグナルを０％とし、各試験化合物添加時の細胞内カルシウム濃度％を次式により算出した。
細胞内カルシウム濃度％  ＝  （試験化合物添加群の蛍光シグナル）／（媒体添加群の蛍光シグナル）ｘ  １００
この細胞内カルシウム濃度％をサブスタンスＰのアゴニスト活性の残存活性（Ｓｕｂｓｔａｎｃｅ  Ｐ−Ｒｅｓｐｏｎｓｅ  Ｒｅｍａｉｎｉｎｇ：  ＳＰＲＲ）とした。これらの結果を表８に示した。表中、Ｅｘ．Ｎｏ．は実施例番号を示し、ＳＰＲＲ（％）はサブスタンスＰ濃度０．１μＭ、化合物濃度１μＭにおける結果を示す。【０１３１】
（３）結果
【表８】
2017099049.tif 000029
表８に示したように、本発明の化合物は、ヒトＮＫ１受容体拮抗作用を示すことが明らかとなった。【０１３２】
試験例３
ＣＹＰ３Ａ４に対する阻害作用
評価濃度の１０００倍濃度の試験化合物のジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）溶液を調製し、それを希釈して反応溶液を調製した。１μＭ〜１０μＭ  試験化合物、３．２ｍＭ塩化マグネシウム、０．２ｐｍｏｌ  Ｈｕｍａｎ  ＣＹＰ３Ａ４（ＢＤ  Ｂｉｏｓｃｉｅｎｃｅｓ）、０．５ｍＭ還元型ニコチンアミドアデニンジヌクレオチドリン酸（ＮＡＤＰＨ）、及び３μＭ  Ｌｕｃｉｆｅｒｉｎ−ＩＰＡ（Ｐｒｏｍｅｇａ）を含むリン酸カリウム緩衝液（ｐＨ７．４）中で３７℃１０分間インキュベーションさせることで酵素反応を行った。反応液量は５０μＬ／ウェルで行った。３０分プレインキュベーション群は、基質であるＬｕｃｉｆｅｒｉｎ−ＩＰＡ溶液（１２．５μＬ／ウェル）を添加する前に、３７℃で３０分間インキュベーションを行った。酵素反応終了時に５０μＬ／ウェルのＬｕｃｉｆｅｒｉｎ  ｄｅｔｅｃｔｉｏｎ  ｒｅａｇｅｎｔ（Ｐｒｏｍｅｇａ）を添加して室温で２０分置いた後、ｉｎｆｉｎｉｔｅ  Ｍ１０００（ＴＥＣＡＮ）で発光強度を測定し、試験化合物非添加群に対する酵素活性（％）を算出した。比較例として、ＮＫ１受容体拮抗剤であるアプレピタントを同様に試験した。【０１３３】
上記の測定方法で測定し、試験化合物濃度１０μＭにおける結果を表９に示す。表中、Ｅｘ．Ｎｏ．は実施例番号を示し、Ｐｒｅｉｎｃｕｂａｔｉｏｎ（３０ｍｉｎ）（％）は試験化合物の３０分プレインキュベーション群における酵素活性（％）をそれぞれ示す。
【表９】
2017099049.tif 000030
表９に示したように、本発明の化合物のＣＹＰ３Ａ４の阻害活性は、アプレピタントに比べ減弱傾向が認められた。そのため、本発明の化合物は、アプレピタントに比べＣＹＰ３Ａ４阻害作用に基づく薬物間相互作用が少ないことが期待される。【０１３４】
試験例４
フットタッピングに対する作用
（１）フットタッピングに対する作用
試験化合物溶液は、媒体（５０％Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（和光純薬工業）、３０％プロピレングリコール（和光純薬工業）、４％２-ヒドロキシプロピル-β-シクロデキストリン（和光純薬工業）及び１６％蒸留水の混合物）に溶解して調製した。
雄性スナネズミ（日本エスエルシー）をイソフルランで麻酔後、試験化合物０．３ｍｇ／ｋｇを頸静脈より投与した。４時間後、イソフルラン麻酔下にて、頭部ブレグマの側方１ｍｍ、４．５ｍｍ深部にＮＫ１受容体アゴニストであるＧＲ７３６３２（５ｐｍｏｌ／５μｌ生理食塩水）を脳室内へ投与した。投与後、観察ケージにスナネズミを移動し、正向反射回復後３０分間のフットタッピングを起こしている時間を測定した。比較例として、ＮＫ１受容体拮抗剤であるアプレピタントを同様に試験した。試験化合物のフットタッピングの抑制率（％）は次式により算出した。
フットタッピングの抑制率（％）＝｛１−（試験化合物投与のフットタッピング時間）／（溶媒投与のフットタッピング時間）｝×１００【０１３５】
（２）薬物濃度の測定
フットタッピング終了後、速やかにエーテル麻酔下開腹し、腹部大静脈より採血し、同時に脳を摘出した。液体クロマトグラフィー質量分析（ＬＣ／ＭＳ）を用いた定量分析により、血漿中及び脳内の試験化合物濃度を測定した。【０１３６】
（３）結果
上記の試験方法でフットタッピングに対する作用を測定した結果を表１０に示す。表中、Ex.No.は実施例番号を示し、Inhibition(%)はフットタッピングの抑制率、Conc.(nM)は脳内薬物濃度を示す。
【表１０】
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表１０に示したように、本発明の化合物は、中枢移行性を示し、ｉｎ  ｖｉｖｏにおいても優れたＮＫ１受容体拮抗作用を発現した。
【産業上の利用可能性】
【０１３７】
本発明の化合物又はその薬理学的に許容される塩は、優れたＮＫ１受容体拮抗作用を有するので、抗悪性腫瘍剤投与に伴う悪心及び嘔吐の予防又は治療薬として有用である。
【配列表フリーテキスト】
【０１３８】
＜配列表１＞
配列番号１は、配列番号３のＤＮＡを増幅するために使用されたフォワードプライマーの配列である。
＜配列表２＞
配列番号２は、配列番号３のＤＮＡを増幅するために使用されたリバースプライマーの配列である。
【配列表】
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【国際調査報告】
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