(57)【要約】  基材フィルムと、マスキングフィルムとを積層させてなる、長さ１０００ｍ以上の基材フィルム／マスキングフィルム積層体を巻回してなる、長尺の光学フィルム巻回体であって、前記マスキングフィルムは、２５℃以上７０℃以下に融解ピークを有する材料からなり、前記基材フィルムと偏光板との剥離強度が、巻中部分と巻外部分で所定の関係を満たす、光学フィルム巻回体；その保管方法；並びに基材フィルム／偏光板積層体の製造方法。【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材フィルムと、マスキングフィルムとを積層させてなる、長さ１０００ｍ以上の基材フィルム／マスキングフィルム積層体を巻回してなる、長尺の光学フィルム巻回体であって、
前記マスキングフィルムは、２５℃以上７０℃以下に融解ピークを有する材料からなり、
前記光学フィルム巻回体の巻中部分の前記基材フィルム／マスキングフィルム積層体の前記基材フィルムにおける、前記マスキングフィルムとの貼合面と反対側の面を、偏光板と貼合した場合の剥離強度Ｆｉと、
前記光学フィルム巻回体の巻外部分の前記基材フィルム／マスキングフィルム積層体の前記基材フィルムにおける、前記マスキングフィルムとの貼合面と反対側の面を、偏光板と貼合した場合の剥離強度Ｆｏとが、
Ｆｉ／Ｆｏ≧０．３の関係を満たす、光学フィルム巻回体。
【請求項２】
前記剥離強度Ｆｉ及び前記剥離強度Ｆｏのうちの大きいほうの剥離強度が１〜１０Ｎ／１５ｍｍである、請求項１に記載の光学フィルム巻回体。
【請求項３】
前記巻回体の基材フィルムが延伸フィルムである、請求項１又は２に記載の光学フィルム巻回体。
【請求項４】
前記基材フィルムが脂環式構造含有重合体を含む樹脂のフィルムである、請求項１〜３のいずれか１項に記載の光学フィルム巻回体。
【請求項５】
前記マスキングフィルムがポリエチレンのフィルムである、請求項１〜４のいずれか１項に記載の光学フィルム巻回体。
【請求項６】
前記マスキングフィルムが酸化防止剤を含む、請求項１〜５のいずれか１項に記載の光学フィルム巻回体。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれか１項に記載の光学フィルム巻回体の保管方法であって、
前記光学フィルム巻回体を２５〜５０℃の環境下で保管することを含む、光学フィルム巻回体の保管方法。
【請求項８】
基材フィルム／偏光板積層体の製造方法であって、
基材フィルムと、２５℃以上７０℃以下に融解ピークを有するマスキングフィルムとを積層させてなる１０００ｍ以上の基材フィルム／マスキングフィルム積層体を巻回してなる、長尺の光学フィルム巻回体を得る工程、
前記光学フィルム巻回体を２５〜５０℃で保管する工程、
前記光学フィルム巻回体から前記基材フィルム／マスキングフィルム積層体を繰り出し、前記積層体から前記マスキングフィルムを剥離し、保管後の基材フィルムを得る工程、及び
前記保管後の基材フィルムの、前記マスキングフィルムとの貼合面と反対側の面を偏光板と貼合し、前記基材フィルム／偏光板積層体を得る工程を含み、
前記光学フィルム巻回体の巻中部分の前記基材フィルム／偏光板積層体の剥離強度Ｆｉと、
前記光学フィルム巻回体の巻外部分の前記基材フィルム／偏光板積層体の剥離強度Ｆｏとが、
Ｆｉ／Ｆｏ≧０．３の関係を満たす、
基材フィルム／偏光板積層体の製造方法。
【請求項９】
前記剥離強度Ｆｉ及び前記剥離強度Ｆｏのうちの大きいほうの剥離強度が１〜１０Ｎ／１５ｍｍである、請求項８に記載の基材フィルム／偏光板積層体の製造方法。
【請求項１０】
前記マスキングフィルムが酸化防止剤を含む、請求項８又は９に記載の基材フィルム／偏光板積層体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学フィルム巻回体、その保管方法、及び基材フィルム／偏光板積層体の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
光学的な装置の構成要素として用いる光学フィルムを、樹脂を材料として製造し、さらに当該光学フィルムと他のフィルムとを貼合して積層体を製造することは、従来より広く行われている。例えば、偏光板及び基材フィルムを備える偏光板／基材フィルム積層体を製造する場合、基材フィルムを製造し、さらにそれを偏光板と貼合することが行われる。【０００３】
そのような基材フィルムは、多くの場合、製造の効率化のため、積層体の製造に先立ち、長尺のフィルムとして大量に製造される。大量に製造された基材フィルムは、多くの場合、長期間の保存及び運搬が必要になるため、保存及び運搬に適した、巻回体の状態とされる。基材フィルムの巻回体の例としては、基材フィルムとマスキングフィルムとを重ね合わせて基材フィルム／マスキングフィルム積層体とし、それを巻回体としたものが知られている（例えば特許文献１）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０１３−０４７０００号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
基材フィルムの巻回体は、長期間保存することにより、その品質が低下し得る。例えば、巻回体を長期間保存した後に、基材フィルムを偏光板と貼合し偏光板／基材フィルム積層体とした場合に、当該積層体の剥離強度が不十分になる場合がある。【０００６】
また、マスキングフィルムの、基材フィルムと貼合される面と反対側の面は、ブロッキングを防ぐために通常粗面の形状となっている。巻回体を長期間保存することにより、そのような粗面形状が光学フィルムへ転写する、「シボ転写」と呼ばれる現象が起き、基材フィルムの表面の品質の低下を招く場合がある。【０００７】
従って、本発明の目的は、長期間保存した後においても、偏光板との高い剥離強度を得ることができ、表面の高い品質が保たれる、光学フィルム巻回体及びその保管方法を提供することにある。【０００８】
本発明のさらなる目的は、高い剥離強度を有し、表面の品質が高い基材フィルム／偏光板積層体を効率的に製造できる、基材フィルム／偏光板積層体の製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明者は上記課題を解決するために検討した結果、マスキングフィルムとして、特定の融解ピークを有するものを用いた場合、シボ転写を低減することができる一方、長期間保存した後の偏光板との剥離強度が低下し易いことを見出した。本発明者はまた、そのような剥離強度が低下するのは、巻回体の巻外部分よりも、巻中部分において著しいことを見出した。本発明者はこの点についてさらに検討したところ、このようなマスキングフィルムを用いた巻回体は、特定の保存条件下で保存すると、剥離強度の低下も低減することができ、その結果、剥離強度の維持と表面の品質の維持を両立しうることを見出し、本発明を完成した。
従って、本発明によれば、下記のものが提供される。【００１０】
〔１〕  基材フィルムと、マスキングフィルムとを積層させてなる、長さ１０００ｍ以上の基材フィルム／マスキングフィルム積層体を巻回してなる、長尺の光学フィルム巻回体であって、
前記マスキングフィルムは、２５℃以上７０℃以下に融解ピークを有する材料からなり、
前記光学フィルム巻回体の巻中部分の前記基材フィルム／マスキングフィルム積層体の前記基材フィルムにおける、前記マスキングフィルムとの貼合面と反対側の面を、偏光板と貼合した場合の剥離強度Ｆｉと、
前記光学フィルム巻回体の巻外部分の前記基材フィルム／マスキングフィルム積層体の前記基材フィルムにおける、前記マスキングフィルムとの貼合面と反対側の面を、偏光板と貼合した場合の剥離強度Ｆｏとが、
Ｆｉ／Ｆｏ≧０．３の関係を満たす、光学フィルム巻回体。
〔２〕  前記剥離強度Ｆｉ及び前記剥離強度Ｆｏのうちの大きいほうの剥離強度が１〜１０Ｎ／１５ｍｍである、〔１〕に記載の光学フィルム巻回体。
〔３〕  前記巻回体の基材フィルムが延伸フィルムである、〔１〕又は〔２〕に記載の光学フィルム巻回体。
〔４〕  前記基材フィルムが脂環式構造含有重合体を含む樹脂のフィルムである、〔１〕〜〔３〕のいずれか１項に記載の光学フィルム巻回体。
〔５〕  前記マスキングフィルムがポリエチレンのフィルムである、〔１〕〜〔４〕のいずれか１項に記載の光学フィルム巻回体。
〔６〕  前記マスキングフィルムが酸化防止剤を含む、〔１〕〜〔５〕のいずれか１項に記載の光学フィルム巻回体。
〔７〕  〔１〕〜〔６〕のいずれか１項に記載の光学フィルム巻回体の保管方法であって、
前記光学フィルム巻回体を２５〜５０℃の環境下で保管することを含む、光学フィルム巻回体の保管方法。
〔８〕  基材フィルム／偏光板積層体の製造方法であって、
基材フィルムと、２５℃以上７０℃以下に融解ピークを有するマスキングフィルムとを積層させてなる１０００ｍ以上の基材フィルム／マスキングフィルム積層体を巻回してなる、長尺の光学フィルム巻回体を得る工程、
前記光学フィルム巻回体を２５〜５０℃で保管する工程、
前記光学フィルム巻回体から前記基材フィルム／マスキングフィルム積層体を繰り出し、前記積層体から前記マスキングフィルムを剥離し、保管後の基材フィルムを得る工程、及び
前記保管後の基材フィルムの、前記マスキングフィルムとの貼合面と反対側の面を偏光板と貼合し、前記基材フィルム／偏光板積層体を得る工程を含み、
前記光学フィルム巻回体の巻中部分の前記基材フィルム／偏光板積層体の剥離強度Ｆｉと、
前記光学フィルム巻回体の巻外部分の前記基材フィルム／偏光板積層体の剥離強度Ｆｏとが、
Ｆｉ／Ｆｏ≧０．３の関係を満たす、
基材フィルム／偏光板積層体の製造方法。
〔９〕  前記剥離強度Ｆｉ及び前記剥離強度Ｆｏのうちの大きいほうの剥離強度が１〜１０Ｎ／１５ｍｍである、〔８〕に記載の基材フィルム／偏光板積層体の製造方法。
〔１０〕  前記マスキングフィルムが酸化防止剤を含む、〔８〕又は〔９〕に記載の基材フィルム／偏光板積層体の製造方法。
【発明の効果】
【００１１】
本発明の光学フィルム巻回体は、本発明の保管方法により保管することにより、長期間保存した後においても、偏光板との高い剥離強度を得ることができ、表面の高い品質が保たれる。【００１２】
本発明の基材フィルム／偏光板積層体の製造方法によれば、高い剥離強度を有し、表面の品質が高い基材フィルム／偏光板積層体を効率的に製造することができる。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
以下、実施形態及び例示物等を示して本発明について詳細に説明するが、本発明は以下に示す実施形態及び例示物等に限定されるものではなく、本発明の請求の範囲及びその均等の範囲を逸脱しない範囲において任意に変更して実施しうる。
【００１４】
以下の説明において、「（メタ）アクリル」といった表現は、アクリル、メタクリル又はこれらの組み合わせを意味する。例えば、（メタ）アクリル重合体とは、アクリル重合体（アクリル酸、アクリル酸エステル等の重合体）、メタクリル重合体（メタクリル酸、メタクリル酸エステル等の重合体）、又はこれらの組み合わせを意味する。
【００１５】
以下の説明において、「長尺状」のフィルムとは、フィルムの幅に対して、１００倍以上の長さを有するものをいい、具体的にはロール状に巻き取られて保管又は運搬される程度の長さを有するものをいう。フィルムの幅に対する長さの比の上限は、特に限定されないが、例えば１００，０００倍以下としうる。
【００１６】
以下の説明において、「偏光板」とは、剛直な板状の部材だけでなく、例えば樹脂製のフィルム（シートも含む）のように可撓性を有する部材も含む。
【００１７】
〔１．巻回体の概要〕
本発明の巻回体は、長尺の光学フィルム巻回体である。本願において光学フィルム巻回体とは、光学フィルム及びその他のフィルムを重ねあわせて巻回したものである。本発明の巻回体は、光学フィルムとしての基材フィルムと、特定のマスキングフィルムとを積層させてなる基材フィルム／マスキングフィルム積層体を巻回してなる。ここに述べる通り、本願においては、基材フィルム及びマスキングフィルムが重なった構造を有する積層体を「基材フィルム／マスキングフィルム積層体」と表記する場合がある。また、他の構成を有する積層体についても、同様の表記をする場合がある。例えば、基材フィルム及び偏光板が重なった構造を有する積層体を、「基材フィルム／偏光板積層体」と表記する場合がある。
【００１８】
〔２．基材フィルム〕
基材フィルムの材料としては、各種の重合体を含む樹脂が挙げられる。かかる重合体としては、炭化水素重合体、（メタ）アクリル重合体およびポリエステル等が挙げられる。
【００１９】
炭化水素重合体とは、重合体の繰り返し単位の少なくとも一部が、炭化水素基である重合体をいう。炭化水素重合体中の、繰り返し単位である炭化水素基の割合は、使用目的に応じて適宜選択しうるが、好ましくは５５重量％以上、さらに好ましくは７０重量％以上、特に好ましくは９０重量％以上である。
【００２０】
炭化水素重合体としては、脂環式構造含有重合体が好ましい。脂環式構造含有重合体とは、重合体の繰り返し単位中に脂環式構造を有する重合体であり、主鎖に脂環式構造を有する重合体、及び、側鎖に脂環式構造を有する重合体のいずれであってもよい。中でも、機械的強度、耐熱性などの観点から、主鎖に脂環式構造を含有する重合体が好ましい。
【００２１】
脂環式構造としては、例えば、飽和脂環式炭化水素（シクロアルカン）構造、不飽和脂環式炭化水素（シクロアルケン、シクロアルキン）構造などが挙げられる。中でも、機械強度、耐熱性などの観点から、シクロアルカン構造及びシクロアルケン構造が好ましく、中でもシクロアルカン構造が特に好ましい。
【００２２】
脂環式構造を構成する炭素原子数は、一つの脂環式構造あたり、好ましくは４個以上、より好ましくは５個以上であり、好ましくは３０個以下、より好ましくは２０個以下、特に好ましくは１５個以下の範囲であるときに、機械強度、耐熱性、及びフィルムの成形性が高度にバランスされ、好適である。
【００２３】
脂環式構造含有重合体中の脂環式構造を有する繰り返し単位の割合は、使用目的に応じて適宜選択しうるが、好ましくは５５重量％以上、さらに好ましくは７０重量％以上、特に好ましくは９０重量％以上である。脂環式構造含有重合体中の脂環式構造を有する繰り返し単位の割合がこの範囲にあると、フィルムの透明性および耐熱性の観点から好ましい。
【００２４】
脂環式構造含有重合体としては、例えば、ノルボルネン系重合体、単環の環状オレフィン系重合体、環状共役ジエン系重合体、ビニル脂環式炭化水素系重合体、及び、これらの水素化物等を挙げることができる。これらの中で、ノルボルネン系重合体は、透明性と成形性が良好なため、好適に用いることができる。
【００２５】
ノルボルネン系重合体としては、例えば、ノルボルネン構造を有する単量体の開環重合体、若しくはノルボルネン構造を有する単量体と他の単量体との開環共重合体、又はそれらの水素化物；ノルボルネン構造を有する単量体の付加重合体、若しくはノルボルネン構造を有する単量体と他の単量体との付加共重合体、又はそれらの水素化物；等を挙げることができる。これらの中で、ノルボルネン構造を有する単量体の開環（共）重合体水素化物は、透明性、成形性、耐熱性、低吸湿性、寸法安定性、軽量性などの観点から、特に好適に用いることができる。「（共）重合体」とは、重合体及び共重合体のことをいう。
【００２６】
ノルボルネン構造を有する単量体としては、例えば、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン（慣用名：ノルボルネン）、トリシクロ［４．３．０．１２，５］デカ−３，７−ジエン（慣用名：ジシクロペンタジエン）、７，８−ベンゾトリシクロ［４．３．０．１２，５］デカ−３−エン（慣用名：メタノテトラヒドロフルオレン）、テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］ドデカ−３−エン（慣用名：テトラシクロドデセン）、およびこれらの化合物の誘導体（例えば、環に置換基を有するもの）などを挙げることができる。ここで、置換基としては、例えばアルキル基、アルキレン基、極性基などを挙げることができる。また、これらの置換基は、同一または相異なって、複数個が環に結合していてもよい。ノルボルネン構造を有する単量体は、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
【００２７】
極性基の種類としては、例えば、ヘテロ原子、またはヘテロ原子を有する原子団などが挙げられる。ヘテロ原子としては、例えば、酸素原子、窒素原子、硫黄原子、ケイ素原子、ハロゲン原子などが挙げられる。極性基の具体例としては、カルボキシル基、カルボニルオキシカルボニル基、エポキシ基、ヒドロキシル基、オキシ基、エステル基、シラノール基、シリル基、アミノ基、ニトリル基、スルホン酸基などが挙げられる。
【００２８】
ノルボルネン構造を有する単量体と開環共重合可能な他の単量体としては、例えば、シクロヘキセン、シクロヘプテン、シクロオクテンなどのモノ環状オレフィン類およびその誘導体；シクロヘキサジエン、シクロヘプタジエンなどの環状共役ジエンおよびその誘導体；などが挙げられる。ノルボルネン構造を有する単量体と開環共重合可能な他の単量体は、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
【００２９】
ノルボルネン構造を有する単量体の開環重合体、およびノルボルネン構造を有する単量体と共重合可能な他の単量体との開環共重合体は、例えば、単量体を公知の開環重合触媒の存在下に重合又は共重合することにより得ることができる。
【００３０】
ノルボルネン構造を有する単量体と付加共重合可能な他の単量体としては、例えば、エチレン、プロピレン、１−ブテンなどの炭素数２〜２０のα−オレフィンおよびこれらの誘導体；シクロブテン、シクロペンテン、シクロヘキセンなどのシクロオレフィンおよびこれらの誘導体；１，４−ヘキサジエン、４−メチル−１，４−ヘキサジエン、５−メチル−１，４−ヘキサジエンなどの非共役ジエン；などが挙げられる。これらの中でも、α−オレフィンが好ましく、エチレンがより好ましい。ノルボルネン構造を有する単量体と付加共重合可能な他の単量体は、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
【００３１】
ノルボルネン構造を有する単量体の付加重合体、およびノルボルネン構造を有する単量体と共重合可能な他の単量体との付加共重合体は、例えば、単量体を公知の付加重合触媒の存在下に重合又は共重合することにより得ることができる。
【００３２】
単環の環状オレフィン系重合体としては、例えば、シクロヘキセン、シクロヘプテン、シクロオクテン等の単環を有する環状オレフィン系モノマーの付加重合体を挙げることができる。
【００３３】
環状共役ジエン系重合体としては、例えば、１，３−ブタジエン、イソプレン、クロロプレン等の共役ジエン系モノマーの付加重合体を環化反応して得られる重合体；シクロペンタジエン、シクロヘキサジエン等の環状共役ジエン系モノマーの１，２−または１，４−付加重合体；およびこれらの水素化物；などを挙げることができる。
【００３４】
ビニル脂環式炭化水素重合体としては、例えば、ビニルシクロヘキセン、ビニルシクロヘキサン等のビニル脂環式炭化水素系モノマーの重合体およびその水素化物；スチレン、α−メチルスチレン等のビニル芳香族炭化水素系モノマーを重合してなる重合体に含まれる芳香環部分を水素化してなる水素化物；ビニル脂環式炭化水素系モノマー、またはビニル芳香族炭化水素系モノマーとこれらビニル芳香族炭化水素系モノマーに対して共重合可能な他のモノマーとのランダム共重合体若しくはブロック共重合体等の共重合体の、芳香環の水素化物；等を挙げることができる。前記のブロック共重合体としては、例えば、ジブロック共重合体、トリブロック共重合体またはそれ以上のマルチブロック共重合体、並びに傾斜ブロック共重合体等を挙げることもできる。
【００３５】
炭化水素重合体の分子量は使用目的に応じて適宜選定されるが、溶媒としてシクロヘキサンを用いて（但し、試料がシクロヘキサンに溶解しない場合にはトルエンを用いてもよい）ゲル・パーミエーション・クロマトグラフィーで測定したポリイソプレンまたはポリスチレン換算の重量平均分子量（Ｍｗ）で、通常１０，０００以上、好ましくは１５，０００以上、より好ましくは２０，０００以上であり、通常１００，０００以下、好ましくは８０，０００以下、より好ましくは５０，０００以下である。重量平均分子量がこのような範囲にあるときに、フィルムの機械的強度および成型加工性が高度にバランスされ好適である。
【００３６】
炭化水素重合体の分子量分布（重量平均分子量（Ｍｗ）／数平均分子量（Ｍｎ））は通常１．２以上、好ましくは１．５以上、更に好ましくは１．８以上であり、通常３．５以下、好ましくは３．０以下、更に好ましくは２．７以下である。炭化水素重合体の分子量分布が３．５を超えると低分子成分が増すため緩和時間の短い成分が増加し、一見同じ面内レターデーションＲｅを有するフィルムであっても高温暴露時の緩和が短時間で大きくなることが推定され、フィルムの安定性が低下するおそれがある。一方、分子量分布が１．２を下回るようなものは炭化水素重合体の生産性の低下とコスト増につながりうる。
【００３７】
炭化水素重合体のガラス転移温度は、使用目的に応じて適宜選択しうるが、好ましくは１３０℃以上、より好ましくは１３５℃以上であり、好ましくは１５０℃以下、より好ましくは１４５℃以下である。ガラス転移温度が１３０℃を下回ると高温下における耐久性が悪化する可能性があり、１５０℃を上回るものは耐久性は向上するが通常の加工が困難となる可能性がある。
【００３８】
炭化水素重合体は、光弾性係数の絶対値が１０×１０−１２Ｐａ−１以下であることが好ましく、７×１０−１２Ｐａ−１以下であることがより好ましく、４×１０−１２Ｐａ−１以下であることが特に好ましい。光弾性係数Ｃは、複屈折をΔｎ、応力をσとしたとき、「Ｃ＝Δｎ／σ」で表される値である。炭化水素重合体の光弾性係数が１０×１０−１２Ｐａ−１を超えると、得られるフィルムの正面位相差のバラツキが大きくなるおそれがある。炭化水素重合体の光弾性係数の下限は、特段の制限は無いが、１×１０−１３Ｐａ−１以上としうる。
【００３９】
炭化水素重合体の飽和吸水率は、好ましくは０．０３重量％以下、さらに好ましくは０．０２重量％以下、特に好ましくは０．０１重量％以下である。飽和吸水率が上記範囲であると、フィルムの正面位相差Ｒｅ及び厚さ方向位相差Ｒｔｈの経時変化を小さくすることができる。また、得られる基材フィルムを備える偏光板及び液晶表示装置の劣化を抑制でき、長期的にディスプレイの表示を安定で良好に保つことができる。
【００４０】
飽和吸水率は、試験片を一定温度の水中に一定時間浸漬して増加した重量を、浸漬前の試験片の重量に対する百分率で表した値である。通常は、２３℃の水中に２４時間、浸漬して測定される。脂環式構造含有重合体における飽和吸水率は、例えば、脂環式構造含有重合体中の極性基の量を減少させることにより、前記の範囲に調節することができる。飽和吸水率をより低くする観点から、脂環式構造含有重合体は、極性基を有さないことが好ましい。
【００４１】
基材フィルムを構成する樹脂は、本発明の効果を著しく損なわない限り、脂環式構造含有重合体等の重合体に加えて、それ以外の任意成分を含んでいてもよい。任意成分の例を挙げると、顔料、染料等の着色剤；蛍光増白剤；分散剤；熱安定剤；光安定剤；紫外線吸収剤；帯電防止剤；酸化防止剤；滑剤；タルク、ステアリン酸アミド、ステアリン酸カルシウム等の充填剤；核剤などの添加剤が挙げられる。任意成分は、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。ただし、基材フィルムを構成する樹脂は、脂環式構造含有重合体等の重合体を、一般的には約５０％〜１００％、または約７０％〜１００％含むことが好ましい。
【００４２】
基材フィルムは、樹脂を公知のフィルム成形法で成形することによって得られる。フィルム成形法としては、長尺のフィルムを成形しうる任意の方法を採用しうる。例えば、キャスト成形法、押出成形法、インフレーション成形法などが挙げられる。中でも、溶剤を使用しない溶融押出法の方が、残留揮発成分量を効率よく低減させることができ、地球環境や作業環境の観点、及び製造効率に優れる観点から好ましい。溶融押出法としては、ダイスを用いるインフレーション法などが挙げられるが、生産性や厚さ精度に優れる点でＴダイを用いる方法が好ましい。溶融押出法により得られたフィルムは、そのまま基材フィルムとして用いることができ、または必要に応じて延伸等の処理を施し、光学異方性を有するフィルムとしてから用いてもよい。さらに、得られたフィルムの表面上に、任意に易滑層、帯電防止層等の任意の層を形成し、これを用いてもよい。
【００４３】
未延伸のフィルムを延伸して基材フィルムとする場合、延伸は、一方向のみに延伸処理を行う一軸延伸処理を行ってもよく、異なる２方向に延伸処理を行う二軸延伸処理を行ってもよい。また、二軸延伸処理では、２方向に同時に延伸処理を行う同時二軸延伸処理を行ってもよく、ある方向に延伸処理を行った後で別の方向に延伸処理を行う逐次二軸延伸処理を行ってもよい。さらに、延伸は、延伸前フィルムの長手方向に延伸処理を行う縦延伸処理、延伸前フィルムの幅手方向に延伸処理を行う横延伸処理、延伸前フィルムの幅手方向に平行でもなく垂直でもない斜め方向に延伸処理を行う斜め延伸処理のいずれを行ってもよく、これらを組み合わせて行ってもよい。これらの延伸処理の中でも、少なくとも１辺に対して４０°〜５０°の角度をなす遅相軸を有する基材フィルムを容易に製造する観点から、斜め延伸処理が好ましい。延伸処理の方式は、例えば、ロール方式、フロート方式、テンター方式などが挙げられる。
【００４４】
延伸温度及び延伸倍率は、所望の面内レターデーションを有する基材フィルムが得られる範囲で任意に設定しうる。具体的な範囲を挙げると、延伸温度は、好ましくは（Ｔｇ−３０）℃以上、より好ましくは（Ｔｇ−１０）℃以上であり、好ましくは（Ｔｇ＋６０）℃以下、より好ましくは（Ｔｇ＋５０）℃以下である。また、延伸倍率は、好ましくは１．１倍以上、より好ましくは１．２倍以上、特に好ましくは１．５倍以上であり、好ましくは３０倍以下、より好ましくは１０倍以下、特に好ましくは５倍以下である。
【００４５】
基材フィルムの厚さは任意であり、光学フィルムとしての用途に適した所望の厚さに適宜調整しうる。通常、基材フィルムの厚さは、好ましくは５μｍ以上、より好ましくは１０μｍ以上であり、一方好ましくは５０μｍ以下、より好ましくは３０μｍ以下である。
【００４６】
〔３．マスキングフィルム〕
マスキングフィルムを構成する材料としては、通常、樹脂を用いる。このような樹脂としては、基材フィルムを保護する機械的強度、熱安定性等の特性を備えたものを用いうる。特に、マスキングフィルムを構成する材料としての樹脂に含まれる重合体は、単独重合体でもよく、共重合体でもよい。好適な例を挙げると、ポリエステル系重合体、ポリオレフィン系重合体が挙げられる。ポリオレフィン系重合体の例を挙げると、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン−プロピレン共重合体、プロピレン−αオレフィン共重合体、エチレン−α−オレフィン共重合体、エチレン−エチル（メタ）アクリレート共重合体、エチレン−メチル（メタ）アクリレート共重合体、エチレン−ｎ−ブチル（メタ）アクリレート共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体等が挙げられる。ここで、ポリエチレンとしては、例えば、低密度ポリエチレン、中密度ポリエチレン、高密度ポリエチレン、直鎖状低密度ポリエチレンなどが挙げられる。また、エチレン−プロピレン共重合体としては、例えば、ランダム共重合体、ブロック共重合体などが挙げられる。さらに、α−オレフィンとしては、例えば、ブテン−１、ヘキセン−１、４−メチルペンテン−１、オクテン−１、ペンテン−１、ヘプテン−１等が挙げられる。なかでもポリエチレン、ポリプロピレンの重合体を含む樹脂のフィルムであることが特に好ましい。
【００４７】
好ましい態様において、マスキングフィルムは、酸化防止剤を含む。具体的には、マスキングフィルムを構成する樹脂は、上に述べたポリエチレン等の重合体に加え、酸化防止剤を含むことが好ましい。
【００４８】
酸化防止剤の例としては、フェノール系の酸化防止剤、およびりん系の酸化防止剤が挙げられる。フェノール系の酸化防止剤の例としてはＩｒｇａｎｏｘ１０１０及びＩｒｇａｎｏｘ１０７６が挙げられる。また、りん系の酸化防止剤の例としてはＩｒｇａｆｏｓ１６８及びＩｒｇａｆｏｓＰ−ＥＰＱが挙げられる。マスキングフィルムにおける酸化防止剤の含有割合は、０．０５〜０．２％であることが好ましい。
【００４９】
マスキングフィルムが酸化防止剤を含むことにより、成形時の加温に伴う樹脂の変質を防止することができる。一方、本発明者が見出したところによれば、光学フィルム巻回体を構成するマスキングフィルムが酸化防止剤を含む場合、酸化防止剤のブリードにより、保管後の基材フィルムを偏光板と貼合した際の剥離強度が低下する。特に、マスキングフィルムが柔軟な材料である場合、基材フィルムとの接触面積が増えて酸化防止剤がブリードしやすくなる。このような剥離強度の低下は、巻回体の巻外部分よりも、巻中部分において著しいため、光学フィルム巻回体の品質管理上問題となりうる。ここで、本発明者がさらに見出したところによれば、このような光学フィルム巻回体は、特定の条件で保管することにより、意外なことに、かかる酸化防止剤のブリードを抑制することができる。したがって、本発明の巻回体は、特定の保存方法で保存した場合において、シボ転写を低減することができ、且つ酸化防止剤による効果も享受しながら、剥離硬度の維持も達成することができる。
【００５０】
マスキングフィルムを構成する樹脂は、上に述べた酸化防止剤の他に、それ以外の任意成分を含んでいてもよい。任意成分の例としては、上に述べた、基材フィルムの任意成分と同様の物が挙げられる。任意成分は、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。ただし、マスキングフィルムを構成する樹脂は、樹脂の主成分としての重合体を、一般的には約５０％〜１００％、または約７０％〜１００％含むことが好ましい。
【００５１】
本発明に用いるマスキングフィルムは、２５℃以上７０℃以下に融解ピークを有する材料からなる。本願において、マスキングフィルムを構成する材料の融解ピークとは、示差走査熱量計（例えばセイコーインスツルメンツ社製「ＤＳＣ６２２０」）を用いて当該材料の示差走査熱量測定を行い、温度と熱流との関係のグラフを得た場合において、当該材料の主成分である樹脂の融点より低い温度に発現するピークである。
【００５２】
このような融解ピークを有する材料は、上に挙げた材料の中から、融解ピークを有するものを適宜選択することにより得ることができる。また、融解ピークは、マスキングフィルムを構成する材料を熱処理することにより変動する場合があるので、かかる熱処理を行うことにより、融解ピークを所望の値に調整しうる場合がある。具体的には例えば、基材フィルム／マスキングフィルム積層体を得た後、それを巻回する前に熱処理を行うことにより、融解ピークを高温側にシフトすることができる場合があり、そのようなシフトが好ましい場合は、そのような熱処理を行ってから巻回を行いうる。本発明者が見出したところによれば、このような融解ピークを有する材料は、柔軟なフィルムであり、シボ転写を低減することができる。
【００５３】
本発明に用いるマスキングフィルムは、好ましくは、柔軟なフィルムである。本願においてマスキングフィルムが「柔軟」であるとは、ヤング率（ＪＩＳ  Ｋ７１２７に基づき測定）が１００ＭＰａ以下であるものをいう。柔軟なフィルムのヤング率の下限は、特に限定されないが、例えば２０ＭＰａ以上としうる。このような柔軟なフィルムをマスキングフィルムとして採用することにより、マスキングフィルムがクッションとして機能するため、マスキングフィルムの変形により基材フィルムのムラを吸収して、シボ転写を低減することができる。また、基材フィルムとの巻回時において皺や弛みが生じても、マスキングフィルムを比較的弱い力で引っ張ることで皺や弛みも低減することができる。
【００５４】
マスキングフィルムの厚みは任意であるが、通常５μｍ以上であり、通常５００μｍ以下、好ましくは３００μｍ以下、より好ましくは１５０μｍ以下である。
【００５５】
〔４．基材フィルム／マスキングフィルム積層体、及び巻回体の製造〕
上に述べた基材フィルムとマスキングフィルムとを積層することにより、基材フィルム／マスキングフィルム積層体が得られる。このような積層の操作は、通常、長尺の基材フィルムと長尺のマスキングフィルムとを、長手方向を揃えて重ね合わせて、これらを一対のロールにより加圧処理して圧着させることにより連続的に行いうる。得られた基材フィルム／マスキングフィルム積層体を巻回することにより、光学フィルム巻回体が得られる。このような積層及び巻回の操作は、製造ラインにおいて連続的に行いうる。
【００５６】
基材フィルム／マスキングフィルム積層体は、長さ１０００ｍ以上の長尺状の形状を有する。長尺状の積層体を用いることにより、光学フィルムの効率的な製造が可能となる。長さの上限は、特に限定されないが、例えば１００００ｍ以下としうる。一方基材フィルム／マスキングフィルム積層体の幅は、好ましくは５００ｍｍ以上、より好ましくは１０００ｍｍ以上であり、一方好ましくは２５００ｍｍ以下、より好ましくは２０００ｍｍ以下である。
【００５７】
〔５．保管〕
前記本発明の光学フィルム巻回体は、製造された後、偏光板との貼合までの期間において、特定の保管方法により保管されることが好ましい。この保管方法を、以下において、本発明の保管方法として説明する。
【００５８】
本発明の光学フィルム巻回体の保管方法では、前記本発明の光学フィルム巻回体を特定温度の環境下で保管する。保管温度は、２５℃以上、好ましくは３０℃以上であり、一方５０℃以下、好ましくは４８℃以下である。当該温度での保管は、例えば、温度を当該温度に調節した室又はコンテナに巻回体を載置することにより行いうる。本発明者が見出したところによれば、本発明の光学フィルム巻回体を、このような特定温度の環境下で保管することにより、例えば２０℃といった低温で保存する場合に比べても、剥離強度の低下を抑制することができるという意外な効果が得られる。特に、マスキングフィルムとして、酸化防止剤を含むものを用いた場合、このような特定温度の環境下で保管することにより、酸化防止剤のブリードを抑制することができ、剥離強度の低下を、特に効果的に抑制することができる。したがって、本発明の光学フィルム巻回体を、本発明の保管方法で保存した場合において、シボ転写を低減することができ、且つ酸化防止剤による効果も享受しながら、剥離硬度の維持も達成することができる。
【００５９】
本発明の光学フィルム巻回体の保管方法では、基材フィルム／マスキングフィルム積層体巻回して巻回体としてから、かかる巻回体から基材フィルム／マスキングフィルム積層体を繰り出すまでの期間の一部又は全部において、前記特定温度の環境下での保管を行う。好ましくは、巻回から繰り出しまでの期間の５０〜１００％の期間において、前記特定温度の環境下での保管を行う。
【００６０】
保管期間は、光学フィルム巻回体の製造、及びそれを用いた基材フィルム／偏光板積層体の製造を便利に行いうる任意の期間に設定しうる。本発明の保管方法によれば、例えば２４時間以上、又は４８時間以上の保管を行っても、良好な品質の基材フィルム／偏光板積層体の製造を行いうる。保管期間の上限は、特に限定されないが例えば、９０日以下、又は１００日以下としうる。
【００６１】
〔６．基材フィルム／偏光板積層体の製造方法〕
本発明の基材フィルム／偏光板積層体の製造方法では、前記本発明の光学フィルム巻回体を得る工程、前記本発明の保管方法で光学フィルム巻回体を保管する工程、光学フィルム巻回体から基材フィルム／マスキングフィルム積層体を繰り出し、積層体からマスキングフィルムを剥離し、保管後の基材フィルムを得る工程、及び保管後の基材フィルムと偏光板とを積層する工程を含む。
【００６２】
保管後の基材フィルムは、光学部材としての機能を発揮する観点から、通常は高い透明性を有していることが好ましい。具体的には、フィルムの全光線透過率は、８０％以上であることが好ましく、９０％以上であることがより好ましい。ここで、全光線透過率は、ＪＩＳ  Ｋ７１０５に準拠して、日本電色工業社製「濁度計  ＮＤＨ−２０００」を用いて、３箇所測定し、それから求めた平均値である。このような高い透明性を有する光学フィルムは、熱可塑性樹脂の材料を適宜選択することにより得ることができる。
【００６３】
また、基材フィルムは、通常、ヘイズが小さいことが好ましい。具体的には、フィルムのヘイズは、好ましくは５％以下、より好ましくは３％以下、特に好ましくは２％以下である。ヘイズを低い値とすることにより、光学フィルムを例えば表示装置に組み込んだ場合に、その表示装置の表示画像の鮮明性を高めることができる。ここで、ヘイズは、日本電色工業社製の濁度計「ＮＤＨ２０００」を用いて測定できる。
【００６４】
保管後の基材フィルムと偏光板との積層は、長尺の基材フィルムと長尺の偏光板とを長手方向を揃えて重ね合わせて貼合することにより行いうる。または、保管後の基材フィルムを適当な大きさに裁断し、それに適合する大きさの偏光板と貼合することにより行ってもよい。
【００６５】
基材フィルムと偏光板との積層にあたっては、基材フィルムと偏光板との良好な貼合を達成する観点からは、基材フィルムの、マスキングフィルムと貼合されていた面と反対側の面を偏光板との貼合面とする。
【００６６】
保管後の基材フィルムと偏光板との積層に際し、基材フィルムと偏光板との間には、必要に応じて接着剤の層を介在しうる。接着剤が、その硬化のために紫外線等のエネルギー線照射を必要とするものである場合、必要に応じて貼合後にそのような照射を行い、基材フィルム／偏光板積層体を得ることができる。
【００６７】
偏光板としては、液晶表示装置、及びその他の光学装置等の装置に用いられている既知の偏光子、又は当該偏光子と、当該偏光子を保護する保護フィルムとの積層体を用いうる。偏光子は、直線偏光子であってもよく、特定の円偏光を選択的に透過する円偏光子であってもよい。
直線偏光子の例としては、ポリビニルアルコールフィルムにヨウ素又は二色性染料を吸着させた後、ホウ酸浴中で一軸延伸することによって得られるもの、及びポリビニルアルコールフィルムにヨウ素又は二色性染料を吸着させ延伸しさらに分子鎖中のポリビニルアルコール単位の一部をポリビニレン単位に変性することによって得られるものが挙げられる。直線偏光子の他の例としては、グリッド偏光子、多層偏光子、コレステリック液晶偏光子などの偏光を反射光と透過光に分離する機能を有する偏光子が挙げられる。これらのうちポリビニルアルコールを含有する偏光子が好ましい。本発明に用いる偏光子の偏光度は特に限定されないが、好ましくは９８％以上、より好ましくは９９％以上である。偏光子の平均厚みは好ましくは５〜８０μｍである。
【００６８】
〔７．剥離強度〕
本発明の基材フィルム／偏光板積層体の製造方法により得られる基材フィルム／偏光板積層体においては、基材フィルムと偏光板との剥離強度が好ましくは１〜１０Ｎ／１５ｍｍである。
【００６９】
剥離強度の測定は、基材フィルム／偏光板積層体の基材フィルム側の表面を、適当な平らな台上に固定し、フォースゲージ（例えばＩＭＡＤＡ社製「デジタルフォースゲージ」）を用いて、偏光板を台の表面の法線方向に引っ張ることにより、９０度剥離試験を実施し、偏光板が剥れる際に測定された力を測定することにより求めうる。
【００７０】
本発明の基材フィルム／偏光板積層体の製造方法により得られる基材フィルム／偏光板積層体においては、巻中部分と、巻外部分とで、剥離強度が異なるものとなり得る。ここで、巻中部分の剥離強度は、巻回体であったときに巻外端部から５００ｍの位置における基材フィルムに対応する部分の剥離強度とし、巻外部分の剥離強度は、巻回体であったときに巻外端部から３ｍの位置における基材フィルムに対応する部分の剥離強度とする。巻中部分と、巻外部分とで、剥離強度が異なる場合、そのうち剥離強度が高い方において剥離強度が１〜１０Ｎ／１５ｍｍであることが好ましい。
【００７１】
本発明の基材フィルム／偏光板積層体の製造方法により得られる基材フィルム／偏光板積層体においては、光学フィルム巻回体の巻中部分の前記基材フィルム／偏光板積層体の剥離強度Ｆｉと、光学フィルム巻回体の巻外部分の前記基材フィルム／偏光板積層体の剥離強度Ｆｏとが、Ｆｉ／Ｆｏ≧０．３の関係を満たす。即ち、巻中部分の剥離強度Ｆｉが巻外部分の剥離強度Ｆｏの３０％以上である（以下の説明においては、巻外の剥離強度Ｆｏに対する巻中の剥離強度Ｆｉの比率の百分率を、単に「巻中／巻外剥離強度比」ということがある）。巻中／巻外剥離強度比は、好ましくは３０％以上、より好ましくは５０％以上であり、一方上限は限定されないが、通常は１００％以下である。本発明者が見出したところによれば、巻外に対して巻中は剥離強度が低下し易いところ、光学フィルム巻回体を上に述べた特定のものとし、さらに上に述べた特定の保管方法により保管することにより、巻外に対する巻中の剥離強度の低下の割合を低減することができる。特に、マスキングフィルムが酸化防止剤を含む場合、マスキングフィルムの、基材フィルムと貼合されている面、及びその反対側の面の両方において、酸化防止剤のブリードが生じる割合は、巻回体中における圧力が高い巻中の部分において特に高い傾向があり、それにより、巻中の剥離強度は特に低下しやすい傾向がある。ここで、上に述べた特定の光学フィルム巻回体及び保管方法を採用することにより、巻中の剥離強度を高め、ひいては巻中／巻外剥離強度比を高めることができる。
【００７２】
また、本発明の光学フィルム巻回体については、光学フィルム巻回体の巻中部分の基材フィルム／マスキングフィルム積層体の基材フィルムにおける、マスキングフィルムとの貼合面と反対側の面を、偏光板と貼合した場合の剥離強度Ｆｉと、光学フィルム巻回体の巻外部分の基材フィルム／マスキングフィルム積層体の基材フィルムにおける、マスキングフィルムとの貼合面と反対側の面を、偏光板と貼合した場合の剥離強度Ｆｏとが、Ｆｉ／Ｆｏ≧０．３の関係を満たし、さらに、好ましくは、剥離強度Ｆｉ及びＦｏのうちの大きい方の剥離強度が１〜１０Ｎ／１５ｍｍである。この場合の剥離強度は、偏光板として、ＨＬＣ２-５６１８Ｓ（サンリッツ社製）を用いて評価する。
【００７３】
〔８．基材フィルム／偏光板積層体の用途〕
本発明の基材フィルム／偏光板積層体の製造方法により得られる基材フィルム／偏光板積層体の用途は特に限定されないが、液晶表示装置、有機エレクトロルミネッセンス表示装置等の表示装置、及びその他の光学装置等の構成要素として用いうる。
【実施例】
【００７４】
以下、実施例を示して本発明について具体的に説明する。ただし、本発明は以下に示す実施例に限定されるものではなく、請求の範囲及びその均等の範囲を逸脱しない範囲において任意に変更して実施しうる。
以下に説明する操作は、別に断らない限り、常温及び常圧の条件において行った。【００７５】
（融解ピーク評価方法）
示差走査熱量計（セイコーインスツルメンツ社製「ＤＳＣ６２２０」）を用いてマスキングフィルムの融解ピークを測定した。条件はサンプル重量１０ｍｇ、昇温速度２℃／ｍｉｎとした。【００７６】
（剥離強度評価方法）
実施例及び比較例で得られた、（偏光板）／（接着剤層）／（基材フィルム）の層構成を有する基材フィルム／偏光板積層体の基材フィルム側の表面を、粘着剤及びラミネーターを用いて、スライドガラスの表面に貼合した。粘着剤としては、両面粘着テープ（日東電工社製、品番「ＣＳ９６２１」）を用いた。
フォースゲージ（ＩＭＡＤＡ社製「デジタルフォースゲージ」）の先端に偏光板を挟み、スライドガラスの表面の法線方向に引っ張ることにより、９０度剥離試験を実施した。この際、偏光板が剥れる際に測定された力は、基材フィルムと偏光フィルムとを剥離させるために要する力であるので、この力の大きさを剥離強度として測定した。【００７７】
（シボ転写）
実施例及び比較例で得られた、保管後の基材フィルムの巻外及び巻中のサンプルのうちの巻中のサンプルについて、シボ転写の程度を評価した。基材フィルムを介した蛍光灯の反射光を目視評価し、蛍光灯の形状に変化が無ければ「Ａ」、蛍光灯のエッジが乱れるものは「Ｂ」、蛍光灯が全体的に歪むものは「Ｃ」とした。【００７８】
［実施例１］
（１−１．マスキングフィルム）
マスキングフィルムとして、ポリエチレン、及び酸化防止剤を含むフィルム（東レフィルム加工社製、商品名「トレテック」）の長尺のフィルムを用意した。このフィルムは、柔軟なフィルムであり、融解ピークは４５℃であった。【００７９】
（１−２．基材フィルム）
基材フィルムとして、シクロオレフィンポリマーの斜め延伸フィルムを用意した。この基材フィルムは、シクロオレフィンポリマー（商品名「ゼオノアフィルムＺＦ１４−０４０」、日本ゼオン株式会社製）の長尺フィルムを、フィルム短尺方向に対して４５°の方向に、延伸倍率１．５倍で延伸された延伸フィルムであり、厚みは２５μｍであった。【００８０】
（１−３．貼合及び巻回）
（１−１）で得たマスキングフィルムと、（１−２）で得た基材フィルムとを、長尺方向を揃えて貼合し、幅１３３０ｍｍ、長さ１０００ｍの基材フィルム／マスキングフィルム積層体とし、これを巻き取って、長尺巻回体とした。【００８１】
（１−４．巻回体の保管）
（１−３）で得た巻回体を、４０℃で１日間保管した。【００８２】
（１−５．偏光板積層体）
（１−４）で得た巻回体から、基材フィルム／マスキングフィルム積層体を繰り出し、マスキングフィルムを剥離し、保管後の基材フィルムを得た。基材フィルムの、巻外端部から３ｍの位置を幅手方向がサンプル長尺になるように１５ｍｍ×２００ｍｍに裁断し、巻外のサンプルを得た。また、基材フィルムの、巻外端部から５００ｍの位置を幅手方向がサンプル長尺になるように１５ｍｍ×２００ｍｍに裁断し、巻中のサンプルを得た。【００８３】
巻中のサンプルについて、シボ転写の程度を評価したところ「Ａ」と評価された。【００８４】
得られた基材フィルムのサンプルのそれぞれの片面（マスキングフィルムと貼合していた方の反対側の面）に、コロナ処理を施した。コロナ処理には、コロナ処理装置（春日電機社製）を用い、処理条件は１５０Ｗ・ｍｉｎ／ｍ２とした。【００８５】
一方、偏光板（ＨＬＣ２-５６１８Ｓ（サンリッツ社製））を用意し、その片面にコロナ処理を施した。コロナ処理のための装置としては、基材フィルムのサンプルのコロナ処理と同じ装置を用い、処理条件は７５０Ｗ・ｍｉｎ／ｍ２とした。【００８６】
偏光板のコロナ処理した面に接着剤をバーコーターで塗布し、接着剤層を形成した。接着剤としては、ＵＶ接着剤を用いた。偏光板の接着剤層側の面と、基材フィルムのサンプルのコロナ処理した面とを貼合し、基材フィルム側から紫外線を照射し、（偏光板）／（接着剤層）／（基材フィルム）の層構成を有する偏光板積層体を得た。【００８７】
（１−６．剥離強度評価）
この偏光板積層体について、剥離強度試験を行ったところ、巻外のサンプルの剥離強度Ｆｏが１．７０５Ｎ／１５ｍｍであるのに対し、巻中のサンプルの剥離強度Ｆｉは１．５１７Ｎ／１５ｍｍとなった。巻中／巻外剥離強度比は８９％であった。【００８８】
［実施例２］
（１−３）において、基材フィルム／マスキングフィルム積層体を得た後、これを巻き取り巻回体とする前に、基材フィルム／マスキングフィルム積層体を５０℃のオーブンに２分間通過させた他は、実施例１と同様にして、偏光板積層体を得て評価した。オーブンを通過させた後の積層体の一部から、マスキングフィルムを取り出し、融解ピークを測定したところ、５５℃となっていた。
剥離強度試験の結果、巻外のサンプルの剥離強度Ｆｏが１．７０５Ｎ／１５ｍｍであるのに対し、巻中のサンプルの剥離強度Ｆｉは１．１４Ｎ／１５ｍｍとなった。巻中／巻外剥離強度比は６７％であった。また、巻中のサンプルのシボ転写の程度は「Ａ」であった。【００８９】
［実施例３］
基材フィルムとして、（１−１）で用意したものに代えて、シクロオレフィンポリマーの横一軸延伸フィルム（日本ゼオン株式会社製、Ｔｇ１２６℃）を用いた他は、実施例１の（１−２）〜（１−６）と同様にして、偏光板積層体を得て評価した。その結果、巻外のサンプルの剥離強度Ｆｏが０．３Ｎ／１５ｍｍであるのに対し、巻中のサンプルの剥離強度Ｆｉは０．１２Ｎ／１５ｍｍとなった。巻中／巻外剥離強度比は４０％であった。また、巻中のサンプルのシボ転写の程度は「Ａ」であった。【００９０】
［実施例４］
基材フィルムとして、（１−１）で用意したものに代えて、シクロオレフィンポリマーの未延伸フィルム（日本ゼオン株式会社製、Ｔｇ１４０℃）を用いた他は、実施例１の（１−２）〜（１−６）と同様にして、偏光板積層体を得て評価した。その結果、巻外のサンプルの剥離強度Ｆｏが９．５Ｎ／１５ｍｍであるのに対し、巻中のサンプルの剥離強度Ｆｉは３．２４Ｎ／１５ｍｍとなった。巻中／巻外剥離強度比は３４％であった。また、巻中のサンプルのシボ転写の程度は「Ａ」であった。【００９１】
［実施例５］
（１−４）の保管の工程で、巻回体の保管温度を４０℃から５０℃へ変更した以外は、実施例１と同様にして、偏光板積層体を得て評価した。その結果、巻外のサンプルの剥離強度Ｆｏが１．７０５Ｎ／１５ｍｍであるのに対し、巻中のサンプルの剥離強度Ｆｉは１．０９Ｎ／１５ｍｍとなった。巻中／巻外剥離強度比は６４％であった。また、巻中のサンプルのシボ転写の程度は「Ａ」であった。【００９２】
［比較例１］
（１−３）において、基材フィルム／マスキングフィルム積層体を得た後、これを巻き取り巻回体とする前に、基材フィルム／マスキングフィルム積層体を８０℃のオーブンに２分間通過させた他は、実施例１と同様にして、偏光板積層体を得て評価した。オーブンを通過させた後の積層体の一部から、マスキングフィルムを取り出し、融解ピークを測定したところ、７４℃となっていた。
剥離強度試験の結果、巻外のサンプルの剥離強度Ｆｏが１．７０５Ｎ／１５ｍｍであるのに対し、巻中のサンプルの剥離強度Ｆｉは０．３８５Ｎ／１５ｍｍとなった。巻中／巻外剥離強度比は２３％であった。また、巻中のサンプルのシボ転写の程度は「Ａ」であった。【００９３】
［比較例２］
（１−４）の保管の工程で、巻回体の保管温度を４０℃から６０℃へ変更した以外は、実施例１と同様にして、偏光板積層体を得て評価した。その結果、巻外のサンプルの剥離強度Ｆｏが１．７０５Ｎ／１５ｍｍであるのに対し、巻中のサンプルの剥離強度Ｆｉは０．１１３Ｎ／１５ｍｍとなった。巻中／巻外剥離強度比は７％であった。また、巻中のサンプルのシボ転写の程度は「Ａ」であった。【００９４】
［参考例１］
下記の点を変更した他は、実施例１と同様にして、偏光板積層体を得て評価した。
・マスキングフィルムとして、（１−１）で用意したフィルムに代えて、市販のマスキングフィルム（商品名「Ｆｏｒｃｅ  Ｆｉｅｌｄ  １０３５」、Ｔｒｅｄｅｇａｒ  Ｆｉｌｍ  Ｐｒｏｄｕｃｔｓ  Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ製、ポリエチレン系のフィルム、厚さ２７μｍ、幅１３３０ｍｍ）を用いた。このマスキングフィルムは、柔軟ではないフィルムであり、融解ピークを評価したところ、融解ピークは存在しなかった。
・（１−４）の保管の工程で、巻回体の保管温度を４０℃から２５℃へ変更した。
その結果、巻外のサンプルの剥離強度Ｆｏが３．０９Ｎ／１５ｍｍであるのに対し、巻中のサンプルの剥離強度Ｆｉは２．４９Ｎ／１５ｍｍとなった。巻中／巻外剥離強度比は８１％であった。また、巻中のサンプルのシボ転写の程度は「Ｃ」であった。【００９５】
［参考例２］
下記の点を変更した他は、実施例１と同様にして、偏光板積層体を得て評価した。
・マスキングフィルムとして、（１−１）で用意したフィルムに代えて、参考例１で用いたものと同一の市販のマスキングフィルム（商品名「Ｆｏｒｃｅ  Ｆｉｅｌｄ  １０３５」）を用いた。
・（１−４）の保管の工程で、巻回体の保管温度を４０℃から６０℃へ変更した。
その結果、巻外のサンプルの剥離強度Ｆｏが３．０９Ｎ／１５ｍｍであるのに対し、巻中のサンプルの剥離強度Ｆｉは１．７９Ｎ／１５ｍｍとなった。巻中／巻外剥離強度比は５８％であった。また、巻中のサンプルのシボ転写の程度は「Ｃ」であった。【００９６】
実施例、比較例及び参考例の結果を、表１及び表２にまとめて示す。【００９７】
【表１】
2016158275.tif 000002
【００９８】
【表２】
2016158275.tif 000003
【００９９】
※１基材フィルム  Ａ：シクロオレフィンポリマー斜め延伸フィルム。Ｂ：シクロオレフィンポリマー一軸横延伸フィルム。Ｃ：シクロオレフィン未延伸フィルム。Ｄ：シクロオレフィンポリマー一軸横延伸フィルム。【０１００】
※２マスキングフィルム  Ａ：東レフィルム加工製、商品名「トレテック」。Ｂ：融解フィルムを有しないフィルム（商品名Ｔｒｅｄｅｇａｒ  Ｆｉｌｍ  Ｐｒｏｄｕｃｔｓ  Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ製、商品名「Ｆｏｒｃｅ  Ｆｉｅｌｄ  １０３５」）。【０１０１】
実施例及び比較例の結果から、本発明の光学フィルム巻回体は、本発明の保管方法により保管することにより、長期間保存した後においても、偏光板との高い剥離強度を得ることができ、表面の高い品質が保たれ、高品質な基材フィルム／偏光板積層体を効率的に製造することができることが分かる。
【国際調査報告】
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