(57)【要約】  一態様の被覆工具は、基体と、該基体上に位置する被覆層とを有する。該被覆層は、（ＴｉｂＮｂｄＭｅ）ＣｘＮ１−ｘ（ただし、ＭはＴｉ及びＮｂ以外の周期表４、５、６族金属並びにＡｌのうちの１種以上、０．２≦ｂ≦０．８、０．０１≦ｄ≦０．２、０≦ｅ≦０．７、ｂ＋ｄ＋ｅ＝１、０＜ｘ＜１）を含有する第１層と、Ｍ’Ｎ（ただし、Ｍ’はＮｂ以外の周期表４、５、６族金属）を含有する第２層との交互層を有する。
2017111073.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基体と、
該基体上に位置する被覆層とを有し、
該被覆層が、（ＴｉｂＮｂｄＭｅ）ＣｘＮ１−ｘ（ただし、ＭはＴｉ及びＮｂ以外の周期表４、５、６族金属、並びにＡｌのうちの１種以上、０．２≦ｂ≦０．８、０．０１≦ｄ≦０．２、０≦ｅ≦０．７、ｂ＋ｄ＋ｅ＝１、０＜ｘ＜１）を含有する第１層と、Ｍ’Ｎ（ただし、Ｍ’はＮｂ以外の周期表４、５、６族金属）を含有する第２層とが交互に積層された交互層を有する被覆工具。
【請求項２】
前記第２層の厚みの平均値が、前記第１層の厚みの平均値よりも大きい、請求項１に記載の被覆工具。
【請求項３】
前記第２層の厚みの平均値に対する前記第１層の厚みの平均値の比率が０．６〜０．９である、請求項２に記載の被覆工具。
【請求項４】
複数の前記第１層のうち、前記基体の最も近くに位置する前記第１層の厚みが、他の前記第１層の厚みよりも厚い、請求項１〜３のいずれか１つに記載の被覆工具。
【請求項５】
複数の前記第２層のうち、前記基体の最も近くに位置する前記第２層の厚みが、他の前記第２層の厚みよりも厚い、請求項１〜４のいずれか１つに記載の被覆工具。
【請求項６】
複数の前記第１層のうち、前記基体から最も離れて位置する前記第１層の厚みが、前記基体の最も近くに位置する前記第１層を除く、他の前記第１層の厚みよりも厚い、請求項１〜５のいずれか１つに記載の被覆工具。
【請求項７】
前記被覆層は、前記交互層と前記基体との間に、０．１〜１μｍの厚みのＴｉＮ層又はＣｒＮ層を含有する中間層を有する、請求項１〜６のいずれか１つに記載の被覆工具。
【請求項８】
前記中間層の厚みが、複数の前記第１層及び複数の前記第２層のいずれの厚みよりも厚い、請求項７に記載の被覆工具。
【請求項９】
前記第２層が、前記中間層に隣接している、請求項７又は８に記載の被覆工具。
【請求項１０】
前記基体がｃＢＮ焼結体からなる、請求項１〜９のいずれか１つに記載の被覆工具。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本態様は、被覆工具に関する。
【背景技術】
【０００２】
切削に用いられる被覆工具として、例えば、ＷＣ基超硬合金及びＴｉＣＮ基サーメットなどの硬質基体と、この硬質基体の表面に位置する様々な被覆層とを備えた被覆工具が知られている。かかる被覆工具における被覆層として、ＴｉＣＮ層やＴｉＡｌＮ層が一般的に採用されているが、耐摩耗性及び耐欠損性の向上を目的として種々の被覆層が開発されている。【０００３】
例えば、特開２０１１−３０２８３２号公報（特許文献１）には、下層がＴｉＡｌＮ層であるとともに、上層がＴｉＮｂＡｌＮ層である被覆層が開示されている。また、特開２０１０−０７６０８４号公報（特許文献２）には、ＴｉＮｂＳｉＮからなるＡ層とＴｉＡｌＮからなるＢ層とが交互に積層された構成の被覆層が開示されている。【０００４】
近年、被覆工具の技術分野においては、被覆層の耐摩耗性及び耐欠損性をさらに高めることが望まれている。
【発明の概要】
【０００５】
一態様の被覆工具は、基体と、該基体上に位置する被覆層とを有する。該被覆層は、（ＴｉｂＮｂｄＭｅ）ＣｘＮ１−ｘ（ただし、ＭはＴｉ及びＮｂ以外の周期表４、５、６族金属並びにＡｌのうちの１種以上、０．２≦ｂ≦０．８、０．０１≦ｄ≦０．２、０≦ｅ≦０．７、ｂ＋ｄ＋ｅ＝１、０＜ｘ＜１）を含有する第１層と、Ｍ’Ｎ（ただし、Ｍ’はＮｂ以外の周期表４、５、６族金属）を含有する第２層とが交互に積層された交互層を有する。
【図面の簡単な説明】
【０００６】
【図１】一実施形態の被覆工具の概略斜視図である。
【図２】図１の被覆工具における被覆層付近を拡大した模式図である。
【図３】第１変形例の被覆工具における被覆層付近を拡大した模式図である。
【図４】第２変形例の被覆工具における被覆層付近を拡大した模式図である。
【図５】第３変形例の被覆工具における被覆層付近を拡大した模式図である。
【発明を実施するための形態】
【０００７】
（被覆工具）
一実施形態の被覆工具１について図１及び図２を用いて説明する。
【０００８】
図１に示す被覆工具１は、第１面２０と、第２面２２と、第１面２０及び第２面２２の交わる部分の少なくとも一部に位置する切刃２４とを有する。図１に示す被覆工具１は、ホルダ（図示せず）の先端の所定の位置に取り付けられて使用される交換型の切削インサートの一例である。
【０００９】
第１面２０は、図１において上面として示されており、少なくとも一部がすくい面である。また、第２面２２は、図１において側面として示されており、少なくとも一部が逃げ面である。なお、第１面２０の少なくとも一部が逃げ面であり、第２面２２の少なくとも一部がすくい面であっても何ら問題ない。
【００１０】
また、被覆工具１は、図２に示すように、基体２と、基体２上に位置する被覆層４とを有する。本実施形態において、被覆層４は、（ＴｉｂＮｂｄＭｅ）ＣｘＮ１−ｘ（ただし、ＭはＴｉ及びＮｂ以外の周期表４、５、６族金属、並びにＡｌのうちの１種以上、０．２≦ｂ≦０．８、０．０１≦ｄ≦０．２、０≦ｅ≦０．７、ｂ＋ｄ＋ｅ＝１、０＜ｘ＜１）を含有する第１層７と、Ｍ’Ｎ（ただし、Ｍ’はＮｂ以外の周期表４、５、６族金属）を含有する第２層８とが交互に積層された交互層６を有する。なお、交互層６は、第１層７と第２層８との組み合わせを１つの集合としたときに、この集合を２つ以上有する。交互層６は、好適には、上記の集合を５以上有する。
【００１１】
第１層７は上記の組成であることから硬度及び耐酸化性が高い。第２層８は上記の組成であることから靭性が高い。また、本実施形態における第１層７と第２層８とは相性が良いため、良好な接合性を有する。それゆえ、交互層６は耐摩耗性及び耐欠損性に優れたものであることから、被覆工具１は寿命が長い。
【００１２】
本実施形態における交互層６のマイクロビッカース硬度は２５ＧＰａ以上である。なお、マイクロビッカース硬度の測定条件は、ナノインデンターによって荷重２０ｍＮにて測定する。
【００１３】
本実施形態によれば、交互層６が複数の第１層７及び複数の第２層８を有しており、複数の第１層７の厚みｔ１の平均値と複数の第２層８の厚みｔ２の平均値とがそれぞれ１〜１００ｎｍである。この範囲であれば、耐摩耗性と耐欠損性とのバランスに優れる。複数の第１層７の厚みｔ１の平均値は、例えば、１０〜５０ｎｍであり、複数の第２層８の厚みｔ２の平均値は、例えば、１２〜１００ｎｍである。
【００１４】
ここで、第１層７の厚みｔ１の平均値とは、複数の第１層７のそれぞれの厚みを測定し、これら合計厚みを層の数で割った値を指す。第２層８も同様である。なお、第１層７の厚みｔ１の平均値及び第２層８の厚みｔ２の平均値は、切削加工前であれば、第１面２０であっても第２面２２であってもよいが、切削加工後であれば、逃げ面となる面を測定対象とすればよい。
【００１５】
そして、交互層６の総厚みは、例えば、０．５〜３μｍである。交互層６の総厚みが０．５〜３μｍであるときには、交互層６の耐摩耗性が高いとともに、交互層６の内部応力が高くなりすぎないため耐欠損性が高い。
【００１６】
複数の第１層７の厚みｔ１の平均値及び複数の第２層８の厚みｔ２の平均値において、第２層８の厚みｔ２の平均値が、第１層７の厚みｔ１の平均値よりも大きくてもよい。このような場合には、交互層６の内部応力が緩和され、交互層６が剥離又はチッピングすることなく厚膜化しやすい。
【００１７】
また、第２層８の厚みｔ２の平均値に対する第１層７の厚みｔ１の平均値の比率ｔ１／ｔ２が０．６〜０．９であってもよい。このような場合には、交互層６をより厚膜化しやすい。
【００１８】
次に、第１層７について説明する。第１層７の（ＴｉｂＮｂｄＭｅ）ＣｘＮ１−ｘの組成に関して、ｂが０．２より大きいため第１層７の硬度が高い。また、ｂが０．８より小さいため、被覆層４の耐摩耗性が高い。また、ｄが０．０１より大きいため、交互層６の耐酸化性が高く、被覆層４の耐熱性が高い。ｄが０．２以下であるため、交互層６の硬度が高い。
【００１９】
第１層７における金属Ｍは、Ｔｉ及びＮｂ以外の周期表４、５、６族金属、並びにＡｌのうちの１種以上からなるが、中でも、金属ＭとしてＡｌを含有する場合には、交互層６の硬度が向上するとともに、耐酸化性が向上する。他にも、第１層７がＣｒ及びＷの１種以上を含有する場合には、交互層６の耐酸化性が高まる。
【００２０】
次に、第２層８について説明する。第２層８のＭ’Ｎ（ただし、Ｍ’はＮｂ以外の周期表４、５、６族金属）の組成において、Ｍ’として、特に、Ｔｉ、Ｃｒ及び／Ｗの少なくともいずれか１つを含有する場合には、第２層８の靭性が向上して、被覆層４の耐欠損性が向上する。特に、Ｍ’がＴｉ、すなわち第２層８がＴｉＮからなる場合には、第２層８の内部応力が小さく交互層６の内部応力が緩和される。これにより、交互層６が自己破壊によって基体２などからの剥離又はチッピングが生じるおそれが小さくなるため、耐摩耗性及び耐欠損性が向上する。
【００２１】
なお、Ｍ’はＮｂ以外の周期表４、５、６族金属であるが、第２層８にＮｂを一切含んでいてはならないというものではない。第２層８は、第１層７と交互に積層されているものであるため、第１層７におけるＮｂが第２層８に拡散する場合がある。そのため、第２層８は、第１層７におけるＮｂの含有比率ｄに対して１／１０以下程度の比率でＮｂを僅かに含有していてもよい。
【００２２】
交互層６中の各元素の含有比率は、電子顕微鏡測定装置に備え付けられたエネルギー分散型Ｘ線分光（ＥＤＳ）分析装置を用いて測定することができる。ここで、ＥＤＳ分析法におけるＴｉのＬα線のピーク（エネルギー０．４ｋｅＶ付近）については、Ｎ（窒素のＫα線のピークと重なって正確な測定ができない場合がある。そのため、Ｎが含有される可能性がある場合には、ＴｉのＬα線のピークの代わりにＴｉのＫα線のピーク（エネルギー４．５ｋｅＶ付近）を用いてＴｉの含有量を求めればよい。また、金属Ｍ及び金属Ｍ’の測定に際しては、それぞれ被覆層４の任意の５以上の箇所で含有量を測定し、測定された値の平均値をそれぞれ金属Ｍ及び金属Ｍ’の含有量として評価すればよい。
【００２３】
基体２の材料としては、例えば、超硬合金、サーメット、セラミックス、超高圧焼結体及び鋼が挙げられる。超硬合金及びサーメットとしては、例えば、炭化タングステン及び／又は炭窒化チタンを主成分とする硬質相と、コバルト及びニッケルなどの鉄族金属を主成分とする結合相とで構成されるものが挙げられる。セラミックスとしては、例えば、窒化ケイ素又は酸化アルミニウムを主成分とするものが挙げられる。超高圧焼結体としては、例えば、多結晶ダイヤモンド又は立方晶窒化ホウ素（ｃＢＮ）からなる硬質相と、セラミックス及び鉄族金属などの結合相とを超高圧下で焼成してなる硬質材料が挙げられる。
【００２４】
次に、被覆層４は、交互層６と基体２との間に、厚みが０．１〜１μｍである、ＴｉＮ層又はＣｒＮ層を含有する中間層１１を有していてもよい。このような場合には、基体２に対する交互層６の密着性が向上するため、交互層６の剥離が抑制される。特に、基体２がｃＢＮを含有している場合には、中間層１１を有する被覆層４が有効である。また、中間層１１の厚みが、複数の第１層７及び複数の第２層８のいずれの厚みよりも厚くてもよい。このような場合には、交互層６の剥離がより確実に抑制される。
【００２５】
また、第２層８が中間層１１に隣接していてもよい。このような場合には、第１層７が中間層１１に隣接しているときよりも、交互層６と中間層１１の接合性が高められる。これは、（ＴｉｂＮｂｄＭｅ）ＣｘＮ１−ｘの組成で示される第１層７よりもＭ’Ｎの組成で示される第２層８の方が、中間層１１に接合され易いからである。
【００２６】
また、中間層１１を有する場合において、基体２が、ＴｉＣ又はＴｉＮを含有する場合には、特に中間層１１による交互層６が抑制される効果を高めることができ、密着性が向上する。
【００２７】
また、交互層６の上（基体２から遠ざかる位置）に、ＴｉＮ又はＣｒＮからなる表面層（図示せず）が位置していてもよい。被覆層４が、表面層を有している場合には、被覆層４の色を使用確認がしやすい色に設定することが可能であり、また、被覆層４の摺動性が高められる。
【００２８】
なお、上記の実施形態では、概略板状の被覆工具１について説明したが、本実施形態はこれに限定されるものではなく、概略板状以外にも適用可能である。また、被覆工具１は、ドリル、エンドミル、リーマ、タップ又は刃物などに適用可能である。さらに、被覆工具１は、金型などの耐摩耗部材及び掘削工具などの切削以外の用途への適用も可能である。
【００２９】
（変形例）
次に、上記の実施形態の被覆工具１の変形例について図面を用いて説明する。なお、以下においては、上記の実施形態の被覆工具１と変形例とが相違する点について述べ、上記の実施形態の被覆工具１と変形例とで一致する点については説明を省略する。
【００３０】
上記の実施形態として図２に示す被覆工具１においては、複数の第１層７および複数の第２層８のそれぞれの厚みが概ね一定である例を示しているが、交互層６としては上記の構成に限定されるものではない。第１〜第３変形例について説明する。
【００３１】
図３に示すように、第１変形例においては、複数の第１層７のうち、基体２から最も離れて位置する第１層７の厚みが、他の第１層７の厚みよりも厚い。また、交互層６における基体２から最も離れた位置に、厚みの厚い第１層７が位置している。交互層６において、上記の構成である場合には、切削加工時に最も被削材の近くに位置して、切削加工に伴う負荷が局所的に集中し易い第１層７の厚みが厚いことから、被覆層４の耐久性が高められるため、被覆層４の耐摩耗性が高まる。
【００３２】
また、図４に示すように、第２変形例においては、複数の第１層７のうち、基体２の最も近くに位置する第１層７の厚みが、他の第１層７の厚みよりも厚くてもよい。第１層７は、その厚みが大きくなる程に耐欠損性が高くなる。上記の構成である場合には、基体２の最も近くに位置する第１層７の耐欠損性が高いことから、交互層６における表面側の一部が部分的に欠損することがあっても、基体２の最も近くに位置する第１層７が欠損しにくく、交互層６の大部分が一度に欠損することが避けられ易い。そのため、被覆層４の耐久性が高まる。
【００３３】
また、図４に示すように、第２変形例においては、複数の第２層８のうち、基体２の最も近くに位置する第２層８の厚みが、他の第２層８の厚みよりも厚くてもよい。第２層８もまた、その厚みが大きくなる程に耐欠損性が高くなる。そのため、上記の構成である場合には、基体２の最も近くに位置する第２層８の耐欠損性が高いことから、交互層６における表面側の一部が部分的に欠損することがあっても、基体２の最も近くに位置する第２層８が欠損しにくく、交互層６の大部分が一度に欠損することが避けられ易い。そのため、被覆層４の耐久性が高まる。
【００３４】
被覆層４の耐摩耗性及び耐久性を高める観点から、交互層６を図５に示す第３変形例の構成としてもよい。第３変形例における複数の第１層７は、基体２の最も近くに位置する第１層７の厚みが最も厚く、基体２から最も離れて位置する第１層７の厚みが次いで厚い。すなわち、複数の第１層７のうち基体２の最も近くに位置する第１層７の厚みが、他の第１層７の厚みよりも厚く、さらに、複数の第１層７のうち、基体２から最も離れて位置する第１層７の厚みが、基体２の最も近くに位置する第１層７を除く、他の第１層７の厚みよりも厚い。これにより、被覆層４の耐摩耗性及び耐久性が高まる。
【００３５】
第３変形例における複数の第１層７の構成は、下記のように言い換えることもできる。本変形例における複数の第１層７は、基体２の最も近くに位置する第１層７を含み、基体２から離れるにしたがって第１層７の厚みが薄くなる領域と、この領域よりも基体２から離れて位置し、基体２から離れるにしたがって第１層７の厚みが厚くなる領域とを有している。そのため、被覆層４の耐摩耗性及び耐久性が高まる。
【００３６】
（製造方法）
次に、本実施形態の被覆工具の製造方法について説明する。
【００３７】
まず、工具形状の基体２を従来公知の方法を用いて作製する。次に、基体２の表面に、被覆層４を成膜する。被覆層４の成膜方法として、イオンプレーティング法やスパッタリング法などの物理蒸着（ＰＶＤ）法が好適に適応可能である。
【００３８】
被覆層４をイオンプレーティング法で作製する場合、成膜方法の一例について説明する。まず、第１層７を構成するターゲットとして、金属チタン（Ｔｉ）、金属ニオブ（Ｎｂ）、金属Ｍ及び炭素を含有する第１ターゲットを準備する。また、第２層８を構成するターゲットとして、金属Ｍ’を含有する第２ターゲットを準備する。
【００３９】
そして、第１層７を構成する第１ターゲットと第２層８を構成する第２ターゲットとを、成膜装置のチャンバの側壁面に配置する。第１ターゲットと第２ターゲットは、望ましくは基体２を間に挟んで対向する位置に配置する。そして、基体２を回転させながら成膜する。成膜条件としては、アーク放電やグロー放電などにより金属源を蒸発させイオン化すると同時に、窒素源の窒素ガス（Ｎ２）と反応させることによって、基体２の表面に、第１層７及び第２層８を交互に堆積させることによって交互層６を成膜することができる。なお、基体２は２〜１０ｒｐｍで回転させながら成膜することによって、第１層７及び第２層８の各層の厚みを制御することができる。
【００４０】
このとき、第１ターゲットが炭素を含有していることから、炭素を含有する第１層７が成膜される。一方、第２ターゲットが炭素を含有しないことから、炭素を殆ど含有しない第２層８が成膜される。ただし、第２ターゲットが炭素を含有しない場合であっても、第１ターゲットが炭素を含有していることから、第２層８には第１層７から拡散してくる不可避の炭素が含まれる場合がある。
【００４１】
なお、イオンプレーティング法やスパッタリング法で上記の被覆層４を成膜する際には、被覆層４の結晶構造を考慮してアーク電流を印加することによって特定の高硬度な被覆層４を作製できる。このとき、３０〜２００Ｖのバイアス電圧を印加することによって、基体２と被覆層４との密着性を高めることができる。
【００４２】
また、中間層１１を成膜する場合には、中間層１１を成膜する第３ターゲットを準備する。第３ターゲットは、Ｔｉ又はＣｒを含有する。そして、第３ターゲットをチャンバの側壁面に載置して、交互層６を成膜する前に、上記と同じ条件で成膜することによって、中間層１１を成膜することができる。なお、中間層１１と第２層８との金属成分が同じである場合には、第３ターゲットを第２ターゲットで代用することができる。
【実施例１】
【００４３】
平均粒径０．８μｍの炭化タングステン（ＷＣ）粉末に対して、金属コバルト（Ｃｏ）粉末を１０質量％、炭化クロム（Ｃｒ３Ｃ２）粉末を０．６質量％の割合で添加、混合した後、成形して焼成した。そして、研削工程を経た後、アルカリ、酸、蒸留水の順によって表面を洗浄して、超硬合金からなる基体を作製した。【００４４】
そして、表１に示す第１ターゲット、第２ターゲット及び第３ターゲットを装着したアークイオンプレーティング装置内に上記の基体をセットし、基体を５００℃に加熱して、基体の回転数３〜６ｒｐｍ、アーク電流１５０Ａにて表１に示す被覆層を成膜することにより各試料を得た。なお、成膜条件はＮ２ガスを総圧力４Ｐａの雰囲気中、バイアス電圧３５Ｖとした。【００４５】
得られた各試料について、キーエンス社製走査型電子顕微鏡（VE8800）及び透過型電子顕微鏡を用いて組織観察を行い、被覆層を構成する結晶や膜厚を確認した。同装置に付随のＥＤＡＸアナライザ（AMETEK EDAX-VE9800）を用いて加速電圧１５ｋＶにてＥＤＳ分析法の一種であるＺＡＦ法により被覆層の組成の定量分析を行い、被覆層（第１層、第２層及び中間層）の組成を算出した。なお、膜厚の測定においては、第１層と第２層との厚みがそれぞれ観察できる倍率で観察される一視野内の複数層の第１層と第２層の厚みをそれぞれ測定し、さらに観察視野を任意３視野以上の観察ポイントについて測定して、これを平均して、第１層の厚みｔ１、第２層の厚みｔ２を算出した。また、中間層については、ｔ１、ｔ２の測定時に走査型電子顕微鏡にて測定した。【００４６】
さらに、各試料について以下の切削条件にて切削試験を行った。結果は表２に記載した。
切削方法：肩削り（ミリング加工）
被削材  ：ＳＫＤ１１
切削速度：１５０ｍ／分
送り    ：０．１２ｍｍ／刃
切り込み：横切り込み１０ｍｍ、深さ切り込み３ｍｍ
切削状態：乾式
評価方法：１０分間切削した時点でチッピング状態を測定し、続けて切削加工できた加工数を評価した。【００４７】
【表１】
2017111073.tif 000003
【００４８】
【表２】
2017111073.tif 000004
【００４９】
表１、２から明らかであるように、上記（ＴｉｂＮｂｄＭｅ）ＣｘＮ１−ｘからなる第１層と、上記Ｍ‘Ｎからなる第２層とが交互に繰り返し配置されてなる交互層を有する試料Ｎｏ．１は、切刃が定常摩耗状態であり、試料Ｎｏ．２〜４と比較して加工数も多かった。
【実施例２】
【００５０】
平均粒径２μｍの立方晶窒化ホウ素（ｃＢＮ）粉末を５０質量％、窒化チタン（ＴｉＮ）粉末を４６質量％、金属アルミニウム（Ａｌ）粉末を４質量％の割合で添加、混合し、超高圧焼成装置によって、１４００℃、５ＧＰａの条件で焼成した。得られたｃＢＮ焼結体を切り出して、台金のコーナ部にロウ付けし、研磨加工することによって、ｃＢＮ焼結体からなる基体を作製した。【００５１】
実施例１と同様に、アークイオンプレーティング法にて表３に示す構成の被覆層を成膜した。【００５２】
次に、各試料について、実施例１と同様に被覆層の膜厚（ｔ１、ｔ２、中間層厚み）の確認及び被覆層の組成の定量分析を行った。また、試料Ｎｏ．５−１３について、マイクロビッカース硬度を測定したところ、いずれも２５〜２５ＧＰａであった。【００５３】
さらに、得られた各試料について下記条件にて切削試験を行った。結果は表３、４に示した。
切削方法：外径切削（旋削加工）
被削材  ：ＳＣＭ４１５Ｈ
切削速度：１５０ｍ／分
送り    ：０．１ｍｍ／刃
切り込み：０．２ｍｍ
切削状態：乾式
評価方法：３分間切削した時点でチッピング状態を測定するとともに、切削加工できた切削時間を評価した。【００５４】
【表３】
2017111073.tif 000005
【００５５】
【表４】
2017111073.tif 000006
【００５６】
表３、４から明らかであるように、上記（ＴｉｂＮｂｄＭｅ）ＣｘＮ１−ｘからなる第１層と、上記Ｍ’Ｎからなる第２層との交互層を有する試料Ｎｏ．５−１３は、試料Ｎｏ．１４〜１５と比較して加工時間が長かった。特に、基体がｃＢＮ焼結体からなるとともに、ＴｉＮ又はＣｒＮからなる中間層が位置する試料Ｎｏ．５−１２では、加工時間が長いものであった。また、中間層の厚みが０．１〜１μｍの試料Ｎｏ．５−１０では、被覆層の剥離が発生しなかった。
【符号の説明】
【００５７】
１    被覆工具
２    基体
４    被覆層
６    交互層
７    第１層
８    第２層
１１  中間層
【図１】
2017111073.tif 000007
【図２】
2017111073.tif 000008
【図３】
2017111073.tif 000009
【図４】
2017111073.tif 000010
【図５】
2017111073.tif 000011
【国際調査報告】
2017111073.tif 000012
2017111073.tif 000013
2017111073.tif 000014
2017111073.tif 000015