(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
側鎖型高分子液晶性化合物と、二色性物質と、を含有し、
前記側鎖型高分子液晶性化合物が、下記式（１）で表される繰り返し単位１と、前記式（１）で表される繰り返し単位に該当せず、下記式（２）で表される繰り返し単位である繰り返し単位２とを有する共重合体であり、
前記繰り返し単位１の含有量が、前記側鎖型高分子液晶性化合物の全質量に対して、４０質量％以下であり、
前記繰り返し単位２の含有量が、前記側鎖型高分子液晶性化合物の全質量に対して、６０質量％以上である、液晶性組成物。
【化１】
0006987892.tif 000032
前記式（１）中、Ｐ１は繰り返し単位の主鎖であって、下記式（Ｐ１−Ａ）、下記式（Ｐ１−Ｂ）または下記式（Ｐ１−Ｃ）で表される基であり、Ｌ１は単結合または２価の連結基を表し、ＳＰ１およびＳＰ２はそれぞれ独立にスペーサー基を表し、Ｍ１はメソゲン基を表し、ＥＷＧはハメットの置換基定数σｐ値が０より大きい電子吸引性基を表す。
【化２】
0006987892.tif 000033
前記式（２）中、Ｐ２は繰り返し単位の主鎖であって、下記式（Ｐ１−Ａ）、下記式（Ｐ１−Ｂ）または下記式（Ｐ１−Ｃ）で表される基であり、Ｌ２は単結合または２価の連結基を表し、ＳＰ３はスペーサー基を表し、Ｍ２は環状構造を３個以上有するメソゲン基を表し、Ｔ１はハメットの置換基定数σｐ値が０より小さい電子供与性基を表す。
【化３】
0006987892.tif 000034
前記式（Ｐ１−Ａ）、前記式（Ｐ１−Ｂ）および前記式（Ｐ１−Ｃ）において、「＊」は、前記式（１）のＬ１または前記式（２）のＬ２との結合位置を表し、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜１０のアルキル基または炭素数１〜１０のアルコキシ基を表す。
【請求項２】
側鎖型高分子液晶性化合物と、二色性物質と、を含有し、
前記側鎖型高分子液晶性化合物が、繰り返し単位１と、繰り返し単位２とを有する共重合体であり、
前記繰り返し単位１が、メソゲン基と、前記メソゲン基の末端に存在するハメットの置換基定数σｐ値が０より大きい電子吸引性基と、を有し、
前記繰り返し単位２が、メソゲン基と、前記メソゲン基の末端に存在するハメットの置換基定数σｐ値が０以下の基と、を有し、
前記繰り返し単位１における前記電子吸引性基のハメットの置換基定数σｐ値と、前記側鎖型高分子液晶性化合物中の前記繰り返し単位１の質量基準の含有割合と、の積が、０．０５０〜０．１３０であり、
前記側鎖型高分子液晶性化合物の主鎖が、下記式（Ｐ１−Ａ）、下記式（Ｐ１−Ｂ）または下記式（Ｐ１−Ｃ）で表される基である、液晶性組成物。
【化４】
0006987892.tif 000035
前記式（Ｐ１−Ａ）、前記式（Ｐ１−Ｂ）および前記式（Ｐ１−Ｃ）において、「＊」は、前記側鎖型高分子液晶性化合物の側鎖との結合位置を表し、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜１０のアルキル基または炭素数１〜１０のアルコキシ基を表す。
【請求項３】
前記繰り返し単位１が、下記式（１）で表される繰り返し単位であり、
前記繰り返し単位２が、前記式（１）で表される繰り返し単位に該当せず、下記式（２）で表される繰り返し単位である、請求項２に記載の液晶性組成物。
【化５】
0006987892.tif 000036
前記式（１）中、Ｐ１は繰り返し単位の主鎖であって、前記式（Ｐ１−Ａ）、前記式（Ｐ１−Ｂ）または前記式（Ｐ１−Ｃ）で表される基であり、Ｌ１は単結合または２価の連結基を表し、ＳＰ１およびＳＰ２はそれぞれ独立にスペーサー基を表し、Ｍ１はメソゲン基を表し、ＥＷＧはハメットの置換基定数σｐ値が０より大きい電子吸引性基を表す。
【化６】
0006987892.tif 000037
前記式（２）中、Ｐ２は繰り返し単位の主鎖であって、前記式（Ｐ１−Ａ）、前記式（Ｐ１−Ｂ）または前記式（Ｐ１−Ｃ）で表される基であり、Ｌ２は単結合または２価の連結基を表し、ＳＰ３はスペーサー基を表し、Ｍ２は環状構造を３個以上有するメソゲン基を表し、Ｔ１はハメットの置換基定数σｐ値が０より小さい電子供与性基を表す。
【請求項４】
前記繰り返し単位１における前記電子吸引性基が、ハメットの置換基定数σｐ値が０．３以上であり、
前記繰り返し単位２における前記基が、ハメットの置換基定数σｐ値が−０．１以下の電子供与性基である、請求項１〜３のいずれか１項に記載の液晶性組成物。
【請求項５】
前記繰り返し単位１の含有量が、前記側鎖型高分子液晶性化合物の全質量に対して、４０質量％以下であり、
前記繰り返し単位２の含有量が、前記側鎖型高分子液晶性化合物の全質量に対して、６０質量％以上である、請求項２に記載の液晶性組成物。
【請求項６】
前記繰り返し単位１における前記電子吸引性基のハメットの置換基定数σｐ値と、前記側鎖型高分子液晶性化合物中の前記繰り返し単位１の質量基準の含有割合と、の積が、０．０２〜０．１５である、請求項１に記載の液晶性組成物。
【請求項７】
前記繰り返し単位１における前記電子吸引性基のハメットの置換基定数σｐ値と、前記側鎖型高分子液晶性化合物中の前記繰り返し単位１の質量基準の含有割合と、の積が、０．０５０〜０．１３０である、請求項２または６に記載の液晶性組成物。
【請求項８】
前記式（１）のＳＰ１と、前記式（２）のＳＰ３と、が同一の構造である、請求項１または３に記載の液晶性組成物。
【請求項９】
前記式（１）のＭ１と、前記式（２）のＭ２と、が同一の構造である、請求項１または３に記載の液晶性組成物。
【請求項１０】
前記式（１）のＳＰ２が、単結合である、請求項１または３に記載の液晶性組成物。
【請求項１１】
繰り返し単位１と、繰り返し単位２とを有する共重合体である側鎖型高分子液晶性化合物であって、
前記繰り返し単位１が、下記式（１）で表される繰り返し単位であり、
前記繰り返し単位２が、前記式（１）で表される繰り返し単位に該当せず、下記式（２）で表される繰り返し単位であり、
前記式（１）のＭ１と、前記式（２）のＭ２と、が同一の構造であり、
前記繰り返し単位１の含有量が、前記側鎖型高分子液晶性化合物の全質量に対して、４０質量％以下であり、
前記繰り返し単位２の含有量が、前記側鎖型高分子液晶性化合物の全質量に対して、６０質量％以上である、側鎖型高分子液晶性化合物。
【化７】
0006987892.tif 000038
前記式（１）中、Ｐ１は繰り返し単位の主鎖であって、下記式（Ｐ１−Ａ）、下記式（Ｐ１−Ｂ）または下記式（Ｐ１−Ｃ）で表される基であり、Ｌ１は単結合または２価の連結基を表し、ＳＰ１およびＳＰ２はそれぞれ独立にスペーサー基を表し、Ｍ１は環状構造を３個以上有するメソゲン基を表し、ＥＷＧはハメットの置換基定数σｐ値が０より大きい電子吸引性基を表す。
【化８】
0006987892.tif 000039
前記式（２）中、Ｐ２は繰り返し単位の主鎖であって、下記式（Ｐ１−Ａ）、下記式（Ｐ１−Ｂ）または下記式（Ｐ１−Ｃ）で表される基であり、Ｌ２は単結合または２価の連結基を表し、ＳＰ３はスペーサー基を表し、Ｍ２は環状構造を３個以上有するメソゲン基を表し、Ｔ１はハメットの置換基定数σｐ値が０より小さい電子供与性基を表す。
【化９】
0006987892.tif 000040
前記式（Ｐ１−Ａ）、前記式（Ｐ１−Ｂ）および前記式（Ｐ１−Ｃ）において、「＊」は、前記式（１）のＬ１または前記式（２）のＬ２との結合位置を表し、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜１０のアルキル基または炭素数１〜１０のアルコキシ基を表す。
【請求項１２】
請求項１〜１０のいずれか１項に記載の液晶性組成物を用いて形成される、光吸収異方性膜。
【請求項１３】
液晶性組成物を用いて形成される光吸収異方性膜であって、
前記液晶性組成物が、側鎖型高分子液晶性化合物と、二色性物質と、を含有し、
前記側鎖型高分子液晶性化合物が、下記式（１）で表される繰り返し単位１と、前記式（１）で表される繰り返し単位に該当せず、下記式（２）で表される繰り返し単位である繰り返し単位２とを有する共重合体である、光吸収異方性膜。
【化１０】
0006987892.tif 000041
前記式（１）中、Ｐ１は繰り返し単位の主鎖を表し、Ｌ１は単結合または２価の連結基を表し、ＳＰ１およびＳＰ２はそれぞれ独立にスペーサー基を表し、Ｍ１はメソゲン基を表し、ＥＷＧはハメットの置換基定数σｐ値が０より大きい電子吸引性基を表す。
【化１１】
0006987892.tif 000042
前記式（２）中、Ｐ２は繰り返し単位の主鎖を表し、Ｌ２は単結合または２価の連結基を表し、ＳＰ３はスペーサー基を表し、Ｍ２は環状構造を３個以上有するメソゲン基を表し、Ｔ１はハメットの置換基定数σｐ値が０より小さい電子供与性基を表す。
【請求項１４】
基材と、前記基材上に設けられる請求項１２または１３に記載の光吸収異方性膜とを有する、積層体。
【請求項１５】
さらに、前記光吸収異方性膜上に設けられるλ／４板を有する、請求項１４に記載の積層体。
【請求項１６】
請求項１２もしくは１３に記載の光吸収異方性膜、または、請求項１４もしくは請求項１５に記載の積層体を有する、画像表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶性組成物、側鎖型高分子液晶性化合物、光吸収異方性膜、積層体および画像表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、レーザー光や自然光を含む照射光の減衰機能、偏光機能、散乱機能または遮光機能などが必要となった際には、それぞれの機能ごとに異なった原理によって作動する装置を利用していた。そのため、上記の機能に対応する製品も、それぞれの機能別に異なった製造工程によって製造されていた。
例えば、液晶ディスプレイ（liquid crystal display：ＬＣＤ）では、表示における旋光性および複屈折性を制御するために直線偏光板および円偏光板が用いられている。また、有機発光ダイオード（Organic Light Emitting Diode：ＯＬＥＤ）においても、外光の反射防止のために円偏光板が使用されている。【０００３】
従来、これらの偏光板（偏光素子）には、ヨウ素が二色性物質として広く使用されてきたが、ヨウ素の代わりに有機色素を二色性物質として使用する偏光素子についても検討されている。
例えば、特許文献１には、「少なくとも１種のサーモトロピック液晶性二色性色素、及び少なくとも１種のサーモトロピック液晶性高分子を含有し、上記サーモトロピック液晶性二色性色素の光吸収異方性膜中における質量含有率が３０％以上であることを特徴とする光吸収異方性膜。」が記載されている（［請求項１］）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０１１−２３７５１３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明者らは、特許文献１に記載された光吸収異方性膜について検討したところ、光吸収異方性膜の形成に用いられるサーモトロピック液晶性高分子の種類によっては、二色性物質の配向度の低下に伴い光吸収異方性膜の配向度が不十分であるなど、改善の余地があることを明らかとした。【０００６】
そこで、本発明は、高い配向度の光吸収異方性膜を形成できる側鎖型高分子液晶性化合物、液晶性組成物、それを用いた光吸収異方性膜、積層体および画像表示装置を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明者らは、上記課題を達成すべく鋭意検討した結果、二色性物質とともに、メソゲン基とこれの末端に存在するハメットの置換基定数σｐ値が０より大きい電子吸引性基とを有する繰り返し単位１と、メソゲン基とこれの末端に存在するハメットの置換基定数σｐ値が０以下の基とを有する繰り返し単位２と、を有する側鎖型高分子液晶性化合物を配合すれば、繰り返し単位１または繰り返し単位２を有しない側鎖型高分子液晶性化合物を用いた場合と比較して、これを用いて形成される光吸収異方性膜の配向度が高くなることを見出し、本発明を完成させた。
すなわち、本発明者らは、以下の構成により上記課題が解決できることを見出した。【０００８】
［１］
側鎖型高分子液晶性化合物と、二色性物質と、を含有し、
上記側鎖型高分子液晶性化合物が、繰り返し単位１と、繰り返し単位２とを有する共重合体であり、
上記繰り返し単位１が、メソゲン基と、上記メソゲン基の末端に存在するハメットの置換基定数σｐ値が０より大きい電子吸引性基と、を有し、
上記繰り返し単位２が、メソゲン基と、上記メソゲン基の末端に存在するハメットの置換基定数σｐ値が０以下の基と、を有する、液晶性組成物。
［２］
上記繰り返し単位１が、後述の式（１）で表される繰り返し単位であり、
上記繰り返し単位２が、後述の式（１）で表される繰り返し単位に該当せず、後述の式（２）で表される繰り返し単位である、［１］に記載の液晶性組成物。
後述の式（１）中、Ｐ１は繰り返し単位の主鎖を表し、Ｌ１は単結合または２価の連結基を表し、ＳＰ１およびＳＰ２はそれぞれ独立にスペーサー基を表し、Ｍ１はメソゲン基を表し、ＥＷＧはハメットの置換基定数σｐ値が０より大きい電子吸引性基を表す。
後述の式（２）中、Ｐ２は繰り返し単位の主鎖を表し、Ｌ２は単結合または２価の連結基を表し、ＳＰ３はスペーサー基を表し、Ｍ２は環状構造を３個以上有するメソゲン基を表し、Ｔ１はハメットの置換基定数σｐ値が０より小さい電子供与性基を表す。
［３］
上記繰り返し単位１における上記電子吸引性基が、ハメットの置換基定数σｐ値が０．３以上であり、
上記繰り返し単位２における上記基が、ハメットの置換基定数σｐ値が−０．１以下の電子供与性基である、［１］または［２］に記載の液晶性組成物。
［４］
上記繰り返し単位１の含有量が、上記側鎖型高分子液晶性化合物の全質量に対して、４０質量％以下であり、
上記繰り返し単位２の含有量が、上記側鎖型高分子液晶性化合物の全質量に対して、６０質量％以上である、［１］〜［３］のいずれかに記載の液晶性組成物。
［５］
上記繰り返し単位１における上記電子吸引性基のハメットの置換基定数σｐ値と、上記側鎖型高分子液晶性化合物中の上記繰り返し単位１の質量基準の含有割合と、の積が、０．０２〜０．１５である、［１］〜［４］のいずれかに記載の液晶性組成物。
［６］
上記繰り返し単位１における上記電子吸引性基のハメットの置換基定数σｐ値と、上記側鎖型高分子液晶性化合物中の上記繰り返し単位１の質量基準の含有割合と、の積が、０．０５０〜０．１３０である、［１］〜［５］のいずれかに記載の液晶性組成物。
［７］
上記式（１）のＳＰ１と、上記式（２）のＳＰ３と、が同一の構造である、［２］〜［６］のいずれかに記載の液晶性組成物。
［８］
上記式（１）のＭ１と、上記式（２）のＭ２と、が同一の構造である、［２］〜［７］のいずれかに記載の液晶性組成物。
［９］
上記式（１）のＳＰ２が、単結合である、［２］〜［８］のいずれかに記載の液晶性組成物。
［１０］
繰り返し単位１と、繰り返し単位２とを有する共重合体である側鎖型高分子液晶性化合物であって、
上記繰り返し単位１が、後述の式（１）で表される繰り返し単位であり、
上記繰り返し単位２が、後述の式（１）で表される繰り返し単位に該当せず、後述の式（２）で表される繰り返し単位であり、
後述の式（１）のＭ１と、後述の式（２）のＭ２と、が同一の構造である、側鎖型高分子液晶性化合物。
後述の式（１）中、Ｐ１は繰り返し単位の主鎖を表し、Ｌ１は単結合または２価の連結基を表し、ＳＰ１およびＳＰ２はそれぞれ独立にスペーサー基を表し、Ｍ１は環状構造を３個以上有するメソゲン基を表し、ＥＷＧはハメットの置換基定数σｐ値が０より大きい電子吸引性基を表す。
後述の式（２）中、Ｐ２は繰り返し単位の主鎖を表し、Ｌ２は単結合または２価の連結基を表し、ＳＰ３はスペーサー基を表し、Ｍ２は環状構造を３個以上有するメソゲン基を表し、Ｔ１はハメットの置換基定数σｐ値が０より小さい電子供与性基を表す。
［１１］
［１］〜［９］のいずれかに記載の液晶性組成物を用いて形成される、光吸収異方性膜。
［１２］
基材と、上記基材上に設けられる［１１］に記載の光吸収異方性膜とを有する、積層体。
［１３］
さらに、上記光吸収異方性膜上に設けられるλ／４板を有する、［１２］に記載の積層体。
［１４］
［１１］に記載の光吸収異方性膜、または、［１２］もしくは［１３］に記載の積層体を有する、画像表示装置。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、高い配向度の光吸収異方性膜を形成できる側鎖型高分子液晶性化合物、液晶性組成物、それを用いた光吸収異方性膜、積層体および画像表示装置を提供できる。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
以下、本発明について詳細に説明する。
以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施態様に限定されるものではない。
【００１１】
本明細書において、「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。
また、本明細書において、（メタ）アクリル酸とは、「アクリル酸」および「メタクリル酸」の総称であり、（メタ）アクリロイルとは、「アクリロイル」および「メタクリロイル」の総称であり、（メタ）アクリロイルオキシとは、「アクリロイルオキシ」および「メタクリロイルオキシ」の総称である。
【００１２】
［液晶性組成物］
本発明の液晶性組成物は、側鎖型高分子液晶性化合物と、二色性物質と、を含有する。  また、本発明における側鎖型高分子液晶性化合物は、繰り返し単位１と、繰り返し単位２とを有する共重合体である。
また、本発明における側鎖型高分子液晶性化合物が有する上記繰り返し単位１は、メソゲン基と、上記メソゲン基の末端に存在するハメットの置換基定数σｐ値が０より大きい電子吸引性基と、を有する。
また、本発明における側鎖型高分子液晶性化合物が有する上記繰り返し単位２は、メソゲン基と、上記メソゲン基の末端に存在するハメットの置換基定数σｐ値が０以下の基と、を有する。
なお、本明細書において、ハメットの置換基定数σｐ値を、単に「σｐ値」と略記する場合がある。
【００１３】
本発明者らは、配向度の高い光吸収異方性膜を得るべく、側鎖型高分子液晶性化合物について検討したところ、側鎖型高分子液晶性化合物を構成する繰り返し単位の末端基が電子供与性または電子吸引性であることによって、配向度が変化することを見出した。具体的には、本発明の液晶性組成物が、メソゲン基とこれの末端に存在するσｐ値が０より大きい電子吸引性基とを有する繰り返し単位１と、メソゲン基とこれの末端に存在するσｐ値が０以下の基とを有する繰り返し単位２と、を有する側鎖型高分子液晶性化合物を含有することで、上記繰り返し単位１または上記繰り返し単位２のいずれかのみを有する側鎖型高分子液晶性化合物を用いた場合と比べて、これを用いて形成される光吸収異方性膜の配向度が向上することを見出した。この理由の詳細は明らかではないが、概ね以下のように推定している。
すなわち、繰り返し単位１と繰り返し単位２に発生する逆向きの双極子モーメントが、分子間相互作用をすることによって、メソゲン基の短軸方向への相互作用が強くなって、液晶の配向する向きがより均一となると推察され、その結果、液晶の秩序度が高くなると考えられる。これにより、二色性物質の配向性も良好になるので、形成される光吸収異方性膜の配向度が高くなると推測される。
【００１４】
〔側鎖型高分子液晶性化合物〕
本発明における側鎖型高分子液晶性化合物は、メソゲン基と上記メソゲン基の末端に存在するσｐ値が０より大きい電子吸引性基とを有する繰り返し単位１と、メソゲン基と上記メソゲン基の末端に存在するσｐ値が０以下の基とを有する繰り返し単位２と、を有する共重合体である。側鎖型高分子液晶性化合物は、ブロック重合体、交互重合体、ランダム重合体、および、グラフト重合体など、いずれの重合体であってもよい。
ここで、側鎖型高分子液晶性化合物とは、側鎖に液晶構造を有する高分子液晶性化合物を意味する。以下において、側鎖型高分子液晶性化合物を「高分子液晶性化合物」と略記する場合がある。
【００１５】
＜繰り返し単位１＞
繰り返し単位１は、メソゲン基と、上記メソゲン基の末端に存在するσｐ値が０より大きい電子吸引性基と、を有する。
メソゲン基とは、液晶形成に寄与する液晶分子の主要骨格を示す基であり、詳細は後述の式（１）におけるＭ１で説明する通りであり、その具体例も同様である。
上記電子吸引性基は、メソゲン基の末端に位置しており、σｐ値が０より大きい基である。電子吸引性基（σｐ値が０よりも大きい基）としては、後述の式（１）におけるＥＷＧで表される基が挙げられ、その具体例も同様である。
上記電子吸引性基のσｐ値は、０よりも大きく、光吸収異方性膜の配向度がより高くなる点から、０．３以上が好ましく、０．４以上がより好ましい。上記電子吸引性基のσｐ値の上限値は、配向の均一性が優れる点から、１．２以下が好ましく、１．０以下がより好ましい。
【００１６】
ここで、ハメット則の置換基定数σは、置換安息香酸の酸解離平衡定数における置換基の効果を数値で表したものであり、置換基の電子吸引性および電子供与性の強度を示すパラメータである。本明細書におけるハメットの置換基定数σｐ値は、置換基が安息香酸のパラ位に位置する場合の置換基定数σを意味する。
本明細書における各基のハメットの置換基定数σｐ値は、文献「Ｈａｎｓｃｈ  ｅｔ  ａｌ．，  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｒｅｖｉｅｗｓ，  １９９１，  Ｖｏｌ，  ９１，  Ｎｏ．  ２，  １６５−１９５」に記載された値を採用する。なお、上記文献にハメットの置換基定数σｐ値が示されていない基については、ソフトウェア「ＡＣＤ／ＣｈｅｍＳｋｅｔｃｈ（ＡＣＤ／Ｌａｂｓ  ８．００  Ｒｅｌｅａｓｅ  Ｐｒｏｄｕｃｔ  Ｖｅｒｓｉｏｎ：８．０８）」を用いて、安息香酸のｐＫａと、パラ位に置換基を有する安息香酸誘導体のｐＫａとの差に基づいて、ハメットの置換基定数σｐ値を算出できる。
【００１７】
繰り返し単位１は、側鎖にメソゲン基と上記メソゲン基の末端に存在するσｐ値が０より大きい電子吸引性基とを有していれば、特に限定されないが、光吸収異方性膜の配向度がより高くなる点から、下記式（１）で表される繰り返し単位であることが好ましい。
【００１８】
【化１】
0006987892.tif 000002
【００１９】
式（１）中、Ｐ１は繰り返し単位の主鎖を表し、Ｌ１は単結合または２価の連結基を表し、ＳＰ１およびＳＰ２はそれぞれ独立にスペーサー基を表し、Ｍ１はメソゲン基を表し、ＥＷＧはσｐ値が０より大きい電子吸引性基を表す。
【００２０】
Ｐ１が表す繰り返し単位の主鎖としては、具体的には、例えば、下記式（Ｐ１−Ａ）〜（Ｐ１−Ｄ）で表される基が挙げられ、なかでも、原料となる単量体の多様性および取り扱いが容易である観点から、下記式（Ｐ１−Ａ）で表される基が好ましい。
【００２１】
【化２】
0006987892.tif 000003
【００２２】
式（Ｐ１−Ａ）〜（Ｐ１−Ｄ）において、「＊」は、式（１）におけるＬ１との結合位置を表す。式（Ｐ１−Ａ）〜（Ｐ１−Ｄ）において、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜１０のアルキル基または炭素数１〜１０のアルコキシ基を表す。上記アルキル基は、直鎖または分岐のアルキル基であってもよいし、環状構造を有するアルキル基（シクロアルキル基）であってもよい。また、上記アルキル基の炭素数は、１〜５が好ましい。
式（Ｐ１−Ａ）で表される基は、（メタ）アクリル酸エステルの重合によって得られるポリ（メタ）アクリル酸エステルの部分構造の一単位であることが好ましい。
式（Ｐ１−Ｂ）で表される基は、エポキシ基を有する化合物のエポキシ基を開環重合して形成されるエチレングリコール単位であることが好ましい。
式（Ｐ１−Ｃ）で表される基は、オキセタン基を有する化合物のオキセタン基を開環重合して形成されるプロピレングリコール単位であることが好ましい。
式（Ｐ１−Ｄ）で表される基は、アルコキシシリル基およびシラノール基の少なくとも一方の基を有する化合物の縮重合によって得られるポリシロキサンのシロキサン単位であることが好ましい。ここで、アルコキシシリル基およびシラノール基の少なくとも一方の基を有する化合物としては、式ＳｉＲ４（ＯＲ５）２−で表される基を有する化合物が挙げられる。式中、Ｒ４は、（Ｐ１−Ｄ）におけるＲ４と同義であり、複数のＲ５はそれぞれ独立に、水素原子または炭素数１〜１０のアルキル基を表す。
【００２３】
Ｌ１は、単結合または２価の連結基である。
Ｌ１が表す２価の連結基としては、−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（Ｏ）−、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（Ｏ）ＮＲ３−、−ＮＲ３Ｃ（Ｏ）−、−Ｓ（Ｏ）２−、および、−ＮＲ３Ｒ４−などが挙げられる。式中、Ｒ３およびＲ４はそれぞれ独立に、水素原子、置換基（例えば、後述する置換基Ｗ）を有していてもよい炭素数１〜６のアルキル基を表わす。上記２価の連結基の具体例において、左側の結合手がＰ１と結合し、右側の結合手がＳＰ１と結合する。
Ｐ１が式（Ｐ１−Ａ）で表される基である場合には、Ｌ１は−Ｃ（Ｏ）Ｏ−で表される基が好ましい。
Ｐ１が式（Ｐ１−Ｂ）〜（Ｐ１−Ｄ）で表される基である場合には、本発明の効果がより優れる理由から、Ｌ１は単結合が好ましい。
【００２４】
ＳＰ１が表すスペーサー基は、オキシエチレン構造、オキシプロピレン構造、ポリシロキサン構造およびフッ化アルキレン構造からなる群より選択される少なくとも１種の構造を含む基、または、炭素数２〜２０の直鎖または分岐のアルキレン基が好ましい。ただし、上記アルキレン基は、−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、または−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−を含んでいてもよい。
ＳＰ１が表すスペーサー基は、液晶性を発現しやすいことや、原材料の入手性などの理由から、オキシエチレン構造、オキシプロピレン構造、ポリシロキサン構造およびフッ化アルキレン構造からなる群より選択される少なくとも１種の構造を含むことが好ましい。
ここで、ＳＰ１が表すオキシエチレン構造は、＊−（ＣＨ２−ＣＨ２Ｏ）ｎ１−＊で表される基が好ましい。式中、ｎ１は１〜２０の整数を表し、＊はＬ１またはＭ１との結合位置を表す。
また、ＳＰ１が表すオキシプロピレン構造は、＊−（ＣＨ（ＣＨ３）−ＣＨ２Ｏ）ｎ２−＊で表される基が好ましい。式中、ｎ２は１〜３の整数を表し、＊はＬ１またはＭ１との結合位置を表す。
また、ＳＰ１が表すポリシロキサン構造は、＊−（Ｓｉ（ＣＨ３）２−Ｏ）ｎ３−＊で表される基が好ましい。式中、ｎ３は６〜１０の整数を表し、＊はＬ１またはＭ１との結合位置を表す。
また、ＳＰ１が表すフッ化アルキレン構造は、＊−（ＣＦ２−ＣＦ２）ｎ４−＊で表される基が好ましい。式中、ｎ４は６〜１０の整数を表し、＊はＬ１またはＭ１との結合位置を表す。
【００２５】
Ｍ１が表すメソゲン基とは、液晶形成に寄与する液晶分子の主要骨格を示す基である。液晶分子は、結晶状態と等方性液体状態の中間の状態（メソフェーズ）である液晶性を示す。メソゲン基については特に制限はなく、例えば、「Ｆｌｕｓｓｉｇｅ Ｋｒｉｓｔａｌｌｅ ｉｎ Ｔａｂｅｌｌｅｎ ＩＩ」（ＶＥＢ Ｄｅｕｔｓｃｈｅ Ｖｅｒｌａｇ ｆｕｒ Ｇｒｕｎｄｓｔｏｆｆ Ｉｎｄｕｓｔｒｉｅ，Ｌｅｉｐｚｉｇ、１９８４年刊）、特に第７頁〜第１６頁の記載、および、液晶便覧編集委員会編、液晶便覧（丸善、２０００年刊）、特に第３章の記載、を参照することができる。
メソゲン基としては、例えば、芳香族炭化水素基、複素環基、および脂環式基からなる群より選択される少なくとも１種の環状構造を有する基が好ましい。これらの中でも、メソゲン基は、本発明の効果がより優れる点から、芳香族炭化水素基を有する基が好ましい。
メソゲン基は、耐熱性を向上できる点から、２個以上の環状構造（好ましくは、芳香族炭化水素基）を有するのが好ましく、３個以上の環状構造を有するのがより好ましい。また、メソゲン基は、有機溶媒に対する溶解性が向上する点から、５個以下の環状構造を有するのが好ましく、４個以下の環状構造を有するのがより好ましい。
【００２６】
メソゲン基としては、液晶性の発現、液晶相転移温度の調整、原料入手性および合成適性という観点、ならびに、本発明の効果がより優れるから、下記式（Ｍ１−Ａ）または下記式（Ｍ１−Ｂ）で表される基が好ましく、式（Ｍ１−Ｂ）で表される基がより好ましい。
【００２７】
【化３】
0006987892.tif 000004
【００２８】
式（Ｍ１−Ａ）中、Ａ１は、芳香族炭化水素基、複素環基および脂環式基からなる群より選択される２価の基である。これらの基は、アルキル基、フッ化アルキル基またはアルコキシ基または後述する置換基Ｗなどの置換基で置換されていてもよい。
Ａ１で表される２価の基は、４〜６員環であることが好ましい。また、Ａ１で表される２価の基は、単環でも、縮環であってもよい。
＊は、ＳＰ１またはＳＰ２との結合位置を表す。
【００２９】
Ａ１が表す２価の芳香族炭化水素基としては、フェニレン基、ナフチレン基、フルオレン−ジイル基、アントラセン−ジイル基およびテトラセン−ジイル基などが挙げられ、メソゲン骨格の設計の多様性や原材料の入手性などの観点から、フェニレン基またはナフチレン基が好ましく、フェニレン基がより好ましい。
【００３０】
Ａ１が表す２価の複素環基としては、芳香族または非芳香族のいずれであってもよいが、配向度がより向上するという観点から、２価の芳香族複素環基であることが好ましい。
２価の芳香族複素環基を構成する炭素以外の原子としては、窒素原子、硫黄原子および酸素原子が挙げられる。芳香族複素環基が炭素以外の環を構成する原子を複数有する場合、これらは同一であっても異なっていてもよい。
２価の芳香族複素環基の具体例としては、例えば、ピリジレン基（ピリジン−ジイル基）、ピリダジン−ジイル基、イミダゾール−ジイル基、チエニレン（チオフェン−ジイル基）、キノリレン基（キノリン−ジイル基）、イソキノリレン基（イソキノリン−ジイル基）、オキサゾール−ジイル基、チアゾール−ジイル基、オキサジアゾール−ジイル基、ベンゾチアゾール−ジイル基、ベンゾチアジアゾール−ジイル基、フタルイミド−ジイル基、チエノチアゾール−ジイル基、チアゾロチアゾール−ジイル基、チエノチオフェン−ジイル基、および、チエノオキサゾール−ジイル基などが挙げられる。
【００３１】
Ａ１が表す２価の脂環式基の具体例としては、シクロペンチレン基およびシクロへキシレン基などが挙げられる。
【００３２】
式（Ｍ１−Ａ）中、ａ１は１〜１０の整数を表す。ａ１が２以上である場合には、複数のＡ１は同一でも異なっていてもよい。
ａ１は、本発明の効果がより発揮される点から、２以上の整数が好ましく、３以上の整数がより好ましい。
【００３３】
式（Ｍ１−Ｂ）中、Ａ２およびＡ３はそれぞれ独立に、芳香族炭化水素基、複素環基および脂環式基からなる群より選択される２価の基である。Ａ２およびＡ３の具体例および好適態様は、式（Ｍ１−Ａ）のＡ１と同様であるので、その説明を省略する。
式（Ｍ１−Ｂ）中、ａ２は１〜１０の整数を表し、ａ２が２以上である場合には、複数のＡ２は同一でも異なっていてもよく、複数のＬＡ１は同一でも異なっていてもよい。ａ２は、本発明の効果がより優れる理由から、２以上の整数が好ましい。
式（Ｍ１−Ｂ）中、ａ２が１である場合には、ＬＡ１は２価の連結基である。ａ２が２以上である場合には、複数のＬＡ１はそれぞれ独立に、単結合または２価の連結基であり、複数のＬＡ１のうち少なくとも１つが２価の連結基である。ａ２が２である場合、本発明の効果がより優れる理由から、２つのＬＡ１のうち、一方が２価の連結基であり、他方が単結合であることが好ましい。
【００３４】
式（Ｍ１−Ｂ）中、ＬＡ１が表す２価の連結基としては、−Ｏ−、−（ＣＨ２）ｇ−、−（ＣＦ２）ｇ−、−Ｓｉ（ＣＨ３）２−、−（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）ｇ−、−（ＯＳｉ（ＣＨ３）２）ｇ−（ｇは１〜１０の整数を表す。）、−Ｎ（Ｚ）−、−Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）−、−Ｃ（Ｚ）＝Ｎ−、−Ｎ＝Ｃ（Ｚ）−、−Ｃ（Ｚ）２−Ｃ（Ｚ’）２−、−Ｃ（Ｏ）−、−ＯＣ（Ｏ）−、−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、−Ｎ（Ｚ）Ｃ（Ｏ）−、−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｚ）−、−Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（Ｏ）−Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）−、−Ｃ（Ｚ）＝Ｎ−、−Ｎ＝Ｃ（Ｚ）−、−Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｚ”）−、−Ｎ（Ｚ”）−Ｃ（Ｏ）−Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）−、−Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）−Ｃ（Ｏ）−Ｓ−、−Ｓ−Ｃ（Ｏ）−Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）−、−Ｃ（Ｚ）＝Ｎ−Ｎ＝Ｃ（Ｚ’）−（Ｚ、Ｚ’、Ｚ”は独立に、水素、炭素数１〜４のアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、シアノ基、または、ハロゲン原子を表す。）、−Ｃ≡Ｃ−、−Ｎ＝Ｎ−、−Ｓ−、−Ｓ（Ｏ）−、−Ｓ（Ｏ）（Ｏ）−、−（Ｏ）Ｓ（Ｏ）Ｏ−、−Ｏ（Ｏ）Ｓ（Ｏ）Ｏ−、−ＳＣ（Ｏ）−、および、−Ｃ（Ｏ）Ｓ−などが挙げられる。なかでも、本発明の効果がより優れる理由から、−Ｃ（Ｏ）Ｏ−が好ましい。ＬＡ１は、これらの基を２つ以上組み合わせた基であってもよい。
【００３５】
Ｍ１の具体例としては、例えば以下の構造が挙げられる。なお、下記具体例において、「Ａｃ」は、アセチル基を表す。
【００３６】
【化４】
0006987892.tif 000005
【００３７】
【化５】
0006987892.tif 000006
【００３８】
ＳＰ２が表すスペーサー基は、単結合、または、炭素数２〜２０の直鎖もしくは分岐のアルキレン基が好ましい。ただし、上記アルキレン基は、−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、または−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−を含んでいてもよい。
これらの中でも、ＳＰ２が表すスペーサー基は、光吸収異方性膜の配向度がより高くなる点から、単結合が好ましい。換言すれば、繰り返し単位１は、式（１）における電子吸引性基であるＥＷＧが、式（１）におけるメソゲン基であるＭに直結する構造を有するのが好ましい。このように、電子吸引性基がメソゲン基に直結していると、高分子液晶性化合物中に適度な双極子モーメントによる分子間相互作用がより効果的に働くことで、液晶の配向する向きがより均一となると推察され、その結果、液晶の秩序度が高くなり、配向度がより高くなると考えられる。
【００３９】
ＥＷＧは、σｐ値が０より大きい電子吸引性基を表す。σｐ値が０より大きい電子吸引性基としては、エステル基（具体的には、＊−Ｃ（Ｏ）Ｏ−ＲＥで表される基）、（メタ）アクリロイル基、（メタ）アクリロイルオキシ基、カルボキシ基、シアノ基、ニトロ基、スルホ基、−Ｓ（Ｏ）（Ｏ）−ＯＲＥ、−Ｓ（Ｏ）（Ｏ）−ＲＥ、−Ｏ−Ｓ（Ｏ）（Ｏ）−ＲＥ、アシル基（具体的には、＊−Ｃ（Ｏ）ＲＥで表される基）、アシルオキシ基（具体的には、＊−ＯＣ（Ｏ）ＲＥで表される基）、イソシアネート基（−Ｎ＝Ｃ（Ｏ））、＊−Ｃ（Ｏ）Ｎ（ＲＦ）２、ハロゲン原子、ならびに、これらの基で置換されたアルキル基（炭素数１〜２０が好ましい。）が挙げられる。上記各基において、＊はＳＰ３との結合位置を表す。ＲＥは、炭素数１〜２０（好ましくは炭素数１〜４、より好ましくは炭素数１〜２）のアルキル基を表す。ＲＦはそれぞれ独立に、水素原子または炭素数１〜２０（好ましくは炭素数１〜４、より好ましくは炭素数１〜２）のアルキル基を表す。
上記基の中でも、ＥＷＧは、本発明の効果がより発揮される点から、＊−Ｃ（Ｏ）Ｏ−ＲＥで表される基、（メタ）アクリロイルオキシ基、または、シアノ基が好ましい。
【００４０】
繰り返し単位１の含有量は、光吸収異方性膜の高い配向度を維持しつつ、高分子液晶性化合物および二色性物質を均一に配向できる点から、高分子液晶性化合物の全質量（１００質量％）に対して、４０質量％以下が好ましく、３０質量％以下がより好ましく、２５％以下が特に好ましい。
繰り返し単位１の含有量の下限値は、本発明の効果がより発揮される点から、高分子液晶性化合物の全質量（１００質量％）に対して、１質量％以上が好ましく、５質量％以上がより好ましい。
本発明において、高分子液晶性化合物に含まれる各繰り返し単位の含有量は、各繰り返し単位を得るために使用される各単量体の仕込み量（質量）に基づいて算出される。
繰り返し単位１は、高分子液晶性化合物中において、１種単独で含まれていてもよいし、２種以上含まれていてもよい。高分子液晶性化合物が繰り返し単位１を２種以上含むと、高分子液晶性化合物の溶媒に対する溶解性が向上すること、および、液晶相転移温度の調整が容易になることなどの利点がある。繰り返し単位１を２種以上含む場合には、その合計量が上記範囲内であることが好ましい。
【００４１】
繰り返し単位１を２種以上含む場合には、ＥＷＧに重合性基を含まない繰り返し単位１と、ＥＷＧに重合性基を含む繰り返し単位１と、を併用してもよい。これにより、光吸収異方性膜の硬化性がより向上する。なお、重合性基の具体例としては、エチレン性不飽和結合基（例えば、アクリロイル基、メタクリロイル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、ビニル基、スチリル基、アリル基など）が挙げられる。
この場合、光吸収異方性膜の硬化性と配向度のバランスの点から、ＥＷＧに重合性基を含む繰り返し単位１の含有量が、高分子液晶性化合物の全質量に対して、１〜３０質量％であることが好ましい。
【００４２】
以下において、繰り返し単位１の一例を示すが、繰り返し単位１は、以下の繰り返し単位に限定されるものではない。
【００４３】
【化６】
0006987892.tif 000007
【００４４】
本発明者らは、繰り返し単位１および繰り返し単位２について、組成（含有割合）ならびに末端基の電子供与性および電子吸引性について鋭意検討した結果、繰り返し単位１の電子吸引性基の電子吸引性が強い場合（すなわち、σｐ値が大きい場合）には、繰り返し単位１の含有割合を低くすれば光吸収異方性膜の配向度がより高くなり、繰り返し単位１の電子吸引性基の電子吸引性が弱い場合（すなわち、σｐ値が０に近い場合）には、繰り返し単位１の含有割合を高くすれば光吸収異方性膜の配向度がより高くなることを見出した。
この理由の詳細は明らかではないが、概ね以下のように推定している。すなわち、高分子液晶性化合物中に適度な双極子モーメントによる分子間相互作用が働くことで、液晶の配向する向きがより均一となると推察され、その結果、液晶の秩序度が高くなり、光吸収異方性膜の配向度がより高くなると考えられる。
具体的には、繰り返し単位１における上記電子吸引性基（式（１）においてはＥＷＧ）のσｐ値と、高分子液晶性化合物中の繰り返し単位１の含有割合（質量基準）と、の積は、０．０２〜０．１５が好ましく、０．０５０〜０．１３０がより好ましく、０．０５５〜０．１２５が特に好ましい。上記積が上記範囲内であれば、光吸収異方性膜の配向度がより高くなる。
【００４５】
＜繰り返し単位２＞
繰り返し単位２は、メソゲン基と上記メソゲン基の末端に存在するσｐ値が０以下の基とを有する。高分子液晶性化合物が繰り返し単位２を有することで、高分子液晶性化合物および二色性物質を均一に配向できる。
メソゲン基は、液晶形成に寄与する液晶分子の主要骨格を示す基であり、詳細は後述の式（２）におけるＭ２で説明する通りであり、その具体例も同様である。
上記基は、メソゲン基の末端に位置しており、σｐ値が０以下の基である。上記基（σｐ値が０以下である基）としては、σｐ値が０である水素原子、および、σｐ値が０よりも小さい後述の式（２）におけるＴ１で表される基（電子供与性基）が挙げられる。上記基のうち、σｐ値が０よりも小さい基（電子供与性基）の具体例は、後述の式（２）におけるＴ１と同様である。
上記基のσｐ値は、０以下であり、配向の均一性がより優れる点から、０よりも小さいことが好ましく、−０．１以下がより好ましく、−０．２以下が特に好ましい。上記基のσｐ値の下限値は、−０．９以上が好ましく、−０．７以上がより好ましい。
【００４６】
繰り返し単位２は、側鎖にメソゲン基と上記メソゲン基の末端に存在するσｐ値が０以下である基とを有していれば、特に限定されないが、液晶の配向の均一性がより高くなる点から、上記式（１）で表される繰り返し単位に該当せず、下記式（２）で表される繰り返し単位であることが好ましい。
【００４７】
【化７】
0006987892.tif 000008
【００４８】
式（２）中、Ｐ２は繰り返し単位の主鎖を表し、Ｌ２は単結合または２価の連結基を表し、ＳＰ３はスペーサー基を表し、Ｍ２は環状構造を３個以上有するメソゲン基を表し、Ｔ１はハメットの置換基定数σｐ値が０より小さい電子供与性基を表す。
【００４９】
Ｐ２が表す繰り返し単位の主鎖の具体例は、式（１）におけるＰ１と同様であり、好適態様も同様であるので、その説明を省略する。
Ｌ２が表す２価の連結基の具体例は、式（１）におけるＬ１と同様であり、好適態様も同様であるので、その説明を省略する。
ＳＰ３が表すスペーサー基の具体例は、式（１）におけるＳＰ１と同様であり、好適態様も同様であるので、その説明を省略する。
【００５０】
Ｍ２が表すメソゲン基とは、液晶形成に寄与する液晶分子の主要骨格を示す基である。液晶分子は、結晶状態と等方性液体状態の中間の状態（メソフェーズ）である液晶性を示す。メソゲン基については特に制限はなく、例えば、「Ｆｌｕｓｓｉｇｅ Ｋｒｉｓｔａｌｌｅ ｉｎ Ｔａｂｅｌｌｅｎ ＩＩ」（ＶＥＢ Ｄｅｕｔｓｃｈｅ Ｖｅｒｌａｇ ｆｕｒ Ｇｒｕｎｄｓｔｏｆｆ Ｉｎｄｕｓｔｒｉｅ，Ｌｅｉｐｚｉｇ、１９８４年刊）、特に第７頁〜第１６頁の記載、および、液晶便覧編集委員会編、液晶便覧（丸善、２０００年刊）、特に第３章の記載、を参照することができる。
Ｍ２が表すメソゲン基は、環状構造を３個以上有する基であり、環状構造を３〜５個有する基が好ましく、環状構造を３〜４個有する基がより好ましい。Ｍ２が表すメソゲン基が環状構造を３個以上有することで、光吸収異方性膜の耐熱性が向上する。Ｍ２が表すメソゲン基の環状構造が４個以下であれば、有機溶媒に対する溶解性が向上する。
環状構造を有する基としては、芳香族炭化水素基、複素環基、および脂環式基からなる群より選択される少なくとも１種の基が挙げられる。これらの中でも、Ｍ２が表すメソゲン基は、本発明の効果がより優れる点から、芳香族炭化水素基を有することが好ましく、環状構造を有する基の全てが芳香族炭化水素基であるのがより好ましい。
【００５１】
Ｍ２が表すメソゲン基としては、液晶性の発現、液晶相転移温度の調整、原料入手性および合成適性という観点、ならびに、本発明の効果がより優れるから、下記式（Ｍ２−Ａ）または下記式（Ｍ２−Ｂ）で表される基が好ましく、式（Ｍ２−Ｂ）で表される基がより好ましい。
【００５２】
【化８】
0006987892.tif 000009
【００５３】
式（Ｍ２−Ａ）中、Ａ４は、芳香族炭化水素基、複素環基および脂環式基からなる群より選択される２価の基である。これらの基は、アルキル基、フッ化アルキル基またはアルコキシ基または後述する置換基Ｗなどの置換基で置換されていてもよい。
Ａ４で表される２価の基は、４〜６員環であることが好ましい。また、Ａ４で表される２価の基は、単環でも、縮環であってもよい。
＊は、ＳＰ３またはＴ１との結合位置を表す。
【００５４】
Ａ４が表す２価の芳香族炭化水素基としては、フェニレン基、ナフチレン基、フルオレン−ジイル基、アントラセン−ジイル基およびテトラセン−ジイル基などが挙げられ、メソゲン骨格の設計の多様性や原材料の入手性などの観点から、フェニレン基またはナフチレン基が好ましく、フェニレン基がより好ましい。
【００５５】
Ａ４が表す２価の複素環基としては、芳香族または非芳香族のいずれであってもよいが、配向度がより向上するという観点から、２価の芳香族複素環基であることが好ましい。
２価の芳香族複素環基を構成する炭素以外の原子としては、窒素原子、硫黄原子および酸素原子が挙げられる。芳香族複素環基が炭素以外の環を構成する原子を複数有する場合、これらは同一であっても異なっていてもよい。
２価の芳香族複素環基の具体例としては、例えば、ピリジレン基（ピリジン−ジイル基）、ピリダジン−ジイル基、イミダゾール−ジイル基、チエニレン（チオフェン−ジイル基）、キノリレン基（キノリン−ジイル基）、イソキノリレン基（イソキノリン−ジイル基）、オキサゾール−ジイル基、チアゾール−ジイル基、オキサジアゾール−ジイル基、ベンゾチアゾール−ジイル基、ベンゾチアジアゾール−ジイル基、フタルイミド−ジイル基、チエノチアゾール−ジイル基、チアゾロチアゾール−ジイル基、チエノチオフェン−ジイル基、および、チエノオキサゾール−ジイル基などが挙げられる。
【００５６】
Ａ４が表す２価の脂環式基の具体例としては、シクロペンチレン基およびシクロへキシレン基などが挙げられる。
【００５７】
式（Ｍ２−Ａ）中、ａ３は３〜１０の整数を表す。複数のＡ４は同一でも異なっていてもよい。
【００５８】
式（Ｍ２−Ｂ）中、Ａ５およびＡ６はそれぞれ独立に、芳香族炭化水素基、複素環基および脂環式基からなる群より選択される２価の基である。Ａ５およびＡ６の具体例および好適態様は、式（Ｍ２−Ａ）のＡ４と同様であるので、その説明を省略する。
式（Ｍ２−Ｂ）中、ａ４は２〜１０の整数を表し、複数のＡ５は同一でも異なっていてもよく、複数のＬＡ２は同一でも異なっていてもよい。
式（Ｍ２−Ｂ）中、複数のＬＡ２はそれぞれ独立に、単結合または２価の連結基であり、複数のＬＡ２のうち少なくとも１つが２価の連結基である。ａ４が２である場合、本発明の効果がより優れる理由から、２つのＬＡ２のうち、一方が２価の連結基であり、他方が単結合であることが好ましい。
【００５９】
式（Ｍ２−Ｂ）中、ＬＡ２が表す２価の連結基としては、−Ｏ−、−（ＣＨ２）ｇ−、−（ＣＦ２）ｇ−、−Ｓｉ（ＣＨ３）２−、−（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）ｇ−、−（ＯＳｉ（ＣＨ３）２）ｇ−（ｇは１〜１０の整数を表す。）、−Ｎ（Ｚ）−、−Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）−、−Ｃ（Ｚ）＝Ｎ−、−Ｎ＝Ｃ（Ｚ）−、−Ｃ（Ｚ）２−Ｃ（Ｚ’）２−、−Ｃ（Ｏ）−、−ＯＣ（Ｏ）−、−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、−Ｎ（Ｚ）Ｃ（Ｏ）−、−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｚ）−、−Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（Ｏ）−Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）−、−Ｃ（Ｚ）＝Ｎ−、−Ｎ＝Ｃ（Ｚ）−、−Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｚ”）−、−Ｎ（Ｚ”）−Ｃ（Ｏ）−Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）−、−Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）−Ｃ（Ｏ）−Ｓ−、−Ｓ−Ｃ（Ｏ）−Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）−、−Ｃ（Ｚ）＝Ｎ−Ｎ＝Ｃ（Ｚ’）−（Ｚ、Ｚ’、Ｚ”は独立に、水素、炭素数１〜４のアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、シアノ基、または、ハロゲン原子を表す。）、−Ｃ≡Ｃ−、−Ｎ＝Ｎ−、−Ｓ−、−Ｓ（Ｏ）−、−Ｓ（Ｏ）（Ｏ）−、−（Ｏ）Ｓ（Ｏ）Ｏ−、−Ｏ（Ｏ）Ｓ（Ｏ）Ｏ−、−ＳＣ（Ｏ）−、および、−Ｃ（Ｏ）Ｓ−などが挙げられる。なかでも、本発明の効果がより優れる理由から、−Ｃ（Ｏ）Ｏ−が好ましい。ＬＡ２は、これらの基を２つ以上組み合わせた基であってもよい。
【００６０】
Ｍ２の具体例としては、例えば以下の構造が挙げられる。なお、下記具体例において、「Ａｃ」は、アセチル基を表す。
【００６１】
【化９】
0006987892.tif 000010
【００６２】
【化１０】
0006987892.tif 000011
【００６３】
Ｔ１は、σｐ値が０より小さい電子供与性基を表す。σｐ値が０より小さい電子供与性基としては、ヒドロキシ基、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数１〜１０のアルコキシ基、および、炭素数１〜１０のアルキルアミノ基などが挙げられる。
Ｔ１の主鎖の原子数が２０以下であることで、光吸収異方性膜の配向度がより向上する。ここで、Ｔ１おける「主鎖」とは、Ｍ２と結合する最も長い分子鎖を意味し、水素原子はＴ１の主鎖の原子数にカウントしない。例えば、Ｔ１がｎ−ブチル基である場合には主鎖の原子数は４であり、Ｔ１がｓｅｃ−ブチル基である場合の主鎖の原子数は３である。
【００６４】
以下において、繰り返し単位２の一例を示すが、繰り返し単位２は、以下の繰り返し単位に限定されるものではない。
【００６５】
【化１１】
0006987892.tif 000012
【００６６】
繰り返し単位１と繰り返し単位２は、構造の一部が共通しているのが好ましい。繰り返し単位同士の構造が類似しているほど、液晶が均一に整列すると推察される。これにより、光吸収異方性膜の配向度がより高くなる。
具体的には、光吸収異方性膜の配向度がより高くなる点から、式（１）のＳＰ１と式（２）のＳＰ３とが同一構造であること、式（１）のＭ１と式（２）のＭ２とが同一構造であること、および、式（１）のＬ１と式（２）のＬ２とが同一構造であること、のうち、少なくとも１つを満たすことが好ましく、２つ以上を満たすことがより好ましく、全てを満たすことが特に好ましい。
【００６７】
繰り返し単位２の含有量は、配向の均一性が優れる点から、高分子液晶性化合物の全質量（１００質量％）に対して、６０質量％以上が好ましく、７０質量％以上がより好ましく、７５質量％以上が特に好ましい。
繰り返し単位２の含有量の上限値は、配向度が向上する点から、９９質量％以下が好ましく、９５質量％以下がより好ましい。
繰り返し単位２は、高分子液晶性化合物中において、１種単独で含まれていてもよいし、２種以上含まれていてもよい。高分子液晶性化合物が繰り返し単位２を２種以上含むと、高分子液晶性化合物の溶媒に対する溶解性が向上すること、および、液晶相転移温度の調整が容易になることなどの利点がある。繰り返し単位２を２種以上含む場合には、その合計量が上記範囲内であることが好ましい。
【００６８】
＜物性＞
高分子液晶性化合物の重量平均分子量（Ｍｗ）は、１０００〜５０００００が好ましく、２０００〜３０００００がより好ましい。高分子液晶性化合物のＭｗが上記範囲内にあれば、高分子液晶性化合物の取り扱いが容易になる。
ここで、本発明における重量平均分子量および数平均分子量は、ゲル浸透クロマトグラフ（ＧＰＣ）法により測定された値である。
・溶媒（溶離液）：Ｎ−メチルピロリドン
・装置名：ＴＯＳＯＨ ＨＬＣ−８２２０ＧＰＣ
・カラム：ＴＯＳＯＨ  ＴＳＫｇｅｌＳｕｐｅｒＡＷＭ−Ｈ（６ｍｍ×１５ｃｍ）を３本接続して使用
・カラム温度：２５℃
・試料濃度：０．１質量％
・流速：０．３５ｍＬ／ｍｉｎ
・校正曲線：ＴＯＳＯＨ製ＴＳＫ標準ポリスチレン  Ｍｗ＝２８０００００〜１０５０（Ｍｗ／Ｍｎ＝１．０３〜１．０６）までの７サンプルによる校正曲線を使用
【００６９】
高分子液晶性化合物の液晶性は、ネマチック性およびスメクチック性のいずれを示してもよいが、少なくともネマチック性を示すことが好ましい。
ネマチック相を示す温度範囲は、室温（２３℃）〜４５０℃であることが好ましく、取り扱いや製造適性の観点から、５０℃〜４００℃であることが好ましい。
【００７０】
本発明の側鎖型高分子液晶性化合物は、上記式（１）で表される繰り返し単位１と、上記式（２）で表される繰り返し単位２と、を有する共重合体であり、上記式（１）のＭ１と、上記式（２）のＭ２と、が同一の構造である。本発明の側鎖型高分子液晶性化合物における各繰り返し単位の詳細については、上述した本発明の液晶性組成物に含まれる高分子液晶性化合物と同様であるので、その説明を省略する。
【００７１】
＜置換基Ｗ＞
本明細書における置換基Ｗについて記載する。
置換基Ｗとしては、例えば、ハロゲン原子、アルキル基（例えば、ｔｅｒｔ−ブチル基）（シクロアルキル基、ビシクロアルキル基、トリシクロアルキル基を含む）、アルケニル基（シクロアルケニル基、ビシクロアルケニル基を含む）、アルキニル基、アリール基、複素環基（ヘテロ環基といってもよい）、シアノ基、ヒドロキシ基、ニトロ基、カルボキシ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、シリルオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ基、アミノ基（アニリノ基を含む）、アンモニオ基、アシルアミノ基、アミノカルボニルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、アルキルまたはアリールスルホニルアミノ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、スルファモイル基、スルホ基、アルキルまたはアリールスルフィニル基、アルキルまたはアリールスルホニル基、アシル基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、アリールまたはヘテロ環アゾ基、イミド基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスフィニルオキシ基、ホスフィニルアミノ基、ホスホノ基、シリル基、ヒドラジノ基、ウレイド基、ボロン酸基（−Ｂ(ＯＨ)2）、ホスファト基（−ＯＰＯ(ＯＨ)2）、スルファト基（−ＯＳＯ3Ｈ）、その他の公知の置換基などが挙げられる。
なお、置換基の詳細については、特開２００７-２３４６５１号公報の段落［００２３］に記載される。
【００７２】
〔二色性物質〕
本発明の液晶性組成物が含有する二色性物質は、特に限定されず、可視光吸収物質（二色性色素）、発光物質（蛍光物質、燐光物質）、紫外線吸収物質、赤外線吸収物質、非線形光学物質、カーボンナノチューブ、無機物質（例えば量子ロッド）、などが挙げられ、従来公知の二色性物質（二色性色素）を使用することができる。
具体的には、例えば、特開２０１３−２２８７０６号公報の［００６７］〜［００７１］段落、特開２０１３−２２７５３２号公報の［０００８］〜［００２６］段落、特開２０１３−２０９３６７号公報の［０００８］〜［００１５］段落、特開２０１３−１４８８３号公報の［００４５］〜［００５８］段落、特開２０１３−１０９０９０号公報の［００１２］〜［００２９］段落、特開２０１３−１０１３２８号公報の［０００９］〜［００１７］段落、特開２０１３−３７３５３号公報の［００５１］〜［００６５］段落、特開２０１２−６３３８７号公報の［００４９］〜［００７３］段落、特開平１１−３０５０３６号公報の［００１６］〜［００１８］段落、特開２００１−１３３６３０号公報の［０００９］〜［００１１］段落、特開２０１１−２１５３３７号公報の［００３０］〜［０１６９］、特開２０１０−１０６２４２号公報の［００２１］〜［００７５］段落、特開２０１０−２１５８４６号公報の［００１１］〜［００２５］段落、特開２０１１−０４８３１１号公報の［００１７］〜［００６９］段落、特開２０１１−２１３６１０号公報の［００１３］〜［０１３３］段落、特開２０１１−２３７５１３号公報の［００７４］〜［０２４６］段落、特開２０１６−００６５０２号公報の［０００５］〜［００５１段落］、ＷＯ２０１６／０６０１７３号の［０００５］〜［００４１］段落、ＷＯ２０１６／１３６５６１号の［０００８］〜［００６２］段落、ＷＯ２０１７／１５４８３５号の［００１４］〜［００３３］段落、ＷＯ２０１７／１５４６９５号の［００１４］〜［００３３］段落、ＷＯ２０１７／１９５８３３号の［００１３］〜［００３７］段落、ＷＯ２０１８／１６４２５２号の［００１４］〜［００３４］段落などに記載されたものが挙げられる。
【００７３】
本発明においては、２種以上の二色性物質を併用してもよく、例えば、光吸収異方性膜を黒色に近づける観点から、波長３７０〜５５０ｎｍの範囲に極大吸収波長を有する少なくとも１種の色素化合物と、波長５００〜７００ｎｍの範囲に極大吸収波長を有する少なくとも１種の色素化合物とを併用することが好ましい。
【００７４】
本発明においては、耐押圧性がより良好となる理由から、二色性物質が架橋性基を有していることが好ましい。
架橋性基としては、具体的には、例えば、（メタ）アクリロイル基、エポキシ基、オキセタニル基、スチリル基などが挙げられ、中でも、（メタ）アクリロイル基が好ましい。
【００７５】
本発明においては、二色性物質の含有量は、光吸収異方性膜の配向度および均一性のバランスが良好となる観点から、高分子液晶性化合物１００質量部に対して２〜４００質量部であることが好ましく、３〜３００質量部であることがより好ましく、４〜２００質量部であることが特に好ましい。
【００７６】
〔重合開始剤〕
本発明に用いられる液晶性組成物は、重合開始剤を含有することが好ましい。
重合開始剤としては特に制限はないが、感光性を有する化合物、すなわち光重合開始剤であることが好ましい。
光重合開始剤としては、各種の化合物を特に制限なく使用できる。光重合開始剤の例には、α−カルボニル化合物（米国特許第２３６７６６１号、同２３６７６７０号の各明細書）、アシロインエーテル（米国特許第２４４８８２８号明細書）、α−炭化水素置換芳香族アシロイン化合物（米国特許第２７２２５１２号明細書）、多核キノン化合物（米国特許第３０４６１２７号および同２９５１７５８号の各明細書）、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ−アミノフェニルケトンとの組み合わせ（米国特許第３５４９３６７号明細書）、アクリジンおよびフェナジン化合物（特開昭６０−１０５６６７号公報および米国特許第４２３９８５０号明細書）、オキサジアゾール化合物（米国特許第４２１２９７０号明細書）、および、アシルフォスフィンオキシド化合物（特公昭６３−４０７９９号公報、特公平５−２９２３４号公報、特開平１０−９５７８８号公報および特開平１０−２９９９７号公報）などが挙げられる。
このような光重合開始剤としては、市販品も用いることができ、ＢＡＳＦ社製のイルガキュア（ＩＲＧＡＣＵＲＥ）１８４、９０７、３６９、６５１、８１９、ＯＸＥ−０１およびＯＸＥ−０２などが挙げられる。
本発明の液晶性組成物が重合開始剤を含有する場合、重合開始剤の含有量は、液晶性組成物中の上記二色性物質と上記高分子液晶性化合物との合計１００質量部に対し、０．０１〜３０質量部が好ましく、０．１〜１５質量部が好ましい。重合開始剤の含有量が０．０１質量部以上であることで、光吸収異方性膜の耐久性が良好となり、３０質量部以下であることで、光吸収異方性膜の配向が良好となる。
【００７７】
〔溶媒〕
本発明の液晶性組成物は、作業性などの観点から、溶媒を含有するのが好ましい。
溶媒としては、例えば、ケトン類（例えば、アセトン、２−ブタノン、メチルイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノンなど）、エーテル類（例えば、ジオキサン、テトラヒドロフラン、２−メチルテトラヒドロフラン、シクロペンチルメチルエーテル、テトラヒドロピラン、ジオキソランなど）、脂肪族炭化水素類（例えば、ヘキサンなど）、脂環式炭化水素類（例えば、シクロヘキサンなど）、芳香族炭化水素類（例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、トリメチルベンゼンなど）、ハロゲン化炭素類（例えば、ジクロロメタン、トリクロロメタン、ジクロロエタン、ジクロロベンゼン、クロロトルエンなど）、エステル類（例えば、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸エチルなど）、アルコール類（例えば、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、シクロヘキサノール、イソペンチルアルコール、ネオペンチルアルコール、ジアセトンアルコール、ベンジルアルコールなど）、セロソルブ類（例えば、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、１，２−ジメトキシエタンなど）、セロソルブアセテート類、スルホキシド類（例えば、ジメチルスルホキシドなど）、アミド類（例えば、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン、Ｎ−エチルピロリドンなど）、および、ヘテロ環化合物（例えば、ピリジンなど）などの有機溶媒、ならびに、水が挙げられる。これの溶媒は、１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
本発明の液晶性組成物が溶媒を含有する場合、溶媒の含有量は、液晶性組成物の全質量に対して、８０〜９９質量％が好ましく、８３〜９８質量％がより好ましく、８５〜９６質量％が特に好ましい。
【００７８】
〔界面改良剤〕
本発明の液晶性組成物は、界面改良剤を含むことが好ましい。界面改良剤を含むことにより、塗布表面の平滑性が向上し、配向度が向上したり、ハジキおよびムラを抑制して、面内の均一性の向上が見込まれる。
界面改良剤としては、液晶性化合物を塗布表面側で水平にさせるものが好ましく、特開２０１１−２３７５１３号公報の［０２５３］〜［０２９３］段落に記載の化合物（水平配向剤）を用いることができる。また、特開２００７−２７２１８５号公報の［００１８］〜［００４３］などに記載のフッ素（メタ）アクリレート系ポリマーも用いることができる。界面改良剤としては、これら以外の化合物を用いてもよい。
本発明の液晶性組成物が界面改良剤を含有する場合、界面改良剤の含有量は、液晶性組成物中の上記二色性物質と上記高分子液晶性化合物との合計１００質量部に対し、０．００１〜５質量部が好ましく、０．０１〜３質量部が好ましい。
【００７９】
［光吸収異方性膜］
本発明の光吸収異方性膜は、上述した本発明の液晶性組成物を用いて形成される光吸収異方性膜である。
本発明の光吸収異方性膜の製造方法の一例としては、上記液晶性組成物を基材上に塗布して塗布膜を形成する工程（以下、「塗布膜形成工程」ともいう。）と、塗布膜に含まれる二色性物質を配向させる工程（以下、「配向工程」ともいう。）と、をこの順に含む方法が挙げられる。
以下、本発明の光吸収異方性膜を作製する製造方法の各工程について説明する。
【００８０】
〔塗布膜形成工程〕
塗布膜形成工程は、上記液晶性組成物を基材上に塗布して塗布膜を形成する工程である。
上述した溶媒を含有する液晶性組成物を用いたり、液晶性組成物を加熱などによって溶融液などの液状物としたものを用いたりすることにより、基材上に液晶性組成物を塗布することが容易になる。
液晶性組成物の塗布方法としては、ロールコーティング法、グラビア印刷法、スピンコート法、ワイヤーバーコーティング法、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ダイコーティング法、スプレー法、および、インクジェット法などの公知の方法が挙げられる。
本態様では、液晶性組成物が基材上に塗布されている例を示したが、これに限定されず、例えば、基材上に設けられた配向膜上に液晶性組成物を塗布してもよい。基材および配向膜の詳細については後述する。
【００８１】
〔配向工程〕
配向工程は、塗布膜に含まれる二色性物質を配向させる工程である。これにより、光吸収異方性膜が得られる。
配向工程は、乾燥処理を有していてもよい。乾燥処理によって、溶媒などの成分を塗布膜から除去することができる。乾燥処理は、塗布膜を室温下において所定時間放置する方法（例えば、自然乾燥）によって行われてもよいし、加熱および／または送風する方法によって行われてもよい。
ここで、液晶性組成物に含まれる二色性物質は、上述した塗布膜形成工程または乾燥処理によって、配向する場合がある。例えば、液晶性組成物が溶媒を含む塗布液として調製されている態様では、塗布膜を乾燥して、塗布膜から溶媒を除去することで、光吸収異方性を持つ塗布膜（すなわち、光吸収異方性膜）が得られる。
【００８２】
配向工程は、加熱処理を有することが好ましい。これにより、塗布膜に含まれる二色性物質を配向させることができるため、加熱処理後の塗布膜を光吸収異方性膜として好適に使用できる。
加熱処理は、製造適性などの面から１０〜２５０℃が好ましく、２５〜１９０℃がより好ましい。また、加熱時間は、１〜３００秒が好ましく、１〜６０秒がより好ましい。
【００８３】
配向工程は、加熱処理後に実施される冷却処理を有していてもよい。冷却処理は、加熱後の塗布膜を室温（２０〜２５℃）程度まで冷却する処理である。これにより、塗布膜に含まれる二色性物質の配向を固定することができる。冷却手段としては、特に限定されず、公知の方法により実施できる。
以上の工程によって、光吸収異方性膜を得ることができる。
なお、本態様では、塗布膜に含まれる二色性物質を配向する方法として、乾燥処理および加熱処理などを挙げているが、これに限定されず、公知の配向処理によって実施できる。
【００８４】
〔他の工程〕
光吸収異方性膜の製造方法は、上記配向工程後に、光吸収異方性膜を硬化させる工程（以下、「硬化工程」ともいう。）を有していてもよい。
硬化工程は、例えば、加熱および／または光照射（露光）によって実施される。このなかでも、硬化工程は光照射によって実施されることが好ましい。
硬化に用いる光源は、赤外線、可視光または紫外線など、種々の光源を用いることが可能であるが、紫外線であることが好ましい。また、硬化時に加熱しながら紫外線を照射してもよいし、特定の波長のみを透過するフィルターを介して紫外線を照射してもよい。
また、露光は、窒素雰囲気下で行われてもよい。ラジカル重合によって光吸収異方性膜の硬化が進行する場合において、酸素による重合の阻害が低減されるため、窒素雰囲気下で露光することが好ましい。
【００８５】
光吸収異方性膜の膜厚は、０．１〜５．０μｍが好ましく、０．３〜１．５μｍであることがより好ましい。液晶性組成物中の二色性物質の濃度によるが、膜厚が０．１μｍ以上であると、優れた吸光度の光吸収異方性膜が得られ、膜厚が５．０μｍ以下であると、優れた透過率の光吸収異方性膜が得られる。
【００８６】
［積層体］
本発明の積層体は、基材と、基材上に設けられる本発明の光吸収異方性膜とを有する。
また、本発明の積層体は、上記光吸収異方性膜上に、λ／４板を有していてもよい。
さらに、本発明の積層体は、上記基材と上記光吸収異方性膜との間に、配向膜を有していてもよい。
さらに、本発明の積層体は、上記光吸収異方性膜とλ／４板との間に、バリア層を有していてもよい。
以下、本発明の積層体を構成する各層について説明する。
【００８７】
〔基材〕
基材としては、光吸収異方性膜の用途に応じて選択することができ、例えば、ガラスおよびポリマーフィルムが挙げられる。基材の光透過率は、８０％以上であるのが好ましい。
基材としてポリマーフィルムを用いる場合には、光学的等方性のポリマーフィルムを用いるのが好ましい。ポリマーの具体例および好ましい態様は、特開２００２−２２９４２号公報の［００１３］段落の記載を適用できる。また、従来知られているポリカーボネートやポリスルホンのような複屈折の発現しやすいポリマーであっても国際公開第２０００／２６７０５号公報に記載の分子を修飾することで発現性を低下させたものを用いることもできる。
【００８８】
〔光吸収異方性膜〕
光吸収異方性膜については、上述した通りであるので、その説明を省略する。
【００８９】
〔λ／４板〕
「λ／４板」とは、λ／４機能を有する板であり、具体的には、ある特定の波長の直線偏光を円偏光に（または円偏光を直線偏光に）変換する機能を有する板である。
例えば、λ／４板が単層構造である態様としては、具体的には、延伸ポリマーフィルムや、支持体上にλ／４機能を有する光学異方性層を設けた位相差フィルムなどが挙げられ、また、λ／４板が複層構造である態様としては、具体的には、λ／４板とλ／２板とを積層してなる広帯域λ／４板が挙げられる。
λ／４板と光吸収異方性膜とは、接して設けられていてもよいし、λ／４板と光吸収異方性膜との間に、他の層が設けられていてもよい。このような層としては、密着性担保のための粘着層または接着層、およびバリア層が挙げられる。
【００９０】
〔バリア層〕
本発明の積層体がバリア層を有する場合、バリア層は、光吸収異方性膜とλ／４板との間に設けられる。なお、光吸収異方性膜とλ／４板との間に、バリア層以外の他の層（例えば、粘着層または接着層）を有する場合には、バリア層は、例えば、光吸収異方性膜と他の層との間に設けることができる。
バリア層は、ガス遮断層（酸素遮断層）とも呼ばれ、大気中の酸素などのガス、水分、または、隣接する層に含まれる化合物などから光吸収異方性膜を保護する機能を有する。
バリア層については、特開２０１４−１５９１２４号公報の［００１４］〜［００５４］段落、特開２０１７−１２１７２１号公報の［００４２］〜［００７５］段落、特開２０１７−１１５０７６号公報の［００４５］〜［００５４］段落、特開２０１２−２１３９３８号公報の［００１０］〜［００６１］段落、特開２００５−１６９９９４号公報の［００２１］〜［００３１］段落の記載を参照できる。
【００９１】
〔配向膜〕
本発明の積層体は、基材と光吸収異方性膜との間に、配向膜を有していてもよい。
配向膜は、配向膜上において本発明の液晶性組成物に含まれる二色性物質を所望の配向状態とすることができるのであれば、どのような層でもよい。
有機化合物（好ましくはポリマー）の膜表面へのラビング処理、無機化合物の斜方蒸着、マイクログルーブを有する層の形成、あるいはラングミュアブロジェット法（ＬＢ膜）による有機化合物（例、ω−トリコサン酸、ジオクタデシルメチルアンモニウムクロライド、ステアリル酸メチル）の累積のような手段で、設けることができる。さらに、電場の付与、磁場の付与あるいは光照射により、配向機能が生じる配向膜も知られている。なかでも、本発明では、配向膜のプレチルト角の制御し易さの点からはラビング処理により形成する配向膜が好ましく、配向の均一性の点からは光照射により形成する光配向膜も好ましい。
【００９２】
＜ラビング処理配向膜＞
ラビング処理により形成される配向膜に用いられるポリマー材料としては、多数の文献に記載があり、多数の市販品を入手することができる。本発明においては、ポリビニルアルコールまたはポリイミド、およびその誘導体が好ましく用いられる。配向膜については国際公開第２００１／８８５７４Ａ１号公報の４３頁２４行〜４９頁８行の記載を参照することができる。配向膜の厚さは、０．０１〜１０μｍであることが好ましく、０．０１〜１μｍであることがさらに好ましい。
【００９３】
＜光配向膜＞
光照射により形成される配向膜に用いられる光配向材料としては、多数の文献などに記載がある。本発明においては、例えば、特開２００６−２８５１９７号公報、特開２００７−７６８３９号公報、特開２００７−１３８１３８号公報、特開２００７−９４０７１号公報、特開２００７−１２１７２１号公報、特開２００７−１４０４６５号公報、特開２００７−１５６４３９号公報、特開２００７−１３３１８４号公報、特開２００９−１０９８３１号公報、特許第３８８３８４８号、特許第４１５１７４６号に記載のアゾ化合物、特開２００２−２２９０３９号公報に記載の芳香族エステル化合物、特開２００２−２６５５４１号公報、特開２００２−３１７０１３号公報に記載の光配向性単位を有するマレイミドおよび／またはアルケニル置換ナジイミド化合物、特許第４２０５１９５号、特許第４２０５１９８号に記載の光架橋性シラン誘導体、特表２００３−５２０８７８号公報、特表２００４−５２９２２０号公報、または、特許第４１６２８５０号に記載の光架橋性ポリイミド、ポリアミドもしくはエステルが好ましい例として挙げられる。より好ましくは、アゾ化合物、光架橋性ポリイミド、ポリアミド、または、エステルである。
【００９４】
上記材料から形成した光配向膜に、直線偏光または非偏光照射を施し、光配向膜を製造する。
本明細書において、「直線偏光照射」「非偏光照射」とは、光配向材料に光反応を生じせしめるための操作である。用いる光の波長は、用いる光配向材料により異なり、その光反応に必要な波長であれば特に限定されるものではない。光照射に用いる光のピーク波長は、２００ｎｍ〜７００ｎｍが好ましく、光のピーク波長が４００ｎｍ以下の紫外光がより好ましい。
【００９５】
光照射に用いる光源は、通常使われる光源、例えばタングステンランプ、ハロゲンランプ、キセノンランプ、キセノンフラッシュランプ、水銀ランプ、水銀キセノンランプおよびカーボンアークランプなどのランプ、各種のレーザー［例、半導体レーザー、ヘリウムネオンレーザー、アルゴンイオンレーザー、ヘリウムカドミウムレーザーおよびＹＡＧ（イットリウム・アルミニウム・ガーネット）レーザー］、発光ダイオード、ならびに、陰極線管などを挙げることができる。
【００９６】
直線偏光を得る手段としては、偏光板（例えば、ヨウ素偏光板、二色色素偏光板、および、ワイヤーグリッド偏光板）を用いる方法、プリズム系素子（例えば、グラントムソンプリズム）もしくはブリュースター角を利用した反射型偏光子を用いる方法、または、偏光を有するレーザー光源から出射される光を用いる方法が採用できる。また、フィルターまたは波長変換素子などを用いて必要とする波長の光のみを選択的に照射してもよい。
【００９７】
照射する光は、直線偏光の場合には、配向膜に対して上面、または裏面から配向膜表面に対して垂直、または斜めから光を照射する方法が採用される。光の入射角度は、光配向材料によって異なるが、０〜９０°（垂直）が好ましく、４０〜９０°が好ましい。
非偏光の場合には、配向膜に対して、斜めから非偏光を照射する。その入射角度は、１０〜８０°が好ましく、２０〜６０°がより好ましく、３０〜５０°がさらに好ましい。
照射時間は、１分〜６０分が好ましく、１分〜１０分がより好ましい。
【００９８】
パターン化が必要な場合には、フォトマスクを用いた光照射をパターン作製に必要な回数施す方法、または、レーザー光走査によるパターンの書き込みによる方法を採用できる。
【００９９】
〔用途〕
本発明の積層体は、偏光素子（偏光板）として使用でき、例えば、直線偏光板または円偏光板として使用できる。
本発明の積層体が上記λ／４板などの光学異方性層を有さない場合には、積層体は直線偏光板として使用できる。
一方、本発明の積層体が上記λ／４板を有する場合には、積層体は円偏光板として使用できる。
【０１００】
［画像表示装置］
本発明の画像表示装置は、上述した光吸収異方性膜または上述した積層体を有する。
本発明の画像表示装置に用いられる表示素子は特に限定されず、例えば、液晶セル、有機エレクトロルミネッセンス（以下、「ＥＬ」と略す。）表示パネル、および、プラズマディスプレイパネルなどが挙げられる。
これらのうち、液晶セルまたは有機ＥＬ表示パネルであるのが好ましく、液晶セルであるのがより好ましい。すなわち、本発明の画像表示装置としては、表示素子として液晶セルを用いた液晶表示装置、表示素子として有機ＥＬ表示パネルを用いた有機ＥＬ表示装置であるのが好ましく、液晶表示装置であるのがより好ましい。
【０１０１】
〔液晶表示装置〕
本発明の画像表示装置の一例である液晶表示装置としては、上述した光吸収異方性膜と、液晶セルと、を有する態様が好ましく挙げられる。より好適には、上述した積層体（ただし、λ／４板を含まない）と、液晶セルと、を有する液晶表示装置である。
なお、本発明においては、液晶セルの両側に設けられる光吸収異方性膜（積層体）のうち、フロント側の偏光素子として本発明の光吸収異方性膜（積層体）を用いるのが好ましく、フロント側およびリア側の偏光素子として本発明の光吸収異方性膜（積層体）を用いるのがより好ましい。
以下に、液晶表示装置を構成する液晶セルについて詳述する。
【０１０２】
＜液晶セル＞
液晶表示装置に利用される液晶セルは、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）モード、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｅｄ Ｂｅｎｄ）モード、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ−Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）モード、またはＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）モードであることが好ましいが、これらに限定されるものではない。
ＴＮモードの液晶セルでは、電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に水平配向し、更に６０〜１２０゜にねじれ配向している。ＴＮモードの液晶セルは、カラーＴＦＴ（Ｔｈｉｎ Ｆｉｌｍ Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）液晶表示装置として最も多く利用されており、多数の文献に記載がある。
ＶＡモードの液晶セルでは、電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に垂直に配向している。ＶＡモードの液晶セルには、（１）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直に配向させ、電圧印加時に実質的に水平に配向させる狭義のＶＡモードの液晶セル（特開平２−１７６６２５号公報記載）に加えて、（２）視野角拡大のため、ＶＡモードをマルチドメイン化した（ＭＶＡモードの）液晶セル（ＳＩＤ９７、Ｄｉｇｅｓｔ ｏｆ ｔｅｃｈ．Ｐａｐｅｒｓ（予稿集）２８（１９９７）８４５記載）、（３）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直配向させ、電圧印加時にねじれマルチドメイン配向させるモード（ｎ−ＡＳＭモード）の液晶セル（日本液晶討論会の予稿集５８〜５９（１９９８）記載）および（４）ＳＵＲＶＩＶＡＬモードの液晶セル（ＬＣＤインターナショナル９８で発表）が含まれる。また、ＰＶＡ（Ｐａｔｔｅｒｎｅｄ Ｖｅｒｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）型、光配向型（Ｏｐｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）、およびＰＳＡ（Ｐｏｌｙｍｅｒ−Ｓｕｓｔａｉｎｅｄ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）のいずれであってもよい。これらのモードの詳細については、特開２００６−２１５３２６号公報、および特表２００８−５３８８１９号公報に詳細な記載がある。
ＩＰＳモードの液晶セルは、棒状液晶性分子が基板に対して実質的に平行に配向しており、基板面に平行な電界が印加することで液晶分子が平面的に応答する。ＩＰＳモードは電界無印加状態で黒表示となり、上下一対の偏光板の吸収軸は直交している。光学補償シートを用いて、斜め方向での黒表示時の漏れ光を低減させ、視野角を改良する方法が、特開平１０−５４９８２号公報、特開平１１−２０２３２３号公報、特開平９−２９２５２２号公報、特開平１１−１３３４０８号公報、特開平１１−３０５２１７号公報、特開平１０−３０７２９１号公報などに開示されている。
【０１０３】
〔有機ＥＬ表示装置〕
本発明の画像表示装置の一例である有機ＥＬ表示装置としては、例えば、視認側から、光吸収異方性膜と、λ／４板と、有機ＥＬ表示パネルと、をこの順で有する態様が好適に挙げられる。
より好適には、視認側から、λ／４板を有する上述した積層体と、有機ＥＬ表示パネルと、をこの順に有する態様である。この場合には、積層体は、視認側から、基材、必要に応じて設けられる配向膜、光吸収異方性膜、必要に応じて設けられるバリア層、および、λ／４板の順に配置されている。
また、有機ＥＬ表示パネルは、電極間（陰極および陽極間）に有機発光層（有機エレクトロルミネッセンス層）を挟持してなる有機ＥＬ素子を用いて構成された表示パネルである。有機ＥＬ表示パネルの構成は特に制限されず、公知の構成が採用される。
【実施例】
【０１０４】
以下に実施例に基づいて本発明をさらに詳細に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容および処理手順などは、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。したがって、本発明の範囲は以下に示す実施例により限定的に解釈されるべきものではない。【０１０５】
［高分子液晶性化合物の合成］
高分子液晶性化合物は、以下の手順により作製した。
［合成例１］
〔比較例１で使用する高分子液晶性化合物の合成〕
比較例１で使用した高分子液晶性化合物（以下、「化合物Ｐ１」ともいう。）は、以下の手順により作製した。【０１０６】
（化合物Ｐ１−１の合成）【０１０７】
【化１２】
0006987892.tif 000013
【０１０８】
２−クロロエトキシエトキシエタノール（３６５ｇ）のノルマルブタノール溶液（４８０ｍＬ）にブチルパラベン（３００ｇ）、および、炭酸カリウム（２９９ｇ）を添加した。１００℃で１８時間攪拌した後、水（１０５０ｍＬ）を添加し、分液操作により反応液を洗浄した。得られた有機層に、２２ｗｔ％水酸化ナトリウム水溶液（４２０ｇ）を加え、５０℃で３時間撹拌した。その後、室温に戻し、濃塩酸をｐＨが３になるまで滴下し、分液操作により反応液を洗浄した。得られた有機層を、１０℃以下に冷やしたイソプロピルアルコール（５４０ｍＬ）とノルマルヘキサン（１２６０ｍＬ）の混合溶液に滴下し、濾過操作を行うことで、白色固体化合物（Ｐ１−１）を３６１ｇ（２工程収率８７％）得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（Nuclear Magnetic Resonance）（溶媒：ＤＭＳＯ−ｄ６）δ（ｐｐｍ）：３．３８−３．６４（ｍ，８Ｈ），３．７３−３．７９（ｍ，２Ｈ），４．１３−４．１９（ｍ，２Ｈ），４．５８（ｂｒ ｓ，１Ｈ），６．９８−７．０５（ｍ，２Ｈ），７．８５−７．９０（ｍ，２Ｈ），１２．６３（ｂｒ ｓ，１Ｈ）
なお、ＤＭＳＯは、ジメチルスルホキシドを意味する。また、上記式中、Ｂｕはブチル基を意味する。【０１０９】
（Ｐ１−２の合成）【０１１０】
【化１３】
0006987892.tif 000014
【０１１１】
白色固体化合物（Ｐ１−１）３００ｇを、Ｎ−エチルピロリドン（４５０ｍＬ）（式中のＮＥＰと略記した。）、および、酢酸エチル（８００ｍＬ）に溶解させ、内温を５℃まで冷却した。そこに、３−クロロプロピオン酸クロリド（１６９ｇ）を内温が１５℃以上に上昇しないように滴下した。１０℃で３時間撹拌した後、１０質量％食塩水（１２００ｍＬ）を加え、室温にて分液を行った。得られた有機層に、再び１０質量％食塩水（１２００ｍＬ）を加え、分液を行った。その後、有機層に、撹拌しながらメタノール（７５０ｍＬ）と水（７５０ｍＬ）を滴下し、１５℃まで冷却してから、再び水（３００ｍＬ）を滴下した。次に、濾過操作を行うことで、白色固体化合物（Ｐ１−２）を３３２ｇ（収率８３％）得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：２．８２（ｔ，２Ｈ），３．６５−３．８３（ｍ，８Ｈ），３．８５−３．９５（ｍ，２Ｈ），４．１５−４．２５（ｍ，２Ｈ），４．２５−４．３５（ｍ，２Ｈ），６．９３−７．００（ｍ，２Ｈ），８．０２−８．０８（ｍ，２Ｈ）【０１１２】
（Ｐ１−３の合成）【０１１３】
【化１４】
0006987892.tif 000015
【０１１４】
メタンスルホニルクロリド（５６ｇ）（式中、ＭｓＣｌと略記した。）の酢酸エチル溶液（２５３ｍＬ）を、内温０℃まで冷却した。そこに、化合物（Ｐ１−２）（１６８ｇ）とジイソプロピルエチルアミン（ＤＩＰＥＡ）（６３ｇ）、ジブチルヒドロキシトルエン（ＢＨＴ）（９３０ｍｇ）の酢酸エチル溶液（２５３ｍＬ）を内温が１０℃以上に上昇しないように滴下した。５℃で１時間撹拌した後、４−ヒドロキシ−４’−メトキシビフェニル（８５ｇ）、Ｎ−メチルイミダゾール（１７ｇ）を加え、ジイソプロピルエチルアミン（５５ｇ）を内温が１０℃以上に上昇しないように滴下した。その後、室温で４時間撹拌した。食塩３４ｇと０．５Ｎ塩酸水（６６０ｍＬ）を混合した水溶液を、反応液に加えて反応を停止し、分液操作を行った。抽出した有機層に、撹拌しながら、アセトニトリル（１６８ｍＬ）とメタノール（８４２ｍＬ）を加え、水（３３７ｍＬ）を滴下した。その後、０度まで冷却し、濾過操作を行うことで、白色固体である化合物（Ｐ１−３）２１９ｇ（収率９５％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：２．８３（ｔ，２Ｈ）３．６５−３．８０（ｍ，８Ｈ），３．８６（ｓ，３Ｈ），３．８７−３．９５（ｍ，２Ｈ），４．１８−４．２６（ｍ，２Ｈ），４．２７−４．３５（ｍ，２Ｈ），６．９５−７．０５（ｍ，４Ｈ），７．２２−７．２８（ｍ，２Ｈ），７．４８−７．６２（ｍ，４Ｈ），８．１４−８．１８（ｍ，２Ｈ）
なお、上記式中、Ｍｅは、メチル基を意味し、後述の各式においても同様である。【０１１５】
（Ｐ１−４の合成）【０１１６】
【化１５】
0006987892.tif 000016
【０１１７】
化合物（Ｐ１−３）（１６０ｇ）とジブチルヒドロキシトルエン（ＢＨＴ）（１３００ｍｇ）を、酢酸エチル（１８０ｍＬ）、トルエン（１７６ｍＬ）、アセトニトリル（２０８）ｍＬの混合溶液に溶解させた後、トリエチルアミン（６０ｇ）（式中、ＴＥＡと略記した。）を滴下した。６０度で３時間撹拌した。室温まで冷却した後、１Ｎ塩酸水（２８８ｍＬ）を、反応液に加えて反応を停止し、分液操作を行った。抽出した有機層をフィルター濾過した後、撹拌しながら、メタノール（９６０ｍＬ）を滴下した。その後、０度まで冷却し、濾過操作を行うことで、白色固体である化合物（Ｐ１−４）１３８ｇ（収率９３％）を得た。化合物純度は９８％であった。
１Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：３．６８−３．８０（ｍ，６Ｈ），３．８５（ｓ，３Ｈ），３．８７−３．９４（ｍ，２Ｈ），４．１８−４．２６（ｍ，２Ｈ），４．３２−４．３８（ｍ，２Ｈ），５．８３（ｄｄ，１Ｈ），６．１６（ｄｄ，１Ｈ），６．４３（ｄｄ，１Ｈ），６．９５−７．０５（ｍ，４Ｈ），７．２２−７．２８（ｍ，２Ｈ），７．４８−７．６２（ｍ，４Ｈ），８．１３−８．２０（ｍ，２Ｈ）【０１１８】
なお、不純物としては、下記化合物（Ｐ１−ｂ）が含まれる。ただし、式（Ｐ１−ｂ）中、ｎは３を除く整数を意味する。【０１１９】
【化１６】
0006987892.tif 000017
【０１２０】
【化１７】
0006987892.tif 000018
【０１２１】
化合物（Ｐ１−４）（２５．０ｇ）のＤＭＡｃ（ジメチルアセトアミド）溶液（８３ｍＬ）を、内温が８０℃まで加熱した。そこに、窒素雰囲気化で、２，２’−アゾビス（２−メチルプロピオン酸）ジメチル（０．３４ｇ）（商品名「Ｖ−６０１」、和光純薬社製）のＤＭＡｃ溶液（１０ｍＬ）を加え、８０℃で２時間撹拌した。その後、１Ｈ−ＮＭＲスペクトル測定にて重合性基の消失を確認し、室温まで冷却した。メタノール２０００ｍＬに反応液を滴下して、析出した固体をろ過操作により集め、残渣をメタノールで洗浄することで白色固体である化合物Ｐ１（比較例１で使用する高分子液晶性化合物）を２３ｇ得た。得られたポリマーの重量平均分子量（Ｍｗ）は１４５００であった。
なお、分子量はゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）によりポリスチレン換算で算出、カラムはＴＯＳＯＨ  ＴＳＫｇｅｌＳｕｐｅｒＡＷＭ−Ｈ（６ｍｍ×１５ｃｍ）を３本接続して使用し、溶媒はＮ−メチルピロリドンを使用した。【０１２２】
［合成例２］
〔実施例３で使用する高分子液晶性化合物の合成〕
下記ステップ１〜２に従い、実施例３で使用する高分子液晶性化合物（以下、「化合物Ｐ２」ともいう。）を合成した。【０１２３】
＜ステップ１＞【０１２４】
【化１８】
0006987892.tif 000019
【０１２５】
４−（４−ヒドロキシフェニル）安息香酸メチルは、Ｊｏｒｎａｌ  ｏｆ  Ｐｏｌｙｍｅｒ  Ｓｃｉｅｎｃｅ，Ｐａｒｔ  Ａ：ＰｏｌｙｍｅｒＣｈｅｍｉｓｔｒｙ，２０１２，ｖｏｌ．５０，ｐ．３９３６−３９４３に記載の方法で合成を行った。【０１２６】
メタンスルホニルクロリド（６６ｇ）のトルエン溶液（３００ｍＬ）を、内温０℃まで冷却した。そこに、化合物（Ｐ１−２）（２００ｇ）とジイソプロピルエチルアミン（ＤＩＰＥＡ）（７５ｇ）、ジブチルヒドロキシトルエン（ＢＨＴ）（２．２ｇ）のテトラヒドロフラン溶液（４００ｍＬ）を内温が１０℃以上に上昇しないように滴下した。５℃で１時間撹拌した後、４−（４−ヒドロキシフェニル）安息香酸メチル（１１５ｇ）、アセトニトリル（２００ｍＬ）、Ｎ−メチルイミダゾール（２１ｇ）を加え、ジイソプロピルエチルアミン（６５ｇ）を内温が１０℃以上に上昇しないように滴下した。その後、室温で４時間撹拌した。食塩４０ｇと０．５Ｎ塩酸水（８００ｍＬ）を混合した水溶液を、反応液に加えて反応を停止し、分液操作を行った。抽出した有機層に、撹拌しながら、メタノール（１４００ｍＬ）を滴下した。その後、０度まで冷却し、濾過操作を行うことで、白色固体である化合物（Ｐ２−３）２５８ｇ（収率９０％）を得た。【０１２７】
【化１９】
0006987892.tif 000020
【０１２８】
化合物（Ｐ２−３）（５０ｇ）とジブチルヒドロキシトルエン（ＢＨＴ）（３９０ｍｇ）を、酢酸エチル（７５ｍＬ）、トルエン（５０ｍＬ）、アセトニトリル（５０）ｍＬの混合溶液に溶解させた後、トリエチルアミン（１８ｇ）を滴下した。６０度で３時間撹拌した。室温まで冷却した後、１Ｎ塩酸水（８８ｍＬ）を、反応液に加えて反応を停止し、分液操作を行った。抽出した有機層をフィルター濾過した後、撹拌しながら、メタノール（３００ｍＬ）を滴下した。その後、０度まで冷却し、濾過操作を行うことで、白色固体である化合物（Ｐ２−４）４１ｇ（収率９３％）を得た。化合物純度は９８％であった。
１Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：３．６８−３．８０（ｍ，６Ｈ），３．８７−３．９５（ｍ，２Ｈ），３．９５（ｓ，３Ｈ），４．２０−４．２７（ｍ，２Ｈ），４．３１−４．３７（ｍ，２Ｈ），５．８３（ｄｄ，１Ｈ），６．１６（ｄｄ，１Ｈ），６．４３（ｄｄ，１Ｈ），６．９７−７．０５（ｍ，２Ｈ），７．２８−７．３５（ｍ，２Ｈ），７．６４−７．７２（ｍ，４Ｈ），８．０８−８．２０（ｍ，４Ｈ）【０１２９】
なお、不純物としては、下記化合物（Ｐ２−ｂ）が含まれる。ただし、式（Ｐ２−ｂ）中、ｎは３を除く整数を意味する。【０１３０】
【化２０】
0006987892.tif 000021
【０１３１】
＜ステップ２＞【０１３２】
【化２１】
0006987892.tif 000022
【０１３３】
化合物（Ｐ１−４）（８４ｇ）、化合物（Ｐ２−４）（２１ｇ）、ジブチルヒドロキシトルエン（ＢＨＴ）（１５８ｍｇ）のＤＭＡｃ溶液（３４７ｍＬ）を内温が８０℃まで加熱した。そこに、窒素雰囲気化で、２，２’−アゾビス（２−メチルプロピオン酸）ジメチル（１６６０ｍｇ）（商品名「Ｖ−６０１」）のＤＭＡｃ溶液（４０ｍＬ）を加え、８０℃で４時間撹拌した。得られた反応液を、メタノール（１０Ｌ）へと滴下し、沈殿を濾過操作により集めた後、アセトニトリルを用いて残渣の洗浄を行い、白色固体の化合物Ｐ２（実施例３で使用する高分子液晶性化合物）を９８ｇ（収率９３％）得た。得られたポリマーの重量平均分子量（Ｍｗ）は１６００であった。
なお、分子量はゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）によりポリスチレン換算で算出、カラムはＴＯＳＯＨ  ＴＳＫｇｅｌＳｕｐｅｒＡＷＭ−Ｈ（６ｍｍ×１５ｃｍ）を３本接続して使用し、溶媒はＮ−メチルピロリドンを使用した。
上記式中の繰り返し単位に付された数値は、質量割合（質量％）を意味する。【０１３４】
［合成例３］
〔実施例１３で使用する高分子液晶性化合物の合成〕
下記ステップ１〜３に従い、実施例１３で使用する高分子液晶性化合物（以下、「化合物Ｐ３」ともいう。）を合成した。【０１３５】
（ステップ１）【０１３６】
【化２２】
0006987892.tif 000023
【０１３７】
水酸化ナトリウム（３４．２ｇ）を１Ｌの水に溶解させ、窒素雰囲気下で、４，４’−ジヒドロキシビフェニル（４０．６ｇ）およびブロモエタノール（３７．２ｇ）を添加し、９５℃で１０時間攪拌した。
その後、室温まで冷却し、濃塩酸を加えて反応系を酸性に調整してから濾過および乾燥を行い、化合物Ｐ９−Ａを含む白色固体を得た。
得られた白色固体を４００ｍＬのジメチルアセトアミド（ＤＭＡｃ）に溶解させ、氷冷下、３−クロロプロピオニルクロリド（６２．０ｇ）を滴下し、５時間攪拌した。メタノール（４０ｍＬ）を加えて反応を停止した後に、水と酢酸エチルを加えた。
分液操作により洗浄した有機層を、ロータリーエバポレーターで溶媒除去し、得られた濃縮物にクロロホルムを加えた。析出した固体を濾過により取り除いた後、ロータリーエバポレーターで溶媒除去をし、酢酸エチル／クロロホルムを用いたカラムクロマトグラフィーによるに精製を行い、白色固体である化合物Ｐ９−Ａを２０．３ｇ（収率２９％）得た。【０１３８】
１Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：ＤＭＳＯ−ｄ６）δ（ｐｐｍ）：２．８０−２．９０（ｔ，２Ｈ），３．７５−３．８５（ｔ，２Ｈ），４．１５−４．２５（ｍ，２Ｈ），４．３５−４．４５（ｍ，２Ｈ），６．７５−６．８５（ｍ，２Ｈ），６．９０−７．００（ｍ，２Ｈ），７．３０−７．５０（ｍ，４Ｈ），９．４０（ｂｒ ｓ，１Ｈ）【０１３９】
（ステップ２）【０１４０】
【化２３】
0006987892.tif 000024
【０１４１】
化合物Ｐ９−Ａの４．０ｇと、化合物Ｐ１０の８．０８ｇと、ジクロロメタン１００ｍＬとを混合し、室温で撹拌した。混合物に、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン１５２ｍｇ、および、１−（３−ジメチルアミノプロピル）−３−エチルカルボジイミド塩酸塩（ＥＤＣＩ）９．５６ｇを加え、室温で１２時間撹拌した。
その後、ロータリーエバポレーターで溶媒を除去し、メタノール１２０ｍＬと１Ｍ塩酸水１２０ｍＬを加えて濾過を行い、白色固体を得た。得られた白色固体を酢酸エチルと水を加えて分液を行い、集めた有機層を１Ｎ塩酸水、飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。硫酸ナトリウムを濾別して、ロータリーエバポレーターで溶媒を除去し、シリカゲルクロマトグラフィによる精製を行うことで化合物Ｐ９−Ｂを５．４ｇ得た（収率６９％）。【０１４２】
１Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：２．８７（ｔ，２Ｈ）、３．６８−３．８２（ｍ，８Ｈ），３．９０（ｔ，２Ｈ），４．１８−４．２８（ｍ，４Ｈ），４．２８−４．３８（ｍ，２Ｈ），４．４６−４．５４（ｍ，２Ｈ），５．８４（ｄｄ，１Ｈ），６．１６（ｄｄ，１Ｈ），６．４３（ｄｄ，１Ｈ），６．９０−７．０５（ｍ，４Ｈ），７．２０−７．３０（ｍ，２Ｈ），７．４８−７．６５（ｍ，４Ｈ），８．１０−８．２０（ｍ，２Ｈ）【０１４３】
（ステップ３）【０１４４】
【化２４】
0006987892.tif 000025
【０１４５】
化合物Ｐ１１（０．８ｇ）および化合物Ｐ９−Ｂ（０．２ｇ）のＤＭＡｃ溶液（３．３ｍＬ）を、窒素気流下、内温が８０℃まで加熱した。そこに、２，２’−アゾビス（２−メチルプロピオン酸）ジメチル（０．０５４ｍｍｏｌ，０．０１２ｇ）のＤＭＡｃ溶液（０．５ｍＬ）を加え、８０℃で２時間撹拌した。その後、１Ｈ−ＮＭＲスペクトル測定にて重合性基の消失を確認し、室温まで冷却した。メタノールを加えてろ過を行い、残渣をメタノールで洗浄することで白色固体である化合物Ｐ９−Ｃを０．９０ｇ得た。得られた化合物Ｐ９−Ｃのクロロホルム溶液（７ｍＬ）に、ジブチルヒドロキシトルエン（ＢＨＴ）（５０ｍｇ）、および、トリエチルアミン（０．７ｍＬ）を加え、内温を５０℃まで加熱した。５０℃で９時間撹拌した後、１Ｈ−ＮＭＲスペクトル測定にて原料の消失を確認し、室温へと冷却した。そこに、メタノールを加えてろ過を行い、残渣をメタノールで洗浄することで白色固体である化合物Ｐ３（実施例１３で使用する高分子液晶性化合物）を０．８ｇ得た。得られた化合物Ｐ３をゲル浸透クロマトグラフ（ＧＰＣ）で分析したところ、重量平均分子量（Ｍｗ）は１７０００（ポリスチレン換算）であった。【０１４６】
＜実施例および比較例で使用する上記以外の高分子液晶性化合物＞
実施例および比較例で使用する上記以外の高分子液晶性化合物について、上述した合成例または公知の方法を利用して合成した。【０１４７】
［実施例１］
〔配向膜の作製〕
ガラス基材（セントラル硝子社製、青板ガラス、サイズ３００ｍｍ×３００ｍｍ、厚み１．１ｍｍ）をアルカリ洗剤で洗浄し、次いで純水を注いだ後、ガラス基材を乾燥させた。
下記の配向膜形成用組成物１を＃１２のバーを用いて乾燥後のガラス基材上に塗布し、塗布した配向膜形成用組成物１を１１０℃で２分間乾燥して、ガラス基材上に塗布膜を形成した。
得られた塗布膜にラビング処理（ローラーの回転数：１０００回転／スペーサー厚２．９ｍｍ、ステージ速度１．８ｍ／分）を１回施して、ガラス基材上に配向膜１を作製した。【０１４８】
―――――――――――――――――――――――――――――――――
配向膜形成用組成物１の組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・変性ビニルアルコール（下記式（ＰＶＡ−１）参照）  ２．００質量部
・水                                              ７４．０８質量部
・メタノール                                      ２３．８６質量部
・光重合開始剤
（ＩＲＧＡＣＵＲＥ２９５９、ＢＡＳＦ社製）          ０．０６質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――【０１４９】
【化２５】
0006987892.tif 000026
【０１５０】
なお、式（ＰＶＡ−１）中、繰り返し単位中の数値は、変性ビニルアルコール中の全繰り返し単位に対する各繰り返し単位のモル％を表す。【０１５１】
〔光吸収異方性膜の作製〕
得られた配向膜１上に、下記の液晶性組成物１を１０００回転でスピンコートして、塗布膜を形成した。
塗布膜を室温で３０秒間乾燥させた後、さらに１５０℃で６０秒間加熱した。
次いで、塗布膜を室温になるまで冷却した後、８０℃にて高圧水銀灯を用いて照度２８ｍＷ／ｃｍ２の照射条件で６０秒間照射することにより、配向膜１上に光吸収異方性膜１を作製した。【０１５２】
―――――――――――――――――――――――――――――――――
液晶性組成物１の組成
（全固形分中における二色性物質の含有量：１３質量％）
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・表１の実施例１に記載の高分子液晶性化合物          ７．２０質量部
・下記二色性物質Ｄ１                                ０．４８質量部
・下記二色性物質Ｄ２                                ０．６２質量部
・重合開始剤Ｉｒｇ−８１９（ＢＡＳＦ社製）          ０．０２質量部
・下記界面改良剤Ｆ１                                ０．０１質量部
・トリクロロメタン                                ９１．９６質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――【０１５３】
【化２６】
0006987892.tif 000027
【０１５４】
【化２７】
0006987892.tif 000028
【０１５５】
［実施例２〜１９、比較例１〜７］
液晶性組成物における高分子液晶性化合物の種類または含有量を下記表１に示すように変更した以外は、実施例１と同様の方法で、配向膜１上に光吸収異方性膜を作製した。【０１５６】
表１における繰り返し単位１および繰り返し単位２の種類に対応する構造式を以下にまとめて示す。
また、下記構造式の点線で囲った基におけるハメットの置換基定数σｐ値を、表１に示した（表１中、「末端基σｐ値」として記した）。なお、下記（Ｂ−７）については、メソゲン基の末端における水素原子（すなわち、フェニル基を構成する水素原子）のハメットの置換基定数σｐ値を示した。繰り返し単位Ｂ−５および繰り返し単位Ｂ−６のハメットの置換基定数σｐ値は、上述したソフトウェアを用いて算出し、これら以外の繰り返し単位のハメットの置換基定数σｐ値は、上述した文献に記載の値を示す。【０１５７】
各繰り返し単位１【０１５８】
【化２８】
0006987892.tif 000029
【０１５９】
各繰り返し単位２【０１６０】
【化２９】
0006987892.tif 000030
【０１６１】
［評価］
〔配向度の算出〕
光学顕微鏡（株式会社ニコン製、製品名「ＥＣＬＩＰＳＥ  Ｅ６００  ＰＯＬ」）の光源側に直線偏光子を挿入した状態で、サンプル台に実施例および比較例の各光吸収異方性膜をセットし、マルチチャンネル分光器（Ｏｃｅａｎ Ｏｐｔｉｃｓ社製、製品名「ＱＥ６５０００」）を用いて表１に記載の波長域における光吸収異方性膜の吸光度を測定し、以下の式により配向度を算出した。結果を下記表１に示す。
配向度：Ｓ＝［（Ａｚ０／Ａｙ０）−１］／［（Ａｚ０／Ａｙ０）＋２］
Ａｚ０：光吸収異方性膜の吸収軸方向の偏光に対する吸光度
Ａｙ０：光吸収異方性膜の偏光軸方向の偏光に対する吸光度【０１６２】
〔配向度評価〕
実施例１〜１１、１３、１４、１７〜１９については、これらの高分子液晶性化合物に含まれる繰り返し単位２のみを使用した比較例１を基準サンプルとして、実施例１〜１１、１３、１４、１７〜１９の光吸収異方性膜の配向度と、基準サンプルである比較例１の光吸収異方性膜の配向度と、を比較して、以下の基準にしたがって評価した。
同様に、実施例１２は比較例２を基準サンプルとし、実施例１５は比較例３を基準サンプルとし、実施例１６は比較例７を基準サンプルとし、比較例５および６は比較例１を基準サンプルとして、配向度の評価を行った。
なお、比較例１〜３および７については、基準サンプルであるため、配向度評価は評価不能を意味する「−」として、表１に示した。また、比較例４については、繰り返し単位２を有しない高分子液晶性化合物を用いたため、配向度評価は評価不能を意味する「−」として、表１に示した。
Ａ：配向度が、基準サンプルよりも０．０２以上高い
Ｂ：配向度が、基準サンプルよりも０．０１以上高く、０．０２よりも低い
Ｃ：配向度が、基準サンプルと同等以上であり（０以上高く）、０．０１よりも低い
Ｄ：配向度が、基準サンプルよりも低い【０１６３】
【表１】
0006987892.tif 000031
【０１６４】
第１表に示す通り、メソゲン基とこれの末端に存在するハメットの置換基定数σｐ値が０より大きい電子吸引性基とを有する繰り返し単位１と、メソゲン基とこれの末端に存在するハメットの置換基定数σｐ値が０以下の基とを有する繰り返し単位２と、を有する高分子液晶性化合物を配合すれば（実施例）、繰り返し単位１または繰り返し単位２を有しない高分子液晶性化合物を用いた場合と比較して（比較例）、これを用いて形成される光吸収異方性膜の配向度が高くなることが示された。
実施例３と実施例１３との対比から、繰り返し単位１における末端基σｐ値が０．３以上であり、かつ、繰り返し単位２における末端基σｐ値が−０．１以下である高分子液晶性化合物を用いれば（実施例３）、光吸収異方性膜の配向度をより高くできることが示された。
実施例１〜５の対比から、繰り返し単位１の末端基σｐ値と、液晶性化合物中の繰り返し単位１の含有割合（質量基準）と、の積が、０．０５０〜０．１３０の範囲内にあれば（実施例２〜４）、光吸収異方性膜の配向度をより高くできることが示された。
実施例８と実施例１９との対比から、繰り返し単位１と繰り返し単位２との構造が類似していれば（実施例８）、光吸収異方性膜の配向度をより高くできることが示された。