(57)【要約】  本発明は、分割された走査領域の走査時間を短くし、３次元積層造形の造形時間を短縮する３次元積層造形システムである。この３次元積層造形システムは、積層材料を照射する少なくとも１つの照射部を有し、積層材料からなる積層造形物の各層をセル領域の集合として造形する積層造形部と、照射部によりセル領域を照射するための走査領域の形状が、内角が９０度以上である少なくとも５つの頂点を含む形状であって、照射部によって走査領域の辺に沿う螺旋状に走査してセル領域内の積層材料を照射するように、積層造形部を制御する積層造形制御部と、を備える。
2017208361.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
積層材料を照射する少なくとも１つの照射手段を有し、前記積層材料からなる積層造形物の各層をセル領域の集合として造形する積層造形手段と、
前記照射手段により前記セル領域を照射するための走査領域の形状が、内角が９０度以上である少なくとも５つの頂点を含む形状であって、前記照射手段によって前記走査領域の辺に沿う螺旋状に走査して前記セル領域内の前記積層材料を照射するように、前記積層造形手段を制御する積層造形制御手段と、
を備える３次元積層造形システム。
【請求項２】
積層材料を照射する少なくとも１つの照射手段を有する積層造形手段を用いて、前記積層材料からなる積層造形物の各層をセル領域の集合として造形する積層造形ステップと、
前記照射手段により前記セル領域を照射するための走査領域の形状が、内角が９０度以上である少なくとも５つの頂点を含む形状であって、前記照射手段によって前記走査領域の辺に沿う螺旋状に走査して前記セル領域内の前記積層材料を照射するように、前記積層造形手段を制御する積層造形制御ステップと、
を含む３次元積層造形方法。
【請求項３】
積層造形の対象となる積層造形物のデータを取得するデータ取得手段と、
積層材料を照射する少なくとも１つの照射手段を有し前記積層造形物の各層をセル領域の集合として造形する積層造形手段を制御する積層造形制御手段であって、前記セル領域を照射するための走査領域の形状が、内角が９０度以上である少なくとも５つの頂点を含む形状であって、前記照射手段によって前記走査領域の辺に沿う螺旋状に走査しながら前記セル領域内の前記積層材料を照射するように、前記積層造形物のデータに基づいて前記積層造形手段を制御する走査制御手段と、
を備える積層造形制御装置。
【請求項４】
前記走査領域の形状と前記セル領域の形状とを合致させる、請求項３に記載の積層造形制御装置。
【請求項５】
前記走査領域の形状が前記セル領域の形状を内包し、
前記走査制御手段は、前記螺旋状の走査位置が前記セル領域内であれば照射し、前記螺旋状の走査位置が前記セル領域外であれば照射しないように、前記積層造形手段を制御する、請求項３に記載の積層造形制御装置。
【請求項６】
前記走査領域の形状は円を含む、請求項３乃至５のいずれか１項に記載の積層造形制御装置。
【請求項７】
前記走査領域の形状は、異なる数の頂点を含む形状の組み合わせである、請求項３乃至５のいずれか１項に記載の積層造形制御装置。
【請求項８】
前記積層造形手段は、複数の前記照射手段を有し、複数の前記セル領域を並行して造形し、
前記走査制御手段は、前記複数の照射手段を制御する、請求項３乃至７のいずれか１項に記載の積層造形制御装置。
【請求項９】
前記走査制御手段は、前記走査領域および前記セル領域の形状と、前記螺旋状の走査の開始点とを、積層造形に用いる材料条件と造形条件とを含む積層造形条件に基づいて選択する、請求項３乃至８のいずれか１項に記載の積層造形制御装置。
【請求項１０】
前記走査制御手段は、前記照射手段の照射エネルギーを走査速度と走査位置とに応じて制御する、請求項３乃至９のいずれか１項に記載の積層造形制御装置。
【請求項１１】
積層造形の対象となる積層造形物のデータを取得するデータ取得ステップと、
積層材料を照射する少なくとも１つの照射手段を有し前記積層造形物の各層をセル領域の集合として造形する積層造形手段を制御する積層造形制御ステップであって、前記セル領域を照射するための走査領域の形状が、内角が９０度以上である少なくとも５つの頂点を含む形状であって、前記照射手段によって前記走査領域の辺に沿う螺旋状に走査しながら前記セル領域内の前記積層材料を照射するように、前記積層造形物のデータに基づいて前記積層造形手段を制御する走査制御ステップと、
を含む積層造形制御装置の制御方法。
【請求項１２】
積層造形の対象となる積層造形物のデータを取得するデータ取得ステップと、
積層材料を照射する少なくとも１つの照射手段を有し前記積層造形物の各層をセル領域の集合として造形する積層造形手段を制御する積層造形制御ステップであって、前記セル領域を照射するための走査領域の形状が、内角が９０度以上である少なくとも５つの頂点を含む形状であって、前記照射手段によって前記走査領域の辺に沿う螺旋状に走査しながら前記セル領域内の前記積層材料を照射するように、前記積層造形物のデータに基づいて前記積層造形手段を制御する走査制御ステップと、
をコンピュータに実行させる積層造形制御装置の制御プログラム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、３次元積層造形におけるセル領域の走査パターンを制御する技術に関する。
【背景技術】
【０００２】
上記技術分野において、特許文献１には、積層造形物を矩形領域に分割して、各矩形領域を異なる走査パターンで照射する技術が開示されている（特許文献１の図４参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特許４６３９０８７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、上記文献に記載の技術は、各矩形領域の走査パターンの中に９０度や１８０度の走査方向の変更が含まれるため、変更前後で走査速度を落とす必要があり各分割領域の走査時間が長くなり、結局、３次元積層造形の造形時間が長くなってしまう。【０００５】
本発明の目的は、上述の課題を解決する技術を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記目的を達成するため、本発明に係る３次元積層造形システムは、
積層材料を照射する少なくとも１つの照射手段を有し、前記積層材料からなる積層造形物の各層をセル領域の集合として造形する積層造形手段と、
前記照射手段により前記セル領域を照射するための走査領域の形状が、内角が９０度以上である少なくとも５つの頂点を含む形状であって、前記照射手段によって前記走査領域の辺に沿う螺旋状に走査して前記セル領域内の前記積層材料を照射するように、前記積層造形手段を制御する積層造形制御手段と、
を備える。【０００７】
上記目的を達成するため、本発明に係る３次元積層造形方法は、
積層材料を照射する少なくとも１つの照射手段を有する積層造形手段を用いて、前記積層材料からなる積層造形物の各層をセル領域の集合として造形する積層造形ステップと、
前記照射手段により前記セル領域を照射するための走査領域の形状が、内角が９０度以上である少なくとも５つの頂点を含む形状であって、前記照射手段によって前記走査領域の辺に沿う螺旋状に走査して前記セル領域内の前記積層材料を照射するように、前記積層造形手段を制御する積層造形制御ステップと、
を含む。【０００８】
上記目的を達成するため、本発明に係る積層造形制御装置は、
積層造形の対象となる積層造形物のデータを取得するデータ取得手段と、
積層材料を照射する少なくとも１つの照射手段を有し前記積層造形物の各層をセル領域の集合として造形する積層造形手段を制御する積層造形制御手段であって、前記セル領域を照射するための走査領域の形状が、内角が９０度以上である少なくとも５つの頂点を含む形状であって、前記照射手段によって前記走査領域の辺に沿う螺旋状に走査しながら前記セル領域内の前記積層材料を照射するように、前記積層造形物のデータに基づいて前記積層造形手段を制御する走査制御手段と、
を備える。【０００９】
上記目的を達成するため、本発明に係る積層造形制御装置の制御方法は、
積層造形の対象となる積層造形物のデータを取得するデータ取得ステップと、
積層材料を照射する少なくとも１つの照射手段を有し前記積層造形物の各層をセル領域の集合として造形する積層造形手段を制御する積層造形制御ステップであって、前記セル領域を照射するための走査領域の形状が、内角が９０度以上である少なくとも５つの頂点を含む形状であって、前記照射手段によって前記走査領域の辺に沿う螺旋状に走査しながら前記セル領域内の前記積層材料を照射するように、前記積層造形物のデータに基づいて前記積層造形手段を制御する走査制御ステップと、
を含む。【００１０】
上記目的を達成するため、本発明に係る積層造形制御装置の制御プログラムは、
積層造形の対象となる積層造形物のデータを取得するデータ取得ステップと、
積層材料を照射する少なくとも１つの照射手段を有し前記積層造形物の各層をセル領域の集合として造形する積層造形手段を制御する積層造形制御ステップであって、前記セル領域を照射するための走査領域の形状が、内角が９０度以上である少なくとも５つの頂点を含む形状であって、前記照射手段によって前記走査領域の辺に沿う螺旋状に走査しながら前記セル領域内の前記積層材料を照射するように、前記積層造形物のデータに基づいて前記積層造形手段を制御する走査制御ステップと、
をコンピュータに実行させる。
【発明の効果】
【００１１】
本発明によれば、分割された走査領域の走査時間を短くし、３次元積層造形の造形時間を短縮することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】本発明の第１実施形態に係る３次元積層造形システムの構成を示すブロック図である。
【図２Ａ】本発明の第２実施形態に係る３次元積層造形システムによる造形状態を示す概念図である。
【図２Ｂ】本発明の第２実施形態に係る３次元積層造形システムによる造形状態を示す概念図である。
【図３Ａ】本発明の第２実施形態に係る３次元積層造形システムにおける積層造形部の機能構成を示すブロック図である。
【図３Ｂ】本発明の第２実施形態に係る３次元積層造形システムにおける積層造形部の他の機能構成を示すブロック図である。
【図４】本発明の第２実施形態に係る３次元積層造形システムにおける積層造形制御部の機能構成を示すブロック図である。
【図５Ａ】本発明の第２実施形態に係るセル形状選択部の機能構成を示すブロック図である。
【図５Ｂ】本発明の第２実施形態に係る走査パターン選択部の機能構成を示すブロック図である。
【図６】本発明の第２実施形態に係るセル形状および走査パターンデータベースの構成を示す図である。
【図７】本発明の第２実施形態に係るセル形状および走査パターン選択テーブルの構成を示す図である。
【図８】本発明の第２実施形態に係る積層造形指令テーブルの構成を示す図である。
【図９】本発明の第２実施形態に係る積層造形制御部のハードウェア構成を示すブロック図である。
【図１０Ａ】本発明の第２実施形態に係る積層造形制御部の処理手順を示すフローチャートである。
【図１０Ｂ】本発明の第２実施形態に係る３次元積層造形処理の手順を示すフローチャートである。
【図１１Ａ】本発明の第３実施形態に係る３次元積層造形システムによる造形状態を示す概念図である。
【図１１Ｂ】本発明の第３実施形態に係る３次元積層造形システムによる造形状態を示す概念図である。
【図１２】本発明の第３実施形態に係る３次元積層造形システムにおける積層造形制御部の機能構成を示すブロック図である。
【図１３】本発明の第３実施形態に係る走査形状および走査パターンデータベースの構成を示す図である。
【図１４】本発明の第３実施形態に係る積層造形指令テーブルの構成を示す図である。
【図１５】本発明の第３実施形態に係る３次元積層造形処理の手順を示すフローチャートである。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
以下に、図面を参照して、本発明の実施の形態について例示的に詳しく説明する。ただし、以下の実施の形態に記載されている構成要素は単なる例示であり、本発明の技術範囲をそれらのみに限定する趣旨のものではない。本明細書で使用される文言“セル領域”は、３次元積層造形において各層の造形領域を微細に分割した領域を示す。本実施形態の３次元積層造形システムは、このセル領域内を種々の走査パターンで照射することにより、セル領域の集合として各層の造形を実現する。
【００１４】
［第１実施形態］
本発明の第１実施形態としての３次元積層造形システム１００について、図１を用いて説明する。３次元積層造形システム１００は、積層材料を照射して３次元積層造形を行なうシステムである。
【００１５】
図１に示すように、３次元積層造形システム１００は、積層造形部１０１と、積層造形制御部１０２と、を含む。積層造形部１０１は、積層材料を照射する少なくとも１つの照射部１１１を有し、積層材料からなる積層造形物１１２の各層をセル領域の集合として造形する。積層造形制御部１０２は、照射部によりセル領域を照射するための走査領域１１３の形状が、内角が９０度以上である少なくとも５つの頂点を含む形状であって、照射部１１１によって走査領域１１３の辺に沿う螺旋状に走査してセル領域内の積層材料を照射するように、積層造形部１０１を制御する。
【００１６】
本実施形態によれば、照射部による走査領域の形状を内角が９０度以上である少なくとも５つの頂点を含む形状とし、走査領域の辺に沿う螺旋状に走査してセル領域内の積層材料を照射することにより、分割された走査領域の走査時間を短くし、３次元積層造形の造形時間を短縮することができる。
【００１７】
［第２実施形態］
次に、本発明の第２実施形態に係る３次元積層造形システムによる積層造形について説明する。本実施形態に係る３次元積層造形システムは、積層造形物をセル領域の集合として造形する場合に、セル領域を五角形、六角形、八角形、…、円の形状、あるいは、それらの組み合わせとする。そして、そのセル領域を周辺から、あるいは、中心から螺旋状に走査して照射部による照射を行なって、３次元の積層造形物を造形する。
【００１８】
なお、本実施形態においては、走査領域の形状とセル領域の形状とを合致させる。また、走査領域の形状がセル領域の形状を内包し、螺旋状の走査位置がセル領域内であれば照射し、螺旋状の走査位置がセル領域外であれば照射しないように、制御する。また、走査領域の形状として円を含む。また、走査領域の形状は、異なる数の頂点を含む形状の組み合わせを選択する。さらに、複数の照射部を有し、複数のセル領域を並行して造形する。また、走査領域およびセル領域の形状と、螺旋状の走査の開始点とを、積層造形に用いる材料条件と造形条件とを含む積層造形条件に基づいて選択する。また、照射部の照射エネルギーを走査速度と走査位置とに応じて制御する。
【００１９】
《３次元積層造形システムの造形概念》
図２Ａおよび図２Ｂは、本実施形態に係る３次元積層造形システムによる造形状態を示す概念図である。なお、図２Ａおよび図２Ｂにおいては、１つの積層面における造形部２００を例に説明する。
【００２０】
図２Ａの左図は、同じ五角形のセル領域の集合として照射部からの照射で積層造形する場合を示す。セル領域２１１は、五角形の周囲から中央に向けて螺旋状に走査しながら照射するパターンを示す図である。セル領域２１１は、五角形の中央から周囲に向けて螺旋状に走査しながら照射するパターンを示す図である。なお、造形部２００のセル領域２１１や２１２の同じパターンで照射してもよいし、材料の溶融状態を考慮して、セル領域２１１と２１２とを組み合わせた照射をしてもよい。
【００２１】
図２Ａの右図は、同じ六角形のセル領域の集合として照射部からの照射で積層造形する場合を示す。セル領域２２１は、六角形の周囲から中央に向けて螺旋状に走査しながら照射するパターンを示す図である。セル領域２２２は、六角形の中央から周囲に向けて螺旋状に走査しながら照射するパターンを示す図である。なお、造形部２００のセル領域２２１や２２２の同じパターンで照射してもよいし、材料の溶融状態を考慮して、セル領域２２１と２２２とを組み合わせた照射をしてもよい。
【００２２】
図２Ｂの左図は、八角形と四角形とセル領域の組み合わせとして照射部からの照射で積層造形する場合を示す。セル領域２３１は、八角形の周囲から中央に向けて螺旋状に走査しながら照射するパターンを示す図である。セル領域２３２は、八角形の中央から周囲に向けて螺旋状に走査しながら照射するパターンを示す図である。セル領域２３３は、八角形のセル領域の隙間を埋める、四角形の周囲から中央に向けて螺旋状に走査しながら照射するパターンを示す図である。セル領域２３４は、八角形のセル領域の隙間を埋める、四角形の中央から周辺に向けて螺旋状に走査しながら照射するパターンを示す図である。なお、造形部２００のセル領域２３１〜２３３の同じパターンの組み合わせで照射してもよいし、材料の溶融状態を考慮して、セル領域２３１〜２３３との組み合わせを変化させて照射をしてもよい。
【００２３】
図２Ｂの右図は、同じ円のセル領域の集合として照射部からの照射で積層造形する場合を示す。セル領域２４１は、円の周囲から中央に向けて螺旋状に走査しながら照射するパターンを示す図である。セル領域２４２は、円の中央から周囲に向けて螺旋状に走査しながら照射するパターンを示す図である。なお、造形部２００のセル領域２４１や２４２の同じパターンで照射してもよいし、材料の溶融状態を考慮して、セル領域２４１と２４２とを組み合わせた照射をしてもよい。
【００２４】
なお、図２Ａおよび図２Ｂは、セル領域が五角形、六角形、八角形、円の場合を説明したが、これに限定されず、本実施形態によれば、内角が９０度以上の五角形以上を使用することができる。
【００２５】
《積層造形部の機能構成》
図３Ａは、本実施形態に係る３次元積層造形システム３００における積層造形部３１０の機能構成を示すブロック図である。図３Ａにおいては、１つの照射部から照射されるレーザビームで走査しながら積層材料を照射する積層造形部３１０Ａを示している。
【００２６】
３次元積層造形システム３００は、積層造形部３１０Ａと、積層造形制御部３２０と、情報処理装置３３０と、を備える。積層造形部３１０Ａは、積層造形制御部３２０の各種の制御指令に従って、３次元積層造形物を生成する。積層造形制御部３２０は、情報処理装置３３０が生成した３次元造形データに従って、積層造形部３１０を制御するための各種の制御指令を生成する。制御指令は、照射用アンプ３１１により照射部３１２を制御するための照射指令と、走査用アンプ３１３により回転ステップモータおよびミラー部３１４を介して操作方向を制御するための走査指令と、造形テーブル３１８の移動を制御するための移動指令と、を含む。情報処理装置３３０は、３次元造形対象の積層造形物の情報を取得して、３次元造形データを生成する。なお、情報処理装置３３０は、汎用のコンピュータであっても、本実施形態に対応する特殊なコンピュータであってもよい。
【００２７】
積層造形部３１０Ａは、１つの照射用アンプ３１１と、１つの照射部３１２と、を有する。また、積層造形部３１０Ａは、１つの走査用アンプ３１３と、対応する回転ステップモータおよびミラー部を有する。また、積層造形部３１０Ａは、移動用アンプ３１７と、造形テーブル３１８と、を有する。
【００２８】
図３Ｂは、本実施形態に係る３次元積層造形システム３００における積層造形部３１０の他の機能構成を示すブロック図である。図３Ｂにおいては、複数の照射部から照射されるレーザビームで複数のセル領域を並行して走査しながら積層材料を照射する積層造形部３１０Ｂを示している。なお、図３Ｂにおいて、図３Ａと同様の構成要素には同じ参照番号を付して、重複する説明を省略する。
【００２９】
積層造形部３１０Ｂは、複数の照射用アンプ３２１（なお、１つで代表させる）と、複数の照射部３２２と、を有する。また、積層造形部３１０Ｂは、複数の走査用アンプ３１３と、対応する複数の回転ステップモータおよびミラー部３１４を有する。
【００３０】
《積層造形制御部の機能構成》
図４は、本実施形態に係る３次元積層造形システム３００における積層造形制御部３２０の機能構成を示すブロック図である。図４においては、図３Ａおよび図３Ｂの積層造形制御部３２０と情報処理装置３３０の機能構成を示す。ここで、積層造形部３１０Ａ（３１０Ｂ）と積層造形制御部３２０とは、３次元造形装置４２０、いわゆる３Ｄプリンタを構成してもよい。積層造形部３１０Ａ（３１０Ｂ）の構成は図３Ａまたは図３Ｂと同様であり、重複する説明は省略する。なお、図４においては、積層造形制御部３２０を含む３次元造形装置４２０と情報処理装置３３０とを別の装置として図示しているが、１つの装置として構成されても、積層造形制御部３２０を情報処理装置３３０に合体させてもよい。
【００３１】
積層造形制御部３２０は、通信制御部４２１と、３次元造形データ記憶部４２２と、セル形状選択部４２３と、セル形状および走査パターンデータベース４２４と、走査パターン選択部４２５と、積層造形指令部４２６と、を備える。
【００３２】
通信制御部４２１は、積層造形制御部３２０と情報処理装置３３０との通信を制御し、情報処理装置３３０から３次元造形データや指示コマンドなどを情報処理装置３３０から受信したり、積層造形制御部３２０や積層造形部３１０の状況を情報処理装置３３０へ送信したりする。３次元造形データ記憶部４２２は、情報処理装置３３０から受信した３次元造形データを記憶する。なお、３次元造形データの記憶は、３次元造形物単位であったり、積層する層単位であったりしてよく、３次元造形装置４２０の積層造形速度や情報処理装置３３０の処理速度、あるいは、情報処理装置３３０と積層造形制御部３２０との通信容量などに基づいて、適切に決定される。なお、３次元造形データには、造形材料の種類や造形条件を含む積層造形条件の情報も含まれる。
【００３３】
セル形状選択部４２３は、３次元造形データ記憶部４２２から取得した積層造形条件に基づいて、セル形状および走査パターンデータベース４２４を参照して、積層造形に用いるセル形状とセルサイズとを選択する。
【００３４】
セル形状および走査パターンデータベース４２４は、積層造形部３１０Ａ（３１０Ｂ）における積層造形条件に基づいて、積層造形に用いるセル形状およびセルサイズと、走査パターンおよび走査ピッチとを選択するためのテーブルを格納する。また、セル形状および走査パターンデータベース４２４は、セル形状およびセルサイズと、走査パターンおよび走査ピッチとに基づいて、走査速度や照射強度を設定するためのテーブルを格納する。
【００３５】
走査パターン選択部４２５は、３次元造形データ記憶部４２２から取得した積層造形条件に基づいて、セル形状および走査パターンデータベース４２４を参照して、積層造形に用いるセル領域内の走査パターンと走査ピッチとを選択する。なお、走査ピッチとは、螺旋状にセル形状を走査する時の一週当たりの走査軌跡間の距離である。本実施形態においては、走査ピッチは一定として説明するが、セル領域の周囲から中心に向かって広くするような制御をしてもよい。
【００３６】
積層造形指令部４２６は、セル形状選択部４２３からのセル形状およびセルサイズと、走査パターン選択部４２５からの走査パターンおよび走査ピッチとから、セル形状および走査パターンデータベース４２４を参照して、積層造形部３１０Ａ（３１０Ｂ）の照射部による走査速度と照射強度（照射エネルギー）とを生成する。また、３次元造形データ記憶部４２２からの３次元形成データに基づく、セル領域位置とそのセル領域を造形するか否か（照射するか否か）とを生成する。そして、生成した積層造形指令により積層造形部３１０Ａ（３１０Ｂ）に積層造形を指示する。
【００３７】
情報処理装置３３０は、ＰＣ（パーソナルコンピュータ）などの汎用コンピュータでよい。情報処理装置３３０は、通信制御部４３１と、３次元造形データ生成部４３２と、表示部４３３と、操作部４３４と、３次元造形データベース４３５と、３次元造形対象データ取得部４３６と、を備える。なお、情報処理装置３３０が３次元造形対象データの生成機能を含む場合、３次元造形対象データ取得部４３６は３次元造形対象データ生成部となる。
【００３８】
通信制御部４３１は、外部装置である３次元造形装置４２０または３次元造形対象データ生成装置との通信を制御する。３次元造形データ生成部４３２は、表示部４３３に表示された操作指示に従い操作部４３４からのオペレータによる入力あるいは操作に従って、３次元造形データベース４３５に格納されたデータを用いて、３次元造形装置４２０が３次元造形対象物を積層造形するための３次元造形データを生成する。表示部４３３は、３次元造形装置４２０や情報処理装置３３０の状況を報知すると共に、オペレータに対して３次元造形物の積層造形に必要となるパラメータの入力を要請する。操作部４３４は、キーボード、ポインティングデバイス、タッチバネルなどを含み、表示部４３３に表示された指示に従い、オペレータからの入力や操作指示を受け付ける。３次元造形データベース４３５は、３次元造形データ生成部４３２が３次元造形データを生成するために用いるデータである、３次元造形対象物のデータや生成アルゴリズム、生成パラメータなどを格納する。３次元造形対象データ取得部４３６は、３次元造形対象データ生成装置から提供される３次元造形対象データを、通信制御部４３１を介して、あるいは、記憶媒体などからＩ／Ｏインタフェースを介して取得する。
【００３９】
（セル形状選択部）
図５Ａは、本実施形態に係るセル形状選択部４２３の機能構成を示すブロック図である。
【００４０】
セル形状選択部４２３は、積層造形条件受信部５１１と、使用セル形状選択部５１２と、セル形状出力部５１３と、を有する。積層造形条件受信部５１１は、３次元造形データ記憶部４２２から積層材料条件や造形条件を含む積層造形条件を受信する。使用セル形状選択部５１２は、積層造形条件に基づき、セル形状および走査パターンデータベース４２４を参照して、使用するセル形状を選択する。セル形状出力部５１３は、使用セル形状選択部５１２が選択したセル形状を走査パターン選択部４２５に出力する。
【００４１】
（走査パターン選択部）
図５Ｂは、本実施形態に係る走査パターン選択部４２５の機能構成を示すブロック図である。
【００４２】
走査パターン選択部４２５は、セル形状受信部５２１と、積層造形条件受信部５２２と、走査パターン選択部５２３と、走査パターン出力部５２４と、を有する。セル形状受信部５２１は、セル形状選択部４２３からの選択されたセル形状を受信する。積層造形条件受信部５２２は、３次元造形データ記憶部４２２から積層材料条件や造形条件を含む積層造形条件を受信する。走査パターン選択部５２３は、セル形状および積層造形条件に基づき、セル形状および走査パターンデータベース４２４を参照して、使用する走査パターンを選択する。走査パターン出力部５２４は、走査パターン選択部５２３が選択した走査パターンを積層造形指令部４２６に出力する。なお、積層造形指令部４２６には、セル形状受信部５２１から使用するセル形状も出力される。
【００４３】
（セル形状および走査パターンデータベース）
図６は、本実施形態に係るセル形状および走査パターンデータベース４２４の構成を示す図である。セル形状および走査パターンデータベース４２４は、積層造形条件に基づいて、使用するセル形状およびセルサイズと、使用する走査パターンおよび走査ピッチと、を選択するために用いられるテーブル６１０を格納する。また、使用するセル形状およびセルサイズと、使用する走査パターンおよび走査ピッチと、に基づいて、走査速度を制御するパラメータと照射強度を制御するパラメータとを設定するために用いられるテーブル６２０を格納する。
【００４４】
テーブル６１０は、積層造形条件６１１に基づいて、使用するセル形状６１２およびセルサイズ６１３と、使用する走査パターン６１４および走査ピッチ６１５と、を格納する。なお、積層造形条件６１１は、材料条件や造形条件を含む。また、セル形状６１２は、１つのセル形状を使用する場合と、複数のセル形状を組み合わせて使用する場合とを含む。また、走査パターン６１４は、本実施形態においては、外周から中心に向かう螺旋と、中心から外周に向かう螺旋とであれが、これに限定されず、走査方向の変更点における角度が９０度以上となる走査パターンであればよい。
【００４５】
テーブル６２０は、使用するセル形状６２１およびセルサイズ６２２と、使用する走査パターン６２３および走査ピッチ６２４とに基づいて、走査速度を制御するパラメータ６２５と照射強度を制御するパラメータ６２６とを格納する。
【００４６】
（セル形状および走査パターン選択テーブル）
図７は、本実施形態に係るセル形状および走査パターン選択テーブル７００の構成を示す図である。セル形状および走査パターン選択テーブルは、セル形状および走査パターンデータベース４２４を参照して、積層造形条件に基づきセル形状およびセルサイズと、走査パターンおよび走査ピッチと、を選択するために使用される。
【００４７】
セル形状および走査パターン選択テーブル７００は、積層造形条件７０１に基づいて選択された、使用するセル形状７０２およびセルサイズ７０３と、使用する走査パターン７０４および走査ピッチ７０５と、を記憶する。それぞれの内容は、テーブル６１０と同様である。
【００４８】
（積層造形指令テーブル）
図８は、本実施形態に係る積層造形指令テーブル８００の構成を示す図である。積層造形指令テーブル８００は、積層造形指令部４２６が、積層造形部３１０に送信する命令（コマンド）を生成するために使用する。積層造形指令テーブル８００は、セル形状選択部４２３により選択されたセル形状およびセルサイズと、走査パターン選択部４２５により選択された走査パターンおよび走査ピッチとの組と、その組に対応した走査速度の制御パラメータおよび照射強度の制御パラメータとを、含む。
【００４９】
積層造形指令テーブル８００は、照射部ＩＤ８０１と各セル位置の３次元造形データ８０２とに対応付けて、セル形状（セルサイズ）および走査パターン（走査ピッチ）を含むセル情報８０３と、走査速度制御パラメータ８０４と、照射強度制御パラメータ８０５と、を記憶する。なお、走査速度制御パラメータ８０４および照射強度制御パラメータ８０５は、図３Ａあるいは図３Ｂの操作用アンプや照射用アンプを制御するためのパラメータである。しかしながら、積層造形制御部３２０の積層造形指令部４２６は、セル形状情報および走査パターン情報を積層造形部３１０Ａ（３１０Ｂ）に出力し、積層造形部３１０Ａ（３１０Ｂ）が各セル領域内の走査制御を行なうマイクロチップを有する構成であってもよい。
【００５０】
《積層造形制御部のハードウェア構成》
図９は、本実施形態に係る積層造形制御部３２０のハードウェア構成を示すブロック図である。
【００５１】
図９で、ＣＰＵ(Central Processing Unit)９１０は演算制御用のプロセッサであり、プログラムを実行することで図４の積層造形制御部３２０の機能構成部を実現する。ＲＯＭ(Read Only Memory)９２０は、初期データおよびプログラムなどの固定データを記憶する。また、通信制御部４２１は、ネットワークなどを介して情報処理装置３３０と通信する。なお、ＣＰＵ９１０は１つに限定されず、複数のＣＰＵであっても、あるいは画像処理用のＧＰＵ(Graphics Processing Unit)を含んでもよい。特に、受信した３次元造形データに基づいて、照射するセル領域の選択をするためのプロセッサと、セル領域内での照射の走査を制御する各種指令を生成するプロセッサとは、別のプロセッサであるのが望ましい。また、通信制御部４２１は、ＣＰＵ９１０とは独立したＣＰＵを有して、ＲＡＭ(Random Access Memory)９４０の領域に送受信データを書き込みあるいは読み出しするのが望ましい。
【００５２】
ＲＡＭ９４０は、ＣＰＵ９１０が一時記憶のワークエリアとして使用するランダムアクセスメモリである。ＲＡＭ９４０には、本実施形態の実現に必要なデータを記憶する領域が確保されている。３次元造形データ９４１は、現在積層造形されている３次元造形物のデータである。セル形状および走査パターン選択テーブル７００は、図７で説明したセル形状と走査パターンとを選択するためのテーブルである。積層造形指令テーブル８００は、図８で説明した積層造形部３１０に送信する命令（コマンド）を生成するために使用されるテーブルである。送受信データ９４５は、通信制御部４２１を介して送受信されるデータである。
【００５３】
ストレージ９５０には、データベースや各種のパラメータ、あるいは本実施形態の実現に必要な以下のデータまたはプログラムが記憶されている。セル形状および走査パターンデータベース４２４は、図７で説明した、セル形状および走査パターンと、走査速度および照射強度を生成するためのデータベースである。セル形状および走査パターン選択用条件９５２は、本実施形態で使用する積層造形部３１０の積層造形条件を示すデータである。セル形状および走査パターン選択アルゴリズム９５３は、積層造形部３１０の積層造形条件に基づいて、セル形状および走査パターンを選択するアルゴリズムである。
【００５４】
ストレージ９５０には、以下のプログラムが格納される。積層造形制御部制御プログラム９５５は、本積層造形制御部３２０の全体を制御する制御プログラムである。セル形状および走査パターン選択モジュール９５６は、セル形状および走査パターンと、走査速度および照射強度とを選択するモジュールである。
【００５５】
なお、図９のＲＡＭ９４０やストレージ９５０には、積層造形制御部３２０が有する汎用の機能や他の実現可能な機能に関連するプログラムやデータは図示されていない。
【００５６】
《積層造形制御部の処理手順》
図１０Ａは、本実施形態に係る積層造形制御部３２０の処理手順を示すフローチャートである。このフローチャートは、図９のＣＰＵ９１０がＲＡＭ９４０を使用して実行し、図４の積層造形制御部３２０の機能構成部を実現する。
【００５７】
積層造形制御部３２０は、ステップＳ１００１において、情報処理装置３３０から３次元造形データを受信して３次元造形データ記憶部４２２に記憶する。積層造形制御部３２０は、ステップＳ１００３において、本実施形態に従ってセル形状および走査パターンを適切に選択して３次元積層造形処理を実行する。
【００５８】
（３次元積層造形処理）
図１０Ｂは、本実施形態に係る３次元積層造形処理（Ｓ１００３）の手順を示すフローチャートである。
【００５９】
積層造形制御部３２０は、ステップＳ１０１１において、３次元造形データ記憶部４２２から造形データと共に材料情報や造形情報を含む積層造形条件を取得する。積層造形制御部３２０は、ステップＳ１０１３において、積層造形条件に基づき、セル形状および走査パターンデータベース４２４のテーブル６１０を参照して、使用するセル形状およびセルサイズを選択する。また、積層造形制御部３２０は、ステップＳ１０１５において、積層造形条件に基づき、セル形状および走査パターンデータベース４２４のテーブル６１０を参照して、使用する走査パターンおよびセルサイズを選択する。
【００６０】
また、積層造形制御部３２０は、ステップＳ１０１７において、使用するセル形状およびセルサイズと、使用する走査パターンおよびセルサイズとに基づき走査速度および照射強度を生成し、積層造形部３１０Ａ（３１０Ｂ）への積層造形指令を生成する。そして、積層造形制御部３２０は、ステップＳ１０１９において、生成した積層造形指令を積層造形部３１０Ａ（３１０Ｂ）に送信する。
【００６１】
積層造形制御部３２０は、ステップＳ１０２１において、目的とする３次元積層造形物の造形が終了したか否かを判定する。造形が終了してなければ、積層造形制御部３２０は、ステップＳ１０１７に戻って、積層造形を繰り返す。造形が終了すれば、処理を終了する。なお、図１０Ｂにおいては、最初に選択されたセル形状および走査パターンを造形終了まで使用する手順を示したが、積層像件環境の変化に対応してセル形状および走査パターンなどを変更してもよい。
【００６２】
本実施形態によれば、積層造形条件に基づいて、五角形、六角形、八角形、…、円、あるいは、それらの組み合わせたセル形状、および螺旋状の走査パターンを選択することによって、分割されたセル領域の走査時間を短くし、３次元積層造形の造形時間を短縮することができる。
【００６３】
すなわち、単一セル形状を五角形以上の多角形形状とし、セル内を焼結する走査パターンの折り曲げ角を大きくすることで、操作時の加減速による速度変更を少なくし、造形表面上のエネルギー密度の供給を均一化することが可能になる。結果として、造形面に品質を安定させ、造形面の荒れを抑制することが可能となる。また、セル内での幾何学的な屈曲部分を現象させることにより、造形速度を高速化かつ均一化することで、造形時間の短縮を行なうことが可能となる。
【００６４】
［第３実施形態］
次に、本発明の第３実施形態に係る３次元積層造形システムによる積層造形について説明する。本実施形態に係る３次元積層造形システムは、上記第２実施形態と比べると、五角形以上の走査領域が任意形状のセル領域を内包して、照射ＯＮ／ＯＦＦを制御しながら走査する点で異なる。その他の構成および動作は、第２実施形態と同様であるため、同じ構成および動作については同じ符号を付してその詳しい説明を省略する。
【００６５】
《３次元積層造形システムの造形概念》
図１１Ａおよび図１１Ｂは、本実施形態に係る３次元積層造形システムによる造形状態を示す概念図である。なお、図１１Ａおよび図１１Ｂにおいては、１つの積層面における造形部２００の一部分について説明する。
【００６６】
図１１Ａの左図は、同じ方向に並んだ同じ五角形の走査領域の集合として、照射部からのＯＮ／ＯＦＦ制御された照射で積層造形する場合を示す。五角形の走査領域１１１１は、四角形のセル領域１１１２を内包する。そして、走査領域１１１３は、五角形の周囲から中央に向けて螺旋状に走査しながら、破線部分は照射ＯＦＦとし実線部分は照射ＯＮとして照射するパターンを示す図である。走査領域１１１４は、五角形の中央から周囲に向けて螺旋状に走査しながら、破線部分は照射ＯＦＦとし実線部分は照射ＯＮとして照射するパターンを示す図である。なお、造形は、走査領域１１１３や１１１４の同じパターンで照射してもよいし、材料の溶融状態を考慮して、走査領域１１１３と１１１４とを組み合わせた照射をしてもよい。
【００６７】
図１１Ａの中央図は、同じ方向に並んだ同じ六角形の走査領域の集合として、照射部からのＯＮ／ＯＦＦ制御された照射で積層造形する場合を示す。六角形の走査領域１１２１は、四角形のセル領域１１２２を内包する。そして、走査領域１１２３は、六角形の周囲から中央に向けて螺旋状に走査しながら、破線部分は照射ＯＦＦとし実線部分は照射ＯＮとして照射するパターンを示す図である。走査領域１１２４は、六角形の中央から周囲に向けて螺旋状に走査しながら、破線部分は照射ＯＦＦとし実線部分は照射ＯＮとして照射するパターンを示す図である。なお、造形は、走査領域１１２３や１１２４の同じパターンで照射してもよいし、材料の溶融状態を考慮して、走査領域１１２３と１１２４とを組み合わせた照射をしてもよい。
【００６８】
図１１Ａの右図は、異なる方向に並んだ同じ六角形の走査領域の集合として、照射部からのＯＮ／ＯＦＦ制御された照射で積層造形する場合を示す。六角形の走査領域１１３１は、四角形のセル領域１１３２を内包する。そして、走査領域１１３３と１１３５とは、異なる方向であるが、六角形の周囲から中央に向けて螺旋状に走査しながら、破線部分は照射ＯＦＦとし実線部分は照射ＯＮとして照射するパターンを示す図である。走査領域１１３４と１１３６とは、異なる方向であるが、六角形の中央から周囲に向けて螺旋状に走査しながら、破線部分は照射ＯＦＦとし実線部分は照射ＯＮとして照射するパターンを示す図である。なお、造形は、走査領域１１３３〜１１３６の同じパターンで照射してもよいし、材料の溶融状態を考慮して、走査領域１１３３〜１１３６を組み合わせた照射をしてもよい。
【００６９】
図１１Ｂの左図は、同じ方向に並んだ同じ八角形の走査領域の集合として、照射部からのＯＮ／ＯＦＦ制御された照射で積層造形する場合を示す。八角形の走査領域１１４１は、八角形の走査領域１１４１の辺で内接する四角形のセル領域１１４２を内包する。そして、走査領域１１４３は、八角形の周囲から中央に向けて螺旋状に走査しながら、破線部分は照射ＯＦＦとし実線部分は照射ＯＮとして照射するパターンを示す図である。なお、図示しないが、八角形の中央から周囲に向けて螺旋状に走査しながら、照射をＯＮ／ＯＦＦして照射するパターンであってもよい。なお、造形は、走査領域を同じパターンで照射してもよいし、材料の溶融状態を考慮して、走査領域を異なるパターンを組み合わせた照射をしてもよい。
【００７０】
図１１Ｂの中央図は、同じ方向に並んだ同じ八角形の走査領域の集合として、照射部からのＯＮ／ＯＦＦ制御された照射で積層造形する場合を示す。八角形の走査領域１１４１は、八角形の走査領域１１５１の角で内接する四角形のセル領域１１５２を内包する。そして、走査領域１１５３は、八角形の中央から周囲に向けて螺旋状に走査しながら、破線部分は照射ＯＦＦとし実線部分は照射ＯＮとして照射するパターンを示す図である。なお、図示しないが、八角形の周囲から中央に向けて螺旋状に走査しながら、照射をＯＮ／ＯＦＦして照射するパターンであってもよい。なお、造形は、走査領域を同じパターンで照射してもよいし、材料の溶融状態を考慮して、走査領域を異なるパターンを組み合わせた照射をしてもよい。
【００７１】
図１１Ｂの右図は、同じ円の走査領域の集合として、照射部からのＯＮ／ＯＦＦ制御された照射で積層造形する場合を示す。円の走査領域１１６１は、円の走査領域１１６１に内接する四角形のセル領域１１６２を内包する。そして、走査領域１１６３は、円の周囲から中央に向けて螺旋状に走査しながら、破線部分は照射ＯＦＦとし実線部分は照射ＯＮとして照射するパターンを示す図である。また、走査領域１１６４は、円の中央から周囲に向けて螺旋状に走査しながら、破線部分は照射ＯＦＦとし実線部分は照射ＯＮとして照射するパターンを示す図である。なお、造形は、走査領域を同じパターンで照射してもよいし、材料の溶融状態を考慮して、走査領域を異なるパターンを組み合わせた照射をしてもよい。
【００７２】
なお、図１１Ａおよび図１１Ｂは、セル領域が五角形、六角形、八角形、円の場合を説明したが、これに限定されず、本実施形態によれば、内角が９０度以上の五角形以上を使用することができる。
【００７３】
《積層造形制御部の機能構成》
図１２は、本実施形態に係る３次元積層造形システム１２００における積層造形制御部１２２０の機能構成を示すブロック図である。なお、図１２において、図４と同様の機能構成部には同じ参照番号を付して、重複する説明を省略する。ここで、積層造形部３１０Ａ（３１０Ｂ）と積層造形制御部１２２０とは、３次元造形装置４２０、いわゆる３Ｄプリンタを構成してもよい。積層造形部３１０Ａ（３１０Ｂ）の構成は図３Ａまたは図３Ｂと同様であり、重複する説明は省略する。また、図１２においては、積層造形制御部１２２０を含む３次元造形装置４２０と情報処理装置３３０とを別の装置として図示しているが、１つの装置として構成されても、積層造形制御部１２２０を情報処理装置３３０に合体させてもよい。
【００７４】
積層造形制御部１２２０は、通信制御部４２１と、３次元造形データ記憶部４２２と、走査形状選択部１２２３と、走査形状および走査パターンデータベース１２２４と、走査パターン選択部４２５と、積層造形指令部１２２６と、を備える。
【００７５】
走査形状選択部１２２３は、３次元造形データ記憶部４２２から取得した積層造形条件に基づいて、走査形状および走査パターンデータベース１２２４を参照して、積層造形に用いるセル形状を内包する走査形状と走査領域サイズとを選択する。
【００７６】
走査形状および走査パターンデータベース１２２４は、積層造形部３１０Ａ（３１０Ｂ）における積層造形条件に基づいて、積層造形に用いる走査形状および走査領域サイズと、走査パターンおよび走査ピッチとを選択するためのテーブルを格納する。また、走査形状および走査パターンデータベース１２２４は、走査形状および走査領域サイズと、走査パターンおよび走査ピッチとに基づいて、走査速度、照射強度および照射ＯＮ／ＯＦＦ信号を設定するためのテーブルと格納する。
【００７７】
積層造形指令部１２２６は、走査形状選択部１２２３からの走査形状および走査領域サイズと、走査パターン選択部４２５からの走査パターンおよび走査ピッチとから、走査形状および走査パターンデータベース１２２４を参照して、積層造形部３１０Ａ（３１０Ｂ）の照射部による走査速度と照射強度（照射エネルギー）と照射ＯＮ／ＯＦＦ信号とを生成する。また、３次元造形データ記憶部４２２からの３次元形成データに基づく、セル領域位置とそのセル領域を造形するか否か（照射するか否か）とを生成する。そして、生成した積層造形指令により積層造形部３１０Ａ（３１０Ｂ）に積層造形を指示する。
【００７８】
（走査形状および走査パターンデータベース）
図１３は、本実施形態に係る走査形状および走査パターンデータベース１２２４の構成を示す図である。走査形状および走査パターンデータベース１２２４は、積層造形条件に基づいて、使用する走査形状および走査領域サイズと、使用する走査パターンおよび走査ピッチと、を選択するために用いられるテーブル１３１０を格納する。また、使用する走査形状および走査領域サイズと、使用する走査パターンおよび走査ピッチと、に基づいて、走査速度を制御するパラメータと照射強度を制御するパラメータと照射ＯＮ／ＯＦＦを制御するパラメータとを設定するために用いられるテーブル１３２０を格納する。なお、図１３において、図６と同様の構成要素には同じ参照番号を付して、重複する説明を省略する。
【００７９】
テーブル１３１０は、積層造形条件６１１に基づいて、セル形状を内包する走査形状１３１２と、走査領域サイズ１３１３と、使用する走査パターン６２３と、走査ピッチ６２４と、を格納する。テーブル１３２０は、使用する走査形状１３２１および走査領域サイズ１３２２と、使用する走査パターン６２３および走査ピッチ６２４と、セル形状６２１およびセルサイズ６２２とに基づいて、走査速度を制御するパラメータ６２５と照射強度を制御するパラメータ６２６と照射ＯＮ／ＯＦＦを制御するパラメータ１３２７とを格納する。
【００８０】
（積層造形指令テーブル）
図１４は、本実施形態に係る積層造形指令テーブル１４００の構成を示す図である。積層造形指令テーブル１４００は、積層造形指令部１２２６が、積層造形部３１０に送信する命令（コマンド）を生成するために使用する。積層造形指令テーブル１４００は、走査形状選択部１２２３により選択された走査形状および走査領域サイズと、走査パターン選択部４２５により選択された走査パターンおよび走査ピッチとの組と、その組に対応した走査速度の制御パラメータ、照射強度の制御パラメータおよび照射ＯＮ／ＯＦＦの制御パラメータとを記憶する。なお、図１４において、図８と同様の構成要素には同じ参照番号を付して、重複する説明を省略する。
【００８１】
積層造形指令テーブル１４００は、照射部ＩＤ８０１と各セル位置の３次元造形データ８０２とに対応付けて、走査形状（走査領域サイズ）および走査パターン（走査ピッチ）を含む操作情報１４０３と、走査速度制御パラメータ８０４と、照射強度制御パラメータ８０５と、照射ＯＮ／ＯＦＦ制御パラメータ１４０６とを記憶する。
【００８２】
（３次元積層造形処理）
図１５は、本実施形態に係る３次元積層造形処理（Ｓ１００３）の手順を示すフローチャートである。なお、図１５において、図１０Ｂと同様のステップには同じステップ番号を付して、重複する説明を省略する。
【００８３】
積層造形制御部３２０は、ステップＳ１５１３において、積層造形条件に基づき、走査形状および走査パターンデータベース１２２４のテーブル１３１０を参照して、使用するセル形状を内包する走査形状および走査領域サイズを選択する。また、積層造形制御部３２０は、ステップＳ１５１７において、使用する走査形状および走査領域サイズと、使用する走査パターンおよびセルサイズとに基づき走査速度、照射強度および照射ＯＮ／ＯＦＦ信号を生成し、積層造形部３１０Ａ（３１０Ｂ）への積層造形指令を生成する。そして、積層造形制御部３２０は、ステップＳ１５１９において、生成した積層造形指令を積層造形部３１０Ａ（３１０Ｂ）に送信する。
【００８４】
本実施形態によれば、積層造形条件に基づいて、五角形、六角形、八角形、…、円、あるいは、それらの組み合わせた、セル形状を内包する走査形状、および螺旋状の走査パターンを選択することによって、分割された走査領域の走査時間を短くし、３次元積層造形の造形時間を短縮することができる。さらに、本実施形態によれば、五角形、六角形、八角形、…、円、あるいは、それらの組み合わせた走査形状にセル形状を内包させるので、任意のセル形状においても、走査時間を短くし、３次元積層造形の造形時間を短縮することができる。
【００８５】
［他の実施形態］
以上、実施形態を参照して本発明を説明したが、本発明は上記実施形態に限定されるものではない。本発明の構成や詳細には、本発明のスコープ内で当業者が理解し得る様々な変更をすることができる。また、それぞれの実施形態に含まれる別々の特徴を如何様に組み合わせたシステムまたは装置も、本発明の範疇に含まれる。
【００８６】
また、本発明は、複数の機器から構成されるシステムに適用されてもよいし、単体の装置に適用されてもよい。さらに、本発明は、実施形態の機能を実現する情報処理プログラムが、システムあるいは装置に直接あるいは遠隔から供給される場合にも適用可能である。したがって、本発明の機能をコンピュータで実現するために、コンピュータにインストールされるプログラム、あるいはそのプログラムを格納した媒体、そのプログラムをダウンロードさせるＷＷＷ(World Wide Web)サーバも、本発明の範疇に含まれる。特に、少なくとも、上述した実施形態に含まれる処理ステップをコンピュータに実行させるプログラムを格納した非一時的コンピュータ可読媒体（non-transitory computer readable medium）は本発明の範疇に含まれる。
【図１】
2017208361.tif 000003
【図２Ａ】
2017208361.tif 000004
【図２Ｂ】
2017208361.tif 000005
【図３Ａ】
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【図３Ｂ】
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【図４】
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【図５Ａ】
2017208361.tif 000009
【図５Ｂ】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
2017208361.tif 000013
【図９】
2017208361.tif 000014
【図１０Ａ】
2017208361.tif 000015
【図１０Ｂ】
2017208361.tif 000016
【図１１Ａ】
2017208361.tif 000017
【図１１Ｂ】
2017208361.tif 000018
【図１２】
2017208361.tif 000019
【図１３】
2017208361.tif 000020
【図１４】
2017208361.tif 000021
【図１５】
2017208361.tif 000022
【手続補正書】
【提出日】平成29年8月28日(2017.8.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
積層材料を照射する少なくとも１つの照射手段を有し、前記積層材料からなる積層造形物の各層をセル領域の集合として造形する積層造形手段と、
前記照射手段により前記セル領域を照射するための走査領域の形状が、内角が９０度以上である少なくとも５つの頂点を含む形状であって、前記セル領域の形状と前記走査領域の形状とが一致する場合、前記照射手段によって、前記走査領域の辺に沿い内角が９０度以上である少なくとも５つの頂点を含む螺旋状に走査して前記セル領域内の前記積層材料を照射するように、前記積層造形手段を制御する積層造形制御手段と、
を備え、
前記積層造形制御手段は、前記走査領域の形状が前記走査領域の形状と異なる前記セル領域の形状を内包する場合、前記螺旋状の走査位置が前記セル領域内であれば照射し、前記螺旋状の走査位置が前記セル領域外であれば照射しないように、前記積層造形手段を制御する３次元積層造形システム。
【請求項２】
積層材料を照射する少なくとも１つの照射手段を有する積層造形手段を用いて、前記積層材料からなる積層造形物の各層をセル領域の集合として造形する積層造形ステップと、
前記照射手段により前記セル領域を照射するための走査領域の形状が、内角が９０度以上である少なくとも５つの頂点を含む形状であって、前記セル領域の形状と前記走査領域の形状とが一致する場合、前記照射手段によって、前記走査領域の辺に沿い内角が９０度以上である少なくとも５つの頂点を含む螺旋状に走査して前記セル領域内の前記積層材料を照射するように、前記積層造形手段を制御する積層造形制御ステップと、
を含み、
前記積層造形制御ステップにおいては、前記走査領域の形状が前記走査領域の形状と異なる前記セル領域の形状を内包する場合、前記螺旋状の走査位置が前記セル領域内であれば照射し、前記螺旋状の走査位置が前記セル領域外であれば照射しないように、前記積層造形手段を制御する３次元積層造形方法。
【請求項３】
積層造形の対象となる積層造形物のデータを取得するデータ取得手段と、
積層材料を照射する少なくとも１つの照射手段を有し前記積層造形物の各層をセル領域の集合として造形する積層造形手段を制御する積層造形制御手段であって、前記セル領域を照射するための走査領域の形状が、内角が９０度以上である少なくとも５つの頂点を含む形状であって、前記セル領域の形状と前記走査領域の形状とが一致する場合、前記照射手段によって、前記走査領域の辺に沿い内角が９０度以上である少なくとも５つの頂点を含む螺旋状に走査しながら前記セル領域内の前記積層材料を照射するように、前記積層造形物のデータに基づいて前記積層造形手段を制御する積層造形制御手段と、
を備え、
前記積層造形制御手段は、前記走査領域の形状が前記走査領域の形状と異なる前記セル領域の形状を内包する場合、前記螺旋状の走査位置が前記セル領域内であれば照射し、前記螺旋状の走査位置が前記セル領域外であれば照射しないように、前記積層造形手段を制御する積層造形制御装置。
【請求項４】
前記走査領域の形状は、異なる数の頂点を含む形状の組み合わせである、請求項３に記載の積層造形制御装置。
【請求項５】
前記積層造形手段は、複数の前記照射手段を有し、複数の前記セル領域を並行して造形し、
前記積層造形制御手段は、前記複数の照射手段を制御する、請求項３または４に記載の積層造形制御装置。
【請求項６】
前記積層造形制御手段は、前記走査領域および前記セル領域の形状と、前記螺旋状の走査の開始点とを、積層造形に用いる材料条件と造形条件とを含む積層造形条件に基づいて選択する、請求項３乃至５のいずれか１項に記載の積層造形制御装置。
【請求項７】
前記積層造形制御手段は、前記照射手段の照射エネルギーを走査速度と走査位置とに応じて制御する、請求項３乃至６のいずれか１項に記載の積層造形制御装置。
【請求項８】
積層造形の対象となる積層造形物のデータを取得するデータ取得ステップと、
積層材料を照射する少なくとも１つの照射手段を有し前記積層造形物の各層をセル領域の集合として造形する積層造形手段を制御する積層造形制御ステップであって、前記セル領域を照射するための走査領域の形状が、内角が９０度以上である少なくとも５つの頂点を含む形状であって、前記セル領域の形状と前記走査領域の形状とが一致する場合、前記照射手段によって、前記走査領域の辺に沿い内角が９０度以上である少なくとも５つの頂点を含む螺旋状に走査しながら前記セル領域内の前記積層材料を照射するように、前記積層造形物のデータに基づいて前記積層造形手段を制御する積層造形制御ステップと、
を含み、
前記積層造形制御ステップにおいては、前記走査領域の形状が前記走査領域の形状と異なる前記セル領域の形状を内包する場合、前記螺旋状の走査位置が前記セル領域内であれば照射し、前記螺旋状の走査位置が前記セル領域外であれば照射しないように、前記積層造形手段を制御する積層造形制御装置の制御方法。
【請求項９】
積層造形の対象となる積層造形物のデータを取得するデータ取得ステップと、
積層材料を照射する少なくとも１つの照射手段を有し前記積層造形物の各層をセル領域の集合として造形する積層造形手段を制御する積層造形制御ステップであって、前記セル領域を照射するための走査領域の形状が、内角が９０度以上である少なくとも５つの頂点を含む形状であって、前記セル領域の形状と前記走査領域の形状とが一致する場合、前記照射手段によって、前記走査領域の辺に沿い内角が９０度以上である少なくとも５つの頂点を含む螺旋状に走査しながら前記セル領域内の前記積層材料を照射するように、前記積層造形物のデータに基づいて前記積層造形手段を制御する積層造形制御ステップと、
をコンピュータに実行させる積層造形制御装置の制御プログラムであって、
前記積層造形制御ステップにおいては、前記走査領域の形状が前記走査領域の形状と異なる前記セル領域の形状を内包する場合、前記螺旋状の走査位置が前記セル領域内であれば照射し、前記螺旋状の走査位置が前記セル領域外であれば照射しないように、前記積層造形手段を制御する積層造形制御装置の制御プログラム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
上記目的を達成するため、本発明に係る３次元積層造形システムは、
積層材料を照射する少なくとも１つの照射手段を有し、前記積層材料からなる積層造形物の各層をセル領域の集合として造形する積層造形手段と、
前記照射手段により前記セル領域を照射するための走査領域の形状が、内角が９０度以上である少なくとも５つの頂点を含む形状であって、前記セル領域の形状と前記走査領域の形状とが一致する場合、前記照射手段によって、前記走査領域の辺に沿い内角が９０度以上である少なくとも５つの頂点を含む螺旋状に走査して前記セル領域内の前記積層材料を照射するように、前記積層造形手段を制御する積層造形制御手段と、
を備え、
前記積層造形制御手段は、前記走査領域の形状が前記走査領域の形状と異なる前記セル領域の形状を内包する場合、前記螺旋状の走査位置が前記セル領域内であれば照射し、前記螺旋状の走査位置が前記セル領域外であれば照射しないように、前記積層造形手段を制御する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
上記目的を達成するため、本発明に係る３次元積層造形方法は、
積層材料を照射する少なくとも１つの照射手段を有する積層造形手段を用いて、前記積層材料からなる積層造形物の各層をセル領域の集合として造形する積層造形ステップと、
前記照射手段により前記セル領域を照射するための走査領域の形状が、内角が９０度以上である少なくとも５つの頂点を含む形状であって、前記セル領域の形状と前記走査領域の形状とが一致する場合、前記照射手段によって、前記走査領域の辺に沿い内角が９０度以上である少なくとも５つの頂点を含む螺旋状に走査して前記セル領域内の前記積層材料を照射するように、前記積層造形手段を制御する積層造形制御ステップと、
を含み、
前記積層造形制御ステップにおいては、前記走査領域の形状が前記走査領域の形状と異なる前記セル領域の形状を内包する場合、前記螺旋状の走査位置が前記セル領域内であれば照射し、前記螺旋状の走査位置が前記セル領域外であれば照射しないように、前記積層造形手段を制御する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
上記目的を達成するため、本発明に係る積層造形制御装置は、
積層造形の対象となる積層造形物のデータを取得するデータ取得手段と、
積層材料を照射する少なくとも１つの照射手段を有し前記積層造形物の各層をセル領域の集合として造形する積層造形手段を制御する積層造形制御手段であって、前記セル領域を照射するための走査領域の形状が、内角が９０度以上である少なくとも５つの頂点を含む形状であって、前記セル領域の形状と前記走査領域の形状とが一致する場合、前記照射手段によって、前記走査領域の辺に沿い内角が９０度以上である少なくとも５つの頂点を含む螺旋状に走査しながら前記セル領域内の前記積層材料を照射するように、前記積層造形物のデータに基づいて前記積層造形手段を制御する積層造形制御手段と、
を備え、
前記積層造形制御手段は、前記走査領域の形状が前記走査領域の形状と異なる前記セル領域の形状を内包する場合、前記螺旋状の走査位置が前記セル領域内であれば照射し、前記螺旋状の走査位置が前記セル領域外であれば照射しないように、前記積層造形手段を制御する。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
上記目的を達成するため、本発明に係る積層造形制御装置の制御方法は、
積層造形の対象となる積層造形物のデータを取得するデータ取得ステップと、
積層材料を照射する少なくとも１つの照射手段を有し前記積層造形物の各層をセル領域の集合として造形する積層造形手段を制御する積層造形制御ステップであって、前記セル領域を照射するための走査領域の形状が、内角が９０度以上である少なくとも５つの頂点を含む形状であって、前記セル領域の形状と前記走査領域の形状とが一致する場合、前記照射手段によって、前記走査領域の辺に沿い内角が９０度以上である少なくとも５つの頂点を含む螺旋状に走査しながら前記セル領域内の前記積層材料を照射するように、前記積層造形物のデータに基づいて前記積層造形手段を制御する積層造形制御ステップと、
を含み、
前記積層造形制御ステップにおいては、前記走査領域の形状が前記走査領域の形状と異なる前記セル領域の形状を内包する場合、前記螺旋状の走査位置が前記セル領域内であれば照射し、前記螺旋状の走査位置が前記セル領域外であれば照射しないように、前記積層造形手段を制御する。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
上記目的を達成するため、本発明に係る積層造形制御装置の制御プログラムは、
積層造形の対象となる積層造形物のデータを取得するデータ取得ステップと、
積層材料を照射する少なくとも１つの照射手段を有し前記積層造形物の各層をセル領域の集合として造形する積層造形手段を制御する積層造形制御ステップであって、前記セル領域を照射するための走査領域の形状が、内角が９０度以上である少なくとも５つの頂点を含む形状であって、前記セル領域の形状と前記走査領域の形状とが一致する場合、前記照射手段によって、前記走査領域の辺に沿い内角が９０度以上である少なくとも５つの頂点を含む螺旋状に走査しながら前記セル領域内の前記積層材料を照射するように、前記積層造形物のデータに基づいて前記積層造形手段を制御する積層造形制御ステップと、
をコンピュータに実行させる積層造形制御装置の制御プログラムであって、
前記積層造形制御ステップにおいては、前記走査領域の形状が前記走査領域の形状と異なる前記セル領域の形状を内包する場合、前記螺旋状の走査位置が前記セル領域内であれば照射し、前記螺旋状の走査位置が前記セル領域外であれば照射しないように、前記積層造形手段を制御する。
【手続補正書】
【提出日】平成29年10月23日(2017.10.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
積層材料を照射する少なくとも１つの照射手段を有し、前記積層材料からなる積層造形物の各層をセル領域の集合として造形する積層造形手段と、
前記照射手段により前記セル領域を照射するための走査領域の形状が、内角が９０度以上である少なくとも５つの頂点を含む形状であって、前記セル領域の形状と前記走査領域の形状とが一致する前記走査領域に対しては、前記照射手段によって、前記走査領域の辺に沿い内角が９０度以上である少なくとも５つの頂点を含む螺旋状に走査して前記セル領域内の前記積層材料を照射するように、前記積層造形手段を制御する積層造形制御手段と、
を備え、
前記積層造形制御手段は、前記走査領域の形状が前記走査領域の形状と異なる前記セル領域の形状を内包する前記走査領域に対しては、前記螺旋状の走査位置が前記セル領域内であれば照射し、前記螺旋状の走査位置が前記セル領域外であれば照射しないように、前記積層造形手段を制御する３次元積層造形システム。
【請求項２】
積層材料を照射する少なくとも１つの照射手段を有する積層造形手段を用いて、前記積層材料からなる積層造形物の各層をセル領域の集合として造形する積層造形ステップと、
前記照射手段により前記セル領域を照射するための走査領域の形状が、内角が９０度以上である少なくとも５つの頂点を含む形状であって、前記セル領域の形状と前記走査領域の形状とが一致する前記走査領域に対しては、前記照射手段によって、前記走査領域の辺に沿い内角が９０度以上である少なくとも５つの頂点を含む螺旋状に走査して前記セル領域内の前記積層材料を照射するように、前記積層造形手段を制御する積層造形制御ステップと、
を含み、
前記積層造形制御ステップにおいては、前記走査領域の形状が前記走査領域の形状と異なる前記セル領域の形状を内包する前記走査領域に対しては、前記螺旋状の走査位置が前記セル領域内であれば照射し、前記螺旋状の走査位置が前記セル領域外であれば照射しないように、前記積層造形手段を制御する３次元積層造形方法。
【請求項３】
積層造形の対象となる積層造形物のデータを取得するデータ取得手段と、
積層材料を照射する少なくとも１つの照射手段を有し前記積層造形物の各層をセル領域の集合として造形する積層造形手段を制御する積層造形制御手段であって、前記セル領域を照射するための走査領域の形状が、内角が９０度以上である少なくとも５つの頂点を含む形状であって、前記セル領域の形状と前記走査領域の形状とが一致する前記走査領域に対しては、前記照射手段によって、前記走査領域の辺に沿い内角が９０度以上である少なくとも５つの頂点を含む螺旋状に走査しながら前記セル領域内の前記積層材料を照射するように、前記積層造形物のデータに基づいて前記積層造形手段を制御する積層造形制御手段と、
を備え、
前記積層造形制御手段は、前記走査領域の形状が前記走査領域の形状と異なる前記セル領域の形状を内包する前記走査領域に対しては、前記螺旋状の走査位置が前記セル領域内であれば照射し、前記螺旋状の走査位置が前記セル領域外であれば照射しないように、前記積層造形手段を制御する積層造形制御装置。
【請求項４】
前記走査領域の形状は、異なる数の頂点を含む形状の組み合わせである、請求項３に記載の積層造形制御装置。
【請求項５】
前記積層造形手段は、複数の前記照射手段を有し、複数の前記セル領域を並行して造形し、
前記積層造形制御手段は、前記複数の照射手段を制御する、請求項３または４に記載の積層造形制御装置。
【請求項６】
前記積層造形制御手段は、前記走査領域および前記セル領域の形状と、前記螺旋状の走査の開始点とを、積層造形に用いる材料条件と造形条件とを含む積層造形条件に基づいて選択する、請求項３乃至５のいずれか１項に記載の積層造形制御装置。
【請求項７】
前記積層造形制御手段は、前記照射手段の照射エネルギーを走査速度と走査位置とに応じて制御する、請求項３乃至６のいずれか１項に記載の積層造形制御装置。
【請求項８】
積層造形の対象となる積層造形物のデータを取得するデータ取得ステップと、
積層材料を照射する少なくとも１つの照射手段を有し前記積層造形物の各層をセル領域の集合として造形する積層造形手段を制御する積層造形制御ステップであって、前記セル領域を照射するための走査領域の形状が、内角が９０度以上である少なくとも５つの頂点を含む形状であって、前記セル領域の形状と前記走査領域の形状とが一致する前記走査領域に対しては、前記照射手段によって、前記走査領域の辺に沿い内角が９０度以上である少なくとも５つの頂点を含む螺旋状に走査しながら前記セル領域内の前記積層材料を照射するように、前記積層造形物のデータに基づいて前記積層造形手段を制御する積層造形制御ステップと、
を含み、
前記積層造形制御ステップにおいては、前記走査領域の形状が前記走査領域の形状と異なる前記セル領域の形状を内包する前記走査領域に対しては、前記螺旋状の走査位置が前記セル領域内であれば照射し、前記螺旋状の走査位置が前記セル領域外であれば照射しないように、前記積層造形手段を制御する積層造形制御装置の制御方法。
【請求項９】
積層造形の対象となる積層造形物のデータを取得するデータ取得ステップと、
積層材料を照射する少なくとも１つの照射手段を有し前記積層造形物の各層をセル領域の集合として造形する積層造形手段を制御する積層造形制御ステップであって、前記セル領域を照射するための走査領域の形状が、内角が９０度以上である少なくとも５つの頂点を含む形状であって、前記セル領域の形状と前記走査領域の形状とが一致する前記走査領域に対しては、前記照射手段によって、前記走査領域の辺に沿い内角が９０度以上である少なくとも５つの頂点を含む螺旋状に走査しながら前記セル領域内の前記積層材料を照射するように、前記積層造形物のデータに基づいて前記積層造形手段を制御する積層造形制御ステップと、
をコンピュータに実行させる積層造形制御装置の制御プログラムであって、
前記積層造形制御ステップにおいては、前記走査領域の形状が前記走査領域の形状と異なる前記セル領域の形状を内包する前記走査領域に対しては、前記螺旋状の走査位置が前記セル領域内であれば照射し、前記螺旋状の走査位置が前記セル領域外であれば照射しないように、前記積層造形手段を制御する積層造形制御装置の制御プログラム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
上記目的を達成するため、本発明に係る３次元積層造形システムは、
積層材料を照射する少なくとも１つの照射手段を有し、前記積層材料からなる積層造形物の各層をセル領域の集合として造形する積層造形手段と、
前記照射手段により前記セル領域を照射するための走査領域の形状が、内角が９０度以上である少なくとも５つの頂点を含む形状であって、前記セル領域の形状と前記走査領域の形状とが一致する前記走査領域に対しては、前記照射手段によって、前記走査領域の辺に沿い内角が９０度以上である少なくとも５つの頂点を含む螺旋状に走査して前記セル領域内の前記積層材料を照射するように、前記積層造形手段を制御する積層造形制御手段と、
を備え、
前記積層造形制御手段は、前記走査領域の形状が前記走査領域の形状と異なる前記セル領域の形状を内包する前記走査領域に対しては、前記螺旋状の走査位置が前記セル領域内であれば照射し、前記螺旋状の走査位置が前記セル領域外であれば照射しないように、前記積層造形手段を制御する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
上記目的を達成するため、本発明に係る３次元積層造形方法は、
積層材料を照射する少なくとも１つの照射手段を有する積層造形手段を用いて、前記積層材料からなる積層造形物の各層をセル領域の集合として造形する積層造形ステップと、
前記照射手段により前記セル領域を照射するための走査領域の形状が、内角が９０度以上である少なくとも５つの頂点を含む形状であって、前記セル領域の形状と前記走査領域の形状とが一致する前記走査領域に対しては、前記照射手段によって、前記走査領域の辺に沿い内角が９０度以上である少なくとも５つの頂点を含む螺旋状に走査して前記セル領域内の前記積層材料を照射するように、前記積層造形手段を制御する積層造形制御ステップと、
を含み、
前記積層造形制御ステップにおいては、前記走査領域の形状が前記走査領域の形状と異なる前記セル領域の形状を内包する前記走査領域に対しては、前記螺旋状の走査位置が前記セル領域内であれば照射し、前記螺旋状の走査位置が前記セル領域外であれば照射しないように、前記積層造形手段を制御する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
上記目的を達成するため、本発明に係る積層造形制御装置は、
積層造形の対象となる積層造形物のデータを取得するデータ取得手段と、
積層材料を照射する少なくとも１つの照射手段を有し前記積層造形物の各層をセル領域の集合として造形する積層造形手段を制御する積層造形制御手段であって、前記セル領域を照射するための走査領域の形状が、内角が９０度以上である少なくとも５つの頂点を含む形状であって、前記セル領域の形状と前記走査領域の形状とが一致する前記走査領域に対しては、前記照射手段によって、前記走査領域の辺に沿い内角が９０度以上である少なくとも５つの頂点を含む螺旋状に走査しながら前記セル領域内の前記積層材料を照射するように、前記積層造形物のデータに基づいて前記積層造形手段を制御する積層造形制御手段と、
を備え、
前記積層造形制御手段は、前記走査領域の形状が前記走査領域の形状と異なる前記セル領域の形状を内包する前記走査領域に対しては、前記螺旋状の走査位置が前記セル領域内であれば照射し、前記螺旋状の走査位置が前記セル領域外であれば照射しないように、前記積層造形手段を制御する。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
上記目的を達成するため、本発明に係る積層造形制御装置の制御方法は、
積層造形の対象となる積層造形物のデータを取得するデータ取得ステップと、
積層材料を照射する少なくとも１つの照射手段を有し前記積層造形物の各層をセル領域の集合として造形する積層造形手段を制御する積層造形制御ステップであって、前記セル領域を照射するための走査領域の形状が、内角が９０度以上である少なくとも５つの頂点を含む形状であって、前記セル領域の形状と前記走査領域の形状とが一致する前記走査領域に対しては、前記照射手段によって、前記走査領域の辺に沿い内角が９０度以上である少なくとも５つの頂点を含む螺旋状に走査しながら前記セル領域内の前記積層材料を照射するように、前記積層造形物のデータに基づいて前記積層造形手段を制御する積層造形制御ステップと、
を含み、
前記積層造形制御ステップにおいては、前記走査領域の形状が前記走査領域の形状と異なる前記セル領域の形状を内包する前記走査領域に対しては、前記螺旋状の走査位置が前記セル領域内であれば照射し、前記螺旋状の走査位置が前記セル領域外であれば照射しないように、前記積層造形手段を制御する。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
上記目的を達成するため、本発明に係る積層造形制御装置の制御プログラムは、
積層造形の対象となる積層造形物のデータを取得するデータ取得ステップと、
積層材料を照射する少なくとも１つの照射手段を有し前記積層造形物の各層をセル領域の集合として造形する積層造形手段を制御する積層造形制御ステップであって、前記セル領域を照射するための走査領域の形状が、内角が９０度以上である少なくとも５つの頂点を含む形状であって、前記セル領域の形状と前記走査領域の形状とが一致する前記走査領域に対しては、前記照射手段によって、前記走査領域の辺に沿い内角が９０度以上である少なくとも５つの頂点を含む螺旋状に走査しながら前記セル領域内の前記積層材料を照射するように、前記積層造形物のデータに基づいて前記積層造形手段を制御する積層造形制御ステップと、
をコンピュータに実行させる積層造形制御装置の制御プログラムであって、
前記積層造形制御ステップにおいては、前記走査領域の形状が前記走査領域の形状と異なる前記セル領域の形状を内包する前記走査領域に対しては、前記螺旋状の走査位置が前記セル領域内であれば照射し、前記螺旋状の走査位置が前記セル領域外であれば照射しないように、前記積層造形手段を制御する。
【国際調査報告】
2017208361.tif 000023
2017208361.tif 000024
2017208361.tif 000025
2017208361.tif 000026