(57)【要約】  本発明は、高屈折率層を円偏光板と有機ＥＬ表示素子との間に有し、斜め方向からの黒色の視認性向上を達成することができる有機ＥＬ表示装置を提供する。本発明の有機エレクトロルミネッセンス表示装置は、視認側から、円偏光板と、一対の電極およびその間に挟まれた有機発光層を有する有機エレクトロルミネッセンス表示素子と、を少なくとも含む有機エレクトロルミネッセンス表示装置であって、円偏光板と、一対の電極のうち視認側に位置する電極との間に、屈折率が１．７超２．１未満の高屈折率層が配置され、円偏光板が、視認側から、偏光子と、λ／２板と、λ／４板とをこの順に有し、λ／２板の波長５５０ｎｍにおける厚さ方向のレタデーションＲｔｈＡ（５５０）が−１２０ｎｍ超−４０ｎｍ未満の範囲であり、λ／４板の波長５５０ｎｍにおける厚さ方向のレタデーションＲｔｈＢ（５５０）が−６０ｎｍ超２０ｎｍ未満の範囲である。
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
視認側から、円偏光板と、
一対の電極およびその間に挟まれた有機発光層を有する有機エレクトロルミネッセンス表示素子と、を少なくとも含む有機エレクトロルミネッセンス表示装置であって、
前記円偏光板と、前記一対の電極のうち視認側に位置する電極との間に、屈折率が１．７超２．１未満の高屈折率層が配置され、
前記円偏光板が、視認側から、偏光子と、λ／２板と、λ／４板とをこの順に有し、
前記λ／２板の波長５５０ｎｍにおける厚さ方向のレタデーションＲｔｈＡ（５５０）が−１２０ｎｍ超−４０ｎｍ未満の範囲であり、
前記λ／４板の波長５５０ｎｍにおける厚さ方向のレタデーションＲｔｈＢ（５５０）が−６０ｎｍ超２０ｎｍ未満の範囲である、有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
【請求項２】
前記ＲｔｈＡ（５５０）が、−１２０ｎｍ超−９０ｎｍ以下の範囲である、請求項１に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
【請求項３】
前記λ／２板および前記λ／４板が、以下の要件１または要件２を満たす、請求項１または２に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
要件１：ポリマーフィルムからなる光学異方性層を含まない。
要件２：波長５５０ｎｍにおける厚さ方向のレタデーションＲｔｈＣ（５５０）が０〜２０ｎｍを示す、ポリマーフィルムからなる光学異方性層を含む。
【請求項４】
前記円偏光板と前記有機エレクトロルミネッセンス表示素子との間に、タッチパネルが含まれ、
前記タッチパネルに前記高屈折率層が含まれる、請求項１〜３のいずれか１項に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
【請求項５】
前記高屈折率層が、前記タッチパネルの透明電極層を構成する、請求項４に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
【請求項６】
前記円偏光板と前記有機エレクトロルミネッセンス表示素子との間に、ガスバリア層が含まれ、
前記ガスバリア層に前記高屈折率層が含まれる、請求項１〜３のいずれか１項に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機エレクトロルミネッセンス表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来から、外光反射による悪影響を抑制するために、円偏光板が有機エレクトロルミネッセンス表示装置（有機ＥＬ表示装置）に使用されている。
円偏光板としては、λ／２板およびλ／４板からなる位相差板（いわゆる広帯域のλ／４板）と、偏光子とを組み合わせた態様が好適に使用されている（特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００３−２６２７２７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
一方、近年、有機ＥＬ表示装置の視認性に関してより一層の向上が求められており、具体的には、有機ＥＬ表示装置を斜め方向から視認した際の黒色の視認性のより一層の向上が求められている。つまり、有機ＥＬ表示装置を斜め方向から視認した際に、黒色に他の色味が含まれず、より一層黒色に見えることが求められている。
特に、有機ＥＬ表示装置には、タッチパネルまたはガスバリア層などの各種機能部材が配置される場合が多く、このような場合でも上述した黒色の視認性の向上が求められている。【０００５】
本発明者は、特許文献１に具体的に開示されている円偏光板を、タッチパネルまたはガスバリア層など機能部材が視認側に取り付けられた有機ＥＬ表示素子に貼り合せて、その視認性を評価したところ、黒色の視認性が十分でなく、さらなる改良が必要であった。
本発明者は、上記問題についてさらに検討したところ、機能部材中において比較的高い屈折率を示す層（高屈折率層）が含まれる場合において、上記問題が生じることを知見している。【０００６】
本発明は、上記実情に鑑みて、高屈折率層を円偏光板と有機ＥＬ表示素子との間に有し、斜め方向からの黒色の視認性向上を達成することができる有機ＥＬ表示装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明者は、従来技術の問題点について鋭意検討した結果、円偏光板中のλ／２板およびλ／４板のＲｔｈを所定の範囲に調整することにより、上記課題を解決できることを見出した。
すなわち、以下の構成により上記目的を達成することができることを見出した。【０００８】
（１）  視認側から、円偏光板と、
一対の電極およびその間に挟まれた有機発光層を有する有機エレクトロルミネッセンス表示素子と、を少なくとも含む有機エレクトロルミネッセンス表示装置であって、
円偏光板と、一対の電極のうち視認側に位置する電極との間に、屈折率が１．７超２．１未満の高屈折率層が配置され、
円偏光板が、視認側から、偏光子と、λ／２板と、λ／４板とをこの順に有し、
λ／２板の波長５５０ｎｍにおける厚さ方向のレタデーションＲｔｈＡ（５５０）が−１２０ｎｍ超−４０ｎｍ未満の範囲であり、
λ／４板の波長５５０ｎｍにおける厚さ方向のレタデーションＲｔｈＢ（５５０）が−６０ｎｍ超２０ｎｍ未満の範囲である、有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
（２）  ＲｔｈＡ（５５０）が、−１２０ｎｍ超−９０ｎｍ以下の範囲である、（１）に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
（３）  λ／２板およびλ／４板が、以下の要件１または要件２を満たす、（１）または（２）に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
要件１：ポリマーフィルムからなる光学異方性層を含まない。
要件２：波長５５０ｎｍにおける厚さ方向のレタデーションＲｔｈＣ（５５０）が０〜２０ｎｍを示す、ポリマーフィルムからなる光学異方性層を含む。
（４）  円偏光板と有機エレクトロルミネッセンス表示素子との間に、タッチパネルが含まれ、
タッチパネルに高屈折率層が含まれる、（１）〜（３）のいずれかに記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
（５）  高屈折率層が、タッチパネルの透明電極層を構成する、（４）に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
（６）  円偏光板と有機エレクトロルミネッセンス表示素子との間に、ガスバリア層が含まれ、
ガスバリア層に高屈折率層が含まれる、（１）〜（３）のいずれかに記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、高屈折率層を円偏光板と有機ＥＬ表示素子との間に有し、斜め方向からの黒色の視認性向上を達成することができる有機ＥＬ表示装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】本発明の有機ＥＬ表示装置の第１の実施態様の断面図である。
【図２】本発明の円偏光板の他の実施態様の断面図である。
【図３】タッチパネルの一実施態様の断面図である。
【図４】有機ＥＬ表示素子の一実施態様の断面図である。
【図５】本発明の有機ＥＬ表示装置の第２の実施態様の断面図である。
【図６】ガスバリア層の一実施態様の断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
以下、本発明について詳細に説明する。なお、本明細書において「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。まず、本明細書で用いられる用語について説明する。
【００１２】
Ｒｅ（λ）、Ｒｔｈ（λ）は、各々、波長λにおける面内のレタデーション、および、厚さ方向のレタデーションを表す。Ｒｅ（λ）はＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ、またはＷＲ（王子計測機器（株）製）において、波長λｎｍの光をフィルム法線方向に入射させて測定される。測定波長λｎｍの選択にあたっては、波長選択フィルターをマニュアルで交換するか、または測定値をプログラム等で変換して測定することができる。測定されるフィルムが、１軸または２軸の屈折率楕円体で表されるものである場合には、以下の方法によりＲｔｈ（λ）が算出される。なお、この測定方法は、液晶化合物の平均チルト角、その反対側の平均チルト角の測定においても一部利用される。
Ｒｔｈ（λ）は、上記Ｒｅ（λ）を、面内の遅相軸（ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ、またはＷＲにより判断される）を傾斜軸（回転軸）として（遅相軸がない場合には、フィルム面内の任意の方向を回転軸とする）のフィルム法線方向に対して法線方向から片側５０°まで１０度ステップで各々その傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて全部で６点測定し、その測定されたレタデーション値と平均屈折率の仮定値および入力された膜厚値を基にＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨまたはＷＲが算出する。上記において、法線方向から面内の遅相軸を回転軸として、ある傾斜角度にレタデーションの値がゼロとなる方向をもつフィルムの場合には、その傾斜角度より大きい傾斜角度でのレタデーション値はその符号を負に変更した後、ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ、またはＷＲが算出する。なお、遅相軸を傾斜軸（回転軸）として（遅相軸がない場合には、フィルム面内の任意の方向を回転軸とする）、任意の傾斜した２方向からレタデーション値を測定し、その値と平均屈折率の仮定値、および入力された膜厚値を基に、以下の式（Ａ）、および式（Ｂ）よりＲｔｈを算出することもできる。
【００１３】
【数１】
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【００１４】
なお、上記のＲｅ（θ）は法線方向から角度θ傾斜した方向におけるレタデーション値を表す。また、式（Ａ）におけるｎｘは、面内における遅相軸方向の屈折率を表し、ｎｙは、面内においてｎｘに直交する方向の屈折率を表し、ｎｚは、ｎｘおよびｎｙに直交する方向の屈折率を表す。ｄは測定フィルムの厚みを示す。
Ｒｔｈ＝（（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ）×ｄ・・・・・・・・・・式（Ｂ）
【００１５】
測定されるフィルムが、１軸や２軸の屈折率楕円体で表現できないもの、いわゆる光学軸（ｏｐｔｉｃ  ａｘｉｓ）がないフィルムの場合には、以下の方法により、Ｒｔｈ（λ）は算出される。Ｒｔｈ（λ）は、上記Ｒｅ（λ）を、面内の遅相軸（ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ、またはＷＲにより判断される）を傾斜軸（回転軸）として、フィルム法線方向に対して−５０°から＋５０°まで１０°ステップで各々その傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて１１点測定し、その測定されたレタデーション値と平均屈折率の仮定値および入力された膜厚値を基にＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨまたはＷＲが算出する。また、上記の測定において、平均屈折率の仮定値は、ポリマーハンドブック（ＪＯＨＮ  ＷＩＬＥＹ＆ＳＯＮＳ，ＩＮＣ）、各種光学フィルムのカタログの値を使用することができる。平均屈折率の値が既知でないものについては、アッベ屈折計で測定することができる。主な光学フィルムの平均屈折率の値を以下に例示する：セルロースアシレート（１．４８）、シクロオレフィンポリマー（１．５２）、ポリカーボネート（１．５９）、ポリメチルメタクリレート（１．４９）、ポリスチレン（１．５９）である。これら平均屈折率の仮定値と膜厚を入力することで、ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨまたはＷＲはｎｘ、ｎｙ、ｎｚを算出する。この算出されたｎｘ、ｎｙ、ｎｚよりＮｚ＝（ｎｘ−ｎｚ）／（ｎｘ−ｎｙ）の関係式より、Ｎｚファクターがさらに算出される。
【００１６】
なお、本明細書では、「可視光」とは、３８０〜７８０ｎｍのことをいう。また、本明細書では、測定波長について特に付記がない場合は、測定波長は５５０ｎｍである。
また、本明細書において、角度（例えば「９０°」等の角度）、およびその関係（例えば「直交」、「平行」、「４５°」および「９０°」等）については、本発明が属する技術分野において許容される誤差の範囲を含むものとする。例えば、厳密な角度±１０°以下の範囲内であることを意味し、厳密な角度との誤差は、５°以下であることが好ましく、３°以下であることがより好ましい。例えば、直交の場合、９０°±１０°の範囲（８０〜１００°）であればよい。
【００１７】
なお、本明細書において、ＡプレートおよびＣプレートは以下のように定義する。
Ａプレートは、ポジティブＡプレート（正のＡプレート）とネガティブＡプレート（負のＡプレート）との２種があり、フィルム面内の遅相軸方向（面内での屈折率が最大となる方向）の屈折率をｎｘ、面内の遅相軸と面内で直交する方向の屈折率をｎｙ、厚さ方向の屈折率をｎｚとしたとき、ポジティブＡプレートは式（Ａ１）の関係を満たすものであり、ネガティブＡプレートは式（Ａ２）の関係を満たすものである。なお、ポジティブＡプレートはＲｔｈが正の値を示し、ネガティブＡプレートはＲｔｈが負の値を示す。
式（Ａ１）    ｎｘ＞ｎｙ≒ｎｚ
式（Ａ２）    ｎｙ＜ｎｘ≒ｎｚ
なお、上記「≒」とは、両者が完全に同一である場合だけでなく、両者が実質的に同一である場合も包含する。「実質的に同一」とは、例えば、（ｎｙ−ｎｚ）×ｄ（ただし、ｄはフィルムの厚みである）が、−１０〜１０ｎｍ（好ましくは−５〜５ｎｍ）の場合も「ｎｙ≒ｎｚ」に含まれ、（ｎｘ−ｎｚ）×ｄが、−１０〜１０ｎｍ（好ましくは−５〜５ｎｍ）の場合も「ｎｘ≒ｎｚ」に含まれる。
Ｃプレートは、ポジティブＣプレート（正のＣプレート）とネガティブＣプレート（負のＣプレート）との２種があり、ポジティブＣプレートは式（Ｃ１）の関係を満たすものであり、ネガティブＣプレートは式（Ｃ２）の関係を満たすものである。なお、ポジティブＣプレートはＲｔｈが負の値を示し、ネガティブＣプレートはＲｔｈが正の値を示す。
式（Ｃ１）    ｎｚ＞ｎｘ≒ｎｙ
式（Ｃ２）    ｎｚ＜ｎｘ≒ｎｙ
なお、上記「≒」とは、両者が完全に同一である場合だけでなく、両者が実質的に同一である場合も包含する。「実質的に同一」とは、例えば、（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ（ただし、ｄはフィルムの厚みである）が、０〜１０ｎｍ（好ましくは０〜５ｎｍ）の場合も「ｎｘ≒ｎｙ」に含まれる。
【００１８】
本発明の特徴点としては、円偏光板と有機ＥＬ表示素子との間に所定の屈折率を示す高屈折率層を含む有機ＥＬ表示装置において、円偏光板が所定の光学特性を示すλ／２板およびλ／４板を使用している点が挙げられる。
本発明の効果が得られる理由の詳細は不明だが、以下のように推測される。
まず、有機ＥＬ表示素子上には、タッチパネルまたはガスバリア膜のような機能部材が配置される場合が多く、そのような機能部材中には所定の屈折率を示す高屈折率層が含まれる場合が多い。このような高屈折率層が含まれる有機ＥＬ表示装置に対して斜め方向から光が入射すると、高屈折率層の表面にて光の反射や干渉が生じやすく、結果として高屈折率層を透過する光の特性が変わり、特許文献１の円偏光板では斜め方向からの黒色の視認性を十分に改善することができなかった。
そこで、本発明では、上記高屈折率層の影響を考慮した、所定の光学特性を示すλ／２板およびλ／４板を使用することにより、上記のような高屈折率層がある有機ＥＬ表示装置においても、所望の効果が得られることを知見している。
【００１９】
＜＜第１の実施態様＞＞
以下に、本発明の有機エレクトロルミネッセンス表示装置（有機ＥＬ表示装置）の第１の実施態様について図面を参照して説明する。図１に、本発明の有機ＥＬ表示装置の第１の実施態様の断面図を示す。なお、本発明における図は模式図であり、各層の厚みの関係や位置関係などは必ずしも実際のものとは一致しない。以下の図も同様である。
有機ＥＬ表示装置１０は、視認側から、円偏光板１８と、タッチパネル２０と、有機ＥＬ表示素子２２とをこの順で有する。なお、図１中、上側が視認側に該当する。円偏光板１８は、視認側から、偏光子１２と、λ／２板１４と、λ／４板１６とをこの順で有する。
以下、有機ＥＬ表示装置１０に含まれる各部材について詳述する。
【００２０】
＜円偏光板＞
円偏光板１８は、偏光子１２と、λ／２板１４と、λ／４板１６とをこの順で有する。以下、これらについて詳述する。
【００２１】
（偏光子）
偏光子１２は、光を特定の直線偏光に変換する機能を有する部材（直線偏光子）であればよく、主に、吸収型偏光子および反射型偏光子を利用することができる。
吸収型偏光子としては、ヨウ素系偏光子、二色性染料を利用した染料系偏光子、およびポリエン系偏光子などが用いられる。ヨウ素系偏光子および染料系偏光子には、塗布型偏光子と延伸型偏光子があり、いずれも適用できるが、ポリビニルアルコールにヨウ素または二色性染料を吸着させ、延伸して作製される偏光子が好ましい。
また、基材上にポリビニルアルコール層を配置した積層フィルムに延伸および染色を施すことで偏光子を得る方法として、特許第５０４８１２０号公報、特許第５１４３９１８号公報、特許第５０４８１２０号公報、特許第４６９１２０５号公報、特許第４７５１４８１号公報、特許第４７５１４８６号公報を挙げることができ、これらの偏光子に関する公知の技術も好ましく利用することができる。
反射型偏光子としては、複屈折の異なる薄膜を積層した偏光子、ワイヤーグリッド型偏光子、選択反射域を有するコレステリック液晶と１／４波長板とを組み合わせた偏光子などが用いられる。
なかでも、取り扱い性の点から、ポリビニルアルコール系樹脂（−ＣＨ２−ＣＨＯＨ−を繰り返し単位として含むポリマー、特に、ポリビニルアルコールおよびエチレン−ビニルアルコール共重合体からなる群から選択される少なくとも１つが好ましい。）を含む偏光子であることが好ましい。
【００２２】
偏光子１２の厚みは特に制限されないが、取り扱い性に優れると共に、光学特性にも優れる点より、３５μｍ以下が好ましく、３〜２５μｍがより好ましく、４〜２０μｍがさらに好ましい。上記厚みであれば、表示装置の薄型化に対応可能となる。
【００２３】
（λ／２板）
λ／２板１４は、特定の波長λｎｍにおける面内レタデーションＲｅ（λ）がＲｅ（λ）≒λ／２を満たす光学異方性層のことをいう。この式は、可視光域のいずれかの波長（例えば、５５０ｎｍ）において達成されていればよい。なかでも、波長５５０ｎｍにおける面内レタデーションＲｅ（５５０）が、以下の関係を満たすことが好ましい。
２１０ｎｍ≦Ｒｅ（５５０）≦３００ｎｍ
なかでも、２２０ｎｍ≦Ｒｅ（５５０）≦２９０ｎｍを満たすことがより好ましい。
【００２４】
λ／２板１４の遅相軸と偏光子１２の吸収軸とのなす角度は、７５±１０°の範囲であることが好ましく、７５±８°の範囲であることがより好ましく、７５±５°の範囲であることがさらに好ましい。
言い換えれば、λ／２板１４の遅相軸と偏光子１２の透過軸とのなす角度は、１５±１０°の範囲であることが好ましく、１５±８°の範囲であることがより好ましく、１５±５°の範囲であることがさらに好ましい。
なお、上記角度とは、偏光子表面の法線方向から視認した際の、λ／２板の遅相軸と偏光子の吸収軸（または、透過軸）とのなす角度を意図する。
【００２５】
波長５５０ｎｍで測定したλ／２板１４の厚さ方向のレタデーション値であるＲｔｈＡ（５５０）は、−１２０ｎｍ超−４０ｎｍ未満の範囲であり、斜め方向からの黒色の視認性がより優れる点（以後、単に「本発明の効果がより優れる点」とも称する）で、−１２０ｎｍ超−９０ｎｍ以下の範囲であることが好ましい。
ＲｔｈＡ（５５０）が−１２０ｎｍ以下の場合、および、−４０ｎｍ以上の場合、本発明の効果が劣る。
【００２６】
λ／２板１４の厚みは、特に制限されないが、０．５〜２００μｍ程度の場合が多く、薄型化の点から、０．５〜５０μｍが好ましく、０．５〜１０μｍがより好ましく、０．５〜５μｍがさらに好ましい。
なお、上記厚みは平均厚みを意図し、λ／２板１４の任意の５点の厚みを測定し、それらを算術平均したものである。
【００２７】
λ／２板１４を構成する材料は特に制限されないが、薄型化の点から、λ／２板１４には液晶化合物が含まれることが好ましい。つまり、λ／２板１４は、液晶化合物を含む層であることが好ましい。ただし、上述した厚さ方向のレタデーション値など所定の特性を満たせば、他の材料で構成されていてもよい。例えば、ポリマーフィルム（ポリマー（樹脂）から形成されるフィルム。特に、延伸処理が施されたポリマーフィルム）から形成されていてもよい。
より具体的には、λ／２板１４としては、例えば、低分子液晶化合物を液晶状態においてネマチック配向に形成後、光架橋または熱架橋によって固定化して得られる光学異方性層、および、高分子液晶化合物を液晶状態においてネマチック配向に形成後、冷却することによって配向を固定化して得られる光学異方性層が挙げられる。なお、本発明では、λ／２板１４は、例えば、液晶化合物が重合等によって固定されて形成された層であり、層となった後はもはや液晶性を示す必要はない。
一般的に、液晶化合物はその形状から、棒状タイプ（棒状液晶化合物）と円盤状タイプ（ディスコティック液晶化合物、円盤状液晶化合物）に分類できる。さらに、それぞれ低分子と高分子タイプがある。高分子とは一般に重合度が１００以上のものを指す（高分子物理・相転移ダイナミクス，土井  正男  著，２頁，岩波書店，１９９２）。本発明では、いずれの液晶化合物を用いることもできるが、本発明の効果がより優れる点で、ディスコティック液晶化合物が好ましい。なお、２種以上の棒状液晶化合物、２種以上のディスコティック液晶化合物、または、棒状液晶化合物とディスコティック液晶化合物との混合物を用いてもよい。
なお、棒状液晶化合物としては、例えば、特表平１１−５１３０１９号公報の請求項１や特開２００５−２８９９８０号公報の段落［００２６］〜［００９８］に記載のものを好ましく用いることができ、円盤状液晶化合物としては、例えば、特開２００７−１０８７３２号公報の段落［００２０］〜［００６７］または特開２０１０−２４４０３８号公報の段落［００１３］〜［０１０８］に記載のものを好ましく用いることができるが、これらに限定されない。
【００２８】
λ／２板１４は、光学特性の温度変化や湿度変化を小さくできることから、重合性基を有する液晶化合物（棒状液晶化合物または円盤状液晶化合物）を用いて形成することがより好ましい。液晶化合物は２種類以上の混合物でもよく、その場合少なくとも１つが２以上の重合性基を有していることが好ましい。
つまり、λ／２板１４は、重合性基を有する棒状液晶化合物または重合性基を有する円盤状液晶化合物が重合によって固定されて形成された層であることが好ましく、この場合、層となった後はもはや液晶性を示す必要はない。
棒状液晶化合物または円盤状液晶化合物に含まれる重合性基の種類は特に制限されず、付加重合反応が可能な官能基が好ましく、重合性エチレン性不飽和基または環重合性基が好ましい。より具体的には、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基などが好ましく挙げられ、（メタ）アクリロイル基がより好ましい。なお、（メタ）アクリロイル基とは、メタアクリロイル基およびアクリロイル基の両者を包含する概念である。
【００２９】
λ／２板１４の形成方法は特に制限されず、公知の方法が挙げられる。
例えば、所定の基板（仮基板を含む）に、重合性基を有する液晶化合物を含む光学異方性層形成用組成物（以後、単に「組成物」とも称する）を塗布して塗膜を形成し、得られた塗膜に対して硬化処理（紫外線の照射（光照射処理）または加熱処理）を施すことにより、λ／２板１４を製造できる。なお、必要に応じて、後述する配向層を用いてもよい。
上記組成物の塗布としては、公知の方法（例えば、ワイヤーバーコーティング法、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ダイコーティング法）により実施できる。
【００３０】
上記組成物には、上述した液晶化合物以外の成分が含まれていてもよい。
例えば、組成物には、重合開始剤が含まれていてもよい。使用される重合開始剤は、重合反応の形式に応じて選択され、例えば、熱重合開始剤、光重合開始剤が挙げられる。例えば、光重合開始剤としては、α−カルボニル化合物、アシロインエーテル、α−炭化水素置換芳香族アシロイン化合物、多核キノン化合物、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ−アミノフェニルケトンとの組み合わせなどが挙げられる。
重合開始剤の使用量は、組成物の全固形分に対して、０．０１〜２０質量％であることが好ましく、０．５〜５質量％であることがより好ましい。
【００３１】
また、組成物には、塗工膜の均一性、膜の強度の点から、重合性モノマーが含まれていてもよい。
重合性モノマーとしては、ラジカル重合性またはカチオン重合性の化合物が挙げられる。好ましくは、多官能性ラジカル重合性モノマーであり、上記の重合性基含有の液晶化合物と共重合性のものが好ましい。例えば、特開２００２−２９６４２３号公報中の段落［００１８］〜［００２０］に記載のものが挙げられる。
重合性モノマーの添加量は、液晶化合物の全質量に対して、１〜５０質量％であることが好ましく、２〜３０質量％であることがより好ましい。
【００３２】
また、組成物には、塗工膜の均一性、膜の強度の点から、界面活性剤が含まれていてもよい。
界面活性剤としては、従来公知の化合物が挙げられるが、特にフッ素系化合物が好ましい。具体的には、例えば特開２００１−３３０７２５号公報中の段落［００２８］〜［００５６］に記載の化合物、特願２００３−２９５２１２号明細書中の段落［００６９］〜［０１２６］に記載の化合物が挙げられる。
【００３３】
また、組成物には溶媒が含まれていてもよく、有機溶媒が好ましく用いられる。有機溶媒の例には、アミド（例、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド）、スルホキシド（例、ジメチルスルホキシド）、ヘテロ環化合物（例、ピリジン）、炭化水素（例、ベンゼン、ヘキサン）、アルキルハライド（例、クロロホルム、ジクロロメタン）、エステル（例、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル）、ケトン（例、アセトン、メチルエチルケトン）、エーテル（例、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン）が含まれる。アルキルハライドおよびケトンが好ましい。２種類以上の有機溶媒を併用してもよい。
【００３４】
また、組成物には、偏光子界面側垂直配向剤、空気界面側垂直配向剤など垂直配向促進剤、偏光子界面側水平配向剤、空気界面側水平配向剤など水平配向促進剤などの各種配向剤が含まれていてもよい。
【００３５】
さらに、組成物には、上記成分以外に、密着改良剤、可塑剤、ポリマーなどが含まれていてもよい。
【００３６】
（λ／４板）
λ／４板１６（λ／４機能を有する板）とは、ある特定の波長の直線偏光を円偏光に（または、円偏光を直線偏光に）変換する機能を有する板である。より具体的には、所定の波長λｎｍにおける面内レタデーション値がＲｅ（λ）≒λ／４（または、この奇数倍）を示す板である。この式は、可視光域のいずれかの波長（例えば、５５０ｎｍ）において達成されていればよいが、波長５５０ｎｍにおける面内レタデーションＲｅ（５５０）が、以下の関係を満たすことが好ましい。
１００ｎｍ≦Ｒｅ（５５０）≦１６０ｎｍ
なかでも、１１０ｎｍ≦Ｒｅ（５５０）≦１５０ｎｍを満たすことがより好ましい。
λ／４板１６の遅相軸とλ／２板１４の遅相軸とのなす角度θは、６０±１０°の範囲であることが好ましく、６０±８°の範囲であることがより好ましく、６０±５°の範囲であることがさらに好ましい。
なお、上記角度とは、偏光子１２表面の法線方向から視認した際の、λ／４板１６の遅相軸とλ／２板１４の遅相軸とのなす角度を意図する。
【００３７】
なお、λ／４板１６の遅相軸と偏光子１２の吸収軸とのなす角度は１５°±８°の範囲であることが好ましく、１５°±６°の範囲であることがより好ましく、１５°±３°の範囲であることがさらに好ましい。
言い換えれば、λ／４板１６の遅相軸と偏光子１２の透過軸とのなす角度は、７５±１０°の範囲であることが好ましく、７５±８°の範囲であることがより好ましく、７５±５°の範囲であることがさらに好ましい。
なお、上記角度とは、偏光子１２表面の法線方向から視認した際の、偏光子１２の吸収軸（または、透過軸）とλ／４板１６の面内遅相軸とのなす角度を意図する。
【００３８】
波長５５０ｎｍで測定したλ／４板１６の厚さ方向のレタデーション値であるＲｔｈＢ（５５０）は、−６０ｎｍ超２０ｎｍ未満の範囲であり、本発明の効果がより優れる点で、−６０ｎｍ超１５ｎｍ以下の範囲であることが好ましい。
ＲｔｈＢ（５５０）が−６０ｎｍ以下の場合、および、２０ｎｍ以上の場合、本発明の効果が劣る。
【００３９】
λ／４板１６の厚みは、特に制限されないが、０．５〜２００μｍ程度の場合が多く、薄型化の点から、０．５〜５０μｍが好ましく、０．５〜１０μｍがより好ましく、０．５〜５μｍがさらに好ましい。
なお、上記厚みは平均厚みを意図し、λ／４板１６の任意の５点の厚みを測定し、それらを算術平均したものである。
【００４０】
λ／４板１６を構成する材料は特に制限されないが、薄型化の点から、λ／４板１６には液晶化合物が含まれることが好ましい。つまり、λ／４板１６は、液晶化合物を含む層であることが好ましい。液晶化合物の定義は、上述の通りである。なかでも、λ／４板１６は、重合性基を有する液晶化合物（棒状液晶化合物または円盤状液晶化合物）が重合等によって固定されて形成された層であることが好ましく、この場合、層となった後はもはや液晶性を示す必要はない。
【００４１】
なお、図１においては、λ／２板１４およびλ／４板１６はいずれも単層の構成であるが、この態様に限定されず、λ／２板１４およびλ／４板１６は、それぞれ独立に、複層構造であってもよい。つまり、λ／２板１４およびλ／４板１６は、それぞれ上述したＲｔｈＡ（５５０）およびＲｔｈＢ（５５０）が所定の範囲であれば、複数の層を含む構造であってもよい。なお、λ／２板に複数の層が含まれる場合、これらλ／２板を構成する全ての層を含むλ／２板全体の波長５５０ｎｍにおける厚さ方向のレタデーションが上述した範囲（−１２０ｎｍ超−４０ｎｍ未満）にある。また、λ／４板に複数の層が含まれる場合、これらλ／４板を構成する全ての層を含むλ／４板全体の波長５５０ｎｍにおける厚さ方向のレタデーションが上述した範囲（−６０ｎｍ超２０ｎｍ未満）にある。
例えば、図２に示すように、円偏光板１１８は、偏光子１２とλ／２板１１４とλ／４板１１６とを含み、λ／２板１１４は第１光学異方性層２４と第２光学異方性層２６との２層を含み、λ／４板１１６は第３光学異方性層２８と第４光学異方性層３０との２層を含む。この場合、λ／２板１１４全体の波長５５０ｎｍにおける厚さ方向のレタデーションが上述した範囲（−１２０ｎｍ超−４０ｎｍ未満）にあり、λ／４板１１６全体の波長５５０ｎｍにおける厚さ方向のレタデーションが上述した範囲（−６０ｎｍ超２０ｎｍ未満）にある。なお、第１光学異方性層２４〜第４光学異方性層３０を構成する光学異方性層の種類は特に制限されず、上述したλ／２板およびλ／４板の波長５５０ｎｍにおける厚さ方向のレタデーションが所定の範囲であればよいが、レタデーションの調整が容易である点から、例えば、第１光学異方性層２４および第３光学異方性層２８がいわゆるＣプレートであることが好ましく、第２光学異方性層２６および第４光学異方性層３０がいわゆるＡプレートであることが好ましい。
【００４２】
また、第１光学異方性層２４の波長５５０ｎｍにおける厚さ方向のレタデーションは特に制限されないが、−１８０〜１００ｎｍの場合が多く、０〜１００ｎｍの場合がより多い。
また、第２光学異方性層２６の波長５５０ｎｍにおける厚さ方向のレタデーションは特に制限されないが、−１５０〜１４０ｎｍの場合が多く、−１５０〜０ｎｍの場合がより多い。
また、第３光学異方性層２８の波長５５０ｎｍにおける厚さ方向のレタデーションは特に制限されないが、−７０〜１００ｎｍの場合が多く、０〜１００ｎｍの場合がより多い。
また、第４光学異方性層３０の波長５５０ｎｍにおける厚さ方向のレタデーションは特に制限されないが、−８０〜７０ｎｍの場合が多く、−８０〜０ｎｍの場合がより多い。
なお、上記図２においては、λ／２板およびλ／４板の両方が２層構造の態様について述べたが、この態様に限定されず、λ／２板が単層構造であり、λ／４板が複層構造である態様であってもよいし、λ／２板が複層構造であり、λ／４板が単層構造であってもよい。
また、複層構造の場合、層の数は３層以上であってもよい。
【００４３】
さらに、後段で詳述するように、λ／２板およびλ／４板には、それぞれのＲｔｈＡ（５５０）およびＲｔｈＢ（５５０）が上述した範囲であれば、配向膜、粘着剤層などが含まれていてもよい。
【００４４】
なお、円偏光板（および、有機ＥＬ表示装置）の薄型化の点からは、上記λ／２板および上記λ／４板の少なくともいずれか一方が、以下の要件１または要件２を満たすことが好ましく、λ／２板およびλ／４板の両方が要件１または要件２を満たすことが好ましい。
要件１：ポリマーフィルムからなる光学異方性層を含まない。
要件２：波長５５０ｎｍにおける厚さ方向のレタデーションＲｔｈＣ（５５０）が０〜２０ｎｍを示す、ポリマーフィルムからなる光学異方性層を含む。
一般的に、ポリマーフィルムからなる光学異方性層は大きなＲｔｈ示すためには、その厚みが厚くなる傾向がある。そのため、上記λ／２板および上記λ／４板の少なくとも一方（好ましくは、両方）には、ポリマーフィルムからなる光学異方性層が含まれない、または、ポリマーフィルムからなる光学異方性層が含まれていても、そのポリマーフィルムからなる光学異方性層の波長５５０ｎｍにおける厚さ方向のレタデーションＲｔｈＣ（５５０）が０〜２０ｎｍを示すことが好ましい。
なお、ここでポリマーフィルムからなる光学異方性層とは、主成分がポリマー（樹脂）より構成される光学異方性層であり、液晶化合物は実質的に含まれない。
【００４５】
（その他の層）
上記円偏光板１８は、本発明の効果を損なわない範囲で、上記偏光子１２、λ／２板１４およびλ／４板１６以外の他の層を備えていてもよい。以下に、一例を示す。
【００４６】
（配向層）
円偏光板１８（特に、λ／２板およびλ／４板）には、液晶化合物の配向方向を規定する機能を有する配向膜が含まれていてもよい。
配向膜は、一般的にはポリマーを主成分とする。配向膜用ポリマー材料としては、多数の文献に記載があり、多数の市販品を入手することができる。利用されるポリマー材料は、ポリビニルアルコールまたはポリイミド、および、その誘導体が好ましい。特に、変性または未変性のポリビニルアルコールが好ましい。本発明に使用可能な配向膜については、ＷＯ０１／８８５７４Ａ１号公報の４３頁２４行〜４９頁８行、特許第３９０７７３５号公報の段落［００７１］〜［００９５］に記載の変性ポリビニルアルコールを参照することができる。なお、配向膜には、通常、公知のラビング処理が施される。つまり、配向膜は、通常、ラビング処理されたラビング配向膜であることが好ましい。
【００４７】
（偏光子保護フィルム）
偏光子の表面上には、偏光子保護フィルムが配置されていてもよい。偏光子保護フィルムは、偏光子の片面上（視認側の表面上）にのみ配置されていてもよいし、偏光子の両面上に配置されていてもよい。
偏光子保護フィルムの構成は特に制限されず、例えば、いわゆる透明支持体またはハードコート層であっても、透明支持体とハードコート層との積層体であってもよい。
ハードコート層としては、公知の層を使用することができ、例えば、上述した多官能モノマーを重合硬化して得られる層であってもよい。
また、透明支持体としては、公知の透明支持体を使用することができ、例えば、透明支持体を形成する材料としては、トリアセチルセルロースに代表される、セルロース系ポリマー（以下、セルロースアシレートという）、熱可塑性ノルボルネン系樹脂（日本ゼオン（株）製のゼオネックス、ゼオノア、ＪＳＲ（株）製のアートン等）、アクリル系樹脂、および、ポリエステル系樹脂を使用することができる。
偏光子保護フィルムの厚みは特に限定されないが、偏光板の厚みを薄くできる等の理由から４０μｍ以下が好ましく、２５μｍ以下がより好ましい。
【００４８】
また、各層の間の密着性担保のために、各層の間に粘着剤層または接着層を配置してもよい。
【００４９】
＜タッチパネル＞
タッチパネル２０は、上述した円偏光板１８と、後述する有機ＥＬ表示素子２２との間に配置される機能部材であり、視認側から操作者の指などの外部導体が有機ＥＬ表示装置の視認側の表面に接触（接近）するときに、その接触位置を検出するセンサーである。
タッチパネル２０の構成としては、図３に示すように、視認側から第１絶縁層５０と、センサー電極を含む透明電極層（導電性層）５２と、第２絶縁層５４と、基板５６とを備え、透明電極層５２が、屈折率が１．７超２．１未満の高屈折率層に該当する。なお、タッチパネル２０の構成としては、上記高屈折率層が含まれていれば、図３の態様に限定されず、公知の構成をとることができる。
なお、タッチパネルの種類は特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、表面型静電容量方式タッチパネル、投影型静電容量方式タッチパネル、抵抗膜式タッチパネルなどが挙げられる。
以下では、タッチパネル２０を構成する各部材について詳述する。
【００５０】
（第１絶縁層および第２絶縁層）
第１絶縁層５０および第２絶縁層５４を構成する材料は特に制限されず、無機物や有機物、または、無機物と有機物との混合物により形成することができる。例えば、無機物として、ＮａＦ（１．３）、Ｎａ３ＡｌＦ６（１．３５）、ＬｉＦ（１．３６）、ＭｇＦ２（１．３８）、ＣａＦ２（１．４）、ＢａＦ２（１．３）、ＳｉＯ２（１．４６）、ＬａＦ３（１．５５）、ＣｅＦ３（１．６３）、および、Ａｌ２Ｏ３（１．６３）などの無機物〔上記各材料の括弧内の数値は光の屈折率である。〕が挙げられる。これらのなかでも、ＳｉＯ２、ＭｇＦ２、Ａ１２Ｏ３などが好ましく用いられる。また、有機物としては、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、メラミン樹脂、アルキド樹脂、シロキサン系ポリマー、および、有機シラン縮合物などが挙げられる。
なお、タッチパネル２０においては、第１絶縁層５０および第２絶縁層５４の２種の絶縁層が配置されているが、タッチパネルが動作すれば、含まれていなくてもよい。
【００５１】
（透明電極層）
透明電極層５２は、感知部（センシング部）を構成し、パターン状の第１検出電極および第２検出電極を含み、指が接触または近接した検出電極間の静電容量変化量を検出することによって、この変化量に基づいて指先の位置をＩＣ（integrated circuit）回路によって演算する。
第１検出電極は、第１方向（Ｘ方向）に延び、第１方向と直交する第２方向（Ｙ方向）に配列された電極であり、所定のパターンを有する。第２検出電極は、第２方向（Ｙ方向）に延び、第１方向（Ｘ方向）に配列された電極であり、所定のパターンを有する。なお、第１検出電極と第２検出電極とは、絶縁層を介して交差している。
【００５２】
透明電極層５２は、屈折率が１．７超２．１未満の高屈折率層であり、本発明の効果がより優れる点で、屈折率は１．７５〜２．０５が好ましく、１．８〜２．０がより好ましい。
上記屈折率は、反射分光膜厚計ＦＥ３０００（大塚電子社製）を用いて、光干渉法により測定した。屈折率の測定波長は、５５０ｎｍである。
【００５３】
透明電極層５２を構成する材料は上記屈折率を示す材料であればよく、例えば、インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）、酸化亜鉛、アンチモン添加酸化錫、フッ素添加酸化錫、アルミニウム添加酸化亜鉛、カリウム添加酸化亜鉛、および、シリコン添加酸化亜鉛などの金属酸化物が用いられる。これらの金属酸化物が２種以上複合されてもよい。
【００５４】
（基板）
基板５６は、上述した各部材を支持する部材である。
基板５６としては、いわゆる透明基板（特に、透明絶縁性基板）であることが好ましい。その具体例としては、例えば、樹脂基板、セラミックス基板、および、ガラス基板などが挙げられる。なかでも、靭性に優れる理由から、樹脂基板であることが好ましい。
樹脂基板を構成する材料としては、より具体的には、ポリエーテルスルホン系樹脂、ポリアクリル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリスルホン系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリアリレート系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、セルロース系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、および、シクロオレフィン系樹脂などが挙げられる。
【００５５】
なお、タッチパネルの構成は、上述した図３の態様に限定されず、例えば、透明電極層が複数層含まれていてもよい。例えば、第１方向（Ｘ方向）に延び、第１方向と直交する第２方向（Ｙ方向）に配列された電極である第１検出電極を含む第１透明電極層と、第２方向（Ｙ方向）に延び、第１方向（Ｘ方向）に配列された電極である第２検出電極を含む第２透明電極層とを含み、第１透明電極層と第２透明電極層とが絶縁層を介して配置されているタッチパネルであってもよい。この場合、第１透明電極層および第２透明電極層の少なくとも一方が、上述した高屈折率層に該当すればよい。
また、タッチパネルにおいては、上述した絶縁層、透明電極層、および、基板以外の他の部材（例えば、粘着剤層など）が含まれていてもよい。
【００５６】
＜有機ＥＬ表示素子＞
有機ＥＬ表示素子２２は、図４に示すように、視認側から陰極として機能する第１電極６０と、有機発光層６２と、陽極として機能する第２電極６４と、基板６６とをこの順で有する。つまり、有機発光層６２は、第１電極６０および第２電極６４で挟持されている。有機ＥＬ表示装置１０に入射した外光は、第１電極と透過して、第２電極表面にて反射される場合が多い。
以下では、有機ＥＬ表示素子２２を構成する各部材について詳述する。
【００５７】
（第１電極）
第１電極６０は陰極であり、有機発光層６２に電子を注入する役割を果たすものである。
第１電極６０を構成する材料としては、透明または半透明の電極を構成することができる材料が好ましく、効率良く電子注入を行うには、仕事関数の低い金属が好ましく、例えば、スズ、マグネシウム、インジウム、カルシウム、アルミニウム、銀等の適当な金属またはそれらの合金が用いられる。具体例としては、マグネシウム−銀合金、マグネシウム−インジウム合金、アルミニウム−リチウム合金等の低仕事関数合金電極を挙げることができる。
【００５８】
（有機発光層）
有機発光層６２は、第１電極６０と第２電極６４とで挟持される層であり、第１電極６０から注入された電子と、第２電極６４から注入されたホールとが再結合することにより発光する層である。
有機発光層６２を構成する材料は公知の材料を使用することができ、例えば、９，１０−ジアリールアントラセン誘導体、ピレン、コロネン、ペリレン、ルブレン、１，１，４，４−テトラフェニルブタジエン、トリス（８−キノリノラート）アルミニウム錯体、トリス（４−メチル−８−キノリノラート）アルミニウム錯体、ビス（８−キノリノラート）亜鉛錯体、および、トリス（４−メチル−５−トリフルオロメチル−８−キノリノラート）アルミニウム錯体などの低分子材料、並びに、ポリフルオレン、ポリパラフェニレンビニレン、および、ポリチオフェンなどの高分子材料などを挙げることができる。
【００５９】
（第２電極）
第２電極６４は陽極であり、有機発光層６２へ正孔注入の役割を果たすものである。第２電極６４は、通常、アルミニウム、金、銀、ニッケル、パラジウム、および、白金等の金属、インジウムおよび／またはスズの酸化物等の金属酸化物、ヨウ化銅などのハロゲン化金属、カーボンブラックの他、ポリ（３−メチルチオフェン）、ポリピロール、ポリアニリン等の導電性高分子等により構成される。
【００６０】
（基板）
基板６６は、上述した各部材を支持する支持体であり、その種類は特に制限されず、樹脂基板、セラミックス基板、および、ガラス基板などが挙げられる。樹脂基板を構成する樹脂の種類としては、上述したタッチパネルで説明した樹脂基板を構成する樹脂が挙げられる。
【００６１】
なお、有機ＥＬ表示素子の構成は図４の構成に限定されず、他の部材（例えば、正孔輸送層、正孔注入層、インターレイヤ層、電子ブロック層、電子輸送層、電子注入層、正孔ブロック層など）がさらに含まれていてもよい。
【００６２】
有機ＥＬ表示装置１０は、上述した円偏光板１８、タッチパネル２０、および、有機ＥＬ表示素子２２を少なくとも含むが、他の部材を含んでいてもよい。
例えば、円偏光板１８とタッチパネル２０との間や、タッチパネル２０と有機ＥＬ表示素子２２との間には、封止剤層、粘着剤層または接着層が配置されていてもよい。
【００６３】
＜＜第２の実施形態＞＞
以下に、本発明の有機ＥＬ表示装置の第２の実施態様について図面を参照して説明する。図５に、本発明の有機ＥＬ表示装置の第２の実施態様の断面図を示す。
有機ＥＬ表示装置１１０は、視認側から、円偏光板１８と、ガスバリア層７０と、有機ＥＬ表示素子２２とをこの順で有する。なお、図５中、上側が視認側に該当する。円偏光板１８は、偏光子１２と、λ／２板１４と、λ／４板１６とをこの順で有する。
図５に示す有機ＥＬ表示装置１１０は、タッチパネル２０の代わりにガスバリア層７０を備える点を除いて、図１に示す有機ＥＬ表示装置１０と同様の層を有するものであるので、同一の構成要素には同一の参照符号を付し、その説明を省略し、以下ではガスバリア層７０の構成について詳述する。
【００６４】
（ガスバリア層）
ガスバリア層７０は、円偏光板１８と、有機ＥＬ表示素子２２との間に配置される機能部材であり、有機ＥＬ表示素子２２への水分等の侵入を抑制する層である。
ガスバリア層７０の構成は、図６に示すように、視認側から、第１無機膜７２と、第１有機膜７４と、第２無機膜７６と、第２有機膜７８とをこの順で備え、第１無機膜７２および第２無機膜７６が、屈折率が１．７超２．１未満の高屈折率層に該当する。
【００６５】
第１無機膜７２および第２無機膜７６の屈折率は、１．７超２．１未満であり、本発明の効果がより優れる点で、屈折率は１．７５〜２．０５が好ましく、１．８〜２．０がより好ましい。
屈折率は、反射分光膜厚計ＦＥ３０００（大塚電子社製）を用いて、光干渉法により測定した。屈折率の測定波長は、５５０ｎｍである。
【００６６】
第１無機膜７２および第２無機膜７６を構成する材料は上記屈折率を示せば特に制限されないが、例えば、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化ジルコニウム、酸化チタン、および、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）などの金属酸化物；窒化アルミニウムなどの金属窒化物；金属炭化物；酸化窒化ケイ素、酸炭化ケイ素、および、酸化窒化炭化ケイ素などのケイ素酸化物；窒化ケイ素、および、窒化炭化ケイ素などのケイ素窒化物；炭化ケイ素等のケイ素炭化物；これらの水素化物；これら２種以上の混合物；並びに、これらの水素含有物等の、無機化合物からなる膜が、好適に例示される。
【００６７】
第１有機膜７４および第２有機膜７８を構成する材料は特に制限されず、各種の有機化合物（樹脂／高分子化合物）を適用することができる。例えば、ポリエステル系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、透明フッ素樹脂、ポリイミド系樹脂、フッ素化ポリイミド系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリアミドイミド系樹脂、ポリエーテルイミド系樹脂、セルロースアシレート系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリエーテルエーテルケトン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、脂環式ポリオレフィン系樹脂、ポリアリレート系樹脂、ポリエーテルスルホン系樹脂、および、ポリスルホン系樹脂などが挙げられる。
【００６８】
ガスバリア層の構成は所定の屈折率を示す高屈折率層が含まれていれば、図６の態様に限定されない。例えば、ガスバリア層は、無機膜および有機膜の組み合わせを少なくとも１以上有し、無機膜の少なくとも１層が上記高屈折率層であればよい。
【００６９】
なお、上記においては、有機ＥＬ表示装置が高屈折率層を含む態様として、タッチパネルまたはガスバリア層を含む態様について述べたが、これらの態様には限定されない。
【実施例】
【００７０】
以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り、適宜、変更することができる。従って、本発明の範囲は以下に示す具体例に限定されるものではない。【００７１】
＜実施例１＞
（１）光学異方性層Ａの作製
（セルロースエステル溶液Ａ−１の調製）
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、セルロースエステル溶液Ａ−１を調製した。【００７２】
セルロースエステル溶液Ａ−１の組成
――――――――――――――――――――――――――――――――――
・セルロースアセテート（アセチル化度２．８６）          １００質量部
・メチレンクロライド（第１溶媒）                        ３２０質量部
・メタノール（第２溶媒）                                  ８３質量部
・１−ブタノール（第３溶媒）                                ３質量部
・トリフェニルフォスフェート                            ７．６質量部
・ビフェニルジフェニルフォスフェート                    ３．８質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――【００７３】
（マット剤分散液Ｂ−１の調製）
下記の組成物を分散機に投入し、攪拌して各成分を溶解し、マット剤分散液Ｂ−１を調製した。【００７４】
マット剤分散液Ｂ−１の組成
――――――――――――――――――――――――――――――――――
・シリカ粒子分散液（平均粒径１６ｎｍ）
"ＡＥＲＯＳＩＬ  Ｒ９７２"、日本アエロジル（株）製  １０．０質量部
・メチレンクロライド                                  ７２．８質量部
・メタノール                                            ３．９質量部
・ブタノール                                            ０．５質量部
・セルロースエステル溶液Ａ−１                        １０．３質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――【００７５】
（紫外線吸収剤溶液Ｃ−１の調製）
下記の組成物を別のミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、紫外線吸収剤溶液Ｃ−１を調製した。【００７６】
紫外線吸収剤溶液Ｃ−１の組成
――――――――――――――――――――――――――――――――
・紫外線吸収剤（下記ＵＶ−１）                    １０．０質量部
・紫外線吸収剤（下記ＵＶ−２）                    １０．０質量部
・メチレンクロライド                              ５５．７質量部
・メタノール                                          １０質量部
・ブタノール                                        １．３質量部
・セルロースエステル溶液Ａ−１                    １２．９質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――【００７７】
【化１】
2016194801.tif 000004
【００７８】
（セルロースエステルフィルムの作製）
セルロースエステル溶液Ａ−１を９４．６質量部、マット剤分散液Ｂ−１を１．３質量部とした混合物に、セルロースアシレート１００質量部当たり、紫外線吸収剤（ＵＶ−１）および紫外線吸収剤（ＵＶ−２）がそれぞれ１．０質量部となるように、紫外線吸収剤溶液Ｃ−１を加え、加熱しながら充分に攪拌して各成分を溶解し、ドープを調製した。得られたドープを３０℃に加温し、流延ギーサーを通して直径３ｍのドラムである鏡面ステンレス支持体上に流延した。鏡面ステンレス支持体の表面温度は−５℃に設定し、塗布幅は１４７０ｍｍとした。流延したドープ膜をドラム上で３４℃の乾燥風を１５０ｍ3／分で当てることにより乾燥させ、残留溶剤が１５０％の状態でドラムより剥離した。剥離の際、搬送方向（長手方向）に１５％の延伸を行った。その後、フィルムの幅方向（流延方向に対して直交する方向）の両端をピンテンター（特開平４−１００９号公報の図３に記載のピンテンター）で把持しながら搬送し、幅手方向には延伸処理を行わなかった。さらに、熱処理装置のロール間を搬送することによりさらに乾燥し、セルロースアシレートフィルム（Ｔ１）を製造した。作製した長尺状のセルロースアシレートフィルム（Ｔ１）の残留溶剤量は０．２％で、厚みは６０μｍで、波長５５０ｎｍにおけるＲｅ（面内レタデーション）とＲｔｈ（厚さ方向のレタデーション）はそれぞれ０．８ｎｍ、４０ｎｍであった。【００７９】
（アルカリ鹸化処理）
前述のセルロースアシレートフィルム（Ｔ１）を、温度６０℃の誘電式加熱ロールを通過させ、フィルム表面温度を４０℃に昇温した後に、フィルムのバンド面に下記に示す組成のアルカリ溶液を、バーコーターを用いて塗布量１４ｍｌ／ｍ2で塗布した。その後、アルカリ溶液が塗布されたセルロールアシレートフィルムを、１１０℃に加熱した（株）ノリタケカンパニーリミテド製のスチーム式遠赤外ヒーターの下に、１０秒間搬送した。続いて、同じくバーコーターを用いて、得られたフィルム上に純水を３ｍｌ／ｍ2塗布した。次いで、得られたフィルムに対して、ファウンテンコーターによる水洗とエアナイフによる水切りを３回繰り返した後に、フィルムを７０℃の乾燥ゾーンに１０秒間搬送して乾燥し、アルカリ鹸化処理したセルロースアシレートフィルムを作製した。【００８０】
アルカリ溶液組成
─────────────────────────────────
・水酸化カリウム                                      ４．７質量部
・水                                                １５．８質量部
・イソプロパノール                                  ６３．７質量部
・界面活性剤ＳＦ−１：Ｃ14Ｈ29Ｏ（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）20Ｈ      １．０質量部
・プロピレングリコール                              １４．８質量部
─────────────────────────────────【００８１】
（配向膜の形成）
セルロースアシレートフィルム（Ｔ１）のアルカリ鹸化処理を行った面に、下記組成の配向膜塗布液（Ａ）を＃１４のワイヤーバーで連続的に塗布した。配向膜塗布液（Ａ）が塗布されたフィルムを、６０℃の温風で６０秒、さらに１００℃の温風で１２０秒乾燥して、配向膜を形成した。使用した変性ポリビニルアルコールの鹸化度は８８％であった。【００８２】
配向膜塗布液（Ａ）の組成
――――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記の変性ポリビニルアルコール                          １０質量部
・水                                                    ３０８質量部
・メタノール                                              ７０質量部
・イソプロパノール                                        ２９質量部
・光重合開始剤（イルガキュア２９５９、チバ・ジャパン製）０．８質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――【００８３】
【化２】
2016194801.tif 000005
【００８４】
（光学異方性層Ａの形成）
上記作製した配向膜に連続的にラビング処理を施した。このとき、長尺状のフィルムの長手方向と搬送方向は平行であり、フィルム長手方向（搬送方向）とラビングローラーの回転軸とのなす角度が７２．５°とした（フィルム長手方向（搬送方向）を９０°とし、配向膜側から観察してフィルム幅方向を基準（０°）に反時計回り方向を正の値で表すと、ラビングローラーの回転軸は−１７．５°にある。言い換えれば、ラビングローラーの回転軸の位置は、フィルム長手方向を基準に、反時計回りに７２．５°回転させた位置に該当する。）。【００８５】
下記の組成のディスコティック液晶（ＤＬＣ）化合物を含む光学異方性層塗布液（Ａ）を上記作製した配向膜上に＃５．０のワイヤーバーで連続的に塗布した。フィルムの搬送速度（Ｖ）は２６ｍ／ｍｉｎとした。塗布液の溶媒の乾燥およびディスコティック液晶化合物（ＤＬＣ化合物）の配向熟成のために、１１５℃の温風で９０秒間、続いて、８０℃の温風で６０秒間加熱し、その後、得られた塗膜に対して８０℃にてＵＶ（紫外線）照射（露光量：７０ｍＪ／ｃｍ2）を行い、液晶化合物の配向を固定化した。光学異方性層Ａの厚みは２．０μｍであった。ＤＬＣ化合物の円盤面のフィルム面に対する平均傾斜角は９０°であり、ＤＬＣ化合物がフィルム面に対して、垂直に配向していることを確認した。また、遅相軸の角度はラビングローラーの回転軸と平行で、フィルム長手方向（搬送方向）を９０°（フィルム幅方向を０°。配向膜側から観察してフィルム幅方向を基準（０°）に反時計回り方向を正の値で表す。）とすると、−１７．５°であった。得られた光学異方性層Ａはλ／２板に該当し、波長５５０ｎｍにおけるＲｅおよびＲｔｈは、それぞれＲｅ（５５０）：２３８ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）：−１１９ｎｍであった。【００８６】
光学異方性層塗布液（Ａ）の組成
――――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記のディスコティック液晶化合物（Ａ）                  ８０質量部
・下記のディスコティック液晶化合物（Ｂ）                  ２０質量部
・エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート
（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製）                      ５質量部
・光重合開始剤（イルガキュアー９０７、チバ・ジャパン社製）  ４質量部
・下記のピリジニウム塩（Ａ）                                ２質量部
・下記のポリマー（Ａ）                                  ０．２質量部
・下記のポリマー（Ｂ）                                  ０．１質量部
・下記のポリマー（Ｃ）                                  ０．１質量部
・メチルエチルケトン                                    ２１１質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――【００８７】
【化３】
2016194801.tif 000006
【００８８】
（ポリマーＡ）
【化４】
2016194801.tif 000007
【００８９】
（ポリマーＢ）
【化５】
2016194801.tif 000008
【００９０】
上記ａは９０、ｂは１０を表す。【００９１】
（ポリマーＣ）
【化６】
2016194801.tif 000009
【００９２】
（２）光学異方性層Ｂの作製
（光学異方性層Ｂの形成）
上記（光学異方性層Ａの作製）と同様の手順に従って、セルロースアシレートフィルム（Ｔ１）上に配向膜を形成し、配向膜に連続的にラビング処理を施した。このとき、長尺状のフィルムの長手方向と搬送方向は平行であり、フィルム長手方向（搬送方向）とラビングローラーの回転軸とのなす角度が１０２．５°とした（フィルム長手方向（搬送方向）を９０°とし、配向膜側から観察してフィルム幅方向を基準に反時計回り方向を正の値で表すと、ラビングローラーの回転軸は１２．５°。言い換えれば、ラビングローラーの回転軸の位置は、フィルム長手方向を基準に、反時計回りに１０２．５°回転させた位置に該当する。）。【００９３】
下記の組成のディスコティック液晶化合物を含む光学異方性層塗布液（Ｂ）を、ラビング処理後の配向膜上に＃２．８のワイヤーバーで連続的に塗布した。フィルムの搬送速度（Ｖ）は２６ｍ／ｍｉｎとした。塗布液の溶媒の乾燥およびディスコティック液晶化合物の配向熟成のために、６０℃の温風で６０秒間加熱し、その後、得られた塗膜に対して６０℃にてＵＶ照射を行い、ディスコティック液晶化合物の配向を固定化した。光学異方性層Ｂの厚みは０．８μｍであった。ディスコティック液晶化合物の長軸のフィルム面に対する平均傾斜角は９０°であり、ディスコティック液晶化合物がフィルム面に対して、垂直に配向していることを確認した。また、遅相軸の角度はラビングローラーの回転軸と直交で、フィルム長手方向を９０°（フィルム幅方向を０°。配向膜側から観察してフィルム幅方向を基準（０°）に反時計回り方向を正の値で表す。）とすると、１０２．５°（−７７．５°）であった。得られた光学異方性層Ｂはλ／４板に該当し、Ｒｅ（５５０）は１１８ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）は−５９ｎｍであった。【００９４】
光学異方性層塗布液（Ｂ）の組成
――――――――――――――――――――――――――――――――――
・上記ディスコティック液晶化合物（Ａ）                    ８０質量部
・上記ディスコティック液晶化合物（Ｂ）                    ２０質量部
・エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート
（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製）                    １０質量部
・光重合開始剤（イルガキュアー９０７、チバ・ジャパン社製）  ５質量部
・下記のピリジニウム塩（Ａ）                                １質量部
・上記のポリマー（Ａ）                                  ０．２質量部
・上記のポリマー（Ｂ）                                  ０．１質量部
・上記のポリマー（Ｃ）                                  ０．１質量部
・メチルエチルケトン                                    ３４８質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――【００９５】
（３）偏光子の作製
厚さ８０μｍのポリビニルアルコール（ＰＶＡ）フィルムを、ヨウ素濃度０．０５質量％のヨウ素水溶液中に３０℃で６０秒浸漬して、フィルムを染色した。次いで、染色したフィルムをホウ酸濃度４質量％濃度のホウ酸水溶液中に６０秒浸漬して、浸漬している間にフィルムを元の長さの５倍に縦延伸した後、５０℃で４分間乾燥させて、厚さ２０μｍの偏光子を得た。
市販のセルロースアシレート系フィルム「ＴＤ８０ＵＬ」（富士フイルム社製）を準備し、１．５モル／リットルで５５℃の水酸化ナトリウム水溶液中に浸漬した後、水で十分に水酸化ナトリウムを洗い流した。その後、得られたフィルムを、０．００５モル／リットルで３５℃の希硫酸水溶液に１分間浸漬した後、水に浸漬し希硫酸水溶液を十分に洗い流した。最後にフィルムを１２０℃で十分に乾燥させ、偏光子保護フィルムを作製した。【００９６】
上記で作製した偏光子の片面に、上記で作製した偏光子保護フィルムをポリビニルアルコール系接着剤で貼り合わせて、偏光子と、偏光子の片面に配置された偏光子保護フィルムとを含む偏光板を作製した。【００９７】
上記作製した偏光板中の偏光子（偏光子保護フィルムのない）側に、粘着剤（ＳＫ-２０５７、綜研化学株式会社製）を塗布して粘着剤層を形成し、上記作製したセルロースアシレートフィルム、配向膜および光学異方性層Ａを有するフィルムを、粘着剤層と光学異方性層Ａとが密着するように、貼り合せた。その後、セルロースアシレートフィルムおよび配向膜を剥離して、積層体を得た。
次に、得られた積層体中の光学異方性層Ａに、粘着剤（ＳＫ-２０５７、綜研化学株式会社製）を塗布して、粘着剤層を形成した。次に、粘着剤層が配置された積層体と、上記作製したセルロースアシレートフィルム、配向膜および光学異方性層Ｂを有するフィルムとを、粘着剤層と光学異方性層Ｂとが密着するように、貼り合せた。その後、セルロースアシレートフィルムおよび配向膜を剥離した。
上記手順により、偏光子、光学異方性層Ａ（λ／２板）、および、光学異方性層Ｂ（λ／４板）がこの順に配置されている円偏光板Ｘ１を作製した。なお、偏光子側から観察して、偏光子の透過軸を基準（０°）に反時計回りを正の値で表すと、λ／２板の遅相軸の角度は−１７．５°であり、λ／４板の遅相軸の角度は−７７．５°であった。
つまり、光学異方性層Ａ（λ／２板）の遅相軸と偏光子の透過軸とのなす角度は１７．５°であり、光学異方性層Ａ（λ／２板）の遅相軸と光学異方性層Ｂ（λ／４板）の遅相軸とのなす角度は６０°であった。【００９８】
有機ＥＬパネル（有機ＥＬ表示素子）搭載のＳＡＭＳＵＮＧ社製ＧＡＬＡＸＹ  Ｓ５を分解し、有機ＥＬ表示装置から、円偏光板付きタッチパネルを剥離し、さらにタッチパネルから円偏光板を剥がし、有機ＥＬ表示素子、タッチパネルおよび円偏光板をそれぞれ単離した。続いて、単離したタッチパネルを有機ＥＬ表示素子と再度貼合し、さらに上記作製した円偏光板Ｘ１を空気が入らないようにしてタッチパネル上に貼合し、有機ＥＬ表示装置（図１参照）を作製した。
なお、タッチパネル中には、ＩＴＯより構成される、屈折率１．９（波長５５０で測定）の透明電極層が含まれていた。
また、有機ＥＬ表示素子には、一対の電極に挟持された有機発光層が含まれていた。【００９９】
＜実施例２＞
実施例１にて作製した偏光板中の偏光子（偏光子保護フィルムのない）側に、粘着剤（ＳＫ-２０５７、綜研化学株式会社製）を塗布して粘着剤層を形成し、上記作製したセルロースアシレートフィルム、配向膜および光学異方性層Ａを有するフィルムを、粘着剤層と光学異方性層Ａとが密着するように、貼り合せた。その後、セルロースアシレートフィルムおよび配向膜を剥離して、積層体を得た。
次に、得られた積層体中の光学異方性層Ａに、粘着剤（ＳＫ-２０５７、綜研化学株式会社製）を塗布して、粘着剤層を形成した。次に、粘着剤層が配置された積層体と、別途用意したセルロースアシレートフィルムＡ（厚さ２５μｍ、波長５５０ｎｍにおけるＲｅとＲｔｈはそれぞれ０．８ｎｍ、９ｎｍ）を貼り合せた。
次に、貼り合せたセルロースアシレートフィルムＡ表面にさらに、前述の方法で粘着剤層を形成した。粘着剤層が配置された偏光板と、上記作製したセルロースアシレートフィルム、配向膜および光学異方性層Ｂを有するフィルムとを、粘着剤層と光学異方性層Ｂとが密着するように、貼り合せた。その後、セルロースアシレートフィルムおよび配向膜を剥離した。
上記手順により、偏光子、光学異方性層Ａ、セルロースアシレートフィルムＡ、および、光学異方性層Ｂがこの順に配置されている円偏光板Ｘ２を作製した。この態様においては、光学異方性層Ａがλ／２板に該当し、セルロースアシレートフィルムＡおよび光学異方性層Ｂの積層膜がλ／４板に該当する。
実施例１で使用した円偏光板Ｘ１の代わりに、上記円偏光板Ｘ２を使用した以外は、実施例１と同様の手順に従って、有機ＥＬ表示装置を作製した。【０１００】
＜実施例３＞
セルロースアシレートフィルムＡをセルロースアシレートフィルムＢ（厚さ２５μｍ、波長５５０ｎｍにおけるＲｅとＲｔｈは、それぞれ４．０ｎｍ、３６ｎｍ）に変更した以外は、実施例２と同様の手順に従って、有機ＥＬ表示装置を作製した。【０１０１】
＜実施例４＞
実施例１にて作製した偏光板中の偏光子（偏光子保護フィルムのない）側に、粘着剤（ＳＫ-２０５７、綜研化学株式会社製）を塗布して粘着剤層を形成し、上記作製したセルロースアシレートフィルム、配向膜および光学異方性層Ａを有するフィルムを、粘着剤層と光学異方性層Ａとが密着するように、貼り合せた。その後、セルロースアシレートフィルムおよび配向膜を剥離して、積層体を得た。
次に、得られた積層体中の光学異方性層Ａに、粘着剤（ＳＫ-２０５７、綜研化学株式会社製）を塗布して、粘着剤層を形成した。次に、粘着剤層が配置された積層体と、別途用意した上述したセルロースアシレートフィルムＢを貼り合せた。
次に、貼り合せたセルロースアシレートフィルムＢ表面に前述の方法で粘着剤層を形成し、セルロースアシレートフィルムＢをさらに貼り合せた。
次に、貼り合せたセルロースアシレートフィルムＢ表面にさらに、前述の方法で粘着剤層を形成し、粘着剤層が配置された偏光板と上記作製したセルロースアシレートフィルム、配向膜および光学異方性層Ｂを有するフィルムとを、粘着剤層と光学異方性層Ｂとが密着するように、貼り合せた。その後、セルロースアシレートフィルムおよび配向膜を剥離した。
上記手順により、偏光子、光学異方性層Ａ、セルロースアシレートフィルムＢ、セルロースアシレートフィルムＢ、および、光学異方性層Ｂがこの順に配置されている円偏光板Ｘ４を作製した。この態様においては、光学異方性層Ａがλ／２板に該当し、セルロースアシレートフィルムＢ、セルロースアシレートフィルムＢ、および、光学異方性層Ｂの積層膜がλ／４板に該当する。
実施例１で使用した円偏光板Ｘ１の代わりに、上記円偏光板Ｘ４を使用した以外は、実施例１と同様の手順に従って、有機ＥＬ表示装置を作製した。【０１０２】
＜実施例５＞
実施例１にて作製した偏光板中の偏光子（偏光子保護フィルムのない）側に、粘着剤（ＳＫ-２０５７、綜研化学株式会社製）を塗布して粘着剤層を形成し、別途用意したセルロースアシレートフィルムＡを貼り合せた。
次に、貼り合せたセルロースアシレートフィルムＡ表面にさらに、前述の方法で粘着剤層を形成した。粘着剤層が配置された偏光板と、上記作製したセルロースアシレートフィルム、配向膜および光学異方性層Ａを有するフィルムとを、粘着剤層と光学異方性層Ａとが密着するように、貼り合せた。その後、セルロースアシレートフィルムおよび配向膜を剥離して、積層体を得た。
次に、得られた積層体中の光学異方性層Ａに、粘着剤（ＳＫ-２０５７、綜研化学株式会社製）を塗布して、粘着剤層を形成した。次に、粘着剤層が配置された積層体と、上記作製したセルロースアシレートフィルム、配向膜および光学異方性層Ｂを有するフィルムとを、粘着剤層と光学異方性層Ｂとが密着するように、貼り合せた。その後、セルロースアシレートフィルムおよび配向膜を剥離した。
上記手順により、偏光子、セルロースアシレートフィルムＡ、光学異方性層Ａ、および、光学異方性層Ｂがこの順に配置されている円偏光板Ｘ５を作製した。この態様においては、セルロースアシレートフィルムＡおよび光学異方性層Ａの積層膜がλ／２板に該当し、光学異方性層Ｂがλ／４板に該当する。
実施例１で使用した円偏光板Ｘ１の代わりに、上記円偏光板Ｘ５を使用した以外は、実施例１と同様の手順に従って、有機ＥＬ表示装置を作製した。【０１０３】
＜実施例６＞
実施例１にて作製した偏光板中の偏光子（偏光子保護フィルムのない）側に、粘着剤（ＳＫ-２０５７、綜研化学株式会社製）を塗布して粘着剤層を形成し、別途用意したセルロースアシレートフィルムＡを貼り合せた。
次に、貼り合せたセルロースアシレートフィルムＡ表面にさらに、前述の方法で粘着剤層を形成した。粘着剤層が配置された偏光板と、上記作製したセルロースアシレートフィルム、配向膜および光学異方性層Ａを有するフィルムとを、粘着剤層と光学異方性層Ａとが密着するように、貼り合せた。その後、セルロースアシレートフィルムおよび配向膜を剥離して、積層体を得た。
次に、得られた積層体中の光学異方性層Ａに、粘着剤（ＳＫ-２０５７、綜研化学株式会社製）を塗布して、粘着剤層を形成した。次に、粘着剤層が配置された積層体と、別途用意したセルロースアシレートフィルムＡを貼り合せた。
次に、貼り合せたセルロースアシレートフィルムＡ表面にさらに、前述の方法で粘着剤層を形成した。粘着剤層が配置された偏光板と、上記作製したセルロースアシレートフィルム、配向膜および光学異方性層Ｂを有するフィルムとを、粘着剤層と光学異方性層Ｂとが密着するように、貼り合せた。その後、セルロースアシレートフィルムおよび配向膜を剥離した。
上記手順により、偏光子、セルロースアシレートフィルムＡ、光学異方性層Ａ、セルロースアシレートフィルムＡ、および、光学異方性層Ｂがこの順に配置されている円偏光板Ｘ６を作製した。この態様においては、セルロースアシレートフィルムＡおよび光学異方性層Ａの積層膜がλ／２板に該当し、セルロースアシレートフィルムＡおよび光学異方性層Ｂの積層膜がλ／４板に該当する。
実施例１で使用した円偏光板Ｘ１の代わりに、上記円偏光板Ｘ６を使用した以外は、実施例１と同様の手順に従って、有機ＥＬ表示装置を作製した。【０１０４】
＜実施例７＞
光学異方性層Ｂに隣接するセルロースアシレートフィルムＡをセルロースアシレートフィルムＢに変更した以外は、実施例６と同様の手順に従って、有機ＥＬ表示装置を作製した。【０１０５】
＜実施例８＞
セルロースアシレートフィルムＡをセルロースアシレートフィルムＢに変更した以外は、実施例５と同様の手順に従って、有機ＥＬ表示装置を作製した。【０１０６】
＜実施例９＞
偏光子に隣接するセルロースアシレートフィルムＡをセルロースアシレートフィルムＢに変更した以外は、実施例６と同様の手順に従って、有機ＥＬ表示装置を作製した。【０１０７】
＜実施例１０＞
２枚のセルロースアシレートフィルムＡをセルロースアシレートフィルムＢに変更した以外は、実施例６と同様の手順に従って、有機ＥＬ表示装置を作製した。【０１０８】
＜実施例１１＞
実施例１にて作製した偏光板中の偏光子（偏光子保護フィルムのない）側に、粘着剤（ＳＫ-２０５７、綜研化学株式会社製）を塗布して粘着剤層を形成し、別途用意したセルロースアシレートフィルムＢを貼り合せた。
次に、貼り合せたセルロースアシレートフィルムＢ表面にさらに、前述の方法で粘着剤層を形成した。粘着剤層が配置された偏光板と、上記作製したセルロースアシレートフィルム、配向膜および光学異方性層Ａを有するフィルムとを、粘着剤層と光学異方性層Ａとが密着するように、貼り合せた。その後、セルロースアシレートフィルムおよび配向膜を剥離して、積層体を得た。
次に、得られた積層体中の光学異方性層Ａに、粘着剤（ＳＫ-２０５７、綜研化学株式会社製）を塗布して、粘着剤層を形成した。次に、粘着剤層が配置された積層体と、別途用意したセルロースアシレートフィルムＢを貼り合せた。
次に、貼り合せたセルロースアシレートフィルムＢ表面に前述の方法で粘着剤層を形成し、セルロースアシレートフィルムＢをさらに貼り合せた。
次に、貼り合せたセルロースアシレートフィルムＢ表面にさらに、前述の方法で粘着剤層を形成し、粘着剤層が配置された偏光板と上記作製したセルロースアシレートフィルム、配向膜および光学異方性層Ｂを有するフィルムとを、粘着剤層と光学異方性層Ｂとが密着するように、貼り合せた。その後、セルロースアシレートフィルムおよび配向膜を剥離した。
上記手順により、偏光子、セルロースアシレートフィルムＢ、光学異方性層Ａ、セルロースアシレートフィルムＢ、セルロースアシレートフィルムＢ、および、光学異方性層Ｂがこの順に配置されている円偏光板Ｘ１１を作製した。この態様においては、セルロースアシレートフィルムＢおよび光学異方性層Ａの積層膜がλ／２板に該当し、セルロースアシレートフィルムＢ、セルロースアシレートフィルムＢ、および光学異方性層Ｂの積層膜がλ／４板に該当する。
実施例１で使用した円偏光板Ｘ１の代わりに、上記円偏光板Ｘ１１を使用した以外は、実施例１と同様の手順に従って、有機ＥＬ表示装置を作製した。【０１０９】
＜実施例１２＞
実施例１にて作製した偏光板中の偏光子（偏光子保護フィルムのない）側に、粘着剤（ＳＫ-２０５７、綜研化学株式会社製）を塗布して粘着剤層を形成し、別途用意したセルロースアシレートフィルムＢを貼り合せた。
次に、貼り合せたセルロースアシレートフィルムＢ表面に前述の方法で粘着剤層を形成し、セルロースアシレートフィルムＢをさらに貼り合せた。
次に、貼り合せたセルロースアシレートフィルムＢ表面にさらに、前述の方法で粘着剤層を形成した。粘着剤層が配置された偏光板と、上記作製したセルロースアシレートフィルム、配向膜および光学異方性層Ａを有するフィルムとを、粘着剤層と光学異方性層Ａとが密着するように、貼り合せた。その後、セルロースアシレートフィルムおよび配向膜を剥離して、積層体を得た。
次に、得られた積層体中の光学異方性層Ａに、粘着剤（ＳＫ-２０５７、綜研化学株式会社製）を塗布して、粘着剤層を形成した。次に、粘着剤層が配置された積層体と、上記作製したセルロースアシレートフィルム、配向膜および光学異方性層Ｂを有するフィルムとを、粘着剤層と光学異方性層Ｂとが密着するように、貼り合せた。その後、セルロースアシレートフィルムおよび配向膜を剥離した。
上記手順により、偏光子、セルロースアシレートフィルムＢ、セルロースアシレートフィルムＢ、光学異方性層Ａ、および、光学異方性層Ｂがこの順に配置されている円偏光板Ｘ１２を作製した。この態様においては、セルロースアシレートフィルムＢ、セルロースアシレートフィルムＢ、および、光学異方性層Ａの積層膜がλ／２板に該当し、光学異方性層Ｂがλ／４板に該当する。
実施例１で使用した円偏光板Ｘ１の代わりに、上記円偏光板Ｘ１２を使用した以外は、実施例１と同様の手順に従って、有機ＥＬ表示装置を作製した。【０１１０】
＜実施例１３＞
実施例１にて作製した偏光板中の偏光子（偏光子保護フィルムのない）側に、粘着剤（ＳＫ-２０５７、綜研化学株式会社製）を塗布して粘着剤層を形成し、別途用意したセルロースアシレートフィルムＢを貼り合せた。
次に、貼り合せたセルロースアシレートフィルムＢ表面に前述の方法で粘着剤層を形成し、セルロースアシレートフィルムＢをさらに貼り合せた。
次に、貼り合せたセルロースアシレートフィルムＢ表面にさらに、前述の方法で粘着剤層を形成した。粘着剤層が配置された偏光板と、上記作製したセルロースアシレートフィルム、配向膜および光学異方性層Ａを有するフィルムとを、粘着剤層と光学異方性層Ａとが密着するように、貼り合せた。その後、セルロースアシレートフィルムおよび配向膜を剥離して、積層体を得た。
さらに、得られた積層体中の光学異方性層Ａに、粘着剤（ＳＫ-２０５７、綜研化学株式会社製）を塗布して、粘着剤層を形成した。次に、粘着剤層が配置された積層体と、別途用意したセルロースアシレートフィルムＢを貼り合せた。
次に、貼り合せたセルロースアシレートフィルムＢ表面にさらに、前述の方法で粘着剤層を形成し、粘着剤層が配置された偏光板と上記作製したセルロースアシレートフィルム、配向膜および光学異方性層Ｂを有するフィルムとを、粘着剤層と光学異方性層Ｂとが密着するように、貼り合せた。その後、セルロースアシレートフィルムおよび配向膜を剥離した。
上記手順により、偏光子、セルロースアシレートフィルムＢ、セルロースアシレートフィルムＢ、光学異方性層Ａ、セルロースアシレートフィルムＢ、および、光学異方性層Ｂがこの順に配置されている円偏光板Ｘ１３を作製した。この態様においては、セルロースアシレートフィルムＢ、セルロースアシレートフィルムＢ、および光学異方性層Ａの積層膜がλ／２板に該当し、セルロースアシレートフィルムＢおよび光学異方性層Ｂの積層膜がλ／４板に該当する。
実施例１で使用した円偏光板Ｘ１の代わりに、上記円偏光板Ｘ１３を使用した以外は、実施例１と同様の手順に従って、有機ＥＬ表示装置を作製した。【０１１１】
＜実施例１４＞
実施例１にて作製した偏光板中の偏光子（偏光子保護フィルムのない）側に、粘着剤（ＳＫ-２０５７、綜研化学株式会社製）を塗布して粘着剤層を形成し、別途用意したセルロースアシレートフィルムＢを貼り合せた。
次に、貼り合せたセルロースアシレートフィルムＢ表面に前述の方法で粘着剤層を形成し、セルロースアシレートフィルムＢをさらに貼り合せた。
次に、貼り合せたセルロースアシレートフィルムＢ表面にさらに、前述の方法で粘着剤層を形成した。粘着剤層が配置された偏光板と、上記作製したセルロースアシレートフィルム、配向膜および光学異方性層Ａを有するフィルムとを、粘着剤層と光学異方性層Ａとが密着するように、貼り合せた。その後、セルロースアシレートフィルムおよび配向膜を剥離して、積層体を得た。
次に、得られた積層体中の光学異方性層Ａに、粘着剤（ＳＫ-２０５７、綜研化学株式会社製）を塗布して、粘着剤層を形成した。次に、粘着剤層が配置された積層体と、別途用意したセルロースアシレートフィルムＢを貼り合せた。
次に、貼り合せたセルロースアシレートフィルムＢ表面に前述の方法で粘着剤層を形成し、セルロースアシレートフィルムＢをさらに貼り合せた。
次に、貼り合せたセルロースアシレートフィルムＢ表面にさらに、前述の方法で粘着剤層を形成し、粘着剤層が配置された偏光板と上記作製したセルロースアシレートフィルム、配向膜および光学異方性層Ｂを有するフィルムとを、粘着剤層と光学異方性層Ｂとが密着するように、貼り合せた。その後、セルロースアシレートフィルムおよび配向膜を剥離した。
上記手順により、偏光子、セルロースアシレートフィルムＢ、セルロースアシレートフィルムＢ、光学異方性層Ａ、セルロースアシレートフィルムＢ、セルロースアシレートフィルムＢ、および、光学異方性層Ｂがこの順に配置されている円偏光板Ｘ１４を作製した。この態様においては、セルロースアシレートフィルムＢ、セルロースアシレートフィルムＢ、および光学異方性層Ａの積層膜がλ／２板に該当し、セルロースアシレートフィルムＢ、セルロースアシレートフィルムＢ、および光学異方性層Ｂの積層膜がλ／４板に該当する。
実施例１で使用した円偏光板Ｘ１の代わりに、上記円偏光板Ｘ１４を使用した以外は、実施例１と同様の手順に従って、有機ＥＬ表示装置を作製した。【０１１２】
＜実施例１５＞
（光学異方性層Ｃ、Ｄ（棒状液晶垂直配向フィルム）の形成）
（剥離性支持体の作製）
セルロースアシレートフィルムにアルカリ鹸化処理することなく以下のように配向膜を作製し、剥離性支持体を作製した。
（配向膜の形成）
セルロースアシレートフィルムに、下記組成の配向膜塗布液（Ｂ）を＃１４のワイヤーバーで連続的に塗布した。６０℃の温風で６０秒、さらに１００℃の温風で１２０秒乾燥した。【０１１３】
配向膜塗布液（Ｂ）の組成
――――――――――――――――――――――――――――――――――
下記変性ポリビニルアルコール−２                          １０質量部
水                                                      ３７１質量部
メタノール                                              １１９質量部
グルタルアルデヒド（架橋剤）                            ０．５質量部
クエン酸エステル（三協化学（株）製  ＡＳ３）        ０．１７５質量部
光重合開始剤（イルガキュア２９５９、チバ・ジャパン製）  ２．０質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――【０１１４】
［変性ポリビニルアルコール−２］
【化７】
2016194801.tif 000010
【０１１５】
下記の組成の棒状液晶化合物を含む光学異方性層塗布液（Ｃ）を、上記作製した配向膜上にワイヤーバーで連続的に塗布した。フィルムの搬送速度（Ｖ）は２６ｍ／ｍｉｎとした。塗布液の溶媒の乾燥および棒状液晶化合物の配向熟成のために、６０℃の温風で６０秒間加熱し、６０℃にてＵＶ照射を行い、棒状液晶化合物の配向を固定化して、棒状液晶垂直配向フィルムを作製した。棒状液晶化合物の長軸のフィルム面に対する平均傾斜角は９０°であり、棒状液晶化合物がフィルム面に対して、垂直に配向していることを確認した。なお、厚みを変更して、２種の棒状液晶垂直配向フィルムを作製した。
光学異方性層Ｃの厚みは０．８μｍであり、Ｒｅ（５５０）は０ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）は−６５ｎｍであった。
光学異方性層Ｄの厚みは２．０μｍであり、Ｒｅ（５５０）は０ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）は−１６０ｎｍであった。【０１１６】
光学異方性層塗布液（Ｃ）の組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――
棒状液晶化合物−１                                      ８０質量部
棒状液晶化合物−２                                      ２０質量部
光重合開始剤（イルガキュアー９０７、チバ・ジャパン社製）  ３質量部
増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）          １質量部
含フッ素化合物（ＦＰ−２）                            ０．３質量部
配向膜界面配向剤−１                                ０．５５質量部
メチルエチルケトン                                    １９３質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――【０１１７】
［棒状液晶化合物−１］
【化８】
2016194801.tif 000011
［棒状液晶化合物−２］
【化９】
2016194801.tif 000012
［含フッ素化合物（ＦＰ−２）］
【化１０】
2016194801.tif 000013
【０１１８】
（光学異方性層Ｅ，Ｆ（棒状液晶水平配向フィルム）の形成）
上述した手順に従って、剥離性支持体および配向膜の作製を行った。
下記の組成の棒状液晶化合物を含む光学異方性層塗布液（Ｄ）を、上記作製した配向膜上にワイヤーバーで連続的に塗布した。フィルムの搬送速度（Ｖ）は２６ｍ／ｍｉｎとした。塗布液の溶媒の乾燥および棒状液晶化合物の配向熟成のために、６０℃の温風で６０秒間加熱し、６０℃にてＵＶ照射を行い、棒状液晶化合物の配向を固定化して、棒状液晶水平配向フィルムを作製した。棒状液晶化合物の長軸のフィルム面に対する平均傾斜角は０°であり、棒状液晶化合物がフィルム面に対して、水平に配向していることを確認した。
なお、厚みを変更して、２種の棒状液晶水平配向フィルムを作製した。
棒状液晶化合物の遅相軸の角度はラビングローラーの回転軸と直交で、フィルム長手方向を９０°（フィルム幅方向を０°。配向膜側から観察してフィルム幅方向を基準（０°）に反時計回り方向を正の値で表す。）とすると、光学異方性層Ｅでは１０２．５°（−７７．５°）であり、光学異方性層Ｆでは−１７．５°であった。
光学異方性層ＥのＲｅ（５５０）は１１８ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）は５９ｎｍであった。
光学異方性層ＦのＲｅ（５５０）は２３８ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）は１１９ｎｍであった。【０１１９】
光学異方性層塗布液（Ｄ）の組成
――――――――――――――――――――――――――――――――――
棒状液晶化合物−１                                        ８０質量部
棒状液晶化合物−２                                        ２０質量部
光重合開始剤（イルガキュアー９０７、チバ・ジャパン社製）    ３質量部
増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）            １質量部
含フッ素化合物（ＦＰ−２）                              １．０質量部
メチルエチルケトン                                      １９３質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――【０１２０】
［棒状液晶化合物−１］
【化１１】
2016194801.tif 000014
［棒状液晶化合物−２］
【化１２】
2016194801.tif 000015
［含フッ素化合物（ＦＰ−２）］
【化１３】
2016194801.tif 000016
【０１２１】
実施例１にて作製した偏光板中の偏光子（偏光子保護フィルムのない）側に、粘着剤（ＳＫ-２０５７、綜研化学株式会社製）を塗布して粘着剤層を形成し、別途用意したセルロースアシレートフィルムＢを貼り合せた。
次に、貼り合せたセルロースアシレートフィルムＢ表面にさらに、前述の方法で粘着剤層を形成した。粘着剤層が配置された偏光板と、上記作製したセルロースアシレートフィルム、配向膜および光学異方性層Ａを有するフィルムとを、粘着剤層と光学異方性層Ａとが密着するように、貼り合せた。その後、セルロースアシレートフィルムおよび配向膜を剥離して、積層体を得た。
次に、得られた積層体中の光学異方性層Ａに、粘着剤（ＳＫ-２０５７、綜研化学株式会社製）を塗布して、粘着剤層を形成した。次に、粘着剤層が配置された偏光板と、上記作製したセルロースアシレートフィルム、配向膜および光学異方性層Ｃを有するフィルムとを、粘着剤層と光学異方性層Ｃとが密着するように、貼り合せた。その後、セルロースアシレートフィルムを剥離して、積層体を得た。
さらに、得られた積層体中の光学異方性層Ｃに、粘着剤（ＳＫ-２０５７、綜研化学株式会社製）を塗布して、粘着剤層を形成した。次に、粘着剤層が配置された偏光板と、上記作製したセルロースアシレートフィルム、配向膜および光学異方性層Ｅを有するフィルムとを、粘着剤層と光学異方性層Ｅとが密着するように、貼り合せた。その後、セルロースアシレートフィルムを剥離して、積層体を得た。
上記手順により、偏光子、セルロースアシレートフィルムＢ、光学異方性層Ａ、光学異方性層Ｃ、および光学異方性層Ｅがこの順に配置されている円偏光板Ｘ１５を作製した。この態様においては、セルロースアシレートフィルムＢおよび光学異方性層Ａの積層膜がλ／２板に該当し、光学異方性層Ｃおよび光学異方性層Ｅの積層膜がλ／４板に該当する。
実施例１で使用した円偏光板Ｘ１の代わりに、上記円偏光板Ｘ１５を使用した以外は、実施例１と同様の手順に従って、有機ＥＬ表示装置を作製した。【０１２２】
＜実施例１６＞
実施例１にて作製した偏光板中の偏光子（偏光子保護フィルムのない）側に、粘着剤（ＳＫ-２０５７、綜研化学株式会社製）を塗布して粘着剤層を形成し、上記作製したセルロースアシレートフィルム、配向膜および光学異方性層Ｄを有するフィルムを、粘着剤層と光学異方性層Ｄとが密着するように、貼り合せた。その後、セルロースアシレートフィルムを剥離して、積層体を得た。
次に、得られた積層体中の光学異方性層Ｄに、粘着剤（ＳＫ-２０５７、綜研化学株式会社製）を塗布して粘着剤層を形成した。次に、粘着剤層が配置された偏光板と、上記作製したセルロースアシレートフィルム、配向膜および光学異方性層Ｆを有するフィルムとを、粘着剤層と光学異方性層Ｆとが密着するように、貼り合せた。その後、セルロースアシレートフィルムおよび配向膜を剥離して、積層体を得た。
次に、得られた積層体中の光学異方性層Ｆに、粘着剤（ＳＫ-２０５７、綜研化学株式会社製）を塗布して、粘着剤層を形成した。次に、粘着剤層が配置された偏光板と、上記作製したセルロースアシレートフィルム、配向膜および光学異方性層Ｃを有するフィルムとを、粘着剤層と光学異方性層Ｃとが密着するように、貼り合せた。その後、セルロースアシレートフィルムを剥離して、積層体を得た。
次に、得られた積層体中の光学異方性層Ｃに、粘着剤（ＳＫ-２０５７、綜研化学株式会社製）を塗布して粘着剤層を形成した。次に、粘着剤層が配置された偏光板と、上記作製したセルロースアシレートフィルム、配向膜および光学異方性層Ｅを有するフィルムとを、粘着剤層と光学異方性層Ｅとが密着するように、貼り合せた。その後、セルロースアシレートフィルムを剥離して、積層体を得た。
上記手順により、偏光子、光学異方性層Ｄ、光学異方性層Ｆ、光学異方性層Ｃ、および光学異方性層Ｅがこの順に配置されている円偏光板Ｘ１６を作製した。この態様においては、光学異方性層Ｄおよび光学異方性層Ｆの積層膜がλ／２板に該当し、光学異方性層Ｃおよび光学異方性層Ｅの積層膜がλ／４板に該当する。
実施例１で使用した円偏光板Ｘ１の代わりに、上記円偏光板Ｘ１６を使用した以外は、実施例１と同様の手順に従って、有機ＥＬ表示装置を作製した。【０１２３】
＜実施例１７＞
実施例１にて作製した偏光板中の偏光子（偏光子保護フィルムのない）側に、粘着剤（ＳＫ-２０５７、綜研化学株式会社製）を塗布して粘着剤層を形成し、上記作製したセルロースアシレートフィルム、配向膜および光学異方性層Ｄを有するフィルムを、粘着剤層と光学異方性層Ｄとが密着するように、貼り合せた。その後、セルロースアシレートフィルムを剥離して、積層体を得た。
次に、得られた積層体中の光学異方性層Ｄに、粘着剤層を形成した。次に、市販のシクロオレフィン系ポリマーフィルム「ＺＥＯＮＯＲ  ＺＦ１４」（（株）オプテス製）を延伸したフィルムＡ（シクロオレフィン系ポリマーフィルムＡ）（厚さ３２μｍ、波長５５０ｎｍにおけるＲｅとＲｔｈはそれぞれ２３８ｎｍ、１１９ｎｍ）を貼り合わせ、積層体を得た。
次に、得られた積層体中のシクロオレフィン系ポリマーフィルムＡに、粘着剤（ＳＫ-２０５７、綜研化学株式会社製）を塗布して、粘着剤層を形成した。次に、粘着剤層が配置された偏光板と、上記作製したセルロースアシレートフィルム、配向膜および光学異方性層Ｃを有するフィルムとを、粘着剤層と光学異方性層Ｃとが密着するように、貼り合せた。その後、セルロースアシレートフィルムを剥離して、積層体を得た。さらに、得られた積層体中の光学異方性層Ｃに、粘着剤層を形成した。
次に、粘着剤層が配置された偏光板と、市販のシクロオレフィン系ポリマーフィルム「ＺＥＯＮＯＲ  ＺＦ１４」（（株）オプテス製）を延伸したフィルムＢ（シクロオレフィン系ポリマーフィルムＢ）（厚さ２８μｍ、波長５５０ｎｍにおけるＲｅとＲｔｈはそれぞれ１１８ｎｍ、５９ｎｍ）を貼り合わせ、積層体を得た。
上記手順により、偏光子、光学異方性層Ｄ、シクロオレフィン系ポリマーフィルムＡ、光学異方性層Ｃ、およびシクロオレフィン系ポリマーフィルムＢがこの順に配置されている円偏光板Ｘ１７を作製した。この態様においては、光学異方性層Ｄおよびシクロオレフィン系ポリマーフィルムＡの積層膜がλ／２板に該当し、光学異方性層Ｃおよびシクロオレフィン系ポリマーフィルムＢの積層膜がλ／４板に該当する。
実施例１で使用した円偏光板Ｘ１の代わりに、上記円偏光板Ｘ１７を使用した以外は、実施例１と同様の手順に従って、有機ＥＬ表示装置を作製した。【０１２４】
＜比較例１＞
（光学異方性層Ｇ（棒状液晶垂直配向フィルム）の形成）
光学異方性層の厚みを０．２５μｍに変更した以外は、実施例１５に記載の（光学異方性層Ｃ、Ｄ（棒状液晶垂直配向フィルム）の形成）の手順に従って、光学異方性層Ｇ（棒状液晶垂直配向フィルム）を作製した。
光学異方性層Ｇの厚みは０．２５μｍであり、Ｒｅ（５５０）は０ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）は−２０ｎｍであった。【０１２５】
実施例１にて作製した偏光板中の偏光子（偏光子保護フィルムのない）側に、粘着剤（ＳＫ-２０５７、綜研化学株式会社製）を塗布して粘着剤層を形成し、上記作製したセルロースアシレートフィルム、配向膜および光学異方性層Ｇを有するフィルムを、粘着剤層と光学異方性層Ｇとが密着するように、貼り合せた。その後、セルロースアシレートフィルムを剥離して、積層体を得た。
次に、得られた積層体中の光学異方性層Ｇに、粘着剤（ＳＫ-２０５７、綜研化学株式会社製）を塗布して粘着剤層を形成した。粘着剤層が配置された偏光板と、上記作製したセルロースアシレートフィルム、配向膜および光学異方性層Ａを有するフィルムとを、粘着剤層と光学異方性層Ａとが密着するように、貼り合せた。その後、セルロースアシレートフィルムおよび配向膜を剥離して、積層体を得た。
次に、得られた積層体中の光学異方性層Ａに、粘着剤（ＳＫ-２０５７、綜研化学株式会社製）を塗布して、粘着剤層を形成した。次に、粘着剤層が配置された積層体と、上記作製したセルロースアシレートフィルム、配向膜および光学異方性層Ｂを有するフィルムとを、粘着剤層と光学異方性層Ｂとが密着するように、貼り合せた。その後、セルロースアシレートフィルムおよび配向膜を剥離した。
上記手順により、偏光子、光学異方性層Ｇ、光学異方性層Ａ、および、光学異方性層Ｂがこの順に配置されている円偏光板Ｘ１８を作製した。この態様においては、光学異方性層Ｇおよび光学異方性層Ａの積層膜がλ／２板に該当し、光学異方性層Ｂがλ／４板に該当する。
実施例１で使用した円偏光板Ｘ１の代わりに、上記円偏光板Ｘ１８を使用した以外は、実施例１と同様の手順に従って、有機ＥＬ表示装置を作製した。【０１２６】
＜比較例２＞
実施例１にて作製した偏光板中の偏光子（偏光子保護フィルムのない）側に、粘着剤（ＳＫ-２０５７、綜研化学株式会社製）を塗布して粘着剤層を形成し、上記作製したセルロースアシレートフィルム、配向膜および光学異方性層Ｇを有するフィルムを、粘着剤層と光学異方性層Ｇとが密着するように、貼り合せた。その後、セルロースアシレートフィルムを剥離して、積層体を得た。
次に、得られた積層体中の光学異方性層Ｇに、粘着剤（ＳＫ-２０５７、綜研化学株式会社製）を塗布して粘着剤層を形成した。粘着剤層が配置された偏光板と、上記作製したセルロースアシレートフィルム、配向膜および光学異方性層Ａを有するフィルムとを、粘着剤層と光学異方性層Ａとが密着するように、貼り合せた。その後、セルロースアシレートフィルムおよび配向膜を剥離して、積層体を得た。
次に、得られた積層体中の光学異方性層Ａに、粘着剤（ＳＫ-２０５７、綜研化学株式会社製）を塗布して、粘着剤層を形成した。次に、粘着剤層が配置された積層体と、別途用意した上述したセルロースアシレートフィルムＢを貼り合せた。
次に、貼り合せたセルロースアシレートフィルムＢ表面に前述の方法で粘着剤層を形成し、セルロースアシレートフィルムＢをさらに貼り合せた。
次に、貼り合せたセルロースアシレートフィルムＢ表面にさらに、前述の方法で粘着剤層を形成し、粘着剤層が配置された偏光板と上記作製したセルロースアシレートフィルム、配向膜および光学異方性層Ｂを有するフィルムとを、粘着剤層と光学異方性層Ｂとが密着するように、貼り合せた。その後、セルロースアシレートフィルムおよび配向膜を剥離した。
上記手順により、偏光子、光学異方性層Ｇ、光学異方性層Ａ、セルロースアシレートフィルムＢ、セルロースアシレートフィルムＢ、および、光学異方性層Ｂがこの順に配置されている円偏光板Ｘ１９を作製した。この態様においては、光学異方性層Ｇおよび光学異方性層Ａの積層膜がλ／２板に該当し、セルロースアシレートフィルムＢ、セルロースアシレートフィルムＢ、および光学異方性層Ｂの積層膜がλ／４板に該当する。
実施例１で使用した円偏光板Ｘ１の代わりに、上記円偏光板Ｘ１９を使用した以外は、実施例１と同様の手順に従って、有機ＥＬ表示装置を作製した。【０１２７】
＜比較例３＞
実施例１にて作製した偏光板中の偏光子（偏光子保護フィルムのない）側に、粘着剤（ＳＫ-２０５７、綜研化学株式会社製）を塗布して粘着剤層を形成し、別途用意したセルロースアシレートフィルムＣ（厚さ４５μｍ、波長５５０ｎｍにおけるＲｅとＲｔｈはそれぞれ０．５ｎｍ、１１６ｎｍ）を貼り合せた。
次に、貼り合せたセルロースアシレートフィルムＣ表面にさらに、前述の方法で粘着剤層を形成した。粘着剤層が配置された偏光板と、上記作製したセルロースアシレートフィルム、配向膜および光学異方性層Ａを有するフィルムとを、粘着剤層と光学異方性層Ａとが密着するように、貼り合せた。その後、セルロースアシレートフィルムおよび配向膜を剥離して、積層体を得た。
次に、得られた積層体中の光学異方性層Ａに、粘着剤（ＳＫ-２０５７、綜研化学株式会社製）を塗布して、粘着剤層を形成した。次に、粘着剤層が配置された積層体と、上記作製したセルロースアシレートフィルム、配向膜および光学異方性層Ｂを有するフィルムとを、粘着剤層と光学異方性層Ｂとが密着するように、貼り合せた。その後、セルロースアシレートフィルムおよび配向膜を剥離した。
上記手順により、偏光子、セルロースアシレートフィルムＣ、光学異方性層Ａ、および、光学異方性層Ｂがこの順に配置されている円偏光板Ｘ２０を作製した。この態様においては、セルロースアシレートフィルムＣおよび光学異方性層Ａの積層膜がλ／２板に該当し、光学異方性層Ｂがλ／４板に該当する。
実施例１で使用した円偏光板Ｘ１の代わりに、上記円偏光板Ｘ２０を使用した以外は、実施例１と同様の手順に従って、有機ＥＬ表示装置を作製した。【０１２８】
＜比較例４＞
偏光子に隣接するセルロースアシレートフィルムＡをセルロースアシレートフィルムＣに変更した以外は、実施例６と同様の手順に従って、有機ＥＬ表示装置を作製した。【０１２９】
＜比較例５＞
偏光子に隣接するセルロースアシレートフィルムＡをセルロースアシレートフィルムＣに変更した以外は、実施例７と同様の手順に従って、有機ＥＬ表示装置を作製した。【０１３０】
＜比較例６＞
偏光子に隣接するセルロースアシレートフィルムＢをセルロースアシレートフィルムＣに変更した以外は、実施例１１と同様の手順に従って、有機ＥＬ表示装置を作製した。【０１３１】
＜比較例７＞
セルロースアシレートフィルムＢをセルロースアシレートフィルムＣに変更した以外は、比較例５と同様の手順に従って、有機ＥＬ表示装置を作製した。【０１３２】
＜比較例８＞
偏光子に隣接するセルロースアシレートフィルムＣを使用しなかった以外は、比較例７と同様の手順に従って、有機ＥＬ表示装置を作製した。【０１３３】
＜比較例９＞
偏光子に隣接するセルロースアシレートフィルムＣをセルロースアシレートフィルムＡに変更した以外は、比較例７と同様の手順に従って、有機ＥＬ表示装置を作製した。【０１３４】
＜比較例１０＞
偏光子に隣接するセルロースアシレートフィルムＣをセルロースアシレートフィルムＢに変更した以外は、比較例７と同様の手順に従って、有機ＥＬ表示装置を作製した。【０１３５】
＜比較例１１＞
光学異方性層Ｂに隣接するセルロースアシレートフィルムＢをセルロースアシレートフィルムＣに変更した以外は、実施例１３と同様の手順に従って、有機ＥＬ表示装置を作製した。【０１３６】
＜比較例１２＞
実施例１にて作製した偏光板中の偏光子（偏光子保護フィルムのない）側に、粘着剤（ＳＫ-２０５７、綜研化学株式会社製）を塗布して粘着剤層を形成し、別途用意したセルロースアシレートフィルムＢを貼り合せた。
次に、貼り合せたセルロースアシレートフィルムＢ表面にさらに、前述の方法で粘着剤層を形成した。粘着剤層が配置された偏光板と、上記作製したセルロースアシレートフィルム、配向膜および光学異方性層Ａを有するフィルムとを、粘着剤層と光学異方性層Ａとが密着するように、貼り合せた。その後、セルロースアシレートフィルムおよび配向膜を剥離して、積層体を得た。
次に、得られた積層体中の光学異方性層Ａに、粘着剤（ＳＫ-２０５７、綜研化学株式会社製）を塗布して、粘着剤層を形成した。次に、粘着剤層が配置された偏光板と、上記作製したセルロースアシレートフィルム、配向膜および光学異方性層Ｅを有するフィルムとを、粘着剤層と光学異方性層Ｅとが密着するように、貼り合せた。その後、セルロースアシレートフィルムを剥離して、積層体を得た。
上記手順により、偏光子、セルロースアシレートフィルムＢ、光学異方性層Ａ、および光学異方性層Ｅがこの順に配置されている円偏光板Ｘ２９を作製した。この態様においては、セルロースアシレートフィルムＢおよび光学異方性層Ａの積層膜がλ／２板に該当し、光学異方性層Ｅがλ／４板に該当する。
実施例１で使用した円偏光板Ｘ１の代わりに、上記円偏光板Ｘ２９を使用した以外は、実施例１と同様の手順に従って、有機ＥＬ表示装置を作製した。【０１３７】
＜比較例１３＞
実施例１にて作製した偏光板中の偏光子（偏光子保護フィルムのない）側に、粘着剤（ＳＫ-２０５７、綜研化学株式会社製）を塗布して粘着剤層を形成し、別途用意したセルロースアシレートフィルムＢを貼り合せた。
次に、貼り合せたセルロースアシレートフィルムＢ表面にさらに、前述の方法で粘着剤層を形成した。次に、粘着剤層が配置された偏光板と、上記作製したセルロースアシレートフィルム、配向膜および光学異方性層Ｆを有するフィルムとを、粘着剤層と光学異方性層Ｆとが密着するように、貼り合せた。その後、セルロースアシレートフィルムおよび配向膜を剥離して、積層体を得た。
次に、得られた積層体中の光学異方性層Ｆに、粘着剤（ＳＫ-２０５７、綜研化学株式会社製）を塗布して、粘着剤層を形成した。次に、粘着剤層が配置された積層体と、別途用意したセルロースアシレートフィルムＢを貼り合せた。
次に、貼り合せたセルロースアシレートフィルムＢ表面にさらに、前述の方法で粘着剤層を形成した。粘着剤層が配置された偏光板と、上記作製したセルロースアシレートフィルム、配向膜および光学異方性層Ｅを有するフィルムとを、粘着剤層と光学異方性層Ｅとが密着するように、貼り合せた。その後、セルロースアシレートフィルムおよび配向膜を剥離した。
上記手順により、偏光子、セルロースアシレートフィルムＢ、光学異方性層Ｆ、セルロースアシレートフィルムＢ、および、光学異方性層Ｅがこの順に配置されている円偏光板Ｘ３０を作製した。この態様においては、セルロースアシレートフィルムＢ、および光学異方性層Ｆの積層膜がλ／２板に該当し、セルロースアシレートフィルムＢおよび光学異方性層Ｅの積層膜がλ／４板に該当する。
実施例１で使用した円偏光板Ｘ１の代わりに、上記円偏光板Ｘ３０を使用した以外は、実施例１と同様の手順に従って、有機ＥＬ表示装置を作製した。【０１３８】
＜比較例１４＞
実施例１にて作製した偏光板中の偏光子（偏光子保護フィルムのない）側に、粘着剤（ＳＫ-２０５７、綜研化学株式会社製）を塗布して粘着剤層を形成し、市販のシクロオレフィン系ポリマーフィルム「ＺＥＯＮＯＲ  ＺＦ１４」（（株）オプテス製）を延伸したフィルムＣ（シクロオレフィン系ポリマーフィルムＣ）（厚さ３２μｍ、波長５５０ｎｍにおけるＲｅとＲｔｈはそれぞれ２７０ｎｍ、１３５ｎｍ）を貼り合わせ、積層体を得た。
次に、得られた積層体中のシクロオレフィン系ポリマーフィルムＣに、粘着剤（ＳＫ-２０５７、綜研化学株式会社製）を塗布して、粘着剤層を形成した。次に、粘着剤層が配置された偏光板と、市販のシクロオレフィン系ポリマーフィルム「ＺＥＯＮＯＲ  ＺＦ１４」（（株）オプテス製）を延伸したフィルムＤ（シクロオレフィン系ポリマーフィルムＤ）（厚さ２８μｍ、波長５５０ｎｍにおけるＲｅとＲｔｈはそれぞれ１３８ｎｍ、６９ｎｍ）を貼り合わせ、積層体を得た。
上記手順により、偏光子、シクロオレフィン系ポリマーフィルムＣ、およびシクロオレフィン系ポリマーフィルムＤがこの順に配置されている円偏光板Ｘ３１を作製した。この態様においては、シクロオレフィン系ポリマーフィルムＣがλ／２板に該当し、シクロオレフィン系ポリマーフィルムＤがλ／４板に該当する。
実施例１で使用した円偏光板Ｘ１の代わりに、上記円偏光板Ｘ３１を使用した以外は、実施例１と同様の手順に従って、有機ＥＬ表示装置を作製した。【０１３９】
＜比較例１５＞
有機ＥＬパネル（有機ＥＬ表示素子）搭載のＳＡＭＳＵＮＧ社製ＧＡＬＡＸＹ  Ｓ５を分解し、有機ＥＬ表示装置から、円偏光板付きタッチパネルを剥離し、有機ＥＬ表示素子を単離した。続いて、上記作製した円偏光板Ｘ１を空気が入らないようにして有機ＥＬ表示素子の電極上に貼合し、有機ＥＬ表示装置を作製した。
なお、比較例１５においては、有機ＥＬ表示装置の中にタッチパネルが含まれていなかった。【０１４０】
＜比較例１６＞
円偏光板Ｘ１を円偏光板Ｘ２に変更した以外は、比較例１５と同様の手順に従って、有機ＥＬ表示装置を作製した。【０１４１】
＜比較例１７＞
実施例１にて作製した偏光板中の偏光子に、特許文献１である特開２００３−２６２７２７号公報の実施例４で使用されている等方性のロール状トリアセチルセルロースフィルム（以後、「セルロースアシレートフィルムＤ」と称する）、光学的異方性層（Ａ）（以後、「光学異方性層Ｈ」と称する）、および、光学的異方性層（Ｂ）（以後、「光学異方性層Ｉ」と称する）を、粘着剤（ＳＫ-２０５７、綜研化学株式会社製）より形成される粘着剤層を介して貼り合わせて、積層体を得た。
上記手順により、セルロースアシレートフィルムＤ、光学異方性層Ｈ、および、光学異方性層Ｉがこの順に配置されている円偏光板Ｘ３４を作製した。この態様においては、セルロースアシレートフィルムＤおよび光学異方性層Ｈの積層膜がλ／２板に該当し、光学異方性層Ｉがλ／４板に該当する。
実施例１で使用した円偏光板Ｘ１の代わりに、上記円偏光板Ｘ３４を使用した以外は、実施例１と同様の手順に従って、有機ＥＬ表示装置を作製した。
なお、比較例１７においては、後述する表１に示すように、λ／４板が上述した要件を満たしていなかった。【０１４２】
なお、上述した実施例１〜１７および比較例１〜１７の有機ＥＬ表示装置においては、偏光子側から観察して、偏光子の透過軸を基準（０°）に反時計回りを正の値で表すと、λ／２板の遅相軸の角度は−１７．５°であり、λ／４板の遅相軸の角度は−７７．５°であった。
つまり、λ／２板の遅相軸と偏光子の透過軸とのなす角度は１７．５°であり、λ／２板の遅相軸とλ／４板の遅相軸とのなす角度は６０°であった。【０１４３】
また、上述した実施例１〜１７の有機ＥＬ表示装置中のλ／２板のＲｅ（５５０）は、それぞれ２１０ｎｍ≦Ｒｅ（５５０）≦３００ｎｍを満たしていた。
また、上述した実施例１〜１７の有機ＥＬ表示装置中のλ／４板のＲｅ（５５０）は、それぞれ１００ｎｍ≦Ｒｅ（５５０）≦１６０ｎｍを満たしていた。【０１４４】
＜評価＞
（４５°反射率および反射色味の評価）
上記で作製した有機ＥＬ表示装置を、４５°傾けてＳＲ-３（トプコン製）に固定し、蛍光灯下での明度（Ｌ＊）、および、色味（ａ＊/ｂ＊）を測定した。得られた明度（Ｌ＊）、色味（ａ＊/ｂ＊）から下記式（１）によりΔＥａｂを定義した。
ΔＥａｂ＝｛（Ｌ＊）２＋（ａ＊）２＋（ｂ＊）２｝０．５・・・（式１）
ΔＥａｂはＬ＊ａ＊ｂ＊空間における原点からの距離を表しており、ΔＥａｂの値が小さい程、黒色再現性が高いことを表す。実用上、ΔＥａｂは３０未満が好ましい。結果を表１に示す。【０１４５】
表１中、「ＴＡＣ＿Ａ」はセルロースアシレートフィルムＡを、「ＴＡＣ＿Ｂ」はセルロースアシレートフィルムＢを、「ＴＡＣ＿Ｃ」はセルロースアシレートフィルムＣを、「ＴＡＣ＿Ｄ」はセルロースアシレートフィルムＤを表す。
「ＣＯＰフィルムＡ」はシクロオレフィン系ポリマーフィルムＡを、「ＣＯＰフィルムＢ」はシクロオレフィン系ポリマーフィルムＢを、「ＣＯＰフィルムＣ」はシクロオレフィン系ポリマーフィルムＣを、「ＣＯＰフィルムＤ」はシクロオレフィン系ポリマーフィルムＤを表す。
表１中の「位相差層厚み」は、λ／２板およびλ／４板の合計厚みを意図する。【０１４６】
【表１】
2016194801.tif 000017
【０１４７】
表１に示すように、本発明の有機ＥＬ表示装置は、優れた特性を示した。特に、実施例１〜７に示すように、ＲｔｈＡ（５５０）が、−１２０ｎｍ超−９０ｎｍ以下の範囲である場合、ΔＥａｂがより小さく、効果がより優れることが確認された。
また、実施例１および１６に示すように、λ／２板およびλ／４板がポリマーフィルムからなる光学異方性層を含まない場合（要件１を満たす場合）、円偏光板の厚みがより薄くなり好ましい。また、要件２を満たす場合も、円偏光板の厚みがより薄くなり好ましい。
一方、所定の光学要件を満たさない比較例においては、所望の効果が得られなかった。
【符号の説明】
【０１４８】
１０，１１０    有機ＥＬ表示装置
１２    偏光子
１４，１１４    λ／２板
１６，１１６    λ／４板
１８，１１８    円偏光板
２０    タッチパネル
２２    有機ＥＬ表示素子
２４    第１光学異方性層
２６    第２光学異方性層
２８    第３光学異方性層
３０    第４光学異方性層
５０    第１絶縁層
５２    透明電極層
５４    第２絶縁層
５６    基板
６０    第１電極
６２    有機発光層
６４    第２電極
６６    基板
７０    ガスバリア層
７２    第１無機膜
７４    第１有機膜
７６    第２無機膜
７８    第２有機膜
【図１】
2016194801.tif 000018
【図２】
2016194801.tif 000019
【図３】
2016194801.tif 000020
【図４】
2016194801.tif 000021
【図５】
2016194801.tif 000022
【図６】
2016194801.tif 000023
【国際調査報告】
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