(57)【要約】  官能基を保護した化合物を固体化又は不溶化させず、反応後の分離、精製を容易ならしめる保護基を開発することにある。  一般式（１）2017221889.tif 000037（式中、Ｙは−ＯＲ19（ここでＲ19は水素原子又は活性エステル型保護基を示す）、−ＮＨＲ20（ここで、Ｒ20は水素原子、炭素数１〜６の直鎖若しくは分岐鎖のアルキル基、又はアラルキル基を示す等を示し、Ｒ1〜Ｒ10のうちの少なくとも１個は式（２）2017221889.tif 000038で表される基を示し、残余は水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜４のアルキル基又は炭素数１〜４のアルコキシ基を示し；Ｒ11は炭素数１〜１６の直鎖又は分岐鎖のアルキレン基を示し；ＸはＯ又はＣＯＮＲ21（ここでＲ21は水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基を示す）を示し；Ａは式（３）等2017221889.tif 000039で表される基を示す）で表されるジフェニルメタン化合物。
2017221889.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一般式（１）
【化１】
2017221889.tif 000034
（式中、Ｙは−ＯＲ19（ここでＲ19は水素原子又は活性エステル型保護基を示す）、−ＮＨＲ20（ここで、Ｒ20は水素原子、炭素数１〜６の直鎖若しくは分岐鎖のアルキル基、又はアラルキル基を示す）、アジド、ハロゲン原子、メチレン基と一体となったオキシム、又はメチレン基と一体となったカルボニル基を示し、Ｒ1〜Ｒ10のうちの少なくとも１個は式（２）
【化２】
2017221889.tif 000035
で表される基を示し、残余は水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜４のアルキル基又は炭素数１〜４のアルコキシ基を示し；
Ｒ11は炭素数１〜１６の直鎖又は分岐鎖のアルキレン基を示し；
ＸはＯ又はＣＯＮＲ21（ここでＲ21は水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基を示す）を示し；
Ａは式（３）、（４）、（５）、（６）、（７）、（８）、（９）、（１０）、（１１）、（１２）又は（１３）
【化３】
2017221889.tif 000036
（ここで、Ｒ12、Ｒ13及びＲ14は、同一又は異なって、炭素数１〜６の直鎖若しくは分岐鎖のアルキル基、又は置換基を有していてもよいアリール基を示し；Ｒ15は単結合又は炭素数１〜３の直鎖又は分岐鎖のアルキレン基を示し、Ｒ16、Ｒ17及びＲ18はそれぞれ、炭素数１〜３の直鎖又は分岐鎖のアルキレン基を示す）で表される基を示す）
で表されるジフェニルメタン化合物。
【請求項２】
Ｙが−ＯＲ19（ここでＲ19は水素原子を示す）、−ＮＨＲ20（ここでＲ20は水素原子、炭素数１〜６の直鎖若しくは分岐鎖のアルキル基、又はアラルキル基を示す）、アジド、ハロゲン原子、メチレン基と一体となったオキシム、又はメチレン基と一体となったカルボニル基である請求項１記載のジフェニルメタン化合物。
【請求項３】
Ｙが−ＯＲ19（ここでＲ19は水素原子又は活性エステル型保護基を示す）、−ＮＨＲ20（ここでＲ20は水素原子、炭素数１〜６の直鎖若しくは分岐鎖のアルキル基、又はアラルキル基を示す）、アジド、ハロゲン原子、又はメチレン基と一体となったオキシムである請求項１記載のジフェニルメタン化合物。
【請求項４】
Ｙが−ＯＲ19（ここでＲ19は水素原子を示す）、−ＮＨＲ20（ここでＲ20は水素原子、炭素数１〜６の直鎖若しくは分岐鎖のアルキル基、又はアラルキル基を示す）、アジド、ハロゲン原子、又はメチレン基と一体となったオキシムである請求項１記載のジフェニルメタン化合物。
【請求項５】
Ｒ1〜Ｒ5のうち少なくとも１個及びＲ6〜Ｒ10のうち少なくとも１個が式（２）で表される基であり、残余が水素原子、炭素数１〜４のアルキル基又は炭素数１〜４のアルコキシ基である請求項１〜４のいずれか１項記載のジフェニルメタン化合物。
【請求項６】
Ｒ11が炭素数２〜１６の直鎖又は分岐鎖のアルキレン基である請求項１〜５のいずれか１項記載のジフェニルメタン化合物。
【請求項７】
Ｒ11が炭素数６〜１６の直鎖又は分岐鎖のアルキレン基である請求項１〜６のいずれか１項記載のジフェニルメタン化合物。
【請求項８】
Ｒ15が単結合又はメチレン基であり、Ｒ16、Ｒ17及びＲ18がメチレン基である請求項１〜７のいずれか１項記載のジフェニルメタン化合物。
【請求項９】
請求項１〜８のいずれか１項記載のジフェニルメタン化合物からなるカルボキシ基、水酸基、ジオール基、アミノ基、アミド基又はメルカプト基の保護剤。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、カルボキシ基、水酸基、ジオール基、アミノ基、アミド基、メルカプト基等の保護剤として有用な新規ジフェニルメタン化合物に関する。
【背景技術】
【０００２】
ペプチド合成や種々の化合物の合成において、カルボキシ基、水酸基、ジオール基、アミノ基、アミド基やメルカプト基等の官能基を保護して反応させる必要が生じることがある。そのような保護基としては、簡便な方法により保護ができ、かつ穏和な条件で脱離できるものが望まれる。例えば、カルボキシ基の保護基としては、ベンジルエステル（Ｂｎ）、ｔｅｒｔ−ブチルエステル等が知られている。また、最近、ベンジルアルコール系化合物やジフェニルメタン系化合物が保護基として有用であることが報告されている（特許文献１、２）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】国際公開第２０１２／０２９７９４号パンフレット
【特許文献２】国際公開第２０１０／１１３９３９号パンフレット
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、従来の保護基で官能基を保護した化合物は、析出しやすい欠点があった。特にペプチド合成においては有機溶媒にも不溶になってしまうため、反応後の化合物の分離、精製が困難になることがしばしばであった。この分離、精製の困難性は、縮合反応が連続して行なわれるペプチド合成においては大きな問題であった。【０００５】
従って、本発明の課題は、官能基を保護した化合物を固体化又は不溶化させずに有機溶媒に溶解させることにより、反応後の分離、精製を容易ならしめる保護剤を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
そこで本発明者は、ジフェニルメタン化合物の置換基について種々検討した結果、ジフェニルメタン化合物のベンゼン環にオキシアルキレン基を介し末端にトリアルキルシリルオキシ基が置換した化合物を開発した。本ジフェニルメタン化合物を用いて官能基を保護した化合物が有機溶媒中で析出しにくく、液−液相分離の操作により分離精製が容易であり、当該化合物が保護剤として有用であることを見出し、本発明を完成した。【０００７】
すなわち、本発明は、次の〔１〕〜〔９〕を提供するものである。【０００８】
〔１〕一般式（１）【０００９】
【化１】
2017221889.tif 000003
【００１０】
（式中、Ｙは−ＯＲ19（ここでＲ19は水素原子又は活性エステル型保護基を示す）、−ＮＨＲ20（ここで、Ｒ20は水素原子、炭素数１〜６の直鎖若しくは分岐鎖のアルキル基、又はアラルキル基を示す）、アジド、ハロゲン原子、メチレン基と一体となったオキシム、又はメチレン基と一体となったカルボニル基を示し、Ｒ1〜Ｒ10のうちの少なくとも１個は式（２）【００１１】
【化２】
2017221889.tif 000004
【００１２】
で表される基を示し、残余は水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜４のアルキル基又は炭素数１〜４のアルコキシ基を示し；
Ｒ11は炭素数１〜１６の直鎖又は分岐鎖のアルキレン基を示し；
ＸはＯ又はＣＯＮＲ21（ここでＲ21は水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基を示す）を示し；
Ａは式（３）、（４）、（５）、（６）、（７）、（８）、（９）、（１０）、（１１）、（１２）又は（１３）【００１３】
【化３】
2017221889.tif 000005
【００１４】
（ここで、Ｒ12、Ｒ13及びＲ14は、同一又は異なって、炭素数１〜６の直鎖若しくは分岐鎖のアルキル基、又は置換基を有していてもよいアリール基を示し；Ｒ15は単結合又は炭素数１〜３の直鎖又は分岐鎖のアルキレン基を示し、Ｒ16、Ｒ17及びＲ18はそれぞれ、炭素数１〜３の直鎖又は分岐鎖のアルキレン基を示す）で表される基を示す）
で表されるジフェニルメタン化合物。
〔２〕Ｙが−ＯＲ19（ここでＲ19は水素原子を示す）、−ＮＨＲ20（ここでＲ20は水素原子、炭素数１〜６の直鎖若しくは分岐鎖のアルキル基、又はアラルキル基を示す）、アジド、ハロゲン原子、メチレン基と一体となったオキシム又はメチレン基と一体となったカルボニル基である〔１〕記載のジフェニルメタン化合物。
〔３〕Ｙが−ＯＲ19（ここでＲ19は水素原子又は活性エステル型保護基を示す）、−ＮＨＲ20（ここでＲ20は水素原子、炭素数１〜６の直鎖若しくは分岐鎖のアルキル基、又はアラルキル基を示す）、アジド、ハロゲン原子、又はメチレン基と一体となったオキシムである〔１〕記載のジフェニルメタン化合物。
〔４〕Ｙが−ＯＲ19（ここでＲ19は水素原子を示す）、−ＮＨＲ20（ここでＲ20は水素原子、炭素数１〜６の直鎖若しくは分岐鎖のアルキル基、又はアラルキル基を示す）、アジド、ハロゲン原子、又はメチレン基と一体となったオキシムである〔１〕記載のジフェニルメタン化合物。
〔５〕Ｒ1〜Ｒ5のうち少なくとも１個及びＲ6〜Ｒ10のうち少なくとも１個が式（２）で表される基であり、残余が水素原子、炭素数１〜４のアルキル基又は炭素数１〜４のアルコキシ基である〔１〕〜〔４〕のいずれかに記載のジフェニルメタン化合物。
〔６〕Ｒ11が炭素数２〜１６の直鎖又は分岐鎖のアルキレン基である〔１〕〜〔５〕のいずれかに記載のジフェニルメタン化合物。
〔７〕Ｒ11が炭素数６〜１６の直鎖又は分岐鎖のアルキレン基である〔１〕〜〔６〕のいずれかに記載のジフェニルメタン化合物。
〔８〕Ｒ15が単結合又はメチレン基であり、Ｒ16、Ｒ17及びＲ18がメチレン基である〔１〕〜〔７〕のいずれかに記載のジフェニルメタン化合物。
〔９〕〔１〕〜〔８〕のいずれかに記載のジフェニルメタン化合物からなるカルボキシ基、水酸基、ジオール基、アミノ基、アミド基又はメルカプト基の保護剤。
【発明の効果】
【００１５】
本発明のジフェニルメタン化合物（１）を用いて官能基を保護した化合物は、液状になりやすく、また溶媒への溶解性が向上するため、縮合反応後の分離、精製が容易である。
医薬、農薬等様々な化学物質の製造工程において、原料や中間体の不溶化、固化が支障となっている場合、原料や中間体化合物に本発明のジフェニルメタン化合物（１）を結合させることで、これらの液状性、溶解性を向上させ、これらの問題点を解決することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】シクロペンチルメチルエーテル（ＣＰＭＥ）に対する溶解度測定結果を示す。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
一般式（１）で表される本発明のジフェニルメタン化合物は、Ｒ1〜Ｒ10の少なくとも１個が式（２）の構造を有する点に特徴がある。かかる構造を有することにより、このジフェニルメタン化合物（１）を用いて保護した化合物が液状になりやすく、また溶媒への溶解性が顕著に向上する。
【００１８】
一般式（１）中、Ｙは−ＯＲ19（ここでＲ19は水素原子又は活性エステル型保護基を示す）、−ＮＨＲ20（ここで、Ｒ20は水素原子、炭素数１〜６の直鎖若しくは分岐鎖のアルキル基、又はアラルキル基を示す）、アジド、ハロゲン原子、メチレン基と一体となったオキシム、又はメチレン基と一体となったカルボニル基を示す。ここで、ハロゲン原子としては、フッ素原子、臭素原子、塩素原子、ヨウ素原子が挙げられる。また、メチレン基と一体となったカルボニル基は、アミノ基の保護基として有用である。
活性エステル型保護基としては、活性エステル型カルボニル基、活性エステル型スルホニル基が挙げられる。活性エステル型カルボニル基としては、カルボニルオキシコハク酸イミド、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アラルキルオキシカルボニル基等が挙げられ、より好ましくはカルボニルオキシコハク酸イミド等が挙げられる。
活性エステル型スルホニル基としては、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基等が挙げられ、より好ましくはＣ1−Ｃ6アルキルスルホニル基、ｐ−トルエンスルホニル基等が挙げられる。
【００１９】
Ｙとしては、−ＯＲ19（ここでＲ19は水素原子を示す）、−ＮＨＲ20（ここでＲ20は水素原子、炭素数１〜６の直鎖若しくは分岐鎖のアルキル基、又はアラルキル基を示す）、又はハロゲン原子が好ましい。
【００２０】
本発明のジフェニルメタン化合物は、Ｒ1〜Ｒ10のうち、少なくとも１個が式（２）で示される基を示すが、このうち１〜４個が式（２）で示される基であることが、さらにこのうち２〜４個が式（２）で示される基であることが、さらにこのうち２〜３個が式（２）で示される基であることが、保護基導入化合物の溶解性、また保護基の脱離性の点で好ましい。また、Ｒ1〜Ｒ5のうち少なくとも１個及びＲ6〜Ｒ10のうち少なくとも１個が式（２）で表される基である場合がより好ましい。
【００２１】
残余は水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜４のアルキル基又は炭素数１〜４のアルコキシ基である。ここで、Ｒ1〜Ｒ10で示される残余のハロゲン原子としてはフッ素原子、塩素原子、臭素原子が挙げられ、このうち塩素原子が好ましい。残余の炭素数１〜４のアルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ｎ−ブチルオキシ基等が挙げられ、このうち、メトキシ基、エトキシ基がさらに好ましい。また、炭素数１〜４のアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基等が挙げられ、このうちメチル基、エチル基がより好ましい。
【００２２】
Ｒ11は炭素数１〜１６の直鎖又は分岐鎖のアルキレン基を示す。当該アルキレン基のうち、炭素数２〜１６の直鎖又は分岐鎖のアルキレン基が好ましく、炭素数４〜１６の直鎖又は分岐鎖のアルキレン基がより好ましく、炭素数６〜１６の直鎖又は分岐鎖のアルキレン基がさらに好ましく、炭素数８〜１４の直鎖又は分岐鎖のアルキレン基がよりさらに好ましい。当該アルキレン基の具体例としては、メチレン基、エチレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基、ヘプタメチレン基、オクタメチレン基、ナノメチレン基、デカメチレン基、ウンデカメチレン基、ドデカメチレン基、テトラデカメチレン基等が挙げられる。
【００２３】
ＸはＯ又はＣＯＮＲ21を示す。
ここでＲ21は水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基を示し、水素原子が好ましい。
【００２４】
Ａは、式（３）、（４）、（５）、（６）、（７）、（８）、（９）、（１０）、（１１）、（１２）又は（１３）で示される基を示す。Ｒ12、Ｒ13及びＲ14は、同一又は異なって、炭素数１〜６の直鎖又は分岐鎖のアルキル基、又は置換基を有していてもよいアリール基を示す。ここで炭素数１〜６のアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基等が挙げられる。このうち、炭素数１〜４のアルキル基がより好ましく、メチル基、ｔｅｒｔ−ブチル、イソプロピル基がさらに好ましい。
置換基を有していてもよいアリール基としては、炭素数６〜１０のアリール基が挙げられ、具体的には炭素数１〜３のアルキル基が置換してもよいフェニル基、ナフチル基等が挙げられる。このうち、フェニル基がさらに好ましい。
【００２５】
Ｒ15は、単結合又は炭素数１〜３の直鎖又は分岐鎖のアルキレン基を示す。炭素数１〜３の直鎖又は分岐鎖のアルキレン基としては、メチレン基、エチレン基、トリメチレン基、プロピレン基が挙げられるが、このうち単結合が特に好ましい。
【００２６】
Ｒ16、Ｒ17及びＲ18は、それぞれ炭素数１〜３の直鎖又は分岐鎖のアルキレン基を示す。炭素数１〜３の直鎖又は分岐鎖のアルキレン基としては、メチレン基、エチレン基、トリメチレン基、プロピレン基が挙げられるが、メチレン基が特に好ましい。
【００２７】
一般式（１）において、Ｙが−ＯＲ19（ここでＲ19は水素原子を示す）、−ＮＨＲ20（ここでＲ20は水素原子、炭素数１〜６の直鎖若しくは分岐鎖のアルキル基、又はアラルキル基を示す）、又はハロゲン原子であり；Ｒ1〜Ｒ5のうち少なくとも１個、好ましくは１〜３個が式（２）で示される基であり、Ｒ6〜Ｒ10のうち少なくとも１個、好ましくは１〜３個が式（２）で示される基であり、残余が水素原子、炭素数１〜４のアルキル基又は炭素数１〜４のアルコキシ基であり；Ｒ11が炭素数２〜１６の直鎖又は分岐鎖のアルキレン基であり；Ｒ15が単結合又はメチレン基であり；Ｒ16、Ｒ17及びＲ18がメチレン基である化合物がより好ましい。
また、一般式（１）において、Ｒ11が炭素数６〜１６の直鎖又は分岐鎖のアルキル基であり；ＸはＯ又はＣＯＮＨであり；Ａは、式（３）又は（１３）で示される基であり；Ｒ12、Ｒ13及びＲ14は、同一又は異なって、炭素数１〜４のアルキル基であり；Ｒ15は単結合であり；Ｒ16、Ｒ17及びＲ18はメチレン基である化合物がより好ましい。
【００２８】
ここで、式（２）で示される基が結合した状態の好ましい具体例を次に示す。
【００２９】
【化４】
2017221889.tif 000006
【００３０】
（式中、Ｒ3b及びＲ8bは水素原子、炭素数１〜４のアルキル基又は炭素数１〜４のアルコキシ基を示し、Ｙ、Ａ、Ｘ及びＲ11は前記と同じ）
【００３１】
本発明のジフェニルメタン化合物（１）の具体例を挙げれば、次の（ａ）〜（ｅ）が挙げられる。（ａ）〜（ｅ）中、Ｙは−ＯＲ19（ここでＲ19は水素原子を示す）、−ＮＨＲ20（ここでＲ20は水素原子、炭素数１〜６の直鎖若しくは分岐鎖のアルキル基、又はアラルキル基を示す）、又はハロゲン原子を示す。
【００３２】
（ａ）ＴＩＰＳ２型−ＰＰ保護剤
【００３３】
【化５】
2017221889.tif 000007
【００３４】
（式中、Ｒaは水素原子、炭素数１〜４のアルキル基又は炭素数１〜４のアルコキシ基を示す。）
【００３５】
（ｂ）ＴＩＰＳ２型−ＯＯ保護剤
【００３６】
【化６】
2017221889.tif 000008
【００３７】
（式中、Ｒaは、水素原子、炭素数１〜４のアルキル基又は炭素数１〜４のアルコキシ基を示す。）
【００３８】
（ｃ）ＴＩＰＳ３型−ＯＰＰ保護剤
【００３９】
【化７】
2017221889.tif 000009
【００４０】
（式中、Ｒaは水素原子、炭素数１〜４のアルキル基又は炭素数１〜４のアルコキシ基を示す）
【００４１】
（ｃ）ＴＩＰＳ４型−ＰＰ保護剤
【００４２】
【化８】
2017221889.tif 000010
【００４３】
（式中、Ｒaは水素原子、炭素数１〜４のアルキル基又は炭素数１〜４のアルコキシ基を示す）
（ｄ）ＴＩＰＳ６型−ＰＰ保護剤
【００４４】
【化９】
2017221889.tif 000011
【００４５】
（式中、Ｒaは水素原子、炭素数１〜４のアルキル基又は炭素数１〜４のアルコキシ基を示す）
【００４６】
（ｅ）ＴＩＰＳ９型−ＯＰＰ保護剤
【００４７】
【化１０】
2017221889.tif 000012
【００４８】
（式中、Ｒaは水素原子、炭素数１〜１４のアルキル基又は炭素数１〜４のアルコキシ基を示す）
【００４９】
（ｅ）ＴＢＤＰＳ２型−ＰＰ保護剤
【００５０】
【化１１】
2017221889.tif 000013
【００５１】
（式中、Ｒaは水素原子、炭素数１〜１４のアルキル基又は炭素数１〜４のアルコキシ基を示す）
【００５２】
本発明のジフェニルメタン化合物（１）は、例えば次の反応式に従って製造することができる。
【００５３】
【化１２】
2017221889.tif 000014
【００５４】
（式中、Ｈａｌはハロゲン原子を示し、Ｒ1a〜Ｒ10aのうち少なくとも１個は水酸基を示し、残余は水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜４のアルキル基又は炭素数１〜４のアルコキシ基を示し、Ｂはメルカプト基を有するアミノ酸、又はメルカプト基を有するアミノ酸誘導体を示し、Ｚは−ＣＯＮＨ−基を有する化合物を示し、Ｒ1〜Ｒ10、Ｒ20、Ｘ及びＡは前記と同じ）
【００５５】
シリルオキシ化アルキルハライド（１４）とジフェニルケトン類（１５）とを反応させて、シリルオキシ化ジフェニルケトン類（１６）を得、次いでケトン基をヒドロキシ基に変換し、次いでアジド化しアジド化合物（１８）を得、当該アジド基をシュタウディンガー反応に付すことによりジフェニルメタン化合物（１ｂ）が得られる。また、ヒドロキシ基を有するジフェニルメタン化合物（１ａ）を−ＣＯＮＨ2基を有する化合物と反応させて、化合物（１７）が得られる。また、ヒドロキシ基を有するジフェニルメタン化合物（１ａ）をハロゲン化することにより、ハロゲン原子を有するジフェニルメタン化合物（１ｃ）を得、次いでＲ20−ＮＨ2で表わされるアミンと反応させることにより、化合物（１ｆ）が得られる。また、ヒドロキシ基を有するジフェニルメタン化合物（１ａ）をメルカプト基を有するアミノ酸又はメルカプト基を有するアミノ酸誘導体と反応させることにより、化合物（１ｄ）が得られる。また、ケトン化合物（１６）をオキシム化することにより、オキシム化合物（１ｅ）が得られる。
【００５６】
原料であるシリルオキシ化アルキルハライド（１４）は、例えばハロゲン化アルコールとシリル化剤とを塩基の存在下に反応させることにより製造することができる。式（１４）中のハロゲン原子としては、臭素原子等が挙げられる。
【００５７】
上記反応に用いられるシリル化剤としては、塩化トリイソプロピルシリル（ＴＩＰＳＣｌ）、臭化トリイソプロピルシリル、ヨウ化トリイソプロピルシリル、メタンスルホニルトリイソプロピルシリル、トリフルオロメタンスルホニルイソプロピルシリル、ｐ−トルエンスルホニルトリイソプロピルシリル、ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルクロロシラン（ＴＢＤＰＳＣｌ）、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルクロロシラン（ＴＢＳＣｌ）等が挙げられる。
塩基としては、ＴＥＡ、ＤＩＰＥＡ、ＤＢＵ、ジアザビシクロノネン（ＤＢＮ）、ＤＡＢＣＯ、イミダゾール、Ｎ−メチルイミダゾール、Ｎ、Ｎ−ジメチルアニリン、ピリジン、２，６−ルチジン、ＤＭＡＰ、ＬＤＡ、ＮａＯＡｃ、ＭｅＯＮａ、ＭｅＯＫ、リチウムヘキサメチルジシラジド（ＬＨＭＤＳ）、ナトリウムビス（トリメチルシリル）アミド（ＮａＨＭＤＳ）等の有機塩基、Ｎａ2ＣＯ3、ＮａＨＣＯ3、ＮａＨ、ＮａＮＨ2、Ｋ2ＣＯ3、Ｃｓ2ＣＯ3等の無機塩基が挙げられる。
溶媒としては、ヘキサン、ヘプタン等の炭化水素類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル（ＣＰＭＥ）、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類、アセトニトリル等のニトリル類、ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホルアミド等のアミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類、Ｎ−メチルピロリドン等のラクタム類、クロロホルム、ジクロロメタンなどのハロゲン化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、またはこれらの混合溶媒が挙げられる。
反応は、例えば０℃〜１００℃で１時間〜２４時間行えばよい。
【００５８】
シリルオキシ化アルキルハライド（１４）とジフェニルケトン類（１５）との反応は、塩基の存在下に行うのが好ましい。
【００５９】
上記反応に用いられる塩基としては、ＴＥＡ、ＤＩＰＥＡ、ＤＢＵ、ＤＢＮ、ＤＡＢＣＯ、イミダゾール、Ｎ−メチルイミダゾール、Ｎ、Ｎ−ジメチルアニリン、ピリジン、２、６−ルチジン、ＤＭＡＰ、ＬＤＡ、ＮａＯＡｃ、ＭｅＯＮａ、ＭｅＯＫ、リチウムヘキサメチルジシラジド（ＬＨＭＤＳ）、ナトリウムビス（トリメチルシリル）アミド（ＮａＨＭＤＳ）等の有機塩基、Ｎａ2ＣＯ3、ＮａＨＣＯ3、ＮａＨ、Ｋ2ＣＯ3、Ｃｓ2ＣＯ3等の無機塩基が挙げられる。
溶媒としては、ヘキサン、ヘプタン等の炭化水素類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ＣＰＭＥ、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類、アセトニトリル等のニトリル類、ＤＭＦ、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホルアミド等のアミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類、Ｎ−メチルピロリドン等のラクタム類、クロロホルム、ジクロロメタンなどのハロゲン化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、またはこれらの混合溶媒が挙げられる。
反応は、例えば４０℃〜１５０℃で１時間〜２４時間行えばよい。
【００６０】
式（１６）の化合物のケトン基をヒドロキシ基に変換する方法としては、還元剤を用いて還元する手段が挙げられる。
還元剤としては、水素化ホウ素リチウム、水素化ホウ素ナトリウム、水素化アルミニウムリチウム、水素化アルミニウムが挙げられる。溶媒としては、ヘキサン、ヘプタン等の炭化水素類、メタノール、エタノール等のアルコール類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ＣＰＭＥ、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、またはこれらの混合溶媒が挙げられる。反応は、例えば０℃〜９０℃で１時間〜２４時間行うのが好ましい。
【００６１】
また、式（１ａ）中のヒドロキシ基をアジド化する方法としては、塩基存在下でジフェニルリン酸アジドやビス（ｐ−ニトロフェニル）リン酸アジドと反応させる方法が好ましい。
塩基としてはＤＢＵ、ＤＢＮ、ＴＥＡ、ＤＩＰＥＡ、ＤＡＢＣＯ等の有機塩基が挙げられる。溶媒としては、ヘキサン、ヘプタン等の炭化水素類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ＣＰＭＥ、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、またはこれらの混合溶媒が挙げられる。反応は、例えば０℃〜１００℃で０．５時間〜１４４時間行えばよい。
【００６２】
アジド化合物（１８）をアミン化合物（１ｂ）に還元する方法としては、水存在下でトリフェニルホスフィンと反応させるシュタウディンガー反応か、接触還元が挙げられるが、シュタウディンガー反応が好ましい。
シュタウディンガー反応の溶媒としては、ヘキサン、ヘプタン等の炭化水素類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ＣＰＭＥ、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、またはこれらの混合溶媒が挙げられる。反応は、例えば２０℃〜１００℃で１時間〜２４時間行えばよい。
【００６３】
式（１ａ）の化合物と−ＣＯＮＨ2基を有する化合物との反応は、酸触媒下で、−ＣＯＮＨ2基を有する化合物と反応させる方法が好ましい。
−ＣＯＮＨ2基や−ＯＣＯＮＨ2基を有する化合物としては、Ｆｍｏｃ−ＮＨ2、エチルカルバメート、イソプロピルカルバメート、ＡｃＮＨ2、ＨＣＯＮＨ2、Ｃｂｚ−ＮＨ2、ＣＦ3ＣＯＮＨ2、Ｆｍｏｃ−アミノ酸−ＮＨ2等が挙げられる。酸触媒としてはトリフルオロメタンスルホン酸、メタンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸、酢酸、塩酸、硫酸等の酸が挙げられる。溶媒としては、ヘキサン、ヘプタン等の炭化水素類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ＣＰＭＥ、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロホルム、ジクロロメタンなどのハロゲン化水素類、またはこれらの混合溶媒が挙げられる。反応は、例えば２０℃〜１５０℃で０．５時間〜４８時間行えばよい。
【００６４】
式（１ａ）から（１ｃ）を得るには、例えばハロゲン化剤を塩基の存在下で反応させることにより製造することができる。式（１ｃ）中のハロゲン原子としては、塩素原子等が挙げられる。
ハロゲン化剤としては、塩化チオニル、塩化アセチル、臭化アセチル、トリフェニルホスフィン／四塩化炭素、トリフェニルホスフィン／四塩化炭素等が挙げられる。
塩基としては、ピリジン、ＴＥＡ、ＤＢＵ、ＤＢＮ、ＤＩＰＥＡ、ＤＡＢＣＯ等の有機塩基が挙げられる。
溶媒としては、ヘキサン、ヘプタン等の炭化水素類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ＣＰＭＥ、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロホルム、ジクロロメタンなどのハロゲン化水素類、ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）またはこれらの混合溶媒が挙げられる。反応は、例えば０℃〜１００℃で０．５時間〜２４時間行えばよい。
【００６５】
式（１ａ）とメルカプト基を有するアミノ酸誘導体の反応は、酸触媒下で、メルカプト基を有するアミノ酸又はメルカプト基を有するアミノ酸誘導体と反応させる方法が好ましい。
メルカプト基を有するアミノ酸としては、Ｃｙｓｔｅｉｎｅ、ｈｏｍｏｃｙｓｔｅｉｎｅ、ｍｅｒｃａｐｔｏｎｏｒｖａｌｉｎｅ、ｍｅｒｃａｐｔｏｎｏｒｌｅｕｃｉｎｅ等が挙げられる。メルカプト基を有するアミノ酸誘導体としては、これらのアミノ酸のＮ末端がＮ−メチル化された化合物、及びこれらのアミノ酸のＮ末端がベンジルオキシカルボニル（Ｃｂｚ又はＺ）基、フルオレニルメトキシカルボニル（Ｆｍｏｃ）基、アセチル（Ａｃ）基、ベンジル基、アリル基、アリルオキシカルボニル（Ａｌｏｃ）基、２−ニトロベンゼンスルホニル（Ｎｓ）基、２、４−ジニトロベンゼンスルホニル（ＤＮｓ）基、４−ニトロベンゼンスルホニル（Ｎｏｓ）基等で保護された化合物、及びアミノ酸Ｃ末端がアミド基、メチルエステル基、エチルエステル基、ｔｅｒｔ−ブチルエステル基、ベンジルエステル基、アリルエステル基等で保護された化合物、及びこれらの保護基でＮ末端とＣ末端の両方が保護された化合物、及びこれらに対応するＤ−アミノ酸化合物等が挙げられる。
酸触媒としてはトリフルオロメタンスルホン酸、メタンスルホン酸、p-トルエンスルホン酸、酢酸、塩酸、硫酸等の酸が挙げられる。溶媒としては、ヘキサン、ヘプタン等の炭化水素類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ＣＰＭＥ、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロホルム、ジクロロメタンなどのハロゲン化水素類、またはこれらの混合溶媒が挙げられる。反応は、例えば２０℃〜１５０℃で０．５時間〜２４時間行えばよい。
【００６６】
式（１ｃ）から（１ｆ）を得るには、例えば塩基の存在下、Ｒ20−ＮＨ2で表わされるアミンと反応させることにより製造することができる。
塩基としては、ジイソプロピルアミン、トリエチルアミン等の３級アミン等が挙げられる。溶媒としては、ヘキサン、ヘプタン等の炭化水素類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ＣＰＭＥ、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロホルム、ジクロロメタンなどのハロゲン化水素類、またはこれらの混合溶媒が挙げられる。反応は、例えば０℃〜１００℃で０．５時間〜２４時間行えばよい。
【００６７】
式（１６）から式（１ｅ）を得るには、塩基存在下、式（１６）中のケトン基とヒドロキシルアミンの酸付加塩を反応させることにより製造することができる。ヒドロキシルアミンの塩付加体としては、塩酸塩、硫酸塩、酢酸塩、トリフルオロ酢酸塩、メタンスルホン酸塩、トリフルオロメタンスルホン酸塩、ｐ−トルエンスルホン酸塩等が挙げられる。
塩基としては、ＴＥＡ、ピリジン、ＤＩＰＥＡ、Ｎ、Ｎ−ジメチルアニリン、ＤＢＵ、ＤＢＮ、ＤＡＢＣＯ等の有機塩基、水酸化ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウムなどの無機塩基が挙げられる。
溶媒としては、ヘキサン、ヘプタン等の炭化水素類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル（ＣＰＭＥ）、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類、クロロホルム、ジクロロメタンなどのハロゲン化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、またはこれらの混合溶媒が挙げられる。反応は、例えば２０℃〜１２０℃で１時間〜９６時間行えばよい。
【００６８】
本発明のジフェニルメタン化合物（１）は、カルボキシ基、水酸基、ジオール基、アミノ基、アミド基又はメルカプト基等の官能基の保護剤として使用できる。本発明のジフェニルメタン化合物（１）でカルボキシ基、水酸基、ジオール基、アミノ基、アミド基又はメルカプト基を保護された化合物は、液状性、溶媒に対する溶解性が高いという特徴を有する。従って、本発明のジフェニルメタン化合物（１）を保護剤として用いて官能基を保護した化合物は、液状となり、液−液相分離等の操作により分離精製可能である。また、本発明化合物を使用して得られた保護基は、酸や接触還元等により容易に脱離することができる。
【００６９】
本発明のジフェニルメタン化合物（１）で保護できる化合物としては、カルボキシ基、水酸基、ジオール基、アミノ基、アミド基又はメルカプト基を有する化合物であればよく、例えばアミノ酸、ペプチド、糖化合物、タンパク質、核酸化合物、その他種々の医薬品化合物、農薬化合物、その他、種々のポリマー、デンドリマー化合物等が挙げられる。
【００７０】
本発明のジフェニルメタン化合物（１）を保護剤として用いるペプチドの合成法は、例えば次の工程（１）〜（４）を含む製法である。
（１）本発明のジフェニルメタン化合物（１）を、可溶性溶媒中、Ｎ−保護アミノ酸又はＮ−保護ペプチドのＣ末端カルボキシル基と縮合させて、本発明のジフェニルメタン化合物（１）でＣ末端が保護されたＮ−保護Ｃ保護アミノ酸又はＮ−保護Ｃ−保護ペプチドを得る。若しくは、本発明のジフェニルメタン化合物（１）を、可溶性溶媒中、Ｎ−保護アミノ酸又はＮ−保護ペプチドのＣ末端アミド基と反応させて、本発明のジフェニルメタン化合物（１）でＣ末端が保護されたＮ−保護Ｃ保護アミノ酸又はＮ−保護Ｃ−保護ペプチドを得る。
（２）得られたＮ−保護Ｃ保護アミノ酸又はＮ−保護Ｃ−保護ペプチドのＮ末端の保護基を除去して、Ｃ−保護アミノ酸又はＣ−保護ペプチドを得る。
（３）得られたＣ−保護アミノ酸又はＣ−保護ペプチドのＮ末端に、Ｎ保護アミノ酸又はＮ−保護ペプチドを縮合させて、Ｎ−保護Ｃ−保護ペプチドを得る。
（４）得られたＮ−保護Ｃ−保護ペプチドのＮ末端の保護基及びＣ末端の保護基を除去して、目的のペプチドを得る。
【実施例】
【００７１】
次に実施例を挙げて、本発明を詳細に説明するが、本発明は何らこれに限定されるものではない。【００７２】
実施例１
ＴＩＰＳ２−Ｄｐｍ−ＮＨ2の合成【００７３】
【化１３】
2017221889.tif 000015
【００７４】
（以下、Ｂｒ−（ＣＨ2）11−ＯＴＩＰＳ、ＴＩＰＳ２−Ｄｐｍ−Ｃ＝Ｏ、ＴＩＰＳ２−Ｄｐｍ−ＯＨ、ＴＩＰＳ２−Ｄｐｍ−Ｎ3、ＴＩＰＳ２−Ｄｐｍ−ＮＨ2は式中の構造を示すこととする。）【００７５】
（１）Ｂｒ−（ＣＨ2）11−ＯＴＩＰＳ  ９．８１ｇ（２４．１ｍｍｏｌ）、４，４’−ジヒドロキシベンゾフェノン２．２９ｇ（１０．７ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム５．３３ｇ（３８．５ｍｍｏｌ）をＤＭＦ３．２ｍＬに懸濁し、８５℃に加熱し、２時間撹拌した。反応溶液を濾過し、濾物をヘプタン１５０ｍＬで洗浄した。濾液を分液し、得られたヘプタン層にヘプタン７１ｍＬを加え、ＤＭＦ７１ｍＬで分液洗浄した。前記のへプタンとＤＭＦによる分液洗浄を、さらに１回行った。得られたヘプタン層に、ヘプタン７１ｍＬを加え、１Ｎ塩酸７１ｍＬで１回、５％炭酸水素ナトリウム水溶液７１ｍＬで１回、水７１ｍＬで１回分液洗浄した。得られたヘプタン層にヘプタン７１ｍＬを加え、ＤＭＦ７１ｍＬで１回、アセトニトリル７１ｍＬで１回分液洗浄した。ヘプタン層を減圧下で濃縮して、ＴＩＰＳ２−Ｄｐｍ−Ｃ＝Ｏ  １０．７ｇを得た。【００７６】
1Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3）δ１．０４−１．０８（ｍ，４２Ｈ），１．２０−１．３９（ｍ，２４Ｈ），１．４１−１．４９（ｍ，４Ｈ），１．４９−１．５７（ｍ，４Ｈ），１．７１−１．８５（ｍ，４Ｈ），３．６７（ｔ，４Ｈ），４．０３（ｔ，４Ｈ），６．９４（ｄ，４Ｈ），７．７７（ｄ，４Ｈ）
13Ｃ−ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3）δ１２．２（６Ｃ），１８．２（１２Ｃ），２６．０（２Ｃ），２６．２（２Ｃ），２９．２−２９．８（１２Ｃ），３３．２（２Ｃ），６３．７（２Ｃ），６８．４（２Ｃ），１１４．０（４Ｃ），１３０．７（２Ｃ），１３２．４（４Ｃ），１６２．６（２Ｃ），１９４．６
ＥＳＩＭＳ  ＭＮａ＋  ８８９．８【００７７】
（２）ＴＩＰＳ２−Ｄｐｍ−Ｃ＝Ｏ  ０．８１ｇ（０．９３ｍｍｏｌ）をＴＨＦ（無水）７．１ｍＬ、メタノール０．３６ｍＬの混合溶液に溶解させ、水素化ホウ素ナトリウム４２ｍｇ（１．１２ｍｍｏｌ）を添加し、１．５時間撹拌した。反応溶液に１Ｎ塩酸０．８９ｍＬを加え反応を停止し、ＣＰＭＥを２０．３ｍＬ加え、１Ｎ塩酸６．１ｍＬで１回、５％炭酸水素ナトリウム水溶液６．１ｍＬで１回、水６．１ｍＬで１回洗浄し、有機層を減圧下で濃縮した。得られた残渣をヘプタン２０．０ｍＬに溶解し、ＤＭＦ１０．０ｍＬで分液洗浄した。得られたヘプタン層にヘプタン１０．０ｍＬを加え、アセトニトリル１０．０ｍＬで分液洗浄した。前記のへプタンとアセトニトリルによる分液洗浄を、さらに１回行った後、ヘプタン層を減圧下で濃縮し、ＴＩＰＳ２−Ｄｐｍ−ＯＨ  ０．８１ｇを得た。【００７８】
1Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，Ｂｅｎｚｅｎｅ−ｄ6）δ１．１２−１．１６（ｍ，４２Ｈ），１．２３−１．５４（ｍ，３２Ｈ），１．５７−１．７１（ｍ，４Ｈ），１．７９（ｓ，１Ｈ），３．６８（ｔ，８Ｈ），５．６１（ｓ，１Ｈ），６．８４−６．８９（ｍ，４Ｈ），７．２７−７．３３（ｍ，４Ｈ）
13Ｃ−ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，Ｂｅｎｚｅｎｅ−ｄ6）δ１２．８（６Ｃ），１８．７（１２Ｃ），２６．７（２Ｃ），２６．８（２Ｃ），３０．２−３０．５（１２Ｃ），３３．９（２Ｃ），６４．１（２Ｃ），６８．３（２Ｃ），７５．９，１１４．９（４Ｃ），１２８．６（４Ｃ），１３７．８（２Ｃ），１５９．４（２Ｃ）【００７９】
（３）ＴＩＰＳ２−Ｄｐｍ−ＯＨ  ０．８１ｇ（０．９３ｍｍｏｌ）をＴＨＦ１８．７ｍＬに溶解し、ジフェニルリン酸アジド０．６０ｍＬ（２．８０ｍｍｏｌ）、ＤＢＵ０．４２ｍＬ（２．８０ｍｍｏｌ）を添加し、室温で４日撹拌した。反応溶液をＣＰＭＥ５４．２ｍＬで希釈し、５％炭酸水素ナトリウム水溶液１８．４ｍＬで２回、２０％食塩水１８．４ｍＬで４回、分液洗浄した。有機層を減圧下で濃縮し、残渣をヘプタン１８．７ｍＬに溶解させ、ＤＭＦ９．３ｍＬで分液洗浄した。前記のへプタンとＤＭＦによる分液洗浄を、さらに３回行った後、水９．３ｍＬで一回分液洗浄した。得られたヘプタン層にヘプタンを１０．７ｍＬ加え、アセトニトリル１０．７ｍＬで分液洗浄した。前記のへプタンとアセトニトリルによる分液洗浄を、さらに１回行った後、ヘプタン層を減圧下で濃縮し、ＴＩＰＳ２−Ｄｐｍ−Ｎ3  ０．５９ｇを得た。【００８０】
1Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3）δ１．０４−１．０８（ｍ，４２Ｈ），１．２０−１．３９（ｍ，２４Ｈ），１．４１−１．４９（ｍ，４Ｈ），１．４９−１．５７（ｍ，４Ｈ），１．７１−１．８１（ｍ，４Ｈ），３．６７（ｔ，４Ｈ），３．９４（ｔ，４Ｈ），５．６２（ｓ，１Ｈ），６．８６（ｄ，４Ｈ），７．１９（ｄ，４Ｈ）
13Ｃ−ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3）δ１２．２（６Ｃ），１８．２（１２Ｃ），２６．０（２Ｃ），２６．２（２Ｃ），２９．２−２９．８（１２Ｃ），３３．２（２Ｃ），６３．７（２Ｃ），６７．９，６８．２（２Ｃ），１１４．７（４Ｃ），１２８．７（４Ｃ），１３１．９（２Ｃ），１５９．０（２Ｃ）【００８１】
（４）ＴＨＦ２．８ｍＬにＴＩＰＳ２−Ｄｐｍ−Ｎ3０．３８ｇ（０．４３ｍｍｏｌ）を溶解させ、トリフェニルホスフィン０．３４ｇ（１．２３ｍｍｏｌ）と水０．３１ｍＬ（１７．０ｍｍｏｌ）を添加し、６０℃で６時間撹拌した。反応溶液を減圧下で濃縮し、残渣をヘプタン４．２ｍＬに溶解させ、ＤＭＦ４．２ｍＬで分液洗浄した。前記のへプタンとＤＭＦによる分液洗浄を、さらに２回行った後、ヘプタン層にヘプタンを４．２ｍＬ加え、５０％含水アセトニトリル４．２ｍＬで分液洗浄した。前記のへプタンと５０％含水アセトニトリルによる分液洗浄を、さらに１回行った。得られたヘプタン層にヘプタン４．２ｍＬを加え、アセトニトリル４．２ｍＬで分液洗浄した。前記のへプタンとアセトニトリルによる分液洗浄を、さらに１回行った後、ヘプタン層を減圧下で濃縮し、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘプタン：酢酸エチル＝１７：１→酢酸エチル）で精製し、ＴＩＰＳ２−Ｄｐｍ−ＮＨ2０．３０ｇを得た。【００８２】
1Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3）δ１．０４−１．０８（ｍ，４２Ｈ），１．２０−１．３９（ｍ，２４Ｈ），１．４１−１．４９（ｍ，４Ｈ），１．４９−１．５７（ｍ，４Ｈ），１．７１−１．８１（ｍ，４Ｈ），１．９８（ｓ，２Ｈ），３．６７（ｔ，４Ｈ），３．９１（ｔ，４Ｈ），５．１２（ｓ，１Ｈ）６．８０−６．８４（ｍ，４Ｈ），７．２２−７．２６（ｍ，４Ｈ）
13Ｃ−ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3）δ１２．２（６Ｃ），１８．２（１２Ｃ），２６．０（２Ｃ），２６．２（２Ｃ），２９．５−２９．８（１２Ｃ），３３．２（２Ｃ），５８．６，６３．７（２Ｃ），６８．１（２Ｃ），１１４．５（４Ｃ），１２８．０（４Ｃ），１３７．９（２Ｃ），１５８．２（２Ｃ）【００８３】
実施例２
ＴＩＰＳ２−Ｄｐｍ−Ｃｌの合成【００８４】
【化１４】
2017221889.tif 000016
【００８５】
（以下、ＴＩＰＳ２−Ｄｐｍ−Ｃｌは式中の構造を示すこととする。）【００８６】
（１）ＴＩＰＳ２−Ｄｐｍ−Ｃ＝Ｏ  ０．２４ｇ（０．２４ｍｍｏｌ）をＴＨＦ（無水）１．８ｍＬ、メタノール９０μＬの混合溶液に溶解させ、水素化ホウ素ナトリウム１１ｍｇ（０．２８ｍｍｏｌ）を添加し、３時間撹拌した。反応溶液に１Ｎ塩酸０．２ｍＬを加え反応を停止し、ＣＰＭＥを５．１ｍＬ加え、１Ｎ塩酸１．５ｍＬで２回、２０％食塩水１．５ｍＬで１回洗浄した。有機層に無水硫酸マグネシウム０．２０ｇを加え、充分撹拌した後濾過し、濾液を減圧下で濃縮し、ＴＩＰＳ２−Ｄｐｍ−ＯＨを含む混合物を得た。【００８７】
（２）前工程で得た混合物をクロロホルム３．７ｍＬに溶解し、ＤＭＦ３．６μＬ（０．０５ｍｍｏｌ）、ピリジン９８μＬ（１．２２ｍｍｏｌ）を添加し、５℃に冷却した後、塩化チオニル８１μＬ（１．１１ｍｍｏｌ）を添加し、室温に昇温し、１時間撹拌した。反応溶液にヘプタン１２．２ｍＬを加え、アセトニトリル１２．２ｍＬで分液洗浄した。得られたヘプタン層にヘプタン２．０ｍＬ、ＣＰＭＥ０．６ｍＬを加え、アセトニトリル１２．２ｍＬで分液洗浄した。得られたヘプタン層にヘプタン２．０ｍＬを加え、アセトニトリル１２．２ｍＬで分液洗浄した。前記のへプタンとアセトニトリルによる分液洗浄を、さらに１回行った後、ヘプタン層を減圧下で濃縮し、ＴＩＰＳ２−Ｄｐｍ−Ｃｌ  ８１ｍｇを得た。【００８８】
1Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，Ｂｅｎｚｅｎｅ−ｄ6）δ１．１２−１．１６（ｍ，４２Ｈ），１．２３−１．３８（ｍ，２８Ｈ），１．３９−１．４８（ｍ，４Ｈ），１．５６−１．６６（ｍ，４Ｈ），３．６３（ｔ，４Ｈ），３．６８（ｔ，４Ｈ），６．０２（ｓ，１Ｈ），６．７６−６．８２（ｍ，４Ｈ），７．２７−７．３２（ｍ，４Ｈ）
13Ｃ−ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，Ｂｅｎｚｅｎｅ−ｄ6）δ１２．８（６Ｃ），１８．７（１２Ｃ），２６．７（２Ｃ），２６．８（２Ｃ），２９．８−３０．５（１２Ｃ），３３．９（２Ｃ），６４．１（２Ｃ），６５．１，６８．４（２Ｃ），１１５．０（４Ｃ），１２９．９（４Ｃ），１３４．４（２Ｃ），１５９．８（２Ｃ）【００８９】
実施例３
ＴＩＰＳ２−Ｄｐｍ−ＯＨ（Ｃ8）の合成【００９０】
【化１５】
2017221889.tif 000017
【００９１】
（以下、Ｂｒ−（ＣＨ2）8−ＯＴＩＰＳ、ＴＩＰＳ２−Ｄｐｍ−Ｃ＝Ｏ（Ｃ8）、ＴＩＰＳ２−Ｄｐｍ−ＯＨ（Ｃ8）は式中の構造を示すこととする。）【００９２】
（１）Ｂｒ−（ＣＨ2）8−ＯＴＩＰＳ  １．５１ｇ（４．１３ｍｍｏｌ）、４，４’−ジヒドロキシベンゾフェノン０．３９ｇ（１．８３ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム０．９１ｇ（６．６０ｍｍｏｌ）をＤＭＦ１２．２ｍＬに懸濁し、８５℃に加熱し、２時間撹拌した。反応溶液を濾過し、濾物をヘプタン２５．７ｍＬで洗浄した。濾液を分液し、得られたヘプタン層にヘプタン１２．２ｍＬを加え、ＤＭＦ１２．２ｍＬで分液洗浄した。得られたヘプタン層に、ヘプタン１２．２ｍＬを加え、１Ｎ塩酸１２．２ｍＬで１回、５％炭酸水素ナトリウム水溶液１２．２ｍＬで１回、水１２．２ｍＬで１回分液洗浄した。得られたヘプタン層にヘプタン１２．２ｍＬを加え、アセトニトリル１２．２ｍＬで２回分液洗浄した。ヘプタン層を減圧下で濃縮して、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘプタン：酢酸エチル＝８０：１→酢酸エチル）で精製し、ＴＩＰＳ２−Ｄｐｍ−Ｃ＝Ｏ（Ｃ8） １．１１ｇを得た。【００９３】
1Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3）δ１．０４−１．０８（ｍ，４２Ｈ），１．３３−１．４３（ｍ，１２Ｈ），１．４３−１．６４（ｍ，８Ｈ），１．８２（ｑｕｉｎ.，４Ｈ），３．６８（ｔ，４Ｈ），４．０３（ｔ，４Ｈ），６．９４（ｄ，４Ｈ），７．７７（ｄ，４Ｈ）
ＥＳＩＭＳ  ＭＨ＋  ７８３．５【００９４】
（２）ＴＩＰＳ２−Ｄｐｍ−Ｃ＝Ｏ（Ｃ8）  ０．６６ｇ（０．８５ｍｍｏｌ）をＴＨＦ（無水）６．４ｍＬ、メタノール０．３２ｍＬの混合溶液に溶解させ、水素化ホウ素ナトリウム３８ｍｇ（１．０１ｍｍｏｌ）を添加し、室温で３時間撹拌した。反応溶液に１Ｎ塩酸０．８０ｍＬを加え反応を停止し、ＣＰＭＥを１６．６ｍＬ加え、１Ｎ塩酸５．０ｍＬで２回、５％炭酸水素ナトリウム水溶液５．０ｍＬで１回、水５．０ｍＬで１回洗浄した。有機層に無水硫酸ナトリウム０．６６ｇを加え、充分撹拌した後濾過し、濾物をヘプタン３．３ｍＬで洗浄した。濾液を減圧下で濃縮して、ＴＩＰＳ２−Ｄｐｍ−ＯＨ（Ｃ8）０．６３ｇを得た。【００９５】
1Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，Ｂｅｎｚｅｎｅ−ｄ6）δ１．１１−１．１６（ｍ，４２Ｈ），１．２２−１．３１（ｍ，１２Ｈ），１．３１−１．４３（ｍ，４Ｈ），１．５２−１．６６（ｍ，９Ｈ），３．６６（ｔ，８Ｈ），５．５９（ｓ，１Ｈ），６．８３−６．８９（ｍ，４Ｈ），７．２６−７．３２（ｍ，４Ｈ）
ＥＳＩＭＳ  ＭＮａ＋  ８０７．６【００９６】
実施例４
ＴＩＰＳ２−Ｄｐｍ−ＯＨ（Ｃ14）の合成【００９７】
【化１６】
2017221889.tif 000018
【００９８】
（以下、Ｂｒ−（ＣＨ2）14−ＯＴＩＰＳ、ＴＩＰＳ２−Ｄｐｍ−Ｃ＝Ｏ（Ｃ14）、ＴＩＰＳ２−Ｄｐｍ−ＯＨ（Ｃ14）は式中の構造を示すこととする。）【００９９】
（１）前記のＴＩＰＳ２−Ｄｐｍ−Ｃ＝Ｏ（Ｃ8）と同様の方法で、ＴＩＰＳ２−Ｄｐｍ−Ｃ＝Ｏ（Ｃ14）を得た。【０１００】
1Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3）δ１．０３−１．０７（ｍ，４２Ｈ），１．２０−１．４０（ｍ，３６Ｈ），１．４０−１．５８（ｍ，８Ｈ），１．７４−１．８６（ｍ，４Ｈ），３．６７（ｔ，４Ｈ），４．０３（ｔ，４Ｈ），６．９１−６．９６（ｍ，４Ｈ），７．７３−７．７９（ｍ，４Ｈ）
ＥＳＩＭＳ  ＭＨ＋  ９５１．８【０１０１】
（２）前記のＴＩＰＳ２−Ｄｐｍ−ＯＨ（Ｃ8）と同様の方法で、ＴＩＰＳ２−Ｄｐｍ−ＯＨ（Ｃ14）を得た。【０１０２】
1Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，Ｂｅｎｚｅｎｅ−ｄ6）δ１．１２−１．１６（ｍ，４２Ｈ），１．２３−１．４０（ｍ，３６Ｈ），１．４０−１．４９（ｍ，４Ｈ），１．５５−１．６９（ｍ，９Ｈ），３．６８（ｔ，８Ｈ），５．６０（ｓ，１Ｈ），６．８５−６．９０（ｍ，４Ｈ），７．２８−７．３３（ｍ，４Ｈ）
ＥＳＩＭＳ  ＭＮａ＋  ９７５．７【０１０３】
実施例５
ＴＩＰＳ２−Ｄｐｍ−ＯＨ（Ｃ8ＯＣ2）の合成【０１０４】
【化１７】
2017221889.tif 000019
【０１０５】
（以下、Ｂｒ−（ＣＨ2）8−Ｏ−（ＣＨ2）2−ＯＴＩＰＳ、ＴＩＰＳ２−Ｄｐｍ−Ｃ＝Ｏ（Ｃ8ＯＣ2）、ＴＩＰＳ２−Ｄｐｍ−ＯＨ（Ｃ8ＯＣ2）は式中の構造を示すこととする。）【０１０６】
（１）Ｂｒ−（ＣＨ2）8−Ｏ−（ＣＨ2）2−ＯＴＩＰＳ  ０．６２ｇ（１．５０ｍｍｏｌ）、４，４’−ジヒドロキシベンゾフェノン０．１４ｇ（０．６７ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム０．３７ｇ（２．６７ｍｍｏｌ）をＤＭＦ４．５ｍＬに懸濁し、８５℃に加熱し、２時間３０分撹拌した。反応溶液を濾過し、濾物をヘプタン９．３ｍＬで洗浄した。濾液を分液し、得られたヘプタン層にヘプタン４．５ｍＬを加え、ＤＭＦ４．５ｍＬで分液洗浄した。得られたヘプタン層に、ヘプタン４．５ｍＬを加え、１Ｎ塩酸４．５ｍＬで１回、５％炭酸水素ナトリウム水溶液４．５ｍＬで１回、水４．５ｍＬで１回分液洗浄した。得られたヘプタン層にヘプタン４．５ｍＬを加え、アセトニトリル４．５ｍＬで分液洗浄した。前記のヘプタンとアセトニトリルによる分液洗浄をさらに一回行った。ヘプタン層を減圧下で濃縮して、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘプタン：酢酸エチル＝４０：１→酢酸エチル）で精製し、ＴＩＰＳ２−Ｄｐｍ−Ｃ＝Ｏ（Ｃ8ＯＣ2） ０．１４ｇを得た。【０１０７】
1Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3）δ１．０４−１．０９（ｍ，４２Ｈ），１．３０−１．４１（ｍ，１２Ｈ），１．４１−１．５２（ｍ，４Ｈ），１．５２−１．６３（ｍ，４Ｈ），１．７４−１．８６（ｍ，４Ｈ），３．４８（ｔ，４Ｈ），３．５３（ｔ，４Ｈ），３．８３（ｔ，４Ｈ），４．０３（ｔ，４Ｈ），６．９１−６．９７（ｍ，４Ｈ），７．７４−７．８０（ｍ，４Ｈ）
ＥＳＩＭＳ  ＭＨ＋  ８７１．６【０１０８】
（２）前記のＴＩＰＳ２−Ｄｐｍ−ＯＨ（Ｃ8）と同様の方法で、ＴＩＰＳ２−Ｄｐｍ−ＯＨ（Ｃ8ＯＣ2）を得た。【０１０９】
1Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，Ｂｅｎｚｅｎｅ−ｄ6）δ１．１１−１．１５（ｍ，４２Ｈ），１．２０−１．２８（ｍ，８Ｈ），１．２８−１．４０（ｍ，８Ｈ），１．５３−１．６９（ｍ，９Ｈ），３．３８（ｔ，４Ｈ），３．４９（ｔ，４Ｈ），３．６７（ｔ，４Ｈ），３．８３（ｔ，４Ｈ），５．６０（ｓ，１Ｈ），６．８５−６．９０（ｍ，４Ｈ），７．２７−７．３３（ｍ，４Ｈ）
ＥＳＩＭＳ  ＭＮａ＋  ８９５．７【０１１０】
実施例６
ＴＢＤＰＳ２−Ｄｐｍ−ＯＨの合成【０１１１】
【化１８】
2017221889.tif 000020
【０１１２】
（以下、Ｂｒ−（ＣＨ2）11−ＯＴＢＤＰＳ、ＴＢＤＰＳ２−Ｄｐｍ−Ｃ＝Ｏ、ＴＢＤＰＳ２−Ｄｐｍ−ＯＨは式中の構造を示すこととする。）【０１１３】
（１）Ｂｒ−（ＣＨ2）11−ＯＴＢＤＰＳ  １．２６ｇ（２．５６ｍｍｏｌ）、４，４’−ジヒドロキシベンゾフェノン０．２４ｇ（１．１４ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム０．５７ｇ（４．１０ｍｍｏｌ）をＤＭＦ７．６ｍＬに懸濁し、８５℃に加熱し、３時間撹拌した。反応溶液を濾過し、濾物をヘプタン１５．９ｍＬで洗浄した。濾液を分液し、得られたヘプタン層にヘプタン７．６ｍＬを加え、アセトニトリル７．６ｍＬで分液洗浄した。得られたヘプタン層に、ヘプタン７．６ｍＬを加え、１Ｎ塩酸７．６ｍＬで１回、５％炭酸水素ナトリウム水溶液７．６ｍＬで１回、水７．６ｍＬで１回分液洗浄した。得られたヘプタン層にヘプタン７．６ｍＬを加え、アセトニトリル７．６ｍＬで２回分液洗浄した。ヘプタン層を減圧下で濃縮して、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘプタン：酢酸エチル＝８０：１→酢酸エチル）で精製し、ＴＢＤＰＳ２−Ｄｐｍ−Ｃ＝Ｏ  ０．７６ｇを得た。【０１１４】
1Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3）δ１．０５（ｓ，１８Ｈ），１．２３−１．４２（ｍ，２４Ｈ），１．４２−１．６１（ｍ，８Ｈ），１．７７−１．８６（ｍ，４Ｈ），３．６６（ｔ，４Ｈ），４．０３（ｔ，４Ｈ），６．９２−６．９７（ｍ，４Ｈ），７．３５−７．４５（ｍ，１２Ｈ），７．６５−７．７０（ｍ，８Ｈ），７．７５−７．８０（ｍ，４Ｈ）
ＥＳＩＭＳ  ＭＮａ＋  １０５３．５【０１１５】
（２）前記のＴＩＰＳ２−Ｄｐｍ−ＯＨ（Ｃ8）と同様の方法で、ＴＢＤＰＳ２−Ｄｐｍ−ＯＨを得た。【０１１６】
1Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，Ｂｅｎｚｅｎｅ−ｄ6）δ１．２０（ｓ，１８Ｈ），１．２２−１．３２（ｍ，２４Ｈ），１．３２−１．４３（ｍ，４Ｈ），１．５６−１．６８（ｍ，９Ｈ），３．６８（ｔ，４Ｈ），３．７１（ｔ，４Ｈ），５．５９（ｓ，１Ｈ），６．８６−６．９０（ｍ，４Ｈ），７．２２−７．２７（ｍ，１２Ｈ），７．２８−７．３３（ｍ，４Ｈ），７．７９−７．８４（ｍ，８Ｈ）
ＥＳＩＭＳ  ＭＮａ＋  １０５５．６【０１１７】
実施例７
ＴＩＰＳ２−Ｄｐｍ−ＯＨ（Ｃ10−ＣＯＮＨ−Ｃ2）の合成【０１１８】
【化１９】
2017221889.tif 000021
【０１１９】
（以下、Ｂｒ−（ＣＨ2）10−ＣＯＮＨ−（ＣＨ2）2−ＯＴＩＰＳ、ＴＩＰＳ２−Ｄｐｍ−Ｃ＝Ｏ（Ｃ10−ＣＯＮＨ−Ｃ2）、ＴＩＰＳ２−Ｄｐｍ−ＯＨ（Ｃ10−ＣＯＮＨ−Ｃ2）は式中の構造を示すこととする。）【０１２０】
（１）Ｂｒ−（ＣＨ2）10−ＣＯＮＨ−（ＣＨ2）2−ＯＴＩＰＳ  １．４４ｇ（３.１１ｍｍｏｌ）、４，４’−ジヒドロキシベンゾフェノン０．２４ｇ（１．１１ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム０．６１ｇ（４．４４ｍｍｏｌ）をＤＭＦ７．４ｍＬに懸濁し、１１５℃に加熱し、２時間２０分撹拌した。反応溶液を濾過し、濾物をヘプタン７３．９ｍＬで洗浄した。濾液を減圧下で濃縮し、得られた残渣に水２２ｍＬを添加し、スラリー洗浄し、沈澱物を濾取した。前記の水によるスラリー洗浄、濾取をさらに一回行った。得られた沈澱物にアセトニトリル２２ｍＬを添加し、スラリー洗浄し、沈澱物を濾取した。前記のアセトニトリルによるスラリー洗浄、濾取をさらに一回行った。得られた沈澱物を減圧下で乾燥し、ＴＩＰＳ２−Ｄｐｍ−Ｃ＝Ｏ（Ｃ10−ＣＯＮＨ−Ｃ2） ０．８０ｇを得た。【０１２１】
1Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3）δ１．０４−１．０８（ｍ，４２Ｈ），１．２６−１．４０（ｍ，２０Ｈ），１．４６（ｑｕｉｎ.，４Ｈ），１．６２（ｑｕｉｎ.，４Ｈ），１．８１（ｑｕｉｎ.，４Ｈ），２．１８（ｔ，４Ｈ），３．４０（ｑ，４Ｈ），３．７６（ｔ，４Ｈ），４．０２（ｔ，４Ｈ），５．８８（ｔ，２Ｈ），６．９１−６．９６（ｍ，４Ｈ），７．７４−７.７９（ｍ，４Ｈ）
ＥＳＩＭＳ  ＭＨ＋  ９８１．７【０１２２】
（２）ＴＩＰＳ２−Ｄｐｍ−Ｃ＝Ｏ（Ｃ10−ＣＯＮＨ−Ｃ2）  ０．２６ｇ（０．２６ｍｍｏｌ）をＴＨＦ（無水）２．０ｍＬ、メタノール０．１０ｍＬの混合溶液に溶解させ、水素化ホウ素ナトリウム１２ｍｇ（０．３２ｍｍｏｌ）を添加し、室温で３時間２０分撹拌した。反応溶液に１Ｎ塩酸０．２５ｍＬを加え反応を停止し、ＣＰＭＥを６．５ｍＬ加え、１Ｎ塩酸１．９ｍＬで２回、５％炭酸水素ナトリウム水溶液１．９ｍＬで１回、水１．９ｍＬで１回洗浄した。有機層に無水硫酸ナトリウム０．２６ｇを加え、充分撹拌した後濾過し、濾液を減圧下で濃縮して、ＴＩＰＳ２−Ｄｐｍ−ＯＨ（Ｃ10−ＣＯＮＨ−Ｃ2）０．２１ｇを得た。【０１２３】
ＥＳＩＭＳ  ＭＮａ＋  １００５．７【０１２４】
実施例８
ＴＩＰＳ４−Ｄｐｍ−ＯＨ（Ｃ10−ＣＯＮＨ−ＣＨ（ＣＨ2）2）の合成【０１２５】
【化２０】
2017221889.tif 000022
【０１２６】
（以下、Ｂｒ−（ＣＨ2）10−ＣＯＮＨ−ＣＨ（ＣＨ2−ＯＴＩＰＳ）2、ＴＩＰＳ４−Ｄｐｍ−Ｃ＝Ｏ（Ｃ10−ＣＯＮＨ−ＣＨ（ＣＨ2）2）、ＴＩＰＳ４−Ｄｐｍ−ＯＨ（Ｃ10−ＣＯＮＨ−ＣＨ（ＣＨ2）2）は式中の構造を示すこととする。）【０１２７】
（１）Ｂｒ−（ＣＨ2）10−ＣＯＮＨ−ＣＨ（ＣＨ2−ＯＴＩＰＳ）2  ２．０４ｇ（３.１４ｍｍｏｌ）、４，４’−ジヒドロキシベンゾフェノン０．２８ｇ（１．３１ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム０．６９ｇ（４．９７ｍｍｏｌ）をＤＭＦ８．７ｍＬに懸濁し、１１５℃に加熱し、８時間３０分撹拌した。さらにＢｒ−（ＣＨ2）10−ＣＯＮＨ−ＣＨ（ＣＨ2−ＯＴＩＰＳ）2を０．３４ｇ（０．５２ｍｍｏｌ）を添加し、１１５℃で１時間撹拌した。反応溶液を濾過し、濾物をヘプタン１８．３ｍＬで洗浄した。濾液を分液し、得られたヘプタン層にヘプタン８．７ｍＬを加え、ＤＭＦ８．７ｍＬで分液洗浄した。得られたヘプタン層にヘプタン８．７ｍＬを加え、１Ｎ塩酸８．７ｍＬで１回、５％炭酸水素ナトリウム水溶液８．７ｍＬで１回、水８．７ｍＬで１回分液洗浄した。得られたヘプタン層にヘプタン８．７ｍＬを加え、アセトニトリル８．７ｍＬで分液洗浄した。前記のヘプタンとアセトニトリルによる分液洗浄をさらに一回行った。ヘプタン層を減圧下で濃縮して、ＴＩＰＳ４−Ｄｐｍ−Ｃ＝Ｏ（Ｃ10−ＣＯＮＨ−ＣＨ（ＣＨ2）2） ０．６４ｇを得た。【０１２８】
1Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3）δ１．０３−１．０８（ｍ，８４Ｈ），１．２２−１．４０（ｍ，２０Ｈ），１．４０−１．５１（ｍ，４Ｈ），１．５１−１．６９（ｍ，４Ｈ），１．７０−１．８５（ｍ，４Ｈ），２．１６（ｔ，４Ｈ），３．６２−３．７０（ｍ，４Ｈ），３．８４−３．９１（ｍ，４Ｈ），３．９４−４．０５（ｍ，６Ｈ），５．８４（ｄ，２Ｈ），６．９０−６．９６（ｍ，４Ｈ），７．７４−７．７９（ｍ，４Ｈ）
ＥＳＩＭＳ  ＭＨ＋  １３５３．９【０１２９】
（２）ＴＩＰＳ４−Ｄｐｍ−Ｃ＝Ｏ（Ｃ10−ＣＯＮＨ−ＣＨ（ＣＨ2）2）０．５２ｇ（０．３８ｍｍｏｌ）をＴＨＦ（無水）２．９ｍＬ、メタノール０．１５ｍＬの混合溶液に溶解させ、水素化ホウ素ナトリウム１７ｍｇ（０．４６ｍｍｏｌ）を添加し、室温で３時間４５分撹拌した。反応溶液に１Ｎ塩酸０．３６ｍＬを加え反応を停止し、酢酸エチルを１２．９ｍＬ加え、１Ｎ塩酸３．９ｍＬで２回、５％炭酸水素ナトリウム水溶液３．９ｍＬで１回、水３．９ｍＬで１回洗浄した。有機層に無水硫酸ナトリウム０．５２ｇを加え、充分撹拌した後濾過し、濾液を減圧下で濃縮して、ＴＩＰＳ４−Ｄｐｍ−ＯＨ（Ｃ10−ＣＯＮＨ−ＣＨ（ＣＨ2）2）０．４５ｇを得た。【０１３０】
ＥＳＩＭＳ  ＭＮａ＋  １３７８．９【０１３１】
実施例９
ＴＩＰＳ４−Ｄｐｍ−ＮＨ（ＣＨ2）2ＣＨ3（Ｃ10−ＣＯＮＨ−ＣＨ（ＣＨ2）2）の合成【０１３２】
【化２１】
2017221889.tif 000023
【０１３３】
（以下、ＴＩＰＳ４−Ｄｐｍ−Ｃｌ（Ｃ10−ＣＯＮＨ−ＣＨ（ＣＨ2）2）、ＴＩＰＳ４−Ｄｐｍ−ＮＨ（ＣＨ2）2ＣＨ3（Ｃ10−ＣＯＮＨ−ＣＨ（ＣＨ2）2）は式中の構造を示すこととする。）【０１３４】
（１）ＴＩＰＳ４−Ｄｐｍ−ＯＨ（Ｃ10−ＣＯＮＨ−ＣＨ（ＣＨ2）2）０．４５ｇ（０．３３ｍｍｏｌ）をクロロホルム５．３ｍＬに溶解し、ＤＭＦ５μＬ（０．０７ｍｍｏｌ）、ピリジン５９μＬ（０．７３ｍｍｏｌ）を添加し、５℃に冷却した後、塩化チオニル４８μＬ（０．６６ｍｍｏｌ）を添加し、室温に昇温し、１時間１５分撹拌した。反応溶液にヘプタン２７．６ｍＬ、ＣＰＭＥ１．３ｍＬを加え、アセトニトリル２６．７ｍＬで分液洗浄した。得られたヘプタン層にヘプタン４．５ｍＬ、ＣＰＭＥ１．３ｍＬを加え、アセトニトリル２６．７ｍＬで分液洗浄した。得られたヘプタン層にヘプタン４．５ｍＬを加え、アセトニトリル２６．７ｍＬで分液洗浄した。ヘプタン層を減圧下で濃縮し、ＴＩＰＳ４−Ｄｐｍ−Ｃｌ（Ｃ10−ＣＯＮＨ−ＣＨ（ＣＨ2）2）を含む混合物を得た。【０１３５】
（２）前工程で得られた混合物をクロロホルム２．５ｍＬに溶解させ、プロピルアミン５６μＬ（０．６７ｍｍｏｌ）、ＤＩＰＥＡ０．１２ｍＬ（０．６８ｍｍｏｌ）を添加し、室温で３０分撹拌した。反応溶液にＣＰＭＥを１０.０ｍＬ加え、０．５Ｎ塩酸６．０ｍＬで２回、５％炭酸水素ナトリウム水溶液６.０ｍＬで１回、２０％食塩水６．０ｍＬで１回分液洗浄した。有機層に無水硫酸ナトリウム０．９０ｇを加え、充分撹拌した後濾過し、濾液を減圧下で濃縮して、ＴＩＰＳ４−Ｄｐｍ−ＮＨ（ＣＨ2）2ＣＨ3（Ｃ10−ＣＯＮＨ−ＣＨ（ＣＨ2）2）０．２５ｇを得た。【０１３６】
ＥＳＩＭＳ  ＭＨ＋  １３９６．９【０１３７】
実施例１０
ＴＩＰＳ２−Ｄｐｍ−ＮＯＨ（Ｃ14）の合成【０１３８】
【化２２】
2017221889.tif 000024
【０１３９】
（以下、ＴＩＰＳ２−Ｄｐｍ−ＮＯＨ（Ｃ14）は式中の構造を示すこととする。）【０１４０】
（１）ＴＩＰＳ２−Ｄｐｍ−Ｃ＝Ｏ（Ｃ14）０．１９ｇ（０．２０ｍｍｏｌ）をＣＰＭＥ ０．９０ｍＬに溶解し、ヒドロキルアミン塩酸塩４１ｍｇ（０．５９ｍｍｏｌ）を添加し、５℃に冷却した。ピリジン１８４μＬ（１．７８ｍｍｏｌ）を添加し、９０℃に加熱し、２２時間１５分撹拌した。さらにヒドロキルアミン塩酸塩４１ｍｇ（０．５９ｍｍｏｌ）、ピリジン３０６μＬ（２．９６ｍｍｏｌ）を添加し、９０℃で７時間３０分撹拌した。さらにヒドロキルアミン塩酸塩１２４ｍｇ（１．７８ｍｍｏｌ）、ピリジン１８４μＬ（１．７８ｍｍｏｌ）を添加し、９０℃で２時間撹拌した。さらにヒドロキルアミン塩酸塩２４７ｍｇ（３．５５ｍｍｏｌ）、ピリジン１８４μＬ（１．７８ｍｍｏｌ）を添加し、９０℃で１５時間撹拌した。さらにヒドロキルアミン塩酸塩２４７ｍｇ（３．５５ｍｍｏｌ）、ピリジン１８４μＬ（１．７８ｍｍｏｌ）を添加し、９０℃で６時間３０分撹拌した。さらにヒドロキルアミン塩酸塩２４７ｍｇ（３．５５ｍｍｏｌ）、ピリジン３６７μＬ（３．５６ｍｍｏｌ）、ＣＰＭＥ １．０ｍＬを添加し、９０℃で１７時間１５分撹拌した。反応溶液を５℃に冷却し、１Ｎ塩酸１５ｍＬで反応を停止し、ヘプタン２５ｍＬを添加し、１Ｎ塩酸１５ｍＬで３回、５％炭酸水素ナトリウム水溶液１５ｍＬで３回、水１５ｍＬで１回分液洗浄した。得られたヘプタン層にヘプタン１５ｍＬを加え、アセトニトリル１５ｍＬで分液洗浄した。前記のヘプタンとアセトニトリルによる分液洗浄をさらに一回行い、ヘプタン層を減圧下で濃縮して、ＴＩＰＳ２−Ｄｐｍ−ＮＯＨ（Ｃ14）０．１４ｇを得た。【０１４１】
ＥＳＩＭＳ  ＭＨ＋  ９６６．９【０１４２】
実施例１１
ＴＩＰＳ２−Ｄｐｍ（ＯＭｅ）2−ＮＨ2の合成【０１４３】
【化２３】
2017221889.tif 000025
【０１４４】
（以下、ＴＩＰＳ２−Ｄｐｍ（ＯＭｅ）2−Ｃ＝Ｏ、ＴＩＰＳ２−Ｄｐｍ（ＯＭｅ）2−ＯＨ、ＴＩＰＳ２−Ｄｐｍ（ＯＭｅ）2−Ｎ3、ＴＩＰＳ２−Ｄｐｍ（ＯＭｅ）2−ＮＨ2は式中の構造を示すこととする。）【０１４５】
（１）Ｂｒ−（ＣＨ2）11−ＯＴＩＰＳ  ５．５９ｇ（１３．７ｍｍｏｌ）、２，２’−ジヒドロキシ−４，４’−ジメトキシベンゾフェノン１．６７ｇ（６．０９ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム３．０３ｇ（２２．９ｍｍｏｌ）をＤＭＦ４１ｍＬに懸濁し、８５℃に加熱し、２１時間撹拌した。反応溶液を濾過し、濾物をヘプタン８５ｍＬで洗浄した。濾液を分液し、得られたヘプタン層にヘプタン４１ｍＬを加え、ＤＭＦ４１ｍＬで分液洗浄した。前記のへプタンとＤＭＦによる分液洗浄を、さらに１回行った。得られたヘプタン層に、ヘプタン４１ｍＬを加え、１Ｎ塩酸４１ｍＬで１回、５％炭酸水素ナトリウム水溶液４１ｍＬで１回、水４１ｍＬで２回分液洗浄した。得られたヘプタン層にヘプタン４１ｍＬを加え、ＤＭＦ４１ｍＬで１回、アセトニトリル４１ｍＬで２回分液洗浄した。ヘプタン層を減圧下で濃縮して、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘプタン：酢酸エチル＝４５：１→２０：１）で精製し、ＴＩＰＳ２−Ｄｐｍ（ＯＭｅ）2−Ｃ＝Ｏ  ２．０３ｇ（収率３５．９％）を得た。【０１４６】
1Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，Ｂｅｎｚｅｎｅ−ｄ6）δ１．１２−１．１６（ｍ，４２Ｈ），１．２３−１．３８（ｍ，２８Ｈ），１．４１−１．５１（ｍ，４Ｈ），１．５７−１．６７（ｍ，４Ｈ），３．３８（ｓ，６Ｈ），３．５１（ｔ，４Ｈ），３．７０（ｔ，４Ｈ），６．３３（ｄｄ，２Ｈ），６．４１（ｄ，２Ｈ），７．９３（ｄ，２Ｈ）
13Ｃ−ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，Ｂｅｎｚｅｎｅ−ｄ6）δ１２．８（６Ｃ），１８．７（１２Ｃ），２６．７（２Ｃ），２６．８（２Ｃ），２９．９−３０．６（１２Ｃ），３３．９（２Ｃ），５５．３（２Ｃ），６４．１（２Ｃ），６８．６（２Ｃ），９９．８（２Ｃ），１０４．７（２Ｃ），１２６．６（２Ｃ），１３２．８（２Ｃ），１６０．４（２Ｃ），１６３．９（２Ｃ），１９２．７【０１４７】
（２）ＴＩＰＳ２−Ｄｐｍ（ＯＭｅ）2−Ｃ＝Ｏ  １．９８ｇ（２．１４ｍｍｏｌ）をＴＨＦ（無水）１６．３ｍＬ、メタノール０．８１ｍＬの混合溶液に溶解させ、水素化ホウ素ナトリウム９７ｍｇ（２．５６ｍｍｏｌ）を添加し、２時間撹拌した。反応溶液に１Ｎ塩酸２．０ｍＬを加え反応を停止し、ＣＰＭＥを５０ｍＬ加え、１Ｎ塩酸１５ｍＬで１回、水１５ｍＬで２回、５％炭酸水素ナトリウム水溶液１５ｍＬで１回、水１５ｍＬで２回洗浄し、有機層を減圧下で濃縮した。得られた残渣をヘプタン５０ｍＬに溶解し、ＤＭＦ２５ｍＬで分液洗浄した。得られたヘプタン層にヘプタン２５ｍＬを加え、アセトニトリル２５ｍＬで分液洗浄した。前記のへプタンとアセトニトリルによる分液洗浄を、さらに１回行った後、ヘプタン層を減圧下で濃縮してＴＩＰＳ２−Ｄｐｍ（ＯＭｅ）2−ＯＨを含む混合物を得た。【０１４８】
（３）前工程で得た混合物をＴＨＦ４２．７ｍＬに溶解し、ビス（ｐ−ニトロフェニル）リン酸アジド２．３４ｇ（６．４１ｍｍｏｌ）、ＤＢＵ０．９６ｍＬ（６．４１ｍｍｏｌ）を添加し、室温で１時間撹拌した。反応溶液をＣＰＭＥ１２４ｍＬで希釈し、５％炭酸水素ナトリウム水溶液４２ｍＬで６回分液洗浄した。溶液を減圧下で濃縮し、残渣をヘプタン１２８ｍＬに溶解させ、ＤＭＦ４３ｍＬで分液洗浄した。前記のへプタンとＤＭＦによる分液洗浄を、さらに２回行った後、アセトニトリル４３ｍＬで２回分液洗浄した。得られたヘプタン層を減圧下で濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘプタン：酢酸エチル＝３５：１）で精製し、ＴＩＰＳ２−Ｄｐｍ（ＯＭｅ）2−Ｎ3  ０．７４ｇ（収率３６．２％、２ｓｔｅｐｓ）を得た。【０１４９】
1Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，Ｂｅｎｚｅｎｅ−ｄ6）δ１．１２−１．１６（ｍ，４２Ｈ），１．２３−１．３８（ｍ，２８Ｈ），１．４１−１．５１（ｍ，４Ｈ），１．５７−１．６７（ｍ，４Ｈ），３．３７（ｓ，６Ｈ），３．６１−３．７３（ｍ，８Ｈ），６．３５（ｄｄ，２Ｈ），６．５３（ｄ，２Ｈ），６．７８（ｓ，１Ｈ），７．４０（ｄ，２Ｈ）
13Ｃ−ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，Ｂｅｎｚｅｎｅ−ｄ6）δ１２．８（６Ｃ），１８．７（１２Ｃ），２６．７（２Ｃ），２６．８（２Ｃ），２９．８−３０．６（１２Ｃ），３３．９（２Ｃ），５５．２（２Ｃ），５８．０，６４．１（２Ｃ），６８．４（２Ｃ），１００．１（２Ｃ），１０４．３（２Ｃ），１２１．８（２Ｃ），１２９．８（２Ｃ），１５８．２（２Ｃ），１６１．４（２Ｃ）【０１５０】
（４）ＴＨＦ４．９ｍＬにＴＩＰＳ２−Ｄｐｍ（ＯＭｅ）2−Ｎ3  ０．７０ｇ（０．７３ｍｍｏｌ）を溶解させ、トリフェニルホスフィン０．５７ｇ（２．１８ｍｍｏｌ）と水０．５３ｍＬ（２９．１ｍｍｏｌ）を添加し、６０℃で６時間撹拌した。反応溶液を減圧下で濃縮し、残渣をヘプタン１４．６ｍＬに溶解させ、ＤＭＦ７．３ｍＬで分液洗浄した。前記のへプタンとＤＭＦによる分液洗浄を、さらに２回行った後、ヘプタン層にヘプタンを７．３ｍＬ加え、５０％含水アセトニトリル７．３ｍＬで分液洗浄した。前記のへプタンと５０％含水アセトニトリルによる分液洗浄を、さらに１回行った。得られたヘプタン層にヘプタン７．３ｍＬを加え、アセトニトリル７．３ｍＬで分液洗浄した。前記のへプタンとアセトニトリルによる分液洗浄を、さらに１回行った後、ヘプタン層を減圧下で濃縮し、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘプタン：酢酸エチル＝１３：１→酢酸エチル）で精製し、ＴＩＰＳ２−Ｄｐｍ（ＯＭｅ）2−ＮＨ2  ０．３４ｇ（収率５０．３％）を得た。【０１５１】
1Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，Ｂｅｎｚｅｎｅ−ｄ6）δ１．１２−１．１６（ｍ，４２Ｈ），１．２３−１．３８（ｍ，２８Ｈ），１．４１−１．５１（ｍ，４Ｈ），１．５７−１．６７（ｍ，４Ｈ），１．７１（ｓ，２Ｈ），３．４４（ｓ，６Ｈ），３．６３−３．７３（ｍ，８Ｈ），６．０２（ｓ，１Ｈ），６．４４（ｄｄ，２Ｈ），６．５８（ｄ，２Ｈ），７．４９（ｄ，２Ｈ）
13Ｃ−ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，Ｂｅｎｚｅｎｅ−ｄ6）δ１２．８（６Ｃ），１８．７（１２Ｃ），２６．８（４Ｃ），２９．８−３０．６（１２Ｃ），３３．９（２Ｃ），４８．９，５５．３（２Ｃ），６４．１（２Ｃ），６８．２（２Ｃ），１００．２（２Ｃ），１０４．１（２Ｃ），１２８．３（２Ｃ），１２９．１（２Ｃ），１５８．２（２Ｃ），１６０．５（２Ｃ）【０１５２】
実施例１２
ＴＩＰＳ３−Ｄｐｍ−ＮＨ2の合成【０１５３】
【化２４】
2017221889.tif 000026
【０１５４】
（以下、ＴＩＰＳ３−Ｄｐｍ−Ｃ＝Ｏ、ＴＩＰＳ３−Ｄｐｍ−ＯＨ、ＴＩＰＳ３−Ｄｐｍ−Ｎ3、ＴＩＰＳ３−Ｄｐｍ−ＮＨ2は式中の構造を示すこととする。）【０１５５】
（１）Ｂｒ−（ＣＨ2）11−ＯＴＩＰＳ  ６．３５ｇ（１５．５９ｍｍｏｌ）、２，４，４’−トリヒドロキシベンゾフェノン１．０４ｇ（４．５２ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム３．１２ｇ（２２．５９ｍｍｏｌ）をＤＭＦ３０ｍＬに懸濁し、８５℃に加熱し、１５．５時間撹拌した。反応溶液を濾過し、濾物をヘプタン６３ｍＬで洗浄した。濾液を分液し、得られたヘプタン層にヘプタン３０ｍＬを加え、ＤＭＦ３０ｍＬで分液洗浄した。前記のへプタンとＤＭＦによる分液洗浄を、さらに１回行った。得られたヘプタン層に、ヘプタン３０ｍＬを加え、１Ｎ塩酸３０ｍＬで１回、５％炭酸水素ナトリウム水溶液３０ｍＬで１回、水３０ｍＬで２回分液洗浄した。得られたヘプタン層にヘプタン３０ｍＬを加え、ＤＭＦ３０ｍＬで１回、アセトニトリル３０ｍＬで２回分液洗浄した。得られたヘプタン層を減圧下で濃縮して、ＴＩＰＳ３−Ｄｐｍ−Ｃ＝Ｏ  ５．９６ｇを得た。【０１５６】
1Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3）δ１．０４−１．０８（ｍ，６３Ｈ），１．２０−１．５７（ｍ，５０Ｈ），１．７４−１．８４（ｍ，４Ｈ），３．６４−３．６９（ｍ，６Ｈ），３．８３（ｔ，２Ｈ），３．９９（ｔ，４Ｈ），６．４５（ｄ，１Ｈ），６．５２（ｄｄ，１Ｈ），６．８３−６．８７（ｍ，２Ｈ），７．３６（ｄ，１Ｈ），７．７０−７．７６（ｍ，２Ｈ）
13Ｃ−ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3）δ１２．２（９Ｃ），１８．２（１８Ｃ），２５．９，２６．０（３Ｃ），２６．２（２Ｃ），２９．１−２９．８（１８Ｃ），３３．２（３Ｃ），６３．７（３Ｃ），６８．３，６８．４，６８．５，９９．９，１０５．３，１１３．８（２Ｃ），１２２．４，１３１．７，１３２．０（３Ｃ），１５８．８，１６２．７，１６２．８，１９５．０【０１５７】
（２）ＴＩＰＳ３−Ｄｐｍ−Ｃ＝Ｏ  ０．９２ｇ（０．７６ｍｍｏｌ）をＴＨＦ（無水）５．８ｍＬ、メタノール０．２９ｍＬの混合溶液に溶解させ、水素化ホウ素ナトリウム３４ｍｇ（０．９１ｍｍｏｌ）を添加し、３時間撹拌した。反応溶液に１Ｎ塩酸０．７２ｍＬを加え反応を停止し、ＣＰＭＥを２３．０ｍＬ加え、１Ｎ塩酸６．９ｍＬで１回、５％炭酸水素ナトリウム水溶液６．９ｍＬで１回、水６．９ｍＬで１回洗浄し、有機層を減圧下で濃縮した。得られた残渣をヘプタン２３．０ｍＬに溶解し、ＤＭＦ１１．０ｍＬで分液洗浄した。得られたヘプタン層にヘプタン１１．０ｍＬを加え、アセトニトリル１１．０ｍＬで分液洗浄した。前記のへプタンとアセトニトリルによる分液洗浄を、さらに１回行った後、ヘプタン層を減圧下で濃縮してＴＩＰＳ３−Ｄｐｍ−ＯＨを含む混合物を得た。【０１５８】
（３）前工程で得た混合物をＴＨＦ１５．２ｍＬに溶解し、ビス（ｐ−ニトロフェニル）リン酸アジド０．８３ｇ（２．２８ｍｍｏｌ）、ＤＢＵ０．３４ｍＬ（２．２８ｍｍｏｌ）を添加し、室温で１時間撹拌した。反応溶液をＣＰＭＥ４４．１ｍＬで希釈し、５％炭酸水素ナトリウム水溶液１５．０ｍＬで２回分液洗浄した。得られた有機層を減圧下で濃縮し、残渣をヘプタン３０．０ｍＬに溶解させ、アセトニトリル１５．０ｍＬで１回、水７．６ｍＬで２回分液洗浄した。得られたヘプタン層にヘプタン１５．２ｍＬを加え、ＤＭＦ７．６ｍＬで分液洗浄した。前記のへプタンとＤＭＦによる分液洗浄を、さらに３回行った後、アセトニトリル７．６ｍＬで３回分液洗浄し、ヘプタン層を減圧下で濃縮し、ＴＩＰＳ３−Ｄｐｍ−Ｎ3  ０．６３ｇを得た。【０１５９】
1Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，Ｂｅｎｚｅｎｅ−ｄ6）δ１．１２−１．１６（ｍ，６３Ｈ），１．２０−１．５１（ｍ，５０Ｈ），１．５９−１．６６（ｍ，４Ｈ），３．６４−３．７５（ｍ，１２Ｈ），６．２５（ｓ，１Ｈ），６．４５（ｄｄ，１Ｈ），６．５７（ｄ，１Ｈ），６．８４−６．８８（ｍ，２Ｈ），７．３３−７．３７（ｍ，２Ｈ）７．３９（ｄ，１Ｈ）
13Ｃ−ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，Ｂｅｎｚｅｎｅ−ｄ6）δ１２．８（９Ｃ），１８．７（１８Ｃ），２６．７（３Ｃ），２６．８（２Ｃ），２６．９，２９．８−３０．５（１８Ｃ），３３．９（３Ｃ），６３．２，６４．１（３Ｃ），６８．３，６８．４，６８．５，１００．７，１０５．３，１１５．０（２Ｃ），１２１．８，１２９．５（２Ｃ），１２９．８，１３２．８，１５８．１，１５９．６，１６１．２【０１６０】
（４）ＴＨＦ２．９ｍＬにＴＩＰＳ３−Ｄｐｍ−Ｎ3０．５３ｇ（０．４３ｍｍｏｌ）を溶解させ、トリフェニルホスフィン０．３４ｇ（１．２８ｍｍｏｌ）と水０．３１ｍＬ（１７．１ｍｍｏｌ）を添加し、６０℃で６時間撹拌した。反応溶液を減圧下で濃縮し、残渣をヘプタン８．６ｍＬに溶解させ、ＤＭＦ４．３ｍＬで分液洗浄した。前記のへプタンとＤＭＦによる分液洗浄を、さらに２回行った後、ヘプタン層にヘプタンを４．３ｍＬ加え、５０％含水アセトニトリル４．３ｍＬで分液洗浄した。前記のへプタンと５０％含水アセトニトリルによる分液洗浄を、さらに１回行った。得られたヘプタン層にヘプタン４．３ｍＬを加え、アセトニトリル４．３ｍＬで分液洗浄した。前記のへプタンとアセトニトリルによる分液洗浄を、さらに１回行った後、ヘプタン層を減圧下で濃縮し、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘプタン：酢酸エチル＝１７：１→酢酸エチル）で精製し、ＴＩＰＳ３−Ｄｐｍ−ＮＨ2０．２５ｇを得た。【０１６１】
1Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，Ｂｅｎｚｅｎｅ−ｄ6）δ１．１２−１．１６（ｍ，６３Ｈ），１．２０−１．５１（ｍ，５０Ｈ），１．５８−１．６８（ｍ，６Ｈ），３．５６−３．７５（ｍ，１０Ｈ），３．８０（ｔ，２Ｈ），５．６０（ｓ，１Ｈ），６．５３（ｄｄ，１Ｈ），６．６０（ｄ，１Ｈ），６．９２−６．９８（ｍ，２Ｈ），７．５３（ｄ，１Ｈ），７．５４−７．５９（ｍ，２Ｈ）
13Ｃ−ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，Ｂｅｎｚｅｎｅ−ｄ6）δ１２．８（９Ｃ），１８．７（１８Ｃ），２６．７（２Ｃ），２６．８（２Ｃ），２６．９（２Ｃ），２９．６−３０．５（１８Ｃ），３３．９（３Ｃ），５４．０，６４．１（３Ｃ），６８．２，６８．３，６８．４，１００．８，１０５．１，１１４．８（２Ｃ），１２８．３，１２８．９，１２９．１（２Ｃ），１３８．９，１５８．０，１５８．９，１６０．２【０１６２】
実施例１３
ＴＩＰＳ６−Ｄｐｍ−ＮＨ2の合成【０１６３】
【化２５】
2017221889.tif 000027
【０１６４】
（以下、Ｂｒ−（ＣＨ2）10−ＣＯＮＨ−Ｃ（ＣＨ2ＯＴＩＰＳ）3、ＴＩＰＳ６−Ｄｐｍ−Ｃ＝Ｏ、ＴＩＰＳ６−Ｄｐｍ−ＯＨ、ＴＩＰＳ６−Ｄｐｍ−Ｎ3、ＴＩＰＳ６−Ｄｐｍ−ＮＨ2は式中の構造を示すこととする。）【０１６５】
（１）Ｂｒ−（ＣＨ2）10−ＣＯＮＨ−Ｃ（ＣＨ2ＯＴＩＰＳ）3  １３．１１ｇ（１５．６６ｍｍｏｌ）、４，４’−ジヒドロキシベンゾフェノン１．３６ｇ（６．３４ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム２．９３ｇ（２１．１７ｍｍｏｌ）をＤＭＦ４２ｍＬに懸濁し、１１０℃に加熱し、３時間撹拌した後、１２０℃に加熱し、１時間攪拌した。反応溶液を濾過し、濾物をヘプタン８９ｍＬで洗浄した。濾液を分液し、得られたヘプタン層にヘプタン４２ｍＬを加え、ＤＭＦ４２ｍＬで分液洗浄した。前記のへプタンとＤＭＦによる分液洗浄を、さらに１回行った。得られたヘプタン層に、ヘプタン４２ｍＬを加え、１Ｎ塩酸４２ｍＬで１回、５％炭酸水素ナトリウム水溶液４２ｍＬで１回、水４２ｍＬで２回分液洗浄した。得られたヘプタン層にヘプタン８５ｍＬを加え、ＤＭＦ４２ｍＬで１回、アセトニトリル４２ｍＬで２回分液洗浄した。ヘプタン層を減圧下で濃縮して、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘプタン：酢酸エチル＝２５：１→１５：１）で精製し、ＴＩＰＳ６−Ｄｐｍ−Ｃ＝Ｏ  ５．３６ｇ（収率４９．０％）を得た。【０１６６】
1Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，Ｂｅｎｚｅｎｅ−ｄ6）δ１．１５−１．２０（ｍ，１２６Ｈ），１．２３−１．３８（ｍ，２４Ｈ），１．５６−１．６５（ｍ，４Ｈ），１．７１−１．８２（ｍ，４Ｈ），２．２０（ｔ，４Ｈ），３．６１（ｔ，４Ｈ），４．４３（ｓ，１２Ｈ），５．９０（ｓ，２Ｈ），６．７７−６．８１（ｍ，４Ｈ），７．８９−７．９５（ｍ，４Ｈ）
13Ｃ−ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，Ｂｅｎｚｅｎｅ−ｄ6）δ１２．７（１８Ｃ），１８．７（３６Ｃ），２６．６（２Ｃ），２６．７（２Ｃ），２９．８−３０．３（１２Ｃ），３８．２（２Ｃ），６２．３（６Ｃ），６２．８（２Ｃ），６８．５（２Ｃ），１１４．６（４Ｃ），１３１．９（２Ｃ），１３２．９（４Ｃ），１６３．０（２Ｃ），１７２．３（２Ｃ），１９３．８【０１６７】
（２）ＴＩＰＳ６−Ｄｐｍ−Ｃ＝Ｏ  ５．１９ｇ（３．０１ｍｍｏｌ）をＴＨＦ（無水）２２．９ｍＬ、メタノール１．１５ｍＬの混合溶液に溶解させ、水素化ホウ素ナトリウム０．１４ｇ（３．６１ｍｍｏｌ）を添加し、２時間撹拌した。反応溶液に１Ｎ塩酸２．９ｍＬを加え反応を停止し、ＣＰＭＥを１３０ｍＬ加え、１Ｎ塩酸３９ｍＬで１回、水３９ｍＬで３回洗浄し、有機層を減圧下で濃縮した。得られた残渣をヘプタン１３０ｍＬに溶解し、ＤＭＦ６５ｍＬで分液洗浄した。得られたヘプタン層にヘプタン６５ｍＬを加え、アセトニトリル６５ｍＬで分液洗浄した。前記のへプタンとアセトニトリルによる分液洗浄を、さらに１回行った後、ヘプタン層を減圧下で濃縮してＴＩＰＳ６−Ｄｐｍ−ＯＨを含む混合物を得た。【０１６８】
（３）前工程で得た混合物をＴＨＦ６０ｍＬに溶解し、ビス（ｐ−ニトロフェニル）リン酸アジド３．２９ｇ（９．０２ｍｍｏｌ）、ＤＢＵ１．３５ｍＬ（９．０２ｍｍｏｌ）を添加し、室温で１時間撹拌した。反応溶液をＣＰＭＥ１７４ｍＬで希釈し、５％炭酸水素ナトリウム水溶液５９ｍＬで１回、水５００ｍＬで６回分液洗浄した。溶液を減圧下で濃縮し、残渣をヘプタン１２０ｍＬに溶解させ、ＤＭＦ６０ｍＬで分液洗浄した。前記のへプタンとＤＭＦによる分液洗浄を、さらに１回行った。得られたヘプタン層にヘプタン６０ｍＬを加え、アセトニトリル６０ｍＬで分液洗浄した。前記のへプタンとアセトニトリルによる分液洗浄を、さらに１回行った後、ヘプタン層を減圧下で濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘプタン：酢酸エチル＝４０：１→２０：１）で精製し、ＴＩＰＳ６−Ｄｐｍ−Ｎ3  １．３６ｇ（収率３１．０％、２ｓｔｅｐｓ）を得た。【０１６９】
1Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，Ｂｅｎｚｅｎｅ−ｄ6）δ１．１５−１．２０（ｍ，１２６Ｈ），１．２３−１．３８（ｍ，２４Ｈ），１．５８−１．６７（ｍ，４Ｈ），１．７０−１．７９（ｍ，４Ｈ），２．１９（ｔ，４Ｈ），３．６４（ｔ，４Ｈ），４．４２（ｓ，１２Ｈ），５．３６（ｓ，１Ｈ），５．８９（ｓ，２Ｈ），６．８０−６．８５（ｍ，４Ｈ），７．１３−７．１８（ｍ，４Ｈ）
13Ｃ−ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，Ｂｅｎｚｅｎｅ−ｄ6）δ１２．７（１８Ｃ），１８．７（３６Ｃ），２６．６（２Ｃ），２６．８（２Ｃ），２９．８−３０．３（１２Ｃ），３８．２（２Ｃ），６２．３（６Ｃ），６２．８（２Ｃ），６８．３（２Ｃ），６８．４，１１５．２（４Ｃ），１２９．４（４Ｃ），１３２．８（２Ｃ），１５９．８（２Ｃ），１７２．３（２Ｃ）【０１７０】
（４）ＴＨＦ４．７２ｍＬにＴＩＰＳ６−Ｄｐｍ−Ｎ3１．２４ｇ（０．７１ｍｍｏｌ）を溶解させ、トリフェニルホスフィン０．５６ｇ（２．１３ｍｍｏｌ）と水０．５１ｍＬ（２８．３３ｍｍｏｌ）を添加し、６０℃で６時間撹拌した。反応溶液を減圧下で濃縮し、残渣をヘプタン１４．２ｍＬに溶解させ、ＤＭＦ７．１ｍＬで分液洗浄した。前記のへプタンとＤＭＦによる分液洗浄を、さらに２回行った後、ヘプタン層にヘプタンを７．１ｍＬ加え、５０％含水アセトニトリル７．１ｍＬで分液洗浄した。前記のへプタンと５０％含水アセトニトリルによる分液洗浄を、さらに１回行った。得られたヘプタン層にヘプタン７．１ｍＬを加え、アセトニトリル７．１ｍＬで分液洗浄した。前記のへプタンとアセトニトリルによる分液洗浄を、さらに１回行った後、ヘプタン層を減圧下で濃縮し、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘプタン：酢酸エチル＝１５：１→酢酸エチル）で精製し、ＴＩＰＳ６−Ｄｐｍ−ＮＨ2１．１３ｇ（収率９２．２％）を得た。【０１７１】
1Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，Ｂｅｎｚｅｎｅ−ｄ6）δ１．１５−１．２０（ｍ，１２６Ｈ），１．２３−１．３８（ｍ，２４Ｈ），１．６０−１．８２（ｍ，１０Ｈ），２．１９（ｔ，４Ｈ），３．７０（ｔ，４Ｈ），４．４３（ｓ，１２Ｈ），４．９７（ｓ，１Ｈ），５．９０（ｓ，２Ｈ），６．８７−６．９２（ｍ，４Ｈ），７．３２−７．３７（ｍ，４Ｈ）
13Ｃ−ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，Ｂｅｎｚｅｎｅ−ｄ6）δ１２．７（１８Ｃ），１８．６（３６Ｃ），２６．６（２Ｃ），２６．８（２Ｃ），２９．８−３０．３（１２Ｃ），３８．３（２Ｃ），５９．４，６２．３（６Ｃ），６２．８（２Ｃ），６８．３（２Ｃ），１１５．０（４Ｃ），１２８．７（４Ｃ），１３９．４（２Ｃ），１５９．０（２Ｃ），１７２．３（２Ｃ）【０１７２】
実施例１４
ＴＩＰＳ９−Ｄｐｍ−ＮＨ2の合成【０１７３】
【化２６】
2017221889.tif 000028
【０１７４】
（以下、ＴＩＰＳ９−Ｄｐｍ−Ｃ＝Ｏ、ＴＩＰＳ９−Ｄｐｍ−ＯＨ、ＴＩＰＳ９−Ｄｐｍ−Ｎ3、ＴＩＰＳ９−Ｄｐｍ−ＮＨ2は式中の構造を示すこととする。）【０１７５】
（１）Ｂｒ−（ＣＨ2）10−ＣＯＮＨ−Ｃ（ＣＨ2ＯＴＩＰＳ）3  ３．３６ｇ（４．０２ｍｍｏｌ）、２，４，４’−トリヒドロキシベンゾフェノン０．２５ｇ（１．０９ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム０．７５ｇ（５．４３ｍｍｏｌ）をＤＭＦ７．２ｍＬに懸濁し、１２０℃に加熱し、５時間撹拌した。反応溶液を濾過し、濾物をヘプタン１５．２ｍＬで洗浄した。濾液を分液し、得られたヘプタン層にヘプタン７．２ｍＬを加え、ＤＭＦ７．２ｍＬで分液洗浄した。前記のへプタンとＤＭＦによる分液洗浄を、さらに１回行った。得られたヘプタン層に、ヘプタン７．２ｍＬを加え、１Ｎ塩酸７．２ｍＬで１回、５％炭酸水素ナトリウム水溶液７．２ｍＬで１回、水７．２ｍＬで２回分液洗浄した。得られたヘプタン層にヘプタン１４．５ｍＬを加え、ＤＭＦ７．２ｍＬで１回、アセトニトリル７．２ｍＬで２回分液洗浄した。得られたヘプタン層を減圧下で濃縮して、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘプタン：酢酸エチル＝２０：１→１０：１）で精製し、ＴＩＰＳ９−Ｄｐｍ−Ｃ＝Ｏ  １．８１ｇ（収率６６．７％）を得た。【０１７６】
1Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，Ｂｅｎｚｅｎｅ−ｄ6）δ１．１５−１．２０（ｍ，１８９Ｈ），１．２３−１．３８（ｍ，３６Ｈ），１．５０−１．８２（ｍ，１２Ｈ），２．１６−２．２６（ｍ，６Ｈ），３．５８（ｔ，２Ｈ），３．６３（ｔ，２Ｈ），３．７３（ｔ，２Ｈ），４．４３（ｓ，１８Ｈ），５．９１（ｓ，３Ｈ），６．４２（ｄｄ，１Ｈ），６．５９（ｄ，１Ｈ），６．７８−６．８３（ｍ，２Ｈ），７．６０（ｄ，１Ｈ），８．０３−８．０８（ｍ，２Ｈ）
13Ｃ−ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，Ｂｅｎｚｅｎｅ−ｄ6）δ１２．７（２７Ｃ），１８．７（５４Ｃ），２６．５，２６．６（３Ｃ），２６．７，２６．８，２９．７−３０．４（１８Ｃ），３８．２（３Ｃ），６２．３（９Ｃ），６２．８（３Ｃ），６８．５（２Ｃ），６８．８，１０１．０，１０５．７，１１４．４（２Ｃ），１２４．０，１３２．３，１３２．６（２Ｃ），１３３．２，１５９．４，１６３．１，１６３．３，１７２．３（３Ｃ），１９４．１【０１７７】
（２）ＴＩＰＳ９−Ｄｐｍ−Ｃ＝Ｏ  １．６９ｇ（０．６８ｍｍｏｌ）をＴＨＦ（無水）５．１ｍＬ、メタノール０．２６ｍＬの混合溶液に溶解させ、水素化ホウ素ナトリウム３１ｍｇ（０．８１ｍｍｏｌ）を添加し、２．５時間撹拌した。反応溶液に１Ｎ塩酸０．６４ｍＬを加え反応を停止し、ＣＰＭＥを４２ｍＬ加え、１Ｎ塩酸１３ｍＬで１回、水１３ｍＬで３回洗浄し、有機層を減圧下で濃縮した。得られた残渣をヘプタン４２ｍＬに溶解し、ＤＭＦ２１ｍＬで分液洗浄した。得られたヘプタン層にヘプタン２１ｍＬを加え、アセトニトリル２１ｍＬで分液洗浄した。前記のへプタンとアセトニトリルによる分液洗浄を、さらに１回行った後、ヘプタン層を減圧下で濃縮してＴＩＰＳ９−Ｄｐｍ−ＯＨを含む混合物を得た。【０１７８】
（３）前工程で得た混合物をＴＨＦ１３．５ｍＬに溶解し、ビス（ｐ−ニトロフェニル）リン酸アジド０．７４ｇ（２．０３ｍｍｏｌ）、ＤＢＵ０．３０ｍＬ（２．０３ｍｍｏｌ）を添加し、室温で１時間撹拌した。反応溶液をＣＰＭＥ３９ｍＬで希釈し、５％炭酸水素ナトリウム水溶液１３ｍＬで１回、水７８ｍＬで５回分液洗浄した。溶液を減圧下で濃縮し、残渣をヘプタン２７ｍＬに溶解させ、ＤＭＦ１４ｍＬで分液洗浄した。得られたヘプタン層にヘプタン１４ｍＬを加え、アセトニトリル７ｍＬで分液洗浄した。前記のへプタンとアセトニトリルによる分液洗浄を、さらに１回行った後、ヘプタン層を減圧下で濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘプタン：酢酸エチル＝３０：１→２０：１）で精製し、ＴＩＰＳ９−Ｄｐｍ−Ｎ3  ０．４２ｇ（収率２４．４％、２ｓｔｅｐｓ）を得た。【０１７９】
1Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，Ｂｅｎｚｅｎｅ−ｄ6）δ１．１５−１．２０（ｍ，１８９Ｈ），１．２３−１．３８（ｍ，３６Ｈ），１．５０−１．８２（ｍ，１２Ｈ），２．１６−２．２６（ｍ，６Ｈ），３．５６−３．７０（ｍ，４Ｈ），３．７３（ｔ，２Ｈ），４．４３（ｓ，１８Ｈ），５．９０（ｓ，３Ｈ），６．２７（ｓ，１Ｈ），６．４５（ｄｄ，１Ｈ），６．５７（ｄ，１Ｈ），６．８５−６．９０（ｍ，２Ｈ），７．３３−７．４０（ｍ，３Ｈ）
13Ｃ−ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，Ｂｅｎｚｅｎｅ−ｄ6）δ１２．７（２７Ｃ），１８．７（５４Ｃ），２６．６（３Ｃ），２６．７，２６．９（２Ｃ），２９．８−３０．４（１８Ｃ），３８．３（３Ｃ），６２．３（９Ｃ），６２．８（３Ｃ），６３．１，６８．３，６８．４，６８．５，１００．６，１０５．４，１１５．０（２Ｃ），１２１．８，１２９．４（２Ｃ），１２９．９，１３２．８，１５８．２，１５９．６，１６１．２，１７２．３（３Ｃ）【０１８０】
（４）ＴＨＦ０．９１ｍＬにＴＩＰＳ９−Ｄｐｍ−Ｎ3０．３５ｇ（０．１４ｍｍｏｌ）を溶解させ、トリフェニルホスフィン０．１１ｇ（０．４１ｍｍｏｌ）と水０．１０ｍＬ（５．５０ｍｍｏｌ）を添加し、６０℃で６時間撹拌した。反応溶液を減圧下で濃縮し、残渣をヘプタン２．８ｍＬに溶解させ、ＤＭＦ１．４ｍＬで分液洗浄した。前記のへプタンとＤＭＦによる分液洗浄を、さらに２回行った後、ヘプタン層にヘプタンを１．４ｍＬ加え、５０％含水アセトニトリル１．４ｍＬで分液洗浄した。前記のへプタンと５０％含水アセトニトリルによる分液洗浄を、さらに１回行った。得られたヘプタン層にヘプタン１．４ｍＬを加え、アセトニトリル１．４ｍＬで分液洗浄した。前記のへプタンとアセトニトリルによる分液洗浄を、さらに１回行った後、ヘプタン層を減圧下で濃縮し、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘプタン：酢酸エチル＝１７：１→酢酸エチル）で精製し、ＴＩＰＳ９−Ｄｐｍ−ＮＨ2０．２５ｇ（収率９４．６％）を得た。【０１８１】
1Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，Ｂｅｎｚｅｎｅ−ｄ6）δ１．１５−１．２０（ｍ，１８９Ｈ），１．２３−１．３８（ｍ，３６Ｈ），１．５０−１．８２（ｍ，１４Ｈ），２．１６−２．２６（ｍ，６Ｈ），３．５８−３．６８（ｍ，２Ｈ），３．７３（ｔ，２Ｈ），３．７９（ｔ，２Ｈ），４．４３（ｓ，１８Ｈ），５．６２（ｓ，１Ｈ），５．９０（ｓ，３Ｈ），６．５３（ｄｄ，１Ｈ），６．６０（ｄ，１Ｈ），６．９３−６．９９（ｍ，２Ｈ），７．５２（ｄ，１Ｈ），７．５５−７．６１（ｍ，２Ｈ）
13Ｃ−ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，Ｂｅｎｚｅｎｅ−ｄ6）δ１２．７（２７Ｃ），１８．７（５４Ｃ），２６．６（３Ｃ），２６．８，２６．９（２Ｃ），２９．８−３０．４（１８Ｃ），３８．３（３Ｃ），５３．９，６２．３（９Ｃ），６２．８（３Ｃ），６８．３（２Ｃ），６８．４，１００．７，１０５．１，１１４．７（２Ｃ），１２８．３，１２８．９，１２９．１（２Ｃ），１３９．０，１５８．０，１５８．９，１６０．２，１７２．３（３Ｃ）【０１８２】
実施例１５
Ｆｍｏｃ−Ｄ−Ａｌａ−ＮＨ−（ＴＩＰＳ２−Ｄｐｍ）の合成【０１８３】
【化２７】
2017221889.tif 000029
【０１８４】
（以下、Ｆｍｏｃ−Ｄ−Ａｌａ−ＮＨ−（ＴＩＰＳ２−Ｄｐｍ）は式中の構造を示すこととする。）【０１８５】
（１）ＴＩＰＳ２−Ｄｐｍ−Ｃ＝Ｏ  ４５.０ｇ（５１．９ｍｍｏｌ）をＴＨＦ（無水）３９５ｍＬ、メタノール１９．８ｍＬの混合溶液に溶解させ、水素化ホウ素ナトリウム２．３６ｇ（６２．３ｍｍｏｌ）を添加し、３時間３０分撹拌した。反応溶液に１Ｎ塩酸４９．３ｍＬを加え反応を停止し、ＣＰＭＥを１１２５ｍＬ加え、１Ｎ塩酸３４０ｍＬで２回、２０％食塩水３４０ｍＬで１回洗浄した。有機層に無水硫酸マグネシウム４５．１ｇを加え、充分撹拌した後濾過し、濾液を減圧下で濃縮し、ＴＩＰＳ２−Ｄｐｍ−ＯＨを含む混合物を得た。【０１８６】
（２）前工程で得た混合物をトルエン６９５ｍＬに溶解し、Ｆｍｏｃ−Ｄ−Ａｌａ−ＮＨ2 １９．３ｇ（６２．３ｍｍｏｌ）、メタンスルホン酸１６８μＬ（２．６ｍｍｏｌ）を添加し、１００℃で１時間撹拌した。反応溶液を２７℃に冷却し、ＤＩＰＥＡ４７４μＬ（２．７ｍｍｏｌ）を添加し、反応を停止した。ＣＰＭＥ６８ｍＬとヘプタン２２５０ｍＬで希釈し、メタノール／水＝８／２の混合液２２５０ｍＬで１回分液洗浄した。得られた有機層にＣＰＭＥ ６８ｍＬを添加し、メタノール／水＝８／２の混合液１１２５ｍＬで１回分液洗浄し、有機層を減圧下で濃縮した。得られた残渣をＴＨＦ １８０ｍＬに溶解させ、再度、減圧下で濃縮した。残渣をＴＨＦ１１３ｍＬに溶解し、メタノール ２２５１ｍＬ添加し、スラリー洗浄し、沈澱物を濾取した。得られた沈澱物にメタノール２２５１ｍＬ添加し、スラリー洗浄し、沈澱物を濾取した。沈澱物を減圧下で乾燥させ、Ｆｍｏｃ−Ｄ−Ａｌａ−ＮＨ−（ＴＩＰＳ２−Ｄｐｍ） ４８．８ｇ（収率８１．０％、２ｓｔｅｐｓ）を得た。【０１８７】
1Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3）δ１．０４−１．０８（ｍ，４２Ｈ），１．２３−１．４８（ｍ，３１Ｈ），１．４９−１．５９（ｍ，４Ｈ），１．６７−１．８０（ｍ，４Ｈ），３．６７（ｔ，４Ｈ），３．８２（ｔ，２Ｈ），３．８９（ｔ，２Ｈ），４．１６（ｔ，２Ｈ），４．３０（ｔ，１Ｈ），４．３７−４．４４（ｍ，１Ｈ），５．３９（ｄ，１Ｈ），６．１０（ｄ，１Ｈ），６．６５（ｄ，１Ｈ），６．７８（ｄｄ，４Ｈ），７．０４−７．１２（ｍ，４Ｈ），７．２５−７．３２（ｍ，２Ｈ），７．３９（ｔ，２Ｈ），７．５５（ｔ，２Ｈ），７．７６（ｄ，２Ｈ）
13Ｃ−ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3）δ１２．２（６Ｃ），１８．２（１３Ｃ），２６．０（２Ｃ），２６．２（２Ｃ），２９．４−２９．８（１２Ｃ），３３．２（２Ｃ），４７．２，５０．７，５６．１，６３．７（２Ｃ），６７．３，６８．１，６８．２，１１４．７（４Ｃ），１２０．１（２Ｃ），１２５．２（２Ｃ），１２７．３（２Ｃ），１２７．９（２Ｃ），１２８．５（４Ｃ），１３３．４，１３３．５，１４１．４（２Ｃ），１４３．８，１４４．０，１５６．２，１５８．６（２Ｃ），１７１．１【０１８８】
実施例１６
Ｆｍｏｃ−Ｃｙｓ（ＴＩＰＳ２−Ｄｐｍ）−ＮＨ2の合成と脱保護【０１８９】
【化２８】
2017221889.tif 000030
【０１９０】
（以下、Ｆｍｏｃ−Ｃｙｓ（ＴＩＰＳ２−Ｄｐｍ）−ＮＨ2は式中の構造を示すこととする。）【０１９１】
（１）ＴＩＰＳ２−Ｄｐｍ−Ｃ＝Ｏ  ０．３５ｇ（０．４０ｍｍｏｌ）をＴＨＦ（無水）３．１ｍＬ、メタノール０．１５ｍＬの混合溶液に溶解させ、水素化ホウ素ナトリウム１８ｍｇ（０．４８ｍｍｏｌ）を添加し、３時間撹拌した。反応溶液に１Ｎ塩酸０．３８ｍＬを加え反応を停止し、ＣＰＭＥを８．７ｍＬ加え、１Ｎ塩酸２．６ｍＬで２回、２０％食塩水２．６ｍＬで１回洗浄した。有機層に無水硫酸マグネシウム０．３５ｇを加え、充分撹拌した後濾過し、濾液を減圧下で濃縮し、ＴＩＰＳ２−Ｄｐｍ−ＯＨを含む混合物を得た。【０１９２】
（２）前工程で得た混合物をトルエン５．４ｍＬに溶解し、Ｆｍｏｃ−Ｌ−Ｃｓｙ−ＮＨ2 ０．１４ｇ（０．４１ｍｍｏｌ）、メタンスルホン酸１．３μＬ（０．０２ｍｍｏｌ）を添加し、１００℃で３０分撹拌した。反応溶液を５℃に冷却し、ＤＩＰＥＡ３．７μＬ（０．０２ｍｍｏｌ）を添加し、反応を停止した。ＣＰＭＥ０．５ｍＬとヘプタン１７．４ｍＬで希釈し、メタノール／水＝８／２の混合液１７．４ｍＬで１回分液洗浄した。得られた有機層にＣＰＭＥ ０．５ｍＬを添加し、メタノール／水＝８／２の混合液８.７ｍＬで１回分液洗浄し、有機層を減圧下で濃縮した。得られた残渣をＴＨＦ １．４ｍＬに溶解させ、再度、減圧下で濃縮した。残渣にメタノール １７．５ｍＬ添加し、５℃に冷却後、デカンテーションにより溶媒と沈澱物を分離した。得られた沈澱物にメタノールを８．７ｍＬ添加し、５℃に冷却後、デカンテーションにより溶媒と沈澱物を分離した。沈澱物を減圧下で乾燥させ、Ｆｍｏｃ−Ｃｙｓ（ＴＩＰＳ２−Ｄｐｍ）−ＮＨ2 ０．４８ｇ（収率９９．８％、２ｓｔｅｐｓ）を得た。【０１９３】
1Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3）δ１．０３−１．０９（ｍ，４２Ｈ），１．２４−１．４８（ｍ，２８Ｈ），１．５１−１．５９（ｍ，４Ｈ），１．７０−１．８０（ｍ，４Ｈ），２．７７（ｄ，２Ｈ），３．６８（ｔ，４Ｈ），３．８５−３．９４（ｍ，４Ｈ），４．２２（ｔ，１Ｈ），４．２６−４．３４（ｍ，１Ｈ），４．４５（ｄ，２Ｈ），５．１７（ｓ，１Ｈ），５．６０（ｓ，２Ｈ），６．１２（ｓ，１Ｈ），６．７８−６．８５（ｍ，４Ｈ），７．２６−７．３４（ｍ，６Ｈ），７．４１（ｔ，２Ｈ），７．５６−７．６４（ｍ，２Ｈ），７．７８（ｄ，２Ｈ）
13Ｃ−ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3）δ１２．２（６Ｃ），１８．２（１２Ｃ），２６．０（２Ｃ），２６．２（２Ｃ），２９．４−２９．８（１２Ｃ），３３．２（２Ｃ），３４．４，４７．３，５１．０，５３．５，６３．７（２Ｃ），６７．３，６８．１，６８．２，１１４．６（２Ｃ），１１４．７（２Ｃ），１２０．２（２Ｃ），１２５．２（２Ｃ），１２７．３（２Ｃ），１２７．９（２Ｃ），１２９．４（２Ｃ），１２９．５（２Ｃ），１３３．０（２Ｃ），１４１．５（２Ｃ），１４３．８（２Ｃ），１５６．１，１５８．５（２Ｃ），１７２．６【０１９４】
（３）Ｆｍｏｃ−Ｃｙｓ（ＴＩＰＳ２−Ｄｐｍ）−ＮＨ2  ０．４０ｇ（０．３４ｍｍｏｌ）をジクロロメタン  ５．３４ｍＬに溶解し、３，６−ジオキサ−１，８−オクタンジチオール ０．３４ｍＬ（２．０７ｍｍｏｌ）、トリイソプロピルシラン０．３４ｍＬ（１．５６ｍｍｏｌ）、トリフルオロ酢酸０．６７ｍＬ（８．８１ｍｍｏｌ）を添加し、室温で２０分撹拌した。Ｆｍｏｃ−Ｃｙｓ（ＴＩＰＳ２−Ｄｐｍ）−ＮＨ2の消失を確認後、反応溶液を減圧下で濃縮し、残渣を５℃に冷却したジイソプロピルエーテル２７ｍＬに滴下し、沈澱物を濾取した。このジイソプロピルエーテルによるスラリー洗浄、濾過をさらに３回行い、沈殿物を濾取した。沈澱物を減圧下で乾燥し、Ｆｍｏｃ−Ｌ−Ｃｙｓ−ＮＨ2 ０．０９０ｇを得た。【０１９５】
1Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ-ｄ6）δ２．２７（ｔ，１Ｈ），２．６０−２．９０（ｍ，２Ｈ），４．０１−４．１１（ｍ，１Ｈ），４．１８−４．３８（ｍ，３Ｈ），７．１５（ｓ，１Ｈ），７．３３（ｔ，２Ｈ），７．３７−７．５２（ｍ，４Ｈ），７．７４（ｄｄ，２Ｈ），７．８９（ｄ，２Ｈ）
13Ｃ−ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ-ｄ6）δ２６．２，４６．７，５７．１，６５．７，１２０．１（２Ｃ），１２５．３（２Ｃ），１２７．１（２Ｃ），１２７．６（２Ｃ），１４０．７（２Ｃ），１４３．８，１４３．９，１５６．０，１７１．９【０１９６】
実施例１７
ペプチド化合物に対する溶解度向上性能の確認
本発明におけるジフェニルメタン保護剤で保護した化合物の溶解度を測定した結果を図１に示す。
モデルとして使用したペプチド：Ｈ−Ｇｌｙ−Ｇｌｙ−Ｇｌｙ−ＮＨ2
Ｈ−Ｇｌｙ−Ｇｌｙ−Ｇｌｙ−ＮＨ2、Ｈ−Ｇｌｙ−Ｇｌｙ−Ｇｌｙ−ＮＨ−（ＴＩＰＳ２−Ｄｐｍ）を合成し、２５℃でＣＰＭＥ（シクロペンチルメチルエーテル）にそれぞれの化合物を飽和させ、その溶解度を測定した。
その結果、ＴＩＰＳ型保護剤の結合していないＨ−Ｇｌｙ−Ｇｌｙ−Ｇｌｙ−ＮＨ2がＣＰＭＥに対しわずか０．０３９ｍＭしか溶解しないのに比べ、ＴＩＰＳ２−Ｄｐｍ−ＮＨ2を結合した場合、４２６ｍＭと約１万倍以上溶解度が向上した。その結果を図１に示す。この結果から、ジフェニルメタン保護剤で誘導体化することで、ペプチドの溶解度が著しく向上することが確認できた。なお、Ｈ−Ｇｌｙ−Ｇｌｙ−Ｇｌｙ−ＮＨ2とＨ−Ｇｌｙ−Ｇｌｙ−Ｇｌｙ−ＮＨ−（ＴＩＰＳ２−Ｄｐｍ）は下記の構造を示すこととする。【０１９７】
【化２９】
2017221889.tif 000031
【０１９８】
実施例１８
Ｈ−Ｇｌｙ−Ｇｌｙ−Ｇｌｙ−ＮＨ−（ＴＩＰＳ２−Ｄｐｍ）の合成
ＴＩＰＳ２−Ｄｐｍ−ＮＨ2  ０．４４ｇ（０．５０ｍｍｏｌ）をＣＰＭＥ３．３ｍＬに溶解し、ＤＭＦ０．８ｍｌ、ＤＩＰＥＡ０．４３ｍＬ（２．４７ｍｍｏｌ）、Ｆｍｏｃ−Ｇｌｙ−ＯＨ  ０.２７ｇ（０．８９ｍｍｏｌ）、ＷＳＣＩ・ＨＣｌ  ０．１６ｇ（０．８４ｍｍｏｌ）を加え、室温で４５分撹拌した。ＴＩＰＳ２−Ｄｐｍ−ＮＨ2の消失を確認後、２−（２−アミノエトキシ)エタノール７９μＬ（０．７９ｍｍｏｌ）を加え、室温で１５分撹拌した。反応溶液にＤＭＳＯ １．６ｍＬに溶解した３−メルカプト−１−プロパンスルホン酸ナトリウム０．３２ｇ（１．７８ｍｍｏｌ）を添加し、ＤＢＵ０．６０ｍＬ（４．０１ｍｍｏｌ）を加え、３０分撹拌した。Ｆｍｏｃ−Ｇｌｙ−ＮＨ−（ＴＩＰＳ２−Ｄｐｍ）の消失を確認後、５℃に冷却した後、４Ｍ ＣＰＭＥ／ＨＣｌ １．５９ｍＬ（５．９３ｍｍｏｌ）を滴下し、室温まで昇温し、ＣＰＭＥ１．３１ｍＬ、２０％食塩水７．８ｍＬ、１０％炭酸ナトリウム水溶液６．７ｍＬを加え、分液洗浄した。得られた有機層に２０％食塩水９．７ｍＬ、ＤＭＳＯ  ０．２６ｍＬ、ＤＭＦ  ０．２６ｍＬを加え、分液洗浄した。溶液を減圧下で濃縮し、残渣をヘプタン１７．５ｍＬに溶解させ、９０％含水アセトニトリル１７．５ｍＬで２回分液洗浄した。ヘプタン層を減圧下で濃縮し、残渣を減圧下で乾燥し、Ｈ−Ｇｌｙ−ＮＨ−（ＴＩＰＳ２−Ｄｐｍ）を含む混合物を得た。なお、Ｆｍｏｃ−Ｇｌｙ−ＮＨ−（ＴＩＰＳ２−Ｄｐｍ）とＨ−Ｇｌｙ−ＮＨ−（ＴＩＰＳ２−Ｄｐｍ）は下記の構造を示すこととする。【０１９９】
【化３０】
2017221889.tif 000032
【０２００】
得られた混合液に対し、ＣＰＭＥ  ３．２ｍＬ、ＤＭＦ０．８ｍｌ、ＤＩＰＥＡ０．４２ｍＬ（２．４１ｍｍｏｌ）、Ｆｍｏｃ−Ｇｌｙ−Ｇｌｙ−ＯＨ  ０．２２ｇ（０．６３ｍｍｏｌ）、ＣＯＭＵ ０．２５ｇ（０．５８ｍｍｏｌ）を加え、室温で１時間１５分撹拌した。Ｈ−Ｇｌｙ−ＮＨ−（ＴＩＰＳ２−Ｄｐｍ）の消失を確認後、２−（２−アミノエトキシ)エタノール２９μＬ（０．２９ｍｍｏｌ）を加え、室温で１５分撹拌した。反応溶液にＤＭＳＯ １．２ｍＬに溶解した３−メルカプト−１−プロパンスルホン酸ナトリウム０．２２ｇ（１．２６ｍｍｏｌ）を添加し、ＤＢＵ０．４９ｍＬ（３．３１ｍｍｏｌ）を加え、３０分撹拌した。Ｆｍｏｃ−Ｇｌｙ−Ｇｌｙ−Ｇｌｙ−ＮＨ−（ＴＩＰＳ２−Ｄｐｍ）の消失を確認後、５℃に冷却した後、４Ｍ ＣＰＭＥ／ＨＣｌ １．２３ｍＬ（４．８５ｍｍｏｌ）を滴下し、室温まで昇温し、ＣＰＭＥ１．３４ｍＬ、２０％食塩水６．４ｍＬ、１０％炭酸ナトリウム水溶液５．６ｍＬを加え、分液洗浄した。得られた有機層に５０％リン酸水素二カリウム水溶液４．２ｍＬ、ＤＭＳＯ  ０．１１ｍＬ、ＤＭＦ  ０．１１ｍＬを加え、分液洗浄した。得られた有機層に５０％リン酸水素二カリウム水溶液４．２ｍＬ、ＤＭＳＯ  ０．１１ｍＬ、ＤＭＦ  ０．１１ｍＬを加え、分液洗浄した。溶液を減圧下で濃縮し、残渣をヘプタン１７．９ｍＬに溶解させ、９０％含水アセトニトリル１７．９ｍＬで２回、水１７．９ｍＬで１回、９０％含水アセトニトリル１７．９ｍＬで１回分液洗浄した。ヘプタン層を減圧下で濃縮し、残渣を減圧下で乾燥し、Ｈ−Ｇｌｙ−Ｇｌｙ−Ｇｌｙ−ＮＨ−（ＴＩＰＳ２−Ｄｐｍ）０．３６ｇを得た。ＥＳＩＭＳ  ＭＨ＋  １０３９．９
なお、Ｆｍｏｃ−Ｇｌｙ−Ｇｌｙ−Ｇｌｙ−ＮＨ−（ＴＩＰＳ２−Ｄｐｍ）は下記の構造を示すこととする。【０２０１】
【化３１】
2017221889.tif 000033
【０２０２】
実施例１９
Ｈ−Ｇｌｙ−Ｇｌｙ−Ｇｌｙ−ＮＨ2の合成
Ｈ−Ｇｌｙ−Ｇｌｙ−Ｇｌｙ−ＮＨ−（ＴＩＰＳ２−Ｄｐｍ）  ５１．０ｍｇ（０．０４９ｍｍｏｌ）にトリフルオロ酢酸０．９３２ｍＬ（１２．１７ｍｍｏｌ）、３，６−ジオキサ−１，８−オクタンジチオール ２５μＬ（０．１５１ｍｍｏｌ）、トリイソプロピルシラン２５μＬ（０．１１４ｍｍｏｌ）を添加し、室温で２時間撹拌した。Ｈ−Ｇｌｙ−Ｇｌｙ−Ｇｌｙ−ＮＨ−（ＴＩＰＳ２−Ｄｐｍ）の消失を確認後、反応溶液を減圧下で濃縮し、残渣を５℃に冷却したジイソプロピルエーテル３．４ｍＬに滴下し、沈澱物を濾取した。このジイソプロピルエーテルによるスラリー洗浄、濾過をさらに３回行い、沈殿物を濾取した。沈澱物を減圧下で乾燥し、Ｈ−Ｇｌｙ−Ｇｌｙ−Ｇｌｙ−ＮＨ2 １４．８ｍｇを得た。ＥＳＩＭＳ  ＭＫ＋  ２２６．９【０２０３】
以上の結果から、本発明のジフェニルメタン保護剤を用いて官能基を保護された化合物は、有機溶媒に対する溶解度が大幅に向上することがわかった。
【図１】
2017221889.tif 000040
【手続補正書】
【提出日】平成29年11月2日(2017.11.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一般式（１）
【化１】
2017221889.tif 000041
（式中、Ｙは−ＯＲ19（ここでＲ19は水素原子又は活性エステル型保護基を示す）、−ＮＨＲ20（ここで、Ｒ20は水素原子、炭素数１〜６の直鎖若しくは分岐鎖のアルキル基、又はアラルキル基を示す）、アジド、ハロゲン原子、メチレン基と一体となったオキシム、又はメチレン基と一体となったカルボニル基を示し、Ｒ1〜Ｒ10のうちの少なくとも１個は式（２）
【化２】
2017221889.tif 000042
で表される基を示し、残余は水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜４のアルキル基又は炭素数１〜４のアルコキシ基を示し；
Ｒ11は炭素数１〜１６の直鎖又は分岐鎖のアルキレン基を示し；
ＸはＯ又はＣＯＮＲ21（ここでＲ21は水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基を示す）を示し；
Ａは式（３）、（４）、（５）、（６）、（７）、（８）、（９）、（１０）、（１１）、（１２）又は（１３）
【化３】
2017221889.tif 000043
（ここで、Ｒ12、Ｒ13及びＲ14は、同一又は異なって、炭素数１〜６の直鎖若しくは分岐鎖のアルキル基、又は置換基を有していてもよいアリール基を示し；Ｒ15は単結合又は炭素数１〜３の直鎖又は分岐鎖のアルキレン基を示し、Ｒ16、Ｒ17及びＲ18はそれぞれ、炭素数１〜３の直鎖又は分岐鎖のアルキレン基を示す）で表される基を示す（ただし、Ｙがメチレン基と一体となったカルボニル基であり、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ9及びＲ10が水素原子であり、Ｒ3及びＲ8が３−ｔ−ブチルジメチルシリルオキシプロポキシ基である場合を除く））
で表されるジフェニルメタン化合物。
【請求項２】
Ｙが−ＯＲ19（ここでＲ19は水素原子を示す）、−ＮＨＲ20（ここでＲ20は水素原子、炭素数１〜６の直鎖若しくは分岐鎖のアルキル基、又はアラルキル基を示す）、アジド、ハロゲン原子、メチレン基と一体となったオキシム、又はメチレン基と一体となったカルボニル基である請求項１記載のジフェニルメタン化合物。
【請求項３】
Ｙが−ＯＲ19（ここでＲ19は水素原子又は活性エステル型保護基を示す）、−ＮＨＲ20（ここでＲ20は水素原子、炭素数１〜６の直鎖若しくは分岐鎖のアルキル基、又はアラルキル基を示す）、アジド、ハロゲン原子、又はメチレン基と一体となったオキシムである請求項１記載のジフェニルメタン化合物。
【請求項４】
Ｙが−ＯＲ19（ここでＲ19は水素原子を示す）、−ＮＨＲ20（ここでＲ20は水素原子、炭素数１〜６の直鎖若しくは分岐鎖のアルキル基、又はアラルキル基を示す）、アジド、ハロゲン原子、又はメチレン基と一体となったオキシムである請求項１記載のジフェニルメタン化合物。
【請求項５】
Ｒ1〜Ｒ5のうち少なくとも１個及びＲ6〜Ｒ10のうち少なくとも１個が式（２）で表される基であり、残余が水素原子、炭素数１〜４のアルキル基又は炭素数１〜４のアルコキシ基である請求項１〜４のいずれか１項記載のジフェニルメタン化合物。
【請求項６】
Ｒ11が炭素数２〜１６の直鎖又は分岐鎖のアルキレン基である請求項１〜５のいずれか１項記載のジフェニルメタン化合物。
【請求項７】
Ｒ11が炭素数６〜１６の直鎖又は分岐鎖のアルキレン基である請求項１〜６のいずれか１項記載のジフェニルメタン化合物。
【請求項８】
Ｒ15が単結合又はメチレン基であり、Ｒ16、Ｒ17及びＲ18がメチレン基である請求項１〜７のいずれか１項記載のジフェニルメタン化合物。
【請求項９】
請求項１〜８のいずれか１項記載のジフェニルメタン化合物からなるカルボキシ基、水酸基、ジオール基、アミノ基、アミド基又はメルカプト基の保護剤。
【手続補正書】
【提出日】平成30年1月4日(2018.1.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一般式（１）
【化１】
2017221889.tif 000044
（式中、Ｙは−ＯＲ19（ここでＲ19は水素原子、活性エステル型カルボニル基又は活性エステル型スルホニル基を示す）、−ＮＨＲ20（ここで、Ｒ20は水素原子、炭素数１〜６の直鎖若しくは分岐鎖のアルキル基、又はアラルキル基を示す）、アジド、ハロゲン原子、＝Ｎ−ＯＨ、又は＝Ｏを示し（ここで、Ｙが−ＯＲ19、−ＮＨＲ20、アジド又はハロゲン原子の時、Ｙが結合する原子団は−ＣＨ−を示す）、Ｒ1〜Ｒ10のうちの少なくとも１個は式（２）
【化２】
2017221889.tif 000045
で表される基を示し、残余は水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜４のアルキル基又は炭素数１〜４のアルコキシ基を示し；
Ｒ11は炭素数１〜１６の直鎖又は分岐鎖のアルキレン基を示し；
ＸはＯ又はＣＯＮＲ21（ここでＲ21は水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基を示す）を示し；
Ａは式（３）、（４）、（５）、（６）、（７）、（８）、（９）、（１０）、（１１）、（１２）又は（１３）
【化３】
2017221889.tif 000046
（ここで、Ｒ12、Ｒ13及びＲ14は、同一又は異なって、炭素数１〜６の直鎖若しくは分岐鎖のアルキル基、又は置換基を有していてもよいアリール基を示し；Ｒ15は単結合又は炭素数１〜３の直鎖又は分岐鎖のアルキレン基を示し、Ｒ16、Ｒ17及びＲ18はそれぞれ、炭素数１〜３の直鎖又は分岐鎖のアルキレン基を示す）で表される基を示す（ただし、Ｙが＝Ｏであり、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ9及びＲ10が水素原子であり、Ｒ3及びＲ8が３−ｔ−ブチルジメチルシリルオキシプロポキシ基である場合を除く））
で表されるジフェニルメタン化合物。
【請求項２】
Ｙが−ＯＲ19（ここでＲ19は水素原子を示す）、−ＮＨＲ20（ここでＲ20は水素原子、炭素数１〜６の直鎖若しくは分岐鎖のアルキル基、又はアラルキル基を示す）、アジド、ハロゲン原子、＝Ｎ−ＯＨ、又は＝Ｏである請求項１記載のジフェニルメタン化合物。
【請求項３】
Ｙが−ＯＲ19（ここでＲ19は水素原子又は活性エステル型保護基を示す）、−ＮＨＲ20（ここでＲ20は水素原子、炭素数１〜６の直鎖若しくは分岐鎖のアルキル基、又はアラルキル基を示す）、アジド、ハロゲン原子、又は＝Ｎ−ＯＨである請求項１記載のジフェニルメタン化合物。
【請求項４】
Ｙが−ＯＲ19（ここでＲ19は水素原子を示す）、−ＮＨＲ20（ここでＲ20は水素原子、炭素数１〜６の直鎖若しくは分岐鎖のアルキル基、又はアラルキル基を示す）、アジド、ハロゲン原子、又は＝Ｎ−ＯＨである請求項１記載のジフェニルメタン化合物。
【請求項５】
Ｒ1〜Ｒ5のうち少なくとも１個及びＲ6〜Ｒ10のうち少なくとも１個が式（２）で表される基であり、残余が水素原子、炭素数１〜４のアルキル基又は炭素数１〜４のアルコキシ基である請求項１〜４のいずれか１項記載のジフェニルメタン化合物。
【請求項６】
Ｒ11が炭素数２〜１６の直鎖又は分岐鎖のアルキレン基である請求項１〜５のいずれか１項記載のジフェニルメタン化合物。
【請求項７】
Ｒ11が炭素数６〜１６の直鎖又は分岐鎖のアルキレン基である請求項１〜６のいずれか１項記載のジフェニルメタン化合物。
【請求項８】
Ｒ15が単結合又はメチレン基であり、Ｒ16、Ｒ17及びＲ18がメチレン基である請求項１〜７のいずれか１項記載のジフェニルメタン化合物。
【請求項９】
請求項１〜８のいずれか１項記載のジフェニルメタン化合物からなるカルボキシ基、水酸基、ジオール基、アミノ基、アミド基又はメルカプト基の保護剤。
【国際調査報告】
2017221889.tif 000047
2017221889.tif 000048
2017221889.tif 000049
2017221889.tif 000050