(57)【要約】  本発明の課題は、正面コントラストに優れた、ＶＡモード型液晶セルを具備するタッチパネル付き液晶表示装置及びその製造方法を提供することである。  本発明のタッチパネル付き液晶表示装置は、ＶＡモード型液晶セルの視認側に、透明導電層を有する偏光板一体型タッチパネルモジュールを具備するタッチパネル付き液晶表示装置であって、前記透明導電層を有する偏光板一体型タッチパネルモジュールが、前記ＶＡモード型液晶セルから視認側に向かって、少なくとも一方の面に透明導電層を有する光学補償フィルム、偏光子及び保護フィルムをこの順に有し、かつ、前記光学補償フィルムのガラス転移温度Ｔｇが１５５〜２５０℃の範囲内であることを特徴とする。
2016181756.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ＶＡモード型液晶セルの視認側に、透明導電層を有する偏光板一体型タッチパネルモジュールを具備するタッチパネル付き液晶表示装置であって、
前記透明導電層を有する偏光板一体型タッチパネルモジュールが、
前記ＶＡモード型液晶セルから視認側に向かって、少なくとも一方の面に透明導電層を有する光学補償フィルム、偏光子及び保護フィルムをこの順に有し、かつ、
前記光学補償フィルムのガラス転移温度Ｔｇが１５５〜２５０℃の範囲内であることを特徴とするタッチパネル付き液晶表示装置。
【請求項２】
前記光学補償フィルムが、シクロオレフィン系樹脂、ポリイミド系樹脂又はポリアリレート系樹脂のいずれかを含有することを特徴とする請求項１に記載のタッチパネル付き液晶表示装置。
【請求項３】
前記光学補償フィルムが、１５０℃で１時間熱処理されたときの面内方向の位相差値Ｒｏの変動が、±３．０％の範囲内であり、厚さ方向の位相差値Ｒｔの変動が±４．０％の範囲内であることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載のタッチパネル付き液晶表示装置。
【請求項４】
前記光学補償フィルムの厚さが、１０〜４０μｍの範囲内であることを特徴とする請求項１から請求項３までのいずれか一項に記載のタッチパネル付き液晶表示装置。
【請求項５】
前記光学補償フィルムが、位相差上昇剤として、下記一般式（３）で表される構造を有する含窒素複素環化合物を含有することを特徴とする請求項１から請求項４までのいずれか一項に記載のタッチパネル付き液晶表示装置。
【化１】
2016181756.tif 000022
（式中Ａはピラゾール環を表す。Ａｒ１及びＡｒ２はそれぞれ芳香族炭化水素環又は芳香族複素環を表し、置換基を有してもよい。Ｒ１は水素原子、アルキル基、アシル基、スルホニル基、アルキルオキシカルボニル基、又はアリールオキシカルボニル基を表す。ｑは１又は２を表す。ｎ及びｍはそれぞれ１〜３の整数を表す。）
【請求項６】
請求項１から請求項５までのいずれか一項に記載のタッチパネル付き液晶表示装置を製造するタッチパネル付き液晶表示装置の製造方法であって、
前記光学補償フィルムの少なくとも一方の面に前記透明導電層を形成後、１５０℃以上で熱処理する工程と、
偏光子を前記透明導電層を形成した光学補償フィルムと保護フィルムとで挟持するように貼合して、偏光板一体型タッチパネルモジュールを作製する工程と、
前記偏光板一体型タッチパネルモジュールの前記光学補償フィルム側を前記ＶＡモード型液晶セルに貼合する工程と、を備えることを特徴とするタッチパネル付き液晶表示装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はタッチパネル付き液晶表示装置及びその製造方法に関する。より詳しくは、正面コントラストに優れるタッチパネル付き液晶表示装置及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、タッチパネル搭載の液晶表示装置の普及が進み、今後も増えていくものと予想される。【０００３】
例えば、タッチパネルに用いられる静電容量型タッチパネルモジュールは、透明な基板上に透明導電層（透明電極ともいう。）によるＸ方向に延びるＸ電極パターンが形成され、他の透明導電層によるＹ方向に延びるＹ電極パターンが形成されたものがある。タッチパネルの表面の指で触れることによりＸ電極パターンとＹ電極パターンが接触し、その位置での静電容量の変化を当該Ｘ及びＹ電極パターンにより検出している。【０００４】
このような２つの電極を有する透明導電層を偏光板及び液晶セルと組み合わせる構成として、例えば、アウトセル型タッチパネルモジュールなどがある。【０００５】
図１に従来のアウトセル型タッチパネルモジュールを具備するタッチパネル付き液晶表示装置の一例である模式図を示す。【０００６】
詳細は後述するが、液晶セルに隣接して、偏光子を２枚の保護フィルムで挟持した偏光板を配置し、その上に粘着層を介して、透明な基材フィルム上にＩＴＯ（インジウム・スズ酸化物）等を含有する透明電極と当該透明電極を保護する保護層を形成したフィルムセンサー（タッチパネルモジュールともいう。）を設け、さらに粘着層を介してガラス又はアクリル板のような前面板と貼合される。【０００７】
このような構成の場合は、偏光板とフィルムセンサーがそれぞれ独立しているため、ある程度の厚さを有するタッチパネルとなる。【０００８】
今後、表示装置の薄型化が進む中で、主要部材であるタッチパネルにも、更なる薄型化が求められている。【０００９】
薄型の要求に応えるためのタッチパネル構成として、フィルムセンサーと偏光板の一体化が試みられており、アウトセル型に対して、いわゆるミッドセル型もしくはインナーセル型と呼ばれるタッチパネルモジュールがある（例えば、特許文献１及び特許文献２参照。）。これらの偏光板一体化型タッチパネルモジュールは、前記透明電極を偏光板の構成要素である光学補償フィルムや保護フィルム上に形成することで、部材の薄型化に対応するものである。【００１０】
一方、液晶表示装置の主要部材の１つとして、液晶セルが挙げられる。【００１１】
液晶セルは用いられる液晶分子に応じて、複数のタイプが存在するが、現在はＶＡ（ｖｅｒｔｉｃａｌ  ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）モード及びＩＰＳ（ｉｎ−ｐｌａｎｅ  ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）モードが主流となっている。一般的に、ＶＡモードはＩＰＳモードに比べて正面コントラストに優れていると言われている。これは、ＶＡモード液晶分子は電界オフの場合に液晶分子が垂直に配向するため、黒表示時にバックライト光が視認側へ漏れることをより抑えられるからである。【００１２】
本発明者は、前記いわゆるミッドセル型もしくはインナーセル型の偏光板一体型タッチパネルモジュールをＶＡモード型液晶表示セルに組み合わせたところ、ＩＰＳモード型液晶表示セルを用いた場合に対して予想されるような、正面コントラストの改善効果を得ることができなかった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１３】
【特許文献１】特開２０１１−８１８１０号公報
【特許文献２】特開２０１３−１０４８４７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１４】
本発明は、上記問題・状況に鑑みてなされたものであり、その解決課題は、正面コントラストに優れた、ＶＡモード型液晶セルを具備するタッチパネル付き液晶表示装置及びその製造方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
本発明者は、上記課題を解決すべく、上記問題の原因等について検討する過程において、ＶＡモード型液晶セルの視認側に、透明導電層を有する偏光板一体型タッチパネルモジュールを具備するタッチパネル付き液晶表示装置であって、前記偏光板一体型タッチパネルモジュールが、前記ＶＡモード型液晶セルから視認側に向かって、少なくとも一方の面に透明導電層を有する光学補償フィルム、偏光子及び保護フィルムをこの順に有し、前記光学補償フィルムのガラス転移温度Ｔｇが特定の値以上であるときに、本発明の課題を解決できることを見出した。【００１６】
すなわち、本発明に係る上記課題は、以下の手段により解決される。【００１７】
１．ＶＡモード型液晶セルの視認側に、透明導電層を有する偏光板一体型タッチパネルモジュールを具備するタッチパネル付き液晶表示装置であって、
前記透明導電層を有する偏光板一体型タッチパネルモジュールが、
前記ＶＡモード型液晶セルから視認側に向かって、少なくとも一方の面に透明導電層を有する光学補償フィルム、偏光子及び保護フィルムをこの順に有し、かつ、
前記光学補償フィルムのガラス転移温度Ｔｇが１５５〜２５０℃の範囲内であることを特徴とするタッチパネル付き液晶表示装置。【００１８】
２．前記光学補償フィルムが、シクロオレフィン系樹脂、ポリイミド系樹脂又はポリアリレート系樹脂のいずれかを含有することを特徴とする第１項に記載のタッチパネル付き液晶表示装置。【００１９】
３．前記光学補償フィルムが、１５０℃で１時間熱処理されたときの面内方向の位相差値Ｒｏの変動が、±３．０％の範囲内であり、厚さ方向の位相差値Ｒｔの変動が±４．０％の範囲内であることを特徴とする第１項又は第２項に記載のタッチパネル付き液晶表示装置。【００２０】
４．前記光学補償フィルムの厚さが、１０〜４０μｍの範囲内であることを特徴とする第１項から第３項までのいずれか一項に記載のタッチパネル付き液晶表示装置。【００２１】
５．前記光学補償フィルムが、位相差上昇剤として、下記一般式（３）で表される構造を有する含窒素複素環化合物を含有することを特徴とする第１項から第４項までのいずれか一項に記載のタッチパネル付き液晶表示装置。【００２２】
【化１】
2016181756.tif 000003
（式中Ａはピラゾール環を表す。Ａｒ１及びＡｒ２はそれぞれ芳香族炭化水素環又は芳香族複素環を表し、置換基を有してもよい。Ｒ１は水素原子、アルキル基、アシル基、スルホニル基、アルキルオキシカルボニル基、又はアリールオキシカルボニル基を表す。ｑは１又は２を表す。ｎ及びｍはそれぞれ１〜３の整数を表す。）
６．第１項から第５項までのいずれか一項に記載のタッチパネル付き液晶表示装置を製造するタッチパネル付き液晶表示装置の製造方法であって、
前記光学補償フィルムの少なくとも一方の面に前記透明導電層を形成した後、１５０℃以上で熱処理する工程と、
偏光子を前記透明導電層を形成した光学補償フィルムと保護フィルムとで挟持するように貼合して、偏光板一体型タッチパネルモジュールを作製する工程と、
前記偏光板一体型タッチパネルモジュールの前記光学補償フィルム側を前記ＶＡモード型液晶セルに貼合する工程と、を備えることを特徴とするタッチパネル付き液晶表示装置の製造方法。
【発明の効果】
【００２３】
本発明の上記手段により、正面コントラストに優れた、ＶＡモード型液晶セルを具備するタッチパネル付き液晶表示装置及びその製造方法を提供することができる。【００２４】
本発明の効果の発現機構ないし作用機構については、明確にはなっていないが、以下のように推察している。【００２５】
一般的に、ＩＰＳモード型液晶セルの場合は、光学補償フィルムに位相差を有しない、すなわち面内方向の位相差値Ｒｏ及び厚さ方向の位相差値Ｒｔがゼロ近傍のフィルムを使用することが望ましい。一方、ＶＡモード型液晶セルの場合は、光学補償フィルムとしては前記位相差値Ｒｏ及びＲｔが高いフィルム、例えばＲｏが２０〜７０ｎｍの範囲であり、Ｒｔが７０〜２００ｎｍの範囲の位相差フィルム使用することが望ましいとされている。【００２６】
このような位相差値の高いフィルムは、通常製造過程で延伸処理が施され、フィルムを構成するポリマー分子が高度に配向することで、当該位相差値を得ている。【００２７】
前述のいわゆるミッドセル型もしくはインナーセル型と呼称される偏光板一体型タッチパネルモジュールを作製するために、前記光学補償フィルムに透明導電層を設ける際は、当該透明導電層を形成した後、導電層の低抵抗値化のために、熱処理（アニール処理ともいう。）が必要である。例えば、具体的には１５０℃で３０分程度の加熱処理を行うが、これにより、前記光学補償フィルム中のポリマー分子の配向が乱れ、その結果必要とされる光学補償性能が不十分となり、正面コントラストが低下するものと推察される。【００２８】
本発明の構成によれば、上記現象に対応するため、ガラス転移点Ｔｇが１５５℃以上である耐熱性を有する光学補償フィルムを用いることで、前記熱処理による位相差値変動を抑制し、ＶＡモード型液晶固有の特徴である、優れた正面コントラストを達成できるものと推察される。【００２９】
また、前述のようにタッチパネルの薄型化のために、光学補償フィルムも厚さ４０μｍ以下である薄型化が要求される場合がある。その際、位相差値と膜厚は相反する関係にあるため、４０μｍ以下の薄膜化の場合は、添加することによって位相差値を上昇することのできる添加剤（本願では、位相差上昇剤ともいう。）をフィルム中に加えることが有効である。本発明者は種々な位相差上昇剤を検討する中で、より優れた効果が得られる特定の構造を有する位相差上昇剤を見出した。この添加剤を加えることによって、前記熱処理時に、位相差上昇剤自体の配向が乱れ、当該化合物由来の位相差変動が起きることによって、フィルムを構成するポリマー分子由来の位相差変動を相殺することができ、薄膜であっても優れた位相差値及び熱処理変動耐性を実現できるものと推察される。
【図面の簡単な説明】
【００３０】
【図１】従来のアウトセル型タッチパネモジュールル付き液晶表示装置の構成の一例を示す模式図
【図２】本発明の偏光板一体型タッチパネルモジュールを具備するタッチパネル付き液晶表示装置の構成の一例を示す模式図
【図３】本発明の偏光板一体型タッチパネルモジュールを具備するタッチパネル付き液晶表示装置の構成の別の一例を示す模式図
【図４】本発明の偏光板一体型タッチパネルモジュールを具備するタッチパネル付き液晶表示装置の構成の別の一例を示す模式図
【図５】本発明の偏光板一体型タッチパネルモジュールを具備するタッチパネル付き液晶表示装置の構成の別の一例を示す模式図
【図６】本発明の偏光板一体型タッチパネルモジュールを具備するタッチパネル付き液晶表示装置の構成の別の一例を示す模式図
【発明を実施するための形態】
【００３１】
本発明のタッチパネル付き液晶表示装置は、ＶＡモード型液晶セルの視認側に、透明導電層を有する偏光板一体型タッチパネルモジュールを具備するタッチパネル付き液晶表示装置であって、前記透明導電層を有する偏光板一体型タッチパネルモジュールが、前記ＶＡモード型液晶セルから視認側に向かって、少なくとも一方の面に透明導電層を有する光学補償フィルム、偏光子及び保護フィルムをこの順に有し、かつ、前記光学補償フィルムのガラス転移温度Ｔｇが１５５〜２５０℃の範囲内であることを特徴とする。この特徴は、各請求項に係る発明に共通する技術的特徴である。
【００３２】
本発明の実施態様としては、本発明の効果発現の観点から、前記光学補償フィルムが、シクロオレフィン系樹脂、ポリイミド系樹脂又はポリアリレート系樹脂のいずれかを含有することが、前記光学補償フィルムのガラス転移温度Ｔｇを満足する観点から、好ましい。
【００３３】
また、前記光学補償フィルムが、１５０℃で１時間熱処理されたときの面内方向の位相差値Ｒｏの変動が、±３．０％の範囲内であり、厚さ方向の位相差値Ｒｔの変動が±４．０％の範囲内であることが、光学補償機能を十分に発現し、かつ、熱処理による位相差変動を抑制し、ＶＡモード型液晶セルを用いたときの優れた正面コントラストを達成できる観点から、好ましい性能である。
【００３４】
また、前記光学補償フィルムの厚さが、１０〜４０μｍの範囲内であることが、タッチパネルの薄型化に対して好ましい膜厚であり、その場合は、前記一般式（３）で表される構造を有する含窒素複素環化合物を含有することが、所望の位相差値を付与し、かつ熱処理に対する位相差変動をさらに抑制する観点から好ましい。
【００３５】
本発明のタッチパネル付き液晶表示装置の製造方法は、前記光学補償フィルムの少なくとも一方の面に前記透明導電層を形成後、１５０℃以上で熱処理する工程と、偏光子を前記透明導電層を形成した光学補償フィルムと保護フィルムとで挟持するように貼合して、偏光板一体型タッチパネルモジュールを作製する工程と、前記偏光板一体型タッチパネルモジュールの前記光学補償フィルム側を前記ＶＡモード型液晶セルに貼合する工程と、を備えることが好ましい。
【００３６】
以下、本発明とその構成要素、及び本発明を実施するための形態・態様について詳細な説明をする。なお、本願において、「〜」は、その前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味で使用する。
【００３７】
≪本発明のタッチパネル付き液晶表示装置の概要≫
本発明のタッチパネル付き液晶表示装置は、ＶＡモード型液晶セルの視認側に、透明導電層を有する偏光板一体型タッチパネルモジュールを具備するタッチパネル付き液晶表示装置であって、前記透明導電層を有する偏光板一体型タッチパネルモジュールが、
前記ＶＡモード型液晶セルから視認側に向かって、少なくとも一方の面に透明導電層を有する光学補償フィルム、偏光子及び保護フィルムをこの順に有し、かつ、
前記光学補償フィルムのガラス転移温度Ｔｇが１５５〜２５０℃の範囲内であることを特徴とする。
【００３８】
本発明のタッチパネル付き液晶表示装置は、前述のとおりＶＡモード型液晶表示セルを具備することが特徴であり、当該ＶＡモード型液晶表示セルを採用することにより、従来のＩＰＳモード型液晶表示セルを用いるタッチパネル付き液晶表示装置に比較して、正面コントラストを向上するものである。
【００３９】
前記光学報償フィルムのガラス転移温度Ｔｇは、熱処理時の位相差値変動を抑制し、前記コントラストを向上する効果の観点から１５５℃以上であることが必要である。１５５℃未満であると透明導電層を形成した後の熱処理において、光学補償フィルムのポリマー分子の乱れによる位相差値の変動が生じ、光学補償機能が低下し、ＶＡモード型液晶固有の特徴である優れた正面コントラストが得られない。
【００４０】
また、前記光学補償フィルムには光学的及び物理的な機能を向上する観点から種々な添加剤が添加されるが、それらを含有する状態で、前記ガラス転移温度の範囲を満たすことが必要である。例えば、可塑剤等を添加すると、その種類及び添加量によってはガラス転移温度が低下する場合もあり、設計上の留意点である。
【００４１】
前記ガラス転移温度Ｔｇは、ＪＩＳ  Ｋ−７１２１に従って、例えばセイコーインスツル（株）製の示差走査熱量計ＤＳＣ２２０を用いて測定して、求めることができる。具体的な方法としては、試料フィルムを１０ｍｇ程度を容器にセットし、窒素流量５０ｍｌ／ｍｉｎの条件下で、２０℃／ｍｉｎで室温から２５０℃まで昇温して１０分間保持し（第１スキャン）、次に２０℃／ｍｉｎの速度で３０℃まで降温して１０分間保持し（第２スキャン）、さらに２０℃／ｍｉｎで２５０℃まで昇温し（第３スキャン）、ＤＳＣ曲線を作成し、得られた第３スキャンのＤＳＣ曲線からガラス転移温度Ｔｇを求める。
【００４２】
さらに前述のとおり、本発明に係る光学補償フィルムは熱処理時の位相差値変動をより抑制する目的で、前記一般式（３）で表される構造を有する位相差上昇剤を含有することが好ましい。
【００４３】
本発明の検討の過程において、汎用の樹脂フィルムを種々検討した結果、ジアセチルセルロースフィルムは湿度による寸法変動が大きく、当該フィルム上に透明導電層を形成すると保存中に収縮や伸びが生じて電極の割れ等が生じ、使用が困難であった。また、ＰＥＴフィルムは位相差が大きすぎてＶＡモード型液晶表示装置の光学補償フィルムとしては使用が困難であった。同様に、ポリカーボネート（ＰＣ）フィルムは光弾性係数が大きく同様にＶＡモード型液晶表示装置の光学補償フィルムとしては不適であった。さらにアクリル樹脂フィルムは、ガラス転移温度Ｔｇが低く本発明の光学補償フィルムとしては、不適であった。
【００４４】
＜本発明のタッチパネル付き液晶表示装置の構成＞
本発明のタッチパネル付き液晶表示装置は、ＶＡモード型液晶セルの視認側に、透明導電層を有する偏光板一体型タッチパネルモジュールを具備するタッチパネル付き液晶表示装置であって、前記透明導電層を有する偏光板一体型タッチパネルモジュールが、前記ＶＡモード型液晶セルから視認側に向かって、少なくとも一方の面に透明導電層を有する光学補償フィルム、偏光子及び保護フィルムをこの順に有し、かつ、前記光学補償フィルムのガラス転移温度Ｔｇが１５５〜２５０℃の範囲内であることを特徴とし、前記光学補償フィルムが、シクロオレフィン系樹脂、ポリイミド系樹脂又はポリアリレート系樹脂のいずれかを含有することが、耐熱性と位相差値の制御の観点から好ましい。
【００４５】
本発明のタッチパネル付き液晶表示装置の構成を比較例の構成をまじえて図をもって説明する。
【００４６】
図１は、従来のアウトセル型タッチパネルモジュールを具備するタッチパネル付き液晶表示装置の構成の一例を示す模式図である。
【００４７】
比較例であるタッチパネル付き液晶表示装置１０は、液晶セル１の一方の面に偏光子２を保護フィルムＴ１及び光学補償フィルムＴ２で挟持した偏光板Ｐ１を有し、その上に導電層基材フィルム４の両面に透明導電層５と保護層６を有するタッチパネルモジュールＴを粘着層３を介して前記偏光板Ｐ１に接着し、さらにタッチパネルモジュールＴに粘着層３を介して前面板７を貼合する。前記液晶セル１の他方の面は、偏光子２を光学補償フィルムＴ３及び保護フィルムＴ４で挟持した偏光板Ｐ２を有する。偏光板Ｐ１側が視認側であり、偏光板Ｐ２側がバックライト側である。ここで一般的には前記液晶セル１はＩＰＳモード型である。
【００４８】
図２は、本発明の偏光板一体型タッチパネルモジュールを具備するタッチパネル付き液晶表示装置の構成の一例を示す模式図である。
【００４９】
本発明のタッチパネル付き液晶表示装置２０は、液晶セル１の一方の面に保護フィルムＴ１及び光学補償フィルムＴ２で偏光子２を挟持した偏光板Ｐ１を有し、当該光学補償フィルムＴ２はその両面側に透明導電層５が形成されるいわゆるミッドセル型もしくはインナーセル型構造を有する偏光板一体型タッチパネルモジュールを具備する。このような構成にすることにより、アウトセル型に比較してタッチパネル付き液晶表示装置を薄型化することができる。それぞれのフィルムや層間の接着は適宜粘着層３を形成し行うことが好ましい。
【００５０】
前記液晶セル１の他方の面は、同様に偏光子２を光学補償フィルムＴ３及び保護フィルムＴ４で挟持した偏光板Ｐ２を有する。ここで前記液晶セル１はＶＡモード型である。
【００５１】
また、上記は最小構成であり、各部材間に、機能性層（ハードコート層、中間層、帯電防止層、平滑化層、紫外線吸収層、カール防止層等）を必要によって設けてもよく、フィルムの保護層としてハードコート層を形成することや、帯電防止層を形成することは好ましい態様である。
【００５２】
本発明に係る偏光板一体型タッチパネルモジュール全体の厚さは特に制限はないが、撓み防止、良好な抵抗値、取扱い性等の観点から７〜８０μｍの範囲内であることが好ましく、より好ましくは１０〜６０μｍの範囲内である。
【００５３】
図３は、本発明の偏光板一体型タッチパネルモジュールを具備するタッチパネル付き液晶表示装置の構成の別の一例を示す模式図である。
【００５４】
図３の構成では、透明導電層５を保護フィルムＴ１及び光学補償フィルムＴ２の上層としてそれぞれ形成する構成である。
【００５５】
図４は、本発明の偏光板一体型タッチパネルモジュールを具備するタッチパネル付き液晶表示装置の構成の別の一例を示す模式図である。
【００５６】
図４の構成では、透明導電層５を保護フィルムＴ１の上層及び光学補償フィルムＴ２の下層としてそれぞれ形成する構成である。
【００５７】
図５は、本発明の偏光板一体型タッチパネルモジュールを具備するタッチパネル付き液晶表示装置の構成の別の一例を示す模式図である。
【００５８】
図５の構成では、透明導電層５を一層として形成し、光学補償フィルムＴ２の下層に配置した構成である。この場合の透明導電層は、層中にＸ電極パターンとＹ電極パターンを絶縁層を介して有する構成であることが好ましい。
【００５９】
図６は、本発明の偏光板一体型タッチパネルモジュールを具備するタッチパネル付き液晶表示装置の構成の別の一例を示す模式図である。
【００６０】
図６の構成では、透明導電層５を一層として形成し、光学補償フィルムＴ２の上層に配置した構成である。同様に、この場合の透明導電層は、層中にＸ電極パターンとＹ電極パターンを絶縁層を介して有する構成である
以下、本発明の偏光板一体型タッチパネルモジュールを構成する各要素について詳細に説明する。
【００６１】
〔１〕光学補償フィルム
本発明に係る光学補償フィルムのガラス転移温度Ｔｇは、１５５〜２５０℃の範囲内であり、Ｔｇの下限としては１５５℃以上であることが必要である。光学補償フィルムは通常、樹脂、可塑剤、各種添加剤、及びマット剤などを含有するが、本発明ではでき上がりのフィルムとしてのガラス転移温度Ｔｇが１５５℃以上であることを特徴とする。
【００６２】
上記ガラス転移温度Ｔｇは、フィルムが透明導電層を形成する際の熱処理に対して、位相差変動を抑制する観点から、１５５℃以上であることが必要であり、ガラス転移温度Ｔｇの上限としては２５０℃以下である。Ｔｇが２５０℃を超えると、内部応力の上昇にともなう密着性や耐クラック性の低下をきたすことがある。したがって本発明ではガラス転移温度Ｔｇが２５０℃までの光学補償フィルムを対象としている。
【００６３】
本発明に係る光学補償フィルムに用いられる好ましい樹脂は、樹脂単体としてのガラス転移温度Ｔｇが１５５℃以上であることが好ましく、さらに位相差の発現性、安定性を考慮すると、中でもセルロースエステル系樹脂、シクロオレフィン系樹脂、ポリイミド系樹脂又はポリアリレート系樹脂のいずれかを含有することが好ましく、シクロオレフィン系樹脂、ポリイミド系樹脂又はポリアリレート系樹脂のいずれかを含有することがさらに好ましく、シクロオレフィン系樹脂を含有することが特に好ましい。
【００６４】
〔１．１〕セルロースエステル系樹脂
光学補償フィルムに含有されたときに、ガラス転移温度Ｔｇが１５５℃以上であるセルロースエステル樹脂（以下、セルロースエステルともいう。）は、セルロースの低級脂肪酸エステルであることが好ましい。中でも位相差が出やすく湿度に対する寸法の安定性の観点から、セルロースアセテートプロピオネートやセルロースアセテートブチレート等の混合脂肪酸エステルを用いることが好ましい。
【００６５】
上記の中でも、特に好ましく用いられるセルロースの低級脂肪酸エステルはセルロースアセテートプロピオネート（本願ではＣＡＰともいう。）である。
【００６６】
セルロースアセテートプロピオネート及びセルロースアセテートブチレートは、炭素原子数２〜４のアシル基を置換基として有し、アセチル基の置換度をＸとし、プロピオニル基又はブチリル基の置換度をＹとした時、下記式（Ｉ）及び（II）を同時に満たすものが好ましい。
【００６７】
式（Ｉ）  ２．０≦Ｘ＋Ｙ≦３．０
式（II）  １．０≦Ｘ≦２．０かつ０．１≦Ｙ≦１．０
であることが好ましい。
【００６８】
上記アシル基の置換度の測定方法は、ＡＳＴＭ−Ｄ８１７−９６に準じて測定することができる。
【００６９】
セルロースアセテートプロピオネート及びセルロースアセテートブチレートの分子量としては、数平均分子量（Ｍｎ）が１０００００以上１８００００未満、Ｍｗは２０００００以上３６００００未満、Ｍｗ／Ｍｎは、１．８〜２．０の範囲であることが好ましい。
【００７０】
セルロースエステルの数平均分子量（Ｍｎ）及び分子量分布（Ｍｗ）は、高速液体クロマトグラフィーを用い測定できる。測定条件は以下のとおりである。
【００７１】
溶媒：ジクロロメタン
カラム：Ｓｈｏｄｅｘ  Ｋ８０６、Ｋ８０５、Ｋ８０３Ｇ
（昭和電工（株）製を３本接続して使用した）
カラム温度：２５℃
試料濃度：０．１質量％
検出器：ＲＩ  Ｍｏｄｅｌ  ５０４（ＧＬサイエンス社製）
ポンプ：Ｌ６０００（日立製作所（株）製）
流量：１．０ｍｌ／ｍｉｎ
校正曲線：標準ポリスチレンＳＴＫ  ｓｔａｎｄａｒｄ  ポリスチレン（東ソー（株）製）Ｍｗ＝５００〜１００００００迄の１３サンプルによる校正曲線を使用した。１３サンプルは、ほぼ等間隔に用いることが好ましい。
【００７２】
〔１．２〕シクロオレフィン系樹脂
シクロオレフィン系樹脂としては、種々のシクロオレフィン単量体の重合体を用いることができるが、ノルボルネン骨格を有するシクロオレフィン単量体を単独重合又は共重合して得られる重合体を用いることが好ましい。
【００７３】
以下において、本発明で用いられるシクロオレフィン単量体の説明をする。
【００７４】
本発明に係るシクロオレフィン系樹脂は、下記一般式（Ａ−１）及び（Ａ−２）で表されるシクロオレフィン単量体から単独重合又は共重合して得られる重合体であることが好ましい。
【００７５】
一般式（Ａ−１）で表される構造を有するシクロオレフィン単量体を説明する。
【００７６】
【化２】
2016181756.tif 000004
（一般式（Ａ−１）中、Ｒ１〜Ｒ４は、それぞれ独立に水素原子又はハロゲン原子を表す。又は、酸素原子、窒素原子、イオウ原子若しくはケイ素原子を含む連結基を有していてもよい、置換又は非置換の炭素原子数１〜３０の炭化水素基、若しくは極性基を表す。ｐは、０〜２の自然数を表す。）
上記極性基は、酸素、硫黄、窒素、ハロゲンなど電気陰性度の高い原子によって分極が生じている官能基のことをいう。上記極性基としては、カルボキシ基、ヒドロキシ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アミノ基、アミド基、シアノ基、ハロゲン原子などが挙げられ、これら極性基はメチレン基などの連結基を介して結合していてもよい。また、酸素原子、窒素原子、イオウ原子又はケイ素原子を含む連結基を有していてもよい置換又は非置換の炭素原子数１〜３０の炭化水素基、例えばカルボニル基、エーテル基、シリルエーテル基、チオエーテル基、イミノ基など極性を有する２価の有機基が連結基となって結合している炭素原子数１〜３０の炭化水素基なども極性基として挙げられる。これらの中では、カルボキシ基、ヒドロキシ基、アルコキシカルボニル基又はアリールオキシカルボニル基が好ましく、特にアルコキシカルボニル基又はアリールオキシカルボニル基であることが、溶液製膜時の溶解性を確保する観点で好ましい。
【００７７】
次に、一般式（Ａ−２）で表されるシクロオレフィン単量体を説明する。
【００７８】
【化３】
2016181756.tif 000005
（一般式（Ａ−２）中、Ｒ５は、独立に水素原子、炭素数１〜５の炭化水素基、又は炭素数１〜５のアルキル基を有するアルキルシリル基を表す。Ｒ６は、カルボキシ基、ヒドロキシ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アミノ基、アミド基、シアノ基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、又はヨウ素原子を表す。ｐは、０〜２の整数を表す。）
本発明においては、一般式（Ａ−２）で表されるように、置換基Ｒ５及びＲ６が片側炭素に置換されたシクロオレフィン単量体を用いることで、分子の対称性が崩れたためか溶媒揮発時の樹脂と添加剤同士の拡散運動を促進し、それに伴い添加剤の製膜フィルム表面への移動を促すことから、添加剤の偏在の観点から好ましい。
【００７９】
Ｒ５は、炭素数１〜３の炭化水素基、Ｒ６は、カルボキシ基、ヒドロキシ基、アルコキシカルボニル基又はアリールオキシカルボニル基が好ましく、特にアルコキシカルボニル基又はアリールオキシカルボニル基であることが、溶液製膜時の溶解性を確保する観点でも好ましい。
【００８０】
以下に、本願における一般式（Ａ−１）及び（Ａ−２）の構造を具体的に示すが、以下の具体例によって限定されるものではない。
【００８１】
【化４】
2016181756.tif 000006
【００８２】
シクロオレフィン系樹脂としては、ノルボルネン骨格を有する前記一般式（Ａ−１）及び（Ａ−２）で表される構造を有するシクロオレフィン単量体を単独重合又は共重合して得られる重合体であり、例えば以下のものが挙げられる。
（１）シクロオレフィン単量体の開環重合体
（２）シクロオレフィン単量体と共重合性単量体との開環共重合体
（３）上記（１）又は（２）の開環（共）重合体の水素添加（共）重合体
（４）上記（１）又は（２）の開環（共）重合体をフリーデルクラフト反応により環化したのち、水素添加した（共）重合体
（５）シクロオレフィン単量体と不飽和二重結合含有化合物との飽和重合体
（６）シクロオレフィン系単量体の付加型（共）重合体及びその水素添加（共）重合体
（７）シクロオレフィン系単量体とメタクリレート、又はアクリレートとの交互共重合体
上記（１）〜（７）の重合体は、いずれも公知の方法、例えば特開２００８−１０７５３４号公報や特開２００５−２２７６０６号公報に記載の方法で得ることができる。例えば、上記（２）の開環共重合に用いられる触媒や溶媒は、例えば特開２００８−１０７５３４号公報の段落００１９〜００２４に記載のものを使用できる。上記（３）及び（６）の水素添加に用いられる触媒は、例えば特開２００８−１０７５３４号公報の段落００２５〜００２８に記載のものを使用できる。上記（４）のフリーデルクラフツ反応に用いられる酸性化合物は、例えば特開２００８−１０７５３４号公報の段落００２９に記載のものを使用できる。上記（５）〜（７）の付加重合に用いられる触媒は、例えば特開２００５−２２７６０６号公報の段落００５８〜００６３に記載のものを使用できる。上記（７）の交互共重合反応は、例えば特開２００５−２２７６０６号公報の段落００７１及び００７２に記載の方法で行うことができる。
【００８３】
中でも、上記（１）〜（３）及び（５）の重合体が好ましく、上記（３）及び（５）の重合体がより好ましい。
【００８４】
本発明に係る好ましいシクロオレフィン重合体としては、下記一般式（Ｂ−１）及び一般式（Ｂ−２）で表される構造単位を有するものが挙げられる。このようなシクロオレフィン系樹脂は、一般式（Ｂ−１）で表される構造単位のみ、一般式（Ｂ−２）で表される構造単位のみ、一般式（Ｂ−１）と一般式（Ｂ−２）のそれぞれの構造単位を含む共重合体でもよい。
【００８５】
好ましくは、一般式（Ｂ−２）の構造体のみ、又は一般式（Ｂ−１）と一般式（Ｂ−２）の両者の構造単位を含む共重合体の樹脂である。得られるシクロオレフィン系樹脂のガラス転移温度が高くかつ透過率の高い優れたものとなる点で好ましい。
【００８６】
【化５】
2016181756.tif 000007
（一般式（Ｂ−１）中、Ｘは、−ＣＨ＝ＣＨ−で表される基又は式：−ＣＨ２ＣＨ２−で表される基である。Ｒ１〜Ｒ４は、それぞれ独立に水素原子；ハロゲン原子；酸素、窒素、イオウ又はケイ素を含む連結基を有していてもよい置換又は非置換の炭素原子数１〜３０の炭化水素基；又は極性基を表す。ｐは、０〜２の自然数を表す。）
【化６】
2016181756.tif 000008
（一般式（Ｂ−２）中、Ｘは、−ＣＨ＝ＣＨ−で表される基又は式：−ＣＨ２ＣＨ２−で表される基である。Ｒ５は、それぞれ独立に水素原子、炭素数１〜５の炭化水素基、又は炭素数１〜５のアルキル基を有するアルキルシリル基を表す。Ｒ６は、カルボキシ基、ヒドロキシ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アミノ基、アミド基、シアノ基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、又はヨウ素原子を表す。ｐは、０〜２の整数を表す。）
本明細書では、本願に係るシクロオレフィン系樹脂の製造方法等については、特開２００８−１０７５３４号公報の記載を援用するものとし、その説明を省略する。
【００８７】
シクロオレフィン系樹脂は１種単独で、又は２種以上を併用することができる。
本発明に係るシクロオレフィン系樹脂の好ましい分子量は、前記ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）で測定したポリスチレン換算の数平均分子量（Ｍｎ）は８０００〜１０００００、さらに好ましくは１００００〜８００００、特に好ましくは１２０００〜５００００であり、重量平均分子量（Ｍｗ）は２００００〜３０００００、さらに好ましくは３００００〜２５００００、特に好ましくは４００００〜２０００００の範囲のものが好適である。
【００８８】
本発明に係るシクロオレフィン系樹脂のガラス転移温度（Ｔｇ）としては、通常、１１０℃以上、好ましくは１１０〜３５０℃、さらに好ましくは１２０〜２５０℃、特に好ましくは１２０〜２２０℃である。Ｔｇが１１０℃以上の場合が、高温条件下での使用、又はコーティング、印刷などの二次加工により変形が起こりにくいため好ましい。
一方、Ｔｇが３５０℃以下とすることで、成形加工が困難になる場合を回避し、成形加工時の熱によって樹脂が劣化する可能性を抑制することができる。
シクロオレフィン系樹脂には、本発明の効果を損なわない範囲で、例えば特開平９−２２１５７７号公報、特開平１０−２８７７３２号公報に記載されている、特定の炭化水素系樹脂、又は公知の熱可塑性樹脂、熱可塑性エラストマー、ゴム質重合体、有機微粒子、無機微粒子などを配合してもよく、特定の波長分散剤、可塑剤、酸化防止剤、剥離促進剤、ゴム粒子、紫外線吸収剤などの添加剤を含んでもよい。
また、シクロオレフィン系樹脂は、市販品を好ましく用いることができ、市販品の例としては、ＪＳＲ（株）からアートン（ＡＲＴＯＮ：登録商標）Ｇ、アートンＦ、アートンＲ、及びアートンＲＸという商品名で発売されており、これらを使用することができる。
【００８９】
〔１．３〕ポリイミド系樹脂
本発明に係るポリイミド系樹脂は、ポリイミド前駆体を化学イミド化することにより得られる下記式（Ｐ１）で表されるポリイミド系樹脂であることが好ましい。
【００９０】
【化７】
2016181756.tif 000009
【００９１】
［ポリイミド前駆体の重合］
本発明で用いる式（Ｐ１）で表される構造を有するポリイミド前駆体の製造方法の一例について以下に示す。
【００９２】
まず、重合容器中にジアミンである２，２′―ビス（トリフルオロメチル）−４，４′−ジアミノビフェニル（ＴＦＭＢ）を重合溶媒に溶解する。このジアミン溶液に対して、２，２−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）ヘキサフルオロプロパン酸二無水物（６ＦＤＡ）の粉末を徐々に添加し、メカニカルスターラーを用い、−２０〜１００℃の範囲で、好ましくは２０〜６０℃の範囲で１〜７２時間撹拌する。ＴＦＭＢ、６ＦＤＡを用いることで可視光の透過性、溶解性が向上する。ジアミンのモル数とテトラカルボン酸二無水物のモル数は実質的に等モルで仕込まれる。また重合の際の全モノマー濃度は５〜４０質量％、好ましくは１０〜３０質量％である。このモノマー濃度範囲で重合を行うことにより均一で高重合度のポリイミド前駆体溶液を得ることができる。 上記モノマー濃度範囲よりも低濃度で重合を行うと、ポリイミド前駆体の重合度が十分高くならず、最終的に得られるポリイミド系樹脂膜が脆弱になる恐れがあり、好ましくない。
【００９３】
重合溶媒としては特に限定されないが、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、ヘキサメチルホスホルアミド、ジメチルスルホオキシド、γ−ブチロラクトン、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン、１，２−ジメトキシエタン-ビス（２−メトキシエチル）
エーテル、テロラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、ピコリン、ピリジン、アセトン、クロロホルム、トルエン、キシレン等の非プロトン性溶媒及び、フェノール、ｏ−クレゾール、ｍ−クレゾール、ｐ−クレゾール、ｏ−クロロフェノール、ｍ−クロロフェノール、ｐ−クロロフェノール等のプロトン性溶媒が使用可能である。またこれらの溶媒は単独でも、２種類以上混合して用いてもよい。
【００９４】
［ポリイミド系樹脂の製造方法］
式（Ｐ１）で表されるポリイミド系樹脂は、上記の方法で得られたポリイミド前駆体の脱水閉環反応（イミド化反応）により製造することができる。イミド化反応には、得られるポリイミド系樹脂がより優れた寸法安定性を示す化学イミド化を用いる。化学イミド化は、有機酸の酸無水物と有機３級アミンからなる脱水環化剤（化学イミド化剤）を用いて行うことができる。例えば、ポリイミド前駆体ワニスをそのまま用いるか若しくは溶媒で適度に希釈後、これに脱水環化試剤を投入し、０〜１００℃、好ましくは２０〜６０℃で０．５〜４８時間撹拌することで容易にイミド化することができる。
【００９５】
その際に使用される有機酸の酸無水物としては、特に限定されず、無水酢酸、無水プロピオン酸、無水マレイン酸、無水フタル酸等が使用可能であるが、コスト及び後処理のしやすさの観点から無水酢酸が好適に用いられる。また有機３級アミンとしては特に限定されず、ピリジン、１，５−ジメチルピリジン、β−ピコリン、γ−ピコリン、ルチジン、イソキノリン、トリエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン等が使用可能である。
【００９６】
化学イミド化反応の際、脱水環化試薬中の酸無水物の使用量は、ポリイミド前駆体の理論脱水量の１〜１０倍モルの範囲であることが好ましく、脱水環化試薬中の塩基性触媒の使用量は酸無水物に対して０．１〜２倍モルの範囲であることが好ましい。これらの範囲外で化学イミド化を行うとイミド化反応が完結しなかったり、反応溶液中にイミド化が未完結のポリイミド系樹脂が析出してやはりイミド化が不十分となる恐れがある。
【００９７】
イミド化完了後、反応溶液をそのままコーティングに用いることができ、又は、反応溶液を大量の貧溶媒中に滴下、又は、貧溶媒を反応溶液に添加して、ポリイミド系樹脂を析出・洗浄して反応溶媒や、化学イミド化の場合は過剰な化学イミド化剤を除去した後、減圧乾燥してポリイミド系樹脂の粉末を得ることができる。使用可能な貧溶媒としては、ポリイミド系樹脂を溶解しなければよく、特に限定されないが、反応溶媒や化学イミド化剤との親和性及び乾燥による除去のしやすさの観点から水、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール等が好適に用いられる。
【００９８】
ポリイミド系樹脂の重量平均分子量は、特に制限されるものではないが、５０００〜２００００００であることが好ましく、１００００〜１００００００であることがさらに好ましく、５００００〜５０００００であることがさらに好ましい。重量平均分子量が５０００以上であると、フィルムとした場合に十分な強度が得られ、また寸法安定性が向上する傾向があるため、十分な寸法安定性が得られる。一方、２００００００以下であると溶液粘度が高くなりすぎず、取扱いやすい。なお、上記重量平均分子量は、サイズ排除クロマトグラフィー（ＳＥＣ）によるポリエチレングリコール換算の値のことをいう。
【００９９】
〔１．３〕ポリアリレート系樹脂
本発明に係るポリアリレート系樹脂は、ビスフェノール残基及び芳香族ジカルボン酸残基を含むポリアリレート系樹脂であることが好ましい。 
ビスフェノール残基は、一般式（Ｐ２）で表される構造を有する。
【０１００】
【化８】
2016181756.tif 000010
【０１０１】
一般式（Ｐ２）中、Ｘは、フッ素原子を含有する二価基であることが必要である。一般式（Ｐ２）中のＸを、フッ素原子を含有する二価基とすることで、耐熱性、ならびに可視光線領域及びそれよりも短波長領域（紫外線領域）の光透過性に優れているとともに、従来よりも優れた難燃性を有し、かつ紫外線による黄変が抑制されるポリアリレート樹脂が得られる。Ｘがフッ素原子を含有しない二価基であると、難燃性が低下し、紫外線の照射により黄変が生じ、光線透過率が低下する。
【０１０２】
フッ素原子を含有する二価基は、例えば、一般式（Ｐ２ａ）で表される。
【０１０３】
【化９】
2016181756.tif 000011
【０１０４】
一般式（Ｐ２ａ）中、Ｒ１ａ及びＲ２ａは、独立して、トリフルオロメチル基（ＣＦ３基）、ジフルオロメチル基（ＣＦ２Ｈ基）、モノフルオロメチル基（ＣＨ２Ｆ基）、又はフッ素原子である。これらの中でも、Ｒ１ａ及びＲ２ａが、トリフルオロメチル基であることが好ましい。 
Ｒ１及びＲ２は、一般式（Ｐ２）中のベンゼン環に結合する置換基を表す。
【０１０５】
一般式（Ｐ２）で表される構造を与えるビスフェノールを工業的に入手し易い、又は合成し易いことから、一般式（Ｐ２）中、Ｒ１及びＲ２は、独立して、炭素数が１〜６の炭化水素基、ハロゲン化アルキル基又はハロゲン原子である。これらの中でも、塩素原子、臭素原子、メチル基、エチル基、フェニル基、シクロヘキシル基が好ましく、臭素原子、メチル基がより好ましい。 
ｐ及びｑは、それぞれベンゼン環に結合する置換基Ｒ１及びＲ２の数を表し、独立して、０〜４の整数である。例えば、ｐ及びｑが０の場合、一般式（Ｐ２）中におけるベンゼン環に結合するすべての水素原子がＲ１及びＲ２に置換されていないことを表す。ｐが２〜４の場合、複数のＲ１は、互いに同じ置換基でもよく、異なる置換基でもよい。ｑが２〜４の場合、複数のＲ２は、互いに同じ置換基でもよく、異なる置換基でもよい。一般式（Ｐ２）で表される構造を与えるビスフェノールを工業的に入手し易い、又は合成し易いことから、ｐ及びｑは０であるのが好ましい。
【０１０６】
一般式（Ｐ２）で表される構造を与えるビスフェノールとしては、例えば、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパン〔ＢｉｓＡＦ〕、２，２−ビス（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパン、２，２−ビス（テトラメチル−４−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパンが挙げられる。工業的に入手し易いことから、これらの中でも、ＢｉｓＡＦが好ましい。ＢｉｓＡＦを用いる場合、一般式（Ｐ２）において、ｐ＝０、ｑ＝０、Ｘ＝−Ｃ（ＣＦ３）２−である。
【０１０７】
本発明においては、ビスフェノール残基は、本発明の効果を損なわない範囲で、一般式（Ｐ２）の構造を与えるビスフェノール以外のビスフェノールの残基を含んでいてもよい。そのような残基を与えるビスフェノールとしては、例えば、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン〔ＢｉｓＡ〕、２，２−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン〔ＢｉｓＣ〕、９，９−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）フルオレン〔ＢＣＦ〕、２，２−ビス（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１−フェニルエタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エタン、１，１−ビス（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）エタン、１，１−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）エタン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）メタン、ビス（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）メタン、ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）メタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ヘキサン、１，１−ビス（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）ヘキサンが挙げられる。
【０１０８】
ポリアリレート樹脂に高い難燃性を付与し、紫外線による黄変をより抑制するためには、ポリアリレート樹脂中に存在するビスフェノール残基全体のうち、一般式（Ｐ２）で表されるビスフェノール残基が占める割合が、５０〜１００モル％であるのが好ましく、８０〜１００モル％であるのがより好ましく、１００モル％であるのがさらに好ましい。
【０１０９】
芳香族ジカルボン酸残基は、一般式（Ｐ３）で表される構造を有することが好ましい。一般式（Ｐ２）で表される構造とともに、一般式（Ｐ３）で表される構造を有することで、優れた、耐熱性、難燃性、ならびに可視光線領域及びそれよりも短波長領域（紫外線領域）の光透過性と、紫外線による黄変の抑制とを同時に実現することができる。芳香族ジカルボン酸残基が一般式（Ｐ２）の構造を有しない場合、短波長領域（紫外線領域）の光透過性が低下したり、紫外線により黄変し易くなったりする。例えば、芳香族ジカルボン酸に、一般式（Ｐ３）で示されない構造を与えるテレフタル酸のみを用いる場合、ポリアリレート樹脂は、短波長領域（紫外線領域）の光透過性が低下し、紫外線により黄変し易くなる。
【０１１０】
【化１０】
2016181756.tif 000012
【０１１１】
一般式（Ｐ３）中、Ｒ３及びＲ４は、一般式（Ｐ３）中のベンゼン環に結合する置換基を表す。
【０１１２】
一般式（Ｐ３）で表される構造を与える芳香族ジカルボン酸を工業的に入手し易い、又は合成し易いことから、Ｒ３及びＲ４は、独立して、炭素数が１〜６の炭化水素基、ハロゲン化アルキル基又はハロゲン原子である。これらの中でも、塩素、臭素、メチル基、エチル基、フェニル基、シクロヘキシル基が好ましく、臭素、メチル基がより好ましい。 
ｒ及びｓは、ベンゼン環に結合する置換基の数を表し、独立して、０〜４の整数である。例えば、ｒ及びｓが０の場合、一般式（Ｐ２）中におけるベンゼン環に結合するすべての水素原子がＲ３及びＲ４に置換されていないことを表す。ｒが２〜４の場合、複数のＲ３は、互いに同じ置換基でもよく、異なる置換基でもよい。ｓが２〜４の場合、複数のＲ４は、互いに同じ置換基でもよく、異なる置換基でもよい。
【０１１３】
一般式（Ｐ３）で表される構造を与える芳香族ジカルボン酸としては、例えば、ジフェニルエーテル−２，２′−ジカルボン酸、ジフェニルエーテル−２，３’−ジカルボン酸、ジフェニルエーテル−２，４′−ジカルボン酸、ジフェニルエーテル−３，３′−ジカルボン酸、ジフェニルエーテル−３，４′−ジカルボン酸、ジフェニルエーテル−４，４′−ジカルボン酸が挙げられる。工業的に入手しやすいことから、これらの中でも、ジフェニルエーテル−４，４′−ジカルボン酸が好ましい。ジフェニルエーテル−４，４′−ジカルボン酸を用いる場合、一般式（Ｐ３）において、ｒ＝０、ｓ＝０である。
【０１１４】
本発明においては、芳香族ジカルボン酸残基は、本発明の効果を損なわない範囲で、一般式（Ｐ３）の構造を与える芳香族ジカルボン酸以外の芳香族ジカルボン酸の残基を含んでいてもよい。そのような残基を与える芳香族ジカルボン酸としては、例えば、テレフタル酸、イソフタル酸、オルトフタル酸が挙げられ、中でも、イソフタル酸が好ましい。イソフタル酸を併用することにより、紫外線による黄変を抑制することができる。
【０１１５】
紫外線による黄変をより抑制するためには、ポリアリレート樹脂中に存在する芳香族ジカルボン酸残基全体のうち、一般式（Ｐ３）で表される構造を有する芳香族ジカルボン酸残基（イソフタル酸残基を含む場合には、一般式（Ｐ３）で表される構造を有する芳香族ジカルボン酸残基とイソフタル酸残基の合計）が占める割合が、３５〜１００モル％であることが好ましく、５０〜１００モル％であることがより好ましく、８０〜１００モル％であることがさらに好ましく、１００モル％であることが最も好ましい。
【０１１６】
ポリアリレート樹脂の引張破断伸びの観点から、ポリアリレート樹脂中に存在する芳香族ジカルボン酸残基全体のうち、一般式（Ｐ３）で表される構造を有する芳香族ジカルボン酸残基が占める割合が、３５〜１００モル％であることが好ましく、１００モル％であることがより好ましい。
【０１１７】
本発明に係るポリアリレート樹脂は、その分子の末端を封止するための末端基を含むのが好ましい。分子の末端が封止されると、ポリアリレート樹脂の酸価が低減され、光線により分解され難くなる。酸価を小さくすることができる点で、末端基は、一価フェノール残基、一価酸クロライド残基、一価アルコール残基、及び／又は一価カルボン酸残基であるのが好ましく、一価フェノール残基及び一価アルコール残基であるのがより好ましい。
【０１１８】
本発明においては、本発明の効果を損なわない範囲で、ポリアリレート樹脂に、脂肪族ジオールの残基、脂環族ジオールの残基、脂肪族ジカルボン酸の残基、脂環族ジカルボン酸の残基を含んでいてもよい。脂肪族ジオールとしては、例えば、エチレングリコール、プロピレングリコールが挙げられる。脂環族ジオールとしては、例えば、１，４−シクロヘキサンジオール、１，３−シクロヘキサンジオール、１，２−シクロヘキサンジオールが挙げられる。脂肪族ジカルボン酸としては、例えば、アジピン酸、セバシン酸が挙げられる。脂環族ジカルボン酸としては、例えば、１，４−シクロヘキサンジカルボン酸、１，３−シクロヘキサンジカルボン酸、１，２−シクロヘキサンジカルボン酸が挙げられる。
【０１１９】
本発明に係るポリアリレート樹脂の製造方法としては、界面重合法や溶液重合法等の有機溶媒中で反応させる方法、又は溶融重合等の溶融状態で反応させる方法が挙げられる。重合性や得られる樹脂の外観の点から、有機溶媒中での反応、特に低温での反応が可能な界面重合法を用いるのが好ましい。
【０１２０】
高い引張破断伸びが得られることから、ポリアリレート系樹脂の重量平均分子量は、１２０００以上とすることが好ましく、５００００以上とすることがより好ましい。
【０１２１】
〔２〕位相差上昇剤
本願でいう位相差上昇剤とは、光学補償フィルムに用いる樹脂１００質量部に対して当該化合物を３質量部含有した光学補償フィルムの厚さ方向の位相差値Ｒｔ（２３℃・５５％ＲＨ、波長５９０ｎｍで測定。）が、未添加の光学補償フィルムと比べて１．１倍以上の値を示す機能を有する化合物をいう。
【０１２２】
本発明に係る位相差上昇剤は、特に制限されるものではなく、例えば従来よく知られている、特開２００６−１１３２３９号公報段落〔０１４３〕〜〔０１７９〕に記載の芳香族環を有する円盤状化合物（１，３，５−トリアジン系化合物等）、特開２００６−１１３２３９号公報段落〔０１０６〕〜〔０１１２〕記載の棒状化合物、特開２０１２−２１４６８２号公報段落〔０１１８〕〜〔０１３３〕記載のピリミジン系化合物、特開２０１１−１４０６３７号公報段落〔００２２〕〜〔００２８〕記載のエポキシエステル化合物等、国際公開２０１２／０１４５７１号段落〔００４４〕〜〔００５８〕記載のポリエステル化合物等を用いることができる。
【０１２３】
本発明に係る位相差上昇剤に求められる特性としては、樹脂との相溶性に優れること、フィルムを薄膜化したときに位相差発現性に優れること、また耐析出性に優れること、高湿度下において水分の出入りに伴う位相差値変動耐性に優れることなどが挙げられるが、当該位相差上昇剤を加えることによって、前記熱処理時に、位相差上昇剤自体の配向が乱れ、当該化合物由来の位相差変動が起きることによって、フィルムを構成するポリマー分子由来の位相差変動を相殺できることが好ましい。
【０１２４】
このような観点から下記含窒素複素環化合物を位相差上昇剤として用いることが好ましい。
【０１２５】
〔含窒素複素環化合物〕
本発明に係る位相差上昇剤は、下記一般式（１）で表される構造を有する含窒素複素環化合物であることが好ましい。
【０１２６】
本発明に係る含窒素複素環化合物は、特に下記一般式（１）で表される構造を有する含窒素複素環化合物のうち、ピロール環、ピラゾール環、トリアゾール環、又はイミダゾール環を有する含窒素複素環化合物であることが、位相差上昇機能と熱処理時における樹脂分子の配向に好ましい相互作用を及ぼす観点から、好ましい。
【０１２７】
〈一般式（１）で表される構造を有する化合物〉
【化１１】
2016181756.tif 000013
【０１２８】
前記一般式（１）において、Ａ１、Ａ２及びＢは、それぞれ独立に、アルキル基（メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−オクチル基、２−エチヘキシル基等）、シクロアルキル基（シクロヘキシル基、シクロペンチル基、４−ｎ−ドデシルシクロヘキシル基等）、芳香族炭化水素環又は芳香族複素環を表す。この中で、芳香族炭化水素環又は芳香族複素環が好ましく、特に、５員若しくは６員の芳香族炭化水素環又は芳香族複素環であることが好ましい。
【０１２９】
５員若しくは６員の芳香族炭化水素環又は芳香族複素環の構造に制限はないが、例えば、ベンゼン環、ピロール環、ピラゾール環、イミダゾール環、１，２，３−トリアゾール環、１，２，４−トリアゾール環、テトラゾール環、フラン環、オキサゾール環、イソオキサゾール環、オキサジアゾール環、イソオキサジアゾール環、チオフェン環、チアゾール環、イソチアゾール環、チアジアゾール環、イソチアジアゾール環等が挙げられる。
【０１３０】
Ａ１、Ａ２及びＢで表される５員若しくは６員の芳香族炭化水素環又は芳香族複素環は、置換基を有していてもよく、当該置換基としては、例えば、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等）、アルキル基（メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−オクチル基、２−エチルヘキシル基等）、シクロアルキル基（シクロヘキシル基、シクロペンチル基、４−ｎ−ドデシルシクロヘキシル基等）、アルケニル基（ビニル基、アリル基等）、シクロアルケニル基（２−シクロペンテン−１−イル、２−シクロヘキセン−１−イル基等）、アルキニル基（エチニル基、プロパルギル基等）、芳香族炭化水素環基（フェニル基、ｐ−トリル基、ナフチル基等）、芳香族複素環基（２−ピロール基、２−フリル基、２−チエニル基、ピロール基、イミダゾリル基、オキサゾリル基、チアゾリル基、ベンゾイミダゾリル基、ベンゾオキサゾリル基、２−ベンゾチアゾリル基、ピラゾリノン基、ピリジル基、ピリジノン基、２−ピリミジニル基、トリアジン基、ピラゾール基、１，２，３−トリアゾール基、１，２，４−トリアゾール基、オキサゾール基、イソオキサゾール基、１，２，４−オキサジアゾール基、１，３，４−オキサジアゾール基、チアゾール基、イソチアゾール基、１，２，４−チオジアゾール基、１，３，４−チアジアゾール基等）、シアノ基、ヒドロキシ基、ニトロ基、カルボキシ基、アルコキシ基（メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、ｎ−オクチルオキシ基、２−メトキシエトキシ基等）、アリールオキシ基（フェノキシ基、２−メチルフェノキシ基、４−ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシ基、３−ニトロフェノキシ基、２−テトラデカノイルアミノフェノキシ基等）、アシルオキシ基（ホルミルオキシ基、アセチルオキシ基、ピバロイルオキシ基、ステアロイルオキシ基、ベンゾイルオキシ基、ｐ−メトキシフェニルカルボニルオキシ基等）、アミノ基（アミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、アニリノ基、Ｎ−メチル−アニリノ基、ジフェニルアミノ基等）、アシルアミノ基（ホルミルアミノ基、アセチルアミノ基、ピバロイルアミノ基、ラウロイルアミノ基、ベンゾイルアミノ基等）、アルキル及びアリールスルホニルアミノ基（メチルスルホニルアミノ基、ブチルスルホニルアミノ基、フェニルスルホニルアミノ基、２，３，５−トリクロロフェニルスルホニルアミノ基、ｐ−メチルフェニルスルホニルアミノ基等）、メルカプト基、アルキルチオ基（メチルチオ基、エチルチオ基、ｎ−ヘキサデシルチオ基等）、アリールチオ基（フェニルチオ基、ｐ−クロロフェニルチオ基、ｍ−メトキシフェニルチオ基等）、スルファモイル基（Ｎ−エチルスルファモイル基、Ｎ−（３−ドデシルオキシプロピル）スルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル基、Ｎ−アセチルスルファモイル基、Ｎ−ベンゾイルスルファモイル基、Ｎ−（Ｎ´−フェニルカルバモイル）スルファモイル基等）、スルホ基、アシル基（アセチル基、ピバロイルベンゾイル基等）、カルバモイル基（カルバモイル基、Ｎ−メチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−オクチルカルバモイル基、Ｎ−���メチルスルホニル）カルバモイル基等）等の各基が挙げられる。
【０１３１】
前記一般式（１）において、Ａ１、Ａ２及びＢは、ベンゼン環、ピロール環、ピラゾール環、イミダゾール環、１，２，３−トリアゾール環又は１，２，４−トリアゾール環を表すことが、光学特性の変動効果に優れ、かつ耐久性に優れた光学補償フィルムが得られるために好ましい。
【０１３２】
前記一般式（１）において、Ｔ１及びＴ２は、それぞれ独立に、ピロール環、ピラゾール環、イミダゾール環、１，２，３−トリアゾール環又は１，２，４−トリアゾール環を表す。これらの中で、ピラゾール環、トリアゾール環又はイミダゾール環であることが、熱処理時における位相差の変動抑制効果に特に優れ、かつ耐久性に優れた樹脂組成物が得られるために好ましく、ピラゾール環であることが特に好ましい。Ｔ１及びＴ２で表されるピラゾール環、１，２，３−トリアゾール環又は１，２，４−トリアゾール環、イミダゾール環は、互変異性体であってもよい。ピロール環、ピラゾール環、イミダゾール環、１，２，３−トリアゾール環又は１，２，４−トリアゾール環の具体的な構造を下記に示す。
【０１３３】
【化１２】
2016181756.tif 000014
【０１３４】
式中、※は一般式（１）におけるＬ１、Ｌ２、Ｌ３又はＬ４との結合位置を表す。Ｒ５は水素原子又は非芳香族置換基を表す。Ｒ５で表される非芳香族置換基としては、前記一般式（１）におけるＡ１が有してもよい置換基のうちの非芳香族置換基と同様の基を挙げることができる。Ｒ５で表される置換基が芳香族基を有する置換基の場合、Ａ１とＴ１又はＢとＴ１がねじれやすくなり、Ａ１、Ｂ及びＴ１が樹脂との相互作用を形成できなくなるため、光学的特性の変動を抑制することが難しい。光学的特性の変動抑制効果を高めるためには、Ｒ５は水素原子、炭素数１〜５のアルキル基又は炭素数１〜５のアシル基であることが好ましく、水素原子であることが特に好ましい。
【０１３５】
前記一般式（１）において、Ｔ１及びＴ２は置換基を有してもよく、当該置換基としては、前記一般式（１）におけるＡ１及びＡ２が有してもよい置換基と同様の基を挙げることができる。
【０１３６】
前記一般式（１）において、Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３及びＬ４は、それぞれ独立に、単結合又は、２価の連結基を表し、２個以下の原子を介して、５員若しくは６員の芳香族炭化水素環又は芳香族複素環が連結されている。２個以下の原子を介してとは、連結基を構成する原子のうち連結される置換基間に存在する最小の原子数を表す。連結原子数２個以下の２価の連結基としては、特に制限はないが、アルキレン基、アルケニレン基、アルキニレン基、Ｏ、（Ｃ＝Ｏ）、ＮＲ、Ｓ、（Ｏ＝Ｓ＝Ｏ）からなる群より選ばれる２価の連結基であるか、それらを２個組み合わせた連結基を表す。Ｒは、水素原子又は置換基を表す。Ｒで表される置換基の例には、アルキル基（メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−オクチル基、２−エチルヘキシル基等）、シクロアルキル基（シクロヘキシル基、シクロペンチル基、４−ｎ−ドデシルシクロヘキシル基等）、芳香族炭化水素環基（フェニル基、ｐ−トリル基、ナフチル基等）、芳香族複素環基（２−フリル基、２−チエニル基、２−ピリミジニル基、２−ベンゾチアゾリル基、２−ピリジル基等）、シアノ基等が含まれる。Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３及びＬ４で表される２価の連結基は置換基を有してもよく、置換基としては特に制限はないが、例えば、前記一般式（１）におけるＡ１及びＡ２が有してもよい置換基と同様の基を挙げることができる。
【０１３７】
前記一般式（１）において、Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３及びＬ４は、前記一般式（１）で表される構造を有する化合物の平面性が高くなることで、樹脂との相互作用が強くなり、光学的特性の変動が抑制されるため、単結合又は、Ｏ、（Ｃ＝Ｏ）−Ｏ、Ｏ−（Ｃ＝Ｏ）、（Ｃ＝Ｏ）−ＮＲ又はＮＲ−（Ｃ＝Ｏ）であることが好ましく、単結合であることがより好ましい。
【０１３８】
前記一般式（１）において、ｎは０〜５の整数を表す。ｎが２以上の整数を表すとき、前記一般式（１）における複数のＡ２、Ｔ２、Ｌ３、Ｌ４は同じであってもよく、異なっていてもよい。ｎが大きい程、前記一般式（１）で表される構造を有する化合物と樹脂との相互作用が強くなることで光学的特性の変動抑制効果が優れ、ｎが小さいほど、樹脂との相溶性が優れる。このため、ｎは１〜３の整数であることが好ましく、１又は２の整数であることがより好ましい。
【０１３９】
〈一般式（２）で表される構造を有する化合物〉
一般式（１）で表される構造を有する化合物は、一般式（２）で表される構造を有する化合物であることが好ましい。
【０１４０】
【化１３】
2016181756.tif 000015
【０１４１】
（式中、Ａ１、Ａ２、Ｔ１、Ｔ２、Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３及びＬ４は、それぞれ前記一般式（１）におけるＡ１、Ａ２、Ｔ１、Ｔ２、Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３及びＬ４と同義である。Ａ３及びＴ３は、それぞれ一般式（１）におけるＡ１及びＴ１と同様の基を表す。Ｌ５及びＬ６は、前記一般式（１）におけるＬ１と同様の基を表す。ｍは０〜４の整数を表す。）
ｍが小さい方が樹脂との相溶性に優れるため、ｍは０〜２の整数であることが好ましく、０〜１の整数であることがより好ましい。
【０１４２】
〈一般式（１．１）で表される構造を有する化合物〉
一般式（１）で表される構造を有する化合物は、下記一般式（１．１）で表される構造を有するトリアゾール化合物であることが好ましい。
【０１４３】
【化１４】
2016181756.tif 000016
【０１４４】
（式中、Ａ１、Ｂ、Ｌ１及びＬ２は、上記一般式（１）におけるＡ１、Ｂ、Ｌ１及びＬ２と同様の基を表す。ｋは、１〜４の整数を表す。Ｔ１は、１，２，４−トリアゾール環を表す。）
さらに、上記一般式（１．１）で表される構造を有するトリアゾール化合物は、下記一般式（１．２）で表される構造を有するトリアゾール化合物であることが好ましい。
【０１４５】
【化１５】
2016181756.tif 000017
【０１４６】
（式中、Ｚは、下記一般式（１．２ａ）の構造を表す。ｑは、２〜３の整数を表す。少なくとも二つのＺは、ベンゼン環に置換された少なくとも一つのＺに対してオルト位又はメタ位に結合する。）
【化１６】
2016181756.tif 000018
【０１４７】
（式中、Ｒ１０は水素原子、アルキル基又はアルコキシ基を表す。ｐは１〜５の整数を表す。＊はベンゼン環との結合位置を表す。Ｔ１は１，２，４−トリアゾール環を表す。）
前記一般式（１）、（２）、（１．１）又は（１．２）で表される構造を有する化合物は、水和物、溶媒和物若しくは塩を形成してもよい。なお、本発明において、水和物は有機溶媒を含んでいてもよく、また溶媒和物は水を含んでいてもよい。即ち、「水和物」及び「溶媒和物」には、水と有機溶媒のいずれも含む混合溶媒和物が含まれる。塩としては、無機又は有機酸で形成された酸付加塩が含まれる。無機酸の例として、ハロゲン化水素酸（塩酸、臭化水素酸など）、硫酸、リン酸などが含まれ、またこれらに限定されない。また、有機酸の例には、酢酸、トリフルオロ酢酸、プロピオン酸、酪酸、シュウ酸、クエン酸、安息香酸、アルキルスルホン酸（メタンスルホン酸など）、アリルスルホン酸（ベンゼンスルホン酸、４−トルエンスルホン酸、１，５−ナフタレンジスルホン酸など）などが挙げられ、またこれらに限定されない。これらのうち好ましくは、塩酸塩、酢酸塩、プロピオン酸塩、酪酸塩である。
【０１４８】
塩の例としては、親化合物に存在する酸性部分が、金属イオン（例えばアルカリ金属塩、例えばナトリウム又はカリウム塩、アルカリ土類金属塩、例えばカルシウム又はマグネシウム塩、アンモニウム塩アルカリ金属イオン、アルカリ土類金属イオン、又はアルミニウムイオンなど）により置換されるか、又は有機塩基（エタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、モルホリン、ピペリジン、など）と調整されたときに形成される塩が挙げられ、またこれらに限定されない。これらのうち好ましくはナトリウム塩、カリウム塩である。
【０１４９】
溶媒和物が含む溶媒の例には、一般的な有機溶剤のいずれも含まれる。具体的には、アルコール（例、メタノール、エタノール、２−プロパノール、１−ブタノール、１−メトキシ−２−プロパノール、ｔ−ブタノール）、エステル（例、酢酸エチル）、炭化水素（例、トルエン、ヘキサン、ヘプタン）、エーテル（例、テトラヒドロフラン）、ニトリル（例、アセトニトリル）、ケトン（アセトン）などが挙げられる。好ましくは、アルコール（例、メタノール、エタノール、２−プロパノール、１−ブタノール、１−メトキシ−２−プロパノール、ｔ−ブタノール）の溶媒和物である。これらの溶媒は、前記化合物の合成時に用いられる反応溶媒であっても、合成後の晶析精製の際に用いられる溶媒であってもよく、又はこれらの混合であってもよい。
【０１５０】
また、２種類以上の溶媒を同時に含んでもよいし、水と溶媒を含む形（例えば、水とアルコール（例えば、メタノール、エタノール、ｔ−ブタノールなど）など）であってもよい。
【０１５１】
なお、前記一般式（１）、（２）、（１．１）又は（１．２）で表される構造を有する化合物を、水や溶媒、塩を含まない形態で添加しても、本発明における光学補償フィルム中において、水和物、溶媒和物又は塩を形成してもよい。
【０１５２】
前記一般式（１）、（２）、（１．１）又は（１．２）で表される構造を有する化合物の分子量は特に制限はないが、小さいほど樹脂との相溶性に優れ、大きいほど環境湿度の変化に対する光学値の変動抑制効果が高いため、１５０〜２０００の範囲であることが好ましく、２００〜１５００であることがより好ましく、３００〜１０００の範囲であることがより好ましい。
【０１５３】
さらに、本発明に係る含窒素複素環化合物は、下記一般式（３）で表される構造を有する化合物であることが特に好ましい。
【０１５４】
【化１７】
2016181756.tif 000019
（式中Ａはピラゾール環を表す。Ａｒ１及びＡｒ２はそれぞれ芳香族炭化水素環又は芳香族複素環を表し、置換基を有してもよい。Ｒ１は水素原子、アルキル基、アシル基、スルホニル基、アルキルオキシカルボニル基、又はアリールオキシカルボニル基を表す。ｑは１又は２を表す。ｎ及びｍはそれぞれ１〜３の整数を表す。）
Ａｒ１及びＡｒ２で表される芳香族炭化水素環又は芳香族複素環は、それぞれ一般式（１）で挙げた５員若しくは６員の芳香族炭化水素環又は芳香族複素環であることが好ましい。また、Ａｒ１及びＡｒ２の置換基としては、前記一般式（１）で表される構造を有する化合物で示したのと同様な置換基が挙げられる。
【０１５５】
Ｒ１の具体例としては、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等）、アルキル基（メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−オクチル基、２−エチルヘキシル基等）、アシル基（アセチル基、ピバロイルベンゾイル基等）、スルホニル基（例えば、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基等）、アルキルオキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル基）、アリールオキシカルボニル基（例えば、フェノキシカルボニル基等）等が挙げられる。
【０１５６】
ｑは１又は２を表し、ｎ及びｍは１〜３の整数を表す。
【０１５７】
本発明に用いられる５員若しくは６員の芳香族炭化水素環又は芳香族複素環を有する化合物は、中でも前記一般式（１）、（２）、（１．１）、（１．２）で表される構造を有する化合物が好ましく、さらに一般式（３）で表される構造を有する化合物であることがより好ましい。本発明で用いることができる前記５員若しくは６員の芳香族炭化水素環又は芳香族複素環を有する化合物は、国際公開第２０１４／１０９３５０号の段落［０１４０］〜段落［０２１４］に記載の化合物を具体例として挙げることができる。なお、本発明は当該具体例によって何ら限定されることはない。また、具体例は互変異性体であってもよく、水和物、溶媒和物又は塩を形成していてもよい。
【０１５８】
前記具体例で挙げた化合物の合成方法も、同様に国際公開第２０１４／１０９３５０号の段落［０２１５］〜［０２３９］を参照することができる。
【０１５９】
〈一般式（１）〜（３）で表される構造を有する化合物の使用方法について〉
本発明に係る前記一般式（１）〜（３）で表される構造を有する化合物は、適宜量を調整して光学補償フィルムに含有することができるが、添加量としては光学補償フィルム中に、０．１〜１０質量％含むことが好ましく、特に、１〜５質量％含むことが好ましく、２〜５質量％含むことが特に好ましい。添加量は樹脂の種類、当該化合物の種類によって異なるものであるが、本発明の光学補償フィルムが所望の位相差値を示す添加量によって最適値を決定することができる。この範囲内であれば、本発明の光学補償フィルムの機械強度を損なうことなく、熱処理時も位相差変動を低減することができる。
【０１６０】
また、前記一般式（１）〜（３）で表される構造を有する化合物の添加方法としては、光学補償フィルムを形成する樹脂に粉体で添加しても良く、溶媒に溶解した後、光学補償フィルムを形成する樹脂に添加しても良い。
【０１６１】
〔３〕その他の添加剤
本発明に係る光学補償フィルムには、前記添加剤以外に可塑剤、酸化防止剤、マット剤、光安定剤、光学異方性制御剤、帯電防止剤、剥離剤などを含んでもよい。以下に主要な添加剤の詳細を記す。
【０１６２】
［可塑剤］
可塑剤とは、一般的には高分子中に添加することによって脆弱性を改良したり、溶融粘度を低下させたり、柔軟性を付与したりする効果のある添加剤であるが、添加することによって光学補償フィルムのガラス転移温度Ｔｇを低下させる場合があるため、光学補償フィルムのガラス転移温度Ｔｇを本発明の範囲内に制御する範囲で用いることが好ましい。
【０１６３】
本発明において可塑剤として、公知のフタル酸エステル系、脂肪酸エステル系、トリメリット酸エステル系、リン酸エステル系、ポリエステル系、糖エステル系、アクリル系ポリマー等の可塑剤を用いることができる。
【０１６４】
可塑剤の添加量は、樹脂に対して０．１〜１０質量％の範囲内であることが好ましく、０．５〜５質量％の範囲内であることがさらに好ましい。
【０１６５】
［紫外線吸収剤］
本発明に係る光学補償フィルムは、紫外線吸収剤を含有することができる。
【０１６６】
紫外線吸収剤としては、例えば、オキシベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、ニッケル錯塩系化合物等を挙げることができるが、着色の少ないベンゾトリアゾール系化合物が好ましい。また、特開平１０−１８２６２１号公報、特開平８−３３７５７４号公報に記載の紫外線吸収剤、特開平６−１４８４３０号公報に記載の高分子紫外線吸収剤も好ましく用いられる。
【０１６７】
本発明に用いられる紫外線吸収剤としては、偏光子や液晶表示セルの劣化防止の観点から、波長３７０ｎｍ以下の紫外線の吸収能に優れ、かつ液晶表示セルの表示性の観点から、波長４００ｎｍ以上の可視光の吸収が少ない特性を備えていることが好ましい。
【０１６８】
紫外線吸収剤の添加量は、樹脂に対して０．１〜５質量％の範囲内であることが好ましく、０．５〜５質量％の範囲内であることがさらに好ましい。
【０１６９】
本発明に有用なベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤としては、例えば、２−（２′−ヒドロキシ−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′−ｔ−ブチル−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−ｔ−ブチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−［２′−ヒドロキシ−３′−（３″，４″，５″，６″−テトラヒドロフタルイミドメチル）−５′−メチルフェニル］ベンゾトリアゾール、２，２−メチレンビス［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェノール］、２−（２′−ヒドロキシ−３′−ｔ−ブチル−５′−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−６−（直鎖及び側鎖ドデシル）−４−メチルフェノール、オクチル−３−［３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−（クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェニル］プロピオネートと２−エチルヘキシル−３−［３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−（５−クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェニル］プロピオネートの混合物等を挙げることができるが、これらに限定されない。
【０１７０】
また、市販品として、「チヌビン（ＴＩＮＵＶＩＮ）９２８」、「チヌビン（ＴＩＮＵＶＩＮ）１７１」、「チヌビン（ＴＩＮＵＶＩＮ）３２６」、「チヌビン（ＴＩＮＵＶＩＮ）３２８」（以上、商品名、ＢＡＳＦジャパン社製）を好ましく使用できる。
【０１７１】
［酸化防止剤］
酸化防止剤は、例えば、光学補償フィルム中の残留溶媒のハロゲンやリン酸系可塑剤のリン酸等により光学補償フィルムが分解するのを遅らせたり、防いだりする役割を有するので、フィルム中に含有させることが好ましい。
【０１７２】
このような酸化防止剤としては、ヒンダードフェノール系の化合物が好ましく用いられ、例えば、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ペンタエリスリチル−テトラキス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、トリエチレングリコール−ビス〔３−（３−ｔ−ブチル−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、１，６−ヘキサンジオール−ビス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、２，４−ビス−（ｎ−オクチルチオ）−６−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチルアニリノ）−１，３，５−トリアジン、２，２−チオ−ジエチレンビス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、オクタデシル−３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、Ｎ，Ｎ′−ヘキサメチレンビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−ヒドロシンナマミド）、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、トリス−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−イソシアヌレート等を挙げることができる。
【０１７３】
特に、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ペンタエリスリチル−テトラキス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、トリエチレングリコール−ビス〔３−（３−ｔ−ブチル−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕が好ましい。また、例えば、Ｎ，Ｎ′−ビス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニル〕ヒドラジン等のヒドラジン系の金属不活性剤やトリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）フォスファイト等のリン系加工安定剤を併用してもよい。
【０１７４】
酸化防止剤の添加量は、樹脂に対して０．１〜５質量％の範囲内であることが好ましく、０．５〜３質量％の範囲内であることがさらに好ましい。
【０１７５】
［マット剤］
本発明に係る光学補償フィルムには、作製されたフィルムがハンドリングされる際に、傷が付いたり、搬送性が悪化することを防止するために、マット剤として、微粒子を添加することも好ましい。
【０１７６】
微粒子としては、無機化合物の微粒子や樹脂の微粒子が挙げられる。無機化合物の微粒子の例として、二酸化ケイ素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成ケイ酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム及びリン酸カルシウム等を挙げることができる。微粒子はケイ素を含むものが、濁度が低くなる点で好ましく、特に二酸化ケイ素が好ましい。
【０１７７】
微粒子の一次粒子の平均粒径は、５〜４００ｎｍの範囲内が好ましく、さらに好ましいのは１０〜３００ｎｍの範囲内である。これらは主に粒径０．０５〜０．３μｍの範囲内の２次凝集体として含有されていてもよく、平均粒径８０〜４００ｎｍの範囲内の粒子であれば凝集せずに一次粒子として含まれていることも好ましい。
【０１７８】
フィルム中のこれらの微粒子の含有量は、０．０１〜１質量％の範囲内であることが好ましく、特に０．０５〜０．５質量％の範囲内であることが好ましい。
【０１７９】
例えば、二酸化ケイ素の微粒子は、例えば、アエロジルＲ９７２、Ｒ９７２Ｖ、Ｒ９７４、Ｒ８１２、２００、２００Ｖ、３００、Ｒ２０２、ＯＸ５０、ＴＴ６００（以上日本アエロジル株式会社製）の商品名で市販されており、使用することができる。
【０１８０】
酸化ジルコニウムの微粒子は、例えば、アエロジルＲ９７６及びＲ８１１（以上日本アエロジル株式会社製）の商品名で市販されており、使用することができる。
【０１８１】
樹脂の微粒子の例として、シリコーン樹脂、フッ素樹脂及びアクリル樹脂を挙げることができる。シリコーン樹脂が好ましく、特に三次元の網状構造を有するものが好ましく、例えば、トスパール１０３、同１０５、同１０８、同１２０、同１４５、同３１２０及び同２４０（以上東芝シリコーン株式会社製）の商品名で市販されており、使用することができる。
【０１８２】
これらの中でもアエロジル８１２、アエロジルＲ９７２Ｖが、フィルムのヘイズを低く保ちながら、摩擦係数を下げる効果が大きいため特に好ましく用いられる。
【０１８３】
本発明に係る光学補償フィルムにおいては、少なくとも一方の面の動摩擦係数が０．２〜１．０の範囲内であることが好ましい。
【０１８４】
〔４〕光学補償フィルムの製造方法
本発明に係る光学補償フィルムの製造方法として、シクロオレフィン系樹脂を用いた例で説明する。
【０１８５】
〔４．１〕溶液流延製膜法
本発明の光学補償フィルムの製造方法は、溶液流延製膜法（以下、溶液流延法ともいう。）で行うことが好ましく、公知の方法を適宜採用することができる。
【０１８６】
溶液流延法に用いられる溶媒としては、例えば、クロロホルム、ジクロロメタンなどの塩素系溶媒；トルエン、キシレン、ベンゼン、及びこれらの混合溶媒などの芳香族系溶媒；メタノール、エタノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、２−ブタノールなどのアルコール系溶媒；メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ジオキサン、シクロヘキサノン、テトラヒドロフラン、アセトン、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、酢酸エチル、ジエチルエーテル；などが挙げられる。これら溶剤は１種のみ用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
【０１８７】
本発明に用いられる溶媒は、良溶媒と貧溶媒の混合溶媒であることが好ましく、当該良溶媒は、例えば、塩素系有機溶媒としては、ジクロロメタン、非塩素系有機溶媒としては、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸アミル、アセトン、メチルエチルケトン、テトラヒドロフラン、１，３−ジオキソラン、１，４−ジオキサン、シクロヘキサノン、ギ酸エチル、２，２，２−トリフルオロエタノール、２，２，３，３−ヘキサフルオロ−１−プロパノール、１，３−ジフルオロ−２−プロパノール、１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロ−２−メチル−２−プロパノール、１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロ−２−プロパノール、２，２，３，３，３−ペンタフルオロ−１−プロパノール、ニトロエタン、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉｓｏ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ｓｅｃ−ブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノール等が挙げられ、中でもジクロロメタンであることが好ましい。
【０１８８】
貧溶媒はアルコール系溶媒であることが好ましく、当該アルコール系溶媒が、メタノール、エタノール及びブタノールから選択されることが、剥離性を改善し、高速度流延を可能にする観点から好ましい。
【０１８９】
本発明では、混合溶媒であれば、前記良溶媒を溶媒全体量に対して５５質量％以上を用いることが好ましく、より好ましくは７０質量％以上、更に好ましくは８０質量％以上用いることである。
【０１９０】
溶液流延法にて光学補償フィルムを製膜する場合は、例えば前記シクロオレフィン系樹脂及び一般式（３）で表される構造を有する化合物と溶媒を含むドープを調製し、当該ドープを支持体上に流延する。
【０１９１】
すなわち、少なくともシクロオレフィン系樹脂及び一般式（３）で表される構造を有する化合物を溶解させてドープを調製する工程、ドープをベルト状又はドラム状の金属支持体上に流延する工程、流延したドープをウェブとして乾燥する工程、金属支持体から剥離する工程、延伸又は幅保持する工程、さらに乾燥する工程、仕上がったフィルムを巻き取る工程を有することが好ましい。
【０１９２】
溶液流延法では、ドープ中のシクロオレフィン系樹脂の濃度は、濃度が高い方が金属支持体に流延した後の乾燥負荷が低減できて好ましいが、シクロオレフィン系樹脂の濃度が高すぎると濾過時の負荷が増えて、濾過精度が悪くなる。これらを両立する濃度としては、１０〜３５質量％が好ましく、さらに好ましくは、１５〜２５質量％である。流延（キャスト）工程における金属支持体は、表面を鏡面仕上げしたものが好ましく、金属支持体としては、ステンレススティールベルト又は鋳物で表面をメッキ仕上げしたドラムが好ましく用いられる。
【０１９３】
キャストの幅は１〜４ｍとすることができる。流延工程の金属支持体の表面温度は０〜１００℃で適宜決定され、５〜３０℃がさらに好ましく、溶媒が沸騰して発泡しない温度以下に設定される。温度が高い方がウェブの乾燥速度が速くできるので好ましいが、余り高すぎるとウェブが発泡したり、平面性が劣化したりする場合がある。
【０１９４】
または、冷却することによってウェブをゲル化させて残留溶剤を多く含んだ状態でドラムから剥離することも好ましい方法である。金属支持体の温度を制御する方法は特に制限されないが、温風又は冷風を吹きかける方法や、温水を金属支持体の裏側に接触させる方法がある。温水を用いる方が熱の伝達が効率的に行われるため、金属支持体の温度が一定になるまでの時間が短く好ましい。
【０１９５】
温風を用いる場合は溶剤の蒸発潜熱によるウェブの温度低下を考慮して、溶剤の沸点以上の温風を使用しつつ、発泡も防ぎながら目的の温度よりも高い温度の風を使う場合がある。
【０１９６】
特に、流延から剥離するまでの間で支持体の温度及び乾燥風の温度を変更し、効率的に乾燥を行うことが好ましい。
【０１９７】
光学補償フィルムが良好な平面性を示すためには、金属支持体からウェブを剥離する際の残留溶剤量は１０〜１５０質量％が好ましく、さらに好ましくは２０〜４０質量％又は６０〜１３０質量％であり、特に好ましくは、２０〜３０質量％又は７０〜１２０質量％である。
【０１９８】
残留溶剤量は下記式で定義される。
【０１９９】
残留溶剤量（質量％）＝｛（Ｍ−Ｎ）／Ｎ｝×１００
なお、Ｍはウェブ又はフィルムを製造中又は製造後の任意の時点で採取した試料の質量で、ＮはＭを１１５℃で１時間の加熱後の質量である。
【０２００】
また、光学フィルムの乾燥工程においては、ウェブを金属支持体より剥離し、さらに乾燥し、残留溶剤量を１質量％以下にすることが好ましく、さらに好ましくは０．１質量％以下であり、特に好ましくは０〜０．０１質量％以下である。
【０２０１】
フィルム乾燥工程では一般にローラー乾燥方式（上下に配置した多数のローラーにウェブを交互に通し乾燥させる方式）やテンター方式でウェブを搬送させながら乾燥する方式が採られる。
【０２０２】
本発明に係る光学補償フィルムは、フィルムの平滑性や位相差の調整を行う観点から、延伸することが好ましい。
【０２０３】
本発明に係る光学フィルムの製造方法においては、長手方向及び／又は幅手方向、若しくは斜め方向に延伸することが好ましい。
【０２０４】
延伸操作は多段階に分割して実施しても良い。また、二軸延伸を行う場合には同時二軸延伸を行っても良いし、段階的に実施しても良い。この場合、段階的とは、例えば、延伸方向の異なる延伸を順次行うことも可能であるし、同一方向の延伸を多段階に分割し、かつ異なる方向の延伸をそのいずれかの段階に加えることも可能である。
【０２０５】
すなわち、例えば、次のような延伸ステップも可能である：
・長手方向に延伸→幅手方向に延伸→長手方向に延伸→長手方向に延伸
・幅手方向に延伸→幅手方向に延伸→長手方向に延伸→長手方向に延伸
また、同時二軸延伸には、一方向に延伸し、もう一方を、張力を緩和して収縮する場合も含まれる。
【０２０６】
延伸開始時の残留溶媒量は２〜５０質量％の範囲内であることが好ましい。
【０２０７】
当該残留溶媒量は、２質量％以上であれば、膜厚偏差が小さくなり、平面性の観点から好ましく、５０質量％以内であれば、表面の凹凸が減り、平面性が向上し好ましい。
【０２０８】
本発明に係る光学補償フィルムの製造方法においては、延伸後の膜厚が所望の範囲になるように長手方向及び／又は幅手方向に、好ましくは幅手方向に延伸しても良い。樹脂の種類によって異なるが、フィルムのガラス転移点Ｔｇのうち最も低いＴｇをＴｇＬ、最も高いＴｇをＴｇＨとしたときに、（ＴｇＬ−２００℃）〜（ＴｇＨ＋５０℃）の温度範囲で延伸することが好ましい。上記温度範囲で延伸すると、延伸応力を低下できるのでヘイズが低くなる。また、破断の発生を抑制し、平面性、フィルム自身の着色性に優れたシクロオレフィン系樹脂を含有する光学補償フィルムが得られる。延伸温度は、（ＴｇＬ−１５０℃）〜（ＴｇＨ＋４０℃）の範囲で行うことがより好ましい。
【０２０９】
本発明に係る光学補償フィルムの製造方法では、支持体から剥離された自己支持性を有するフィルムを、延伸ローラーで走行速度を規制することにより長手方向に延伸することができる。長手方向の延伸倍率は、３０〜２５０℃の温度範囲で１．０３〜２．００倍が好ましく、より好ましくは１．１０〜１．８０倍、更に好ましくは１．２０〜１．６０倍である。
【０２１０】
幅手方向に延伸するには、例えば、特開昭６２−４６６２５号公報に記載されているような乾燥全処理又は一部の処理を幅方向にクリップ又はピンでフィルムの幅両端を幅保持しつつ乾燥させる方法（テンター方式と呼ばれる。）、中でも、クリップを用いるテンター方式が好ましく用いられる。
【０２１１】
長手方向に延伸されたフィルム又は未延伸のフィルムは、クリップに幅方向両端部を把持された状態にてテンターへ導入され、テンタークリップとともに走行しながら、幅方向へ延伸されることが好ましい。幅方向の延伸倍率は、特に限定されないが、３０〜３００℃の温度範囲で１．０３〜２．００倍が好ましく、より好ましくは１．１０〜１．８０倍、更に好ましくは１．２０〜１．６０倍である。
【０２１２】
幅手方向への延伸に際し、フィルム幅手方向に５０〜１０００％／ｍｉｎの延伸速度で延伸することが、フィルムの平面性を向上する観点から、好ましい。
【０２１３】
延伸速度は５０％／ｍｉｎ以上であれば、平面性が向上し、またフィルムを高速で処理することができるため、生産適性の観点で好ましく、１０００％／ｍｉｎ以内であれば、フィルムが破断することなく処理することができ、好ましい。
【０２１４】
より好ましい延伸速度は、１００〜５００％／ｍｉｎの範囲内である。延伸速度は下記式によって定義される。
【０２１５】
延伸速度（％／ｍｉｎ）＝［（ｄ１／ｄ２）−１］×１００（％）／ｔ
（上記式において、ｄ１は延伸後の樹脂フィルムの前記延伸方向の幅寸法であり、ｄ２は延伸前の樹脂フィルムの前記延伸方向の幅寸法であり、ｔは延伸に要する時間（ｍｉｎ）である。）
延伸工程では、通常、延伸した後、保持・緩和が行われる。すなわち、本工程は、フィルムを延伸する延伸段階、フィルムを延伸状態で保持する保持段階及びフィルムを延伸した方向に緩和する緩和段階をこれらの順序で行うことが好ましい。保持段階では、延伸段階で達成された延伸倍率での延伸を、延伸段階における延伸温度で保持する。緩和段階では、延伸段階における延伸を保持段階で保持した後、延伸のための張力を解除することによって、延伸を緩和する。緩和段階は、延伸段階における延伸温度以下で行えば良い。
【０２１６】
また、斜め方向に延伸する場合は、特開２００５−３２１５４３号公報及び特開２０１３−１２０２０８号公報を参照することができる。
【０２１７】
次いで、延伸後のフィルムを加熱して乾燥させる。熱風等によりフィルムを加熱する場合、使用済みの熱風（溶媒を含んだエアーや濡れ込みエアー）を排気できるノズルを設置して、使用済み熱風の混入を防ぐ手段も好ましく用いられる。熱風温度は、４０〜３５０℃の範囲がより好ましい。また、乾燥時間は５秒〜３０分程度が好ましく、１０秒〜１５分がより好ましい。
【０２１８】
また、加熱乾燥手段は熱風に制限されず、例えば、赤外線、加熱ローラー、マイクロ波等を用いることができる。簡便さの観点からは、千鳥状に配置したローラーでフィルムを搬送しながら、熱風等で乾燥を行うことが好ましい。乾燥温度は残留溶媒量、搬送における伸縮率等を考慮して、４０〜３５０℃の範囲がより好ましい。
【０２１９】
乾燥工程においては、残留溶媒量が０．５質量％以下になるまで、フィルムを乾燥することが好ましい。
【０２２０】
巻取り工程は、得られたフィルムを巻き取って室温まで冷却する工程である。巻取り機は、一般的に使用されているもので良く、例えば、定テンション法、定トルク法、テーパーテンション法、内部応力一定のプログラムテンションコントロール法等の巻取り方法で巻き取ることができる。
【０２２１】
本発明に係る光学補償フィルムの厚さは、使用目的によって異なるが、通常５〜５００μｍの範囲であり、１０〜１５０μｍの範囲が好ましく、液晶表示装置用には１０〜８０μｍであることが好ましく、最近の薄型化を考慮すると１０〜４０μｍの範囲であることが、特に好ましい。
【０２２２】
光学補償フィルムを４０μｍ以下の薄膜化するにあたり、一般的には、位相差フィルムの性能を維持するために位相差上昇剤等の添加剤の含有量を増す必要があり、添加剤のブリードアウトが問題となるが、本発明に係る一般式（３）で表される構造を有する化合物は、耐ブリードアウト性に優れるため、薄膜化が可能である。
【０２２３】
フィルム厚さの調製は、所望の厚さになるように、ドープ中に含まれる固形分濃度、ダイの口金のスリット間隙、ダイからの押し出し圧力、金属支持体速度等を調節すればよい。以上のようにして得られた透明樹脂フィルムの幅は０．５〜４ｍの範囲が好ましく、より好ましくは０．６〜３ｍの範囲、さらに好ましくは０．８〜２．５ｍである。長さは１ロールあたり１００〜１００００ｍの範囲で巻き取るのが好ましく、より好ましくは５００〜９０００ｍの範囲であり、さらに好ましくは１０００〜８０００ｍの範囲である。
【０２２４】
本発明に係る光学補償フィルムは使用するポリマー構造、添加剤の種類及び添加量、延伸倍率、剥離時の残留揮発分などの工程条件を適宜調節することで所望の光学特性を実現することができる。
【０２２５】
本発明に係る光学補償フィルムは、延伸処理又は好ましくは位相差上昇剤を含有させて延伸処理を行うことにより所望の位相差値を有する。面内位相差値Ｒｏ、及び厚さ方向の位相差値Ｒｔは自動複屈折率計アクソスキャン（Ａｘｏ  Ｓｃａｎ  Ｍｕｅｌｌｅｒ  Ｍａｔｒｉｘ  Ｐｏｌａｒｉｍｅｔｅｒ：アクソメトリックス社製）を用いて、２３℃・５５％ＲＨの環境下、５９０ｎｍの波長において、三次元屈折率測定を行い、得られた屈折率ｎｘ、ｎｙ、ｎｚから算出することができる。
【０２２６】
本発明に係る光学補償フィルムは、下記式（ｉ）及び（ii）で表される、光学補償フィルムの面内方向の位相差値Ｒｏが４０〜６０ｎｍの範囲内であり、膜厚方向の位相差値Ｒｔが１１０〜１４０ｎｍの範囲内であることが、ＶＡ型液晶表示装置に具備された場合に、視野角やコントラスト等の視認性を向上する観点から好ましい。光学補償フィルムは、少なくとも前記幅手方向に延伸率を調整しながら延伸することで、上記位相差値の範囲内に調整することができる。
【０２２７】
式（ｉ）：Ｒｏ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ（ｎｍ）
式（ii）：Ｒｔ＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄ（ｎｍ）
〔式（ｉ）及び式（ii）において、ｎｘは、フィルムの面内方向において屈折率が最大になる方向ｘにおける屈折率を表す。ｎｙは、フィルムの面内方向において、前記方向ｘと直交する方向ｙにおける屈折率を表す。ｎｚは、フィルムの厚さ方向ｚにおける屈折率を表す。ｄは、フィルムの厚さ（ｎｍ）を表す。〕
また、本発明に係る光学補償フィルムは、１５０℃で１時間熱処理されたときの面内方向の位相差値Ｒｏの変動が、±３．０％の範囲内であり、厚さ方向の位相差値Ｒｔの変動が±４．０％の範囲内であることが好ましい。
【０２２８】
当該熱処理はフィルム試料をオーブン等恒温槽内に１５０℃で１時間放置する前後での位相差値の変動を下記式で求めることができる。
【０２２９】
位相差値Ｒｏ又はＲｔの変動＝｛（熱処理後のＲｏ値又はＲｔ値−熱処理前のＲｏ値又はＲｔ値）／（熱処理前のＲｏ値又はＲｔ値）｝×１００（％）
光学補償フィルムの上記熱処理によるＲｏ値の変動及びＲｔ値の変動を前記範囲内に制御するには、本発明に係る樹脂の選択及び前記位相差上昇剤の添加（種類、添加量）を組み合わせることが有効な方法であり、適宜組み合わせて調整することによって達成することができる。
【０２３０】
〔４．２〕溶融流延製膜法
本発明の光学補償フィルムの製造方法は、溶融流延製膜法（以下、溶融流延法ともいう。）で行うこともできる。
【０２３１】
本発明に係る光学補償フィルムを溶融流延法により製造する場合について説明する。
【０２３２】
［溶融ペレット製造工程］
溶融押出に用いる、樹脂を含む組成物は、通常あらかじめ混錬してペレット化しておくことが好ましい。
【０２３３】
ペレット化は、公知の方法でよく、例えば、乾燥した樹脂と添加剤をフィーダーで押出機に供給し１軸や２軸の押出機を用いて混錬し、ダイからストランド状に押出し、水冷又は空冷し、カッティングすることでできる。
【０２３４】
原材料は、押出する前に乾燥しておくことが原材料の分解を防止する上で重要である。特に樹脂は吸湿しやすい場合があるので、除湿熱風乾燥機や真空乾燥機で７０〜１４０℃で３時間以上乾燥し、水分率を２００ｐｐｍ以下、更に１００ｐｐｍ以下にしておくことが好ましい。
【０２３５】
添加剤は、押出機に供給押出機合しておいてもよいし、それぞれ個別のフィーダーで供給してもよい。酸化防止剤等少量の添加剤は、均一に混合するため、こと前に混合しておくことが好ましい。
【０２３６】
酸化防止剤の混合は、固体同士で混合してもよいし、必要により、酸化防止剤を溶剤に溶解しておき、熱可塑性樹脂に含浸させて混合してもよく、又は噴霧して混合してもよい。
【０２３７】
真空ナウターミキサーなどが乾燥と混合を同時にできるので好ましい。また、フィーダー部やダイからの出口など空気と触れる場合は、除湿空気や除湿したＮ２ガスなどの雰囲気下にすることが好ましい。
【０２３８】
押出機は、せん断力を抑え、樹脂が劣化（分子量低下、着色、ゲル生成等）しないようにペレット化可能でなるべく低温で加工することが好ましい。例えば、２軸押出機の場合、深溝タイプのスクリューを用いて、同方向に回転させることが好ましい。混錬の均一性から、噛み合いタイプが好ましい。
【０２３９】
以上のようにして得られたペレットを用いてフィルム製膜を行う。ペレット化せず、原材料の粉末をそのままフィーダーで押出機に供給し、そのままフィルム製膜することも可能である。
【０２４０】
［溶融混合物をダイから冷却ローラーへ押し出す工程］
まず、作製したペレットを１軸や２軸タイプの押出機を用いて、押し出す際の溶融温度Ｔｍを２００〜３００℃程度とし、リーフディスクタイプのフィルターなどでろ過し異物を除去した後、Ｔダイからフィルム状に共押出し、冷却ローラー上で固化し、弾性タッチローラーと押圧しながら流延する。
【０２４１】
供給ホッパーから押出機へ導入する際は真空下又は減圧下や不活性ガス雰囲気下にして酸化分解等を防止することが好ましい。なお、Ｔｍは、押出機のダイ出口部分の温度である。
【０２４２】
ダイに傷や可塑剤の凝結物等の異物が付着するとスジ状の欠陥が発生する場合がある。このような欠陥のことをダイラインとも呼ぶが、ダイライン等の表面の欠陥を小さくするためには、押出機からダイまでの配管には樹脂の滞留部が極力少なくなるような構造にすることが好ましい。ダイの内部やリップにキズ等が極力無いものを用いることが好ましい。
【０２４３】
押出機やダイなどの溶融樹脂と接触する内面は、表面粗さを小さくしたり、表面エネルギーの低い材質を用いるなどして、溶融樹脂が付着し難い表面加工が施されていることが好ましい。具体的には、ハードクロムメッキやセラミック溶射したものを表面粗さ０．２Ｓ以下となるように研磨したものが挙げられる。
【０２４４】
冷却ローラーには特に制限はないが、高剛性の金属ローラーで内部に温度制御可能な熱媒体又は冷媒体が流れるような構造を備えるローラーであり、大きさは限定されないが、溶融押し出されたフィルムを冷却するのに十分な大きさであればよく、通常冷却ローラーの直径は１００ｍｍから１ｍ程度である。
【０２４５】
冷却ローラーの表面材質は、炭素鋼、ステンレス、アルミニウム、チタンなどが挙げられる。更に表面の硬度を上げたり、樹脂との剥離性を改良するため、ハードクロムメッキや、ニッケルメッキ、非晶質クロムメッキなどや、セラミック溶射等の表面処理を施すことが好ましい。
【０２４６】
冷却ローラー表面の表面粗さは、Ｒａで０．１μｍ以下とすることが好ましく、更に０．０５μｍ以下とすることが好ましい。ローラー表面が平滑であるほど、得られるフィルムの表面も平滑にできるのである。もちろん表面加工した表面は更に研磨し上述した表面粗さとすることが好ましい。
【０２４７】
弾性タッチローラーとしては、特開平０３−１２４４２５号公報、特開平０８−２２４７７２号公報、特開平０７−１００９６０号公報、特開平１０−２７２６７６号公報、ＷＯ９７／０２８９５０号、特開平１１−２３５７４７号公報、特開２００２−３６３３２号公報、特開２００５−１７２９４０号公報や特開２００５−２８０２１７号公報に記載されているような表面が薄膜金属スリーブ被覆シリコンゴムローラーを使用することができる。
【０２４８】
冷却ローラーからフィルムを剥離する際は、張力を制御してフィルムの変形を防止することが好ましい。
【０２４９】
上記剥離以降の工程は前記溶液流延法と同様である。
【０２５０】
〔５〕タッチパネルモジュール
本発明に係るタッチパネルモジュールは、本発明に係る光学補償フィルム上に透明導電層を形成することが特徴であるが、透明電極パターンの形状はタッチパネルモジュール（例えば、静電容量方式タッチパネルモジュール）として良好に動作するパターンであれば特に限定はされないが、例えば、特表２０１１−５１１３５７号公報、特開２０１０−１６４９３８号公報、特開２００８−３１０５５０号公報、特表２００３−５１１７９９号公報、特表２０１０−５４１１０９号公報に記載のパターンが挙げられる。
【０２５１】
本発明に係るタッチパネルモジュールは、基本的に光学補償フィルム上に形成されるＸ軸又はＹ軸にパターン化された透明導電性層と、当該光学補償フィルム又は他の保護フィルム上に形成されるＹ軸又はＸ軸にパターン化された透明導電性層を重ね合わせ、適宜粘着層を用いて偏光子、保護フィルム等を積層させ、必要であれば最表面にカバーガラスを設けることで作製できる。さらに、前記タッチパネルをＶＡモード型液晶表示装置と組み合わせることで、本発明のタッチパネル付き液晶表示装置を作製できる。
【０２５２】
〔５．１〕透明導電層
本発明に係る透明導電層は、透明導電層のシート抵抗値として０．０１〜１５０Ω／□の範囲内であることが好ましい。より好ましくは、透明導電層の抵抗値が０．１〜１００Ω／□の範囲内である。透明導電層の抵抗値が０．０１Ω／□以上であると、高温、高湿等の環境変動に耐久性が得られ、抵抗値が１５０Ω／□以下であると、カールを抑制できる観点から好ましい。
【０２５３】
［透明導電材料］
本発明に係る透明導電層は、上記抵抗値を満たすものであれば材料に特に制限はないが、ＩＴＯ（インジウム−スズ酸化物）又はＩＺＯ（インジウム−亜鉛酸化物）などの透明導電材料を用いることが好ましく、特に導電性、透明性の観点からＩＴＯが用いることが好ましい。ＩＴＯを用いる透明導電層は、塗布法、インクジェット法、コーティング法、ディップ法などのウェットプロセスを用いる方法や、蒸着法（抵抗加熱、ＥＢ法など）、スパッタ法、ＣＶＤ法などのドライプロセスを用いる方法などが挙げられるが、蒸着法により形成することが好ましい。
【０２５４】
透明導電層の形成後は、当該透明導電層の抵抗値を下げるために、熱処理（アニールともいう。）を行うことが好ましい。加熱温度は１５０〜２５０℃の範囲であり、加熱時間は１〜６０分の範囲である。透明導電層を支持する基材の構成や特性によって条件は最適化すればよいが、基材にシクロオレフィン系樹脂を用いる場合は、加熱温度は１５０〜１８０℃の範囲、加熱時間は５〜３０分の範囲であることが好ましい。
【０２５５】
［金属ナノワイヤー］
また、金属細線（金属ナノワイヤー、金属メッシュ）からなる透明導電層を用いることも好ましい。
【０２５６】
金属ナノワイヤーとは、材質が金属であり、形状が針状又は糸状であり、径がナノメートルサイズの導電物質をいう。金属ナノワイヤーは直線状であってもよく、曲線状であってもよい。金属ナノワイヤーで構成された透明導電層を用いれば、金属ナノワイヤーが網の目状となることにより、少量の金属ナノワイヤーであっても良好な電気伝導経路を形成することができ、電気抵抗の小さい透明導電層を得ることができる。さらに、金属ナノワイヤーが網の目状となることにより、網の目の隙間に開口部を形成して、光透過率の高い透明導電フィルムを得ることができる。
【０２５７】
上記金属ナノワイヤーの太さｄと長さＬとの比（アスペクト比：Ｌ／ｄ）は、好ましくは１０〜１０００００の範囲内であり、より好ましくは５０〜１０００００の範囲内であり、特に好ましくは１００〜１００００の範囲内である。このようにアスペクト比の大きい金属ナノワイヤーを用いれば、金属ナノワイヤーが良好に交差して、少量の金属ナノワイヤーにより高い導電性を発現させることができる。その結果、光透過率の高い透明導電フィルムを得ることができる。
【０２５８】
なお、本明細書において、「金属ナノワイヤーの太さ」とは、金属ナノワイヤーの断面が円状である場合はその直径を意味し、楕円状である場合はその短径を意味し、多角形である場合は最も長い対角線を意味する。金属ナノワイヤーの太さ及び長さは、走査型電子顕微鏡又は透過型電子顕微鏡によって確認することができる。
【０２５９】
上記金属ナノワイヤーの太さは、好ましくは５００ｎｍ未満であり、より好ましくは２００ｎｍ未満であり、特に好ましくは１０〜１００ｎｍの範囲内であり、最も好ましくは１０〜５０ｎｍの範囲内である。このような範囲であれば、光透過率の高い透明導電層を形成することができる。
【０２６０】
上記金属ナノワイヤーの長さは、好ましくは２．５〜１０００μｍの範囲内であり、より好ましくは１０〜５００μｍの範囲内であり、特に好ましくは２０〜１００μｍの範囲内である。このような範囲であれば、導電性の高い透明導電層を得ることができる。
【０２６１】
上記金属ナノワイヤーを構成する金属としては、導電性の高い金属である限り、任意の適切な金属が用いられ得る。上記金属ナノワイヤーを構成する金属としては、例えば、銀、金、銅、ニッケル等が挙げられる。また、これらの金属にメッキ処理（例えば、金メッキ処理）を行った材料を用いてもよい。中でも好ましくは、導電性の観点から、銀又は銅である。
【０２６２】
上記金属ナノワイヤーの製造方法としては、任意の適切な方法が採用され得る。例えば溶液中で硝酸銀を還元する方法、前駆体表面にプローブの先端部から印可電圧又は電流を作用させ、プローブ先端部で金属ナノワイヤーを引き出し、前記金属ナノワイヤーを連続的に形成する方法等が挙げられる。溶液中で硝酸銀を還元する方法においては、エチレングリコール等のポリオール、及びポリビニルピロリドンの存在下で、硝酸銀等の銀塩の液相還元することにより、銀ナノワイヤーが合成され得る。
【０２６３】
均一サイズの銀ナノワイヤーは、例えば、Ｘｉａ，Ｙ．ｅｔａｌ．，Ｃｈｅｍ．Ｍａｔｅｒ．（２００２）、１４、４７３６−４７４５  、Ｘｉａ，  Ｙ．ｅｔａｌ．，  Ｎａｎｏ  ｌｅｔｔｅｒｓ（２００３）３（７）、９５５−９６０  に記載される方法に準じて、大量生産が可能である。
【０２６４】
上記透明導電層は、本発明に係る光学補償フィルム又は保護フィルム上に、上記金属ナノワイヤーを含む透明導電層形成用組成物を塗工することにより形成することができる。より具体的には、溶媒中に上記金属ナノワイヤーを分散させた分散液（透明導電層形成用組成物）を、前記光学補償フィルム又は保護フィルム上に塗布した後、塗布層を乾燥させて、透明導電層を形成することができる。
【０２６５】
上記溶媒としては、水、アルコール系溶媒、ケトン系溶媒、エーテル系溶媒、炭化水素系溶媒、芳香族系溶媒等が挙げられる。環境負荷低減の観点から、水を用いることが好ましい。
【０２６６】
上記金属ナノワイヤーを含む透明導電層形成用組成物中の金属ナノワイヤーの分散濃度は、好ましくは０．１〜１質量％の範囲内である。このような範囲であれば、導電性及び光透過性に優れる透明導電層を形成することができる。
【０２６７】
上記金属ナノワイヤーを含む透明導電層形成用組成物は、目的に応じて任意の適切な添加剤をさらに含有し得る。上記添加剤としては、例えば、金属ナノワイヤーの腐食を防止する腐食防止材、金属ナノワイヤーの凝集を防止する界面活性剤等が挙げられる。使用される添加剤の種類、数及び量は、目的に応じて適切に設定され得る。また、前記透明導電層形成用組成物は、本発明の効果が得られる限り、必要に応じて、任意の適切なバインダー樹脂を含み得る。
【０２６８】
上記金属ナノワイヤーを含む透明導電層形成用組成物の塗布方法としては、任意の適切な方法が採用され得る。塗布方法としては、例えば、スプレーコート、バーコート、ロールコート、ダイコート、インクジェットコート、スクリーンコート、ディップコート、凸版印刷法、凹版印刷法、グラビア印刷法等が挙げられる。
【０２６９】
塗布層の乾燥方法としては、任意の適切な乾燥方法（例えば、自然乾燥、送風乾燥、加熱乾燥）が採用され得る。例えば、加熱乾燥の場合には、乾燥温度は代表的には１００〜２００℃の範囲内であり、乾燥時間は代表的には１〜１０分の範囲内である。
【０２７０】
乾燥後は、同様に透明導電層の抵抗値を下げるために、熱処理（アニールともいう。）を行うことが好ましい。加熱温度は１５０〜２５０℃の範囲であり、加熱時間は１〜６０分の範囲である。透明導電層を支持する基材の構成や特性によって条件は最適化すればよいが、基材にシクロオレフィン系樹脂を用いる場合は、加熱温度は１５０〜１８０℃の範囲、加熱時間は５〜３０分の範囲であることが好ましい。
【０２７１】
上記透明導電層が金属ナノワイヤーを含む場合、前記透明導電層の厚さは、好ましくは０．０１〜１０μｍの範囲内であり、より好ましくは０．０５〜３μｍの範囲内であり、特に好ましくは０．１〜１μｍの範囲内である。このような範囲であれば、導電性及び光透過性に優れる透明導電層を得ることができる。
【０２７２】
上記透明導電層が金属ナノワイヤーを含む場合、前記透明導電層の全光線透過率は、好ましくは８５％以上であり、より好ましくは９０％以上であり、さらに好ましくは９５％以上である。
【０２７３】
［金属メッシュ］
金属メッシュを含む透明導電層は、上記透明基材上に、金属細線が格子状のパターンに形成されてなる。上記金属メッシュを構成する金属としては、導電性の高い金属である限り、任意の適切な金属が用いられ得る。上記金属メッシュを構成する金属としては、例えば、銀、金、銅、ニッケル等が挙げられる。また、これらの金属にメッキ処理（例えば、金メッキ処理）を行った材料を用いてもよい。中でも好ましくは銅であり、マイグレーション現象が起こりにくく、打鍵時の断線抑制の観点からも好ましい。
【０２７４】
金属メッシュを含む透明導電層は、任意の適切な方法により形成させることができる。前記透明導電層は、例えば、銀塩を含む感光性組成物（透明導電層形成用組成物）を上記積層体上に塗布し、その後、露光処理及び現像処理を行い、金属細線を所定のパターンに形成することにより得ることができる。また、前記透明導電層は、金属微粒子を含むペースト（透明導電層形成用組成物）を所定のパターンに印刷して得ることもできる。
【０２７５】
このような透明導電層及びその形成方法の詳細は、例えば、特開２０１２−１８６３４号公報に記載されており、その記載は本明細書に参考として援用される。また、金属メッシュから構成される透明導電層及びその形成方法の別の例としては、特開２００３−３３１６５４号公報に記載の透明導電層及びその形成方法が挙げられる。
【０２７６】
上記透明導電層が金属メッシュを含む場合、前記透明導電層の厚さは、好ましくは０．１〜３０μｍの範囲内であり、より好ましくは０．１〜９μｍの範囲内である。
【０２７７】
上記透明導電層が金属メッシュを含む場合、前記透明導電層の透過率は、好ましくは８０％以上であり、より好ましくは８５％以上であり、さらに好ましくは９０％以上である。
【０２７８】
〔５．２〕粘着層
本発明に用いられる粘着層は粘着剤を含有し、当該粘着剤は熱硬化性樹脂や紫外線（ＵＶ）硬化性樹脂、又は化学的硬化性樹脂を含有し、光学的に透明であることはもとより、適度な粘弾性や粘着特性を示すものが好ましい。
【０２７９】
具体的な粘着剤としては、アクリル系共重合体やエポキシ系樹脂、ポリウレタン、シリコーン系ポリマー、ポリエーテル、ブチラール系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、合成ゴムなどの接着剤もしくは粘着剤等を挙げることができる。本発明では、熱硬化法、光硬化法、化学反応等により膜形成させ、硬化せしめる粘着剤であることが好ましく、なかでも、アクリル系共重合体、エポキシ系樹脂は、最も粘着物性を制御しやすく、かつ透明性や耐候性、耐久性などに優れていて好ましく用いることができる。
【０２８０】
上記粘着剤は１液型であっても良いし、使用前に２液以上を混合して使用する型であっても良い。また上記粘着剤は有機溶剤を媒体とする溶剤系であってもよいし、水を主成分とする媒体であるエマルジョン型、コロイド分散液型、水溶液型などの水系であってもよいし、無溶剤型であってもよい。上記粘着剤液の濃度は、粘着後の膜厚、塗布機、塗布条件等により適宜決定されれば良く、通常は０．１〜５０質量％である。
【０２８１】
粘着層の厚さは０．１〜１００μｍの範囲で適宜形成することができ、０．５〜５０μｍであることが好ましく、０．５〜３０μｍであることが特に好ましい。塗布を行う場合、粘着剤は、２５℃での粘度が一般に１０００〜６０００ｍＰａ／ｓｅｃであり、好ましくは２０００〜４０００ｍＰａ／ｓｅｃ、例えば３０００〜４０００ｍＰａ／ｓｅｃである。ここで、粘度は、例えば、トキメック（東京計器）社のＢ型粘度計ＢＨ  ＩＩを用い、静置後、ローターを３０秒間回転させて読み取った値である。完全に硬化した後の接着剤樹脂のヤング率（Ｅ）は、好ましくは１〜１００ＭＰａ、例えば５〜２０ＭＰａである。
【０２８２】
アクリル系粘着剤としては、（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸ｎ−ブチル、（メタ）アクリル酸イソブチル、（メタ）アクリル酸ｎ−ヘキシル、（メタ）アクリル酸２−エチルブチル、（メタ）アクリル酸２−エチルヘキシル、（メタ）アクリル酸イソオクチル、（メタ）アクリル酸デシル等の炭素数１〜２０アクリル酸アルキルエステルの一種又は二種以上と、前記アクリル酸アルキルエステルと共重合可能な（メタ）アクリル酸、イタコン酸、マレイン酸、無水マレイン酸、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシエチル、（メタ）アクリル酸４−ヒドロキシブチル等の官能基モノマーとの共重合体に、イソシアネート系架橋剤、エポキシ系架橋剤、アジリジン系架橋剤、金属キレート系架橋剤等の架橋剤を反応させたものが挙げられる。
【０２８３】
エポキシ系樹脂粘着剤としては、紫外線光硬化性のエポキシ樹脂をシリコーンエラストマーで変性し、沈降シリカを無機充填材として加えた樹脂組成物を挙げることができ、例えば、Ｅｄｍｕｎｄ  Ｏｐｔｉｃｓ社の「ＮＯＲＬＡＮＤ光学接着剤ＮＯＡ６８」や、ソニーケミカル＆インフォメーションデバイス社の「光学弾性樹脂（Ｓｕｐｅｒ  Ｖｉｅｗ  Ｒｅｓｉｎ）」を用いることができる。
【０２８４】
前記粘着剤の光硬化促進のため、更に光重合開始剤を含有させることが好ましい。光重合開始剤の配合量としては、質量比で、光重合開始剤：粘着剤＝２０：１００〜０．０１：１００で含有することが好ましい。
【０２８５】
光重合開始剤としては、具体的には、アルキルフェノン系、アセトフェノン、ベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、ミヒラーケトン、α−アミロキシムエステル、チオキサントン等及びこれらの誘導体を挙げることができるが、特にこれらに限定されるものではない。これらは市販のものを使用してもよく、例えば、ＢＡＳＦジャパン（株）製のイルガキュア１８４、イルガキュア９０７、イルガキュア６５１などが好ましい例示として挙げられる。
【０２８６】
粘着層を設ける方法としては、上記粘着剤含有組成物を塗布により設けることが好ましく、例えば、バーコート法、ナイフコート法、ロールコート法、ブレードコート法、ダイコート法、グラビアコート法、カーテンコート法、インクジェット法などの従来公知の方法が挙げられる。
【０２８７】
熱硬化の場合は、乾燥機内で８０℃以上の加熱を加えることが好ましく、加熱時間は適宜設定される。
【０２８８】
ＵＶ硬化処理の光源としては、紫外線を発生する光源であれば制限なく使用できる。例えば、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ等を用いることができる。
【０２８９】
照射条件はそれぞれのランプによって異なるが、活性線の照射量は、通常５０〜１０００ｍＪ／ｃｍ２、好ましくは５０〜３００ｍＪ／ｃｍ２である。またＵＶ硬化後の加熱処理温度としては８０℃以上が好ましい。
【０２９０】
また、粘着層を設けた後、他の部材と貼合されるまでは表面に剥離シートが積層されることが好ましい。
【０２９１】
剥離シートは、種々の剥離シートを使用できるが、代表的には剥離性を表面に有する基材シートから構成される。基材シートとしては、ポリエステル樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリカーボネート樹脂などのフィルムや、これらのフィルムに填料などの充填剤を配合したフィルムや合成紙などが挙げられる。また、グラシン紙、クレーコート紙、上質紙などの紙基材が挙げられる。
【０２９２】
〔６〕偏光板
本発明に係る偏光板は、ＶＡモード型液晶セルから視認側に向かって、少なくとも一方の面に前記透明導電層を有する光学補償フィルム、偏光子及び保護フィルムをこの順に有している。
【０２９３】
〔６．１〕偏光子
偏光子は、一定方向の偏波面の光だけを通す素子であり、その例には、ポリビニルアルコール系偏光フィルムが含まれる。
【０２９４】
ポリビニルアルコール系偏光フィルムには、ポリビニルアルコール系フィルムにヨウ素を染色させたものと、二色性染料を染色させたものとがある。
【０２９５】
偏光子は、ポリビニルアルコールフィルムを一軸延伸した後、染色するか又はポリビニルアルコールフィルムを染色した後、一軸延伸して、好ましくはホウ素化合物で耐久性処理をさらに行って得ることができる。
【０２９６】
偏光子の膜厚は、５〜３０μｍの範囲内が好ましく、５〜１５μｍの範囲内であることがより好ましい。
【０２９７】
ポリビニルアルコールフィルムとしては、特開２００３−２４８１２３号公報、特開２００３−３４２３２２号公報等に記載のエチレン単位の含有量１〜４モル％、重合度２０００〜４０００、ケン化度９９．０〜９９．９９モル％のエチレン変性ポリビニルアルコールが好ましく用いられる。また、特開２０１１−１００１６１号公報、特許第４６９１２０５号公報、特許第４８０４５８９号公報に記載の方法で、偏光子を作製し本発明の基材フィルムと貼り合わせて偏光板を作製することが好ましい。
【０２９８】
〔６．２〕保護フィルム
偏光子の光学補償フィルムを貼合した面とは反対側に配置されるフィルムは、偏光子の保護フィルムとして機能するフィルムであることが好ましい。
【０２９９】
このような保護フィルムとしては、前記光学補償フィルムを用いてもよいが、例えば、市販のセルロースエステルフィルム（例えば、コニカミノルタタックＫＣ８ＵＸ、ＫＣ５ＵＸ、ＫＣ４ＵＸ、ＫＣ８ＵＣＲ３、ＫＣ４ＳＲ、ＫＣ４ＢＲ、ＫＣ４ＣＲ、ＫＣ４ＤＲ、ＫＣ４ＦＲ、ＫＣ４ＫＲ、ＫＣ８ＵＹ、ＫＣ６ＵＹ、ＫＣ４ＵＹ、ＫＣ４ＵＥ、ＫＣ８ＵＥ、ＫＣ８ＵＹ−ＨＡ、ＫＣ２ＵＡ、ＫＣ４ＵＡ、ＫＣ６ＵＡＫＣ、２ＵＡＨ、ＫＣ４ＵＡＨ、ＫＣ６ＵＡＨ、以上コニカミノルタ（株）製、フジタックＴ４０ＵＺ、フジタックＴ６０ＵＺ、フジタックＴ８０ＵＺ、フジタックＴＤ８０ＵＬ、フジタックＴＤ６０ＵＬ、フジタックＴＤ４０ＵＬ、フジタックＲ０２、フジタックＲ０６、以上富士フイルム（株）製）を好ましく用いることができる。
【０３００】
また、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリカーボネート等の樹脂フィルム、ポリアリレート、ポリエーテルスルホン、ポリスルホン、フルオレン環変性ポリカーボネート、脂環変性ポリカーボネート、アクリロイル化合物等の樹脂フィルムが挙げられる。これら樹脂基材のうち、コストや入手の容易性の点では、ポリエチレンテレフタレート（略称：ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート（略称：ＰＥＮ）、ポリカーボネート（略称：ＰＣ）等のフィルムが可撓性の樹脂基材として好ましく用いられる。
【０３０１】
保護フィルムの厚さは、特に制限されないが、１０〜２００μｍ程度とすることができ、好ましくは１０〜１００μｍの範囲内であり、より好ましくは１０〜７０μｍの範囲内である。
【０３０２】
〔６．３〕偏光板の作製方法
偏光板の作製は、本発明に係る光学補償フィルム及び保護フィルムを完全ケン化型ポリビニルアルコール水溶液（水糊）又は前記粘着剤を用いて偏光子に貼り合わせることが好ましい。本発明に係る光学補償フィルムは液晶表示装置において、偏光子の液晶セル側に設けられることが好ましい。
【０３０３】
貼り合わせる際の前処理工程としては、光学補償フィルムや保護フィルムの偏光子との接着面に易接着処理を行うことが好ましく、当該易接着処理としては、ケン化処理、コロナ処理及びプラズマ処理等が挙げられる。
【０３０４】
〔７〕その他の層
本発明に係る偏光板一体型タッチパネルモジュールは、必要に応じて、任意にその他の層を備えることができる。上記その他の層としては、例えば、ハードコート層、帯電防止層、アンチグレア層、反射防止層、カラーフィルター層等が挙げられる。
【０３０５】
ハードコート層は、視認側の保護層に耐傷性を向上するために形成することや、透明導電層を形成する際の保護層として光学補償フィルム表面に形成することもできる。当該ハードコート層は、紫外線硬化型ウレタンアクリレート系樹脂、紫外線硬化型ポリエステルアクリレート系樹脂、紫外線硬化型エポキシアクリレート系樹脂、紫外線硬化型ポリオールアクリレート系樹脂、又は紫外線硬化型エポキシ樹脂等を含有することが好ましく、中でも紫外線硬化型アクリレート系樹脂を含有することが好ましい。
【０３０６】
帯電防止層は、帯電防止層を形成した際に、シート抵抗値を１×１０１１Ω／□以下、好ましくは１×１０１０Ω／□以下、さらに好ましくは１×１０９Ω／□以下とすることができる材料を含む層である。帯電防止剤としては、金属酸化物、界面活性剤型帯電防止剤、シリコーン系帯電防止剤、有機ホウ酸系帯電防止剤、高分子系帯電防止剤、帯電防止ポリマー材料等が挙げられ、公知の共役系ポリマー、イオン性ポリマー及び導電性ポリマー等を用いることができる。
【０３０７】
〔８〕液晶表示装置
本発明のタッチパネル付き液晶表示装置は、ＶＡモード（ＭＶＡ、ＰＶＡ）型液晶を用いることが特徴であり、ＶＡモードの利点である正面コントラストに優れるタッチパネル付き液晶表示装置を提供することができる。ＶＡモード型液晶については、公知のものを制限なく使用することができる。
【０３０８】
液晶表示装置には、通常視認側の偏光板とバックライト側の偏光板の２枚の偏光板が粘着層を介して液晶セルに貼合されて用いられるが、本発明に係る光学補償フィルムを具備した偏光板は視認側に配置されて、偏光板一体型タッチパネルモジュールとして機能する。
【０３０９】
一方、バックライト側の偏光板は液晶セル側から、光学補償フィルム、偏光子及び保護フィルムの順に積層された偏光板であることが好ましく、光学補償フィルムとしては本発明の光学補償フィルム又は他の光学補償フィルムを用いることが好ましい。他の光学補償フィルムとしては、前述の市販のセルロースエステルフィルムから選択されて好ましく用いることができる。また、保護フィルムも同様に前述の市販のセルロースエステルフィルムから選択されて好ましく用いることができ、さらにポリエステルフィルム、アクリルフィルム、又はポリカーボネートフィルム等を用いることができる。
【実施例】
【０３１０】
以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、実施例において「部」又は「％」の表示を用いるが、特に断りがない限り「質量部」又は「質量％」を表す。【０３１１】
実施例１
実施例に用いるセルロースエステル系樹脂、シクロオレフィン系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリアリレート系樹脂及びアクリル系樹脂として、下記に挙げる樹脂を用いた。【０３１２】
［樹脂］
シクロオレフィン系樹脂（ＣＯＰ）：ＡＲＴＯＮ  Ｇ７８１０、ＪＳＲ（株）製
セルロースアセテートプロピオネート（ＣＡＰ）：アセチル基置換度１．５、プロピオニル基置換度１．０、総アシル基置換度２．５、重量平均分子量２５万）
ポリイミド系樹脂（ＰＩ）：下記方法にてポリイミド系樹脂を合成した。【０３１３】
〈ポリイミド樹脂Ａ：式（Ｐ１）で表される構造を有するポリイミド〉
（ポリイミド前駆体の重合）
反応容器としてステンレス製セパラブルフラスコを備え、該セパラブルフラスコ内の撹拌装置として２枚のパドル翼を備え、冷却装置として２０．９ｋＪ／ｍｉｎの冷却能力を持つ装置を備えた反応装置を用いてポリアミック酸を製造した。重合反応中は水分の混入を防ぐために、シリカゲル中を通過させて脱水を行った窒素ガスを０．０５Ｌ／ｍｉｎで流して重合反応を行った。【０３１４】
上記セパラブルフラスコに、重合溶媒としてＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）２２３．５ｇを仕込み、これに、トリフルオリメチルベンゼン（ＴＦＭＢ）を４０．０ｇ（０．１２５モル）溶解する。この溶液に、１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロ−２，２−ジ（３，４−ジカルボキシフェニル）プロパン二無水物（６ＦＤＡ）を５５．５ｇ（０．１２５モル）添加・撹拌して完全に溶解させた。完全に溶解した後、撹拌して重合粘度を８０Ｐａ・ｓまで上昇させた。ポリアミック酸溶液の粘度は、２３℃に保温された水溶液中で１時間保温し、その時の粘度をＢ型粘度計で、ローターはＮｏ．７を回転数は４ｒｐｍで測定を行った。なお、この反応溶液における芳香族ジアミン化合物及び芳香族テトラカルボン酸二無水物の仕込み濃度は、全反応液に対して３０質量％となっている。【０３１５】
（ポリイミド樹脂への化学イミド化）
上記溶液にＤＭＦを加え固形分濃度を１５質量％とし、イミド化促進剤としてピリジン（ｐｋＢＨ＋；５．１７）を６０ｇ（イミド化促進剤／ポリアミック酸中アミド基のモル比＝３）添加して、完全に分散させる。分散させた溶液中に無水酢酸を１分間に１ｇの速度で３０．６ｇ（脱水剤／ポリアミック酸中アミド基のモル比＝１．２）を添加してさらに３０分間撹拌した。撹拌後に内部温度を１００℃に上昇させて５時間過熱撹拌を行った。【０３１６】
（ポリイミド樹脂の抽出）
ポリイミド樹脂の溶液を穴の直径が約５ｍｍのロートに入れて、５Ｌのメタノール中に垂らして抽出を行った。抽出時、メタノールを１５００回転以上に回転した撹拌羽で高速に撹拌しながら抽出を行った。垂らしたポリイミド溶液の直径はメタノール界面付近で１ｍｍ以下になるように、ロートとメタノールの液面の間の高さを調節しながら繊維状になるようにメタノール溶液中に垂らした、溶液中でポリイミド樹脂は、繊維状になる場合もあるが、撹拌を続けることで溶液中に一度繊維状になったものが分解されて５ｍｍ以下の繊維に溶液中で分断される。【０３１７】
分断された樹脂固形分溶液中に、更に、５Ｌのメタノールを添加して完全に固形分を抽出して取り出して固形分をソックスレー抽出装置でイソプロパノールにより洗浄を行った後に、真空乾燥装置で１００℃ に加熱乾燥して、ポリイミド樹脂として取り出した。重量平均分子量は１０万であった。【０３１８】
ポリアリレート系樹脂（ＰＡ）：下記方法にてポリアリレート系樹脂を合成した。【０３１９】
攪拌装置を備えた反応容器中にて、ビスフェノール成分として２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパン〔ＢｉｓＡＦ〕の１００質量部と、末端封止剤としてｐ-ｔｅｒｔ-ブチルフェノール〔ＰＴＢＰ〕の１．３４質量部と、アルカリとして水酸化ナトリウム〔ＮａＯＨ〕の２５．４質量部と、重合触媒としてトリ−ｎ−ブチルベンジルアンモニウムクロリド〔ＴＢＢＡＣ〕の５０質量％水溶液の１．２８質量部と、酸化防止剤としてハイドロサルファイトナトリウムの０．５質量部とを、水１７５０質量部に溶解させた（水相）。【０３２０】
また、これとは別に、ジクロロメタン１２００質量部に、芳香族ジカルボン酸成分としてジフェニルエーテル−４，４′−ジカルボン酸クロリド〔ＤＥＤＣ〕の８９．１質量部を溶解させた（有機相）。【０３２１】
水相をあらかじめ攪拌しておき、有機相を水相中に強攪拌下で添加し、１５℃で２時間、界面重合反応させた。モル比は、ＢｉｓＡＦ：ＤＥＤＣ：ＰＴＢＰ：ＴＢＢＡＣ：ＮａＯＨ＝９８．５：１００．０：３．０：０．６８：２１０とした。【０３２２】
その後、攪拌を停止し、水相と有機相をデカンテーションして分離した。水相を除去した後、ジクロロメタン５００質量部と、純水２０００質量部と、酢酸２質量部とを有機相に添加して反応を停止させ、１５℃で３０分間攪拌した。その後、有機相を純水で１０回洗浄し、有機相をメタノール中に添加してポリマーを沈殿させた。沈殿させたポリマーを濾過し、乾燥し、重量平均分子量１１万のポリアリレート樹脂を得た。【０３２３】
トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）：アセチル基置換度２．８５、重量平均分子量２５万）
アクリル系樹脂（Ａｃ）：ダイヤナールＢＲ８５（三菱レイヨン社製、重量平均分子量：２８万）
［添加剤］
添加剤として、位相差上昇剤  化合物Ａ１〜化合物Ａ５、ポリエステル系可塑剤Ｂ１及びアクリル系樹脂Ｂ２は、下記化合物を用いた。【０３２４】
【化１８】
2016181756.tif 000020
【０３２５】
ポリエステル系可塑剤Ｂ１：下記手順にてポリエステル系可塑剤を合成した。【０３２６】
エチレングリコール１８０ｇ、無水フタル酸２７８ｇ、アジピン酸９１ｇ、安息香酸６１０ｇ、エステル化触媒としてテトライソプロピルチタネート０．１９１ｇを、温度計、撹拌器、緩急冷却管を備えた２Ｌの四つ口フラスコに仕込み、窒素気流中２３０℃になるまで、撹拌しながら徐々に昇温する。重合度を観察しながら脱水縮合反応させた。反応終了後２００℃で未反応のエチレングリコールを減圧留去することにより、ポリエステル系可塑剤Ｂ１を得た。酸価０．２０、数平均分子量４５０であった。【０３２７】
アクリル系樹脂Ｂ２：下記手順にてアクリル系樹脂を合成した。【０３２８】
撹拌機を備えた内容積４０リットルのＳＵＳ製重合反応装置に、脱イオン水２４リットルを入れ、分散安定剤としてアニオン系高分子化合物水溶液３０ｇ、分散安定助剤として硫酸ナトリウム３６ｇを加え撹拌・溶解させた。また、別の撹拌機を備えた容器に、メチルメタクリレート（ＭＭＡ）とアクリロイルモルホリン（ＡＣＭＯ）を、ＭＭＡが７３．１質量％、ＡＣＭＯが２２．４質量％となるように（トータルでの仕込みモル比がＭＭＡ／ＡＣＭＯ＝７０／３０となるように）投入し、単量体混合物に重合開始剤として２，２′−アゾビスイソブチロニトリル１２ｇ、連鎖移動剤としてｎ−オクチルメルカプタン２４ｇ、離型剤としてステアリルアルコール２４ｇを加え撹拌・溶解させた。このようにして得られた重合開始剤、連鎖移動剤及び離形剤を溶解した単量体混合物を、上述した撹拌機を備えた内容積４０リットルのＳＵＳ製重合反応装置（脱イオン水、分散安定剤及び分散安定助剤を収容する）に投入し、窒素置換しながら１７５ｒｐｍで１５分間撹拌した。その後、８０℃に加温して重合を開始させ、重合発熱ピーク終了後、１１５℃で１０分間の熱処理を行い、重合を完結させた。得られたビーズ状重合体を濾過、水洗し、８０℃で２４ｈｒ乾燥し、重量平均分子量６万のメチルメタクリレート（ＭＭＡ）とアクリロイルモルホリン（ＡＣＭＯ）のアクリル系樹脂Ｂ２を得た。【０３２９】
実施例１
＜光学補償フィルム１０１の作製＞
（微粒子添加液の調製）
微粒子（アエロジルＲ８１２：日本アエロジル株式会社製、一次平均粒子
径：７ｎｍ、見掛け比重５０ｇ／Ｌ）                        ４質量部
ジクロロメタン                                        ４８質量部
エタノール                                            ４８質量部
以上をディゾルバーで５０分間撹拌混合した後、マントンゴーリンで分散を行った。【０３３０】
さらに、二次粒子の粒径が所定の大きさとなるようにアトライターにて分散を行った。これを日本精線（株）製のファインメットＮＦで濾過し、微粒子添加液を調製した。【０３３１】
次いで、下記組成の主ドープ１を調製した。まず加圧溶解タンクにジクロロメタンを４００ｋｇ／ｍｉｎの流量とエタノールを２０ｋｇ／ｍｉｎの流量で添加した。溶媒の添加開始から３分後に、前記加圧溶解タンクに、シクロオレフィン系樹脂（ＣＯＰ）を２００ｋｇ／ｍｉｎの流量で撹拌しながら投入した。次いで、溶媒投入開始後５分後に、微粒子添加液を投入して、これを８０℃に加熱し、撹拌しながら、完全に溶解した。加熱温度は室温から５℃／ｍｉｎで昇温し、３０分間で溶解した後、３℃／ｍｉｎで降温した。【０３３２】
ドープ粘度は１００００ＣＰであり、含水率は０．５０％であった。これを安積濾紙（株）製の安積濾紙Ｎｏ．２４４（濾過精度０．００５ｍｍ）を使用して濾過流量３００Ｌ／ｍ２・ｈ、濾圧１．０×１０６Ｐａにて濾過し、主ドープ１を調製した。【０３３３】
〈主ドープ１の組成〉
シクロオレフィン系樹脂（ＣＯＰ）：ＡＲＴＯＮ  Ｇ７８１０、ＪＳＲ（
株）製                                                １００質量部
ジクロロメタン                                      ２００質量部
エタノール                                            １０質量部
微粒子添加液                                            ３質量部
次いで、無端ベルト流延装置を用い、上記ドープを温度３３℃、１５００ｍｍ幅でステンレスベルト支持体上に均一に流延した。ステンレスベルトの温度は３０℃に制御した。【０３３４】
ステンレスベルト支持体上で、流延（キャスト）したフィルム中の残留溶媒量が７５％になるまで溶媒を蒸発させ、次いで剥離張力１３０Ｎ／ｍで、ステンレスベルト支持体上から剥離した。【０３３５】
剥離したシクロオレフィン系樹脂フィルムを、１６０℃の熱をかけながらテンターを用いて幅手方向に２０％延伸した。延伸開始時の残留溶媒は１５％であった。次いで、乾燥ゾーンを多数のローラーで搬送させながら乾燥を終了させた。乾燥温度は１３０℃で、搬送張力は１００Ｎ／ｍとした。乾燥後、１．５ｍ幅にスリットし、フィルム両端に幅１０ｍｍ、高さ１０μｍのナーリング加工を施し、ロール状に巻き取り、乾燥膜厚４５μｍの光学補償フィルム１０１を得た。【０３３６】
＜光学補償フィルム１０２の作製＞
光学補償フィルム１０１の作製において、下記主ドープ２を調製して用い、膜厚を１０μｍにした以外は同様にして光学補償フィルム１０２を作製した。【０３３７】
〈主ドープ２の組成〉
シクロオレフィン系樹脂（ＣＯＰ）：ＡＲＴＯＮ  Ｇ７８１０、ＪＳＲ（
株）製                                                １００質量部
ジクロロメタン                                      ２００質量部
エタノール                                            １０質量部
添加剤Ａ１                                              ４質量部
微粒子添加液                                            ３質量部
なお、延伸倍率は光学補償フィルムが表１に記載の位相差値になるように調整した。【０３３８】
＜基材フィルムＡ１０３〜１０８の作製＞
光学補償フィルム１０２の作製において、添加剤の種類、添加量、膜厚を表１記載のように変化させた以外は同様にして、光学補償フィルム１０３〜１０８を作製した。【０３３９】
＜光学補償フィルム１０９の作製＞
光学補償フィルム１０１の作製において、下記主ドープ３を調製して用いた以外は同様にして光学補償フィルム１０９を作製した。【０３４０】
〈主ドープ３の組成〉
セルロースアセテートプロピオネート（ＣＡＰ）        １００質量部
ジクロロメタン                                      ２００質量部
エタノール                                            １０質量部
微粒子添加液                                            ３質量部
＜光学補償フィルム１１０の作製＞
光学補償フィルム１０９の作製において、添加剤Ａ２を５質量部添加し、延伸倍率を表１に記載の位相差値になるように調整し、膜厚を変化した以外は同様にして光学補償フィルム１１０を作製した。【０３４１】
＜光学補償フィルム１１１の作製＞
光学補償フィルム１０１の作製において、下記主ドープ４を調製して用いた以外は同様にして光学補償フィルム１１０を作製した。【０３４２】
〈主ドープ４の組成〉
ポリイミド系樹脂（ＰＩ）                            １００質量部
ジクロロメタン                                      ２００質量部
エタノール                                            １０質量部
微粒子添加液                                            ３質量部
＜光学補償フィルム１１２の作製＞
光学補償フィルム１１１の作製において、添加剤Ａ２を２質量部添加し、延伸倍率を光学補償フィルムが表１に記載の位相差値になるように調整し、膜厚を変化した以外は同様にして光学補償フィルム１１２を作製した。【０３４３】
＜光学補償フィルム１１３の作製＞
光学補償フィルム１０１の作製において、下記主ドープ５を調製して用いた以外は同様にして光学補償フィルム１１３を作製した。【０３４４】
〈主ドープ５の組成〉
ポリアリレート系樹脂（ＰＡ）                        １００質量部
ジクロロメタン                                      ２００質量部
エタノール                                            １０質量部
微粒子添加液                                            ３質量部
＜光学補償フィルム１１４の作製＞
光学補償フィルム１１３の作製において、添加剤Ａ２を２質量部添加し、延伸倍率を光学補償フィルムが表１に記載の位相差値になるように調整し、膜厚を変化した以外は同様にして光学補償フィルム１１４を作製した。【０３４５】
＜光学補償フィルム１１５の作製＞
光学補償フィルム１０２の作製において、下記主ドープ６を調製して用い、膜厚を４５μｍにした以外は同様にして光学補償フィルム１１５を作製した。【０３４６】
〈主ドープ６の組成〉
シクロオレフィン系樹脂（ＣＯＰ）：ＡＲＴＯＮ  Ｇ７８１０、ＪＳＲ（
株）製                                                １００質量部
ジクロロメタン                                      ２００質量部
エタノール                                            １０質量部
添加剤Ｂ１                                              ６質量部
微粒子添加液                                            ３質量部
なお、延伸倍率は表１に記載の位相差値になるように調整した。【０３４７】
＜光学補償フィルム１１６の作製＞
光学補償フィルム１１０の作製において、下記主ドープ７を調製して用い、膜厚を４５μｍにした以外は同様にして光学補償フィルム１１６を作製した。【０３４８】
〈主ドープ７の組成〉
セルロースアセテートプロピオネート（ＣＡＰ）        １００質量部
ジクロロメタン                                      ２００質量部
エタノール                                            １０質量部
添加剤Ｂ１                                          ６．５質量部
微粒子添加液                                            ３質量部
＜光学補償フィルム１１７の作製＞
光学補償フィルム１０１の作製において、長手方向及び幅手方向に５％づつ延伸し、膜厚を４５μｍにした以外は同様にして光学補償フィルム１１７を作製した。【０３４９】
＜光学補償フィルム１１８の作製＞
光学補償フィルム１１６の作製において、下記主ドープ８を調製して用い、長手方向及び幅手方向に５％づつ延伸し、膜厚を４５μｍにした以外は同様にして光学補償フィルム１１８を作製した。【０３５０】
〈主ドープ８の組成〉
トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）                    １００質量部
ジクロロメタン                                      ２００質量部
エタノール                                            １０質量部
添加剤Ｂ２                                            １０質量部
微粒子添加液                                            ３質量部
＜光学補償フィルム１１９の作製＞
光学補償フィルム１１６の作製において、下記主ドープ９を調製して用い、膜厚を４５μｍにした以外は同様にして光学補償フィルム１１８を作製した。【０３５１】
〈主ドープ９の組成〉
アクリル系樹脂（Ａｃ）：ダイヤナールＢＲ８５（三菱レイヨン社製）
１００質量部
ジクロロメタン                                      ２００質量部
エタノール                                            １０質量部
微粒子添加液                                            ３質量部
＜透明導電層の作製＞
用いた銀ナノワイヤーは、Ｙ．Ｓｕｎ、Ｂ．Ｇａｔｅｓ、Ｂ．Ｍａｙｅｒｓ、＆ Ｙ．Ｘｉａ，“Ｃｒｙｓｔａｌｌｉｎｅ ｓｉｌｖｅｒ ｎａｎｏｗｉｒｅｓ ｂｙ ｓｏｆｔ ｓｏｌｕｔｉｏｎ ｐｒｏｃｅｓｓｉｎｇ” 、Ｎａｎｏ ｌｅｔｔｅｒｓ 、（２００２）、２（２） １６５〜１６８に記載されるポリオールを用いた方法の後、ポリビニルピロリドン（ＰＶＰ）の存在下で、エチレングリコールに硫酸銀を溶解し、これを還元することによって合成された銀ナノワイヤーである。すなわち本発明においてはＣａｍｂｒｉｏｓ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ 米国仮出願第６０／８１５，６２７号に記載される修正されたポリオール方法によって、合成されたナノワイヤーを用いた。【０３５２】
透明導電層を形成する金属ナノワイヤーとして、上記方法で合成された短軸径約７０〜８０ｎｍ、アスペクト比１００以上の銀ナノワイヤーを水性媒体中に０．５ｗｔ％／ｖ含有する銀ナノワイヤー水分散体組成物（Ｃａｍｂｒｉｏｓ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ社製 ＣｌｅａｒＯｈｍＴＭ， Ｉｎｋ−Ａ ＡＱ）を、スロットダイ塗工機を使用し、光学補償フィルム１０１〜１１９の一方の面上に乾燥後膜厚が１．５μｍになるように塗布、乾燥した後に、圧力２０００ｋＮ／ｍ２で加圧処理を行い、透明導電層を形成した。【０３５３】
次いで、光学補償フィルムの他方の面にも上記と同様にして透明導電層を形成しその後、低抵抗値化のために、１５０℃で３０分間の熱処理（アニール処理）を行った。【０３５４】
＜偏光板及び偏光板一体型タッチパネルモジュールの作製：図２参照＞
厚さ８０μｍのロール状ポリビニルアルコールフィルムをヨウ素水溶液中で連続して５倍に延伸し、乾燥して厚さ２０μｍの偏光子を得た。【０３５５】
次いで、上記作製した偏光子を、前記作製した光学補償フィルム１０１〜１１９の透明導電層を設けた一方の側と、保護フィルムとしてコニカミノルタタックＫＣ４ＵＡ（コニカミノルタ（株）製）とで挟持して、下記紫外線硬化型接着剤液を介して、接着し偏光板一体型タッチパネルモジュール１０１〜１１９を作製した。【０３５６】
〔紫外線硬化型接着剤液１の調製〕
下記の各成分を混合した後、脱泡して、紫外線硬化型接着剤液１を調製した。なお、トリアリールスルホニウムヘキサフルオロホスフェートは、５０％プロピレンカーボネート溶液として配合し、下記にはトリアリールスルホニウムヘキサフルオロホスフェートの固形分量を表示した。【０３５７】
３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３，４−エポキシシクロヘキサ
ンカルボキシレート                                      ４５質量部
エポリードＧＴ−３０１（ダイセル社製の脂環式エポキシ樹脂）
４０質量部
１，４−ブタンジオールジグリシジルエーテル            １５質量部
トリアリールスルホニウムヘキサフルオロホスフェート  ２．３質量部
９，１０−ジブトキシアントラセン                    ０．１質量部
１，４−ジエトキシナフタレン                        ２．０質量部
なお、偏光板作製は、光学補償フィルム及び保護フィルムの表面に、コロナ出力強度２．０ｋＷ、ライン速度１８ｍ／分でコロナ放電処理を施し、コロナ放電処理面に、上記調製した紫外線硬化型接着剤液１を、硬化後の膜厚が約３μｍとなるようにバーコーターで塗工して紫外線硬化型接着剤層を形成した。【０３５８】
上記偏光板は保護フィルム側から、ベルトコンベヤー付き紫外線照射装置（ランプは、フュージョンＵＶシステムズ社製のＤバルブを使用）を用いて、積算光量が７５０ｍＪ／ｃｍ２となるように紫外線を照射し、紫外線硬化型接着剤層を硬化させた。【０３５９】
＜偏光板一体型タッチパネルモジュールを具備したタッチパネル付き液晶表示装置の作製：図２参照＞
上記作製した光学補償フィルム１０１〜１１６を具備する偏光板一体型タッチパネルモジュールを、自作したＶＡモード型液晶セルに偏光板の光学補償フィルム側を貼合し、タッチパネル付き液晶表示装置１０１〜１１６を作製した。【０３６０】
また、上記作製した光学補償フィルム１１７〜１１９を具備する偏光板一体型タッチパネルモジュールは、市販のタッチパネル付きＩＰＳモード型液晶表示装置から、タッチパネルモジュールを注意深く剥離し、ＩＰＳモード型液晶セルに偏光板の光学補償フィルム側を貼合し、タッチパネル付き液晶表示装置１１７〜１１９を作製した。【０３６１】
上記液晶セルの反対側の面には、光学補償フィルム（コニカミノルタタックＫＣ８ＵＣＲ３）／偏光子／保護フィルム（コニカミノルタタックＫＣ４ＵＡ、いずれもコニカミノルタ（株）製）の構成である偏光板を、光学補償フィルム側が液晶セル側になるように、粘着剤層を介して貼合した。【０３６２】
≪評価≫
〔１〕光学補償フィルムの位相差値
光学補償フィルムの面内位相差値Ｒｏ及び厚さ方向の位相差値Ｒｔは、自動複屈折率計アクソスキャン（Ａｘｏ  Ｓｃａｎ  Ｍｕｅｌｌｅｒ  Ｍａｔｒｉｘ  Ｐｏｌａｒｉｍｅｔｅｒ：アクソメトリックス社製）を用いて、２３℃・５５％ＲＨの環境下、５９０ｎｍの光波長において、三次元屈折率測定を行い、得られた屈折率ｎｘ、ｎｙ、ｎｚから、下記式（ｉ）及び（ii）によって算出した。【０３６３】
式（ｉ）：Ｒｏ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ（ｎｍ）
式（ii）：Ｒｔ＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄ（ｎｍ）
〔式（ｉ）及び式（ii）において、ｎｘは、フィルムの面内方向において屈折率が最大になる方向ｘにおける屈折率を表す。ｎｙは、フィルムの面内方向において、前記方向ｘと直交する方向ｙにおける屈折率を表す。ｎｚは、フィルムの厚さ方向ｚにおける屈折率を表す。ｄは、フィルムの厚さ（ｎｍ）を表す。〕
〔２〕光学補償フィルムの位相差値変動
上記光学補償フィルム試料をオーブン内に１５０℃で１時間放置して熱処理を行い、その前後での位相差値の変動を下記式で求めた。【０３６４】
位相差値Ｒｏ又はＲｔの変動＝｛（熱処理後のＲｏ値又はＲｔ値−熱処理前のＲｏ値又はＲｔ値）／（熱処理前のＲｏ値又はＲｔ値）｝×１００（％）
〔３〕光学補償フィルムのガラス転移温度
ガラス転移温度Ｔｇは、ＪＩＳ  Ｋ−７１２１に従って、セイコーインスツル（株）製の示差走査熱量計ＤＳＣ２２０を用いて測定して、求めた。光学補償フィルム試料を１０ｍｇ程度セットし、窒素流量５０ｍｌ／ｍｉｎの条件下で、２０℃／ｍｉｎで室温から２５０℃まで昇温して１０分間保持し（第１スキャン）、次に２０℃／ｍｉｎの速度で３０℃まで降温して１０分間保持し（第２スキャン）、さらに２０℃／ｍｉｎで２５０℃まで昇温し（第３スキャン）、ＤＳＣ曲線を作成し、得られた第３スキャンのＤＳＣ曲線からガラス転移温度Ｔｇを求めた。【０３６５】
〔４〕正面コントラスト
作製したタッチパネル付き液晶表示装置１０１〜１１９について、それぞれの正面コントラストを測定した。正面コントラストの測定は、ＥＬＤＩＭ社製の正面コントラスト測定装置（ＥＺ−ｃｏｎｔｒａｓｔ）により行い、白表示時と黒表示時の光量を測定し、その比を求めた。【０３６６】
以上、光学補償フィルムの構成内容及び上記評価結果を、下記表１に示した。【０３６７】
【表１】
2016181756.tif 000021
【０３６８】
表１から、本発明に係る光学補償フィルム１０１〜１１４を用いたタッチパネル付きＶＡモード型液晶表示装置は、ＩＰＳモード型液晶表示装置１１７〜１１９に比較して、正面コントラストに優れることが分かる。【０３６９】
また、光学補償フィルムのガラス転移温度Ｔｇが１５５℃未満である光学補償フィルム１１５及び１１６は、位相差値変動が大きく、正面コントラストも劣位にあり、ＩＰＳモード型液晶表示装置よりも低いコントラストであった。【０３７０】
実施例２
＜タッチパネルモジュールの作製＞
実施例１で作製した本発明に係る光学補償フィルム１０４、１１０、１１２及び１１４の片面にスパッタリング法により透明導電層としてＩＴＯ膜を厚さが２０ｎｍになるように成膜し、エッチングでＸ方向の第１電極パターンを形成した。【０３７１】
次に電極パターンの間に配置される絶縁層としてＳｉＯ２をスパッタリング法を用いて厚さが２００ｎｍになるように成膜し、その上にＩＴＯ膜を厚さが２０ｎｍになるようにスパッタリングで成膜し、エッチングでＹ方向に第２電極パターンを形成した。更にその上に絶縁層としてＳｉＯ２をスパッタリング法を用いて厚さ２００ｎｍになるように成膜した。次いで、低抵抗値化のために、１５０℃で３０分間の熱処理（アニール処理）を行い、光学補償フィルム１０４、１１０、１１２及び１１４にそれぞれ対応する、透明導電層を具備する光学補償フィルム２０１〜２０４を作製した。【０３７２】
＜偏光板及び偏光板一体型タッチパネルモジュールの作製：図６参照＞
実施例１で作製した偏光子を、上記光学補償フィルム２０１〜２０４の透明導電層を設けた側と、保護フィルムとしてコニカミノルタタックＫＣ４ＵＡ（コニカミノルタ（株）製）とで挟持して、実施例１の紫外線硬化型接着剤液１を介して、接着し偏光板一体型タッチパネルモジュール２０１〜２０４を作製した。【０３７３】
＜偏光板一体型タッチパネルモジュールを具備したタッチパネル付き液晶表示装置の作製：図６参照＞
上記作製した光学補償フィルム２０１〜２０４を具備する偏光板一体型タッチパネルモジュール２０１〜２０４を、自作したＶＡモード型液晶セルに透明導電層が形成されていない光学補償フィルム側を貼合し、タッチパネル付き液晶表示装置２０１〜２０４を作製した。【０３７４】
液晶セルの反対側の面には、光学補償フィルム（コニカミノルタタックＫＣ８ＵＣＲ３）／偏光子／保護フィルム（コニカミノルタタックＫＣ４ＵＡ、いずれもコニカミノルタ（株）製）の構成である偏光板を、光学補償フィルム側が液晶セル側になるように、粘着剤層を介して貼合した。【０３７５】
作製した偏光板一体型タッチパネルモジュールを具備したタッチパネル付き液晶表示装置２０１〜２０４の正面コントラストを実施例１と同様に測定したところ、コントラスト比がいずれも７５００：１であり、実施例１を再現して優れたコントラストを有するＶＡモード型タッチパネル付き液晶表示装置が得られることが分かった。
【産業上の利用可能性】
【０３７６】
本発明のタッチパネル付き液晶表示装置は、本発明に係る少なくとも一方の面に透明導電層を有する光学補償フィルム、偏光子及び保護フィルムをこの順に有することによって、薄膜で正面コントラストに優れた、ＶＡモード型液晶セルを具備するタッチパネル付き液晶表示装置を提供することができる。
【符号の説明】
【０３７７】
１  液晶セル
２  偏光子
Ｔ１  保護フィルム
Ｔ２  光学補償フィルム
Ｐ１  偏光板（視認側）
３  粘着層
４  導電層基材フィルム
５  透明導電層
６  保護層
７  前面板
Ｔ  タッチパネルモジュール
Ｔ３  光学補償フィルム
Ｔ４  保護フィルム
Ｐ２  偏光板（バックライト側）
１０  比較例のタッチパネル付き液晶表示装置
２０  本発明のタッチパネル付き液晶表示装置
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【国際調査報告】
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