(57)【要約】  長期間折り曲げや巻き付けを繰り返しても耐透湿性が劣化しない封止フィルムを提供する。  可撓性を有する基材と、前記基材の片方の表面上に形成されたガスバリア層と、接着層とをこの順に備える封止フィルムであって、前記ガスバリア層に遷移金属化合物を含有していることを特徴とする封止フィルム。
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
可撓性を有する基材と、前記基材の片方の表面上に形成されたガスバリア層と、接着層とをこの順に備える封止フィルムであって、  前記ガスバリア層に遷移金属化合物を含有していることを特徴とする封止フィルム。
【請求項２】
前記接着層の厚みが１〜５μｍの範囲であることを特徴とする請求項１に記載の封止フィルム。
【請求項３】
前記接着層が、イソプレン、イソブテン、及びブタジエンよりなる群から選ばれた少なくとも１種を重合成分とする単独重合体樹脂又は共重合体樹脂を含有することを特徴とする請求項１または２に記載の封止フィルム。
【請求項４】
前記遷移金属化合物として酸化ニオブを含有していることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の封止フィルム。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか１項に記載の封止フィルムで封止されていることを特徴とする機能素子。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】  本発明は、封止フィルム及び封止フィルムで封止された機能素子に関する。
【背景技術】
【０００２】  有機ＥＬ（Ｅｌｅｃｔｒｏｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ）素子や有機薄膜太陽電池等の有機材料からなる機能素子は酸素や水分に極めて弱い。例えば、有機ＥＬ素子を用いてディスプレイや照明装置を構成する場合に、有機材料自体が酸素や水分によって変質して、輝度が低下したり、ひいては、発光しなくなるといった欠点があり酸素や水分に対するバリア性が必要である。有機薄膜太陽電池でも有機材料自体が酸素や水分によって変質して、光電変換効率が低下したり、ひいては、発電しなくなるといった欠点があり酸素や水分に対するバリア性が必要である。【０００３】  一方で、有機ＥＬ素子や有機薄膜太陽電池等は、折り曲げたり、巻物形状にしたりできる等、新たな用途を目指したフレキシブルな素子を作れることが期待されており、そのためガラス基材ではなく変形可能なプラスチック基材とバリア層とを有するバリアフィルムが使用されるようになってきている（例えば、特許文献１及び特許文献２参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】国際公開第２０１１／０１６４０８号
【特許文献２】国際公開第２０１１／１０２４６５号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】  ところが、上記用途（フレキシブルな素子）に求められる性能を満たすためには機能素子自体をより薄くする必要があり、機能素子本体をバリアフィルムを用いて封止する際の封止材の厚みも薄くしていかなければならない。しかしながら、封止材の厚みを薄くしていくと、封止時や折り曲げ時に、バリアフィルムに設けられたバリア層にダメージをもたらしてしまうという新たな課題が生じることを見出した。【０００６】  そこで本発明は、長期間折り曲げや巻き付けを繰り返しても耐透湿性が劣化しない封止フィルム及び該封止フィルムで封止された機能素子を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】  本発明者は、上記の課題を解決すべく、鋭意研究を行った。その結果、封止フィルムを構成するガスバリア層に遷移金属化合物を含有させることにより、上記課題が解決することを見出し、本発明を完成させるに至った。【０００８】  すなわち、本発明は、可撓性を有する基材と、前記基材の片方の表面上に形成されたガスバリア層と、接着層とをこの順に備え、前記ガスバリア層に遷移金属化合物を含有する封止フィルムおよび該封止フィルムで封止された機能素子である。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】本発明に係る封止フィルムの基本構成を示す断面模式図である。
【図２】本発明に係る封止フィルムの他の基本構成を示す断面模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００１０】  本発明は、可撓性を有する基材と、前記基材の片方の表面上に形成されたガスバリア層と、接着層とをこの順に備え、前記ガスバリア層に遷移金属化合物を含有することを特徴とする封止フィルムである。このような構成を有する本発明の封止フィルムは、長期間の折り曲げや巻き付けを繰り返しても高い耐透湿性を保持することができる。更に、上記構成を有する封止フィルムで機能素子本体を封止することで、長期間折り曲げや巻き付けを繰り返しても折り曲げ耐性が極めて劣化し難く、耐透湿性に優れる機能素子を提供することができる。
【００１１】  なぜ、本発明の封止フィルムにより上記効果が得られるのか、詳細は不明であるが、下記のようなメカニズムが考えられる。なお、下記のメカニズムは推測によるものであり、本発明は下記メカニズムに何ら拘泥されるものではない。
【００１２】  本発明では、封止フィルムを構成するガスバリア層に遷移金属化合物（実施例では、その１種であるＶ族の酸化物）を含有させることによって小半径（２ｍｍ以下）での繰り返し折り曲げ耐性を確保できた（実施例参照）。そのメカニズムは明らかではないが、素子側基板は素子を設ける都合上その表面は数μｍ程度の凹凸をもった表面になってしまう。一方、フレキシブルな機能素子にバリア性を付与する為のバリアフィルムを構成するガスバリア層は、通常、無機膜であり、バリア性を付与する必要上、硬くて脆い性質である。そのため、上記したような凹凸表面の素子側基板をバリアフィルムで封止する際に、封止材が薄いと素子基板上の凸凹を埋める際に加わる応力の影響をガスバリア層が受け（上記性質が故に）ガスバリア層に極微細なクラックが発生し、さらに折り曲げ応力が加わった際にこのクラックが拡大して耐透湿性が劣化する（拡大したクラックを通じて水分や酸素の侵入を許してしまう）と思われる。本発明ではガスバリア層に含有させた遷移金属化合物は、実施例で用いたＶ族の酸化物も含め、いずれも遷移金属の酸化物等であり複数の酸化数を取ることができるので、上記応力が加わった際に柔軟に電子を移動させて原子間距離を変化させ、上記応力を緩和してクラックの発生を防止し耐透湿性が劣化しないと考えられる。
【００１３】  即ち、バリア性は、通常、封止フィルム（ガスバリア層や接着層）の厚みを厚くしていくことで性能が向上する。一方、フレキシブル性は、通常、封止フィルム（ガスバリア層や接着層）の厚みを薄くしていくことで性能が向上する。この点においてバリア性とフレキシブル性とは、トレードオフの関係（二律背反の関係）にある。しかるに、本発明では、封止フィルムを構成する接着層（素子側基板への接着及び封止機能に加え可撓性を持つ）を薄くしてフレキシブル性を高めても、薄くした接着層が素子基板上の凸凹を埋める際に加わる応力の影響をガスバリア層が受けた際に上記メカニズムにより、該応力を緩和してクラックの発生を防止することができる。その結果、長期間折り曲げや巻き付けを繰り返しても耐透湿性が劣化しない封止フィルムを提供できると考えられる。
【００１４】  以下、本発明の好ましい実施形態を説明する。なお、本発明は、以下の実施の形態のみには限定されない。また、図面の寸法比率は、説明の都合上誇張されており、実際の比率とは異なる場合がある。また、図面の説明において同一の要素には同一の符号を付し、重複する説明を省略する。
【００１５】  本明細書において、特記しない限り、操作および物性等の測定は室温（２０〜２５℃）／相対湿度４０〜５０％ＲＨの条件で測定する。
【００１６】  図１は本発明に係る封止フィルムの基本構成を示す断面模式図である。図１の封止フィルム１０は、可撓性を有する基材１１、前記基材１１の片方の表面上に形成されたガスバリア層１４として、遷移金属化合物を含まない層（Ｂ）１２、および遷移金属化合物を含有する層（Ａ）１３がこの順に配置され、該ガスバリア層１４上に接着層１５が配置されている。また、図２は本発明に係る封止フィルムの他の基本構成を示す断面模式図である。図２の封止フィルム１０は、可撓性を有する基材１１、前記基材１１の片方の表面上に形成されたガスバリア層１４として、遷移金属化合物を含有する層（Ａ）１３および遷移金属化合物を含まない層（Ｂ）１２がこの順に配置され、該ガスバリア層１４上に接着層１５が配置されている。以下、遷移金属化合物を含有する層（Ａ）を単に層（Ａ）ともいう。また遷移金属化合物を含まない層（Ｂ）を単に層（Ｂ）ともいう。
【００１７】  ［ガスバリア層］  基材１１の片方の表面上に形成されたガスバリア層１４は、遷移金属化合物を含有するものであればよいが、図１、２に示すように、遷移金属化合物を含まない層（Ｂ）１２、および遷移金属化合物を含有する層（Ａ）１３を有するのが望ましい。こうした好適なガスバリア層１４を構成する層（Ａ）１３および層（Ｂ）１２は隣接して配置される限り、基材１１側から層（Ａ）１３、層（Ｂ）１２の順であっても、層（Ｂ）１２、層（Ａ）１３の順であってもよい。さらに、基材と各層との間、または、各層上には他の層が配置されていてもよい。上記したように、本発明のガスバリア層１４では、該ガスバリア層１４を構成する少なくとも１つの層に遷移金属化合物が含まれていればよい。なお、ガスバリア層１４は、単層でもよいが、好ましくは図１、２に示すように、遷移金属化合物を含有する層（Ａ）１３と、遷移金属化合物を含まない層（Ｂ）１２を含む２層以上の層構成とするのが良い。３層以上とする場合には、例えば、図１、２に示す層（Ａ）及び層（Ｂ）を順に積層して層（Ａ）、層（Ｂ）、層（Ａ）、層（Ｂ）のような層構成とすることもできる。あるいは、層（Ａ）及び層（Ｂ）ごとに積層して層（Ａ）、層（Ａ）、層（Ｂ）、層（Ｂ）のような層構成とすることもできる。この場合、複数積層された層（Ａ）は、同じ構成（同一組成）でもよいし、異なる構成（例えば、遷移金属化合物が異なる組成）であってもよい。同様に、複数積層された層（Ｂ）も、同じ構成（同一組成）でもよいし、異なる構成（例えば、層（Ｂ）を構成する無機膜を構成する無機材料が異なる組成）であってもよい。フレキシブル性を高める観点からは、図１、２に示す２層構成とするのが望ましい。バリア性の観点からは、上記したような４層構成のような３層以上の多層構成とするのが望ましい。
【００１８】  遷移金属化合物を含有する層（Ａ）が基材と相対する面の層（Ｂ）に配置される（即ち、層（Ａ）と層（Ｂ）が隣接して配置される構造とする）ことで、上記メカニズムによる発明の効果をより有効に発現することができるものである。すなわち、層（Ａ）と層（Ｂ）が接する構造のガスバリア層では、層（Ａ）が含む遷移金属化合物が複数の酸化数を取ることができるので、応力が加わった際に柔軟に電子を移動させて原子間距離を変化させることで、該応力を緩和して、ガスバリア層のクラック発生を防止し、高い耐透湿性を長期間保持することができるものである。さらに、遷移金属化合物を含有する層（Ａ）がより酸化されやすく（応力が加わった際に柔軟に電子を移動させて原子間距離を変化させやすく）、層（Ａ）による層（Ｂ）の保護（応力を緩和して層（Ａ）だけでなく、層（Ｂ）に対してもクラックの発生を防止し、高い耐透湿性を長期間保持する効果）がより顕著に発揮される。こうしたことから、応力発生源に近い接着層側に層（Ａ）を配置した図１に示す、基材、層（Ｂ）、層（Ａ）、接着層の順に配置されることが好ましい。以下、ガスバリア層として好適な構成である図１、２に示す層（Ａ）、（Ｂ）を有するガスバリア層の各構成につき説明する。但し、本発明はこれらに何ら制限されるものではなく、ガスバリア層に遷移金属化合物を含有する構成であればよい。
【００１９】  ［（Ａ）遷移金属化合物を含有する層］  本発明の封止フィルムは、ガスバリア層として、遷移金属化合物を含有する層（Ａ）を有するのが好ましく、気相成膜法により形成される遷移金属化合物を含有する層（Ａ）を有するのがより好ましいものである。層（Ａ）は、遷移金属化合物を含有することから、電気化学的に層（Ｂ）よりも酸化されやすく、層（Ｂ）のクラックの発生（更には酸化による劣化）を抑制する。
【００２０】  層（Ａ）に含まれる遷移金属化合物としては、ガスバリア層が応力を受けた際に、上記に推測したメカニズムに限られないが、少なくとも該応力を緩和してガスバリア層のクラックの発生を防止し得る機能を有効に発現し得るものであればよく、特に限定されない。例えば、遷移金属の酸化物、窒化物、炭化物、酸窒化物、または酸炭化物が挙げられる。中でも複数の酸化数を取ることができ、応力が加わった際に柔軟に電子を移動させて原子間距離を変化させることができる（更には層（Ｂ）の酸化による劣化も抑制できる）という観点からは、遷移金属化合物が遷移金属酸化物であることが好ましい。遷移金属化合物は１種単独であっても２種以上併用してもよい。
【００２１】  また、層（Ａ）は、遷移金属をＭ、化学量論的に得られる遷移金属酸化物をＭＯｘ２とした場合に、ｘ１＜ｘ２である金属酸化物ＭＯｘ１を含むことが好ましい。かような金属酸化物を含むことで、上記応力が加わった際に柔軟に電子を移動させて原子間距離を変化させ、上記応力を緩和してクラックの発生を防止し耐透湿性を付与することができる。かように封止フィルムのガスバリア性能（耐透湿性）が向上することで、高温高湿条件下であっても高いガスバリア性能が維持される点で優れている。ｘ１＜ｘ２である金属酸化物ＭＯｘ１を含むことによって、化学量論的な酸化度よりも低い酸化度である領域、つまりはさらなる酸化の余地がある領域が存在する（複数の酸化数をとる余地ができ、応力が加わった際に柔軟に電子を移動させて原子間距離を変化できる）こととなるため、より高いガスバリア性能（耐透湿性）が発揮されると考えられる。
【００２２】  例えば、Ｎｂ（ニオブ）の酸化物を例に挙げると、Ｎｂの化学量論的に得られる酸化物は五酸化二ニオブであり、これはＮｂＯ２．５であるため、ｘ２＝２．５である。Ｎｂは三酸化二ニオブの組成も取り得るが、本発明においてのｘ２は、酸化度の最も大きい化学量論的な化合物のｘ２を意味する。ｘ１＜ｘ２である金属酸化物ＭＯｘ１を含むとは、Ｘ線光電子分光分析法（Ｘ−ｒａｙ  Ｐｈｏｔｏｅｌｅｃｔｒｏｎ  Ｓｐｅｃｔｒｏｓｃｏｐｙ；ＸＰＳ）等の組成分析方法で厚さ方向の組成プロファイルを測定した際に、ｘ１＜ｘ２である測定点が得られるということ、Ｎｂの場合は、ｘ１＜２．５である測定点が得られることを意味する。層（Ａ）が複数種の金属を含有する場合であっても、それぞれの金属の比率とその合計から化学量論的なｘ２を計算して用いることができる。
【００２３】  ｘ１＜ｘ２の関係を酸化度の指標としてｘ１／ｘ２比で表すと、ｘ１／ｘ２比は、耐透湿性が向上することで高温高湿下でのガスバリア性能がより向上することから、０．９９以下であることが好ましく、０．９以下であることがより好ましく、０．８以下であることがさらに好ましい。ｘ１／ｘ２比が小さくなるほど酸化抑制効果は高くなるが、それにつれて可視光での吸収も高くなるため、透明性が望まれる用途に使用する場合は、０．２以上であることが好ましく、０．３以上であることがより好ましい。
【００２４】  ｘ１＜ｘ２である領域の層（Ａ）における厚さ方向の割合は、バリア性の観点から、層（Ａ）の厚さに対して、１〜１００％であることが好ましく、１０〜１００％であることがより好ましく、５０〜１００％であることがさらに好ましい。
【００２５】  ｘ１／ｘ２比の調整は、層（Ａ）の形成をスパッタで行う場合を例に挙げると、ターゲットとして金属、もしくは、化学量論的に酸素が欠損した遷移金属酸化物を用い、スパッタの際に導入する酸素の量を適宜調整することで行うことができる。
【００２６】  ｘ１は、厚さ方向のＸＰＳの分析を用いてＭに対するＯの原子比により求めることができる。ｘ１の最小値がｘ１＜ｘ２となれば、ｘ１＜ｘ２である金属酸化物ＭＯｘ１を含むと言える。
【００２７】  《ＸＰＳの分析条件》  ・装置：アルバックファイ社製ＱＵＡＮＴＥＲＡＳＸＭ  ・Ｘ線源：単色化Ａｌ−Ｋα  ・測定領域：Ｓｉ２ｐ、Ｃ１ｓ、Ｎ１ｓ、Ｏ１ｓ、その他測定する金属に応じて定法により設定  ・スパッタイオン：Ａｒ（２ｋｅＶ）  ・デプスプロファイル：一定時間スパッタ後、測定を繰り返す。１回の測定は、ＳｉＯ２換算で、約２．５ｎｍの厚さ分となるようにスパッタ時間を調整する  ・定量：バックグラウンドをＳｈｉｒｌｅｙ法で求め、得られたピーク面積から相対感度係数法を用いて定量した。データ処理は、アルバックファイ社製のＭｕｌｔｉＰａｋを用いる。
【００２８】  遷移金属とは、第３族元素から第１２族元素を指し、遷移金属としては、Ｓｃ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｙ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｔｃ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ａｇ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐｍ、Ｓｍ、Ｅｕ、Ｇｄ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｈｏ、Ｅｒ、Ｔｍ、Ｙｂ、Ｌｕ、Ｈｆ、Ｔａ、Ｗ、Ｒｅ、Ｏｓ、Ｉｒ、Ｐｔ、およびＡｕなどが挙げられる。
【００２９】  中でも、遷移金属化合物中の遷移金属は、ケイ素よりも酸化還元電位が低い金属であることが好ましい。ケイ素よりも酸化還元電位の低い遷移金属の化合物を含む層とすることで、より良好なバリア性が得られる。ケイ素よりも酸化還元電位が低い金属の具体例としては、例えば、ニオブ、タンタル、バナジウム、ジルコニウム、チタン、ハフニウム、イットリウム、ランタン、セリウム等が挙げられる。これら金属は、単独でもまたは２種以上混合して用いてもよい。これらの中でも特に第５族元素であるニオブ、タンタル、バナジウムが、層（Ｂ）（好ましくは、ポリシラザン改質バリア層で構成される層（Ｂ））の酸化抑制効果が高いため、好ましく用いることができる。すなわち、本発明の好適な一実施形態は、遷移金属がバナジウム、ニオブおよびタンタルからなる群（第５族元素）より選択される少なくとも１種の金属である、封止フィルムである。さらに、光学特性の観点から、遷移金属化合物中の遷移金属は、透明性が良好な化合物が得られるニオブ、タンタルが特に好ましい。
【００３０】  以上のことから、遷移金属化合物としては、応力が加わった際に柔軟に電子を移動させて原子間距離を変化させることができる（更には層（Ｂ）の酸化による劣化も抑制できる）という観点から遷移金属酸化物が好ましい。上記効果に加え酸化抑制効果が高いという観点から遷移金属が第５族元素より選択される少なくとも１種である遷移金属酸化物がより好ましい。更に上記した各効果に加え光学特性に優れるという観点から、遷移金属がニオブおよびタンタルの少なくとも１種である遷移金属酸化物がさらに好ましい。更に上記した各効果に加え長期間折り曲げや巻き付けを繰り返しても耐透湿性が高いという観点から、遷移金属化合物が、（第５族元素の酸化物の中でも）酸化ニオブを含有していることが特に好ましいものである。
【００３１】  主要な遷移金属の標準酸化還元電位およびｘ２を下表に示す。
【００３２】
【表１】
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【００３３】  層（Ａ）中における遷移金属化合物の含有量は、本発明の効果を奏する限り特に限定されないが、遷移金属化合物の含有量が、層（Ａ）の全質量に対して５０質量％以上であることが好ましく、８０質量％以上であることがより好ましく、９５質量％以上であることがさらに好ましく、９８質量％以上であることが特に好ましく、１００質量％である（すなわち、層（Ａ）は遷移金属化合物からなる）ことが最も好ましい。
【００３４】  層（Ａ）の形成方法は、金属元素と酸素との組成比を調整しやすいという観点から、気相成膜法が好適である。気相成膜法としては、特に制限されず、例えば、スパッタ法、蒸着法、イオンプレーティング法等の物理気相成長（ＰＶＤ）法、プラズマＣＶＤ（ｃｈｅｍｉｃａｌ  ｖａｐｏｒ  ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）法、ＡＬＤ（Ａｔｏｍｉｃ  Ｌａｙｅｒ  Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）などの化学気相成長法が挙げられる。中でも、下層へのダメージを与えることなく成膜が可能となり、高い生産性を有することから、スパッタ法により形成することが好ましい。
【００３５】  スパッタ法による成膜は、２極スパッタリング、マグネトロンスパッタリング、中間的な周波数領域を用いたデュアルマグネトロン（ＤＭＳ）スパッタリング、イオンビームスパッタリング、ＥＣＲスパッタリングなどを単独でまたは２種以上組み合わせて用いることができる。また、ターゲットの印加方式はターゲット種に応じて適宜選択され、ＤＣ（直流）スパッタリング、およびＲＦ（高周波）スパッタリングのいずれを用いてもよい。また、金属モードと、酸化物モードの中間である遷移モードを利用した反応性スパッタ法も用いることができる。遷移モード（領域）となるようにスパッタ現象を制御することにより、高い成膜スピードで金属酸化物を成膜することが可能となるため好ましい。ＤＣスパッタリングやＤＭＳスパッタリングを行なう際には、そのターゲットに遷移金属を用い、さらに、プロセスガス中に酸素を導入することで、遷移金属酸化物の薄膜を形成することができる。また、ＲＦ（高周波）スパッタリングで成膜する場合は、遷移金属の酸化物のターゲットを用いることができる。プロセスガスに用いられる不活性ガスとしては、Ｈｅ、Ｎｅ、Ａｒ、Ｋｒ、Ｘｅ等を用いることができ、Ａｒを用いることが好ましい。さらに、プロセスガス中に酸素、窒素、二酸化炭素、一酸化炭素を導入することで、遷移金属の酸化物、窒化物、窒酸化物、炭酸化物等の遷移金属化合物薄膜を作ることができる。スパッタ法における成膜条件としては、印加電力、放電電流、放電電圧、時間等が挙げられるが、これらは、スパッタ装置や、膜の材料、膜厚等に応じて適宜選択することができる。中でも、成膜レートがより高く、より高い生産性を有することから、遷移金属の酸化物をターゲットとして用いるスパッタ法が好ましい。
【００３６】  層（Ａ）は、単層でもよいし２層以上の積層構造であってもよい。層（Ａ）が２層以上の積層構造である場合、層（Ａ）に含まれる遷移金属化合物は同じものであってもよいし、異なるものであってもよい。
【００３７】  層（Ａ）は、上記したように層（Ｂ）の酸化を抑制しガスバリア性を維持する機能を有する層であると考えられるため、層（Ｂ）と併用する場合には、必ずしも単層（層（Ａ）のみ）で十分なガスバリア性は必要ではない。したがって、層（Ａ）は比較的薄い層でも効果を発揮し得る。更に層（Ａ）を比較的薄い層とすることでフレキシブル性能を高めることができる点でも好ましい。具体的には、基材上に層（Ｂ）、層（Ａ）の順に配置されたガスバリア層の層構成の場合には、層（Ａ）の厚さ（２層以上の積層構造である場合はその総厚）は、バリア性の面内均一性の観点から、１〜２００ｎｍであることが好ましく、２〜１００ｎｍであることがより好ましく、３〜５０ｎｍであることがさらに好ましい。特に５０ｎｍ以下であれば、層（Ａ）の成膜の生産性がより向上する。また、基材上に層（Ａ）、層（Ｂ）の順に配置されたガスバリア層の層構成の場合には、層（Ａ）の厚さ（２層以上の積層構造である場合はその総厚）は、バリア性の面内均一性の観点から、１〜２００ｎｍであることが好ましく、２〜１５０ｎｍであることがより好ましく、２０〜１５０ｎｍであることがさらに好ましい。
【００３８】  ［（Ｂ）遷移金属化合物を含まない層］  本発明に係る封止フィルムは、ガスバリア層として、遷移金属化合物を含まない層（Ｂ）を有するのが好ましい。遷移金属化合物を含まない層（Ｂ）は、単層で十分なガスバリア性を有するものがより好ましく、さらに好ましくは、ポリシラザンを含有する塗布液を塗布および乾燥して得られる塗膜に真空紫外線を照射して形成されてなる層（Ｂ）である。この場合、真空紫外線の照射により、層（Ｂ）はガスバリア性を発現する。また、気相成膜法で形成される場合とは異なり、成膜時にパーティクル等の異物混入がないため、欠陥の非常に少ないガスバリア層となる。但し、本発明の封止フィルムでは、ガスバリア層を構成する層（Ｂ）は、上記製法により得られるものに制限されず、単層で十分なガスバリア性を奏するものであれば、他のいかなる製法を用いて形成されたものであってもよい。以下、層（Ｂ）の構成につき説明するが、製法に関しては、好適な層（Ｂ）である、ポリシラザンを含有する塗布液を塗布および乾燥して得られる塗膜に真空紫外線を照射して形成されてなる層（Ｂ）の製法を例にとり説明する。
【００３９】  層（Ｂ）は、単層でもよいし２層以上の積層構造であってもよい。
【００４０】  層（Ｂ）の１層あたりの厚さは、ガスバリア性能の観点から、１０〜５００ｎｍであることが好ましい。２層以上の積層構造である場合、その総厚は、クラック抑制の観点から、１０００ｎｍ以下であることが好ましい。基材上に層（Ｂ）、層（Ａ）の順に配置されたガスバリア層の層構成の場合には、ガスバリア性能の観点から、層（Ｂ）の１層あたりの厚さは、５０〜３００ｎｍであることがより好ましい。基材上に層（Ａ）、層（Ｂ）の順に配置されたガスバリア層の層構成の場合には、層（Ｂ）を構成する無機材料、特に好適な層（Ｂ）を構成するポリシラザンの改質領域が層（Ａ）と層（Ｂ）との界面側に形成されることが好ましい。このため、真空紫外線照射処理の場合（好適な層（Ｂ）を形成する場合）には、真空紫外光が層（Ａ）と層（Ｂ）との界面近傍にまで透過することが好ましい。これは、バリア性を発現するポリシラザン改質領域が、層（Ａ）と接して形成されることで、耐酸化性が向上するためである。真空紫外光は、ポリシラザン層によって吸収されるため、真空紫外光が層（Ａ）と層（Ｂ）との界面近傍にまで透過するためには、ポリシラザン塗布層が比較的薄い方が好ましい。このため、基材上に層（Ａ）、層（Ｂ）の順に配置されたガスバリア層の層構成の場合には、基材上に層（Ｂ）、層（Ａ）の順に配置されたガスバリア層の層構成の場合よりも、層（Ｂ）の１層あたりの厚さの好適な範囲は薄い範囲となり、フレキシブル性能を高めることができる。かかる観点から、基材上に層（Ａ）、層（Ｂ）の順に配置されたガスバリア層の層構成の場合には、層（Ｂ）の１層あたりの厚さは、１０〜１５０ｎｍであることがより好ましい。
【００４１】  層（Ｂ）の厚さは、透過型電子顕微鏡（Ｔｒａｎｓｍｉｓｓｉｏｎ  Ｅｌｅｃｔｒｏｎ  Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｅ；ＴＥＭ）観察により測定することができる。
【００４２】  層（Ｂ）は、上記したように如何なる製法を用いて形成してもよいが、好ましくはポリシラザンを含有する塗布液を塗布および乾燥して得られる塗膜に真空紫外線を照射して形成されるものである。ここで、ポリシラザンとは、ケイ素−窒素結合を有するポリマーであり、Ｓｉ−Ｎ、Ｓｉ−Ｈ、Ｎ−Ｈ等の結合を有するＳｉＯ２、Ｓｉ３Ｎ４、および両方の中間固溶体ＳｉＯｘＮｙ等のセラミック前駆体無機ポリマーである。
【００４３】  具体的には、ポリシラザンは、好ましくは下記の構造を有する。
【００４４】
【化１】
2016152817.tif 000004
【００４５】  上記一般式（Ｉ）において、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は、それぞれ独立して、水素原子、置換または非置換の、アルキル基、アリール基、ビニル基または（トリアルコキシシリル）アルキル基である。この際、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は、それぞれ、同じであってもあるいは異なるものであってもよい。
【００４６】  また、上記一般式（Ｉ）において、ｎは、整数であり、上記一般式（Ｉ）で表される構造を有するポリシラザンが１５０〜１５０，０００ｇ／モルの数平均分子量を有するように定められることが好ましい。
【００４７】  上記一般式（Ｉ）で表される構造を有する化合物において、好ましい態様の一つは、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３のすべてが水素原子であるパーヒドロポリシラザンである。
【００４８】  または、ポリシラザンとしては、下記一般式（ＩＩ）で表される構造を有する。
【００４９】
【化２】
2016152817.tif 000005
【００５０】  上記一般式（ＩＩ）において、Ｒ１’、Ｒ２’、Ｒ３’、Ｒ４’、Ｒ５’およびＲ６’は、それぞれ独立して、水素原子、置換または非置換の、アルキル基、アリール基、ビニル基または（トリアルコキシシリル）アルキル基である。この際、Ｒ１’、Ｒ２’、Ｒ３’、Ｒ４’、Ｒ５’およびＲ６’は、それぞれ、同じであってもあるいは異なるものであってもよい。また、上記一般式（ＩＩ）において、ｎ’およびｐは、整数であり、一般式（ＩＩ）で表される構造を有するポリシラザンが１５０〜１５０，０００ｇ／モルの数平均分子量を有するように定められることが好ましい。なお、ｎ’およびｐは、同じであってもあるいは異なるものであってもよい。
【００５１】  上記一般式（ＩＩ）のポリシラザンのうち、Ｒ１’、Ｒ３’およびＲ６’が各々水素原子を表し、Ｒ２’、Ｒ４’およびＲ５’が各々メチル基を表す化合物；Ｒ１’、Ｒ３’およびＲ６’が各々水素原子を表し、Ｒ２’、Ｒ４’が各々メチル基を表し、Ｒ５’がビニル基を表す化合物；Ｒ１’、Ｒ３’、Ｒ４’およびＲ６’が各々水素原子を表し、Ｒ２’およびＲ５’が各々メチル基を表す化合物が好ましい。
【００５２】  または、ポリシラザンとしては、下記一般式（ＩＩＩ）で表される構造を有する。
【００５３】
【化３】
2016152817.tif 000006
【００５４】  上記一般式（ＩＩＩ）において、Ｒ１”、Ｒ２”、Ｒ３”、Ｒ４”、Ｒ５”、Ｒ６”、Ｒ７”、Ｒ８”およびＲ９”は、それぞれ独立して、水素原子、置換または非置換の、アルキル基、アリール基、ビニル基または（トリアルコキシシリル）アルキル基である。この際、Ｒ１”、Ｒ２”、Ｒ３”、Ｒ４”、Ｒ５”、Ｒ６”、Ｒ７”、Ｒ８”およびＲ９”は、それぞれ、同じであってもあるいは異なるものであってもよい。
【００５５】  また、上記一般式（ＩＩＩ）において、ｎ”、ｐ”およびｑは、整数であり、一般式（ＩＩＩ）で表される構造を有するポリシラザンが１５０〜１５０，０００ｇ／モルの数平均分子量を有するように定められることが好ましい。なお、ｎ”、ｐ”およびｑは、同じであってもあるいは異なるものであってもよい。
【００５６】  上記一般式（ＩＩＩ）のポリシラザンのうち、Ｒ１”、Ｒ３”およびＲ６”が各々水素原子を表し、Ｒ２”、Ｒ４”、Ｒ５”およびＲ８”が各々メチル基を表し、Ｒ９”が（トリエトキシシリル）プロピル基を表し、Ｒ７”がアルキル基または水素原子を表す化合物が好ましい。
【００５７】  一方、そのＳｉと結合する水素原子部分の一部がアルキル基等で置換されたオルガノポリシラザンは、メチル基等のアルキル基を有することにより下地である基材との接着性が改善され、かつ硬くて脆いポリシラザンによる無機膜（セラミック膜）に靭性を持たせることができ、フレキシブル性を損なわない範囲で、より（平均）膜厚を厚くした場合でもクラックの発生が抑えられる利点がある。このため、用途に応じて適宜、これらパーヒドロポリシラザンとオルガノポリシラザンとを選択してよく、混合して使用することもできる。
【００５８】  パーヒドロポリシラザンは、直鎖構造と６および８員環を中心とする環構造とが存在する構造と推定されている。その分子量は数平均分子量（Ｍｎ）で約６００〜２０００程度（ポリスチレン換算）で、液体または固体の物質があり、その状態は分子量により異なる。
【００５９】  ポリシラザンは有機溶媒に溶解した溶液状態で市販されており、市販品をそのまま層（Ｂ）形成用塗布液として使用することができる。ポリシラザン溶液の市販品としては、ＡＺエレクトロニックマテリアルズ株式会社製のＮＮ１２０−１０、ＮＮ１２０−２０、ＮＡＸ１２０−２０、ＮＮ１１０、ＮＮ３１０、ＮＮ３２０、ＮＬ１１０Ａ、ＮＬ１２０Ａ、ＮＬ１２０−２０、ＮＬ１５０Ａ、ＮＰ１１０、ＮＰ１４０、ＳＰ１４０等が挙げられる。これらポリシラザン溶液は、単独でもまたは２種以上組み合わせても用いることができる。
【００６０】  本発明で使用できるポリシラザンの別の例としては、以下に制限されないが、例えば、上記ポリシラザンにケイ素アルコキシドを反応させて得られるケイ素アルコキシド付加ポリシラザン（特開平５−２３８８２７号公報）、グリシドールを反応させて得られるグリシドール付加ポリシラザン（特開平６−１２２８５２号公報）、アルコールを反応させて得られるアルコール付加ポリシラザン（特開平６−２４０２０８号公報）等の、低温でセラミック化するポリシラザンが挙げられる。
【００６１】  ポリシラザンを用いる場合、真空紫外線照射前の層（Ｂ）の塗膜中におけるポリシラザンの含有率としては、層（Ｂ）の塗膜（固形分）の全質量を１００質量％としたとき、１００質量％でありうる。また、真空紫外線照射前の層（Ｂ）がポリシラザン以外のものを含む場合には、層（Ｂ）の塗膜中におけるポリシラザンの含有率は、１０質量％以上９９質量％以下であることが好ましく、４０質量％以上９５質量％以下であることがより好ましく、特に好ましくは７０質量％以上９５質量％以下である。
【００６２】  （層（Ｂ）形成用塗布液）  層（Ｂ）の形成に用いられる好適なポリシラザン含有塗布液（以下、層（Ｂ）形成用塗布液）という）を調製するための溶剤としては、ポリシラザンを溶解できるものであれば特に制限されないが、ポリシラザンと容易に反応してしまう水および反応性基（例えば、ヒドロキシル基、あるいはアミン基等）を含まず、ポリシラザンに対して不活性の有機溶剤が好ましく、非プロトン性の有機溶剤がより好ましい。具体的には、溶剤としては、非プロトン性溶剤；例えば、ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン、トルエン、キシレン、ソルベッソ、ターペン等の、脂肪族炭化水素、脂環式炭化水素、芳香族炭化水素等の炭化水素溶媒；塩化メチレン、トリクロロエタン等のハロゲン炭化水素溶媒；酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類；アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類；ジブチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン等の脂肪族エーテル、脂環式エーテル等のエーテル類：例えば、テトラヒドロフラン、ジブチルエーテル、モノ−およびポリアルキレングリコールジアルキルエーテル（ジグライム類）などを挙げることができる。上記溶剤は、ポリシラザンの溶解度や溶剤の蒸発速度等の目的にあわせて選択され、単独で使用されてもまたは２種以上の混合物の形態で使用されてもよい。
【００６３】  層（Ｂ）形成用塗布液におけるポリシラザンの濃度は、特に制限されず、層の膜厚や塗布液のポットライフによっても異なるが、好ましくは１〜８０質量％、より好ましくは５〜５０質量％、さらに好ましくは１０〜４０質量％である。
【００６４】  層（Ｂ）形成用塗布液は、改質を促進するために、触媒を含有することが好ましい。本発明に適用可能な触媒としては、塩基性触媒が好ましく、特に、Ｎ，Ｎ−ジエチルエタノールアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルエタノールアミン、トリエタノールアミン、トリエチルアミン、３−モルホリノプロピルアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチル−１，３−ジアミノプロパン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチル−１，６−ジアミノヘキサン等のアミン触媒、Ｐｔアセチルアセトナート等のＰｔ化合物、プロピオン酸Ｐｄ等のＰｄ化合物、Ｒｈアセチルアセトナート等のＲｈ化合物等の金属触媒、Ｎ−複素環式化合物が挙げられる。これらのうち、アミン触媒を用いることが好ましい。この際添加する触媒の濃度としては、層（Ｂ）形成用塗布液を基準としたとき、好ましくは０．１〜１０質量％、より好ましくは０．５〜７質量％の範囲である。触媒添加量をこの範囲とすることで、反応の急激な進行による過剰なシラノール形成、および膜密度の低下、膜欠陥の増大などを避けることができる。
【００６５】  層（Ｂ）形成用塗布液には、必要に応じて下記に挙げる添加剤を用いることができる。例えば、セルロースエーテル類、セルロースエステル類；例えば、エチルセルロース、ニトロセルロース、セルロースアセテート、セルロースアセトブチレート等、天然樹脂；例えば、ゴム、ロジン樹脂等、合成樹脂；例えば、重合樹脂等、縮合樹脂；例えば、アミノプラスト、特に尿素樹脂、メラミンホルムアルデヒド樹脂、アルキド樹脂、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂もしくは変性ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、ポリイソシアネートもしくはブロック化ポリイソシアネート、ポリシロキサン等である。
【００６６】  （層（Ｂ）形成用塗布液を塗布する方法）  層（Ｂ）形成用塗布液を塗布する方法としては、従来公知の適切な湿式塗布方法が採用され得る。具体例としては、スピンコート法、ロールコート法、フローコート法、インクジェット法、スプレーコート法、プリント法、ディップコート法、流延成膜法、バーコート法、ダイコート法、グラビア印刷法等が挙げられる。
【００６７】  塗布厚さは、好ましい厚さや目的に応じて適切に設定され得る。
【００６８】  塗布液を塗布した後は、塗膜を乾燥させることが好ましい。塗膜を乾燥することによって、塗膜中に含有される有機溶媒を除去することができる。この際、塗膜に含有される有機溶媒は、すべてを乾燥させてもよいが、一部残存させていてもよい。一部の有機溶媒を残存させる場合であっても、好適な層（Ｂ）が得られうる。なお、残存する溶媒は後に除去されうる。
【００６９】  塗膜の乾燥温度は、適用する基材によっても異なるが、５０〜２００℃であることが好ましい。例えば、ガラス転移温度（Ｔｇ）が７０℃のポリエチレンテレフタレート基材を基材として用いる場合には、乾燥温度は、熱による基材の変形等を考慮して１５０℃以下に設定することが好ましい。上記温度は、ホットプレート、オーブン、ファーネスなどを使用することによって設定されうる。乾燥時間は短時間に設定することが好ましく、例えば、乾燥温度が１５０℃である場合には３０分以内に設定することが好ましい。また、乾燥雰囲気は、大気雰囲気下、窒素雰囲気下、アルゴン雰囲気下、真空雰囲気下、酸素濃度をコントロールした減圧雰囲気下等のいずれの条件であってもよい。
【００７０】  層（Ｂ）形成用塗布液を塗布して得られた塗膜は、真空紫外線の照射前または真空紫外線の照射中に水分を除去する工程を含んでいてもよい。水分を除去する方法としては、低湿度環境を維持して除湿する形態が好ましい。低湿度環境における湿度は温度により変化するので、温度と湿度の関係は露点温度の規定により好ましい形態が示される。好ましい露点温度は４℃以下（温度２５℃／湿度２５％ＲＨ）で、より好ましい露点温度は−５℃以下（温度２５℃／湿度１０％ＲＨ）であり、維持される時間は層（Ｂ）の膜厚によって適宜設定することが好ましい。具体的には、露点温度は−５℃以下で、維持される時間は１分以上であることが好ましい。なお、露点温度の下限は特に制限されないが、通常、−５０℃以上であり、−４０℃以上であることが好ましい。真空紫外線の照射（改質処理）前、あるいは真空紫外線の照射（改質処理）中に水分を除去することによって、シラノールに転化した層（Ｂ）の脱水反応を促進する観点から好ましい形態である。
【００７１】  ＜真空紫外線照射＞  続いて、上記のようにして形成された塗膜に対して、真空紫外線を照射し、ポリシラザンの酸窒化ケイ素等への転化反応を行い、ガスバリア層を構成する層（Ｂ）がガスバリア性を発現しうる無機薄膜への改質を行う。
【００７２】  真空紫外線照射は、バッチ処理にも連続処理にも適合可能であり、使用する基材の形状によって適宜選定することができる。例えば、バッチ処理の場合には、真空紫外線発生源を具備した紫外線焼成炉で処理することができる。紫外線焼成炉自体は一般に知られており、例えば、アイグラフィクス株式会社製の紫外線焼成炉を使用することができる。また、対象が長尺フィルム状である場合には、これを搬送させながら上記のような真空紫外線発生源を具備した乾燥ゾーンで連続的に真空紫外線を照射することによりセラミックス化することができる。真空紫外線照射に要する時間は、使用する基材や層（Ｂ）の組成、濃度にもよるが、一般に０．１秒〜１０分であり、好ましくは０．５秒〜３分である。
【００７３】  （真空紫外線照射処理：エキシマ照射処理）  真空紫外線照射による改質は、ポリシラザン化合物内の原子間結合力より大きい１００〜２００ｎｍの光エネルギーを用い、好ましくは１００〜１８０ｎｍの波長の光エネルギーを用い、原子の結合を光量子プロセスと呼ばれる光子のみの作用により、直接切断しながら活性酸素やオゾンによる酸化反応を進行させることで、比較的低温（約２００℃以下）で、層（Ｂ）（酸窒化ケイ素等を含む無機薄膜）の形成を行う方法である。なお、真空紫外線照射処理（エキシマ照射処理）を行う際は、熱処理を併用することが好ましい。
【００７４】  本発明においての真空紫外線源は、１００〜２００ｎｍ、好ましくは１００〜１８０ｎｍの波長の光を発生させるものであればよいが、好適には約１７２ｎｍに最大放射を有するエキシマラジエータ（例えば、Ｘｅエキシマランプ）、約１８５ｎｍに輝線を有する低圧水銀蒸気ランプ、並びに２３０ｎｍ以下の波長成分を有する中圧および高圧水銀蒸気ランプ、および約２２２ｎｍに最大放射を有するエキシマランプである。
【００７５】  このうち、Ｘｅエキシマランプは、波長の短い１７２ｎｍの紫外線を単一波長で放射することから、発光効率に優れている。この光は、酸素の吸収係数が大きいため、微量な酸素でラジカルな酸素原子種やオゾンを高濃度で発生することができる。
【００７６】  また、波長の短い１７２ｎｍの光のエネルギーは、有機物の結合を解離させる能力が高いことが知られている。この活性酸素やオゾンと紫外線放射が持つ高いエネルギーによって、短時間でポリシラザン塗膜の改質を実現できる。
【００７７】  エキシマランプは光の発生効率が高いため、低い電力の投入で点灯させることが可能である。また、光による温度上昇の要因となる波長の長い光は発せず、紫外線領域で、すなわち短い波長でエネルギーを照射するため、照射対象物の表面温度の上昇が抑えられる特徴を持っている。このため、熱の影響を受けやすいとされるＰＥＴなどのフレシキブルフィルム材料に適している。
【００７８】  真空紫外線照射時の反応には、酸素が必要であるが、真空紫外線は、酸素による吸収があるため紫外線照射工程での効率が低下しやすいことから、真空紫外線の照射は、可能な限り酸素濃度および水蒸気濃度の低い状態で行うことが好ましい。すなわち、真空紫外線照射時の酸素濃度は、１０〜２０，０００体積ｐｐｍ（０．００１〜２体積％）とすることが好ましく、５０〜１０，０００体積ｐｐｍ（０．００５〜１体積％）とすることがより好ましい。また、真空紫外線照射時（転化プロセスの間）の水蒸気濃度は、好ましくは１０００〜４０００体積ｐｐｍの範囲である。
【００７９】  真空紫外線照射時に用いられる、照射雰囲気を満たすガスとしては乾燥不活性ガスとすることが好ましく、特にコストの観点から乾燥窒素ガスにすることが好ましい。酸素濃度の調整は照射庫（照射装置）内へ導入する酸素ガス、不活性ガスの流量を計測し、流量比を変えることで調整可能である。
【００８０】  真空紫外線照射工程において、ポリシラザン塗膜が受ける塗膜面での該真空紫外線の照度は１ｍＷ／ｃｍ２〜１０Ｗ／ｃｍ２であると好ましく、３０ｍＷ／ｃｍ２〜２００ｍＷ／ｃｍ２であることがより好ましく、５０ｍＷ／ｃｍ２〜１６０ｍＷ／ｃｍ２であるとさらに好ましい。１ｍＷ／ｃｍ２以上であれば、改質効率が向上し、１０Ｗ／ｃｍ２以下であれば、塗膜に生じ得るアブレーションや、基材へのダメージを低減することができる。
【００８１】  本発明においては、塗膜の表面における真空紫外線の照射エネルギー量（照射量）は、１Ｊ／ｃｍ２以上である。照射エネルギー量が１Ｊ／ｃｍ２以上であれば、層（Ｂ）のガスバリア性の保存安定性が向上し、高温高湿条件下の保存での十分なガスバリア性が発現できる。該照射エネルギー量は、製造安定性（層（Ｂ）を形成した後の保管環境下でも、ガスバリア性能の低下がおきない、または少ない特性）の観点からは、１．５Ｊ／ｃｍ２以上が好ましく、２．０Ｊ／ｃｍ２以上がより好ましく、２．５Ｊ／ｃｍ２以上がさらに好ましく、４．０Ｊ／ｃｍ２以上が特に好ましい。一方、照射エネルギー量の上限値は、特に制限されないが、１０Ｊ／ｃｍ２以下であることが好ましく、８Ｊ／ｃｍ２以下であることがより好ましい。この範囲であれば、過剰改質によるクラックの発生や、基材の熱変形を抑制することができ、また生産性が向上する。
【００８２】  用いられる真空紫外線は、ＣＯ、ＣＯ２およびＣＨ４の少なくとも一種を含むガスで形成されたプラズマにより発生させてもよい。さらに、ＣＯ、ＣＯ２およびＣＨ４の少なくとも一種を含むガス（以下、炭素含有ガスとも称する）は、炭素含有ガスを単独で使用してもよいが、希ガスまたはＨ２を主ガスとして、炭素含有ガスを少量添加することが好ましい。プラズマの生成方式としては容量結合プラズマなどが挙げられる。
【００８３】  ［接着層］  本発明に係る接着層１５は、ガスバリア層１４上に配置されることで、封止フィルム１０の最上層に位置し、封止フィルム１０と機能素子（素子を設けた素子側基板）とを接着させる機能を有している（図１、２参照）。
【００８４】  接着層の形成に使用できる接着剤（粘着剤を含む）は、紫外線（ＵＶ）硬化型樹脂や熱硬化型樹脂等、公知の接着剤を使用することができる。硬化型樹脂の中では、湿度耐性の点で優れる熱硬化型樹脂が好ましい。更に、接着層の形成に使用できる接着剤（粘着剤を含む）としては、以下に説明するイソプレン、イソブテン、及びブタジエンよりなる群から選ばれた少なくとも１種を重合成分とする単独重合体樹脂又は共重合体樹脂を含有する粘着剤（例えば、ポリイソブテン系粘着剤等）を使用するのがより好ましい（ポリイソブテン系粘着剤を用いた実施例３〜５と熱硬化型樹脂接着剤を用いた実施例１〜２とを対比参照のこと）。
【００８５】  本発明に係る接着層は、イソプレン、イソブテン、及びブタジエンよりなる群から選ばれた少なくとも１種を重合成分とする単独重合体樹脂又は共重合体樹脂を含有することが耐透湿性を向上させる上で好ましい。また、熱硬化型樹脂（例えば、エポキシ系樹脂）等の接着剤は、湿度耐性の点で優れるものであるが、湿度耐性を向上するにはより硬くする必要があり、フレキシブル性を向上する観点からは、柔軟性に加え粘着性があり、耐透湿性に優れる上記イソプレン等を重合成分とする樹脂を含有するものがよい。
【００８６】  また、前記接着層は、耐透湿性の観点から吸湿性金属酸化物、イオン液体、無機充填剤及び硬化促進剤等を含有してもよい。
【００８７】  〔イソプレン、イソブテン、及びブタジエンよりなる群から選ばれた少なくとも１種を重合成分とする単独重合体樹脂又は共重合体樹脂〕  本発明において好ましく使用されるイソプレン、イソブテン、及びブタジエンよりなる群から選ばれた少なくとも１種を重合成分とする単独重合体樹脂又は共重合体樹脂とは、イソプレン、イソブテン、及びブタジエンよりなる群から選ばれた少なくとも１種を主体とするポリマーである。
【００８８】  イソプレン、イソブテン、及びブタジエンよりなる群から選ばれた少なくとも１種を主体とするポリマーには、それぞれの単独重合体であるポリイソプレン樹脂（ＩＲ）、ポリイソブテン樹脂、ポリブタジエン樹脂（ＢＲ）があり、これらの共重合体（例えばポリイソブテン−イソプレン共重合体（ＩＩＲ））がある。
【００８９】  またイソプレン、イソブテン、及びブタジエンよりなる群から選ばれた少なくとも１種とそれ以外の単量体成分からなる共重合体でもよい。イソプレン、イソブテン、及びブタジエンよりなる群から選ばれたもの以外の単量体成分としては、スチレン、エチレン、プロピレン、アクリロニトリル、塩化ビニル、臭化ビニル、水添スチレン、ペンタジエン、シクロペンタジエン、ジシクロペンタジエン等が例示でき、これらは１種又は２種以上を使用することができる。イソプレン、イソブテン、及びブタジエンよりなる群から選ばれた少なくとも１種とそれ以外の単量体成分からなる共重合体としては、例えばポリスチレン−ブタジエン共重合体（ＳＢＲ）やポリブタジエン−アクリロニトリル共重合体（ＮＢＲ）がある。
【００９０】  上記共重合体においてイソプレン、イソブテン、及びブタジエンよりなる群から選ばれた少なくとも１種の占める割合は、ポリマー全体の５０質量％以上が好ましく、より好ましくは６０質量％以上、さらに好ましくは８０質量％以上、とりわけ好ましくは９０質量％以上である。
【００９１】  上記イソプレン、イソブテン、及びブタジエンよりなる群から選ばれた少なくとも１種を主体とするポリマーはイソブテンを主体とする重合体が好ましい。
【００９２】  上記イソプレン、イソブテン、及びブタジエンよりなる群から選ばれた少なくとも１種を主体とするポリマーは市販品として、オパノールＢ１２、Ｂ１５、Ｂ５０、Ｂ８０、Ｂ１００、Ｂ１２０、Ｂ１５０、Ｂ２２０（ＢＡＳＦ社製）、ＪＳＲブチル０６５、２６８、３６５（ＪＳＲ社製）、ビスタネックスＬＭ−ＭＳ，ＭＨ，Ｈ、ＭＭＬ−８０，１００，１２０，１４０（エクソン・ケミカル社製）、ＨＹＣＡＲ（グッドリッチ社製）、ＳＩＢＳＴＡＲ  Ｔ１０２（カネカ社製）、Ｔｅｔｒａｘ３Ｔ（新日本石油社製）、クラプレンＬＩＲ−５０（クラレ社製）、などが挙げられる。これらは１種または２種以上を組み合わせて使用してもよい。
【００９３】  上記イソプレン、イソブテン、及びブタジエンよりなる群から選ばれた少なくとも１種を主体とするポリマーの粘度平均分子量には本発明の効果を発現させるために適する範囲があり、上限は、１，２００，０００以下が好ましく、１，１００，０００以下がより好ましく、１，０００，０００以下が更に好ましい。下限は１００，０００以上が好ましく、２００，０００以上がより好ましく、３００，０００以上が更に好ましい。また、室温（２５℃）で固体状であるのが好ましい。なお本発明における粘度平均分子量は、常法に従って、所定温度でのポリマー希薄溶液の粘度を測定し得られた極限粘度の値から粘度式を用いて求められる。または、樹脂の溶融粘度からフローリーの溶融粘度式によっても求められる。
【００９４】  また本発明のイソプレン、イソブテン、及びブタジエンよりなる群から選ばれた少なくとも１種を重合成分とする単独重合体樹脂又は共重合体樹脂にはさらにエポキシ基と反応し得る官能基を有するイソプレン、イソブテン、及びブタジエンよりなる群から選ばれた少なくとも１種を重合成分とする単独重合体樹脂又は共重合体樹脂を含有させても良い。更に他の樹脂、例えば、テルペン樹脂、変性テルペン樹脂（水素添加テルペン樹脂、テルペンフェノール共重合樹脂、芳香族変性テルペン樹脂等）、クマロン樹脂、インデン樹脂、石油樹脂（脂肪族系石油樹脂、水添脂環式石油樹脂、芳香族系石油樹脂、脂肪族芳香族共重合系石油樹脂、脂環族系石油樹脂、ジシクロペンタジエン系石油樹脂およびその水素化物等）等の樹脂を含有させてもよい。他の樹脂は市販品を用いてもよく、テルペン樹脂として、ＹＳレジンＰＸ、ＹＳレジンＰＸＮ（いずれもヤスハラケミカル社製）等が挙げられ、芳香族変性テルペン樹脂として、ＹＳレジンＴＯ、ＴＲシリーズ（いずれもヤスハラケミカル社製）等が挙げられ、水素添加テルペン樹脂として、クリアロンＰ、クリアロンＭ、クリアロンＫシリーズ（いずれもヤスハラケミカル社製）等が挙げられ、テルペンフェノール共重合樹脂として、ＹＳポリスター２０００、ポリスターＵ、ポリスターＴ、ポリスターＳ、マイティエースＧ（いずれもヤスハラケミカル社製）等が挙げられ、水添脂環式石油樹脂として、Ｅｓｃｏｒｅｚ（登録商標）５３００シリーズ、５６００シリーズ（いずれもエクソンモービル社製）、芳香族系石油樹脂としてＥＮＤＥＸ（登録商標）１５５（イーストマン社製）、脂肪族芳香族共重合系石油樹脂としてＱｕｉｎｔｏｎｅＤ１００（日本ゼオン社製）、脂環族系石油樹脂としてＱｕｉｎｔｏｎｅ１３４５（日本ゼオン社製）などが挙げられる。
【００９５】  上記のエポキシ基と反応し得る官能基としては極性基を有するものが好ましく、例えば、酸無水物基［−Ｃ（Ｏ）−Ｏ−Ｃ（Ｏ）−］、カルボキシ基、エポキシ基、アミノ基、ヒドロキシ基、メルカプト基、スルフィド基、イソシアネート基、ブロックイソシアネート基、オキサゾリン基、オキセタン基、シアネート基、フェノール基［−Ｐｈ−ＯＨ］、ヒドラジド基、アミド基、イミダゾール基等が挙げられ、これらはいずれか１種であっても、２種以上であってもよい。上記のエポキシ基と反応し得る官能基としては酸無水物基が好ましい。
【００９６】  エポキシ基と反応し得る官能基を持つイソプレン、イソブテン、及びブタジエンよりなる群から選ばれた少なくとも１種を重合成分とする単独重合体樹脂又は共重合体樹脂の具体例としては、無水マレイン酸変性ポリイソブテン、無水フタル酸変性ポリイソブテン、メルカプト基変性ポリイソブテン、無水マレイン酸変性ポリイソプレン、エポキシ変性ポリイソプレン、ヒドロキシ基変性ポリイソプレン、アリル変性ポリイソプレン、無水マレイン酸変性ポリブタジエン、エポキシ変性ポリブタジエン、ヒドロキシ基変性ポリブタジエン等が挙げられ、なかでも、無水マレイン酸変性ポリイソブテン、無水マレイン酸変性ポリイソプレン、無水マレイン酸変性ポリブタジエンが好ましい。これらは１種又は２種以上組み合わせて使用してもよい。
【００９７】  エポキシ基と反応し得る官能基を持つイソプレン、イソブテン、及びブタジエンよりなる群から選ばれた少なくとも１種を重合成分とする単独重合体樹脂又は共重合体樹脂の数平均分子量は、本発明の効果を発現させるために適する範囲があり、上限は１００，０００以下が好ましく、５０，０００以下が更に好ましく、下限は３００以上が好ましく、７００以上が更に好ましい。
【００９８】  なお、本発明における数平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）法（ポリスチレン換算）で測定される。ＧＰＣ法による数平均分子量は、具体的には、測定装置として（株）島津製作所製ＬＣ−９Ａ／ＲＩＤ−６Ａを、カラムとして昭和電工社製Ｓｈｏｄｅｘ  Ｋ−８００Ｐ／Ｋ−８０４Ｌ／Ｋ−８０４Ｌを、移動相としてクロロホルム等を用いて、カラム温度４０℃にて測定し、標準ポリスチレンの検量線を用いて算出することができる。
【００９９】  エポキシ基と反応し得る官能基を持つイソプレン、イソブテン、及びブタジエンよりなる群から選ばれた少なくとも１種を重合成分とする単独重合体樹脂又は共重合体樹脂として使用できる市販品としては、無水マレイン酸変性ポリイソブテン：ＨＶ−１００Ｍ、ＨＶ−３００Ｍ（以上、新日本石油社製）、無水マレイン酸変性ポリイソプレン：クラプレンＬＩＲ−４０３、ＬＩＲ−４１０（以上、クラレ社製）、ヒドロキシ基変性ポリイソプレン：クラプレンＬＩＲ−５０６（クラレ社製）、アリル変性ポリイソプレン：クラプレンＵＣ−２０３、ＵＣ−１０２（以上、クラレ社製）、エポキシ変性イソプレン共重合ポリマー：クラプレンＫＬＰ  Ｌ−２０７（クラレ社製）、無水マレイン酸変性ブタジエン：Ｒｉｃｏｎ１３０ＭＡ８、Ｒｉｃｏｎ１３１ＭＡ５（以上、クレイバレー社製）、無水マレイン酸変性ブタジエン−スチレン共重合ポリマー：Ｒｉｃｏｎ１８４ＭＡ６（クレイバレー社製）、エポキシ変性ポリブタジエン：Ｒｉｃｏｎ６５７（クレイバレー社製）などが挙げられる。
【０１００】  エポキシ基と反応し得る官能基を持つイソプレン、イソブテン、及びブタジエンよりなる群から選ばれた少なくとも１種を重合成分とする単独重合体樹脂又は共重合体樹脂の含有量は、接着層中の不揮発分１００質量％に対し、上限としては５０質量％以下が好ましく、１０質量％以下がさらに好ましく、下限としては０．１質量％以上が好ましく、３質量％以上が更に好ましい。
【０１０１】  〔紫外線（ＵＶ）硬化型樹脂〕  紫外線（ＵＶ）硬化型樹脂は、紫外線照射により架橋反応等を経て硬化する樹脂で、エチレン性不飽和二重結合を有するモノマーを含む成分が好ましく用いられる。例えば、アクリルウレタン系樹脂、ポリエステルアクリレート系樹脂、エポキシアクリレート系樹脂、ポリオールアクリレート系樹脂等の種々のＵＶ硬化性樹脂が挙げられる。中でも、接着層の形成に使用できる接着剤（紫外線硬化型樹脂を含む樹脂組成物）として、アクリル系、アクリルウレタン系のＵＶ硬化型樹脂を主成分とすることが好ましい。
【０１０２】  アクリルウレタン系樹脂は、一般にポリエステルポリオールにイソシアネートモノマー、またはプレポリマーを反応させて得られた生成物にさらに２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート（以下アクリレートにはメタクリレートを包含するものとしてアクリレートのみを表示する）、２−ヒドロキシプロピルアクリレート等の水酸基を有するアクリレート系のモノマーを反応させることによって容易に得ることができる。例えば、特開昭５９−１５１１１０号に記載のものを用いることができる。例えば、ユニディック１７−８０６（大日本インキ（株）製）１００部とコロネート（登録商標）Ｌ（日本ポリウレタン（株）製）１部との混合物等が好ましく用いられる。
【０１０３】  紫外線硬化型ポリエステルアクリレート系樹脂としては、一般にポリエステルポリオールに２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシアクリレート系のモノマーを反応させると容易に形成されるものを挙げることができ、特開昭５９−１５１１１２号に記載のものを用いることができる。
【０１０４】  紫外線硬化型エポキシアクリレート系樹脂の具体例としては、エポキシアクリレートをオリゴマーとし、これに反応性希釈剤、光反応開始剤を添加し、反応させて生成するものを挙げることができ、特開平１−１０５７３８号に記載のものを用いることができる。
【０１０５】  紫外線硬化型ポリオールアクリレート系樹脂の具体例としては、トリメチロールプロパントリアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールペンタアクリレート等を挙げることができる。
【０１０６】  樹脂モノマー（上記エチレン性不飽和二重結合を有するモノマー）としては、例えば、不飽和二重結合を一つ持つモノマーとして、メチルアクリレート、エチルアクリレート、ブチルアクリレート、ベンジルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、酢酸ビニル、スチレン等の一般的なモノマーを挙げることができる。また不飽和二重結合を二つ以上持つモノマーとして、エチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、ジビニルベンゼン、１，４−シクロヘキサンジアクリレート、１，４−シクロヘキシルジメチルアジアクリレート、前出のトリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリルエステル等を挙げることができる。
【０１０７】  これらの中で、接着層の形成に使用できる接着剤（紫外線硬化型樹脂を含む樹脂組成物）の主成分として、１，４−シクロヘキサンジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパン（メタ）アクリレート、トリメチロールエタン（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，２，３−シクロヘキサンテトラ（メタ）アクリレート、ポリウレタンポリ（メタ）アクリレート、ポリエステルポリ（メタ）アクリレートから選択されるアクリル系の紫外線硬化樹脂が好ましい。
【０１０８】  これら紫外線硬化型樹脂の光反応開始剤としては、具体的には、ベンゾイン及びその誘導体、アセトフェノン、ベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、ミヒラーズケトン、α−アミロキシムエステル、チオキサントン等及びこれらの誘導体を挙げることができる。光増感剤と共に使用してもよい。上記光反応開始剤も光増感剤として使用できる。また、エポキシアクリレート系の光反応開始剤の使用の際、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−ブチルホスフィン等の増感剤を用いることができる。紫外線硬化型樹脂を含む樹脂組成物に用いられる光反応開始剤また光増感剤は該組成物１００質量部に対して０．１〜１５質量部であり、好ましくは１〜１０質量部である。
【０１０９】  封止フィルムと機能素子本体とを接着（貼合）し、紫外線等を照射して接着剤を硬化することにより、封止フィルムで封止された機能素子を得ることができる。ここで、接着方法は特に限定されることなく、シートプレス、ロールプレス等により行うことができるが、ロールプレス機を用いて行うことが好ましい。ロールプレスは、ロールとロールの間に接着すべきフィルムを挟んで圧着し、ロールを回転させる方法である。ロールプレスは均一に圧力がかけられ、シートプレスよりも生産性が良く好適に用いることができる。
【０１１０】  〔熱硬化性樹脂〕  熱硬化性樹脂は、特に制限はなく、具体的には、エポキシ樹脂、シアネートエステル樹脂、フェノール樹脂、ビスマレイミド−トリアジン樹脂、ポリイミド樹脂、アクリル樹脂、ビニルベンジル樹脂等の種々の熱硬化性樹脂が挙げられる。中でも、低温硬化性や接着性等の観点から、エポキシ樹脂が好ましい。
【０１１１】  エポキシ樹脂としては、平均して１分子当り２個以上のエポキシ基を有するものであればよく、具体的には、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂（例えば、液状ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂：ジャパンエポキシレジン社製「８２８ＥＬ」）、ビフェニル型エポキシ樹脂、ビフェニルアラルキル型エポキシ樹脂（例えば、日本化薬社製「ＮＣ３０００」）、ナフトール型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、リン含有エポキシ樹脂、ビスフェノールＳ型エポキシ樹脂、芳香族グリシジルアミン型エポキシ樹脂（具体的には、テトラグリシジルジアミノジフェニルメタン、トリグリシジル−ｐ−アミノフェノール、ジグリシジルトルイジン、ジグリシジルアニリン等、例えば、オルソトルイジンジグリシジルアミン：日本化薬社製「ＧＯＴ」）、脂環式エポキシ樹脂、脂肪族鎖状エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールＡノボラック型エポキシ樹脂、ブタジエン構造を有するエポキシ樹脂、フェノールアラルキル型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン構造を有するエポキシ樹脂、ビスフェノールのジグリシジルエーテル化物、ナフタレンジオールのジグリシジルエーテル化物、フェノール類のグリシジルエーテル化物、及びアルコール類のジグリシジルエーテル化物、並びにこれらのエポキシ樹脂のアルキル置換体、ハロゲン化物及び水素添加物等が挙げられる。これらは１種又は２種以上を組み合わせて使用してもよい。
【０１１２】  これらの中でも、接着層を構成する樹脂組成物の高い耐熱性及び低い透湿性を保つ等の観点から、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、ビフェニルアラルキル型エポキシ樹脂、フェノールアラルキル型エポキシ樹脂、芳香族グリシジルアミン型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン構造を有するエポキシ樹脂等が好ましい。
【０１１３】  また、エポキシ樹脂は、液状であっても、固形状であっても、液状と固形状の両方を用いてもよい。ここで、「液状」及び「固形状」とは、２５℃でのエポキシ樹脂の状態である。塗工性、加工性、接着性等の観点から、使用するエポキシ樹脂全体の１０質量％以上が液状であるのが好ましい。
【０１１４】  また、エポキシ樹脂は反応性の観点から、エポキシ当量が１００〜１０００の範囲のものが好ましく、より好ましくは１２０〜１０００の範囲のものである。ここでエポキシ当量とは１グラム当量のエポキシ基を含む樹脂のグラム数（ｇ／ｅｑ）であり、ＪＩＳ  Ｋ−７２３６：２００９に規定された方法に従って測定されるものである。
【０１１５】  ［硬化剤］  エポキシ樹脂の硬化剤としては、エポキシ樹脂を硬化する機能を有するものであれば特に限定されないが、樹脂組成物の硬化処理時における素子（特に有機ＥＬ素子）の熱劣化を抑制する観点から、樹脂組成物の硬化処理は好ましくは１４０℃以下、より好ましくは１２０℃以下で行うのが好ましく、硬化剤はかかる温度領域にてエポキシ樹脂の硬化作用を有するものが好ましい。
【０１１６】  具体的には、一級アミン、二級アミン、三級アミン系硬化剤、ポリアミノアミド系硬化剤、ジシアンジアミド、有機酸ジヒドラジド等が挙げられるが、中でも、速硬化性の観点から、アミンアダクト系化合物（アミキュアＰＮ−２３、アミキュアＭＹ−２４、アミキュアＰＮ−Ｄ、アミキュアＭＹ−Ｄ、アミキュアＰＮ−Ｈ、アミキュアＭＹ−Ｈ、アミキュアＰＮ−３１、アミキュアＰＮ−４０、アミキュアＰＮ−４０Ｊ（固体分散型硬化剤）等（いずれも味の素ファインテクノ社製））、有機酸ジヒドラジド（アミキュアＶＤＨ−Ｊ（固体分散型硬化剤）、アミキュアＵＤＨ、アミキュアＬＤＨ等（いずれも味の素ファインテクノ社製））等が好ましい。これらは１種又は２種以上組み合わせて使用してもよい。
【０１１７】  また、接着層が、上記エポキシ樹脂と、前記したエポキシ基と反応し得る官能基を持つ、イソプレン、イソブテン、及びブタジエンよりなる群から選ばれた少なくとも１種を重合成分とする単独重合樹脂又は共重合樹脂と、を含有することが好ましい。接着層をこのような構成とすることで、封止フィルムの耐透湿性を上げるとともに、封止フィルムのポアソン比を上げる効果も見られ、折り曲げ耐性を向上させることができる。
【０１１８】  ［熱可塑性樹脂］  本発明の接着層には、硬化物へのフレキシブル性の付与等の観点から、熱可塑性樹脂を含有させることができる。熱可塑性樹脂としては、例えば、フェノキシ樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリスルホン樹脂等を挙げることができる。これらの熱可塑性樹脂はいずれか１種を使用しても２種以上を混合して用いてもよい。熱可塑性樹脂は可撓性の付与の点から、重量平均分子量は３０，０００以上が好ましく、５０，０００以上がより好ましい。しかし、重量平均分子量が大きすぎると、エポキシ樹脂との相溶性が低下する等の傾向があることから、重量平均分子量は１，０００，０００以下であるのが好ましく、８００，０００以下がより好ましい。
【０１１９】  なお、ここでいう「熱可塑性樹脂の重量平均分子量」は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）法（ポリスチレン換算）で測定される。ＧＰＣ法による重量平均分子量は、具体的には、測定装置として（株）島津製作所製ＬＣ−９Ａ／ＲＩＤ−６Ａを、カラムとして昭和電工（株）製Ｓｈｏｄｅｘ  Ｋ−８００Ｐ／Ｋ−８０４Ｌ／Ｋ−８０４Ｌを、移動相としてクロロホルム等を用いて、カラム温度４０℃にて測定し、標準ポリスチレンの検量線を用いて算出することができる。
【０１２０】  熱可塑性樹脂は上述した例示物の中でもフェノキシ樹脂が特に好ましい。フェノキシ樹脂としては、ビスフェノールＡ骨格、ビスフェノールＦ骨格、ビスフェノールＳ骨格、ビスフェノールアセトフェノン骨格、ノボラック骨格、ビフェニル骨格、フルオレン骨格、ジシクロペンタジエン骨格、ノルボルネン骨格、ナフタレン骨格、アントラセン骨格、アダマンタン骨格、テルペン骨格、トリメチルシクロヘキサン骨格から選択される１種以上の骨格を有するものが挙げられる。フェノキシ樹脂は２種以上を混合して用いてもよい。
【０１２１】  フェノキシ樹脂の市販品としては、例えば、ジャパンエポキシレジン（株）製１２５６、４２５０（ビスフェノールＡ骨格含有フェノキシ樹脂）、ジャパンエポキシレジン（株）製ＹＸ８１００（ビスフェノールＳ骨格含有フェノキシ樹脂）、ジャパンエポキシレジン（株）製ＹＸ６９５４（ビスフェノールアセトフェノン骨格含有フェノキシ樹脂）、ユニオンカーバイド社製ＰＫＨＨ（重量平均分子量（Ｍｗ）４２６００、数平均分子量（Ｍｎ）１１２００）等が好適であり、東都化成（株）製ＦＸ２８０、ＦＸ２９３、ジャパンエポキシレジン（株）製ＹＬ７５５３ＢＨ３０、ＹＬ６７９４、ＹＬ７２１３、ＹＬ７２９０、ＹＬ７４８２等も挙げることができる。
【０１２２】  本発明の接着層において、熱可塑性樹脂を使用する場合、熱可塑性樹脂の含有量は、樹脂組成物中の不揮発分１００質量％に対し、１〜５０質量％が好ましく、３〜２５質量％がより好ましい。１質量％以上であれば、熱可塑性樹脂を配合することによる効果が十分に得られ、５０質量％以下であれば、硬化物の透湿性などが低下するのを効果的に防止することができる。
【０１２３】  〔吸湿性金属酸化物〕  本発明に係る接着層は、透湿性を調整する観点から吸湿性の金属酸化物を含有することも好ましい。
【０１２４】  本発明でいう「吸湿性金属酸化物」とは、水分を吸収する能力をもち、吸湿した水分と化学反応して水酸化物になる金属酸化物のことであり、具体的には、酸化カルシウム、酸化マグネシウム、酸化ストロンチウム、酸化アルミニウム及び酸化バリウムから選ばれる１種か、又は、これらから選ばれる２種以上の金属酸化物の混合物若しくは固溶物である。２種以上の金属酸化物の混合物若しくは固溶物の例としては、具体的には、焼成ドロマイト（酸化カルシウム及び酸化マグネシウムを含む混合物）、焼成ハイドロタルサイト（酸化カルシウムと酸化アルミニウムの固溶物）等が挙げられる。このような吸湿性金属酸化物は、種々の技術分野において吸湿材として公知であり、市販品を使用することができる。具体的には、焼成ドロマイト（吉澤石灰社製「ＫＴ」等）、酸化カルシウム（三共製粉社製「モイストップ＃１０」等）、酸化マグネシウム（協和化学工業社製「キョーワマグ（登録商標）ＭＦ−１５０」、「キョーワマグ（登録商標）ＭＦ−３０」、タテホ化学工業社製「ピュアマグ（登録商標）ＦＮＭＧ」等）、軽焼酸化マグネシウム（タテホ化学工業社製の「＃５００」、「＃１０００」、「＃５０００」等）等が挙げられる。
【０１２５】  吸湿性金属酸化物の平均粒径は特に限定はされないが、１０μｍ以下が好ましく、５μｍ以下がより好ましく、１μｍ以下が更に好ましい。
【０１２６】  また、吸湿性金属酸化物は、ステアリン酸等の高級脂肪酸、公知のアルキルシラン類やシランカップリング剤等の表面処理剤で表面処理したものを用いることができる。このような表面処理を行うことで、樹脂中の水分と吸湿性金属酸化物が反応してしまうことを防止できる。
【０１２７】  接着層中の吸湿性金属酸化物の含有量は、接着層を構成する樹脂組成物中の不揮発分１００質量％に対して１〜４０質量％の範囲が好ましい。
【０１２８】  〔イオン液体〕  本発明におけるイオン液体は、熱可塑性樹脂の硬化剤としての機能を有する添加剤である。
【０１２９】  当該イオン液体は、１４０℃以下（好ましくは１２０℃以下）の温度領域で融解しうる塩である。イオン液体は、例えば上述した熱硬化性樹脂であるエポキシ樹脂の硬化作用を有する塩が特に好適に使用され、接着層の硬化物の耐透湿性向上に有利に作用する。なお、イオン液体は上記エポキシ樹脂に当該イオン液体を均一に溶解している状態で使用されるのが望ましい。
【０１３０】  かかるイオン液体を構成するカチオンとしては、イミダゾリウムイオン、ピリミジニウムイオン、ピリジニウムイオン、ピロリジニウムイオン、ピペリジニウムイオン、ピラゾニウムイオン、グアニジニウムイオン等のアンモニウム系カチオン；テトラアルキルホスホニウムカチオン（例えば、テトラブチルホスホニウムイオン、トリブチルヘキシルホスホニウムイオン等）等のホスホニウム系カチオン；トリエチルスルホニウムイオン等のスルホニウム系カチオン等が挙げられる。
【０１３１】  アンモニウム系カチオンの具体例としては、例えば、１，３−ジメチルイミダゾリウムカチオン、１，３−ジエチルイミダゾリウムカチオン、１−エチル−３−メチルイミダゾリウムカチオン、１−プロピル−３−メチルイミダゾリウムイオン、１−ブチル−３−メチルイミダゾリウムカチオン、１−ヘキシル−３−メチルイミダゾリウムカチオン、１−オクチル−３−メチルイミダゾリウムカチオン、１−デシル−３−メチルイミダゾリウムカチオン、１−ドデシル−３−メチルイミダゾリウムカチオン、１−テトラデシル−３−メチルイミダゾリウムカチオン、１，２−ジメチル−３−プロピルイミダゾリウムカチオン、１−エチル−２，３−ジメチルイミダゾリウムカチオン、１−ブチル−２，３−ジメチルイミダゾリウムカチオン、１−ヘキシル−２，３−ジメチルイミダゾリウムカチオン、１，３−ジメチル−１，４，５，６−テトラヒドロピリミジニウムカチオン、１，２，３−トリメチル−１，４，５，６−テトラヒドロピリミジニウムカチオン、１，２，３，４−テトラメチル−１，４，５，６−テトラヒドロピリミジニウムカチオン、１，２，３，５−テトラメチル−１，４，５，６−テトラヒドロピリミジニウムカチオン、１，３−ジメチル−１，４−ジヒドロピリミジニウムカチオン、１，３−ジメチル−１，６−ジヒドロピリミジニウムカチオン、１，２，３−トリメチル−１，４−ジヒドロピリミジニウムカチオン、１，２，３−トリメチル−１，６−ジヒドロピリミジニウムカチオン、１，２，３，４−テトラメチル−１，４−ジヒドロピリミジニウムカチオン、１，２，３，４−テトラメチル−１，６−ジヒドロピリミジニウムカチオン、１−エチルピリジニウムカチオン、１−ブチルピリジニウムカチオン、１−ヘキシルピリジニウムカチオン、１−ブチル−３−メチルピリジニウムカチオン、１−ブチル−４−メチルピリジニウムカチオン、１−ヘキシル−３−メチルピリジニウムカチオン、１−ブチル−３，４−ジメチルピリジニウムカチオン、１，１−ジメチルピロリジニウムカチオン、１−エチル−１−メチルピロリジニウムカチオン、１−メチル−１−プロピルピロリジニウムカチオン、１−メチル−１−ブチルピロリジニウムカチオン、１−メチル−１−ペンチルピロリジニウムカチオン、１−メチル−１−ヘキシルピロリジニウムカチオン、１−メチル−１−ヘプチルピロリジニウムカチオン、１−エチル−１−プロピルピロリジニウムカチオン、１−エチル−１−ブチルピロリジニウムカチオン、１−エチル−１−ペンチルピロリジニウムカチオン、１−エチル−１−ヘキシルピロリジニウムカチオン、１−エチル−１−ヘプチルピロリジニウムカチオン、１，１−ジプロピルピロリジニウムカチオン、１−プロピル−１−ブチルピロリジニウムカチオン、１，１−ジブチルピロリジニウムカチオン、１−プロピルピペリジニウムカチオン、１−ペンチルピペリジニウムカチオン、１，１−ジメチルピペリジニウムカチオン、１−メチル−１−エチルピペリジニウムカチオン、１−メチル−１−プロピルピペリジニウムカチオン、１−メチル−１−ブチルピペリジニウムカチオン、１−メチル−１−ペンチルピペリジニウムカチオン、１−メチル−１−ヘキシルピペ���ジニウムカチオン、１−メチル−１−ヘプチルピペリジニウムカチオン、１−エチル−１−プロピルピペリジニウムカチオン、１−エチル−１−ブチルピペリジニウムカチオン、１−エチル−１−ペンチルピペリジニウムカチオン、１−エチル−１−ヘキシルピペリジニウムカチオン、１−エチル−１−ヘプチルピペリジニウムカチオン、１，１−ジプロピルピペリジニウムカチオン、１−プロピル−１−ブチルピペリジニウムカチオン、１，１−ジブチルピペリジニウムカチオン、１−メチルピラゾリウムカチオン、３−メチルピラゾリウムカチオン、１−エチル−２−メチルピラゾリニウムカチオン、１−エチル−２，３，５−トリメチルピラゾリウムカチオン、１−プロピル−２，３，５−トリメチルピラゾリウムカチオン、１−ブチル−２，３，５−トリメチルピラゾリウムカチオン、１−エチル−２，３，５−トリメチルピラゾリニウムカチオン、１−プロピル−２，３，５−トリメチルピラゾリニウムカチオン、１−ブチル−２，３，５−トリメチルピラゾリニウムカチオンなどが挙げられる。
【０１３２】  上述の中でも、カチオンは、アンモニウム系カチオン、ホスホニウム系カチオンが好ましく、イミダゾリウムイオン、ホスホニウムイオンがより好ましい。
【０１３３】  また、かかるイオン液体を構成するアニオンとしては、フッ化物イオン、塩化物イオン、臭化物イオン、ヨウ化物イオン等のハロゲン化物系アニオン；メタンスルホン酸イオン等のアルキル硫酸系アニオン；トリフルオロメタンスルホン酸イオン、ヘキサフルオロホスホン酸イオン、トリフルオロトリス（ペンタフルオロエチル）ホスホン酸イオン、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミドイオン、トリフルオロ酢酸イオン、テトラフルオロホウ酸イオン等の含フッ素化合物系アニオン；フェノールイオン、２−メトキシフェノールイオン、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノールイオン等のフェノール系アニオン；アスパラギン酸イオン、グルタミン酸イオン等の酸性アミノ酸イオン；グリシンイオン、アラニンイオン、フェニルアラニンイオン等の中性アミノ酸イオン；Ｎ−ベンゾイルアラニンイオン、Ｎ−アセチルフェニルアラニンイオン、Ｎ−アセチルグリシンイオン等の下記一般式（１）で示されるＮ−アシルアミノ酸イオン；ギ酸イオン、酢酸イオン、デカン酸イオン、２−ピロリドン−５−カルボン酸イオン、α−リポ酸イオン、乳酸イオン、酒石酸イオン、馬尿酸イオン、Ｎ−メチル馬尿酸イオン、安息香酸イオン等のカルボン酸系アニオンが挙げられる。
【０１３４】
【化４】
2016152817.tif 000007
【０１３５】  ここで、上記一般式（１）中、Ｒ−ＣＯ−は、炭素数１〜５の直鎖又は分岐鎖の脂肪酸より誘導されるアシル基、又は置換又は無置換ベンゾイル基であり、−ＮＨ−ＣＨＸ−ＣＯ２−は、アスパラギン酸、グルタミン酸等の酸性アミノ酸イオン、又はグリシン、アラニン、フェニルアラニン等の中性アミノ酸イオンである。
【０１３６】  また、アニオンは、一般式（１）で示されるＮ−アシルアミノ酸イオン又はカルボン酸系アニオンが好ましい。
【０１３７】  カルボン酸系アニオンの具体例としては、酢酸イオン、デカン酸イオン、２−ピロリドン−５−カルボン酸イオン、ギ酸イオン、α−リポ酸イオン、乳酸イオン、酒石酸イオン、馬尿酸イオン、Ｎ−メチル馬尿酸イオン等が挙げられ、中でも、酢酸イオン、２−ピロリドン−５−カルボン酸イオン、ギ酸イオン、乳酸イオン、酒石酸イオン、馬尿酸イオン、Ｎ−メチル馬尿酸イオンが好ましく、酢酸イオン、Ｎ−メチル馬尿酸イオン、ギ酸イオンがより好ましい。また、一般式（１）で示されるＮ−アシルアミノ酸イオンの具体例としては、Ｎ−ベンゾイルアラニンイオン、Ｎ−アセチルフェニルアラニンイオン、アスパラギン酸イオン、グリシンイオン、Ｎ−アセチルグリシンイオン等が挙げられ、中でも、Ｎ−ベンゾイルアラニンイオン、Ｎ−アセチルフェニルアラニンイオン、Ｎ−アセチルグリシンイオンが好ましく、Ｎ−アセチルグリシンイオンがより好ましい。
【０１３８】  具体的なイオン液体としては、例えば、１−ブチル−３−メチルイミダゾリウムラクテート、テトラブチルホスホニウム−２−ピロリドン−５−カルボキシレート、テトラブチルホスホニウムアセテート、テトラブチルホスホニウムデカノエート、テトラブチルホスホニウムトリフルオロアセテート、テトラブチルホスホニウムα−リポエート、ギ酸テトラブチルホスホニウム塩、テトラブチルホスホニウムラクテート、酒石酸ビス（テトラブチルホスホニウム）塩、馬尿酸テトラブチルホスホニウム塩、Ｎ−メチル馬尿酸テトラブチルホスホニウム塩、ベンゾイル−ＤＬ−アラニンテトラブチルホスホニウム塩、Ｎ−アセチルフェニルアラニンテトラブチルホスホニウム塩、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノールテトラブチルホスホニウム塩、Ｌ−アスパラギン酸モノテトラブチルホスホニウム塩、グリシンテトラブチルホスホニウム塩、Ｎ−アセチルグリシンテトラブチルホスホニウム塩、１−エチル−３−メチルイミダゾリウムラクテート、１−エチル−３−メチルイミダゾリウムアセテート、ギ酸１−エチル−３−メチルイミダゾリウム塩、馬尿酸１−エチル−３−メチルイミダゾリウム塩、Ｎ−メチル馬尿酸１−エチル−３−メチルイミダゾリウム塩、酒石酸ビス（１−エチル−３−メチルイミダゾリウム）塩、Ｎ−アセチルグリシン１−エチル−３−メチルイミダゾリウム塩が好ましく、Ｎ−アセチルグリシンテトラブチルホスホニウム塩、１−エチル−３−メチルイミダゾリウムアセテート、ギ酸１−エチル−３−メチルイミダゾリウム塩、馬尿酸１−エチル−３−メチルイミダゾリウム塩、Ｎ−メチル馬尿酸１−エチル−３−メチルイミダゾリウム塩がより好ましい。
【０１３９】  上記イオン液体の合成法としては、アルキルイミダゾリウム、アルキルピリジニウム、アルキルアンモニウム及びアルキルスルホニウムイオン等のカチオン部位と、ハロゲンを含むアニオン部位から構成される前駆体に、ＮａＢＦ４、ＮａＰＦ６、ＣＦ３ＳＯ３ＮａやＬｉＮ（ＳＯ２ＣＦ３）２等を反応させるアニオン交換法、アミン系物質と酸エステルとを反応させてアルキル基を導入しつつ、有機酸残基が対アニオンになるような酸エステル法、及びアミン類を有機酸で中和して塩を得る中和法等があるがこれらに限定されない。アニオンとカチオンと溶媒による中和法では、アニオンとカチオンとを等量使用し、得られた反応液中の溶媒を留去して、そのまま用いることも可能であるし、更に有機溶媒（メタノール、トルエン、酢酸エチル、アセトン等）を差し液濃縮しても構わない。
【０１４０】  本発明に用いられるイオン液体の含有量は、接着層を構成する熱硬化性樹脂を含む樹脂組成物の総量（不揮発分）に対し０．１〜５０質量％の範囲が好ましく、０．５〜２５質量％の範囲がより好ましい。この範囲内であれば、接着層の保存安定性が損なわれない。
【０１４１】  〔無機充填剤〕  接着層を構成する樹脂組成物には、更にタルク、クレー、マイカ、ベーマイト等の粒子形態が平板状の無機充填剤を含有させることができ、接着層の耐透湿性をより一層高めることができる。
【０１４２】  ［ゴム粒子］  接着層を構成する樹脂組成物には、さらにゴム粒子を含有させることができ、ゴム粒子を含有させることにより、接着層の機械強度の向上や応力緩和等を図ることができる。当該ゴム粒子は、コアシェル型ゴム粒子を用いることが好ましく、具体例としては、スタフィロイドＡＣ３８３２、ＡＣ３８１６Ｎ（以上、アイカ工業社製）、メタブレンＫＷ−４４２６（三菱レイヨン社製）、Ｆ３５１（日本ゼオン社製）等が挙げられる。アクリロニトリルブタジエンゴム（ＮＢＲ）粒子の具体例としては、ＸＥＲ−９１（ＪＳＲ社製）などが挙げられる。スチレンブタジエンゴム（ＳＢＲ）粒子の具体例としては、ＸＳＫ−５００（ＪＳＲ社製）などが挙げられる。アクリルゴム粒子の具体例としては、メタブレンＷ３００Ａ、Ｗ４５０Ａ（以上、三菱レイヨン社製）を挙げることができる。
【０１４３】  〔硬化促進剤〕  本発明に係る接着層を構成する樹脂組成物においては、硬化温度、硬化時間等の調整のため、さらに硬化促進剤を含んでいても良い。硬化促進剤としてはテトラメチルアンモニウムブロマイド、テトラブチルアンモニウムブロマイド等の４級アンモニウム塩、テトラフェニルホスホニウムブロマイド、テトラブチルホスホニウムブロマイド等の４級スルホニウム塩、ＤＢＵ（１，８−ジアザビシクロ（５．４．０）ウンデセン−７）、ＤＢＮ（１，５−ジアザビシクロ（４．３．０）ノネン−５）、ＤＢＵ−フェノール塩、ＤＢＵ−オクチル酸塩、ＤＢＵ−ｐ−トルエンスルホン酸塩、ＤＢＵ−ギ酸塩、ＤＢＵ−フェノールノボラック樹脂塩等のジアザビシクロ化合物、１−ベンジル−２−メチルイミダゾール、１−ベンジル−２−フェニルイミダゾール、２−エチル−４−メチルイミダゾール等のイミダゾール化合物、トリス（ジメチルアミノメチル）フェノール、ベンジルジメチルアミン等の３級アミン、芳香族ジメチルウレア、脂肪族ジメチルウレア、芳香族ジメチルウレア等のジメチルウレア化合物等が挙げられる。
【０１４４】  硬化促進剤を使用する場合の含有量は、接着層を構成する熱硬化性樹脂を含む樹脂組成物の総量に対し、０．０１〜７質量％の範囲である。
【０１４５】  〔接着層の形成方法〕  本発明に係る接着層は、当該接着層を構成する樹脂組成物を溶解した樹脂液を調製して、上述したガスバリア層上に塗布、乾燥して形成することが好ましい。具体的には、ガスバリア層上にイソプレン、イソブテン又はブタジエンの少なくとも１種を重合成分とする単独重合樹脂又は共重合樹脂を含有する樹脂液を塗布、乾燥して接着層を形成することが好ましい。
【０１４６】  また、接着層のガスバリア層とは反対側の面に剥離可能なセパレーターフィルムのような層（後述する保護フィルム）を設ける場合には、該剥離可能なセパレーターフィルム上に当該接着層を構成する樹脂組成物を溶解した樹脂液を塗布、乾燥して形成した接着層をガスバリア層上に貼り合わせて形成してもよい。
【０１４７】  樹脂液の調製に使用する有機溶媒としては、具体的には、アセトン、メチルエチルケトン（以下、「ＭＥＫ」とも略称する）、シクロヘキサノン等のケトン類、酢酸エチル、酢酸ブチル、セロソルブアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、カルビトールアセテート等の酢酸エステル類、セロソルブ、ブチルカルビトール等のカルビトール類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン等を挙げることができる。これらは１種又は２種以上組み合わせて使用してもよい。例えば、芳香族炭化水素類を２種以上組み合わせたものである芳香族系混合溶媒：イプゾール１５０（出光興産株式会社製）などを使用することができる。
【０１４８】  塗布方法としては、任意の適切な方法が採用され得る。具体例としては、ローラーコート法、フローコート法、インクジェット法、スプレーコート法、プリント法、ディップコート法、流延成膜法、バーコート法、グラビア印刷法等が挙げられる。
【０１４９】  乾燥条件は特に制限はないが、５０〜１００℃で３〜１５分が好適である。
【０１５０】  本発明に係る接着層の厚さは特に限定されないが、素子基板上の凸凹を十分に埋めることができ、更に外気との接触面積を小さくすることで、水分を遮断するという観点から、１〜１００μｍの範囲が好ましいが、更にフレキシブル性をも付与させる観点からは、１〜５０μｍの範囲がより好ましく、１〜５μｍの範囲が更に好ましい。
【０１５１】  また、接着層が不必要に他の部分に接触しないように、接着層から剥離可能なセパレーターフィルムを保護フィルムとして本発明の封止フィルム上に用いることが好ましい。セパレーターフィルムは、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）フィルムなど公知のものを使用することができる。
【０１５２】  ［可撓性を有する基材］  本発明に係る可撓性を有する基材としては、具体的には、ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、メタクリル酸−マレイン酸共重合体、ポリスチレン樹脂、透明フッ素樹脂、ポリイミド、フッ素化ポリイミド樹脂、ポリアミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、セルロースアシレート樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエーテルエーテルケトン樹脂、ポリカーボネート樹脂、脂環式ポリオレフィン樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリスルホン樹脂、シクロオレフィンコポリマー、フルオレン環変性ポリカーボネート樹脂、脂環変性ポリカーボネート樹脂、フルオレン環変性ポリエステル樹脂、アクリロイル化合物などの熱可塑性樹脂を含む基材が挙げられる。こうした可撓性を有する基材は、単独でもまたは２種以上組み合わせても用いることができる。
【０１５３】  可撓性を有する基材は耐熱性を有する素材からなることが好ましい。具体的には、線膨張係数が１５ｐｐｍ／Ｋ以上１００ｐｐｍ／Ｋ以下で、かつガラス転移温度（Ｔｇ）が１００℃以上３００℃以下の耐熱性を有する素材からなる基材が使用される。耐熱性及び可撓性を備えた基材は、折り曲げたり、巻物形状にしたりできるフレキシブルな機能素子（電子デバイス）を搭載した基板側（＝機能素子本体）を封止するための封止フィルム（電子部品用途、ディスプレイ用積層フィルムに適用し得るもの）の基材としての必要条件を満たしている。即ち、これらの用途に本発明に係る封止フィルムを用いる場合、封止フィルムは、１５０℃以上の工程に曝されることがある。この場合、封止フィルムにおける基材の線膨張係数が１００ｐｐｍ／Ｋ以下であれば、封止フィルムを前記のような温度の工程に流す際にも基材寸法が安定化し、熱膨張および収縮に伴い遮断性能が劣化するのを効果的に防止することができ、１５０℃以上の熱工程にも十分に耐えられる点で優れている。１５ｐｐｍ／Ｋ以上であれば、封止フィルムがガラスのように割れることもなく高いフレキシビリティを保持することができる。
【０１５４】  可撓性を有する基材のＴｇや線膨張係数は、添加剤などによって調整することができる。上記基材として用いることができる熱可塑性樹脂のより好ましい具体例としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ：７０℃）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ：１２０℃）、ポリカーボネート（ＰＣ：１４０℃）、脂環式ポリオレフィン（例えば日本ゼオン株式会社製、ゼオノア（登録商標）１６００：１６０℃）、ポリアリレート（ＰＡｒ：２１０℃）、ポリエーテルスルホン（ＰＥＳ：２２０℃）、ポリスルホン（ＰＳＦ：１９０℃）、シクロオレフィンコポリマー（ＣＯＣ：特開２００１−１５０５８４号公報に記載の化合物：１６２℃）、ポリイミド（例えば三菱ガス化学株式会社製、ネオプリム（登録商標）：２６０℃）、フルオレン環変性ポリカーボネート（ＢＣＦ−ＰＣ：特開２０００−２２７６０３号公報に記載の化合物：２２５℃）、脂環変性ポリカーボネート（ＩＰ−ＰＣ：特開２０００−２２７６０３号公報に記載の化合物：２０５℃）、アクリロイル化合物（特開２００２−８０６１６号公報に記載の化合物：３００℃以上）等が挙げられる（括弧内はＴｇを示す）。
【０１５５】  本発明に係る封止フィルムは、折り曲げたり、巻物形状にしたりできるフレキシブルな機能素子、例えば、有機ＥＬ素子等の電子デバイスや有機薄膜太陽電池等に利用されることから、可撓性を有する基材は透明であることが好ましい。すなわち、光線透過率が通常８０％以上、好ましくは８５％以上、さらに好ましくは９０％以上である。光線透過率は、ＪＩＳ  Ｋ７３７５：２００８に記載された方法、すなわち積分球式光線透過率測定装置を用いて全光線透過率および散乱光量を測定し、全光線透過率から拡散透過率を引いて算出することができる。
【０１５６】  ただし、本発明に係る封止フィルムをフレキシブルなディスプレイ用途に用いる場合であっても、観察側に設置しない場合などは必ずしも透明性が要求されない。したがって、このような場合は、可撓性を有する基材（プラスチックフィルム）として不透明な材料を用いることもできる。不透明な材料としては、例えば、ポリイミド、ポリアクリロニトリル、公知の液晶ポリマーなどが挙げられる。
【０１５７】  また、上記に挙げた可撓性を有する基材は、未延伸フィルムでもよく、延伸フィルムでもよい。当該可撓性を有する基材は、従来公知の一般的な方法により製造することが可能である。これらの基材の製造方法については、国際公開第２０１３／００２０２６号の段落「００５１」〜「００５５」の記載された事項を適宜採用することができる。
【０１５８】  可撓性を有する基材の表面は、密着性向上のための公知の種々の処理、例えばコロナ放電処理、火炎処理、酸化処理、またはプラズマ処理等を行っていてもよく、必要に応じて上記処理を組み合わせて行っていてもよい。また、可撓性を有する基材には易接着処理を行ってもよい。
【０１５９】  該可撓性を有する基材は、単層でもよいし２層以上の積層構造であってもよい。該可撓性を有する基材が２層以上の積層構造である場合、各可撓性を有する基材は同じ種類であってもよいし異なる種類であってもよい。
【０１６０】  本発明に係る可撓性を有する基材の厚さ（２層以上の積層構造である場合はその総厚）は、１０〜２００μｍであることが好ましく、２０〜１５０μｍであることがより好ましい。
【０１６１】  ［種々の機能を有する層］  本発明の封止フィルムにおいては、上述した可撓性を有する基材、ガスバリア層及び接着層以外にも、種々の機能を有する層を設けることができる。
【０１６２】  （アンカーコート層）  本発明に係るガスバリア層（上記した層（Ａ）および層（Ｂ））を形成する側の可撓性を有する基材の表面には、可撓性を有する基材と、ガスバリア層を構成する層（Ａ）または層（Ｂ）との密着性の向上を目的として、アンカーコート層を形成してもよい。
【０１６３】  アンカーコート層に用いられるアンカーコート剤としては、ポリエステル樹脂、イソシアネート樹脂、ウレタン樹脂、アクリル樹脂、エチレンビニルアルコール樹脂、ビニル変性樹脂、エポキシ樹脂、変性スチレン樹脂、変性シリコン樹脂、およびアルキルチタネート等を単独でまたは２種以上組み合わせて使用することができる。
【０１６４】  これらのアンカーコート剤には、従来公知の添加剤を加えることもできる。そして、上記のアンカーコート剤は、ロールコート、グラビアコート、ナイフコート、ディップコート、スプレーコート等の公知の方法により支持体（可撓性を有する基材）上にコーティングし、溶剤、希釈剤等を乾燥除去することによりアンカーコーティングすることができる。上記のアンカーコート剤の塗布量としては、０．１〜５．０ｇ／ｍ２（乾燥状態）程度が好ましい。
【０１６５】  また、アンカーコート層は、物理蒸着法または化学蒸着法といった気相法により形成することもできる。例えば、特開２００８−１４２９４１号公報に記載のように、接着性等を改善する目的で酸化珪素を主体とした無機膜を形成することもできる。あるいは、特開２００４−３１４６２６号公報に記載されているようなアンカーコート層を形成することで、その上に気相法により無機薄膜（上記した層（Ａ）および層（Ｂ））を形成する際に、基材側から発生するガスをある程度遮断して、無機薄膜（上記した層（Ａ）および層（Ｂ））の組成を制御するといった目的でアンカーコート層を形成することもできる。
【０１６６】  また、アンカーコート層の厚さは、特に制限されないが、０．５〜１０μｍ程度が好ましい。
【０１６７】  （ハードコート層）  可撓性を有する基材の表面（片面または両面）には、ハードコート層を有していてもよい。ハードコート層に含まれる材料の例としては、例えば、熱硬化性樹脂や活性エネルギー線硬化性樹脂が挙げられるが、成形が容易なことから、活性エネルギー線硬化性樹脂が好ましい。このような硬化性樹脂は、単独でもまたは２種以上組み合わせても用いることができる。
【０１６８】  活性エネルギー線硬化性樹脂とは、紫外線や電子線のような活性エネルギー線照射により架橋反応等を経て硬化する樹脂をいう。活性エネルギー線硬化性樹脂としては、エチレン性不飽和二重結合を有するモノマーを含む成分が好ましく用いられ、紫外線や電子線のような活性エネルギー線を照射することによって硬化させて、活性エネルギー線硬化性樹脂の硬化物を含む層、すなわちハードコート層が形成される。活性エネルギー線硬化性樹脂としては紫外線硬化性樹脂や電子線硬化性樹脂等が代表的なものとして挙げられるが、紫外線照射によって硬化する紫外線硬化性樹脂が好ましい。予めハードコート層が形成されている市販の可撓性を有する基材を用いてもよい。
【０１６９】  ハードコート層の厚さは、平滑性および屈曲耐性の観点から、０．１〜１５μｍが好ましく、１〜５μｍであることがより好ましい。
【０１７０】  （平滑層）  本発明の封止フィルムにおいては、可撓性を有する基材とガスバリア層（上記した層（Ａ）および層（Ｂ））との間に、平滑層を有してもよい。本発明に用いられる平滑層は、突起等が存在する可撓性を有する基材の粗面を平坦化し、あるいは、可撓性を有する基材に存在する突起により透明無機化合物層（上記した層（Ｂ）など）に生じた凹凸やピンホールを埋めて平坦化するために設けられる。このような平滑層は、基本的には感光性材料、または、熱硬化性材料を硬化させて作製される。
【０１７１】  平滑層の感光性材料としては、例えば、ラジカル反応性不飽和化合物を有するアクリレート化合物を含有する樹脂組成物、アクリレート化合物とチオール基を有するメルカプト化合物を含有する樹脂組成物、エポキシアクリレート、ウレタンアクリレート、ポリエステルアクリレート、ポリエーテルアクリレート、ポリエチレングリコールアクリレート、グリセロールメタクリレート等の多官能アクリレートモノマーを溶解させた樹脂組成物等が挙げられる。具体的には、ＪＳＲ株式会社製のＵＶ硬化型有機／無機ハイブリッドハードコート材  ＯＰＳＴＡＲ（登録商標）シリーズを用いることができる。また、上記のような樹脂組成物の任意の混合物を使用することも可能であり、光重合性不飽和結合を分子内に１個以上有する反応性のモノマーを含有している感光性樹脂であれば特に制限はない。
【０１７２】  平滑層の熱硬化性材料として具体的には、クラリアント社製のトゥットプロムシリーズ（有機ポリシラザン）、セラミックコート株式会社製のＳＰ  ＣＯＡＴ耐熱クリアー塗料、株式会社アデカ製のナノハイブリッドシリコーン、ＤＩＣ株式会社製のユニディック（登録商標）Ｖ−８０００シリーズ、ＥＰＩＣＬＯＮ（登録商標）  ＥＸＡ−４７１０（超高耐熱性エポキシ樹脂）、信越化学工業株式会社製の各種シリコン樹脂、日東紡株式会社製の無機・有機ナノコンポジット材料ＳＳＧコート、アクリルポリオールとイソシアネートプレポリマーとからなる熱硬化性ウレタン樹脂、フェノール樹脂、尿素メラミン樹脂、エポキシ樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、シリコン樹脂等が挙げられる。この中でも特に耐熱性を有するエポキシ樹脂ベースの材料であることが好ましい。
【０１７３】  平滑層の形成方法は、特に制限はないが、スピンコーティング法、スプレー法、ブレードコーティング法、ディップ法等のウエットコーティング法、あるいは、蒸着法等のドライコーティング法により形成することが好ましい。
【０１７４】  平滑層の形成では、上述の感光性樹脂に、必要に応じて酸化防止剤、紫外線吸収剤、可塑剤等の添加剤を加えることができる。また、平滑層の積層位置に関係なく、いずれの平滑層においても、成膜性向上および膜のピンホール発生防止等のために適切な樹脂や添加剤を使用してもよい。
【０１７５】  平滑層の厚さとしては、封止フィルムの耐熱性を向上させ、封止フィルムの光学特性のバランス調整を容易にする観点から、１〜１０μｍの範囲が好ましく、さらに好ましくは、２μｍ〜７μｍの範囲にすることが好ましい。
【０１７６】  平滑層の平滑性は、ＪＩＳ  Ｂ  ０６０１：２００１で規定される表面粗さで表現される値で、十点平均粗さＲｚが、１０ｎｍ以上、３０ｎｍ以下であることが好ましい。この範囲であれば、ガスバリア層を構成する層（Ｂ）を塗布形式で塗布する場合に、ワイヤーバー、ワイヤレスバー等の塗布方式で、平滑層表面に塗工手段が接触する場合であっても塗布性が損なわれることが少なく、また、塗布後の凹凸を平滑化することも容易である。
【０１７７】  ［機能素子］  本発明の封止フィルムは、折り曲げたり、巻物形状にしたりできるフレキシブルな素子、例えば、有機ＥＬ素子等の電子デバイスや有機薄膜太陽電池等に好ましく適用できる。なかでも、本発明の封止フィルムは、空気中の化学成分（酸素、水、窒素酸化物、硫黄酸化物、オゾン等）によってバリア性能が劣化する上記フレキシブルな素子に好ましく適用できる。即ち、フレキシブルな素子である本発明の機能素子は、本発明の（フレキシブル性を有する）封止フィルムで封止されていることを特徴とするものである。この（フレキシブルな）機能素子は、本発明の（フレキシブル性を有する）封止フィルムと、該封止フィルムで封止されてなる機能素子本体（素子を搭載する基板）と、を含む構成を有するものである。
【０１７８】  フレキシブルな素子である本発明の機能素子に用いられる機能素子本体の例としては、例えば、有機エレクトロルミネッセンス素子（有機ＥＬ素子）、液晶表示素子（ＬＣＤ）、薄膜トランジスタ、タッチパネル、電子ペーパー、有機薄膜太陽電池（ＰＶ）等を挙げることができる。本発明の効果がより効率的に得られるという観点から、該機能素子本体は有機ＥＬ素子または太陽電池が好ましく、有機ＥＬ素子がより好ましい。
【０１７９】  フレキシブルな素子である本発明の機能素子に求められる性能を満たすためには機能素子自体をより薄くする必要があり、機能素子本体も薄くする必要があることから、該機能素子本体（素子側基板）の厚さは、１０〜２００μｍ、好ましくは１０〜１００μｍの範囲である。なお機能素子本体（素子側基板）は素子を設ける都合上その表面は数μｍ程度の凹凸をもった表面になる。そのため、上記機能素子本体（素子側基板）の厚さは、各種の素子（電子デバイス）を設けていない凹部（即ち、基板）の厚さとする。
【０１８０】  本発明の封止フィルムで封止した機能素子が、長期間折り曲げや巻き付けを繰り返しても耐透湿性を有することの評価は、実施例に記載の「折り曲げ耐性の評価」に基づき、折り曲げ性が失われたと判定した際の、その折り曲げ回数を尺度として評価できる。
【０１８１】  即ち、本発明では折り曲げ耐性の評価方法として曲率半径を固定して繰り返し折り曲げすることに対する耐久性を評価する方法を採用できる。具体的にはフレキシブルディスプレイ素子の機械的ストレステスト（ＩＥＣ６２７１５−６−１  Ｅｄ．１）に規定されている繰り返し屈曲テスト法が挙げられる。これは機能素子を一定の曲率半径になるようにＵ字型に折り曲げたところで素子の両端を前後に繰り返しスライドすることによって繰り返し折り曲げするテスト法である。装置例としてはユアサシステム機器株式会社製のＵ字折り返し試験機等が挙げられる。その他の試験条件としては屈曲速度が挙げられるが、本発明においては、試験期間や実際の使用現場を考慮して１分間に６０回の繰り返し速度で行う。
【０１８２】  例えば、折り曲げ耐性は、曲率半径２．０ｍｍで上記試験を行ったあとに、例えば８５℃、８５％ＲＨの環境に２４時間放置したのち発光試験を行うことにより、評価することができる。詳しくは実施例の「折り曲げ耐性の評価」に記載の通りである。ただし、実施例では曲率半径２．０ｍｍとしたが、実際の使用用途に応じて、当該曲率半径を変更（例えば、３．０ｍｍとか、４．０ｍｍなど）して評価してもよい。
【実施例】
【０１８３】  本発明の効果を、以下の実施例及び比較例を用いて説明する。ただし、本発明の技術的範囲が以下の実施例のみに制限されるわけではない。また、下記操作において、特記しない限り、操作及び物性等の測定は室温（２５℃）、相対湿度５０％の条件で行う。【０１８４】  〔比較例１〕  《封止フィルム１の製造》［ガスバリア層１（ポリシラザン改質層；遷移金属化合物を含まない層（Ｂ）の作製］  〈ポリシラザンを含有する塗布液の調製〉  無触媒のパーヒドロポリシラザンを２０質量％含むジブチルエーテル溶液（ＡＺエレクトロニックマテリアルズ株式会社製、アクアミカ（登録商標）ＮＮ１２０−２０）と、アミン触媒（Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラメチル−１，６−ジアミノヘキサン（ＴＭＤＡＨ））５質量％を含むパーヒドロポリシラザン２０質量％のジブチルエーテル溶液（ＡＺエレクトロニックマテリアルズ株式会社製、アクアミカ（登録商標）ＮＡＸ１２０−２０）とを、４：１の割合（質量比）で混合し、さらにジブチルエーテルと２，２，４−トリメチルペンタンとの質量比が６５：３５となるように混合した溶媒で、塗布液の固形分が５質量％になるように、塗布液を希釈調製した。【０１８５】  上記で得られた塗布液を、株式会社きもと製のクリアハードコート（ハードコート層；厚さ４μｍ）を施した総厚さ７５μｍのＰＥＴ基材（可撓性を有する基材）上に乾燥後の厚さが３００ｎｍになるようスピンコート法により成膜し、２分間放置した後、８０℃のホットプレートで１分間加熱処理を行い、ポリシラザン塗膜を形成した。ポリシラザン塗膜を形成した後、波長１７２ｎｍのＸｅエキシマランプにて６０００ｍＪ／ｃｍ２の真空紫外線照射処理を施してガスバリア層１（層（Ｂ））を形成した。この際、照射雰囲気は窒素で置換し、酸素濃度は０．１体積％とした。また、試料を設置するステージ温度を８０℃とした。また、上記クリアハードコート（ハードコート層）は、上記基材とガスバリア層１（層（Ｂ））との間に配置されるようにした。【０１８６】  ［接着層１の形成］  （塗布液の調製）  液状ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂（ジャパンエポキシレジン社製「８２８ＥＬ」）３０質量部、オルソトルイジンジグリシジルアミン（日本化薬社製「ＧＯＴ」）２０質量部、アクリル系コアシェル樹脂（日本ゼオン社製「Ｆ３５１」）８質量部、固体分散型硬化剤（味の素ファインテクノ社製「アミキュアＶＤＨ−Ｊ」）１８質量部、固体分散型硬化剤（味の素ファインテクノ社製「アミキュアＰＮ４０−Ｊ」）２質量部、ビフェニルアラルキル型エポキシ樹脂（日本化薬社製「ＮＣ３０００」）の７０質量％固形分のメチルエチルケトン（ＭＥＫ）溶液８５質量部、フェノキシ樹脂（ジャパンエポキシレジン社製「ＹＸ６９５４」）の３５質量％ＭＥＫ溶液６０質量部をアジホモミキサーロボミックス型混合攪拌機（プライミクス社製）にて混合し、さらに溶剤（ＭＥＫ）３５質量部を混合し、高速回転ミキサーで均一に分散して、ワニス状の塗布液を得た。【０１８７】  得られたワニス状の塗布液を前記で得たガスバリア層１上に、乾燥後の接着層１（熱硬化性樹脂層）の厚さが１０μｍになるよう、アプリケーターにて均一に塗布し、６０〜８０℃で６分間乾燥���せることにより、接着層１を形成することで、比較例１の封止フィルム１を得た。【０１８８】  〔実施例１〕  《封止フィルム２の製造》［ガスバリア層２（遷移金属化合物として酸化タンタルを含む層（Ａ−１））の作製］  マグネトロンスパッタ装置を用いて、ターゲットとしてＴａターゲットを用い、プロセスガスにはＡｒとＯ２とを用いたＤＣスパッタにより、比較例１の封止フィルム１の製造と同様にして作製したガスバリア層１（層（Ｂ））を有するフィルム上に、ガスバリア層２（層（Ａ−１））として酸化タンタル膜（ＴａＯｘ）を成膜した。事前にガラス基板を用いた成膜により、酸素分圧を調整することにより組成の条件出しを行い、表層から深さ１ｎｍ近傍の組成がＴａＯ１．５となる条件を見出した。この条件を適用し、厚さ１０ｎｍで酸化タンタル膜の成膜を行った。【０１８９】  比較例１の封止フィルム１の「接着層１の形成」と同様にして調製した塗布液を前記で得たガスバリア層２（層（Ａ−１））上に、乾燥後の接着層１（熱硬化性樹脂層）の厚さが１０μｍになるよう、アプリケーターにて均一に塗布し、６０〜８０℃で６分間乾燥させることにより、接着層１を形成することで、本実施例の封止フィルム２を得た。【０１９０】  〔実施例２〕  《封止フィルム３の製造》  接着層１（熱硬化性樹脂層）の厚さを５μｍに変更する以外は封止フィルム２の製造と同様にして、本実施例の封止フィルム３を得た。【０１９１】  〔実施例３〕  《封止フィルム４の製造》  接着層を、以下の「接着層２の形成」に記載のようにして設ける以外は封止フィルム３の製造と同様にして本実施例の封止フィルム４を得た。【０１９２】  ［接着層２の形成］  （塗布液の調製）  ポリイソブテン（オパノール（登録商標）Ｂ１００：粘度平均分子量１１０００００、ＢＡＳＦ社製）を芳香族系混合溶剤（イプゾール１５０：出光興産株式会社製）に溶解して３０質量％の溶液としたもの５０質量部に、水添脂環式石油樹脂（Ｅｓｃｏｒｅｚ（登録商標）５３４０：Ｅｘｘｏｎ  Ｍｏｂｉｌｅ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ社製）２０質量部と、液状ポリイソブテン（Ｔｅｔｒａｘ３Ｔ：新日本石油社製）５質量部と、液状ポリイソプレン（クラプレンＬＩＲ−５０：株式会社クラレ製）１０質量部とを、混合し、高速回転ミキサーで均一に分散して塗布液を得た。【０１９３】  得られた塗布液を前記で得たガスバリア層２（層（Ａ−１））上に、乾燥後の接着層２（ポリイソブテン系粘着剤層）の厚さが５μｍになるようアプリケーターにて均一に塗布し、８０℃で３０分間乾燥させることにより、接着層２を形成することで、本実施例の封止フィルム４を得た。【０１９４】  〔実施例４〕  《封止フィルム５の製造》  接着層２（ポリイソブテン系粘着剤層）の厚さを２μｍに変更する以外は封止フィルム４の製造と同様にして、本実施例の封止フィルム５を得た。【０１９５】  〔実施例５〕  《封止フィルム６の製造》  ガスバリア層２（層（Ａ−１））を下記ガスバリア層３（層（Ａ−２））に変更する以外は封止フィルム４の製造と同様にして、本実施例の封止フィルム６を得た。【０１９６】  ［ガスバリア層３（遷移金属化合物として酸化ニオブを含む層（Ａ−２））の作製］  マグネトロンスパッタ装置��用いて、ターゲットとして酸素欠損型Ｎｂ２Ｏ５ターゲットを用い、プロセスガスにはＡｒとＯ２とを用いたＤＣスパッタにより、実施例３の封止フィルム４（＝比較例１の封止フィルム１）の製造と同様にして作製したガスバリア層１（層（Ｂ））を有するフィルム上に、ガスバリア層３（層（Ａ−２））として酸化ニオブ膜（ＮｂＯｘ）を成膜した。事前にガラス基板を用いた成膜により、酸素分圧を調整することにより組成の条件出しを行い、表層から深さ２ｎｍ近傍の組成がＮｂＯ１．５となる条件を見出した。この条件を適用し、厚さ３０ｎｍで酸化ニオブ膜の成膜を行った。【０１９７】  〔比較例２〕  《封止フィルム７の製造》  ガスバリア層２（層（Ａ−１））を下記ガスバリア層１（層（Ｂ））に変更する以外は封止フィルム４の製造と同様にして、比較例２の封止フィルム７を得た。即ち、比較例２の封止フィルム７は、基材上に厚さ３００ｎｍのガスバリア層１（層（Ｂ））が２層積層され（層（Ｂ）の合計厚さ：６００ｎｍ）、その上に厚さ５μｍの接着層２（ポリイソブテン系粘着剤層）が形成された構成である。【０１９８】  ［２層積層されたガスバリア層１（層（Ｂ））の作製］  比較例１の「ポリシラザンを含有する塗布液の調製」と同様にして得られた塗布液を、株式会社きもと製のクリアハードコート（ハードコート層；厚さ４μｍ）を施した総厚さ７５μｍのＰＥＴ基材（可撓性を有する基材）上に乾燥後の厚さが３００ｎｍになるようスピンコート法により成膜し、２分間放置した後、８０℃のホットプレートで１分間加熱処理を行い、１層目のポリシラザン塗膜を形成した。この１層目のポリシラザン塗膜に波長１７２ｎｍのＸｅエキシマランプにて６０００ｍＪ／ｃｍ２の真空紫外線照射処理を施して１層目のバリア層を形成した。さらに１層目のバリア層上に上記塗布液を乾燥後の厚さが３００ｎｍになるようスピンコート法により成膜し、２分間放置した後、８０℃のホットプレートで１分間加熱処理を行い、２層目のポリシラザン塗膜を形成した。この２層目のポリシラザン塗膜に波長１７２ｎｍのＸｅエキシマランプにて６０００ｍＪ／ｃｍ２の真空紫外線照射処理を施して２層目のバリア層を形成し、２層積層されたガスバリア層１（層（Ｂ））を形成した。この際、照射雰囲気は窒素で置換し、酸素濃度は０．１体積％とした。また、試料を設置するステージ温度を８０℃とした。【０１９９】  《機能素子の作製》  機能素子の一例として有機ＥＬ素子を作製した。【０２００】  〔有機ＥＬ素子１の作製〕  （第一電極の形成）  ３０μｍの厚さの薄膜ガラスと５０μｍの厚さのＰＥＴとを複合化させた樹脂基材（５０ｍｍ×１００ｍｍ）上に、４０ｍｍ×３０ｍｍの長方形の厚さ１５０ｎｍのＩＴＯをスパッタ法により成膜し、フォトリソグラフィー法によりパターニングを行い、第一電極を形成した。【０２０１】  （正孔輸送層の形成）  正孔輸送層形成用塗布液を塗布する前に、第一電極が形成された樹脂基材の洗浄表面改質処理を、波長１８４．９ｎｍの低圧水銀ランプを使用し、照射強度１５ｍＷ／ｃｍ２、距離１０ｍｍで実施した。帯電除去処理は、微弱Ｘ線による除電器を使用して行った。【０２０２】  第一電極が形成された樹脂基材の第一電極の上に、以���に示す正孔輸送層形成用塗布液を、２５℃、５０％ＲＨの環境下で、スピンコーターで塗布した後、下記の条件で乾燥及び加熱処理を行い、正孔輸送層を形成した。正孔輸送層形成用塗布液は乾燥後の厚さが５０ｎｍになるように塗布した。【０２０３】  〈正孔輸送層形成用塗布液の準備〉  ポリエチレンジオキシチオフェン・ポリスチレンスルホネート（ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ、Ｂａｙｅｒ社製  Ｂｙｔｒｏｎ  Ｐ  ＡＩ  ４０８３）を純水６５質量％、メタノール５質量％で希釈した溶液を正孔輸送層形成用塗布液として準備した。【０２０４】  〈乾燥及び加熱処理条件〉  正孔輸送層形成用塗布液を塗布した後、成膜面に向け高さ１００ｍｍ、吐出風速１ｍ／ｓ、幅手の風速分布５％、温度１００℃で溶媒を除去した後、引き続き、加熱処理装置を用い温度１５０℃で裏面伝熱方式の熱処理を行い、正孔輸送層を形成した。【０２０５】  （発光層の形成）  上記で形成した正孔輸送層上に、以下に示す白色発光層形成用塗布液を、下記の条件によりスピンコーターで塗布した後、下記の条件で乾燥及び加熱処理を行い、発光層を形成した。白色発光層形成用塗布液は乾燥後の厚さが４０ｎｍになるように塗布した。【０２０６】  〈白色発光層形成用塗布液〉  ホスト材として下記化学式Ｈ−Ａで表される化合物１．０ｇと、発光ドーパントとして下記化学式Ｄ−Ａで表される化合物を１００ｍｇ、発光ドーパントとして下記化学式Ｄ−Ｂで表される化合物を０．２ｍｇ、発光ドーパントとして下記化学式Ｄ−Ｃで表される化合物を０．２ｍｇ、１００ｇのトルエンに溶解し白色発光層形成用塗布液として準備した。【０２０７】
【化５】
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【０２０８】  〈塗布条件〉  塗布工程を窒素ガス濃度９９体積％以上の雰囲気で、塗布温度を２５℃とした。〈乾燥及び加熱処理条件〉  白色発光層形成用塗布液を塗布した後、成膜面に向け高さ１００ｍｍ、吐出風速１ｍ／ｓ、幅手の風速分布５％、温度６０℃で溶媒を除去した後、引き続き、温度１３０℃で加熱処理を行い、発光層を形成した。【０２０９】  （電子輸送層の形成）  上記で形成した発光層の上に、以下に示す電子輸送層形成用塗布液を下記の条件によりスピンコーターで塗布した後、下記の条件で乾燥及び加熱処理し、電子輸送層を形成した。電子輸送層形成用塗布液は、乾燥後の厚さが３０ｎｍになるように塗布した。【０２１０】  〈塗布条件〉  塗布工程は窒素ガス濃度９９体積％以上の雰囲気で、電子輸送層形成用塗布液の塗布温度を２５℃とした。【０２１１】  〈電子輸送層形成用塗布液〉  電子輸送層は下記化学式Ｅ−Ａで表される化合物を２，２，３，３−テトラフルオロ−１−プロパノール中に溶解し０．５質量％溶液とし電子輸送層形成用塗布液とした。【０２１２】
【化６】
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【０２１３】  〈乾燥及び加熱処理条件〉  電子輸送層形成用塗布液を塗布した後、成膜面に向け高さ１００ｍｍ、吐出風速１ｍ／ｓ、幅手の風速分布５％、温度６０℃で溶媒を除去した後、引き続き、加熱処理部で、温度２００℃で加熱処理を行い、電子輸送層を形成した。【０２１４】  （電子注入層の形成）  上記で形成した電子輸送層上に、電子注入層を形成した。まず、基板を減圧チャンバーに投入し、５×１０−４Ｐａまで減圧した。あらかじめ、真空チャンバーにタンタル製蒸着ボートに用意しておいたフッ化セシウムを加熱し、厚さ３ｎｍの電子注入層を形成した。【０２１５】  （第二電極の形成）  上記で形成した電子注入層の上であって、第一電極の取り出し電極になる部分を除く部分に、５×１０−４Ｐａの真空下で、第二電極形成材料としてアルミニウムを使用し、取り出し電極を有するように蒸着法にて、発光面積が４０ｍｍ×３０ｍｍの長方形になるようにマスクパターン成膜し、厚さ１００ｎｍの第二電極を積層し、電子素子を作製した。【０２１６】  （封止）  封止フィルムとして、上記で作製した封止フィルム１を５０ｍｍ×１００ｍｍに切り出し使用した。封止フィルムを、取り出し電極及び電極リードの接合部を覆うようにして密着・配置して、圧着ローラーを用いて圧着条件として、圧着ローラー温度１２０℃、圧力０．５ＭＰａ、装置速度０．３ｍ／ｍｉｎで密着封止した。このようにして比較例１の有機ＥＬ素子１を作製した。【０２１７】  〔有機ＥＬ素子２〜７の作製〕  有機ＥＬ素子２〜７は、封止フィルム１を封止フィルム２〜７に変更し、有機ＥＬ素子１の作製と同様にして行った。これにより、実施例１〜５及び比較例２の有機ＥＬ素子２〜７を作製した。【０２１８】  （折り曲げ耐性の評価）  上記で作製した有機ＥＬ素子１〜７の折り曲げ耐性をフレキシブルディスプレイ素子の機械的ストレステスト（ＩＥＣ６２７１５−６−１  Ｅｄ．１）に準じて評価した。具体的には、２３℃、５０％ＲＨの環境下でユアサシステム機器株式会社製のＵ字折り返し試験機を用いて曲率半径２．０ｍｍ、封止フィルム側が外側になるようにセットし、屈曲速度６０回／分で最大３０万回繰り返し屈曲させた。ここで、１万回以上折り曲げ可能の場合は、１万回ごとに以下に示す発光強度を測定した。一方、１万回までに折り曲げ性が失われている場合は、１千回ごとに以下の発光強度を測定した。【０２１９】  所定回数（１万回以上折り曲げ可能の場合は１万回ごとに、また１万回までに折り曲げ性が失われている場合は１千回ごとに）繰り返し屈曲させた後、８５℃、８５％ＲＨの環境に２４時間放置して最大屈曲回数を出した。なお、耐久性の判定は、ストレステスト前の、一定電圧（１０Ｖ）における発光強度に対して、テスト後の当該発光強度が５０％未満となったとき、折り曲げ性が失われたと判定し、その折り曲げ回数を尺度とした。【０２２０】  得られた最大屈曲回数の結果を下記表２に示す。【０２２１】
【表２】
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【０２２２】  上記表２の結果より、実施例１〜５の封止フィルム２〜６を用いた有機ＥＬ素子２〜６は、比較例１、２の封止フィルム１、７を用いた有機ＥＬ素子１、７に比して、最大屈曲回数が格段に向上（１００倍〜２００倍以上向上）することから長期間折り曲げや巻き付けを繰り返しても折り曲げ耐性が極めて劣化し難く、耐透湿性（ガスバリア性）が特段に優れることがわかる。【０２２３】  また、実施例１〜５の封止フィルム２〜６を用いた有機ＥＬ素子２〜６の中では、接着層に粘着剤を用いた封止フィルム４〜６を用いた有機ＥＬ素子４〜６の方が、接着層に熱硬化剤を用いた封止フィルム２〜３を用いた有機ＥＬ素子２〜３に比して、最大屈曲回数が大きく向上することから、折り曲げ耐性が特に劣化し難く、耐透湿性（ガスバリア性）がより優れることがわかる。【０２２４】  また、接着層に同じ接着剤を用い、その厚さを変えた封止フィルム２〜３を用いた有機ＥＬ素子２〜３を対比することで、接着層の厚さを薄くした封止フィルム３を用いた有機ＥＬ素子３の方が、最大屈曲回数がより向上することから、折り曲げ耐性が劣化し難く、耐透湿性（ガスバリア性）が優れることがわかる。【０２２５】  同様に、接着層に同じ接着剤を用い、その厚さをより薄くなるように変えた封止フィルム４〜５を用いた有機ＥＬ素子４〜５を対比することで、接着層の厚さをより薄くした封止フィルム５を用いた有機ＥＬ素子５の方が、最大屈曲回数がより向上することから、折り曲げ耐性が劣化し難く、耐透湿性（ガスバリア性）が優れることがわかる。【０２２６】  また、接着層は同じ（薄い粘着剤）で、ガスバリア層（層（Ａ））に含有させる遷移金属化合物（特に好適な第５族元素の酸化物）を変えた封止フィルム４、６を用いた有機ＥＬ素子４、６を対比することで、酸化タンタルよりも酸化ニオブを用いた封止フィルム６を用いた有機ＥＬ素子６が、最大屈曲回数が最も向上することから、折り曲げ耐性が極めて劣化し難く、耐透湿性（ガスバリア性）が最も優れることがわかる。【０２２７】  本出願は、２０１５年３月２６日に出願された日本国特許出願第２０１５−０６４９２９号に基づいており、その開示内容は、参照により全体として引用されている。
【符号の説明】
【０２２８】１０    封止フィルム、１１    可撓性を有する基材、１２    遷移金属化合物を含まない層（Ｂ）、１３    遷移金属化合物を含有する層（Ａ）、１４    ガスバリア層、１５    接着層。
【図１】
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【図２】
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【国際調査報告】
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