(57)【要約】【課題】プロセスガスに起因する錆やパーティクル等の異物が半導体ウェハの製造工程に侵入することを抑制する真空ポンプ及び該真空ポンプに用いられる可撓性カバー及びロータを提供する。【解決手段】真空ポンプ１は、ガス吸気口１２ａ及びガス排気口１１ａを有するケーシング１０と、ガス吸気口１２ａに向けて開口する凹部２９を有し、凹部２９内に配置されたボルト２５を介してロータシャフト２１に締結されたロータ２０と、を備えている。凹部２９には、ロータ２０のガス吸気口１２ａに対向する端面２０ａに外周部８０ａが支持されると共に、ロータ２０の凹部２９内に中央部８０ｂが陥入し、凹部２９に向けて凸状に弾性変形して凹部２９を覆う可撓性カバー８０が設けられている。
2017138154.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
吸気口及び排気口を有するケーシングと、前記吸気口に向けて開口する凹部を有し、前記凹部内に配置されたボルトでロータシャフトに締結されたロータと、を備えた真空ポンプであって、
前記ロータの前記吸気口に対向する端面に外周部が支持されると共に前記ロータの前記凹部内に中央部が陥入し、前記凹部に向けて凸状に弾性変形して前記凹部を覆う可撓性カバーを備えていることを特徴とする真空ポンプ。
【請求項２】
前記可撓性カバーに配置され、弾性変形する前記可撓性カバーを支持する補強カバーを備えていることを特徴とする請求項１記載の真空ポンプ。
【請求項３】
前記補強カバーは、前記可撓性カバーの外径より小さい外径であることを特徴とする請求項２記載の真空ポンプ。
【請求項４】
前記可撓性カバーを挟んで前記吸気口の反対側に前記可撓性カバーに隣接して配置されて、前記可撓性カバーを支持する扁平カバーを備えていることを特徴とする請求項１乃至３の何れか１項記載の真空ポンプ。
【請求項５】
前記可撓性カバーには、該可撓性カバーの剛性を局所的に下げる剛性低下部が形成されていることを特徴とする請求項１記載の真空ポンプ。
【請求項６】
前記剛性低下部は、前記可撓性カバーの中央部まわりに同心円上に形成された複数の抜き穴であり、
前記可撓性カバーを挟んで前記吸気口の反対側に前記可撓性カバーに隣接して配置され、前記ロータの前記凹部に嵌入された扁平カバーを備えていることを特徴とする請求項５記載の真空ポンプ。
【請求項７】
請求項１乃至６の何れか１項記載の真空ポンプに用いられることを特徴とする可撓性カバー。
【請求項８】
請求項１乃至６の何れか１項記載の真空ポンプに用いられることを特徴とするロータ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、低真空から超高真空に亘る圧力範囲で利用可能な真空ポンプ及び該真空ポンプに用いられる可撓性カバー及びロータに関する。
【背景技術】
【０００２】
メモリや集積回路等の半導体を製造する際、空気中の塵等による影響を避けるために高真空状態のチャンバ内で高純度の半導体基板（ウェハ）にドーピングやエッチングを行う必要があり、プロセスガスは、例えば、ターボ分子ポンプとネジ溝ポンプとを組み合わせた複合ポンプ等の真空ポンプによって排気される。【０００３】
このような真空ポンプとして、例えば、円筒状のケーシングと、ケーシング内に入れ子で固定されると共にネジ溝部が配設された円筒状のステータと、ステータ内で高速回転可能に支持されたロータシャフトにボルトで締結されたロータと、を備えたものが知られている。プロセスガスは、ロータの回転翼によって下向きの運動量が与えられることにより、ネジ溝ポンプの上流に移送される。ついで、プロセスガスは、ネジ溝ポンプで圧縮された後に、外部に排気される。【０００４】
腐食性のプロセスガスを半導体ウェハに作用させる工程が数多くあるため、真空ポンプでチャンバ内のプロセスガスを排出する際に、プロセスガスがロータとロータシャフトとを締結するボルトの表面に腐食や錆が発生し、または、プロセスガス中の成分の物理化学的変化によりパーティクル（微粒子、ダスト）を発生させることがある。【０００５】
そして、チャンバ内の減圧と昇圧を繰り返すうちに、ボルト表面の錆やパーティクル等の異物を含むプロセスガス等がチャンバ内に逆流し、異物が半導体ウェハに付着して、半導体ウェハの加工品質を低下させる虞があった。【０００６】
そのような異物を含むプロセスガス等がチャンバ内に逆流することを抑制するため、特許文献１には、ロータの凹部に嵌入（かんにゅう）、すなわち嵌め込まれて、ボルトの締結部を覆うように配置されたカバーを備えた真空ポンプが開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２０１４−５５５７４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかしながら、上述したような真空ポンプでは、ポンプを組み立てる上で部材の寸法誤差を吸収するために確保されたカバーとロータとの間の僅かな隙間をプロセスガスが通過可能なことにより、ボルト表面に生じた錆や凹部内に残留したパーティクルがチャンバ内に逆流する虞があった。【０００９】
そこで、プロセスガスに起因する錆やパーティクル等の異物が半導体ウェハの製造工程に侵入することを抑制するために解決すべき技術的課題が生じてくるのであり、本発明は、この課題を解決することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明は、上記目的を達成するために提案するものであり、請求項１記載の発明は、吸気口及び排気口を有するケーシングと、前記吸気口に向けて開口する凹部を有し、前記凹部内に配置されたボルトでロータシャフトに締結されたロータと、を備えた真空ポンプであって、前記ロータの前記吸気口に対向する端面に外周部が支持されると共に前記ロータの前記凹部内に中央部が陥入し、前記凹部に向けて凸状に弾性変形して前記凹部を覆う可撓性カバーを備えている真空ポンプを提供する。【００１１】
この構成によれば、可撓性カバーがロータの凹部を覆うことにより、ロータをロータシャフトに締結するボルトがプロセスガスに曝されなくなり、ボルトの腐食や発錆が抑制されるため、チャンバ内への異物の逆流を抑制することができる。【００１２】
請求項２記載の発明は、請求項１記載の真空ポンプの構成に加えて、前記可撓性カバーに配置され、弾性変形する前記可撓性カバーを支持する補強カバーを備えている真空ポンプを提供する。【００１３】
この構成によれば、補強カバーに支持された支持点から外周部に亘って可撓性カバーが弾性変形することにより、可撓性カバーに作用する最大応力が低下するため、可撓性カバーの耐久性を向上させ、チャンバ内への異物の逆流を長期に亘って抑制することができる。【００１４】
請求項３記載の発明は、請求項２記載の真空ポンプの構成に加えて、前記補強カバーは、前記可撓性カバーの外径より小さい外径である真空ポンプを提供する。【００１５】
この構成によれば、可撓性カバーが補強カバーの全面に支持されながら弾性変形することにより、可撓性カバーに作用する最大応力が低下するため、可撓性カバーの耐久性を向上させ、チャンバ内への異物の逆流を長期に亘って抑制することができる。【００１６】
請求項４記載の発明は、請求項１乃至３の何れか１項記載の真空ポンプの構成に加えて、前記可撓性カバーを挟んで前記吸気口の反対側に前記可撓性カバーに隣接して配置されて、前記可撓性カバーを支持する扁平カバーを備えている真空ポンプを提供する。【００１７】
この構成によれば、扁平カバーが可撓性カバーを支持し、可撓性カバーの中央部が平坦に維持されることにより、可撓性カバーが中央部から外周部に亘って滑らかに弾性変形し、可撓性カバーに作用する最大応力が低下するため、チャンバ内への異物の逆流を長期に亘って抑制することができる。【００１８】
請求項５記載の発明は、請求項１記載の真空ポンプの構成に加えて、前記可撓性カバーには、該可撓性カバーの剛性を局所的に下げる剛性低下部が形成されている真空ポンプを提供する。【００１９】
この構成によれば、可撓性カバーは、剛性低下部が湾曲するように滑らかに弾性変形することにより、可撓性カバーに過度な応力が作用することを抑制されるため、可撓性カバーの耐久性を向上させ、チャンバ内への異物の逆流を長期に亘って抑制することができる。また、剛性低下部が設けられ可撓性カバーの剛性が低下することにより、可撓性カバーが変形し易くなるため、可撓性カバーの外周部とロータの凹部との密着性を向上させることができる。【００２０】
請求項６記載の発明は、請求項５記載の真空ポンプの構成に加えて、前記剛性低下部は、前記可撓性カバーの中央部まわりに同心円上に形成された複数の抜き穴であり、前記可撓性カバーを挟んで前記吸気口の反対側に前記可撓性カバーに隣接して配置され、前記ロータの前記凹部に嵌入された扁平カバーを備えている真空ポンプを提供する。【００２１】
この構成によれば、可撓性カバーは、抜き穴を設けた部分が湾曲するように滑らかに弾性変形することにより、可撓性カバーに過度な応力が作用することを抑制されるため、可撓性カバーの耐久性を向上させ、チャンバ内への異物の逆流を長期に亘って抑制することができる。【００２２】
請求項７記載の発明は、請求項１乃至６の何れか１項記載の真空ポンプに用いられる可撓性カバーを提供する。【００２３】
この構成によれば、可撓性カバーがロータの凹部を覆うことにより、ロータをロータシャフトに締結するボルトがプロセスガスに曝されなくなり、ボルトの腐食や発錆が抑制されるため、チャンバ内への異物の逆流を抑制することができる。【００２４】
請求項８記載の発明は、請求項１乃至６の何れか１項記載の真空ポンプに用いられるロータを提供する。【００２５】
この構成によれば、ロータの凹部が可撓性カバーで覆われることにより、ロータをロータシャフトに締結するボルトがプロセスガスに曝されなくなり、ボルトの腐食や発錆が抑制されるため、チャンバ内への異物の逆流を抑制することができる。
【発明の効果】
【００２６】
本発明は、可撓性カバーがロータの凹部を覆うことにより、ロータをロータシャフトに締結するボルトがプロセスガスに曝されなくなり、ボルトの腐食や発錆が抑制されるため、チャンバ内への異物の逆流を抑制することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２７】
【図１】本発明の第１実施例に係る真空ポンプを示す断面図。
【図２】図１の要部拡大図であり、（ａ）は吸気口側から見た可撓性カバーを示す平面図、（ｂ）はロータの凹部を示す拡大図。
【図３】可撓性カバーの組立図。
【図４】弾性変形してロータの凹部を塞ぐ可撓性カバーを示す拡大図。
【図５】図２のＩ部拡大図。
【図６】図２のＩＩ部拡大図。
【図７】補強カバーの径寸法と可撓性カバーに作用する最大応力との関係を示すグラフ。
【図８】本発明の第２実施例に係る真空ポンプに用いられる可撓性カバーを示す図であり、（ａ）は吸気口側から見た可撓性カバーを示す平面図、（ｂ）はロータの凹部を示す拡大図。
【発明を実施するための形態】
【００２８】
本発明は、プロセスガスに起因する錆やパーティクル等の異物が半導体ウェハの製造工程に侵入することを抑制するために、吸気口及び排気口を有するケーシングと、吸気口に向けて開口する凹部を有し、凹部内に配置されたボルトでロータシャフトに締結されたロータと、を備えた真空ポンプであって、ロータの吸気口に対向する端面に外周部が支持されると共にロータの凹部内に中央部が陥入（かんにゅう）、すなわちくぼみ、凹部に向けて凸状に弾性変形して凹部を覆う可撓性カバーを備えていることにより実現した。
【実施例】
【００２９】
以下、本発明の一実施例に係る真空ポンプ１について、図面に基づいて説明する。なお、以下において、「上」、「下」の語は、ロータ軸方向における吸気口側、排気口側がそれぞれ上方、下方に対応するものである。【００３０】
図１は、真空ポンプ１を示す縦断面図である。真空ポンプ１は、略円筒状のケーシング１０内に収容されたターボ分子ポンプ機構ＰＡとネジ溝ポンプ機構ＰＢとから成る複合ポンプである。【００３１】
真空ポンプ１は、ケーシング１０と、ケーシング１０内に回転可能に支持されたロータシャフト２１を有するロータ２０と、ロータシャフト２１を回転させる駆動モータ３０と、ロータシャフト２１の一部及び駆動モータ３０を収容するステータコラム４０とを備えている。【００３２】
ケーシング１０は、有底円筒状に形成されている。ケーシング１０は、ガス排気口１１ａが下部側方に形成されたベース１１と、ガス吸気口１２ａが上部に形成されると共にベース１１上に載置された状態でボルト１３を介して固定された円筒部１２と、で構成されている。なお、図１中の符号１４は、裏蓋である。【００３３】
ベース１１は、ガス排気口１１ａが図示しない補助ポンプに連通するように取り付けられる。【００３４】
円筒部１２は、フランジ１２ｂを介してガス吸気口１２ａが図示しないチャンバ等の真空容器に連通するように取り付けられる。【００３５】
ロータ２０は、ロータシャフト２１と、ロータシャフト２１の上部に固定されてロータシャフト２１の軸心に対して同心円状に並設された回転翼２２と、を備えている。【００３６】
ロータシャフト２１は、磁気軸受５０により非接触支持されている。磁気軸受５０は、ラジアル電磁石５１と、アキシャル電磁石５２と、を備えている。ラジアル電磁石５１及びアキシャル電磁石５２は、図示しない制御ユニットに接続されている。【００３７】
制御ユニットは、ラジアル方向変位センサ５１ａ及びアキシャル方向変位センサ５２ａの検出値に基づいて、ラジアル電磁石５１、アキシャル電磁石５２の励磁電流を制御することにより、ロータシャフト２１が所定の位置に浮上した状態で支持されるようになっている。【００３８】
ロータシャフト２１の上部及び下部は、タッチダウン軸受２３内に挿通されている。ロータシャフト２１が制御不能になった場合には、高速で回転するロータシャフト２１がタッチダウン軸受２３に接触して真空ポンプ１の損傷を防止するようになっている。【００３９】
回転翼２２は、ボス孔２４にロータシャフト２１の上部を挿通した状態で、ボルト２５をロータフランジ２６に挿通すると共にシャフトフランジ２７に螺着することで、ロータシャフト２１に一体に取り付けられている。以下、ロータシャフト２１の軸線方向を「ロータ軸方向Ａ」と称し、ロータシャフト２１の径方向を「ロータ径方向Ｒ」と称す。【００４０】
駆動モータ３０は、ロータシャフト２１の外周に取り付けられた回転子３１と、回転子３１を取り囲むように配置された固定子３２とで構成されている。固定子３１は、上述した図示しない制御ユニットに接続されており、制御ユニットによってロータシャフト２１の回転が制御されている。【００４１】
ステータコラム４０は、ベース１１上に載置された状態で、ステータコラム４０の下端部がボルト４１を介してベース１１に固定されている。【００４２】
次に、真空ポンプ１の略上半分に配置されたターボ分子ポンプ機構ＰＡについて説明する。【００４３】
ターボ分子ポンプ機構ＰＡは、ロータ２０の回転翼２２と、回転翼２２の間に隙間を空けて配置された固定翼６０とで構成されている。回転翼２２と固定翼６０とは、ロータ軸方向Ａに沿って交互にかつ多段に配列されており、本実施例では、回転翼２２及び固定翼６０が５段ずつ配列されている。【００４４】
回転翼２２は、所定の角度で傾斜したブレードからなり、ロータ２０の上部外周面に一体に形成されている。また、回転翼２２は、ロータ２０の軸線回りに放射状に複数設置されている。【００４５】
固定翼６０は、回転翼２２とは反対方向に傾斜したブレードからなり、円筒部１２の内壁面に段積みで設置されているスペーサ６１によりロータ軸方向Ａに挟持されて位置決めされている。また、固定翼６０も、ロータ２０の軸線回りに放射状に複数設置されている。【００４６】
回転翼２２及び固定翼６０の長さは、ロータ軸方向Ａの上方から下方に向かって徐々に短くなるように設定されている。【００４７】
上述したようなターボ分子ポンプ機構ＰＡは、回転翼２２の回転により、ガス吸気口１２ａから吸入されたガスをロータ軸方向Ａの上方から下方に移送するようになっている。【００４８】
次に、真空ポンプ１の略下半分に配置されたネジ溝ポンプ機構ＰＢについて説明する。【００４９】
ネジ溝ポンプ機構ＰＢは、ロータ２０の下部に設けられてロータ軸方向Ａに沿って延びたロータ円筒部２８と、ロータ円筒部２８の外周面２８ａを囲んで配置された略円筒状のステータ７０と、を備えている。【００５０】
ステータ７０は、ベース１１上に載置されている。ステータ７０は、内周面７０ａに刻設されたネジ溝部７１を備えている。【００５１】
上述したようなネジ溝ポンプ機構ＰＢは、ガス吸気口１２ａからロータ軸方向Ａの下方に移送されたガスを、ロータ円筒部２８の高速回転によるドラッグ効果によって圧縮して、ガス排気口１１ａに向かって移送する。具体的には、ガスは、ロータ円筒部２８とステータ７０との隙間に移送された後に、ネジ溝部７１内で圧縮されてガス排気口１１ａに移送される。【００５２】
次に、ロータ２０の凹部２９を塞ぐ可撓性カバー８０について、図面に基づいて説明する。図２は、図１の要部拡大図であり、（ａ）は吸気口側から見た可撓性カバー８０を示す平面図であり、（ｂ）はロータ２０の凹部２９を示す拡大図である。図３は、可撓性カバー８０の組立図である。図４は、弾性変形してロータ２０の凹部２９を塞ぐ可撓性カバー８０を示す拡大図である。図５は、図２のＩ部拡大図である。図６は、図２のＩＩ部拡大図である。【００５３】
凹部２９には、凹部２９を覆う可撓性カバー８０と、可撓性カバー８０に当接して配置された第１の扁平カバー８１と、第１の扁平カバー８１と隙間を空けて配置された第２の扁平カバー８２とが配置され、ボルト８３でロータシャフト２１に一体に締結されている。【００５４】
可撓性カバー８０は、薄い円板状に形成されており、例えば、ステンレス製で、厚み３ｍｍ程度に形成されている。可撓性カバー８０の外径は、ロータ２０の凹部２９の内径より３ｍｍ程度大きく設定され、可撓性カバー８０の外周部８０ａはロータの端面２０ａに接触している。【００５５】
第１の扁平カバー８１及び第２の扁平カバー８２は、円盤状に形成されており、例えば、アルミ合金製で、厚み１５ｍｍ程度に形成されている。第１の扁平カバー８１と凹部２９との間及び第２の扁平カバー８２と凹部２９との間には、僅かな隙間が空いている。これは、真空ポンプ１の組立の際に、各種部材の寸法誤差を吸収するためのものである。第１の扁平カバー８１及び第２の扁平カバー８２は、ボルト２５の発錆に起因する異物がチャンバ内に逆流することを抑制している。【００５６】
可撓性カバー８０は、第１の扁平カバー８１と補強カバー８４とに挟まれている。補強カバー８４は、薄い円板状に形成されており、例えば、ステンレス製で、厚み０．３ｍｍ程度に形成されている。補強カバー８４は、可撓性カバー８０より小径に形成されている。補許可バー８４は、可撓性カバー８０と一体に設けられていても構わないが、可撓性カバー８０と補強カバー８４とを別体に設けることにより、各部材を容易に調達することができる。なお、符号８５は、ボルト８３の頭部と補強カバー８４との間に介装されるカラーである。【００５７】
第１の扁平カバー８１と第２の扁平カバー８２の間には、第１のスリーブ８６が介装されている。第１のスリーブ８６は、略円筒状に形成されており、上部外周が部分的に小径に形成されている。第１のスリーブ８６は、例えば、アルミ合金製である。【００５８】
第１のスリーブ８６は、小径部８６ａと、大径部８６ｂと、ボルト８３を挿通するボルト孔８６ｃと、を備えている。小径部８６ａが可撓性カバー８０、第１の扁平カバー８１、補強カバー８４及びカラー８５のボルト孔に挿通され、大径部８６ｂが第１の扁平カバー８１を支持している。ボルト孔８６ｃの下部は、後述する第２のスリーブ８７に嵌合可能に拡径して形成されている。【００５９】
大径部８６ｂの段部８６ｄは、ロータ２０の端面２０ａよりも０．５ｍｍ程度低く配置されている。したがって、可撓性カバー８０は、中央部８０ｂが外周部８０ａよりも下側に位置しており、中央部８０が下側に凸状に弾性変形している。具体的には、可撓性カバー８０は、第１の扁平カバー８１と補強カバー８４とに挟み込まれているため、可撓性カバー８０は、補強カバー８４の外周部８４ａに支持されている支点８０ｃから外周部８０ａに亘って弾性変形している。【００６０】
第２の扁平カバー８２とロータシャフト２１との間には、第２のスリーブ８７が介装されている。第２のスリーブ８７は、略円筒状に形成されており、上部外周が部分的に小径に形成されている。第２のスリーブ８７は、例えば、アルミ合金製である。【００６１】
第２のスリーブ８７は、小径部８７ａと、大径部８７ｂと、ボルト８３を挿通するボルト孔８７ｃと、を備えている。小径部８７ａが第１のスリーブ８７のボルト孔８７ｃ及び第２の扁平カバー８２のボルト孔に挿通され、大径部８７ｂが第２の扁平カバー８２を支持している。ボルト孔８７ｃの下部は、ロータシャフト２１の上端に嵌合可能に拡径して形成されている。【００６２】
補強カバー８４の外径が大きくなるにつれて、支点８０ｃが外周部８０ａに接近し、可撓性カバー８０が弾性変形する範囲は小さくなる。そして、図７に示すように、補強カバー８４の外径が可撓性カバー８０の直径Ｄの略半分に設定されると、可撓性カバー８０に作用する最大応力が最小になる。したがって、補強カバー８４を用いることにより、支点８０ｃが可撓性カバー８０の中心と外周部８０ａとの中間に近づくにつれて、可撓性カバー８０に作用する最大応力は徐々に低下する。そして、補強カバー８４の外径が可撓性カバー８０の直径Ｄの半分に設定されると、すなわち、支点８０ｃが可撓性カバー８０の中心と外周部８０ａとの中間に位置すると、可撓性カバー８０に作用する最大応力が最小になる。【００６３】
なお、可撓性カバー８０、第１の扁平カバー８１、第２の扁平カバー８２、ボルト８３、補強カバー８４、カラー８５、第１のスリーブ８６及び第２のスリーブ８７は、耐腐食性及び耐錆性のコーティング処理が施されており、各部材の腐食及び発錆を抑制することができる。【００６４】
このようにして、本実施例に係る真空ポンプ１は、可撓性カバー８０がロータ２０の凹部２９を覆うことにより、ロータ２０をロータシャフト２１に締結するボルト１３がプロセスガスに曝されなくなり、ボルト２５の腐食や発錆が抑制されるため、チャンバ内への異物の逆流を抑制することができる。【００６５】
また、第１の扁平カバー８１が可撓性カバー８０を支持し、可撓性カバー８０の中央部８０ｂが平坦に維持されると共に、補強カバー８４の外周部８４ａに支持された支持点８０ｃから外周部８０ａに亘って可撓性カバー８０が弾性変形することにより、可撓性カバー８０に作用する最大応力が低下するため、可撓性カバー８０の耐久性を向上させ、チャンバ内への異物の逆流を長期に亘って抑制することができる。【００６６】
次に、本発明の第２実施例に係る真空ポンプ１で用いられる可撓性カバーについて、図面に基づいて説明する。なお、第２実施例と上述した第１実施例とで共通する構成については、共通の符号を付し、重複する説明を省略する。図８は、本発明の第２実施例に係る真空ポンプ１に用いられる可撓性カバー８０を示す図であり、（ａ）は吸気口側から見た可撓性カバーを示す平面図、（ｂ）はロータの凹部を示す拡大図である。【００６７】
可撓性カバー８０には、外周部８０ａと中央部８０ｂとの間に剛性低下部としての抜き穴８０ｄが配置されている。抜き穴８０ｄは、可撓性カバー８０に同心円上に所定間隔を空けて８つ配置されている。抜き穴８０ｄは、扇状に形成されており、抜き穴８０ｄの外径は、可撓性カバー８０の直径の略半分に設定されている。抜き穴８０ｄが設けられていることにより、可撓性カバー８０の剛性は抜き穴８０ｄの設置範囲において低下する。この抜き穴８０ｄによる剛性の低下によって、可撓性カバー８０が変形し易くなり、可撓性カバー８０の外周部８０ａとロータ２０の凹部２９との密着性を向上させることができる。【００６８】
なお、可撓性カバー８０は、第１の扁平カバー８１とカラー８５に挟まれており、抜き穴８０ｄを通過する錆やパーティクル等の異物を含むプロセスガスは、第１の扁平カバー８１で遮断されるため、凹部２９内に侵入することが抑制されている。【００６９】
第１のスリーブ８６の小径部８６ａには、可撓性カバー８０、第１の扁平カバー８１及びカラー８５のボルト孔に挿通され、大径部８６ｂが第１の扁平カバー８１を支持している。可撓性カバー８０は、中央部８０ｂが外周部８０ａよりも下側に位置しており、中央部８０が下側に凸状に弾性変形している。具体的には、可撓性カバー８０は、抜き穴８０ｄから外周部８０ａに亘って弾性変形している。【００７０】
なお、抜き穴８０ｄの形状は、扇状のものに限定されず、また、抜き穴８０ｄの設置個数は、８個に限定されるものではない。さらに、剛性低下部は、可撓性カバー８０の剛性を局所的に低下可能なものであれば、例えば、部分的に可撓性カバーの厚みを変更する等、如何なるものであっても構わず、抜き穴８０ｄに限定されるものではないが、抜き穴８０ｄはプレス加工で簡便に形成できる点で好ましい。【００７１】
このようにして、本実施例に係る真空ポンプ１は、可撓性カバー８０がロータ２０の凹部２９を覆うことにより、ロータ２０をロータシャフト２１に締結するボルト２５がプロセスガスに曝されなくなり、ボルト２５の腐食や発錆が抑制されるため、チャンバ内への異物の逆流を抑制することができる。【００７２】
また、可撓性カバー８０は、抜き穴８０ｄを設けた部分が湾曲するように滑らかに弾性変形することにより、可撓性カバー８０に過度な応力が作用することを抑制されるため、可撓性カバー８０の耐久性を向上させ、チャンバ内への異物の逆流を長期に亘って抑制することができる。【００７３】
また、本発明は、ターボ分子ポンプ機構を備えるものであれば適用可能であり、ターボ分子ポンプ又は複合ポンプに適用しても構わない。【００７４】
なお、本発明は、本発明の精神を逸脱しない限り種々の改変をなすことができ、そして、本発明が該改変されたものにも及ぶことは当然である。
【符号の説明】
【００７５】
１  ・・・  真空ポンプ
１０・・・  ケーシング
１１・・・  ベース
１１Ａ・・・基部
１１Ｂ・・・ベーススペーサ
１１ａ・・・ガス排気口
１１ｂ・・・水冷管
１２・・・  円筒部
１２ａ・・・ガス吸気口
１２ｂ・・・フランジ
１３・・・  ボルト
２０・・・  ロータ
２１・・・  ロータシャフト
２２・・・  回転翼
２３・・・  タッチダウン軸受
２８・・・  ロータ円筒部
２８ａ・・・外周面
２９・・・  凹部
３０・・・  駆動モータ
３１・・・  回転子
３２・・・  固定子
４０・・・  ステータコラム
５０・・・  磁気軸受
５１・・・  ラジアル電磁石
５２・・・  アキシャル電磁石
６０・・・  固定翼
６１・・・  スペーサ
７０・・・  ステータ
７０ａ・・・（ステータの）内周面
７１・・・  ネジ溝部
８０・・・  可撓性カバー
８０ａ・・・外周部
８０ｂ・・・中央部
８０ｃ・・・支持部
８０ｄ・・・抜け穴
８１・・・  第１の扁平カバー
８２・・・  第２の扁平カバー
８３・・・  ボルト
８４・・・  補強カバー
８５・・・  カラー
８６・・・  第１のスリーブ
８６ａ・・・（第１のスリーブの）小径部
８６ｂ・・・（第１のスリーブの）大径部
８６ｃ・・・（第１のスリーブの）ボルト孔
８６ｄ・・・段部
８７・・・  第２のスリーブ
８７ａ・・・（第２のスリーブの）小径部
８７ｂ・・・（第２のスリーブの）大径部
８７ｃ・・・（第２のスリーブの）ボルト孔
Ａ  ・・・  ロータ軸方向
Ｒ  ・・・  ロータ径方向
ＰＡ・・・  ターボ分子ポンプ機構
ＰＢ・・・  ネジ溝ポンプ機構
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【国際調査報告】
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