(57)【要約】  表面にキズがつきにくく、破損時に飛散しにくいサファイア複合基材とその製造方法を提供する。具体的には、無機ガラス基板と、無機ガラス基板上のポリビニルブチラールまたはシリカの中間膜と、中間膜上の単結晶サファイア膜とを備えるサファイア複合基材である。また、単結晶サファイア基板の内部にイオン注入層を形成する工程と、単結晶サファイア基板のイオン注入をする前の前記表面、単結晶サファイア基板のイオン注入した表面、および、無機ガラス基板の表面からなる群から選ばれる少なくとも一つの表面に、ポリビニルブチラールまたはシリカの中間膜を形成する工程と、中間膜を介して、単結晶サファイア基板のイオン注入した表面と、無機ガラス基板の表面とを貼り合わせて接合体を得る工程と、中間膜を介して無機ガラス基板上に単結晶サファイア膜を転写する工程とを少なくとも含む、サファイア複合基材の製造方法である。
2017104799.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
無機ガラス基板と、
前記無機ガラス基板上のポリビニルブチラールまたはシリカの中間膜と、
前記中間膜上の単結晶サファイア膜と
を備えるサファイア複合基材。
【請求項２】
前記シリカの中間膜が、パーヒドロポリシラザンをシリカ転化させた膜である、請求項１に記載のサファイア複合基材。
【請求項３】
前記単結晶サファイア膜が、０．０５〜２μｍの厚さを有する、請求項１または２に記載のサファイア複合基材。
【請求項４】
前記無機ガラス基板が、２０〜４００℃下において、５×１０−６／℃以上、１×１０−５／℃以下の膨張率を有するソーダ石灰ガラス、ホウケイ酸ガラス、および化学強化ガラスからなる群から選ばれる、請求項１〜３のいずれか１項に記載のサファイア複合基材。
【請求項５】
単結晶サファイア基板の表面から水素イオンを注入し、前記単結晶サファイア基板の内部にイオン注入層を形成する工程と、
前記単結晶サファイア基板のイオン注入をする前の前記表面、前記単結晶サファイア基板のイオン注入した表面、および、前記単結晶サファイア基板と貼り合わせる無機ガラス基板の表面からなる群から選ばれる少なくとも一つの表面に、ポリビニルブチラールまたはシリカ前駆体を含む溶液を塗布した後に加熱して、ポリビニルブチラールまたはシリカの中間膜を形成する工程と、
前記中間膜を介して、前記単結晶サファイア基板のイオン注入した表面と、前記単結晶サファイア基板と貼り合わせる無機ガラス基板の表面とを貼り合わせて接合体を得る工程と、
前記接合体を前記イオン注入層に沿って剥離し、前記中間膜を介して前記無機ガラス基板上に単結晶サファイア膜を転写する工程と
を少なくとも含む、サファイア複合基材の製造方法。
【請求項６】
前記シリカ前駆体が、パーヒドロポリシラザンである、請求項５に記載のサファイア複合基材の製造方法。
【請求項７】
前記水素イオンが水素分子イオンであり、前記水素分子イオンの注入量が、１．０×１０１６ａｔｏｍｓ／ｃｍ２以上、２．５×１０１７ａｔｏｍｓ／ｃｍ２以下である、請求項５または６に記載のサファイア複合基材の製造方法。
【請求項８】
前記転写する工程において、前記剥離が、前記イオン注入層に向けて、機械的衝撃、光照射および／または加熱により行われる、請求項５〜７のいずれか１項に記載のサファイア複合基材の製造方法。
【請求項９】
前記単結晶サファイア膜が、０．０５〜２μｍの厚さを有する、請求項５〜８のいずれか１項に記載のサファイア複合基材の製造方法。
【請求項１０】
前記無ガラス基板が、２０〜４００℃下において、５×１０−６／℃以上、１×１０−５／℃以下の膨張率を有するソーダ石灰ガラス、ホウケイ酸ガラス、および化学強化ガラスからなる群から選ばれる、請求項５〜９のいずれか１項に記載のサファイア複合基材の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ガラス材料の表面に単結晶サファイア膜を設けた複合基材に関し、主としてディスプレイなどに利用される複合基材に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
サファイアは、ダイヤモンドに次ぐモース硬度を持つ材料であり、耐久性、つまり、日常環境下においてキズがつきにくい特性から、高級時計の風防、あるいは、携帯電話などのディスプレイ用途等に利用されている。【０００３】
ガラスは、サファイアに比べて硬度は劣るものの、一般的に硬く、可視光線に対して透明であり、耐薬品性、表面滑性が良い点から、様々な産業用途に利用されている。ガラスは、また、破損時に破片が飛散しやすいという特性も有する。このため、例えば、自動車等の交通車両の窓ガラスや建築物の窓ガラス等の用途において、一対のガラス板間に樹脂膜をサンドイッチしてなる合わせガラスが採用されている。合わせガラスは、一般に、ガラスと樹脂がしっかりと接着しているため破損時に飛散や脱落が生じにくく、そのガラス板間にサンドイッチさせる樹脂によって特性を付与し得ることから、例えばさらに遮音性を付与する試みも行われている（特許文献１）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特許第２７０３４７１号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
近年、ＬＥＤ用途向けに単結晶サファイア基板が大量に生産されるようになり、サファイアの工業的な製造は一般にも広く普及してきた。しかし、サファイアは、依然としてガラスと比較すると高コストな材料であり、また、その硬度から加工しにくく、ディスプレイ保護用途への応用範囲は限られていた。
本発明の目的は、低コスト、かつ、表面にキズがつきにくく、また、破損時に飛散しにくいサファイア複合基材とその製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明者らは、ＳＯＩ（Ｓｉｌｉｃｏｎ  ｏｎ  Ｉｎｓｕｌａｔｏｒ）基板の作製に応用されているイオン注入・剥離技術に着目して鋭意検討を行った結果、中間膜を介して無機ガラス基板上にサファイア膜を備えたサファイア複合基材を見出した。
すなわち、本発明は、一態様によれば、無機ガラス基板と、前記無機ガラス基板上のポリビニルブチラールまたはシリカの中間膜と、前記中間膜上の単結晶サファイア膜とを備えるサファイア複合基材を提供することができる。
また、本発明は、一態様によれば、単結晶サファイア基板の表面から水素イオンを注入し、前記単結晶サファイア基板の内部にイオン注入層を形成する工程と、前記単結晶サファイア基板のイオン注入をする前の前記表面、前記単結晶サファイア基板のイオン注入した表面、および、前記単結晶サファイア基板と貼り合わせる無機ガラス基板の表面からなる群から選ばれる少なくとも一つの表面に、ポリビニルブチラールまたはシリカ前駆体を含む溶液を塗布した後に加熱して、ポリビニルブチラールまたはシリカの中間膜を形成する工程と、前記中間膜を介して、前記単結晶サファイア基板のイオン注入した表面と、前記単結晶サファイア基板と貼り合わせる無機ガラス基板の表面とを貼り合わせて接合体を得る工程と、前記接合体を前記イオン注入層に沿って剥離し、前記中間膜を介して前記無機ガラス基板上に単結晶サファイア膜を転写する工程とを少なくとも含む、サファイア複合基材の製造方法を提供することができる。
【発明の効果】
【０００７】
本発明の製造方法によれば、中間膜を介して無機ガラス基板上に単結晶サファイア膜を備えるため、接合性がよく、破損時に飛散しにくいサファイア複合基材を得ることができる。また、無機ガラス基板上に単結晶サファイア膜を分離した後の単結晶サファイア基板を、再度、サファイア複合基材の製造に用いることができ、低コスト化することが可能となる。さらに、得られたサファイア複合基材は、その表面にサファイアを有するため、表面にキズがつきにくく、ディスプレイ保護用途に適している。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
【図１】本発明のサファイア複合基材の製造方法の模式図である。
【図２】本発明のサファイア複合基材の製造方法の別の模式図である。
【図３】本発明の実施例２におけるＨ２＋イオン注入後の単結晶サファイア基板のＳＩＭＳ測定の結果図である。
【図４】本発明の実施例２におけるサファイア複合基材のＴＥＭ像である。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
以下、本発明を実施するための一例である最良の形態を詳細に説明するが、本発明の範囲はこの形態に限定されるものではない。
【００１０】
本発明の一実施形態によれば、無機ガラス基板と、無機ガラス基板上のポリビニルブチラールまたはシリカの中間膜と、中間膜上の単結晶サファイア膜とを備えるサファイア複合基材を提供できる。
【００１１】
無機ガラス基板としては、ソーダ石灰ガラス、ホウケイ酸ガラス、または化学強化ガラス等の基板が挙げられる。特に、単結晶サファイア基板と貼り合わせた際の反りを低減するために、サファイアとの熱膨張率の差が小さい温度領域となる２０〜４００℃下において、５×１０−６／℃以上、１×１０−５／℃以下の膨張率を有するソーダ石灰ガラス、ホウケイ酸ガラスまたは化学強化ガラスの基板が好ましい。無機ガラス基板は、上記の１種からなる単一の基板であっても、上記の２種以上の組み合わせであってもよい。無機ガラス基板の形状は、特に限定するものではないが、例えば直径２〜８インチのウェハであってもよいし、一辺が２〜８インチの角板であってもよい。無機ガラス基板の厚さは、特に限定するものではないが、５０〜１０００μｍであってもよい。
【００１２】
中間膜は、ポリビニルブチラールまたはシリカの膜である。中間膜を介することで単結晶サファイア基板と無機ガラス基板の接合強度が向上する点から、ポリビニルブチラールまたはシリカは、中間膜として好適である。中間膜は、少なくとも１層であり、例えば２以上の層であってもよい。中間膜は、１層の膜のときはその厚さが、２層以上の膜のときはそれらの合計の厚さが、０．１〜２μｍの厚さを有することが好ましい。
ポリビニルブチラール（以下、ＰＶＢ）は、ポリ[（２−プロピル−１，３−ジオキサン−４，６−ジイル）メチレン]（−［（Ｃ７Ｏ２Ｈ１２）−ＣＨ２］ｎ−）であり、ポリビニルブチラール膜は、例えば塗布法によって形成される。市販のポリビニルブチラールとしては、例えば、エスレックＫＳ−５(積水化学工業（株）社製)等を用いることができる。
シリカは、ＳｉＯ２で表され、シリカ膜は、例えば、塗布法によってシリカ前駆体であるパーヒドロポリシラザンの膜を形成し、加熱してパーヒドロポリシラザンをシリカ転化させることで形成される。市販のパーヒドロポリシラザンとしては、例えば、トレスマイル（サンワ化学（株）社製）等を用いることができる。
【００１３】
中間膜の形成方法としては、特に限定するものではないが、上述のように塗布法が好ましい。塗布法としては、例えば、スプレーコーティング、ディップコーティング、スピンコーティング、バーコーティング、ブレードコーティング、およびキャスト法等が挙げられる。塗布によって中間膜を形成する場合、ポリビニルブチラールまたはシリカ前駆体を含む溶液を用いることができる。
【００１４】
塗布法に用いるポリビニルブチラールを含む溶液は、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノールなどのアルコール系、トルエン、キシレンなどの芳香族系、酢酸エチルなどのエステル系、メチルエチルケトンなどのケトン系、および、ジ-ｎ-ブチルエーテルなどのエーテル系の溶媒を用いることができる。場合によって、ポリビニルブチラールを含む溶液は、水を含んでいてもよい。溶液中のポリビニルブチラール濃度は、好ましくは３〜５０質量％である。
ポリビニルブチラールを含む溶液は、例えば、基板表面に塗布した後に、溶媒等を除去して、ポリビニルブチラールの中間膜を形成してもよい。溶媒の除去等は、１００〜３００℃に加熱することで行うことが好ましい。加熱時間は、好ましくは１〜３０分間である。加熱は、大気圧下としても減圧（１０００〜０．１Ｐａ）下で行ってもよい。
【００１５】
塗布法に用いるシリカ前駆体を含む溶液は、例えばシリカ前駆体にパーヒドロポリシラザンを用いる場合、溶媒としては、キシレン、ジブチルエーテルなどの芳香族系の溶媒を用いることができる。溶液中のパーヒドロポリシラザン濃度は、好ましくは１〜３０質量％である。パーヒドロポリシラザンを含む溶液は、また、シリカ転化させるために、溶液内に水を含んでいてもよいし、溶液を基板表面に塗布した後に加湿条件下に静置することによって水分を加えてもよい。
パーヒドロポリシラザンを含む溶液は、例えば、基板表面に塗布した後に、加熱して溶媒等を除去し、シリカ転化させ、シリカの中間膜を形成してもよい。加熱温度は、溶媒等の除去のために、好ましくは１００〜３００℃であり、シリカ転化のために、好ましくは３００〜１０００℃、より好ましくは５００〜１０００℃である。また、好ましくは１〜１０℃／分の昇温速度で、溶媒等の除去とシリカ転化を行うこともできる。加熱時間は、好ましくは５〜１２０分間である。加熱は、大気圧下としても減圧（１０００〜０．１Ｐａ）下で行ってもよい。パーヒドロポリシラザンは、−（ＳｉＨ２ＮＨ）−を基本ユニットとする無機ポリマーであり、大気中または水蒸気含有雰囲気中で加熱することにより、水分や酸素と反応して緻密なアモルファスＳｉＯ２膜が得られる。また、パーヒドロポリシラザンは、シリカ転化の際に水との反応によって、副生成物としてアンモニアを発生させる。このため、シリカ転化を例えば対流型の加湿乾燥機を用いて行う場合、加湿乾燥機の内部にアンモニアトラップを設置しておくことが望ましい。
【００１６】
単結晶サファイア膜は、好ましくは０．０５〜２μｍ、より好ましくは０．１〜１μｍの厚さを有することが好ましい。０．０５μｍ未満だと、イオン注入による構造上のダメージが残っている部分を後に除去することができないことがあり、また、サファイアの硬度を十分に確保することができない場合がある。単結晶サファイア膜の厚さが２μｍを超えるものとする場合、高出力のイオン注入装置が必要となる。また、単結晶サファイア膜の厚さが厚くなると、複合基材としてのコストが高くなる。なお、構造上のダメージが残っている部分を、例えばリン酸あるいは硫酸等のエッチング溶剤によるエッチング処理や研磨により除去して、所望の厚さとしてもよい。単結晶サファイア膜は、後述するように、好ましくは単結晶サファイア基板中にイオン注入層を形成し、イオン注入層に沿って剥離して、例えば所望の基板上に転写させることで形成する。
【００１７】
本発明の別の一実施形態によれば、中間膜を介して無機ガラス基板上に単結晶サファイア膜を備えたサファイア複合基材の製造方法を提供できる。
単結晶サファイア基板としては、特に限定するものではないが、直径２〜８インチ、厚さ２００〜８００μｍの単結晶サファイア基板を用いてよい。
まず、単結晶サファイア基板の表面から水素イオンを注入し、単結晶サファイア基板の内部にイオン注入層を形成する。イオン注入層は、単結晶サファイア基板の表面から所望の深さにイオン注入層を形成できるような注入エネルギーで、所定の線量の水素イオン（Ｈ＋）または水素分子イオン（Ｈ２＋）を注入することにより形成される。このときの条件として、例えば注入エネルギーは５０〜２００ｋｅＶとすることができる。水素分子イオン（Ｈ２＋）注入量は、好ましくは１．０×１０１６ａｔｏｍｓ／ｃｍ２以上２．５×１０１７ａｔｏｍｓ／ｃｍ２以下、より好ましくは１．０×１０１６ａｔｏｍｓ／ｃｍ２〜２．０×１０１７ａｔｏｍｓ／ｃｍ２である。１．０×１０１６ａｔｏｍｓ／ｃｍ２未満だと、後の工程でイオン注入層の脆化が起こらない場合があり、２．５×１０１７ａｔｏｍｓ／ｃｍ２を超えると、イオン注入時にイオン注入した面においてマイクロキャビティが形成され、基板表面に凹凸が形成される場合がある。
【００１８】
次に、単結晶サファイア基板のイオン注入した表面と、単結晶サファイア基板と貼り合わせる無機ガラス基板の表面との少なくとも一方に、ポリビニルブチラールまたはシリカ前駆体を含む溶液を塗布した後に加熱して、ポリビニルブチラールまたはシリカの中間膜を形成する。
【００１９】
場合によって、単結晶サファイア基板のイオン注入をする前の表面、単結晶サファイア基板のイオン注入した表面、および、単結晶サファイア基板と貼り合わせる無機ガラス基板の表面からなる群から選ばれる少なくとも一つの表面に、ポリビニルブチラールまたはシリカ前駆体を含む溶液を塗布した後に加熱して、ポリビニルブチラールまたはシリカの中間膜を形成する。つまり、イオン注入層を形成する工程と中間膜を形成する工程は、場合によって、順序が逆であってもよい。例えば、単結晶サファイア基板の内部にイオン注入層を形成する前に、単結晶サファイア基板の表面に、シリカ前駆体を含む溶液を塗布した後に加熱して、シリカの中間膜を形成してもよく、その後に、シリカの中間膜を形成した表面から水素イオンを注入し、単結晶サファイア基板の内部にイオン注入層を形成してもよい。
【００２０】
中間膜を形成した後に、必要に応じて、単結晶サファイア基板のイオン注入した表面と、単結晶サファイア基板と貼り合わせる無機ガラス基板の表面との少なくとも一方に、表面活性化処理を施してもよい。中間膜を両方の基板表面に形成した場合、両表面のうち少なくとも一方に、表面活性化処理を施してもよい。中間膜を両方の基板表面のうち一方のみに形成した場合、当該中間膜の表面と、他方の基板表面との少なくとも一方に、表面活性化処理を施してもよい。
【００２１】
表面活性化処理の方法としては、プラズマ処理、オゾン水処理、ＵＶオゾン処理、イオンビーム処理等が挙げられる。例えば、プラズマで処理をする場合、真空チャンバ中に洗浄した基板を載置し、プラズマ用ガスを減圧（１．０〜１．０×１０５Ｐａ）下で導入した後、１００Ｗ程度の高周波プラズマに５〜１２０秒程度さらし、表面をプラズマ処理する。プラズマ用ガスとしては、表面を酸化する場合には酸素ガス、酸化しない場合には水素ガス、窒素ガス、アルゴンガス、又は、これらの混合ガスを用いることができる。プラズマで処理することにより、基板表面の有機物が酸化して除去され、さらに表面のＯＨ基が増加し活性化する。オゾンで処理をする場合は、純水中にオゾンガスを導入し、活性なオゾンで表面を活性化することができ、ＵＶオゾン処理をする場合は、大気もしくは酸素ガスに短波長のＵＶ光（波長１９５ｎｍ程度）を照射し、活性なオゾンを発生させることで表面を活性化することができる。イオンビーム処理をする場合は、高真空中（＜１×１０−６Ｔｏｒｒ）でＡｒ等のイオンビームを表面に当て、活性度が高いダングリングボンドを露出させることで行うことができる。
【００２２】
次に、中間膜を介して、単結晶サファイア基板のイオン注入した表面と、単結晶サファイア基板と貼り合わせる無機ガラス基板の表面とを貼り合わせて接合体を得る。貼り合わせは、室温で行ってもよい。また、貼り合わせ後に、接合強度を高めるために、好ましくは１００〜３００℃で０．５〜２４時間さらに加熱してもよい。
【００２３】
次に、得られた接合体を単結晶サファイア基板の内部に形成したイオン注入層に沿って剥離し、中間膜を介して無機ガラス基板上に単結晶サファイア膜を転写する。剥離を行う方法として、イオン注入層に向けて、機械的衝撃、光照射および／または加熱を与えることにより剥離を生じさせることが挙げられる。剥離を行う方法は単独で用いてもよいし、複数組み合わせて用いてもよい。
【００２４】
イオン注入層に衝撃を与えて機械的剥離を行う場合、加熱に伴う熱歪、ひび割れ、貼り合わせた面の剥離等が発生するおそれがない。機械的剥離は、一端部から他端部に向かうへき開によるものが好ましい。へき開用部材として、好ましくは楔状の部材、例えば楔（くさび）をイオン注入層（注入界面）に挿入し、楔による変形でへき開を進行させて剥離する方法であってもよい。この方法の使用に際しては、楔が接触する部分での傷やパーティクルの発生や、楔を打ち込むことにより生じる基板の過大な変形による基板割れの発生を回避するように留意する。イオン注入層に衝撃を与えるためには、例えば、ガスや液体等の流体のジェットを貼り合わせた基板の側面から連続的又は断続的に吹き付ければよいが、衝撃による機械的剥離が生じる方法であれば特に限定はされない。
光照射による剥離の場合、可視光が好ましい。単結晶サファイア基板の内部に形成されたイオン注入界面近傍がアモルファス化していることによって、可視光の吸収を受けやすく、エネルギーを選択的に受容しやすいという機構によってイオン注入層を脆化させ剥離することが可能である。また、この剥離方法は、機械的剥離よりも簡易であるため好ましい。可視光の光源は、Ｒａｐｉｄ  Ｔｈｅｒｍａｌ  Ａｎｎｅａｌｅｒ（ＲＴＡ）、グリーンレーザー光、またはフラッシュランプ光等であることが好ましい。可視光の光源は、Ｒａｐｉｄ  Ｔｈｅｒｍａｌ  Ａｎｎｅａｌｅｒ（ＲＴＡ）、グリーンレーザー光、又はフラッシュランプ光であることが好ましい。
加熱による剥離の場合、１５０〜５００℃で加熱することが好ましい。加熱時間としては、０．５〜２４時間とすることが好ましい。剥離のための加熱温度は、通常、上述した接合強度を高めるための温度よりも高い温度であることが好ましい。場合によっては、剥離のための加熱温度は、接合強度を高めるための温度と同じ温度とし、加熱時間を調節することで剥離を達成させることも可能である。
このようにして、接合体のイオン注入層に沿って剥離し、中間膜を介して無機ガラス基板上に単結晶サファイア膜を備えたサファイア複合基材を得ることができる。
【００２５】
本発明にかかるサファイア複合基材の製造工程は、特に限定されるものではないが、その一態様を図１に示す。単結晶サファイア基板１１の表面から水素イオン１２を注入し、単結晶サファイア基板１１の内部にイオン注入層１３を形成する（工程ａ）。単結晶サファイア基板と貼り合わせる無機ガラス基板１４の表面に、ポリビニルブチラールまたはシリカ前駆体を含む溶液を塗布した後に加熱し、ポリビニルブチラールまたはシリカの中間膜１５を形成する（工程ｂ）。中間膜１５を形成した後の、単結晶サファイア基板と貼り合わせる無機ガラス基板１４の表面１５ｓと、単結晶サファイア基板１１のイオン注入した表面１１ｓとを貼り合わせて接合体１７を得る（工程ｃ）。接合体１７のイオン注入層１３に沿って単結晶サファイア基板１１ｂを剥離することにより、中間膜１５を介して無機ガラス基板１４上に単結晶サファイア膜１１ａを転写したサファイア複合基材１８を得ることができる（工程ｄ）。
【００２６】
また、本発明にかかるサファイア複合基材の製造工程の別の一態様を図２に示す。単結晶サファイア基板２１の表面に、シリカ前駆体を含む溶液を塗布した後に加熱し、シリカの中間膜２５を形成する。単結晶サファイア基板２１上の中間膜２５を形成した表面から水素イオン２２を注入し、単結晶サファイア基板２１の内部にイオン注入層２３を形成する（工程ａ）。無機ガラス基板２４の表面２４ｓと、イオン注入した単結晶サファイア基板２１上の中間膜の表面２５ｓとを貼り合わせて接合体２７を得る（工程ｃ）。接合体２７のイオン注入層２３に沿って単結晶サファイア基板２１ｂを剥離することにより、中間膜２５を介して無機ガラス基板２４上に単結晶サファイア膜２１ａを転写したサファイア複合基材２８を得ることができる（工程ｄ）。
【実施例】
【００２７】
＜実施例１＞
単結晶サファイア基板として、６インチ径、厚さ６００μｍの基板を用いた。単結晶サファイア基板の表面からＨ２＋イオンを１５０ＫｅＶ、２．０×１０１７ａｔｏｍｓ／ｃｍ２の注入量で注入し、単結晶サファイア基板の内部（深さ約５００ｎｍ）にイオン注入層を形成した。
無機ガラス基板として、６インチ径、厚さ６００μｍのホウケイ酸ガラス基板を用いた。単結晶サファイア基板のイオン注入した表面と貼り合わせるホウケイ酸ガラス基板の表面に、大気雰囲気下、室温で、ポリビニルブチラール（ＰＶＢ、積水化学工業（株）社製、エスレックＫＳ−５、１０質量％）のエタノール溶液を用いて、スピンコーターで塗布した。その後、大気圧・大気雰囲気下、１００℃で１０分間加熱して中間膜（厚さ１５０ｎｍ）を形成した。
単結晶サファイア基板の中間膜を形成した表面と、無機ガラス基板の中間膜を形成した表面とに、高周波プラズマ装置を用いて、減圧（１．０〜１．０×１０５Ｐａ）かつ窒素雰囲気下、室温で、プラズマ活性化処理を施した。その後、プラズマ活性化処理を施した単結晶サファイア基板と無機ガラス基板の表面を、大気圧・大気雰囲気下、室温で、接触させて貼り合わせ、接合体を得た。接合体のイオン注入層にブレードを挿入して単結晶サファイア膜を機械的に剥離して、ＰＶＢ膜を介してホウケイ酸ガラス基板上に単結晶サファイア膜を転写し、サファイア膜／ＰＶＢ／ホウケイ酸ガラス基板からなるサファイア複合基材を得た。
得られたサファイア複合基材の断面を透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）で観察した（図示せず）。結果、中間膜上に単結晶サファイア膜が転写されており、中間膜が単結晶サファイア膜とガラス基板とのバインダーとして存在することを確認できた。【００２８】
＜実施例２＞
単結晶サファイア基板として、６インチ径、厚さ６００μｍの基板を用いた。単結晶サファイア基板の表面からＨ２＋イオンを１５０ＫｅＶ、２．０×１０１７ａｔｏｍｓ／ｃｍ２の注入量で注入し、単結晶サファイア基板の内部にイオン注入層を形成した。形成したイオン注入層の基板表面からの位置を、二次イオン質量分析法（Ｓｅｃｏｎｄａｒｙ  Ｉｏｎ  Ｍａｓｓ  Ｓｐｅｃｔｒｏｍｅｔｒｙ：ＳＩＭＳ）により測定した結果を図３に示す。該イオン注入量においては、表面から約５００ｎｍの深さにイオン注入層が形成されることがみられた。
無機ガラス基板として、６インチ径、厚さ６００μｍのホウケイ酸ガラス基板を用いた。単結晶サファイア基板のイオン注入した表面と貼り合わせるホウケイ酸ガラス基板の表面に、大気雰囲気下、室温でポリシラザン（サンワ化学（株）社製、トレスマイル、２０質量％）のジ-ｎ-ブチルエーテル溶液を用いて、スピンコーターで塗布した。その後、大気圧・大気雰囲気下、２００℃で３分間加熱してシリカ転化させ、更に４５０℃で３０分間加熱してキュアすることで中間膜（厚さ１５０ｎｍ）を形成した。
単結晶サファイア基板の中間膜を形成した表面と、無機ガラス基板の中間膜を形成した表面とに、高周波プラズマ装置を用いて、減圧（１．０〜１．０×１０５Ｐａ）かつ窒素雰囲気下、室温で、プラズマ活性化処理を施した。その後、プラズマ活性化処理を施した単結晶サファイア基板と無機ガラス基板の表面を、大気圧・大気雰囲気下、室温で、接触させて貼り合わせ、接合体を得た。接合体のイオン注入層にブレードを挿入して単結晶サファイア膜を機械的に剥離して、シリカ膜を介してホウケイ酸ガラス基板上に単結晶サファイア膜を転写し、サファイア膜／シリカ膜／ホウケイ酸ガラス基板からなるサファイア複合基材を得た。
得られたサファイア複合基材の断面を透過型電子顕微鏡で観察した結果を図４に示す。結果、中間膜（３５）を介して無機ガラス基板（３４）上に約５００ｎｍの単結晶サファイア膜（３１ａ）が転写されていることがみられ、中間膜がバインダーとして存在することが観察できた。単結晶サファイア膜（３１ａ）の表層は、イオン注入による構造上のダメージが残っているため、用途によっては、更に溶剤によるエッチング処理または研磨を行ってもよい。
【符号の説明】
【００２９】
１１、２１      ：単結晶サファイア基板
１１ｓ          ：単結晶サファイア基板の表面
１１ａ、２１ａ  ：単結晶サファイア膜
１１ｂ、２１ｂ  ：剥離した後の単結晶サファイア基板
１２、２２      ：水素イオン
１３、２３      ：イオン注入層
１４、２４      ：無機ガラス基板
２４ｓ          ：無機ガラス基板の表面
１５、２５      ：中間膜
１５ｓ          ：無機ガラス基板上の中間膜の表面
２５ｓ          ：単結晶サファイア基板上の中間膜の表面
１７、２７      ：接合体
１８、２８      ：サファイア複合基材
３１ａ          ：単結晶サファイア膜
３４            ：無機ガラス基板
３５            ：中間膜
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【国際調査報告】
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