(57)【要約】  本発明の課題は、初期硬化性に優れるとともに、強靭性に優れた接着性を有し、かつ耐クラック性、耐ボイド性及び耐熱性が良好な硬化物を与える縮合反応型シリコーン組成物を提供することである。本発明は、（Ａ）Ｒ１ＳｉＯ３／２（式中、Ｒ１は、炭素数１〜１５のアルキル基等を示す。）で表されるトリシロキシ単位（ＴＡ）を含み、かつ水酸基を有する、室温で固体状のポリシルセスキオキサンと、（Ｂ）Ｒ２ＳｉＯ３／２（式中、Ｒ２は、炭素数１〜１５のアルキル基等を示す。）で表されるトリシロキシ単位（ＴＢ）を含み、かつ−ＯＲ２（式中、Ｒ２は、炭素数１〜１５のアルキル基等を示す。）を有する、室温で液状のポリシルセスキオキサンと、（Ｃ）縮合反応触媒と、を含有する、縮合反応型シリコーン組成物である。【特許請求の範囲】
【請求項１】
（Ａ）Ｒ１ＳｉＯ３／２（式中、Ｒ１は、炭素数１〜１５のアルキル基、フェニル基及びベンジル基からなる群より選ばれる一種を示す。）で表されるトリシロキシ単位（ＴＡ）を含み、かつ水酸基を有する、室温で固体状のポリシルセスキオキサンと、
（Ｂ）Ｒ２ＳｉＯ３／２（式中、Ｒ２は、炭素数１〜１５のアルキル基、フェニル基及びベンジル基からなる群より選ばれる一種を示す。）で表されるトリシロキシ単位（ＴＢ）を含み、かつ−ＯＲ２（式中、Ｒ２は、炭素数１〜１５のアルキル基、フェニル基及びベンジル基からなる群より選ばれる一種を示す。）を有する、室温で液状のポリシルセスキオキサンと、
（Ｃ）縮合反応触媒と、
を含有する、縮合反応型シリコーン組成物。
【請求項２】
（Ａ）成分の軟化点が４０〜１５０℃である、請求項１に記載の縮合反応型シリコーン組成物。
【請求項３】
（Ｂ）成分の粘度が５〜１００００ｍＰａ・ｓ／２５℃である、請求項１又は２に記載の縮合反応型シリコーン組成物。
【請求項４】
更に（Ｄ）無機フィラーを含有する、請求項１〜３のいずれか１項に記載の縮合反応型シリコーン組成物。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか１項に記載の縮合反応型シリコーン組成物の硬化物。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、縮合反応型シリコーン組成物及び硬化物に関する。
【背景技術】
【０００２】
シリコーンレジンは一般に、シリコーン（ポリオルガノシロキサン）同士を硬化反応させて得られる硬化物であり、該硬化反応としては、縮合反応及び付加反応が知られている。【０００３】
付加反応は、Ｓｉ−ＣＨ＝ＣＨ２等のアルケニルシラン基を有するシリコーンと、ヒドロシラン基（Ｓｉ−Ｈ）を有するシリコーンとを、白金系触媒の存在下でヒドロシリル化させる反応である。付加反応は、室温であっても比較的短時間に目的の硬化物を与えるため、生産性の点で有利とされる。しかし、付加反応には、白金触媒の失活、使用環境の湿気等が原因となって硬化阻害が生じやすいという問題がある。【０００４】
縮合反応は、アルコキシ基（Ｓｉ−ＯＲ）等のオルガノキシ基又はシラノール基（Ｓｉ−ＯＨ）を有するシリコーン同士を有機錫系触媒等の存在下で脱水縮合及び／又は脱アルコール縮合させる反応である。縮合反応は、硬化阻害の問題が少なく、白金触媒を使用しないためコストメリットもある。しかし、縮合反応は付加反応と比較すると初期硬化性が不十分であり、完全硬化までに比較的高温及び長時間が必要である。【０００５】
縮合反応型のシリコーン組成物は、従来、例えば光半導体用の封止剤、接着剤等の用途に供されてきた。例えば、特許文献１には、アクリル樹脂と、縮合反応性シリコーン化合物及び／又は縮合反応性シラン化合物と、硬化促進剤とを含むシリコーン組成物が記載されている。また、引用文献１には、該シリコーン化合物が、発光ダイオード素子の透明封止剤及び接着剤として有用であることも記載されている。【０００６】
一方、特許文献２において、従来の縮合反応型シリコーン組成物の硬化物は、光半導体用封止剤として用いる場合に、リフレクター材又は金属電極に対する接着性が一般に不十分であることが指摘されている。その理由の一因として、接着層（硬化物）の強度と柔軟性との不両立が考えられる。【０００７】
硬化物の柔軟性を高めるために、例えば、（ＣＨ３）２ＳｉＯ2／２で示されるジシロキシ単位をシリコーンポリマーの主鎖に導入する試みがなされている。しかし、前記ジシロキシ単位の導入量が増えるに伴って、強度及び接着性が低下するのが避けられない。一方、硬化物の強度を高めるために、例えば、ＣＨ３ＳｉＯ３／２で示されるトリシロキシ単位を導入する試みがなされている。しかし、前記トリシロキシ単位の導入量が増えるに伴って、硬化物にクラックが生じるのが回避できず、その上この場合でも接着性が低下する。このように、強度と柔軟性とは通常トレードオフの関係にあり、強靭性に優れた接着性は達成されていない。【０００８】
また、縮合反応型のシリコーン組成物は、反応過程で水分又は低分子アルコールを放出するため、硬化物に微細なボイド（気泡）又はクラックが生じる。それらの欠陥は硬化物の機械的強度を低下させる上、外観をも損なうため、特に接着剤及び光半導体用封止剤用途において問題視される。【０００９】
また、光半導体は、使用時に素子が高温となる関係で、封止材たる硬化物には高度の耐熱性も要求される。この点、特許文献１に記載の縮合反応型シリコーン組成物はアクリル樹脂を主成分とするものであり、耐熱性が不十分である。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１０】
【特許文献１】日本特開２００８−１０１０９３号公報
【特許文献２】日本特開２０１５−１６３６６１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
本発明の課題は、初期硬化性に優れるとともに、強靭性に優れた接着性を有し、かつ耐クラック性、耐ボイド性及び耐熱性が良好な硬化物を与える縮合反応型シリコーン組成物を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
前記課題を解決する縮合反応型シリコーン組成物は、縮合反応に伴い生じる水又はアルコール等の低分子成分、及び有機溶剤その他の揮発成分の量を少なくする必要がある。一方、硬化物それ自体の強度も当然必要である。そこで、発明者らは、これらの事情を考慮した結果、室温で固体の所定のポリシルセスキオキサンと、室温で液状の所定のポリシルセスキオキサンとを含む組成物とすることにより、前記課題を解決し得ることを見出し、本発明を完成するに至った。即ち本発明は、下記縮合反応型シリコーン組成物及び硬化物に係る。【００１３】
１．（Ａ）Ｒ１ＳｉＯ３／２（式中、Ｒ１は、炭素数１〜１５のアルキル基、フェニル基及びベンジル基からなる群より選ばれる一種を示す。）で表されるトリシロキシ単位（ＴＡ）を含み、かつ水酸基を有する、室温で固体状のポリシルセスキオキサンと、（Ｂ）Ｒ２ＳｉＯ３／２（式中、Ｒ２は、炭素数１〜１５のアルキル基、フェニル基及びベンジル基からなる群より選ばれる一種を示す。）で表されるトリシロキシ単位（ＴＢ）を含み、かつ−ＯＲ２（式中、Ｒ２は、炭素数１〜１５のアルキル基、フェニル基及びベンジル基からなる群より選ばれる一種を示す。）を有する、室温で液状のポリシルセスキオキサンと、（Ｃ）縮合反応触媒と、を含有する、縮合反応型シリコーン組成物。【００１４】
２．（Ａ）成分の軟化点が４０〜１５０℃である、前記項１に記載の縮合反応型シリコーン組成物。【００１５】
３．（Ｂ）成分の粘度が５〜１００００ｍＰａ・ｓ／２５℃である、前記項１又は２に記載の縮合反応型シリコーン組成物。【００１６】
４．更に（Ｄ）無機フィラーを含有する、前記項１〜３のいずれか１項に記載の縮合反応型シリコーン組成物。【００１７】
５．前記項１〜４のいずれか１項に記載の縮合反応型シリコーン組成物の硬化物。
【発明の効果】
【００１８】
本発明の縮合反応型シリコーン組成物は、ハンドリング性及び透明性が良好であり、また、保存安定性及び初期硬化性に優れる。また、その硬化物は、耐熱性及び透明性が良好であるため、長時間の加熱後においても質量減少率が小さく、透明性が殆ど低下しない。また、該硬化物は耐クラック性及び耐ボイド性も良好であるため、長時間の加熱後も亀裂又は微細な気泡を生じ難い。また、該硬化物は強靭な接着性を有する点も特筆すべきである。【００１９】
本発明の縮合反応型シリコーン組成物は、そのように多くの利点を有するため、例えば接着剤、封止剤、コーティング剤、シーラント及び塗料等の幅広い用途に供し得る。具体的には、ケイ素、アルミニウム、鉄、金、銀、銅等の同種ないし異種の金属同士を接合するための金属用接着剤として利用可能である。また、本発明の縮合反応型シリコーン組成物は、ＵＶ−ＬＥＤ、レーザー及び受光素子を含む光半導体素子、並びにパワーモジュール、温度センサー等の封止剤ないしダム剤としても利用可能である。さらに、本発明の縮合反応型シリコーン組成物は、ガラス又はプラスチック製のレンズ、透明窓等を支持体に接合するための光学接着剤等として利用することができるだけでなく、電子基板等の防湿コーティング剤、抵抗器等のケース材料等としても利用可能である。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
本発明の縮合反応型シリコーン組成物（以下、単に「本発明の組成物」ともいう。）は、所定の（Ａ）固体状ポリアルキルシルセスキオキサン（以下、「（Ａ）成分」ともいう。）、所定の（Ｂ）液状ポリアルキルシルセスキオキサン（以下、「（Ｂ）成分」ともいう。）、及び（Ｃ）縮合反応触媒（以下、「（Ｃ）成分」ともいう。）を含有する組成物である。
【００２１】
上記「室温」とは２０±１５℃を意味し、「固体状」とは全く流動性を有しない、通常のいわゆる固体状態を意味し、「液状」とは流動性を有する状態を指し、例えば粘度が１００００００ｍＰａ・ｓ／２５℃以下である状態を意味する。なお、粘度は、Ｅ型粘度計を用いて測定した値である。
【００２２】
（Ａ）成分は、Ｒ１ＳｉＯ３／２（式中、Ｒ１は、前記に同じ。）で表されるトリシロキシ単位（ＴＡ）を含み、かつ水酸基を有する、室温で固体状のポリシルセスキオキサンである。
【００２３】
Ｒ１で示される炭素数１〜１５のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−デシル基等の直鎖状アルキル基；イソプロピル基、イソブチル基、イソペンチル基、イソヘキシル基、イソデシル基等の分岐鎖状アルキル基、及びシクロヘキシル基等の環状アルキル基が挙げられる。Ｒ１で示されるフェニル基及びベンジル基、並びに前記のシクロヘキシル基等の環状アルキル基は、各環上の少なくとも一つの水素が前記炭素数１〜１５のアルキル基で置換されていてもよい。但し、Ｒ１は、イソシアネート基、チオール基、アミノ基、エポキシ基、酸無水物基、及びビニル基等の反応性官能基を含まない。
【００２４】
ＴＡは、Ｔ１構造［Ｒ１Ｏ−Ｓｉ（Ｒ１）（ＯＲ１）−Ｏ−］、Ｔ２構造［−（Ｒ１）Ｓｉ（ＯＲ１）（Ｏ−）−Ｏ−］及びＴ３構造［−（Ｒ１）Ｓｉ（Ｏ−）２−Ｏ−］に小別できる。それらの比率は特に限定されず、モル比で、通常、Ｔ１：Ｔ２：Ｔ３＝０〜５：１０〜４０：９０〜６０程度であり、Ｔ２構造及びＴ３構造だけを含むことが好ましい。この場合のＴ２構造とＴ３構造との比率はＴ２：Ｔ３＝２０〜３０：８０〜７０程度である。各構造は、例えば、（Ａ）成分の２９Ｓｉ−ＮＭＲスペクトルを測定することにより特定可能である。
【００２５】
（Ａ）成分に占めるＴＡの割合は特に限定されない。本発明の所期の効果のバランス、特に本発明の組成物の相溶性及び硬化性等、並びに硬化物の強度、接着性、耐クラック性及び耐ボイド性等のバランスを考慮すると、（Ａ）成分に占めるＴＡの割合は、通常９０モル％以上、好ましくは９５モル％、より好ましくは１００モル％である。また、（Ａ）成分が室温で固体状を保つ限りにおいて、他の単位（モノシロキシ単位（ＭＡ）、ジシロキシ単位（ＤＡ）、又はテトラシロキシ単位（ＱＡ））を若干量含んでもよい。かかる他の単位の比率は特に限定されず、通常１０モル％未満、好ましくは５モル％未満である。
【００２６】
（Ａ）成分の構造は、具体的には、下記平均単位式によって表現することもできる。
【００２７】
（Ｒ１ＳｉＯ３／２）ｘ［Ｒ１ａＳｉＯ（４−ａ）／２］ｙ
【００２８】
前記式中、０＜ａ≦３であり、０＜ｘであり、０≦ｙであり、かつｘ＋ｙ＝１である。好ましくは、ｘ＝１であり、ｙ＝０である。
【００２９】
（Ａ）成分は、分子末端にシラノール基由来の水酸基を含む。該水酸基の含有量は特に限定されず、（Ａ）成分全量に対して通常１〜１０ｗｔ％程度である。該水酸基の含有量が１ｗｔ％以上であることにより硬化物の強度及び接着性等がより一層良好になり、また、１０ｗｔ％以下であることにより硬化反応に伴う脱離成分量が低減し、硬化物の耐クラック性及び耐ボイド性がより一層良好になる。かかる観点より、該水酸基の含有量は好ましくは２〜５ｗｔ％程度である。
【００３０】
（Ａ）成分は、各種公知の方法で製造することができる。以下、（Ａ）成分の製造例の一例を下記に示す。
【００３１】
（Ａ）成分の出発原料であるトリアルコキシシラン（ａ１）（以下、「（ａ１）成分」ともいう。）は、一般式：Ｘ１Ｓｉ（ＯＸ１）３（式中、Ｘ１は同一又は異なって、炭素数１〜１５のアルキル基、フェニル基、ベンジル基、水酸基又はハロゲン原子を示す。）で表される。該ハロゲン原子としては、フッ素原子及び塩素原子等が挙げられる。該炭素数１〜１５のアルキル基としては前記したものが挙げられる。なお、Ｘ１は、前記反応性官能基を含まない。
【００３２】
（ａ１）成分の具体例としては、例えば、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、ｎ−プロピルトリメトキシシラン、ｎ−プロピルトリエトキシシラン、ｎ−ヘキシルトリメトキシシラン、ｎ−ヘキシルトリエトキシシラン、ｎ−オクチルトリエトキシシラン、ｎ−デシルトリメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、３−ヒドロキシプロピルトリエトキシシラン、トリクロロメトキシシラン、トリクロロエトキシシラン、（３，３，３−トリフルオロプロピル）トリメトキシシラン等が挙げられる。中でもメチルトリメトキシシランが好ましく、メチルトリメトキシシランを用いることにより、（Ａ）成分と（Ｂ）成分との反応性が良好となり、本発明の所期の効果のバランス、耐熱性、透明性及び耐ボイド性のバランスが特に良好となる。
【００３３】
（Ａ）成分は、（ａ１）成分を加水分解反応及び縮合反応させることにより得ることができる。
【００３４】
加水分解反応の条件は特に限定されず、反応温度は通常２５〜９０℃程度、及び反応時間は通常３０分〜１０時間程度である。反応系に加える水の使用量は特に限定されず、通常は、［水のモル数／（ａ１）成分に含まれるＯＸ１基のモル数］が０．３〜１程度となる範囲である。
【００３５】
加水分解反応の際、各種公知の触媒を使用することができる。触媒として、具体的には、ギ酸、酢酸、塩酸、硫酸、硝酸、ｐ−トルエンスルホン酸、リン酸及び陽イオン交換樹脂等の酸性触媒；水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム、１，８−ジアザビシクロ［５.４．０］ウンデカ−７−エン、１，５−ジアザビシクロ［４．３．０］ノナ−５−エン、テトラメチルアンモニウムヒロドキシド、テトラブチルアンモニウムヒドロキシド、ピリジン等の塩基性触媒が挙げられる。触媒の使用量は特に限定されず、通常、（ａ１）成分１００質量部に対して０．００１〜１質量部程度である。
【００３６】
加水分解反応の際、各種公知の溶剤を使用してもよい。溶媒として、具体的には、ベンゼン、トルエン、キシレン、ｎ−ヘキサン、ｎ−ヘプタン等の炭化水素系溶媒；メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉｓｏ−プロパノール等のアルコール系溶媒；エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン等のエーテル系溶媒；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒；アセトン、２−ブタノン、メチル−ｉｓｏ−ブチルケトン等のケトン系溶媒；アセトニトリル、ジメチルスルホキシド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン等が挙げられる。
【００３７】
加水分解反応で得られた加水分解物は、更に縮合反応させることによって、水酸基同士の間、或いは水酸基と残存−ＯＸ１基との間にシロキサン結合が生じ、目的の（Ａ）成分を与える。縮合反応条件は特に限定されず、反応温度は通常４０〜１５０℃程度、反応時間は通常１〜１２時間程度である。該縮合反応は前記溶剤中で実施することができる。なお、本発明の組成物は無溶剤タイプであるのが好ましいため、前記溶剤は加水分解及び縮合反応の後に、各種公知の手段で（Ａ）成分より除去するのが望ましい。
【００３８】
（Ａ）成分の物性は特に限定されない。本発明の所期の効果のバランスを考慮すると、軟化点（ＪＩＳ  Ｋ５９０３に規定された条件で測定した軟化点。以下、軟化点というときは同様である。）が、通常４０〜１５０℃程度、好ましくは５０〜１３０℃程度、より好ましくは６０〜１２０℃程度であるのがよい。（Ａ）成分の軟化点がかかる範囲にあると、本発明に係る硬化物の機械物性がより一層良好となる。その重量平均分子量も特に限定されず、通常２０００〜１００００程度、好ましくは３０００〜７０００程度である。（Ａ）成分の重量平均分子量が２０００以上であることにより、本発明に係る組成物を加熱硬化させる際の低分子量成分の揮散又はブリードアウトが一段と抑制される。また、（Ａ）成分の重量平均分子量が１００００以下であることにより、本発明の組成物の相溶性がより良好となり、また、糸引きが抑制される等、作業性もより一層良好になる。
【００３９】
（Ａ）成分の形状は特に限定されず、フレーク状、パウダー状、半固体状等であってよい。（Ａ）成分の市販品としては、例えば、信越化学工業（株）製のＫＲ−２２０Ｌ及びＫＲ−２２０ＬＰ、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン製のＹＲ３３７０等が挙げられる。
【００４０】
（Ｂ）成分は、Ｒ２ＳｉＯ３／２（式中、Ｒ２は、炭素数１〜１５のアルキル基、フェニル基及びベンジル基からなる群より選ばれる一種を表す。）で表されるトリシロキシ単位（ＴＢ）を含み、かつ−ＯＲ２（式中、Ｒ２は、炭素数１〜１５のアルキル基、フェニル基及びベンジル基からなる群より選ばれる一種を表す。）を有する、室温で液状のポリシルセスキオキサンである。なお、前記Ｒ２ＳｉＯ３／２のＲ２と、前記−ＯＲ２のＲ２とは、同一であっても異なっていてもよい。
【００４１】
各Ｒ２を構成する炭素数１〜１５のアルキル基、フェニル基及びベンジル基は、Ｒ１を構成するそれらと同様であり、いずれも前記反応性官能基を含まない。
【００４２】
ＴＢは、前記ＴＡと同様に、Ｔ１構造［Ｒ２Ｏ−Ｓｉ（Ｒ２）（ＯＲ２）−Ｏ−］、Ｔ２構造［−（Ｒ２）Ｓｉ（ＯＲ２）（Ｏ−）−Ｏ−］及びＴ３構造［−（Ｒ２）Ｓｉ（Ｏ−）２−Ｏ−］に小別でき、それらの比率も特に限定されない。各構造は、例えば、（Ｂ）成分の２９Ｓｉ−ＮＭＲスペクトルを測定することにより特定可能である。
【００４３】
（Ｂ）成分に占めるＴＢの割合は特に限定されない。本発明の所期の効果のバランス、特に本発明の組成物の相溶性、ハンドリング性及び硬化性等、並びに硬化物の強度、接着性、耐クラック性及び耐ボイド性等のバランスを考慮すると、（Ｂ）成分に占めるＴＢの割合は、通常６５〜１００モル％程度、好ましくは９５〜１００モル％である。
【００４４】
（Ｂ）成分は、室温で液状を保つ限りにおいて、他の単位（モノシロキシ単位（ＭＢ）、ジシロキシ単位（ＤＢ）、又はテトラシロキシ単位（ＱＢ））を含んでもよい。それらの他の単位の比率は、通常０〜３５モル％程度、好ましくは０〜５モル％である。
【００４５】
（Ｂ）成分の構造は、具体的には、下記平均単位式によって表現することもできる。
【００４６】
（Ｒ２ＳｉＯ３／２）ｘ’［Ｒ２ｂＳｉＯ（４−ｂ）／２］ｙ’
【００４７】
前記式中、０＜ｂ≦３であり、０＜ｘ’であり、０≦ｙ’であり、かつｘ’＋ｙ’＝１である。好ましくは、ｘ’＝１であり、ｙ’＝０である。
【００４８】
なお、（Ｂ）成分における水酸基の含有量は実質的に０ｗｔ％である。−ＯＲ２の含有量は、例えば１Ｈ−ＮＭＲスペクトルに基づいて求めることができ、（Ｂ）成分全量に対して、通常、１５〜４５ｗｔ％程度である。
【００４９】
（Ｂ）成分は、各種公知の方法で製造することができる。以下、（Ｂ）成分の製造例の一例を下記に示す。
【００５０】
（Ｂ）成分の出発原料の一つであるトリアルコキシシラン（ｂ１）（以下、「（ｂ１）成分」ともいう。）は、一般式：Ｘ２Ｓｉ（ＯＸ２）３（式中、Ｘ２は同一又は異なって、炭素数１〜１５のアルキル基、フェニル基、ベンジル基、水酸基又はハロゲン原子を示す。）で表される。該ハロゲン原子、及び該炭素数１〜１５のアルキル基としては前記したものが挙げられる。（ｂ１）成分としては、前記（ａ１）成分として挙げたものを例示することができる。（ｂ１）成分としてメチルトリメトキシシランが好ましい。（ｂ１）成分としてメチルトリメトキシシランを用いることにより、（Ａ）成分と（Ｂ）成分との反応性が一層良くなり、本発明の所期の効果のバランスが保たれるようになり、特に耐熱性、透明性及び耐ボイド性が一段と良好になる。
【００５１】
（Ｂ）成分の出発原料としては、他にも、（Ｂ）成分が室温で液状を保つ限りにおいて、前記ＤＢ単位を与えるジアルコキシシラン（以下、「（ｂ２）成分」ともいう。）、前記ＭＢ単位を与えるモノアルコキシシラン（以下、「（ｂ３）成分」ともいう。）、又は前記ＱＢ単位を与えるテトラアルコキシシラン（以下、「（ｂ４）成分」ともいう。）を併用することができる。
【００５２】
（ｂ２）成分は、一般式：（Ｘ２）２Ｓｉ（ＯＸ２）２（式中、Ｘ２は前記と同様であり、同一又は異なっていてよい。）で表される。その具体例としては、例えば、ジメチルジメトキシシラン、フェニルメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、フェニルメチルメトキシエトキシシラン等が挙げられる。（ｂ１）成分に対する（ｂ２）成分の使用量は特に限定されず、モル比として、通常、（ｂ１）：（ｂ２）＝６５〜９５：５〜３５程度となる範囲である。
【００５３】
（ｂ３）成分は、一般式：（Ｘ２）３ＳｉＯＸ２（式中、Ｘ２は前記と同様であり、同一又は異なっていてよい。）で表される。その具体例としては、例えば、トリメチルメトキシシラン、トリメチルエトキシシラン、トリエチルメトキシシラン、トリエチルエトキシシラン、トリ（ｎ−プロピル）メトキシシラン、トリ（イソプロピル）メトキシシラン、トリ（ｎ−プロピル）エトキシシラン、トリ（ｎ−ブチル）メトキシシラン、トリ（イソブチル）メトキシシラン、トリ（イソブチル）エトキシシラン、ジメチルｔｅｒｔ−ブチルメトキシシラン、ジメチルイソブチルメトキシシラン、ジメチルシクロペンチルメトキシシラン、ジメチルシクロヘキシルエトキシシラン等が挙げられる。（ｂ１）成分に対する（ｂ３）成分の使用量は特に限定されず、モル比として、通常、（ｂ１）：（ｂ３）＝６５〜９５：５〜３５程度となる範囲である。
【００５４】
（ｂ４）成分は、一般式：Ｓｉ（ＯＸ２）４（式中、Ｘ２は前記と同様であり、同一又は異なっていてよい。）で表される。その具体例としては、例えば、テトラエトキシシラン、テトライソプロポキシシラン、テトラｎ−プロポキシシラン、テトラｎ−ブトキシシラン、テトラメトキシシラン、ジメトキシジエトキシシラン等のテトラアルコキシシラン等が挙げられる。（ｂ１）成分に対する（ｂ４）成分の使用量は特に限定されず、モル比として、通常、（ｂ１）：（ｂ４）＝６５〜９５：５〜３５となる範囲である。
【００５５】
（Ｂ）成分は、（ｂ１）成分、並びに必要に応じて（ｂ２）成分、（ｂ３）成分及び（ｂ４）成分からなる群より選ばれる少なくとも一種を加水分解反応及び縮合反応させることにより得ることができる。
【００５６】
加水分解反応の条件は特に限定されず、反応温度は通常２５〜９０℃程度であり、及び反応時間は通常３０分〜１０時間程度である。反応系に加える水の使用量も特に限定されず、［水のモル数／〔（ｂ１）成分〜（ｂ４）成分に含まれる−ＯＸ２の総モル数］が０．１〜１程度となる範囲である。
【００５７】
加水分解反応の際には、前記（ａ１）成分の加水分解反応で用いられる触媒及び溶剤をいずれも使用することができる。
【００５８】
加水分解反応で得られた加水分解物は、更に縮合させることによって、該分解物中の水酸基と残存−ＯＸ２基との間にシロキサン結合が生じ、目的の（Ｂ）成分を与える。縮合反応条件は特に限定されず、反応温度は通常４０〜１５０℃程度であり、反応時間は通常１〜１２時間程度である。該縮合反応は前記溶剤中で実施することができる。なお、本発明の縮合反応型シリコーン組成物は無溶剤タイプであるのが好ましいため、前記溶剤は加水分解及び縮合反応後に各種公知の手段で（Ｂ）成分より除去するのが望ましい。
【００５９】
（Ｂ）成分の物性は特に限定されない。本発明の所期の効果を発揮させるためには、粘度を通常５〜１００００ｍＰａ・ｓ／２５℃程度、好ましくは５〜５０００ｍＰａ・ｓ／２５℃程度、より好ましくは５〜２０００ｍＰａ・ｓ／２５℃程度にするのがよい。なお、本発明の組成物は加熱硬化型であるが、室温硬化型のシリコーン組成物については２３℃で粘度を測定することもある。その場合１つの実施形態において５０１〜１００００ｍＰａ・ｓ／２３℃以上であることが好ましい。（Ｂ）成分の粘度が当該範囲にあることで、本発明の組成物の塗布作業性及び形状維持性のバランスが一段と良好になる。また、その重量平均分子量も特に限定されない。前記と同様の観点より、（Ｂ）成分の重量平均分子量は、通常５００〜９０００程度、好ましくは７００〜８０００程度である。（Ｂ）成分の重量平均分子量が５００以上であることにより、本発明の組成物を加熱硬化させる際の低分子量成分の揮散又はブリードアウトがより一層抑制される。また、（Ｂ）成分の数平均分子量が９０００以下であることにより、本発明の組成物の相溶性がより良好となり、また、糸引きが抑制される等、作業性もより一層良好になる。
【００６０】
（Ｂ）成分の市販品としては、例えば、旭化成ワッカーシリコーン株式会社製のＭＳＥ１００、信越化学工業株式会社製のＫＣ−８９Ｓ及びＫＲ−５００、多摩化学工業（株）製のＭＴＭＳ−Ａ等が挙げられる。
【００６１】
（Ａ）成分と（Ｂ）成分との配合比率は特に限定されない。本発明の組成物のハンドリング性、本発明の硬化物の硬度、強靭性及び耐ボイド性等の観点より、（Ａ）成分に含まれる水酸基のモル数（ＭＯＨ）と、（Ａ）成分に含まれる−ＯＲ１及び（Ｂ）成分に含まれる−ＯＲ２の合計モル数（ＭＯＲ）との比（ＭＯＲ／ＭＯＨ）が、通常０．１〜２０程度、好ましくは５〜２０程度、より好ましくは８〜１５程度の範囲となるように（Ａ）成分と（Ｂ）成分とを配合する。該比率が０．１以上であると、本発明の組成物を硬化させる際の脱泡性が一層良好となり、また、これを塗布する際に糸引きが生じ難くなる等、作業性もより一層良好となる。また、該比率が２０以下であると、本発明の組成物の接着性が一層良好となり、また、硬化物にクラック又はボイドも一層生じ難くなる。
【００６２】
（Ａ）成分と（Ｂ）成分との固形分質量比も特に限定されない。本発明の組成物のハンドリング性、本発明の組成物の相溶性及び塗布作業性等、並びに硬化物の硬度、強靭性及び耐ボイド性等の観点より、固形分質量比は、（Ａ）成分１００質量部に対して（Ｂ）成分が通常３０〜１２０質量部程度、好ましくは４０〜１１０質量部程度となる範囲である。
【００６３】
（Ｃ）成分としては、各種公知の縮合反応触媒を使用することができる。縮合反応触媒として、具体的には、マグネシウム、アルミニウム、錫、亜鉛、鉄、コバルト、ニッケル、ジルコニウム、セリウム及びチタン等の金属の化合物が挙げられる。該化合物としては、本発明の組成物のポットライフ、本発明の硬化物の色調又は透明性等を考慮すると、チタン化合物、錫化合物、亜鉛化合物及びジルコニウム化合物からなる群より選ばれる一種が好ましく、特に錫化合物及び／又はジルコニウム化合物が好ましい。
【００６４】
前記チタン化合物としては、例えば、チタンジイソプロポキシビス（エチルアセトアセテート）、テトラエトキシチタン、テトラｎ−プロポキシチタン、テトラｎ−ブトキシチタン、ジイソプロポキシ−ビス（アセト酢酸エチル）チタン、ジイソプロポキシ−ビス（アセト酢酸メチル）チタン、ジイソプロポキシ−ビス（アセチルアセトン）チタン、ジｎ−ブトキシ−ビス（アセト酢酸エチル）チタン、ジメトキシ−ビス（アセト酢酸エチル）チタン等が挙げられる。
【００６５】
前記錫化合物としては、例えば、ジｎ−ブチルスズメトキシド、ジｎ−ブチルスズジアセテート、ジｎ−ブチルスズジオクテート、ジｎ−ブチルスズジラウレート、ジｎ−オクチルスズジアセテート、ジｎ−オクチルスズマレエート、ジｎ−ブチルスズオキシアセテート、ジｎ−ブチルスズオキシオクチレート、ジｎ−ブチルスズオキシラウレート、ジｎ−ブチルスズビスメチルマレート、ジｎ−ブチルスズオキシオレエート、またはｎ−ジブチルスズマレートポリマー、ジｎ−オクチルスズマレートポリマー、モノｎ−ブチルスズトリス（２−エチルヘキサノエート）及びジｎ−ブチルスズビス（アセチルアセトナト）等が挙げられる。
【００６６】
前記亜鉛化合物としては、例えば、亜鉛アセテート、亜鉛アセチルアセテート、２−エチルヘキサン酸亜鉛、オクチル酸亜鉛、ネオデカン酸亜鉛、ラウリン酸亜鉛、ステアリン酸亜鉛、ナフテン酸亜鉛、安息香酸亜鉛、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチル安息香酸亜鉛、亜鉛サリチレート、亜鉛（メタ）アクリレート、亜鉛アセチルアセトナト及び２，２，６，６−テトラメチル−３，５−ヘプタンジオネート亜鉛等が挙げられる。
【００６７】
前記ジルコニウム化合物としては、例えば、テトラアルキルジルコネート、ジルコニウムトリアルコキシモノナフテート、ジルコニウムトリアルコキシモノシクロプロパンカルボキシレート、ジルコニウムトリアルコキシシクロブタンカルボキレート、ジルコニウムトリアルコキシモノシクロペンタンカルボキシレート、ジルコニウムトリアルコキシモノシクロヘキサンカルボキシレート及びジルコニウムトリアルコキシモノアダマンタンカルボキシレート等が挙げられる。ここで、アルキルの好ましい例としては、炭素数１〜１８の直鎖状又は分岐鎖状アルキルが挙げられ、アルコキシの好ましい例としは、炭素数１〜１８の直鎖状又は分岐鎖状アルキルオキシが挙げられる。
【００６８】
（Ｃ）成分の使用量は特に限定されない。本発明の組成物の貯蔵安定性及び硬化性、並びに硬化物の耐黄変性等の観点より、（Ｃ）成分の使用量は、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の合計１００質量部に対して、通常０．００１〜１０質量部程度、好ましくは０．０１〜５質量部程度、より好ましくは０．１〜１質量部程度となる範囲である。なお、本発明の組成物においては（Ｃ）成分の使用量が０．１質量部未満、すなわち、０．００１〜０．０９９質量部の場合であっても所期の効果を達成することができる。
【００６９】
本発明の組成物には、例えば本発明の硬化物の耐クラック性を向上させる目的で、各種公知の（Ｄ）無機フィラー（以下、「（Ｄ）成分」ともいう。）を含めることができる。（Ｄ）成分として、例えば、シリカ（コロイダルシリカ、ヒュームドシリカ等）、チタン酸バリウム、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化ニオブ、酸化アルミニウム、酸化セリウム及び酸化イットリウム等が挙げられる。中でも、シリカが好ましく、特にヒュームドシリカが好ましい。（Ｄ）成分の平均一次粒子径は特に限定されない。本発明の組成物の分散安定性、塗布作業性、チキソトロピー性（塗布後のダレ防止性）、並びに硬化物の耐クラック性及び透明性等の観点より、（Ｄ）成分の平均一次粒子径は、通常１００μｍ以下、好ましくは５〜１００ｎｍ程度、より好ましくは５〜３０ｎｍ程度である。
【００７０】
（Ｄ）成分の使用量は特に限定されない。本発明の組成物の塗布作業性及びチキソトロピー性、並びに硬化物の透明性及び耐クラック性等の観点より、（Ｄ）成分の使用量は、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の合計１００質量部に対して、通常０．１〜２０質量部程度、好ましくは０．５〜１０質量部となる範囲である。
【００７１】
本発明の組成物には、必要に応じ、更に可塑剤、耐候剤、酸化防止剤、熱安定剤、滑剤、帯電防止剤、増白剤、着色剤、導電性高分子、導電性フィラー、離型剤、表面処理剤、粘度調節剤及びシランカップリング剤等の添加剤を配合することができる。また本発明の組成物は無溶剤タイプであるのが好ましいことから、１つの実施形態において、本発明の組成物は溶剤を含まない。
【００７２】
本発明の組成物の製造法は特に限定されない。通常、固体状の前記（Ａ）成分と、（Ｃ）成分とを、液状の前記（Ｂ）成分に加え、必要により前記（Ｄ）成分及び添加剤を更に配合した上、それらを均質になるまで混合することにより、本発明の組成物を得ることができる。混合は、公知の手段により行うことができる。
【００７３】
こうして得られる組成物の物性は特に限定されない。ハンドリング性、封止剤として用いた場合の注型性等を考慮すると、粘度が通常５〜１００００００ｍＰａ・ｓ／２５℃程度、好ましくは５００〜５０００００ｍＰａ・ｓ／２５℃程度、より好ましくは１０００〜２０００００ｍＰａ・ｓ／２５℃程度である。
【００７４】
本発明の硬化物は、本発明の組成物の縮合反応物である。硬化条件は特に限定されず、用途に応じて適宜設定すればよい。硬化温度は通常２５〜２００℃程度であり、及び硬化時間は通常３０分〜５時間程度である。
【実施例】
【００７５】
以下、実施例及び比較例を通じて本発明を詳細に説明するが、これらによって本発明の範囲が限定されることはない。また、各例中、部は特記しない限り質量基準である。【００７６】
製造例中、重量平均分子量は、ゲルパーメーションクロマトグラフィー法（使用装置： 東ソー株式会社製ＨＬＣ−８２２０、カラム：東ソー株式会社製ＴＳＫｇｅｌ  αーＭ、展開溶媒：テトラヒドロフラン）によるポリスチレン標準物質の換算値である。【００７７】
製造例中、１Ｈ−ＮＭＲのシフト値は、ＶＡＲＩＡＮ製４００−ＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）を用いて得た測定値である。【００７８】
実施例中、粘度はＥ型粘度計（製品名「ＲＥ−８０Ｕ」、東機産業株式会社製、ローターＮｏ．１°３４′×Ｒ２４、ローター回転数５ｒｐｍ）を用いて得た測定値である。【００７９】
＜（Ｂ）成分の製造＞
製造例１
撹拌機、冷却管、温度計及び窒素導入管を備える反応装置に、メチルトリメトキシシラン１３６．２部及び水１０．８部を仕込み、反応系を４０℃に昇温した。次いでギ酸０．１４部を仕込み、加水分解反応を開始した。反応開始後、反応熱により反応系の温度は６２℃に達したが、その後４０℃に降温したため、同温度で３０分間保持した。その後、副生するメタノールを系外に除去しながら３時間かけて反応系を１２０℃に昇温した。次いで、同温度で１時間、縮合反応を行うことにより、ＣＨ３ＳｉＯ３／２で示されるトリシロキシ単位（ｘ＝１、ｙ＝０）を有する液状のポリシルセスキオキサン（Ｂ−１）を得た。（Ｂ−１）成分の粘度は２０ｍＰａ・ｓ／２５℃、重量平均分子量は９００であった。また、１Ｈ−ＮＭＲで測定された残存メトキシ基（δ３．２−３．８）のピーク強度より算出した含有量（以下、「残存メトキシ基含有量」と略す。）は約３２ｗｔ％であった。【００８０】
製造例２
水の仕込み量を１６．２部にした以外は製造例１と同様にして、ＣＨ３ＳｉＯ３／２で示されるトリシロキシ単位（ｘ＝１、ｙ＝０）を有する液状のポリシルセスキオキサン（Ｂ−２）を得た。（Ｂ−２）成分の粘度は３５０ｍＰａ・ｓ／２５℃、重量平均分子量２５００、残存メトキシ基含有量は約２４ｗｔ％であり、残存水酸基のピークは認められなかった。【００８１】
製造例３
メチルトリメトキシシラン１３６．２部、ジメチルジメトキシシラン５１．５部、及び水２７．８部にした以外は製造例１と同様にして、（ＣＨ３）１．３ＳｉＯ１．３５を平均シロキシ単位（ｘ’＝０．７、y’＝０．３、ｂ＝２）として有するポリシルセスキオキサン（Ｂ−３）を得た。（Ｂ−３）成分の粘度は１６００ｍＰａ・ｓ／２５℃、重量平均分子量７０００、残存メトキシ基含有量は約１９ｗｔ％であり、残存水酸基のピークは認められなかった。【００８２】
＜縮合反応型シリコーン組成物の製造＞
実施例１
（Ａ）成分として室温で固体状のポリシルセスキオキサン（商品名「ＫＲ２２０Ｌ」、信越化学工業（株）製、フレーク状、Ｒ１＝メチル基、シラノール基由来水酸基含有量３ｗｔ％、ＴＡ単位１００モル％、軟化点６７℃）５０部と、（Ｂ）成分として（Ｂ−１）成分５０部と、（Ｃ）成分としてジルコニウムキレート（マツモトファインケミカル株式会社製、ＺＣ−７００（ジルコニウムテトラアセチルアセトネート２０％溶液））０．３部と、（Ｄ）成分として市販のヒュームドシリカ（商品名「ＡＥＲＯＳＩＬ  ＲＸ２００」、日本アエロジル（株）製、平均一次粒子径１２ｎｍ）５．５部とを室温でよく混合し、均質で透明な縮合反応型シリコーン組成物１（６０００ｍＰａ・ｓ／２５℃）を得た。【００８３】
実施例２
（Ｂ）成分として前記（Ｂ−２）成分５０部を使用した以外は実施例１と同様にして、均質で透明な縮合反応型シリコーン組成物２（８０００ｍＰａ・ｓ／２５℃）を得た。【００８４】
実施例３
（Ｂ）成分として前記（Ｂ−３）成分５０部を使用した以外は実施例１と同様にして、均質で透明な縮合反応型シリコーン組成物３（５０００ｍＰａ・ｓ／２５℃）を得た。【００８５】
実施例４
（Ｃ）成分としてジｎ−オクチル錫０．１部を使用した以外は実施例１と同様にして、均質で透明な縮合反応型シリコーン組成物４（６０００ｍＰａ・ｓ／２５℃）を得た。【００８６】
実施例５
（Ｃ）成分としてチタンキレート（マツモトファインケミカル株式会社製、ＴＣ−７１０  チタンジイソプロポキシビス（エチルアセトアセテート）６３％溶液）０．１部を使用した以外は実施例１と同様にして、均質で透明な縮合反応型シリコーン組成物５（６０００ｍＰａ・ｓ／２５℃）を得た。【００８７】
実施例６
（Ｄ）成分を使用しなかった以外は実施例１と同様にして、均質で透明な縮合反応型シリコーン組成物６（１０００ｍＰａ・ｓ／２５℃）を得た。【００８８】
実施例７
（Ａ）成分として室温で固体状のポリシルセスキオキサン（商品名「Ｚ−６０１８」、Ｄｏｗ  Ｃｏｒｎｉｎｇ  Ｃｏｒｐ．製、フレーク状、Ｒ１＝フェニル基およびｎ−プロピル基、シラノール基由来水酸基含有量６ｗｔ％、ＴＡ単位１００モル％、軟化点４０℃）４０部と、（Ｂ）成分として室温で液体状のポリシルセスキオキサン（商品名「ＭＳＥ−１００」、Ｗａｃｋｅｒ  Ｃｈｅｍｉｅ  ＡＧ製、Ｒ１＝メチル基、粘度３０ｍＰａ・ｓ／２５℃、アルコキシ基含有量３２ｗｔ％）６０部とを１３０℃でよく混合し、均質な無色透明の液体を得た。次いでそこへ（Ｃ）成分としてＺＣ−７００を０．３部加えて、室温でよく混合し、均質で透明なダイボンディング剤７（２３００ｍＰａ・ｓ／２５℃）を得た。【００８９】
実施例８
（Ａ）成分としてＫＲ−２２０Ｌを５０部と、（Ｂ）成分として室温で液体状のポリシルセスキオキサン（商品名「Ｘ−４０−９２２７」、信越化学工業(株)製、Ｒ１＝メチル基およびフェニル基、粘度２０ｍＰａ・ｓ／２５℃、アルコキシ基含有量１５ｗｔ％）５０部とを１３０℃でよく混合し、均質な無色透明の液体を得た。次いでそこへ、（Ｃ）成分としてＺＣ−７００を０．８部、及び(Ｄ)成分としてＡＥＲＯＳＩＬ  ＲＸ２００を３．０部加えて、室温でよく混合し、均質で透明なダイボンディング剤８（８０００ｍＰａ・ｓ／２５℃）を得た。【００９０】
実施例９
（Ａ）成分としてＺ−６０１８を６０部と、（Ｂ）成分としてＸ−４０−９２２７を４０部とを１３０℃でよく混合し、均質な無色透明の液体を得た。次いでそこへ、（Ｃ）成分としてＺＣ−７００を３．０部加えて、室温でよく混合し、均質で透明なダイボンディング剤９（４１００ｍＰａ・ｓ／２５℃）を得た。【００９１】
比較例１
（Ａ）成分として室温で固体状のポリシルセスキオキサン（商品名「ＳＩＬＲＥＳ  ＭＫ」、旭化成ワッカーシリコーン（株）製、Ｒ１＝メチル基、シラノール基由来水酸基含有量０ｗｔ％）５０部と、前記（Ｂ−１）成分５０部と、ジルコニウムキレート（マツモトファインケミカル株式会社製、ＺＣ−７００（ジルコニウムテトラアセチルアセトネート２０％溶液））０．３部と、ＡＥＲＯＳＩＬ  ＲＸ２００  ５．５部とを室温でよく混合し、均質で透明な縮合反応型シリコーン組成物イ（５０００ｍＰａ・ｓ／２５℃）を得た。【００９２】
比較例２
（Ｂ−１）成分１００部、ジルコニウムキレート０．３部、及びＡＥＲＯＳＩＬ  ＲＸ２００  ５．５部を室温でよく混合し、均質で透明な縮合反応型シリコーン組成物ロ（４０００ｍＰａ・ｓ／２５℃）を得た。【００９３】
比較例３
（Ａ）成分としてＫＲ２２０Ｌ  ５０部と、（Ｂ）成分として（Ｂ−１）成分５０部と、（Ｄ）成分としてＡＥＲＯＳＩＬ  ＲＸ２００  ５．５部とを室温でよく混合し、均質で透明な縮合反応型シリコーン組成物ハ（６０００ｍＰａ・ｓ／２５℃）を得た。【００９４】
＜硬化物の作製１＞
実施例１で得られた縮合反応型シリコーン組成物１を、テフロン（登録商標）コーティングされた円形金属枠（直径５ｃｍ、高さ２ｍｍ）に注入し、１２０℃の乾燥炉で1時間硬化させたのち、１５０℃の乾燥炉で３時間硬化させることにより、硬化物１（試験片）を作製した。【００９５】
【表１】
2017122762.tif 000002
【００９６】
（１）保存安定性
上記縮合反応型シリコーン組成物１を、２５±１℃、５０±１０％ＲＨの条件で静置し、以下の基準でポットライフを評価した。
５：粘度が初期値の１２５％以上になるまでの時間が４８時間以上
３：粘度が初期値の１２５％以上になるまでの時間が１２時間以上４８時間未満
１：粘度が初期値の１２５％以上になるまでの時間が１２時間未満【００９７】
（２）初期硬化性
上記硬化物１の硬度を、高分子計器（株）製のショア硬度計Ｄ型を用いて測定することにより、実施例１に係る縮合反応型シリコーン組成物１の初期硬化性を以下の基準で評価した。【００９８】
５：４０以上
３：２０以上４０未満
１：２０未満【００９９】
（３）耐熱性
＜初期耐熱性＞
上記硬化物１の質量減少率を下記計算式に基づいて計算し、その以下に示す基準で初期耐熱性を再評価した。【０１００】
（式）加熱後の質量減少率（％）＝１００−（硬化物１の質量／縮合反応型シリコーン組成物１の質量）×１００【０１０１】
５：１５％未満
３：１５％以上２５％未満
１：２５％以上【０１０２】
＜加熱後の耐熱性＞
上記硬化物１を、更に２００℃の乾燥炉で１０００時間加熱することにより硬化物２を得た。次いで、その質量減少率を下記計算式に基づいて計算し、以下の基準で耐熱性を再評価した。【０１０３】
（式）加熱後の質量減少率（％）＝１００−（硬化物２の質量／硬化物１の質量）×１００【０１０４】
５：５％未満
３：５％以上７．５％未満
１：７．５％以上【０１０５】
（４）透明性
上記硬化物１の波長４００ｎｍにおける平行線透過率を、（株）島津製作所製分光光度計  ＵＶ−ＭＩＮＩ−１２４０を用いて測定し、以下の基準で透明性を評価した。【０１０６】
５：７５％以上
３：６５％以上７５％未満
１：６５％未満【０１０７】
（５）耐クラック性
上記硬化物１について、耐クラック性を以下の基準で目視評価した。【０１０８】
５：クラックなし
１：クラックあり【０１０９】
（６）耐ボイド性
上記硬化物１について、耐ボイド性を以下の基準で目視評価した。
５：気泡なし
１：気泡あり【０１１０】
（７）曲げ強度
上記硬化物１の曲げ強度を、（株）島津製作所製のオートグラフＡＧＳ−１０ｋＮＤを用いて測定し、柔軟性と強度とのバランスを以下の基準で評価した。【０１１１】
５：２０ＭＰａ以上
３：１０ＭＰａ以上２０ＭＰａ未満
１：１０ＭＰａ未満【０１１２】
（８）せん断強度
実施例１で得られた縮合反応型シリコーン組成物１を用いてシリコンチップ（２ｍｍ×２ｍｍ×１ｍｍ）をアルミニウム板にマウントし、乾燥炉で１２０℃、1時間の条件で加熱した後、更に１５０℃、３時間の条件で加熱した。次いで、接着層（硬化物）のせん断強度を、市販のボンドテスター（製品名「ＤＡＧＥ−ＳＥＲＩＥＳ−４０００ＰＸＹ）、Ｄａｇｅ社製）を用いて室温（２５℃）で測定し、以下の基準で評価した。【０１１３】
５：３０Ｎ以上
３：１５Ｎ以上３０Ｎ未満
１：１５Ｎ未満【０１１４】
他の実施例、及び比較例の各縮合反応型シリコーン組成物又はその硬化物についても同様にして、上記試験を実施した。【０１１５】
【表２】
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【０１１６】
（産業上の利用可能性）
表２で示すように、本発明の縮合反応型シリコーン組成物は、保存安定性及び初期硬化性に優れており、得られた硬化物は、耐熱性、透明性、耐クラック性、耐ボイド性、曲げ強度及びせん断強度において優れることが判った。特に、該組成物は、縮合反応型組成物であって反応過程で水又は低分子アルコールが副生するにも関わらず、その硬化物の耐ボイド性が良好である点は特筆すべきである。【０１１７】
本発明の縮合反応型シリコーン組成物は、そのように多くの利点を有するため、例えば接着剤、封止剤、コーティング剤、シーラント及び塗料等の幅広い用途に供し得る。【０１１８】
具体的には、上記初期硬化性、耐クラック性、曲げ強度及びせん断強度の結果より、該組成物は、ケイ素、アルミニウム、鉄、金、銀及び銅といった同種ないし異種の金属同士を接合するための金属用接着剤、並びに抵抗器等のケース材料として利用することができる。【０１１９】
また、上記初期硬化性、耐熱性、透明性、耐クラック性及び耐ボイド性の結果より、該組成物は、パワーモジュール及び温度センサーの封止剤、電子基板等の防湿コート剤としても利用することができる。【０１２０】
また、上記初期硬化性、耐熱性、透明性、耐クラック性、耐ボイド性、曲げ強度及びせん断強度の結果より、該組成物は、ガラス又はプラスチック製のレンズ、透明窓等を支持体に接合するための光学接着剤、ＬＥＤ等の光学素子のパッケージ材料、ＵＶ−ＬＥＤ、レーザー、受光素子を含む光半導体素子の封止剤又はダム材料としても利用することができる。
【国際調査報告】
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