(57)【要約】  磁性粉の製造方法は、放射線の照射により磁性粉の保磁力を変化させることを含む。【選択図】なし
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
放射線の照射により磁性粉の保磁力を変化させることを含む磁性粉の製造方法。
【請求項２】
前記保磁力の変化は、保磁力の増加である請求項１に記載の磁性粉の製造方法。
【請求項３】
前記磁性粉は、立方晶フェライト磁性粉である請求項２に記載の磁性粉の製造方法。
【請求項４】
前記磁性粉は、コバルトフェライト磁性粉である請求項２に記載の磁性粉の製造方法。
【請求項５】
前記保磁力の変化は、保磁力の減少である請求項１に記載の磁性粉の製造方法。
【請求項６】
前記磁性粉は、六方晶フェライト磁性粉である請求項５に記載の磁性粉の製造方法。
【請求項７】
前記磁性粉は、バリウムフェライト磁性粉である請求項５に記載の磁性粉の製造方法。
【請求項８】
前記放射線の照射により前記磁性粉に格子欠陥が導入される請求項１に記載の磁性粉の製造方法。
【請求項９】
前記放射線は、電離放射線である請求項１に記載の磁性粉の製造方法。
【請求項１０】
前記放射線は、電磁放射線である請求項１に記載の磁性粉の製造方法。
【請求項１１】
前記放射線は、粒子放射線である請求項１に記載の磁性粉の製造方法。
【請求項１２】
前記放射線は、ガンマ線、アルファ線およびベータ線のうちの１種以上である請求項１に記載の磁性粉の製造方法。
【請求項１３】
前記磁性粉は、磁気記録媒体用の磁性粉であり、
前記放射線の照射は、前記磁性粉の保磁力が２５００Ｏｅ以上４０００Ｏｅ以下となり、かつ、前記磁性粉の反転磁界分布が１以下となるように調整される請求項１に記載の磁性粉の製造方法。
【請求項１４】
放射線の照射により磁性粉の保磁力を変化させ、
前記保磁力を変化させた磁性粉を含む磁性層を形成すること
を含む磁気記録媒体の製造方法。
【請求項１５】
格子欠陥を有し、立方晶フェライトを含む磁性粒子を含み、
保磁力が２５００Ｏｅ以上４０００Ｏｅ以下であり、
反転磁界分布が１以下である磁性粉。
【請求項１６】
保磁力が２５００Ｏｅ以上３５００Ｏｅ以下である請求項１５に記載の磁性粉。
【請求項１７】
前記立方晶フェライトは、コバルトフェライトである請求項１５に記載の磁性粉。
【請求項１８】
前記コバルトフェライトは、Ｃｏと、Ｎｉ、Ｍｎ、Ａｌ、ＣｕおよびＺｎのうちの１種以上とを含んでいる請求項１７に記載の磁性粉。
【請求項１９】
基体と、
磁性粉を含む磁性層と
を備え、
前記磁性粉は、格子欠陥を有し、立方晶フェライトを含む磁性粒子を含み、
前記磁性粉の保磁力が２５００Ｏｅ以上４０００Ｏｅ以下であり、
前記磁性粉の反転磁界分布が１以下である磁気記録媒体。
【請求項２０】
前記基体と前記磁性層との間に設けられた非磁性層をさらに備える請求項１９に記載の磁気記録媒体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本技術は、磁性粉およびその製造方法、ならびに磁気記録媒体およびその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
磁気記録媒体では、記録密度の観点からすると、保磁力Ｈｃは高いことが望ましい。一方、磁気書き込みヘッドの観点からすると、書き込み時に発生可能な磁界には限界があるため、書き込みヘッドの能力に合わせて記録メディアの保磁力Ｈｃを所定値以下に調整することが望ましい。そこで、所定の保磁力Ｈｃを有する磁性粉およびその製造方法が検討されている。【０００３】
近年では、塗布型の高密度記録媒体用磁性粉としてコバルトフェライト磁性粉が期待されている。所定の保磁力を有するコバルトフェライト磁性粉の製造方法としては、磁性粉に添加物を導入する方法や、メカニカルミリングにより格子欠陥を磁性粉に導入する方法が提案されている（例えば特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【非特許文献】
【０００４】
【非特許文献１】Ponce A.S. et al. "High coercivity induced by mechanical milling in cobalt Ferrite powders" Journal of Magnetism and Magnetic Materials Volume 344, October 2013, Pages 182-187
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、上記提案の製造方法で得られた磁性粉では、保磁力Ｈｃのばらつきが大きくなる虞がある。【０００６】
本技術の目的は、所定の保磁力Ｈｃを有し、保磁力Ｈｃのばらつきが小さい磁性粉およびその製造方法、ならびに磁気記録媒体およびその製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上述の課題を解決するために、第１の技術は、放射線の照射により磁性粉の保磁力を変化させることを含む磁性粉の製造方法である。【０００８】
第２の技術は、放射線の照射により磁性粉の保磁力を変化させ、保磁力を変化させた磁性粉を含む磁性層を形成することを含む磁気記録媒体の製造方法である。【０００９】
第３の技術は、格子欠陥を有し、立方晶フェライトを含む磁性粒子を含み、保磁力が２５００Ｏｅ以上４０００Ｏｅ以下であり、反転磁界分布が１以下である磁性粉である。【００１０】
第４の技術は、基体と、磁性粉を含む磁性層とを備え、磁性粉は、格子欠陥を有し、立方晶フェライトを含む磁性粒子を含み、磁性粉の保磁力が２５００Ｏｅ以上４０００Ｏｅ以下であり、磁性粉の反転磁界分布が１以下である磁気記録媒体である。
【発明の効果】
【００１１】
以上説明したように、本技術によれば、所定の保磁力Ｈｃを有し、保磁力Ｈｃのばらつきが小さい磁性粉が可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】図１は、本技術の第３の実施形態に係る磁気記録媒体の一構成例を示す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
本技術では、放射線の照射により磁性粉に格子欠陥を導入し、磁性粉の保磁力Ｈｃを変化させる。この保磁力Ｈｃの変化は、磁性粉の種類によって異なり、放射線の照射（すなわち格子欠陥の導入）により保磁力Ｈｃが増加するものと保磁力Ｈｃが減少するものとがある。例えば、磁性粉が立方晶フェライト磁性粉（例えばコバルトフェライト磁性粉など）の場合には、放射線の照射により格子欠陥を導入すると、磁性粉の保磁力Ｈｃは増加する。一方、磁性粉が六方晶フェライト磁性粉（例えばバリウムフェライト磁性粉など）の場合には、放射線の照射により格子欠陥を導入すると、磁性粉の保磁力Ｈｃは減少する。なお、保磁力Ｈｃが主として形状異方性により発生している磁性粉（例えばγ―Ｆｅ2Ｏ3磁性粉やメタル磁性粉など針状磁性粉）の場合には、放射線の照射により格子欠陥を導入すると、磁化が低下し、保磁力Ｈｃが減少することが認められるが、大きな保磁力Ｈｃの変化は通常発生しない。
【００１４】
本技術の実施形態について以下の順序で説明する。
１  第１の実施形態（立方晶フェライト磁性粉の例）
１．１  磁性粉の構成
１．２  磁性粉の製造方法
１．３  効果
１．４  変形例
２  第２の実施形態（六方晶フェライト磁性粉の例）
２．１  磁性粉の構成
２．２  磁性粉の製造方法
２．３  効果
３  第３の実施形態（磁気記録媒体の例）
３．１  磁気記録媒体の構成
３．２  磁気記録媒体の製造方法
３．３  効果
３．４  変形例
【００１５】
＜１  第１の実施形態＞
［１．１  磁性粉の構成］
本技術の第１の実施形態に係る磁性粉は、磁気記録媒体用の立方晶フェライト磁性粉（スピネルフェライト磁性粉）である。磁性粉の保磁力Ｈｃは、２５００Ｏｅ以上４０００Ｏｅ以下、好ましくは２５００Ｏｅ以上３５００Ｏｅ以下である。反転磁界分布（Switching Field Distribution、以下「ＳＦＤ」という。）は、１以下、好ましくは０．７以下である。
【００１６】
上記の保磁力ＨｃおよびＳＦＤを有する磁性粉は、高密度の磁気記録媒体用の磁性粉として好適なものである。具体的には、上記の保磁力ＨｃおよびＳＦＤを有する磁性粉を高密度の磁気記録媒体の磁性層（記録層）に適用した場合に、以下の利点が得られる。すなわち、保磁力Ｈｃが２５００Ｏｅ以上であると、磁性層の記録領域を良好に保持することが可能となり、高い熱的安定性を得ることができる。一方、保磁力Ｈｃが４０００Ｏｅ以下であると、磁性層に良好に信号を記録できる。ＳＦＤが１以下であると、高品位な再生出力が得られる。なお、保磁力Ｈｃの分布は一般にＳＦＤによって評価される。ＳＦＤは、磁性粉を使用した磁気記録媒体のヒステリシスループにおいて保磁力Ｈｃ近傍の微分曲線をとったとき、この曲線のピークの半値幅ΔＨを保磁力Ｈｃで除した値（ΔＨ／Ｈｃ）として表される。
【００１７】
立方晶フェライト磁性粉は、立方晶フェライトを主相とする鉄酸化物の磁性粒子（以下「立方晶フェライト磁性粒子」という。）からなる。立方晶フェライトは、例えば、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｍｎ、Ａｌ、ＣｕおよびＺｎからなる群より選ばれる１種以上を含んでいる。立方晶フェライトは、好ましくは、Ｃｏを含むコバルトフェライトである。コバルトフェライトが、Ｃｏ以外にＮｉ、Ｍｎ、Ａｌ、ＣｕおよびＺｎからなる群より選ばれる１種以上をさらに含んでいてもよい。
【００１８】
より具体的には、立方晶フェライトは、一般式ＭＦｅ2Ｏ4で表される平均組成を有する。但し、Ｍは、例えば、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｍｎ、Ａｌ、ＣｕおよびＺｎからなる群より選ばれる１種以上の金属である。Ｍは、好ましくは、Ｃｏである。Ｍが、Ｃｏと、Ｎｉ、Ｍｎ、Ａｌ、ＣｕおよびＺｎからなる群より選ばれる１種以上の金属との組み合わせであってもよい。上記一般式においてＦｅの一部が他の金属元素で置換されていてもよい。
【００１９】
立方晶フェライト磁性粒子は、格子欠陥を有している。格子欠陥は、立方晶フェライト磁性粉全体に高い均一性で分布している。このため、上述のように低いＳＦＤが得られる。なお、立方晶フェライト磁性粉を構成する立方晶フェライト磁性粒子のうちの一部が格子欠陥を有していてもよいし、ほぼ全部が格子欠陥を有していてもよい。
【００２０】
立方晶フェライト磁性粒子は、立方体状またはほぼ立方体状を有している。立方晶フェライト磁性粒子の平均板径（平均粒子サイズ）は、好ましくは１４ｎｍ以下、より好ましくは１０ｎｍ以上１４ｎｍ以下である。
【００２１】
［１．２  磁性粉の製造方法］
以下、上述の構成を有する磁性粉の製造方法について説明する。まず、所定の保磁力Ｈｃを有する磁性粉を準備する。次に、この磁性粉に放射線を照射することにより、磁性粉の結晶格子に格子欠陥を導入する。これにより、磁性粉の保磁力Ｈｃが増加する。放射線照射の際に、磁性粉が所定温度以下（例えば１００℃以下）となるように、磁性粉を冷却することが好ましい。以上により、目的とする磁性粉が得られる。
【００２２】
放射線は磁性粉に格子欠陥を導入可能なものであればよく、電離放射線および非電離放射線の一方または両方を用いることができるが、磁性粉の生産性などの観点からすると、電離放射線を用いることが好ましい。電離放射線および非電離放射線の両方を用いる場合には、両放射線を同時に照射してもよいし、順次照射してもよい。
【００２３】
放射線としては、電磁放射線および粒子放射線の一方または両方を用いることができる。電磁放射線および粒子放射線の両方を用いる場合には、両放射線を同時に照射してもよいし、順次照射してもよい。
【００２４】
電磁放射線としては、例えば、ガンマ線（γ線）、Ｘ線および紫外線のうちの１種以上を用いることができる。粒子放射線としては、例えば、アルファ線（α線）、ベータ線（β線）、電子線、陽子線、中性子線および重粒子線のうちの１種以上を用いることができる。磁性粉の生産性や磁性粉の放射化抑制などの観点からすると、γ線、α線およびβ線のうちの１種以上を用いることが好ましい。電磁放射線または粒子放射線を２種以上用いる場合には、それらの２種以上の放射線を同時に照射してもよいし、順次照射してもよい。また、電磁放射線および粒子放射線の両方を用いる場合には、両放射線を同時に照射してもよいし、順次照射してもよい。
【００２５】
放射線の照射条件は、磁性粉の保磁力Ｈｃが所定の範囲となり、かつ磁性粉のＳＦＤが所定の範囲となるように調整される。ここでは、保磁力Ｈｃの所定の範囲は、２５００Ｏｅ以上４０００Ｏｅ以下、好ましくは２５００Ｏｅ以上３５００Ｏｅ以下である。また、ＳＦＤの所定の範囲は、１以下、好ましくは０．７以下である。
【００２６】
上記の磁性粉の製造方法により得られた磁性粉であるか否かは、以下の方法（１）または方法（２）により確認できる。また、これらの方法（１）、（２）を組み合わせることでより確実に確認できる。
（１）まず、上記の磁性粉の製造方法により得られたものであるか否かを確認する磁性粉（以下「確認サンプル」という。）を準備する。次に、振動試料型磁力計（Vibrating Sample Magnetometer：ＶＳＭ）により確認サンプルのＳＦＤを測定する。測定したＳＦＤが１以下でれば、確認サンプルは上記の磁性粉の製造方法により得られたものである。
（２）まず、確認サンプルと、メカニカルミリングなどの公知の格子導入方法により得られた磁性粉（以下「比較サンプル」という。）を準備する。次に、確認サンプルおよび比較サンプルを透過型電子顕微鏡（Transmission Electron Microscope：ＴＥＭ）により観察し、確認サンプルの格子欠陥が、比較サンプルの格子欠陥に比して高い均一性を有しているか否かを確認する。確認サンプルが比較サンプルに比べて高い均一性を有していれば、確認サンプルは上記の磁性粉の製造方法により得られたものである。
【００２７】
［１．３．効果］
第１の実施形態に係る磁性粉は、保磁力Ｈｃが２５００Ｏｅ以上４０００Ｏｅ以下であり、ＳＦＤが１以下である。したがって、所定の保磁力Ｈｃを有し、保磁力Ｈｃのばらつきが小さい磁性粉が可能となる。よって、高密度の磁気記録媒体の磁性層（記録層）に用いて好適な磁性粉を提供できる。
【００２８】
第１の実施形態に係る磁性粉の製造方法では、放射線の照射により磁性粉に格子欠陥を均一に導入し、磁性粉の保磁力Ｈｃを増加させることができる。これにより、所定の保磁力Ｈｃを有し、かつ保磁力Ｈｃの分布が小さい磁性粉が得られる。したがって、放射線の照射により磁気記録媒体用の磁性粉の特性を改善することができる。
【００２９】
第１の実施形態に係る磁性粉の製造方法は、メカニカルミリングを用いた磁性粉の製造方法に比べて短時間で、かつ均一に磁性粉に格子欠陥を導入できるという利点を有する。
【００３０】
高密度の磁気記録媒体用の磁性粉としては、高い保磁力Ｈｃを有するものが好ましい。しかしながら、一般的なコバルトフェライト磁性粉は保磁力Ｈｃが低いため、保磁力Ｈｃの増加が要求されている。上述のように、第１の実施形態に係る磁性粉の製造方法では、放射線の照射によりコバルトフェライト磁性粉の保磁力Ｈｃを増加させ、所定の保磁力Ｈｃに調整することができるので、上記要求に応えることができる。
【００３１】
［１．４  変形例］
上述の第１の実施形態では、磁気記録媒体の磁性層（記録層）に用いて好適な磁性粉およびその製造方法に本技術を適用した例について説明したが、本技術はこれに限定されるものではない。すなわち、磁気記録媒体以外の各種の部材や装置などに用いて好適な磁性粉およびその製造方法にも本技術は適用可能である。この場合、放射線の吸収線量などを適宜調整することで、磁性粉が適用される部材や装置において求められる保磁力Ｈｃに調整するようにすればよい。
【００３２】
＜２  第２の実施形態＞
［２．１  磁性粉の構成］
本技術の第２の実施形態に係る磁性粉は、六方晶フェライト磁性粉である。磁性粉の保磁力Ｈｃは、２５００Ｏｅ以上４０００Ｏｅ以下、好ましくは２５００Ｏｅ以上３５００Ｏｅ以下である。ＳＦＤは、１以下、好ましくは０．７以下である。上記の保磁力ＨｃおよびＳＦＤを有する磁性粉は、高密度の磁気記録媒体用の磁性粉として好適なものである。具体的には、上記の保磁力ＨｃおよびＳＦＤを有する磁性粉を高密度の磁気記録媒体の磁性層（記録層）に適用した場合に、以下の利点が得られる。すなわち、保磁力Ｈｃが２５００Ｏｅ以上であると、磁性層の記録領域を良好に保持することが可能となり、高い熱的安定性を得ることができる。一方、保磁力Ｈｃが４０００Ｏｅ以下であると、磁性層に良好に信号を記録できる。ＳＦＤが１以下であると、高品位な再生出力が得られる。
【００３３】
六方晶フェライト磁性粉は、六方晶フェライトを主相とする鉄酸化物の磁性粒子（以下「六方晶フェライト磁性粒子」という。）からなる。六方晶フェライトは、例えば、Ｂａ、Ｓｒ、ＰｂおよびＣａからなる群より選ばれる１種以上を含んでいる。六方晶フェライトは、好ましくは、Ｂａを含むバリウムフェライトである。バリウムフェライトが、Ｂａ以外にＳｒ、ＰｂおよびＣａからなる群より選ばれる１種以上をさらに含んでいてもよい。
【００３４】
より具体的には、六方晶フェライトは、一般式ＭＦｅ12Ｏ19で表される平均組成を有する。但し、Ｍは、例えば、Ｂａ、Ｓｒ、ＰｂおよびＣａからなる群より選ばれる１種以上の金属である。Ｍは、好ましくは、Ｂａである。Ｍが、Ｂａと、Ｓｒ、ＰｂおよびＣａからなる群より選ばれる１種以上の金属との組み合わせであってもよい。上記一般式においてＦｅの一部が他の金属元素で置換されていてもよい。
【００３５】
六方晶フェライト磁性粒子は、格子欠陥を有している。格子欠陥は、六方晶フェライト磁性粉全体に高い均一性で分布している。このため、上述のように低いＳＦＤが得られる。なお、六方晶フェライト磁性粉を構成する立方晶フェライト磁性粒子のうちの一部が格子欠陥を有していてもよいし、ほぼ全部が格子欠陥を有していてもよい。
【００３６】
六方晶フェライト磁性粒子の平均粒径（平均板径）は、好ましくは３２ｎｍ以下、より好ましくは１５ｎｍ以上３２ｎｍ以下である。六方晶フェライト磁性粒子の平均粒子厚は、好ましくは９ｎｍ以下、より好ましくは７ｎｍ以上９ｎｍ以下である。六方晶フェライト磁性粒子の平均アスペクト比（平均粒径／平均粒子厚）は、好ましくは３．９以下、より好ましくは１．９以上３．９以下である。
【００３７】
［２．２  磁性粉の製造方法］
以下、上述の構成を有する磁性粉の製造方法について説明する。まず、所定の保磁力Ｈｃを有する磁性粉を準備する。次に、この磁性粉に放射線を照射することにより、磁性粉の結晶格子に格子欠陥を導入する。これにより、磁性粉の保磁力Ｈｃが減少する。以上により、目的とする磁性粉が得られる。
【００３８】
放射線の照射条件は、磁性粉の保磁力Ｈｃが所定の範囲となり、かつ磁性粉のＳＦＤが所定の範囲となるように調整される。ここでは、保磁力Ｈｃの所定の範囲は、２５００Ｏｅ以上４０００Ｏｅ以下、好ましくは２５００Ｏｅ以上３５００Ｏｅ以下である。また、ＳＦＤの所定の範囲は、１以下、好ましくは０．７以下である。
【００３９】
第２の実施形態の磁性粉の製造方法は、上記以外の点においては第１の実施形態と同様である。
【００４０】
［２．３  効果］
第２の実施形態に係る磁性粉は、保磁力Ｈｃが２５００Ｏｅ以上４０００Ｏｅ以下であり、ＳＦＤが１以下である。したがって、所定の保磁力Ｈｃを有し、保磁力Ｈｃのばらつきが小さい磁性粉が可能となる。よって、高密度の磁気記録媒体の磁性層（記録層）に用いて好適な磁性粉を提供できる。
【００４１】
第２の実施形態に係る磁性粉の製造方法では、放射線の照射により磁性粉に格子欠陥を均一に導入し、磁性粉の保磁力Ｈｃを減少させることができる。これにより、所定の保磁力Ｈｃを有し、かつ保磁力Ｈｃの分布が小さい磁性粉が得られる。したがって、放射線の照射により磁気記録媒体用の磁性粉の特性を改善することができる。
【００４２】
高密度の磁気記録媒体用の磁性粉としては、所定の保磁力Ｈｃを有するものが好ましい。しかしながら、一般的な六方晶フェライト磁性粉は保磁力Ｈｃが高すぎるため、保磁力Ｈｃの低減が要求されている。上述のように、第１の実施形態に係る磁性粉の製造方法では、放射線の照射により六方晶フェライト磁性粉の保磁力Ｈｃを低減し、所定の保磁力Ｈｃに調整することができるので、上記要求に応えることができる。
【００４３】
＜３  第３の実施形態＞
［３．１  磁気記録媒体の構成］
図１に示すように、本技術の第３の実施形態に係る磁気記録媒体１０は、基体１１と、基体１１の一方の主面上に設けられた非磁性層１２と、非磁性層１２上に設けられた磁性層１３とを備える。磁気記録媒体１０が、必要に応じて、基体１１の他方の主面上に設けられたバックコート層１４をさらに備えるようにしてもよい。また、磁気記録媒体１０が、必要に応じて、磁性層１３上に設けられた保護層と、保護層上に設けられた潤滑剤層とをさらに備えるようにしてもよい。
【００４４】
（基体）
支持体となる基体１１は、可撓性を有する長尺状の非磁性基体である。非磁性基体はフィルムであり、フィルムの厚さは、例えば３μｍ以上８μｍ以下である。基体１１の材料としては、例えば、ポリエチレンテレフタレートなどのポリエステル類、ポリエチレン、ポリプロピレンなどのポリオレフィン類、セルローストリアセテート、セルロースダイアセテート、セルロースブチレートなどのセルロース誘導体、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデンなどのビニル系樹脂、ポリカーボネート、ポリイミド、ポリアミドイミドなどのプラスチック、アルミニウム合金、チタン合金などの軽金属、アルミナガラスなどのセラミックなどを用いることができる。磁気記録媒体の機械的強度を高めるために、ＡｌまたはＣｕの酸化物などを含む薄膜が基体１１の少なくとも一方の主面に設けられていてもよい。
【００４５】
（非磁性層）
非磁性層１２は、非磁性粉および結着剤を含む下地層である。非磁性層１２が、必要に応じて、導電性粒子、潤滑剤および研磨剤などの各種添加剤をさらに含んでいてもよい。
【００４６】
非磁性粉は、無機物質でも有機物質でもよい。また、カーボンブラックなども使用できる。無機物質としては、例えば、金属、金属酸化物、金属炭酸塩、金属硫酸塩、金属窒化物、金属炭化物、金属硫化物などが挙げられる。非磁性粉の形状としては、例えば、針状、球状、板状などの各種形状が挙げられるが、これに限定されるものではない。
【００４７】
結着剤としては、ポリウレタン系樹脂、塩化ビニル系樹脂などに架橋反応を付与した構造の樹脂が好ましい。しかしながら結着剤はこれらに限定されるものではなく、磁気記録媒体に対して要求される物性などに応じて、その他の樹脂を適宜配合してもよい。配合する樹脂は、塗布型の磁気記録媒体において一般的に用いられる樹脂であればよく、特に限定されない。
【００４８】
例えば、塩化ビニル、酢酸ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−塩化ビニリデン共重合体、塩化ビニル−アクリロニトリル共重合体、アクリル酸エステル−アクリロニトリル共重合体、アクリル酸エステル−塩化ビニル−塩化ビニリデン共重合体、塩化ビニル−アクリロニトリル共重合体、アクリル酸エステル−アクリロニトリル共重合体、アクリル酸エステル−塩化ビニリデン共重合体、メタクリル酸エステル−塩化ビニリデン共重合体、メタクリル酸エステル−塩化ビニル共重合体、メタクリル酸エステル−エチレン共重合体、ポリ弗化ビニル、塩化ビニリデン−アルリロニトリル共重合体、アクリロニトリル−ブタジエン共重合体、ポリアミド樹脂、ポリビニルブチラール、セルロース誘導体（セルロースアセテートブチレート、セルロースダイアセテート、セルローストリアセテート、セルロースプロピオネート、ニトロセルロース）、スチレンブタジエン共重合体、ポリエステル樹脂、アミノ樹脂、合成ゴムなどが挙げられる。
【００４９】
熱硬化性樹脂、または反応型樹脂の例としては、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、アルキッド樹脂、シリコーン樹脂、ポリアミン樹脂、尿素ホルムアルデヒド樹脂などが挙げられる。
【００５０】
上述した各結着剤には、磁性粉の分散性を向上させる目的で、−ＳＯ3Ｍ、−ＯＳＯ3Ｍ、−ＣＯＯＭ、Ｐ＝Ｏ（ＯＭ）2などの極性官能基が導入されていてもよい。ここで、式中Ｍは、水素原子、あるいはリチウム、カリウム、ナトリウムなどのアルカリ金属である。
【００５１】
極性官能基としては、−ＮＲ１Ｒ２、−ＮＲ１Ｒ２Ｒ３＋Ｘ−の末端基を有する側鎖型のもの、＞ＮＲ１Ｒ２＋Ｘ−の主鎖型のものが挙げられる。ここで、式中Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３は、水素原子、または炭化水素基であり、Ｘ−は弗素、塩素、臭素、ヨウ素などのハロゲン元素イオン、または無機もしくは有機イオンである。また、極性官能基としては、−ＯＨ、−ＳＨ、−ＣＮ、エポキシ基なども挙げられる。
【００５２】
導電性粒子としては、炭素を主成分とする微粒子、例えば、カーボンブラックを用いることができる。カーボンブラックとしては、例えば、旭カーボン社の旭＃１５、＃１５ＨＳなどを用いることができる。また、シリカ粒子表面にカーボンを付着させたハイブリッドカーボンを用いてもよい。
【００５３】
潤滑剤としては、例えば、炭素数１０〜２４の一塩基性脂肪酸と、炭素数２〜１２の１価〜６価アルコールのいずれかとのエステル、これらの混合エステル、またはジ脂肪酸エステル、トリ脂肪酸エステルを適宜用いることができる。潤滑剤の具体例としては、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、ベヘン酸、オレイン酸、リノール酸、リノレン酸、エライジン酸、ステアリン酸ブチル、ステアリン酸ペンチル、ステアリン酸ヘプチル、ステアリン酸オクチル、ステアリン酸イソオクチル、ミリスチン酸オクチルなどが挙げられる。
【００５４】
研磨剤としては、例えば、α化率９０％以上のα−アルミナ、β−アルミナ、γ−アルミナ、炭化ケイ素、酸化クロム、酸化セリウム、α−酸化鉄、コランダム、窒化珪素、チタンカーバイト、酸化チタン、二酸化珪素、酸化スズ、酸化マグネシウム、酸化タングステン、酸化ジルコニウム、窒化ホウ素、酸化亜鉛、炭酸カルシウム、硫酸カルシウム、硫酸バリウム、２硫化モリブデン、磁性酸化鉄の原料を脱水、アニール処理した針状α酸化鉄、および必要によりそれらをアルミおよび／またはシリカで表面処理したものなどが、単独または組み合せで使用される。
【００５５】
（磁性層）
磁性層１３は、例えば、短波長記録または超短波超記録が可能な垂直記録層である。磁性層１３の平均厚さは、好ましくは３０ｎｍ以上１００ｎｍ以下、より好ましくは５０ｎｍ以上７０ｎｍ以下である。
【００５６】
磁性層１３は、例えば、磁性粉および結着剤を含む磁性層である。磁性層１３が、必要に応じて、導電性粒子、潤滑剤および研磨剤などの各種添加剤をさらに含んでいてもよい。
【００５７】
磁性粉は、上述の第１の実施形態に係る磁性粉（立方晶フェライト磁性粉）である。この磁性粉は、長尺状の基体１１の厚さ方向または長手方向に配向されている。
【００５８】
結着剤、導電性粒子、潤滑剤および研磨剤は、上述の非磁性層１２と同様である。
【００５９】
磁性層１３は、非磁性補強粒子として、酸化アルミニウム（α、βまたはγアルミナ）、酸化クロム、酸化珪素、ダイヤモンド、ガーネット、エメリー、窒化ホウ素、チタンカーバイト、炭化珪素、炭化チタン、酸化チタン（ルチル型またはアナターゼ型の酸化チタン）などをさらに含んでいてもよい。
【００６０】
（バックコート層）
バックコート層１４は、結着剤、無機粒子および潤滑剤を含んでいる。バックコート層１４が、必要に応じて硬化剤および帯電防止剤などの各種添加剤を含んでいてもよい。結着剤、無機粒子および潤滑剤は、上述の非磁性層１２と同様である。
【００６１】
［３．２  磁気記録媒体の製造方法］
以下、本技術の第３の実施形態に係る磁気記録媒体の製造方法の一例について説明する。
【００６２】
（塗料の調整工程）
まず、非磁性粉および結着剤などを溶剤に混練、分散させることにより、非磁性層形成用塗料を調製する。次に、磁性粉および結着剤などを溶剤に混練、分散させることにより、磁性層形成用塗料を調製する。磁性粉としては、上述の第１の実施形態に係る磁性粉の製造方法により得られたものが用いられる。次に、必要に応じて、結着剤、無機粒子および潤滑剤などを溶剤に混練、分散させることにより、バックコート層形成用塗料を調製する。非磁性層形成用塗料、磁性層形成用塗料およびバックコート層形成用塗料の調製には、例えば、以下の溶剤、分散装置および混練装置を適用することができる。
【００６３】
上述の塗料調製に用いられる溶剤としては、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンなどのケトン系溶媒、メタノール、エタノール、プロパノールなどのアルコール系溶媒、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸プロピル、乳酸エチル、エチレングリコールアセテートなどのエステル系溶媒、ジエチレングリコールジメチルエーテル、２−エトキシエタノール、テトラヒドロフラン、ジオキサンなどのエーテル系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素系溶媒、メチレンクロライド、エチレンクロライド、四塩化炭素、クロロホルム、クロロベンゼンなどのハロゲン化炭化水素系溶媒などが挙げられる。これらは単独で用いてもよいし、２以上混合して用いてもよい。
【００６４】
上述の塗料調製に用いられる混練装置としては、例えば、連続二軸混練機、多段階で希釈可能な連続二軸混練機、ニーダー、加圧ニーダー、ロールニーダーなどの混練装置を用いることができるが、特にこれらの装置に限定されるものではない。また、上述の塗料調製に用いられる分散装置としては、例えば、ロールミル、ボールミル、横型サンドミル、縦型サンドミル、スパイクミル、ピンミル、タワーミル、パールミル（例えばアイリッヒ社製「ＤＣＰミル」など）、ホモジナイザー、超音波分散機などの分散装置を用いることができるが、特にこれらの装置に限定されるものではない。
【００６５】
（非磁性層の形成工程）
次に、基体１１の一方の主面上に非磁性層形成用塗料を塗布して乾燥させることにより、非磁性層１２を基体１１の一方の主面上に形成する。
【００６６】
（磁性層の形成工程）
次に、非磁性層１２上に磁性層形成用塗料を塗布して乾燥させることにより、磁性層１３を非磁性層１２上に形成する。なお、乾燥の際に、立方晶フェライト磁性粉を長尺状の基体１１の厚さ方向または長手方向に磁場配向させる。
【００６７】
（バックコート層の形成工程）
次に、必要に応じて、基体１１の他方の主面上にバックコート層形成用塗料を塗布して乾燥させることにより、バックコート層１４を基体１１の他方の主面上に形成する。これにより、幅広の磁気記録媒体１０が得られる。
【００６８】
（カレンダー処理および裁断の工程）
次に、得られた幅広の磁気記録媒体１０を大径コアに巻き直し、硬化処理を行う。次に、幅広の磁気記録媒体１０に対してカレンダー処理を行った後、所定の幅に裁断する。これにより、目的とする磁気記録媒体１０が得られる。なお、バックコート層１４を形成する工程は、カレンダー処理後であってもよい。
【００６９】
［３．３  効果］
本技術の第３の実施形態では、磁性層１３が第１の実施形態に係る磁性粉を含んでいるので、良好な磁気特性を有する高密度の磁気記録媒体を提供することができる。
【００７０】
［３．４  変形例］
第１の実施形態に係る磁性粉（立方晶フェライト磁性粉）に代えて、第２の実施形態に係る磁性粉（六方晶フェライト磁性粉）を用いてもよい。この場合、磁性粉（六方晶フェライト磁性粉）は、基体１１の厚さ方向に配向される。
【００７１】
第３の実施形態に係る磁気記録媒体において、非磁性層を省略した構成を採用してもよい。
【実施例】
【００７２】
以下、実施例により本技術を具体的に説明するが、本技術はこれらの実施例のみに限定されるものではない。【００７３】
［実施例１］
まず、保磁力Ｈｃが１０００Ｏｅであるコバルトフェライト磁性粉（立方晶フェライト磁性粉）を用意した。次に、Ｃｏ６０γ線源から放出されるγ線（電磁放射線）を、用意した磁性粉に２０ｋＧｙ照射した。この際、磁性粉の温度が１００℃以下となるように冷却水で温度調整を行った。以上により、磁気テープ用の磁性粉が得られた。【００７４】
［実施例２］
γ線（電磁放射線）に代えてα線（粒子放射線）をコバルトフェライト磁性粉に２０ｋＧｙ照射する以外は実施例１と同様にして、磁気テープ用の磁性粉を得た。【００７５】
［実施例３］
まず、保磁力Ｈｃが４５００Ｏｅであるバリウムフェライト磁性粉（六方晶フェライト磁性粉）を用意した。次に、Ｃｏ６０γ線源から放出されるγ線（電磁放射線）を、用意した磁性粉に１０ｋＧｙ照射した。この際、磁性粉の温度が１００℃以下となるように冷却水で温度調整を行った。以上により、磁気テープ用の磁性粉が得られた。【００７６】
［実施例４］
γ線（電磁放射線）に代えてα線（粒子放射線）をバリウムフェライト磁性粉に２０ｋＧｙ照射する以外は実施例３と同様にして、磁気テープ用の磁性粉を得た。【００７７】
（ＴＥＭ観察）
上述のようにして得られた実施例１〜４の磁気テープ用の磁性粉をＴＥＭにより観察した。その結果、磁性粉の結晶格子に格子欠陥が導入されていることが観察された。【００７８】
（保磁力Ｈｃ）
上述のようにして得られた実施例１〜４の磁気テープ用の磁性粉を、Lakeshore社製のＶＳＭを用いて、環境温度２３℃、印加磁場１５ｋＯｅの条件で、保磁力Ｈｃを測定した。なお、放射線の照射前における上記保磁力Ｈｃも、これと同様にして測定した。【００７９】
放射線の照射前後における保磁力Ｈｃの測定結果から以下のことが確認された。すなわち、コバルトフェライト磁性粉では、γ線およびα線の照射により保磁力Ｈｃが増加することが確認された。一方、バリウムフェライト磁性粉では、γ線およびα線の照射により保磁力Ｈｃが減少することが確認された。【００８０】
（ＳＦＤ）
上記の保磁力Ｈｃの測定と同様の装置および測定条件にて磁場に対する磁化量を測定し、その微分曲線の半値幅ΔＨを保磁力Ｈｃで規格化したものをＳＦＤとして求めた。【００８１】
上記のＳＦＤの測定結果から以下のことが確認された。すなわち、コバルトフェライト磁性粉では、γ線およびα線の照射後においてＳＦＤが１以下であることが確認された。一方、バリウムフェライト磁性粉でも、γ線およびα線の照射後においてＳＦＤが１以下であることが確認された。【００８２】
［実施例５〜８］
（磁性層形成用塗料の調製工程）
磁性層形成用塗料を次のようにして調製した。まず、下記原料をエクストルーダで混練して混練物を得た。
磁性粉：１００質量部
（但し、実施例５〜８ではそれぞれ、実施例１〜４の磁気テープ用の磁性粉を用いた。）
塩化ビニル系樹脂（シクロヘキサノン溶液３０質量％）：５５．６質量部
（重合度３００、Ｍｎ＝１００００、極性基としてＯＳＯ3Ｋ＝０．０７ｍｍｏｌ／ｇ、２級ＯＨ＝０．３ｍｍｏｌ／ｇを含有する。）
酸化アルミニウム粉末：５質量部
（α−Ａｌ2Ｏ3、平均粒径０．２μｍ）
カーボンブラック：２質量部
（東海カーボン社製、商品名：シーストＴＡ）【００８３】
次に、ディスパーを備えた攪拌タンクに、上記混練物と、下記原料とを加えて予備混合を行った。その後、さらにサンドミル混合を行い、フィルター処理を行い、磁性層形成用塗料を調製した。
塩化ビニル系樹脂：２７．８質量部
（樹脂溶液：樹脂分３０質量％、シクロヘキサノン７０質量％）
ポリイソシアネート：４質量部
（商品名：コロネートＬ、日本ポリウレタン社製）
ミリスチン酸：２質量部
ｎ−ブチルステアレート：２質量部
メチルエチルケトン：１２１．３質量部
トルエン：１２１．３質量部
シクロヘキサノン：６０．７質量部【００８４】
（非磁性層形成用塗料の調製工程）
非磁性層形成用塗料を次のようにして調製した。まず、下記原料をエクストルーダで混練して混練物を得た。
針状酸化鉄粉末：１００質量部
（α−Ｆｅ2Ｏ3、平均長軸長０．１５μｍ）
塩化ビニル系樹脂：５５．６質量部
（樹脂溶液：樹脂分３０質量％、シクロヘキサノン７０質量％）
カーボンブラック：１０質量部
（平均粒径２０ｎｍ）【００８５】
次に、ディスパーを備えた攪拌タンクに、混練物と、下記原料とを加えて予備混合を行った。その後、さらにサンドミル混合を行い、フィルター処理を行い、非磁性層形成用塗料を調製した。
ポリウレタン系樹脂ＵＲ８２００（東洋紡績製）：１８．５質量部
ポリイソシアネート：４質量部
（商品名：コロネートＬ、日本ポリウレタン社製）
ミリスチン酸：２質量部
ｎ−ブチルステアレート：２質量部
メチルエチルケトン：１０８．２質量部
トルエン：１０８．２質量部
シクロヘキサノン：１８．５質量部【００８６】
（バックコート層形成用塗料の調製工程）
バックコート層形成用塗料を次のようにして調製した。下記原料を、ディスパーを備えた攪拌タンクで混合を行い、フィルター処理を行うことで、バックコート層形成用塗料を調製した。
カーボンブラック（旭社製、商品名：＃８０）：１００質量部
ポリエステルポリウレタン：１００質量部
（日本ポリウレタン社製、商品名：Ｎ−２３０４）
メチルエチルケトン：５００質量部
トルエン：４００質量部
シクロヘキサノン：１００質量部【００８７】
（非磁性層および磁性層の形成工程）
次に、非磁性層（下地層）および磁性層（記録層）を次のようにして形成した。まず、非磁性支持体である、厚さ６．２μｍ、帯状のＰＥＮフィルムの一方の主面上に、非磁性層形成用塗料を塗布、乾燥させることにより、ＰＥＮフィルムの一方の主面上に平均厚さ１μｍの非磁性層を形成した。次に、非磁性層上に、磁性層形成用塗料を塗布、乾燥させることにより、非磁性層に平均厚さ７０ｎｍの磁性層を形成した。なお、乾燥の際に、ＰＥＮフィルムの厚さ方向に磁性粉を配向させた。【００８８】
（バックコート層の形成工程）
次に、ＰＥＮフィルムの他方の主面上に、バックコート層形成用塗料を塗布、乾燥させることにより、ＰＥＮフィルムの他方の主面上に平均厚さ０．６μｍのバックコート層を形成した。これにより、幅広の磁気テープを得た。【００８９】
（カレンダー処理および裁断の工程）
次に、得られた幅広の磁気テープに対して、金属ロールによるカレンダー処理を行い、磁性層表面を平滑化した。次に、幅広の磁気テープを１／２インチ（１２．６５ｍｍ）幅に裁断して、目的とする磁気テープを得た。【００９０】
（信号特性）
上述のようにして得られた実施例５〜８の磁気テープを市販のMountain Engineering社製のテープ走行系システムで磁気テープを走行させ、リニアテープドライブ用のヘッドを用いて記録再生を行うことにより、ＳＮＲ（Signal-Noise Ratio）を求めた。その結果、実施例５〜８のいずれの磁気テープでも、良好なＳＮＲが得られた。【００９１】
以上、本技術の実施形態および実施例について具体的に説明したが、本技術は、上述の実施形態に限定されるものではなく、本技術の技術的思想に基づく各種の変形が可能である。【００９２】
例えば、上述の実施形態およびその変形例、ならびに実施例において挙げた構成、方法、工程、形状、材料および数値などはあくまでも例に過ぎず、必要に応じてこれと異なる構成、方法、工程、形状、材料および数値などを用いてもよい。【００９３】
また、上述の実施形態およびその変形例、ならびに実施例の構成、方法、工程、形状、材料および数値などは、本技術の主旨を逸脱しない限り、互いに組み合わせることが可能である。【００９４】
また、本技術は以下の構成を採用することもできる。
（１）
放射線の照射により磁性粉の保磁力を変化させることを含む磁性粉の製造方法。
（２）
前記保磁力の変化は、保磁力の増加である（１）に記載の磁性粉の製造方法。
（３）
前記磁性粉は、立方晶フェライト磁性粉である（２）に記載の磁性粉の製造方法。
（４）
前記磁性粉は、コバルトフェライト磁性粉である（２）に記載の磁性粉の製造方法。
（５）
前記保磁力の変化は、保磁力の減少である（１）に記載の磁性粉の製造方法。
（６）
前記磁性粉は、六方晶フェライト磁性粉である（５）に記載の磁性粉の製造方法。
（７）
前記磁性粉は、バリウムフェライト磁性粉である（５）に記載の磁性粉の製造方法。
（８）
前記放射線の照射により前記磁性粉に格子欠陥が導入される（１）から（７）のいずれかに記載の磁性粉の製造方法。
（９）
前記放射線は、電離放射線である（１）から（８）のいずれかに記載の磁性粉の製造方法。
（１０）
前記放射線は、電磁放射線である（１）から（９）のいずれかに記載の磁性粉の製造方法。
（１１）
前記放射線は、粒子放射線である（１）から（９）のいずれかに記載の磁性粉の製造方法。
（１２）
前記放射線は、ガンマ線、ベータ線およびアルファ線のうちの１種以上である（１）から（９）のいずれかに記載の磁性粉の製造方法。
（１３）
前記磁性粉は、磁気記録媒体用の磁性粉であり、
前記放射線の照射は、前記磁性粉の保磁力が２５００Ｏｅ以上４０００Ｏｅ以下となり、かつ、前記磁性粉の反転磁界分布が１以下となるように調整される（１）から（１２）のいずれかに記載の磁性粉の製造方法。
（１４）
放射線の照射により磁性粉の保磁力を変化させ、
前記保磁力を変化させた磁性粉を含む磁性層を形成すること
を含む磁気記録媒体の製造方法。
（１５）
格子欠陥を有し、立方晶フェライトを含む磁性粒子を含み、
保磁力が２５００Ｏｅ以上４０００Ｏｅ以下であり、
反転磁界分布が１以下である磁性粉。
（１６）
保磁力が２５００Ｏｅ以上３５００Ｏｅ以下である（１５）に記載の磁性粉。
（１７）
前記立方晶フェライトは、コバルトフェライトである（１５）または（１６）に記載の磁性粉。
（１８）
前記コバルトフェライトは、Ｃｏと、Ｎｉ、Ｍｎ、Ａｌ、ＣｕおよびＺｎのうちの１種以上とを含んでいる（１５）から（１７）のいずれかに記載の磁性粉。
（１９）
基体と、
磁性粉を含む磁性層と
を備え、
前記磁性粉は、格子欠陥を有し、立方晶フェライトを含む磁性粒子を含み、
前記磁性粉の保磁力が２５００Ｏｅ以上４０００Ｏｅ以下であり、
前記磁性粉の反転磁界分布が１以下である磁気記録媒体。
（２０）
前記基体と前記磁性層との間に設けられた非磁性層をさらに備える（１９）に記載の磁気記録媒体。
【符号の説明】
【００９５】
１０    磁気記録媒体
１１    基体
１２    非磁性層
１３    磁性層
１４    バックコート層
【図１】
2017138532.tif 000003
【国際調査報告】
2017138532.tif 000004
2017138532.tif 000005
2017138532.tif 000006
2017138532.tif 000007