(57)【要約】基材、透明電極パターン、光学調整部材および透明保護層をこの順で有する透明電極付き複合体であって、光学調整部材が透明電極パターン側から奇数番目に配置された層である低屈折率層と、透明電極パターン側から偶数番目に配置された層である高屈折率層とをそれぞれ少なくとも１層ずつ有し、低屈折率層と直接隣接する高屈折率層との屈折率の差が０．０５以上であり、高屈折率層の屈折率が２．１０以下であり、低屈折率層および高屈折率層の厚みがそれぞれ５〜８０ｎｍである透明電極付き複合体は、透明電極パターンの基材側に高屈折率の透明膜を使用しなくても、透明電極パターンの隠蔽性に優れ、光学調整部材に起因するムラを低減でき、鉛筆硬度に優れる；転写フィルム；透明電極付き複合体の製造方法；静電容量型入力装置。
2017018406.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材、透明電極パターン、光学調整部材および透明保護層をこの順で有する透明電極付き複合体であって、
前記光学調整部材が前記透明電極パターン側から奇数番目に配置された層である低屈折率層と、前記透明電極パターン側から偶数番目に配置された層である高屈折率層とをそれぞれ少なくとも１層ずつ有し、
前記低屈折率層と直接隣接する前記高屈折率層との屈折率の差が０．０５以上であり、
前記高屈折率層の屈折率が２．１０以下であり、
前記低屈折率層および前記高屈折率層の厚みがそれぞれ５〜８０ｎｍである透明電極付き複合体。
【請求項２】
前記基材と前記透明電極パターンが直接または屈折率１．４６〜１．５８の透明膜を介して配置される請求項１に記載の透明電極付き複合体。
【請求項３】
前記光学調整部材が前記低屈折率層と前記高屈折率層を１層ずつ有する請求項１または２に記載の透明電極付き複合体。
【請求項４】
前記低屈折率層の屈折率が１．２５〜１．５３である請求項１〜３のいずれか一項に記載の透明電極付き複合体。
【請求項５】
前記高屈折率層の屈折率が１．６０〜２．００である請求項１〜４のいずれか一項に記載の透明電極付き複合体。
【請求項６】
前記高屈折率層が、金属酸化物粒子を１０〜９５質量％含有する請求項１〜５のいずれか一項に記載の透明電極付き複合体。
【請求項７】
前記光学調整部材および前記透明保護層が転写により形成される請求項１〜６のいずれか一項に記載の透明電極付き複合体。
【請求項８】
前記低屈折率層および前記高屈折率層が透明樹脂層である請求項１〜７のいずれか一項に記載の透明電極付き複合体。
【請求項９】
仮支持体、透明保護層、光学調整部材および保護フィルムをこの順で有する転写フィルムであって、
前記光学調整部材が前記保護フィルム側から奇数番目に配置された低屈折率層と、前記保護フィルム側から偶数番目に配置された高屈折率層とをそれぞれ少なくとも１層ずつ有し、
前記低屈折率層と直接隣接する前記高屈折率層との屈折率の差が０．０５以上であり、
前記高屈折率層の屈折率が２．１０以下であり、
前記低屈折率層および前記高屈折率層の厚みがそれぞれ５〜８０ｎｍである、転写フィルム。
【請求項１０】
前記低屈折率層および前記高屈折率層が重合性化合物を含む硬化性透明樹脂層であり、かつ、前記硬化性透明樹脂層が未硬化である請求項９に記載の転写フィルム。
【請求項１１】
基材の上に配置された透明電極パターンの上に、光学調整部材と透明保護層をこの順で積層する積層工程を有し、
前記光学調整部材が前記透明電極パターン側から奇数番目に配置された低屈折率層と、前記透明電極パターン側から偶数番目に配置された高屈折率層とをそれぞれ少なくとも１層ずつ有し、
前記低屈折率層と直接隣接する前記高屈折率層との屈折率の差が０．０５以上であり、
前記高屈折率層の屈折率が２．１０以下であり、
前記低屈折率層および前記高屈折率層の厚みがそれぞれ５〜８０ｎｍである透明電極付き複合体の製造方法。
【請求項１２】
前記基材と前記透明電極パターンを直接または屈折率１．４６〜１．５８の透明膜を介して配置する請求項１１に記載の透明電極付き複合体の製造方法。
【請求項１３】
前記積層工程が、前記基材の上に配置された前記透明電極パターンの上に、請求項９または１０に記載の転写フィルムから前記光学調整部材と前記透明保護層を転写する工程である請求項１１または１２に記載の透明電極付き複合体の製造方法。
【請求項１４】
前記低屈折率層および前記高屈折率層が重合性化合物を含む硬化性透明樹脂層であり、かつ、前記透明電極パターンの上に積層する前の前記硬化性透明樹脂層が未硬化である請求項１１〜１３のいずれか一項に記載の透明電極付き複合体の製造方法。
【請求項１５】
請求項１１〜１４のいずれか一項に記載の透明電極付き複合体の製造方法で製造される透明電極付き複合体。
【請求項１６】
請求項１〜８および１５のいずれか一項に記載の透明電極付き複合体を含む静電容量型入力装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、透明電極付き複合体、転写フィルム、透明電極付き複合体の製造方法および静電容量型入力装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
携帯電話、カーナビゲーション、パーソナルコンピュータ、券売機、銀行の端末などの電子機器には、近年、タッチパネル式の入力装置を有する液晶表示装置を備え、液晶表示装置に表示された画像等に指またはタッチペンなどを接触させて所望の指示を入力することが出来る電子機器がある。
入力装置（タッチパネル）には、抵抗膜型、静電容量型などがある。
静電容量型入力装置は、単に一枚の基材に透明導電膜を形成すればよいという利点がある。かかる静電容量型入力装置には、例えば、互いに交差する方向に透明電極パターンを延在させて、指などが静電容量型入力装置の入力面に接触した際、電極間の静電容量が変化することを検知して入力位置を検出するタイプのものがある（例えば、特許文献１参照）。【０００３】
特許文献１には、透明電極パターンと、透明電極パターンに隣接して配置された第二の硬化性透明樹脂層と、第二の硬化性透明樹脂層に隣接して配置された第一の硬化性透明樹脂層とを有し、第二の硬化性透明樹脂層の屈折率が第一の硬化性透明樹脂層の屈折率よりも高く、第二の硬化性透明樹脂層の屈折率が１．６以上である透明積層体が記載されている。特許文献１には、透明電極パターンの第二の硬化性透明樹脂層が形成された側と反対側に、屈折率１．６〜１．７８であり厚みが５５〜１１０ｎｍの透明膜をさらに有することが好ましいと記載されている。特許文献１によれば、透明電極パターン（好ましくはＩｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ；ＩＴＯ）および第二の硬化性透明樹脂層の屈折率差、ならびに、第二の硬化性透明樹脂層および第一の硬化性透明樹脂層の屈折率差を小さくすることにより、光反射が低減して透明電極パターンが見えにくくなり、視認性を改善することができる、と記載されている。【０００４】
特許文献２には、透明フィルム基材の片面又は両面に、ハードコート層、屈折率が１．６０以上１．７０以下で、厚みが２５ｎｍ以上３５ｎｍ以下の高屈折率層、屈折率が１．４０以上１．５０以下で、厚みが４０ｎｍ以上５０ｎｍ以下の低屈折率層、透明導電層をこの順で備える透明導電性フィルムが記載されている。特許文献２によればこの構成により、色味の発生を抑制しつつ、透明導電層がパターン化された場合においてもパターン形成部とパターン開口部との視認性の差を抑制可能な透明導電性フィルムが得られると記載されている。【０００５】
特許文献３には、光透過性基材上に、微粒子ａを含有するアンダーコート層、微粒子ｂを含有する高屈折率層及び微粒子ｃを含有する低屈折率層がこの順に積層されたタッチパネル用ハードコートフィルムであって、微粒子ａ、微粒子ｂ及び微粒子ｃは、それぞれの平均粒子径が、下記式の関係を満たすタッチパネル用ハードコートフィルム；
微粒子ａの平均粒子径＞微粒子ｂの平均粒子径＞微粒子ｃの平均粒子径
が記載されている。特許文献３によればこの構成により、高屈折率層と低屈折率層との密着性に極めて優れるとともに、膜強度にも優れると記載されている。【０００６】
特許文献４には、ガラス基板上に透明導電配線膜を形成し、配線膜が存在する部位における透過率と配線膜が存在しない部位における透過率が等しくなる誘電体光学多層膜を設けた透明導電配線膜付きガラス基板が記載されている。特許文献４の表１には、ソーダライムガラス上に、ＩＴＯ配線パターン／ＳｉＯ２／Ｎｂ２Ｏ５／ＳｉＯ２／Ｎｂ２Ｏ５／ＳｉＯ２の６層（ＩＴＯ配線パターンのない部位は５層）の積層膜が記載されている。特許文献４によればこの構成により、配線パターンを有する部位と、配線パターンが無い部位とをそれぞれ可視光領域で比較すると、透過率においても反射率においても、それぞれ差異が僅少でほぼ同等であるために、従来技術の欠点であった配線パターンが見えるという欠点が解決されるとともに、ニュートラルな色調も併せて実現することができると記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２０１４−１０８５４１号公報
【特許文献２】特開２０１４−１０６７７９号公報
【特許文献３】特開２０１５−９９５３８号公報
【特許文献４】特開２０１０−８６６８４号公報
【特許文献５】特開２００４−５０７３４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
特許文献１に記載の基材と透明電極パターンの間に高屈折率層を設ける方法は、透明電極パターンの隠蔽性に優れるものの、透明電極パターンを形成する際の製造コストの低下、製造適性の改良が必要とされていた。そのため、透明電極パターンの基材側に高屈折率の透明膜を使用しなくても、透明電極パターンの基材とは反対側に高屈折率層を設けるといった、製造コストと製造適性に優れる新規な層構成で、透明電極パターンの隠蔽性に優れる透明電極付き複合体を提供することが求められている。【０００９】
本発明者は、新規な層構成で透明電極パターンの隠蔽性を改善することを検討した。その結果、透明導電パターンの基材側に高屈折率の透明膜を設ける場合と基材と反対側に高屈折率の透明膜を設ける場合とでは層構成が異なるため、特許文献２や４に記載の高屈折率層や低屈折率層とは好ましい屈折率や厚みの範囲の設計が異なる方がよいことがわかった。
さらに、特許文献４の表１に記載のＩＴＯ配線パターン／ＳｉＯ２／Ｎｂ２Ｏ５／ＳｉＯ２／Ｎｂ２Ｏ５／ＳｉＯ２の構成では、基材表面からの反射光に透明電極パターン以外の屈折率を調整するための層が薄いために生じる厚みムラ（厚みの不均一）、すなわち光学調整部材に起因するムラが生じることがわかった。【００１０】
また、新たな積層順で透明電極パターンの隠蔽性を改善する場合にも、特許文献２や３に記載されているハードコート特性も付与することが依然として求められている。【００１１】
本発明は以上の事情を鑑みてなされたものである。本発明が解決しようとする課題は、透明電極パターンの基材側に高屈折率の透明膜を使用しなくても、透明電極パターンの隠蔽性に優れ、光学調整部材に起因するムラを低減でき、鉛筆硬度に優れる透明電極付き複合体を提供することである。
本発明が解決しようとする課題は、透明電極パターンの基材側に高屈折率の透明膜を使用しなくても、透明電極パターンの隠蔽性に優れ、光学調整部材に起因するムラを低減でき、鉛筆硬度に優れる透明電極付き複合体の製造方法に用いられる、転写フィルムを提供することである。
本発明が解決しようとする課題は、透明電極パターンの基材側に高屈折率の透明膜を使用しなくても、透明電極パターンの隠蔽性に優れ、光学調整部材に起因するムラを低減でき、鉛筆硬度に優れる透明電極付き複合体の製造方法を提供することである。
本発明が解決しようとする課題は、透明電極パターンの基材側に高屈折率の透明膜を使用しなくても、透明電極パターンの隠蔽性に優れ、光学調整部材に起因するムラを低減でき、鉛筆硬度に優れる透明電極付き複合体を含む、静電容量型入力装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
上記課題を解決するために本発明者が鋭意検討した。その結果、基材、透明電極パターン、光学調整部材および透明保護層をこの順で有する透明電極付き複合体において、光学調整部材に含まれる低屈折率層および高屈折率層の特定の厚みと屈折率を特定の範囲に設計することで、透明電極パターンの基材側に高屈折率の透明膜を使用しなくても、透明電極パターンの隠蔽性に優れ、光学調整部材に起因するムラを低減でき、鉛筆硬度に優れることを見出すに至った。【００１３】
この新規な層構成は、当業者の通常の設計では想定し得ない層構成であった。例えば、特許文献３には、タッチパネル用ハードコートフィルムの低屈折率層及び導電層が形成されていない側の面に透明な粘着層を介して透明基体が貼り合わせられた積層体を形成してもよいと記載されている。特許文献３は、タッチパネル用ハードコートフィルムの低屈折率層及び導電層が形成された側の面に透明基体を貼り合わせることを開示も示唆もしていなかった。タッチパネル用のハードコートフィルムは、株式会社矢野経済研究所の「静電容量方式タッチパネル・部材市場に関する調査結果２０１５」等に記載されているように、タッチパネル分野では導電層の基材になる側のハードコートフィルムであることが一般的である。そのため、引用文献３のタッチパネル用ハードコートフィルムの導電層側に透明基体を積層することは、当業者の通常の設計では想定し得ない層構成である。【００１４】
なお、透明電極付き複合体以外の分野で、特許文献５には、基材フィルム表面上に反射防止用転写膜を設けた転写フィルムであって、反射防止用転写膜は、少なくとも第１屈折層と、第２屈折層と、第３屈折層と、を備え、かつ各層を記載順に基材フィルム表面上に積層されてなり、第１屈折層、第２屈折層、及び第３屈折層の可視光屈折率が、第２屈折層、第３屈折層、第１屈折層、の順で低くなる転写フィルムが記載されている。特許文献５に記載の屈折率の異なる３層を積層した転写フィルムはガラスやアクリル樹脂に転写して、ガラスと空気界面の反射防止を目的としており、反射防止使用とする界面が本発明とは異なるため屈折率、厚みの設計が異なるものであった。【００１５】
上記課題を解決するための具体的な手段である本発明と、本発明の好ましい態様は以下のとおりである。
［１］  基材、透明電極パターン、光学調整部材および透明保護層をこの順で有する透明電極付き複合体であって、
光学調整部材が透明電極パターン側から奇数番目に配置された層である低屈折率層と、透明電極パターン側から偶数番目に配置された層である高屈折率層とをそれぞれ少なくとも１層ずつ有し、
低屈折率層と直接隣接する高屈折率層との屈折率の差が０．０５以上であり、
高屈折率層の屈折率が２．１０以下であり、
低屈折率層および高屈折率層の厚みがそれぞれ５〜８０ｎｍである透明電極付き複合体。
［２］  ［１］に記載の透明電極付き複合体は、基材と透明電極パターンが直接または屈折率１．４６〜１．５８の透明膜を介して配置されることが好ましい。
［３］  ［１］または［２］に記載の透明電極付き複合体は、光学調整部材が低屈折率層と高屈折率層を１層ずつ有することが好ましい。
［４］  ［１］〜［３］のいずれか一つに記載の透明電極付き複合体は、低屈折率層の屈折率が１．２５〜１．５３であることが好ましい。
［５］  ［１］〜［４］のいずれか一つに記載の透明電極付き複合体は、高屈折率層の屈折率が１．６０〜２．００であることが好ましい。
［６］  ［１］〜［５］のいずれか一つに記載の透明電極付き複合体は、高屈折率層が、金属酸化物粒子を１０〜９５質量％含有することが好ましい。
［７］  ［１］〜［６］のいずれか一つに記載の透明電極付き複合体は、光学調整部材および透明保護層が転写により形成されることが好ましい。
［８］  ［１］〜［７］のいずれか一つに記載の透明電極付き複合体は、低屈折率層および高屈折率層が透明樹脂層であることが好ましい。
［９］  仮支持体、透明保護層、光学調整部材および保護フィルムをこの順で有する転写フィルムであって、
光学調整部材が保護フィルム側から奇数番目に配置された低屈折率層と、保護フィルム側から偶数番目に配置された高屈折率層とをそれぞれ少なくとも１層ずつ有し、
低屈折率層と直接隣接する高屈折率層との屈折率の差が０．０５以上であり、
高屈折率層の屈折率が２．１０以下であり、
低屈折率層および高屈折率層の厚みがそれぞれ５〜８０ｎｍである、転写フィルム。
［１０］  ［９］に記載の転写フィルムは、低屈折率層および高屈折率層が重合性化合物を含む硬化性透明樹脂層であり、かつ、硬化性透明樹脂層が未硬化であることが好ましい。
［１１］  基材の上に配置された透明電極パターンの上に、光学調整部材と透明保護層をこの順で積層する積層工程を有し、
光学調整部材が透明電極パターン側から奇数番目に配置された低屈折率層と、透明電極パターン側から偶数番目に配置された高屈折率層とをそれぞれ少なくとも１層ずつ有し、
低屈折率層と直接隣接する高屈折率層との屈折率の差が０．０５以上であり、
高屈折率層の屈折率が２．１０以下であり、
低屈折率層および高屈折率層の厚みがそれぞれ５〜８０ｎｍである透明電極付き複合体の製造方法。
［１２］  ［１１］に記載の透明電極付き複合体の製造方法は、基材と透明電極パターンを直接または屈折率１．４６〜１．５８の透明膜を介して配置することが好ましい。
［１３］  ［１１］または［１２］に記載の透明電極付き複合体の製造方法は、積層工程が、基材の上に配置された透明電極パターンの上に、［９］または［１０］に記載の転写フィルムから光学調整部材と透明保護層を転写する工程であることが好ましい。
［１４］  ［１１］〜［１３］のいずれか一つに記載の透明電極付き複合体の製造方法は、低屈折率層および高屈折率層が重合性化合物を含む硬化性透明樹脂層であり、かつ、透明電極パターンの上に積層する前の硬化性透明樹脂層が未硬化であることが好ましい。
［１５］  ［１１］〜［１４］のいずれか一つに記載の透明電極付き複合体の製造方法で製造される透明電極付き複合体。
［１６］  ［１］〜［８］および［１５］のいずれか一つに記載の透明電極付き複合体を含む静電容量型入力装置。
【発明の効果】
【００１６】
本発明によれば、透明電極パターンの基材側に高屈折率の透明膜を使用しなくても、透明電極パターンの隠蔽性に優れ、光学調整部材に起因するムラを低減でき、鉛筆硬度に優れる透明電極付き複合体を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】本発明の静電容量型入力装置の構成の一例を示す断面概略図である。
【図２】本発明における基材の一例を示す説明図である。
【図３】本発明における透明電極パターンと、非パターン領域の関係の一例を示す説明図である。
【図４】開口部が形成された基材の一例を示す上面図である。
【図５】マスク層が形成された基材の一例を示す上面図である。
【図６】第一の透明電極パターンが形成された基材の一例を示す上面図である。
【図７】第一および第二の透明電極パターンが形成された基材の一例を示す上面図である。
【図８】第一および第二の透明電極パターンとは別の導電性要素が形成された基材の一例を示す上面図である。
【図９】本発明の静電容量型入力装置の構成の他の一例を示す断面概略図である。
【図１０】透明電極パターンの端部のテーパー形状の一例を示す説明図である。
【図１１】本発明の透明電極付き複合体の構成の一例を示す断面概略図である。
【図１２】本発明の転写フィルムの構成の一例を示す断面概略図である。
【図１３】本発明の静電容量型入力装置の構成の他の一例を示す上面図であり、パターン露光され、透明保護層に覆われていない、引き回し配線の端末部（末端部分）を含む態様を示す。
【図１４】透明保護層および光学調整部材を有する本発明の転写フィルムを、静電容量型入力装置の透明電極パターンの上にラミネートにより積層し、露光等によって硬化する前の状態の一例を示す概略図である。
【図１５】透明保護層と光学調整部材が硬化された所望のパターンの一例を示す概略図である。
【図１６】本発明の透明電極付き複合体の製造方法に用いられる、基材の上に配置された透明電極パターンの一例を示す断面概略図である。
【図１７】本発明の透明電極付き複合体の構成の他の一例を示す断面概略図である。
【図１８】本発明の透明電極付き複合体の構成の他の一例を示す断面概略図である。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
以下、本発明の透明電極付き複合体、転写フィルム、透明電極付き複合体の製造方法および静電容量型入力装置について説明する。以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施態様や具体例に基づいてなされることがあるが、本発明は実施態様や具体例に限定されない。なお、本明細書において「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。
【００１９】
［透明電極付き複合体］
本発明の透明電極付き複合体は、基材、透明電極パターン、光学調整部材および透明保護層をこの順で有する透明電極付き複合体であって、
光学調整部材が透明電極パターン側から奇数番目に配置された層である低屈折率層と、透明電極パターン側から偶数番目に配置された層である高屈折率層とをそれぞれ少なくとも１層ずつ有し、
低屈折率層と直接隣接する高屈折率層との屈折率の差が０．０５以上であり、
高屈折率層の屈折率が２．１０以下であり、
低屈折率層および高屈折率層の厚みがそれぞれ５〜８０ｎｍである。
この構成によって、本発明の透明電極付き複合体は、透明電極パターンの基材側に高屈折率の透明膜を使用しなくても、透明電極パターンの隠蔽性に優れ、光学調整部材に起因するムラを低減でき、鉛筆硬度に優れる。
【００２０】
本発明の透明電極付き複合体は、光学調整部材および透明保護層が転写により形成されることが、光学調整部材付きの基材に透明導電パターンを形成する従来の層構成の透明電極付き複合体を製造する方法に比べて、好ましい。特に、透明導電層形成時の光学調整部材へのダメージを受けず、透明導電層のパターニング時のエッチング液に起因する光学調整部材へのダメージを受けず、光学調整部材と透明導電パターンとの密着性も改善される観点から好ましい。また、透明電極パターンの基材側に高屈折率の透明膜を使用しなくても、透明電極パターンの隠蔽性に優れ、光学調整部材に起因のするムラを低減でき、鉛筆硬度に優れる透明電極付き複合体を容易に、生産性良く製造することができる観点からも好ましい。さらに光学調整部材および透明保護層が転写により形成されることが、光学調整部材に起因するムラ（厚みムラ。厚みムラは厚みの不均一と同義）の発生も低減しやすい観点から好ましい。
特に断わりが無い限り、本明細書中の屈折率は５５０ｎｍの波長における屈折率を表す。
なお、本明細書において透明とは、波長４００ｎｍ〜７００ｎｍの可視光の平均透過率が、８０％以上であることを意味する。したがって、透明な層とは、波長４００ｎｍ〜７００ｎｍの可視光の平均透過率が８０％以上である層を指す。透明な層の波長４００ｎｍ〜７００ｎｍの可視光の平均透過率は、９０％以上であることが好ましい。
本発明の転写フィルム、または、転写フィルムの透明な層の波長４００ｎｍ〜７００ｎｍの可視光の平均透過率は、日立製作所（株）製の分光光度計Ｕ−３３１０を用いて測定する。
以下、本発明の透明電極付き複合体の好ましい態様を説明する。
【００２１】
＜透明電極付き複合体の構成＞
本発明の透明電極付き複合体は、基材、透明電極パターン、光学調整部材および透明保護層をこの順で有する透明電極付き複合体であって、光学調整部材が透明電極パターン側から奇数番目に配置された層である低屈折率層と、透明電極パターン側から偶数番目に配置された層である高屈折率層とをそれぞれ少なくとも１層ずつ有する。
図１１に本発明の透明電極付き複合体の構成の一例を示す。図１１に示した本発明の透明電極付き複合体は、基材１、透明電極パターン４、光学調整部材１２および透明保護層７をこの順で有し、基材１と透明電極パターン４が屈折率１．４６〜１．５８の透明膜１１を介して配置される。図１１では、光学調整部材１２の詳細は不図示であるが、図１１においても図１７や図１８に記載の構成の光学調整部材１２などを採用することができる。
図１７に本発明の透明電極付き複合体の構成の他の一例を示す。図１７に示した本発明の透明電極付き複合体は、基材１、透明電極パターン４、光学調整部材１２および透明保護層７をこの順で有し、基材１と透明電極パターン４が屈折率１．４６〜１．５８の透明膜１１を介して配置され、光学調整部材１２が透明電極パターン側から奇数番目に配置された層である低屈折率層１２Ａと、透明電極パターン側から偶数番目に配置された層である高屈折率層１２Ｂとをそれぞれ１層ずつ有する。
図１８に本発明の透明電極付き複合体の構成の他の一例を示す。図１８に示した本発明の透明電極付き複合体は、基材１、透明電極パターン４、光学調整部材１２および透明保護層７をこの順で有し、基材１と透明電極パターン４が直接（直接接触して）配置され、光学調整部材１２が透明電極パターン側から奇数番目に配置された層である低屈折率層１２Ａを３層、透明電極パターン側から偶数番目に配置された層である高屈折率層１２Ｂを２層有する。
【００２２】
本発明の透明電極付き複合体は、基材と透明電極パターンが直接配置されてもよく、透明膜を介して配置されてもよい。図１１および図１７には、基材１と透明電極パターン４が屈折率１．４６〜１．５８の透明膜１１を介して配置された態様が示されている。一方、図１８には、基材１と透明電極パターン４が直接配置された態様が示されている。
基材１と透明電極パターン４が直接配置されることが、透明電極パターンの反射率を低減する観点および透明電極パターンの隠蔽性の観点から好ましい。
【００２３】
光学調整部材が有する低屈折率層と高屈折率層の層数は特に制限はないが、それぞれ独立に１〜５層であることが好ましく、それぞれ独立に１〜３層であることがより好ましく、それぞれ独立に１または２層であることが特に好ましく、それぞれ１層であることが製造コストの低下、製造適性の改良などのプロセスの観点からより特に好ましい。本発明の透明電極付き複合体は、光学調整部材が低屈折率層と高屈折率層を１層ずつ有することが好ましい。
【００２４】
本発明の透明電極付き複合体は、図１１に示すように基材１、透明膜１１、透明電極パターン４、光学調整部材１２、透明保護層７がこの順に積層された領域２１を面内に有することが好ましい。また、図１１では、前述の透明電極付き複合体は、上記領域に加えて、基材１、透明膜１１、光学調整部材１２、透明保護層７がこの順に積層された領域２２（すなわち、透明電極パターンが形成されていない非パターン領域２２）を含むことが示されている。
面内方向とは、透明電極付き複合体の基材と平行な面に対して略平行方向を意味する。したがって、透明電極パターン４、光学調整部材１２および透明保護層７がこの順に積層された領域を面内に含むとは、透明電極パターン４、光学調整部材１２および透明保護層７がこの順に積層された領域の、透明電極付き複合体の基材と平行な面への正射影が、透明電極付き複合体の基材と平行な面内に存在することを意味する。
【００２５】
ここで、本発明の透明電極付き複合体を後述する静電容量型入力装置に用いる場合、透明電極パターンは行方向と列方向の略直交する２つの方向にそれぞれ第一の透明電極パターンおよび第二の透明電極パターンとして設けられることがある（例えば、図３参照）。例えば図３の構成では、本発明の透明電極付き複合体における透明電極パターンは、第二の透明電極パターン４であっても、第一の透明電極パターン３のパッド部分３ａであってもよい。言い換えると、以下の本発明の透明電極付き複合体の説明では、透明電極パターンの符号を「４」で代表して表すことがあるが、本発明の透明電極付き複合体における透明電極パターンは、本発明の静電容量型入力装置における第二の透明電極パターン４への使用に限定されず、例えば第一の透明電極パターン３のパッド部分３ａとして使用してもよい。
【００２６】
本発明の透明電極付き複合体は、前述の透明電極パターンが形成されていない非パターン領域を含むことが好ましい。本明細書中、非パターン領域とは、透明電極パターン４が形成されていない領域を意味する。
図１１には、本発明の透明電極付き複合体が非パターン領域２２を含む態様が示されている。
本発明の透明電極付き複合体は、前述の透明電極パターンが形成されていない非パターン領域２２の少なくとも一部に、前述の基材および前述の光学調整部材がこの順に積層された領域を面内に含むことが好ましい。
但し、前述の非パターン領域２２のその他の領域には、本発明の趣旨に反しない限りにおいてその他の部材を任意の位置に配置してもよく、例えば本発明の透明電極付き複合体を後述する静電容量型入力装置に用いる場合、図１におけるマスク層２や、絶縁層５や別の導電性要素６などを積層することができる。
【００２７】
前述の透明電極パターン４の端部は、その形状に特に制限はなく、図１１に示すようにテーパー形状を有していてもよく、例えば、前述の基材側の面の方が、前述の基材と反対側の面よりも広いテーパー形状を有していてもよい。
ここで、前述の透明電極パターンの端部がテーパー形状であるときの透明電極パターンの端部の角度（以下、テーパー角とも言う）は、３０°以下であることが好ましく、０．１〜１５°であることがより好ましく、０．５〜５°であることが特に好ましい。
本明細書中におけるテーパー角の測定方法は、前述の透明電極パターンの端部の顕微鏡写真を撮影し、その顕微鏡写真のテーパー部分を三角形に近似し、テーパー角を直接測定して求めることができる。
図１０に透明電極パターンの端部がテーパー形状である場合の一例を示す。図１０におけるテーパー部分を近似した三角形は、底面が８００ｎｍであり、高さ（底面と略平行な上底部分における厚み）が４０ｎｍであり、このときのテーパー角αは約３°である。テーパー部分を近似した三角形の底面は、１０〜３０００ｎｍであることが好ましく、１００〜１５００ｎｍであることがより好ましく、３００〜１０００ｎｍであることが特に好ましい。
なお、テーパー部分を近似した三角形の高さの好ましい範囲は、透明電極パターンの厚みの好ましい範囲と同様である。
【００２８】
本発明の透明電極付き複合体は、前述の透明電極パターンおよび前述の光学調整部材が互いに隣接している領域を含むことが好ましい。
図１１には、前述の透明電極パターン、前述の光学調整部材および透明保護層がこの順に積層された領域２１において、前述の透明電極パターン、前述の光学調整部材および透明保護層が互いに隣接している態様が示されている。
【００２９】
また、本発明の透明電極付き複合体は、光学調整部材によって、透明電極パターンおよび透明電極パターンが形成されていない非パターン領域２２の両方が連続して被覆されたことが好ましい。
ここで、「連続して」とは、光学調整部材が、パターン膜ではなく、連続膜であることを意味する。すなわち、光学調整部材は、開口部を有していないことが、透明電極パターンを視認されにくくする観点から好ましい。
また、光学調整部材によって、前述の透明電極パターンおよび前述の非パターン領域２２が、他の層を介して被覆されるよりも、直接被覆されることが好ましい。他の層を介して被覆される場合における「他の層」としては、後述する本発明の静電容量型入力装置に含まれる絶縁層５や、後述する本発明の静電容量型入力装置のように透明電極パターンが２層以上含まれる場合の２層目の透明電極パターンなどを挙げることができる。
図１１には、前述の光学調整部材１２が積層している態様が示されている。前述の光学調整部材１２は、前述の透明膜１１上の透明電極パターン４が積層していない領域と、透明電極パターン４が積層している領域との上にまたがって積層している。すなわち、前述の光学調整部材１２は、前述の透明膜１１と隣接しており、さらに、前述の光学調整部材１２は、透明電極パターン４と隣接している。
また、透明電極パターン４の端部がテーパー形状である場合は、テーパー形状に沿って（テーパー角と同じ傾きで）前述の光学調整部材１２が積層していることが好ましい。
【００３０】
図１１では、前述の光学調整部材１２の表面のうち、前述の透明電極パターンが形成された表面とは反対側の表面上に、透明保護層７が積層された態様が示されている。透明保護層７の形状は特に制限はないが、光学調整部材１２を覆う連続膜であることが好ましい。
【００３１】
＜透明電極付き複合体の材料＞
（基材）
本発明の透明電極付き複合体は、基材がガラス基材またはフィルム基材であることが好ましく、フィルム基材であることがより好ましい。また、基材は透明基材であることが好ましい。すなわち、前述の基材が透明フィルム基材であることが好ましい。
基材の屈折率は、１．５〜１．５２であることが特に好ましい。
基材はガラス基材で構成されていてもよく、ガラス基材としてはコーニング社のゴリラガラスに代表される強化ガラスなどを用いることができる。
また、透明基材としては、特開２０１０−８６６８４号公報、特開２０１０−１５２８０９号公報および特開２０１０−２５７４９２号公報に用いられている材料を好ましく用いることができる。
前述の基材としてフィルム基材を用いる場合は、光学的に歪みがないものや、透明度が高いものを用いることがより好ましく、具体的には、ポリエチレンテレフタレート（ｐｏｌｙｅｔｈｙｌｅｎｅ  ｔｅｒｅｐｈｔｈａｌａｔｅ；ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート、ポリカーボネート、トリアセチルセルロース、シクロオレフィンポリマーを挙げることができる。
透明電極付き複合体は、透明電極パターンが、透明フィルム基材上に形成された透明電極パターンであることが好ましい。
透明電極付き複合体は、基材の両面に、それぞれ透明電極パターン、光学調整部材および透明保護層を有する構成も好ましい。この場合、透明電極付き複合体はフィルムセンサーとして用いることが好ましい。
【００３２】
（透明電極パターン）
本発明の透明電極付き複合体における透明電極パターンの屈折率は１．７５〜２．１であることが好ましい。
前述の透明電極パターンの材料は特に制限されることはなく、公知の材料を用いることができる。透明電極パターンの材料として、例えば、金属膜や、ＩＴＯやＩＺＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｚｉｎｃ  Ｏｘｉｄｅ）などの透明かつ導電性の金属酸化物膜を挙げられる。金属膜および金属酸化物膜としては、Ａｌ、Ｚｎ、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｃｒ、Ｍｏ等の金属膜；ＩＴＯ、ＳｉＯ２等の金属酸化物膜などが挙げられる。この際、透明電極パターンの厚みは１０〜２００ｎｍとすることができる。
また、焼成により、アモルファスのＩＴＯ膜を多結晶のＩＴＯ膜とする場合、電気的抵抗を低減することもできる。
また、透明電極パターンの製造方法は特に制限はない。例えば後述するとおり、第一の透明電極パターン３と、第二の透明電極パターン４と、後述する別の導電性要素６は、導電性繊維を用いた光硬化性樹脂層を有する感光性フィルムを用いて製造することもできる。その他、ＩＴＯ等によって第一の透明電極パターン等を形成する場合には、特許第４５０６７８５号公報の段落００１４〜００１６等を参考にすることができる。
透明電極パターンは、ＩＴＯ膜であることが好ましい。
本発明の透明電極付き複合体は、前述の透明電極パターンが屈折率１．７５〜２．１のＩＴＯ膜であることがより好ましい。
【００３３】
（光学調整部材）
本発明の透明電極付き複合体は、光学調整部材を有し、
光学調整部材が透明電極パターン側から奇数番目に配置された層である低屈折率層と、透明電極パターン側から偶数番目に配置された層である高屈折率層とをそれぞれ少なくとも１層ずつ有し、
低屈折率層と直接隣接する高屈折率層との屈折率の差が０．０５以上であり、
高屈折率層の屈折率が２．１０以下であり、
低屈折率層および高屈折率層の厚みがそれぞれ５〜８０ｎｍである。
【００３４】
本発明の透明電極付き複合体は、低屈折率層と直接隣接する高屈折率層との屈折率の差が０．０５以上である。
低屈折率層と直接隣接する高屈折率層との屈折率の差が０．０５〜０．５０であることが好ましく、０．０５〜０．３０であることがより好ましい。
【００３５】
本発明の透明電極付き複合体は、低屈折率層の屈折率が１．２５〜１．５３であることが好ましく、１．３０〜１．５３であることがより好ましく、１．３５〜１．５３であることが特に好ましい。
【００３６】
本発明の透明電極付き複合体は、高屈折率層の屈折率が２．１０以下である。高屈折率化していくと高屈折率層の厚みを薄くしていく方が透明電極パターンの隠蔽性を改善する観点から好ましい。これに対し、例えば酸化ニオブの屈折率（ｎ＝２．３３）を下回る２．１０以下の屈折率を本発明では採用するために高屈折率層の厚みが薄くなり過ぎず、基材表面からの反射光に透明電極パターン以外の光学調整部材に起因するムラが発生する問題も透明電極パターンの隠蔽性と同時に改善できる。
本発明の透明電極付き複合体は、高屈折率層の屈折率が１．６０〜２．００であることが好ましく、１．６０〜１．８０であることがより好ましく、１．６０〜１．７５であることが特に好ましい。
透明電極パターンの屈折率が、ＩｎおよびＺｎの酸化物の場合の様に２．０を超える場合においては、光学調整部材の高屈折率層の屈折率は、１．７以上１．８５以下であることが好ましい。
【００３７】
本発明の透明電極付き複合体は、低屈折率層および高屈折率層の厚みがそれぞれ５〜８０ｎｍである。光学調整部材の低屈折率層および高屈折率層の厚みがそれぞれ１０〜７５ｎｍであることがより好ましく、１５〜７０ｎｍであることが特に好ましい。
光学調整部材の低屈折率層および高屈折率層の厚みは、後述の実施例に記載の方法で求める。
【００３８】
光学調整部材の低屈折率層および高屈折率層は透明樹脂膜であっても、無機膜であってもよい。本発明の透明電極付き複合体は、低屈折率層および高屈折率層が透明樹脂層であることが、蒸着などで形成された無機膜よりも、製造コストの低下、製造適性の改良などのプロセスの観点から好ましい。特に、高屈折率層が金属酸化物を含む透明樹脂層であることが、より好ましい。
無機膜としては、特開２０１０−８６６８４号公報、特開２０１０−１５２８０９号公報および特開２０１０−２５７４９２号公報などに用いられている無機膜を用いることができ、これらの文献に記載されている低屈折率材料と高屈折率材料の積層構造の無機膜や、低屈折率材料と高屈折率材料の混合膜の無機膜を用いることが屈折率を制御する観点から好ましい。低屈折率材料と高屈折率材料は、上記の特開２０１０−８６６８４号公報、特開２０１０−１５２８０９号公報および特開２０１０−２５７４９２号公報に用いられている材料を好ましく用いることができ、これらの文献の内容は本明細書中に組み込まれる。
無機膜は、ＳｉＯｘ膜（ｘは好ましくは１．５〜２．５、より好ましくは１．５〜２．０、特に好ましくは１．７〜２．０）、Ｙ２Ｏ３膜、ＺｒＯ２膜であってもよい。無機膜は蒸着で形成された膜であってもスパッタで形成された膜であっても他の方法で形成された膜であってもよいが、製造コストの低下、製造適性の改良などのプロセスの観点からスパッタによって形成された膜であることがより好ましい。
【００３９】
透明樹脂膜としては、硬化性透明樹脂層であっても、硬化性を有さない透明樹脂層であってもよいが、硬化性透明樹脂層であることが透明電極付き複合体（および後述の転写フィルム）のフォトリソグラフィ性を高める観点から好ましい。すなわち、本発明の透明電極付き複合体は、低屈折率層および高屈折率層が重合性化合物を含む硬化性透明樹脂層であることが好ましい。なお、硬化性透明樹脂層が最終形態では硬化膜であることが好ましい。本明細書中、硬化性透明樹脂層が未硬化とは、硬化性透明樹脂層に含まれる硬化性基の消費率が１０％未満であることを言う。例えば、不飽和二重結合基の不飽和二重結合消費率が１０％未満であれば未硬化の硬化性透明樹脂層となる。硬化性透明樹脂層が硬化膜であるとは、硬化性透明樹脂層に含まれる硬化性基の消費率が１０％以上であることを言う。硬化膜の硬化性基の消費率は９０％以上であることが好ましい。
光学調整部材の低屈折率層および高屈折率層が硬化性透明樹脂層である場合は、熱硬化性であっても、光硬化性であっても、熱硬化性かつ光硬化性であってもよい。その中でも、光学調整部材の低屈折率層および高屈折率層は少なくとも熱硬化性であることが、転写後に熱硬化して膜の信頼性および湿熱耐久性を付与できる観点から好ましく、熱硬化性かつ光硬化性であることが、転写後に光硬化して製膜しやすく、かつ、製膜後に熱硬化して膜の信頼性および湿熱耐久性を付与できる観点からより好ましい。
光学調整部材の低屈折率層および高屈折率層には、バインダーポリマー、光重合性化合物、光重合開始剤を含むことが好ましい。
光学調整部材の低屈折率層および高屈折率層は、ネガ型材料であってもポジ型材料であってもよい。
光学調整部材の低屈折率層および高屈折率層がネガ型材料である場合、光学調整部材の低屈折率層および高屈折率層には、バインダーポリマー（好ましくはアルカリ可溶性樹脂）、光重合性化合物、光重合開始剤を含むことが好ましい。光学調整部材の高屈折率層は、金属酸化物粒子を含むことがより好ましい。さらに、添加剤などが用いられるがこれに限られない。
【００４０】
光学調整部材の低屈折率層および高屈折率層の屈折率を制御する方法としては特に制限はないが、所望の屈折率の透明樹脂層を単独で用いたり、金属粒子や金属酸化物粒子などの粒子を添加した透明樹脂層を用いたり、また金属塩と高分子の複合体を用いることができる。
本発明の透明電極付き複合体は、高屈折率層が、金属酸化物粒子を含有することが好ましい。高屈折率層が、金属酸化物粒子を１０〜９５質量％含有することが好ましく、４０〜９５質量％含有することがより好ましく、５５〜９５質量％含有することが特に好ましく、６２〜９０質量％含有することがより特に好ましく、６５〜９０質量％含有することがさらにより特に好ましい。
【００４１】
さらに、光学調整部材の低屈折率層および高屈折率層には、添加剤を用いてもよい。前述の添加剤としては、例えば特許第４５０２７８４号公報の段落００１７、特開２００９−２３７３６２号公報の段落００６０〜００７１に記載の界面活性剤や、特許第４５０２７８４号公報の段落００１８に記載の熱重合防止剤、さらに、特開２０００−３１０７０６号公報の段落００５８〜００７１に記載のその他の添加剤が挙げられる。
【００４２】
光学調整部材の低屈折率層および高屈折率層の材料の詳細は後述の転写フィルムの製造方法にて説明する。
【００４３】
（透明保護層）
透明保護層は、透明樹脂層であることが好ましく、硬化性透明樹脂層であることがより好ましい。
透明保護層が硬化性透明樹脂層である場合は、熱硬化性であっても、光硬化性であっても、熱硬化性かつ光硬化性であってもよい。その中でも、透明保護層は少なくとも熱硬化性であることが、転写後に熱硬化して膜の信頼性を付与できる観点から好ましく、熱硬化性かつ光硬化性であることが、転写後に光硬化して製膜しやすく、かつ、製膜後に熱硬化して膜の信頼性を付与できる観点からより好ましい。
【００４４】
透明保護層が、フッ素原子を含有する界面活性剤を透明保護層の固形分に対して０．０１〜０．５質量％含むことが好ましい。透明保護層がフッ素原子を含有する界面活性剤を含むと、界面活性剤の従来の効果である「表面張力を抑制し、塗布後の湿潤状態の塗膜の表面が平滑化する」効果が得られる。加えて、透明保護層がフッ素原子を含有する界面活性剤を含むと、透明保護層を塗布乾燥させたとき、透明保護層の表面にフッ素原子を含有する界面活性剤の薄い層が形成され、これが保護層となって、光学調整部材を塗布したときに、透明保護層との層間混合を抑制できる。透明保護層の固形分に対して０．０１質量％以上のフッ素原子を含有する界面活性剤を含むことでこの効果が顕著に得られ、０．０２質量％以上のフッ素原子を含有する界面活性剤を含むことでさらにこの効果をより顕著に得られる。
透明保護層が、フッ素原子を含有する界面活性剤を透明保護層の固形分に対して０．０２〜０．５質量％含むことがより好ましく、０．０２〜０．４質量％含むことが特に好ましい。光学調整部材と透明電極パターンとの密着性を良好に保つために、フッ素原子を含有する界面活性剤を透明保護層の固形分に対して０．５質量％以下含むことが好ましく、０．４質量％以下含むことがより好ましい。
さらに、透明保護層の樹脂にアクリル樹脂を選択し、フッ素原子を含有する界面活性剤と組み合わせると、よりこの効果が顕著に得られる。
透明保護層に好ましく用いられるフッ素原子を含有する界面活性剤としては、例えば特許第４５０２７８４号公報の段落００１７、特開２００９−２３７３６２号公報の段落００６０〜００７１に記載の界面活性剤を挙げることができる。また、透明保護層に好ましく用いられるフッ素原子を含有する界面活性剤としては、市販のフッ素原子を含有する界面活性剤を利用できる。特に、下記のフッ素原子を含有する界面活性剤が好ましい。
ＤＩＣ（株）製  メガファック  Ｆ２５１、メガファック  Ｆ２５３、メガファック  Ｆ２８１、メガファック  Ｆ４４４、メガファック  Ｆ４７７、メガファック  Ｆ５５１、メガファック  Ｆ５５２、メガファック  Ｆ５５３、メガファック  Ｆ５５４、メガファック  Ｆ５５５、メガファック  Ｆ５５６、メガファック  Ｆ５５７、メガファック  Ｆ５５８、メガファック  Ｆ５５９、メガファック  Ｆ５６０、メガファック  Ｆ５６１、メガファック  Ｆ５６２、メガファック  Ｆ５６３、メガファック  Ｆ５６５、メガファック  Ｆ５６８、メガファック  Ｆ５６９、メガファック  Ｆ５７０、メガファック  Ｆ５７１、メガファック  Ｒ４０、メガファック  Ｒ４１、メガファック  Ｒ４３、メガファック  Ｒ９４、メガファック  ＲＳ５５、メガファック  ＲＳ５６、メガファック  ＲＳ７２−Ｋ、メガファック  ＲＳ７５、メガファック  ＲＳ７６−Ｅ、メガファック  ＲＳ７６−ＮＳ、メガファック  ＲＳ７８、メガファック  ＲＳ９０、メガファック  Ｆ７８０Ｆ。
また、下記式（３）で表される化合物（重量平均分子量１．５万、固形分３０質量％、メチルエチルケトン７０質量％）も好ましく、用いる事ができる。
式（３）
【化１】
2017018406.tif 000003
【００４５】
透明保護層が、バインダーポリマー、重合性化合物および光重合開始剤を含むことが好ましい。
透明保護層は、ネガ型材料であってもポジ型材料であってもよい。
透明保護層がネガ型材料である場合、透明保護層には、バインダーポリマー（好ましくはアルカリ可溶性樹脂）、光重合性化合物および光重合開始剤を含むことが好ましい。さらに、添加剤などが用いられるがこれに限られない。
【００４６】
透明保護層の屈折率を制御する方法としては特に制限はないが、所望の屈折率の透明保護層を単独で用いたり、金属粒子や金属酸化物粒子などの粒子を添加した透明保護層を用いたり、また金属塩と高分子の複合体を用いることができる。
【００４７】
さらに、前述の透明保護層には、添加剤を用いてもよい。前述の添加剤としては、特許第４５０２７８４号公報の段落００１８に記載の熱重合防止剤、さらに、特開２０００−３１０７０６号公報の段落００５８〜００７１に記載のその他の添加剤が挙げられる。
【００４８】
透明保護層の厚みは、透明保護層を用いて静電容量型入力装置の透明保護層を形成するときに十分な表面保護能を発揮させて鉛筆硬度を高める観点から、１μｍ以上であることが好ましく、１〜１５μｍであることがより好ましく、２〜１２μｍであることが特に好ましく、３〜１０μｍであることがより特に好ましい。
透明保護層の厚みは、後述の実施例に記載の方法で求める。
【００４９】
透明保護層の屈折率は、１．４５〜１．５９であることが好ましく、１．５０〜１．５３であることがより好ましく、１．５０〜１．５２であることが特に好ましく、１．５１〜１．５２であることがより特に好ましい。
【００５０】
（透明膜）
基材と透明電極パターンが透明膜を介して配置される場合、透明膜の屈折率に特に制限はない。本発明の透明電極付き複合体は、基材と透明電極パターンが屈折率１．４５以下の透明膜や屈折率１．５９以上の透明膜を介して配置されてもよいが、基材と透明電極パターンが直接または屈折率１．４６〜１．５８の透明膜を介して配置されることが製造コストの低下、製造適性の改良の観点から好ましい。本発明の透明電極付き複合体は、前述の透明膜の屈折率が１．４６〜１．５８であることが好ましく、１．５〜１．５３であることがより好ましく、１．５〜１．５２であることが特に好ましく、１．５１〜１．５２であることがより特に好ましい。ここで、前述の透明膜は、単層構造であっても、２層以上の積層構造であってもよい。前述の透明膜が２層以上の積層構造である場合、前述の透明膜の屈折率とは、全層の屈折率を意味する。
前述の透明膜の材料は特に制限されないが、この屈折率の範囲を満たす材料が好ましい。
【００５１】
前述の透明膜の材料の好ましい範囲と屈折率などの物性の好ましい範囲は、前述の光学調整部材のそれらの好ましい範囲と同様である。
本発明の透明電極付き複合体は、前述の透明膜と前述の光学調整部材が、同一材料によって構成されたことが光学的均質性の観点から好ましい。
【００５２】
本発明の透明電極付き複合体は前述の透明膜の厚みが５５〜１１０ｎｍであることが好ましく、６０〜１１０ｎｍであることがより好ましく、７０〜９０ｎｍであることが特に好ましい。
ここで、前述の透明膜は、単層構造であっても、２層以上の積層構造であってもよい。前述の透明膜が２層以上の積層構造である場合、前述の透明膜の厚みとは、全層の合計厚みを意味する。
【００５３】
本発明の透明電極付き複合体は、前述の透明膜が透明樹脂膜であることが好ましい。
透明樹脂膜に用いられる金属酸化物粒子や樹脂（バインダー）やその他の添加剤としては本発明の趣旨に反しない限りにおいて特に制限は無く、本発明の透明電極付き複合体における前述の光学調整部材に用いられる樹脂やその他の添加剤を好ましく用いることができる。
本発明の透明電極付き複合体は、前述の透明膜が無機膜であってもよい。無機膜に用いられる材料としては、本発明の透明電極付き複合体における前述の光学調整部材に用いられる材料を好ましく用いることができる。
【００５４】
［透明電極付き複合体の製造方法］
本発明の透明電極付き複合体の製造方法は、基材の上に配置された透明電極パターンの上に、光学調整部材と透明保護層をこの順で積層する積層工程を有し、
光学調整部材が透明電極パターン側から奇数番目に配置された低屈折率層と、透明電極パターン側から偶数番目に配置された高屈折率層とをそれぞれ少なくとも１層ずつ有し、
低屈折率層と直接隣接する高屈折率層との屈折率の差が０．０５以上であり、
高屈折率層の屈折率が２．１０以下であり、
低屈折率層および高屈折率層の厚みがそれぞれ５〜８０ｎｍである。
この構成により、製造コストと製造適性に優れる本発明の透明電極付き複合体の製造方法となる。本発明の透明電極付き複合体の製造方法は透明導電パターンが形成された上に光学調整部材と透明保護層を積層する。この順番で製造することで、光学調整部材付きの基材に透明導電パターンを形成する従来の層構成の透明電極付き複合体を製造する方法に比べて、好ましい。特に、透明導電層形成時の光学調整部材へのダメージを受けず、透明導電層のパターニング時のエッチング液に起因する光学調整部材へのダメージを受けず、光学調整部材と透明導電パターンとの密着性も改善される。特開２０１５−９９５３８号公報のタッチパネル用ハードコートフィルムの導電層側に透明基体を積層したとしても、積層順が異なるため、上述の本発明の透明電極付き複合体の製造方法の利点を得ることはできない。
【００５５】
＜基材の表面処理＞
また、後の転写工程におけるラミネートを行った後の各層の密着性を高めるために、予め基材の非接触面（静電容量型入力装置を構成する基材の表面のうち、指などの入力手段を接触させる側の面とは反対側の面）に表面処理を施すことができる。前述の表面処理としては、シラン化合物を用いた表面処理（シランカップリング処理）を実施することが好ましい。シランカップリング剤としては、感光性樹脂と相互作用する官能基を有するものが好ましい。例えばシランカップリング液（Ｎ−β（アミノエチル）γ−アミノプロピルトリメトキシシランの０．３質量％水溶液、商品名：ＫＢＭ６０３、信越化学（株）製）をシャワーにより２０秒間吹き付け、純水シャワー洗浄する。この後、加熱により反応させることが好ましい。加熱槽を用いてもよく、ラミネータの予備加熱を用いてもよく、いずれも反応を促進できる。
【００５６】
＜透明膜の製膜＞
本発明の透明電極付き複合体の製造方法は、基材と透明電極パターンを直接または透明膜を介して配置することが好ましく、直接または屈折率１．４６〜１．５８の透明膜を介して配置することがより好ましい。本発明の透明電極付き複合体が、基材と透明電極パターンが屈折率１．４６〜１．５８の透明膜を介して配置される場合、屈折率１．４６〜１．５８の透明膜の製膜方法としては特に制限はないが、転写またはスパッタによって製膜することが好ましい。
その中でも、本発明の透明電極付き複合体は、前述の透明膜が、仮支持体上に形成された透明硬化性樹脂膜を、前述の基材上に転写して製膜されることが好ましく、転写後に硬化して製膜されることがより好ましい。転写および硬化の方法としては、後述する本発明の静電容量型入力装置の説明における感光性フィルムを用い、透明電極付き複合体の製造方法における前述の透明保護層および前述の光学調整部材を転写する方法と同様に転写、露光、現像およびその他の工程を行う方法を挙げることができる。その場合は、感光性フィルム中の光硬化性樹脂層に前述の金属酸化物粒子を分散させることで、上述の範囲に前述の透明膜の屈折率を調整することが好ましい。
【００５７】
一方、前述の透明膜が無機膜である場合は、スパッタによって形成されることが好ましい。すなわち、本発明の透明電極付き複合体は、前述の透明膜が、スパッタによって形成されることも好ましい。
スパッタの方法としては、特開２０１０−８６６８４号公報、特開２０１０−１５２８０９号公報および特開２０１０−２５７４９２号公報に用いられている方法を好ましく用いることができる。
【００５８】
＜透明電極パターンの製膜＞
前述の透明電極パターンは、後述する第一の透明電極パターン３、第二の透明電極パターン４および別の導電性要素６の形成方法などを用いて、基材上または透明膜上に製膜することができ、感光性フィルムを用いる方法が好ましい。
【００５９】
＜積層工程＞
本発明の透明電極付き複合体の製造方法は、基材の上に配置された透明電極パターンの上に、光学調整部材と透明保護層をこの順で積層する積層工程を有する。
なお、透明電極付き複合体の製造方法における前述の光学調整部材は、前述の透明電極パターン上と、前述の非パターン領域では前述の基材または透明膜上に製膜される。
【００６０】
積層工程は、特に制限はなく、例えば転写工程、塗布工程、粘着材を介して貼り合せる工程などを挙げることができる。
本発明の透明電極付き複合体の製造方法は、積層工程が、基材の上に配置された透明電極パターンの上に、後述の本発明の転写フィルムから光学調整部材と透明保護層を転写する工程であることが好ましい。この構成により、透明電極付き複合体の光学調整部材および前述の透明保護層を一括して転写することができ、透明電極パターンの基材側に高屈折率の透明膜を使用しなくても、透明電極パターンの隠蔽性に優れ、光学調整部材起因のムラを低減でき、鉛筆硬度に優れる透明電極付き複合体を容易に、生産性良く製造することができる。
【００６１】
本発明の透明電極付き複合体の製造方法は、低屈折率層および高屈折率層が重合性化合物を含む硬化性透明樹脂層であり、かつ、透明電極パターンの上に積層する前の硬化性透明樹脂層が未硬化であることが好ましい。
透明電極付き複合体の製造方法は、透明保護層および光学調整部材を同時に硬化する工程を含むことが好ましく、同時にパターン硬化する工程を含むことがより好ましい。透明保護層を積層した後に、透明保護層を硬化させることなく、光学調整部材を積層されることが好ましい。このようにして得られた透明保護層および光学調整部材は、同時に硬化することができる。これにより、透明保護層および光学調整部材を透明電極パターン上に積層した後で、フォトリソグラフィによって所望のパターンに現像できる。
透明電極付き複合体の製造方法は、透明保護層および光学調整部材を同時に硬化する工程の後に、透明保護層および光学調整部材の未硬化部分（光硬化の場合は、未露光部のみ、または、露光部のみ）を現像して、取り除く工程を含むことがより好ましい。
【００６２】
前述の透明保護層および前述の光学調整部材を形成する方法は、本発明の転写フィルムから前述の保護フィルムを除去する保護フィルム除去工程と、前述の保護フィルムが除去された本発明の転写フィルムの前述の透明保護層および前述の光学調整部材を基材の上に配置された透明電極パターンの上に転写する転写工程と、透明電極パターン上に転写された透明保護層および前述の光学調整部材を露光する露光工程と、露光された透明保護層および前述の光学調整部材を現像する現像工程と、を有する方法が挙げられる。
【００６３】
（転写工程）
積層工程が転写工程である場合について説明する。転写工程は、基材の上に配置された透明電極パターンの上に、本発明の転写フィルムから光学調整部材と透明保護層を転写する工程であることが好ましい。図１６は、本発明の透明電極付き複合体の製造方法に用いられる、基材の上に配置された透明電極パターンの一例を示す断面概略図である。図１６に示した基材の上に配置された透明電極パターンでは、基材１の上に透明膜１１を介して透明電極パターン４が配置されている。図１６に示した基材１の上に配置された透明電極パターン４の上に、例えば図１２に示した転写フィルム３０から保護フィルム２９を除いた後、低屈折率層１２Ａと高屈折率層１２Ｂからなる光学調整部材１２と透明保護層７を転写することで、図１７に示した本発明の透明電極付き複合体が得られる。
この際、本発明の転写フィルムの前述の透明保護層および前述の光学調整部材を透明電極パターンにラミネート後、仮支持体を取り除く工程を含む方法が好ましい。
前述の透明保護層および前述の光学調整部材の透明電極パターン表面への転写（貼り合わせ）は、前述の透明保護層および前述の光学調整部材を透明電極パターン表面に重ね、加圧、加熱することに行われる。貼り合わせには、ラミネータ、真空ラミネータ、および、より生産性を高めることができるオートカットラミネーター等の公知のラミネータを使用することができる。
【００６４】
（露光工程、現像工程、およびその他の工程）
前述の露光工程、現像工程、およびその他の工程の例としては、特開２００６−２３６９６号公報の段落００３５〜００５１に記載の方法を本発明においても好適に用いることができる。
【００６５】
前述の露光工程は、透明電極パターン上に転写された前述の透明保護層および前述の光学調整部材を露光する工程であることが好ましい。
具体的には、前述の透明電極パターン上に形成された前述の透明保護層および前述の光学調整部材ならびに仮支持体の上方に所定のマスクを配置し、その後マスク上方の光源から（マスク、仮支持体を介して）前述の透明保護層および前述の光学調整部材を露光する方法が挙げられる。
ここで、前述の露光の光源としては、前述の透明保護層および前述の光学調整部材を硬化しうる波長域の光（例えば、３６５ｎｍ、４０５ｎｍなど）を照射できるものであれば適宜選択して用いることができる。具体的には、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、メタルハライドランプ等が挙げられる。露光量としては、通常５〜２００ｍＪ／ｃｍ２程度であり、好ましくは１０〜１００ｍＪ／ｃｍ２程度である。
【００６６】
前述の現像工程は、露光された透明保護層および光学調整部材を現像する工程であることが好ましい。
本発明では、前述の現像工程は、パターン露光された前述の透明保護層および前述の光学調整部材を現像液によってパターン現像する狭義の意味の現像工程である。
前述の現像は、現像液を用いて行うことができる。前述の現像液としては、特に制約はなく、特開平５−７２７２４号公報に記載の現像液など、公知の現像液を使用することができる。尚、現像液は光硬化性樹脂層が溶解型の現像挙動をする現像液が好ましく、例えば、ｐＫａ（Ｔｈｅ  ｎｅｇａｔｉｖｅ  ｌｏｇａｒｉｔｈｍ  ｏｆ  ｔｈｅ  ａｃｉｄ  ｄｉｓｓｏｃｉａｔｉｏｎ  ｃｏｎｓｔａｎｔ；Ｋａはａｃｉｄ  ｄｉｓｓｏｃｉａｔｉｏｎ  ｃｏｎｓｔａｎｔ）＝７〜１３の化合物を０．０５〜５ｍｏｌ／Ｌの濃度で含む現像液が好ましい。一方、前述の透明保護層および前述の光学調整部材自体がパターンを形成しない場合の現像液は前述の非アルカリ現像型着色組成物層を溶解しない型の現像挙動をする現像液が好ましく、例えば、ｐＫａ＝７〜１３の化合物を０．０５〜５ｍｏｌ／Ｌの濃度で含む現像液が好ましい。現像液には、更に水と混和性を有する有機溶剤を少量添加してもよい。水と混和性を有する有機溶剤としては、メタノール、エタノール、２−プロパノール、１−プロパノール、ブタノール、ジアセトンアルコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテル、ベンジルアルコール、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、ε−カプロラクトン、γ−ブチロラクトン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホルアミド、乳酸エチル、乳酸メチル、ε−カプロラクタム、Ｎ−メチルピロリドン等を挙げることができる。有機溶剤の濃度は０．１質量％〜３０質量％が好ましい。
また、前述の現像液には、更に公知の界面活性剤を添加することができる。界面活性剤の濃度は０．０１質量％〜１０質量％が好ましい。
【００６７】
前述の現像の方式としては、パドル現像、シャワー現像、シャワー＆スピン現像、ディップ現像等のいずれでもよい。ここで、前述のシャワー現像について説明すると、露光後の前述の透明保護層および前述の光学調整部材に現像液をシャワーにより吹き付けることにより、未硬化部分を除去することができる。尚、熱可塑性樹脂層や中間層を設けた場合には、現像の前に透明保護層および光学調整部材の溶解性が低いアルカリ性の液をシャワーなどにより吹き付け、熱可塑性樹脂層、中間層などを除去しておくことが好ましい。また、現像の後に、洗浄剤などをシャワーにより吹き付け、ブラシなどで擦りながら、現像残渣を除去することが好ましい。現像液の液温度は２０℃〜４０℃が好ましく、また、現像液のｐＨ（ｐｏｗｅｒ  ｏｆ  Ｈｙｄｒｏｇｅｎ）は８〜１３が好ましい。
【００６８】
前述の静電容量型入力装置の製造方法は、ポスト露光工程、ポストベーク工程等、その他の工程を有していてもよい。前述の透明保護層および前述の光学調整部材が、熱硬化性である場合は、ポストベーク工程を行うことが好ましい。
【００６９】
尚、パターニング露光や全面露光は、仮支持体を剥離してから行ってもよいし、仮支持体を剥離する前に露光し、その後、仮支持体を剥離してもよい。マスクを介した露光でもよいし、レーザー等を用いたデジタル露光でもよい。
【００７０】
［転写フィルム］
本発明の転写フィルムは、仮支持体、透明保護層、光学調整部材および保護フィルムをこの順で有する転写フィルムであって、
光学調整部材が保護フィルム側から奇数番目に配置された低屈折率層と、保護フィルム側から偶数番目に配置された高屈折率層とをそれぞれ少なくとも１層ずつ有し、
低屈折率層と直接隣接する高屈折率層との屈折率の差が０．０５以上であり、
高屈折率層の屈折率が２．１０以下であり、
低屈折率層および高屈折率層の厚みがそれぞれ５〜８０ｎｍである。
透明電極パターン（好ましくはＩｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ；ＩＴＯなどの金属酸化物を含む）は一般的に屈折率が２．１０よりも高い。本発明の転写フィルムは屈折率が２．１０以下の高屈折率層を含む光学調整部材と透明保護層とを有するため、透明電極パターンと光学調整部材との屈折率差、ならびに、光学調整部材と透明保護層との屈折率差が小さくなるような透明電極付き複合体を得ることができる。透明電極パターンよりも視認側に光学調整部材と透明保護層を形成することで光反射が低減して透明電極パターンが見えにくくなり、透明電極パターン隠蔽性を良くすることができる。
また、本発明の転写フィルムは、低屈折率層および高屈折率層が重合性化合物を含む硬化性透明樹脂層であり、かつ、硬化性透明樹脂層が未硬化であることが好ましい。この場合、本発明の転写フィルムは、透明保護層が硬化性を有する状態のまま光学調整部材と積層されていても、層分画が良好となって、上記のメカニズムで透明電極パターンの隠蔽性を改善することができる。さらにこの場合、転写フィルムから透明保護層および光学調整部材を透明電極パターン上に転写した後で、透明保護層および光学調整部材をフォトリソグラフィによって所望のパターンに現像できる。
なお、透明保護層および光学調整部材の層分画が良いと、上記のメカニズムで得られる屈折率調整の効果が十分に得られやすく、透明電極パターンの隠蔽性の改善に改善される傾向がある。フォトリソグラフィは、転写後に光学調整部材よりも外部に近い層となる透明保護層に対して少なくとも行うことが好ましい。転写後に透明保護層よりも内部に近い層となる光学調整部材は、フォトリソグラフィ性を有していなくてもよい。本発明では、透明保護層が転写フィルムの状態で硬化性を有することが好ましく、転写後に光学調整部材よりも外部に近い層となる透明保護層がフォトリソグラフィ性を有することが好ましい。
以下、本発明の転写フィルムの好ましい態様について説明する。
【００７１】
＜転写フィルムの層構成＞
本発明の転写フィルムは、仮支持体、透明保護層、光学調整部材および保護フィルムをこの順で有する。仮支持体と、透明保護層は直接接して配置されていてもよく、他の層を介して配置されていてもよい。他の層としては、後述の熱可塑性樹脂層や中間層を挙げることができる。仮支持体と、透明保護層は直接接して配置されていることが好ましい。
図１２に、本発明の転写フィルムの好ましい層構成の一例を示す。図１２は、仮支持体２６、透明保護層７、光学調整部材１２および保護フィルム２９がこの順で互いに隣接して積層された、本発明の転写フィルム３０の概略図である。図１２では、光学調整部材１２が保護フィルム２９側（透明保護層７とは反対側）から奇数番目に配置された低屈折率層１２Ａと、保護フィルム２９側（透明保護層７とは反対側）から偶数番目に配置された高屈折率層１２Ｂとをそれぞれ１層ずつ有する。
【００７２】
本発明の転写フィルムはネガ型材料であることが好ましいが、本発明の転写フィルムはポジ型材料であってもよい。本発明の転写フィルムがポジ型材料である場合、前述の透明保護層および前述の光学調整部材に、例えば特開２００５−２２１７２６号公報に記載の材料などが用いられるが、これに限られない。
【００７３】
＜仮支持体＞
本発明の転写フィルムに用いられる仮支持体としては特に制限はなく、ガラス、Ｓｉウェハ、紙、不織布、フィルムなどを挙げることができる。その中でも、仮支持体としてはフィルムであることが好ましく、樹脂フィルムであることがより好ましい。
仮支持体として用いられるフィルムとしては、可撓性を有し、加圧下または、加圧および加熱下で著しい変形、収縮もしくは伸びを生じない材料を用いることができる。この性質を満たす仮支持体の例として、ポリエチレンテレフタレートフィルム、トリ酢酸セルロースフィルム、ポリスチレンフィルム、ポリカーボネートフィルム等が挙げられ、中でも２軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムが特に好ましい。
【００７４】
仮支持体の厚みには、特に制限はなく、５〜２００μｍの範囲が一般的であり、取扱い易さ、汎用性などの点で、特に１０〜１５０μｍの範囲が好ましく、軽量化の観点から１０〜２０μｍの範囲がより好ましい。
また、仮支持体は透明でもよいし、染料化ケイ素、アルミナゾル、クロム塩、ジルコニウム塩などを含有していてもよい。
また、仮支持体には、特開２００５−２２１７２６号公報に記載の方法などにより、導電性を付与することができる。
【００７５】
＜透明保護層＞
転写フィルムの透明保護層の好ましい範囲は、透明電極付き複合体の透明保護層の好ましい範囲と同様である。
本発明の転写フィルムは、透明保護層が硬化性である場合、転写後の透明保護層にフォトリソグラフィ性を付与できる。本発明の転写フィルムは、透明保護層が有機溶剤に可溶な樹脂を含むことが好ましい。一方、光学調整部材に含まれる低屈折率層および高屈折率層は水系樹脂組成物から形成されることが好ましいが、形成された低屈折率層および高屈折率層は水に可溶な樹脂を含んでいなくてもよく、例えば形成された低屈折率層および高屈折率層は塩基性の水溶液（例えばアンモニア水）に可溶な樹脂を含む態様が好ましい。本発明の転写フィルムを製造する場合に、透明保護層の形成に用いられる有機溶剤系樹脂組成物を塗布し、乾燥した後に、露光せずに前述の光学調整部材に含まれる低屈折率層および高屈折率層の形成に用いられる水系樹脂組成物を塗布することで、ドライレジスト用フィルムとして用いる状態で透明保護層に硬化性を付与することが好ましい。
【００７６】
＜光学調整部材＞
本発明の転写フィルムは、光学調整部材を有し、光学調整部材が保護フィルム側から奇数番目に配置された低屈折率層と、保護フィルム側から偶数番目に配置された高屈折率層とをそれぞれ少なくとも１層ずつ有し、
低屈折率層と直接隣接する高屈折率層との屈折率の差が０．０５以上であり、
高屈折率層の屈折率が２．１０以下であり、
低屈折率層および高屈折率層の厚みがそれぞれ５〜８０ｎｍである。
転写フィルムの光学調整部材の好ましい範囲は、透明電極付き複合体の光学調整部材の好ましい範囲と同様である。
【００７７】
＜保護フィルム＞
本発明の転写フィルムは、保護フィルムを有し、前述の光学調整部材の表面に保護フィルム（「保護剥離層」とも言う）を有することが好ましい。
【００７８】
前述の保護フィルムとしては、特開２００６−２５９１３８号公報の段落００８３〜００８７および００９３に記載の保護フィルムを適宜使用することができる。
【００７９】
＜熱可塑性樹脂層＞
転写フィルムは、前述の仮支持体と前述の透明保護層との間に熱可塑性樹脂層を設けることもできる。
前述の熱可塑性樹脂層はアルカリ可溶性であることが好ましい。熱可塑性樹脂層は、下地表面の凹凸（既に形成されている画像などを原因とする凹凸等も含む）を吸収することができるようにクッション材としての役割を担うものであり、対象面の凹凸に応じて変形しうる性質を有していることが好ましい。
【００８０】
熱可塑性樹脂層は、特開平５−７２７２４号公報に記載の有機高分子物質を成分として含む態様が好ましく、ヴィカー（Ｖｉｃａｔ）法〔具体的には、アメリカ材料試験法エーエステーエムデーＡＳＴＭＤ１２３５に基づくポリマー軟化点測定法〕で求められる軟化点が約８０℃以下の有機高分子物質より選ばれる少なくとも１種類を含む態様が特に好ましい。
【００８１】
具体的には、ポリエチレン、ポリプロピレンなどのポリオレフィン、エチレンと酢酸ビニルまたはそのケン化物等とのエチレン共重合体、エチレンとアクリル酸エステルまたはそのケン化物との共重合体、ポリ塩化ビニルまたは塩化ビニルと酢酸ビニルまたはそのケン化物等との塩化ビニル共重合体、ポリ塩化ビニリデン、塩化ビニリデン共重合体、ポリスチレン、スチレンと（メタ）アクリル酸エステルまたはそのケン化物等とのスチレン系共重合体、ポリビニルトルエン、ビニルトルエンと（メタ）アクリル酸エステルまたはそのケン化物等とのビニルトルエン共重合体、ポリ（メタ）アクリル酸エステル、（メタ）アクリル酸ブチルと酢酸ビニル等との（メタ）アクリル酸エステル共重合体、酢酸ビニル共重合体ナイロン、共重合ナイロン、Ｎ−アルコキシメチル化ナイロン、Ｎ−ジメチルアミノ化ナイロン等のポリアミド樹脂などの有機高分子が挙げられる。
【００８２】
熱可塑性樹脂層の厚みは、３〜３０μｍが好ましい。前述の熱可塑性樹脂層の厚みとしては、４〜２５μｍが更に好ましく、５〜２０μｍが特に好ましい。
【００８３】
熱可塑性樹脂層は、熱可塑性の有機高分子を含む調製液を塗布等して形成することができ、塗布等の際に用いる調製液は溶媒を用いて調製できる。溶媒には、熱可塑性樹脂層を構成する高分子成分を溶解し得るものであれば特に制限なく、例えば、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ｎ−プロパノール、２−プロパノール等が挙げられる。
【００８４】
＜中間層＞
転写フィルムは、前述の熱可塑性樹脂層と前述の透明保護層との間に中間層を設けることもできる。中間層としては、特開平５−７２７２４号公報に「分離層」として記載されている層が好ましい。
【００８５】
＜転写フィルムの製造方法＞
転写フィルムの製造方法は特に限定されず、公知の方法で製造することができる。
転写フィルムは、仮支持体上に透明保護層を形成する工程と、前述の透明保護層の上に光学調整部材を形成する工程と、前述の光学調整部材の上に保護フィルムを形成する工程とを有する製造方法によって製造されることが好ましい。
転写フィルムの製造方法では、透明保護層と光学調整部材の層間混合を抑制することが好ましい。そのためには、透明保護層形成用組成物（例えば塗布液）を有機溶剤系樹脂組成物とし、光学調整部材の低屈折率層形成用組成物および高屈折率層形成用組成物（例えば塗布液）を水系樹脂組成物とすることが好ましい。この場合、透明保護層形成用組成物を硬化せずにその上に低屈折率層形成用組成物および高屈折率層形成用組成物を塗布しても透明保護層が溶解しないので、層間混合し難い。
透明保護層を形成する工程が有機溶剤に可溶な樹脂を含む有機溶剤系樹脂組成物を前述の仮支持体上に塗布する工程であり、光学調整部材の低屈折率層および高屈折率層を形成する工程が水系樹脂組成物を塗布する工程であると、光学調整部材の低屈折率層および高屈折率層の厚みの均一性が良好になり、色ムラが顕著に少なくなるため、好ましい。水系樹脂組成物は、「水に可溶な樹脂、あるいは、水に可溶ではないがアンモニア水に可溶な樹脂」を含むことが好ましく、「水に可溶ではないがアンモニア水に可溶な樹脂」を含むことがより好ましい。詳しくは、有機溶剤系樹脂組成物によって得られた透明保護層の上に、酸基を有するモノマーのアンモニウム塩または酸基を有する樹脂のアンモニウム塩を含む水系樹脂組成物を塗布すると、透明保護層を硬化せずに光学調整部材の低屈折率層および高屈折率層を形成しても層間混合が生じ難くなり、光学調整部材の低屈折率層および高屈折率層の厚みの均一性が良好となる。
【００８６】
このとき、透明保護層の樹脂がフォトリソグラフィ性を有する樹脂を含むことでフォトリソグラフィ性を付与することができる。フォトリソグラフィ性を有する樹脂としては、特定のアクリル樹脂などを挙げることができ、アルカリ可溶性樹脂であるアクリル樹脂が好ましく、特開２００８−１４６０１８号公報の［００２８］〜［００７２］に記載のアクリル樹脂がより好ましい。
【００８７】
また、光学調整部材の低屈折率層および高屈折率層の樹脂が酸基を有するモノマーのアンモニウム塩または酸基を有する樹脂のアンモニウム塩を含むことで、得られる層の湿熱耐久性を改善することができる。詳しくは、酸基を有するモノマーのアンモニウム塩または酸基を有する樹脂のアンモニウム塩を含む水系樹脂組成物を用いて得られた塗布膜を乾燥させるときに、酸基を有するモノマーのアンモニウム塩または酸基を有する樹脂のアンモニウム塩から、水よりも沸点の低いアンモニアが乾燥工程で揮発しやすい。そのため、酸基を生成（再生）して酸基を有するモノマーまたは酸基を有する樹脂として低屈折率層および高屈折率層に存在させることができる。そのため、高温高湿下で経時させて吸湿させた場合に低屈折率層および高屈折率層を構成する酸基を有するモノマーまたは酸基を有する樹脂はすでに水に溶解しなくなっているため、転写フィルムが吸湿したときの湿熱耐久性の問題も抑制することができる。
【００８８】
さらに、透明保護層形成用組成物（例えば塗布液）がフッ素原子を含有する界面活性剤（フッ素系界面活性剤とも言われる）を含むことで、透明保護層を硬化せずに光学調整部材の低屈折率層および高屈折率層を形成しても層間混合が生じず、光学調整部材の低屈折率層および高屈折率層の厚みの均一性が良好となる。また、透明保護層の界面活性剤の固形分に対する含有量を０．０１〜０．５０質量％となるように透明保護層形成用組成物への界面活性剤の含有量を調整することで、後述の透明電極付き複合体を製造する場合に光学調整部材と透明電極パターンとの密着性が良好になる。透明保護層形成用組成物の固形分に対する界面活性剤の含有量の好ましい範囲は、透明保護層がフッ素原子を含有する界面活性剤を透明保護層の固形分に対して含む量の好ましい範囲と同様である。
【００８９】
特に、前述の透明保護層を形成する工程が、アクリル樹脂およびフッ素原子を含有する界面活性剤を含む有機溶剤系樹脂組成物を前述の仮支持体上に塗布する工程であり、前述の光学調整部材を形成する工程が、酸基を有するモノマーのアンモニウム塩または酸基を有する樹脂のアンモニウム塩を含む水系樹脂組成物を塗布する工程である態様が好ましい。この態様は、透明保護層と光学調整部材の層間混合が抑制でき、光学調整部材の厚みの均一性が良好になり、色ムラが顕著に少なくなるため、好ましい。この態様は、さらに、光学調整部材と透明電極パターンとの密着性が良好になり、かつ、高温高湿下で経時させた場合に水系樹脂組成物を用いて形成された透明樹脂層（ここでは光学調整部材）の吸湿を原因とする問題を抑制できるため、好ましい。
【００９０】
（仮支持体上に透明保護層を形成する工程）
仮支持体上に透明保護層を形成する工程が、仮支持体上に透明保護層形成用の樹脂組成物を塗布する工程であることが好ましい。
透明保護層形成用の樹脂組成物は、固形分濃度が１５〜３０質量％であることが好ましく、２０〜２４質量％であることがより好ましく、２１〜２３質量％であることが特に好ましい。
仮支持体上に透明保護層を形成する工程が、有機溶剤系樹脂組成物を前述の仮支持体上に塗布する工程であることがより好ましい。
【００９１】
有機溶剤系樹脂組成物とは、有機溶剤に溶解することができる樹脂組成物のことを言う。
有機溶剤としては、一般的な有機溶剤が使用できる。有機溶剤の例としては、メチルエチルケトン、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトン、乳酸エチル、乳酸メチル、カプロラクタム等を挙げることができる。
【００９２】
透明保護層の形成に用いられる樹脂組成物が、バインダーポリマーと、光重合性化合物と、光重合開始剤とを含むことが好ましい。
【００９３】
−バインダーポリマー−
前述の透明保護層の形成に用いられる樹脂組成物に含まれるバインダーポリマーとしては任意のポリマー成分を特に制限なく用いることができる。バインダーポリマーとしては、静電容量型入力装置の透明保護層、特に透明電極用保護膜として用いる観点から、表面硬度、耐熱性が高いものが好ましく、アルカリ可溶性樹脂がより好ましい。アルカリ可溶性樹脂の中でも、公知の感光性シロキサン樹脂材料、アクリル樹脂材料などが好ましく用いられる。透明保護層の形成に用いられる樹脂組成物に含まれるバインダーポリマーが、アクリル樹脂であることが好ましい。透明保護層の形成に用いられる樹脂組成物に含まれるバインダーポリマーと後述の光学調整部材の形成に用いられる樹脂組成物に含まれる酸基を有する樹脂またはバインダーポリマーがいずれもアクリル樹脂を含有することが、透明保護層と光学調整部材を転写する前および後の層間密着性を高める観点からより好ましい。透明保護層の前述のバインダーポリマーの好ましい範囲を具体的に説明する。
【００９４】
前述の透明保護層の形成に用いられる有機溶剤系樹脂組成物に用いられ、有機溶剤に対して溶解性を有する樹脂（「バインダー」、または、「ポリマー」とも言う）としては本発明の趣旨に反しない限りにおいて特に制限は無く、公知のものの中から適宜選択でき、アルカリ可溶性樹脂が好ましい。前述のアルカリ可溶性樹脂としては、特開２０１１−９５７１６号公報の段落００２５、特開２０１０−２３７５８９号公報の段落００３３〜００５２に記載のポリマーを用いることができる。
【００９５】
また透明保護層の形成に用いられる樹脂組成物は、ポリマーラテックスを含んでいても良い。ここで言うポリマーラテックスとは、水不溶のポリマーの微粒子が水に分散したものである。ポリマーラテックスについては、例えば室井宗一著「高分子ラテックスの化学（高分子刊行会発行（昭和４８年））」に記載されている。
【００９６】
使用できるポリマー粒子としてはアクリル系、酢酸ビニル系、ゴム系（例えばスチレン−ブタジエン系、クロロプレン系）、オレフィン系、ポリエステル系、ポリウレタン系、ポリスチレン系などのポリマー、およびこれらの共重合体からなるポリマー粒子が好ましい。
ポリマー粒子を構成するポリマー鎖相互間の結合力を強くすることが好ましい。ポリマー鎖相互間の結合力を強くする手段としては水素結合に起因して生じる相互作用を利用する手段と共有結合を生成する手段が挙げられる。
水素結合に起因して生じる相互作用を利用する手段としてはポリマー鎖に極性基を有するモノマーを共重合、もしくはグラフト重合して導入することが好ましい。バインダーポリマーが有する極性基としてはカルボキシル基（アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、フマル酸、マレイン酸、クロトン酸、部分エステル化マレイン酸等に含有される）、一級、二級および三級アミノ基、アンモニウム塩基、スルホン酸基（スチレンスルホン酸基など）などが挙げられ、カルボキシル基、スルホン酸基が特に好ましい。これらの極性基を有するモノマーの共重合比の好ましい範囲は、ポリマー１００質量％に対し５〜３５質量％であり、より好ましくは５〜２０質量％、更に好ましくは１５〜２０質量％の範囲内である。
一方、共有結合を生成させる手段としては、水酸基、カルボキシル基、一級または二級アミノ基、アセトアセチル基およびスルホン酸基などのうち少なくとも１種類に対して、エポキシ化合物、ブロックイソシアネート、イソシアネ−ト、ビニルスルホン化合物、アルデヒド化合物、メチロール化合物およびカルボン酸無水物などのうち少なくとも１種類を反応させる方法が挙げられる。
これらの反応を利用したポリマーの中でもポリオール類とポリイソシアネ−ト化合物の反応で得られるポリウレタン誘導体が好ましく、鎖延長剤として多価アミンを併用するのがより好ましく、さらにポリマー鎖に上記極性基を導入してアイオノマー型にしたものが特に好ましい。
ポリマーの重量平均分子量は１万以上が好ましく、さらに好ましくは２万〜１０万である。本発明に好適なポリマーとしてエチレンとメタクリル酸の共重合体であるエチレンアイオノマー、ポリウレタンアイオノマーが挙げられる。
【００９７】
本発明に用いることができるポリマーラテックスは、乳化重合によって得られるものでもよいし、乳化によって得られるものでもよい。これらポリマーラテックスの調製方法については、例えば「エマルジョン・ラテックスハンドブック」（エマルジョン・ラテックスハンドブック編集委員会編集、（株）大成社発行（昭和５０年））に記載されている。
本発明に用いることができるポリマーラテックスとしては、例えば、ポリエチレンアイオノマーの水性ディスパージョン（商品名：ケミパールＳ１２０  三井化学（株）製。固形分２７質量％）（商品名：ケミパールＳ１００  三井化学（株）製。固形分２７質量％）（商品名：ケミパールＳ１１１  三井化学（株）製。固形分２７質量％）（商品名：ケミパールＳ２００  三井化学（株）製。固形分２７質量％）（商品名：ケミパールＳ３００  三井化学（株）製。固形分３５質量％）（商品名：ケミパールＳ６５０  三井化学（株）製。固形分２７質量％）（商品名：ケミパールＳ７５Ｎ  三井化学（株）製。固形分２４質量％）や、ポリエーテル系ポリウレタンの水性ディスパージョン（商品名：ハイドランＷＬＳ−２０１  ＤＩＣ（株）製。固形分３５質量％、Ｔｇ−５０℃、ＴｇはＧｌａｓｓ  Ｔｒａｎｓｉｔｉｏｎ  Ｔｅｍｐｅｒａｔｕｒｅの略称）（商品名：ハイドランＷＬＳ−２０２  ＤＩＣ（株）製。固形分３５質量％、Ｔｇ−５０℃）（商品名：ハイドランＷＬＳ−２２１  ＤＩＣ（株）製。固形分３５質量％、Ｔｇ−３０℃）（商品名：ハイドランＷＬＳ−２１０  ＤＩＣ（株）製。固形分３５質量％、Ｔｇ−１５℃）（商品名：ハイドランＷＬＳ−２１３  ＤＩＣ（株）製。固形分３５質量％、Ｔｇ−１５℃）（商品名：ハイドランＷＬＩ−６０２  ＤＩＣ（株）製。固形分３９．５質量％、Ｔｇ−５０℃）（商品名：ハイドランＷＬＩ−６１１  ＤＩＣ（株）製。固形分３９．５質量％、Ｔｇ−１５℃）、アクリル酸アルキルコポリマーアンモニウム（商品名：ジュリマーＡＴ−２１０  東亞合成（株）製）（商品名：ジュリマーＥＴ−４１０  東亞合成（株）製）（商品名：ジュリマーＡＴ−５１０  東亞合成（株）製）、ポリアクリル酸（商品名：ジュリマーＡＣ−１０Ｌ  東亞合成（株）製）をアンモニアで中和し、乳化した物を挙げることができる。
【００９８】
−光重合性化合物−
水系樹脂組成物または有機溶剤系樹脂組成物に用いられる光重合性化合物としては、特許第４０９８５５０号の段落００２３〜００２４に記載の光重合性化合物を用いることができる。その中でも、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールエチレンオキサイド付加物のテトラアクリレートを好ましく用いることができる。これらの光重合性化合物は単独で用いてもよく、複数を含みあわせて用いてもよい。ペンタエリスリトールテトラアクリレートとペンタエリスリトールトリアクリレートの混合物を用いる場合、ペンタエリスリトールテトラアクリレートとペンタエリスリトールトリアクリレートの混合物全体に対するペンタエリスリトールトリアクリレートの比率は質量比で０〜８０％であることが好ましく、１０〜６０％であることがより好ましい。
有機溶剤系樹脂組成物に用いられる光重合性化合物としては、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（アクリロイルオキシプロピル）エーテル、トリ（アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、トリ（アクリロイルオキシエチル）シアヌレート、グリセリントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンやグリセリン、ビスフェノール等の多官能アルコールに、エチレンオキサイドやプロピレンオキサイドを付加反応した後で（メタ）アクリレート化したもの、特公昭４８−４１７０８号、特公昭５０−６０３４号、特開昭５１−３７１９３号等の各公報に記載されているウレタンアクリレート類；特開昭４８−６４１８３号、特公昭４９−４３１９１号、特公昭５２−３０４９０号等の各公報に記載されているポリエステルアクリレート類；エポキシ樹脂と（メタ）アクリル酸の反応生成物であるエポキシアクリレート類等の多官能アクリレートやメタクリレートなどが挙げられる。これらの中でも、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレートペンタエリスリトールテトラアクリレート混合物（ＮＫエステル  Ａ−ＴＭＭＴ新中村化学工業（株）製）、ペンタエリスリトールエチレンオキサイド付加物のテトラアクリレート（カヤラッドＲＰ−１０４０  日本化薬（株）製）を好ましく用いることができる。これらは、１種類を単独で使用してもよいし、２種類以上を併用してもよい。
【００９９】
−光重合開始剤−
前述の透明保護層の形成に用いられる樹脂組成物が、前述の光重合性化合物および前述の光重合開始剤を含むことによって、透明保護層のパターンを形成しやすくできる。
有機溶剤系樹脂組成物に用いられる光重合開始剤としては、特開２０１１−９５７１６号公報に記載の段落００３１〜００４２に記載の光重合開始剤を用いることができる。例えば、１，２−オクタンジオン，１−［４−（フェニルチオ）−，２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）］（商品名：Ｉｒｇａｃｕｒｅ  ＯＸＥ−０１、ＢＡＳＦ製）の他、エタノン，１−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］−，１−（０−アセチルオキシム）（商品名：Ｉｒｇａｃｕｒｅ  ＯＸＥ−０２、ＢＡＳＦ製）、２−（ジメチルアミノ）−２−［（４−メチルフェニル）メチル］−１−［４−（４−モルホリニル）フェニル］−１−ブタノン（商品名：Ｉｒｇａｃｕｒｅ  ３７９ＥＧ、ＢＡＳＦ製）、２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルフォリノプロパン−１−オン（商品名：Ｉｒｇａｃｕｒｅ  ９０７、ＢＡＳＦ製）、２−ヒロドキシ−１−｛４−［４−（２−ヒドロキシ−２−メチル−プロピオニル）−ベンジル］フェニル｝−２−メチル−プロパン−１−オン（商品名：Ｉｒｇａｃｕｒｅ  １２７、ＢＡＳＦ製）、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン−１（商品名：Ｉｒｇａｃｕｒｅ  ３６９、ＢＡＳＦ製）、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オン（商品名：Ｉｒｇａｃｕｒｅ  １１７３、ＢＡＳＦ製）、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン（商品名：Ｉｒｇａｃｕｒｅ  １８４、ＢＡＳＦ製）、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン（商品名：Ｉｒｇａｃｕｒｅ  ６５１、ＢＡＳＦ製）、オキシムエステル系の光重合開始剤（商品名：Ｌｕｎａｒ  ６、ＤＫＳＨジャパン株式会社製）などを好ましく用いることができる。
前述の透明保護層の形成に用いられる樹脂組成物中、前述の透明保護層の形成に用いられ樹脂組成物の固形分に対して、前述の光重合開始剤は、１質量％以上含まれることが好ましく、２質量％以上含まれることがより好ましい。前述の透明保護層の形成に用いられる樹脂組成物中、前述の透明保護層の形成に用いられる樹脂組成物の固形分に対して、前述の光重合開始剤は、１０質量％以下含まれることが好ましく、５質量％以下含まれることが本発明の透明電極付き複合体のパターニング性を改善する観点からより好ましい。
【０１００】
−金属酸化物粒子−
前述の透明保護層の形成に用いられる樹脂組成物は、屈折率や光透過性を調節することを目的として、粒子（好ましくは金属酸化物粒子）を含んでいても含んでいなくてもよい。上述の範囲に前述の透明保護層の屈折率を制御するために、使用するポリマーや重合性化合物（好ましくは光重合性化合物）の種類に応じて、任意の割合で金属酸化物粒子を含めることができる。前述の透明保護層の形成に用いられる樹脂組成物中、前述の透明保護層の形成に用いられる樹脂組成物の固形分に対して、前述の金属酸化物粒子は、０〜３５質量％含まれることが好ましく、０〜１０質量％含まれることがより好ましく、含まれないことが特に好ましい。
【０１０１】
（光学調整部材を形成する工程）
透明保護層の上に光学調整部材を形成する工程が、透明保護層の上に光学調整部材形成用の樹脂組成物（低屈折率層形成用の樹脂組成物または高屈折率層形成用の樹脂組成物）を塗布する工程であることが好ましい。
光学調整部材形成用の樹脂組成物は、固形分濃度が１．０〜５．０質量％であることが好ましく、１．２〜３．０質量％であることがより好ましく、１．５〜２．０質量％であることが特に好ましい。
透明保護層の上に直接、光学調整部材を形成する工程が、光学調整部材形成用の水系樹脂組成物を塗布する工程であることがより好ましい。透明保護層の上に直接、光学調整部材を形成する工程が、酸基を有するモノマーのアンモニウム塩または酸基を有する樹脂のアンモニウム塩を含む光学調整部材形成用の水系樹脂組成物を塗布する工程であることが特に好ましい。
【０１０２】
水系樹脂組成物とは、水系溶媒に溶解することができる樹脂組成物のことを言う。
光学調整部材形成用の樹脂組成物は、全溶媒を１００質量部とした場合の水の含有量が１５〜８５質量部であることが好ましく、２０〜８０質量部であることがより好ましく、２５〜７５質量部であることが特に好ましい。
水系溶媒としては、水もしくは炭素原子数１乃至３の低級アルコールと水との混合溶媒が好ましい。光学調整部材の形成に用いる水系樹脂組成物の溶媒が、水および炭素原子数１〜３のアルコールを含むことが好ましく、水／炭素原子数１〜３のアルコール含有率が質量比で１５／８５〜８５／１５の水または混合溶媒であることがより好ましい。水／炭素原子数１〜３のアルコール含有率は、質量比で２０／８０〜８０／２０の範囲が特に好ましく、２５／７５〜７５／２５の範囲がより特に好ましい。
水系樹脂組成物の２５℃におけるｐＨが、７．０以上１２．０以下であることが好ましく、７．０〜１０．０であることがより好ましく、７．０〜８．５であることが特に好ましい。例えば、酸基に対して過剰量のアンモニアを用い、酸基を有するモノマーまたは酸基を有する樹脂を添加して、上記の好ましい範囲に水系樹脂組成物のｐＨを調整することができる。
【０１０３】
また、光学調整部材の形成に用いられる樹脂組成物が、熱硬化性および光硬化性のうち少なくとも一方であることが好ましい。透明保護層および光学調整部材が硬化性透明樹脂層である場合、透明保護層を積層した後に硬化させることなく光学調整部材を積層しても層分画が良好となって透明電極パターンの隠蔽性を改善することができる。透明保護層が硬化性透明樹脂層である場合、さらに、後述の透明電極付き複合体は、得られた転写フィルムからオーバーコート層および屈折率調整層（すなわち透明保護層および光学調整部材）を同時に透明電極パターン上に転写した後で、フォトリソグラフィによって少なくとも転写後に光学調整部材よりも外部に近い層となる透明保護層を所望のパターンに現像できる。さらに光学調整部材が硬化性を有する態様がより好ましく、この態様では、透明保護層および光学調整部材を同時に透明電極パターン上に転写した後で、フォトリソグラフィによって同時に所望のパターンに現像できる。
光学調整部材の形成に用いられる樹脂組成物が、バインダーポリマーと、光または熱重合性化合物と、光または熱重合開始剤とを含むことが好ましい。
【０１０４】
光学調整部材の形成に用いられる樹脂組成物が、酸基を有するモノマーのアンモニウム塩または酸基を有する樹脂のアンモニウム塩を有することがより好ましい。水系樹脂組成物は、酸基を有するモノマーのアンモニウム塩または酸基を有する樹脂のアンモニウム塩を含むことが好ましい。
酸基を有するモノマーのアンモニウム塩または酸基を有する樹脂のアンモニウム塩としては特に制限はない。光学調整部材の前述の酸基を有するモノマーのアンモニウム塩または酸基を有する樹脂のアンモニウム塩が、酸基を有するアクリルモノマーまたはアクリル樹脂のアンモニウム塩であることが好ましい。酸基を有する樹脂のアンモニウム塩のみがバインダーポリマーであってもよく、酸基を有する樹脂のアンモニウム塩の他にさらに他のバインダーポリマーを併用してもよい。酸基を有するモノマーのアンモニウム塩が光または熱重合性化合物であってもよく、酸基を有するモノマーのアンモニウム塩の他にさらに光または熱重合性化合物を併用してもよい。
転写フィルムの製造方法は、酸基を有するモノマーまたは酸基を有する樹脂をアンモニア水溶液に溶解させ、前述の酸基の少なくとも一部がアンモニウム塩化したモノマーまたは樹脂を含む水系樹脂組成物を調製する工程を含むことが好ましい。
転写フィルムの製造方法に用いることができるアンモニア水溶液の濃度としては特に制限はないが、アンモニア濃度が０．１〜２５質量％のアンモニア水溶液が好ましく、０．５〜１０質量％のアンモニア水溶液がより好ましく、１〜５質量％のアンモニア水溶液が特に好ましい。
酸基を有するモノマーまたは酸基を有する樹脂としては、酸基を有する樹脂であることが好ましい。
【０１０５】
−バインダーポリマー−
光学調整部材の形成に用いられる樹脂組成物は、バインダーポリマーを含むことが好ましい。
バインダーポリマーとしては、酸基を有する樹脂、および、酸基を有さない他のバインダーポリマーを挙げることができる。
【０１０６】
−−酸基を有する樹脂−−
酸基を有する樹脂としては、１価の酸基（カルボキシル基など）を有する樹脂であることがより好ましい。
光学調整部材の形成に用いられる水系樹脂組成物に用い、水系溶媒（好ましくは水もしくは炭素原子数１乃至３の低級アルコールと水との混合溶媒）に対して溶解性を有する樹脂としては本発明の趣旨に反しない限りにおいて特に制限は無く、公知のものの中から適宜選択できる。
水系樹脂組成物に用いられる酸基を有する樹脂は、アルカリ可溶性樹脂であることが好ましい。アルカリ可溶性樹脂は、線状有機高分子重合体であって、分子（好ましくは、アクリル系共重合体、スチレン系共重合体を主鎖とする分子）中に少なくとも１つのアルカリ溶解を促進する基（すなわち酸基：例えば、カルボキシル基、リン酸基、スルホン酸基など）を有するアルカリ可溶性樹脂の中から適宜選択することができる。このうち、更に好ましくは、有機溶剤に可溶で弱アルカリ水溶液により現像可能なものである。酸基としては、カルボキシル基が好ましい。
【０１０７】
アルカリ可溶性樹脂の製造には、例えば、公知のラジカル重合法を用いる方法を適用することができる。ラジカル重合法でアルカリ可溶性樹脂を製造する際の温度、圧力、ラジカル開始剤の種類およびその量、溶媒の種類等々の重合条件は、当業者において容易に設定可能であり、実験的に条件を定めることもできる。
【０１０８】
上記の線状有機高分子重合体としては、側鎖にカルボン酸を有するポリマーが好ましい。例えば、特開昭５９−４４６１５号、特公昭５４−３４３２７号、特公昭５８−１２５７７号、特公昭５４−２５９５７号、特開昭５９−５３８３６号、特開昭５９−７１０４８号、特開昭４６−２１２１号および特公昭５６−４０８２４号公報の各公報に記載されている、ポリ（メタ）アクリル酸、メタクリル酸共重合体、アクリル酸共重合体、イタコン酸共重合体、クロトン酸共重合体、スチレン／マレイン酸等のマレイン酸共重合体、部分エステル化マレイン酸共重合体等、並びにカルボキシアルキルセルロースおよびカルボキシアルキル澱粉等の側鎖にカルボン酸を有する酸性セルロース誘導体、水酸基を有するポリマーに酸無水物を付加させたもの等が好ましい。更に側鎖に（メタ）アクリロイル基等の反応性官能基を有する高分子重合体も好ましい。
【０１０９】
これらの中では特に、ベンジル（メタ）アクリレート／（メタ）アクリル酸共重合体、および、ベンジル（メタ）アクリレート／（メタ）アクリル酸／他のモノマーからなる多元共重合体が好適である。
この他、２−ヒドロキシエチルメタクリレートを共重合したもの等も有用なものとして挙げられる。このポリマーは任意の量で混合して用いることができる。
【０１１０】
上記以外に、特開平７−１４０６５４号公報に記載の、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート／ポリスチレンマクロモノマー／ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピルアクリレート／ポリメチルメタクリレートマクロモノマー／ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体、２−ヒドロキシエチルメタクリレート／ポリスチレンマクロモノマー／メチルメタクリレート／メタクリル酸共重合体、２−ヒドロキシエチルメタクリレート／ポリスチレンマクロモノマー／ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体などが挙げられる。
【０１１１】
アルカリ可溶性樹脂の具体的な構成単位については、特に（メタ）アクリル酸と、これと共重合可能な他の単量体との共重合体が好適である。
【０１１２】
（メタ）アクリル酸と共重合可能な他の単量体としては、アルキル（メタ）アクリレート、アリール（メタ）アクリレート、ビニル化合物などが挙げられる。ここで、アルキル基およびアリール基の水素原子は、置換基で置換されていてもよい。
アルキル（メタ）アクリレートおよびアリール（メタ）アクリレートの具体例としては、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ペンチル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、オクチル（メタ）アクリレート、フェニル（メタ）アクリレート、ベンジルアクリレート、トリルアクリレート、ナフチルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート等を挙げることができる。
【０１１３】
また、ビニル化合物としては、例えば、スチレン、α−メチルスチレン、ビニルトルエン、グリシジルメタクリレート、アクリロニトリル、ビニルアセテート、Ｎ−ビニルピロリドン、テトラヒドロフルフリルメタクリレート、ポリスチレンマクロモノマー、ポリメチルメタクリレートマクロモノマー、ＣＨ２＝ＣＲ１Ｒ２、ＣＨ２＝Ｃ（Ｒ１）（ＣＯＯＲ３）等を挙げることができる。ここで、Ｒ１は水素原子または炭素数１〜５のアルキル基を表し、Ｒ２は炭素数６〜１０の芳香族炭化水素環を表し、Ｒ３は炭素数１〜８のアルキル基または炭素数６〜１２のアラルキル基を表す。
これら共重合可能な他の単量体は、１種類を単独で用いること、あるいは２種類以上を組み合わせて用いることができる。好ましい共重合可能な他の単量体は、ＣＨ２＝ＣＲ１Ｒ２、ＣＨ２＝Ｃ（Ｒ１）（ＣＯＯＲ３）、フェニル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレートおよびスチレンから選択される少なくとも１種類であり、特に好ましくは、ＣＨ２＝ＣＲ１Ｒ２および／またはＣＨ２＝Ｃ（Ｒ１）（ＣＯＯＲ３）である。
【０１１４】
この他に反応性官能基を有する（メタ）アクリル化合物、ケイ皮酸等に、この反応性官能基と反応可能な置換基を有する線状高分子を反応させて、エチレン性不飽和二重結合をこの線状高分子に導入した樹脂が挙げられる。反応性官能基としては、水酸基、カルボキシル基、アミノ基等が例示でき、この反応性官能基と反応可能な置換基としては、イソシアネート基、アルデヒド基、エポキシ基等を挙げることができる。
【０１１５】
これらの中でも、酸基を有する樹脂としては、酸基を有するアクリル樹脂であることが好ましい。なお、本明細書中、アクリル樹脂には、メタクリル樹脂とアクリル樹脂の両方が含まれ、同様に（メタ）アクリルにはメタクリルとアクリルが含まれる。
【０１１６】
−−他のバインダーポリマー−−
酸基を有さない他のバインダーポリマーとしては特に制限はなく、前述の透明保護層の形成に用いられる樹脂組成物に用いられるバインダーポリマーを用いることができる。
【０１１７】
−重合性化合物−
前述の光学調整部材の形成に用いられる樹脂組成物が、光重合性化合物または熱重合性化合物などの重合性化合物を含むことが、硬化させて膜の強度などを高める観点から好ましい。
光学調整部材の形成に用いられる樹脂組成物が有する重合性化合物としては、酸基を有するモノマー、および、酸基を有するモノマー以外の他の重合性化合物を挙げることができる。
光学調整部材の形成に用いられる樹脂組成物が有する重合性化合物は、酸基を有するモノマー以外の他の光重合性化合物を含むことが好ましく、酸基を有するモノマーおよび酸基を有するモノマー以外の他の光重合性化合物を含むことがより好ましい。
【０１１８】
−−酸基を有するモノマー−−
酸基を有するモノマーとしては、（メタ）アクリル酸やその誘導体などのアクリルモノマーや、以下のモノマーを好ましく用いることができる。
例えば、３〜４官能のラジカル重合性モノマー（ペンタエリスリトールトリおよびテトラアクリレート骨格にカルボン酸基を導入したもの（酸価＝８０〜１２０ｍｇＫＯＨ／ｇ））、５〜６官能のラジカル重合性モノマー（ジペンタエリスリトールペンタおよびヘキサアクリレート骨格にカルボン酸基を導入したもの（酸価＝２５〜７０ｍｇＫＯＨ／ｇ））等が挙げられる。具体的な名称は記載していないが、必要に応じ、２官能のアルカリ可溶性ラジカル重合性モノマーを用いても良い。
その他、特開２００４−２３９９４２号公報の［００２５］〜［００３０］に記載の酸基を有するモノマーも好ましく用いることができ、この公報の内容は本明細書に組み込まれる。
これらの中でも、（メタ）アクリル酸やその誘導体などのアクリルモノマーをより好ましく用いることができる。なお、本明細書中、アクリルモノマーは、メタクリルモノマーとアクリルモノマーの両方が含まれる。
【０１１９】
−−他の重合性化合物−−
光学調整部材の形成に用いられる樹脂組成物に用いられる、酸基を有するモノマー以外の他の重合性化合物としては、光重合性化合物が好ましい。
光重合性化合物としては、特許第４０９８５５０号の段落００２３〜００２４に記載の光重合性化合物を用いることができる。その中でも、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールエチレンオキサイド付加物のテトラアクリレートを好ましく用いることができる。これらの重合性化合物は単独で用いてもよく、複数を含みあわせて用いてもよい。ペンタエリスリトールテトラアクリレートとペンタエリスリトールトリアクリレートの混合物を用いる場合、ペンタエリスリトールテトラアクリレートとペンタエリスリトールトリアクリレートの混合物全体に対するペンタエリスリトールトリアクリレートの比率は質量比で０〜８０質量％であることが好ましく、１０〜６０質量％であることがより好ましい。
光学調整部材の形成に用いられる樹脂組成物に用いられる光重合性化合物として、具体的には、下記構造式１で表される水溶性の重合性化合物、ペンタエリスリトールテトラアクリレートの混合物（ＮＫエステル  Ａ−ＴＭＭＴ新中村化学工業（株）製、不純物としてトリアクリレート約１０％含有）、ペンタエリスリトールテトラアクリレートとトリアクリレートの混合物（ＮＫエステル  Ａ−ＴＭＭ３ＬＭ−Ｎ  新中村化学工業（株）製、トリアクリレート３７質量％）、ペンタエリスリトールテトラアクリレートとトリアクリレートの混合物（ＮＫエステル  Ａ−ＴＭＭ−３Ｌ  新中村化学工業（株）製、トリアクリレート５５質量％）、ペンタエリスリトールテトラアクリレートとトリアクリレートの混合物（ＮＫエステル  Ａ−ＴＭＭ３  新中村化学工業（株）製、トリアクリレート５７質量％）、ペンタエリスリトールエチレンオキサイド付加物のテトラアクリレート（カヤラッドＲＰ−１０４０  日本化薬（株）製）、アロニックスＴＯ−２３４９（東亞合成社製）などを挙げることができる。
光学調整部材の形成に用いられる樹脂組成物に用いられる光重合性化合物としては、これらの中でも、本発明の転写フィルムのレチキュレーションを改善する観点からは、下記構造式１で表される水溶性の重合性化合物、ペンタエリスリトールテトラアクリレート混合物（ＮＫエステル  Ａ−ＴＭＭＴ新中村化学工業（株）製）、ペンタエリスリトールテトラアクリレートとトリアクリレートの混合物（ＮＫエステル  Ａ−ＴＭＭ３ＬＭ−Ｎ  新中村化学工業（株）製、トリアクリレート３７％）、ペンタエリスリトールテトラアクリレートとトリアクリレートの混合物（ＮＫエステル  Ａ−ＴＭＭ−３Ｌ  新中村化学工業（株）製、トリアクリレート５５％）を好ましく用いることができる。
【化２】
2017018406.tif 000004
その他の光学調整部材の形成に用いられる樹脂組成物に用いられる光重合性化合物としては、メタノールなどの炭素原子数１乃至３の低級アルコールと水との混合溶媒にも溶解性を有することが、後述する金属酸化物粒子のアルコール分散液を水系樹脂組成物である光学調整部材の形成に用いられる樹脂組成物に併用する場合に好ましい。水もしくは炭素原子数１乃至３の低級アルコールと水との混合溶媒に対して溶解性を有する重合性化合物としては、水酸基を有するモノマー、分子内にエチレンオキサイドやポリプロピレンオキサイド、およびリン酸基を有するモノマーが使用できる。炭素原子数１乃至３の低級アルコールと水との混合溶媒にも溶解性を有する重合性化合物としては、カヤラッドＲＰ−１０４０（日本化薬（株）製）、アロニックスＴＯ−２３４９（東亞合成社製）、重合性モノマー  Ａ−９３００（新中村化学工業（社）製）、Ａ−ＧＬＹ−２０Ｅ（新中村化学工業（社）製）などが好ましい。なお、重合性化合物が炭素原子数１乃至３の低級アルコールと水との混合溶媒にも溶解性を有するとは、アルコールと水の混合溶媒に０．１質量％以上溶解することを言う。
また、重合性化合物の含有量は、光学調整部材を形成用の樹脂組成物の固形分の全質量に対し、０〜２０質量％であることが好ましく、０〜１０質量％であることがより好ましく、０〜５質量％であることが更に好ましい。
【０１２０】
−光重合開始剤−
光学調整部材に用いられ、水もしくは炭素原子数１乃至３の低級アルコールと水との混合溶媒に対して溶解性を有する光重合開始剤としてはＩｒｇａｃｕｒｅ  ２９５９や、下記構造式１１の開始剤が使用できる。
また、重合開始剤の含有量は、光学調整部材を形成用の樹脂組成物の固形分の全質量に対し、０〜５質量％であることが好ましく、０〜１質量％であることがより好ましく、０〜０．５質量％であることが更に好ましい。
【化３】
2017018406.tif 000005
【０１２１】
−金属酸化物粒子−
前述の光学調整部材の形成に用いられる樹脂組成物は、屈折率や光透過性を調節することを目的として、粒子（好ましくは金属酸化物粒子）を含んでいても含んでいなくてもよいが、高屈折率層の形成に用いられる樹脂組成物が金属酸化物粒子を含むことが、上述の範囲に前述の光学調整部材の高屈折率層の屈折率を制御する観点から好ましい。光学調整部材の高屈折率層の形成に用いられる樹脂組成物には、使用するポリマーや重合性化合物（好ましくは光重合性化合物）の種類に応じて、任意の割合で金属酸化物粒子を含めることができる。前述の高屈折率層の形成に用いられる樹脂組成物中、前述の高屈折率層の形成に用いられる樹脂組成物の全固形分に対して、前述の金属酸化物粒子は、１０〜９５質量％含まれることが好ましく、４０〜９５質量％含まれることがより好ましく、５５〜９５質量％含まれることが特に好ましく、６２〜９０質量％含まれることがより特に好ましく、６５〜９０質量％含まれることがさらにより特に好ましい。
金属酸化物粒子の屈折率は、金属酸化物粒子を含まない、光学調整部材の屈折率より高いことが好ましい。すなわち、前述の金属酸化物粒子は、光学調整部材からこの粒子を除いた材料からなる組成物の屈折率より屈折率が高いものであることが好ましい。具体的には、光学調整部材の高屈折率層が、４００〜７５０ｎｍの波長を有する光における屈折率が１．５０以上の粒子を含有することが好ましく、屈折率が１．５５以上の粒子を含有することがより好ましく、屈折率が１．７０以上の粒子を含有することが特に好ましく、１．９０以上の粒子を含有することが最も好ましい。
ここで、４００〜７５０ｎｍの波長を有する光における屈折率が１．５０以上であるとは、上記範囲の波長を有する光における平均屈折率が１．５０以上であることを意味し、上記範囲の波長を有する全ての光における屈折率が１．５０以上であることを要しない。また、平均屈折率は、上記範囲の各波長の光に対する屈折率の平均値である。
【０１２２】
なお、前述の金属酸化物粒子の金属には、Ｂ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ａｓ、Ｓｂ、Ｔｅ等の半金属も含まれるものとする。
光透過性で屈折率の高い金属酸化物粒子としては、Ｂｅ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｓｃ、Ｙ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｇｄ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｙｂ、Ｌｕ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｗ、Ｚｎ、Ｂ、Ａｌ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｓｎ、Ｐｂ、Ｓｂ、Ｂｉ、Ｔｅ等の原子を含む酸化物粒子が好ましく、酸化チタン、チタン複合酸化物、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム、インジウム／スズ酸化物、アンチモン／スズ酸化物がより好ましく、酸化チタン、チタン複合酸化物、酸化ジルコニウムが更に好ましく、酸化チタン、酸化ジルコニウムが特に好ましく、酸化チタンが最も好ましい。酸化チタンとしては、特に屈折率の高いルチル型が好ましい。これら金属酸化物粒子は、分散安定性付与のために表面を有機材料で処理することもできる。
【０１２３】
光学調整部材の透明性の観点から、前述の金属酸化物粒子の平均一次粒子径は、１〜２００ｎｍが好ましく、３〜８０ｎｍが特に好ましい。ここで粒子の平均一次粒子径は、電子顕微鏡により任意の粒子２００個の粒子径を測定し、その算術平均をいう。また、粒子の形状が球形でない場合には、最も長い辺を径とする。
【０１２４】
また、前述の金属酸化物粒子は、１種類を単独で使用してよいし、２種類以上を併用することもできる。
本発明では、光学調整部材が、ＺｒＯ２粒子、Ｎｂ２Ｏ５粒子およびＴｉＯ２粒子のうち少なくとも一方を有することが、光学調整部材の屈折率の範囲に屈折率を制御する観点から好ましく、ＺｒＯ２粒子またはＮｂ２Ｏ５粒子がより好ましい。
前述の光学調整部材の高屈折率層は、金属酸化物粒子を含んでいても含んでいなくてもよいが、金属酸化物粒子を含むことが、上述の範囲に前述の光学調整部材の屈折率を制御する観点から好ましい。前述の光学調整部材の高屈折率層には、使用するポリマーや重合性化合物の種類に応じて、任意の割合で金属酸化物粒子を含めることができる。前述の光学調整部材の高屈折率層中、前述の光学調整部材の高屈折率層の固形分に対して、前述の金属酸化物粒子は、１０〜９５質量％含まれることが好ましく、５５〜９５質量％含まれることがより好ましく、６２〜９０質量％含まれることが特に好ましく、６５〜９０質量％含まれることがより特に好ましい。
一方、光学調整部材の低屈折率層は、金属酸化物粒子を含んでいても含んでいなくてもよいが、前述の低屈折率層の固形分に対して、前述の金属酸化物粒子は、０〜３５質量％含まれることが好ましく、０〜１０質量％含まれることがより好ましく、含まれないことが特に好ましい。光学調整部材の低屈折率層は金属酸化物粒子を含まない方が好ましいが、金属酸化物粒子を含む場合も本発明に含まれる。光学調整部材の低屈折率層が金属酸化物粒子を含む場合の金属酸化物粒子の種類としてはＺｒＯ２粒子、Ｎｂ２Ｏ５粒子およびＴｉＯ２粒子を挙げることができる。
本発明の透明電極付き複合体において、透明保護層および光学調整部材の金属酸化物粒子の含有量を測定する方法は、以下のとおりである。
透明電極付き複合体の断面を切削した後、ＴＥＭ（Ｔｒａｎｓｍｉｓｓｉｏｎ  Ｅｌｅｃｔｒｏｎ  Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｅ；透過型電子顕微鏡）で、断面を観察する。光学調整部材（または透明保護層）の膜断面積における、金属酸化物粒子の占有面積の割合を層内の任意の３箇所で測定し、その平均値を体積分率（ｖｏｌｕｍｅ  ｆｒａｃｔｉｏｎ；ＶＲ）と見なす。
体積分率（ＶＲ）と重量分率（ＷＲ）は、下記の式で換算することにより、光学調整部材（または透明保護層）内における金属酸化物粒子の重量分率（ｗｅｉｇｈｔ  ｆｒａｃｔｉｏｎ；ＷＲ）を算出する。
ＷＲ＝Ｄ＊ＶＲ／（１．１＊（１−ＶＲ）＋Ｄ＊ＶＲ）
Ｄ：金属酸化物粒子の比重
金属酸化物粒子が、酸化チタンの場合Ｄ＝４．０、酸化ジルコニウムの場合Ｄ＝６．０として計算することができる。
【０１２５】
−金属酸化抑制剤−
前述の光学調整部材の形成に用いられる樹脂組成物は、金属酸化抑制剤を含むことが好ましい。光学調整部材が金属酸化抑制剤を含有することにより、光学調整部材を基材（基材は、透明電極パターンおよび金属配線部等を含むことが好ましい）上に積層する際に、光学調整部材と直接接する金属配線部を表面処理することが可能となる。上記表面処理をすることで付与される金属配線部の保護性は、光学調整部材（および透明保護層）を除去した後にも有効であると考えられる。
本発明に用いられる金属酸化抑制剤としては、分子内に窒素原子を含む芳香環を有する化合物であることが好ましい。
また、本発明に用いられる金属酸化抑制剤としては、上記窒素原子を含む芳香環が、イミダゾール環、トリアゾ−ル環、テトラゾール環、チアジアゾール環、および、それらと他の芳香環との縮合環よりなる群から選ばれた少なくとも一つの環であることが好ましく、上記窒素原子を含む芳香環が、イミダゾール環、またはイミダゾール環と他の芳香環との縮合環であることがより好ましい。
上記他の芳香環としては、単素環でも複素環でもよいが、単素環であることが好ましく、ベンゼン環またはナフタレン環であることがより好ましく、ベンゼン環であることが更に好ましい。
金属酸化抑制剤としては、イミダゾール、ベンズイミダゾール、テトラゾール、メルカプトチアジアゾール、および、ベンゾトリアゾールが好ましく、イミダゾール、ベンズイミダゾールおよびベンゾトリアゾールがより好ましい。
また、金属酸化抑制剤の含有量は、光学調整部材の低屈折率層または高屈折率層の全質量に対し、０．１〜２０質量％であることが好ましく、０．５〜１０質量％であることがより好ましく、１〜５質量％であることが更に好ましい。
【０１２６】
（乾燥）
加熱および乾燥する工程の詳細な条件の好ましい範囲について、以下に示す。
加熱および乾燥方法としては、加熱装置を備えた炉内を通過させる方法や、又、送風により実施することもできる。加熱および乾燥条件は、使用する有機溶剤等に応じて適宜設定すれば良く、４０〜１５０℃の温度に加熱する方法等が挙げられる。
透明保護層と光学調整部材を形成する場合、乾燥温度を１００〜１３０℃の温度で加熱することが特に好ましく、１１０〜１２０℃の温度に加熱することが更に好ましい。
加熱および乾燥後の組成物としては、湿潤基準における含水率が５質量％以下とすることが好ましく、３質量％以下にすることがより好ましく、１質量％以下にすることが更に好ましい。
【０１２７】
さらに転写フィルムの製造方法は、酸基を有するモノマーのアンモニウム塩または酸基を有する樹脂のアンモニウム塩からアンモニアを揮発させることで酸基を生成する工程を含むことが好ましい。前述の酸基を有するモノマーのアンモニウム塩または酸基を有する樹脂のアンモニウム塩から、アンモニアを揮発させることで、酸基を生成する工程が、塗布された前述の水系樹脂組成物を加熱する工程であることが好ましい。
【０１２８】
＜その他の工程＞
転写フィルムの製造方法は、前述の仮支持体上に前述の透明保護層を形成する前に、さらに熱可塑性樹脂層を形成する工程を含んでいてもよい。
【０１２９】
前述の熱可塑性樹脂層を形成する工程の後に、前述の熱可塑性樹脂層と前述の透明保護層の間に中間層を形成する工程を含んでいてもよい。中間層を有する転写フィルムを形成する場合には、仮支持体上に、熱可塑性の有機高分子と共に添加剤を溶解した溶解液（熱可塑性樹脂層用塗布液）を塗布し、乾燥させて熱可塑性樹脂層を設けた後、この熱可塑性樹脂層上に熱可塑性樹脂層を溶解しない溶剤に樹脂や添加剤を加えて調製した調製液（中間層用塗布液）を塗布し、乾燥させて中間層を積層することが好ましい。この中間層上に更に、中間層を溶解しない溶剤を用いて調製した感光性樹脂層用塗布液を塗布し、乾燥させて感光性樹脂層を積層することが好ましい。
【０１３０】
前述の光学調整部材の上に保護フィルムを形成する工程などのその他の製造方法は、特開２００６−２５９１３８号公報の段落００９４〜００９８に記載の感光性転写材料の作製方法を採用することができる。
【０１３１】
＜転写フィルムの用途＞
本発明の転写フィルムは、ドライレジスト用フィルムであることが好ましい。本明細書中、ドライレジストとは、転写フィルムがフィルム状の形態をとった製品のことを言う。
本発明の転写フィルムは、静電容量型入力装置の透明絶縁層用または透明保護層用であることが好ましい。本発明の転写フィルムは、透明電極パターンの上に、フォトリソグラフィ方式により、光学調整部材および透明保護層の積層パターンを形成するための転写材料として好ましく用いることができる。
【０１３２】
［静電容量型入力装置］
本発明の静電容量型入力装置は、本発明の透明電極付き複合体を含む。
静電容量型入力装置は、本発明の転写フィルムを用いて、透明電極パターンを含む基材上に転写フィルムの前述の光学調整部材および前述の透明保護層をこの順で積層することにより作製されることが好ましく、本発明の転写フィルムから光学調整部材と前述の光学調整部材に隣接して配置された透明保護層とを、静電容量型入力装置の透明電極パターンの上に転写して作製されることがより好ましい。
本発明の静電容量型入力装置は、本発明の転写フィルムから転写された透明保護層および光学調整部材を同時に硬化されることが好ましく、透明保護層および光学調整部材を同時にパターン硬化されることがより好ましい。なお、本発明の転写フィルムから転写された透明保護層および光学調整部材を同時に硬化する際、本発明の転写フィルムから仮支持体を剥離しないことが好ましい。
本発明の静電容量型入力装置は、本発明の転写フィルムから転写され、同時にパターン硬化される透明保護層および光学調整部材の未硬化部分を現像し、取り除かれることがより好ましい。なお、本発明の転写フィルムから転写された透明保護層および光学調整部材を同時に硬化した後、現像する前に本発明の転写フィルムから仮支持体を剥離することが好ましい。本発明の静電容量型入力装置は、引き回し配線の端末部で、ポリイミドフィルム上に形成されたフレキシブル配線と接続する必要があるため、透明保護層（および光学調整部材）に覆われていないことが好ましい。
その態様を図１３に示した。図１３は透明電極パターンの引き回し配線（別の導電性要素６）と引き回し配線の端末部３１を含む、以下の構成の静電容量型入力装置を示した。
引き回し配線の端末部３１上の透明保護層が未硬化部（未露光部）となっているため、現像で除去され、引き回し配線の端末部３１が露出している。
具体的な露光、現像の態様を図１４および図１５に示した。図１４は、透明保護層および光学調整部材を有する本発明の転写フィルム３０を、静電容量型入力装置の透明電極パターンの上にラミネートにより積層し、露光等によって硬化する前の状態を示す。フォトリソグラフィを利用する場合、すなわち露光により硬化する場合は、図１５に示した形状の透明保護層と光学調整部材の硬化部（露光部）３３を、マスクを用いてパターン露光および未露光部の現像をすることにより、得ることができる。具体的には、図１５では、透明保護層と光学調整部材の未硬化部として引き回し配線の端末部に対応する開口部３４と、静電容量型入力装置の枠部の輪郭の外側にはみ出していた透明保護層および光学調整部材を有する本発明の転写フィルムの端部とが取り除かれた、引き回し配線の端末部（取出配線部）を覆わないための透明保護層および光学調整部材の硬化部（所望のパターン）が得られる。
これにより、ポリイミドフィルム上に作製されたフレキシブル配線を、引き回し配線の端末部３１に直接つなぐことができ、これにより、センサーの信号を電気回路に送ることが可能になる。
以下、本発明の静電容量型入力装置の好ましい態様の詳細を説明する。
【０１３３】
本発明の静電容量型入力装置は、基材（本発明の透明電極付き複合体における前述の基材に相当する。前面板とも言われる）と、前述の基材の非接触面側に少なくとも下記（３）〜（５）、（７）および（８）の要素を有し、本発明の透明電極付き複合体を有することが好ましい。
（３）複数のパッド部分が接続部分を介して第一の方向に延在して形成された複数の第一の透明電極パターン；
（４）前述の第一の透明電極パターンと電気的に絶縁され、前述の第一の方向に交差する方向に延在して形成された複数のパッド部分からなる複数の第二の電極パターン；
（５）前述の第一の透明電極パターンと前述の第二の電極パターンとを電気的に絶縁する絶縁層；
（７）前述の（３）〜（５）の要素の全てまたは一部を覆うように形成された光学調整部材；
（８）前述の（７）の要素を覆うように隣接して形成された透明保護層。
ここで、前述の（７）光学調整部材が、本発明の透明電極付き複合体における前述の光学調整部材に相当する。また、前述の（８）透明保護層が、本発明の透明電極付き複合体における前述の透明保護層に相当する。なお、前述の透明保護層は、通常公知の静電容量型入力装置におけるいわゆる透明保護層であることが好ましい。
【０１３４】
本発明の静電容量型入力装置は、前述の（４）第二の電極パターンが透明電極パターンであっても、透明電極パターンでなくてもよいが、透明電極パターンであることが好ましい。
本発明の静電容量型入力装置は、さらに、（６）前述の第一の透明電極パターンおよび前述の第二の電極パターンの少なくとも一方に電気的に接続される、前述の第一の透明電極パターンおよび前述の第二の電極パターンとは別の導電性要素を有していてもよい。
ここで、前述の（４）第二の電極パターンが透明電極パターンでなく、前述の（６）別の導電性要素を有さない場合は、前述の（３）第一の透明電極パターンが、本発明の透明電極付き複合体における透明電極パターンに相当する。
前述の（４）第二の電極パターンが透明電極パターンであり、前述の（６）別の導電性要素を有さない場合は、前述の（３）第一の透明電極パターンおよび前述の（４）第二の電極パターンのうち少なくとも一つが、本発明の透明電極付き複合体における透明電極パターンに相当する。
前述の（４）第二の電極パターンが透明電極パターンでなく、前述の（６）別の導電性要素を有する場合は、前述の（３）第一の透明電極パターンおよび前述の（６）別の導電性要素のうち少なくとも一つが、本発明の透明電極付き複合体における透明電極パターンに相当する。
前述の（４）第二の電極パターンが透明電極パターンであり、前述の（６）別の導電性要素を有する場合は、前述の（３）第一の透明電極パターン、前述の（４）第二の電極パターンおよび前述の（６）別の導電性要素のうち少なくとも一つが、本発明の透明電極付き複合体における透明電極パターンに相当する。
【０１３５】
本発明の静電容量型入力装置は、さらに（２）透明膜を、前述の（３）第一の透明電極パターンと前述の基材の間、前述の（４）第二の電極パターンと前述の基材の間、または、前述の（６）別の導電性要素と前述の基材の間に有することが好ましい。ここで、前述の（２）透明膜が、本発明の透明電極付き複合体における、透明膜に相当することが好ましい。
【０１３６】
本発明の静電容量型入力装置は、さらに必要に応じて（１）マスク層および／または加飾層を有することが好ましい。前述のマスク層は、指またはタッチペンなどで触れる領域の周囲に黒色の額縁として、透明電極パターンの引き回し配線を接触側から視認できないようにしたり、加飾をしたりするためにも設けられる。前述の加飾層は、指またはタッチペンなどで触れる領域の周囲に額縁として加飾のために設けられ、例えば白色の加飾層を設けることが好ましい。
前述の（１）マスク層および／または加飾層は、前述の（２）透明膜と前述の基材の間、前述の（３）第一の透明電極パターンと前述の基材の間、前述の（４）第二の透明電極パターンと前述の基材の間、または、前述の（６）別の導電性要素と前述の基材の間に有することが好ましい。前述の（１）マスク層および／または加飾層は、前述の基材に隣接して設けられることがより好ましい。
【０１３７】
本発明の静電容量型入力装置は、様々な部材を含む場合であっても、透明電極パターンに隣接して配置された前述の光学調整部材と、前述の光学調整部材に隣接して配置された前述の透明保護層を含むことによって、透明電極パターンを目立たなくすることができ、透明電極パターンの隠蔽性の問題を改善することができる。
【０１３８】
＜静電容量型入力装置の構成＞
まず、本発明の静電容量型入力装置の好ましい構成について、装置を構成する各部材の製造方法とあわせて説明する。図１は、本発明の静電容量型入力装置の好ましい構成を示す断面図である。図１において静電容量型入力装置１０は、基材１と、マスク層２と、屈折率１．４６〜１．５８の透明膜１１と、第一の透明電極パターン（図示されているのは第一の透明電極パターンの接続部分３ｂ）と、第二の透明電極パターン４と、絶縁層５と、別の導電性要素６と、光学調整部材１２と、透明保護層７と、から構成されている態様が示されている。
また、後述する図３におけるＸ−Ｙ断面を表した図９も同様に、本発明の静電容量型入力装置の好ましい構成を示す断面図である。図９において静電容量型入力装置１０は、基材１と、屈折率１．４６〜１．５８の透明膜１１と、第一の透明電極パターン（図示されているのは第一の透明電極パターンのパッド部分３ａ）と、第二の透明電極パターン４と、光学調整部材１２と、透明保護層７と、から構成されている態様が示されている。
【０１３９】
基材１は、本発明の透明電極付き複合体における透明電極パターンの材料として挙げた材料を用いることができる。また、図１において、基材１の各要素が設けられている側を非接触面側と称する。本発明の静電容量型入力装置１０においては、基材１の接触面（非接触面の反対の面）に指などを接触させて入力が行われる。
【０１４０】
また、基材１の非接触面上にはマスク層２が設けられている。マスク層２は、タッチパネル基材の非接触面側に形成された表示領域周囲の額縁状のパターンであり、引回し配線等が見えないようにするために形成される。
本発明の静電容量型入力装置１０には、図２に示すように、基材１の一部の領域（図２においては入力面以外の領域）を覆うようにマスク層２が設けられている。更に、基材１には、図２に示すように一部に開口部８を設けることができる。開口部８には、押圧式のメカニカルなスイッチを設置することができる。
【０１４１】
図１では、基材１の非接触面には、複数のパッド部分が接続部分を介して第一の方向に延在して形成された複数の第一の透明電極パターン３（図１に示されているのは第一の透明電極パターンの接続部分３ｂ）と、第一の透明電極パターン３と電気的に絶縁され、第一の方向に交差する方向に延在して形成された複数のパッド部分からなる複数の第二の透明電極パターン４と、第一の透明電極パターン３と第二の透明電極パターン４を電気的に絶縁する絶縁層５とが形成されている。前述の第一の透明電極パターン３と、第二の透明電極パターン４と、別の導電性要素６とは、本発明の透明電極付き複合体における透明電極パターンの材料として挙げたものを用いることができ、ＩＴＯ膜であることが好ましい。
【０１４２】
また、第一の透明電極パターン３および第二の透明電極パターン４の少なくとも一方は、基材１の非接触面およびマスク層２の基材１とは逆側の面の両方の領域にまたがって設置することができる。図１においては、第二の透明電極パターン４が、基材１の非接触面およびマスク層２の基材１とは逆側の面の両方の領域にまたがって設置されている図が示されている。
このように、一定の厚みが必要なマスク層と基材の非接触面（接触面の裏面）とにまたがって感光性フィルムをラミネートする場合でも、後述する特定の層構成を有する感光性フィルムを用いることで真空ラミネータなどの高価な設備を用いなくても、簡単な工程でマスク部分境界に泡の発生がないラミネートが可能になる。
【０１４３】
図３を用いて第一の透明電極パターン３および第二の透明電極パターン４について説明する。図３は、本発明における第一の透明電極パターンおよび第二の透明電極パターンの一例を示す説明図である。図３に示すように、第一の透明電極パターン３は、パッド部分３ａが接続部分３ｂを介して第一の方向Ｃに延在して形成されている。また、第二の透明電極パターン４は、第一の透明電極パターン３とは絶縁層５によって電気的に絶縁されており、第一の方向Ｃに交差する方向（図３における第二の方向Ｄ）に延在して形成された複数のパッド部分によって構成されている。ここで、第一の透明電極パターン３を形成する場合、前述のパッド部分３ａと接続部分３ｂとを一体として作製してもよいし、接続部分３ｂのみを作製して、パッド部分３ａと第二の透明電極パターン４とを一体として作製（パターニング）してもよい。パッド部分３ａと第二の透明電極パターン４とを一体として作製（パターニング）する場合、図３に示すように接続部分３ｂの一部とパッド部分３ａの一部とが連結され、且つ、絶縁層５によって第一の透明電極パターン３と第二の透明電極パターン４とが電気的に絶縁されるように各層が形成される。
また、図３における第一の透明電極パターン３や第二の透明電極パターン４や別の導電性要素６が形成されていない領域が、本発明の透明電極付き複合体における非パターン領域２２に相当する。
【０１４４】
図１において、マスク層２の基材１とは逆側の面側には別の導電性要素６が設置されている。別の導電性要素６は、第一の透明電極パターン３（図１に示されているのは第一の透明電極パターンの接続部分３ｂ）および第二の透明電極パターン４の少なくとも一方に電気的に接続され、且つ、第一の透明電極パターン３および第二の透明電極パターン４とは別の要素である。
図１においては、別の導電性要素６が第二の透明電極パターン４に接続されている一態様が示されている。
【０１４５】
また、図１においては、各構成要素の全てを覆うように透明保護層７が設置されている。透明保護層７は、各構成要素の一部のみを覆うように構成されていてもよい。絶縁層５と透明保護層７とは、同一材料であってもよいし、異なる材料であってもよい。絶縁層５を構成する材料としては、本発明の透明電極付き複合体における透明保護層または光学調整部材の材料として挙げたものを好ましく用いることができる。
【０１４６】
＜静電容量型入力装置の製造方法＞
本発明の静電容量型入力装置を製造する過程で形成される態様例として、図４〜８の態様を挙げることができる。図４は、開口部８が形成された基材１の一例を示す上面図である。図５は、マスク層２が形成された基材の一例を示す上面図である。図６は、第一の透明電極パターン３が形成された基材の一例を示す上面図である。図７は、第一の透明電極パターン３と第二の透明電極パターン４が形成された基材の一例を示す上面図である。図８は、第一の透明電極パターンおよび第二の透明電極パターンとは別の導電性要素６が形成された基材の一例を示す上面図である。これらは、以下の説明を具体化した例を示すものであり、本発明の範囲はこれらの図面により限定的に解釈されることはない。
【０１４７】
静電容量型入力装置の製造方法において、前述の光学調整部材１２および前述の透明保護層７を形成する場合、本発明の転写フィルムを用いて、各要素が任意に形成された前述の基材１の表面に前述の光学調整部材および前述の透明保護層を転写することで形成することができる。
【０１４８】
静電容量型入力装置の製造方法においては、マスク層２と、第一の透明電極パターン３と、第二の透明電極パターン４と、絶縁層５と、別の導電性要素６の少なくとも一要素が、仮支持体と光硬化性樹脂層とをこの順で有する前述の感光性フィルムを用いて形成されることが好ましい。
本発明の転写フィルムや前述の感光性フィルムを用いて前述の各要素（マスク層２と、第一の透明電極パターン３と、第二の透明電極パターン４と、絶縁層５と、別の導電性要素６の少なくとも一要素）を形成すると、開口部を有する基材でも開口部からレジスト成分のモレおよび／またははみ出しがなく、特に基材の縁部の境界線直上まで遮光パターンを形成する必要のあるマスク層において、基材の縁部からのレジスト成分のモレおよび／またははみ出しがない。そのため、基材の非接触面側を汚染することなく、簡略な工程で、薄層化および軽量化されたタッチパネルを製造することができる。
【０１４９】
マスク層、絶縁層、導電性光硬化性樹脂層を用いた場合の第一の透明電極パターン、第二の透明電極パターンおよび導電性要素などの永久材を、前述の感光性フィルムを用いて形成する場合、感光性フィルムは、基材にラミネートされた後、必要に応じてパターン露光されてもよい。前述の感光性フィルムは、ネガ型材料であってもポジ型材料であってもよい。前述の感光性フィルムがネガ型材料の場合は非露光部、ポジ型材料の場合は露光部を現像処理して除去することでパターンを得ることができる。現像は熱可塑性樹脂層と、光硬化性樹脂層を別々の液で現像除去してもよいし、同一の液で除去してもよい。必要に応じて、ブラシや高圧ジェットなどの公知の現像設備を組み合わせてもよい。現像の後、必要に応じて、ポスト露光、ポストベークを行ってもよい。
【０１５０】
（感光性フィルム）
本発明の静電容量型入力装置を製造するときに好ましく用いられる、本発明の転写フィルム以外の前述の感光性フィルムについて説明する。前述の感光性フィルムは、仮基材と光硬化性樹脂層を有し、仮基材と光硬化性樹脂層との間に熱可塑性樹脂層を有することが好ましい。前述の熱可塑性樹脂層を有する感光性フィルムを用いて、マスク層等を形成すると、光硬化性樹脂層を転写して形成した要素に気泡が発生し難くなり、画像表示装置に画像ムラなどが発生し難くなり、優れた表示特性を得ることができる。
前述の感光性フィルムは、ネガ型材料であってもポジ型材料であってもよい。
【０１５１】
−光硬化性樹脂層以外の層、作製方法−
前述の感光性フィルムにおける前述の仮基材および前述の熱可塑性樹脂層としては、本発明の転写フィルムに用いられるものと同様の仮支持体および熱可塑性樹脂層としてそれぞれ用いられるものと同様のものを用いることができる。また、前述の感光性フィルムの作製方法としても、本発明の転写フィルムの作製方法と同様の方法を用いることができる。
【０１５２】
−光硬化性樹脂層−
前述の感光性フィルムは、その用途に応じて光硬化性樹脂層に添加剤を加える。即ち、マスク層の形成に前述の感光性フィルムを用いる場合には、光硬化性樹脂層に着色剤を含有させる。また、前述の感光性フィルムが導電性光硬化性樹脂層を有する場合は、前述の光硬化性樹脂層に導電性繊維等が含有される。
【０１５３】
感光性フィルムの光硬化性樹脂層は、ネガ型材料であってもポジ型材料であってもよい。
前述の感光性フィルムの光硬化性樹脂層がネガ型材料である場合、光硬化性樹脂層には、アルカリ可溶性樹脂、重合性化合物、重合開始剤、を含むことが好ましい。さらに、導電性繊維、着色剤、その他の添加剤などが用いられ、これに限られない。
光硬化性樹脂層の材料、感光性フィルムを用いるマスク層、絶縁層の形成、感光性フィルムを用いる第一および第二の透明電極パターン、別の導電性要素の形成としては特開２０１４−１７８９２２号公報の［０２２６］〜［０２５５］に記載のものを用いることができ、この公報の内容は本明細書に組み込まれる。
【０１５４】
＜画像表示装置＞
本発明の静電容量型入力装置、およびこの静電容量型入力装置を構成要素として備えた画像表示装置は、「最新タッチパネル技術」（２００９年７月６日発行（株）テクノタイムズ）、三谷雄二監修、「タッチパネルの技術と開発」、シーエムシー出版（２００４，１２）、ＦＰＤ  Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ  ２００９  Ｆｏｒｕｍ  Ｔ−１１講演テキストブック、Ｃｙｐｒｅｓｓ  Ｓｅｍｉｃｏｎｄｕｃｔｏｒ  Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ  アプリケーションノートＡＮ２２９２等に開示されている構成を適用することができる。
【実施例】
【０１５５】
以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り、適宜、変更することができる。従って、本発明の範囲は以下に示す具体例に限定されるものではない。なお、特に断りのない限り、「部」、「％」は質量基準である。【０１５６】
［実施例１、２、４、５、比較例３〜５］
＜転写フィルムの作製＞
（透明保護層および光学調整部材の材料の調製）
以下の表に示すとおり透明保護層用の塗布液である材料Ａ１を調製した。【０１５７】
【表１】
2017018406.tif 000006
【化４】
2017018406.tif 000007
【０１５８】
次に下表のとおり、材料Ｂ１〜Ｂ５を調製した。【０１５９】
【表２】
2017018406.tif 000008
【０１６０】
次に下表のとおり、材料Ｃ１〜Ｃ３を調製した。
【表３】
2017018406.tif 000009
【０１６１】
（転写フィルムの作製）
ポリエチレンテレフタレートフィルムである仮支持体の上に、スリット状ノズルを用いて透明保護層用の材料Ａ１を乾燥した膜の厚みが下記表６の値になるように塗布量を調整して塗布し、透明保護層を形成した。
１２０℃の乾燥ゾーンで溶剤を揮発させた後、スリット状ノズルを用いて材料Ｂ１、材料Ｂ２、材料Ｂ３または材料Ｂ５のうち下記表６に記載の材料を乾燥した膜の厚みが下記表６の値になるように塗布量を調整して塗布し、光学調整部材のうち透明電極側から２番目の層を形成した。
１２０℃の乾燥ゾーンで溶剤を揮発させた後、スリット状ノズルを用いて材料Ｃ１、材料Ｃ２または材料Ｃ３のうち下記表６に記載の材料を乾燥した膜の厚みが下記表６の値になるように、塗布量を調整して塗布し、光学調整部材のうち透明電極側から１番目の層を形成した。
得られた転写フィルムを、１２０℃の乾燥ゾーンで乾燥させ、実施例１〜５、比較例２〜５の転写フィルムを作製した。【０１６２】
（各層の屈折率、厚みの測定）
屈折率、厚みの測定方法としては、分光反射率スペクトルから理論値とのフィッティングにより算出する方法、エリプソメトリー法により求める方法などがある。各実施例および比較例においては分光反射率スペクトルから各層の屈折率と厚みを算出した。測定装置は、反射分光膜厚計ＦＥ−３０００（大塚電子（株）製）を用いた。
（１）各実施例および比較例で用いる仮支持体の一方の表面に、透明接着テープ（商品名ＯＣＡテープ８１７１ＣＬ：３Ｍ（株）製）を介して、黒色ｐｏｌｙｅｔｈｙｌｅｎｅ  ｔｅｒｅｐｈｔｈａｌａｔｅ（ＰＥＴ）材であるＰＴ１００  ＮＢ（リンテック（株）製）を接着させた積層体を作製した。反射分光膜厚計ＦＥ−３０００を用いて仮支持体と黒色ＰＥＴの積層体の反射スペクトル（波長：４３０〜８００ｎｍ）を測定し、演算により各波長における仮支持体の屈折率を求めた。
（２）各実施例および比較例と同様にして透明保護層のみを仮支持体の上に形成したサンプルの仮支持体面に、透明接着テープ（ＯＣＡテープ８１７１ＣＬ：３Ｍ（株）製）を介して、黒色ＰＥＴ材を接触させた積層体を作製した。反射分光膜厚計ＦＥ−３０００を用いて透明保護層と仮支持体と黒色ＰＥＴの積層体の反射スペクトル（波長：４３０〜８００ｎｍ）を測定し、ＦＦＴ（Ｆａｓｔ  Ｆｏｕｒｉｅｒ  Ｔｒａｎｓｆｏｒｍ；高速フーリエ変換）法と最小二乗法を用いたフィッティング演算により各波長における透明保護層の屈折率および透明保護層の厚みを求めた。この際、演算に用いる厚みの初期値として、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ：ＨＴ７７００、（株）日立ハイテクフィールディング）を用いて測定した透明保護層の厚みを用いた。
（３）同様にして、仮支持体と透明保護層と透明電極側から２番目の層までの積層体、仮支持体と透明保護層と透明電極側から２番目の層と透明電極側から１番目の層までの積層体のサンプルに黒色ＰＥＴ材を貼り合せた積層体の反射スペクトルを順に測定しながら、各層の屈折率と厚みを算出した。【０１６３】
＜透明電極付き複合体の作製＞
（透明膜の形成）
基材として用いる厚み５０μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム上に下記表４に示す材料Ｄを、スリット状ノズルを用いて塗工し、約１１０℃で乾燥した後、紫外線照射（積算光量３００ｍＪ／ｃｍ２）し、屈折率１．５１、厚み２μｍの透明膜を製膜した。【０１６４】
【表４】
2017018406.tif 000010
【０１６５】
構造式（２）
【化５】
2017018406.tif 000011
【０１６６】
（透明電極パターンの形成）
−透明電極層の形成−
透明膜が積層されたフィルム基材を、真空チャンバー内に導入し、ＳｎＯ２含有率が１０質量％のＩＴＯターゲット（インジウム：錫＝９５：５（モル比））を用いて、Ｄｉｒｅｃｔ  Ｃｕｒｒｅｎｔ（ＤＣ）マグネトロンスパッタリング（条件：基材の温度１５０℃、アルゴン圧０．１３Ｐａ、酸素圧０．０１Ｐａ）により、厚み２５ｎｍ、屈折率１．９のＩＴＯ薄膜を形成し、基材上に透明膜と透明電極層を形成したフィルムを得た。ＩＴＯ薄膜の表面抵抗は８０Ω／□（Ω毎スクエア）であった。【０１６７】
−エッチング用感光性フィルムＥ１の調製−
厚み７５μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム仮基材の上に、スリット状ノズルを用いて、下記の処方Ｈ１からなる熱可塑性樹脂層用塗布液を塗布、乾燥させた。次に、下記の処方Ｐ１からなる中間層用塗布液を塗布、乾燥させた。更に、下記の処方Ｅ１からなるエッチング用光硬化性樹脂層用塗布液を塗布、乾燥させた。このようにして仮基材の上に乾燥膜の厚みが１５．１μｍの熱可塑性樹脂層と、乾燥膜の厚みが１．６μｍの中間層と、厚み２．０μｍエッチング用光硬化性樹脂層からなる積層体を得、最後に保護フィルム（厚み１２μｍポリプロピレンフィルム）を圧着した。こうして仮基材と熱可塑性樹脂層と中間層とエッチング用光硬化性樹脂層とが一体となったエッチング用感光性フィルムＥ１を作製した。【０１６８】
−−エッチング用光硬化性樹脂層用塗布液：処方Ｅ１−−
・メチルメタクリレート／スチレン／メタクリル酸共重合体
（共重合体組成（質量％）：３１／４０／２９、重量平均分子量６０００
０、  酸価１６３ｍｇＫＯＨ／ｇ）                        ：１６質量部
・モノマー１（商品名：ＢＰＥ−５００、新中村化学工業（株）製）
：５．６質量部
・ヘキサメチレンジイソシアネートのテトラエチレンオキシドモノメタクリ
レート０．５モル付加物                                    ：７質量部
・分子中に重合性基を１つ有する化合物としてのシクロヘキサンジメタノー
ルモノアクリレート                                    ：２．８質量部
・２−クロロ−Ｎ−ブチルアクリドン                  ：０．４２質量部
・２，２−ビス（オルトクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフ
ェニルビイミダゾール                                ：２．１７質量部
・マラカイトグリーンシュウ酸塩                      ：０．０２質量部
・ロイコクリスタルバイオレット                      ：０．２６質量部
・フェノチアジン                                  ：０．０１３質量部
・界面活性剤（商品名：メガファックＦ７８０Ｆ、大日本インキ（株）製）
：０．０３質量部
・メチルエチルケトン                                    ：４０質量部
・１−メトキシ−２−プロパノール                        ：２０質量部
なお、エッチング用光硬化性樹脂層用塗布液Ｅ１の溶剤除去後の１００℃の粘度は２５００Ｐａ・ｓであった。【０１６９】
−−熱可塑性樹脂層用塗布液：処方Ｈ１−−
・メタノール                                        ：１１．１質量部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート  ：６．３６質量部
・メチルエチルケトン                                ：５２．４質量部
・メチルメタクリレート／２−エチルヘキシルアクリレート／ベンジルメタ
クリレート／メタクリル酸共重合体（共重合組成比（モル比）＝５５／１１
．７／４．５／２８．８、分子量＝１０万、Ｔｇ≒７０℃）
：５．８３質量部
・スチレン／アクリル酸共重合体（共重合組成比（モル比）＝６３／３７、
重量平均分子量＝１万、Ｔｇ≒１００℃）              ：１３．６質量部
・モノマー１（商品名：ＢＰＥ−５００、新中村化学工業（株）製）
：９．１質量部
・フッ素系ポリマー                                  ：０．５４質量部
上記のフッ素系ポリマーは、Ｃ６Ｆ１３ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ２  ４０部とＨ（ＯＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２）７ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ２  ５５部とＨ（ＯＣＨ２ＣＨ２）７ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ２  ５部との共重合体で、重量平均分子量３万、メチルエチルケトン３０質量％溶液である（商品名：メガファックＦ７８０Ｆ、大日本インキ化学工業（株）製）【０１７０】
−−中間層用塗布液：処方Ｐ１−−
・ポリビニルアルコール                              ：３２．２質量部
（商品名：ＰＶＡ２０５、（株）クラレ製、鹸化度＝８８％、重合度５
５０）
・ポリビニルピロリドン                              ：１４．９質量部
（商品名：Ｋ−３０、アイエスピー・ジャパン（株）製）
・蒸留水                                              ：５２４質量部
・メタノール                                          ：４２９質量部【０１７１】
−透明電極層のパターニング−
基材上に透明膜と透明電極層を形成したフィルムを洗浄し、保護フィルムを除去したエッチング用感光性フィルムＥ１を、透明電極層の表面とエッチング用光硬化性樹脂層の表面とが対向するようにラミネートした（基材の温度：１３０℃、ゴムローラー温度１２０℃、線圧１００Ｎ／ｃｍ、搬送速度２．２ｍ／分）。仮基材を剥離後、熱可塑性樹脂層と中間層はエッチング用光硬化性樹脂層とともに、透明電極層の表面に転写された。露光マスク（透明電極パターンを有す石英露光マスク）面とエッチング用光硬化性樹脂層との間の距離を２００μｍに設定し、熱可塑性樹脂層と中間層を介して、エッチング用光硬化性樹脂層を露光量５０ｍＪ／ｃｍ２（ｉ線）でパターン露光した。
次に、トリエタノールアミン系現像液（トリエタノールアミン３０質量％含有、商品名：Ｔ−ＰＤ２（富士フイルム（株）製）を純水で１０倍に希釈した液）を用いて２５℃で１００秒間現像処理し、熱可塑性樹脂層と中間層を溶解し、界面活性剤含有洗浄液（商品名：Ｔ−ＳＤ３（富士フイルム（株）製）を純水で１０倍に希釈した液）を用いて３３℃で２０秒間洗浄処理した。超高圧洗浄ノズルから純水を噴射し、回転ブラシで熱可塑性樹脂層上の残渣を除去し、さらに１３０℃３０分間のポストベーク処理を行って、基材上に透明膜と透明電極層とエッチング用光硬化性樹脂層パターンとを形成したフィルムを得た。
基材上に透明膜と透明電極層とエッチング用光硬化性樹脂層パターンとを形成したフィルムを、ＩＴＯエッチャント（塩酸、塩化カリウム水溶液。液温３０℃）を入れたエッチング槽に浸漬し、１００秒間処理し（エッチング処理）、エッチング用光硬化性樹脂層で覆われていない露出した領域の透明電極層を溶解除去し、エッチング用光硬化性樹脂層パターンのついた透明電極パターン付のフィルムを得た。
次に、エッチング用光硬化性樹脂層パターンのついた透明電極パターン付のフィルムを、レジスト剥離液（Ｎ−メチル−２−ピロリドン、モノエタノールアミン、界面活性剤（商品名：サーフィノール４６５、エアープロダクツ製）液温４５℃）を入れたレジスト剥離槽に浸漬し、２００秒間処理し（剥離処理）、エッチング用光硬化性樹脂層を除去し、基材上に透明膜および透明電極パターンを形成したフィルムを得た。【０１７２】
（光学調整部材および透明保護層の積層）
保護フィルムを剥離した各実施例および比較例の転写フィルムを用いて、基材上に透明膜および透明電極パターンを形成したフィルムの透明膜と透明電極パターンを、光学調整部材が覆うように、光学調整部材、透明保護層および仮支持体をこの順で転写し、積層体を得た（基材の温度：４０℃、ゴムローラー温度１１０℃、線圧３Ｎ／ｃｍ、搬送速度２ｍ／分）。
その後、得られた積層体に、超高圧水銀灯を有するプロキシミティー型露光機（日立ハイテク電子エンジニアリング（株）製）を用いて、露光マスク（オーバーコート形成用パターンを有す石英露光マスク）面と仮支持体との間の距離を１２５μｍに設定し、仮支持体を介して露光量１００ｍＪ／ｃｍ２（ｉ線）でパターン露光した。仮支持体を剥離後、パターン露光後の積層体（フィルム基材）を炭酸ソーダ２質量％水溶液を用いて３２℃で６０秒間洗浄処理した。洗浄処理後の基材に超高圧洗浄ノズルから超純水を噴射することで残渣を除去した。引き続き、エアを吹きかけて基材上の水分を除去し、１４５℃３０分間のポストベーク処理を行って、実施例１、２、４、５、比較例３〜５の透明電極付き複合体を得た。実施例１、２、４、５、比較例３〜５の透明電極付き複合体は、基材、透明膜、透明電極パターン、透明電極パターン側から１番目に配置された層である低屈折率層および透明電極パターン側から２番目に配置された層である高屈折率層からなる光学調整部材、ならびに、透明保護層を有する透明電極付き複合体であった。【０１７３】
（透明電極付き複合体作製後の各層の屈折率、厚みの測定）
転写フィルムの状態で各層の屈折率および厚みを算出した方法と同様に、基材に対して１層ずつを順に積層させた積層体を用いて、裏面に黒色ＰＥＴを貼り合せ、反射分光膜厚計ＦＥ−３０００を用いて反射スペクトルを測定し、演算により各層の屈折率および厚みを算出した。
結果、各層の屈折率および厚みは、転写フィルムで算出した値と同等であった。【０１７４】
［実施例３］
下記表６の値になるように塗布量を調整して塗布した以外は実施例１の転写フィルムと同様の方法で、実施例３の転写フィルムを作製した。
基材として用いる厚み５０μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム上に透明電極層を直接形成し、実施例１の転写フィルムの代わりに実施例３の転写フィルムを用いた以外は実施例１の透明電極付き複合体の作製と同様にして、実施例３の透明電極付き複合体を作製した。【０１７５】
［実施例６］
ポリエチレンテレフタレートフィルムである仮支持体の上に、スリット状ノズルを用いて透明保護層用の材料Ａ１を乾燥した膜の厚みが下記表６の値になるように塗布量を調整して塗布し、透明保護層を形成した。
１２０℃の乾燥ゾーンで溶剤を揮発させた後、スリット状ノズルを用いて材料Ｂ２を乾燥した膜の厚みが下記表６の値になるように塗布量を調整して塗布し、光学調整部材のうち透明電極側から４番目の層を形成した。
１２０℃の乾燥ゾーンで溶剤を揮発させた後、スリット状ノズルを用いて材料Ｃ２を乾燥した膜の厚みが下記表６の値になるように塗布量を調整して塗布し、光学調整部材のうち透明電極側から３番目の層を形成した。
１２０℃の乾燥ゾーンで溶剤を揮発させた後、スリット状ノズルを用いて材料Ｂ４を乾燥した膜の厚みが下記表６の値になるように塗布量を調整して塗布し、光学調整部材のうち透明電極側から２番目の層を形成した。
１２０℃の乾燥ゾーンで溶剤を揮発させた後、スリット状ノズルを用いて材料Ｃ２を乾燥した膜の厚みが下記表６の値になるように塗布量を調整して塗布し、光学調整部材のうち透明電極側から１番目の層を形成した。
得られた転写フィルムを、１２０℃の乾燥ゾーンで乾燥させ、実施例６の転写フィルムを作製した。
実施例６の転写フィルムでは、実施例１の転写フィルムの各層の屈折率と厚みの測定方法において、仮支持体のみ、透明保護層までの積層体、透明電極側から４番目の層までの積層体、透明電極側から３番目の層までの積層体、透明電極側から２番目の層までの積層体、透明電極側から１番目の層までの積層体のサンプルに黒色ＰＥＴ材を貼り合せた積層体の反射スペクトルを順に測定しながら、各層の屈折率と厚みを算出した。
実施例１の転写フィルムの代わりに実施例６の転写フィルムを用いた以外は実施例１の透明電極付き複合体の作製と同様にして、実施例６の透明電極付き複合体を作製した。【０１７６】
［実施例７］
ポリエチレンテレフタレートフィルムである仮支持体の上に、スリット状ノズルを用いて透明保護層用の材料Ａ１を乾燥した膜の厚みが下記表６の値になるように塗布量を調整して塗布し、透明保護層を形成した。得られた転写フィルムを、１２０℃の乾燥ゾーンで乾燥させて、透明保護層を積層するための転写フィルムを作製した。
実施例１と同様にして作製した基材上に透明膜および透明電極パターンを形成したフィルムの透明膜と透明電極パターンの上に、真空蒸着法を用いて、厚み４３ｎｍの透明電極パターン側から１番目の層（低屈折率層）であるＳｉＯｘ膜（ｘ：２．０、屈折率１．４６）、次いで、厚み２１ｎｍの透明電極パターン側から２番目の層（高屈折率層）であるＹ２Ｏ３膜（屈折率１．８０）を順に２層形成し、光学調整部材とした。
製膜した低屈折率層および高屈折率層からなる光学調整部材の上に、材料Ａ１を用いて作製した透明保護層を積層するための転写フィルムから透明保護層と仮支持体を転写した（基材の温度：４０℃、ゴムローラー温度１１０℃、線圧３Ｎ／ｃｍ、搬送速度２ｍ／分）。
そののち、超高圧水銀灯を有するプロキシミティー型露光機（日立ハイテク電子エンジニアリング（株）製）を用いて、露光マスク（オーバーコート形成用パターンを有す石英露光マスク）面と仮支持体との間の距離を１２５μｍに設定し、仮支持体を介して露光量１００ｍＪ／ｃｍ２（ｉ線）でパターン露光した。仮支持体を剥離後、炭酸ソーダ２％水溶液３２℃で６０秒間洗浄処理した。洗浄処理後の基材に超高圧洗浄ノズルから超純水を噴射することで残渣を除去した。引き続き、エアを吹きかけて基材上の水分を除去し、１４５℃３０分間のポストベーク処理を行って、実施例７の透明電極付き複合体を作製した。
実施例１と同様に透明電極付き複合体作製後の各層の屈折率、厚みの測定を行った。得られた結果を下記表１に記載した。【０１７７】
［実施例８］
透明電極パターン側から１番目の層の厚みを下記表６に記載の厚みに変更し、透明電極パターン側から２番目の層を厚み９ｎｍの高屈折率層であるＺｒＯ２膜（屈折率２．１０）に変更した以外は実施例７と同様にして、実施例８の透明電極付き複合体を作製した。【０１７８】
［実施例９］
実施例１において、透明膜の材料として下記表５中に示す材料−Ｃを使用したこと以外は実施例１と同様にして透明膜を形成した。実施例９で形成した透明膜を用いたこと以外は実施例１と同様にして、実施例９の透明電極付き複合体を作製した。実施例９で形成した透明膜は、屈折率１．６０、厚み８０ｎｍの透明膜であった。【０１７９】
【表５】
2017018406.tif 000012
【０１８０】
表中の「％」は「質量％」と同義である。なお、明細書中の「ｗｔ％」は「質量％」と同義である。
式（３）
【化６】
2017018406.tif 000013
【０１８１】
［比較例１］
ポリエチレンテレフタレートフィルムである仮支持体の上に、スリット状ノズルを用いて透明保護層用の材料Ａ１を乾燥した膜の厚みが下記表６の値になるように塗布量を調整して塗布し、透明保護層を形成した。
１２０℃の乾燥ゾーンで溶剤を揮発させた後、スリット状ノズルを用いて材料Ｂ１を乾燥した膜の厚みが下記表６の値になるように塗布量を調整して塗布し、光学調整部材のうち透明電極側から１番目の層を形成した。
比較例１の転写フィルムでは、実施例１の転写フィルムの各層の屈折率と厚みの測定方法において、仮支持体のみ、透明保護層までの積層体、透明電極側から１番目の層までの積層体のサンプルに黒色ＰＥＴ材を貼り合せた積層体の反射スペクトルを順に測定しながら、各層の屈折率と厚みを算出した。
実施例１の転写フィルムの代わりに比較例１の転写フィルムを用いた以外は実施例１の透明電極付き複合体の作製と同様にして、比較例１の透明電極付き複合体を作製した。【０１８２】
［比較例２］
ポリエチレンテレフタレートフィルムである仮支持体の上に、スリット状ノズルを用いて材料Ｂ１を乾燥した膜の厚みが下記表６の値になるように塗布量を調整して塗布し、光学調整部材のうち透明電極側から２番目の層を形成した。
１２０℃の乾燥ゾーンで溶剤を揮発させた後、スリット状ノズルを用いて材料Ｃ１を乾燥した膜の厚みが下記表６の値になるように、塗布量を調整して塗布し、光学調整部材のうち透明電極側から１番目の層を形成した。
得られた転写フィルムを、１２０℃の乾燥ゾーンで乾燥させ、比較例２の転写フィルムを作製した。
実施例１の転写フィルムの代わりに比較例２の転写フィルムを用いた以外は実施例１の透明電極付き複合体の作製と同様にして、比較例２の透明電極付き複合体を作製した。【０１８３】
［比較例６］
実施例７の光学調整部材の形成において、透明電極パターン側から１番目の層の厚みを下記表６に記載の厚みに変更し、透明電極パターン側から２番目の層を厚み２１ｎｍの高屈折率層であるＮｂ２Ｏ３膜（屈折率２．３３）に変更し、さらに真空蒸着法を用いて厚み４０ｎｍの透明電極パターン側から３番目の層（低屈折率層）であるＳｉＯｘ膜（ｘ：２．０、屈折率１．４６）、厚み２９ｎｍの透明電極パターン側から４番目の層（高屈折率層）であるＮｂ２Ｏ３膜（屈折率２．３３）、厚み９７ｎｍの透明電極パターン側から５番目の層（低屈折率層）であるＳｉＯｘ膜（ｘ：２．０、屈折率１．４６）を順に５層形成し、光学調整部材を形成した。その他は実施例の透明電極付き複合体の作製と同様にして、比較例６の透明電極付き複合体を作製した。【０１８４】
［比較例７］
透明電極パターン側から１番目の層の厚みを下記表６に記載の厚みに変更し、透明電極パターン側から２番目の層を厚み７ｎｍの高屈折率層であるＮｂ２Ｏ３膜（屈折率２．３３）に変更した以外は実施例７と同様にして、比較例７の透明電極付き複合体を作製した。【０１８５】
［透明電極付き複合体の評価］
＜透明電極パターンの隠蔽性＞
基材上に、透明膜、透明電極パターン、光学調整部材および透明保護層をこの順に積層させた透明電極付き複合体と、黒色ＰＥＴ材とを、透明接着テープ（３Ｍ社製、商品名、ＯＣＡテープ８１７１ＣＬ）を介して、黒色ＰＥＴ材と透明接着テープが隣接し、かつ、透明接着テープと透明保護層が隣接する積層順で接着させて、全体を遮光した評価用基板を作製した。
透明電極パターン隠蔽性は、暗室において、蛍光灯（光源）と作製した評価用基板を用いて、評価用基板の基材面側から光を入射させ、基材の光が入射する側の表面からの反射光を、斜めから目視観察し、下記評価基準に基づいて透明電極パターンの隠蔽性を評価した。ＡＡ、Ａ、ＢまたはＣが実用レベルであり、ＡＡ、ＡまたはＢであることが好ましく、ＡＡまたはＡであることがより好ましく、ＡＡであることが特に好ましい。評価結果は下記表６にまとめた。
《評価基準》
ＡＡ：透明電極パターンが目視でもルーペでも全く見えない。
Ａ  ：透明電極パターンが目視では全く見えない。ルーペで観察するとわずかに見える。
Ｂ  ：透明電極パターンがわずかに見えるが、ほとんど見えない。
Ｃ  ：透明電極パターンが見える（分かりにくく、実用上許容できる）。
Ｄ  ：透明電極パターンが見える。
Ｅ  ：透明電極パターンがはっきり見える（分かりやすい）。【０１８６】
＜光学調整部材に起因するムラ＞
また、透明電極パターン隠蔽性と同様の目視観察方法で、評価用基板の基材面側から光を入射させ、基材の光が入射する側の表面からの反射光に透明電極パターン以外の光学調整部材に起因するムラが視認できるか観察し、以下の評価基準で評価した。Ａ、ＢまたはＣが実用レベルであり、ＡまたはＢであることが好ましく、Ａであることがより好ましい。評価結果は下記表６にまとめた。
《評価基準》
Ａ  ：光学調整部材に起因するムラが全く見えない。
Ｂ  ：光学調整部材に起因するムラがわずかに見えるが、ほとんど見えない。
Ｃ  ：光学調整部材に起因するムラが見えるが、実用上許容できる。
Ｄ  ：光学調整部材に起因するムラがはっきり見える（分かりやすい）。【０１８７】
＜透明電極パターンの反射率＞
各実施例および比較例の透明電極付き複合体の作製において、透明電極をパターニングしないこと以外は、各実施例および比較例の透明電極付き複合体の作製と同様にして反射率測定用の透明電極付き複合体を形成した。この反射率測定用の透明電極付き複合体を用い、前述の透明電極パターン隠蔽性の評価と同様にしてサンプルを作製した。分光光度計Ｖ−５７０（日本分光株式会社製）を用いて、サンプルのＤ６５光源に対する反射率を計測した。
結果は下記表６にまとめた。【０１８８】
＜鉛筆硬度＞
耐傷性の指標としてＪＩＳ（Ｊａｐａｎｅｓｅ  Ｉｎｄｕｓｔｒｉａｌ  Ｓｔａｎｄａｒｄｓ）  Ｋ  ５４００に記載の鉛筆硬度評価を行った。各実施例および比較例の透明電極付き複合体を、温度２５℃、相対湿度６０％で１時間調湿した後、ＪＩＳ  Ｓ  ６００６に規定する２Ｈの試験用鉛筆を用いて、５００ｇの荷重にてｎ＝７の評価を行った。Ａ、Ｂ、Ｃが実用レベルであり、ＡまたはＢであることが好ましく、Ａであることが特に好ましい。
《評価基準》
Ａ  ：傷が３つ未満である。
Ｂ  ：傷が３つ以上、５つ未満である。
Ｃ  ：傷が５つ以上、６つ未満である。
Ｄ  ：傷が６つ以上ある。
得られた結果を下記表６に記載した。【０１８９】
【表６】
2017018406.tif 000014
【０１９０】
上記表６から、本発明の透明電極付き複合体は、透明電極パターンの基材側に高屈折率の透明膜を使用しなくても、透明電極パターンの隠蔽性に優れ、光学調整部材に起因するムラを低減でき、鉛筆硬度に優れることがわかった。なお、実施例１〜６の転写フィルムの低屈折率層、高屈折率層および透明保護層はいずれも未硬化であることを、国際公開ＷＯ２０１４／０８４１１２号公報に記載の方法で、不飽和二重結合基の不飽和二重結合消費率が１０％未満であることに基づいて確認した。
一方、比較例１から、光学調整部材が高屈折率層のみであって透明電極パターン側から１番目の層に低屈折率層を有さない場合、透明電極パターンの隠蔽性に劣ることがわかった。
比較例２から、透明保護層を有さない場合、鉛筆硬度に劣ることがわかった。
比較例３から、光学調整部材として透明電極パターン側から１番目の層の屈折率が透明電極パターン側から２番目の層の屈折率よりも本発明で規定する値以上小さくない場合、透明電極パターンの隠蔽性に劣ることがわかった。
比較例４から、光学調整部材として用いる低屈折率層と高屈折率層の厚みが本発明で規定する上限値を超える場合、透明電極パターンの隠蔽性に劣ることがわかった。
比較例５から、光学調整部材として用いる低屈折率層の厚みが本発明で規定する上限値を超える場合、透明電極パターンの隠蔽性に劣ることがわかった。この比較例５は、特開２００４−５０７３４号公報の好ましい形態の追試を意図したものである。なお、比較例５の透明電極付き複合体は鉛筆硬度が少し悪いこともわかった。
比較例６および７から、光学調整部材として透明電極パターン側から偶数番目の高屈折率層の屈折率が本発明で規定する上限値を超える場合、高屈折率層の層数が２層以上である場合は透明電極パターンの隠蔽性に劣り、高屈折率層の層数が１層の場合は光学調整部材に起因するムラが劣ることがわかった。【０１９１】
さらに、各実施例および比較例の透明電極付き複合体の光学調整部材の低屈折率層または高屈折率層の金属酸化物粒子の含有量を以下の方法で測定したところ、上記表２または３に記載した値であった。
透明電極付き複合体の断面を切削した後、ＴＥＭ（透過型電子顕微鏡）で、断面を観察する。光学調整部材の低屈折率層または高屈折率層の膜断面積における、金属酸化物粒子の占有面積の割合を層内の任意の３箇所で測定し、その平均値を体積分率（ＶＲ）と見なす。
体積分率（ＶＲ）と重量分率（ＷＲ）は、下記の式で換算することにより、光学調整部材の低屈折率層または高屈折率層内における金属酸化物粒子の重量分率（ＷＲ）を算出する。
ＷＲ＝Ｄ＊ＶＲ／（１．１＊（１−ＶＲ）＋Ｄ＊ＶＲ）
Ｄ：金属酸化物粒子の比重
金属酸化物粒子が、酸化チタンの場合Ｄ＝４．０、酸化ジルコニウムの場合Ｄ＝６．０として計算することができる。
なお、各実施例および比較例の透明電極付き複合体の光学調整部材の低屈折率層または高屈折率層の金属酸化物粒子の含有量は、低屈折率層または高屈折率層の組成から算出することもできる。【０１９２】
［実施例１０１〜１０９］
＜画像表示装置（タッチパネル）の作製＞
特開２００９−４７９３６号公報の［００９７］〜［０１１９］に記載の方法で製造した液晶表示素子に、先に製造した各実施例の透明電極付き複合体を貼り合せることで、公知の方法で静電容量型入力装置を構成要素として備えた各実施例の透明電極付き複合体を含む画像表示装置を作製した。【０１９３】
＜静電容量型入力装置および画像表示装置の評価＞
各実施例の透明電極付き複合体を含む静電容量型入力装置および画像表示装置は、透明電極パターンが隠蔽され、透明電極パターン以外の光学調整部材に起因するムラが低減され、鉛筆硬度に優れることがわかった。
光学調整部材、透明保護層にも気泡等の欠陥がなく、表示特性に優れた画像表示装置が得られた。
【産業上の利用可能性】
【０１９４】
本発明の透明電極付き複合体は透明電極パターン隠蔽性が優れ、透明電極パターン以外の光学調整部材に起因するムラが低減され、鉛筆硬度に優れるため、タッチパネル（特に静電容量型入力装置）用の材料や、タッチパネル（特に静電容量型入力装置）を構成要素として備えた画像表示装置用の材料として好ましく利用可能である。本発明の転写フィルムはフォトリソグラフィ性を有するため、本発明の転写フィルムを用いて所望のパターンを形成したい場合に、カットする方法よりも生産性が優れるフォトリソグラフィでパターンを形成することができる。
【符号の説明】
【０１９５】
１    基材
２    マスク層
３    透明電極パターン（第一の透明電極パターン）
３ａ  パッド部分
３ｂ  接続部分
４    透明電極パターン（第二の透明電極パターン）
５    絶縁層
６    別の導電性要素
７    透明保護層
８    開口部
１０  静電容量型入力装置
１１  透明膜
１２  光学調整部材
１２Ａ  低屈折率層
１２Ｂ  高屈折率層
１３  透明電極付き複合体
２１  透明電極パターンと光学調整部材と透明保護層がこの順に積層された領域
２２  非パターン領域
α    テーパー角
２６  仮支持体
２９  保護フィルム
３０  転写フィルム
３１  引き回し配線の端末部
３３  透明保護層と光学調整部材の硬化部
３４  引き回し配線の末端部に対応する開口部（透明保護層と光学調整部材の未硬化部）
Ｃ    第一の方向
Ｄ    第二の方向
【図１】
2017018406.tif 000015
【図２】
2017018406.tif 000016
【図３】
2017018406.tif 000017
【図４】
2017018406.tif 000018
【図５】
2017018406.tif 000019
【図６】
2017018406.tif 000020
【図７】
2017018406.tif 000021
【図８】
2017018406.tif 000022
【図９】
2017018406.tif 000023
【図１０】
2017018406.tif 000024
【図１１】
2017018406.tif 000025
【図１２】
2017018406.tif 000026
【図１３】
2017018406.tif 000027
【図１４】
2017018406.tif 000028
【図１５】
2017018406.tif 000029
【図１６】
2017018406.tif 000030
【図１７】
2017018406.tif 000031
【図１８】
2017018406.tif 000032
【国際調査報告】
2017018406.tif 000033
2017018406.tif 000034
2017018406.tif 000035
2017018406.tif 000036