(57)【要約】本発明の医療用機器は、外表面の少なくとも一部に親水加工部が設けられた医療用機器であって、親水加工部は親水性ポリマー及び抗菌剤を含有し、親水加工部の表面の水接触角が３０°以下であり、親水加工部に含まれる単位面積当たりの銀含有量をＰ、以下の抽出試験より測定される単位面積当たりの銀イオン量をＱとした場合、以下の式（１）および式（２）の関係を満たすことで、防曇性に優れ、抗菌性及びその持続性に優れる。  式（１）      ６．０≦Ｐ／Ｑ  式（２）      １５．０≦Ｑここで、Ｐの単位はｎｇ／ｃｍ２であり、Ｑの単位はｎｇ／ｃｍ２である。
2017013911.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
外表面の少なくとも一部に親水加工部が設けられた医療用機器であって、
前記親水加工部は親水性ポリマー及び抗菌剤を含有し、
前記親水加工部の表面の水接触角が３０°以下であり、
前記親水加工部に含まれる単位面積当たりの銀含有量をＰ、以下の抽出試験より測定される単位面積当たりの銀イオン量をＱとした場合、以下の式（１）および式（２）の関係を満たす、医療用機器。
式（１）      ６．０≦Ｐ／Ｑ
式（２）      １５．０≦Ｑ
ここで、Ｐの単位はｎｇ／ｃｍ２であり、Ｑの単位はｎｇ／ｃｍ２である。
また、前記抽出試験は、ＪＩＳ Ｚ ２８０１：２０１０に規定された１／５００普通ブイヨン培地を抽出液として用い、前記抽出液の温度を３５±１℃に制御して、前記親水加工部と前記抽出液とを１時間接触させ、前記抽出液に抽出された銀イオン量を測定し、得られた値を前記親水加工部の前記抽出液との接触面積で除して、単位面積当たりの銀イオン量であるＱを得る試験である。
【請求項２】
式（３）の関係を満たす、請求項１に記載の医療用機器。
式（３）    １５．０≦Ｑ≦２５．０
【請求項３】
前記抗菌剤は、銀を含む第１抗菌剤と、前記第１抗菌剤とは異なる、銀を含む第２抗菌剤と、からなる、請求項１または２に記載の医療用機器。
【請求項４】
前記第１抗菌剤が、銀、並びに、リン酸亜鉛カルシウムおよびリン酸カルシウムからなる群から選択されるいずれか一つの担体を含み、
前記第２抗菌剤が、銀、並びに、ゼオライトからなる担体を含む、請求項３に記載の医療用機器。
【請求項５】
外表面の少なくとも一部に親水加工部が設けられた医療用機器であって、
前記親水加工部は親水性ポリマー及び少なくとも１種の抗菌剤を含有し、
前記親水加工部の表面の水接触角が３０°以下であり、
前記抗菌剤は、銀を含み、
以下の抽出試験で測定される単位面積当たりの銀イオン量が１５〜５０ｎｇ／ｃｍ２である、医療用機器。
前記抽出試験では、ＪＩＳ Ｚ ２８０１：２０１０に規定された１／５００普通ブイヨン培地を抽出液として用い、前記抽出液の温度を３５±１℃に制御して、前記親水加工部と前記抽出液とを１時間接触させ、前記抽出液に抽出された銀イオン量を測定し、得られた値を前記親水加工部の前記抽出液との接触面積で除して、単位面積当たりの銀イオン量を得る。前記銀イオン量の単位はｎｇであり、前記接触面積の単位はｃｍ２であり、前記単位面積当たりの銀イオン量の単位はｎｇ／ｃｍ２である。
【請求項６】
前記抗菌剤が、担体と、前記担体上に担持された銀とを含む銀担持担体である、請求項５に記載の医療用機器。
【請求項７】
外表面の少なくとも一部に親水加工部が設けられた医療用機器であって、
前記親水加工部は親水性ポリマーと、銀を含む抗菌剤と、銀イオンを吸着可能な多孔性担体とを含有し、
前記親水加工部の表面の水接触角が３０°以下であり、
前記抗菌剤の平均粒径をＤａ、前記多孔性担体の平均粒径をＤｂ、および、前記親水加工部の平均厚みをＴとしたとき、以下の関係を満たす、医療用機器。
式（４）    Ｔ／Ｄａ＞３．０
式（５）    Ｔ／Ｄｂ≦３．０
なお、前記Ｄａ、前記Ｄｂ、および、前記Ｔの単位は、μｍである。
【請求項８】
前記多孔性担体に銀が担持されている、請求項７に記載の医療用機器。
【請求項９】
前記Ｄａおよび前記Ｄｂが、以下の関係を満たす、請求項７または８に記載の医療用機器。
式（６）    Ｄｂ／Ｄａ≦３．５
【請求項１０】
前記多孔性担体の含有量が、親水加工部全質量に対して、０．５質量％以下である、請求項７〜９のいずれか１項に記載の医療用機器。
【請求項１１】
前記抗菌剤が、銀、並びに、リン酸亜鉛カルシウムおよびリン酸カルシウムからなる群から選択されるいずれか一つの担体を含み、
前記多孔性担体が、銀、および、ゼオライトからなる担体を含む、請求項７〜１０のいずれか１項に記載の医療用機器。
【請求項１２】
前記親水加工部の表面の表面粗さＲａが２〜１５μｍである、請求項１〜１１のいずれか１項に記載の医療用機器。
【請求項１３】
前記親水加工部が、平均粒径６〜１０μｍの滑剤粒子を含有する、請求項１〜１２のいずれか１項に記載の医療用機器。
【請求項１４】
前記親水加工部の平均厚みが１〜１０μｍである、請求項１〜１３のいずれか１項に記載の医療用機器。
【請求項１５】
前記抗菌剤の含有量が、前記親水加工部全質量に対して、０．００１〜５質量％である、請求項１〜１４のいずれか１項に記載の医療用機器。
【請求項１６】
前記抗菌剤が、銀を担持したセラミックス粒子、及び、銀粒子からなる群から選択される少なくとも１種を含む、請求項１〜１５のいずれか１項に記載の医療用機器。
【請求項１７】
前記医療用機器は、放射線撮影装置である請求項１〜１６のいずれか１項に記載の医療用機器。
【請求項１８】
前記放射線撮影装置において、前記親水加工部が、少なくとも撮影時に被写体が接触する面に設けられている、請求項１７に記載の医療用機器。
【請求項１９】
前記放射線撮影装置において、当該放射線撮影装置は可搬型放射線撮影装置であり、前記親水加工部は、少なくとも当該可搬型放射線撮影装置の筐体において放射線が照射される側の表面に設けられていることを特徴とする請求項１７または１８に記載の医療用機器。
【請求項２０】
前記親水加工部が、さらに前記筐体の背面部及び／又は側面部に設けられている、請求項１９に記載の医療用機器。
【請求項２１】
前記放射線撮影装置において、前記可搬型放射線撮影装置は、少なくとも一端部が開口した筒型形状の筐体本体を有し、前記筐体本体は、開口した前記一端部が蓋部材により閉塞されて筐体を構成してなる請求項１９又は２０に記載の医療用機器。
【請求項２２】
前記放射線撮影装置において、前記可搬型放射線撮影装置の前記筐体の背面部と側面部の少なくとも一部とが一体で形成されている請求項１９又は２０に記載の医療用機器。
【請求項２３】
前記放射線撮影装置において、当該放射線撮影装置がマンモグラフィ装置であり、前記親水加工部が、フェースガード部表面の少なくとも被写体と接する面に設けられていることを特徴とする請求項１７または１８に記載の医療用機器。
【請求項２４】
前記マンモグラフィ装置において、前記親水加工部が、乳房台の表面の少なくとも被写体と接する面、又は乳房圧迫板の表面の少なくとも被写体と接する面に設けられている請求項２３に記載の医療用機器。
【請求項２５】
前記医療用機器は、医療用マスクである請求項１〜１６のいずれか１項に記載の医療用機器。
【請求項２６】
前記医療用機器は、医療用ゴーグルである請求項１〜１６のいずれか１項に記載の医療用機器。
【請求項２７】
前記医療用機器は、医療用滅菌透明袋である請求項１〜１６のいずれか１項に記載の医療用機器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、表面の少なくとも一部に親水加工部が設けられた医療用機器に関する。
【背景技術】
【０００２】
医療現場で使われる医療用機器は、複数の患者と連続的に接触するものが多い。これらの医療用機器に患者の体液等が付着し、清掃・洗浄が十分で無い場合には、患者同士の間、又は患者と撮影者との間で病原性ウィルス等の感染が発生する懸念がある。このような感染を防止するべく、定期的に、又は感染の危険が高い場合には一患者に使用する毎に、エタノール水溶液や次亜塩素酸ナトリウム水溶液等の消毒液を用いて、医療用機器の表面の消毒がなされている。【０００３】
例えば、放射線撮影装置、特に可搬型の放射線撮影装置は、手術室や救急救命室等で使われる場合に、感染性のウィルスや細菌を含んだ血液や吐瀉物、体液、又は皮脂等が付着するケースがある。また、マンモグラフィ装置では、フェースガード部に患者の口紅や皮脂が付着したり、乳房台及び乳房圧迫板に漏出母乳やバイオプシ（マンモトーム生検）の際の出血による血液又は皮脂が付着したりする。患者に由来するこの種の汚染物質は拭取り難く、特に汚染物質が表面に固着し、拭取りに時間を要する場合がある。
これらの問題に対して、以下のような技術が提案されている。【０００４】
例えば、特許文献１には、医療用機器の外表面に防水加工が施された緩衝材が取り付けられた技術が開示されている。この技術によれば、汚染物質が付着し難くなるという利点がある。
また、特許文献２には、殺菌作用を示す光触媒（例えば、ＴｉＯ2）で医療用機器を被覆することが提案されている。【０００５】
また、感染対策の観点から、特許文献３や４には、放射線撮影装置をはじめとする各種医療用機器の表面に抗菌層を設けることにより、細菌の増殖や、病気の感染のリスクを低減する技術が提案されている。
特許文献３には、シリカゲル担体に銀錯体を担持させた銀系抗菌剤、シリカゲルおよび有機結合剤からなる徐放性抗菌材料が開示されている。
特許文献４には、銀を含有するリン酸複塩からなる抗菌剤を含む耐擦傷性皮膜と基材とからなる前面板が開示されている。【０００６】
また、医療現場において使用される医療用機器は、湿気により、表面に結露が生じたり、また、その表示画面が曇り、視認性が低下したりする場合がある。
例えば、放射線撮影装置に用いられるカセッテには、発光部が光ることによりパネルの位置を確認したり、発光色の違いによりパネルの違いを防いだりするＬＥＤ表示部や、バッテリ残量を示す表示部を備えるものがあるが、このような表示部が曇っている場合、光の視認性が低下し、ワークフローの低下が生じる。
このような防曇性にかかる問題に対して、特許文献５では、プラスチックフード、即ちプラスチック製保育器用フードにおいて、内表面の少なくとも一部を光触媒で被覆することにより、曇り防止と同時に抗菌性を付与し、プラスチックフード内表面の結露、およびカビ・雑菌の繁殖性を防ぐことが提案されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２０１２−１３２７０３号公報
【特許文献２】特開２０１２−１２３２９７号公報
【特許文献３】特開平０９−１３１３８９号公報
【特許文献４】特開２００２−３３７２７７号公報
【特許文献５】特開２００２−１１３０５３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかしながら、特許文献１に記載された技術は、消毒という側面から見た場合、医療用機器表面の消毒液に対する濡れ性が小さくなる。すなわち、消毒液が弾かれるようになるので、医療用機器の外表面に消毒液が長時間留まることが容易ではなくなり、細菌類に対する消毒効果が十分に得られない可能性が高い。
また、特許文献２や特許文献５に記載された光触媒が、殺菌性能、親水性や防曇性を発現させるためには、光が照射されることが必須であるので、暗所を含む様々な医療環境で使用される装置としては好適ではない。【０００９】
また、近年、医療用装置は、その使用頻度をより高めるために、より短時間で抗菌作用を示すことが求められている。また、さらに、抗菌作用をより長時間維持できることも求められている。つまり、短時間で抗菌作用を示すと共に、抗菌性を長時間維持できる医療用機器が求められている。
しかし、本発明者らが、特許文献３及び４に記載の抗菌層付き基材について検討を行ったところ、上記要件を十分に満たすものではなく、さらなる改良が必要であった。【００１０】
本発明は上記した問題を解決するためになされたもので、防曇性に優れ、抗菌性および抗菌性の持続性に優れた医療用機器を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
上記目的を達成するために、本発明の第１の態様の医療用機器は、外表面の少なくとも一部に親水加工部が設けられた医療用機器であって、親水加工部は親水性ポリマー及び抗菌剤を含有し、親水加工部の表面の水接触角が３０°以下であり、親水加工部に含まれる単位面積当たりの銀含有量をＰ、以下の抽出試験より測定される単位面積当たりの銀イオン量をＱとした場合、以下の式（１）および式（２）の関係を満たす。
式（１）      ６．０≦Ｐ／Ｑ
式（２）      １５．０≦Ｑ
ここで、Ｐの単位はｎｇ／ｃｍ２であり、Ｑの単位はｎｇ／ｃｍ２である。
また、抽出試験は、ＪＩＳ Ｚ ２８０１：２０１０に規定された１／５００普通ブイヨン培地を抽出液として用い、抽出液の温度を３５±１℃に制御して、親水加工部と抽出液とを１時間接触させ、抽出液に抽出された銀イオン量を測定し、得られた値を親水加工部の抽出液との接触面積で除して、単位面積当たりの銀イオン量であるＱを得る試験である。【００１２】
ここで、式（３）の関係を満たすことが好ましい。
式（３）    １５．０≦Ｑ≦２５．０
また、抗菌剤は、銀を含む第１抗菌剤と、第１抗菌剤とは異なる、銀を含む第２抗菌剤と、からなることが好ましい。
また、第１抗菌剤が、銀、並びに、リン酸亜鉛カルシウムおよびリン酸カルシウムからなる群から選択されるいずれか一つの担体を含み、第２抗菌剤が、銀、並びに、ゼオライトからなる担体を含むことが好ましい。【００１３】
本発明の第２の態様の医療用機器は、外表面の少なくとも一部に親水加工部が設けられた医療用機器であって、親水加工部は親水性ポリマー及び少なくとも１種の抗菌剤を含有し、親水加工部の表面の水接触角が３０°以下であり、抗菌剤は、銀を含み、以下の抽出試験で測定される単位面積当たりの銀イオン量が１５〜５０ｎｇ／ｃｍ２である。
抽出試験では、ＪＩＳ Ｚ ２８０１：２０１０に規定された１／５００普通ブイヨン培地を抽出液として用い、抽出液の温度を３５±１℃に制御して、親水加工部と抽出液とを１時間接触させ、抽出液に抽出された銀イオン量を測定し、得られた値を親水加工部の抽出液との接触面積で除して、単位面積当たりの銀イオン量を得る。銀イオン量の単位はｎｇであり、接触面積の単位はｃｍ２であり、単位面積当たりの銀イオン量の単位はｎｇ／ｃｍ２である。【００１４】
ここで、抗菌剤が、担体と、担体上に担持された銀とを含む銀担持担体であることが好ましい。【００１５】
本発明の第３の態様の医療用機器は、
外表面の少なくとも一部に親水加工部が設けられた医療用機器であって、親水加工部は親水性ポリマーと、銀を含む抗菌剤と、銀イオンを吸着可能な多孔性担体とを含有し、親水加工部の表面の水接触角が３０°以下であり、抗菌剤の平均粒径をＤａ、多孔性担体の平均粒径をＤｂ、および、親水加工部の平均厚みをＴとしたとき、以下の関係を満たす。
式（４）    Ｔ／Ｄａ＞３．０
式（５）    Ｔ／Ｄｂ≦３．０
なお、Ｄａ、Ｄｂ、および、Ｔの単位は、μｍである。【００１６】
ここで、多孔性担体に銀が担持されていることが好ましい。
また、ＤａおよびＤｂが、以下の関係を満たすことが好ましい。
式（６）    Ｄｂ／Ｄａ≦３．５
また、多孔性担体の含有量が、親水加工部全質量に対して、０．５質量％以下であることが好ましい。
また、抗菌剤が、銀、並びに、リン酸亜鉛カルシウムおよびリン酸カルシウムからなる群から選択されるいずれか一つの担体を含み、多孔性担体が、銀、および、ゼオライトからなる担体を含むことが好ましい。【００１７】
上記第１〜３の態様の医療用機器は、下記を満たすことが好ましい。
親水加工部の表面の表面粗さＲａが２〜１５μｍである。
親水加工部が、平均粒径６〜１０μｍの滑剤粒子を含有する。
親水加工部の平均厚みが１〜１０μｍである。
抗菌剤の含有量が、親水加工部全質量に対して、０．００１〜５質量％である。
抗菌剤が、銀を担持したセラミックス粒子、及び、銀粒子からなる群から選択される少なくとも１種を含む。【００１８】
第１〜３の態様の医療用機器は、放射線撮影装置であることが好ましい。
この放射線撮影装置において、親水加工部が、少なくとも撮影時に被写体が接触する面に設けられていることが好ましい。【００１９】
この放射線撮影装置において、放射線撮影装置は可搬型放射線撮影装置であり、親水加工部は、少なくとも可搬型放射線撮影装置の筐体において放射線が照射される側の表面に設けられていることが好ましい。
ここで、親水加工部が、さらに筐体の背面部及び／又は側面部に設けられていることが好ましい。
この放射線撮影装置において、可搬型放射線撮影装置は、少なくとも一端部が開口した筒型形状の筐体本体を有し、筐体本体は、開口した一端部が蓋部材により閉塞されて筐体を構成してなることが好ましい。
この放射線撮影装置において、可搬型放射線撮影装置の筐体の背面部と側面部の少なくとも一部とが一体で形成されていることが好ましい。【００２０】
この放射線撮影装置において、放射線撮影装置がマンモグラフィ装置であり、親水加工部が、フェースガード部表面の少なくとも撮影時に被写体が接触する面に設けられていることが好ましい。
このマンモグラフィ装置において、親水加工部が、乳房台の表面の少なくとも被写体と接する面、又は乳房圧迫板の表面の少なくとも被写体と接する面に設けられていることが好ましい。【００２１】
医療用機器は、医療用マスクであることが好ましい。
医療用機器は、医療用ゴーグルであることが好ましい。
医療用機器は、医療用滅菌透明袋であることが好ましい。
【発明の効果】
【００２２】
本発明によれば、防曇性及び抗菌性に優れる親水加工部を医療用機器の表面に設けるようにしているので、機器表面の曇りを防止、又は抑制することができ、かつ、細菌の繁殖を防止、又は抑制することができる医療用機器を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２３】
【図１】本発明の実施の形態１に係る放射線撮影装置としての可搬型放射線撮影装置の一部断面斜視図である。
【図２】図１に示す可搬型放射線撮影装置の概略縦断面図である。
【図３】（Ａ）は、図２に示す可搬型放射線装置の端部部分を拡大した拡大縦断面図であり、（Ｂ）は、図１に示す可搬型放射線撮影装置を背面側から示す全体概略斜視図である。
【図４】本発明の実施の形態１に係る親水加工部付き基材の一例の模式的断面図である。
【図５】（Ａ）及び（Ｂ）は、それぞれ図１に示す可搬型放射線撮影装置の表面に親水加工部を設けるために用いられる親水加工シートの一例の模式的断面図である。
【図６】（Ａ）、（Ｂ）及び（Ｃ）は、それぞれ図１に示す可搬型放射線撮影装置の表面に直接設けられる親水加工抗菌膜付き基体の一例の模式的断面図である。
【図７】本発明の実施の形態２に係る親水加工部付き基材の一例の模式的断面図である。
【図８】本発明の実施の形態３に係る親水加工部付き基材の一例の模式的断面図である。
【図９】（Ａ）及び（Ｂ）は、本発明の実施の形態３に係る親水加工部付き基材が抗菌性を示す機構を説明するための図である。
【図１０】本発明の実施の形態４に係る放射線撮影装置としての可搬型放射線撮影装置の概略縦断面図である。
【図１１】本発明の実施の形態５に係る放射線撮影装置としてのマンモグラフィ装置の要部概略斜視図である。
【図１２】本発明の実施の形態６に係る放射線撮影装置としての立位撮影用の放射線撮影装置の要部概略斜視図である。
【図１３】本発明の実施の形態７に係る医療用マスクの斜視図である。
【図１４】本発明の実施の形態８に係る医療用ゴーグルの斜視図である
【図１５】本発明の実施の形態９に係る医療用滅菌透明袋の斜視図である。
【発明を実施するための形態】
【００２４】
以下、本発明に係る医療用機器につき好適な実施の形態を挙げ、添付の図面を参照して詳細に説明する。
なお、本明細書において「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。
【００２５】
実施の形態１
図１は、実施の形態１に係る可搬型放射線撮影装置１０（いわゆる電子カセッテ）の一部断面斜視図である。可搬型放射線撮影装置１０は、放射線撮影装置の１種である。図２は、可搬型放射線撮影装置１０の概略縦断面図である。この可搬型放射線撮影装置１０においては、筐体１８の内部に、放射線Ｒａｙが照射される照射面１９側から、図示しない患者を透過した放射線Ｒａｙを検出する放射線検出器１２、及び後述する制御基板１３が順に設けられている。照射面１９において、放射線検出器１２により放射線画像が撮影される領域が撮影領域１９Ａである。
【００２６】
放射線検出器１２は、ＴＦＴ（Thin Film Transistor）アクティブマトリクス基板（以下、ＴＦＴ基板という）２０の表面にガドリニウム硫酸化物（ＧＯＳ）又はヨウ化セシウム（ＣｓＩ）等からなるシンチレータ２１が貼付されて構成される。ＴＦＴ基板２０は、発生した光の外部への漏れ出しを防止するため、シンチレータ２１が貼り付けられた面と反対側の面に、発生した光を遮光する遮光体２２を有していてもよい。
【００２７】
放射線検出器１２では、照射されたＸ線等の放射線Ｒａｙがシンチレータ２１で光に変換される。発生した光は、ＴＦＴ基板２０に設けられたセンサ部に入射する。このセンサ部は、シンチレータ２１から発生した光を受光して電荷を蓄積する。センサ部毎にＴＦＴスイッチが設けられており、このＴＦＴスイッチがＯＮされたときには、センサ部に蓄積された電荷量に応じて、放射線画像を示す電気信号（画像信号）が信号線に流れる。
【００２８】
また、放射線検出器１２の信号配線方向の一端側には、結線用のコネクタ２３が複数個並んで設けられ、走査配線方向の一端側には、コネクタ２４が複数個並んで設けられている。コネクタ２３には信号配線が接続され、コネクタ２４には走査配線が接続されている。
【００２９】
制御基板１３は、スキャン信号制御回路２５と、信号検出回路２６とを備える。スキャン信号制御回路２５にはコネクタ２７が設けられており、このコネクタ２７には、フレキシブルケーブル２８の一端が電気的に接続されている。さらに、このフレキシブルケーブル２８の他端はコネクタ２４に電気的に接続されている。この構成により、スキャン信号制御回路２５は各走査配線にＴＦＴスイッチをＯＮ／ＯＦＦするための制御信号を出力することができる。
【００３０】
信号検出回路２６には複数個のコネクタ２９が設けられており、このコネクタ２９には、フレキシブルケーブル３０の一端が電気的に接続されている。さらに、このフレキシブルケーブル３０の他端は、コネクタ２３に電気的に接続されている。信号検出回路２６は、信号配線毎に、入力される電気信号を増幅する増幅回路を内蔵している。この構成により、信号検出回路２６は、各信号配線から入力される電気信号を増幅回路により増幅して検出することで、画像を構成する各画素の情報として、各センサ部に蓄積された電荷量を検出する。
【００３１】
筐体１８は、矩形平板状に形成されるとともに、図２に示すように、放射線検出器１２の撮影動作や外部装置との通信の制御等各種の制御を行う制御基板１３が放射線検出器１２と重なるように内蔵されている。
【００３２】
筐体１８は、図３（Ａ）に示すように、放射線Ｒａｙが照射される正面側、換言すれば被写体と接する側に配置されるフロントパネル３１と、反被写体側に配置されるバックパネル３２とが対向して設けられている。フロントパネル３１は、天板３３と、天板３３を保持する保持部３４により構成されている。天板３３のバックパネル３２側の面には放射線検出器１２が設けられている。保持部３４は、図２中の左右方向両端部において、バックパネル３２側に湾曲して側面部の一部を形成している。また、バックパネル３２は、図３（Ａ）中の左右方向両端部において、フロントパネル３１側に湾曲して側面部の一部である傾斜部３８を形成している。すなわち、筐体１８の背面部と側面部の一部である傾斜部３８とは、一体で形成されている。なお、必ずしも背面部と側面部の一部のみとを一体で形成する必要はなく、側面部全てを背面部と一体で形成しても良い。このとき、筐体の継ぎ目を少なくすることができ、拭取り性が向上する。
なお、ここで、側面部とは、バックパネル３２側に湾曲した保持部３４の一部と、バックパネル３２の傾斜部３８からなり、背面部とは、フロントパネル３１側に湾曲していない、すなわち、傾斜部３８を除く、バックパネル３２の一部をいう。
【００３３】
バックパネル３２は、図３（Ｂ）に示すように、その傾斜部に、複数枚のパネルを使用する際に、パネルの取り違えを防いだり、撮影時に、パネルのセンター位置を容易に確認することができるＬＥＤランプ３５を備え、また、その背面部に撮りためた撮影枚数を表示するカウント表示部３６やバッテリ残量表示部３７が設けられている。ＬＥＤランプ３５は、バックパネル３２を形成する各辺の傾斜部３８の中央部にそれぞれ配置されている。
【００３４】
本実施の形態では、天板３３をカーボンで形成している。これにより、放射線Ｒａｙの吸収を抑えつつ強度を確保している。また、保持部３４及びバックパネル３２はＡＢＳ樹脂により形成している。
【００３５】
天板３３は、放射線検出器１２により放射線画像が撮影される領域が撮影領域１９Ａである。
【００３６】
以上の構成において、少なくとも、撮影時に患者である被写体（図示せず）が接触する照射面１９、ＬＥＤランプ３５、カウント表示部３６及びバッテリ残量表示部３７には親水加工部が設けられている。なお、その他、撮影者が接触し得る部分、例えば全外表面に親水加工部を設けても良いことは勿論である。
本発明において、照射面１９等に設けられる親水加工部は、患者等の被写体の下に可搬型放射線撮影装置（電子カセッテ）１０が挿入された際、被写体との接触面となるので、滑りやすくするため、ドット状、又はメッシュ状としておいても良い。
【００３７】
また、例えば、照射面１９側のフロントパネル３１の表面には親水処理を施して、照射面１９に親水加工部を設け、且つ、照射面１９の反対側（反被写体側）のバックパネル３２のＬＥＤランプ３５、カウント表示部３６及びバッテリ残量表示部３７の外側表面には親水処理を施して、親水加工部を設け、その他のバックパネル３２の外表面、特に、バックパネル３２の両側において、参照符号Ａで示される部分、即ち、バックパネル３２と筐体１８の側面部の一部を構成するフロントパネル３１の保持部３４との継ぎ目から、筐体１８の背面部を構成するバックパネル３２の端部の領域に至る外側表面の部分Ａに撥水処理を施して、撥水加工部を設けるのが好ましい。
このように、バックパネル３２の外側表面（両側の部分Ａ）に撥水加工部を設けることにより、患者等の被写体の下に可搬型放射線撮影装置（電子カセッテ）１０を挿入しやすくなる。
【００３８】
なお、図２に示す可搬型放射線撮影装置（電子カセッテ）１０の筐体１８の保持部３４のように、電子カセッテの角部が傾斜（湾曲）しているような構造の場合には、汚染物質が垂れて、電子カセッテ周辺が汚染されてしまう恐れがある。しかしながら、本発明においては、照射面１９側のフロントパネル３１の表面に親水加工部を設けると共に、バックパネル３２の外側表面（両側の部分Ａ）に撥水加工部を設けることにより、フロントパネル３１の表面の濡れ性を良好にして、フロントパネル３１の保持部３４から汚染物質が垂れるのを防止し、汚染物質の拡散を防止することができる。
【００３９】
また、筐体１８の背面部を構成するバックパネル３２の外側表面の中央部分Ｂに、エンボス加工を施し、中央部分Ｂをエンボス構造にすることにより、患者等の被写体下に電子カセッテ１０を挿入しやすくさせることができる。
【００４０】
（基材）
本実施の形態において、親水加工部が設けられる部材、すなわち、天板３３はカーボンで形成し、保持部３４及びバックパネル３２はＡＢＳ樹脂により形成しているが、親水加工部を支持する役割を果たせば、その種類は特に制限されず、例えば、金属、ガラス、セラミックス、プラスチック（樹脂）などを用いることができる。なかでも、取り扱い性の点から、プラスチックが好ましい。言い換えれば、樹脂基材が好ましい。
また、基材の形状も特に限定されず、板状、フィルム状、シート上、チューブ状、繊維状、粒子状のものを用いることができる。また、基材表面が平坦面でも凹面でも凸面でもよい。
【００４１】
親水加工部には、親水性ポリマー及び抗菌剤が少なくとも含有される。
以下では、親水加工部に含まれる材料について詳述する。
【００４２】
（親水性ポリマー）
親水性ポリマーとは、親水性基を有するポリマーである。
親水性基の種類は特に制限されず、例えば、ポリオキシアルキレン基（例えば、ポリオキシエチレン基、ポリオキシプロピレン基、オキシエチレン基とオキシプロピレン基がブロック又はランダム結合したポリオキシアルキレン基)、アミノ基、カルボキシル基、カルボキシル基のアルカリ金属塩、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アミド基、カルバモイル基、スルホンアミド基、スルファモイル基、スルホン酸基、スルホン酸基のアルカリ金属塩などが挙げられる。
親水性ポリマーの主鎖の構造は特に制限されず、例えば、ポリウレタン、ポリ（メタ）アクリル酸エステル、ポリスチレン、ポリエステル、ポリアミド、ポリイミド、ポリウレアなどが挙げられる。
なお、ポリ（メタ）アクリル酸エステルとは、ポリアクリル酸エステル及びポリメタアクリル酸エステルの両方を含む概念である。
【００４３】
親水性ポリマーの好適態様の一つとしては、上記親水性基を有するモノマーを重合させて得られるポリマーが挙げられる。
親水性基を有するモノマーとは、上記親水性基と重合性基とを有する化合物を意図する。親水性基の定義は上述の通りである。
親水性基を有するモノマー中における親水性基の数は特に制限されないが、親水加工部がより親水性を示す点より、２個以上が好ましく、２〜６個がより好ましく、２〜３個がさらに好ましい。
【００４４】
重合性基の種類は特に制限されず、例えば、ラジカル重合性基、カチオン重合性基、アニオン重合性基などが挙げられる。ラジカル重合性基としては、（メタ）アクリロイル基、アクリルアミド基、ビニル基、スチリル基、アリル基などが挙げられる。カチオン重合性基としては、ビニルエーテル基、オキシラニル基、オキセタニル基などが挙げられる。なかでも、（メタ）アクリロイル基が好ましい。
なお、（メタ）アクリロイル基とは、アクリロイル基及びメタアクリロイル基の両方を含む概念である。
親水性基を有するモノマー中における重合性基の数は特に制限されないが、得られる親水加工部の機械的強度がより優れる点で、２個以上が好ましく、２〜６個がより好ましく、２〜３個がさらに好ましい。
【００４５】
親水性基を有するモノマーの好適態様の一つとしては、以下の式（Ａ）で表される化合物が挙げられる。
【００４６】
【化１】
2017013911.tif 000003
【００４７】
式（Ａ）中、Ｒ１は、置換基を表す。置換基の種類は特に制限されず、公知の置換基が挙げられ、例えば、ヘテロ原子を有していてもよい炭化水素基（例えば、アルキル基、アリール基）、上記親水性基などが挙げられる。
Ｒ２は、重合性基を表す。重合性基の定義は上述の通りである。
Ｌ１は、単結合又は２価の連結基を表す。２価の連結基の種類は特に制限されず、例えば、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＮＨ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＣＯＯ−、−Ｏ−ＣＯＯ−、アルキレン基、アリーレン基、ヘテロアリール基、及び、それらの組み合わせが挙げられる。
Ｌ２は、ポリオキシアルキレン基を表す。ポリオキシアルキレン基とは、以下の式（Ｂ）で表される基を意図する。
式（Ｂ）      ＊−（ＯＲ３）ｍ−＊
式（Ｂ）中、Ｒ３は、アルキレン基（例えば、エチレン基、プロピレン基）を表す。ｍは、２以上の整数を表し、２〜１０が好ましく、２〜６がより好ましい。なお、＊は、結合位置を表す。
ｎは、１〜４の整数を表す。
【００４８】
親水性ポリマーを得る際には、上記親水性基を有するモノマーと他のモノマーとを併用してもよい。つまり、親水性基を有するモノマーと、他のモノマー（親水性基を有するモノマー以外のモノマー）とを共重合させて得られる親水性ポリマーを使用してもよい。
他のモノマーの種類は特に制限されず、重合性基を有する公知のモノマーであれば適宜使用できる。重合性基の定義は、上述の通りである。
なかでも、親水加工部の機械的強度がより優れる点で、重合性基を２以上有する多官能モノマーが好ましい。多官能モノマーは、いわゆる架橋剤として作用する。
多官能モノマー中に含まれる重合性基の数は特に制限されず、親水加工部の機械的強度がより優れる点、及び、取扱い性の点から、２〜１０個が好ましく、２〜６個がより好ましい。
多官能モノマーとしては、例えば、トリメチロールプロパントリアクリレート、テトラメチロールメタンテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレートが挙げられる。
【００４９】
親水性モノマーと他のモノマー（特に、多官能モノマー）との混合比（親水性モノマーの質量／他のモノマーの質量）は特に制限されないが、親水加工部の親水性の制御がしやすい点から、０．０１〜１０が好ましく、０．１〜１０がより好ましい。
【００５０】
なお、親水加工部には、上記親水性ポリマーが主成分として含まれていることが好ましい。ここで、主成分とは、親水加工部全質量に対して、親水性ポリマーの含有量が５０質量％以上であることを意図し、７０質量％以上が好ましく、９０質量％以上がより好ましい。
【００５１】
（抗菌剤）
次に、以下では、親水加工部に含まれる抗菌剤について詳述する。
親水加工部は、銀を含む第１抗菌剤（以後、単に「第１抗菌剤」とも称する）と、第１抗菌剤とは異なる、銀を含む第２抗菌剤（以後、単に「第２抗菌剤」とも称する）を少なくとも含む。つまり、親水加工部に、２種の銀を含む抗菌剤（以後、単に「銀系抗菌剤」とも称する）が少なくとも含まれる。
なお、本実施の形態においては、抗菌剤として、銀を少なくとも１種含むだけでもよい。
第１抗菌剤および第２抗菌剤としては、銀（銀原子）が含まれていればよく、その種類は特に制限されない。また、銀の形態も特に制限されず、例えば、金属銀、銀イオン、銀塩（銀錯体を含む）など形態で含まれる。なお、本明細書では、銀錯体は銀塩の範囲に含まれる。
【００５２】
なお、銀塩としては、例えば、酢酸銀、アセチルアセトン酸銀、アジ化銀、銀アセチリド、ヒ酸銀、安息香酸銀、フッ化水素銀、臭素酸銀、臭化銀、炭酸銀、塩化銀、塩素酸銀、クロム酸銀、クエン酸銀、シアン酸銀、シアン化銀、（ｃｉｓ，ｃｉｓ−１，５−シクロオクタジエン）−１，１，１，５，５，５−ヘキサフルオロアセチルアセトン酸銀、ジエチルジチオカルバミン酸銀、フッ化銀（Ｉ）、フッ化銀（ＩＩ）、７，７−ジメチル−１，１，１，２，２，３，３−ヘプタフルオロ−４，６−オクタンジオン酸銀、ヘキサフルオロアンチモン酸銀、ヘキサフルオロヒ酸銀、ヘキサフルオロリン酸銀、ヨウ素酸銀、ヨウ化銀、イソチオシアン酸銀、シアン化銀カリウム、乳酸銀、モリブデン酸銀、硝酸銀、亜硝酸銀、酸化銀（Ｉ）、酸化銀（ＩＩ）、シュウ酸銀、過塩素酸銀、ペルフルオロ酪酸銀、ペルフルオロプロピオン酸銀、過マンガン酸銀、過レニウム酸銀、リン酸銀、ピクリン酸銀一水和物、プロピオン酸銀、セレン酸銀、セレン化銀、亜セレン酸銀、スルファジアジン銀、硫酸銀、硫化銀、亜硫酸銀、テルル化銀、テトラフルオロ硼酸銀、テトラヨードキュリウム酸銀、テトラタングステン酸銀、チオシアン酸銀、ｐ−トルエンスルホン酸銀、トリフルオロメタンスルホン酸銀、トリフルオロ酢酸銀およびバナジン酸銀等が挙げられる。
また、銀錯体の一例としては、ヒスチジン銀錯体、メチオニン銀錯体、システイン銀錯体、アスパラギン酸銀錯体、ピロリドンカルボン酸銀錯体、オキソテトラヒドロフランカルボン酸銀錯体またはイミダゾール銀錯体などが挙げられる。
【００５３】
第１抗菌剤および第２抗菌剤としては、例えば、上記銀塩などの有機系の抗菌剤と、後述する担体を含む無機系の抗菌剤が挙げられるが、その種類は特に制限されない。
なかでも、短時間で抗菌作用を示す、および／または、抗菌性を長時間維持できる点（以後、単に「本発明の効果がより優れる点」とも称する）で、第１抗菌剤および第２抗菌剤が、担体と、担体上に担持された銀とを含む銀担持担体であることが好ましい。
担体の種類は特に制限されず、リン酸亜鉛カルシウム、リン酸カルシウム、リン酸ジルコニウム、リン酸アルミニウム、ケイ酸カルシウム、活性炭、活性アルミナ、シリカゲル、ゼオライト、ヒドロキシアパタイト、リン酸チタン、チタン酸カリウム、含水酸化ビスマス、含水酸化ジルコニウム、ハイドロタルサイトなどが挙げられる。なお、ゼオライトとしては、例えば、チャバサイト、モルデナイト、エリオナイト、クリノプチロライト等の天然ゼオライト、Ａ型ゼオライト、Ｘ型ゼオライト、Ｙ型ゼオライト等の合成ゼオライトが挙げられる。
上記銀担持担体の平均粒径は特に制限されないが、本発明の効果がより優れる点で、０．１〜１０μｍが好ましく、０．１〜２μｍがより好ましい。なお、上記平均粒径は、顕微鏡により少なくとも１０個の任意の銀担持担体の直径を測定し、それらを算術平均した値である。
なお、上述したように、銀は、銀イオン、金属銀、および、銀塩のいずれの形態で含まれていてもよい。
【００５４】
第２抗菌剤の好適態様としては、担体として多孔質体（例えば、ゼオライト、リン酸ジルコニウム、リン酸アルミニウム、ケイ酸カルシウム）を用いた銀担持担体であることが好ましい。
また、第１抗菌剤および第２抗菌剤の最好適態様としては、本発明の効果がより優れる点で、第１抗菌剤が、銀、並びに、リン酸亜鉛カルシウムおよびリン酸カルシウムからなる群から選択されるいずれか一つの担体を含み、第２抗菌剤が、銀、並びに、ゼオライトからなる担体を含むことが好ましい。言い換えれば、第１抗菌剤が、リン酸亜鉛カルシウムおよびリン酸カルシウムからなる群から選択されるいずれか一つの担体と、この担体に担持された銀とを含む銀担持触媒であり、第２抗菌剤がゼオライトからなる担体と、この担体に担持された銀とを含む銀担持触媒である。
【００５５】
第１抗菌剤および第２抗菌剤中における銀の含有量は特に制限されないが、例えば、上記銀担持担体の場合、銀の含有量は、銀担持担体全質量に対して、０．１〜３０質量％が好ましく、０．３〜１０質量％がより好ましい。
【００５６】
親水加工部中における上記第１抗菌剤および上記第２抗菌剤の総含有量は特に制限されないが、本発明の効果がより優れる点で、親水加工部全質量に対する銀の含有量が０．０００１〜１質量％（好ましくは、０．００１〜０．１質量％）となるように第１抗菌剤および第２抗菌剤を親水加工部に含有させることが好ましい。
なお、親水加工部中における銀量は、第１抗菌剤中の銀および第２抗菌剤中の銀の合計量を意図する。
また、親水加工部中における第１抗菌剤（または第２抗菌剤）の含有量は特に制限されないが、親水加工部の機械的強度がより優れ、本発明の効果がより優れる点で、親水加工部全質量に対して、０．００１〜１０質量％が好ましく、０．０１〜５質量％がより好ましく、０．０１〜１質量％がさらに好ましい。
【００５７】
本発明においては、抗菌剤が、親水加工部の表面に露出していなくてもよい。
【００５８】
親水加工部中には、上記親水性ポリマー及び抗菌剤以外の他の成分が含まれていてもよい。
例えば、親水加工部には、滑剤が含まれていてもよい。親水加工部に滑剤を含有させることで最外層の凹凸形状を形成することができる。
滑剤の平均粒径は特に制限されないが、０．５μｍ〜３０μｍが好ましく、０．５μｍ〜２０μｍがより好ましく、６μｍ〜１０μｍがさらに好ましい。
なお、滑剤の平均粒径は、顕微鏡（例えば、走査型電子顕微鏡）を用いて任意の１００個の粒径（直径）を測定し、それらを算術平均したものである。なお、滑剤が真円状でない場合は、長径を直径として測定する。
また、滑剤の素材は特に制限されず、無機化合物（例えば、金属）又は樹脂が挙げられ、樹脂が好ましい。樹脂を採用すると、放射線Ｒａｙの吸収量が低いため、撮影画像にアーチファクトとして重畳する問題や、可搬型放射線撮影装置１０内の放射線検出器１２に到達する放射線量を減衰させる問題が生じにくく、結果として被写体である患者への被曝量を低減させることができる。
【００５９】
（親水加工部の特性）
親水加工部の表面の水接触角は３０°以下を示し、防曇性、汚染物質の除去性がより優れる点で、２１°以下が好ましく、１５°以下がより好ましい。下限は特に制限されないが、使用される材料特性の点から、５°以上の場合が多い。
水接触角が３０°超の場合、十分な抗菌性や防曇性が得られず、また、汚染物質の除去性に劣る。
なお、本明細書において、水接触角は、ＪＩＳ  Ｒ ３２５７：１９９９の静滴法に基づいて測定を行う。測定には、株式会社ニック製ＬＳＥ-ＭＥ１（ソフトウェア２ｗｉｎ ｍｉｎｉ）を用いる。より具体的には、純水を用いて室温２０℃で、水平を保った親水性加工部表面上に液滴２μｌを滴下し、滴下後２０秒時点での接触角を測定する。
【００６０】
親水加工部の表面は、微小な凹凸形状を有することが好適である。微小な凹凸形状を有することで、被写体との接触面積を低減することができ、結果として、皮脂等に由来する汚染物質の付着量を低減することができる。また、汚染物質との接触面積を減らすとともに、汚染物質と親水加工部表面との間に隙間ができやすくなることで、この間隙に水等が入り易くなり、結果として、汚染物質の除去性を向上させることにつながる。
また、特に親水加工部における被写体との接触部に凹凸形状を有する場合は、患者である被写体の皮膚との接触面積が減ることで、べたつき感が低減され、撮影時の患者の不快感を低減することにもつながる。
【００６１】
親水加工部の表面の表面粗さＲａは特に制限されないが、１μｍ〜２０μｍが好ましく、２μｍ〜１５μｍがより好ましく、３μｍ〜６μｍがさらに好ましい。
なお、表面粗さＲａは、ＪＩＳ−Ｂ０６０１：２００１規定に基づいて測定する。具体的には、触針走査式粗さ測定器を使用し、親水加工部の表面の任意の５ヵ所を測定し、その平均値を表面粗さＲａとする。また「粗さ計モード」を搭載したレーザーマイクロスコープ（例えば、キーエンス社ＶＫ-Ｘ２００）を用いて、触診走査式と同等の測定を行うことも出来る。
【００６２】
親水加工部の平均厚みは特に制限されないが、汚染物質の除去性及び抗菌性の点からは、０．５μｍ〜２０μｍが好ましく、１μｍ〜１０μｍがより好ましい。
なお、親水加工部の平均厚みの測定方法としては、サンプル片を樹脂に包埋して、ミクロトームで断面を削り出し、削り出した断面を走査電子顕微鏡で観察し測定する。親水加工部の任意の１０点の位置における厚みを測定し、それらを算術平均する。
【００６３】
（親水加工部付き基材）
図４は、本実施の形態の親水加工部付き基材の一例の模式的断面図である。図４に示すように、親水加工部付き基材４０は、基材４２と、基材４２上に配置された親水加工部４４とを有する。なお、親水加工部４４は、基材４２の少なくとも一部に配置されていればよい。
（親水加工部付き基材の特性）
上記で述べた基材、可搬型放射線装置１０を構成する基材と、基材表面の少なくとも一部に配置された親水加工部と、を備える親水加工部付き基材は、親水加工部に含まれる単位面積当たりの銀含有量をＰ（ｎｇ／ｃｍ２）、以下の抽出試験より測定される単位面積当たりの銀イオン量をＱ（ｎｇ／ｃｍ２）とした場合、以下の式（１）および式（２）の関係を満たす。
式（１）      ６．０≦Ｐ／Ｑ
式（２）      １５．０≦Ｑ
以下では、まず、上記ＰおよびＱの測定方法について詳述する。
【００６４】
親水加工部に含まれる単位面積当たりの銀含有量Ｐ（ｎｇ／ｃｍ２）とは、親水加工部中に含まれる銀量（ｎｇ）を親水加工部の主面の面積（ｃｍ２）で除した値である。なお、親水加工部の主面の面積とは、図４においては、親水加工部４４の基材４２側とは反対側の主面４４ａの面積を意図する。
銀含有量Ｐの値が大きいほど親水加工部中に含まれる銀量が多いことを意図し、銀含有量Ｐの大きさは、上記式（１）の関係を満たしていれば特に制限されないが、本発明の効果がより優れる点で、９０ｎｇ／ｃｍ２以上が好ましく、１２０ｎｇ／ｃｍ２以上がより好ましい。上限は特に制限されないが、膜の変色や脆化を防止する観点から、１００００ｎｇ／ｃｍ２以下が好ましく、１０００ｎｇ／ｃｍ２以下がより好ましい。
銀含有量Ｐの測定方法は、所定の大きさ（面積）に調整した親水加工部を用いて、原子吸光分析（イエナ製  ｃｏｎｔｒＡＡ７００）により親水加工部中の銀量を測定し、得られた銀量を上記面積で除して、銀含有量Ｐを求める。より具体的には、親水加工部に含まれる銀を全て溶出させ、得られた溶液を用いて上記原子吸光分析して、あらかじめ作成しておいた検量線から銀量を求めて、親水加工部の面積で除して、銀含有量Ｐを求める。親水加工部に含まれる銀を全て溶出させる方法としては、無機分析における前処理として一般的に知られる湿式灰化処理を用いる。
【００６５】
以下、抽出試験の方法について詳述する。
抽出試験では、ＪＩＳ Ｚ ２８０１：２０１０に規定された１／５００普通ブイヨン培地を抽出液として用いる。この抽出液の温度を３５±１℃に制御して、親水加工部付き基材中の親水加工部（親水加工部の面積：４ｃｍ２（２ｃｍ×２ｃｍ））と抽出液（液量：９ｍＬ）とを１時間接触させる。なお、親水加工部と抽出液とを接触させる方法としては、抽出液中に親水加工部付き基材を浸漬する方法が実施される。
次に、１時間終了後、抽出液から親水加工部付き基材を回収して、抽出液に抽出された銀イオン量（ｎｇ）を測定する。抽出液中の銀イオン量の測定は、原子吸光分析（装置名イエナ製  ｃｏｎｔｒＡＡ７００）を用いて実施し、あらかじめ作成した検量線より銀イオン量を求める。
なお、銀イオン量を測定する際には、必要に応じて、測定の安定性を高めるため、抽出液に硝酸（約１ｍＬ）を加えることが好ましい。
【００６６】
次に、得られた銀イオン量を、親水加工部の抽出液との接触面積（４ｃｍ２）で除して、単位面積当たりの銀イオン量Ｑ（ｎｇ／ｃｍ２）を算出する。親水加工部の抽出液との接触面積とは、親水加工部と抽出液とを接触させた際に親水加工部表面の抽出液と接触していた面積を意図し、例えば、図４においては親水加工部４４の基材４２側とは反対側の主面４４ａの面積を意図する。
この得られた銀イオン量Ｑは、親水加工部からの銀イオンの溶出（抽出）の程度を表しており、以下の式（２）の関係を満たす。式（２）は、Ｑが１５．０ｎｇ／ｃｍ２以上であることを意図する。
式（２）      １５．０≦Ｑ
なかでも、本発明の効果がより優れる点で、式（３）の関係を満たすことが好ましい。
式（３）    １５．０≦Ｑ≦２５．０
さらに、本発明の効果がより優れる点で、Ｑは１７．０〜２４．０ｎｇ／ｃｍ２が好ましく、１９．０〜２１．０ｎｇ／ｃｍ２がより好ましい。
銀イオン量Ｑが１５．０ｎｇ／ｃｍ２未満の場合、短時間での抗菌性に劣る。
【００６７】
上述した銀含有量Ｐと銀イオン量Ｑとは、以下の式（１）の関係を満たす。式（１）は、Ｐ／Ｑが６．０以上であることを意図する。なお、Ｐ／Ｑは、ＰをＱで除した値である。
式（１）      ６．０≦Ｐ／Ｑ
なかでも、本発明の効果がより優れる点で、Ｐ／Ｑは７．０以上が好ましく、１０．０以上がより好ましい。上限は特に制限されないが、抗菌性の持続効果が飽和する点から、２０．０以下が好ましく、１５．０以下がより好ましい。
Ｐ／Ｑが６未満の場合、長時間にわたって所定の抗菌性を示すことができない。
【００６８】
この親水加工部付き基材が外表面に配置された可搬型放射線撮影装置は、短時間での抗菌性、および、長時間にわたった抗菌性が得られる。
特に、親水加工部に２種の銀系抗菌剤が含まれている場合に、長時間にわたって抗菌性が得られる。本願の発明者らは、鋭意研究を重ね、２種の銀系抗菌剤を混合して用いると、溶出Ａｇイオン量に加成性が成り立たないことを知見していたが、上記式を満たすことで、優れた抗菌性を長時間にわたって得ることができることを見出した。
【００６９】
（親水加工部の作成方法）
上記親水加工部の作製方法は特に制限されず、公知の方法を採用できる。例えば、上述した親水性ポリマー及び抗菌剤を含む組成物を塗布して親水加工部を形成する方法や、別途作製した親水性ポリマー及び抗菌剤を含むポリマーフィルムを所定の位置に貼り付ける方法などが挙げられる。
なかでも、親水加工部の厚みや表面凹凸の調整がより容易である点から、上述した、親水性基を有するモノマー及び抗菌剤を含む親水加工部形成用組成物（以後、単に「組成物」とも称する）を所定の位置に塗布して塗膜を形成し、塗膜に硬化処理を施すことにより親水加工部を形成する方法（塗布法）が好ましい。
【００７０】
組成物には、上述した親水性基を有するモノマー及び抗菌剤が含まれるが、他の成分（上記他のモノマー、滑剤、溶媒（水又は有機溶媒））が含まれていてもよい。
なお、組成物には、重合開始剤が含まれていてもよい。重合開始剤が含まれることにより、塗膜中での重合がより効率よく進行し、機械的強度に優れる親水加工部が形成される。重合開始剤の種類は特に制限されず、硬化処理の方法により最適な種類が選択されるが、例えば、熱重合開始剤、光重合開始剤が選択される。より具体的には、ベンゾフェノン、フェニルフォスフィンオキシドなどの芳香族ケトン類、α‐ヒドロキシアルキルフェノン系化合物（ＢＡＳＦ ＩＲＧＡＣＵＲＥ１８４、１２７、２９５９、ＤＡＲＯＣＵＲ１１７３など)、フェニルフォスフィンオキシド系化合物（ＭＡＰＯ：ＢＡＳＦ ＬＵＣＩＲＩＮ ＴＰＯ、ＢＡＰＯ：ＢＡＳＦ ＩＲＧＡＣＵＲＥ ８１９）などが挙げられる。
組成物中に含まれる重合開始剤の含有量は特に制限されないが、親水性基を有するモノマー及び他のモノマーの合計質量１００質量部に対して、０．１〜１５質量部が好ましく、１〜６質量部がより好ましい。
【００７１】
組成物を塗布する方法は特に制限されず、公知の塗布方法が採用される。
また、硬化処理の方法は特に制限されず、加熱処理又は光照射処理が挙げられる。
【００７２】
本実施の形態に係る可搬型放射線撮影装置１０は、基本的には以上のように構成されるものであるが、その外表面の少なくとも一部、即ち所定の箇所、例えば、少なくとも、照射面１９、ＬＥＤランプ３５、カウント表示部３６及びバッテリ残量表示部３７に設けられる親水加工部の形成方法について説明する。
本実施の形態に係る可搬型放射線撮影装置１０は、その外表面の所定の箇所に親水加工部が設けられたものであるが、その外表面の所定の箇所に親水加工部を設ける方法は、特に制限的ではなく、いかなる方法で設けても良いが、例えば、その外表面の所定の箇所に、少なくとも一部、即ち全部又は一部に親水加工部を持つ親水加工シートを貼付することにより親水加工部を設けても良いし、その外表面の所定の箇所に、少なくとも一部、即ち全部又は一部に親水性部を持つ親水加工抗菌膜を形成することにより親水加工部を設けても良い。
【００７３】
（親水加工シート）
次に、本発明の可搬型放射線撮影装置１０の外表面の所定の箇所に親水加工部を設けるために用いられる親水加工シートについて以下に説明する。
本発明の親水加工シート５０は、図５（Ａ）に示すように、シート本体５２と、シート本体５２の一方の外側面に形成される親水加工部５４と、シート本体５２の、一方の外側面と反対側の他方の表面に形成される粘着層５６と、シート本体５２と反対側の、粘着層５６の表面に積層される剥離シート５８とを有する。
【００７４】
なお、本発明の親水加工シートは、図５（Ａ）に示す親水加工シート５０ように、親水加工部５４が、シート本体５２の一方の外表面の全面に形成されるものに限定されず、図５（Ｂ）に示す親水加工シート５１のように、シート本体５２の一方の外表面の一部に形成されるものであってもよい。
本発明の親水加工シート５０及び５１は、親水加工部５４とシート本体５２との積層体を、上述した本発明の可搬型放射線撮影装置１０の外表面に形成するためのものである。
【００７５】
図５（Ａ）及び（Ｂ）に示す例では、親水加工シート５０及び５１は、粘着層５６を有しているので、剥離シート５８を粘着層５６から剥離して、粘着層５６を親水加工部形成面となる可搬型放射線撮影装置１０の内表面の所定の箇所等に接着させることにより、親水加工部５４とシート本体５２との積層体を粘着層５６によって親水加工部形成面に貼り付けて親水加工部５４を可搬型放射線撮影装置１０の外表面の所定の箇所に取り付けて設けることができる。
【００７６】
なお、図５（Ａ）及び（Ｂ）に示す例では、親水加工シート５０及び５１は、親水加工部５４とシート本体５２との積層体に加え、粘着層５６を有しているが、本発明はこれに限定されず、親水加工部５４とシート本体５２との積層体のみで構成されるものであっても良い。親水加工シート５０及び５１が、親水加工部５４とシート本体５２との積層体のみで構成されている場合には、別途、親水加工部形成面、又はシート本体５２の表面に、接着剤等を塗布して接着剤層等を形成し、親水加工部形成面に親水加工部５４とシート本体５２との積層体を貼り付けて、親水加工部５４を形成することができる。
【００７７】
なお、親水加工部５４は、上述した親水加工部と同一であるのでその説明は省略する。
シート本体５２は、その一方の外表面の全面又はその一部の領域に形成された親水加工部５４を支持するものである。なお、親水加工部５４は、シート本体５２の一方の外表面の全面に形成されていても良いし、その一部に形成されていても良いが、全面に形成されることが好ましい。
【００７８】
シート本体５２としては、親水加工部５４を支持できれば、特に制限的ではないが、どのようなものでも良く、公知のシートを用いることができる。例えば、ポリエチレンテレフタレートフイルム（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレートフイルム（ＰＢＴ）、ポリイミドフイルム、トリアセチルセルロースフイルム等を使用することができる。ＰＥＴとしては例えば、東レ製ルミラーＵ３４、東洋紡製コスモシャインＡ４３００、帝人製Ｏ３９１６Ｗ等を用いることができる。また表面に易接着層が設けられていてもよい。
また、シート本体５２の厚みも、特に制限的ではないが、１０μｍ〜２００μｍが好ましく用いることができる。貼り付け対象が、抵抗膜方式のタッチパネルの場合、柔軟な表面に追随する必要があり、１０μｍ〜１００μｍ、さらには、１０μｍ〜５０μｍが好ましい。また静電容量方式のタッチパネルの場合、貼りやすさの点から、５０μｍ〜１００μｍを好ましく用いることができる。
【００７９】
粘着層５６は、親水加工部５４とシート本体５２との積層体を、上述した可搬型放射線撮影装置１０の外表面の所定の箇所の親水加工部形成面に接着するためのものである。粘着層５６は、親水加工部５４とシート本体５２との積層体を親水加工部形成面に接着できればどのようなものでも良く、公知の粘着剤を用いて形成されたものであっても良い。なお、粘着層５６に使用可能な粘着剤としては、特に限定的ではなく、例えば、（メタ）アクリル系粘着剤、ゴム系粘着剤、シリコーン系粘着剤、ウレタン系粘着剤、ポリエステル系粘着剤等が挙げられる。タッチパネルの表面に用いる場合は、貼り付け・剥離を繰り返すこと、気泡を入れずに貼り付けることを考慮して、自己粘着性の粘着剤も好ましく用いることができる。ここで、（メタ）アクリル系粘着剤とは、アクリル系粘着剤および／またはメタアクリル系粘着剤（メタクリル系粘着剤）を言う。この（メタ）アクリル系粘着剤としては、後述する粘着シートに用いられる（メタ）アクリル系粘着剤を用いることができる。
粘着層の形成方法としては、特に制限はなく、例えば、塗布方式や印刷方式、貼り合わせ方式などを挙げることができ、その中でも塗布により設置する方法と粘着シートを貼り付けて形成する方法を好ましく用いることができ、粘着シートを貼り付けて形成する方法がより好ましい。
【００８０】
また、粘着層５６の厚みも、特に制限的ではないが、１μｍ〜３０μｍであることが好ましい。粘着層の厚さが１μｍ以上であると、共押出による安定成膜が安定的となり、３０μｍ以下であると、材料コストが安価となる。このとき、粘着力を大きくする場合は、その粘性を考慮し、粘着層の厚みを大きくするのが好ましい。粘着層の厚みを大きくすることにより、被覆体との接触面積が大きくなりやすくなるためである。粘着層の厚さは、２μｍ〜２０μｍであることが好ましく、さらに３μｍ〜１５μｍがより好ましい。
また、粘着層５６の粘着力も、特に制限的ではないが、２ｃＮ／２５ｍｍ〜２０ｃＮ／２５ｍｍの範囲であることが、使用上好ましい。粘着力が２ｃＮ／２５ｍｍ以上であるとタッチパネル等の表面に貼り付けて使用する際にめくれ等が生じにくい。一方、粘着力が２０ｃＮ／２５ｍｍ以下であれば、フイルムを剥離する際にスムーズに剥離することができる。
【００８１】
剥離シート５８は、親水加工シート５０の使用時まで、粘着層５６を保護するために粘着層５６に接着されているものである。剥離シート５８は、粘着層５６を保護できればどのようなものでも良く、公知の剥離シート５８を用いることができる。例えば、シリコーン系化合物や長鎖アルキル系化合物、ポリビニルアルコール・カルバメート等の離型剤を用いることができる。
また、剥離シート５８の厚みも、特に制限的ではないが、１μｍ〜３０μｍであることが好ましい。離型層の厚さが１μｍ以上であれば、共押出による安定製膜が安定的となり、３０μｍ以下であることが、材料コストが安価となる。離型層の厚さは、２μｍ〜２０μｍであることが好ましく、さらに３μｍ〜１５μｍが好ましい。
【００８２】
（親水加工抗菌膜）
次に、本発明の可搬型放射線撮影装置の外表面の所定の箇所に親水加工部を設けるために可搬型放射線撮影装置の外表面の所定の箇所に直接形成される親水加工抗菌膜について以下に説明する。
図６（Ａ）、（Ｂ）及び（Ｃ）に、それぞれ可搬型放射線撮影装置の筐体の所定の箇所を構成する基体に親水加工抗菌膜が直接形成された親水加工抗菌膜付き基体（以下、単に抗菌膜付き基体という）を示す。
【００８３】
まず、図６（Ａ）に示す抗菌膜付き基体６０は、基材６２と、基材６２の一方の外側面（図示例では上側面）に形成される親水性部６４とを有し、親水性部６４は、本発明の親水加工抗菌膜６６を構成する。
なお、本発明の親水加工抗菌膜６６は、図６（Ａ）に示すように、基材６２の一方の外表面の全面に形成された親水性部６４から構成されるものに限定されず、図６（Ｂ）に示す抗菌膜付き基材６０Ａのように、基材６２の一方の外表面の一部に形成された親水性部６４を含むように、基材６２の一方の外表面の全面に形成されるものであってもよいし、図６（Ｃ）に示す抗菌膜付き基材６０Ｂのように、基材６２の一方の外表面の一部に形成された親水性部６４から構成されるものであってもよい。
【００８４】
図６（Ａ）、（Ｂ）及び（Ｃ）に示す抗菌膜付き基材６０、６０Ａ及び６０Ｂの基材６２は、放射線可搬装置１０の所定の箇所の親水加工部形成面を構成する部材であって、例えば図１〜３に示す可搬型放射線装置１０の例えば、少なくとも、照射面１９、ＬＥＤランプ３５、カウント表示部３６及びバッテリ残量表示部３７である。
【００８５】
図６（Ａ）、（Ｂ）及び（Ｃ）に示す抗菌膜付き基材６０、６０Ａ及び６０Ｂの親水性部６４は、基材６２の表面の少なくとも一部に配置される。具体的には、親水性部６４は、図６（Ａ）に示す抗菌膜付き基材６０のように、基材６２の一方の側の表面の全面に配置されていても良いし、図６（Ｂ）及び（Ｃ）に示す抗菌膜付き基材６０Ａ及び６０Ｂのように、基材６２の表面の一部のみに配置されていても良い。また、基材６２は、図６（Ａ）及び（Ｃ）に示す抗菌膜付き基材６０及び６０Ｂのように、親水加工抗菌膜６６の全体を構成するものであっても良いし、図６（Ｂ）に示す抗菌膜付き基材６０Ａのように、親水加工抗菌膜６６の一部のみを構成するものであっても良い。
【００８６】
親水性部６４としては、本発明の親水加工部、具体的には、上述した可搬型放射線撮影装置１０の外表面の少なくとも一部を構成する所定の箇所に形成される親水加工部、例えば図５（Ａ）及び（Ｂ）に示す親水加工シート５０及び５１の親水加工部５４と全く同様の構成を有するものであるということができる。
すなわち、本発明の親水性部は、上述した本発明の親水加工部と全く同様の構成を有するものであるので、ここでは、説明を省略する。
【００８７】
図６（Ａ）、（Ｂ）及び（Ｃ）に示す抗菌膜付き基材６０、６０Ａ及び６０Ｂの親水加工抗菌膜６６は、基材６２の表面の少なくとも一部に配置され、抗菌作用を有する膜であり、少なくとも一部が親水性である。即ち、親水加工抗菌膜６６は、その少なくとも一部が親水性部６４によって構成される。
具体的には、親水加工抗菌膜６６は、図６（Ａ）及び（Ｂ）に示す抗菌膜付き基材６０及び６０Ａのように、基材６２の一方の側の表面の全面に配置されていても良いし、図６（Ｃ）に示す抗菌膜付き基材６０Ｂのように、基材６２の表面の一部のみに配置されていても良い。また、親水加工抗菌膜６６は、図６（Ａ）及び（Ｃ）に示す抗菌膜付き基材５０及び５０Ｂのように、親水加工抗菌膜６６の全部が、親水性部６４から構成されるものであっても良いし、図６（Ｂ）に示す抗菌膜付き基材６０Ａのように、親水加工抗菌膜６６の一部のみが親水性部６４から構成されるものであっても良い。
【００８８】
親水加工抗菌膜は、上述した親水加工部に含まれる抗菌剤を含む。ここで、ここで用いられる抗菌剤、及び銀を含む抗菌剤（銀系抗菌剤）は、上述した抗菌剤、及び銀系抗菌剤と同様であるので、その説明は省略する。
なお、本実施の形態においては、親水加工部中の場合と同様に、親水加工抗菌膜中における上記抗菌剤、又は上記銀系抗菌剤の含有量は特に制限されないが、本実施の形態の効果がより優れる点で、親水加工抗菌膜全質量に対する抗菌剤（又は銀）の含有量が０．００１〜２０ｗｔ％（好ましくは、０．００１〜５ｗｔ％）となるように抗菌剤、又は銀系抗菌剤を親水加工抗菌膜に含有させることが好ましい。
【００８９】
本実施の形態に係る可搬型放射線撮影装置１０は、基本的には以上のように構成されるものであり、次にその作用効果について説明する。
【００９０】
被写体の放射線画像を取得するためには、先ず、可搬型放射線撮影装置１０の少なくとも照射面１９、好適には筐体１８の全外表面を清浄化する。すなわち、消毒液を含ませたワイパーで筐体１８を拭き取る。消毒液としては、エタノール水溶液や次亜塩素酸ナトリウム水溶液が好適に用いられる。
【００９１】
可搬型放射線撮影装置１０の筐体１８の外表面には、上記したように親水加工部が設けられている。しかも、この親水加工部では、光が照射されない暗所であっても、水接触角が３０°以下である。このため、可搬型放射線撮影装置１０が暗所で保管されていたとしても、筐体１８の外表面に十分な防曇性、親水性が発現する。
【００９２】
この親水性により、筐体１８の外表面が消毒液で十分に濡らされる。換言すれば、消毒液が筐体１８の外表面に十分に濡れ広がる。従って、この時点で筐体１８の外表面に細菌が万一残留していたとしても、この細菌に対して消毒液が長時間接触する。また、筐体１８の外表面の親水加工部内には、上述したような抗菌剤が含まれているので、細菌に対して抗菌剤が作用する。従って、従来よりも殺菌能力を向上させることができ、細菌の繁殖を抑制できる。
また、十分な防曇性により、ＬＥＤランプ３５、カウント表示３６及びバッテリ残量表示部３７の外表面が曇り、視認性が低下することを防止することができる。
【００９３】
すなわち、可搬型放射線撮影装置１０を暗所で保管していた場合であっても、取り出した直後に消毒を行うことができる。
また、親水加工部内に上述したような抗菌剤が含まれているので、この親水加工部付き基材が外表面に配置された可搬型放射線撮影装置は、短時間での抗菌性、および、長時間にわたった抗菌性が得られる。
また、親水加工部が有する十分な防曇性により、この親水加工部付き基材が外表面に配置された可搬型放射線撮影装置は、パネルの取り違えを防いだり、撮影時にパネルのセンター位置を容易に確認することができる。また、バッテリ残量や、撮影した枚数を容易に、間違いなく確認することができる。
【００９４】
このようにして清浄化された可搬型放射線撮影装置１０の筐体１８の照射面１９を被写体に接触させた状態で、医師又は放射線技師（撮影者）が放射線源から放射線Ｒａｙを被写体の撮影部位に照射する。放射線Ｒａｙは、被写体の撮影部位を透過して可搬型放射線撮影装置１０の照射面１９を通過し、放射線検出器１２のシンチレータ２９に到達する。
【００９５】
シンチレータ２９は、放射線Ｒａｙの透過量に応じた量の蛍光（可視光）を発光する。一方、ＴＦＴ基板２０に設けられたセンサ部には、この蛍光の量（発光量）に応じた量の電荷が生成・蓄積される。この電荷に関する情報が制御部から読み出されることにより、被写体の撮影部位の放射線画像が得られる。
【００９６】
可搬型放射線撮影装置１０は、手術室や救急救命室等で使用されることもある。この場合、患者（被写体）の血液や体液が筐体１８に付着する可能性がある。この種の汚染物質を除去するべく流水で洗浄することが考えられるが、この際にバッテリ装着部やコネクタ接続部が水に濡れ、故障が発生する懸念がある。
【００９７】
そこで、撮影が終了した後、エタノール水溶液や次亜塩素酸ナトリウム水溶液等の消毒液を含ませたワイパーで筐体１８を拭き取る。この場合においても上記と同様に、筐体１８の外表面に親水加工部が設けられているから、筐体１８の外表面に消毒液が濡れ広がり、消毒液で十分に濡らされる。
【００９８】
従って、筐体１８に汚染物質が付着している場合、親水加工部と汚染物質の間に水や消毒液が進入する。その結果、汚染物質が筐体１８から脱落し易くなる。すなわち、汚染物質を容易に除去することができる。
【００９９】
しかも、消毒液が筐体１８の外表面上に留まる時間が長くなるので、汚染物質からの細菌が外表面に残留していたとしても、この細菌に対して消毒液が長時間接触する。また、筐体１８の外表面の親水加工部内には、抗菌剤が含まれているので、細菌に対して抗菌剤が作用する。従って、従来よりも殺菌能力を向上させることができ、細菌の繁殖を抑制できる。
【０１００】
このように、筐体１８の外表面に親水加工部を設けることにより、従来は流水による洗浄を行うことが困難であった可搬型放射線撮影装置から、汚染物質を除去し、且つ消毒液による消毒を行った場合には殺菌能力を向上させた消毒を容易に行うことが可能となる。さらに、筐体１８の外表面の親水加工部には、抗菌剤が含有されているので、消毒液による消毒を行った後、細菌が繁殖することを抑制することができる。したがって、仮に、汚染物質が残存していたとしても、抗菌剤の作用により、細菌の繁殖を抑制できる。
【０１０１】
本実施の形態によれば、撮影後の可搬型放射線撮影装置１０の筐体１８を容易に清浄化することができる。また、筐体１８の外表面の親水加工部には、抗菌剤が含有されているので、細菌の繁殖が抑制され、清浄化された状態が長時間にわたって継続するという利点が得られる。
【０１０２】
実施の形態２
実施の形態１に係る親水加工部は、銀を含む第１抗菌剤と、第１抗菌剤とは異なる、銀を含む第２抗菌剤を少なくとも含むが、実施の形態２に係る親水加工部は、抗菌剤として、銀を少なくとも１種含むものであれば特に限定されない。つまり、実施の形態１と２は、抗菌剤が異なること以外は、同じ構成、作用を有する。
【０１０３】
（抗菌剤）
実施の形態２において、銀を含む抗菌剤（以後、銀系抗菌剤とも称する）は、銀（銀原子）が含まれていればよく、その種類は特に制限されない。なお、実施の形態２で用いられる銀の形態及びその具体例は、実施の形態１と同様である。
【０１０４】
銀系抗菌剤としては、例えば、銀塩（銀錯体）などの有機系の抗菌剤と、担体を含む無機系の抗菌剤が挙げられるが、その種類は特に制限されない。
銀系抗菌剤のなかでも、親水加工部の耐光性がより優れる、および／または、抗菌性がより優れる点（以後、単に「実施の形態２の効果がより優れる点」とも称する）で、担体と、担体上に担持された銀とを含む銀担持担体が好ましい。
この実施の形態２で用いられる担体の種類は、実施の形態１と同様であるが、実施の形態２の効果が優れる点で、担体としては、セラミックスが好ましい。
実施の形態２で用いられる銀担持担体の平均粒径は、実施の形態１と同様である。
【０１０５】
銀系抗菌剤中における銀の含有量は特に制限されないが、例えば、上記銀担持担体の場合、銀の含有量は、銀担持担体全質量に対して、０．１〜１０質量％が好ましく、０．３〜５質量％がより好ましい。
【０１０６】
親水加工部中における上記銀系抗菌剤の含有量は特に制限されないが、実施の形態２の効果がより優れる点で、親水加工部全質量に対する銀の含有量が０．００１〜２０質量％（好ましくは、０．００１〜５質量％）となるように銀系抗菌剤を親水加工部に含有させることが好ましい。
また、銀系抗菌剤として有機系の抗菌剤を用いる場合は、抗菌剤の含有量は特に制限されないが、親水加工部の機械的強度がより優れ、実施の形態２の効果がより優れる点で、親水加工部全質量に対して、１〜４質量％が好ましい。
さらに、銀系抗菌剤として無機系の抗菌剤を用いる場合は、抗菌剤の含有量は特に制限されないが、親水加工部の機械的強度がより優れ、実施の形態２の効果がより優れる点で、親水加工部全質量に対して、０．００１〜１０質量％が好ましく、０．０１〜５質量％がより好ましい。
【０１０７】
（親水加工部の特性）
親水加工部の表面の水接触角は３０°以下を示し、防曇性、汚染物質の除去性がより優れる点で、２１°以下が好ましく、１５°以下がより好ましい。下限は特に制限されないが、使用される材料特性の点から、５°以上の場合が多い。
水接触角が３０°超の場合、十分な抗菌性や防曇性が得られず、また、汚染物質の除去性に劣る。
なお、本明細書において、水接触角は、ＪＩＳ  Ｒ ３２５７：１９９９の静滴法に基づいて測定を行う。測定には、株式会社ニック製ＬＳＥ-ＭＥ１（ソフトウェア２ｗｉｎ ｍｉｎｉ）を用いる。より具体的には、純水を用いて室温２０℃で、水平を保った親水性加工部表面上に液滴２μｌを滴下し、滴下後２０秒時点での接触角を測定する。
【０１０８】
親水加工部の平均厚みは特に制限されないが、汚染物質の除去性及び抗菌性の点からは、０．５μｍ〜２０μｍが好ましく、１μｍ〜１０μｍがより好ましい。
なお、親水加工部の平均厚みの測定方法としては、サンプル片を樹脂に包埋して、ミクロトームで断面を削り出し、削り出した断面を走査電子顕微鏡で観察し測定する。親水加工部の任意の１０点の位置における厚みを測定し、それらを算術平均する。
【０１０９】
（親水加工部の作成方法）
上述した抗菌剤を備える親水加工部の作成方法は、実施の形態１と同様である。
【０１１０】
（親水加工部付き基材）
図７は、実施の形態２に係る親水加工部付き基材を示すものである。親水加工部付き基材７０は、基材７２と、基材７２上に配置された親水加工部７４とを有し、本実施の形態の可搬型放射線撮影装置は、この親水加工部付き基材７０を、その外表面に有する。なお、親水加工部７４は、基材７２の表面の少なくとも一部に配置されていればよい。
【０１１１】
（親水加工部付き基材の特性）
上述した抗菌剤を備える親水加工部付き基材７０は、後述する抽出試験で測定される単位面積当たりの銀イオン量が１５〜５０ｎｇ／ｃｍ２を示し、実施の形態２の効果がより優れる点で、１５〜４０ｎｇ／ｃｍ２が好ましく、１５〜３０ｎｇ／ｃｍ２がより好ましい。
上記銀イオン量が１５ｎｇ／ｃｍ２未満の場合、抗菌性に劣る。銀イオン量が５０ｎｇ／ｃｍ２超の場合、耐光性に劣る。すなわち、このような親水加工部付き基体（可搬型放射線撮影装置）は、優れた耐光性、および、短時間での抗菌性が得られる。
なお、この実施の形態２で用いられる抽出試験の方法は、実施の形態１と同様である。
【０１１２】
上述した抗菌剤を備える親水加工部は、十分な防曇性や、短時間で抗菌作用を示す抗菌性に優れ、また、外光に長時間暴露されても親水加工部が変色することない耐光性効果を有する。
親水加工部が有する十分な防曇性により、この親水加工部付き基材が外表面に配置された可搬型放射線撮影装置は、パネルの取り違えを防いだり、撮影時にパネルのセンター位置を容易に確認することができる。また、バッテリ残量や、撮影した枚数を容易に、間違いなく確認することができる。
また、このように、実施の形態２にかかる親水加工部付き基材は、十分な防曇性、十分な視認性、十分な耐光性、及び、短時間で抗菌性が獲得することができるという効果を有する。
【０１１３】
なお、親水加工部付き基材７０の基材７２と親水加工部７４は、それぞれ、実施の形態１に係る親水加工シート５０のシート本体５２及び親水加工部５４を構成し、親水加工抗菌膜付き基体（抗菌膜付き基体）６０の基材６２及び親水性部６４を構成する。
【０１１４】
実施の形態３
図８は、実施の形態３に係る親水加工部付き基材を示すものである。親水加工部付き基材８０は、基材８２と、基材８２上に配置された親水加工部８４とを有し、本実施形態の可搬型放射線撮影装置１０は、この親水加工部付き基材８０を、その外表面の少なくとも一部に有する。親水加工部８４中には、銀８８を含む抗菌剤８６と、銀イオンを吸着可能な多孔性担体９０とが含まれる。
【０１１５】
実施の形態１及び２では、親水加工部は、親水性ポリマー及び抗菌剤を含有するものとしたが、実施の形態３に係る親水加工部は、親水性ポリマー、銀を含む抗菌剤、及び、銀イオンを吸着可能な多孔性担体を含有する。
【０１１６】
また、実施の形態３に係る親水加工部を備える基材は、抗菌剤の平均粒径Ｄａ（μｍ）および上記多孔性担体の平均粒径Ｄｂ（μｍ）は、親水加工部の平均厚みＴ（μｍ）との間で、以下の式（４）および式（５）の関係を満たす。
式（４）    Ｔ／Ｄａ＞３．０
式（５）    Ｔ／Ｄｂ≦３．０
図８に示すように、上記式（４）の要件を満たす抗菌剤８６は、親水加工部８４内部に埋没している場合が多く、上記式（５）の要件を満たす多孔性担体９０は、親水加工部８４の表面に露出しやすい。
なお、実施の形態１と、３は、親水加工部が異なる以外は、同じ構成、作用を有する。
以下に、本実施の形態の詳細を示す。
【０１１７】
（親水性ポリマー）
親水性ポリマーは、実施の形態１と同様である。
（銀を含む抗菌剤）
銀を含む抗菌剤（以後、銀系抗菌剤とも称する）としては、銀（銀原子）が含まれていればよく、その種類は特に制限されない。また、この実施の形態３で用いられる銀の形態及びその具体例は、実施の形態１と同様である。
【０１１８】
銀系抗菌剤としては、例えば、銀塩などの有機系の抗菌剤と、担体を含む無機系の抗菌剤が挙げられるが、その種類は特に制限されない。
なかでも、より短時間で抗菌性を示す、および／または、抗菌性をより長期間維持できる点（以後、単に「実施の形態３の効果がより優れる点」とも称する）で、抗菌剤は、担体と、担体上に担持された銀とを含む銀担持担体であることが好ましい。この実施の形態３で用いられる担体の種類は、実施の形態１と同様である。
【０１１９】
抗菌剤（好ましくは、上記銀担持担体）の平均粒径は上述した式（４）の要件を満たせば特に制限されないが、実施の形態３の効果がより優れる点で、０．１〜１０μｍが好ましく、０．１μｍ以上２．０μｍ未満がより好ましく、０．３〜１．０μｍがさらに好ましい。
なお、上記平均粒径は、堀場製作所製のレーザー回折／散乱式粒度分布測定装置を用いて５０％体積累積径（Ｄ５０）を３回測定して、３回測定した値の平均値を用いる。
【０１２０】
実施の形態３において、銀系抗菌剤の好適態様の一つとしては、本発明の効果がより優れる点で、銀、並びに、リン酸亜鉛カルシウムおよびリン酸カルシウムからなる群から選択されるいずれか一つの担体を含む抗菌剤が挙げられる。言い換えれば、抗菌剤が、リン酸亜鉛カルシウムおよびリン酸カルシウムからなる群から選択されるいずれか一つの担体と、この担体に担持された銀とを含む銀担持触媒であることが好ましい。
【０１２１】
（銀イオンを吸着可能な多孔性担体）
銀イオンを吸着可能な多孔性担体とは、銀イオンを吸着し得る多数の細孔を有する担体をいい、細孔の径や形状、細孔容積、細孔密度、または、比表面積等に関して、特段の限定はない。具体的には、活性炭、ゼオライト、活性炭素繊維、シリカゲル、活性白土、アルミナ、珪藻土等の無機多孔性担体や、パルプ、繊維、紙、布、不織布、木材、木粉等の有機質高分子多孔性担体を任意に使用できる。なお、ゼオライトとしては、例えば、チャバサイト、モルデナイト、エリオナイト、クリノプチロライト等の天然ゼオライト、Ａ型ゼオライト、Ｘ型ゼオライト、Ｙ型ゼオライト等の合成ゼオライトが挙げられる。
なお、上記多孔性担体には、銀が担持されていてもよい。つまり、多孔性担体と、多孔性担体上に担持された銀とを含む銀担持多孔性物質（いわゆる、抗菌剤に該当）が使用されてもよい。なお、多孔性担体に銀が担持される場合（つまり、銀担持多孔性物質の場合）、銀が担持された多孔性担体と、上述した抗菌剤とは種類は異なる。
上記のように、親水加工部には、銀イオンを吸着可能な多孔性担体、および、銀が担持された、銀イオンを吸着可能な多孔性担体からなる群から選択される１種（多孔性物質）が含まれる。
なお、多孔性担体に担持される銀は、銀イオン、金属銀、および、銀塩のいずれの形態で含まれていてもよい。
【０１２２】
なかでも、実施の形態３の効果がより優れる点で、親水加工部には、銀が担持された多孔性担体が含まれることが好ましい。言い換えれば、銀と、多孔性担体とを含む銀担持多孔性物質が親水加工部に含まれることが好ましい。なお、多孔性担体としては、ゼオライトが好ましく挙げられる。つまり、ゼオライトからなる担体と、この担体に担持された銀とを含む銀担持触媒であることが好ましい。
【０１２３】
銀イオンを吸着可能な多孔性担体の平均粒径は先述した式（５）の要件を満たせば特に制限されないが、本発明の効果がより優れる点で、０．１〜２０μｍが好ましく、１．０〜１０μｍがより好ましく、２．０〜５．０μｍがさらに好ましい。
なお、上記平均粒径は、堀場製作所製のレーザー回折／散乱式粒度分布測定装置を用いて５０％体積累積径（Ｄ５０）を３回測定して、３回測定した値の平均値を用いる。
【０１２４】
（親水加工部の特性及び親水加工部の作成方法）
上述した抗菌剤及び多孔性担体を備える親水加工部の特性及び親水加工部の作成方法は、実施の形態１と同様である。
【０１２５】
（親水加工部付き基材の特性）
先述したように、図８に示すように、上述した抗菌剤を備える親水加工部を備える基材（可搬型放射線撮影装置）は、抗菌剤の平均粒径Ｄａ（μｍ）および上記多孔性担体の平均粒径Ｄｂ（μｍ）は、親水加工部の平均厚みＴ（μｍ）との間で、以下の式（４）および式（５）の関係を満たす。
式（４）    Ｔ／Ｄａ＞３．０
式（５）    Ｔ／Ｄｂ≦３．０
このような親水加工部付き基材は、短時間での抗菌性、及び、長期間（長時間）にわたる抗菌性が得られる。
【０１２６】
上記式（４）は、親水加工部の平均厚みＴと抗菌剤の平均粒径Ｄａとの比（Ｔ／Ｄａ）が３．０超であることを意図する。なかでも、実施の形態３の効果がより優れる点で、比（Ｔ／Ｄａ）は３．１以上が好ましく、３．２以上がより好ましい。上限は特に制限されないが、通常、１０以下の場合が多く、実施の形態３の効果がより優れる点で、６．０以下が好ましい。上記式（４）の関係を満たすことにより、抗菌剤が親水加工部内部に埋没しやすくなり、親水加工部からの過剰の銀イオンの溶出を抑制することができる。
また、上記式（５）は、親水加工部の平均厚みＴと多孔性担体の平均粒径Ｄｂとの比（Ｔ／Ｄｂ）が３．０以下であることを意図する。なかでも、実施の形態３の効果がより優れる点で、比（Ｔ／Ｄｂ）は２．５以下が好ましく、２．０以下がより好ましい。下限は特に制限されないが、親水加工部の平坦性がより優れる点で、１．０以上が好ましい。上記式（５）の関係を満たすことにより、多孔性担体が親水加工部表面より突出しやすくなり、銀イオンの吸着がしやすくなる。
【０１２７】
上記抗菌剤の平均粒径Ｄａと上記多孔性担体の平均粒径Ｄｂとの関係は特に制限されないが、実施の形態３の効果がより優れる点で、平均粒径Ｄａと平均粒径Ｄｂとの比（Ｄｂ／Ｄａ）は４．５以下であることが好ましく、以下の式（６）の関係を満たすことが好ましい。
式（６）    Ｄｂ／Ｄａ≦３．５
なかでも、Ｄｂ／Ｄａの下限は特に制限されないが、実施の形態３の効果がより優れる点で、１．０以上が好ましく、２．０以上がより好ましい。
【０１２８】
抗菌剤中における銀の含有量は特に制限されないが、例えば、抗菌剤が銀担持担体の場合、銀の含有量は、銀担持担体全質量に対して、０．１〜３０質量％が好ましく、０．３〜１０質量％がより好ましい。
また、上記多孔性担体に銀が担持される場合、銀の担持量は特に制限されないが、銀および多孔性担体の総質量に対して、０．１〜３０質量％が好ましく、０．３〜１０質量％がより好ましい。
【０１２９】
親水加工部中における上記抗菌剤および上記多孔性担体の総含有量は特に制限されないが、実施の形態３の効果がより優れる点で、親水加工部全質量に対する銀の含有量が０．０００１〜１質量％、好ましくは、０．００１〜０．１質量％となるように上記抗菌剤および上記多孔性担体を親水加工部に含有させることが好ましい。
なお、親水加工部中における銀量は、抗菌剤中の銀および多孔性担体に担持された銀の合計量を意図する。
また、親水加工部中における抗菌剤の含有量は特に制限されないが、親水加工部の機械的強度がより優れ、実施の形態３の効果がより優れる点で、親水加工部全質量に対して、０．００１〜１０質量％が好ましく、０．０１〜５質量％がより好ましく、０．０１〜２．５質量％がさらに好ましく、１．０質量％超２．５質量％以下が特に好ましい。
また、親水加工部中における多孔性担体の含有量は特に制限されないが、実施の形態３の効果がより優れる点で、親水加工部全質量に対して、１０質量％以下が好ましく、５質量％以下がより好ましく、０．８質量％以下がさらに好ましく、０．５質量％以下が特に好ましい。下限は特に制限されないが、０．００１質量％以上が好ましく、０．０１質量％以上がより好ましい。
【０１３０】
次に、図９（Ａ）及び図９（Ｂ）を参照して、実施の形態３に係る親水加工部付き基材８０が抗菌性を示す機構について説明する。
まず、図９（Ａ）に示すように、抗菌剤８６中の銀８８がイオン化して、銀イオン９２が親水加工部８４から溶出して、親水加工部８４上の細菌などに作用する。その際、溶出した銀イオン９２の一部は、細菌と作用せずに、多孔性担体９０の表面上に吸着される。抗菌剤８６から銀イオン９２が溶出し続けて、抗菌剤８６中の銀量が低下し、その溶出量が小さくなると、次に、銀イオンの平衡関係を保とうとして、図９（Ｂ）に示すように、多孔性担体９０に吸着していた銀イオン９２が外部に溶出し始めて、抗菌性が保持される。つまり、多孔性担体９０が親水加工部８４に含まれることにより、抗菌剤８６から溶出される銀イオン９２を一時的に保持して、所定時間経過後（抗菌剤８６からの銀イオンの溶出量が低下した後）に、銀イオン９２を再度溶出することができ、多孔性担体９０がない場合と比較して、長期間に渡って抗菌性を維持することができる。
【０１３１】
このように、実施の形態３にかかる親水加工部付き基材（可搬型放射線撮影装置）は、優れた防曇性を有するとともに、短時間で抗菌性が得られ、且つ、長期間（長時間）にわたる抗菌性を有する。
【０１３２】
なお、親水加工部付き基材８０の基材８２と親水加工部８４は、それぞれ、実施の形態１に係る親水加工シート５０のシート本体５２及び親水加工部５４を構成し、親水加工抗菌膜付き基体（抗菌膜付き基体）６０の基材６２及び親水性部６４を構成する。
【０１３３】
実施の形態４
図１０は、実施の形態４に係る可搬型放射線撮影装置（電子カセッテ型撮影装置）１００の全体概略斜視図である。この可搬型放射線撮影装置１００は、筐体１０２の内部に放射線検出器１０４が収容されて構成される。
【０１３４】
この放射線検出器１０４は、図示しないシンチレータ、センサ部等を備える。また、放射線検出器１０４には、チャージアンプＩＣ、通信部（いずれも図示せず）等が設けられる。
【０１３５】
筐体１０２は、長手方向両端が開口した開口端部である本体部材１０６と、開口端部を閉塞する第１蓋部材１０８及び第２蓋部材１１０とからなる。本体部材１０６は、内部に空洞を有し、いわゆる筒型の形状である。これら本体部材１０６、第１蓋部材１０８及び第２蓋部材１１０は、いずれも、放射線を透過可能な樹脂材から構成されてもよい。
【０１３６】
第１蓋部材１０８には、バッテリ装着部１１２やコネクタ接続部１１４が設けられる。バッテリ装着部１１２に装着されるバッテリ（図示せず）によって駆動電流が供給されるとともに、コネクタ接続部１１４に装着されるコネクタ（図示せず）を介して、可搬型放射線撮影装置１００と外部機器との間で有線通信が行われる。なお、有線通信に代替して無線通信を行うようにしてもよいことは勿論である。
さらに、図１０に示すように、第１蓋部材１０８には、表示部１１８等が設けられていても良い。表示部１１８は、ＬＥＤランプ等で構成され、可搬型放射線撮影装置１００の駆動状態等を表示するのに用いられる。
【０１３７】
筐体１０２を構成する本体部材１０６、第１蓋部材１０８及び第２蓋部材１１０の一端面は、放射線が照射される照射面１１６であり、患者である被写体（図示せず）に接触する。これら本体部材１０６、第１蓋部材１０８及び第２蓋部材１１０の少なくとも被写体と接触する部分（すなわち放射線が照射される面上）および表示部１１８上には、実施の形態１に係る可搬型放射線撮影装置１０と同様に、親水加工部が設けられている。なお、本体部材１０６、第１蓋部材１０８及び第２蓋部材１１０の被写体と接触する部分だけでなく、撮影者が接触し得る全外表面に親水加工部を設けてもよい。
【０１３８】
この場合、内部に放射線検出器１０４を収容した本体部材１０６の開口端部が第１蓋部材１０８及び第２蓋部材１１０によって閉塞されることで、いわゆるモノコック型の筐体１０２が形成されるとともに、可搬型放射線撮影装置１００が構成される。なお、本体部材１０６は、内部に放射線検出器１０４を収容できればよく、必ずしも両端部が開口端部である必要は無い。例えば、一端部のみが開口端部であり、その開口端部を蓋部材によって閉塞してもよい。
【０１３９】
この可搬型放射線撮影装置１００においても、実施の形態１に係る可搬型放射線撮影装置１０と同様の効果が得られる。なお、例えば、被写体に接触する部分がコネクタ接続部１１４等の外部機器接続部から大きく離間している場合等、被写体に接触する部分を流水で洗浄しても外部機器接続部が水で濡れる懸念のない放射線撮影装置である場合には、被写体に接触する部分に対し、流水による洗浄を行うようにしてもよい。この場合においても、親水加工部が存在するために水が汚染物質と外表面の間に進入するので、汚染物質を容易に除去することができ、細菌の繁殖を抑制できる。
また、表示部１１８の外表面が防曇性を有するため、視認性にも優れる効果を有する。これにより、可搬型放射線撮影装置１００の駆動状態等を正確に把握することができる。
【０１４０】
なお、図１０に示す可搬型放射線撮影装置１００において、本体部材１０６に対して、第２蓋部材１１０は、嵌合もしくは接着・溶着することができる。接着又は溶着し、第１蓋部材１０８を再剥離可能に取り付ける構造とした場合は、第１蓋部材１０８以外の部分を洗浄液に浸漬することが可能となる。この時、誤って、水に濡れることが無いように、バッテリ装着部１１２及びコネクタ接続部１１４は、図示しないが、エラストマーで蓋をしておくのが良い。また、第１蓋部材１０８は、図示しないが、Ｏリング等で防水しておくのが良い。
この場合においても、筐体１０２には親水加工部が設けられているので、汚染物質を容易に除去することができ、細菌の繁殖を抑制できる。
この実施形態においては、図示しないが、第１蓋部材１０８に着脱取っ手又は収納取っ手が設けられていても良い。さらに、このような図１０に示す可搬型放射線撮影装置１００のように、モノコック構造の筐体１０２においては、貼り易いので、自己粘着性のシートを貼るようにしても良い。
【０１４１】
実施の形態５
（マンモグラフィ装置）
本発明の放射線撮影装置は、図１１に示すようなマンモグラフィ装置１２０であってもよい。この場合、実施の形態１に係る可搬型放射線撮影装置１０と同様に、抗菌剤を含有し、抗菌加工された親水加工部を、被写体と接する部分である、フェースガード１２２、乳房台１２４又は乳房圧迫板１２６に好適に設けることができる。また、抗菌加工された親水加工部は、マンモグラフィ装置１２０の駆動状態等を示す表示部１２８にも好適に設けることができる。
【０１４２】
フェースガード１２２には患者の口紅や皮脂が付着する場合があり、乳房台１２４及び乳房圧迫板１２６には、漏出母乳やバイオプシ（マンモトーム生検）の際の出血による血液、皮脂が付着する場合がある。フェースガード１２２、乳房台１２４及び乳房圧迫板１２６に親水加工部を設けることにより、口紅、母乳、血液、皮脂を清拭によって簡便に除去できるとともに、消毒の際に消毒液の濡れ性が高いことから従来よりも殺菌能力を向上させることができる。
また、表示部１２８の表面に親水加工部を設けることにより、室内の湿度が高くても、表示部１２８の防曇性を維持することができる。
【０１４３】
さらに、抗菌加工された親水加工部を設けることによって、清拭後に残留している菌に対しても繁殖を抑え、又は殺菌することができる。また、この親水加工部の基材表面に微小な凹凸形状を設けること、及びこの親水加工部に滑剤を含有することも好適に用いることができる。
【０１４４】
実施の形態６
（立位撮影用の放射線撮影装置）
本発明の放射線撮影装置は、図１２に示すような立位撮影用の放射線画像診断装置１３０であってもよい。この場合、実施の形態１に係る可搬型放射線撮影装置１０と同様に、撮影時に被写体が接触する撮影台１３２や、撮影時に被写体が把持するグリップ１３４、１３６に抗菌剤を含有し、抗菌加工された親水加工部を設けることが好適である。さらに、撮影者が触れるオペレーションパネル部１３８を含む他の部分にも、好適に抗菌加工された親水加工部を設けることができる。
また、オペレーションパネル部１３８の表面に防曇性にも優れた親水加工部を設けることにより、室内の湿度が高くても、オペレーションパネル部１３８の視認性を維持することができる。
【０１４５】
（ＣＲカセッテ）
また、コンピューティッド・ラジオグラフィ（ＣＲ）で用いられるイメージングプレートを撮影の際に格納するＣＲカセッテの外表面にも、実施の形態１と同様の親水加工部、すなわち、抗菌剤を含有し、抗菌加工された親水加工部を好適に設けることができる。この場合、実施の形態１に係る可搬型放射線撮影装置と同様に被写体が接触する撮影面の表面や、撮影者が触れ得る全外表面にこのような親水加工部を設けることが好適である。
【０１４６】
（グリッド）
さらに、可搬型放射線撮影装置やＣＲカセッテでの撮影時に、散乱線を除去するとともにコントラストを改善するために用いられるグリッドの表面にも、実施の形態１と同様の親水加工部、すなわち、抗菌剤を含有し、抗菌加工された親水加工部を設けることが好適である。
【０１４７】
上記例に限らず、防曇性を必要としたり、被写体と接触し、感染性の汚染物質が付着し得る放射線撮影装置の外表面にも、実施の形態１と同様の親水加工部、すなわち、抗菌剤を含有し、抗菌加工された親水加工部を設けることができる。
【０１４８】
実施の形態７
（医療用マスク）
本発明の医療用機器は、図１３に示すような医療用マスク１４０でもよい。
医療用マスク１４０は、プラスチックからなる透明なマスクであり、本発明の親水加工部がマスクの内表面に１４２設けられている。患者や医療従事者の口元に親水加工部を設けることが好適である。
本発明の抗菌性及び防曇性がある親水加工部がマスク内表面に設けられることにより、マスクを外さなくても口元を確認することができる。また、口紅等で汚れにくく、例え、口紅等が付着しても清拭によって簡便に除去できるとともに、消毒の際に消毒液の濡れ性が高いことから従来よりも殺菌能力を向上させることができる。
【０１４９】
実施の形態８
（医療用ゴーグル）
本発明の医療用機器は、図１４に示すような医療用ゴーグル１５０でもよい。
本発明の抗菌性や防曇性に優れる親水加工部を、医療用ゴーグルの外表面１５２に設けた場合は、寒い環境下でも、視界を良好にすることができ、また、医療用ゴーグルの内表面に設けた場合は、汗や皮脂等で汚れにくく、例え、汗や皮脂等が付着しても清拭によって簡便に除去できるとともに、消毒の際に消毒液の濡れ性が高いことから従来よりも殺菌能力を向上させることができる。
【０１５０】
実施の形態９
（医療用滅菌透明袋）
本発明の医療用機器は、図１５に示すような医療用滅菌透明袋１６０でもよい。
滅菌できないタブレットＰＣ１６４等のような器具を手術室に持ち込む場合、袋で包み込んで使用したりする事例があるが、このような場合、袋の内部が曇ってしまい、視認性が悪くなる場合がある。このような場合、本発明の抗菌加工された親水加工部を滅菌袋の内表面１６２に設けることにより、防曇性を維持することができる。
【０１５１】
上記例に限らず、防曇性を必要としたり、被写体と接触し、感染性の汚染物質が付着し得るもの、例えば、食品用ショーケースの内表面や、食品包装用袋の内表面や、浴室の壁面等にも、実施の形態１と同様の親水加工部、すなわち、抗菌剤を含有し、抗菌加工された親水加工部を設けることもできる。
食品用ショーケースや食品包装用袋の内表面に本発明の防曇性や抗菌性に優れた親水加工部を設けることにより、食品用ショーケースや食品用包装袋内に配置された食品が見やすくすることができ、また、ショーケースや食品包装用袋内に付着した水滴が食品にしたたり落ちて、食品を腐敗させたりすることもない。
【実施例】
【０１５２】
［実施例１〜５及び比較例１〜３］
（硬化性組成物の調製）
以下に示す各成分を混合して、硬化性組成物を調製した。
親水性モノマー：Ｍｉｒａｍｅｒ Ｍ４００４（東洋ケミカルズ社製）  ７６質量部
架橋剤：Ａ-ＤＰＨ（新中村化学工業株式会社製）  ２１質量部
重合開始剤：ＩＲＧＡＣＵＲＥ（ＢＡＳＦ社製）  ３質量部
溶剤成分（その１）：メチルアルコール  １５質量部
溶剤成分（その２）：プロピレングリコールモノメチルエーテル  ３５質量部【０１５３】
（抗菌剤の調製）
（第１抗菌剤：リン酸亜鉛カルシウムに担持された銀を含む抗菌剤）
水酸化カルシウム、酸化亜鉛およびリン酸を反応させ、リン酸塩を得た。これに硝酸銀を添加し、洗浄、ろ過、乾燥、破砕することで、第１抗菌剤（銀担持担体）を得た。得られた第１抗菌剤の平均粒径は１μｍであり、銀イオン含有量は３質量％相当であった。
（第２抗菌剤：ゼオライトに担持された銀を含む抗菌剤）
硝酸銀水溶液にゼオライトを接触させて、ゼオライト中のイオン交換可能なイオンと銀イオンとを置換させることで、第２抗菌剤を得た。得られた第２抗菌剤の平均粒径は１．５１μｍであり、銀イオン含有量は０．５質量％相当であった。
＜実施例および比較例＞
上記で調製された硬化性組成物の全固形分１００質量部に対して、表１に示す割合（質量部）に従って、第１抗菌剤および第２抗菌剤を添加して混合し、親水加工部形成用の硬化性組成物を調製した。【０１５４】
＜各種評価＞
（１）抗菌性
得られた親水加工部形成用の硬化性組成物を、ポリカーボネートシート（旭硝子製カーボグラスＣＦＲ１１０Ｃ）に塗布し、６０℃で３０分乾燥させたあと、ＵＶ照射によりモノマーを硬化させることで、親水加工部を形成し、評価サンプル（親水加工部付き基材）を作製した。
得られた実施例および比較例の評価サンプルを用いて、以下の評価を行った。結果は表１にまとめて示す。
（銀含有量Ｐの測定）
上記実施例および比較例で作製した評価サンプルを、親水加工部の大きさ（面積）が２５ｃｍ２となるように切り出した。その後、得られたサンプルに湿式灰化処理を行い、あらかじめ作成した検量線を用いながら原子吸光分析（イエナ製  ｃｏｎｔｒＡＡ７００）で銀含有量（ｎｇ）を求め、得られた値を親水加工部の面積で除して、銀含有量Ｐ（ｎｇ／ｃｍ２）を求めた。【０１５５】
（銀イオン量Ｑの測定）
上記実施例および比較例で作製した評価サンプルを、親水加工部の大きさ（面積）が４ｃｍ２となるように切り出した。切り出した評価サンプルを菌液（ＪＩＳ Ｚ ２８０１：２０１０に規定された１／５００普通ブイヨン培地）９ｍｌに３５℃下で１時間浸漬した。この菌液に硝酸を１ｍｌ添加し、あらかじめ作成した検量線を用いながら原子吸光分析（イエナ製  ｃｏｎｔｒＡＡ７００）で銀イオン量を求め、得られた値を親水加工部の面積で除して、銀イオン量Ｑ（ｎｇ／ｃｍ２）を求めた。【０１５６】
（初期抗菌性評価）
抗菌性評価は、ＪＩＳ Ｚ ２８０１：２０１０に記載の評価方法に準拠し、菌液への接触時間２４時間を１時間に変更して試験を実施した。それぞれの試験後の菌数（個／ｃｍ2）を測定し、以下の基準に従って評価を行った。菌種は大腸菌を用いた。試験が成立していることを確認するため、親水加工部を設けていないポリカーボネートシート（旭硝子製カーボグラスＣＦＲ１１０Ｃ）を同時に評価し、１時間接触後の菌数（個／ｃｍ2）が、６．２×１０2（個／ｃｍ2）以上であることを確認した。実用上、「Ａ」または「Ｂ」が好ましい。
「Ａ」：菌数が１個／ｃｍ2未満
「Ｂ」：菌数が１個／ｃｍ2以上１０個／ｃｍ2未満
「Ｃ」：菌数が１０個／ｃｍ2以上【０１５７】
（耐久性試験後の抗菌性評価）
上記手順で作製した評価サンプルが長時間にわたって抗菌性が得られることを評価するために、以下の耐久性試験を実施した。通常、部材表面に配置された親水加工部は、汚れが付着すると、水拭きされる場合が多く、このときの銀が水に溶出してしまい、抗菌性が低下する主要因となる。従って、以下の摩耗試験後においても優れた抗菌性を示せば、親水加工部が使用された際にも長期間にわたって抗菌性を維持できることがわかる。
耐久性試験は、上記手順で作製した評価サンプル（親水加工部付き基材）の親水加工部表面に荷重５００ｇをかけながら湿布で３６０００回摩擦したあと、上記で述べた方法にて抗菌性の評価実験を実施し、以下の基準に従って評価を行った。菌種は大腸菌を用いた。湿布は、純水を浸したポリエステル布（製品名  アンティコン）を用いた。実用上、「Ａ」または「Ｂ」が好ましい。
「Ａ」：菌数が１個／ｃｍ2未満
「Ｂ」：菌数が１個／ｃｍ2以上１０個／ｃｍ2未満
「Ｃ」：菌数が１０個／ｃｍ2以上【０１５８】
表１中の「銀含有率（ｗｔ％）」は、親水加工部中に含まれる銀の親水加工部全質量に対する割合（質量％）を意図する。【０１５９】
（２）防曇性
図３に示す可搬型放射線撮影装置１０のカウント表示部３５及びバッテリ残量表示部３６の外表面に、得られた親水加工部形成用の硬化性組成物を塗布及び硬化（紫外線照射処理）して、抗菌剤を含有し、抗菌加工された親水加工部を設けた。親水加工部の平均厚みは約２μｍであった。また、実施例及び比較例で得られた可搬型放射線撮影装置に設けられた親水加工部の水接触角は、上述した方法によって、測定した。
（防曇性評価）
防曇性は、実施例１〜５及び比較例１〜３で得られた可搬性放射線撮影装置１０を、それぞれ温度３５℃及び湿度９５％の環境下に、１時間維持して、各可搬性放射線撮影装置１０の親水加工部の視認性を５名の研究員が目視により官能評価した。
その視認性官能評価では、可搬性放射線撮影装置１０の表面に生じた水分が分散され、親水加工部に全く曇りが見られない場合をＡ、僅かに曇りが見られるが、カウント表示部３５及びバッテリ残量表示部３６に示される数字等の視認性には全く影響がない場合をＢ、曇りが少し見られるが、カウント表示部３５及びバッテリ残量表示部３６に示される数字等の視認性には影響がなく、十分に数字等を読み取れる場合をＣ、曇りがあり、カウント表示部３５及びバッテリ残量表示部３６に示される数字等の読取りに障害が出る場合をＤ、曇りに加え、結露が見られ、視認性が非常に悪く、カウント表示部３５及びバッテリ残量表示部３６に示される数字等の読取りができない場合をＥと評価した。
その結果を表１にまとめて示す。【０１６０】
【表１】
2017013911.tif 000004
【０１６１】
表１に示すように、本発明の親水加工部付き基材は、防曇性に優れ、短時間での抗菌性に優れると共に、長時間にわたった抗菌性にも優れることが確認された。特に、実施例２〜４に示すようにＰ／Ｑが１０以上の場合、より優れた効果が得られることが確認された。
一方、所定の要件を満たさない比較例１〜３では、防曇性は優れる効果を有するものの、長時間にわたった抗菌性については、優れた効果が得られなかった。
以上から、本発明の実施の形態１の効果は明らかである。【０１６２】
［実施例６〜１０及び比較例４〜６］
（抗菌剤の調整）
上記実施例６〜１０及び比較例４〜６と同様の方法で調製された硬化性組成物中に表２の「抗菌剤の質量」に示す割合に従って、銀セラミックス粒子分散液（富士ケミカル社製、平均粒径０．８μｍ）を添加して混合し、親水加工部形成用の硬化性組成物を調製した。【０１６３】
＜評価＞
（１）抗菌性評価及び耐光性評価
得られた親水加工部形成用の硬化性組成物を、ポリカーボネートシート（旭硝子製カーボグラスＣＦＲ１１０Ｃ）に表２に示す厚みの親水加工部が得られるように塗布し、６０℃で３０分乾燥させたあと、ＵＶ照射によりモノマーを硬化させることで、親水加工部を形成し、評価サンプル（親水加工部付き基材）を作製した。
なお、比較例６では、親水性モノマーと架橋剤との質量比を制御して、所定の水接触角となるようにした。【０１６４】
（抗菌性評価方法）
抗菌性評価は、ＪＩＳ Ｚ ２８０１：２０１０に記載の評価方法に準拠し、菌液への接触時間２４時間を１時間に変更して試験を実施した。それぞれの試験後の菌数（個／ｃｍ2）を測定し、以下の基準に従って評価を行った。菌種は大腸菌を用いた。実用上、「Ａ」、「Ｂ」が好ましい。結果を表２に示す。
「Ａ」：菌数が５個／ｃｍ2未満
「Ｂ」：菌数が５個／ｃｍ2以上１０個／ｃｍ2未満
「Ｃ」：菌数が１０個／ｃｍ2以上【０１６５】
（耐光性試験）
キセノンウェザオメーター（スガ試験機製）にて出力６０Ｗ／ｍ2で１０時間照射後の評価サンプル中の親水加工部の変色を、目視にて以下の観点で評価した。実用上、「Ａ」が好ましい。結果を表２に示す。
「Ａ」：変色なし
「Ｂ」：変色あり【０１６６】
また、各実施例および比較例にて得られた評価サンプルを用いて、上述した抽出試験を実施した。
また、各実施例および比較例にて得られた評価サンプル中の親水加工部の水接触角を上述した方法にて測定した。結果を表２に示す。【０１６７】
表２中、「抗菌剤の質量（質量％）」は、親水加工部中の硬化物成分の質量（硬化性組成物中の全固形分質量）に対する抗菌剤の含有量（質量％）を意図する。
表２中、「Ａｇイオン量」欄は、抽出試験で測定される単位面積当たりの銀イオン量を意図する。【０１６８】
（２）防曇性評価
可搬型放射線撮影装置１０のカウント表示部３５及びバッテリ残量表示部３６の外表面に、得られた親水加工部形成用の硬化性組成物を塗布及び硬化（紫外線照射処理）して、抗菌剤を含有し、抗菌加工された親水加工部を設けた。親水加工部の平均厚みは約２μｍであった。
なお、実施例及び比較例で得られた可搬型放射線撮影装置の外表面に設けられた親水加工部の水接触角は、上述した方法によって、測定した。
防曇性の評価方法は、先述した実施例１〜５、及び比較例１〜３で使用した評価方法と同様である。
その結果を表２にまとめて示す。【０１６９】
【表２】
2017013911.tif 000005
【０１７０】
表２に示すように、本発明の親水加工部付き基材は、防曇性に優れ、短時間での抗菌性に優れると共に、耐光性にも優れていた。
一方、銀イオン量が所定の範囲より少ない比較例４では、優れた抗菌性が得られず、銀イオン量が所定の範囲より多い比較例５では、耐光性が悪化した。また、水接触角が所定の範囲より大きい比較例６では、優れた防曇性が得られず、また、抗菌性も悪化した。
以上から、本発明の実施の形態２の効果は明らかである。【０１７１】
［実施例１１〜２８及び比較例７〜８］
（抗菌剤の調整）
（合成例１：リン酸亜鉛カルシウムに担持された銀を含む抗菌剤）
水酸化カルシウム、酸化亜鉛およびリン酸を反応させ、リン酸塩を得た。これに硝酸銀を添加し、洗浄、ろ過、乾燥、破砕することで、抗菌剤Ａを得た。得られた抗菌剤Ａの平均粒径は０．９μｍであり、抗菌剤Ａの銀イオン含有量は抗菌剤全質量に対して３質量％相当であった。【０１７２】
（合成例２：リン酸亜鉛カルシウムに担持された銀を含む抗菌剤）
破砕後の平均粒径が０．５μｍとなるように破砕を実施した以外は、合成例１と同様の手順に従って、抗菌剤Ｂを得た。なお、抗菌剤Ｂの銀イオン含有量は、抗菌剤全質量に対して１質量％相当であった。【０１７３】
（合成例３：銀が担持された多孔性担体）
硝酸銀水溶液にゼオライトを接触させて、ゼオライト中のイオン交換可能なイオンと銀イオンとを置換させることで、銀が担持された多孔性担体Ａを得た。多孔性担体Ａの平均粒径は２．０μｍであり、銀イオン含有量は多孔性担体全質量に対して０．５質量％相当であった。【０１７４】
＜実施例および比較例＞
上記実施例１１〜２８及び比較例７〜８と同様の方法で調製された硬化性組成物に対して、表３に示す割合（質量％（ｗｔ％））に従って、合成例１〜３にて合成した成分またはゼオライトを添加して混合し、親水加工部形成用の硬化性組成物を調製した。なお、上記割合（質量％）は、形成される親水加工部全質量に対する各成分の含有量を意図する。【０１７５】
＜評価＞
（１）抗菌性評価
得られた親水加工部形成用の硬化性組成物を、ポリカーボネートシート（旭硝子製カーボグラスＣＦＲ１１０Ｃ）に塗布し、６０℃で３０分乾燥させたあと、ＵＶ照射によりモノマーを硬化させることで、親水加工部を形成し、評価サンプル（親水加工部付き基材）を作製した。なお、親水加工部の厚みが表３に示す厚み（親水加工部  平均厚み）になるように、硬化性組成物の塗布量を調整した。【０１７６】
（初期抗菌性評価：短時間での抗菌性の評価）
抗菌性（初期抗菌性）評価は、ＪＩＳ Ｚ ２８０１：２０１０に記載の評価方法に準拠し、菌液への接触時間２４時間を１時間に変更して試験を実施した。それぞれの試験後の菌数（個／ｃｍ2）を測定し、以下の基準に従って評価を行った。菌種は大腸菌を用いた。試験が成立していることを確認するため、親水加工部を設けていないポリカーボネートシート（旭硝子製カーボグラスＣＦＲ１１０Ｃ）を同時に評価し、１時間接触後の菌数（個／ｃｍ2）が、６．２×１０2（個／ｃｍ2）以上であることを確認した。実用上、「Ａ」または「Ｂ」が好ましい。
「Ａ」：菌数が１個／ｃｍ2未満
「Ｂ」：菌数が１個／ｃｍ2以上１０個／ｃｍ2未満
「Ｃ」：菌数が１０個／ｃｍ2以上【０１７７】
（耐久性試験後の抗菌性評価）
上記手順で作製した評価サンプルが長期間にわたって抗菌性が得られることを評価するために、以下の耐久性試験を実施した。通常、部材表面に配置された親水加工部は、汚れが付着すると、水拭きされる場合が多く、このときの銀が水に溶出してしまい、抗菌性が低下する主要因となる。従って、以下の摩耗試験後においても優れた抗菌性を示せば、親水加工部が使用された際にも長期間にわたって抗菌性を維持できることがわかる。
耐久性試験は、上記手順で作製した評価サンプル（親水加工部付き基材）の親水加工部表面に荷重５００ｇをかけながら湿布で３６０００回摩擦したあと、上記（抗菌性）で述べた方法にて抗菌性の評価実験を実施し、以下の基準に従って評価を行った。菌種は大腸菌を用いた。湿布は、純水を浸したポリエステル布（製品名  アンティコン）を用いた。実用上、「Ａ」または「Ｂ」が好ましい。
「Ａ」：菌数が１個／ｃｍ2未満
「Ｂ」：菌数が１個／ｃｍ2以上１０個／ｃｍ2未満
「Ｃ」：菌数が１０個／ｃｍ2以上【０１７８】
表３中の「多孔性担体」欄に記載の「ゼオライト」は、合成例３で使用したゼオライトを意図し、銀は担持されていない。
なお、各実施例で得られた親水加工部の表面の水接触角は、４０°以下であった。
また、各実施例で得られた親水加工部中においては、その一部が親水加工部の表面（平坦面）より突出するように位置する多孔性担体が含まれていた。
また、表３中、平均粒径は、堀場製作所製のレーザー回折／散乱式粒度分布測定装置を用いて５０％体積累積径（Ｄ５０）を３回測定して、３回測定した値の平均値を用いた。【０１７９】
（２）防曇性評価
可搬型放射線撮影装置１０において、カウント表示部３５及びバッテリ残量表示部３６の外表面に、得られた親水加工部形成用の硬化性組成物を塗布及び硬化（紫外線照射処理）して、抗菌剤を含有し、抗菌加工された親水加工部を設けた。親水加工部の平均厚みは約２μｍであった。
なお、実施例及び比較例で得られた可搬型放射線撮影装置に設けられた親水加工部の水接触角は、上述した方法によって、測定した。
防曇性の評価方法は、先述した実施例１〜５、及び比較例１〜３で使用した評価方法と同様である。
その結果を表３にまとめて示す。【０１８０】
【表３】
2017013911.tif 000006
【０１８１】
表３に示すように、本発明の親水加工部付き基材中の親水加工部は、十分な防曇性を有し、且つ、短時間で抗菌性を示すと共に、抗菌性を長期間維持できることが確認された。
特に、実施例１１と実施例１２との比較より、抗菌剤の含有量が１．０質量％超の場合、耐久性試験後の抗菌性評価がより優れることが確認された。
また、実施例１５と実施例１６との比較より、比（Ｔ／Ｄａ）が６．０以下の場合、耐久性試験後の抗菌性評価がより優れることが確認された。
また、実施例１９と実施例２０との比較より、多孔性担体の含有量が０．５質量％以下の場合、初期抗菌性評価および耐久性試験後の抗菌性評価がより優れることが確認された。
また、実施例１２と実施例２３との比較より、比（Ｄｂ／Ｄａ）が３．５以下の場合、初期抗菌性評価および耐久性試験後の抗菌性評価がより優れることが確認された。
また、実施例１２と実施例２７との比較より、多孔性担体に銀が担持されている場合、初期抗菌性評価および耐久性試験後の抗菌性評価がより優れることが確認された。
一方、防曇性が所定の範囲に含まれる比較例７および８は防曇性を備えることが確認されたものの、抗菌性評価については、比較例７に示すように多孔性担体を使用しない場合、または、比較例８に示すように式（５）の関係を満たさない場合、優れた効果が得られなかった。
以上から、本発明の実施の形態３の効果は明らかである。
【符号の説明】
【０１８２】
１０  可搬型放射線撮影装置
１２  放射線検出器
１３  制御基板
１８  筐体
１９  照射面
１９Ａ  撮影面
２０  ＴＦＴ基板
２１  シンチレータ
２２  遮光体
２３  コネクタ
２４  コネクタ
２５  スキャン信号制御回路
２６  信号検出回路
２７  コネクタ
２８  フレキシブルケーブル
２９  コネクタ
３０  フレキシブルケーブル
３１  フロントパネル
３２  バックパネル
３３  天板
３４  保持部
３５  ＬＥＤ
３６  カウント表示部
３７  バッテリ残量表示部
３８  傾斜部
４０  親水加工部付き基材
４２  基材
４４  親水加工部
５０  親水加工シート
５２  シート本体
５４  親水加工部
５６  粘着層
５８  剥離シート
６０、６０Ａ、６０Ｂ  （親水加工）抗菌膜付き基体
６２  基体
６４  親水性部
６６  親水加工抗菌膜
７０  親水加工部付き基材
７２  基材
７４  親水加工部
８０  親水加工部付き基材
８２  基材
８４  親水加工部
８６  抗菌剤
８８  銀
９０  銀イオンを吸着可能な多孔性担体
９２  銀イオン
１００  可搬型放射線撮影装置（電子カセッテ型撮影装置）
１０２  筐体
１０４  放射線検出器
１０６  本体部材
１０８  第１蓋部材
１１２  バッテリ装着部
１１４  コネクタ接続部
１１６  照射面
１１８  表示部
１２０  マンモグラフィ装置
１２２  フェースガード
１２４  乳房台
１２６  乳房圧迫板
１２８  表示部
１３０  放射線画像診断装置
１３２  撮影台
１３４、１３６  グリップ
１３８  オペレーションパネル部
１４０  医療用マスク
１４２  マスク内表面
１５０  医療用ゴーグル
１５２  ゴーグル外表面
１６０  医療用滅菌透明袋
１６２  滅菌袋内表面
１６４  タブレットＰＣ
【図１】
2017013911.tif 000007
【図２】
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【図３】
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【図４】
2017013911.tif 000010
【図５】
2017013911.tif 000011
【図６】
2017013911.tif 000012
【図７】
2017013911.tif 000013
【図８】
2017013911.tif 000014
【図９】
2017013911.tif 000015
【図１０】
2017013911.tif 000016
【図１１】
2017013911.tif 000017
【図１２】
2017013911.tif 000018
【図１３】
2017013911.tif 000019
【図１４】
2017013911.tif 000020
【図１５】
2017013911.tif 000021
【国際調査報告】
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2017013911.tif 000023
2017013911.tif 000024
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