(57)【要約】  印刷作業終了後のアニロックスロールの確実な洗浄が可能な自動洗浄装置を提供する。  印刷版３は版胴２に設置されている。版胴２は印刷版３を介して定盤１４に設置された基板１５に印刷液を転着させる。アニロックスロール１は版胴２と同期して回転し、印刷版３に印刷液を塗布する。塗工部４は印刷時及び洗浄液による印刷液の洗浄時にアニロックスロール１に摺接して液溜まり５を形成し、印刷液の塗布及び印刷終了後の印刷液の洗浄を行い、洗浄終了後、アニロックスロール１から離間する。液体供給部６は印刷時に液溜まり５に印刷液を供給し、印刷後の洗浄時に液溜まり５に洗浄液を供給する。純水供給部８は、アニロックスロール１の洗浄後、回転しているアニロックスロール１の表面に純水を供給し、洗浄液を洗い落とす。乾燥部７となるケーシング７ａは、アニロックスロール１に近接して配置され、アニロックスロール１の対向面に高圧空気の噴出口７ｂと、吸引口７ｋが設けられている。
2018025292.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
印刷版が設置され、前記印刷版を介して前記印刷版に塗布された印刷液を定盤に設置された基板に転着させる版胴と、
版胴と同期して回転し、印刷版に印刷液を塗布するアニロックスロールと、
印刷時にアニロックスロールへの印刷液の塗布、及び印刷終了後に洗浄液による塗布された印刷液の洗浄時にアニロックスロールに摺接してアニロックスロールとの間に液溜まりを形成し、アニロックスロールの洗浄後、アニロックスロールから離間する塗工部と、
印刷時に液溜まりに印刷液を供給し、印刷後のアニロックスロールの洗浄時に液溜まりに洗浄液を供給する液体供給部と、
アニロックスロールの洗浄液による洗浄後、回転しているアニロックスロールの表面に純水を供給し、洗浄液を洗い落とす純水供給部と、
アニロックスロールに近接して配置され、アニロックスロールに対向する対向面に設けられた高圧空気の噴出口と、前記噴出口７ｂに隣接して設けられ、前記高圧空気と該高圧空気によって吹き飛ばされた純水とを吸引する吸引口が設けられたケーシングを具備する乾燥部とで構成されていることを特徴とするアニロックスロールの自動洗浄装置。
【請求項２】
請求項１に記載のアニロックスロールの自動洗浄装置において、
気液分離装置と、
吸引口が形成されているケーシングの減圧空間と前記気液分離装置の入口とを繋ぐ減圧配管と、
噴出口が設けられたケーシングの加圧空間と前記気液分離装置の排気口とを接続する加圧配管と、
加圧配管に設置され、加圧空間に高圧空気を供給するコンプレッサとが更に設けられていることを特徴とするアニロックスロールの自動洗浄装置。
【請求項３】
請求項１に記載のアニロックスロールの自動洗浄装置において、
吸引口が形成されているケーシングの減圧空間と工場排気管とを繋ぐ減圧配管と、
減圧配管或いは工場排気管に設置された排気用のブロアと、
噴出口が設けられたケーシングの加圧空間と工場高圧配管とを接続する、又はコンプレッサが設置され、高圧空気を加圧空間に供給する加圧配管が更に設けられていることを特徴とするアニロックスロールの自動洗浄装置。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれかに記載のアニロックスロールの自動洗浄装置において、
ケーシングの噴出口に高圧噴出空気に高周波振動を与える高周波振動発生部が更に設けられていることを特徴とするアニロックスロールの自動洗浄装置。
【請求項５】
請求項１に記載のアニロックスロールの自動洗浄装置を用いた自動洗浄方法で、
アニロックスロールとアニロックスロールに臨む位置に設けられた塗工部との間に設けられている液溜まりの印刷液を、版胴に設置された印刷版に塗布し、
前記版胴を、基板の上を転動させて印刷版を基板に接触させて印刷を行い、
基板への印刷終了後に液溜まりに洗浄液を供給しつつアニロックスロールを回転させてアニロックスロール上の印刷液を洗浄し、
洗浄液による印刷液の洗浄終了後、塗工部をアニロックスロールから離脱させ、然る後、アニロックスロールに純水を供給してアニロックスロール上の洗浄液を洗い落し、
純水による洗浄液の除去後、乾燥部のケーシングをアニロックスロールに近接させ、ケーシングの噴出口から高圧空気を噴出させてアニロックスロール上の付着純水を吹き飛ばすと共に、噴出口に隣接して設けられた吸引口にて前記高圧空気及び吹き飛ばされた純水を吸引することを特徴とする自動洗浄方法。
【請求項６】
請求項２に記載のアニロックスロールの自動洗浄装置を用いた自動洗浄方法で、
ケーシングの減圧空間から洗浄液又は純水を含む空気を吸引し、気液分離装置にて空気と洗浄液又は純水を分離し、
分離した空気をコンプレッサにて高圧空気としてケーシングの加圧空間に供給することを特徴とする自動洗浄方法。
【請求項７】
請求項３に記載のアニロックスロールの自動洗浄装置を用いた自動洗浄方法で、
ケーシングの減圧空間から洗浄液又は純水を含む空気を吸引し、前記吸引空気をブロアにて工場排気管に送り込み、
コンプレッサにて外気を高圧空気としてケーシングの加圧空間に供給することを特徴とする自動洗浄方法。
【請求項８】
請求項４に記載のアニロックスロールの自動洗浄装置を用いた自動洗浄方法で、
ケーシングの噴出口に設けた高周波振動発生部にて高圧噴出空気に高周波振動を与えることを特徴とする自動洗浄方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、印刷版を用いて被印刷体である基板に形成された微細回路パターン上に配向膜を高位置精度で印刷するフレキソ印刷において、印刷終了後のアニロックスロールの表面を自動的に洗浄する自動洗浄装置とその洗浄方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
基板への微細回路パターン上への配向膜印刷は、印刷液（例えば、ポリイミド液）をアニロックスロールに均一で且つ決められた厚さで塗布し、これをアニロックスロールに接触しつつ回転する版胴の印刷版に転着し、印刷装置の定盤上に設置された基板の上を版胴が回転しつつ移動し、印刷版に転着された印刷液を基板の微細回路パターンに合わせてその上に転写することで配向膜印刷が実行される。【０００３】
印刷が終了すると、アニロックスロールから印刷液を洗浄除去する必要があるが、アニロックスロールとこれに接触（又は近接）しているスクレーパの接触部位に形成される液溜まりに洗浄液供給ノズルから洗浄液（例えば、Ｎ-メチル-２-ピロリドン液）を供給し、アニロックスロールを回転させて洗浄し、その表面の印刷液は勿論、アニロックスロールの表面に形成された微小穴内の印刷液まで洗い流すようにしている。
洗浄液がＮ-メチル-２-ピロリドン液の場合、揮発性有機溶媒であるが、沸点が２０４℃であり、残渣がアニロックスロール上（特に、表面に無数に形成された微小穴）に残る。そのため、現状では、アニロックスロールを回転させつつ作業者がアルコールを含ませたワイパーを用いて洗浄液を手作業で拭き取っている。【０００４】
アニロックスロールは、上記のように表面に微小穴が所定間隔で無数に形成されており、硬質クロムメッキ又はセラミックが施されているとは言え、非常に傷付きやすいために拭き取り作業には細心の注意が要求されている。また、作業は上記のようにアニロックスロールを回転させつつ行う必要があり、作業者がアニロックスロールに巻き込まれる可能性もあり非常に危険である。【０００５】
そこで、アニロックスロールの自動洗浄装置として、特許文献１に記載のような装置が提案されている。ただし、この自動洗浄装置は印刷中の自動洗浄用であり、印刷後の自動洗浄用ではない。
この従来装置は、アニロックスロール表面に揮発性の有機溶媒である洗浄液を噴射する洗浄液噴射ノズルと、前記洗浄液が供給された後の前記アニロックスロールに加圧された気体を噴射する送風ユニットと、前記アニロックスロールの表面に供給された洗浄液を受ける洗浄液回収ユニットとで構成されたアニロックスロール洗浄装置を備えている。【０００６】
アニロックスロールの自動洗浄は、まず、洗浄領域において、印刷液が付着したアニロックスロールを回転させつつその表面に向けて洗浄液噴射ノズルから洗浄液を噴射し、印刷液を洗い落す。洗浄液と共に或いは洗浄液が噴射された後、気体噴射ノズルにてアニロックスロールに加圧気体を噴射する。アニロックスロールの表面及び微小穴（セル）内の洗浄液はこの加圧気体により吹き飛ばされ、洗浄作業が終了する。
洗い落とされた印刷液が吹き付けられ、その後、吹き飛ばされた洗浄液は洗浄液回収ユニットに回収される。これら洗浄液噴射ノズル、気体噴射ノズル及び洗浄液回収ユニットは、アニロックスロールに近接して設けられたケース内に収納され、印刷液や洗浄液が出来る限り周囲に飛び散らないように配慮している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特許第５４８２３８２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかしながら、ケースを設けていてもケース内で洗浄液や圧縮空気をアニロックスロールに向けて噴出させるとケース内はケース外に比べて高圧になり、アニロックスロールとケースとの間から洗浄液が外部に噴出し、周囲を汚したり、印刷液や洗浄液から出た有機溶媒も周囲に漏れ出し、作業環境を劣化させることが避けられない。更に、アニロックスロールから吹き飛ばされた印刷液混じりの洗浄液がケースの中で舞い、アニロックスロールに再付着することもあるし、如何に高圧空気の噴射によりアニロックスロールの表面から洗浄液を吹き飛ばしたとしても洗浄液の残渣がアニロックスロールの微小穴内に残留して次ロットの印刷時に印刷液に洗浄液の残渣が混じる恐れがある。【０００９】
本発明は、このような問題点に鑑みてなされたもので、その目的は、印刷作業終了後のアニロックスロールの確実な洗浄が可能であって、しかも洗浄液が外部に漏れず、周囲や洗浄したアニロックスロールを汚さないアニロックスロールの自動洗浄装置とその自動洗浄方法を提供するにある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記の課題を解決するため、請求項１に記載のアニロックスロールの自動洗浄装置は、
印刷版３が設置され、前記印刷版３を介して前記印刷版３に塗布された印刷液を定盤１４に設置された基板１５に転着させる版胴２と、
版胴２と同期して回転し、印刷版３に印刷液を塗布するアニロックスロール１と、
印刷時にアニロックスロール１への印刷液の塗布、及び印刷終了後に洗浄液による塗布された印刷液の洗浄時にアニロックスロール１に摺接してアニロックスロール１との間に液溜まり５を形成し、アニロックスロール１の洗浄後、アニロックスロール１から離間する塗工部４と、
印刷時に液溜まり５に印刷液を供給し、印刷後のアニロックスロール１の洗浄時に液溜まり５に洗浄液を供給する液体供給部６と、
アニロックスロール１の洗浄液による洗浄後、回転しているアニロックスロール１の表面に純水を供給し、洗浄液を洗い落とす純水供給部８と、
アニロックスロール１に近接して配置され、アニロックスロール１に対向する対向面に設けられた高圧空気の噴出口７ｂと、前記噴出口７ｂに隣接して設けられ、前記高圧空気と該高圧空気によって吹き飛ばされた純水とを吸引する吸引口７ｋが設けられたケーシング７ａを具備する乾燥部７とで構成されていることを特徴とする。【００１１】
請求項２（図２(a)）は、請求項１に記載のアニロックスロール１の自動洗浄装置において、
気液分離装置１２と、
吸引口７ｋが形成されているケーシング７ａの減圧空間７ｍと前記気液分離装置１２の入口１２ａとを繋ぐ減圧配管１１と、
噴出口７ｂが設けられたケーシング７ａの加圧空間７ｃと前記気液分離装置１２の出口１２ｂとを接続する加圧配管１０と、
加圧配管１０に設置され、加圧空間７ｃに高圧空気を供給するコンプレッサ１７とが更に設けられていることを特徴とする。【００１２】
請求項３は、気液分離装置１２を使用しない排気処理の別の例（図２(b)）で、
請求項１に記載のアニロックスロール１の自動洗浄装置において、
吸引口７ｋが形成されているケーシング７ａの減圧空間７ｍと工場排気管とを繋ぐ減圧配管１１と、
減圧配管１１或いは工場排気管に設置された排気用のブロア１９と、
噴出口７ｂが設けられたケーシング７ａの加圧空間７ｃと工場高圧配管とを接続する、又はコンプレッサ１７が設置され、高圧空気を加圧空間７ｃに供給する加圧配管１０が更に設けられていることを特徴とする。  【００１３】
請求項４は、請求項１〜３のいずれかに記載のアニロックスロール１の自動洗浄装置において、
ケーシング７ａの噴出口７ｂに高圧噴出空気に高周波振動を与える高周波振動発生部１３が更に設けられていることを特徴とする。【００１４】
請求項５は、請求項１に記載のアニロックスロール１の自動洗浄装置を用いた自動洗浄方法で、
アニロックスロール１とアニロックスロール１に臨む位置に設けられた塗工部４との間に設けられている液溜まり５の印刷液を、版胴２に設置された印刷版３に塗布し、
前記版胴２を、基板１５の上を転動させて印刷版３を基板１５に接触させて印刷を行い、
基板１５への印刷終了後に液溜まり５に洗浄液を供給しつつアニロックスロール１を回転させてアニロックスロール１上の印刷液を洗浄し、
洗浄液による印刷液の洗浄終了後、塗工部４をアニロックスロール１から離脱させ、然る後、アニロックスロール１に純水を供給してアニロックスロール１上の洗浄液を洗い落し、
純水による洗浄液の除去後、乾燥部７のケーシング７ａをアニロックスロール１に近接させ、ケーシング７ａの噴出口７ｂから高圧空気を噴出させてアニロックスロール１上の付着純水を吹き飛ばすと共に、噴出口７ｂに隣接して設けられた吸引口７ｋにて前記高圧空気及び吹き飛ばされた純水を吸引することを特徴とする。【００１５】
請求項６は、請求項２に記載のアニロックスロール１の自動洗浄装置を用いた自動洗浄方法で、
ケーシング７ａの減圧空間７ｍから洗浄液又は純水を含む空気を吸引し、気液分離装置１２にて空気と洗浄液又は純水を分離し、
分離した空気をコンプレッサ１７にて高圧空気としてケーシング７ａの加圧空間７ｃに供給することを特徴とする。【００１６】
請求項７は、請求項３に記載のアニロックスロール１の自動洗浄装置を用いた自動洗浄方法で、
ケーシング７ａの減圧空間７ｍから洗浄液又は純水を含む空気を吸引し、前記吸引空気をブロア１９にて工場排気管に送り込み、
コンプレッサ１７にて外気を高圧空気としてケーシング７ａの加圧空間７ｃに供給することを特徴とする。【００１７】
請求項８は、請求項４に記載のアニロックスロール１の自動洗浄装置を用いた自動洗浄方法で、
ケーシング７ａの噴出口７ｂに設けた高周波振動発生部１３にて高圧噴出空気に高周波振動を与えることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１８】
本発明において、 アニロックスロール１の印刷液を洗浄液（極性溶媒）で洗浄し、続いてこの洗浄液を純水で洗い落とし、最後に高圧空気で純水を吹き飛ばすので、アニロックスロール１の表面に形成されている無数の微小穴内まで確実に洗浄でき、次ロットでの洗浄液の混入は確実に阻止できる。加えて、高圧空気に高周波振動を付与しておけば、噴射空気圧に粗密が付与され、無数の微小穴内の印刷液や洗浄液の残留物も確実に排出できる。
そして、ケーシング７ａの減圧空間７ｍから洗浄液又は純水を含む空気を吸引し、気液分離装置１２にて空気と洗浄液又は純水を分離し、分離した空気をコンプレッサ１７にて高圧空気としてケーシング７ａの加圧空間７ｃに供給するようにしておけば、洗浄に使用される空気は閉回路内で循環することとなり、印刷液や洗浄液に有機溶媒を使用しても外部に漏れ出さず、作業環境を損なうことがない。別法としてブロア１９にてケーシング７ａの減圧空間７ｍから洗浄液又は純水を含む空気を吸引し、そのまま工場排気管に送給することもできる。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】本発明の印刷装置の概略構成を示す斜視図である。
【図２】(a)(b)は気液分離装置を使用する場合と、そうでない場合において、洗浄液による印刷液の洗浄時の印刷装置を正面から見た概念図である。
【図３】純水による洗浄、及び高圧空気によりアニロックスロールの乾燥時の正面から見た概念図である。
【図４】図３の高圧空気噴出状態を示す部分拡大断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
以下、本発明の一実施形態について図面を用いて説明する。 本実施形態の印刷装置の定盤１４は直方体或いは厚板状の部材で、例えばガラス製の基板１５がその上面の所定位置に設置され、印刷版３を装着した版胴２がその上を転動して往復し、その間に印刷版３が基板１５に接触して基板１５上の微細回路パターン上に印刷液を転写して配向膜を形成する。定盤１４は、上記印刷時には基板１５の表面が印刷版３に対してキッスタッチ位置まで上昇し、非印刷時には印刷版３から離れる位置に下降する。
【００２１】
印刷液は、本実施例では配向膜生成用で、例えば、ポリイミド液（ＰＩ液）が用いられる。
【００２２】
洗浄液は、後工程で純水洗浄するので、水との相溶性を有する極性溶媒、例えば液晶の場合、配向膜形成液の洗浄液としてＮＭＰ（Ｎ−メチル−２−ピロリドン（Ｎ−ｍｅｔｈｙｌｐｙｒｒｏｌｉｄｏｎｅ））が用いられる。
上記ＮＭＰ液について言うと、ラクタム構造を含む５員環の構造を持つ有機化合物であり、極性溶媒のひとつで、無色又は僅かに黄色がかった液体であり、水や酢酸エチル、クロロホルム、ベンゼン、低級アルコールや低級ケトンといった様々な溶媒と混ざり合うことができ、高い溶解性を持つ。そのため特に高分子化学の分野を中心に様々な物質に対する溶媒として用いられる。
【００２３】
版胴２は金属で作られた円筒状の大型部材で、表面にはゴム又は樹脂で作られた印刷版３が版胴２の表面を覆い、巻き付けるように装着されている。装着された印刷版３の一端は版胴２に固定され、他端は公知の装着装置により、印刷版３の伸びを吸収できる構造となっている。
印刷版３が装着された版胴２は、アニロックスロール１が設けられている本装置のホームポジションとアニロックスロール１の反対側の定盤１４の端部との間を、図示しない版胴駆動用モータによって水平方向に回転しつつ往復移動する。
【００２４】
印刷版３は樹脂板又はゴム板で形成され、印刷面に印刷パターンが形成されている。（本実施例では、基板１５上に碁盤の目のように整然と配置された微細回路パターンに合わせて形成されている。）
【００２５】
アニロックスロール１は、本装置のホームポジションに回転自在に設置されており、公知一般のものを用いることができる。アニロックスロール１の表面には無数の微小穴（セル）１ａが縦横に整然と形成されている。微小穴１ａの開口形状は正六角形や正方形その他で、印刷の種類によって適宜なものが選択される。微小穴１ａを構成するメッシュ線数、及びメッシュのセル容積（溝の容積）を選択することにより、印刷版３への印刷液の供給量を制御することができ、これにより基板１５への印刷液の転写量を制御することができる。通常、アニロックスロール１の表面は、耐摩耗性向上のためハード（工業用）クロムメッキ処理又はセラミック処理が施されている。ハード（工業用）クロムメッキ処理やセラミック処理は洗浄時後の印刷液付着や沈着を低減することができる。
【００２６】
塗工部４は、アニロックスロール１に摺接又は離間可能に配置された、例えば、板状のスクレーパやドクターロールのようなもので、アニロックスロール１との摺接部位に液溜まり５が形成される。本実施例ではスクレーパを塗工部４とする。
液溜まり５には、印刷時には印刷液がその上方に設置された液体供給部６（例えば、ディスペンサのようなもの）から滴下供給され、印刷液の洗浄時には切り替えて洗浄液が滴下供給される。ディスペンサは前記のように切り替えで使用してもよいが、別個のものを用意するようにしてもよい。
アニロックスロール１に対する塗工部４（スクレーパやドクターロール）の設置状態でアニロックスロール１に塗布される印刷液の量が制御される。
アニロックスロール１の下方にはアニロックスロール１、塗工部４及び液溜まり５の全体をカバーする液受け皿１８が設置されている。
【００２７】
アニロックスロール１の乾燥部７となるケーシング７ａはアニロックスロール１の直上に設置され、アニロックスロール１の軸線に対して平行に往復移動するように配置されている。
ケーシング７ａの内部構造は、図１に示すように中空直方体状で、図３に示すように隔壁７ｄで内部を２分割した場合は、一方を加圧空間７ｃ、他方を減圧空間７ｍとする。この場合、噴出口７ｂ側を吸引口７ｋより下流側にし、噴出口７ｂ側で飛散した飛沫をアニロックスロール１の回転と共に吸引口７ｋに移動させ、上流側の吸引口７ｋでこれらを吸引する。
図４の場合は、内部は２つの隔壁７ｄで三つの空間に分割され中央の空間が、圧縮空気が供給される加圧空間７ｃであり、両側の空間が減圧空間７ｍである。両側の減圧空間７ｍは独立しているように記載されているが、連通するようにしてもよい。
【００２８】
そしてケーシング７ａのアニロックスロール１に対向する対向面（下面）には圧縮空気の噴出口７ｂと吸引口７ｋが形成され、噴出口７ｂは加圧空間７ｃに繋がっている。
【００２９】
図３の場合では、加圧空間７ｃの下面に設けられた圧縮空気の噴出口７ｂはアニロックスロール１に対するケーシング７ａの下流側の長辺に沿って溝状に形成されている。そして噴出口７ｂを形成する隔壁７ｄの途中に噴出口７ｂの開口を狭くする突条７ｅが突設されている。前記突条７ｅは一対で、突条７ｅの間がスリット状の開口で高周波振動発生部１３となっている。
【００３０】
図４の場合では、加圧空間７ｃの下面に設けられた圧縮空気の噴出口７ｂはアニロックスロール１に対するケーシング７ａの対向面の中央に、ケーシング７ａの長手方向にて溝状に形成されている。隔壁７ｄの途中には図３と同様の突条７ｅが突設され、突条７ｅの間がスリット状の開口で高周波振動発生部１３となっている。
なお、突条７ｅは図のような実施例に限られず、２以上設けることができる。
【００３１】
吸引口７ｋはスリット状に形成され、噴出口７ｂの近傍（本実施例ではその両側）にて噴出口７ｂに沿うように設けられている。そして吸引口７ｋは噴出口７ｂから噴出された圧縮空気の噴出方向に傾斜して開口している。換言すれば、圧縮空気の噴出方向の軸線と吸引口７ｋの吸引方向の軸線との角度（内角）が鋭角に形成されている。
そして、前記吸引口７ｋの吸引量を、前記噴出口７ｂからの噴出空気量より多くして、ケーシング７ａの対向面とアニロックスロール１との間に形成された吸引用空間９内を外部に対して低圧に維持し、外部から空気が吸引用空間９内に流れ込むようにしている。
【００３２】
ケーシング７ａのアニロックスロール１に対する対向面には、図３のように単に、噴出口７ｂとその両側に配置された吸引口７ｋが形成されている。
ケーシング７ａの対向面がアニロックスロール１に接触してアニロックスロール１の表面に傷を付けることがあっては好ましくないので、僅かに離間させ、両者の間に隙間１６を設けてセットする。
【００３３】
気液分離装置１２は図２(a)に示すように設置される場合と、図２(b)に示すように設置されず、そのまま工場排気管に送られる場合とがある。以下、図２(a)に示すように気液分離装置１２が設置される場合について説明する。
気液分離装置１２は、中空の缶体で入口１２ａに減圧配管１１が接続され、出口１２ｂに加圧配管１０が接続され、減圧配管１１はケーシング７ａの減圧空間７ｍに接続され、加圧配管１０は加圧空間７ｃに接続されている。加圧配管１０の途中にはコンプレッサ１７が設置されている。なお、気液分離装置１２内にはフィルター１２ｆが設置され、分離された空気を濾過し、コンプレッサ１７側に供給している。勿論、フィルター１２ｆは気液分離装置１２外に設置することも可能である。
【００３４】
これに対して気液分離装置を設置せず、そのまま工場排気管に送られる場合について説明する。図２(b)に示すように、減圧配管１１はケーシング７ａの減圧空間７ｍに接続され、その出口はそのまま工場排気管に接続されている。ブロア１９は減圧配管１１又は工場排気管に設置されている。
一方、加圧配管１０はケーシング７ａの加圧空間７ｃに接続され、外気を吸引するようになっている。加圧配管１０にはその途中にコンプレッサ１７が設置されている。この場合、コンプレッサ１７を設けず、加圧配管１０を工場高圧配管に接続してもよい。
なお、この場合も必要に応じて減圧配管１１にフィルター（図示せず）が設置される。
【００３５】
次に、本印刷装置の作用について説明する。本印刷装置の工程は以下の手順で行われる。
（１）基板１５への印刷
（２）印刷液が付着しているアニロックスロール１の洗浄液による洗浄
（３）塗工部（スクレーパ）４がアニロックスロール１から離脱
（４）洗浄液が付着しているアニロックスロール１の純水による洗浄
（５）アニロックスロール１上の純水の除去と乾燥
【００３６】
（１）基板１５への印刷
印刷時には液体供給部６から液溜まり５に印刷液が滴下貯留されると共にアニロックスロール１が回転作動し、その表面に印刷液が均一に塗布される。そして、印刷版３が装着された版胴２がアニロックスロール１と同期回転し、アニロックスロール１の表面の印刷液が印刷版３の所定領域に塗布（一次転写）される。
同時に基板１５を所定位置に設置した定盤１４が同期して所定高さ迄上昇して待機しており、その上を版胴２が転動する。これにより基板１５に印刷版３を接触させて回転移動させ、基板１５の微細回路パターンに応じた印刷液パターンが印刷（二次転写）されて一回の印刷が完了する。この操作を繰り返し所定枚数の印刷が終了するとアニロックスロール１の表面に残留している印刷液を洗い落す洗浄工程に移る。
【００３７】
（２）アニロックスロール１の洗浄液による洗浄
アニロックスロール１の洗浄はまず、液体供給部６からの滴下供給液滴が印刷液から洗浄液に切り替わり、洗浄液が液溜まり５に供給される。液溜まり５に供給された洗浄液はアニロックスロール１の回転によってアニロックスロール１の表面に塗布される。初期の時点では洗浄液と印刷液とが混ざり合った状態となるが、洗浄液の供給とアニロックスロール１の回転により印刷液が混入した洗浄液が流出し、流出分だけ新しい洗浄液が供給されて印刷液が次第に薄まり、最終的には印刷液が洗い落とされて洗浄液だけとなる。これら印刷液混じりの洗浄液や洗浄完了時の洗浄液はアニロックスロール１の下方に設置されたトレー１９に受け取られる。
なお、上記液体供給部６は、印刷液と洗浄液とを切り替えて供給する例を示したが、勿論、これに限られず別々の処から個別に供給することも可能である。
【００３８】
（３）塗工部（スクレーパ）４がアニロックスロール１から離脱
印刷液の除去が終了すると、洗浄液の供給は不要となり、アニロックスロール１との接触部位にて液溜まり５を構成する塗工部（スクレーパ）４がアニロックスロール１から離脱する。
【００３９】
（４）洗浄液が付着しているアニロックスロール１の純水による洗浄
この時点では、アニロックスロール１の表面に付着している液体は洗浄液だけである。洗浄液は極性溶媒であるので、純水との相溶性が高く、アニロックスロール１を回転させながらその表面に均等に純水を滴下すれば次第に洗い流されて洗浄液の除去がなされ、純水だけがアニロックスロール１の表面に残る。
これら洗浄液混じりの純水や洗浄完了時の純水は前述同様アニロックスロール１の下方に設置されたトレー１９に受け取られる。
【００４０】
（５）アニロックスロール１上の純水の除去と乾燥
この時点ではアニロックスロール１の表面には上記のように純水だけが付着している状態となる。この状態となった時点で、アニロックスロール１の直上に設けられた乾燥部７によってアニロックスロール１の純水除去と乾燥が行われる。
乾燥部７を構成するケーシング７ａでは上流側又はその中央の噴出口７ｂから高圧の圧縮空気が噴き出し、ケーシング７ａの対向面に来たアニロックスロール１の表面に高圧の圧縮空気を噴き付けるようになっている。
【００４１】
上記高圧の圧縮空気は、噴出口７ｂの狭窄した高周波発生部１３において、突条７ｅを振動させ、これによって空気抵抗の強弱が高周波で発生する。噴射口７ｂから噴射された噴出空気にはこの高周波の振動が重畳しており、アニロックスロール１の表面だけでなく無数の微小穴１ａの底までこの高周波噴出空気が届き、アニロックスロール１の表面及び微小穴１ａに入り込んでいる純水を吹き飛ばす。この高圧の高周波圧縮空気の作用の模式的状況を図４の拡大図に示す。
【００４２】
吹き飛ばされた純水は、僅かな隙間１６において微細な液滴となって周囲に飛び散るが、噴出口７ｂの近傍にはこれを両側から挟むように（或いは下流側に）、そして噴出口７ｂの方に向って開口した吸引口７ｋが設けられているので、前記微細液滴はそのまま吸引口７ｋに吸い込まれることになる。
この場合、噴出口７ｂからの空気量よりも吸引口７ｋの吸引空気量が大きく設定されているので、吸引口７ｋの周囲は外部より負圧になっている。それ故、僅かな隙間１６から微細液滴が飛び出すようなことはない。
【００４３】
減圧空間に吸い込まれ微細液滴は、減圧配管１１を通って気液分離装置１２に送り込まれ、微細液滴は落下して気液分離装置１２の底に溜まり、空気は分離され、フィルター１２ｆで濾過された後、コンプレッサ１７の吸引により加圧配管１０に圧入される。
そして、再度、乾燥部７のケーシング７ａの加圧空間７ｃに送り込まれ、噴出口７ｂから噴き出される。
このような操作を繰り返し、アニロックスロール１の表面は勿論、微小穴１ａ内の純水を吹き飛ばし、アニロックスロール１の乾燥が終了する。
【００４４】
なお、上記の場合は気液分離装置１２を利用して微細液滴混じりの空気を分離して、分離した空気を循環再利用しているが、図２(b)に示すように、気液分離装置１２を用いることなくブロア１８を介して工場排気管にそのまま放出してもよい。
【符号の説明】
【００４５】
１：アニロックスロール、１ａ：微小穴、２：版胴、３：印刷版、４：塗工部、５：液溜まり、６：液体供給部、７：乾燥部、７ａ：ケーシング、７ｂ：噴出口、７ｃ：加圧空間、７ｄ：隔壁、７ｅ：突条、７ｋ：吸引口、７ｍ：減圧空間、８：純水供給部、９：吸引用空間、１０：加圧配管、１１：減圧配管、１２：気液分離装置、１２ａ：入口、１２ｂ：出口、１２ｆ：フィルター、１３：高周波振動発生部、１４：定盤、１５：基板、１６：隙間、１７：コンプレッサ、１８：液受け皿、１９：ブロア。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【国際調査報告】
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