(57)【要約】  透明基体と、前記透明基体の第１の主面に形成された低反射膜と、前記第１の主面と対向する前記透明基体の第２の主面の一部に形成された黒色印刷部とを備え、前記透明基体の前記黒色印刷部を有する領域において、前記低反射膜側からの入射光に対する前記低反射膜付き基体の視感反射率Ｒが２％以下であり、かつ、前記低反射膜の表面の視感反射率Ｒ１と、前記黒色印刷部の前記透明基体との界面における視感反射率Ｒ２との比Ｒ１／Ｒ２が１／６以上であることを特徴とする低反射膜付き基体。
2016181983.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基体と、
前記透明基体の第１の主面に形成された低反射膜と、
前記第１の主面と対向する前記透明基体の第２の主面の一部に形成された黒色印刷部と
を備え、
前記透明基体の前記黒色印刷部を有する領域において、前記低反射膜側からの入射光に対する前記低反射膜付き基体の視感反射率Ｒが２％以下であり、かつ、前記低反射膜の表面の視感反射率Ｒ１と、前記黒色印刷部の前記透明基体との界面における視感反射率Ｒ２との比Ｒ１／Ｒ２が１／６以上であることを特徴とする低反射膜付き基体。
【請求項２】
前記低反射膜付き基体の視感反射率Ｒが１．２％以下である請求項１に記載の低反射膜付き基体。
【請求項３】
前記低反射膜の表面の視感反射率Ｒ１が１％以下である請求項１または２に記載の低反射膜付き基体。
【請求項４】
前記黒色印刷部の前記透明基体との界面における視感反射率Ｒ２が０．８％以下である請求項１〜３のいずれか１項に記載の低反射膜付き基体。
【請求項５】
前記透明基体は、前記第１の主面に凹凸形状を有する請求項１〜４のいずれか１項に記載の低反射膜付き基体。
【請求項６】
前記凹凸形状の表面粗さＲＭＳが０．０１μｍ以上０．５μｍ以下である請求項５に記載の低反射膜付き基体。
【請求項７】
前記凹凸形状の粗さ曲線の要素の平均長さＲＳｍが５μｍ以上３０μｍ以下である請求項５または６に記載の低反射膜付き基体。
【請求項８】
前記透明基体のＪＩＳ  Ｋ  ７１３６で規定されるヘイズ値が１％以上３０％以下である請求項６に記載の低反射膜付き基体。
【請求項９】
前記低反射膜上に形成され、２ｎｍ以上２０ｎｍ以下の膜厚を有する防汚膜をさらに備える、請求項１〜８のいずれか１項に記載の低反射膜付き基体。
【請求項１０】
前記低反射膜は、少なくとも１層の酸化ニオブまたは窒化ケイ素からなる層と、少なくとも１層の酸化ケイ素からなる層とをそれぞれ有する請求項１〜９のいずれか１項に記載の低反射膜付き基体。
【請求項１１】
前記透明基体がガラス基板である請求項１〜１０のいずれか１項に記載の低反射膜付き基体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、低反射膜付き基体に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、タブレット型ＰＣ（Ｐｅｒｓｏｎａｌ  Ｃｏｍｐｕｔｅｒ）、スマートフォン、カーナビゲーション装置、タッチパネル等のディスプレイ装置においては、表示パネルの視認側に、表示パネルを保護する目的で、カバーガラスのような前面基板が設けられている。そして、この前面基板においては、光の反射による写りこみを抑制して表示の視認性を高める目的で、視認側の面に光の反射を抑えた低反射膜が設けられている。また、そのような低反射膜付きの前面基板では、低反射膜が設けられていない非視認側の面の周辺部に、意匠性や美観を向上させる目的で、黒色印刷部のような光遮蔽部を設けることが行われている（例えば、特許文献１参照。）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００５−２４２２６５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、低反射膜と黒色印刷部を備えたディスプレイ用の前面基板においては、低反射膜により光の反射が抑制されるため、低反射膜が設けられた面側から黒色印刷部をみた場合に、黒色印刷部の印刷ムラが視認されるという問題があった。これは、印刷材料の混練状態の不良、前面基板における透明基体の印刷面の変質による印刷不良、印刷時の塗りムラ等に起因すると考えられる。そして、混練不良や印刷不良の問題を解決するには、印刷材料を製造する装置や印刷装置の改良、透明基体表面の改質、印刷精度の向上等が必要であり、印刷技術やコストの面で解決が難しかった。【０００５】
本発明は、上記問題を対処してなされたもので、黒色印刷部の印刷ムラが視認されにくく、高い表示性と美観を備え、ディスプレイ装置等の前面基板に好適な低反射膜付き基体の提供を目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
透明基体と、前記透明基体の第１の主面に形成された低反射膜と、前記第１の主面と対向する前記透明基体の第２の主面の一部に形成された黒色印刷部とを備え、前記透明基体の前記黒色印刷部を有する領域において、前記低反射膜側からの入射光に対する前記低反射膜付き基体の視感反射率Ｒが２％以下であり、かつ、前記低反射膜の表面の視感反射率Ｒ１と、前記黒色印刷部の前記透明基体との界面における視感反射率Ｒ２との比Ｒ１／Ｒ２が１／６以上であることを特徴とする低反射膜付き基体。【０００７】
本発明の低反射膜付き基体において、前記低反射膜付き基体の視感反射率Ｒが１．２％以下であることが好ましい。また、前記低反射膜の表面の視感反射率Ｒ１が１％以下であることが好ましい。また、前記黒色印刷部の前記透明基体との界面における視感反射率Ｒ２が０．８％以下であることが好ましい。また、前記透明基体は、前記第１の主面に凹凸形状を有することが好ましい。また、前記凹凸形状の表面粗さＲＭＳが０．０１μｍ以上０．５μｍ以下であることが好ましい。また、前記凹凸形状の粗さ曲線の要素の平均長さＲＳｍが５μｍ以上３０μｍ以下であることが好ましい。また、前記透明基体のＪＩＳ  Ｋ  ７１３６で規定されるヘイズ値が１％以上３０％以下であることが好ましい。また、前記低反射膜付き基体は、前記低反射膜上に形成され、２ｎｍ以上２０ｎｍ以下の膜厚を有する防汚膜をさらに備えることが好ましい。また、前記低反射膜は、少なくとも１層の酸化ニオブまたは窒化ケイ素からなる層と、少なくとも１層の酸化ケイ素からなる層とをそれぞれ有することが好ましい。また、前記透明基体がガラス基板であることが好ましい。【０００８】
本発明において、「前記透明基体の前記黒色印刷部を有する領域」とは、低反射膜付き基体が垂直断面（厚さ方向に沿った断面）において黒色印刷部を有する領域をいう。以下の記載では、「黒色印刷部を有する領域」を「黒色印刷部を備えた領域」ともいう。また、低反射膜付き基体が垂直断面において黒色印刷部を有していない領域を、「黒色印刷部を持たない領域」ともいう。
【発明の効果】
【０００９】
本発明の低反射膜付き基体は、黒色印刷部を有する領域における低反射膜側からの入射光に対する視感反射率が調整された低反射膜を有するので、黒色印刷部の印刷ムラが視認されにくく、表示性および美観の点で優れている。したがって、このような低反射膜付き基体を前面基板として用いることで、ディスプレイ装置の表示の視認性を向上可能であり、かつ優れた意匠性と美観とを付与できる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】本発明の低反射膜付き基体の一実施形態を模式的に示す断面図である。
【図２】本発明の低反射膜付き基体において、低反射膜側から入射する光のルートを模式的に示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
以下、本発明を実施するための形態について説明する。本発明は、下記の実施形態に限定されず、本発明の範囲を逸脱することなく、下記の実施形態に種々の変形および置換を加えてもよい。
【００１２】
図１は、本発明の低反射膜付き基体の一実施形態を模式的に示す断面図である。実施形態の低反射膜付き基体１は、図１に示すように、透明基体２と、透明基体２の一方の主面である第１の主面３に形成された低反射膜４と、透明基体２の他方の主面である第２の主面５の一部に形成された黒色印刷部６とを備えている。第１の主面３と第２の主面５とは対向している。そして、実施形態の低反射膜付き基体１においては、透明基体２の黒色印刷部６を有する領域における、低反射膜４側からの入射光に対する低反射膜付き基体１の視感反射率Ｒが２％以下であり、かつ、低反射膜４の表面の視感反射率Ｒ１と、黒色印刷部６の透明基体２との界面における視感反射率Ｒ２との比（Ｒ１／Ｒ２）が、１／６以上となっている。
【００１３】
ここで、視感反射率とは、ＪＩＳ  Ｚ８７０１に規定されている反射の刺激値Ｙである。本発明では、分光測色計（コニカミノルタ社製、形式：ＣＭ−２６００ｄ）を用い、Ｄ６５の光源下において、正反射光と拡散反射光を合わせて測定するＳＣＩ方式により反射光を測定し、測定された反射率を用いて、視感反射率を算出する。
【００１４】
本発明の低反射膜付き基体１においては、低反射膜４側からの入射光に対して測定された低反射膜付き基体１の視感反射率（以下、視感反射率Ｒともいう）が２％以下であり、かつＲ１／Ｒ２が１／６以上となっているので、黒色印刷部６の印刷ムラが低反射膜４側から視認されにくい。
【００１５】
視感反射率Ｒは、１．５％以下が好ましく、１．２％以下がより好ましく、１％以下がさらに好ましい。また、光の反射を抑制して表示の視認性を高める観点から、視感反射率Ｒ１は、１％以下が好ましく、０．８％以下が好ましく、０．７％以下がさらに好ましい。
【００１６】
以下、Ｒ１およびＲ２の算出方法を図２に基づいて説明する。図２は、本発明の低反射膜付き基体１への低反射膜４側からの入射光のルート（光路）を、模式的に示す図である。図２において、図１と同じ構成要素には、同一の符号を付している。
【００１７】
低反射膜付き基体１の黒色印刷部６を持たない領域では、第１の主面３側から低反射膜４に入射した入射光Ｌ１は、一部は低反射膜４の表面で反射して反射光Ｌ２となり、残部は、低反射膜４、透明基体２をこの順に透過する透過光Ｌ３となる。透過光Ｌ３の一部は透明基体２の第２の主面５で反射し、この反射光は、透明基体２、低反射膜４をこの順に透過した後、出射光Ｌ４として外部に出射する。この光のルート（Ｌ１→Ｌ２とＬ１→Ｌ３→Ｌ４）を第１のルートとする。
【００１８】
第１のルートの光の視感反射率ＲＧは、反射光Ｌ２に係わる視感反射率、すなわち低反射膜４の視感反射率Ｒ１と、出射光Ｌ４に係わる視感反射率Ｒ４の和である。
【００１９】
ここで、視感反射率Ｒ４は、光のルートに沿った各反射率を用いた式（Ｉ）、第１のルートの光の視感反射率ＲＧは、式（ＩＩ）でそれぞれ表される。ただし、Ｒ０は、透明基体２の第２の主面５からの片面視感反射率である。
【００２０】
Ｒ４＝（１−Ｒ１）×Ｒ０×（１−Ｒ１）      ………………（Ｉ）
ＲＧ＝Ｒ１＋（１−Ｒ１）×Ｒ０×（１−Ｒ１）………………（ＩＩ）
【００２１】
一方、低反射膜付き基体１の黒色印刷部６を備えた領域では、第１の主面３側から低反射膜４に入射した入射光Ｌ５は、一部は低反射膜４の表面で反射して反射光Ｌ６となり、残部は、低反射膜４、透明基体２をこの順に透過する透過光Ｌ７となる。透過光Ｌ７の一部は、透明基体２の第２の主面５と黒色印刷部６との界面で反射し、この反射光は、透明基体２、低反射膜４をこの順に透過した後、出射光Ｌ８として外部に出射する。この光のルート（Ｌ５→Ｌ６とＬ５→Ｌ７→Ｌ８）を第２のルートとする。
【００２２】
第２のルートの光の視感反射率Ｒｔｏｔは、反射光Ｌ６に係わる視感反射率、すなわち低反射膜４の視感反射率Ｒ１と、出射光Ｌ８に係わる視感反射率Ｒ８の和である。
【００２３】
ここで、視感反射率Ｒ８は、光のルートに沿った各反射率を用いた式（ＩＩＩ）、第２のルートの光の視感反射率Ｒｔｏｔは、式（ＩＶ）でそれぞれ表される。ただし、Ｒ２は、透明基体２との界面における黒色印刷部６の視感反射率である。
【００２４】
Ｒ８＝（１−Ｒ１）×Ｒ２×（１−Ｒ１）      ………………（ＩＩＩ）
Ｒｔｏｔ＝Ｒ１＋（１−Ｒ１）×Ｒ２×（１−Ｒ１）………………（ＩＶ）
【００２５】
低反射膜付き基体１において、黒色印刷部６を持たない領域の視感反射率ＲＧと、黒色印刷部６を備えた領域の視感反射率Ｒｔｏｔが測定可能な量である。したがって、所与の透明基体２の視感反射率Ｒ０を前提として、上記式（ＩＩ）と式（ＩＶ）により、Ｒ１およびＲ２を算出できる。なお、前記したように、Ｒｔｏｔは、黒色印刷部６を有する領域における低反射膜４側からの入射光に対して測定された視感反射率Ｒに相当し、本発明の低反射膜付き基体１では２％以下となっている。また視感反射率Ｒ０は、例えばエリプソメータで、黒色印刷部６を持たない領域の透明基体２の裏面、すなわち低反射膜４がない側の透明基体２の屈折率を求めることで、算出できる。
【００２６】
また、低反射膜４に吸収率Ａ１の吸収がある場合には、式（ＩＩ）、（ＩＶ）において、（１−Ｒ１）を（１−Ｒ１−Ａ１）とすることで、上記と同様にＲ１およびＲ２を算出できる。低反射膜４の吸収率Ａ１は、透明基体２の第２の主面５に黒色印刷部６を持たない領域の透過率Ｔｇと、透明基体２のみの透過率Ｔ０との比較によって、算出できる。
【００２７】
なお、実際には、例えば透過光Ｌ３のうち透明基体２の第２の主面５で反射し、透明基体２、低反射膜４をこの順に透過する光のうち、一部は出射光Ｌ４として透明基体２の内部から出射され、一部は低反射膜４／空気界面で反射されて透明基体２の内部にもどり、透明基体２を透過して透明基体２の第２の主面５で一部が反射するルートをたどって、透明基体２の内部から出射される。また、このサイクルを任意回繰り返したルートも考えられるが、Ｒ１、Ｒ２が上述の範囲であれば、Ｌ８以降のルートからの寄与は無視できる程度に十分小さい。
【００２８】
低反射膜４の視感反射率Ｒ１は、低反射膜４を構成する各層の構成材料、積層数、各層の厚さ、積層順等により、任意に調整可能である。透明基体２との界面の黒色印刷部６の視感反射率Ｒ２は、黒色印刷部６を構成する材料（黒色インク等）の種類や膜厚等により調整できる。ただし、Ｒ２は通常０．３％以上０．８％以下の範囲にあり、インクの種類や膜厚等による調整が難しく、また黒色の色調を損なうおそれがあるため、Ｒ１の値を調整することで、Ｒ１／Ｒ２の値を調整することが好ましい。
【００２９】
低反射膜４に吸収性の膜を使用した場合、Ｒ１とＲ２が同じ値の、吸収のない膜を使用した場合に比べて、Ｒｔｏｔが下がるため、使用者が見た時の黒感が向上される。したがって、開口部（印刷のない部分）の透過率が高いことを要求される製品ではない場合、好ましく使用できる。この場合、例えばチタン、ジルコニウム等の窒化膜を主材料とした光吸収膜と、酸化ケイ素膜をこの順に積層した膜が好ましく使用できる。光吸収膜の幾何学的膜厚は５〜２５ｎｍが好ましく、酸化ケイ素膜の幾何学的膜厚は７０〜１１０ｎｍであることが好ましい。光吸収膜と酸化ケイ素膜との間に、幾何学的膜厚が１〜２０ｎｍのケイ素または窒化ケイ素を主成分とする層が設けられていても構わない。なお、ここである成分を主材料とした膜とは、当該成分の割合が５０質量％以上である膜のことである。
【００３０】
次に、実施形態の低反射膜付き基体１を構成する各要素について説明する。
【００３１】
（透明基体）
透明基体２は、一般に低反射膜４による低反射性の付与が求められている透明な材料からなるものであれば、特に限定されず、例えば、ガラス、樹脂、またはそれらの組み合わせ（複合材料、積層材料等）からなるものが好ましく使用される。また、透明基体２の形態についても特に限定されず、例えば、剛性を有する板状、柔軟性を有するフィルム状等とすることができる。
【００３２】
透明基体２として用いられる樹脂基板としては、ポリメチルメタクリレート等のアクリル系樹脂基板、ビスフェノールＡのカーボネート等の芳香族ポリカーボネート系樹脂基板、ポリエチレンテレフタレート等の芳香族ポリエステル系樹脂基板等が挙げられる。
【００３３】
高分子フィルム（フィルム状の透明基体２）としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステル系フィルム、ポリプロピレン等のポリオレフィン系フィルム、ポリ塩化ビニルフィルム、アクリル樹脂系のフィルム、ポリエーテルサルフォンフィルム、ポリアリレートフィルム、ポリカーボネートフィルム等が挙げられる。
【００３４】
透明基体２として用いられるガラス基板としては、二酸化ケイ素を主成分とする一般的なガラス、例えば、ソーダライムシリケートガラス、アルミノシリケートガラス、ホウケイ酸ガラス、無アルカリガラス、石英ガラス等のガラスからなる基板が挙げられる。
【００３５】
透明基体２としてガラス基板を用いる場合、ガラスの組成は、成形や化学強化処理による強化が可能な組成であることが好ましく、ナトリウムを含んでいることが好ましい。
【００３６】
ガラスの組成は特に限定されず、種々の組成を有するガラスを利用できる。例えば、酸化物基準のモル％表記で、以下の組成を有するアルミノシリケートガラスが挙げられる。
【００３７】
（ｉ）ＳｉＯ２を５０％以上８０％以下、Ａｌ２Ｏ３を２％以上２５％以下、Ｌｉ２Ｏを０％以上１０％以下、Ｎａ２Ｏを０％以上１８％以下、Ｋ２Ｏを０％以上１０％以下、ＭｇＯを０％以上１５％以下、ＣａＯを０％以上５％以下およびＺｒＯ２を０％以上５％以下含むガラス
（ｉｉ）ＳｉＯ２を５０％以上７４％以下、Ａｌ２Ｏ３を１％以上１０％以下、Ｎａ２Ｏを６％以上１４％以下、Ｋ２Ｏを３％以上１１％以下、ＭｇＯを２％以上１５％以下、ＣａＯを０％以上６％以下およびＺｒＯ２を０％以上５％以下含有し、ＳｉＯ２およびＡｌ２Ｏ３の含有量の合計が７５％以下、Ｎａ２ＯおよびＫ２Ｏの含有量の合計が１２％以上２５％以下、ＭｇＯおよびＣａＯの含有量の合計が７％以上１５％以下であるガラス
（ｉｉｉ）ＳｉＯ２を６８％以上８０％以下、Ａｌ２Ｏ３を４％以上１０％以下、Ｎａ２Ｏを５％以上１５％以下、Ｋ２Ｏを０％以上１％以下、ＭｇＯを４％以上１５％以下およびＺｒＯ２を０％以上１％以下含有するガラス
（ｉｖ）ＳｉＯ２を６７％以上７５％以下、Ａｌ２Ｏ３を０％以上４％以下、Ｎａ２Ｏを７％以上１５％以下、Ｋ２Ｏを１％以上９％以下、ＭｇＯを６％以上１４％以下およびＺｒＯ２を０％以上１．５％以下含有し、ＳｉＯ２およびＡｌ２Ｏ３の含有量の合計が７１％以上７５％以下、Ｎａ２ＯおよびＫ２Ｏの含有量の合計が１２％以上２０％以下であり、ＣａＯを含有する場合ＣａＯの含有量が１％未満であるガラス
【００３８】
透明基体２として、ガラス基板が好ましい。
【００３９】
ガラス基板の製造方法は特に限定されない。所望のガラス原料を溶融炉に投入し、１５００℃以上１６００℃以下で加熱溶融し清澄した後、成形装置に供給して溶融ガラスを板状に成形し、徐冷することによりガラス基板を製造できる。なお、ガラス基板の成形方法は特に限定されず、例えば、ダウンドロー法（例えば、オーバーフローダウンドロー法、スロットダウン法、リドロー法等）、フロート法、ロールアウト法、プレス法等を利用可能である。
【００４０】
透明基体２としてガラス基板を用いる場合には、得られる低反射膜付き基体１の強度を高めるために、ガラス基板の主面（例えば、後述する防眩処理を行った主面）に対し、化学強化処理を施すことが好ましい。
【００４１】
化学強化処理の方法は特に限定されず、ガラス基板の主面をイオン交換し、圧縮応力が残留する表面層をガラス基板に形成する。具体的には、ガラス転移点以下の温度で、ガラス基板の主面近傍のガラスに含まれるイオン半径が小さなアルカリ金属イオン（例えば、Ｌｉイオン、Ｎａイオン）を、イオン半径がより大きなアルカリ金属イオン（例えば、Ｌｉイオンに対してはＮａイオンまたはＫイオンであり、Ｎａイオンに対してはＫイオン）に置換する。これにより、ガラス基板の主面に圧縮応力が残留し、ガラス基板の強度が向上する。
【００４２】
透明基体２としてのガラス基板は、以下に示す条件を満たすことが好ましい。前記した化学強化処理を行うことによって、このような条件を満足させることができる。
【００４３】
すなわち、ガラス基板の表面圧縮応力（以下、ＣＳという。）が４００ＭＰａ以上１２００ＭＰａ以下であることが好ましく、７００ＭＰａ以上９００ＭＰａ以下であることがより好ましい。ＣＳが４００ＭＰａ以上であれば、実用上の強度として十分である。またＣＳが１２００ＭＰａ以下であれば、基板自身の圧縮応力に耐えることができ、自然に破壊してしまう懸念がない。本発明の低反射膜付き基体１をディスプレイ装置の前面基板（カバーガラス）として使用する場合、ガラス基板のＣＳは７００ＭＰａ以上８５０ＭＰａ以下であることが特に好ましい。
【００４４】
さらに、ガラス基板の応力層の深さ（以下、ＤＯＬという。）は１５μｍ以上５０μｍ以下が好ましく、２０μｍ以上４０μｍ以下がより好ましい。ＤＯＬが１５μｍ以上であれば、ガラスカッター等の鋭利な冶具を使用しても、容易にキズがついて破壊される懸念がない。またＤＯＬが５０μｍ以下であれば、基板自身の圧縮応力に耐えることができ、自然に破壊してしまう懸念がない。本発明の低反射膜付き基体１をディスプレイ装置等の前面基板（カバーガラス）として使用する場合、ガラス基板のＤＯＬは２５μｍ以上３５μｍ以下であることが特に好ましい。
【００４５】
透明基体２の厚さは、用途に応じて適宜選択できる。例えば、樹脂基板、ガラス基板等、板状の透明基体２の場合には、厚さは０．１ｍｍ以上５ｍｍ以下が好ましく、０．２ｍｍ以上２ｍｍ以下がより好ましい。透明基体２が、高分子フィルム等フィルム状の場合には、その厚さは５０μｍ以上２００μｍ以下が好ましく、７５μｍ以上１５０μｍ以下がより好ましい。透明基体２としてガラス基板を用い、前記化学強化処理を行う場合は、化学強化処理を効果的に行うために、ガラス基板の厚さは通常５ｍｍ以下が好ましく、３ｍｍ以下がより好ましい。
【００４６】
また、透明基体２がガラス基板である場合の寸法は、用途に応じて適宜選択できる。モバイル機器のカバーガラスとして透明基体２を使用する場合は、３０ｍｍ×５０ｍｍ〜３００ｍｍ×４００ｍｍで、厚さが０．１ｍｍ以上２．５ｍｍ以下であり、ディスプレイ装置のカバーガラスとして透明基体２を使用する場合は、５０ｍｍ×１００ｍｍ〜２０００ｍｍ×１５００ｍｍで、厚さが０．５ｍｍ以上４ｍｍ以下であることが好ましい。
【００４７】
（防眩処理）
低反射膜付き基体１に防眩性を付与するために、透明基体２は主面に凹凸形状を有することが好ましい。なお、凹凸形状を有する主面は、透明基体２の少なくとも一方の主面であり、少なくとも低反射膜４を備える側の面である第１の主面は、凹凸形状を有する面とすることが好ましい。
【００４８】
透明基体２の主面に凹凸形状を形成する方法として、公知の方法を適用可能であり、例えば防眩処理を適用できる。防眩処理としては、公知の方法を利用でき、例えば、透明基体２としてガラス基板を用いる場合、ガラス基板の主面に化学的または物理的に表面処理を施し、所望の表面粗さの凹凸形状を形成する方法や、ウェットコート等を利用できる。
【００４９】
化学的に防眩処理を行う方法として、具体的には、フロスト処理を施す方法が挙げられる。フロスト処理は、例えば、フッ化水素とフッ化アンモニウムの混合溶液に、被処理体であるガラス基板を浸漬することで実施可能である。
【００５０】
また、物理的に防眩処理を行う方法としては、例えば、結晶質二酸化ケイ素粉、炭化ケイ素粉等を加圧空気でガラス基板の主面に吹きつける、いわゆるサンドブラスト処理や、結晶質二酸化ケイ素粉、炭化ケイ素粉等を付着させたブラシを水で湿らせたものを用いてガラス基板の主面を擦る方法等を利用できる。
【００５１】
これらのなかでも、フロスト処理は、被処理体表面におけるマイクロクラックが生じ難く、機械的強度の低下が生じにくいため、ガラス基板に防眩処理を行う方法として好ましい。
【００５２】
このようにして化学的または物理的に防眩処理を施したガラス基板の主面は、表面形状を整えるため、エッチング処理を行うことが好ましい。エッチング処理としては、例えば、ガラス基板を、フッ化水素の水溶液であるエッチング溶液に浸漬して、化学的にエッチングする方法を利用できる。エッチング溶液は、フッ化水素以外にも、塩酸、硝酸、クエン酸等の酸を含有してもよい。これらの酸を含有することで、ガラス基板に含有されるＮａイオン、Ｋイオン等の陽イオンとフッ化水素との反応による、析出物の局所的な発生を抑制できるうえに、エッチングを被処理体の処理面内で均一に進行させることができる。
【００５３】
エッチング処理を行う場合、エッチング溶液の濃度や、エッチング溶液へのガラス基板の浸漬時間等を調節することで、エッチング量を調節し、これによりガラス基板の防眩処理面のヘイズ値を所望の値に調整できる。また、防眩処理を、サンドブラスト等の物理的な表面処理で行った場合、クラックが生じることがあるが、エッチング処理によってこのようなクラックを除去できる。また、エッチング処理により、低反射膜付き基体１のギラツキを抑えるという効果も得ることができる。
【００５４】
このようにして、防眩処理およびエッチング処理が行われた後のガラス基板の主面、換言すると凹凸形状の表面は、表面粗さ（二乗平均粗さ、ＲＭＳ）が０．０１μｍ以上０．５μｍ以下であることが好ましい。表面粗さ（ＲＭＳ）は、０．０１μｍ以上０．３μｍ以下がより好ましく、０．０１μｍ以上０．２μｍ以下がさらに好ましい。ガラス基板の主面の表面粗さ（ＲＭＳ）を上記範囲とすることで、防眩処理後のガラス基板のヘイズ値を１％以上３０％以下に調整することができ、その結果、得られる低反射膜付き基体１に優れた防眩性を付与できる。なお、ヘイズ値は、ＪＩＳ  Ｋ  ７１３６で規定される値である。
【００５５】
表面粗さ（ＲＭＳ）は、ＪＩＳ  Ｂ  ０６０１：（２００１）で規定される方法に準拠して測定可能である。具体的には、レーザー顕微鏡（商品名：ＶＫ−９７００、キーエンス社製）により、試料である防眩処理後のガラス基板の測定面に対して、３００μｍ×２００μｍの視野範囲を設定し、ガラス基板の高さ情報を測定する。測定値に対して、カットオフ補正を行ない、得られた高さの二乗平均を求めることで表面粗さ（ＲＭＳ）を算出することができる。当該カットオフ値としては、０．０８ｍｍを使用することが好ましい。
【００５６】
また、防眩処理されたガラス基板の主面、換言すると凹凸形状の表面は、粗さ曲線の要素の平均長さであるＲＳｍが５μｍ以上３０μｍ以下とすることが好ましい。ここで、粗さ曲線の要素の平均長さＲＳｍとは、基準面上にとった基準長さに含まれる粗さ曲線において、一周期分の凹凸が生じる基準面上の長さを平均した長さである。粗さ曲線の要素の平均長さＲＳｍは、ＪＩＳ  Ｂ  ０６０１（２００１）で規定される方法に準拠した方法により測定できる。
【００５７】
本発明者らの検討により、表面粗さＲＭＳが前記の範囲であり、かつ、粗さ曲線の要素の平均長さＲＳｍが５μｍ以上３０μｍ以下であることによって、低反射膜付き基体１のギラツキをより効果的に抑えるとともに、黒色印刷部６の印刷ムラの視認性も抑制することが出来るため好ましい。
【００５８】
防眩処理およびエッチング処理が施された後のガラス基板の表面は、凹凸形状を有しており、凹凸形状は、ガラス基板表面の上方から観察すると、円形状の孔にみえる。このように観察される円形状の孔の大きさ（直径）は、１μｍ以上１０μｍ以下であることが好ましい。孔の大きさがこの範囲にあることで、低反射膜付き基体１のギラツキの防止と防眩性を両立できる。
【００５９】
なお、通常の使用環境においては、様々な角度から光が低反射膜付き基体１に入射している。黒色印刷部６の印刷ムラの視認性の評価も、このような状況下で行われる。通常の使用環境下における印刷ムラの視認性は、前述のＳＣＩ方式で測定される視感反射率と相関することが見出されている。また、この視感反射率は、透明基体２の防眩処理の有無によって変化しない。したがって、黒色印刷部６の印刷ムラの視認性は、透明基体２への防眩処理の有無により影響されるものではないと考えられる。
【００６０】
（低反射膜）
本発明の低反射膜付き基体１において、低反射膜４は透明基体２の第１の主面３に形成される。透明基体２に前記防眩処理を行った場合は、防眩処理が行われた主面に低反射膜４が形成されることが好ましい。
【００６１】
低反射膜４の構成としては、光の反射を所定範囲に抑制できる構成であれば特に限定されず、例えば、高屈折率層と低屈折率層とを積層した構成とすることができる。ここで、高屈折率層は、例えば、波長５５０ｎｍの光の屈折率が１．９以上の層をいい、低屈折率層は、波長５５０ｎｍの光の屈折率が１．６以下の層をいう。
【００６２】
低反射膜４における高屈折率層と低屈折率層との層数は、それぞれを１層ずつ含む形態であってもよいが、それぞれを２層以上含む構成であってもよい。高屈折率層と低屈折率層をそれぞれ１層含む構成の場合は、透明基体２の主面に高屈折率層、低屈折率層の順に積層したものが好ましい。また、高屈折率層と低屈折率層をそれぞれ２層以上含む構成の場合は、高屈折率層、低屈折率層の順に交互に積層した形態であることが好ましい。
【００６３】
低反射性能を高めるためには、低反射膜４は複数の層が積層された積層体であることが好ましく、該積層体は、例えば、全体で２層以上８層以下の層が積層されたものが好ましく、２層以上６層以下の層が積層されたものがより好ましく、２層以上４層以下の層が積層されたものがさらに好ましい。ここでの積層体は、上記のように、高屈折率層と低屈折率層とを交互に積層したものであることが好ましく、高屈折率層と低屈折率層の層数を合計したものが上記範囲であることが好ましい。また、光学特性を損なわない範囲での膜の追加を行ってもよい。例えば、ガラス基体からのＮａ拡散を防ぐために、ガラスと低反射膜４を構成する第1層との間にＳｉＯ２膜を挿入してもよい。
【００６４】
低反射膜４の視感反射率Ｒ１を所望の範囲に制御し、かつ黒色印刷部６を有する領域における低反射膜４側からの入射光に対して測定された低反射膜付き基体１の視感反射率Ｒを２％以下に制御するために、低反射膜４の高屈折率層の層厚および低屈折率層の層厚は、適宜調整されることが好ましい。
【００６５】
高屈折率層、低屈折率層を構成する材料は、特に限定されるものではなく、要求される低反射性の程度や生産性等を考慮して選択できる。高屈折率層を構成する材料としては、例えば、酸化ニオブ（Ｎｂ２Ｏ５）、酸化チタン（ＴｉＯ２）、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ２）、酸化タンタル（Ｔａ２Ｏ５）、酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）、窒化ケイ素（ＳｉＮ）等が挙げられる。これらの材料から選択される１種以上の材料を好ましく使用できる。低屈折率層を構成する材料としては、酸化ケイ素（特に、二酸化ケイ素ＳｉＯ２）、ＳｉとＳｎとの混合酸化物を含む材料、ＳｉとＺｒとの混合酸化物を含む材料、ＳｉとＡｌとの混合酸化物を含む材料等が挙げられる。これらの材料から選択される１種以上の材料を好ましく使用できる。
【００６６】
生産性や屈折率の観点から、高屈折率層が、酸化ニオブ、酸化タンタル、窒化ケイ素から選択される１種の材料からなる層であり、低屈折率層が酸化ケイ素からなる層である構成が好ましい。
【００６７】
低反射膜４を構成する各層を成膜する方法は特に限定されず、各種成膜方法を用いることが可能である。例えば、真空蒸着法、イオンビームアシスト蒸着法、イオンプレート法、スパッタリング法、プラズマＣＶＤ法等を用いることができる。これらの成膜方法のなかで、スパッタリング法を用いることで、緻密で耐久性の高い膜を形成できるので好ましい。特に、パルススパッタリング法、ＡＣスパッタリング法、デジタルスパッタリング法等のスパッタリング法により成膜することが好ましい。
【００６８】
例えば、パルススパッタリング法により成膜する場合は、不活性ガスと酸素ガスとの混合ガス雰囲気のチャンバ内に、ガラス基板のような透明基体２を配置し、所望の組成となるようにターゲットを選択して成膜する。このとき、チャンバ内の不活性ガスのガス種は特に限定されるものではなく、アルゴンやヘリウム等、各種不活性ガスを使用できる。
【００６９】
そして、不活性ガスと酸素ガスとの混合ガスによるチャンバ内の圧力は、特に限定されるものではないが、０．５Ｐａ以下の範囲とすることにより、形成される膜の表面粗さを好ましい範囲とすることが容易である。これは、以下に示す理由によると考えられる。すなわち、不活性ガスと酸素ガスとの混合ガスによるチャンバ内の圧力が０．５Ｐａ以下であると、成膜分子の平均自由行程が確保され、成膜分子がより多くのエネルギーをもって透明基体２に到達する。そのため、成膜分子の再配置が促され、比較的密で平滑な表面を有する膜ができると考えられる。不活性ガスと酸素ガスとの混合ガスによるチャンバ内の圧力の下限値は、特に限定されるものではないが、例えば、０．１Ｐａ以上であることが好ましい。
【００７０】
パルススパッタリング法により高屈折率層および低屈折率層を成膜する場合、各層の層厚の調整は、例えば、放電電力の調整、成膜時間の調整等により可能である。
【００７１】
（防汚膜）
本発明の低反射膜付き基体１においては、さらに低反射膜４の上に形成された防汚膜を備えることが好ましい。防汚膜の成膜方法としては、真空蒸着法、イオンビームアシスト蒸着法、イオンプレート法、スパッタ法、プラズマＣＶＤ法等の乾式法、スピンコート法、ディップコート法、キャスト法、スリットコート法、スプレー法等の湿式法のどちらも使用できる。耐擦傷性の観点から、乾式の成膜方法を用いることが好ましい。
【００７２】
防汚膜の構成材料は、防汚性、撥水性、撥油性を付与できる材料から適宜選択できる。具体的には、フッ素含有有機ケイ素化合物が挙げられる。フッ素含有有機ケイ素化合物は、防汚性、撥水性および撥油性を付与するものであれば、特に限定されず使用できる。
【００７３】
フッ素含有有機ケイ素化合物としては、例えば、ポリフルオロポリエーテル基、ポリフルオロアルキレン基、およびポリフルオロアルキル基からなる群から選ばれる１つ以上の基を有する有機ケイ素化合物を、好ましく使用できる。なお、ポリフルオロポリエーテル基とは、ポリフルオロアルキレン基とエーテル性酸素原子とが交互に結合した構造を有する２価の基のことである。
【００７４】
ポリフルオロポリエーテル基、ポリフルオロアルキレン基、およびポリフルオロアルキル基からなる群から選ばれる１つ以上の基を有するフッ素含有有機ケイ素化合物の市販品としては、ＫＰ−８０１、ＫＹ１７８、ＫＹ−１３０、ＫＹ１８５（いずれも商品名、信越化学社製）、オプツ−ルＤＳＸおよびオプツールＡＥＳ（いずれも商品名、ダイキン社製）等が好ましく使用できる。
【００７５】
なお、フッ素含有有機ケイ素化合物は、大気中の水分との反応による劣化抑制等のために、フッ素系等の溶媒と混合して保存されているのが一般的であるが、これらの溶媒を含んだまま成膜工程に供されると、得られた薄膜の耐久性等に悪影響を及ぶことがある。そのため、後述する手順に従って、真空蒸着法により防汚膜を成膜する場合は、加熱容器で加熱を行う前に、予め溶媒除去処理を行ったフッ素含有有機ケイ素化合物を用いることが好ましい。
【００７６】
ここで、上記フッ素含有有機ケイ素化合物を保存する際に用いられている溶媒としては、例えば、ポリフルオロヘキサン、メタキシレンヘキサフルオライド（Ｃ６Ｈ４（ＣＦ３）２）、ハイドロフロオロポリエーテル、ＨＦＥ７２００／７１００（商品名、住友スリーエム社製、ＨＦＥ７２００は、式：Ｃ４Ｆ９Ｃ２Ｈ５で表わされ、ＨＦＥ７１００は、式：Ｃ４Ｆ９ＣＨ３で表わされる。）等のフッ素系溶媒が挙げられる。例えば、フッ素含有有機ケイ素化合物の溶液中に含まれる溶媒の濃度としては、１ｍｏｌ％以下のものが好ましく、０．２ｍｏｌ％以下のものがより好ましい。溶媒を含まないフッ素含有有機ケイ素化合物を用いることが、特に好ましい。
【００７７】
前記フッ素系溶媒を含むフッ素含有有機ケイ素化合物溶液からのフッ素系溶媒の除去処理は、例えば、フッ素含有有機ケイ素化合物の溶液を入れた容器を、真空排気することにより実施可能である。真空排気を行う時間については、排気ライン、真空ポンプ等の排気能力、溶液の量等により変化するため、限定されるものではないが、例えば、１０時間以上真空排気すればよい。
【００７８】
上記したフッ素含有有機ケイ素化合物からなる防汚膜を形成する場合、成膜には真空蒸着法の使用が好ましい。真空蒸着法を使用する場合、上記溶媒の除去処理は、防汚膜を成膜する成膜装置の加熱容器に、フッ素含有有機ケイ素化合物溶液を導入後、昇温する前に、室温で加熱容器内を真空排気することにより行うこともできる。また、加熱容器に導入する前に、予めエバポレーター等により溶媒除去を行っておくこともできる。
【００７９】
なお、前記溶媒の含有量が少ない、または溶媒を含まないフッ素含有有機ケイ素化合物は、溶媒を含んでいるものと比較して、大気と接触することにより劣化しやすい。そのため、溶媒含有量の少ない（または含まない）フッ素含有有機ケイ素化合物の保管容器は、容器中を窒素等の不活性ガスで置換、密閉したものを使用し、取り扱う際には大気への暴露時間が短くなるようにすることが好ましい。
【００８０】
具体的には、保管容器を開封後は、直ちに、防汚膜を成膜する成膜装置の加熱容器に、フッ素含有有機ケイ素化合物を導入することが好ましい。そして、導入後は、加熱容器内を真空にするか、窒素、希ガス等の不活性ガスにより置換し、加熱容器内に含まれる大気（空気）を除去することが好ましい。大気と接触することなく保管容器（貯蔵容器）から成膜装置の加熱容器に導入できるように、例えば、保管容器と加熱容器とがバルブ付きの配管により接続されていることがより好ましい。
【００８１】
そして、加熱容器にフッ素含有有機ケイ素化合物を導入後、容器内を真空または不活性ガスで置換した後には、直ちに成膜のための加熱を開始することが好ましい。
【００８２】
本発明において、低反射膜４の上に成膜される防汚膜の膜厚は、特に限定されないが、２ｎｍ以上２０ｎｍ以下であることが好ましく、２ｎｍ以上１５ｎｍ以下であることがより好ましく、２ｎｍ以上１０ｎｍ以下であることがさらに好ましい。防汚膜の膜厚が２ｎｍ以上であれば、防汚膜によって低反射膜４の表面が均一に覆われた状態となり、耐擦り性の観点で実用に耐えるものとなる。また、防汚膜の膜厚が２０ｎｍ以下であれば、防汚膜が積層された状態での透明基体２のヘイズ値等の光学特性が良好である。
【００８３】
（黒色印刷部）
本発明の低反射膜付き基体１は、透明基体２の第２の主面５の一部に黒色印刷部６を備えている。この黒色印刷部６は、表示パネルの外側周辺部に配置された配線回路のような、表示を見るときに視界に入り邪魔になる部分を遮蔽し、表示の視認性と美観を高める光遮蔽部であってもよいし、文字や模様等の印刷部であってもよい。
【００８４】
前記黒色印刷部６は、黒色インクを印刷する方法で形成されたものである。印刷法としては、バーコート法、リバースコート法、グラビアコート法、ダイコート法、ロールコート法、スクリーン法等があるが、簡便に印刷できるうえ、種々の基材に印刷することができ、また透明基体２のサイズに合わせて印刷可能であることから、スクリーン印刷法が好ましい。
【００８５】
黒色インクは、特に限定されず利用できる。黒色インクとしては、セラミックス焼成体等を含む無機系インクと、染料または顔料のような色料と有機樹脂を含む有機系インクが使用できる。
【００８６】
黒色の無機系インクに含有されるセラミックスとしては、酸化クロム、酸化鉄などの酸化物、炭化クロム、炭化タングステン等の炭化物、カーボンブラック、雲母等がある。黒色印刷部６は、前記セラミックスとシリカからなるインクを溶融し、所望のパターンで印刷した後、焼成して得られる。この無機系インクは、溶融、焼成工程を必要とし、一般にガラス専用インクとして用いられている。
【００８７】
有機系インクは、黒色の染料または顔料と有機系樹脂を含む組成物である。有機系樹脂としては、エポキシ系樹脂、アクリル系樹脂、ポリエチレンテレフタレート、ポリエーテルサルフォン、ポリアリレート、ポリカーボネート、透明ＡＢＳ樹脂、フェノール樹脂、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン樹脂、ポリウレタン、ポリメタクリル酸メチル、ポリビニル、ポリビニルブチラール、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエチレン、ポリエステル、ポリプロピレン、ポリアミド、ポリイミド等のホモポリマー、およびこれらの樹脂のモノマーと共重合可能なモノマーとのコポリマーからなる樹脂が挙げられる。また、染料あるいは顔料は、黒色のものであれば特に限定なく利用できる。
【００８８】
無機系インクと有機系インクとでは、焼成温度が低いことから、有機系インクの使用が好ましい。また、耐薬品性の観点から、顔料を含む有機系インクが好ましい。
【００８９】
ここで、印刷が黒色であるとは、黒色印刷部６について前述の方法で算出される視感反射率Ｒ２が、１％以下、好ましくは０．８％以下、さらに好ましくは０．６％以下であって、Ｄ６５の光源下において測定されたＪＩＳ  Ｚ８７８１−４：２０１３で規定される色度の値（ａ＊ｂ＊）が、（０±２，０±２）であるものをいう。黒色印刷部６の色度の値（ａ＊ｂ＊）は、好ましくは（０±１．５，０±１．５）であり、さらに好ましくは（０±１，０±１）である。
【００９０】
本発明の低反射膜付き基体は、視感反射率が調整された低反射膜を有するため、外側周辺部の光遮蔽等のための黒色印刷部について、印刷ムラが視認されにくい。そのため、本発明の低反射膜付き基体を、ディスプレイ装置のカバーガラスのような前面基板として用いた場合、表示の視認性を向上させ、かつ良好な意匠性と美観を付与できる。
【実施例】
【００９１】
以下、実施例を用いて本発明を詳細に説明する。ただし、本発明はこれに限定されるものではない。【００９２】
以下では、まずガラス基板の処理手順について説明する。実施例および比較例ではいずれも、ガラス基板として、化学強化用ガラス基板であるドラゴントレイル（商品名、旭硝子社製、厚さ１．３ｍｍ、以下、「ＤＴ」ともいう。）を用いた。【００９３】
（１）防眩処理
ＤＴの一方の主面に、耐酸性の保護フィルムを貼った後、ＤＴを３重量％フッ化水素溶液に３分間浸漬しエッチングすることで、ＤＴの表面に付着した汚れを除去した。次いで、汚れが除去されたガラス基板を、１５重量％のフッ化水素と１５重量％のフッ化カリウムとの混合溶液に３分間浸漬してフロスト処理を行った後、１０重量％フッ化水素溶液に６分間浸漬することで、ヘイズ値を調整した。次いで、耐酸性の保護フィルムを剥がし、片側の主面に防眩処理が施されたガラス基板を得た。【００９４】
なお、ＤＴのヘイズ値は、ＪＩＳ  Ｋ  ７１３６に拠り、ヘイズメータ（商品名：ＨＺ−Ｖ３、スガ試験機社製）を用いて測定した。【００９５】
（２）化学強化処理
前記防眩処理が施されたガラス基板、または防眩処理を行わない場合はＤＴを、２５０ｍｍ×１５０ｍｍの寸法に裁断した後、下記のようにして化学強化処理を行った。【００９６】
すなわち、ガラス基板またはＤＴを、４５０℃に加熱し溶融させた硝酸カリウム（溶融塩）に２時間浸漬した後、溶融塩から引き上げ、室温まで１時間で除冷した。こうして、表面圧縮応力（ＣＳ）が７３０ＭＰａ、応力層の深さ（ＤＯＬ）が３０μｍの化学強化されたガラス基板を得た。【００９７】
（３）黒色印刷部の形成
前記化学強化処理が施されたガラス基板において、防眩処理が施されていない主面の外側周辺部に、スクリーン印刷により、外枠状の黒色印刷部を形成した。なお、防眩処理を行わなかったガラス基板においては、どちらか一方の主面に、外枠状の黒色印刷部を形成した。【００９８】
なお、前記化学強化処理が施されたガラス基板を、アルカリ溶液（商品名：サンウォッシュＴＬ−７５、ライオン社製）に４時間浸漬する処理（以下、アルカリ処理ともいう）後、黒色印刷部を形成してもよい。【００９９】
具体的には、以下の手順で、ガラス基板の前記主面の外側周辺部の四辺に、２ｃｍ幅の黒枠状に印刷を施し、黒色印刷部を形成した。まず、スクリーン印刷機により、黒色インクを５μｍの厚さに塗布した後、１５０℃で１０分間保持して乾燥させ、第１の印刷層を形成した。次いで、第１の印刷層の上に、上と同じ手順で、黒色インクを５μｍの厚さに塗布した後、１５０℃で４０分間保持して乾燥させ、第２の印刷層を形成した。こうして、第１の印刷層と第２の印刷層とが積層された黒色印刷部を形成し、一方の主面の外側周辺部に黒色印刷部を備えたガラス基板を得た。【０１００】
実施例および比較例で使用した黒色インクの種類は、後述する各々の例についての説明および表１に記載する。【０１０１】
（４）低反射膜の形成
ガラス基板の黒色印刷部が形成されていない面（第１の主面）の全面に、高屈折率層と低屈折率層とが交互に積層された構造の低反射膜を形成した。【０１０２】
なお、前記化学強化処理後、アルカリ処理、黒色印刷部形成を順に行った基板に、上記のようにして低反射膜を形成すると、反射率の低減に加えて、色味の分布を抑制することも可能である。【０１０３】
以下に、酸化ニオブ（Ｎｂ２Ｏ５）からなる高屈折率層の形成方法、窒化ケイ素（ＳｉＮ）からなる高屈折率層の形成方法、および酸化ケイ素（ＳｉＯ２）からなる低屈折率層の形成方法を、それぞれ記載する。【０１０４】
（Ａ）酸化ニオブからなる高屈折率層の形成
真空チャンバ内で、アルゴンガスに酸素ガスを１０体積％となるように混合した混合ガスを導入しながら、圧力０．３Ｐａ、周波数２０ｋＨｚ、電力密度３．８Ｗ／ｃｍ２、反転パルス幅５μｓｅｃの条件で、酸化ニオブターゲット（商品名：ＮＢＯターゲット、ＡＧＣセラミックス株式会社製）を用いてパルススパッタリングを行い、ガラス基板の高屈折率層を形成すべき面の全面に、酸化ニオブからなる高屈折率層を形成した。【０１０５】
（Ｂ）窒化ケイ素からなる高屈折率層の形成
真空チャンバ内で、アルゴンガスに窒素ガスを５０体積％となるように混合した混合ガスを導入しながら、圧力０．３Ｐａ、周波数２０ｋＨｚ、電力密度３．８Ｗ／ｃｍ２、反転パルス幅５μｓｅｃの条件で、シリコンターゲットを用いてパルススパッタリングを行い、ガラス基板の高屈折率層を形成すべき面の全面に、窒化ケイ素からなる高屈折率層を形成した。【０１０６】
（Ｃ）酸化ケイ素からなる低屈折率層の形成
真空チャンバ内で、アルゴンガスに酸素ガスを４０体積％となるように混合した混合ガスを導入しながら、圧力０．３Ｐａ、周波数２０ｋＨｚ、電力密度３．８Ｗ／ｃｍ２、反転パルス幅５μｓｅｃの条件で、シリコンターゲットを用いてパルススパッタリングを行い、低屈折率層を形成すべき面の全面に、酸化ケイ素からなる低屈折率層を形成した。【０１０７】
実施例および比較例では、上記（Ａ）または（Ｂ）の高屈折率層の形成と、（Ｃ）の低屈折率層の形成を、まず（Ａ）または（Ｂ）を行った後（Ｃ）を行う順で交互に行うことで、高屈折率層と低屈折率層を交互に積層し、低反射膜を形成した。【０１０８】
実施例および比較例における低反射膜の構成（各層の構成材料および厚さ）については、後述する各例の説明および表１に記載する。なお、表１では、酸化ニオブ（Ｎｂ２Ｏ５）をＮＢＯと記す。【０１０９】
（５）防汚膜の形成
ガラス基板に形成された低反射膜の上に、以下の手順で防汚膜を形成した。【０１１０】
まず、防汚膜の材料として、フッ素含有有機ケイ素化合物膜の形成材料を、加熱容器内に導入した。その後、加熱容器内を真空ポンプで１０時間以上脱気して溶液中の溶媒除去を行い、フッ素含有有機ケイ素化合物膜の形成用組成物（以下、防汚膜形成用組成物という。）とした。【０１１１】
次いで、前記防汚膜形成用組成物が入った加熱容器を、２７０℃まで加熱し、２７０℃に到達後は、温度が安定するまで１０分間その状態を保持した。次に、低反射膜が形成されたガラス基板を真空チャンバ内に設置した後、前記防汚膜形成用組成物が入った加熱容器と接続されたノズルから、前記ガラス基板の低反射膜に向けて防汚膜形成用組成物を供給し、成膜を行った。【０１１２】
成膜は、真空チャンバ内に設置した水晶振動子モニタにより膜厚を測定しながら行い、低反射膜上のフッ素含有有機ケイ素化合物膜の膜厚が４ｎｍになるまで行った。次いで、真空チャンバから取り出されたガラス基板を、フッ素含有有機ケイ素化合物膜面を上向きにしてホットプレートに設置し、大気中１５０℃で６０分間加熱処理を行った。【０１１３】
こうして、ガラス基板の低反射膜上の全面に防汚膜を形成した。【０１１４】
実施例および比較例で使用したフッ素含有有機ケイ素化合物膜の形成材料の種類については、後述する各例の説明および表１に記載する。【０１１５】
以下の実施例および比較例では、具体的に用いた材料や手順の組み合わせを主体に記載する。例１〜例５は実施例であり、例６は比較例である。【０１１６】
（例１）
ＤＴに対して、（１）防眩処理を行わずに、（２）化学強化処理を行った。次いで、黒色インクとしてＧＬＳＨＦ（商品名、帝国インキ社製）を用いて、（３）黒色印刷部の形成を行った。次いで、積層数が４層となるように、（Ａ）酸化ニオブからなる高屈折率層の形成と（Ｃ）酸化ケイ素からなる低屈折率層の形成を交互に行い、（４）低反射膜の形成を行った。各層の層厚は、１層目の酸化ニオブ層を１３ｎｍ、２層目の酸化ケイ素層を３５ｎｍ、３層目の酸化ニオブ層を１２０ｎｍ、４層目の酸化ケイ素層を８５ｎｍとした。その後、（５）防汚膜の形成は行わなかった。こうして低反射膜付き基体を得た。【０１１７】
（例２）
ＤＴに対して、（１）防眩処理を行い、ヘイズ値を２５％に調整した後、（２）化学強化処理を行った。次いで、例１と同様にして、（３）黒色印刷部の形成を行った。次いで、（４）低反射膜の形成を行った。各層の層厚は、１層目の酸化ニオブ層を１０ｎｍ、２層目の酸化ケイ素層を４１ｎｍ、３層目の酸化ニオブ層を１１５ｎｍ、４層目の酸化ケイ素層を９０ｎｍとした。【０１１８】
次に、フッ素含有有機ケイ素化合物膜の形成材料として、ＫＹ１８５（商品名、信越化学社製）を用いて、（５）防汚膜の形成を行った。こうして低反射膜付き基体を得た。【０１１９】
（例３）
ＤＴに対して、（１）防眩処理を行い、ヘイズ値を２％に調整した後、（２）化学強化処理を行った。次いで、黒色インクとしてＨＦＧＶ３ＲＸ０１（商品名、セイコー社製）を用いて、（３）黒色印刷部の形成を行った。次いで、（４）低反射膜の形成を行った。各層の層厚は、１層目の酸化ニオブ層を１４ｎｍ、２層目の酸化ケイ素層を２０ｎｍ、３層目の酸化ニオブ層を８０ｎｍ、４層目の酸化ケイ素層を８０ｎｍとした。次いで、フッ素含有有機ケイ素化合物膜の形成材料として、オプツール（商品名、ダイキン社製）を用いて、（５）防汚膜の形成を行った。こうして低反射膜付き基体を得た。【０１２０】
（例４）
ＤＴに対して、（１）防眩処理を行わずに、（２）化学強化処理を行った。次いで、例１と同様にして、（３）黒色印刷部の形成を行った。次いで、積層数が８層となるように、（Ｂ）窒化ケイ素からなる高屈折率層の形成と（Ｃ）酸化ケイ素からなる低屈折率層の形成を交互に行い、（４）低反射膜の形成を行った。各層の層厚は、１層目の窒化ケイ素層を１３ｎｍ、２層目の酸化ケイ素層を６８ｎｍ、３層目の窒化ケイ素層を１７ｎｍ、４層目の酸化ケイ素層を１０５ｎｍ、５層目の窒化ケイ素層を１３ｎｍ、６層目の酸化ケイ素層を５１ｎｍ、７層目の窒化ケイ素層を１２０ｎｍ、８層目の酸化ケイ素層を８０ｎｍとした。次いで、フッ素含有有機ケイ素化合物膜の形成材料として、ＫＹ１７８（商品名、信越化学社製）を用いて、（５）防汚膜の形成を行った。こうして低反射膜付き基体を得た。【０１２１】
（例５）
ＤＴに対して、（１）防眩処理を行い、ヘイズ値を２５％に調整した後、（２）化学強化処理を行った。次いで、例１と同様にして、（３）黒色印刷部の形成を行った後、（Ａ）酸化ニオブからなる高屈折率層の形成と（Ｃ）酸化ケイ素からなる低屈折率層の形成を順に行い、積層数が２層となる（４）低反射膜の形成を行った。各層の層厚は、１層目の酸化ニオブ層を１３ｎｍ、２層目の酸化ケイ素層を１２０ｎｍとした。次いで、フッ素含有有機ケイ素化合物膜の形成材料として、ＫＹ１７８（商品名、信越化学社製）を用いて、（５）防汚膜の形成を行った。こうして低反射膜付き基体を得た。【０１２２】
（例６）
ＤＴに対して、（１）防眩処理を行わずに、（２）化学強化処理を行った。次いで、黒色インクとしてＨＦＧＶ３ＲＸ０１（商品名、セイコー社製）を用いて、（３）黒色印刷部の形成を行った。次いで、積層数が４層となるように、（Ａ）酸化ニオブからなる高屈折率層の形成と（Ｃ）酸化ケイ素からなる低屈折率層の形成を交互に行い、（４）低反射膜の形成を行った。各層の層厚は、１層目の酸化ニオブ層を１４ｎｍ、２層目の酸化ケイ素層を３０ｎｍ、３層目の酸化ニオブ層を１１０ｎｍ、４層目の酸化ケイ素層を９０ｎｍとした。その後、（５）防汚膜の形成は行わなかった。こうして低反射膜付き基体を得た。【０１２３】
例１〜例６で得られた低反射膜付き基体について、以下の評価を実施した。それらの結果をそれぞれ表１下欄に示す。【０１２４】
（視感反射率）
低反射膜付き基体の黒色印刷部を持たない領域の裏面、すなわち低反射膜がない側の屈折率を、エリプソメータ（商品名：Ｍ−２０００、Ｊ．Ａ．Ｗｏｏｌｌａｍ社製）で測定し、反射率Ｒ０を算出した。また、低反射膜付き基体について、分光測色計（商品名：ＣＭ−２６００ｄ、コニカミノルタ社製）により反射率を測定し、測定した反射率から、視感反射率ＲＧ、Ｒｔｏｔ（ＪＩＳ  Ｚ８７０１：１９９９において規定されている反射の刺激値Ｙ）を求めた。こうして、前記した方法に従ってＲ１およびＲ２を算出した。なお、例１〜例６の低反射膜は吸収がほぼゼロである。【０１２５】
（印刷ムラ）
低反射膜付き基体を、蛍光灯下（１５００Ｌｘ）で低反射膜を有する側から様々な角度で目視した。このとき、外側周辺部の黒色印刷部を有する領域に、印刷の濃淡によるムラが認められるものはＢ、認められないものはＡと評価した。【０１２６】
（水の接触角）
低反射膜付き基体の低反射膜側の最表面における水の接触角を、接触角計（協和界面科学製、装置名：ＰＣＡ−１）により測定した。具体的には、防汚膜を有する低反射膜付き基体においては防汚膜の表面に、防汚膜を持たないものにおいては低反射膜の表面に、純水１μＬをスポイトにより滴下し、液滴の映像から３点法により水の接触角を求めた。【０１２７】
【表１】
2016181983.tif 000003
【０１２８】
表１から、視感反射率Ｒｔｏｔが２％以下で、かつＲ１／Ｒ２の値が１／６以上である例１〜例５の低反射膜付き基体では、黒色印刷部の印刷ムラが認められなかった。それに対して、視感反射率Ｒｔｏｔが２％以下であっても、Ｒ１／Ｒ２の値が１／６未満である例６の低反射膜付き基体では、黒色印刷部の印刷ムラが認められた。
【産業上の利用可能性】
【０１２９】
本発明の低反射膜付き基体では、光遮蔽等のための黒色印刷部に印刷ムラが視認されにくい。したがって、本発明の低反射膜付き基体は、ディスプレイ装置の前面基板として好適し、良好な表示視認性とともに、優れた意匠性と美観を付与できる。
【符号の説明】
【０１３０】
１…低反射膜付き基体、２…透明基体、３…第１の主面、４…低反射膜、５…第２の主面、６…黒色印刷部。
【図１】
2016181983.tif 000004
【図２】
2016181983.tif 000005
【国際調査報告】
2016181983.tif 000006
2016181983.tif 000007
2016181983.tif 000008
2016181983.tif 000009