(57)【要約】  所定のポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体を含むポリカーボネート系樹脂１００質量部に対して白色顔料０．５質量部以上５質量部以下を含み、前記ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体中のポリオルガノシロキサンブロックの分子量分布を特定の領域に制御する、ポリカーボネート系樹脂組成物である。【特許請求の範囲】
【請求項１】
ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体（Ｅ−１）を含むポリカーボネート系樹脂１００質量部に対して、白色顔料０．５質量部以上５質量部以下を含み、
前記ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体（Ｅ−１）が下記一般式（Ｉ）で表される繰り返し単位からなるポリカーボネートブロック（Ａ）及び下記一般式（ＩＩ）で表される繰り返し単位を含むポリオルガノシロキサンブロック（Ｂ）を有し、
前記ポリオルガノシロキサンブロック（Ｂ）の、ポリスチレンを換算基準としたゲル浸透クロマトグラフ法による測定から得られる、横軸が分子量Ｍの対数値ｌｏｇ（Ｍ）であり、縦軸が濃度分率ｗを分子量の対数値ｌｏｇ（Ｍ）で微分したｄｗ／ｄｌｏｇ（Ｍ）である微分分子量分布曲線において、
（１）ｄｗ／ｄｌｏｇ（Ｍ）の値が、３．４≦ｌｏｇ（Ｍ）≦４．０の範囲で最大となり、
（２）前記微分分子量分布曲線において、４．００≦ｌｏｇ（Ｍ）≦４．５０の範囲でｄｗ／ｄｌｏｇ（Ｍ）値を積分した値が、ｌｏｇ（Ｍ）の全範囲でｄｗ／ｄｌｏｇ（Ｍ）値を積分した値に対して６％以上４０％以下であることを特徴とする、ポリカーボネート系樹脂組成物。
【化１】
2016143895.tif 000017
［式中、Ｒ１及びＲ２はそれぞれ独立に、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基又は炭素数１〜６のアルコキシ基を示す。Ｘは、単結合、炭素数１〜８のアルキレン基、炭素数２〜８のアルキリデン基、炭素数５〜１５のシクロアルキレン基、炭素数５〜１５のシクロアルキリデン基、フルオレンジイル基、炭素数７〜１５のアリールアルキレン基、炭素数７〜１５のアリールアルキリデン基、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ２−、−Ｏ−又は−ＣＯ−を示す。Ｒ３及びＲ４はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基又は炭素数６〜１２のアリール基を示す。ａ及びｂは、それぞれ独立に０〜４の整数を示す。］
【請求項２】
ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体（Ｅ−１）を含むポリカーボネート系樹脂１００質量部に対して、白色顔料０．５質量部以上５質量部以下を含み、
前記ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体（Ｅ−１）が下記一般式（Ｉ）で表される繰り返し単位からなるポリカーボネートブロック（Ａ）及び下記一般式（ＩＩ）で表される繰り返し単位を含むポリオルガノシロキサンブロック（Ｂ）を有し、
ポリスチレンを換算基準としたゲル浸透クロマトグラフ法による測定から得られる、横軸が分子量Ｍの対数値ｌｏｇ（Ｍ）であり、縦軸が濃度分率ｗを分子量の対数値ｌｏｇ（Ｍ）で微分したｄｗ／ｄｌｏｇ（Ｍ）である微分分子量分布曲線において、
（１）ｄｗ／ｄｌｏｇ（Ｍ）の値が、３．４≦ｌｏｇ（Ｍ）≦４．０の範囲で最大となり、
（２）前記微分分子量分布曲線において、４．００≦ｌｏｇ（Ｍ）≦４．５０の範囲でｄｗ／ｄｌｏｇ（Ｍ）値を積分した値が、ｌｏｇ（Ｍ）の全範囲でｄｗ／ｄｌｏｇ（Ｍ）値を積分した値に対して６％以上４０％以下であるポリオルガノシロキサンを原料に用いることを特徴とする、ポリカーボネート系樹脂組成物。
【化２】
2016143895.tif 000018
［式中、Ｒ１及びＲ２はそれぞれ独立に、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基又は炭素数１〜６のアルコキシ基を示す。Ｘは、単結合、炭素数１〜８のアルキレン基、炭素数２〜８のアルキリデン基、炭素数５〜１５のシクロアルキレン基、炭素数５〜１５のシクロアルキリデン基、フルオレンジイル基、炭素数７〜１５のアリールアルキレン基、炭素数７〜１５のアリールアルキリデン基、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ２−、−Ｏ−又は−ＣＯ−を示す。Ｒ３及びＲ４はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基又は炭素数６〜１２のアリール基を示す。ａ及びｂは、それぞれ独立に０〜４の整数を示す。］
【請求項３】
ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体を含むポリカーボネート系樹脂１００質量部に対して、白色顔料０．５質量部以上５質量部以下を含み、
前記ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体が下記一般式（Ｉ）で表される繰り返し単位からなるポリカーボネートブロック（Ａ’）及び下記一般式（ＩＩ）で表される繰り返し単位を含むポリオルガノシロキサンブロック（Ｂ’）を有するポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体（Ｅ’−１）であり、
前記ポリオルガノシロキサンブロック（Ｂ’）の、ポリスチレンを換算基準としたゲル浸透クロマトグラフ法による測定から得られる、横軸が分子量Ｍの対数値ｌｏｇ（Ｍ）であり、縦軸が濃度分率ｗを分子量の対数値ｌｏｇ（Ｍ）で微分したｄｗ／ｄｌｏｇ（Ｍ）である微分分子量分布曲線において、
（１’）ｄｗ／ｄｌｏｇ（Ｍ）の値が３．４≦ｌｏｇ（Ｍ）≦４．５の範囲で最大となり、
（２）前記微分分子量分布曲線において、４．００≦ｌｏｇ（Ｍ）≦４．５０の範囲でｄｗ／ｄｌｏｇ（Ｍ）値を積分した値が、ｌｏｇ（Ｍ）の全範囲でｄｗ／ｄｌｏｇ（Ｍ）値を積分した値に対して６％以上４０％以下であり、
（３）ｄｗ／ｄｌｏｇ（Ｍ）の値が最大となるｌｏｇ（Ｍ）と、前記微分分子量分布曲線において、ｌｏｇ（Ｍ）の全範囲でｄｗ／ｄｌｏｇ（Ｍ）値を積分した値に対する、４．００≦ｌｏｇ（Ｍ）≦４．５０の範囲でｄｗ／ｄｌｏｇ（Ｍ）値を積分した値の百分率（％）との積が、２０以上１３０以下であり、
−４０℃におけるＩｚｏｄ衝撃強度が３０ｋＪ／ｍ２以上であることを特徴とする、ポリカーボネート系樹脂組成物。
【化３】
2016143895.tif 000019
［式中、Ｒ１及びＲ２はそれぞれ独立に、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基又は炭素数１〜６のアルコキシ基を示す。Ｘは、単結合、炭素数１〜８のアルキレン基、炭素数２〜８のアルキリデン基、炭素数５〜１５のシクロアルキレン基、炭素数５〜１５のシクロアルキリデン基、フルオレンジイル基、炭素数７〜１５のアリールアルキレン基、炭素数７〜１５のアリールアルキリデン基、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ２−、−Ｏ−又は−ＣＯ−を示す。Ｒ３及びＲ４はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基又は炭素数６〜１２のアリール基を示す。ａ及びｂは、それぞれ独立に０〜４の整数を示す。］
【請求項４】
前記ポリオルガノシロキサンブロック（Ｂ）又は前記ポリオルガノシロキサンブロック（Ｂ’）の平均鎖長が３０以上８５以下である、請求項１〜３のいずれかに記載のポリカーボネート系樹脂組成物。
【請求項５】
前記ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体（Ｅ−１）中の前記ポリオルガノシロキサンブロック（Ｂ）の含有量又は前記ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体（Ｅ’−１）中の前記ポリオルガノシロキサンブロック（Ｂ’）の含有量が０．５質量％以上２０．０質量％以下である、請求項１〜４のいずれかに記載のポリカーボネート系樹脂組成物。
【請求項６】
前記ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体（Ｅ−１）又は前記ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体（Ｅ’−１）の粘度平均分子量が１２，０００以上４０，０００以下である、請求項１〜５のいずれかに記載のポリカーボネート系樹脂組成物。
【請求項７】
前記一般式（Ｉ）におけるａおよびｂが０であり、Ｘが単結合または炭素数２〜８のアルキリデン基である、請求項１〜６のいずれかに記載のポリカーボネート系樹脂組成物。
【請求項８】
前記一般式（Ｉ）におけるａおよびｂが０であり、Ｘが炭素数３のアルキリデン基である、請求項１〜７のいずれかに記載のポリカーボネート系樹脂組成物。
【請求項９】
前記一般式（ＩＩ）におけるＲ３およびＲ４がメチル基である、請求項１〜８のいずれかに記載のポリカーボネート系樹脂組成物。
【請求項１０】
前記ポリカーボネート系樹脂中の前記ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体（Ｅ−１）の含有率又は前記ポリカーボネート系樹脂中の前記ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体（Ｅ’−１）の含有率が１０質量％以上である、請求項１〜９のいずれかに記載のポリカーボネート系樹脂組成物。
【請求項１１】
前記ポリカーボネート系樹脂中の前記ポリオルガノシロキサンブロック（Ｂ）の含有量又は前記ポリカーボネート系樹脂中の前記ポリオルガノシロキサンブロック（Ｂ’）の含有量が、０．５質量％以上２０．０質量％以下である、請求項１〜１０のいずれかに記載のポリカーボネート系樹脂組成物。
【請求項１２】
前記白色顔料が、酸化チタン、酸化亜鉛、タルク、硫酸バリウム、炭酸カルシウム、及び硫化亜鉛から選ばれる少なくとも１種である、請求項１〜１１のいずれかに記載のポリカーボネート系樹脂組成物。
【請求項１３】
前記白色顔料が、酸化チタンである、請求項１２に記載のポリカーボネート系樹脂組成物。
【請求項１４】
前記酸化チタンが、ポリオール化合物、アミン化合物、アルミナ、シリカ、及びポリオルガノシロキサンから選ばれる少なくとも１種で被覆された酸化チタンである、請求項１３に記載のポリカーボネート系樹脂組成物。
【請求項１５】
前記酸化チタンが、ポリオール化合物で被覆された酸化チタンである、請求項１４に記載のポリカーボネート系樹脂組成物。
【請求項１６】
前記ポリオール化合物が、トリメチロールプロパン、トリメチロールエタン、ジトリメチロールプロパン、トリメチロールプロパンエトキシレート、及びペンタエリスリトールから選ばれる少なくとも１種である、請求項１５に記載のポリカーボネート系樹脂組成物。
【請求項１７】
前記ポリカーボネート系樹脂１００質量部に対して、酸化防止剤を０．００１質量部以上０．５質量部以下含む、請求項１〜１６のいずれかに記載のポリカーボネート系樹脂組成物。
【請求項１８】
前記ポリカーボネート系樹脂１００質量部に対して、紫外線吸収剤を０．０１質量部以上１．０質量部以下含む、請求項１〜１７のいずれかに記載のポリカーボネート系樹脂組成物。
【請求項１９】
請求項１〜１８のいずれかに記載のポリカーボネート系樹脂組成物からなる成形品。
【請求項２０】
電気及び電子機器用部品である請求項１９に記載の成形品。
【請求項２１】
電気及び電子機器用筐体である請求項２０に記載の成形品。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、白色顔料を含むポリカーボネート系樹脂組成物及びその成形品に関するものであり、より詳しくは、成形外観及び耐衝撃性に優れるポリカーボネート系樹脂組成物及びその成形品に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
ポリカーボネート樹脂は、機械的強度、電気的特性、透明性などに優れ、エンジニアリングプラスチックとして、電気・電子機器分野、自動車分野等様々な分野において幅広く利用されている。携帯電話、モバイルパソコン、デジタルカメラ、ビデオカメラ、電動工具などの筐体にもポリカーボネート樹脂が利用され、これらの用途では、取扱い時に落下等の可能性があることから耐衝撃性が重要であるとともに、意匠性（特に色彩）も重要な因子である。
ところで、樹脂材料は、比較的その着色が容易であり、カラフルな樹脂材料は身の回りの多くで活用されている。特に、白やグレー等が多く使われる。一方、ポリオルガノシロキサンを共重合したポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体（以下、ＰＣ−ＰＯＳと称することがある。）が知られている。ＰＣ−ＰＯＳは耐衝撃性等の性質に優れることから、前記用途への適用が期待されている。なお、前記用途では耐衝撃性が重要である一方で、意匠性も重要であることから顔料として酸化チタンの使用が望まれる。
過去に、ＰＣ−ＰＯＳと酸化チタンとの組合せにより白色外観で良好な耐衝撃強度を有するものが知られている。例えば、耐衝撃性、剛性等の機械的物性、光学的特性等に優れると共に、反射率特性にも優れたポリカーボネート系樹脂組成物（特許文献１参照）が知られている。特許文献１によれば、酸化チタンの含有量を５〜１０％としたＰＣ−ＰＯＳ含有組成物は、良好な反射率と機械的強度を示す。また、別の例では、リン系難燃剤やハロゲン系難燃剤を添加せずに優れた難燃性を示し、かつ高反射性・高遮光性であり、熱安定性に優れたポリカーボネート系樹脂組成物が知られている（特許文献２参照）。特許文献２によれば、酸化チタンの含有量を５〜５０％としたＰＣ−ＰＯＳ含有組成物は、良好な反射率とＩｚｏｄ衝撃強さと難燃性を示す。
これらの文献に記載された組成物は高い光反射特性を示すものの、その一方で酸化チタン含有量が多いため、本来のＰＣ−ＰＯＳが持つ強度に比べればその強度は低いものであり、前記用途においてはその比重が適正値よりも大きかったため、良好な反射率及び機械的強度等を有しながらも酸化チタン含有量のより少ないＰＣ−ＰＯＳ含有組成物の開発が望まれていた。
一方、比較的少量（例えば１〜２．５重量％）の酸化チタンとＰＣ−ＰＯＳとを含有する組成物も知られている（特許文献３参照）。【０００３】
特許文献３に記載されたＰＣ−ＰＯＳ含有組成物では、酸化チタンは難燃性を向上させる手段として少量用いられているが、色外観に関しては何ら記載がない。
また、特許文献４には、ＰＣ−ＰＯＳのポリオルガノシロキサン（以下、ＰＯＳと称することがある。）部分の鎖長が短鎖長であるＰＣ−ＰＯＳと長鎖長であるＰＣ−ＰＯＳを用いることにより、成形外観と耐衝撃性に優れるポリカーボネート系樹脂組成物が記載されている。しかし、この特許文献４では、黒スジ等の発生のない表面外観に優れたポリカーボネート系樹脂組成物を得ることができるが、耐衝撃性、特に低温時における耐衝撃性が十分ではないという問題点があった。【０００４】
【特許文献１】特開平５−３２０５１９号公報
【特許文献２】特開２００４−９１５６７号公報
【特許文献３】特表２００７−５０９２０８号公報
【特許文献４】国際公開第２０１３／０５１５５７号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明は、成形外観に優れ、低温時における耐衝撃性が改善された白色顔料を含むポリカーボネート系樹脂組成物及びその成形品を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明者等は、ポリカーボネート系樹脂組成物に含まれるポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体のポリオルガノシロキサンブロックの分子量分布を特定の領域に制御することにより、上記課題が達成されることを見出した。
すなわち本発明は、下記１〜２１に関する。
１．ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体（Ｅ−１）を含むポリカーボネート系樹脂１００質量部に対して、白色顔料０．５質量部以上５質量部以下を含み、
前記ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体（Ｅ−１）が下記一般式（Ｉ）で表される繰り返し単位からなるポリカーボネートブロック（Ａ）及び下記一般式（ＩＩ）で表される繰り返し単位を含むポリオルガノシロキサンブロック（Ｂ）を有し、
前記ポリオルガノシロキサンブロック（Ｂ）のポリスチレンを換算基準としたゲル浸透クロマトグラフ法による測定から得られる、横軸が分子量Ｍの対数値ｌｏｇ（Ｍ）であり、縦軸が濃度分率ｗを分子量の対数値ｌｏｇ（Ｍ）で微分したｄｗ／ｄｌｏｇ（Ｍ）である微分分子量分布曲線において、
（１）ｄｗ／ｄｌｏｇ（Ｍ）の値が、３．４≦ｌｏｇ（Ｍ）≦４．０の範囲で最大となり、
（２）前記微分分子量分布曲線において、４．００≦ｌｏｇ（Ｍ）≦４．５０の範囲でｄｗ／ｄｌｏｇ（Ｍ）値を積分した値が、ｌｏｇ（Ｍ）の全範囲でｄｗ／ｄｌｏｇ（Ｍ）値を積分した値に対して６％以上４０％以下であることを特徴とする、ポリカーボネート系樹脂組成物。
【化１】
2016143895.tif 000002
［式中、Ｒ１及びＲ２はそれぞれ独立に、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基又は炭素数１〜６のアルコキシ基を示す。Ｘは、単結合、炭素数１〜８のアルキレン基、炭素数２〜８のアルキリデン基、炭素数５〜１５のシクロアルキレン基、炭素数５〜１５のシクロアルキリデン基、フルオレンジイル基、炭素数７〜１５のアリールアルキレン基、炭素数７〜１５のアリールアルキリデン基、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ２−、−Ｏ−又は−ＣＯ−を示す。Ｒ３及びＲ４はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基又は炭素数６〜１２のアリール基を示す。ａ及びｂは、それぞれ独立に０〜４の整数を示す。］
２．ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体（Ｅ−１）を含むポリカーボネート系樹脂１００質量部に対して、白色顔料０．５質量部以上５質量部以下を含み、
前記ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体（Ｅ−１）が下記一般式（Ｉ）で表される繰り返し単位からなるポリカーボネートブロック（Ａ）及び下記一般式（ＩＩ）で表される繰り返し単位を含むポリオルガノシロキサンブロック（Ｂ）を有し、
ポリスチレンを換算基準としたゲル浸透クロマトグラフ法による測定から得られる、横軸が分子量Ｍの対数値ｌｏｇ（Ｍ）であり、縦軸が濃度分率ｗを分子量の対数値ｌｏｇ（Ｍ）で微分したｄｗ／ｄｌｏｇ（Ｍ）である微分分子量分布曲線において、
（１）ｄｗ／ｄｌｏｇ（Ｍ）の値が、３．４≦ｌｏｇ（Ｍ）≦４．０の範囲で最大となり、
（２）前記微分分子量分布曲線において、４．００≦ｌｏｇ（Ｍ）≦４．５０の範囲でｄｗ／ｄｌｏｇ（Ｍ）値を積分した値が、ｌｏｇ（Ｍ）の全範囲でｄｗ／ｄｌｏｇ（Ｍ）値を積分した値に対して６％以上４０％以下であるポリオルガノシロキサンを原料に用いることを特徴とする、ポリカーボネート系樹脂組成物。
【化２】
2016143895.tif 000003
［式中、Ｒ１及びＲ２はそれぞれ独立に、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基又は炭素数１〜６のアルコキシ基を示す。Ｘは、単結合、炭素数１〜８のアルキレン基、炭素数２〜８のアルキリデン基、炭素数５〜１５のシクロアルキレン基、炭素数５〜１５のシクロアルキリデン基、フルオレンジイル基、炭素数７〜１５のアリールアルキレン基、炭素数７〜１５のアリールアルキリデン基、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ２−、−Ｏ−又は−ＣＯ−を示す。Ｒ３及びＲ４はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基又は炭素数６〜１２のアリール基を示す。ａ及びｂは、それぞれ独立に０〜４の整数を示す。］
３．ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体を含むポリカーボネート系樹脂１００質量部に対して、白色顔料０．５質量部以上５質量部以下を含み、
前記ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体が下記一般式（Ｉ）で表される繰り返し単位からなるポリカーボネートブロック（Ａ’）及び下記一般式（ＩＩ）で表される繰り返し単位を含むポリオルガノシロキサンブロック（Ｂ’）を有するポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体（Ｅ’−１）であり、
前記ポリオルガノシロキサンブロック（Ｂ’）の、ポリスチレンを換算基準としたゲル浸透クロマトグラフ法による測定から得られる、横軸が分子量Ｍの対数値ｌｏｇ（Ｍ）であり、縦軸が濃度分率ｗを分子量の対数値ｌｏｇ（Ｍ）で微分したｄｗ／ｄｌｏｇ（Ｍ）である微分分子量分布曲線において、
（１’）ｄｗ／ｄｌｏｇ（Ｍ）の値が３．４≦ｌｏｇ（Ｍ）≦４．５の範囲で最大となり、
（２）前記微分分子量分布曲線において、４．００≦ｌｏｇ（Ｍ）≦４．５０の範囲でｄｗ／ｄｌｏｇ（Ｍ）値を積分した値が、ｌｏｇ（Ｍ）の全範囲でｄｗ／ｄｌｏｇ（Ｍ）値を積分した値に対して６％以上４０％以下であり、
（３）ｄｗ／ｄｌｏｇ（Ｍ）の値が最大となるｌｏｇ（Ｍ）と、前記微分分子量分布曲線において、ｌｏｇ（Ｍ）の全範囲でｄｗ／ｄｌｏｇ（Ｍ）値を積分した値に対する、４．００≦ｌｏｇ（Ｍ）≦４．５０の範囲でｄｗ／ｄｌｏｇ（Ｍ）値を積分した値の百分率（％）との積が、２０以上１３０以下であり、
−４０℃におけるＩｚｏｄ衝撃強度が３０ｋＪ／ｍ２以上であることを特徴とする、ポリカーボネート系樹脂組成物。
【化３】
2016143895.tif 000004
［式中、Ｒ１及びＲ２はそれぞれ独立に、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基又は炭素数１〜６のアルコキシ基を示す。Ｘは、単結合、炭素数１〜８のアルキレン基、炭素数２〜８のアルキリデン基、炭素数５〜１５のシクロアルキレン基、炭素数５〜１５のシクロアルキリデン基、フルオレンジイル基、炭素数７〜１５のアリールアルキレン基、炭素数７〜１５のアリールアルキリデン基、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ２−、−Ｏ−又は−ＣＯ−を示す。Ｒ３及びＲ４はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基又は炭素数６〜１２のアリール基を示す。ａ及びｂは、それぞれ独立に０〜４の整数を示す。］
４．前記ポリオルガノシロキサンブロック（Ｂ）又は前記ポリオルガノシロキサンブロック（Ｂ’）の平均鎖長が３０以上８５以下である、１〜３のいずれかに記載のポリカーボネート系樹脂組成物。
５．前記ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体（Ｅ−１）中の前記ポリオルガノシロキサンブロック（Ｂ）の含有量又は前記ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体（Ｅ’−１）中の前記ポリオルガノシロキサンブロック（Ｂ’）の含有量が０．５質量％以上２０．０質量％以下である、１〜４のいずれかに記載のポリカーボネート系樹脂組成物。
６．前記ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体（Ｅ−１）又は前記ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体（Ｅ’−１）の粘度平均分子量が１２，０００以上４０，０００以下である、１〜５のいずれかに記載のポリカーボネート系樹脂組成物。
７．前記一般式（Ｉ）におけるａおよびｂが０であり、Ｘが単結合または炭素数２〜８のアルキリデン基である、１〜６のいずれかに記載のポリカーボネート系樹脂組成物。
８．前記一般式（Ｉ）におけるａおよびｂが０であり、Ｘが炭素数３のアルキリデン基である、１〜７のいずれかに記載のポリカーボネート系樹脂組成物。
９．前記一般式（ＩＩ）におけるＲ３およびＲ４がメチル基である、１〜８のいずれかに記載のポリカーボネート系樹脂組成物。
１０．前記ポリカーボネート系樹脂中の前記ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体（Ｅ−１）の含有率又は前記ポリカーボネート系樹脂中の前記ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体（Ｅ’−１）の含有率が１０質量％以上である、１〜９のいずれかに記載のポリカーボネート系樹脂組成物。
１１．前記ポリカーボネート系樹脂中の前記ポリオルガノシロキサンブロック（Ｂ）の含有量又は前記ポリカーボネート系樹脂中の前記ポリオルガノシロキサンブロック（Ｂ’）の含有量が、０．５質量％以上２０．０質量％以下である、１〜１０のいずれかに記載のポリカーボネート系樹脂組成物。
１２．前記白色顔料が、酸化チタン、酸化亜鉛、タルク、硫酸バリウム、炭酸カルシウム、及び硫化亜鉛から選ばれる少なくとも１種である、１〜１１のいずれかに記載のポリカーボネート系樹脂組成物。
１３．前記白色顔料が、酸化チタンである、１２に記載のポリカーボネート系樹脂組成物。
１４．前記酸化チタンが、ポリオール化合物、アミン化合物、アルミナ、シリカ、及びポリオルガノシロキサンから選ばれる少なくとも１種で被覆された酸化チタンである、１３に記載のポリカーボネート系樹脂組成物。
１５．前記酸化チタンが、ポリオール化合物で被覆された酸化チタンである、１４に記載のポリカーボネート系樹脂組成物。
１６．前記ポリオール化合物が、トリメチロールプロパン、トリメチロールエタン、ジトリメチロールプロパン、トリメチロールプロパンエトキシレート、及びペンタエリスリトールから選ばれる少なくとも１種である、１５に記載のポリカーボネート系樹脂組成物。
１７．前記ポリカーボネート系樹脂１００質量部に対して、酸化防止剤を０．００１質量部以上０．５質量部以下含む、１〜１６のいずれかに記載のポリカーボネート系樹脂組成物。
１８．前記ポリカーボネート系樹脂１００質量部に対して、紫外線吸収剤を０．０１質量部以上１．０質量部以下含む、１〜１７のいずれかに記載のポリカーボネート系樹脂組成物。
１９．１〜１８のいずれかに記載のポリカーボネート系樹脂組成物からなる成形品。
２０．電気及び電子機器用部品である１９に記載の成形品。
２１．電気及び電子機器用筐体である２０に記載の成形品。
【発明の効果】
【０００７】
本発明によれば、ポリカーボネート系樹脂組成物に含まれるポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体のポリオルガノシロキサンブロックの分子量分布を特定の領域に制御することにより、成形外観に優れ、低温時における耐衝撃性が改善された白色顔料を含むポリカーボネート系樹脂組成物及びその成形品を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
【図１】本発明のポリカーボネート系樹脂組成物に用いられるポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体の製造原料として用いられるポリオルガノシロキサンの微分分子量分布曲線の一例を示すグラフ。
【図２】スプルーおよびランナーと、各試験を行うための試験片を含む成形品の写真を示す。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
本発明の第一の形態によるポリカーボネート系樹脂組成物は、
ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体（Ｅ−１）を含むポリカーボネート系樹脂１００質量部に対して、白色顔料０．５質量部以上５質量部以下を含み、
前記ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体（Ｅ−１）が下記一般式（Ｉ）で表される繰り返し単位からなるポリカーボネートブロック（Ａ）及び下記一般式（ＩＩ）で表される繰り返し単位を含むポリオルガノシロキサンブロック（Ｂ）を有し、
前記ポリオルガノシロキサンブロック（Ｂ）のポリスチレンを換算基準としたゲル浸透クロマトグラフ法による測定から得られる、横軸が分子量Ｍの対数値ｌｏｇ（Ｍ）であり、縦軸が濃度分率ｗを分子量の対数値ｌｏｇ（Ｍ）で微分したｄｗ／ｄｌｏｇ（Ｍ）である微分分子量分布曲線において、
（１）ｄｗ／ｄｌｏｇ（Ｍ）の値が、３．４≦ｌｏｇ（Ｍ）≦４．０の範囲で最大となり、
（２）前記微分分子量分布曲線において、４．００≦ｌｏｇ（Ｍ）≦４．５０の範囲でｄｗ／ｄｌｏｇ（Ｍ）値を積分した値が、ｌｏｇ（Ｍ）の全範囲でｄｗ／ｄｌｏｇ（Ｍ）値を積分した値に対して６％以上４０％以下であることを特徴とする、ポリカーボネート系樹脂組成物である。
【化４】
2016143895.tif 000005
［式中、Ｒ１及びＲ２はそれぞれ独立に、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基又は炭素数１〜６のアルコキシ基、Ｘは、単結合、炭素数１〜８のアルキレン基、炭素数２〜８のアルキリデン基、炭素数５〜１５のシクロアルキレン基、炭素数５〜１５のシクロアルキリデン基、フルオレンジイル基、炭素数７〜１５のアリールアルキレン基、炭素数７〜１５のアリールアルキリデン基、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ２−、−Ｏ−又は−ＣＯ−、Ｒ３及びＲ４はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基又は炭素数６〜１２のアリール基を示し、ａ及びｂは、それぞれ独立に０〜４の整数を示す。］
【００１０】
本発明の第二の形態によるポリカーボネート系樹脂組成物は、
ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体を含むポリカーボネート系樹脂１００質量部に対して、白色顔料０．５質量部以上５質量部以下を含み、
前記ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体が下記一般式（Ｉ）で表される繰り返し単位からなるポリカーボネートブロック（Ａ’）及び下記一般式（ＩＩ）で表される繰り返し単位を含むポリオルガノシロキサンブロック（Ｂ’）を有するポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体（Ｅ’−１）であり、
前記ポリオルガノシロキサンブロック（Ｂ’）のポリスチレンを換算基準としたゲル浸透クロマトグラフ法による測定から得られる、横軸が分子量Ｍの対数値ｌｏｇ（Ｍ）であり、縦軸が濃度分率ｗを分子量の対数値ｌｏｇ（Ｍ）で微分したｄｗ／ｄｌｏｇ（Ｍ）である微分分子量分布曲線において、
（１’）ｄｗ／ｄｌｏｇ（Ｍ）の値が３．４≦ｌｏｇ（Ｍ）≦４．５の範囲で最大となり、
（２）前記微分分子量分布曲線において、４．００≦ｌｏｇ（Ｍ）≦４．５０の範囲でｄｗ／ｄｌｏｇ（Ｍ）値を積分した値が、ｌｏｇ（Ｍ）の全範囲でｄｗ／ｄｌｏｇ（Ｍ）値を積分した値に対して６％以上４０％以下であり、
（３）ｄｗ／ｄｌｏｇ（Ｍ）の値が最大となるｌｏｇ（Ｍ）と、前記微分分子量分布曲線において、ｌｏｇ（Ｍ）の全範囲でｄｗ／ｄｌｏｇ（Ｍ）値を積分した値に対する、４．００≦ｌｏｇ（Ｍ）≦４．５０の範囲でｄｗ／ｄｌｏｇ（Ｍ）値を積分した値の百分率（％）との積が、２０以上１３０以下であり、
−４０℃におけるＩｚｏｄ衝撃強度が３０ｋＪ／ｍ２以上であることを特徴とする、ポリカーボネート系樹脂組成物である。
【化５】
2016143895.tif 000006
［式中、Ｒ１及びＲ２はそれぞれ独立に、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基又は炭素数１〜６のアルコキシ基を示す。Ｘは、単結合、炭素数１〜８のアルキレン基、炭素数２〜８のアルキリデン基、炭素数５〜１５のシクロアルキレン基、炭素数５〜１５のシクロアルキリデン基、フルオレンジイル基、炭素数７〜１５のアリールアルキレン基、炭素数７〜１５のアリールアルキリデン基、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ２−、−Ｏ−又は−ＣＯ−を示す。Ｒ３及びＲ４はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基又は炭素数６〜１２のアリール基を示す。ａ及びｂは、それぞれ独立に０〜４の整数を示す。］
すなわち、本発明の第一の形態によるポリカーボネート系樹脂組成物は、ポリカーボネート系樹脂として前記所定の分子量分布のポリオルガノシロキサンブロック（Ｂ）を有するポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体（Ｅ−１）を含むことを特徴とする。第一の形態によるポリカーボネート系樹脂組成物は、ポリカーボネート系樹脂として（Ｅ−１）以外のポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体を含んでもよい。
一方、本発明の第二の形態によるポリカーボネート系樹脂組成物は、ポリカーボネート系樹脂としてポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体を含み、該ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体が前記所定の分子量分布のポリオルガノシロキサンブロック（Ｂ’）を有するポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体（Ｅ’−１）であることを特徴とする。ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体（Ｅ’−１）は１種類のポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体からなるものでもよく、２種以上のポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体の混合物からなるものでもよい。したがって例えば（Ｅ’−１）が２種以上のポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体の混合物からなる場合、該（Ｅ’−１）における「一般式（ＩＩ）で表される繰り返し単位を含むポリオルガノシロキサンブロック（Ｂ’）」とは、該混合物におけるポリオルガノシロキサンブロックを指すものとする。
以下の記載において特に断りのない限り、「本発明のポリカーボネート系樹脂組成物」とは、上記第一の形態及び第二の形態のポリカーボネート系樹脂組成物の両方を指すものとする。
また、以下の記載において特に断りのない限り、第一の形態のポリカーボネート系樹脂組成物における前記ポリカーボネートブロック（Ａ）、前記ポリオルガノシロキサンブロック（Ｂ）、及び前記ＰＣ−ＰＯＳ共重合体（Ｅ−１）並びにこれらの好ましい態様と、第二の形態のポリカーボネート系樹脂組成物における前記ポリカーボネートブロック（Ａ’）、前記ポリオルガノシロキサンブロック（Ｂ’）、及びＰＣ−ＰＯＳ共重合体（Ｅ’−１）並びにこれらの好ましい態様とは、それぞれ、同じである。
【００１１】
［ポリカーボネート系樹脂］
本発明の第一の形態によるポリカーボネート系樹脂組成物は、ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体（Ｅ−１）を含むポリカーボネート系樹脂が用いられる。以下、ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体（Ｅ−１）について説明する。
【００１２】
ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体（Ｅ−１）は、下記一般式（Ｉ）で表される繰り返し単位からなるポリカーボネートブロック（Ａ）及び下記一般式（ＩＩ）で表される繰り返し単位を含むポリオルガノシロキサンブロック（Ｂ）を有し、
前記ポリオルガノシロキサンブロック（Ｂ）のポリスチレンを換算基準としたゲル浸透クロマトグラフ法による測定から得られる、横軸が分子量Ｍの対数値ｌｏｇ（Ｍ）であり、縦軸が濃度分率ｗを分子量の対数値ｌｏｇ（Ｍ）で微分したｄｗ／ｄｌｏｇ（Ｍ）である微分分子量分布曲線において、
（１）ｄｗ／ｄｌｏｇ（Ｍ）の値が３．４≦ｌｏｇ（Ｍ）≦４．０の範囲で最大となり、
（２）前記微分分子量分布曲線において、４．００≦ｌｏｇ（Ｍ）≦４．５０の範囲でｄｗ／ｄｌｏｇ（Ｍ）値を積分した値が、ｌｏｇ（Ｍ）の全範囲でｄｗ／ｄｌｏｇ（Ｍ）値を積分した値に対して６％以上４０％以下であることを要する。
【００１３】
【化６】
2016143895.tif 000007
【００１４】
上記一般式（Ｉ）中、Ｒ１及びＲ２はそれぞれ独立に、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基又は炭素数１〜６のアルコキシ基を示す。Ｘは、単結合、炭素数１〜８のアルキレン基、炭素数２〜８のアルキリデン基、炭素数５〜１５のシクロアルキレン基、炭素数５〜１５のシクロアルキリデン基、フルオレンジイル基、炭素数７〜１５のアリールアルキレン基、炭素数７〜１５のアリールアルキリデン基、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ２−、−Ｏ−又は−ＣＯ−を示す。ａ及びｂは、それぞれ独立に、０〜４の整数を示す。
上記一般式（ＩＩ）中、Ｒ３及びＲ４はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基又は炭素数６〜１２のアリール基を示す。ａ及びｂはそれぞれ独立に０〜４の整数を示す。
【００１５】
上記一般式（Ｉ）中、Ｒ１及びＲ２がそれぞれ独立して示すハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、及びヨウ素原子が挙げられる。
Ｒ１及びＲ２がそれぞれ独立して示すアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、各種ブチル基（「各種」とは、直鎖状及びあらゆる分岐鎖状のものを含むことを示し、以下、同様である。）、各種ペンチル基、及び各種ヘキシル基が挙げられる。Ｒ１及びＲ２がそれぞれ独立して示すアルコキシ基としては、アルキル基部位が前記アルキル基である場合が挙げられる。
Ｘが表すアルキレン基としては、例えば、メチレン基、エチレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基、ヘキサメチレン基等が挙げられ、炭素数１〜５のアルキレン基が好ましい。Ｘが表すアルキリデン基としては、エチリデン基、イソプロピリデン基等が挙げられる。Ｘが表すシクロアルキレン基としては、シクロペンタンジイル基やシクロヘキサンジイル基、シクロオクタンジイル基等が挙げられ、炭素数５〜１０のシクロアルキレン基が好ましい。Ｘが表すシクロアルキリデン基としては、例えば、シクロヘキシリデン基、３，５，５−トリメチルシクロヘキシリデン基、２−アダマンチリデン基等が挙げられ、炭素数５〜１０のシクロアルキリデン基が好ましく、炭素数５〜８のシクロアルキリデン基がより好ましい。Ｘが表すアリールアルキレン基のアリール部位としては、フェニル基、ナフチル基、ビフェニル基、アントリル基などの環形成炭素数６〜１４のアリール基が挙げられる。Ｘが表すアリールアルキリデン基のアリール部位としては、フェニル基、ナフチル基、ビフェニル基、アントリル基などの環形成炭素数６〜１４のアリール基が挙げられる。
ａ及びｂは、それぞれ独立に０〜４の整数を示し、好ましくは０〜２、より好ましくは０又は１である。
中でも、ａおよびｂが０であり、Ｘが単結合または炭素数２〜８のアルキリデン基であるもの、またはａおよびｂが０であり、Ｘが炭素数３のアルキリデン基、特にイソプロピリデン基であるものが好適である。
【００１６】
上記一般式（ＩＩ）中、Ｒ３又はＲ４で示されるハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、及びヨウ素原子が挙げられる。Ｒ３又はＲ４で示されるアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、各種ブチル基、各種ペンチル基、及び各種ヘキシル基が挙げられる。Ｒ３又はＲ４示されるアルコキシ基としては、アルキル基部位が前記アルキル基である場合が挙げられる。Ｒ３又はＲ４で示されるアリール基としては、フェニル基、ナフチル基等が挙げられる。
なお、Ｒ３及びＲ４としては、いずれも、好ましくは、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基又は炭素数６〜１２のアリール基であり、いずれもメチル基であることがより好ましい。
【００１７】
本発明に用いられるポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体（Ｅ−１）中の前記一般式（ＩＩ）で表される繰り返し単位を含むポリオルガノシロキサンブロック（Ｂ）の含有量は、好ましくは０．５質量％以上２０．０質量％以下、より好ましくは１．５質量％以上１５．０質量％以下である。ポリオルガノシロキサンブロック（Ｂ）の含有量が０．５質量％以上であると、十分な低温耐衝撃性が得られ、２０．０質量％以下であると、十分な耐熱性が得られる。
【００１８】
本発明に用いられるＰＣ−ＰＯＳ共重合体（Ｅ−１）における上記一般式（ＩＩ）で表される繰り返し単位を含むポリオルガノシロキサンブロック（Ｂ）は、好ましくは下記一般式（ｉｉ−Ｉ）〜（ｉｉ−ＩＩＩ）で表される。
【化７】
2016143895.tif 000008
【００１９】
［式中、Ｒ３〜Ｒ６は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基又は炭素数６〜１２のアリール基を示し、複数のＲ３〜Ｒ６は、互いに同一であっても異なっていても良い。Ｙは−Ｒ７Ｏ−、−Ｒ７ＣＯＯ−、−Ｒ７ＮＨ−、−Ｒ７ＮＲ８−、−ＣＯＯ−、−Ｓ−、−Ｒ７ＣＯＯ−Ｒ９−Ｏ−、または−Ｒ７Ｏ−Ｒ１０−Ｏ−を示し、複数のＹは、互いに同一であっても異なっていても良い。前記Ｒ７は、単結合、直鎖、分岐鎖若しくは環状アルキレン基、アリール置換アルキレン基、置換または無置換のアリーレン基、またはジアリーレン基を示す。Ｒ８は、アルキル基、アルケニル基、アリール基、またはアラルキル基を示す。Ｒ９は、ジアリーレン基を示す。Ｒ１０は、直鎖、分岐鎖もしくは環状アルキレン基、又はジアリーレン基を示す。βは、ジイソシアネート化合物由来の２価の基、又はジカルボン酸若しくはジカルボン酸のハロゲン化物由来の２価の基を示す。ｐとｑはそれぞれ１以上の整数であり、ｐとｑの和はｎ−２であり、ｎは平均鎖長を示す。］
【００２０】
Ｒ３〜Ｒ６がそれぞれ独立して示すハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、及びヨウ素原子が挙げられる。Ｒ３〜Ｒ６がそれぞれ独立して示すアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、各種ブチル基、各種ペンチル基、及び各種ヘキシル基が挙げられる。Ｒ３〜Ｒ６がそれぞれ独立して示すアルコキシ基としては、アルキル基部位が前記アルキル基である場合が挙げられる。Ｒ３〜Ｒ６がそれぞれ独立して示すアリール基としては、フェニル基、ナフチル基等が挙げられる。
Ｒ３〜Ｒ６としては、いずれも、好ましくは、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基又は炭素数６〜１２のアリール基である。
一般式（ii-I）、（ii-II）及び／または（ii-III）中のＲ３〜Ｒ６がいずれもメチル基であるものが好ましい。
【００２１】
Ｙが示す−Ｒ７Ｏ−、−Ｒ７ＣＯＯ−、−Ｒ７ＮＨ−、−Ｒ７ＮＲ８−、−ＣＯＯ−、−Ｓ−、−Ｒ７ＣＯＯ−Ｒ９−Ｏ−、または−Ｒ７Ｏ−Ｒ１０−Ｏ−におけるＲ７が表す直鎖又は分岐鎖アルキレン基としては、炭素数１〜８、好ましくは炭素数１〜５のアルキレン基が挙げられ、環状アルキレン基としては、炭素数５〜１５、好ましくは炭素数５〜１０のシクロアルキレン基が挙げられる。
【００２２】
本発明に用いられるポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体（Ｅ−１）におけるポリオルガノシロキサンブロック（Ｂ）の平均鎖長ｎは、好ましくは３０以上８５以下、より好ましくは４０以上７５以下、さらに好ましくは５８以上７２以下である。該平均鎖長は核磁気共鳴（ＮＭＲ）測定により算出される。平均鎖長ｎが３０以上であれば低温における耐衝撃性が十分な樹脂組成物及び成形品を得ることができる。また、平均鎖長ｎが８５以下であれば、成形外観に優れる樹脂組成物及び成形品を得ることができる。
【００２３】
＜ポリオルガノシロキサン＞
本発明に用いられるポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体（Ｅ−１）を構成する一般式（ＩＩ）で表される繰り返し単位を含むポリオルガノシロキサンブロック（Ｂ）は、上記ポリオルガノシロキサンブロック（Ｂ）のポリスチレンを換算基準としたゲル浸透クロマトグラフ法による測定から得られる、横軸が分子量Ｍの対数値ｌｏｇ（Ｍ）であり、縦軸が濃度分率ｗを分子量の対数値ｌｏｇ（Ｍ）で微分したｄｗ／ｄｌｏｇ（Ｍ）である微分分子量分布曲線において、
（１）ｄｗ／ｄｌｏｇ（Ｍ）の値が、３．４≦ｌｏｇ（Ｍ）≦４．０の範囲で最大となり、
（２）前記微分分子量分布曲線において、４．００≦ｌｏｇ（Ｍ）≦４．５０の範囲でｄｗ／ｄｌｏｇ（Ｍ）値を積分した値が、ｌｏｇ（Ｍ）の全範囲でｄｗ／ｄｌｏｇ（Ｍ）値を積分した値に対して６％以上４０％以下である
特徴を有する。
【００２４】
本発明に用いられるポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体（Ｅ−１）を構成するポリオルガノシロキサンブロック（Ｂ）が当該特徴を有するには、以下の一般式（２）、（３）及び／または（４）に示すポリオルガノシロキサンを原料として用いることができる。
【化８】
2016143895.tif 000009
［式中、Ｒ３〜Ｒ６は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基又は炭素数６〜１２のアリール基を示し、複数のＲ３〜Ｒ６は、互いに同一であっても異なっていても良い。Ｙは−Ｒ７Ｏ−、−Ｒ７ＣＯＯ−、−Ｒ７ＮＨ−、−Ｒ７ＮＲ８−、−ＣＯＯ−、−Ｓ−、−Ｒ７ＣＯＯ−Ｒ９−Ｏ−、または−Ｒ７Ｏ−Ｒ１０−Ｏ−を示し、複数のＹは、互いに同一であっても異なっていても良い。前記Ｒ７は、単結合、直鎖、分岐鎖若しくは環状アルキレン基、アリール置換アルキレン基、置換または無置換のアリーレン基、またはジアリーレン基を示す。Ｒ８は、アルキル基、アルケニル基、アリール基、またはアラルキル基を示す。Ｒ９は、ジアリーレン基を示す。Ｒ１０は、直鎖、分岐鎖もしくは環状アルキレン基、又はジアリーレン基を示す。Ｚは、水素原子又はハロゲン原子を示し、複数のＺは、互いに同一であっても異なっていても良い。βは、ジイソシアネート化合物由来の２価の基、又はジカルボン酸若しくはジカルボン酸のハロゲン化物由来の２価の基を示す。ｐとｑはそれぞれ１以上の整数であり、ｐとｑの和はｎ−２であり、ｎは平均鎖長を示す。］
【００２５】
Ｒ３〜Ｒ６がそれぞれ独立して示すハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、及びヨウ素原子が挙げられる。Ｒ３〜Ｒ６がそれぞれ独立して示すアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、各種ブチル基、各種ペンチル基、及び各種ヘキシル基が挙げられる。Ｒ３〜Ｒ６がそれぞれ独立して示すアルコキシ基としては、アルキル基部位が前記アルキル基である場合が挙げられる。Ｒ３〜Ｒ６がそれぞれ独立して示すアリール基としては、フェニル基、ナフチル基等が挙げられる。
Ｒ３〜Ｒ６としては、いずれも、好ましくは、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基又は炭素数６〜１２のアリール基である。
一般式（２）、（３）及び／または（４）で表されるポリオルガノシロキサンとしては、Ｒ３〜Ｒ６がいずれもメチル基であるものが好ましい。
【００２６】
Ｙが示す−Ｒ７Ｏ−、−Ｒ７ＣＯＯ−、−Ｒ７ＮＨ−、−Ｒ７ＮＲ８−、−ＣＯＯ−、−Ｓ−、−Ｒ７ＣＯＯ−Ｒ９−Ｏ−、または−Ｒ７Ｏ−Ｒ１０−Ｏ−におけるＲ７が表す直鎖又は分岐鎖アルキレン基としては、炭素数１〜８、好ましくは炭素数１〜５のアルキレン基が挙げられ、環状アルキレン基としては、炭素数５〜１５、好ましくは炭素数５〜１０のシクロアルキレン基が挙げられる。
【００２７】
Ｒ７が表すアリール置換アルキレン基としては、芳香環にアルコキシ基、アルキル基のような置換基を有していてもよく、その具体的構造としては、例えば、下記の一般式（５）または（６）の構造を示すことができる。なお、アリール置換アルキレン基を有する場合、アルキレン基がＳｉに結合している。
【００２８】
【化９】
2016143895.tif 000010
（式中ｃは正の整数を示し、通常１〜６の整数である）
【００２９】
Ｒ７、Ｒ９及びＲ１０が示すジアリーレン基とは、二つのアリーレン基が直接、又は二価の有機基を介して連結された基のことであり、具体的には−Ａｒ１−Ｗ−Ａｒ２−で表わされる構造を有する基である。ここで、Ａｒ１及びＡｒ２は、アリーレン基を示し、Ｗは単結合、又は２価の有機基を示す。Ｗの示す２価の有機基は、例えばイソプロピリデン基、メチレン基、ジメチレン基、トリメチレン基である。
Ｒ７、Ａｒ１及びＡｒ２が表すアリーレン基としては、フェニレン基、ナフチレン基、ビフェニレン基、アントリレン基などの環形成炭素数６〜１４のアリーレン基が挙げられる。これらアリーレン基は、アルコキシ基、アルキル基等の任意の置換基を有していてもよい。
Ｒ８が示すアルキル基としては炭素数１〜８、好ましくは１〜５の直鎖または分岐鎖のものである。アルケニル基としては、炭素数２〜８、好ましくは２〜５の直鎖または分岐鎖のものが挙げられる。アリール基としてはフェニル基、ナフチル基等が挙げられる。アラルキル基としては、フェニルメチル基、フェニルエチル基等が挙げられる。
Ｒ１０が示す直鎖、分岐鎖もしくは環状アルキレン基は、Ｒ７と同様である。
【００３０】
Ｙとしては、好ましくは−Ｒ７Ｏ−であって、Ｒ７が、アリール置換アルキレン基であって、特にアルキル基を有するフェノール系化合物の残基であり、アリルフェノール由来の有機残基やオイゲノール由来の有機残基がより好ましい。
なお、一般式（３）中のｐ及びｑについては、ｐ＝ｑ、すなわち、ｐ＝（ｎ−２）／２、ｑ＝（ｎ−２）／２であることが好ましい。
平均鎖長ｎは上述した通り、好ましくは３０以上８５以下、より好ましくは４０以上７５以下、さらに好ましくは５８以上７２以下である。
また、βは、ジイソシアネート化合物由来の２価の基又はジカルボン酸又はジカルボン酸のハロゲン化物由来の２価の基を示し、例えば、以下の一般式（７−１）〜（７−５）で表される２価の基が挙げられる。
【化１０】
2016143895.tif 000011
【００３１】
一般式（２）で表されるポリオルガノシロキサンとしては、例えば、以下の一般式（２−１）〜（２−１１）の化合物が挙げられる。
【化１１】
2016143895.tif 000012
【００３２】
上記一般式（２−１）〜（２−１１）中、Ｒ３〜Ｒ６、ｎ及びＲ８は上記の定義の通りであり、好ましいものも同じである。ｃは正の整数を示し、通常１〜６の整数である。
これらの中でも、重合の容易さの観点においては、上記一般式（２−１）で表されるフェノール変性ポリオルガノシロキサンが好ましい。また、入手の容易さの観点においては、上記一般式（２−２）で表される化合物中の一種であるα，ω−ビス［３−（ｏ−ヒドロキシフェニル）プロピル］ポリジメチルシロキサン、上記一般式（２−３）で表される化合物中の一種であるα，ω−ビス［３−（４−ヒドロキシ−３−メトキシフェニル）プロピル］ポリジメチルシロキサンが好ましい。
【００３３】
上記で掲げたものの他、特表２０１３−５２３９３８号公報、特開平４−２２５０５９号公報、特表２００６−５１８８０３号公報、及び国際公開公報ＷＯ２０１３／１１５６０４等に記載されているポリオルガノシロキサン化合物も好適に用いることができる。
【００３４】
上記一般式で示したポリオルガノシロキサンの平均鎖長ｎは、好ましくは３０以上８５以下、より好ましくは４０以上７５以下、さらに好ましくは５８以上７２以下である。該平均鎖長は核磁気共鳴（ＮＭＲ）測定により算出される。平均鎖長ｎが３０以上であれば低温における耐衝撃性が十分に得られる。また、平均鎖長ｎが８５以下であれば、成形外観に優れる共重合体を得ることができる。
【００３５】
ポリオルガノシロキサンの分子量・分子量分布測定値を得るためのゲル浸透クロマトグラフ（ＧＰＣ）装置には特に制限はなく、一般に市販されているＧＰＣ装置、例えば、東ソー株式会社製、示差屈折計（ＲＩ）内蔵型高温ＧＰＣ測定機、「ＨＬＣ−８２００」を利用することが可能である。具体的には、ＧＰＣカラムとして、東ソー株式会社製、「ＴＳＫ−ＧＥＬ  Ｇ４０００ＨＸＬ」と「ＴＳＫ−ＧＥＬ  Ｇ２０００ＨＸＬ」とを連結させたものを用いる。カラム温度は４０℃に設定し、溶離液にはテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）を用い、流速１．０ｍｌ／分にて測定する。検量線の作製には、東ソー株式会社製の標準ポリスチレンを用いる。このようにして得られる分子量の対数値を、対数分子量（ｌｏｇ（Ｍ））と称する。
【００３６】
ＧＰＣ装置の示差屈折（ＲＩ）検出計において検出される強度分布の時間曲線（一般に、溶出曲線と呼ぶ）を、分子量既知の物質から得た較正曲線を用いて溶出時間を分子量に換算する。ここで、ＲＩ検出強度は成分濃度とは比例関係にあるので、溶出曲線の全面積を１００％としたときの強度面積を求め、それぞれの溶出時間の濃度分率を求める。濃度分率を順次積算し、横軸に分子量の対数値（ｌｏｇ（Ｍ））、縦軸に濃度分率（ｗ）の積算値をプロットすることにより積分分子量分布曲線を得ることができる。
続いて、各分子量の対数値における曲線の微分値（すなわち、積分分子量曲線の傾き）を求め、横軸に分子量の対数値（ｌｏｇ（Ｍ））、縦軸に上記微分値（ｄｗ／ｄｌｏｇ（Ｍ））をプロットして微分分子量分布曲線を得ることができる。従って、微分分子量分布とは、濃度分率（ｗ）を分子量の対数値（ｌｏｇ（Ｍ））で微分した値、すなわち「ｄｗ／ｄｌｏｇ（Ｍ）」を意味する。この微分分子量分布曲線から、特定のｌｏｇ（Ｍ）における微分分子量分布ｄｗ／ｄｌｏｇ（Ｍ）を読み取ることができる。なお、複数のポリオルガノシロキサンを配合したポリオルガノシロキサン配合物についても、ポリオルガノシロキサン配合物をＧＰＣ法により測定した後、同じ手法により微分分子量分布曲線を得ることができる。
【００３７】
本発明においては、（１）ｄｗ／ｄｌｏｇ（Ｍ）の値が、３．４≦ｌｏｇ（Ｍ）≦４．０の範囲で、好ましくは３．５≦ｌｏｇ（Ｍ）≦３．８の範囲で最大となる。微分分子量分布ｄｗ／ｄｌｏｇ（Ｍ）の最大値とは、微分分子量曲線におけるピークトップを指す。微分分子量曲線におけるピークトップのｌｏｇ（Ｍ）の値が３．４以上であると、十分な低温耐衝撃性が得られ、４．０以下であれば、良好な外観が得られる。
【００３８】
本発明においては、（２）前記微分分子量分布曲線において、４．００≦ｌｏｇ（Ｍ）≦４．５０の範囲でｄｗ／ｄｌｏｇ（Ｍ）値を積分した値が、ｌｏｇ（Ｍ）の全範囲でｄｗ／ｄｌｏｇ（Ｍ）値を積分した値に対して６％以上４０％以下であり、好ましくは６．５％以上３０％以下である。上記割合が６％以上であると、十分な低温耐衝撃性が得られ、４０％以下であれば、良好な外観が得られる。ここで、４．００≦ｌｏｇ（Ｍ）≦４．５０の範囲でｄｗ／ｄｌｏｇ（Ｍ）値を積分した値の、ｌｏｇ（Ｍ）の全範囲でｄｗ／ｄｌｏｇ（Ｍ）値を積分した値に対する割合は、ＰＯＳの分子量分布において、ｌｏｇ（Ｍ）が４．００以上４．５０以下である成分がＰＯＳ全体に対して存在する割合を示すものである。
【００３９】
前記ポリオルガノシロキサンの製造方法は特に限定されない。例えば、特開平１１−２１７３９０号公報に記載の方法によれば、シクロトリシロキサンとジシロキサンとを酸性触媒存在下で反応させて、α，ω−ジハイドロジェンオルガノペンタシロキサンを合成し、次いで、ヒドロシリル化反応用触媒の存在下に、該α，ω−ジハイドロジェンオルガノペンタシロキサンにフェノール性化合物（例えば２−アリルフェノール、４−アリルフェノール、オイゲノール、２−プロペニルフェノール等）等を付加反応させることで、粗ポリオルガノシロキサンを得ることができる。また、特許第２６６２３１０号公報に記載の方法によれば、オクタメチルシクロテトラシロキサンとテトラメチルジシロキサンとを硫酸（酸性触媒）の存在下で反応させ、得られたα，ω−ジハイドロジェンオルガノポリシロキサンを上記と同様に、ヒドロシリル化反応用触媒の存在下にフェノール性化合物等を付加反応させることで、粗ポリオルガノシロキサンを得ることができる。なお、α，ω−ジハイドロジェンオルガノポリシロキサンは、その重合条件によりその鎖長ｎを適宜調整して用いることもできるし、市販のα，ω−ジハイドロジェンオルガノポリシロキサンを用いてもよい。
【００４０】
上記ヒドロシリル化反応用触媒としては、遷移金属系触媒が挙げられるが、中でも反応速度及び選択性の点から白金系触媒が好ましく用いられる。白金系触媒の具体例としては、塩化白金酸，塩化白金酸のアルコール溶液，白金のオレフィン錯体，白金とビニル基含有シロキサンとの錯体，白金担持シリカ，白金担持活性炭等が挙げられる。
【００４１】
粗ポリオルガノシロキサンを吸着剤と接触させることにより、粗ポリオルガノシロキサン中に含まれる、上記ヒドロシリル化反応用触媒として使用された遷移金属系触媒に由来する遷移金属を、吸着剤に吸着させて除去することが好ましい。
吸着剤としては、例えば、１０００Å以下の平均細孔直径を有するものを用いることができる。平均細孔直径が１０００Å以下であれば、粗ポリオルガノシロキサン中の遷移金属を効率的に除去することができる。このような観点から、吸着剤の平均細孔直径は、好ましくは５００Å以下、より好ましくは２００Å以下、更に好ましくは１５０Å以下、より更に好ましくは１００Å以下である。また同様の観点から、吸着剤は多孔性吸着剤であることが好ましい。
【００４２】
吸着剤としては、上記の平均細孔直径を有するものであれば特に限定されないが、例えば活性白土、酸性白土、活性炭、合成ゼオライト、天然ゼオライト、活性アルミナ、シリカ、シリカ−マグネシア系吸着剤、珪藻土、セルロース等を用いることができ、活性白土、酸性白土、活性炭、合成ゼオライト、天然ゼオライト、活性アルミナ、シリカ及びシリカ−マグネシア系吸着剤からなる群から選ばれる少なくとも１種であることが好ましい。
【００４３】
粗ポリオルガノシロキサン中に含まれる遷移金属を吸着剤に吸着させた後、吸着剤は任意の分離手段によってポリオルガノシロキサンから分離することができる。ポリオルガノシロキサンから吸着剤を分離する手段としては、例えばフィルタや遠心分離等が挙げられる。フィルタを用いる場合は、メンブランフィルタ、焼結金属フィルタ、ガラス繊維フィルタ等のフィルタを用いることができるが、特にメンブランフィルタを用いることが好ましい。
遷移金属の吸着後に吸着剤をポリオルガノシロキサンから分離する観点から、吸着剤の平均粒子径は、通常１μｍ〜４ｍｍ、好ましくは１〜１００μｍである。
【００４４】
前記吸着剤を使用する場合には、その使用量は特に限定されない。粗ポリオルガノシロキサン１００質量部に対して、好ましくは１〜３０質量部、より好ましくは２〜２０質量部の範囲の量の多孔性吸着剤を使用することができる。
【００４５】
なお、処理する粗ポリオルガノシロキサンの分子量が高いために液体状態でない場合は、吸着剤による吸着及び吸着剤の分離を行う際に、ポリオルガノシロキサンが液体状態となるような温度に加熱してもよい。または、塩化メチレンやヘキサン等の溶剤に溶かして行ってもよい。
【００４６】
所望の分子量分布のポリオルガノシロキサンは、例えば、複数のポリオルガノシロキサンを配合することにより分子量分布を調節して得られる。配合は、複数のα，ω−ジハイドロジェンオルガノポリシロキサンを配合したあと、ヒドロシリル化反応用触媒の存在下にフェノール化合物等を付加反応させることで所望の分子量分布となる粗ポリオルガノシロキサンを得ることもできる。また、複数の粗ポリオルガノシロキサンを配合したのち、ヒドロシリル化反応触媒を除去させるなどの精製を行ってもよい。精製後の複数のポリオルガノシロキサンを配合してもよい。また、ポリオルガノシロキサン製造時の重合条件により適宜調整することもできる。また、既存のポリオルガノシロキサンから各種分離等の手段によって一部のみを分取する事で得ることも出来る。
【００４７】
＜ＰＣ−ＰＯＳ共重合体（Ｅ−１）の製造方法＞
本発明に用いるＰＣ−ＰＯＳ共重合体（Ｅ−１）を製造する方法としては、界面重合法（ホスゲン法）、ピリジン法、エステル交換法等の公知の製造方法を用いることができる。特に界面重合法の場合に、ＰＣ−ＰＯＳ共重合体（Ｅ−１）を含む有機相と未反応物や触媒残渣等を含む水相との分離工程が容易となり、アルカリ洗浄、酸洗浄、純水洗浄による各洗浄工程におけるＰＣ−ＰＯＳ共重合体（Ｅ−１）を含む有機相と水相との分離が容易となり、効率よくＰＣ−ＰＯＳ共重合体（Ｅ−１）が得られる。
【００４８】
ＰＣ−ＰＯＳ共重合体（Ｅ−１）の製造方法に特に制限はなく、公知のＰＣ−ＰＯＳ共重合体の製造方法、例えば、特開２０１０−２４１９４３号公報等に記載の方法を参照して製造することができる。
具体的には、予め製造されたポリカーボネートオリゴマーと、上記ポリオルガノシロキサンとを、非水溶性有機溶媒（塩化メチレン等）に溶解させ、二価フェノール系化合物（ビスフェノールＡ等）のアルカリ性化合物水溶液（水酸化ナトリウム水溶液等）を加え、重合触媒として第三級アミン（トリエチルアミン等）や第四級アンモニウム塩（トリメチルベンジルアンモニウムクロライド等）を用い、末端停止剤（ｐ−ｔ−ブチルフェノール等の１価フェノール）の存在下、界面重縮合反応させることにより製造できる。また、ＰＣ−ＰＯＳ共重合体（Ｅ−１）は、ポリオルガノシロキサンと、二価フェノールと、ホスゲン、炭酸エステル又はクロロホーメートとを共重合させることによっても製造できる。
【００４９】
本発明の一実施形態において、ポリオルガノシロキサンとしては、上述した通り、ポリスチレンを換算基準としたＧＰＣ法による測定結果から得られる微分分子量分布曲線において、縦軸をｄｗ／ｄｌｏｇ（Ｍ）、横軸をｌｏｇ（Ｍ）（ｗは濃度分率、Ｍは分子量である）としたとき、（１）ｄｗ／ｄｌｏｇ（Ｍ）の値が、３．４≦ｌｏｇ（Ｍ）≦４．０の範囲で最大となり、（２）上記微分分子量分布曲線において、４．００≦ｌｏｇ（Ｍ）≦４．５０の範囲でｄｗ／ｄｌｏｇ（Ｍ）値を積分した値が、ｌｏｇ（Ｍ）の全範囲でｄｗ／ｄｌｏｇ（Ｍ）値を積分した値に対して６％以上４０％以下であるポリオルガノシロキサンを原料に用いる。具体的には、式（２）、式（３）、又は式（４）で表されるポリオルガノシロキサンを用いる。
【００５０】
ポリカーボネートオリゴマーは、塩化メチレン、クロロベンゼン、クロロホルム等の有機溶剤中で、二価フェノールとホスゲンやトリホスゲンのようなカーボネート前駆体との反応によって製造することができる。なお、エステル交換法を用いてポリカーボネートオリゴマーを製造する際には、二価フェノールとジフェニルカーボネートのようなカーボネート前駆体との反応によって製造することもできる。
二価フェノールとしては、下記一般式（ｉ）で表される二価フェノールを用いることが好ましい。
【００５１】
【化１２】
2016143895.tif 000013
【００５２】
式中、Ｒ１、Ｒ２、ａ、ｂ及びＸは上述した通りである。
【００５３】
上記一般式（ｉ）で表される二価フェノールとしては、例えば、ビス（ヒドロキシアリール）アルカン類、ビス（ヒドロキシアリール）シクロアルカン類、ジヒドロキシアリールエーテル類、ジヒドロキシジアリールスルフィド類、ジヒドロキシジアリールスルホキシド類、ジヒドロキシジアリールスルホン類、ジヒドロキシジフェニル類、ジヒドロキシジアリールフルオレン類、ジヒドロキシジアリールアダマンタン類等が挙げられる。これらの二価フェノールは、１種を単独で使用してもよいし、２種以上を混合して用いてもよい。
【００５４】
ビス（ヒドロキシアリール）アルカン類としては、例えばビス（４−ヒドロキシフェニル）メタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン［ビスフェノールＡ］、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ブタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）オクタン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）フェニルメタン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）ジフェニルメタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）プロパン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）ナフチルメタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシ−３−ｔ−ブチルフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３−ブロモフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３−クロロフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジクロロフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジブロモフェニル）プロパン等が挙げられる。
【００５５】
ビス（ヒドロキシアリール）シクロアルカン類としては、例えば１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロペンタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−３，５，５−トリメチルシクロヘキサン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ノルボルナン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロドデカン等が挙げられる。ジヒドロキシアリールエーテル類としては、例えば４，４’−ジヒドロキシジフェニルエーテル、４，４’−ジヒドロキシ−３，３’−ジメチルフェニルエーテル等が挙げられる。
【００５６】
ジヒドロキシジアリールスルフィド類としては、例えば４，４’−ジヒドロキシジフェニルスルフィド、４，４’−ジヒドロキシ−３，３’−ジメチルジフェニルスルフィド等が挙げられる。ジヒドロキシジアリールスルホキシド類としては、例えば４，４’−ジヒドロキシジフェニルスルホキシド、４，４’−ジヒドロキシ−３，３’−ジメチルジフェニルスルホキシド等が挙げられる。ジヒドロキシジアリールスルホン類としては、例えば４，４’−ジヒドロキシジフェニルスルホン、４，４’−ジヒドロキシ−３，３’−ジメチルジフェニルスルホン等が挙げられる。
【００５７】
ジヒドロキシジフェニル類としては、例えば４，４’−ジヒドロキシジフェニル等が挙げられる。ジヒドロキシジアリールフルオレン類としては、例えば９，９−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）フルオレン等が挙げられる。ジヒドロキシジアリールアダマンタン類としては、例えば１，３−ビス（４−ヒドロキシフェニル）アダマンタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）アダマンタン、１，３−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−５，７−ジメチルアダマンタン等が挙げられる。
【００５８】
上記以外の二価フェノールとしては、例えば４，４’−［１，３−フェニレンビス（１−メチルエチリデン）］ビスフェノール、１０，１０−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−９−アントロン、１，５−ビス（４−ヒドロキシフェニルチオ）−２，３−ジオキサペンタン等が挙げられる。
【００５９】
上記二価フェノールは、１種を単独で使用してもよいし、２種以上を混合して用いてもよい。
これらの中でも、ビス（ヒドロキシフェニル）アルカン類が好ましく、ビスフェノールＡがより好ましい。二価フェノールとしてビスフェノールＡを用いた場合、前記一般式（ｉ）において、Ｘがイソプロピリデン基であり、且つａ＝ｂ＝０となる。
【００６０】
得られるＰＣ−ＰＯＳ共重合体の分子量を調整するために、末端停止剤を使用することができる。末端停止剤としては、例えば、フェノール、ｐ−クレゾール、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール、ｐ−ｔｅｒｔ−オクチルフェノール、ｐ−クミルフェノール、ｐ−ノニルフェノール、ｍ−ペンタデシルフェノール及びｐ−ｔｅｒｔ−アミルフェノール等の一価フェノールを挙げることができる。これら一価フェノールは、一種を単独で用いてもよいし、二種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００６１】
上記界面重縮合反応後、適宜静置して水相と有機溶媒相とに分離し［分離工程］、有機溶媒相を洗浄（好ましくは塩基性水溶液、酸性水溶液、水の順に洗浄）し［洗浄工程］、得られた有機相を濃縮［濃縮工程］、及び乾燥する［乾燥工程］ことによって、ＰＣ−ＰＯＳ共重合体を得ることができる。
【００６２】
本発明に用いられるＰＣ−ＰＯＳ共重合体（Ｅ−１）の粘度平均分子量は、使用される用途や製品により、適宜、目的の分子量となるように分子量調整剤等を用いることにより製造することができる。通常は、１２，０００以上４０，０００以下、好ましくは１５，０００以上３０，０００以下程度の範囲として製造される。粘度平均分子量が１２，０００以上であれば、成形品の強度が十分であり、４０，０００以下であれば、適切な温度領域での射出成形や押出成形が可能となるため、良好な外観が得られる。
また、成形温度を上げることによりＰＣ−ＰＯＳ共重合体（Ｅ−１）の粘度を下げることも可能であるが、その場合、成形サイクルが長くなり経済性に劣るほか、温度を上げすぎるとＰＣ−ＰＯＳ共重合体（Ｅ−１）の熱劣化により透明性が低下する傾向がある。
なお、粘度平均分子量（Ｍｖ）は、２０℃における塩化メチレン溶液の極限粘度〔η〕を測定し、Ｓｃｈｎｅｌｌの式（〔η〕＝１．２３×１０−５×Ｍｖ０．８３）より算出した値である。
【００６３】
本発明の第一の形態によるポリカーボネート系樹脂組成物に用いられるポリカーボネート系樹脂としては、前記ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体（Ｅ−１）以外に、前記一般式（Ｉ）で表わされる繰り返し単位からなるホモポリカーボネートや共重合ポリカーボネート、そして、前記一般式（Ｉ）で表わされる繰り返し単位からなるポリカーボネートブロック（Ａ）及び前記一般式（ＩＩ）で表わされる繰り返し単位を含むポリオルガノシロキサンブロック（Ｂ）を有する、前記（Ｅ−１）以外のポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体を含むことができる。前記ポリカーボネート系樹脂中の前記ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体（Ｅ−１）の含有率は、１０質量％以上であることが好ましい。本発明の効果を得る観点から、該含有率は、より好ましくは２０質量％以上、さらに好ましくは４０質量％以上、さらに好ましくは５０質量％以上、１００質量％以下である。
また、前記ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体（Ｅ−１）を含むポリカーボネート系樹脂中の前記一般式（ＩＩ）で表される繰り返し単位を含むポリオルガノシロキサンブロック（Ｂ）の含有量は、好ましくは０．５質量％以上２０．０質量％以下、より好ましくは１．５質量％以上１５．０質量％以下とすることが望ましい。ポリオルガノシロキサンブロック（Ｂ）の含有量が０．５質量％以上であると、十分な低温耐衝撃性が得られ、２０．０質量％以下であると、十分な耐熱性が得られる。
【００６４】
次に、本発明の第二の形態によるポリカーボネート系樹脂組成物に用いられるポリカーボネート系樹脂について説明する。
本発明の第二の形態によるポリカーボネート系樹脂組成物には、ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体を含むポリカーボネート系樹脂が用いられる。該ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体は、前記一般式（Ｉ）で表される繰り返し単位からなるポリカーボネートブロック（Ａ’）及び前記一般式（ＩＩ）で表される繰り返し単位を含むポリオルガノシロキサンブロック（Ｂ’）を有するポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体（Ｅ’−１）であり、該ポリオルガノシロキサンブロック（Ｂ’）の、ポリスチレンを換算基準としたゲル浸透クロマトグラフ法による測定から得られる、横軸が分子量Ｍの対数値ｌｏｇ（Ｍ）であり、縦軸が濃度分率ｗを分子量の対数値ｌｏｇ（Ｍ）で微分したｄｗ／ｄｌｏｇ（Ｍ）である微分分子量分布曲線において、
（１’）ｄｗ／ｄｌｏｇ（Ｍ）の値が３．４≦ｌｏｇ（Ｍ）≦４．５の範囲で最大となり、
（２）前記微分分子量分布曲線において、４．００≦ｌｏｇ（Ｍ）≦４．５０の範囲でｄｗ／ｄｌｏｇ（Ｍ）値を積分した値が、ｌｏｇ（Ｍ）の全範囲でｄｗ／ｄｌｏｇ（Ｍ）値を積分した値に対して６％以上４０％以下であり、
（３）ｄｗ／ｄｌｏｇ（Ｍ）の値が最大となるｌｏｇ（Ｍ）と、前記微分分子量分布曲線において、ｌｏｇ（Ｍ）の全範囲でｄｗ／ｄｌｏｇ（Ｍ）値を積分した値に対する、４．００≦ｌｏｇ（Ｍ）≦４．５０の範囲でｄｗ／ｄｌｏｇ（Ｍ）値を積分した値の百分率（％）との積が、２０以上１３０以下であることを要する。
【００６５】
ここで、前記（１’）のｄｗ／ｄｌｏｇ（Ｍ）の値が最大となる時のｌｏｇ（Ｍ）の値が３．４以上であると、十分な低温耐衝撃性が得られ、４．５以下であれば、良好な外観が得られる。前記（１’）ｄｗ／ｄｌｏｇ（Ｍ）の値は、３．５≦ｌｏｇ（Ｍ）≦４．２の範囲で最大となることがより好ましい。
また、（２）前記微分分子量分布曲線において、４．００≦ｌｏｇ（Ｍ）≦４．５０の範囲でｄｗ／ｄｌｏｇ（Ｍ）値を積分した値が、ｌｏｇ（Ｍ）の全範囲でｄｗ／ｄｌｏｇ（Ｍ）値を積分した値に対して６％以上であると、十分な低温耐衝撃性が得られ、４０％以下であれば、良好な外観が得られる。前記（２）の値は、６．５％以上３０％以下であることがより好ましい。
さらに、（３）ｄｗ／ｄｌｏｇ（Ｍ）の値が最大となるｌｏｇ（Ｍ）と、前記微分分子量分布曲線において、ｌｏｇ（Ｍ）の全範囲でｄｗ／ｄｌｏｇ（Ｍ）値を積分した値に対する、４．００≦ｌｏｇ（Ｍ）≦４．５０の範囲でｄｗ／ｄｌｏｇ（Ｍ）値を積分した値の百分率（％）との積が２０以上であれば、十分な低温耐衝撃性が得られ、１３０以下であれば、良好な外観が得られる。前記（３）の値は２５以上１２５以下であることがより好ましい。
【００６６】
前記ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体（Ｅ’−１）中の前記ポリオルガノシロキサンブロック（Ｂ’）の分子量分布の調節方法としては、前記第一の形態によるポリカーボネート系樹脂組成物に用いるＰＣ−ＰＯＳ共重合体（Ｅ−１）の場合と同様の方法が挙げられる。その他、（Ｅ’−１）として、複数のＰＣ−ＰＯＳ共重合体を混合した混合物を用いる方法も挙げられる。
なお、本発明の第二の形態によるポリカーボネート系樹脂組成物に用いられるＰＣ−ＰＯＳ共重合体（Ｅ’−１）は、本発明の効果を得る観点から、前記ＰＣ−ＰＯＳ共重合体（Ｅ−１）を含むことが好ましい。
第二の形態によるポリカーボネート系樹脂組成物に用いられるＰＣ−ＰＯＳ共重合体（Ｅ’−１）中の一般式（Ｉ）及び一般式（ＩＩ）の構造、（Ｅ’−１）に含まれるＰＣ−ＰＯＳ共重合体の製造に用いる原料、該ＰＣ−ＰＯＳ共重合体の製造方法、並びにこれらの好ましい態様については、特に断りのない限り、前記（Ｅ−１）と同じである。
【００６７】
第二の形態のポリカーボネート系樹脂組成物に用いられるＰＣ−ＰＯＳ共重合体（Ｅ’−１）は、そのポリオルガノシロキサンブロック（Ｂ’）の平均鎖長が、好ましくは３０以上８５以下、より好ましくは４０以上７５以下、さらに好ましくは５８以上７２以下である。該平均鎖長は核磁気共鳴（ＮＭＲ）測定により算出される。平均鎖長が３０以上であれば低温における耐衝撃性が十分に得られる。また、平均鎖長ｎが８５以下であれば、成形外観に優れる共重合体を得ることができる。
ＰＣ−ＰＯＳ共重合体（Ｅ’−１）が複数のＰＣ−ＰＯＳ共重合体の混合物である場合、上記ポリオルガノシロキサンブロック（Ｂ’）の平均鎖長は、各々のＰＣ−ＰＯＳ共重合体のＰＯＳブロックの平均鎖長及び含有量比から、計算によって求めることができる。
ＰＣ−ＰＯＳ共重合体（Ｅ’−１）中の上記ポリオルガノシロキサンブロック（Ｂ’）の含有量は、好ましくは０．５質量％以上２０．０質量％以下、より好ましくは１．５質量％以上１５．０質量％以下である。該ポリオルガノシロキサンブロック（Ｂ’）の含有量が０．５質量％以上であると、十分な低温耐衝撃性が得られ、２０．０質量％以下であると、十分な耐熱性が得られる。
ＰＣ−ＰＯＳ共重合体（Ｅ’−１）の粘度平均分子量は、通常１２，０００以上４０，０００以下、好ましくは１５，０００以上３０，０００以下である。粘度平均分子量が１２，０００以上であれば、成形品の強度が十分であり、４０，０００以下であれば、適切な温度領域での射出成形や押出成形が可能となるため、良好な外観が得られる。
【００６８】
第二の形態のポリカーボネート系樹脂組成物に用いられるポリカーボネート系樹脂は、上記ＰＣ−ＰＯＳ共重合体（Ｅ’−１）の他、前記一般式（Ｉ）で表される繰り返し単位からなるホモポリカーボネートや共重合ポリカーボネートを含むことができる。前記ポリカーボネート系樹脂中のＰＣ−ＰＯＳ共重合体（Ｅ’−１）の含有率は、本発明の効果を得る観点から、１０質量％以上であることが好ましく、より好ましくは２０質量％以上、さらに好ましくは４０質量％以上、さらに好ましくは５０質量％以上、１００質量％以下である。
また、第二の形態のポリカーボネート系樹脂組成物において、当該ポリカーボネート系樹脂中の前記一般式（ＩＩ）で表される繰り返し単位を含むポリオルガノシロキサンブロック（Ｂ’）の含有量は、好ましくは０．５質量％以上２０．０質量％以下、より好ましくは１．５質量％以上１５．０質量％以下である。該ポリオルガノシロキサンブロック（Ｂ’）の含有量が０．５質量％以上であると、十分な低温耐衝撃性が得られ、２０．０質量％以下であると、十分な耐熱性が得られる。
【００６９】
［白色顔料］
本発明のポリカーボネート系樹脂組成物には、白色顔料が用いられる。白色顔料は、本発明のポリカーボネート系樹脂組成物の色調を白色とするために用いられる。白色顔料としては、特に限定されるものではないが、酸化チタン、酸化亜鉛、タルク、硫酸バリウム、炭酸カルシウム、及び硫化亜鉛から選ばれる少なくとも１種を用いることが好ましい。これらの白色顔料の中でも、酸化チタンを用いることが、色調をより白色とする観点から好ましい。
【００７０】
前記白色顔料は、耐衝撃性の低下を抑制する観点から、白色顔料の表面を表面処理剤で処理し、該表面を被覆したものを用いることが好ましい。白色顔料の表面を被覆するための表面処理剤としては、ポリオール化合物、アミン化合物、並びに、アルミニウム、ケイ素、ジルコニウム、スズ、セリウム、チタン及び亜鉛からなる群より選ばれた少なくとも一種の金属の含水酸化物及び／又は酸化物、及びポリオルガノシロキサン等を挙げることができる。この中でもポリオール化合物、アミン化合物、アルミナ、シリカ、及びポリオルガノシロキサンから選ばれる少なくとも１種が好ましく、ポリオール化合物、アルミナ、シリカ、及びポリオルガノシロキサンから選ばれる少なくとも１種がより好ましい。前記白色顔料は、より好ましくは、ポリオール化合物、アミン化合物、アルミナ、シリカ、及びポリオルガノシロキサンから選ばれる少なくとも１種で被覆された酸化チタンであり、さらに好ましくは、ポリオール化合物、アルミナ、シリカ、及びポリオルガノシロキサンから選ばれる少なくとも１種で被覆された酸化チタンである。
前記ポリオール化合物としては、具体的には、トリメチロールプロパン、トリメチロールエタン、ジトリメチロールプロパン、トリメチロールプロパンエトキシレート、ペンタエリスリトール等が挙げられ、トリメチロールプロパン、トリメチロールエタンが好ましい。
また、前記白色顔料を用いる際は、耐衝撃特性の低下を抑制する観点から、ポリオルガノシロキサンをポリカーボネート系樹脂組成物中に添加することが好ましい。
前記ポリオルガノシロキサンとしては、具体的には、アルキル水素シリコーン、アルコキシシリコーンなどが挙げられる。アルキル水素シリコーンとしては、例えば、メチル水素シリコーン、エチル水素シリコーン等がある。アルコキシシリコーンとしては、例えば、メトキシシリコーン、エトキシシリコーン等である。好ましいアルコキシシリコーンは、具体的にはアルコキシ基が直接又は二価炭化水素基を介してケイ素原子に結合したアルコキシシリル基を含むシリコーン化合物であり、例えば、直鎖状、環状、網状及び一部分岐を有する直鎖状のオルガノポリシロキサンが挙げられ、特に直鎖状オルガノポリシロキサンが好ましい。さらに具体的には、シリコーン主鎖に対してメチレン鎖を介してアルコキシ基と結合する分子構造を有するポリオルガノシロキサンが好ましい。このようなポリオルガノシロキサンとしては、例えば市販の東レ・ダウコーニング社製のＳＨ１１０７、ＳＲ２４０２、ＢＹ１６−１６０、ＢＹ１６−１６１、ＢＹ１６−１６０Ｅ、ＢＹ１６−１６１Ｅ等を好適に使用することができる。
【００７１】
前記白色顔料は、前記ポリカーボネート系樹脂１００質量部に対して、０．５質量部以上５質量部以下を含むことを要す。白色顔料が０．５質量部以上であれば、白色顔料としての十分な効果が得られ、５質量部以下であれば、耐衝撃特性の低下を十分に抑制することができる。前記白色顔料は、ポリカーボネート系樹脂１００質量部に対して、好ましくは１質量部以上、４質量部以下、より好ましくは２質量部以上、４質量部以下、さらに好ましくは２質量部以上、３質量部以下である。
【００７２】
［酸化防止剤］
本発明のポリカーボネート系樹脂組成物には、酸化防止剤を含むことが好ましい。ポリカーボネート系樹脂組成物に酸化防止剤が含まれることにより、ポリカーボネート系樹脂組成物の溶融時における酸化劣化を防止することができ、酸化劣化による着色等を防止することができる。酸化防止剤としては、リン系酸化防止剤及び／又はフェノール系酸化防止剤等が好適に用いられる。
リン系酸化防止剤としては、例えば、トリフェニルホスファイト、ジフェニルノニルホスファイト、ジフェニル（２−エチルヘキシル）ホスファイト、トリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、トリスノニルフェニルホスファイト、ジフェニルイソオクチルホスファイト、２，２’−メチレンビス（４，６−ジ−ｔ−ブチルフェニル）オクチルホスファイト、ジフェニルイソデシルホスファイト、ジフェニルモノ（トリデシル）ホスファイト、フェニルジイソデシルホスファイト、フェニルジ（トリデシル）ホスファイト、トリス（２−エチルヘキシル）ホスファイト、トリス（イソデシル）ホスファイト、トリス（トリデシル）ホスファイト、ジブチルハイドロジェンホスファイト、トリラウリルトリチオホスファイト、テトラキス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）−４，４’−ビフェニレンジホスホナイト、４，４’−イソプロピリデンジフェノールドデシルホスファイト、４，４’−イソプロピリデンジフェノールトリデシルホスファイト、４，４’−イソプロピリデンジフェノールテトラデシルホスファイト、４，４’−イソプロピリデンジフェノールペンタデシルホスファイト、４，４’−ブチリデンビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェニル）ジトリデシルホスファイト、ビス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（ノニルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ジステアリル−ペンタエリスリトールジホスファイト、フェニルビスフェノールＡペンタエリスリトールジホスファイト、テトラフェニルジプロピレングリコールジホスファイト、１，１，３−トリス（２−メチル−４−ジ−トリデシルホスファイト−５−ｔ−ブチルフェニル）ブタン、３，４，５，６−ジベンゾ−１，２−オキサホスファン、トリフェニルホスフィン、ジフェニルブチルホスフィン、ジフェニルオクタデシルホスフィン、トリス−（ｐ−トリル）ホスフィン、トリス−（ｐ−ノニルフェニル）ホスフィン、トリス−（ナフチル）ホスフィン、ジフェニル−（ヒドロキシメチル）−ホスフィン、ジフェニル−（アセトキシメチル）−ホスフィン、ジフェニル−（β−エチルカルボキシエチル）−ホスフィン、トリス−（ｐ−クロロフェニル）ホスフィン、トリス−（ｐ−フルオロフェニル）ホスフィン、ジフェニルベンジルホスフィン、ジフェニル−β−シアノエチルホスフィン、ジフェニル−（ｐ−ヒドロキシフェニル）−ホスフィン、ジフェニル−１，４−ジヒドロキシフェニル−２−ホスフィン、フェニルナフチルベンジルホスフィン等が挙げられる。
【００７３】
また、リン系酸化防止剤として、例えば、Ｉｒｇａｆｏｓ１６８（ＢＡＳＦジャパン（株）製、商標）、Ｉｒｇａｆｏｓ１２（ＢＡＳＦジャパン（株）製、商標）、Ｉｒｇａｆｏｓ３８（ＢＡＳＦジャパン（株）製、商標）、アデカスタブ２１１２（株式会社ＡＤＥＫＡ製、商標）、アデカスタブ  Ｃ（株式会社ＡＤＥＫＡ製、商標）、アデカスタブ  ３２９Ｋ（株式会社ＡＤＥＫＡ製、商標）、アデカスタブ  ＰＥＰ３６（株式会社ＡＤＥＫＡ製、商標）、ＪＣ２６３（城北化学工業株式会社製、商標）、Ｓａｎｄｓｔａｂ Ｐ−ＥＰＱ（クラリアント社製、商標）、Ｗｅｓｔｏｎ ６１８（ＧＥ社製、商標）、Ｗｅｓｔｏｎ６１９Ｇ（ＧＥ社製、商標）及びＷｅｓｔｏｎ ６２４（ＧＥ社製、商標）等の市販品を挙げることができる。
【００７４】
フェノール系酸化防止剤としては、例えば、ｎ−オクタデシル−３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノール、２，２'−メチレンビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、ペンタエリスリチル−テトラキス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕等のヒンダードフェノール類が挙げられる。
これら酸化防止剤の中では、ビス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル４−メチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト等のペンタエリスリトールジホスファイト構造を持つものやトリフェニルホスフィンが好ましい。
【００７５】
フェノール系酸化防止剤としては、例えば、Ｉｒｇａｎｏｘ１０１０（ＢＡＳＦジャパン（株）製、商標）、Ｉｒｇａｎｏｘ１０７６（ＢＡＳＦジャパン（株）製、商標）、Ｉｒｇａｎｏｘ１３３０（ＢＡＳＦジャパン（株）製、商標）、Ｉｒｇａｎｏｘ３１１４（ＢＡＳＦジャパン（株）製、商標）、Ｉｒｇａｎｏｘ３１２５（ＢＡＳＦジャパン（株）製、商標）、ＢＨＴ（武田薬品工業株式会社製、商標）、Ｃｙａｎｏｘ１７９０（サイアナミド社製、商標）及びＳｕｍｉｌｉｚｅｒＧＡ−８０（住友化学株式会社製、商標）等の市販品を挙げることができる。
【００７６】
前記酸化防止剤の含有量は、前記ポリカーボネート系樹脂１００質量部に対して、０．００１質量部以上０．５質量部以下程度であり、好ましくは０．０１質量部以上０．３質量部以下、より好ましくは０．０５質量部以上０．３質量部以下である。前記酸化防止剤の含有量が０．００１質量部以上であれば、十分な酸化防止効果が得られ、０．５質量部以下であれば、成形時に用いる金型汚れを十分に抑制できる。
【００７７】
［紫外線吸収剤］
本発明のポリカーボネート系樹脂組成物には、必要に応じて、紫外線吸収剤を含ませることができる。紫外線吸収剤としては、ベンゾトリアゾール系化合物、ベンゾオキサジノン系化合物、サリチレート系化合物、マロン酸エステル系化合物、オキサリルアラニド系化合物、トリアジン系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系化合物などが挙げられ、これらは１種を単独で用いても２種以上を組み合わせて用いてもよい。
ベンゾトリアゾール系化合物として、具体的には、例えば２−（２’−ヒドロキシ−５’−ｔｅｒｔ−オクチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−アミルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−５’−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−〔２’−ヒドロキシ−３’，５’−ビス（α，α−ジメチルベンジル）フェニル〕−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２，２’−メチレン−ビス〔４−メチル−６−（ベンゾトリアゾール−２−イル）フェノール〕等を挙げることができる。
トリアジン系化合物として、具体的には、例えば２−（４，６−ジフェニル−１，３，５−トリアジン−２−イル）−５−（ヘキシル）オキシ−フェノール、２−（４，６−ビス−２，４−ジメチルフェニル−１，３，５−トリアジン−２−イル）−５−（ヘキシル）オキシ−フェノール等を挙げることができる。
ベンゾフェノン系化合物として、具体的には、例えば２−ヒドロキシ−４−ｎ−オクトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−ベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−エトキシ−ベンゾフェノン等を挙げることができる。
シアノアクリレート系化合物として、具体的には、例えば２−エチル−２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリレート、２−エチルヘキシル−２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリレート、１，３−ビス−〔２’−シアノ−３，３’−ジフェニルアクリロイルオキシ〕−２，２−ビス−〔（２−シアノ−３’，３’−ジフェニルアクリロイル）オキシ〕メチルプロパン等を挙げることができる。
これらの中では、ベンゾトリアゾール系化合物及びトリアジン系化合物からなる群から選ばれる少なくとも１種が好ましい。
紫外線吸収剤としては、例えば、シーソーブ７０９（シプロ化成株式会社、商標）、ケミソーブ７９（ケミプロ化成株式会社、商標）、ホスタビン  Ｂ−ＣＡＰ（クラリアント社製、商標）、チヌビン１５７７（ＢＡＳＦジャパン（株）製、商標）、Ｃｙａｓｏｒｂ  ＵＶ−３６３８（サイテク・テクノロジー・コーポーレーション製）等の市販品を挙げることができる。
【００７８】
前記紫外線吸収剤の含有量は、前記ポリカーボネート系樹脂１００質量部に対して、０．０１質量部以上１．０質量部以下程度であり、好ましくは０．０５質量部以上０．７質量部以下、より好ましくは０．１質量部以上０．５質量部以下である。前記紫外線吸収剤の含有量が０．０１質量部以上であれば、十分な耐光特性が得られ、１．０質量部以下であれば、成形時に用いる金型汚れを十分に抑制できる。
【００７９】
［その他の添加剤］
本発明のポリカーボネート系樹脂組成物には、本発明の効果を損なわない範囲で、その他の添加剤を含ませることができる。その他の添加剤としては、難燃剤や難燃助剤、離型剤、補強材、充填剤、耐衝撃性改良用のエラストマー、染料等を挙げることができる。
【００８０】
本発明の第二の形態によるポリカーボネート系樹脂組成物は、−４０℃におけるＩｚｏｄ衝撃強度が３０ｋＪ／ｍ２以上であることを要し、低温耐衝撃性に優れる。Ｉｚｏｄ衝撃強度は、ポリカーボネート系樹脂組成物を用いて厚さ３．２ｍｍ（約１／８インチ）の試験片に後加工にてノッチを付与した試験片を作成し、ＡＳＴＭ規格Ｄ−２５６に準拠して測定することができ、具体的には実施例に記載の方法で測定できる。−４０℃における上記Ｉｚｏｄ衝撃強度は、好ましくは４０ｋＪ／ｍ２以上である。
【００８１】
本発明のポリカーボネート系樹脂組成物は、前記の各成分を上記割合で、更に必要に応じて用いられる各種任意成分を適当な割合で配合し、混練することにより得られる。
配合及び混練は、通常用いられている機器、例えば、リボンブレンダー、ドラムタンブラーなどで予備混合して、ヘンシェルミキサー、バンバリーミキサー、単軸スクリュー押出機、二軸スクリュー押出機、多軸スクリュー押出機及びコニーダ等を用いる方法で行うことができる。混練の際の加熱温度は、通常、２４０℃以上３２０℃以下の範囲で適宜選択される。この溶融混練成形としては、押出成形機、特に、ベント式の押出成形機の使用が好ましい。
【００８２】
［成形品］
本発明の成形品は、本発明のポリカーボネート系樹脂組成物からなる。本発明のポリカーボネート系樹脂組成物を用いて、上記の溶融混練成形機、又は、得られたペレットを原料として、射出成形法、射出圧縮成形法、押出成形法、ブロー成形法、プレス成形法、真空成形法及び発泡成形法等により各種成形品を製造することができる。特に、得られたペレットを用いて、射出成形及び射出圧縮成形による射出成形品の製造に好適に用いることができる。
本発明のポリカーボネート系樹脂組成物からなる成形品は、例えば、
（１）テレビ、ラジオカセット、ビデオカメラ、ビデオテープレコーダ、オーディオプレーヤー、ＤＶＤプレーヤー、エアコンディショナ、携帯電話、ディスプレイ、コンピュータ、レジスター、電卓、複写機、プリンター、ファクシミリ等の電気・電子機器用部品、
（２）上記１の電気・電子機器用の筐体等として好適に用いることができる。
【実施例】
【００８３】
次に、本発明を実施例によりさらに具体的に説明するが、本発明はこれらの例により何ら限定されるものではない。なお、各例における特性値、評価結果は、以下の要領に従って求めた。【００８４】
（１）ゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）
ポリオルガノシロキサンのＧＰＣ測定は以下の条件で行った。
試験機器：ＴＯＳＯＨ  ＨＬＣ  ８２２０
カラム：ＴＯＳＯＨ  ＴＳＫ−ＧＥＬ  ＧＨＸＬ−Ｌ，Ｇ４０００ＨＸＬ，Ｇ２０００ＨＸＬ
溶媒：テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）
カラム温度：４０℃
流速：１．０ｍｌ／分
検出器：ＲＩ
注入濃度：０．２ｗ／ｖ％
注入量：０．１ｍｌ
検量線の作製には、東ソー株式会社製の標準ポリスチレンを用いた。【００８５】
微分分子量分布曲線は、次のような方法で得ることができる。まず、ＲＩ検出計において検出される強度分布の時間曲線（溶出曲線）を、検量線を用いて分子量の対数値（ｌｏｇ（Ｍ））に対する分子量分布曲線とした。次に、分布曲線の全面積を１００％とした場合のｌｏｇ（Ｍ）に対する積分分子量分布曲線を得た後、この積分分子量分布曲線をｌｏｇ（Ｍ）で、微分することによってｌｏｇ（Ｍ）に対する微分分子量分布曲線を得ることができる。なお、微分分子量分布曲線を得るまでの一連の操作は、通常、ＧＰＣ測定装置に内蔵の解析ソフトウェアを用いて行うことができる。図１は、得られる微分分布曲線の一例を示すグラフであり、ｄｗ／ｌｏｇ（Ｍ）の値が最大値のｌｏｇ（Ｍ）の値及びｄｗ／ｄｌｏｇ（Ｍ）について、４．００≦ｌｏｇ（Ｍ）≦４．５０の範囲で積分した値を斜線部分で示したものである。【００８６】
なお、ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体（Ｅ−１）中のポリオルガノシロキサンブロック（Ｂ）のＧＰＣ測定は以下の条件で行った。
得られたＰＣ−ＰＯＳのフレーク４．３ｇにメチレンクロライドを２０ｍｌ加え、完全に溶解した。マグネチックスターラーで撹拌しながら、水酸化ナトリウムのメタノール溶液（４８質量％のＮａＯＨ水溶液とメタノールを容積比で１：９の割合で混合したもの）２０ｍｌを加え、３０分撹拌した。析出したＰＣ由来の固形分結晶を溶解するため、イオン交換水２５ｍｌを加え１分間攪拌後、静置することで有機層と水層に分離し有機層を得た。有機層に有機層の１５容積％の０．０３ｍｏｌ／ＬのＮａＯＨ水溶液を加え攪拌により洗浄後、静置分離し有機層を得る操作を二回実施した。得られた有機層に有機層の１５容積％の０．２ｍｏｌ／Ｌの塩酸を加え攪拌により洗浄後、静置分離し有機層を得た。次に、有機層を有機層の１５容積％の純水を加え攪拌により洗浄後、静置分離し有機層を得た。得られた有機層を乾燥機にて６０℃で１６時間乾燥した。得られたサンプルをＧＰＣにて測定した。ここで、得られるＧＰＣスペクトルにおいて、ポリスチレン換算分子量でｌｏｇ［Ｍ］２．０以上３．０未満に最大値を持つＰＣ由来の低分子量成分と、ｌｏｇ［Ｍ］３．０以上４．５未満に最大値を持つＰＯＳ成分であることが分かる。このＰＯＳのスペクトルについて確認することで、用いたポリオルガノシロキサンの分子量分布を確認することができる。
また、ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体（Ｅ’−１）中のポリオルガノシロキサンブロック（Ｂ’）のＧＰＣ測定は、前記「ＰＣ−ＰＯＳ共重合体のフレーク４．３ｇ」を「各例で得られた樹脂組成物のペレット４．３ｇ」に変更して同様の条件で行った。【００８７】
（２）ポリジメチルシロキサン鎖長および含有量
ＮＭＲ測定によって、ポリジメチルシロキサンのメチル基の積分値比により算出した。
＜ポリジメチルシロキサンの鎖長の定量方法＞
１Ｈ−ＮＭＲ測定条件
ＮＭＲ装置：（株）ＪＥＯＬ  ＲＥＳＯＮＡＮＣＥ製  ＥＣＡ５００
プローブ：５０ＴＨ５ＡＴ／ＦＧ２
観測範囲：−５〜１５ｐｐｍ
観測中心：５ｐｐｍ
パルス繰り返し時間：９秒
パルス幅：４５°
ＮＭＲ試料管：５φ
サンプル量：       ４５〜５５ｍｇ
溶媒：重クロロホルム
測定温度：室温
積算回数：２５６回
アリルフェノール末端ポリジメチルシロキサンの場合
Ａ：δ−０．０２〜０．５付近に観測されるジメチルシロキサン部のメチル基の積分値
Ｂ：δ２．５０〜２．７５付近に観測されるアリルフェノールのメチレン基の積分値
ポリジメチルシロキサンの鎖長＝（Ａ／６）／（Ｂ／４）
オイゲノール末端ポリジメチルシロキサンの場合
Ａ：δ−０．０２〜０．５付近に観測されるジメチルシロキサン部のメチル基の積分値
Ｂ：δ２．４０〜２．７０付近に観測されるオイゲノールのメチレン基の積分値
ポリジメチルシロキサンの鎖長＝（Ａ／６）／（Ｂ／４）【００８８】
＜ＰＣ−ＰＤＭＳ中のポリジメチルシロキサン含有量の定量方法＞
例）アリルフェノール末端ポリジメチルシロキサンを共重合したｐ−ｔ−ブチルフェノール（ＰＴＢＰ）末端ポリカーボネート中のポリジメチルシロキサン共重合量の定量方法
ＮＭＲ装置：（株）ＪＥＯＬ  ＲＥＳＯＮＡＮＣＥ製  ＥＣＡ−５００
プローブ：ＴＨ５  ５φＮＭＲ試料管対応
観測範囲：−５〜１５ｐｐｍ
観測中心：５ｐｐｍ
パルス繰り返し時間：９秒
パルス幅：４５°
積算回数：２５６回
ＮＭＲ試料管：５φ
溶媒：重クロロホルム
測定温度：室温
Ａ：δ１．５〜１．９付近に観測されるＢＰＡ部のメチル基の積分値
Ｂ：δ−０．０２〜０．３付近に観測されるジメチルシロキサン部のメチル基の積分値
Ｃ：δ１．２〜１．４付近に観測されるｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル部のブチル基の積分値
ａ＝Ａ／６
ｂ＝Ｂ／６
ｃ＝Ｃ／９
Ｔ＝ａ＋ｂ＋ｃ
ｆ＝ａ／Ｔ×１００
ｇ＝ｂ／Ｔ×１００
ｈ＝ｃ／Ｔ×１００
ＴＷ＝ｆ×２５４＋ｇ×７４．１＋ｈ×１４９
ＰＤＭＳ（ｗｔ％）＝ｇ×７４．１／ＴＷ×１００【００８９】
（３）粘度平均分子量
粘度平均分子量（Ｍｖ）は、ウベローデ型粘度計を用いて、２０℃における塩化メチレン溶液の粘度を測定し、これより極限粘度［η］を求め、次式（Ｓｃｈｎｅｌｌ式）にて算出した。
［η］＝１．２３×１０−５×Ｍｖ０．８３【００９０】
＜ポリカーボネートオリゴマーの製造＞
５．６質量％の水酸化ナトリウム水溶液に、ビスフェノールＡ（ＢＰＡ）（後から溶解する）に対して２０００ｐｐｍの亜二チオン酸ナトリウムを加えた。これにＢＰＡ濃度が１３．５質量％となるようにＢＰＡを溶解し、ＢＰＡの水酸化ナトリウム水溶液を調製した。このＢＰＡの水酸化ナトリウム水溶液を４０Ｌ／ｈｒ、塩化メチレンを１５Ｌ／ｈｒ、及びホスゲンを４．０ｋｇ／ｈｒの流量で内径６ｍｍ、管長３０ｍの管型反応器に連続的に通した。管型反応器はジャケット部分を有しており、ジャケットに冷却水を通して反応液の温度を４０℃以下に保った。管型反応器を出た反応液を、後退翼を備えた内容積４０Ｌのバッフル付き槽型反応器へ連続的に導入し、ここにさらにＢＰＡの水酸化ナトリウム水溶液を２．８Ｌ／ｈｒ、２５質量％の水酸化ナトリウム水溶液を０．０７Ｌ／ｈｒ、水を１７Ｌ／ｈｒ、１質量％のトリエチルアミン水溶液を０．６４Ｌ／ｈｒの流量で添加して反応を行なった。槽型反応器から溢れ出る反応液を連続的に抜き出し、静置することで水相を分離除去し、塩化メチレン相を採取した。
このようにして得られたポリカーボネートオリゴマーは濃度３３０ｇ／Ｌ、クロロホーメート基濃度０．７１ｍｏｌ／Ｌであった。【００９１】
＜ＰＣ−ＰＯＳ共重合体（Ｅ−１）の製造＞
製造例１（ＳｉＰＣ−ａ１の製造）
邪魔板、パドル型攪拌翼及び冷却用ジャケットを備えた５０Ｌ槽型反応器に上記の通り製造したポリカーボネートオリゴマー溶液１４Ｌ、塩化メチレン１１．９Ｌおよび、平均鎖長ｎ＝６４、ｄｗ／ｄｌｏｇ（Ｍ）が最大値となるｌｏｇ（Ｍ）が３．７、ｌｏｇ（Ｍ）４．００〜４．５０の範囲でｄｗ／ｄｌｏｇ（Ｍ）値を積分した値がｌｏｇ（Ｍ）の全範囲でｄｗ／ｄｌｏｇ（Ｍ）値を積分した値に対して（以下、実施例においてはｌｏｇ（Ｍ）４．００〜４．５０の割合と呼ぶことがある）１５．０％であるアリルフェノール末端変性ポリジメチルシロキサン（以下、ポリジメチルシロキサンをＰＤＭＳと呼ぶことがある）２６４ｇを塩化メチレン８００ｍｌに溶解したもの、ならびに、トリエチルアミン７．９ｍＬを仕込み、攪拌下でここに６．４質量％の水酸化ナトリウム水溶液１３８８ｇを加え、２０分間ポリカーボネートオリゴマーとアリルフェノール末端変性ＰＤＭＳの反応を行った。なお、ここで用いたアリルフェノール末端変性ＰＤＭＳは、平均鎖長ｎ＝３４，ｄｗ／ｄｌｏｇ（Ｍ）が最大値となるｌｏｇ（Ｍ）が３．６，ｌｏｇ（Ｍ）４．００〜４．５０の割合が５．６％のアリルフェノール末端変性ＰＤＭＳと、平均鎖長ｎ＝９２，ｄｗ／ｄｌｏｇ（Ｍ）が最大値となるｌｏｇ（Ｍ）が４．１，ｌｏｇ（Ｍ）４．００〜４．５０の割合が３４．８％のアリルフェノール末端変性ＰＤＭＳとを質量比５：５で配合したものである。
この重合液に、ｐ−ｔ−ブチルフェノール（ＰＴＢＰ）の塩化メチレン溶液（ＰＴＢＰ１３２．９ｇを塩化メチレン１．３Ｌに溶解したもの）、ＢＰＡの水酸化ナトリウム水溶液（ＮａＯＨ５８８ｇと亜二チオン酸ナトリウム２．０ｇとを水８．６Ｌに溶解した水溶液にＢＰＡ９９７ｇを溶解させたもの）を添加し４０分間重合反応を実施した。
希釈のため塩化メチレン１０Ｌを加え２０分間攪拌した後、ＰＣ−ＰＤＭＳを含む有機相と過剰のＢＰＡ及びＮａＯＨを含む水相に分離し、有機相を単離した。
こうして得られたＰＣ−ＰＤＭＳの塩化メチレン溶液を、その溶液に対して、１５容積％の０．０３ｍｏｌ／ＬＮａＯＨ水溶液、０．２Ｎ塩酸で順次洗浄し、次いで洗浄後の水相中の電気伝導度が０．０１μＳ／ｍ以下になるまで純水で洗浄を繰り返した。
洗浄により得られたポリカーボネートの塩化メチレン溶液を濃縮・粉砕し、得られたフレークを減圧下１２０℃で乾燥した。ＰＤＭＳ濃度は４．８質量％、ＩＳＯ１６２８−４（１９９９）に準拠して測定した粘度数は４７．４、粘度平均分子量Ｍｖ＝１７，７００であった。このようにして、ＰＣ−ＰＤＭＳ（Ｅ−１）として、ＳｉＰＣ−ａ１を得た。得られたＳｉＰＣ−ａ１の特性値を表１に示す。【００９２】
製造例２（ＳｉＰＣ−ａ２の製造）
製造例１において、アリルフェノール末端変性ポリジメチルシロキサン（ＰＤＭＳ）の量を３５０ｇに変更した。ＰＤＭＳ濃度は６．０質量％、ＩＳＯ１６２８−４（１９９９）に準拠して測定した粘度数は４７．４、粘度平均分子量Ｍｖ＝１７，７００であった。【００９３】
製造例３（ＳｉＰＣ−ａ３の製造）
製造例１において、平均鎖長ｎ＝６３、ｄＷ／ｄｌｏｇ（Ｍ）が最大値となるｌｏｇ（Ｍ）が３．８、ｌｏｇ（Ｍ）＝４．０〜４．５の割合が１５．１％であるオイゲノール末端変性ポリジメチルシロキサン（ＰＤＭＳ）を３５０ｇに変更した。ＰＤＭＳ濃度は６．０質量％、ＩＳＯ１６２８−４（１９９９）に準拠して測定した粘度数は４７．４、粘度平均分子量Ｍｖ＝１７，７００であった。なお、ここで用いたオイゲノール末端変性ＰＤＭＳは、平均鎖長ｎ＝３５，ｄｗ／ｄｌｏｇ（Ｍ）が最大値となるｌｏｇ（Ｍ）が３．６、ｌｏｇ（Ｍ）４．００〜４．５０の割合が５．６％のオイゲノール末端変性ＰＤＭＳと、平均鎖長ｎ＝９１，ｄｗ／ｄｌｏｇ（Ｍ）が最大値となるｌｏｇ（Ｍ）が４．１、ｌｏｇ（Ｍ）４．００〜４．５０の割合が３４．５％のオイゲノール末端変性ＰＤＭＳとを質量比５：５で配合したものである。【００９４】
＜ＰＣ−ＰＯＳ共重合体（Ｅ−１）以外のＰＣ−ＰＯＳ共重合体の製造＞
製造例４（ＳｉＰＣ−ｂ１の製造）
製造例１において用いたアリルフェノール末端変性ＰＤＭＳを、平均鎖長ｎ＝９２，ｄｗ／ｄｌｏｇ（Ｍ）が最大値を取るときのｌｏｇ（Ｍ）が４．１，ｌｏｇ（Ｍ）４．００〜４．５０の割合が３４．８％のアリルフェノール末端変性ＰＤＭＳを３５０ｇに変えた以外は製造例１と同様に行って、ＰＣ−ＰＯＳ共重合体（ＳｉＰＣ−ｂ１）のフレークを得た。得られたフレークのＰＤＭＳ量は６．０質量％、ＩＳＯ１６２８−４（１９９９）に準拠して測定した粘度数は４７．４、粘度平均分子量は１７，７００であった。得られたＳｉＰＣ−ｂ１の特性値を表１に示す。【００９５】
製造例５（ＳｉＰＣ−ｃ１の製造）
製造例１において用いたアリルフェノール末端変性ＰＤＭＳを、平均鎖長ｎ＝３４，ｄｗ／ｄｌｏｇ（Ｍ）が最大値を取るときのｌｏｇ（Ｍ）が３．６，ｌｏｇ（Ｍ）４．００〜４．５０の割合が５．６％のアリルフェノール末端変性ＰＤＭＳに変えた以外は製造例１と同様に行って、ＰＣ−ＰＯＳ共重合体（ＳｉＰＣ−ｃ１）のフレークを得た。得られたフレークのＰＤＭＳ量は６．０質量％、ＩＳＯ１６２８−４（１９９９）に準拠して測定した粘度数は４７．３、粘度平均分子量は１７，５００であった。得られたＳｉＰＣ−ｃ１の特性値を表１に示す。【００９６】
【表１】
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【００９７】
実施例１〜１６及び比較例１〜７
製造例１〜５で得られたＰＣ−ＰＯＳ共重合体、及びその他の各成分を表２に示す配合割合（単位；質量部）で混合し、ベント式二軸押出機（東芝機械株式会社製、ＴＥＭ３５Ｂ）に供給し、スクリュー回転数１５０ｒｐｍ、吐出量２０ｋｇ／ｈｒ、樹脂温度２９５〜３００℃にて溶融混練し、評価用ペレットサンプルを得た。この評価用ペレットサンプルを１２０℃で８時間乾燥させた後、射出成形機（日精樹脂工業株式会社製、ＮＥＸ１１０、スクリュー径３６ｍｍΦ）を用いて、シリンダー温度２８０℃、金型温度８０℃にて、射出成形して各試験を行うための試験片（下記に試験片サイズを示す。）を作成した。また、その他の各成分について、以下に示す。各成分と評価試験結果について、表２及び表３に示す。
（試験片サイズ）
成形品重量（スプルー＋ランナー（８ｍｍΦ）＋試験片）：４９グラム
試験片：６３×１３×３．２ｍｍのＩｚｏｄ試験片２個、１２６×１３×３．２ｍｍのＨＤＴ試験片、３４×２５×３．２ｍｍの平板試験片、長さ１７３ｍｍ×平行部の幅１０ｍｍ×厚さ３．２ｍｍの引張試験片、９９×１０×４．０ｍｍの曲げ試験片【００９８】
［評価試験］
＜アイゾット（Ｉｚｏｄ）衝撃強度＞
射出成形機で作製した厚さ３．２ｍｍ（約１／８インチ）の試験片に後加工にてノッチを付与した試験片を用いて、ＡＳＴＭ規格Ｄ−２５６に準拠して、測定温度２３℃及び−４０℃におけるノッチ付きアイゾット衝撃強度を測定した。その判断基準として２３℃で６０ｋＪ／ｍ２以上であれば、２３℃での耐衝撃性が優れており、−４０℃で３０ｋＪ／ｍ２以上であれば、低温での耐衝撃性が優れていることを示すものである。【００９９】
＜流動性（Ｑ値）の測定＞
高架式フローテスターを用い、ＪＩＳ Ｋ７２１０に準拠して、２８０℃、１５．７ＭＰａの圧力下で、直径１ｍｍ、長さ１０ｍｍのノズルより流出する溶融樹脂量（×１０-2ｍＬ／秒）を測定した。Ｑ値が高いほど流動性に優れていることを示すものである。【０１００】
＜難燃性＞
ＵＬ規格９４に準じて作製した、試験片（長さ１２７ｍｍ、幅１２．７ｍｍ、厚さ１．５ｍｍ）の試験片を用いて垂直燃焼試験を行った。なお、ＵＬ規格９４とは、鉛直に保持した所定の大きさの試験片にバーナーの炎を１０秒間接炎した後の残炎時間から難燃性を評価する方法である。【０１０１】
＜ＨＤＴ（熱変形温度）＞
ＡＳＴＭ Ｄ６４８に準拠し、荷重１．８３ＭＰａで測定した。ＨＤＴは、耐熱性の目安を示すものであり、その判断基準として１２０℃以上であれば、十分な耐熱性を有していることを示す。【０１０２】
＜成形品外観＞
前記引張試験用成形品の表面外観を目視により観察し、下記評価基準に従って評価した。
Ａ：成形品表面に茶〜黒色のスジが全く観察されない
Ｃ：成形品表面に茶〜黒色のスジが観察される【０１０３】
［その他の成分］
＜芳香族ポリカーボネート樹脂＞
ＰＣ−１：芳香族ホモポリカーボネート樹脂［出光興産（株）製、タフロンＦＮ１７００（商品名）、粘度平均分子量＝１７，７００］
ＰＣ−２：芳香族ホモポリカーボネート樹脂［出光興産（株）製、タフロンＦＮ１９００（商品名）、粘度平均分子量＝１９，３００］
ＰＣ−３：芳香族ホモポリカーボネート樹脂［出光興産（株）製、タフロンＦＮ２２００（商品名）、粘度平均分子量＝２１，３００］
ＰＣ−４：芳香族ホモポリカーボネート樹脂［出光興産（株）製、タフロンＦＮ２５００（商品名）、粘度平均分子量＝２３，５００］【０１０４】
＜白色顔料＞
ＣＲ６３：二酸化チタン［石原産業（株）製、二酸化チタンにシリカ・アルミナ１％及びジメチルシリコーン０．５％で表面処理したもの、平均粒子径：０．２１μｍ］
ＣＲ−６０−２：二酸化チタン［石原産業（株）製、ポリオールにより被覆された酸化チタン、平均粒子径：０．２１μｍ］
ＰＣ３：二酸化チタン［石原産業（株）製、ルチル型二酸化チタン、表面酸量：１０μｍｏｌ／ｇ、表面塩基量：４μｍｏｌ／ｇ］
ＺｎＳ：硫化亜鉛粉末［Ｓａｃｈｔｏｌｅｂｅｎ  Ｃｈｅｍｉｅ  ＧｍｂＨ製、平均粒子径：０．３μｍ］【０１０５】
＜その他の成分＞
難燃助剤：「メタブレンＡ−３８００（商品名）」［変性ポリテトラフロオロエチレン（変性ＰＴＦＥ）、三菱レイヨン（株）製］
難燃剤：「エフトップＫＦＢＳ（商品名）」（パーフルオロブタンスルホン酸カリウム、三菱マテリアル電子化成（株）製）
酸化防止剤：「ＩＲＧＡＦＯＳ１６８（商品名）」［トリス（２，４−ジ−t−ブチルフェニル）ホスファイト、ＢＡＳＦジャパン（株）製］
紫外線吸収剤：「シーソーブ７０９（商品名）」［２−（２'−ヒドロキシ−５'−ｔ−オクチルフェニル）ベンゾトリアゾール、シプロ化成（株）製］【０１０６】
【表２】
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【０１０７】
【表３】
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【０１０８】
表２から明らかなように、実施例１〜１６のポリカーボネート系樹脂組成物から得られた成形品は、耐衝撃性、特に低温での耐衝撃性に優れ、耐熱性及び成形品外観にも優れていることが示されている。一方、比較例１〜７で示されているように、ポリオルガノシロキサンの分子量分布が制御された、特定のポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体を含むポリカーボネート系樹脂を用いないと、耐衝撃性、特に低温での耐衝撃性と成形品外観を両立した優れた成形品が得られないことが示されている。
【産業上の利用可能性】
【０１０９】
本発明で得られるポリカーボネート系樹脂組成物は、成形外観及び耐衝撃性に優れるため、電気および電子機器用部品、照明器具内外装部品、車両内外装部品、食品トレーや食器に好適に用いることができる。
【図１】
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【図２】
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【国際調査報告】
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