(57)【要約】  蒸着用メタルマスクは複数のマスク孔を含むマスク領域を備え、マスク領域の中央以外に位置する各マスク孔の接続部は、マスク孔の全周にわたりマスク孔の内側に向けて突き出る形状を有し、マスク領域の中央寄りの部分である第１部分と、マスク領域の端部寄りの部分である第２部分とから構成される。第１部分とマスク領域の裏面との間の距離が、第１ステップハイであり、端部領域での第１ステップハイが中央領域での第１ステップハイよりも小さい。
2018025835.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数のマスク孔を含むマスク領域を備え、
前記マスク領域は中央領域と端部領域とを備え、
前記中央領域は、前記マスク領域の中央を含み、かつ、蒸着源と対向するための複数の前記マスク孔を含み、
前記端部領域は、前記中央領域よりも前記マスク領域の端部側に位置し、かつ、前記中央領域に含まれる前記マスク孔とは異なる複数の前記マスク孔を含み、
前記マスク領域は、
前記各マスク孔の大開口を含む表面と、
前記各マスク孔の小開口を含む裏面と、を備え、
前記各マスク孔は、
前記大開口を含み、前記小開口に向けて先細る形状を有した大孔と、
前記小開口を含み、前記大開口に向けて先細る形状を有した小孔と、
前記大孔と前記小孔とを接続する接続部とを含み、
前記マスク領域の中央以外に位置する前記各接続部は、
前記マスク孔の全周にわたり前記マスク孔の内側に向けて突き出る形状を有し、かつ、前記マスク領域の中央寄りの部分である第１部分と、前記マスク領域の端部寄りの部分である第２部分とから構成され、
前記第１部分と前記裏面との間の距離が、第１ステップハイであり、前記端部領域での前記第１ステップハイが、前記中央領域での前記第１ステップハイよりも小さい
蒸着用メタルマスク。
【請求項２】
蒸着用メタルマスクが備える複数のマスク孔の全てによって１つのマスク領域が構成され、
前記マスク領域は中央領域と端部領域とを備え、
前記端部領域は、前記マスク領域の端部と、複数の前記マスク孔とを含み、
前記中央領域は、前記端部領域よりも前記マスク領域の中央側に位置し、かつ、前記端部領域に含まれる前記マスク孔とは異なるとともに、蒸着源と対向するための複数の前記マスク孔を含み、
前記マスク領域は、
前記各マスク孔の大開口を含む表面と、
前記各マスク孔の小開口を含む裏面と、を備え、
前記各マスク孔は、
前記大開口を含み、前記小開口に向けて先細る形状を有した大孔と、
前記小開口を含み、前記大開口に向けて先細る形状を有した小孔と、
前記大孔と前記小孔とを接続する接続部とを含み、
前記マスク領域の中央以外に位置する前記各接続部は、
前記マスク孔の全周にわたり前記マスク孔の内側に向けて突き出る形状を有し、かつ、前記マスク領域の中央寄りの部分である第１部分と、前記マスク領域の端部寄りの部分である第２部分とから構成され、
前記第１部分と前記裏面との間の距離が、第１ステップハイであり、前記端部領域での前記第１ステップハイが、前記中央領域での前記第１ステップハイよりも小さい
蒸着用メタルマスク。
【請求項３】
前記第２部分と前記裏面との間の距離が、第２ステップハイであり、
前記各マスク孔において、前記第２ステップハイは、前記第１ステップハイ以上である
請求項１または２に記載の蒸着用メタルマスク。
【請求項４】
前記表面と直交する断面における前記大孔の内周面が弧状を有し、
前記断面における前記小孔の内周面が弧状を有し、
前記断面において、前記表面における法線のうち、前記大開口の中央を通る前記法線が大孔法線であり、前記小開口の中央を通る前記法線が小孔法線であり、
前記各マスク孔に属する前記大孔法線は、同一の前記マスク孔に属する前記小孔法線と同じ位置、または、同一の前記マスク孔に属する前記小孔法線よりも前記マスク領域の中央寄りに位置し、同一の前記マスク孔に属する前記大孔法線と前記小孔法線との間の距離が、法線間距離であり、
前記端部領域での前記法線間距離が、前記中央領域での前記法線間距離よりも大きい
請求項１から３のいずれか一項に記載の蒸着用メタルマスク。
【請求項５】
前記蒸着用メタルマスクは、複数の前記端部領域を備え、
前記各端部領域は、前記マスク孔が並ぶ方向に沿って並び、
複数の前記端部領域において、前記中央領域からの距離が大きいほど、前記端部領域での前記法線間距離が大きい
請求項４に記載の蒸着用メタルマスク。
【請求項６】
前記蒸着用メタルマスクは、複数の前記端部領域を備え、
前記各端部領域は、前記マスク孔が並ぶ方向に沿って並び、
複数の前記端部領域において、前記中央領域からの距離が大きい前記端部領域ほど、前記端部領域での前記第１ステップハイが小さい
請求項１または２に記載の蒸着用メタルマスク。
【請求項７】
前記第２部分と前記裏面との間の距離が、第２ステップハイであり、
複数の前記端部領域において、前記中央領域からの距離が大きい前記端部領域ほど、前記端部領域での前記第２ステップハイが大きい
請求項６に記載の蒸着用メタルマスク。
【請求項８】
前記端部領域は、前記マスク領域の前記端部を含む領域である
請求項１に記載の蒸着用メタルマスク。
【請求項９】
複数のマスク孔を含むマスク領域を備える蒸着用メタルマスクの製造方法であって、前記マスク領域は中央領域と端部領域とを備え、前記中央領域は、前記マスク領域の中央を含み、かつ、蒸着源と対向するための複数の前記マスク孔を含み、前記端部領域は、前記中央領域よりも前記マスク領域の端部側に位置し、かつ、前記中央領域に含まれる前記マスク孔とは異なる複数の前記マスク孔を含み、前記製造方法は、
メタルマスク用基材の裏面から表面に向けて、前記各マスク孔に固有の小孔であって、前記裏面に開口する小開口を含むとともに前記表面に向けて先細る形状を有する前記小孔を形成することと、
前記メタルマスク用基材の前記表面から前記裏面に向けて、前記各マスク孔に固有の大孔であって、前記表面に開口する大開口を含むとともに前記裏面に向けて先細る形状を有する前記大孔を形成し、それによって、前記小孔と前記大孔とが接続する接続部を形成することと、を含み、
前記接続部を形成することは、前記マスク孔の全周にわたり前記マスク孔の内側に向けて突き出る形状を有し、かつ、前記マスク領域の中央寄りの部分である第１部分と、前記マスク領域の端部寄りの部分である第２部分とから構成される各接続部を、前記マスク領域の前記中央以外に形成することを含み、
前記第１部分と前記裏面との間の距離が、第１ステップハイであり、前記端部領域に形成される前記接続部の前記第１ステップハイが、前記中央領域に形成される前記接続部の前記第１ステップハイよりも小さい
蒸着用メタルマスクの製造方法。
【請求項１０】
複数のマスク孔を含むマスク領域を備える蒸着用メタルマスクであって、前記マスク領域が、中央領域と端部領域とを備え、前記中央領域は、前記マスク領域の中央を含み、かつ、蒸着源と対向するための複数の前記マスク孔を含み、前記端部領域は、前記中央領域よりも前記マスク領域の端部側に位置し、かつ、前記中央領域に含まれる前記マスク孔とは異なる複数の前記マスク孔を含む、前記マスク領域を備える前記蒸着用メタルマスクを形成することと、
前記蒸着用メタルマスクを用いて蒸着対象に前記マスク孔ごとの蒸着パターンを形成することと、を含む表示装置の製造方法であって、
前記蒸着用メタルマスクを形成することは、
メタルマスク用基材の裏面から表面に向けて、前記各マスク孔に固有の小孔であって、前記裏面に開口する小開口を含むとともに前記表面に向けて先細る形状を有する前記小孔を形成することと、
前記メタルマスク用基材の前記表面から前記裏面に向けて、前記各マスク孔に固有の大孔であって、前記表面に開口する大開口を含むとともに前記裏面に向けて先細る形状を有する前記大孔を形成し、それによって、前記小孔と前記大孔とが接続する接続部を形成することと、を含み、
前記接続部を形成することは、前記マスク孔の全周にわたり前記マスク孔の内側に向けて突き出る形状を有し、かつ、前記マスク領域の中央寄りの部分である第１部分と、前記マスク領域の端部寄りの部分である第２部分とから構成される各接続部を、前記マスク領域の前記中央以外に形成することを含み、
前記第１部分と前記裏面との間の距離が、第１ステップハイであり、前記端部領域に形成される前記接続部の前記第１ステップハイが、前記中央領域に形成される前記接続部の前記第１ステップハイよりも小さい
表示装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、蒸着用メタルマスク、蒸着用メタルマスクの製造方法、および、表示装置の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
蒸着用メタルマスクは、表面と裏面とを備え、裏面は基板などの蒸着対象と接する面であり、表面は裏面とは反対側の面である。表面から裏面までを貫通するマスク孔は、表面における開口である大開口を含む大孔と、裏面における開口である小開口を含む小孔とを備えている。マスク孔を区画する内周面は、大孔と小孔との接続部において、マスク孔の内側に突き出た形状を有している。蒸着用メタルマスクを用いた成膜では、蒸着物質が、大開口から小開口に向けてマスク孔を通り、蒸着対象に堆積する。これにより、小開口の位置や形状に従う蒸着パターンが蒸着対象に形成される（例えば、特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２０１４−１４８７４４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ところで、蒸着装置では、複数のマスク孔に対して１つの蒸着源が用いられる。例えば、蒸着装置は、１つの蒸着源を備え、複数のマスク孔のなかの中央に位置するマスク孔と、１つの蒸着源とが互いに対向するように、蒸着用メタルマスクは配置される。あるいは、蒸着装置は、複数の蒸着源を備え、１つのマスク領域に含まれる互いに異なるマスク孔群のうちで中央に位置するマスク孔と、１つの蒸着源とが互いに対向するように、蒸着用メタルマスクは配置される。あるいは、蒸着装置は、複数の蒸着源を備え、１つのマスク領域に含まれる複数のマスク孔のなかの中央に位置するマスク孔と、１つの蒸着源とが互いに対向するように、かつ、他の１つのマスク領域に含まれる複数のマスク孔のなかの中央に位置するマスク孔と、他の１つの蒸着源とが互いに対向するように、蒸着用メタルマスクは配置される。【０００５】
上述した構成においては、１つの蒸着源から中央に位置するマスク孔に向けた方向と、１つの蒸着源から他のマスク孔に向けた方向とが、互いに異なる。しかも、蒸着源から放出される蒸着物質の量は、通常、蒸着源と対向する位置において最も大きく、かつ、上述した方向の範囲内においてばらつきを有する。そのため、マスク孔を通る蒸着物質の量が、蒸着用メタルマスク内においてばらつきを有し、これにより、マスク孔ごとに形成される蒸着パターンの膜厚が、蒸着用メタルマスク内においてばらつきを有する。【０００６】
本発明は、マスク孔ごとに形成される蒸着パターンにおける膜厚の均一性を蒸着用メタルマスク内において向上させることを可能とした蒸着用メタルマスク、蒸着用メタルマスクの製造方法、および、表示装置の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記課題を解決するための蒸着用メタルマスクは、複数のマスク孔を含むマスク領域を備える。前記マスク領域は中央領域と端部領域とを備え、前記中央領域は、前記マスク領域の中央を含み、かつ、蒸着源と対向するための複数の前記マスク孔を含み、前記端部領域は、前記中央領域よりも前記マスク領域の端部側に位置し、かつ、前記中央領域に含まれる前記マスク孔とは異なる複数の前記マスク孔を含む。前記マスク領域は、前記各マスク孔の大開口を含む表面と、前記各マスク孔の小開口を含む裏面と、を備える。前記各マスク孔は、前記大開口を含み、前記小開口に向けて先細る形状を有した大孔と、前記小開口を含み、前記大開口に向けて先細る形状を有した小孔と、前記大孔と前記小孔とを接続する接続部とを含む。前記マスク領域の中央以外に位置する前記各接続部は、前記マスク孔の全周にわたり前記マスク孔の内側に向けて突き出る形状を有し、かつ、前記マスク領域の中央寄りの部分である第１部分と、前記マスク領域の端部寄りの部分である第２部分とから構成される。前記第１部分と前記裏面との間の距離が、第１ステップハイであり、前記端部領域での前記第１ステップハイが、前記中央領域での前記第１ステップハイよりも小さい。【０００８】
上記課題を解決するための蒸着用メタルマスクの製造方法は、複数のマスク孔を含むマスク領域を備える蒸着用メタルマスクの製造方法である。前記マスク領域は中央領域と端部領域とを備え、前記中央領域は、前記マスク領域の中央を含み、かつ、蒸着源と対向するための複数の前記マスク孔を含み、前記端部領域は、前記中央領域よりも前記マスク領域の端部側に位置し、かつ、前記中央領域に含まれる前記マスク孔とは異なる複数の前記マスク孔を含む。前記製造方法は、メタルマスク用基材の裏面から表面に向けて、前記各マスク孔に固有の小孔であって、前記裏面に開口する小開口を含むとともに前記表面に向けて先細る形状を有する前記小孔を形成することと、前記メタルマスク用基材の前記表面から前記裏面に向けて、前記各マスク孔に固有の大孔であって、前記表面に開口する大開口を含むとともに前記裏面に向けて先細る形状を有する前記大孔を形成し、それによって、前記小孔と前記大孔とが接続する接続部を形成することと、を含む。前記接続部を形成することは、前記マスク孔の全周にわたり前記マスク孔の内側に向けて突き出る形状を有し、かつ、前記マスク領域の中央寄りの部分である第１部分と、前記マスク領域の端部寄りの部分である第２部分とから構成される前記各接続部を、前記マスク領域の前記中央以外に形成することを含む。前記第１部分と前記裏面との間の距離が、第１ステップハイであり、前記端部領域に形成される前記接続部の前記第１ステップハイが、前記中央領域に形成される前記接続部の前記第１ステップハイよりも小さい。【０００９】
上記課題を解決するための表示装置の製造方法は、複数のマスク孔を含むマスク領域を備える蒸着用メタルマスクであって、前記マスク領域が、中央領域と端部領域とを備え、前記中央領域は、前記マスク領域の中央を含み、かつ、蒸着源と対向するための複数の前記マスク孔を含み、前記端部領域は、前記中央領域よりも前記マスク領域の端部側に位置し、かつ、前記中央領域に含まれる前記マスク孔とは異なる複数の前記マスク孔を含む、前記蒸着用メタルマスクを形成することと、前記蒸着用メタルマスクを用いて蒸着対象に前記マスク孔ごとの蒸着パターンを形成することと、を含む表示装置の製造方法である。前記蒸着用メタルマスクを形成することは、メタルマスク用基材の裏面から表面に向けて、前記各マスク孔に固有の小孔であって、前記裏面に開口する小開口を含むとともに前記表面に向けて先細る形状を有する前記小孔を形成することと、前記メタルマスク用基材の前記表面から前記裏面に向けて、前記各マスク孔に固有の大孔であって、前記表面に開口する大開口を含むとともに前記裏面に向けて先細る形状を有する前記大孔を形成し、それによって、前記小孔と前記大孔とが接続する接続部を形成することと、を含む。前記接続部を形成することは、前記マスク孔の全周にわたり前記マスク孔の内側に向けて突き出る形状を有し、かつ、前記マスク領域の中央寄りの部分である第１部分と、前記マスク領域の端部寄りの部分である第２部分とから構成される前記各接続部を前記マスク領域の前記中央以外に形成することを含む。前記第１部分と前記裏面との間の距離が、第１ステップハイであり、前記端部領域に形成される前記接続部の前記第１ステップハイが、前記中央領域に形成される前記接続部の前記第１ステップハイよりも小さい。【００１０】
上記各構成によれば、蒸着用メタルマスクにおいて、１つのマスク領域と１つの蒸着源とが対向する場合であれ、複数のマスク領域に対して各別の蒸着源が対向する場合であれ、中央領域に含まれるマスク孔の第１部分は、端部領域に含まれるマスク孔の第１部分よりも、蒸着物質が通ることを抑える。そのため、マスク孔ごとに形成される蒸着パターンの膜厚の均一性を蒸着用メタルマスク内において向上させることができる。【００１１】
上記課題を解決するための蒸着用メタルマスクは、蒸着用メタルマスクが備える複数のマスク孔の全てによって１つのマスク領域が構成され、前記マスク領域は中央領域と端部領域とを備え、前記端部領域は、前記マスク領域の端部と、複数の前記マスク孔とを含み、前記中央領域は、前記端部領域よりも前記マスク領域の中央側に位置し、かつ、前記端部領域に含まれる前記マスク孔とは異なるとともに、蒸着源と対向するための複数の前記マスク孔を含む。前記マスク領域は、前記各マスク孔の大開口を含む表面と、前記各マスク孔の小開口を含む裏面と、を備える。前記各マスク孔は、前記大開口を含み、前記小開口に向けて先細る形状を有した大孔と、前記小開口を含み、前記大開口に向けて先細る形状を有した小孔と、前記大孔と前記小孔とを接続する接続部とを含む。前記マスク領域の中央以外に位置する前記各接続部は、前記マスク孔の全周にわたり前記マスク孔の内側に向けて突き出る形状を有し、かつ、前記マスク領域の中央寄りの部分である第１部分と、前記マスク領域の端部寄りの部分である第２部分とから構成される。前記第１部分と前記裏面との間の距離が、第１ステップハイであり、前記端部領域での前記第１ステップハイが、前記中央領域での前記第１ステップハイよりも小さい。【００１２】
上記構成によれば、マスク領域と対向する蒸着源が１つであれ複数であれ、マスク領域の端部を含む端部領域での第１ステップハイが、中央領域でのステップハイよりも小さいため、中央領域に含まれるマスク孔の第１部分は、端部領域に含まれるマスク孔の第１部分よりも、蒸着物質が通ることを抑える。それゆえに、マスク孔ごとに形成される蒸着パターンの膜厚の均一性を蒸着用メタルマスク内において向上させることができる。【００１３】
上記蒸着用メタルマスクにおいて、前記第２部分と前記裏面との間の距離が、第２ステップハイであり、前記各マスク孔において、前記第２ステップハイは、前記第１ステップハイ以上であってもよい。【００１４】
上記構成によれば、第１ステップハイが小さくなっても、第２ステップハイが第１ステップハイ以上であることで、蒸着用メタルマスクの強度が低くなることが抑えられる。【００１５】
上記蒸着用メタルマスクにおいて、前記表面と直交する断面における前記大孔の内周面が弧状を有し、前記断面における前記小孔の内周面が弧状を有してもよい。前記断面において、前記表面における法線のうち、前記大開口の中央を通る前記法線が大孔法線であり、前記小開口の中央を通る前記法線が小孔法線であり、前記各マスク孔に属する前記大孔法線は、同一の前記マスク孔に属する前記小孔法線と同じ位置、または、同一の前記マスク孔に属する前記小孔法線よりも前記マスク領域の中央寄りに位置し、同一の前記マスク孔に属する前記大孔法線と前記小孔法線との間の距離が、法線間距離である。前記端部領域での前記法線間距離が、前記中央領域での前記法線間距離よりも大きくてもよい。【００１６】
上記構成によれば、小孔に対する大孔の位置を変えるのみで、中央領域での第１ステップハイよりも端部領域での第１ステップハイを小さくすることができるため、蒸着用メタルマスクの設計が容易である。【００１７】
上記蒸着用メタルマスクにおいて、前記蒸着用メタルマスクは、複数の前記端部領域を備え、前記各端部領域は、前記マスク孔が並ぶ方向に沿って並び、複数の前記端部領域において、前記中央領域からの距離が大きいほど、前記端部領域での前記法線間距離が大きくてもよい。【００１８】
上記蒸着用メタルマスクにおいて、前記蒸着用メタルマスクは、複数の前記端部領域を備え、前記各端部領域は、前記マスク孔が並ぶ方向に沿って並び、複数の前記端部領域において、前記中央領域からの距離が大きい前記端部領域ほど、前記端部領域での前記第１ステップハイが小さくてもよい。【００１９】
上記各構成によれば、中央領域からの距離が小さい端部領域が含むマスク孔の第１部分ほど、その端部領域よりもマスク領域の端部側に位置する端部領域が含むマスク孔よりも、蒸着材料が通ることを抑える。そのため、マスク孔ごとに形成される蒸着パターンの膜厚の均一性を蒸着用メタルマスク内において向上させることができる。【００２０】
上記蒸着用メタルマスクにおいて、前記第２部分と前記裏面との間の距離が、第２ステップハイであり、複数の前記端部領域において、前記中央領域からの距離が大きい前記端部領域ほど、前記端部領域での前記第２ステップハイが大きくてもよい。【００２１】
上記構成によれば、第２ステップハイが、中央領域からの距離が大きい端部領域ほど大きくなるため、第１ステップハイが小さくなることによる各端部領域における強度の低下を第２ステップハイによって補うことができる。【００２２】
上記蒸着用メタルマスクにおいて、前記端部領域は、前記マスク領域の前記端部を含む領域であってもよい。【００２３】
上記構成によれば、端部領域が、蒸着源から放出された蒸着物質が１つのマスク領域のなかで最も到達しにくい端部を含むため、端部領域での第１ステップハイを中央領域での第１ステップハイよりも小さくすることによる効果が得られやすい。
【発明の効果】
【００２４】
本発明によれば、マスク孔ごとに形成される蒸着パターンにおける膜厚の均一性を高めることができる。
【図面の簡単な説明】
【００２５】
【図１】蒸着用メタルマスクの一実施形態における蒸着用メタルマスクの平面構造を示す平面図。
【図２】一実施形態におけるマスク部材の平面構造を示す平面図。
【図３】一実施形態におけるマスク部材の平面構造の一部を拡大して示す部分拡大平面図。
【図４】一実施形態における中央領域の断面構造における一部を拡大して示す部分拡大断面図。
【図５】一実施形態における第１右側領域の断面構造における一部を拡大して示す部分拡大断面図。
【図６】一実施形態における第５右側領域の断面構造における一部を拡大して示す部分拡大断面図。
【図７】蒸着用メタルマスクの作用を説明するための作用図。
【図８】蒸着用メタルマスクの作用を説明するための作用図。
【図９】蒸着用メタルマスクの製造方法の一実施形態におけるメタルマスク用基材にレジスト層を配置する工程を示す工程図。
【図１０】一実施形態におけるレジストパターンを形成する工程を示す工程図。
【図１１】一実施形態における小孔を形成する工程を示す工程図。
【図１２】一実施形態における裏面保護層を形成する工程を示す工程図。
【図１３】一実施形態における大孔を形成する工程を示す工程図。
【図１４】変形例における第５右側領域の断面構造における一部を拡大して示す部分拡大断面図。
【発明を実施するための形態】
【００２６】
図１から図１３を参照して、蒸着用メタルマスク、蒸着用メタルマスクの製造方法、および、表示装置の製造方法の一実施形態を説明する。以下では、蒸着用メタルマスクの構成、蒸着用メタルマスクの作用、蒸着用メタルマスクの製造方法、表示装置の製造方法、および、実施例を順に説明する。
【００２７】
［蒸着用メタルマスクの構成］
図１が示すように、マスク装置１０は、メインフレーム２０と、複数の蒸着用メタルマスク３０とを備えている。メインフレーム２０は、複数の蒸着用メタルマスク３０を支持する枠板状を有し、蒸着を行うための蒸着装置に取り付けられる。メインフレーム２０は、各蒸着用メタルマスク３０が取り付けられる部位のほぼ全体にわたり、メインフレーム２０を貫通するメインフレーム孔２０Ｈを有している。
【００２８】
蒸着用メタルマスク３０は、サブフレーム３１と、例えば金属製のマスク部材３２とを備えている。サブフレーム３１は、１つのマスク部材３２を支持する枠板状を有し、メインフレーム２０に取り付けられている。各サブフレーム３１は、マスク部材３２が取り付けられる部位のほぼ全体にわたり、サブフレーム３１を貫通するサブフレーム孔３０Ｈを有している。各マスク部材３２は、サブフレーム孔３０Ｈの周囲に溶着や接着によって固定されている。マスク部材３２が有する平面構造の一例を、図２を参照して説明する。なお、蒸着用メタルマスク３０は、マスク部材３２がサブフレーム３１に固定された構成に限らず、マスク部材３２に相当するマスク部と、マスク部の周辺に位置する周辺部とを備え、マスク部と周辺部とが１つの金属板によって一体に形成される構成でもよい。
【００２９】
図２が示すように、マスク部材３２はマスク領域３２Ｍを含み、マスク領域３２Ｍは複数のマスク孔を含んでいる。マスク領域３２Ｍは、中央領域３２Ｃと、マスク孔が並ぶ方向に沿って並ぶ複数の端部領域３２Ｅとから構成されている。中央領域３２Ｃは、マスク領域３２Ｍの中央を含み、かつ、蒸着源と対向するための複数のマスク孔を含んでいる。各端部領域３２Ｅは、中央領域３２Ｃよりもマスク領域３２Ｍの端部３２ＭＥ側に位置し、かつ、中央領域３２Ｃが含むマスク孔とは異なる複数のマスク孔を含んでいる。なお、マスク領域３２Ｍの外周部である縁部が矩形状を有し、マスク領域３２Ｍにおいて互いに対向する一対の辺の中央となる位置が、マスク領域３２Ｍの中央である。
【００３０】
マスク領域３２Ｍにおいて、中央領域３２Ｃと複数の端部領域３２Ｅとが、区画方向に沿って区画されている。マスク領域３２Ｍでは、区画方向に沿う中央領域３２Ｃからの距離が大きい端部領域３２Ｅほど蒸着源から離れている。言い換えれば、区画方向に沿う中央領域３２Ｃからの距離が大きい端部領域３２Ｅほど、その端部領域３２Ｅと蒸着源との距離、すなわち区画方向に沿う距離が大きい。
【００３１】
マスク領域３２Ｍには、１０の端部領域３２Ｅが区画され、マスク領域３２Ｍにおいて、一方の端部３２ＭＥから数えて５番目の端部領域３２Ｅと６番目の端部領域３２Ｅとの間に、中央領域３２Ｃが位置している。
【００３２】
１０の端部領域３２Ｅのうち、区画方向において中央領域３２Ｃよりも紙面の右側に位置する５つの端部領域３２Ｅが右側端部領域である。右側端部領域である各端部領域３２Ｅは、中央領域３２Ｃからの距離が小さい領域から順に、第１右側領域ＥＲ１、第２右側領域ＥＲ２、第３右側領域ＥＲ３、第４右側領域ＥＲ４、第５右側領域ＥＲ５である。
【００３３】
１０の端部領域３２Ｅのうち、区画方向において中央領域３２Ｃよりも紙面の左側に位置する５つの端部領域３２Ｅが左側端部領域である。左側端部領域である各端部領域３２Ｅは、中央領域３２Ｃからの距離が小さい順に、第１左側領域ＥＬ１、第２左側領域ＥＬ２、第３左側領域ＥＬ３、第４左側領域ＥＬ４、第５左側領域ＥＬ５である。
【００３４】
マスク領域３２Ｍにおける区画方向に沿う幅が第１幅Ｗ１であり、中央領域３２Ｃおよび複数の端部領域３２Ｅの各々における区画方向に沿う幅が第２幅Ｗ２である。中央領域３２Ｃおよび端部領域３２Ｅにおいて、第２幅Ｗ２は互いに等しい。なお、中央領域３２Ｃおよび端部領域３２Ｅには、第２幅Ｗ２が異なる領域が含まれてもよい。
【００３５】
中央領域３２Ｃに含まれる全てのマスク孔、言い換えれば中央領域３２Ｃの全体は、蒸着装置が備える蒸着源と対向する。なお、中央領域３２Ｃに含まれる一部のマスク孔のみが、蒸着源と対向してもよい。
【００３６】
一方で、各端部領域３２Ｅに含まれる複数のマスク孔、言い換えれば各端部領域３２Ｅは、蒸着源と対向する部分と、蒸着源と対向しない部分との少なくとも一方を含んでいる。すなわち、１つの端部領域３２Ｅが、蒸着源と対向するマスク孔のみを含んでもよいし、蒸着源と対向しないマスク孔のみを含んでもよいし、蒸着源と対向するマスク孔と、蒸着源と対向しないマスク孔との両方を含んでもよい。マスク部材３２が有する平面構造の一例における一部を拡大した構造を、図３を参照して説明する。
【００３７】
図３が示すように、マスク領域３２Ｍは複数のマスク孔３２Ｈを含み、マスク領域３２Ｍのうち、蒸着源と対向する面とは反対側の面であって、蒸着対象と対向する面において、複数のマスク孔３２Ｈは、１つの方向に沿って等しい間隔を空けて並び、かつ、１つの方向と直交する方向に沿って等しい間隔を空けて並んでいる。すなわち、マスク領域３２Ｍにおいて、複数のマスク孔が格子状に並び、マスク部材３２は格子状を有している。中央領域３２Ｃおよび端部領域３２Ｅの各々は、格子状に並ぶ複数のマスク孔３２Ｈを含んでいる。なお、複数のマスク孔３２Ｈは、マスク領域３２Ｍにおいて千鳥状に並んでいてもよい。
【００３８】
マスク部材３２は、鉄とニッケルとの合金を主成分とする金属シートであるメタルマスク用基材から形成される。メタルマスク用基材の形成材料は、３０質量％以上４５質量％以下のニッケルを含む鉄ニッケル合金であることが好ましく、なかでも、３６質量％のニッケルと６４質量％の鉄とを合金を主成分とすること、すなわちインバーであることがより好ましい。マスク部材３２の形成材料がインバーである場合には、マスク部材３２の熱膨張係数は、例えば１．２×１０−６／℃程度である。
【００３９】
このような熱膨張係数を有するマスク部材３２であれば、マスク部材３２における熱膨張の度合いと、ガラス基板における熱膨張の度合いとが整合するため、インバーから形成されたマスク部材３２は、蒸着対象の一例としてガラス基板を用いる上で好ましい。
【００４０】
マスク領域３２Ｍにおける中央領域３２Ｃが有する断面構造の一例を、図４を参照して説明し、端部領域３２Ｅが有する断面構造の一例を、図５および図６を参照して説明する。なお、以下では、端部領域３２Ｅが有する断面構造の一例として、第１右側領域ＥＲ１が有する断面構造の一例と、第５右側領域ＥＲ５が有する断面構造の一例とを説明し、その他の端部領域３２Ｅが有する断面構造の説明を省略する。
【００４１】
また、図４から図６が示す断面構造はいずれも、図３におけるＩ−Ｉ線に沿う断面構造、言い換えれば区画方向に延びる線に沿う断面構造であるが、区画方向における位置が互いに異なっている。
【００４２】
図４が示すように、マスク領域３２Ｍは、表面３２Ｆと、表面３２Ｆとは反対側の面である裏面３２Ｒとを備えている。表面３２Ｆは、各マスク孔３２Ｈの大開口３２Ｈ１を含み、裏面３２Ｒは、各マスク孔３２Ｈの小開口３２Ｈ２を含んでいる。表面３２Ｆと対向する平面視において、大開口３２Ｈ１が区画する領域は、小開口３２Ｈ２が区画する領域よりも大きい。
【００４３】
各マスク孔３２Ｈは、大孔３２ＨＢ、小孔３２ＨＳ、および、大孔３２ＨＢと小孔３２ＨＳとを接続する接続部３２ＨＣを含んでいる。このうち、大孔３２ＨＢは大開口３２Ｈ１を含み、小開口３２Ｈ２に向けて先細る形状を有し、小孔３２ＨＳは小開口３２Ｈ２を含み、大開口３２Ｈ１に向けて先細る形状を有している。
【００４４】
より詳しくは、大孔３２ＨＢは、表面３２Ｆと平行な方向に沿う断面積が、表面３２Ｆから裏面３２Ｒに向けて単調減少する形状を有し、かつ、表面３２Ｆと直交する断面において、大孔３２ＨＢの内周面ＨＢ１が弧状を有している。また、小孔３２ＨＳは、表面３２Ｆと平行な方向に沿う断面積が、裏面３２Ｒから表面３２Ｆに向けて単調減少する形状を有し、かつ、表面３２Ｆと直交する断面において、小孔３２ＨＳの内周面ＨＳ１が弧状を有している。
【００４５】
すなわち、大孔３２ＨＢの区画する領域の大きさは、表面３２Ｆから裏面３２Ｒに向けて単調減少し、かつ、小孔３２ＨＳの区画する領域の大きさは、裏面３２Ｒから表面３２Ｆに向けて単調減少する。そのため、マスク孔３２Ｈの区画する領域の大きさは、接続部３２ＨＣにおいて最も小さくなる。
【００４６】
中央領域３２Ｃにおいて、各接続部３２ＨＣは、マスク孔３２Ｈの全周にわたりマスク孔３２Ｈの内側に向けて突き出る形状を有している。中央領域３２Ｃに含まれる複数のマスク孔３２Ｈのうち、マスク領域３２Ｍの中央以外に位置するマスク孔３２Ｈの接続部３２ＨＣは、マスク領域３２Ｍの中央寄りの部分である第１部分ＨＣ１と、マスク領域３２Ｍの端部寄りの部分である第２部分ＨＣ２とから構成されている。
【００４７】
なお、蒸着用メタルマスク３０は、マスク領域３２Ｍの中央に位置する接続部３２ＨＣを含むマスク孔３２Ｈを有してもよい。マスク領域３２Ｍの中央に位置する接続部３２ＨＣも、他の接続部３２ＨＣと同様、マスク孔３２Ｈの全周にわたりマスク孔３２Ｈの内側に向けて突き出る形状を有している。
【００４８】
マスク孔３２Ｈにおいて、第１部分ＨＣ１と裏面３２Ｒとの間の距離が、第１ステップハイＳＨ１であり、第２部分ＨＣ２と裏面３２Ｒとの間の距離が、第２ステップハイＳＨ２である。中央領域３２Ｃに位置する各マスク孔３２Ｈにおいて、第１ステップハイＳＨ１と第２ステップハイＳＨ２とは、互いにほぼ等しい大きさである。中央領域３２Ｃでの第１ステップハイＳＨ１および第２ステップハイＳＨ２の各々は、例えば３μｍ以下であることが好ましい。
【００４９】
表面３２Ｆと直交する断面において、第１部分ＨＣ１の突出量、すなわち、第１部分ＨＣ１が小開口３２Ｈ２よりも内側に突き出た量が第１ステップ幅ＳＷ１である。表面３２Ｆと直交する断面において、第２部分ＨＣ２の突出量、すなわち、第２部分ＨＣ２が小開口３２Ｈ２よりも内側に突き出た量が第２ステップ幅ＳＷ２である。中央領域３２Ｃに位置する各マスク孔３２Ｈにおいて、第１ステップ幅ＳＷ１と第２ステップ幅ＳＷ２とは、互いにほぼ等しい大きさである。中央領域３２Ｃでの第１ステップ幅ＳＷ１および第２ステップ幅ＳＷ２の各々は、例えば、１．５μｍ以上２．０μｍ以下であることが好ましい。
【００５０】
表面３２Ｆと直交する断面において、表面３２Ｆにおける法線のうち、大開口３２Ｈ１の中央を通る法線が大孔法線ＮＢであり、小開口３２Ｈ２の中央を通る法線が小孔法線ＮＳである。中央領域３２Ｃに含まれる各マスク孔３２Ｈにおいて、同一のマスク孔３２Ｈに属する大孔法線ＮＢの位置と小孔法線ＮＳの位置とが互いにほぼ等しい。すなわち、１つのマスク孔３２Ｈにおいて、マスク孔３２Ｈが並ぶ方向に沿う大孔法線ＮＢと小孔法線ＮＳとの間の距離が法線間距離ＮＤであり、中央領域３２Ｃでの法線間距離ＮＤがゼロである。
【００５１】
図５が示すように、第１右側領域ＥＲ１に含まれる各マスク孔３２Ｈは、中央領域３２Ｃに含まれる各マスク孔３２Ｈと同様、大孔３２ＨＢ、小孔３２ＨＳ、および、接続部３２ＨＣを含んでいる。大孔３２ＨＢは、小開口３２Ｈ２に向けて先細る形状を有し、小孔３２ＨＳは、大開口３２Ｈ１に向けて先細る形状を有している。
【００５２】
接続部３２ＨＣは、中央領域３２Ｃに含まれる各マスク孔３２Ｈと同様、マスク孔３２Ｈの全周にわたりマスク孔３２Ｈの内側に向けて突き出る形状を有し、第１部分ＨＣ１と第２部分ＨＣ２とから構成されている。第１右側領域ＥＲ１において、第２ステップハイＳＨ２は、第１ステップハイＳＨ１よりも大きい。
【００５３】
また、第１右側領域ＥＲ１での第１ステップハイＳＨ１は、中央領域３２Ｃでの第１ステップハイＳＨ１よりも小さい。第１右側領域ＥＲ１での第２ステップハイＳＨ２は、中央領域３２Ｃでの第２ステップハイＳＨ２よりも大きい。
【００５４】
第１右側領域ＥＲ１での第１ステップ幅ＳＷ１は、中央領域３２Ｃでの第１ステップ幅ＳＷ１よりも小さい。また、第１右側領域ＥＲ１での第２ステップ幅ＳＷ２は、中央領域３２Ｃでの第２ステップ幅ＳＷ２よりも大きい。
【００５５】
表面３２Ｆと直交する断面において、各マスク孔３２Ｈに属する大孔法線ＮＢは、同一のマスク孔３２Ｈに属する小孔法線ＮＳよりも中央寄りに位置している。第１右側領域ＥＲ１での法線間距離ＮＤは、中央領域３２Ｃでの法線間距離ＮＤよりも大きい。
【００５６】
図６が示すように、第５右側領域ＥＲ５に含まれる各マスク孔３２Ｈは、中央領域３２Ｃに含まれる各マスク孔３２Ｈと同様、大孔３２ＨＢ、小孔３２ＨＳ、および、接続部３２ＨＣを含んでいる。大孔３２ＨＢは、小開口３２Ｈ２に向けて先細る形状を有し、小孔３２ＨＳは、大開口３２Ｈ１に向けて先細る形状を有している。
【００５７】
接続部３２ＨＣは、中央領域３２Ｃに含まれる各マスク孔３２Ｈと同様、マスク孔３２Ｈの全周にわたりマスク孔３２Ｈの内側に向けて突き出る形状を有し、第１部分ＨＣ１と第２部分ＨＣ２とから構成されている。第５右側領域ＥＲ５において、第１ステップハイＳＨ１はゼロであり、第２ステップハイＳＨ２は第１ステップハイＳＨ１よりも大きい。
【００５８】
第５右側領域ＥＲ５での第１ステップハイＳＨ１は、中央領域３２Ｃでの第１ステップハイＳＨ１よりも小さく、かつ、第１右側領域ＥＲ１での第１ステップハイＳＨ１よりも小さい。これに対して、第５右側領域ＥＲ５での第２ステップハイＳＨ２は、中央領域３２Ｃでの第２ステップハイＳＨ２よりも大きく、かつ、第１右側領域ＥＲ１での第２ステップハイＳＨ２よりも大きい。
【００５９】
第５右側領域ＥＲ５での第１ステップ幅ＳＷ１はゼロであり、中央領域３２Ｃでの第１ステップ幅ＳＷ１よりも小さく、かつ、第１右側領域ＥＲ１での第１ステップ幅ＳＷ１よりも小さい。これに対して、第５右側領域ＥＲ５での第２ステップ幅ＳＷ２は、中央領域３２Ｃでの第２ステップ幅ＳＷ２よりも大きく、かつ、第１右側領域ＥＲ１での第２ステップ幅ＳＷ２よりも大きい。
【００６０】
表面３２Ｆと直交する断面において、各マスク孔３２Ｈに属する大孔法線ＮＢは、同一のマスク孔３２Ｈに属する小孔法線ＮＳよりも中央寄りに位置し、かつ、法線間距離ＮＤは、中央領域３２Ｃでの法線間距離ＮＤ、および、第１右側領域ＥＲ１での法線間距離ＮＤの双方よりも大きい。
【００６１】
上述したように、大孔３２ＨＢが小開口３２Ｈ２に向けて先細る形状を有し、小孔３２ＨＳが大開口３２Ｈ１に向けて先細る形状を有し、かつ、大孔３２ＨＢの内周面ＨＢ１と小孔３２ＨＳの内周面ＨＳ１との双方が弧状を有している。そのため、１つのマスク孔３２Ｈに固有の小孔３２ＨＳにおける小孔法線ＮＳと、同一のマスク孔３２Ｈに固有の大孔３２ＨＢにおける大孔法線ＮＢとの間の距離を変えることで、各マスク孔３２Ｈでの第１ステップハイＳＨ１の大きさ、および、第２ステップハイＳＨ２の大きさを変えることができる。
【００６２】
しかも、大孔法線ＮＢと小孔法線ＮＳとが重ならないマスク孔３２Ｈでは、第１ステップハイＳＨ１と第２ステップハイＳＨ２とのうち、大孔法線ＮＢからの距離が小さいステップハイを、大孔法線ＮＢと小孔法線ＮＳとが一致するマスク孔３２Ｈでの大きさよりも小さくすることができる。これに対して、大孔法線ＮＢと小孔法線ＮＳとが重ならないマスク孔３２Ｈでは、第１ステップハイＳＨ１と第２ステップハイＳＨ２とのうち、大孔法線ＮＢからの距離が大きいステップハイを、大孔法線ＮＢと小孔法線ＮＳとが一致するマスク孔３２Ｈでの大きさよりも大きくすることができる。
【００６３】
そして、表面３２Ｆと直交する断面において、法線間距離ＮＤが、小開口３２Ｈ２の幅における１／２を超えない範囲であれば、大孔法線ＮＢと小孔法線ＮＳとの法線間距離ＮＤが大きいほど、大孔法線ＮＢからの距離が小さいステップハイを小さくし、かつ、大孔法線ＮＢからの距離が大きいステップハイを大きくすることができる。
【００６４】
こうした理由から、図６を用いて先に説明したマスク孔３２Ｈでの第１ステップハイＳＨ１は、図５を用いて先に説明したマスク孔３２Ｈでの第１ステップハイＳＨ１よりも小さくなる。また、図６を用いて先に説明したマスク孔３２Ｈでの第２ステップハイＳＨ２は、図５を用いて先に説明したマスク孔３２Ｈでの第２ステップハイＳＨ２よりも大きくなる。
【００６５】
こうしたマスク部材３２では、小孔３２ＨＳに対する大孔３２ＨＢの位置を変えるのみで、中央領域３２Ｃでの第１ステップハイＳＨ１よりも端部領域３２Ｅでの第１ステップハイＳＨ１を小さくすることができるため、蒸着用メタルマスク３０の設計が容易である。
【００６６】
また、第１ステップ幅ＳＷ１および第２ステップ幅ＳＷ２についても、第１ステップハイＳＨ１および第２ステップハイＳＨ２と同様、法線間距離ＮＤが大きいほど、大孔法線ＮＢからの距離が小さいステップ幅を小さくし、かつ、大孔法線ＮＢからの距離が大きいステップ幅を大きくすることができる。
【００６７】
なお、図示されていないが、第２右側領域ＥＲ２でのマスク孔３２Ｈの形状、第３右側領域ＥＲ３でのマスク孔３２Ｈの形状、および、第４右側領域ＥＲ４でのマスク孔３２Ｈの形状は、大孔、小孔、および、接続部を有する点で、中央領域３２Ｃでのマスク孔３２Ｈの形状にほぼ等しい。
【００６８】
ただし、各右側端部領域でのマスク孔３２Ｈの形状は、以下の点で、中央領域３２Ｃでのマスク孔３２Ｈの形状とは異なっている。すなわち、第２右側領域ＥＲ２での法線間距離ＮＤ、第３右側領域ＥＲ３での法線間距離ＮＤ、および、第４右側領域ＥＲ４での法線間距離ＮＤは、中央領域３２Ｃでの法線間距離ＮＤよりも大きく、かつ、第５右側領域ＥＲ５での法線間距離ＮＤよりも小さい。加えて、第２右側領域ＥＲ２での法線間距離ＮＤ、第３右側領域ＥＲ３での法線間距離ＮＤ、および、第４右側領域ＥＲ４での法線間距離ＮＤは、この順に大きくなる。
【００６９】
言い換えれば、蒸着用メタルマスク３０は、マスク孔３２Ｈが並ぶ方向に沿って並ぶ複数の端部領域３２Ｅを備えている。そして、複数の端部領域３２Ｅにおいて、中央領域３２Ｃからの距離が大きいほど、各端部領域３２Ｅでの法線間距離ＮＤが大きい。
【００７０】
これにより、第２右側領域ＥＲ２での第１ステップハイＳＨ１、第３右側領域ＥＲ３での第１ステップハイＳＨ１、および、第４右側領域ＥＲ４での第１ステップハイＳＨ１は、中央領域３２Ｃでの第１ステップハイＳＨ１よりも小さくなり、かつ、第５右側領域ＥＲ５での第１ステップハイＳＨ１よりも大きくなる。加えて、第２右側領域ＥＲ２での第１ステップハイＳＨ１、第３右側領域ＥＲ３での第１ステップハイＳＨ１、および、第４右側領域ＥＲ４での第１ステップハイＳＨ１は、記載の順に小さくなる。
【００７１】
言い換えれば、蒸着用メタルマスク３０は、マスク孔３２Ｈが並ぶ方向に沿って並ぶ複数の端部領域３２Ｅを備えている。そして、複数の端部領域３２Ｅにおいて、中央領域３２Ｃからの距離が大きい端部領域３２Ｅほど、端部領域３２Ｅでの第１ステップハイＳＨ１が小さい。
【００７２】
これにより、中央領域３２Ｃからの距離が小さい端部領域３２Ｅが含むマスク孔３２Ｈの第１部分ＨＣ１ほど、その端部領域３２Ｅよりもマスク領域３２Ｍの端部３２ＭＥ側に位置する端部領域３２Ｅが含むマスク孔３２Ｈよりも、蒸着物質ＤＭがマスク孔３２Ｈを通ることを抑える。そのため、マスク孔３２Ｈごとに形成される蒸着パターンの膜厚の均一性を蒸着用メタルマスク３０内において向上させることができる。
【００７３】
また、第２右側領域ＥＲ２での第２ステップハイＳＨ２、第３右側領域ＥＲ３での第２ステップハイＳＨ２、および、第４右側領域ＥＲ４での第２ステップハイＳＨ２は、中央領域３２Ｃでの第２ステップハイＳＨ２よりも大きくなり、かつ、第５右側領域ＥＲ５での第２ステップハイＳＨ２よりも小さくなる。加えて、第２右側領域ＥＲ２での第２ステップハイＳＨ２、第３右側領域ＥＲ３での第２ステップハイＳＨ２、および、第４右側領域ＥＲ４での第２ステップハイＳＨ２は、記載の順に大きくなる。
【００７４】
言い換えれば、蒸着用メタルマスク３０における複数の端部領域３２Ｅにおいて、中央領域３２Ｃからの距離が大きい端部領域３２Ｅほど、端部領域３２Ｅでの第２ステップハイＳＨ２が大きい。
【００７５】
上述したように、中央領域３２Ｃからの距離が大きい端部領域３２Ｅほど、端部領域３２Ｅでの第１ステップハイＳＨ１が小さくなるため、接続部３２ＨＣの第１部分ＨＣ１では、中央領域３２Ｃからの距離が大きい端部領域３２Ｅほど、第１部分ＨＣ１の強度が低くなる。これに対して、中央領域３２Ｃからの距離が大きい端部領域３２Ｅほど、端部領域３２Ｅでの第２ステップハイＳＨ２が大きくなるため、接続部３２ＨＣの第２部分ＨＣ２では、中央領域３２Ｃからの距離が大きい端部領域３２Ｅほど、第２部分ＨＣ２の強度が高くなる。そのため、各端部領域３２Ｅにおいて、第１部分ＨＣ１での強度の低下を第２部分ＨＣ２の強度によって補うことができる。
【００７６】
しかも、各右側端部領域での第２ステップハイＳＨ２は、同一の右側端部領域での第１ステップハイＳＨ１よりも大きい。このように、マスク部材３２では、第１ステップハイＳＨ１が小さくなっても、第２ステップハイＳＨ２が第１ステップハイＳＨ１以上であることで、蒸着用メタルマスク３０の強度が低くなることが抑えられる。
【００７７】
また、第２右側領域ＥＲ２での第１ステップ幅ＳＷ１、第３右側領域ＥＲ３での第１ステップ幅ＳＷ１、および、第４右側領域ＥＲ４での第１ステップ幅ＳＷ１は、中央領域３２Ｃでの第１ステップ幅ＳＷ１よりも小さくなり、かつ、第５右側領域ＥＲ５での第１ステップ幅ＳＷ１よりも大きくなる。加えて、第２右側領域ＥＲ２での第１ステップ幅ＳＷ１、第３右側領域ＥＲ３での第１ステップ幅ＳＷ１、および、第４右側領域ＥＲ４での第１ステップ幅ＳＷ１は、記載の順に小さくなる。
【００７８】
また、第２右側領域ＥＲ２での第２ステップ幅ＳＷ２、第３右側領域ＥＲ３での第２ステップ幅ＳＷ２、および、第４右側領域ＥＲ４での第２ステップ幅ＳＷ２は、中央領域３２Ｃでの第２ステップ幅ＳＷ２よりも大きくなり、かつ、第５右側領域ＥＲ５での第２ステップ幅ＳＷ２よりも小さくなる。加えて、第２右側領域ＥＲ２での第２ステップ幅ＳＷ２、第３右側領域ＥＲ３での第２ステップ幅ＳＷ２、および、第４右側領域ＥＲ４での第２ステップ幅ＳＷ２は記載の順に大きくなる。
【００７９】
なお、マスク部材３２の表面３２Ｆにおける法線であって、マスク部材３２の中央を通る法線を対称軸とする場合に、上述した５つの左側端部領域は、５つの右側領端部域と線対称の関係を有している。そのため、左側端部領域についての詳細な説明を省略する。
【００８０】
［蒸着用メタルマスクの作用］
図７および図８を参照して、蒸着用メタルマスク３０の作用を説明する。なお、図８では、図示の便宜上、蒸着用メタルマスク３０の備えるマスク部材３２のみが示され、また、マスク部材３２に含まれるマスク孔３２Ｈの大きさが誇張されている。蒸着用メタルマスク３０は、例えば、有機ＥＬ表示装置が備える発光素子を構成する有機層を形成するために用いられる。
【００８１】
図７が示すように、マスク装置１０を用いた成膜が行われるときには、まず、マスク部材３２の裏面３２Ｒが蒸着対象Ｓと接する状態で、マスク装置１０が、蒸着装置の備えるステージに固定される。蒸着装置は１つの蒸着源ＥＳを備え、マスク装置１０は、マスク領域３２Ｍの中央領域３２Ｃに含まれるマスク孔が蒸着源ＥＳと対向するように、ステージに固定される。
【００８２】
蒸着装置では、蒸着装置における蒸着源ＥＳの位置が固定されている一方で、蒸着源ＥＳに対するステージの位置が変わる。ステージは、例えば、蒸着源ＥＳの中心を通り、かつ、１次元方向に沿って延びる直線上に沿って移動することが可能であり、これにより、各マスク部材３２の中央領域３２Ｃに含まれるマスク孔３２Ｈが、蒸着源ＥＳと対向することができる。
【００８３】
そして、蒸着源ＥＳが蒸着物質の放出を開始し、次いで、ステージが１次元方向に沿って移動することによって、１次元方向に沿って移動している蒸着対象Ｓには、マスク部材３２が含むマスク孔３２Ｈを通った蒸着物質が到達する。これにより、蒸着対象Ｓには、複数の蒸着パターンが形成される。
【００８４】
なお、蒸着装置は、蒸着装置におけるステージの位置が固定される一方で、ステージに対する蒸着源ＥＳの位置が変わる構成であってもよい。こうした構成では、蒸着源ＥＳが、各マスク部材３２における中央領域３２Ｃを通り、かつ、１次元方向に沿って延びる直線上に沿って移動することが可能であればよい。
【００８５】
図８が示すように、各マスク部材３２の中央領域３２Ｃと蒸着源ＥＳとが対向する状態では、蒸着源ＥＳから放出された蒸着物質ＤＭであって、中央領域３２Ｃに含まれるマスク孔３２Ｈに向けて飛行する蒸着物質ＤＭの飛行方向は、マスク部材３２の表面３２Ｆにおける法線方向にほぼ沿う方向である。
【００８６】
これに対して、中央領域３２Ｃよりもマスク領域３２Ｍの端部３２ＭＥ側に向けて飛行する蒸着物質ＤＭの飛行方向では、マスク領域３２Ｍの中央と蒸着物質ＤＭの飛行する位置との間の距離が大きいほど、法線方向からのずれが大きくなる。より詳しくは、マスク領域３２Ｍの中央と蒸着物質ＤＭの飛行する位置との間の距離が大きいほど、蒸着物質ＤＭの飛行方向と法線方向とが形成する角度が大きくなる。
【００８７】
ここで、蒸着源ＥＳから放出される蒸着物質ＤＭの量は、通常、蒸着源ＥＳと対向する位置において最も大きく、かつ、蒸着物質ＤＭが放出される範囲においてばらつきを有している。しかも、法線方向と飛行方向との形成する角度が大きくなるほど、蒸着源ＥＳと対向するマスク孔と、それ以外のマスク孔との間において、蒸着物質ＤＭの量の差が大きくなる。そのため、マスク孔３２Ｈごとに形成される蒸着パターンの膜厚におけるマスク孔３２Ｈ間でのばらつきを抑える上では、蒸着対象Ｓのなかで、蒸着源ＥＳと対向する部位に到達する蒸着物質ＤＭの量を減らすことが好ましい。
【００８８】
マスク孔３２Ｈでは、小孔３２ＨＳが大開口３２Ｈ１に向けて先細る形状を有しているため、第１ステップハイＳＨ１および第２ステップハイＳＨ２が大きいほど、接続部３２ＨＣがマスク孔３２Ｈの内側に向けて突き出る量が大きくなる。これにより、マスク部材３２の表面３２Ｆに向けて飛行する蒸着物質ＤＭから蒸着対象を見たときに、マスク部材３２によって不要な陰となる部分が大きくなる。言い換えれば、マスク部材３２によるシャドウ効果が大きくなる。そして、シャドウ効果が大きくなるほど、蒸着物質ＤＭがマスク孔３２Ｈを通過することが、接続部３２ＨＣによって抑えられる。
【００８９】
そのため、蒸着用メタルマスク３０の備えるマスク部材３２によれば、中央領域３２Ｃに含まれるマスク孔３２Ｈの第１部分ＨＣ１は、端部領域３２Ｅに含まれるマスク孔３２Ｈの第１部分ＨＣ１よりも、蒸着物質ＤＭが通ることを抑える。それゆえに、マスク孔３２Ｈごとに形成される蒸着パターンの膜厚の均一性を蒸着用メタルマスク３０内において向上させることができる。
【００９０】
言い換えれば、マスク孔３２Ｈごとに形成される蒸着パターンの膜厚におけるマスク孔３２Ｈ間でのばらつきを抑える上では、法線方向に対するずれがより小さい飛行方向でマスク孔３２Ｈに向けて飛行する蒸着物質ＤＭにマスク孔３２Ｈを通過させることが好ましい。
【００９１】
上述したマスク部材３２によれば、端部領域３２Ｅに含まれるマスク孔３２Ｈには、法線方向に対するずれがより小さい飛行方向で飛行する蒸着物質ＤＭが到達する。そのため、マスク孔３２Ｈごとに形成される蒸着パターンの膜厚の均一性を蒸着用メタルマスク３０内において向上させることができる。
【００９２】
蒸着用メタルマスク３０が、蒸着パターンの一例として発光素子を構成する有機層を形成するために用いられるときには、有機層の膜厚における均一性を蒸着用メタルマスク３０内において向上させることで、複数の発光素子において、発光素子が発する光の光量における均一性を向上することができる。結果として、表示装置の表示品質を向上させることができる。
【００９３】
これに対して、マスク孔ごとに形成される有機層の膜厚が、蒸着用メタルマスク内においてばらつきを有していると、表示装置では、複数の発光素子が発する光の光量においてばらつきが生じる。
【００９４】
このように、蒸着用メタルマスク３０を用いて形成される蒸着パターンを備える表示装置の製造方法は、蒸着用メタルマスク３０を形成することと、蒸着用メタルマスク３０を用いて蒸着対象Ｓに蒸着パターンを形成することと、を含んでいる。
【００９５】
［蒸着用メタルマスクの製造方法］
図９から図１３を参照して、蒸着用メタルマスク３０の製造方法を説明する。なお、以下では、蒸着用メタルマスク３０の製造方法のうち、マスク部材３２を形成する工程を説明する。また、図９から図１３では、図示の便宜上、中央領域３２Ｃに対応する部分に１つのマスク孔３２Ｈを形成する工程と、第１右側領域ＥＲ１に対応する部分に１つのマスク孔３２Ｈを形成する工程とが示されている。
【００９６】
蒸着用メタルマスク３０の製造方法では、中央領域３２Ｃと端部領域３２Ｅとを含むマスク部材３２を形成する。中央領域３２Ｃは、上述したように、複数のマスク孔３２Ｈを含むマスク領域３２Ｍの中央を含み、かつ、蒸着源と対向するための複数のマスク孔３２Ｈを含んでいる。端部領域３２Ｅは、これも上述したように、中央領域３２Ｃよりもマスク領域３２Ｍの端部３２ＭＥ側に位置し、かつ、中央領域３２Ｃが含むマスク孔３２Ｈとは異なる複数のマスク孔３２Ｈを含んでいる。
【００９７】
図９が示すように、マスク部材３２を形成するときには、まず、表面４１Ｆと裏面４１Ｒとを含むメタルマスク用基材４１を準備する。メタルマスク用基材４１の厚さは、例えば１０μｍ以上５０μｍ以下であることが好ましい。
【００９８】
そして、メタルマスク用基材４１の表面４１Ｆに第１レジスト層４２を配置し、かつ、メタルマスク用基材４１の裏面４１Ｒに第２レジスト層４３を配置する。第１レジスト層４２および第２レジスト層４３の形成材料は、ネガ型レジストであるが、ポジ型レジストであってもよい。
【００９９】
なお、各面に対するレジスト層の配置は、ドライフィルムレジストを各面に貼り付けることによって行ってもよいし、レジスト材料を含む塗液を各面に塗布し、かつ、塗液を乾燥させることによって各面にレジスト層を形成することによって行ってもよい。
【０１００】
図１０が示すように、各レジスト層のうち、貫通孔を形成する部位以外の部分を露光し、露光後の各レジスト層を現像する。これによって、第１レジスト層４２に第１貫通孔４２Ｈを形成し、かつ、第２レジスト層４３に第２貫通孔４３Ｈを形成する。言い換えれば、第１レジスト層４２をパターニングして、第１レジストパターン４２Ｐを形成し、第２レジスト層４３をパターニングして、第２レジストパターン４３Ｐを形成する。
【０１０１】
このとき、各レジスト層において、中央領域３２Ｃに含まれるマスク孔３２Ｈを形成するための部分では、以下のように各レジスト層がパターニングされる。すなわち、表面４１Ｆと直交する断面において、表面４１Ｆの法線であって、第１貫通孔４２Ｈにおける開口の中心を通る第１法線Ｎ１と、表面４１Ｆの法線であって、第２貫通孔４３Ｈにおける開口の中心を通る第２法線Ｎ２とが一致するように、各レジスト層がパターニングされる。
【０１０２】
一方で、各レジスト層において、第１右側領域ＥＲ１に含まれるマスク孔３２Ｈを形成するための部分では、メタルマスク用基材４１におけるマスク部材３２に対応する領域のなかで、第１法線Ｎ１が第２法線Ｎ２よりも中央寄りに位置するように、各レジスト層がパターニングされる。
【０１０３】
各レジスト層を露光するときには、各レジスト層においてメタルマスク用基材４１に接する面とは反対側の面に、貫通孔を形成する部分以外の部分に光を到達させるように構成された原版を載せる。また、露光後の各レジスト層を現像するときには、現像液として、例えば炭酸ナトリウム水溶液を用いることができる。なお、各レジスト層の形成材料がポジ型レジストであるときには、各レジスト層のうち、貫通孔を形成する部分を露光すればよい。
【０１０４】
図１１が示すように、メタルマスク用基材４１の裏面４１Ｒから表面４１Ｆに向けて、裏面４１Ｒに開口する小開口４１Ｈ２を含み、表面４１Ｆに向けて先細る形状を有するとともに、各マスク孔３２Ｈに固有の小孔４１ＨＳを形成する。
【０１０５】
小孔４１ＨＳを形成する工程では、第２レジストパターン４３Ｐをマスクとして、例えば塩化第二鉄液を用いて、メタルマスク用基材４１を裏面４１Ｒから表面４１Ｆに向けてエッチングする。このとき、第１レジストパターン４２Ｐには、メタルマスク用基材４１の表面４１Ｆが裏面４１Ｒと同時にエッチングされないように、表面保護層４４を形成する。表面保護層４４の形成材料は、塩化第二鉄液によってエッチングされにくい材料であればよい。
【０１０６】
図１２が示すように、メタルマスク用基材４１の裏面４１Ｒに位置する第２レジストパターン４３Ｐと、第１レジストパターン４２Ｐに接する表面保護層４４とを取り除く。また、メタルマスク用基材４１の裏面４１Ｒに、裏面４１Ｒのエッチングを防ぐための裏面保護層４５を形成する。裏面保護層４５の形成材料は、塩化第二鉄液によってエッチングされにくい材料であればよい。
【０１０７】
図１３が示すように、メタルマスク用基材４１の表面４１Ｆから裏面４１Ｒに向けて、表面４１Ｆに開口する大開口４１Ｈ１を含み、裏面４１Ｒに向けて先細る形状を有するとともに、各マスク孔３２Ｈに固有の大孔４１ＨＢを形成する。これによって、小孔４１ＨＳと大孔４１ＨＢとが接続する接続部４１ＨＣを形成する。なお、メタルマスク用基材４１の小孔４１ＨＳがマスク部材３２の小孔３２ＨＳに対応し、メタルマスク用基材４１の大孔４１ＨＢがマスク部材３２の大孔３２ＨＢに対応し、メタルマスク用基材４１の接続部４１ＨＣがマスク部材３２の接続部３２ＨＣに対応する。
【０１０８】
接続部４１ＨＣを形成することでは、マスク領域３２Ｍの中央以外に位置する各接続部４１ＨＣとして、以下の形状を有した接続部４１ＨＣを形成する。すなわち、接続部４１ＨＣは、マスク孔３２Ｈの全周にわたりマスク孔３２Ｈの内側に向けて突き出る形状を有し、かつ、マスク領域３２Ｍの中央寄りの部分である第１部分ＨＣ１と、マスク領域３２Ｍの端部３２ＭＥ寄りの部分である第２部分ＨＣ２とから構成される。
【０１０９】
また、第１部分ＨＣ１と裏面４１Ｒとの間の距離が、第１ステップハイＳＨ１であり、接続部４１ＨＣを形成することでは、端部領域３２Ｅの一例である第１右側領域ＥＲ１での接続部４１ＨＣとして、第１ステップハイＳＨ１が、中央領域３２Ｃでの第１ステップハイＳＨ１よりも小さい接続部４１ＨＣを形成する。
【０１１０】
接続部４１ＨＣを形成する工程では、第１レジストパターン４２Ｐをマスクとして、例えば塩化第二鉄液を用いてメタルマスク用基材４１の表面４１Ｆをエッチングする。これによって、メタルマスク用基材４１の表面４１Ｆに、第１レジストパターン４２Ｐの第１貫通孔４２Ｈを介して、裏面４１Ｒに向けて窪む大孔４１ＨＢを形成する。
【０１１１】
上述したように、各レジスト層において、中央領域３２Ｃに含まれるマスク孔３２Ｈを形成するための部分では、第１法線Ｎ１と第２法線Ｎ２とが一致する。一方で、第１右側領域ＥＲ１に含まれるマスク孔３２Ｈを形成するための部分では、メタルマスク用基材４１におけるマスク部材３２に対応する領域のなかで、第１法線Ｎ１が第２法線Ｎ２よりも中央寄りに位置している。
【０１１２】
そのため、中央領域３２Ｃに含まれる１つのマスク孔３２Ｈに固有の大孔４１ＨＢおよび小孔４１ＨＳでは、大孔法線ＮＢと小孔法線ＮＳとが一致するように、大孔４１ＨＢが形成される。なお、メタルマスク用基材４１の大孔４１ＨＢにおける大孔法線ＮＢは、マスク部材３２の大孔３２ＨＢにおける大孔法線ＮＢに対応し、メタルマスク用基材４１の小孔４１ＨＳにおける小孔法線ＮＳは、マスク部材３２の小孔３２ＨＳにおける小孔法線ＮＳに対応する。
【０１１３】
一方で、第１右側領域ＥＲ１に含まれる１つのマスク孔３２Ｈに固有の大孔４１ＨＢおよび小孔４１ＨＳでは、メタルマスク用基材４１のうち、マスク部材３２に対応する領域のなかで、大孔法線ＮＢが小孔法線ＮＳよりも中央寄りに位置するように、大孔４１ＨＢが形成される。
【０１１４】
これにより、第１右側領域ＥＲ１に含まれるマスク孔３２Ｈとして、第１ステップハイＳＨ１が、中央領域３２Ｃでの第１ステップハイＳＨ１よりも小さいマスク孔３２Ｈを形成することができる。また、第１右側領域ＥＲ１に含まれるマスク孔３２Ｈとして、法線間距離ＮＤが、第１レジストパターン４２Ｐにおける第１法線Ｎ１と第２法線Ｎ２との間の距離とほぼ等しいマスク孔３２Ｈを形成することができる。
【０１１５】
そして、裏面保護層４５と第１レジストパターン４２Ｐとをメタルマスク用基材４１から取り除くことによって、上述した蒸着用メタルマスク３０が備えるマスク部材３２を得ることができる。
【０１１６】
なお、第１レジストパターン４２Ｐのうち、第１右側領域ＥＲ１以外の右側端部領域に含まれるマスク孔を形成するための部分では、各右側端部領域での法線間距離ＮＤに応じて、第１レジストパターン４２Ｐにおける第１法線Ｎ１と、第２レジストパターン４３Ｐにおける第２法線Ｎ２との間の距離を設定すればよい。また、第１レジストパターン４２Ｐのうち、各左側端部領域に含まれるマスク孔を形成するための部分では、各左側端部領域での法線間距離ＮＤに応じて、第１レジストパターン４２Ｐにおける第１法線Ｎ１と、第２レジストパターン４３Ｐにおける第２法線Ｎ２との間の距離を設定すればよい。
【０１１７】
［実施例］
［実施例１］
形成材料がインバーであり、かつ、３０μｍの厚さを有するメタルマスク用基材を準備し、上述した第１幅Ｗ１が４４０ｍｍであり、かつ、第２幅Ｗ２が４０ｍｍであるマスク部材を形成した。マスク部材には、複数のマスク孔を形成した。各マスク孔の接続部において、複数の端部領域が区画される区画方向における幅を４０μｍに設定し、区画方向と直交する方向における幅を５０μｍに設定した。また、マスク部材において複数のマスク孔を正方格子状に配置し、マスク孔の位置するピッチ、すなわち小孔の位置するピッチを８０μｍに設定した。
【０１１８】
メタルマスク用基材に複数のマスク孔を形成するための第１レジストパターンおよび第２レジストパターンとして、以下のようなレジストパターンを形成した。すなわち、第２レジストパターンとして、小孔を形成するための第２貫通孔が一定の間隔で並ぶレジストパターンを形成した。
【０１１９】
これに対して、第１レジストパターンとして、中央領域に含まれるマスク孔を形成するための部分、および、各端部領域に含まれるマスク孔を形成するための部分において、第２貫通孔に対する第１貫通孔の位置が互いに異なるように、第１貫通孔を形成した。より詳しくは、中央領域に含まれるマスク孔を形成するための部分には、メタルマスク用基材の表面と直交する断面において、上述した第１法線と第２法線とが一致するように、第１貫通孔を形成した。
【０１２０】
また、第１右側領域および第１左側領域の各々に含まれるマスク孔を形成するための部分には、第１法線と第２法線との間の距離が１μｍになるように、第１貫通孔を形成した。第２右側領域および第２左側領域の各々に含まれるマスク孔を形成するための部分には、第１法線と第２法線との間の距離が２μｍになるように、第１貫通孔を形成した。
【０１２１】
第３右側領域および第３左側領域の各々に含まれるマスク孔を形成するための部分には、第１法線と第２法線との間の距離が３μｍになるように、第１貫通孔を形成した。第４右側領域および第４左側領域の各々に含まれるマスク孔を形成するための部分には、第１法線と第２法線との間の距離が４μｍになるように、第１貫通孔を形成した。第５右側領域および第５左側領域の各々に含まれるマスク孔を形成するための部分には、第１法線と第２法線との間の距離が５μｍになるように、第１貫通孔を形成した。これにより、各領域には、以下の表１および表２に示す寸法を有したマスク孔が形成された。
【０１２２】
【表１】
2018025835.tif 000003
【０１２３】
【表２】
2018025835.tif 000004
【０１２４】
表１が示すように、中央領域のうち、マスク領域の中央以外の部位には、法線間距離が０μｍであり、第１ステップハイが２．７μｍであり、第２ステップハイが２．７μｍであるマスク孔が形成されることが認められた。第１右側領域には、法線間距離が１μｍであり、第１ステップハイが２．２μｍであり、第２ステップハイが３．０μｍであるマスク孔が形成されることが認められた。
【０１２５】
第２右側領域には、法線間距離が２μｍであり、第１ステップハイが１．７μｍであり、第２ステップハイが３．３μｍであるマスク孔が形成されることが認められた。第３右側領域には、法線間距離が３μｍであり、第１ステップハイが１．２μｍであり、第２ステップハイが３．５μｍであるマスク孔が形成されることが認められた。
【０１２６】
第４右側領域には、法線間距離が４μｍであり、第１ステップハイが０．７μｍであり、第２ステップハイが３．８μｍであるマスク孔が形成されることが認められた。第５右側領域には、法線間距離が５μｍであり、第１ステップハイが０．１μｍであり、第２ステップハイが４．０μｍであるマスク孔が形成されることが認められた。
【０１２７】
表２が示すように、第１左側領域には、法線間距離が１μｍであり、第１ステップハイが２．３μｍであり、第２ステップハイが２．９μｍであるマスク孔が形成されることが認められた。第２左側領域には、法線間距離が２μｍであり、第１ステップハイが１．８μｍであり、第２ステップハイが３．３μｍであるマスク孔が形成されることが認められた。
【０１２８】
第３左側領域には、法線間距離が３μｍであり、第１ステップハイが１．３μｍであり、第２ステップハイが３．６μｍであるマスク孔が形成されることが認められた。第４左側領域には、法線間距離が４μｍであり、第１ステップハイが０．７μｍであり、第２ステップハイが３．８μｍであるマスク孔が形成されることが認められた。第５左側領域には、法線間距離が５μｍであり、第１ステップハイが０．１μｍであり、第２ステップハイが４．０μｍであるマスク孔が形成されることが認められた。
【０１２９】
すなわち、マスク部材の表面と直交する断面において、マスク部材の中央からの距離が大きい端部領域ほど法線間距離を大きくすることで、マスク部材の中央からの距離が大きい端部領域ほど第１ステップハイを小さくすることができることが認められた。
【０１３０】
そして、こうしたマスク部材をサブフレームに取り付けることによって蒸着用メタルマスクを形成した後、蒸着用メタルマスクをメインフレームに取り付けることによって、実施例１のマスク装置を得た。
【０１３１】
［比較例１］
第１レジストパターンとして、大孔を形成するための第１貫通孔が一定の間隔で並び、かつ、各大孔と接続する１つの小孔に対する大孔の位置が一定である第１レジストパターンを形成した以外は、実施例１と同じ方法によって比較例１のマスク装置を形成した。これにより、マスク部材として、各マスク孔における法線間距離がゼロである複数のマスク孔を含むマスク部材を得た。
【０１３２】
［評価結果］
実施例１のマスク装置を蒸着装置に取り付け、所定の条件で複数の蒸着パターンを形成し、また、比較例１のマスク装置を蒸着装置に取り付け、実施例１を用いたときと同じ条件で複数の蒸着パターンを形成した。
【０１３３】
実施例１のマスク装置を用いて形成した複数の蒸着パターンと、比較例１のマスク装置を用いて形成した複数の蒸着パターンとにおいて、複数の蒸着パターン間での膜厚のばらつきを算出した。これにより、実施例１のマスク装置を用いて形成した複数の蒸着パターンでの膜厚のばらつきは、比較例１のマスク装置を用いて形成した複数の蒸着パターンでの膜厚のばらつきよりも小さい傾向を有することが認められた。
【０１３４】
以上説明したように、蒸着用メタルマスク、蒸着用メタルマスクの製造方法、および、表示装置の製造方法の一実施形態によれば、以下に列挙する効果を得ることができる。
（１）中央領域３２Ｃに含まれるマスク孔３２Ｈの第１部分ＨＣ１は、端部領域３２Ｅに含まれるマスク孔３２Ｈの第１部分ＨＣ１よりも、蒸着物質ＤＭが通ることを抑える。そのため、マスク孔３２Ｈごとに形成される蒸着パターンの膜厚の均一性を蒸着用メタルマスク３０内において向上させることができる。
【０１３５】
（２）第１ステップハイＳＨ１が小さくなっても、第２ステップハイＳＨ２が第１ステップハイＳＨ１以上であることで、蒸着用メタルマスク３０の強度が低くなることが抑えられる。
【０１３６】
（３）小孔３２ＨＳに対する大孔３２ＨＢの位置を変えるのみで、中央領域３２Ｃでの第１ステップハイＳＨ１よりも端部領域３２Ｅでの第１ステップハイＳＨ１を小さくすることができるため、蒸着用メタルマスク３０の設計が容易である。
【０１３７】
（４）中央領域３２Ｃからの距離が小さい端部領域３２Ｅが含むマスク孔３２Ｈの第１部分ＨＣ１ほど、その端部領域３２Ｅよりもマスク領域３２Ｍの端部側に位置する端部領域３２Ｅが含むマスク孔３２Ｈよりも、蒸着物質ＤＭが通ることを抑える。そのため、マスク孔３２Ｈごとに形成される蒸着パターンの膜厚の均一性を蒸着用メタルマスク３０内において向上させることができる。
【０１３８】
（５）中央領域３２Ｃからの距離が大きい端部領域３２Ｅほど、端部領域３２Ｅでの第２ステップハイＳＨ２が大きくなるため、各端部領域３２Ｅにおいて、第１部分ＨＣ１での強度の低下を第２部分ＨＣ２の強度によって補うことができる。
【０１３９】
なお、上述した実施形態は、以下のように適宜変更して実施することもできる。
・複数の端部領域３２Ｅにおける第５右側領域ＥＲ５では、マスク領域３２Ｍの端部３２ＭＥを含む領域での第１ステップハイＳＨ１は、ゼロでなくてもよい。こうした構成であっても、中央領域３２Ｃからの距離が大きい端部領域３２Ｅほど、その端部領域３２Ｅでの第１ステップハイＳＨ１が小さければ、上述した（４）と同等の効果を得ることはできる。
【０１４０】
・中央領域３２Ｃでの第１ステップハイＳＨ１と第２ステップハイＳＨ２とは互いに異なる大きさであってもよい。こうした構成であっても、中央領域３２Ｃからの距離が大きい端部領域３２Ｅほど、その端部領域３２Ｅでの第１ステップハイＳＨ１が小さければ、上述した（４）と同等の効果を得ることはできる。また、端部領域３２Ｅでの第１ステップハイＳＨ１が中央領域３２Ｃでの第１ステップハイＳＨ１よりも小さければ、上述した（１）と同等の効果を得ることはできる。
【０１４１】
・各領域での第１ステップ幅ＳＷ１および第２ステップ幅ＳＷ２の各々は、上述した実施形態にて例示した大きさに限らず、各領域での第１ステップハイＳＨ１および第２ステップハイＳＨ２の大きさに応じて定まる大きさであればよい。
【０１４２】
・マスク領域３２Ｍにおいて、マスク領域３２Ｍの端部３２ＭＥを含む領域のみが端部領域３２Ｅであってもよく、マスク領域３２Ｍには、中央領域３２Ｃと端部領域３２Ｅとに挟まれる領域であって、中央領域３２Ｃと端部領域３２Ｅとのいずれでもない領域が含まれてもよい。この場合には、端部領域３２Ｅでの第１ステップハイＳＨ１は、中央領域３２Ｃでの第１ステップハイＳＨ１よりも小さい一方で、中央領域３２Ｃと端部領域３２Ｅとの間の領域での第１ステップハイＳＨ１は、中央領域３２Ｃでの第１ステップハイＳＨ１よりも小さくなくてもよい。
【０１４３】
こうした構成によれば、以下に記載の効果を得ることはできる。
（６）端部領域３２Ｅが、蒸着源ＥＳから放出された蒸着物質ＤＭが１つのマスク領域３２Ｍのなかで最も到達しにくい端部３２ＭＥを含むため、端部領域３２Ｅでの第１ステップハイＳＨ１を中央領域３２Ｃでの第１ステップハイＳＨ１よりも小さくすることによる効果が得られやすい。
【０１４４】
・マスク領域３２Ｍが複数の端部領域３２Ｅを備える構成は、マスク領域３２Ｍの中央からの距離が大きい端部領域３２Ｅほど、第１ステップハイＳＨ１が小さい構成でなくてもよい。例えば、マスク領域３２Ｍの中央からの距離が大きい端部領域３２Ｅほど、第１ステップハイＳＨ１が大きい構成であってもよい。また例えば、マスク領域３２Ｍの中央寄りにおける端部領域３２Ｅでの第１ステップハイＳＨ１が、端部３２ＭＥ寄りにおける端部領域３２Ｅでの第１ステップハイＳＨ１よりも大きくてもよい。
【０１４５】
これらの構成であっても、各端部領域３２Ｅでの第１ステップハイＳＨ１が、中央領域３２Ｃでの第１ステップハイよりも小さければ、上述した（１）と同等の効果を得ることはできる。
【０１４６】
・マスク領域３２Ｍは、１０の端部領域３２Ｅを備える構成に限らず、少なくとも１つの端部領域３２Ｅを備える構成であればよい。また、マスク領域３２Ｍにおいて、中央領域３２Ｃの右側に位置する端部領域３２Ｅの数と、中央領域３２Ｃの左側に位置する端部領域３２Ｅの数とが互いに異なってもよい。
【０１４７】
・複数の端部領域３２Ｅにおいて、各端部領域３２Ｅでの法線間距離ＮＤが互いに等しくてもよいし、複数の端部領域３２Ｅにおいて、マスク部材３２の中央からの距離が大きいほど、法線間距離ＮＤが小さくてもよい。こうした構成であっても、端部領域３２Ｅでの第１ステップハイＳＨ１が、中央領域３２Ｃでの第１ステップハイＳＨ１よりも小さければ、上述した（１）と同等の効果を得ることはできる。
【０１４８】
・大孔３２ＨＢが小開口３２Ｈ２に向けて先細る形状を有してれば、大孔３２ＨＢの内周面ＨＢ１は弧状でなくてもよい。また、小孔３２ＨＳが大開口３２Ｈ１に向けて先細る形状を有していれば、小孔３２ＨＳの内周面ＨＳ１は弧状でなくてもよい。この場合には、大孔３２ＨＢの内周面ＨＢ１と小孔３２ＨＳの内周面ＨＳ１との両方が弧状でなくてもよいし、いずれか一方が弧状でなくてもよい。
【０１４９】
・各端部領域３２Ｅにおいて、第２ステップハイＳＨ２と第１ステップハイＳＨ１とが互いに等しくてもよい。また、中央領域３２Ｃおよび各端部領域３２Ｅにおいて、第２ステップハイＳＨ２は第１ステップハイＳＨ１よりも小さくてもよい。こうした構成であっても、端部領域３２Ｅでの第１ステップハイＳＨ１が中央領域３２Ｃでの第１ステップハイＳＨ１よりも小さければ、上述した（１）と同等の効果を得ることはできる。
【０１５０】
・メタルマスク用基材４１の形成材料、ひいては、マスク部材３２の形成材料は、鉄とニッケルとの合金であって、かつ、添加物としてクロムを含んでもよい。あるいは、メタルマスク用基材４１の形成材料、および、マスク部材３２の形成材料は、鉄とニッケルとの合金以外の合金、あるいは、金属であってもよい。
【０１５１】
・メタルマスク用基材４１は、母材の圧延によって得られた金属シートであってもよいし、電解によって形成された金属シートであってもよい。
【０１５２】
・マスク部材３２を形成するためのメタルマスク用基材４１は、単一の金属製の層に加えて、樹脂製の層を備え、金属製の層と樹脂製の層とが積層された構成でもよい。あるいは、メタルマスク用基材４１は、２つの金属製の層と樹脂製の層とを備え、樹脂製の層が２つの金属製の層によって挟まれた構成を有してもよい。
【０１５３】
こうした構成であっても、各マスク孔が、小開口に向けて先細る大孔、大開口に向けて先細る小開口、大孔と小孔とが接続する接続部とを含み、かつ、端部領域での第１ステップハイが、中央領域での第１ステップハイよりも小さければよい。こうした構成であれば、上述した（１）と同等の効果を得ることはできる。なお、メタルマスク用基材のうち、樹脂製の層は、例えばレーザー光線を照射することによってエッチングすることができる。
【０１５４】
・マスク部材３２は、マスク領域３２Ｍに加えて、マスク孔の形成されていない領域である非マスク領域を含んでもよい。例えば、マスク部材３２は、複数のマスク孔３２Ｈが並ぶ方向において、２つの端部における双方に非マスク領域を１つずつ有してもよい。
【０１５５】
・蒸着装置が複数の蒸着源ＥＳを備え、１つの蒸着用メタルマスク３０が複数の蒸着源ＥＳと対向する構成では、１つのマスク部材３２が複数のマスク領域３２Ｍを含んでもよい。こうした構成では、各マスク領域３２Ｍが中央領域３２Ｃと端部領域３２Ｅとを有していればよい。そして、各マスク領域３２Ｍにおいて、端部領域３２Ｅでの第１ステップハイＳＨ１が中央領域３２Ｃでの第１ステップハイＳＨ１よりも小さければ、上述した（１）と同等の効果をマスク領域３２Ｍごとに得ることはできる。
【０１５６】
なお、１つの蒸着用メタルマスク３０が複数のマスク領域３２Ｍを含む構成においても、各マスク領域３２Ｍが複数の端部領域３２Ｅを有してもよいし、各マスク領域３２Ｍの端部３２ＭＥを含む領域として端部領域３２Ｅを備えてもよい。
【０１５７】
・蒸着用メタルマスクが備える複数のマスク孔の全てによって１つのマスク領域３２Ｍが構成され、かつ、端部領域３２Ｅおよび中央領域３２Ｃがそれぞれ以下の構成であってもよい。すなわち、端部領域３２Ｅは、マスク領域３２Ｍの端部３２ＭＥを含み、かつ、複数のマスク孔３２Ｈを含む。一方で、中央領域３２Ｃは、端部領域３２Ｅよりもマスク領域３２Ｍの中央側に位置し、かつ、端部領域３２Ｅに含まれるマスク孔３２Ｈとは異なるとともに、蒸着源ＥＳと対向するための複数のマスク孔３２Ｈを含む。
【０１５８】
こうした構成では、蒸着装置が１つの蒸着源ＥＳのみを備える構成であれば、蒸着用メタルマスク３０が１つの蒸着源ＥＳのみと対向する。これに対して、蒸着装置が複数の蒸着源ＥＳを備える構成であれば、蒸着用メタルマスク３０が、複数の蒸着源ＥＳと対向するように、蒸着装置に配置されてもよい。蒸着用メタルマスク３０が１つの蒸着源ＥＳのみと対向するとき、マスク領域３２Ｍは１つの中央領域３２Ｃを備える一方で、蒸着用メタルマスク３０が複数の蒸着源ＥＳと対向するとき、マスク領域３２Ｍは複数の中央領域３２Ｃを備えている。
【０１５９】
いずれの場合であっても、端部領域３２Ｅでの第１ステップハイＳＨ１が中央領域３２Ｃでの第１ステップハイＳＨ１よりも小さければ、以下に記載の効果を得ることはできる。
（７）マスク領域３２Ｍと対向する蒸着源ＥＳが１つであれ複数であれ、マスク領域３２Ｍの端部３２ＭＥを含む端部領域３２Ｅでの第１ステップハイＳＨ１が、中央領域３２Ｃでの第１ステップハイＳＨ１よりも小さい。そのため、中央領域３２Ｃに含まれるマスク孔３２Ｈの第１部分ＨＣ１は、端部領域３２Ｅに含まれるマスク孔３２Ｈの第１部分ＨＣ１よりも、蒸着物質ＤＭが通ることを抑える。それゆえに、マスク孔３２Ｈごとに形成される蒸着パターンの膜厚の均一性を蒸着用メタルマスク３０内において向上させることができる。
【０１６０】
・１つの蒸着用メタルマスク３０は、複数のマスク部材３２を備えてもよい。こうした構成では、サブフレーム３１は、マスク部材３２と同数のサブフレーム孔３０Ｈを有していればよい。このとき、蒸着装置が１つの蒸着源を備える構成であれば、複数のマスク部材３２が１つのマスク領域３２Ｍを構成している。また、蒸着装置が複数の蒸着源を備え、かつ、蒸着用メタルマスクが、複数の蒸着源に対して１つのマスク領域３２Ｍを有する構成であれば、複数のマスク部材３２が１つのマスク領域３２Ｍを構成している。
【０１６１】
これに対して、蒸着装置が複数の蒸着源を備え、かつ、蒸着用メタルマスクが、１つの蒸着源ごとに１つのマスク領域を有する構成であれば、各マスク部材３２が１つのマスク領域を構成してもよいし、各マスク部材３２が複数のマスク領域を構成してもよい。あるいは、１つのマスク領域３２Ｍが複数のマスク部材３２に跨ってもよい。
【０１６２】
・図１４が示すように、各マスク孔３２Ｈにおける大孔３２ＨＢと、マスク孔３２Ｈが並ぶ方向において互いに隣り合うマスク孔３２Ｈの大孔３２ＨＢとは、大開口３２Ｈ１において互いに繋がっていてもよい。こうした構成であっても、各マスク孔３２Ｈが、小開口３２Ｈ２に向けて先細る大孔３２ＨＢ、大開口３２Ｈ１に向けて先細る小孔３２ＨＳ、大孔３２ＨＢと小孔３２ＨＳとが接続する接続部３２ＨＣを含み、かつ、端部領域３２Ｅでの第１ステップハイＳＨ１が、中央領域３２Ｃでの第１ステップハイＳＨ１よりも小さければよい。こうした構成であれば、上述した（１）と同等の効果を得ることはできる。
【０１６３】
なお、図１４には、マスク領域３２Ｍのうち、第５右側領域ＥＲ５の断面構造を示しているが、マスク領域３２Ｍにおける他の領域、すなわち、中央領域３２Ｃおよび他の端部領域３２Ｅにおいても、第５右側領域ＥＲ５と同様、互いに隣り合う大孔３２ＨＢが、大開口３２Ｈ１において互いに繋がっていてもよい。
【符号の説明】
【０１６４】
１０…マスク装置、２０…メインフレーム、２０Ｈ…メインフレーム孔、３０…蒸着用メタルマスク、３０Ｈ…サブフレーム孔、３１…サブフレーム、３２…マスク部材、３２Ｃ…中央領域、３２Ｅ…端部領域、３２Ｆ，４１Ｆ…表面、３２Ｈ…マスク孔、３２Ｈ１，４１Ｈ１…大開口、３２Ｈ２，４１Ｈ２…小開口、３２ＨＢ，４１ＨＢ…大孔、３２ＨＣ，４１ＨＣ…接続部、３２ＨＳ，４１ＨＳ…小孔、３２Ｍ…マスク領域、３２ＭＥ…端部、３２Ｒ，４１Ｒ…裏面、４１…メタルマスク用基材、４２…第１レジスト層、４２Ｈ…第１貫通孔、４２Ｐ…第１レジストパターン、４３…第２レジスト層、４３Ｈ…第２貫通孔、４３Ｐ…第２レジストパターン、４４…表面保護層、４５…裏面保護層、ＤＭ…蒸着物質、ＥＬ１…第１左側領域、ＥＬ２…第２左側領域、ＥＬ３…第３左側領域、ＥＬ４…第４左側領域、ＥＬ５…第５左側領域、ＥＲ１…第１右側領域、ＥＲ２…第２右側領域、ＥＲ３…第３右側領域、ＥＲ４…第４右側領域、ＥＲ５…第５右側領域、ＥＳ…蒸着源、ＨＢ１，ＨＳ１…内周面、ＨＣ１…第１部分、ＨＣ２…第２部分、Ｎ１…第１法線、Ｎ２…第２法線、ＮＢ…大孔法線、ＮＤ…法線間距離、ＮＳ…小孔法線、Ｓ…蒸着対象、ＳＨ１…第１ステップハイ、ＳＨ２…第２ステップハイ、ＳＷ１…第１ステップ幅、ＳＷ２…第２ステップ幅。
【図１】
2018025835.tif 000005
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【国際調査報告】
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