(57)【要約】  式［１］で表される化合物の製造方法であって、式［２］で表される化合物を酸性又は塩基性条件下で加水分解する工程、及び、式［３］で表される化合物と金属酢酸塩類とを反応させる工程、及び、式［４］で表される化合物をハロゲン化する工程を含む、前記製造方法、式［１］で表される化合物の製造方法であって、式［３］で表される化合物と金属酢酸塩類とを反応させ、その後、反応液にアルコール、水、塩基を加え反応させる工程を含む、前記製造方法、式［１］で表される化合物の製造方法であって、式［３］で表される化合物を塩基、イオン液体及び金属硫酸塩類の存在下又は非存在下、水中又は水と有機溶媒との混合溶媒中で反応させる工程を含む、前記製造方法、式［２］で表される化合物又はその塩、及び式［３］で表される化合物又はその塩に関する。【特許請求の範囲】
【請求項１】
式［１］
【化１】
2017138068.tif 000034
｛式中、Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３及びＸ４はそれぞれ独立して水素原子、Ｃ１〜Ｃ４アルキル、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルコキシ、ニトロ、ハロゲン原子又は−ＯＳ（Ｏ）２Ｒ１であり、
Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３及びＸ４のうちいずれか一つは、−ＯＳ（Ｏ）２Ｒ１であり、
Ｒ１はＣ１〜Ｃ８アルキル、Ｃ１〜Ｃ８ハロアルキル又はＣ３〜Ｃ６シクロアルキル、である｝
で表される化合物の製造方法であって、
式［２］
【化２】
2017138068.tif 000035
｛ここで、Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３及びＸ４は式［１］において定義した通りである｝
で表される化合物を酸性又は塩基性条件下で加水分解する工程を含む、前記製造方法。
【請求項２】
前記塩基性条件が、金属炭酸塩類により提供される請求項１に記載の製造方法。
【請求項３】
式［３］
【化３】
2017138068.tif 000036
｛ここで、Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３及びＸ４は、請求項１に記載した通りであり、
Ｌ１及びＬ２は、それぞれ独立してハロゲン原子である｝
で表される化合物と金属酢酸塩類とを反応させて式［２］で表される化合物を製造する工程をさらに含む、請求項１又は２に記載の製造方法。
【請求項４】
式［２］
【化４】
2017138068.tif 000037
｛ここで、Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３及びＸ４は請求項１に記載した通りである｝
で表される化合物の製造方法であって、
式［３］
【化５】
2017138068.tif 000038
｛ここで、Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３及びＸ４は、請求項１に記載した通りであり、
Ｌ１及びＬ２は、それぞれ独立してハロゲン原子である｝
で表される化合物と金属酢酸塩類とを反応させる工程を含む、前記製造方法。
【請求項５】
式［４］
【化６】
2017138068.tif 000039
｛ここで、Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３及びＸ４は、請求項１に記載した通りである｝
で表される化合物をハロゲン化させて式［３］で表される化合物を製造する工程をさらに含む、請求項１〜４のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項６】
式［３］
【化７】
2017138068.tif 000040
｛ここで、Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３及びＸ４は、請求項１に記載した通りであり、
Ｌ１及びＬ２は、それぞれ独立してハロゲン原子である｝
で表される化合物の製造方法であって、
式［４］
【化８】
2017138068.tif 000041
｛ここで、Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３及びＸ４は、請求項１に記載した通りである｝
で表される化合物をハロゲン化させる工程を含む、前記製造方法。
【請求項７】
前記ハロゲン化反応のハロゲン化試薬が、塩素、塩化スルフリル、Ｎ−クロロスクシンイミドなどの塩素化試薬、あるいは、臭素、Ｎ−ブロモスクシンイミドなどの臭素化試薬である、請求項５又は６に記載の製造方法。
【請求項８】
式［１］で表される化合物の製造方法であって、式［３］で表される化合物と金属酢酸塩類とを反応させることで式［２］で表される化合物を得て、この式［２］で表される化合物を単離することなく、塩基性条件下、加水分解することにより式［１］で表される化合物を得る工程を含む、請求項１〜３のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項９】
式［１］
【化９】
2017138068.tif 000042
｛ここで、Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３及びＸ４は、請求項１に記載した通りである｝
で表される化合物の製造方法であって、
式［３］
【化１０】
2017138068.tif 000043
｛ここで、Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３及びＸ４は、請求項１に記載した通りであり、
Ｌ１及びＬ２は、請求項３に記載した通りである｝
で表される化合物を塩基、イオン液体及び金属硫酸塩類の存在下又は非存在下、水中又は水と有機溶媒の混合溶媒中で反応させる工程を含む、前記製造方法。
【請求項１０】
Ｘ１は−ＯＳ（Ｏ）２Ｒ１であり、
Ｘ２、Ｘ３及びＸ４はそれぞれ独立して水素原子、ニトロ、ハロゲン原子、ジフルオロメトキシ又は−ＯＳ（Ｏ）２Ｍｅである、
請求項１〜９のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項１１】
Ｘ１は−ＯＳ（Ｏ）２Ｍｅ、−ＯＳ（Ｏ）２Ｅｔ、−ＯＳ（Ｏ）２ｎ−Ｐｒ、−ＯＳ（Ｏ）２ｉ−Ｐｒ、−ＯＳ（Ｏ）２ｃ−Ｐｒ、−ＯＳ（Ｏ）２ｎ−Ｂｕ、−ＯＳ（Ｏ）２ｎ−Ｃ８Ｈ１７、−ＯＳ（Ｏ）２ＣＨ２ＣＨ２ＣＦ３であり、
Ｘ２及びＸ３は水素原子であり、
Ｘ４は水素原子、ニトロ、ハロゲン原子、ジフルオロメトキシ又は−ＯＳ（Ｏ）２Ｍｅである、
請求項１０に記載の製造方法。
【請求項１２】
Ｘ１は−ＯＳ（Ｏ）２Ｒ１であり、
Ｘ２、Ｘ３及びＸ４はそれぞれ独立して水素原子、ニトロ、ハロゲン原子、ジフルオロメトキシ又は−ＯＳ（Ｏ）２Ｍｅであり、
Ｌ１及びＬ２はそれぞれ独立して塩素原子又は臭素原子である、
請求項３〜９のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項１３】
Ｘ１は−ＯＳ（Ｏ）２Ｍｅ、−ＯＳ（Ｏ）２Ｅｔ、−ＯＳ（Ｏ）２ｎ−Ｐｒ、−ＯＳ（Ｏ）２ｉ−Ｐｒ、−ＯＳ（Ｏ）２ｃ−Ｐｒ、−ＯＳ（Ｏ）２ｎ−Ｂｕ、−ＯＳ（Ｏ）２ｎ−Ｃ８Ｈ１７、−ＯＳ（Ｏ）２ＣＨ２ＣＨ２ＣＦ３であり、
Ｘ２及びＸ３は水素原子であり、
Ｘ４は水素原子、ニトロ、ハロゲン原子、ジフルオロメトキシ又は−ＯＳ（Ｏ）２Ｍｅであり、
Ｌ１及びＬ２は臭素原子である、
請求項１２に記載の製造方法。
【請求項１４】
Ｘ１、Ｘ３及びＸ４は水素原子であり、
Ｘ２は−ＯＳ（Ｏ）２Ｒ１であり、
Ｒ１はＣ１〜Ｃ４アルキルである、
請求項１〜９のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項１５】
Ｘ１、Ｘ３及びＸ４は水素原子であり、
Ｘ２は−ＯＳ（Ｏ）２Ｒ１であり、
Ｒ１はＣ１〜Ｃ４アルキルであり、
Ｌ１及びＬ２はそれぞれ独立して塩素原子又は臭素原子である、
請求項３〜９のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項１６】
式［２］
【化１１】
2017138068.tif 000044
｛式中、Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３及びＸ４はそれぞれ独立して水素原子、Ｃ１〜Ｃ４アルキル、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルコキシ、ニトロ、ハロゲン原子又は−ＯＳ（Ｏ）２Ｒ１であり、
Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３及びＸ４のうちいずれか一つは、−ＯＳ（Ｏ）２Ｒ１であり、
Ｒ１はＣ１〜Ｃ８アルキル、Ｃ１〜Ｃ８ハロアルキル又はＣ３〜Ｃ６シクロアルキルである｝
で表される化合物又はその塩。
【請求項１７】
Ｘ１は−ＯＳ（Ｏ）２Ｍｅ、−ＯＳ（Ｏ）２Ｅｔ、−ＯＳ（Ｏ）２ｎ−Ｐｒ、−ＯＳ（Ｏ）２ｉ−Ｐｒ、−ＯＳ（Ｏ）２ｃ−Ｐｒ、−ＯＳ（Ｏ）２ｎ−Ｂｕ、−ＯＳ（Ｏ）２ｎ−Ｃ８Ｈ１７、−ＯＳ（Ｏ）２ＣＨ２ＣＨ２ＣＦ３であり、
Ｘ２及びＸ３は水素原子であり、
Ｘ４は水素原子、ニトロ、ハロゲン原子、ジフルオロメトキシ又は−ＯＳ（Ｏ）２Ｍｅである、
請求項１６に記載の化合物又はその塩。
【請求項１８】
式［３］
【化１２】
2017138068.tif 000045
｛式中、Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３及びＸ４はそれぞれ独立して水素原子、Ｃ１〜Ｃ４アルキル、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルコキシ、ニトロ、ハロゲン原子又は−ＯＳ（Ｏ）２Ｒ１であり、
Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３及びＸ４のうちいずれか一つは、−ＯＳ（Ｏ）２Ｒ１であり、
Ｒ１はＣ１〜Ｃ８アルキル、Ｃ１〜Ｃ８ハロアルキル又はＣ３〜Ｃ６シクロアルキルであり、
Ｌ１及びＬ２は、それぞれ独立してハロゲン原子である｝
で表される化合物又はその塩。
【請求項１９】
Ｘ１は−ＯＳ（Ｏ）２Ｍｅ、−ＯＳ（Ｏ）２Ｅｔ、−ＯＳ（Ｏ）２ｎ−Ｐｒ、−ＯＳ（Ｏ）２ｉ−Ｐｒ、−ＯＳ（Ｏ）２ｃ−Ｐｒ、−ＯＳ（Ｏ）２ｎ−Ｂｕ、−ＯＳ（Ｏ）２ｎ−Ｃ８Ｈ１７、−ＯＳ（Ｏ）２ＣＨ２ＣＨ２ＣＦ３であり、
Ｘ２及びＸ３は水素原子であり、
Ｘ４は水素原子、ニトロ、ハロゲン原子、ジフルオロメトキシ又は−ＯＳ（Ｏ）２Ｍｅであり、
Ｌ１及びＬ２は臭素原子である、
請求項１８に記載の化合物又はその塩。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、１，２−ベンゼンジメタノール化合物の製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
これまでに、１，２−ベンゼンジメタノール化合物の製造方法として、フタル酸やフタル酸無水物、あるいは、フタリドを水素化アルミニウムリチウムやボラン、水素化ホウ素ナトリウムなどの強力な還元剤と反応させる方法や、１，２−ビスハロメチルベンゼンを塩基性水溶液で処理する方法が報告されている（非特許文献１〜３）。しかしながら、前者の方法を用いて当該化合物を工業的に製造しようとした場合、副生するアルミニウム化合物の処理や禁水条件での製造の実施が必要であること、後者の方法を用いて当該化合物を工業的に製造しようとした場合、しばしば意図しない官能基の分解が生じることや目的としないフタランが副生することが問題となっており、作業性や経済性、安全性、官能基の許容性の観点から、より効率的な改良法が求められてきた。
【先行技術文献】
【非特許文献】
【０００３】
【非特許文献１】Ｊ. Am. Chem. Soc. 1947, 69, 1197.
【非特許文献２】Ｊ. Am. Chem. Soc. 1949, 71, 122.
【非特許文献３】J. Org. Chem. 1990, 55, 2325.
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明は、殺菌性作物保護剤として有用なピペリジン誘導体の合成中間体である１，２−ベンゼンジメタノール化合物を効率的に調製する方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明者らは、前記の課題を解決するために鋭意検討した結果、式［１］で示される１，２−ベンゼンジメタノール化合物を効率的に調製する方法を見出し、かかる知見に基づき本発明を完成した。【０００６】
本発明は、以下の化合物の製造方法を包含する。【０００７】
（１）式［１］
【化１】
2017138068.tif 000002
｛式中、Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３及びＸ４はそれぞれ独立して水素原子、Ｃ１〜Ｃ４アルキル、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルコキシ、ニトロ、ハロゲン原子又は−ＯＳ（Ｏ）２Ｒ１であり、
Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３及びＸ４のうちいずれか一つは、−ＯＳ（Ｏ）２Ｒ１であり、
Ｒ１はＣ１〜Ｃ８アルキル、Ｃ１〜Ｃ８ハロアルキル又はＣ３〜Ｃ６シクロアルキルである｝
で表される化合物の製造方法であって、【０００８】
式［２］
【化２】
2017138068.tif 000003
｛ここで、Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３及びＸ４は式［１］において定義した通りである｝
で表される化合物を酸性又は塩基性条件下で加水分解する工程を含む、前記製造方法。【０００９】
（２）前記塩基性条件が、金属炭酸塩類により提供される（１）に記載の製造方法。【００１０】
（３）式［３］
【化３】
2017138068.tif 000004
｛ここで、Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３及びＸ４は、（１）に記載した通りであり、
Ｌ１及びＬ２は、それぞれ独立してハロゲン原子である｝
で表される化合物と金属酢酸塩類とを反応させて式［２］で表される化合物を製造する工程をさらに含む、（１）又は（２）に記載の製造方法。【００１１】
（４）式［２］
【化４】
2017138068.tif 000005
｛ここで、Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３及びＸ４は（１）に記載した通りである｝
で表される化合物の製造方法であって、【００１２】
式［３］
【化５】
2017138068.tif 000006
｛ここで、Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３及びＸ４は、（１）に記載した通りであり、
Ｌ１及びＬ２は、それぞれ独立してハロゲン原子である｝
で表される化合物と金属酢酸塩類とを反応させる工程を含む、前記製造方法。【００１３】
（５）式［４］
【化６】
2017138068.tif 000007
｛ここで、Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３及びＸ４は、（１）に記載した通りである｝
で表される化合物をハロゲン化させて式［３］で表される化合物を製造する工程をさらに含む、（１）〜（４）のいずれか１つに記載の製造方法。【００１４】
（６）式［３］
【化７】
2017138068.tif 000008
｛ここで、Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３及びＸ４は、（１）に記載した通りであり、
Ｌ１及びＬ２は、それぞれ独立してハロゲン原子である｝
で表される化合物の製造方法であって、【００１５】
式［４］
【化８】
2017138068.tif 000009
｛ここで、Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３及びＸ４は、（１）に記載した通りである｝
で表される化合物をハロゲン化させる工程を含む、前記製造方法。【００１６】
（７）前記ハロゲン化反応のハロゲン化試薬が、塩素、塩化スルフリル、Ｎ−クロロスクシンイミドなどの塩素化試薬、あるいは、臭素、Ｎ−ブロモスクシンイミドなどの臭素化試薬である、（５）又は（６）に記載の製造方法。【００１７】
（８）式［３］で表される化合物と金属酢酸塩類とを反応させることで式［２］で表される化合物を得て、この式［２］で表される化合物を単離することなく、塩基性条件下、加水分解することにより式［１］で表される化合物を得る工程を含む、（１）〜（３）のいずれか１つに記載の製造方法。【００１８】
（９）式［１］
【化９】
2017138068.tif 000010
｛ここで、Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３及びＸ４は、（１）に記載した通りである｝
で表される化合物の製造方法であって、【００１９】
式［３］
【化１０】
2017138068.tif 000011
｛ここで、Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３及びＸ４は、（１）に記載した通りであり、
Ｌ１及びＬ２は、（３）に記載した通りである｝
で表される化合物を塩基、イオン液体及び金属硫酸塩類の存在下又は非存在下、水中又は水と有機溶媒の混合溶媒中で反応させる工程を含む、前記製造方法。【００２０】
（１０）前記反応条件が、塩基又は金属硫酸塩類存在下、水中又は水と有機溶媒の混合溶媒中で反応させる工程により提供される（９）に記載の製造方法。【００２１】
（１１）前記反応条件が、水中又は水と有機溶媒の混合溶媒中で反応させる工程により提供される（９）に記載の製造方法。【００２２】
（１２）Ｘ１は−ＯＳ（Ｏ）２Ｒ１であり、
Ｘ２、Ｘ３及びＸ４はそれぞれ独立して水素原子、ニトロ、ハロゲン原子、ジフルオロメトキシ又は−ＯＳ（Ｏ）２Ｍｅである、
（１）〜（１１）のいずれか１つに記載の製造方法。【００２３】
（１３）Ｘ１は−ＯＳ（Ｏ）２Ｍｅ、−ＯＳ（Ｏ）２Ｅｔ、−ＯＳ（Ｏ）２ｎ−Ｐｒ、−ＯＳ（Ｏ）２ｉ−Ｐｒ、−ＯＳ（Ｏ）２ｃ−Ｐｒ、−ＯＳ（Ｏ）２ｎ−Ｂｕ、−ＯＳ（Ｏ）２ｎ−Ｃ８Ｈ１７、−ＯＳ（Ｏ）２ＣＨ２ＣＨ２ＣＦ３であり、
Ｘ２及びＸ３は水素原子であり、
Ｘ４は水素原子、ニトロ、ハロゲン原子、ジフルオロメトキシ又は−ＯＳ（Ｏ）２Ｍｅである、
（１２）に記載の製造方法。【００２４】
（１４）Ｘ１は−ＯＳ（Ｏ）２Ｍｅであり、
Ｘ４は水素原子又はフッ素原子である、
（１３）に記載の製造方法。【００２５】
（１５）Ｘ１は−ＯＳ（Ｏ）２Ｒ１であり、
Ｘ２、Ｘ３及びＸ４はそれぞれ独立して水素原子、ニトロ、ハロゲン原子、ジフルオロメトキシ又は−ＯＳ（Ｏ）２Ｍｅであり、
Ｌ１及びＬ２はそれぞれ独立して塩素原子又は臭素原子である、
（３）〜（１１）のいずれか１つに記載の製造方法。【００２６】
（１６）Ｘ１は−ＯＳ（Ｏ）２Ｍｅ、−ＯＳ（Ｏ）２Ｅｔ、−ＯＳ（Ｏ）２ｎ−Ｐｒ、−ＯＳ（Ｏ）２ｉ−Ｐｒ、−ＯＳ（Ｏ）２ｃ−Ｐｒ、−ＯＳ（Ｏ）２ｎ−Ｂｕ、−ＯＳ（Ｏ）２ｎ−Ｃ８Ｈ１７、−ＯＳ（Ｏ）２ＣＨ２ＣＨ２ＣＦ３であり、
Ｘ２及びＸ３は水素原子であり、
Ｘ４は水素原子、ニトロ、ハロゲン原子、ジフルオロメトキシ又は−ＯＳ（Ｏ）２Ｍｅであり、
Ｌ１及びＬ２は臭素原子である、
（１５）に記載の製造方法。【００２７】
（１７）Ｘ１は−ＯＳ（Ｏ）２Ｍｅであり、
Ｘ４は水素原子又はフッ素原子である、
（１６）に記載の製造方法。【００２８】
（１８）Ｘ１、Ｘ３及びＸ４は水素原子であり、
Ｘ２は−ＯＳ（Ｏ）２Ｒ１であり、
Ｒ１はＣ１〜Ｃ４アルキルである、
（１）〜（１１）のいずれか１つに記載の製造方法。【００２９】
（１９）Ｘ２は−ＯＳ（Ｏ）２Ｍｅである、
（１８）に記載の製造方法。【００３０】
（２０）Ｘ１、Ｘ３及びＸ４は水素原子であり、
Ｘ２は−ＯＳ（Ｏ）２Ｒ１であり、
Ｒ１はＣ１〜Ｃ４アルキルであり、
Ｌ１及びＬ２はそれぞれ独立して塩素原子又は臭素原子である、
（３）〜（１１）のいずれか１つに記載の製造方法。【００３１】
（２１）Ｘ２は−ＯＳ（Ｏ）２Ｍｅであり、
Ｌ１及びＬ２は臭素原子である、
（２０）に記載の製造方法。【００３２】
（２２）式［２］
【化１１】
2017138068.tif 000012
｛式中、Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３及びＸ４はそれぞれ独立して水素原子、Ｃ１〜Ｃ４アルキル、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルコキシ、ニトロ、ハロゲン原子又は−ＯＳ（Ｏ）２Ｒ１であり、
Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３及びＸ４のうちいずれか一つは、−ＯＳ（Ｏ）２Ｒ１であり、
Ｒ１はＣ１〜Ｃ８アルキル、Ｃ１〜Ｃ８ハロアルキル又はＣ３〜Ｃ６シクロアルキルである｝
で表される化合物又はその塩。【００３３】
（２３）Ｘ１は−ＯＳ（Ｏ）２Ｍｅ、−ＯＳ（Ｏ）２Ｅｔ、−ＯＳ（Ｏ）２ｎ−Ｐｒ、−ＯＳ（Ｏ）２ｉ−Ｐｒ、−ＯＳ（Ｏ）２ｃ−Ｐｒ、−ＯＳ（Ｏ）２ｎ−Ｂｕ、−ＯＳ（Ｏ）２ｎ−Ｃ８Ｈ１７、−ＯＳ（Ｏ）２ＣＨ２ＣＨ２ＣＦ３であり、
Ｘ２及びＸ３は水素原子であり、
Ｘ４は水素原子、ニトロ、ハロゲン原子、ジフルオロメトキシ又は−ＯＳ（Ｏ）２Ｍｅである、
（２２）に記載の化合物又はその塩。【００３４】
（２４）式［３］
【化１２】
2017138068.tif 000013
｛式中、Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３及びＸ４はそれぞれ独立して水素原子、Ｃ１〜Ｃ４アルキル、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルコキシ、ニトロ、ハロゲン原子又は−ＯＳ（Ｏ）２Ｒ１であり、
Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３及びＸ４のうちいずれか一つは、−ＯＳ（Ｏ）２Ｒ１であり、
Ｒ１はＣ１〜Ｃ８アルキル、Ｃ１〜Ｃ８ハロアルキル又はＣ３〜Ｃ６シクロアルキルであり、
Ｌ１及びＬ２は、それぞれ独立してハロゲン原子である｝
で表される化合物又はその塩。【００３５】
（２５）Ｘ１は−ＯＳ（Ｏ）２Ｍｅ、−ＯＳ（Ｏ）２Ｅｔ、−ＯＳ（Ｏ）２ｎ−Ｐｒ、−ＯＳ（Ｏ）２ｉ−Ｐｒ、−ＯＳ（Ｏ）２ｃ−Ｐｒ、−ＯＳ（Ｏ）２ｎ−Ｂｕ、−ＯＳ（Ｏ）２ｎ−Ｃ８Ｈ１７、−ＯＳ（Ｏ）２ＣＨ２ＣＨ２ＣＦ３であり、
Ｘ２及びＸ３は水素原子であり、
Ｘ４は水素原子、ニトロ、ハロゲン原子、ジフルオロメトキシ又は−ＯＳ（Ｏ）２Ｍｅであり、
Ｌ１及びＬ２は臭素原子である、
（２４）に記載の化合物又はその塩。【００３６】
（２６）式［５］
【化１３】
2017138068.tif 000014
｛式中、Ａは、【００３７】
【化１４】
2017138068.tif 000015
から選択される基であり、
Ｒ２及びＲ３は、それぞれ独立してＣ１〜Ｃ４アルキル、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキル又はハロゲン原子であり、
Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７及びＲ８は、それぞれ独立して水素原子、ハロゲン原子、シアノ、ヒドロキシ、アミノ、ニトロ、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、Ｃ２〜Ｃ６アルケニル、Ｃ２〜Ｃ６アルキニル、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル、Ｃ２〜Ｃ６ハロアルケニル、Ｃ２〜Ｃ６ハロアルキニル、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルコキシ、Ｃ３〜Ｃ６シクロアルキル、Ｃ３〜Ｃ６ハロシクロアルキル、Ｃ４〜Ｃ１０シクロアルキルアルキル、Ｃ４〜Ｃ１０アルキルシクロアルキル、Ｃ５〜Ｃ１０アルキルシクロアルキルアルキル、Ｃ２〜Ｃ６アルコキシアルキル、Ｃ１〜Ｃ６ヒドロキシアルキル、Ｃ１〜Ｃ６アルキルチオ、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキルチオ、Ｃ１〜Ｃ６アルキルスルフィニル、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキルスルフィニル、Ｃ１〜Ｃ６アルキルスルホニル、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキルスルホニル、Ｃ１〜Ｃ６アルキルアミノ、Ｃ２〜Ｃ８ジアルキルアミノ、Ｃ３〜Ｃ６シクロアルキルアミノ、Ｃ２〜Ｃ６アルキルカルボニル、Ｃ２〜Ｃ６ハロアルキルカルボニル、Ｃ２〜Ｃ６アルコキシカルボニル、Ｃ２〜Ｃ６ハロアルコキシカルボニル、Ｃ２〜Ｃ６アルキルカルボニルオキシ、Ｃ２〜Ｃ６アルキルカルボニルチオ、Ｃ２〜Ｃ６アルキルアミノカルボニル、Ｃ２〜Ｃ８（ジアルキルアミノ）カルボニル、又はＣ３〜Ｃ６トリアルキルシリルであり、
Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３及びＸ４は、（１）に定義した通りである｝
で表される化合物の製造方法であって、【００３８】
式［６］
【化１５】
2017138068.tif 000016
｛式中、Ａは式［５］に定義した通りである｝
で表される化合物と、【００３９】
式［１］
【化１６】
2017138068.tif 000017
｛式中、Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３及びＸ４は（１）に定義した通りである｝
で表される化合物とを反応させる工程
を含み、式［１］の化合物は前記（１）、（３）、（５）、（８）及び（９）のいずれか１つに記載の工程により製造される、前記製造方法。【００４０】
（２７）  Ｒ４、Ｒ６及びＲ７は水素原子であり、
Ｒ５及びＲ８は、それぞれ独立して水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル又はＣ１〜Ｃ６ハロアルキルである、
（２６）に記載の製造方法。【００４１】
（２８）Ｒ２は、トリフルオロメチル、ジフルオロメチル又は塩素原子であり、
Ｒ３は、メチル、トリフルオロメチル、ジフルオロメチル又は塩素原子であり、
Ｒ５及びＲ８は、それぞれ独立して水素原子、塩素原子、トリフルオロメチル又はメチルである、
（２６）又は（２７）に記載の製造方法。【００４２】
（２９）ＡがＡ−１である、
（２６）〜（２８）のいずれか１つに記載の製造方法。【００４３】
（３０）Ａが［５−メチル−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール−１−イル］アセチル又は［３，５−ビス（ジフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール−１−イル］アセチルである、
（２６）〜（２９）のいずれか１つに記載の製造方法。【００４４】
（３１）式中、Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３及びＸ４はそれぞれ独立して水素原子、Ｃ１〜Ｃ４アルキル、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルコキシ、ニトロ、ハロゲン原子又は−ＯＳ（Ｏ）２Ｒ１であり、
Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３及びＸ４のうちいずれか一つは、−ＯＳ（Ｏ）２Ｒ１であり、
Ｒ１はＣ１〜Ｃ８アルキル、Ｃ１〜Ｃ８ハロアルキル又はＣ３〜Ｃ６シクロアルキルである、
（２６）に記載の製造方法。【００４５】
（３２）Ｘ１は−ＯＳ（Ｏ）２Ｒ１であり、
Ｘ２、Ｘ３及びＸ４はそれぞれ独立して水素原子、ニトロ、ハロゲン原子、ジフルオロメトキシ又は−ＯＳ（Ｏ）２Ｍｅである、
（２６）又は（３１）に記載の製造方法。【００４６】
（３３）Ｘ１は−ＯＳ（Ｏ）２Ｍｅ、−ＯＳ（Ｏ）２Ｅｔ、−ＯＳ（Ｏ）２ｎ−Ｐｒ、−ＯＳ（Ｏ）２ｉ−Ｐｒ、−ＯＳ（Ｏ）２ｃ−Ｐｒ、−ＯＳ（Ｏ）２ｎ−Ｂｕ、−ＯＳ（Ｏ）２ｎ−Ｃ８Ｈ１７、−ＯＳ（Ｏ）２ＣＨ２ＣＨ２ＣＦ３であり、
Ｘ２及びＸ３は水素原子であり、
Ｘ４は水素原子、ニトロ、ハロゲン原子、ジフルオロメトキシ又は−ＯＳ（Ｏ）２Ｍｅである、
（２６）、（３１）及び（３２）のいずれか１つに記載の製造方法。【００４７】
（３４）Ｘ１は−ＯＳ（Ｏ）２Ｍｅであり、
Ｘ４は水素原子又はフッ素原子である、
（２６）、及び（３１）〜（３３）のいずれか１つに記載の製造方法。【００４８】
（３５）Ｘ１、Ｘ３及びＸ４は水素原子であり、
Ｘ２は−ＯＳ（Ｏ）２Ｒ１であり、
Ｒ１はＣ１〜Ｃ４アルキルである、
（２６）に記載の製造方法。【００４９】
（３６）Ｘ２は−ＯＳ（Ｏ）２Ｍｅである、
（２６）又は（３５）に記載の製造方法。【００５０】
（３７）ＡがＡ−１である（３１）〜（３６）のいずれか１つに記載の製造方法。【００５１】
（３８）式［５］で表される化合物が、
４−［４−（６−メチルスルホニルオキシ−１，５−ジヒドロ−３Ｈ−２，４−ベンゾジオキセピン−３−イル）−２−チアゾリル］−１−［２−［５−メチル−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール−１−イル］アセチル］ピペリジン、
４−［４−（６−エチルスルホニルオキシ−１，５−ジヒドロ−３Ｈ−２，４−ベンゾジオキセピン−３−イル）−２−チアゾリル］−１−［２−［５−メチル−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール−１−イル］アセチル］ピペリジン、
４−［４−（６−フルオロ−９−メチルスルホニルオキシ−１，５−ジヒドロ−３Ｈ−２，４−ベンゾジオキセピン−３−イル）−２−チアゾリル］−１−［２−［５−メチル−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール−１−イル］アセチル］ピペリジン、
４−［４−（７−メチルスルホニルオキシ−１，５−ジヒドロ−３Ｈ−２，４−ベンゾジオキセピン−３−イル）−２−チアゾリル］−１−［２−［５−メチル−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール−１−イル］アセチル］ピペリジン、
４−［４−（６−シクロプロピルスルホニルオキシ−１，５−ジヒドロ−３Ｈ−２，４−ベンゾジオキセピン−３−イル）−２−チアゾリル］−１−［２−［５−メチル−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール−１−イル］アセチル］ピペリジン、
４−［４−（６−メチル−９−メチルスルホニルオキシ−１，５−ジヒドロ−３Ｈ−２，４−ベンゾジオキセピン−３−イル）−２−チアゾリル］−１−［２−［５−メチル−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール−１−イル］アセチル］ピペリジン、
４−［４−（６−ブチルスルホニルオキシ−１，５−ジヒドロ−３Ｈ−２，４−ベンゾジオキセピン−３−イル）−２−チアゾリル］−１−［２−［５−メチル−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール−１−イル］アセチル］ピペリジン、
４−［４−（６−プロピルスルホニルオキシ−１，５−ジヒドロ−３Ｈ−２，４−ベンゾジオキセピン−３−イル）−２−チアゾリル］−１−［２−［５−メチル−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール−１−イル］アセチル］ピペリジン、
４−［４−（６−オクチルスルホニルオキシ−１，５−ジヒドロ−３Ｈ−２，４−ベンゾジオキセピン−３−イル）−２−チアゾリル］−１−［２−［５−メチル−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール−１−イル］アセチル］ピペリジン、
４−［４−（６−メトキシ−９−メチルスルホニルオキシ−１，５−ジヒドロ−３Ｈ−２，４−ベンゾジオキセピン−３−イル）−２−チアゾリル］−１−［２−［５−メチル−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール−１−イル］アセチル］ピペリジン、
４−［４−（６−イソプロピルスルホニルオキシ−１，５−ジヒドロ−３Ｈ−２，４−ベンゾジオキセピン−３−イル）−２−チアゾリル］−１−［２−［５−メチル−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール−１−イル］アセチル］ピペリジン、
４−［４−（７−エチルスルホニルオキシ−１，５−ジヒドロ−３Ｈ−２，４−ベンゾジオキセピン−３−イル）−２−チアゾリル］−１−［２−［５−メチル−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール−１−イル］アセチル］ピペリジン、
４−［４−［６−（１，１，１−トリフルオロプロパン−３−イル）スルホニルオキシ−１，５−ジヒドロ−３Ｈ−２，４−ベンゾジオキセピン−３−イル］−２−チアゾリル］−１−［２−［５−メチル−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール−１−イル］アセチル］ピペリジン、
４−［４−（６−メチルスルホニルオキシ−９−ニトロ−１，５−ジヒドロ−３Ｈ−２，４−ベンゾジオキセピン−３−イル）−２−チアゾリル］−１−［２−［５−メチル−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール−１−イル］アセチル］ピペリジン、
４−［４−（６−メチルスルホニルオキシ−１，５−ジヒドロ−３Ｈ−２，４−ベンゾジオキセピン−３−イル）−２−チアゾリル］−１−［２−［３，５−ビス（ジフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール−１−イル］アセチル］ピペリジン、
４−［４−（６−メトキシ−９−メチルスルホニルオキシ−１，５−ジヒドロ−３Ｈ−２，４−ベンゾジオキセピン−３−イル）−２−チアゾリル］−１−［２−［３，５−ビス（ジフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール−１−イル］アセチル］ピペリジン、
４−［４−（６−メチルスルホニルオキシ−１，５−ジヒドロ−３Ｈ−２，４−ベンゾジオキセピン−３−イル）−２−チアゾリル］−１−［２−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール−１−イル］アセチル］ピペリジン、
４−［４−（６−メチル−９−メチルスルホニルオキシ−１，５−ジヒドロ−３Ｈ−２，４−ベンゾジオキセピン−３−イル）−２−チアゾリル］−１−［２−［３，５−ビス（ジフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール−１−イル］アセチル］ピペリジン、
４−［４−（７−フルオロ−６−メチルスルホニルオキシ−１，５−ジヒドロ−３Ｈ−２，４−ベンゾジオキセピン−３−イル）−２−チアゾリル］−１−［２−［５−メチル−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール−１−イル］アセチル］ピペリジン、
４−［４−（６−イソプロピルスルホニルオキシ−１，５−ジヒドロ−３Ｈ−２，４−ベンゾジオキセピン−３−イル）−２−チアゾリル］−１−［２−［３，５−ビス（ジフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール−１−イル］アセチル］ピペリジン、
４−［４−（６−ブチルスルホニルオキシ−１，５−ジヒドロ−３Ｈ−２，４−ベンゾジオキセピン−３−イル）−２−チアゾリル］−１−［２−［３，５−ビス（ジフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール−１−イル］アセチル］ピペリジン、
４−［４−（６−オクチルスルホニルオキシ−１，５−ジヒドロ−３Ｈ−２，４−ベンゾジオキセピン−３−イル）−２−チアゾリル］−１−［２−［３，５−ビス（ジフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール−１−イル］アセチル］ピペリジン、
４−［４−（６−フルオロ−９−メチルスルホニルオキシ−１，５−ジヒドロ−３Ｈ−２，４−ベンゾジオキセピン−３−イル）−２−チアゾリル］−１−［２−［３，５−ビス（ジフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール−１−イル］アセチル］ピペリジン、
４−［４−（６，７−ジメチル−９−メチルスルホニルオキシ−１，５−ジヒドロ−３Ｈ−２，４−ベンゾジオキセピン−３−イル）−２−チアゾリル］−１−［２−［５−メチル−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール−１−イル］アセチル］ピペリジン、
４−［４−（６−クロロ−９−メチルスルホニルオキシ−１，５−ジヒドロ−３Ｈ−２，４−ベンゾジオキセピン−３−イル）−２−チアゾリル］−１−［２−［５−メチル−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール−１−イル］アセチル］ピペリジン、
４−［４−（６−ブロモ−９−メチルスルホニルオキシ−１，５−ジヒドロ−３Ｈ−２，４−ベンゾジオキセピン−３−イル）−２−チアゾリル］−１−［２−［５−メチル−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール−１−イル］アセチル］ピペリジン、
４−［４−（６−イソプロピルスルホニルオキシ−１，５−ジヒドロ−３Ｈ−２，４−ベンゾジオキセピン−３−イル）−２−チアゾリル］−１−［２−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール−１−イル］アセチル］ピペリジン、
４−［４−（６−ブチルスルホニルオキシ−１，５−ジヒドロ−３Ｈ−２，４−ベンゾジオキセピン−３−イル）−２−チアゾリル］−１−［２−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール−１−イル］アセチル］ピペリジン、
４−［４−（６−ヨード−９−メチルスルホニルオキシ−１，５−ジヒドロ−３Ｈ−２，４−ベンゾジオキセピン−３−イル）−２−チアゾリル］−１−［２−［５−メチル−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール−１−イル］アセチル］ピペリジン、
４−［４−［６，９−ビス（メチルスルホニルオキシ）−１，５−ジヒドロ−３Ｈ−２，４−ベンゾジオキセピン−３−イル］−２−チアゾリル］−１−［２−［５−メチル−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール−１−イル］アセチル］ピペリジン、
４−［４−（６−メチルスルホニルオキシ−１，５−ジヒドロ−３Ｈ−２，４−ベンゾジオキセピン−３−イル）−２−チアゾリル］−１−［２−（３，５−ジメチル−１Ｈ−ピラゾール−１−イル）アセチル］ピペリジン、
４−［４−（６−メトキシ−９−メチルスルホニルオキシ−１，５−ジヒドロ−３Ｈ−２，４−ベンゾジオキセピン−３−イル）−２−チアゾリル］−１−［２−［５−クロロ−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール−１−イル］アセチル］ピペリジン、
４−［４−（６−メトキシ−９−メチルスルホニルオキシ−１，５−ジヒドロ−３Ｈ−２，４−ベンゾジオキセピン−３−イル）−２−チアゾリル］−１−［２−（３，５−ジクロロ−１Ｈ−ピラゾール−１−イル）アセチル］ピペリジン、
４−［４−（６−メトキシ−９−メチルスルホニルオキシ−１，５−ジヒドロ−３Ｈ−２，４−ベンゾジオキセピン−３−イル）−２−チアゾリル］−１−［２−（３，５−ジメチル−１Ｈ−ピラゾール−１−イル）アセチル］ピペリジン、
４−［４−（６−クロロ−９−メチルスルホニルオキシ−１，５−ジヒドロ−３Ｈ−２，４−ベンゾジオキセピン−３−イル）−２−チアゾリル］−１−［２−［３，５−ビス（ジフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール−１−イル］アセチル］ピペリジン、
４−［４−（６−メトキシ−９−メチルスルホニルオキシ−１，５−ジヒドロ−３Ｈ−２，４−ベンゾジオキセピン−３−イル）−２−チアゾリル］−１−［２−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール−１−イル］アセチル］ピペリジン、
４−［４−（６−クロロ−９−メチルスルホニルオキシ−１，５−ジヒドロ−３Ｈ−２，４−ベンゾジオキセピン−３−イル）−２−チアゾリル］−１−［２−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール−１−イル］アセチル］ピペリジン、
４−［４−（６−メチルスルホニルオキシ−１，５−ジヒドロ−３Ｈ−２，４−ベンゾジオキセピン−３−イル）−２−チアゾリル］−１−［２−［３，５−ビス（ジクロロメチル）−１Ｈ−ピラゾール−１−イル］アセチル］ピペリジン、
４−［４−（６−フルオロ−９−メチルスルホニルオキシ−１，５−ジヒドロ−３Ｈ−２，４−ベンゾジオキセピン−３−イル）−２−チアゾリル］−１−［２−（３，５−ジメチル−１Ｈ−ピラゾール−１−イル）アセチル］ピペリジン、
４−［４−（６，７−ジメチル−９−メチルスルホニルオキシ−１，５−ジヒドロ−３Ｈ−２，４−ベンゾジオキセピン−３−イル）−２−チアゾリル］−１−［２−［３，５−ビス（ジフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール−１−イル］アセチル］ピペリジン、
４−［４−（６，７−ジメチル−９−メチルスルホニルオキシ−１，５−ジヒドロ−３Ｈ−２，４−ベンゾジオキセピン−３−イル）−２−チアゾリル］−１−［２−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール−１−イル］アセチル］ピペリジン、
４−［４−（６−ブロモ−９−メチルスルホニルオキシ−１，５−ジヒドロ−３Ｈ−２，４−ベンゾジオキセピン−３−イル）−２−チアゾリル］−１−［２−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール−１−イル］アセチル］ピペリジン、
４−［４−（６−メチルスルホニルオキシ−９−ニトロ−１，５−ジヒドロ−３Ｈ−２，４−ベンゾジオキセピン−３−イル）−２−チアゾリル］−１−［２−［３，５−ビス（ジフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール−１−イル］アセチル］ピペリジン、
４−［４−（６−ブロモ−９−メチルスルホニルオキシ−１，５−ジヒドロ−３Ｈ−２，４−ベンゾジオキセピン−３−イル）−２−チアゾリル］−１−［２−［３，５−ビス（ジフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール−１−イル］アセチル］ピペリジン、
４−［４−（６−メチルスルホニルオキシ−９−ニトロ−１，５−ジヒドロ−３Ｈ−２，４−ベンゾジオキセピン−３−イル）−２−チアゾリル］−１−［２−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール−１−イル］アセチル］ピペリジン、
４−［４−（６−ヨード−９−メチルスルホニルオキシ−１，５−ジヒドロ−３Ｈ−２，４−ベンゾジオキセピン−３−イル）−２−チアゾリル］−１−［２−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール−１−イル］アセチル］ピペリジン、
４−［４−（６−ヨード−９−メチルスルホニルオキシ−１，５−ジヒドロ−３Ｈ−２，４−ベンゾジオキセピン−３−イル）−２−チアゾリル］−１−［２−［３，５−ビス（ジフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール−１−イル］アセチル］ピペリジン、
４−［４−（７−フルオロ−６−メチルスルホニルオキシ−１，５−ジヒドロ−３Ｈ−２，４−ベンゾジオキセピン−３−イル）−２−チアゾリル］−１−［２−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール−１−イル］アセチル］ピペリジン、
４−［４−（７−フルオロ−６−メチルスルホニルオキシ−１，５−ジヒドロ−３Ｈ−２，４−ベンゾジオキセピン−３−イル）−２−チアゾリル］−１−［２−［３，５−ビス（ジフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール−１−イル］アセチル］ピペリジン、
４−［４−（７−メチルスルホニルオキシ−１，５−ジヒドロ−３Ｈ−２，４−ベンゾジオキセピン−３−イル）−２−チアゾリル］−１−［２−［３，５−ビス（ジフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール−１−イル］アセチル］ピペリジン、
４−［４−（７−メチルスルホニルオキシ−１，５−ジヒドロ−３Ｈ−２，４−ベンゾジオキセピン−３−イル）−２−チアゾリル］−１−［２−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール−１−イル］アセチル］ピペリジン、
４−［４−［６−（ジフルオロメトキシ）−９−メチルスルホニルオキシ−１，５−ジヒドロ−３Ｈ−２，４−ベンゾジオキセピン−３−イル］−２−チアゾリル］−１−［２−［５−メチル−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール−１−イル］アセチル］ピペリジン、
４−［４−［６，９−ビス（メチルスルホニルオキシ）−１，５−ジヒドロ−３Ｈ−２，４−ベンゾジオキセピン−３−イル］−２−チアゾリル］−１−［２−［３，５−ビス（ジフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール−１−イル］アセチル］ピペリジン、
４−［４−［６，９−ビス（メチルスルホニルオキシ）−１，５−ジヒドロ−３Ｈ−２，４−ベンゾジオキセピン−３−イル］−２−チアゾリル］−１−［２−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール−１−イル］アセチル］ピペリジン、
４−［４−（６−フルオロ−９−メチルスルホニルオキシ−１，５−ジヒドロ−３Ｈ−２，４−ベンゾジオキセピン−３−イル）−２−チアゾリル］−１−［２−［５−メチル−３−（ジフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール−１−イル］アセチル］ピペリジン、
４−［４−（６−メチルスルホニルオキシ−１，５−ジヒドロ−３Ｈ−２，４−ベンゾジオキセピン−３−イル）−２−チアゾリル］−１−［２−（２，５−ジメチルフェニル）アセチル］ピペリジン、
４−［４−（６−メチルスルホニルオキシ−１，５−ジヒドロ−３Ｈ−２，４−ベンゾジオキセピン−３−イル）−２−チアゾリル］−１−［２−（２，５−ジクロロフェニル）アセチル］ピペリジン、
４−［４−（６−フルオロ−９−メチルスルホニルオキシ−１，５−ジヒドロ−３Ｈ−２，４−ベンゾジオキセピン−３−イル）−２−チアゾリル］−１−［２−（２，５−ジメチルフェニル）アセチル］ピペリジン、
４−［４−（６−ブチルスルホニルオキシ−１，５−ジヒドロ−３Ｈ−２，４−ベンゾジオキセピン−３−イル）−２−チアゾリル］−１−［２−（２，５−ジメチルフェニル）アセチル］ピペリジン、
４−［４−（６−フルオロ−９−メチルスルホニルオキシ−１，５−ジヒドロ−３Ｈ−２，４−ベンゾジオキセピン−３−イル）−２−チアゾリル］−１−［２−（２，５−ジクロロフェニル）アセチル］ピペリジン、
４−［４−（６−メトキシ−９−メチルスルホニルオキシ−１，５−ジヒドロ−３Ｈ−２，４−ベンゾジオキセピン−３−イル）−２−チアゾリル］−１−［２−（２，５−ジクロロフェニル）アセチル］ピペリジン、
４−［４−（６−メトキシ−９−メチルスルホニルオキシ−１，５−ジヒドロ−３Ｈ−２，４−ベンゾジオキセピン−３−イル）−２−チアゾリル］−１−［２−（２，５−ジメチルフェニル）アセチル］ピペリジン、
４−［４−（６−メチルスルホニルオキシ−１，５−ジヒドロ−３Ｈ−２，４−ベンゾジオキセピン−３−イル）−２−チアゾリル］−１−［２−［２，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］アセチル］ピペリジン、
４−［４−（６，７−ジメチル−９−メチルスルホニルオキシ−１，５−ジヒドロ−３Ｈ−２，４−ベンゾジオキセピン−３−イル）−２−チアゾリル］−１−［２−（２，５−ジメチルフェニル）アセチル］ピペリジン、
４−［４−（６，７−ジメチル−９−メチルスルホニルオキシ−１，５−ジヒドロ−３Ｈ−２，４−ベンゾジオキセピン−３−イル）−２−チアゾリル］−１−［２−（２，５−ジクロロフェニル）アセチル］ピペリジン、
４−［４−（６−ブロモ−９−メチルスルホニルオキシ−１，５−ジヒドロ−３Ｈ−２，４−ベンゾジオキセピン−３−イル）−２−チアゾリル］−１−［２−（２，５−ジメチルフェニル）アセチル］ピペリジン、
４−［４−（６−メチルスルホニルオキシ−９−ニトロ−１，５−ジヒドロ−３Ｈ−２，４−ベンゾジオキセピン−３−イル）−２−チアゾリル］−１−［２−（２，５−ジクロロフェニル）アセチル］ピペリジン、
４−［４−（６−ブロモ−９−メチルスルホニルオキシ−１，５−ジヒドロ−３Ｈ−２，４−ベンゾジオキセピン−３−イル）−２−チアゾリル］−１−［２−（２，５−ジクロロフェニル）アセチル］ピペリジン、
４−［４−（６−メチルスルホニルオキシ−９−ニトロ−１，５−ジヒドロ−３Ｈ−２，４−ベンゾジオキセピン−３−イル）−２−チアゾリル］−１−［２−（２，５−ジメチルフェニル）アセチル］ピペリジン、
４−［４−（６−クロロ−９−メチルスルホニルオキシ−１，５−ジヒドロ−３Ｈ−２，４−ベンゾジオキセピン−３−イル）−２−チアゾリル］−１−［２−（２，５−ジメチルフェニル）アセチル］ピペリジン、
４−［４−（６−ヨード−９−メチルスルホニルオキシ−１，５−ジヒドロ−３Ｈ−２，４−ベンゾジオキセピン−３−イル）−２−チアゾリル］−１−［２−（２，５−ジメチルフェニル）アセチル］ピペリジン、
４−［４−（６−クロロ−９−メチルスルホニルオキシ−１，５−ジヒドロ−３Ｈ−２，４−ベンゾジオキセピン−３−イル）−２−チアゾリル］−１−［２−（２，５−ジクロロフェニル）アセチル］ピペリジン、
４−［４−（７−フルオロ−６−メチルスルホニルオキシ−１，５−ジヒドロ−３Ｈ−２，４−ベンゾジオキセピン−３−イル）−２−チアゾリル］−１−［２−（２，５−ジメチルフェニル）アセチル］ピペリジン、
４−［４−（７−フルオロ−６−メチルスルホニルオキシ−１，５−ジヒドロ−３Ｈ−２，４−ベンゾジオキセピン−３−イル）−２−チアゾリル］−１−［２−（２，５−ジクロロフェニル）アセチル］ピペリジン、
４−［４−（６−ヨード−９−メチルスルホニルオキシ−１，５−ジヒドロ−３Ｈ−２，４−ベンゾジオキセピン−３−イル）−２−チアゾリル］−１−［２−（２，５−ジクロロフェニル）アセチル］ピペリジン、
４−［４−（７−メチルスルホニルオキシ−１，５−ジヒドロ−３Ｈ−２，４−ベンゾジオキセピン−３−イル）−２−チアゾリル］−１−［２−（２，５−ジクロロフェニル）アセチル］ピペリジン、及び
４−［４−［６，９−ビス（メチルスルホニルオキシ）−１，５−ジヒドロ−３Ｈ−２，４−ベンゾジオキセピン−３−イル］−２−チアゾリル］−１−［２−（２，５−ジメチルフェニル）アセチル］ピペリジン、
から選択される（２６）〜（３６）のいずれか１つに記載の製造方法。
【発明を実施するための形態】
【００５２】
以下、本発明について詳細に説明する。
【００５３】
式［１］は、本発明によって調製し得る１，２−ベンゼンジメタノール化合物の一般的な定義を与えている。上記及び下記において示される式に関する基の好ましい定義について、以下に記載する。そのような定義は、式［１］で表される最終生成物に適用され、及び、同様に、全ての中間体にも適用される。
【００５４】
Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３及びＸ４はそれぞれ独立して、好ましくは、水素原子、Ｃ１〜Ｃ４アルキル、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルコキシ、ニトロ、ハロゲン原子又は−ＯＳ（Ｏ）２Ｒ１であり、好ましくは、Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３及びＸ４のうちいずれか一つは、−ＯＳ（Ｏ）２Ｒ１であり、さらに好ましくは、Ｘ１は−ＯＳ（Ｏ）２Ｒ１であり、さらに好ましくは、Ｘ２、Ｘ３及びＸ４はそれぞれ独立して水素原子、ニトロ、ハロゲン原子、ジフルオロメトキシ又は−ＯＳ（Ｏ）２Ｍｅであり、特に好ましくは、Ｘ１は−ＯＳ（Ｏ）２Ｍｅ、−ＯＳ（Ｏ）２Ｅｔ、−ＯＳ（Ｏ）２ｎ−Ｐｒ、−ＯＳ（Ｏ）２ｉ−Ｐｒ、−ＯＳ（Ｏ）２ｃ−Ｐｒ、−ＯＳ（Ｏ）２ｎ−Ｂｕ、−ＯＳ（Ｏ）２ｎ−Ｃ８Ｈ１７、−ＯＳ（Ｏ）２ＣＨ２ＣＨ２ＣＦ３であり、特に好ましくは、Ｘ２及びＸ３は水素原子であり、特に好ましくは、Ｘ４は水素原子、ニトロ、ハロゲン原子、ジフルオロメトキシ又は−ＯＳ（Ｏ）２Ｍｅであり、最も好ましくは、Ｘ１は−ＯＳ（Ｏ）２Ｍｅであり、最も好ましくは、Ｘ４は水素原子、又はフッ素原子である。
【００５５】
Ｒ１は、好ましくは、Ｃ１〜Ｃ８アルキル、Ｃ１〜Ｃ８ハロアルキル又はＣ３〜Ｃ６シクロアルキルであり、さらに好ましくは、メチルである。
【００５６】
Ｌ１及びＬ２はそれぞれ独立して、好ましくは、ハロゲン原子であり、さらに好ましくは、塩素原子又は臭素原子であり、特に好ましくは臭素原子である。
【００５７】
Ａは、好ましくはＡ−１である。
【００５８】
Ｒ２及びＲ３は、それぞれ独立して好ましくはＣ１〜Ｃ６アルキル、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル又はハロゲン原子であり、さらに好ましくはメチル、トリフルオロメチル、ジフルオロメチル又は塩素原子である。
【００５９】
Ｒ４、Ｒ６及びＲ７は、好ましくは水素原子である。
【００６０】
Ｒ５及びＲ８は、それぞれ独立して好ましくは水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル又はＣ１〜Ｃ６ハロアルキルであり、さらに好ましくは水素原子、塩素原子、トリフルオロメチル又はメチルである。
【００６１】
一般的な範囲又は好ましい範囲において、上記で示されている基の定義及び説明は、必要に応じて互いに組み合わせることも可能である。即ち、それぞれの範囲と好ましい範囲の間で組み合わせることも可能である。それらは、最終生成物とそれに対応する前駆体及び中間体の両方に適用される。
【００６２】
好ましい一つの態様は、式［１］｛式中、Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３及びＸ４のうち少なくとも一つは−ＯＳ（Ｏ）２Ｍｅを表す｝で表される化合物である。
【００６３】
好ましい別の態様は、式［１］｛式中、Ｘ１は−ＯＳ（Ｏ）２Ｍｅであり、Ｘ２、Ｘ３及びＸ４は水素原子を表す｝で表される化合物である。
【００６４】
好ましい別の態様は、式［１］｛式中、Ｘ１は−ＯＳ（Ｏ）２Ｅｔであり、Ｘ２、Ｘ３及びＸ４は水素原子を表す｝で表される化合物である。
【００６５】
好ましい別の態様は、式［１］｛式中、Ｘ１は−ＯＳ（Ｏ）２ｎ−Ｐｒであり、Ｘ２、Ｘ３及びＸ４は水素原子を表す｝で表される化合物である。
【００６６】
好ましい別の態様は、式［１］｛式中、Ｘ１は−ＯＳ（Ｏ）２ｉ−Ｐｒであり、Ｘ２、Ｘ３及びＸ４は水素原子を表す｝で表される化合物である。
【００６７】
好ましい別の態様は、式［１］｛式中、Ｘ１は−ＯＳ（Ｏ）２ｃ−Ｐｒであり、Ｘ２、Ｘ３及びＸ４は水素原子を表す｝で表される化合物である。
【００６８】
好ましい別の態様は、式［１］｛式中、Ｘ１は−ＯＳ（Ｏ）２ｎ−Ｂｕであり、Ｘ２、Ｘ３及びＸ４は水素原子を表す｝で表される化合物である。
【００６９】
好ましい別の態様は、式［１］｛式中、Ｘ１は−ＯＳ（Ｏ）２ｎ−Ｃ８Ｈ１７であり、Ｘ２、Ｘ３及びＸ４は水素原子を表す｝で表される化合物である。
【００７０】
好ましい別の態様は、式［１］｛式中、Ｘ１は−ＯＳ（Ｏ）２ＣＨ２ＣＨ２ＣＦ３であり、Ｘ２、Ｘ３及びＸ４は水素原子を表す｝で表される化合物である。
【００７１】
好ましい別の態様は、式［１］｛式中、Ｘ１は−ＯＳ（Ｏ）２Ｍｅであり、Ｘ２及びＸ３は水素原子であり、Ｘ４はニトロを表す｝で表される化合物である。
【００７２】
好ましい別の態様は、式［１］｛式中、Ｘ１は−ＯＳ（Ｏ）２Ｍｅであり、Ｘ２及びＸ３は水素原子であり、Ｘ４はフッ素原子を表す｝で表される化合物である。
【００７３】
好ましい別の態様は、式［１］｛式中、Ｘ１は−ＯＳ（Ｏ）２Ｍｅであり、Ｘ２及びＸ３は水素原子であり、Ｘ４は塩素原子を表す｝で表される化合物である。
【００７４】
好ましい別の態様は、式［１］｛式中、Ｘ１は−ＯＳ（Ｏ）２Ｍｅであり、Ｘ２及びＸ３は水素原子であり、Ｘ４は臭素原子を表す｝で表される化合物である。
【００７５】
好ましい別の態様は、式［１］｛式中、Ｘ１は−ＯＳ（Ｏ）２Ｍｅであり、Ｘ２及びＸ３は水素原子であり、Ｘ４はヨウ素原子を表す｝で表される化合物である。
【００７６】
好ましい別の態様は、式［１］｛式中、Ｘ１は−ＯＳ（Ｏ）２Ｍｅであり、Ｘ２及びＸ３は水素原子であり、Ｘ４はジフルオロメトキシを表す｝で表される化合物である。
【００７７】
好ましい別の態様は、式［１］｛式中、Ｘ１及びＸ４は−ＯＳ（Ｏ）２Ｍｅであり、Ｘ２及びＸ３は水素原子を表す｝で表される化合物である。
【００７８】
好ましい別の態様は、式［１］｛式中、Ｘ１及びＸ３、Ｘ４は水素原子であり、Ｘ２は−ＯＳ（Ｏ）２Ｍｅを表す｝で表される化合物である。
【００７９】
好ましい１つの態様は、式［５］｛式中、Ａは、２−［５−メチル−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール−１−イル］アセチルを表す｝で表される化合物である。
【００８０】
好ましい別の態様は、式［５］｛式中、Ａは、２−［３、５−ビス（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール−１−イル］アセチルを表す｝で表される化合物である。
【００８１】
好ましい別の態様は、式［５］｛式中、Ａは、２−［３、５−ビス（ジフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール−１−イル］アセチルを表す｝で表される化合物である。
【００８２】
好ましい別の態様は、式［５］｛式中、Ａは、２−（３、５−ジメチル−１Ｈ−ピラゾール−１−イル）アセチルを表す｝で表される化合物である。
【００８３】
好ましい別の態様は、式［５］｛式中、Ａは、２−（２、５−ジメチルフェニル）アセチルを表す｝で表される化合物である。
【００８４】
好ましい別の態様は、式［５］｛式中、Ａは、２−（２、５−ジフルオロフェニル）アセチルを表す｝で表される化合物である。
【００８５】
好ましい別の態様は、式［５］｛式中、Ａは、２−（２、５−ジクロロフェニル）アセチルを表す｝で表される化合物である。
【００８６】
好ましい別の態様は、式［５］｛式中、Ａは、２−（２、５−ジブロモフェニル）アセチルを表す｝で表される化合物である。
【００８７】
好ましい別の態様は、式［５］｛式中、Ａは、２−［２、５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］アセチルを表す｝で表される化合物である。
【００８８】
好ましい別の態様は、式［５］｛式中、Ａは、２−（５−ブロモ−２−メチルフェニル）アセチルを表す｝で表される化合物である。
【００８９】
好ましい別の態様は、式［５］｛式中、Ａは、２−［２−メチル−５−（トリフルオロメチル）フェニル］アセチルを表す｝で表される化合物である。
【００９０】
好ましい別の態様は、式［５］｛式中、Ａは、２−［２−フルオロ−５−（トリフルオロメチル）フェニル］アセチルを表す｝で表される化合物である。
【００９１】
好ましい別の態様は、式［５］｛式中、Ａは、２−［２−クロロ−５−（トリフルオロメチル）フェニル］アセチルを表す｝で表される化合物である。
【００９２】
好ましい別の態様は、式［５］｛式中、Ａは、２−［２−ブロモ−５−（トリフルオロメチル）フェニル］アセチルを表す｝で表される化合物である。
【００９３】
好ましい別の態様は、式［５］｛式中、Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３及びＸ４のうち少なくとも一つは−ＯＳ（Ｏ）２Ｍｅを表す｝で表される化合物である。
【００９４】
好ましい別の態様は、式［５］｛式中、Ｘ１は−ＯＳ（Ｏ）２Ｍｅであり、Ｘ２、Ｘ３及びＸ４は水素原子を表す｝で表される化合物である。
【００９５】
好ましい別の態様は、式［５］｛式中、Ｘ１は−ＯＳ（Ｏ）２Ｅｔであり、Ｘ２、Ｘ３及びＸ４は水素原子を表す｝で表される化合物である。
【００９６】
好ましい別の態様は、式［５］｛式中、Ｘ１は−ＯＳ（Ｏ）２ｎ−Ｐｒであり、Ｘ２、Ｘ３及びＸ４は水素原子を表す｝で表される化合物である。
【００９７】
好ましい別の態様は、式［５］｛式中、Ｘ１は−ＯＳ（Ｏ）２ｉ−Ｐｒであり、Ｘ２、Ｘ３及びＸ４は水素原子を表す｝で表される化合物である。
【００９８】
好ましい別の態様は、式［５］｛式中、Ｘ１は−ＯＳ（Ｏ）２ｃ−Ｐｒであり、Ｘ２、Ｘ３及びＸ４は水素原子を表す｝で表される化合物である。
【００９９】
好ましい別の態様は、式［５］｛式中、Ｘ１は−ＯＳ（Ｏ）２ｎ−Ｂｕであり、Ｘ２、Ｘ３及びＸ４は水素原子を表す｝で表される化合物である。
【０１００】
好ましい別の態様は、式［５］｛式中、Ｘ１は−ＯＳ（Ｏ）２ｎ−Ｃ８Ｈ１７であり、Ｘ２、Ｘ３及びＸ４は水素原子を表す｝で表される化合物である。
【０１０１】
好ましい別の態様は、式［５］｛式中、Ｘ１は−ＯＳ（Ｏ）２ＣＨ２ＣＨ２ＣＦ３であり、Ｘ２、Ｘ３及びＸ４は水素原子を表す｝で表される化合物である。
【０１０２】
好ましい別の態様は、式［５］｛式中、Ｘ１は−ＯＳ（Ｏ）２Ｍｅであり、Ｘ２及びＸ３は水素原子であり、Ｘ４はニトロを表す｝で表される化合物である。
【０１０３】
好ましい別の態様は、式［５］｛式中、Ｘ１は−ＯＳ（Ｏ）２Ｍｅであり、Ｘ２及びＸ３は水素原子であり、Ｘ４はフッ素原子を表す｝で表される化合物である。
【０１０４】
好ましい別の態様は、式［５］｛式中、Ｘ１は−ＯＳ（Ｏ）２Ｍｅであり、Ｘ２及びＸ３は水素原子であり、Ｘ４は塩素原子を表す｝で表される化合物である。
【０１０５】
好ましい別の態様は、式［５］｛式中、Ｘ１は−ＯＳ（Ｏ）２Ｍｅであり、Ｘ２及びＸ３は水素原子であり、Ｘ４は臭素原子を表す｝で表される化合物である。
【０１０６】
好ましい別の態様は、式［５］｛式中、Ｘ１は−ＯＳ（Ｏ）２Ｍｅであり、Ｘ２及びＸ３は水素原子であり、Ｘ４はヨウ素原子を表す｝で表される化合物である。
【０１０７】
好ましい別の態様は、式［５］｛式中、Ｘ１は−ＯＳ（Ｏ）２Ｍｅであり、Ｘ２及びＸ３は水素原子であり、Ｘ４はジフルオロメトキシを表す｝で表される化合物である。
【０１０８】
好ましい別の態様は、式［５］｛式中、Ｘ１及びＸ４は−ＯＳ（Ｏ）２Ｍｅであり、Ｘ２及びＸ３は水素原子を表す｝で表される化合物である。
【０１０９】
好ましい別の態様は、式［５］｛式中、Ｘ１及びＸ３、Ｘ４は水素原子であり、Ｘ２は−ＯＳ（Ｏ）２Ｍｅを表す｝で表される化合物である。
【０１１０】
本明細書に記載された用語について説明する。
【０１１１】
ハロゲン原子とはフッ素原子、塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子を包含する。
【０１１２】
Ｃ１〜Ｃ６のような元素記号と下付きの数字による表記は、これに続いて表記されている基の元素数が下付きの数字で示される範囲であることを示している。例えば、この場合では炭素数が１〜６であることを示しており、Ｃ２〜Ｃ６の表記では炭素数が２〜６であることを示している。
【０１１３】
Ｃ１〜Ｃ６のような元素記号と下付きの数字による表記に続いて複合置換基が表記されている場合、複合置換基全体の元素数が下付きの数字で示される範囲であることを示している。例えば、Ｃ２〜Ｃ６アルキルカルボニルにおいては、アルキルカルボニル全体の炭素数が２〜６であることを示しており、プロピルカルボニル基などを含む。
【０１１４】
アルキルとは、特に限定しない限り、炭素数が１〜８、好ましくは炭素数が１〜６の直鎖又は分岐鎖状のアルキルを意味し、例えばメチル、エチル、ｎ−プロピル、イソブチル、ｎ−ブチル、ｓｅｃ−ブチル、イソブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｎ−ペンチル、１−メチルブチル、２−メチルブチル、３−メチルブチル、１−エチルプロピル、１，１−ジメチルプロピル、１，２−ジメチルプロピル、ネオペンチル、ｎ−へキシル、１−メチルペンチル、２−メチルペンチル、３−メチルペンチル、４−メチルペンチル、１−エチルブチル、２−エチルブチル、１，１−ジメチルブチル、１，２−ジメチルブチル、１，３−ジメチルブチル、２，２−ジメチルブチル、２，３−ジメチルブチル、３，３−ジメチルブチル、１，１，２−トリメチルプロピル、１，２，２−トリメチルプロピル、１−エチル−１−メチルプロピル、１−エチル−２−メチルプロピル等の基を挙げることができる。この定義は、別段の定義が無い限り、例えばハロアルキル、アルキルチオ、アルキルカルボニルなどの複合置換基の一部としてのアルキルにも適用される。例えばアルキルシクロアルキルのように、アルキルを末端に含む複合置換基の場合、シクロアルキルのその部分は、同一にもしくは異なるアルキルにより独立にモノ置換又は多置換されていてもよい。他の基、例えばアルケニル、アルコキシ、ヒドロキシ、ハロゲンなどが末端にある複合置換基も同様に解される。
【０１１５】
シクロアルキルとは、特に限定しない限り、炭素数が３〜８、好ましくは炭素数が３〜６の分岐鎖を有するシクロアルキルを意味し、例えばシクロプロピル、１−メチルシクロプロピル、２−メチルシクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、４，４−ジメチルシクロヘキシル等の基を挙げることができる。この定義は、別段の定義が無い限り、例えばハロシクロアルキルなどの複合置換基の一部としてのシクロアルキルにも適用される。
【０１１６】
「ハロ・・・」（例えば、「ハロアルキル」）における「ハロ」という用語は、フッ素、塩素、臭素及びヨウ素を包含する。「ハロ」との接頭語で表されるハロ置換は、モノ置換又は多置換を包含し、好ましくはモノ置換、ジ置換及びトリ置換を含む。
【０１１７】
ハロアルキルとは、特に限定しない限り、炭素数が１〜６の直鎖又は分岐鎖状のアルキルであって、それらの基における水素原子の一部又は全てがハロゲン原子によって置換された基を意味し、例えばフルオロメチル、クロロメチル、ブロモメチル、ヨードメチル、ジフルオロメチル、ジクロロメチル、ジブロモメチル、ジヨードメチル、トリフルオロメチル、トリクロロメチル、トリブロモメチル、トリヨードメチル、１−クロロエチル、１−ブロモエチル、２−トリフルオロエチル、３−クロロプロピル、３−ブロモプロピル、４−クロロブチル、４−ブロモブチル、４−トリフルオロブチル、５−クロロペンチル、６−クロロヘキシル等の基を挙げることができる。この定義は、別段の定義が無い限り、例えばハロアルキルカルボニルなどの複合置換基の一部としてのハロアルキルにも適用される。
【０１１８】
アルケニルとは、特に限定しない限り、炭素数が２〜６の直鎖又は分岐鎖状のアルケニルを意味し、例えばビニル、１−プロペニル、２−プロペニル、イソプロペニル、３−ブテニル、１，３−ブタジエニル、４−ペンテニル、５−ヘキセニル等の基を挙げることができる。この定義は、別段の定義が無い限り、例えばハロアルケニルなどの複合置換基の一部としてのアルケニルにも適用される。
【０１１９】
アルキニルとは、特に限定しない限り、炭素数が２〜６の直鎖又は分岐鎖状のアルキニルを意味し、例えばエチニル、１−プロピニル、２−プロピニル、３−ブチニル、１−メチル−３−プロピニル、４−ペンチニル、５−ヘキシニル等の基を挙げることができる。この定義は、別段の定義が無い限り、例えばハロアルキニルなどの複合置換基の一部としてのアルキニルにも適用される。
【０１２０】
アルコキシとは、特に限定しない限り、炭素数が１〜６の直鎖又は分岐鎖状のアルコキシを意味し、例えばメトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、イソブトキシ、ｓｅｃ−ブトキシ、ｔｅｒｔ−ブトキシ、ペンチルオキシ、ヘキシルオキシ等の基を挙げることができる。この定義は、別段の定義が無い限り、例えばハロアルコキシ、アルコキシカルボニルなどの複合置換基の一部としてのアルコキシにも適用される。
【０１２１】
ハロアルコキシとは、特に限定しない限り、１個以上、好ましくは１〜１０個のハロゲン原子によって置換された炭素数が１〜６の直鎖又は分岐鎖状のアルコキシを意味し、例えばフルオロメトキシ、クロロメトキシ、ブロモメトキシ、ヨードメトキシ、ジフルオロメトキシ、ジクロロメトキシ、ジブロモメトキシ、ジヨードメトキシ、トリフルオロメトキシ、トリクロロメトキシ、トリブロモメトキシ、トリヨードメトキシ、１−クロロエトキシ、１−ブロモエトキシ、２−トリフルオロエトキシ、３−クロロプロポキシ、３−ブロモプロポキシ、４−クロロブトキシ、４−ブロモブトキシ、４−トリフルオロブトキシ、５−クロロペントキシ、６−クロロヘキシルオキシ等の基を挙げることができる。この定義は、別段の定義が無い限り、例えばハロアルコキシカルボニルなどの複合置換基の一部としてのハロアルコキシにも適用される。
【０１２２】
アルキルチオとは、特に限定しない限り、アルキル部分が上記の意味である炭素数が１〜６の（アルキル）−Ｓ−基を意味し、例えばメチルチオ、エチルチオ、ｎ−プロピルチオ、イソプロピルチオ等の基を挙げることができる。この定義は、別段の定義が無い限り、例えばハロアルキルチオなどの複合置換基の一部としてのアルキルチオにも適用される。
【０１２３】
アルキルスルフィニルとは、特に限定しない限り、アルキル部分が上記の意味である炭素数が１〜６の（アルキル）−ＳＯ−基を意味し、例えばメチルスルフィニル、エチルスルフィニル、ｎ−プロピルスルフィニル、イソプロピルスルフィニル等の基を挙げることができる。この定義は、別段の定義が無い限り、例えばハロアルキルスルフィニルなどの複合置換基の一部としてのアルキルスルフィニルにも適用される。
【０１２４】
アルキルスルホニルとは、特に限定しない限り、アルキル部分が上記の意味である炭素数が１〜６の（アルキル）−ＳＯ２−基を意味し、例えばメチルスルホニル、エチルスルホニル、ｎ−プロピルスルホニル、イソプロピルスルホニル等の基を挙げることができる。この定義は、別段の定義が無い限り、例えばハロアルキルスルホニルなどの複合置換基の一部としてのアルキルスルホニルにも適用される。
【０１２５】
ヒドロキシアルキルとは、１〜５個のヒドロキシ基により置換された炭素原子数１〜６の直鎖状又は分岐状のアルキル基を意味し、例えば、ヒドロキシメチル、ヒドロキシエチル、ヒドロキシプロピル又はヒドロキシイソプロピル等を挙げることができる。
【０１２６】
アルキルカルボニルとは、特に限定しない限り、アルキル部分が上記の意味である（アルキル）−Ｃ（＝Ｏ）−基を意味し、例えばホルミル、アセチル、プロピオニル、ブチリル、ピバロイル等の基を挙げることができる。この定義は、別段の定義が無い限り、例えばハロアルキルカルボニルなどの複合置換基の一部としてのアルキルカルボニルにも適用される。
【０１２７】
アルキルカルボニルオキシとは、特に限定しない限り、アルキル部分が上記の意味である（アルキル）−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−基を意味し、例えばメチルカルボニルオキシ、エチルカルボニルオキシ、プロピルカルボニルオキシ等の基を挙げることができる。この定義は、別段の定義が無い限り、例えばハロアルキルカルボニルオキシなどの複合置換基の一部としてのアルキルカルボニルオキシにも適用される。
【０１２８】
本発明に係る反応で使用する酸とは、特に言及が無ければ、反応系中でプロトンを放出するブレンステッド酸を意味し、塩酸、臭化水素酸、硫酸などの無機酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、ｐ−トルエンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸などの有機酸が例示される。本発明に係る反応で使用するルイス酸は、水素イオン以外で反応系中で電子対受容体として機能する化合物を意味し、例えば塩化亜鉛、塩化アルミニウム、塩化錫、三塩化ホウ素、三ふっ化ホウ素、トリフルオロメタンスルホン酸トリメチルシリルなどが例示される。
【０１２９】
本発明に係る反応で使用する塩基とは、特に言及が無ければ、反応系中でプロトンを受け取る化合物、又は反応系中で電子対供与体として機能する化合物を意味し、トリエチルアミン、ピリジン、４−ジメチルアミノピリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、１，８−ジアザビシクロ［５，４，０］−７−ウンデセンなどの有機アミン類；炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸マグネシウム、炭酸カルシウムなどの金属炭酸塩類；炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウムなどの金属炭酸水素塩類；酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、酢酸カルシウム、酢酸マグネシウムなどの金属酢酸塩類に代表されるカルボン酸金属塩類；ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、ナトリウムターシャリーブトキシド、カリウムメトキシド、カリウムターシャリーブトキシドなどの金属アルコキシド；水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム、水酸化マグネシウムなどの金属水酸化物；水素化リチウム、水素化ナトリウム、水素化カルシウムなどの金属水素化物などが例示される。
【０１３０】
本発明に係る反応で使用するイオン液体とは、１−ブチル−３−メチルイミダゾリウムテトラフルオロボラート、１−ブチル−２，３−ジメチルイミダゾリウムテトラフルオロボラート、１−エチル−３−メチルイミダゾリウムテトラフルオロボラート、１−ヘキシル−３−メチルイミダゾリウムテトラフルオロボラート、１−エチル−３−メチルイミダゾリウムメタンスルホナート、１−ブチル−３−メチルイミダゾリウムトリフルオロメタンスルホナート、１−ブチル−２，３−ジメチルイミダゾリウムトリフルオロメタンスルホナート、１−エチル−３−メチルイミダゾリウムトリフルオロメタンスルホナート、１−ヘキシル−３−メチルイミダゾリウムトリフルオロメタンスルホナートなどのイミダゾリウム塩類；テトラブチルアンモニウムフルオリド、テトラブチルアンモニウムクロリド、テトラブチルアンモニウムブロミド、テトラブチルアンモニウムヨージドなどのアンモニウム塩類などが例示される。
【０１３１】
本明細書における表中の次の表記は下記の通りそれぞれ該当する基を表す。
【０１３２】
例えば、
Ｍｅとはメチル基を示し、
Ｅｔとはエチル基を示し、
ｎ−Ｐｒとはｎ−プロピル基を示し、
ｉ−Ｐｒとはイソプロピル基を示し、
ｃ−Ｐｒとはシクロプロピル基を示し、
ｎ−Ｂｕとはｎ−ブチル基を示す。
【０１３３】
式［１］で示される化合物の代表的な製造方法を以下に例示するが、これらの方法に限定されるものではない。
【０１３４】
＜製造方法１＞
式［１］で示される化合物は、下記に例示する反応式からなる方法により製造することができる。
【０１３５】
【化１７】
2017138068.tif 000018
（式中、Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３、Ｘ４、Ｌ１及びＬ２はそれぞれ（１）及び（３）に定義した通りである。）
【０１３６】
（工程１）
式［３］の化合物は、式［４］の化合物をハロゲン化試薬の存在下、溶媒中で反応させることによって製造することができる。
【０１３７】
本工程で使用できるハロゲン化試薬としては、例えば塩素や塩化スルフリル、Ｎ−クロロスクシンイミドなどの塩素化試薬；臭素やＮ−ブロモスクシンイミドなどの臭素化試薬を挙げることができる。
【０１３８】
本工程ではラジカル反応を開始させるため、光照射、又はアゾイソブチロニトリル、過酸化ベンゾイル等のラジカル開始剤を添加しても良い。
【０１３９】
本工程で使用するハロゲン化試薬の使用量は式［４］の化合物１モルに対して２．０〜１０モルの範囲から適宜選択すればよく、好ましくは２．０〜３．０モルである。
【０１４０】
本工程で使用できる溶媒としては、本反応の進行を阻害しないものであればよく、例えばアセトニトリル等のニトリル類；ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、モノグライム、ジグライム等のエーテル類；ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素、テトラクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類；ベンゼン、クロロベンゼン、ニトロベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素類；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド等のアミド類；１，３−ジメチル−２−イミダゾリノン等のイミダゾリノン類；ジメチルスルホキシド等の硫黄化合物類等を使用することができ、さらにこれらの混合溶媒も使用することができる。
【０１４１】
溶媒の使用量は式［４］の化合物１モルに対して０．０１〜１００Ｌの範囲から適宜選択すればよく、好ましくは０．１〜１０Ｌである。
【０１４２】
反応温度は−２０℃から使用する不活性溶媒の沸点域の範囲から選択すればよく、好ましくは０℃〜１００℃の範囲で行うのがよい。
【０１４３】
反応時間は反応温度、反応基質、反応量等により異なるが、通常１０分〜４８時間である。
【０１４４】
反応の目的物である式［３］の化合物は、反応終了後、定法により反応系から採取され、必要に応じてカラムクロマトグラフィー、再結晶等の操作によって精製することもできる。
【０１４５】
また、本工程によって得られる式［３］の化合物は反応終了後、単離及び精製操作を行うことなく、工程２の反応に用いることができる。
【０１４６】
（工程２）
式［２］の化合物は、式［３］で表される化合物を、金属酢酸塩類存在下、溶媒中で反応させることによって製造することができる。
【０１４７】
本工程で使用できる金属酢酸塩類としては例えば、酢酸リチウムや酢酸ナトリウム、酢酸カリウム等を挙げることができる。
【０１４８】
本工程で使用する金属酢酸塩類の使用量は式［３］の化合物１モルに対して、２．０〜１０モルの範囲から適宜選択すればよく、好ましくは２．０〜３．０モルである。
【０１４９】
本工程で使用することができる溶媒としては、製造方法１、工程１で説明した同様のものを挙げることができる。
【０１５０】
溶媒の使用量は式［３］の化合物１モルに対して０．０１〜１００Ｌの範囲から適宜選択すればよく、好ましくは０．１〜１０Ｌである。
【０１５１】
反応温度は−２０℃から使用する不活性溶媒の沸点域の範囲から選択すればよく、好ましくは０℃〜１００℃の範囲で行うのがよい。
【０１５２】
反応時間は反応温度、反応基質、反応量等により異なるが、通常１０分〜４８時間である。
【０１５３】
本工程によって得られる式［２］の化合物は反応終了後、定法により反応系から採取され、必要に応じてカラムクロマトグラフィー、再結晶等の操作によって精製することもできる。
【０１５４】
また、本工程によって得られる式［２］の化合物は反応終了後、単離及び精製操作を行うことなく、工程３の反応に用いることができる。
【０１５５】
（工程３）
式［１］の化合物は、式［２］で表される化合物を、酸、酸塩化物又は塩基存在下、水及び溶媒中で反応させることによって製造することができる。
【０１５６】
本工程で使用することができる酸としては、例えば塩酸、臭化水素酸、硫酸等の無機酸；酢酸、トリフルオロ酢酸、ｐ−トルエンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸等の有機酸等が挙げられる。
【０１５７】
酸の使用量は式［２］の化合物１モルに対して０．１〜１０モルの範囲から適宜選択すればよく、好ましくは０．１〜５．０モルである。
【０１５８】
本工程で使用することができる酸塩化物としては、例えばアセチルクロリド、ベンゾイルクロリド等を挙げることができる。
【０１５９】
酸塩化物の使用量は式［２］の化合物１モルに対して０．１〜１０モルの範囲から適宜選択すればよく、好ましくは０．１〜５．０モルである。
【０１６０】
本工程で使用することができる塩基としては、例えばトリエチルアミン、ピリジン、４−ジメチルアミノピリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、１，８−ジアザビシクロ［５，４，０］−７−ウンデセン等の有機アミン類；炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸マグネシウム、炭酸カルシウム等の金属炭酸塩類；炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等の金属炭酸水素塩類；酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、酢酸カルシウム、酢酸マグネシウム等の金属酢酸塩類に代表されるカルボン酸金属塩類；ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、ナトリウムターシャリーブトキシド、カリウムメトキシド、カリウムターシャリーブトキシド等の金属アルコキシド；水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム、水酸化マグネシウム等の金属水酸化物；水素化リチウム、水素化ナトリウム、水素化カルシウム等の金属水素化物等が挙げられ、好ましくは炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸マグネシウム、炭酸カルシウム等の金属炭酸塩類である。
【０１６１】
塩基の使用量は式［２］の化合物１モルに対して０．２〜１０モルの範囲から適宜選択すればよく、好ましくは０．２〜５．０モルである。
【０１６２】
本工程で使用することができる溶媒としては、水及び製造方法１、工程１で説明した同様のものを挙げることができる。
【０１６３】
溶媒の使用量は式［２］の化合物１モルに対して０．０１〜１００Ｌの範囲から適宜選択すればよく、好ましくは０．１〜１０Ｌである。
【０１６４】
水の使用量は式［２］の化合物１モルに対して０．０１〜１００Ｌの範囲から適宜選択すればよく、好ましくは０．１〜１０Ｌである。
【０１６５】
反応温度は−２０℃から使用する不活性溶媒の沸点域の範囲から選択すればよく、好ましくは０℃〜１００℃の範囲で行うのがよい。
【０１６６】
反応時間は反応温度、反応基質、反応量等により異なるが、通常１０分〜４８時間である。
【０１６７】
反応の目的物である式［１］の化合物は、反応終了後、定法により反応系から採取され、必要に応じてカラムクロマトグラフィー、再結晶等の操作によって精製することもできる。
【０１６８】
＜製造方法２＞
式［１］で示される化合物は、下記に例示する反応式からなる方法によっても製造することができる。
【０１６９】
【化１８】
2017138068.tif 000019
（式中、Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３、Ｘ４、Ｌ１及びＬ２はそれぞれ（１）及び（３）に定義した通りである。）
【０１７０】
式［１］の化合物は、式［３］で表される化合物を、金属酢酸塩類存在下、溶媒中で反応させ（工程１）、その後、工程１の反応液にアルコール、水及び塩基を加え反応させる（工程２）ことによって製造することができる。
【０１７１】
（工程１）
本工程で使用できる金属酢酸塩類としては、製造方法１、工程２で説明した同様のものを挙げることができる。
【０１７２】
本工程で使用する金属酢酸塩類の使用量は式［３］の化合物１モルに対して、２．０〜１０モルの範囲から適宜選択すればよく、好ましくは２．０〜３．０モルである。
【０１７３】
本工程で使用することができる溶媒としては、製造方法１、工程１で説明した同様のものを挙げることができる。
【０１７４】
溶媒の使用量は式［３］の化合物１モルに対して０．０１〜１００Ｌの範囲から適宜選択すればよく、好ましくは０．１〜１０Ｌである。
【０１７５】
反応温度は−２０℃から使用する不活性溶媒の沸点域の範囲から選択すればよく、好ましくは０℃〜１００℃の範囲で行うのがよい。
【０１７６】
反応時間は反応温度、反応基質、反応量等により異なるが、通常１０分〜４８時間である。
【０１７７】
（工程２）
式［１］の化合物は、製造方法２、工程１によって得られた反応液にアルコール、水及び塩基を加え反応させることによって製造することができる。
【０１７８】
本工程で使用することができるアルコールとしては、例えば、メタノールやエタノール等を挙げることができる。
【０１７９】
アルコールの使用量は式［３］の化合物１モルに対して０．０１〜１００Ｌの範囲から適宜選択すればよく、好ましくは０．１〜１０Ｌである。
【０１８０】
水の使用量は式［３］の化合物１モルに対して０．０１〜１００Ｌの範囲から適宜選択すればよく、好ましくは０．１〜１０Ｌである。
【０１８１】
本工程で使用することができる塩基としては、製造方法１、工程３で説明した同様のものを挙げることができる。
【０１８２】
塩基の使用量は式［３］の化合物１モルに対して０．２〜１０モルの範囲から適宜選択すればよく、好ましくは０．２〜５．０モルである。
【０１８３】
反応温度は−２０℃から使用する不活性溶媒の沸点域の範囲から選択すればよく、好ましくは０℃〜１００℃の範囲で行うのがよい。
【０１８４】
反応時間は反応温度、反応基質、反応量等により異なるが、通常１０分〜４８時間である。
【０１８５】
反応の目的物である式［１］の化合物は、反応終了後、定法により反応系から採取され、必要に応じてカラムクロマトグラフィー、再結晶等の操作によって精製することもできる。
【０１８６】
＜製造方法３＞
式［１］で示される化合物は、下記に例示する反応式からなる方法によっても製造することができる。
【０１８７】
【化１９】
2017138068.tif 000020
（式中、Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３、Ｘ４、Ｌ１及びＬ２はそれぞれ（１）及び（３）に定義した通りである。）
【０１８８】
式［１］の化合物は、式［３］の化合物を塩基、イオン液体及び金属硫酸塩類の存在下又は非存在下、水中又は水と有機溶媒との混合溶媒中で反応させる、好ましくは塩基又は金属硫酸塩類存在下、水中又は水と有機溶媒との混合溶媒中で反応させる、さらに好ましくは水中又は水と有機溶媒との混合溶媒中で反応させることによって製造することができる。
【０１８９】
本工程で使用することができる塩基としては、例えばトリエチルアミン、ピリジン、４−ジメチルアミノピリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、１，８−ジアザビシクロ［５，４，０］−７−ウンデセン等の有機アミン類；炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸マグネシウム、炭酸カルシウム等の金属炭酸塩類；炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等の金属炭酸水素塩類；酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、酢酸カルシウム、酢酸マグネシウム等の金属酢酸塩類に代表されるカルボン酸金属塩類；ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、ナトリウムターシャリーブトキシド、カリウムメトキシド、カリウムターシャリーブトキシド等の金属アルコキシド；水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム、水酸化マグネシウム等の金属水酸化物；水素化リチウム、水素化ナトリウム、水素化カルシウム等の金属水素化物等が挙げられ、好ましくは炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸マグネシウム、炭酸カルシウム等の金属炭酸塩類；炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等の金属炭酸水素塩類である。
【０１９０】
本反応で使用する塩基の使用量は式［３］の化合物１モルに対して０〜１００モルの範囲から適宜選択すればよく、好ましくは０〜１０モルである。
【０１９１】
本工程で使用することができるイオン液体としては、例えば１−ブチル−３−メチルイミダゾリウムテトラフルオロボラート、１−ブチル−２，３−ジメチルイミダゾリウムテトラフルオロボラート、１−エチル−３−メチルイミダゾリウムテトラフルオロボラート、１−ヘキシル−３−メチルイミダゾリウムテトラフルオロボラート、１−エチル−３−メチルイミダゾリウムメタンスルホナート、１−ブチル−３−メチルイミダゾリウムトリフルオロメタンスルホナート、１−ブチル−２，３−ジメチルイミダゾリウムトリフルオロメタンスルホナート、１−エチル−３−メチルイミダゾリウムトリフルオロメタンスルホナート、１−ヘキシル−３−メチルイミダゾリウムトリフルオロメタンスルホナート等のイミダゾリウム塩類；テトラブチルアンモニウムフルオリド、テトラブチルアンモニウムクロリド、テトラブチルアンモニウムブロミド、テトラブチルアンモニウムヨージド等のアンモニウム塩類を挙げることができる。
【０１９２】
本反応で使用するイオン液体の使用量は式［３］の化合物１モルに対して０〜１００モルの範囲から適宜選択すればよく、好ましくは０〜１０モルである。
【０１９３】
本工程で使用することができる金属硫酸塩類としては、例えば硫酸銅（II）、硫酸鉄（III）等を挙げることができる。
【０１９４】
本反応で使用する金属硫酸塩類の使用量は式［３］の化合物１モルに対して０〜１００モルの範囲から適宜選択すればよく、好ましくは０〜１．０モルである。
【０１９５】
本工程で使用することができる溶媒としては、水及び製造方法１、工程１で説明した同様のものを挙げることができる。
【０１９６】
溶媒の使用量は式［３］の化合物１モルに対して０．０１〜１００Ｌの範囲から適宜選択すればよく、好ましくは０．１〜１０Ｌである。
【０１９７】
反応温度は−２０℃から使用する不活性溶媒の沸点域の範囲から選択すればよく、好ましくは０℃〜１００℃の範囲で行うのがよい。
【０１９８】
反応時間は反応温度、反応基質、反応量等により異なるが、通常１０分〜４８時間である。
【０１９９】
反応の目的物である式［１］の化合物は、反応終了後、定法により反応系から採取され、必要に応じてカラムクロマトグラフィー、再結晶等の操作によって精製することもできる。
【０２００】
＜製造方法４＞
式［５］で示される本発明化合物は下記に例示する反応式からなる方法により製造することができる。
【０２０１】
【化２０】
2017138068.tif 000021
（式中、Ａは（２６）に定義した通りであり、Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３及びＸ４は、（１）に定義した通りである。）
【０２０２】
式［１］で表される化合物と式［６］で表される化合物とを、溶媒中、酸又はルイス酸の存在下、好ましくは酸の存在下で反応させることにより、式［５］で表される本発明化合物を製造することができる。
【０２０３】
本工程で使用する式［１］の化合物の使用量は、式［６］の化合物１モルに対して１．０〜１０モルの範囲から適宜選択すればよく、好ましくは１．０〜３．０モルである。
【０２０４】
本工程で使用することができる酸としては、例えば塩酸、臭化水素酸、硫酸などの無機酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、ｐ−トルエンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸等の有機酸などが挙げられる。
【０２０５】
本工程で使用することができるルイス酸としては、例えば塩化亜鉛、塩化アルミニウム、塩化錫、三塩化ホウ素、三ふっ化ホウ素、トリフルオロメタンスルホン酸トリメチルシリル等が挙げられる。
【０２０６】
酸又はルイス酸の使用量は式［６］の化合物１モルに対して０．０１〜５モルの範囲から適宜選択すればよく、好ましくは０．１〜１．０モルである。
【０２０７】
本工程で使用することができる溶媒としては、製造方法１、工程１で説明した同様のものを挙げることができる。
【０２０８】
溶媒の使用量は式［６］の化合物１モルに対して０．０１〜１００Ｌの範囲から適宜選択すればよく、好ましくは０．１〜１０Ｌである。
【０２０９】
反応温度は−２０℃から使用する不活性溶媒の沸点域の範囲から選択すればよく、好ましくは０℃〜１５０℃の範囲で行うのがよい。
【０２１０】
反応時間は反応温度、反応基質、反応量等により異なるが、通常１０分〜４８時間である。
【０２１１】
反応の目的物である式［５］の化合物は、反応終了後、定法により反応系から採取され、必要に応じてカラムクロマトグラフィー、再結晶等の操作によって精製することもできる。
【０２１２】
＜中間体製造方法１＞
【化２１】
2017138068.tif 000022
（式中、Ａは（２６）に定義した通りであり、Ｌ３は塩素原子、臭素原子などのハロゲン原子を表す。）
【０２１３】
（工程１）
式［６］の化合物は、式［７］の化合物と式［８］の化合物とを、塩基の存在下又は非存在下、脱水縮合剤存在下、溶媒中で反応させることによって製造することができる。
【０２１４】
本工程で使用する式［８］の化合物の使用量は、式［７］の化合物１モルに対して０．５〜１０モルの範囲から適宜選択すればよく、好ましくは１．０〜１．２モルである。
【０２１５】
本工程で使用することができる脱水縮合剤としては、ジシクロヘキシルカルボジイミド（ＤＣＣ）、Ｎ−（３−ジメチルアミノプロピル）−Ｎ’―エチルカルボジイミド（ＥＤＣ又はＷＳＣ）、Ｎ，Ｎ−カルボニルジイミダゾール、２−クロロ−１，３−ジメチルイミダゾリウムクロリド、ヨウ化−２−クロロ−１−ピリジニウム等が挙げられる。
【０２１６】
本反応で使用する脱水縮合剤の使用量は式［７］の化合物１モルに対して１．０〜１０モルの範囲から適宜選択すればよく、好ましくは１．０〜３．０モルである。
【０２１７】
本工程で使用することができる塩基としては、例えばトリエチルアミン、ピリジン、４−ジメチルアミノピリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、１，８−ジアザビシクロ［５，４，０］−７−ウンデセン等の有機アミン類；炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸マグネシウム、炭酸カルシウム等の金属炭酸塩類；炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等の金属炭酸水素塩類；酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、酢酸カルシウム、酢酸マグネシウム等の金属酢酸塩類に代表されるカルボン酸金属塩類；ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、ナトリウムターシャリーブトキシド、カリウムメトキシド、カリウムターシャリーブトキシド等の金属アルコキシド；水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム、水酸化マグネシウム等の金属水酸化物；水素化リチウム、水素化ナトリウム、水素化カルシウム等の金属水素化物等が挙げられる。
【０２１８】
本反応で使用する塩基の使用量は式［７］の化合物１モルに対して０〜１００モルの範囲から適宜選択すればよく、好ましくは０〜１０モルである。
【０２１９】
本工程で使用することができる溶媒としては、製造方法１、工程１で説明した同様のものを挙げることができる。
【０２２０】
本反応で使用する溶媒の使用量は式［７］の化合物１モルに対して０．０１〜１００Ｌの範囲から適宜選択すればよく、好ましくは０．１〜１０Ｌである。
【０２２１】
反応温度は−２０℃から使用する不活性溶媒の沸点域の範囲から選択すればよく、好ましくは０℃〜１００℃の範囲で行うのがよい。
【０２２２】
反応時間は反応温度、反応基質、反応量等により異なるが、通常１０分〜４８時間である。
【０２２３】
反応の目的物である式［６］の化合物は、反応終了後、定法により反応系から採取され、必要に応じてカラムクロマトグラフィー、再結晶等の操作によって精製することもできる。
【０２２４】
（工程２）
式［６］の化合物は、式［７］の化合物と式［９］の化合物とを、塩基の存在下、溶媒中で反応させることによっても製造することができる。
【０２２５】
本工程で使用する式［９］の化合物の使用量は、式［７］の化合物１モルに対して０．５〜１０モルの範囲から適宜選択すればよく、好ましくは１．０〜１．２モルである。
【０２２６】
本工程で使用することができる塩基としては、中間体製造方法１、工程１で説明した同様のものを挙げることができる。
【０２２７】
本反応で使用する塩基の使用量は式［７］の化合物１モルに対して０〜１００モルの範囲から適宜選択すればよく、好ましくは０〜１０モルである。
【０２２８】
本工程で使用することができる溶媒としては、製造方法１、工程１で説明した同様のものを挙げることができる。
【０２２９】
本工程で使用する溶媒の使用量は式［７］の化合物１モルに対して０．０１〜１００Ｌの範囲から適宜選択すればよく、好ましくは０．１〜１０Ｌである。
【０２３０】
反応温度は−２０℃から使用する不活性溶媒の沸点域の範囲から選択すればよく、好ましくは０℃〜１００℃の範囲で行うのがよい。
【０２３１】
反応時間は反応温度、反応基質、反応量等により異なるが、通常１０分〜４８時間である。
【０２３２】
反応の目的物である式［６］の化合物は、反応終了後、定法により反応系から採取され、必要に応じてカラムクロマトグラフィー、再結晶等の操作によって精製することもできる。
【０２３３】
式［１］、式［２］、式［３］、式［４］又は式［５］の化合物を調製するための上述したいくつかの試薬及び反応条件が中間体に存在する特定の官能基に適合しない場合が想定される。これらの例において、合成に保護／脱保護の手法又は官能基の相互転換を取り入れることで、所望の生成物を得ることができる。保護基の使用と選択肢については化学合成分野の当業者であれは自明であろう（たとえば、Ｔ．Ｗ．Ｇｒｅｅｎｅ及びＰ．Ｇ．Ｗｕｔｓ著、Ｐｒｏｔｅｃｔｉｖｅ  Ｇｒｏｕｐｓ  ｉｎ  Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ、第４版；Ｗｉｌｅｙ：Ｎｅｗ  Ｙｏｒｋ、２００７を参照のこと）。場合によっては、個々のスキームで説明したように特定の試薬を導入後、式［１］、式［２］、式［３］、式［４］又は式［５］の化合物の合成を完了するためには説明していない定法の合成工程を追加で実行する必要があり得ることを当業者は認識するであろう。式［１］、式［２］、式［３］、式［４］又は式［５］の化合物を調製するために提案された特定の順に示した以外の順番で、上記スキームに例示した工程の組み合わせを実行する必要があり得ることも当業者は認識するであろう。
【実施例】
【０２３４】
以下に実施例を掲げ、本発明を具体的に説明するが、これ以上詳細に説明しなくても、当業者であれば、本発明を最大限に利用できると考えられる。したがって、以下の実施例は単に例示的なものと解釈され、本開示を何ら限定するものではない。以下の例での工程は全体的な合成展開における各工程の手順を説明するものであり、各工程の出発原料が、他の例又は工程に手順を記載した特定の調製の実施によって必ずしも調製される必要はない。【０２３５】
なお、以下の説明において「％」は重量百分率を示し、「部」は重量部を示す。【０２３６】
［実施例１］３−メチルスルホニルオキシ−１，２−ベンゼンジメタノール（化合物１−１）の調製
工程１：１−メチルスルホニルオキシ−２，３−ジメチルベンゼンの調製
２，３−ジメチルフェノール（１０ｇ）をテトラヒドロフラン（１２５ｍＬ）に溶解させ、トリエチルアミン（９．１ｇ）を加えた。その後、氷冷下、メタンスルホニルクロリド（１０．２６ｇ）を加え室温で一晩撹拌した。反応液に水を加え、酢酸エチルを用いて抽出した。有機層を水及び飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、無機物を濾別した後、減圧下溶媒を留去することで、表題化合物（１６．３９ｇ、収率１００％）を得た。【０２３７】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３／ＴＭＳ  δ（ｐｐｍ）値）：２．２６（ｓ，３Ｈ）、２．３１（ｓ，３Ｈ）、３．１７（ｓ，３Ｈ）、７．１１〜７．１５（ｍ，３Ｈ）。【０２３８】
工程２：１−メチルスルホニルオキシ−２，３−ビス（ブロモメチル）ベンゼンの調製
上記実施例１の工程１において得られた生成物（１６．３９ｇ）を四塩化炭素（３００ｍＬ）に溶解させ、Ｎ−ブロモスクシンイミド（３２．０５ｇ）と２，２´−アゾビスイソブチロニトリル（６７１ｍｇ）を加え、４時間加熱還流した。反応液を室温まで冷却後、セライトを用いて濾別し、減圧下溶媒を留去することで、表題化合物（２９．３ｇ、収率１００％）を得た。【０２３９】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３／ＴＭＳ  δ（ｐｐｍ）値）：３．２０（ｓ，３Ｈ）、４．８７（ｓ，２Ｈ）、５．００（ｓ，２Ｈ）、７．０４（ｄ，１Ｈ）、７．１６〜７．２３（ｍ，２Ｈ）。【０２４０】
工程３：１−メチルスルホニルオキシ−２，３−ビス（アセチルオキシメチル）ベンゼンの調製
上記実施例１の工程２において得られた生成物（５０６ｍｇ）をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（２．８ｍＬ）に溶解させ、酢酸ナトリウム（２４１ｍｇ）を加え、室温で一晩撹拌した。反応液に水を加え、酢酸エチルを用いて抽出した。有機層を水及び飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、無機物を濾別した後、減圧下溶媒を留去することで、表題化合物（３８０ｍｇ、収率８５％）を得た。【０２４１】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３／ＴＭＳ  δ（ｐｐｍ）値）：２．０７（ｓ，３Ｈ）、２．１１（ｓ，３Ｈ）、３．２８（ｓ，３Ｈ）、５．２５（ｓ，２Ｈ）、５．３０（ｓ，２Ｈ）、７．４０〜７．４３（ｍ，３Ｈ）。【０２４２】
また、表題化合物は以下の工程３Ａ及び工程３Ｂによっても調製が可能である。【０２４３】
工程３Ａ：１−メチルスルホニルオキシ−２，３−ビス（クロロメチル）ベンゼンの調製
上記実施例１の工程１において得られた生成物（１ｇ）をクロロベンゼン（２５ｍＬ）に溶解させ、２，２´−アゾビスイソブチロニトリル（０．０５ｇ）を加えた。反応液を９０℃に昇温し、反応液に塩素ガス（出発物質に対して３．１５当量）をバブリングした。反応液を室温まで冷却後、減圧下溶媒を留去することで、表題化合物を含む粗生成物を得た。この粗生成物を精製せずに次の工程に用いた。【０２４４】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３／ＴＭＳ  δ（ｐｐｍ）値）：３．２９（ｓ，３Ｈ）、４．７５（ｓ，２Ｈ）、４．８４（ｓ，２Ｈ）、７．３８−７．５１（ｍ，３Ｈ）。【０２４５】
工程３Ｂ：１−メチルスルホニルオキシ−２，３−ビス（アセチルオキシメチル）ベンゼンの代替的調製
上記実施例１の工程３Ａにおいて得られた粗生成物（６３０ｍｇ）をトルエン（２３ｍＬ）に溶解させ、酢酸ナトリウム（４８０ｍｇ）とテトラブチルアンモニウムブロミド（７５ｍｇ）を加え、８０℃で７時間撹拌した。反応液を室温まで冷却後、水を加え、酢酸エチルを用いて抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、無機物を濾別した後、減圧下溶媒を留去した。残渣をフラッシュ自動精製装置（ｂｉｏｔａｇｅ  ＡＢ社製／ＩｓｏｌｅｒａＴＭ）によるシリカゲルフラッシュクロマトグラフィー（酢酸エチル−ヘキサン：４０％で溶出）を用いて精製することで、表題化合物（３１０ｍｇ）を得た。【０２４６】
工程４：３−メチルスルホニルオキシ−１，２−ベンゼンジメタノールの調製
上記実施例１の工程３において得られた生成物（１７ｇ）をメタノール（１６０ｍＬ）、テトラヒドロフラン（１６０ｍＬ）に溶解させ、氷冷下、水（４０ｍＬ）、炭酸カリウム（１５．２３ｇ）を加え、３時間撹拌した。減圧下溶媒を留去し、水を加え、酢酸エチルを用いて抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、無機物を濾別した後、減圧下溶媒を留去することで、表題化合物（１２．１８ｇ、収率９８％）を得た。【０２４７】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６／ＴＭＳ  δ（ｐｐｍ）値）：３．４２（ｓ，３Ｈ）、４．５７（ｄ，２Ｈ）、４．７０（ｄ，２Ｈ）、４．９８（ｔ，１Ｈ）、５．２７（ｔ，１Ｈ）、７．２５（ｄ，１Ｈ）、７．３６（ｔ，１Ｈ）、７．４６（ｄ，１Ｈ）。【０２４８】
また、表題化合物は以下の工程４Ａによっても調製が可能である。【０２４９】
工程４Ａ：３−メチルスルホニルオキシ−１，２−ベンゼンジメタノールの代替的調製
上記実施例１の工程２において得られた生成物（５０２ｍｇ）に水（５．６ｍＬ）を加え、６時間加熱還流した。反応液を室温まで冷却後、酢酸エチルを用いて抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、無機物を濾別した後、減圧下溶媒を留去することで、表題化合物（３２５ｍｇ、収率１００％）を得た。【０２５０】
［実施例２］３−メチルスルホニルオキシ−６−ニトロ−１，２−ベンゼンジメタノール（化合物１−１４）の調製
工程１：１−メチルスルホニルオキシ−２，３−ジメチル−４−ニトロベンゼンの調製
２，３−ジメチル−４−ニトロフェノール（２５ｇ）をテトラヒドロフラン（５００ｍＬ）に溶解させ、トリエチルアミン（１６．７ｇ）を加えた。その後、氷冷下、メタンスルホニルクロリド（１８．９３ｇ）を加え、実施例１の工程１の調製と同様に反応させ、後処理することで、表題化合物（３４．９８ｇ、収率９５％）を得た。【０２５１】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３／ＴＭＳ  δ（ｐｐｍ）値）：２．３６（ｓ，３Ｈ）、２．４４（ｓ，３Ｈ）、３．２６（ｓ，３Ｈ）、７．３０（ｄ，１Ｈ）、７．６７（ｄ，１Ｈ）。【０２５２】
工程２：１−メチルスルホニルオキシ−２，３−ビス（ブロモメチル）−４−ニトロベンゼンの調製
上記実施例２の工程１において得られた生成物（２．９２ｇ）を１，２−ジクロロエタン（１４０ｍＬ）に溶解させ、Ｎ−ブロモスクシンイミド（８．４３ｇ）と２，２´−アゾビスイソブチロニトリル（１９５ｍｇ）を加え、８時間加熱還流した。反応液を室温まで冷却後、一晩静置し、析出した固体を濾別した後、減圧下溶媒を留去することで、表題化合物（４．８ｇ、収率１００％）を得た。【０２５３】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３／ＴＭＳ  δ（ｐｐｍ）値）：３．４２（ｓ，３Ｈ）、４．７３（ｓ，２Ｈ）、４．８４（ｓ，２Ｈ）、７．６２（ｄ，１Ｈ）、７．９８（ｄ，１Ｈ）。【０２５４】
工程３：１−メチルスルホニルオキシ−２，３−ビス（アセチルオキシメチル）−４−ニトロベンゼンの調製
上記実施例２の工程２において得られた生成物（４．８ｇ）をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（５０ｍＬ）に溶解させ、酢酸ナトリウム（１．７５ｇ）を加え、室温で一晩撹拌した。反応液に水を加え、酢酸エチルを用いて抽出した。有機層を水及び飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、無機物を濾別した後、減圧下溶媒を留去した。残渣をフラッシュ自動精製装置（ｂｉｏｔａｇｅ  ＡＢ社製／ＩｓｏｌｅｒａＴＭ）によるシリカゲルフラッシュクロマトグラフィー（酢酸エチル−ヘキサン：４０％で溶出）を用いて精製することで、表題化合物（２．８ｇ、収率６５％）を得た。【０２５５】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３／ＴＭＳ  δ（ｐｐｍ）値）：２．０４（ｓ，３Ｈ）、２．０８（ｓ，３Ｈ）、３．３６（ｓ，３Ｈ）、５．３７（ｓ，２Ｈ）、５．４７（ｓ，２Ｈ）、７．６０（ｄ，１Ｈ）、７．８９（ｄ，１Ｈ）。【０２５６】
工程４：３−メチルスルホニルオキシ−６−ニトロ−１，２−ベンゼンジメタノールの調製
上記実施例２の工程３において得られた生成物（２．８ｇ）をメタノール（８０ｍＬ）、テトラヒドロフラン（８０ｍＬ）に溶解させ、氷冷下、水（２０ｍＬ）、炭酸カリウム（１．９ｇ）を加え、２時間撹拌した。反応液に１規定塩酸を加え、減圧下溶媒を留去し、水を加え、酢酸エチルを用いて抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、無機物を濾別した後、減圧下溶媒を留去した。残渣をフラッシュ自動精製装置（ｂｉｏｔａｇｅ  ＡＢ社製／ＩｓｏｌｅｒａＴＭ）によるシリカゲルフラッシュクロマトグラフィー（酢酸エチル−ヘキサン：５０％で溶出）を用いて精製することで、表題化合物（１．５９ｇ、収率７４％）を得た。【０２５７】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３／ＴＭＳ  δ（ｐｐｍ）値）：３．０５−３．１２（ｍ，２Ｈ）、３．３６（ｓ，３Ｈ）、４．９１（ｄｄ，４Ｈ）、７．４８（ｄ，１Ｈ）、７．８９（ｄ，１Ｈ）。【０２５８】
［実施例３］３−フルオロ−６−メチルスルホニルオキシ−１，２−ベンゼンジメタノール（化合物１−３）の調製
工程１：１−アミノ−２，３−ジメチル−４−メチルスルホニルオキシベンゼンの調製
上記実施例２の工程１において得られた生成物（１０ｇ）をメタノール（２００ｍＬ）に溶解させ、パラジウム／炭素（２ｇ、パラジウム含有量１０％、約５５％水湿潤品）を加え、水素雰囲気下、室温で２４時間撹拌した。反応液をセライトを用いて濾別し、減圧下溶媒を留去することで、表題化合物（８．４３ｇ、収率９６％）を得た。【０２５９】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３／ＴＭＳ  δ（ｐｐｍ）値）：２．０９（ｓ，３Ｈ）、２．２６（ｓ，３Ｈ）、３．１２（ｓ，３Ｈ）、３．６４（ｂｒｓ，２Ｈ）、６．５４（ｄ，１Ｈ）、６．９８（ｄ，１Ｈ）。【０２６０】
また、表題化合物は以下の工程１Ａによっても調製が可能である。【０２６１】
工程１Ａ：１−アミノ−２，３−ジメチル−４−メチルスルホニルオキシベンゼンの代替的調製
２，３−ジメチル−４−ニトロフェノール（２５．３ｇ）を酢酸エチル（３００ｍＬ）に溶解させ、トリエチルアミン（１６．８ｇ）を加えた。その後、氷冷下、メタンスルホニルクロリド（１８．２ｇ）を加え、室温で３０分間撹拌した。反応液にパラジウム／炭素（８ｇ、パラジウム含有量１０％、約５５％水湿潤品）を加え、水素雰囲気下、室温で２４時間撹拌した。反応液をセライトを用いて濾別し、減圧下溶媒を留去することで、表題化合物（３３ｇ、収率１００％）を得た。【０２６２】
工程２：２，３−ジメチル−４−メチルスルホニルオキシベンゼンジアゾニウムテトラフルオロボラートの調製
上記実施例３の工程１において得られた生成物（１５．６ｇ）を４８％テトラフルオロホウ酸水溶液（８４ｍＬ）、水（１２０ｍＬ）に溶解させ、氷冷下、亜硝酸ナトリウム（５．１ｇ）を水（１２ｍＬ）に溶解させた水溶液を１０分間かけて加え、氷冷下、１時間半撹拌した。反応液を濾別し、得られた個体をジエチルエーテルで洗浄した後、乾燥することで、表題化合物（１９．５ｇ、収率８６％）を得た。【０２６３】
工程３：１−フルオロ−２，３−ジメチル−４−メチルスルホニルオキシベンゼンの調製
上記実施例３の工程２において得られた生成物（０．５ｇ）に１−ブチル−３−メチルイミダゾリウムテトラフルオロボラート（１．８ｇ）を加え、８０℃で２時間撹拌した。反応液を室温まで冷却後、トルエンを用いて抽出した。有機層を水及び飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、無機物を濾別した後、減圧下溶媒を留去することで、表題化合物（０．２９ｇ、収率８３％）を得た。【０２６４】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３／ＴＭＳ  δ（ｐｐｍ）値）：２．２１（ｄ，３Ｈ）、２．２８（ｓ，３Ｈ）、３．１８（ｓ，３Ｈ）、６．９０（ｔ，１Ｈ）、７．１１（ｄｄ，１Ｈ）。【０２６５】
また、表題化合物は以下の工程３Ａ又は工程３Ｂによっても調製が可能である。【０２６６】
工程３Ａ：１−フルオロ−２，３−ジメチル−４−メチルスルホニルオキシベンゼンの代替的調製
上記実施例３の工程１において得られた生成物（１ｇ）に、氷冷下、フッ化水素ピリジン（８ｍＬ）を加え、その後、亜硝酸ナトリウム（３５５ｍｇ）を少量ずつ加え３０分間撹拌した。その後、５５℃で１時間半撹拌した。反応液を室温まで冷却後、ジエチルエーテルを用いて抽出した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液及び飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、無機物を濾別した後、減圧下溶媒を留去することで、表題化合物（０．７５ｇ、収率７４％）を得た。【０２６７】
工程３Ｂ：１−フルオロ−２，３−ジメチル−４−メチルスルホニルオキシベンゼンの代替的調製
２，３−ジメチル−４−フルオロフェノール（２００ｍｇ）を酢酸エチル（５ｍＬ）に溶解させ、トリエチルアミン（１７４ｍｇ）を加えた。その後、室温でメタンスルホニルクロリド（１８０ｍｇ）を加え３０分間撹拌した。反応液に水を加え、酢酸エチルを用いて抽出した。有機層を水及び飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、無機物を濾別した後、減圧下溶媒を留去することで、表題化合物（２９０ｍｇ、収率９３％）を得た。【０２６８】
工程４：１−フルオロ−２，３−ビス（ブロモメチル）−４−メチルスルホニルオキシベンゼンの調製
上記実施例３の工程３において得られた生成物（１．４８ｇ）をクロロベンゼン（１５ｍＬ）に溶解させ、水（８ｍＬ）、２，２´−アゾビスイソブチロニトリル（０．１１ｇ）を加えた。反応液を８０℃に昇温し、臭素（１ｍＬ）をクロロベンゼン（１５ｍＬ）に溶解させた溶液を３０分間かけて加え、さらに８０℃で１時間半撹拌した。反応液を室温まで冷却後、酢酸エチルを用いて抽出した。有機層を水及びチオ硫酸ナトリウム水溶液、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、無機物を濾別した後、減圧下溶媒を留去することで、表題化合物（２．４５ｇ、収率９６％）を得た。【０２６９】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３／ＴＭＳ  δ（ｐｐｍ）値）：３．３３（ｓ，３Ｈ）、４．６５（ｄ，２Ｈ）、４．６８（ｓ，２Ｈ）、７．１２（ｔ，１Ｈ）、７．４２（ｄｄ，１Ｈ）。【０２７０】
工程５：１−フルオロ−２，３−ビス（アセチルオキシメチル）−４−メチルスルホニルオキシベンゼンの調製
上記実施例３の工程４において得られた生成物（１６．７１ｇ）をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（５０ｍＬ）に溶解させ、酢酸ナトリウム（７．６５ｇ）を加え、実施例２の工程３の調製と同様に反応させ、精製することで、表題化合物（１１．８１ｇ、収率８０％）を得た。【０２７１】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３／ＴＭＳ  δ（ｐｐｍ）値）：２．０６（ｓ，３Ｈ）、２．０７（ｓ，３Ｈ）、３．２９（ｓ，３Ｈ）、５．２９（ｄ，２Ｈ）、５．３１（ｓ，２Ｈ）、７．１７（ｔ，１Ｈ）、７．４４（ｄｄ，１Ｈ）。【０２７２】
また、表題化合物は以下の工程５Ａ及び工程５Ｂによっても調製が可能である。【０２７３】
工程５Ａ：１−フルオロ−２，３−ビス（クロロメチル）−４−メチルスルホニルオキシベンゼンの調製
上記実施例３の工程３において得られた生成物（１ｇ）をクロロベンゼン（２５ｍＬ）に溶解させ、２，２´−アゾビスイソブチロニトリル（０．０８ｇ）を加えた。反応液を８８℃に昇温し、反応液に塩素ガス（出発物質に対して４．１当量）をバブリングした。反応液を室温まで冷却後、減圧下溶媒を留去することで、表題化合物を含む粗生成物を得た。この粗生成物を精製せずに次の工程に用いた。【０２７４】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３／ＴＭＳ  δ（ｐｐｍ）値）：３．３３（ｓ，３Ｈ）、４．７９（ｓ，２Ｈ）、４．８２（ｓ，２Ｈ）、７．１４−７．１９（ｍ，１Ｈ）、７．４４−７．４７（ｍ，１Ｈ）。【０２７５】
工程５Ｂ：１−フルオロ−２，３−ビス（アセチルオキシメチル）−４−メチルスルホニルオキシベンゼンの代替的調製
上記実施例３の工程５Ａにおいて得られた粗生成物（２ｇ）をトルエン（２０ｍＬ）に溶解させ、酢酸ナトリウム（１．３２ｇ）とテトラブチルアンモニウムブロミド（２２５ｍｇ）を加え、８０℃で５時間撹拌した。反応液を室温まで冷却後、飽和食塩水を加え、トルエンを用いて抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、無機物を濾別した後、減圧下溶媒を留去した。残渣をフラッシュ自動精製装置（ｂｉｏｔａｇｅ  ＡＢ社製／ＩｓｏｌｅｒａＴＭ）によるシリカゲルフラッシュクロマトグラフィー（酢酸エチル−ヘキサン：３５％で溶出）を用いて精製することで、表題化合物（１．４７ｇ）を得た。【０２７６】
工程６：３−フルオロ−６−メチルスルホニルオキシ−１，２−ベンゼンジメタノールの調製
上記実施例３の工程５において得られた生成物（７．１９ｇ）をメタノール（２０ｍＬ）、に溶解させ、氷冷下、水（４ｍＬ）、炭酸カリウム（６．５３ｇ）を加え、１５分間撹拌した。減圧下溶媒を留去し、酢酸エチルを用いて抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、無機物を濾別した後、減圧下溶媒を留去することで、表題化合物（５．３８ｇ、収率１００％）を得た。【０２７７】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３／ＴＭＳ  δ（ｐｐｍ）値）：３．２７（ｓ，３Ｈ）、３．５３（ｂｒｓ，１Ｈ）、３．６５（ｂｒｓ，１Ｈ）、４．８０（ｓ，２Ｈ）、４．８４（ｓ，２Ｈ）、７．１１（ｄｄ，１Ｈ）、７．２６−７．２９（ｍ，１Ｈ）。【０２７８】
また、表題化合物は以下の工程６Ａ、６Ｂ、６Ｃ、６Ｄ又は６Ｅによっても調製が可能である。【０２７９】
工程６Ａ：３−フルオロ−６−メチルスルホニルオキシ−１，２−ベンゼンジメタノールの代替的調製
上記実施例３の工程４において得られた生成物（１０ｇ）をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（２７ｍＬ）に溶解させ、酢酸ナトリウム（４．５８ｇ）を加え、５０℃で４時間撹拌した。反応液を室温まで冷却後メタノール（２０ｍＬ）、水（５ｍＬ）、炭酸カリウム（７．７３ｇ）を加え、２時間撹拌した。反応液に水を加えた後、酢酸エチルを用いて抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、無機物を濾別した後、減圧下溶媒を留去することで、表題化合物（６．４３ｇ、収率９７％）を得た。【０２８０】
工程６Ｂ：３−フルオロ−６−メチルスルホニルオキシ−１，２−ベンゼンジメタノールの代替的調製
上記実施例３の工程４において得られた生成物（０．３８ｇ）に水（１０ｍＬ）を加え、６時間加熱還流した。反応液を室温まで冷却後、酢酸エチルを用いて抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、無機物を濾別した後、減圧下溶媒を留去することで、表題化合物（０．２３ｇ、収率９２％）を得た。【０２８１】
工程６Ｃ：３−フルオロ−６−メチルスルホニルオキシ−１，２−ベンゼンジメタノールの代替的調製
上記実施例３の工程４において得られた生成物（１０ｇ）をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（２７ｍＬ）に溶解させ、水（２４０ｍＬ）を加え、１００℃で３時間撹拌した。反応液を室温まで冷却後、酢酸エチルを用いて抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、無機物を濾別した後、減圧下溶媒を留去することで、表題化合物（６．６６ｇ、収率１００％）を得た。【０２８２】
工程６Ｄ：３−フルオロ−６−メチルスルホニルオキシ−１，２−ベンゼンジメタノールの代替的調製
上記実施例３の工程４において得られた生成物（５ｇ）をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（１１ｍＬ）に溶解させ、硫酸銅（II）五水和物（２３４ｍｇ）と水（３０ｍＬ）を加え、１１０℃で７時間加熱還流した。反応液を室温まで冷却後、水を加え、酢酸エチルを用いて抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、無機物を濾別した後、減圧下溶媒を留去することで、表題化合物（３．１ｇ、収率９３％）を得た。【０２８３】
工程６Ｅ：３−フルオロ−６−メチルスルホニルオキシ−１，２−ベンゼンジメタノールの代替的調製
上記実施例３の工程５において得られた生成物（４．４６ｇ）をメタノール（２０ｍＬ）に溶解させ、アセチルクロリド（２０８ｍｇ）を加え、室温で一晩撹拌した。反応液に水を加え、酢酸エチルを用いて抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、無機物を濾別した後、減圧下溶媒を留去することで、表題化合物（２．８ｇ、収率８４％）を得た。【０２８４】
［実施例４］３−クロロ−６−メチルスルホニルオキシ−１，２−ベンゼンジメタノール（化合物１−１７）の調製
工程１：１−クロロ−２，３−ジメチル−４−メチルスルホニルオキシベンゼンの調製
２，３−ジメチル−４−クロロフェノール（１．８１ｇ）をテトラヒドロフラン（２０ｍＬ）に溶解させ、トリエチルアミン（１．４１ｇ）を加えた。その後、氷冷下、メタンスルホニルクロリド（１．４５ｇ）を加え、実施例１の工程１の調製と同様に反応させ、後処理することで、表題化合物（１．８６ｇ、収率６８％）を得た。【０２８５】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３／ＴＭＳ  δ（ｐｐｍ）値）：２．３１（ｓ，３Ｈ）、２．３７（ｓ，３Ｈ）、３．１９（ｓ，３Ｈ）、７．１０（ｄｄ，１Ｈ）、７．２５（ｄｄ，１Ｈ）。【０２８６】
工程２：１−クロロ−２，３−ビス（ブロモメチル）−４−メチルスルホニルオキシベンゼンの調製
上記実施例４の工程１において得られた生成物（１．８６ｇ）を１，２−ジクロロエタン（５０ｍＬ）に溶解させ、Ｎ−ブロモスクシンイミド（４．２３ｇ）と２，２´−アゾビスイソブチロニトリル（１３０ｍｇ）を加え、３時間加熱還流した。反応液を室温まで冷却後、水を加え、クロロホルムを用いて抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、無機物を濾別した後、減圧下溶媒を留去することで、表題化合物（３．１１ｇ、収率１００％）を得た。【０２８７】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３／ＴＭＳ  δ（ｐｐｍ）値）：３．３４（ｓ，３Ｈ）、４．６９（ｓ，２Ｈ）、４．７６（ｓ，２Ｈ）、７．３９−７．４５（ｍ，２Ｈ）。【０２８８】
工程３：１−クロロ−２，３−ビス（アセチルオキシメチル）−４−メチルスルホニルオキシベンゼンの調製
上記実施例４の工程２において得られた生成物（３．１１ｇ）をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（４０ｍＬ）に溶解させ、酢酸ナトリウム（１．５６ｇ）を加え、室温で一晩撹拌した。反応液に水を加え、酢酸エチルを用いて抽出した。有機層を水及び飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、無機物を濾別した後、減圧下溶媒を留去することで、表題化合物を含む粗生成物を得た。この粗生成物を精製せずに次の工程に用いた。【０２８９】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３／ＴＭＳ  δ（ｐｐｍ）値）：２．０６（ｓ，３Ｈ）、２．０９（ｓ，３Ｈ）、３．３０（ｓ，３Ｈ）、５．３１（ｓ，２Ｈ）、５．３６（ｓ，２Ｈ）、７．４２（ｄ，１Ｈ）、７．４９（ｄ，１Ｈ）。【０２９０】
工程４：３−クロロ−６−メチルスルホニルオキシ−１，２−ベンゼンジメタノールの調製
上記実施例４の工程３において得られた粗生成物をメタノール（２０ｍＬ）、テトラヒドロフラン（２０ｍＬ）に溶解させ、氷冷下、水（５ｍＬ）、炭酸カリウム（２．２ｇ）を加え、３時間撹拌した。反応液に水を加え、酢酸エチルを用いて抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、無機物を濾別した後、減圧下溶媒を留去した。残渣をフラッシュ自動精製装置（ｂｉｏｔａｇｅ  ＡＢ社製／ＩｓｏｌｅｒａＴＭ）によるシリカゲルフラッシュクロマトグラフィー（酢酸エチル−ヘキサン：８０％で溶出）を用いて精製することで、表題化合物（１．４１ｇ）を得た。【０２９１】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３／ＴＭＳ  δ（ｐｐｍ）値）：２．５７（ｂｒｓ，２Ｈ）、２．８５（ｓ，３Ｈ）、４．８８（ｓ，２Ｈ）、４．９４（ｓ，２Ｈ）、６．８４（ｄ，１Ｈ）、７．３５（ｄ，１Ｈ）。【０２９２】
また、表題化合物は以下の工程４Ａによっても調製が可能である。【０２９３】
工程４Ａ：３−クロロ−６−メチルスルホニルオキシ−１，２−ベンゼンジメタノールの代替的調製
上記実施例４の工程２において得られた生成物（１．６４ｇ）に水（４２ｍＬ）を加え、７時間加熱還流した。反応液を室温まで冷却後、酢酸エチルを用いて抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、無機物を濾別した後、減圧下溶媒を留去することで、表題化合物（１．１１ｇ、収率１００％）を得た。【０２９４】
［実施例５］３−ブロモ−６−メチルスルホニルオキシ−１，２−ベンゼンジメタノール（化合物１−１８）の調製
工程１：１−ブロモ−２，３−ジメチル−４−メチルスルホニルオキシベンゼンの調製
２，３−ジメチル−４−ブロモフェノール（６．５７ｇ）をテトラヒドロフラン（１００ｍＬ）に溶解させ、トリエチルアミン（３．６４ｇ）を加えた。その後、氷冷下、メタンスルホニルクロリド（４．１２ｇ）を加え、実施例１の工程１の調製と同様に反応させ、後処理することで、表題化合物を含む粗生成物を得た。この粗生成物を精製せずに次の工程に用いた。【０２９５】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３／ＴＭＳ  δ（ｐｐｍ）値）：２．３３（ｓ，３Ｈ）、２．４１（ｓ，３Ｈ）、３．１９（ｓ，３Ｈ）、７．０４（ｄ，１Ｈ）、７．４４（ｄ，１Ｈ）。【０２９６】
工程２：１−ブロモ−２，３−ビス（ブロモメチル）−４−メチルスルホニルオキシベンゼンの調製
上記実施例５の工程１において得られた粗生成物（１．８７ｇ）を１，２−ジクロロエタン（１３ｍＬ）に溶解させ、Ｎ−ブロモスクシンイミド（２．５ｇ）と２，２´−アゾビスイソブチロニトリル（１１０ｍｇ）を加え、３時間加熱還流した。反応液を室温まで冷却後、水及び飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、無機物を濾別した後、減圧下溶媒を留去した。残渣をフラッシュ自動精製装置（ｂｉｏｔａｇｅ  ＡＢ社製／ＩｓｏｌｅｒａＴＭ）によるシリカゲルフラッシュクロマトグラフィー（酢酸エチル−ヘキサン：３０％で溶出）を用いて精製することで、表題化合物（２．６６ｇ）を得た。【０２９７】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３／ＴＭＳ  δ（ｐｐｍ）値）：３．３４（ｓ，３Ｈ）、４．７１（ｓ，２Ｈ）、４．７９（ｓ，２Ｈ）、７．３３（ｄ，１Ｈ）、７．６２（ｄ，１Ｈ）。【０２９８】
工程３：１−ブロモ−２，３−ビス（アセチルオキシメチル）−４−メチルスルホニルオキシベンゼンの調製
上記実施例５の工程２において得られた生成物（１５．２８ｇ）をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（１００ｍＬ）に溶解させ、酢酸ナトリウム（６．３１ｇ）を加え、９０℃で３時間撹拌した。反応液を室温まで冷却後、水を加え、酢酸エチルを用いて抽出した。有機層を水及び飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、無機物を濾別した後、減圧下溶媒を留去することで、表題化合物を含む粗生成物を得た。この粗生成物を精製せずに次の工程に用いた。【０２９９】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３／ＴＭＳ  δ（ｐｐｍ）値）：２．０６（ｓ，３Ｈ）、２．０９（ｓ，３Ｈ）、３．３０（ｓ，３Ｈ）、５．３２（ｓ，２Ｈ）、５．３７（ｓ，２Ｈ）、７．３５（ｄ，１Ｈ）、７．６８（ｄ，１Ｈ）。【０３００】
工程４：３−ブロモ−６−メチルスルホニルオキシ−１，２−ベンゼンジメタノールの調製
上記実施例５の工程３において得られた粗生成物をメタノール（７５ｍＬ）、テトラヒドロフラン（２５ｍＬ）に溶解させ、氷冷下、水（２５ｍＬ）、炭酸カリウム（９．０４ｇ）を加え、３時間撹拌した。反応液に水を加え、酢酸エチルを用いて抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、無機物を濾別した後、減圧下溶媒を留去した。残渣をフラッシュ自動精製装置（ｂｉｏｔａｇｅ  ＡＢ社製／ＩｓｏｌｅｒａＴＭ）によるシリカゲルフラッシュクロマトグラフィー（酢酸エチル−ヘキサン：５０％で溶出）を用いて精製することで、表題化合物（７．５３ｇ）を得た。【０３０１】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３／ＴＭＳ  δ（ｐｐｍ）値）：２．１０（ｓ，２Ｈ）、３．２９（ｓ，３Ｈ）、４．８６（ｓ，２Ｈ）、５．０１（ｓ，２Ｈ）、７．１７（ｄ，１Ｈ）、７．６４（ｄ，１Ｈ）。【０３０２】
また、表題化合物は以下の工程４Ａによっても調製が可能である。【０３０３】
工程４Ａ：３−ブロモ−６−メチルスルホニルオキシ−１，２−ベンゼンジメタノールの代替的調製
上記実施例５の工程２において得られた生成物（１．９５ｇ）に水（４５ｍＬ）を加え、８時間加熱還流した。反応液を室温まで冷却後、酢酸エチルを用いて抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、無機物を濾別した後、減圧下溶媒を留去することで、表題化合物（１．３５ｇ、収率９７％）を得た。【０３０４】
［実施例６］３−ヨード−６−メチルスルホニルオキシ−１，２−ベンゼンジメタノール（化合物１−１９）の調製
工程１：１−ヨード−２，３−ジメチル−４−メチルスルホニルオキシベンゼンの調製
上記実施例３の工程１において得られた生成物（３．４４ｇ）をジメチルスルホキシド（１００ｍＬ）に溶解させ、ヨウ化カリウム（１３．３ｇ）、亜硝酸ナトリウム（４．４１ｇ）を加え、氷冷下、４８％臭化水素酸（２０ｍＬ）を少量ずつ加え、３時間撹拌した。反応液にチオ硫酸ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルを用いて抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、無機物を濾別した後、減圧下溶媒を留去した。残渣をフラッシュ自動精製装置（ｂｉｏｔａｇｅ  ＡＢ社製／ＩｓｏｌｅｒａＴＭ）によるシリカゲルフラッシュクロマトグラフィー（酢酸エチル−ヘキサン：５０％で溶出）を用いて精製することで、表題化合物（２．９７ｇ、収率５７％）を得た。【０３０５】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３／ＴＭＳ  δ（ｐｐｍ）値）：２．３５（ｓ，３Ｈ）、２．４７（ｓ，３Ｈ）、３．１８（ｓ，３Ｈ）、６．８９（ｄ，１Ｈ）、７．７２（ｄ，１Ｈ）。【０３０６】
工程２：１−ヨード−２，３−ビス（ブロモメチル）−４−メチルスルホニルオキシベンゼンの調製
上記実施例６の工程１において得られた生成物（２．９７ｇ）を１，２−ジクロロエタン（５０ｍＬ）に溶解させ、Ｎ−ブロモスクシンイミド（３．８９ｇ）と２，２´−アゾビスイソブチロニトリル（１５０ｍｇ）を加え、３時間加熱還流した。反応液を室温まで冷却後、水を加え、クロロホルムを用いて抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、無機物を濾別した後、減圧下溶媒を留去することで、表題化合物を含む粗生成物を得た。この粗生成物を精製せずに次の工程に用いた。【０３０７】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３／ＴＭＳ  δ（ｐｐｍ）値）：３．３４（ｓ，３Ｈ）、４．７４（ｓ，２Ｈ）、４．８０（ｓ，２Ｈ）、７．１８（ｄ，１Ｈ）、７．８９（ｄ，１Ｈ）。【０３０８】
工程３：１−ヨード−２，３−ビス（アセチルオキシメチル）−４−メチルスルホニルオキシベンゼンの調製
上記実施例６の工程２において得られた粗生成物をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（５０ｍＬ）に溶解させ、酢酸ナトリウム（１．７９ｇ）を加え、室温で一晩撹拌した。反応液に水を加え、酢酸エチルを用いて抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、無機物を濾別した後、減圧下溶媒を留去することで、表題化合物を含む粗生成物を得た。この粗生成物を精製せずに次の工程に用いた。【０３０９】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３／ＴＭＳ  δ（ｐｐｍ）値）：２．０６（ｓ，３Ｈ）、２．０９（ｓ，３Ｈ）、３．３０（ｓ，３Ｈ）、５．３１（ｓ，２Ｈ）、５．３７（ｓ，２Ｈ）、７．４２（ｄ，１Ｈ）、７．４９（ｄ，１Ｈ）。【０３１０】
工程４：３−ヨード−６−メチルスルホニルオキシ−１，２−ベンゼンジメタノールの調製
上記実施例６の工程３において得られた粗生成物をメタノール（２０ｍＬ）、テトラヒドロフラン（２０ｍＬ）に溶解させ、氷冷下、水（５ｍＬ）、炭酸カリウム（２．５２ｇ）を加え、実施例５の工程４の調製と同様に反応させ、精製することで、表題化合物（６５２ｍｇ）を得た。【０３１１】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３／ＴＭＳ  δ（ｐｐｍ）値）：３．１１−３．１６（ｍ，２Ｈ）、３．２９（ｓ，３Ｈ）、４．８６（ｄ，２Ｈ）、５．００（ｄ，２Ｈ）、７．０１（ｄ，１Ｈ）、７．９２（ｄ，１Ｈ）。【０３１２】
［実施例７］３−ジフルオロメトキシ−６−メチルスルホニルオキシ−１，２−ベンゼンジメタノール（化合物１−２１）の調製
工程１：２，３−ジメチル−４−ジフルオロメトキシ−フェノールの調製
２，３−ジメチル−４−［［（１，１−ジメチルエチル）ジメチルシリル］オキシ］フェノール（８２０ｍｇ）（Ｅｕｒｏｐｅａｎ  Ｊｏｕｒｎａｌ  ｏｆ  Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，  （１１），  ２２１８−２２２５；  ２０１０記載の化合物）をアセトニトリル（１３ｍＬ）に溶解させ、水（１３ｍＬ）、水酸化カリウム（３．６５ｇ）を加え、反応液を−２０℃に冷却後、（ブロモジフルオロメチル）ホスホン酸ジエチル（１．７４ｇ）を加え、さらに−２０℃で１時間撹拌した。その後、室温で２時間半撹拌した後、反応液に水を加え、酢酸エチルを用いて抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、無機物を濾別した後、減圧下溶媒を留去した。残渣をフラッシュ自動精製装置（ｂｉｏｔａｇｅ  ＡＢ社製／ＩｓｏｌｅｒａＴＭ）によるシリカゲルフラッシュクロマトグラフィー（酢酸エチル−ヘキサン：５０％で溶出）を用いて精製することで、表題化合物（２００ｍｇ、収率３３％）を得た。【０３１３】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３／ＴＭＳ  δ（ｐｐｍ）値）：２．１８（ｓ，３Ｈ）、２．２１（ｓ，３Ｈ）、５．０１（ｓ，１Ｈ）、６．３７（ｔ，１Ｈ）、６．６０（ｄ，１Ｈ）、６．８４（ｄ，１Ｈ）。【０３１４】
工程２：１−ジフルオロメトキシ−２，３−ジメチル−４−メチルスルホニルオキシベンゼンの調製
上記実施例７の工程１において得られた生成物（２００ｍｇ）をテトラヒドロフラン（２０ｍＬ）に溶解させ、トリエチルアミン（１７８ｍｇ）を加えた。その後、氷冷下、メタンスルホニルクロリド（１３４ｍｇ）を加え、室温で３時間撹拌した。反応液を濾別し、減圧下溶媒を留去した。残渣をフラッシュ自動精製装置（ｂｉｏｔａｇｅ  ＡＢ社製／ＩｓｏｌｅｒａＴＭ）によるシリカゲルフラッシュクロマトグラフィー（酢酸エチル−ヘキサン：５０％で溶出）を用いて精製することで、表題化合物（２２０ｍｇ、収率７８％）を得た。【０３１５】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３／ＴＭＳ  δ（ｐｐｍ）値）：２．２４（ｓ，３Ｈ）、２．２９（ｓ，３Ｈ）、３．１９（ｓ，３Ｈ）、６．４７（ｔ，１Ｈ）、６．９９（ｄ，１Ｈ）、７．１５（ｄ，１Ｈ）。【０３１６】
工程３：１−ジフルオロメトキシ−２，３−ビス（ブロモメチル）−４−メチルスルホニルオキシベンゼンの調製
上記実施例７の工程２において得られた生成物（２２０ｍｇ）を四塩化炭素（１０ｍＬ）に溶解させ、Ｎ−ブロモスクシンイミド（３５３ｍｇ）と２，２´−アゾビスイソブチロニトリル（１３．６ｍｇ）を加え、４時間加熱還流した。反応液を室温まで冷却後、減圧下溶媒を留去した。残渣をフラッシュ自動精製装置（ｂｉｏｔａｇｅ  ＡＢ社製／ＩｓｏｌｅｒａＴＭ）によるシリカゲルフラッシュクロマトグラフィー（酢酸エチル−ヘキサン：５０％で溶出）を用いて精製することで、表題化合物（３４０ｍｇ、収率９７％）を得た。【０３１７】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３／ＴＭＳ  δ（ｐｐｍ）値）：３．３４（ｓ，３Ｈ）、４．６８（ｓ，２Ｈ）、４．６９（ｓ，２Ｈ）、６．５８（ｔ，１Ｈ）、７．２０（ｄ，１Ｈ）、７．４５（ｄ，１Ｈ）。【０３１８】
工程４：１−ジフルオロメトキシ−２，３−ビス（アセチルオキシメチル）−４−メチルスルホニルオキシベンゼンの調製
上記実施例７の工程３において得られた生成物（３４０ｍｇ）をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（１０ｍＬ）に溶解させ、酢酸ナトリウム（１５８ｍｇ）を加え、室温で一晩撹拌した。反応液に水を加え、酢酸エチルを用いて抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、無機物を濾別した後、減圧下溶媒を留去することで、表題化合物（３０６ｍｇ、収率１００％）を得た。【０３１９】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３／ＴＭＳ  δ（ｐｐｍ）値）：２．０６（ｓ，６Ｈ）、３．３０（ｓ，３Ｈ）、５．３０（ｓ，２Ｈ）、５．３１（ｓ，２Ｈ）、６．５３（ｔ，１Ｈ）、７．２７（ｄ，１Ｈ）、７．４８（ｄ，１Ｈ）。【０３２０】
工程５：３−ジフルオロメトキシ−６−メチルスルホニルオキシ−１，２−ベンゼンジメタノールの調製
上記実施例７の工程４において得られた生成物（３０６ｍｇ）をメタノール（８ｍＬ）、テトラヒドロフラン（８ｍＬ）に溶解させ、氷冷下、水（２ｍＬ）、炭酸カリウム（２２２ｍｇ）を加え、１時間撹拌した。反応液に水を加え、酢酸エチルを用いて抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、無機物を濾別した後、減圧下溶媒を留去した。残渣をフラッシュ自動精製装置（ｂｉｏｔａｇｅ  ＡＢ社製／ＩｓｏｌｅｒａＴＭ）によるシリカゲルフラッシュクロマトグラフィー（酢酸エチル−メタノール：メタノール１５％で溶出）を用いて精製することで、表題化合物（１３０ｍｇ、収率５５％）を得た。【０３２１】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３／ＴＭＳ  δ（ｐｐｍ）値）：３．２７−３．３０（ｍ，５Ｈ）、４．８２（ｓ，２Ｈ）、４．８６（ｓ，２Ｈ）、６．５７（ｔ，１Ｈ）、７．２２（ｄ，１Ｈ）、７．３１（ｄ，１Ｈ）。【０３２２】
［実施例８］３，６−ビス（メチルスルホニルオキシ）−１，２−ベンゼンジメタノール（化合物１−２０）の調製
工程１：１，４−ビス（メチルスルホニルオキシ）−２，３−ジメチルベンゼンの調製
２，３−ジメチルヒドロキノン（１ｇ）をテトラヒドロフラン（１２ｍＬ）に溶解させ、トリエチルアミン（１．７５ｇ）を加えた。その後、氷冷下、メタンスルホニルクロリド（１．８３ｇ）を加え、実施例１の工程１の調製と同様に反応させ、後処理することで、表題化合物（２．１３ｇ、収率１００％）を得た。【０３２３】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３／ＴＭＳ  δ（ｐｐｍ）値）：２．３０（ｓ，６Ｈ）、３．２１（ｓ，６Ｈ）、７．２０（ｓ，２Ｈ）。【０３２４】
工程２：１，４−ビス（メチルスルホニルオキシ）−２，３−ビス（ブロモメチル）ベンゼンの調製
上記実施例８の工程１において得られた生成物（２ｇ）を１，２−ジクロロエタン（１３ｍＬ）に溶解させ、Ｎ−ブロモスクシンイミド（２．５３ｇ）と２，２´−アゾビスイソブチロニトリル（１１２ｍｇ）を加え、３時間加熱還流した。反応液を室温まで冷却後、水及び飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、無機物を濾別した後、減圧下溶媒を留去することで、表題化合物（２．８１ｇ、収率９２％）を得た。【０３２５】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３／ＴＭＳ  δ（ｐｐｍ）値）：３．３６（ｓ，６Ｈ）、４．６９（ｓ，４Ｈ）、７．５０（ｓ，２Ｈ）。【０３２６】
工程３：１，４−ビス（メチルスルホニルオキシ）−２，３−ビス（アセチルオキシメチル）ベンゼンの調製
上記実施例８の工程２において得られた生成物（２．６８ｇ）をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（４０ｍＬ）に溶解させ、酢酸ナトリウム（１．０７ｇ）を加え、実施例２の工程３の調製と同様に反応させ、精製することで、表題化合物（１．７８ｇ、収率６０％）を得た。【０３２７】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３／ＴＭＳ  δ（ｐｐｍ）値）：２．０７（ｓ，６Ｈ）、３．３１（ｓ，６Ｈ）、５．３４（ｓ，４Ｈ）、７．５１（ｓ，２Ｈ）。【０３２８】
工程４：３，６−ビス（メチルスルホニルオキシ）−１，２−ベンゼンジメタノールの調製
上記実施例８の工程３において得られた生成物（１．７８ｇ）をメタノール（４０ｍＬ）、テトラヒドロフラン（４０ｍＬ）に溶解させ、氷冷下、水（１０ｍＬ）、炭酸カリウム（１．１ｇ）を加え、実施例２の工程４の調製と同様に反応させ、精製することで、表題化合物（９１６ｍｇ、収率６４％）を得た。【０３２９】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３／ＴＭＳ  δ（ｐｐｍ）値）：３．３０−３．３８（ｍ，８Ｈ）、４．８６（ｄ，４Ｈ）、７．３９（ｓ，２Ｈ）。【０３３０】
また、表題化合物は以下の工程４Ａによっても調製が可能である。【０３３１】
工程４Ａ：３，６−ビス（メチルスルホニルオキシ）−１，２−ベンゼンジメタノールの代替的調製
上記実施例８の工程２において得られた生成物（１ｇ）に水（２２ｍＬ）を加え、７時間加熱還流した。反応液を室温まで冷却後、酢酸エチルを用いて抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、無機物を濾別した後、減圧下溶媒を留去することで、表題化合物（７９０ｍｇ、収率１００％）を得た。【０３３２】
［実施例９］４−メチルスルホニルオキシ−１，２−ベンゼンジメタノール（化合物１−４）の調製
工程１：１−メチルスルホニルオキシ−３，４−ジメチルベンゼンの調製
３，４−ジメチルフェノール（２ｇ）をテトラヒドロフラン（２５ｍＬ）に溶解させ、トリエチルアミン（１．９９ｇ）を加えた。その後、氷冷下、メタンスルホニルクロリド（２．０６ｇ）を加え、実施例１の工程１の調製と同様に反応させ、後処理することで、表題化合物を含む粗生成物を得た。この粗生成物を精製せずに次の工程に用いた。【０３３３】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３／ＴＭＳ  δ（ｐｐｍ）値）：２．２６（ｓ，３Ｈ）、２．２８（ｓ，３Ｈ）、３．１１（ｓ，３Ｈ）、７．０１（ｄｄ，１Ｈ）、７．０６（ｄ，１Ｈ）、７．１５（ｄ，１Ｈ）。【０３３４】
工程２：１−メチルスルホニルオキシ−３，４−ビス（ブロモメチル）ベンゼンの調製
上記実施例９の工程１において得られた粗生成物を四塩化炭素（６０ｍＬ）に溶解させ、
Ｎ−ブロモスクシンイミド（６．４ｇ）と２，２´−アゾビスイソブチロニトリル（１３４ｍｇ）を加え、実施例１の工程２の調製と同様に反応させ、後処理することで、表題化合物を含む粗生成物を得た。この粗生成物を精製せずに次の工程に用いた。【０３３５】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３／ＴＭＳ  δ（ｐｐｍ）値）：３．１８（ｓ，３Ｈ）、４．６１（ｓ，２Ｈ）、４．６３（ｓ，２Ｈ）、７．２２−７．２５（ｍ，１Ｈ）、７．３２（ｄ，１Ｈ）、７．４２（ｄ，１Ｈ）。【０３３６】
工程３：１−メチルスルホニルオキシ−３，４−ビス（アセチルオキシメチル）ベンゼンの調製
上記実施例９の工程２において得られた粗生成物をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（５０ｍＬ）に溶解させ、酢酸ナトリウム（３．３６ｇ）を加え、実施例２の工程３の調製と同様に反応させ、精製することで、表題化合物（３．２６ｇ）を得た。【０３３７】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３／ＴＭＳ  δ（ｐｐｍ）値）：２．１０（ｓ，３Ｈ）、２．１２（ｓ，３Ｈ）、３．１７（ｓ，３Ｈ）、５．１８（ｓ，２Ｈ）、５．１９（ｓ，２Ｈ）、７．２８（ｄ，１Ｈ）、７．３５（ｄ，１Ｈ）、７．４６（ｄ，１Ｈ）。【０３３８】
工程４：４−メチルスルホニルオキシ−１，２−ベンゼンジメタノールの調製
上記実施例９の工程３において得られた生成物（３．２６ｇ）をメタノール（４０ｍＬ）、テトラヒドロフラン（４０ｍＬ）に溶解させ、氷冷下、水（２０ｍＬ）、炭酸カリウム（２．６ｇ）を加え、実施例２の工程４の調製と同様に反応させ、精製することで、表題化合物（１．６４ｇ、収率６９％）を得た。【０３３９】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３／ＴＭＳ  δ（ｐｐｍ）値）：２．６３（ｂｒｓ，２Ｈ）、３．１６（ｓ，３Ｈ）、４．７６（ｓ，４Ｈ）、７．２１−７．５３（ｍ，２Ｈ）、７．３２（ｓ，１Ｈ）、７．４２（ｄ，１Ｈ）。【０３４０】
［実施例１０］４−［４−（６−メチルスルホニルオキシ−１，５−ジヒドロ−３Ｈ−２，４−ベンゾジオキセピン−３−イル）−２−チアゾリル］−１−［［５−メチル−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール−１−イル］アセチル］ピペリジン（化合物２−１）の調製
４−（４−ホルミル−２−チアゾリル）−１−［２−［５−メチル−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール−１−イル］アセチル］ピペリジン（２００ｍｇ）（ＷＯ２００８／０１３６２２号公報記載の化合物）と、実施例１において得られた生成物（１２１ｍｇ）と、ｐ−トルエンスルホン酸一水和物（２０ｍｇ）とを、トルエン（２０ｍＬ）に溶解し、Ｄｅａｎ−Ｓｔａｒｋ装置を用いて１時間加熱還流した。反応液を室温まで冷却後、酢酸エチルで希釈し、水及び飽和食塩水で洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、無機物を濾別した後、減圧下溶媒を留去した。残渣をフラッシュ自動精製装置（ｂｉｏｔａｇｅ  ＡＢ社製／ＩｓｏｌｅｒａＴＭ）によるシリカゲルフラッシュクロマトグラフィー（酢酸エチル−ヘキサン：４０％−１００％で溶出）を用いて精製することで、表題化合物（２９８ｍｇ、収率９６％）を得た。【０３４１】
［実施例１１］４−［４−（６−フルオロ−９−メチルスルホニルオキシ−１，５−ジヒドロ−３Ｈ−２，４−ベンゾジオキセピン−３−イル）−２−チアゾリル］−１−［［５−メチル−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール−１−イル］アセチル］ピペリジン（化合物２−３）の調製
４−（４−ホルミル−２−チアゾリル）−１−［２−［５−メチル−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール−１−イル］アセチル］ピペリジン（２２０ｍｇ）（ＷＯ２００８／０１３６２２号公報記載の化合物）と、実施例３において得られた生成物（１５０ｍｇ）と、ｐ−トルエンスルホン酸一水和物（２０ｍｇ）とを、トルエン（１５ｍＬ）に溶解させ、化合物２−１の調製における反応と同様に反応させ、精製することで、表題化合物（２９７ｍｇ、収率８４％）を得た。【０３４２】
［実施例１２］４−［４−（６−メチルスルホニルオキシ−１，５−ジヒドロ−３Ｈ−２，４−ベンゾジオキセピン−３−イル）−２−チアゾリル］−１−［［３，５−ビス（ジフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール−１−イル］アセチル］ピペリジン（化合物２−１５）の調製
４−（４−ホルミル−２−チアゾリル）−１−［２−［３，５−ビス（ジフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール−１−イル］アセチル］ピペリジン（２０２ｍｇ）（ＷＯ２０１０／０６６３５３号公報記載の化合物）と、実施例１において得られた生成物（２３２ｍｇ）と、ｐ−トルエンスルホン酸一水和物（５ｍｇ）とを、トルエン（１５ｍＬ）に溶解させ、化合物２−１の調製における反応と同様に反応させ、精製することで、表題化合物（１６４ｍｇ、収率５３％）を得た。【０３４３】
［実施例１３］４−［４−（６−フルオロ−９−メチルスルホニルオキシ−１，５−ジヒドロ−３Ｈ−２，４−ベンゾジオキセピン−３−イル）−２−チアゾリル］−１−［２−［３，５−ビス（ジフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール−１−イル］アセチル］ピペリジン（化合物２−２３）の調製
４−（４−ホルミル−２−チアゾリル）−１−［２−［３，５−ビス（ジフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール−１−イル］アセチル］ピペリジン（２０２ｍｇ）（ＷＯ２０１０／０６６３５３号公報記載の化合物）と、実施例３において得られた生成物（２５０ｍｇ）と、ｐ−トルエンスルホン酸一水和物（５ｍｇ）とを、トルエン（１５ｍＬ）に溶解させ、化合物２−１の調製における反応と同様に反応させ、精製することで、表題化合物（１０５ｍｇ、収率３３％）を得た。【０３４４】
［実施例１４］４−［４−（６−メチルスルホニルオキシ−１，５−ジヒドロ−３Ｈ−２，４−ベンゾジオキセピン−３−イル）−２−チアゾリル］−１−［２−（２，５−ジメチルフェニル）アセチル］ピペリジン（化合物３−１）の調製
４−（４−ホルミル−２−チアゾリル）−１−［２−（２，５−ジメチルフェニル）アセチル］ピペリジン（２００ｍｇ）と、実施例１において得られた生成物（１４２ｍｇ）と、ｐ−トルエンスルホン酸一水和物（２０ｍｇ）とを、トルエン（１５ｍＬ）に溶解させ、化合物２−１の調製における反応と同様に反応させ、精製することで、表題化合物（２０６ｍｇ、収率６４％）を得た。【０３４５】
［実施例１５］４−［４−（６−メチルスルホニルオキシ−１，５−ジヒドロ−３Ｈ−２，４−ベンゾジオキセピン−３−イル）−２−チアゾリル］−１−［２−（２，５−ジクロロフェニル）アセチル］ピペリジン（化合物３−２）の調製
４−（４−ホルミル−２−チアゾリル）−１−［２−（２，５−ジクロロフェニル）アセチル］ピペリジン（１９１ｍｇ）と、実施例１において得られた生成物（２３２ｍｇ）と、ｐ−トルエンスルホン酸一水和物（５ｍｇ）とを、トルエン（１５ｍＬ）に溶解し、化合物２−１の調製における反応と同様に反応させ、精製することで、表題化合物（２６７ｍｇ、収率７２％）を得た。【０３４６】
以下の実施例１６〜１８に、上記実施例１〜１５において用いた製造出発物質の製造例を示す。【０３４７】
［実施例１６］２，３−ジメチル−４−ニトロフェノールの調製
２，３−ジメチル−４−ニトロソフェノール（５００ｍｇ）をメタノール（１０ｍＬ）に懸濁させ、タングステン酸ナトリウム二水和物（５４ｍｇ）を加え、反応液を６０℃に昇温した。ここに３０％過酸化水素水溶液（５６３ｍｇ）をゆっくりと加え、６０℃で８時間撹拌した。反応液を室温まで冷却し、亜硫酸ナトリウム、水を加え、酢酸エチルを用いて抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、無機物を濾別した後、減圧下溶媒を留去することで、表題化合物（５００ｍｇ、収率９０％）を得た。【０３４８】
［実施例１７］４−（４−ホルミル−２−チアゾリル）−１−［２−（２，５−ジメチルフェニル）アセチル］ピペリジンの調製
工程１：４−（４−ホルミル−２−チアゾリル）ピペリジントリフルオロ酢酸塩の調製
４−（４−ホルミル−２−チアゾリル）ピペリジンカルボン酸１，１−ジメチルエチルエステル（３．９ｇ）（ＷＯ２００８／０１３６２２号公報記載の化合物）をジクロロメタン（６５ｍＬ）に溶解させ、トリフルオロ酢酸（１５．２ｍＬ）を加え、室温で一晩撹拌した。ジクロロメタンとトリフルオロ酢酸を減圧下留去することで、表題化合物を得た。【０３４９】
工程２：４−（４−ホルミル−２−チアゾリル）−１−［２−（２，５−ジメチルフェニル）アセチル］ピペリジンの調製
上記実施例１７の工程１において得られた生成物（１ｇ）をジクロロメタン（５０ｍＬ）に溶解させ、２，５−ジメチルフェニル酢酸（９１９ｍｇ）と、１−（３−ジメチルアミノプロピル）−３−エチルカルボジイミド塩酸塩（１．０７ｇ）とを加え、室温で一晩撹拌した。反応液に水を加え、クロロホルムを用いて抽出した。有機層を水及び飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、無機物を濾別した後、減圧下溶媒を留去した。残渣をフラッシュ自動精製装置（ｂｉｏｔａｇｅ  ＡＢ社製／ＩｓｏｌｅｒａＴＭ）によるシリカゲルフラッシュクロマトグラフィー（酢酸エチル−ヘキサン：０％−１００％で溶出）を用いて精製することで、表題化合物（１．４５ｇ、収率８３％）を得た。【０３５０】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３／ＴＭＳ  δ（ｐｐｍ）値）：１．６１−１．８４（ｍ，２Ｈ）、２．０８−２．２２（ｍ，２Ｈ）、２．２４（ｓ，３Ｈ）、２．２９（ｓ，３Ｈ）、２．８２−２．８９（ｍ，１Ｈ）、３．１３−３．３３（ｍ，２Ｈ）、３．６８（ｓ，２Ｈ）、３．８７−３．９０（ｍ，１Ｈ）、４．７４−４．７８（ｍ，１Ｈ）、６．９６−６．９８（ｍ，２Ｈ）、７．０７（ｄ，１Ｈ）、８．０９（ｓ，１Ｈ）、９．９９（ｓ，１Ｈ）。【０３５１】
［実施例１８］４−（４−ホルミル−２−チアゾリル）−１−［２−（２，５−ジクロロフェニル）アセチル］ピペリジンの調製
上記実施例１７の工程１において得られた生成物（１．１ｇ）をジクロロメタン（３０ｍＬ）に溶解させ、２，５−ジクロロフェニル酢酸（１．７ｇ）と、１−（３−ジメチルアミノプロピル）−３−エチルカルボジイミド塩酸塩（１．１８ｇ）とを加え、実施例１７の工程２の調製と同様に反応させ、精製することで、表題化合物（１．７ｇ、収率７９％）を得た。【０３５２】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３／ＴＭＳ  δ（ｐｐｍ）値）：１．７４−１．８５（ｍ，２Ｈ）、２．２０−２．２３（ｍ，２Ｈ）、２．８５−２．９２（ｍ，１Ｈ）、３．２２−３．３７（ｍ，２Ｈ）、３．８１（ｓ，２Ｈ）、３．９４−４．０２（ｍ，１Ｈ）、４．６９−４．７３（ｍ，１Ｈ）、７．２０（ｄｄ，１Ｈ）、７．３１−７．３３（ｍ，２Ｈ）、８．１０（ｓ，１Ｈ）、１０．００（ｓ，１Ｈ）。【０３５３】
同様の製造法により、[表１]から[表４]に示される化合物１−２、１−５〜１−１３、１−１５、１−１６、２−２、２−４〜２−１４、２−１６〜２−２２、２−２４〜２−５５、及び３−３〜３−２２を合成した。【０３５４】
【表１】
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【０３５５】
【表２】
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【０３５６】
【表３】
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【０３５７】
【表４】
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【０３５８】
上記実施例で得られた化合物及び同様な方法で製造した[表１]から[表４]に示される化合物の１Ｈ−ＮＭＲデータ（ＣＤＣｌ３／ＴＭＳ  δ（ｐｐｍ）値）を[表５]から[表１１]に示す。【０３５９】
【表５】
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【０３６０】
【表６】
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【０３６１】
【表７】
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【０３６２】
【表８】
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【０３６３】
【表９】
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【０３６４】
【表１０】
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【０３６５】
【表１１】
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【０３６６】
次に、本発明化合物の使用実施例を記載する。【０３６７】
（１）製剤化の実施手順
＜製剤例１＞水和剤
本発明化合物１０部を、ラウリル硫酸ナトリウム２部、リグニンスルホン酸ナトリウム４部、ホワイトカーボン２０部及びクレー６４部を混合し、粉砕して１０％水和剤を得た。【０３６８】
＜製剤例２＞フロアブル剤
本発明化合物１０部、ポリオキシエチレンアリルフェニルエーテルサルフェート４部、ポリオキシエチレンアルキルエーテル５部、プロピレングリコール５部、シリコン系消泡剤０．２部、ナトリウムモンモリロナイト０．８部、水５０部を加え混合しダイノミルを用いて湿式粉砕して粉砕懸濁液を得た。【０３６９】
粉砕懸濁液７５部に、キサンタンガム、２−ベンズイソチアゾリン−３−オンをそれぞれ０．２部、０．１部を含むキサンタンガム溶液１０部と水１５部添加した後、混合して１０％水性懸濁状農薬組成物を得た。【０３７０】
＜製剤例３＞乳剤
本発明化合物１０部、ドデシルベンゼンスルホン酸カルシウム２部、ヒマシ油エトキシレート１５部を芳香族炭化水素混合物７３部と混合し溶解させて均質な１０％可乳化油状液体を得た。【０３７１】
＜製剤例４＞顆粒水和剤
本発明化合物１０部、リグニンスルホン酸ナトリウム２０部、ナフタレンスルホン酸縮合物のナトリウム塩１０部、アルキルベンゼンスルホン酸ナトリウム３部、シリコン系泡消剤０．５部、珪藻土５部、硫酸アンモニウム１０部、タルク１０部、クレー部３１．５部添加して十分撹混合し粉砕して粉砕物を得た。粉砕物に必要に応じた適当量の水を加えて造粒機で造粒し、乾燥後に篩分して１０％水和性細粒を得た。【０３７２】
＜製剤例５＞エマルション剤
本発明化合物１０部、芳香族炭化水素混合物１５部、ドデシルベンゼンスルホン酸カルシウム２部、ポリオキシエチレンひまし油２０部、プロピレングリコール４部加え溶解し混合液を得た。水４９部に混合液を添加しホモジナイザーを用いて混合して均質な１０％乳濁液体を得た。【０３７３】
＜製剤例６＞粒剤
本発明化合物１０部、ポリカルボン酸型アニオン界面活性剤３部、ジオクチルスルホサクシネートナトリウム０．２部、デキストリン２部、ベントナイトナトリウム１５部、炭酸カルシウム６９．８部を添加して均一混合した後適当量の水を加えて混練し、バスケット型造粒機で押し出し造粒して乾燥後に篩分して１０％細粒を得た。【０３７４】
＜製剤例７＞マイクロエマルション剤
本発明化合物１０部と脂肪酸ジメチルアミド１２部、シクロヘキサノン１０部アリールフェノールエトキシレート１５部を混合し、アルコールエトキシレート１０部及び水を４３部添加して加温下で数分間撹拌し、安定した１０％水溶性液体を得た。【０３７５】
（２）試験懸濁液の調製の実施手順
製剤例１に従い作成した１０％水和剤を１／５０００の濃度に調製したＴｅｅｎ２０水溶液で希釈し、式［１］で示される化合物を４ｐｐｍの濃度に調製した。また、試験４では式［１］で示される化合物を１０００ｐｐｍの濃度に調製した。【０３７６】
（３）植物病害に対する防除効果の評価試験手順
＜試験１  トマト疫病に対する防除効果試験＞
５葉期のトマト（品種：レジナ）に試験懸濁液を１苗当たり２０ｍｌ散布した。散布の１日後に１．０×１０５個／ｍｌの濃度に調製したフィトフトラ  インフェスタンス（Ｐｈｙｔｏｐｈｔｈｏｒａ  ｉｎｆｅｓｔａｎｓ）の遊走子懸濁液を噴霧接種し、２２℃に調節した湿室に１６時間インキュベートした。その後、室内で発病を促し、接種から４日後に葉に生じた病斑面積率を調査し、以下の式を用いて防除価を算出した。
防除価の算出式：防除価値＝｛１−試験薬剤を散布した葉の発病面積率／無処理の発病面積率｝×１００【０３７７】
＜試験２  キュウリべと病に対する防除効果試験＞
２葉期のキュウリ（品種：相模半白）に試験懸濁液を１苗当たり２０ｍｌ散布した。散布の１日後に１．０×１０４個／ｍｌの濃度に調製したプセウドペロノスポラ  クベンシス（Ｐｓｅｕｄｏｐｅｒｏｎｏｓｐｏｒａ  ｃｕｂｅｎｓｉｓ）の遊走子嚢懸濁液を噴霧接種し、２２℃に調節した湿室に１６時間インキュベートした。その後、室内で発病を促し、接種から５日後に葉に生じた病斑面積率を調査し、以下の式を用いて防除価を算出した。
防除価の算出式：防除価値＝｛１−試験薬剤を散布した葉の発病面積率／無処理の発病面積率｝×１００【０３７８】
＜試験３  ブドウべと病に対する防除効果試験＞
ブドウ（品種：ネオマスカット）実生に試験懸濁液を１苗当たり２０ｍｌ散布した。散布の１日後に１．０×１０４個／ｍｌの濃度に調製したプラズモパラ  ビチコーラ（Ｐｌａｓｍｏｐａｒａ  ｖｉｔｉｃｏｌａ）の遊走子嚢懸濁液を噴霧接種し、２２℃に調節した湿室に１６時間インキュベートした。その後、室内で発病を促し、接種から５日後に葉に生じた病斑面積率を調査し、以下の式を用いて防除価を算出した。
防除価の算出式：防除価値＝｛１−試験薬剤を散布した葉の発病面積率／無処理の発病面積率｝×１００【０３７９】
＜試験４  Ｐｙｔｈｉｕｍ菌によるイネ苗立枯病に対する防除効果試験（土壌灌注）＞
ベントグラス種子培地で培養したピシウム  グラミニコラ（Ｐｙｔｈｉｕｍ  ｇｒａｍｉｎｉｃｏｌａ）の菌叢に蒸留水を加え、ミキサーで撹拌し、土壌１ｋｇに対して菌が５ｇとなるよう混和し、汚染土を調製した。【０３８０】
１セルが３１×３１ｍｍ２のセルトレイに汚染土を各２０ｍｌ充てんし、催芽したイネ籾（品種：コシヒカリ）をセルあたり３粒播種し、５ｍｌの覆土を加え、試験懸濁液を２．５ｍｌ灌注処理し、２８℃に調節した湿室に７２時間インキュベートし出芽処理した。その後、５℃の低温室内で２日間発病を促し、その後、２５℃の温室内で１４日間育病した。【０３８１】
土壌を洗い流し、枯死株、生育抑制株、健全株を計測し、下記の式に従い、発病度を算出した。
発病度＝〔Σ（程度別発病株数×発病指数）／（調査した株×３）〕×１００
［発病指数］
０：健全株
１：生育抑制株
３：枯死株【０３８２】
また、算出した発病度から以下の式を用いて防除価を算出した。
防除価の算出式：防除価値＝｛１−試験薬剤を散布した区の発病度／無処理区の発病度｝×１００【０３８３】
（４）植物病害＜試験１＞から＜試験４＞に対する防除効果の評価試験の結果
試験１を実施した結果、以下に示す化合物が防除価８０以上を示した：
Ｎｏ．２−１〜２−５５、３−１〜３−７、３−１０、３−１２〜３−１５、３−１７〜３−２２。【０３８４】
試験２を実施した結果、以下に示す化合物が防除価８０以上を示した：
Ｎｏ．２−１〜２−５５、３−１〜３−２０、３−２２。【０３８５】
試験３を実施した結果、以下に示す化合物が防除価８０以上を示した：
Ｎｏ．２−１〜２−５３、２−５５、３−１〜３−２２。【０３８６】
いくつかの化合物について試験４を実施した結果、いずれの化合物も防除価９０以上を示した。以下にその化合物Ｎｏ．を示す：
Ｎｏ．２−１、２−７、２−８、２−１４、２−１８、２−１９、２−２３、２−３３、２−３４、２−３８、２−４２、２−４６、２−４８、２−４９、２−５４、３−１、３−２、３−４、３−８、３−９、３−１９、３−２０。
【国際調査報告】
2017138068.tif 000046
2017138068.tif 000047
2017138068.tif 000048
2017138068.tif 000049