(57)【要約】  基板上に薄膜パターンを形成するために用いられる蒸着マスクにおいて、保持部材による蒸着物質が付着しない陰の部分（蒸着シャドウ）の発生を防止しつつ、より高精細な薄膜パターンの形成を可能にし、さらに、基板ホルダーに保持された基板を介した状態で、磁力によって透明基板の表面に密着するように強固に吸引保持されることを可能にする。  蒸着マスク１を樹脂フィルム層２の単体又は樹脂フィルム層２と略矩形の薄板状の枠体である保持部材７で構成し、複数の貫通開口３が形成される樹脂フィルム層２に磁性体金属粉末４を含有させる。保持部材７を有する場合、保持部材７には樹脂フィルム層２のうち複数の貫通開口３が形成されている部分を包含する単一の矩形開口８を形成する。
2017130440.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に薄膜パターンを形成するために用いられる蒸着マスクであって、複数の貫通開口が形成され、磁性体金属粉末を含有する樹脂フィルム層を備えたことを特徴とする蒸着マスク。
【請求項２】
前記樹脂フィルム層の外形と略同じ外形を有し、前記樹脂フィルム層のうち前記複数の貫通開口が形成されている部分を包含する単一の開口が形成され、前記樹脂フィルム層に積層された枠体である保持部材を備えていることを特徴とする請求項１に記載の蒸着マスク。
【請求項３】
前記磁性体金属粉末は着磁されていることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の蒸着マスク。
【請求項４】
前記樹脂フィルム層はポリイミド樹脂であり、前記磁性体金属粉末は鉄、ニッケル、クロム、コバルト、ネオジム、サマリウムから選択されたいずれかであることを特徴とする請求項１乃至請求項３のいずれか一項に記載の蒸着マスク。
【請求項５】
磁性体金属粉末をほぼ均一になるように混ぜた熱硬化性樹脂材料をガラス基板上に塗布する工程と、
前記ガラス基板の被塗布面に塗布された熱硬化性樹脂材料を焼成して樹脂フィルム層を形成する工程と、
前記ガラス基板の被塗布面に形成された前記樹脂フィルム層の上方にレーザー加工用のマスクを配置し、前記レーザー加工用のマスクを前記樹脂フィルム層に対して相対的にステップ移動させながらレーザー光を照射して、前記樹脂フィルム層の所定の領域に貫通開口を順次形成する工程とを備えたことを特徴とする蒸着マスクの製造方法。
【請求項６】
前記ガラス基板の被塗布面に形成された前記樹脂フィルム層の前記所定の領域の全域に貫通開口が形成された後、紫外線レーザー光を前記ガラス基板のガラス面側から照射して、前記ガラス基板と前記樹脂フィルム層の界面を焼き切り、前記ガラス基板から前記樹脂フィルム層を剥がす工程をさらに備えたことを特徴とする請求項５に記載の蒸着マスクの製造方法。
【請求項７】
前記ガラス基板の被塗布面に形成された前記樹脂フィルム層の前記所定の領域の全域に貫通開口が形成された後、前記ガラス基板の被塗布面に形成された前記樹脂フィルム層の前記所定の領域以外の領域に保持部材を前記樹脂フィルム層の上に積層する工程と、紫外線レーザー光を前記ガラス基板のガラス面側から照射して、前記ガラス基板と前記樹脂フィルム層の界面を焼き切り、前記ガラス基板から前記樹脂フィルム層を剥がす工程をさらに備えたことを特徴とする請求項５に記載の蒸着マスクの製造方法。
【請求項８】
前記紫外線レーザー光をガラス基板のガラス面側から照射する工程の前又は後に、前記樹脂フィルム層に含有されている磁性体金属粉末及び保持部材が設けられている場合は前記保持部材を着磁する工程をさらに備えたことを特徴とする請求項６又は請求項７に記載の蒸着マスクの製造方法。
【請求項９】
請求項１乃至請求項４のいずれか一項に記載の蒸着マスクを用い、
真空チャンバー内において、被蒸着面に陽極が形成された基板を、その被蒸着面を下向きにして基板ホルダーに保持する工程と、
前記基板ホルダーの前記基板とは反対側に設けられた磁石の磁力によって、前記基板の被蒸着面に前記蒸着マスクを密着するように吸引保持する工程と、
前記基板及び前記蒸着マスクを保持した前記基板ホルダー又は前記真空チャンバーの下部に設けられた蒸着源を所定方向に一定速度で回転又は平行移動させながら、前記蒸着源から蒸着物質を蒸発させる工程とを備え、
前記蒸着マスク及び前記蒸着物質を交換しながら、前記基板の陽極の上にホール注入層、ホール輸送層、発光層、電子輸送層、電子注入層、陰極を形成することを特徴とする有機発光ダイオードの製造方法。
【請求項１０】
請求項６乃至請求項８のいずれか一項に記載の蒸着マスクの製造方法によって製造された蒸着マスクを用い、
真空チャンバー内において、被蒸着面に陽極が形成された基板を、その被蒸着面を下向きにして基板ホルダーに保持する工程と、
前記基板ホルダーの前記基板とは反対側に設けられた磁石の磁力によって、前記基板の被蒸着面に前記蒸着マスクを密着するように吸引保持する工程と、
前記基板及び前記蒸着マスクを保持した前記基板ホルダー又は前記真空チャンバーの下部に設けられた蒸着源を所定方向に一定速度で回転又は平行移動させながら、前記蒸着源から蒸着物質を蒸発させる工程とを備え、
前記蒸着マスク及び前記蒸着物質を交換しながら、前記基板の陽極の上にホール注入層、ホール輸送層、発光層、電子輸送層、電子注入層、陰極を形成することを特徴とする有機発光ダイオードの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えば有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ：Organic Light Emitting Diode）の製造に使用される蒸着マスク、その製造方法及びその蒸着マスクを使った有機発光ダイオードの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
有機発光ダイオードは、いわゆるボトムエミッション型と呼ばれる構造では、ガラス板や透明のプラスチック板などの透明基板上に、透明電極（陽極）、ホール注入層、ホール輸送層、発光層、電子輸送層、電子注入層、金属電極（陰極）などが積層されて構成されている。また、トップエミッション型では、ガラス板の他、茶褐色をしたポリイミドフィルムなど必ずしも透明ではない基板上に、反射電極（陽極）、ホール注入層、ホール輸送層、発光層、電子輸送層、電子注入層、半透明の極めて薄い金属電極（陰極）などが積層される。工業的に有機発光ダイオードを製造するための蒸着による一般的なボトムエミッション型の有機発光ダイオードの製造装置は、真空チャンバー内において、被蒸着面に透明電極が形成された透明基板を、その被蒸着面を下向きにして保持する基板ホルダーと、基板ホルダー又は蒸着源を所定方向に一定速度で回転又は平行移動させる駆動機構と、真空チャンバーの下部において、基板ホルダーに保持された透明基板の被蒸着面に対向するように設けられた複数の点状又は線状の蒸着源などを備えている。複数の蒸着源には、それぞれ上記ホール注入層、ホール輸送層、発光層、電子輸送層、電子注入層、金属電極などを形成するための蒸着物質が収容されている。【０００３】
真空チャンバーの内部には、上記各層の材料を蒸着させるために、各層のパターンに応じた蒸着マスクが用意されており、各層を形成する際に、その層に応じた蒸着マスクに交換される。また、カラーフィルターを用いないフルカラー有機発光ダイオードの場合、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の各色に対応する発光層を蒸着させるために、各色のパターンに応じた開口を有する蒸着マスクが用意されており、各色の発光層を形成する際に、その色に応じた蒸着マスクに交換される。蒸着マスクは、基板ホルダーに保持された透明基板の被蒸着面に密着するように取り付けられる必要があり、最も一般的な従来の蒸着マスクは、所定パターンの開口を形成したメタルマスクであり、基板ホルダーの裏側、すなわち基板ホルダーに保持された透明基板とは反対側に設けられた磁石の磁力によって、透明基板の被蒸着面に密着するように吸引保持されている。【０００４】
例えば特許文献１に記載された従来の蒸着マスク１１０は、蒸着マスクの強度を維持しつつ、開口部をより精細にするために、図６に示すように、複数の貫通開口１１３を有するマスク本体部１１１と、マスク本体部の厚さより大きな厚さを有すると共に、上記貫通開口１１３よりも大きな有底開口１１４を有する周縁部１１２を備えている。蒸着マスク１１０は、複数の貫通開口１１３と同じ大きさ及び配置パターンを有する第１レジストパターンを金属板上に形成し、第１レジストパターンの貫通開口を介してエッチング処理を行い、金属板に複数の貫通開口１１３を形成し、第１レジストパターンを除去し、複数の貫通開口１１３の周りの所定幅の金属縁部をそれぞれ露出させるための複数の第２貫通開口を有する第２レジストパターンを金属板上に形成し、第２レジストパターンの第２貫通開口を介してエッチング処理を行い、複数の貫通開口１１３の周りに有底開口１１４を形成することにより製造される。ところが、このような金属板をエッチングして形成される蒸着マスク１１０は、例えばエッチングむらの発生によって蒸着マスク１１０の全面の貫通開口１１３を均一に形成することができず、例えば３００ｐｐｉを越えるような高精細な薄膜パターンに対応する蒸着マスクを製造することが困難であった。また、蒸着物質は蒸着源から放射状に飛散されるため、貫通開口１１３及び有底開口１１４のエッジの部分により、蒸着物質が付着しない陰の部分、すなわちインナーシャドウ１１５が形成される。基板ホルダーを回転又は平行移動させることによって、最初は陰となって蒸着物質が付着されなかった部分にも蒸着物質を付着させることができるが、被蒸着面に付着した蒸着物質の厚みが不均一になる。【０００５】
一方、エッチングによって製造される蒸着マスクの問題点を解決するために、図７に示すように、特許文献２に記載された従来の複合型の蒸着マスク１２０は、複数の貫通開口１２３が形成された樹脂フィルム層１２１と、樹脂フィルム層１２１を保持するための複数の貫通開口１２４が形成された金属薄板からなる保持部材１２２とを積層して形成されている。この蒸着マスク１２０は、磁性体金属板に予めエッチングなどを施すことによって、透明基板上に形成される薄膜パターンよりも大きな複数の貫通開口１２４を保持部材１２２に形成し、次に樹脂フィルム層１２１を保持部材１２２の一面に接着し、貫通開口１２４を介してレーザー光を樹脂フィルム層１２１に照射して、前記薄膜パターンに対応した貫通開口１２３を形成している。この蒸着マスク１２０は、樹脂フィルム層１２１にレーザー光を照射して貫通開口１２３を形成しているので、金属板をエッチングして形成される蒸着マスク１１０に比べて高精細な薄膜パターンを形成することができる。ところが、さらに高精細な薄膜パターンを形成しようとすると、保持部材１２２に形成される貫通開口１２４の位置精度が必要となり、樹脂フィルム層１２１に形成される貫通開口１２３との位置ずれによって、インナーシャドウが拡大したり、インナーシャドウのでき方が不均一になったりする可能性がある。【０００６】
また、この従来の複合型の蒸着マスク１２０は、ガラス基板などの表面に熱硬化性樹脂を塗布し焼成して樹脂フィルム層１２１を形成した後、一旦樹脂フィルム層１２１を剥離し、保持部材１２２の一面に接着している。そして、レーザー光により貫通開口１２３を形成するために、蒸着マスク１２０の樹脂フィルム層１２１を再度ガラス基板の表面にエタノールなどのアルコールをスプレー塗布し、アルコールの表面張力でガラス基板の表面に密着させていたので、気泡を発生させることなく樹脂フィルム層１２１をガラス基板の表面に貼り付けることは困難である。ここで、レーザー光を樹脂フィルム層１２１に照射して、深さ方向に樹脂材料を昇華させる場合、エネルギーの面内分布に依存して、樹脂フィルム層１２１を貫通する速度にも分布が発生する。１つの貫通開口を考えたときに、４辺の縁のうち早く切れる辺と遅く切れる辺が存在する。そのとき、ガラス基板と樹脂フィルム層１２１との間に気泡が介在すると、その気泡により形成された間隙部に、前記遅く切れた辺を基点とし、回り込む小片が発生する。その小片が、いわゆるバリと呼ばれるものである。従って、従来の蒸着マスク１２０には、レーザー光を照射することによって形成された貫通開口１２３の周囲にバリが発生している可能性がある。一般的に、バリが開口部に向くときはバリが障壁となってインナーシャドウの原因になり、開口部を向かないときは被蒸着基板と蒸着マスクとの間に隙間を生じさせるので、本来蒸着物質が付着してはいけない箇所に蒸着物質が付着するアウターシャドウの原因になる。以下の説明において、これらインナーシャドウとアウターシャドウの両方を総称して「蒸着シャドウ」と呼ぶ。【０００７】
また、保持部材に形成された開口のエッジ部により蒸着シャドウが拡大するのを防止するため、特許文献３に記載された蒸着マスク１３０では、図８に示すように、磁性材料を含まないベース層１３１と、磁性体粉末を含む磁性層１３２と、保護層１３３を積層した樹脂フィルムにレーザー光を照射することによって、複数の貫通開口１３４が形成されている。この蒸着マスク１３０は保持部材を備えていないので、特許文献１又は特許文献２に記載された蒸着マスク１１０又は１２０よりも薄く、そのため蒸着シャドウを小さくすることができ、さらに高精細な薄膜パターンを形成することができる。しかしながら、磁性層１３２の厚みが薄いため、基板ホルダーに保持された透明基板を介した状態では、基板ホルダーに設けられた磁石の磁力による被吸引力が弱く、蒸着マスク１３０が透明基板の表面に密着するように吸引保持されない可能性がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開２００１−２３７０７２号公報
【特許文献２】特開２０１３−１２４３７２号公報
【特許文献３】特開２０１４−２０１８１９号公報
【発明の開示】
【０００９】
本発明は、上記従来例の問題を解決するためになされたものであり、基板上に薄膜パターンを形成するために用いられる蒸着マスクにおいて、保持部材による蒸着シャドウの発生を防止しつつ、より高精細な薄膜パターンの形成を可能にし、さらに、基板ホルダーに保持された基板を介した状態で、磁力によって基板の表面に密着するように強固に吸引保持され得る蒸着マスク、その製造方法及びその蒸着マスクを使った有機発光ダイオードの製造方法を提供することを目的としている。
【００１０】
上記目的を達成するため、本発明に係る蒸着マスクは、基板上に薄膜パターンを形成するために用いられる蒸着マスクであって、複数の貫通開口が形成され、磁性体金属粉末を含有する樹脂フィルム層を備えたことを特徴とする。
【００１１】
前記樹脂フィルム層の外形と略同じ外形を有し、前記樹脂フィルム層のうち前記複数の貫通開口が形成されている部分を包含する部分に単一の開口が形成され、前記樹脂フィルム層に積層された枠体である保持部材を備えていてもよい。
【００１２】
前記磁性体金属粉末は着磁されていてもよい。
【００１３】
前記樹脂フィルム層はポリイミド樹脂であり、前記磁性体金属粉末は鉄、ニッケル、クロム、コバルト、ネオジム、サマリウムから選択されたいずれかであってもよい。
【００１４】
また、本発明に係る蒸着マスクの製造方法は、
磁性体金属粉末をほぼ均一になるように混ぜた熱硬化性樹脂材料をガラス基板上に塗布する工程と、
前記ガラス基板の被塗布面に塗布された熱硬化性樹脂材料を焼成して樹脂フィルム層を形成する工程と、
前記ガラス基板の被塗布面に形成された前記樹脂フィルム層の上方にレーザー加工用のマスクを配置し、前記レーザー加工用のマスクを前記樹脂フィルム層に対して相対的にステップ移動させながらレーザー光を照射して、前記樹脂フィルム層の所定の領域に貫通開口を順次形成する工程とを備えたことを特徴とする。
【００１５】
前記ガラス基板の被塗布面に形成された前記樹脂フィルム層の前記所定の領域の全域に貫通開口が形成された後、紫外線レーザー光を前記ガラス基板のガラス面側から照射して、前記ガラス基板と前記樹脂フィルム層の界面を焼き切り、前記ガラス基板から前記樹脂フィルム層を剥がす工程をさらに備えていてもよい。
【００１６】
または、前記ガラス基板の被塗布面に形成された前記樹脂フィルム層の前記所定の領域の全域に貫通開口が形成された後、前記ガラス基板の被塗布面に形成された前記樹脂フィルム層の前記所定の領域以外の領域に保持部材を前記樹脂フィルム層の上に積層する工程と、紫外線レーザー光を前記ガラス基板のガラス面側から照射して、前記ガラス基板と前記樹脂フィルム層の界面を焼き切り、前記ガラス基板から前記樹脂フィルム層を剥がす工程をさらに備えていてもよい。
【００１７】
さらに、前記紫外線レーザー光をガラス基板のガラス面側から照射する工程の前又は後に、前記樹脂フィルム層に含有されている磁性体金属粉末及び前記保持部材が設けられている場合は前記保持部材を着磁する工程をさらに備えていてもよい。
【００１８】
また、本発明に係る有機発光ダイオードの製造方法は、前記いずれかの蒸着マスクを用い、
真空チャンバー内において、被蒸着面に陽極が形成された基板を、その被蒸着面を下向きにして基板ホルダーに保持する工程と、
前記基板ホルダーの前記基板とは反対側に設けられた磁石の磁力によって、前記基板の被蒸着面に前記蒸着マスクを密着するように吸引保持する工程と、
前記基板及び前記蒸着マスクを保持した前記基板ホルダー又は前記真空チャンバーの下部に設けられた蒸着源を所定方向に一定速度で回転又は平行移動させながら、前記蒸着源から蒸着物質を蒸発させる工程とを備え、
前記蒸着マスク及び前記蒸着物質を交換しながら、前記基板の陽極の上にホール注入層、ホール輸送層、発光層、電子輸送層、電子注入層、陰極を形成することを特徴とする。
【００１９】
または、本発明に係る有機発光ダイオードの製造方法は、前記いずれかの蒸着マスクの製造方法によって製造された蒸着マスクを用い、
真空チャンバー内において、被蒸着面に陽極が形成された基板を、その被蒸着面を下向きにして基板ホルダーに保持する工程と、
前記基板ホルダーの前記基板とは反対側に設けられた磁石の磁力によって、前記基板の被蒸着面に前記蒸着マスクを密着するように吸引保持する工程と、
前記基板及び前記蒸着マスクを保持した前記基板ホルダー又は前記真空チャンバーの下部に設けられた蒸着源を所定方向に一定速度で回転又は平行移動させながら、前記蒸着源から蒸着物質を蒸発させる工程とを備え、
前記蒸着マスク及び前記蒸着物質を交換しながら、前記基板の陽極の上にホール注入層、ホール輸送層、発光層、電子輸送層、電子注入層、陰極を形成することを特徴とする。
【００２０】
発明に係る蒸着マスクは、樹脂フィルム層の全体に磁性体金属粉末がほぼ均一に含有されているので、特許文献３に記載された従来の蒸着マスクと比較して、基板ホルダーに保持された基板を介した状態でも、基板ホルダーに設けられた磁石の磁力による被吸引力が強くなり、蒸着マスクが基板の表面に密着するように強固に吸引保持され得る。さらに、樹脂フィルム層のうち複数の貫通開口が形成されている部分を包含するように、略矩形の薄板状の枠体である保持部材で樹脂フィルム層を保持することにより、保持部材による蒸着シャドウの発生を防止しつつ、蒸着マスクの取り扱いが容易になる。さらに、磁性体金属粉末自体を着磁させることにより、磁気による被吸引力を増大させることができる。
【００２１】
また、本発明に係る蒸着マスクの製造方法は、ガラス基板上に磁性体金属粉末を混ぜた熱硬化性樹脂材料を塗布し、さらに熱硬化性樹脂材料を焼成して樹脂フィルム層を形成した状体で、樹脂フィルム層を一旦剥がすことなくレーザー光を照射して樹脂フィルム層の所定の領域に貫通開口をしている。そのため、仮にガラス基板上に熱硬化性樹脂材料を塗布した段階で、熱硬化性樹脂材料の内部に気泡が存在していたとしても、焼成工程で気泡が消失するので、ガラス基板と樹脂フィルム層の界面に気泡が介在しない。その結果、樹脂フィルム層にレーザー光を照射して貫通開口を形成する際、樹脂フィルム層を貫通する速度にも分布が発生したとしても、貫通開口の縁にバリは発生しない。
【００２２】
また、有機発光ダイオードの製造に際して、上記いずれかの蒸着マスクを用いることにより、基本的に保持部材を用いることなく蒸着マスクを、基板ホルダーの基板とは反対側に設けられた磁石の磁力によって、基板の被蒸着面に密着するように吸引保持することができる。そのため、保持部材に起因するインナーシャドウの発生を低減することができる。また、磁性体金属粉末が樹脂フィルム層に含有されているため、磁性層を有する従来の蒸着マスクに比べて、磁気吸着力が強く、基板の被蒸着面と蒸着マスクの間に隙間が形成されにくく、その隙間に起因するアウターシャドウを低減することができる。
【００２３】
上記のように、バリが開口部に向くときはバリが障壁となってインナーシャドウの原因になり、開口部を向かないときは被蒸着基板と蒸着マスクとの間に隙間を生じさせるのでアウターシャドウの原因になる。しかしながら、有機発光ダイオードの製造に際して、上記いずれかの蒸着マスクの製造方法によって製造された貫通開口の縁にバリのない蒸着マスクを用いることにより、バリに起因するインナーシャドウやアウターシャドウを低減することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２４】
【図１】本発明の一実施形態に係る蒸着マスクの基本構成を示す断面図。
【図２】（ａ）は上記実施形態に係る蒸着マスクの変形例の構成を示す平面図、（ｂ）はそのＡ−Ａ断面図。
【図３】一般的なワイヤーバーコーター式の塗布装置を用いた樹脂材料の塗布方法を示す図。
【図４】レーザー光により樹脂フィルム層に貫通開口を形成する工程を示す図。
【図５】上記実施形態に係る蒸着マスクの変形例であって、樹脂フィルム層に含有されている磁性体金属粉末などを着磁する工程を示す図。
【図６】従来の蒸着マスクの構成を示す断面図。
【図７】他の従来の蒸着マスクの構成を示す断面図。
【図８】さらに他の従来の蒸着マスクの構成を示す断面図。
【発明を実施するための形態】
【００２５】
本発明の一実施形態に係る蒸着マスク、その製造方法及びその蒸着マスクを使った有機発光ダイオードの製造方法について説明する。図１は、本実施形態に係る蒸着マスク１の基本構成を示す。蒸着マスク１は、基板上に薄膜パターンを形成するために用いられる蒸着マスクであって、磁性体金属粉末４を含有する樹脂フィルム層２に複数の貫通開口３が形成されている。樹脂フィルム層２は、例えばポリイミド樹脂に磁性体金属粉末４をほぼ均一になるように混ぜたものを焼成して形成される。完成された樹脂フィルムの膜厚は、例えば５μｍ程度であり、磁性体金属粉末４の粒子径は、０．５μｍ程度である。貫通開口３のエッジによる蒸着シャドウをなるべく小さくするという観点からは、樹脂フィルム層２の膜厚は薄いほどよい。一方、樹脂フィルム層２の強度及び磁力による磁性体金属粉末４の吸引保持の観点からは、樹脂フィルム層２の膜厚を薄くしすぎることは好ましくない。磁性体金属粉末４としては、例えば鉄、ニッケル、クロム、コバルト、ネオジム、サマリウムなどを用いることができる。
【００２６】
図２は、蒸着マスク１の周囲に略矩形の薄板状の枠体である保持部材７を積層した変形例の構成を示す。この変形例に係る蒸着マスク１は、複数の貫通開口３が形成され、磁性体金属粉末４を含有する樹脂フィルム層２と、樹脂フィルム層２の外形と略同じ外形を有し、樹脂フィルム層２のうち複数の貫通開口３が形成されている部分を包含する単一の矩形開口８が形成され、樹脂フィルム層２に積層された枠体である保持部材７を備えている。ここで、樹脂フィルム層２のうち複数の貫通開口３が形成されている部分を「アクティブ領域」５と称し、それ以外の部分を「非アクティブ領域」６と称する。保持部材７は、例えば磁性金属薄板などで形成されていてもよい。
【００２７】
前述のように、樹脂フィルム層２は非常に薄いものであり、樹脂フィルム層２を単体のままで取り扱うのは困難である。一方、保持部材７の開口によって蒸着シャドウが生じることは好ましくない。そのため、保持部材７は、被蒸着基板の被蒸着面又は樹脂フィルム層２の外形と略同じ外形を有しており、樹脂フィルム層２のうち複数の貫通開口３が形成されている上記アクティブ領域５を包含する単一の矩形開口８が形成され、非アクティブ領域６において樹脂フィルム層２に積層されている。
【００２８】
次に、本発明の一実施形態に係る蒸着マスクの製造方法について説明する。図３は、一般的に、ワイヤーバーコーターと呼ばれる塗布装置１２を用いた樹脂材料の塗布方法を示す。塗布装置１２は、例えばガラス基板１０の被塗布面に平行に回転する回転軸１３と、回転軸１３に密着するように巻回されたワイヤー１４を備えており、樹脂材料１１が、塗布装置１２の上面に供給される。塗布装置１２の上面に供給された樹脂材料１１は、隣接するワイヤー１４の間の窪みに表面張力によって保持され、回転軸１３が約半周回転すると、ガラス基板１０の被塗布面に転写（塗布）される。ガラス基板１０の被塗布面に転写された樹脂材料１１は、塗布装置１２から離れると、表面張力によってその中央部がほぼ一定の厚みにならされる。樹脂材料１１は、例えばポリイミドなどの熱硬化性樹脂であり、例えば４００〜５００℃で数時間焼成される。その間、溶剤成分が気化するため、形成された樹脂フィルム層２の膜厚は、溶剤濃度に依存し、ガラス基板１０の被塗布面に塗布された樹脂材料１１の膜厚の、例えば１／２〜１／３になる。従って、所望する樹脂フィルム層２の膜厚に応じて、ガラス基板１０の被塗布面に塗布する樹脂材料１１の量や濃度を調節する。なお、樹脂材料１１の塗布方法は、ワイヤーバーコーターを用いた方法には限定されず、スリットコーターやスピンコーターなど、その他の塗布装置を用いてもよい。
【００２９】
ガラス基板１０の被塗布面に樹脂フィルム層２が形成されると、その状態で樹脂フィルム層２にレーザー光を照射して複数の貫通開口３を形成する。図４は、樹脂フィルム層２に貫通開口３を形成する工程を示す。樹脂フィルム層２の上方に、レーザー加工用のマスク１５を配置し、集光レンズなどで収束されたレーザー光１６を照射する。レーザー加工用のマスク１５は、例えば透明な石英ガラスにクロム等の金属遮光層を成膜し、前記金属遮光層をエッチング等でパターニングすることにより加工され、樹脂フィルム層２に形成される貫通開口３の形状及び配置パターンと相似形で、且つ、それらよりも大きなレーザー加工用の開口１７を有している。レーザー加工用のマスク１５の大きさは、樹脂フィルム層２の大きさよりも小さく、このレーザー加工用のマスク１５及びレーザー光１６を樹脂フィルム層２に対して相対的にステップ移動させながら、樹脂フィルム層２の上記アクティブ領域に貫通開口３を順次形成する。なお、仮にガラス基板１０の被塗布面上に樹脂材料１１を塗布した段階で、樹脂材料１１の内部に気泡が存在していたとしても、焼成工程で気泡が消失するので、ガラス基板１０と樹脂フィルム層２の界面に気泡が介在しない。その結果、樹脂フィルム層２にレーザー光を照射して貫通開口３を形成する際、樹脂フィルム層２を貫通する速度にも分布が発生したとしても、貫通開口３の縁にバリは発生しない。
【００３０】
レーザー加工用のマスク１５の大きさは、例えば４０ｍｍ×４０ｍｍである。樹脂フィルム層２に形成される貫通開口３の大きさとして、例えば５．５インチのフルハイビジョン（４００ｐｐｉ：ピクセル・パー・インチ）の場合、貫通開口３は３０μｍ×３０μｍの矩形である。また、同じ５．５インチの４Ｋ（８００ｐｐｉ）の場合、貫通開口３は１５μｍ×１５μｍの矩形となる。また、レーザー加工用のマスク１５のレーザー加工用の開口１７の大きさは、集光レンズの倍率が例えば１０倍のときは、例えば１５０μｍ×１５０μｍである。樹脂フィルム層２に貫通開口３を形成するために用いられるレーザー光は、例えば、波長３５５ｎｍ、エネルギー０．３６Ｊ／ｃｍ２、６０Ｈｚ（６０パルス／秒）であり、１回の開口形成工程に付き、このようなレーザーパルスを５０〜１００ショット照射する。ガラス基板１０上で、樹脂フィルム層２のアクティブ領域５の全域に貫通開口３が形成されると、次に、波長の短いエキシマレーザーなどを用いての紫外線レーザー光をガラス基板１０のガラス面側から照射して（図示せず）、ガラス基板１０と樹脂フィルム層２の界面を焼き切り、ガラス基板１０から樹脂フィルム層２を剥がしやすくする。なお、紫外線レーザー光を照射した後、ガラス基板１０から樹脂フィルム層２を剥がす前に、樹脂フィルム層２のアクティブ領域５以外の部分に、保持部材７を樹脂フィルム層２の上に積層してもよい。
【００３１】
次に、本実施形態に係る蒸着マスク１の他の変形例として、図５に示すように電磁石装置２０などを用いて、樹脂フィルム層２に含有されている磁性体金属粉末４及び保持部材７が設けられている場合はその保持部材７を着磁してもよい。着磁方向は、蒸着時に使用される基板ホルダーに設けられた磁石の極性と同極性となる向きであることはいうまでもない。それによって、中間に基板を介した状態でも、基板ホルダーに設けられた磁石の磁力によって基板の表面に吸引保持される被吸引力を高くすることができる。なお、基板ホルダーに設けられる磁石は、極性を切り替えることができるように電磁石とすることが好ましい。この樹脂フィルム層２に含有されている磁性体金属粉末４及び保持部材７が設けられている場合はその保持部材７を着磁する工程は、紫外線レーザー光をガラス基板１０のガラス面側から照射する工程の前又は後の何れであってもよい。
【００３２】
次に、本発明に係る蒸着マスクを使った有機発光ダイオードの製造方法について説明する。有機発光ダイオードの製造方法に使用される装置自体（図示せず）は従来から一般的に広く使用されているものと同じである。まず、従来と同様、真空チャンバー内において、被蒸着面に陽極が形成された基板を、その被蒸着面を下向きにして基板ホルダーに保持する。次に、上記いずれかの蒸着マスク１又は蒸着マスクの製造方法によって製造された蒸着マスク１を、基板ホルダーの基板とは反対側に設けられた磁石の磁力によって、基板の被蒸着面に密着するように吸引保持する。基本的に保持部材７を用いることなく蒸着マスク１を、基板ホルダーの基板とは反対側に設けられた磁石の磁力によって、基板の被蒸着面に密着するように吸引保持することができる。そのため、保持部材７に起因する蒸着シャドウの発生を低減することができる。また、磁性体金属粉末が樹脂フィルム層２にほぼ均一に含有されているため、磁性層を有する従来の蒸着マスクに比べて、磁気吸着力が強く、基板の被蒸着面と蒸着マスク１の間に隙間が形成されにくく、その隙間に起因するアウターシャドウを低減することができる。また、蒸着マスク１の貫通開口３の縁にバリが存在しないので、バリに起因する蒸着シャドウや膜ボケを低減することができる。基板及び蒸着マスク１を保持した基板ホルダー又は前記真空チャンバーの下部に設けられた蒸着源をを所定方向に一定速度で回転又は平行移動させながら、蒸着源から蒸着物質を蒸発させ、基板の被蒸着面に蒸着物質による薄膜パターンを形成する。蒸着マスク１及び前記蒸着物質を交換しながら、基板の陽極の上にホール注入層、ホール輸送層、発光層、電子輸送層、電子注入層、陰極を形成する。
【００３３】
以上説明したように、本発明に係る蒸着マスク１によれば、磁性体金属粉末４を含有する樹脂フィルム層２に複数の貫通開口３を形成することにより、貫通開口３の周囲に金属板などの磁性体材料で形成された保持部材を配置することなく、蒸着装置の基板ホルダーに設けられた磁石の磁力によって樹脂フィルム層２を直接吸引保持することができる。そのため、保持部材に形成された開口によって蒸着物質が付着しない部分（蒸着シャドウ）が形成されることはなく、この蒸着マスク１を用いることによって高精細な薄膜パターンを均一に形成することができる。また、樹脂フィルム層２のうち複数の貫通開口３が形成されているアクティブ領域５以外の非アクティブ領域６に、略矩形の薄板状の枠体である保持部材７を積層することにより、蒸着マスク１の取り扱いが容易になると共に、蒸着装置の磁石の磁力によって蒸着マスク１が吸引される被吸引力を高くすることができる。また、磁性体金属粉末４及び保持部材７が設けられている場合はその保持部材７を着磁することによって、蒸着装置の磁石の磁力によって蒸着マスク１が吸引される被吸引力をさらに高くすることができる。
【００３４】
また、本発明に係る蒸着マスクの製造方法によれば、ガラス基板上に磁性体金属粉末を混ぜた熱硬化性樹脂材料を塗布し、さらに熱硬化性樹脂材料を焼成して樹脂フィルム層を形成した状体で、樹脂フィルム層を一旦剥がすことなくレーザー光を照射して樹脂フィルム層の所定の領域に貫通開口をしているので、樹脂フィルム層２にレーザー光を照射して貫通開口３を形成する際、樹脂フィルム層２を貫通する速度にも分布が発生したとしても、貫通開口の縁にバリは発生しない。
【００３５】
また、有機発光ダイオードの製造に際して、本発明に係る蒸着マスク１を用いることにより、基本的に保持部材を用いることなく蒸着マスク１を、基板ホルダーの基板とは反対側に設けられた磁石の磁力によって、基板の被蒸着面に密着するように吸引保持することができる。そのため、保持部材に起因する蒸着シャドウの発生を低減することができる。また、磁性体金属粉末４が樹脂フィルム層２に含有されているため、磁性層を有する従来の蒸着マスクに比べて、磁気吸着力が強く、基板の被蒸着面と蒸着マスク１の間に隙間が形成されにくく、その隙間に起因するアウターシャドウを低減することができる。
【００３６】
また、本発明に係る蒸着マスクの製造方法によって製造された貫通開口の縁にバリのない蒸着マスク１を用いることにより、バリに起因するインナーシャドウやアウターシャドウを低減することができる。
【符号の説明】
【００３７】
１  蒸着マスク
２  樹脂フィルム層
３  貫通開口
４  磁性体金属粉末
５  アクティブ領域（複数の貫通開口が形成されている部分）
６  非アクティブ領域（蒸着マスクの周囲）
７  保持部材
８  矩形開口
１０  ガラス基板
１１  樹脂材料
１２  塗布装置
１５  レーザー加工用のマスク
１６  レーザー光
１７  レーザー加工用の開口
２０  電磁石装置
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【国際調査報告】
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