(57)【要約】  真空チャンバ−内で対象物を移動させるにあたって、アウトガスの発生を十分に抑制する。  真空処理装置（１００）は、真空チャンバー（１）と、真空チャンバー（１）の内部に配置され、処理対象となる対象物が載置されるステージ（２）と、真空チャンバー（１）の内部に敷設され、ステージ（２）を案内する内部ガイドレール（３１）と、真空チャンバー（１）の側壁（１０２）に形成された貫通孔（１０３）と、一端においてステージ（２）と連結されるとともに、貫通孔（１０３）に挿通されて、他端が真空チャンバー（１）の外に配置された連結棒（４）と、連結棒（４）の他端に連結された可動部材（５）と、真空チャンバー（１）の外部に配置され、可動部材（５）を移動させる駆動機構（８）と、可動部材（５）と側壁（１０２）との間に配置され、真空チャンバー（１）の気密性を保持したままで、可動部材（５）の変位に追従するベローズ（６）と、を備える。
2017085875.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
真空チャンバーと、  前記真空チャンバーの内部に配置され、処理対象となる対象物が載置されるステージと、  前記真空チャンバーの内部に敷設され、前記ステージを案内する内部ガイドレールと、  前記真空チャンバーの側壁に形成された貫通孔と、  一端において前記ステージと連結されるとともに、前記貫通孔に挿通されて、他端が前記真空チャンバーの外に配置された連結棒と、  前記連結棒の前記他端に連結された可動部材と、  前記真空チャンバーの外部に配置され、前記可動部材を移動させる駆動機構と、  前記可動部材と前記側壁との間に配置され、前記真空チャンバーの気密性を保持したままで、前記可動部材の変位に追従するベローズと、を備える真空処理装置。
【請求項２】
請求項１に記載の真空処理装置であって、  前記真空チャンバーの外部に敷設され、前記可動部材を案内する外部ガイドレールと、  前記真空チャンバーの内部と外部にまたがって延在し、上面に前記内部ガイドレールと前記外部ガイドレールとが設置される共通基台と、をさらに備える真空処理装置。
【請求項３】
請求項１または２に記載の真空処理装置であって、  前記内部ガイドレールが、  前記連結棒の延在方向と平行な第１方向に沿って敷設された第１の内部ガイドレールと、  前記第１方向と交差する第２方向に沿って敷設された第２の内部ガイドレールと、を備え、  前記駆動機構が、  前記可動部材を、前記第１方向に沿って移動させる第１の駆動機構と、  前記可動部材を、前記第２方向に沿って移動させる第２の駆動機構と、を備え、  前記貫通孔の前記第２方向に沿う幅が、前記連結棒の前記第２方向に沿う移動範囲よりも大きい、真空処理装置。
【請求項４】
真空チャンバーと、  前記真空チャンバーの内部に配置され、処理対象となる対象物が載置されるステージと、  前記真空チャンバーの内部に敷設され、前記ステージを案内する内部ガイドレールと、  前記真空チャンバーの側壁に形成された貫通孔と、  一端において前記ステージと連結されるとともに、前記貫通孔に挿通されて、他端が前記真空チャンバーの外に配置された連結棒と、  前記連結棒の前記他端に連結された可動部材と、  前記真空チャンバーの外部に配置され、前記可動部材を移動させる駆動機構と、  前記可動部材と前記側壁との間に配置され、前記真空チャンバーの気密性を保持したままで、前記可動部材の変位に追従するベローズと、を備える質量分析装置。
【請求項５】
請求項４に記載の質量分析装置であって、  前記真空チャンバーの外部に敷設され、前記可動部材を案内する外部ガイドレールと、  前記真空チャンバーの内部と外部にまたがって延在し、上面に前記内部ガイドレールと前記外部ガイドレールとが設置される共通基台と、をさらに備える質量分析装置。
【請求項６】
請求項４または５に記載の質量分析装置であって、  前記内部ガイドレールが、  前記連結棒の延在方向と平行な第１方向に沿って敷設された第１の内部ガイドレールと、  前記第１方向と交差する第２方向に沿って敷設された第２の内部ガイドレールと、を備え、  前記駆動機構が、  前記可動部材を、前記第１方向に沿って移動させる第１の駆動機構と、  前記可動部材を、前記第２方向に沿って移動させる第２の駆動機構と、を備え、  前記貫通孔の前記第２方向に沿う幅が、前記連結棒の前記第２方向に沿う移動範囲よりも大きい、質量分析装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】  本発明は、真空チャンバー内で対象物を移動させる技術に関する。
【背景技術】
【０００２】  質量分析装置においては、真空チャンバー内で、対象物であるサンプルにレーザ光を照射してイオン化を行い、イオン化された物質を、高電圧が印加された引き出し電極によって引き出して加速し、イオンの飛行時間に基づいて求めた当該イオンの質量電荷比から、マススペクトルを取得する。このような質量分析装置において、真空チャンバー内でサンプルを水平面内で移動させながら該サンプル内の各測定ポイントのマススペクトル情報を取得し、取得したマススペクトル情報に基づいて、サンプルにおける分子分布をイメージとして表示する処理（いわゆる、イメージング）を行うことがある。この場合、測定ポイントによって高さ方向の位置のばらつきがあると、処理の正確性が損なわれる。というのも、真空チャンバー内におけるサンプルの高さ方向の位置が所定の位置からずれていると、イオンが飛行する出発点の位置が所定の位置からずれていることになり、飛行時間が正確に特定されない（ひいては、質量電荷比が正確に特定されない）からである。【０００３】  イメージングを行う質量分析装置のように、真空チャンバー内で、対象物を、水平面内で移動させる必要がある場合、真空チャンバーの床にガイド用のレールを敷設し、その上に、対象物を保持するステージを配置し、当該ステージにこれを駆動するための駆動機構を連結する、という構成が採用されることが多い。この構成によると、対象物を保持したステージが、床に敷設されたレールに案内されながら移動するので、対象物の高さ方向の位置ずれが生じにくい。【０００４】  真空チャンバーの気密性を保持するために、一般的には、真空チャンバー内のステージを移動させるための機構はモータ等の駆動源も含め、全て真空チャンバー内に収容される。しかし、真空チャンバー内では熱伝導以外の放熱手段がないため、モータのように発熱する部品は、真空チャンバー内ではすぐに温度上昇してしまう。そこで、例えば特許文献１，２には、ステージを駆動するためのモータを、真空チャンバーの外に配置する構成が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開2011-2389号公報
【特許文献２】特開2012-219992号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】  特許文献１、２では、モータが真空チャンバーの外に配置されるとともに、モータから延びる回転軸部の端部が、真空チャンバーの側壁に形成された貫通孔を介して真空チャンバー内に差し込まれる。そして、真空チャンバー内に差し込まれた回転軸部の端部には、送り機構（例えば特許文献１の場合、Ｘモータの駆動力をステージのＸ軸に沿う直線運動に変換するためのボールねじ機構、および、Ｙモータの駆動力をステージのＹ軸に沿う直線運動に変換するためのラックピニオン機構）が接続される。この送り機構によって、モータの駆動力が、真空チャンバーの内部に配置されたステージの直線運動に変換される。【０００７】  ところが、上記の構成によると、真空チャンバー内に配置された送り機構に用いられる樹脂部材や潤滑油からのアウトガスの発生が問題となる。また、上記の構成によると、モータから延びる回転軸部が、真空チャンバーの側壁に形成された貫通孔に挿通されるところ、真空チャンバーの気密性を保持しつつ回転軸部の回転を許容するために、貫通孔と回転軸部との間を密着させてグリース等の潤滑剤で気密にする必要がある。この潤滑剤も、アウトガスの発生源となってしまう。【０００８】  アウトガスが発生すると、真空チャンバーの真空度が低下するため、アウトガスを揮発させるためのベーキングを行わなければならず、装置のスループットとランニングコストが悪化してしまう。【０００９】  なお、ここでは質量分析装置について説明したが、上記問題は真空チャンバー内で対象物を移動させて処理を行う真空処理装置全般において発生する。【００１０】  本発明が解決しようとする課題は、真空チャンバー内で対象物を移動させるにあたって、アウトガスの発生を十分に抑制できる技術の提供である。
【課題を解決するための手段】
【００１１】  上記課題を解決するために成された本発明に係る真空処理装置は、  真空チャンバーと、  前記真空チャンバーの内部に配置され、処理対象となる対象物が載置されるステージと、  前記真空チャンバーの内部に敷設され、前記ステージを案内する内部ガイドレールと、  前記真空チャンバーの側壁に形成された貫通孔と、  一端において前記ステージと連結されるとともに、前記貫通孔に挿通されて、他端が前記真空チャンバーの外に配置された連結棒と、  前記連結棒の前記他端に連結された可動部材と、  前記真空チャンバーの外部に配置され、前記可動部材を移動させる駆動機構と、  前記可動部材と前記側壁との間に配置され、前記真空チャンバーの気密性を保持したままで、前記可動部材の変位に追従するベローズと、を備える。【００１２】  真空チャンバーの外部に可動部材を配置し、この可動部材と真空チャンバーの内部に配置されているステージとを、真空チャンバーの側壁に形成された貫通孔に挿通された連結棒で、連結する。可動部材を、真空チャンバーの外部に配置した駆動機構で駆動して、真空チャンバーの外部で移動させると、真空チャンバー内で、ステージが内部ガイドレールに案内されながら可動部材の移動に追従して移動する。この構成によると、駆動機構（例えば、モータ等の駆動源、および、その駆動力を直線運動等に変換するための送り機構）を、真空チャンバーの外に配置するので、送り機構に使用される樹脂部材や潤滑油からのアウトガスが問題とならない。また、真空チャンバーの側壁には、連結棒が挿通される貫通孔が形成されるものの、可動部材と側壁との間にはベローズが設けられている（つまり、真空チャンバーの外側では、連結棒の周りがベローズで囲まれている）ので、連結棒と貫通孔との間を密着させてグリース等で気密にする構成を採用する必要がない。このため、グリース等の潤滑剤からのアウトガスも問題とならない。したがって、真空チャンバー内でのアウトガスの発生を十分に抑制することができる。【００１３】  好ましくは、前記真空処理装置は、  前記真空チャンバーの外部に敷設され、前記可動部材を案内する外部ガイドレールと、  前記真空チャンバーの内部と外部にまたがって延在し、上面に前記内部ガイドレールと前記外部ガイドレールとが設置される共通基台と、をさらに備える。【００１４】  この態様では、真空チャンバーの内部においてステージを案内する内部ガイドレールと、真空チャンバーの外部において可動部材を案内する外部ガイドレールとが、共通の基台上に設置される。したがって、内部ガイドレールと外部ガイドレールとの互いの位置関係を、高精度に調整できる。【００１５】  好ましくは、前記真空処理装置は、  前記内部ガイドレールが、  前記連結棒の延在方向と平行な第１方向に沿って敷設された第１の内部ガイドレールと、  前記第１方向と交差する第２方向に沿って敷設された第２の内部ガイドレールと、を備え、  前記駆動機構が、  前記可動部材を、前記第１方向に沿って移動させる第１の駆動機構と、  前記可動部材を、前記第２方向に沿って移動させる第２の駆動機構と、を備え、  前記貫通孔の前記第２方向に沿う幅が、前記連結棒の前記第２方向に沿う移動範囲よりも大きい。【００１���】  この態様では、ステージを、第１方向と、これと交差する第２方向とに、移動させることができる。【００１７】  また、本発明は質量分析装置にも適用することができる。  本発明に係る質量分析装置は、  真空チャンバーと、  前記真空チャンバーの内部に配置され、処理対象となる対象物が載置されるステージと、  前記真空チャンバーの内部に敷設され、前記ステージを案内する内部ガイドレールと、  前記真空チャンバーの側壁に形成された貫通孔と、  一端において前記ステージと連結されるとともに、前記貫通孔に挿通されて、他端が前記真空チャンバーの外に配置された連結棒と、  前記連結棒の前記他端に連結された可動部材と、  前記真空チャンバーの外部に配置され、前記可動部材を移動させる駆動機構と、  前記可動部材と前記側壁との間に配置され、前記真空チャンバーの気密性を保持したままで、前記可動部材の変位に追従するベローズと、を備える。
【発明の効果】
【００１８】  本発明に係る真空処理装置では、真空チャンバーの外部に可動部材を配置し、この可動部材を、真空チャンバーの外部に配置した駆動機構で駆動して、真空チャンバーの外部で移動させる。真空チャンバー内では、連結棒を介して可動部材と連結されたステージが、内部ガイドレールに案内されながら可動部材の移動に追従して移動する。この構成によると、駆動機構が真空チャンバーの外に配置されるので、真空チャンバー内でのアウトガスの発生を十分に抑制することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】質量分析装置の一部を示す縦断面図である。
【図２】質量分析装置の一部を示す縦断面図である。
【図３】質量分析装置を図２の矢印Ａ方向から見た断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２０】  以下、本発明の好適な実施形態について、図面を参照しつつ説明する。
【００２１】  ＜１．実施形態に係る真空処理装置１００＞  実施形態に係る質量分析装置１００について、図１、図２を参照しながら説明する。図１、図２は、質量分析装置１００の一部を示した側断面図である。
【００２２】  質量分析装置１００は、真空下でレーザ光を対象物（具体的には、分析するべきサンプル）に照射してイオン化を行い、飛行しているイオンを質量電荷比に応じて分離して検出する装置である。ただし、質量分析装置１００にて分析対象となるサンプルは、予めサンプルプレート９の上に載置されている。サンプルプレート９は、具体的には、板状の部材であり、その上面に複数の凹部が形成されている。この複数の凹部の各々にサンプルが滴下されることによって、サンプルプレート９上にサンプルが保持される。
【００２３】  質量分析装置１００は、真空チャンバー１を備える。真空チャンバー１は、サンプルプレート９を真空チャンバー１の内部空間１０に挿入するための挿入口１１と、挿入口１１を開閉する扉１２とを備える。内部空間１０には、これを排気する排気系統１３が連結されている。排気系統１３は、一端が内部空間１０に接続されるとともに他端が真空ポンプ１３１と接続された配管１３２と、当該配管１３２に介挿されたバルブ１３３とを含んで構成される。扉１２が閉じられると内部空間１０は密閉空間となり、この状態で、真空ポンプ１３１が駆動されるとともにバルブ１３３が開放されると、内部空間１０が真空状態となる。
【００２４】  内部空間１０は、質量分析処理を行うための処理空間であり、ここには、イオン化された物質を引き出す引き出し電極１４と、サンプルプレート９が載置されるステージ２とが配置される。内部空間１０において、ステージ２は、後述する支持部材３４によって、上面が水平となる姿勢で支持されている。内部空間１０では、ステージ２に載置されているサンプルプレート９上のサンプルに、レーザ光源（図示省略）からのレーザ光を照射してイオン化し、イオン化された物質を引き出し電極１４で引き出す処理が行われる。ただし、この処理は、内部空間１０を定められた真空度に減圧した状態で、実行される。上述したとおり、サンプルプレート９においては、その複数の凹部の各々にサンプルが保持されている。各凹部に保持されているサンプルに、順にレーザ光を照射するべく、上記の処理は、ステージ２をレーザ光源に対して移動させつつ行われる（ステージ２を移動させるための機構については後に説明する。）。引き出し電極１４で引き出された物質は、加速され、質量電荷比に応じて分離されて、検出される（分離および検出に係る構成については、図示省略）。質量分析装置１００は、これが備える各部を制御する制御部１５を備えており、質量分析装置１００にて行われる一連の処理は、制御部１５の制御下で実行される。
【００２５】  ＜２．ステージ２を移動させるための機構＞  質量分析装置１００は、内部空間１０において、ステージ２を、水平面内で（具体的には、例えば、水平面内に規定される直交２軸方向（Ｘ方向およびＹ方向）に）移動させるための機構を備える。当該機構について、図１、図２に加え、図３を参照しながら説明する。図３は、質量分析装置１００を図２の矢印Ａ方向から見た断面図である。
【００２６】  ＜i．内部空間１０でステージ２を案内するための構成３＞  質量分析装置１００は、内部空間１０でステージ２を案内するための構成３を備える。  すなわち、真空チャンバー１の内部には、水平面内においてＸ軸に沿って延在するガイドレール（内部Ｘガイドレール）３１が敷設される。内部Ｘガイドレール３１は、ステージ２をＸ方向に案内するためのレールである。内部Ｘガイドレール３１は、具体的には、真空チャンバー１の内部と外部にまたがる基台（共通基台）１０１の上面における、真空チャンバー１の内部に配置されている部分に敷設される。内部Ｘガイドレール３１の上には、ベアリング（例えば、ボールベアリング）３１１を挟んで、内部ベース部材３２が配設されており、内部ベース部材３２（ひいては、内部ベース部材３２に、各部材３３，３３１，３４を介して間接的に支持されているステージ２）が、内部Ｘガイドレール３１に沿って、水平面内で滑らかに移動できるようになっている。
【００２７】  内部ベース部材３２の上面には、水平面内においてＹ軸に沿って延在するガイドレール（内部Ｙガイドレール）３３が敷設される。内部Ｙガイドレール３３は、ステージ２をＹ方向に案内するためのレールである。内部Ｙガイドレール３３の上には、ベアリング（例えば、ボールベアリング）３３１を挟んで、ステージ２を支持する支持部材３４が配設されており、支持部材３４（ひいては、これに支持されているステージ２）が、内部Ｙガイドレール３３に沿って、水平面内で滑らかに移動できるようになっている。
【００２８】  ＜ii．連結棒４、可動部材５、ベローズ６＞  ステージ２を支持する支持部材３４には、Ｘ軸に沿って延在する連結棒４の一端が連結されている。つまり、ステージ２は、支持部材３４を介して、連結棒４と連結されている。連結棒４は、真空チャンバー１の側壁１０２に形成された貫通孔１０３内に挿通されており、連結棒４の他端は、真空チャンバー１の外に配置される。
【００２９】  連結棒４における、真空チャンバー１の外に配置されている側の端部は、可動部材５と連結されている。可動部材５は、例えば板状の部材であり、可動部材５と真空チャンバー１の側壁１０２との間には、真空チャンバー１の気密性を保持したままで、可動部材５の変位（Ｘ方向の変位およびＹ方向の変位）に追従するベローズ６が配置される。すなわち、ベローズ６は、一端が、真空チャンバー１の側壁１０２の外壁面に、貫通孔１０３の開口端を取り囲むようにネジで取り付けられ、他端が、可動部材５における当該外壁面と対向する側の面に、連結棒４の接着部分を取り囲むようにネジで取り付けられている。
【００３０】  後に明らかになるように、可動部材５は、駆動機構８の駆動を受けてＸ方向およびＹ方向に移動される。貫通孔１０３は、連結棒４によって可動部材５の移動が妨げられないようなサイズに形成される。具体的には、貫通孔１０３は、図３に示すように、連結棒４の延在方向と直交する方向（図示の例では、Ｙ方向）について、連結棒４の移動範囲（すなわち、可動部材５のＹ方向の移動範囲に応じた連結棒４のＹ方向の移動範囲）４０よりも、大きなサイズに形成される。すなわち、貫通孔１０３のＹ方向に沿う幅は、移動範囲４０よりも大きい。なお、貫通孔１０３の形状は、図示した四角形状に限らず、例えば円形状の開口でも良い。
【００３１】  真空チャンバー１の外部には、可動部材５のＸ方向の位置を検出するセンサ（Ｘセンサ）５１と、可動部材５のＹ方向の位置を検知するセンサ（Ｙセンサ）（図示省略）とが配置される。可動部材５は連結棒４を介してステージ２と連結されている（つまり、可動部材５とステージ２との相対位置関係は固定されている）ため、可動部材５の位置を特定することで、ステージ２の位置を特定することができる。Ｘセンサ５１およびＹセンサは、制御部１５と電気的に接続されており、制御部１５は各センサから取得した情報に基づいて、後述するＸモータ８１１およびＹモータ８２１の回転数等を制御して、ステージ２を所望の位置に移動させる。
【００３２】  ＜iii．可動部材５を案内するための構成７＞  質量分析装置１００は、真空チャンバー１の外部で、可動部材５を案内するための構成７を備える。  すなわち、真空チャンバー１の外部には、水平面内においてＸ軸に沿って延在するガイドレール（外部Ｘガイドレール）７１が敷設される。外部Ｘガイドレール７１は、可動部材５をＸ方向に案内するためのレールである。外部Ｘガイドレール７１は、具体的には、上述した共通基台１０１の上面における、真空チャンバー１の外部に配置されている部分に敷設される。外部Ｘガイドレール７１の上には、ベアリング（例えば、ボールベアリング）７１１を挟んで、外部ベース部材７２が配設されており、外部ベース部材７２（ひいては、外部ベース部材７２に、各部材７３，７３１，７４を介して間接的に支持されている可動部材５）が、外部Ｘガイドレール７１に沿って、水平面内で滑らかに移動できるようになっている。
【００３３】  外部ベース部材７２の上面には、水平面内においてＹ軸に沿って延在するガイドレール（外部Ｙガイドレール）７３が敷設される。外部Ｙガイドレール７３は、可動部材５をＹ方向に案内するためのレールである。外部Ｙガイドレール７３の上には、ベアリング（例えば、ボールベアリング）７３１を挟んで、可動部材５を支持する支持部材７４が配設されており、支持部材７４（ひいては、これに支持されている可動部材５）が、外部Ｙガイドレール７３に沿って、水平面内で滑らかに移動できるようになっている。
【００３４】  ＜iv．可動部材５の駆動機構８＞  真空チャンバー１の外部には、可動部材５を移動させる駆動機構８が配置される。駆動機構８は、可動部材５をＸ軸に沿って移動させるためのＸ駆動機構８１と、可動部材５をＹ軸に沿って移動させるためのＹ駆動機構８２とを備える。
【００３５】  Ｘ駆動機構８１は、駆動源であるモータ（Ｘモータ）８１１と、その回転運動を外部ベース部材７２のＸ軸に沿う直線運動に変える送り機構８１２とを備える。Ｘモータ８１１は、例えば、外部Ｘガイドレール７１の端部に配置される。したがって、Ｘモータ８１１の回転運動をＸ軸に沿う直線運動に変える送り機構は、例えば、ボールねじ機構のような簡易な構成で実現できる。
【００３６】  制御部１５の指示を受けてＸモータ８１１が回転すると、その回転運動が送り機構８１２によって直線運動に変換され、外部ベース部材７２（ひいては、外部ベース部材７２に、間接的に支持されている可動部材５）が、外部Ｘガイドレール７１に沿って、水平面内で滑らかに移動する。可動部材５は、連結棒４を介してステージ２と連結されているので、可動部材５がＸ方向に移動すると、これに追従して、ステージ２が、内部Ｘガイドレール３１に沿って、水平面内で滑らかに移動する。ステージ２のＸ方向の移動量は、可動部材５のＸ方向の移動量と等しいため、Ｘモータ８１１の回転量を制御することによって、ステージ２のＸ方向の移動量を制御することができる。
【００３７】  Ｙ駆動機構８２は、駆動源であるモータ（Ｙモータ）８２１と、その回転運動を可動部材５のＹ軸に沿う直線運動に変える送り機構（図示省略）とを備える。Ｙモータ８２１は、例えば、外部ベース部材７２上であって、外部Ｙガイドレール７３の端部に配置される。したがって、Ｙモータ８２１の回転運動をＹ軸に沿う直線運動に変える送り機構は、例えば、ボールねじ機構のような簡易な構成で実現できる。
【００３８】  制御部１５の指示を受けてＹモータ８２１が回転すると、その回転運動が送り機構によって直線運動に変換され、支持部材７４（ひいては、それに支持されている可動部材５）が、外部Ｙガイドレール７３に沿って、水平面内で滑らかに移動する。可動部材５は、連結棒４を介してステージ２と連結されているので、可動部材５がＹ方向に移動すると、これに追従して、ステージ２が、内部Ｙガイドレール３３に沿って、水平面内で滑らかに移動する。Ｘ方向と同様、Ｙ方向についても、ステージ２のＹ方向の移動量は、可動部材５のＹ方向の移動量と等しいため、Ｙモータ８２１の回転量を制御することによって、ステージ２のＹ方向の移動量を制御することができる。
【００３９】  ＜３．効果＞  上記の実施形態によると、駆動機構（例えば、モータ等の駆動源、および、その駆動力を直線運動等に変換するための送り機構）を、真空チャンバー１の外に配置するので、送り機構に使用される樹脂部材や潤滑油からのアウトガスが問題とならない。また、真空チャンバー１の側壁１０２には、連結棒４が挿通される貫通孔１０３が形成されるものの、可動部材５と側壁１０２との間にはベローズ６が設けられている（つまり、真空チャンバー１の外側では、連結棒４の周りがベローズ６で囲まれている）ので、連結棒４と貫通孔１０３との間を密着させてグリース等で気密にする構成を採用する必要がない。このため、グリース等の潤滑剤からのアウトガスも問題とならない。したがって、真空チャンバー１内でのアウトガスの発生を十分に抑制することができる。その結果、ベーキングを行う必要もなくなり、内部空間１０を所定の真空度まで減圧するのに要する時間を短く抑えることができる。
【００４０】  また、上記の実施形態によると、アウトガスの発生源となり得るセンサ（Ｘセンサ５１およびＹセンサ）も、真空チャンバー１の外部に配置される。したがって、センサに起因する真空チャンバー１内でのアウトガスの発生を抑制できる。
【００４１】  また、上記の実施形態によると、Ｘモータ８１１およびＹモータ８２１が真空チャンバー１の外に配置されるので、Ｘモータ８１１およびＹモータ８２１が、これらが真空チャンバー１内に配置される場合と比べて、温度上昇しにくい。このため、モータの温度上昇を抑えるためにモータに流す電流値を制限する必要がない。したがって、ステージ２の移動速度が制限されない。
【００４２】  また、上記の実施形態によると、駆動機構８、Ｘセンサ５１、Ｙセンサ等が、真空チャンバー１の外に配置される。したがって、これらの各部に含まれる部品として、通常の部品（すなわち、真空環境での使用に耐えうる特別な部品ではない通常の部品）を、用いることができる。したがって、質量分析装置１００の製造コストを抑えることができる。
【００４３】  また、上記の実施形態では、真空チャンバー１の内部においてステージ２を案内する内部Ｘガイドレール３１と、真空チャンバー１の外部において可動部材５を案内する外部Ｘガイドレール７１とが、共通の基台１０１上に設置される。この構成によると、内部Ｘガイドレール３１と外部Ｘガイドレール７１とを、機械加工により基台１０１上に敷設できるので、互いの位置関係（互いの平行度、水平度等）を、高精度に（すなわち、機械加工の精度で）調整できる。内部Ｘガイドレール３１と外部Ｘガイドレール７１との位置関係が精度よく調整されていない場合、ステージ２と可動部材５とを連結する連結棒４に遊びを設けなければ、レールにこじれや偏摩耗が生じる虞があり、最悪の場合、ステージが動かなくなる可能性もある。この実施形態では、内部Ｘガイドレール３１と外部Ｘガイドレール７１との位置関係を精度よく調整できるので、連結棒４に遊びを設けなくとも、上記のような問題が生じない。
【００４４】  ＜４．他の実施形態＞  上記の実施形態においては、連結棒４の端部に可動部材５が連結される構成としたが、可動部材５と連結棒４とは一体に構成されていてもよい。換言すると、可動部材５は、連結棒４の一部分により構成されてもよい。具体的には、例えば、連結棒４の端部をフランジ状に形成し、当該フランジ状の部分を可動部材としてもよい。この場合、当該フランジ状の部分に、ベローズの一端が着接される。
【００４５】  上記の実施形態において、内部空間１０は複数の空間に区切られていてもよい。例えば、処理を行うための処理空間と、装置外部と処理空間との間のサンプルプレート９の授受を行うためのロードロック空間とに区切られていてもよい。この場合、挿入口１１と処理空間との間にロードロック空間が配置される。また、処理空間とロードロック空間との間は例えばゲートバルブ等によって仕切られ、各空間は、独立して、真空状態と大気状態との間で切り替えられるように構成される。
【００４６】  上記の実施形態においては、ステージ２をＸ方向とこれと直交するＹ方向との２方向に移動させる構成であったが、ステージ２をＸ方向にのみ、あるいは、Ｙ方向にのみ移動させる構成としてもよいし、直交しない２方向にステージ２を移動させる構成としてもよい。また、ステージ２を鉛直方向（Ｚ方向）に移動させる構成をさらに設けてもよい。ステージ２をＹ方向にのみ移動させる場合、内部Ｙガイドレールと、外部Ｙガイドレールとを、共通基台１０１上に敷設することが好ましい。また、ステージ２を鉛直方向に移動させる場合、可動部材５を鉛直方向に移動させる駆動機構を追加すればよい。当該駆動機構の駆動を受けて可動部材５が昇降移動すると、これに追従して、ステージ２が、昇降移動することになる。
【００４７】  上記の実施形態においては、本発明が、質量分析装置に適用された場合を示したが、本発明は、質量分析装置以外の各種の真空処理装置に適用することができる。
【符号の説明】
【００４８】１  真空チャンバー２  ステージ３  ステージを案内するための構成４  連結棒５  可動部材６  ベローズ７  可動部材を案内するための構成８  駆動機構９  サンプルプレート３１  内部Ｘガイドレール３２  内部ベース部材３３  内部Ｙガイドレール３４  支持部材７１  外部Ｘガイドレール７２  外部ベース部材７３  外部Ｙガイドレール７４  支持部材８１  Ｘ駆動機構８２  Ｙ駆動機構１００  質量分析装置１０１  共通基台１０２  真空チャンバーの側壁１０３  貫通孔８１１  Ｘモータ８１２  送り機構８２１  Ｙモータ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【国際調査報告】
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