(57)【要約】  ポリエステル（Ａ）、酸化チタン（Ｂ）、フェノール系酸化防止剤（Ｃ）、及びリン系酸化防止剤（Ｄ）を含有し、該ポリエステル（Ａ）が、テレフタル酸を５０モル％以上含むジカルボン酸に由来する構成単位と１，４−シクロヘキサンジメタノールを５０モル％以上含むジオールに由来する構成単位とを有するポリエステルであり、該リン系酸化防止剤（Ｄ）がその分子中に式（１）で示される基を３つ以上含有し、ポリエステル（Ａ）１００質量部に対して、酸化チタン（Ｂ）の含有量が２０〜９０質量部、フェノール系酸化防止剤（Ｃ）の含有量が０．１〜０．８質量部であり、リン系酸化防止剤（Ｄ）の含有量が下記式（Ｉ）を満たす、ＬＥＤ反射板用ポリエステル組成物、該組成物からなるＬＥＤ反射板、及び該反射板を備える発光装置である。  ０．２０≦質量比［（Ｃ）成分／（Ｄ）成分］≦５．００      （Ｉ）
2017086334.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ＬＥＤ反射板用ポリエステル組成物であって、
該ポリエステル組成物がポリエステル（Ａ）、酸化チタン（Ｂ）、フェノール系酸化防止剤（Ｃ）、及びリン系酸化防止剤（Ｄ）を含有し、
該ポリエステル（Ａ）が、テレフタル酸を５０モル％以上含むジカルボン酸に由来する構成単位と１，４−シクロヘキサンジメタノールを５０モル％以上含むジオールに由来する構成単位とを有するポリエステルであり、
該リン系酸化防止剤（Ｄ）がその分子中に下記式（１）で示される基を３つ以上含有し、
ポリエステル（Ａ）１００質量部に対して、酸化チタン（Ｂ）の含有量が２０〜９０質量部であり、フェノール系酸化防止剤（Ｃ）の含有量が０．１０〜０．８０質量部であり、
リン系酸化防止剤（Ｄ）の含有量が下記式（Ｉ）を満たすものである、ＬＥＤ反射板用ポリエステル組成物。
０．２０≦質量比［（Ｃ）成分／（Ｄ）成分］≦５．００      （Ｉ）
【化１】
2017086334.tif 000023
（式（１）中、Ｒ11〜Ｒ13はそれぞれ独立に、炭素数１又は２のアルキル基であり、Ｒ14〜Ｒ17はそれぞれ独立に、水素原子又は炭素数１〜１０のアルキル基であり、＊はリン原子との結合部を表す。）
【請求項２】
前記リン系酸化防止剤（Ｄ）に対する前記フェノール系酸化防止剤（Ｃ）の質量比［（Ｃ）成分／（Ｄ）成分］が、下記式（Ｉ’）を満たす、請求項１に記載のＬＥＤ反射板用ポリエステル組成物。
０．２０≦質量比［（Ｃ）成分／（Ｄ）成分］≦３．００      （Ｉ’）
【請求項３】
さらに、強化材（Ｅ）を、ポリエステル（Ａ）１００質量部に対して、５〜５０質量部含有する、請求項１又は２に記載のＬＥＤ反射板用ポリエステル組成物。
【請求項４】
前記強化材（Ｅ）がガラス繊維である、請求項３に記載のＬＥＤ反射板用ポリエステル組成物。
【請求項５】
前記ポリエステル（Ａ）が、テレフタル酸を７５〜１００モル％含むジカルボン酸に由来する構成単位と１，４−シクロヘキサンジメタノールを７５〜１００モル％含むジオールに由来する構成単位とを有するポリシクロヘキサンジメチレンテレフタレートである、請求項１〜４のいずれか１項に記載のＬＥＤ反射板用ポリエステル組成物。
【請求項６】
前記リン系酸化防止剤（Ｄ）が、その分子中に前記式（１）で示される基を３つ以上含有する亜リン酸エステル及び亜ホスホン酸エステルからなる群より選ばれる１種以上である、請求項１〜５のいずれか１項に記載のＬＥＤ反射板用ポリエステル組成物。
【請求項７】
前記フェノール系酸化防止剤（Ｃ）が、その分子中に下記式（２）で示される基を少なくとも１つ含有する、請求項１〜６のいずれか１項に記載のＬＥＤ反射板用ポリエステル組成物。
【化２】
2017086334.tif 000024
（式（２）中、Ｒ21〜Ｒ23はそれぞれ独立に、炭素数１又は２のアルキル基であり、Ｒ24〜Ｒ26はそれぞれ独立に、水素原子又は炭素数１〜１０のアルキル基であり、＊＊は結合部を表す。）
【請求項８】
前記フェノール系酸化防止剤（Ｃ）が、前記式（２）中、Ｒ21〜Ｒ23のすべてがメチル基であり、Ｒ26がメチル基又はｔ−ブチル基であるセミヒンダードタイプ又はフルヒンダードタイプのフェノール系酸化防止剤からなる群より選ばれる１種以上である、請求項７に記載のＬＥＤ反射板用ポリエステル組成物。
【請求項９】
さらに、光安定剤（Ｆ）を含有する、請求項１〜８のいずれか１項に記載のＬＥＤ反射板用ポリエステル組成物。
【請求項１０】
請求項１〜９のいずれか１項に記載のＬＥＤ反射板用ポリエステル組成物からなる、ＬＥＤ反射板。
【請求項１１】
請求項１０に記載のＬＥＤ反射板を備える、発光装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ＬＥＤ反射板用ポリエステル組成物に関する。詳しくは、高い光反射率を有し、熱や光に晒された後においても高い光反射率を維持することができるＬＥＤ反射板用ポリエステル組成物、該組成物からなるＬＥＤ反射板、及び該反射板を備える発光装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
発光ダイオード（以下、「ＬＥＤ」とも称する）は、従来の白色灯や蛍光灯と比較して、低消費電力で長寿命といった多くの利点を有するため、様々な分野に応用され、携帯電話ディスプレイ、パソコンや液晶テレビ等の液晶パネル用のバックライト等の比較的小型の電気電子製品に用いられてきた。【０００３】
ＬＥＤパッケージは、一般にＬＥＤ、リードフレーム、ハウジングを兼ねた反射板、半導体発光素子を封止する封止部材から構成され、ＬＥＤ反射板として、従来のセラミックに代わる材料として高分子材料を用いる試みがなされ、開発されてきた。
しかしながら、高分子材料を用いた反射板においては、ＬＥＤパッケージの製造工程における熱による光反射率の低下、紫外線照射等の使用環境に起因する光反射率の低下といった問題がある。
このような問題に対して、例えば特許文献１には、１，４−シクロヘキサンジカルボン酸単位を含むジカルボン酸単位と炭素数４〜１８の脂肪族ジアミン単位を含むジアミン単位を有するポリアミド組成物を用いたＬＥＤ反射板が開示され、長期間に亘ってＬＥＤ光照射を行った後においても、高い反射率と白色度を維持することが記載されている。【０００４】
しかしながら、近年、ＬＥＤは、低価格化に伴い、電気電子製品だけではなく、照明器具等としての用途が広がりつつある。ＬＥＤを照明器具等として用いる場合、従来の電気電子製品等で用いられてきた反射板と比べて、ＬＥＤパッケージの製造工程や使用環境のため、より高い耐熱性、並びに高い反射率、及び熱や紫外線等の光による光反射率の低下の抑制が求められる。このような要求に対して、反射板の材料として、ポリアミドに代えてより高い耐熱性を有するポリエステルを用いる試みがなされている。
例えば特許文献２には、二酸化チタンを含有するポリ（１，４−シクロヘキサンジメタノールテレフタレート）組成物を含む発光ダイオードアセンブリハウジングが開示され、良好な光反射率、良好な耐紫外線性を示し、熱による色安定性を有することが記載されている。
しかしながら、光反射率、及びＬＥＤパッケージの製造工程や使用環境における熱や光に晒された後の高い光反射率を維持する点において未だ不十分であり、更なる改善が求められている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】国際公開２０１１／０２７５６２号
【特許文献２】特表２００９−５０７９９０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は、高い光反射率を有し、熱や光に晒された後においても光反射率の低下が少なく、高い光反射率を維持することができるＬＥＤ反射板用ポリエステル組成物、該組成物からなるＬＥＤ反射板、及び該反射板を備える発光装置を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明者らは鋭意検討を行った結果、ポリエステル組成物が、フェノール系酸化防止剤と特定の骨格を有するリン系酸化防止剤を特定の比率で含有することにより、上記課題を解決できることを見出した。
すなわち本発明は、下記［１］〜［１１］に関する。
［１］  ＬＥＤ反射板用ポリエステル組成物であって、
該ポリエステル組成物がポリエステル（Ａ）、酸化チタン（Ｂ）、フェノール系酸化防止剤（Ｃ）、及びリン系酸化防止剤（Ｄ）を含有し、
該ポリエステル（Ａ）が、テレフタル酸を５０モル％以上含むジカルボン酸に由来する構成単位と１，４−シクロヘキサンジメタノールを５０モル％以上含むジオールに由来する構成単位とを有するポリエステルであり、
該リン系酸化防止剤（Ｄ）がその分子中に下記式（１）で示される基を３つ以上含有し、
ポリエステル（Ａ）１００質量部に対して、酸化チタン（Ｂ）の含有量が２０〜９０質量部であり、フェノール系酸化防止剤（Ｃ）の含有量が０．１０〜０．８０質量部であり、
リン系酸化防止剤（Ｄ）の含有量が下記式（Ｉ）を満たすものである、ＬＥＤ反射板用ポリエステル組成物。
０．２０≦質量比［（Ｃ）成分／（Ｄ）成分］≦５．００      （Ｉ）【０００８】
【化１】
2017086334.tif 000003
【０００９】
（式（１）中、Ｒ11〜Ｒ13はそれぞれ独立に、炭素数１又は２のアルキル基であり、Ｒ14〜Ｒ17はそれぞれ独立に、水素原子又は炭素数１〜１０のアルキル基であり、＊はリン原子との結合部を表す。）
［２］  前記リン系酸化防止剤（Ｄ）に対する前記フェノール系酸化防止剤（Ｃ）の質量比［（Ｃ）成分／（Ｄ）成分］が、下記式（Ｉ’）を満たす、上記［１］に記載のＬＥＤ反射板用ポリエステル組成物。
０．２０≦質量比［（Ｃ）成分／（Ｄ）成分］≦３．００      （Ｉ’）
［３］  さらに、強化材（Ｅ）を、ポリエステル（Ａ）１００質量部に対して、５〜５０質量部含有する、上記［１］又は［２］に記載のＬＥＤ反射板用ポリエステル組成物。
［４］  前記強化材（Ｅ）がガラス繊維である、上記［３］に記載のＬＥＤ反射板用ポリエステル組成物。
［５］  前記ポリエステル（Ａ）が、テレフタル酸を７５〜１００モル％含むジカルボン酸に由来する構成単位と１，４−シクロヘキサンジメタノールを７５〜１００モル％含むジオールに由来する構成単位とを有するポリシクロヘキサンジメチレンテレフタレートである、上記［１］〜［４］のいずれか１項に記載のＬＥＤ反射板用ポリエステル組成物。
［６］  前記リン系酸化防止剤（Ｄ）が、その分子中に前記式（１）で示される基を３つ以上含有する亜リン酸エステル及び亜ホスホン酸エステルからなる群より選ばれる１種以上である、上記［１］〜［５］のいずれか１項に記載のＬＥＤ反射板用ポリエステル組成物。
［７］  前記フェノール系酸化防止剤（Ｃ）が、その分子中に下記式（２）で示される基を少なくとも１つ含有する、上記［１］〜［６］のいずれか１項に記載のＬＥＤ反射板用ポリエステル組成物。【００１０】
【化２】
2017086334.tif 000004
【００１１】
（式（２）中、Ｒ21〜Ｒ23はそれぞれ独立に、炭素数１又は２のアルキル基であり、Ｒ24〜Ｒ26はそれぞれ独立に、水素原子又は炭素数１〜１０のアルキル基であり、＊＊は結合部を表す。）
［８］  前記フェノール系酸化防止剤（Ｃ）が、前記式（２）中、Ｒ21〜Ｒ23のすべてがメチル基であり、Ｒ26がメチル基又はｔ−ブチル基であるセミヒンダードタイプ又はフルヒンダードタイプのフェノール系酸化防止剤からなる群より選ばれる１種以上である、上記［７］に記載のＬＥＤ反射板用ポリエステル組成物。
［９］  さらに、光安定剤（Ｆ）を含有する、上記［１］〜［８］のいずれか１項に記載のＬＥＤ反射板用ポリエステル組成物。
［１０］  上記［１］〜［９］のいずれか１項に記載のＬＥＤ反射板用ポリエステル組成物からなる、ＬＥＤ反射板。
［１１］  上記［１０］に記載のＬＥＤ反射板を備える、発光装置。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、高い反射率を有し、熱や光に晒された後においても光反射率の低下が少なく、高い光反射率を維持することができるＬＥＤ反射板用ポリエステル組成物、該組成物からなるＬＥＤ反射板、及び該反射板を備える発光装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】本発明の発光装置の構成の一例を模式的に示した図である。
【図２】本発明の発光装置の構成の一例を模式的に示した図である。
【図３】本発明の発光装置の構成の一例を模式的に示した図である。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
［ＬＥＤ反射板用ポリエステル組成物］
本発明のＬＥＤ反射板用ポリエステル組成物（以下、「ポリエステル組成物」とも称する）は、ポリエステル（Ａ）、酸化チタン（Ｂ）、フェノール系酸化防止剤（Ｃ）、及びリン系酸化防止剤（Ｄ）を含有し、該ポリエステル（Ａ）が、テレフタル酸を５０モル％以上含むジカルボン酸に由来する構成単位と１，４−シクロヘキサンジメタノールを５０モル％以上含むジオールに由来する構成単位とを有するポリエステルであり、該リン系酸化防止剤（Ｄ）がその分子中に下記式（１）で示される基を３つ以上含有し、ポリエステル（Ａ）１００質量部に対して、酸化チタン（Ｂ）の含有量が２０〜９０質量部であり、フェノール系酸化防止剤（Ｃ）の含有量が０．１０〜０．８０質量部であり、リン系酸化防止剤（Ｄ）の含有量が下記式（Ｉ）を満たすものであることを特徴とする。
０．２０≦質量比［（Ｃ）成分／（Ｄ）成分］≦５．００      （Ｉ）
【００１５】
【化３】
2017086334.tif 000005
【００１６】
（式（１）中、Ｒ11〜Ｒ13はそれぞれ独立に、炭素数１又は２のアルキル基であり、Ｒ14〜Ｒ17はそれぞれ独立に、水素原子又は炭素数１〜１０のアルキル基であり、＊はリン原子との結合部を表す。）
【００１７】
本発明のポリエステル組成物は、上記構成を有すると共に、フェノール系酸化防止剤とリン系酸化防止剤を特定の比率で含有し、かつ、リン系酸化防止剤が特定の骨格を有するため、該ポリエステル組成物からなるＬＥＤ反射板（以下、単に「反射板」とも称する）が高い光反射率を有し、熱や光に晒された後においても光反射率の低下が少なく、高い光反射率を維持することができるという本発明の効果が得られる。
このような効果が得られる理由については定かではないが、熱や光により発生したラジカルをフェノール系酸化防止剤が捕捉し、さらに発生した過酸化物をリン系酸化防止剤が分解することで、これらの成分が協業して効果的にラジカル連鎖を阻害し、酸化劣化による変色を低減できると考えられる。
特にリン系酸化防止剤は、リン原子と結合する酸素原子との結合部に隣接するオルト位にアルキル基を有する前記式（１）で示される基を３つ以上含有しているため、熱や光により発生した過酸化物に対してより高い分解能力を有し、酸化劣化による変色をより効果的に低減できると考えられる。
【００１８】
＜ポリエステル（Ａ）＞
本発明のポリエステル組成物は、ポリエステル（Ａ）を含有し、該ポリエステル（Ａ）は、テレフタル酸を５０モル％以上含むジカルボン酸に由来する構成単位と１，４−シクロヘキサンジメタノールを５０モル％以上含むジオールに由来する構成単位とを有するものである。前記ポリエステル（Ａ）を含有することにより、高い耐熱性及び機械的強度を有しつつ、高い光反射率を有し、熱や光に晒された後においても光反射率の低下が少なく、高い光反射率を維持する反射板を得ることができる。
前記ポリエステル（Ａ）における、前記ジカルボン酸に由来する構成単位と前記ジオールに由来する構成単位との合計含有量は、耐熱性及び機械的強度向上の観点から、好ましくは８５モル％以上、より好ましくは９０モル％以上である。
以下、ポリエステル（Ａ）についてより詳細に説明する。
【００１９】
前記ポリエステル（Ａ）は、ジカルボン酸に由来する構成単位を含み、該ジカルボン酸におけるテレフタル酸の含有率が５０モル％以上である。これにより、得られる反射板の耐熱性及び機械的強度が向上する。前記ジカルボン酸におけるテレフタル酸の含有率は、好ましくは６０モル％以上、より好ましくは７５モル％以上、更に好ましくは９０モル％以上である。
【００２０】
前記ポリエステル（Ａ）を構成するジカルボン酸は、５０モル％未満の範囲で、テレフタル酸以外の他のジカルボン酸を含んでもよい。かかる他のジカルボン酸としては、例えば、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバシン酸等の脂肪族ジカルボン酸；１，３−シクロペンタンジカルボン酸、１，４−シクロヘキサンジカルボン酸等の脂環式ジカルボン酸；イソフタル酸、２，６−ナフタレンジカルボン酸、２，７−ナフタレンジカルボン酸、１，４−ナフタレンジカルボン酸、１，４−フェニレンジオキシジ酢酸、１，３−フェニレンジオキシジ酢酸、ジフェン酸、ジフェニルメタン−４，４’−ジカルボン酸、ジフェニルスルホン−４，４’−ジカルボン酸、４，４’−ビフェニルジカルボン酸等の芳香族ジカルボン酸などを挙げることができ、これらのうちの１種又は２種以上を含むことができる。かかる他のジカルボン酸としては、イソフタル酸が好適である。ジカルボン酸におけるこれらの他のジカルボン酸の含有率は、好ましくは４０モル％以下、より好ましくは２５モル％以下、更に好ましくは１０モル％以下である。
さらに、前記ポリエステル（Ａ）は、トリメリット酸、トリメシン酸、ピロメリット酸等の多価カルボン酸に由来する構成単位を溶融成形が可能な範囲内で含んでいてもよい。
【００２１】
前記ポリエステル（Ａ）は、ジオールに由来する構成単位を含み、該ジオールにおける１，４−シクロヘキサンジメタノールの含有率が５０モル％以上である。これにより、得られる反射板の成形性及び耐熱性が向上し、高い光反射率を有し、熱や光に晒された後においても光反射率の低下が少なく、高い光反射率を維持することができる。前記ジオールにおける１，４−シクロヘキサンジメタノールの含有率は、好ましくは６０モル％以上、より好ましくは７５モル％以上、更に好ましくは９０モル％以上であり、そして、好ましくは１００モル％以下である。
耐熱性の観点から、１，４−シクロヘキサンジメタノールのトランス異性体比率は高いことが好ましい。トランス異性体の比率は、好ましくは５０〜１００質量％、より好ましくは６０〜１００質量％である。
【００２２】
前記ポリエステル（Ａ）を構成するジオールは、５０モル％未満の範囲で、１，４−シクロヘキサンジメタノール以外の他のジオールを含んでもよい。かかる他のジオールとしては、例えば、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、１，３−プロパンジオール、１，２−ブタンジオール、１，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオール、２，３−ブタンジオール、ネオペンチルグリコール、１，４−ブテンジオール、１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、１，８−オクタンジオール、１，９−ノナンジオール、１，１０−デカンジオール、１，１２−ドデカンジオール等の脂肪族ジオール；１，４−シクロヘキサンジオール、水素添加ビスフェノールＡ（２，２−ビス（４−ヒドロキシシクロヘキシル）プロパン）、及びそれらの炭素数２以上４以下のアルキレンオキサイド（平均付加モル数２以上１２以下）付加物等の１，４−シクロヘキサンジメタノール以外の脂環式ジオール；ヒドロキノン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）メタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン、１，５−ジヒドロキシナフタレン等の芳香族ジオールなどを挙げることができ、これらのうちの１種又は２種以上を含むことができる。ジオールにおけるこれらの他のジオールの含有率は、好ましくは４０モル％以下、より好ましくは２５モル％以下、更に好ましくは１０モル％以下である。
さらに、前記ポリエステル（Ａ）は、トリメチロールプロパン、グリセロール、ペンタエリスリトール等の３価以上の多価アルコールに由来する構成単位を溶融成形が可能な範囲内で含んでいてもよい。
【００２３】
前記ポリエステル（Ａ）は、テレフタル酸を７５〜１００モル％含むジカルボン酸に由来する構成単位と１，４−シクロヘキサンジメタノールを７５〜１００モル％含むジオールに由来する構成単位とを有するポリシクロヘキサンジメチレンテレフタレートであることが好ましい。これにより、高い耐熱性及び機械的強度を有しつつ、高い光反射率を有し、熱や光に晒された後においても光反射率の低下が少なく、高い光反射率を維持する反射板を得ることができる。
【００２４】
本発明に用いるポリエステル（Ａ）は、ポリエステルを製造する方法として知られている任意の方法を用いて製造できる。例えば、必要に応じてチタン化合物、リン化合物等の触媒、分子量調整剤等を添加し、ジカルボン酸成分とジオール成分とを縮重合反応させることにより製造することができる。
縮重合反応に供されるジカルボン酸成分とジオール成分とのモル比（ジカルボン酸成分／ジオール成分）は、成形性及び機械的強度向上の観点、並びに光反射率の向上の観点から、好ましくは０．８０〜０．９９であり、より好ましくは０．８３〜０．９７であり、更に好ましくは０．８５〜０．９８である。
【００２５】
本発明に用いるポリエステル（Ａ）の重量平均分子量（Ｍｗ）は、好ましくは３，０００〜１２，０００、より好ましくは４，０００〜１０，０００、更に好ましくは４，０００〜９，０００である。重量平均分子量が３，０００以上であるとポリエステル（Ａ）による靭性効果が十分に発揮され、また、１２，０００以下であると、流動性が低下することなく良好な成形性を得ることができる。なお、重量平均分子量は、後述するゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）により求めることができ、標準ポリメタクリル酸メチル換算で算出した値である。
【００２６】
＜酸化チタン（Ｂ）＞
本発明のポリエステル組成物は、酸化チタン（Ｂ）を含有する。
前記酸化チタン（Ｂ）は、得られる反射板に対して光反射性を付与するものであって、該酸化チタンを含むことにより、該反射板の熱伝導性及び耐熱性が向上し、熱や光に晒された後においても光反射率の低下が少なく、高い反射率を維持することができる。
前記酸化チタン（Ｂ）としては、酸化チタン（ＴｉＯ）、三酸化チタン（Ｔｉ２Ｏ３）、二酸化チタン（ＴｉＯ２）等が挙げられ、これらのいずれを使用してもよいが、二酸化チタンが好ましい。二酸化チタンとしては、ルチル型又はアナターゼ型の結晶構造を有するものが好ましく、ルチル型の結晶構造を有するものがより好ましい。
前記酸化チタン（Ｂ）の平均粒径は、光反射率の向上の観点から、好ましくは０．１０〜０．５０μｍ、より好ましくは０．１５〜０．４０μｍ、更に好ましくは０．２０〜０．３０μｍである。酸化チタン（Ｂ）の平均粒径は、電子顕微鏡法を用いた画像解析により求めることができる。具体的には、透過型電子顕微鏡を用いて撮影した酸化チタン粒子１，０００個以上について長径と短径を測定し、その平均値を平均粒径とする。
前記酸化チタン（Ｂ）の形状は、特に限定されないが、その凝集形状は不定形であることが好ましい。不定形の酸化チタン（Ｂ）を用いた場合には、得られる反射板の寸法変化率及び寸法変化率の異方性が小さく、ＬＥＤパッケージ製造時の封止部材との剥離を抑制することができる。
前記酸化チタン（Ｂ）は、ポリエステル組成物中への分散性を高める観点から、表面処理を施したものを使用してもよい。表面処理剤としては、例えば、シリカ、アルミナ、ジルコニア、酸化錫、酸化アンチモン、酸化亜鉛等の金属酸化物；シランカップリング剤、シリコーン等の有機珪素化合物；チタンカップリング剤等の有機チタン化合物；有機酸、ポリオール等の有機物等が挙げられる。
【００２７】
＜フェノール系酸化防止剤（Ｃ）＞
本発明のポリエステル組成物は、フェノール系酸化防止剤（Ｃ）（以下、「（Ｃ）成分」とも称する）を含有する。
前記フェノール系酸化防止剤（Ｃ）を含有することにより、熱や光により発生したラジカルを捕捉し、得られる反射板の光反射率の低下を抑制することができる。
前記フェノール系酸化防止剤（Ｃ）としては、光反射率の向上、及び光反射率の低下を抑制する観点から、その分子中に下記式（２）で示される基を少なくとも１つ含有するフェノール系酸化防止剤が好ましい。下記式（２）で示されるように、ヒドロキシ基のオルト位にアルキル基を有することにより、より安定なフェノキシラジカルとなり、熱や光により発生したラジカルに対してより高い捕捉能力を有する。
【００２８】
【化４】
2017086334.tif 000006
【００２９】
（式（２）中、Ｒ21〜Ｒ23はそれぞれ独立に、炭素数１又は２のアルキル基であり、Ｒ24〜Ｒ26はそれぞれ独立に、水素原子又は炭素数１〜１０のアルキル基であり、＊＊は結合部を表す。）
【００３０】
前記式（２）中、Ｒ21〜Ｒ23は、光反射率の低下を抑制する観点から、好ましくはメチル基であり、即ち、−Ｃ（Ｒ21）（Ｒ22）（Ｒ23）で示される基がｔ−ブチル基であることが好ましい。
前記式（２）中、Ｒ24及びＲ25は、熱や光により発生したラジカルを捕捉後生成するフェノキシラジカルの安定性の観点から、好ましくは水素原子又は炭素数１〜２のアルキル基であり、より好ましくは水素原子である。
前記式（２）中、Ｒ26は、光反射率の低下を抑制する観点から、好ましくは炭素数１〜７のアルキル基であり、より好ましくは炭素数１〜４のアルキル基であり、更に好ましくはメチル基又はｔ−ブチル基である。
【００３１】
前記式（２）で示される基を有するフェノール系酸化防止剤としては、光反射率の向上、及び光反射率の低下を抑制する観点から、Ｒ21〜Ｒ23のすべてがメチル基であり、Ｒ26がメチル基又はｔ−ブチル基であるセミヒンダードタイプ又はフルヒンダードタイプのフェノール系酸化防止剤からなる群より選ばれる１種以上が好ましく、具体的には下記式（３）で示されるフェノール性水酸基のオルト位にｔ−ブチル基を有するフェノール系酸化防止剤がより好ましい。
【００３２】
【化５】
2017086334.tif 000007
【００３３】
（式（３）中、Ｒ31及びＲ32はそれぞれ独立に、水素原子又はメチル基を表し、Ｒ33はメチル基又はｔ−ブチル基を表し、Ｘ1は炭素数１〜２０の２価の有機基を表し、Ｚは１〜４価の有機基を表す。ｎは１〜４の整数である。）
【００３４】
前記式（３）中、Ｒ31及びＲ32は、熱や光により発生したラジカルを捕捉後生成するフェノキシラジカルの安定性の観点から、好ましくは水素原子であり、Ｘ1は、光反射率の向上、及び光反射率の低下を抑制する観点から、下記式（４）で示される２価の有機基が好ましい。
【００３５】
【化６】
2017086334.tif 000008
【００３６】
（式（４）中、Ｒ4は単結合又は炭素数１〜１７のアルキレン基を表し、Ｙは酸素原子又は−ＮＨ−で示される基のいずれかを表す。＊＊＊は前記式（３）のヒドロキシフェニル基との結合部を表す。）
【００３７】
前記式（３）で示されるフェノール系酸化防止剤は、ｎが１である場合、Ｚは１価の有機基であり、フェノール性水酸基のオルト位にｔ−ブチル基を有する単官能フェノール系酸化防止剤（以下、「単官能フェノール系酸化防止剤」とも称する）である。
本発明に用いる単官能フェノール系酸化防止剤は、光反射率の向上、及び光反射率の低下を抑制する観点から、前記式（４）のＹは好ましくは酸素原子であり、Ｒ4は好ましくは単結合である。前記式（３）のＺは好ましくは炭素数５〜２５のアルキル基であり、より好ましくは炭素数１０〜２２のアルキル基であり、更に好ましくは炭素数１５〜２０のアルキル基であり、より更に好ましくは炭素数１８のアルキル基であり、より更に好ましくはｎ−オクタデシル基である。
前記単官能フェノール系酸化防止剤としては、ｎ−オクタデシル−３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート等が挙げられる。市販のものでは、例えば、「Ａｄｅｋａｓｔａｂ  ＡＯ−５０」（商品名、（株）ＡＤＥＫＡ製）、「ＩＲＧＡＮＯＸ１０７６」（商品名、ＢＡＳＦジャパン（株）製）等が挙げられる。
【００３８】
前記式（３）で示されるフェノール系酸化防止剤は、ｎが２である場合、Ｚは２価の有機基であり、フェノール性水酸基のオルト位にｔ−ブチル基を有する２官能フェノール系酸化防止剤（以下、「２官能フェノール系酸化防止剤」とも称する）である。
本発明に用いる２官能フェノール系酸化防止剤においては、前記式（４）のＲ4は好ましくは単結合である。
前記式（４）のＹが−ＮＨ−で示される基である場合には、光反射率の向上、及び光反射率の低下を抑制する観点から、前記式（３）のＺは、好ましくは炭素数１〜１０の直鎖又は分岐鎖アルキレン基であり、より好ましくは炭素数４〜８の直鎖又は分岐鎖アルキレン基であり、更に好ましくは炭素数６のアルキレン基であり、より更に好ましくはｎ−ヘキシレン基である。
前記式（４）のＹが酸素原子である場合には、光反射率の向上、及び光反射率の低下を抑制する観点から、前記式（３）のＺは炭素数１〜１０のアルキレン基、−Ｘ2−Ｏ−Ｘ2−で示されるエーテル基、−Ｘ2−Ｓ−Ｘ2−で示されるチオエーテル基、及び下記式（５）で示されるペンタエリスリトール由来のスピロ骨格を有する２価の有機基からなる群より選ばれる１種以上が好ましく、−Ｘ2−Ｓ−Ｘ2−で示されるチオエーテル基、及び下記式（５）で示されるペンタエリスリトール由来のスピロ骨格を有する２価の有機基からなる群より選ばれる１種以上がより好ましく、下記式（５）で示されるペンタエリスリトール由来のスピロ骨格を有する２価の有機基が更に好ましい。なお、前記エーテル基、前記チオエーテル基、及び下記式（５）で示される２価の有機基中のＸ2は、炭素数１〜１０の直鎖又は分岐鎖のアルキレン基を表す。
【００３９】
【化７】
2017086334.tif 000009
【００４０】
（式（５）中、Ｘ2は炭素数１〜１０の直鎖又は分岐鎖のアルキレン基を表す。）
【００４１】
前記式（５）のＸ2は、好ましくは炭素数１〜７の直鎖又は分岐鎖のアルキレン基であり、より好ましくは炭素数２〜４の直鎖又は分岐鎖のアルキレン基であり、更に好ましくは炭素数４の分岐ブチレン基であり、即ち前記式（５）で示される２価の有機基は下記式（５’）で示されるものが好ましい。
【００４２】
【化８】
2017086334.tif 000010
【００４３】
前記２官能フェノール系酸化防止剤として、２，２−チオ−ジエチレンビス［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、Ｎ，Ｎ’−ヘキサメチレンビス［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオンアミド］、トリエチレングリコールビス［（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオネート］、ヘキサメチレンビス［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、３，９−ビス［２−〔３−（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオニルオキシ〕−１，１−ジメチルエチル］−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５．５］ウンデカン等が挙げられる。市販のものでは、例えば、「ＩＲＧＡＮＯＸ１０３５」、「ＩＲＧＡＮＯＸ１０９８」、「ＩＲＧＡＮＯＸ２４５」、「ＩＲＧＡＮＯＸ２５９」（商品名、いずれもＢＡＳＦジャパン（株）製）、「Ａｄｅｋａｓｔａｂ  ＡＯ−８０」（商品名、（株）ＡＤＥＫＡ製）、「Ｓｕｍｉｌｉｚｅｒ  ＧＡ−８０」（商品名、住友化学（株）製）等が挙げられる。
【００４４】
前記式（３）で示されるフェノール系酸化防止剤は、ｎが３である場合、Ｚは３価の有機基であり、フェノール性水酸基のオルト位にｔ−ブチル基を有する３官能フェノール系酸化防止剤（以下、「３官能フェノール系酸化防止剤」とも称する）である。
前記３官能フェノール系酸化防止剤として、トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレイト、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン等が挙げられる。市販のものでは、例えば、「Ａｄｅｋａｓｔａｂ  ＡＯ−２０」（商品名、（株）ＡＤＥＫＡ製）、「Ａｄｅｋａｓｔａｂ  ＡＯ−３３０」（商品名、（株）ＡＤＥＫＡ製）等が挙げられる。
【００４５】
前記式（３）で示されるフェノール系酸化防止剤は、ｎが４である場合、Ｚは４価の有機基であり、フェノール性水酸基のオルト位にｔ−ブチル基を有する４官能フェノール系酸化防止剤（以下、「４官能フェノール系酸化防止剤」とも称する）である。
本発明に用いる４官能フェノール系酸化防止剤は、光反射率の向上、及び光反射率の低下を抑制する観点から、前記式（４）のＹは好ましくは酸素原子であり、Ｒ4は好ましくは炭素数１〜７のアルキレン基であり、より好ましくは炭素数１〜３のアルキレン基であり、更に好ましくはメチレン基である。
前記式（３）のＺは、光反射率の向上、及び光反射率の低下を抑制する観点から、好ましくは炭素原子である。
前記４官能フェノール系酸化防止剤として、ペンタエリスリチル−テトラキス［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］等が挙げられる。市販のものでは、例えば、「Ａｄｅｋａｓｔａｂ  ＡＯ−６０」（商品名、（株）ＡＤＥＫＡ製）、「ＩＲＧＡＮＯＸ１０１０」（商品名、ＢＡＳＦジャパン（株）製）等が挙げられる。
【００４６】
本発明に用いるフェノール系酸化防止剤（Ｃ）は、光反射率の向上、及び光反射率の低下を抑制する観点から、ｎ−オクタデシル−３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート（ＩＲＧＡＮＯＸ１０７６）、Ｎ，Ｎ’−ヘキサメチレンビス［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオンアミド］（ＩＲＧＡＮＯＸ１０９８）、２，２−チオ−ジエチレンビス［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］（ＩＲＧＡＮＯＸ１０３５）、３，９−ビス［２−〔３−（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオニルオキシ〕−１，１−ジメチルエチル］−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５．５］ウンデカン（Ｓｕｍｉｌｉｚｅｒ  ＧＡ−８０）、及びペンタエリスリチル−テトラキス［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］（ＩＲＧＡＮＯＸ１０１０）からなる群より選ばれる１種以上が好ましく、ｎ−オクタデシル−３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート（ＩＲＧＡＮＯＸ１０７６）、３，９−ビス［２−〔３−（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオニルオキシ〕−１，１−ジメチルエチル］−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５．５］ウンデカン（Ｓｕｍｉｌｉｚｅｒ  ＧＡ−８０）、及びペンタエリスリチル−テトラキス［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］（ＩＲＧＡＮＯＸ１０１０）からなる群より選ばれる１種以上がより好ましく、３，９−ビス［２−〔３−（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオニルオキシ〕−１，１−ジメチルエチル］−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５．５］ウンデカン（Ｓｕｍｉｌｉｚｅｒ  ＧＡ−８０）及びペンタエリスリチル−テトラキス［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］（ＩＲＧＡＮＯＸ１０１０）からなる群より選ばれる１種以上が更に好ましい。
これらのフェノール系酸化防止剤は、単独で又は２種以上を組み合わせて用いることができる。
【００４７】
＜リン系酸化防止剤（Ｄ）＞
本発明のポリエステル組成物は、リン系酸化防止剤（Ｄ）（以下、「（Ｄ）成分」とも称する）を含有し、該リン系酸化防止剤（Ｄ）がその分子中に下記式（１）で示される基を３つ以上含有する。
前記リン系酸化防止剤（Ｄ）を含有することにより、熱や光により発生した過酸化物を分解し、前記フェノール系酸化防止剤（Ｃ）と併用することにより、高い光反射性を有し、熱や光に晒された後でも光反射率の低下が少ない反射板が得られる。下記式（１）で示されるように、リン原子との結合部に隣接するオルト位にアルキル基を有することにより、熱や光により発生した過酸化物に対してより高い分解能力を有する。
【００４８】
【化９】
2017086334.tif 000011
【００４９】
（式（１）中、Ｒ11〜Ｒ13はそれぞれ独立に、炭素数１又は２のアルキル基であり、Ｒ14〜Ｒ17はそれぞれ独立に、水素原子又は炭素数１〜１０のアルキル基であり、＊はリン原子との結合部を表す。）
【００５０】
前記式（１）中、Ｒ11〜Ｒ13は、光反射率の低下を抑制する観点から、好ましくはメチル基であり、即ち、−Ｃ（Ｒ11）（Ｒ12）（Ｒ13）で示される基がｔ−ブチル基であることが好ましい。
前記式（１）中、Ｒ15は、好ましくは炭素数３〜７の２級又は３級アルキル基であり、より好ましくは炭素数４又は５の３級アルキル基であり、更に好ましくはｔ−ブチル基である。
前記式（１）中、Ｒ14及びＲ16は、立体障害を少なくし、熱や光により発生した過酸化物との反応性を向上させる観点から、それぞれ独立に好ましくは水素原子又は炭素数１〜２のアルキル基であり、より好ましくは水素原子である。
前記式（１）中、Ｒ17は、立体障害を少なくし、熱や光により発生した過酸化物との反応性を向上させる観点から、好ましくは水素原子又は炭素数１〜７のアルキル基であり、より好ましくは水素原子である。
【００５１】
前記リン系酸化防止剤（Ｄ）としては、光反射率の低下を抑制する観点から、その分子中に前記式（１）で示される基を３つ以上含有する亜リン酸エステル及び亜ホスホン酸エステルからなる群より選ばれる１種以上が好ましく、下記一般式（６）〜（７）で示されるリン系酸化防止剤からなる群より選ばれる１種以上がより好ましい。
【００５２】
【化１０】
2017086334.tif 000012
【００５３】
（式（６）中、Ｒ61、Ｒ63、及びＲ64はそれぞれ独立に、水素原子又はメチル基を表し、Ｒ62は炭素数１〜１０のアルキル基を表す。）
【００５４】
前記式（６）中、Ｒ62は、好ましくは炭素数３〜７の２級又は３級アルキル基であり、より好ましくは炭素数４又は５の３級アルキル基であり、更に好ましくはｔ−ブチル基である。
前記式（６）中、Ｒ61、Ｒ63、及びＲ64は、立体障害を少なくし、熱や光により発生した過酸化物との反応性を向上させる観点から、好ましくは水素原子である。
前記式（６）で示されるリン系酸化防止剤としては、トリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイトが好ましい。市販のものでは、例えば、「ＩＲＧＡＦＯＳ１６８」（商品名、ＢＡＳＦジャパン（株）製）等が挙げられる。
【００５５】
【化１１】
2017086334.tif 000013
【００５６】
（式（７）中、Ｒ71、Ｒ73、Ｒ74、Ｒ75、Ｒ77、及びＲ78はそれぞれ独立に、水素原子又はメチル基を表し、Ｒ72及びＲ76はそれぞれ独立に、炭素数１〜１０のアルキル基を表す。Ｘ3は単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ２−又は炭素数１〜１０の２価の有機基を示す。）
【００５７】
前記式（７）中、Ｒ72及びＲ76は、好ましくは炭素数３〜７の２級又は３級アルキル基であり、より好ましくは炭素数４又は５の３級アルキル基であり、更に好ましくはｔ−ブチル基である。
前記式（７）中、Ｒ71、Ｒ73、Ｒ74、Ｒ75、Ｒ77、及びＲ78は、好ましくは水素原子である。
前記式（７）中、Ｘ3は、好ましくは単結合である。
前記式（７）で示されるリン系酸化防止剤としては、テトラキス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）−４，４’−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス（２，４−ジ−ｔ−ブチル−５−メチルフェニル）−４，４’−ビフェニレンジホスホナイト等が挙げられ、光反射率の向上、及び光反射率の低下を抑制する観点から、テトラキス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）−４，４’−ビフェニレンジホスホナイトが好ましい。
市販のものでは、例えば、「Ｈｏｓｔａｎｏｘ  Ｐ−ＥＰＱ」（商品名、クラリアントジャパン（株）製）、「ＧＳＹ−Ｐ１０１」（商品名、堺化学工業（株））等が挙げられる。
これらのリン系酸化防止剤は、単独で又は２種以上を組み合わせて用いることができる。
【００５８】
前記リン系酸化防止剤（Ｄ）としては、光反射率の低下を抑制する観点から、トリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイト（「ＩＲＧＡＦＯＳ１６８」）、及びテトラキス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）−４，４’−ビフェニレンジホスホナイト（「Ｈｏｓｔａｎｏｘ  Ｐ−ＥＰＱ」）からなる群より選ばれる１種以上が好ましく、テトラキス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）−４，４’−ビフェニレンジホスホナイト（「Ｈｏｓｔａｎｏｘ  Ｐ−ＥＰＱ」）がより好ましい。
【００５９】
前記フェノール系酸化防止剤（Ｃ）及び前記リン系酸化防止剤（Ｄ）の好適な組合せとしては、光反射率の向上、及び光反射率の低下を抑制する観点から、ｎ−オクタデシル−３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート（ＩＲＧＡＮＯＸ１０７６）、Ｎ，Ｎ’−ヘキサメチレンビス［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオンアミド］（ＩＲＧＡＮＯＸ１０９８）、２，２−チオ−ジエチレンビス［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］（ＩＲＧＡＮＯＸ１０３５）、３，９−ビス［２−〔３−（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオニルオキシ〕−１，１−ジメチルエチル］−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５．５］ウンデカン（Ｓｕｍｉｌｉｚｅｒ  ＧＡ−８０）、及びペンタエリスリチル−テトラキス［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］（ＩＲＧＡＮＯＸ１０１０）からなる群より選ばれる１種以上のフェノール系酸化防止剤と、トリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイト（ＩＲＧＡＦＯＳ１６８）、及びテトラキス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）−４，４’−ビフェニレンジホスホナイト（Ｈｏｓｔａｎｏｘ  Ｐ−ＥＰＱ）からなる群より選ばれる１種以上のリン系酸化防止剤との組合せが好ましく、ｎ−オクタデシル−３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート（ＩＲＧＡＮＯＸ１０７６）とテトラキス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）−４，４’−ビフェニレンジホスホナイト（Ｈｏｓｔａｎｏｘ  Ｐ−ＥＰＱ）との組合せ、３，９−ビス［２−〔３−（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオニルオキシ〕−１，１−ジメチルエチル］−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５．５］ウンデカン（Ｓｕｍｉｌｉｚｅｒ  ＧＡ−８０）とテトラキス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）−４，４’−ビフェニレンジホスホナイト（Ｈｏｓｔａｎｏｘ  Ｐ−ＥＰＱ）との組合せ、ペンタエリスリチル−テトラキス［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］（ＩＲＧＡＮＯＸ１０１０）とテトラキス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）−４，４’−ビフェニレンジホスホナイト（Ｈｏｓｔａｎｏｘ  Ｐ−ＥＰＱ）との組合せ、及びＮ，Ｎ’−ヘキサメチレンビス［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオンアミド］（ＩＲＧＡＮＯＸ１０９８）とトリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイト（ＩＲＧＡＦＯＳ１６８）との組合せからなる群より選ばれる１種以上がより好ましい。
【００６０】
＜強化材（Ｅ）＞
本発明のポリエステル組成物は、さらに強化材（Ｅ）を含有することが好ましい。前記強化材（Ｅ）を含むことにより、得られる反射板の成形性及び機械的強度を向上させることができる。
前記強化材（Ｅ）としては、繊維状、平板状、針状、粉末状、クロス状等の各種形状を有するものを使用することができる。具体的には、ガラス繊維、炭素繊維、アラミド繊維、液晶ポリマー（ＬＣＰ）繊維、金属繊維等の繊維状強化材；マイカ、タルク等の平板状強化材；チタン酸カリウムウィスカー、ホウ酸アルミニウムウィスカー、炭酸カルシウムウィスカー、硫酸マグネシウムウィスカー、ワラストナイト、セピオライト、ゾノトライト、酸化亜鉛ウィスカー等の針状強化材；シリカ、アルミナ、炭酸バリウム、炭酸マグネシウム、窒化アルミニウム、窒化ホウ素、チタン酸カリウム、ケイ酸アルミニウム（カオリン、クレー、パイロフィライト、ベントナイト）、ケイ酸カルシウム、ケイ酸マグネシウム（アタパルジャイト）、ホウ酸アルミニウム、硫酸カルシウム、硫酸バリウム、硫酸マグネシウム、アスベスト、ガラスビーズ、カーボンブラック、グラファイト、カーボンナノチューブ、炭化ケイ素、セリサイト、ハイドロタルサイト、二硫化モリブデン、フェノール樹脂粒子、架橋スチレン系樹脂粒子、架橋アクリル系樹脂粒子等の粉末状強化材；ガラスクロス等のクロス状強化材などが挙げられる。これらの強化材は、単独で又は２種以上を組み合わせて用いることができる。
これらの強化材は、ポリエステル組成物中への分散性を高める観点から、及び前記ポリエステル（Ａ）との接着性を高めるから、表面処理を施したものを使用してもよい。表面処理剤としては、シランカップリング剤、チタンカップリング剤、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂等の高分子化合物、又はその他低分子化合物等が挙げられる。
【００６１】
本発明に用いる強化剤（Ｅ）は、前記強化材の中でも、コスト抑制の観点、及び機械的強度向上の観点からは、繊維状強化材及び針状強化材からなる群より選ばれる１種以上が好ましく、コスト抑制の観点、及び機械的強度向上の観点からは、繊維状強化材がより好ましく、ガラス繊維が更に好ましい。また、表面平滑性の高い反射板を得る観点からは、針状強化材がより好ましい。特に、反射板の白色度を保持する観点からは、ガラス繊維、ワラストナイト、チタン酸カリウムウィスカー、炭酸カルシウムウィスカー、及びホウ酸アルミニウムウィスカーからなる群より選ばれる１種以上が好ましく、ガラス繊維及びワラストナイトからなる群より選ばれる１種以上がより好ましく、ガラス繊維が更に好ましい。
ガラス繊維の平均繊維長は、好ましくは１〜１０ｍｍ、より好ましくは１〜７ｍｍ、更に好ましくは２〜４ｍｍである。また、ガラス繊維の断面形状は特に限定されないが、生産性及び機械的強度の観点から、異形断面又は円状断面が好ましく、コスト抑制の観点から、円形断面がより好ましい。
ここで、異形断面を有するガラス繊維とは、繊維の長さ方向に垂直な断面において、その断面の外周の長さが、同じ断面積の真円形断面を有するガラス繊維断面の外周の長さに対して、１．０５倍〜１．７倍である断面形状を有するガラス繊維をいう。断面形状としては、特に断面の長手方向の中央部がくびれたまゆ形、断面の重心に対して対称の位置に略平行である部分を有する長円形又は楕円形が好ましい。
ガラス繊維の平均繊維径は、機械的強度向上の観点から、好ましくは６〜２０μｍ、より好ましくは６〜１５μｍである。
ガラス繊維の平均繊維長及び平均繊維径は、前述の酸化チタン（Ｂ）の平均粒径の測定と同様の方法で、電子顕微鏡法を用いた画像解析により求めることができる。
【００６２】
＜光安定剤（Ｆ）＞
本発明のポリエステル組成物は、得られる反射板の変色を防止し、光反射率の低下を抑制する観点から、さらに光安定剤（Ｆ）を含有することが好ましい。
前記光安定剤（Ｆ）としては、ベンゾフェノン系化合物、サリチレート系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、アクリロニトリル系化合物、その他の共役系化合物等の紫外線吸収効果のある化合物、ヒンダードアミン系化合物等のラジカル捕捉能力のある化合物等が挙げられる。特に、前記ポリエステル（Ａ）との親和性が高く、耐熱性向上の観点から、その分子中にアミド結合を有する化合物が好ましい。また、より高い安定化効果が得る観点から、紫外線吸収効果のある化合物とラジカル捕捉能力のある化合物を併用することが好ましい。これらの光安定剤は、単独で又は２種以上を組み合わせて用いることができる。
【００６３】
〔その他の成分〕
本発明のポリエステル組成物は、ニグロシンやその他有機系又は無機系の着色剤；帯電防止剤；結晶核剤；可塑剤；ポリオレフィンワックス、高級脂肪酸エステル等のワックス類；シリコーンオイル等の離型剤；滑剤などの他の成分をさらに配合することもできる。
本発明のポリエステル組成物に他の成分を配合する場合、ポリエステル（Ａ）１００質量部に対して、その他の成分の各含有量は５質量部以下であることが好ましい。
【００６４】
〔ポリエステル組成物中の各成分の含有量〕
本発明に用いるポリエステル（Ａ）の含有量は、ＬＥＤ反射板への成形性、耐熱性及び機械的強度向上の観点から、ポリエステル組成物中、好ましくは４０質量％以上、より好ましくは４５質量％以上、更に好ましくは５０質量％以上であり、そして、得られる反射板の機械的物性や高い反射率を得る観点から、好ましくは８０質量％以下、より好ましくは７５質量％以下、更に好ましくは７０質量％以下である。
本発明に用いる酸化チタン（Ｂ）の含有量は、高い光反射率を得る観点から、ポリエステル（Ａ）１００質量部に対して、２０質量部以上であり、好ましくは２５質量部以上、より好ましくは３０質量部以上であり、そして、ＬＥＤ反射板への成形性、耐熱性及び機械的強度向上の観点から、９０質量部以下であり、好ましくは８５質量部以下、より好ましくは８０質量部以下である。
本発明に用いるフェノール系酸化防止剤（Ｃ）の含有量は、高い光反射率を得る観点、及び光反射率の低下を抑制する観点から、ポリエステル（Ａ）１００質量部に対して、０．１０質量部以上であり、好ましくは０．１３質量部以上、より好ましくは０．１５質量部以上であり、そして、成形時に発生するガスによるガス焼け等の不良に伴う光反射率の低下を抑制する観点から、０．８０質量部以下であり、好ましくは０．７５質量部以下、より好ましくは０．６０質量部以下、更に好ましくは０．５０質量部以下、より更に好ましくは０．３０質量部以下である。
【００６５】
本発明において、前記リン系酸化防止剤（Ｄ）に対する前記フェノール系酸化防止剤（Ｃ）の質量比［（Ｃ）成分／（Ｄ）成分］は、下記式（Ｉ）を満たすものである。
０．２０≦質量比［（Ｃ）成分／（Ｄ）成分］≦５．００      （Ｉ）
前記質量比［（Ｃ）成分／（Ｄ）成分］は、高い光反射率を得る観点、及び光反射率の低下を抑制する観点から、０．２０以上であり、好ましくは０．３０以上、より好ましくは０．５０以上、更に好ましくは０．７０以上であり、そして、成形時に発生するガスによるガス焼け等の不良に伴う光反射率の低下を抑制する観点から、５．００以下であり、好ましくは３．００以下、より好ましくは２．００以下、更に好ましくは１．５０以下、より更に好ましくは１．００以下である。
前記リン系酸化防止剤（Ｄ）に対する前記フェノール系酸化防止剤（Ｃ）の質量比［（Ｃ）成分／（Ｄ）成分］は、高い光反射率を得る観点、及び光反射率の低下を抑制する観点、並びに成形時に発生するガスによるガス焼け等の不良に伴う光反射率の低下を抑制する観点から、下記式（Ｉ’）を満たすことが好ましい。
０．２０≦質量比［（Ｃ）成分／（Ｄ）成分］≦３．００      （Ｉ’）
ただし、本発明のポリエステル組成物中のフェノール系酸化防止剤（Ｃ）及びリン系酸化防止剤（Ｄ）の合計含有量は、好ましくはポリエステル（Ａ）１００質量部に対し１．５質量部以下、より好ましくは１．０質量部以下である。該合計含有量が１．５質量部以下であれば、ポリエステル組成物の成形時に発生するガス量が少ないため、成形品表面にガス残りが生じることによりガス焼けの跡が残ったり、加熱時や光処理時に変色するといった不具合を回避することができる。
【００６６】
本発明に用いる強化材（Ｅ）の含有量は、耐熱性及び機械的強度向上の観点から、ポリエステル（Ａ）１００質量部に対して、好ましくは５質量部以上、より好ましくは１０質量部以上、更に好ましくは１５質量部以上であり、そして、高い光反射率を得る観点、及び光反射率の低下を抑制する観点から、好ましくは５０質量部以下、より好ましくは４０質量部以下である。
本発明に用いる光安定剤（Ｆ）の含有量は、得られる反射板の変色を防止し、光反射率の低下を抑制する観点から、特に光に晒された後の光反射率の低下を抑制する観点から、ポリエステル（Ａ）１００質量部に対して、好ましくは０．１０質量部以上、より好ましくは０．１５質量部以上であり、そして、コスト抑制の観点から、好ましくは２．０質量部以下、より好ましくは１．２質量部以下、更に好ましくは０．８質量部以下、より更に好ましくは０．５質量部以下である。また、熱に晒された後の光反射率の低下を抑制する観点からは、より更に好ましくは０．３質量部以下である。
【００６７】
本発明のポリエステル組成物は、上記した各成分を、公知の方法に従って混合することによって調製することができる。例えば、前記ポリエステル（Ａ）の縮重合反応時に各成分を添加する方法、前記ポリエステル（Ａ）とその他の成分をドライブレンドする方法、押出機を用いて各成分を溶融混錬する方法等が挙げられる。これらの中でも操作が容易であること、均一な組成物が得られることなどから、押出機を用いて各成分を溶融混錬する方法が好ましい。この際に用いられる押出機は２軸スクリュー型のものが好ましく、溶融混錬温度としては前記ポリエステル（Ａ）の融点より５℃高い温度から３５０℃以下の範囲内であることが好ましい。
【００６８】
［ＬＥＤ反射板］
本発明のＬＥＤ反射板は、上記本発明のポリエステル組成物を成形して得られる。成形方法としては、射出成形、押出成形、プレス成形、ブロー成形、カレンダー成形、流延成形等の一般に熱可塑性樹脂組成物に対して用いる成形方法により反射板を得ることができる。また上記の成形方法を組み合わせた成形方法により反射板を得ることもできる。特に、成形容易性、量産性、コスト抑制の観点から、射出成形が好ましい。また、本発明のＬＥＤ反射板は、前記ポリエステル組成物と他のポリマーとを複合成形することもでき、さらに、前記ポリエステル組成物を、金属からなる成形体や布帛等と複合化することできる。
【００６９】
本発明のＬＥＤ反射板は、スペクトロフォトメーターによる波長４６０ｎｍの光の反射率が、熱や光に晒された後でもその低下が少なく、高いレベルで維持できることを特徴とする。例えばポリエステル（Ａ）１００質量部に対し酸化チタン（Ｂ）の含有量が３３質量部の場合、１７０℃で５時間にて短期加熱した後における初期反射率からの反射率の低下量は、好ましくは３．５％以下、より好ましくは３．０％以下、更に好ましくは２．５％以下、より更に好ましくは２．０％以下、より更に好ましくは１．５％以下である。これにより、ＬＥＤパッケージの製造工程において熱に晒された後の光反射率の低下を抑制することができる。また、１２０℃で６００時間にて長期加熱した後における初期反射率からの反射率の低下量は、好ましくは６．０％以下であり、より好ましくは５．５％以下であり、更に好ましくは５．０％以下、より更に好ましくは４．５％以下、より更に好ましくは４．０％以下、より更に好ましくは３．５％以下である。これにより、反射板を長期使用する環境下においても光反射率の低下を抑制することができる。
本発明のＬＥＤ反射板のスペクトロフォトメーターによる波長４６０ｎｍの光の初期反射率は、例えばポリエステル（Ａ）１００質量部に対し酸化チタン（Ｂ）の含有量が３３質量部の場合、好ましくは９３％以上、より好ましくは９４％以上、更に好ましくは９４．５％以上である。
上記各反射率の測定は、実施例に記載した方法による。
【００７０】
さらに、本発明のＬＥＤ反射板は、例えばポリエステル（Ａ）１００質量部に対し酸化チタン（Ｂ）の含有量が３３質量部の場合、１２０℃で、１，５００時間光照射した後に測定するスペクトロフォトメーターによる波長４６０ｎｍの光の反射率が、好ましくは８６．０％以上であり、より好ましくは８６．５％以上であり、更に好ましくは８７．０％以上である。
なお、上記光照射は、実施例に記載した方法により、空気中で２９５ｎｍ〜７８０ｎｍの光を透過させるフィルターを通したメタルハライドランプの光を３００〜４００ｎｍの波長における照度が１０ｍＷ／ｃｍ2となる位置で行ったものである。
上記反射率の測定は、実施例に記載した方法による。
【００７１】
本発明のＬＥＤ反射板は、特に、ＬＥＤパッケージの製造工程や使用環境において熱や光に晒された後でも光反射率の低下が少なく、高い光反射率（波長４６０ｎｍ付近の光に対する反射率）を維持する。そのため、本発明のＬＥＤ反射板は、例えばバックライト光源、照明器具、自動車の各種ランプ等に用いられるＬＥＤ用の反射板として好適に使用でき、本発明のＬＥＤ反射板を備える発光装置は高寿命となる。
【００７２】
［発光装置］
本発明の発光装置は、上記本発明のＬＥＤ反射板を備えることを特徴とする。本発明の発光装置の例としては、バックライト光源、照明用光源、自動車の各種ランプの光源等が挙げられる。
図１に本発明の発光装置の代表的な構成の一例を示す。図１は、ＳＭＤ（surface mounted device）タイプの発光装置（ＬＥＤ装置）１を模式的に表したものである。発光装置１では基板２０とリフレクタ（筐体）３０により形成されるパッケージ状部５０に半導体発光素子１０が配置され、パッケージ状部５０には封止部材４０（光透過性の樹脂）が充填されている。
【００７３】
以下、本発明の発光装置の各要素を説明する。因みに本発明の発光装置は以下の要素に制限されるものではない。
【００７４】
＜半導体発光素子＞
半導体発光素子１０は、発光ピーク波長を５００ｎｍ以下の波長領域に有するものを好適に使用できる。単一の発光ピークを有する半導体発光素子に限られず、複数の発光ピークを有する半導体発光素子を用いることもできる。なお、複数の発光ピークを有する場合には、５００ｎｍよりも長波長の領域に１つ又は２つ以上の発光ピークを有していてもよい。また、可視光の長波長領域（５０１ｎｍ〜７８０ｎｍ）に発光ピークを有する半導体発光素子も用いることができる。
【００７５】
半導体発光素子１０の構成は、上記の波長特性を備えるものであれば特に限定されない。例えばＧａＡｌＮ、ＺｎＳ、ＺｎＳｅ、ＳｉＣ、ＧａＰ、ＧａＡｌＡｓ、ＡｌＮ、ＩｎＮ、ＡｌＩｎＧａＰ、ＩｎＧａＮ、ＧａＮ、ＡｌＩｎＧａＮ等の半導体を発光層として形成させたものを用いることができる。
また、発光層は任意のドーパントを含有するものであってもよい。
【００７６】
半導体発光素子１０は適宜複数個用いることができる。例えば、緑色系が発光可能な発光素子を２個、青色系及び赤色系が発光可能な発光素子をそれぞれ１個ずつとすることができる。
【００７７】
半導体発光素子１０の基板２０への接続方法には特に制限はないが、導電性のエポキシあるいはシリコーン接着剤を使用することができる。さらに半導体発光素子から発生する熱を効率良く基板へ伝えるために低融点の金属を使用することができる。例えば、Ｓｎ／Ａｇ／Ｃｕ（融点２２０度）、Ｓｎ／Ａｕ（融点２８２度）等を例示することができる。
【００７８】
＜パッケージ＞
パッケージは半導体発光素子１０が搭載される部材であり、一部又は全体が上述の本発明のＬＥＤ反射板により形成される。パッケージは、単一の部材からなるものであっても、複数の部材を組み合わせて構成されるものであってもよい。
パッケージは、好ましくは凹部（カップ状部）を有する。パッケージの１つの例としては、リフレクタ（筐体）と基板を組み合わせたものが挙げられ、例えば、図１では、凹部（カップ状部）が形成されるように、基板２０上に所望の形状のリフレクタ（筐体）３０を接着させてパッケージが構成されている。基板２０及びリフレクタ３０は、上述のポリエステル組成物を成形した本発明のＬＥＤ反射板より形成される。基板２０及びリフレクタ３０の一方のみが、本発明のＬＥＤ反射板より形成されてもよい。このように複数の本発明のＬＥＤ反射板を用いる場合には、ポリエステル組成物の組成を変えてＬＥＤ反射板を形成することにより得られる異なる特性のＬＥＤ反射板を組み合わせて用いてもよい。別の例としては、上述のポリエステル組成物を、一の面側に凹部（カップ状部）が形成されるように成形し、パッケージを１つのＬＥＤ反射板より形成した構成が挙げられる。さらに別の例として、パッケージとして平板状のＬＥＤ反射板のみからなるものを用いることもできる。
【００７９】
パッケージに形成される凹部（カップ状部）とは、底部と側面部とを有し、光軸に垂直方向の断面の面積が、該底部から発光装置の光の取り出し方向に向かって連続的又は段階的に増加する形状を有する空間からなる部分をいう。かかる条件を満たす範囲において、底部及び側面部の形状は特に限定されるものではない。
【００８０】
＜封止部材＞
封止部材４０は半導体発光素子１０を被覆するように形成される部材であり、主として外部環境から半導体発光素子１０を保護する目的で備えられる。
封止部材４０には、半導体発光素子１０や配線の保護を目的として透明熱硬化性樹脂を使用することができる。透明熱硬化性樹脂としてはエポキシあるいはシリコーンを含む熱硬化性樹脂を例示することができる。シリコーンはパッケージの要求特性に応じて樹脂タイプ、ゴムタイプ、ゲルタイプを使用することができる。また、リフレクタ３０と封止部材４０との密着性を高めるためにリフレクタ３０をアルゴン等の希ガスプラズマで処理することができる。
異なる材料からなる複数の層が半導体発光素子１０上に積層して形成されるように封止部材４０を設けることもできる。
【００８１】
封止部材４０に蛍光体を含有させることもできる。蛍光体を用いることにより、半導体発光素子１０からの光の一部を異なる波長の光に変換することができ、発光装置の発光色を変化させ、又は補正することができる。
蛍光体は半導体発光素子１０からの光により励起可能なものであれば任意のものを用いることができる。例えば、Ｅｕ、Ｃｅ等のランタノイド系元素で主に賦活される窒化物蛍光体、酸窒化物系蛍光体、サイアロン系蛍光体；Ｅｕ等のランタノイド系又はＭｎ等の遷移金属系の元素により主に賦活されるアルカリ土類金属アルミン酸塩蛍光体、アルカリ土類ケイ酸塩、アルカリ土類硫化物、アルカリ土類チオガレート、アルカリ土類窒化ケイ素、ゲルマン酸塩；Ｃｅ等のランタノイド系元素で主に賦活される希土類アルミン酸塩、希土類ケイ酸塩、あるいはＥｕ等のランタノイド系元素で主に賦活される有機化合物及び有機錯体等からなる群より選ばれる１種以上が好ましく用いられる。
【００８２】
また複数種類の蛍光体を組み合わせて封止部材４０に含有させることもできる。この場合には、半導体発光素子１０からの光により励起されて発光する蛍光体、及び該蛍光体からの光により励起されて発光する蛍光体とを組み合わせて用いることもできる。
【００８３】
封止部材４０に二酸化チタンや酸化亜鉛等の光拡散体を含有させることにより、封止部材４０内での光の拡散を促進させて発光ムラを減少させることもできる。
【００８４】
図１の発光装置１は、例えば、次のように製造される。まず、本発明のＬＥＤ反射板である基板２０上に本発明のＬＥＤ反射板であるリフレクタ３０を配置する。続いて、半導体発光素子１０をマウントし、半導体発光素子１０の電極と基板２０上の配線パターンとをリードで接続する。続いて、主剤と硬化剤からなる液状のシリコーン封止剤を準備し、カップ状部にポッティングする。この状態で約１５０℃に加熱してシリコーン封止剤を熱硬化させる。その後、空気中で放熱させる。
【００８５】
図２に他の構成からなる本発明の発光装置２の模式図を示す。図２において、発光装置１と同一の要素には同一の符号を付してある。発光装置２では、基板の代わりにリードフレーム８０が用いられ、リードフレーム８０の上に半導体発光素子１０がマウントされる。その他の構成は、発光装置１と同様である。
【００８６】
図３に他の構成からなる本発明の発光装置３の模式図を示す。図３において、発光装置１と同一の要素には同一の符号を付してある。発光装置３では、本発明のＬＥＤ反射板である基板７０が用いられる。基板７０には所望の配線７１が施されている。また、筐体（リフレクタ）は用いられず、図示されるように半導体発光素子１０をマウントした後、所望の型を用いた型成形により封止部材６０を形成することができる。また、予め所望の形状に成形した封止部材６０を用意しておき、これを半導体発光素子１０を覆うように基板７０に接着させてもよい。
【００８７】
以上、本発明の構成例としてＳＭＤタイプの発光装置について説明したが、本発明は、カップ状部を有するリードフレーム上に半導体発光素子がマウントされ、半導体発光素子及びリードフレームの一部を封止部材で被覆してなる、いわゆる砲弾型発光ダイオードにも適用できるものである。また、半導体発光素子をいわゆるフリップチップの形に基板又はリードフレーム上にマウントしたフリップチップタイプの発光装置にも適用できるものである。
【実施例】
【００８８】
以下、実施例及び比較例を用いて本発明をより詳細に説明するが、本発明は下記実施例に限定されるものではない。
なお、実施例及び比較例における各評価は、以下に示す方法に従って行った。【００８９】
（融点）
ポリエステルの融点は、メトラー・トレド（株）製の示差走査熱量分析装置「ＤＳＣ８２２」を使用して、窒素雰囲気下で、３０℃から３５０℃へ１０℃／ｍｉｎの速度で昇温した時に現れる融解ピークのピーク温度を融点（℃）とした。なお、融解ピークが複数ある場合は最も高温側の融解ピークのピーク温度を融点とした。【００９０】
（重量平均分子量）
重量平均分子量は、以下の条件でＧＰＣにより測定した。
カラム：東ソー社製ＴＳＫｇｅｌ  Ｓｕｐｅｒ  ＨＭ−Ｎ  ２本
溶離液：ヘキサフルオロイソプロパノール（トリフルオロ酢酸ナトリウム０．０８５質量％添加）
流量：０．４ｍＬ／ｍｉｎ
試料：ポリエステル（Ａ）２．５ｍｇをヘキサフルオロイソプロパノール溶液５ｍＬ（トリフルオロ酢酸ナトリウム０．０８５質量％添加）に溶解し、調製した。
カラム温度：４０℃
検出器：紫外検出器（測定波長：２５４ｎｍ）
標準物質：ポリメタクリル酸メチル【００９１】
（初期反射率）
実施例及び比較例で得られたポリエステル組成物を用い、ポリエステルの融点よりも約２０℃高いシリンダー温度で射出成形（金型温度：１４０℃）を行い、厚さ１ｍｍ、幅４０ｍｍ、長さ１００ｍｍの試験片を作製した。この試験片の４６０ｎｍの波長の光の反射率（初期反射率）を（株）日立製作所製スペクトロフォトメーター（Ｕ−４０００）により求めた。また、該初期反射率を下記評価基準より評価した。結果を表１及び２に示す。
〔評価基準〕
Ａ：初期反射率が９４％以上
Ｂ：初期反射率が９３％以上９４％未満
Ｃ：初期反射率が９２％以上９３％未満【００９２】
（短期加熱後の反射率の低下量（１））
実施例及び比較例で得られたポリエステル組成物を用い、ポリエステルの融点よりも約２０℃高いシリンダー温度で射出成形（金型温度：１４０℃）を行い、厚さ１ｍｍ、幅４０ｍｍ、長さ１００ｍｍの試験片を作製した。この試験片を熱風乾燥機中、１７０℃で５時間加熱処理した。加熱処理後の試験片の４６０ｎｍの波長の光の反射率（１）を（株）日立製作所製スペクトロフォトメーター（Ｕ−４０００）により求め、下記式より短期加熱後の反射率の低下量（１）を求めた。また、低下量（１）を下記評価基準より評価した。結果を表１及び２に示す。
低下量（１）（％）＝（初期反射率（％））−（反射率（１）（％））
〔評価基準〕
Ａ：低下量（１）が３．０％以下
Ｂ：低下量（１）が３．０％超３．５％以下
Ｃ：低下量（１）が３．５％超【００９３】
（長期加熱後の反射率の低下量（２））
実施例及び比較例で得られたポリエステル組成物を用い、ポリエステルの融点よりも約２０℃高いシリンダー温度で射出成形（金型温度：１４０℃）を行い、厚さ１ｍｍ、幅４０ｍｍ、長さ１００ｍｍの試験片を作製した。この試験片を熱風乾燥機中、１２０℃で６００時間加熱処理した。加熱処理後の試験片の４６０ｎｍの波長の光の反射率（２）を（株）日立製作所製スペクトロフォトメーター（Ｕ−４０００）により求め、下記式より長期加熱後の反射率の低下量（２）を求めた。また、低下量（２）を下記評価基準より評価した。結果を表１及び２に示す。
低下量（２）（％）＝（初期反射率（％））−（反射率（２）（％））
〔評価基準〕
Ａ：低下量（２）が５．５％以下
Ｂ：低下量（２）が５．５％超６．０％以下
Ｃ：低下量（２）が６．０％超【００９４】
（光照射後の反射率）
実施例及び比較例で得られたポリエステル組成物を用い、ポリエステルの融点よりも約２０℃高いシリンダー温度で射出成形（金型温度：１４０℃）を行い、長さ１００ｍｍ、幅４０ｍｍ、厚み１ｍｍの試験片を作製した。この試験片を、ＫＦ−１フィルター（ダイプラ・ウィンテス（株）製、透過波長領域：２９５ｎｍ〜７８０ｎｍ）を備えた耐光性試験装置（ダイプラ・ウィンテス（株）製スーパーウィン・ミニ、ランプ：メタルハライドランプ）の、上部石英ガラス面から２５ｃｍの距離に設置し、１２０℃、１，５００時間の光照射を行った。なお、試験片を設置した位置での３００〜４００ｎｍの波長における照度は１０ｍＷ／ｃｍ2であった。光照射後の試験片の４６０ｎｍの波長の光の反射率を（株）日立製作所製スペクトロフォトメーター（Ｕ−４０００）により求めた。結果を表１及び２に示す。【００９５】
なお、実施例及び比較例で用いた各成分は下記のとおりである。
〔ポリエステル（Ａ）〕
・Ａ−１：テレフタル酸を１００モル％含むジカルボン酸に由来する構成単位とトランス異性体比率６９質量％の１，４−シクロヘキサンジメタノールを１００モル％含むジオールに由来する構成単位とを有するポリシクロヘキサンジメチレンテレフタレート（融点  ２９０℃、重量平均分子量＝６，５００）
・Ａ−２：テレフタル酸を９２モル％、イソフタル酸を８モル％含むジカルボン酸に由来する構成単位とトランス異性体比率７２質量％の１，４−シクロヘキサンジメタノールを１００モル％含むジオールに由来する構成単位とを有するポリシクロヘキサンジメチレンテレフタレート（融点  ２７８℃、重量平均分子量＝６，０００）【００９６】
〔酸化チタン（Ｂ）〕
・Ｂ−１：二酸化チタン（平均粒径０．２５μｍ、屈折率２．７１）【００９７】
〔フェノール系酸化防止剤（Ｃ）〕
・Ｃ−１：３，９−ビス［２−〔３−（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオニルオキシ〕−１，１−ジメチルエチル］−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５．５］ウンデカン（下記式（８）、住友化学（株）製、商品名：「Ｓｕｍｉｌｉｚｅｒ  ＧＡ−８０」）【００９８】
【化１２】
2017086334.tif 000014
【００９９】
・Ｃ−２：ペンタエリスリチル−テトラキス［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］（下記式（９）、ＢＡＳＦジャパン（株）製、商品名：「ＩＲＧＡＮＯＸ１０１０」）【０１００】
【化１３】
2017086334.tif 000015
【０１０１】
・Ｃ−３：２，２−チオ−ジエチレンビス［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］（下記式（１０）、ＢＡＳＦジャパン（株）製、商品名：「ＩＲＧＡＮＯＸ１０３５」）【０１０２】
【化１４】
2017086334.tif 000016
【０１０３】
・Ｃ−４：ｎ−オクタデシル−３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート（下記式（１１）、ＢＡＳＦジャパン（株）製、商品名：「ＩＲＧＡＮＯＸ１０７６」）【０１０４】
【化１５】
2017086334.tif 000017
【０１０５】
・Ｃ−５：Ｎ，Ｎ’−ヘキサメチレンビス［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオンアミド］（下記式（１２）、ＢＡＳＦジャパン（株）製、商品名：「ＩＲＧＡＮＯＸ１０９８」）【０１０６】
【化１６】
2017086334.tif 000018
【０１０７】
〔リン系酸化防止剤（Ｄ）〕
・Ｄ−１：テトラキス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）−４，４’−ビフェニレンジホスホナイト（下記式（１３）、クラリアントジャパン（株）製、商品名：「Ｈｏｓｔａｎｏｘ  Ｐ−ＥＰＱ」）【０１０８】
【化１７】
2017086334.tif 000019
【０１０９】
・Ｄ−２：トリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイト（下記式（１４）、ＢＡＳＦジャパン（株）製、商品名：「ＩＲＧＡＦＯＳ１６８」）【０１１０】
【化１８】
2017086334.tif 000020
【０１１１】
・ｄ−３：３，９−ビス（２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノキシ）−２，４，８，１０−テトラオキサ−３，９−ジホスファスピロ［５．５］ウンデカン（（株）ＡＤＥＫＡ製、商品名：「Ａｄｅｋａｓｔａｂ  ＰＥＰ−３６」）
・ｄ−４：３，９−ビス（オクタデシロキシ）−２，４，８，１０−テトラオキサ−３，９−ジホスファスピロ［５．５］ウンデカン（（株）ＡＤＥＫＡ製、商品名：「Ａｄｅｋａｓｔａｂ  ＰＥＰ−８」）
・ｄ−５：２，２’−メチレンビス（４，６−ジ−ｔ−ブチルフェニル）２−エチルヘキシルホスファイト（（株）ＡＤＥＫＡ製、商品名：「Ａｄｅｋａｓｔａｂ  ＨＰ−１０」）【０１１２】
〔強化材（Ｅ）〕
・Ｅ−１：ガラス繊維（日東紡績（株）製、商品名：「ＣＳ３Ｊ２５６Ｓ」、平均繊維径  １１μｍ、平均繊維長３ｍｍ、円形断面）
〔光安定剤（Ｆ）〕
・Ｆ−１：Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジニル）−１，３−ベンゼンジカルボキサミド（クラリアントジャパン（株）製、商品名：「Ｎｙｌｏｓｔａｂ  Ｓ−ＥＥＤ」）【０１１３】
〔その他の成分〕
・離型剤：ポリプロピレン  一般タイプ（三井化学（株）製、商品名：「ハイワックス  ＮＰ０５５」）
・核剤：タルク（富士タルク工業（株）製、商品名：「タルクＰＫＰ８０」）【０１１４】
実施例１〜１６及び比較例１〜１４
ポリエステル（Ａ−１）又は（Ａ−２）１００質量部に対して、二酸化チタン（Ｂ−１）３３質量部、上記離型剤０．５質量部、上記核剤０．１７質量部、及び表１及び２に示す量のフェノール系酸化防止剤、リン系酸化防止剤、及び光安定剤（Ｆ−１）をドライブレンドし、得られた混合物を２軸押出機（スクリュー径：３２ｍｍ、Ｌ／Ｄ＝３０、回転数１５０ｒｐｍ）のホッパーからフィードして、同時に、サイドフィーダーより強化材（Ｅ−１）３３質量部を添加して溶融混練し、ストランド状に押出した後、ペレタイザにより切断してペレット状のポリエステル組成物を得た。得られたポリエステル組成物を用いて、所定形状の試験片を作製し、評価に用いた。結果を表１及び２に示す。【０１１５】
【表１】
2017086334.tif 000021
【０１１６】
【表２】
2017086334.tif 000022
【０１１７】
表１及び２に示したように、実施例１〜１６のポリエステル組成物は、比較例１〜１４と比較して、初期反射率がいずれも高く、加熱処理した後においても波長４６０ｎｍの光に対する反射率の低下量が小さい。さらに紫外線波長領域の光照射後の波長４６０ｎｍの光に対する反射率はいずれも８６％以上である。よって、本発明のポリエステル組成物は、ＬＥＤパッケージの製造工程や使用環境においても光反射率が低下せず、良好な光特性を有するＬＥＤ反射板を得ることができ、該反射板を備える発光装置、及び該発光装置を備える照明器具は、優れた光特性及び高寿命を可能とする。
【産業上の利用可能性】
【０１１８】
本発明によれば、高い光反射率を有し、熱や光に晒された後においても光反射率の低下が少なく、高い光反射率を維持することができるＬＥＤ反射板用ポリエステル組成物、該組成物からなるＬＥＤ反射板、及び該反射板を備える発光装置を提供することができる。本発明のポリエステル組成物は、特に照明器具用のＬＥＤ反射板に好適である。
【符号の説明】
【０１１９】
１，２，３    発光装置
１０          半導体発光素子
２０          基板
３０          リフレクタ（筐体）
４０          封止部材
５０          パッケージ状部
６０          封止部材
７０          基板
７１          配線
８０          リードフレーム
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【国際調査報告】
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