(57)【要約】  効率良くシラノール化合物を製造することができるシラノール化合物の製造方法を提供することを目的とする。下記式（Ａ−１）〜（Ａ−４）で表されるシラン化合物の少なくとも１種と水を反応させてシラノール化合物を生成する反応を、アミド化合物を含む溶媒中で行うことにより、効率良くシラノール化合物を製造することができる。2017018543.tif 000036（式（Ａ−１）〜（Ａ−４）中、Ｘはそれぞれ独立して炭素数１〜１０のアルコキシ基、炭素数０〜６のアミノ基、塩素原子、臭素原子、又はヨウ素原子を、Ｒはそれぞれ独立して水素原子、又は窒素原子、酸素原子、及びハロゲン原子からなる群より選択される少なくとも１種の原子を含んでいてもよい炭素数１〜２０の炭化水素基を表す。）
2017018543.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記式（Ａ−１）〜（Ａ−４）で表されるシラン化合物の少なくとも１種と水を反応させてシラノール化合物を生成する反応工程１を含むシラノール化合物の製造方法であって、
前記反応工程１が、アミド化合物を含む溶媒中で行われることを特徴とする、シラノール化合物の製造方法。
【化１】
2017018543.tif 000032
（式（Ａ−１）〜（Ａ−４）中、Ｘはそれぞれ独立して炭素数１〜１０のアルコキシ基、炭素数０〜６のアミノ基、塩素原子、臭素原子、又はヨウ素原子を、Ｒはそれぞれ独立して水素原子、又は窒素原子、酸素原子、及びハロゲン原子からなる群より選択される少なくとも１種の原子を含んでいてもよい炭素数１〜２０の炭化水素基を表す。）
【請求項２】
前記反応工程１における前記水の使用量が、前記式（Ａ−１）〜（Ａ−４）で表されるシラン化合物に対して物質量換算で０．２５〜１５０倍である、請求項１に記載のシラノール化合物の製造方法。
【請求項３】
前記反応工程１における前記溶媒の使用量が、前記式（Ａ−１）〜（Ａ−４）で表されるシラン化合物の濃度が０．００１〜２．００ｍｏｌ／Ｌとなる量である、請求項１又は２に記載のシラノール化合物の製造方法。
【請求項４】
前記アミド化合物が、下記式（ｉ）又は（ｉｉ）で表される化合物の少なくとも１種である、請求項１〜３の何れか１項に記載のシラノール化合物の製造方法。
【化２】
2017018543.tif 000033
（式（ｉ）及び（ｉｉ）中、Ｒ’及びＲ”はそれぞれ独立して水素原子又は炭素数１〜１０の炭化水素基を表す。但し、Ｒ’及び／又はＲ”として、２以上の炭化水素基を分子内に有する場合、炭化水素基同士が連結して環状構造を形成していてもよい。）
【請求項５】
下記式（Ａ−１）〜（Ａ−４）で表されるシラン化合物の少なくとも１種と水を反応させてシラノール化合物を生成する反応工程２を含むシラノール化合物の製造方法であって、
前記反応工程２が、アミド結合を少なくとも１つ有する高分子化合物を含む水溶液中で行われることを特徴とする、シラノール化合物の製造方法。
【化３】
2017018543.tif 000034
（式（Ａ−１）〜（Ａ−４）中、Ｘはそれぞれ独立して炭素数１〜１０のアルコキシ基、炭素数０〜６のアミノ基、塩素原子、臭素原子、又はヨウ素原子を、Ｒはそれぞれ独立して水素原子、又は窒素原子、酸素原子、及びハロゲン原子からなる群より選択される少なくとも１種の原子を含んでいてもよい炭素数１〜２０の炭化水素基を表す。）
【請求項６】
前記反応工程２における前記水の使用量が、前記式（Ａ−１）〜（Ａ−４）で表されるシラン化合物の濃度が０．０１〜２．００ｍｏｌ／Ｌとなる量である、請求項５に記載のシラノール化合物の製造方法。
【請求項７】
前記高分子化合物が、下記式（ｉｉｉ）〜（ｖ）で表される繰り返し構造の少なくとも１種を有する高分子化合物である、請求項５又は６に記載のシラノール化合物の製造方法。
【化４】
2017018543.tif 000035
（式（ｉｉｉ）〜（ｖ）中、Ｒ’及びＲ”はそれぞれ独立して水素原子又は炭素数１〜１０の炭化水素基を表す。但し、Ｒ’及び／又はＲ”として、２以上の炭化水素基を分子内に有する場合、炭化水素基同士が連結して環状構造を形成していてもよい。）
【請求項８】
前記反応工程１又は前記反応工程２が、酸の存在下で行われる工程である、請求項１〜７の何れか１項に記載のシラノール化合物の製造方法。
【請求項９】
前記反応工程１又は前記反応工程２で得られた生成物に塩基を添加する塩基添加工程を含む、請求項８に記載のシラノール化合物の製造方法。
【請求項１０】
前記反応工程１若しくは前記反応工程２で得られた生成物、又は前記塩基添加工程で得られた生成物にアンモニウム塩を添加するアンモニウム塩添加工程を含む、請求項１〜９の何れか１項に記載のシラノール化合物の製造方法。
【請求項１１】
前記反応工程１若しくは前記反応工程２で得られた生成物、前記塩基添加工程で得られた生成物、又は前記アンモニウム塩添加工程で得られた生成物を凍結させて、減圧下にさらす凍結乾燥工程を含む、請求項１〜１０の何れか１項に記載のシラノール化合物の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、シラノール化合物の製造方法に関し、より詳しくはアミド化合物を利用したシラノール化合物の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
シロキサンは、その特異的な性質から自動車、建築、エレクトロニクス、医薬等の幅広い分野で利用されている非常に重要な化合物である。近年ではＬＥＤの封止材やエコタイヤ用シランカップリング剤など、環境・エネルギー分野においても不可欠であり、シロキサン化合物を使用していない分野は無いといっても過言ではない（２００９年市場規模：１１５億ドル、生産量：年間１２３万トン）。【０００３】
シロキサン化合物の大部分は、アルコキシシランやハロゲン化シラン等を原料とするゾル−ゲル法などの加水分解により、シラノールを経由して合成するのが一般的である。このシラノール（シランジオール、シラントリオール、シランテトラオールを含む。）は、フェニル基等の嵩高い置換基を有する一部のシランジオールやシラントリオールを除き、水が存在すると加水分解と同時に縮合してしまうため、収率良く合成する事が困難である。また、その安定性（水存在下での安定性）も極めて低く、速やかに縮合してしまうことが知られている（非特許文献１及び２参照）。
【先行技術文献】
【非特許文献】
【０００４】
【非特許文献１】Fyfe, C. A.; Aroca, P. P. J. Phys. Chem. B 1997, 101, 9504.
【非特許文献２】Kim, Y.; Jung, E. Chem. Lett. 2002, 992.
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明は、効率良くシラノール化合物を製造することができるシラノール化合物の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明者らは、前記課題を解決すべく鋭意検討を重ねた結果、シラン化合物と水の反応を、アミド化合物を含む溶媒中で行うことにより、シラノール化合物の収率を高めて、効率良くシラノール化合物を製造することができることを見出し、本発明を完成させた。
即ち、本発明は以下の通りである。【０００７】
＜１＞ 下記式（Ａ−１）〜（Ａ−４）で表されるシラン化合物の少なくとも１種と水を反応させてシラノール化合物を生成する反応工程１を含むシラノール化合物の製造方法であって、
前記反応工程１が、アミド化合物を含む溶媒中で行われることを特徴とする、シラノール化合物の製造方法。
【化１】
2017018543.tif 000003
（式（Ａ−１）〜（Ａ−４）中、Ｘはそれぞれ独立して炭素数１〜１０のアルコキシ基、炭素数０〜６のアミノ基、塩素原子、臭素原子、又はヨウ素原子を、Ｒはそれぞれ独立して水素原子、又は窒素原子、酸素原子、及びハロゲン原子からなる群より選択される少なくとも１種の原子を含んでいてもよい炭素数１〜２０の炭化水素基を表す。）
＜２＞ 前記反応工程１における前記水の使用量が、前記式（Ａ−１）〜（Ａ−４）で表されるシラン化合物に対して物質量換算で０．２５〜１５０倍である、＜１＞に記載のシラノール化合物の製造方法。
＜３＞ 前記反応工程１における前記溶媒の使用量が、前記式（Ａ−１）〜（Ａ−４）で表されるシラン化合物の濃度が０．００１〜２．００ｍｏｌ／Ｌとなる量である、＜１＞又は＜２＞に記載のシラノール化合物の製造方法。
＜４＞ 前記アミド化合物が、下記式（ｉ）又は（ｉｉ）で表される化合物の少なくとも１種である、＜１＞〜＜３＞の何れかに記載のシラノール化合物の製造方法。
【化２】
2017018543.tif 000004
（式（ｉ）及び（ｉｉ）中、Ｒ’及びＲ”はそれぞれ独立して水素原子又は炭素数１〜１０の炭化水素基を表す。但し、Ｒ’及び／又はＲ”として、２以上の炭化水素基を分子内に有する場合、炭化水素基同士が連結して環状構造を形成していてもよい。）
＜５＞ 下記式（Ａ−１）〜（Ａ−４）で表されるシラン化合物の少なくとも１種と水を反応させてシラノール化合物を生成する反応工程２を含むシラノール化合物の製造方法であって、
前記反応工程２が、アミド結合を少なくとも１つ有する高分子化合物を含む水溶液中で行われることを特徴とする、シラノール化合物の製造方法。
【化３】
2017018543.tif 000005
（式（Ａ−１）〜（Ａ−４）中、Ｘはそれぞれ独立して炭素数１〜１０のアルコキシ基、炭素数０〜６のアミノ基、塩素原子、臭素原子、又はヨウ素原子を、Ｒはそれぞれ独立して水素原子、又は窒素原子、酸素原子、及びハロゲン原子からなる群より選択される少なくとも１種の原子を含んでいてもよい炭素数１〜２０の炭化水素基を表す。）
＜６＞ 前記反応工程２における前記水の使用量が、前記式（Ａ−１）〜（Ａ−４）で表されるシラン化合物の濃度が０．０１〜２．００ｍｏｌ／Ｌとなる量である、＜５＞に記載のシラノール化合物の製造方法。
＜７＞ 前記高分子化合物が、下記式（ｉｉｉ）〜（ｖ）で表される繰り返し構造の少なくとも１種を有する高分子化合物である、＜５＞又は＜６＞に記載のシラノール化合物の製造方法。
【化４】
2017018543.tif 000006
（式（ｉｉｉ）〜（ｖ）中、Ｒ’及びＲ”はそれぞれ独立して水素原子又は炭素数１〜１０の炭化水素基を表す。但し、Ｒ’及び／又はＲ”として、２以上の炭化水素基を分子内に有する場合、炭化水素基同士が連結して環状構造を形成していてもよい。）
＜８＞ 前記反応工程１又は前記反応工程２が、酸の存在下で行われる工程である、＜１＞〜＜７＞の何れかに記載のシラノール化合物の製造方法。
＜９＞ 前記反応工程１又は前記反応工程２で得られた生成物に塩基を添加する塩基添加工程を含む、＜８＞に記載のシラノール化合物の製造方法。
＜１０＞ 前記反応工程１若しくは前記反応工程２で得られた生成物、又は前記塩基添加工程で得られた生成物にアンモニウム塩を添加するアンモニウム塩添加工程を含む、＜１＞〜＜９＞の何れかに記載のシラノール化合物の製造方法。
＜１１＞ 前記反応工程１若しくは前記反応工程２で得られた生成物、前記塩基添加工程で得られた生成物、又は前記アンモニウム塩添加工程で得られた生成物を凍結させて、減圧下にさらす凍結乾燥工程を含む、＜１＞〜＜１０＞の何れかに記載のシラノール化合物の製造方法。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によれば、効率良くシラノール化合物を製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】実施例１で得られた溶液の反応終了直後の２９Ｓｉ−ＮＭＲの測定結果である。
【図２】実施例１で得られた溶液を室温下で１．５時間放置した後の２９Ｓｉ−ＮＭＲの測定結果である。
【図３】実施例１で得られた溶液を室温下で６時間放置した後の２９Ｓｉ−ＮＭＲの測定結果である。
【図４】比較例で得られた溶液の反応終了直後の２９Ｓｉ−ＮＭＲの測定結果である。
【図５】実施例２で得られた溶液の反応終了直後の２９Ｓｉ−ＮＭＲの測定結果である。
【図６】実施例３で得られた溶液の反応終了直後の２９Ｓｉ−ＮＭＲの測定結果である。
【図７】実施例４で得られた溶液の反応終了直後の２９Ｓｉ−ＮＭＲの測定結果である。
【図８】実施例５で得られた溶液の反応終了直後の２９Ｓｉ−ＮＭＲの測定結果である。
【図９】実施例６で得られた溶液の反応終了直後の２９Ｓｉ−ＮＭＲの測定結果である。
【図１０】実施例７で得られた溶液の反応終了直後の２９Ｓｉ−ＮＭＲの測定結果である。
【図１１】実施例８で得られた溶液の反応終了直後の２９Ｓｉ−ＮＭＲの測定結果である。
【図１２】実施例９で得られた溶液の反応終了直後の２９Ｓｉ−ＮＭＲの測定結果である。
【図１３】実施例１０で得られた溶液の反応終了直後の２９Ｓｉ−ＮＭＲの測定結果である。
【図１４】実施例１１で得られた溶液の反応終了直後の２９Ｓｉ−ＮＭＲの測定結果である。
【図１５】実施例２０で得られた組成物のＩＲの測定結果である。
【図１６】実施例２１で得られた組成物のＩＲの測定結果である。
【図１７】実施例２２で得られた組成物のＩＲの測定結果である。
【図１８】実施例２３で得られた組成物のＩＲの測定結果である。
【図１９】実施例２４で得られた組成物のＩＲの測定結果である。
【図２０】実施例２５で得られた組成物のＩＲの測定結果である。
【図２１】実施例２６で得られた組成物のＩＲの測定結果である。
【図２２】実施例２７で得られた組成物のＩＲの測定結果である。
【図２３】実施例２８で得られた組成物のＩＲの測定結果である。
【図２４】実施例２９で得られた組成物のＩＲの測定結果である。
【図２５】実施例３０で得られた組成物のＩＲの測定結果である。
【図２６】実施例３１で得られた組成物のＩＲの測定結果である。
【図２７】実施例３２で得られた組成物のＩＲの測定結果である。
【図２８】実施例３３で得られた組成物のＩＲの測定結果である。
【図２９】実施例３４で得られた組成物のＩＲの測定結果である。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
本発明の詳細を説明するに当たり、具体例を挙げて説明するが、本発明の趣旨を逸脱しない限り以下の内容に限定されるものではなく、適宜変更して実施することができる。
【００１１】
＜シラノール化合物の製造方法＞
本発明の一態様であるシラノール化合物の製造方法は、下記式（Ａ−１）〜（Ａ−４）で表されるシラン化合物の少なくとも１種と水を反応させてシラノール化合物を生成する反応工程（以下、「反応工程１」と略す場合がある。）を含むシラノール化合物の製造方法であり、反応工程１が、アミド化合物を含む溶媒中で行われることを特徴とする。
【化５】
2017018543.tif 000007
（式（Ａ−１）〜（Ａ−４）中、Ｘはそれぞれ独立して炭素数１〜１０のアルコキシ基、炭素数０〜６のアミノ基、塩素原子、臭素原子、又はヨウ素原子を、Ｒはそれぞれ独立して水素原子、又は窒素原子、酸素原子、及びハロゲン原子からなる群より選択される少なくとも１種の原子を含んでいてもよい炭素数１〜２０の炭化水素基を表す。）
前述のように、シラノールを合成するためにアルコキシシランやハロゲン化シラン等と水をただ単純に反応させても、生成したシラノールが縮合してシロキサンが生成してしまうため（下記式参照）、シラノール自体を収率良く合成することが困難であった。
【化６】
2017018543.tif 000008
本発明者らは、式（Ａ−１）〜（Ａ−４）で表されるシラン化合物と水の反応を、アミド化合物を含む溶媒中で行うことにより、シラノール化合物の収率を高めて、効率良くシラノール化合物を製造することができることを見出したのである。シラノール化合物を効率良く製造できる理由は、十分に明らかとなっていないが、アミド化合物のアミド結合が生成したシラノール化合物と水素結合を介して安定化に寄与し、シラノール同士の縮合を抑えるためであると考えられる。また、本発明のシラノール化合物の製造方法は、シラン化合物と水という安価で入手し易い原料を使用する点や反応が穏和な条件で速やかに進行する点から、工業的に非常に適した製造方法と言えるのである。
なお、本発明において「シラノール化合物」とは、ケイ素原子（Ｓｉ）にヒドロキシル基（−ＯＨ）が少なくとも１つ結合した化合物を意味し、ヒドロキシル基の数やその他の構造は特に限定されないものとする。従って、例えばテトラエトキシシランと水の反応では、下記式で表されるシラノール化合物が生成すると考えられるが、これらの少なくとも１種が生成した場合、本発明のシラノール化合物の製造方法に該当すると言える。
【化７】
2017018543.tif 000009
また、本発明において「アミド化合物」とは、アミド結合を少なくとも１つ有する化合物を意味し、その他の構造は特に限定されないものとする。但し、「アミド化合物を含む溶媒」が１種類のアミド化合物で構成される場合、その「アミド化合物」は反応工程の条件下において液体であるものとする。
【００１２】
本発明の別の一態様であるシラノール化合物の製造方法は、同じく下記式（Ａ−１）〜（Ａ−４）で表されるシラン化合物の少なくとも１種と水を反応させてシラノール化合物を生成する反応工程（以下、「反応工程２」と略す場合がある。）を含むシラノール化合物の製造方法であり、反応工程２が、アミド結合を少なくとも１つ有する高分子化合物を含む水溶液中で行われることを特徴とする。
【化８】
2017018543.tif 000010
（式（Ａ−１）〜（Ａ−４）中、Ｘはそれぞれ独立して炭素数１〜１０のアルコキシ基、炭素数０〜６のアミノ基、塩素原子、臭素原子、又はヨウ素原子を、Ｒはそれぞれ独立して水素原子、又は窒素原子、酸素原子、及びハロゲン原子からなる群より選択される少なくとも１種の原子を含んでいてもよい炭素数１〜２０の炭化水素基を表す。）
本発明者らは、アミド結合を少なくとも１つ有する高分子化合物を使用することにより、水を反応物として利用するのみならず、溶媒としても利用することが可能であり、水が多量に存在する水溶液中で効率良くシラノール化合物を製造することができることを見出したのである。シラノール化合物を効率良く製造できる理由は、前述のものと同様であり、高分子化合物のアミド結合が生成したシラノール化合物と水素結合を介して安定化に寄与し、シラノール同士の縮合を抑えるためであると考えられる。また、アミド結合を少なくとも１つ有する高分子化合物は、シラノール化合物の安定化剤としてそのまま利用することができる利点があり、工業的に非常に適した製造方法と言えるのである。
以下、「反応工程１」及び「反応工程２」における「式（Ａ−１）〜（Ａ−４）で表されるシラン化合物」、「アミド化合物」、「アミド結合を少なくとも１つ有する高分子化合物」、及びその他の反応条件等について詳細に説明する。
【００１３】
（反応工程１・反応工程２）
反応工程１及び反応工程２は、下記式（Ａ−１）〜（Ａ−４）で表されるシラン化合物の少なくとも１種と水を反応させてシラノール化合物を生成する工程であるが、式（Ａ−１）〜（Ａ−４）で表されるシラン化合物の具体的種類、水の使用量等は特に限定されず、目的に応じて適宜選択することができる。以下、具体例を挙げて説明する。
【化９】
2017018543.tif 000011
（式（Ａ−１）〜（Ａ−４）中、Ｘはそれぞれ独立して炭素数１〜１０のアルコキシ基、炭素数０〜６のアミノ基、塩素原子、臭素原子、又はヨウ素原子を、Ｒはそれぞれ独立して水素原子、又は窒素原子、酸素原子、及びハロゲン原子からなる群より選択される少なくとも１種の原子を含んでいてもよい炭素数１〜２０の炭化水素基を表す。）
Ｘはそれぞれ独立して炭素数１〜１０のアルコキシ基、炭素数０〜６のアミノ基、塩素原子、臭素原子、又はヨウ素原子を表しているが、アルコキシ基の炭化水素基は、直鎖状の飽和炭化水素基に限られず、分岐構造、環状構造、芳香環のそれぞれを有していてもよいものとする。
Ｘがアルコキシ基である場合の炭化水素基の炭素数は、好ましくは１以上、より好ましくは２以上であり、好ましくは６以下、より好ましくは５以下、さらに好ましくは４以下である。上記範囲内であると、効率良くシラノール化合物を製造し易くなる。
Ｘがアミノ基である場合の炭化水素基の炭素数は、好ましくは５以下、より好ましくは４以下、さらに好ましくは３以下である。上記範囲内であると、効率良くシラノール化合物を製造し易くなる。
Ｘとしては、メトキシ基（−ＯＭｅ）、エトキシ基（−ＯＥｔ）、ｎ−プロポキシ基（−ｎＰｒ）、フェノキシ基（−ＯＰｈ）、アミノ基（−ＮＨ２）、ジメチルアミノ基（−ＮＭｅ２）、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられるが、メトキシ基（−ＯＭｅ）、エトキシ基（−ＯＥｔ）が好ましい。
Ｒはそれぞれ独立して窒素原子、酸素原子、及びハロゲン原子からなる群より選択される少なくとも１種の原子を含んでいてもよい炭素数１〜２０の炭化水素基を表しているが、「窒素原子、酸素原子、及びハロゲン原子からなる群より選択される少なくとも１種の原子を含んでいてもよい」とは、窒素原子、酸素原子、ハロゲン原子等を含む官能基を含んでいてもよいほか、窒素原子、酸素原子等を含む連結基を炭素骨格の内部又は末端に含んでいてもよいことを意味するものとする。なお、「炭化水素基」は、直鎖状の飽和炭化水素基に限られず、炭素−炭素不飽和結合、分岐構造、環状構造、芳香環のそれぞれを有していてもよいものとする。
Ｒの炭化水素基に含まれる官能基や連結基としては、アミド基（−ＮＨＣＯ−）、エーテル基（−Ｏ−）、フッ素原子（フルオロ基，−Ｆ）、塩素原子（クロロ基，−Ｃｌ）、臭素原子（ブロモ基，−Ｂｒ）、ヨウ素原子（ヨード基，−Ｉ）等が挙げられる。
Ｒとしては、メチル基（−Ｍｅ）、エチル基（−Ｅｔ）、ｎ−プロピル基（−ｎＰｒ）、ｉ−プロピル基（−ｉＰｒ）、ｎ−ブチル基（−ｎＢｕ）、シクロヘキシル基、フェニル基（−Ｐｈ）、ナフチル基、アントリル基、フルオレニル基、水素原子等が挙げられる。
式（Ａ−１）〜（Ａ−４）で表されるシラン化合物としては、下記式で表される化合物が挙げられる。
【化１０】
2017018543.tif 000012
【００１４】
反応工程１における水の使用量は、式（Ａ−１）〜（Ａ−４）で表されるシラン化合物に対して物質量換算で、通常０．２５倍以上、好ましくは０．３倍以上、より好ましくは０．９倍以上、さらに好ましくは２．５倍以上であり、通常１５０倍以下、好ましくは１００倍以下、より好ましくは７５倍以下、さらに好ましくは４０倍以下である。上記範囲内であると、効率良くシラノール化合物を製造し易くなる。
【００１５】
反応工程１は、アミド化合物を含む溶媒中で行われることを特徴とするが、アミド化合物の具体的種類、溶媒に含まれるアミド化合物以外の化合物の種類、溶媒の使用量、溶媒におけるアミド化合物の含有比率等は特に限定されず、目的に応じて適宜選択することができる。なお、溶媒に含まれるアミド化合物は、１種類に限られず、２種類以上を組み合せてもよい。以下、具体例を挙げて説明する。
アミド化合物としては、下記式（ｉ）又は（ｉｉ）で表される化合物が挙げられる。また、後述する「式（ｉｉｉ）〜（ｖ）で表される繰り返し構造の少なくとも１種を有する高分子化合物」もアミド化合物として好適である。
【化１１】
2017018543.tif 000013
（式（ｉ）及び（ｉｉ）中、Ｒ’及びＲ”はそれぞれ独立して水素原子又は炭素数１〜１０の炭化水素基を表す。但し、Ｒ’及び／又はＲ”として、２以上の炭化水素基を分子内に有する場合、炭化水素基同士が連結して環状構造を形成していてもよい。）
Ｒ’はそれぞれ独立して水素原子又は炭素数１〜１０の炭化水素基を表しているが、水素原子、メチル基（−Ｍｅ）、エチル基（−Ｅｔ）、ｎ−プロピル基（−ｎＰｒ）、ｉ−プロピル基（−ｉＰｒ）、ｎ−ブチル基（−ｎＢｕ）、ｔ−ブチル基（−ｔＢｕ）、ｎ−ヘキシル基（−ｎＨｅｘ）、シクロへキシル基（−ｃＨｅｘ）、フェニル基（−Ｐｈ）が挙げられる。
Ｒ”はそれぞれ独立して水素原子又は炭素数１〜１０の炭化水素基を表しているが、水素原子、メチル基（−Ｍｅ）、エチル基（−Ｅｔ）、ｎ−プロピル基（−ｎＰｒ）、ｉ−プロピル基（−ｉＰｒ）、ｎ−ブチル基（−ｎＢｕ）、ｔ−ブチル基（−ｔＢｕ）、ｎ−ヘキシル基（−ｎＨｅｘ）、シクロへキシル基（−ｃＨｅｘ）、フェニル基（−Ｐｈ）が挙げられる。
なお、Ｒ’及び／又はＲ”として、２以上の炭化水素基を分子内に有する場合、炭化水素基同士が連結して環状構造を形成していてもよいが、「環状構造を形成」しているとは、例えば下記式で表されるアミド化合物のような構造を意味する。
【化１２】
2017018543.tif 000014
式（ｉ）で表される化合物としては、ホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、アセトアミド、Ｎ−メチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（ＤＭＡｃ）、２−ピロリドン、Ｎ−メチルピロリドン、２−ピペリドン、ε−カプロラクタム等が挙げられる。
式（ｉｉ）で表される化合物としては、尿素、テトラメチル尿素（Ｍｅ４Ｕｒｅａ）、テトラフェニル尿素等が挙げられる。
【００１６】
反応工程１における溶媒は、アミド化合物以外の化合物を含むものであってもよく、その種類としては、ｎ−ヘキサン、ｎ−ヘプタン、ｎ−オクタン等の脂肪族炭化水素化合物、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素化合物、シクロヘキサン、デカリン等の脂環式炭化水素化合物、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉ−プロパノール等のアルコール化合物、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、テトラヒドロピラン、ジオキサン、ジエチルエーテル、ジメチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジフェニルエーテル、メチルエチルエーテル等のエーテル化合物、酢酸エチル、酢酸ｎ−アミル、乳酸エチル等のエステル化合物、塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素、テトラクロロエタン、ヘキサクロロエタン等のハロゲン化炭化水素化合物、アセトン、メチルエチルケトン、フェニルメチルケトン、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）等の非プロトン性極性溶媒等が挙げられる。なお、アミド化合物以外の化合物は、１種類に限られず、２種類以上を組み合せてもよい。
【００１７】
反応工程１における溶媒の使用量は、式（Ａ−１）〜（Ａ−４）で表されるシラン化合物の濃度が、通常０．００１ｍｏｌ／Ｌ以上となる量、好ましくは０．０１０ｍｏｌ／Ｌ以上となる量、より好ましくは０．１０ｍｏｌ／Ｌ以上となる量であり、通常２．００ｍｏｌ／Ｌ以下となる量、好ましくは１．００ｍｏｌ／Ｌ以下となる量、より好ましくは０．８０ｍｏｌ／Ｌ以下となる量、さらに好ましくは０．５０ｍｏｌ／Ｌ以下となる量である。上記範囲内であると、効率良くシラノール化合物を製造し易くなる。
【００１８】
反応工程１の溶媒におけるアミド化合物の含有比率は、通常０．１体積％以上、好ましくは１体積％以上、より好ましくは５０体積％以上、さらに好ましくは７０体積％以上である。上記範囲内であると、効率良くシラノール化合物を製造し易くなる。
【００１９】
反応工程２における水の使用量は、式（Ａ−１）〜（Ａ−４）で表されるシラン化合物の濃度が、通常０．０１ｍｏｌ／Ｌ以上となる量、好ましくは０．０５ｍｏｌ／Ｌ以上となる量、より好ましくは０．１０ｍｏｌ／Ｌ以上となる量であり、通常２．００ｍｏｌ／Ｌ以下となる量、好ましくは１．００ｍｏｌ／Ｌ以下となる量、より好ましくは０．５０ｍｏｌ／Ｌ以下となる量である。上記範囲内であると、効率良くシラノール化合物を製造し易くなる。
【００２０】
反応工程２は、アミド結合を少なくとも１つ有する高分子化合物を含む水溶液中で行われることを特徴とするが、アミド結合を少なくとも１つ有する高分子化合物の具体的種類、水の使用量、水溶液におけるアミド結合を少なくとも１つ有する高分子化合物の含有比率等は特に限定されず、目的に応じて適宜選択することができる。なお、水溶液中に含まれるアミド結合を少なくとも１つ有する高分子化合物は、１種類に限られず、２種類以上を組み合せてもよい。以下、具体例を挙げて説明する。
アミド結合を少なくとも１つ有する高分子化合物の数平均分子量（Ｍｎ）は、通常１，０００以上、好ましくは３，０００以上、より好ましくは５，０００以上であり、通常５００，０００以下、好ましくは３００，０００以下、より好ましくは２００，０００以下である。
アミド結合を少なくとも１つ有する高分子化合物の重量平均分子量（Ｍｗ）は、通常１，０００以上、好ましくは５，０００以上、より好ましくは１０，０００以上であり、通常１，０００，０００以下、好ましくは５００，０００以下、より好ましくは２００，０００以下である。
アミド結合を少なくとも１つ有する高分子化合物のアミド結合の数は、通常１０以上、好ましくは５０以上、より好ましくは１００以上であり、通常１０，０００以下、好ましくは５，０００以下、より好ましくは２，０００以下である。
アミド結合を少なくとも１つ有する高分子化合物としては、下記式（ｉｉｉ）〜（ｖ）で表される繰り返し構造の少なくとも１種を有する高分子化合物が挙げられる。
【化１３】
2017018543.tif 000015
（式（ｉｉｉ）〜（ｖ）中、Ｒ’及びＲ”はそれぞれ独立して水素原子又は炭素数１〜１０の炭化水素基を表す。但し、Ｒ’及び／又はＲ”として、２以上の炭化水素基を分子内に有する場合、炭化水素基同士が連結して環状構造を形成していてもよい。）
なお、Ｒ’とＲ”については、前述のものと同様である。
式（ｉｉｉ）で表される繰り返し構造のみからなる高分子化合物としては、ポリビニルピロリドン、ポリビニルポリピロリドン、ポリビニルピペリドン、ポリビニルカプロラクタム等が挙げられる。
式（ｉｖ）で表される繰り返し構造のみからなる高分子化合物としては、ポリアクリルアミド、ポリ−Ｎ−メチルアクリルアミド、ポリ−Ｎ−エチルアクリルアミド、ポリ−Ｎ−エチルメタクリルアミド、ポリ−Ｎ−プロピルアクリルアミド、ポリ−Ｎ−プロピルメタクリルアミド、ポリ−Ｎ−イソプロピルアクリルアミド、ポリ−Ｎ−イソプロピルメタクリルアミド、ポリ−Ｎ−エチルメチルアクリルアミド、ポリ−Ｎ−ジエチルアクリルアミド、ポリ−Ｎ−イソプロピルメチルアクリルアミド、ポリ−Ｎ−メチルプロピルアクリルアミド、ポリ−Ｎ−シクロプロピルアクリルアミド、ポリ−Ｎ−シクロペンチニルアクリルアミド等が挙げられる。
式（ｖ）で表される繰り返し構造のみからなる高分子化合物としては、ポリ−２−メチルオキサゾリン、ポリ−２−エチルオキサゾリン、ポリ−２−プロピルオキサゾリン等が挙げられる。
【００２１】
反応工程２における水溶液は、水以外の化合物を含むものであってもよく、その種類としては、ｎ−ヘキサン、ｎ−ヘプタン、ｎ−オクタン等の脂肪族炭化水素化合物、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素化合物、シクロヘキサン、デカリン等の脂環式炭化水素化合物、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉ−プロパノール等のアルコール化合物、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、テトラヒドロピラン、ジオキサン、ジエチルエーテル、ジメチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジフェニルエーテル、メチルエチルエーテル等のエーテル化合物、酢酸エチル、酢酸ｎ−アミル、乳酸エチル等のエステル化合物、塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素、テトラクロロエタン、ヘキサクロロエタン等のハロゲン化炭化水素化合物、アセトン、メチルエチルケトン、フェニルメチルケトン、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）等の非プロトン性極性溶媒等が挙げられる。なお、水以外の化合物は、１種類に限られず、２種類以上を組み合せてもよい。
【００２２】
反応工程２の水溶液におけるアミド結合を少なくとも１つ有する高分子化合物の含有比率は、通常０．０１質量％以上、好ましくは０．０５質量％以上、より好ましくは１．０質量％以上、さらに好ましくは５．０質量％以上であり、通常５０質量％以下となる量、好ましくは３０質量％以下となる量、より好ましくは１５質量％以下となる量、さらに好ましくは１０質量％以下となる量である。上記範囲内であると、効率良くシラノール化合物を製造し易くなる。
【００２３】
反応工程１及び反応工程２は、式（Ａ−１）〜（Ａ−４）で表されるシラン化合物の少なくとも１種と水を反応させてシラノール化合物を生成する工程であるが、反応温度、反応時間等の反応条件は特に限定されず、目的に応じて適宜選択することができる。以下、具体例を挙げて説明する。
反応工程１及び反応工程２は、酸の存在下で行われることが好ましい。酸は、シラン化合物と水の反応の触媒となり、反応が速やかに進行する。
酸としては、塩酸、硫酸、硝酸、リン酸等の無機酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、ギ酸、炭酸、ｐ−トルエンスルホン酸、トリフロオロメタンスルホン酸等の有機酸が挙げられる。
反応工程１又は反応工程２が酸の存在下で行われる場合の酸の使用量（水素イオン濃度換算）は、式（Ａ−１）〜（Ａ−４）で表されるシラン化合物に対して、通常０．００１０ｍｏｌ％以上、好ましくは０．０１０ｍｏｌ％以上、より好ましくは０．１０ｍｏｌ％以上であり、通常１０．０ｍｏｌ％以下、好ましくは８．０ｍｏｌ％以下、より好ましくは４．０ｍｏｌ％以下である。上記範囲内であると、効率良くシラノール化合物を製造し易くなる。
【００２４】
反応工程１及び反応工程２における反応温度は、通常−７８℃以上、好ましくは０℃以上、より好ましくは１０℃以上であり、通常８０℃以下、好ましくは５０℃以下、より好ましくは３０℃以下である。
反応工程１及び反応工程２における反応時間は、通常０．１分以上、好ましくは０．５分以上、より好ましくは１分以上であり、通常５時間以下、好ましくは１時間以下、より好ましくは０．５時間以下である。
上記範囲内であると、効率良くシラノール化合物を製造し易くなる。
【００２５】
本発明のシラノール化合物の製造方法は、反応工程１及び反応工程２以外の工程を含むものであってもよく、具体的な工程としては、反応工程１又は反応工程２で得られた生成物に塩基を添加する塩基添加工程（以下、「塩基添加工程」と略す場合がある。）、反応工程１若しくは反応工程２で得られた生成物、又は塩基添加工程で得られた生成物にアンモニウム塩を添加するアンモニウム塩添加工程（以下、「アンモニウム塩添加工程」と略す場合がある。）、反応工程１若しくは反応工程２で得られた生成物、塩基添加工程で得られた生成物、又はアンモニウム塩添加工程で得られた生成物を凍結させて、減圧下にさらす凍結乾燥工程（以下、「凍結乾燥工程」と略す場合がある。）が挙げられる。
以下、「塩基添加工程」、「アンモニウム塩添加工程」、「凍結乾燥工程」等について詳細に説明する。
【００２６】
（塩基添加工程）
塩基添加工程は、反応工程１又は反応工程２で得られた生成物に塩基を添加する工程であるが、塩基の具体的種類、塩基の使用量等は特に限定されず、目的に応じて適宜選択することができる。
塩基としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属の水酸化物、水酸化カルシウム、水酸化バリウム等のアルカリ土類金属の水酸化物、アンモニア、アニリン等のアミン化合物が挙げられる。
なお、「アミン化合物」とは、アミノ基（第一級アミン、第二級アミン、第三級アミンの何れであってもよい。）を有する化合物を意味し、その他の構造は特に限定されないものとする。塩基は、酸を中和してシラノール化合物の縮合を抑えるものと考えられる。以下、具体例を挙げて説明する。
アミン化合物としては、アンモニア、アニリン（ＮＨ２Ｐｈ）、ジフェニルアミン（ＮＨＰｈ２）、ジメチルピリジン（Ｍｅ２Ｐｙｒ）、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルピリジン（ｔＢｕ２Ｐｙｒ）、ピラジン（Ｐｙｒａｚ）、トリフェニルアミン（ＮＰｈ３）、トリエチルアミン（Ｅｔ３Ｎ）、ジ−イソプロピルエチルアミン（ｉＰｒ２ＥｔＮ）等が挙げられる。
【００２７】
塩基の使用量は、加えた酸に対して、物質量比で通常０．１以上、好ましくは０．２５以上、より好ましくは０．５以上であり、通常４．０以下、好ましくは２．０以下、より好ましくは１．５以下である。上記範囲内であると、効率良くシラノール化合物を製造し易くなる。
【００２８】
（アンモニウム塩添加工程）
アンモニウム塩添加工程は、反応工程１若しくは反応工程２で得られた生成物、又は塩基添加工程で得られた生成物にアンモニウム塩を添加する工程であるが、アンモニウム塩の具体的種類、アンモニウム塩の使用量等は特に限定されず、目的に応じて適宜選択することができる。なお、「アンモニウム塩」とは、アンモニウムイオンと対アニオンからなる化合物を意味し、アンモニウムイオンと対アニオンの構造は特に限定されないものとする。アンモニウム塩は、シラノール化合物の縮合を抑えるものと考えられる。以下、具体例を挙げて説明する。
アンモニウムイオンとしては、テトラヒドロアンモニウムイオン（ＮＨ４＋）、テトラメチルアンモニウムイオン（ＮＭｅ４＋）、テトラエチルアンモニウムイオン（ＮＥｔ４＋）、テトラプロピルアンモニウムイオン（ＮＰｒ４＋）、テトラブチルアンモニウムイオン（ＮＢｕ４＋）、ベンジルトリブチルアンモニウムイオン（ＮＢｎＢｕ３＋）、トリブチル（メチル）アンモニウム（ＮＢｕ３Ｍｅ＋）イオン、テトラペンチルアンモニウムイオン（ＮＰｅｎ４＋）、テトラへキシルアンモニウムイオン（ＮＨｅｘ４＋）、テトラヘプチルアンモニウムイオン（ＮＨｅｐ４＋）、１−ブチル−１メチルピロリジウムイオン（ＢｕＭｅＰｙｒ＋）、メチルトリオクチルアンモニウムイオン（ＮＭｅＯｃｔ３＋）、ジメチルジオクタデシルアンモニウムイオン等が挙げられる。
対アニオンとしては、フッ化物イオン（Ｆ−）、塩化物イオン（Ｃｌ−）、臭化物イオン（Ｂｒ−）、ヨウ化物イオン（Ｉ−）、アセトキシイオン（ＡｃＯ−）、硝酸イオン（ＮＯ３−）、アジ化物イオン（Ｎ３−）、テトラフルオロホウ酸イオン（ＢＦ４−）、過塩素酸イオン（ＣｌＯ４−）、硫酸イオン（ＨＳＯ４−）等が挙げられる。
アンモニウム塩としては、テトラブチルアンモニウムクロリド（ＮＢｕ４Ｃｌ）、テトラブチルアンモニウムブロミド（ＮＢｕ４Ｂｒ）が特に好ましい。なお、組成物に含まれるアンモニウム塩は、１種類に限られず、２種類以上を含むものであってもよい。
【００２９】
アンモニウム塩の使用量は、シラノール化合物に対して物質量換算で、通常０倍より大きく、好ましくは１倍以上であり、通常４倍以下、好ましくは３倍以下、より好ましくは２倍以下である。
【００３０】
（凍結乾燥工程）
凍結乾燥工程は、反応工程１若しくは反応工程２で得られた生成物、塩基添加工程で得られた生成物、又はアンモニウム塩添加工程で得られた生成物を凍結させて、減圧下にさらす工程であるが、凍結温度、乾燥温度、乾燥圧力、乾燥時間等は特に限定されず、目的に応じて適宜選択することができる。以下、具体例を挙げて説明する。
凍結温度は、アンモニウム塩添加工程で得られた生成物が凍結する温度であれば特に限定されないが、通常１０℃以下、好ましくは０℃以下、より好ましくは−２０℃以下であり、通常−１９６℃以上、好ましくは−１５０℃以上、より好ましくは−１００℃以上である。
乾燥温度は、通常１０℃以下、好ましくは０℃以下、より好ましくは−２０℃以下であり、通常−１９６℃以上、好ましくは−１５０℃以上、より好ましくは−１００℃以上である。
乾燥圧力は、通常１００Ｐａ以下、好ましくは２０Ｐａ以下、より好ましくは３Ｐａ以下であり、通常１０−５Ｐａ以上、好ましくは０．０１Ｐａ以上、より好ましくは１Ｐａ以上である。
乾燥時間は、通常２００時間以下、好ましくは１００時間以下、より好ましくは５０時間以下であり、通常１時間以上、好ましくは５時間以上、より好ましくは１０時間以上である。
【実施例】
【００３１】
以下に実施例及び比較例を挙げて本発明をさらに具体的に説明するが、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。従って、本発明の範囲は以下に示す具体例により限定的に解釈されるべきものではない。【００３２】
＜実施例１＞
磁気攪拌子を備えた二口フラスコに、テトラエトキシシラン２８．３ｍｇ（０．１３６ｍｍｏｌ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド０．７２３ｍＬ、及び１Ｎ塩酸０．００１４ｍＬ（１．０ｍｏｌ％）を投入し、さらに水０．２７０ｍＬ（１５．０ｍｍｏｌ）を加えて、室温で４時間反応させた。その後、トリエチルアミンのＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド溶液（濃度：２７．５ｇ／Ｌ）０．００５ｍＬ（１．０ｍｏｌ％）を加えて反応を終了させ、さらに内標としてテトラメチルシランを加えて、溶液の２９Ｓｉ−ＮＭＲを測定した。結果を図１に示す。溶液には１６２ｍＭの濃度（収率：１００％）でシランテトラオールが含まれていることが確認された。
また、反応終了後の室温下で１．５時間放置した後、及び６時間放置した後の溶液の２９Ｓｉ−ＮＭＲを測定した。結果を図２、３に示す。
【化１４】
2017018543.tif 000016
【００３３】
＜比較例＞
Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド０．７２３ｍＬをアセトン０．５７３ｍＬに変更した以外、実施例１と同様の方法によって反応させて、溶液の２９Ｓｉ−ＮＭＲを測定した。結果を図４に示す。溶液にはシランテトラオールを確認することができなかった。これは、生成したシランテトラオールが縮合してシロキサンに変性しているためであると考えられる。【００３４】
＜実施例２＞
テトラエトキシシラン２８．３ｍｇを５６．６ｍｇに、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド０．７２３ｍＬを１．０２３ｍＬに、１Ｎ塩酸０．００１４ｍＬを０．００２８ｍＬに、トリエチルアミンのＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド溶液０．００５ｍＬを０．０１０ｍＬに変更した以外、実施例１と同様の方法によって反応させて、溶液の２９Ｓｉ−ＮＭＲを測定した。結果を図５に示す。なお、シランテトラオールの収率は８８．４％であった。【００３５】
＜実施例３＞
テトラエトキシシラン２８．３ｍｇを７０．０ｍｇに、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド０．７２３ｍＬを１．１２３ｍＬに、１Ｎ塩酸０．００１４ｍＬを０．００４２ｍＬ、トリエチルアミンのＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド溶液０．００５ｍＬを０．０１５ｍＬに変更した以外、実施例１と同様の方法によって反応させて、溶液の２９Ｓｉ−ＮＭＲを測定した。結果を図６に示す。なお、シランテトラオールの収率は６０．０％であった。【００３６】
＜実施例４＞
テトラエトキシシラン２８．３ｍｇをテトラメトキシシラン２０．７ｍｇに、反応時間を３０分に変更した以外、実施例１と同様の方法によって反応させて、溶液の２９Ｓｉ−ＮＭＲを測定した。結果を図７に示す。なお、シランテトラオールの収率は９４．８％であった。
【化１５】
2017018543.tif 000017
【００３７】
＜実施例５＞
テトラメトキシシラン２０．７ｍｇを４１．４ｍｇに、１Ｎ塩酸０．００１４ｍＬを０．００２８ｍＬ、トリエチルアミンのＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド溶液０．００５ｍＬを０．０１０ｍＬに変更した以外、実施例４と同様の方法によって反応させて、溶液の２９Ｓｉ−ＮＭＲを測定した。結果を図８に示す。なお、シランテトラオールの収率は９５．３％であった。【００３８】
＜実施例６＞
テトラメトキシシラン２０．７ｍｇを６２．１ｍｇに、１Ｎ塩酸０．００１４ｍＬを０．００４２ｍＬ、トリエチルアミンのＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド溶液０．００５ｍＬを０．０１５ｍＬに変更した以外、実施例４と同様の方法によって反応させて、溶液の２９Ｓｉ−ＮＭＲを測定した。結果を図９に示す。なお、シランテトラオールの収率は８９．０％であった。【００３９】
＜実施例７＞
テトラメトキシシラン２０．７ｍｇを８２．８ｍｇに、１Ｎ塩酸０．００１４ｍＬを０．００５６ｍＬ、トリエチルアミンのＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド溶液０．００５ｍＬを０．０２０ｍＬに変更した以外、実施例４と同様の方法によって反応させて、溶液の２９Ｓｉ−ＮＭＲを測定した。結果を図１０に示す。なお、シランテトラオールの収率は８８．８％であった。【００４０】
＜実施例８＞
テトラエトキシシラン２８．３ｍｇをトリメトキシメチルシラン１８．０ｍｇに、反応時間を２分に変更した以外、実施例１と同様の方法によって反応させて、溶液の２９Ｓｉ−ＮＭＲを測定した。結果を図１１に示す。なお、メチルシラントリオールの収率は１００％であった。
【化１６】
2017018543.tif 000018
【００４１】
＜実施例９＞
テトラエトキシシラン２８．３ｍｇをトリエトキシメチルシラン２４．２ｍｇに、反応時間を３０分に変更した以外、実施例１と同様の方法によって反応させて、溶液の２９Ｓｉ−ＮＭＲを測定した。結果を図１２に示す。なお、メチルシラントリオールの収率は９９．３％であった。
【化１７】
2017018543.tif 000019
【００４２】
＜実施例１０＞
テトラエトキシシラン２８．３ｍｇをジメトキシジメチルシラン１６．３ｍｇに、反応時間を２分に変更した以外、実施例１と同様の方法によって反応させて、溶液の２９Ｓｉ−ＮＭＲを測定した。結果を図１３に示す。なお、ジメチルシランジオールの収率は９５．５％であった。
【化１８】
2017018543.tif 000020
【００４３】
＜実施例１１＞
テトラエトキシシラン２８．３ｍｇをジエトキシジメチルシラン１８．０ｍｇに、反応時間を１０分に変更した以外、実施例１と同様の方法によって反応させて、溶液の２９Ｓｉ−ＮＭＲを測定した。結果を図１４に示す。なお、ジメチルシランジオールの収率は９３．０％であった。
【化１９】
2017018543.tif 000021
【００４４】
＜実施例１２＞
磁気攪拌子を備えた二口フラスコに、テトラメトキシシラン１５．２ｍｇ（０．１００ｍｍｏｌ）、ポリビニルピロリドン（ナカライテスク社製ポリビニルピロリドン２５）１００．０ｍｇ（０．９００ｍｍｏｌ）、水１．０００ｍＬ、及び１Ｎ塩酸水溶液０．００１ｍＬ（１．０ｍｏｌ％）を投入し、室温で０．０８３時間反応させた。その後、トリエチルアミンの水溶液（濃度：２７．５ｇ／Ｌ）０．０１０ｍＬ（１．０ｍｏｌ％）を加えて反応を終了させ、溶液の２９Ｓｉ−ＮＭＲを測定した。なお、シランテトラオールの収率は７０．４％であった。【００４５】
＜実施例１３＞
テトラメトキシシランを３０．４ｍｇ（０．２００ｍｍｏｌ）に、１Ｎ塩酸水溶液を０．００２ｍＬ（１．０ｍｏｌ％）に、トリエチルアミンの水溶液（濃度：２７．５ｇ／Ｌ）を０．０２０ｍＬ（１．０ｍｏｌ％）に変更した以外、実施例１２と同様の方法によって反応させて、溶液の２９Ｓｉ−ＮＭＲを測定した。なお、シランテトラオールの収率は６６．７％であった。【００４６】
＜実施例１４＞
テトラメトキシシランを４５．７ｍｇ（０．３００ｍｍｏｌ）に、１Ｎ塩酸水溶液０．００３ｍＬを（１．０ｍｏｌ％）に、トリエチルアミンの水溶液（濃度：２７．５ｇ／Ｌ）を０．０３０ｍＬ（１．０ｍｏｌ％）に変更した以外、実施例１２と同様の方法によって反応させて、溶液の２９Ｓｉ−ＮＭＲを測定した。なお、シランテトラオールの収率は５８．１％であった。【００４７】
＜実施例１５＞
テトラメトキシシランを６０．９ｍｇ（０．４００ｍｍｏｌ）に、１Ｎ塩酸水溶液を０．００４ｍＬ（１．０ｍｏｌ％）に、トリエチルアミンの水溶液（濃度：２７．５ｇ／Ｌ）を０．０４０ｍＬ（１．０ｍｏｌ％）に変更した以外、実施例１２と同様の方法によって反応させて、溶液の２９Ｓｉ−ＮＭＲを測定した。なお、シランテトラオールの収率は５１．５％であった。【００４８】
＜実施例１６＞
磁気攪拌子を備えた二口フラスコに、テトラメトキシシラン１５．２ｍｇ（０．１００ｍｍｏｌ）、ポリ−Ｎ−イソプロピルアクリルアミド（シグマアルドリッチ社製ポリ（Ｎ−イソプロピルアクリルアミド)、Ｍｎ：２００００〜４００００）９０．８ｍｇ（０．８０２ｍｍｏｌ）、水１．０００ｍＬ、及び１Ｎ塩酸水溶液０．００１ｍＬ（１．０ｍｏｌ％）を投入し、室温で０．０８３時間反応させた。その後、トリエチルアミンの水溶液（濃度：２７．５ｇ／Ｌ）０．０１０ｍＬ（１．０ｍｏｌ％）を加えて反応を終了させ、溶液の２９Ｓｉ−ＮＭＲを測定した。なお、シランテトラオールの収率は６７．１％であった。【００４９】
＜実施例１７＞
テトラメトキシシランを３０．４ｍｇ（０．２００ｍｍｏｌ）に、１Ｎ塩酸水溶液を０．００２ｍＬ（１．０ｍｏｌ％）に、トリエチルアミンの水溶液（濃度：２７．５ｇ／Ｌ）を０．０２０ｍＬ（１．０ｍｏｌ％）に変更した以外、実施例１６と同様の方法によって反応させ、溶液の２９Ｓｉ−ＮＭＲを測定した。なお、シランテトラオールの収率は５４．９％であった。【００５０】
＜実施例１８＞
テトラメトキシシランを４５．７ｍｇ（０．３００ｍｍｏｌ）に、１Ｎ塩酸水溶液を０．００３ｍＬ（１．０ｍｏｌ％）に、トリエチルアミンの水溶液（濃度：２７．５ｇ／Ｌ）を０．０３０ｍＬ（１．０ｍｏｌ％）に変更した以外、実施例１６と同様の方法によって反応させ、溶液の２９Ｓｉ−ＮＭＲを測定した。なお、シランテトラオールの収率は５２．４％であった。【００５１】
＜実施例１９＞
テトラメトキシシランを６０．９ｍｇ（０．４００ｍｍｏｌ）に、１Ｎ塩酸水溶液を０．００４ｍＬ（１．０ｍｏｌ％）に、トリエチルアミンの水溶液（濃度：２７．５ｇ／Ｌ）を０．０４０ｍＬ（１．０ｍｏｌ％）に変更した以外、実施例１６と同様の方法によって反応させ、溶液の２９Ｓｉ−ＮＭＲを測定した。なお、シランテトラオールの収率は４７．４％であった。【００５２】
＜実施例２０＞
磁気攪拌子を備えた二口フラスコに、テトラメトキシシラン２０．７ｍｇ（０．１３６ｍｍｏｌ）、テトラメチル尿素１．２００ｍＬ、及び１Ｎ塩酸０．００１４ｍＬ（１．０ｍｏｌ％）を投入し、さらに水０．２７０ｍＬ（１５．０ｍｍｏｌ）を加えて、室温で０．５時間反応させた。その後、トリエチルアミンのテトラメチル尿素溶液（濃度：２７．５ｇ／Ｌ）０．００５ｍＬ（１．０ｍｏｌ％）を加えて反応を終了させた。この中にテトラメトキシシラン換算で物質量が２．０倍のテトラブチルアンモニウムクロリド（Ｂｕ４ＮＣｌ、７６．０ｍｇ）とテトラメチル尿素（Ｍｅ４Ｕｒｅａ）１５ｍｌを加え、シランテトラオール等を含んだ組成物（溶液）を得た。
この組成物を、液体窒素（−１９６℃）を用いて凍結させて、減圧下でテトラメチル尿素等を昇華させる真空凍結乾燥を行った（凍結乾燥工程（１）減圧度１〜３Ｐａ，棚温度−４０℃，保持時間１５時間、凍結乾燥工程（２）減圧度１〜３Ｐａ，棚温度−４０℃から−１５℃まで１５時間かけて昇温、凍結乾燥工程（３）減圧度１〜３Ｐａ、−１５℃、保持時間２４時間）。乾燥終了後、ガラスバイアル中を不活性ガスで置換し、ゴム栓で封栓することで、粉末状のシランテトラオール等を含んだ組成物９４．１ｍｇを得た。
この組成物を１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＦ−ｄ７／ＴＨＦ−ｄ８：５．８ｐｐｍ）、１３Ｃ、２９Ｓｉ−ＮＭＲ（ＤＭＦ−ｄ７／ＴＨＦ−ｄ８：−６９．８ｐｐｍ）及びＩＲで分析したところ、シランテトラオール等が含まれていることが確認された。この組成を表１に、組成物のＩＲ分析の結果を図１５に示す。
【化２０】
2017018543.tif 000022
【００５３】
【表１】
2017018543.tif 000023
【００５４】
＜実施例２１＞
磁気攪拌子を備えた二口フラスコに、テトラメトキシシラン１０３．５ｍｇ（０．６８０ｍｍｏｌ）、テトラメチル尿素６．０００ｍＬ、及び１Ｎ塩酸０．００７ｍＬ（１．０ｍｏｌ％）を投入し、さらに水１．３５０ｍＬ（７５．０ｍｍｏｌ）を加えて、室温で０．５時間反応させた。その後、トリエチルアミンのテトラメチル尿素溶液（濃度：２７．５ｇ／Ｌ）０．０２５ｍＬ（１．０ｍｏｌ％）を加えて反応を終了させた。この中にテトラメトキシシラン換算で物質量が２．０倍のテトラブチルアンモニウムクロリド（Ｂｕ４ＮＣｌ、３７８．０ｍｇ）とテトラメチル尿素（Ｍｅ４Ｕｒｅａ）７５ｍｌを加え、シランテトラオール等を含んだ組成物（溶液）を得た。
この組成物を、液体窒素（−１９６℃）を用いて凍結させて、減圧下でテトラメチル尿素等を昇華させる真空凍結乾燥を行った（凍結乾燥工程（１）減圧度１〜３Ｐａ，棚温度−４０℃，保持時間２４時間、凍結乾燥工程（２）減圧度１〜３Ｐａ，棚温度−４０℃から−１５℃まで２４時間かけて昇温、凍結乾燥工程（３）減圧度１〜３Ｐａ、−１５℃、保持時間９６時間）。乾燥終了後、ガラスバイアル中を不活性ガスで置換し、ゴム栓で封栓することで、粉末状のシランテトラオール等を含んだ組成物４８５．０ｍｇを得た。
この組成物を１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＦ−ｄ７／ＴＨＦ−ｄ８：５．８ｐｐｍ）、１３Ｃ、２９Ｓｉ−ＮＭＲ（ＤＭＦ−ｄ７／ＴＨＦ−ｄ８：−６９．８ｐｐｍ）及びＩＲで分析したところ、シランテトラオール等が含まれていることが確認された。この組成を表２に、組成物のＩＲ分析の結果を図１６に示す。【００５５】
【表２】
2017018543.tif 000024
【００５６】
＜実施例２２＞
磁気攪拌子を備えた二口フラスコに、テトラメトキシシラン１０３．５ｍｇ（０．６８０ｍｍｏｌ）、テトラメチル尿素６．０００ｍＬ、及び１Ｎ塩酸０．００７ｍＬ（１．０ｍｏｌ％）を投入し、さらに水１．３５０ｍＬ（７４．９ｍｍｏｌ）を加えて、室温で０．５時間反応させた。その後、トリエチルアミンのテトラメチル尿素溶液（濃度：２７．５ｇ／Ｌ）０．０２５ｍＬ（１．０ｍｏｌ％）を加えて反応を終了させた。この中にポリビニルポリピロリドン（５００．０ｍｇ）とテトラメチル尿素（Ｍｅ４Ｕｒｅａ）５４ｍｌを加え、シランテトラオール等を含んだ組成物（溶液）を得た。
この組成物を、液体窒素（−１９６℃）を用いて凍結させて、減圧下で水等を昇華させる真空凍結乾燥を行った（凍結乾燥工程（１）減圧度１〜３Ｐａ、棚温度−４０℃、保持時間２８５時間）。乾燥終了後、ガラスバイアル中を不活性ガスで置換し、ゴム栓で封栓することで、粉末状のシランテトラオール等を含んだ組成物９９８．６ｍｇを得た。
この組成物を２９Ｓｉ−ＮＭＲ（Ｍｅ４Ｕｒｅａ／ＴＨＦ−ｄ８：−７１．７ｐｐｍ）及びＩＲで分析したところ、シランテトラオール等が含まれていることが確認された。この組成を表３に、組成物のＩＲ分析の結果を図１７に示す。【００５７】
【表３】
2017018543.tif 000025
【００５８】
＜実施例２３＞
磁気攪拌子を備えた二口フラスコに、テトラメトキシシラン１５．２ｍｇ（０．１００ｍｍｏｌ）、ポリビニルピロリドン１００．０ｍｇ（０．９００ｍｍｏｌ）、水１．０００ｍＬ及び１Ｎ塩酸水溶液０．００１ｍＬ（１．０ｍｏｌ％）を投入し、室温で０．０８３時間反応させた。その後、トリエチルアミンの水溶液（濃度：２７．５ｇ／Ｌ）０．０１０ｍＬ（１．０ｍｏｌ％）を加えて反応を終了させた。この中に水９ｍｌを加え、シランテトラオール等を含んだ組成物（溶液）を得た。
この組成物を、液体窒素（−１９６℃）を用いて凍結させて、減圧下で水等を昇華させる真空凍結乾燥を行った（凍結乾燥工程（１）減圧度１〜３Ｐａ、棚温度−４０℃、保持時間７２時間）。乾燥終了後、ガラスバイアル中を不活性ガスで置換し、ゴム栓で封栓することで、粉末状のシランテトラオール等を含んだ組成物１０３．８ｍｇを得た。
この組成物を１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＦ−ｄ７／ＴＨＦ−ｄ８：５．９ｐｐｍ）、１３Ｃ、２９Ｓｉ−ＮＭＲ（ＤＭＦ−ｄ７／ＴＨＦ−ｄ８：−７１．３ｐｐｍ）及びＩＲで分析したところ、シランテトラオール等が含まれていることが確認された。この組成を表４に、組成物のＩＲ分析の結果を図１８に示す。【００５９】
【表４】
2017018543.tif 000026
【００６０】
＜実施例２４＞
テトラメトキシシランの添加量を３０．４ｍｇ（０．２００ｍｍｏｌ）、１Ｎ塩酸水溶液０．００２ｍＬ（１．０ｍｏｌ％）、トリエチルアミンの水溶液（濃度：２７．５ｇ／Ｌ）０．０２０ｍＬ（１．０ｍｏｌ％）に変更した以外は、実施例２３と同様の方法によって粉末状のシランテトラオール等を含んだ組成物１１０．５ｍｇを得た。
この組成物を１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＦ−ｄ７／ＴＨＦ−ｄ８：５．９ｐｐｍ）、１３Ｃ、２９Ｓｉ−ＮＭＲ（ＤＭＦ−ｄ７／ＴＨＦ−ｄ８：−７１．３ｐｐｍ）及びＩＲで分析したところ、シランテトラオール等が含まれていることが確認された。この組成を表５に、組成物のＩＲ分析の結果を図１９に示す。【００６１】
【表５】
2017018543.tif 000027
【００６２】
＜実施例２５＞
テトラメトキシシランの添加量を４５．７ｍｇ（０．３００ｍｍｏｌ）、１Ｎ塩酸水溶液０．００３ｍＬ（１．０ｍｏｌ％）、トリエチルアミンの水溶液（濃度：２７．５ｇ／Ｌ）０．０３０ｍＬ（１．０ｍｏｌ％）に変更した以外は、実施例２３と同様の方法によって粉末状のシランテトラオール等を含んだ組成物１２４．２ｍｇを得た。
この組成物を１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＦ−ｄ７／ＴＨＦ−ｄ８：５．８ｐｐｍ）、１３Ｃ、２９Ｓｉ−ＮＭＲ（ＤＭＦ−ｄ７／ＴＨＦ−ｄ８：−７１．３ｐｐｍ）及びＩＲで分析したところ、シランテトラオール等が含まれていることが確認された。この組成を表６に、組成物のＩＲ分析の結果を図２０に示す。【００６３】
【表６】
2017018543.tif 000028
【００６４】
＜実施例２６＞
テトラメトキシシランの添加量を６０．９ｍｇ（０．４００ｍｍｏｌ）、１Ｎ塩酸水溶液０．００４ｍＬ（１．０ｍｏｌ％）、トリエチルアミンの水溶液（濃度：２７．５ｇ／Ｌ）０．０４０ｍＬ（１．０ｍｏｌ％）に変更した以外は、実施例２３と同様の方法によって粉末状のシランテトラオール等を含んだ組成物１３０．３ｍｇを得た。
この組成物を１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＦ−ｄ７／ＴＨＦ−ｄ８：５．８ｐｐｍ）、１３Ｃ、２９Ｓｉ−ＮＭＲ（ＤＭＦ−ｄ７／ＴＨＦ−ｄ８：−７１．３ｐｐｍ）及びＩＲで分析したところ、シランテトラオール等が含まれていることが確認された。この組成を表７に、組成物のＩＲ分析の結果を図２１に示す。【００６５】
【表７】
2017018543.tif 000029
【００６６】
＜実施例２７＞
テトラメトキシシランの添加量を７６．１ｍｇ（０．５００ｍｍｏｌ）、１Ｎ塩酸水溶液０．００５ｍＬ（１．０ｍｏｌ％）、トリエチルアミンの水溶液（濃度：２７．５ｇ／Ｌ）０．０５０ｍＬ（１．０ｍｏｌ％）に変更した以外は、実施例２３と同様の方法によって粉末状のシランテトラオール等を含んだ組成物１３９．０ｍｇを得た。
この組成物を１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＦ−ｄ７／ＴＨＦ−ｄ８：５．８ｐｐｍ）、１３Ｃ、２９Ｓｉ−ＮＭＲ（ＤＭＦ−ｄ７／ＴＨＦ−ｄ８：−７１．３ｐｐｍ）及びＩＲで分析したところ、シランテトラオール等が含まれていることが確認された。この組成を表８に、組成物のＩＲ分析の結果を図２２に示す。【００６７】
【表８】
2017018543.tif 000030
【００６８】
＜実施例２８＞
磁気攪拌子を備えた二口フラスコに、テトラメトキシシラン１５．２ｍｇ（０．１００ｍｍｏｌ）、ポリ−Ｎ−イソプロピルアクリルアミド９０．８ｍｇ（０．８０２ｍｍｏｌ）、水１．０００ｍＬ及び１Ｎ塩酸水溶液０．００１ｍＬ（１．０ｍｏｌ％）を投入し、室温で０．０８３時間反応させた。その後、トリエチルアミンの水溶液（濃度：２７．５ｇ／Ｌ）０．０１０ｍＬ（１．０ｍｏｌ％）を加えて反応を終了させた。この中に水９ｍｌを加え、シランテトラオール等を含んだ組成物（溶液）を得た。
この組成物を、液体窒素（−１９６℃）を用いて凍結させて、減圧下で水等を昇華させる真空凍結乾燥を行った（凍結乾燥工程（１）減圧度１〜３Ｐａ、棚温度−４０℃、保持時間７２時間）。乾燥終了後、ガラスバイアル中を不活性ガスで置換し、ゴム栓で封栓することで、粉末状のシランテトラオール等を含んだ組成物９４．４ｍｇを得た。
この組成物を１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＦ−ｄ７／ＴＨＦ−ｄ８：５．９ｐｐｍ）、１３Ｃ、２９Ｓｉ−ＮＭＲ（ＤＭＦ−ｄ７／ＴＨＦ−ｄ８：−７１．５ｐｐｍ）及びＩＲで分析したところ、シランテトラオール等が含まれていることが確認された。この組成物のＩＲ分析の結果を図２３に示す。【００６９】
＜実施例２９＞
テトラメトキシシランの添加量を３０．４ｍｇ（０．２００ｍｍｏｌ）、１Ｎ塩酸水溶液０．００２ｍＬ（１．０ｍｏｌ％）、トリエチルアミンの水溶液（濃度：２７．５ｇ／Ｌ）０．０２０ｍＬ（１．０ｍｏｌ％）に変更した以外は、実施例２８と同様の方法によって粉末状のシランテトラオール等を含んだ組成物１０２．９ｍｇを得た。
この組成物を１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＦ−ｄ７／ＴＨＦ−ｄ８：５．９ｐｐｍ）、１３Ｃ、２９Ｓｉ−ＮＭＲ（ＤＭＦ−ｄ７／ＴＨＦ−ｄ８：−７１．４ｐｐｍ）及びＩＲで分析したところ、シランテトラオール等が含まれていることが確認された。この組成物のＩＲ分析の結果を図２４に示す。【００７０】
＜実施例３０＞
テトラメトキシシランの添加量を４５．７ｍｇ（０．３００ｍｍｏｌ）、１Ｎ塩酸水溶液０．００３ｍＬ（１．０ｍｏｌ％）、トリエチルアミンの水溶液（濃度：２７．５ｇ／Ｌ）０．０３０ｍＬ（１．０ｍｏｌ％）に変更した以外は、実施例２８と同様の方法によって粉末状のシランテトラオール等を含んだ組成物１１０．４ｍｇを得た。
この組成物を１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＦ−ｄ７／ＴＨＦ−ｄ８：５．９ｐｐｍ）、１３Ｃ、２９Ｓｉ−ＮＭＲ（ＤＭＦ−ｄ７／ＴＨＦ−ｄ８：−７１．４ｐｐｍ）及びＩＲで分析したところ、シランテトラオール等が含まれていることが確認された。この組成物のＩＲ分析の結果を図２５に示す。【００７１】
＜実施例３１＞
テトラメトキシシランの添加量を６０．９ｍｇ（０．４００ｍｍｏｌ）、１Ｎ塩酸水溶液０．００４ｍＬ（１．０ｍｏｌ％）、トリエチルアミンの水溶液（濃度：２７．５ｇ／Ｌ）０．０４０ｍＬ（１．０ｍｏｌ％）に変更した以外は、実施例２８と同様の方法によって粉末状のシランテトラオール等を含んだ組成物１１６．１ｍｇを得た。
この組成物を１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＦ−ｄ７／ＴＨＦ−ｄ８：６．０ｐｐｍ）、１３Ｃ、２９Ｓｉ−ＮＭＲ（ＤＭＦ−ｄ７／ＴＨＦ−ｄ８：−７１．４ｐｐｍ）及びＩＲで分析したところ、シランテトラオール等が含まれていることが確認された。この組成物のＩＲ分析の結果を図２６に示す。【００７２】
＜実施例３２＞
テトラメトキシシランの添加量を７６．１ｍｇ（０．５００ｍｍｏｌ）、１Ｎ塩酸水溶液０．００５ｍＬ（１．０ｍｏｌ％）、トリエチルアミンの水溶液（濃度：２７．５ｇ／Ｌ）０．０５０ｍＬ（１．０ｍｏｌ％）に変更した以外は、実施例２８と同様の方法によって粉末状のシランテトラオール等を含んだ組成物１２８．２ｍｇを得た。
この組成物を１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＦ−ｄ７／ＴＨＦ−ｄ８：６．０ｐｐｍ）、１３Ｃ、２９Ｓｉ−ＮＭＲ（ＤＭＦ−ｄ７／ＴＨＦ−ｄ８：−７１．４ｐｐｍ）及びＩＲで分析したところ、シランテトラオール等が含まれていることが確認された。この組成物のＩＲ分析の結果を図２７に示す。【００７３】
＜実施例３３＞
磁気攪拌子を備えた二口フラスコに、テトラメトキシシラン１５．２ｍｇ（０．１００ｍｍｏｌ）、ポリ−２−エチルオキサゾリン（シグマアルドリッチ社製ポリ（２−エチル−２−オキサゾリン）、Ｍｗ：〜５００００）８９．２ｍｇ（０．９００ｍｍｏｌ）、水１．０００ｍＬ及び１Ｎ塩酸水溶液０．００２５ｍＬ（２．５ｍｏｌ％）を投入し、室温で０．１６７時間反応させた。その後、トリエチルアミンの水溶液（濃度：２７．５ｇ／Ｌ）０．０２５ｍＬ（２．５ｍｏｌ％）を加えて反応を終了させた。この中に水９ｍｌを加え、シランテトラオール等を含んだ組成物（溶液）を得た。
この組成物を、液体窒素（−１９６℃）を用いて凍結させて、減圧下で水等を昇華させる真空凍結乾燥を行った（凍結乾燥工程（１）減圧度１〜３Ｐａ、棚温度−４０℃、保持時間７２時間）。乾燥終了後、ガラスバイアル中を不活性ガスで置換し、ゴム栓で封栓することで、粉末状のシランテトラオール等を含んだ組成物９５．０ｍｇを得た。
この組成物を１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＦ−ｄ７／ＴＨＦ−ｄ８：５．８ｐｐｍ）、１３Ｃ、２９Ｓｉ−ＮＭＲ（ＤＭＦ−ｄ７／ＴＨＦ−ｄ８：−７１．２ｐｐｍ）及びＩＲで分析したところ、シランテトラオール等が含まれていることが確認された。この組成物のＩＲ分析の結果を図２８に示す。【００７４】
＜実施例３４＞
テトラメトキシシランの添加量を４５．７ｍｇ（０．３００ｍｍｏｌ）、１Ｎ塩酸水溶液０．００７５ｍＬ（２．５ｍｏｌ％）、トリエチルアミンの水溶液（濃度：２７．５ｇ／Ｌ）０．０７５ｍＬ（２．５ｍｏｌ％）に変更した以外は、実施例３３と同様の方法によって粉末状のシランテトラオール等を含んだ組成物１１４．５ｍｇを得た。
この組成物を１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＦ−ｄ７／ＴＨＦ−ｄ８：５．８ｐｐｍ）、１３Ｃ、２９Ｓｉ−ＮＭＲ（ＤＭＦ−ｄ７／ＴＨＦ−ｄ８：−７１．２ｐｐｍ）及びＩＲで分析したところ、シランテトラオール等が含まれていることが確認された。この組成を表９に、組成物のＩＲ分析の結果を図２９に示す。【００７５】
【表９】
2017018543.tif 000031
【産業上の利用可能性】
【００７６】
本発明のシラノール化合物の製造方法によって製造されたシラノール化合物は、自動車、建築、エレクトロニクス、医薬等の幅広い分野で利用されているシロキサン化合物の原料等として有用である。
【図１】
2017018543.tif 000037
【図２】
2017018543.tif 000038
【図３】
2017018543.tif 000039
【図４】
2017018543.tif 000040
【図５】
2017018543.tif 000041
【図６】
2017018543.tif 000042
【図７】
2017018543.tif 000043
【図８】
2017018543.tif 000044
【図９】
2017018543.tif 000045
【図１０】
2017018543.tif 000046
【図１１】
2017018543.tif 000047
【図１２】
2017018543.tif 000048
【図１３】
2017018543.tif 000049
【図１４】
2017018543.tif 000050
【図１５】
2017018543.tif 000051
【図１６】
2017018543.tif 000052
【図１７】
2017018543.tif 000053
【図１８】
2017018543.tif 000054
【図１９】
2017018543.tif 000055
【図２０】
2017018543.tif 000056
【図２１】
2017018543.tif 000057
【図２２】
2017018543.tif 000058
【図２３】
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【図２４】
2017018543.tif 000060
【図２５】
2017018543.tif 000061
【図２６】
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【図２７】
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【図２８】
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【図２９】
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【国際調査報告】
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