(57)【要約】  有機化合物の製造方法であって、有機化合物が、工業的に有用な化合物であり、反応工程で生成もしくは残留する臭気物質を反応液から除去する脱臭工程を、流路中のフロー反応を用いて行う製造方法。
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
有機化合物の製造方法であって、該有機化合物が、工業的に有用な化合物であり、反応工程で生成もしくは残留する臭気物質を反応液から除去する脱臭工程を、流路中のフロー反応を用いて行う製造方法。
【請求項２】
前記反応工程が、硫黄原子含有有機化合物を用いる酸化反応である請求項１に記載の製造方法。
【請求項３】
前記反応工程が、炭素数２〜５０のアルコール化合物を酸化して、炭素数２〜５０のアルデヒドもしくはケトン化合物を製造する工程である請求項１または２に記載の製造方法。
【請求項４】
前記硫黄原子含有有機化合物を用いる酸化反応が、炭素数２〜８のジアルキルスルホキシド化合物と炭素数４〜１０の酸無水物もしくは炭素数２〜７の酸ハロゲン化物を用いる酸化反応である請求項２または３に記載の製造方法。
【請求項５】
前記臭気物質が、炭素数２〜８のジアルキルスルフィドである請求項１〜４のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項６】
前記脱臭工程が、前記臭気物質の酸化反応である請求項１〜５のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項７】
前記脱臭工程が、前記臭気物質を次亜塩素酸もしくはその塩、ハロゲン化剤および過酢酸から選択される酸化剤で酸化する酸化反応である請求項１〜６のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項８】
前記酸化剤の使用量が、前記反応工程で使用される前記酸無水物もしくは酸ハロゲン化物に対するモル当量が０．５〜５．０である請求項７に記載の製造方法。
【請求項９】
前記脱臭工程の反応温度が、−２０〜６０℃である請求項１〜８のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項１０】
前記脱臭工程の流路滞留時間（反応時間）が、０．０１〜１２０秒である請求項１〜９のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項１１】
前記アルコール化合物が、下記一般式（Ａ）で表される化合物であり、前記有機化合物が、下記一般式（Ｂ）で表される化合物である請求項３〜１０のいずれか１項に記載の製造方法。
【化１】
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一般式（Ａ）、（Ｂ）において、Ｒ３は水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、シクロアルケニル基、アリール基またはヘテロ環基を表す。Ｒ４はアルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、シクロアルケニル基、アリール基またはヘテロ環基を表す。ここで、Ｒ３とＲ４が互いに結合して環を形成してもよい。
【請求項１２】
前記反応工程と前記脱臭工程が、ともに流路中でのフロー反応であり、両工程を連続して行う請求項１〜１１のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項１３】
前記脱臭工程を、マイクロリアクターで行う請求項１〜１２のいずれか１項に記載の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、工業的に有用な有機化合物の製造方法に関する。
さらに詳細には、流路中のフロー反応により、反応工程で生成した臭気物質を反応液から除去する脱臭工程を含む工業的に有用な有機化合物の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
有機化合物の製造では、臭気物質が反応で生成もしくは残留し、この結果、作業環境が汚染され、作業効率が低下するだけでなく、環境負荷や人体への負荷がかかる。
従来の脱臭技術としては、洗浄法、吸着法、燃焼法、生物脱臭法、オゾン脱臭法、光触媒脱臭法、プラズマ脱臭法、消・脱臭剤法、希釈・拡散法などが利用されている。これらの脱臭方法はいすれも一般的には、発生した臭気物質を一度、反応系外に導き、反応系外で適宜脱臭技術を用いて臭気物質を処理する方法である。【０００３】
しかも、化学反応により生成した臭気物質に対しては、反応で使用した有機溶剤が含有していることから、洗浄法、吸着法、燃焼法を組み合わせる方法が一般的である。
しかしながら、上記のような組み合わせの方法では製造設備が大きくなりコストアップになり、また環境負荷も大きい問題があった。しかも、臭気物質を反応系外に導く際に、製造設備からの臭気の拡散を防ぐために、例えば、設備全体を密閉系にするなどの対策が必要であり、設備費のコストアップとなっていた。【０００４】
なお、化学反応により生成もしくは残留した臭気物質でなく、飲食品中の臭気物質の除去法として中空糸膜を使用する方法が提案されている（特許文献１参照）。しかしながら化学反応により生成もしくは残留した臭気物質の除去に対しては、反応で使用した有機溶剤に対する膜の耐溶剤性の問題や、処理設備の導入コストにより現実的ではない。【０００５】
反応工程により臭気物質である悪臭物質を発生もしくは残留する化学反応の代表例としてアルコール化合物を酸化してアルデヒド化合物もしくはケトン化合物を合成する酸化反応が挙げられる。この酸化反応は有機合成上非常に重要である。代表的な酸化反応として、スワーン酸化（Ｓｗｅｒｎ酸化）が挙げられる。このＳｗｅｒｎ酸化は、重金属を含有する廃棄物を生成することがなく、適用化合物の範囲が広く、しかも過剰な酸化が起きないため、実験室レベルにおいては広く利用されている。しかしながら、Ｓｗｅｒｎ酸化では塩化オキサリルまたは無水トリフルオロ酢酸とジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）とを活性化剤として使用するため（非特許文献１参照）、酸化反応後に、有毒で、強い悪臭をもつジメチルスルフィドが副生する問題がある。【０００６】
また、コーリー・キム酸化（Ｃｏｒｅｙ−Ｋｉｍ酸化）は、Ｓｗｅｒｎ酸化よりも反応条件が温和であり、分子内にアミノ基の如き酸化しやすい置換基を有していても選択的にアルコール化合物からアルデヒド化合物もしくはケトン化合物に導くことができる有用な方法である（非特許文献２）。しかしながら、ジメチルスルフィド（ＤＭＳ）とＮ−クロロスクシンイミドを活性化剤として使用するため、ジメチルスルフィドの悪臭対策が問題である。臭気の弱いドデシルメチルスルフィドを用いる改良法も開発されているが（特許文献２参照）、反応後のスルフィド化合物の処理が煩雑であることやコストが高いといった問題がある。【０００７】
このため、Ｓｗｅｒｎ酸化やＣｏｒｅｙ−Ｋｉｍ酸化は、アルコール化合物の酸化反応で、アルデヒド化合物もしくはケトン化合物を合成するのに非常に有用であるにもかかわらず、工業的な利用は敬遠されてきた。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開２００６−２４６８５５号公報
【特許文献２】特開２００３−３１３１５１号公報
【非特許文献】
【０００９】
【非特許文献１】Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，１９７６，４１，９５７〜９６２
【非特許文献２】Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，１９７２，９４，７５８６〜７５８７
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
上記のような状況から、刺激臭や不快臭を気にすることなく、後処理が簡便でコスト的負荷が少ないアルコール化合物の酸化反応によるアルデヒド化合物もしくはケトン化合物の製造方法の開発が求められていた。
また、上記のようなＳｗｅｒｎ酸化やＣｏｒｅｙ−Ｋｉｍ酸化だけでなく、各種の工業的に有用な有機化合物の製造において、簡便かつ低コストな臭気物質の脱臭方法の開発も必要である。
従って、本発明は、反応工程で生成した臭気物質を簡便かつ低コストで除去し、環境負荷を低減した工業的に有用な有機化合物の製造方法を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明者らは、鋭意検討した結果、上記課題は、以下の構成により達成することができることを見出した。【００１２】
（１）有機化合物の製造方法であって、有機化合物が、工業的に有用な化合物であり、反応工程で生成もしくは残留する臭気物質を反応液から除去する脱臭工程を、流路中のフロー反応を用いて行う製造方法。
（２）反応工程が、硫黄原子含有有機化合物を用いる酸化反応である（１）に記載の製造方法。
（３）反応工程が、炭素数２〜５０のアルコール化合物を酸化して、炭素数２〜５０のアルデヒドもしくはケトン化合物を製造する工程である（１）または（２）に記載の製造方法。
（４）硫黄原子含有有機化合物を用いる酸化反応が、炭素数２〜８のジアルキルスルホキシド化合物と炭素数４〜１０の酸無水物もしくは炭素数２〜７の酸ハロゲン化物を用いる酸化反応である（２）または（３）に記載の製造方法。
（５）臭気物質が、炭素数２〜８のジアルキルスルフィドである（１）〜（４）のいずれか１つに記載の製造方法。
（６）脱臭工程が、臭気物質の酸化反応である（１）〜（５）のいずれか１つに記載の製造方法。
（７）脱臭工程が、臭気物質を次亜塩素酸もしくはその塩、ハロゲン化剤および過酢酸から選択される酸化剤で酸化する酸化反応である（１）〜（６）のいずれか１つに記載の製造方法。
（８）酸化剤の使用量が、反応工程で使用される酸無水物もしくは酸ハロゲン化物に対するモル当量が０．５〜５．０である（７）に記載の製造方法。
（９）脱臭工程の反応温度が、−２０〜６０℃である（１）〜（８）のいずれか１つに記載の製造方法。
（１０）脱臭工程の流路滞留時間（反応時間）が、０．０１〜１２０秒である（１）〜（９）のいずれか１つに記載の製造方法。
（１１）アルコール化合物が、下記一般式（Ａ）で表される化合物であり、前記有機化合物が、下記一般式（Ｂ）で表される化合物である（３）〜（１０）のいずれか１つに記載の製造方法。【００１３】
【化１】
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【００１４】
一般式（Ａ）、（Ｂ）において、Ｒ３は水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、シクロアルケニル基、アリール基またはヘテロ環基を表す。Ｒ４はアルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、シクロアルケニル基、アリール基またはヘテロ環基を表す。ここで、Ｒ３とＲ４が互いに結合して環を形成してもよい。
（１２）反応工程と脱臭工程が、ともに流路中でのフロー反応であり、両工程を連続して行う（１）〜（１１）のいずれか１つに記載の製造方法。
（１３）脱臭工程を、マイクロリアクターで行う（１）〜（１２）のいずれか１つに記載の製造方法。
【発明の効果】
【００１５】
本発明により、反応工程で生成した臭気物質を簡便かつ低コストで除去し、環境負荷を低減した工業的に有用な有機化合物の製造方法の提供が可能となった。
本発明の上記および他の特徴および利点は、適宜添付の図面を参照して、下記の記載からより明らかになるであろう。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】図１は、本発明の脱臭工程に係る好ましい製造システムを示す概略構成図である。
【図２】図２は、本発明の反応工程から脱臭工程までに係る好ましい代表的な製造システムを示す全体概略構成図である。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
本発明の製造方法は、有機化合物の製造方法であって、有機化合物が、工業的に有用な化合物であり、反応工程で生成もしくは残留する臭気物質を反応液から除去する脱臭工程を、流路中のフロー反応を用いて行う。
本発明を以下に詳細に説明する。
【００１８】
ここで、本発明で製造する工業的に有用な化合物は、有機合成反応で合成される有機化合物であり、工業製品もしくはその原料として使用される化合物である。
従って、本発明の製造方法は、有機合成における反応工程を含む製造方法、より具体的には、反応原料から目的とする有機化合物を合成する反応工程を含む製造方法である。
【００１９】
＜＜有機化合物の製造方法＞＞
本発明の製造方法は、少なくとも反応工程と脱臭工程からなる。
本発明では、反応工程後に脱臭工程を行ってもよく、反応工程中にその一部として脱臭工程を組み込んでも構わないが、反応工程と脱臭工程を連続して行うのが好ましく、反応工程後に脱臭工程を連続して行うのが特に好ましい。
また、本発明では、反応工程は、硫黄原子含有有機化合物を用いる酸化反応が好ましい。
【００２０】
＜反応工程で生成する臭気物質＞
反応工程で生成する臭気物質は、合成で製造される有機化合物以外の物質であり、反応工程で、副次的に新たに生成する物質である。
一方、反応工程で残留する臭気物質は、合成で製造される有機化合物以外の物質であり、反応原料、反応試薬が、臭気物質であり、反応で消費されず、残留した物質である。
本発明では、反応工程で残留する臭気物質の除去よりも、反応工程で生成する臭気物質を反応液から除去することが、作業環境から完全に臭気物質を遮断できるため、特に好ましい。
【００２１】
このような臭気物質としては、スルフィド化合物やスルホキシド化合物等の硫黄原子含有化合物を用いる酸化反応（Ｓｗｅｒｎ酸化反応・Ｃｏｒｅｙ−Ｋｉｍ酸化反応）、リン原子含有化合物を用いるアルキル化反応（イオン液体合成反応）、スズ原子含有化合物を用いる炭素−炭素形成反応（Ｓｔｉｌｌｅ反応）、セレン原子含有化合物を用いるα，β-不飽和カルボニル化反応、テルル原子含有化合物を用いるリビングラジカル重合反応などが挙げられる。本発明では、硫黄原子化合物を用いる酸化反応（Ｓｗｅｒｎ酸化反応・Ｃｏｒｅｙ−Ｋｉｍ酸化反応）、リン原子含有化合物を用いるアルキル化反応（イオン液体合成反応）、スズ原子含有化合物を用いる炭素−炭素形成反応（Ｓｔｉｌｌｅ反応）に好ましく適用され、硫黄原子含有有機化合物により好ましく適用され、なかでも、スルフィド化合物の脱臭に好ましい。
このようなスルフィド化合物は、下記一般式（Ｓ）で表されるスルフィド化合物が好ましい。
【００２２】
【化２】
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【００２３】
一般式（Ｓ）において、Ｒ１およびＲ２は各々独立に、アルキル基、シクロアルキル基またはアリール基を表す。
【００２４】
アルキル基は、直鎖もしくは分岐のアルキル基で、炭素数は１〜１８が好ましく、１〜８がより好ましく、１〜６がさらに好ましい。
アルキル基としては、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、２−エチルヘキシル、ノニル、デシル、ウンデシル、ドデシル、トリデシル、テトラデシル、ペンタデシル、ヘキサデシル、ヘプタデシル、オクタデシルが挙げられる。
【００２５】
シクロアルキル基は、３〜１８員環のシクロアルキル基が好ましく、３〜１０員環のシクロアルキル基がより好ましく、３〜７員環のシクロアルキル基がさらに好ましく、５または６員環のシクロアルキル基が特に好ましい。シクロアルキル基の炭素数は３〜１８が好ましく、５〜１０がより好ましく、５〜８がさらに好ましい。
シクロアルキル基としては、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチル、シクロノニル、シクロデシルが挙げられる。
【００２６】
アリール基の炭素数は６〜１０が好ましく、例えば、フェニル、ナフチル等の単環式または二環式のアリール基が好ましい。
これらの各基は、置換基で置換されていてもよく、このような置換基としては、後述の一般式（Ａ）、（Ｂ）におけるＲ３、Ｒ４の各基が置換してもよい置換基が挙げられる。
【００２７】
一般式（Ｓ）で表されるスルフィド化合物は、Ｒ１およびＲ２がともにアルキル基が好ましく、なかでも、Ｒ１とＲ２の炭素数の合計が、２〜８が好ましい。
炭素数２〜８のジアルキルスルフィド化合物は、具体的には、ジメチルスルフィド、ジエチルスルフィド、ジプロピルスルフィド、ジイソプロピルスルフィド、ジブチルスルフィド、エチルメチルスルフィド、プロピルメチルスルフィド、イソプロピルメチルスルフィド、ブチルメチルスルフィド、ブチルエチルスルフィド、ブチルプロピルスルフィド、ブチルイソプロピルスルフィド等が挙げられる。このなかでも好ましくは、ジメチルスルフィド、ジエチルスルフィド、ジプロピルスルフィド、ジブチルスルフィドであり、より好ましくはジメチルスルフィドである。
【００２８】
一般式（Ｓ）で表されるスルフィド化合物が副次的に新たに生成する反応としては、アルコール化合物を酸化してアルデヒド化合物もしくはケトン化合物を合成する酸化反応が挙げられ、Ｓｗｅｒｎ酸化やＣｏｒｅｙ−Ｋｉｍ酸化が代表的であり、これらは本発明において好ましく、Ｓｗｅｒｎ酸化が特に好ましい。
【００２９】
Ｓｗｅｒｎ酸化は、代表的には、ジメチルスルホキシドと無水トリフルオロ酢酸または塩化オキサリルとを活性化剤として使用する。一方、Ｃｏｒｅｙ−Ｋｉｍ酸化は、代表的には、ジメチルスルフィドとＮ−クロロスクシンイミドとを活性化剤として使用する。
以下に、ジメチルスルホキシドと無水トリフルオロ酢酸または塩化オキサリルとを活性化剤として使用するＳｗｅｒｎ酸化およびジメチルスルフィドとＮ−クロロスクシンイミドとを活性化剤として使用するＣｏｒｅｙ−Ｋｉｍ酸化において、目的とするアルデヒド化合物もしくはケトン化合物および副生するジメチルスルフィドが得られる反応スキームを示す。
【００３０】
【化３】
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【００３１】
ここで、Ｒ３およびＲ４は、後述する一般式（Ａ）および（Ｂ）におけるＲ３とＲ４である。
【００３２】
＜反応工程＞
本発明で製造する有機化合物は、工業的に有用な化合物であれば、特に限定されるものではないが、アルデヒド化合物もしくはケトン化合物が好ましい。
また、反応としては、酸化反応が好ましく、本発明では、硫黄原子含有有機化合物を用いる酸化反応がより好ましい。
本発明で製造する有機化合物の製造は、アルコール化合物の酸化反応で合成する製造方法がより好ましい。
本発明の反応工程は、特に、炭素数２〜５０のアルコール化合物を酸化して、炭素数２〜５０のアルデヒド化合物もしくケトン化合物を製造する工程が好ましい。
【００３３】
アルコール化合物の酸化は、Ｓｗｅｒｎ酸化やＣｏｒｅｙ−Ｋｉｍ酸化が好ましく、Ｓｗｅｒｎ酸化が特に好ましい。
このため、活性化剤として、少なくとも上記の硫黄原子含有有機化合物を使用する。
Ｓｗｅｒｎ酸化では、ジメチルスルホキシドのようなスルホキシド化合物であり、Ｃｏｒｅｙ−Ｋｉｍ酸化では、ジメチルスルフィドのようなスルフィド化合物である。
なお、Ｓｗｅｒｎ酸化では、ジメチルスルホキシドのようなスルホキシド化合物が還元されて、ジメチルスルフィドのようなスルフィド化合物となり、Ｃｏｒｅｙ−Ｋｉｍ酸化では、未反応のジメチルスルフィドのようなスルフィド化合物が反応液に残留する。
【００３４】
（原料のアルコール化合物および製造するアルデヒド化合物もしくはケトン化合物）
本発明では、原料のアルコール化合物および製造するアルデヒド化合物もしくはケトン化合物は、炭素数２〜５０のアルコール化合物を酸化して、炭素数２〜５０のアルデヒド化合物もしくはケトン化合物を製造するのが好ましい。
アルコール化合物およびアルデヒド化合物もしくはケトン化合物は、それぞれ、下記一般式（Ａ）および（Ｂ）で表される化合物が好ましい。
【００３５】
【化４】
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【００３６】
一般式（Ａ）、（Ｂ）において、Ｒ３は水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、シクロアルケニル基、アリール基またはヘテロ環基を表す。Ｒ４はアルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、シクロアルケニル基、アリール基またはヘテロ環基を表す。ここで、Ｒ３とＲ４が互いに結合して環を形成してもよい。
【００３７】
Ｒ３およびＲ４のアルキル基は、直鎖もしくは分岐のアルキル基で、炭素数は１〜１８が好ましく、１〜１２がより好ましい。
アルキル基としては、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、２−エチルヘキシル、ノニル、デシル、ウンデシル、ドデシル、トリデシル、テトラデシル、ペンタデシル、ヘキサデシル、ヘプタデシル、オクタデシルが挙げられる。
【００３８】
Ｒ３およびＲ４のシクロアルキル基は、３〜１８員環のシクロアルキル基が好ましく、３〜１０員環のシクロアルキル基がより好ましく、３〜７員環のシクロアルキル基がさらに好ましく、５または６員環のシクロアルキル基が特に好ましい。シクロアルキル基の炭素数は３〜１８が好ましく、５〜１２がより好ましい。
シクロアルキル基としては、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチル、シクロノニル、シクロデシル、シクロウンデシル、シクロドデシル、シクロトリデシル、シクロテトラデシル、シクロペンタデシル、シクロヘキサデシル、シクロヘプタデシル、シクロオクタデシルが挙げられる。
【００３９】
Ｒ３およびＲ４のアルケニル基は、直鎖もしくは分岐のアルケニル基で、炭素数は２〜１８が好ましく、２〜１２がより好ましい。
アルケニル基としては、ビニル、アリル、プロペニル、ブテニル、ペンテニル、ヘキセニル、ヘプテニル、オクテニル、ノネニル、デセニル、ウンデセニル、ドデセニル、トリデセニル、テトラデセニル、ペンタデセニル、ヘキサデセニル、ヘプタデセニル、オクタデセニル、ヘキサジエニル、ドデカジエニル、オクタトリエニル、テトラデカトリエニルが挙げられる。
【００４０】
Ｒ３およびＲ４のシクロアルケニル基は、５〜１８員環のシクロアルケニル基が好ましく、５〜１０員環のシクロアルケニル基がより好ましく、５〜７員環のシクロアルケニル基がさらに好ましく、５または６員環のシクロアルケニル基が特に好ましい。シクロアルケニル基の炭素数は５〜１８が好ましく、５〜１２がより好ましい。
シクロアルケニル基としては、シクロペンテニル、シクロヘキセニル、シクロヘプチニル、シクロオクチニルが挙げられる。
【００４１】
Ｒ３およびＲ４のアリール基の炭素数は、６〜１４が好ましく、６〜１０がより好ましく、例えば、フェニル、トリル、キシリル、ナフチル、フェナントリル等の単環式または二環式のアリール基が挙げられる。
【００４２】
Ｒ３およびＲ４のヘテロ環基は、５〜１８員環のヘテロ環基が好ましく、５〜１０員環のヘテロ環基がより好ましい。また、ヘテロ環を構成するヘテロ原子は、窒素原子、酸素原子および硫黄原子から選択される原子が好ましく、ヘテロ環を構成するヘテロ原子は２個以上であってもよい。ヘテロ環基のヘテロ環は、ベンゼン環、ナフタレン環のようなアリール環、シクロペンタン環、シクロヘキサン環、シクロペンテン環、シクロヘキセン環のような脂肪族炭化水素環、ヘテロ環等で縮環していてもよい。
【００４３】
ヘテロ環基としては、イミダゾリル、オキサゾリル、トリアゾリル、チアゾリル、１，３，４−チアジアゾリル、ピリジル、ピリミジル、ピラジル、フリル、ピラニル、クロマニル、テトラヒドロピラニル、チエニル、ベンゾチアゾリル、ベンゾオキサゾリル、キノリル、アクリジニルが挙げられる。また、２−オキソオキセタニル、２−オキソオキソラニル、２−オキソクロメニル、２−オキソイソクロメニル、２−オキソオキセパニル、２−オキソオキサシクロデカニル、２−オキソオキサシクロウンデカニル、２−オキソオキサシクロドデカニル、２−オキソオキサシクロトリデカニル、２−オキソオキサシクロテトラデカニル、２−オキソオキサシクロペンタデカニル、２−オキソオキサシクロヘキサデカニル等の５〜１６員のラクトン環が挙げられる。
【００４４】
Ｒ３とＲ４が互いに結合して形成する環は、飽和もしくは不飽和の脂肪族炭素環、飽和もしくは不飽和のヘテロ環が挙げられる。形成される環は、３〜１８員環が好ましく、ヘテロ環の場合、ヘテロ環を構成するヘテロ原子は、窒素原子、酸素原子および硫黄原子から選択される原子が好ましく、ヘテロ環を構成するヘテロ原子は２個以上であってもよい。
このうち、ヘテロ環は５〜１８員環が好ましいが、ラクトン環の場合４〜１８員環が好ましい。
Ｒ３とＲ４が互いに結合して形成する環としては、以下の環が挙げられる。
【００４５】
１）３〜１８員環の飽和環
・単環
シクロプロパン環、シクロブタン環、シクロペンタン環、シクロヘキサン環、シクロヘプタン環、シクロオクタン環、シクロノナン環、シクロデカン環、シクロウンデカン環、シクロドデカン環、シクロトリデカン環、シクロテトラデカン環、シクロペンタデカン環、シクロヘキサデカン環、シクロヘプタデカン環、シクロオクタデカン環
・縮合多環
１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン環、９，１０−ジヒドロアントラセン環、テトラヒドロアントラセン環
【００４６】
２）５〜１８員環の部分飽和環
シクロプロペン環、シクロブテン環、シクロペンテン環、シクロヘキセン環、シクロヘプテン環、シクロオクタジエン環、シクロノネン環、シクロデセン環、シクロウンデセン環、シクロドデカトリエン環、シクロトリデセン環、シクロテトラデカジエン環、シクロペンタデセン環、シクロヘキサデセン環、シクロヘプタデセン環、シクロオクタデセン環
３）４〜１８員環のヘテロ環
オキソラン環、チオピラン環や、１２−クラウン−４−エーテル環、１５−クラウン−５−エーテル環等のクラウンエーテル環、さらにβ−プロピオラクトン環、γ−ブチロラクトン環、δ−バレロラクトン環等のラクトン環
【００４７】
Ｒ３、Ｒ４、およびＲ３とＲ４が互いに結合して形成する環は、さらに置換基を有してもよい。このような置換基は酸化反応を阻害するもの、および副反応を起こすものでなければ特に制限はない。例えば、以下の置換基が挙げられる。
【００４８】
アルキル基（好ましくは炭素数１〜１０で、例えば、メチル、エチル、イソプロピル、ｔ−ブチル、ペンチル、ヘプチル、１−エチルペンチル、２−エチルヘキシル、ベンジル、２−エトキシエチル、１−カルボキシメチル等）、アルケニル基（好ましくは炭素数２〜２０で、例えば、ビニル、アリル、オレイル等）、アルキニル基（好ましくは炭素数２〜２０で、例えば、エチニル、２−ブチニル、フェニルエチニル等）、シクロアルキル基（好ましくは炭素数３〜２０で、例えば、シクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシル、４−メチルシクロヘキシル等）、アリール基（好ましくは炭素数６〜２６で、例えば、フェニル、１−ナフチル、２−ナフチル、４−メトキシフェニル、２−クロロフェニル、３−メチルフェニル等）、ヘテロ環基（好ましくは炭素数０〜２０のヘテロ環基で、環を構成するヘテロ原子が酸素原子、窒素原子、硫黄原子から選択されるヘテロ環基が好ましく、５または６員環でベンゼン環やヘテロ環で縮環していてもよく、またヘテロ環基のヘテロ環が飽和環、不飽和環、芳香環であってもよい。ヘテロ環基としては、例えば、２−ピリジル、４−ピリジル、２−イミダゾリル、２−ベンゾイミダゾリル、２−チアゾリル、２−オキサゾリル等が挙げられる）、アルコキシ基（好ましくは炭素数１〜２０で、例えば、メトキシ、エトキシ、イソプロピルオキシ、ベンジルオキシ等）、アリールオキシ基（好ましくは炭素数６〜２６で、例えば、フェノキシ、１−ナフチルオキシ、２−ナフチルオキシ、３−メチルフェノキシ、４−メトキシフェノキシ等）、ヘテロ環オキシ基（上記ヘテロ環基のヘテロ環オキシ基が好ましい）、
【００４９】
アルキルチオ基（好ましくは炭素数１〜２０で、例えば、メチルチオ、エチルチオ、イソプロピルチオ、ベンジルチオ等）、アリールチオ基（好ましくは炭素数６〜２６で、例えば、フェニルチオ、１−ナフチルチオ、２−ナフチルチオ、３−メチルフェニルチオ、４−メトキシフェニルチオ等）、アシル基（アルキルカルボニル基、アルケニルカルボニル基、アリールカルボニル基、ヘテロ環カルボニル基を含み、炭素数は２０以下が好ましく、例えば、アセチル、ピバロイル、アクリロイル、メタクリロイル、ベンゾイル、ニコチノイル等）、アルコキシカルボニル基（好ましくは炭素数２〜２０で、例えば、エトキシカルボニル、２−エチルヘキシルオキシカルボニル等）、アリールオキシカルボニル基（好ましくは炭素数７〜２０で、例えば、フェニルオキシカルボニル、ナフチルオキシカルボニル等）、アミノ基（アミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ヘテロ環アミノ基を含み、好ましくは炭素数０〜２０で、例えば、アミノ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ、Ｎ−エチルアミノ、アニリノ、１−ピロリジン−１−イル、ピペリジン−１−イル、モルホリン−１−イル、チオモルホリン−１−イル等）、スルホンアミド基（アルキルスルホンアミド基、アリールスルホンアミド基を含み、好ましくは炭素数０〜２０で、例えば、スルホンアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルホンアミド、Ｎ−フェニルスルホンアミド等）、スルファモイル基（アルキルスルファモイル基、アリールスルファモイル基を含み、好ましくは炭素数０〜２０で、例えば、スルファモイル、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル、Ｎ−フェニルスルファモイル等）、アシルオキシ基（好ましくは炭素数１〜２０で、例えば、アセチルオキシ、ベンゾイルオキシ等）、カルバモイル基（アルキルカルバモイル基、アリールカルバモイル基を含み、好ましくは炭素数１〜２０で、例えば、カルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル、Ｎ−フェニルカルバモイル等）、アシルアミノ基（好ましくは炭素数１〜２０で、例えば、アセチルアミノ、アクリロイルアミノ、ベンゾイルアミノ、ニコチンアミド等）、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、メルカプト基、カルボキシ基、スルホ基、リン酸基、ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等）、アジド基（−Ｎ３）が挙げられる。さらに、２価の基のオキソ基（＝Ｏ）が挙げられる。
【００５０】
これらの置換基は、さらに上記の置換基で置換されていてもよい。
【００５１】
これらの置換基のうち、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、シクロアルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロ環基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アミノ基、アシル基、アルキキシカルボニル基、ハロゲン原子、オキソ基、およびこれらを組み合わせてなる基が好ましい。
【００５２】
Ｒ３は好ましくは、水素原子、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数２〜１２のアルケニル基、フェニル基、ナフチル基、５〜１８員環のヘテロ環基である。
Ｒ４は好ましくは、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数２〜１２のアルケニル基、フェニル基、ナフチル基、５〜１８員環のヘテロ環基である。
また、Ｒ３とＲ４が互いに結合して形成された環も好ましく、６〜１４員環の飽和環、５〜１４員環のヘテロ環、１４〜１６員環のラクトン環がより好ましい。
【００５３】
なお、一般式（Ａ）で表される化合物および一般式（Ｂ）で表される化合物は置換基の種類に応じて１個以上の不斉炭素を有する場合があるが、不斉炭素に基づく任意の光学異性体、ジアステレオ異性体およびこれらの混合体はいずれも本発明の範囲に含まれる。
また、これらの化合物において、Ｒ３またはＲ４に１個以上の二重結合を含む場合、二重結合に基づく任意の幾何異性体も本発明の範囲に含まれる。
【００５４】
以下に、一般式（Ａ）で表される化合物の具体例を示すが、これによって、本発明が限定されるものではない。
なお、一般式（Ｂ）で表される化合物の具体例は、下記に挙げた一般式（Ａ）で表される化合物の具体例において、各々、＞ＣＨ−ＯＨを＞Ｃ（＝Ｏ）に置き換えたものであり、このため、一般式（Ａ）で表される化合物の具体例で代用する。
【００５５】
【化５】
2017057460.tif 000007
【００５６】
【化６】
2017057460.tif 000008
【００５７】
なお、Ｂｚはベンゾイル基、Ｂｚｌはベンジル基、Ｃｂｚはベンジルオキシカルボニル基である。
一般式（Ａ）で表される化合物（アルコール化合物）は、公知の方法、例えば、Ｊｏｕｒｎａｌ  ｏｆ  Ａｎｔｉｂｉｏｔｉｃｓ，２０１１，６４，３３３〜３３７、Ｊｏｕｒｎａｌ  ｏｆ  Ａｎｔｉｂｉｏｔｉｃｓ，１９９６，４９，４９３〜４９５、Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ  Ｌｅｔｔｅｒｓ，２００５，４６，１４８３〜１４８７、Ｅｕｒｏｐｅａｎ  Ｊｏｕｒｎａｌ  ｏｆ  Ｍｅｄｉｃｉｎａｌ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，２０１３，６９，１７４〜１８１などで合成することができる。
【００５８】
（活性化剤）
本発明では、一般式（Ａ）で表される化合物と活性化剤を混合して反応させることが特に好ましい。
このような活性化剤は、酸無水物もしくは酸ハロゲン化物（酸ハライド化合物）とスルホキシド化合物の組み合わせ、または、Ｎ−ハロ環状イミド化合物（Ｎ−ハロゲン化環状イミド化合物）とスルフィド化合物の組み合わせが好ましい。
本発明では、特に、酸無水物もしくは酸ハロゲン化物とスルホキシド化合物の組み合わせが好ましい。
【００５９】
スルホキシド化合物は、下記一般式（ＳＯ）で表されるスルホキシド化合物が好ましい。
【００６０】
【化７】
2017057460.tif 000009
【００６１】
一般式（ＳＯ）において、Ｒ１およびＲ２は、一般式（Ｓ）で表されるスルフィド化合物におけるＲ１およびＲ２と同義であり、好ましい範囲も同じである。
【００６２】
スルホキシド化合物の場合も、Ｒ１およびＲ２がともにアルキル基が好ましく、その中でもＲ１とＲ２の炭素数の合計が２〜８がより好ましい。
炭素数２〜８のジアルキルスルホキシド化合物としては、ジメチルスルホキシド、ジエチルスルホキシド、ジプロピルスルホキシド、ジイソプロピルスルホキシド、ジブチルスルホキシド、エチルメチルスルホキシド、プロピルメチルスルホキシド、イソプロピルメチルスルホキシド、ブチルメチルスルホキシド、ブチルエチルスルホキシド、ブチルプロピルスルホキシド、ブチルイソプロピルスルホキシド等が挙げられる。このなかでも好ましくは、ジメチルスルホキシド、ジエチルスルホキシド、ジプロピルスルホキシド、ジブチルスルホキシドであり、より好ましくはジメチルスルホキシドである。
【００６３】
スルホキシド化合物は、多種市販されており入手可能である。また、公知の方法（例えば、Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ  Ｌｅｔｔ．，４３巻，５１７７〜５１７９頁（２００２年）等）で合成することもできる。
【００６４】
スルホキシド化合物と組み合わせる酸無水物は、脂肪族カルボン酸の酸無水物、芳香族カルボン酸の酸無水物、ヘテロ環カルボン酸の酸無水物、これらのカルボン酸の混合酸無水物のいずれでも構わない。また、酸無水物は、鎖状でも環状でも構わない。
本発明では、脂肪族カルボン酸の酸無水物が好ましく、鎖状の酸無水物がより好ましい。
脂肪族カルボン酸の酸無水物は、炭素数が４〜１０が好ましく、置換基を有していてもよい。このような置換基としては、一般式（Ａ）、（Ｂ）におけるＲ３、Ｒ４の各基が有してもよい置換基が挙げられるが、ハロゲン原子が好ましい。
【００６５】
酸無水物は、酢酸無水物、酪酸無水物、イソ酪酸無水物、ピバル酸無水物、トリフルオロ酢酸無水物、ヘプタフルオロ酢酸無水物、トリクロロ酢酸無水物等が挙げられる。このなかでも好ましくは、酢酸無水物、トリフルオロ酢酸無水物、トリクロロ酢酸無水物であり、より好ましくはトリフルオロ酢酸無水物、トリクロロ酢酸無水物である。
【００６６】
スルホキシド化合物と組み合わせる酸ハロゲン化物は、カルボン酸のハロゲン化物、スルホン酸のハロゲン化物、シアヌル酸のハロゲン化物、ハロゲン化チオニル、三ハロゲン化リン、オキシハロゲン化リンが挙げられる。
上記カルボン酸やスルホン酸は、脂肪族、芳香族またはヘテロ環のカルボン酸もしくはスルホン酸のいずれでも構わない。
また、酸ハロゲン化物は、−Ｃ（＝Ｏ）Ｘ、−ＳＯ２Ｘを２個以上有するもの、すなわち、２価以上の酸ハロゲン化物でも構わない。ここで、Ｘはハロゲン原子を表す。
【００６７】
脂肪族カルボン酸の酸ハロゲン化物における脂肪族カルボン酸は、アルカンカルボン酸が好ましく、炭素数は１〜１０が好ましく、２〜７がより好ましい。芳香族カルボン酸の酸ハロゲン化物における芳香族カルボン酸は、炭素数６〜１０が好ましく、６〜７がより好ましく、ベンゼンカルボン酸、ナフタレンカルボン酸が挙げられる。ヘテロ環カルボン酸の酸ハロゲン化物におけるヘテロ環は、一般式（Ａ）、（Ｂ）におけるＲ３、Ｒ４のヘテロ環が好ましい。ヘテロ環カルボン酸の酸ハロゲン化物の炭素数は２〜７が好ましい。
【００６８】
脂肪族スルホン酸の酸ハロゲン化物における脂肪族スルホン酸は、アルカンスルホン酸が好ましく、炭素数は１〜１０が好ましく、２〜７がより好ましい。芳香族スルホン酸の酸ハロゲン化物における芳香族スルホン酸は、炭素数６〜１０が好ましく、６〜７がより好ましく、ベンゼンスルホン酸、ナフタレンスルホン酸が挙げられる。ヘテロ環スルホン酸の酸ハロゲン化物におけるヘテロ環は、一般式（Ａ）、（Ｂ）におけるＲ３、Ｒ４のヘテロ環が好ましい。ヘテロ環スルホン酸の酸ハロゲン化物の炭素数は２〜７が好ましい。
【００６９】
本発明では、酸ハロゲン化物は、１価または２価の脂肪族カルボン酸の酸ハロゲン化物、芳香族カルボン酸の酸ハロゲン化物、芳香族カルボン酸の酸ハロゲン化物、脂肪族スルホン酸の酸ハロゲン化物、シアヌル酸のハロゲン化物、ハロゲン化チオニル、三ハロゲン化リン、オキシハロゲン化リンが好ましい。
また、酸ハロゲン化物の炭素数は、上記のように２〜７がより好ましい。
【００７０】
一方、酸ハロゲン化物は、酸塩化物、酸臭化物が好ましく、酸塩化物が特に好ましい
【００７１】
好ましい酸塩化物は、オキサリルクロリド、シアヌル酸クロリド、ベンゾイルクロリド、メタンスルホン酸クロリド、チオニルクロリド、三塩化リン、オキシ塩化リン、アセチルクロリドであり、オキサリルクロリドが特に好ましい。
【００７２】
スルホキシド化合物の使用量は、原料のアルコール化合物に対し、１．０〜５．０モル当量が好ましく、１．５〜４．５モル当量がより好ましく、２．０〜４．０モル当量がさらに好ましい。
【００７３】
一方、酸無水物もしくは酸ハロゲン化物の使用量は、原料のアルコール化合物に対し、１．０〜３．０モル当量が好ましく、１．１〜２．８モル当量がより好ましく、１．２〜２．５モル当量がさらに好ましい。
【００７４】
本発明では、スルホキシド化合物と酸無水物もしくは酸ハロゲン化物を事前に混合し、この混合物と原料のアルコール化合物を混合してもよく、スルホキシド化合物、酸無水物もしくは酸ハロゲン化物および原料のアルコール化合物を同時に混合してもよい。
【００７５】
Ｃｏｒｅｙ−Ｋｉｍ酸化で用いるスルフィド化合物は、前述の一般式（Ｓ）で表されるスルフィド化合物が好ましい。
スルフィド化合物と組み合わせるＮ−ハロ環状イミド化合物において、イミド環は、５または６員環のイミド環が好ましく、５員環のイミド環がより好ましい。イミド環は、スクシンイミド、ヘキサヒドロフタルイミド、２，２−ジメチルスクシンイミド、２−エチル−２−メチルスクシンイミド、メチレングルタルイミド、３，３−ジメチルグルタルイミド、３−エチル−３−メチルグルタルイミド、３，３−テトラメチレングルタルイミドが挙げられ、スクシンイミドが特に好ましい。また、Ｎ位のハロゲン原子は、塩素原子、臭素原子が好ましく、塩素原子が特に好ましい。Ｎ−ハロ環状イミド化合物は、Ｎ−クロロスクシンイミドが特に好ましい。
【００７６】
スルフィド化合物の使用量は、原料のアルコール化合物に対し、１．０〜５．０モル当量が好ましく、１．２〜４．０モル当量がより好ましく、１，５〜３．０モル当量がさらに好ましい。
【００７７】
一方、Ｎ−ハロ環状イミド化合物の使用量は、原料のアルコール化合物に対し、１．０〜４．０モル当量が好ましく、１．２〜３．３モル当量がより好ましく、１．５〜２．５モル当量がさらに好ましい。
【００７８】
スルフィド化合物とＮ−ハロ環状イミド化合物を事前に混合し、この混合物と原料のアルコール化合物と混合してもよく、スルフィド化合物、Ｎ−ハロ環状イミド化合物および原料のアルコール化合物を同時に混合してもよいが、本発明では、スルフィド化合物とＮ−ハロ環状イミド化合物を事前に混合し、この混合物と原料のアルコール化合物を混合するのが好ましい。
【００７９】
（塩基）
原料のアルコール化合物と活性化剤との反応では、塩基を使用する。塩基は、ピリジンまたは第三級アミン化合物が好ましく、第三級アミン化合物がより好ましい。
第三級アミン化合物は、脂肪族、芳香族またはヘテロ環の第三級アミン化合物が挙げられ、環状の第三級アミン化合物でもかまわない。
【００８０】
窒素原子に置換する置換基が脂肪族基の場合、アルキル基、シクロアルキル基が好ましく、アルキル基の場合、炭素数は１〜１８が好ましく、シクロアルキル基の場合、シクロペンチル、シクロヘキシルが好ましく、炭素数は５〜１８が好ましい。
窒素原子に置換する置換基が芳香族基の場合、炭素数は６〜１８が好ましく、例えば、フェニル基、ナフチル基が挙げられる。
窒素原子に置換する置換基がヘテロ環基の場合、一般式（Ａ）、（Ｂ）におけるＲ３、Ｒ４のヘテロ環が好ましい。
【００８１】
窒素原子に置換する２または３個の置換基が互いに結合して環を形成してもよく、このような環としては、５または６員環が好ましく、他の環と縮環してもよく、また架橋環であってもよい。例えば、ピロリジン環、ピペラジン環、モルホリン環、チオモルホリン環、キヌクリジン環、１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン環（ＤＡＢＣＯ）が挙げられる。
【００８２】
第三級アミン化合物は、多種市販されており容易に入手可能である。
第三級アミン化合物は、トリメチルアミン、ジメチルエチルアミン、ジエチルメチルアミン、トリエチルアミン、ジエチルメチルアミン、ジメチルイソプロピルアミン、ジプロピルエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ブチルジメチルアミン、ブチルジイソプロピルアミン、トリブチルアミン、トリイソブチルアミン、トリアミルアミン、トリイソアミルアミン、シクロヘキシルジメチルアミン、ジシクロヘキシルメチルアミン、シクロヘキシルジエチルアミン、ジシクロヘキシルエチルアミン、ブチルジシクロヘキシルアミン、トリヘプチルアミン、ジメチルオクチルアミン、メチルジオクチルアミン、トリオクチルアミン、トリス（２−エチルヘキシル）アミン、トリノニルアミン、ジメチルデシルアミン、トリデシルアミン、トリウンデシルアミン、ジメチルドデシルアミン、ジドデシルメチルアミン、トリドデシルアミン、ジメチルテトラデシルアミン、ジメチルヘキサデシルアミン、ジメチルオクタデシルアミン、ジオクタデシルメチルアミン、Ｎ−メチルモルホリン、Ｎ−エチルモルホリン、キヌクリジン、１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン等が挙げられる。
【００８３】
これらのなかでも、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ジシクロヘキシルメチルアミン、シクロヘキシルジエチルアミンが好ましい。
【００８４】
塩基の使用量は、原料のアルコール化合物に対し、１．２〜６．０モル当量が好ましく、１．３〜５．５モル当量がより好ましく、１．５〜５．０モル当量がさらに好ましい。
【００８５】
塩基の混合は、原料のアルコール化合物と活性化剤を混合した後に混合してもよく、原料のアルコール化合物、活性化剤と同時に混合しても構わないが、原料のアルコール化合物と活性化剤を混合した後に混合するのが好ましい。
【００８６】
（反応溶媒）
反応溶媒は、基質を溶解し、かつ副反応が起こらないものであれば特に制限されない。
また、溶媒は単独でも、複数の溶媒を混合して用いてもよい。
反応溶媒は、アセトン、エチルメチルケトン、メチルイソプロピルケトン、ジイソプロピルケトン、メチルイソブチルケトン、ジイソブチルケトン等のケトン系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル−ｔｅｒｔ−ブチルエーテル、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、ジオキサン等のエーテル系溶媒、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、テトラメチルウレア、１，３−ジメチルイミダゾリノン等のアミド系溶媒、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の含硫黄系溶媒、アセトニトリル等のニトリル系溶媒、エチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、エチレングリコールジアセテート、エチレングリコールジステアレート、エチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジアセテート等のグリコール系溶媒、メチレンクロライド、クロロホルム、クロロベンゼン等のハロゲン系溶媒、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、トルエン、キシレン、メシチレン、テトラヒドロナフタレン等の芳香族炭化水素系溶媒、テルピネン、テルピノレン、シメン、フェランドレン等のテルペン系溶媒が挙げられる。
これらの中でも好ましくは、アセトン、ＴＨＦ、アセトニトリル、メチレンクロライド、酢酸エチル、トルエンである。
【００８７】
溶媒の使用量は基質や反応条件によって異なるが、原料のアルコール化合物１ｇに対し、通常１〜３００ｍｌ、好ましくは１〜１５０ｍｌ、より好ましくは５〜１００ｍｌである。
【００８８】
＜反応工程における反応温度・時間＞
反応反応をバッチで行う場合は、通常行われている反応条件（例えば、第４版実験化学講座２３巻、１９９１年、丸善刊）で行うことができる。
反応をフロー反応で行う場合、反応温度は−３０〜６０℃が好ましく、−２５〜５０℃がより好ましく、−２０〜４０℃がさらに好ましい。なお、フロー反応での混合の際の温度は−３０〜４０℃が好ましく、−２０〜３０℃がより好ましい。また、フロー反応で行う場合の反応時間は、０．００１〜６０秒が好ましく、０．００５〜５０秒がより好ましく、０．０１〜４０秒がさらに好ましく、０．０２〜３０秒が特に好ましい。
【００８９】
原料のアルコール化合物、活性化剤、活性化剤の個々の成分、塩基は各々を溶媒に溶解させて混合してもよく、また、溶媒に溶解させずに単独で混合しても構わない。
【００９０】
反応工程での反応は、バッチ式で行っても、流路中のフロー反応で行ってもよい。
本発明では、脱臭工程と同じ流路中のフロー反応で行うことが好ましく、マイクロリアクターで行うのが特に好ましい。
【００９１】
＜脱臭工程＞
臭気物質の脱臭方法としては、臭気物質に対しハロゲン化メチル等で四級塩化して水溶性化合物として除去する方法、酸化剤を用いて酸化反応で臭気物質を脱臭する方法などが挙げられる。好ましくは酸化反応で臭気物質を脱臭する方法である。
酸化剤は、任意に選択することができる。これらは多種市販されており、容易に入手できる。酸化剤としては、次亜塩素酸もしくはその塩を含むハロゲンのオキソ酸（または塩）、有機過酸化物、無機過酸化物、ハロゲン化剤、超原子価ヨウ素化合物、Ｎ−オキシド化合物、ニトロキシルラジカル化合物（＞Ｎ・）等が挙げられる。
【００９２】
本発明では、脱臭工程を流路中のフロー反応で行うため、酸化剤は、液体または、溶媒に溶解するものが好ましい。
なお、酸化剤が固体であって、かつ溶媒に不溶なものは、流路内に充填し通液することで酸化反応を行うことができる。
【００９３】
本発明では、臭気物質の脱臭を流路中のフロー反応で行うことにより、短時間で、効率的かつ選択的に臭気物質を除去、すなわち、臭気物質を臭気のない物質に変換することが可能となる。このため、反応工程で得られた有機化合物が、不安定または反応活性な官能基、例えば、二重結合、エステル結合〔−ＯＣ（＝Ｏ）−〕、アミノ基、アジド基（−Ｎ３）、ヒドロキシ基、アシルオキシ基、ベンジルオキシ基、ニトロ基、ホルミル基、アシル基、を有していても、臭気物質を選択的に臭気のない物質に変換することが可能となる。
【００９４】
以下に、次亜塩素酸（ＨＯＣｌ）を使用して、臭気物質のスルフィド化合物をスルホン化合物に酸化する反応スキームを示す。なお、Ｒ１およびＲ２は、一般式（Ｓ）と同義である。
【００９５】
【化８】
2017057460.tif 000010
【００９６】
ハロゲンのオキソ酸（または塩）としては、好ましくは塩素のオキソ酸(または塩)であり、具体的には過塩素酸、次亜塩素酸、亜塩素酸もしくは塩素酸（またはこれらの塩）が挙げられる。好ましくは次亜塩素酸、亜塩素酸もしくは塩素酸（またはこれらの塩）であり、特に好ましくは次亜塩素酸塩水溶液である。
【００９７】
有機過酸化物としては、具体的には過酸化ベンゾイル、ｔｅｒｔ−ブチルヒドロペルオキシド、ビス（トリメチルシリル）ペルオキシド、３−クロロ過安息香酸、クメンヒドロペルオキシド、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシド、過酢酸・酢酸水溶液、過酢酸・過酸化水素水溶液などが挙げられる。好ましくは、過酢酸・酢酸水溶液、過酢酸・過酸化水素水溶液であり、特に好ましくは過酢酸・過酸化水素水溶液である。
無機過酸化物としては過酸化水素水溶液が挙げられる。
【００９８】
超原子価ヨウ素化合物としては、１−アセトキシー５−ブロモ−１，２−ベンズヨードキソール−３（１Ｈ）−オン、[ビス（トリフルオロアセトキシ）ヨード]ベンゼン、[ビス（トリフルオロアセトキシ）ヨード]ペンタフルオロベンゼン、１−（ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシ）−１，２−ベンズヨードキソール−３−（１Ｈ）−オン、ビス（ピリジン）ヨードニウムテトラフルオロボラート、デスマーチンペルヨージナン、ヨードソベンゼン、２−ヨードソ安息香酸、ヨードベンゼンジアセタート、２−ヨードキシ安息香酸、[ヒドロキシ（トシルオキシ）ヨード]ベンゼンなどが挙げられる。
【００９９】
ハロゲン化剤としては、Ｎ−クロロスクシンイミド、Ｎ−ブロモスクシンイミド、Ｎ−クロロフタルイミド、Ｎ−ブロモフタルイミド、１，３−ジクロロ−５，５−ジメチルヒダントイン、１，３−ジブロモ−５，５−ジメチルヒダントイン、トリクロロイソシアヌル酸、トリブロモイソシアヌル酸、Ｎ−ヨードスクシンイミド、１，３−ジヨード−５，５−ジメチルヒダントインなどが挙げられる。好ましくは、Ｎ−クロロスクシンイミド、Ｎ−ブロモスクシンイミド、１，３−ジクロロ−５，５−ジメチルヒダントイン、１，３−ジブロモ−５，５−ジメチルヒダントインであり、これらの中でも安価なＮ−クロロスクシンイミド、１，３−ジクロロ−５，５−ジメチルヒダントインがより好ましい。
【０１００】
Ｎ−オキシド化合物としては、２，６−ジクロロピリジン−Ｎ−オキシド、４−（ジメチルアミノ）ピリジン−Ｎ−オキシド・水和物、２，６−ルチジン−Ｎ−オキシド、４−メチルモルホリン−Ｎ−オキシド、ピリジン−Ｎ−オキシド、トリメチルアミン−Ｎ−オキシド二水和物、トリメチルアミン−Ｎ−オキシド無水物などが挙げられる。
【０１０１】
ニトロキシルラジカル化合物としては、５員環または６員環化合物が好ましく、＞Ｎ−Ｏ・の窒素原子に置換する炭素原子が、ともに２つのアルキル基（好ましくはメチル基）である化合物がより好ましく、２，２，６，６−テトラメチルピペリジン− １−オキシル（ＴＥＭＰＯ）骨格を有する化合物がさらに好ましい。
ＴＥＭＰＯ骨格を有する化合物としては、４−アセチルアミノ−ＴＥＭＰＯ、４−ベンゾイルオキシ−ＴＥＭＰＯ、４−[２−[２−（４−ヨードフェノキシ）エトキシ]カルボニル]ベンゾイルオキシ−２，２,６，６−テトラメチルピペリジン−１−オキシル、４−メトキシ−ＴＥＭＰＯ、ＴＥＭＰＯなどが挙げられる。
【０１０２】
本発明では、酸化剤は、次亜塩素酸もしくはその塩、ハロゲン化剤および過酢酸から選択される酸化剤が好ましい。
【０１０３】
これらの酸化剤は、液体であって、流路中のフロー反応に適しており、反応工程で得られた有機化合物が、不安定または反応活性な官能基を有していても、臭気物質を極めて選択的に臭気のない物質に変換することができる。
【０１０４】
酸化剤の使用量は、反応工程で使用される酸無水物もしくは酸ハロゲン化物に対するモル当量が、０．５〜５．０が好ましく、１．０〜５．０がより好ましく、１．１〜４．５がさらに好ましく、１．２〜４．０が特に好ましい。
【０１０５】
脱臭工程で使用する溶媒は、上記の反応工程で使用する溶媒と同じ溶媒であっても異なった溶媒であっても構わない。
【０１０６】
溶媒の使用量は基質や反応条件によって異なるが、上記の反応工程と同じである。
なお、反応工程で得られた反応液にさらに溶媒を加えても構わないが、本発明では、反応工程で得られた反応液をそのまま用いて、流路中のフロー反応を用いて行うことが好ましい。反応工程で得られた反応液にさらに溶媒を加える場合、反応工程と同じ溶媒であっても異なった溶媒であっても構わない。
【０１０７】
酸化剤は、溶媒に溶解して、反応工程で得られた反応液と混合してもよく、酸化剤のみを反応工程で得られた反応液と混合してもよい。
【０１０８】
本発明では、脱臭工程の反応温度は、−２０〜６０℃が好ましく、−１０〜５５℃がより好ましく、−５〜５０℃がさらに好ましく、０〜４０℃が特に好ましい。
また、本発明では、脱臭工程の流路滞留時間（反応時間）は、０．０１〜１２０秒が好ましく、０．０１〜６０秒がより好ましく、０．０５〜５０秒がさらに好ましく、０．１〜４０秒が特に好ましく、０．２〜３０秒が最も好ましい。
【０１０９】
ここで、流路中のフロー反応を、マイクロリアクターで行う場合、マイクロミキサー流路（例えば、図１に示す、区間３〜５、区間４〜５、点５直後の各流路）の内径もしくは流路の断面積は、どのような大きさもしくは断面積でも構わないが、本発明では０．０５〜５．０ｍｍ（０．００１９６〜１９．６ｍｍ２）が好ましく、０．１０〜２．５ｍｍ（０．００７８５〜４．９ｍｍ２）がより好ましく、０．１５〜１．５ｍｍ（０．０１８〜１．８ｍｍ２）がさらに好ましい。
なお、上記流路の断面形状は円形でも矩形でも構わない。
【０１１０】
＜反応装置＞
本発明では、上記反応工程での反応は、バッチ式で行っても、流路中のフロー反応で行ってもよいが、脱臭工程は流路中のフロー反応で行う。
流路中のフロー反応はどのようなものでも構わないが、マイクロリアクターで行うのが特に好ましい。
【０１１１】
マイクロリアクターは、複数の液体を混合可能な微小な流路を備え、必要に応じて、流路に連通し、この流路に液体を導入する導入路を備え、さらに必要に応じて、流路および導入路以外の構成を含む。
【０１１２】
本発明に用いられるマイクロリアクターとしては、複数の液体を混合可能な微小な流路を備える限り、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、マイクロミキサー（基板型のマイクロミキサー、管継手型のマイクロミキサーなど）、分岐したチューブなどが挙げられる。
【０１１３】
基板型のマイクロミキサーは、内部または表面に流路が形成された基板からなり、マイクロチャンネルと称される場合がある。
基板型のマイクロミキサーとしては、本発明の効果を損なわない限り、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、国際公開第９６／３０１１３号パンフレットに記載されている混合のための微細な流路を有するミキサー、Ｗ．Ｅｈｒｆｅｌｄ，Ｖ．Ｈｅｓｓｅｌ，Ｈ．Ｌｏｗｅ著，「マイクロリアクターズ」，三章（Ｗｉｌｅｙ−ＶＣＨ社刊）に記載されるミキサーなどが挙げられる。
【０１１４】
基板型のマイクロミキサーには、上記流路以外に、この流路に連通し、流路に複数の液体を導入する導入路が形成されていることが好ましい。すなわち、導入路の数に応じて、上記流路の上流側が分岐した構成が好ましい。
導入路の数としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、混合を所望する複数の液体を別々の導入路から導入し、流路で合流させて混合することが好ましい。なお、１種の液体を予め流路に仕込んでおき、それ以外の液体を導入路により導入する構成としてもよい。
【０１１５】
管継手型のマイクロミキサーは、内部に形成された流路を備え、必要に応じて内部に形成された流路と、チューブとを接続する接続手段を備える。接続手段における接続方式としては、特に制限はなく、公知のチューブ接続方式の中から目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ねじ込み式、ユニオン式、突合せ溶接式、差込み溶接式、ソケット溶接式、フランジ式、食込み式、フレア式、メカニカル式などが挙げられる。
【０１１６】
管継手型のマイクロミキサーの内部には、上記流路以外に、流路に連通し、流路に複数の液体を導入する導入路が形成されていることが好ましい。すなわち、導入路の数に応じて、上記流路の上流側が分岐された構成が好ましい。導入路の数が２つである場合には、管継手型のマイクロミキサーとして、例えばＴ字型やＹ字型を用いることができ、導入路の数が３つである場合には、例えば十字型を用いることができる。なお、１種の液体を予め流路に仕込んでおき、それ以外の液体を導入路により導入する構成としてもよい。
【０１１７】
マイクロミキサーの材質としては、特に制限はなく、耐熱性、耐圧性、耐溶剤性および加工容易性などの要求に応じて、適宜選択することができ、例えば、ステンレス鋼、チタン、銅、ニッケル、アルミニウム、ハステロイ（登録商標）などを含む金属または合金類、シリコン、及びテフロン（登録商標）、ＰＦＡ（パーフロロアルコキシ樹脂）などのフッ素樹脂、ＴＦＡＡ（トリフルオロアセトアミド）などが挙げられる。
【０１１８】
マイクロミキサーは、その微細構造によって精確に反応溶液の流れを制御するものであるから、微細加工技術によって製作されていることが好ましい。
微細加工技術としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、（ａ）Ｘ線リソグラフィと電気メッキを組み合わせたＬＩＧＡ技術、（ｂ）ＥＰＯＮ−ＳＵ８を用いた高アスペクト比フォトリソグラフィ法、（ｃ）機械的マイクロ切削加工（ドリル径がマイクロオーダーのドリルを高速回転するマイクロドリル加工など）、（ｄ）Ｄｅｅｐ  ＲＩＥによるシリコンの高アスペクト比加工法、（ｅ）Ｈｏｔ  Ｅｍｂｏｓｓ加工法、（ｆ）光造形法、（ｇ）レーザー加工法および（ｈ）イオンビーム法などが挙げられる。
【０１１９】
マイクロミキサーとしては、市販品を利用することができ、例えば、インターディジタルチャンネル構造体を備えるマイクロリアクター、インスティテュート・ヒュール・マイクロテクニック・マインツ（ＩＭＭ）社製シングルミキサーおよびキャタピラーミキサー、ミクログラス社製ミクログラスリアクター、ＣＰＣシステムス社製サイトス、山武社製ＹＭ−１型ミキサー、ＹＭ−２型ミキサー、島津ＧＬＣ社製ミキシングティーおよびティー（Ｔ字コネクター）、マイクロ化学技研社製ＩＭＴチップリアクター、東レエンジニアリング開発品マイクロ・ハイ・ミキサー、スウェージロック社製ユニオンティー、ＹＭＣ社製ミキサー、中村超硬製ミキサーなどが挙げられる。
【０１２０】
マイクロリアクターとしては、上記のマイクロミキサーを単独で使用してもよく、さらにその下流にチューブリアクターを連結し、流路を延長する構成としてよい。チューブリアクターをマイクロミキサーの下流に連結することで、流路の長さを調節することができる。
混合された液体の滞留時間（反応時間）は、流路の長さに比例する。
【０１２１】
なお、チューブリアクターとは、マイクロミキサーにより迅速に混合された溶液が、その後の反応を行うための必要な時間を精密に制御（滞留時間制御）するためのリアクターである。
チューブリアクターとしては、特に制限はなく、例えば、チューブの内径、外径、長さ、材質などの構成は、所望する反応に応じて適宜選択することができる。
チューブリアクターとしては、市販品を利用することができ、例えば、ジーエルサイエンス株式会社製のステンレスチューブ（外径１／１６インチ（１．５８ｍｍ）、内径２５０μｍ、５００μｍ、８００μｍおよび１，０００μｍから選択可能、１／８インチ（３．１７ｍｍ）、チューブ長さは使用者により調整可能）などが挙げられる。
チューブリアクターの材質としては、特に制限はなく、マイクロミキサーの材質として例示したものを、好適に利用することができる。
【０１２２】
上記流路は、複数の液体を拡散により混合させる機能、および、反応熱を除熱する機能を有する。
上記流路内における液体の混合方式としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、層流による混合、乱流による混合が挙げられる。なかでも、より効率的に反応制御や除熱を行える点で、層流による混合（静的混合）が好ましい。なお、マイクロリアクターの流路は微小であるため、導入路から導入された複数の液体同士はおのずと層流支配の流れとなりやすく、流れに直交する方向に拡散して混合される。層流による混合において、さらに、流路内に分岐点および合流点を設けることで、流れる液体の層流断面を分割するような構成とし、混合速度を高める構成としてもよい。
【０１２３】
なお、マイクロリアクターの流路において、乱流による混合（動的混合）を行う場合には、流速や流路の形状（接液部分の３次元形状や流路の屈曲などの形状、壁面の粗さなど）を調整することによって、層流から乱流へと変化させることができる。乱流による混合は、層流による混合と比べて、混合効率がよく混合速度が速いという利点を有する。
【０１２４】
ここで、上記流路の内径、断面積、長さ、断面形状としては、特に限定はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
なお、マイクロミキサー流路に関しては、先に記載した通りであるが、リアクター流路の断面積は、０．００１９６〜１９．６ｍｍ２が好ましい。また、このような断面積を満たすなら、どのような断面形状でも構わない。
【０１２５】
導入路は、上記流路に連通し、複数の液体を上記流路に導入する機能を有する。なお、導入路において、上記流路に連通する側とは別の一端は、通常、混合を所望する液体を含む容器に繋がっている。
【０１２６】
導入路の内径としては、本発明の効果を損なわない限り、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
なお、マイクロリアクターが複数の導入路を有する場合には、それぞれの導入路の内径が互いに異なっていてもよく、同じであってもよい。
【０１２７】
上記流路および導入路以外の構成としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、送液に使用するポンプ、温度調整手段、反応促進手段、センサー、製造された化合物を貯蔵するためのタンクなどが挙げられる。
【０１２８】
ポンプとしては、特に制限はなく、工業的に使用されうるものから適宜選択することができるが、送液時に脈動を生じないものが好ましく、例えば、プランジャーポンプ、ギアーポンプ、ロータリーポンプ、ダイヤフラムポンプなどが挙げられる。
【０１２９】
温度調整手段としては、特に制限はなく、反応温度に応じて適宜選択することができ、例えば、恒温槽、循環サーキュレーター、熱交換器、背圧弁などが挙げられる。
【０１３０】
反応促進手段としては、混合する液体や所望する反応に応じて、適宜選択することができるが、例えば、振動エネルギー付与手段、加熱手段、光照射手段、電圧印加手段などが挙げられる。電圧印加手段を備えたマイクロリアクターとしては、例えば、特開２００６−１０４５３８号公報に開示されるマイクロフロー電気化学リアクターなどが挙げられる。
センサーとしては、特に制限はなく、例えば、温度センサー、流量センサー、流路内の圧力を測定するための圧力センサーなどが挙げられる。
【０１３１】
複数個ある原料のマイクロリアクターに供給される流速は各々が同じ流量であっても異なる流量であってもよい。送液用のポンプは工業的に使用される送液ポンプのいずれでも使用可能だが、できるだけ送液時に脈動を生じない機種が望ましい。好ましくは、プランジャーポンプ、ギアーポンプ、ロータリーポンプ、ダイヤフラムポンプ等である。
【０１３２】
マイクロリアクター内では、液体または溶液状の化合物が流動液体および溶液の運動エネルギーによって混合され反応するが、必要に応じてマイクロリアクター外部から振動エネルギーなどの混合促進のためのエネルギーを加えてもよい。混合は、流速・流速と反応器の形状（接液部分の三次元形状や流路の屈曲などの形状、壁面の粗さ等）によって、静的混合（層流）から動的混合（乱流）へと変化させることができ、乱流または層流のいずれで混合してもよい。
【０１３３】
以下に、本発明の好ましい反応装置を、図１および２で説明する。
図１は、本発明の脱臭工程に係る好ましい製造システムを示す概略構成図であり、図２は、本発明の反応工程から脱臭工程までに係る好ましい製造システムを示す全体概略構成図を示す。
ここで、図２における反応工程は、Ｓｗｅｒｎ酸化またはＣｏｒｅｙ−Ｋｉｍ酸化に基づくものであるが、必ずしもＳｗｅｒｎ酸化やＣｏｒｅｙ−Ｋｉｍ酸化に限定するものでも、溶液Ａと溶液Ｂをこのような含有化合物の溶液に限定するものでもない。これらの図は、代表的な例として、概略構成を示すものである。
以下に、図１、２を簡単に説明する。
【０１３４】
図１において、溶液Ａは、臭気物質を含む溶液であり、溶液Ｂは、酸化剤溶液である。また、点１、２はマイクロリアクターへの原料供給口であり、点３、４はマイクロミキサーへの原料供給口であり、点５は、溶液Ａと溶液Ｂの混合開始点であり、点６はマイクロリアクターの出口である。ここで、区間１〜３（点１と点３を結ぶ区間）は溶液Ａの温度調節区間であり、区間２〜４（点２と点４を結ぶ区間）は溶液Ｂの温度調節区間であり、区間５〜６（点５と点６を結ぶ区間）は溶液Ａと溶液Ｂの反応区間である。
【０１３５】
図２において、溶液Ａ１は、アルコール化合物および、スルホキシド化合物またはスルフィド化合物を含む溶液であり、溶液Ａ２は酸無水物またはＮ−ハロ環状イミド化合物を含む溶液である。溶液Ａ３は塩基を含む溶液であり、溶液Ｂは酸化剤を含む溶液であり、図１の溶液Ｂと同じである。なお、本発明では、使用する溶液が、これらの溶液Ａ１〜Ａ３、Ｂに限定されるものでなく、また、各溶液に含有する化合物もこれらに限定されるものではない。
点７〜１０はマイクロリアクターへの原料供給口であり、点１１、１３、１４、１６、１７、１９はマイクロミキサーへの原料供給口であり、点１２は第１工程（溶液Ａ１とＡ２の反応）の混合開始点であり、点１５は、第２工程（溶液Ａ３との反応）の混合開始点であり、点１８は第３工程（溶液Ｂとの反応）の混合開始点であり、点２０はマイクロリアクターの出口である。図１における溶液Ａに相当する溶液は、点１７から供給されることになる。
【０１３６】
ここで、区間７〜１１（点７と点１１を結ぶ区間）は溶液Ａ１の温度調節区間であり、区間８〜１３（点８と点１３を結ぶ区間）は溶液Ａ２の温度調節区間であり、区間９〜１６（点９と点１６を結ぶ区間）は溶液Ａ３の温度調節区間であり、区間１０〜１９（点１０と点１９を結ぶ区間）は溶液Ｂの温度調節区間である。また、区間１２〜１４（点１２と点１４を結ぶ区間）は第１工程の反応区間であり、区間１５〜１７（点１５と点１７を結ぶ区間）は第２工程の反応区間であり、区間１８〜２０（点１８と点２０を結ぶ区間）は第３工程の反応区間である。
【０１３７】
本発明の製造方法で得られたアルデヒド化合物もしくはケトン化合物は、公知の方法で単離することができる。例えば、有機溶剤を用いた抽出法、蒸留法、有機溶媒や水または有機溶媒と水の混合物を用いた再沈殿法、晶析法またはカラムクロマトグラフィーを必要に応じて単独または適宜組み合わせて用いて単離精製する。
【実施例】
【０１３８】
以下、本発明を実施例に基づき、さらに詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
なお、合成された生成物の構造はＮＭＲ、ＩＲ、ミリマス測定により同定を行った。
また、目的物の反応率は高速液体クロマトグラフィー（ＨＰＬＣ）を用い、ピーク面積の比率で含量を分析した。【０１３９】
ＨＰＬＣ測定条件は、カラム：Ｗａｔｅｒｓ  ＸＢｒｉｄｇｅ  Ｃ１８、溶離液：アセトニトリル／水（Ｖ／Ｖ＝７／３）、緩衝剤：燐酸０．１％、検出器：ＵＶ２１０〜２５４ｎｍ、ＣｏｒｏｎａＣＡＤもしくはＲＩ、流量：１．０ｍｌ／ｍｉｎ、カラム温度：３０〜４０℃で行った。【０１４０】
標準物質が市販されていないものは、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより単離収率を求めた。【０１４１】
臭気物質の定量は株式会社ガステック製検知管Ｎｏ．７７シリーズ、またはＮＭＲ分析により行った。【０１４２】
実施例１  ＜マイクロリアクターによる３’−ジメチルアミノアセトフェノン溶液の脱臭工程＞
図１に示す反応装置を使用して脱臭工程を行った。
臭気物質を含む３’−ジメチルアミノアセトフェノン溶液（溶液Ａ）は、Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，４１巻，９５７−９６２貢（１９７６年）を参考に調製した。−７８℃で、メチレンクロライド溶媒中で１−（３−ジメチルアミノフェニル）エタノール（０．３モル／Ｌ）１０ｍｌをジメチルスルホキシド０．５８６ｇ、無水トリフルオロ酢酸１．５７５ｇ、ジイソプロピルエチルアミン１．１６３ｇを用いてＳｗｅｒｎ酸化反応を行い、目的とするケトン化合物（反応収率８５％）を含む溶液を得、これを使用した。酸化剤溶液（溶液Ｂ）は、次亜塩素酸ナトリウム水溶液（１３．３％濃度）を無水トリフルオロ酢酸に対して１．２モル当量になるよう調製したものを使用した。溶液Ａ、溶液Ｂは、各々ガラス製シリンジに吸い上げた後、ハーバード社製ＰＨＤ−２０００型シリンジポンプを用いてマイクロリアクターに送液した。溶液Ａのマイクロリアクターの供給流量は１．５ｍｌ／分、Ｂ液の供給流量は１．５ｍｌ／分とし、このとき、図１のマイクロミキサーの区間３〜５、区間４〜５、点５直後の流路径（マイクロミキサーの内径）は０．２５ｍｍであり、区間５〜６の滞留時間は０．５秒で、反応温度は３０℃である。リアクター出口から流出する反応液は、３分間の待機期間が経過した後、純水１ｍｌの入ったサンプリング管に１５秒間サンプリングし、２５℃で１０秒間攪拌した。反応後の溶液はＨＰＬＣを用いて分析し、標準物質を用いる内部標準法により定量分析を行ったところ、目的とするケトン化合物の収率〔１−（３−ジメチルアミノフェニル）エタノールからのトータル収率〕は８４％であり、酸化反応による基質への影響はなかった。【０１４３】
実施例２〜１６
反応温度、滞留時間を下記表１に示す条件に変更した以外は、実施例１と同じ条件で行った。【０１４４】
比較例１  ＜バッチ式による３’−ジメチルアミノアセトフェノン溶液の脱臭工程＞
実施例１と同様に調液した溶液Ａ、溶液Ｂを用いて、磁気撹拌子を入れた２５ｍＬフラスコへ予め溶液Ｂ４．５ｍＬを加えておき、温度３０℃において、溶液Ａを１．５ｍｌ／分で滴下撹拌し、滴下終了後、１分撹拌した。反応後の溶液はＨＰＬＣを用いて分析し、標準物質を用いる内部標準法により定量分析を行ったところ、目的とするケトン化合物の収率（トータル収率）は２０％であり、酸化反応により、基質への副反応が起こり、顕著に収率低下した。【０１４５】
比較例２  ＜バッチ式による３’−ジメチルアミノアセトフェノン溶液の脱臭工程＞
比較例１と同様に調液した溶液Ａ、溶液Ｂを用いて、磁気撹拌子を入れた２５ｍＬフラスコへ予め溶液Ａ４．５ｍＬを加えておき、温度３０℃において、溶液Ｂを１．５ｍｌ／分で滴下撹拌し、滴下終了後、１分撹拌した。反応後の溶液はＨＰＬＣを用いて分析し、標準物質を用いる内部標準法により定量分析を行ったところ、目的とするケトン化合物の収率（トータル収率）は２５％であり、滴下条件を変更しても、酸化反応により基質への副反応が起こり、顕著に収率低下した。【０１４６】
比較例３  ＜バッチ式による３’−ジメチルアミノアセトフェノン溶液の脱臭工程＞
比較例１と同様に調液した溶液Ａ、溶液Ｂを用いて、磁気撹拌子を入れた２５ｍＬフラスコへ溶液Ａ、溶液Ｂを温度３０℃において１．５ｍｌ／分で同時滴下撹拌し、滴下終了後、１分撹拌した。反応後の溶液はＨＰＬＣを用いて分析し、標準物質を用いる内部標準法により定量分析を行ったところ、目的とするケトン化合物の収率（トータル収率）は２９％であり、同時滴下条件に変更しても、酸化反応により基質への副反応が起こり、顕著に収率低下した。【０１４７】
下記表１に、これらの結果をまとめて示す。
なお、残ＤＭＳは、残留するジメチルスルフィドの収率（理論値基準）である。【０１４８】
【表１】
2017057460.tif 000011
【０１４９】
実施例１７〜２１
酸化剤を下記表２に示す条件に変更した以外は、実施例１と同じ条件で行った。
なお、実施例１８〜２１はメチレンクロライド溶液として使用した。
これらの結果を下記表２に示す。【０１５０】
【表２】
2017057460.tif 000012
【０１５１】
実施例２２〜２６
実施例１８の酸化剤溶液を用いて下記表３に示す条件に変更した以外は、実施例１と同じ条件で行った。
これらの結果をまとめて、下記表３に示す。【０１５２】
【表３】
2017057460.tif 000013
【０１５３】
実施例２７〜３３
酸化剤当量（モル当量）を下記表４に示す条件に変更した以外は、実施例１と同じ条件で行った。
これらの結果をまとめて、下記表４に示す。【０１５４】
【表４】
2017057460.tif 000014
【０１５５】
実施例３４〜３８
図１のマイクロミキサーの内径（流路径）を下記表５に示す条件に変更した以外は、実施例１と同じ条件で行った。
これらの結果をまとめて、下記表５に示す。【０１５６】
【表５】
2017057460.tif 000015
【０１５７】
実施例３９〜４７
アルコール化合物（反応基質）を下記表６に示すものに変更した以外は、実施例１と同じ条件で行った。
これらの結果をまとめて、下記表６に示す。
なお、カルボニル化合物（生成物）の収率は、溶液ＡにおけるＳｗｅｒｎ酸化反応での収率である。【０１５８】
【表６】
2017057460.tif 000016
【０１５９】
実施例４８  ＜マイクロリアクターによる３’−ジメチルアミノアセトフェノン溶液の脱臭工程：Ｃｏｒｅｙ−Ｋｉｍ酸化反応溶液を使用＞
図１に示す反応装置を使用して脱臭工程を行った。
臭気物質を含む３’−ジメチルアミノアセトフェノン溶液（溶液Ａ）は、Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，９４巻，７５８６〜７５８７頁（１９７２年）を参考に調製した。
−２０℃で、メチレンクロライド溶媒中、１−（３−ジメチルアミノフェニル）エタノール（０．３モル／Ｌ）１０ｍｌ、ジメチルスルフィド０．３９１ｇ、Ｎ−クロロスクシンイミド０．６０１ｇ、トリエチルアミン０．４５５ｇを用いてＣｏｒｅｙ−Ｋｉｍ酸化反応を行い、目的とするケトン化合物（反応収率８９％）を得、これを使用した。酸化剤溶液（溶液Ｂ）は、次亜塩素酸ナトリウム水溶液（１３．３％濃度）をＮ−クロロスクシンイミドに対し２．０モル当量になるよう調製したものを使用した。溶液Ａ、溶液Ｂは、各々ガラス製シリンジに吸い上げた後、ハーバード社製ＰＨＤ−２０００型シリンジポンプを用いてマイクロリアクターに送液した。溶液Ａのマイクロリアクターの供給流量は１．５ｍｌ／分、Ｂ液の供給流量は１．５ｍｌ／分とし、このとき、図１のマイクロミキサーの区間３〜５、区間４〜５、点５直後の流路径（マイクロミキサーの内径）は０．２５ｍｍであり、区間５〜６の滞留時間は０．５秒であり、反応温度は３０℃である。リアクター出口から流出する反応液は、３分間の待機期間が経過した後、純水１ｍｌの入ったサンプリング管に１５秒間サンプリングし、２５℃で１０秒間攪拌した。反応後の溶液はＨＰＬＣを用いて分析し、標準物質を用いる内部標準法により定量分析を行ったところ目的とするケトン化合物の収率（トータル収率）は８８％であり、酸化反応による基質への影響はなかった。【０１６０】
実施例４９〜５１
アルコール化合物（反応基質）の種類を下記表７のように変更した以外は、実施例４８と同じ条件で行った。【０１６１】
下記表７に、実施例４８も含め、これらの結果をまとめて示す。
なお、残ＤＭＳは、残留するジメチルスルフィドの収率（理論値基準）である。【０１６２】
【表７】
2017057460.tif 000017
【０１６３】
実施例５２  ＜マイクロリアクターによるＳｗｅｒｎ酸化反応と脱臭工程の一貫化反応＞
図２に示す反応装置を使用して、反応工程および脱臭工程を行った。
１−（３−ジメチルアミノフェニル）エタノール（０．０６Ｍ）、ジメチルスルホキシド（０．１５Ｍ）となるように濃度調整し混合したメチレンクロライド溶液（溶液Ａ１）、無水トリフルオロ酢酸／メチレンクロライド溶液（０．１５Ｍ）（溶液Ａ２）、ジイソプロピルエチルアミン／メチレンクロライド溶液（０．１８Ｍ）（溶液Ａ３）、次亜塩素酸ナトリウム水溶液（１３．３％濃度）を無水トリフルオロ酢酸に対し１．２モル当量になるよう調製した溶液（０．１８Ｍ）（溶液Ｂ）を用いた。
溶液Ａ１、溶液Ａ２、溶液Ａ３および溶液Ｂは島津製作所社製ポンプＬＣ−２０ＡＴまたはＬＣ−１０Ａｉを用いてマイクロリアクターに送液した。溶液Ａ１〜Ａ３およびＢのマイクロリアクターの供給流量は１．５ｍｌ／分とし、このとき、図２のマイクロミキサーの区間１２〜１４、１５〜１７、１８〜２０の滞留時間はそれぞれ０．０５秒、６．９秒、０．５秒であり、区間１１〜１２、区間１３〜１２、区間１４〜１５、区間１６〜１５、区間１７〜１８、区間１９〜１８、点１２、点１５、点１８直後の流路径（マイクロミキサーの内径）は０．２５ｍｍであり、反応温度は区間７〜１４、区間８〜１４は０℃であり、区間１４〜２０、区間９〜２０、区間１０〜２０は３０℃である。リアクター出口から流出する反応液は、３分間の待機期間が経過した後、純水１ｍｌの入ったサンプリング管に１５秒間サンプリングし、２５℃で１０秒間攪拌した。反応後の溶液はＨＰＬＣを用いて分析し、標準物質を用いる内部標準法により定量分析を行ったところ、目的とするケトン化合物のトータル収率（脱臭工程後の収率）は９０％であり、酸化反応による基質への影響はなかった。【０１６４】
実施例５３〜５５
反応基質の種類を下記表８のように変更した以外は、実施例５２と同じ条件で行った。【０１６５】
下記表８に、実施例５２も含め、これらの結果をまとめて示す。
なお、残ＤＭＳは、残留するジメチルスルフィドの収率（理論値基準）である。
また、Ｂｚはベンゾイル基〔−Ｃ（＝Ｏ）−Ｃ６Ｈ５〕である。【０１６６】
【表８】
2017057460.tif 000018
【０１６７】
実施例５６〜６０
反応基質に実施例５５で使用した化合物を用い、酸化剤を下記表９に示すものに変更した以外は、実施例５２と同じ条件で行った。
なお、実施例５７〜６０はメチレンクロライド溶液として使用した。
下記表９に、これらの結果をまとめて示す。【０１６８】
【表９】
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【０１６９】
実施例６１  ＜マイクロリアクターによるＣｏｒｅｙ−Ｋｉｍ酸化反応と脱臭工程の一貫化反応＞
図２に示す反応装置を使用して、反応工程および脱臭工程を行った。
１−（３−ジメチルアミノフェニル）エタノール（０．０６Ｍ）、ジメチルスルフィド（０．１３Ｍ）となるように濃度調整し混合したメチレンクロライド溶液（溶液Ａ１）、Ｎ−クロロスクシンイミド／メチレンクロライド溶液（０．０９Ｍ）（溶液Ａ２）、トリエチルアミン／メチレンクロライド溶液（０．０９Ｍ）（溶液Ａ３）、次亜塩素酸ナトリウム水溶液（１３．３％濃度）をＮ−クロロスクシンイミドに対して２．０モル当量になるよう調製した溶液（０．１８Ｍ）（溶液Ｂ）を用いた。
溶液Ａ１〜Ａ３およびＢは、島津製作所社製ポンプＬＣ−２０ＡＴまたはＬＣ−１０Ａｉを用いてマイクロリアクターに送液した。溶液Ａ１〜Ａ３およびＢのマイクロリアクターの供給流量は１．５ｍｌ／分とし、このとき、図２のマイクロミキサーの区間１２〜１４、１５〜１７、１８〜２０の滞留時間はそれぞれ１０．５秒、１５．８秒、０．５秒であり、区間１１〜１２、区間１３〜１２、区間１４〜１５、区間１６〜１５、区間１７〜１８、区間１９〜１８、点１２、点１５、点１８直後の流路径（マイクロミキサーの内径）は０．２５ｍｍであり、反応温度は区間７〜１４、区間８〜１４は−１０℃であり、区間１４〜２０、区間９〜２０、区間１０〜２０は３０℃である。リアクター出口から流出する反応液は、３分間の待機期間が経過した後、純水１ｍｌの入ったサンプリング管に１５秒間サンプリングし、２５℃で１０秒間攪拌した。反応後の溶液はＨＰＬＣを用いて分析し、標準物質を用いる内部標準法により定量分析を行ったところ、目的とするケトン化合物のトータル収率（脱臭工程後の収率）は９０％であり、酸化反応による基質への影響はなかった。【０１７０】
実施例６２〜６６
反応基質を下記表１０に示す化合物に変更した以外は、実施例６１と同じ条件で行った。【０１７１】
下記表１０に、実施例６１も含め、これらの結果をまとめて示す。
なお、残ＤＭＳは、残留するジメチルスルフィドの収率（理論値基準）である。【０１７２】
【表１０】
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【０１７３】
上記表１〜１０から、反応工程で生成もしくは残留する臭気物質を反応液から除去する脱臭工程を、流路中のフロー反応を用いて行うことで、反応工程で生成したアルデヒド化合物、ケトン化合物への影響がなく、臭気物質のみ効率的に脱臭処理することが可能となった。【０１７４】
本発明をその実施態様とともに説明したが、我々は特に指定しない限り我々の発明を説明のどの細部においても限定しようとするものではなく、添付の請求の範囲に示した発明の精神と範囲に反することなく幅広く解釈されるべきであると考える。【０１７５】
本願は、２０１５年９月３０日に日本国で特許出願された特願２０１５−１９５３７５に基づく優先権を主張するものであり、これはここに参照してその内容を本明細書の記載の一部として取り込む。
【符号の説明】
【０１７６】
１、２                              マイクロリアクターへの原料供給口
３、４                              マイクロミキサーへの原料供給口
５                                  溶液Ａと溶液Ｂの混合開始点
６                                  マイクロリアクターの出口
７、８、９、１０                    マイクロリアクターへの原料供給口
１１、１３、１４、１６、１７、１９  マイクロミキサーへの原料供給口
１２                                第１工程（溶液Ａ１とＡ２の反応）の混合開始点
１５                                第２工程（溶液Ａ３との反応）の混合開始点
１８                                第３工程（溶液Ｂとの反応）の混合開始点
２０                                マイクロリアクターの出口
【図１】
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【図２】
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【国際調査報告】
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