(57)【要約】  離型処理方法は、（ａ）離型性を有するフッ素系化合物と溶剤とを含む離型剤と、表面にポーラスアルミナ層（１４）を有する円筒状または円柱状の型（１００）とを用意する工程と、（ｂ）型の表面に、離型剤を付与する工程と、（ｃ）工程（ｂ）において付与された離型剤を乾燥させる工程とを包含する。工程（ｃ）は、型の表面に対して、型の軸（１００ｚ）に平行な方向に流れる気流（１０５）を生成させる工程、および、型の軸を中心に型を回転させる工程を含む。
2016199764.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ａ）離型性を有するフッ素系化合物と溶剤とを含む離型剤と、表面にポーラスアルミナ層を有する円筒状または円柱状の型とを用意する工程と、
（ｂ）前記型の前記表面に、前記離型剤を付与する工程と、
（ｃ）前記工程（ｂ）において付与された前記離型剤を乾燥させる工程であって、前記型の前記表面に対して、前記型の軸に平行な方向に流れる気流を生成させる工程、および、前記型の軸を中心に前記型を回転させる工程を含む乾燥工程と
を包含する、離型処理方法。
【請求項２】
前記工程（ｃ）において、前記型の回転速度は、０．５ｒｐｍ以上１０ｒｐｍ以下である、請求項１に記載の離型処理方法。
【請求項３】
前記工程（ｃ）において、前記気流の流速は、前記型の軸に垂直な断面における前記型の直径をＤ（ｍ）とすると、０．０５Ｄ（ｍ／ｓ）以上０．５２Ｄ（ｍ／ｓ）以下である、請求項１または２に記載の離型処理方法。
【請求項４】
前記工程（ｃ）において、前記気流を生成させる工程は、前記離型剤に含まれる前記フッ素化合物を溶解する溶剤を含む気体を供給する工程を含む、請求項１から３のいずれかに記載の離型処理方法。
【請求項５】
前記溶剤を含む気体は、前記離型剤に含まれる前記溶剤と同じ溶剤を含む、請求項４に記載の離型処理方法。
【請求項６】
前記ポーラスアルミナ層は、表面の法線方向から見たときの２次元的な大きさが５０ｎｍ以上５００ｎｍ未満の複数の凹部を有する、反転されたモスアイ構造を表面に有する、請求項１から５のいずれかに記載の離型処理方法。
【請求項７】
請求項１から６のいずれかに記載の離型処理方法によって離型処理が施された型を用意する工程と、
被加工物を用意する工程と、
前記型と前記被加工物の表面との間に光硬化樹脂を付与した状態で、前記光硬化樹脂に光を照射することによって前記光硬化樹脂を硬化させる工程と、
前記型から、硬化させられた光硬化樹脂で形成された反射防止膜を剥離する工程と
を包含する、反射防止膜の製造方法。
【請求項８】
第１開口と第２開口とを有する円筒状のカバーと、
円筒状または円柱状の型を、前記カバーの前記第１開口と前記第２開口との間において、前記カバーの軸と略平行に、前記型の軸の周りに回転可能に支持する、回転支持構造体と
を有する、離型処理装置。
【請求項９】
前記第１開口から前記カバーの前記軸に略平行な気流を供給する、気流供給装置をさらに有する、請求項８に記載の離型処理装置。
【請求項１０】
前記気流供給装置は、前記第１開口に設けられたフィルタを有する、請求項９に記載の離型処理装置。
【請求項１１】
前記回転支持構造体は、モータと、前記モータの駆動軸に結合された台座とを有し、
前記台座の少なくとも一部は、前記第１開口と前記第２開口との間に位置する、請求項８から１０のいずれかに記載の離型処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、離型処理方法、反射防止膜の製造方法および離型処理装置に関する。ここでいう「型」は、種々の加工方法（スタンピングやキャスティング）に用いられる型を包含し、スタンパということもある。また、印刷（ナノプリントを含む）にも用いられ得る。
【背景技術】
【０００２】
テレビや携帯電話などに用いられる表示装置やカメラレンズなどの光学素子には、通常、表面反射を低減して光の透過量を高めるために反射防止技術が施されている。例えば、空気とガラスとの界面に光が入射する場合のように屈折率が異なる媒体の界面を光が通過する場合、フレネル反射などによって光の透過量が低減し、視認性が低下するからである。【０００３】
近年、反射防止技術として、凹凸の周期が可視光の波長（λ＝３８０ｎｍ〜７８０ｎｍ）以下に制御された微細な凹凸パターンを基板表面に形成する方法が注目されている（特許文献１から４を参照）。反射防止機能を発現する凹凸パターンを構成する凸部の２次元的な大きさは１０ｎｍ以上５００ｎｍ未満である。【０００４】
この方法は、いわゆるモスアイ（Ｍｏｔｈｅｙｅ、蛾の目）構造の原理を利用したものであり、基板に入射した光に対する屈折率を凹凸の深さ方向に沿って入射媒体の屈折率から基板の屈折率まで連続的に変化させることによって反射を防止したい波長域の反射を抑えている。【０００５】
モスアイ構造は、広い波長域にわたって入射角依存性の小さい反射防止作用を発揮できるほか、多くの材料に適用でき、凹凸パターンを基板に直接形成できるなどの利点を有している。その結果、低コストで高性能の反射防止膜（または反射防止表面）を提供できる。【０００６】
モスアイ構造の製造方法として、アルミニウムを陽極酸化することによって得られる陽極酸化ポーラスアルミナ層を用いる方法が注目されている（特許文献２から４）。【０００７】
ここで、アルミニウムを陽極酸化することによって得られる陽極酸化ポーラスアルミナ層について簡単に説明する。従来から、陽極酸化を利用した多孔質構造体の製造方法は、規則正しく配列されたナノオーダーの円柱状の細孔（微細な凹部）を形成できる簡易な方法として注目されてきた。硫酸、蓚酸、または燐酸等の酸性電解液またはアルカリ性電解液中に基材を浸漬し、これを陽極として電圧を印加すると、基材の表面で酸化と溶解が同時に進行し、その表面に細孔を有する酸化膜を形成することができる。この円柱状の細孔は、酸化膜に対して垂直に配向し、一定の条件下（電圧、電解液の種類、温度等）では自己組織的な規則性を示すため、各種機能材料への応用が期待されている。【０００８】
特定の条件下で形成されたポーラスアルミナ層は、膜面に垂直な方向から見たときに、ほぼ正六角形のセルが二次元的に最も高密度で充填された配列をとっている。それぞれのセルはその中央に細孔を有しており、細孔の配列は周期性を有している。セルは局所的な皮膜の溶解および成長の結果形成されるものであり、バリア層と呼ばれる細孔底部で、皮膜の溶解と成長とが同時に進行する。このとき、セルのサイズすなわち、隣接する細孔の間隔（中心間距離）は、バリア層の厚さのほぼ２倍に相当し、陽極酸化時の電圧にほぼ比例することが知られている。また、細孔の直径は、電解液の種類、濃度、温度等に依存するものの、通常、セルのサイズ（膜面に垂直な方向からみたときのセルの最長対角線の長さ）の１／３程度であることが知られている。このようなポーラスアルミナの細孔は、特定の条件下では高い規則性を有する（周期性を有する）配列、また、条件によってはある程度規則性の乱れた配列、あるいは不規則（周期性を有しない）な配列を形成する。【０００９】
特許文献２は、陽極酸化ポーラスアルミナ膜を表面に有するスタンパを用いて、反射防止膜（反射防止表面）を形成する方法を開示している。【００１０】
また、特許文献３に、アルミニウムの陽極酸化と孔径拡大処理を繰り返すことによって、連続的に細孔径が変化するテーパー形状の凹部を形成する技術が開示されている。【００１１】
本出願人は、特許文献４に、微細な凹部が階段状の側面を有するアルミナ層を用いて反射防止膜を形成する技術を開示している。【００１２】
また、特許文献１、２および４に記載されているように、モスアイ構造（ミクロ構造）に加えて、モスアイ構造よりも大きな凹凸構造（マクロ構造）を設けることによって、反射防止膜（反射防止表面）にアンチグレア（防眩）機能を付与することができる。アンチグレア機能を発揮する凹凸を構成する凸部の２次元的な大きさは１μｍ以上１００μｍ未満である。特許文献１、２および４の開示内容の全てを参考のために本明細書に援用する。【００１３】
陽極酸化ポーラスアルミナ膜を利用することによって、モスアイ構造を表面に形成するための型（以下、「モスアイ用型」という。）を容易に製造することができる。特に、特許文献２および４に記載されているように、アルミニウムの陽極酸化膜の表面をそのまま型として利用すると、製造コストを低減する効果が大きい。モスアイ構造を形成することができるモスアイ用型の表面の構造を「反転されたモスアイ構造」ということにする。【００１４】
モスアイ用型を用いた反射防止膜の製造方法としては、光硬化性樹脂を用いる方法が知られている。まず、基板上に光硬化性樹脂を付与する。続いて、離型処理を施したモスアイ用型の凹凸表面を真空中で光硬化性樹脂に押圧することにより、モスアイ用型の表面の凹凸構造中に光硬化性樹脂が充填される。続いて、凹凸構造中の光硬化性樹脂に紫外線を照射し、光硬化性樹脂を硬化する。その後、基板からモスアイ用型を分離することによって、モスアイ用型の凹凸構造が転写された光硬化性樹脂の硬化物層が基板の表面に形成される。光硬化性樹脂を用いた反射防止膜の製造方法は、例えば特許文献４に記載されている。【００１５】
本出願人は、ロール状のモスアイ用型を用いて、ロール・ツー・ロール方式により反射防止膜を効率良く製造する方法を開発している（例えば特許文献５）。特許文献５は、表面にポーラスアルミナ層を有する型の表面に、むらの無いように離型剤を付与することができる離型処理方法を開示している。特許文献５の開示内容の全てを参考のために本明細書に援用する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１６】
【特許文献１】特表２００１−５１７３１９号公報
【特許文献２】特表２００３−５３１９６２号公報
【特許文献３】特開２００５−１５６６９５号公報
【特許文献４】国際公開第２００６／０５９６８６号
【特許文献５】国際公開第２０１１／１１１６６９号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１７】
しかしながら、本発明者が、モスアイ用型に離型処理を行ったところ、モスアイ用型の表面にむらが生じることがあった。むらは、特許文献５の離型処理方法で離型剤を付与してもなお生じる場合があった。本発明者の検討によると、離型剤をモスアイ用型の表面に付与した後、離型剤を乾燥させる工程でむらが生じることが分かった。詳細は、後述する。【００１８】
この問題は、モスアイ用型に限らず、サブミクロンオーダーの微細な凹部を有するポーラスアルミナ層を表面に有する型に共通の問題である。【００１９】
本発明の主な目的は、表面にポーラスアルミナ層を有する型の表面を、むらの無いように離型処理する方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００２０】
本発明の実施形態による離型処理方法は、（ａ）離型性を有するフッ素系化合物と溶剤とを含む離型剤と、表面にポーラスアルミナ層を有する円筒状または円柱状の型とを用意する工程と、（ｂ）前記型の前記表面に、前記離型剤を付与する工程と、（ｃ）前記工程（ｂ）において付与された前記離型剤を乾燥させる工程であって、前記型の前記表面に対して、前記型の軸に平行な方向に流れる気流を生成させる工程、および、前記型の軸を中心に前記型を回転させる工程を含む乾燥工程とを包含する。【００２１】
ある実施形態において、前記工程（ｃ）における、前記型の回転速度は、０．５ｒｐｍ以上１０ｒｐｍ以下である。【００２２】
ある実施形態において、前記工程（ｃ）における、前記気流の流速は、前記型の軸に垂直な断面における前記型の直径をＤ（ｍ）とすると、０．０５Ｄ（ｍ／ｓ）以上０．５２Ｄ（ｍ／ｓ）以下である。【００２３】
ある実施形態において、前記工程（ｃ）における、前記気流を生成させる工程は、前記離型剤に含まれる前記フッ素化合物を溶解する溶剤を含む気体を供給する工程を含む。【００２４】
ある実施形態において、前記溶剤を含む気体は、前記離型剤に含まれる前記溶剤と同じ溶剤を含む。【００２５】
ある実施形態において、前記ポーラスアルミナ層は、表面の法線方向から見たときの２次元的な大きさが５０ｎｍ以上５００ｎｍ未満の複数の凹部を有する、反転されたモスアイ構造を表面に有する。【００２６】
本発明の実施形態による反射防止膜の製造方法は、上記のいずれかの離型処理方法によって離型処理が施された型を用意する工程と、被加工物を用意する工程と、前記型と前記被加工物の表面との間に光硬化樹脂を付与した状態で、前記光硬化樹脂に光を照射することによって前記光硬化樹脂を硬化させる工程と、前記型から、硬化させられた光硬化樹脂で形成された反射防止膜を剥離する工程とを包含する。【００２７】
本発明の実施形態による離型処理装置は、第１開口と第２開口とを有する円筒状のカバーと、円筒状または円柱状の型を、前記カバーの前記第１開口と前記第２開口との間において、前記カバーの軸と略平行に、前記型の軸の周りに回転可能に支持する、回転支持構造体とを有する。【００２８】
ある実施形態において、前記離型処理装置は、前記第１開口から前記カバーの前記軸に略平行な気流を供給する、気流供給装置をさらに有する。【００２９】
ある実施形態において、前記気流供給装置は、前記第１開口に設けられたフィルタを有する。【００３０】
ある実施形態において、前記回転支持構造体は、モータと、前記モータの駆動軸に結合された台座とを有し、前記台座の少なくとも一部は、前記第１開口と前記第２開口との間に位置する。
【発明の効果】
【００３１】
本発明の実施形態によると、表面にポーラスアルミナ層を有する型の表面を、むらの無いように離型処理することができる。
【図面の簡単な説明】
【００３２】
【図１】（ａ）〜（ｅ）は、本発明の実施形態１による離型処理方法および離型処理装置５０を説明するための模式的な図である。
【図２】（ａ）および（ｂ）は、実験例を行った離型処理装置を説明するための模式的な図である。
【図３】気流１０５の流速およびモスアイ用型１００の回転速度の関係についての考察を説明するための図である。
【図４】（ａ）〜（ｅ）は、モスアイ用型の製造方法を説明するための模式的な断面図である。
【図５】ロール・ツー・ロール方式により反射防止膜を製造する方法を説明するための模式的な断面図である。
【図６】（ａ）〜（ｃ）は、従来の離型処理方法およびそれに用いられる比較例の離型処理装置９０を説明するための模式的な図である。
【発明を実施するための形態】
【００３３】
本発明者が、ロール状（例えば円筒状または円柱状）のモスアイ用型に離型処理を行ったところ、モスアイ用型の表面にむらが生じることがあった。本発明者の検討によると、むらは、離型剤をモスアイ用型の表面に付与する工程の後、モスアイ用型の表面に付与された離型剤を乾燥させる工程（「離型剤乾燥工程」ということがある。）において生じていた。以下、詳細を説明する。
【００３４】
図６（ａ）〜（ｃ）を参照して、従来の離型処理方法を説明する。図６（ａ）〜（ｃ）は、従来の離型処理方法およびそれに用いられる比較例の離型処理装置９０を説明するための模式的な図である。図６（ａ）は、比較例の離型処理装置９０の模式的な図であり、図６（ｂ）は、比較例の離型処理装置９０の模式的な断面図であり、図６（ｃ）は、従来の離型処理方法において発生したむらの原因を調べる方法を説明するための模式的な図である。
【００３５】
図６（ａ）に示すように、比較例の離型処理装置９０は、第１開口９２ａと第２開口９２ｂとを有する角筒状のカバー９２を有する。比較例の離型処理装置９０は、円筒状または円柱状のモスアイ用型１００を、型１００の長軸方向がカバー９２の長軸方向と略平行になるように、カバー９２の内側に保持する。モスアイ用型１００は、例えば、長軸方向が鉛直方向と略平行となるように立てて配置される。典型的には、モスアイ用型１００の長軸方向およびカバー９２の長軸方向が、鉛直方向に略一致するように配置される。
【００３６】
離型剤乾燥工程では、モスアイ用型１００の、反転されたモスアイ構造を有する表面（すなわち、円筒または円柱の側面）に対して、モスアイ用型１００の中心軸に平行な方向に流れる気流１０５’が供給される。図６（ａ）に示す例では、カバー９２の第１開口９２ａから第２開口９２ｂに向かって流れる気流１０５’が供給される。気流１０５’は、例えば、ＨＥＰＡフィルタ９４を介してカバー９２内に送り込まれる。
【００３７】
図６（ｂ）は、比較例の離型処理装置９０を、鉛直方向から見たときの模式的な断面図である。気流１０５’は、カバー９２とモスアイ用型１００との間の領域全体を流れる。図６（ｂ）に示すように、モスアイ用型１００の断面（底面）はほぼ円であるのに対し、カバー９２の断面（底面）は矩形状である。カバー９２の断面は、典型的には、第１開口９２ａおよび第２開口９２ｂと同じ形状である。例えば、モスアイ用型１００の底面は直径３００ｍｍの円であり、カバー９２の断面は一辺６００ｍｍの正方形である。モスアイ用型１００は、例えば、厚さ１５ｍｍのアルミニウムの円筒から形成され、円筒の長軸方向の長さは１６００ｍｍである。
【００３８】
離型剤を付与する工程は、例えば特許文献５に記載の方法および装置を用いる。特許文献５に記載の方法および／または装置によると、離型剤の塗布むらの発生が防止される。すなわち、むらの無いように離型剤を付与することができる。
【００３９】
比較例の離型処理装置９０は、例えば、モスアイ用型１００を、軸を中心に回転させるモータ９７をさらに有する。特許文献５に記載されているように、離型剤を付与する工程においてモスアイ用型１００を回転させてもよい。例えば、離型剤をスプレーコート法によって付与する場合に、モスアイ用型１００の長軸方向に移動するスプレーノズルを用いると、モスアイ用型１００を、軸を中心に回転させることで、モスアイ用型１００の側面全体に離型剤を付与することができる。これに対して、従来の離型処理方法において、離型剤乾燥工程ではモスアイ用型１００を回転させない。離型剤乾燥工程では、上述したように、気流１０５’は、カバー９２とモスアイ用型１００との間の領域全体を流れる。従って、モスアイ用型１００を回転させなくても、気流１０５’はモスアイ用型１００の側面全体に及び得るからである。
【００４０】
比較例の離型処理装置９０で離型処理（離型剤を付与する工程および離型剤乾燥工程を含む。）を施したロール状のモスアイ用型１００の表面には、むら１０１ａ、１０１ｂが生じることがあった。本発明者の検討によると、むらは、発生する場所によって、主に２種類に大別することができる。本明細書において、むら１０１ａは、モスアイ用型１００の側面のうち、長軸方向における端部に主に生じるむらを指す。むら１０１ａは、モスアイ用型１００の側面の両端のうち、特に気流１０５’の下流側の端部、すなわち図６（ａ）に示す例ではモスアイ用型１００の下端１００ｅ付近に生じることが多い。むら１０１ｂは、モスアイ用型１００の側面のうち、長軸方向における中央部分、すなわち、両端部以外の部分に主に生じるむらを指す。むら１０１ａは、筋状であることが多い。図６（ａ）に示すように、むら１０１ａが生じている範囲１０２ａは、モスアイ用型１００の長軸方向において、モスアイ用型１００の下端１００ｅから、長さＬ１０２ａの範囲に及ぶ。比較例の離型処理装置９０で離型処理を施したモスアイ用型１００において、長さＬ１０２ａは、例えば２００ｍｍ以上であり、３００ｍｍ以上であることもあった。
【００４１】
上述したように、離型剤を付与する工程には、特許文献５に記載の方法および装置を用いているので、離型剤の塗布むらの発生は抑制される。すなわち、むら１０１ａ、１０１ｂは、離型剤を付与する工程で生じたものではないと考えられる。
【００４２】
本発明者は、むら１０１ａ、１０１ｂが生じた原因を調べるために、比較例の離型処理装置９０内での気流１０５’の流れを、スモークワイヤ法を用いて調べた。図６（ｃ）に示すように、カバー９２内に高抵抗の細線（抵抗線）１１０を設置した。抵抗線１１０に流動パラフィンを塗布し、電流を流すことで白煙を発生させ、気流１０５’の流れを可視化する。スモークワイヤ法には、株式会社菅原研究所製のスモークワイヤ発生装置ＭＳ−４０５を用いた。調べた結果、気流１０５’の流れが乱れている箇所と、むら１０１ａ、１０１ｂが生じている箇所が一致していた。すなわち、モスアイ用型１００の表面（側面）のうち、長軸方向における端部、および、長軸方向における中央部分において、気流１０５’のむら（不均一性）が生じることがあった。本発明者は、気流１０５’のむら（不均一性）が、むら１０１ａ、１０１ｂの発生に寄与していると考え、本発明に想到した。
【００４３】
モスアイ用型１００のむら１０１ａ、１０１ｂは、蛍光灯直下で、目視により、観察することができる。また、モスアイ用型１００がむら１０１ａ、１０１ｂを有すると、モスアイ用型１００を用いて作製した反射防止膜の表面にも、モスアイ構造の不均一性（むら）が形成された。
【００４４】
以上は、本発明者の考察であり、本発明を限定するものではない。
【００４５】
以下で、図面を参照して、本発明の実施形態による離型処理方法を説明する。なお、本発明は以下で例示する実施形態に限られない。以下、ロール状のモスアイ用型に離型処理をする場合を例に説明する。「ロール状のモスアイ用型」には、円筒状のモスアイ用型および円柱状のモスアイ用型が含まれる。以下の図面において、実質的に同じ機能を有する構成要素は共通の参照符号で示し、その説明を省略することがある。
【００４６】
（実施形態１）
図１（ａ）〜（ｅ）を参照して、本発明の実施形態１による離型処理方法および離型処理装置を説明する。図１（ａ）〜（ｅ）は、本発明の実施形態１による離型処理方法および離型処理装置５０を説明するための模式的な図である。図１（ａ）は、離型処理装置５０の模式的な図であり、図１（ｂ）は、離型処理装置５０の模式的な断面図である。図１（ｃ）および（ｄ）は、モスアイ用型１００を模式的に示す図である。図１（ｅ）は、台座５６の具体的な構成の一例を模式的に示す図である。
【００４７】
本発明の実施形態１による離型処理方法は、離型性を有するフッ素系化合物と溶剤とを含む離型剤と、表面にポーラスアルミナ層１４を有する円筒状または円柱状の型１００とを用意する工程（Ａ）と、型１００の表面に離型剤を付与する工程（Ｂ）と、工程（Ｂ）において付与された離型剤を乾燥させる工程（Ｃ）とを有する。工程（Ｃ）は、型１００の軸１００ｚに平行な方向に流れる気流１０５を生成させる工程（Ｃ１）、および、型１００の軸１００ｚを中心に型１００を回転させる工程（Ｃ２）を含む。
【００４８】
本発明の実施形態１による離型処理方法によると、後に実験例を示すように、表面にポーラスアルミナ層を有する型の表面を、むらの無いように離型処理することができる。特に、離型剤乾燥工程におけるむらの発生を防止することができる。
【００４９】
以下、本発明の実施形態１による離型処理方法の詳細を説明する。
【００５０】
まず、図１（ｃ）および（ｄ）に示すようなロール状のモスアイ用型１００と、離型剤（不図示）とを用意する。モスアイ用型１００は、表面（すなわち円筒または円柱の側面）にポーラスアルミナ層１４を有する。ロール状のモスアイ用型１００を用いると、例えば、ロール・ツー・ロール方式により反射防止膜を効率良く量産することができるという利点がある。
【００５１】
モスアイ用型１００は、例えば図１（ｄ）に示すように、ロール状の支持体１２（例えばステンレス鋼製の管）と、ロール状の支持体１２の表面上に形成されたアルミニウム膜１８と、アルミニウム膜１８の上に形成されたポーラスアルミナ層１４とを有する。なお、図１（ｄ）では、簡単のため、モスアイ用型１００について、ロール状の支持体１２の一部、アルミニウム膜１８の一部、およびポーラスアルミナ層１４の一部のみを示す。ポーラスアルミナ層１４は、複数の微細な凹部（細孔）１４ｐを有する。複数の微細な凹部１４ｐの、表面の法線方向から見たときの２次元的な大きさは５０ｎｍ以上５００ｎｍ未満である。モスアイ用型１００は、後に詳述するように、ロール状の支持体１２上に形成されたアルミニウム膜１８の陽極酸化およびエッチングを繰り返すことにより作製できる。モスアイ用型１００の作製には、例えば、上記特許文献３および４に記載されている方法を用いることができる。
【００５２】
次に、離型剤の付与を行う。離型剤としては、離型性を有するフッ素系化合物と溶剤とを含むフッ素系離型剤を用いる。フッ素系離型剤としては、公知のものを広く用いることができる。例えば、フロロテクノロジー社製のフロロサーフを用いることができる。フロロサーフとしては、例えばフロロサーフＦＧ−５０１０Ｚ１３０−０．１を用いることができる。フロロサーフＦＧ−５０１０Ｚ１３０−０．１には、フッ素系化合物としてパーフルオロオクチルエチルアクリレートの単独重合物が含まれ、溶剤として希釈剤ＺＶ（ハイドロフルオロエーテル）が含まれている。例えば、フロロサーフＦＧ−５０１０Ｚ１３０−０．１のパーフルオロオクチルエチルアクリレートの単独重合物の濃度は、０．１％である。フロロサーフには、溶剤として、上記以外に、例えば、不燃性フッ素系溶剤または石油系溶剤が含まれているものがある。不燃性フッ素系溶剤は、ハイドロフルオロエーテル以外に、例えば、パーフルオロポリエーテル、パーフルオロアルカン、ハイドロフルオロポリエーテル、ハイドロフルオロカーボン等が挙げられる。これらの不燃性フッ素系溶剤は、一種単独で、又は二種以上を混合して使用される。石油系溶剤としては、例えば、ｎ−ヘプタン、アセトン、またはｎ−ヘプタンとアセトンとを混合させた溶剤が使用される。
【００５３】
フッ素系離型剤としては、上記以外に、例えば、ダイキン社製のオプツールＤＳＸを用いることができる。また、三井デュポンフロロケミカル社製のクリアコートを用いることもできる。また、フッ素系離型剤の溶剤としては、フッ素系の溶剤を用いることが好ましい。ただし、水系の溶剤、または公知の有機溶剤を適宜選択して用いることもできる。なお、溶剤は、フッ素系化合物を溶解するものだけでなく、溶剤中にフッ素系化合物を分散させるものであってもよい。
【００５４】
フッ素系離型剤は、フッ素系離型剤以外の、例えばシリコーン系の離型剤等の離型剤に比べ、反射防止膜の製造に用いられる紫外線硬化性樹脂に対する離型性が高いという利点がある。また、フッ素系の離型剤は、紫外線に対する耐性が高いという利点がある。また、フッ素系の離型剤の層は、薄膜化しやすい。
【００５５】
離型剤の付与には、例えば、以下のように、特許文献５に記載の方法および装置を用いることができる。特許文献５に記載の方法および／または装置を用いることによって、離型剤の塗布むらを防ぐことができる。また、特許文献５に記載されているように、離型剤を付与する工程の前に、洗浄工程、表面を乾燥させる工程、表面をベークする工程等をさらに行ってもよい。
【００５６】
まず、モスアイ用型１００の表面に溶剤を付与する。ここで付与する溶剤は、典型的には、離型剤に含まれる溶剤であるが、これに限られず離型剤に含まれる離型性を有するフッ素系化合物を溶解することができる溶剤であればよい。溶剤は、例えば、スプレーノズルを用いて、スプレーコート方式により付与される。続いて、モスアイ用型１００の表面に離型剤を付与する。離型剤は、例えば、スプレーノズルを用いて、スプレーコート方式により付与される。
【００５７】
続いて、モスアイ用型１００の表面に付与された離型剤を乾燥させる。離型剤乾燥工程では、モスアイ用型１００の表面に対して、モスアイ用型１００の軸１００ｚに平行な方向に流れる気流１０５を生成させ、かつ、軸１００ｚを中心に、モスアイ用型１００を回転させる。軸１００ｚは、モスアイ用型１００の中心軸である。気流１０５は、例えば空気の流れであってよいし、他のガス（例えば不活性ガス（例えば窒素ガス、Ａｒガスなど）、二酸化炭素ガス（ＣＯ2）、酸素ガスなど）であってもよい。
【００５８】
本発明の実施形態による離型処理方法の離型剤乾燥工程によると、従来の離型処理方法で発生し得るむら１０１ａ、１０１ｂの発生を抑制することができる。本発明の実施形態による離型処理方法の離型剤乾燥工程によると、モスアイ用型１００の表面に流れる気流１０５の均一性を、モスアイ用型１００の側面のうち、端部および中央部の両方において向上させることができる。
【００５９】
モスアイ用型１００の回転速度は、実験例を参照して後述するように、例えば、０．５ｒｐｍ以上１０ｒｐｍ以下であることが好ましく、１ｒｐｍ以上１０ｒｐｍ以下であることがさらに好ましい。気流１０５の流速は、例えば、０．０５×１００ｄ（ｍ／ｓ）以上０．５２×１００ｄ（ｍ／ｓ）以下であることが好ましい。ここで、モスアイ用型１００の底面の直径は１００ｄ（ｍ）である。モスアイ用型１００の底面は、モスアイ用型１００の軸１００ｚに垂直な断面である。気流１０５の流速の上記範囲は、回転速度に換算すると、１ｒｐｍ以上１０ｒｐｍ以下の範囲に相当する。ｒｐｍは一分間あたりの回転数を表す単位なので、１ｒｐｍは（π×１００ｄ）／６０（ｍ／ｓ）に相当するからである。気流１０５の流速と、モスアイ用型１００の回転速度との関係については、実験例を参照して後述する。
【００６０】
次に、本実施形態による離型処理装置５０を説明する。離型処理装置５０によると、本実施形態による離型処理方法を行うことができる。ただし、本発明の実施形態による離型処理装置は、以下に例示するものに限られない。
【００６１】
離型処理装置５０は、図１（ａ）に示すように、第１開口５２ａと第２開口５２ｂとを有する円筒状のカバー５２と、回転支持構造体５８とを有する。回転支持構造体５８は、円筒状または円柱状の型１００を、カバー５２の第１開口５２ａと第２開口５２ｂとの間において、カバー５２の軸５２ｚと略平行に、型１００の軸１００ｚの周りに回転可能に支持する。
【００６２】
離型処理装置５０によると、表面にポーラスアルミナ層を有する型の表面を、むらの無いように離型処理することができる。特に、離型剤乾燥工程におけるむらの発生を防止することができる。
【００６３】
図１（ｂ）は、離型処理装置５０の模式的な断面図である。モスアイ用型１００およびカバー５２は、例えば、長軸方向が鉛直方向とほぼ平行となるように、配置される。すなわち、モスアイ用型１００の軸１００ｚ方向およびカバー５２の軸５２ｚ方向が、鉛直方向と略一致するように、配置され得る。モスアイ用型１００は、例えば、モスアイ用型１００に取り付けられた吊り下げ部材６９（図１（ａ）参照）によって、上方から吊り下げられていてもよい。カバー５２は、例えば角柱状または角筒状の付与室６２（図１（ｂ）参照）の内側に設けられていてもよい。
【００６４】
比較例の離型処理装置９０は、角筒状のカバー９２を有するので、モスアイ用型１００の表面の各点から、カバー９２までの距離は均一ではない。このことが、気流１０５’の不均一性に寄与し得ると考えられる。
【００６５】
これに対して、本発明の実施形態による離型処理装置５０では、図１（ｂ）に示すように、カバー５２の断面およびモスアイ用型１００の断面は、ともにほぼ円である。典型的には、カバー５２の第１開口５２ａおよび第２開口５２ｂの形状は、互いに同じ直径を有する円である。典型的には、鉛直方向から見たとき、カバー５２およびモスアイ用型１００の中心が一致するように設置される。このとき、モスアイ用型１００の表面の各点に対して、カバー５２までの距離が等しい。本発明の実施形態による離型処理装置５０では、モスアイ用型１００の表面の各点に対して、気流１０５の流速が均一になり得る。この効果は、モスアイ用型１００の表面（側面）のうち、長軸方向における端部、および、長軸方向における中央部分の両方において得られ得る。従って、例えば比較例の離型処理装置９０において発生し得るむら１０１ａ、１０１ｂ（図６（ａ）参照）の発生が抑制される。
【００６６】
例えば、カバー５２の断面は直径５００ｍｍの円である。モスアイ用型１００の底面は直径３００ｍｍの円であり、モスアイ用型１００は、例えば、厚さ１５ｍｍのアルミニウムの円筒から形成され、円筒の長軸方向の長さは１６００ｍｍである。カバー５２は、例えば金属（例えばステンレス鋼、陽極酸化加工したＡｌ板など）または樹脂（例えばアクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ＢＳ系樹脂など）から形成されている。異なる材料から形成された半円筒を組み合わせて、カバー５２を形成してもよい。例えば、ここでは、ステンレス鋼およびアクリル樹脂から形成された半円筒を組み合わせてカバー５２を形成する。カバー５２の少なくとも一部を、アクリル樹脂等透明な材料で形成すると、例えばスモークワイヤ法を用いてカバー５２内の気流１０５を観察することが容易である。
【００６７】
回転支持構造体５８は、例えば、モータ５７と、モータ５７の駆動軸５７ｄに結合された台座５６とを有する。台座５６の少なくとも一部は、第１開口５２ａと第２開口５２ｂとの間に位置する。回転支持構造体５８は、台座５６と、モータ５７の駆動軸５７ｄとを結合する結合部材（不図示）をさらに有していてもよい。
【００６８】
モータ５７は、モスアイ用型１００の軸１００ｚを中心に、モスアイ用型１００を回転させる。モータ５７によって、離型剤乾燥工程において、軸１００ｚを中心にモスアイ用型１００を回転させることができる。これにより、実験例を後に示すように、比較例の離型処理装置９０において発生し得るむら１０１ａ、１０１ｂ（図６（ａ）参照）の発生が抑制される。むらが発生する原因の一つは、気流１０５の不均一性に起因して、離型剤が乾燥する速さが不均一であることと考えられる。モスアイ用型１００を回転させると、気流１０５を均一化することができ、むらの発生を抑制することができると考えられる。気流１０５の流速およびモスアイ用型１００の回転速度の好ましい範囲については、実験例を参照して後述する。離型剤を付与する工程においても、モータ５７によってモスアイ用型１００を回転させてももちろんよい。
【００６９】
台座５６の少なくとも一部が、カバー５２の第１開口５２ａと第２開口５２ｂとの間に位置すると、鉛直方向における、カバー５２の第２開口５２ｂと、モスアイ用型１００の下端１００ｅとの間の距離Ｌを大きくすることができる。ここで、鉛直方向において、カバー５２の第２開口５２ｂは、モスアイ用型１００の下端１００ｅよりも下方にある。また、離型処理工程において、モスアイ用型１００を安定に支持することができる。
【００７０】
比較例の離型処理装置９０を用いた従来の離型処理方法においては、モスアイ用型１００の表面（側面）のうち、長軸方向における端部（特に下端部）を中心にむら１０１ａが生じることがあった（図６（ａ）参照）。比較例の離型処理装置９０においては、カバー５２の第２開口５２ｂが、モスアイ用型１００の下端１００ｅよりも上方にあるか、または、下方にあったとしても距離Ｌが小さいので、モスアイ用型１００の側面の下端１００ｅ付近で気流１０５’が乱れ、むら１０１ａが発生したと考えられる。本発明の実施形態による離型処理装置５０では、距離Ｌが大きいので、モスアイ用型１００の側面の下端１００ｅ周辺において気流１０５が乱れることが抑制され、むら１０１ａの発生が抑制される。距離Ｌは、例えば２００ｍｍ以上であることが好ましく、３００ｍｍ以上であることがさらに好ましい。
【００７１】
むら１０１ａの発生が完全に抑制されなくても、むら１０１ａが生じている範囲１０２ａ（図６（ａ）参照）が小さい場合は、実用上問題なく使用することができる場合がある。モスアイ用型を用いて膜（例えば反射防止膜）を作製する際、作製された膜のうち、型の有効領域に対応する部分以外の部分は、余剰スペースとして取り扱われることがある。モスアイ用型１００の下端１００ｅからの長軸方向における長さが例えば２０ｍｍ〜５０ｍｍ以内である範囲は、型の有効領域に含まれないことがある。従って、モスアイ用型１００において、むら１０１ａが生じている範囲１０２ａの、下端１００ｅからの長軸方向における長さＬ１０２ａ（図６（ａ）参照）が、例えば２０ｍｍ以下であれば、実用上問題なく使用することができる。
【００７２】
台座５６は、例えば、円柱状であり、台座５６の軸方向が、型１００の軸１００ｚ方向と略一致するように設けられる。例えば、型１００の軸１００ｚに垂直な面における台座５６の断面積は、型１００の軸１００ｚに垂直な面における型１００の断面積と略一致する。
【００７３】
台座５６は、例えば、図１（ｅ）に示すような構造を有していてもよい。図１（ｅ）は、台座５６の具体的な構成の一例を模式的に示す図である。
【００７４】
図１（ｅ）に例示するように、台座５６は、型１００を装着・固定する台板（マウントプレート）５６ａと、型１００の表面から滴下した液体を受ける液受け板５６ｂと、これらの板を互いに接続する接続部材５６ｚとを有する。台板５６ａおよび液受け板５６ｂの、鉛直方向から見たときの断面形状は、それぞれ、典型的には略円である。
【００７５】
台板５６ａの鉛直方向から見たときの断面の直径は、モスアイ用型１００の長軸方向から見たときの断面の直径と略同じである。台板５６ａの鉛直方向から見たときの断面の中心は、例えば、モスアイ用型１００の長軸上にある。
【００７６】
液受け板５６ｂの鉛直方向から見たときの断面の直径は、モスアイ用型１００の長軸方向から見たときの断面の直径よりも大きい。液受け板５６ｂの鉛直方向から見たときの断面の中心は、例えば、モスアイ用型１００の長軸上にある。液受け板５６ｂは、テーパー状の側面を有する。液受け板５６ｂの上面（台板５６ａ側の面）の直径は、液受け板５６ｂの下面（台板５６ａとは反対側の面）の直径よりも小さい。液受け板５６ｂの上面の直径は、例えばモスアイ用型１００の長軸方向から見たときの断面の直径と略同じである。液受け板５６ｂの下面の直径は、例えばモスアイ用型１００の長軸方向から見たときの断面の直径よりも大きい。
【００７７】
台板５６ａの鉛直方向から見たときの断面の中心および直径が、モスアイ用型１００の長軸方向から見たときの断面の中心および直径と略一致すると、モスアイ用型１００の表面に付着した液体を、スムーズに流すことができる。さらに、モスアイ用型１００の下端１００ｅ付近における気流１０５の乱れを抑制することができる。
【００７８】
液受け板５６ｂの側面がテーパー状であると、モスアイ用型１００の下方に設けられた液溜め５９内に滴下した液体が、跳ねてモスアイ用型１００に付着することを防ぐことができる。
【００７９】
液受け板５６ｂの下面（台板５６ａとは反対側の面）の直径が、モスアイ用型１００の長軸方向から見たときの断面の直径よりも大きいと、モスアイ用型１００の下方からカバー５２内に侵入し得る気体やダストを低減することができる。
【００８０】
鉛直方向から見たとき、接続部材５６ｚの全ては、モスアイ用型１００と重なる。接続部材５６ｚの鉛直方向から見たときの断面積は、モスアイ用型１００の長軸方向から見たときの断面積よりも小さい。これにより、台板５６ａと液受け板５６ｂとの間に空間が形成される。形成された空間には、気化した溶剤および／または離型剤が滞留し得る。モスアイ用型１００の表面に塗布された離型剤が、モスアイ用型１００の下端１００ｅ側から乾燥することを防ぐことができる。離型剤が乾燥する速度を均一にすることで、むらの発生を抑制することができる。
【００８１】
離型処理装置５０は、例えば、第１開口５２ａからカバー５２の軸５２ｚに略平行な気流１０５を供給する、気流供給装置５５をさらに有する。気流供給装置５５によって供給された気流１０５は、第１開口５２ａから第２開口５２ｂに向かって流れる。
【００８２】
気流供給装置５５は、例えば、第１開口５２ａに設けられたフィルタ５３を有する。気流供給装置は、例えば、フィルタ５３の、第１開口５２ａの外側に設けられたＨＥＰＡフィルタ５４をさらに有してもよい。
【００８３】
気流供給装置５５には、例えば、図示しない送風部から気流が導入される。送風部は、離型処理装置５０とは別に設けられていてもよい。送風部から導入された気流は、フィルタ５３を通過することで均一化される。型１００の軸１００ｚに平行な方向に流れる気流１０５がカバー５２内に供給される。フィルタ５３は、例えばパンチングプレート（パンチングメタル）である。パンチングプレートの厚さは、例えば０．５ｍｍ〜１．５ｍｍである。パンチングプレートの開口径は、例えば１．０ｍｍ〜８．０ｍｍである。パンチングプレートの開口のピッチは、例えば１ｍｍ〜２０ｍｍである。パンチングプレートの開口率は、例えば２０％〜５０％である。ここでは、例えば、丸孔６０°千鳥パターン（円形の開口が正三角格子の格子点上に配列されているパターン）のパンチングプレートを用いる。このパンチングパターンの開口率は、９０．６×Ｄ2／Ｐ2（％）（Ｐ：孔間ピッチ、Ｄ：孔直径）で得られる。
【００８４】
上述した例に限られず、送風部は、気流供給装置５５の一部として設けられていてもよい。気流供給装置５５は、例えば、ファン、送風機、扇風機等である送風部（不図示）をさらに有していてもよい。
【００８５】
離型剤を付与する工程および離型剤乾燥工程は、ともに離型処理装置５０を用いて行うことができる。共通の装置を用いると、両工程の間にモスアイ用型を移動させる必要がなく、製造歩留りを向上させることができる。本出願人による国際公開第２０１２／１３３３９０号は、離型剤を付与する工程を２回以上行うことで、離型性の持続性を向上させる離型処理方法を開示している。離型剤を付与する工程を行う毎に、離型剤を乾燥させる工程が必要である。従って、国際公開第２０１２／１３３３９０号に記載の離型処理方法においても、離型剤を付与する工程および離型剤乾燥工程の両方を共通の装置を用いて行うことで、製造歩留りを向上させることができる。参考のために、国際公開第２０１２／１３３３９０号の開示内容の全てを本明細書に援用する。
【００８６】
（実施形態２）
本発明の実施形態２における離型処理方法および離型処理装置を説明する。以下では、本実施形態における離型処理方法および離型処理装置が、実施形態１における離型処理方法および離型処理装置と異なる点を中心に説明を行う。
【００８７】
実施形態２による離型処理方法では、気流１０５を生成させる工程は、離型剤に含まれるフッ素化合物を溶解する溶剤を含む気体を供給する工程を含む。気化した溶剤は、例えば、離型剤に含まれる溶剤と同じ溶剤である。気化した溶剤は、離型剤に含まれる溶剤と異なる溶剤であってもよい。気化した溶剤は、例えば、離型剤に含まれる離型性を有するフッ素系化合物を溶解することができる溶剤であればよい。
【００８８】
本発明の実施形態２による離型処理方法によると、後に実験例を示すように、表面にポーラスアルミナ層を有する型の表面を、むらの無いように離型処理することができる。特に、離型剤乾燥工程におけるむらの発生を防止することができる。
【００８９】
本発明の実施形態２による離型処理方法は、気流１０５に気化した溶剤が含まれるので、離型剤の乾燥速度が遅くなる効果を有し得る。実験例を後に示すように、実施形態１の離型処理方法よりも効果的にむらの発生を防止することができる場合があった。
【００９０】
本実施形態の離型処理方法を行う離型処理装置の気流供給装置５５は、例えば、容器（例えばフラスコ）をさらに有する。容器の口は、ＨＥＰＡフィルタ５４とフィルタ５３との間に設けられた蒸気導入口と連結されている。容器中に溶剤を入れると、溶剤が自然気化し、気化した溶剤を含む気流１０５を供給することができる。あるいは、フラスコに溶剤を入れ、フラスコ内の溶剤中に気体（例えば窒素ガスまたは空気）を導入しバブリングすることで、気化した溶剤を気体に含ませることができる。気化した溶剤を含む気流１０５を供給することができる。容器に連結される蒸気導入口は、ＨＥＰＡフィルタ５４およびフィルタ５３の外側に設けられてもよい。
【００９１】
本発明の実施形態２による離型処理装置は、上記の例示に限られない。例えば、蒸発皿をフィルタ５３の外側に設置してもよい。溶剤を蒸発皿に入れて自然気化させて、気化した溶剤を含む空気によって、気流１０５を生成してもよい。溶剤を入れる容器は、蒸発皿に限られず、液体を内側に保持できる形状であればよい。容器の断面は、例えばＵ字状またはＶ字状であり得る。溶剤を入れる容器は、例えば、円筒状のカバー５２の内側に接して設けられていてもよい。例えば、溶剤を入れる容器は、離型処理装置５０と一体として設けられていてもよい。例えば、気流１０５が第１開口５２ａから第２開口５２ｂに向かって流れる場合には、溶剤を入れる容器は、カバー５２の内側の第１開口５２ａ付近に設けられていることが好ましい。または、気化させた溶剤を、図示しないエアーノズルから噴射して気体中に含ませてもよい。このとき、気流の流れを大きく変化させないためには、溶剤をミスト状の小さい粒子にして噴霧することが好ましい。さらに、その後フィルタ５３を介することで、均一化された気流１０５が得られ得る。
【００９２】
（実験例）
以下、実験例を示す。図２（ａ）および（ｂ）は、実験例を行った離型処理装置を説明するための模式的な図である。実験例として、上述した実施形態１または実施形態２の離型処理方法により、離型処理を施した。ここでは、気流１０５の流速およびモスアイ用型１００の回転速度、ならびに気流１０５中の溶剤の有無を変えて、離型処理を行った。
【００９３】
ここで用いたモスアイ用型は、例えば上記特許文献３および４に記載されている方法を用いて、アルミニウム基材の陽極酸化とエッチングとを繰り返すことにより作製した。アルミニウム基材として、ロール状の支持体（ステンレス鋼製の管）の表面上にスパッタ法により、厚さが１μｍのアルミニウム膜１８を成膜して作製した基材を用いた。アルミニウム基材の底面の直径は３００ｍｍ、長軸方向の長さは１６００ｍｍ、厚さは１５ｍｍである。
【００９４】
この基材を用いて、まず、陽極酸化を行うことにより、アルミニウム膜１８の表面にポーラスアルミナ層を形成した。陽極酸化工程は、シュウ酸水溶液（濃度０．０５ｍｏｌ／Ｌ、液温３℃）を用いて、８０Ｖ印加して６０秒間行った。電極としては、Ｐｔプレートを用いた。電極と基材との距離は１５０ｍｍとした。
【００９５】
次に、エッチングを行うことにより、ポーラスアルミナ層を完全に除去した。エッチング工程は、リン酸水溶液（濃度８ｍｏｌ／Ｌ、液温３０℃）を用いて９０分間行った。
【００９６】
次に、陽極酸化工程とエッチング工程とを交互に５回（陽極酸化を５回、エッチングを４回）行った。陽極酸化工程は、上記と同様に、シュウ酸水溶液（濃度０．０５ｍｏｌ／Ｌ、液温３℃）を用いて、８０Ｖ印加して６０秒間行った。エッチング工程は、リン酸水溶液（濃度８ｍｏｌ／Ｌ、液温３０℃）を用いて２０分間行った。
【００９７】
こうして得られたモスアイ用型は、深さ４００ｎｍ程度、細孔間隔１８０ｎｍ程度の複数の細孔が形成されていた。
【００９８】
次に、以下に示すように、上述した実施形態１または実施形態２の離型処理方法で、モスアイ用型の離型処理を行った。このとき、離型剤乾燥工程において、下記表１のように、気流１０５の流速およびモスアイ用型１００の回転速度、ならびに気流１０５中の溶剤の有無を変えて、離型処理を施した。ここで、用いたカバー５２の底面の直径は５００ｍｍ、鉛直方向の長さは２０００ｍｍである。鉛直方向における、カバー５２の第２開口５２ｂと、モスアイ用型１００の下端１００ｅとの間の距離Ｌ（図１（ａ）参照）は、２００ｍｍとした。
【００９９】
気流１０５の流速は、以下のように測定した。図２（ａ）および（ｂ）に模式的に示すように、カバー５２の内側の４箇所のそれぞれに、２種類の流速計１２０（ベアトリックス株式会社製、超微風速センサーＢＳ−０３およびＢＳ−０５）を設けた。計測可能な流速範囲が互いに異なる２種類の流速計を設置することで、より広い範囲の流速を測定することが可能になる。図２（ｂ）は離型処理装置５０を鉛直方向から見た模式的な断面図である。図２（ｂ）に示すように、周方向において等間隔に４箇所に、２個ずつ流速計１２０を設置した。流速計１２０を設置する４箇所の、鉛直方向における位置は、互いに同じである。流速計１２０は、鉛直方向において、カバー５２のほぼ中心に設置した。気流１０５の流速は、４箇所の流速計１２０によってそれぞれ３回ずつ計測し、その平均値（すなわち、計１２データの平均値）とした。
【０１００】
スモークワイヤ法を用いて、離型剤乾燥工程における気流１０５の流れを観察し、気流１０５の不均一性の有無を調べた。図２（ｂ）に示すように、カバー５２内に、略半円状の高抵抗の細線（抵抗線）１１０を設けた。スモークワイヤ法には、株式会社菅原研究所製のスモークワイヤ発生装置ＭＳ−４０５を用いた。抵抗線１１０に流動パラフィンを塗布し、電流を流すことで白煙を発生させ、気流１０５の流れを可視化し、気流１０５の流れに不均一性（乱れ）が生じていないかどうかを目視で調べた。
【０１０１】
離型処理後のモスアイ用型１００の表面について、蛍光灯直下で、目視により、むらの有無を調べた。
【０１０２】
結果を下記表１に示す。
【０１０３】
【表１】
2016199764.tif 000003
【０１０４】
表１中、「○」は、モスアイ用型１００の表面のむらが、実用上問題なく使用することができる程度に抑制されていたことを示す。具体的には、むらが生じている範囲の、下端１００ｅからの長軸方向における長さ（図６（ａ）中のＬ１０２ａ）が、２０ｍｍ以下であったことを示す。「◎」は、モスアイ用型１００の表面のむらは視認されなかったことを示す。「×」および「△」は、ともに、モスアイ用型１００の表面にはむらが視認され、むらが生じている範囲の、下端１００ｅからの長軸方向における長さ（図６（ａ）中のＬ１０２ａ）が、２０ｍｍ超であったことを示す。「△」は、「×」よりはモスアイ用型の表面のむらが軽減されていたことを示す。
【０１０５】
気流１０５の流れを可視化したことで、モスアイ用型１００の表面のむらは、気流１０５の乱れに対応して生じていることを確認した。「◎」の場合は、気流１０５の流れに乱れが生じていなかった。「○」の場合は、気流１０５の流れに乱れが生じていたが、下端１００ｅからの長軸方向における長さ（図６（ａ）中のＬ１０２ａ）が２０ｍｍ以下の範囲内においてのみ、乱れが生じていた。「×」および「△」の場合は、気流１０５の流れに乱れが生じ、乱れが生じていた範囲の、下端１００ｅからの長軸方向における長さ（図６（ａ）中のＬ１０２ａ）は２０ｍｍ超であった。
【０１０６】
表１から分かるように、モスアイ用型１００の回転速度は、例えば、０．５ｒｐｍ以上１０ｒｐｍ以下であることが好ましく、１ｒｐｍ以上１０ｒｐｍ以下であることがさらに好ましい。表１中、「回転速度」の欄には、回転速度（ｒｐｍ）と、それを速度（ｍ／ｓ）に換算した値を併記している。上述したように、ｒｐｍは一分間あたりの回転数を表す単位なので、モスアイ用型１００の底面の直径を１００ｄ（ｍ）とすると、１ｒｐｍは（π×１００ｄ）／６０（ｍ／ｓ）に相当する。回転速度が３０（ｒｐｍ）の実験例では、回転速度が大きいことによって、気流１０５に乱れが生じたと考えられる。
【０１０７】
表１から分かるように、気流１０５の流速は、例えば、０．０１６（ｍ／ｓ）以上０．１５７（ｍ／ｓ）以下であることが好ましい。気流１０５が気化した溶剤を含まない場合には、気流１０５の流速は、例えば、０．０１６（ｍ／ｓ）以上０．１２６（ｍ／ｓ）以下であることがさらに好ましい。気流１０５の流速が０．１５７（ｍ／ｓ）の場合には、気流１０５が気化した溶剤を含むことによって、気流１０５の均一化およびモスアイ用型１００の表面の均一化が、より効果的に行われたことが分かる。気流１０５の流速が０．０１（ｍ／ｓ）の実験例では、流速が小さく、気流１０５が均一にならなかったと考えられる。気流１０５の流速が０．４７１（ｍ／ｓ）の実験例では、流速が大きいことによって、気流１０５に乱れが生じたと考えられる。
【０１０８】
上述した気流１０５の流速の好ましい範囲、０．０１６（ｍ／ｓ）以上０．１５７（ｍ／ｓ）以下、と同じ範囲のモスアイ用型１００の回転速度（ｍ／ｓ）を、回転速度（ｒｐｍ）に換算すると、１ｒｐｍ以上１０ｒｐｍ以下である。これは、モスアイ用型１００の底面の直径を１００ｄ（ｍ）とすると、（π×１００ｄ）／６０（ｍ／ｓ）以上（π×１００ｄ）／６（ｍ／ｓ）以下（すなわち、０．０５×１００ｄ（ｍ／ｓ）以上０．５２×１００ｄ（ｍ／ｓ）以上）に相当する。すなわち、気流１０５の流速およびモスアイ用型１００の回転速度は、同じオーダーの大きさであることが好ましいことが分かった。例えば、気流１０５の流速およびモスアイ用型１００の回転速度は、同じ大きさであってもよい。この理由について、本発明者は以下のように考察した。
【０１０９】
気流１０５の流速ｖf（ｍ／ｓ）とモスアイ用型１００の回転速度ｖr（ｍ／ｓ）との合成からなる総速度ｖt（ｍ／ｓ）を考える。気流１０５の流速ｖfとモスアイ用型１００の回転速度ｖrとは、向きが互いに直交しているとする。従って、ｖt2＝ｖf2＋ｖr2の関係が成り立つ。離型剤が乾燥する速さは、ｖtに依存する（例えばｖtに比例する）と考えられる。
【０１１０】
気流１０５の流速ｖfとモスアイ用型１００の回転速度ｖrとの関係について考えるために、極端な例として２つの場合を考える。（ｉ）下記式（１−１）〜（１−３）で表される場合と、（ｉｉ）下記式（２−１）〜（２−３）で表される場合とを考える。
【０１１１】
【数１】
2016199764.tif 000004
【０１１２】
【数２】
2016199764.tif 000005
【０１１３】
（ｉ）と（ｉｉ）とで、ｖtの値が同じになるように、（ｉｉ）におけるｖfの係数を決定した（式（２−１））。これらの場合において、流速ｖfに変化が生じたときの、総速度ｖtの変化量の絶対値を比較する。
【０１１４】
流速ｖfがａｖfに変化したとする。ａは、０超の実数である。０＜ａ＜１の場合は、流速ｖfが減少したことを表し、ａ＞１の場合は、流速ｖfが増加したことを表す。ａ＝１の場合は、流速ｖfに変化はない。それぞれの場合における総速度ｖtの変化量の絶対値は、（ｉ）の場合は下記式（３）で、（ｉｉ）の場合は下記式（４）で、それぞれ表される。
【０１１５】
【数３】
2016199764.tif 000006
【０１１６】
ＡとＢとの差をプロットしたグラフを図３に示す。図３から分かるように、常にＢの方がＡよりも大きい（常にＡの方がＢよりも小さい）。つまり、（ｉ）の場合の方が、（ｉｉ）の場合よりも、総速度ｖtの変化量が常に小さい。従って、（ｉ）の場合の方が、（ｉｉ）の場合よりも、流速ｖfに変化が生じたときの、総速度ｖtの変化量が小さく、離型剤の乾燥速度が均一に保たれ易いと考えられる。
【０１１７】
以上のように、気流１０５の流速およびモスアイ用型１００の回転速度が同じオーダーの大きさであることが好ましい理由について、考察され得る。ただし、上記は本発明者の考察であり、本発明を限定するものではない。
【０１１８】
次に、図４を参照して、モスアイ用型の製造工程を説明する。図４（ａ）〜（ｅ）は、モスアイ用型の製造方法を説明するための模式的な断面図である。なお、以下では、基板１６と、基板１６上に堆積されたアルミニウム膜１８とを有するアルミニウム基材１０を用いて陽極酸化およびエッチングを行うことにより平板状のモスアイ用型を作製する場合を例示する。
【０１１９】
まず、図４（ａ）に示すように、アルミニウム基材１０を用意する。アルミニウム基材１０は、基板１６と、基板１６上に堆積されたアルミニウム膜１８とを有する。
【０１２０】
次に、図４（ｂ）に示すように、基材１０の表面（アルミニウム膜１８の表面１８ｓ）を陽極酸化することによって複数の細孔１４ｐ（微細な凹部）を有するポーラスアルミナ層１４を形成する。ポーラスアルミナ層１４は、細孔１４ｐを有するポーラス層と、バリア層とを有している。ポーラスアルミナ層１４は、例えば、酸性の電解液中で表面１８ｓを陽極酸化することによって形成される。ポーラスアルミナ層１４を形成する工程で用いられる電解液は、例えば、蓚酸、酒石酸、燐酸、クロム酸、クエン酸およびリンゴ酸からなる群から選択される酸を含む水溶液である。例えば、アルミニウム膜１８の表面１８ｓを、蓚酸水溶液（濃度０．０６ｗｔ％、液温５℃）を用いて、印加電圧８０Ｖで３０秒間陽極酸化を行うことにより、ポーラスアルミナ層１４を形成する。陽極酸化条件（例えば、電解液の種類、印加電圧）を調整することにより、細孔間隔、細孔の深さ、細孔の形状等を調節できる。なお、ポーラスアルミナ層の厚さは適宜変更され得る。アルミニウム膜１８を完全に陽極酸化してもよい。
【０１２１】
次に、図４（ｃ）に示すように、ポーラスアルミナ層１４をアルミナのエッチャントに接触させることによって所定の量だけエッチングすることにより細孔１４ｐの孔径を拡大する。ここで、ウェットエッチングを採用することによって、細孔壁およびバリア層をほぼ等方的にエッチングすることができる。エッチング液の種類・濃度、およびエッチング時間を調整することによって、エッチング量（すなわち、細孔１４ｐの大きさおよび深さ）を制御することができる。エッチング液としては、例えば１０質量％の燐酸や、蟻酸、酢酸、クエン酸などの有機酸の水溶液やクロム燐酸混合水溶液を用いることができる。例えば、燐酸（濃度１ｍｏｌ／Ｌ、液温３０℃）を用いて２５分間エッチングを行うことにより、細孔１４ｐを拡大する。
【０１２２】
次に、図４（ｄ）に示すように、再び、アルミニウム膜１８を部分的に陽極酸化することにより、細孔１４ｐを深さ方向に成長させるとともにポーラスアルミナ層１４を厚くする。ここで細孔１４ｐの成長は、既に形成されている細孔１４ｐの底部から始まるので、細孔１４ｐの側面は階段状になる。
【０１２３】
さらにこの後、必要に応じて、ポーラスアルミナ層１４をアルミナのエッチャントに接触させることによってさらにエッチングすることにより細孔１４ｐの孔径をさらに拡大する。エッチング液としては、ここでも上述したエッチング液を用いることが好ましく、現実的には、同じエッチング液を用いればよい。
【０１２４】
このように、上述した陽極酸化工程およびエッチング工程を繰り返すことによって、図４（ｅ）に示すように、所望の凹凸形状を有するポーラスアルミナ層１４を有するモスアイ用型１００が得られる。この後、モスアイ用型１００は、例えば実施形態１または実施形態２の離型処理方法により離型処理が施された後に、反射防止膜の製造に用いられる。
【０１２５】
なお、上記では、基板１６と、基板１６上に堆積されたアルミニウム膜１８とを有するアルミニウム基材１０を用いて、平板状のモスアイ用型を作製する場合を例に説明したが、ロール状のモスアイ用型は、例えばロール状の支持体（例えばステンレス鋼製の管）と、ロール状の支持体上に形成されたアルミニウム膜とを有するアルミニウム基材を用いて陽極酸化およびエッチングを行うことにより、作製することができる。また、ロール状のモスアイ用型は、基板１６として可撓性を有する高分子フィルムを用いて、高分子フィルム上にアルミニウム膜を形成し、アルミニウム膜の表面を陽極酸化することによりポーラスアルミナ層を形成した後、高分子フィルムを、ロール状の支持体の外周面に固定することによっても作製することができる。
【０１２６】
次に、図５を参照して、本発明による実施形態の反射防止膜の製造方法を説明する。図５は、ロール・ツー・ロール方式により反射防止膜を製造する方法を説明するための模式的な断面図である。
【０１２７】
本発明の実施形態による反射防止膜の製造方法は、上記のいずれかの離型処理方法によって離型処理が施された型を用意する工程と、被加工物を用意する工程と、前記型と前記被加工物の表面との間に光硬化樹脂を付与した状態で、前記光硬化樹脂に光を照射することによって前記光硬化樹脂を硬化させる工程と、前記型から、硬化させられた光硬化樹脂で形成された反射防止膜を剥離する工程とを包含する。
【０１２８】
被加工物として、ロール状のフィルムを用いると、ロール・ツー・ロール方式で、反射防止膜を製造することができる。フィルムは、ベースフィルムと、ベースフィルム上に形成されたハードコート層とを有し、反射防止膜は、ハードコート層の上に形成されていることが好ましい。ベースフィルムとしては、例えば、ＴＡＣ（トリアセチルセルロース）フィルムを好適に用いることができる。ハードコート層としては、例えば、アクリル系のハードコート材料を用いることができる。
【０１２９】
まず、ロール状のモスアイ用型１００を用意する。例えば実施形態１または実施形態２の離型処理方法により離型処理が施されたモスアイ用型１００を用意する。
【０１３０】
次に、図５に示すように、紫外線硬化樹脂３２’が表面に付与された被加工物４２を、モスアイ用型１００に押し付けた状態で、紫外線硬化樹脂３２’に紫外線（ＵＶ）を照射することによって紫外線硬化樹脂３２’を硬化する。紫外線硬化樹脂３２’としては、例えばアクリル系樹脂を用いることができる。被加工物４２は、例えば、ＴＡＣ（トリアセチルセルロース）フィルムである。被加工物４２は、図示しない巻き出しローラから巻き出され、その後、表面に、例えばスリットコータ等により紫外線硬化樹脂３２’が付与される。被加工物４２は、図５に示すように、支持ローラ４６および４８によって支持されている。支持ローラ４６および４８は、回転機構を有し、被加工物４２を搬送する。また、ロール状のモスアイ用型１００は、被加工物４２の搬送速度に対応する回転速度で、図５に矢印で示す方向に回転される。
【０１３１】
その後、被加工物４２からモスアイ用型１００を分離（剥離）することによって、モスアイ用型１００の凹凸構造（反転されたモスアイ構造）が転写された硬化物層３２が被加工物４２の表面に形成される。表面に硬化物層３２が形成された被加工物４２は、図示しない巻き取りローラにより巻き取られる。
【０１３２】
なお、反射防止性能の優れた反射防止膜を形成するためには、モスアイ用型１００の細孔１４ｐは、表面の法線方向から見たときの２次元的な大きさが１０ｎｍ以上５００ｎｍ未満であることが好ましく（上記特許文献１、２および４）、５０ｎｍ以上５００ｎｍ未満であることがさらに好ましい。
【０１３３】
以上、モスアイ用型に離型処理をする場合を例に説明したが、本発明による実施形態の離型処理方法は、モスアイ用型以外の、表面にポーラスアルミナ層を有する型の離型処理にも用いることができる。例えば、フォトニック結晶を形成する型の離型処理に用いることができる。
【０１３４】
上記では、モスアイ構造を有する表面を備える膜として、反射防止膜を例示したが、本発明の実施形態による型は、これに限られず、モスアイ構造を有する表面を備える膜の製造に広く適用され得る。
【０１３５】
また、上記では、モスアイ構造を形成するためのモスアイ用型を例示したが、本発明の実施形態による型は、これに限られず、例えば先端が尖っていない凸部（例えばナノピラー）などを形成するための型に広く用いることができる。すなわち、本発明の実施形態による型が表面に有するミクロな凹部の形状は、略円錐に限られず、例えば略円錐台であってもよいし、略円柱であってもよい。ミクロな凹部の底部は、点に限られず、例えば丸みを帯びていてもよいし、平面であってもよい。ミクロな凹部の開口部の形状は、円に限られず、例えば矩形状であってもよい。また、複数のミクロな凹部は、規則的に配置されていてもよいし、不規則に（ランダムに）配置されていてもよい。
【産業上の利用可能性】
【０１３６】
本発明による離型処理方法は、反射防止膜、フォトニック結晶等の形成のための型の離型処理方法として用いることができる。
【符号の説明】
【０１３７】
１４    ポーラスアルミナ層
５０    離型処理装置
５２    カバー
５２ａ  第１開口
５２ｂ  第２開口
５３    フィルタ
５４    ＨＥＰＡフィルタ
５５    気流供給装置
５６    台座
５７    モータ
５７ｄ    駆動軸
５８    回転支持構造体
１００    モスアイ用型
１０５    気流
【図１】
2016199764.tif 000007
【図２】
2016199764.tif 000008
【図３】
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【図４】
2016199764.tif 000010
【図５】
2016199764.tif 000011
【図６】
2016199764.tif 000012
【国際調査報告】
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2016199764.tif 000014
2016199764.tif 000015
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