(57)【要約】  本発明は、不活性ガス雰囲気下で、炭酸ナトリウムの存在下でジメチルスルホキシドを含む液体を蒸留してジメチルスルホキシドを留出させるジメチルスルホキシドの精製方法であって、蒸留後の残液中の純分量のジメチルスルホキシド１００ｇに対する炭酸ナトリウムの量が、蒸留前のジメチルスルホキシドを含む液体中の純分量のジメチルスルホキシド１００ｇに対する炭酸ナトリウムの量の６倍以上であるジメチルスルホキシドの精製方法である。  本発明のジメチルスルホキシドの精製方法は、蒸留後の留出液（本留と前留）のみならず、蒸留後の残液においても、ジメチルスルホキシドの分解が少ない。蒸留後の残液、あるいは、蒸留中の液中においても、ジメチルスルホキシドの分解が少ないので、蒸留により高純度のジメチルスルホキシドを得ることができる。【特許請求の範囲】
【請求項１】
不活性ガス雰囲気下で、炭酸ナトリウムの存在下でジメチルスルホキシドを含む液体を蒸留してジメチルスルホキシドを留出させるジメチルスルホキシドの精製方法であって、蒸留後の残液中の純分量のジメチルスルホキシド１００ｇに対する炭酸ナトリウムの量が、蒸留前のジメチルスルホキシドを含む液体中の純分量のジメチルスルホキシド１００ｇに対する炭酸ナトリウムの量の６倍以上であるジメチルスルホキシドの精製方法。
【請求項２】
蒸留開始時に、ジメチルスルホキシドを含む液体中の純分量のジメチルスルホキシド１００ｇに対し、炭酸ナトリウムを、０．０００５ｇ〜１．０ｇ添加して蒸留する請求項１に記載のジメチルスルホキシドの精製方法。
【請求項３】
蒸留後の残液中の純分量のジメチルスルホキシド１００ｇに対する炭酸ナトリウムの量が、蒸留前のジメチルスルホキシドを含む液体中の純分量のジメチルスルホキシド１００ｇに対する炭酸ナトリウムの量の６倍以上１０００倍以下である請求項１に記載のジメチルスルホキシドの精製方法。
【請求項４】
蒸留後の残液中の炭酸ナトリウムの量が、蒸留後の残液中の純分量のジメチルスルホキシド１００ｇに対し、０．０１ｇ〜１００ｇである請求項１に記載のジメチルスルホキシドの精製方法。
【請求項５】
ジメチルスルホキシドを含む液体中の水を前留として留出させた後、本留としてジメチルスルホキシドを蒸留する請求項１〜４のいずれか１項に記載のジメチルスルホキシドの精製方法。
【請求項６】
精製されたジメチルスルホキシドの純度が９９．９９０面積％以上である請求項１〜５のいずれか１項に記載のジメチルスルホキシドの精製方法。
【請求項７】
炭酸ナトリウムを、ジメチルスルホキシドの分解抑制剤として使用する請求項１〜６のいずれか１項に記載のジメチルスルホキシドの精製方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）の精製方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
ジメチルスルホキシドは、ポリマーの重合や紡糸溶剤として工業的に幅広く使用されている。また、一旦使用したジメチルスルホキシドの回収再利用は工業的に広く行われており、加熱蒸留して精製する工程が必要である。【０００３】
しかし、ジメチルスルホキシドは熱的に比較的不安定であって常圧で蒸留すれば若干分解することが知られている。蒸留により、ジメチルスルホキシドの製造または回収再利用を行う時に、一部分解した分解生成物がジメチルスルホキシドに混じると、ジメチルスルホキシドの溶媒としての能率を低下させる。そこで、ジメチルスルホキシドを蒸留する場合は減圧にして、１００℃以下で行なう例が多い。【０００４】
ジメチルスルホキシドを、例えば、１１０℃以上の高温で蒸留できれば、蒸留時に高真空を必要とせず、さらに、減圧装置に負荷がかからないので、蒸留設備が簡便となり、工業的に好ましい。【０００５】
従来、ジメチルスルホキシドの分解抑制剤として、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどの金属水酸化物を添加する方法（特許文献１、２、３参照）が知られている。水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどの添加量は、０．００３〜０．５％に限定され、添加量が１％以上になるとジメチルスルホキシドの分解が促進される。【０００６】
特許文献１には、１５０℃、１０時間加熱後のホルムアルデヒドとして定量される分解物の量は、金属水酸化物が無添加の場合は、０．０３２％に対して、水酸化カリウムを１％添加した場合は、０．０５４％、水酸化ナトリウムを１％添加した場合は、０．０５２％であった。【０００７】
ジメチルスルホキシドを蒸留して精製する時、精製されたジメチルスルホキシドは、蒸留により、系外に留出される。また、ジメチルスルホキシドを含む液体に含まれる水や、ジメチルスルホキシドより低沸点の溶媒、重合における未反応のモノマー、ジメチルスルホキシドの分解物などの不純物は、蒸留により、系外に留出される。この結果、ジメチルスルホキシドの分解抑制剤として、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどの金属水酸化物を添加した場合、ジメチルスルホキシドを蒸留して精製するに従い、精製中の蒸留塔の底部には、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどの金属水酸化物が残存し、蒸留後の残液に含まれる金属水酸化物の濃度が増加する。ジメチルスルホキシドを蒸留する場合には、金属水酸化物を低濃度で添加しても、ジメチルスルホキシドが留去されて金属水酸化物が１％以上になると、むしろ、ジメチルスルホキシドの分解が促進され、ジメチルスルホキシドの分解物が蒸留されたジメチルスルホキシドに混入して純度が低くなるという問題があった。【０００８】
ジメチルスルホキシドを蒸留精製する時に、安全に、例えば、１１０℃以上の高温で、かつ、分解抑制剤が高濃度となっても、高純度のジメチルスルホキシドを得ることができるジメチルスルホキシドの精製方法が求められていた。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００９】
【特許文献１】特公昭４３−３７６５号公報
【特許文献２】特公昭３８−２０７２１号公報
【特許文献３】特開２０１５−１４５３５９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
本発明の目的は、このような問題点を解消して、高純度のジメチルスルホキシドを得るジメチルスルホキシドの精製方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明は、不活性ガス雰囲気下で、炭酸ナトリウムの存在下でジメチルスルホキシドを含む液体を蒸留してジメチルスルホキシドを留出させるジメチルスルホキシドの精製方法であって、蒸留後の残液中の純分量のジメチルスルホキシド１００ｇに対する炭酸ナトリウムの量が、蒸留前のジメチルスルホキシドを含む液体中の純分量のジメチルスルホキシド１００ｇに対する炭酸ナトリウムの量の６倍以上であるジメチルスルホキシドの精製方法である。
【発明の効果】
【００１２】
本発明のジメチルスルホキシドの精製方法は、炭酸ナトリウムが低濃度から高濃度になってもジメチルスルホキシドの分解を抑制し、蒸留により高純度のジメチルスルホキシドを得ることができる。【００１３】
本発明のジメチルスルホキシドの精製方法は、蒸留後の留出液（本留と前留）のみならず、蒸留後の残液においても、ジメチルスルホキシドの分解が少ない。蒸留後の残液、あるいは、蒸留中の液中においても、ジメチルスルホキシドの分解が少ないので、蒸留により高純度のジメチルスルホキシドを得ることができる。【００１４】
本発明のジメチルスルホキシドの精製方法は、蒸留後の留出液（本留と前留）と、蒸留後の残液を混合した液体のジメチルスルホキシドの純度から算出したジメチルスルホキシドの分解量が少ない。このことから、本発明のジメチルスルホキシドの精製方法において用いる炭酸ナトリウムは、ジメチルスルホキシドの分解を効果的に抑制する。【００１５】
本発明のジメチルスルホキシドの精製方法は、高温で蒸留できるので高真空設備が不要であり、低コストで精製できる。炭酸ナトリウムは安全であり、危険物を使用する従来の精製方法に比較して、安全に作業を行うことができる。【００１６】
本発明のジメチルスルホキシドの精製方法により得られたジメチルスルホキシドは、ポリアクリロニトリル、セルロース、ポリイミド、ポリスルホン、ポリウレタンなどのポリマーの重合や紡糸工程の溶剤、電子材料のフォトレジストの剥離液、医農薬の合成の溶剤、レンズモールドなどの剥離・洗浄液または塗料の剥離液として利用できる。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
本発明は、不活性ガス雰囲気下で、炭酸ナトリウムの存在下でジメチルスルホキシドを含む液体を蒸留してジメチルスルホキシドを留出させるジメチルスルホキシドの精製方法であって、蒸留後の残液中の純分量のジメチルスルホキシド１００ｇに対する炭酸ナトリウムの量が、蒸留前のジメチルスルホキシドを含む液体中の純分量のジメチルスルホキシド１００ｇに対する炭酸ナトリウムの量の６倍以上であるジメチルスルホキシドの精製方法である。
【００１８】
炭酸ナトリウムは、無水物でも水和物でも良く、水和物としては容易に入手可能な１水和物、または、１０水和物が好ましい。
【００１９】
炭酸ナトリウムは、粉末、固体のまま添加しても良いし、水溶液として添加しても良い。水溶液として添加する場合、蒸留装置に、自動で連続的に、均一濃度で投入できるので安全上好ましい。炭酸ナトリウムを水溶液にする場合の濃度は、使用する温度で飽和する濃度まで上げることができる。炭酸ナトリウムを水溶液として添加する場合、炭酸ナトリウムの添加量は、水１００ｇに対して、好ましくは、０．１〜３５ｇであり、より好ましくは、０．２〜３０ｇである。さらにより好ましくは、１〜３０ｇである。最も好ましくは、１０〜２５ｇである。
【００２０】
炭酸ナトリウムの水１００ｇへの溶解度は２０℃で２２ｇと大きいので、蒸留して炭酸ナトリウムの濃度が高くなり、炭酸ナトリウムの結晶が析出した場合、塔内の結晶を水で洗浄して除去する際にも水への溶解度が高いので容易に除去できる。
【００２１】
本発明において、ジメチルスルホキシドを含む液体は、不純物を含まないジメチルスルホキシド１００％の液体でもよい。また、本発明において、ジメチルスルホキシドを含む液体は、微量または少量の不純物を含む液体でもよい。さらに、本発明において、ジメチルスルホキシドを含む液体は、多量のジメチルスルホキシド以外の液体を含んでもよい。
【００２２】
本発明において、不純物を蒸留して除去するのにコストがかかるので、蒸留前のジメチルスルホキシドを含む液体は、好ましくは、純分量のジメチルスルホキシドを、１０重量％以上含む。本発明における純分量のジメチルスルホキシドとは、純度１００％のジメチルスルホキシドである。蒸留前のジメチルスルホキシドを含む液体は、より好ましくは、純分量のジメチルスルホキシドを、２０重量％以上含み、さらに、より好ましくは、純分量のジメチルスルホキシドを、３０〜１００重量％含む。
【００２３】
蒸留前のジメチルスルホキシドを含む液体は、ジメチルスルホキシド以外に水を含んでも良い。蒸留前のジメチルスルホキシドを含む液体中の水の量は、液中の純分量のジメチルスルホキシド１００ｇに対して、好ましくは、０．０１ｇから９００ｇである。より好ましくは、０．１ｇから４００ｇ含み、さらに好ましくは、１ｇから２５０ｇであり、さらに、より好ましくは、５ｇから１００ｇである。
【００２４】
ジメチルスルホキシドを含む液体中に樹脂成分、不溶物、濃縮時にゲル化しやすい成分、酸や強アルカリ、ジメチルスルホキシドと反応する成分などの蒸留時に妨害となるような不純物などが混じっている場合は、事前にろ過、吸着分離、活性炭、イオン交換樹脂、塩基の添加などにより、除去、分離、不活性化、中和しておくことが好ましい。
【００２５】
ジメチルスルホキシドを含む液体に分解抑制剤を添加して蒸留精製する時、精製されたジメチルスルホキシドは、蒸留により、系外に留出される。また、ジメチルスルホキシドを含む液体に含まれる水分や、ジメチルスルホキシドより低沸点の溶媒、重合における未反応のモノマー、ジメチルスルホキシドの分解物などの不純物は、蒸留により、系外に留出される。この結果、ジメチルスルホキシドを蒸留して精製するに従い、精製中の蒸留塔の底部には、分解抑制剤が残存し、蒸留中の残液の分解抑制剤の濃度が増加する。分解抑制剤として水酸化ナトリウムや炭酸カリウムを用いた場合は、低濃度で添加しても、ジメチルスルホキシドが留去されて高濃度になると、むしろ、ジメチルスルホキシドの分解が促進され、ジメチルスルホキシドの分解物が蒸留されたジメチルスルホキシドに混入してジメチルスルホキシドの純度が低くなる。
【００２６】
一方、炭酸ナトリウムは、ジメチルスルホキシドが留去されて高濃度になっても、ジメチルスルホキシドの分解を抑制するため、高純度のジメチルスルホキシドを得ることができる。
【００２７】
本発明において、蒸留開始時に、炭酸ナトリウムを添加する量は、液中の純分量のジメチルスルホキシド１００ｇに対して、好ましくは、０．０００５ｇから１．０ｇであり、０．００１ｇから０．５ｇがより好ましい。
【００２８】
本発明では、蒸留後の残液中の純分量のジメチルスルホキシド１００ｇに対する炭酸ナトリウムの量が、蒸留前のジメチルスルホキシドを含む液体中の純分量のジメチルスルホキシド１００ｇに対する炭酸ナトリウムの量の６倍以上である。
【００２９】
本発明における蒸留後の残液とは、ジメチルスルホキシドを含む液体を蒸留設備で蒸留を行い、蒸留終了時に蒸留塔の底部またはフラスコ内に蒸留されずに残ったジメチルスルホキシドを含む液のことを示す。
【００３０】
本発明では、攪拌できる限り、蒸留後の残液中の炭酸ナトリウムの濃度を高くすることができる。
【００３１】
蒸留後の残液中の純分量のジメチルスルホキシド１００ｇに対する炭酸ナトリウムの量が、蒸留前のジメチルスルホキシドを含む液体中の純分量のジメチルスルホキシド１００ｇに対する炭酸ナトリウムの量の６倍未満では、ジメチルスルホキシドの回収率が低いので、ジメチルスルホキシドを精製するコストがアップする。
【００３２】
本発明では、蒸留後の残液中の純分量のジメチルスルホキシド１００ｇに対する炭酸ナトリウムの量が、蒸留前のジメチルスルホキシドを含む液体中の純分量のジメチルスルホキシド１００ｇに対する炭酸ナトリウムの量の、６倍以上１０００倍以下が好ましく、１０倍以上５００倍以下がより好ましく、２０倍以上２００倍以下がさらに好ましい。
【００３３】
蒸留後の炭酸ナトリウムの量は、蒸留後の残液中の純分量のジメチルスルホキシド１００ｇに対して、０．０１ｇから１００ｇまで濃縮することが好ましく、０．１ｇから８５ｇまで濃縮することがより好ましい。蒸留後の炭酸ナトリウムの量が１００ｇ以上の場合は、蒸留塔の底部に残液のスラリーが固化して攪拌しにくくなる恐れがある。
【００３４】
本発明においてジメチルスルホキシドを含む液体に炭酸ナトリウムを添加するタイミングは、蒸留を行う前から添加しても良いし、ジメチルスルホキシドよりも沸点の低い不純物を留去した後に添加して蒸留しても良い。また、蒸留後に析出した炭酸ナトリウムは、廃棄処理しても良いし、回収再利用しても良い。
【００３５】
本発明では、不活性ガス雰囲気下でジメチルスルホキシドを蒸留する。不活性ガス雰囲気とは、窒素、二酸化炭素、ヘリウム、アルゴン雰囲気を意味し、１種類の気体で構成されても、２種類以上の気体の混合ガスでもよい。不活性ガス雰囲気下は、窒素雰囲気が好ましい。空気下で蒸留した場合は、ジメチルスルホキシドが分解しやすい。
【００３６】
本発明では、不活性ガス雰囲気下で、かつ、常圧から減圧でジメチルスルホキシドを蒸留することがより好ましい。除去したい不純物とジメチルスルホキシドの沸点差が小さい場合には、減圧度をあまり下げないで、不純物とジメチルスルホキシドの沸点の差を大きくすることで、不純物の除去が容易になる。
【００３７】
本発明では、常圧で蒸留する場合、蒸留時の温度は、好ましくは、１６０℃以上２００℃以下、より好ましくは、１７０℃以上１９５℃以下、さらにより好ましくは、１８０℃以上１９４℃以下、さらに、これより好ましくは、１８９℃以上１９３℃以下であり、装置に負荷がかからず、蒸留設備も簡便であり工業的に好ましい。
【００３８】
本発明では、減圧で蒸留する場合、好ましくは、１０〜７５０Ｔｏｒｒ、より好ましくは、１５〜７３０Ｔｏｒｒで蒸留する。
【００３９】
本発明では、減圧で蒸留する場合、蒸留時の温度は、好ましくは、１０８℃以上１８０℃以下、より好ましくは、１２０℃以上１７０℃以下、さらにより好ましくは、１３１℃以上１６０℃以下である。
【００４０】
本発明では、ジメチルスルホキシドの純度は、キャピラリーカラムを使用したガスクロマトグラフィーを用いる。
【００４１】
本発明において精製されたジメチルスルホキシドの純度は、キャピラリーカラムを使用したガスクロマトグラフィーで分析し面積％で表して、好ましくは、９９．９９０％以上であり、より好ましくは、９９．９９１％以上、さらにより好ましくは、９９．９９２％以上である。
【００４２】
本発明では、ジメチルスルホキシドの分解量（面積％）を下記のように定義する。蒸留前のジメチルスルホキシドを含む液体を、「仕込み液」と定義する。蒸留後の留出液（本留及び、前留がある場合は前留も含む）と蒸留後の残液を混合した液体を、「蒸留後混合液」と定義する。仕込み液、蒸留後混合液のそれぞれのジメチルスルホキシドのガスクロマトグラフィーで測定した純度（面積％）を測定し、下記の計算式で
ジメチルスルホキシドの分解量（面積％）  ＝  
仕込み液の純度（面積％）  −  蒸留後混合液の純度（面積％）  
ジメチルスルホキシドの分解量を求めた。
【００４３】
本発明では、ジメチルスルホキシドの分解量は、０．００９面積％以下が好ましく、０．００８面積％以下がより好ましく、０．００７面積％以下がさらにより好ましい。
【００４４】
本発明のジメチルスルホキシドの精製方法では、蒸留は、バッチ式蒸留、連続式蒸留のいずれにも適応でき、蒸留塔は単一塔でも、複合塔でも、２塔以上の蒸留塔を組み合わせても良い。連続式蒸留を行う場合は、炭酸ナトリウム水溶液を蒸留塔の前に連続的に供給することが好ましい。
【００４５】
本発明では、蒸留塔の理論段数は、１〜５０段の蒸留塔で行うことが好ましく、さらに好適には３〜４０段の蒸留塔が好ましい。
【００４６】
本発明において、ジメチルスルホキシドを含む液体は、ジメチルスルフィドの酸化等により合成する工程で得られたジメチルスルホキシドを含む反応液、ポリアクリロニトリル、セルロース、ポリイミド、ポリスルホン、ポリウレタンなどのポリマーの重合や紡糸工程で使用したジメチルスルホキシドを含む廃液、電子材料のフォトレジストの剥離液として使用したジメチルスルホキシドを含む廃液、医農薬の合成の溶剤として使用したジメチルスルホキシドを含む廃液、レンズモールドなどの剥離・洗浄液として使用したジメチルスルホキシドを含む廃液または塗料の剥離液として使用したジメチルスルホキシドを含む廃液などであってもよい。
【実施例】
【００４７】
以下、実施例により本発明を具体的に説明する。本発明の実施例などで用いる各種の測定値は以下の測定法により測定した。【００４８】
（１）ジメチルスルホキシドの純度（面積％）
以下の条件のガスクロマトグラフィー法により測定した。【００４９】
・使用機器  島津製作所ＧＣ−２０１０（ＦＩＤ）
・カラム  ＤＢ−ＷＡＸ  ０．２５ｍｍ×６０ｍ、膜厚 ０．２５μｍ
・キャリアガス  Ｈｅ  １６５．７ｋＰａ
・カラム昇温条件  ３５℃ → ７℃／分 → １４０℃×１０分 → １５℃／分 →２５０℃×１０分
・注入口温度  ２００℃
・検出器温度  ２５０℃
・ＦＩＤ    Ａｉｒ        ４００ｍｌ／ｍｉｎ
Ｈ２          ４０ｍｌ／ｍｉｎ
メークアップ  ３０ｍｌ／ｍｉｎ
・スプリット比  １４
・分析サンプル調製  サンプルを０．５μｍのＰＴＦＥ製シリンジフィルターでろ過した。
・注入量   １．０μｌ  。【００５０】
（２）ジメチルスルホキシドの分解量（面積％）
（１）と同様の方法で、蒸留前のジメチルスルホキシドを含む液体（仕込み液）及び、蒸留後の留出液（本留及び、前留がある場合は前留も含む）と蒸留後の残液を混合した液体（蒸留後混合液）について、ジメチルスルホキシドの純度（面積％）を測定し、下記の計算式で
ジメチルスルホキシドの分解量（面積％）  ＝  
仕込み液の純度（面積％）  −  蒸留後混合液の純度（面積％）  
ジメチルスルホキシドの分解量を求めた。【００５１】
（３）添加剤の量
蒸留前の添加剤の量は、ジメチルスルホキシドを含む液体中の純分量のジメチルスルホキシド１００ｇに対する添加剤の量である。（１）のジメチルスルホキシドのガスクロマトグラフィー測定は、水や添加剤は検出されない。仕込み液中の純分量のジメチルスルホキシドの量は、全液量から水と添加剤の量を差し引いたものに仕込み液のジメチルスルホキシドの純度を掛けて求めた。【００５２】
蒸留後の添加剤の量は、蒸留後の残液中の純分量のジメチルスルホキシド１００ｇに対する添加剤の量である。蒸留後の残液中の純分量のジメチルスルホキシドの量は、フラスコ内の残液量から水と添加剤の量を差し引いたものに残液のジメチルスルホキシドの純度を掛けて求めた。【００５３】
（４）蒸留前後の添加剤の濃縮率
下記の計算式で
蒸留前後の添加剤の濃縮率＝（蒸留後の残液中の純分量のジメチルスルホキシド１００ｇに対する添加剤の量（ｇ））／（蒸留前のジメチルスルホキシドを含む液体中の純分量のジメチルスルホキシド１００ｇに対する添加剤の量（ｇ））      
求めた。【００５４】
（実施例１）
単蒸留操作に必要なジムロートコンデンサー、留出液用の受器、攪拌機、温度計を備えた１Ｌ４つ口フラスコにジメチルスルホキシド（純度９９．９９７面積％）７２０ｇ（純分量のジメチルスルホキシドは、７１９．９８ｇ）、イオン交換水８０ｇ、添加剤として炭酸ナトリウム０．００７２ｇ（純分量のジメチルスルホキシド１００ｇに対して０．００１ｇ）を仕込んだ。窒素でフラスコ内を置換した後、ジムロートコンデンサーの上部に窒素を充填したゴム風船を取り付け密閉状態にした。２００℃のオイルバスで加熱し、留出開始した時点をスタートとした。前留として水を含む１００ｍｌを留出させた後、本留操作としてオイルバスの温度を２３０℃に上げて、フラスコ内の残液量が８ｇ（残液中の水の量０．０ｇ）、蒸留後の添加剤の量が純分量のジメチルスルホキシド１００ｇに対して０．０９ｇになるまで留出させた。スタートからの加熱時間は３時間であった。【００５５】
本留のジメチルスルホキシドの純度は、表１に示したように、９９．９９７面積％であり、高純度のジメチルスルホキシドが得られた。【００５６】
残液のジメチルスルホキシドの純度は、表１に示したように、９９．９０３面積％であった。前留操作で１４７〜１７０℃（フラスコ内温）、本留操作で１７０〜１９１℃（フラスコ内温）で３時間加熱しても、ジメチルスルホキシドは、ほとんど分解しなかった。残液中の炭酸ナトリウムの量は、残液中の純分量のジメチルスルホキシド１００ｇに対して０．０９ｇであるので、炭酸ナトリウムは、ジメチルスルホキシドの蒸留により、９０倍に濃縮された。【００５７】
表１に示したように、蒸留後の留出液（本留及び前留）と蒸留後の残液を混合した液体（蒸留後混合液）のジメチルスルホキシドの純度は、９９．９９４面積％、分解量は、０．００３％であり、極めて少なかった。【００５８】
（実施例２）
単蒸留操作に必要なジムロートコンデンサー、留出液用の受器、攪拌機、温度計を備えた１Ｌ４つ口フラスコにジメチルスルホキシド（純度９９．９９７面積％）７２０ｇ（純分量のジメチルスルホキシドは、７１９．９８ｇ）、イオン交換水８０ｇ、添加剤として炭酸ナトリウム０．７２ｇ（純分量のジメチルスルホキシド１００ｇに対して０．１ｇ）を仕込んだ。窒素でフラスコ内を置換した後、ジムロートコンデンサーの上部に窒素を充填したゴム風船を取り付け密閉状態にした。２００℃のオイルバスで加熱し、留出開始した時点をスタートとした。前留として水を含む１００ｍｌを留出させた後、本留操作としてオイルバスの温度を２３０℃に上げて、フラスコ内の残液量が７２ｇ（残液中の水の量０．０ｇ）、蒸留後の添加剤の量が純分量のジメチルスルホキシド１００ｇに対して１ｇになるまで留出させた。スタートからの加熱時間は２．５時間であった。【００５９】
本留のジメチルスルホキシドの純度は、表１に示したように、９９．９９５面積％であり、高純度のジメチルスルホキシドが得られた。【００６０】
残液のジメチルスルホキシドの純度は、表１に示したように、９９．９６４面積％であった。前留操作で１４７〜１７０℃（フラスコ内温）、本留操作で１７１〜１９１℃（フラスコ内温）で２．５時間加熱しても、ジメチルスルホキシドは、ほとんど分解しなかった。残液中の炭酸ナトリウムの量は、残液中の純分量のジメチルスルホキシド１００ｇに対して１ｇであるので、炭酸ナトリウムは、ジメチルスルホキシドの蒸留により、１０倍に濃縮された。【００６１】
表１に示したように、蒸留後の留出液（本留及び前留）と蒸留後の残液を混合した液体（蒸留後混合液）のジメチルスルホキシドの純度は、９９．９９１面積％、分解量は、０．００６％であり、極めて少なかった。【００６２】
（実施例３）
単蒸留操作に必要なジムロートコンデンサー、留出液用の受器、攪拌機、温度計を備えた１Ｌ４つ口フラスコにジメチルスルホキシド（純度９９．９９７面積％）７２０ｇ（純分量のジメチルスルホキシドは、７１９．９８ｇ）、イオン交換水８０ｇ、添加剤として炭酸ナトリウム７.２ｇ（純分量のジメチルスルホキシド１００ｇに対して１ｇ）を仕込んだ。窒素でフラスコ内を置換した後、ジムロートコンデンサーの上部に窒素を充填したゴム風船を取り付け密閉状態にした。２００℃のオイルバスで加熱し、留出開始した時点をスタートとした。前留として水を含む１００ｍｌを留出させた後、本留操作としてオイルバスの温度を２３０℃に上げて、フラスコ内の残液量が１６ｇ（残液中の水の量０．０ｇ）、蒸留後の添加剤の量が純分量のジメチルスルホキシド１００ｇに対して８２ｇになるまで留出させた。スタートからの加熱時間は３時間であった。【００６３】
本留のジメチルスルホキシドの純度は、表１に示したように、９９．９９４面積％であり、高純度のジメチルスルホキシドが得られた。【００６４】
残液のジメチルスルホキシドの純度は、表１に示したように、９９．８９２面積％であった。前留操作で１４７〜１７０℃（フラスコ内温）、本留操作で１７０〜１９１℃（フラスコ内温）で３時間加熱しても、ジメチルスルホキシドは、ほとんど分解しなかった。残液中の炭酸ナトリウムの量は、残液中の純分量のジメチルスルホキシド１００ｇに対して８２ｇであるので、炭酸ナトリウムは、ジメチルスルホキシドの蒸留により、８２倍に濃縮された。【００６５】
表１に示したように、蒸留後の留出液（本留及び前留）と蒸留後の残液を混合した液体（蒸留後混合液）のジメチルスルホキシドの純度は、９９．９９２面積％、分解量は、０．００５％であり、極めて少なかった。【００６６】
（比較例１）
単蒸留操作に必要なジムロートコンデンサー、留出液用の受器、攪拌機、温度計を備えた１Ｌ４つ口フラスコに、添加剤を入れず、ジメチルスルホキシド（純度９９．９９７面積％）７２０ｇ（純分量のジメチルスルホキシドは、７１９．９８ｇ）、イオン交換水８０ｇを仕込んだ。窒素でフラスコ内を置換した後、ジムロートコンデンサーの上部に窒素を充填したゴム風船を取り付け密閉状態にした。２００℃のオイルバスで加熱し、留出開始した時点をスタートとした。前留として水を含む１００ｍｌを留出させた後、本留操作としてオイルバスの温度を２３０℃に上げて、フラスコ内の残液量が１１ｇ（残液中の水の量０．０ｇ）になるまで留出させた。スタートからの加熱時間は３時間であった。【００６７】
本留のジメチルスルホキシドの純度は、表１に示したように、９９．９８８面積％であり、ジメチルスルホキシドの純度が低下した。【００６８】
残液のジメチルスルホキシドの純度は、表１に示したように、９９．９２２面積％であった。表１に示したように、蒸留後の留出液（本留及び前留）と蒸留後の残液を混合した液体（蒸留後混合液）のジメチルスルホキシドの純度は、９９．９８７面積％、分解量は、０．０１０％であり、実施例１〜３より分解量が多かった。【００６９】
（比較例２）
単蒸留操作に必要なジムロートコンデンサー、留出液用の受器、攪拌機、温度計を備えた１Ｌ４つ口フラスコにジメチルスルホキシド（純度９９．９９７面積％）７２０ｇ（純分量のジメチルスルホキシドは、７１９．９８ｇ）、イオン交換水８０ｇ、添加剤として水酸化ナトリウムを０．１４４ｇ（純分量のジメチルスルホキシド１００ｇに対して０．０２ｇ）仕込んだ。窒素でフラスコ内を置換した後、ジムロートコンデンサーの上部に窒素を充填したゴム風船を取り付け密閉状態にした。２００℃のオイルバスで加熱し、留出開始した時点をスタートとした。前留として水を含む１００ｍｌを留出させた後、本留操作としてオイルバスの温度を２３０℃に上げて、フラスコ内の残液量が７ｇ（残液中の水の量０．０ｇ）、蒸留後の添加剤の量が純分量のジメチルスルホキシド１００ｇに対して２ｇになるまで留出させた。スタートからの加熱時間は３時間であった。【００７０】
本留のジメチルスルホキシドの純度は、表１に示したように、９９．９６０面積％であり、ジメチルスルホキシドの純度が低下した。【００７１】
残液のジメチルスルホキシドの純度は、表１に示したように、９９．５６８面積％であった。前留操作で１４７〜１７０℃（フラスコ内温）、本留操作で１７０〜１９１℃（フラスコ内温）で３時間加熱すると、ジメチルスルホキシドが、少量分解した。【００７２】
表１に示したように、蒸留後の留出液（本留及び前留）と蒸留後の残液を混合した液体（蒸留後混合液）のジメチルスルホキシドの純度は、９９．９５６面積％、分解量は、０．０４１％であり、実施例１〜３より分解量が多かった。【００７３】
（比較例３）
単蒸留操作に必要なジムロートコンデンサー、留出液用の受器、攪拌機、温度計を備えた１Ｌ４つ口フラスコにジメチルスルホキシド（純度９９．９９７面積％）７２０ｇ（純分量のジメチルスルホキシドは、７１９．９８ｇ）、イオン交換水８０ｇ、添加剤として炭酸カリウム７．２ｇ（純分量のジメチルスルホキシド１００ｇに対して１ｇ）を仕込んだ。窒素でフラスコ内を置換した後、ジムロートコンデンサーの上部に窒素を充填したゴム風船を取り付け密閉状態にした。２００℃のオイルバスで加熱し、留出開始した時点をスタートとした。前留として水を含む１００ｍｌを留出させた後、本留操作としてオイルバスの温度を２３０℃に上げて、フラスコ内の残液量が１８ｇ（残液中の水の量０．０ｇ）、蒸留後の添加剤の量が純分量のジメチルスルホキシド１００ｇに対して６７ｇになるまで留出させた。スタートからの加熱時間は３時間であった。【００７４】
本留のジメチルスルホキシドの純度は、表１に示したように、９９．９８４面積％であり、ジメチルスルホキシドの純度が低下した。【００７５】
残液のジメチルスルホキシドの純度は、表１に示したように、９９．６１７面積％であった。前留操作で１４７〜１７０℃（フラスコ内温）、本留操作で１７０〜１９１℃（フラスコ内温）で３時間加熱すると、ジメチルスルホキシドが、少量分解した。【００７６】
表１に示したように、蒸留後の留出液（本留及び前留）と蒸留後の残液を混合した液体（蒸留後混合液）のジメチルスルホキシドの純度は、９９．９７５面積％、分解量は、０．０２２％であり、実施例１〜３より分解量が多かった。【００７７】
（比較例４）
単蒸留操作に必要なジムロートコンデンサー、留出液用の受器、攪拌機、温度計を備えた１Ｌ４つ口フラスコにジメチルスルホキシド（純度９９．９９７面積％）７２０ｇ（純分量のジメチルスルホキシドは、７１９．９８ｇ）、イオン交換水８０ｇ、添加剤として炭酸ナトリウム０．２１６ｇ（純分量のジメチルスルホキシド１００ｇに対して０．０３ｇ）を仕込んだ。窒素置換を行わず、フラスコ内を空気下で、ジムロートコンデンサーの上部に空気を充填したゴム風船を取り付け密閉状態にした。２００℃のオイルバスで加熱し、留出開始した時点をスタートとした。前留として水を含む１００ｍｌを留出させた後、本留操作としてオイルバスの温度を２３０℃に上げて、フラスコ内の残液量が２２ｇ（残液中の水の量０．０ｇ）、蒸留後の添加剤の量が純分量のジメチルスルホキシド１００ｇに対して０．９９ｇになるまで留出させた。スタートからの加熱時間は３時間であった。【００７８】
本留のジメチルスルホキシドの純度は、表１に示したように、９９．９８２面積％であり、ジメチルスルホキシドの純度が低下した。【００７９】
残液のジメチルスルホキシドの純度は、表１に示したように、９９．８４４面積％であった。前留操作で１４７〜１７０℃（フラスコ内温）、本留操作で１７１〜１９３℃（フラスコ内温）で３時間加熱すると、ジメチルスルホキシドが、少量分解した。【００８０】
表１に示したように、蒸留後の留出液（本留及び前留）と蒸留後の残液を混合した液体（蒸留後混合液）のジメチルスルホキシドの純度は、９９．９７８面積％、分解量は、０．０１９％であり、実施例１〜３より分解量が多かった。【００８１】
【表１】
2017098900.tif 000002
【００８２】
実施例１〜３では、本留として、高純度のジメチルスルホキシドが得られた。一方、比較例１〜４により得られた本留のジメチルスルホキシドの純度は、実施例１〜３に比べて低かった。【００８３】
（実施例４）
規則充填物を充填した蒸留塔、留出液用の受器、攪拌機、温度計、蒸留塔の上部にジムロートコンデンサーを備えた１０Ｌ４つ口フラスコにジメチルスルホキシド（純度９９．９９８面積％）４８３０ｇ（純分量のジメチルスルホキシドは、４８２９．９ｇ）、イオン交換水１９９８ｇ、添加剤として炭酸ナトリウム１．４ｇ（純分量のジメチルスルホキシド１００ｇに対して０．０３ｇ）を仕込んだ。窒素でフラスコ内を置換した後、ジムロートコンデンサーの上部に窒素を充填したゴム風船を取り付け密閉状態にした。圧力２０〜７２０Ｔｏｒｒ下、１４５〜１９１℃のオイルバスで加熱し、留出開始した時点をスタートとした。前留として水を含む２２８９ｇを留出させた後、本留操作として圧力２０Ｔｏｒｒ下、１５３〜１９２℃のオイルバスで加熱し、フラスコ内温が１１０〜１１２℃の本留を、フラスコ内の残液量が６８８ｇ（残液中の水の量０．０ｇ）、蒸留後の添加剤の量が純分量のジメチルスルホキシド１００ｇに対して０．２ｇになるまで留出させた。スタートからの加熱時間は１２時間であった。【００８４】
本留のジメチルスルホキシドの純度は、表２に示したように、９９．９９９面積％であり、高純度のジメチルスルホキシドが得られた。【００８５】
残液のジメチルスルホキシドの純度は、表２に示したように、９９．９７５面積％であった。加熱しても、ジメチルスルホキシドは、ほとんど分解しなかった。残液中の炭酸ナトリウムの量は、残液中の純分量のジメチルスルホキシド１００ｇに対して０．２ｇであるので、炭酸ナトリウムは、ジメチルスルホキシドの蒸留により、７倍に濃縮された。【００８６】
表２に示したように、蒸留後の留出液（本留）と蒸留後の残液を混合した液体（蒸留後混合液）のジメチルスルホキシドの純度は、９９．９９２面積％、分解量は、０．００６％であり、極めて少なかった。実施例４では、本留として、高純度のジメチルスルホキシドが得られた。【００８７】
【表２】
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【００８８】
（実施例５）
単蒸留操作に必要なジムロートコンデンサー、留出液用の受器、攪拌機、温度計を備えた１Ｌ４つ口フラスコに、ジメチルスルホキシド（純度９９．９９５面積％）４００ｇ（純分量のジメチルスルホキシドは、３９９．９８ｇ）、イオン交換水４００ｇ、添加剤として炭酸ナトリウム０．００４ｇ（純分量のジメチルスルホキシド１００ｇに対して０．００１ｇ）を仕込んだ。窒素でフラスコ内を置換した後、ジムロートコンデンサーの上部に窒素を充填したゴム風船を取り付け密閉状態にした。２２０℃のオイルバスで加熱し、留出開始した時点をスタートとした。前留として水を含む５００ｍｌを留出させた後、本留操作としてオイルバスの温度を２３０℃に上げて、フラスコ内の残液量が９ｇ（残液中の水の量０．０ｇ）、蒸留後の添加剤の量が純分量のジメチルスルホキシド１００ｇに対して０．０４４ｇになるまで留出させた。スタートからの加熱時間は３時間であった。【００８９】
本留のジメチルスルホキシドの純度は、表３に示したように、９９．９９４面積％であり、高純度のジメチルスルホキシドが得られた。【００９０】
残液のジメチルスルホキシドの純度は、表３に示したように、９９．９３２面積％であった。前留操作で１０８〜１９２℃（フラスコ内温）、本留操作で１９２〜１９３℃（フラスコ内温）で３時間加熱しても、ジメチルスルホキシドは、ほとんど分解しなかった。残液中の炭酸ナトリウムの量は、残液中の純分量のジメチルスルホキシド１００ｇに対して０．０４４ｇであるので、炭酸ナトリウムは、ジメチルスルホキシドの蒸留により、４４倍に濃縮された。【００９１】
表３に示したように、蒸留後の留出液（本留及び前留）と蒸留後の残液を混合した液体（蒸留後混合液）のジメチルスルホキシドの純度は、９９．９９２面積％、分解量は、０．００３％であり、極めて少なかった。【００９２】
（実施例６）
炭酸ナトリウムの添加量を、０．０２４ｇ（純分量のジメチルスルホキシド１００ｇに対して０．００６ｇ）に変えたこと以外は、実施例５と同様に行い、フラスコ内の残液量が３２ｇ（残液中の水の量０．０ｇ）、蒸留後の添加剤の量が純分量のジメチルスルホキシド１００ｇに対して０．０７５ｇになるまで留出させた。スタートからの加熱時間は２．５時間であった。【００９３】
本留のジメチルスルホキシドの純度は、表３に示したように、９９．９９２面積％であり、高純度のジメチルスルホキシドが得られた。【００９４】
残液のジメチルスルホキシドの純度は、表３に示したように、９９．９６４面積％であった。前留操作で１０８〜１９２℃（フラスコ内温）、本留操作で、１９２〜１９３℃（フラスコ内温）で２．５時間加熱しても、ジメチルスルホキシドは、ほとんど分解しなかった。残液中の炭酸ナトリウムの量は、残液中の純分量のジメチルスルホキシド１００ｇに対して０．０７５ｇであるので、炭酸ナトリウムは、ジメチルスルホキシドの蒸留により、１３倍に濃縮された。【００９５】
表３に示したように、蒸留後の留出液（本留及び前留）と蒸留後の残液を混合した液体（蒸留後混合液）のジメチルスルホキシドの純度は、９９．９８８面積％、分解量は、０．００７％であり、極めて少なかった。【００９６】
（実施例７）
炭酸ナトリウムの添加量を、０．０８ｇ（純分量のジメチルスルホキシド１００ｇに対して０．０２ｇ）に変えたこと以外は、実施例５と同様に行い、フラスコ内の残液量が３４ｇ（残液中の水の量０．０ｇ）、蒸留後の添加剤の量が純分量のジメチルスルホキシド１００ｇに対して０．２４ｇになるまで留出させた。スタートからの加熱時間は２．５時間であった。【００９７】
本留のジメチルスルホキシドの純度は、表３に示したように、９９．９９１面積％であり、高純度のジメチルスルホキシドが得られた。【００９８】
残液のジメチルスルホキシドの純度は、表３に示したように、９９．９６５面積％であった。前留操作で１０８〜１９２℃（フラスコ内温）、本留操作で１９２〜１９３℃（フラスコ内温）で２．５時間加熱しても、ジメチルスルホキシドは、ほとんど分解しなかった。残液中の炭酸ナトリウムの量は、残液中の純分量のジメチルスルホキシド１００ｇに対して０．２４ｇであるので、炭酸ナトリウムは、ジメチルスルホキシドの蒸留により、１２倍に濃縮された。【００９９】
表３に示したように、蒸留後の留出液（本留及び前留）と蒸留後の残液を混合した液体（蒸留後混合液）のジメチルスルホキシドの純度は、９９．９８８面積％、分解量は、０．００７％であり、極めて少なかった。【０１００】
（実施例８）
炭酸ナトリウムの添加量を、０．４ｇ（純分量のジメチルスルホキシド１００ｇに対して０．１ｇ）に変えたこと以外は、実施例５と同様に行い、フラスコ内の残液量が２８ｇ（残液中の水の量０．０ｇ）、蒸留後の添加剤の量が純分量のジメチルスルホキシド１００ｇに対して１．４ｇになるまで留出させた。スタートからの加熱時間は２．５時間であった。【０１０１】
本留のジメチルスルホキシドの純度は、表３に示したように、９９．９９１面積％であり、高純度のジメチルスルホキシドが得られた。【０１０２】
残液のジメチルスルホキシドの純度は、表３に示したように、９９．９５６面積％であった。前留操作で１０８〜１９２℃（フラスコ内温）、本留操作で１９２〜１９３℃（フラスコ内温）で２．５時間加熱しても、ジメチルスルホキシドは、ほとんど分解しなかった。残液中の炭酸ナトリウムの量は、残液中の純分量のジメチルスルホキシド１００ｇに対して１．４ｇであるので、炭酸ナトリウムは、ジメチルスルホキシドの蒸留により、１４倍に濃縮された。【０１０３】
表３に示したように、蒸留後の留出液（本留及び前留）と蒸留後の残液を混合した液体（蒸留後混合液）のジメチルスルホキシドの純度は、９９．９８７面積％、分解量は、０．００８％であり、極めて少なかった。【０１０４】
（実施例９）
炭酸ナトリウムの添加量を、４ｇ（純分量のジメチルスルホキシド１００ｇに対して１ｇ）に変えたこと以外は、実施例５と同様に行い、フラスコ内の残液量が４２ｇ（残液中の水の量０．０ｇ）、蒸留後の添加剤の量が純分量のジメチルスルホキシド１００ｇに対して１１ｇになるまで留出させた。スタートからの加熱時間は２．５時間であった。【０１０５】
本留のジメチルスルホキシドの純度は、表３に示したように、９９．９９５面積％であり、高純度のジメチルスルホキシドが得られた。【０１０６】
残液のジメチルスルホキシドの純度は、表３に示したように、９９．９８５面積％であった。前留操作で１０８〜１９２℃（フラスコ内温）、本留操作で１９２〜１９３℃（フラスコ内温）で２．５時間加熱しても、ジメチルスルホキシドは、ほとんど分解しなかった。残液中の炭酸ナトリウムの量は、残液中の純分量のジメチルスルホキシド１００ｇに対して１１ｇであるので、炭酸ナトリウムは、ジメチルスルホキシドの蒸留により、１１倍に濃縮された。【０１０７】
表３に示したように、蒸留後の留出液（本留及び前留）と蒸留後の残液を混合した液体（蒸留後混合液）のジメチルスルホキシドの純度は、９９．９９２面積％、分解量は、０．００３％であり、極めて少なかった。【０１０８】
（実施例１０）
炭酸ナトリウムの添加量を、４ｇ（純分量のジメチルスルホキシド１００ｇに対して１ｇ）に変えたこと以外は、実施例５と同様に行い、フラスコ内の残液量が１７ｇ（残液中の水の量０．０ｇ）、蒸留後の添加剤の量が純分量のジメチルスルホキシド１００ｇに対して３１ｇになるまで留出させた。スタートからの加熱時間は３時間であった。【０１０９】
本留のジメチルスルホキシドの純度は、表３に示したように、９９．９９４面積％であり、高純度のジメチルスルホキシドが得られた。【０１１０】
残液のジメチルスルホキシドの純度は、表３に示したように、９９．９６８面積％であった。前留操作で１０８〜１９２℃（フラスコ内温）、本留操作で１９２〜１９３℃（フラスコ内温）で３時間加熱しても、ジメチルスルホキシドは、ほとんど分解しなかった。残液中の炭酸ナトリウムの量は、残液中の純分量のジメチルスルホキシド１００ｇに対して３１ｇであるので、炭酸ナトリウムは、ジメチルスルホキシドの蒸留により、３１倍に濃縮された。【０１１１】
表３に示したように、蒸留後の留出液（本留及び前留）と蒸留後の残液を混合した液体（蒸留後混合液）のジメチルスルホキシドの純度は、９９．９９２面積％、分解量は、０．００３％であり、極めて少なかった。【０１１２】
（比較例５）
炭酸ナトリウムを添加しなかったこと以外は、実施例５と同様に行い、フラスコ内の残液量が２３ｇ（残液中の水の量０．０ｇ）になるまで留出させた。スタートからの加熱時間は３時間であった。【０１１３】
本留のジメチルスルホキシドの純度は、表３に示したように、９９．９７８面積％であり、ジメチルスルホキシドの純度が低下した。【０１１４】
残液のジメチルスルホキシドの純度は、表３に示したように、９９．９６１面積％であった。前留操作で１０８〜１９２℃（フラスコ内温）、本留操作で１９２〜１９３℃（フラスコ内温）で３時間加熱すると、ジメチルスルホキシドが、少量分解した。表３に示したように、蒸留後の留出液（本留及び前留）と蒸留後の残液を混合した液体（蒸留後混合液）のジメチルスルホキシドの純度は、９９．９７９面積％、分解量は、０．０１６％であり、実施例５〜１０より分解量が多かった。また、蒸留後の器具にジメチルスルホキシドの分解物であるポリアセタールとみられる少量のポリマーが付着していた。【０１１５】
（比較例６）
添加剤の種類を水酸化ナトリウムに、添加量を０．０８ｇ（純分量のジメチルスルホキシド１００ｇに対して０．０２ｇ）に変えたこと以外は、実施例５と同様に行い、フラスコ内の残液量が３５ｇ（残液中の水の量０．０ｇ）、蒸留後の添加剤の量が純分量のジメチルスルホキシド１００ｇに対して０．２３ｇになるまで留出させた。スタートからの加熱時間は２．５時間であった。【０１１６】
本留のジメチルスルホキシドの純度は、表３に示したように、９９．９８０面積％であり、ジメチルスルホキシドの純度が低下した。【０１１７】
残液のジメチルスルホキシドの純度は、表３に示したように、９９．９２６面積％であった。前留操作で１０８〜１９２℃（フラスコ内温）、本留操作で１９２〜１９３℃（フラスコ内温）で２．５時間加熱すると、ジメチルスルホキシドが、少量分解した。表３に示したように、蒸留後の留出液（本留及び前留）と蒸留後の残液を混合した液体（蒸留後混合液）のジメチルスルホキシドの純度は、９９．９７１面積％、分解量は、０．０２４％であり、実施例５〜１０より分解量が多かった。【０１１８】
（比較例７）
添加剤の種類を水酸化ナトリウムに、添加量を０．４ｇ（純分量のジメチルスルホキシド１００ｇに対して０．１ｇ）に変えたこと以外は、実施例５と同様に行い、フラスコ内の残液量が３２ｇ（残液中の水の量０．０ｇ）、蒸留後の添加剤の量が純分量のジメチルスルホキシド１００ｇに対して１．３ｇになるまで留出させた。スタートからの加熱時間は２．５時間であった。【０１１９】
本留のジメチルスルホキシドの純度は、表３に示したように、９９．９７２面積％であり、ジメチルスルホキシドの純度が低下した。【０１２０】
残液のジメチルスルホキシドの純度は、表３に示したように、９９．９１０面積％であった。前留操作で１０８〜１９２℃（フラスコ内温）、本留操作で１９２〜１９３℃（フラスコ内温）で２．５時間加熱すると、ジメチルスルホキシドが、少量分解した。表３に示したように、蒸留後の留出液（本留及び前留）と蒸留後の残液を混合した液体（蒸留後混合液）のジメチルスルホキシドの純度は、９９．９６３面積％、分解量は、０．０３２％であり、実施例５〜１０より分解量が多かった。【０１２１】
【表３】
2017098900.tif 000004
【０１２２】
実施例５〜１０では、本留として、高純度のジメチルスルホキシドが得られた。一方、比較例５〜７により得られた本留のジメチルスルホキシドの純度は、実施例５〜１０に比べて低かった。【０１２３】
（実施例１１）
単蒸留操作に必要なジムロートコンデンサー、留出液用の受器、攪拌機、温度計を備えた１Ｌ４つ口フラスコにジメチルスルホキシド（純度９９．９９５面積％）７２０ｇ（純分量のジメチルスルホキシドは、７１９．９６ｇ）、添加剤として炭酸ナトリウム７．２ｇ（純分量のジメチルスルホキシド１００ｇに対して１ｇ）を仕込んだ。窒素でフラスコ内を置換した後、ジムロートコンデンサーの上部に窒素を充填したゴム風船を取り付け密閉状態にした。２２０℃のオイルバスで加熱し、留出開始した時点をスタートとした。フラスコ内の残液量が５６ｇ（残液中の水の量０．０ｇ）、蒸留後の添加剤の量が純分量のジメチルスルホキシド１００ｇに対して１５ｇになるまで留出させた。スタートからの加熱時間は２．５時間であった。【０１２４】
本留のジメチルスルホキシドの純度は、表４に示したように、９９．９９０面積％であり、高純度のジメチルスルホキシドが得られた。【０１２５】
残液のジメチルスルホキシドの純度は、表４に示したように、９９．９３０面積％であった。２．５時間、１９２〜１９３℃（フラスコ内温）で加熱しても、ジメチルスルホキシドは、ほとんど分解しなかった。残液中の炭酸ナトリウムの量は、残液中の純分量のジメチルスルホキシド１００ｇに対して１５ｇであるので、炭酸ナトリウムは、ジメチルスルホキシドの蒸留により、１５倍に濃縮された。【０１２６】
表４に示したように、蒸留後の留出液（本留）と蒸留後の残液を混合した液体（蒸留後混合液）のジメチルスルホキシドの純度は、９９．９８６面積％、分解量は、０．００９％であり、極めて少なかった。【０１２７】
（実施例１２）
単蒸留操作に必要なジムロートコンデンサー、留出液用の受器、攪拌機、温度計を備えた１Ｌ４つ口フラスコにジメチルスルホキシド（純度９９．９９５面積％）７２０ｇ（純分量のジメチルスルホキシドは、７１９．９６ｇ）を仕込んだ。続いて、添加剤として、炭酸ナトリウム・１水和物７．２ｇ（純分量のジメチルスルホキシド１００ｇに対して炭酸ナトリウム０．８６ｇ）を仕込んだ。窒素でフラスコ内を置換した後、ジムロートコンデンサーの上部に窒素を充填したゴム風船を取り付け密閉状態にした。２２０℃のオイルバスで加熱し、留出開始した時点をスタートとした。前留として水を含む１２ｍｌを留出させた後、本留操作としてオイルバスの温度を２３０℃に上げて、フラスコ内の残液量が６１ｇ（残液中の水の量０．０ｇ）、蒸留後の炭酸ナトリウムの量が純分量のジメチルスルホキシド１００ｇに対して１１．４ｇになるまで留出させた。スタートからの加熱時間は２．５時間であった。【０１２８】
本留のジメチルスルホキシドの純度は、表４に示したように、９９．９９０面積％であり、高純度のジメチルスルホキシドが得られた。【０１２９】
残液のジメチルスルホキシドの純度は、表４に示したように、９９．９３６面積％であった。前留操作で１９１〜１９２℃（フラスコ内温）、本留操作で１９２〜１９３℃（フラスコ内温）で２．５時間加熱しても、ジメチルスルホキシドは、ほとんど分解しなかった。残液中の炭酸ナトリウムの量は、残液中の純分量のジメチルスルホキシド１００ｇに対して１１．４ｇであるので、炭酸ナトリウムは、ジメチルスルホキシドの蒸留により、１３倍に濃縮された。【０１３０】
表４に示したように、蒸留後の留出液（本留及び前留）と蒸留後の残液を混合した液体（蒸留後混合液）のジメチルスルホキシドの純度は、９９．９８６面積％、分解量は、０．００９％であり極めて少なかった。【０１３１】
（実施例１３）
単蒸留操作に必要なジムロートコンデンサー、留出液用の受器、攪拌機、温度計を備えた１Ｌ４つ口フラスコにジメチルスルホキシド（純度９９．９９５面積％）７２０ｇ（純分量のジメチルスルホキシドは、７１９．９６ｇ）を仕込んだ。続いて、添加剤として、炭酸ナトリウム・１０水和物７．２ｇ（純分量のジメチルスルホキシド１００ｇに対して炭酸ナトリウム０．３７ｇ）を仕込んだ。窒素でフラスコ内を置換した後、ジムロートコンデンサーの上部に窒素を充填したゴム風船を取り付け密閉状態にした。２２０℃のオイルバスで加熱し、留出開始した時点をスタートとした。前留として水を含む１６ｍｌを留出させた後、本留操作としてオイルバスの温度を２３０℃に上げて、フラスコ内の残液量が８２ｇ（残液中の水の量０．０ｇ）、蒸留後の炭酸ナトリウムの量が純分量のジメチルスルホキシド１００ｇに対して３．４ｇになるまで留出させた。スタートからの加熱時間は、２．８時間であった。【０１３２】
本留のジメチルスルホキシドの純度は、表４に示したように、９９．９９０面積％であり、高純度のジメチルスルホキシドが得られた。【０１３３】
残液のジメチルスルホキシドの純度は、表４に示したように、９９．９５１面積％であった。前留操作で１８７〜１９０℃（フラスコ内温）、本留操作で１９１〜１９３℃（フラスコ内温）で２．８時間加熱しても、ジメチルスルホキシドは、ほとんど分解しなかった。残液中の炭酸ナトリウムの量は、残液中の純分量のジメチルスルホキシド１００ｇに対して３．４ｇであるので、炭酸ナトリウムは、ジメチルスルホキシドの蒸留により、９倍に濃縮された。【０１３４】
表４に示したように、蒸留後の留出液（本留及び前留）と蒸留後の残液を混合した液体（蒸留後混合液）のジメチルスルホキシドの純度は、９９．９８６面積％、分解量は、０．００９％であり、極めて少なかった。【０１３５】
（実施例１４）
単蒸留操作に必要なジムロートコンデンサー、留出液用の受器、攪拌機、温度計を備えた１Ｌ４つ口フラスコにジメチルスルホキシド（純度９９．９９６面積％）７２０ｇ（純分量のジメチルスルホキシドは、７５９．９７ｇ）を仕込んだ。続いて、添加剤として、炭酸ナトリウム７．２ｇ（純分量のジメチルスルホキシド１００ｇに対して１ｇ）をイオン交換水４０ｇに溶解させた炭酸ナトリウム水溶液を仕込んだ。窒素でフラスコ内を置換した後、ジムロートコンデンサーの上部に窒素を充填したゴム風船を取り付け密閉状態にした。２２０℃のオイルバスで加熱し、留出開始した時点をスタートとした。前留として水を含む１４０ｍｌを留出させた後、本留操作としてオイルバスの温度を２３０℃に上げて、フラスコ内の残液量が５６ｇ（残液中の水の量０．０ｇ）、蒸留後の添加剤の量が純分量のジメチルスルホキシド１００ｇに対して１５ｇになるまで留出させた。スタートからの加熱時間は２時間であった。【０１３６】
本留のジメチルスルホキシドの純度は、表４に示したように、９９．９９５面積％であり、高純度のジメチルスルホキシドが得られた。【０１３７】
残液のジメチルスルホキシドの純度は、表４に示したように、９９．９５６面積％であった。前留操作で１６２〜１９１℃（フラスコ内温）、本留操作で１９２〜１９３℃（フラスコ内温）で２時間加熱しても、ジメチルスルホキシドは、ほとんど分解しなかった。残液中の炭酸ナトリウムの量は、残液中の純分量のジメチルスルホキシド１００ｇに対して１５ｇであるので、炭酸ナトリウムは、ジメチルスルホキシドの蒸留により、１５倍に濃縮された。【０１３８】
表４に示したように、蒸留後の留出液（本留及び前留）と蒸留後の残液を混合した液体（蒸留後混合液）のジメチルスルホキシドの純度は、９９．９９２面積％、分解量は、０．００４％であり、極めて少なかった。【０１３９】
（実施例１５）
単蒸留操作に必要なジムロートコンデンサー、留出液用の受器、攪拌機、温度計を備えた１Ｌ４つ口フラスコにジメチルスルホキシド（純度９９．９９６面積％）４００ｇ（純分量のジメチルスルホキシドは、３９９．９８ｇ）を仕込んだ。続いて、添加剤として、炭酸ナトリウム０．４ｇ（純分量のジメチルスルホキシド１００ｇに対して０．１ｇ）をイオン交換水４００ｇに溶解させた炭酸ナトリウム水溶液を仕込んだ。窒素でフラスコ内を置換した後、ジムロートコンデンサーの上部に窒素を充填したゴム風船を取り付け密閉状態にした。常圧下、２２０℃のオイルバスで加熱し、留出開始した時点をスタートとした。前留として水を含む５００ｍｌを留出させた。次に、本留操作としてオイルバスの温度を１７０℃に下げて、圧力１５０〜１７０Ｔｏｒｒでフラスコ内の残液量が２２ｇ（残液中の水の量０．０ｇ）、蒸留後の添加剤の量が純分量のジメチルスルホキシド１００ｇに対して１．９ｇになるまで留出させた。スタートからの加熱時間は３時間であった。【０１４０】
本留のジメチルスルホキシドの純度は、表４に示したように、９９．９９７面積％であり、高純度のジメチルスルホキシドが得られた。【０１４１】
残液のジメチルスルホキシドの純度は、表４に示したように、９９．９３８面積％であった。前留操作で１０８〜１９３℃（フラスコ内温）、本留操作で１３８〜１４０℃（フラスコ内温）で３時間加熱しても、ジメチルスルホキシドは、ほとんど分解しなかった。残液中の炭酸ナトリウムの量は、残液中の純分量のジメチルスルホキシド１００ｇに対して１．９ｇであるので、炭酸ナトリウムは、ジメチルスルホキシドの蒸留により、１９倍に濃縮された。【０１４２】
表４に示したように、蒸留後の留出液（本留及び前留）と蒸留後の残液を混合した液体（蒸留後混合液）のジメチルスルホキシドの純度は、９９．９８９面積％、分解量は、０．００７％であり、極めて少なかった。【０１４３】
（比較例８）
単蒸留操作に必要なジムロートコンデンサー、留出液用の受器、攪拌機、温度計を備えた１Ｌ４つ口フラスコに添加剤は入れず、ジメチルスルホキシド（純度９９．９９６面積％）２０１ｇ（純分量のジメチルスルホキシドは、２００．９９ｇ）を仕込み、窒素でフラスコ内を置換した後、ジムロートコンデンサーの上部に窒素を充填したゴム風船を取り付け密閉状態にした。２２０℃のオイルバスで加熱し、留出開始した時点をスタートとした。フラスコ内の残液量が５０ｇ（残液中の水の量０．０ｇ）になるまで留出させた時、本留のジメチルスルホキシドの純度は、表４に示したように、９９．９７２面積％であり、ジメチルスルホキシドの純度が低下したので蒸留は中止した。スタートからの加熱時間は２時間であった。残液のジメチルスルホキシドの純度は、表４に示したように、９９．９８６面積％であった。表４に示したように、蒸留後の留出液（本留）と蒸留後の残液を混合した液体（蒸留後混合液）のジメチルスルホキシドの純度は、９９．９７５面積％、分解量は、０．０２１％であり、実施例１１より分解量が多かった。【０１４４】
【表４】
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【０１４５】
実施例１１〜１５では、本留として、高純度のジメチルスルホキシドが得られた。比較例８で得られたジメチルスルホキシドの純度は実施例１１に比較して低かった。【０１４６】
以上の結果から、本発明のジメチルスルホキシドの精製方法は、本留として、高純度のジメチルスルホキシドが得られた。【０１４７】
また、ジメチルスルホキシドを含む液体を蒸留して精製するに従い、精製中の蒸留塔の底部には、分解抑制剤が残存し、蒸留中の残液に含まれる分解抑制剤の濃度が増加した。分解抑制剤として炭酸ナトリウムを用いた場合は、ジメチルスルホキシドが留去されて高濃度になっても、ジメチルスルホキシドの分解が促進されず、ジメチルスルホキシドの純度が高かった。一方、分解抑制剤として水酸化ナトリウムや炭酸カリウムを用いた場合は、低濃度で添加しても、ジメチルスルホキシドが留去されて高濃度になると、ジメチルスルホキシドの分解が促進され、ジメチルスルホキシドの分解物が蒸留されたジメチルスルホキシドに混入してジメチルスルホキシドの純度が低くなった。
【産業上の利用可能性】
【０１４８】
本発明のジメチルスルホキシドの精製方法により得られたジメチルスルホキシドは、高純度であり、ポリアクリロニトリル、セルロース、ポリイミド、ポリスルホン、ポリウレタンなどのポリマーの重合や紡糸工程の溶剤、電子材料のフォトレジストの剥離液、医農薬の合成の溶剤、レンズモールドなどの剥離・洗浄液または塗料の剥離液として利用できる。
【国際調査報告】
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