(57)【要約】  本発明の一態様に係るプリント配線板は、絶縁性を有するベースフィルムと、このベースフィルムの少なくとも一方の面に積層される導電パターンとを備えるプリント配線板であって、上記導電パターンがベースフィルムに固着する銅粒子結合層を含み、上記ベースフィルムの導電パターン非積層領域の明度Ｌ＊が６０以下である。上記ベースフィルムが一方の面側に改質層を有するとよい。
2017029973.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
絶縁性を有するベースフィルムと、
上記ベースフィルムの少なくとも一方の面に積層される導電パターンと
を備えるプリント配線板であって、
上記導電パターンが上記ベースフィルムに固着する銅粒子結合層を含み、
上記ベースフィルムの導電パターン非積層領域の明度Ｌ＊が６０以下であるプリント配線板。
【請求項２】
上記ベースフィルムが一方の面側に改質層を有する請求項１に記載のプリント配線板。
【請求項３】
上記ベースフィルムが実質的に顔料を含有しない請求項１又は請求項２に記載のプリント配線板。
【請求項４】
上記ベースフィルムの主成分がポリイミドである請求項１、請求項２又は請求項３に記載のプリント配線板。
【請求項５】
上記ベースフィルムの導電パターン非積層領域の色度ｂ＊が６０以下である請求項１から請求項４のいずれか１項に記載のプリント配線板。
【請求項６】
上記導電パターンの一方の面の明度Ｌ＊と、上記ベースフィルムの導電パターン非積層領域の上記明度Ｌ＊との差の絶対値が１０以上である請求項１から請求項５のいずれか１項に記載のプリント配線板。
【請求項７】
請求項１から請求項６のいずれか１項に記載のプリント配線板と、上記プリント配線板に実装される素子とを備える電子部品。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、プリント配線板及び電子部品に関する。
本出願は、２０１５年８月１７日出願の日本出願第２０１５−１６０５９２号に基づく優先権を主張し、上記日本出願に記載された全ての記載内容を援用するものである。
【背景技術】
【０００２】
ベースフィルムと、このベースフィルムの一方の面に積層される導電パターンとを有するプリント配線板が知られている。このようなプリント配線板は、例えばベースフィルムの一方の面にスパッタリング法によって厚み１μｍ以下のシード層を積層し、さらにこのシード層の一方の面に電気めっきによって金属めっき層を積層して得られた金属層を所望のパターンにエッチングすることで形成される（特開平９−１３６３７８号公報参照）。【０００３】
上述のプリント配線板は、通常回路形成後に自動光学検査装置によって回路欠陥の有無を調べた上で製品として出荷される。また、この自動光学検査装置による検査は、プリント配線板に光を照射することで行われ、反射光のコントラストに基づいて回路欠陥の有無が判断される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開平９−１３６３７８号公報
【発明の概要】
【０００５】
本発明の一態様に係るプリント配線板は、絶縁性を有するベースフィルムと、このベースフィルムの少なくとも一方の面に積層される導電パターンとを備えるプリント配線板であって、上記導電パターンがベースフィルムに固着する銅粒子結合層を含み、上記ベースフィルムの導電パターン非積層領域の明度Ｌ＊が６０以下である。
【０００６】
また、本発明の他の一態様に係る電子部品は、当該プリント配線板と、このプリント配線板に実装される素子とを備える。
【図面の簡単な説明】
【０００７】
【図１】本発明の一実施形態に係るプリント配線板の模式的断面図である。
【図２】図１のプリント配線板とは異なる実施形態に係るプリント配線板を示す模式的断面図である。
【図３】図１及び図２のプリント配線板とは異なる実施形態に係るプリント配線板を示す模式的断面図である。
【図４Ａ】本発明のプリント配線板の製造方法の塗膜形成工程を示す模式的断面図である。
【図４Ｂ】本発明のプリント配線板の製造方法の銅粒子結合層形成工程を示す模式的断面図である。
【図４Ｃ】本発明のプリント配線板の製造方法の金属めっき層形成工程を示す模式的断面図である。
【図４Ｄ】図４Ｃの金属めっき層形成工程とは異なる実施形態に係る金属めっき層形成工程を示す模式的断面図である。
【発明を実施するための形態】
【０００８】
［本開示が解決しようとする課題］
上記従来のプリント配線板は、回路表面と回路間に露出するベースフィルム表面とのコントラストが十分に得られ難い。そして、このように回路表面とベースフィルム表面とのコントラストが不十分であると、自動光学検査装置によって回路を正確に認識し難くなり、その結果回路欠陥の誤検査率が高くなる。
【０００９】
本発明は、このような事情に基づいてなされたものであり、回路欠陥の誤検査率を低減することができるプリント配線板及び回路欠陥の発生率を低減することができる電子部品を提供することを目的とする。
【００１０】
［本開示の効果］
本発明の一態様に係るプリント配線板は、回路欠陥の誤検査率を低減することができる。また、本発明の電子部品は、回路欠陥の発生率を低減することができる。
【００１１】
［本発明の実施形態の説明］
最初に本発明の実施態様を列記して説明する。
【００１２】
本発明の一態様に係るプリント配線板は、絶縁性を有するベースフィルムと、このベースフィルムの少なくとも一方の面に積層される導電パターンとを備えるプリント配線板であって、上記導電パターンがベースフィルムに固着する銅粒子結合層を含み、上記ベースフィルムの導電パターン非積層領域の明度Ｌ＊が６０以下である。
【００１３】
当該プリント配線板は、ベースフィルムの導電パターン非積層領域の明度Ｌ＊が上記上限以下であるので、導電パターンの一方の面の明度Ｌ＊とベースフィルムの導電パターン非積層領域の明度Ｌ＊との差を大きくし易い。そのため、当該プリント配線板は、導電パターンの一方の面とベースフィルムの導電パターン非積層領域とのコントラストを十分に確保することで、回路欠陥検査装置から照射される光によって回路欠陥を高精度で検出し易い。従って、当該プリント配線板は、回路欠陥の誤検査率を低減することができる。
【００１４】
上記ベースフィルムが一方の面側に改質層を有するとよい。このように、ベースフィルムが一方の面側に改質層を有することで、この改質層によってベースフィルムの導電パターン非積層領域の明度Ｌ＊を上記範囲に容易かつ確実に調整することができる。また、この改質層によってベースフィルムの導電パターン非積層領域の明度Ｌ＊を上記範囲に調整することで、この改質層以外の領域ではベースフィルムを形成する成分の材料特性を維持し易い。その結果、ベースフィルムの品質の劣化を抑制することができる。
【００１５】
上記ベースフィルムが実質的に顔料を含有しないことが好ましい。このように、上記ベースフィルムが実質的に顔料を含有しないことによって、ベースフィルムの材料特性をより確実に維持しつつ、回路欠陥の誤検査率を低減することができる。
【００１６】
上記ベースフィルムの主成分がポリイミドであるとよい。このように、ベースフィルムの主成分がポリイミドであることによって、ベースフィルムの品質の劣化を抑制しつつ、このベースフィルムの導電パターン非積層領域の明度Ｌ＊を上記範囲内に調整し易い。
【００１７】
上記ベースフィルムの導電パターン非積層領域の色度ｂ＊としては、６０以下が好ましい。このように、ベースフィルムの導電パターン非積層領域の色度ｂ＊が上記範囲内であることによって、回路欠陥の誤検査率をさらに低減することができる。
【００１８】
上記導電パターンの一方の面の明度Ｌ＊と、ベースフィルムの導電パターン非積層領域の明度Ｌ＊との差の絶対値としては、１０以上が好ましい。このように、上記導電パターンの一方の面の明度Ｌ＊と、ベースフィルムの導電パターン非積層領域の明度Ｌ＊との差の絶対値が上記下限以上であることによって、ベースフィルムの導電パターン非積層領域と導電パターンの一方の面とのコントラストを促進し、回路欠陥の誤検査率をさらに低減することができる。
【００１９】
本発明の一態様に係る電子部品は、当該プリント配線板と、このプリント配線板に実装される素子とを備える。
【００２０】
当該電子部品は、回路欠陥の誤検査率を低減可能な当該プリント配線板を備えるので、回路欠陥の発生率を低減することができる。
【００２１】
なお、本発明において、「明度」及び「色度」とは、Ｌ＊ａ＊ｂ＊で規定される明度及び色度を意味し、ＪＩＳ−Ｚ８７８１−４（２０１３）に準拠した値をいう。「銅粒子結合層」とは、複数の銅粒子が固着して結合する構造を含む層をいう。「実質的に顔料を含有しない」とは、不可避的に含まれる場合を除いて積極的に顔料が添加されていないことをいい、例えば顔料の含有量が１質量％以下であることをいい、好ましくは０．１質量％以下、より好ましくは０．０１質量％以下であることをいう。「主成分」とは、最も含有量の多い成分をいい、例えば含有量が５０質量％以上の成分をいい、好ましくは８０質量％以上の成分をいう。
【００２２】
［本発明の実施形態の詳細］
以下、適宜図面を参照しつつ、本発明の実施形態に係るプリント配線板について説明する。
【００２３】
［第一実施形態］
＜プリント配線板＞
図１のプリント配線板１は、ベースフィルム２と、ベースフィルム２の一方の面に積層される導電パターン３とを備える。図１のプリント配線板１は、可撓性を有するフレキシブルプリント配線板である。
【００２４】
（ベースフィルム）
ベースフィルム２は、絶縁性及び可撓性を有する。ベースフィルム２は、合成樹脂を主成分とする単一の樹脂フィルムである。ベースフィルム２の主成分としては、例えばポリイミド、ポリエチレンテレフタレート、フッ素樹脂、液晶ポリマー等の合成樹脂が挙げられる。中でも、絶縁性、柔軟性、耐熱性等に優れるポリイミドが好ましい。また、ポリイミドは耐熱性が高いことから、後述するようにベースフィルム２の一方の面側を改質した場合でも、ベースフィルム２の熱変形等の品質の劣化を防止することができる。
【００２５】
ベースフィルム２の平均厚みの下限としては、５μｍが好ましく、１２μｍがより好ましく、２５μｍがさらに好ましい。一方、ベースフィルム２の平均厚みの上限としては、２ｍｍが好ましく、１．６ｍｍがより好ましく、５００μｍがさらに好ましく、２００μｍが特に好ましい。ベースフィルム２の平均厚みが上記下限に満たないと、絶縁性及び機械的強度が不十分となるおそれがある。逆に、ベースフィルム２の平均厚みが上記上限を超えると、薄膜化の要請に反するおそれがある。これに対し、ベースフィルム２の平均厚みが上記範囲内であることで、ベースフィルム２の絶縁性及び機械的強度の低下を抑えつつ、薄膜化を促進することができる。また、当該プリント配線板１は、ベースフィルム２の平均厚みを上記範囲と薄くしても、表面側の改質によって導電パターン非積層領域Ｘ（以下、「非積層領域Ｘ」ともいう。）の明度Ｌ＊を十分に低くすることができる。なお、「平均厚み」とは、任意の１０点での測定値の平均値をいう。
【００２６】
ベースフィルム２は、一方の面側に改質層２ａを有する。改質層２ａは、非積層領域Ｘの明度Ｌ＊及び色度ａ＊ｂ＊を調整する。改質層２ａは、後述する銅粒子結合層３ａがベースフィルム２の一方の面に固着される際にベースフィルム２の一方の面側が改質されることで形成される。改質層２ａは、ベースフィルム２のその他の領域（非改質層２ｂ）に対して組成が変化している。ベースフィルム２は、改質層２ａと、非改質層２ｂとの２層体として構成されている。当該プリント配線板１は、ベースフィルム２が一方の面側に改質層２ａを有するので、この改質層２ａによってベースフィルム２の一方の面の明度Ｌ＊及び色度ａ＊ｂ＊を容易かつ確実に調整することができる。また、当該プリント配線板１は、この改質層２ａによってベースフィルム２の一方の面の明度Ｌ＊及び色度ａ＊ｂ＊を調整するものであるため、非改質層２ｂではベースフィルム２を形成する成分の材料特性を維持し易い。その結果、当該プリント配線板１は、ベースフィルム２の品質の劣化を抑制することができる。
【００２７】
改質層２ａは、平面視におけるベースフィルム２の全領域に形成されている。また、改質層２ａは、銅粒子結合層３ａの固着面（ベースフィルム２の一方の面）を最表面として一定の厚みを有する。改質層２ａの平均厚みの下限としては、５ｎｍが好ましく、１０ｎｍがより好ましい。一方、改質層２ａの平均厚みの上限としては、１００ｎｍが好ましく、５０ｎｍがより好ましい。改質層２ａの平均厚みが上記下限に満たないと、ベースフィルム２の一方の面の明度Ｌ＊及び色度ａ＊ｂ＊を十分に調整できないおそれがある。逆に、改質層２ａの平均厚みが上記上限を超えると、ベースフィルム２の品質を維持する上で重要な非改質層２ｂの厚みが不要に小さくなるおそれがある。
【００２８】
改質層２ａは、ベースフィルム２の一方の面に親水化処理を施した上で形成されることが好ましい。つまり、ベースフィルム２の一方の面に親水化処理を施した上でこのベースフィルム２の一方の面に銅粒子結合層３ａを固着することが好ましい。上記親水化処理としては、例えばプラズマを照射して固着面を親水化するプラズマ処理や、アルカリ溶液で固着面を親水化するアルカリ処理を採用することができる。ベースフィルム２の一方の面に親水化処理を施すことにより、この一方の面に対するインクの表面張力が小さくなるので、インクを均一に塗布することができる。中でも、上記親水化処理としてはプラズマ処理が好ましい。当該プリント配線板１は、上記親水化処理としてプラズマ処理を施した上で改質層２ａを形成することによって、このベースフィルム２の一方の面の明度Ｌ＊及び色度ａ＊ｂ＊をより的確に調整することができる。さらに、当該プリント配線板１は、上記プラズマ処理に加えて、ブラスト処理を行うことも好ましい。中でも、このブラスト処理としては、液中に無機粒子を分散させて行うウェットブラスト処理がより好ましい。
【００２９】
ベースフィルム２は、実質的に顔料を含有しないことが好ましい。当該プリント配線板１は、ベースフィルム２が実質的に顔料を含有しないことによって、ベースフィルム２の材料特性をより確実に維持しつつ、回路欠陥の誤検査率を低減することができる。
【００３０】
ベースフィルム２の非積層領域Ｘの明度Ｌ＊の上限としては、６０であり、５５がより好ましく、５０がさらに好ましい。ベースフィルム２の非積層領域Ｘの明度Ｌ＊が上記上限を超えると、導電パターン３の一方の面とベースフィルム２の非積層領域Ｘとのコントラストが十分に得られないおそれがある。なお、ベースフィルム２の非積層領域Ｘの明度Ｌ＊の下限としては、特に限定されず、例えば３０とすることができる。
【００３１】
ベースフィルム２の非積層領域Ｘの色度ｂ＊の上限としては、６０が好ましく、４５がより好ましく、３７がさらに好ましい。ベースフィルム２の非積層領域Ｘの色度ｂ＊が上記上限を超えると、ベースフィルム２の非積層領域Ｘと導電パターン３の一方の面とのコントラストが十分に得られないおそれがある。なお、ベースフィルム２の非積層領域Ｘの色度ｂ＊の下限としては、特に限定されず、例えば２０とすることができる。
【００３２】
ベースフィルム２の非積層領域Ｘの色度ａ＊の上限としては、２２が好ましく、２０がより好ましい。ベースフィルム２の非積層領域Ｘの色度ａ＊が上記上限を超えると、ベースフィルム２の非積層領域Ｘと導電パターン３の一方の面とのコントラストが十分に得られないおそれがある。なお、ベースフィルム２の非積層領域Ｘの色度ａ＊の下限としては、特に限定されるものではなく、例えば１０とすることができる。
【００３３】
ベースフィルム２の非積層領域Ｘの波長５００ｎｍの外部透過率の上限としては、１５％が好ましく、１２％がより好ましく、１０％がさらに好ましい。上記外部透過率が上記上限を超えると、回路欠陥検査装置から照射される光がベースフィルム２を透過し易くなり、検査精度が低下するおそれがある。一方、上記外部透過率は小さい方が好ましいため、この外部透過率の下限としては特に限定されるものではないが、例えば１％とすることができる。なお、上記外部透過率は、ベースフィルム２に改質層２ａを形成することで調整可能であり、具体的には銅粒子結合層３ａをベースフィルム２の一方の面に積層する際の焼成温度、焼成時間等により調整可能である。なお、「外部透過率」とは、表面反射を考慮した透過率をいい、具体的には入射光強度（Ｉ０）に対する透過光強度（Ｉ）の比（Ｉ／Ｉ０）を意味する。また、「光強度」とは、単位面積当たりの入射光束をいう。
【００３４】
（導電パターン）
導電パターン３は、ベースフィルム２に固着する銅粒子結合層３ａを含む。特に本実施形態では、導電パターン３はこの銅粒子結合層３ａのみから構成されている。導電パターン３は、ベースフィルム２の一方の面の全面に銅粒子結合層３ａを積層した上、この銅粒子結合層３ａをパターニングしたものである。銅粒子結合層３ａの積層方法としては、後述するように、銅粒子を含むインクをベースフィルム２の一方の面に塗布して焼成する方法が挙げられる。また、この場合、銅粒子結合層３ａは、銅粒子焼結層として構成される。導電パターン３のパターニング方法としては、例えばベースフィルム２の一方の面の全面に積層された銅粒子結合層３ａにレジストパターン等のマスキングを施してエッチングする方法（サブトラクティブ法）を採用することができる。導電パターン３は、このような銅粒子結合層３ａを含むことによって、製造コストを抑えつつ、導通性を向上することができる。また、導電パターン３がこのような銅粒子結合層３ａを含むことで、ベースフィルム２の一方の面側に改質層２ａを形成することができる。
【００３５】
銅粒子結合層３ａを構成する銅粒子の平均径の下限としては、１ｎｍが好ましく、１０ｎｍがより好ましく、３０ｎｍがさらに好ましい。一方、上記銅粒子の平均粒子径の上限としては、５００ｎｍが好ましく、３００ｎｍがより好ましく、１００ｎｍがさらに好ましい。上記銅粒子の平均粒子径が上記下限に満たないと、銅粒子結合層３ａを形成する際に用いられるインク中での銅粒子の分散性及び安定性が低下するおそれがある。逆に、上記銅粒子の平均粒子径が上記上限を超えると、銅粒子が沈殿し易くなるおそれがあると共にインクを塗布した際に銅粒子の密度が不均一になるおそれがある。なお、「平均粒子径」とは、分散液中の銅粒子の粒度分布の体積中心径Ｄ５０で表される平均粒子径を指す。
【００３６】
銅粒子結合層３ａの平均厚みの下限としては、１０ｎｍが好ましく、５０ｎｍがより好ましく、１００ｎｍがさらに好ましい。一方、銅粒子結合層３ａの平均厚みの上限としては、１μｍが好ましく、７００ｎｍがより好ましく、５００ｎｍがさらに好ましい。銅粒子結合層３ａの平均厚みが上記下限に満たないと、平面視において銅粒子結合層３ａに切れ目が生じ、ベースフィルム２の表面の全領域に亘って改質層２ａを形成するのが困難になるおそれがある。逆に、銅粒子結合層３ａの平均厚みが上記上限を超えると、セミアディティブ法による配線形成に適用した際、導電パターン３間の銅粒子結合層３ａの除去に時間を要し、生産性が低下するおそれがある。
【００３７】
ベースフィルム２と銅粒子結合層３ａとの間の剥離強度の下限としては、１Ｎ／ｃｍが好ましく、１．５Ｎ／ｃｍがより好ましく、２Ｎ／ｃｍがさらに好ましく、５Ｎ／ｃｍが特に好ましい。上記剥離強度を上記下限以上とすることで、電気的な接続信頼性の高いプリント配線板を製造できる。一方、上記剥離強度の上限としては、特に限定されないが、例えば２０Ｎ／ｃｍ程度である。上記剥離強度は、例えばベースフィルム２に固着される銅粒子の量、後述するインク中の銅粒子のサイズ、後述する塗膜を焼成する際の焼成温度及び焼成時間等により制御できる。
【００３８】
導電パターン３の一方の面の明度Ｌ＊の下限としては、４０が好ましく、５０がより好ましい。導電パターン３の一方の面の明度Ｌ＊が上記下限に満たないと、ベースフィルム２の非積層領域Ｘと導電パターン３の一方の面とのコントラストが十分に得られないおそれがある。なお、導電パターン３の一方の面の明度Ｌ＊の上限としては、特に限定されず、例えば９０とすることができる。
【００３９】
導電パターン３の一方の面の明度Ｌ＊と、ベースフィルム２の非積層領域Ｘの明度Ｌ＊との差の絶対値の下限としては、１０が好ましく、１５がより好ましく、２０がさらに好ましい。上記明度Ｌ＊の差の絶対値が上記下限に満たないと、ベースフィルム２の非積層領域Ｘと導電パターン３の一方の面とのコントラストが十分に得られず、回路欠陥の検査精度を十分に向上できないおそれがある。なお、上記明度Ｌ＊の差の絶対値の上限としては、特に限定されるものではなく、例えば４０とすることができる。
【００４０】
＜利点＞
当該プリント配線板１は、ベースフィルム２の導電パターン非積層領域の明度Ｌ＊が上記上限以下であるので、導電パターン３の一方の面の明度Ｌ＊とベースフィルム２の導電パターン非積層領域の明度Ｌ＊との差を大きくし易い。そのため、当該プリント配線板１は、導電パターン３の一方の面とベースフィルム２の導電パターン非積層領域とのコントラストを十分に確保することで、回路欠陥検査装置から照射される光によって回路欠陥を高精度で検出し易い。従って、当該プリント配線板１は、回路欠陥の誤検査率を低減することができる。
【００４１】
［第二実施形態］
＜プリント配線板＞
図２のプリント配線板１１は、可撓性を有するフレキシブルプリント配線板である。図２のプリント配線板１１は、ベースフィルム２と、ベースフィルム２の一方の面に積層される導電パターン１２とを備える。図２のプリント配線板１１は、導電パターン１２が図１のプリント配線板１の銅粒子結合層３ａの外面に金属めっき層１２ａが形成された構成とされる以外、図１のプリント配線板１と同様である。また、導電パターン１２のパターニング方法としては、例えば図１のプリント配線板１と同様、サブトラクティブ法を採用することができる。当該プリント配線板１１におけるベースフィルム２及び銅粒子結合層３ａは、図１のプリント配線板１と同様のため、同一符号を付して説明を省略する。
【００４２】
（金属めっき層）
金属めっき層１２ａは、めっき金属が銅粒子結合層３ａの空隙に充填され、かつ銅粒子結合層３ａの一方の面に積層されることで形成されている。また、このめっき金属は、銅粒子結合層３ａの全ての空隙に充填されている。当該プリント配線板１１は、銅粒子結合層３ａの空隙にめっき金属が充填されることで、銅粒子結合層３ａの空隙部分が破壊起点となって導電パターン１２がベースフィルム２から剥離するのを抑制することができる。また、当該プリント配線板１１は、銅粒子結合層３ａの空隙にめっき金属が充填されることで、めっき金属の充填後に熱処理を施すことによってベースフィルム２の改質をさらに促進することができる。
【００４３】
金属めっき層１２ａを形成するためのめっき方法は、特に限定されず、無電解めっきであっても電気めっきであってもよい。銅粒子結合層３ａを形成する銅粒子間の空隙をより的確に埋めることで、めっき金属の充填後に熱処理を施すことによってベースフィルム２の改質効果を向上し易い無電解めっきが好ましい。
【００４４】
金属めっき層１２ａを構成する金属としては、導通性のよい銅、ニッケル、銀等を用いることができるが、上記銅粒子との密着力を考慮して、銅又はニッケルを用いることが好ましい。
【００４５】
金属めっき層１２ａの平均厚みの下限としては、５０ｎｍが好ましく、１００ｎｍがより好ましく、２００ｎｍがさらに好ましい。一方、金属めっき層１２ａの平均厚みの上限としては、２μｍが好ましく、１．５μｍがより好ましく、１μｍがさらに好ましい。金属めっき層１２ａの平均厚みが上記下限に満たないと、めっき金属が銅粒子結合層３ａの空隙に十分に充填されないおそれがある。逆に、金属めっき層１２ａの平均厚みが上記上限を超えると、例えば無電解めっきによって金属めっき層１２ａを形成する場合、この無電解めっきに要する時間が長くなり生産性が低下するおそれがある。
【００４６】
なお、本実施形態では、金属めっき層１２ａは、めっき金属が銅粒子結合層３ａの空隙に充填され、かつ銅粒子結合層３ａの一方の面に積層されることで形成されている。しかしながら、金属めっき層１２ａは、めっき金属が銅粒子結合層３ａの空隙に充填される限り、必ずしも銅粒子結合層３ａの一方の面にまで積層される必要はない。
【００４７】
＜利点＞
当該プリント配線板１１は、銅粒子結合層３ａの外面に金属めっき層１２ａを有するので、めっき金属の充填後に熱処理を施すことによってベースフィルム２の改質を促進してベースフィルム２の明度Ｌ＊及び色度ａ＊ｂ＊を調整し易い。
【００４８】
［第三実施形態］
＜プリント配線板＞
図３のプリント配線板２１は、可撓性を有するフレキシブルプリント配線板である。図３のプリント配線板２１は、ベースフィルム２と、ベースフィルム２の一方の面に積層される導電パターン２３とを備える。図３のプリント配線板２１は、導電パターン２３が図１のプリント配線板１の銅粒子結合層３ａの外面に金属めっき層が形成された構成とされる以外、図１のプリント配線板１と同様である。また、導電パターン２３のパターニング方法としては、例えば図１のプリント配線板１と同様、サブトラクティブ法を採用することができる。当該プリント配線板２１におけるベースフィルム２及び銅粒子結合層３ａは、図１のプリント配線板１と同様のため、同一符号を付して説明を省略する。
【００４９】
（金属めっき層）
金属めっき層は、第１めっき層１２ａと、第２めっき層２２ａとを有する。第１めっき層１２ａは、図２の金属めっき層１２ａと同様の構成とされる。
【００５０】
（第２めっき層）
第２めっき層２２ａは、第１めっき層１２ａの一方の面に積層される。第２めっき層２２ａを形成するためのめっき方法は、特に限定されず、無電解めっきであっても電気めっきであってもよいが、厚みの調整を容易かつ正確に行うことができると共に、比較的短時間で第２めっき層２２ａを形成することができる電気めっきが好ましい。
【００５１】
第２めっき層２２ａを構成する金属としては、例えば導通性のよい銅、ニッケル、銀等が挙げられる。
【００５２】
第２めっき層２２ａの平均厚みは、どのようなプリント回路を作製するかによって設定されるもので特に限定されるものではないが、例えば１μｍ以上１００μｍ以下とすることができる。
【００５３】
＜利点＞
当該プリント配線板２１は、金属めっき層が第１めっき層１２ａ及び第２めっき層２２ａを有するので、導電パターン２３の厚みを容易かつ確実に調整することができる。
【００５４】
＜プリント配線板の製造方法＞
次に、図４Ａ〜４Ｄを参照しつつ、当該プリント配線板１，１１，２１の製造方法を説明する。
【００５５】
まず、図４Ａ及び図４Ｂを参照して、当該プリント配線板１の製造方法を説明する。当該プリント配線板１の製造方法は、ベースフィルム２の一方の面に銅粒子４１を含むインクの塗布により塗膜４２を形成する工程と、塗膜４２の焼成により銅粒子結合層３ａ（銅粒子焼結層）を形成する工程と、銅粒子結合層３ａをパターニングする工程とを備える。
【００５６】
（塗膜形成工程）
上記塗膜形成工程では、図４Ａに示すように、ベースフィルム２の一方の面に銅粒子４１を含むインクを塗布し、例えば乾燥することにより塗膜４２を形成する。なお、塗膜４２には、上記インクの分散媒等が含まれていてもよい。
【００５７】
（銅粒子）
上記インクに分散させる銅粒子４１は、高温処理法、液相還元法、気相法等で製造することができる。中でも、液相還元法によれば、製造コストをより低減できる上、水溶液中での攪拌等により、容易に銅粒子４１の粒子径を均一にすることができる。
【００５８】
液相還元法によって銅粒子４１を製造するためには、例えば水に銅粒子４１を形成する銅イオンのもとになる水溶性の銅化合物と分散剤とを溶解させると共に、還元剤を加えて一定時間銅イオンを還元反応させればよい。液相還元法で製造される銅粒子４１は、形状が球状又は粒状で揃っており、しかも微細な粒子とすることができる。上記銅イオンのもとになる水溶性の銅化合物としては、硝酸銅（ＩＩ）（Ｃｕ（ＮＯ３）２）、硫酸銅（ＩＩ）五水和物（ＣｕＳＯ４・５Ｈ２Ｏ）等が挙げられる。
【００５９】
上記還元剤としては、液相（水溶液）の反応系において、銅イオンを還元及び析出させることができる種々の還元剤を用いることができる。この還元剤としては、例えば水素化ホウ素ナトリウム、次亜リン酸ナトリウム、ヒドラジン、３価のチタンイオンや２価のコバルトイオン等の遷移金属のイオン、アスコルビン酸、グルコースやフルクトース等の還元性糖類、エチレングリコールやグリセリン等の多価アルコールなどが挙げられる。中でも、還元剤としては３価のチタンイオンが好ましい。なお、３価のチタンイオンを還元剤とする液相還元法は、チタンレドックス法という。チタンレドックス法では、３価のチタンイオンが４価に酸化される際の酸化還元作用によって銅イオンを還元し、銅粒子４１を析出させる。チタンレドックス法で得られる銅粒子４１は、粒子径が小さくかつ揃っているため、銅粒子４１がより高密度に充填され、塗膜４２をより緻密な膜に形成することができる。
【００６０】
銅粒子４１の粒子径を調整するには、銅化合物、分散剤及び還元剤の種類並びに配合割合を調整すると共に、銅化合物を還元反応させる際に、攪拌速度、温度、時間、ｐＨ等を調整すればよい。反応系のｐＨの下限としては７が好ましく、反応系のｐＨの上限としては１３が好ましい。反応系のｐＨを上記範囲とすることで、微小な粒子径の銅粒子４１を得ることができる。このときｐＨ調整剤を用いることで、反応系のｐＨを上記範囲に容易に調整することができる。このｐＨ調整剤としては、塩酸、硫酸、硝酸、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、アンモニア等の一般的な酸又はアルカリが使用できるが、特に周辺部材の劣化を防止するために、アルカリ金属、アルカリ土類金属、ハロゲン元素、硫黄、リン、ホウ素等の不純物を含まない硝酸及びアンモニアが好ましい。
【００６１】
インク中の銅粒子４１の含有割合の下限としては、５質量％が好ましく、１０質量％がより好ましく、２０質量％がさらに好ましい。また、インク中の銅粒子４１の含有割合の上限としては、５０質量％が好ましく、４０質量％がより好ましく、３０質量％がさらに好ましい。銅粒子４１の含有割合を上記下限以上とすることで、塗膜４２をより緻密な膜に形成することができる。一方、銅粒子４１の含有割合が上記上限を超えると、塗膜４２の膜厚が不均一になるおそれがある。
【００６２】
（その他の成分）
上記インクには、銅粒子４１以外に分散剤が含まれていてもよい。この分散剤としては、特に限定されず、銅粒子４１を良好に分散させることができる種々の分散剤を用いることができる。分散剤の分子量の下限としては、２，０００が好ましい。一方、分散剤の分子量の上限としては、３０，０００が好ましい。分子量が上記範囲の分散剤を用いることで、銅粒子４１をインク中に良好に分散させることができ、塗膜４２の膜質を緻密でかつ欠陥のないものにすることができる。上記分散剤の分子量が上記下限に満たないと、銅粒子４１の凝集を防止して分散を維持する効果が十分に得られないおそれがある。一方、上記分散剤の分子量が上記上限を超えると、分散剤の嵩が大きすぎて、塗膜４２の焼成時において、銅粒子４１同士の焼結を阻害してボイドを生じさせるおそれがある。また、分散剤の嵩が大きすぎると、塗膜４２の緻密さが低下したり、分散剤の分解残渣が導電性を低下させるおそれがある。
【００６３】
上記分散剤は、周辺部材の劣化防止の観点より、硫黄、リン、ホウ素、ハロゲン及びアルカリを含まないものが好ましい。好ましい分散剤としては、分子量が上記範囲にあるもので、ポリエチレンイミン、ポリビニルピロリドン等のアミン系の高分子分散剤、ポリアクリル酸、カルボキシメチルセルロース等の分子中にカルボキシ基を有する炭化水素系の高分子分散剤、ポバール（ポリビニルアルコール）、スチレン−マレイン酸共重合体、オレフィン−マレイン酸共重合体、１分子中にポリエチレンイミン部分とポリエチレンオキサイド部分とを有する共重合体等の極性基を有する高分子分散剤などを挙げることができる。
【００６４】
上記分散剤は、水又は水溶性有機溶媒に溶解させた溶液の状態でインクに配合することもできる。インクに分散剤を配合する場合、分散剤の含有割合の下限としては、１００質量部の銅粒子４１に対して１質量部が好ましい。一方、分散剤の含有割合の上限としては、１００質量部の銅粒子４１に対して６０質量部が好ましい。上記分散剤の含有割合が上記下限に満たないと、銅粒子４１の凝集防止効果が不十分となるおそれがある。逆に、上記分散剤の含有割合が上記上限を超えると、塗膜４２の焼成時に過剰の分散剤が銅粒子４１の焼結を阻害してボイドが発生するおそれがあり、また、分散剤の分解残渣が不純物として焼結体中に残存して導電性を低下させるおそれがある。
【００６５】
上記インクにおける分散媒としては、例えば水が使用できる。水を分散媒とする場合、水の含有割合の下限としては、１００質量部の銅粒子４１に対して２０質量部が好ましい。一方、水の含有割合の上限としては、１００質量部の銅粒子４１に対して１，９００質量部が好ましい。分散媒である水は、例えば分散剤を十分に膨潤させて分散剤で囲まれた銅粒子４１を良好に分散させる役割を果たすが、上記水の含有割合が上記下限に満たないと、この分散剤の膨潤効果が不十分となるおそれがある。逆に、上記水の含有割合が上記上限を超えると、インク中の銅粒子４１の含有割合が少なくなり、必要な厚みと密度とを有する良好な焼結体を形成できないおそれがある。
【００６６】
上記インクには、粘度調整や蒸気圧調整等のために必要に応じて有機溶媒を配合することができる。このような有機溶媒としては、水溶性である種々の有機溶媒が使用可能である。その具体例としては、メチルアルコール、エチルアルコール、ｎ−プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、ｎ−ブチルアルコール、イソブチルアルコール、ｓｅｃ−ブチルアルコール、ｔｅｒｔ−ブチルアルコール等のアルコール類；アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類；エチレングリコール、グリセリン等の多価アルコールやその他のエステル類；エチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル等のグリコールエーテル類などが挙げられる。
【００６７】
インクに有機溶媒を配合する場合、有機溶媒の含有割合の下限としては、１００質量部の銅粒子４１に対して３０質量部が好ましい。一方、有機溶媒の含有割合の上限としては、１００質量部の銅粒子４１に対して９００質量部が好ましい。有機溶媒の含有割合が上記下限に満たないと、インクの粘度調整及び蒸気圧調整の効果が十分に得られないおそれがある。逆に、有機溶媒の含有割合が上記上限を超えると、例えば水による分散剤の膨潤効果が不十分となり、インク中で銅粒子４１の凝集が生じるおそれがある。
【００６８】
なお、液相還元法で銅粒子４１を製造する場合、液相（水溶液）の反応系で析出させた銅粒子４１は、ろ別、洗浄、乾燥、解砕等の工程を経て、一旦粉末状としたものを用いてインクを調製することができる。この場合は、粉末状の銅粒子４１と、水等の分散媒と、必要に応じて分散剤、有機溶媒等とを所定の割合で配合し、銅粒子４１を含むインクとすることができる。このとき、銅粒子４１を析出させた液相（水溶液）を出発原料としてインクを調製することが好ましい。具体的には、析出した銅粒子４１を含む液相（水溶液）を限外ろ過、遠心分離、水洗、電気透析等の処理に供して不純物を除去し、必要に応じて濃縮して水を除去する。又は、逆に水を加えて銅粒子４１の濃度を調整した後、さらに必要に応じて有機溶媒を所定の割合で配合することによって銅粒子４１を含むインクを調製する。この方法では、銅粒子４１の乾燥時の凝集による粗大で不定形な粒子の発生を防止することができ、緻密で均一な焼結体を形成し易い。
【００６９】
銅粒子４１を分散させたインクをベースフィルム２の一方の面に塗布する方法としては、スピンコート法、スプレーコート法、バーコート法、ダイコート法、スリットコート法、ロールコート法、ディップコート法等の従来公知の塗布法を用いることができる。また、スクリーン印刷、ディスペンサ等によりベースフィルム２の一方の面の一部のみにインクを塗布するようにしてもよい。インクの塗布後、例えば室温以上の温度で乾燥することにより塗膜４２が形成される。乾燥温度の上限としては、１００℃が好ましく、４０℃がより好ましい。乾燥温度が上記上限を超えると、塗膜４２の急激な乾燥により、塗膜４２にクラックが発生するおそれがある。
【００７０】
（銅粒子結合層形成工程）
上記銅粒子結合層形成工程では、塗膜４２の焼成により銅粒子結合層３ａを形成する。
【００７１】
上記銅粒子結合層形成工程では、図４Ｂに示すように、焼成によって銅粒子４１同士を焼結すると共に、焼結体をベースフィルム２の一方の面に固着することで銅粒子結合層３ａを形成する。なお、インクに含まれ得る分散剤やその他の有機物は、焼成によって揮発又は分解される。また、この焼成によって、ベースフィルム２の表層に銅粒子４１に由来する金属酸化物、具体的には主に酸化銅が拡散し、ベースフィルム２の一方の面側に改質層２ａが形成されると考えられる。
【００７２】
上記焼成は、銅粒子結合層３ａとベースフィルム２との界面近傍の銅粒子４１の酸化を促進させてベースフィルム２の表層を確実に改質するため、一定量の酸素が含まれる雰囲気下で行うことが好ましい。この場合、焼成雰囲気の酸素濃度の下限としては、１体積ｐｐｍが好ましく、１０体積ｐｐｍがより好ましい。また、上記酸素濃度の上限としては、１０，０００体積ｐｐｍが好ましく、１，０００体積ｐｐｍがより好ましい。上記酸素濃度が上記下限に満たないと、銅粒子結合層３ａとベースフィルム２との界面近傍における酸化銅の生成量が少なくなり、ベースフィルム２の表層を十分に改質できないおそれがある。逆に、上記酸素濃度が上記上限を超えると、銅粒子４１の過度の酸化によって銅粒子結合層３ａの導電性が低下するおそれがある。
【００７３】
焼成温度の下限としては、２５０℃が好ましく、３００℃がより好ましく、３３０℃がさらに好ましい。一方、焼成温度の上限としては、５００℃が好ましく、４００℃がより好ましい。焼成温度が上記下限に満たないと、銅粒子結合層３ａとベースフィルム２との界面近傍における酸化銅等の生成量が少なくなり、ベースフィルム２の一方の面側を十分に改質できないおそれがある。逆に、焼成温度が上記上限を超えると、ベースフィルム２が変形するおそれがある。但し、上記焼成温度としては、銅粒子４１の焼結体がベースフィルム２に固着される温度である限り限定されるものではなく、後述する焼成時間との組合せによって適宜設定可能であり、例えば１００℃以下程度とすることもできる。
【００７４】
焼成時間の下限としては、８０分が好ましく、１００分がより好ましい。一方、焼成時間の上限としては、１８０分が好ましく、１５０分がより好ましい。焼成時間が上記下限に満たないと、ベースフィルム２の一方の面側を十分に改質できないおそれがある。逆に、焼成温度が上記上限を超えると、ベースフィルム２が変形するおそれがある。なお、上記焼成温度及び焼成時間をいずれも上記範囲とすることが特に好ましい。これにより、ベースフィルム２の変形を防止しつつベースフィルム２の一方の面側を十分に改質し、このベースフィルム２の一方の面の明度Ｌ＊及び色度ａ＊ｂ＊を所望の範囲に調整し易い。
【００７５】
（パターニング工程）
上記パターニング工程では、上記銅粒子結合層形成工程で形成された銅粒子結合層３ａのパターニングによりベースフィルム２の一方の面に導電パターンを形成する。このパターニング工程によって、図１のプリント配線板１が得られる。上記パターニング工程におけるパターニングは、公知のエッチング手法によって行うことができる。
【００７６】
次に、図４Ａ及び図４Ｃを参照して、当該プリント配線板１１の製造方法を説明する。当該プリント配線板１１の製造方法は、ベースフィルム２の一方の面に銅粒子４１を含むインクの塗布により塗膜４２を形成する工程と、塗膜４２の焼成により銅粒子結合層３ａ（銅粒子焼結層）を形成する工程と、銅粒子結合層３ａの外面に金属めっき層１２ａを形成する工程と、銅粒子結合層３ａ及び金属めっき層１２ａからなる積層体をパターニングする工程とを備える。
【００７７】
当該プリント配線板１１の製造方法における塗膜形成工程及び銅粒子結合層形成工程は、上述のプリント配線板１の塗膜形成工程及び銅粒子結合層形成工程と同様である。また、当該プリント配線板１１の製造方法のパターニング工程におけるパターニングは、上述のプリント配線板１と同様、公知のエッチング手法によって行うことができる。そのため、以下では、金属めっき層形成工程についてのみ説明する。
【００７８】
（金属めっき層形成工程）
上記金属めっき層形成工程では、銅粒子結合層３ａの空隙をめっき金属で充填すると共に、このめっき金属を銅粒子結合層３ａの一方の面に積層する。
【００７９】
金属めっき層１２ａを形成するためのめっき方法は、特に限定されず、無電解めっきであっても電気めっきであってもよい。銅粒子結合層３ａを形成する銅粒子間の空隙をより的確に埋めることで、めっき金属の充填後に熱処理を施すことによってベースフィルム２の改質効果を向上し易い無電解めっきが好ましい。
【００８０】
上記無電解めっきを採用する場合の手順は特に限定されず、例えばクリーナ工程、水洗工程、酸処理工程、水洗工程、プレディップ工程、アクチベータ工程、水洗工程、還元工程、水洗工程等の処理と共に、公知の手段で無電解めっきを行えばよい。
【００８１】
上記電気めっきを採用する場合についても、手順は特に限定されず、例えば公知の電解めっき浴及びめっき条件から適宜選択すればよい。
【００８２】
また、銅粒子結合層３ａの空隙をめっき金属で充填した後、さらに熱処理を行うことが好ましい。この熱処理により、銅粒子結合層３ａとベースフィルム２との界面近傍における酸化銅がさらに増加するため、ベースフィルム２の一方の面の改質をさらに促進することができる。なお、この熱処理温度及び熱処理時間としては、上述のプリント配線板１の銅粒子結合層形成工程における焼成温度及び焼成時間と同様とすることができる。
【００８３】
続いて、図４Ａ及び図４Ｄを参照して、当該プリント配線板２１の製造方法を説明する。当該プリント配線板２１の製造方法は、ベースフィルム２の一方の面に銅粒子４１を含むインクの塗布により塗膜４２を形成する工程と、塗膜４２の焼成により銅粒子結合層３ａ（銅粒子焼結層）を形成する工程と、銅粒子結合層３ａの外面に金属めっき層を形成する工程と、銅粒子結合層３ａ及び金属めっき層からなる積層体をパターニングする工程とを備える。
【００８４】
当該プリント配線板２１の製造方法における塗膜形成工程及び銅粒子結合層形成工程は、上述のプリント配線板１の塗膜形成工程及び銅粒子結合層形成工程と同様である。また、当該プリント配線板２１の製造方法のパターニング工程におけるパターニングは、上述のプリント配線板１と同様、公知のエッチング手法によって行うことができる。そのため、以下では、金属めっき層形成工程についてのみ説明する。
【００８５】
（金属めっき層形成工程）
上記金属めっき層形成工程では、上記金属めっき層１２ａと同様の第１めっき層１２ａを形成する工程と、第１めっき層１２ａの表面に第２めっき層２２ａを形成する工程とを有する。第１めっき層形成工程は、上述の金属めっき層１２ａを形成する工程と同様のため、説明を省略する。
【００８６】
第２めっき層２２ａを形成するためのめっき方法は、特に限定されるものではなく、無電解めっきであっても電気めっきであってもよいが、厚みの調整を容易かつ正確に行うことができると共に、比較的短時間で第２めっき層２２ａを形成することができる電気めっきが好ましい。
【００８７】
上記無電解めっきを採用する場合の手順は特に限定されず、上述の金属めっき層１２ａを形成する場合と同様の手順で行うことができる。また、上記電気めっきを採用する場合についても、手順は特に限定されず、上述の金属めっき層１２ａを形成する場合と同様の手順で行うことができる。
【００８８】
＜利点＞
当該プリント配線板の製造方法は、当該プリント配線板を容易かつ確実に製造することができる。また、当該プリント配線板の製造方法は、金属めっき層形成工程においてめっき金属の充填後に熱処理を施すことによって、ベースフィルム２の一方の面側の改質を促進してベースフィルム２の一方の面の明度Ｌ＊及び色度ａ＊ｂ＊をより確実に調整することができる。
【００８９】
［その他の実施形態］
今回開示された実施の形態は全ての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は、上記実施形態の構成に限定されるものではなく、請求の範囲によって示され、請求の範囲と均等の意味及び範囲内での全ての変更が含まれることが意図される。
【００９０】
例えば、当該プリント配線板は、必ずしも可撓性を有しなくてもよい。また、当該プリント配線板は、ベースフィルムの一方の面のみに銅粒子結合層を含む導電パターンを有する必要はなく、この導電パターンをベースフィルムの両面に有していてもよい。また、当該プリント配線板は、ベースフィルムの両面に上記導電パターンを有する場合、この両方の銅粒子結合層の外面に金属めっき層を有していてもよい。当該プリント配線板は、ベースフィルムの両面に上記導電パターンを有する場合、ベースフィルムの両面側を改質することができ、両面の明度Ｌ＊及び色度ａ＊ｂ＊を容易に調整することができる。これにより、回路欠陥の誤検出率の抑制効果を促進することができる。
【００９１】
上記ベースフィルムは、必ずしも一方の面側に改質層を有しなくてもよい。当該プリント配線板は、例えば上記ベースフィルムが複数の樹脂フィルムの積層体として構成され、最表面に積層されるフィルムによって明度Ｌ＊を上記範囲に調整してもよい。
【００９２】
当該プリント配線板は、必ずしもサブトラクティブ法によって形成される必要はなく、セミアディティブ法によって形成してもよい。
【００９３】
また、本発明は当該プリント配線板を用いた電子部品も対象とする。具体的には、本発明においては、例えば上記実施形態のような当該プリント配線板と、半導体デバイスやチップ抵抗器等の素子が電気的に接続される電子部品も意図する範囲内である。当該電子部品は、回路欠陥の誤検査率を低減可能な当該プリント配線板を備えるので、回路欠陥の発生率を低減することができる。
【実施例】
【００９４】
以下、実施例によって本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。【００９５】
［Ｎｏ．１〜Ｎｏ．３］
液相還元法によって得られた平均粒子径６０ｎｍの銅粒子を溶媒の水に分散させ、銅濃度が２６質量％のインクを調製した。次に、ベースフィルムとして平均厚み２５μｍのポリイミドフィルムを用い、このポリイミドフィルムの一方の面にウェットブラスト処理及びプラズマ処理をこの順で施した（以下、このウェットブラスト処理及びプラズマ処理をまとめて「表面処理」ともいう。）。さらに、上記インクをポリイミドフィルムの一方の面に塗布し、大気中で乾燥して塗膜を形成した。そして、酸素濃度が１００体積ｐｐｍの窒素雰囲気中で１２０分間、３５０℃で上記塗膜を焼成し、ポリイミドフィルムに固着された銅粒子結合層（平均厚み１５０ｎｍ）を備えたＮｏ．１〜Ｎｏ．３のプリント配線板用基材を得た。【００９６】
続いて、Ｎｏ．１〜Ｎｏ．３のプリント配線板用基材の銅粒子結合層の一方の面に銅の無電解めっきを行い平均厚み１μｍの第１めっき層を形成した。さらに銅の電気めっきを行い平均厚み２５μｍの第２めっき層を形成した。この第１めっき層及び第２めっき層が形成されたプリント配線板用基材を、酸素濃度が１００体積ｐｐｍの窒素雰囲気中で１２０分間、３５０℃で熱処理した上、サブトラクティブ法を用いてＮｏ．１〜Ｍｏ．３のプリント配線板を製造した。なお、上記サブトラクティブ法におけるエッチング液としては、苛性ソーダ水溶液を用いた。また、Ｎｏ．１〜Ｎｏ．３のベースフィルムの厚み方向の断面を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）によって観察したところ、銅粒子結合層が固着した面から１０ｎｍまでの領域にベースフィルムの他の領域とは異なる組成の絶縁層が形成されており、このことからこの組成が異なった領域が改質されている（つまり、改質層である）と考えられる。【００９７】
［Ｎｏ．４］
ベースフィルムとして平均厚み２５μｍのポリイミドフィルムを用い、このポリイミドフィルムの一方の面にＮｏ．１〜Ｎｏ．３と同様の表面処理を施した。さらに、ポリイミドフィルムの一方の面に接着剤を用いて圧延銅箔（平均厚み１２μｍ）を積層し、Ｎｏ．４のプリント配線板用基材を得た。また、このプリント配線板用基材を、酸素濃度が１００体積ｐｐｍの窒素雰囲気中で１２０分間、３５０℃で熱処理した。その後、サブトラクティブ法を用いてＮｏ．４のプリント配線板を製造した。なお、上記サブトラクティブ法におけるエッチング液としては、苛性ソーダ水溶液を用いた。なお、Ｎｏ．４のプリント配線板では銅粒子結合層が存在せず、上述のような改質層は観察されない。【００９８】
［プリント配線板用基材の品質］
＜明度及び色度＞
上記Ｎｏ．１〜Ｎｏ．４のプリント配線板用基材について、表面処理前におけるベースフィルムの一方の面の明度Ｌ＊及び色度ａ＊ｂ＊を測定した。この明度Ｌ＊及び色度ａ＊ｂ＊は、色差計（コニカミノルタ株式会社製の「ＣＲ−４００」）を用い、ＪＩＳ−Ｚ８７８１−４（２０１３）に準拠して測定した。この明度Ｌ＊及び色度ａ＊ｂ＊の測定結果を表１に示す。【００９９】
＜外部透過率＞
上記Ｎｏ．１〜Ｎｏ．４のプリント配線板用基材について、表面処理前におけるベースフィルムの波長５００ｎｍの外部透過率を測定した。この外部透過率は、朝日分光株式会社製の「ＴＬＶ−３０４−ＢＰ」を用いて測定した。この外部透過率の測定結果を表１に示す。【０１００】
【表１】
2017029973.tif 000003
【０１０１】
［プリント配線板の品質及び評価］
＜明度及び色度＞
Ｎｏ．１〜Ｎｏ．４のプリント配線板について、導電パターンの一方の面の明度Ｌ＊を上記と同様の測定方法によって測定した。また、Ｎｏ．１〜Ｎｏ．４のプリント配線板について、ベースフィルムの導電パターン非積層領域の明度Ｌ＊及び色度ａ＊ｂ＊を上記と同様の測定方法によって測定した。この測定結果を表２に示す。【０１０２】
＜外部透過率＞
Ｎｏ．１〜Ｎｏ．４のプリント配線板について、ベースフィルムの導電パターン非積層領域の波長５００ｎｍの外部透過率を上記と同様の測定装置を用いて測定した。この測定結果を表２に示す。【０１０３】
＜明度差＞
Ｎｏ．１〜Ｎｏ．４のプリント配線板について、導電パターンの一方の面の明度Ｌ＊から、ベースフィルムの導電パターン非積層領域の明度Ｌ＊を引いた差の絶対値（明度Ｌ＊差）を算出した。この算出結果を表２に示す。【０１０４】
＜回路欠陥の誤検出率＞
Ｎｏ．１〜Ｎｏ．４のプリント配線板をそれぞれ複数用意し、これら複数のプリント配線板について自動光学検査装置（ＡＯＩ：Ａｕｔｏｍａｔｅｄ  Ｏｐｔｉｃａｌ  Ｉｎｓｐｅｃｔｉｏｎ  ｓｙｓｔｅｍ）を用いて回路欠陥を検出した。次に、ＡＯＩで回路欠陥が検出されたＮｏ．１〜Ｎｏ．４それぞれ１００個のプリント配線板について、正確な回路欠陥の有無を光学顕微鏡を用いて目視にて検査した。上記光学顕微鏡を用いて回路欠陥が検出されたプリント配線板の数をＡとし、Ｎｏ．１〜Ｎｏ．４のプリント配線板のそれぞれの回路欠陥の誤検出率を（１００−Ａ）／１００×１００［％］によって算出した。この算出結果を表２に示す。【０１０５】
【表２】
2017029973.tif 000004
【０１０６】
［評価結果］
表１，２に示すように、Ｎｏ．１〜Ｎｏ．３のプリント配線板は、導電パターン非積層領域の明度Ｌ＊が４４．１〜４６．６で、いずれも６０以下となっていることが分かる。またこれは、導電パターン非積層領域の明度Ｌ＊が、プリント配線板用基材における表面処理前のベースフィルムの明度Ｌ＊よりも２３以上も低くなっていることに基づいていることが分かる。一方、Ｎｏ．４のプリント配線板では、導電パターン非積層領域の明度Ｌ＊が６２．０で、６０より大きくなっている。さらに、表２に示すように、Ｎｏ．１〜Ｎｏ．３のプリント配線板では、導電パターンの一方の面の明度Ｌ＊と、ベースフィルムの導電パターン非積層領域の明度Ｌ＊との差が２５．３〜２７．３で、１０以上となっていることが分かる。これに対して、Ｎｏ．４のプリント配線板は、上記の明度Ｌ＊差は９．１と低い。そのため、Ｎｏ．１〜Ｎｏ．３のプリント配線板は、ベースフィルムの導電パターン非積層領域と導電パターンの一方の面とのコントラストが十分に得られており、その結果、Ｎｏ．４のプリント配線板に比べて回路欠陥の検査精度が向上していることが分かる。
【符号の説明】
【０１０７】
１，１１，２１  プリント配線板
２  ベースフィルム
２ａ  改質層
２ｂ  非改質層
３，１２，２３  導電パターン
３ａ  銅粒子結合層
１２ａ  金属めっき層（第１めっき層）
２２ａ  第２めっき層
４１  銅粒子
４２  塗膜
【図１】
2017029973.tif 000005
【図２】
2017029973.tif 000006
【図３】
2017029973.tif 000007
【図４Ａ】
2017029973.tif 000008
【図４Ｂ】
2017029973.tif 000009
【図４Ｃ】
2017029973.tif 000010
【図４Ｄ】
2017029973.tif 000011
【国際調査報告】
2017029973.tif 000012
2017029973.tif 000013
2017029973.tif 000014
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