(57)【要約】  シームレスな連続的印刷をすることができるようにした、シームレスオフセット円筒状印刷版及びその製造方法並びに再生処理方法を提供する。  円筒状版母材と、前記円筒状版母材表面に形成された親水性の梨地状粗面と、前記梨地状粗面に形成された疎水性のレジストパターン部と、を含み、前記梨地状粗面が露出している部分が非画線部とされ、前記レジストパターン部が画線部とされてなる、シームレスオフセット円筒状印刷版とした。
2017104327.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
円筒状版母材と、
前記円筒状版母材の表面に形成された親水性の梨地状粗面と、
前記梨地状粗面に形成された疎水性のレジストパターン部と、
を含み、
前記梨地状粗面が露出している部分が非画線部とされ、前記レジストパターン部が画線部とされてなる、シームレスオフセット円筒状印刷版。
【請求項２】
円筒状版母材を準備する工程と、
前記円筒状版母材の表面に親水性の梨地状粗面を形成する工程と、
前記梨地状粗面にレジストを塗布し、レーザ露光し、現像し、疎水性のレジストパターン部を形成する工程と、
を含み、
前記梨地状粗面が露出している部分が非画線部とされ、前記レジストパターン部が画線部とされてなる、シームレスオフセット円筒状印刷版の製造方法。
【請求項３】
請求項１記載のシームレスオフセット円筒状印刷版を用いてオフセット印刷した後、
前記オフセット印刷後のシームレスオフセット円筒状印刷版の表面に対して、超音波洗浄処理、化学薬品処理洗浄処理、マイクロバブル洗浄処理、サンドブラスト処理及び液体ホーニング処理からなる群から選ばれる１又は２以上の処理を行うことにより、前記レジストパターン部を除去し、前記円筒状版母材の表面に梨地状粗面が形成された再生円筒状版母材とする工程を含む、シームレスオフセット円筒状印刷版の再生処理方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、オフセット印刷に用いられる継ぎ目の無いシームレスオフセット円筒状印刷版及びその製造方法並びに再生処理方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
通常のオフセット印刷方式は、アルミなどの版材（プレートとも呼ばれる）の面上に梨地状の細かい凹凸を作って、感光材を用いて画線部と非画線部を形成して版とし、この版を版胴に巻き付け、この版面上に供給されたインキをゴムブランケットに転写し、圧胴との間に紙を通して印刷を行う印刷方式である。そして、印刷にあたっては、画線部に油性のインキを供給し、非画線部に湿し水と呼ばれる水（イソプロピルアルコールなども少量含まれている）を供給して、水と油の反発作用によって印刷する。従来のオフセット印刷版の製造方法は例えば特許文献１に記載されている。【０００３】
一方、上述したように、版を版胴に巻き付けると、巻回させた版の両端部分に継ぎ目が必ず存在することとなる。このような継ぎ目が存在すると、継ぎ目の部分には画像を形成することができないため、シームレスな連続的印刷をすることができないという問題があった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開昭４８−４９５０１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明は、シームレスな連続的印刷をすることができるようにした、シームレスオフセット円筒状印刷版及びその製造方法並びに再生処理方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記課題を解決するため、本発明のシームレスオフセット円筒状印刷版は、円筒状版母材と、前記円筒状版母材の表面に形成された親水性の梨地状粗面と、前記梨地状粗面に形成された疎水性のレジストパターン部と、を含み、前記梨地状粗面が露出している部分が非画線部とされ、前記レジストパターン部が画線部とされてなる、シームレスオフセット円筒状印刷版である。【０００７】
本発明のシームレスオフセット円筒状印刷版の製造方法は、円筒状版母材を準備する工程と、前記円筒状版母材の表面に親水性の梨地状粗面を形成する工程と、前記梨地状粗面にレジストを塗布し、レーザ露光し、現像し、疎水性のレジストパターン部を形成する工程と、を含み、前記梨地状粗面が露出している部分が非画線部とされ、前記レジストパターン部が画線部とされてなる、シームレスオフセット円筒状印刷版の製造方法である。【０００８】
本発明のシームレスオフセット円筒状印刷版の再生処理方は、前記シームレスオフセット円筒状印刷版を用いてオフセット印刷した後、前記オフセット印刷後のシームレスオフセット円筒状印刷版の表面に対して、超音波洗浄処理、化学薬品処理洗浄処理、マイクロバブル洗浄処理、サンドブラスト処理及び液体ホーニング処理からなる群から選ばれる１又は２以上の処理を行うことにより、前記レジストパターン部を除去し、前記円筒状版母材の表面に梨地状粗面が形成された再生円筒状版母材とする工程を含む、シームレスオフセット円筒状印刷版の再生処理方法である。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、シームレスな連続的印刷をすることができるようにした、シームレスオフセット円筒状印刷版及びその製造方法並びに再生処理方法を提供することができるという著大な効果を有する。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】本発明のシームレスオフセット円筒状印刷版の一つの実施の形態を示す要部断面図である。
【図２】本発明のシームレスオフセット円筒状印刷版の製造方法を模式的に示す要部断面図であり、（ａ）は円筒状版母材を準備した状態、（ｂ）は円筒状版母材の表面に梨地状粗面を形成した状態、（ｃ）は梨地状粗面にレジストを塗布した状態、（ｄ）は、露光・現像せしめてレジストパターン部を形成した状態をそれぞれ示す。
【図３】本発明のシームレスオフセット円筒状印刷版を用いたオフセット印刷装置の要部概略模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
以下に本発明の実施の形態を説明するが、これら実施の形態は例示的に示されるもので、本発明の技術思想から逸脱しない限り種々の変形が可能なことはいうまでもない。なお、同一部材は同一符号で表される。
【００１２】
本発明のシームレスオフセット円筒状印刷版の一つの実施の形態を図１に示す。図１において、符号１６は、本発明のオフセット印刷版を示す。
【００１３】
本発明のシームレスオフセット円筒状印刷版１６は、中空の円筒状版母材１０と、前記版母材１０の表面に形成された親水性の梨地状粗面１２と、前記梨地状粗面１２上に形成された疎水性のレジストパターン部１４と、を含むように構成された継ぎ目の無いシームレスな円筒状のオフセット印刷版である。
【００１４】
シームレスオフセット円筒状印刷版１６は、前記梨地状粗面１２は親水性なので前記梨地状粗面１２が露出している部分は非画線部（湿し水によってインキがはじかれて付かない部分）とされており、前記レジストパターン部１４は疎水性なので画線部（インキが付く部分）とされている。
【００１５】
図２は、本発明のシームレスオフセット円筒状印刷版１６の製造方法を模式的に示す要部断面図である。
【００１６】
まず、中空の円筒状版母材１０を準備する（図２（ａ））。円筒状版母材の材質としては、アルミニウムや鉄などの金属が好適である。そして、円筒状版母材１０の表面上にサンドブラストなどの処理によって梨地状の細かい凹凸を作り、梨地状粗面１２を形成する（図２（ｂ））。このように、梨地状粗面１２とすると、湿し水をかけたときに水を保持するため、親水性の表面となる。
【００１７】
そして、梨地状粗面１２にレジスト（感光材）１３を塗布する（図２（ｃ））。乾燥させた後、前記レジスト１３をレーザ露光装置でレーザ露光し、現像すると、レジストパターン部１４が形成される（図２（ｄ））。レジストパターン部１４は疎水性なので画線部となる。感光材１３の塗布厚としては、０．１μｍ〜１０μｍ程度が好ましい。これにより、前記梨地状粗面１２が露出した部分ができ、この前記梨地状粗面１２が露出した部分が非画線部となり、前記レジストパターン部１４が画線部となる。このようにして、オフセット印刷版１６が完成する。
【００１８】
次に、本発明のオフセット印刷版１６を用いたオフセット印刷装置の一つの実施の形態を図３に示す。
【００１９】
図３において、符号２８は、オフセット印刷装置を示す。オフセット印刷装置２８は、オフセット印刷版１６と、ブランケット胴１８と、圧胴２０と、を備える、オフセット印刷装置であり、被印刷材料２２にインク２４で印刷されている。図示例では、被印刷材料２２は紙の例を示したが、プラスチックフィルムなどにも適用できる。
【００２０】
また、シームレスオフセット円筒状印刷版１６を用いて図３のようにオフセット印刷した後、前記オフセット印刷後のシームレスオフセット円筒状印刷版１６の表面に対して、超音波洗浄処理、化学薬品処理洗浄処理、マイクロバブル洗浄処理、サンドブラスト処理及び液体ホーニング処理からなる群から選ばれる１又は２以上の処理を行うことにより、前記レジストパターン部１４を除去し、前記円筒状版母材１０の表面に梨地状粗面１２が形成された再生円筒状版母材とすることができる。
【００２１】
前記超音波洗浄処理としては、例えば、シームレスオフセット円筒状印刷版１６を水中に浸漬させながら超音波をシームレスオフセット円筒状印刷版１６の表面に照射することで超音波洗浄処理を行うことができ、これにより前記レジストパターン部１４を除去することができる。
【００２２】
前記化学薬品処理洗浄処理としては、アルカリ溶液をシームレスオフセット円筒状印刷版１６の表面に塗布することで化学薬品処理洗浄処理を行うことができ、これにより前記レジストパターン部１４を除去することができる。アルカリ溶液としては、例えば、水酸化ナトリウム濃度が１〜２０％の水酸化ナトリウム水溶液などを使用できる。また、前記化学薬品処理洗浄処理として、溶剤をシームレスオフセット円筒状印刷版１６の表面に塗布することで化学薬品処理洗浄処理を行うことができ、これにより前記レジストパターン部１４を除去することができる。溶剤としては、例えばアルコールやＭＥＫ（メチルエチルケトン）などを使用できる。
【００２３】
前記マイクロバブル洗浄処理としては、例えば、シームレスオフセット円筒状印刷版１６を水中に浸漬させながら、マイクロバブル発生装置を用いて微細な気体（例えば空気）を水中に溶かし込んだマイクロバブルを発生させ、マイクロバブルによる洗浄を行うことでマイクロバブル洗浄処理を行うことができる。これにより前記レジストパターン部１４を除去することができる。マイクロバブル発生装置としては、市販のものを使用することができる。
【００２４】
前記サンドブラスト処理としては、シームレスオフセット円筒状印刷版１６の表面に砂などの研磨材を吹き付けることでサンドブラスト処理を行うことができ、これにより前記レジストパターン部１４を除去することができる。
【００２５】
前記液体ホーニング処理としては、シームレスオフセット円筒状印刷版１６の表面に、細かい砥粒を分散させたスラリーを圧縮空気で高速で噴射することで、液体ホーニング処理を行うことができ、これにより前記レジストパターン部１４を除去することができる。
【００２６】
上記した前記レジストパターン部を除去するための処理は、２以上の処理を組み合わせてもよい。
【００２７】
このようにして、本発明のシームレスオフセット円筒状印刷版の再生処理方法によれば、前記レジストパターン部１４を除去することで、前記円筒状版母材１０の表面に梨地状粗面１２が形成された再生円筒状版母材とすることができる。そして、前記梨地状粗面１２に再度レジストを塗布し、乾燥させた後、レーザ露光し、現像し、疎水性のレジストパターン部を形成する工程を経ることで、再生したシームレスオフセット円筒状印刷版となる。
【符号の説明】
【００２８】
１０：円筒状版母材、１２：梨地状粗面、１３：感光材、１４：レジストパターン部、１６：オフセット印刷版、１８：ブランケット胴、２０：圧胴、２２：被印刷材料、２４：インク、２８：オフセット印刷装置。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【国際調査報告】
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