(57)【要約】  第１級もしくは第２級アルコール化合物を酸化してアルデヒド化合物又はケトン化合物を製造する製造方法であり、  アルコール化合物が、分子内にアミノ基、アジド基、ヒドロキシ基および保護基で保護されたヒドロキシ基から選択される基を有し、  アルコール化合物、炭素数２〜８のジアルキルスルホキシド及び炭素数４〜１０の酸無水物を、流通型フローリアクター中で衝突混合させて反応させる第１工程、及び、第１工程で混合した混合液体と炭素数３〜１０のトリアルキルアミンを流通型フローリアクター中で衝突混合させて反応する第２工程を連続反応して行うアルデヒド化合物又はケトン化合物の製造方法。
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１級もしくは第２級アルコール化合物を酸化してアルデヒド化合物またはケトン化合物を製造する製造方法であって、
前記アルコール化合物が、分子内にアミノ基、アジド基、ヒドロキシ基および保護基で保護されたヒドロキシ基から選択される基を有し、
前記アルコール化合物、炭素数２〜８のジアルキルスルホキシドおよび炭素数４〜１０の酸無水物を、流通型フローリアクター中で衝突混合させて反応させる第１工程、および、該第１工程で混合した混合液体と炭素数３〜１０のトリアルキルアミンを流通型フローリアクター中で衝突混合させて反応する第２工程を連続反応して行うアルデヒド化合物またはケトン化合物の製造方法。
【請求項２】
前記アルデヒド化合物またはケトン化合物が、前記アルコール化合物が分子内に有する前記アミノ基、アジド基、ヒドロキシ基および保護基で保護されたヒドロキシ基から選択される基を有する請求項１に記載の製造方法。
【請求項３】
前記保護基で保護されたヒドロキシ基が、アシルオキシ基、スルホニルオキシ基、スルホニルアミノカルボニルオキシ基、シリルオキシ基、アルコキシエチレンオキシ基、アルキルチオエチレンオキシ基、下記一般式（ｐ）で表される基である請求項１または２に記載の製造方法。
【化１】
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一般式（ｐ）において、Ｘは−Ｏ−または−Ｓ−を表し、Ｒｐ１〜Ｒｐ５は各々独立に、水素原子、アルキル基またはアリール基を表す。ここで、Ｒｐ１と、Ｒｐ２またはＲｐ３が互いに結合して環を形成してもよい。
【請求項４】
前記アルコール化合物が、分子内にアミノ基、アジド基、ヒドロキシ基および保護基で保護されたヒドロキシ基から選択される前記基を、少なくとも２つ有する請求項１〜３のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項５】
前記アルコール化合物が、環状アルコール化合物である請求項１〜４のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項６】
前記アルコール化合物が、環を構成する原子または結合に、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−または−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−を有する環状アルコール化合物である請求項１〜５のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項７】
前記アルコール化合物が、６員環以上の環状アルコール化合物である請求項１〜６のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項８】
前記アルコール化合物が、不斉炭素原子を２つ以上有する請求項１〜７のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項９】
前記第１工程が、前記アルコール化合物および前記炭素数２〜８のジアルキルスルホキシドを含む液体と、前記炭素数４〜１０の酸無水物を、流通型フローリアクター中で衝突混合させて反応させる工程である請求項１〜８のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項１０】
前記第１工程における混合線速度が、０．０１ｍ／ｓ〜６．０ｍ／ｓである請求項１〜９のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項１１】
前記第１工程の反応温度が、−３０〜３０℃である請求項１〜１０のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項１２】
前記第２工程の反応温度が、−３０〜５０℃である請求項１〜１１のいずれか１項に記載の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、アルデヒド化合物またはケトン化合物の製造方法に関する。
さらに詳細には、流路中のフロー反応により、第１級もしくは第２級アルコール化合物を酸化してアルデヒド化合物またはケトン化合物を製造する製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
第１級もしくは第２級アルコール化合物を酸化してアルデヒド化合物またはケトン化合物を製造する方法は有機合成反応上非常に重要であり、しかも工業的にも極めて有用な方法である。酸化剤としては、クロム酸、二酸化マンガン、次亜塩素酸塩、ハロゲン酸塩、セレン化合物、四酸化ルテニウム（ＲｕＯ４）、遷移金属触媒、５価ビスマス化合物、炭酸銀、銅（ＩＩ）塩、四酢酸鉛などが挙げられる。また、ジメチルスルホキシドによる酸化、Ｎ−ハロゲノカルボン酸アミドによる酸化、ジメチルスルフィドとＮ−クロロスクシンイミドを活性化剤として使用するＣｏｒｅｙ−Ｋｉｍ酸化、カルボニル化合物による酸化（Ｏｐｐｅｎａｕｅｒ酸化）や、ピナコール−ピナコロン転位などの転位を利用した酸化が挙げられる。【０００３】
ジメチルスルホキシドを用いる酸化としては、ＤＭＳＯ−ＤＣＣ法（Ｐｆｉｔｚｎｅｒ−Ｍｏｆｆａｔｔ法）、ＤＮＳＯ−無水酢酸法（Ａｌｂｒｉｇｈｔ−Ｇｏｌｄｍａｎ法）、ＤＭＳＯ−五酸化リン法（小野寺法）、ＤＭＳＯ−三酸化硫黄−ピリジン法、ＤＭＳＯ−塩化オキサリル法、ＤＭＳＯ−無水トリフルオロ酢酸法（共にＳｗｅｒｎ法）などが挙げられる。【０００４】
ジメチルスルホキシドによる酸化のなかでも、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）と無水トリフルオロ酢酸とを活性化剤として使用するスワーン酸化（Ｓｗｅｒｎ酸化）は、重金属を含有する廃棄物を生成することがなく、適用化合物の範囲が広く、しかも過剰な酸化が起きないため、実験室レベルにおいては広く利用されている。
しかしながら、Ｓｗｅｒｎ酸化では、スルホキシド化合物の活性化体（無水トリフルオロ酢酸の場合、トリフルオロアセトキシジメチルスルホニウム塩）やアルコキシスルホニウム塩などの中間体は、熱的に不安定であり、反応温度を−５０℃以下に維持しないと、−３０℃以上でプメラー転位（Ｐｕｍｍｅｒｅｒ転位）が起こり、副生成物が生成する。【０００５】
【化１】
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【０００６】
工業的に有用なアルデヒド化合物またはケトン化合物は、多量に使用される工業中間体の単純な化合物以外にも、各種の機能を有するアルデヒド化合物またはケトン化合物の場合、通常、複雑な構造である。
Ｓｗｅｒｎ酸化では、上記のように反応温度の厳密な管理に加え、上記の反応スキームからも明らかなように、基質の第１級または第２級アルコール化合物が、カルボニル基に酸化するヒドロキシ基以外に、求核性の置換基や求核攻撃を受けやすい置換基を有していると、さらに副生成物の種類が増える。【０００７】
一方、Ｓｗｅｒｎ酸化をマイクロリアクター中で行うことが検討されている（例えば、特許文献１、２および非特許文献１、２参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特許第４６６１５９７号公報
【特許文献２】特表２００９−５４２７３３号公報
【非特許文献】
【０００９】
【非特許文献１】Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．Ｉｎｔ．Ｅｄ．，２００５，４４，２４１３〜２４１６
【非特許文献２】Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｐｒｏｃｅｓｓ  Ｒｅｓｅａｒｃｈ  ＆  Ｄｅｖｅｌｏｐｍｅｎｔ，２００８，１２，９１１〜９２０
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
このような状況から、工業中間体として有用であり、しかも構造が複雑なアルデヒド化合物またはケトン化合物の、高収率かつ高純度な製造方法が要求されている。特に、求核性の置換基や求核攻撃を受けやすい置換基が分子内に存在し、さらには不斉炭素原子を複数有するアルコール化合物を原料に用いた場合でも、副生成物の生成を抑え、選択的に目的のヒドロキシ基のみを酸化し、低温で厳密な温度管理をする必要のない簡便な製造方法の開発が待たれている。
従って、本発明は、求核性の置換基や求核攻撃を受けやすい置換基を有している第１級もしくは第２級アルコール化合物を、高選択的酸化反応で、高収率、高純度、かつ反応の温度管理が容易で、簡便な方法により製造するアルデヒド化合物またはケトン化合物の製造方法を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明者らは、各種の酸化方法および反応操作の検討を鋭意行った結果、上記課題は、以下の構成により達成することができることを見出した。【００１２】
（１）第１級もしくは第２級アルコール化合物を酸化してアルデヒド化合物またはケトン化合物を製造する製造方法であって、
アルコール化合物が、分子内にアミノ基、アジド基、ヒドロキシ基および保護基で保護されたヒドロキシ基から選択される基を有し、
アルコール化合物、炭素数２〜８のジアルキルスルホキシドおよび炭素数４〜１０の酸無水物を、流通型フローリアクター中で衝突混合させて反応させる第１工程、および、第１工程で混合した混合液体と炭素数３〜１０のトリアルキルアミンをマイクロリアクター中で衝突混合させて反応する第２工程を連続反応して行うアルデヒド化合物またはケトン化合物の製造方法。
（２）アルデヒド化合物またはケトン化合物が、アルコール化合物が分子内に有するアミノ基、アジド基、ヒドロキシ基および保護基で保護されたヒドロキシ基から選択される基を有する（１）に記載の製造方法。
（３）保護基で保護されたヒドロキシ基が、アシルオキシ基、スルホニルオキシ基、スルホニルアミノカルボニルオキシ基、シリルオキシ基、アルコキシエチレンオキシ基、アルキルチオエチレンオキシ基または下記一般式（ｐ）で表される基である（１）または（２）に記載の製造方法。【００１３】
【化２】
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【００１４】
一般式（ｐ）において、Ｘは−Ｏ−または−Ｓ−を表し、Ｒｐ１〜Ｒｐ５は各々独立に、水素原子、アルキル基またはアリール基を表す。ここで、Ｒｐ１と、Ｒｐ２またはＲｐ３が互いに結合して環を形成してもよい。
（４）アルコール化合物が、分子内にアミノ基、アジド基、ヒドロキシ基および保護基で保護されたヒドロキシ基から選択される基を、少なくとも２つ有する（１）〜（３）のいずれか１つに記載の製造方法。
（５）アルコール化合物が、環状アルコール化合物である（１）〜（４）のいずれか１つに記載の製造方法。
（６）アルコール化合物が、環を構成する原子または結合に、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−または−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−を有する環状アルコール化合物である（１）〜（５）のいずれか１つに記載の製造方法。
（７）アルコール化合物が、６員環以上の環状アルコール化合物である（１）〜（６）のいずれか１つに記載の製造方法。
（８）アルコール化合物が、不斉炭素原子を２つ以上有する（１）〜（７）のいずれか１つに記載の製造方法。
（９）第１工程が、アルコール化合物および炭素数２〜８のジアルキルスルホキシドを含む液体と、炭素数４〜１０の酸無水物を、流通型フローリアクター中で衝突混合させて反応させる工程である（１）〜（８）のいずれか１つに記載の製造方法。
（１０）第１工程における混合線速度が、０．０１ｍ／ｓ〜６．０ｍ／ｓである（１）〜（９）のいずれか１つに記載の製造方法。
（１１）第１工程の反応温度が、−３０〜３０℃である（１）〜（１０）のいずれか１つに記載の製造方法。
（１２）第２工程の反応温度が、−３０〜５０℃である（１）〜（１１）のいずれか１つに記載の製造方法。【００１５】
本発明では、化合物や各一般式における各基は、特段の断りがない限り、置換基を有してもよく、このような置換基としては、置換基群Ｓから選択される基が挙げられる。
また、本発明では、光学異性体、配座異性体、鏡像異性体、シス−トランス異性体などの各種異性体が存在する場合、いずれか１つの異性体構造であっても、これらの異性体の混合物であっても構わない。
【発明の効果】
【００１６】
本発明の製造方法により、求核性の置換基や求核攻撃を受けやすい置換基を有している第１級もしくは第２級アルコール化合物を、高選択的酸化反応で、高収率、高純度、かつ反応の温度管理が容易で、簡便な方法により、アルデヒド化合物またはケトン化合物が製造できる。
本発明の上記および他の特徴および利点は、適宜添付の図面を参照して、下記の記載からより明らかになるであろう。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】図１は、本発明の好ましい代表的な製造システムを示す全体概略構成図である。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
＜＜アルデヒド化合物またはケトン化合物の製造方法＞＞
本発明は、第１級もしくは第２級アルコール化合物を酸化してアルデヒド化合物またはケトン化合物を製造する製造方法である。本発明では、分子内にアミノ基、アジド基、ヒドロキシ基および保護基で保護されたヒドロキシ基から選択される基を有するアルコール化合物を、副生成物の生成を抑制し、特定のヒドロキシ基のみを選択的に、カルボニル基に酸化するものである。
また、本発明では、アルコール化合物、炭素数２〜８のジアルキルスルホキシドおよび炭素数４〜１０の酸無水物を、流通型フローリアクター中で衝突混合させて反応させる第１工程、および、第１工程で混合した混合液体と炭素数３〜１０のトリアルキルアミンをマイクロリアクター中で衝突混合させて反応する第２工程を連続反応して行う。
本発明を以下に詳細に説明する。
【００１９】
＜第１級もしくは第２級アルコール化合物＞
本発明で使用するアルコール化合物は、求核性の置換基や求核攻撃を受けやすい置換基を有している第１級もしくは第２級アルコール化合物である。
本発明では、求核性の置換基や求核攻撃を受けやすい置換基が反応に関与することが少なく、実質このような基を保持したアルデヒド化合物またはケトン化合物を製造できる。
【００２０】
〔求核性の置換基おび求核攻撃を受けやすい置換基〕
本発明では、このような基は、アミノ基（−ＮＲ２）、アジド基（−Ｎ３）、ヒドロキシ基（−ＯＨ）および保護基で保護されたヒドロキシ基から選択される基である。
ここで、Ｒは水素原子または置換基を表すが、窒素原子に置換する２つのＲの少なくとも１つが置換基のものが好ましい。
なお、分子内有する保護基で保護されたヒドロキシ基でない単なるヒドロキシ基は、ヒドロキシ基が置換する原子、好ましくは炭素原子、に水素原子を有しないものである。
【００２１】
求核性の置換基おび求核攻撃を受けやすい置換基としてはアジド基（−Ｎ３）、ヒドロキシ基（−ＯＨ）および保護基で保護されたヒドロキシ基が好ましい。
【００２２】
保護基で保護されたヒドロキシ基は、アシルオキシ基、スルホニルオキシ基、スルホニルアミノカルボニルオキシ基、シリルオキシ基、アルコキシエチレンオキシ基、アルキルチオエチレンオキシ基または後述の一般式（ｐ）で表される基が好ましい。
【００２３】
アシルオキシ基は、脂肪族、芳香族またはヘテロ環のアシルオキシ基のいずれでも構わない。また、脂肪族、芳香族またはヘテロ環には置換基を有してもよい。
脂肪族のアシルオキシ基は、ホルミルオキシ基、アルキルカルボニルオキシ基、アルケニルカルボニルオキシ基、シクロアルキルカルボニルオキシ基、シクロアルケニルカルボニルオキシ基が挙げられ、炭素数は２０以下が好ましく、１２以下がより好ましい。炭素数の下限は、１以上であるが、アルキルカルボニルオキシ基では２であり、アルケニルカルボニルオキシ基では３である。また、シクロアルキルカルボニルオキシ基では炭素数の下限は４であり、６〜８が好ましく、７がより好ましい。シクロアルケニルカルボニルオキシ基では、６であり、６〜７が好ましく、７がより好ましい。
脂肪族のアシルオキシ基は、例えば、アセチルオキシ、プロピオニルオキシ、ピバロイルオキシ、ラウロイルオキシ、ステアロイルオキシ、アクリロイルオキシ、メタクリロイルオキシ、クロトノイルオキシ、オレイルオキシ、シンナモイルオキシ、シクロプロパンカルボニルオキシ、シクロペンタンカルボニルオキシ、シクロヘキサンカルボニルオキシ、シクロペンテンカルボニルオキシ、シクロヘキセンカルボニルオキシが挙げられる。
【００２４】
芳香族のアシルオキシ基は、炭化水素環からなる芳香環カルボニルオキシ基で、置換基を有してもよく、炭素数は、７〜２１が好ましく、７〜１３がより好ましい。
芳香族のアシルオキシ基は、例えば、ベンゾイルオキシ、トルオイルオキシ、ｐ−トルオイルオキシ、ナフトイルオキシが挙げられる。
【００２５】
ヘテロ環のアシルオキシ基におけるヘテロ環は、置換基を有してもよく、ヘテロ芳香環、芳香環でない不飽和のヘテロ環、飽和のヘテロ環のいずれでもよく、ヘテロ環を構成するヘテロ原子としては、酸素原子、窒素原子、硫黄原子から選択される原子が好ましい。またヘテロ環は５〜６員環のヘテロ環が好ましく、ベンゼン環やヘテロ環が縮環していてもよい。
ヘテロ環のアシルオキシ基の炭素数は、１〜２０が好ましく、２〜１６がより好ましく、３〜１２がさらに好ましい。
ヘテロ環のアシルオキシ基は、例えば、フロイルオキシ、テノイルオキシ、ニコチノイルオキシ、イソニコチノイルオキシ、ピペリジンカルボニルオキシが挙げられる。
【００２６】
スルホニルオキシ基は、脂肪族、芳香族またはヘテロ環のスルホニルオキシ基のいずれでも構わない。また、脂肪族、芳香族またはヘテロ環には置換基を有してもよい。
脂肪族のスルホニルオキシ基は、アルキルスルホニルオキシ基、アルケニルスルホニルオキシ基、シクロアルキルスルホニルオキシ基、シクロアルケニルスルホニルオキシ基が挙げられ、炭素数は２０以下が好ましく、１２以下がより好ましい。炭素数の下限は、１以上であるが、アルキルスルホニルオキシ基では１であり、アルケニルスルホニルオキシ基では２である。シクロアルキルスルホニルオキシ基では炭素数の下限は３であり、４〜６が好ましく、５がより好ましい。シクロアルケニルスルホニルオキシ基では５であり、５〜６が好ましい。
脂肪族のアシルオキシ基は、例えば、メタンスルホニルオキシ、エタンスルホニルオキシ、プロパンスルホニルオキシ、オクタンスルホニルオキシ、２−エチルヘキサンスルホニルオキシ、ヘキサデカンスルホニルオキシ、プロペンスルホニルオキシ、シクロペンタンスルホニルオキシ、シクロヘキサンスルホニルオキシ、シクロペンテンスルホニルオキシ、シクロヘキセンスルホニルオキシが挙げられる。
【００２７】
芳香族のスルホニルオキシ基は、炭化水素環からなる芳香環スルホニルオキシ基で、置換基を有してもよく、炭素数は、６〜２０が好ましく、６〜１２がより好ましい。
芳香族のスルホニルオキシ基は、例えば、ベンゼンスルホニルオキシ、トルエンスルホニルオキシ、ナフタレンスルホニルオキシが挙げられる。
【００２８】
ヘテロ環のスルホニルオキシ基におけるヘテロ環は、ヘテロ環のアシルオキシ基におけるヘテロ環が挙げられ、好ましい範囲も同じである。
ヘテロ環のスルホニルオキシ基の炭素数は、０〜２０が好ましく、１〜１６がより好ましく、２〜１２がさらに好ましい。
ヘテロ環のスルホニルオキシ基は、例えば、ピリジンスルホニルオキシ、ピペリジンスルホニルオキシが挙げられる。
【００２９】
スルホニルアミノカルボニルオキシ基は、脂肪族、芳香族またはヘテロ環のスルホニルアミノカルボニルオキシ基のいずれでも構わない。また、脂肪族、芳香族またはヘテロ環には置換基を有してもよい。スルホニルアミノカルボニルオキシ基の「スルホニル」部分は、スルホニルオキシ基の「スルホニル」部分と好ましい範囲が同じである。
スルホニルアミノカルボニルオキシ基は、例えば、メタンスルホニルアミノカルボニルオキシ、ベンゼンスルホニルアミノカルボニルオキシ、ｐ−トルエンスルホニルアミノカルボニルオキシ、ナフタレンスルホニルアミノカルボニルオキシが挙げられる。
【００３０】
シリルオキシ基は、ケイ素原子に、置換基が置換したシリルオキシ基が好ましい。このような置換基としては、アルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、アリール基、ヘテロ環基、アルコキシ基、アルケノキシ基、シクロアルコキシ基、シクロアルケノキシ基、アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ基が挙げられ、炭素数は、３〜２０が好ましい。
シリルオキシ基は、例えば、トリメチルシリルオキシ、トリエチルシリルオキシ、ベンジルジメチルシリルオキシ、ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ、フェニルジメチルシリルオキシ、トリフェニルシリルオキシ、トリメトキシシリルオキシ、トリフェノキシシリルオキシが挙げられる。
【００３１】
アルコキシエチレンオキシ基は、炭素数３〜２０が好ましく、３〜１２がより好ましい。
アルコキシエチレンオキシ基は、例えば、メトキシエチレンオキシ、エトキシエチレンオキシ、イソプロポキシエチレンオキシ、ｔ−ブトキシエチレンオキシ、シクロヘキシルオキシエチレンオキシが挙げられる。
【００３２】
アルキルチオエチレンオキシ基は、炭素数３〜２０が好ましく、３〜１２がより好ましい。
アルキルチオエチレンオキシ基は、例えば、メチルチオエチレンオキシ、エチルチオエチレンオキシ、イソプロピルチオエチレンオキシ、ｔ−ブチルチオエチレンオキシ、シクロヘキシルチオエチレンオキシが挙げられる。
【００３３】
保護基で保護されたヒドロキシ基は、上記に加え、下記一般式（ｐ）で表される基が好ましい。
【００３４】
【化３】
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【００３５】
一般式（ｐ）において、Ｘは−Ｏ−または−Ｓ−を表し、Ｒｐ１〜Ｒｐ５は各々独立に、水素原子、アルキル基またはアリール基を表す。ここで、Ｒｐ１と、Ｒｐ２またはＲｐ３が互いに結合して環を形成してもよい。
【００３６】
Ｒｐ１〜Ｒｐ５におけるアルキル基の炭素数は１〜２０が好ましく、１〜１２がより好ましい。アルキル基は、例えば、メチル、エチル、イソプロピル、ブチル、ｔ−ブチル、ヘキシル、オクチル、２−エチルヘキシル、デシル、ドデシル、ヘキサデシル、オクタデシルが挙げられる。アルキル基は置換基を有してもよい。
【００３７】
Ｒｐ１〜Ｒｐ５におけるアリール基の炭素数は６〜２０が好ましく、６〜１２がより好ましい。アリール基は、例えば、フェニル、ナフチルが挙げられる。アリール基は置換基を有してもよい。
【００３８】
Ｒｐ１と、Ｒｐ２またはＲｐ３が互いに結合して形成する環は、５または６員環が好ましく、また置換基を有してもよい。置換基としては、アルキル基、アリール基、ヘテロ環基、アルコキシ基、ヘテロ環オキシ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ヘテロ環アミノ基、アシルアミノ基、ヒドロキシ基、アシルオキシ基、スルホニルオキシ基、シリルオキシ基、アシル基、オニオ基（アンモニオ、トリアルキルアンモニオなど）が好ましい、
【００３９】
Ｒｐ１とＲｐ２が互いに結合して形成する環は炭化水素環であってもヘテロ環であっても構わないが好ましくは、環構成原子に酸素原子を含むヘテロ環である。
Ｒｐ１とＲｐ２が互いに結合して形成する環は、例えば、シクロペンタン環、シクロヘキサン環、テトラヒドロフラン環、テトラヒドロピラン環、テトラヒドロ−４Ｈ−ピラン−４−オン環、テトラヒドロチオフェン環、ペンタメチレンスルフィド環、４−オキソチアン環が挙げられる。
Ｒｐ１とＲｐ３が互いに結合して形成する環は、例えば、テトラヒドロフラン環、テトラヒドロピラン環、テトラヒドロ−４Ｈ−ピラン−４−オン環、テトラヒドロチオフェン環、ペンタメチレンスルフィド環、４−オキソチアン環が挙げられる。
【００４０】
本発明では、保護基で保護されたヒドロキシ基は、アシルオキシ基、スルホニルオキシ基、シリルオキシ基、アルコキシエチレンオキシ基、アルキルチオエチレンオキシ基、一般式（ｐ）で表される基が好ましく、アシルオキシ基、一般式（ｐ）で表される基がより好ましい。
【００４１】
本発明では、アルコール化合物は、分子内にアミノ基、アジド基、ヒドロキシ基および保護基で保護されたヒドロキシ基から選択される基を、２つ以上有するものが好ましく、３つ以上有するものがより好ましい。
さらには、上記の置換基の中でも、アジド基、保護基で保護されたヒドロキシ基が好ましい。
【００４２】
〔第１級もしくは第２級アルコール化合物の基本構造〕
本発明で使用する第１級もしくは第２級アルコール化合物は、上記の求核性の置換基、求核攻撃を受けやすい置換基を有していればどのような基本構造であっても構わない。
例えば、鎖状のアルコール化合物であっても環状のアルコール化合物であっても構わない。
本発明で使用する第１級もしくは第２級アルコール化合物は、下記一般式（Ａ）で表される化合物が好ましく、酸化反応で、下記一般式（Ｂ）で表されるアルデヒド化合物またはケトン化合物を製造する。
【００４３】
【化４】
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【００４４】
一般式（Ａ）、（Ｂ）において、Ｒ１は水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、シクロアルケニル基、アリール基またはヘテロ環基を表す。Ｒ２はアルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、シクロアルケニル基、アリール基またはヘテロ環基を表す。ここで、Ｒ１とＲ２が互いに結合して環を形成してもよい。また、Ｒ１およびＲ２の各基は置換基を有してもよい。
【００４５】
Ｒ１およびＲ２のアルキル基は、直鎖もしくは分岐のアルキル基で、炭素数は１〜１８が好ましく、１〜１２がより好ましい。
アルキル基としては、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、２−エチルヘキシル、ノニル、デシル、ウンデシル、ドデシル、トリデシル、テトラデシル、ペンタデシル、ヘキサデシル、ヘプタデシル、オクタデシルが挙げられる。
【００４６】
Ｒ１およびＲ２のシクロアルキル基は、３〜１８員環のシクロアルキル基が好ましく、３〜１０員環のシクロアルキル基がより好ましく、３〜７員環のシクロアルキル基がさらに好ましく、５または６員環のシクロアルキル基が特に好ましい。シクロアルキル基の炭素数は３〜１８が好ましく、５〜１２がより好ましい。
シクロアルキル基としては、例えば、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチル、シクロノニル、シクロデシル、シクロウンデシル、シクロドデシル、シクロトリデシル、シクロテトラデシル、シクロペンタデシル、シクロヘキサデシル、シクロヘプタデシル、シクロオクタデシルが挙げられる。
【００４７】
Ｒ１およびＲ２のアルケニル基は、直鎖もしくは分岐のアルケニル基で、炭素数は２〜１８が好ましく、２〜１２がより好ましい。
アルケニル基としては、例えば、ビニル、アリル、プロペニル、ブテニル、ペンテニル、ヘキセニル、ヘプテニル、オクテニル、ノネニル、デセニル、ウンデセニル、ドデセニル、トリデセニル、テトラデセニル、ペンタデセニル、ヘキサデセニル、ヘプタデセニル、オクタデセニル、ヘキサジエニル、ドデカジエニル、オクタトリエニル、テトラデカトリエニルが挙げられる。
【００４８】
Ｒ１およびＲ２のシクロアルケニル基は、５〜１８員環のシクロアルケニル基が好ましく、５〜１０員環のシクロアルケニル基がより好ましく、５〜７員環のシクロアルケニル基がさらに好ましく、５または６員環のシクロアルケニル基が特に好ましい。シクロアルケニル基の炭素数は５〜１８が好ましく、５〜１２がより好ましい。
シクロアルケニル基としては、例えば、シクロペンテニル、シクロヘキセニル、シクロヘプチニル、シクロオクチニルが挙げられる。
【００４９】
Ｒ１およびＲ２のアリール基の炭素数は、６〜１４が好ましく、６〜１０がより好ましく、例えば、フェニル、トリル、キシリル、ナフチル、フェナントリル等の単環式または二環式のアリール基が挙げられる。
【００５０】
Ｒ１およびＲ２のヘテロ環基は、５〜１８員環のヘテロ環基が好ましく、５〜１０員環のヘテロ環基がより好ましい。また、ヘテロ環を構成するヘテロ原子は、窒素原子、酸素原子および硫黄原子から選択される原子が好ましく、ヘテロ環を構成するヘテロ原子は２個以上であってもよい。ヘテロ環基のヘテロ環は、ベンゼン環、ナフタレン環のようなアリール環、シクロペンタン環、シクロヘキサン環、シクロペンテン環、シクロヘキセン環のような脂肪族炭化水素環、ヘテロ環等で縮環していてもよい。
【００５１】
ヘテロ環基としては、例えば、イミダゾリル、オキサゾリル、トリアゾリル、チアゾリル、１，３，４−チアジアゾリル、ピリジル、ピリミジル、ピラジル、フリル、ピラニル、クロマニル、テトラヒドロピラニル、チエニル、ベンゾチアゾリル、ベンゾオキサゾリル、キノリル、アクリジニルが挙げられる。また、２−オキソオキセタニル、２−オキソオキソラニル、２−オキソクロメニル、２−オキソイソクロメニル、２−オキソオキセパニル、２−オキソオキサシクロデカニル、２−オキソオキサシクロウンデカニル、２−オキソオキサシクロドデカニル、２−オキソオキサシクロトリデカニル、２−オキソオキサシクロテトラデカニル、２−オキソオキサシクロペンタデカニル、２−オキソオキサシクロヘキサデカニル等の５〜１６員のラクトン環が挙げられる。
【００５２】
Ｒ１とＲ２が互いに結合して形成する環は、飽和もしくは不飽和の脂肪族炭素環、飽和もしくは不飽和のヘテロ環が挙げられる。形成される環は、３〜１８員環が好ましく、ヘテロ環の場合、ヘテロ環を構成するヘテロ原子は、窒素原子、酸素原子および硫黄原子から選択される原子が好ましく、ヘテロ環を構成するヘテロ原子は２個以上であってもよい。
このうち、ヘテロ環は５〜１８員環が好ましいが、ラクトン環の場合、４〜１８員環が好ましい。
Ｒ１とＲ２が互いに結合して形成する環としては、以下の環が挙げられる。
【００５３】
１）３〜１８員環の飽和環
・単環
シクロプロパン環、シクロブタン環、シクロペンタン環、シクロヘキサン環、シクロヘプタン環、シクロオクタン環、シクロノナン環、シクロデカン環、シクロウンデカン環、シクロドデカン環、シクロトリデカン環、シクロテトラデカン環、シクロペンタデカン環、シクロヘキサデカン、シクロヘプタデカン環、シクロオクタデカン環
・縮合多環
１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン環、９，１０−ジヒドロアントラセン環、テトラヒドロアントラセン環
【００５４】
２）５〜１８員環の部分飽和環
シクロプロペン環、シクロブテン環、シクロペンテン環、シクロヘキセン環、シクロヘプテン環、シクロオクタジエン環、シクロノネン環、シクロデセン環、シクロウンデセン環、シクロドデカトリエン環、シクロトリデセン環、シクロテトラデカジエン環、シクロペンタデセン環、シクロヘキサデセン環、シクロヘプタデセン環、シクロオクタデセン環
【００５５】
３）４〜１８員環のヘテロ環
オキソラン環、チオピラン環や、１２−クラウン−４−エーテル環、１５−クラウン−５−エーテル環等のクラウンエーテル環、さらにβ−プロピオラクトン環、γ−ブチロラクトン環、δ−バレロラクトン環等のラクトン環
【００５６】
本発明では、環を構成する原子または結合に、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−または−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−を有する環状アルコール化合物が好ましく、環員数としては６員環以上が好ましい。
このなかでも、下記環構造Ａ〜Ｉのいずれかで表される基本骨格の環のいずれかに、カルボニル基に酸化されるヒドロキシ基と、アミノ基、アジド基、ヒドロキシ基および保護基で保護されたヒドロキシ基から選択される基を有する環状アルコールが好ましい。
【００５７】
【化５】
2017057461.tif 000007
【００５８】
ここで、環構造ＡおよびＢにおけるＹ１は＝Ｏまたは＝Ｎ−Ｒ１０を表し、環構造ＢにおけるＺ１は−Ｏ−または−Ｎ（Ｒ２０）−を表す。ここで、Ｒ１０、Ｒ２０およびＲ３０は各々独立に、水素原子または置換基を表す。
【００５９】
なお、上記環構造は、環構造中に、二重結合のような不飽和結合を含んでも、他の環（好ましくはヘテロ環）で縮環していてもよく、また置換基に、オキソ基やイミノ基のような２価の基を有していてもよい。上記では、特に好ましいものを明示するため、これらを含むものを別の環構造とした。
【００６０】
Ｒ１０における置換基は、アルキル基またはアリール基が好ましく、アルキル基がより好ましい。
Ｒ２０における置換基は、アルキル基、アリール基、アルコキシ基またはアリールオキシ基が好ましく、アルキル基、アルコキシ基がより好ましく、アルコキシ基がさらに好ましい。
Ｒ３０における置換基は、アルキル基、アリール基、アシルオキシ基、アルコキシ基が好ましく、アルキル基およびアシルオキシ基がより好ましい。
なお、Ｒ１０、Ｒ２０、Ｒ３０は反応に関与しない置換基であれば、さらなる置換基を有していてもよい。
【００６１】
また、本発明では、不斉炭素原子を有するアルコール化合物が好ましく、不斉炭素原子の数は１以上が好ましく、２つ以上がより好ましく、３つ以上がさらに好ましく、４つ以上が特に好ましい。不斉炭素原子の上限は、特に制限されるものではないが、５０以下が好ましく、３０以下がより好ましく、２０以下がさらに好ましい。
不斉炭素原子を有することで光学異性体が存在するが、この異性体のいずれか１つでもこれらの混合物であっても構わないが、本発明では、特定の光学異性体のアルコール化合物から、立体制御されて、特定の光学異性体のアルデヒド化合物またはケトン化合物が製造できる。
【００６２】
以下に、本発明で使用する第１級もしくは第２級アルコール化合物の具体例を示すが、これによって、本発明が限定されるものではない。
なお、Ａｃはアセチル基〔−Ｃ（＝Ｏ）−ＣＨ３〕であり、Ｂｚはベンゾイル基〔−Ｃ（＝Ｏ）−Ｃ６Ｈ５〕であり、Ｔｓはトシル基〔−ＳＯ２Ｃ６Ｈ５−ＣＨ３−ｐ〕である。
【００６３】
【化６】
2017057461.tif 000008
【００６４】
【化７】
2017057461.tif 000009
【００６５】
【化８】
2017057461.tif 000010
【００６６】
【化９】
2017057461.tif 000011
【００６７】
【化１０】
2017057461.tif 000012
【００６８】
【化１１】
2017057461.tif 000013
【００６９】
本発明で使用する、アミノ基、アジド基、ヒドロキシ基および保護基で保護されたヒドロキシ基から選択される基を有する第１級もしくは第２級アルコール化合物は、公知の方法、例えば、Ｊｏｕｒｎａｌ  ｏｆ  Ａｎｔｉｂｉｏｔｉｃｓ，１９９６ ，４９，４９３〜４９５、Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ  Ｌｅｔｔｅｒｓ，２００５，４６，１４８３〜１４８７、Ｅｕｒｏｐｅａｎ  Ｊｏｕｒｎａｌ  ｏｆ  Ｍｅｄｉｃｉｎａｌ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，２０１３，６９，１７４〜１８１などで合成することができる。
【００７０】
＜アルデヒド化合物、ケトン化合物＞
本発明で製造されるアルデヒド化合物またはケトン化合物は、少なくとも、分子内にアミノ基、アジド基、ヒドロキシ基および保護基で保護されたヒドロキシ基から選択される基を有する第１級もしくは第２級アルコール化合物から製造されたアルデヒド化合物またはケトン化合物である。本発明の製造方法では、カルボニル基に酸化されるヒドロキシ基以外は、第１級もしくは第２級アルコール化合物が有するアミノ基、アジド基、ヒドロキシ基（ヒドロキシ基が置換する炭素原子に水素原子を有しないもの）および保護基で保護されたヒドロキシ基から選択される基は、反応前後で変化することなくそのまま有することが可能となる。
【００７１】
本発明で製造されるアルデヒド化合物またはケトン化合物は、原料の第１級もしくは第２級アルコール化合物における反応部位のカルボニル基に酸化されるヒドロキシ基をカルボニル基〔−ＣＨ（＝Ｏ）または−Ｃ（＝Ｏ）−〕以外の部分は、第１級もしくは第２級アルコール化合物と好ましい範囲も同じである。従って、先に記載した一般式（Ｂ）で表されるアルデヒド化合物またはケトン化合物もそのまま適用される。
【００７２】
本発明で製造されるアルデヒド化合物またはケトン化合物の具体例は、原料となる第１級もしくは第２級アルコール化合物で例示した具体例において、各々、＞ＣＨ−ＯＨを＞Ｃ（＝Ｏ）に置き換えたものが挙げられる。従って、酸化されるヒドロキシ基を除き、不斉炭素原子の配座は維持され、立体制御され、同じ光学異性体となる。
例えば、下記のアルコール化合物の場合のケトン化合物は以下の化合物である。
【００７３】
【化１２】
2017057461.tif 000014
【００７４】
＜反応試薬＞
本発明の製造方法では、第１級もしくは第２級アルコール化合物を酸化する。酸化は、Ｓｗｅｒｎ酸化もしくはこれに準じた方法で行う。このため、反応試薬として、ジアルキルスルホキシド、酸無水物および塩基を使用する。
【００７５】
（ジアルキルスルホキシド）
本発明では、炭素数２〜８のジアルキルスルホキシドを使用する。
スルホキシド化合物は、好ましくは、下記一般式（ＳＯ）で表される。
【００７６】
【化１３】
2017057461.tif 000015
【００７７】
一般式（ＳＯ）において、ＲＡ１およびＲＡ２は各々独立に、アルキル基を表す。
ただし、ＲＡ１とＲＡ２の総炭素数は２〜８である。
【００７８】
ＲＡ１およびＲＡ２におけるアルキル基は、直鎖もしくは分岐のアルキル基で、置換基を有してもよい。
アルキル基としては、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｔ−ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチルが挙げられる。
【００７９】
炭素数２〜８のジアルキルスルホキシド化合物としては、ジメチルスルホキシド、ジエチルスルホキシド、ジプロピルスルホキシド、ジイソプロピルスルホキシド、ジブチルスルホキシド、エチルメチルスルホキシド、プロピルメチルスルホキシド、イソプロピルメチルスルホキシド、ブチルメチルスルホキシド、ブチルエチルスルホキシド、ブチルプロピルスルホキシド、ブチルイソプロピルスルホキシド等が挙げられる。このなかでも好ましくは、ジメチルスルホキシド、ジエチルスルホキシド、ジプロピルスルホキシド、ジブチルスルホキシドであり、より好ましくはジメチルスルホキシドである。
【００８０】
スルホキシド化合物は、多種市販されており入手可能である。また、公知の方法（例えば、Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ  Ｌｅｔｔ．，４３巻，５１７７〜５１７９頁（２００２年）等）で合成することもできる。
【００８１】
スルホキシド化合物の使用量は、原料のアルコール化合物に対し、１．０〜５．０モル当量が好ましく、１．５〜４．５モル当量がより好ましく、２．０〜４．０モル当量がさらに好ましい。
【００８２】
（酸無水物）
本発明では、炭素数４〜１０の酸無水物を使用する。
酸無水物は、脂肪族カルボン酸の酸無水物、芳香族カルボン酸の酸無水物、ヘテロ環カルボン酸の酸無水物、これらのカルボン酸の混合酸無水物のいずれでも構わない。
【００８３】
酸無水物は、脂肪族カルボン酸の酸無水物が好ましく、ハロゲン原子が置換した脂肪族カルボン酸の酸無水物がより好ましく、フッ素原子が置換した脂肪族カルボン酸の酸無水物がさらに好ましい。
酸無水物は、酢酸無水物、酪酸無水物、イソ酪酸無水物、ピバル酸無水物、トリフルオロ酢酸無水物、ヘプタフルオロ酢酸無水物、トリクロロ酢酸無水物等が挙げられる。このなかでも好ましくは、酢酸無水物、トリフルオロ酢酸無水物、トリクロロ酢酸無水物であり、より好ましくはトリフルオロ酢酸無水物、トリクロロ酢酸無水物である。
【００８４】
酸無水物の使用量は、原料のアルコール化合物に対し、１．０〜３．０モル当量が好ましく、１．１〜２．８モル当量がより好ましく、１．２〜２．５モル当量がさらに好ましい。
【００８５】
（塩基）
本発明では、塩基に炭素数３〜１０のトリアルキルアミンを使用する。
窒素原子に置換する３つのアルキル基は、互いの同じであっても異なってもよい。アルキル基は直鎖もしくは分岐のアルキル基であり、置換基を有してもよい。例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｔ−ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、２−エチルヘキシルが挙げられる。
【００８６】
炭素数３〜１０のトリアルキルアミンは、トリメチルアミン、ジメチルエチルアミン、ジエチルメチルアミン、トリエチルアミン、ジエチルメチルアミン、ジメチルイソプロピルアミン、ジプロピルエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ブチルジメチルアミン、ブチルジイソプロピルアミン等が挙げられる。
これらのなかでも、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミンが好ましい。
【００８７】
塩基の使用量は、原料のアルコール化合物に対し、１．２〜６．０モル当量が好ましく、１．３〜５．５モル当量がより好ましく、１．５〜５．０モル当量がさらに好ましい。
【００８８】
塩基の混合は、原料のアルコール化合物、ジアルキルスルホキシドおよび酸無水物を混合した後に混合する。
【００８９】
（反応溶媒）
反応溶媒は、基質を溶解し、かつ副反応が起こらないものであれば特に制限されない。
また、溶媒は単独でも、複数の溶媒を混合して用いてもよい。
反応溶媒は、アセトン、エチルメチルケトン、メチルイソプロピルケトン、ジイソプロピルケトン、メチルイソブチルケトン、ジイソブチルケトン等のケトン系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル−ｔｅｒｔ−ブチルエーテル、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、ジオキサン等のエーテル系溶媒、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、テトラメチルウレア、１，３−ジメチルイミダゾリノン等のアミド系溶媒、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の含硫黄系溶媒、アセトニトリル等のニトリル系溶媒、エチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、エチレングリコールジアセテート、エチレングリコールジステアレート、エチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジアセテート等のグリコール系溶媒、メチレンクロライド、クロロホルム、クロロベンゼン等のハロゲン系溶媒、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、トルエン、キシレン、メシチレン、テトラヒドロナフタレン等の芳香族炭化水素系溶媒、テルピネン、テルピノレン、シメン、フェランドレン等のテルペン系溶媒が挙げられる。
これらの中でも好ましくは、アセトン、ＴＨＦ、アセトニトリル、メチレンクロライド、酢酸エチル、トルエンである。
【００９０】
溶媒の使用量は基質や反応条件によって異なるが、原料のアルコール化合物１ｇに対し、通常１〜３００ｍｌ、好ましくは１〜１５０ｍｌ、より好ましくは５〜１００ｍｌである。
【００９１】
本発明において、特段の断りがない限り、各一般式における各基や各化合物がさらに有してもよい置換基は、下記置換基群Ｓから選択される基が好ましい。
【００９２】
〔置換基群Ｓ〕
アルキル基（好ましくは炭素数１〜２０で、例えばメチル、エチル、イソプロピル、ｔ−ブチル、ペンチル、ヘプチル、１−エチルペンチル、２−エチルヘキシル、ベンジル、２−エトキシエチル、１−カルボキシメチル等）、アルケニル基（好ましくは炭素数２〜２０で、例えば、ビニル、アリル、オレイル等）、アルキニル基（好ましくは炭素数２〜２０で、例えば、エチニル、２−ブチニル、フェニルエチニル等）、シクロアルキル基（好ましくは炭素数３〜２０で、例えば、シクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシル、４−メチルシクロヘキシル等）、アリール基（好ましくは炭素数６〜２６で、例えば、フェニル、１−ナフチル、２−ナフチル、４−メトキシフェニル、２−クロロフェニル、３−メチルフェニル等）、ヘテロ環基（好ましくは炭素数０〜２０のヘテロ環基で、環を構成するヘテロ原子が酸素原子、窒素原子、硫黄原子から選択されるヘテロ環基が好ましく、５または６員環でベンゼン環やヘテロ環で縮環していてもよく、またヘテロ環基のヘテロ環が飽和環、不飽和環、芳香環であってもよい。ヘテロ環基としては、例えば、２−ピリジル、４−ピリジル、２−イミダゾリル、２−ベンゾイミダゾリル、２−チアゾリル、２−オキサゾリル等が挙げられる）、アルコキシ基（好ましくは炭素数１〜２０で、例えば、メトキシ、エトキシ、イソプロピルオキシ、ベンジルオキシ等）、アリールオキシ基（好ましくは炭素数６〜２６で、例えば、フェノキシ、１−ナフチルオキシ、２−ナフチルオキシ、３−メチルフェノキシ、４−メトキシフェノキシ等）、ヘテロ環オキシ基（上記ヘテロ環基のヘテロ環オキシ基が好ましい）、
【００９３】
アルキルチオ基（好ましくは炭素数１〜２０で、例えば、メチルチオ、エチルチオ、イソプロピルチオ、ベンジルチオ等）、アリールチオ基（好ましくは炭素数６〜２６で、例えば、フェニルチオ、１−ナフチルチオ、２−ナフチルチオ、３−メチルフェニルチオ、４−メトキシフェニルチオ等）、アシル基（ホルミル基、アルキルカルボニル基、アルケニルカルボニル基、アリールカルボニル基、ヘテロ環カルボニル基を含み、炭素数は２０以下が好ましく、例えば、アセチル、ピバロイル、アクリロイル、メタクリロイル、ベンゾイル、ニコチノイル等）、アルコキシカルボニル基（好ましくは炭素数２〜２０で、例えば、エトキシカルボニル、２−エチルヘキシルオキシカルボニル等）、アリールオキシカルボニル基（好ましくは炭素数７〜２０で、例えば、フェニルオキシカルボニル、ナフチルオキシカルボニル等）、アミノ基（アミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ヘテロ環アミノ基を含み、好ましくは炭素数０〜２０で、例えば、アミノ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジフェニルアミノ、Ｎ−エチルアミノ、アニリノ、１−ピロリジン−１−イル、ピペリジン−１−イル、モルホリン−１−イル、チオモルホリン−１−イル等）、スルファモイル基（アルキルスルファモイル基、アリールスルファモイル基を含み、好ましくは炭素数０〜２０で、例えば、スルファモイル、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル、Ｎ−フェニルスルファモイル等）、アシルオキシ基（好ましくは炭素数１〜２０で、例えば、アセチルオキシ、ベンゾイルオキシ等）、カルバモイル基（アルキルカルバモイル基、アリールカルバモイル基を含み、好ましくは炭素数１〜２０で、例えば、カルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル、Ｎ−フェニルカルバモイル等）、アシルアミノ基（好ましくは炭素数１〜２０で、例えば、アセチルアミノ、アクリロイルアミノ、ベンゾイルアミノ、ニコチンアミド等）、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、メルカプト基、カルボキシ基、スルホ基、リン酸基、ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等）、シリルオキシ基（前述の保護基で保護されたヒドロキシ基におけるシリルオキシ基が好ましい）、アジド基（−Ｎ３）が挙げられる。さらに、２価の基のオキソ基（＝Ｏ）、２価のイミノ基（＝Ｎ−を有する基で、アルキルイミノ基、アルコキシイミノ基を含む）、スルホニルオキシ基（前述の保護基で保護されたヒドロキシ基におけるスルホニルオキシ基が好ましい）、スルホニルアミノカルボニルオキシ基（前述の保護基で保護されたヒドロキシ基におけるスルホニルアミノカルボニルオキシ基が好ましい）が挙げられる。
【００９４】
これらの置換基は、さらに上記の置換基で置換されていてもよい。
【００９５】
＜反応工程＞
本発明では、上記の第１級もしくは第２級アルコール化合物、炭素数２〜８のジアルキルスルホキシドおよび炭素数４〜１０の酸無水物を、流通型フローリアクター中で衝突混合させて反応させる第１工程、および、該第１工程で混合した混合液体と炭素数３〜１０のトリアルキルアミンを流通型フローリアクター中で衝突混合させて反応する第２工程を連続反応して行う。
【００９６】
第１工程では、流通型フローリアクター中で、１）炭素数２〜８のジアルキルスルホキシドと炭素数４〜１０の酸無水物を混合衝突させた後、第１級もしくは第２級アルコール化合物を衝突混合させる方法、２）炭素数２〜８のジアルキルスルホキシドおよび炭素数４〜１０の酸無水物の混合液体（事前に混合した混合液体）と上記の第１級もしくは第２級アルコール化合物を衝突混合させる方法、３）第１級もしくは第２級アルコール化合物と炭素数２〜８のジアルキルスルホキシドを含む液体と炭素数４〜１０の酸無水物を衝突混合させる方法が挙げられる。
上記１）および２）の方法は、ジアルキルスルホキシドと酸無水物とで活性化剤（反応スキームで示した前述の活性化体）を得た後、得られた活性化剤と第１級もしくは第２級アルコール化合物を反応させるものである。
本発明では、上記の方法のなかでも、３）の方法が好ましい。
【００９７】
＜反応装置＞
本発明では、少なくとも第１工程と第２工程を、流通型フローリアクター中で、連続して行う。
流通型フローリアクターはどのようなものでも構わないが、マイクロリアクターが好ましい。
【００９８】
本発明では、上記の３）の方法を代表的に説明すると、第１工程での混合線速度は、０．０１ｍ／ｓ〜６．０ｍ／ｓが好ましく、１．０ｍ／ｓ〜６．０ｍ／ｓがより好ましく、１．１ｍ／ｓ〜５．５ｍ／ｓがさらに好ましく、１．２ｍ／ｓ〜５．０ｍ／ｓが特に好ましい。
なお、上記１）の方法では、炭素数２〜８のジアルキルスルホキシドと炭素数４〜１０の酸無水物を混合衝突させた溶液と第１級もしくは第２級アルコール化合物を混合する混合線速度であり、上記の２）の方法では、事前に混合した上記混合液体と第１級もしくは第２級アルコール化合物を混合する混合線速度である。
【００９９】
上記１）の方法の場合、炭素数２〜８のジアルキルスルホキシドと炭素数４〜１０の酸無水物の混合線速度は、０．０１ｍ／ｓ〜６．０ｍ／ｓが好ましく、１．０ｍ／ｓ〜５．０ｍ／ｓがより好ましく、１．２ｍ／ｓ〜４．５ｍ／ｓがさらに好ましく、１．５ｍ／ｓ〜４．０ｍ／ｓが特に好ましい。
【０１００】
ここで、混合線速度とは、例えば、図１における点５（第１工程の混合開始点）および点８（第２工程の混合開始点）直後の流体の線速度である。
【０１０１】
第１工程の反応温度は、−３０〜３０℃が好ましく、−２０〜２０℃がより好ましく、−１５〜１５℃がさらに好ましく、−１０〜１０℃が特に好ましい。
なお、上記１）の方法で活性化剤を得る反応温度は、−３０〜３０℃が好ましく、−２０〜２５℃がより好ましく、−１０〜２０℃がさらに好ましい。
【０１０２】
第１工程での反応時間は、０．００１〜１０秒が好ましく、０．０３〜５秒がより好ましく、０．０５〜３秒がさらに好ましい。
また、上記１）の方法の場合、炭素数２〜８のジアルキルスルホキシドと炭素数４〜１０の酸無水物との反応時間は、０．００１〜１０秒が好ましく、０．０１〜５秒がより好ましく、０．０３〜２秒がさらに好ましい。
【０１０３】
第２工程での混合線速度は、０．５ｍ／ｓ〜５．０ｍ／ｓが好ましく、１．０ｍ／ｓ〜４．５ｍ／ｓがより好ましく、１．２ｍ／ｓ〜４．０ｍ／ｓがさらに好ましい。
第２工程の反応温度は、−３０〜５０℃が好ましく、−２０〜５０℃がより好ましく、−１５〜４５℃がさらに好ましく、−１０〜４０℃が特に好ましい。
第２工程での反応時間は、０．１〜１２０秒が好ましく、０．３〜６０秒がより好ましく、０．５〜３０秒がさらに好ましい。
【０１０４】
マイクロミキサー流路（例えば、図１に示す、区間４〜５、区間５〜６、点５直後の各流路）の内径もしくは流路の断面積は、どのような大きさもしくは断面積でも構わないが、本発明では０．０５〜５．０ｍｍ（０．００１９６〜１９．６ｍｍ２）が好ましく、０．１０〜２．５ｍｍ（０．００７８５〜４．９ｍｍ２）がより好ましく、０．１５〜１．５ｍｍ（０．０１８〜１．８ｍｍ２）がさらに好ましい。
なお、上記流路の断面形状は円形でも矩形でも構わない。
【０１０５】
マイクロリアクターは、複数の液体を混合可能な微小な流路を備え、必要に応じて、流路に連通し、この流路に液体を導入する導入路を備え、さらに必要に応じて、流路および導入路以外の構成を含む。
【０１０６】
本発明に用いられるマイクロリアクターとしては、複数の液体を混合可能な微小な流路を備える限り、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、マイクロミキサー（基板型のマイクロミキサー、管継手型のマイクロミキサーなど）、分岐したチューブなどが挙げられる。
【０１０７】
基板型のマイクロミキサーは、内部または表面に流路が形成された基板からなり、マイクロチャンネルと称される場合がある。
基板型のマイクロミキサーとしては、本発明の効果を損なわない限り、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、国際公開第９６／３０１１３号パンフレットに記載されている混合のための微細な流路を有するミキサー、Ｗ．Ｅｈｒｆｅｌｄ，Ｖ．Ｈｅｓｓｅｌ，Ｈ．Ｌｏｗｅ著，「マイクロリアクターズ」，三章（Ｗｉｌｅｙ−ＶＣＨ社刊）に記載されるミキサーなどが挙げられる。
【０１０８】
基板型のマイクロミキサーには、上記流路以外に、この流路に連通し、流路に複数の液体を導入する導入路が形成されていることが好ましい。すなわち、導入路の数に応じて、上記流路の上流側が分岐した構成が好ましい。
導入路の数としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、混合を所望する複数の液体を別々の導入路から導入し、流路で合流させて混合することが好ましい。なお、１種の液体を予め流路に仕込んでおき、それ以外の液体を導入路により導入する構成としてもよい。
【０１０９】
管継手型のマイクロミキサーは、内部に形成された流路を備え、必要に応じて内部に形成された流路と、チューブとを接続する接続手段を備える。接続手段における接続方式としては、特に制限はなく、公知のチューブ接続方式の中から目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ねじ込み式、ユニオン式、突合せ溶接式、差込み溶接式、ソケット溶接式、フランジ式、食込み式、フレア式、メカニカル式などが挙げられる。
【０１１０】
管継手型のマイクロミキサーの内部には、上記流路以外に、流路に連通し、流路に複数の液体を導入する導入路が形成されていることが好ましい。すなわち、導入路の数に応じて、上記流路の上流側が分岐された構成が好ましい。導入路の数が２つである場合には、管継手型のマイクロミキサーとして、例えば、Ｔ字型やＹ字型を用いることができ、導入路の数が３つである場合には、例えば十字型を用いることができる。なお、１種の液体を予め流路に仕込んでおき、それ以外の液体を導入路により導入する構成としてもよい。
【０１１１】
マイクロミキサーの材質としては、特に制限はなく、耐熱性、耐圧性、耐溶剤性および加工容易性などの要求に応じて、適宜選択することができ、例えば、ステンレス鋼、チタン、銅、ニッケル、アルミニウム、ハステロイ（登録商標）などを含む金属または合金類、シリコン、及びテフロン（登録商標）、ＰＦＡ（パーフロロアルコキシ樹脂）などのフッ素樹脂、ＴＦＡＡ（トリフルオロアセトアミド）などが挙げられる。
【０１１２】
マイクロミキサーは、その微細構造によって精確に反応溶液の流れを制御するものであるから、微細加工技術によって製作されていることが好ましい。
微細加工技術としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、（ａ）Ｘ線リソグラフィと電気メッキを組み合わせたＬＩＧＡ技術、（ｂ）ＥＰＯＮ  ＳＵ８を用いた高アスペクト比フォトリソグラフィ法、（ｃ）機械的マイクロ切削加工（ドリル径がマイクロオーダーのドリルを高速回転するマイクロドリル加工など）、（ｄ）Ｄｅｅｐ  ＲＩＥによるシリコンの高アスペクト比加工法、（ｅ）Ｈｏｔ  Ｅｍｂｏｓｓ加工法、（ｆ）光造形法、（ｇ）レーザー加工法および（ｈ）イオンビーム法などが挙げられる。
【０１１３】
マイクロミキサーとしては、市販品を利用することができ、例えば、インターディジタルチャンネル構造体を備えるマイクロリアクター、インスティテュート・ヒュール・マイクロテクニック・マインツ（ＩＭＭ）社製シングルミキサーおよびキャタピラーミキサー、ミクログラス社製ミクログラスリアクター、ＣＰＣシステムス社製サイトス、山武社製ＹＭ−１型ミキサー、ＹＭ−２型ミキサー、島津ＧＬＣ社製ミキシングティーおよびティー（Ｔ字コネクター）、マイクロ化学技研社製ＩＭＴチップリアクター、東レエンジニアリング開発品マイクロ・ハイ・ミキサー、スウェージロック社製ユニオンティー、ＹＭＣ社製ミキサー、中村超硬製ミキサーなどが挙げられる。
【０１１４】
マイクロリアクターとしては、上記のマイクロミキサーを単独で使用してもよく、さらにその下流にチューブリアクターを連結し、流路を延長する構成としてよい。チューブリアクターをマイクロミキサーの下流に連結することで、流路の長さを調節することができる。
混合された液体の滞留時間（反応時間）は、流路の長さに比例する。
【０１１５】
なお、チューブリアクターとは、マイクロミキサーにより迅速に混合された溶液が、その後の反応を行うための必要な時間を精密に制御（滞留時間制御）するためのリアクターである。
チューブリアクターとしては、特に制限はなく、例えば、チューブの内径、外径、長さ、材質などの構成は、所望する反応に応じて適宜選択することができる。
チューブリアクターとしては、市販品を利用することができ、例えば、ジーエルサイエンス株式会社製のステンレスチューブ（外径１／１６インチ（１．５８ｍｍ）、内径２５０μｍ、５００μｍ、８００μｍおよび１，０００μｍから選択可能、１／８インチ（３．１７ｍｍ）、チューブ長さは使用者により調整可能）などが挙げられる。
チューブリアクターの材質としては、特に制限はなく、マイクロミキサーの材質として例示したものを、好適に利用することができる。
【０１１６】
上記流路は、複数の液体を拡散により混合させる機能、および、反応熱を除熱する機能を有する。
上記流路内における液体の混合方式としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、層流による混合、乱流による混合が挙げられる。なかでも、より効率的に反応制御や除熱を行える点で、層流による混合（静的混合）が好ましい。なお、マイクロリアクターの流路は微小であるため、導入路から導入された複数の液体同士はおのずと層流支配の流れとなりやすく、流れに直交する方向に拡散して混合される。層流による混合において、さらに、流路内に分岐点および合流点を設けることで、流れる液体の層流断面を分割するような構成とし、混合速度を高める構成としてもよい。
【０１１７】
なお、マイクロリアクターの流路において、乱流による混合（動的混合）を行う場合には、流速や流路の形状（接液部分の３次元形状や流路の屈曲などの形状、壁面の粗さなど）を調整することによって、層流から乱流へと変化させることができる。乱流による混合は、層流による混合と比べて、混合効率がよく混合速度が速いという利点を有する。
【０１１８】
ここで、上記流路の内径、断面積、長さ、断面形状としては、特に限定はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
なお、マイクロミキサー流路に関しては、先に記載した通りであるが、リアクター流路の断面積は、０．００１９６〜１９．６ｍｍ２が好ましい。また、このような断面積を満たすなら、どのような断面形状でも構わない。
【０１１９】
導入路は、上記流路に連通し、複数の液体を上記流路に導入する機能を有する。なお、導入路において、上記流路に連通する側とは別の一端は、通常、混合を所望する液体を含む容器に繋がっている。
【０１２０】
導入路の内径としては、本発明の効果を損なわない限り、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
なお、マイクロリアクターが複数の導入路を有する場合には、それぞれの導入路の内径が互いに異なっていてもよく、同じであってもよい。
【０１２１】
上記流路および導入路以外の構成としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、送液に使用するポンプ、温度調整手段、反応促進手段、センサー、製造された化合物を貯蔵するためのタンクなどが挙げられる。
【０１２２】
ポンプとしては、特に制限はなく、工業的に使用されうるものから適宜選択することができるが、送液時に脈動を生じないものが好ましく、例えば、プランジャーポンプ、ギアーポンプ、ロータリーポンプ、ダイヤフラムポンプなどが挙げられる。
【０１２３】
温度調整手段としては、特に制限はなく、反応温度に応じて適宜選択することができ、例えば、恒温槽、循環サーキュレーター、熱交換器、背圧弁などが挙げられる。
【０１２４】
反応促進手段としては、混合する液体や所望する反応に応じて、適宜選択することができるが、例えば、振動エネルギー付与手段、加熱手段、光照射手段、電圧印加手段などが挙げられる。電圧印加手段を備えたマイクロリアクターとしては、例えば、特開２００６−１０４５３８号公報に開示されるマイクロフロー電気化学リアクターなどが挙げられる。
センサーとしては、特に制限はなく、例えば、温度センサー、流量センサー、流路内の圧力を測定するための圧力センサーなどが挙げられる。
【０１２５】
複数個ある原料のマイクロリアクターに供給される流速は各々が同じ流量であっても異なる流量であってもよい。送液用のポンプは工業的に使用される送液ポンプのいずれでも使用可能だが、できるだけ送液時に脈動を生じない機種が望ましい。好ましくは、プランジャーポンプ、ギアーポンプ、ロータリーポンプ、ダイヤフラムポンプ等である。
【０１２６】
マイクロリアクター内では、液体または溶液状の化合物が流動液体および溶液の運動エネルギーによって混合され反応するが、必要に応じてマイクロリアクター外部から振動エネルギーなどの混合促進のためのエネルギーを加えてもよい。混合は、流速・流速と反応器の形状（接液部分の三次元形状や流路の屈曲などの形状、壁面の粗さ等）によって、静的混合（層流）から動的混合（乱流）へと変化させることができ、乱流または層流のいずれで混合してもよい。
【０１２７】
以下に、本発明の好ましい反応装置を、図１で説明する。
図１は、本発明に係る好ましい製造システムを示す概略構成図である。ここで、図１における反応工程は、Ｓｗｅｒｎ酸化に基づくものである。
以下に、図１を簡単に説明する。
【０１２８】
図１において、溶液Ａは、アルコール化合物とスルホキシド化合物を含む溶液であり、溶液Ｂは酸無水物を含む溶液であり、溶液Ｃは塩基を含む溶液である。
点１、２、３はマイクロリアクターへの原料供給口であり、点４、６、７、９はマイクロミキサーへの原料供給口である。点５は第１工程（溶液ＡとＢの反応）の混合開始点であり、点８は、第２工程（溶液Ｃとの反応）の混合開始点である。また、点１０はマイクロリアクターの出口である。
【０１２９】
ここで、区間１〜４（点１と点４を結ぶ区間）は溶液Ａの温度調節区間であり、区間２〜６（点２と点６を結ぶ区間）は溶液Ｂの温度調節区間であり、区間３〜９（点３と点９を結ぶ区間）は溶液Ｃの温度調節区間である。また、区間５〜７（点５と点７を結ぶ区間）は第１工程の反応区間であり、区間８〜１０（点８と点１０を結ぶ区間）は第２工程の反応区間である。
【０１３０】
本発明の製造方法で得られたアルデヒド化合物またはケトン化合物は、公知の方法で単離することができる。例えば、有機溶剤を用いた抽出法、蒸留法、有機溶媒や水または有機溶媒と水の混合物を用いた再沈殿法、晶析法またはカラムクロマトグラフィーを必要に応じて単独または適宜組み合わせて用いて単離精製する。
【０１３１】
＜アルデヒド化合物およびケトン化合物の用途＞
本発明の製造方法で製造されたアルデヒド化合物またはケトン化合物は、工業製品、工業製品の中間体として有用である他、９員環以上のマクロライド系化合物（好ましくは前述の環構造Ａ〜Ｉの化合物）は抗生物質またはその合成中間体として有用である。
【実施例】
【０１３２】
以下、本発明を実施例に基づき、さらに詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
なお、合成された生成物の構造はＮＭＲ、ＩＲ、ミリマス測定により同定を行った。
また、目的物の反応率は高速液体クロマトグラフィー（ＨＰＬＣ）を用い、ピーク面積の比率で含量を分析した。【０１３３】
ＨＰＬＣ測定条件は、カラム：Ｗａｔｅｒｓ  ＸＢｒｉｄｇｅ  Ｃ１８、溶離液：アセトニトリル／水（Ｖ／Ｖ＝７／３）、緩衝剤：燐酸０．１％、検出器：ＵＶ２１０〜２５４ｎｍ、ＣｏｒｏｎａＣＡＤもしくはＲＩ、流量：１．０ｍｌ／ｍｉｎ、カラム温度：３０〜４０℃で行った。【０１３４】
標準物質が市販されていないものは、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより単離収率を求めた。【０１３５】
実施例１
図１に示す反応装置を使用して反応を行った。
下記のマクロライド系アルコール化合物１（０．０６Ｍ）、ジメチルスルホキシド（０．１５Ｍ）となるように濃度調整し混合したメチレンクロライド溶液（溶液Ａ）、無水トリフルオロ酢酸／メチレンクロライド溶液（０．１５Ｍ）（溶液Ｂ）、ジイソプロピルエチルアミン／メチレンクロライド溶液（０．１８Ｍ）（溶液Ｃ）を用いた。
溶液Ａ〜溶液Ｃは島津製作所社製ポンプＬＣ−２０ＡＴまたはＬＣ−１０Ａｉを用いてマイクロリアクターに送液した。溶液Ａ〜溶液Ｃのマイクロリアクターの供給流量は１．５ｍｌ／分とし、このとき、図１の区間５〜７、８〜１０の滞留時間は０．０５秒、６．９秒である。また、第1工程の反応温度は０℃であり、第２工程の反応温度は３０℃である。また、第１工程での混合線速度は、１．６ｍ／ｓ（流路径：０．２ｍｍ、流路断面積：０．０３ｍｍ２）である。
リアクター出口から流出する反応液は、３分間の待機期間が経過した後、純水１ｍｌの入ったサンプリング管に１５秒間サンプリングし、２５℃で１０秒間攪拌した。反応後の溶液はＨＰＬＣを用いて分析し、標準物質を用いる内部標準法により定量分析を行ったところ、目的とするケトン化合物の収率は９６％であった。【０１３６】
比較例１
実施例１と同様に濃度調整した溶液Ａ〜溶液Ｃを用いて、磁気撹拌子を入れた２５ｍＬフラスコへ予め溶液Ａ４．５ｍＬを加えておき、０℃に冷却後、溶液Ｂ４．５ｍｌを１．５ｍｌ／分で滴下撹拌し、滴下終了後、１０分撹拌した。０℃を維持したまま、続いて溶液Ｃ４．５ｍｌを１．５ｍｌ／分で滴下撹拌し、滴下終了後、反応液を３０℃まで昇温し、１０分撹拌した。１０分反応後の溶液はＨＰＬＣを用いて分析し、標準物質を用いる内部標準法により定量分析を行ったところ目的とするケトン化合物の収率は１０％であり、酸化反応により基質への副反応が起こり、顕著に収率低下した。【０１３７】
【化１４】
2017057461.tif 000016
【０１３８】
ここで、Ｂｚはベンゾイル基〔−Ｃ（＝Ｏ）−Ｃ６Ｈ５〕である。
得られた結果をまとめて、下記表１に示す。
なお、ＭＴＭ体は、原料のアルコール化合物の−ＯＨが、−Ｏ−ＣＨ２−Ｓ−ＣＨ３に変換されたものであり、ＴＦＡ体は、原料のアルコール化合物の−ＯＨが、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−ＣＦ３に変換されたものである。
また、不純物は、プメラー転位体以外の副反応生成物である。【０１３９】
【表１】
2017057461.tif 000017
【０１４０】
実施例２〜７
第１工程の反応温度を下記表２に示した条件で実施した以外は実施例１と同様に行った。
得られた結果をまとめて、下記表２に示す。【０１４１】
【表２】
2017057461.tif 000018
【０１４２】
実施例８〜１２
第２工程の反応温度を下記表３に示した条件で実施した以外は実施例１と同様に行った。
得られた結果をまとめて、下記表３に示す。
なお、Ｎ．Ｄ．は検出されなかった、もしくは検出限界以下であったことを示す。【０１４３】
【表３】
2017057461.tif 000019
【０１４４】
実施例１３〜１６
第１工程における混合線速度を下記表４に示した条件で実施した以外は実施例1と同様に行った。
得られた結果をまとめて、下記表４に示す。
なお、流路径は、マイクロミキサーの内径であり、流路断面積は、流路断面における液体が流れる面積である。【０１４５】
【表４】
2017057461.tif 000020
【０１４６】
実施例１７〜２０
アルコール化合物を下記表５に示したもので実施した以外は実施例１と同様に行った。
得られた結果をまとめて、下記表５に示す。【０１４７】
【表５】
2017057461.tif 000021
【０１４８】
上記表１〜５の結果から、本発明の製造方法を行うことで、求核性の置換基や求核攻撃を受けやすい置換基を有している第１級または第２級アルコール化合物において、高選択的酸化反応により、高収率、高純度で目的とするアルデヒド化合物またはケトン化合物が得られる。
ここで、比較例１では、プメラー転位体が多く、また、求核性の置換基や求核攻撃を受けやすい置換基が反応に関与して生じたと思われる不純物が１５％と多いのに対し、本発明では、上記のように、求核性の置換基や求核攻撃を受けやすい置換基を有しているにもかかわらず、これらの基が実質的に反応に関与せず、目的とする−ＯＨのみを、カルボニル基に変換することができる。【０１４９】
本発明をその実施態様とともに説明したが、我々は特に指定しない限り我々の発明を説明のどの細部においても限定しようとするものではなく、添付の請求の範囲に示した発明の精神と範囲に反することなく幅広く解釈されるべきであると考える。【０１５０】
本願は、２０１５年９月３０日に日本国で特許出願された特願２０１５−１９５３７６に基づく優先権を主張するものであり、これはここに参照してその内容を本明細書の記載の一部として取り込む。
【符号の説明】
【０１５１】
１、２、３      マイクロリアクターへの原料供給口
４、６、７、９  マイクロミキサーへの原料供給口
５              第１工程（溶液ＡとＢの反応）の混合開始点
８              第２工程（溶液Ｃとの反応）の混合開始点
１０            マイクロリアクターの出口
【図１】
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【国際調査報告】
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