(57)【要約】  高い偽造防止効果を達成可能とする。本発明の表示体は、一方の主面に複数の画素が設けられた光透過層と、前記主面を被覆した金属層とを含み、前記画素（ＰＸ）の１以上は第１領域（Ｒ１）を含み、前記画素（ＰＸ）の１以上は第２領域（Ｒ２）を含み、前記第１領域（Ｒ１）には、第１方向（Ｄ１）に対して−１０°乃至＋１０°の第１角度範囲内に各々の長さ方向がある複数の第１溝又は稜が設けられ、前記第２領域（Ｒ２）には、前記第１方向（Ｄ１）に垂直な第２方向（Ｄ２）に対して−６５°乃至＋６５°の第２角度範囲内に各々の長さ方向がある複数の第２溝又は稜が設けられ、これら第２溝又は稜は回折構造を生じさせており、前記金属層は、前記第１領域（Ｒ１）の少なくとも一部を被覆することなしに、前記第２領域（Ｒ２）を被覆している。
2017073611.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
二次元的に配列した複数の画素が一方の主面に設けられた光透過層と、前記主面を部分的に被覆した金属層とを備えた表示体であって、
前記複数の画素の各々は、
前記主面に平行な第１方向に対して−１０°乃至＋１０°の第１角度範囲内に各々の長さ方向がある複数の第１溝又は稜が設けられた第１領域と、
前記主面に平行であり且つ前記第１方向に垂直な第２方向に対して−６５°乃至＋６５°の第２角度範囲内に各々の長さ方向がある複数の第２溝又は稜が設けられ、前記複数の第２溝又は稜は、前記光透過層と前記金属層との界面又は前記金属層の表面に回折構造を生じさせる第２領域と、
平坦な第３領域と、
前記第２角度範囲内に各々の長さ方向がある複数の第３溝又は稜が設けられ、前記複数の第３溝又は稜は、前記光透過層と前記金属層との界面又は前記金属層の表面に異方性光散乱構造を生じさせる第４領域と
からなる群より選ばれる１以上を含み、
前記複数の画素の１以上は前記第１領域を含み、
前記複数の画素の１以上は前記第２領域を含み、
前記金属層は、前記第１領域の少なくとも一部を被覆することなしに、前記第２領域と、存在している場合には前記第３領域と前記第４領域とを被覆し、
前記表示体は、白色光で照明して透過光を観察した場合には前記第１領域の分布に対応した第１画像を表示し、白色光で照明して前記回折構造が射出する回折光を観察した場合には第２画像を表示するように構成された表示体。
【請求項２】
前記複数の画素の１以上は前記第３及び第４領域の少なくとも一方を含み、前記複数の画素の残りは前記第３及び第４領域の何れも含んでいない請求項１に記載の表示体。
【請求項３】
前記複数の画素の２以上は、前記第１領域を含み且つ前記画素の面積に占める前記第１領域の面積の割合が異なっている請求項１又は２に記載の表示体。
【請求項４】
前記複数の画素の２以上は、前記第１領域と、前記第３及び第４領域の少なくとも一方と、任意に前記第２領域とを含み、前記画素の面積に占める前記第１領域の面積の割合が異なり、且つ、前記画素の面積に占める前記第３及び第４領域の合計面積の割合が異なっている請求項１乃至３の何れか１項に記載の表示体。
【請求項５】
前記複数の画素の２以上は、前記第２領域を含み且つ前記画素の面積に占める前記第２領域の面積の割合が異なっている請求項１乃至４の何れか１項に記載の表示体。
【請求項６】
前記複数の画素の２以上は、前記第２領域と、前記第３及び第４領域の少なくとも一方と、任意に前記第１領域とを含み、前記画素の面積に占める前記第２領域の面積の割合が異なり、且つ、前記画素の面積に占める前記第３及び第４領域の合計面積の割合が異なっている請求項１乃至５の何れか１項に記載の表示体。
【請求項７】
前記第１画像のネガ画像は前記第２画像のモノクロ画像と等しい請求項１乃至６の何れか１項に記載の表示体。
【請求項８】
前記第１画像のネガ画像は前記第２画像のモノクロ画像とは異なっている請求項１乃至６の何れか１項に記載の表示体。
【請求項９】
前記複数の画素の１以上は前記第３領域を含み、前記複数の画素の１以上は前記第４領域を含み、前記第３領域を含んだ前記複数の画素の１以上の配列が形成する第３パターンは、前記第４領域を含んだ前記複数の画素の１以上の配列が形成する第４パターンとは異なっている請求項１乃至８の何れか１項に記載の表示体。
【請求項１０】
前記複数の画素の各々は第１乃至第３サブ画素を含み、
前記第１乃至第３サブ画素の各々は前記第１乃至第４領域の１以上を含み、
前記複数の画素の１以上において、前記第１サブ画素は前記第２領域を含み、
前記複数の画素の１以上において、前記第２サブ画素は前記第２領域を含み、
前記複数の画素の１以上において、前記第３サブ画素は前記第２領域を含み、
前記第１サブ画素が前記第２領域を含んだ前記複数の画素の１以上の各々において、前記回折構造のうち前記第１サブ画素上に位置した部分は、前記表示体を白色光で照明して回折光を観察する何れかの条件のもとで赤色の回折光を射出し、
前記第２サブ画素が前記第２領域を含んだ前記複数の画素の１以上の各々において、前記回折構造のうち前記第２サブ画素上に位置した部分は、前記条件のもとで緑色の回折光を射出し、
前記第３サブ画素が前記第２領域を含んだ前記複数の画素の１以上の各々において、前記回折構造のうち前記第３サブ画素上に位置した部分は、前記条件のもとで青色の回折光を射出する請求項１乃至９の何れか１項に記載の表示体。
【請求項１１】
前記複数の画素の各々は第１及び第２サブ画素を含み、
前記複数の画素の１以上では、前記第１サブ画素は、前記第１領域と任意に前記第３及び第４領域の少なくとも一方とを含み、前記複数の画素の残りでは、前記第１サブ画素は、前記第３及び第４領域の少なくとも一方と任意に前記第１領域とを含み、
前記複数の画素の１以上では、前記第２サブ画素は、前記第２領域と任意に前記第３及び第４領域の少なくとも一方とを含み、前記複数の画素の残りでは、前記第２サブ画素は、前記第３及び第４領域の少なくとも一方と任意に前記第２領域とを含んだ請求項１乃至９の何れか１項に記載の表示体。
【請求項１２】
前記複数の画素の各々は第１乃至第４サブ画素を含み、
前記第１サブ画素は前記第１、第３及び第４領域の少なくとも１つを含み、
前記第２乃至第４サブ画素の各々は前記第２乃至第４領域の少なくとも１つを含み、
前記複数の画素の１以上において、前記第２サブ画素は前記第２領域を含み、
前記複数の画素の１以上において、前記第３サブ画素は前記第２領域を含み、
前記複数の画素の１以上において、前記第４サブ画素は前記第２領域を含み、
前記第２サブ画素が前記第２領域を含んだ前記複数の画素の１以上の各々において、前記回折構造のうち前記第２サブ画素上に位置した部分は、前記表示体を白色光で照明して回折光を観察する何れかの条件のもとで赤色の回折光を射出し、
前記第３サブ画素が前記第２領域を含んだ前記複数の画素の１以上の各々において、前記回折構造のうち前記第３サブ画素上に位置した部分は、前記条件のもとで緑色の回折光を射出し、
前記第４サブ画素が前記第２領域を含んだ前記複数の画素の１以上の各々において、前記回折構造のうち前記第４サブ画素上に位置した部分は、前記条件のもとで青色の回折光を射出する請求項１乃至９の何れか１項に記載の表示体。
【請求項１３】
請求項１乃至１２の何れか１項に記載の表示体と、前記表示体を剥離可能に支持した支持体とを備えた転写箔。
【請求項１４】
請求項１乃至１２の何れか１項に記載の表示体と、これを支持した物品とを備えたラベル付き物品。
【請求項１５】
二次元的に配列した複数の画素が一方の主面に設けられた光透過層であって、
前記複数の画素の各々は、
前記主面に平行な第１方向に対して−１０°乃至＋１０°の第１角度範囲内に各々の長さ方向がある複数の第１溝又は稜が設けられた第１領域と、
前記主面に平行であり且つ前記第１方向に垂直な第２方向に対して−６５°乃至＋６５°の第２角度範囲内に各々の長さ方向がある複数の第２溝又は稜が設けられ、前記第２溝又は稜は回折構造を構成するように配列した第２領域と、
平坦な第３領域と、
前記第２角度範囲内に各々の長さ方向がある複数の第３溝又は稜が設けられ、前記複数の第３溝又は稜は異方性光散乱構造を構成するように配列した第４領域と
からなる群より選ばれる１以上を含み、
前記複数の画素の１以上は前記第１領域を含み、前記複数の画素の１以上は前記第２領域を含んだ光透過層を準備することと、
前記主面上に金属層としての第１層を形成することと、
前記光透過層を前記第１方向へ搬送させながら、気相堆積法により、前記第１層とは異なる材料を前記第１層上に堆積させて、前記第１領域の位置におけるエッチング剤の透過性が前記第２乃至第４領域における前記エッチング剤の透過性と比較してより高い第２層を形成することと、
前記エッチング剤を前記第２層に接触させて、前記第１及び第２層からなる積層構造のうち前記第１領域上に位置した部分の少なくとも一部を選択的に除去することと
を含んだ表示体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、表示体に関する。
【背景技術】
【０００２】
有価証券、証明書、ブランド品、電子機器又は各種機械類の消耗材及び交換部品、並びに、個人認証媒体などの物品は、偽造や変造などが困難であることが望まれる。そのため、これら物品には、偽造防止効果に優れた表示体を支持させることがある。【０００３】
そのような目的で使用される表示体の多くは、回折格子及びホログラムなどの回折構造、散乱構造、並びにレンズアレイなどの微細構造を含んでいる。これらの微細構造が表示する画像は、例えば、照明方向や観察方向の変化に応じて、色や形状の変化を生じ得る。また、これら微細構造は、その構造を解析することが難しく、しかも、製造するためには電子線描画装置などの高価な設備を必要とする。これらの理由から、上記の微細構造は、偽造が困難である。従って、上記の微細構造を含んだ表示体は、偽造防止効果を発揮し得る。【０００４】
このような表示体の一例として、特開平８−２１９０９には、回折格子によってカラー画像を表示する記録媒体が記載されている。この記録媒体は、多数の画素を有しており、各画素には回折格子が設けられている。この記録媒体では、個々の画素が、赤色表示用の回折格子のためのサブ画素と、緑色表示用の回折格子のためのサブ画素と、青色表示用の回折格子のためのサブ画素とを含んでいる。この記録媒体によると、各サブ画素の面積に占める回折格子の面積の割合を適宜設定することにより、カラー画像を表示することができる。
【発明の概要】
【０００５】
回折構造によって写真画質の画像を表示する表示体は、今日でも偽造が困難である。しかしながら、近年、ホログラム作製技術が普及してきている。そのため、そのような表示体と同一の構造を有している偽造品は製造できないにしても、一見すると類似した印象を与え得る模造品は製造できる可能性がある。即ち、上述した表示体の偽造防止効果は小さくなりつつある。  
そこで、本発明は、高い偽造防止効果を達成可能とすることを目的とする。
【０００６】
本発明の一側面によると、二次元的に配列した複数の画素が一方の主面に設けられた光透過層と、前記主面を部分的に被覆した金属層とを備えた表示体であって、前記複数の画素の各々は、前記主面に平行な第１方向に対して−１０°乃至＋１０°の第１角度範囲内に各々の長さ方向がある複数の第１溝又は稜と、任意に前記第１溝又は稜と交差する溝又は稜とが設けられた第１領域と、前記主面に平行であり且つ前記第１方向に垂直な第２方向に対して−６５°乃至＋６５°の第２角度範囲内に各々の長さ方向がある複数の第２溝又は稜が設けられ、前記複数の第２溝又は稜は、前記光透過層と前記金属層との界面又は前記金属層の表面に回折構造を生じさせる第２領域と、平坦な第３領域と、前記第２角度範囲内に各々の長さ方向がある複数の第３溝又は稜が設けられ、前記複数の第３溝又は稜は、前記光透過層と前記金属層との界面又は前記金属層の表面に異方性光散乱構造を生じさせる第４領域とからなる群より選ばれる１以上を含み、前記複数の画素の１以上は前記第１領域を含み、前記複数の画素の１以上は前記第２領域を含み、前記金属層は、前記第１領域の少なくとも一部を被覆することなしに、前記第２領域と、存在している場合には前記第３領域と前記第４領域とを被覆し、前記表示体は、白色光で照明して透過光を観察した場合には前記第１領域の分布に対応した第１画像を表示し、白色光で照明して前記回折構造が射出する回折光を観察した場合には第２画像を表示するように構成された表示体が提供される。
【図面の簡単な説明】
【０００７】
【図１】本発明の第１実施形態に係る表示体を概略的に示す平面図。
【図２】図１に示す表示体のＩＩ−ＩＩ線に沿った断面図。
【図３】図１に示す表示体のＩＩＩ−ＩＩＩ線に沿った断面図。
【図４】溝又は稜の長さ方向の角度範囲を説明するための図。
【図５Ａ】図１乃至図３に示す表示体の製造方法の一例を概略的に示す断面図。
【図５Ｂ】図１乃至図３に示す表示体の製造方法の一例を概略的に示す断面図。
【図５Ｃ】図１乃至図３に示す表示体の製造方法の一例を概略的に示す断面図。
【図５Ｄ】図１乃至図３に示す表示体の製造方法の一例を概略的に示す断面図。
【図５Ｅ】図１乃至図３に示す表示体の製造方法の一例を概略的に示す断面図。
【図６】本発明の第２実施形態に係る表示体を概略的に示す平面図。
【図７】図６に示す表示体が含んでいる画素の一例を概略的に示す平面図。
【図８】図６に示す表示体が含んでいる画素の他の例を概略的に示す平面図。
【図９】図６に示す表示体が含んでいる画素の更に他の例を概略的に示す平面図。
【図１０】図６に示す表示体が第２画像を表示している様子の一例を概略的に示す平面図。
【図１１】図６に示す表示体が第１画像を表示している様子の一例を概略的に示す平面図。
【図１２】本発明の第３実施形態に係る表示体を概略的に示す平面図。
【図１３】図１２に示す表示体のＸＩＩＩ−ＸＩＩＩ線に沿った断面図。
【図１４】図１２に示す表示体のＸＩＶ−ＸＩＶ線に沿った断面図。
【図１５Ａ】図１２乃至図１４に示す表示体の製造方法の一例を概略的に示す断面図。
【図１５Ｂ】図１２乃至図１４に示す表示体の製造方法の一例を概略的に示す断面図。
【図１５Ｃ】図１２乃至図１４に示す表示体の製造方法の一例を概略的に示す断面図。
【図１５Ｄ】図１２乃至図１４に示す表示体の製造方法の一例を概略的に示す断面図。
【図１５Ｅ】図１２乃至図１４に示す表示体の製造方法の一例を概略的に示す断面図。
【図１６】本発明の第４実施形態に係る表示体を概略的に示す平面図。
【図１７】図１６に示す表示体が含んでいる画素の一例を概略的に示す平面図。
【図１８】図１６に示す表示体が第２画像を表示している様子を概略的に示す平面図。
【図１９】図１６に示す表示体が第１画像を表示している様子を概略的に示す平面図。
【図２０】第４領域に採用可能な構造の一例を概略的に示す平面図。
【図２１】第２領域に採用可能な構造の他の例を概略的に示す斜視図。
【図２２】本発明の一実施形態に係る転写箔を概略的に示す断面図。
【図２３】本発明の一実施形態に係るラベル付き物品を概略的に示す平面図。
【発明を実施するための形態】
【０００８】
以下に、本発明の実施形態を記載する。  
一実施形態によると、
二次元的に配列した複数の画素が一方の主面に設けられた光透過層と、前記主面を部分的に被覆した金属層とを備えた表示体であって、
前記複数の画素の各々は、
前記主面に平行な第１方向に対して−１０°乃至＋１０°の第１角度範囲内に各々の長さ方向がある複数の第１溝又は稜が設けられた第１領域と、
前記主面に平行であり且つ前記第１方向に垂直な第２方向に対して−６５°乃至＋６５°の第２角度範囲内に各々の長さ方向がある複数の第２溝又は稜が設けられ、前記複数の第２溝又は稜は、前記光透過層と前記金属層との界面又は前記金属層の表面に回折構造を生じさせる第２領域と、
平坦な第３領域と、
前記第２角度範囲内に各々の長さ方向がある複数の第３溝又は稜が設けられ、前記複数の第３溝又は稜は、前記光透過層と前記金属層との界面又は前記金属層の表面に異方性光散乱構造を生じさせる第４領域と
からなる群より選ばれる１以上を含み、
前記複数の画素の１以上は前記第１領域を含み、
前記複数の画素の１以上は前記第２領域を含み、
前記金属層は、前記第１領域の少なくとも一部を被覆することなしに、前記第２領域と、存在している場合には前記第３領域と前記第４領域とを被覆し、
前記表示体は、白色光で照明して透過光を観察した場合には前記第１領域の分布に対応した第１画像を表示し、白色光で照明して前記回折構造が射出する回折光を観察した場合には第２画像を表示するように構成された表示体が提供される。
【０００９】
この表示体は、回折光による画像の表示に加え、透過光による画像の表示が可能である。従って、この表示体によると、高い偽造防止効果を達成し得る。
【００１０】
また、複数の第１溝又は稜は、金属層による第１領域の被覆率を小さくするのに寄与している。それ故、この表示体では、第１領域の位置と金属層の開口部の位置とは、高い精度で一致している。従って、この表示体は、高い画質で画像を表示することが可能である。
【００１１】
ここで、「回折構造」は、回折格子、ホログラム、又はそれらの組み合わせを意味している。回折構造は、白色光で照明した場合に、第１観察方向には第１回折光を射出し、第１観察方向とは異なる第２観察方向には第１回折光とは波長が異なる第２回折光を射出して、第１観察方向から観察している観察者と、第２観察方向から観察している観察者とに、異なる色を知覚させるように設計されている。
【００１２】
また、「異方性光散乱構造」は、複数の溝又は稜からなり、それらの長さ方向が３０°以下の角度範囲内に、好ましくは１５°以下の角度範囲内にあり、溝又は稜の長さ方向及びピッチの少なくとも一方が不規則な構造である。異方性光散乱構造は、これが設けられた面に対して斜めであり且つ溝又は稜の平均的な長さ方向に対して垂直な第１照明方向から白色光で照明した場合には白色光を散乱光として射出し、上記面に対して垂直であり且つ溝又は稜の平均的な長さ方向を含む平面内の方向のうち、第１照明方向と上記面に対する角度が等しい第２照明方向から白色光で照明した場合には、散乱光を射出しないか又は第１照明方向から白色光で照明した場合と比較して低強度の白色光を散乱光として射出するように設計されている。
【００１３】
他の実施形態によると、
二次元的に配列した複数の画素が一方の主面に設けられた光透過層であって、
前記複数の画素の各々は、
前記主面に平行な第１方向に対して−１０°乃至＋１０°の第１角度範囲内に各々の長さ方向がある複数の第１溝又は稜が設けられた第１領域と、
前記主面に平行であり且つ前記第１方向に垂直な第２方向に対して−６５°乃至＋６５°の第２角度範囲内に各々の長さ方向がある複数の第２溝又は稜が設けられ、前記第２溝又は稜は回折構造を構成するように配列した第２領域と、
平坦な第３領域と、
前記第２角度範囲内に各々の長さ方向がある複数の第３溝又は稜が設けられ、前記複数の第３溝又は稜は異方性光散乱構造を構成するように配列した第４領域と
からなる群より選ばれる１以上を含み、
前記複数の画素の１以上は前記第１領域を含み、前記複数の画素の１以上は前記第２領域を含んだ光透過層を準備することと、
前記主面上に金属層としての第１層を形成することと、
前記光透過層を前記第１方向へ搬送させながら、気相堆積法により、前記第１層とは異なる材料を前記第１層上に堆積させて、前記第１領域の位置におけるエッチング剤の透過性が前記第２乃至第４領域における前記エッチング剤の透過性と比較してより高い第２層を形成することと、
前記エッチング剤を前記第２層に接触させて、前記第１及び第２層からなる積層構造のうち前記第１領域上に位置した部分の少なくとも一部を選択的に除去することと
を含んだ表示体の製造方法が提供される。  
この方法では、第２層をパターニングするためのプロセスなしで、第１及び第２層からなる積層構造のうち第１領域上に位置した部分の少なくとも一部を選択的に除去することができる。従って、この方法によれば、上記の表示体を簡便に製造することができる。
【００１４】
また、この方法では、複数の第１溝又は稜は、第１領域の位置におけるエッチング剤の透過性を、第２乃至第４領域におけるエッチング剤の透過性と比較してより高めることに寄与している。それ故、この方法では、第１領域の位置と第１層の開口部の位置とを、高い精度で一致させることができる。従って、この方法によれば、高い画質で画像を表示可能な表示体を製造することが可能である。
【００１５】
本発明者らは、第１領域の位置におけるエッチング剤の透過性が第２乃至第４領域におけるエッチング剤の透過性と比較してより高い第２層を形成できるのは、以下の理由によると考えている。
【００１６】
斜方蒸着は、液晶の配向膜の形成に利用されている。例えば、珪素酸化物などの材料を基板上に斜方蒸着すると、この材料は、各々が傾いた柱を形成するように基板上で成長する。
【００１７】
上記実施形態に係る方法では、光透過層を搬送させながら、気相堆積法によって、第２層の材料を光透過層上に堆積させる。例えば、気化した材料を供給する蒸発源に対して、光透過層を相対的に移動させながら、光透過層上に上記材料を堆積させる。即ち、光透過層には、気化した材料は斜め方向から供給される。それ故、このプロセスでは、上記の斜方蒸着と同様の現象を生じ得る。
【００１８】
第２層の材料が柱状に成長すると、これら柱の陰に隠れた部分では、この材料の成長が妨げられる。そのため、このようにして得られる第２層は多孔質となる。
【００１９】
但し、光透過層は移動しているため、その表面近傍では乱流が生じる。そのため、平坦な領域上には、柱状構造は生じ難い。従って、第２層のうち第３領域上に位置した部分は、多孔質とはならない。
【００２０】
また、光透過層の表面に多数の溝が設けられ且つそれら溝の長さ方向と光透過層の搬送方向とが大きな角度で交差している場合、これら溝は、光透過層の表面近傍における乱流の生成を促進する。従って、第２層のうち第２及び第４領域上に位置した部分も、多孔質とはならない。
【００２１】
これに対し、表面に多数の溝が設けられ且つそれら溝の長さ方向と搬送方向とがほぼ平行である場合、これら溝は、表面近傍における気流を整流化する。そのため、そのような溝が設けられた領域では、柱状構造を生じ易い。しかも、気化した材料の堆積は、溝の底の位置よりも、溝の開口近傍において生じ易い。即ち、柱状構造は、溝の底の位置よりも、溝の開口近傍に生じ易い。溝の開口近傍に柱状構造が形成されると、溝の底への原料の堆積は極めて生じ難くなる。従って、第２層のうち第１領域上に位置した部分は多孔質となる。
【００２２】
以上のように、第２層は、第２乃至第４領域上では緻密に形成され、第１領域上では多孔質になる。従って、第１領域の位置でのみ、第１層へエッチング剤が到達し、エッチングが選択的に進行する。
【００２３】
更に他の実施形態によれば、上記実施形態の何れかにおいて、光透過層は、光透過性を有しているフィルムである。なお、ここで使用する用語「フィルム」は、厚さの概念を含むものではない。
【００２４】
更に他の実施形態によれば、上記実施形態の何れかにおいて、光透過層は樹脂からなる。
【００２５】
更に他の実施形態によれば、上記実施形態の何れかにおいて、光透過層は透明である。或いは、更に他の実施形態によれば、上記実施形態の何れかにおいて、光透過層は不透明である。
【００２６】
更に他の実施形態によれば、上記実施形態の何れかにおいて、光透過層は、樹脂層からなる単層構造を有している。或いは、更に他の実施形態によれば、上記実施形態の何れかにおいて、光透過層は多層構造を有している。多層構造の光透過層は、例えば、基材と、その上に設けられた樹脂層とを含んでいる。
【００２７】
基材は、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）フィルム、及びポリプロピレン（ＰＰ）フィルム等のプラスチックフィルム；紙；合成紙；プラスチック被覆紙；又は樹脂含浸紙である。
【００２８】
樹脂層は、例えば、熱可塑性樹脂からなる。そのような樹脂層は、例えば、熱可塑性樹脂からなる塗膜を形成し、この塗膜を加熱しながら、これに溝又は稜に対応した凸部又は凹部が設けられた版（又は金型）を押し当て、この状態で塗膜を冷却し、その後、版から塗膜を剥離することにより得られる。熱可塑性樹脂としては、例えば、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、セルロース系樹脂、及びビニル系樹脂、これらの１以上を含んだ混合物、又は、これらの１以上を含んだ共重合体を使用することができる。
【００２９】
或いは、樹脂層は、例えば、熱硬化性樹脂からなる。そのような樹脂層は、例えば、熱硬化性樹脂からなる塗膜を形成し、これに上記の版を押し当てるとともに熱を加え、その後、版から塗膜を剥離することにより得られる。熱硬化性樹脂としては、例えば、イソシアネート化合物とアクリル系ポリオール樹脂及びポリエステル系ポリオール樹脂などのポリオール系樹脂との架橋反応によって形成されるウレタン系樹脂；メラミン系樹脂；エポキシ系樹脂；フェノール系樹脂；これらの１以上を含んだ混合物；又は、これらの１以上を含んだ共重合体を使用することができる。
【００３０】
或いは、樹脂層は、例えば、放射線硬化性樹脂からなる。そのような樹脂層は、例えば、放射線硬化性樹脂からなる塗膜を形成し、これに上記の版を押し当てるとともに紫外線等の放射線を照射し、その後、版から塗膜を剥離することにより得られる。或いは、そのような樹脂層は、例えば、基材と版との間に放射線硬化性樹脂を流し込むとともに、基材と版とを互いに対して押し当て、これに放射線を照射し、その後、塗膜を版から剥離することにより得られる。
【００３１】
放射線硬化性樹脂は、例えば、重合性化合物と開始剤とを含んでいる。  
重合性化合物としては、例えば、光ラジカル重合が可能な化合物を使用する。光ラジカル重合が可能な化合物としては、例えば、エチレン性不飽和結合又はエチレン性不飽和基を有している、モノマー、オリゴマー又はポリマーを使用することができる。或いは、光ラジカル重合が可能な化合物として、例えば、１，６−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ペンタエイスリトールペンタアクリレート及びジペンタエリスリトールヘキサアクリレート等のモノマー；エポキシアクリレート、ウレタンアクリレート及びポリエステルアクリレート等のオリゴマー；又は、ウレタン変性アクリル樹脂及びエポキシ変性アクリル樹脂等のポリマーを使用してもよい。
【００３２】
重合性化合物として光ラジカル重合が可能な化合物を使用する場合、開始剤としては、光ラジカル重合開始剤を使用することができる。
【００３３】
この光ラジカル重合開始剤としては、例えば、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル及びベンゾインエチルエーテル等のベンゾイン系化合物；アントラキノン及びメチルアントラキノン等のアントラキノン系化合物；アセトフェノン、ジエトキシアセトフェノン、ベンゾフェノン、ヒドロキシアセトフェノン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、α−アミノアセトフェノン及び２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モリホリノプロパン−１−オン等のフェニルケトン系化合物；ベンジルジメチルケタール；チオキサントン；アシルホスフィンオキサイド；又は、ミヒラーズケトンを使用することができる。
【００３４】
或いは、重合性化合物として、光カチオン重合が可能な化合物を使用してもよい。光カチオン重合が可能な化合物としては、例えば、エポキシ基を有している、モノマー、オリゴマー若しくはポリマー、キセタン骨格含有化合物、又は、ビニルエーテル類を使用することができる。
【００３５】
重合性化合物として光カチオン重合が可能な化合物を使用する場合、開始剤としては、光カチオン重合開始剤を使用することができる。この光カチオン重合開始剤としては、例えば、芳香族ジアゾニウム塩、芳香族ヨードニウム塩、芳香族スルホニウム塩、芳香族ホスホニウム塩又は混合配位子金属塩を使用することができる。
【００３６】
或いは、重合性化合物として、光ラジカル重合が可能な化合物と光カチオン重合が可能な化合物との混合物を使用してもよい。
【００３７】
この場合、開始剤としては、例えば、光ラジカル重合開始剤と光カチオン重合開始剤との混合物を使用する。或いは、この場合、光ラジカル重合及び光カチオン重合の双方の開始剤として機能し得る重合開始剤を使用してもよい。
【００３８】
このような開始剤としては、例えば、芳香族ヨードニウム塩又は芳香族スルホニウム塩を使用することができる。
【００３９】
放射線硬化性樹脂に占める開始剤の割合は、例えば、０．１乃至１５質量％の範囲内とする。
【００４０】
放射線硬化性樹脂は、重合開始剤を含んでいなくてもよい。この場合、例えば、放射線として電子線を照射することにより、重合性化合物の重合反応を引き起こすことができる。
【００４１】
放射線硬化性樹脂は、増感色素、染料、顔料、重合禁止剤、レベリング剤、消泡剤、タレ止め剤、付着向上剤、塗面改質剤、可塑剤、含窒素化合物、及びエポキシ樹脂等の添加剤、離型剤、又はこれらの組合せを更に含んでいてもよい。
【００４２】
また、放射線硬化樹脂には、その成形性を向上させるべく、非反応性の樹脂を更に含有させてもよい。この非反応性の樹脂としては、例えば、上記熱可塑性樹脂や熱硬化性樹脂などを単独で又は混合して用いることができる。
【００４３】
樹脂層は、例えば、０．１μｍ乃至１０μｍの厚さを有している。樹脂層の厚さは、その表面に設けるべき溝又は稜の深さ又は高さ以上とする。この厚さは、溝の深さ又は稜の高さの１倍乃至１０倍の範囲内とすることが好ましく、溝の深さ又は稜の高さの３倍乃至５倍の範囲内とすることがより好ましい。この厚さが大きいと、溝又は稜を形成するべく樹脂層に版を押し当てた際に、樹脂のはみ出しや皺を生じ易い。この厚さが小さいと、溝又は稜を所望の形状に形成することが難しい。
【００４４】
版は、例えば、電子線描画装置又はナノインプリント装置を用いて製造する。これにより、上述した凸部又は凹部を高い精度で形成することができる。なお、通常は、先ず、一方の主面にレリーフ構造が設けられた原版を作製し、この原版のレリーフ構造を転写して反転版を作製し、この反転版のレリーフ構造を転写して複製版を作製する。このようにして得られた複製版を用いて、樹脂層の表面にレリーフ構造を設ける。
【００４５】
更に他の実施形態によれば、上記実施形態の何れかにおいて、複数の第１溝又は稜は長さ方向が同一である。或いは、他の実施形態によれば、上記実施形態において、複数の第１溝又は稜は長さ方向がばらついている。
【００４６】
更に他の実施形態によれば、上記実施形態の何れかにおいて、複数の第１溝又は稜は、第１領域の或る端から他の端まで延びていている。或いは、更に他の実施形態によれば、上記実施形態の何れかにおいて、複数の第１溝又は稜は不連続部を有している。
【００４７】
更に他の実施形態によれば、上記実施形態の何れかにおいて、複数の第１溝又は稜の各々は、その長さ方向に垂直な断面が、例えば、Ｖ字形状やＵ字形状のように先細り形状を有している。或いは、更に他の実施形態によれば、上記実施形態の何れかにおいて、複数の第１溝又は稜の各々は、その長さ方向に垂直な断面が矩形状である。
【００４８】
更に他の実施形態によれば、上記実施形態の何れかにおいて、複数の第１溝又は稜の中心間距離は一定である。或いは、更に他の実施形態によれば、上記実施形態の何れかにおいて、複数の第１溝又は稜の中心間距離は不均一である。
【００４９】
更に他の実施形態によれば、上記実施形態の何れかにおいて、複数の第１溝又は稜の中心間距離は、１００ｎｍ乃至３０００ｎｍの範囲内にあり、好ましくは３００ｎｍ乃至１５００ｎｍの範囲内にある。
【００５０】
更に他の実施形態によれば、上記実施形態の何れかにおいて、複数の第１溝又は稜の深さ又は高さは、２０ｎｍ乃至１５００ｎｍの範囲内にあり、好ましくは５０ｎｍ乃至８００ｎｍの範囲内にある。
【００５１】
更に他の実施形態によれば、上記実施形態の何れかにおいて、複数の第１溝又は稜の中心間距離に対する深さ又は高さの比の平均値は、３．０以下であり、好ましくは１．０以下である。
【００５２】
更に他の実施形態によれば、上記実施形態の何れかにおいて、複数の第１溝又は稜の中心間距離に対する深さ又は高さの比の平均値は、０．０５以上であり、好ましくは０．１５以上である。
【００５３】
更に他の実施形態によれば、上記実施形態の何れかにおいて、第１領域は、長さ方向が第１角度範囲外の溝又は稜が設けられていない。
【００５４】
更に他の実施形態によれば、上記実施形態の何れかにおいて、複数の第２溝又は稜は長さ方向が同一である。
【００５５】
更に他の実施形態によれば、上記実施形態の何れかにおいて、第２領域は、複数のサブ領域を含み、それらサブ領域の各々では複数の第２溝又は稜は長さ方向が同一であり、それらサブ領域間では、複数の第２溝又は稜は長さ方向が異なっている。
【００５６】
更に他の実施形態によれば、上記実施形態の何れかにおいて、複数の第２溝又は稜は、第２領域又はサブ領域の或る端から他の端まで延びていている。或いは、更に他の実施形態によれば、上記実施形態の何れかにおいて、複数の第２溝又は稜は不連続部を有している。
【００５７】
更に他の実施形態によれば、上記実施形態の何れかにおいて、複数の第２溝又は稜の各々は、その長さ方向に垂直な断面が、例えば、Ｖ字形状やＵ字形状のように先細り形状を有している。或いは、更に他の実施形態によれば、上記実施形態の何れかにおいて、複数の第２溝又は稜の各々は、その長さ方向に垂直な断面が矩形状である。
【００５８】
更に他の実施形態によれば、上記実施形態の何れかにおいて、複数の第２溝又は稜の中心間距離は一定である。
【００５９】
更に他の実施形態によれば、上記実施形態の何れかにおいて、複数の第２溝又は稜の中心間距離は、１００ｎｍ乃至３０００ｎｍの範囲内にあり、好ましくは３００ｎｍ乃至１５００ｎｍの範囲内にある。
【００６０】
更に他の実施形態によれば、上記実施形態の何れかにおいて、複数の第２溝又は稜の深さ又は高さは、２０ｎｍ乃至１５００ｎｍの範囲内にあり、好ましくは５０ｎｍ乃至８００ｎｍの範囲内にある。
【００６１】
更に他の実施形態によれば、上記実施形態の何れかにおいて、複数の第２溝又は稜の中心間距離に対する深さ又は高さの比の平均値は、１．０以下であり、好ましくは０．５以下である。
【００６２】
更に他の実施形態によれば、上記実施形態の何れかにおいて、複数の第２溝又は稜の中心間距離に対する深さ又は高さの比の平均値は、０．１以上であり、好ましくは０．０５以上である。
【００６３】
更に他の実施形態によれば、上記実施形態の何れかにおいて、第２領域は、複数の第２溝又は稜と交差する溝又は稜が設けられていない。或いは、更に他の実施形態によれば、上記実施形態の何れかにおいて、第２領域は、複数の第２溝又は稜と交差する溝又は稜が設けられている。
【００６４】
更に他の実施形態によれば、上記実施形態の何れかにおいて、複数の第３溝又は稜は長さ方向が同一であり且つ中心間距離が不均一である。或いは、更に他の実施形態によれば、上記実施形態の何れかにおいて、複数の第３溝又は稜は長さ方向が不均一である。
【００６５】
更に他の実施形態によれば、上記実施形態の何れかにおいて、第４領域は、複数のサブ領域を含み、それらサブ領域の各々では複数の第３溝又は稜は平均的な長さ方向が同一であり、それらサブ領域間では、複数の第３溝又は稜は平均的な長さ方向が異なっている。
【００６６】
更に他の実施形態によれば、上記実施形態の何れかにおいて、複数の第３溝又は稜は、第４領域又はサブ領域の或る端から他の端まで延びていている。或いは、更に他の実施形態によれば、上記実施形態の何れかにおいて、複数の第３溝又は稜は不連続部を有している。
【００６７】
更に他の実施形態によれば、上記実施形態の何れかにおいて、複数の第４溝又は稜の各々は、その長さ方向に垂直な断面が、例えば、Ｖ字形状やＵ字形状のように先細り形状を有している。或いは、更に他の実施形態によれば、上記実施形態の何れかにおいて、複数の第４溝又は稜の各々は、その長さ方向に垂直な断面が矩形状である。
【００６８】
更に他の実施形態によれば、上記実施形態の何れかにおいて、複数の第４溝又は稜の中心間距離は、１００ｎｍ乃至３０００ｎｍの範囲内にあり、好ましくは３００ｎｍ乃至１５００ｎｍの範囲内にある。
【００６９】
更に他の実施形態によれば、上記実施形態の何れかにおいて、複数の第４溝又は稜の深さ又は高さは、２０ｎｍ乃至１５００ｎｍの範囲内にあり、好ましくは５０ｎｍ乃至８００ｎｍの範囲内にある。
【００７０】
更に他の実施形態によれば、上記実施形態の何れかにおいて、複数の第４溝又は稜の中心間距離に対する深さ又は高さの比の平均値は１．０以下であり、好ましくは０．５以下である。
【００７１】
更に他の実施形態によれば、上記実施形態の何れかにおいて、複数の第４溝又は稜の中心間距離に対する深さ又は高さの比の平均値は０．０５以上であり、好ましくは０．１５以上である。
【００７２】
他の実施形態によれば、上記実施形態の何れかにおいて、前記複数の画素の１以上は前記第３及び第４領域の少なくとも一方を含み、前記複数の画素の残りは前記第３及び第４領域の何れも含んでいない。このような構造は、第３及び第４領域の少なくとも一方を利用して、第１画像の形状を調整するのに適している。
【００７３】
更に他の実施形態によれば、上記実施形態の何れかにおいて、前記複数の画素の２以上は、前記第１領域を含み且つ前記画素の面積に占める前記第１領域の面積の割合が異なっている。このような構造によれば、第１画像を階調画像とすることができる。
【００７４】
更に他の実施形態によれば、上記実施形態の何れかにおいて、前記複数の画素の２以上は、前記第１領域と、前記第３及び第４領域の少なくとも一方と、任意に前記第２領域とを含み、前記画素の面積に占める前記第１領域の面積の割合が異なり、且つ、前記画素の面積に占める前記第３及び第４領域の合計面積の割合が異なっている。このような構造は、第３及び第４領域の少なくとも一方を利用して、第１画像の階調を調整するのに適している。
【００７５】
更に他の実施形態によれば、上記実施形態の何れかにおいて、前記複数の画素の２以上は、前記第２領域を含み且つ前記画素の面積に占める前記第２領域の面積の割合が異なっている。このような構造によれば、第２画像を階調画像とすることができる。
【００７６】
更に他の実施形態によれば、上記実施形態の何れかにおいて、前記複数の画素の２以上は、前記第２領域と、前記第３及び第４領域の少なくとも一方と、任意に前記第１領域とを含み、前記画素の面積に占める前記第２領域の面積の割合が異なり、且つ、前記画素の面積に占める前記第３及び第４領域の合計面積の割合が異なっている。このような構造は、第３及び第４領域の少なくとも一方を利用して、第２画像の階調を調整するのに適している。
【００７７】
更に他の実施形態によれば、上記実施形態の何れかにおいて、前記第１画像のネガ画像は前記第２画像のモノクロ画像と等しい。これら画像を表示する表示体は、表示画像を第１画像と第２画像との間で切り替える際に、例えば、画像の形状を変化させることなしに、明暗反転と多色化（若しくは着色化）又は単色化（若しくは脱色化）とを同時に生じ得る。
【００７８】
或いは、更に他の実施形態によれば、上記実施形態の何れかにおいて、前記第１画像のネガ画像は前記第２画像のモノクロ画像とは異なっている。これら画像を表示する表示体は、表示画像を第１画像と第２画像との間で切り替える際に、例えば、画像の形状の変化と多色化（若しくは着色化）又は単色化（若しくは脱色化）とを同時に生じ得る。
【００７９】
更に他の実施形態によれば、上記実施形態の何れかにおいて、前記複数の画素の１以上は前記第３領域を含み、前記複数の画素の１以上は前記第４領域を含み、前記第３領域を含んだ前記複数の画素の１以上の配列が形成する第３パターンは、前記第４領域を含んだ前記複数の画素の１以上の配列が形成する第４パターンとは異なっている。このような構造を採用した表示体は、白色光で照明して前記異方性光散乱構造が射出する散乱光を観察した場合に、第１画像とは形状が異なる画像を表示し得る。
【００８０】
更に他の実施形態によれば、上記実施形態の何れかにおいて、前記複数の画素の１以上は前記第４領域を含み、前記複数の第３溝又は稜の長さ方向が前記複数の第２溝又は稜の長さ方向に対してなす角度は、５乃至６０°の範囲内にあり、好ましくは１５乃至５０°の範囲内にある。このような構造を採用した表示体は、前記異方性光散乱構造が射出する散乱光によって表示される画像は、第２画像の表示を妨げず、その逆も同様である。
【００８１】
或いは、更に他の実施形態によれば、上記実施形態の何れかにおいて、前記複数の画素の１以上は前記第４領域を含み、前記複数の第３溝又は稜の長さ方向が前記複数の第２溝又は稜の長さ方向に対してなす角度は、０乃至３０°の範囲内にあり、好ましくは０乃至１５°の範囲内にある。このような構造を採用した表示体は、回折光と散乱光との組み合わせによって第２画像を表示し得る。
【００８２】
更に他の実施形態によれば、上記実施形態の何れかにおいて、前記複数の画素の各々は、最大寸法が５乃至５０００μｍの範囲内にあり、好ましくは２０μｍ乃至１０００μｍの範囲内にある。そのような構造を採用した表示体は、写真画質の画像を表示するのに特に適している。
【００８３】
更に他の実施形態によれば、上記実施形態の何れかにおいて、前記複数の画素が含んでいる第１乃至第４領域の各々は、最大寸法が１乃至３０００μｍの範囲内にあり、好ましくは５μｍ乃至５００μｍの範囲内にある。そのような構造を採用した表示体も、写真画質の画像を表示するのに特に適している。
【００８４】
更に他の実施形態によれば、上記実施形態の何れかにおいて、
前記複数の画素の各々は第１乃至第３サブ画素を含み、
前記第１乃至第３サブ画素の各々は前記第１乃至第４領域の１以上を含み、
前記複数の画素の１以上において、前記第１サブ画素は前記第２領域を含み、
前記複数の画素の１以上において、前記第２サブ画素は前記第２領域を含み、
前記複数の画素の１以上において、前記第３サブ画素は前記第２領域を含み、
前記第１サブ画素が前記第２領域を含んだ前記複数の画素の１以上の各々において、前記回折構造のうち前記第１サブ画素上に位置した部分は、前記表示体を白色光で照明して回折光を観察する何れかの条件のもとで赤色の回折光を射出し、
前記第２サブ画素が前記第２領域を含んだ前記複数の画素の１以上の各々において、前記回折構造のうち前記第２サブ画素上に位置した部分は、前記条件のもとで緑色の回折光を射出し、
前記第３サブ画素が前記第２領域を含んだ前記複数の画素の１以上の各々において、前記回折構造のうち前記第３サブ画素上に位置した部分は、前記条件のもとで青色の回折光を射出する。
【００８５】
この表示体は、第２画像としてカラー画像を表示可能である。また、この表示体は、表示画像を第１画像と第２画像との間で切り替える際に、例えば、画像の形状を変化させることなしに、明暗反転と多色化（若しくは着色化）又は単色化（若しくは脱色化）とを同時に生じ得る。
【００８６】
更に他の実施形態によれば、上記実施形態の何れかにおいて、
前記複数の画素の各々は第１及び第２サブ画素を含み、
前記複数の画素の１以上では、前記第１サブ画素は、前記第１領域と任意に前記第３及び第４領域の少なくとも一方とを含み、前記複数の画素の残りでは、前記第１サブ画素は、前記第３及び第４領域の少なくとも一方と任意に前記第１領域とを含み、
前記複数の画素の１以上では、前記第２サブ画素は、前記第２領域と任意に前記第３及び第４領域の少なくとも一方とを含み、前記複数の画素の残りでは、前記第２サブ画素は、前記第３及び第４領域の少なくとも一方と任意に前記第２領域とを含んでいる。
【００８７】
この表示体は、表示画像を第１画像と第２画像との間で切り替える際に、例えば、画像の形状の変化と多色化（若しくは着色化）又は単色化（若しくは脱色化）とを同時に生じ得る。
【００８８】
或いは、更に他の実施形態によれば、上記実施形態の何れかにおいて、
前記複数の画素の各々は第１乃至第４サブ画素を含み、
前記第１サブ画素は前記第１、第３及び第４領域の少なくとも１つを含み、
前記第２乃至第４サブ画素の各々は前記第２乃至第４領域の少なくとも１つを含み、
前記複数の画素の１以上において、前記第２サブ画素は前記第２領域を含み、
前記複数の画素の１以上において、前記第３サブ画素は前記第２領域を含み、
前記複数の画素の１以上において、前記第４サブ画素は前記第２領域を含み、
前記第２サブ画素が前記第２領域を含んだ前記複数の画素の１以上の各々において、前記回折構造のうち前記第２サブ画素上に位置した部分は、前記表示体を白色光で照明して回折光を観察する何れかの条件のもとで赤色の回折光を射出し、
前記第３サブ画素が前記第２領域を含んだ前記複数の画素の１以上の各々において、前記回折構造のうち前記第３サブ画素上に位置した部分は、前記条件のもとで緑色の回折光を射出し、
前記第４サブ画素が前記第２領域を含んだ前記複数の画素の１以上の各々において、前記回折構造のうち前記第４サブ画素上に位置した部分は、前記条件のもとで青色の回折光を射出する。
【００８９】
この表示体は、第２画像としてカラー画像を表示可能である。また、この表示体は、表示画像を第１画像と第２画像との間で切り替える際に、例えば、画像の形状の変化と多色化（若しくは着色化）又は単色化（若しくは脱色化）とを同時に生じ得る。
【００９０】
更に他の実施形態によれば、上記実施形態の何れかにおいて、金属層は、第１領域を被覆することなしに、第２領域と、存在している場合には第３領域と第４領域とを被覆している。或いは、更に他の実施形態によれば、上記実施形態の何れかにおいて、金属層は、第１領域を部分的に被覆するとともに、第２領域と、存在している場合には第３領域と第４領域とを被覆している。
【００９１】
更に他の実施形態によれば、上記実施形態の何れかにおいて、金属層は遮光性の反射層である。
【００９２】
更に他の実施形態によれば、上記実施形態の何れかにおいて、金属層は、アルミニウム、錫、クロム、ニッケル、銅、金、及び銀などの単体としての金属、又は、これらの１以上を含んだ合金からなる。好ましくは、金属層は、アルミニウム又はアルミニウム合金からなる。
【００９３】
更に他の実施形態によれば、上記実施形態の何れかにおいて、金属層の厚さは１０ｎｍ乃至３０００ｎｍの範囲内にあり、好ましくは３０ｎｍ乃至１０００ｎｍの範囲内にある。
【００９４】
更に他の実施形態によれば、上記実施形態の何れかにおいて、金属層としての第１層の成膜は、スプレー法などの塗布法又は気相堆積法によって行う。気相堆積法は、真空蒸着法及びスパッタリング法などの物理気相堆積（ＰＶＤ）法であってもよく、化学気相堆積（ＣＶＤ）法であってもよい。前記金属層の成膜は、ＰＶＤ法又はＣＶＤ法によって行うことが好ましく、真空蒸着法によって行うことがより好ましい。
【００９５】
更に他の実施形態によれば、上記実施形態の何れかにおいて、第１層の成膜は、光透過層を第１方向へ搬送しながら行う。こうすると、第１及び第２層からなる積層構造のうち第１領域上に位置した部分を更に除去し易くなる。
【００９６】
更に他の実施形態によれば、上記実施形態の何れかにおいて、第２層は珪素酸化物（ＳｉＯｘ；１＜ｘ＜２）からなる。珪素酸化物は、酸性及びアルカリ性の溶液に対する耐性が高い。また、第２層の材料として珪素酸化物を用い、光透過層を第１方向へ搬送させながら、気相堆積法により、第２層の材料を第１層上に堆積させた場合、第１領域の位置におけるエッチング剤の透過性が第２乃至第４領域における前記エッチング剤の透過性と比較してより高い第２層を比較的容易に形成することができる。
【００９７】
更に他の実施形態によれば、上記実施形態の何れかにおいて、エッチング剤を接触させる前の第２層は、第１領域上に位置した部分では、多孔質層、例えば、一方向に傾いた複数の柱状体からなる層や空隙を有する層であり、第２乃至第４領域上に位置した部分では連続膜である。
【００９８】
更に他の実施形態によれば、上記実施形態の何れかにおいて、第２層の成膜は、ロール上の光透過層に対して行う。一例によれば、ロールの直径は、３００ｍｍ乃至１０００ｍｍの範囲内にある。ロール上の光透過層に対して真空蒸着によって第２層の成膜を行う場合、蒸発源からロールまでの距離は、例えば、０．５ｍ乃至１．５ｍの範囲内とする。
【００９９】
更に他の実施形態によれば、上記実施形態の何れかにおいて、表示体の製造における光透過層の搬送を、５０ｍ／分乃至３００ｍ／分の速度で、好ましくは１００ｍ／分乃至３００ｍ／分の速度で行う。
【０１００】
更に他の実施形態によれば、上記実施形態の何れかにおいて、エッチング剤としてエッチング液を使用する。エッチング液は、例えば、水酸化ナトリウム溶液、炭酸ナトリウム溶液、及び水酸化カリウム溶液等のアルカリ性溶液、又は、塩酸、硝酸、硫酸、及び酢酸等の酸性溶液である。
【０１０１】
更に他の実施形態によれば、上記実施形態の何れかにおいて、エッチング剤は、水酸化ナトリウムを０．５乃至２％の質量濃度で含んだ水酸化ナトリウム水溶液である。
【０１０２】
更に他の実施形態によれば、上記実施形態の何れかにおいて、エッチングは、前記第１及び第２層が設けられた前記光透過層を、３０℃乃至５０℃のエッチング液に、３０秒乃至５分間に亘って浸漬させることにより行う。
【０１０３】
更に他の実施形態によれば、上記実施形態の何れかにおいて、エッチングは、エッチング液中で光透過層を第１方向へ搬送しながら行う。こうすると、第１及び第２層からなる積層構造のうち第１領域上に位置した部分を更に除去し易くなる。
【０１０４】
更に他の実施形態によれば、上記実施形態の何れかにおいて、第１及び第２層からなる積層構造のうち第１領域上に位置した部分の少なくとも一部を除去した後に、第２層の残りの部分を除去する。或いは、第２層の残りの部分は除去しない。
【０１０５】
更に他の実施形態によると、上記実施形態の何れかに係る表示体は、スレッド、ティアテープ、又はそれらの一部として使用される。
【０１０６】
更に他の実施形態によると、上記実施形態の何れかに係る表示体は、偽造防止の目的で使用される。或いは、更に他の実施形態によると、上記実施形態の何れかに係る表示体は、偽造防止以外の目的で、例えば、玩具、学習教材、装飾品、若しくはそれらの一部として、又は、販売促進の目的で使用される。
【０１０７】
更に他の実施形態によると、上記実施形態の何れかに係る表示体と、前記表示体上に設けられた粘着層とを備えた粘着ラベルが提供される。
【０１０８】
更に他の実施形態によると、上記実施形態の何れかに係る表示体と、前記表示体を剥離可能に支持した支持体とを備えた転写箔が提供される。  
支持体は、例えば、樹脂からなるフィルム又はシートである。この樹脂は、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリイミド（ＰＩ）、ポリエチレン（ＰＥ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、又は塩化ビニルである。
【０１０９】
転写箔は、支持体と表示体との間に、剥離層を更に備えていてもよい。剥離層は、表示体を被転写体へ転写する際に、表示体の支持体からの剥離を容易にする役割を担っている。剥離層の材料としては、例えば、樹脂を使用するができる。剥離層は、パラフィンワックス、カルナバワックス、ポリエチレンワックス及びシリコーンなどの添加剤を更に含んでいてもよい。なお、剥離層の厚さは、例えば５μｍ以下とする。
【０１１０】
転写箔は、表示体上に、接着層を更に備えていてもよい。接着層の材料としては、例えば、反応硬化型接着剤、溶剤揮散型接着剤、ホットメルト型接着剤、電子線硬化型接着剤及び感熱接着剤などの接着剤を使用することができる。
【０１１１】
反応硬化型接着剤としては、例えば、ポリエステルウレタン、ポリエーテルウレタン及びアクリルウレタンなどのポリウレタン系樹脂、又は、エポキシ樹脂などを使用することができる。
【０１１２】
溶剤揮散型接着剤としては、例えば、酢酸ビニル樹脂、アクリル酸エステル共重合樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重合樹脂、アイオノマー樹脂及びウレタン樹脂などを含んだ水性エマルジョン型接着剤、又は、天然ゴム、スチレン−ブタジエン共重合樹脂及びアクリロニトリル−ブタジエン共重合樹脂などを含んだラテックス型接着剤を使用することができる。
【０１１３】
ホットメルト接着剤としては、例えば、エチレン−酢酸ビニル共重合樹脂、エチレン−エチルアクリレート共重合樹脂、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリビニルエーテル樹脂及びポリウレタン樹脂などをベース樹脂として含んだものを使用することができる。
【０１１４】
電子線硬化型接着剤としては、例えば、アクリロイル基、アリル基及びビニル基などのビニル系官能基を１個又は複数個有したオリゴマーを主成分として含んだものを使用することができる。例えば、接着付与剤と、ポリエステルアクリレート、ポリエステルメタクリレート、エポキシアクリレート、エポキシメタクリレート、ウレタンアクリレート、ウレタンメタクリレート、ポリエーテルアクリレート及びポリエーテルメタクリレートの１以上との混合物を使用することができる。接着付与剤としては、例えば、リンを含んだアクリレート若しくはその誘導体、又は、カルボキシ基を含んだアクリレート若しくはその誘導体を使用することができる。
【０１１５】
感熱接着剤としては、例えば、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、塩化ビニル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリ酢酸ビニル樹脂、ゴム系樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重合樹脂又は塩化ビニル−酢酸ビニル共重合樹脂を使用することができる。
【０１１６】
更に他の実施形態によると、上記実施形態の何れかに係る表示体と、これを支持した物品とを備えたラベル付き物品が提供される。
【０１１７】
表示体を支持させる物品は、例えば、ＩＣ（integrated circuit）カード及びＩＤ（identification）カードなどのカード類、パスポートや通帳などの冊子類、証書類、有価証券類、美術品、工芸品、又は、電子部品及び電子機器などの工業製品である。表示体は、真正品であることが確認されるべき物品の一部であってもよく、その物品に取り付けられるべきタグであってもよい。表示体を支持させる物品は、真正品であることが確認されるべき物品を収容する包装体であってもよい。
【０１１８】
表示体を支持させる物品が紙を含んでいる場合、表示体は、紙の表面に貼り付けてもよく、表示体を紙に漉き込み、表示体に対応した位置で紙を開口させてもよい。
【０１１９】
以下、実施形態について、図面を参照しながら詳細に説明する。なお、同様又は類似した機能を発揮する構成要素には全ての図面を通じて同一の参照符号を付し、重複する説明は省略する。
【０１２０】
先ず、本発明の第１実施形態について説明する。第１実施形態は、図面を参照することなしに説明した実施形態の何れかをより具体化したものである。
【０１２１】
図１は、本発明の第１実施形態に係る表示体を概略的に示す平面図である。図２は、図１に示す表示体のＩＩ−ＩＩ線に沿った断面図である。図３は、図１に示す表示体のＩＩＩ−ＩＩＩ線に沿った断面図である。
【０１２２】
図１乃至図３に示す表示体１０は、図２及び図３に示すように、光透過層１１と金属層１２とを含んでいる。  
光透過層１１の一方の主面には、図１乃至図３に示すように、二次元的に配列した複数の画素ＰＸが設けられている。ここでは、画素ＰＸは、互いに直交する二方向に配列している。それら配列方向の一方は第１方向Ｄ１に対して平行であり、それら配列方向の他方は第２方向Ｄ２に対して平行である。画素ＰＸの配列方向は、互いに対して斜めであってもよい。また、画素ＰＸの配列方向の少なくとも一方は、第１方向Ｄ１又は第２方向に対して斜めであってもよい。なお、第１方向Ｄ１は、表示体１０の製造における光透過層１１の搬送方向である。また、第２方向Ｄ２は、光透過層の主面に平行であり且つ第１方向Ｄ１に対して垂直な方向である。
【０１２３】
画素ＰＸの各々は、第１領域Ｒ１及び第２領域Ｒ２の何れかを含んでいる。画素ＰＸの１以上は、第１領域Ｒ１を含んでいる。また、画素ＰＸの１以上は、第２領域Ｒ２を含んでいる。
【０１２４】
第１領域Ｒ１には、図１及び図２に示すように、長さ方向が第１方向Ｄ１に対して平行であり且つ第２方向Ｄ２に配列した複数の第１溝Ｇ１が設けられている。ここでは、第１溝Ｇ１が設けられた構造を描いているが、複数の第１溝Ｇ１の代わりに、長さ方向が第１方向Ｄ１に対して平行であり且つ第２方向Ｄ２に配列した複数の第１稜が設けられていてもよい。或いは、複数の第１溝Ｇ１に加えて、複数の第１稜が設けられていてもよい。
【０１２５】
第２領域Ｒ２には、図１及び図３に示すように、長さ方向が第２方向Ｄ２に対して平行であり且つ第１方向Ｄ１に配列した複数の第２溝Ｇ２が設けられている。ここでは、第２溝Ｇ２が設けられた構造を描いているが、複数の第２溝Ｇ２の代わりに、長さ方向が第２方向Ｄ２に対して平行であり且つ第１方向Ｄ１に配列した複数の第２稜が設けられていてもよい。或いは、複数の第２溝Ｇ２に加えて、複数の第２稜が設けられていてもよい。
【０１２６】
金属層１２は、光透過層１１の上記主面のうち、第１領域Ｒ１を被覆することなしに、第２領域Ｒ２を被覆している。第２溝Ｇ２は、光透過層１１と金属層１２との界面及び金属層１２の表面に回折構造を生じさせている。
【０１２７】
この表示体１０は、白色光で照明して透過光を観察した場合には、第１領域Ｒ１の分布に対応した第１画像を表示する。また、この表示体１０は、白色光で照明して回折構造が射出する回折光を観察した場合には、第２画像を表示する。第１画像のネガ画像は、第２画像のモノクロ画像と等しい。従って、この表示体１０は、表示画像を第１画像と第２画像との間で切り替える際に、画像の形状を変化させることなしに、明暗反転と着色化又は脱色化とを同時に生じ得る。
【０１２８】
なお、この表示体１０では、第１溝Ｇ１の長さ方向は第１方向Ｄ１に対して平行であるが、それらは互いに対して平行でなくてもよい。また、この表示体１０では、第２溝Ｇ２の長さ方向は第２方向Ｄ２に対して平行であるが、それらは互いに対して平行でなくてもよい。
【０１２９】
図４は、溝又は稜の長さ方向の角度範囲を説明するための図である。  
図４において、参照符号ＡＲ１及びＡＲ２は、それぞれ、第１及び第２角度範囲を表している。第１角度範囲ＡＲ１は、第１方向Ｄ１に対して−１０°から＋１０°までの角度範囲である。第２角度範囲ＡＲ２は、第２方向Ｄ２に対して−６５°から＋６５°までの角度範囲である。
【０１３０】
図１乃至図３を参照しながら説明した第１溝Ｇ１の長さ方向は、第１溝Ｇ１を含んだ画素ＰＸの各々において、同一であってもよく、第１角度範囲ＡＲ１内でばらついていてもよい。また、第１溝Ｇ１の長さ方向は、第１溝Ｇ１を含んだ画素ＰＸ間で、同一であってもよく、第１角度範囲ＡＲ１内でばらついていてもよい。更に、第２溝Ｇ２の長さ方向は、第２溝Ｇ２を含んだ画素ＰＸ間で、同一であってもよく、第２角度範囲ＡＲ２内でばらついていてもよい。
【０１３１】
図５Ａ乃至図５Ｅは、図１乃至図３に示す表示体の製造方法の一例を概略的に示す断面図である。
【０１３２】
この方法では、先ず、図５Ａに示す光透過層１１を準備する。光透過層１１の一方の主面には、第１領域Ｒ１及び第２領域Ｒ２の何れかを各々が含んだ画素ＰＸが設けられている。
【０１３３】
次に、光透過層１１を第１方向Ｄ１へ搬送しながら、図５Ｂに示すように、上記主面上に第１層として金属層１２を形成する。金属層１２は、好ましくは気相堆積法によって、より好ましくは真空蒸着法によって形成する。また、金属層１２は、その表面が、上記主面に設けられたレリーフ構造と同様のレリーフ構造を有するように形成する。ここでは、一例として、アルミニウムからなる金属層１２を、真空蒸着法によって形成することとする。
【０１３４】
次いで、光透過層１１を第１方向Ｄ１へ搬送しながら、図５Ｃに示すように、金属層１２上に第２層１３を形成する。第２層１３は、気相堆積法によって、好ましくは真空蒸着法によって形成する。また、第２層１３は、第１領域Ｒ１の位置におけるエッチング剤の透過性が第２領域Ｒ２におけるエッチング剤の透過性と比較してより高くなるように形成する。ここでは、一例として、珪素酸化物からなる第２層１３を真空蒸着法によって形成することとする。また、ここでは、一例として、第２層１３は、第１領域Ｒ１上に位置した部分では、一方向に傾いた複数の柱状体からなる層又は空隙を有する層であり、第２領域Ｒ２上に位置した部分では連続膜であるとする。
【０１３５】
次いで、光透過層１１を第１方向Ｄ１へ搬送しながら、第２層１３にエッチング剤を接触させる。エッチング剤は、第１層１２と比較して第２層１３がより高いエッチング耐性を示すものである。ここでは、一例として、光透過層１１をエッチング液中に通過させることとする。これにより、図５Ｄに示すように、第１層１２と第２層１３との積層構造のうち第１領域Ｒ１上に位置した部分を選択的に除去する。
【０１３６】
続いて、図５Ｅに示すように、第２層１３を除去する。第２層１３は、エッチングによって除去することができる。このエッチングに使用するエッチング剤は、第２層１３と比較して第１層１２がより高いエッチング耐性を示すものである。
【０１３７】
その後、このようにして得られた構造を、必要に応じて適当な寸法へ切断する。以上のようにして、表示体１０を得る。
【０１３８】
次に、本発明の第２実施形態について説明する。第２実施形態は、図面を参照することなしに説明した実施形態の何れかをより具体化したものである。
【０１３９】
図６は、本発明の第２実施形態に係る表示体を概略的に示す平面図である。図７は、図６に示す表示体が含んでいる画素の一例を概略的に示す平面図である。図８は、図６に示す表示体が含んでいる画素の他の例を概略的に示す平面図である。図９は、図６に示す表示体が含んでいる画素の更に他の例を概略的に示す平面図である。
【０１４０】
図６に示す表示体１０は、以下の構造を採用したこと以外は、第１実施形態に係る表示体１０と同様である。
【０１４１】
即ち、図６に示す表示体１０では、各画素ＰＸは、図７乃至図９に示すように、第１サブ画素ＳＰＸ１と、第２サブ画素ＳＰＸ２と、第３サブ画素ＳＰＸ３とを含んでいる。
【０１４２】
第１サブ画素ＳＰＸ１は、第１領域Ｒ１と、第２領域である領域Ｒ２Ｒとの少なくとも一方を含んでいる。領域Ｒ２Ｒにおける第２溝又は稜の中心間距離は、例えば、８６０ｎｍ乃至８８０ｎｍの範囲内にある。領域Ｒ２Ｒは、光透過層１１と金属層１２との界面又は金属層１２の表面に、赤色表示用の回折格子を形成している。
【０１４３】
第２サブ画素ＳＰＸ２は、第１領域Ｒ１と、第２領域である領域Ｒ２Ｇとの少なくとも一方を含んでいる。領域Ｒ２Ｇにおける第２溝又は稜の中心間距離は、例えば、７５５ｎｍ乃至７７５ｎｍの範囲内にある。領域Ｒ２Ｇは、光透過層１１と金属層１２との界面又は金属層１２の表面に、緑色表示用の回折格子を形成している。
【０１４４】
第３サブ画素ＳＰＸ３は、第１領域Ｒ１と、第２領域である領域Ｒ２Ｂとの少なくとも一方を含んでいる。領域Ｒ２Ｂにおける第２溝又は稜の中心間距離は、例えば、７３５ｎｍ乃至７５５ｎｍの範囲内にある。領域Ｒ２Ｂは、光透過層１１と金属層１２との界面又は金属層１２の表面に、青色表示用の回折格子を形成している。
【０１４５】
画素ＰＸの１以上は、第１領域Ｒ１を含んでいる。画素ＰＸの１以上は、第２領域Ｒ２及び第３領域Ｒ３の少なくとも一方を含んでいる。画素ＰＸの２以上は、画素ＰＸの面積に占める第１領域Ｒ１の面積の割合が異なっている。画素ＰＸの２以上は、画素ＰＸの面積に占める領域Ｒ２Ｒ、Ｒ２Ｇ又Ｒ２Ｂの面積の割合が異なっている。
【０１４６】
図１０は、図６に示す表示体が第２画像を表示している様子の一例を概略的に示す平面図である。図１１は、図６に示す表示体が第１画像を表示している様子の一例を概略的に示す平面図である。
【０１４７】
この表示体１０は、白色光で照明して透過光を観察した場合には、第１領域Ｒ１の分布に対応した第１画像を、例えば図１１に示すように表示する。また、この表示体１０は、白色光で照明して回折構造が射出する回折光を観察した場合には、第２画像としてのカラー画像を、例えば図１０に示すように表示する。第１画像のネガ画像は、第２画像のモノクロ画像と等しい。従って、この表示体１０は、表示画像を第１画像と第２画像との間で切り替える際に、画像の形状を変化させることなしに、明暗反転と多色化（若しくは着色化）又は単色化（若しくは脱色化）とを同時に生じ得る。
【０１４８】
次に、本発明の第３実施形態について説明する。第３実施形態は、図面を参照することなしに説明した実施形態の何れかをより具体化したものである。
【０１４９】
図１２は、本発明の第３実施形態に係る表示体を概略的に示す平面図である。図１３は、図１２に示す表示体のＸＩＩＩ−ＸＩＩＩ線に沿った断面図である。図１４は、図１２に示す表示体のＸＩＶ−ＸＩＶ線に沿った断面図である。
【０１５０】
図１２乃至図１４に示す表示体１０は、以下の構造を採用したこと以外は、第１実施形態に係る表示体１０と同様である。
【０１５１】
即ち、図１２乃至図１４に示す表示体１０では、各画素ＰＸは、第１領域Ｒ１、第２領域Ｒ２、及び第３領域Ｒ３の何れかを含んでいる。画素ＰＸの１以上は、第１領域Ｒ１を含んでいる。画素ＰＸの１以上は、第２領域Ｒ２を含んでいる。そして、画素ＰＸの１以上は、第３領域Ｒ３を含んでいる。
【０１５２】
第３領域Ｒ３は、図１３及び図１４に示すように平坦面である。第３領域Ｒ３は、反射層１２によって被覆されている。
【０１５３】
この表示体１０は、白色光で照明して透過光を観察した場合には、第１領域Ｒ１の分布に対応した第１画像を表示する。また、この表示体１０は、白色光で照明して回折構造が射出する回折光を観察した場合には、第２画像を表示する。第１画像のネガ画像は、第２画像のモノクロ画像とは異なっている。従って、この表示体１０は、表示画像を第１画像と第２画像との間で切り替える際に、画像の形状の変化と着色化又は脱色化とを同時に生じ得る。
【０１５４】
図１５Ａ乃至図１５Ｅは、図１２乃至図１４に示す表示体の製造方法の一例を概略的に示す断面図である。
【０１５５】
この方法では、先ず、図１５Ａに示す光透過層１１を準備する。光透過層１１の一方の主面には、第１領域Ｒ１、第２領域Ｒ２及び第３領域Ｒ３の何れかを各々が含んだ画素ＰＸが設けられている。
【０１５６】
次に、光透過層１１を第１方向Ｄ１へ搬送しながら、図１５Ｂに示すように、上記主面上に第１層として金属層１２を形成する。金属層１２は、好ましくは気相堆積法によって、より好ましくは真空蒸着法によって形成する。また、金属層１２は、その表面が、上記主面に設けられたレリーフ構造と同様のレリーフ構造を有するように形成する。ここでは、一例として、アルミニウムからなる金属層１２を、真空蒸着法によって形成することとする。
【０１５７】
次いで、光透過層１１を第１方向Ｄ１へ搬送しながら、図１５Ｃに示すように、金属層１２上に第２層１３を形成する。第２層１３は、気相堆積法によって、好ましくは真空蒸着法によって形成する。また、第２層１３は、第１領域Ｒ１の位置におけるエッチング剤の透過性が第２領域Ｒ２及び第３領域Ｒ３におけるエッチング剤の透過性と比較してより高くなるように形成する。ここでは、一例として、珪素酸化物からなる第２層１３を真空蒸着法によって形成することとする。また、ここでは、一例として、第２層１３は、第１領域Ｒ１上に位置した部分では、一方向に傾いた複数の柱状体からなる層又は空隙を有する層であり、第２領域Ｒ２上に位置した部分と第３領域Ｒ３上に位置した部分とでは連続膜であるとする。
【０１５８】
次いで、光透過層１１を第１方向Ｄ１へ搬送しながら、第２層１３にエッチング剤を接触させる。エッチング剤は、第１層１２と比較して第２層１３がより高いエッチング耐性を示すものである。ここでは、一例として、光透過層１１をエッチング液中に通過させることとする。これにより、図１５Ｄに示すように、第１層１２と第２層１３との積層構造のうち第１領域Ｒ１上に位置した部分を選択的に除去する。
【０１５９】
続いて、図１５Ｅに示すように、第２層１３を除去する。第２層１３は、エッチングによって除去することができる。このエッチングに使用するエッチング剤は、第２層１３と比較して第１層１２がより高いエッチング耐性を示すものである。
【０１６０】
その後、このようにして得られた構造を、必要に応じて適当な寸法へ切断する。以上のようにして、表示体１０を得る。
【０１６１】
次に、本発明の第４実施形態について説明する。第４実施形態は、図面を参照することなしに説明した実施形態の何れかをより具体化したものである。
【０１６２】
図１６は、本発明の第４実施形態に係る表示体を概略的に示す平面図である。図１７は、図１６に示す表示体が含んでいる画素の一例を概略的に示す平面図である。
【０１６３】
図１６に示す表示体１０は、以下の構造を採用したこと以外は、第１実施形態に係る表示体１０と同様である。
【０１６４】
即ち、図１６に示す表示体１０では、各画素ＰＸは、図１７に示すように、第１サブ画素ＳＰＸ１と、第２サブ画素ＳＰＸ２と、第３サブ画素ＳＰＸ３と、第４サブ画素ＰＸ４とを含んでいる。
【０１６５】
第１サブ画素ＳＰＸ１は、第１領域Ｒ１と第３領域Ｒ３との少なくとも一方を含んでいる。第１サブ画素ＳＰＸ１は、第１画像を表示するためのものである。
【０１６６】
第２サブ画素ＳＰＸ２は、第２領域である領域Ｒ２Ｇと第３領域Ｒ３との少なくとも一方を含んでいる。領域Ｒ２Ｒにおける第２溝又は稜の中心間距離は、例えば、８６０ｎｍ乃至８８０ｎｍの範囲内にある。領域Ｒ２Ｒは、光透過層１１と金属層１２との界面又は金属層１２の表面に、赤色表示用の回折格子を形成している。
【０１６７】
第３サブ画素ＳＰＸ３は、第２領域である領域Ｒ２Ｇと第３領域Ｒ３との少なくとも一方を含んでいる。領域Ｒ２Ｇにおける第２溝又は稜の中心間距離は、例えば、７５５ｎｍ乃至７７５ｎｍの範囲内にある。領域Ｒ２Ｇは、光透過層１１と金属層１２との界面又は金属層１２の表面に、緑色表示用の回折格子を形成している。
【０１６８】
第４サブ画素ＳＰＸ４は、第２領域である領域Ｒ２Ｂと第３領域Ｒ３との少なくとも一方を含んでいる。領域Ｒ２Ｂにおける第２溝又は稜の中心間距離は、例えば、７３５ｎｍ乃至７５５ｎｍの範囲内にある。領域Ｒ２Ｂは、光透過層１１と金属層１２との界面又は金属層１２の表面に、青色表示用の回折格子を形成している。
【０１６９】
画素ＰＸの１以上は、第１領域Ｒ１を含んでいる。画素ＰＸの１以上は、第２領域Ｒ２、第３領域Ｒ３及び第４領域Ｒ４の少なくとも１つを含んでいる。画素ＰＸの２以上は、画素ＰＸの面積に占める第１領域Ｒ１の面積の割合が異なっている。画素ＰＸの２以上は、画素ＰＸの面積に占める領域Ｒ２Ｒ、Ｒ２Ｇ又Ｒ２Ｂの面積の割合が異なっている。画素ＰＸの２以上は、画素ＰＸの面積に占める、第２領域Ｒ２、第３領域Ｒ３又は第４領域Ｒ４の面積の割合が異なっている。
【０１７０】
図１８は、図１６に示す表示体が第２画像を表示している様子の一例を概略的に示す平面図である。図１９は、図１６に示す表示体が第１画像を表示している様子の一例を概略的に示す平面図である。
【０１７１】
この表示体１０は、白色光で照明して透過光を観察した場合には、第１領域Ｒ１の分布に対応した第１画像を、例えば図１８に示すように表示する。また、この表示体１０は、白色光で照明して回折構造が射出する回折光を観察した場合には、第２画像としてのカラー画像を、例えば図１９に示すように表示する。第１画像のネガ画像は、第２画像のモノクロ画像とは異なっている。従って、この表示体１０は、表示画像を第１画像と第２画像との間で切り替える際に、画像の形状の変化と多色化（若しくは着色化）又は単色化（若しくは脱色化）とを同時に生じ得る。
【０１７２】
第３及び第４実施形態に係る表示体１０の各々では、画素ＰＸの１以上が、第３領域Ｒ３の代わりに第４領域を含んでいてもよい。或いは、第３及び第４実施形態に係る表示体１０の各々では、画素ＰＸの１以上が、第４領域を更に含んでいてもよい。
【０１７３】
図２０は、第４領域に採用可能な構造の一例を概略的に示す平面図である。  
図２０に示す第４領域Ｒ４は、図４を参照しながら説明した第２角度範囲ＡＲ２内に各々の長さ方向がある複数の第３溝Ｇ３が設けられている。これら第３溝Ｇ３は、図１３及び図１４などに示す光透過層１１と金属層１２との界面又は金属層１２の表面に、異方性光散乱構造を生じさせている。
【０１７４】
ここでは、第３溝Ｇ３が設けられた構造を描いているが、複数の第３溝Ｇ３の代わりに、長さ方向が第２角度範囲内にある複数の第３稜が設けられていてもよい。或いは、複数の第３溝Ｇ３に加えて、複数の第３稜が設けられていてもよい。
【０１７５】
また、第１乃至第４実施形態に係る表示体の各々では、第２領域Ｒ２には、第２溝Ｇ２と交差する溝は設けられていない。第２領域Ｒ２には、第２溝Ｇ２と交差する溝を更に設けてもよい。
【０１７６】
図２１は、第２領域に採用可能な構造の他の例を概略的に示す斜視図である。  
図２１に示す構造では、長さ方向が第２方向Ｄ２に平行な複数の溝と、長さ方向が第１方向Ｄ１に平行な複数の溝とが設けられている。これら溝とは交差しており、第１方向Ｄ１と第２方向Ｄ２とに配列した複数の凸部Ｐを形成している。
【０１７７】
図２２は、本発明の一実施形態に係る転写箔を概略的に示す断面図である。  
図２２に示す転写箔３０は、支持体３１と、剥離層３２と、表示体１０と、接着層３３とを含んでいる。剥離層３２は、支持体３１の一方の主面上に形成されている。表示体１０は、その光透過層１１が剥離層３２と接するように、支持体３１によって剥離可能に支持されている。接着層３３は、表示体１０のうち金属層１２側の面を被覆している。
【０１７８】
図２３は、本発明の一実施形態に係るラベル付き物品を概略的に示す平面図である。  
図２３に示すラベル付き物品４０は、ギフトカードである。このラベル付き物品４０は、紙に印刷層を設けてなる基材４１と、これに支持された表示体１０とを含んでいる。
【０１７９】
以下に、本発明の例を記載する。  
（例１）
先ず、図１１及び図１０を参照しながらそれぞれ説明した第１及び第２画像を表示可能とするための描画データを作成した。ここでは、画素には、図６乃至図９を参照しながら説明した構造を採用することとした。また、第１溝の長さ方向は第１方向に対して平行とし、その空間周波数は２０００本／ｍｍとした。そして、第２溝の長さ方向は、第２方向に対して平行とした。
【０１８０】
次に、上記の描画データを利用して、レジスト層に対して電子線描画を行った。このレジスト層を現像することにより、レリーフ構造を形成した。次いで、このレリーフ構造に対して、スパッタリングによりニッケル層を形成し、続いて、これに対してニッケルを電鋳した。このようにして、ニッケルからなる原版を作製した。次いで、この原版を用いて、ニッケルからなる複製版を作製した。
【０１８１】
次に、厚さが１９μｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム上に、グラビアコーティング法を用いて、厚さが１μｍのアクリル樹脂からなる剥離層と、厚さが１μｍの紫外線硬化型樹脂層とを順次形成した。これにより、積層フィルムを得た。
【０１８２】
次に、積層フィルムの紫外線硬化型樹脂層に、複製版を押し当てながら熱を加えた。具体的には、１００℃に加熱しながら、１ＭＰａの圧力を加えた。この状態で、紫外線硬化型樹脂層に紫外線を照射して、これを硬化させた。以上のようにして、紫外線硬化型樹脂の硬化物からなる光透過層を形成した。
【０１８３】
次いで、光透過層上に、第１及び第２層を順次形成し、続いて、エッチングを行った。これら一連の処理は、積層フィルムの搬送速度を１００ｍ／分として行った。
【０１８４】
具体的には、先ず、光透過層上に、真空蒸着法により、アルミニウムからなる厚さが５０ｎｍの第１層を形成した。
【０１８５】
次いで、第１層上に、真空蒸着法により、珪素酸化物からなる厚さが２０ｎｍの第２層を形成した。第２層の成膜は、直径が６００ｍｍのロール上で行った。また、第２層の成膜に当たり、蒸発源からロールまでの距離は１ｍに設定した。
【０１８６】
その後、積層フィルムをエッチング液中に通過させた。エッチング液としては、水酸化ナトリウムを１．５％の質量濃度で含有した水酸化ナトリウム水溶液を使用した。エッチング液の温度は４５℃とし、浸漬時間は１分間とした。
【０１８７】
以上のようにして、ＰＥＴからなる支持体と、アクリル樹脂からなる剥離層と、表示体とを含んだ積層構造を得た。
【０１８８】
次いで、表示体上に、グラビアコーティング法により、アクリル系樹脂からなる接着剤を塗布して、厚さが２μｍの接着層を形成した。以上のようにして、転写箔を得た。
【０１８９】
このようにして得られた転写箔を用いて、支持体から被転写体へ表示体を転写した。この被転写体としては、光透過性のある被転写用紙を用いた。また、この転写は、１５０℃に加熱したスタンパを、１０ＭＰａの圧力で、被転写用紙上の転写箔へ押し当て、その後、スタンパを取り除くとともに、表示体から支持体を剥離することにより行った。
【０１９０】
このようにして得られたラベル付き物品を白色光で照明し、回折光を観察した。その結果、写真画質のフルカラーホログラム画像を観察することができた。続いて、このラベル付き物品の裏面を白色光で照明し、透過光を観察した。その結果、第１領域の分布に対応した透かし画像を観察することができた。即ち、図１０及び図１１を参照しながら説明した画像の変化を確認することができた。
【０１９１】
（例２）
先ず、図１９及び図１８を参照しながらそれぞれ説明した第１及び第２画像を表示可能とするための描画データを作成した。ここでは、画素には、図１６及び図１７を参照しながら説明した構造を採用することとした。また、第１溝の長さ方向は第１方向に対して平行とし、その空間周波数は２０００本／ｍｍとした。そして、第２溝の長さ方向は、第２方向に対して平行とした。
【０１９２】
次に、上記の描画データを利用して、レジスト層に対して電子線描画を行った。このレジスト層を現像することにより、レリーフ構造を形成した。次いで、このレリーフ構造に対して、スパッタリングによりニッケル層を形成し、続いて、これに対してニッケルを電鋳した。このようにして、ニッケルからなる原版を作製した。次いで、この原版を用いて、ニッケルからなる複製版を作製した。
【０１９３】
以上のようにして作製した複製版を用いたこと以外は、例１において行ったのと同様の方法により、転写箔を製造した。そして、この転写箔を用いたこと以外は、例１において行ったのと同様の方法により、ラベル付き物品の作製と、画像の観察とを行った。
【０１９４】
その結果、このラベル付き物品を白色光で照明し、回折光を観察したときには、写真画質のフルカラーホログラム画像を観察することができた。また、このラベル付き物品の裏面を白色光で照明し、透過光を観察したときには、先のホログラム画像とは形状が異なる画像を観察することができた。即ち、図１８及び図１９を参照しながら説明した画像の変化を確認することができた。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５Ａ】
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【図５Ｂ】
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【図５Ｃ】
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【図５Ｄ】
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【図５Ｅ】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５Ａ】
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【図１５Ｂ】
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【図１５Ｃ】
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【図１５Ｄ】
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【図１５Ｅ】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【国際調査報告】
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