(57)【要約】  可視透明性および近赤外遮蔽性に優れた膜を製造できる近赤外線吸収組成物を提供する。また、近赤外線カットフィルタの製造方法、近赤外線カットフィルタ、固体撮像素子、カメラモジュール、赤外線センサおよび赤外線吸収剤を提供する。溶剤および硬化性化合物から選ばれる少なくとも１種と、赤外線吸収化合物である金属化合物とを含む近赤外線吸収組成物であって、近赤外線吸収組成物は、金属化合物に含まれる金属原子とは異なる金属原子を含む金属成分を含み、金属化合物に含まれる金属原子１００質量部に対し、金属成分に含まれる金属原子を０．００５〜１質量部含む。
2017126528.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
溶剤および硬化性化合物から選ばれる少なくとも１種と、赤外線吸収化合物である金属化合物とを含む近赤外線吸収組成物であって、
前記近赤外線吸収組成物は、前記金属化合物に含まれる金属原子とは異なる金属原子を含む金属成分を含み、前記金属化合物に含まれる金属原子１００質量部に対し、前記金属成分に含まれる金属原子を０．００５〜１質量部含む、近赤外線吸収組成物。
【請求項２】
金属成分が、Ａｌ、Ｚｎ、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｂａ、Ｔｉ、Ｖ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、ＰｔおよびＡｇから選ばれる少なくとも１種の金属原子を含む、請求項１に記載の近赤外線吸収組成物。
【請求項３】
前記金属化合物が、Ａｌ、Ｔｉ、Ｖ、Ｍｏ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、ＰｄおよびＰｔから選ばれる少なくとも１種の金属原子を含み、前記金属成分が、Ａｌ、Ｚｎ、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｂａ、Ｔｉ、Ｖ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、ＰｔおよびＡｇから選ばれる少なくとも１種の金属原子を含む、請求項１または２に記載の近赤外線吸収組成物。
【請求項４】
溶剤および硬化性化合物から選ばれる少なくとも１種と、赤外線吸収化合物である金属化合物とを含む近赤外線吸収組成物であって、
前記近赤外線吸収組成物は、前記金属化合物に含まれる金属原子とは異なる金属原子であって、Ａｌ、Ｚｎ、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｂａ、Ｔｉ、Ｖ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、ＰｔおよびＡｇから選ばれる少なくとも一種の金属原子を含む金属成分を含み、
前記金属化合物に含まれる金属原子１００質量部に対し、前記金属成分に含まれるＡｌ、Ｚｎ、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｂａ、Ｔｉ、Ｖ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、ＰｔおよびＡｇの合計量が０．００５〜１質量部である、近赤外線吸収組成物。
【請求項５】
溶剤および硬化性化合物から選ばれる少なくとも１種と、赤外線吸収化合物である金属化合物とを含む近赤外線吸収組成物であって、
前記金属化合物が、Ａｌ、Ｔｉ、Ｖ、Ｍｏ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、ＰｄおよびＰｔから選ばれる少なくとも１種の金属原子を含み、
前記近赤外線吸収組成物は、前記金属化合物に含まれる金属原子とは異なる金属原子であって、Ａｌ、Ｚｎ、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｂａ、Ｔｉ、Ｖ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、ＰｔおよびＡｇから選ばれる少なくとも一種の金属原子を含む金属成分を含み、
前記金属化合物に含まれるＡｌ、Ｔｉ、Ｖ、Ｍｏ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、ＰｄおよびＰｔの合計１００質量部に対し、前記金属成分に含まれるＡｌ、Ｚｎ、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｂａ、Ｔｉ、Ｖ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、ＰｔおよびＡｇの合計量が０．００５〜１質量部である、近赤外線吸収組成物。
【請求項６】
前記金属化合物が、銅化合物であり、前記金属成分が、Ａｌ、Ｚｎ、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｂａ、Ｔｉ、Ｖ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、ＰｔおよびＡｇから選ばれる少なくとも１種の金属原子を含む、請求項１〜５のいずれか１項に記載の近赤外線吸収組成物。
【請求項７】
前記硬化性化合物が、架橋性基を有する化合物を含む、請求項１〜６のいずれか１項に記載の近赤外線吸収組成物。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれか１項に記載の近赤外線吸収組成物を用いて、近赤外線吸収組成物層を形成する工程を含む、近赤外線カットフィルタの製造方法。
【請求項９】
請求項１〜７のいずれか１項に記載の近赤外線吸収組成物を用いた、近赤外線カットフィルタ。
【請求項１０】
誘電体多層膜および紫外線吸収膜から選ばれる少なくとも１種を有する、請求項９に記載の近赤外線カットフィルタ。
【請求項１１】
請求項９または１０に記載の近赤外線カットフィルタを有する固体撮像素子。
【請求項１２】
請求項９または１０に記載の近赤外線カットフィルタを有するカメラモジュール。
【請求項１３】
請求項９または１０に記載の近赤外線カットフィルタを有する赤外線センサ。
【請求項１４】
赤外線吸収化合物である金属化合物と、前記金属化合物に含まれる金属原子とは異なる金属原子を含む金属成分とを含み、
前記金属化合物に含まれる金属原子１００質量部に対し、前記金属成分に含まれる金属原子を０．００５〜１質量部含む、赤外線吸収剤。
【請求項１５】
赤外線吸収化合物である金属化合物と、前記金属化合物に含まれる金属原子とは異なる金属原子を含む金属成分とを含み、
前記金属成分が、前記金属化合物に含まれる金属原子とは異なる金属原子であって、Ａｌ、Ｚｎ、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｂａ、Ｔｉ、Ｖ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、ＰｔおよびＡｇから選ばれる少なくとも一種の金属を含み、
前記金属化合物に含まれる金属原子１００質量部に対し、前記金属成分に含まれるＡｌ、Ｚｎ、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｂａ、Ｔｉ、Ｖ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、ＰｔおよびＡｇの合計量が０．００５〜１質量部である、赤外線吸収剤。
【請求項１６】
赤外線吸収化合物である金属化合物と、前記金属化合物に含まれる金属原子とは異なる金属原子を含む金属成分とを含み、
前記金属化合物が、Ａｌ、Ｔｉ、Ｖ、Ｍｏ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、ＰｄおよびＰｔから選ばれる少なくとも１種の金属原子を含む金属化合物であり、
前記金属成分が、前記金属化合物に含まれる金属原子とは異なる金属原子であって、Ａｌ、Ｚｎ、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｂａ、Ｔｉ、Ｖ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、ＰｔおよびＡｇから選ばれる少なくとも一種の金属を含み、
前記金属化合物に含まれるＡｌ、Ｔｉ、Ｖ、Ｍｏ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、ＰｄおよびＰｔの合計１００質量部に対し、前記金属成分に含まれるＡｌ、Ｚｎ、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｂａ、Ｔｉ、Ｖ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、ＰｔおよびＡｇの合計量が０．００５〜１質量部である、赤外線吸収剤。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、近赤外線吸収組成物、近赤外線カットフィルタの製造方法、近赤外線カットフィルタ、固体撮像素子、カメラモジュール、赤外線センサおよび赤外線吸収剤に関する。
【背景技術】
【０００２】
ビデオカメラ、デジタルスチルカメラ、カメラ機能付き携帯電話などにはカラー画像の固体撮像素子である、電荷結合素子（ＣＣＤ）や、相補型金属酸化膜半導体（ＣＭＯＳ）素子などが用いられている。これら固体撮像素子は、その受光部において近赤外線に感度を有するシリコンフォトダイオードを使用しているために、視感度補正を行うことが必要であり、近赤外線カットフィルタを用いることが多い。【０００３】
近赤外線カットフィルタは、赤外線吸収剤を含む組成物（近赤外線吸収組成物）を用いて製造することがある。赤外線吸収剤としては、銅化合物（特許文献１）や、酸化亜鉛系粒子（特許文献２）などの金属化合物が知られている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０１５−１５８６６２号公報
【特許文献２】特開平１０−３３８５２１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
近年において、近赤外線カットフィルタの要求特性として、可視透明性および近赤外遮蔽性のさらなる向上が求められている。【０００６】
よって、本発明の目的は、可視透明性および近赤外遮蔽性に優れた膜を製造できる近赤外線吸収組成物を提供することにある。また、近赤外線カットフィルタの製造方法、近赤外線カットフィルタ、固体撮像素子、カメラモジュール、赤外線センサおよび赤外線吸収剤を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明者らは、鋭意検討した結果、赤外線吸収化合物として金属化合物を用いた近赤外線吸収組成物において、金属化合物に含まれる金属原子とは異なる金属原子を含む金属成分を、金属原子１００質量部に対し、金属成分に含まれる金属原子を０．００５〜１質量部含有させることで、上記の目的を達成できることを見出し、本発明を完成するに至った。本発明は以下を提供する。
＜１＞  溶剤および硬化性化合物から選ばれる少なくとも１種と、赤外線吸収化合物である金属化合物とを含む近赤外線吸収組成物であって、
近赤外線吸収組成物は、金属化合物に含まれる金属原子とは異なる金属原子を含む金属成分を含み、金属化合物に含まれる金属原子１００質量部に対し、金属成分に含まれる金属原子を０．００５〜１質量部含む、近赤外線吸収組成物。
＜２＞  金属成分が、Ａｌ、Ｚｎ、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｂａ、Ｔｉ、Ｖ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、ＰｔおよびＡｇから選ばれる少なくとも１種の金属原子を含む、＜１＞に記載の近赤外線吸収組成物。
＜３＞  金属化合物が、Ａｌ、Ｔｉ、Ｖ、Ｍｏ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、ＰｄおよびＰｔから選ばれる少なくとも１種の金属原子を含み、金属成分が、Ａｌ、Ｚｎ、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｂａ、Ｔｉ、Ｖ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、ＰｔおよびＡｇから選ばれる少なくとも１種の金属原子を含む、＜１＞または＜２＞に記載の近赤外線吸収組成物。
＜４＞  溶剤および硬化性化合物から選ばれる少なくとも１種と、赤外線吸収化合物である金属化合物とを含む近赤外線吸収組成物であって、
近赤外線吸収組成物は、金属化合物に含まれる金属原子とは異なる金属原子であって、Ａｌ、Ｚｎ、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｂａ、Ｔｉ、Ｖ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、ＰｔおよびＡｇから選ばれる少なくとも一種の金属原子を含む金属成分を含み、
金属化合物に含まれる金属原子１００質量部に対し、金属成分に含まれるＡｌ、Ｚｎ、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｂａ、Ｔｉ、Ｖ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、ＰｔおよびＡｇの合計量が０．００５〜１質量部である、近赤外線吸収組成物。
＜５＞  溶剤および硬化性化合物から選ばれる少なくとも１種と、赤外線吸収化合物である金属化合物とを含む近赤外線吸収組成物であって、
金属化合物が、Ａｌ、Ｔｉ、Ｖ、Ｍｏ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、ＰｄおよびＰｔから選ばれる少なくとも１種の金属原子を含み、
近赤外線吸収組成物は、金属化合物に含まれる金属原子とは異なる金属原子であって、Ａｌ、Ｚｎ、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｂａ、Ｔｉ、Ｖ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、ＰｔおよびＡｇから選ばれる少なくとも一種の金属原子を含む金属成分を含み、
金属化合物に含まれるＡｌ、Ｔｉ、Ｖ、Ｍｏ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、ＰｄおよびＰｔの合計１００質量部に対し、金属成分に含まれるＡｌ、Ｚｎ、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｂａ、Ｔｉ、Ｖ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、ＰｔおよびＡｇの合計量が０．００５〜１質量部である、近赤外線吸収組成物。
＜６＞  金属化合物が、銅化合物であり、金属成分が、Ａｌ、Ｚｎ、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｂａ、Ｔｉ、Ｖ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、ＰｔおよびＡｇから選ばれる少なくとも１種の金属原子を含む、＜１＞〜＜５＞のいずれかに記載の近赤外線吸収組成物。
＜７＞  硬化性化合物が、架橋性基を有する化合物を含む、＜１＞〜＜６＞のいずれかに記載の近赤外線吸収組成物。
＜８＞  ＜１＞〜＜７＞のいずれかに記載の近赤外線吸収組成物を用いて、近赤外線吸収組成物層を形成する工程を含む、近赤外線カットフィルタの製造方法。
＜９＞  ＜１＞〜＜７＞のいずれかに記載の近赤外線吸収組成物を用いた、近赤外線カットフィルタ。
＜１０＞  誘電体多層膜および紫外線吸収膜から選ばれる少なくとも１種を有する、＜９＞に記載の近赤外線カットフィルタ。
＜１１＞  ＜９＞または＜１０＞に記載の近赤外線カットフィルタを有する固体撮像素子。
＜１２＞  ＜９＞または＜１０＞に記載の近赤外線カットフィルタを有するカメラモジュール。
＜１３＞  ＜９＞または＜１０＞に記載の近赤外線カットフィルタを有する赤外線センサ。
＜１４＞  赤外線吸収化合物である金属化合物と、金属化合物に含まれる金属原子とは異なる金属原子を含む金属成分とを含み、
金属化合物に含まれる金属原子１００質量部に対し、金属成分に含まれる金属原子を０．００５〜１質量部含む、赤外線吸収剤。
＜１５＞  赤外線吸収化合物である金属化合物と、金属化合物に含まれる金属原子とは異なる金属原子を含む金属成分とを含み、
金属成分が、金属化合物に含まれる金属原子とは異なる金属原子であって、Ａｌ、Ｚｎ、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｂａ、Ｔｉ、Ｖ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、ＰｔおよびＡｇから選ばれる少なくとも一種の金属を含み、
金属化合物に含まれる金属原子１００質量部に対し、金属成分に含まれるＡｌ、Ｚｎ、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｂａ、Ｔｉ、Ｖ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、ＰｔおよびＡｇの合計量が０．００５〜１質量部である、赤外線吸収剤。
＜１６＞  赤外線吸収化合物である金属化合物と、金属化合物に含まれる金属原子とは異なる金属原子を含む金属成分とを含み、
金属化合物が、Ａｌ、Ｔｉ、Ｖ、Ｍｏ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、ＰｄおよびＰｔから選ばれる少なくとも１種の金属原子を含む金属化合物であり、
金属成分が、金属化合物に含まれる金属原子とは異なる金属原子であって、Ａｌ、Ｚｎ、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｂａ、Ｔｉ、Ｖ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、ＰｔおよびＡｇから選ばれる少なくとも一種の金属を含み、
金属化合物に含まれるＡｌ、Ｔｉ、Ｖ、Ｍｏ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、ＰｄおよびＰｔの合計１００質量部に対し、金属成分に含まれるＡｌ、Ｚｎ、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｂａ、Ｔｉ、Ｖ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、ＰｔおよびＡｇの合計量が０．００５〜１質量部である、赤外線吸収剤。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によれば、可視透明性および近赤外遮蔽性に優れた膜を製造できる近赤外線吸収組成物を提供することが可能になった。また、近赤外線カットフィルタの製造方法、近赤外線カットフィルタ、固体撮像素子、カメラモジュール、赤外線センサおよび赤外線吸収剤を提供することが可能になった。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】本発明の実施形態に係る、近赤外線カットフィルタを有するカメラモジュールの構成を示す概略断面図である
【図２】カメラモジュールにおける近赤外線カットフィルタ周辺部分の一例を示す概略断面図である。
【図３】カメラモジュールにおける近赤外線カットフィルタ周辺部分の一例を示す概略断面図である。
【図４】カメラモジュールにおける近赤外線カットフィルタ周辺部分の一例を示す概略断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
以下において、本発明の内容について詳細に説明する。尚、本明細書において「〜」とはその前後に記載される数値を下限値および上限値として含む意味で使用される。
本明細書において、「（メタ）アクリレート」は、アクリレートおよびメタクリレートを表し、「（メタ）アリル」は、アリルおよびメタリルを表し、「（メタ）アクリル」は、アクリルおよびメタクリルを表し、「（メタ）アクリロイル」は、アクリロイルおよびメタクリロイルを表す。
本明細書における基（原子団）の表記において、置換および無置換を記していない表記は置換基を有さない基（原子団）と共に置換基を有する基（原子団）をも包含するものである。
本明細書において、化学式中のＭｅはメチル基を、Ｅｔはエチル基を、Ｐｒはプロピル基を、Ｂｕはブチル基を、Ｐｈはフェニル基をそれぞれ示す。
本明細書において、近赤外線とは、波長領域が７００〜２５００ｎｍの光（電磁波）をいう。
本明細書において、全固形分とは、組成物の全成分から溶剤を除いた成分の総質量をいう。
本明細書において、重量平均分子量および数平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ（ＧＰＣ）測定によるポリスチレン換算値として定義される。
【００１１】
＜赤外線吸収剤＞
本発明の赤外線吸収剤の第一は、赤外線吸収化合物である金属化合物と、金属化合物に含まれる金属原子とは異なる金属原子を含む金属成分とを含み、
金属化合物に含まれる金属原子１００質量部に対し、金属成分に含まれる金属原子を０．００５〜１質量部含む。
また、本発明の赤外線吸収剤の第二は、赤外線吸収化合物である金属化合物と、金属化合物に含まれる金属原子とは異なる金属原子を含む金属成分とを含み、
金属成分が、金属化合物に含まれる金属原子とは異なる金属原子であって、Ａｌ、Ｚｎ、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｂａ、Ｔｉ、Ｖ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、ＰｔおよびＡｇから選ばれる少なくとも一種の金属を含み、
金属化合物に含まれる金属原子１００質量部に対し、金属成分に含まれるＡｌ、Ｚｎ、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｂａ、Ｔｉ、Ｖ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、ＰｔおよびＡｇの合計量が０．００５〜１質量部である。
また、本発明の赤外線吸収剤の第三は、赤外線吸収化合物である金属化合物と、金属化合物に含まれる金属原子とは異なる金属原子を含む金属成分とを含み、
金属化合物が、Ａｌ、Ｔｉ、Ｖ、Ｍｏ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、ＰｄおよびＰｔから選ばれる少なくとも１種の金属原子を含む金属化合物であり、
金属成分が、金属化合物に含まれる金属原子とは異なる金属原子であって、Ａｌ、Ｚｎ、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｂａ、Ｔｉ、Ｖ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、ＰｔおよびＡｇから選ばれる少なくとも一種の金属を含み、
金属化合物に含まれるＡｌ、Ｔｉ、Ｖ、Ｍｏ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、ＰｄおよびＰｔの合計１００質量部に対し、金属成分に含まれるＡｌ、Ｚｎ、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｂａ、Ｔｉ、Ｖ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、ＰｔおよびＡｇの合計量が０．００５〜１質量部である。
【００１２】
本発明の赤外線吸収剤を用いることで、可視透明性および近赤外遮蔽性に優れた膜を製造できる近赤外線吸収組成物を提供することできる。このような効果が得られるメカニズムは次によるものであると推測する。すなわち、本発明の赤外線吸収剤は、赤外線吸収化合物である金属化合物の他に、上述した金属成分を上述した割合で０．００５質量部以上含むことにより、近赤外線吸収組成物の赤外線吸収剤以外の他の成分（例えば、溶剤や硬化性化合物など）との相溶性や分散性が向上し、膜の可視透明性および近赤外遮蔽性が向上したと推測する。また、赤外線吸収化合物である金属化合物の他に、上述した金属成分の含有量を上述した割合で１質量部以下とすることにより、金属成分による分光性能への影響（例えば、金属成分による着色や、金属成分と金属化合物との相互作用による金属化合物の分光性能変動など）を抑制でき、可視透明性および近赤外遮蔽性に優れた膜を製造可能になったと推測する。更には、金属成分の含有量が上述した割合で１質量部以下であることにより、得られる膜の耐熱性も優れる。この理由は、金属成分に起因した耐熱性の低下や、金属成分によって金属化合物が分解されることを抑制できるためであると推測する。以下、本発明の赤外線吸収剤について詳細に説明する。
【００１３】
＜赤外線吸収剤＞
本発明の赤外線吸収剤の第一は、赤外線吸収化合物である金属化合物と、金属化合物に含まれる金属原子とは異なる金属原子を含む金属成分とを含み、金属化合物に含まれる金属原子１００質量部に対し、金属成分に含まれる金属原子を０．００５〜１質量部含む。金属化合物に含まれる金属原子１００質量部に対し、金属成分に含まれる金属原子を、０．００５〜０．８質量部含むことがさらに好ましく、０．１〜０．５質量部が特に好ましい。
【００１４】
本発明の赤外線吸収剤の第二は、金属成分として金属化合物に含まれる金属原子とは異なる金属原子であって、Ａｌ、Ｚｎ、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｂａ、Ｔｉ、Ｖ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、ＰｔおよびＡｇから選ばれる少なくとも一種の金属を含み、
金属化合物に含まれる金属原子１００質量部に対し、金属成分に含まれるＡｌ、Ｚｎ、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｂａ、Ｔｉ、Ｖ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、ＰｔおよびＡｇの合計量が０．００５〜１質量部であり、０．０５〜０．８質量部がさらに好ましく、０．１〜０．５質量部が特に好ましい。
【００１５】
本発明の赤外線吸収剤の第三は、金属化合物が、Ａｌ、Ｔｉ、Ｖ、Ｍｏ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、ＰｄおよびＰｔから選ばれる少なくとも１種の金属原子を含む金属化合物であり、
金属成分が、金属化合物に含まれる金属原子とは異なる金属原子であって、Ａｌ、Ｚｎ、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｂａ、Ｔｉ、Ｖ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、ＰｔおよびＡｇから選ばれる少なくとも一種の金属を含み、
金属化合物に含まれるＡｌ、Ｔｉ、Ｖ、Ｍｏ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、ＰｄおよびＰｔの合計１００質量部に対し、金属成分に含まれるＡｌ、Ｚｎ、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｂａ、Ｔｉ、Ｖ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、ＰｔおよびＡｇの合計量が０．００５〜１質量部であり、０．０５〜０．８質量部がさらに好ましく、０．１〜０．５質量部が特に好ましい。
【００１６】
本発明において、金属化合物および金属成分における金属原子の含有量は、誘導結合プラズマ発光分光分析法（ＩＣＰ−ＯＥＳ）で測定した値である。また、金属原子とは、典型金属、遷移金属が挙げられる。具体的には、Ｌｉ、Ｂｅ、Ｎａ、Ｍｇ、Ａｌ、Ｋ、Ｃａ、Ｓｃ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｇａ、Ｇｅ、Ｒｂ、Ｓｒ、Ｙ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｔｃ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ａｇ、Ｃｄ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｃｓ、Ｂａ、Ｈｆ、Ｔａ、Ｗ、Ｒｅ、Ｏｓ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ａｕ、Ｈｇ、Ｔｌ、Ｐｂ、Ｂｉが挙げられる。
【００１７】
本発明の赤外線吸収剤において、上述の金属化合物は、赤外線吸収剤中において有効量以上の割合で含有する赤外線吸収性を有する金属含有化合物である。金属成分は、赤外線吸収性を有していてもよく、赤外線吸収性を有していなくてもよい。ここで、有効量以上の割合で含有するとは、赤外線吸収剤を含む組成物などを用いて膜などを製造した際に、赤外線吸収性を発現するために要する含有量であり、例えば、赤外線吸収化合物の全量中に、１０質量％以上の割合で含有することが好ましく、３０質量％以上とすることもでき、４５質量％以上とすることもでき、６０質量％以上とすることもできる。
【００１８】
金属化合物は、Ｎｉ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ａｕ、Ｉｒ、Ｆｅ、Ｚｎ、Ｗ、Ｃｕ、Ｍｏ、Ｉｎ、Ｍｎ、Ｃｏ、Ｍｇ、Ｖ、Ｃｒ、ＴｉおよびＡｌから選ばれる少なくとも１種の金属原子を含む化合物が好ましく、Ａｌ、Ｔｉ、Ｖ、Ｍｏ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、ＰｄおよびＰｔから選ばれる少なくとも１種の金属原子を含む化合物がより好ましく、Ｃｕ、ＮｉおよびＶから選ばれる少なくとも１種の金属原子を含む化合物がさらに好ましく、Ｃｕを含む化合物が特に好ましい。すなわち、金属化合物は銅化合物が好ましい。銅化合物は、Ｃｕ以外の金属原子を含んでいてもよいが、Ｃｕ以外の金属を含まないことが好ましい。
金属成分は、Ａｌ、Ｚｎ、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｂａ、Ｔｉ、Ｖ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、ＰｔおよびＡｇから選ばれる少なくとも１種の金属原子を含むことが好ましく、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｆｅ、Ｃｕ、ＡｇおよびＡｌから選ばれる少なくとも１種の金属原子を含むことがより好ましく、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、ＣａおよびＦｅから選ばれる少なくとも１種の金属原子を含むことが更に好ましい。金属成分は、金属単体であってもよく、遊離金属イオンであってもよく、金属酸化物、金属窒化物、金属炭酸化物、金属塩（無機酸塩、有機酸塩、アンモニウム塩など）、金属間化合物、金属錯体、有機金属化合物、（ヘテロ）ポリ酸およびその塩などの化合物であってもよい。
【００１９】
本発明の赤外線吸収剤は、金属化合物が、Ａｌ、Ｔｉ、Ｖ、Ｍｏ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、ＰｄおよびＰｔから選ばれる少なくとも１種の金属原子を含み、金属成分が、Ａｌ、Ｚｎ、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｂａ、Ｔｉ、Ｖ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、ＰｔおよびＡｇから選ばれる少なくとも１種の金属原子を含むことが好ましい。具体的な組み合わせとしては以下に示す組み合わせが挙げられ、（１）がより好ましい。
（１）  金属化合物（赤外線吸収化合物）が、Ｃｕを含む化合物（銅化合物）の場合、金属成分は、Ａｌ、Ｚｎ、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｂａ、Ｔｉ、Ｖ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、ＰｔおよびＡｇから選ばれる少なくとも１種の金属原子を含むことが好ましく、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｆｅ、ＡｇおよびＡｌから選ばれる少なくとも１種の金属原子を含むことがより好ましい。また、銅化合物に含まれる金属原子（好ましくはＣｕ原子）１００質量部に対し、金属成分に含まれるＬｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｆｅ、ＡｇおよびＡｌの合計量が０．００５〜１質量部であることが好ましく、０．０５〜０．８質量部がさらに好ましく、０．１〜０．５質量部が特に好ましい。
（２）  金属化合物（赤外線吸収化合物）が、Ｚｎを含む化合物（亜鉛化合物）の場合、金属成分は、Ａｌ、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｂａ、Ｔｉ、Ｖ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、ＰｔおよびＡｇから選ばれる少なくとも１種の金属原子を含むことが好ましく、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｆｅ、ＣｕおよびＡｌから選ばれる少なくとも１種の金属原子を含むことがより好ましい。また、亜鉛化合物に含まれる金属原子（好ましくはＺｎ原子）１００質量部に対し、金属成分に含まれるＬｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｆｅ、ＣｕおよびＡｌの合計量が０．００５〜１質量部であることが好ましく、０．０５〜０．８質量部がさらに好ましく、０．１〜０．５質量部が特に好ましい。
（３）  金属化合物（赤外線吸収化合物）が、Ｔｉを含む化合物（チタン化合物）の場合、金属成分は、Ａｌ、Ｚｎ、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｂａ、Ｖ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、ＰｔおよびＡｇから選ばれる少なくとも１種の金属原子を含むことが好ましく、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、ＦｅおよびＡｌから選ばれる少なくとも１種の金属原子を含むことがより好ましい。また、チタン化合物に含まれる金属原子（好ましくはＴｉ原子）１００質量部に対し、金属成分に含まれるＬｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、ＦｅおよびＡｌの合計量が０．００５〜１質量部であることが好ましく、０．０５〜０．８質量部がさらに好ましく、０．１〜０．５質量部が特に好ましい。
（４）  金属化合物（赤外線吸収化合物）が、Ｖを含む化合物（バナジウム化合物）の場合、金属成分は、Ａｌ、Ｚｎ、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｂａ、Ｔｉ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、ＰｔおよびＡｇから選ばれる少なくとも１種の金属原子を含むことが好ましく、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、ＦｅおよびＡｌから選ばれる少なくとも１種の金属原子を含むことがより好ましい。また、バナジウム化合物に含まれる金属原子（好ましくはＶ原子）１００質量部に対し、金属成分に含まれるＬｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、ＦｅおよびＡｌの合計量が０．００５〜１質量部であることが好ましく、０．０５〜０．８質量部がさらに好ましく、０．１〜０．５質量部が特に好ましい。
（５）  金属化合物（赤外線吸収化合物）が、Ｎｉを含む化合物（ニッケル化合物）の場合、金属成分は、Ａｌ、Ｚｎ、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｂａ、Ｔｉ、Ｖ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｃｕ、ＰｔおよびＡｇから選ばれる少なくとも１種の金属原子を含むことが好ましく、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｆｅ、ＣｕおよびＡｌから選ばれる少なくとも１種の金属原子を含むことがより好ましい。また、ニッケル化合物に含まれる金属原子（好ましくはＮｉ原子）１００質量部に対し、金属成分に含まれるＬｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｆｅ、ＣｕおよびＡｌの合計量が０．００５〜１質量部であることが好ましく、０．０５〜０．８質量部がさらに好ましく、０．１〜０．５質量部が特に好ましい。
（６）  金属化合物（赤外線吸収化合物）が、Ｐｄを含む化合物（パラジウム化合物）の場合、金属成分は、Ａｌ、Ｚｎ、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｂａ、Ｔｉ、Ｖ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、ＰｔおよびＡｇから選ばれる少なくとも１種の金属原子を含むことが好ましく、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｆｅ、ＡｌおよびＰｔから選ばれる少なくとも１種の金属原子を含むことがより好ましい。また、パラジウム化合物に含まれる金属原子（好ましくはＰｄ原子）１００質量部に対し、金属成分に含まれるＬｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｆｅ、ＡｌおよびＰｔの合計量が０．００５〜１質量部であることが好ましく、０．０５〜０．８質量部がさらに好ましく、０．１〜０．５質量部が特に好ましい。
（７）  金属化合物（赤外線吸収化合物）が、Ａｌを含む化合物（アルミニウム化合物）の場合、金属成分は、Ｚｎ、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｂａ、Ｔｉ、Ｖ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、ＰｔおよびＡｇから選ばれる少なくとも１種の金属原子を含むことが好ましく、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、ＦｅおよびＣｕから選ばれる少なくとも１種の金属原子を含むことがより好ましい。また、アルミニウム化合物に含まれる金属原子（好ましくはＡｌ原子）１００質量部に対し、金属成分に含まれるＬｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、ＦｅおよびＣｕの合計量が０．００５〜１質量部であることが好ましく、０．０５〜０．８質量部がさらに好ましく、０．１〜０．５質量部が特に好ましい。
【００２０】
本発明において、赤外線吸収化合物としての金属化合物は、極大吸収波長が７００〜１２００ｎｍの範囲にある化合物が好ましく、極大吸収波長が７００〜１０００ｎｍの範囲にある化合物がより好ましい。金属化合物は、赤外領域の波長領域（好ましくは、波長７００〜１２００ｍｎの範囲）に吸収を有し、可視領域（好ましくは、波長４００〜６５０ｍｎの範囲）の波長の光を透過する化合物が好ましい。金属化合物の具体例としては、例えば、銅化合物、ピロロピロール化合物、スクアリリウム化合物、シアニン化合物、フタロシアニン化合物、ナフタロシアニン化合物、ジイモニウム化合物、ジチオール化合物、遷移金属酸化物、クアテリレン化合物、クロコニウム化合物等が挙げられる。また、酸化インジウムスズ（ｔｉｎ−ｄｏｐｅｄ  ｉｎｄｉｕｍ  ｏｘｉｄｅ、ＩＴＯ）を用いることも好ましい。また、酸化アンチモンスズ（ＡＴＯ）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、Ａｌドープ酸化亜鉛（ＡｌドープＺｎＯ）、フッ素ドープ二酸化スズ（ＦドープＳｎＯ2）、ニオブドープ二酸化チタン（ＮｂドープＴｉＯ2）、セシウム酸化タングステンなどの無機金属化合物を用いることも好ましい。セシウム酸化タングステンは、国際公開２０１４／１４２２５９号公報の段落００２５〜００２９の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。
なかでも、近赤外遮蔽性と可視透明性の両立に優れた膜を形成しやすいという理由から、銅化合物、フタロシアニン化合物、ナフタロシアニン化合物、ジチオール化合物が好ましい。また、本発明の効果が顕著に得られ易いという理由から、金属化合物は銅化合物であることが好ましい。また、銅化合物は、銅錯体であることが好ましい。
【００２１】
赤外線吸収化合物としての金属化合物は、市販品としても入手可能であり、フタロシアニン化合物およびナフタロシアニン化合物としては日本触媒社製のイーエクスカラーＩＲ−１４、同１０Ａ、同２８、同１２、同９１５、同９１０、同９０６、ＴＸ−ＥＸ−８２０、同９０６や、山田化学工業社製のＦＤＮ−００１〜００８、Ａｖｅｃｉａ社製のＰＲＯＪＥＴ ８００ＮＰ、同８３０ＮＰ、同９００ＮＰ、同９２５ＮＰなどが挙げられる。ジチオール化合物としてはＡｍｅｒｉｃａｎ Ｄｙｅ Ｓｏｕｒｃｅ社製のＡＤＳ８４５ＭＣ、同８７０ＭＣ、同８９０ＭＣ、同９２０ＭＣや、住友精化製のＥＳＴ−３、同５、同５Ｎｉや、エポリン社製のＥｐｏｌｉｇｈｔ３０６３、同４０１９、同４１２１、同４１２９や、みどり化学社製のＭＩＲ−１０１、同１１１、同１２１、同１０２、同１０５などが挙げられる。ジイモニウム化合物としてはＡｍｅｒｉｃａｎ Ｄｙｅ Ｓｏｕｒｃｅ社製のＡＤＳ１０６５Ａなどが挙げられる。また、セシウム酸化タングステンを含有する分散液の市販品として、住友金属鉱山社製のＹＭＦ−０２Ａ、ＹＭＳ−０１Ａ−２、ＹＭＦ−１０Ａ−１などが挙げられる。
以下金属化合物について詳細に説明する。
【００２２】
＜＜金属化合物＞＞
（銅化合物）
本発明において、赤外線吸収化合物として用いる銅化合物は、銅錯体が好ましい。銅錯体としては、銅と、銅に対する配位部位を有する化合物（配位子）との錯体が好ましい。銅に対する配位部位としては、アニオンで配位する配位部位、非共有電子対で配位する配位原子が挙げられる。銅錯体は、配位子を２つ以上有していてもよい。配位子を２つ以上有する場合は、それぞれの配位子は同一であってもよく、異なっていてもよい。銅錯体は、４配位、５配位および６配位が例示され、４配位および５配位がより好ましく、５配位がさらに好ましい。また、銅錯体は、銅と配位子によって、５員環および／または６員環が形成されていることが好ましい。このような銅錯体は、形状が安定であり、錯体安定性に優れる。
【００２３】
銅錯体は、フタロシアニン銅錯体以外の銅錯体であることも好ましい。ここで、フタロシアニン銅錯体とは、フタロシアニン骨格を有する化合物を配位子とする銅錯体である。フタロシアニン骨格を有する化合物は、分子全体にπ電子共役系が広がり、平面構造を取る。フタロシアニン銅錯体は、π−π*遷移で光を吸収する。π−π*遷移で赤外領域の光を吸収するには、配位子をなす化合物が長い共役構造をとる必要がある。しかしながら、配位子の共役構造を長くすると、可視透明性が低下する傾向にある。このため、フタロシアニン銅錯体は、可視透明性が不十分な場合がある。
また、銅錯体は、４００〜６００ｎｍの波長領域に極大吸収波長を有さない化合物を配位子とする銅錯体であることも好ましい。４００〜６００ｎｍの波長領域に極大吸収波長を有する化合物を配位子とする銅錯体は、可視領域（例えば、４００〜６００ｎｍの波長領域）に吸収を有するため、可視透明性が不十分な場合がある。４００〜６００ｎｍの波長領域に極大吸収波長を有する化合物としては、長い共役構造を有し、π−π*遷移の光の吸収の大きい化合物が挙げられる。具体的には、フタロシアニン骨格を有する化合物が挙げられる。
【００２４】
銅錯体は、例えば銅成分（銅または銅を含む化合物）に対して、銅に対する配位部位を有する化合物（配位子）を混合および／または反応等させて得ることができる。銅に対する配位部位を有する化合物（配位子）は、低分子化合物であってもよく、ポリマーであってもよい。両者を併用することもできる。
【００２５】
銅成分は、２価の銅を含む化合物が好ましい。銅成分は、１種のみを用いてもよいし、２種以上を用いてもよい。銅成分としては、例えば、酸化銅や銅塩を用いることができる。銅塩は、例えば、カルボン酸銅（例えば、酢酸銅、エチルアセト酢酸銅、ギ酸銅、安息香酸銅、ステアリン酸銅、ナフテン酸銅、クエン酸銅、２−エチルヘキサン酸銅など）、スルホン酸銅（例えば、メタンスルホン酸銅など）、リン酸銅、リン酸エステル銅、ホスホン酸銅、ホスホン酸エステル銅、ホスフィン酸銅、アミド銅、スルホンアミド銅、イミド銅、アシルスルホンイミド銅、ビススルホンイミド銅、メチド銅、アルコキシ銅、フェノキシ銅、水酸化銅、炭酸銅、硫酸銅、硝酸銅、過塩素酸銅、フッ化銅、塩化銅、臭化銅が好ましく、カルボン酸銅、スルホン酸銅、スルホンアミド銅、イミド銅、アシルスルホンイミド銅、ビススルホンイミド銅、アルコキシ銅、フェノキシ銅、水酸化銅、炭酸銅、フッ化銅、塩化銅、硫酸銅、硝酸銅がより好ましく、カルボン酸銅、アシルスルホンイミド銅、フェノキシ銅、塩化銅、硫酸銅、硝酸銅が更に好ましく、カルボン酸銅、アシルスルホンイミド銅、塩化銅、硫酸銅が特に好ましい。
【００２６】
本発明において、銅錯体は、７００〜１２００ｎｍの波長領域に極大吸収波長を有する化合物が好ましい。銅錯体の極大吸収波長は、７２０〜１２００ｎｍの波長領域に有することがより好ましく、８００〜１１００ｎｍの波長領域に有することがさらに好ましい。極大吸収波長は、例えば、Ｃａｒｙ  ５０００  ＵＶ−Ｖｉｓ−ＮＩＲ（分光光度計、アジレント・テクノロジー社製）を用いて測定することができる。
銅錯体の上述した波長領域における極大吸収波長でのモル吸光係数は、１２０（Ｌ／ｍｏｌ・ｃｍ）以上が好ましく、１５０（Ｌ／ｍｏｌ・ｃｍ）以上がより好ましく、２００（Ｌ／ｍｏｌ・ｃｍ）以上がさらに好ましく、３００（Ｌ／ｍｏｌ・ｃｍ）以上がよりさらに好ましく、４００（Ｌ／ｍｏｌ・ｃｍ）以上が特に好ましい。上限は、特に限定はないが、例えば、３００００（Ｌ／ｍｏｌ・ｃｍ）以下とすることができる。銅錯体の上記モル吸光係数が、１００（Ｌ／ｍｏｌ・ｃｍ）以上であれば、薄膜であっても、赤外線遮蔽性に優れた膜を形成することができる。
銅錯体の８００ｎｍでのグラム吸光係数は、０．１１（Ｌ／ｇ・ｃｍ）以上が好ましく、０．１５（Ｌ／ｇ・ｃｍ）以上がより好ましく、０．２４（Ｌ／ｇ・ｃｍ）以上がさらに好ましい。
なお、本発明において、銅錯体のモル吸光係数およびグラム吸光係数は、銅錯体を溶媒に溶解させて１ｇ／Ｌの濃度の溶液を調製し、銅錯体を溶解させた溶液の吸収スペクトルを測定して求めることができる。測定装置としては、島津製作所社製ＵＶ−１８００（波長領域２００〜１１００ｎｍ）、Ａｇｉｌｅｎｔ製Ｃａｒｙ  ５０００（波長領域２００〜１３００ｎｍ）などを用いることができる。測定溶媒としては、水、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、プロピレングリコールモノメチルエーテル、１，２，４−トリクロロベンゼン、アセトンが挙げられる。本発明では、上述した測定溶媒のうち、測定対象の銅錯体を溶解できるものを選択して用いる。なかでも、プロピレングリコールモノメチルエーテルで溶解する銅錯体の場合は、測定溶媒としては、プロピレングリコールモノメチルエーテルを用いることが好ましい。なお、溶解するとは、２５℃の溶媒１００ｇに対する、銅錯体の溶解度が０．０１ｇを超える状態を意味する。
本発明において、銅錯体のモル吸光係数およびグラム吸光係数は、上述した測定溶媒のいずれか１つを用いて測定した値であることが好ましく、プロピレングリコールモノメチルエーテルでの値であることがより好ましい。
【００２７】
［低分子タイプの銅化合物］
銅化合物としては、例えば、式（Ｃｕ−１）で表される銅錯体を用いることができる。この銅錯体は、中心金属の銅に配位子Ｌが配位した銅化合物であり、銅は、通常２価の銅である。例えば銅成分に対して、配位子Ｌとなる化合物またはその塩を混合および／または反応等させて得ることができる。
Ｃｕ（Ｌ）n1・（Ｘ）n2      式（Ｃｕ−１）
上記式中、Ｌは、銅に配位する配位子を表し、Ｘは、対イオンを表す。ｎ１は、１〜４の整数を表す。ｎ２は、０〜４の整数を表す。
【００２８】
Ｘは、対イオンを表す。銅化合物は、電荷を持たない中性錯体のほか、カチオン錯体、アニオン錯体になることもある。この場合、銅化合物の電荷を中和するよう、必要に応じて対イオンが存在する。
対イオンが負の対イオン（対アニオン）の場合、例えば、無機陰イオンでも有機陰イオンでもよい。具体例としては、水酸化物イオン、ハロゲン化物陰イオン（例えば、フッ化物イオン、塩化物イオン、臭化物イオン、ヨウ化物イオン等）、置換または無置換のアルキルカルボン酸イオン（酢酸イオン、トリフルオロ酢酸イオン等）、置換または無置換のアリールカルボン酸イオン（安息香酸イオン等）、置換または無置換のアルキルスルホン酸イオン（メタンスルホン酸イオン、トリフルオロメタンスルホン酸イオン等）、置換または無置換のアリールスルホン酸イオン（例えばｐ−トルエンスルホン酸イオン、ｐ−クロロベンゼンスルホン酸イオン等）、アリールジスルホン酸イオン（例えば１，３−ベンゼンジスルホン酸イオン、１，５−ナフタレンジスルホン酸イオン、２，６−ナフタレンジスルホン酸イオン等）、アルキル硫酸イオン（例えばメチル硫酸イオン等）、硫酸イオン、チオシアン酸イオン、硝酸イオン、過塩素酸イオン、テトラフルオロホウ酸イオン、テトラアリールホウ酸イオン、テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ホウ酸イオン（Ｂ-（Ｃ6Ｆ5）4）、ヘキサフルオロホスフェートイオン、ピクリン酸イオン、アミドイオン（アシル基やスルホニル基で置換されたアミドイオンを含む）、メチドイオン（アシル基やスルホニル基で置換されたメチドイオンを含む）が挙げられ、ハロゲン陰イオン、置換もしくは無置換のアルキルカルボン酸イオン、硫酸イオン、硝酸イオン、テトラフルオロホウ酸イオン、テトラアリールホウ酸イオン（ハロゲン原子やフルオロアルキル基で置換されたアリールを含む）、ヘキサフルオロホスフェートイオン、アミドイオン（アシル基やスルホニル基で置換されたアミドイオンを含む）、イミドイオン（アシル基やスルホニル基で置換されたアミドを含む）、メチドイオン（アシル基やスルホニル基で置換されたメチドイオンを含む）が好ましい。
対アニオンは、低求核アニオンが好ましい。この態様によれば、銅化合物の耐熱性が向上する傾向にある。対アニオンとして低求核アニオンを用いることで、アニオンの求核攻撃による分解が抑制されるため、耐熱性が向上すると推測する。低求核アニオンとは、一般的に超酸（ｓｕｐｅｒ  ａｃｉｄ）と呼ばれるｐＫａの低い酸がプロトンを解離してなるアニオンである。超酸の定義は、文献によっても異なるがメタンスルホン酸よりｐＫａが低い酸の総称であり、Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．２０１１，７６，３９１−３９５    Ｅｑｕｉｌｉｂｒｉｕｍ  Ａｃｉｄｉｔｉｅｓ  ｏｆ  Ｓｕｐｅｒ  ａｃｉｄｓに記載される構造が知られている。低求核アニオンのｐＫａは、例えば、−１１以下が好ましく、−１１〜−１８がより好ましい。ｐＫａは、例えば、Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．２０１１，７６，３９１−３９５に記載の方法により測定することができる。本明細書におけるｐＫａ値は、特に断りがない場合、１，２−ジクロロエタン中でのｐＫａである。
低求核アニオンは、テトラフルオロホウ酸イオン、テトラアリールホウ酸イオン（テトラアリールホウ酸イオンが有するアリール基は、ハロゲン原子やフルオロアルキル基で置換されたアリール基を含む）、ヘキサフルオロホスフェートイオン、イミドイオン（アシル基やスルホニル基で置換されたアミドイオンを含む）、メチドイオン（アシル基やスルホニル基で置換されたメチドイオンを含む）が好ましく、テトラアリールホウ酸イオン、イミドイオン、メチドイオンがより好ましい。
対イオンが正の対イオン（対カチオン）の場合、例えば、無機もしくは有機のアンモニウムイオン（例えば、テトラブチルアンモニウムイオンなどのテトラアルキルアンモニウムイオン、トリエチルベンジルアンモニウムイオン、ピリジニウムイオン等）、ホスホニウムイオン（例えば、テトラブチルホスホニウムイオンなどのテトラアルキルホスホニウムイオン、アルキルトリフェニルホスホニウムイオン、トリエチルフェニルホスホニウムイオン等）、アルカリ金属イオンまたはプロトンが挙げられる。
また、対イオンは金属錯体イオンであってもよい。例えば、特に対イオンが銅錯体イオンであってもよい。すなわち、銅錯体としては、カチオン性銅錯体とアニオン性銅錯体の塩であっても良い。
【００２９】
配位子Ｌは、銅に対する配位部位を有する化合物であり、銅に対しアニオンで配位する配位部位、および、銅に対し非共有電子対で配位する配位原子から選ばれる１種以上を有する化合物が挙げられる。アニオンで配位する配位部位は、解離していてもよく、非解離でも良い。配位子Ｌは、銅に対する配位部位を２個以上有する化合物（多座配位子）が好ましい。また、配位子Ｌは、可視透明性を向上させるために、芳香族などのπ共役系が連続して複数結合していないことが好ましい。配位子Ｌは、銅に対する配位部位を１個有する化合物（単座配位子）と、銅に対する配位部位を２個以上有する化合物（多座配位子）とを併用することもできる。単座配位子としては、アニオンまたは非共有電子対で配位する単座配位子が挙げられる。アニオンで配位する配位子としては、ハライドアニオン、ヒドロキシドアニオン、アルコキシドアニオン、フェノキシドアニオン、アミドアニオン（アシル基やスルホニル基で置換されたアミドアニオンを含む）、イミドアニオン（アシル基やスルホニル基で置換されたイミドアニオンを含む）、アニリドアニオン（アシル基やスルホニル基で置換されたアニリドアニオンを含む）、チオラートアニオン、炭酸水素アニオン、カルボン酸アニオン、チオカルボン酸アニオン、ジチオカルボン酸アニオン、硫酸水素アニオン、スルホン酸アニオン、リン酸二水素アニオン、リン酸ジエステルアニオン、ホスホン酸モノエステルアニオン、ホスホン酸水素アニオン、ホスフィン酸アニオン、含窒素へテロ環アニオン、硝酸アニオン、次亜塩素酸アニオン、シアニドアニオン、シアナートアニオン、イソシアナートアニオン、チオシアナートアニオン、イソチオシアナートアニオン、アジドアニオンなどが挙げられる。非共有電子対で配位する単座配位子としては、水、アルコール、フェノール、エーテル、アミン、アニリン、アミド、イミド、イミン、ニトリル、イソニトリル、チオール、チオエーテル、カルボニル化合物、チオカルボニル化合物、スルホキシド、へテロ環、あるいは、炭酸、カルボン酸、硫酸、スルホン酸、リン酸、ホスホン酸、ホスフィン酸、硝酸、または、そのエステルが挙げられる。
【００３０】
上記配位子が有するアニオンは、銅成分中の銅原子に配位可能なものであればよく、酸素アニオン、窒素アニオンまたは硫黄アニオンが好ましい。アニオンで配位する配位部位は、以下の１価の官能基群（ＡＮ−１）、または、２価の官能基群（ＡＮ−２）から選択される少なくとも１種であることが好ましい。なお、以下の構造式における波線は、配位子を構成する原子団との結合位置である。
【００３１】
群（ＡＮ−１）
【化１】
2017126528.tif 000003
【００３２】
群（ＡＮ−２）
【化２】
2017126528.tif 000004
【００３３】
上記式中、Ｘは、ＮまたはＣＲを表し、Ｒは、それぞれ独立して水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基またはヘテロアリール基を表す。
Ｒが表すアルキル基は、直鎖状、分岐状または環状であってもよいが、直鎖状が好ましい。アルキル基の炭素数は、１〜１０が好ましく、１〜６がより好ましく、１〜４がさらに好ましい。アルキル基の例としては、メチル基が挙げられる。アルキル基は置換基を有していてもよく、置換基としてはハロゲン原子、カルボキシ基、ヘテロ環基が挙げられる。置換基としてのヘテロ環基は、単環であっても多環であってもよく、また、芳香族であっても非芳香族であってもよい。ヘテロ環を構成するヘテロ原子の数は１〜３が好ましく、１または２がより好ましい。ヘテロ環を構成するヘテロ原子は、窒素原子が好ましい。アルキル基が置換基を有している場合、さらに置換基を有していてもよい。
Ｒが表すアルケニル基は、直鎖状、分岐状または環状であってもよいが、直鎖状が好ましい。アルケニル基の炭素数は、２〜１０が好ましく、２〜６がより好ましい。アルケニル基は、無置換であってもよく、置換基を有していてもよい。置換基としては、上述したものが挙げられる。
Ｒが表すアルキニル基は、直鎖状、分岐状または環状であってもよいが、直鎖状が好ましい。アルキニル基の炭素数は、２〜１０が好ましく、２〜６がより好ましい。アルキニル基は、無置換であってもよく、置換基を有していてもよい。置換基としては、上述したものが挙げられる。
Ｒが表すアリール基は、単環であっても多環であってもよいが単環が好ましい。アリール基の炭素数は６〜１８が好ましく、６〜１２がより好ましく、６がさらに好ましい。アリール基は、無置換であってもよく、置換基を有していてもよい。置換基としては、上述したものが挙げられる。
Ｒが表す。
ヘテロアリール基は、単環であっても多環であってもよい。ヘテロアリール基を構成するヘテロ原子の数は１〜３が好ましい。ヘテロアリール基を構成するヘテロ原子は、窒素原子、硫黄原子、酸素原子が好ましい。ヘテロアリール基の炭素数は２〜１８が好ましく、６〜１８がより好ましく、６〜１２が更に好ましい。ヘテロアリール基は、無置換であってもよく、置換基を有していてもよい。置換基としては、上述したものが挙げられる。
【００３４】
アニオンで配位する配位部位の例として、モノアニオン性配位部位も挙げられる。モノアニオン性配位部位は、１つの負電荷を有する官能基を介して銅原子と配位する部位を表す。例えば、酸解離定数（ｐＫａ）が１２以下の酸基が挙げられる。具体的には、リン原子を含有する酸基（リン酸ジエステル基、ホスホン酸モノエステル基、ホスフィン酸基等）、スルホ基、カルボキシ基、イミド酸基等が挙げられ、スルホ基、カルボキシ基が好ましい。
【００３５】
非共有電子対で配位する配位原子は、酸素原子、窒素原子、硫黄原子またはリン原子が好ましく、酸素原子、窒素原子または硫黄原子がより好ましく、酸素原子、窒素原子がさらに好ましく、窒素原子が特に好ましい。非共有電子対で配位する配位原子が窒素原子である場合、窒素原子に隣接する原子が炭素原子、または、窒素原子であることが好ましく、炭素原子がより好ましい。
【００３６】
非共有電子対で配位する配位原子は、環に含まれる、または、以下の１価の官能基群（ＵＥ−１）、２価の官能基群（ＵＥ−２）、３価の官能基群（ＵＥ−３）から選択される少なくとも１種の部分構造に含まれることが好ましい。なお、以下の構造式における波線は、配位子を構成する原子団との結合位置である。
群（ＵＥ−１）
【化３】
2017126528.tif 000005
【００３７】
群（ＵＥ−２）
【化４】
2017126528.tif 000006
【００３８】
群（ＵＥ−３）
【化５】
2017126528.tif 000007
【００３９】
群（ＵＥ−１）〜（ＵＥ−３）中、Ｒ1は、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基またはヘテロアリール基を表し、Ｒ2は、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロアリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヘテロアリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロアリールチオ基、アミノ基またはアシル基を表す。
【００４０】
非共有電子対で配位する配位原子は、環に含まれていてもよい。非共有電子対で配位する配位原子が環に含まれる場合、非共有電子対で配位する配位原子を含む環は、単環であっても多環であってもよく、また、芳香族であっても非芳香族であってもよい。非共有電子対で配位する配位原子を含む環は、５〜１２員環が好ましく、５〜７員環がより好ましい。
非共有電子対で配位する配位原子を含む環は、置換基を有していてもよく、置換基としては炭素数１〜１０の直鎖状、分岐状または環状のアルキル基、炭素数６〜１２のアリール基、ハロゲン原子、ケイ素原子、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数２〜１２のアシル基、炭素数１〜１２のアルキルチオ基、カルボキシ基等が挙げられる。
非共有電子対で配位する配位原子を含む環が置換基を有している場合、さらに置換基を有していてもよく、非共有電子対で配位する配位原子を含む環からなる基、上述した群（ＵＥ−１）〜（ＵＥ−３）から選択される少なくとも１種の部分構造を含む基、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数２〜１２のアシル基、ヒドロキシ基が挙げられる。
【００４１】
非共有電子対で配位する配位原子が群（ＵＥ−１）〜（ＵＥ−３）で表される部分構造に含まれる場合、Ｒ1は、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基またはヘテロアリール基を表し、Ｒ2は、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロアリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヘテロアリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロアリールチオ基、アミノ基またはアシル基を表す。
アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、およびヘテロアリール基は、上記アニオンで配位する配位部位で説明したアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、およびヘテロアリール基と同義であり、好ましい範囲も同様である。
アルコキシ基の炭素数は、１〜１２が好ましく、３〜９がより好ましい。
アリールオキシ基の炭素数は、６〜１８が好ましく、６〜１２がより好ましい。
ヘテロアリールオキシ基は、単環であっても多環であってもよい。ヘテロアリールオキシ基を構成するヘテロアリール基は、上記アニオンで配位する配位部位で説明したヘテロアリール基と同義であり、好ましい範囲も同様である。
アルキルチオ基の炭素数は、１〜１２が好ましく、１〜９がより好ましい。
アリールチオ基の炭素数は、６〜１８が好ましく、６〜１２がより好ましい。
ヘテロアリールチオ基は、単環であっても多環であってもよい。ヘテロアリールチオ基を構成するヘテロアリール基は、上記アニオンで配位する配位部位で説明したヘテロアリール基と同義であり、好ましい範囲も同様である。
アシル基の炭素数は、２〜１２が好ましく、２〜９がより好ましい。Ｒ1は、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基が好ましく、水素原子、アルキル基がより好ましく、アルキル基が特に好ましい。アルキル基の炭素数は１〜３であることも好ましい。Ｎ原子上の置換基、すなわちＲ1をアルキル基とすることで、可視透明性がより向上する。理由は不明だが、配位子軌道のエネルギーレベルが変わることで、配位子−銅間の電荷移動遷移が長波長シフトするためと推定する。
【００４２】
配位子が、１分子内に、アニオンで配位する配位部位と非共有電子対で配位する配位原子とを有する場合、アニオンで配位する配位部位と非共有電子対で配位する配位原子とを連結する原子数は、１〜６であることが好ましく、１〜３であることがより好ましい。このような構成とすることにより、銅錯体の構造がより歪みやすくなるため、色価をより向上させることができ、可視透明性を高めつつ、モル吸光係数を大きくし易い。アニオンで配位する配位部位と非共有電子対で配位する配位原子とを連結する原子の種類は、１種または２種以上であってもよい。炭素原子、または、窒素原子が好ましい。
【００４３】
配位子が、１分子内に、非共有電子対で配位する配位原子を２以上有する場合、非共有電子対で配位する配位原子は３つ以上有していてもよく、２〜５個有していることが好ましく、４個有していることがより好ましい。非共有電子対で配位する配位原子同士を連結する原子数は、１〜６であることが好ましく、１〜３であることがより好ましく、２〜３が更に好ましく、３が特に好ましい。このような構成とすることにより、銅錯体の構造がより歪みやすくなるため、色価をより向上させることができる。非共有電子対で配位する配位原子同士を連結する原子は、１種または２種以上であってもよい。非共有電子対で配位する配位原子同士を連結する原子は、炭素原子が好ましい。
【００４４】
配位子は、少なくとも２個の配位部位を有する化合物（多座配位子ともいう）が好ましい。配位子は、配位部位を少なくとも３個有することがより好ましく、３〜５個有することが更に好ましく、４〜５個有することが特に好ましい。多座配位子は、銅成分に対し、キレート配位子として働く。すなわち、多座配位子が有する少なくとも２個の配位部位が、銅とキレート配位することにより、銅錯体の構造が歪んで、可視領域の高い透過性が得られ、赤外線の吸光能力を向上でき、色価も向上すると考えられる。
【００４５】
多座配位子は、アニオンで配位する配位部位を１つ以上と非共有電子対で配位する配位原子を１つ以上とを含む化合物、非共有電子対で配位する配位原子を２つ以上有する化合物、アニオンで配位する配位部位を２つ以上含む化合物等が挙げられる。これらの化合物は、それぞれ独立に、１種または２種以上を組み合わせて用いることができる。また、配位子となる化合物は、多座配位子と、配位部位を１つのみ有する化合物（単座配位子）とを併用することもできる。
【００４６】
多座配位子は、下記一般式（ＩＶ−１）〜（ＩＶ−１４）で表される化合物であることが好ましい。例えば、配位子が４個の配位部位を有する化合物である場合は、下記式（ＩＶ−３）、（ＩＶ−６）、（ＩＶ−７）、（ＩＶ−１２）で表される化合物が好ましく、金属中心により強固に配位し、耐熱性の高い安定な５配位錯体を形成しやすいという理由から、（ＩＶ−１２）で表される化合物がより好ましい。また、例えば、配位子が５個の配位部位を有する化合物である場合は、下記式（ＩＶ−４）、（ＩＶ−８）〜（ＩＶ−１１）、（ＩＶ−１３）、（ＩＶ−１４）で表される化合物が好ましく、金属中心により強固に配位し、耐熱性の高い安定な５配位錯体を形成しやすいという理由から、（ＩＶ−９）〜（ＩＶ−１０）、（ＩＶ−１３）、（ＩＶ−１４）で表される化合物がより好ましく、（ＩＶ−１３）で表される化合物が特に好ましい。
【化６】
2017126528.tif 000008
【００４７】
一般式（ＩＶ−１）〜（ＩＶ−１４）中、Ｘ1〜Ｘ59はそれぞれ独立して、配位部位を表し、Ｌ1〜Ｌ25はそれぞれ独立して単結合または２価の連結基を表し、Ｌ26〜Ｌ32はそれぞれ独立して３価の連結基を表し、Ｌ33〜Ｌ34はそれぞれ独立して４価の連結基を表す。
Ｘ1〜Ｘ42はそれぞれ独立して、非共有電子対で配位する配位原子を含む環からなる基、上述した群（ＡＮ−１）、または、群（ＵＥ−１）から選択される少なくとも１種を表すことが好ましい。
Ｘ43〜Ｘ56はそれぞれ独立して、非共有電子対で配位する配位原子を含む環からなる基、上述した群（ＡＮ−２）、または、群（ＵＥ−２）から選択される少なくとも１種を表すことが好ましい。
Ｘ57〜Ｘ59はそれぞれ独立して、上述した群（ＵＥ−３）から選択される少なくとも１種を表すことが好ましい。
Ｌ1〜Ｌ25はそれぞれ独立して単結合または２価の連結基を表す。２価の連結基としては、炭素数１〜１２のアルキレン基、炭素数６〜１２のアリーレン基、−ＳＯ−、−Ｏ−、−ＳＯ2−または、これらの組み合わせからなる基が好ましく、炭素数１〜３のアルキレン基、フェニレン基、−ＳＯ2−またはこれらの組み合わせからなる基がより好ましい。
Ｌ26〜Ｌ32はそれぞれ独立して３価の連結基を表す。３価の連結基としては、上述した２価の連結基から水素原子を１つ除いた基が挙げられる。
Ｌ33〜Ｌ34はそれぞれ独立して４価の連結基を表す。４価の連結基としては、上述した２価の連結基から水素原子を２つ除いた基が挙げられる。
ここで、群（ＡＮ−１）〜（ＡＮ−２）中のＲ、および、群（ＵＥ−１）〜（ＵＥ−３）中のＲ1は、Ｒ同士、Ｒ1同士、あるいは、ＲとＲ1間で連結して環を形成しても良い。
【００４８】
配位子をなす化合物の具体例としては、以下に示す化合物、後述する多座配位子の好ましい具体例として示す化合物、および、これらの化合物の塩が挙げられる。塩を構成する原子としては、金属原子、テトラブチルアンモニウムなどが挙げられる。金属原子としては、アルカリ金属原子またはアルカリ土類金属原子がより好ましい。アルカリ金属原子としては、ナトリウム、カリウム等が挙げられる。アルカリ土類金属原子としては、カルシウム、マグネシウム等が挙げられる。また、特開２０１４−４１３１８号公報の段落００２２〜００４２の記載、特開２０１５−４３０６３号公報の段落００２１〜００３９の記載を参酌でき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。
【００４９】
【化７】
2017126528.tif 000009
【化８】
2017126528.tif 000010
【化９】
2017126528.tif 000011
【化１０】
2017126528.tif 000012
【００５０】
銅錯体は、例えば、以下の（１）〜（５）の態様が好ましい一例として挙げられ、（２）〜（５）がより好ましく、（３）〜（５）が更に好ましく、（４）または（５）が一層好ましい。
（１）２個の配位部位を有する化合物の１つまたは２つを配位子として有する銅錯体
（２）３個の配位部位を有する化合物を配位子として有する銅錯体
（３）３個の配位部位を有する化合物と２個の配位部位を有する化合物とを配位子として有する銅錯体
（４）４個の配位部位を有する化合物を配位子として有する銅錯体
（５）５個の配位部位を有する化合物を配位子として有する銅錯体
【００５１】
上記（１）の態様において、２個の配位部位を有する化合物は、非共有電子対で配位する配位原子を２個有する化合物、または、アニオンで配位する配位部位と非共有電子対で配位する配位原子とを有する化合物が好ましい。また、２個の配位部位を有する化合物の２つを配位子として有する場合、配位子の化合物は、同一であってもよく、異なっていてもよい。
また、（１）の態様において、銅錯体は、単座配位子を更に有することもできる。単座配位子の数は、０個とすることもでき、１〜３個とすることもできる。単座配位子の種類としては、アニオンで配位する単座配位子、非共有電子対で配位する単座配位子のいずれも好ましく、２個の配位部位を有する化合物が非共有電子対で配位する配位原子を２個有する化合物の場合は配位力が強いという理由からアニオンで配位する単座配位子がより好ましく、２個の配位部位を有する化合物がアニオンで配位する配位部位と非共有電子対で配位する配位原子とを有する化合物の場合には錯体全体が電荷を持たないという理由から非共有電子対で配位する単座配位子がより好ましい。
【００５２】
上記（２）の態様において、３個の配位部位を有する化合物は、非共有電子対で配位する配位原子を有する化合物が好ましく、非共有電子対で配位する配位原子を３個有する化合物が更に好ましい。
また、（２）の態様において、銅錯体は、単座配位子を更に有することもできる。単座配位子の数は、０個とすることもできる。また、１個以上とすることもでき、１〜３個以上がより好ましく、１〜２個がさらに好ましく、２個が一層好ましい。単座配位子の種類としては、アニオンで配位する単座配位子、非共有電子対で配位する単座配位子のいずれも好ましく、上述した理由によりアニオンで配位する単座配位子がより好ましい。
【００５３】
上記（３）の態様において、３個の配位部位を有する化合物は、アニオンで配位する配位部位と、非共有電子対で配位する配位原子とを有する化合物が好ましく、アニオンで配位する配位部位を２つ、および、非共有電子対で配位する配位原子を１個有する化合物が更に好ましい。さらに、この２個のアニオンで配位する配位部位が異なっていることが特に好ましい。また、２個の配位部位を有する化合物は、非共有電子対で配位する配位原子を有する化合物が好ましく、非共有電子対で配位する配位原子を２個有する化合物が更に好ましい。なかでも、３個の配位部位を有する化合物が、アニオンで配位する配位部位を２個、および、非共有電子対で配位する配位原子を１個有する化合物であり、２個の配位部位を有する化合物が、非共有電子対で配位する配位原子を２個有する化合物である組み合わせが、特に好ましい。
また、（３）の態様において、銅錯体は、単座配位子を更に有することもできる。単座配位子の数は、０個とすることもでき、１個以上とすることもできる。０個がより好ましい。
【００５４】
上記（４）の態様において、４個の配位部位を有する化合物は、非共有電子対で配位する配位原子を有する化合物が好ましく、非共有電子対で配位する配位原子を２以上有する化合物がより好ましく、非共有電子対で配位する配位原子を４個有する化合物が更に好ましい。
また、（４）の態様において、銅錯体は、単座配位子を更に有することもできる。単座配位子の数は、０個とすることもでき、１個以上とすることもでき、２個以上とすることもできる。１個が好ましい。単座配位子の種類としては、アニオンで配位する単座配位子、非共有電子対で配位する単座配位子のいずれも好ましい。
【００５５】
上記（５）の態様において、５個の配位部位を有する化合物は、非共有電子対で配位する配位原子を有する化合物が好ましく、非共有電子対で配位する配位原子を２以上有する化合物がより好ましく、非共有電子対で配位する配位原子を５個有する化合物が更に好ましい。
また、（５）の態様において、銅錯体は、単座配位子を更に有することもできる。単座配位子の数は、０個とすることもでき、１個以上とすることもできる。単座配位子の数は０個が好ましい。
【００５６】
多座配位子は、上述した配位子の具体例で説明した化合物のうち、配位部位を２以上有する化合物や、以下に示す化合物が挙げられる。
【化１１】
2017126528.tif 000013
【化１２】
2017126528.tif 000014
【００５７】
［リン酸エステル銅錯体］
本発明において、銅化合物として、リン酸エステル銅錯体を用いることもできる。リン酸エステル銅錯体は、銅を中心金属としリン酸エステル化合物を配位子とするものである。リン酸エステル銅錯体の配位子をなすリン酸エステル化合物は、下記式（Ｌ−１００）で表される化合物またはその塩が好ましい。
（ＨＯ）n−Ｐ（＝Ｏ）−（ＯＲ1）3-n    式（Ｌ−１００）
式中、Ｒ1は炭素数１〜１８のアルキル基、炭素数６〜１８のアリール基、炭素数７〜１８のアラルキル基、または炭素数２〜１８のアルケニル基を表すか、−ＯＲ1が、炭素数４〜１００のポリオキシアルキル基、炭素数４〜１００の（メタ）アクリロイルオキシアルキル基、または、炭素数４〜１００の（メタ）アクリロイルポリオキシアルキル基を表し、ｎは１または２を表す。ｎが１のとき、Ｒ2はそれぞれ同一でもよいし、異なっていてもよい。
【００５８】
リン酸エステル化合物の具体例としては、上述した配位子が挙げられる。また、特開２０１４−４１３１８号公報の段落００２２〜００４２の記載を参酌でき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。
【００５９】
［スルホン酸銅錯体］
本発明において、銅化合物として、スルホン酸銅錯体を用いることもできる。スルホン酸銅錯体は、銅を中心金属としスルホン酸化合物を配位子とするものである。スルホン酸銅錯体の配位子をなすスルホン酸化合物は、下記式（Ｌ−２００）で表される化合物またはその塩が好ましい。
Ｒ2−ＳＯ2−ＯＨ          式（Ｌ−２００）
【００６０】
式中、Ｒ2は１価の有機基を表す。１価の有機基としては、アルキル基、アリール基、ヘテロアリール基などを挙げることができる。アルキル基、アリール基およびヘテロアリール基は、二価の連結基を有していてもよい。二価の連結基としては、−（ＣＨ2）m−（ｍは１〜１０の整数、好ましくは１〜６の整数、より好ましくは１〜４の整数）、炭素数５〜１０の環状のアルキレン基、または、これらの基と、−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−Ｓ−、−ＮＨ−および−ＣＯ−の少なくとも１つの組み合わせからなる基が好ましい。式（Ｌ−２００）中、Ｒ2は、式量が３００以下の有機基であることが好ましく、式量が５０〜２００の有機基がより好ましく、式量６０〜１００の有機基がさらに好ましい。式（Ｌ−２００）で表されるスルホン酸化合物の分子量は、８０〜７５０が好ましく、８０〜６００がより好ましく、８０〜４５０がさらに好ましい。
【００６１】
スルホン酸化合物の具体例としては、上述した配位子が挙げられる。また、特開２０１５−４３０６３号公報の段落００２１〜００３９の記載を参酌でき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。
【００６２】
［ポリマータイプの銅化合物］
本発明において、銅化合物として、ポリマー側鎖に銅錯体部位を有する銅含有ポリマーを用いることができる。銅含有ポリマーは、ポリマー側鎖に銅錯体部位を有するので、銅を起点として、ポリマーの側鎖間に架橋構造が形成されると考えられ、耐熱性に優れた膜が得られると考えられる。
【００６３】
銅錯体部位としては、銅と、銅に対して配位する部位（配位部位）とを有するものが挙げられる。銅に対して配位する部位としては、アニオンまたは非共有電子対で配位する部位が挙げられる。また、銅錯体部位は、銅に対して４座配位または５座配位する部位を有することが好ましい。配位部位の詳細については、上述した低分子タイプの銅化合物で説明したものが挙げられ、好ましい範囲も同様である。
【００６４】
銅含有ポリマーは、配位部位を含むポリマー（ポリマー（Ｂ１）ともいう）と、銅成分との反応で得られるポリマーや、ポリマー側鎖に反応性部位を有するポリマー（以下ポリマー（Ｂ２）ともいう）と、ポリマー（Ｂ２）が有する反応性部位と反応可能な官能基を有する銅錯体とを反応させて得られるポリマーが挙げられる。銅含有ポリマーの重量平均分子量は、２０００以上が好ましく、２０００〜２００万がより好ましく、６０００〜２００，０００がさらに好ましい。
【００６５】
（フタロシアニン化合物）
本発明において、赤外線吸収化合物として用いるフタロシアニン化合物は、下記式（ＰＣ）で表される化合物が好ましい。
【化１３】
2017126528.tif 000015
【００６６】
一般式（ＰＣ）において、Ｘ1〜Ｘ16は、各々独立に、水素原子又は置換基を表し、Ｍ1は、金属原子、金属酸化物又は金属ハロゲン化物を表す。
【００６７】
Ｍ1が表す金属原子、及び、金属酸化物又は金属ハロゲン化物を構成する金属原子としては特に限定されず、例えば、Ａｌ、Ｚｎ、Ｍｇ、Ｖ、Ｃｕ、Ｃｏ、Ｆｅ、Ｎｉ、ＣｕおよびＡｇが挙げられ、Ｔｉ、Ｖが好ましい。Ｍ1は、Ｔｉ＝Ｏ、Ｖ＝Ｏが好ましい。
【００６８】
Ｘ1〜Ｘ16が表す置換基は、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、アルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、−ＯＲc1、−ＣＯＲc2、−ＣＯＯＲc3、−ＯＣＯＲc4、−ＮＲc5Ｒc6、−ＮＨＣＯＲc7、−ＣＯＮＲc8Ｒc9、−ＮＨＣＯＮＲc10Ｒc11、−ＮＨＣＯＯＲc12、−ＳＲc13、−ＳＯ2Ｒc14、−ＳＯ2ＯＲc15、−ＮＨＳＯ2Ｒc16または−ＳＯ2ＮＲc17Ｒc18が挙げられる。Ｒc1〜Ｒc18は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基またはヘテロアリール基を表す。なお、−ＣＯＯＲc3のＲc3が水素原子の場合（すなわち、カルボキシ基）は、水素原子が解離してもよく（すなわち、カルボネート基）、塩の状態であってもよい。また、−ＳＯ2ＯＲc15のＲc15が水素原子の場合（すなわち、スルホ基）は、水素原子が解離してもよく（すなわち、スルホネート基）、塩の状態であってもよい。
【００６９】
ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。
アルキル基の炭素数は、１〜２０が好ましく、１〜１２がさらに好ましく、１〜８が特に好ましい。アルキル基は、直鎖、分岐、環状のいずれでもよい。アルキル基は無置換であってもよく、置換基を有していてもよい。
アリール基の炭素数は、６〜２５が好ましく、６〜１５がさらに好ましく、６〜１０が最も好ましい。
ヘテロアリール基は、単環または縮合環が好ましく、単環または縮合数が２〜８の縮合環がより好ましく、単環または縮合数が２〜４の縮合環が更に好ましい。ヘテロアリール基の環を構成するヘテロ原子の数は１〜３が好ましい。ヘテロアリール基の環を構成するヘテロ原子は、窒素原子、酸素原子または硫黄原子が好ましい。ヘテロアリール基は、５員環または６員環が好ましい。ヘテロアリール基は、５員環または６員環が好ましい。ヘテロアリール基の環を構成する炭素原子の数は３〜３０が好ましく、３〜１８がより好ましく、３〜１２が更に好ましい。
アルキル基、アリール基およびヘテロアリール基は、置換基を有していてもよく、無置換であってもよい。置換基としては、上述した置換基が挙げられ、例えば、ハロゲン原子等が挙げられる。
【００７０】
一般式（ＰＣ）の詳細については、特開２０１４−０６７０１９号公報の段落００２４〜００５２、特開２０１３−１７８５号公報の段落００１９〜００６７の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。
【００７１】
フタロシアニン化合物の具体例としては、例えば、下記化合物や、特開２０１４−０６７０１９号公報の段落０１９１、０２１６に記載の化合物や、特開２００６−３４３６３１号公報に記載のオキシチタニウムフタロシアニンや、特開２０１３−００１７８５号公報に記載の化合物（オクタフルオロ−オクタ（ベンジルアミノ）オキシバナジウムフタロシアニン、オクタフルオロ−オクタキス（２−フェニルエチルアミノ）オキシバナジウムフタロシアニン、オクタフルオロ−オクタ（シクロヘキシルアミノ）オキシバナジウムフタロシアニンなど）などが挙げられる。
【化１４】
2017126528.tif 000016
【００７２】
（ナフタロシアニン化合物）
本発明において、赤外線吸収化合物として用いるナフタロシアニン化合物は、下記式（ＮＰＣ）で表される化合物が好ましい。
【化１５】
2017126528.tif 000017
一般式（ＮＰＣ）において、Ｘ1〜Ｘ24は、各々独立に、水素原子又は置換基を表し、Ｍ2は、金属原子、金属酸化物又は金属ハロゲン化物を表す。
【００７３】
Ｘ1〜Ｘ24が表す置換基は、上述した一般式（ＰＣ）で説明した基が挙げられ、アルキル基、ハロゲン原子、アルコキシ基、フェノキシ基、アルキルチオ基、フェニルチオ基、アルキルアミノ基、アニリノ基が好ましい。Ｍ2が表す金属原子、及び、金属酸化物又は金属ハロゲン化物を構成する金属原子としては特に限定されず、例えば、Ａｌ、Ｚｎ、Ｍｇ、Ｖ、Ｃｕ、Ｃｏ、Ｆｅ、Ｎｉ、ＣｕおよびＡｇが挙げられ、Ｔｉ、Ｖが好ましい。Ｍ2は、Ｔｉ＝Ｏ、Ｖ＝Ｏが好ましい。
一般式（ＮＰＣ）の詳細については、特開２０１３−２１８３１２号公報の段落００５８〜００６０の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。
【００７４】
（ジチオール化合物）
本発明において、赤外線吸収化合物として用いるジチオール化合物は、下記式（ＤＴ−１）〜（ＤＴ−３）で表される化合物が好ましい。
【化１６】
2017126528.tif 000018
【００７５】
一般式（ＤＴ−１）〜（ＤＴ−３）において、Ｒ101〜Ｒ112は、各々独立に、水素原子又は置換基を表し、Ｙ1〜Ｙ3は、各々独立に、硫黄原子又は酸素原子を表し、Ｍ3は、金属原子、金属酸化物又は金属ハロゲン化物を表す。
【００７６】
Ｒ101〜Ｒ112が表す置換基は、上述した一般式（ＰＣ）で説明した基が挙げられ、アルキル基が好ましい。Ｍ3が表す金属原子、及び、金属酸化物又は金属ハロゲン化物を構成する金属原子としては特に限定されず、例えば、Ｎｉ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ａｕ、Ｉｒ、Ｆｅ、Ｚｎ、Ｗ、Ｃｕ、Ｍｏ、Ｉｎ、Ｍｎ、Ｃｏ、Ｍｇ、Ｖ、Ｃｒ、Ｔｉが挙げられ、Ｎｉ、Ｐｄ、Ｐｔが好ましく、Ｎｉがより好ましい。Ｍ3としては、Ｎｉ、Ｐｄ、Ｐｔが好ましく、Ｎｉがより好ましい。一般式（ＤＴ−１）〜（ＤＴ−３）の詳細については、特開２００８−１６３１９７号公報の段落０１０９、特表２０１４−５１６０９２号公報の段落００１５〜００８８、特開２０１５−０５７４９２号公報の段落００３３〜００７９の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。
【００７７】
ジチオール化合物の具体例としては、例えば、下記化合物や、特表２０１４−５１６０９２号公報の段落０１８８〜００２５１、特開２０１５−０５７４９２号公報の段落００７９に記載された化合物が挙げられ、この内容は本明細書に組み込まれる。
【化１７】
2017126528.tif 000019
【００７８】
赤外線吸収剤中の金属化合物（赤外線吸収化合物）の含有量は、赤外線吸収剤の全固形分に対して、１〜９９．９９５質量％が好ましい。下限は、１０質量％以上が好ましく、３０質量％以上がより好ましい。上限は、９９．９質量％以下とすることもでき、９９質量％以下とすることもできる。
金属化合物（赤外線吸収化合物）として銅化合物を用いる場合、銅化合物の含有量は、金属化合物の質量に対して、５０〜１００質量％が好ましい。下限は、６０質量％以上が好ましく、７０質量％以上がより好ましい。また、金属化合物（赤外線吸収化合物）は、実質的に銅化合物のみであってもよい。金属化合物（赤外線吸収化合物）が、実質的に銅化合物のみである場合とは、金属化合物中における銅化合物の含有量が例えば９９質量％以上が好ましく、９９．９質量％以上がより好ましく、銅化合物のみで構成されていることが一層好ましい。
【００７９】
＜＜金属化合物以外の赤外線吸収化合物＞＞
本発明の赤外線吸収剤は、金属化合物以外の赤外線吸収化合物（以下、他の赤外線吸収化合物ともいう）を含んでいてもよい。他の赤外線吸収化合物としては、ピロロピロール化合物、スクアリリウム化合物、シアニン化合物、ジイモニウム化合物、クアテリレン化合物、クロコニウム化合物等が挙げられる。スクアリリウム化合物としては、以下に示す化合物が挙げられる。また、特開２０１１−２０８１０１号公報の段落００４４〜００４９に記載の化合物が挙げられ、この内容は本明細書に組み込まれる。ピロロピロール化合物としては、以下に示す化合物が挙げられる。また、特開２０１０−２２２５５７号公報の段落００４９〜００６２に記載の化合物Ｄ−１〜Ｄ−１６２が挙げられ、この内容は本明細書に組み込まれる。シアニン化合物としては、以下に示す化合物が挙げられる。また、特開２００９−１０８２６７公報の段落００４４〜００４５に記載の化合物が挙げられ、この内容は本明細書に組み込まれる。
【化１８】
2017126528.tif 000020
【００８０】
他の赤外線吸収化合物を含む場合、他の赤外線吸収化合物の含有量は、赤外線吸収剤の全固形分に対して、５０質量％以下が好ましい。上限は、３０質量％以下が好ましく、１０質量％以下がより好ましい。下限は、１質量％以上とすることもできる。
また、他の赤外線吸収化合物の含有量は、金属化合物（赤外線吸収化合物）の１００質量部に対して、１〜１００質量部が好ましく、１〜５０質量部がより好ましく、１〜３０質量部がさらに好ましい。
また、本発明の赤外線吸収剤は、他の赤外線吸収化合物を実質的に含まないことも好ましい。なお、他の赤外線吸収化合物を実質的に含まないとは、他の赤外線吸収化合物の含有量が０．１質量％以下であることが好ましく、０．０１質量％以下がより好ましく、０．００１質量％以下がさらに好ましく、含有しないことが一層好ましい。
【００８１】
＜＜他の成分＞＞
本発明の赤外線吸収剤は、溶剤を含んでいてもよい。溶剤としては、後述する近赤外線吸収組成物で説明した溶剤が挙げられる。
【００８２】
＜＜用途＞＞
本発明の赤外線吸収剤は、赤外線カットフィルタなどに好ましく用いることができる。また、熱線遮蔽フィルタや光学フィルタ、ディスプレイフィルタ、追記型光ディスク（ＣＤ−Ｒ）やフラッシュ溶融定着材料における光熱変換材料としても用いることができる。また、セキュリティインクや、不可視バーコードインクにおける情報表示材料として用いることもできる。
【００８３】
＜近赤外線吸収組成物＞
次に本発明の近赤外線吸収組成物について説明する。
本発明の近赤外線吸収組成物の第一は、溶剤および硬化性化合物から選ばれる少なくとも１種と、赤外線吸収化合物である金属化合物とを含む近赤外線吸収組成物であって、
近赤外線吸収組成物は、金属化合物に含まれる金属原子とは異なる金属原子を含む金属成分を含み、金属化合物に含まれる金属原子１００質量部に対し、金属成分に含まれる金属原子を０．００５〜１質量部含む。金属化合物に含まれる金属原子１００質量部に対し、金属成分に含まれる金属原子を、０．０５〜０．８質量部含むことがより好ましく、０．１〜０．５質量部が特に好ましい。
【００８４】
また、本発明の近赤外線吸収組成物の第二は、溶剤および硬化性化合物から選ばれる少なくとも１種と、赤外線吸収化合物である金属化合物とを含む近赤外線吸収組成物であって、
近赤外線吸収組成物は、金属化合物に含まれる金属原子とは異なる金属原子であって、Ａｌ、Ｚｎ、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｂａ、Ｔｉ、Ｖ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、ＰｔおよびＡｇから選ばれる少なくとも一種の金属原子を含む金属成分を含み、
金属化合物に含まれる金属原子１００質量部に対し、金属成分に含まれるＡｌ、Ｚｎ、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｂａ、Ｔｉ、Ｖ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、ＰｔおよびＡｇの合計量が０．００５〜１質量部であり、０．０５〜０．８質量部がより好ましく、０．１〜０．５質量部が特に好ましい。
【００８５】
また、本発明の近赤外線吸収組成物の第三は、溶剤および硬化性化合物から選ばれる少なくとも１種と、赤外線吸収化合物である金属化合物とを含む近赤外線吸収組成物であって、
金属化合物が、Ａｌ、Ｔｉ、Ｖ、Ｍｏ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、ＰｄおよびＰｔから選ばれる少なくとも１種の金属原子を含み、
近赤外線吸収組成物は、金属化合物に含まれる金属原子とは異なる金属原子であって、Ａｌ、Ｚｎ、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｂａ、Ｔｉ、Ｖ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、ＰｔおよびＡｇから選ばれる少なくとも一種の金属原子を含む金属成分を含み、
金属化合物に含まれるＡｌ、Ｔｉ、Ｖ、Ｍｏ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、ＰｄおよびＰｔの合計１００質量部に対し、金属成分に含まれるＡｌ、Ｚｎ、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｂａ、Ｔｉ、Ｖ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、ＰｔおよびＡｇの合計量が０．００５〜１質量部であり、０．０５〜０．８質量部がより好ましく、０．１〜０．５質量部が特に好ましい。
【００８６】
本発明の近赤外線吸収組成物は、可視透明性および近赤外遮蔽性に優れた膜を製造できる。更には、得られる膜の耐熱性も向上する。このような効果が得られるメカニズムは上述した理由によるものであると推測する。以下、本発明の近赤外線吸収組成物について詳細に説明する。
【００８７】
＜＜金属化合物（赤外線吸収化合物）＞＞
本発明の近赤外線吸収組成物は、赤外線吸収化合物である金属化合物を含有する。金属化合物は、Ｎｉ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ａｕ、Ｉｒ、Ｆｅ、Ｚｎ、Ｗ、Ｃｕ、Ｍｏ、Ｉｎ、Ｍｎ、Ｃｏ、Ｍｇ、Ｖ、Ｃｒ、ＴｉおよびＡｌから選ばれる少なくとも１種の金属原子を含む化合物が好ましく、Ａｌ、Ｔｉ、Ｖ、Ｍｏ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、ＰｄおよびＰｔから選ばれる少なくとも１種の金属原子を含む化合物がより好ましく、Ｃｕ、ＮｉおよびＶから選ばれる少なくとも１種の金属原子を含む化合物がさらに好ましく、Ｃｕを含む化合物が特に好ましい。すなわち、金属化合物は銅化合物が好ましい。銅化合物は、Ｃｕ以外の金属原子を含んでいてもよいが、Ｃｕ以外の金属を含まないことが好ましい。
【００８８】
赤外線吸収化合物としての金属化合物は、極大吸収波長が７００〜１２００ｎｍの範囲にある化合物が好ましく、極大吸収波長が７００〜１０００ｎｍの範囲にある化合物がより好ましい。金属化合物は、赤外領域の波長領域（好ましくは、波長７００〜１２００ｎｍの範囲）に吸収を有し、可視領域（好ましくは、波長４００〜６５０ｎｍの範囲）の波長の光を透過する化合物が好ましい。金属化合物の具体例としては、例えば、銅化合物、ピロロピロール化合物、スクアリリウム化合物、シアニン化合物、フタロシアニン化合物、ナフタロシアニン化合物、ジイモニウム化合物、ジチオール化合物、遷移金属酸化物化合物、クアテリレン化合物、クロコニウム化合物等が挙げられる。また、酸化インジウムスズ（ｔｉｎ−ｄｏｐｅｄ  ｉｎｄｉｕｍ  ｏｘｉｄｅ、ＩＴＯ）を用いることも好ましい。また、酸化アンチモンスズ（ＡＴＯ）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、Ａｌドープ酸化亜鉛（ＡｌドープＺｎＯ）、フッ素ドープ二酸化スズ（ＦドープＳｎＯ2）、ニオブドープ二酸化チタン（ＮｂドープＴｉＯ2）、セシウム酸化タングステンなどの無機金属化合物を用いることも好ましい。セシウム酸化タングステンは、国際公開２０１４／１４２２５９号公報の段落００２５〜００２９の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。
なかでも、近赤外遮蔽性と可視透明性の両立に優れた膜を形成しやすいという理由から、銅化合物、フタロシアニン化合物、ナフタロシアニン化合物、ジチオール化合物が好ましい。また、本発明の効果が顕著に得られ易いという理由から、金属化合物は銅化合物であることが特に好ましい。また、銅化合物は、銅錯体がより好ましい。
【００８９】
金属化合物（赤外線吸収化合物）の詳細については、上述した赤外線吸収剤で説明した化合物が挙げられ、好ましい範囲も同様である。
【００９０】
金属化合物（赤外線吸収化合物）の含有量は、近赤外線吸収組成物の全固形分に対して、１〜８０質量％が好ましい。下限は、５質量％以上が好ましく、１０質量％以上がより好ましい。上限は、７０質量％以下が好ましい。
金属化合物として銅化合物を用いる場合、銅化合物の含有量は、近赤外線吸収組成物の全固形分に対して、３〜７０質量％が好ましい。上限は、６０質量％以下が好ましく、５０質量％以下がより好ましい。下限は、１０質量％以上が好ましく、２０質量％以上がより好ましい。
また、金属化合物中における銅化合物の含有量は、１〜１００質量％が好ましく、１０〜１００質量％がより好ましく、３０〜１００質量％が更に好ましい。また金属化合物は、実質的に銅化合物のみであってもよい。金属化合物が、実質的に銅化合物のみである場合とは、金属化合物中における銅化合物の含有量が例えば９９質量％以上が好ましく、９９．９質量％以上がより好ましく、銅化合物のみで構成されていることが一層好ましい。
【００９１】
＜＜他の赤外線吸収化合物＞＞
本発明の近赤外線吸収組成物は、上述した金属化合物以外の赤外線吸収化合物（他の赤外線吸収化合物ともいう）を含んでいてもよい。他の赤外線吸収化合物としては、ピロロピロール化合物、スクアリリウム化合物、シアニン化合物、ジイモニウム化合物、クアテリレン化合物、クロコニウム化合物等が挙げられる。
他の赤外線吸収化合物を含む場合、他の赤外線吸収化合物の含有量は、近赤外線吸収組成物の全固形分に対して、１５質量％以下が好ましい。上限は、１０質量％以下が好ましく、５質量％以下がより好ましい。下限は、１質量％以上とすることもできる。
また、他の赤外線吸収化合物の含有量は、金属化合物（赤外線吸収化合物）の１００質量部に対して、１〜１００質量部が好ましく、１〜５０質量部がより好ましく、１〜３０質量部がさらに好ましい。
また、本発明の近赤外線吸収組成物は、他の赤外線吸収化合物を実質的に含まないことも好ましい。なお、他の赤外線吸収化合物を実質的に含まないとは、他の赤外線吸収化合物の含有量が０．１質量％以下であることが好ましく、０．０１質量％以下がより好ましく、０．００１質量％以下がさらに好ましく、含有しないことが一層好ましい。
【００９２】
＜＜金属成分＞＞
本発明の近赤外線吸収組成物は、上述した金属化合物に含まれる金属原子とは異なる金属原子を含む金属成分を含む。本発明において、金属成分は、上述した金属化合物以外の成分である。また、本発明の近赤外線吸収組成物が、硬化性化合物、重合開始剤、硬化促進剤、熱安定性付与剤、重合禁止剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、溶剤、界面活性剤、増粘剤、可塑剤、充填剤などを含む場合は、これらの成分とは異なる成分でもある。
【００９３】
本発明の近赤外線吸収組成物は、金属化合物に含まれる金属原子１００質量部に対し、金属成分に含まれる金属原子を０．００５〜１質量部含み、０．０５〜０．８質量部がさらに好ましく、０．１〜０．５質量部が特に好ましい。金属成分の含有量が上記範囲であれば、可視透明性および近赤外遮蔽性に優れた膜を製造できる。
本発明の近赤外線吸収組成物は、金属化合物に含まれる金属原子１００質量部に対し、金属成分に含まれるＡｌ、Ｚｎ、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｂａ、Ｔｉ、Ｖ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、ＰｔおよびＡｇの合計量が０．００５〜１質量部であることが好ましく、０．０５〜０．８質量部がさらに好ましく、０．１〜０．５質量部が特に好ましい。
本発明の近赤外線吸収組成物は、金属化合物に含まれるＡｌ、Ｔｉ、Ｖ、Ｍｏ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、ＰｄおよびＰｔの合計１００質量部に対し、金属成分に含まれるＡｌ、Ｚｎ、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｂａ、Ｔｉ、Ｖ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、ＰｔおよびＡｇの合計量が０．００５〜１質量部であることが好ましく、０．０５〜０．８質量部がさらに好ましく、０．１〜０．５質量部が特に好ましい。
【００９４】
本発明において、金属成分は、Ａｌ、Ｚｎ、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｂａ、Ｔｉ、Ｖ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、ＰｔおよびＡｇから選ばれる少なくとも１種の金属原子を含むことが好ましく、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｆｅ、Ｃｕ、ＡｇおよびＡｌから選ばれる少なくとも１種の金属原子を含むことが好ましく、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、ＣａおよびＦｅから選ばれる少なくとも１種の金属原子を含むことがより好ましい。金属成分は、金属単体であってもよく、遊離金属イオンであってもよく、金属酸化物、金属窒化物、金属炭酸化物、金属塩（無機酸塩、有機酸塩、アンモニウム塩など）、金属間化合物、金属錯体、有機金属化合物、（ヘテロ）ポリ酸およびその塩などの化合物であってもよい。
【００９５】
本発明の近赤外線吸収組成物は、金属化合物が、Ａｌ、Ｔｉ、Ｖ、Ｍｏ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、ＰｄおよびＰｔから選ばれる少なくとも１種の金属原子を含み、金属成分が、Ａｌ、Ｚｎ、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｂａ、Ｔｉ、Ｖ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、ＰｔおよびＡｇから選ばれる少なくとも１種の金属原子を含むことが好ましい。金属化合物と金属成分の具体的な組み合わせとしては、上述した赤外線吸収剤で説明した（１）〜（７）の組み合わせが挙げられる。なかでも、（１）の組み合わせ（金属化合物（赤外線吸収化合物）が、Ｃｕを含む化合物（銅化合物）の場合）が好ましい。この態様によれば、上述した本発明の効果がより顕著に得られる傾向にある。
【００９６】
＜＜硬化性化合物＞＞
本発明の近赤外線吸収組成物は、硬化性化合物を含んでいてもよい。硬化性化合物は、架橋性基を有する化合物（架橋性化合物）であってもよいし、架橋性基を有さないポリマー（非架橋性ポリマー）であってもよい。架橋性基は、熱、光、またはラジカルの作用により反応して架橋結合を形成しうる部位を有する基を意味する。また、硬化性化合物は、熱硬化性化合物であってもよいし、光硬化性化合物であってもよいが、膜強度の観点から熱硬化性化合物が好ましい。
【００９７】
また、硬化性化合物は、実質的に架橋性化合物のみであってもよく、実質的に非架橋性ポリマーのみであってもよく、架橋性化合物と非架橋性ポリマーとを併用してもよい。硬化性化合物が、実質的に架橋性化合物のみである場合とは、例えば、硬化性化合物中における架橋性化合物の含有量が、９９質量％以上であることが好ましく、９９．９質量％以上がさらに好ましく、架橋性化合物のみであることが一層好ましい。また、硬化性化合物が、実質的に非架橋性ポリマーのみである場合とは、例えば、硬化性化合物中における非架橋性ポリマーの含有量が、９９質量％以上であることが好ましく、９９．９質量％以上がさらに好ましく、架橋性化合物のみであることが一層好ましい。
【００９８】
＜＜＜架橋性化合物＞＞＞
架橋性化合物としては、ラジカル、酸、熱により架橋可能な公知の化合物を用いることができる。例えば、エチレン性不飽和結合を有する基を有する化合物、環状エーテル基を有する化合物、メチロール基を有する化合物、アルコキシシリル基を有する化合物等が挙げられる。架橋性化合物は、モノマー、ポリマーのいずれの形態であってもよい。
【００９９】
ポリマータイプの架橋性化合物は、例えば、後述するエポキシ樹脂や、架橋性基を有する構成単位を含む樹脂などが挙げられる。架橋性基を有する構成単位としては、下記（Ａ２−１）〜（Ａ２−４）などが挙げられる。
【化１９】
2017126528.tif 000021
【０１００】
Ｒ1は、水素原子またはアルキル基を表す。アルキル基の炭素数は、１〜５が好ましく、１〜３がさらに好ましく、１が特に好ましい。Ｒ1は、水素原子またはメチル基が好ましい。
【０１０１】
Ｌ51は、単結合または２価の連結基を表す。２価の連結基としては、アルキレン基、アリーレン基、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＳＯ2−、−ＮＲ10−（Ｒ10は水素原子あるいはアルキル基を表し、水素原子が好ましい）、または、これらの組み合わせからなる基が挙げられ、アルキレン基、アリーレン基およびアルキレン基の少なくとも１つと−Ｏ−との組み合わせからなる基が好ましい。アルキレン基の炭素数は、１〜３０が好ましく、１〜１５がより好ましく、１〜１０がさらに好ましい。アルキレン基は、置換基を有していてもよいが、無置換が好ましい。アルキレン基は、直鎖、分岐、環状のいずれであってもよい。また、環状のアルキレン基は、単環、多環のいずれであってもよい。アリーレン基の炭素数は、６〜１８が好ましく、６〜１４がより好ましく、６〜１０がさらに好ましい。
【０１０２】
Ｐ1は、架橋性基を表す。架橋性基としては、エチレン性不飽和結合を有する基、環状エーテル基、メチロール基、−Ｍ−（Ｘ2）nで表される基などが挙げられる。−Ｍ−（Ｘ2）nで表される基において、Ｍは、Ｓｉ、Ｔｉ、ＺｒおよびＡｌから選択される原子を表し、Ｘ2は置換基または配位子を表し、ｎ個のＸ2のうち、少なくとも１つが、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アシルオキシ基、ホスホリルオキシ基、スルホニルオキシ基、アミノ基、オキシム基およびＯ＝Ｃ（Ｒa）（Ｒb）から選択される１種であり、Ｘ2同士は、それぞれ結合して環を形成していてもよく、ｎは、ＭのＸ2との結合手の数を表す。
【０１０３】
ポリマータイプの架橋性化合物は、更に、下記式（Ａ３−１）〜（Ａ３−７）で表される構成単位を有することも好ましい。
【化２０】
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式中、Ｒ5は水素原子またはアルキル基を表し、Ｌ4〜Ｌ7はそれぞれ独立に、単結合または２価の連結基を表し、Ｒ10〜Ｒ13はそれぞれ独立にアルキル基またはアリール基を表す。Ｒ14およびＲ15は、それぞれ独立に、水素原子または置換基を表す。
【０１０４】
Ｒ5は、式（Ａ２−１）〜（Ａ２−４）のＲ1と同義であり、好ましい範囲も同様である。
Ｌ4〜Ｌ7は、式（Ａ２−１）〜（Ａ２−４）のＬ1と同義であり、好ましい範囲も同様である。
【０１０５】
Ｒ10が表すアルキル基は、直鎖状、分岐状または環状のいずれでもよく、環状が好ましい。アルキル基は上述した置換基を有していてもよく、無置換であってもよい。アルキル基の炭素数は、１〜３０が好ましく、１〜２０がより好ましく、１〜１０がさらに好ましい。Ｒ10が表すアリール基の炭素数は６〜１８が好ましく、６〜１２がより好ましく、６がさらに好ましい。Ｒ10は、環状のアルキル基またはアリール基が好ましい。
【０１０６】
Ｒ11、Ｒ12が表すアルキル基は、直鎖状、分岐状または環状のいずれでも良く、直鎖状または分岐状が好ましい。アルキル基は上述した置換基を有していてもよく、無置換であってもよい。アルキル基の炭素数は１〜１２が好ましく、１〜６がより好ましく、１〜４が更に好ましい。Ｒ11，Ｒ12が表すアリール基の炭素数は６〜１８が好ましく、６〜１２がより好ましく、６が更に好ましい。Ｒ11、Ｒ12は、直鎖状または分岐状のアルキル基が好ましい。
【０１０７】
Ｒ13が表すアルキル基は、直鎖状、分岐状または環状のいずれでも良く、直鎖状または分岐状が好ましい。アルキル基は上述した置換基を有していてもよく、無置換であってもよい。アルキル基の炭素数は１〜１２が好ましく、１〜６がより好ましく、１〜４が更に好ましい。Ｒ13が表すアリール基の炭素数は６〜１８が好ましく、６〜１２がより好ましく、６が更に好ましい。Ｒ13は、直鎖状または分岐状のアルキル基、または、アリール基が好ましい。
【０１０８】
Ｒ14およびＲ15が表す置換基は、上述した一般式（ＰＣ）で説明した基が挙げられる。なかでも、Ｒ14およびＲ15の少なくとも一方は、シアノ基または、−ＣＯＯＲaを表すことが好ましい。Ｒａは、水素原子、アルキル基、アリール基またはヘテロアリール基を表し、水素原子、アルキル基またはアリール基が好ましい。
【０１０９】
モノマータイプの架橋性化合物の分子量は、２０００未満が好ましく、１００以上２０００未満がより好ましく、２００以上２０００未満がさらに好ましい。上限は、例えば１５００以下が好ましい。ポリマータイプの架橋性化合物の重量平均分子量（Ｍｗ）は、２,０００〜２,０００,０００が好ましい。上限は、１,０００,０００以下が好ましく、５００,０００以下がより好ましい。下限は、３,０００以上が好ましく、５,０００以上がより好ましい。また、環状エーテル基を有する化合物の場合、重量平均分子量（Ｍｗ）は、１００以上が好ましく、２００〜２，０００，０００がより好ましい。上限は、１，０００，０００以下が好ましく、５００，０００以下がより好ましい。
【０１１０】
（エチレン性不飽和結合を有する基を有する化合物）
エチレン性不飽和結合を有する基を有する化合物は、３〜１５官能の（メタ）アクリレート化合物であることが好ましく、３〜６官能の（メタ）アクリレート化合物であることがより好ましい。エチレン性不飽和結合を有する基を含む化合物の例としては、特開２０１３−２５３２２４号公報の段落００３３〜００３４の記載を参酌することができ、この内容は本明細書に組み込まれる。具体例としては、エチレンオキシ変性ペンタエリスリトールテトラアクリレート（市販品としてはＮＫエステルＡＴＭ−３５Ｅ；新中村化学工業社製）、ジペンタエリスリトールトリアクリレート（市販品としては  ＫＡＹＡＲＡＤ  Ｄ−３３０；日本化薬社製）、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート（市販品としては  ＫＡＹＡＲＡＤ  Ｄ−３２０；日本化薬社製）、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート（市販品としては  ＫＡＹＡＲＡＤ  Ｄ−３１０；日本化薬社製）、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート（市販品としては  ＫＡＹＡＲＡＤ  ＤＰＨＡ  ；日本化薬社製、Ａ−ＤＰＨ−１２Ｅ；新中村化学工業社製）、およびこれらの（メタ）アクリロイル基がエチレングリコール、プロピレングリコール残基を介して結合している構造が好ましい。またこれらのオリゴマータイプも使用できる。また、特開２０１３−２５３２２４号公報の段落００３４〜００３８の重合性化合物の記載を参酌することができ、この内容は本明細書に組み込まれる。また、特開２０１２−２０８４９４号公報の段落０４７７（対応する米国特許出願公開第２０１２／０２３５０９９号明細書の段落０５８５）に記載の重合性モノマー等が挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。また、ジグリセリンＥＯ（エチレンオキシド）変性（メタ）アクリレート（市販品としては  Ｍ−４６０；東亞合成社製）が好ましい。ペンタエリスリトールテトラアクリレート（新中村化学工業社製、Ａ−ＴＭＭＴ）、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート（日本化薬社製、ＫＡＹＡＲＡＤ  ＨＤＤＡ）も好ましい。これらのオリゴマータイプも使用できる。例えば、ＲＰ−１０４０（日本化薬社製）などが挙げられる。
【０１１１】
エチレン性不飽和結合を有する基を含む化合物は、さらに、カルボキシ基、スルホン酸基、リン酸基等の酸基を有していてもよい。酸基を有する化合物としては、脂肪族ポリヒドロキシ化合物と不飽和カルボン酸とのエステルが挙げられる。脂肪族ポリヒドロキシ化合物の未反応のヒドロキシ基に、非芳香族カルボン酸無水物を反応させて酸基を持たせた多官能モノマーが好ましく、特に好ましくは、脂肪族ポリヒドロキシ化合物がペンタエリスリトールおよび／またはジペンタエリスリトールであるものである。市販品としては、例えば、東亞合成社製の多塩基酸変性アクリルオリゴマーとして、アロニックスシリーズのＭ−３０５、Ｍ−５１０、Ｍ−５２０などが挙げられる。酸基を有する化合物の酸価は、０．１〜４０ｍｇＫＯＨ／ｇが好ましい。下限は、５ｍｇＫＯＨ／ｇ以上が好ましい。上限は、３０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下が好ましい。
【０１１２】
エチレン性不飽和結合を有する基を含む化合物は、カプロラクトン構造を有する化合物も好ましい態様である。カプロラクトン構造を有する化合物としては、特開２０１３−２５３２２４号公報の段落００４２〜００４５の記載を参酌することができ、この内容は本明細書に組み込まれる。市販品としては、例えばサートマー社製のエチレンオキシ鎖を４個有する４官能アクリレートであるＳＲ−４９４、日本化薬社製のペンチレンオキシ鎖を６個有する６官能アクリレートであるＤＰＣＡ−６０、イソブチレンオキシ鎖を３個有する３官能アクリレートであるＴＰＡ−３３０などが挙げられる。
【０１１３】
本発明において、エチレン性不飽和結合を有する基を有する化合物として、エチレン性不飽和結合を有する基を側鎖に有する構成単位を有するポリマーを用いることもできる。エチレン性不飽和結合を有する基を側鎖に有する構成単位としては、上述した（Ａ２−１）〜（Ａ２−４）で表される構成単位が挙げられる。側鎖にエチレン性不飽和結合を有する基を有する構成単位の含有量は、上記ポリマーを構成する全構成単位の５〜１００質量％であることが好ましい。下限は、１０質量％以上がより好ましく、１５質量％以上が更に好ましい。上限は、９０質量％以下がより好ましく、８０質量％以下が更に好ましく、７０質量％以下が特に好ましい。
【０１１４】
上記ポリマーは、側鎖にエチレン性不飽和結合を有する基を有する構成単位の他に、他の構成単位を含んでいてもよい。他の構成単位は、酸基等の官能基を含んでいてもよく、官能基を含んでいなくてもよい。酸基としては、カルボキシ基、スルホン酸基、リン酸基が例示される。酸基は１種類のみ含まれていても良いし、２種類以上含まれていても良い。酸基を有する構成単位の割合は、上記ポリマーを構成する全構成単位の０〜５０質量％であることが好ましい。下限は、１質量％以上がより好ましく、３質量％以上が更に好ましい。上限は、３５質量％以下がより好ましく、３０質量％以下が更に好ましい。上記ポリマーは、上述した（Ａ３−１）〜（Ａ３−７）で表される構成単位をさらに含むことも好ましい。
【０１１５】
上記ポリマーの具体例としては、例えば、（メタ）アリル（メタ）アクリレート／（メタ）アクリル酸共重合体などが挙げられる。上記ポリマーの市販品としては、ダイヤナールＮＲシリーズ（三菱レイヨン社製）、Ｐｈｏｔｏｍｅｒ６１７３（ＣＯＯＨ含有  ｐｏｌｙｕｒｅｔｈａｎｅ  ａｃｒｙｌｉｃ  ｏｌｉｇｏｍｅｒ．Ｄｉａｍｏｎｄ  Ｓｈａｍｒｏｃｋ  Ｃｏ．，Ｌｔｄ．製）、ビスコートＲ−２６４、ＫＳレジスト１０６（いずれも大阪有機化学工業社製）、サイクロマーＰシリーズ（例えば、ＡＣＡ２３０ＡＡ）、プラクセル  ＣＦ２００シリーズ（いずれもダイセル社製）、Ｅｂｅｃｒｙｌ３８００（ダイセルユーシービー社製）、アクリキュアーＲＤ−Ｆ８(日本触媒社製)などが挙げられる。また、下記ポリマーも挙げられる。
【化２１】
2017126528.tif 000023
【０１１６】
（環状エーテル基を有する化合物）
本発明では、架橋性化合物として、環状エーテル基を有する化合物を用いることもできる。環状エーテル基としては、エポキシ基、オキセタニル基が挙げられ、エポキシ基が好ましい。環状エーテル基を有する化合物は、側鎖に環状エーテル基を有するポリマー、分子内に２個以上の環状エーテル基を有するモノマーまたはオリゴマーなどが挙げられる。例えば、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、脂肪族エポキシ樹脂等を挙げることができる。また単官能または多官能グリシジルエーテル化合物も挙げられ、多官能脂肪族グリシジルエーテル化合物が好ましい。環状エーテル基を有する化合物は、グリシジル（メタ）アクリレートやアリルグリシジルエーテル等のグリシジル基を有する化合物や、脂環式エポキシ基を有する化合物を用いることもできる。例えば特開２００９−２６５５１８号公報の段落００４５等の記載を参酌でき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。
【０１１７】
環状エーテル基を有する化合物は、市販品を用いることもできる。環状エーテル基を有する化合物の市販品としては、例えば、特開２０１２−１５５２８８号公報の段落０１９１等の記載を参酌でき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。
ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂としては、ＪＥＲ８２７、ＪＥＲ８２８、ＪＥＲ８３４、ＪＥＲ１００１、ＪＥＲ１００２、ＪＥＲ１００３、ＪＥＲ１０５５、ＪＥＲ１００７、ＪＥＲ１００９、ＪＥＲ１０１０（以上、三菱化学社製）、ＥＰＩＣＬＯＮ８６０、ＥＰＩＣＬＯＮ１０５０、ＥＰＩＣＬＯＮ１０５１、ＥＰＩＣＬＯＮ１０５５（以上、ＤＩＣ社製）等が挙げられる。
ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂としては、ＪＥＲ８０６、ＪＥＲ８０７、ＪＥＲ４００４、ＪＥＲ４００５、ＪＥＲ４００７、ＪＥＲ４０１０（以上、三菱化学社製）、ＥＰＩＣＬＯＮ８３０、ＥＰＩＣＬＯＮ８３５（以上、ＤＩＣ社製）、ＬＣＥ−２１、ＲＥ−６０２Ｓ（以上、日本化薬社製）等が挙げられる。
フェノールノボラック型エポキシ樹脂としては、ＪＥＲ１５２、ＪＥＲ１５４、ＪＥＲ１５７Ｓ７０、ＪＥＲ１５７Ｓ６５（以上、三菱化学社製）、ＥＰＩＣＬＯＮ  Ｎ−７４０、ＥＰＩＣＬＯＮ  Ｎ−７４０、ＥＰＩＣＬＯＮ  Ｎ−７７０、ＥＰＩＣＬＯＮ  Ｎ−７７５（以上、ＤＩＣ社製）等が挙げられる。
クレゾールノボラック型エポキシ樹脂としては、ＥＰＩＣＬＯＮ  Ｎ−６６０、ＥＰＩＣＬＯＮ  Ｎ−６６５、ＥＰＩＣＬＯＮ  Ｎ−６７０、ＥＰＩＣＬＯＮ  Ｎ−６７３、ＥＰＩＣＬＯＮ  Ｎ−６８０、ＥＰＩＣＬＯＮ  Ｎ−６９０、ＥＰＩＣＬＯＮ  Ｎ−６９５（以上、ＤＩＣ社製）、ＥＯＣＮ−１０２０（日本化薬社製）等が挙げられる。
脂肪族エポキシ樹脂としては、ＡＤＥＫＡ  ＲＥＳＩＮ  ＥＰ−４０８０Ｓ、同ＥＰ−４０８５Ｓ、同ＥＰ−４０８８Ｓ（以上、ＡＤＥＫＡ社製）、セロキサイド２０２１Ｐ、セロキサイド２０８１、セロキサイド２０８３、セロキサイド２０８５、ＥＨＰＥ３１５０、ＥＰＯＬＥＡＤ  ＰＢ  ３６００、同ＰＢ  ４７００（以上、ダイセル社製）、デナコール  ＥＸ−２１２Ｌ、ＥＸ−２１４Ｌ、ＥＸ−２１６Ｌ、ＥＸ−３２１Ｌ、ＥＸ−８５０Ｌ（以上、ナガセケムテックス社製）等が挙げられる。
その他にも、ＡＤＥＫＡ  ＲＥＳＩＮ  ＥＰ−４０００Ｓ、同ＥＰ−４００３Ｓ、同ＥＰ−４０１０Ｓ、同ＥＰ−４０１１Ｓ（以上、ＡＤＥＫＡ社製）、ＮＣ−２０００、ＮＣ−３０００、ＮＣ−７３００、ＸＤ−１０００、ＥＰＰＮ−５０１、ＥＰＰＮ−５０２（以上、ＡＤＥＫＡ社製）、ＪＥＲ１０３１Ｓ（三菱化学社製）、リポキシＳＰＣＦ−９Ｘ（昭和電工社製）等が挙げられる。
【０１１８】
（アルコキシシリル基を有する化合物）
本発明では、架橋性化合物として、アルコキシシリル基を有する化合物を用いることもできる。特に、赤外線吸収剤として銅化合物を用いる場合、架橋性化合物としてアルコキシシリル基を有する化合物を用いることが好ましい。アルコキシシリル基は、モノアルコキシシリル基、ジアルコキシシリル基、トリアルコキシシリル基が挙げられ、ジアルコキシシリル基、トリアルコキシシリル基が好ましい。この態様によれば、耐熱性に優れた近赤外線カットフィルタを製造しやすい。
【０１１９】
アルコキシシリル基を有する化合物は、低分子化合物、ポリマーのいずれの形態であってもよいが、より耐熱性に優れた膜を形成しやすいという理由からポリマーが好ましい。アルコキシシリル基を有する化合物のうち、低分子化合物の分子量は、１００〜１０００であることが好ましい。上限は、８００以下が好ましく、７００以下がより好ましい。なお、分子量は、構造式から求めた理論値である。アルコキシシリル基を有する化合物のうち、ポリマータイプの化合物の重量平均分子量は、５００〜３０００００であることが好ましい。下限は、１０００以上が好ましく、２０００以上がより好ましい。上限は、２５００００以下が好ましく、２０００００以下がより好ましい。
【０１２０】
アルコキシシリル基におけるアルコキシ基の炭素数は、１〜５が好ましく、１〜３がより好ましく、１または２が特に好ましい。アルコキシシリル基は、一分子中に２個以上有することが好ましく、２〜３個有することがさらに好ましい。
【０１２１】
アルコキシシリル基を有する化合物の具体例としては、テトラエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、ｎ−プロピルトリメトキシシラン、ｎ−プロピルトリエトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン、ヘキシルトリエトキシシラン、オクチルトリエトキシシラン、デシルトリメトキシシラン、１，６−ビス（トリメトキシシリル）ヘキサン、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、ヘキサメチルジシラザン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、ｐ−スチリルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、３−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−トリエトキシシリル−Ｎ−（１，３−ジメチル−ブチリデン）プロピルアミン、Ｎ−フェニル−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−（ビニルベンジル）−２−アミノエチル−３−アミノプロピルトリメトキシシランの塩酸塩、トリス−（トリメトキシシリルプロピル）イソシアヌレート、３−ウレイドプロピルトリエトキシシラン、３−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、ビス（トリエトキシシリルプロピル）テトラスルフィド、３−イソシアネートプロピルトリエトキシシランなどが挙げられる。また、上記以外にアルコキシオリゴマーを用いることができる。また、下記化合物を用いることもできる。
【化２２】
2017126528.tif 000024
【０１２２】
市販品としては、信越シリコーン社製のＫＢＭ−１３、ＫＢＭ−２２、ＫＢＭ−１０３、ＫＢＥ−１３、ＫＢＥ−２２、ＫＢＥ−１０３、ＫＢＭ−３０３３、ＫＢＥ−３０３３、ＫＢＭ−３０６３、ＫＢＭ−３０６６、ＫＢＭ−３０８６、ＫＢＥ−３０６３、ＫＢＥ−３０８３、ＫＢＭ−３１０３、ＫＢＭ−３０６６、ＫＢＭ−７１０３、ＳＺ−３１、ＫＰＮ−３５０４、ＫＢＭ−１００３、ＫＢＥ−１００３、ＫＢＭ−３０３、ＫＢＭ−４０２、ＫＢＭ−４０３、ＫＢＥ−４０２、ＫＢＥ−４０３、ＫＢＭ−１４０３、ＫＢＭ−５０２、ＫＢＭ−５０３、ＫＢＥ−５０２、ＫＢＥ−５０３、ＫＢＭ−５１０３、ＫＢＭ−６０２、ＫＢＭ−６０３、ＫＢＭ−９０３、ＫＢＥ−９０３、ＫＢＥ−９１０３、ＫＢＭ−５７３、ＫＢＭ−５７５、ＫＢＭ−９６５９、ＫＢＥ−５８５、ＫＢＭ−８０２、ＫＢＭ−８０３、ＫＢＥ−８４６、ＫＢＥ−９００７、Ｘ−４０−１０５３、Ｘ−４１−１０５９Ａ、Ｘ−４１−１０５６、Ｘ−４１−１８０５、Ｘ−４１−１８１８、Ｘ−４１−１８１０、Ｘ−４０−２６５１、Ｘ−４０−２６５５Ａ、ＫＲ−５１３、ＫＣ−８９Ｓ、ＫＲ−５００、Ｘ−４０−９２２５、Ｘ−４０−９２４６、Ｘ−４０−９２５０、ＫＲ−４０１Ｎ、Ｘ−４０−９２２７、Ｘ−４０−９２４７、ＫＲ−５１０、ＫＲ−９２１８、ＫＲ−２１３、Ｘ−４０−２３０８、Ｘ−４０−９２３８などが挙げられる。
また、アルコキシシリル基を有する化合物は、アルコキシシリル基を側鎖に有するポリマーを用いることもできる。
【０１２３】
アルコキシシリル基を有する化合物のうち、ポリマータイプの化合物としては、例えば、（メタ）アクリル樹脂（好ましくは、（メタ）アクリル酸エステル樹脂、（メタ）アクリルアミド樹脂）、スチレン樹脂、ポリシロキサンなどが挙げられる。なかでも、皮膜性の向上や、塗布液粘度調整の容易性という理由から（メタ）アクリル樹脂またはスチレン樹脂が好ましい。
ポリマータイプの化合物の具体例としては、例えば、上述した式（Ａ２−１）〜（Ａ２−４）で表される構成単位の少なくとも１種を有するポリマーなどが挙げられる。
【０１２４】
上記ポリマータイプの化合物は、上述した式（Ａ２−１）〜（Ａ２−４）で表される構成単位の他に、他の構成単位を含有していてもよい。他の構成単位を構成する成分としては、特開２０１０−１０６２６８号公報の段落００６８〜００７５（対応する米国特許出願公開第２０１１／０１２４８２４号明細書の段落０１１２〜０１１８）に開示の共重合成分の記載を参酌でき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。また、上述した（Ａ３−１）〜（Ａ３−７）で表される構成単位を有することもできる。ポリマータイプの化合物としては、例えば、以下に示すポリマーが挙げられる。
【化２３】
2017126528.tif 000025
【０１２５】
＜＜＜架橋性基を有さないポリマー＞＞＞
本発明の近赤外線吸収組成物は、硬化性化合物として、架橋性基を有さないポリマーを含むことができる。架橋性基を有さないポリマーの重量平均分子量（Ｍｗ）は、２,０００〜２,０００,０００が好ましい。上限は、１,０００,０００以下が好ましく、５００,０００以下がより好ましい。下限は、３,０００以上が好ましく、５,０００以上がより好ましい。
【０１２６】
架橋性基を有さないポリマーとしては、（メタ）アクリル樹脂、エン・チオール樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリフェニレン樹脂、ポリアリーレンエーテルフォスフィンオキシド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリオレフィン樹脂、環状オレフィン樹脂、ポリエステル樹脂が挙げられる。これらの樹脂から１種を単独で使用してもよく、２種以上を混合して使用してもよい。また、上述した（Ａ３−１）〜（Ａ３−７）で表される構成単位を有するポリマーも挙げられる。
【０１２７】
（メタ）アクリル樹脂としては、（メタ）アクリル酸および／またはそのエステルに由来する構成単位を含む重合体が挙げられる。具体的には、（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリル酸エステル類、（メタ）アクリルアミドおよび（メタ）アクリロニトリルから選ばれる少なくとも１種を重合して得られる重合体が挙げられる。
【０１２８】
ポリエステル樹脂としては、ポリオール（例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、グリセリン、トリメチロールプロパン）と、多塩基酸（例えば、テレフタル酸、イソフタル酸、ナフタレンジカルボン酸等の芳香族ジカルボン酸及びこれらの芳香環の水素原子がメチル基、エチル基、フェニル基等で置換された芳香族ジカルボン酸、アジピン酸、セバシン酸、ドデカンジカルボン酸等の炭素数２〜２０の脂肪族ジカルボン酸、及びシクロヘキサンジカルボン酸などの脂環式ジカルボン酸など）との反応により得られるポリマーや、カプロラクトンモノマー等の環状エステル化合物の開環重合により得られるポリマー（例えばポリカプロラクトン）が挙げられる。
【０１２９】
架橋性基を有さないポリマーは、上述した（Ａ３−１）〜（Ａ３−７）で表される構成単位を有するポリマーを用いることも好ましい。架橋性基を有さないポリマーは、酸基を有していてもよい。酸基としては、例えば、カルボキシ基、リン酸基、スルホン酸基、フェノール性ヒドロキシ基などが挙げられる。これら酸基は、１種のみであってもよいし、２種以上であってもよい。酸基を有する樹脂としては、特開２０１５−０４３０６３号公報の段落０１８０〜０２０２に記載のアルカリ可溶性樹脂が挙げられ、この内容は本明細書に組み込まれる。酸基を有する樹脂の酸価は、３０〜２００ｍｇＫＯＨ／ｇが好ましい。下限は、５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上が好ましく、７０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上がより好ましい。上限は、１５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下が好ましく、１２０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下がより好ましい。酸基を有する樹脂の酸価は、３０〜２００ｍｇＫＯＨ／ｇが好ましい。下限は、５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上が好ましく、７０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上がより好ましい。上限は、１５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下が好ましく、１２０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下がより好ましい。
【０１３０】
硬化性化合物の含有量は、組成物の全固形分に対して、１質量％以上が好ましく、５質量％以上が好ましく、１０質量％以上がより好ましく、１５質量％以上がさらに好ましい。上限は、９０質量％以下が好ましく、８０質量％以下がより好ましく、７５質量％以下がさらに好ましい。
また、架橋性化合物と非架橋性ポリマーとを併用する場合、非架橋性ポリマーの含有量は、架橋性化合物の１００質量部に対して、２０〜４００質量部が好ましく、１００〜３００質量部がより好ましい。
硬化性化合物は、１種類のみでもよく、２種類以上でもよい。２種類以上の場合は、合計量が上記範囲となることが好ましい。
【０１３１】
＜＜溶剤＞＞
本発明の近赤外線吸収組成物は、溶剤を含有することができる。溶剤は、特に制限はなく、近赤外線吸収組成物の各成分を均一に溶解或いは分散しうるものであれば、目的に応じて適宜選択することができる。例えば、水、有機溶剤を用いることができ、有機溶剤が好ましい。
【０１３２】
有機溶剤としては、例えば、アルコール類（例えばメタノール）、ケトン類、エステル類、芳香族炭化水素類、ハロゲン化炭化水素類、およびジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホオキサイド、スルホラン等が好適に挙げられる。アルコール類、芳香族炭化水素類、ハロゲン化炭化水素類の具体例としては、特開２０１２−１９４５３４号公報の段落０１３６等に記載のものが挙げられ、この内容は本明細書に組み込まれる。また、エステル類、ケトン類、エーテル類の具体例としては、特開２０１２−２０８４９４号公報の段落０４９７（対応する米国特許出願公開第２０１２／０２３５０９９号明細書の段落０６０９）に記載のものが挙げられる。
また、エステル類として、例えば、酢酸エチル、酢酸−ｎ−ブチル、酢酸イソブチル、酢酸シクロヘキシル、ギ酸アミル、酢酸イソアミル、プロピオン酸ブチル、酪酸イソプロピル、酪酸エチル、酪酸ブチル、乳酸メチル、乳酸エチル、アルキルオキシ酢酸アルキル（例えば、アルキルオキシ酢酸メチル、アルキルオキシ酢酸エチル、アルキルオキシ酢酸ブチル（例えば、メトキシ酢酸メチル、メトキシ酢酸エチル、メトキシ酢酸ブチル、エトキシ酢酸メチル、エトキシ酢酸エチル等））、３−アルキルオキシプロピオン酸アルキルエステル類（例えば、３−アルキルオキシプロピオン酸メチル、３−アルキルオキシプロピオン酸エチル等（例えば、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル等））、２−アルキルオキシプロピオン酸アルキルエステル類（例えば、２−アルキルオキシプロピオン酸メチル、２−アルキルオキシプロピオン酸エチル、２−アルキルオキシプロピオン酸プロピル等（例えば、２−メトキシプロピオン酸メチル、２−メトキシプロピオン酸エチル、２−メトキシプロピオン酸プロピル、２−エトキシプロピオン酸メチル、２−エトキシプロピオン酸エチル））、２−アルキルオキシ−２−メチルプロピオン酸メチル及び２−アルキルオキシ−２−メチルプロピオン酸エチル（例えば、２−メトキシ−２−メチルプロピオン酸メチル、２−エトキシ−２−メチルプロピオン酸エチル等）、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、ピルビン酸プロピル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、２−オキソブタン酸メチル、２−オキソブタン酸エチル等が挙げられる。
エーテル類として、例えば、ジエチレングリコールジメチルエーテル、テトラヒドロフラン、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノプロピルエーテルアセテート等が挙げられる。
ケトン類として、例えば、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、２−ヘプタノン、３−ヘプタノン等が挙げられる。
芳香族炭化水素類として、例えば、トルエン、キシレン等が挙げられる。
溶剤は、１−メトキシ−２−プロパノール、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、酢酸ブチル、乳酸エチルおよびプロピレングリコールモノメチルエーテルから選択される少なくとも１種以上が好ましい。
溶剤は、１種単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【０１３３】
本発明において、金属含有量の少ない有機溶剤を用いることもできる。有機溶剤の金属含有量は、例えば１０ｐｐｂ以下であることが好ましい。必要に応じてｐｐｔレベルの溶剤を用いてもよく、そのような高純度溶剤は例えば東洋合成社が提供している。
【０１３４】
有機溶剤から金属等の不純物を除去する方法としては、例えば、蒸留(分子蒸留や薄膜蒸留等)やフィルタを用いた濾過を挙げることができる。フィルタを用いたろ過におけるフィルタ孔径としては、ポアサイズ１０ｎｍ以下が好ましく、５ｎｍ以下がより好ましく、３ｎｍ以下が更に好ましい。フィルタの材質としては、ポリテトラフロロエチレン製、ポリエチレン製、ナイロン製のフィルタが好ましい。
【０１３５】
有機溶剤は、異性体（同じ原子数で異なる構造の化合物）が含まれていてもよい。また、異性体は、１種のみが含まれていてもよいし、複数種含まれていてもよい。
【０１３６】
近赤外線吸収組成物中における溶剤の量は、固形分が１０〜９０質量％となる量が好ましい。下限は、１５質量％以上が好ましく、２０質量％以上がより好ましい。上限は、８０質量％以下が好ましく、７０質量％以下がより好ましい。溶剤は１種類のみでも、２種類以上でもよく、２種類以上の場合は、合計量が上記範囲となることが好ましい。
【０１３７】
＜＜重合開始剤＞＞
本発明の近赤外線吸収組成物は、更に、重合開始剤を含んでもよい。重合開始剤としては、光、熱のいずれか或いはその双方により架橋性化合物の重合を開始する能力を有する限り、特に制限はないが、光重合開始剤が好ましい。光で重合を開始させる場合、紫外線領域から可視領域の光線に対して感光性を有するものが好ましい。また、熱で重合を開始させる場合には、１５０〜２５０℃で分解する重合開始剤が好ましい。
【０１３８】
重合開始剤としては、芳香族基を有する化合物が好ましい。例えば、アシルホスフィン化合物、アセトフェノン化合物、α−アミノケトン化合物、ベンゾフェノン化合物、ベンゾインエーテル化合物、ケタール化合物、チオキサントン化合物、オキシム化合物、ヘキサアリールビイミダゾール化合物、トリハロメチル化合物、アゾ化合物、有機過酸化物、ジアゾニウム化合物、ヨードニウム化合物、スルホニウム化合物、アジニウム化合物、メタロセン化合物等のオニウム塩化合物、有機硼素塩化合物、ジスルホン化合物、チオール化合物などが挙げられる。
重合開始剤は、特開２０１３−２５３２２４号公報の段落０２１７〜０２２８の記載を参酌することができ、この内容は本明細書に組み込まれる。
【０１３９】
重合開始剤は、オキシム化合物、アセトフェノン化合物またはアシルホスフィン化合物が好ましい。アセトフェノン化合物の市販品としては、ＩＲＧＡＣＵＲＥ−９０７、ＩＲＧＡＣＵＲＥ−３６９、ＩＲＧＡＣＵＲＥ−３７９（商品名：いずれもＢＡＳＦ社製）等を用いることができる。アシルホスフィン化合物の市販品としては、ＩＲＧＡＣＵＲＥ−８１９、ＤＡＲＯＣＵＲ−ＴＰＯ（商品名：いずれもＢＡＳＦ社製）等を用いることができる。
重合開始剤の含有量は、近赤外線吸収組成物の全固形分に対して、０．０１〜３０質量％が好ましい。下限は、０．１質量％以上が好ましい。上限は、２０質量％以下が好ましく、１５質量％以下がより好ましい。重合開始剤は１種類のみでも、２種類以上でもよく、２種類以上の場合は、合計量が上記範囲となることが好ましい。
【０１４０】
＜＜硬化促進剤＞＞
本発明の近赤外線吸収組成物は、硬化促進剤を含んでもよい。硬化促進剤としては、有機金属系触媒、酸系触媒、アミン系触媒などが挙げられ、有機金属系触媒が好ましい。
酸系触媒としては、塩酸、硝酸、トリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸、硫酸、リン酸、メタンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸、シュウ酸、酢酸などが挙げられる。
有機金属系触媒は、Ｎａ、Ｋ、Ｃａ、Ｍｇ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ａｌ、Ｚｎ、Ｓｎ、及びＢｉからなる群より選択される少なくとも１つの金属原子を含む、酸化物、硫化物、ハロゲン化物、炭酸塩、カルボン酸塩、スルホン酸塩、リン酸塩、硝酸塩、硫酸塩、アルコキシド、水酸化物、及び置換基を有していてもよいアセチルアセトナート錯体からなる群より選択される少なくとも１種であることが好ましい。なかでも、上記金属の、ハロゲン化物、カルボン酸塩、硝酸塩、硫酸塩、水酸化物、及び置換基を有していてもよいアセチルアセトナート錯体からなる群より選択される少なくとも１種であることが好ましく、アセチルアセトナート錯体が更に好ましい。特に、Ａｌのアセチルアセトナート錯体が好ましい。有機金属系触媒の具体例としては、例えば、トリス（２，４−ペンタンジオナト）アルミニウム（ＩＩＩ）などが挙げられる。
【０１４１】
本発明の近赤外線吸収組成物が、硬化促進剤を含有する場合、硬化促進剤の含有量は、近赤外線吸収組成物の全固形分に対して０．０１〜５質量％が好ましい。上限は、３質量％以下が好ましく、１質量％以下が更に好ましい。下限は、０．０５質量％以上が好ましい。
【０１４２】
＜＜熱安定性付与剤＞＞
本発明の近赤外線吸収組成物は、熱安定性付与剤を含有することもできる。熱安定性付与剤としてはオキシム化合物が挙げられる。
オキシム化合物の市販品としては、ＩＲＧＡＣＵＲＥ−ＯＸＥ０１、ＩＲＧＡＣＵＲＥ−ＯＸＥ０２、ＩＲＧＡＣＵＲＥ−ＯＸＥ０３、ＩＲＧＡＣＵＲＥ−ＯＸＥ０４（以上、ＢＡＳＦ社製）、ＴＲ−ＰＢＧ−３０４（常州強力電子新材料有限公司製）、アデカアークルズＮＣＩ−８３１（ＡＤＥＫＡ社製）、アデカアークルズＮＣＩ−９３０（ＡＤＥＫＡ社製）等を用いることができる。
本発明においては、オキシム化合物として、フッ素原子を有するオキシム化合物を用いることもできる。フッ素原子を有するオキシム化合物の具体例としては、特開２０１０−２６２０２８号公報に記載の化合物、特表２０１４−５００８５２号公報に記載の化合物２４、３６〜４０、特開２０１３−１６４４７１号公報に記載の化合物（Ｃ−３）などが挙げられる。これらの内容は本明細書に組み込まれる。
本発明においては、オキシム化合物として、ニトロ基を有するオキシム化合物を用いることができる。ニトロ基を有するオキシム化合物は、二量体とすることも好ましい。ニトロ基を有するオキシム化合物の具体例としては、特開２０１３−１１４２４９号公報の段落００３１〜００４７、特開２０１４−１３７４６６号公報の段落０００８〜００１２、００７０〜００７９に記載されている化合物、特許４２２３０７１号公報の段落０００７〜００２５に記載されている化合物、アデカアークルズＮＣＩ−８３１（ＡＤＥＫＡ社製）が挙げられる。
本発明においては、オキシム化合物として、ベンゾフラン骨格を有するオキシム化合物を用いることもできる。具体例としては、国際公開ＷＯ２０１５／０３６９１０号公報に記載されている化合物ＯＥ−０１〜ＯＥ−７５が挙げられる。
熱安定性付与剤の含有量は、近赤外線吸収組成物の全固形分に対して、０．０１〜３０質量％が好ましい。下限は、０．１質量％以上が好ましい。上限は、２０質量％以下が好ましく、１０質量％以下がより好ましい。
【０１４３】
＜＜界面活性剤＞＞
本発明の近赤外線吸収組成物は、界面活性剤を含んでもよい。界面活性剤は、１種のみを用いてもよいし、２種類以上を組み合わせてもよい。界面活性剤の含有量は、近赤外線吸収組成物の全固形分に対して、０．０００１〜５質量％が好ましい。下限は、０．００５質量％以上が好ましく、０．０１質量％以上がより好ましい。上限は、２質量％以下が好ましく、１質量％以下がより好ましい。
【０１４４】
界面活性剤としては、フッ素系界面活性剤、ノニオン系界面活性剤、カチオン系界面活性剤、アニオン系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤などの各種界面活性剤を使用できる。近赤外線吸収組成物は、フッ素系界面活性剤およびシリコーン系界面活性剤の少なくとも一方を含有することが好ましい。被塗布面と塗布液との界面張力が低下して、被塗布面への濡れ性が改善される。このため、組成物の液特性（特に、流動性）が向上し、塗布厚の均一性や省液性がより改善する。その結果、少量の液量で数μｍ程度の薄膜を形成した場合であっても、厚みムラの小さい均一厚の膜形成を行える。
【０１４５】
フッ素系界面活性剤のフッ素含有率は、３〜４０質量％が好ましい。下限は、５質量％以上が好ましく、７質量％以上が更に好ましい。上限は、３０質量％以下が好ましく、２５質量％以下が更に好ましい。フッ素含有率が上述した範囲内である場合は、塗布膜の厚さの均一性や省液性の点で効果的であり、溶解性も良好である。
フッ素系界面活性剤として具体的には、特開２０１４−４１３１８号公報の段落００６０〜００６４（対応する国際公開ＷＯ２０１４／１７６６９号公報の段落００６０〜００６４）等に記載の界面活性剤、特開２０１１−１３２５０３号公報の段落０１１７〜０１３２に記載の界面活性剤が挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。フッ素系界面活性剤の市販品としては、例えば、メガファックＦ−１７１、同Ｆ−１７２、同Ｆ−１７３、同Ｆ−１７６、同Ｆ−１７７、同Ｆ−１４１、同Ｆ−１４２、同Ｆ−１４３、同Ｆ−１４４、同Ｒ３０、同Ｆ−４３７、同Ｆ−４７５、同Ｆ−４７９、同Ｆ−４８２、同Ｆ−５５４、同Ｆ−７８０（以上、ＤＩＣ社製）、フロラードＦＣ４３０、同ＦＣ４３１、同ＦＣ１７１（以上、住友スリーエム社製）、サーフロンＳ−３８２、同ＳＣ−１０１、同ＳＣ−１０３、同ＳＣ−１０４、同ＳＣ−１０５、同ＳＣ１０６８、同ＳＣ−３８１、同ＳＣ−３８３、同Ｓ３９３、同ＫＨ−４０（以上、旭硝子社製）、ＰｏｌｙＦｏｘ  ＰＦ−７００２（オムノバ社製）等が挙げられる。フッ素系界面活性剤は、特開２０１５−１１７３２７号公報の段落００１５〜０１５８に記載の化合物を用いることもできる。フッ素系界面活性剤としてブロックポリマーを用いることもでき、具体例としては、例えば特開２０１１−８９０９０号公報に記載された化合物が挙げられる。
フッ素系界面活性剤は、フッ素原子を有する（メタ）アクリレート化合物に由来する繰り返し単位と、アルキレンオキシ基（好ましくはエチレンオキシ基、プロピレンオキシ基）を２以上（好ましくは５以上）有する（メタ）アクリレート化合物に由来する繰り返し単位と、を含む含フッ素高分子化合物も好ましく用いることができ、下記化合物も本発明で用いられるフッ素系界面活性剤として例示される。
【化２４】
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上記の化合物の重量平均分子量は、好ましくは３，０００〜５０，０００であり、例えば、１４，０００である。
また、エチレン性不飽和基を側鎖に有する含フッ素重合体をフッ素系界面活性剤として用いることもできる。具体例としては、特開２０１０−１６４９６５号公報の段落００５０〜００９０および段落０２８９〜０２９５に記載された化合物、例えばＤＩＣ社製のメガファックＲＳ−１０１、ＲＳ−１０２、ＲＳ−７１８Ｋ、ＲＳ−７２Ｋ等が挙げられる。
また、フッ素系界面活性剤としては、フッ素原子を含有する官能基を持つ分子構造を有し、熱を加えるとフッ素原子を含有する官能基の部分が切断されてフッ素原子が揮発するアクリル系化合物も好適に使用できる。このようなフッ素系界面活性剤としては、ＤＩＣ社製のメガファックＤＳシリーズ（化学工業日報、２０１６年２月２２日および日経産業新聞、２０１６年２月２３日）、例えばメガファックＤＳ−２１が挙げられ、これらを用いることができる。
【０１４６】
ノニオン系界面活性剤として具体的には、特開２０１２−２０８４９４号公報の段落０５５３（対応する米国特許出願公開第２０１２／０２３５０９９号明細書の段落０６７９）等に記載のノニオン系界面活性剤が挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。
カチオン系界面活性剤として具体的には、特開２０１２−２０８４９４号公報の段落０５５４（対応する米国特許出願公開第２０１２／０２３５０９９号明細書の段落０６８０）に記載のカチオン系界面活性剤が挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。
アニオン系界面活性剤として具体的には、Ｗ００４、Ｗ００５、Ｗ０１７（裕商社製）等が挙げられる。
シリコーン系界面活性剤としては、例えば、特開２０１２−２０８４９４号公報の段落０５５６（対応する米国特許出願公開第２０１２／０２３５０９９号明細書の段落０６８２）等に記載のシリコーン系界面活性剤が挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。
【０１４７】
＜＜重合禁止剤＞＞
本発明の近赤外線吸収組成物は、重合禁止剤を含有してもよい。重合禁止剤としては、ハイドロキノン、ｐ−メトキシフェノール、ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ピロガロール、ｔｅｒｔ−ブチルカテコール、ベンゾキノン、４，４’−チオビス（３−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、Ｎ−ニトロソフェニルヒドロキシアミン第一セリウム塩等が挙げられ、ｐ−メトキシフェノールが好ましい。重合禁止剤の含有量は、近赤外線吸収組成物の全固形分に対して、０．０１〜５質量％が好ましい。
【０１４８】
＜＜紫外線吸収剤＞＞
本発明の近赤外線吸収組成物は、紫外線吸収剤を含有してもよい。紫外線吸収剤は、公知の化合物を用いることができる。市販品としては、例えば、ＵＶ５０３（大東化学社製）などが挙げられる。紫外線吸収剤の含有量は、近赤外線吸収組成物の全固形分に対して、０．０１〜１０質量％であることが好ましく、０．０１〜５質量％であることがより好ましい。
【０１４９】
＜＜酸化防止剤＞＞
本発明の近赤外線吸収組成物は、酸化防止剤を含有してもよい。酸化防止剤としては、フェノール化合物、亜リン酸エステル化合物、チオエーテル化合物などが挙げられる。分子量５００以上のフェノール化合物、分子量５００以上の亜リン酸エステル化合物又は分子量５００以上のチオエーテル化合物がより好ましい。これらは２種以上を混合して使用してもよい。フェノール化合物としては、フェノール系酸化防止剤として知られる任意のフェノール化合物を使用することができる。好ましいフェノール化合物としては、ヒンダードフェノール化合物が挙げられる。特に、フェノール性水酸基に隣接する部位（オルト位）に置換基を有する化合物が好ましい。前述の置換基としては炭素数１〜２２の置換又は無置換のアルキル基が好ましく、メチル基、エチル基、プロピオニル基、イソプロピオニル基、ブチル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基、ペンチル基、イソペンチル基、ｔ−ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、イソオクチル基、２−エチルへキシル基がより好ましい。また、同一分子内にフェノール基と亜リン酸エステル基を有する化合物（酸化防止剤）も好ましい。
【０１５０】
また、酸化防止剤は、リン系酸化防止剤も好適に使用することができる。リン系酸化防止剤としてはトリス［２−［［２，４，８，１０−テトラキス（１，１−ジメチルエチル）ジベンゾ［ｄ，ｆ］［１，３，２］ジオキサホスフェピン−６−イル］オキシ］エチル］アミン、トリス［２−［（４，６，９，１１−テトラ−ｔｅｒｔ−ブチルジベンゾ［ｄ，ｆ］［１，３，２］ジオキサホスフェピン−２−イル）オキシ］エチル］アミン、および亜リン酸エチルビス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−６−メチルフェニル）からなる群から選ばれる少なくとも１種の化合物が挙げられる。
【０１５１】
これらは、市販品として容易に入手可能であり、アデカスタブＡＯ−２０、アデカスタブＡＯ−３０、アデカスタブ  ＡＯ−４０、アデカスタブＡＯ−５０、アデカスタブＡＯ−５０Ｆ、アデカスタブ  ＡＯ−６０、アデカスタブＡＯ−６０Ｇ、アデカスタブＡＯ−８０、アデカスタブＡＯ−３３０（ＡＤＥＫＡ社製）などが挙げられる。
【０１５２】
酸化防止剤の含有量は、近赤外線吸収組成物の全固形分に対して、０．０１〜２０質量％であることが好ましく、０．３〜１５質量％であることがより好ましい。酸化防止剤は、１種類のみでもよく、２種類以上でもよい。２種類以上の場合は、合計量が上記範囲となることが好ましい。
【０１５３】
＜＜その他の成分＞＞
本発明の近赤外線吸収組成物で併用可能なその他の成分としては、例えば、分散剤、増感剤、フィラー、熱重合禁止剤、可塑剤などが挙げられ、更に基材表面への密着促進剤及びその他の助剤類（例えば、導電性粒子、充填剤、消泡剤、難燃剤、レベリング剤、剥離促進剤、酸化防止剤、香料、表面張力調整剤、連鎖移動剤など）を併用してもよい。これらの成分を適宜含有させることにより、目的とする近赤外線カットフィルタの安定性、膜物性などの性質を調整することができる。これらの成分は、例えば、特開２０１２−００３２２５号公報の段落０１８３（対応する米国特許出願公開第２０１３／００３４８１２号明細書の段落０２３７）の記載、特開２００８−２５００７４号公報の段落０１０１〜０１０４、０１０７〜０１０９等の記載を参酌でき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。
【０１５４】
＜近赤外線吸収組成物の調製、用途＞
本発明の近赤外線吸収組成物は、上記各成分を混合して調製できる。
組成物の調製に際しては、組成物を構成する各成分を一括配合してもよいし、各成分を溶剤に溶解および／または分散した後に逐次配合してもよい。また、配合する際の投入順序や作業条件は特に制約を受けない。
本発明においては、異物の除去や欠陥の低減などの目的で、フィルタでろ過することが好ましい。フィルタとしては、従来からろ過用途等に用いられているものであれば特に限定されることなく用いることができる。例えば、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）等のフッ素樹脂、ナイロン（例えばナイロン−６、ナイロン−６，６）等のポリアミド系樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン（ＰＰ）等のポリオレフィン樹脂（高密度、超高分子量のポリオレフィン樹脂を含む）等の素材を用いたフィルタが挙げられる。これら素材の中でもポリプロピレン（高密度ポリプロピレンを含む）およびナイロンが好ましい。
フィルタの孔径は、０．０１〜７．０μｍ程度が適しており、好ましくは０．０１〜３．０μｍ程度、さらに好ましくは０．０５〜０．５μｍ程度である。この範囲とすることにより、微細な異物を確実に除去することが可能となる。また、ファイバ状のろ材を用いることも好ましく、ろ材としては例えばポリプロピレンファイバ、ナイロンファイバ、グラスファイバ等が挙げられ、具体的にはロキテクノ社製のＳＢＰタイプシリーズ（ＳＢＰ００８など）、ＴＰＲタイプシリーズ（ＴＰＲ００２、ＴＰＲ００５など）、ＳＨＰＸタイプシリーズ（ＳＨＰＸ００３など）のフィルタカートリッジを用いることができる。
【０１５５】
フィルタを使用する際、異なるフィルタを組み合わせてもよい。その際、第１のフィルタでのフィルタリングは、１回のみでもよいし、２回以上行ってもよい。
また、上述した範囲内で異なる孔径の第１のフィルタを組み合わせてもよい。ここでの孔径は、フィルタメーカーの公称値を参照することができる。市販のフィルタとしては、例えば、日本ポール株式会社、アドバンテック東洋株式会社、日本インテグリス株式会社（旧日本マイクロリス株式会社）又は株式会社キッツマイクロフィルタ等が提供する各種フィルタの中から選択することができる。
第２のフィルタは、上述した第１のフィルタと同様の材料等で形成されたものを使用することができる。第２のフィルタの孔径は、０．２〜１０．０μｍが好ましく、０．２〜７．０μｍがより好ましく、０．３〜６．０μｍが更に好ましい。この範囲とすることにより、組成物に含有されている成分粒子を残存させたまま、異物を除去することができる。
【０１５６】
本発明の近赤外線吸収組成物は、液状とすることができるため、例えば、本発明の近赤外線吸収組成物を基材などに適用し、乾燥させることにより近赤外線カットフィルタを容易に製造できる。
本発明の近赤外線吸収組成物の粘度は、塗布により近赤外線カットフィルタを形成する場合は、１〜３０００ｍＰａ・ｓであることが好ましい。下限は、１０ｍＰａ・ｓ以上が好ましく、１００ｍＰａ・ｓ以上が更に好ましい。上限は、２０００ｍＰａ・ｓ以下が好ましく、１５００ｍＰａ・ｓ以下が更に好ましい。
本発明の近赤外線吸収組成物の全固形分は、塗布方法により変更されるが、例えば、１〜７０質量％であることが好ましい。下限は１０質量％以上がより好ましい。上限は６０質量％以下がより好ましい。
【０１５７】
本発明の近赤外線吸収組成物の用途は、特に限定されないが、近赤外線カットフィルタ等の形成に好ましく用いることができる。例えば、固体撮像素子の受光側における近赤外線カットフィルタ（例えば、ウエハーレベルレンズに対する近赤外線カットフィルタ用など）、固体撮像素子の裏面側（受光側とは反対側）における近赤外線カットフィルタなどに好ましく用いることができる。特に、固体撮像素子の受光側における近赤外線カットフィルタとして好ましく用いることができる。
また、本発明の近赤外線吸収組成物によれば、耐熱性が高く、可視領域では高い透過率を維持しつつ、高い近赤外遮蔽性を実現できる近赤外線カットフィルタが得られる。さらには、近赤外線カットフィルタの膜厚を薄くでき、カメラモジュール、画像表示装置、赤外線センサなどの低背化に寄与できる。
【０１５８】
＜近赤外線カットフィルタ＞
次に、本発明の近赤外線カットフィルタについて説明する。
本発明の近赤外線カットフィルタは、上述した本発明の近赤外線吸収組成物を用いてなるものである。
本発明の近赤外線カットフィルタは、光透過率が以下の（１）〜（９）のうちの少なくとも１つの条件を満たすことが好ましく、以下の（１）〜（８）のすべての条件を満たすことがより好ましく、（１）〜（９）のすべての条件を満たすことがさらに好ましい。
（１）波長４００ｎｍでの光透過率は８０％以上が好ましく、９０％以上がより好ましく、９２％以上がさらに好ましく、９５％以上が特に好ましい。
（２）波長４５０ｎｍでの光透過率は８０％以上が好ましく、９０％以上がより好ましく、９２％以上がさらに好ましく、９５％以上が特に好ましい。
（３）波長５００ｎｍでの光透過率は８０％以上が好ましく、９０％以上がより好ましく、９２％以上がさらに好ましく、９５％以上が特に好ましい。
（４）波長５５０ｎｍでの光透過率は８０％以上が好ましく、９０％以上がより好ましく、９２％以上がさらに好ましく、９５％以上が特に好ましい。
（５）波長７００ｎｍでの光透過率は２０％以下が好ましく、１５％以下がより好ましく、１０％以下がさらに好ましく、５％以下が特に好ましい。
（６）波長７５０ｎｍでの光透過率は２０％以下が好ましく、１５％以下がより好ましく、１０％以下がさらに好ましく、５％以下が特に好ましい。
（７）波長８００ｎｍでの光透過率は２０％以下が好ましく、１５％以下がより好ましく、１０％以下がさらに好ましく、５％以下が特に好ましい。
（８）波長８５０ｎｍでの光透過率は２０％以下が好ましく、１５％以下がより好ましく、１０％以下がさらに好ましく、５％以下が特に好ましい。
（９）波長９００ｎｍでの光透過率は２０％以下が好ましく、１５％以下がより好ましく、１０％以下がさらに好ましく、５％以下が特に好ましい。
【０１５９】
近赤外線カットフィルタは、波長４００〜５５０ｎｍの全ての範囲での光透過率が８５％以上であることが好ましく、９０％以上であることがより好ましく、９５％以上であることが更に好ましい。可視領域での透過率は高いほど好ましく、波長４００〜５５０ｎｍで高透過率となることが好ましい。また、波長７００〜８００ｎｍの範囲の少なくとも１点での光透過率が２０％以下であることが好ましく、波長７００〜８００ｎｍの全ての範囲での光透過率が２０％以下であることがさらに好ましい。
近赤外線カットフィルタの膜厚は、目的に応じて適宜選択することができる。例えば、５００μｍ以下が好ましく、３００μｍ以下がより好ましく、２５０μｍ以下がさらに好ましく、２００μｍ以下が特に好ましい。膜厚の下限は、例えば、０．１μｍ以上が好ましく、０．２μｍ以上がより好ましく、０．５μｍ以上がより好ましい。
【０１６０】
本発明の近赤外線カットフィルタは、本発明の近赤外線吸収組成物を用いて得られた膜の他に、更に、誘電体多層膜や、紫外線吸収層を有していてもよい。本発明の近赤外線カットフィルタが、更に誘電体多層膜を有することで、視野角が広く、近赤外遮蔽性に優れた近赤外線カットフィルタが得られ易い。また、本発明の近赤外線カットフィルタが、更に、紫外線吸収層を有することで、紫外線遮蔽性に優れた近赤外線カットフィルタとすることができる。紫外線吸収層としては、例えば、国際公開ＷＯ２０１５／０９９０６０号公報の段落００４０〜００７０、０１１９〜０１４５に記載の吸収層を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。
【０１６１】
誘電体多層膜の材料としては、例えばセラミックを用いることができる。光の干渉の効果を利用した赤外線カットフィルタを形成するためには、屈折率の異なるセラミックを２種以上用いることが好ましい。誘電体多層膜としては具体的には、高屈折率材料層と低屈折率材料層とを交互に積層した構成を好適に用いることができる。
【０１６２】
高屈折率材料層を構成する材料としては、屈折率が１．７以上の材料を用いることができ、屈折率の範囲が通常は１．７〜２．５の材料が選択される。この材料としては、例えば、酸化チタン、酸化ジルコニウム、五酸化タンタル、五酸化ニオブ、酸化ランタン、酸化イットリウム、酸化亜鉛、硫化亜鉛または酸化インジウムを主成分とし酸化チタン、酸化錫および／または酸化セリウムなどを少量含有させたものが挙げられる。
【０１６３】
低屈折率材料層を構成する材料としては、屈折率が１．６以下の材料を用いることができ、屈折率の範囲が通常は１．２〜１．６の材料が選択される。この材料としては、例えば、シリカ、アルミナ、フッ化ランタン、フッ化マグネシウムおよび六フッ化アルミニウムナトリウムが挙げられる。
【０１６４】
誘電体多層膜を形成する方法としては、特に制限はないが、例えば、ＣＶＤ（ｃｈｅｍｉｃａｌ  ｖａｐｏｒ  ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）法、スパッタ法、真空蒸着法などにより、高屈折率材料層と低屈折率材料層とを交互に積層した誘電体多層膜を形成し、これを、銅を含有する透明層および／または赤外線吸収層と接着剤で貼り合わせる方法、
銅を含有する透明層および／または赤外線吸収層の表面に、ＣＶＤ法、スパッタ法、真空蒸着法などにより、高屈折率材料層と低屈折率材料層とを交互に積層して誘電体多層膜を形成する方法を挙げることができる。
【０１６５】
高屈折率材料層および低屈折率材料層の各層の厚みは、遮蔽しようとする赤外線波長λ（ｎｍ）の０．１λ〜０．５λの厚みであることが好ましい。厚みを上記範囲とすることにより、特定波長の遮蔽や透過をコントロールしやすい。
【０１６６】
また、誘電体多層膜における積層数は、２〜１００層が好ましく、２〜６０層がより好ましく、２〜４０層が更に好ましい。誘電体多層膜を蒸着した際に基板に反りが生じてしまう場合には、これを解消するために、基板両面へ誘電体多層膜を蒸着する、基板の誘電体多層膜を蒸着した面に紫外線等の放射線を照射する等の方法をとる事ができる。なお、放射線を照射する場合、誘電体多層膜の蒸着を行いながら照射してもよいし、蒸着後別途照射してもよい。
【０１６７】
誘電体多層膜としては、特開２０１４−４１３１８号公報の段落０２５５〜０２５９、特開２０１１−１０００８４号公報の段落００９７〜０１０８の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。
【０１６８】
本発明の近赤外線カットフィルタは、ＣＣＤ（電荷結合素子）やＣＭＯＳ（相補型金属酸化膜半導体）素子などの固体撮像素子や、赤外線センサ、画像表示装置などの各種装置に用いることができる。また、本発明の近赤外線カットフィルタは、近赤外線を吸収・カットする機能を有するレンズ（デジタルカメラや携帯電話や車載カメラ等のカメラ用レンズ、ｆ−θレンズ、ピックアップレンズ等の光学レンズ）および半導体受光素子用の光学フィルタ、省エネルギー用に熱線を遮蔽する近赤外線吸収フィルムや近赤外線吸収板、太陽光の選択的な利用を目的とする農業用コーティング剤、近赤外線の吸収熱を利用する記録媒体、電子機器用や写真用近赤外線フィルタ、保護めがね、サングラス、熱線遮蔽フィルタ、光学文字読み取り記録、機密文書複写防止用、電子写真感光体、レーザー溶着などに用いられる。またＣＣＤカメラ用ノイズカットフィルター、ＣＭＯＳイメージセンサ用フィルタとしても有用である。
【０１６９】
＜近赤外線カットフィルタの製造方法＞
本発明の近赤外線カットフィルタは、本発明の近赤外線吸収組成物を用いて製造できる。
また、本発明の近赤外線カットフィルタの製造方法は、本発明の近赤外線吸収組成物を用いて、近赤外線吸収組成物層を形成する工程を含む。更に、近赤外線吸収組成物層を硬化する工程を含むことが好ましい。本発明の近赤外線カットフィルタの製造方法は、更にパターンを形成する工程を行ってもよい。
また、支持体上に、本発明の近赤外線吸収組成物からなる膜を形成した材料を、近赤外線カットフィルタとして用いてもよく、支持体から前述の膜を剥離して、支持体から剥離した前述の膜（単独膜）を近赤外線カットフィルタとして用いてもよい。
【０１７０】
近赤外線吸収組成物層を形成する工程において、近赤外線吸収組成物の適用方法としては、公知の方法を用いることができる。例えば、滴下法（ドロップキャスト）；スリットコート法；スプレー法；ロールコート法；回転塗布法（スピンコーティング）；流延塗布法；スリットアンドスピン法；プリウェット法（たとえば、特開２００９−１４５３９５号公報に記載されている方法）；インクジェット（例えばオンデマンド方式、ピエゾ方式、サーマル方式）、ノズルジェット等の吐出系印刷、フレキソ印刷、スクリーン印刷、グラビア印刷、反転オフセット印刷、メタルマスク印刷法などの各種印刷法；金型等を用いた転写法；ナノインプリント法などが挙げられる。インクジェットによる適用方法としては、近赤外線吸収組成物を吐出可能であれば特に限定されず、例えば「広がる・使えるインクジェット−特許に見る無限の可能性−、２００５年２月発行、住べテクノリサーチ」に示された特許公報に記載の方法（特に１１５ページ〜１３３ページ）や、特開２００３−２６２７１６公報、特開２００３−１８５８３１、特開２００３−２６１８２７公報、特開２０１２−１２６８３０公報、特開２００６−１６９３２５公報などにおいて、吐出する組成物を本発明の近赤外線吸収組成物に置き換える方法が挙げられる。
【０１７１】
滴下法（ドロップキャスト）の場合、所定の膜厚で、均一な膜が得られるように、支持体上にフォトレジストを隔壁とする近赤外線吸収組成物の滴下領域を形成することが好ましい。近赤外線吸収組成物の滴下量および固形分濃度、滴下領域の面積を調整することで、所望の膜厚が得られる。乾燥後の膜の厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
【０１７２】
支持体は、ガラスなどの透明基板であってもよい。また、固体撮像素子であってもよい。また、固体撮像素子の受光側に設けられた別の基板であってもよい。また、固体撮像素子の受光側に設けられた平坦化層等の層であっても良い。
【０１７３】
近赤外線吸収組成物層を硬化する工程において、近赤外線吸収組成物層の硬化方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。例えば、露光処理、加熱処理などが好適に挙げられる。ここで、本発明において「露光」とは、各種波長の光のみならず、電子線、Ｘ線などの放射線照射をも包含する意味で用いられる。
露光処理は、放射線の照射により行うことが好ましい。放射線としては、電子線、ＫｒＦ、ＡｒＦ、ｇ線、ｈ線、ｉ線等の紫外線や可視光が好ましい。露光方式としては、ステッパー露光や、高圧水銀灯による露光などが挙げられる。露光量は５〜３０００ｍＪ／ｃｍ2が好ましく、１０〜２０００ｍＪ／ｃｍ2がより好ましく、５０〜１０００ｍＪ／ｃｍ2が特に好ましい。露光装置としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。例えば、超高圧水銀灯などの紫外線露光機が好適に挙げられる。
加熱処理は、加熱温度が、１２０〜２５０℃であることが好ましく、１６０℃〜２２０℃がより好ましい。加熱温度が１２０℃以上であれば、加熱処理によって膜強度が向上し、２５０℃以下であれば、膜成分の分解を抑制できる。加熱時間は、３分〜１８０分が好ましく、５分〜１２０分がより好ましい。加熱装置としては、特に制限はなく、公知の装置の中から、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ドライオーブン、ホットプレート、赤外線（ＩＲ）ヒーターなどが挙げられる。
【０１７４】
近赤外線吸収組成物層を硬化する工程において、硬化処理を行う前に、プリベーク（前加熱）を行ってもよい。加熱温度は、８０℃〜２００℃が好ましく、９０℃〜１５０℃がより好ましい。加熱時間は、３０〜２４０秒が好ましく、６０〜１８０秒がより好ましい。
【０１７５】
近赤外線吸収組成物層を硬化する工程において、硬化処理を行った後に、さらに、ポストベーク（後加熱）を行ってもよい。後加熱は、硬化処理後の膜の硬化を完全なものとするための加熱処理である。加熱温度は、１００〜２４０℃が好ましい。膜硬化の観点から、２００〜２３０℃がより好ましい。加熱時間は、３０〜１０００秒が好ましく、６０〜５００秒がより好ましい。
【０１７６】
パターンを形成する工程において、パターンの形成方法としては、フォトリソグラフィ法によるパターン形成方法や、ドライエッチング法によるパターン形成方法が挙げられる。
【０１７７】
＜固体撮像素子、カメラモジュール＞
本発明の固体撮像素子は、本発明の近赤外線カットフィルタを含む。また、本発明のカメラモジュールは、本発明の近赤外線カットフィルタを含む。
【０１７８】
図１は、本発明の実施形態に係る近赤外線カットフィルタを有するカメラモジュールの構成を示す概略断面図である。
図１に示すカメラモジュール１０は、固体撮像素子１１と、固体撮像素子の主面側（受光側）に設けられた平坦化層１２と、近赤外線カットフィルタ１３と、近赤外線カットフィルタの上方に配置され内部空間に撮像レンズ１４を有するレンズホルダー１５と、を備える。カメラモジュール１０は、外部からの入射光ｈνが、撮像レンズ１４、近赤外線カットフィルタ１３、平坦化層１２を順次透過した後、固体撮像素子１１の撮像素子部に到達するようになっている。
【０１７９】
固体撮像素子１１は、例えば、基板１６の主面に、フォトダイオード、層間絶縁膜（図示せず）、ベース層（図示せず）、カラーフィルタ１７、オーバーコート（図示せず）、マイクロレンズ１８をこの順に備えている。カラーフィルタ１７（赤色のカラーフィルタ、緑色のカラーフィルタ、青色のカラーフィルタ）やマイクロレンズ１８は、固体撮像素子１１に対応するように、それぞれ配置されている。なお、平坦化層１２の表面に近赤外線カットフィルタ１３が設けられる代わりに、マイクロレンズ１８の表面、ベース層とカラーフィルタ１７との間、または、カラーフィルタ１７とオーバーコートとの間に、近赤外線カットフィルタ１３が設けられる形態であってもよい。例えば、近赤外線カットフィルタ１３は、マイクロレンズ表面から２ｍｍ以内（より好ましくは１ｍｍ以内）の位置に設けられていてもよい。この位置に設けると、近赤外線カットフィルタを形成する工程が簡略化でき、マイクロレンズへの不要な近赤外線を十分にカットすることができるので、近赤外遮蔽性をより高めることができる。
【０１８０】
本発明の近赤外線カットフィルタは、耐熱性に優れるため、半田リフロー工程に供することができる。半田リフロー工程によりカメラモジュールを製造することによって、半田付けを行うことが必要な電子部品実装基板等の自動実装化が可能となり、半田リフロー工程を用いない場合と比較して、生産性を格段に向上することができる。更に、自動で行うことができるため、低コスト化を図ることもできる。半田リフロー工程に供される場合、２５０〜２７０℃程度の温度にさらされることとなるため、近赤外線カットフィルタは、半田リフロー工程に耐え得る耐熱性（以下、「耐半田リフロー性」ともいう。）を有することが好ましい。
本発明のカメラモジュールは、更に、紫外線吸収層を有することもできる。この態様によれば、紫外線遮蔽性を高めることができる。紫外線吸収層は、例えば、国際公開ＷＯ２０１５／０９９０６０号公報の段落００４０〜００７０、０１１９〜０１４５の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれることする。また、後述する紫外・赤外光反射膜を更に有することもできる。紫外線吸収層と紫外・赤外光反射膜は、両者を併用してもよく、いずれか一方のみであってもよい。
【０１８１】
図２〜４は、カメラモジュールにおける近赤外線カットフィルタ周辺部分の一例を示す概略断面図である。
【０１８２】
図２に示すように、カメラモジュールは、固体撮像素子１１と、平坦化層１２と、紫外・赤外光反射膜１９と、透明基材２０と、近赤外線吸収層（近赤外線カットフィルタ）２１と、反射防止層２２とをこの順に有していてもよい。紫外・赤外光反射膜１９は、近赤外線カットフィルタの機能を付与または高める効果を有し、例えば、特開２０１３−６８６８８号公報の段落００３３〜００３９、国際公開ＷＯ２０１５／０９９０６０号公報の段落０１１０〜０１１４を参酌することができ、この内容は本明細書に組み込まれる。透明基材２０は、可視領域の波長の光を透過するものであり、例えば、特開２０１３−６８６８８号公報の段落００２６〜００３２を参酌することができ、この内容は本明細書に組み込まれる。近赤外線吸収層２１は、上述した本発明の近赤外線吸収組成物を塗布することにより形成することができる。反射防止層２２は、近赤外線カットフィルタに入射する光の反射を防止することにより透過率を向上させ、効率よく入射光を利用する機能を有するものであり、例えば、特開２０１３−６８６８８号公報の段落００４０を参酌することができ、この内容は本明細書に組み込まれる。
【０１８３】
図３に示すように、カメラモジュールは、固体撮像素子１１と、近赤外線吸収層（近赤外線カットフィルタ）２１と、反射防止層２２と、平坦化層１２と、反射防止層２２と、透明基材２０と、紫外・赤外光反射膜１９とをこの順に有していてもよい。
【０１８４】
図４に示すように、カメラモジュールは、固体撮像素子１１と、近赤外線吸収層（近赤外線カットフィルタ）２１と、紫外・赤外光反射膜１９と、平坦化層１２と、反射防止層２２と、透明基材２０と、反射防止層２２とをこの順に有していてもよい。
【０１８５】
＜画像表示装置＞
本発明の画像表示装置は、本発明の近赤外線カットフィルタを有する。本発明の近赤外線カットフィルタは、液晶表示装置や有機エレクトロルミネッセンス（有機ＥＬ）表示装置などの画像表示装置に用いることもできる。例えば、各着色画素（例えば赤色、緑色、青色）とともに用いることにより、表示装置のバックライト（例えば白色発光ダイオード（白色ＬＥＤ））に含まれる赤外光を遮蔽し、周辺機器の誤作動を防止する目的や、各着色表示画素に加えて赤外の画素を形成する目的で用いることが可能である。
【０１８６】
表示装置の定義や各表示装置の詳細については、例えば「電子ディスプレイデバイス（佐々木昭夫著、（株）工業調査会、１９９０年発行）」、「ディスプレイデバイス（伊吹順章著、産業図書（株）、平成元年発行）」などに記載されている。また、液晶表示装置については、例えば「次世代液晶ディスプレイ技術（内田龍男編集、（株）工業調査会、１９９４年発行）」に記載されている。本発明が適用できる液晶表示装置に特に制限はなく、例えば、上記の「次世代液晶ディスプレイ技術」に記載されている色々な方式の液晶表示装置に適用できる。
【０１８７】
画像表示装置は、白色有機ＥＬ素子を有するものであってもよい。白色有機ＥＬ素子としては、タンデム構造であることが好ましい。有機ＥＬ素子のタンデム構造については、特開２００３−４５６７６号公報、三上明義監修、「有機ＥＬ技術開発の最前線−高輝度・高精度・長寿命化・ノウハウ集−」、技術情報協会、３２６−３２８ページ、２００８年などに記載されている。有機ＥＬ素子が発光する白色光のスペクトルは、青色領域（４３０ｎｍ−４８５ｎｍ）、緑色領域（５３０ｎｍ−５８０ｎｍ）及び黄色領域（５８０ｎｍ−６２０ｎｍ）に強い発光極大ピークを有するものが好ましい。これらの発光ピークに加え更に赤色領域（６５０ｎｍ−７００ｎｍ）に発光極大ピークを有するものがより好ましい。
【０１８８】
＜赤外線センサ＞
本発明の赤外線センサは、本発明の近赤外線カットフィルタを含む。本発明の赤外線センサの構成としては、本発明の近赤外線カットフィルタを備えた構成であり、赤外線センサとして機能する構成であれば特に限定はないが、例えば、以下のような構成が挙げられる。
【０１８９】
基板上に、固体撮像素子（ＣＣＤセンサ、ＣＭＯＳセンサ、有機ＣＭＯＳセンサ等）の受光エリアを構成する複数のフォトダイオード及びポリシリコン等からなる転送電極を有し、フォトダイオード及び転送電極上にフォトダイオードの受光部のみ開口したタングステン等からなる遮光膜を有し、遮光膜上に遮光膜全面及びフォトダイオード受光部を覆うように形成された窒化シリコン等からなるデバイス保護膜を有し、デバイス保護膜上に、本発明の硬化膜を有する構成である。更に、デバイス保護膜上であって本発明の近赤外線カットフィルタの下（基板に近い側）に集光手段（例えば、マイクロレンズ等。以下同じ）を有する構成や、本発明の近赤外線カットフィルタ上に集光手段を有する構成等であってもよい。
【実施例】
【０１９０】
以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り、適宜、変更することができる。従って、本発明の範囲は以下に示す具体例に限定されるものではない。なお、特に断りのない限り、「部」、「％」は、質量基準である。【０１９１】
＜重量平均分子量（Ｍｗ）＞
重量平均分子量（Ｍｗ）は、以下の方法で、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ（ＧＰＣ）にて測定した。
カラムの種類：ＴＳＫｇｅｌ  Ｓｕｐｅｒ  ＡＷＭ―Ｈ（東ソー社製、６．０ｍｍ（内径）×１５．０ｃｍ）
展開溶媒：１０ｍｍｏｌ／Ｌ  リチウムブロミドＮＭＰ（Ｎ−メチルピロリジノン）溶液
カラム温度：４０℃
流量（サンプル注入量）：１０μＬ
装置名：ＨＬＣ−８２２０（東ソー社製）
検量線ベース樹脂：ポリスチレン樹脂【０１９２】
＜金属原子の含有量の測定方法＞
誘導結合プラズマ発光分光分析法（ＩＣＰ−ＯＥＳ）により、測定サンプル中の金属原子の含有量を測定した。
前処理：１％メチルエチルケトン／Ｎ−メチルピロリジノン（＝９９／１（質量比））溶液を調整
装置名：Ｏｐｔｉｍａ７３００ＤＶ（パーキンエルマー社製）【０１９３】
＜組成物の調製方法＞
（実施例１）組成物１の調製
赤外線吸収化合物として以下に示す銅錯体１と、銅以外の金属原子を含む金属成分とを混合し、銅錯体１に含まれる金属原子（銅原子）１００質量部に対し、金属成分に含まれる金属原子（銅以外の金属原子）を０．１質量部含む赤外線吸収剤１を調製した。なお、金属成分は、金属原子として、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｃａ、Ｆｅ、Ａｇを含んでいた。
次に、赤外線吸収剤１を銅錯体１の配合量が４５質量部となる配合量と、以下に示す樹脂１を４９．９５質量部と、ＩＲＧＡＣＵＲＥ−ＯＸＥ０２（ＢＡＳＦ社製）を５質量部と、トリス（２，４−ペンタンジオナト）アルミニウム（ＩＩＩ）（東京化成工業社製）を０．０５質量部と、シクロヘキサノンを１００質量部とを混合し、撹拌した後、孔径０．４５μｍのナイロン製フィルタ（日本ポール社製）でろ過して組成物１を調製した。この組成物は、銅錯体１に含まれる金属原子（銅原子）１００質量部に対し、金属成分に含まれる金属原子（銅以外の金属原子）を０．１質量部含んでいた。
銅錯体１：下記構造
【化２５】
2017126528.tif 000027
樹脂１：下記構造（Ｍｗ＝１．５万、主鎖に付記した数値は、各構成単位のモル比である）
【化２６】
2017126528.tif 000028
【０１９４】
（実施例２）組成物２の調製
実施例１と同様にして、銅錯体１に含まれる金属原子（銅原子）１００質量部に対し、金属成分に含まれる金属原子（銅以外の金属原子）を０．８質量部含む赤外線吸収剤２を調製した。金属成分は、銅以外の金属原子として、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｃａ、Ｆｅ、Ａｇを含んでいた。
赤外線吸収剤１の代わりに、赤外線吸収剤２を用いた以外は、実施例１と同様にして組成物２を調製した。この組成物は、銅錯体１に含まれる金属原子（銅原子）１００質量部に対し、金属成分に含まれる金属原子（銅以外の金属原子）を０．８質量部含んでいた。【０１９５】
（実施例３）組成物３の調製
実施例１と同様にして、銅錯体１に含まれる金属原子（銅原子）１００質量部に対し、金属成分に含まれる金属原子（銅以外の金属原子）を０．０１質量部含む赤外線吸収剤３を調製した。金属成分は、金属原子として、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｃａ、Ｆｅ、Ａｇを含んでいた。
赤外線吸収剤１の代わりに、赤外線吸収剤３を用いた以外は、実施例１と同様にして組成物３を調製した。この組成物は、銅錯体１に含まれる金属原子（銅原子）１００質量部に対し、金属成分に含まれる金属原子（銅以外の金属原子）を０．０１質量部含んでいた。【０１９６】
（実施例４）組成物４の調製
銅錯体１の代わりに、同量の銅錯体２を用いた以外は実施例１と同様にして、銅錯体２に含まれる金属原子（銅原子）１００質量部に対し、金属成分に含まれる金属原子（銅以外の金属原子）を０．１質量部含有する赤外線吸収剤４を調製した。金属成分は、金属原子として、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｃａ、Ｆｅ、Ａｇを含んでいた。
赤外線吸収剤１の代わりに、赤外線吸収剤４を用いた以外は、実施例１と同様にして組成物４を調製した。この組成物は、銅錯体２に含まれる金属原子（銅原子）１００質量部に対し、金属成分に含まれる金属原子（銅以外の金属原子）を０．１質量部含んでいた。また、
銅錯体２：下記構造
【化２７】
2017126528.tif 000029
【０１９７】
（実施例５）組成物５の調製
銅錯体１の代わりに、同量の銅錯体３を用いた以外は実施例１と同様にして、銅錯体３に含まれる金属原子（銅原子）１００質量部に対し、金属成分に含まれる金属原子（銅以外の金属原子）を０．１質量部含有する赤外線吸収剤５を調製した。金属成分は、金属原子として、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｃａ、Ｆｅ、Ａｇを含んでいた。
赤外線吸収剤１の代わりに、赤外線吸収剤５を用いた以外は、実施例１と同様にして組成物５を調製した。この組成物は、銅錯体３に含まれる金属原子（銅原子）１００質量部に対し、金属成分に含まれる金属原子（銅以外の金属原子）を０．１質量部含んでいた。
銅錯体３：下記構造
【化２８】
2017126528.tif 000030
【０１９８】
（実施例６）組成物６の調製
銅錯体１の代わりに、同量の銅錯体４を用いた以外は実施例１と同様にして、銅錯体４に含まれる金属原子（銅原子）１００質量部に対し、金属成分に含まれる金属原子（銅以外の金属原子）を０．１質量部含有する赤外線吸収剤６を調製した。金属成分は、金属原子として、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｃａ、Ｆｅ、Ａｇを含んでいた。
赤外線吸収剤１の代わりに、赤外線吸収剤６を用いた以外は、実施例１と同様にして組成物６を調製した。この組成物は、銅錯体４に含まれる金属原子（銅原子）１００質量部に対し、金属成分に含まれる金属原子（銅以外の金属原子）を０．１質量部含んでいた。
銅錯体４：下記化合物を配位子として有する銅錯体。
【化２９】
2017126528.tif 000031
【０１９９】
（実施例７）組成物７の調製
銅錯体１の代わりに、同量の銅錯体５を用いた以外は実施例１と同様にして、銅錯体５に含まれる金属原子（銅原子）１００質量部に対し、金属成分に含まれる金属原子（銅以外の金属原子）を０．１質量部含有する赤外線吸収剤７を調製した。金属成分は、金属原子として、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｃａ、Ｆｅ、Ａｇを含んでいた。
赤外線吸収剤１の代わりに、赤外線吸収剤７を用いた以外は、実施例１と同様にして組成物７を調製した。この組成物は、銅錯体５に含まれる金属原子（銅原子）１００質量部に対し、金属成分に含まれる金属原子（銅以外の金属原子）を０．１質量部含んでいた。
銅錯体５：下記化合物を配位子として有する銅錯体。
【化３０】
2017126528.tif 000032
【０２００】
（実施例８）組成物８の調製
ナスフラスコに、酢酸銅一水和物７．００ｇ（３５．０６ｍｍｏｌ）、メタノール１４０ｇを加え、２０℃で１時間撹拌し、溶液（Ａ液）を得た。別の容器に、プライサーフＡ２１９Ｂ（第一工業製薬社製）１．７５ｇ、ｎ−ブチルホスホン酸４．８２ｇをメタノール１００ｇに溶解し、溶液（Ｂ液）を得た。Ｂ液を、Ａ液に対して３時間かけて滴下した。この反応液を２０℃で１０時間撹拌した。その後、エバポレーター（水浴６０℃）で反応液から溶媒を留去した。溶媒が留去されたのちに残る固形分にトルエン１００ｇを加え、恒量になり、酢酸臭がしなくなるまでエバポレーターで留去し、銅錯体６を得た（収量８．７５ｇ（収率１００％）の青緑色固体）。これにトルエン２１１ｇを加え、超音波照射を６時間行い、ｎ−ブチルホスホン酸銅塩トルエン分散液（１）を得た。
次に、フラスコに、トリエチレングリコールビス（２−エチルヘキサノエート）１．９０ｇ、トルエン２５０ｍｌ、ポリビニルブチラール（ＰＶＢ）５．００ｇを加えた。これに、ｍｅｓｏ‐エリスリトール４．８ｍｇをメタノール１ｍｌに溶かした溶液を加えた。これに上記ｎ−ブチルホスホン酸銅塩トルエン分散液（１）３．６５ｇ（銅塩を０．５８３ｍｍｏｌ含む）と、銅以外の金属原子を含む金属成分とを添加し、２０℃で１０時間撹拌後、１．５時間超音波照射し、ＰＶＢを均一に溶解させて組成物８を得た。組成物８は、ｎ−ブチルホスホン酸銅塩に含まれる金属原子（銅原子）１００質量部に対し、金属成分に含まれる金属原子（銅以外の金属原子）を０．１質量部含有していた。金属成分は、銅以外の金属原子として、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｃａ、Ｆｅ、Ａｇを含んでいた。【０２０１】
（実施例９）組成物９の調製
銅錯体１の代わりに、銅錯体１と銅錯体７を１：３の質量比の混合物を用いた以外は実施例１と同様にして、銅錯体１と銅錯体７に含まれる金属原子（銅原子）１００質量部に対し、金属成分に含まれる金属原子（銅以外の金属原子）を０．１質量部含有する赤外線吸収剤９を調製した。金属成分は、金属原子として、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｃａ、Ｆｅ、Ａｇを含んでいた。
赤外線吸収剤１の代わりに、赤外線吸収剤９を用い、樹脂１の量を４４．９５質量部に変更し，ＫＢＭ−３０６６（信越化学工業製）を５質量部用いた以外は、実施例１と同様にして組成物９を調製した。この組成物は、銅錯体１と銅錯体７に含まれる金属原子（銅原子）１００質量部に対し、金属成分に含まれる金属原子（銅以外の金属原子）を０．１質量部含んでいた。
銅錯体７：下記化合物を配位子として有する銅錯体。
【化３１】
2017126528.tif 000033
【０２０２】
（実施例１０）組成物１０の調製
赤外線吸収化合物として以下に示すフタロシアニン化合物Ｐｃ−１と、バナジウム以外の金属原子を含む金属成分とを混合し、フタロシアニン化合物Ｐｃ−１に含まれる金属原子（バナジウム原子）１００質量部に対し、金属成分に含まれる金属原子（バナジウム以外の金属原子）を０．１質量部含む赤外線吸収剤１０を調製した。金属成分は、金属原子として、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｃａ、Ｆｅ、Ａｌを含んでいた。
次に、赤外線吸収剤１０をフタロシアニン化合物Ｐｃ−１の配合量が０．１質量部となる配合量と、以下に示す樹脂２を８．０４質量部と、ＫＡＹＡＲＡＤ  ＤＰＨＡ（日本化薬社製）を０．０７質量部と、メガファックＲＳ−７２Ｋ（ＤＩＣ社製）を０．２６５質量部と、光重合開始剤として下記化合物を０．３８質量部と、溶剤としてプロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）を８２．５１質量部とを混合し、撹拌した後、孔径０．４５μｍのナイロン製フィルタ（日本ポール社製）でろ過して組成物１０を調製した。この組成物は、フタロシアニン化合物Ｐｃ−１に含まれる金属原子（バナジウム原子）１００質量部に対し、金属成分に含まれる金属原子（バナジウム以外の金属原子）を０．１質量部含んでいた。
樹脂２：下記化合物（Ｍｗ：４１０００、主鎖に付記した数値は、各構成単位のモル比である）
【化３２】
2017126528.tif 000034
光重合開始剤：下記構造
【化３３】
2017126528.tif 000035
【０２０３】
（実施例１１）組成物１１の調製
赤外線吸収化合物として以下に示すジチオール化合物Ｄｔ−１と、ニッケル以外の金属原子を含む金属成分とを混合し、ジチオール化合物Ｄｔ−１に含まれる金属原子（ニッケル原子）１００質量部に対し、金属成分に含まれる金属原子（ニッケル以外の金属原子）を０．１質量部含む赤外線吸収剤１１を調製した。金属成分は、金属原子として、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｃａ、Ｆｅ、Ｃｕを含んでいた。
赤外線吸収剤１１を用い、組成物９と同様にして、ジチオール化合物Ｄｔ−１に含まれる金属原子（ニッケル原子）１００質量部に対し、金属成分に含まれる金属原子（ニッケル以外の金属原子）を０．１質量部含有する組成物１１を調製した。【０２０４】
（実施例１２）組成物１２の調製
赤外線吸収化合物として以下に示すフタロシアニン化合物Ｐｃ−１を５０質量部と、以下に示すジチオール化合物Ｄｔ−１を５０質量部と、バナジウムおよびニッケル以外の金属原子を含む金属成分とを混合し、フタロシアニン化合物Ｐｃ−１に含まれ得る金属原子（バナジウム）とジチオール化合物Ｄｔ−１に含まれる金属原子（ニッケル原子）との合計１００質量部に対し、金属成分に含まれる金属原子（バナジウムおよびニッケル以外の金属原子）を０．１質量部含有する赤外線吸収剤１２を調製した。金属成分は、金属原子として、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｃａ、Ｆｅ、Ｃｕ、Ａｌを含んでいた。
赤外線吸収剤１２を用い、フタロシアニン化合物Ｐｃ−１とジチオール化合物Ｄｔ−１との合計が０．１質量部となる配合量とした以外は、組成物１０と同様にして、フタロシアニン化合物Ｐｃ−１に含まれ得る金属原子（バナジウム）とジチオール化合物Ｄｔ−１に含まれる金属原子（ニッケル原子）との合計１００質量部に対し、金属成分に含まれる金属原子（バナジウムおよびニッケル以外の金属原子）を０．１質量部含有する組成物１２を調製した。【０２０５】
（実施例１３）組成物１３の調製
赤外線吸収化合物として以下に示すジチオール化合物Ｄｔ−１を５０質量部と、以下に示すスクアリリウム化合物ＳＱ−１を５０質量部と、ニッケル以外の金属原子を含む金属成分とを混合し、ジチオール化合物Ｄｔ−１に含まれる金属原子（ニッケル原子）との合計１００質量部に対し、金属成分に含まれる金属原子（ニッケル以外の金属原子）を０．１質量部含有する赤外線吸収剤１３を調製した。金属成分は、金属原子として、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｃａ、Ｆｅ、Ｃｕを含んでいた。
赤外線吸収剤１３を用い、ジチオール化合物Ｄｔ−１と、スクアリリウム化合物ＳＱ−１との合計が０．１質量部となる配合量とした以外は、組成物１０と同様にして、ジチオール化合物Ｄｔ−１に含まれる金属原子（ニッケル原子）１００質量部に対し、金属成分に含まれる金属原子（ニッケル以外の金属原子）を０．１質量部含有する組成物１３を調製した。【０２０６】
（実施例１４）組成物１４の調製
赤外線吸収化合物として以下に示すジチオール化合物Ｄｔ−１を５０質量部と、以下に示すシアニン化合物Ｃｙ−１を５０質量部と、ニッケル以外の金属原子を含む金属成分とを混合し、ジチオール化合物Ｄｔ−１に含まれる金属原子（ニッケル原子）との合計１００質量部に対し、金属成分に含まれる金属原子（ニッケル以外の金属原子）を０．１質量部含有する赤外線吸収剤１４を調製した。金属成分は、金属原子として、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｃａ、Ｆｅ、Ｃｕを含んでいた。
赤外線吸収剤１４を用い、ジチオール化合物Ｄｔ−１と、シアニン化合物Ｃｙ−１との合計が０．１質量部となる配合量とした以外は、組成物１０と同様にして、ジチオール化合物Ｄｔ−１に含まれる金属原子（ニッケル原子）１００質量部に対し、金属成分に含まれる金属原子（ニッケル以外の金属原子）を０．１質量部含有する組成物１４を調製した。【０２０７】
（実施例１５）組成物１５の調製
赤外線吸収化合物として以下に示すジチオール化合物Ｄｔ−１を５０質量部と、以下に示すピロロピロール化合物Ｐｐ−１を５０質量部と、ニッケル以外の金属原子を含む金属成分とを混合し、ジチオール化合物Ｄｔ−１に含まれる金属原子（ニッケル原子）との合計１００質量部に対し、金属成分に含まれる金属原子（ニッケル以外の金属原子）を０．１質量部含有する赤外線吸収剤１５を調製した。金属成分は、金属原子として、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｃａ、Ｔｉ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｃｕ、Ｚｎを含んでいた。
赤外線吸収剤１５を用い、ジチオール化合物Ｄｔ−１と、ピロロピロール化合物Ｐｐ−１との合計が０．１質量部となる配合量とした以外は、組成物１０と同様にして、ジチオール化合物Ｄｔ−１に含まれる金属原子（ニッケル原子）１００質量部に対し、金属成分に含まれる金属原子（ニッケル以外の金属原子）を０．１質量部含有する組成物１５を調製した。【０２０８】
（実施例１６）組成物１６の調製
フェニルトリエトキシシラン２８．９質量部、ジメチルジメトキシシラン２８．９質量部、５質量％酢酸３０．６質量部を室温にて４時間混合しゾルを得た。シクロペンタノン８５．５質量部に、赤外線吸収剤７の２６．０質量部を室温にて２０分溶解させた溶液を、前述のゾルに添加し、孔径０．４５μｍのナイロン製フィルタ（日本ポール社製）でろ過して組成物１６を調製した。この組成物は、銅錯体５に含まれる金属原子（銅原子）１００質量部に対し、金属成分に含まれる金属原子（銅以外の金属原子）を０．１質量部含んでいた。【０２０９】
（実施例１７）組成物１７の調製
銅錯体１のかわりに、銅錯体５とシアニン化合物Ｃｙ−１を９７．５：２．５の質量比の混合物を用いた以外は実施例１と同様にして、銅錯体１と銅錯体７に含まれる金属原子（銅原子）１００質量部に対し、金属成分に含まれる金属原子（銅以外の金属原子）を０．１質量部含有する赤外線吸収剤１７を調製した。金属成分は、金属原子として、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｃａ、Ｆｅ、Ａｇを含んでいた。
赤外線吸収剤１の代わりに、赤外線吸収剤１７を用いた以外は、実施例１と同様にして組成物１７を調製した。この組成物は、銅錯体５に含まれる金属原子（銅原子）１００質量部に対し、金属成分に含まれる金属原子（銅以外の金属原子）を０．１質量部含んでいた。【０２１０】
フタロシアニン化合物Ｐｃ−１、ジチオール化合物Ｄｔ−１、スクアリリウム化合物ＳＱ−１、シアニン化合物Ｃｙ−１、ピロロピロール化合物ＰＰ−１：下記構造
【化３４】
2017126528.tif 000036
【０２１１】
（実施例１８）組成物１８の調整
テトラエトキシシラン１０質量部と、メチルトリエトキシシラン１０質量部と、ジメチルジエトキシシラン４５質量部と、１０質量％酢酸水溶液２０質量部と、シクロペンタノン２０質量部とを室温にて４時間混合しゾルを得た。シクロペンタノン１００質量部に赤外線吸収剤１の４５質量部およびＩＲＧＡＣＵＲＥ−ＯＸＥ０２（ＢＡＳＦ社製）の５質量部を室温にて２０分溶解させた溶液を前述のゾルに添加し、孔径０．４５μｍのナイロン製フィルタ（日本ポール社製）でろ過して組成物１８を得た。この組成物は、銅錯体１に含まれる金属原子（銅原子）１００質量部に対し、金属成分に含まれる金属原子（銅以外の金属原子）を０．１質量部含んでいた。【０２１２】
（実施例１９）組成物１９の調製
赤外線吸収剤１の代わりに、赤外線吸収剤９を用いた以外は、実施例１８と同様にして組成物１９を調製した。この組成物は、銅錯体１と銅錯体７に含まれる金属原子（銅原子）１００質量部に対し、金属成分に含まれる金属原子（銅以外の金属原子）を０．１質量部含んでいた。【０２１３】
（実施例２０）組成物２０の調製
赤外線吸収剤１の代わりに赤外線吸収剤１４を１．１３質量部用い、メチルトリエトキシシランの量を２０質量部に変更し、ジメチルジエトキシシランの量を７５質量部に変更し、赤外線吸収剤を溶解させる溶剤として、シクロペンタノン１００質量部の代わりにＰＧＭＥＡ９００質量部に変更した以外は、実施例１８と同様にして組成物２０を調製した。この組成物は、ジチオール化合物Ｄｔ−１に含まれる金属原子（ニッケル原子）１００質量部に対し、金属成分に含まれる金属原子（ニッケル以外の金属原子）を０．１質量部含んでいた。【０２１４】
（実施例２１）組成物２１の調製
テトラエトキシシランの代わりに、ＫＢＭ−３０６６（信越シリコーン社製）を用いた以外は実施例１９と同様にして組成物２１を調製した。この組成物は、銅錯体１と銅錯体７に含まれる金属原子（銅原子）１００質量部に対し、金属成分に含まれる金属原子（銅以外の金属原子）を０．１質量部含んでいた。【０２１５】
（実施例２２）組成物２２の調製
テトラエトキシシランの代わりに、ＫＢＥ−９６５９（信越シリコーン社製）を用いた以外は実施例１９と同様にして組成物２２を調製した。この組成物は、銅錯体１と銅錯体７に含まれる金属原子（銅原子）１００質量部に対し、金属成分に含まれる金属原子（銅以外の金属原子）を０．１質量部含んでいた。【０２１６】
（実施例２３）組成物２３の調製
メチルエトキシシランの代わりに、ＫＢＭ−７１０３（信越シリコーン社製）を用いた以外は実施例１９と同様にして組成物２３を調製した。この組成物は、銅錯体１と銅錯体７に含まれる金属原子（銅原子）１００質量部に対し、金属成分に含まれる金属原子（銅以外の金属原子）を０．１質量部含んでいた。【０２１７】
（実施例２４）組成物２４の調製
テトラエトキシシランを使用せず、メチルトリエトキシシランの量を２５質量部に変更し、ジメチルジエトキシシランの量を４０質量部に変更した以外は、実施例１９と同様にして組成物２４を調製した。この組成物は、銅錯体１と銅錯体７に含まれる金属原子（銅原子）１００質量部に対し、金属成分に含まれる金属原子（銅以外の金属原子）を０．１質量部含んでいた。【０２１８】
（比較例１）比較組成物１の調製
実施例７において、金属成分の配合量を調整して、銅錯体５に含まれる金属原子（銅原子）１００質量部に対し、金属成分に含まれる金属原子（銅以外の金属原子）を１．２質量部とした以外は、実施例７と同様にして比較組成物１を調製した。【０２１９】
（比較例２）比較組成物２の調製
実施例８において、金属成分の配合量を調整して、ｎ−ブチルホスホン酸銅塩に含まれる金属原子（銅原子）１００質量部に対し、金属成分に含まれる金属原子（銅以外の金属原子）を１．２質量部含とした以外は、実施例８と同様にして比較組成物２を調製した。【０２２０】
（比較例３）比較組成物３の調製
実施例７において、金属成分の配合量を調整して、銅錯体５に含まれる金属原子（銅原子）１００質量部に対し、金属成分に含まれる金属原子（銅以外の金属原子）を０．００３質量部含とした以外は、実施例７と同様にして比較組成物３を調製した。【０２２１】
＜近赤外線カットフィルタの製造方法＞
（製造例１）実施例１〜９、１６〜１９、２１〜２４、比較例１〜３の組成物を使用した近赤外線カットフィルタの製造方法
各組成物を、ガラスウェハ上に乾燥後の膜厚が１００μｍになるようにスピンコーターを用いて塗布し、１６０℃のホットプレートを用いて１．５時間加熱処理を行って、近赤外線カットフィルタを製造した。【０２２２】
（製造例２）実施例１０〜１５、２０の組成物を使用した近赤外線カットフィルタの製造方法
各組成物を、スピンコーターを用いて塗布して塗膜を形成し、１００℃、１２０秒間の前加熱（プリベーク）を行った後、ｉ線ステッパーを用い、１０００ｍＪ／ｃｍ2で全面露光を行った。次いで、２２０℃、３００秒間の後加熱（ポストベーク）を行い、膜厚０．８μｍの近赤外線カットフィルタを製造した。【０２２３】
＜可視透明性の評価＞
上記のようにして得た近赤外線カットフィルタについての波長４５０ｎｍの光の透過率を分光光度計Ｕ−４１００（日立ハイテクノロジーズ社製）を用いて測定した。可視透明性を以下の基準で評価した。
Ａ：８５％≦波長４５０ｎｍの光の透過率
Ｂ：６５％≦波長４５０ｎｍの光の透過率＜８５％
Ｃ：４５％≦波長４５０ｎｍの光の透過率＜６５％
Ｄ：波長４５０ｎｍの光の透過率＜４５％【０２２４】
＜近赤外遮蔽性の評価＞
上記のようにして得た近赤外線カットフィルタについての波長８００ｎｍの光の透過率を分光光度計Ｕ−４１００（日立ハイテクノロジーズ社製）を用いて測定した。近赤外遮蔽性を以下の基準で評価した。
Ａ：波長８００ｎｍの光の透過率≦５％
Ｂ：５％＜波長８００ｎｍの光の透過率≦１５％
Ｃ：１５％＜波長８００ｎｍの光の透過率≦２５％
Ｄ：２５％＜波長８００ｎｍの光の透過率【０２２５】
＜耐熱性評価＞
上記のようにして得た近赤外線カットフィルタを２００℃で３０分間加熱して耐熱性試験を行った。耐熱性試験前と耐熱性試験後のそれぞれにおいて、近赤外線カットフィルタの波長７００〜１４００ｎｍにおける最大吸光度（Ａｂｓλｍａｘ）と、波長４００〜７００ｎｍにおける最小吸光度（Ａｂｓλｍｉｎ）とを、分光光度計Ｕ−４１００（日立ハイテクノロジーズ社製）を用いて測定し、「Ａｂｓλｍａｘ／Ａｂｓλｍｉｎ」で表される吸光度比を求めた。下記式で表される吸光度比変化率を用いて、以下の基準で耐熱性を評価した。
吸光度比変化率（％）＝
［（（耐熱性試験前における吸光度比−耐熱性試験後における吸光度比）／耐熱性試験前における吸光度比）×１００］（％）
Ａ：吸光度比変化率≦２％
Ｂ：２％＜吸光度比変化率≦４％
Ｃ：４％＜吸光度比変化率≦７％
Ｄ：７％＜吸光度比変化率【０２２６】
【表１】
2017126528.tif 000037
【０２２７】
上記結果より、実施例は、可視透明性および近赤外遮蔽性が良好であった。更には耐熱性にも優れていた。
一方、比較例は、可視透明性および近赤外遮蔽性のいずれかが劣るものであった。【０２２８】
紫外線吸収層上に、実施例１〜２４の組成物を、塗布し上記と同様の方法で近赤外線カットフィルタを製造した場合であっても、同様の効果が得られる。【０２２９】
誘電体多層膜を形成した基板の上に、実施例１〜２４の組成物を、塗布し上記と同様の方法で近赤外線カットフィルタを製造した場合であっても、同様の効果が得られる。【０２３０】
（誘電体多層膜の製造）
基板の一面に、蒸着温度１５０℃で、近赤外線を反射する多層蒸着膜（シリカ（ＳｉＯ2：膜厚１２０〜１９０ｎｍ）層とチタニア（ＴｉＯ2：膜厚７０〜１２０ｎｍ）層とを交互に積層（積層数４０））して誘電体多層膜を得た。【０２３１】
実施例１〜２４の組成物を、支持体から剥離して単独膜として用いた場合であっても、同様の効果が得られる。
【符号の説明】
【０２３２】
１０  カメラモジュール、１１  固体撮像素子、１２  平坦化層、１３  近赤外線カットフィルタ、１４  撮像レンズ、１５  レンズホルダー、１６  シリコン基板、１７  カラーフィルタ、１８  マイクロレンズ、１９  紫外・赤外光反射膜、２０  透明基材、２１  近赤外線吸収層、２２  反射防止層
【図１】
2017126528.tif 000038
【図２】
2017126528.tif 000039
【図３】
2017126528.tif 000040
【図４】
2017126528.tif 000041
【国際調査報告】
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2017126528.tif 000043
2017126528.tif 000044
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