(57)【要約】  支持基板と、当該支持基板上に配置され、第１電極層、有機機能層及び第２電極層が積層されて形成された有機ＥＬ部と、有機ＥＬ部を封止する封止部材と、吸湿性を有する一又は複数の吸湿部と、を備える有機ＥＬ素子であり、吸湿部は、有機ＥＬ部の積層方向から見て、第１電極層、有機機能層及び第２電極層がこの順番で連続して重なる有機ＥＬ部の発光領域の外縁部に配置されており、発光領域上に配置される吸湿部の面積は、発光領域の面積よりも小さい。
2017130955.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持基板と、当該支持基板上に配置され、第１電極層、有機機能層及び第２電極層が積層されて形成された有機ＥＬ部と、前記有機ＥＬ部を封止する封止部材と、吸湿性を有する一又は複数の吸湿部と、を備える有機ＥＬ素子であって、
前記吸湿部は、前記有機ＥＬ部の積層方向から見て、前記第１電極層、前記有機機能層及び前記第２電極層がこの順番で連続して重なる前記有機ＥＬ部の発光領域の外縁部に配置されており、
前記発光領域上に配置される前記吸湿部の面積は、前記発光領域の面積よりも小さい、有機ＥＬ素子。
【請求項２】
前記発光領域上に配置される前記吸湿部の面積は、前記発光領域の面積の２０％以下である、請求項１に記載の有機ＥＬ素子。
【請求項３】
前記発光領域上に配置される前記吸湿部の面積は、前記発光領域の面積の１０％以下である、請求項１に記載の有機ＥＬ素子。
【請求項４】
前記吸湿部は、前記第２電極層の端面を覆って配置されている、請求項１〜３のいずれか一項に記載の有機ＥＬ素子。
【請求項５】
前記吸湿部は、前記有機機能層及び前記第２電極層それぞれの端面を覆って配置されている、請求項１〜４のいずれか一項に記載の有機ＥＬ素子。
【請求項６】
前記第１電極は陽極であり、
前記第２電極は陰極である、請求項１〜５のいずれか一項に記載の有機ＥＬ素子。
【請求項７】
前記封止部材は、粘接着性を有すると共に前記有機ＥＬ部及び前記吸湿部を被覆する粘接着部を有し、
前記吸湿部の厚さは、前記粘接着部の厚さの１／２以下である、請求項１〜６のいずれか一項に記載の有機ＥＬ素子。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機ＥＬ素子に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来の有機ＥＬ素子として、例えば、特許文献１に記載されたものが知られている。特許文献１に記載の有機ＥＬ素子は、陽極（透明電極）と、陽極に対向して配置された陰極（表示電極）と、陽極と陰極との間に挟み込まれ、陽極と陰極とに互いに異なる電圧が印加されることにより自己発光する有機機能層（発光素子層）と、陰極及び有機機能層を覆うように積層されたゲッター材と、を備えている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２０１１−２８８９６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ゲッター材は、経時により、例えばモノマー成分又は新たに生成された成分等のブリードアウトが発生することがある。ブリードアウトが発生した場合、その成分が陰極の欠陥部分に侵入すると、欠陥部分にダークスポット（非発光の点）が発生し得る。従来の有機ＥＬ素子では、ゲッター材によって陰極及び有機機能層（発光領域）の全体が覆われている。そのため、ゲッター材からブリードアウトが発生すると、ゲッター材に覆われた陰極の全体にダークスポットが発生するおそれがある。これにより、従来の有機ＥＬ素子では、時間の経過に伴って、発光特性が劣化するおそれがある。【０００５】
本発明の一側面は、発光特性の劣化を抑制できる有機ＥＬ素子を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の一側面に係る有機ＥＬ素子は、支持基板と、当該支持基板上に配置され、第１電極層、有機機能層及び第２電極層が積層されて形成された有機ＥＬ部と、有機ＥＬ部を封止する封止部材と、吸湿性を有する一又は複数の吸湿部と、を備える有機ＥＬ素子であって、吸湿部は、有機ＥＬ部の積層方向から見て、第１電極層、有機機能層及び第２電極層がこの順番で連続して重なる有機ＥＬ部の発光領域の外縁部に配置されており、発光領域上に配置される吸湿部の面積は、発光領域の面積よりも小さい。【０００７】
本発明の一側面に係る有機ＥＬ素子では、吸湿部は、有機ＥＬ部の発光領域の外縁部に配置されている。これにより、吸湿部においてブリードアウトが発生した場合であっても、ブリードアウトで発生した成分が第２電極層の全体に影響を及ぼすことを抑制できる。そのため、有機ＥＬ素子では、ブリードアウトが発生した場合であっても、第２電極層におけるダークスポットの発生を最小限に留めることができる。また、吸湿部を備えることにより、水分の侵入に起因する発光領域の縮小化を抑制できる。したがって、有機ＥＬ素子では、発光特性の劣化を抑制できる。【０００８】
一実施形態においては、発光領域上に配置される吸湿部の面積は、発光領域の面積の２０％以下であってもよい。これにより、発光領域の面積が８０％程度確保されるため、発光特性を維持しつつ、劣化を抑制できる。【０００９】
一実施形態においては、発光領域上に配置される吸湿部の面積は、発光領域の面積の１０％以下であってもよい。これにより、発光領域の面積が９０％程度確保されるため、発光特性を維持しつつ、劣化を抑制できる。【００１０】
一実施形態においては、吸湿部は、第２電極層の端面を覆って配置されていてもよい。これにより、第２電極層への水分の侵入を抑制できる。したがって、第２電極層の劣化を抑制できる。【００１１】
一実施形態においては、吸湿部は、有機機能層及び第２電極層それぞれの端面を覆って配置されていてもよい。これにより、有機機能層及び第２電極層への水分の侵入を抑制できる。したがって、有機機能層及び第２電極層の劣化を抑制できる。【００１２】
一実施形態においては、第１電極は陽極であり、第２電極は陰極であってもよい。【００１３】
一実施形態においては、封止部材は、粘接着性を有すると共に有機ＥＬ部及び吸湿部を被覆する粘接着部を有し、吸湿部の厚さは、粘接着部の厚さの１／２以下であってもよい。吸湿部の厚さが粘接着部の厚さに対して厚すぎると、粘接着部によって吸湿部を適切に被覆できない。吸湿部の厚さを、粘接着部の厚さの１／２以下とすることにより、粘接着部によって吸湿部を適切に被覆できる。
【発明の効果】
【００１４】
本発明の一側面によれば、発光特性の劣化を抑制できる。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】図１は、一実施形態に係る有機ＥＬ素子の平面図である。
【図２】図２は、図１におけるＩＩ−ＩＩ線に沿った有機ＥＬ素子の断面図である。
【図３】図３は、ロールツーロール方式による有機デバイスの製造方法を模式的に示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
以下、添付図面を参照して、本発明の好適な実施形態について詳細に説明する。なお、図面の説明において同一又は相当要素には同一符号を付し、重複する説明は省略する。
【００１７】
図１及び図２に示されるように、有機ＥＬ素子１は、支持基板３と、陽極層（第１電極層）５と、有機機能層７と、陰極層（第２電極層）９と、吸湿部１１と、粘接着部１３と、封止基材１５と、を備えている。陽極層５、有機機能層７及び陰極層９は、有機ＥＬ部１７を構成している。粘接着部１３及び封止基材１５は、封止部材１９を構成している。
【００１８】
［支持基板］
支持基板３は、可視光（波長４００ｎｍ〜８００ｎｍの光）に対して透光性を有する樹脂から構成されている。支持基板３は、例えば、矩形状を呈している。支持基板３は、例えばフィルム状の基板（フレキシブル基板、可撓性を有する基板）である。支持基板３の厚さは、例えば、３０μｍ以上５００μｍ以下である。
【００１９】
支持基板３は、例えば、プラスチックフィルムである。支持基板３の材料は、例えば、ポリエーテルスルホン（ＰＥＳ）；ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）等のポリエステル樹脂；ポリエチレン（ＰＥ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、環状ポリオレフィン等のポリオレフィン樹脂；ポリアミド樹脂；ポリカーボネート樹脂；ポリスチレン樹脂；ポリビニルアルコール樹脂；エチレン−酢酸ビニル共重合体のケン化物；ポリアクリロニトリル樹脂；アセタール樹脂；ポリイミド樹脂；エポキシ樹脂を含む。
【００２０】
支持基板３の材料は、上記樹脂の中でも、耐熱性が高く、線膨張率が低く、かつ、製造コストが低いことから、ポリエステル樹脂、ポリオレフィン樹脂が好ましく、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートが特に好ましい。また、これらの樹脂は、１種を単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００２１】
支持基板３の一方の主面３ａ上には、水分バリア層（バリア層）が配置されていてもよい。支持基板３の他方の主面３ｂは、発光面である。なお、支持基板３は、薄膜ガラスであってもよい。なお、支持基板３は、可撓性を有さない基板（例えば、ガラス基板等）であってもよい。
【００２２】
［陽極層］
陽極層５は、支持基板３の一方の主面３ａ上に配置されている。陽極層５は、支持基板３のＸ方向における一端から他端に亘って配置されている。陽極層５は、Ｙ方向において所定の幅を有しており、略長方形状を呈している。陽極層５には、光透過性を示す電極層が用いられる。光透過性を示す電極としては、電気伝導度の高い金属酸化物、金属硫化物及び金属等の薄膜を用いることができ、光透過率の高い薄膜が好適に用いられる。例えば酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化スズ、インジウム錫酸化物（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ：略称ＩＴＯ）、インジウム亜鉛酸化物（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｚｉｎｃ  Ｏｘｉｄｅ：略称ＩＺＯ）、金、白金、銀、及び銅等からなる薄膜が用いられ、これらの中でもＩＴＯ、ＩＺＯ、又は酸化スズからなる薄膜が好適に用いられる。
【００２３】
陽極層５として、ポリアニリン及びその誘導体、ポリチオフェン及びその誘導体等の有機物の透明導電膜を用いてもよい。また、陽極層５として、金属又は金属合金等をメッシュ状にパターニングした電極、或いは、銀を含むナノワイヤーがネットワーク状に形成されている電極を用いてもよい。
【００２４】
陽極層５の厚さは、光の透過性、電気伝導度等を考慮して決定することができる。陽極層５の厚さは、通常、１０ｎｍ〜１０μｍであり、好ましくは２０ｎｍ〜１μｍであり、さらに好ましくは５０ｎｍ〜５００ｎｍである。
【００２５】
陽極層５の形成方法としては、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、メッキ法及び塗布法等を挙げることができる。
【００２６】
［有機機能層］
有機機能層７は、陽極層５及び支持基板３の一方の主面３ａ上に配置されている。有機機能層７は、発光層を含んでいる。有機機能層７は、通常、主として蛍光及び／又はりん光を発光する有機物、或いは該有機物とこれを補助する発光層用ドーパント材料を含む。発光層用ドーパント材料は、例えば発光効率を向上させたり、発光波長を変化させたりするために加えられる。なお、有機物は、低分子化合物であってもよいし、高分子化合物であってもよい。有機機能層７を構成する発光材料としては、例えば下記の色素材料、金属錯体材料、高分子材料、発光層用ドーパント材料を挙げることができる。
【００２７】
（色素材料）
色素材料としては、例えばシクロペンダミン及びその誘導体、テトラフェニルブタジエン及びその誘導体、トリフェニルアミン及びその誘導体、オキサジアゾール及びその誘導体、ピラゾロキノリン及びその誘導体、ジスチリルベンゼン及びその誘導体、ジスチリルアリーレン及びその誘導体、ピロール及びその誘導体、チオフェン化合物、ピリジン化合物、ペリノン及びその誘導体、ペリレン及びその誘導体、オリゴチオフェン及びその誘導体、オキサジアゾールダイマー及びその誘導体、ピラゾリンダイマー及びその誘導体、キナクリドン及びその誘導体、クマリン及びその誘導体等を挙げることができる。
【００２８】
（金属錯体材料）
金属錯体材料としては、例えばＴｂ、Ｅｕ、Ｄｙ等の希土類金属、又はＡｌ、Ｚｎ、Ｂｅ、Ｐｔ、Ｉｒ等を中心金属に有し、オキサジアゾール、チアジアゾール、フェニルピリジン、フェニルベンゾイミダゾール、キノリン構造等を配位子に有する金属錯体を挙げることができる。金属錯体としては、例えばイリジウム錯体、白金錯体等の三重項励起状態からの発光を有する金属錯体、アルミニウムキノリノール錯体、ベンゾキノリノールベリリウム錯体、ベンゾオキサゾリル亜鉛錯体、ベンゾチアゾール亜鉛錯体、アゾメチル亜鉛錯体、ポルフィリン亜鉛錯体、フェナントロリンユーロピウム錯体等を挙げることができる。
【００２９】
（高分子材料）
高分子材料としては、例えばポリパラフェニレンビニレン及びその誘導体、ポリチオフェン及びその誘導体、ポリパラフェニレン及びその誘導体、ポリシラン及びその誘導体、ポリアセチレン及びその誘導体、ポリフルオレン及びその誘導体、ポリビニルカルバゾール及びその誘導体、上記色素材料、金属錯体材料を高分子化した材料等を挙げることができる。
【００３０】
（発光層用ドーパント材料）
発光層用ドーパント材料としては、例えばペリレン及びその誘導体、クマリン及びその誘導体、ルブレン及びその誘導体、キナクリドン及びその誘導体、スクアリウム及びその誘導体、ポルフィリン及びその誘導体、スチリル色素、テトラセン及びその誘導体、ピラゾロン及びその誘導体、デカシクレン及びその誘導体、フェノキサゾン及びその誘導体等を挙げることができる。
【００３１】
有機機能層７の厚さは、通常約２ｎｍ〜２００ｎｍである。有機機能層７は、例えば、上記のような発光材料を含む塗布液（例えばインク）を用いる塗布法により形成される。発光材料を含む塗布液の溶媒としては、発光材料を溶解するものであれば、限定されない。
【００３２】
［陰極層］
陰極層９は、有機機能層７及び支持基板３の一方の主面３ａ上に配置されている。陰極層９は、引出電極９ａに電気的に接続されている。引出電極９ａは、支持基板３の一方の主面３ａに配置されている。引出電極９ａは、陽極層５と所定の間隔をあけて配置されている。引出電極９ａの厚さは、陽極層５の厚さと同等である。引出電極９ａの材料は、陽極層５の材料と同様である。陰極層９は、Ｘ方向において所定の幅を有しており、略長方形状を呈している。
【００３３】
陰極層９の材料としては、例えばアルカリ金属、アルカリ土類金属、遷移金属及び周期表第１３族金属等を用いることができる。陰極層９の材料としては、具体的には、例えばリチウム、ナトリウム、カリウム、ルビジウム、セシウム、ベリリウム、マグネシウム、カルシウム、ストロンチウム、バリウム、アルミニウム、スカンジウム、バナジウム、亜鉛、イットリウム、インジウム、セリウム、サマリウム、ユーロピウム、テルビウム、イッテルビウム等の金属、前記金属のうちの２種以上の合金、前記金属のうちの１種以上と、金、銀、白金、銅、マンガン、チタン、コバルト、ニッケル、タングステン、錫のうちの１種以上との合金、又はグラファイト若しくはグラファイト層間化合物等が用いられる。合金の例としては、マグネシウム−銀合金、マグネシウム−インジウム合金、マグネシウム−アルミニウム合金、インジウム−銀合金、リチウム−アルミニウム合金、リチウム−マグネシウム合金、リチウム−インジウム合金、カルシウム−アルミニウム合金等を挙げることができる。
【００３４】
また、陰極層９としては、例えば、導電性金属酸化物及び導電性有機物等からなる透明導電性電極を用いることができる。導電性金属酸化物としては、具体的には、酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化スズ、ＩＴＯ、及びＩＺＯを挙げることができ、導電性有機物としてポリアニリン及びその誘導体、ポリチオフェン及びその誘導体等を挙げることができる。なお、陰極層９は、２層以上を積層した積層体で構成されていてもよい。なお、電子注入層が陰極層９として用いられる場合もある。
【００３５】
陰極層９の厚さは、電気伝導度、耐久性を考慮して設定される。陰極層９の厚さは、通常、１０ｎｍ〜１０μｍであり、好ましくは２０ｎｍ〜１μｍであり、さらに好ましくは５０ｎｍ〜５００ｎｍである。
【００３６】
陰極層９の形成方法としては、例えば真空蒸着法、スパッタリング法、また金属薄膜を熱圧着するラミネート法及び塗布法等を挙げることができる。
【００３７】
［吸湿部］
吸湿部１１は、水分を捕獲する乾燥材である。吸湿部１１は、水分の他に、酸素等を捕獲してもよい。吸湿部１１は、図１に示されるように、有機ＥＬ部１７の積層方向から見て、有機ＥＬ部１７の発光領域Ａの外縁部Ｅに配置されている。発光領域Ａは、図２に示されるように、陽極層５、有機機能層７及び陰極層９がこの順番で連続して重なる領域である。すなわち、発光領域Ａは、陽極層５と陰極層９とに電圧が印加されたときに、電子の移動が生じる領域である。本実施形態では、発光領域Ａは、矩形状を呈している。
【００３８】
本実施形態では、吸湿部１１は、図１に示されるように、有機ＥＬ部１７の積層方向から見て、帯状を呈している。吸湿部１１は、発光領域ＡのＸ方向における一端及び他端のそれぞれに配置されており、Ｙ方向に沿って延在している。吸湿部１１は、図２に示されるように、発光領域Ａ（陰極層９）の外縁部Ｅ上で、且つ、陰極層９の端面（露出する面）を覆うように配置され、発光領域Ａの中央部を除く、当該発光領域の外縁部Ｅに設けられている。言い換えれば、吸湿部１１は、発光領域Ａの外縁部Ｅ以外の領域には配置されていない。吸湿部１１は前記発光領域Ａの外縁部Ｅだけでなく、発光領域の中央部から離間する向きに前記外縁部から延在し、有機機能層７の端部を覆って、陽極層５上まで形成されていてもよい。さらには、吸湿部１１は、前記発光領域Ａの外縁部だけでなく、発光領域の中央部から離間する向きに前記外縁部Ｅから延在し、有機機能層７の端部及び陽極層５の端部を覆って、支持基板３上まで形成されていてもよい。発光領域Ａ上に配置された吸湿部１１の面積は、発光領域Ａの全体の面積よりも小さい。具体的には、発光領域Ａ上に配置された吸湿部１１の面積は、発光領域Ａの全体の面積の２０％以下、好ましくは１０％以下である。すなわち、発光領域Ａの外縁部Ｅとは、発光領域Ａの外縁側において、発光領域Ａの面積の２０％以下、好ましくは１０％以下となる部分である。吸湿部１１の厚さＴ１は、粘接着部１３の厚さＴ２よりも薄い。具体的には、吸湿部１１の厚さＴ１は、粘接着部１３の厚さＴ２の１／２以下である。
【００３９】
吸湿部１１は、吸湿部１１の前駆体である液体ゲッター材を硬化させて形成される。液体ゲッター材は、光反応性基を有する架橋性化合物（硬化成分）を含んでいる。吸湿部１１は、粘接着部１３に液体ゲッター材が塗布されて、塗布形成後、紫外線（ＵＶ）照射処理を行い、液体ゲッター材を硬化させて形成される。また、液体ゲッター材は、熱反応性基を有する架橋性化合物を含んでいてもよい。この場合、液体ゲッター材は、加熱処理により硬化させる。
【００４０】
吸湿部１１は、液体ゲッター材として少なくとも有機金属化合物、金属酸化物、ゼオライト等の多孔質物質、のうちの１種類を含んでいることが好ましい。さらに、有機金属化合物と金属酸化物を構成する金属は、アルミニウム、カルシウム、バリウムの少なくとも１種類を含んでいることが好ましい。特に有機アルミニウム化合物や酸化カルシウムは、水分の補水速度が速いため、さらに好ましい。
【００４１】
また、吸湿部１１は、バインダーを含んでいてもよく、特にアクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、スチレン系樹脂、オレフィン系樹脂、及び、アミド系樹脂のうちの少なくとも１種を含んでいてもよい。
【００４２】
吸湿部１１の形状は、シートでもよい。この場合、吸湿部１１は、吸湿部１１の前駆体であるシートゲッター材を硬化させて形成される。シートゲッター材は、粘接着部１３に貼付される。シートゲッター材は、吸湿性硬化物であってもよいし、粘接着部１３に塗布された後に、加熱処理又はＵＶ照射処理を行い、硬化させてもよい。
【００４３】
吸湿部１１の吸湿速度は、温度２４℃、湿度５５％ＲＨの環境下において、１ｗｔ％／ｈ以上であることが好ましい。
【００４４】
［粘接着部］
粘接着部１３は、封止基材１５を陽極層５、有機機能層７及び陰極層９（有機ＥＬ部１７）に接着させるために用いられるものである。粘接着部１３は、有機ＥＬ部１７を覆うように配置されている。
【００４５】
粘接着部１３は、具体的には、光硬化性又は熱硬化性のアクリレート樹脂、或いは、光硬化性又は熱硬化性のエポキシ樹脂から構成される。その他一般に使用されるインパルスシーラーで融着可能な樹脂フィルム、例えばエチレン酢酸ビニルコポリマー（ＥＶＡ）、ポリプロピレン（ＰＰ）フィルム、ポリエチレン（ＰＥ）フィルム、ポリブタジエン（ＰＢ）フィルム等の熱融着性フィルムを使用することもできる。また、熱可塑性樹脂も使用することができる。
【００４６】
粘接着部１３に用いられる接着材としては、有機ＥＬ部１７と粘接着部１３との接着性が高く、また、著しい接着材熱収縮、有機ＥＬ部１７へのストレスによる有機ＥＬ部１７の剥離、粘接着部１３からの有機ＥＬ部１７へ悪影響を及ぼす成分の発生、及びバリア性が高くダークスポットの発生・成長を抑制する効果が高い接着材が好ましい。
【００４７】
粘接着部１３の厚さは、好ましくは１μｍ〜１００μｍ、より好ましくは５μｍ〜６０μｍ、さらに好ましくは１０μｍ〜３０μｍである。この厚さが著しく薄いと、有機ＥＬ部１７表面の凹凸又は混入した塵埃を十分埋め込むことができず、それらが有機ＥＬ材料に機械的なストレスを与えダークスポットの原因となりやすい。一方、この厚さが著しく厚いと、粘接着部１３の端面から侵入する水分の影響を受けやすい。ただし、接着剤の塗設量が多すぎる場合には、トンネル、浸み出し、縮緬皺等が発生することがある。粘接着部１３の含有水分量は、３００ｐｐｍ以下（重量基準）であることが好ましい。
【００４８】
粘接着部１３を形成する方法としては、例えば、ホットメルトラミネーション法が挙げられる。ホットメルトラミネーション法とは、ホットメルト接着剤を溶融し支持体に接着層を塗設する方法であり、接着層の厚さを一般に１μｍ〜５０μｍと広い範囲で設定可能な方法である。ホットメルトラミネーション法で一般に使用される接着剤のベースレジンとしては、ＥＶＡ、エチレンエチルアクリレートコポリマー（ＥＥＡ）、ポリエチレン、ブチルラバー等が使用され、ロジン、キシレン樹脂、テルペン系樹脂、スチレン系樹脂等が粘着付与剤として、ワックス等が可塑剤として添加される。
【００４９】
また、粘接着部１３を形成する方法としては、エクストルージョンラミネート法が挙げられる。エクストルージョンラミネート法とは、高温で溶融した樹脂をダイスにより支持体上に塗設する方法であり、接着層の厚さを一般に１０μｍ〜５０μｍと広い範囲で設定可能な方法である。エクストルージョンラミネート法に使用される樹脂としては一般に、低密度ポリエチレン（ＬＤＰＥ）、ＥＶＡ、ＰＰ等が使用される。
【００５０】
［封止基材］
封止基材１５は、有機ＥＬ素子１において最上部（粘接着部１３上）に配置されている。封止基材１５は、金属箔、透明なプラスチックフィルムの表面若しくは裏面又はその両面にバリア機能層を形成したバリアフィルム、或いはフレキシブル性を有する薄膜ガラス、プラスチックフィルム上にバリア性を有する金属積層させたフィルム等からなり、ガスバリア機能、特に水分バリア機能を有する。金属箔としては、バリア性の観点から、銅、アルミニウム、ステンレスが好ましい。金属箔の厚さとしては、ピンホール抑制の観点から厚い程好ましいが、フレキシブル性の観点も考慮すると１５μｍ〜５０μｍが好ましい。
【００５１】
［有機ＥＬ素子の製造方法］
続いて、上記構成を有する有機ＥＬ素子１の製造方法について説明する。
【００５２】
有機ＥＬ素子１の製造方法では、図３に概念的に示されるように、ロールツーロール方式（連続搬送方式）が採用される。ロールツーロール方式で有機ＥＬ素子１を製造する場合、巻出しロール３０Ａと巻取りロール３０Ｂとの間に張り渡された長尺の可撓性の支持基板３を連続的に搬送ローラ３１で搬送しながら、各層を支持基板３側から順に形成する。
【００５３】
有機ＥＬ素子１を製造する場合、最初に、支持基板３を加熱し、乾燥させる（基板乾燥工程Ｓ０１）。その後、乾燥された支持基板３上に、有機ＥＬ部１７を形成する（有機ＥＬ部形成工程）。有機ＥＬ部１７は、乾燥された支持基板３上に陽極層５を形成する工程（陽極層形成工程Ｓ０２）、陽極層５上に有機機能層７を形成する工程（有機機能層形成工程Ｓ０３）、有機機能層７上に陰極層９を形成する工程（陰極層形成工程Ｓ０４）をこの順に実施する。有機ＥＬ部１７を形成する場合、各層は、各層の説明の際に例示した形成方法で形成し得る。
【００５４】
有機ＥＬ部１７を形成した後、吸湿部１１を形成する（吸湿部形成工程Ｓ０５）。吸湿部１１は、吸湿部１１の説明の際に例示した形成方法で形成し得る。そして、吸湿部１１を形成した後、有機ＥＬ部１７と封止部材１９とを貼り合わせて、有機ＥＬ部１７を封止部材１９で被覆する工程（封止工程Ｓ０６）を実施する。
【００５５】
以上説明したように、本実施形態に係る有機ＥＬ素子１では、吸湿部１１は、有機ＥＬ部１７の発光領域Ａの外縁部Ｅに配置されている。これにより、吸湿部１１においてブリードアウトが発生した場合であっても、ブリードアウトで発生した成分が陰極層９の全体に影響を及ぼすことを抑制できる。そのため、有機ＥＬ素子１では、ブリードアウトが発生した場合であっても、陰極層９におけるダークスポットの発生を最小限に留めることができる。また、吸湿部１１を備えることにより、水分の侵入に起因する発光領域Ａの縮小化を抑制できる。したがって、有機ＥＬ素子１では、発光特性の劣化を抑制できる。
【００５６】
本実施形態では、吸湿部１１の発光領域Ａ上の面積は、発光領域Ａの面積の２０％以下、好ましくは１０％以下である。これにより、発光領域Ａの面積が８０％程度、好ましくは９０％程度確保されるため、発光特性を維持しつつ、劣化を抑制できる。
【００５７】
本実施形態では、封止部材１９は、粘接着性を有すると共に有機ＥＬ部１７及び吸湿部１１を被覆する粘接着部１３を有する。吸湿部１１の厚さＴ１は、粘接着部１３の厚さＴ２の１／２以下である。吸湿部１１の厚さＴ１が粘接着部１３の厚さＴ２に対して厚すぎると、粘接着部１３によって吸湿部１１を適切に被覆できない。吸湿部１１の厚さＴ１を、粘接着部１３の厚さＴ２の１／２以下とすることにより、粘接着部１３によって吸湿部１１を適切に被覆できる。
【００５８】
有機ＥＬ素子１では、吸湿部１１の吸水が飽和することを防止するために、封止部材１９の端部（図２における左右の端部）と吸湿部１１との間に、一定の距離を確保する必要がある。本実施形態では、吸湿部１１を発光領域Ａの外縁部Ｅに配置するため、吸湿部１１を例えば有機ＥＬ部１７と封止部材１９の端部との間において支持基板３上に配置する構成に比べて、封止部材１９の端部と有機ＥＬ部１７との間の距離を小さくできる。そのため、有機ＥＬ素子１におけるベゼルの幅を狭くすることができる。したがって、有機ＥＬ素子１では、発光領域Ａの面積を確保しつつ、小型化を図ることができる。
【００５９】
なお、本発明は上記した本実施形態に限定されることなく種々の変形が可能である。例えば、上記実施形態では、陽極層５と陰極層９との間に発光層を含む有機機能層７が配置された有機ＥＬ素子１を例示した。しかし、有機機能層７の構成はこれに限定されない。有機機能層７は、以下の構成を有していてもよい。
（ａ）（陽極層）／発光層／（陰極層）
（ｂ）（陽極層）／正孔注入層／発光層／（陰極層）
（ｃ）（陽極層）／正孔注入層／発光層／電子注入層／（陰極層）
（ｄ）（陽極層）／正孔注入層／発光層／電子輸送層／電子注入層／（陰極層）
（ｅ）（陽極層）／正孔注入層／正孔輸送層／発光層／（陰極層）
（ｆ）（陽極層）／正孔注入層／正孔輸送層／発光層／電子注入層／（陰極層）
（ｇ）（陽極層）／正孔注入層／正孔輸送層／発光層／電子輸送層／電子注入層／（陰極層）
（ｈ）（陽極層）／発光層／電子注入層／（陰極層）
（ｉ）（陽極層）／発光層／電子輸送層／電子注入層／（陰極層）
ここで、記号「／」は、記号「／」を挟む各層が隣接して積層されていることを示す。上記（ａ）に示す構成は、上記実施形態における有機ＥＬ素子１の構成を示している。
【００６０】
正孔注入層、正孔輸送層、電子輸送層及び電子注入層のそれぞれの材料は、公知の材料を用いることができる。正孔注入層、正孔輸送層、電子輸送層及び電子注入層のそれぞれは、例えば、有機機能層７と同様に塗布法により形成できる。
【００６１】
有機ＥＬ素子１は、単層の有機機能層７を有していてもよいし、２層以上の有機機能層７を有していてもよい。上記（ａ）〜（ｉ）の層構成のうちのいずれか１つにおいて、陽極層５と陰極層９との間に配置された積層構造を「構造単位Ａ」とすると、２層の有機機能層７を有する有機ＥＬ素子の構成として、例えば、下記（ｊ）に示す層構成を挙げることができる。２個ある（構造単位Ａ）の層構成は、互いに同じであっても、異なっていてもよい。
（ｊ）陽極層／（構造単位Ａ）／電荷発生層／（構造単位Ａ）／陰極層
【００６２】
ここで電荷発生層とは、電界を印加することにより、正孔と電子とを発生する層である。電荷発生層としては、例えば酸化バナジウム、ＩＴＯ、酸化モリブデン等からなる薄膜を挙げることができる。
【００６３】
また、「（構造単位Ａ）／電荷発生層」を「構造単位Ｂ」とすると、３層以上の有機機能層７を有する有機ＥＬ素子の構成として、例えば、以下の（ｋ）に示す層構成を挙げることができる。
（ｋ）陽極層／（構造単位Ｂ）ｘ／（構造単位Ａ）／陰極層
【００６４】
記号「ｘ」は、２以上の整数を表し、「（構造単位Ｂ）ｘ」は、（構造単位Ｂ）がｘ段積層された積層体を表す。また複数ある（構造単位Ｂ）の層構成は同じでも、異なっていてもよい。
【００６５】
電荷発生層を設けずに、複数の有機機能層７を直接的に積層させて有機ＥＬ素子を構成してもよい。
【００６６】
上記実施形態では、有機ＥＬ素子１において、支持基板３の他方の主面３ｂが発光面である形態を一例に説明した。しかし、有機ＥＬ素子における発光面は、他方の主面３ｂに限定されない。
【００６７】
上記実施形態では、第１電極層が陽極層５であり、第２電極層が陰極層９である形態を一例に説明した。しかし、第１電極層が陰極層であり、第２電極層が陽極層であってもよい。
【００６８】
上記実施形態では、図２に示されるように、吸湿部１１が、発光領域Ａ（陰極層９）の外縁部Ｅ上で、且つ、有機機能層７及び陰極層９の端面（露出する面）を覆うように配置されている形態を一例に説明した。しかし、吸湿部１１は、少なくとも、発光領域Ａの外縁部Ｅ上に配置されていればよい。すなわち、有機機能層７及び陰極層９の端面が吸湿部１１に覆われなくてもよい。
【００６９】
上記実施形態では、図１に示されるように、吸湿部１１が、Ｙ方向に沿って連続して延在している形態を一例に説明した。しかし、吸湿部１１は、Ｙ方向において、間欠的に配置されていてもよい。すなわち、吸湿部１１は、Ｙ方向において所定の間隔をあけて複数配置されていてもよい。
【００７０】
上記実施形態では、図１に示されるように、吸湿部１１が、発光領域ＡのＸ方向における一端及び他端のそれぞれに配置されている形態を一例に説明した。しかし、吸湿部１１は、発光領域Ａの外縁部Ｅを囲うように枠状に配置されていてもよい。また、吸湿部１１は、発光領域ＡのＸ方向における一端又は他端のいずれかに配置されていてもよい。例えば、１枚の支持基板３に複数の有機ＥＬ部１７が並んで配置される構成の場合には、吸湿部１１は、支持基板３の外側に位置する有機ＥＬ部１７の発光領域Ａの外縁部Ｅに配置されればよい。要は、吸湿部１１は、水分が侵入し易い位置に配置されればよい。
【００７１】
上記実施形態では、ロールツーロール方式で有機ＥＬ素子１を製造する形態を一例に説明したが、有機ＥＬ素子１の製造方法はこれに限定されない。また、有機ＥＬ素子１の製造工程についても、様々な様態を採用することができる。
【００７２】
有機ＥＬ素子の構造は、上記実施形態の構造に限定されず、様々な様態とすることができる。
【実施例】
【００７３】
（実施例）
支持基板として、厚さ０．７ｍｍのガラス基板を準備した。この支持基板の一方の主面上に、スパッタ法により厚さ４５ｎｍのＩＴＯ薄膜を成膜した後、図１に示されるように、支持基板のＸ方向における一端から他端に亘って配置され、Ｙ方向に１０ｍｍ幅を有するように、陽極層及び引出電極をフォトリソグラフィー法で形成した。【００７４】
陽極層及び引出電極が形成されたガラス基板を洗浄容器に入れ、セミコクリーン（フルウチ化学製）、超純水、イソプロピルアルコールの順番で浸漬しながら超音波洗浄した。その後、１５分間、ＵＶオゾン処理を行った。【００７５】
続いて、正孔注入層、正孔輸送層、発光層、及び電子輸送層をスピンコート法にて積層して、有機機能層を形成した。その後、フッ化ナトリウム、アルミニウムを順に積層して、陰極層を形成した。陰極層は、図１に示されるように、引出電極に電気的に接続され、且つＸ方向において１０ｍｍの幅を有するように、メタルマスクを介して真空蒸着法にて形成した。これにより、１０ｍｍ角の発光領域をもつ有機ＥＬ部が形成される。【００７６】
次いで、大気に触れさせることなく、窒素ガスで置換したグローブボックス内に入れ、シリンジに充填された熱架橋性化合物を含む液体ゲッター材をディスペンサーにて発光領域上に塗布した。このとき、液体ゲッター材は、図１に示されるように、陰極層が露出している端面を覆うように、帯状で且つ発光領域のＸ方向における一端及び他端のそれぞれの外縁部のみに塗布した。その後、ホットプレート上で加熱し、液体ゲッター材を硬化させることで吸湿部を形成した。このとき、吸湿部は、外縁部上に０．５ｍｍずつ重なっており、発光領域上に配置される吸湿部の面積は、発光領域の面積の１０％であった。【００７７】
その後、厚さ３５μｍの電解銅箔基材（福田金属箔粉工業製）に厚さ３０μｍの粘着シートを貼合した封止部材をグローブボックス内のホットプレートで加熱処理し、室温に冷えてから有機ＥＬ部が形成された支持基板上にハンドローラーを用いて貼り合わせて封止を行った。【００７８】
（比較例１）
有機ＥＬ部を形成するまでは実施例と同じであるが、液体ゲッター材を陰極層の端面も含めて発光領域の全面にディスペンサーを用いて塗布し、その後ホットプレート上で加熱し、液体ゲッター材を硬化させることで吸湿部を形成した。このとき、発光領域上全面に吸湿部は形成されているので、発光領域上に配置される吸湿部の面積は、発光領域の面積の１００％であった。その後、封止部材を貼り合わせて封止を行った。【００７９】
（比較例２）
有機ＥＬ部を形成するまでは実施例と同じであるが、液体ゲッター材を塗布せず吸湿部を形成せずに封止部材を貼り合わせて封止を行った。【００８０】
（評価）
封止した有機ＥＬ素子をグローブボックスから大気中へと出して、電流密度１０ｍＡ／ｃｍ２で駆動させて、１０ｍｍ角の発光領域全面が一点のダークスポット（非発光部）もなく発光していることを確認した後、温度８５℃湿度９０％の保管環境にて６００時間保管してから再度電流密度１０ｍＡ／ｃｍ２で駆動させて発光状態を観察した。以下の方法で発光領域残存率を算出した。【００８１】
（発光領域残存率の算出）
有機ＥＬ素子を電流密度１０ｍＡ／ｃｍ２で駆動させ発光面積を測定する（初期の発光面積（Ａ０））。その後、該有機ＥＬ素子を、温度８５℃湿度９０％の保管環境にて６００時間保管してから再度電流密度１０ｍＡ／ｃｍ２で駆動させて発光状態を観察して、保管後の発光面積（Ａ６００）を測定する。
発光領域残存率は以下の式により算出する。
発光領域残存率＝Ａ６００／Ａ０×１００（％）
発光面積は、ＥＬ駆動中の発光をカメラで撮影し、その画像を二値化することによって発光箇所を抽出して発光箇所の面積を合算することによって算出することができる。【００８２】
（結果）
実施例では、吸湿部を重ねた領域のみダークスポットが散発しており劣化が確認されたが、その劣化領域は１０ｍｍ角発光の両端０．５ｍｍずつのみに限られ、それ以外はダークスポットもなく正常に発光を維持しており、正常な発光領域は９５％を保っていた。すなわち、発光領域残存率は９５％であった。一方、比較例１では陰極層が露出している端面からの発光領域の劣化は確認されなかったものの、発光領域全面にダークスポットが出ており、その発光領域は８０％しか残されていなかった。また、比較例２では陰極層が露出している端面からの発光領域の劣化が顕著で、両端からそれぞれ２ｍｍずつの非発光領域が確認され、その発光領域は６０％を切っていた。【００８３】
有機ＥＬ素子では、前記の条件で測定した発光領域残存率が、８０％を超えることが好ましく、８５％以上であることがより好ましく、９０％以上であることがさらに好ましい。
【符号の説明】
【００８４】
１…有機ＥＬ素子、３…支持基板、５…陽極層（第１電極層）、７…有機機能層、９…陰極層（第２電極層）、１１…吸湿部、１３…粘接着部、１７…有機ＥＬ部、１９…封止部材、Ａ…発光領域、Ｅ…外縁部。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【国際調査報告】
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