(57)【要約】  本発明は、下記一般式（Ａ１）または（Ａ２）：2016199909.tif 000028［式中、各記号は、明細書中の記載と同意義である。］で表される化合物を提供する。【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記一般式（Ａ１）または（Ａ２）：
【化１】
2016199909.tif 000024
［式中：
Ｒ１は、ＯＲ４を表し；
Ｒ４は、水素原子または炭素数１〜２０のアルキル基を表し；
ＰＥ１は、各出現においてそれぞれ独立して、式：
−（ＣａＨ２ａＯ）ｂ−
（式中：
ａは、ｂを付して括弧でくくられた単位毎にそれぞれ独立して、１〜６の整数であり；
ただし、式（Ａ１）または（Ａ２）中、少なくとも１つの単位において、ａは４であり；
−（Ｃ４Ｈ８Ｏ）−単位は、−（ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）−であり；
ｂは、各出現においてそれぞれ独立して、１〜２００の整数である。）
で表される基であり；
Ｙは、各出現においてそれぞれ独立して、単結合または−ＣＯＮＨ−Ｒ５−ＮＨＣＯＯ−を表し；
Ｒ５は、各出現においてそれぞれ独立して、二価の有機基を表し；
ｎは、１〜５０の整数であり；
ＰＥ２は、単結合または上記−（ＣａＨ２ａＯ）ｂ−基を表し；
Ｘは、それぞれ独立して、単結合または２〜１０価の有機基を表し； 
Ｒａは、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｚ−ＳｉＲ７１ｐＲ７２ｑＲ７３ｒを表し； 
Ｚは、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子または２価の有機基を表し；
Ｒ７１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒａ’を表し；
Ｒａ’は、Ｒａと同意義であり；
Ｒａ中、Ｚ基を介して直鎖状に連結されるＳｉは最大で５個であり；
Ｒ７２は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表し；
Ｒ７３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表し；
ｐは、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｑは、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｒは、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
１つのＲａにおいて、ｐ、ｑおよびｒの和は３であり；
Ｒｂは、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表し；
Ｒｃは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表し；
ｋは、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｌは、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｍは、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
αを付して括弧でくくられた単位において、ｋ、ｌおよびｍの和は３であり；
αは、それぞれ独立して、１〜９の整数であり；
ただし、式中少なくとも１つのＲ７２またはＲｂが存在する。］
で表される化合物。
【請求項２】
式（Ａ１）：
【化２】
2016199909.tif 000025
［式中、Ｒ１、ＰＥ１、ＰＥ２、Ｘ、Ｙ、Ｒａ、Ｒｂ、Ｒｃ、ｋ、ｌ、ｍ、ｎおよびαは、請求項１の記載と同意義である。］
で表される、請求項１に記載の化合物。
【請求項３】
ＰＥ１およびＰＥ２における−（ＣａＨ２ａＯ）ｂ−が、それぞれ独立して、式：
−（Ｃ４Ｈ８Ｏ）ｃ−（Ｃ３Ｈ６Ｏ）ｄ−（Ｃ２Ｈ４Ｏ）ｅ−
（式中：
ｃ、ｄおよびｅは、それぞれ独立して、０〜２００の整数であり；
ｃ、ｄおよびｅの和は１〜２００であり；
添字ｃ、ｄまたはｅを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。）
で表される基であることを特徴とする、請求項１または２に記載の化合物。
【請求項４】
ＰＥ１およびＰＥ２における−（ＣａＨ２ａＯ）ｂ−が、式：
−（Ｃ４Ｈ８Ｏ）ｃ−（Ｃ３Ｈ６Ｏ）ｄ−
（式中：
ｃおよびｄは、０〜２００の整数であり；
ｃおよびｄの和は１〜２００であり；
添字ｃまたはｄを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。）
で表される基であることを特徴とする、請求項１〜３のいずれか１項に記載の化合物。
【請求項５】
ＰＥ１およびＰＥ２が、各出現においてそれぞれ独立して、
−（Ｃ４Ｈ８Ｏ）ｃ−
−（Ｃ３Ｈ６Ｏ）ｄ−、および
−（Ｃ２Ｈ４Ｏ）ｅ−
（式中、ｃ、ｄおよびｅは、それぞれ独立して、１〜２００の整数である。）
から選択される基であることを特徴とする、請求項１〜４のいずれか１項に記載の化合物。
【請求項６】
ＰＥ１およびＰＥ２が、各出現においてそれぞれ独立して、
−（Ｃ４Ｈ８Ｏ）ｃ−、および
−（Ｃ３Ｈ６Ｏ）ｄ−
（式中、ｃおよびｄは、それぞれ独立して、１〜２００の整数である。）
から選択される基であることを特徴とする、請求項１〜５のいずれか１項に記載の化合物。
【請求項７】
ＰＥ１およびＰＥ２が、各出現においてそれぞれ独立して、式：
−（Ｃ４Ｈ８Ｏ）ｃ−
（式中、ｃは、１〜２００の整数である。）
で表される基であることを特徴とする、請求項１〜６のいずれか１項に記載の化合物。
【請求項８】
Ｃ３Ｈ６Ｏが、ＣＨ２ＣＨＣＨ３Ｏであり；
Ｃ２Ｈ４Ｏが、ＣＨ２ＣＨ２Ｏである
ことを特徴とする、請求項３〜６のいずれか１項に記載の化合物。
【請求項９】
Ｙが、下記式：
−ＣＯＮＨ−Ｒ５−ＮＨＣＯＯ−
［式中、Ｒ５は、
−（ＣＨ２）ｘ’−  （式中、ｘ’は、１〜６の整数である。）；
【化３】
2016199909.tif 000026
（式中、ｘおよびｙは、それぞれ独立して、０〜６の整数であり；
ｚは、０〜１０の整数である。）；または
【化４】
2016199909.tif 000027
（式中、ｘおよびｙは、それぞれ独立して、０〜６の整数であり；
ｚは、０〜４の整数である。）
で表される基である。］
で表される基であることを特徴とする、請求項１〜８のいずれか１項に記載の化合物。
【請求項１０】
Ｘが、−ＣＯＮＨ−Ｃ１−２０アルキレン基であることを特徴とする、請求項１〜９のいずれか１項に記載の化合物。
【請求項１１】
ＰＥ１の数平均分子量が、５００〜１０，０００であることを特徴とする、請求項１〜１０のいずれか１項に記載の化合物。
【請求項１２】
ガラス転移温度が、−７０℃〜４０℃の範囲にあることを特徴とする、請求項１〜１１のいずれか１項に記載の化合物。
【請求項１３】
請求項１〜１２のいずれか１項に記載の式（Ａ１）または式（Ａ２）で表される少なくとも１種の化合物を含有する、表面処理剤。
【請求項１４】
さらに溶媒を含む、請求項１３に記載の表面処理剤。
【請求項１５】
さらに下記式：
ＨＯ−（Ｃａ’Ｈ２ａ’Ｏ）ｂ’−ＯＨ
［式中：
ａ’は、ｂ’を付して括弧でくくられた単位毎にそれぞれ独立して、１〜６の整数であり；
ｂ’は、各出現においてそれぞれ独立して、１〜３００の整数である。］
で表されるポリオールを含む、請求項１３または１４に記載の表面処理剤。
【請求項１６】
ｎ−ヘキサデカンに対する接触角が４０°以下である表面処理層を形成することができる、請求項１３〜１５のいずれか１項に記載の表面処理剤。
【請求項１７】
動摩擦係数が、０．３０以下である表面処理層を形成することができる、請求項１３〜１６のいずれか１項に記載の表面処理剤。
【請求項１８】
基材と、該基材の表面に、請求項１３〜１７のいずれか１項に記載の表面処理剤より形成された層とを含む物品。
【請求項１９】
前記物品が光学部材である、請求項１８に記載の物品。
【請求項２０】
前記物品がディスプレイまたはタッチパネルである、請求項１８または１９に記載の物品。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、（ポリ）エーテル基含有シラン化合物、およびこれを含んで成る表面処理剤に関する。
【背景技術】
【０００２】
ある種のシラン化合物は、基材の表面処理に用いると、優れた機能（例えば、撥水性、撥油性、防汚性）などを提供し得ることが知られている。シラン化合物を含む表面処理剤から得られる層（以下、「表面処理層」とも言う）は、いわゆる機能性薄膜として、例えばガラス、プラスチック、繊維、建築資材など種々多様な基材に施されている。【０００３】
そのようなシラン化合物として、含フッ素シラン化合物が知られている。具体的には、特許文献１および２には、Ｓｉ原子に結合した加水分解可能な基を分子末端に有するパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物が記載されている。【０００４】
また、別のシラン化合物として、ポリエーテル基含有シラン化合物が知られている。具体的には、特許文献３および４には、Ｓｉ原子に結合した加水分解可能な基を分子末端に有するポリエーテル基含有シラン化合物が記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】国際公開第９７／０７１５５号
【特許文献２】特表２００８−５３４６９６号公報
【特許文献３】特開２０１３−６０３５４号
【特許文献４】特開２０１４−６５８２７号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
特許文献１〜４に記載のような表面処理剤から得られる表面処理層は、上記のような機能を薄膜でも発揮し得ることから、光透過性ないし透明性が求められるメガネやタッチパネルなどの光学部材に好適に利用されている。このような用途においては、指紋の付着が問題となり得る。【０００７】
特許文献１および２に記載のようなパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物を含む表面処理剤から得られる層は、優れた撥水撥油性を有しており、指紋が付着しにくい。しかしながら、パーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物を含む表面処理剤から得られる層においては、指紋の付着量は少ないが、指紋が付着した場合には、その優れた撥水撥油性、即ち高い接触角のために、付着した皮脂が光を散乱し、指紋が目立ってしまうという問題がある。【０００８】
特許文献１および２に記載のようなポリエーテル含有シラン化合物を含む表面処理剤から得られる層は、親油性が高く、付着した皮脂が層になじむので、指紋が付着した場合であっても目立ちにくい。しかしながら、特許文献１および２に記載のようなポリエーテル含有シラン化合物を含む表面処理剤から得られる層は、付着した指紋を拭き取ろうとしても、皮脂の後が残ってしまうという問題がある。【０００９】
本発明は、付着した指紋の視認性が低く、かつ、付着した指紋の跡が容易に消える層を形成することができるシラン化合物およびこれを含む表面処理剤を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明者らは、鋭意検討した結果、（ポリ）エーテル基含有シラン化合物中の（ポリ）エーテル基に、ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｏ単位を含ませることにより、付着した指紋の視認性が低く、かつ、付着した指紋の跡を容易に消すことができる表面処理層を与えることができる化合物を得ることができることを見出し、本発明を完成するに至った。【００１１】
即ち、本発明の第１の要旨によれば、一般式（Ａ１）または（Ａ２）：
【化１】
2016199909.tif 000002
［式中：
Ｒ１は、ＯＲ４を表し；
Ｒ４は、水素原子または炭素数１〜２０のアルキル基を表し；
ＰＥ１は、各出現においてそれぞれ独立して、式：
−（ＣａＨ２ａＯ）ｂ−
（式中：
ａは、ｂを付して括弧でくくられた単位毎にそれぞれ独立して、１〜６の整数であり；
ただし、式（Ａ１）または（Ａ２）中、少なくとも１つの単位において、ａは４であり；
ａが４である−（Ｃ４Ｈ８Ｏ）−単位は、−（ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）−であり；
ｂは、各出現においてそれぞれ独立して、１〜２００の整数である。）
で表される基であり；
Ｙは、各出現においてそれぞれ独立して、単結合または−ＣＯＮＨ−Ｒ５−ＮＨＣＯＯ−を表し；
Ｒ５は、各出現においてそれぞれ独立して、二価の有機基を表し；
ｎは、１〜５０の整数であり；
ＰＥ２は、単結合または上記−（ＣａＨ２ａＯ）ｂ−基を表し；
Ｘは、それぞれ独立して、単結合または２〜１０価の有機基を表し； 
Ｒａは、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｚ−ＳｉＲ７１ｐＲ７２ｑＲ７３ｒを表し； 
Ｚは、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子または２価の有機基を表し；
Ｒ７１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒａ’を表し；
Ｒａ’は、Ｒａと同意義であり；
Ｒａ中、Ｚ基を介して直鎖状に連結されるＳｉは最大で５個であり；
Ｒ７２は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表し；
Ｒ７３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表し；
ｐは、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｑは、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｒは、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
１つのＲａにおいて、ｐ、ｑおよびｒの和は３であり；
Ｒｂは、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表し；
Ｒｃは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表し；
ｋは、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｌは、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｍは、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
αを付して括弧でくくられた単位において、ｋ、ｌおよびｍの和は３であり；
αは、それぞれ独立して、１〜９の整数であり；
ただし、式中少なくとも１つのＲ７２またはＲｂが存在する。］
で表される化合物が提供される。【００１２】
本発明の第２の要旨によれば、上記式（Ａ１）または式（Ａ２）で表される少なくとも１種の化合物を含有する表面処理剤が提供される。【００１３】
本発明の第３の要旨によれば、基材と、該基材の表面に、上記の表面処理剤より形成された層とを含む物品が提供される。
【発明の効果】
【００１４】
本発明によれば、新規な（ポリ）エーテル基含有シラン化合物およびこれを含んで成る表面処理剤が提供される。この表面処理剤を用いることにより、指紋が付着した場合であっても、指紋の視認性が低く、指紋の跡が容易に消える表面処理層を形成することができる。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
以下、本発明の化合物について説明する。
【００１６】
本明細書において用いられる場合、「炭化水素基」とは、炭素および水素を含む基であって、炭化水素から１個の水素原子を脱離させた基を意味する。かかる炭化水素基としては、特に限定されるものではないが、１つまたはそれ以上の置換基により置換されていてもよい、炭素数１〜２０の炭化水素基、例えば、脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基等が挙げられる。上記「脂肪族炭化水素基」は、直鎖状、分枝鎖状または環状のいずれであってもよく、飽和または不飽和のいずれであってもよい。また、炭化水素基は、１つまたはそれ以上の環構造を含んでいてもよい。尚、かかる炭化水素基は、その末端または分子鎖中に、１つまたはそれ以上のＮ、Ｏ、Ｓ、Ｓｉ、アミド、スルホニル、シロキサン、カルボニル、カルボニルオキシ等を有していてもよい。
【００１７】
本明細書において用いられる場合、「炭化水素基」の置換基としては、特に限定されないが、例えば、ハロゲン原子；１個またはそれ以上のハロゲン原子により置換されていてもよい、Ｃ１−６アルキル基、Ｃ２−６アルケニル基、Ｃ２−６アルキニル基、Ｃ３−１０シクロアルキル基、Ｃ３−１０不飽和シクロアルキル基、５〜１０員のヘテロシクリル基、５〜１０員の不飽和ヘテロシクリル基、Ｃ６−１０アリール基および５〜１０員のヘテロアリール基から選択される１個またはそれ以上の基が挙げられる。
【００１８】
本明細書において用いられる場合、「２〜１０価の有機基」とは、炭素を含有する２〜１０価の基を意味する。かかる２〜１０価の有機基としては、特に限定されないが、炭化水素基からさらに１〜９個の水素原子を脱離させた２〜１０価の基が挙げられる。例えば、２価の有機基としては、特に限定されるものではないが、炭化水素基からさらに１個の水素原子を脱離させた２価の基が挙げられる。
【００１９】
本発明は、下記一般式（Ａ１）または（Ａ２）：
【化２】
2016199909.tif 000003
で表される少なくとも１種の（ポリ）エーテル基含有シラン化合物を提供する。
【００２０】
上記式（Ａ１）または（Ａ２）中、Ｒ１は、ＯＲ４を表す。
【００２１】
Ｒ４は、水素原子または炭素数１〜２０のアルキル基を表す。当該炭素数１〜２０のアルキル基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、好ましくは直鎖である。炭素数１〜２０のアルキル基は、好ましくは炭素数１〜１０のアルキル基、より好ましくは炭素数１〜６のアルキル基であり得る。具体的には、炭素数１〜２０のアルキル基は、好ましくはメチル基、エチル基またはｎ−プロピル基、より好ましくはメチル基である。Ｒ４は、好ましくは水素原子またはメチル基であり、より好ましくは水素原子である。
【００２２】
上記式（Ａ１）または（Ａ２）中、ＰＥ１は、各出現においてそれぞれ独立して、下記式：
−（ＣａＨ２ａＯ）ｂ−
（式中：
ａは、ｂを付して括弧でくくられた単位毎にそれぞれ独立して、１〜６の整数であり、好ましくは２〜４の整数であり；
ｂは、各出現においてそれぞれ独立して、１〜２００の整数であり、好ましくは５〜２００の整数、より好ましくは５〜１００の整数、さらに好ましくは５〜５０の整数である。）
で表される基である。
【００２３】
上記式（Ａ１）または（Ａ２）中、ＰＥ２は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、または下記式：
−（ＣａＨ２ａＯ）ｂ−
（式中、ａおよびｂは、上記と同意義である。）
で表される基である。
【００２４】
式（Ａ１）または（Ａ２）中、−（ＣａＨ２ａＯ）−単位の少なくとも１つにおいて、ａは４である。即ち、式（Ａ１）または（Ａ２）は、少なくとも１つの−Ｃ４Ｈ８Ｏ−基を含む。また、式（Ａ１）または（Ａ２）中、ａが４である−（Ｃ４Ｈ８Ｏ）−単位は、−（ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）−（テトラメチレンオキシ基）である。−−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｏ−基を含むことにより、本発明の化合物は、指紋の視認性が低く、また、指紋の跡が容易に消える表面処理層を与えることができる
【００２５】
好ましい態様において、ＰＥ１およびＰＥ２における−（ＣａＨ２ａＯ）ｂ−は、各出現においてそれぞれ独立して、式：
−（Ｃ４Ｈ８Ｏ）ｃ−（Ｃ３Ｈ６Ｏ）ｄ−（Ｃ２Ｈ４Ｏ）ｅ−
（式中：
ｃ、ｄおよびｅは、各出現においてそれぞれ独立して、０〜２００の整数、例えば１〜２００の整数、好ましくは５〜２００の整数、より好ましくは５〜１００の整数、さらに好ましくは５〜５０の整数であり；
ｃ、ｄおよびｅの和は１〜２００であり、好ましくは５〜２００、より好ましくは５〜１００、さらに好ましくは５〜５０であり；
添字ｃ、ｄまたはｅを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。）
で表される基である。
【００２６】
上記の態様において、（Ｃ４Ｈ８Ｏ）単位数と、（Ｃ３Ｈ６Ｏ）単位数と、（Ｃ２Ｈ４Ｏ）単位数の比は特に限定されない。好ましい態様において、（Ｃ３Ｈ６Ｏ）単位数および（Ｃ２Ｈ４Ｏ）単位数は、それぞれ、（Ｃ４Ｈ８Ｏ）単位数の１００％以下、好ましくは８０％以下、より好ましくは５０％以下、さらに好ましくは３０％以下であり得る。
【００２７】
一の態様において、ＰＥ１およびＰＥ２における−（ＣａＨ２ａＯ）ｂ−は、各出現においてそれぞれ独立して、式：
−（Ｃ４Ｈ８Ｏ）ｃ−（Ｃ３Ｈ６Ｏ）ｄ−
（式中：
ｃおよびｄは、各出現においてそれぞれ独立して、０〜２００の整数、例えば１〜２００の整数、好ましくは５〜２００の整数、より好ましくは５〜１００の整数、さらに好ましくは５〜５０の整数であり；
ｃおよびｄの和は１〜２００であり、好ましくは５〜２００、より好ましくは５〜１００、さらに好ましくは５〜５０であり；
添字ｃまたはｄを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。）
で表される基である。
【００２８】
上記の態様において、（Ｃ４Ｈ８Ｏ）単位数と（Ｃ３Ｈ６Ｏ）単位数の比は特に限定されない。好ましい態様において、（Ｃ３Ｈ６Ｏ）単位数は、（Ｃ４Ｈ８Ｏ）単位数の１００％以下、好ましくは８０％以下、より好ましくは５０％以下、さらに好ましくは３０％以下であり得る。
【００２９】
別の態様において、ＰＥ１およびＰＥ２は、各出現においてそれぞれ独立して、
−（Ｃ４Ｈ８Ｏ）ｃ−      −（Ｃ３Ｈ６Ｏ）ｄ−、および
−（Ｃ２Ｈ４Ｏ）ｅ−
（式中、ｃ、ｄおよびｅは、それぞれ独立して、１〜２００の整数、好ましくは５〜２００の整数、より好ましくは５〜１００の整数、さらに好ましくは５〜５０の整数である。）
から選択される基である。即ち、この態様において、ＰＥ１およびＰＥ２は、それぞれ独立して、−（Ｃ４Ｈ８Ｏ）ｃ−、−（Ｃ３Ｈ６Ｏ）ｄ−、または−（Ｃ２Ｈ４Ｏ）ｅ−で表されるホモポリマー単位である。この態様において、式（Ａ１）または（Ａ２）中、少なくとも１つの−（Ｃ４Ｈ８Ｏ）ｃ−ホモポリマー単位が存在する。また、式（Ａ１）または（Ａ２）中、−（Ｃ４Ｈ８Ｏ）ｃ−ホモポリマー単位に加え、他の２種が存在してもよく、他の１種のみが存在してもよい。
【００３０】
上記の態様において、各ホモポリマー単位の存在比率は、特に限定されないが、好ましくは、−（Ｃ３Ｈ６Ｏ）ｄ−ホモポリマー単位数、および−（Ｃ２Ｈ４Ｏ）ｅ−ホモポリマー単位数は、それぞれ、−（Ｃ４Ｈ８Ｏ）ｃ−ホモポリマー単位数の８０％以下、好ましくは５０％以下、より好ましくは３０％以下であり得る。
【００３１】
好ましい態様において、ＰＥ１およびＰＥ２は、各出現においてそれぞれ独立して、
−（Ｃ４Ｈ８Ｏ）ｃ−、および
−（Ｃ３Ｈ６Ｏ）ｄ−
（式中、ｃおよびｄは、それぞれ独立して、１〜２００の整数、好ましくは５〜２００の整数、より好ましくは５〜１００の整数、より好ましくは５〜５０の整数である。）
から選択される基である。この態様において、式（Ａ１）または（Ａ２）中、少なくとも１つの−（Ｃ４Ｈ８Ｏ）ｃ−ホモポリマー単位を含む。
【００３２】
上記の態様において、各ホモポリマー単位の存在比率は、特に限定されないが、好ましくは、−（Ｃ３Ｈ６Ｏ）ｄ−ホモポリマー単位数は、−（Ｃ４Ｈ８Ｏ）ｃ−ホモポリマー単位数の８０％以下、好ましくは５０％以下、より好ましくは３０％以下であり得る。
【００３３】
より好ましい態様において、ＰＥ１およびＰＥ２は、各出現においてそれぞれ独立して、式：
−（Ｃ４Ｈ８Ｏ）ｃ−
（式中、ｃは、１〜２００の整数、好ましくは５〜２００の整数、より好ましくは５〜１００の整数、より好ましくは５〜５０の整数である。）
で表される基である。即ち、この態様において、ＰＥ１およびＰＥ２は、−Ｃ４Ｈ８Ｏ−単位のみから成る。
【００３４】
上記ポリエーテルの繰り返し単位のうち、上記したように、−（Ｃ４Ｈ８Ｏ）−は直鎖であり、即ち、−（ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）−である。−（Ｃ３Ｈ６Ｏ）−は、−（ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）−、−（ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２Ｏ）−および−（ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）Ｏ）−のいずれであってもよいが、好ましくは−（ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）Ｏ）−である。また、−（Ｃ２Ｈ４Ｏ）−は、−（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）−および−（ＣＨ（ＣＨ３）Ｏ）−のいずれであってもよいが、好ましくは−（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）−である。
【００３５】
上記式（Ａ１）または（Ａ２）中、Ｙは、各出現においてそれぞれ独立して、単結合または−ＣＯＮＨ−Ｒ５−ＮＨＣＯＯ−を表す。
【００３６】
上記Ｒ５は、各出現においてそれぞれ独立して、二価の有機基を表す。
【００３７】
Ｒ５は、好ましくは、置換基を有していてもよい、炭素数１〜２０の二価の脂肪族炭化水素基または炭素数３〜２０の二価の芳香族炭化水素基、あるいはこれらの組み合わせであり得る。上記脂肪族炭化水素基は、直鎖状、分枝鎖状または環状のいずれであってもよい。一の態様において、Ｒ５は、置換基を有していてもよい、炭素数１〜２０のアルキレン、炭素数３〜２０のシクロアルキレン、または炭素数３〜２０のアリーレン、あるいはこれらの組み合わせであり得る。上記置換基としては、好ましくは炭素数１〜６個のアルキル基が挙げられる。
【００３８】
一の態様において、Ｒ５は、下記式で表される基であり得る。
−（ＣＨ２）ｘ’−  （式中、ｘ’は、１〜６の整数、例えば１〜４の整数である。）；
【化３】
2016199909.tif 000004
（式中、ｘおよびｙは、それぞれ独立して、０〜６の整数、例えば０〜３または１〜３の整数であり；
ｚは、０〜１０の整数、例えば０〜４または１〜４の整数である。）
【化４】
2016199909.tif 000005
（式中、ｘおよびｙは、それぞれ独立して、０〜６の整数、例えば０〜３または１〜３の整数であり；
ｚは、０〜４の整数、例えば０〜３または１〜３の整数である。）
尚、ｘまたはｙが０である場合、−（ＣＨ２）ｘ−または−（ＣＨ２）ｙ−は、それぞれ単結合（結合手）を意味する。
【００３９】
上記式（Ａ１）または（Ａ２）中、ｎは、１〜５０の整数であり、好ましくは１〜３０の整数であり、例えば５〜３０の整数または１０〜２０の整数である。
【００４０】
上記式（Ａ１）または（Ａ２）中、Ｘは、それぞれ独立して、単結合または２〜１０価の有機基を表す。当該Ｘは、式（Ａ１）および（Ａ２）で表される化合物において、主に表面機能を提供するポリエーテル部（即ち、Ｒ１−（ＰＥ１−Ｙ）ｎ−ＰＥ２−部または−（ＰＥ１−Ｙ）ｎ−ＰＥ２−部）と、基材との結合能を提供するシラン部（即ち、αを付して括弧でくくられた基）とを連結するリンカーと解される。従って、当該Ｘは、式（Ａ１）および（Ａ２）で表される化合物が安定に存在し得るものであれば、いずれの有機基であってもよい。
【００４１】
上記式中、αは１〜９の整数である。これらαは、Ｘの価数に応じて変化し得る。式（Ａ１）および（Ａ２）においては、αは、Ｘの価数から１を引いた値である。例えば、Ｘが１０価の有機基である場合、αは９であり、Ｘが５価の有機基である場合、αは４であり、Ｘが２価の有機基である場合、αは１である。
【００４２】
上記Ｘは、好ましくは２〜７価であり、例えば２〜４価または２価の有機基である。
【００４３】
一の態様において、Ｘは、下記Ｘ１ａであり得る。
【００４４】
上記Ｘ１ａの例としては、特に限定するものではないが、例えば、下記式：
−（Ｒ３０）ｒ’−［（Ｒ３１）ｐ’−（Ｘａ）ｑ’］−
［式中：
Ｒ３０は、−ＣＯＮＨ−または−ＣＯ−、好ましくは−ＣＯＮＨ−であり；
ｒ’は、０または１であり、
Ｒ３１は、単結合、−（ＣＨ２）ｓ’−またはｏ−、ｍ−もしくはｐ−フェニレン基を表し、好ましくは−（ＣＨ２）ｓ’−であり、
ｓ’は、１〜２０の整数、好ましくは１〜６の整数、より好ましくは１〜３の整数、さらにより好ましくは１または２であり、
Ｘａは、−（Ｘｂ）ｌ’−を表し、
Ｘｂは、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｏ−、−Ｓ−、ｏ−、ｍ−もしくはｐ−フェニレン基、−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、−Ｓｉ（Ｒ３３）２−、−（Ｓｉ（Ｒ３３）２Ｏ）ｍ’−Ｓｉ（Ｒ３３）２−、−ＣＯＮＲ３４−、−Ｏ−ＣＯＮＲ３４−、−ＮＲ３４−および−（ＣＨ２）ｎ’−からなる群から選択される基を表し、
Ｒ３３は、各出現においてそれぞれ独立して、フェニル基、Ｃ１−６アルキル基またはＣ１−６アルコキシ基を表し、好ましくはフェニル基またはＣ１−６アルキル基であり、より好ましくはメチル基であり、
Ｒ３４は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フェニル基またはＣ１−６アルキル基（好ましくはメチル基）を表し、
ｍ’は、各出現において、それぞれ独立して、１〜１００の整数、好ましくは１〜２０の整数であり、
ｎ’は、各出現において、それぞれ独立して、１〜２０の整数、好ましくは１〜６の整数、より好ましくは１〜３の整数であり、
ｌ’は、１〜１０の整数、好ましくは１〜５の整数、より好ましくは１〜３の整数であり、
ｐ’は、０または１であり、
ｑ’は、０または１であり、
ここに、ｐ’およびｑ’の少なくとも一方は１であり、［（Ｒ３１）ｐ’−（Ｘａ）ｑ’］において、ｐ’またはｑ’を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は任意である］
で表される２価の基が挙げられる。ここに、Ｒ３１およびＸａ（典型的にはＲ３１およびＸａの水素原子）は、Ｃ１−３アルキル基から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよい。
【００４５】
好ましくは、上記Ｘ１ａは、−（Ｒ３０）ｒ’−（Ｒ３１）ｐ’−（Ｘａ）ｑ’−Ｒ３２−である。Ｒ３２は、単結合、−（ＣＨ２）ｔ’−またはｏ−、ｍ−もしくはｐ−フェニレン基を表し、好ましくは−（ＣＨ２）ｔ’−である。ｔ’は、１〜２０の整数、好ましくは２〜６の整数、より好ましくは２〜３の整数である。ここに、Ｒ３２（典型的にはＲ３２の水素原子）は、Ｃ１−３アルキル基から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよい。
【００４６】
好ましくは、上記Ｘ１ａは、
−Ｒ３０−Ｃ１−２０アルキレン基、
−Ｒ３０−Ｒ３１−Ｘｃ−Ｒ３２−、
−Ｒ３０−Ｘｄ−Ｒ３２−、
Ｃ１−２０アルキレン基、
−Ｒ３１−Ｘｃ−Ｒ３２−、または
−Ｘｄ−Ｒ３２−
［式中、Ｒ３０、Ｒ３１およびＲ３２は、上記と同意義である。］
であり得る。
【００４７】
より好ましくは、上記Ｘ１ａは、
−Ｒ３０−Ｃ１−２０アルキレン基、
−Ｒ３０−（ＣＨ２）ｓ’−Ｘｃ−、
−Ｒ３０−（ＣＨ２）ｓ’−Ｘｃ−（ＣＨ２）ｔ’−
−Ｒ３０−Ｘｄ−、
−Ｒ３０−Ｘｄ−（ＣＨ２）ｔ’−、
Ｃ１−２０アルキレン基、
−（ＣＨ２）ｓ’−Ｘｃ−、
−（ＣＨ２）ｓ’−Ｘｃ−（ＣＨ２）ｔ’−
−Ｘｄ−、または
−Ｘｄ−（ＣＨ２）ｔ’−
［式中、Ｒ３０、ｓ’およびｔ’は、上記と同意義である。］
である。
【００４８】
上記式中、Ｘｃは、
−Ｏ−、
−Ｓ−、
−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、
−ＣＯＮＲ３４−、
−Ｏ−ＣＯＮＲ３４−、
−Ｓｉ（Ｒ３３）２−、
−（Ｓｉ（Ｒ３３）２Ｏ）ｍ’−Ｓｉ（Ｒ３３）２−、
−Ｏ−（ＣＨ２）u’−（Ｓｉ（Ｒ３３）２Ｏ）ｍ’−Ｓｉ（Ｒ３３）２−、
−Ｏ−（ＣＨ２）u’−Ｓｉ（Ｒ３３）２−Ｏ−Ｓｉ（Ｒ３３）２−ＣＨ２ＣＨ２−Ｓｉ（Ｒ３３）２−Ｏ−Ｓｉ（Ｒ３３）２−、
−Ｏ−（ＣＨ２）u’−Ｓｉ（ＯＣＨ３）２ＯＳｉ（ＯＣＨ３）２−、
−ＣＯＮＲ３４−（ＣＨ２）u’−（Ｓｉ（Ｒ３３）２Ｏ）ｍ’−Ｓｉ（Ｒ３３）２−、
−ＣＯＮＲ３４−（ＣＨ２）u’−Ｎ（Ｒ３４）−、または
−ＣＯＮＲ３４−（ｏ−、ｍ−またはｐ−フェニレン）−Ｓｉ（Ｒ３３）２−
［式中、Ｒ３３、Ｒ３４およびｍ’は、上記と同意義であり、
ｕ’は１〜２０の整数、好ましくは２〜６の整数、より好ましくは２〜３の整数である。］を表す。Ｘｃは、好ましくは−Ｏ−である。
【００４９】
上記式中、Ｘｄは、
−Ｓ−、
−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、
−ＣＯＮＲ３４−、
−ＣＯＮＲ３４−（ＣＨ２）u’−（Ｓｉ（Ｒ３３）２Ｏ）ｍ’−Ｓｉ（Ｒ３３）２−、
−ＣＯＮＲ３４−（ＣＨ２）u’−Ｎ（Ｒ３４）−、または
−ＣＯＮＲ３４−（ｏ−、ｍ−またはｐ−フェニレン）−Ｓｉ（Ｒ３３）２−
［式中、各記号は、上記と同意義である。］
を表す。
【００５０】
より好ましくは、上記Ｘ１ａは、
−Ｒ３０−Ｃ１−２０アルキレン基、
−Ｒ３０−（ＣＨ２）ｓ’−Ｘｃ−（ＣＨ２）ｔ’−、
−Ｒ３０−Ｘｄ−（ＣＨ２）ｔ’−、
Ｃ１−２０アルキレン基、
−（ＣＨ２）ｓ’−Ｘｃ−（ＣＨ２）ｔ’−、または
−Ｘｄ−（ＣＨ２）ｔ’−
［式中、各記号は、上記と同意義である。］
であり得る。
【００５１】
さらにより好ましくは、上記Ｘ１ａは、
−Ｒ３０−Ｃ１−２０アルキレン基、
−Ｒ３０−（ＣＨ２）ｓ’−Ｏ−（ＣＨ２）ｔ’−、
−Ｒ３０−（ＣＨ２）ｓ’−（Ｓｉ（Ｒ３３）２Ｏ）ｍ’−Ｓｉ（Ｒ３３）２−（ＣＨ２）ｔ’−、
−Ｒ３０−（ＣＨ２）ｓ’−Ｏ−（ＣＨ２）u’−（Ｓｉ（Ｒ３３）２Ｏ）ｍ’−Ｓｉ（Ｒ３３）２−（ＣＨ２）ｔ’−、
−Ｒ３０−（ＣＨ２）ｓ’−Ｏ−（ＣＨ２）ｔ’−Ｓｉ（Ｒ３３）２ −（ＣＨ２）u’−Ｓｉ（Ｒ３３）２−（ＣvＨ２v）−、
Ｃ１−２０アルキレン基、
−（ＣＨ２）ｓ’−Ｏ−（ＣＨ２）ｔ’−、
−（ＣＨ２）ｓ’−（Ｓｉ（Ｒ３３）２Ｏ）ｍ’−Ｓｉ（Ｒ３３）２−（ＣＨ２）ｔ’−、
−（ＣＨ２）ｓ’−Ｏ−（ＣＨ２）u’−（Ｓｉ（Ｒ３３）２Ｏ）ｍ’−Ｓｉ（Ｒ３３）２−（ＣＨ２）ｔ’−、または
−（ＣＨ２）ｓ’−Ｏ−（ＣＨ２）ｔ’−Ｓｉ（Ｒ３３）２ −（ＣＨ２）u’−Ｓｉ（Ｒ３３）２−（ＣvＨ２v）−
［式中、−Ｒ３０、Ｒ３３、ｍ’、ｓ’、ｔ’およびｕ’は、上記と同意義であり、ｖは１〜２０の整数、好ましくは２〜６の整数、より好ましくは２〜３の整数である。］
である。
【００５２】
上記式中、−（ＣvＨ２v）−は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、例えば、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ（ＣＨ３）−、−ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２−であり得る。
【００５３】
上記Ｘ１ａ基は、Ｃ１−３アルキル基から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよい。
【００５４】
別の態様において、Ｘ１ａ基としては、例えば下記の基が挙げられる：
【化５】
2016199909.tif 000006
【化６】
2016199909.tif 000007
［式中、Ｒ４１は、それぞれ独立して、水素原子、フェニル基、炭素数１〜６のアルキル基、またはＣ１−６アルコキシ基、好ましくはメチル基であり；
Ｄは、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３−、
−ＣＦ２Ｏ（ＣＨ２）３−、
−（ＣＨ２）２−、
−（ＣＨ２）３−、
−（ＣＨ２）4−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）４−、
−ＣＯ−（ＣＨ２）２−、
−ＣＯ−（ＣＨ２）３−、
−ＣＯ−（ＣＨ２）４−、
−ＣＯＮ（ＣＨ３）−（ＣＨ２）３−、
−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ２）３−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、および
【化７】
2016199909.tif 000008
（式中、Ｒ４２は、それぞれ独立して、水素原子、Ｃ１−６のアルキル基またはＣ１−６のアルコキシ基、好ましくはメチル基またはメトキシ基、より好ましくはメチル基を表す。）
から選択される基であり、
Ｅは、−（ＣＨ２）ｎ−（ｎは２〜６の整数）であり、
Ｄは、分子主鎖のＰＥ２に結合し、Ｅは、Ｓｉ原子に結合する。］
【００５５】
上記Ｘ１ａの具体的な例としては、例えば：
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）４−、
−ＣＯ−（ＣＨ２）２−、
−ＣＯ−（ＣＨ２）３−、
−ＣＯ−（ＣＨ２）４−、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３−、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）６−、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）２Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）３Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）１０Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）２０Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＨＦＯＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＨＦＯＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＨＦＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−
−ＣＨ２ＯＣＨ２（ＣＨ２）７ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）２ＯＳｉ（ＯＣＨ３）２（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣＨ３）２ＯＳｉ（ＯＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）２ＯＳｉ（ＯＣＨ３）２（ＣＨ２）３−、
−（ＣＨ２）２−、
−（ＣＨ２）３−、
−（ＣＨ２）４−、
−（ＣＨ２）６−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３−、
−ＣＯＮ（ＣＨ３）−（ＣＨ２）３−、
−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ２）３−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）６−、
−ＣＯＮ（ＣＨ３）−（ＣＨ２）６−、
−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ２）６−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）２ＮＨ（ＣＨ２）３−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）６ＮＨ（ＣＨ２）３−、
−ＣＨ２Ｏ−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３−、
−ＣＨ２Ｏ−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）６−、
−Ｓ−（ＣＨ２）３−、
−（ＣＨ２）２Ｓ（ＣＨ２）３−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）２Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）３Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）１０Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）２０Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−
−Ｃ（Ｏ）Ｏ−（ＣＨ２）３−、
−Ｃ（Ｏ）Ｏ−（ＣＨ２）６−、
−ＣＨ２−Ｏ−（ＣＨ２）３−Ｓｉ（ＣＨ３）２−（ＣＨ２）２−Ｓｉ（ＣＨ３）２−（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２−Ｏ−（ＣＨ２）３−Ｓｉ（ＣＨ３）２−（ＣＨ２）２−Ｓｉ（ＣＨ３）２−ＣＨ（ＣＨ３）−、
−ＣＨ２−Ｏ−（ＣＨ２）３−Ｓｉ（ＣＨ３）２−（ＣＨ２）２−Ｓｉ（ＣＨ３）２−（ＣＨ２）３−、
−ＣＨ２−Ｏ−（ＣＨ２）３−Ｓｉ（ＣＨ３）２−（ＣＨ２）２−Ｓｉ（ＣＨ３）２−ＣＨ（ＣＨ３）−ＣＨ２−、
【化８】
2016199909.tif 000009
などが挙げられる。
【００５６】
さらに別の態様において、Ｘは、Ｘ１ｂであり得る。Ｘ１ｂ基の例として、下記の基が挙げられる：
【化９】
2016199909.tif 000010
［式中、
Ｒ４１は、それぞれ独立して、水素原子、フェニル基、炭素数１〜６のアルキル基、またはＣ１−６アルコキシ基好ましくはメチル基であり；
各Ｘ１ｂ基において、Ｔのうち任意のいくつかは、分子主鎖のＰＥ２に結合する以下の基：
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３−、
−ＣＦ２Ｏ（ＣＨ２）３−、
−（ＣＨ２）２−、
−（ＣＨ２）３−、
−（ＣＨ２）4−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）４−、
−ＣＯ−（ＣＨ２）２−、
−ＣＯ−（ＣＨ２）３−、
−ＣＯ−（ＣＨ２）４−、
−ＣＯＮ（ＣＨ３）−（ＣＨ２）３−、
−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ２）３−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、または
【化１０】
2016199909.tif 000011
［式中、Ｒ４２は、それぞれ独立して、水素原子、Ｃ１−６のアルキル基またはＣ１−６のアルコキシ基、好ましくはメチル基またはメトキシ基、より好ましくはメチル基を表す。］
であり、別のＴのいくつかは、Ｓｉ原子に結合する−（ＣＨ２）ｎ”−（ｎ”は２〜６の整数）であり、存在する場合、残りは、それぞれ独立して、メチル基、フェニル基またはＣ１−６アルコキシ基である。
【００５７】
この態様において、Ｘ１ｂは３〜１０価の有機基であり得る。この態様においては、基材との結合部位であるシラン部位（ＳｉＲａｋＲｂｌＲｃｍ）が、２つ以上存在し得る。このような構成とすることにより、表面処理層の摩擦耐久性を向上させることができる。
【００５８】
さらに別の態様において、Ｘは、下記Ｘ２であり得る。
【００５９】
Ｘ２は、−ＣＯＮＨ−Ｒ６１−Ｒ６２（Ｒ６１−ＮＨＣＯ−Ｒ６３）β−１
［式中：
Ｒ６１は、それぞれ独立して、二価の炭化水素基を表し；
Ｒ６２は、β価の有機基を表し；
βは、２〜６の整数であり；
Ｒ６３は、−Ｏ−Ｒ６７（ＯＲ６８）ｓ（Ｏ−Ｘ１ａ−）ｔを表し；
Ｒ６７は、γ価の有機基を表し；
γは、２〜８の整数であり；
Ｒ６８は、水素原子または炭素数１〜６のアルキル基であり；
Ｘ１ａは、二価の有機基であって、上記したＸ１ａと同意義であり；
ｓは、０〜６の整数であり；
ｔは、１〜７の整数であり；
ｓとｔの和は、γ−１である。］
で表される基である。
【００６０】
上記Ｒ６１は、それぞれ独立して、好ましくは置換基を有していてもよい炭素数１〜１０のアルキレン基、炭素数３〜１０のシクロアルキレン基または炭素数３〜１０のアリーレン基であり、より好ましくは置換基を有していてもよい炭素数１〜１０のアルキレン基、例えば炭素数３〜８のアルキレン基である。
【００６１】
Ｒ６２は、好ましくは置換基を有していてもよい２〜６価の脂肪族炭化水素基、脂環式炭化水素基、脂肪族複素環基、芳香族基または芳香族複素環基である。
【００６２】
一の態様において、βは３〜６であり、即ち、Ｒ６２は、３〜６価である。この態様においては、基材との結合部位である加水分解可能な基を有するシラン部位（ＳｉＲａｋＲｂｌＲｃｍ）が、２つ以上存在し得る。このような構成とすることにより、表面処理層の摩擦耐久性を向上させることができる。
【００６３】
上記Ｘ２において、Ｒ６３を除く部分（即ち、−ＣＯＮＨ−Ｒ６１−Ｒ６２（Ｒ６１−ＮＨＣＯ−）β−１）は、多官能イソシアネート残基として理解され得、例えば以下の構造を有する。
【化１１】
2016199909.tif 000012
【００６４】
Ｒ６７は、好ましくは置換基を有していてもよい２〜８価の脂肪族炭化水素基、脂環式炭化水素基、脂肪族複素環基、芳香族基または芳香族複素環基である。
【００６５】
一の態様において、γは３〜８であり、即ち、Ｒ６７は、３〜８価である。この態様においては、基材との結合部位である加水分解可能な基を有するシラン部位（ＳｉＲａｋＲｂｌＲｃｍ）が、２つ以上存在し得る。このような構成とすることにより、表面処理層の摩擦耐久性を向上させることができる。
【００６６】
上記Ｒ６３において、Ｘ１ａを除く部分（即ち、−Ｏ−Ｒ６７（ＯＲ６８）ｓ（Ｏ−）ｔ）は、ポリオール残基として理解され得、例えば以下の構造を有する。
【化１２】
2016199909.tif 000013
【００６７】
Ｒ６８は、水素原子または炭素数１〜６のアルキル基、例えばメチル基またはエチル基であり、好ましくは水素原子である。
【００６８】
ｓは、０〜６の整数であり、好ましくは０〜３の整数、より好ましくは０または１、さらに好ましくは０である。
【００６９】
一の態様において、Ｘ２は、下記式：
【化１３】
2016199909.tif 000014
［式中、Ｒ６１、Ｒ６７、Ｘ１およびｔは、上記と同意義である。］
で表される基である。
【００７０】
この態様において、Ｒ６１は、好ましくは置換基を有していてもよい炭素数１〜８のアルキレン基、炭素数５〜８のシクロアルキレン基またはフェニレン基である。上記置換基としては、好ましくは炭素数１〜６のアルキル基、より好ましくはメチル基またはエチル基、さらに好ましくはメチル基である。
【００７１】
この態様において、Ｒ６７は、２〜６価、好ましくは２〜４価、より好ましくは２価または３価の炭素数２〜６の炭化水素鎖であり得る。好ましくは、Ｒ６７は、下記の基であり得る。
【化１４】
2016199909.tif 000015
［式中、＊を付した結合手が、イソシアヌレート環側に結合する。］
【００７２】
この態様において、Ｘ１は、好ましくは炭素数１〜８のアルキレン基、より好ましくは炭素数２〜６のアルキレン基であり得る。
【００７３】
一の態様において、Ｘは、それぞれ独立して、３〜１０価の有機基を表し、αは、それぞれ独立して、２〜９の整数である。この態様において、好ましくはαを付して括弧でくくられた単位のすべてが、水酸基または加水分解可能な基が結合したＳｉ原子を含む。このような構成とすることにより、表面処理層の摩擦耐久性を向上させることができる。
【００７４】
上記式中、Ｒａは、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｚ−ＳｉＲ７１ｐＲ７２ｑＲ７３ｒを表す。
【００７５】
式中、Ｚは、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子または２価の有機基を表す。
【００７６】
上記Ｚは、好ましくは、Ｃ１−６アルキレン基、−（ＣＨ２）ｇ−Ｏ−（ＣＨ２）ｈ−（式中、ｇは、１〜６の整数であり、ｈは、１〜６の整数である）または、−フェニレン−（ＣＨ２）ｉ−（式中、ｉは、０〜６の整数である）であり、より好ましくはＣ１−３アルキレン基である。これらの基は、例えば、フッ素原子、Ｃ１−６アルキル基、Ｃ２−６アルケニル基、およびＣ２−６アルキニル基から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよい。
【００７７】
式中、Ｒ７１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒａ’を表す。Ｒａ’は、Ｒａと同意義である。
【００７８】
Ｒａ中、Ｚ基を介して直鎖状に連結されるＳｉは最大で５個である。即ち、上記Ｒａにおいて、Ｒ７１が少なくとも１つ存在する場合、Ｒａ中にＺ基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子が２個以上存在するが、かかるＺ基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子の数は最大で５個である。なお、「Ｒａ中のＺ基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子の数」とは、Ｒａ中において直鎖状に連結される−Ｚ−Ｓｉ−の繰り返し数と等しくなる。
【００７９】
例えば、下記にＲａ中においてＺ基を介してＳｉ原子が連結された一例を示す。
【化１５】
2016199909.tif 000016
【００８０】
上記式において、＊は、主鎖のＳｉに結合する部位を意味し、…は、ＺＳｉ以外の所定の基が結合していること、即ち、Ｓｉ原子の３本の結合手がすべて…である場合、ＺＳｉの繰り返しの終了箇所を意味する。また、Ｓｉの右肩の数字は、＊から数えたＺ基を介して直鎖状に連結されたＳｉの出現数を意味する。即ち、Ｓｉ２でＺＳｉ繰り返しが終了している鎖は「Ｒａ中のＺ基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子の数」が２個であり、同様に、Ｓｉ３、Ｓｉ４およびＳｉ５でＺＳｉ繰り返しが終了している鎖は、それぞれ、「Ｒａ中のＺ基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子の数」が３、４および５個である。なお、上記の式から明らかなように、Ｒａ中には、ＺＳｉ鎖が複数存在するが、これらはすべて同じ長さである必要はなく、それぞれ任意の長さであってもよい。
【００８１】
好ましい態様において、下記に示すように、「Ｒａ中のＺ基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子の数」は、すべての鎖において、１個（左式）または２個（右式）である。
【化１６】
2016199909.tif 000017
【００８２】
一の態様において、Ｒａ中のＺ基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子の数は１個または２個、好ましくは１個である。
【００８３】
式中、Ｒ７２は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表す。
【００８４】
上記「加水分解可能な基」とは、本明細書において用いられる場合、加水分解反応を受け得る基を意味する。加水分解可能な基の例としては、−ＯＲ、−ＯＣＯＲ、−Ｏ−Ｎ＝Ｃ（Ｒ）２、−Ｎ（Ｒ）２、−ＮＨＲ、ハロゲン（これら式中、Ｒは、置換または非置換の炭素数１〜４のアルキル基を示す）などが挙げられ、好ましくは−ＯＲ（アルコキシ基）である。Ｒの例には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基などの非置換アルキル基；クロロメチル基などの置換アルキル基が含まれる。それらの中でも、アルキル基、特に非置換アルキル基が好ましく、メチル基またはエチル基がより好ましい。水酸基は、特に限定されないが、加水分解可能な基が加水分解して生じたものであってよい。
【００８５】
好ましくは、Ｒ７２は、−ＯＲ（式中、Ｒは、置換または非置換のＣ１−３アルキル基、より好ましくはメチル基を表す）である。
【００８６】
式中、Ｒ７３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表す。該低級アルキル基は、好ましくは炭素数１〜２０のアルキル基、より好ましくは炭素数１〜６のアルキル基、さらに好ましくはメチル基である。
【００８７】
式中、ｐは、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；ｑは、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；ｒは、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数である。ただし、ｐ、ｑおよびｒの和は３である。
【００８８】
好ましい態様において、Ｒａ中の末端のＲａ’（Ｒａ’が存在しない場合、Ｒａ）において、上記ｑは、好ましくは２以上、例えば２または３であり、より好ましくは３である。
【００８９】
上記式中、Ｒｂは、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表す。
【００９０】
上記「加水分解可能な基」とは、Ｒ７２の記載と同意義であり、好ましくは、−ＯＲ、−ＯＣＯＲ、−Ｏ−Ｎ＝Ｃ（Ｒ）２、−Ｎ（Ｒ）２、−ＮＨＲ、ハロゲン（これら式中、Ｒは、置換または非置換の炭素数１〜４のアルキル基を示す）であり、好ましくは−ＯＲである。Ｒは、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基などの非置換アルキル基；クロロメチル基などの置換アルキル基が含まれる。それらの中でも、アルキル基、特に非置換アルキル基が好ましく、メチル基またはエチル基がより好ましい。水酸基は、特に限定されないが、加水分解可能な基が加水分解して生じたものであってよい。より好ましくは、Ｒｂは、−ＯＲ（式中、Ｒは、置換または非置換のＣ１−３アルキル基、より好ましくはメチル基を表す）である。
【００９１】
上記式中、Ｒｃは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表す。該低級アルキル基は、好ましくは炭素数１〜２０のアルキル基、より好ましくは炭素数１〜６のアルキル基、さらに好ましくはメチル基である。
【００９２】
式中、ｋは、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；ｌは、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；ｍは、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数である。ただし、ｋ、ｌおよびｍの和は、３である。
【００９３】
一の態様において、ｋは１〜３である。即ち、Ｒａが存在する。この態様においては、基材との結合部位である加水分解可能な基を有するシラン部位が、２つ以上存在し得る。このような構成とすることにより、表面処理層の摩擦耐久性を向上させることができる。
【００９４】
本発明の（ポリ）エーテル基含有シラン化合物の数平均分子量は、好ましくは２００以上、より好ましくは５００以上であり、好ましくは１０，０００以下、より好ましくは５，０００以下、さらに好ましくは２，０００以下である。このような数平均分子量を有することにより、基材に付着した指紋の視認性が低くなり、また、付着した指紋を、容易に、例えば布等で拭うことにより、見えなくすることができる。
【００９５】
本発明の（ポリ）エーテル基含有シラン化合物におけるポリエーテル部（ＰＥ１基）の数平均分子量は、特に限定されるものではないが、好ましくは２００以上、より好ましくは５００以上であり、好ましくは１０，０００以下、より好ましくは５，０００以下、さらに好ましくは２，０００以下であり得る。ＰＥ１がこのような数平均分子量を有することにより、基材に付着した指紋の視認性が低くなり、また、付着した指紋を拭うことにより、指紋の視認性を容易に低くすることができる。
【００９６】
本発明において、「数平均分子量」は、ＧＰＣ（ゲル浸透クロマトグラフィー）分析により測定される。
【００９７】
本発明の（ポリ）エーテル基含有シラン化合物は、好ましくは−７０℃以上であり、好ましくは４０℃以下、より好ましくは３０℃以下、さらに好ましくは２０℃以下のガラス転移温度（Ｔｇ）を有し得る。このようなガラス転移温度を有することにより、基材に付着した指紋の視認性が低くなり、また、付着した指紋を拭うことにより、指紋の視認性を容易に低くすることができる。
【００９８】
本発明において、「ガラス転移温度」は、示差走査熱量分析により測定される。
【００９９】
式（Ａ１）および式（Ａ２）で表される（ポリ）エーテル基含有シラン化合物は、公知の方法により製造することができる。
【０１００】
例えば、ＰＥ１およびＰＥ２に対応するポリエーテル基含有ジアルコールと、Ｙに対応するジイソシアネート基を反応させて、Ｒ１−（ＰＥ１−Ｙ）ｎ−ＰＥ２−Ｈを合成し、次いで、Ｒ１−（ＰＥ１−Ｙ）ｎ−ＰＥ２−Ｈの末端のＯＨ基と、−Ｘ−ＳｉＲａｋＲｂｌＲｃｍに対応するイソシアネート基を末端に有するシラン化合物を反応させることにより得ることができる。
【０１０１】
本発明の（ポリ）エーテル基含有シラン化合物を製造する際の反応条件は、当業者であれば適宜好ましい範囲に調整することが可能である。
【０１０２】
次に、本発明の表面処理剤について説明する。
【０１０３】
本発明の表面処理剤は、式（Ａ１）および式（Ａ２）のいずれかで表される少なくとも１種の（ポリ）エーテル基含有シラン化合物を含有する。
【０１０４】
本発明の表面処理剤は、特に限定されないが、構造に応じて、親水性、親油性、防汚性、表面滑り性、拭き取り性、または、摩擦耐久性等を基材に対して付与することができる。
【０１０５】
特に、本発明の化合物を含む表面処理剤を用いて、基材上に形成された表面処理層は、親油性が高い。即ち、本発明の化合物を含む表面処理剤は、ｎ−ヘキサデカンに対する接触角が、好ましくは４０°以下、より好ましくは３０°以下、さらに好ましくは２５°以下であり、また、好ましくは１０°以上、より好ましくは１５°以上である表面処理層を形成することができる。従って、指紋が付着した場合であっても、接触角が小さいことから、視認性が低く、指紋が目立たない。
【０１０６】
また、本発明の化合物を含む表面処理剤を用いて、基材上に形成された表面処理層は、表面滑り性が高い。即ち、本発明の化合物を含む表面処理剤は、動摩擦係数が、好ましくは０．３０以下、より好ましくは０．２５以下、さらに好ましくは０．２０以下、より好ましくは０．１５以下、さらに好ましくは０．１０以下である表面処理層を形成することができる。
【０１０７】
一の態様において、本発明の表面処理剤は、式（Ａ１）で表される少なくとも１種の（ポリ）エーテル基含有シラン化合物を含有する。
【０１０８】
本発明の表面処理剤は、溶媒で希釈されていてもよい。このような溶媒としては、特に限定されず、各種汎用溶剤を用いることができる。例えば、本発明の表面処理剤に含まれる溶剤としては、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールジメチルエーテルペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、二硫化炭素、ベンゼン、トルエン、キシレン、ニトロベンゼン、ジエチルエーテル、ジメトキシエタン、ダイグライム、トリグライム、酢酸エチル、酢酸ブチル、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、アセトニトリル、ベンゾニトリル、ブタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、エタノール、メタノール、およびジアセトンアルコールが挙げられる。これらの溶媒は、単独で、または、２種以上の混合物として用いることができる。
【０１０９】
本発明の表面処理剤は、本発明の（ポリ）エーテル基含有シラン化合物に加え、他の成分を含んでいてもよい。かかる他の成分としては、特に限定されるものではないが、ポリオール、触媒などが挙げられる。
【０１１０】
上記ポリオールとしては、下記式：
ＨＯ−（Ｃａ’Ｈ２ａ’Ｏ）ｂ’−ＯＨ
［式中：
ａ’は、ｂ’を付して括弧でくくられた単位毎にそれぞれ独立して、１〜６の整数であり；
ｂ’は、各出現においてそれぞれ独立して、１〜３００の整数である。］
で表される化合物であり得る。当該ポリオールは、ブロックポリマーであっても、ランダムポリマーであってもよい。ポリオールを加えることにより、より優れた表面滑り性、摩擦耐久性、拭き取った後の指紋視認性を低下させる性能等を得ることができる。
【０１１１】
好ましい態様において、−（Ｃａ’Ｈ２ａ’Ｏ）ｂ’−は、下記式：
−（Ｃ４Ｈ８Ｏ）ｃ’−（Ｃ３Ｈ６Ｏ）ｄ’−（Ｃ２Ｈ４Ｏ）ｅ’−
（式中：
ｃ’、ｄ’およびｅ’は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３００の整数、例えば１〜３００の整数、好ましくは５〜２００の整数、より好ましくは１０〜１００の整数であり；
ｃ’、ｄ’およびｅ’の和は１〜２００であり、好ましくは５〜２００、より好ましくは１０〜１００であり；
添字ｃ’、ｄ’またはｅ’を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。）
で表される基である。
【０１１２】
別の態様において、−（Ｃａ’Ｈ２ａ’Ｏ）ｂ’−は、下記式：
−（Ｃ４Ｈ８Ｏ）ｃ’−
−（Ｃ３Ｈ６Ｏ）ｄ’−、および
−（Ｃ２Ｈ４Ｏ）ｅ’−
（式中、ｃ’、ｄ’およびｅ’は、それぞれ独立して、１〜３００の整数、好ましくは５〜２００の整数、より好ましくは１０〜１００の整数である。）
から選択される基である。
【０１１３】
上記ポリオールの数平均分子量は、好ましくは１，０００〜３０，０００であり、より好ましくは５，０００〜２０，０００であり、例えば８，０００〜２０，０００または１０，０００〜２０，０００であり得る。
【０１１４】
本発明の表面処理剤中、ポリオールは、上記本発明のポリエーテル基含有シラン化合物の合計１００質量部（２種以上の場合にはこれらの合計、以下も同様）に対して、例えば０〜５００質量部、好ましくは０〜４００質量部、より好ましくは２５〜４００質量部で含まれ得る。
【０１１５】
好ましい態様において、真空蒸着法により表面処理層を形成する場合には、式（Ａ１）または式（Ａ２）で表される化合物の平均分子量よりも、上記ポリオールの平均分子量を大きくしてもよい。このような式（Ａ１）または式（Ａ２）で表される化合物およびポリオールの平均分子量とすることにより、より優れた表面滑り性と摩擦耐久性を得ることができる。
【０１１６】
上記触媒としては、酸（例えば酢酸、トリフルオロ酢酸等）、塩基（例えばアンモニア、トリエチルアミン、ジエチルアミン等）、遷移金属（例えばＴｉ、Ｎｉ、Ｓｎ等）等が挙げられる。
【０１１７】
触媒は、本発明の（ポリ）エーテル基含有シラン化合物の加水分解および脱水縮合を促進し、表面処理層の形成を促進する。
【０１１８】
本発明の表面処理剤は、多孔質物質、例えば多孔質のセラミック材料、金属繊維、例えばスチールウールを綿状に固めたものに含浸させて、ペレットとすることができる。当該ペレットは、例えば、真空蒸着に用いることができる。
【０１１９】
次に、本発明の物品について説明する。
【０１２０】
本発明の物品は、基材と、該基材の表面に本発明の表面処理剤より形成された層（表面処理層）とを含む。この物品は、例えば以下のようにして製造できる。
【０１２１】
まず、基材を準備する。本発明に使用可能な基材は、例えばガラス、サファイアガラス、樹脂（天然または合成樹脂、例えば一般的なプラスチック材料であってよく、板状、フィルム、その他の形態であってよい）、金属（アルミニウム、銅、鉄等の金属単体または合金等の複合体であってよい）、セラミックス、半導体（シリコン、ゲルマニウム等）、繊維（織物、不織布等）、毛皮、皮革、木材、陶磁器、石材等、建築部材等、任意の適切な材料で構成され得る。好ましくは、基材は、ガラスまたはサファイアガラスである。
【０１２２】
上記ガラスとしては、ソーダライムガラス、アルカリアルミノケイ酸塩ガラス、ホウ珪酸ガラス、無アルカリガラス、クリスタルガラス、石英ガラスが好ましく、化学強化したソーダライムガラス、化学強化したアルカリアルミノケイ酸塩ガラス、および化学結合したホウ珪酸ガラスが特に好ましい。
樹脂としては、アクリル樹脂、ポリカーボネートが好ましい。
【０１２３】
例えば、製造すべき物品が光学部材である場合、基材の表面を構成する材料は、光学部材用材料、例えばガラスまたは透明プラスチックなどであってよい。また、製造すべき物品が光学部材である場合、基材の表面（最外層）に何らかの層（または膜）、例えばハードコート層や反射防止層などが形成されていてもよい。反射防止層には、単層反射防止層および多層反射防止層のいずれを使用してもよい。反射防止層に使用可能な無機物の例としては、ＳｉＯ２、ＳｉＯ、ＺｒＯ２、ＴｉＯ２、ＴｉＯ、Ｔｉ２Ｏ３、Ｔｉ２Ｏ５、Ａｌ２Ｏ３、Ｔａ２Ｏ５、ＣｅＯ２、ＭｇＯ、Ｙ２Ｏ３、ＳｎＯ２、ＭｇＦ２、ＷＯ３などが挙げられる。これらの無機物は、単独で、またはこれらの２種以上を組み合わせて（例えば混合物として）使用してもよい。多層反射防止層とする場合、その最外層にはＳｉＯ２および／またはＳｉＯを用いることが好ましい。製造すべき物品が、タッチパネル用の光学ガラス部品である場合、透明電極、例えば酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）や酸化インジウム亜鉛などを用いた薄膜を、基材（ガラス）の表面の一部に有していてもよい。また、基材は、その具体的仕様等に応じて、絶縁層、粘着層、保護層、装飾枠層（Ｉ−ＣＯＮ）、霧化膜層、ハードコーティング膜層、偏光フィルム、相位差フィルム、および液晶表示モジュールなどを有していてもよい。
【０１２４】
基材の形状は特に限定されない。また、表面処理層を形成すべき基材の表面領域は、基材表面の少なくとも一部であればよく、製造すべき物品の用途および具体的仕様等に応じて適宜決定され得る。
【０１２５】
かかる基材としては、少なくともその表面部分が、水酸基を元々有する材料から成るものであってよい。かかる材料としては、ガラスが挙げられ、また、表面に自然酸化膜または熱酸化膜が形成される金属（特に卑金属）、セラミックス、半導体等が挙げられる。あるいは、樹脂等のように、水酸基を有していても十分でない場合や、水酸基を元々有していない場合には、基材に何らかの前処理を施すことにより、基材の表面に水酸基を導入したり、増加させたりすることができる。かかる前処理の例としては、プラズマ処理（例えばコロナ放電）や、イオンビーム照射が挙げられる。プラズマ処理は、基材表面に水酸基を導入または増加させ得ると共に、基材表面を清浄化する（異物等を除去する）ためにも好適に利用され得る。また、かかる前処理の別の例としては、炭素−炭素不飽和結合基を有する界面吸着剤をＬＢ法（ラングミュア−ブロジェット法）や化学吸着法等によって、基材表面に予め単分子膜の形態で形成し、その後、酸素や窒素等を含む雰囲気下にて不飽和結合を開裂する方法が挙げられる。
【０１２６】
またあるいは、かかる基材としては、少なくともその表面部分が、別の反応性基、例えばＳｉ−Ｈ基を１つ以上有するシリコーン化合物や、アルコキシシランを含む材料から成るものであってもよい。
【０１２７】
次に、かかる基材の表面に、上記の本発明の表面処理剤の膜を形成し、この膜を必要に応じて後処理し、これにより、本発明の表面処理剤から表面処理層を形成する。
【０１２８】
本発明の表面処理剤の膜形成は、上記の表面処理剤を基材の表面に対して、該表面を被覆するように適用することによって実施できる。被覆方法は、特に限定されない。例えば、湿潤被覆法および乾燥被覆法を使用できる。
【０１２９】
湿潤被覆法の例としては、浸漬コーティング、スピンコーティング、フローコーティング、スプレーコーティング、ロールコーティング、グラビアコーティングおよび類似の方法が挙げられる。
【０１３０】
乾燥被覆法の例としては、蒸着（通常、真空蒸着）、スパッタリング、ＣＶＤおよび類似の方法が挙げられる。蒸着法（通常、真空蒸着法）の具体例としては、抵抗加熱、電子ビーム、マイクロ波等を用いた高周波加熱、イオンビームおよび類似の方法が挙げられる。ＣＶＤ方法の具体例としては、プラズマ−ＣＶＤ、光学ＣＶＤ、熱ＣＶＤおよび類似の方法が挙げられる。
【０１３１】
更に、常圧プラズマ法による被覆も可能である。
【０１３２】
湿潤被覆法を使用する場合、本発明の表面処理剤は、溶媒で希釈されてから基材表面に適用され得る。本発明の表面処理剤の安定性および溶媒の揮発性の観点から、次の溶媒が好ましく使用される：アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールジメチルエーテルペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、二硫化炭素、ベンゼン、トルエン、キシレン、ニトロベンゼン、ジエチルエーテル、ジメトキシエタン、ダイグライム、トリグライム、酢酸エチル、酢酸ブチル、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、アセトニトリル、ベンゾニトリル、ブタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、エタノール、メタノール、およびジアセトンアルコール。これらの溶媒は、単独で、または、２種以上を組み合わせて混合物として用いることができる。さらに、例えば、（ポリ）エーテル基含有シラン化合物の溶解性を調整する等のために、別の溶媒と混合することもできる。
【０１３３】
乾燥被覆法を使用する場合、本発明の表面処理剤は、そのまま乾燥被覆法に付してもよく、または、上記した溶媒で希釈してから乾燥被覆法に付してもよい。
【０１３４】
膜形成は、膜中で本発明の表面処理剤が、加水分解および脱水縮合のための触媒と共に存在するように実施することが好ましい。簡便には、湿潤被覆法による場合、本発明の表面処理剤を溶媒で希釈した後、基材表面に適用する直前に、本発明の表面処理剤の希釈液に触媒を添加してよい。乾燥被覆法による場合には、触媒添加した本発明の表面処理剤をそのまま蒸着（通常、真空蒸着）処理するか、あるいは鉄や銅などの金属多孔体に、触媒添加した本発明の表面処理剤を含浸させたペレット状物質を用いて蒸着（通常、真空蒸着）処理をしてもよい。
【０１３５】
触媒には、任意の適切な酸または塩基を使用できる。酸触媒としては、例えば、酢酸、ギ酸、トリフルオロ酢酸などを使用できる。また、塩基触媒としては、例えばアンモニア、有機アミン類などを使用できる。
【０１３６】
次に、必要に応じて、膜を後処理する。この後処理は、特に限定されないが、例えば、水分供給および乾燥加熱を逐次的に実施するものであってよく、より詳細には、以下のようにして実施してよい。
【０１３７】
上記のようにして基材表面に本発明の表面処理剤を膜形成した後、この膜（以下、「前駆体膜」とも言う）に水分を供給する。水分の供給方法は、特に限定されず、例えば、前駆体膜（および基材）と周囲雰囲気との温度差による結露や、水蒸気（スチーム）の吹付けなどの方法を使用してよい。
【０１３８】
前駆体膜に水分が供給されると、本発明の表面処理剤中の（ポリ）エーテル基含有シラン化合物のＳｉに結合した加水分解可能な基に水が作用し、当該化合物を速やかに加水分解させることができると考えられる。
【０１３９】
水分の供給は、例えば０〜２５０℃、好ましくは６０℃以上、さらに好ましくは１００℃以上とし、好ましくは１８０℃以下、さらに好ましくは１５０℃以下の雰囲気下にて実施し得る。このような温度範囲において水分を供給することにより、加水分解を進行させることが可能である。このときの圧力は特に限定されないが、簡便には常圧とし得る。
【０１４０】
次に、該前駆体膜を該基材の表面で、６０℃を超える乾燥雰囲気下にて加熱する。乾燥加熱方法は、特に限定されず、前駆体膜を基材と共に、６０℃を超え、好ましくは１００℃を超える温度であって、例えば２５０℃以下、好ましくは１８０℃以下の温度で、かつ不飽和水蒸気圧の雰囲気下に配置すればよい。このときの圧力は特に限定されないが、簡便には常圧とし得る。
【０１４１】
このような雰囲気下では、本発明の（ポリ）エーテル基含有シラン化合物間では、加水分解後のＳｉに結合した基同士が速やかに脱水縮合する。また、かかる化合物と基材との間では、当該化合物の加水分解後のＳｉに結合した基と、基材表面に存在する反応性基との間で速やかに反応し、基材表面に存在する反応性基が水酸基である場合には脱水縮合する。その結果、パーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物と基材との間で結合が形成される。
【０１４２】
上記の水分供給および乾燥加熱は、過熱水蒸気を用いることにより連続的に実施してもよい。
【０１４３】
過熱水蒸気は、飽和水蒸気を沸点より高い温度に加熱して得られるガスであって、常圧下では、１００℃を超え、一般的には５００℃以下、例えば３００℃以下の温度で、かつ、沸点を超える温度への加熱により不飽和水蒸気圧となったガスである。本発明では、パーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物の分解を抑制する観点から、好ましくは、２５０℃以下、好ましくは１８０℃以下の過熱水蒸気が水分供給および乾燥加熱に用いられる。前駆体膜を形成した基材を過熱水蒸気に曝すと、まず、過熱水蒸気と、比較的低温の前駆体膜との間の温度差により、前駆体膜表面にて結露が生じ、これによって前駆体膜に水分が供給される。やがて、過熱水蒸気と前駆体膜との間の温度差が小さくなるにつれて、前駆体膜表面の水分は過熱水蒸気による乾燥雰囲気中で気化し、前駆体膜表面の水分量が次第に低下する。前駆体膜表面の水分量が低下している間、即ち、前駆体膜が乾燥雰囲気下にある間、基材の表面の前駆体膜は過熱水蒸気と接触することによって、この過熱水蒸気の温度（常圧下では１００℃を超える温度）に加熱されることとなる。従って、過熱水蒸気を用いれば、前駆体膜を形成した基材を過熱水蒸気に曝すだけで、水分供給と乾燥加熱とを連続的に実施することができる。
【０１４４】
以上のようにして後処理が実施され得る。かかる後処理は、摩擦耐久性を一層向上させるために実施され得るが、本発明の物品を製造するのに必須でないことに留意されたい。例えば、本発明の表面処理剤を基材表面に適用した後、そのまま静置しておくだけでもよい。
【０１４５】
上記のようにして、基材の表面に、本発明の表面処理剤の膜に由来する表面処理層が形成され、本発明の物品が製造される。これにより得られる表面処理層は、高い摩擦耐久性を有する。また、この表面処理層は、高い摩擦耐久性に加えて、付着した指紋を容易に見えなくすることができ、さらに、使用する表面処理剤の組成にもよるが、撥水性、撥油性、防汚性（例えば指紋等の汚れの付着を防止する）、防水性（電子部品等への水の浸入を防止する）、表面滑り性（または潤滑性、例えば指紋等の汚れの拭き取り性や、指に対する優れた触感）などを有し得、機能性薄膜として好適に利用され得る。
【０１４６】
本発明によって得られる表面処理層を有する物品は、特に限定されるものではないが、光学部材であり得る。光学部材としては、例えば、下記の光学部材が挙げられる：例えば、陰極線管（ＣＲＴ：例、ＴＶ、パソコンモニター）、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ、無機薄膜ＥＬドットマトリクスディスプレイ、背面投写型ディスプレイ、蛍光表示管（ＶＦＤ）、電界放出ディスプレイ（ＦＥＤ：Ｆｉｅｌｄ Ｅｍｉｓｓｉｏｎ Ｄｉｓｐｌａｙ）などのディスプレイまたはそれらのディスプレイの前面保護板、反射防止板、偏光板、アンチグレア板、あるいはそれらの表面に反射防止膜処理を施したもの；眼鏡などのレンズ；携帯電話、携帯情報端末などの機器のタッチパネルシート；ブルーレイ（Ｂｌｕ−ｒａｙ（登録商標））ディスク、ＤＶＤディスク、ＣＤ−Ｒ、ＭＯなどの光ディスクのディスク面；光ファイバー；時計の表示面など。
【０１４７】
本発明によって得られる表面処理層を有する他の物品は、窯業製品、塗面、布製品、皮革製品、医療品およびプラスターなどを挙げることができる
【０１４８】
また、本発明によって得られる表面処理層を有する他の物品は、医療機器または医療材料であってもよい。
【０１４９】
表面処理層の厚さは、特に限定されない。光学部材の場合、表面処理層の厚さは、１〜５０ｎｍ、好ましくは１〜３０ｎｍ、より好ましくは１〜１５ｎｍの範囲であることが、光学性能、表面滑り性、摩擦耐久性および防汚性の点から好ましい。
【０１５０】
以上、本発明の表面処理剤を使用して得られる物品について詳述した。なお、本発明の表面処理剤の用途、使用方法ないし物品の製造方法などは、上記で例示したものに限定されない。
【実施例】
【０１５１】
本発明の表面処理剤について、以下の実施例を通じてより具体的に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。なお、本実施例において、以下に示される化学式はすべて平均組成を示す。【０１５２】
（化合物の合成）
実施例１
滴下漏斗、撹拌機、温度計を備えた４ツ口フラスコにポリテトラメチレングリコール（分子量６５０）を８．５６ｇ、酢酸エチルを１０．０ｇ投入し、撹拌混合し、系内を均一にした。次いで、［ＯＨ］／［ＮＣＯ］＝２／１になるようにイソホロンジイソシアネートを１．４５ｇ、および触媒としてのジ−ｎ−ブチルスズジラウレート０．０５ｇの混合物を滴下漏斗より滴下し、撹拌し室温にて１２時間反応させた。ＦＴ−ＩＲにて２２６０ｃｍ−１のイソシアネートのピーク消失を確認した後、３−（トリエトキシシリル）プロピルイソシアネートを１．６３ｇ滴下し、イソシアネートのピークが完全に消失するまで室温で反応させ、下記式で表される化合物の混合物として、組成物１を得た。【０１５３】
【化１７】
2016199909.tif 000018
［式中、Ｒは、それぞれ独立して、−ＯＨまたは−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３−Ｓｉ（ＯＥｔ）３である。］【０１５４】
実施例２
滴下漏斗、撹拌機、温度計を備えた４ツ口フラスコにポリテトラメチレングリコール（分子量６５０）を７．８ｇ、酢酸エチルを１０．０ｇ投入し、撹拌混合し、系内を均一にした。次いで、［ＯＨ］／［ＮＣＯ］＝６／５になるようにイソホロンジイソシアネートを２．２ｇ、および触媒としてのジ−ｎ−ブチルスズジラウレート０．０５ｇの混合物を滴下漏斗より滴下し、撹拌し室温にて１２時間反応させた。ＦＴ−ＩＲにて２２６０ｃｍ−１のイソシアネートのピーク消失を確認した後、３−（トリエトキシシリル）プロピルイソシアネートを０．５ｇ滴下し、イソシアネートのピークが完全に消失するまで室温で反応させ、下記式で表される化合物の混合物として、組成物２を得た。【０１５５】
【化１８】
2016199909.tif 000019
［式中、Ｒは、それぞれ独立して、−ＯＨまたは−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３−Ｓｉ（ＯＥｔ）３である。］【０１５６】
実施例３
滴下漏斗、撹拌機、温度計を備えた４ツ口フラスコにポリテトラメチレングリコール（分子量２０００）を９．５ｇ、酢酸エチルを１０．０ｇ投入し、撹拌混合し、系内を均一にした。次いで、［ＯＨ］／［ＮＣＯ］＝２／１になるようにイソホロンジイソシアネートを０．５２ｇ、および触媒としてのジ−ｎ−ブチルスズジラウレート０．０５ｇの混合物を滴下漏斗より滴下し、撹拌し室温にて１２時間反応させた。ＦＴ−ＩＲにて２２６０ｃｍ−１のイソシアネートのピーク消失を確認した後、３−（トリエトキシシリル）プロピルイソシアネートを０．５９ｇ滴下し、イソシアネートのピークが完全に消失するまで室温で反応させ、下記式で表される化合物の混合物として、組成物３を得た。【０１５７】
【化１９】
2016199909.tif 000020
［式中、Ｒは、それぞれ独立して、−ＯＨまたは−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３−Ｓｉ（ＯＥｔ）３である。］【０１５８】
比較例１
滴下漏斗、撹拌機、温度計を備えた４ツ口フラスコにポリプロピレングリコール（分子量１０００）を９．０ｇ、酢酸エチルを１０．０ｇ投入し、撹拌混合し、系内を均一にした。次いで、［ＯＨ］／［ＮＣＯ］＝２／１になるようにイソホロンジイソシアネートを０．９９ｇ、および触媒としてのジ−ｎ−ブチルスズジラウレート０．０５ｇの混合物を滴下漏斗より滴下し、撹拌し室温にて１２時間反応させた。ＦＴ−ＩＲにて２２６０ｃｍ−１のイソシアネートのピーク消失を確認した後、３−（トリエトキシシリル）プロピルイソシアネートを１．１１ｇ滴下し、イソシアネートのピークが完全に消失するまで室温で反応させ、下記式で表される化合物の混合物として、組成物４を得た。【０１５９】
【化２０】
2016199909.tif 000021
［式中、Ｒは、それぞれ独立して、−ＯＨまたは−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３−Ｓｉ（ＯＥｔ）３である。］【０１６０】
比較例２
滴下漏斗、撹拌機、温度計を備えた４ツ口フラスコにポリブチレングリコール（−（ＯＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２ＣＨ２）ｎ−）（分子量７００）を８．６４ｇ、酢酸エチルを１０．０ｇ投入し、撹拌混合し、系内を均一にした。次いで、［ＯＨ］／［ＮＣＯ］＝２／１になるようにイソホロンジイソシアネートを１．３６ｇ、および触媒としてのジ−ｎ−ブチルスズジラウレート０．０５ｇの混合物を滴下漏斗より滴下し、撹拌し室温にて１２時間反応させた。ＦＴ−ＩＲにて２２６０ｃｍ−１のイソシアネートのピーク消失を確認した後、３−（トリエトキシシリル）プロピルイソシアネートを１．４４ｇ滴下し、イソシアネートのピークが完全に消失するまで室温で反応させ、下記式で表される化合物の混合物として、組成物５を得た。【０１６１】
【化２１】
2016199909.tif 000022
［式中、Ｒは、それぞれ独立して、−ＯＨまたは−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３−Ｓｉ（ＯＥｔ）３である。］【０１６２】
（表面処理層の形成）
実施例４
上記実施例１で得た組成物１を、濃度２０ｗｔ％の酢酸エチル溶液になるよう調製し、表面処理剤を調製した。表面処理剤を化学強化ガラス（コーニング社製、「ゴリラ」ガラス、厚さ０．７ｍｍ）上に真空蒸着（圧力３．０×１０−３Ｐａ）した。化学強化ガラス１枚（５５ｍｍ×１００ｍｍ）あたり、表面処理剤２ｍｇ（即ち、実施例１の化合物１を０．４ｍｇ含有）を蒸着させた。その後、蒸着膜付き化学強化ガラスを、温度２０℃および湿度６５％の雰囲気下で２４時間静置した。これにより、蒸着膜が硬化して、表面処理層が形成された。【０１６３】
実施例５
実施例１の組成物１に代えて、実施例２の組成物２を用いたこと以外は、実施例４と同様にして、表面処理剤を調製し、表面処理層を形成した。【０１６４】
実施例６
実施例１の組成物１に代えて、実施例３の組成物３を用いたこと以外は、実施例４と同様にして、表面処理剤を調製し、表面処理層を形成した。【０１６５】
実施例７
実施例１の組成物１に代えて、実施例１の組成物１および比較例１の組成物４をそれぞれ固形分比で５０／５０になるよう混合調製した。その後、実施例４と同様にして、表面処理剤を調製し、表面処理層を形成した。【０１６６】
実施例８
実施例１の組成物１に代えて、実施例１の組成物１および比較例１の組成物４をそれぞれ固形分比で２５／７５になるよう混合調製した。その後実施例４と同様にして、表面処理剤を調製し、表面処理層を形成した。【０１６７】
比較例３
実施例１の組成物１に代えて、比較例１の組成物４を用いたこと以外は、実施例４と同様にして、表面処理剤を調製し、表面処理層を形成した。【０１６８】
比較例４
実施例１の組成物１に代えて、比較例２の組成物５を用いたこと以外は、実施例４と同様にして、表面処理剤を調製し、表面処理層を形成した。【０１６９】
試験例
・表面滑り性評価（動摩擦係数（ＣＯＦ）の測定）
上記の実施例４〜８および比較例３〜４にて基材表面に形成された表面処理層について、表面性測定機（Ｌａｂｔｈｉｎｋ社製  ＦＰＴ−１）を用いて、摩擦子として紙を使用し、ＡＳＴＭ  Ｄ４９１７に準拠し、動摩擦係数（−）を測定した。具体的には、表面処理層を形成した機材を水平配置し、摩擦紙（２ｃｍ×２ｃｍ）を表面処理層の露出上面に接触させ、その上に２００ｇｆの荷重を付与し、その後、荷重を加えた状況で摩擦紙を５００ｍｍ／秒の速度で平衡移動させて動摩擦係数を測定した。結果を表１に示す。【０１７０】
・視認性評価
上記の実施例４〜８および比較例３〜４にて基材表面に形成された表面処理層について、付着した指紋の視認性、拭取り性を評価した。具体的には、指紋を付着させた処理基材をアルミ金属板の上に載せ、暗室内で基材に対し６０度の入射角で蛍光灯の光を当て、光源と逆側６０度の角度から基材に付着した指紋の見え方を目視にて確認し、以下の３段階で評価した。
１：指紋付着部が全く見えない。
２：指紋付着部がわずかに見える。
３：指紋付着部が白くくっきり見える。【０１７１】
・拭き取り性評価
指紋付着試験後の基材をキムワイプにて、１００ｇｆの荷重で拭き取った後の指紋を目視で確認、以下３段階で評価した。
１：２往復以内の拭取りで指紋が見えなくなった。
２：３〜５往復の拭きとりで指紋が見えなくなった。
３：５往復でも指紋の跡が残った。【０１７２】
・接触角評価
水およびｎ−ヘキサデカン酸の静的接触角を、接触角計（協和界面科学社製、「ＤｒｏｐＭａｓｔｅｒ」）を用いて、それぞれ１μＬの液量で測定した。結果を表１に示す。【０１７３】
【表１】
2016199909.tif 000023
【０１７４】
上記の結果から、本発明の化合物を含む表面処理剤により形成された表面処理層は、指紋が付着した場合であっても、指紋の視認性が低く、滑り性が高いことが確認され、さらに、付着した指紋の跡が容易に見えなくなることが確認された。
【産業上の利用可能性】
【０１７５】
本発明は、種々多様な基材、特に透過性が求められる光学部材の表面に、表面処理層を形成するために好適に利用され得る。
【国際調査報告】
2016199909.tif 000029
2016199909.tif 000030
2016199909.tif 000031
2016199909.tif 000032