(57)【要約】  式（１）で表される金属錯体。2017170916.tif 000164［式中、  Ｘは窒素原子又は＝Ｃ（ＲＸ）−で表される基を表す。  Ｒ１は炭素原子数４以上のアルキル基を表す。  Ｒ２はアルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、１価の複素環基、置換アミノ基又はハロゲン原子を表す。  環Ａ及び環Ｂは、それぞれ独立に、芳香族炭化水素環又は芳香族複素環を表す。  Ｍはロジウム原子、パラジウム原子、イリジウム原子又は白金原子を表す。  ｎ１は１以上の整数を表し、ｎ２は０以上の整数を表し、ｎ１＋ｎ２は２又は３である。  Ａ１−Ｇ１−Ａ２は、アニオン性の２座配位子を表す。  Ａ１及びＡ２は、それぞれ独立に、炭素原子、酸素原子又は窒素原子を表す。  Ｇ１は、単結合、又は、Ａ１及びＡ２とともに２座配位子を構成する原子団を表す。］
2017170916.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式（１）で表される金属錯体。
【化１】
2017170916.tif 000158
［式中、
Ｘは窒素原子又は＝Ｃ（ＲＸ）−で表される基を表す。ＲＸは水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、１価の複素環基、置換アミノ基又はハロゲン原子を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。Ｘが複数存在する場合、それらは同一であっても異なっていてもよい。
Ｒ１は炭素原子数４以上のアルキル基を表し、該基は置換基を有していてもよい。Ｒ１が複数存在する場合、それらは同一であっても異なっていてもよい。
Ｒ２はアルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、１価の複素環基、置換アミノ基又はハロゲン原子を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。Ｒ２が複数存在する場合、それらは同一であっても異なっていてもよい。
環Ａ及び環Ｂは、それぞれ独立に、芳香族炭化水素環又は芳香族複素環を表し、これらの環は置換基を有していてもよい。該置換基が複数存在する場合、それらは同一であっても異なっていてもよく、互いに結合して、それぞれが結合する原子とともに環を形成していてもよい。環Ａ及び環Ｂが複数存在する場合、それらはそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。
Ｍはロジウム原子、パラジウム原子、イリジウム原子又は白金原子を表す。
ｎ１は１以上の整数を表し、ｎ２は０以上の整数を表し、ｎ１＋ｎ２は２又は３である。
Ｍがロジウム原子又はイリジウム原子の場合、ｎ１＋ｎ２は３であり、Ｍがパラジウム原子又は白金原子の場合、ｎ１＋ｎ２は２である。
Ａ１−Ｇ１−Ａ２は、アニオン性の２座配位子を表す。Ａ１及びＡ２は、それぞれ独立に、炭素原子、酸素原子又は窒素原子を表し、これらの原子は環を構成する原子であってもよい。Ｇ１は、単結合、又は、Ａ１及びＡ２とともに２座配位子を構成する原子団を表す。Ａ１−Ｇ１−Ａ２が複数存在する場合、それらは同一であっても異なっていてもよい。］
【請求項２】
環Ｂが、ベンゼン環、フルオレン環、ジベンゾフラン環又はジベンゾチオフェン環である、請求項１に記載の金属錯体。
【請求項３】
式（１ａ）で表される、請求項２に記載の金属錯体。
【化２】
2017170916.tif 000159
［式中、
Ｍ、ｎ１、ｎ２、Ｒ１、Ｒ２、環Ａ、Ｘ及びＡ１−Ｇ１−Ａ２は、前記と同じ意味を表す。
Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、１価の複素環基、置換アミノ基又はハロゲン原子を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。
Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６が複数存在する場合、それらはそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。Ｒ３とＲ４、Ｒ４とＲ５、及び、Ｒ５とＲ６は、それぞれ結合して、それぞれが結合する炭素原子とともに環を形成していてもよい。］
【請求項４】
式（１ｂ）で表される、請求項３に記載の金属錯体。
【化３】
2017170916.tif 000160
［式中、
Ｍ、ｎ１、ｎ２、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｘ及びＡ１−Ｇ１−Ａ２は、前記と同じ意味を表す。
Ｒ７、Ｒ８及びＲ９は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、１価の複素環基、置換アミノ基又はハロゲン原子を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。Ｒ７、Ｒ８及びＲ９が複数存在する場合、それらはそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。Ｒ７とＲ８、Ｒ８とＲ９は、それぞれが結合して、それぞれが結合する炭素原子とともに環を形成していてもよい。］
【請求項５】
少なくとも一つのＲ１が、式（２）で表される基である、請求項１〜４のいずれか一項に記載の金属錯体。
【化４】
2017170916.tif 000161
［式中、
Ｒ１１はアルキル基を表し、該基は置換基を有していてもよい。Ｒ１１が複数存在する場合、それらは同一であっても異なっていてもよい。
Ｒ１２はシクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、１価の複素環基、置換アミノ基又はハロゲン原子を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。Ｒ１２が複数存在する場合、それらは同一であっても異なっていてもよい。
ｎ３は１〜３の整数を表し、ｎ４は０〜２の整数を表し、ｎ５は０又は１を表し、ｎ３＋ｎ４＋ｎ５は３である。］
【請求項６】
ｎ５が０である、請求項５に記載の金属錯体。
【請求項７】
ｎ４が０である、請求項５又は６に記載の金属錯体。
【請求項８】
Ｒ２が置換基を有していてもよいアルキル基である、請求項１〜７のいずれか一項に記載の金属錯体。
【請求項９】
Ｍが白金原子又はイリジウム原子である、請求項１〜８のいずれか一項に記載の金属錯体。
【請求項１０】
ｎ２が０である、請求項１〜９のいずれか一項に記載の金属錯体。
【請求項１１】
Ｘが窒素原子である、請求項１〜１０のいずれか一項に記載の金属錯体。
【請求項１２】
請求項１〜１１のいずれか一項に記載の金属錯体と、
式（Ｈ−１）で表される化合物及び式（Ｙ）で表される構成単位を含む高分子化合物からなる群より選択される少なくとも一種と、
を含有する、組成物。
【化５】
2017170916.tif 000162
［式中、
ＡｒＨ１及びＡｒＨ２は、それぞれ独立に、アリール基又は１価の複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。
ｎＨ１及びｎＨ２は、それぞれ独立に、０又は１を表す。ｎＨ１が複数存在する場合、それらは同一であっても異なっていてもよい。複数存在するｎＨ２は、同一であっても異なっていてもよい。
ｎＨ３は、０以上の整数を表す。
ＬＨ１は、アリーレン基、２価の複素環基、又は、−［Ｃ（ＲＨ１１）２］ｎＨ１１−で表される基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。ＬＨ１が複数存在する場合、それらは同一であっても異なっていてもよい。
ｎＨ１１は、１以上１０以下の整数を表す。ＲＨ１１は、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基又は１価の複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。複数存在するＲＨ１１は、同一であっても異なっていてもよく、互いに結合して、それぞれが結合する炭素原子とともに環を形成していてもよい。
ＬＨ２は、−Ｎ（−ＬＨ２１−ＲＨ２１）−で表される基を表す。ＬＨ２が複数存在する場合、それらは同一であっても異なっていてもよい。
ＬＨ２１は、単結合、アリーレン基又は２価の複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。ＲＨ２１は、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基又は１価の複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。］
【化６】
2017170916.tif 000163
［式中、ＡｒＹ１はアリーレン基、２価の複素環基、又は、少なくとも１種のアリーレン基と少なくとも１種の２価の複素環基とが直接結合した２価の基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。］
【請求項１３】
請求項１〜１１のいずれか一項に記載の金属錯体と、
正孔輸送材料、正孔注入材料、電子輸送材料、電子注入材料、発光材料、酸化防止剤及び溶媒からなる群より選ばれる少なくとも１種の材料と、
を含有する、組成物。
【請求項１４】
請求項１〜１１のいずれか一項に記載の金属錯体を含有する、膜。
【請求項１５】
請求項１〜１１のいずれか一項に記載の金属錯体を含有する、発光素子。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、金属錯体、該金属錯体を含有する組成物、及び該金属錯体を含有する発光素子に関する。
【背景技術】
【０００２】
発光素子の発光層に用いる発光材料として、三重項励起状態からの発光を示す燐光発光性化合物等が検討されている。例えば、特許文献１及び特許文献２には、配位子が１，２，４−トリアゾール構造を有するイリジウム錯体が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】米国特許出願公開第２０１５／０３４９２６７号明細書
【特許文献２】国際公開第２０１４／０８５２９６号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、上記の金属錯体は発光安定性が十分でなかった。【０００５】
そこで、本発明は、発光安定性に優れる金属錯体を提供することを目的とする。本発明はまた、該金属錯体を含有する組成物、膜及び発光素子を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明は、以下の［１］〜［１５］を提供する。
［１］式（１）で表される金属錯体。
【化１】
2017170916.tif 000003
［式中、
Ｘは窒素原子又は＝Ｃ（ＲＸ）−で表される基を表す。ＲＸは水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、１価の複素環基、置換アミノ基又はハロゲン原子を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。Ｘが複数存在する場合、それらは同一であっても異なっていてもよい。
Ｒ１は炭素原子数４以上のアルキル基を表し、該基は置換基を有していてもよい。Ｒ１が複数存在する場合、それらは同一であっても異なっていてもよい。
Ｒ２はアルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、１価の複素環基、置換アミノ基又はハロゲン原子を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。Ｒ２が複数存在する場合、それらは同一であっても異なっていてもよい。
環Ａ及び環Ｂは、それぞれ独立に、芳香族炭化水素環又は芳香族複素環を表し、これらの環は置換基を有していてもよい。該置換基が複数存在する場合、それらは同一であっても異なっていてもよく、互いに結合して、それぞれが結合する原子とともに環を形成していてもよい。環Ａ及び環Ｂが複数存在する場合、それらはそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。
Ｍはロジウム原子、パラジウム原子、イリジウム原子又は白金原子を表す。
ｎ１は１以上の整数を表し、ｎ２は０以上の整数を表し、ｎ１＋ｎ２は２又は３である。
Ｍがロジウム原子又はイリジウム原子の場合、ｎ１＋ｎ２は３であり、Ｍがパラジウム原子又は白金原子の場合、ｎ１＋ｎ２は２である。
Ａ１−Ｇ１−Ａ２は、アニオン性の２座配位子を表す。Ａ１及びＡ２は、それぞれ独立に、炭素原子、酸素原子又は窒素原子を表し、これらの原子は環を構成する原子であってもよい。Ｇ１は、単結合、又は、Ａ１及びＡ２とともに２座配位子を構成する原子団を表す。Ａ１−Ｇ１−Ａ２が複数存在する場合、それらは同一であっても異なっていてもよい。］
［２］環Ｂが、ベンゼン環、フルオレン環、ジベンゾフラン環又はジベンゾチオフェン環である、［１］に記載の金属錯体。
［３］式（１ａ）で表される、［２］に記載の金属錯体。
【化２】
2017170916.tif 000004
［式中、
Ｍ、ｎ１、ｎ２、Ｒ１、Ｒ２、環Ａ、Ｘ及びＡ１−Ｇ１−Ａ２は、前記と同じ意味を表す。
Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、１価の複素環基、置換アミノ基又はハロゲン原子を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。
Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６が複数存在する場合、それらはそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。Ｒ３とＲ４、Ｒ４とＲ５、及び、Ｒ５とＲ６は、それぞれ結合して、それぞれが結合する炭素原子とともに環を形成していてもよい。］
［４］式（１ｂ）で表される、［３］に記載の金属錯体。
【化３】
2017170916.tif 000005
［式中、
Ｍ、ｎ１、ｎ２、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｘ及びＡ１−Ｇ１−Ａ２は、前記と同じ意味を表す。
Ｒ７、Ｒ８及びＲ９は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、１価の複素環基、置換アミノ基又はハロゲン原子を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。Ｒ７、Ｒ８及びＲ９が複数存在する場合、それらはそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。Ｒ７とＲ８、Ｒ８とＲ９は、それぞれが結合して、それぞれが結合する炭素原子とともに環を形成していてもよい。］
［５］少なくとも一つのＲ１が、式（２）で表される基である、［１］〜［４］のいずれかに記載の金属錯体。
【化４】
2017170916.tif 000006
［式中、
Ｒ１１はアルキル基を表し、該基は置換基を有していてもよい。Ｒ１１が複数存在する場合、それらは同一であっても異なっていてもよい。
Ｒ１２はシクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、１価の複素環基、置換アミノ基又はハロゲン原子を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。Ｒ１２が複数存在する場合、それらは同一であっても異なっていてもよい。
ｎ３は１〜３の整数を表し、ｎ４は０〜２の整数を表し、ｎ５は０又は１を表し、ｎ３＋ｎ４＋ｎ５は３である。］
［６］ｎ５が０である、［５］に記載の金属錯体。
［７］ｎ４が０である、［５］又は［６］に記載の金属錯体。
［８］Ｒ２が置換基を有していてもよいアルキル基である、［１］〜［７］のいずれかに記載の金属錯体。
［９］Ｍが白金原子又はイリジウム原子である、［１］〜［８］のいずれかに記載の金属錯体。
［１０］ｎ２が０である、［１］〜［９］のいずれかに記載の金属錯体。
［１１］Ｘが窒素原子である、［１］〜［１０］のいずれかに記載の金属錯体。
［１２］［１］〜［１１］のいずれかに記載の金属錯体と、
式（Ｈ−１）で表される化合物及び式（Ｙ）で表される構成単位を含む高分子化合物からなる群より選択される少なくとも一種と、
を含有する、組成物。
【化５】
2017170916.tif 000007
［式中、
ＡｒＨ１及びＡｒＨ２は、それぞれ独立に、アリール基又は１価の複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。
ｎＨ１及びｎＨ２は、それぞれ独立に、０又は１を表す。ｎＨ１が複数存在する場合、それらは同一であっても異なっていてもよい。複数存在するｎＨ２は、同一であっても異なっていてもよい。
ｎＨ３は、０以上の整数を表す。
ＬＨ１は、アリーレン基、２価の複素環基、又は、−［Ｃ（ＲＨ１１）２］ｎＨ１１−で表される基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。ＬＨ１が複数存在する場合、それらは同一であっても異なっていてもよい。
ｎＨ１１は、１以上１０以下の整数を表す。ＲＨ１１は、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基又は１価の複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。複数存在するＲＨ１１は、同一であっても異なっていてもよく、互いに結合して、それぞれが結合する炭素原子とともに環を形成していてもよい。
ＬＨ２は、−Ｎ（−ＬＨ２１−ＲＨ２１）−で表される基を表す。ＬＨ２が複数存在する場合、それらは同一であっても異なっていてもよい。
ＬＨ２１は、単結合、アリーレン基又は２価の複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。ＲＨ２１は、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基又は１価の複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。］
【化６】
2017170916.tif 000008
［式中、ＡｒＹ１はアリーレン基、２価の複素環基、又は、少なくとも１種のアリーレン基と少なくとも１種の２価の複素環基とが直接結合した２価の基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。］
［１３］［１］〜［１１］のいずれかに記載の金属錯体と、
正孔輸送材料、正孔注入材料、電子輸送材料、電子注入材料、発光材料、酸化防止剤及び溶媒からなる群より選ばれる少なくとも１種の材料と、
を含有する、組成物。
［１４］［１］〜［１１］のいずれかに記載の金属錯体を含有する、膜。
［１５］［１］〜［１１］のいずれかに記載の金属錯体を含有する、発光素子。
【発明の効果】
【０００７】
本発明によれば、発光安定性に優れる金属錯体を提供することができる。また、本発明によれば、該金属錯体を含有する組成物、膜及び発光素子を提供することができる。
【発明を実施するための形態】
【０００８】
以下、本発明の好適な実施形態について詳細に説明する。
【０００９】
＜共通する用語の説明＞
本明細書で共通して用いられる用語は、特記しない限り、以下の意味である。
【００１０】
Ｍｅはメチル基、Ｅｔはエチル基、Ｂｕはブチル基、ｉ−Ｐｒはイソプロピル基、ｔ−Ｂｕはｔｅｒｔ−ブチル基、Ｐｈはフェニル基を表す。
【００１１】
水素原子（「Ｈ」とも表記する。）は、重水素原子であっても、軽水素原子であってもよい。
【００１２】
金属錯体を表す式中、中心金属との結合を表す実線は、共有結合又は配位結合を意味する。
【００１３】
「高分子化合物」とは、分子量分布を有し、ポリスチレン換算の数平均分子量が１×１０３以上（例えば１×１０３〜１×１０８）である重合体を意味する。
【００１４】
高分子化合物は、ブロック共重合体、ランダム共重合体、交互共重合体、グラフト共重合体のいずれであってもよいし、その他の態様であってもよい。
【００１５】
高分子化合物の末端基は、重合活性基がそのまま残っていると、高分子化合物を発光素子の作製に用いた場合に発光特性又は輝度寿命が低下する可能性があるので、好ましくは安定な基である。この末端基としては、好ましくは主鎖と共役結合している基であり、例えば、炭素−炭素結合を介してアリール基又は１価の複素環基と結合している基が挙げられる。
【００１６】
「構成単位」とは、高分子化合物中に１個以上存在する単位を意味する。
【００１７】
「低分子化合物」とは、分子量分布を有さず、分子量が１×１０４以下の化合物を意味する。
【００１８】
「アルキル基」は、直鎖及び分岐のいずれでもよい。直鎖のアルキル基の炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含めないで、通常１〜５０であり、好ましくは１〜１０であり、より好ましくは１〜６である。分岐のアルキル基の炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含めないで、通常３〜５０であり、好ましくは３〜１２であり、より好ましくは４〜８である。
アルキル基は、置換基を有していてもよい。アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、２−ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基、イソアミル基、２−エチルブチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、２−エチルヘキシル基、３−プロピルヘプチル基、デシル基、３，７−ジメチルオクチル基、２−エチルオクチル基、２−ヘキシルデシル基、ドデシル基等が挙げられる。また、アルキル基は、これらの基における水素原子の一部又は全部が、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基、フッ素原子等で置換された基であってもよい。このようなアルキル基としては、例えば、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、パーフルオロブチル基、パーフルオロヘキシル基、パーフルオロオクチル基、３−フェニルプロピル基、３−（４−メチルフェニル）プロピル基、３−（３，５−ジ−ヘキシルフェニル）プロピル基、６−エチルオキシヘキシル基が挙げられる。
「シクロアルキル基」の炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含めないで、通常３〜５０であり、好ましくは３〜３０であり、より好ましくは４〜２０である。
シクロアルキル基は、置換基を有していてもよい。シクロアルキル基としては、例えば、シクロヘキシル基、シクロヘキシルメチル基、シクロヘキシルエチル基が挙げられる。
【００１９】
「アリール基」は、芳香族炭化水素から環を構成する炭素原子に直接結合する水素原子１個を除いた残りの原子団を意味する。アリール基の炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含めないで、通常６〜６０であり、好ましくは６〜２０であり、より好ましくは６〜１０である。
アリール基は、置換基を有していてもよい。アリール基としては、例えば、フェニル基、１−ナフチル基、２−ナフチル基、１−アントラセニル基、２−アントラセニル基、９−アントラセニル基、１−ピレニル基、２−ピレニル基、４−ピレニル基、２−フルオレニル基、３−フルオレニル基、４−フルオレニル基、２−フェニルフェニル基、３−フェニルフェニル基、４−フェニルフェニル基等が挙げられる。また、アリール基は、これらの基における水素原子の一部又は全部が、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基、フッ素原子等で置換された基であってもよい。
【００２０】
「アルコキシ基」は、直鎖及び分岐のいずれでもよい。直鎖のアルコキシ基の炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含めないで、通常１〜４０であり、好ましくは４〜１０である。分岐のアルコキシ基の炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含めないで、通常３〜４０であり、好ましくは４〜１０である。
アルコキシ基は、置換基を有していてもよい。アルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ブチルオキシ基、イソブチルオキシ基、ｔｅｒｔ−ブチルオキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ基、２−エチルヘキシルオキシ基、ノニルオキシ基、デシルオキシ基、３，７−ジメチルオクチルオキシ基、ラウリルオキシ基等が挙げられる。また、アルコキシ基は、これらの基における水素原子の一部又は全部が、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基、フッ素原子等で置換された基であってもよい。
「シクロアルコキシ基」の炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含めないで、通常３〜４０であり、好ましくは４〜１０である。
シクロアルコキシ基は、置換基を有していてもよい。シクロアルコキシ基としては、例えば、シクロヘキシルオキシ基が挙げられる。
【００２１】
「アリールオキシ基」の炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含めないで、通常６〜６０であり、好ましくは６〜４８である。
アリールオキシ基は、置換基を有していてもよい。アリールオキシ基としては、例えば、フェノキシ基、１−ナフチルオキシ基、２−ナフチルオキシ基、１−アントラセニルオキシ基、９−アントラセニルオキシ基、１−ピレニルオキシ基等が挙げられる。また、アリールオキシ基は、これらの基における水素原子の一部又は全部が、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、フッ素原子等で置換された基であってもよい。
【００２２】
「ｐ価の複素環基」（ｐは、１以上の整数を表す。）とは、複素環式化合物から、環を構成する炭素原子又はヘテロ原子に直接結合している水素原子のうちｐ個の水素原子を除いた残りの原子団を意味する。ｐ価の複素環基の中でも、芳香族複素環式化合物から、環を構成する炭素原子又はヘテロ原子に直接結合している水素原子のうちｐ個の水素原子を除いた残りの原子団である「ｐ価の芳香族複素環基」が好ましい。
「芳香族複素環式化合物」は、オキサジアゾール、チアジアゾール、チアゾール、オキサゾール、チオフェン、ピロール、ホスホール、フラン、ピリジン、ピラジン、ピリミジン、トリアジン、ピリダジン、キノリン、イソキノリン、カルバゾール、ジベンゾホスホール等の複素環自体が芳香族性を示す化合物、及び、フェノキサジン、フェノチアジン、ジベンゾボロール、ジベンゾシロール、ベンゾピラン等の複素環自体は芳香族性を示さなくとも、複素環に芳香環が縮環されている化合物を意味する。
【００２３】
ｐ価の複素環基の炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含めないで、通常２〜６０であり、好ましくは３〜２０であり、より好ましくは４〜２０である。
ｐ価の複素環基は、置換基を有していてもよい。ｐ価の複素環基のうち、１価の複素環基としては、例えば、チエニル基、ピロリル基、フリル基、ピリジニル基、ピペリジニル基、キノリニル基、イソキノリニル基、ピリミジニル基、トリアジニル基等が挙げられる。また、１価の複素環基は、これらの基における水素原子の一部又は全部が、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基等で置換された基であってもよい。
【００２４】
「ハロゲン原子」とは、フッ素原子、塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子を示す。
【００２５】
「アミノ基」は、置換基を有していてもよく、置換アミノ基が好ましい。アミノ基が有する置換基としては、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基又は１価の複素環基が好ましい。
置換アミノ基としては、二置換アミノ基が好ましい。二置換アミノ基としては、例えば、ジアルキルアミノ基、ジシクロアルキルアミノ基及びジアリールアミノ基が挙げられる。
二置換アミノ基としては、例えば、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジフェニルアミノ基、ビス（４−メチルフェニル）アミノ基、ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）アミノ基、ビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）アミノ基が挙げられる。
【００２６】
「アルケニル基」は、直鎖及び分岐のいずれでもよい。直鎖のアルケニル基の炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含めないで、通常２〜３０であり、好ましくは３〜２０である。分岐のアルケニル基の炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含めないで、通常３〜３０であり、好ましくは４〜２０である。
「シクロアルケニル基」の炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含めないで、通常３〜３０であり、好ましくは４〜２０である。
アルケニル基及びシクロアルケニル基は、置換基を有していてもよい。アルケニル基としては、例えば、ビニル基、１−プロペニル基、２−プロペニル基、２−ブテニル基、３−ブテニル基、３−ペンテニル基、４−ペンテニル基、１−ヘキセニル基、５−ヘキセニル基、７−オクテニル基、及び、これらの基における水素原子の一部又は全部が置換基で置換された基が挙げられる。シクロアルケニル基としては、例えば、シクロヘキセニル基、２−ノルボルニレニル基が挙げられる。
【００２７】
「アルキニル基」は、直鎖及び分岐のいずれでもよい。アルキニル基の炭素原子数は、置換基の炭素原子を含めないで、通常２〜２０であり、好ましくは３〜２０である。分岐のアルキニル基の炭素原子数は、置換基の炭素原子を含めないで、通常４〜３０であり、好ましくは４〜２０である。
「シクロアルキニル基」の炭素原子数は、置換基の炭素原子を含めないで、通常４〜３０であり、好ましくは４〜２０である。
アルキニル基及びシクロアルキニル基は、置換基を有していてもよい。アルキニル基としては、例えば、エチニル基、１−プロピニル基、２−プロピニル基、２−ブチニル基、３−ブチニル基、３−ペンチニル基、４−ペンチニル基、１−ヘキシニル基、５−ヘキシニル基、及び、これらの基における水素原子の一部又は全部が置換基で置換された基が挙げられる。
【００２８】
「アリーレン基」は、芳香族炭化水素から環を構成する炭素原子に直接結合する水素原子２個を除いた残りの原子団を意味する。アリーレン基の炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含めないで、通常６〜６０であり、好ましくは６〜３０であり、より好ましくは６〜１８である。
アリーレン基は、置換基を有していてもよい。アリーレン基としては、例えば、フェニレン基、ナフタレンジイル基、アントラセンジイル基、フェナントレンジイル基、ジヒドロフェナントレンジイル基、ナフタセンジイル基、フルオレンジイル基、ピレンジイル基、ペリレンジイル基、クリセンジイル基、及び、これらの基における水素原子の一部又は全部が置換基で置換された基が挙げられる。アリーレン基は、好ましくは、式（Ａ−１）〜式（Ａ−２０）で表される基である。アリーレン基は、これらの基が複数結合した基を含む。
【００２９】
【化７】
2017170916.tif 000009
【００３０】
【化８】
2017170916.tif 000010
【００３１】
【化９】
2017170916.tif 000011
【００３２】
【化１０】
2017170916.tif 000012
【００３３】
式中、Ｒ及びＲａは、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基又は１価の複素環基を表す。複数存在するＲ及びＲａは、各々、同一でも異なっていてもよく、Ｒａ同士は互いに結合して、それぞれが結合する原子と共に環を形成していてもよい。
【００３４】
２価の複素環基の炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含めないで、通常２〜６０であり、好ましくは、３〜２０であり、より好ましくは、４〜１５である。
２価の複素環基は、置換基を有していてもよい。２価の複素環基としては、例えば、ピリジン、ジアザベンゼン、トリアジン、アザナフタレン、ジアザナフタレン、カルバゾール、ジベンゾフラン、ジベンゾチオフェン、ジベンゾシロール、フェノキサジン、フェノチアジン、アクリジン、ジヒドロアクリジン、フラン、チオフェン、アゾール、ジアゾール、トリアゾールから、環を構成する炭素原子又はヘテロ原子に直接結合している水素原子のうち２個の水素原子を除いた２価の基、及び、これらの基における水素原子の一部又は全部が置換基で置換された基が挙げられる。２価の複素環基は、好ましくは、式（ＡＡ−１）〜式（ＡＡ−３４）で表される基である。２価の複素環基は、これらの基が複数結合した基を含む。
【００３５】
【化１１】
2017170916.tif 000013
【００３６】
【化１２】
2017170916.tif 000014
【００３７】
【化１３】
2017170916.tif 000015
【００３８】
【化１４】
2017170916.tif 000016
【００３９】
【化１５】
2017170916.tif 000017
【００４０】
【化１６】
2017170916.tif 000018
【００４１】
【化１７】
2017170916.tif 000019
【００４２】
式中、Ｒ及びＲａは、前記と同じ意味を表す。
【００４３】
「架橋基」とは、加熱、紫外線照射、近紫外線照射、可視光照射、赤外線照射、ラジカル反応等に供することにより、新たな結合を生成することが可能な基である。架橋基は、好ましくは、式（Ｂ−１）〜（Ｂ−１７）のいずれかで表される基である。これらの基は、置換基を有していてもよい。
【００４４】
【化１８】
2017170916.tif 000020
【００４５】
「置換基」とは、ハロゲン原子、シアノ基、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、１価の複素環基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリールオキシ基、アミノ基、置換アミノ基、アルケニル基、シクロアルケニル基、アルキニル基又はシクロアルキニル基を表す。置換基は架橋基であってもよい。
【００４６】
本明細書において、「発光安定性に優れる金属錯体」（又は「金属錯体の発光安定性が優れる」）とは、一定の励起条件にて金属錯体を連続的に励起させた場合に、金属錯体の三重項励起状態からの発光輝度が低下しにくいことを意味する。金属錯体を励起させる方法としては、例えば、光励起、電流励起が挙げられる。
本実施形態に係る金属錯体は、発光安定性が優れるので、本実施形態に係る金属錯体を含有する組成物、膜及び発光素子の発光安定性も優れたものとなる。
【００４７】
本明細書において、アリール基、１価の複素環基又は置換アミノ基はデンドロンであってもよい。
【００４８】
「デンドロン」とは、原子又は環を分岐点とする規則的な樹枝状分岐構造（即ち、デンドリマー構造）を有する基を意味する。デンドロンを有する化合物（以下、「デンドリマー」と言う。）としては、例えば、国際公開第２００２／０６７３４３号、特開２００３−２３１６９２号公報、国際公開第２００３／０７９７３６号、国際公開第２００６／０９７７１７号等の文献に記載の構造が挙げられる。
【００４９】
デンドロンとしては、好ましくは、式（Ｄ−Ａ）又は（Ｄ−Ｂ）で表される基である。
【００５０】
【化１９】
2017170916.tif 000021
【００５１】
式中、
ｍＤＡ１、ｍＤＡ２及びｍＤＡ３は、それぞれ独立に、０以上の整数を表す。
ＧＤＡは、窒素原子、芳香族炭化水素基又は複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。
ＡｒＤＡ１、ＡｒＤＡ２及びＡｒＤＡ３は、それぞれ独立に、アリーレン基又は２価の複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。ＡｒＤＡ１、ＡｒＤＡ２及びＡｒＤＡ３が複数存在する場合、それらはそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。
ＴＤＡは、アリール基又は１価の複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。複数存在するＴＤＡは、同一であっても異なっていてもよい。
【００５２】
【化２０】
2017170916.tif 000022
【００５３】
式中、
ｍＤＡ１、ｍＤＡ２、ｍＤＡ３、ｍＤＡ４、ｍＤＡ５、ｍＤＡ６及びｍＤＡ７は、それぞれ独立に、０以上の整数を表す。
ＧＤＡは、窒素原子、芳香族炭化水素基又は複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。複数存在するＧＤＡは、同一であっても異なっていてもよい。
ＡｒＤＡ１、ＡｒＤＡ２、ＡｒＤＡ３、ＡｒＤＡ４、ＡｒＤＡ５、ＡｒＤＡ６及びＡｒＤＡ７は、それぞれ独立に、アリーレン基又は２価の複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。ＡｒＤＡ１、ＡｒＤＡ２、ＡｒＤＡ３、ＡｒＤＡ４、ＡｒＤＡ５、ＡｒＤＡ６及びＡｒＤＡ７が複数存在する場合、それらはそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。
ＴＤＡは、アリール基又は１価の複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。複数存在するＴＤＡは、同一であっても異なっていてもよい。
【００５４】
ｍＤＡ１、ｍＤＡ２、ｍＤＡ３、ｍＤＡ４、ｍＤＡ５、ｍＤＡ６及びｍＤＡ７は、通常１０以下の整数であり、好ましくは５以下の整数であり、より好ましくは０又は１である。ｍＤＡ２、ｍＤＡ３、ｍＤＡ４、ｍＤＡ５、ｍＤＡ６及びｍＤＡ７は、同一の整数であることが好ましく、ｍＤＡ１、ｍＤＡ２、ｍＤＡ３、ｍＤＡ４、ｍＤＡ５、ｍＤＡ６及びｍＤＡ７は、同一の整数であることがより好ましく、ｍＤＡ１、ｍＤＡ２、ｍＤＡ３、ｍＤＡ４、ｍＤＡ５、ｍＤＡ６及びｍＤＡ７は、全て０であることが更に好ましい。
【００５５】
ＧＤＡは、好ましくは式（ＧＤＡ−１１）〜（ＧＤＡ−１５）で表される基であり、これらの基は置換基を有していてもよい。
【００５６】
【化２１】
2017170916.tif 000023
【００５７】
式中、
＊は、式（Ｄ−Ａ）におけるＡｒＤＡ１、式（Ｄ−Ｂ）におけるＡｒＤＡ１、式（Ｄ−Ｂ）におけるＡｒＤＡ２、又は、式（Ｄ−Ｂ）におけるＡｒＤＡ３との結合を表す。
＊＊は、式（Ｄ−Ａ）におけるＡｒＤＡ２、式（Ｄ−Ｂ）におけるＡｒＤＡ２、式（Ｄ−Ｂ）におけるＡｒＤＡ４、又は、式（Ｄ−Ｂ）におけるＡｒＤＡ６との結合を表す。
＊＊＊は、式（Ｄ−Ａ）におけるＡｒＤＡ３、式（Ｄ−Ｂ）におけるＡｒＤＡ３、式（Ｄ−Ｂ）におけるＡｒＤＡ５、又は、式（Ｄ−Ｂ）におけるＡｒＤＡ７との結合を表す。
ＲＤＡは、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基又は１価の複素環基を表し、これらの基は更に置換基を有していてもよい。ＲＤＡが複数存在する場合、それらは同一であっても異なっていてもよい。
【００５８】
ＲＤＡは、好ましくは水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基又はシクロアルコキシ基であり、より好ましくは水素原子、アルキル基又はシクロアルキル基であり、これらの基は置換基を有していてもよい。
【００５９】
ＡｒＤＡ１、ＡｒＤＡ２、ＡｒＤＡ３、ＡｒＤＡ４、ＡｒＤＡ５、ＡｒＤＡ６及びＡｒＤＡ７は、好ましくは式（ＡｒＤＡ−１）〜（ＡｒＤＡ−３）で表される基である。
【００６０】
【化２２】
2017170916.tif 000024
【００６１】
式中、
ＲＤＡは上記と同じ意味を表す。
ＲＤＢは、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基又は１価の複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。ＲＤＢが複数存在する場合、それらは同一であっても異なっていてもよい。
【００６２】
ＲＤＢは、好ましくはアルキル基、シクロアルキル基、アリール基又は１価の複素環基であり、より好ましくはアリール基又は１価の複素環基であり、更に好ましくはアリール基であり、これらの基は置換基を有していてもよい。
【００６３】
ＴＤＡは、好ましくは式（ＴＤＡ−１）〜（ＴＤＡ−３）で表される基である。
【００６４】
【化２３】
2017170916.tif 000025
【００６５】
式中、ＲＤＡ及びＲＤＢは上記と同じ意味を表す。
【００６６】
式（Ｄ−Ａ）で表される基は、好ましくは式（Ｄ−Ａ１）〜（Ｄ−Ａ３）で表される基である。
【００６７】
【化２４】
2017170916.tif 000026
【００６８】
式中、
Ｒｐ１、Ｒｐ２及びＲｐ３は、それぞれ独立に、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基又はハロゲン原子を表す。Ｒｐ１及びＲｐ２が複数存在する場合、それらはそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。
ｎｐ１は、０〜５の整数を表し、ｎｐ２は０〜３の整数を表し、ｎｐ３は０又は１を表す。複数存在するｎｐ１は、同一であっても異なっていてもよい。
【００６９】
式（Ｄ−Ｂ）で表される基は、好ましくは式（Ｄ−Ｂ１）〜（Ｄ−Ｂ３）で表される基である。
【００７０】
【化２５】
2017170916.tif 000027
【００７１】
式中、
Ｒｐ１、Ｒｐ２及びＲｐ３は、それぞれ独立に、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基又はハロゲン原子を表す。Ｒｐ１及びＲｐ２が複数存在する場合、それらはそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。
ｎｐ１は０〜５の整数を表し、ｎｐ２は０〜３の整数を表し、ｎｐ３は０又は１を表す。ｎｐ１及びｎｐ２が複数存在する場合、それらはそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。
【００７２】
ｎｐ１は、好ましくは０〜３の整数であり、より好ましくは１〜３の整数であり、更に好ましくは１である。ｎｐ２は、好ましくは０又は１であり、より好ましくは０である。ｎｐ３は好ましくは０である。
【００７３】
Ｒｐ１、Ｒｐ２及びＲｐ３は、好ましくはアルキル基又はシクロアルキル基である。
【００７４】
＜金属錯体＞
次に、本実施形態に係る金属錯体について説明する。本実施形態に係る金属錯体は、式（１）で表される。
【００７５】
【化２６】
2017170916.tif 000028
【００７６】
Ｘが表す＝Ｃ（ＲＸ）−で表される基におけるＲＸは、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、１価の複素環基又は置換アミノ基であることが好ましく、水素原子、アルキル基又はアリール基であることがより好ましく、水素原子又はアルキル基であることがさらに好ましい。
【００７７】
Ｘは、好ましくは窒素原子である。
【００７８】
式（１）で表される金属錯体は、Ｍ（ロジウム原子、パラジウム原子、イリジウム原子又は白金原子）と、添え字ｎ１でその数を規定されている配位子と、添え字ｎ２でその数を規定されている配位子とから構成されている。
【００７９】
Ｍは、金属錯体の発光安定性が優れるので、白金原子又はイリジウム原子であることが好ましく、イリジウム原子であることがより好ましい。
【００８０】
ｎ１は、Ｍがロジウム原子又はイリジウム原子である場合、２又は３であることが好ましく、３であることがより好ましい。また、ｎ１は、Ｍがパラジウム原子又は白金原子である場合、２であることが好ましい。
【００８１】
Ｒ１で表されるアルキル基の炭素原子数は、金属錯体の発光安定性が優れるので、置換基の炭素原子数を含めないで、５以上であることが好ましく、７以上であることがより好ましい。
【００８２】
Ｒ１で表されるアルキル基の炭素原子数は、合成が容易であるので、置換基の炭素原子数を含めないで、２０以下が好ましく、１５以下がより好ましく、１０以下がさらに好ましい。
【００８３】
Ｒ１で表されるアルキル基の炭素原子数は、金属錯体の発光安定性が優れ、且つ、合成が容易であるので、置換基の炭素原子数を含めないで、例えば、４以上２０以下が好ましく、４以上１５以下がより好ましく、４以上１０以下がさらに好ましく、５以上１０以下が特に好ましく、７以上１０以下がとりわけ好ましい。
【００８４】
Ｒ１が有していてよい置換基は、金属錯体の発光安定性が優れるので、アルコキシ基、シクロアルキル基、シクロアルコキシ基、アリール基、１価の複素環基、置換アミノ基又はハロゲン原子であることが好ましく、シクロアルキル基、アリール基、１価の複素環基又は置換アミノ基であることがより好ましく、シクロアルキル基又はアリール基であることが更に好ましく、シクロアルキル基であることが特に好ましく、これらの基は更に置換基を有していてもよい。また、Ｒ１は、置換基を有さないアルキル基であることが好ましい。
【００８５】
本実施形態では、Ｒ１とＲ２との立体障害によって環Ａとトリアゾール環とが捩れた位置関係となることが、金属錯体の優れた発光安定性に寄与していると考えられる。
【００８６】
Ｒ１において、金属錯体の発光安定性が優れるので、トリアゾール環に直接結合する炭素原子が有する水素原子の数は好ましくは０又は１であり、より好ましくは０である。
【００８７】
Ｒ１は、金属錯体の発光安定性が優れるので、２級アルキル基又は３級アルキル基であることが好ましく、これらの基は置換基を有していてもよく、３級アルキル基であることがより好ましい。２級アルキル基としては、例えば、後述の式（２）のｎ３が２であり、且つ、ｎ５が１である基が挙げられる。３級アルキル基としては、例えば、後述の式（２）のｎ３が３である基が挙げられる。
【００８８】
Ｒ１は、金属錯体の発光安定性が優れるので、少なくとも一つのＲ１が式（２）で表される基であることが好ましい。
【００８９】
【化２７】
2017170916.tif 000029
【００９０】
Ｒ１が炭素原子数４以上のアルキル基であることから、ｎ３が１の場合、Ｒ１１で表されるアルキル基の炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含めないで、３以上である。また、ｎ３が２の場合、２つのＲ１１で表されるアルキル基の炭素原子数の合計は、置換基の炭素原子数を含めないで、３以上である。また、ｎ３が３の場合、３つのＲ１１で表されるアルキル基の炭素原子数の合計は、置換基の炭素原子数を含めないで、３以上である。
【００９１】
Ｒ１１が有していてよい置換基は、金属錯体の発光安定性が優れるので、好ましくは、アルコキシ基、シクロアルキル基、シクロアルコキシ基、アリール基、１価の複素環基、置換アミノ基又はハロゲン原子であり、より好ましくは、シクロアルキル基、アリール基、１価の複素環基又は置換アミノ基であり、更に好ましくは、シクロアルキル基又はアリール基であり、特に好ましくはシクロアルキル基であり、これらの基は更に置換基を有していてもよい。Ｒ１１は、置換基を有さないアルキル基であることがとりわけ好ましい。
【００９２】
Ｒ１２は、金属錯体の発光安定性が優れるので、シクロアルキル基、アリール基、１価の複素環基又は置換アミノ基であることが好ましく、シクロアルキル基又はアリール基であることがより好ましく、シクロアルキル基であることが更に好ましく、これらの基は置換基を有していてもよい。
【００９３】
Ｒ１２が有していてもよい置換基としては、好ましくは、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基、１価の複素環基、置換アミノ基又はハロゲン原子であり、より好ましくは、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、１価の複素環基又は置換アミノ基であり、更に好ましくは、アルキル基、シクロアルキル基又はアリール基であり、特に好ましくはアルキル基又はシクロアルキル基であり、これらの基は更に置換基を有していてもよい。
【００９４】
ｎ３は、金属錯体の発光安定性が優れるので、２又は３であることが好ましく、３であることがより好ましい。
【００９５】
ｎ４は、金属錯体の発光安定性が優れるので、０又は１であることが好ましく、０であることが好ましい。
ｎ５は、金属錯体の発光安定性が優れるので、０であることが好ましい。
【００９６】
式（２）で表される基の好適な例として、式（Ｉ−０２）〜（Ｉ−２１）で表される基が挙げられる。
【００９７】
【化２８】
2017170916.tif 000030
【００９８】
式（２）で表される基としては、上記のうち、式（Ｉ−０８）、式（Ｉ−０９）、式（Ｉ−１０）、式（Ｉ−１２）、式（Ｉ−１３）、式（Ｉ−１４）、式（Ｉ−１５）、式（Ｉ−２０）又は式（Ｉ−２１）で表される基が好ましく、式（Ｉ−１２）、式（Ｉ−１４）又は式（Ｉ−１５）で表される基がより好ましい。
【００９９】
Ｒ２は、金属錯体の発光安定性が優れるので、好ましくは、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基、１価の複素環基又は置換アミノ基であり、より好ましくは、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、１価の複素環基又は置換アミノ基であり、更に好ましくは、アルキル基、シクロアルキル基又はアリール基であり、特に好ましくは、アルキル基であり、これらの基は置換基を有していてもよい。Ｒ２は、置換基を有さないアルキル基がとりわけ好ましい。
【０１００】
Ｒ２が有していてもよい置換基の例及び好ましい範囲は、前述のＲ１２が有していてもよい置換基の例及び好ましい範囲と同じである。
【０１０１】
Ｒ１が３級アルキル基であるとき、金属錯体の発光波長が短波長になるので、Ｒ２は、アルキル基、シクロアルキル基又はアリール基であることが好ましく、これらの基は置換基を有していてもよい。
【０１０２】
Ｒ１が２級アルキル基であるとき、金属錯体の発光波長が短波長になるので、Ｒ２は、アルキル基、シクロアルキル基又はアリール基であることが好ましく、２級アルキル基、３級アルキル基、シクロアルキル基又はアリール基であることがより好ましく、これらの基は置換基を有していてもよい。
【０１０３】
Ｒ２で表されるアルキル基の炭素原子数は、合成が容易であるので、置換基の炭素原子数を含めないで、６以下が好ましく、４以下がより好ましい。
【０１０４】
Ｒ１が３級アルキル基であるとき、Ｒ２で表されるアルキル基の炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含めないで、１以上であってよい。
【０１０５】
Ｒ１が２級アルキル基であるとき、Ｒ２で表されるアルキル基の炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含めないで、３以上が好ましい。
【０１０６】
Ｒ２で表されるシクロアルキル基の炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含めないで、５以上が好ましく、６以上がさらに好ましい。また、Ｒ２で表されるシクロアルキル基の炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含めないで、１０以下が好ましい。
【０１０７】
Ｒ２で表されるアリール基の炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含めないで、６以上が好ましい。Ｒ２で表されるアリール基は置換基を有していてもよいフェニル基が特に好ましい。
【０１０８】
Ｒ２の好適な例としては、式（ＩＩ−０１）〜（ＩＩ−１４）で表される基が挙げられる。
【０１０９】
【化２９】
2017170916.tif 000031
【０１１０】
Ｒ２としては、上記のうち、式（ＩＩ−０１）、式（ＩＩ−０２）、式（ＩＩ−０３）、式（ＩＩ−０４）、式（ＩＩ−０５）、式（ＩＩ−０６）、式（ＩＩ−０７）、式（ＩＩ−０８）又は式（ＩＩ−１０）で表される基が好ましく、式（ＩＩ−０１）、式（ＩＩ−０２）、式（ＩＩ−０４）、式（ＩＩ−０６）又は式（ＩＩ−１０）で表される基がより好ましく、式（ＩＩ−０１）、式（ＩＩ−０２）、式（ＩＩ−０４）又は式（ＩＩ−０６）で表される基がさらに好ましい。
【０１１１】
環Ａは、Ｒ２を置換基として有する環が６員の芳香族炭化水素環又は６員の芳香族複素環であることが好ましく、６員の芳香族炭化水素環であることがより好ましく、これらの環は置換基を有していてもよい。
【０１１２】
環Ａは、単環の芳香族炭化水素環、縮合環を有する芳香族炭化水素環、単環の芳香族複素環、又は、縮合環を有する芳香族複素環であることが好ましく、単環の芳香族炭化水素環、縮合環を有する芳香族炭化水素環、又は、縮合環を有する芳香族複素環であることがより好ましく、単環の芳香族炭化水素環、又は、縮合環を有する芳香族炭化水素環であることが更に好ましく、単環の芳香族炭化水素環であることが特に好ましく、これらの環は置換基を有していてもよい。
【０１１３】
環Ａで表される単環の芳香族炭化水素環としては、置換基を有していてもよいベンゼン環が好ましい。環Ａで表される縮合環の芳香族炭化水素環としては、ナフタレン環、フルオレン環、インデン環、フェナントレン環が好ましく、フルオレン環、フェナントレン環がより好ましく、フルオレン環が更に好ましく、これらの環は置換基を有していてもよい。
【０１１４】
環Ａで表される単環の芳香族複素環としては、ピリジン環、ジアザベンゼン環、トリアジン環が好ましく、これらの環は置換基を有していてもよい。環Ａで表される縮合環の芳香族複素環としては、ジベンゾフラン環、ジベンゾチオフェン環、カルバゾール環が好ましく、これらの環は置換基を有していてもよい。
【０１１５】
環Ａが有していてよいＲ２以外の置換基は、金属錯体の発光安定性がより優れるので、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、１価の複素環基又は置換アミノ基であることが好ましく、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基又は１価の複素環基であることがより好ましく、アルキル基、シクロアルキル基又はアリール基であることが更に好ましく、アルキル基又はアリール基であることが特に好ましく、これらの基は更に置換基を有していてもよい。
【０１１６】
環Ａとしては、例えば、式（Ｌ−１）〜（Ｌ−１６）で表される構造が挙げられる。これらのうち、環Ａとしては、式（Ｌ−１）〜（Ｌ−１０）で表される構造が好ましく、式（Ｌ−１）〜（Ｌ−６）で表される構造がより好ましく、式（Ｌ−１）又は（Ｌ−２）で表される構造が特に好ましい。ここで、結合手は、隣接位の窒素原子との結合を表す。
【０１１７】
【化３０】
2017170916.tif 000032
【０１１８】
【化３１】
2017170916.tif 000033
【０１１９】
【化３２】
2017170916.tif 000034
【０１２０】
【化３３】
2017170916.tif 000035
【０１２１】
式中、
ＲＬ４は、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、１価の複素環基又は置換アミノ基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。複数存在するＲＬ４は、同一であっても異なっていてもよく、隣接するＲＬ４同士は互いに結合して、それぞれが結合する炭素原子とともに環を形成していてもよい。
ＲＬ５は、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、１価の複素環基又は置換アミノ基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。複数存在するＲＬ５は、同一であっても異なっていてもよく、互いに結合して、それぞれが結合する炭素原子とともに環を形成していてもよい。
【０１２２】
ＲＬ４は、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基又は１価の複素環基であることが好ましく、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基又はアリール基であることが好ましく、水素原子、アルキル基又はシクロアルキル基であることが好ましく、これらの基は置換基を有していてもよい。ＲＬ４で表されるアルキル基又はシクロアルキル基としては、式（ＩＩＩ−０１）〜（ＩＩＩ−１０）で表される基が好ましい。
【０１２３】
【化３４】
2017170916.tif 000036
【０１２４】
ＲＬ５は、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基又は１価の複素環基であることが好ましく、アルキル基、シクロアルキル基又はアリール基であることがより好ましく、アリール基であることが更に好ましく、これらの基は置換基を有していてもよい。ＲＬ５で表されるアリール基としては、式（ＩＶ−０１）〜（ＩＶ−０９）で表される基が好ましい。
【０１２５】
【化３５】
2017170916.tif 000037
【０１２６】
環Ｂは、Ｍと直接結合している環が６員の芳香族炭化水素環又は６員の芳香族複素環であることが好ましく、６員の芳香族炭化水素環であることがより好ましく、これらの環は置換基を有していてもよい。
【０１２７】
環Ｂは、単環の芳香族炭化水素環、縮合環を有する芳香族炭化水素環、単環の芳香族複素環、又は、縮合環を有する芳香族複素環であることが好ましく、単環の芳香族炭化水素環、縮合環を有する芳香族炭化水素環、又は、縮合環を有する芳香族複素環であることがより好ましく、単環の芳香族炭化水素環、又は、縮合環を有する芳香族炭化水素環であることが更に好ましく、単環の芳香族炭化水素環であることが特に好ましく、これらの環は置換基を有していてもよい。
【０１２８】
環Ｂとしては、例えば、ベンゼン環、ナフタレン環、フルオレン環、インデン環、フェナントレン環、ジベンゾフラン環、ジベンゾチオフェン環、カルバゾール環、ピリジン環、ジアザベンゼン環、トリアジン環が挙げられる。環Ｂは、ベンゼン環、フルオレン環、インデン環、フェナントレン環、ジベンゾフラン環、ジベンゾチオフェン環、カルバゾール環、ピリジン環、ジアザベンゼン環又はトリアジン環であることが好ましく、ベンゼン環、フルオレン環、フェナントレン環、ジベンゾフラン環、ジベンゾチオフェン環、カルバゾール環、ピリジン環、ジアザベンゼン環又はトリアジン環であることがより好ましく、ベンゼン環、フルオレン環、ジベンゾフラン環、ジベンゾチオフェン環、カルバゾール環、ピリジン環又はピリミジン環であることが更に好ましく、ベンゼン環、フルオレン環、ジベンゾフラン環又はジベンゾチオフェン環であることが特に好ましく、ベンゼン環であることがとりわけ好ましい。これらの環は置換基を有していてもよい。
【０１２９】
環Ｂが有していてよい置換基は、金属錯体の発光安定性がより優れるので、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、１価の複素環基、置換アミノ基又はハロゲン原子であることが好ましく、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、１価の複素環基又は置換アミノ基であることがより好ましく、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基又は１価の複素環基であることが更に好ましく、アルキル基、シクロアルキル基又はアリール基であることが特に好ましく、アルキル基又はアリール基であることがとりわけ好ましく、これらの基は更に置換基を有していてもよい。
【０１３０】
式（１）で表される金属錯体は、金属錯体の発光安定性が優れるので、式（１ａ）で表される金属錯体であることが好ましい。
【０１３１】
【化３６】
2017170916.tif 000038
【０１３２】
Ｒ３及びＲ６は、金属錯体の合成が容易になるので、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、１価の複素環基、置換アミノ基又はハロゲン原子であることが好ましく、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基又は１価の複素環基であることがより好ましく、水素原子、アルキル基又はアリール基であることが更に好ましく、水素原子であることが特に好ましく、これらの基は置換基を有していてもよい。
【０１３３】
Ｒ４及びＲ５は、金属錯体の合成が容易になるので、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、１価の複素環基、置換アミノ基又はハロゲン原子であることが好ましく、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、１価の複素環基又は置換アミノ基であることがより好ましく、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、１価の複素環基であることが更に好ましく、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基又はアリール基であることが特に好ましく、水素原子、アルキル基又はアリール基であることがとりわけ好ましく、これらの基は置換基を有していてもよい。
【０１３４】
Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６が有していてもよい置換基の例及び好ましい範囲は、前述のＲ１２が有していてもよい置換基の例及び好ましい範囲と同じである。
【０１３５】
金属錯体の発光安定性がより優れるので、Ｒ４は、アリール基、１価の複素環基又は置換アミノ基であることが好ましく、アリール基又は１価の複素環基であることがより好ましく、アリール基であることが更に好ましく、これらの基は置換基を有していてもよい。
【０１３６】
金属錯体の発光安定性がより優れ、且つ、合成が容易になるので、Ｒ４が置換基を有していてもよいアリール基であり、且つ、Ｒ５が水素原子又は置換基を有していてもよいアルキル基であることが好ましい。
【０１３７】
Ｒ４及びＲ５の好適な例としては、式（ＩＩ−０１）〜（ＩＩ−１７）で表される基、式（Ｄ−Ａ）で表される基、及び、式（Ｄ−Ｂ）で表される基が挙げられる。
【０１３８】
【化３７】
2017170916.tif 000039
【０１３９】
Ｒ４及びＲ５において、式（Ｄ−Ａ）又は（Ｄ−Ｂ）で表される基の好適な例としては、例えば式（ＩＩ−１８）〜（ＩＩ−２５）で表される基が挙げられる。
【０１４０】
【化３８】
2017170916.tif 000040
【０１４１】
【化３９】
2017170916.tif 000041
【０１４２】
Ｒ４及びＲ５としては、上記のうち、式（ＩＩ−０１）、式（ＩＩ−０２）、式（ＩＩ−０４）、式（ＩＩ−０６）、式（ＩＩ−１０）、式（ＩＩ−１１）、式（ＩＩ−１２）、式（ＩＩ−１５）、式（ＩＩ−１６）、式（ＩＩ−１７）、式（ＩＩ−１８）、式（ＩＩ−１９）、式（ＩＩ−２１）、式（ＩＩ−２４）又は式（ＩＩ−２５）で表される基がより好ましく、式（ＩＩ−０１）、式（ＩＩ−０２）、式（ＩＩ−０４）、式（ＩＩ−１０）、式（ＩＩ−１５）、式（ＩＩ−１６）、式（ＩＩ−１７）、式（ＩＩ−１８）、式（ＩＩ−２４）又は式（ＩＩ−２５）で表される基が特に好ましい。
【０１４３】
好適な一態様において、Ｒ３、Ｒ５及びＲ６は水素原子であってよい。このとき、Ｒ４は、水素原子であっても、水素原子以外の基であってもよい。
【０１４４】
好適な他の一態様において、Ｒ５がアルキル基であり、かつ、Ｒ４がアリール基であってよい。このとき、Ｒ３及びＲ６は、水素原子であっても、水素原子以外の基であってもよい。
【０１４５】
式（１）で表される金属錯体は、金属錯体の発光安定性が優れるので、式（１ｂ）で表される金属錯体であることが好ましい。
【０１４６】
【化４０】
2017170916.tif 000042
【０１４７】
Ｒ７、Ｒ８及びＲ９は、金属錯体の発光安定性がより優れるので、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、１価の複素環基又は置換アミノ基であることが好ましく、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基又は１価の複素環基であることがより好ましく、水素原子、アルキル基又はアリール基であることが更に好ましく、これらの基は置換基を有していてもよい。
【０１４８】
Ｒ７、Ｒ８及びＲ９が有していてもよい置換基の例及び好ましい範囲は、前述のＲ１２が有していてもよい置換基の例及び好ましい範囲と同じである。
【０１４９】
Ｒ７、Ｒ８及びＲ９の好適な例としては、式（ＩＩ−０１）〜（ＩＩ−１７）で表される基、式（Ｄ−Ａ）で表される基、及び、式（Ｄ−Ｂ）で表される基が挙げられる。
【０１５０】
Ｒ７、Ｒ８及びＲ９において、式（Ｄ−Ａ）又は（Ｄ−Ｂ）で表される基の好適な例としては、例えば式（ＩＩ−１８）〜（ＩＩ−２５）で表される基が挙げられる。
【０１５１】
Ｒ７、Ｒ８及びＲ９としては、上記のうち、式（ＩＩ−０１）、式（ＩＩ−０２）、式（ＩＩ−０６）、式（ＩＩ−１０）、式（ＩＩ−１１）、式（ＩＩ−１４）、式（ＩＩ−１５）、式（ＩＩ−２４）又は式（ＩＩ−２５）で表される基がより好ましく、式（ＩＩ−０１）、式（ＩＩ−０２）、式（ＩＩ−０６）、式（ＩＩ−１０）、式（ＩＩ−１５）、式（ＩＩ−２４）又は式（ＩＩ−２５）で表される基が特に好ましい。
【０１５２】
好適な一態様において、Ｒ７は水素原子であってよい。このとき、Ｒ８及びＲ９は、水素原子であっても、水素原子以外の基であってもよい。
好適な一態様において、Ｒ７及びＲ９は水素原子であってよい。このとき、Ｒ８は、水素原子であっても、水素原子以外の基（好ましくは、置換基を有していてもよいアルキル基又は置換基を有していてもよいアリール基）であってもよい。
【０１５３】
Ａ１−Ｇ１−Ａ２で表されるアニオン性の２座配位子としては、例えば、下記式で表される配位子が挙げられる。
【０１５４】
【化４１】
2017170916.tif 000043
【０１５５】
【化４２】
2017170916.tif 000044
【０１５６】
式中、＊は、Ｍと結合する部位を示す。
【０１５７】
Ａ１−Ｇ１−Ａ２で表されるアニオン性の２座配位子は、下記式で表される配位子であってもよい。ただし、Ａ１−Ｇ１−Ａ２で表されるアニオン性の２座配位子は、添え字ｎ１でその数を定義されている配位子とは異なる。
【０１５８】
【化４３】
2017170916.tif 000045
【０１５９】
式中、＊は、Ｍと結合する部位を表す。
ＲＬ１は、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、１価の複素環基又はハロゲン原子を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。複数存在するＲＬ１は、同一であっても異なっていてもよい。
ＲＬ２は、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、１価の複素環基又はハロゲン原子を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。
【０１６０】
式（１）で表される金属錯体（Ｘが窒素原子）としては、例えば、下記式で表される金属錯体が挙げられる。
【０１６１】
【化４４】
2017170916.tif 000046
【０１６２】
【化４５】
2017170916.tif 000047
【０１６３】
【化４６】
2017170916.tif 000048
【０１６４】
【化４７】
2017170916.tif 000049
【０１６５】
【化４８】
2017170916.tif 000050
【０１６６】
【化４９】
2017170916.tif 000051
【０１６７】
【化５０】
2017170916.tif 000052
【０１６８】
【化５１】
2017170916.tif 000053
【０１６９】
【化５２】
2017170916.tif 000054
【０１７０】
【化５３】
2017170916.tif 000055
【０１７１】
【化５４】
2017170916.tif 000056
【０１７２】
【化５５】
2017170916.tif 000057
【０１７３】
【化５６】
2017170916.tif 000058
【０１７４】
【化５７】
2017170916.tif 000059
【０１７５】
【化５８】
2017170916.tif 000060
【０１７６】
【化５９】
2017170916.tif 000061
【０１７７】
【化６０】
2017170916.tif 000062
【０１７８】
【化６１】
2017170916.tif 000063
【０１７９】
【化６２】
2017170916.tif 000064
【０１８０】
【化６３】
2017170916.tif 000065
【０１８１】
【化６４】
2017170916.tif 000066
【０１８２】
【化６５】
2017170916.tif 000067
【０１８３】
【化６６】
2017170916.tif 000068
【０１８４】
【化６７】
2017170916.tif 000069
【０１８５】
【化６８】
2017170916.tif 000070
【０１８６】
【化６９】
2017170916.tif 000071
【０１８７】
【化７０】
2017170916.tif 000072
【０１８８】
【化７１】
2017170916.tif 000073
【０１８９】
式（１）で表される金属錯体（Ｘが＝Ｃ（ＲＸ）−で表される基）としては、例えば、下記式で表される金属錯体が挙げられる。
【０１９０】
【化７２】
2017170916.tif 000074
【０１９１】
【化７３】
2017170916.tif 000075
【０１９２】
式（１）で表される金属錯体としては、上記のうち一つの金属錯体が有する配位子２つと、他の金属錯体が有する配位子１つと、を有する金属錯体も同様に例示できる。また、式（１）で表される金属錯体としては、上記のうち一つの金属錯体が有する配位子１つと、他の金属錯体が有する配位子１つと、さらに他の金属錯体が有する配位子１つと、を有する金属錯体も同様に例示できる。
【０１９３】
また、式（１）で表される金属錯体としては、上記の金属錯体におけるＩｒがＲｈに置き換わった金属錯体も同様に例示できる。また、式（１）で表される金属錯体としては、上記の金属錯体が有する２つの配位子が、Ｐｔ又はＰｄに配位した金属錯体も同様に例示できる。
【０１９４】
また、上記の金属錯体の例示は、環Ａ、環Ｂ、Ｘ、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９及びＡ１−Ｇ１−Ａ２の好適な一形態を示すものということができ、環Ａ、環Ｂ、Ｘ、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９及びＡ１−Ｇ１−Ａ２の好適な例として、上記の金属錯体の例示における各基が例示できる。
【０１９５】
また、上記の金属錯体の例示おける環Ａ、環Ｂ、Ｘ、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９及びＡ１−Ｇ１−Ａ２を任意に組み合わせた金属錯体も、好適な金属錯体として例示できる。
【０１９６】
式（１）で表される金属錯体は、Ｒ１及びＲ２の立体障害による環Ａ及びトリアゾール環の捩れ、並びに、金属原子（Ｍ）周りの絶対配置に由来して、複数の異性体が存在し得る。本実施形態において、金属錯体は、複数の異性体のうち、１種単独であってよく、２種以上の混合物であってもよい。
【０１９７】
例えば、式（１）で表される金属錯体には、幾何異性体として、ｆａｃｉａｌ体及びｍｅｒｉｄｉｏｎａｌ体が存在していてよい。このとき、ｆａｃｉａｌ体の割合は、発光安定性が優れるので、金属錯体全体に対して、好ましくは８０モル％以上、より好ましくは９０モル％以上、更に好ましくは９９モル％以上、特に好ましくは１００モル％である。
【０１９８】
また、式（１）で表される金属錯体は、幾何異性体として、Ｒ１及びＲ２の立体障害により生じるアトロプ異性体、並びに、金属原子周りの絶対配置に由来する異性体（デルタ体及びラムダ体）が存在していてよく、これらの組み合わせにより複数のエナンチオマー及びジアステレオマーが存在していてよい。本実施形態において、金属錯体は、これらの異性体のうちの１種であってよく、２種以上の混合物であってもよい。
【０１９９】
＜金属錯体の製造方法＞
・製造方法１
本実施形態に係る金属錯体は、例えば、配位子となる化合物と金属化合物とを反応させる方法（製造方法１）により製造することができる。必要に応じて、金属錯体の配位子の官能基変換反応を行ってもよい。
【０２００】
製造方法１の一形態は、式（Ｍ−１）で表される化合物と、金属化合物又はその水和物とを反応させて、金属錯体中間体（１）を得る工程Ａと、金属錯体中間体（１）と、式（Ｍ−１）で表される化合物又はＡ１−Ｇ１−Ａ２で表される配位子の前駆体とを反応させる工程Ｂと、を含む方法であってよい。
【０２０１】
【化７４】
2017170916.tif 000076
【０２０２】
式中、Ｍ、ｎ１、ｎ２、Ｒ１、Ｒ２、環Ａ、環Ｂ、Ｘ及びＡ１−Ｇ１−Ａ２は、上記と同じ意味を表す。
【０２０３】
工程Ａにおいて、金属化合物としては、例えば、塩化イリジウム、トリス（アセチルアセトナト）イリジウム（ＩＩＩ）、クロロ（シクロオクタジエン）イリジウム（Ｉ）ダイマー、酢酸イリジウム（ＩＩＩ）等のイリジウム化合物；塩化白金酸カリウム等の白金化合物；塩化パラジウム、酢酸パラジウム等のパラジウム化合物；及び、塩化ロジウム等のロジウム化合物が挙げられる。金属化合物の水和物としては、例えば、塩化イリジウム・三水和物、塩化ロジウム・三水和物が挙げられる。
【０２０４】
金属錯体中間体（１）としては、例えば、式（Ｍ−２）で表される金属錯体が挙げられる。
【０２０５】
【化７５】
2017170916.tif 000077
【０２０６】
式中、Ｍ、環Ａ、環Ｂ、Ｒ１、Ｒ２及びＸは、上記と同じ意味を表す。
ｎ６は、１又は２を表す。Ｍがロジウム原子又はイリジウム原子の場合、ｎ６は２であり、Ｍがパラジウム原子又は白金原子の場合、ｎ６は１である。
【０２０７】
工程Ａにおいて、式（Ｍ−１）で表される化合物の量は、金属化合物又はその水和物１モルに対して、通常、２〜２０モルである。
【０２０８】
工程Ｂにおいて、式（Ｍ−１）で表される化合物又はＡ１−Ｇ１−Ａ２で表される配位子の前駆体の量は、金属錯体中間体（１）１モルに対して、通常、１〜１００モルである。
【０２０９】
製造方法１の他の一形態は、式（Ｍ−１）で表される化合物と、金属化合物又はその水和物とを反応させて、金属錯体を得る工程Ｆを含む方法であってよい。例えば、本実施形態に係る金属錯体の実施形態の一つである式（Ｍ−７）で表される化合物は、式（Ｍ−１）で表される化合物と、イリジウム化合物又はその水和物とを反応させて得ることができる。
【０２１０】
【化７６】
2017170916.tif 000078
【０２１１】
工程Ｆにおいて、金属化合物としては、例えば、塩化イリジウム、トリス（アセチルアセトナト）イリジウム（ＩＩＩ）、クロロ（シクロオクタジエン）イリジウム（Ｉ）ダイマー、酢酸イリジウム（ＩＩＩ）等のイリジウム化合物；金属化合物の水和物としては、例えば、塩化イリジウム・三水和物が挙げられる。
【０２１２】
工程Ｆにおいて、式（Ｍ−１）で表される化合物の量は、金属化合物又はその水和物１モルに対して、通常、２〜２０モルである。
【０２１３】
・製造方法２
本実施形態に係る金属錯体は、例えば、金属錯体の配位子の官能基変換反応により製造してもよい（製造方法２）。
【０２１４】
製造方法２において、官能基変換反応としては、Ｓｕｚｕｋｉ反応、Ｂｕｃｈｗａｌｄ反応、Ｓｔｉｌｌｅ反応、Ｎｅｇｉｓｈｉ反応及びＫｕｍａｄａ反応等の遷移金属触媒を用いる、公知のカップリング反応等が挙げられる。
【０２１５】
製造方法２としては、例えば、式（Ｍ−３）で表される金属錯体と、式（Ｍ−４）で表される化合物とをカップリング反応させる工程Ｃを含む方法が挙げられる。
【０２１６】
【化７７】
2017170916.tif 000079
【０２１７】
式中、
Ｍ、ｎ１、ｎ２、環Ａ、環Ｂ、Ｒ１、Ｒ２、Ｘ及びＡ１−Ｇ１−Ａ２は、上記と同じ意味を表す。
ｎＷ１は、１以上１０以下の整数を表す。
Ｚ１は、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基又は１価の複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。
Ｗ１及びＷ２は、一方が塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子からなる群より選択されるハロゲン原子を表し、他方が置換基Ｂ群から選ばれる基を表す。
【０２１８】
＜置換基Ｂ群＞
−Ｂ（ＯＲＣ２）２（式中、ＲＣ２は、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基又はアリール基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。複数存在するＲＣ２は同一であっても異なっていてもよく、互いに連結して、それぞれが結合する酸素原子とともに環構造を形成していてもよい。）で表される基；
−ＢＦ３Ｑ’（式中、Ｑ’は、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｒｂ又はＣｓを表す。）で表される基；
−ＭｇＹ’（式中、Ｙ’は、塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子を表す。）で表される基；
−ＺｎＹ’’（式中、Ｙ’’は、塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子を表す。）で表される基；及び、
−Ｓｎ（ＲＣ３）３（式中、ＲＣ３は、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基又はアリール基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。複数存在するＲＣ３は同一であっても異なっていてもよく、互いに連結して、それぞれが結合するスズ原子とともに環構造を形成していてもよい。）で表される基。
【０２１９】
−Ｂ（ＯＲＣ２）２で表される基としては、式（Ｗ−１）〜（Ｗ−１０）で表される基が例示される。
【０２２０】
【化７８】
2017170916.tif 000080
【０２２１】
ｎＷ１は、好ましくは１〜５の整数であり、より好ましくは１又は２であり、更に好ましくは１である。
【０２２２】
Ｚ１は、アリール基又は１価の複素環基が好ましく、アリール基がより好ましく、これらの基は置換基を有していてもよい。
【０２２３】
Ｚ１が有していてもよい置換基の例及び好ましい範囲は、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６が有していてもよい置換基の例及び好ましい範囲と同じである。
【０２２４】
Ｗ１及びＷ２におけるハロゲン原子としては、カップリング反応が容易に進行するので、臭素原子又はヨウ素原子が好ましい。
【０２２５】
Ｗ１及びＷ２における置換基Ｂ群から選ばれる基としては、−Ｂ（ＯＲＣ２）２で表される基が好ましく、より好ましくは、式（Ｗ−７）で表される基である。
【０２２６】
好適な一態様において、Ｗ１がハロゲン原子、Ｗ２が置換基Ｂ群から選ばれる基であってよい。
【０２２７】
カップリング反応において、反応を促進するために、パラジウム触媒等の触媒を用いてもよい。パラジウム触媒としては、例えば、酢酸パラジウム、ビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（ＩＩ）ジクロリド、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）、［１，１’−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン］ジクロロパラジウム（ＩＩ）、トリス（ジベンジリデンアセトン）二パラジウム（０）が挙げられる。
【０２２８】
パラジウム触媒は、トリフェニルホスフィン、トリ（ｏ−トリル）ホスフィン、トリ（ｔｅｒｔ−ブチル）ホスフィン、トリシクロヘキシルホスフィン、１，１’−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン等のリン化合物と併用してもよい。
【０２２９】
カップリング反応においてパラジウム触媒を用いる場合、その量は、例えば、式（Ｍ−３）で表される化合物１モルに対して、通常、有効量であり、好ましくは、パラジウム元素換算で０．００００１〜１０モルである。
【０２３０】
カップリング反応において、必要に応じて、パラジウム触媒と塩基を併用してもよい。
【０２３１】
式（Ｍ−３）で表される金属錯体の実施形態の１つである式（Ｍ−３ａ）で表される金属錯体、及び、式（Ｍ−３ｂ）で表される金属錯体は、例えば、式（Ｍ−５）で表される金属錯体から合成することができる。
【０２３２】
【化７９】
2017170916.tif 000081
【０２３３】
式中、Ｍ、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ５、Ｒ６、環Ａ、ｎ１、ｎ２、Ｘ及びＡ１−Ｇ１−Ａ２は、上記と同じ意味を表す。
【０２３４】
より詳細には、式（Ｍ−３ａ）で表される金属錯体は、例えば、式（Ｍ−５）で表される金属錯体と、Ｎ−ブロモスクシンイミドとを、有機溶媒中で反応させる工程Ｄにより合成することができる。
【０２３５】
また、式（Ｍ−３ｂ）で表される金属錯体は、例えば、式（Ｍ−３ａ）で表される金属錯体と、ビス（ピナコラート）ジボロンとを、有機溶媒中で反応させる工程Ｅにより合成することができる。
【０２３６】
工程Ｄにおいて、Ｎ−ブロモスクシンイミドの量は、式（Ｍ−５）で表される化合物１モルに対して、通常、１〜５０モルである。
【０２３７】
工程Ｅにおいて、ビス（ピナコラート）ジボロンの量は、式（Ｍ−３ａ）で表される化合物１モルに対して、通常、１〜５０モルである。
【０２３８】
工程Ｅの反応には、反応を促進するために、パラジウム触媒等の触媒を用いてもよい。パラジウム触媒としては、上記と同じものが例示できる。
【０２３９】
工程Ｅにおいて、パラジウム触媒は、トリフェニルホスフィン、トリ（ｏ−トリル）ホスフィン、トリ（ｔｅｒｔ−ブチル）ホスフィン、トリシクロヘキシルホスフィン、１，１’−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン等のリン化合物と併用してもよい。
【０２４０】
工程Ｅにおいてパラジウム触媒を用いる場合、その量は、例えば、式（Ｍ−３ａ）で表される化合物１モルに対して、通常、有効量であり、好ましくは、パラジウム元素換算で０．００００１〜１０モルである。
【０２４１】
工程Ｅにおいては、必要に応じて、パラジウム触媒と塩基を併用する。
【０２４２】
工程Ａ、工程Ｂ、工程Ｃ、工程Ｄ、工程Ｅ及び工程Ｆは、通常、溶媒中で行う。溶媒としては、メタノール、エタノール、プロパノール、エチレングリコール、グリセリン、２−メトキシエタノール、２−エトキシエタノール等のアルコール系溶媒；ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、ジオキサン、シクロペンチルメチルエーテル、ジグライム等のエーテル系溶媒；塩化メチレン、クロロホルム等のハロゲン系溶媒；アセトニトリル、ベンゾニトリル等のニトリル系溶媒；ヘキサン、デカリン、ペンタデカン、トルエン、キシレン、メシチレン等の炭化水素系溶媒；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド等のアミド系溶媒；アセトン、ジメチルスルホキシド、水等が挙げられる。
【０２４３】
工程Ａ、工程Ｂ、工程Ｃ、工程Ｄ、工程Ｅ及び工程Ｆにおいて、反応時間は、通常、３０分間〜２００時間であり、反応温度は、通常、反応系に存在する溶媒の融点から沸点の間である。
【０２４４】
式（Ｍ−１）で表される化合物（Ｘが窒素原子）は、例えば、式（Ｍ−６）で表されるアリールヒドラジド化合物と、式（Ｍ−７）で表されるアリールアミド化合物とを、塩基及び酸無水物の存在下、縮合させる方法で合成することができる。
【０２４５】
【化８０】
2017170916.tif 000082
【０２４６】
式中、Ｒ１、Ｒ２、環Ａ及び環Ｂは、上記と同じ意味を表す。
【０２４７】
この反応は、通常、溶媒中で行う。溶媒としては、メタノール、エタノール、プロパノール、エチレングリコール、グリセリン、２−メトキシエタノール、２−エトキシエタノール等のアルコール系溶媒；ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、ジオキサン、シクロペンチルメチルエーテル、ジグライム等のエーテル系溶媒；塩化メチレン、クロロホルム、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、クロロブタン等のハロゲン系溶媒；アセトニトリル、ベンゾニトリル等のニトリル系溶媒；ヘキサン、デカリン、トルエン、キシレン、メシチレン等の炭化水素系溶媒；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド等のアミド系溶媒；アセトン、ジメチルスルホキシド、水等が挙げられる。
【０２４８】
この反応の反応時間は、通常、３０分間〜２００時間であり、反応温度は、通常、反応系に存在する溶媒の融点から沸点の間である。
【０２４９】
この反応において、式（Ｍ−６）で表される化合物の量は、式（Ｍ−７）で表される化合物１モルに対して、通常、０．０５〜２０モルである。
【０２５０】
式（Ｍ−６）で表される化合物は、例えば、
「Ｅｕｒｏｐｅａｎ  Ｊｏｕｒｎａｌ  ｏｆ  Ｍｅｄｉｃｉｎａｌ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，  ９６，  ３３０−３３９；  ２０１５」、「Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ  Ｌｅｔｔｅｒｓ，  ５４（２６），  ３３５３−３３５８；  ２０１３」
等の文献に記載の方法に従って合成することができる。式（Ｍ−６）で表される化合物は、塩酸塩等の塩であってもよい。
【０２５１】
式（Ｍ−７）で表される化合物は、例えば、
「Ｊｏｕｒｎａｌ  ｏｆ  ｔｈｅ  Ａｍｅｒｉｃａｎ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｓｏｃｉｅｔｙ，  １３０（４９），  １６４７４−１６４７５；  ２００８」、「Ｃａｔａｌｙｓｉｓ  Ｓｃｉｅｎｃｅ  ＆  Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ，  ５（２），  １１８１−１１８６；  ２０１５」
等の文献に記載の方法に従って合成することができる。
【０２５２】
式（Ｍ−１）で表される化合物（Ｘが＝Ｃ（ＲＸ）−で表される基）は、例えば、以下の方法で合成することができる。まず、式（Ｍ−８）で表されるアリールアミド化合物と、塩素化剤とを反応させることにより、式（Ｍ−９）で表される塩化カルボキシイミドクロライドを合成する。その後、式（Ｍ−９）で表される塩化カルボキシイミドクロライドと、式（Ｍ−１０）で表されるアリールアミン化合物と反応させることにより、式（Ｍ−１１）で表されるジヒドロイミダゾール化合物を合成する。その後、式（Ｍ−１１）で表されるジヒドロイミダゾール化合物と、酸化剤とを反応させることにより、式（Ｍ−１）で表される化合物を合成することができる。
【０２５３】
【化８１】
2017170916.tif 000083
【０２５４】
式中、Ｒ１、Ｒ２、ＲＸ、環Ａ及び環Ｂは、上記と同じ意味を表す。
【０２５５】
これらの反応は、通常、溶媒中で行う。溶媒としては、メタノール、エタノール、プロパノール、エチレングリコール、グリセリン、２−メトキシエタノール、２−エトキシエタノール等のアルコール系溶媒；ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、ジオキサン、シクロペンチルメチルエーテル、ジグライム等のエーテル系溶媒；塩化メチレン、クロロホルム、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、クロロブタン等のハロゲン系溶媒；アセトニトリル、ベンゾニトリル等のニトリル系溶媒；ヘキサン、デカリン、トルエン、キシレン、メシチレン等の炭化水素系溶媒；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド等のアミド系溶媒；アセトン、ジメチルスルホキシド、水等が挙げられる。
【０２５６】
これらの反応の反応時間は、通常、３０分間〜２００時間であり、反応温度は、通常、反応系に存在する溶媒の融点から沸点の間である。
【０２５７】
これらの反応において、式（Ｍ−９）で表される化合物の量は、式（Ｍ−１０）で表される化合物１モルに対して、通常、０．０５〜２０モルである。
【０２５８】
式（Ｍ−８）で表される化合物は、例えば、対応するカルボン酸化合物と１級アミン化合物とを縮合させて合成することができる。
【０２５９】
式（Ｍ−１０）で表される化合物は、例えば、
「Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｅｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇ  ＆  Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ，  ３９（１０），  １９３３−１９３８；  ２０１６」、「Ｏｒｇａｎｉｃ  ＆  Ｂｉｏｍｏｌｅｃｕｌａｒ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，  １４（３８），  ９０４６−９０５４；  ２０１６」
等の文献に記載の方法に従って合成することができる。式（Ｍ−１０）で表される化合物は、塩酸塩等の塩であってもよい。
【０２６０】
＜金属錯体の製造方法＞で説明した各反応において用いられる化合物、触媒及び溶媒は、各々、一種単独で用いても二種以上を併用してもよい。
【０２６１】
本実施形態に係る金属錯体は、発光素子に用いる材料として、好適に用いることができる。特に、本実施形態に係る金属錯体は、発光素子の発光層に用いる発光材料として、好適に用いることができる。
【０２６２】
＜組成物＞
本実施形態に係る組成物は、式（１）で表される金属錯体を含有する。
【０２６３】
また、本実施形態に係る組成物は、式（１）で表される金属錯体以外に、正孔輸送材料、正孔注入材料、電子輸送材料、電子注入材料、発光材料（式（１）で表される金属錯体とは異なる。）、酸化防止剤及び溶媒からなる群から選ばれる少なくとも１種の材料を、更に含有していてよい。
【０２６４】
本実施形態に係る組成物は、式（１）で表される金属錯体のうち１種を含有していてよく、２種以上を含有していてよい。
【０２６５】
好適な一態様において、組成物は、式（１）で表される金属錯体と、正孔注入性、正孔輸送性、電子注入性及び電子輸送性からなる群から選ばれる少なくとも１つの機能を有するホスト材料とを含有していてよい。このような組成物は、発光素子の発光層に好適に用いられる。ホスト材料は、１種単独で含有されていても、２種以上含有されていてもよい。
【０２６６】
本態様において、式（１）で表される金属錯体の含有量は、該金属錯体とホスト材料との合計を１００質量部とした場合、通常、０．０５〜８０質量部であり、好ましくは０．１〜５０質量部であり、より好ましくは０．５〜４０質量部である。
【０２６７】
ホスト材料の有する最低励起三重項状態（Ｔ１）は、本態様の組成物を用いて得られる発光素子の外部量子効率が優れるので、式（１）で表される金属錯体の有するＴ１と同等のエネルギー準位、又は、より高いエネルギー準位であることが好ましい。
【０２６８】
ホスト材料としては、本態様の組成物を用いて得られる発光素子を溶液塗布プロセスで作製できるので、式（１）で表される金属錯体を溶解することが可能な溶媒に対して溶解性を示すものであることが好ましい。
【０２６９】
ホスト材料は、低分子化合物と高分子化合物とに分類され、低分子化合物が好ましい。
【０２７０】
［低分子ホスト］
ホスト材料として好ましい低分子化合物（以下、「低分子ホスト」と言う。）に関して説明する。
【０２７１】
低分子ホストは、好ましくは、式（Ｈ−１）で表される化合物である。
【０２７２】
【化８２】
2017170916.tif 000084
【０２７３】
ＡｒＨ１及びＡｒＨ２は、フェニル基、フルオレニル基、スピロビフルオレニル基、ピリジル基、ピリミジニル基、トリアジニル基、キノリニル基、イソキノリニル基、チエニル基、ベンゾチエニル基、ジベンゾチエニル基、フリル基、ベンゾフリル基、ジベンゾフリル基、ピロリル基、インドリル基、アザインドリル基、カルバゾリル基、アザカルバゾリル基、ジアザカルバゾリル基、フェノキサジニル基又はフェノチアジニル基であることが好ましく、フェニル基、スピロビフルオレニル基、ピリジル基、ピリミジニル基、トリアジニル基、ジベンゾチエニル基、ジベンゾフリル基、カルバゾリル基又はアザカルバゾリル基であることがより好ましく、フェニル基、ピリジル基、カルバゾリル基又はアザカルバゾリル基であることが更に好ましく、式（ＴＤＡ−１）又は（ＴＤＡ−３）で表される基であることが特に好ましく、式（ＴＤＡ−３）で表される基であることがとりわけ好ましく、これらの基は置換基を有していてもよい。
【０２７４】
ＡｒＨ１及びＡｒＨ２が有していてもよい置換基としては、ハロゲン原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基又は１価の複素環基が好ましく、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基又はシクロアルコキシ基がより好ましく、アルキル基又はシクロアルキル基が更に好ましく、これらの基は更に置換基を有していてもよい。
【０２７５】
ｎＨ１は、好ましくは１である。ｎＨ２は、好ましくは０である。
【０２７６】
ｎＨ３は、通常、０以上１０以下の整数であり、好ましくは０以上５以下の整数であり、更に好ましくは１以上３以下の整数であり、特に好ましくは１である。
【０２７７】
ｎＨ１１は、好ましくは１以上５以下の整数であり、より好ましくは１以上３以下の整数であり、更に好ましくは１である。
【０２７８】
ＲＨ１１は、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基又は１価の複素環基であることが好ましく、水素原子、アルキル基又はシクロアルキル基であることがより好ましく、水素原子又はアルキル基であることが更に好ましく、これらの基は置換基を有していてもよい。
【０２７９】
ＬＨ１は、アリーレン基又は２価の複素環基であることが好ましい。
【０２８０】
ＬＨ１は、式（Ａ−１）〜（Ａ−３）、（Ａ−８）〜（Ａ−１０）、（ＡＡ−１）〜（ＡＡ−６）、（ＡＡ−１０）〜（ＡＡ−２１）又は（ＡＡ−２４）〜（ＡＡ−３４）で表される基であることが好ましく、式（Ａ−１）、（Ａ−２）、（Ａ−８）、（Ａ−９）、（ＡＡ−１）〜（ＡＡ−４）、（ＡＡ−１０）〜（ＡＡ−１５）又は（ＡＡ−２９）〜（ＡＡ−３４）で表される基であることがより好ましく、式（Ａ−１）、（Ａ−２）、（Ａ−８）、（Ａ−９）、（ＡＡ−２）、（ＡＡ−４）、（ＡＡ−１０）〜（ＡＡ−１５）で表される基であることが更に好ましく、式（Ａ−１）、（Ａ−２）、（Ａ−８）、（ＡＡ−２）、（ＡＡ−４）、（ＡＡ−１０）、（ＡＡ−１２）又は（ＡＡ−１４）で表される基であることが特に好ましく、式（Ａ−１）、（Ａ−２）、（ＡＡ−２）、（ＡＡ−４）又は（ＡＡ−１４）で表される基であることがとりわけ好ましい。
【０２８１】
ＬＨ１が有していてもよい置換基としては、ハロゲン原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基又は１価の複素環基が好ましく、アルキル基、アルコキシ基、アリール基又は１価の複素環基がより好ましく、アルキル基、アリール基又は１価の複素環基が更に好ましく、これらの基は更に置換基を有していてもよい。
【０２８２】
ＬＨ２１は、単結合又はアリーレン基であることが好ましく、単結合であることがより好ましく、このアリーレン基は置換基を有していてもよい。
【０２８３】
ＬＨ２１で表されるアリーレン基又は２価の複素環基の定義及び例は、ＬＨ１で表されるアリーレン基又は２価の複素環基の定義及び例と同様である。
【０２８４】
ＲＨ２１は、アリール基又は１価の複素環基であることが好ましく、これらの基は置換基を有していてもよい。
【０２８５】
ＲＨ２１で表されるアリール基及び１価の複素環基の定義及び例は、ＡｒＨ１及びＡｒＨ２で表されるアリール基及び１価の複素環基の定義及び例と同様である。
【０２８６】
ＲＨ２１が有していてもよい置換基の定義及び例は、ＡｒＨ１及びＡｒＨ２が有していてもよい置換基の定義及び例と同様である。
【０２８７】
式（Ｈ−１）で表される化合物は、式（Ｈ−２）で表される化合物であることが好ましい。
【０２８８】
【化８３】
2017170916.tif 000085
【０２８９】
式中、ＡｒＨ１、ＡｒＨ２、ｎＨ３及びＬＨ１は、上記と同じ意味を表す。
【０２９０】
式（Ｈ−１）で表される化合物としては、式（Ｈ−１０１）〜（Ｈ−１１８）で表される化合物が例示される。
【０２９１】
【化８４】
2017170916.tif 000086
【０２９２】
【化８５】
2017170916.tif 000087
【０２９３】
【化８６】
2017170916.tif 000088
【０２９４】
【化８７】
2017170916.tif 000089
【０２９５】
［高分子ホスト］
ホスト化合物として好ましい高分子化合物（以下、「高分子ホスト」と言う。）に関して説明する。
【０２９６】
高分子ホストは、好ましくは、式（Ｙ）で表される構成単位を含む高分子化合物である。
【０２９７】
【化８８】
2017170916.tif 000090
【０２９８】
ＡｒＹ１で表されるアリーレン基は、より好ましくは、式（Ａ−１）、（Ａ−２）、（Ａ−６）〜（Ａ−１０）、（Ａ−１９）又は（Ａ−２０）で表される基であり、更に好ましくは、式（Ａ−１）、（Ａ−２）、（Ａ−７）、（Ａ−９）又は式（Ａ−１９）で表される基であり、これらの基は置換基を有していてもよい。
【０２９９】
ＡｒＹ１で表される２価の複素環基は、より好ましくは、式（ＡＡ−１）〜（ＡＡ−４）、（ＡＡ−１０）〜（ＡＡ−１５）、（ＡＡ−１８）〜（ＡＡ−２１）、（ＡＡ−３３）又は（ＡＡ−３４）で表される基であり、更に好ましくは、式（ＡＡ−４）、（ＡＡ−１０）、（ＡＡ−１２）、（ＡＡ−１４）又は（ＡＡ−３３）で表される基であり、これらの基は置換基を有していてもよい。
【０３００】
ＡｒＹ１で表される少なくとも１種のアリーレン基と少なくとも１種の２価の複素環基とが直接結合した２価の基における、アリーレン基及び２価の複素環基のより好ましい範囲、更に好ましい範囲は、それぞれ、前述のＡｒＹ１で表されるアリーレン基及び２価の複素環基のより好ましい範囲、更に好ましい範囲と同様である。
【０３０１】
「少なくとも１種のアリーレン基と少なくとも１種の２価の複素環基とが直接結合した２価の基」としては、例えば、下記式で表される基が挙げられ、これらは置換基を有していてもよい。
【０３０２】
【化８９】
2017170916.tif 000091
【０３０３】
【化９０】
2017170916.tif 000092
【０３０４】
式中、ＲＸＸは、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基又は１価の複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。
【０３０５】
ＲＸＸは、好ましくは、アルキル基、シクロアルキル基又はアリール基であり、これらの基は置換基を有していてもよい。
【０３０６】
ＡｒＹ１で表される基が有してもよい置換基は、好ましくは、アルキル基、シクロアルキル基又はアリール基であり、これらの基は更に置換基を有していてもよい。
【０３０７】
式（Ｙ）で表される構成単位としては、例えば、式（Ｙ−１）〜（Ｙ−１０）で表される構成単位が挙げられ、高分子ホストと式（１）で表される金属錯体とを含有する組成物を用いた発光素子が輝度寿命の観点からは、好ましくは式（Ｙ−１）〜（Ｙ−３）で表される構成単位であり、電子輸送性の観点からは、好ましくは式（Ｙ−４）〜（Ｙ−７）で表される構成単位であり、正孔輸送性の観点からは、好ましくは式（Ｙ−８）〜（Ｙ−１０）で表される構成単位である。
【０３０８】
【化９１】
2017170916.tif 000093
【０３０９】
式中、ＲＹ１は、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基又は１価の複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。複数存在するＲＹ１は、同一であっても異なっていてもよく、隣接するＲＹ１同士は互いに結合して、それぞれが結合する炭素原子と共に環を形成していてもよい。
【０３１０】
ＲＹ１は、好ましくは、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基又はアリール基であり、これらの基は置換基を有していてもよい。
【０３１１】
式（Ｙ−１）で表される構成単位は、好ましくは、式（Ｙ−１’）で表される構成単位である。
【０３１２】
【化９２】
2017170916.tif 000094
【０３１３】
式中、ＲＹ１１は、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基又は１価の複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。複数存在するＲＹ１１は、同一であっても異なっていてもよい。
【０３１４】
ＲＹ１１は、好ましくは、アルキル基、シクロアルキル基又はアリール基であり、より好ましくは、アルキル基又はシクロアルキル基であり、これらの基は置換基を有していてもよい。
【０３１５】
【化９３】
2017170916.tif 000095
【０３１６】
式中、
ＲＹ１は上記と同じ意味を表す。
ＸＹ１は、−Ｃ（ＲＹ２）２−、−Ｃ（ＲＹ２）＝Ｃ（ＲＹ２）−又は−Ｃ（ＲＹ２）２−Ｃ（ＲＹ２）２−で表される基を表す。ＲＹ２は、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基又は１価の複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。複数存在するＲＹ２は、同一であっても異なっていてもよく、ＲＹ２同士は互いに結合して、それぞれが結合する炭素原子と共に環を形成していてもよい。
【０３１７】
ＲＹ２は、好ましくは、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基又は１価の複素環基であり、より好ましくは、アルキル基、シクロアルキル基又はアリール基であり、これらの基は置換基を有していてもよい。
【０３１８】
ＸＹ１において、−Ｃ（ＲＹ２）２−で表される基中の２個のＲＹ２の組み合わせは、好ましくは両方がアルキル基若しくはシクロアルキル基、両方がアリール基、両方が１価の複素環基、又は、一方がアルキル基若しくはシクロアルキル基で他方がアリール基若しくは１価の複素環基であり、より好ましくは一方がアルキル基若しくはシクロアルキル基で他方がアリール基であり、これらの基は置換基を有していてもよい。２個存在するＲＹ２は互いに結合して、それぞれが結合する原子と共に環を形成していてもよく、ＲＹ２が環を形成する場合、−Ｃ（ＲＹ２）２−で表される基は、好ましくは式（Ｙ−Ａ１）〜（Ｙ−Ａ５）で表される基であり、より好ましくは式（Ｙ−Ａ４）で表される基であり、これらの基は置換基を有していてもよい。
【０３１９】
【化９４】
2017170916.tif 000096
【０３２０】
ＸＹ１において、−Ｃ（ＲＹ２）＝Ｃ（ＲＹ２）−で表される基中の２個のＲＹ２の組み合わせは、好ましくは両方がアルキル基若しくはシクロアルキル基、又は、一方がアルキル基若しくはシクロアルキル基で他方がアリール基であり、これらの基は置換基を有していてもよい。
【０３２１】
ＸＹ１において、−Ｃ（ＲＹ２）２−Ｃ（ＲＹ２）２−で表される基中の４個のＲＹ２は、好ましくは置換基を有していてもよいアルキル基又はシクロアルキル基である。複数存在するＲＹ２は互いに結合して、それぞれが結合する原子と共に環を形成していてもよく、ＲＹ２が環を形成する場合、−Ｃ（ＲＹ２）２−Ｃ（ＲＹ２）２−で表される基は、好ましくは式（Ｙ−Ｂ１）〜（Ｙ−Ｂ５）で表される基であり、より好ましくは式（Ｙ−Ｂ３）で表される基であり、これらの基は置換基を有していてもよい。
【０３２２】
【化９５】
2017170916.tif 000097
【０３２３】
式中、ＲＹ２は上記と同じ意味を表す。
【０３２４】
式（Ｙ−２）で表される構成単位は、式（Ｙ−２’）で表される構成単位であることが好ましい。
【０３２５】
【化９６】
2017170916.tif 000098
【０３２６】
式中、ＲＹ１及びＸＹ１は上記と同じ意味を表す。
【０３２７】
【化９７】
2017170916.tif 000099
【０３２８】
式中、ＲＹ１及びＸＹ１は上記と同じ意味を表す。
【０３２９】
式（Ｙ−３）で表される構成単位は、式（Ｙ−３’）で表される構成単位であることが好ましい。
【０３３０】
【化９８】
2017170916.tif 000100
【０３３１】
式中、ＲＹ１及びＸＹ１は上記と同じ意味を表す。
【０３３２】
【化９９】
2017170916.tif 000101
【０３３３】
【化１００】
2017170916.tif 000102
【０３３４】
式中、
ＲＹ１は上記と同じ意味を表す。
ＲＹ３は、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基又は１価の複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。
【０３３５】
ＲＹ３は、好ましくはアルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基又は１価の複素環基であり、より好ましくはアリール基であり、これらの基は置換基を有していてもよい。
【０３３６】
式（Ｙ−４）で表される構成単位は、式（Ｙ−４’）で表される構成単位であることが好ましく、式（Ｙ−６）で表される構成単位は、式（Ｙ−６’）で表される構成単位であることが好ましい。
【０３３７】
【化１０１】
2017170916.tif 000103
【０３３８】
式中、ＲＹ１及びＲＹ３は上記と同じ意味を表す。
【０３３９】
【化１０２】
2017170916.tif 000104
【０３４０】
式中、
ＲＹ１は上記を同じ意味を表す。
ＲＹ４は、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基又は１価の複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。
【０３４１】
ＲＹ４は、好ましくはアルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基又は１価の複素環基であり、より好ましくはアリール基であり、これらの基は置換基を有していてもよい。
【０３４２】
式（Ｙ）で表される構成単位としては、例えば、式（Ｙ−１０１）〜（Ｙ−１２１）で表されるアリーレン基からなる構成単位、式（Ｙ−２０１）〜（Ｙ−２０６）で表される２価の複素環基からなる構成単位、式（Ｙ−３０１）〜（Ｙ−３０５）で表される少なくとも１種のアリーレン基と少なくとも１種の２価の複素環基とが直接結合した２価の基からなる構成単位が挙げられる。
【０３４３】
【化１０３】
2017170916.tif 000105
【０３４４】
【化１０４】
2017170916.tif 000106
【０３４５】
【化１０５】
2017170916.tif 000107
【０３４６】
【化１０６】
2017170916.tif 000108
【０３４７】
【化１０７】
2017170916.tif 000109
【０３４８】
【化１０８】
2017170916.tif 000110
【０３４９】
【化１０９】
2017170916.tif 000111
【０３５０】
【化１１０】
2017170916.tif 000112
【０３５１】
【化１１１】
2017170916.tif 000113
【０３５２】
【化１１２】
2017170916.tif 000114
【０３５３】
式（Ｙ）で表される構成単位であって、ＡｒＹ１がアリーレン基である構成単位は、高分子ホストと式（１）で表される金属錯体とを含有する組成物を用いた発光素子の輝度寿命が優れるので、高分子化合物に含まれる構成単位の合計量に対して、好ましくは０．５〜８０モル％であり、より好ましくは３０〜６０モル％である。
【０３５４】
式（Ｙ）で表される構成単位であって、ＡｒＹ１が２価の複素環基、又は、少なくとも１種のアリーレン基と少なくとも１種の２価の複素環基とが直接結合した２価の基である構成単位は、高分子ホストと式（１）で表される金属錯体とを含有する組成物を用いた発光素子の電荷輸送性が優れるので、高分子化合物に含まれる構成単位の合計量に対して、好ましくは０．５〜３０モル％であり、より好ましくは３〜２０モル％である。
【０３５５】
式（Ｙ）で表される構成単位は、高分子ホスト中に、１種のみ含まれていてもよく、２種以上含まれていてもよい。
【０３５６】
高分子ホストは、正孔輸送性が優れるので、式（Ｘ）で表される構成単位を更に含むことが好ましい。
【０３５７】
【化１１３】
2017170916.tif 000115
【０３５８】
式中、
ａＸ１及びａＸ２は、それぞれ独立に、０以上の整数を表す。
ＡｒＸ１及びＡｒＸ３は、それぞれ独立に、アリーレン基又は２価の複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。
ＡｒＸ２及びＡｒＸ４は、それぞれ独立に、アリーレン基、２価の複素環基、又は、少なくとも１種のアリーレン基と少なくとも１種の２価の複素環基とが直接結合した２価の基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。ＡｒＸ２及びＡｒＸ４が複数存在する場合、それらは同一であっても異なっていてもよい。
ＲＸ１、ＲＸ２及びＲＸ３は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基又は１価の複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。
ＲＸ２及びＲＸ３が複数存在する場合、それらは同一であっても異なっていてもよい。
【０３５９】
ａＸ１は、高分子ホストと式（１）で表される金属錯体とを含有する組成物を用いた発光素子の輝度寿命が優れるので、好ましくは２以下であり、より好ましくは１である。
【０３６０】
ａＸ２は、高分子ホストと式（１）で表される金属錯体とを含有する組成物を用いた発光素子の輝度寿命が優れるので、好ましくは２以下であり、より好ましくは０である。
【０３６１】
ＲＸ１、ＲＸ２及びＲＸ３は、好ましくはアルキル基、シクロアルキル基、アリール基又は１価の複素環基であり、より好ましくはアリール基であり、これらの基は置換基を有していてもよい。
【０３６２】
ＡｒＸ１及びＡｒＸ３で表されるアリーレン基は、より好ましくは式（Ａ−１）又は（Ａ−９）で表される基であり、更に好ましくは式（Ａ−１）で表される基であり、これらの基は置換基を有していてもよい。
【０３６３】
ＡｒＸ１及びＡｒＸ３で表される２価の複素環基は、より好ましくは式（ＡＡ−１）、（ＡＡ−２）又は（ＡＡ−７）〜（ＡＡ−２６）で表される基であり、これらの基は置換基を有していてもよい。
【０３６４】
ＡｒＸ１及びＡｒＸ３は、好ましくは置換基を有していてもよいアリーレン基である。
【０３６５】
ＡｒＸ２及びＡｒＸ４で表されるアリーレン基は、より好ましくは式（Ａ−１）、（Ａ−６）、（Ａ−７）、（Ａ−９）〜（Ａ−１１）又は（Ａ−１９）で表される基であり、これらの基は置換基を有していてもよい。
【０３６６】
ＡｒＸ２及びＡｒＸ４で表される２価の複素環基のより好ましい範囲は、ＡｒＸ１及びＡｒＸ３で表される２価の複素環基のより好ましい範囲と同じである。
【０３６７】
ＡｒＸ２及びＡｒＸ４で表される少なくとも１種のアリーレン基と少なくとも１種の２価の複素環基とが直接結合した２価の基における、アリーレン基及び２価の複素環基のより好ましい範囲、更に好ましい範囲は、それぞれ、ＡｒＸ１及びＡｒＸ３で表されるアリーレン基及び２価の複素環基のより好ましい範囲、更に好ましい範囲と同様である。
【０３６８】
ＡｒＸ２及びＡｒＸ４で表される少なくとも１種のアリーレン基と少なくとも１種の２価の複素環基とが直接結合した２価の基としては、式（Ｙ）のＡｒＹ１で表される少なくとも１種のアリーレン基と少なくとも１種の２価の複素環基とが直接結合した２価の基と同様のものが挙げられる。
【０３６９】
ＡｒＸ２及びＡｒＸ４は、好ましくは置換基を有していてもよいアリーレン基である。
【０３７０】
ＡｒＸ１〜ＡｒＸ４及びＲＸ１〜ＲＸ３で表される基が有してもよい置換基は、好ましくはアルキル基、シクロアルキル基又はアリール基であり、これらの基は更に置換基を有していてもよい。
【０３７１】
式（Ｘ）で表される構成単位は、好ましくは式（Ｘ−１）〜（Ｘ−７）で表される構成単位であり、より好ましくは式（Ｘ−１）〜（Ｘ−６）で表される構成単位であり、更に好ましくは式（Ｘ−３）〜（Ｘ−６）で表される構成単位である。
【０３７２】
【化１１４】
2017170916.tif 000116
【０３７３】
【化１１５】
2017170916.tif 000117
【０３７４】
【化１１６】
2017170916.tif 000118
【０３７５】
【化１１７】
2017170916.tif 000119
【０３７６】
式中、
ＲＸ４及びＲＸ５は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、ハロゲン原子、１価の複素環基又はシアノ基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。複数存在するＲＸ４は、同一であっても異なっていてもよい。複数存在するＲＸ５は、同一であっても異なっていてもよく、隣接するＲＸ５同士は互いに結合して、それぞれが結合する炭素原子と共に環を形成していてもよい。
【０３７７】
式（Ｘ）で表される構成単位の含有量は、正孔輸送性が優れるので、高分子化合物に含まれる構成単位の合計量に対して、好ましくは０．１〜５０モル％であり、より好ましくは１〜４０モル％であり、更に好ましくは５〜３０モル％である。
【０３７８】
式（Ｘ）で表される構成単位としては、例えば、式（Ｘ１−１）〜（Ｘ１−１１）で表される構成単位が挙げられ、好ましくは式（Ｘ１−３）〜（Ｘ１−１０）で表される構成単位である。
【０３７９】
【化１１８】
2017170916.tif 000120
【０３８０】
【化１１９】
2017170916.tif 000121
【０３８１】
【化１２０】
2017170916.tif 000122
【０３８２】
【化１２１】
2017170916.tif 000123
【０３８３】
【化１２２】
2017170916.tif 000124
【０３８４】
高分子ホストにおいて、式（Ｘ）で表される構成単位は、１種のみ含まれていても、２種以上含まれていてもよい。
【０３８５】
高分子ホストとしては、例えば、表１の高分子化合物（Ｐ−１）〜（Ｐ−６）が挙げられる。ここで、「その他」の構成単位とは、式（Ｙ）で表される構成単位、式（Ｘ）で表される構成単位以外の構成単位を意味する。
【０３８６】
【表１】
2017170916.tif 000125
【０３８７】
表中、ｐ、ｑ、ｒ、ｓ及びｔは、各構成単位のモル比率を示す。ｐ＋ｑ＋ｒ＋ｓ＋ｔ＝１００であり、かつ、１００≧ｐ＋ｑ＋ｒ＋ｓ≧７０である。
【０３８８】
高分子ホストは、ブロック共重合体、ランダム共重合体、交互共重合体、グラフト共重合体のいずれであってもよいし、その他の態様であってもよい。高分子ホストは、例えば、複数種の原料モノマーを共重合してなる共重合体であることが好ましい。
【０３８９】
（高分子ホストの製造方法）
高分子ホストは、ケミカルレビュー（Ｃｈｅｍ．  Ｒｅｖ．），第１０９巻，８９７−１０９１頁（２００９年）等に記載の公知の重合方法を用いて製造することができる。高分子ホストの製造方法としては、Ｓｕｚｕｋｉ反応、Ｙａｍａｍｏｔｏ反応、Ｂｕｃｈｗａｌｄ反応、Ｓｔｉｌｌｅ反応、Ｎｅｇｉｓｈｉ反応及びＫｕｍａｄａ反応等の遷移金属触媒を用いるカップリング反応により重合させる方法が例示される。
【０３９０】
上記重合方法において、単量体を仕込む方法としては、単量体全量を反応系に一括して仕込む方法、単量体の一部を仕込んで反応させた後、残りの単量体を一括、連続又は分割して仕込む方法、単量体を連続又は分割して仕込む方法等が挙げられる。
【０３９１】
遷移金属触媒としては、パラジウム触媒、ニッケル触媒等が挙げられる。
【０３９２】
重合反応の後処理は、公知の方法、例えば、分液により水溶性不純物を除去する方法、メタノール等の低級アルコールに重合反応後の反応液を加えて、析出させた沈殿を濾過した後、乾燥させる方法等を、単独又は組み合わせて行う。高分子ホストの純度が低い場合、例えば、晶析、再沈殿、ソックスレー抽出器による連続抽出、カラムクロマトグラフィー等の通常の方法にて精製することができる。
【０３９３】
［溶媒］
本実施形態に係る組成物は、式（１）で表される金属錯体と溶媒とを含有する液状組成物（インクともいう。）であってよい。このようなインクは、インクジェットプリント法、ノズルプリント法等の印刷法を用いた発光素子の作製に好適である。
【０３９４】
インクの粘度は、印刷法の種類によって調整すればよいが、インクジェットプリント法等の溶液が吐出装置を経由する印刷法に適用する場合には、吐出時の目づまりと飛行曲がりが起こりづらいので、好ましくは２５℃において１〜２０ｍＰａ・ｓである。
【０３９５】
インクに含まれる溶媒は、好ましくは、インク中の固形分を溶解又はは均一に分散できる溶媒である。溶媒としては、例えば、１，２−ジクロロエタン、１，１，２−トリクロロエタン、クロロベンゼン、ｏ−ジクロロベンゼン等の塩素系溶媒；ＴＨＦ、ジオキサン、アニソール、４−メチルアニソール等のエーテル系溶媒；トルエン、キシレン、メシチレン、エチルベンゼン、ヘキシルベンゼン、シクロヘキシルベンゼン等の芳香族炭化水素系溶媒；シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、ペンタン、ヘキサン、へプタン、オクタン、ノナン、デカン、ドデカン、ビシクロヘキシル等の脂肪族炭化水素系溶媒；アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、アセトフェノン等のケトン系溶媒；酢酸エチル、酢酸ブチル、エチルセルソルブアセテート、安息香酸メチル、酢酸フェニル等のエステル系溶媒；エチレングリコール、グリセリン、１，２−ヘキサンジオール等の多価アルコール系溶媒；イソプロピルアルコール、シクロヘキサノール等のアルコール系溶媒；ジメチルスルホキシド等のスルホキシド系溶媒；Ｎ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等のアミド系溶媒が挙げられる。溶媒は、一種単独で用いても二種以上を併用してもよい。
【０３９６】
インクにおいて、溶媒の配合量は、式（１）で表される金属錯体１００質量部に対して、通常、１０００〜１０００００質量部であり、好ましくは２０００〜２００００質量部である。
【０３９７】
［正孔輸送材料］
正孔輸送材料は、低分子化合物と高分子化合物とに分類され、好ましくは高分子化合物であり、より好ましくは架橋基を有する高分子化合物である。
【０３９８】
低分子化合物としては、例えば、トリフェニルアミン及びその誘導体、Ｎ，Ｎ’−ジ−１−ナフチル−Ｎ，Ｎ’−ジフェニルベンジジン（α−ＮＰＤ）、並びに、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ジ（ｍ−トリル）ベンジジン（ＴＰＤ）等の芳香族アミン化合物が挙げられる。
【０３９９】
高分子化合物としては、例えば、ポリビニルカルバゾール及びその誘導体；側鎖又は主鎖に芳香族アミン構造を有するポリアリーレン及びその誘導体が挙げられる。高分子化合物は、電子受容性部位が結合された化合物でもよい。電子受容性部位としては、例えば、フラーレン、テトラフルオロテトラシアノキノジメタン、テトラシアノエチレン、トリニトロフルオレノン等が挙げられ、好ましくはフラーレンである。
【０４００】
本実施形態に係る組成物において、正孔輸送材料の配合量は、式（１）で表される金属錯体１００質量部に対して、通常、１〜４００質量部であり、好ましくは５〜１５０質量部である。
【０４０１】
正孔輸送材料は、一種単独で用いても二種以上を併用してもよい。
【０４０２】
［電子輸送材料］
電子輸送材料は、低分子化合物と高分子化合物とに分類される。電子輸送材料は、架橋基を有していてもよい。
【０４０３】
低分子化合物としては、例えば、８−ヒドロキシキノリンを配位子とする金属錯体、オキサジアゾール、アントラキノジメタン、ベンゾキノン、ナフトキノン、アントラキノン、テトラシアノアントラキノジメタン、フルオレノン、ジフェニルジシアノエチレン及びジフェノキノン、並びに、これらの誘導体が挙げられる。
【０４０４】
高分子化合物としては、例えば、ポリフェニレン、ポリフルオレン、及び、これらの誘導体が挙げられる。高分子化合物は、金属でドープされていてもよい。
【０４０５】
本実施形態に係る組成物において、電子輸送材料の配合量は、式（１）で表される金属錯体１００質量部に対して、通常、１〜４００質量部であり、好ましくは５〜１５０質量部である。
【０４０６】
電子輸送材料は、一種単独で用いても二種以上を併用してもよい。
【０４０７】
［正孔注入材料及び電子注入材料］
正孔注入材料及び電子注入材料は、各々、低分子化合物と高分子化合物とに分類される。正孔注入材料及び電子注入材料は、架橋基を有していてもよい。
【０４０８】
低分子化合物としては、例えば、銅フタロシアニン等の金属フタロシアニン；カーボン；モリブデン、タングステン等の金属酸化物；フッ化リチウム、フッ化ナトリウム、フッ化セシウム、フッ化カリウム等の金属フッ化物が挙げられる。
【０４０９】
高分子化合物としては、例えば、ポリアニリン、ポリチオフェン、ポリピロール、ポリフェニレンビニレン、ポリチエニレンビニレン、ポリキノリン及びポリキノキサリン、並びに、これらの誘導体；芳香族アミン構造を主鎖又は側鎖に含む重合体等の導電性高分子が挙げられる。
【０４１０】
本実施形態に係る組成物において、正孔注入材料及び電子注入材料の配合量は、各々、式（１）で表される金属錯体１００質量部に対して、通常、１〜４００質量部であり、好ましくは５〜１５０質量部である。
【０４１１】
正孔注入材料及び電子注入材料は、各々、一種単独で用いても二種以上を併用してもよい。
【０４１２】
（イオンドープ）
正孔注入材料又は電子注入材料が導電性高分子を含む場合、導電性高分子の電気伝導度は、好ましくは、１×１０−５Ｓ／ｃｍ〜１×１０３Ｓ／ｃｍである。導電性高分子の電気伝導度をかかる範囲とするために、導電性高分子に適量のイオンをドープすることができる。
【０４１３】
ドープするイオンの種類は、正孔注入材料であればアニオン、電子注入材料であればカチオンである。アニオンとしては、例えば、ポリスチレンスルホン酸イオン、アルキルベンゼンスルホン酸イオン、樟脳スルホン酸イオンが挙げられる。カチオンとしては、例えば、リチウムイオン、ナトリウムイオン、カリウムイオン、テトラブチルアンモニウムイオンが挙げられる。
【０４１４】
ドープするイオンは、一種単独で用いても二種以上を併用してもよい。
【０４１５】
［発光材料］
発光材料（式（１）で表される金属錯体とは異なる。）は、低分子化合物と高分子化合物とに分類される。発光材料は、架橋基を有していてもよい。
【０４１６】
低分子化合物としては、例えば、ナフタレン及びその誘導体、アントラセン及びその誘導体、ペリレン及びその誘導体、並びに、イリジウム、白金又はユーロピウムを中心金属とする三重項発光錯体が挙げられる。
【０４１７】
高分子化合物としては、例えば、フェニレン基、ナフタレンジイル基、フルオレンジイル基、フェナントレンジイル基、ジヒドロフェナントレンジイル基、式（Ｘ）で表される基、カルバゾールジイル基、フェノキサジンジイル基、フェノチアジンジイル基、アントラセンジイル基、ピレンジイル基等を含む高分子化合物が挙げられる。
【０４１８】
発光材料は、好ましくは、三重項発光錯体及び／又は高分子化合物を含む。
【０４１９】
三重項発光錯体としては、例えば、以下に示す金属錯体が挙げられる。
【０４２０】
【化１２３】
2017170916.tif 000126
【０４２１】
【化１２４】
2017170916.tif 000127
【０４２２】
【化１２５】
2017170916.tif 000128
【０４２３】
【化１２６】
2017170916.tif 000129
【０４２４】
【化１２７】
2017170916.tif 000130
【０４２５】
本実施形態に係る組成物において、発光材料の含有量は、式（１）で表される金属錯体１００質量部に対して、通常、０．１〜４００質量部である。
【０４２６】
［酸化防止剤］
酸化防止剤は、式（１）で表される金属錯体と同じ溶媒に可溶であり、発光及び電荷輸送を阻害しない化合物であることが好ましい。酸化防止剤としては、例えば、フェノール系酸化防止剤、リン系酸化防止剤が挙げられる。
【０４２７】
本実施形態に係る組成物において、酸化防止剤の配合量は、式（１）で表される金属錯体１００質量部に対して、通常、０．００１〜１０質量部である。
【０４２８】
酸化防止剤は、一種単独で用いても二種以上を併用してもよい。
【０４２９】
＜膜＞
本実施形態に係る膜は、式（１）で表される金属錯体を含有する。本実施形態に係る膜は、例えば、発光素子における発光層として好適である。
【０４３０】
本実施形態に係る膜は、インクを用いて、例えば、スピンコート法、キャスティング法、マイクログラビアコート法、グラビアコート法、バーコート法、ロールコート法、ワイヤーバーコート法、ディップコート法、スプレーコート法、スクリーン印刷法、フレキソ印刷法、オフセット印刷法、インクジェット印刷法、キャピラリ−コート法、ノズルコート法により作製することができる。
【０４３１】
膜の厚さは、通常、１ｎｍ〜１０μｍである。
【０４３２】
＜発光素子＞
本実施形態に係る発光素子は、式（１）で表される金属錯体を含有する。
【０４３３】
本実施形態に係る発光素子は、例えば、陽極及び陰極からなる電極と、該電極間に設けられた式（１）で表される金属錯体を含有する層と、を有していてよい。
【０４３４】
［層構成］
式（１）で表される金属錯体を含有する層は、通常、発光層、正孔輸送層、正孔注入層、電子輸送層、電子注入層の１種以上の層であり、好ましくは、発光層である。これらの層は、各々、発光材料、正孔輸送材料、正孔注入材料、電子輸送材料、電子注入材料を含む。これらの層は、各々、各層の材料を、上述した溶媒に溶解させてインクを調製し、上述した膜の作製と同じ方法を用いて形成することができる。
【０４３５】
本実施形態に係る発光素子は、陽極と陰極の間に発光層を有していてよい。本実施形態に係る発光素子は、正孔注入性及び正孔輸送性の観点からは、陽極と発光層との間に、正孔注入層及び正孔輸送層の少なくとも１層を有することが好ましく、電子注入性及び電子輸送性の観点からは、陰極と発光層との間に、電子注入層及び電子輸送層の少なくとも１層を有することが好ましい。
【０４３６】
正孔輸送層、電子輸送層、発光層、正孔注入層及び電子注入層の材料としては、式（１）で表される金属錯体の他、各々、上述した正孔輸送材料、電子輸送材料、発光材料、正孔注入材料及び電子注入材料等が挙げられる。
【０４３７】
正孔輸送層の材料、電子輸送層の材料及び発光層の材料は、架橋基を有していてよく、架橋基を有する材料を用いて各層を形成した後、該材料を架橋させることにより、層を不溶化させてよい。これにより、隣接する層の形成時に使用される溶媒に、各層の材料が溶解することを回避することができる。
【０４３８】
本実施形態に係る発光素子において、発光層、正孔輸送層、電子輸送層、正孔注入層、電子注入層等の各層の形成方法としては、低分子化合物を用いる場合、例えば、粉末からの真空蒸着法、溶液又は溶融状態からの成膜による方法が挙げられ、高分子化合物を用いる場合、例えば、溶液又は溶融状態からの成膜による方法が挙げられる。
【０４３９】
積層する層の順番、数及び厚さは、外部量子効率及び輝度寿命を勘案して調整する。
【０４４０】
［基板／電極］
発光素子における基板は、電極を形成することができ、かつ、有機層を形成する際に化学的に変化しない基板が好ましい。基板は、例えば、ガラス、プラスチック、シリコン等の材料からなる基板であってよい。基板は透明又は半透明であることが好ましく、不透明な基板の場合には、基板から最も遠くにある電極が透明又は半透明であることが好ましい。
【０４４１】
陽極の材料としては、例えば、導電性の金属酸化物、半透明の金属が挙げられ、好ましくは、酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化スズ；インジウム・スズ・オキサイド（ＩＴＯ）、インジウム・亜鉛・オキサイド等の導電性化合物；銀とパラジウムと銅との複合体（ＡＰＣ）；ＮＥＳＡ、金、白金、銀、銅である。
【０４４２】
陰極の材料としては、例えば、リチウム、ナトリウム、カリウム、ルビジウム、セシウム、ベリリウム、マグネシウム、カルシウム、ストロンチウム、バリウム、アルミニウム、亜鉛、インジウム等の金属；それらのうち２種以上の合金；それらのうち１種以上と、銀、銅、マンガン、チタン、コバルト、ニッケル、タングステン、錫のうち１種以上との合金；並びに、グラファイト及びグラファイト層間化合物が挙げられる。合金としては、例えば、マグネシウム−銀合金、マグネシウム−インジウム合金、マグネシウム−アルミニウム合金、インジウム−銀合金、リチウム−アルミニウム合金、リチウム−マグネシウム合金、リチウム−インジウム合金、カルシウム−アルミニウム合金が挙げられる。
【０４４３】
陽極及び陰極は、各々、２層以上の積層構造としてもよい。
【０４４４】
［用途］
発光素子を用いて面状の発光を得るためには、面状の陽極と陰極が重なり合うように配置すればよい。パターン状の発光を得るためには、面状の発光素子の表面にパターン状の窓を設けたマスクを設置する方法、非発光部にしたい層を極端に厚く形成し実質的に非発光とする方法、陽極若しくは陰極、又は、両方の電極をパターン状に形成する方法がある。これらのいずれかの方法でパターンを形成し、いくつかの電極を独立にＯＮ／ＯＦＦできるように配置することにより、数字、文字等を表示できるセグメントタイプの表示装置が得られる。ドットマトリックス表示装置とするためには、陽極と陰極を共にストライプ状に形成して直交するように配置すればよい。複数の種類の発光色の異なる高分子化合物を塗り分ける方法、カラーフィルター又は蛍光変換フィルターを用いる方法により、部分カラー表示、マルチカラー表示が可能となる。ドットマトリックス表示装置は、パッシブ駆動も可能であるし、ＴＦＴ等と組み合わせてアクティブ駆動も可能である。これらの表示装置は、コンピュータ、テレビ、携帯端末等のディスプレイに用いることができる。面状の発光素子は、液晶表示装置のバックライト用の面状光源、又は、面状の照明用光源として好適に用いることができる。フレキシブルな基板を用いれば、曲面状の光源及び表示装置としても使用できる。
【０４４５】
以上、本発明の好適な実施形態について説明したが、本発明は上記実施形態に限定されるものではない。
【実施例】
【０４４６】
以下、実施例によって本発明を更に詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。【０４４７】
ＬＣ−ＭＳは、下記の方法で測定した。
測定試料を約２ｍｇ／ｍＬの濃度になるようにクロロホルム又はテトラヒドロフランに溶解させ、ＬＣ−ＭＳ（Ａｇｉｌｅｎｔ製、商品名：１１００ＬＣＭＳＤ）に約１μＬ注入した。ＬＣ−ＭＳの移動相には、アセトニトリル及びテトラヒドロフランの比率を変化させながら用い、０．２ｍＬ／分の流量で流した。カラムは、Ｌ−ｃｏｌｕｍｎ  ２  ＯＤＳ（３μｍ）（化学物質評価研究機構製、内径：２．１ｍｍ、長さ：１００ｍｍ、粒径３μｍ）を用いた。【０４４８】
ＮＭＲは、下記の方法で測定した。
５〜１０ｍｇの測定試料を約０．５ｍＬの重クロロホルム（ＣＤＣｌ３）、重テトラヒドロフラン、重ジメチルスルホキシド、重アセトン、重Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、重トルエン、重メタノール、重エタノール、重２−プロパノール又は重塩化メチレンに溶解させ、ＮＭＲ装置（Ａｇｉｌｅｎｔ製、商品名：ＩＮＯＶＡ３００又はＭＥＲＣＵＲＹ  ４００ＶＸ、ＪＥＯＬ社製、商品名：ＥＣＺ４００Ｓ）を用いて測定した。【０４４９】
化合物の純度の指標として、高速液体クロマトグラフィー（ＨＰＬＣ）面積百分率の値を用いた。この値は、特に記載がない限り、ＨＰＬＣ（島津製作所製、商品名：ＬＣ−２０Ａ）でのＵＶ＝２５４ｎｍにおける値とする。この際、測定する化合物は、０．０１〜０．２質量％の濃度になるようにテトラヒドロフラン又はクロロホルムに溶解させ、濃度に応じてＨＰＬＣに１〜１０μＬ注入した。ＨＰＬＣの移動相には、アセトニトリル／テトラヒドロフランの比率を１００／０〜０／１００（容積比）まで変化させながら用い、１．０ｍＬ／分の流量で流した。カラムは、Ｋａｓｅｉｓｏｒｂ  ＬＣ  ＯＤＳ  ２０００（東京化成工業製）又は同等の性能を有するＯＤＳカラムを用いた。検出器には、フォトダイオードアレイ検出器（島津製作所製、商品名：ＳＰＤ−Ｍ２０Ａ）を用いた。【０４５０】
化合物の純度の指標として、ガスクロマトグラフィー（ＧＣ）面積百分率の値を用いた。この値は、特に記載がない限り、ＧＣ（Ａｇｉｌｅｎｔ社製、商品名：Ａｇｉｌｅｎｔ７８２０）での値とする。この際、測定する化合物は、０．０１〜０．２質量％の濃度になるようにテトラヒドロフラン又はクロロホルムに溶解させ、濃度に応じてＧＣに１〜１０μＬ注入した。キャリヤーはヘリウムを用い、１．０ｍＬ／分の流量で流した。カラムオーブンは５０℃〜３００℃まで変化させながら用いた。ヒーター温度は注入口２８０℃、検出器３２０℃とした。カラムは、ＳＧＥ製ＢＰＸ−５（３０ｍ×０．２５ｍｍ×０．２５μｍ）を用いた。【０４５１】
ＴＬＣ−ＭＳは、下記の方法で測定した。
測定試料をトルエン、テトラヒドロフラン又はクロロホルムのいずれかの溶媒に任意の濃度で溶解させ、ＤＡＲＴ用ＴＬＣプレート（テクノアプリケーションズ社製、商品名：ＹＳＫ５−１００）上に塗布し、ＴＬＣ−ＭＳ（日本電子社製、商品名：ＪＭＳ−Ｔ１００ＴＤ（Ｔｈｅ  ＡｃｃｕＴＯＦ  ＴＬＣ））を用いて測定した。測定時のヘリウムガス温度は、２００〜４００℃の範囲で調節した。【０４５２】
＜実施例１＞金属錯体１の合成
下記の方法で、金属錯体１を合成した。【０４５３】
【化１２８】
2017170916.tif 000131
【０４５４】
反応容器内を窒素ガス雰囲気とした後、２，４−ジメチルアニリン（２００ｇ）及びシクロペンチルメチルエーテル（４００ｍＬ）を加え、撹拌した。その後、反応容器を氷浴を用いて冷却し、そこに１６質量％塩化水素シクロペンチルメチルエーテル溶液（３５７ｇ）を滴下した。滴下後、室温で１時間撹拌を継続し、析出した固体を濾過し、得られた固体をヘキサン（１５０ｍＬ）で洗浄した。得られた固体を２−プロパノールを用いて再結晶し、室温で減圧乾燥させることで化合物１ａ（２２０ｇ、薄赤色固体）を得た。【０４５５】
反応容器内を窒素ガス雰囲気とした後、化合物１ａ（１４０ｇ）、クロロホルム（２１００ｍＬ）及びトリエチルアミン（２６７ｍＬ）を加え、撹拌した。その後、反応容器を氷浴を用いて冷却し、２，２−ジメチルブチリルクロリド（１１３ｍＬ）を滴下した。滴下後、室温で１時間撹拌を継続し、その後、飽和炭酸ナトリウム水溶液（４００ｍＬ）を加え、室温で撹拌した。得られた混合物を分液し、得られた有機層を飽和炭酸ナトリウム水溶液及びイオン交換水で洗浄した。得られた洗浄液を分液し、得られた有機層を硫酸マグネシウムで乾燥させた後、ろ過した。得られたろ液を濃縮した後、ヘプタンを加え、１時間撹拌し、得られた固体を濾過し、４０℃で減圧乾燥させることで化合物１ｂ（１６４ｇ、白色固体）を得た。化合物１ｂのＨＰＬＣ面積百分率値は９９．５％以上であった。【０４５６】
化合物１ｂのＮＭＲの測定結果は、以下のとおりであった。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，４００ＭＨｚ）  δ（ｐｐｍ）：０．９４（３Ｈ，ｔ），１．２９（６Ｈ，ｓ），１．６７（２Ｈ，ｑ），２．２１（３Ｈ，ｓ），２．２８（３Ｈ，ｓ），６．９９（１Ｈ，ｓ），７．００（１Ｈ，ｄ），７．１２（１Ｈ，ｂｒ），７．６５（１Ｈ，ｄ）．【０４５７】
反応容器内をアルゴンガス雰囲気とした後、化合物１ｂ（６０ｇ）、モノクロロベンゼン（４８０ｍＬ）、２−フルオロピリジン（２６ｍＬ）及びトリフルオロメタンスルホン酸無水物（５０ｍＬ）を加え、室温下で３０分撹拌した。その後、そこへ、ベンズヒドラジド（４１ｇ）を加え、９０℃で３時間撹拌した。その後、そこへ、炭酸水素ナトリウム水溶液（５００ｍＬ）を加え、有機層を抽出し、得られた有機層をイオン交換水で洗浄した。得られた有機層を減圧濃縮することで固体を得た。得られた固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム及びテトラヒドロフランの混合溶媒）で精製した後、２−プロパノール及びヘプタンの混合溶媒を用いて再結晶した。得られた固体を５０℃で減圧乾燥することにより、化合物１ｃ（７０ｇ、収率８０％）を白色固体として得た。化合物１ｃのＨＰＬＣ面積百分率値は９９．５％以上であった。【０４５８】
化合物１ｃのＬＣ−ＭＳ及びＮＭＲの測定結果は、以下のとおりであった。
ＬＣ−ＭＳ（ＡＰＣＩ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）：ｍ／ｚ＝３２０［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ−ＮＭＲ（６００ＭＨｚ、ＣＤ２Ｃｌ２）  δ（ｐｐｍ）：７．４２−７．３７（ｍ，２Ｈ），７．３５−７．３１（ｍ，２Ｈ），７．２９−７．２５（ｍ，２Ｈ），７．１９（ｄ，１Ｈ），７．０７（ｓ，１Ｈ），２．４０（ｓ，３Ｈ），１．７９−１．７２（ｍ，４Ｈ），１．５７−１．４５（ｍ，１Ｈ），１．３４（ｓ，３Ｈ），１．１５（ｓ，３Ｈ），０．８９（ｔ，３Ｈ）．【０４５９】
反応容器内をアルゴンガス雰囲気とした後、トリスアセチルアセトナトイリジウム（０．９６ｇ）、化合物１ｃ（２．５０ｇ）及びペンタデカン（６．２５ｍＬ）を加え、加熱還流下で５１時間攪拌した。その後、そこへ、トルエンを加え、シリカゲルを敷いたろ過器でろ過した後、得られたシリカゲルから、トルエン及び酢酸エチルの混合溶媒を用いて金属錯体１を含む黄色溶液を抽出した。得られた溶液を減圧濃縮することで固体を得た後、得られた固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（トルエン及び酢酸エチルの混合溶媒）で分取精製することにより、金属錯体１を得た。精製により、金属錯体１として４種類の異性体が確認され、異性体１、異性体２、並びに、異性体３及び４の混合物を生成物として得た。【０４６０】
得られた異性体１をさらに、トルエン及びアセトニトリルの混合溶媒を用いて再結晶した。得られた固体を５０℃で減圧乾燥することにより黄色固体（０．１８ｇ、収率８％）として得た。異性体１のＨＰＬＣ面積百分率値は９９．４％であった。【０４６１】
異性体１のＬＣ−ＭＳ及びＮＭＲの測定結果は、以下のとおりであった。
ＬＣ−ＭＳ（ＡＰＣＩ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）：ｍ／ｚ＝１１４９［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、ＣＤ２Ｃｌ２）δ（ｐｐｍ）＝７．２９（ｄ，３Ｈ），７．２１−７．１４（ｍ，６Ｈ），７．０４（ｄ，３Ｈ），７．６５（ｔ，３Ｈ），７．４１（ｔ，３Ｈ），５．９１（ｄ，３Ｈ），２．４３（ｓ，９Ｈ），２．０３（ｓ，９Ｈ），１．６６−１．５６（ｍ，３Ｈ），１．４３−１．３１（ｍ，３Ｈ），１．１７−１．０７（ｍ，１８Ｈ），０．８７（ｔ，９Ｈ）．【０４６２】
得られた異性体２をさらに、トルエン及びアセトニトリルの混合溶媒を用いて再結晶した。得られた固体を５０℃で減圧乾燥することにより黄色固体（０．４０ｇ、収率１８％）として得た。異性体２のＨＰＬＣ面積百分率値は９９．３％であった。【０４６３】
異性体２のＬＣ−ＭＳ及びＮＭＲの測定結果は、以下のとおりであった。
ＬＣ−ＭＳ（ＡＰＣＩ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）：ｍ／ｚ＝１１４９［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、ＣＤ２Ｃｌ２）δ（ｐｐｍ）＝７．２７−７．１３（ｍ，９Ｈ），６．８３（ｄ，１Ｈ），６．７５−６．６７（ｍ，２Ｈ），６．６３−６．５３（ｍ，３Ｈ），６．４６−６．３３（ｍ，３Ｈ），５．９９−５．８６（ｍ，３Ｈ），２．４７−２．４０（ｍ，９Ｈ），２．０５（ｓ，６Ｈ），１．７８（ｓ，３Ｈ），１．５９−１．４３（ｍ，４Ｈ），１．４２−１．２７（ｍ，２Ｈ），１．２３（ｓ，３Ｈ），１．２０−１．１６（ｍ，６Ｈ），１．１４（ｓ，３Ｈ），１．１０（ｓ，３Ｈ），１．０３（ｓ，３Ｈ），０．７８（ｔ，３Ｈ），０．７２−０．６２（ｍ，６Ｈ）．【０４６４】
異性体３及び４の混合物をさらに、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（トルエン及び酢酸エチルの混合溶媒）で精製した後、トルエン及びアセトニトリルの混合溶媒を用いて再結晶した。得られた固体を５０℃で減圧乾燥することにより黄色固体（０．６２ｇ、収率２８％）として得た。異性体３及び４の混合物のＨＰＬＣ面積百分率値は、異性体３が２４％、異性体４が７５％であった。【０４６５】
異性体３及び４の混合物のＬＣ−ＭＳ及びＮＭＲの測定結果は、以下のとおりであった。
ＬＣ−ＭＳ（ＡＰＣＩ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）：ｍ／ｚ＝１１４９［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、ＣＤ２Ｃｌ２）δ（ｐｐｍ）＝７．２９（ｔ，９Ｈ），７．２３−７．１０（ｍ，２７Ｈ），６．６７−６．４８（ｍ，２４Ｈ），６．４６−６．３４（ｍ，１２Ｈ），５．９８−５．８６（ｍ，１２Ｈ），２．４５（ｓ，９Ｈ），２．４４−２．４０（ｍ，２７Ｈ），２．０８（ｓ，９Ｈ），１．８３（ｓ，９Ｈ），１．８０−１．７４（ｍ，１８Ｈ），１．７３−１．６２（ｍ，６Ｈ），１．５７−１．４０（ｍ，９Ｈ），１．３９−１．２７（ｍ，１８Ｈ），１．２４（ｓ，９Ｈ），１．２２−１．１４（ｍ，２７Ｈ），１．０８（ｓ，９Ｈ），１．０５（ｓ，１８Ｈ），０．７９（ｔ，９Ｈ），０．６９（ｔ，９Ｈ），０．６４（ｔ，１８Ｈ）．【０４６６】
＜実施例２＞金属錯体２の合成
下記の方法で、金属錯体２を合成した。【０４６７】
【化１２９】
2017170916.tif 000132
【０４６８】
反応容器内をアルゴンガス雰囲気とした後、２，２’−ジメチルヘキサン酸（４０ｇ）、クロロホルム（２４０ｍＬ）、Ｎ，Ｎ’−ジメチルホルムアミド（０．２１ｍＬ）及び塩化チオニル（２０ｍＬ）を加え、４５℃で３時間撹拌した。その後、反応容器を水浴を用いて冷却し、２，２’−ジメチルヘキサノイルクロライドを含む反応液を得た。
別途用意した反応容器内をアルゴンガス雰囲気とした後、化合物１ａ（４１．５ｇ）、クロロホルム（４００ｍＬ）及びトリエチルアミン（７５ｍＬ）を加え、反応容器を氷浴に設置して冷却した。その後、そこへ、上記で得られた化合物２，２’−ジメチルヘキサノイルクロライドを含む反応液を滴下した。滴下後、室温で１時間撹拌を継続し、その後、２ｍｏｌ／Ｌ炭酸ナトリウム水溶液（２８０ｍＬ）を加え、室温で撹拌した。得られた混合物を分液し、有機層を得た。得られた有機層をイオン交換水（２８０ｍＬ）で洗浄した。得られた有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧濃縮することにより、化合物２ｂ（６０ｇ、収率８８％）を薄黄色の油状物として得た。化合物２ｂのＨＰＬＣ面積百分率値は９９．５％以上であった。
化合物２ｂのＴＬＣ−ＭＳの測定結果は、以下のとおりであった。
ＴＬＣ−ＭＳ（ＤＡＲＴ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）：ｍ／ｚ＝２４８［Ｍ＋Ｈ］＋【０４６９】
反応容器内をアルゴンガス雰囲気とした後、化合物２ｂ（４０ｇ）、モノクロロベンゼン（３２０ｍＬ）、２−フルオロピリジン（１４ｍＬ）及びトリフルオロメタンスルホン酸無水物（２７ｍＬ）を加え、室温下で３０分撹拌した。その後、そこへ、３−ブロモベンズヒドラジド（３５ｇ）を加え、９０℃で７時間撹拌した。その後、そこへ、２ｍｏｌ／Ｌ炭酸水素ナトリウム水溶液（１６０ｍＬ）を加え、攪拌した後、有機層を抽出し、得られた有機層をイオン交換水で洗浄した。得られた有機層を減圧濃縮することで油状物を得た。得られた油状物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム及びエタノールの混合溶媒）で精製した後、ヘプタンを用いて再結晶した。得られた固体を５０℃で減圧乾燥することにより、化合物２ｃ（４８ｇ、収率７７％）を白色固体として得た。化合物２ｃのＨＰＬＣ面積百分率値は９９．５％以上であった。【０４７０】
化合物２ｃのＬＣ−ＭＳ及びＮＭＲの測定結果は、以下のとおりであった。
ＬＣ−ＭＳ（ＡＰＰＩ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）：ｍ／ｚ＝４２６［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、ＣＤ２Ｃｌ２）  δ（ｐｐｍ）＝７．６０−７．５５（ｍ，１Ｈ），７．４１（ｄ，１Ｈ），７．２５（ｄ，１Ｈ），７．２１−７．１３（ｍ，２Ｈ），７．０９−７．０３（ｍ，２Ｈ），２．３６（ｓ，３Ｈ），１．７６−１．５９（ｍ，４Ｈ），１．４３−１．０７（ｍ，１１Ｈ），０．８４（ｔ，３Ｈ）．【０４７１】
反応容器内をアルゴンガス雰囲気とした後、化合物２ｃ（２．２ｇ）、４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニルボロン酸（１．０ｇ）、トルエン（２２ｍＬ）及び（ジ−ｔｅｒｔ−ブチル（４−ジメチルアミノフェニル）ホスフィン）ジクロロパラジウム（ＩＩ）（１８ｍｇ）を加え、８０℃に昇温した。その後、そこへ、２０質量％のテトラブチルアンモニウムヒドロキシド水溶液（１６ｍＬ）を加え、加熱還流下で１８時間攪拌した。得られた反応混合物を室温まで冷却した後、トルエンを加え、有機層を抽出した。得られた有機層をイオン交換水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させた後、シリカゲル及びセライトを敷いたろ過器でろ過し、得られたろ液を減圧濃縮することで固体を得た。得られた固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム及びエタノールの混合溶媒）で精製した後、ヘプタンを用いて再結晶した。得られた固体を５０℃で減圧乾燥することにより、化合物２ｄ（２．２ｇ、収率８５％）を白色固体として得た。化合物２ｄのＨＰＬＣ面積百分率値は９９．５％以上であった。【０４７２】
化合物２ｄのＬＣ−ＭＳ及びＮＭＲの測定結果は、以下のとおりであった。
ＬＣ−ＭＳ（ＡＰＰＩ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）：ｍ／ｚ＝４８０［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、ＣＤ２Ｃｌ２）δ（ｐｐｍ）＝７．５３−７．４８（ｍ，１Ｈ），７．４６−７．３９（ｍ，２Ｈ），７．４０−７．３７（ｍ，２Ｈ），７．３４−７．２９（ｍ，２Ｈ），７．２６−７．１９（ｍ，３Ｈ），７．０７（ｓ，１Ｈ），２．４０（ｓ，３Ｈ），１．７４（ｓ，３Ｈ），１．７０−１．６１（ｍ，１Ｈ），１．４７−１．３６（ｍ，１Ｈ），１．３４−１．３０（ｍ，１２Ｈ），１．２９−１．１４（ｍ，４Ｈ），１．１２（ｓ，３Ｈ），０．８６（ｔ，３Ｈ）【０４７３】
反応容器内をアルゴンガス雰囲気とした後、トリスアセチルアセトナトイリジウム（１．０ｇ）、化合物２ｄ（２．０ｇ）及びペンタデカン（３ｍＬ）を加え、加熱還流下で４６時間攪拌した。その後、そこへ、トルエンを加え、シリカゲルを敷いたろ過器でろ過した後、得られたシリカゲルから、トルエン及び酢酸エチルの混合溶媒を用いて金属錯体２を含む黄色溶液を抽出した。得られた溶液を減圧濃縮することで固体を得た後、得られた固体をアセトニトリル及びヘプタンで洗浄し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（トルエン及び酢酸エチルの混合溶媒）で精製した。得られた固体をトルエン及びアセトニトリルの混合溶媒を用いて再結晶した後、得られた固体を５０℃で減圧乾燥することにより、金属錯体２（１．０ｇ）を黄色固体として得た。金属錯体２のＨＰＬＣ面積百分率値は９８．８％であった。【０４７４】
金属錯体２のＬＣ−ＭＳ及びＮＭＲの測定結果は、以下のとおりであった。
ＬＣ−ＭＳ（ＡＰＣＩ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）：ｍ／ｚ＝１６２９［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、ＣＤ２Ｃｌ２）δ（ｐｐｍ）＝７．４１−７．１６（ｍ，１５Ｈ），７．１０−６．６４（ｍ，１２Ｈ），６．１９−６．０４（ｍ，３Ｈ），２．５４−２．４３（ｍ，９Ｈ），２．１６−１．６７（ｍ，９Ｈ），１．６２−１．０３（ｍ，６３Ｈ），０．８５−０．６３（ｍ，９Ｈ）．【０４７５】
＜実施例３＞金属錯体３の合成
下記の方法で、金属錯体３を合成した。【０４７６】
【化１３０】
2017170916.tif 000133
【０４７７】
反応容器内をアルゴンガス雰囲気とした後、化合物２ｃ（１０．０ｇ）、モノクロロブタン（８０ｍＬ）、２−フルオロピリジン（４ｍＬ）及びトリフルオロメタンスルホン酸無水物（７ｍＬ）を加え、室温下で３０分撹拌した。その後、そこへ、３−メチルベンズヒドラジド（６．４ｇ）を加え、８５℃で５時間撹拌した。その後、そこへ、２ｍｏｌ／Ｌ炭酸水素ナトリウム水溶液（４３ｍＬ）を加え、撹拌した後有機層を抽出し、得られた有機層をイオン交換水で洗浄した。得られた有機層を減圧濃縮することで油状物を得た。得られた油状物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム及びエタノールの混合溶媒）で精製した後、得られた固体をヘプタンを用いて再結晶した。得られた固体を５０℃で減圧乾燥することにより、化合物３ａ（５．５ｇ）を白色固体として得た。化合物３ａのＨＰＬＣ面積百分率値は９９．５％以上であった。【０４７８】
化合物３ａのＬＣ−ＭＳ及びＮＭＲの測定結果は、以下のとおりであった。
ＬＣ−ＭＳ（ＡＰＰＩ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）：ｍ／ｚ＝３６２［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、ＣＤ２Ｃｌ２）δ（ｐｐｍ）＝７．２８−７．２２（ｍ，２Ｈ），７．１６−６．９５（ｍ，５Ｈ），２．３４（ｓ，３Ｈ），２．２２（ｓ，３Ｈ），１．７１（ｓ，３Ｈ），１．６８−１．５７（ｍ，１Ｈ），１．４３−１．３３（ｍ，１Ｈ），１．３２−１．０７（ｍ，１０Ｈ），０．８６（ｔ，３Ｈ）．【０４７９】
反応容器内をアルゴンガス雰囲気とした後、トリスアセチルアセトナトイリジウム（１．９ｇ）、化合物３ａ（５．０ｇ）及びペンタデカン（１０ｍＬ）を加え、加熱還流下で３６時間攪拌した。その後、そこへ、トルエンを加え、シリカゲルを敷いたろ過器でろ過した後、得られたシリカゲルから、トルエン及び酢酸エチルの混合溶媒を用いて金属錯体３を含む黄色溶液を抽出した。得られた溶液を減圧濃縮することで固体を得た後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（トルエン及び酢酸エチルの混合溶媒）で精製した。得られた固体を酢酸エチル及びヘプタンの混合溶媒を用いて再結晶した後、得られた固体を５０℃で減圧乾燥することにより、金属錯体３（２．４ｇ）を黄色固体として得た。金属錯体３のＨＰＬＣ面積百分率値は９２．６％であった。【０４８０】
金属錯体３のＬＣ−ＭＳ及びＮＭＲの測定結果は、以下のとおりであった。
ＬＣ−ＭＳ（ＡＰＣＩ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）：ｍ／ｚ＝１６２９［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、ＣＤ２Ｃｌ２）δ（ｐｐｍ）＝７．３３−７．０１（ｍ，９Ｈ），６．７５−６．３１（ｍ，６Ｈ），５．８０−５．５９（ｍ，３Ｈ），２．５０−２．３９（ｍ，９Ｈ），２．１３−１．７２（ｍ，１８Ｈ），１．６１−０．９０（ｍ，３６Ｈ），０．８５−０．６２（ｍ，９Ｈ）．【０４８１】
＜実施例４＞金属錯体４の合成
下記の方法で、金属錯体４を合成した。【０４８２】
【化１３１】
2017170916.tif 000134
【０４８３】
【化１３２】
2017170916.tif 000135
【０４８４】
反応容器内をアルゴンガス雰囲気とした後、２−フェニル−４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン（５０ｇ）、２−メチル−４−ブロモアニリン（４６ｇ）、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）（３ｇ）、２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，６’−ジメトキシビフェニル（４ｇ）及びトルエン（１Ｌ）を加え、室温で撹拌した。その後、そこへ、２０質量％テトラエチルアンモニウムヒドロキシド水溶液を滴下し、７０℃で５時間撹拌した。得られた反応混合物を室温まで冷却後、分液し、得られた有機層をイオン交換水で洗浄した。得られた洗浄液を分液し、得られた有機層を硫酸マグネシウムで乾燥させ、ろ過し、得られたろ液を濃縮した。その後、そこへ、テトラヒドロフラン及び活性白土を加え、室温で３０分間撹拌した後、セライトを敷いたろ過器でろ過する操作を二度繰り返した。得られたろ液を減圧濃縮し、トルエン及び活性炭を加え、室温で３０分間撹拌した後、セライトを敷いたろ過器でろ過し、得られた濾液を濃縮した。上記操作を繰り返すことで化合物４ａ（９２ｇ、赤茶色オイル）を得た。化合物４ａのＧＣ面積百分率値は９９．５％以上であった。【０４８５】
反応容器内を窒素ガス雰囲気とした後、化合物４ａ（９２ｇ）及びシクロペンチルメチルエーテル（２１４ｍＬ）を加え、撹拌した。その後、反応容器を氷浴を用いて冷却し、１６質量％塩化水素シクロペンチルメチルエーテル溶液（１１４ｇ）を滴下し、次いで、ヘプタン（６４９ｍＬ）を滴下した。滴下後、室温で１時間撹拌を継続し、析出した固体を濾過し、得られた固体をヘプタン及びアセトンで洗浄した。得られた固体を２−プロパノール、メタノール、エタノール及びヘプタンを用いて複数回再結晶し、室温で減圧乾燥させることで化合物４ｂ（３７ｇ、薄赤色固体）を得た。上記操作を繰り返すことにより必要量を確保した。【０４８６】
化合物４ｂのＮＭＲの測定結果は、以下のとおりであった。
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）＝７．３３−７．６５（８Ｈ，ｍ），４．８５（３Ｈ，ｓ），２．４６（３Ｈ，ｓ）．【０４８７】
反応容器内をアルゴン雰囲気とした後、２，２’−ジメチルヘキサン酸（２９ｇ）、クロロホルム（１７４ｍＬ）及びＮ，Ｎ’−ジメチルホルムアミド（０．１４ｇ）を加え、５０℃で撹拌した。その後、そこへ、塩化チオニル（２４ｇ）を滴下し、５０℃で４時間撹拌し、２，２’−ジメチルヘキサノイルクロライドを得た。
別途用意した反応容器内を窒素ガス雰囲気とした後、化合物４ｂ（３９ｇ）、クロロホルム（２９０ｍＬ）及びトリエチルアミン（４７ｍＬ）を加え、撹拌した。その後、反応容器を氷浴を用いて冷却し、そこに上記で調製した２，２’−ジメチルヘキサノイルクロライドを滴下した。滴下後、室温で２時間撹拌を継続し、その後、飽和炭酸ナトリウム水溶液（３００ｍＬ）を加え室温で撹拌した。得られた混合物を分液し、得られた有機層を飽和炭酸ナトリウム水溶液及びイオン交換水で洗浄した。得られた洗浄液を分液し、得られた有機層を硫酸マグネシウムで乾燥させた後、ろ過した。得られたろ液を減圧濃縮した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン及び酢酸エチルの混合溶媒）で分取精製することにより、油状化合物を得た。得られた油状化合物にヘキサンを加え、反応容器をドライアイスを加えたアセトンバス中で冷却しながら１時間撹拌し、得られた固体を濾過し、得られた固体を５０℃で減圧乾燥させることで化合物４ｃ（４０ｇ、白色固体）を得た。化合物４ｃのＨＰＬＣ面積百分率値は９９．５％以上であった。【０４８８】
化合物４ｃのＮＭＲの測定結果は、以下のとおりであった。
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）＝７．９８（１Ｈ，ｄ），７．５５（１Ｈ，ｄ），７．４２（１Ｈ，ｔ），７．４１（４Ｈ，ｍ），７．３１（１Ｈ，ｔ），２．３２（３Ｈ，ｓ），１．６２（２Ｈ，ｓ），１．３５（１０Ｈ，ｓ），０．９１（３Ｈ，ｓ）．【０４８９】
反応容器内をアルゴンガス雰囲気とした後、化合物４ｃ（３０ｇ）、モノクロロベンゼン（３００ｍＬ）、２−フルオロピリジン（９ｍＬ）及びトリフルオロメタンスルホン酸無水物（１８ｍＬ）を加え、室温下で３０分撹拌した。その後、そこへ、２−ブロモベンゾイルヒドラジン（２３ｇ）を加え、９０℃で３時間撹拌した。その後、そこへ、炭酸水素ナトリウム水溶液（３００ｍＬ）を加え有機層を抽出し、得られた有機層をイオン交換水で洗浄した。得られた有機層を減圧濃縮することで固体を得た。得られた固体にヘキサンを加え、洗浄した。洗浄した固体を、２−プロパノール、ヘプタン及びアセトニトリルを用いて複数回再結晶した。得られた固体を５０℃で減圧乾燥することにより、化合物４ｄ（３１ｇ）を白色固体として得た。化合物４ｄのＨＰＬＣ面積百分率値は９９．５％以上であった。【０４９０】
化合物４ｄのＬＣ−ＭＳ及びＮＭＲの測定結果は、以下のとおりであった。
ＬＣ−ＭＳ（ＡＰＣＩ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）：ｍ／ｚ＝４８８［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）＝７．５７−７．６４（ｍ，４Ｈ），７．３８−７．４９（ｍ，６Ｈ），７．２８−７．３０（ｄ，１Ｈ），７．０７（ｔ，１Ｈ），１．８５（３Ｈ，ｓ），１．６７−１．７４（２Ｈ，ｍ），１．４２−１．５０（１Ｈ，ｍ），１．３９（３Ｈ，ｓ），１．１４−１．３６（３Ｈ，ｍ），１．１７（３Ｈ，ｓ），０．８８（３Ｈ，ｔ）．【０４９１】
反応容器内をアルゴンガス雰囲気とした後、化合物４ｄ（１０ｇ）、４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニルボロン酸（４ｇ）及びトルエンを加え、室温で撹拌した。その後、そこへ、ビス（ジ−ｔｅｒｔ−ブチル（４−ジメチルアミノビフェニル）ホスフィン）ジクロロパラジウム（７２ｍｇ）を加え、９０℃に加熱した。その後、そこへ、２０質量％テトラブチルアンモニウムヒドロキシド水溶液（６４ｇ）を滴下し、９０℃で３時間撹拌した。その後、反応容器を室温まで冷却し、得られた混合物を分液した。得られた有機層をイオン交換水で洗浄した。得られた洗浄液を分液し、得られた有機層をイオン交換水で洗浄した。得られた洗浄液を分液し、得られた有機層を硫酸マグネシウムで乾燥させた後、ろ過した。得られたろ液に活性炭を加え、室温で３０分間撹拌した後、セライトを敷いたろ過器でろ過した。得られたろ液を減圧濃縮した後、ヘキサンを加え、得られた固体を濾過した。得られた固体をヘキサン及び２−プロパノールを用いて複数回再結晶し、得られた固体を５０℃で減圧乾燥させることで化合物４ｅ（９ｇ、白色固体）得た。化合物４ｅのＨＰＬＣ面積百分率値は９９．５％以上であった。【０４９２】
化合物４ｅのＬＣ−ＭＳ及びＮＭＲの測定結果は、以下のとおりであった。
ＬＣ−ＭＳ（ＡＰＣＩ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）：ｍ／ｚ＝５４２［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）＝７．６３−７．６８（ｍ，４Ｈ），７．３１−７．５２（ｍ，８Ｈ），７．２５（ｄ，２Ｈ），７．１５−７．１７（ｄ，２Ｈ），１．８８（ｓ，３Ｈ），１．４３（ｓ，３Ｈ），１．２８（ｓ，９Ｈ），１．２１（ｓ，３Ｈ），１．４５−１．７８（ｍ，１Ｈ），１．１７−１．３９（ｍ，５Ｈ），０．８８（３Ｈ，ｔ）【０４９３】
反応容器内をアルゴンガス雰囲気とした後、トリスアセチルアセトナトイリジウム（１．１ｇ）、化合物４ｅ（５．０ｇ）及びペンタデカン（１３ｍＬ）を加え、加熱還流下で４８時間攪拌した。その後、そこへ、トルエンを加え、シリカゲルを敷いたろ過器でろ過した後、得られたシリカゲルから、トルエン及び酢酸エチルの混合溶媒を用いて金属錯体４を含む黄色溶液を抽出した。得られた溶液を減圧濃縮することで固体を得た後、得られた固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（トルエン及び酢酸エチルの混合溶媒）で精製することにより、固体を得た。得られた固体をトルエン及びアセトニトリルの混合溶媒を用いての再結晶、並びに、トルエン及びヘキサンの混合溶媒を用いての再結晶をそれぞれ複数回繰り返した。得られた固体を５０℃で減圧乾燥することにより金属錯体４（１．７ｇ、黄色固体）を得た。金属錯体４のＨＰＬＣ面積百分率値は９８．３％であった。【０４９４】
金属錯体４のＮＭＲの測定結果は、以下のとおりであった。
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、ＣＤ２Ｃｌ２）δ（ｐｐｍ）＝７．４２−７．７３（２４Ｈ，ｍ），６．９７−７．１１（１８Ｈ，ｍ），６．１３−６．２６（３Ｈ，ｍ），２．２３−２．２７（４Ｈ，ｍ），２．０１（１Ｈ，ｓ）１．９４（１Ｈ，ｓ），０．９７−１．８９（３４Ｈ，ｍ），１．８８（２Ｈ，ｄ），１．５６（３Ｈ，ｓ），１．２０（２７Ｈ，ｓ），０．７０−０．８４（９Ｈ，ｍ）【０４９５】
＜実施例５＞金属錯体５の合成
下記の方法で、金属錯体５を合成した。【０４９６】
【化１３３】
2017170916.tif 000136
【０４９７】
反応容器内をアルゴンガス雰囲気とした後、化合物４ｄ（１０．０ｇ）、フェニルボロン酸（２．６ｇ）及びトルエン（１５０ｍＬ）を加え、室温で撹拌した。その後、そこへ、ビス（ジ−ｔｅｒｔ−ブチル（４−ジメチルアミノビフェニル）ホスフィン）ジクロロパラジウム（７２ｍｇ）を加え、９０℃に加熱した。その後、そこへ、２０質量％テトラブチルアンモニウムヒドロキシド水溶液（６４ｇ）を滴下し、９０℃で３時間撹拌した。その後、反応容器を室温まで冷却し、得られた混合物を分液した。得られた有機層をイオン交換水で洗浄した。得られた洗浄液を分液し、得られた有機層をイオン交換水で洗浄した。得られた洗浄液を分液し、得られた有機層を硫酸マグネシウムで乾燥させた後、ろ過した。得られたろ液に活性炭を加え、室温で３０分間撹拌した後、セライトを敷いたろ過器でろ過した。得られたろ液を減圧濃縮した後、ヘキサンを加え、得られた固体を濾過した。得られた固体をヘキサン及び２−プロパノールを用いて複数回再結晶した後、得られた固体を５０℃で減圧乾燥させることで化合物５ａ（６．３ｇ、白色固体）得た。化合物５ａのＨＰＬＣ面積百分率値は９９．５％以上であった。【０４９８】
化合物５ａのＬＣ−ＭＳ及びＮＭＲの測定結果は、以下のとおりであった。
ＬＣ−ＭＳ（ＡＰＣＩ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）：ｍ／ｚ＝４８６［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）＝７．６１−７．６６（ｍ，４Ｈ），７．４１−７．５２（ｍ，７Ｈ），７．３４（ｔ，１Ｈ），７．２１−７．２９（ｍ，５Ｈ），１．８８（３Ｈ，ｓ），１．５８−１．７８（２Ｈ，ｍ），１．４５−１．５２（１Ｈ，ｍ），１．４２（３Ｈ，ｓ），１．１７−１．３９（３Ｈ，ｍ），１．２１（３Ｈ，ｓ），０．８８（３Ｈ，ｔ）【０４９９】
反応容器内をアルゴンガス雰囲気とした後、トリスアセチルアセトナトイリジウム（１．１ｇ）、化合物５ａ（５．０ｇ）及びペンタデカン（１２．５ｍＬ）を加え、加熱還流下で４０時間攪拌した。その後、そこへ、トルエンを加え、シリカゲルを敷いたろ過器でろ過した後、得られたシリカゲルから、トルエン及び酢酸エチルの混合溶媒を用いて金属錯体５を含む黄色溶液を抽出した。得られた溶液を減圧濃縮することで固体を得た後、得られた固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（トルエン及び酢酸エチルの混合溶媒）で分取精製することにより、固体を得た。得られた固体を、トルエン及びアセトニトリルの混合溶媒を用いた再結晶、並びに、トルエン及びヘキサンの混合溶媒を用いた再結晶をそれぞれ複数回繰り返した。得られた固体を５０℃で減圧乾燥することにより金属錯体５（１．８ｇ、黄色固体）を得た。金属錯体５のＨＰＬＣ面積百分率値は９８．６％であった。【０５００】
金属錯体５のＮＭＲの測定結果は、以下のとおりであった。
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、ＣＤ２Ｃｌ２）δ（ｐｐｍ）＝７．４３−７．７３（２４Ｈ，ｍ），６．７６−７．１１（２１Ｈ，ｍ），６．２１−６．３０（３Ｈ，ｍ），２．２６（６Ｈ，ｑ），１．９１−２．０２（４Ｈ，ｍ），１．５６（３Ｈ，ｓ），０．９１−１．８２（３２Ｈ，ｍ），０．６７−０．８３（９Ｈ，ｍ）．【０５０１】
＜実施例６＞金属錯体８の合成【０５０２】
【化１３４】
2017170916.tif 000137
【０５０３】
反応容器内を窒素ガス雰囲気とした後、１，２，３−トリメチルベンゼン（１６８ｇ）、ビスピナコラートジボロン（３８４ｇ）、（１，５−シクロオクタジエン）（メトキシ）イリジウム（Ｉ）（ダイマー）（８ｇ）及びシクロペンチルメチルエーテル（１６８１ｍＬ）を加え、撹拌した。その後、そこへ、（１，５−シクロオクタジエン）（メトキシ）イリジウム（Ｉ）（ダイマー）（１０ｇ）を加え、９５℃で６時間撹拌を継続した。その後、反応容器を室温まで冷却し、反応混合物を得た。窒素ガス雰囲気とした反応容器を準備し、メタノール（２３９１ｇ）を加え氷浴で冷却し撹拌した後、そこに上記で得られた反応混合物を加えた。その後、そこへ、活性白土（３３６ｇ）を加え、３０分間撹拌した後、濾過器で濾過した。得られた溶液を濃縮し固体を得た。得られた固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（トルエン及びヘキサンの混合溶媒）で分取精製し、得られた固体をアセトニトリルを用いて再結晶し、得られた固体を５０℃で減圧乾燥させることで化合物８ａ（１６５ｇ、白色固体）を得た。【０５０４】
化合物８ａの１Ｈ−ＮＭＲ測定結果は、以下のとおりであった。
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）＝７．４６（ｓ，２Ｈ），２．２９（ｓ，６Ｈ），２．１９（ｓ，３Ｈ），１．３４（ｓ，１２Ｈ）．【０５０５】
反応容器内をアルゴンガス雰囲気とした後、化合物２ｃ（９．０ｇ）、化合物８ａ（６．２ｇ）、４０質量％テトラブチルアンモニウムヒドロキシド水溶液（３２．９ｇ）、イオン交換水（３２．９ｇ）及びトルエン（１０８．０ｇ）を加え、室温で撹拌した。その後、そこへ、ビス（ジ−ｔｅｒｔ−ブチル（４−ジメチルアミノビフェニル）ホスフィン）ジクロロパラジウム（０．２ｇ）を加え、８０℃で２時間撹拌した。その後、反応容器を室温まで冷却し、得られた混合物を分液した。得られた有機層をイオン交換水（９１．０ｇ）で洗浄した。得られた洗浄液を分液し、得られた有機層をイオン交換水（９１．０ｇ）で洗浄した。得られた洗浄液を分液し、得られた有機層を硫酸マグネシウムで乾燥させた後、ろ過した。得られたろ液に活性炭（１．６ｇ）を加え、室温で１時間撹拌した後、セライトを敷いたろ過器でろ過した。得られたろ液を減圧濃縮しトルエン溶液を得た。
反応容器内をアルゴンガス雰囲気とした後、上記で得られたトルエン溶液（４９．９ｇ）、化合物８ａ（５．２ｇ）、４０質量％テトラブチルアンモニウムヒドロキシド水溶液（３２．９ｇ）、イオン交換水（３２．９ｇ）及びトルエン（１０８．０ｇ）を加え、室温で撹拌した。その後、そこへ、ビス（ジ−ｔｅｒｔ−ブチル（２−ブテニル）ホスフィン）ジクロロパラジウム（０．２ｇ）を加え、８０℃で２７時間撹拌した。その後、反応容器を室温まで冷却し、得られた混合物を分液した。得られた有機層をイオン交換水で洗浄した。得られた洗浄液を分液し、得られた有機層をイオン交換水で洗浄した。得られた洗浄液を分液し、得られた有機層を硫酸マグネシウムで乾燥させた後、ろ過した。得られたろ液に活性炭を加え、室温で１時間撹拌した後、セライトを敷いたろ過器でろ過した。得られたろ液を濃縮した後、ヘプタンを加え、１時間撹拌し、濾過し固体を得た。得られた固体をトルエン及びヘプタンの混合溶媒で再結晶し、得られた固体を５０℃で減圧乾燥させることで化合物８ｂ（６．２ｇ、白色固体）を得た。化合物８ｂのＨＰＬＣ面積百分率値は９９．５％以上であった。【０５０６】
化合物８ｂのＬＣ−ＭＳ及びＮＭＲの測定結果は、以下のとおりであった。
ＬＣ−ＭＳ（ＡＰＣＩ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）：ｍ／ｚ＝４６６［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ２Ｃｌ２，４００ＭＨｚ）：δ（ｐｐｍ）＝７．５１−７．４５（ｍ，２Ｈ），７．４０（ｔ，１Ｈ），７．３５−７．２８（ｍ，２Ｈ），７．２４−７．１９（ｍ，１Ｈ），７．０９−７．０６（ｍ，１Ｈ），６．９１（ｓ，２Ｈ），２．４０（ｓ，３Ｈ），２．２８（ｓ，６Ｈ），２．１６（ｓ，３Ｈ），１．７５（ｓ，３Ｈ），１．７０−１．６１（ｍ，１Ｈ），１．４５−１．３５（ｍ，１Ｈ），１．３３（ｓ，３Ｈ），１．３０−１．１６（ｍ，４Ｈ），１．１１（ｓ，３Ｈ），０．８９−０．８３（ｍ，３Ｈ）．【０５０７】
反応容器内をアルゴンガス雰囲気とした後、トリスアセチルアセトナトイリジウム（１．６ｇ）、化合物８ｂ（６．０ｇ）及びペンタデカン（１４．２ｇ）を加え、加熱還流下で４５時間攪拌した。その後、そこへ、トルエン（３１．６ｇ）を加え、シリカゲル（１８．９ｇ）を敷いたろ過器でろ過した後、得られたシリカゲルから、トルエン及び酢酸エチルの混合溶媒を用いて金属錯体８を含む黄色溶液を抽出した。得られた溶液を減圧濃縮することで固体を得た後、得られた固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（トルエン及び酢酸エチルの混合溶媒）で分取精製することにより、固体を得た。得られた固体をトルエン及びアセトニトリルで再結晶し、得られた固体を５０℃で減圧乾燥することにより金属錯体８（３．２ｇ、黄色固体）を得た。金属錯体８のＨＰＬＣ面積百分率値は９９．１％であった。【０５０８】
金属錯体８のＬＣ−ＭＳ及びＮＭＲの測定結果は、以下のとおりであった。
ＬＣ−ＭＳ（ＡＰＣＩ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）：ｍ／ｚ＝１５８５［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ２Ｃｌ２，４００ＭＨｚ）：δ（ｐｐｍ）＝７．４２−７．１６（ｍ，９Ｈ），６．９９−６．６２（ｍ，１２Ｈ），６．３１−６．１２（ｍ，３Ｈ），２．５３−２．４１（ｍ，９Ｈ），２．３１−２．００（ｍ，３６Ｈ），１．８６−１．７７（ｍ，３Ｈ），１．４４−０．９８（ｍ，３３Ｈ），０．８５−０．６２（ｍ，９Ｈ）．【０５０９】
＜実施例７＞金属錯体９の合成【０５１０】
【化１３５】
2017170916.tif 000138
【０５１１】
反応容器内をアルゴンガス雰囲気とした後、化合物４ｄ（７．４ｇ）、５’−ｍ−テルフェニルボロン酸（３．０ｇ）、ビス（ジ−ｔｅｒｔ−ブチル（４−ジメチルアミノビフェニル）ホスフィン）ジクロロパラジウム（０．０４ｇ）及びトルエン（２５ｍＬ）を加え、室温で撹拌した。その後、そこへ、４０質量％テトラブチルアンモニウムヒドロキシド水溶液（１７ｍＬ）を加え、９０℃で２３時間撹拌した。その後、反応容器を室温まで冷却し、得られた混合物を分液した。得られた有機層をイオン交換水（５０ｍＬ）で洗浄した。得られた洗浄液を分液し、得られた有機層をイオン交換水（５０ｍＬ）で洗浄した。得られた洗浄液を分液し、得られた有機層を硫酸マグネシウムで乾燥させた後、ろ過した。得られたろ液に活性炭（５．０ｇ）を加え、室温で１時間撹拌した後、セライトを敷いたろ過器でろ過した。得られたろ液を濃縮し、得られた固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム及びテトラヒドロフランの混合溶媒、並びに、クロロホルム）で複数回分取精製し、得られた固体を５０℃で減圧乾燥させることで化合物９ａ（４．７ｇ、白色固体）を得た。化合物９ａのＨＰＬＣ面積百分率値は９９．５％以上であった。【０５１２】
化合物９ａのＮＭＲの測定結果は、以下のとおりであった。
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、ＣＤ２Ｃｌ２）δ（ｐｐｍ）＝７．７４−７．３３（ｍ，２５Ｈ），１．９２−１．８３（ｓ，３Ｈ），１．７７−１．５６（ｍ，２Ｈ），１．５０−１．１４（ｍ，１０Ｈ），０．８６（ｔ，３Ｈ）．【０５１３】
反応容器内をアルゴンガス雰囲気とした後、トリスアセチルアセトナトイリジウム（０．９ｇ）、化合物９ａ（４．５ｇ）及びペンタデカン（２２ｍＬ）を加え、加熱還流下で３８時間攪拌した。その後、反応容器を室温まで冷却し、そこに２−プロパノール（１２０ｍＬ）を加え、析出した固体を濾過し、得られた固体を２−プロパノール及びへプタンで洗浄し、金属錯体９を含む黄色固体を得た。得られた固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ジクロロメタン及びトルエンの混合溶媒）で分取精製し、得られた固体をトルエン及びアセトニトリルで再結晶し、得られた固体を５０℃で減圧乾燥することにより金属錯体９（１．７ｇ、黄色固体）を得た。金属錯体９のＨＰＬＣ面積百分率値は９９．５％以上であった。【０５１４】
金属錯体９のＬＣ−ＭＳ及びＮＭＲ測定結果は、以下のとおりであった。
ＬＣ−ＭＳ（ＡＰＣＩ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）：ｍ／ｚ＝２１０４［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、ＣＤ２Ｃｌ２）δ（ｐｐｍ）＝７．６６−６．９６（ｍ，６９Ｈ），６．７３−６．５４（ｍ，３Ｈ），２．３９−２．２２（ｍ，７Ｈ），２．１２−１．９４（ｍ，２Ｈ），１．６４−１．０５（ｍ，３６Ｈ），０．８７−０．６７（ｍ，９Ｈ）．【０５１５】
＜実施例８＞金属錯体１０の合成【０５１６】
【化１３６】
2017170916.tif 000139
【０５１７】
反応容器内をアルゴンガス雰囲気とした後、化合物２ｂ（２８．０ｇ）、モノクロロベンゼン（３６０ｍＬ）、２−フルオロピリジン（１１ｍＬ）及びトリフルオロメタンスルホン酸無水物（２１ｍＬ）を加え、９０℃で撹拌し、その後、そこへ、３，４−ジクロロベンゼンカルボヒドラジド（２５．５ｇ）を加え、９０℃で９時間撹拌した。その後、そこへ、炭酸水素ナトリウム水溶液（２００ｍＬ）を加え、有機層を抽出し、得られた有機層をイオン交換水（１００ｍＬ）で洗浄した。得られた有機層を硫酸マグネシウムで乾燥させた後に濾過し、得られた濾液を減圧濃縮し、得られた固体をヘキサンで洗浄した。得られた固体を、アセトニトリルを用いて再結晶し、得られた固体を５０℃で減圧乾燥することにより、化合物１０ａ（３７．８ｇ）を白色固体として得た。化合物１０ａのＨＰＬＣ面積百分率値は９９．５％以上であった。【０５１８】
化合物１０ａのＮＭＲの測定結果は、以下のとおりであった。
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）＝０．８６（ｔ，３Ｈ），１．０４−１．５０（ｍ，１１Ｈ），１．５８−１．９０（ｍ，４Ｈ），２．４０（ｓ，３Ｈ），６．９８−７．３６（ｍ，５Ｈ），７．５０（ｓ，１Ｈ）．【０５１９】
反応容器内をアルゴンガス雰囲気とした後、化合物１０ａ（３５．０ｇ）、２，４−ジメチルフェニルボロン酸（２６．０ｇ）、トルエン（７００ｍＬ）、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（２．３ｇ）及び２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，４’，６’−トリイソプロピルビフェニル（２．８ｇ）を加え、９０℃で加熱撹拌した。その後、そこへ、４０質量％テトラブチルアンモニウムヒドロキシド水溶液（４０９ｍＬ）を加え、９０℃で９時間撹拌した。その後、反応容器を室温まで冷却し、得られた混合物を分液した。得られた有機層をイオン交換水（１５０ｍＬ）で洗浄した。得られた洗浄液を分液し、得られた有機層をイオン交換水（１５０ｍＬ）で洗浄した。得られた洗浄液を分液し、得られた有機層を硫酸マグネシウムで乾燥させた後、ろ過した。得られたろ液に活性炭（４．０ｇ）を加え、室温で１時間撹拌した後、セライトを敷いたろ過器でろ過した。得られたろ液を減圧濃縮し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン及び酢酸エチルの混合溶媒）で分取し、油状物を得た。
反応容器内をアルゴンガス雰囲気とした後、上記で得られた油状物（３０．０ｇ）、２，４−ジメチルフェニルボロン酸（２．２ｇ）、トルエン（４５０ｍＬ）、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（１．０ｇ）及び２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，４’，６’−トリイソプロピルビフェニル（１．２ｇ）を加え、９０℃で加熱撹拌した。その後、そこへ、４０質量％テトラブチルアンモニウムヒドロキシド水溶液（２３４ｍＬ）を加え、９０℃で５時間撹拌した。その後、反応容器を室温まで冷却し、得られた混合物を分液した。得られた有機層をイオン交換水（１５０ｍＬ）で洗浄した。得られた洗浄液を分液し、得られた有機層をイオン交換水（１５０ｍＬ）で洗浄した。得られた洗浄液を分液し、得られた有機層を硫酸マグネシウムで乾燥させた後、ろ過した。得られたろ液に活性炭（４．０ｇ）を加え、室温で１時間撹拌した後、セライトを敷いたろ過器でろ過した。得られたろ液を濃縮し、赤茶色油状物を得た。得られた赤茶色油状物を逆相シリカゲルカラムクロマトグラフィー（アセトニトリル）で分取精製し、次いで、得られた油状物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム及びエタノールの混合溶媒）で分取精製し、次いで、得られた油状物をリサイクルＧＰＣにより分取精製した。得られた固体を５０℃で減圧乾燥させることで化合物１０ｂ（２．２ｇ、無色透明油状物）を得た。化合物１０ｂのＨＰＬＣ面積百分率値は９９．５％以上であった。【０５２０】
化合物１０ｂのＬＣ−ＭＳ及びＮＭＲの測定結果は、以下のとおりであった。
ＬＣ−ＭＳ（ＡＰＣＩ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）：ｍ／ｚ＝５５６［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、ＣＤ２Ｃｌ３）δ（ｐｐｍ）＝０．８６（ｔ，３Ｈ），１．１２−１．４４（ｍ，１１Ｈ），１．５８−２．０４（ｍ，１０Ｈ），２．２０（ｓ，６Ｈ），２．３７（ｓ，３Ｈ），６．４６−７．２５（ｍ，１２Ｈ）．【０５２１】
反応容器内をアルゴンガス雰囲気とした後、トリスアセチルアセトナトイリジウム（０．４ｇ）、化合物１０ｂ（２．０ｇ）及びペンタデカン（６ｍＬ）を加え、加熱還流下で５４時間攪拌した。その後、そこへ、トルエン（３０ｍＬ）を加え、シリカゲル（２０．０ｇ）を敷いたろ過器でろ過した後、得られたシリカゲルを、トルエン及び酢酸エチルの混合溶媒を用いて金属錯体１０を含む黄色溶液を抽出した。得られた溶液を減圧濃縮し、得られた油状物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（トルエン及び酢酸エチルの混合溶媒）で分取精製し、次いで、得られた固体を逆相シリカゲルカラムクロマトグラフィー（アセトニトリル及び酢酸エチルの混合溶媒）で分取精製することにより、固体を得た。得られた固体をトルエン及びエタノールの混合溶媒で再結晶し、得られた固体を５０℃で減圧乾燥することにより金属錯体１０（０．６ｇ、黄色固体）を得た。金属錯体１０のＨＰＬＣ面積百分率値は９９．５％以上であった。【０５２２】
金属錯体１０のＬＣ−ＭＳ及びＮＭＲの測定結果は、以下のとおりであった。
ＬＣ−ＭＳ（ＡＰＣＩ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）：ｍ／ｚ＝１８５８［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）＝０．８２−２．３０（ｍ，９９Ｈ），５．６９−７．２７（ｍ，３３Ｈ）【０５２３】
＜実施例９＞金属錯体１１の合成【０５２４】
【化１３７】
2017170916.tif 000140
【０５２５】
【化１３８】
2017170916.tif 000141
【０５２６】
反応容器内をアルゴンガス雰囲気とした後、２，２’−ジメチルヘキサン酸（４０ｇ）、クロロホルム（２４０ｍＬ）、Ｎ，Ｎ’−ジメチルホルムアミド（０．２１ｍＬ）及び塩化チオニル（２０ｍＬ）を加え、４５℃で３時間撹拌した。その後、反応容器を水浴を用いて冷却し、２，２’−ジメチルヘキサノイルクロライドを含む反応液を得た。
別途用意した反応容器内をアルゴンガス雰囲気とした後、化合物１１ａ（４１．５ｇ）、クロロホルム（４００ｍＬ）及びトリエチルアミン（７５ｍＬ）を加え、反応容器を氷浴に設置して冷却した。その後、そこへ、上記で得られた２，２’−ジメチルヘキサノイルクロライドを含む反応液を滴下した。滴下後、室温で１時間撹拌を継続した。その後、そこへ、２ｍｏｌ／Ｌ炭酸ナトリウム水溶液（２８０ｍＬ）を加え、室温で撹拌した。得られた混合物を分液し、有機層を得た。得られた有機層をイオン交換水（２８０ｍＬ）で洗浄した。得られた有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧濃縮することにより、化合物６ｂ（６０ｇ、収率８８％）を薄黄色の油状物として得た。化合物１１ｂのＨＰＬＣ面積百分率値は９９．５％以上であった。【０５２７】
化合物１１ｂのＴＬＣ−ＭＳの測定結果は、以下のとおりであった。
ＴＬＣ−ＭＳ（ＤＡＲＴ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）：ｍ／ｚ＝２４８［Ｍ＋Ｈ］＋【０５２８】
反応容器をアルゴンガス雰囲気とした後、化合物１１ｂ（２５．２ｇ）、２−フルオロピリジン（１０．８ｇ）、クロロベンゼン（２０２ｍＬ）及びトリフルオロ酢酸無水物（３１．３ｇ）を加え、撹拌した。その後、反応容器を水浴を用いて冷却し、そこに２−ブロモ３−メチルベンゾイルヒドラジン（２５．４ｇ）を加え、室温で１０分間撹拌した。得られた反応液を少量取り出し、クロロホルムで希釈した後、ＨＰＬＣ測定を実施した。化合物６ｂの残存量が２％未満になったことを確認後、９０℃で７時間撹拌した。反応容器を冷却後、そこに炭酸水素ナトリウム水溶液（１００ｍＬ）を加え、有機層を抽出し、得られた有機層をイオン交換水で洗浄した。得られた有機層に硫酸マグネシウムを加え、乾燥させた。その後、そこへ、活性炭１２．６ｇを加え、撹拌し、セライトを敷いた濾過器で濾過し、得られたろ液を減圧濃縮し固体を得た。得られた固体にクロロホルム及びテトラヒドロフランを加え、シリカゲル及びセライトを敷いた濾過器で濾過し、得られたろ液を減圧濃縮し固体を得た。得られた固体を、トルエン及びヘプタンの混合溶媒を用いて再結晶した。得られた固体を５０℃で減圧乾燥することにより、化合物１１ｃ（３６．２ｇ、収率８１％）を白色固体として得た。化合物１１ｃのＨＰＬＣ面積百分率値は９９．５％以上であった。【０５２９】
化合物１１ｃのＮＭＲの測定結果は、以下のとおりであった。
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、ＣＤ２Ｃｌ２−ｄ２）δ（ｐｐｍ）＝７．６１−７．５３（ｍ，１Ｈ），７．２８−７．２１（ｍ，１Ｈ），７．２１−７．１２（ｍ，１Ｈ），７．１２−７．０１（ｍ，３Ｈ），２．３４（ｓ，３Ｈ），２．３０（ｓ，３Ｈ），１．７５−１．６０（ｍ，５Ｈ），１．４２−１．０８（ｍ，１０Ｈ），８５（ｔ，３Ｈ）．【０５３０】
反応容器内を窒素ガス雰囲気とした後、３−ブロモスピロフルオレン（５．０ｇ）、ビスピナコラートジボロン（４．１ｇ）、酢酸カリウム（４．９ｇ）及びシクロペンチルメチルエーテル（１２５ｍＬ）を加え、撹拌した。その後、そこへ、［１，１’−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン］パラジウム（ＩＩ）ジクロリド  ジクロロメタン（０．３ｇ）を加え、９０℃で１６時間撹拌を継続した。その後、反応容器を室温まで冷却し、得られた混合物を分液した。得られた有機層をイオン交換水（５０ｍＬ）で洗浄した。得られた洗浄液を分液し、得られた有機層をイオン交換水（５０ｍＬ）で洗浄した。得られた洗浄液を分液し、得られた有機層を硫酸マグネシウムで乾燥させた後、ろ過し、得られたろ液を減圧濃縮した。得られた固体にトルエン及び活性炭（１．４ｇ）を加え、室温で１時間撹拌した後、セライトを敷いたろ過器でろ過した。得られたろ液を濃縮し、白色固体を得た。得られた白色固体をトルエン及びアセトニトリルを用いて再結晶し、５０℃で減圧乾燥させることで化合物１１ｄ（４．５ｇ、白色固体）を得た。【０５３１】
化合物１１ｄのＮＭＲの測定結果は、以下のとおりであった。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ２Ｃｌ２、４００ＭＨｚ）：δ（ｐｐｍ）＝１．３３（１２Ｈ，ｍ），６．６４（４Ｈ，ｍ），７．０６−７．２３（３Ｈ，ｍ），７．３５（３Ｈ，ｔ），７．５１（１Ｈ，ｄ），７．８６（２Ｈ，ｄ），７．９１（１Ｈ，ｄ），８．２６（１Ｈ，ｓ）．【０５３２】
反応容器内をアルゴンガス雰囲気とした後、化合物１１ｃ（１．７ｇ）、化合物１１ｄ（２．０ｇ）、４０質量％テトラブチルアンモニウムヒドロキシド水溶液（５．９ｇ）、イオン交換水（５．９ｇ）及びトルエン（１９．９ｇ）を加え、室温で撹拌した。その後、そこへ、ビス（ジ−ｔｅｒｔ−ブチル（４−ジメチルアミノビフェニル）ホスフィン）ジクロロパラジウム（０．０３ｇ）を加え、８０℃で１９時間撹拌した。その後、反応容器を室温まで冷却し、得られた混合物を分液した。得られた有機層をイオン交換水（２７．０ｇ）で洗浄した。得られた洗浄液を分液し、得られた有機層をイオン交換水（２７．０ｇ）で洗浄した。得られた洗浄液を分液し、得られた有機層を硫酸マグネシウムで乾燥させた後、ろ過した。得られたろ液に活性炭（０．５ｇ）を加え、室温で１時間撹拌した後、セライトを敷いたろ過器でろ過した。得られたろ液を減圧濃縮し、固体を得た。得られた固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン及び酢酸エチルの混合溶媒）で分取精製することにより、固体を得た。得られた固体をトルエン及びヘプタンの混合溶媒、並びに、トルエン及びアセトニトリルの混合溶媒で複数回再結晶し、得られた固体を５０℃で減圧乾燥した。
上記の一連の操作を繰り返すことにより化合物１１ｅ（２．６ｇ、白色固体）を得た。化合物１１ｅのＨＰＬＣ面積百分率値は９９．５％以上であった。【０５３３】
化合物１１ｅのＮＭＲの測定結果は、以下のとおりであった。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ２Ｃｌ２，４００ＭＨｚ）：δ（ｐｐｍ）＝７．８９−７．８５（ｍ，２Ｈ），７．８４−７．８０（ｍ，１Ｈ），７．６０−７．５７（ｍ，１Ｈ），７．４０−７．３５（ｍ，３Ｈ），７．３０−７．２６（ｍ，２Ｈ），７．２３（ｄ，１Ｈ），７．１８−７．０８（ｍ，５Ｈ），７．０５（ｂｒ，１Ｈ），６．８２（ｄｄ，１Ｈ），６．７４−６．６３（ｍ，４Ｈ），２．３２（ｓ，３Ｈ），２．２７（ｓ，３Ｈ），１．７６（ｓ，３Ｈ），１．６９−１．５９（ｍ，１Ｈ），１．４４−１．３７（ｍ，１Ｈ），１．３２（ｓ，３Ｈ），１．２９−１．１５（ｍ，４Ｈ），１．０９（ｓ，３Ｈ），０．８５（ｔ，３Ｈ）．【０５３４】
反応容器内をアルゴンガス雰囲気とした後、トリスアセチルアセトナトイリジウム（０．５ｇ）、化合物１１ｅ（２．５ｇ）及びペンタデカン（７．２ｇ）を加え、加熱還流下で４６時間攪拌した。その後、そこへ、トルエン（９．０ｇ）を加え、シリカゲル（２２．６ｇ）を敷いたろ過器でろ過した後、得られたシリカゲルを、トルエン及び酢酸エチルの混合溶媒を用いて金属錯体１１を含む黄色溶液を抽出した。得られた溶液を減圧濃縮することで固体を得た後、得られた固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（トルエン及び酢酸エチルの混合溶媒）で分取精製することにより、固体を得た。得られた固体をトルエン及びアセトニトリル再結晶し、得られた固体を５０℃で減圧乾燥することにより、金属錯体１１（０．７ｇ、黄色固体）を得た。金属錯体１１のＨＰＬＣ面積百分率値は９９．０％であった。【０５３５】
金属錯体１１のＬＣ−ＭＳ及びＮＭＲの測定結果は、以下のとおりであった。
ＬＣ−ＭＳ（ＡＰＣＩ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）：ｍ／ｚ＝２２１８［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ２Ｃｌ２，４００ＭＨｚ）：δ（ｐｐｍ）＝７．９０−７．８２（ｍ，９Ｈ），７．５１−７．３４（ｍ，１５Ｈ），７．２７−７．０９（ｍ，１５Ｈ），６．９０−６．７８（ｍ，３Ｈ），６．７５−６．５９（ｍ，１２Ｈ），６．５７−６．５１（ｍ，３Ｈ），５．８８−５．７８（ｍ，３Ｈ），２．２５−２．０５（ｍ，２７Ｈ），２．０１−１．８３（ｍ，６Ｈ），１．４７−１．０６（ｍ，３０Ｈ），０．８９−０．７２（ｍ，９Ｈ）．【０５３６】
＜実施例１０＞金属錯体１２の合成【０５３７】
【化１３９】
2017170916.tif 000142
【０５３８】
反応容器内をアルゴンガス雰囲気とした後、化合物１１ｃ（１５．０ｇ）、フェニルホウ酸（４．４ｇ）、ビス（ジ−ｔｅｒｔ−ブチル（４−ジメチルアミノビフェニル）ホスフィン）ジクロロパラジウム（０．１ｇ）及びトルエン（７５ｍＬ）を加え、８０℃で撹拌した。その後、そこへ、４０質量％テトラブチルアンモニウムヒドロキシド水溶液（５５ｍＬ）を加え、８０℃で４０時間撹拌した。その後、反応容器を室温まで冷却し、得られた混合物を分液した。得られた有機層をイオン交換水（７５ｍＬ）で洗浄した。得られた洗浄液を分液し、得られた有機層をイオン交換水（７５ｍＬ）で洗浄した。得られた洗浄液を分液し、得られた有機層を硫酸マグネシウムで乾燥させた。その後、そこへ、活性炭（１５．０ｇ）を加え、室温で１時間撹拌した後、セライトを敷いたろ過器でろ過した。得られたろ液を減圧濃縮し、油状物を得た。得られた油状物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム及びエタノールの混合溶媒）で分取精製し、得られた固体をヘプタン及び２−プロパノールの混合溶媒で再結晶した。得られた固体を５０℃で減圧乾燥することにより、化合物１２ａ（４．０ｇ、白色固体）を得た。化合物１２ａのＨＰＬＣ面積百分率値は９９．５％以上であった。【０５３９】
化合物１２ａのＮＭＲの測定結果は、以下のとおりであった。
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、ＣＤ２Ｃｌ２）δ（ｐｐｍ）＝７．４０−６．９４（ｍ，１１Ｈ），２．４２−２．３４（ｍ，３Ｈ），２．２３−２．１５（ｍ，３Ｈ），１．７８−１．４８（ｍ，６Ｈ），１．４２−１．１６（ｍ，６Ｈ），１．１３−１．０６（ｍ，３Ｈ），０．９２−０．７７（ｍ，３Ｈ）．【０５４０】
反応容器内をアルゴンガス雰囲気とした後、トリスアセチルアセトナトイリジウム（１．１ｇ）、化合物１２ａ（４．０ｇ）及びペンタデカン（５０ｍＬ）を加え、加熱還流下で５２時間攪拌した。その後、そこへ、トルエン（３２ｍＬ）を加え、シリカゲル（１６．０ｇ）を敷いたろ過器でろ過した後、トルエン及び酢酸エチルの混合溶媒を用いて金属錯体１２を含む黄色溶液を抽出した。得られた溶液を減圧濃縮することで固体を得た後、得られた固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（トルエン及び酢酸エチルの混合溶媒）で分取精製し、得られた固体をエタノールで洗浄した。さらに得られた固体を逆相シリカゲルカラムクロマトグラフィー（塩化メチレン及びアセトニトリルの混合溶媒）で分取精製した。得られた固体をアセトニトリルで洗浄し、トルエン及びエタノールの混合溶媒で再結晶した。得られた固体を５０℃で減圧乾燥することにより、金属錯体１２（１．５ｇ、黄色固体）を得た。金属錯体１２のＨＰＬＣ面積百分率値は９９．４％であった。【０５４１】
金属錯体１２のＮＭＲの測定結果は、以下のとおりであった。
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、ＣＤ２Ｃｌ２）δ（ｐｐｍ）＝７．３３−７．０８（ｍ，１８Ｈ），７．０２−６．９３（ｍ，６Ｈ），６．７３−６．４８（ｍ，３Ｈ），５．８１−５．７１（ｍ，３Ｈ），２．４３−２．３２（ｍ，９Ｈ），２．１６−１．９７（ｍ，１５Ｈ），１．９１−１．７９（ｍ，３Ｈ），１．５８−１．０３（ｍ，３６Ｈ），０．８４−０．６７（ｍ，９Ｈ）．【０５４２】
＜実施例１１＞金属錯体１３の合成【０５４３】
【化１４０】
2017170916.tif 000143
【０５４４】
反応容器内をアルゴンガス雰囲気とした後、２−ジベンゾフランカルボン酸（２０．０ｇ）、硫酸（１．８ｇ）及びエタノール（６００ｍＬ）を加え、８０℃で４５時間撹拌することで、反応溶液１を得た。上記操作を繰り返すことにより、反応溶液２を得た。得られた反応溶液１及び２を合一し、濃縮した後、酢酸エチル（４００ｍＬ）を加え、置換濃縮した。得られた溶液に、酢酸エチル（２００ｍＬ）及びイオン交換水（２００ｍＬ）を加えた後、洗浄した。得られた有機層を炭酸ナトリウム水溶液（２００ｍＬ）で洗浄し、次いで、得られた有機層をイオン交換水（２００ｍＬ）で洗浄した。得られた有機層を硫酸マグネシウムで乾燥させた後、セライト及びシリカゲルを敷いたろ過器でろ過した。得られたろ液を減圧濃縮することで、油状物を得た。得られた油状物を５０℃で減圧乾燥することにより、化合物１３ａ（３９．４ｇ、黄色油状物）を得た。化合物１３ａのＨＰＬＣ面積百分率値は９９．０％であった。
上記の一連の操作を繰り返すことにより、化合物１３ａの必要量を確保した。【０５４５】
化合物１３ａのＮＭＲの測定結果は、以下のとおりであった。
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、ＣＤ２Ｃｌ２）δ（ｐｐｍ）＝１．４０（３Ｈ，ｔ），４．３９（２Ｈ，ｑ），７．３８（１Ｈ，ｄｔ），７．５０（１Ｈ，ｄｔ），７．５９（２Ｈ，ｄ），８．０２（１Ｈ，ｄｄ），８．１６（１Ｈ，ｄｄ），８．６７（１Ｈ，ｄ）．【０５４６】
反応容器をアルゴン雰囲気下とした後、化合物１３ａ（４０．０ｇ）、エタノール（３６０ｍＬ）、イオン交換水（４０ｍＬ）及びヒドラジン一水和物（１２５．０ｇ）を加え、８０℃で６時間撹拌した。反応容器を室温まで冷却した後、イオン交換水（３００ｍＬ）を加え、０℃で１時間撹拌したところ、固体が生じた。得られた固体をろ過により取得した後、イオン交換水（２００ｍＬ）で２回洗浄し、次いで、５０％エタノール水（２００ｍＬ）で１回洗浄した。得られた固体に２−プロパノール（５６５ｍＬ）を加え、懸濁撹拌した後、ろ過し、得られた固体を５０℃で減圧乾燥することにより、化合物１３ｂ（３４．５ｇ、白色固体）を得た。化合物１３ｂのＨＰＬＣ面積百分率値は９７．１％であった、【０５４７】
化合物１３ｂのＮＭＲの測定結果は、以下のとおりであった。
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、ＣＤ３ＯＤ）δ（ｐｐｍ）＝４．８４（２Ｈ，ｓ），７．３９（１Ｈ，ｄｔ），７．５２（１Ｈ，ｄｔ），７．６０（１Ｈ，ｄｄ），７．６４（１Ｈ，ｄ），７．９３（１Ｈ，ｄｄ），８．０７（１Ｈ，ｄｄ），８．４８（１Ｈ，ｄ）．【０５４８】
反応容器をアルゴン雰囲気下とした後、化合物４ｃ（２２．０ｇ）、モノクロロベンゼン（２２０ｍＬ）、２−フルオロピリジン（６．７ｍＬ）及びトリフルオロメタンスルホン酸無水物（１２．８ｍＬ）を加え、室温で撹拌した。その後、そこへ、化合物１３ｂ（１７．７ｇ）を加え、８５℃で３時間撹拌した。反応容器を室温まで冷却した後、炭酸水素ナトリウム水溶液（７８ｍＬ）を加え、有機層を抽出した。得られた有機層をイオン交換水（８８ｍＬ）で洗浄した。得られた有機層を硫酸マグネシウムで乾燥させた後、ろ過し、得られたろ液を減圧濃縮し、得られた固体をヘキサンで洗浄した。得られた固体をアセトニトリルを用いて再結晶した後、５０℃で減圧乾燥することにより、化合物１３ｃ（２８．２ｇ、白色固体）を得た。化合物１３ｃのＨＰＬＣ面積百分率値は９９．５％以上であった。【０５４９】
化合物１３ｃのＮＭＲの測定結果は、以下のとおりであった。
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、ＣＤ２Ｃｌ２）δ（ｐｐｍ）＝０．８９（３Ｈ，ｔ），１．１８（３Ｈ，ｓ），１．２０−１．３５（３Ｈ，ｍ），１．４６（１Ｈ，ｄｔ），１．６６−１．７５（１Ｈ，ｍ），１．８３（３Ｈ，ｓ），７．２９（１Ｈ，ｄｔ），７．３４−７．６６（１２Ｈ，ｍ），７．８０（１Ｈ，ｄｄ），８．０２（１Ｈ，ｄ）．【０５５０】
反応容器内をアルゴンガス雰囲気とした後、トリスアセチルアセトナトイリジウム（４．４ｇ）、化合物１３ｃ（１８．０ｇ）及びペンタデカン（９０ｍＬ）を加え、加熱還流下で６６時間攪拌した。反応容器を室温まで冷却した後、２―プロパノール（９０ｍＬ）を加えたところ、固体が生じた。得られた固体をろ過により取得した後、トルエン（１５ｍＬ）を加え、シリカゲル（７６ｇ）を敷いたろ過器でろ過した。得られた固体をトルエン及び酢酸エチルの混合溶媒を用いて金属錯体１４を含む黄色溶液を抽出した。得られた溶液を減圧濃縮し、得られた固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（トルエン及び酢酸エチルの混合溶媒）で分取精製することにより、固体を得た。得られた固体をトルエン及びエタノールの混合溶媒を用いて再結晶した後、５０℃で減圧乾燥することにより、金属錯体１３（７．０ｇ、黄色固体）を得た。金属錯体１３のＨＰＬＣ面積百分率値は９９．５％以上であった。【０５５１】
金属錯体１３のＬＣ−ＭＳ及びＮＭＲの測定結果は、以下のとおりであった。
ＬＣ−ＭＳ（ＡＰＣＩ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）：ｍ／ｚ＝１６８９［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、ＣＤ２Ｃｌ２）δ（ｐｐｍ）＝０．４９−０．８６（１０Ｈ，ｍ），０．９４−１．７０（３５Ｈ，ｍ），１．８１−１．９１（４Ｈ，ｍ），２．２３−２．３２（５Ｈ，ｍ），６．５１−６．５９（３Ｈ，ｍ），６．７８−７．２７（１５Ｈ，m），７．４３−７．８１（２４Ｈ，ｍ）．【０５５２】
＜比較例１＞金属錯体６の合成
下記の方法で、金属錯体６を合成した。【０５５３】
【化１４１】
2017170916.tif 000144
【０５５４】
反応容器内を窒素雰囲気とした後、ベンゾイルヒドラジド（１００ｇ）、トリエチルアミン（１１４ｍＬ）及びテトラヒドロフラン（１．５Ｌ）を加え、０℃で撹拌した。その後、そこへ、アセチルクロライド（５２ｍＬ）を滴下し、室温で４時間撹拌した。その後、反応容器を室温まで冷却し、得られた固体を濾過し、得られた固体をテトラヒドロフランで洗浄した。得られた溶液を濃縮し、得られた固体を酢酸エチルを用いて再結晶することで、化合物６ａ（７０ｇ）を得た。化合物６ａのＨＰＬＣ面積百分率値は９８．７％であった。【０５５５】
化合物６ａのＬＣ−ＭＳ及びＮＭＲの測定結果は、以下のとおりであった。
ＬＣ−ＭＳ（ＡＰＣＩ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）：ｍ／ｚ＝１７９［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＤＭＳＯ−ｄ６）δ（ｐｐｍ）＝１０．２６（ｂｒ，ｓ，１Ｈ），９．８６（ｂｒ，ｓ，１Ｈ），７．８３−７．８６（ｍ，２Ｈ），７．４５−７．５６（ｍ，３Ｈ），１．９０（ｓ，３Ｈ）．【０５５６】
反応容器を窒素雰囲気とした後、化合物６ａ（７０ｇ）及びキシレン（７００ｍＬ）を加え、室温で撹拌した。その後、そこへ、五塩化リン（１２３ｇ）を少しずつ加え、１３０℃で２時間撹拌した。その後、反応容器を室温まで冷却し、そこに２，６−ジイソプロピルアニリン（７０ｇ）を少しずつ加え、１３０℃で８時間撹拌した。その後、反応容器を室温まで冷却し、得られた混合物を減圧濃縮することでキシレンを除去した後、得られた残渣を酢酸エチルに溶解させた。得られた溶液をイオン交換水、１０質量％炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水でそれぞれ洗浄した。得られた有機層を硫酸ナトリウムで乾燥させた後、ろ過し、得られたろ液を減圧濃縮した。得られた固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン及び酢酸エチルの混合溶媒）で分取精製することにより、固体を得た。得られた固体をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド及び水を用いて再結晶し、得られた固体を５０℃で減圧乾燥することにより、化合物６ｂ（７０ｇ、白色固体）を得た。化合物６ｂのＨＰＬＣ面積百分率値は９９．２％であった。【０５５７】
化合物６ｂのＬＣ−ＭＳ及びＮＭＲの測定結果は、以下のとおりであった。
ＬＣ−ＭＳ（ＡＰＣＩ，ｐｏｓｉｔｉｖｅ）：ｍ／ｚ＝３２０［Ｍ＋Ｈ］＋
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）＝７．５３−  ７．５８  （ｍ，  １Ｈ），７．４８（ｄ，２Ｈ），７．３３（ｄ，２Ｈ），７．２８−７．３０（ｍ，１Ｈ），７．２１−７．２５（ｍ，２Ｈ），２．３９（ｑ，２Ｈ），２．２６（ｓ，３Ｈ），１．１４（ｄ，６Ｈ），０．８７（ｄ，６Ｈ）．【０５５８】
反応容器内を窒素雰囲気とした後、トリスアセチルアセトナトイリジウム（１．２ｇ）、化合物６ｂ（４．０ｇ）及びトリデカン（１ｍＬ）を加え、２８０℃で１８時間攪拌した。その後、反応容器を室温まで冷却し、そこに塩化メチレンを加えた。得られた溶液を減圧濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル及びメタノールの混合溶媒）で分取精製することにより、固体を得た。得られた固体をトルエン及びアセトニトリルを用いて再結晶し、得られた固体を５０℃で減圧乾燥することにより、金属錯体６（１．７ｇ、黄色固体）を得た。金属錯体６のＨＰＬＣ面積百分率値は９９．５％以上であった。【０５５９】
金属錯体６のＮＭＲの測定結果は、以下のとおりであった。
１Ｈ−ＮＭＲ（６００ＭＨｚ、ＴＨＦ−ｄ８）δ（ｐｐｍ）＝７．５６（ｔ，３Ｈ），７．４２（ｄｄ，３Ｈ），７．４０（ｄｄ，３Ｈ），６．８７（ｄｄ，３Ｈ），６．５２（ｔｄ，３Ｈ），６．３５（ｔｄ，３Ｈ），６．１７（ｄｄ，３Ｈ），２．８３（ｈｅｐｔ，３Ｈ），２．３４（ｈｅｐｔ，３Ｈ），２．１０（ｓ，９Ｈ），１．２３（ｄ，９Ｈ），０．９８（ｄ，９Ｈ），０．９６（ｄ，９Ｈ），０．９２（ｄ，９Ｈ）．【０５６０】
＜比較例２＞金属錯体７の合成
下記の方法で、金属錯体７を合成した。【０５６１】
【化１４２】
2017170916.tif 000145
【０５６２】
反応容器内を窒素雰囲気とした後、ベンゾイルヒドラジド（５０ｇ）及びＮ−メチル−２−ピロリドン（２００ｍＬ）を加え、０℃で撹拌した。その後、そこへ、Ｎ−メチル−２−ピロリドン（４０ｍＬ）に溶解させた２，６−ジメチルベンゾイルクロライド（４０ｇ）を滴下し、室温で１８時間撹拌した。その後、得られた混合物をイオン交換水（１．２Ｌ）に加え、撹拌した後、分液した。得られた有機層を、１Ｍ塩酸水溶液、イオン交換水でそれぞれ洗浄し、得られた有機層を硫酸マグネシウムで乾燥させた後、ろ過し、得られたろ液を減圧濃縮することにより、化合物７ａ（４３ｇ、白色固体）を得た。【０５６３】
化合物７ａのＮＭＲの測定結果は、以下のとおりであった。
１Ｈ−ＮＭＲ（６００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）＝９．６４（ｂｒ，１Ｈ），８．９０（ｂｒ，１Ｈ），７．８６（ｄ，２Ｈ），７．５６（ｔ，１Ｈ），７．４５（ｔ，２Ｈ），７．０２−７．０８（ｍ，３Ｈ），２．４１（ｓ，６Ｈ）．【０５６４】
反応容器を窒素雰囲気とした後、化合物７ａ（４３ｇ）及びトルエン（７４０ｍＬ）を加え、室温で撹拌した。その後、そこへ、五塩化リン（６７ｇ）を少しずつ加え、１１０℃で２１時間撹拌した。その後、反応容器を室温まで冷却し、得られた混合物を氷水（５００ｍＬ）に加え、２時間室温で撹拌した。得られた混合物を分液した後、得られた有機層をイオン交換水、１０質量％炭酸水素ナトリウム水溶液でそれぞれ洗浄し、得られた有機層を硫酸マグネシウムで乾燥させた後、ろ過し、得られたろ液を減圧濃縮することにより、油状化合物７ｂ（４０ｇ）を得た。
反応容器を窒素雰囲気とした後、化合物７ｂ（４０ｇ）、２，６−ジメチル４−ヘキシルアニリン（３２ｇ）及びキシレン（８００ｍＬ）を加え、室温で撹拌した。その後、そこへ、パラトルエンスルホン酸（３ｇ）を加え、１２０℃で１１６時間撹拌した。その後、反応容器を室温まで冷却し、そこにイオン交換水（８００ｍＬ）を加え、室温で１時間撹拌した。得られた混合物を分液し、得られた有機層を５％炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄した。得られた有機層を硫酸マグネシウムで乾燥させた後、ろ過し、得られたろ液を減圧濃縮することにより、茶色油状物を得た。得られた茶色油状物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘプタン及び酢酸エチルの混合溶媒、並びに、アセトニトリル及びテトラヒドロフラン）で複数回分取精製することにより、化合物７ｃ（１．３ｇ、白色固体）を得た。化合物７ｃのＨＰＬＣ面積百分率値は９９．５％以上であった。上記操作を繰り返すことにより、必要量を確保した。【０５６５】
化合物７ｃのＮＭＲの測定結果は、以下のとおりであった。
１Ｈ−ＮＭＲ（６００ＭＨｚ、ＴＨＦ−ｄ８）δ（ｐｐｍ）＝７．４２  （ｄ，２Ｈ），７．３０  （ｔ，１Ｈ），７．２４（ｔ，２Ｈ），７．１５（ｔ，１Ｈ），６．９８（ｄ，２Ｈ），６．８５（ｓ，２Ｈ），２．５１（ｔ，２Ｈ），２．０７（ｓ，６Ｈ），１．８１（ｓ，６Ｈ），１．５６（ｍ，２Ｈ），１．２６−１．３２（ｍ，６Ｈ），０．８８（ｔ，３Ｈ）．【０５６６】
反応容器内を窒素雰囲気とした後、トリスアセチルアセトナトイリジウム（０．６ｇ）、化合物７ｃ（２．０ｇ）及びトリデカン（２ｍＬ）を加え、２５０℃で１２０時間攪拌した。その後、反応容器を室温まで冷却し、そこに塩化メチレンを加えた。得られた溶液を減圧濃縮した後、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘプタン及び酢酸エチルの混合溶媒）で分取精製することにより、金属錯体７（０．６ｇ、黄色固体）を得た。金属錯体７のＨＰＬＣ面積百分率値は９９．２％であった。【０５６７】
金属錯体７のＮＭＲの測定結果は、以下のとおりであった。
１Ｈ−ＮＭＲ（６００ＭＨｚ、ＴＨＦ−ｄ８）δ（ｐｐｍ）＝７．０４−７．０８  （ｍ，  ６Ｈ），６．９３（ｓ，３Ｈ），６．９２（ｓ，３Ｈ），６．８８（ｄ，３Ｈ），６．８４（ｄ，３Ｈ），６．６１（ｔ，３Ｈ），６．４３（ｔ，３Ｈ），６．２９（ｄ，３Ｈ），２．５７（ｔ，６Ｈ），２．１２（ｓ，９Ｈ），１．９５（ｓ，９Ｈ），１．８２（ｓ，９Ｈ），１．７０（ｓ，９Ｈ），１．６２（ｍ，６Ｈ），１．２８−１．３６（ｍ，１８Ｈ），０．８９（ｔ，９Ｈ）．【０５６８】
＜発光安定性の評価＞
［発光安定性の評価装置］
発光安定性の評価装置により、後述する測定試料のガラス基板側から励起光を照射し、測定試料に含まれる有機層を発光させた。励起光源には、浜松ホトニクス社製のＬｉｇｈｔｎｉｎｇｃｕｒｅ  ＬＣ−Ｌ１Ｖ３（波長３８５ｎｍ）を用いた。測定試料からの発光の測定には、発光輝度測定装置である株式会社トプコン製のＢＭ−９を用いた。発光輝度測定装置の測光入射口には、短波長不透過フィルターを設置して、波長４００ｎｍ以下の光が測光されないようにした。【０５６９】
［励起光源の励起光強度の調整］
発光安定性の評価では、後述する各測定試料からの発光のフォトン数が同数となるように、励起光源の励起光強度を調整した。【０５７０】
各測定試料からの発光のフォトン数が同数となる条件を算出するために、式（１１）、式（１２）、式（１３−１）、式（１３−２）、式（１４）、式（１５）、式（１６）及び式（１７）を用いた。【０５７１】
第一に、測定試料からの発光のフォトン数を、式（１１）から算出した。ここで、発光スペクトル強度を表すＩｎｔＰＬ（λ）は、後述する測定試料に含まれる有機層を石英基板上に形成した試料を用いて、日本分光社製のＦＰ−６５００を用いて測定した。
【数１】
2017170916.tif 000146
（ここで、ＮＰＬは、発光のフォトン数［個］を表す。λは、波長［ｎｍ］を表す。ＩｎｔＰＬ（λ）は、発光スペクトル強度［Ｗ］を表す。）【０５７２】
第二に、式（１１）から算出された発光のフォトン数を表すＮＰＬを、式（１２）に書き換えた。
【数２】
2017170916.tif 000147
（ここで、ＮＰＬは、前記と同じ意味を表す。Ｋｉｎｔは、比例係数を表す。ｎｎｒｍ−ＰＬは、規格化フォトン数を表す。）【０５７３】
式（１２）において規格化フォトン数を表すｎｎｒｍ−ＰＬは、式（１３−１）から算出した。
【数３】
2017170916.tif 000148
（ここで、λ及びｎｎｒｍ−ＰＬは、前記と同じ意味を表す。Ｉｎｔｎｒｍ−ＰＬ（λ）は、規格化発光スペクトルを表す。）【０５７４】
式（１３−１）において規格化発光スペクトルを表すＩｎｔｎｒｍ−ＰＬ（λ）は、式（１３−２）から算出した。
【数４】
2017170916.tif 000149
（ここで、λ、Ｉｎｔｎｒｍ−ＰＬ（λ）及びＩｎｔＰＬ（λ）は、前記と同じ意味を表す。）【０５７５】
第三に、規格化発光スペクトルを表すＩｎｔｎｒｍ−ＰＬ（λ）を用いて、規格化輝度を式（１４）から算出した。
【数５】
2017170916.tif 000150
（ここで、λ及びＩｎｔｎｒｍ−ＰＬ（λ）は、前記と同じ意味を表す。ｌｎｒｍは、規格化輝度を表す。Ｌｆ（λ）は、視感度スペクトルを表す。）【０５７６】
第四に、規格化輝度を表すｌｎｒｍを用いて、発光輝度を式（１５）から算出した。
【数６】
2017170916.tif 000151
（ここで、ＬＰＬは、発光輝度［ｃｄ／ｍ２］を表す。λ、ＩｎｔＰＬ（λ）、Ｌｆ（λ）、Ｋｉｎｔ、Ｉｎｔｎｒｍ−ＰＬ（λ）及びｌｎｒｍは、前記と同じ意味を表す。）【０５７７】
第五に、式（１２）と式（１５）とを用いて、発光のフォトン数が同数の条件を、式（１６）から算出した。この式（１６）を用いることで、各測定試料からの発光のフォトン数が同数となる条件を満たす、各測定試料の発光輝度を算出することができる。
【数７】
2017170916.tif 000152
（ここで、ＮＰＬ、Ｋｉｎｔ及びｎｎｒｍ−ＰＬは、前記と同じ意味を表す。）
【数８】
2017170916.tif 000153
（ここで、Ｌｅｑｖは、発光輝度［ｃｄ／ｍ２］を表す。ｌｎｒｍ、ｎｎｒｍ−ＰＬ及びＫｉｎｔは、前記と同じ意味を表す。）【０５７８】
例えば、試料Ａを輝度ＬＡで発光させる場合、発光のフォトン数が試料Ａと同数になるような試料Ｂの発光輝度は、試料Ａ及び試料Ｂの規格化フォトン数と規格化輝度とを用いた式（１７）から算出することができる。【０５７９】
【数９】
2017170916.tif 000154
（ここで、ＬＡは、試料Ａの発光輝度［ｃｄ／ｍ２］を表す。ＬＢは、試料Ｂの発光輝度［ｃｄ／ｍ２］を表す。ｎＡｎｒｍ−ＰＬは、試料Ａの規格化フォトン数を表す。ｎＢｎｒｍ−ＰＬは、試料Ｂの規格化フォトン数を表す。ｌＡｎｒｍは、試料Ａの規格化輝度を表す。ｌＢｎｒｍは、試料Ｂの規格化輝度を表す。）【０５８０】
＜実施測定例１＞発光安定性の測定
金属錯体１（異性体３及び４の混合物）と、式（Ｈ−１１３）で表される化合物（以下、「化合物Ｈ−１１３」ともいう。）（Ｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ  Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ社製、ＬＴ−Ｎ４０１３）とを、２．０質量％の濃度で溶解させたトルエン溶液（金属錯体１：化合物Ｈ−１１３＝２５質量％：７５質量％）を調製した。
【化１４３】
2017170916.tif 000155
【０５８１】
ガラス基板上に、上記で得られたトルエン溶液をスピンコート法により７５ｎｍの厚さで成膜し、窒素ガス雰囲気下（酸素濃度１０ｐｐｍ以下、水分濃度１０ｐｐｍ以下）において、１３０℃、１０分間加熱させることにより有機層を形成した。【０５８２】
有機層を形成した基板を蒸着機内において、１．０×１０−４Ｐａ以下にまで減圧した後、アルミニウムを約８０ｎｍ蒸着した。蒸着後、窒素ガス雰囲気下（酸素濃度１０ｐｐｍ以下、水分濃度１０ｐｐｍ以下）において、ガラス基板を用いて封止することにより、測定試料ＦＬ−１を作製した。【０５８３】
測定試料ＦＬ−１の発光輝度が２７３６ｃｄ／ｍ２となるように励起光源の励起光強度を調整した。なお、測定試料ＦＬ−１から観測された発光の発光スペクトルピークは４６８ｎｍであり、色度ＣＩＥ（ｘ，ｙ）は（０．１７７，０．３２４）であり、当該発光は金属錯体１に由来する発光であった。その後、調整した励起光強度を一定に保ったまま測定試料ＦＬ−１を連続的に発光させ、発光輝度が測定開始時の発光輝度に対して８５％になるまでの時間（以下、「ＬＴ８５」という）を測定した。測定の結果、ＬＴ８５は５０．１時間であった。【０５８４】
＜実施測定例２＞発光安定性の測定
金属錯体１の異性体３及び４の混合物に代えて、金属錯体１の異性体１を用いた以外は、実施測定例１と同様にして、測定試料ＦＬ−２を作製し、発光安定性を測定した。【０５８５】
上記式（１７）に従って、測定試料ＦＬ−１の発光のフォトン数と同数になる測定試料ＦＬ−２の発光輝度を算出すると、２６５２ｃｄ／ｍ２であった。【０５８６】
測定試料ＦＬ−２の発光輝度が２６５２ｃｄ／ｍ２となるように励起光源の励起光強度を調整した。なお、測定試料ＦＬ−２から観測された発光の発光スペクトルピークは４６７ｎｍであり、色度ＣＩＥ（ｘ，ｙ）は（０．１９５，０．３１１）であり、当該発光は金属錯体１に由来する発光であった。その後、調整した励起光強度を一定に保ったまま測定試料ＦＬ−２を連続的に発光させ、ＬＴ８５を測定した。測定の結果、ＬＴ８５は４６．２時間であった。【０５８７】
＜実施測定例３＞発光安定性の測定
金属錯体１の異性体３及び４の混合物に代えて、金属錯体１の異性体２を用いた以外は、実施測定例１と同様にして、測定試料ＦＬ−３を作製し、発光安定性を測定した。【０５８８】
上記式（１７）に従って、測定試料ＦＬ−１の発光のフォトン数と同数になる測定試料ＦＬ−３の発光輝度を算出すると、２６９５ｃｄ／ｍ２であった。【０５８９】
測定試料ＦＬ−３の発光輝度が２６９５ｃｄ／ｍ２となるように励起光源の励起光強度を調整した。なお、測定試料ＦＬ−３から観測された発光の発光スペクトルピークは４６７ｎｍであり、色度ＣＩＥ（ｘ，ｙ）は（０．１８４，０．３１８）であり、当該発光は金属錯体１に由来する発光であった。その後、調整した励起光強度を一定に保ったまま測定試料ＦＬ−３を連続的に発光させ、ＬＴ８５を測定した。測定の結果、ＬＴ８５は４０．６時間であった。【０５９０】
＜実施測定例４＞発光安定性の測定
金属錯体１の異性体３及び４の混合物に代えて、金属錯体２を用いた以外は、実施測定例１と同様にして、測定試料ＦＬ−４を作製し、発光安定性を測定した。【０５９１】
上記式（１７）に従って、測定試料ＦＬ−１の発光のフォトン数と同数になる測定試料ＦＬ−４の発光輝度を算出すると、３００７ｃｄ／ｍ２であった。【０５９２】
測定試料ＦＬ−４の発光輝度が３００７ｃｄ／ｍ２となるように励起光源の励起光強度を調整した。なお、測定試料ＦＬ−５から観測された発光の発光スペクトルピークは４７９ｎｍであり、色度ＣＩＥ（ｘ，ｙ）は、（０．１７３，０．４０２）であり、金属錯体２に由来する発光であった。その後、調整した励起光強度を一定に保ったまま測定試料ＦＬ−５を連続的に発光させ、ＬＴ８５を測定した。測定の結果、ＬＴ８５は８３．３時間であった。【０５９３】
＜実施測定例５＞発光安定性の測定
金属錯体１の異性体３及び４の混合物に代えて、金属錯体３を用いた以外は、実施測定例１と同様にして、測定試料ＦＬ−５を作製し、発光安定性を測定した。【０５９４】
上記式（１７）に従って、測定試料ＦＬ−１の発光のフォトン数と同数になる測定試料ＦＬ−５の発光輝度を算出すると、３２２５ｃｄ／ｍ２であった。【０５９５】
測定試料ＦＬ−５の発光輝度が３２２５ｃｄ／ｍ２となるように励起光源の励起光強度を調整した。なお、測定試料ＦＬ−６から観測された発光の発光スペクトルピークは４７７ｎｍであり、色度ＣＩＥ（ｘ，ｙ）は、（０．１８７，０．４２５）であり、金属錯体３に由来する発光であった。その後、調整した励起光強度を一定に保ったまま測定試料ＦＬ−５を連続的に発光させ、ＬＴ８５を測定した。測定の結果、ＬＴ８５は４５．８時間であった。【０５９６】
＜実施測定例６＞発光安定性の測定
金属錯体１の異性体３及び４の混合物に代えて、金属錯体４を用いた以外は、実施測定例１と同様にして、測定試料ＦＬ−６を作製し、発光安定性を測定した。【０５９７】
上記式（１７）に従って、測定試料ＦＬ−１の発光のフォトン数と同数になる測定試料ＦＬ−６の発光輝度を算出すると、３００４ｃｄ／ｍ２であった。【０５９８】
測定試料ＦＬ−６の発光輝度が３００４ｃｄ／ｍ２となるように励起光源の励起光強度を調整した。なお、測定試料ＦＬ−７から観測された発光の発光スペクトルピークは４７９ｎｍであり、色度ＣＩＥ（ｘ，ｙ）は、（０．１７０，０．４０４）であり、金属錯体４に由来する発光であった。その後、調整した励起光強度を一定に保ったまま測定試料ＦＬ−６を連続的に発光させ、ＬＴ８５を測定した。測定の結果、ＬＴ８５は６９．６時間であった。【０５９９】
＜実施測定例７＞発光安定性の測定
金属錯体１の異性体３及び４の混合物に代えて、金属錯体５を用いた以外は、実施測定例１と同様にして、測定試料ＦＬ−７を作製し、発光安定性を測定した。【０６００】
上記式（１７）に従って、測定試料ＦＬ−１の発光のフォトン数と同数になる測定試料ＦＬ−７の発光輝度を算出すると、２８９５ｃｄ／ｍ２であった。【０６０１】
測定試料ＦＬ−７の発光輝度が２８９５ｃｄ／ｍ２となるように励起光源の励起光強度を調整した。なお、測定試料ＦＬ−７から観測された発光の発光スペクトルピークは４７７ｎｍであり、色度ＣＩＥ（ｘ，ｙ）は、（０．１６８，０．３８０）であり、金属錯体５に由来する発光であった。その後、調整した励起光強度を一定に保ったまま測定試料ＦＬ−７を連続的に発光させ、ＬＴ８５を測定した。測定の結果、ＬＴ８５は５４．１時間であった。【０６０２】
＜実施測定例８＞発光安定性の測定
金属錯体１の異性体３及び４の混合物に代えて、金属錯体８を用いた以外は、実施測定例１と同様にして、測定試料ＦＬ−８を作製し、発光安定性を測定した。【０６０３】
上記式（１７）に従って、測定試料ＦＬ−１の発光のフォトン数と同数になる測定試料ＦＬ−８の発光輝度を算出すると、３０６３ｃｄ／ｍ２であった。【０６０４】
測定試料ＦＬ−８の発光輝度が３０６３ｃｄ／ｍ２となるように励起光源の励起光強度を調整した。なお、測定試料ＦＬ−８から観測された発光の発光スペクトルピークは４８０ｎｍであり、色度ＣＩＥ（ｘ，ｙ）は、（０．１７８，０．４１５）であり、金属錯体８に由来する発光であった。その後、調整した励起光強度を一定に保ったまま測定試料ＦＬ−８を連続的に発光させ、ＬＴ８５を測定した。測定の結果、ＬＴ８５は４４．９時間であった。【０６０５】
＜実施測定例９＞発光安定性の測定
金属錯体１の異性体３及び４の混合物に代えて、金属錯体９を用いた以外は、実施測定例１と同様にして、測定試料ＦＬ−９を作製し、発光安定性を測定した。【０６０６】
上記式（１７）に従って、測定試料ＦＬ−１の発光のフォトン数と同数になる測定試料ＦＬ−９の発光輝度を算出すると、３０８５ｃｄ／ｍ２であった。【０６０７】
測定試料ＦＬ−９の発光輝度が３０８５ｃｄ／ｍ２となるように励起光源の励起光強度を調整した。なお、測定試料ＦＬ−９から観測された発光の発光スペクトルピークは４８０ｎｍであり、色度ＣＩＥ（ｘ，ｙ）は、（０．１９７，０．４１２）であり、金属錯体９に由来する発光であった。その後、調整した励起光強度を一定に保ったまま測定試料ＦＬ−９を連続的に発光させ、ＬＴ８５を測定した。測定の結果、ＬＴ８５は９７．６時間であった。【０６０８】
＜実施測定例１０＞発光安定性の測定
金属錯体１の異性体３及び４の混合物に代えて、金属錯体１０を用いた以外は、実施測定例１と同様にして、測定試料ＦＬ−１０を作製し、発光安定性を測定した。【０６０９】
上記式（１７）に従って、測定試料ＦＬ−１の発光のフォトン数と同数になる測定試料ＦＬ−１０の発光輝度を算出すると、３５０３ｃｄ／ｍ２であった。【０６１０】
測定試料ＦＬ−１０の発光輝度が３５０３ｃｄ／ｍ２となるように励起光源の励起光強度を調整した。なお、測定試料ＦＬ−１０から観測された発光の発光スペクトルピークは４８５ｎｍであり、色度ＣＩＥ（ｘ，ｙ）は、（０．２１４，０．４７７）であり、金属錯体１０に由来する発光であった。その後、調整した励起光強度を一定に保ったまま測定試料ＦＬ−１０を連続的に発光させ、ＬＴ８５を測定した。測定の結果、ＬＴ８５は４４．１時間であった。【０６１１】
＜実施測定例１１＞発光安定性の測定
金属錯体１の異性体３及び４の混合物に代えて、金属錯体１１を用いた以外は、実施測定例１と同様にして、測定試料ＦＬ−１１を作製し、発光安定性を測定した。【０６１２】
上記式（１７）に従って、測定試料ＦＬ−１の発光のフォトン数と同数になる測定試料ＦＬ−１１の発光輝度を算出すると、２６４９ｃｄ／ｍ２であった。【０６１３】
測定試料ＦＬ−１１の発光輝度が２６４９ｃｄ／ｍ２となるように励起光源の励起光強度を調整した。なお、測定試料ＦＬ−１１から観測された発光の発光スペクトルピークは４６９ｎｍであり、色度ＣＩＥ（ｘ，ｙ）は、（０．１７３，０．３１７）であり、金属錯体１１に由来する発光であった。その後、調整した励起光強度を一定に保ったまま測定試料ＦＬ−１１を連続的に発光させ、ＬＴ８５を測定した。測定の結果、ＬＴ８５は４１．２時間であった。【０６１４】
＜実施測定例１２＞発光安定性の測定
金属錯体１の異性体３及び４の混合物に代えて、金属錯体１２を用いた以外は、実施測定例１と同様にして、測定試料ＦＬ−１２を作製し、発光安定性を測定した。【０６１５】
上記式（１７）に従って、測定試料ＦＬ−１の発光のフォトン数と同数になる測定試料ＦＬ−１２の発光輝度を算出すると、２６７９ｃｄ／ｍ２であった。【０６１６】
測定試料ＦＬ−１２の発光輝度が２６７９ｃｄ／ｍ２となるように励起光源の励起光強度を調整した。なお、測定試料ＦＬ−１２から観測された発光の発光スペクトルピークは４６９ｎｍであり、色度ＣＩＥ（ｘ，ｙ）は、（０．１７５，０．３１９）であり、金属錯体１２に由来する発光であった。その後、調整した励起光強度を一定に保ったまま測定試料ＦＬ−１２を連続的に発光させ、ＬＴ８５を測定した。測定の結果、ＬＴ８５は４５．６時間であった。【０６１７】
＜実施測定例１３＞発光安定性の測定
金属錯体１の異性体３及び４の混合物に代えて、金属錯体１３を用いたこと、並びに、化合物Ｈ−１１３に代えて、下記式（Ｈ−１０３）で表される化合物（以下、「化合物Ｈ−１０３」ともいう。）（Ｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ  Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ社製、ＬＴ−Ｅ１０７）を用いた以外は、実施測定例１と同様にして、測定試料ＦＬ−１３を作製し、発光安定性を測定した。【０６１８】
【化１４４】
2017170916.tif 000156
【０６１９】
上記式（１７）に従って、測定試料ＦＬ−１の発光のフォトン数と同数になる測定試料ＦＬ−１３の発光輝度を算出すると、１９４１ｃｄ／ｍ２であった。【０６２０】
測定試料ＦＬ−１３の発光輝度が１９４１ｃｄ／ｍ２となるように励起光源の励起光強度を調整した。なお、測定試料ＦＬ−１３から観測された発光の発光スペクトルピークは４５３ｎｍであり、色度ＣＩＥ（ｘ，ｙ）は、（０．１４９，０．１９６）であり、当該発光は金属錯体１３に由来する発光であった。その後、調整した励起光強度を一定に保ったまま測定試料ＦＬ−１３を連続的に発光させ、ＬＴ８５を測定した。測定の結果、ＬＴ８５は４４．５時間であった。【０６２１】
＜実施測定例１４＞発光安定性の測定
金属錯体１の異性体３及び４の混合物に代えて、金属錯体３を用いたこと、並びに、化合物Ｈ−１１３に代えて、化合物Ｈ−１０３を用いた以外は、実施測定例１と同様にして、測定試料ＦＬ−１４を作製し、発光安定性を測定した。【０６２２】
上記式（１７）に従って、測定試料ＦＬ−１の発光のフォトン数と同数になる測定試料ＦＬ−１４の発光輝度を算出すると、３１７８ｃｄ／ｍ２であった。【０６２３】
測定試料ＦＬ−１４の発光輝度が３１７８ｃｄ／ｍ２となるように励起光源の励起光強度を調整した。なお、測定試料ＦＬ−１４から観測された発光の発光スペクトルピークは４７７ｎｍであり、色度ＣＩＥ（ｘ，ｙ）は、（０．１８６，０．４１９）であり、当該発光は金属錯体３に由来する発光であった。その後、調整した励起光強度を一定に保ったまま測定試料ＦＬ−１４を連続的に発光させ、ＬＴ８５を測定した。測定の結果、ＬＴ８５は５３．５時間であった。【０６２４】
＜実施測定例１５＞発光安定性の測定
金属錯体１の異性体３及び４の混合物に代えて、金属錯体４を用いたこと、並びに、化合物Ｈ−１１３に代えて、化合物Ｈ−１０３を用いた以外は、実施測定例１と同様にして、測定試料ＦＬ−１５を作製し、発光安定性を測定した。【０６２５】
上記式（１７）に従って、測定試料ＦＬ−１の発光のフォトン数と同数になる測定試料ＦＬ−１５の発光輝度を算出すると、２９６５ｃｄ／ｍ２であった。【０６２６】
測定試料ＦＬ−１５の発光輝度が２９６５ｃｄ／ｍ２となるように励起光源の励起光強度を調整した。なお、測定試料ＦＬ−１５から観測された発光の発光スペクトルピークは４７９ｎｍであり、色度ＣＩＥ（ｘ，ｙ）は、（０．１６４，０．４００）であり、当該発光は金属錯体４に由来する発光であった。その後、調整した励起光強度を一定に保ったまま測定試料ＦＬ−１５を連続的に発光させ、ＬＴ８５を測定した。測定の結果、ＬＴ８５は１０３．７時間であった。【０６２７】
＜比較測定例１＞発光安定性の測定
金属錯体１の異性体３及び４の混合物に代えて、金属錯体６を用いた以外は、実施測定例１と同様にして、測定試料ＣＦＬ−１を作製し、発光安定性を測定した。【０６２８】
上記式（１７）に従って、測定試料ＦＬ−１の発光のフォトン数と同数になる測定試料ＣＦＬ−１の発光輝度を算出すると、２５９５ｃｄ／ｍ２であった。【０６２９】
測定試料ＣＦＬ−１の発光輝度が２５９５ｃｄ／ｍ２となるように励起光源の励起光強度を調整した。なお、測定試料ＣＦＬ−１から観測された発光の発光スペクトルピークは４６７ｎｍであり、色度ＣＩＥ（ｘ，ｙ）は（０．１６１，０．３０４）であり、当該発光は金属錯体６に由来する発光であった。その後、調整した励起光強度を一定に保ったまま測定試料ＣＦＬ−１を連続的に発光させ、ＬＴ８５を測定した。測定の結果、ＬＴ８５は１．９７時間であった。【０６３０】
＜比較測定例２＞発光安定性の測定
金属錯体１の異性体３及び４の混合物に代えて、金属錯体７を用いた以外は、実施測定例１と同様にして、測定試料ＣＦＬ−２を作製し、発光安定性を測定した。【０６３１】
上記式（１７）に従って、測定試料ＦＬ−１の発光のフォトン数と同数になる測定試料ＣＦＬ−２の発光輝度を算出すると、２６３１ｃｄ／ｍ２であった。【０６３２】
測定試料ＣＦＬ−２の発光輝度が上記よりも低輝度の、１１９５ｃｄ／ｍ２となるように励起光源の励起光強度を調整した。なお、測定試料ＣＦＬ−２から観測された発光の発光スペクトルピークは４７０ｎｍであり、色度ＣＩＥ（ｘ，ｙ）は（０．１６４，０．３２４）であり、当該発光は金属錯体７に由来する発光であった。その後、調整した励起光強度を一定に保ったまま測定試料ＣＦＬ−２を連続的に発光させ、ＬＴ８５を測定した。測定の結果、ＬＴ８５は１．１７時間であった。【０６３３】
上記のとおり、金属錯体６及び７と比較して、金属錯体１〜５及び８〜１２は発光安定性が優れる。また、金属錯体１３、３及び４は、発光安定性が同等に優れる。【０６３４】
【表２】
2017170916.tif 000157
【産業上の利用可能性】
【０６３５】
本発明によれば、発光安定性に優れる金属錯体を提供することができる。また、本発明によれば、該金属錯体を含有する組成物、膜及び発光素子を提供することができる。
【手続補正書】
【提出日】平成29年12月27日(2017.12.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式（１）で表される金属錯体。
【化１】
2017170916.tif 000165
［式中、
Ｘは窒素原子又は＝Ｃ（ＲＸ）−で表される基を表す。ＲＸは水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、１価の複素環基、置換アミノ基又はハロゲン原子を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。Ｘが複数存在する場合、それらは同一であっても異なっていてもよい。
Ｒ１は炭素原子数５以上のアルキル基を表し、該基は置換基を有していてもよい。Ｒ１が複数存在する場合、それらは同一であっても異なっていてもよい。
Ｒ２はアルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、１価の複素環基、置換アミノ基又はハロゲン原子を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。Ｒ２が複数存在する場合、それらは同一であっても異なっていてもよい。
環Ａ及び環Ｂは、それぞれ独立に、芳香族炭化水素環又は芳香族複素環を表し、これらの環は置換基を有していてもよい。該置換基が複数存在する場合、それらは同一であっても異なっていてもよく、互いに結合して、それぞれが結合する原子とともに環を形成していてもよい。環Ａ及び環Ｂが複数存在する場合、それらはそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。
Ｍはロジウム原子、パラジウム原子、イリジウム原子又は白金原子を表す。
ｎ１は１以上の整数を表し、ｎ２は０以上の整数を表し、ｎ１＋ｎ２は２又は３である。
Ｍがロジウム原子又はイリジウム原子の場合、ｎ１＋ｎ２は３であり、Ｍがパラジウム原子又は白金原子の場合、ｎ１＋ｎ２は２である。
Ａ１−Ｇ１−Ａ２は、アニオン性の２座配位子を表す。Ａ１及びＡ２は、それぞれ独立に、炭素原子、酸素原子又は窒素原子を表し、これらの原子は環を構成する原子であってもよい。Ｇ１は、単結合、又は、Ａ１及びＡ２とともに２座配位子を構成する原子団を表す。Ａ１−Ｇ１−Ａ２が複数存在する場合、それらは同一であっても異なっていてもよい。］
【請求項２】
環Ｂが、ベンゼン環、フルオレン環、ジベンゾフラン環又はジベンゾチオフェン環である、請求項１に記載の金属錯体。
【請求項３】
式（１ａ）で表される、請求項２に記載の金属錯体。
【化２】
2017170916.tif 000166
［式中、
Ｍ、ｎ１、ｎ２、Ｒ１、Ｒ２、環Ａ、Ｘ及びＡ１−Ｇ１−Ａ２は、前記と同じ意味を表す。
Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、１価の複素環基、置換アミノ基又はハロゲン原子を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。
Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６が複数存在する場合、それらはそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。Ｒ３とＲ４、Ｒ４とＲ５、及び、Ｒ５とＲ６は、それぞれ結合して、それぞれが結合する炭素原子とともに環を形成していてもよい。］
【請求項４】
式（１ｂ）で表される、請求項３に記載の金属錯体。
【化３】
2017170916.tif 000167
［式中、
Ｍ、ｎ１、ｎ２、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｘ及びＡ１−Ｇ１−Ａ２は、前記と同じ意味を表す。
Ｒ７、Ｒ８及びＲ９は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、１価の複素環基、置換アミノ基又はハロゲン原子を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。Ｒ７、Ｒ８及びＲ９が複数存在する場合、それらはそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。Ｒ７とＲ８、Ｒ８とＲ９は、それぞれが結合して、それぞれが結合する炭素原子とともに環を形成していてもよい。］
【請求項５】
少なくとも一つのＲ１が、式（２）で表される基である、請求項１〜４のいずれか一項に記載の金属錯体。
【化４】
2017170916.tif 000168
［式中、
Ｒ１１はアルキル基を表し、該基は置換基を有していてもよい。Ｒ１１が複数存在する場合、それらは同一であっても異なっていてもよい。
Ｒ１２はシクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、１価の複素環基、置換アミノ基又はハロゲン原子を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。Ｒ１２が複数存在する場合、それらは同一であっても異なっていてもよい。
ｎ３は１〜３の整数を表し、ｎ４は０〜２の整数を表し、ｎ５は０又は１を表し、ｎ３＋ｎ４＋ｎ５は３である。］
【請求項６】
ｎ５が０である、請求項５に記載の金属錯体。
【請求項７】
ｎ４が０である、請求項５又は６に記載の金属錯体。
【請求項８】
Ｒ２が置換基を有していてもよいアルキル基である、請求項１〜７のいずれか一項に記載の金属錯体。
【請求項９】
Ｍが白金原子又はイリジウム原子である、請求項１〜８のいずれか一項に記載の金属錯体。
【請求項１０】
ｎ２が０である、請求項１〜９のいずれか一項に記載の金属錯体。
【請求項１１】
Ｘが窒素原子である、請求項１〜１０のいずれか一項に記載の金属錯体。
【請求項１２】
請求項１〜１１のいずれか一項に記載の金属錯体と、
式（Ｈ−１）で表される化合物及び式（Ｙ）で表される構成単位を含む高分子化合物からなる群より選択される少なくとも一種と、
を含有する、組成物。
【化５】
2017170916.tif 000169
［式中、
ＡｒＨ１及びＡｒＨ２は、それぞれ独立に、アリール基又は１価の複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。
ｎＨ１及びｎＨ２は、それぞれ独立に、０又は１を表す。ｎＨ１が複数存在する場合、それらは同一であっても異なっていてもよい。複数存在するｎＨ２は、同一であっても異なっていてもよい。
ｎＨ３は、０以上の整数を表す。
ＬＨ１は、アリーレン基、２価の複素環基、又は、−［Ｃ（ＲＨ１１）２］ｎＨ１１−で表される基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。ＬＨ１が複数存在する場合、それらは同一であっても異なっていてもよい。
ｎＨ１１は、１以上１０以下の整数を表す。ＲＨ１１は、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基又は１価の複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。複数存在するＲＨ１１は、同一であっても異なっていてもよく、互いに結合して、それぞれが結合する炭素原子とともに環を形成していてもよい。
ＬＨ２は、−Ｎ（−ＬＨ２１−ＲＨ２１）−で表される基を表す。ＬＨ２が複数存在する場合、それらは同一であっても異なっていてもよい。
ＬＨ２１は、単結合、アリーレン基又は２価の複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。ＲＨ２１は、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基又は１価の複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。］
【化６】
2017170916.tif 000170
［式中、ＡｒＹ１はアリーレン基、２価の複素環基、又は、少なくとも１種のアリーレン基と少なくとも１種の２価の複素環基とが直接結合した２価の基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。］
【請求項１３】
請求項１〜１１のいずれか一項に記載の金属錯体と、
正孔輸送材料、正孔注入材料、電子輸送材料、電子注入材料、発光材料、酸化防止剤及び溶媒からなる群より選ばれる少なくとも１種の材料と、
を含有する、組成物。
【請求項１４】
請求項１〜１１のいずれか一項に記載の金属錯体を含有する、膜。
【請求項１５】
請求項１〜１１のいずれか一項に記載の金属錯体を含有する、発光素子。
【手続補正書】
【提出日】平成30年4月6日(2018.4.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式（１）で表される金属錯体。
【化１】
2017170916.tif 000171
［式中、
Ｘは窒素原子又は＝Ｃ（ＲＸ）−で表される基を表す。ＲＸは水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、１価の複素環基、置換アミノ基又はハロゲン原子を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。Ｘが複数存在する場合、それらは同一であっても異なっていてもよい。
Ｒ１は炭素原子数５以上のアルキル基を表し、該基は置換基を有していてもよい。Ｒ１が複数存在する場合、それらは同一であっても異なっていてもよい。
Ｒ２はアルキル基、シクロアルキル基又はアリール基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。Ｒ２が複数存在する場合、それらは同一であっても異なっていてもよい。
環Ａ及び環Ｂは、それぞれ独立に、芳香族炭化水素環又は芳香族複素環を表し、これらの環は置換基を有していてもよい。該置換基が複数存在する場合、それらは同一であっても異なっていてもよく、互いに結合して、それぞれが結合する原子とともに環を形成していてもよい。環Ａ及び環Ｂが複数存在する場合、それらはそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。但し、環Ｂは、Ｍと直接結合している環が６員の芳香族炭化水素環である。
Ｍはロジウム原子、パラジウム原子、イリジウム原子又は白金原子を表す。
ｎ１は１以上の整数を表し、ｎ２は０以上の整数を表し、ｎ１＋ｎ２は２又は３である。
Ｍがロジウム原子又はイリジウム原子の場合、ｎ１＋ｎ２は３であり、Ｍがパラジウム原子又は白金原子の場合、ｎ１＋ｎ２は２である。
Ａ１−Ｇ１−Ａ２は、アニオン性の２座配位子を表す。Ａ１及びＡ２は、それぞれ独立に、炭素原子、酸素原子又は窒素原子を表し、これらの原子は環を構成する原子であってもよい。Ｇ１は、単結合、又は、Ａ１及びＡ２とともに２座配位子を構成する原子団を表す。Ａ１−Ｇ１−Ａ２が複数存在する場合、それらは同一であっても異なっていてもよい。］
【請求項２】
環Ｂが、ベンゼン環、フルオレン環、ジベンゾフラン環又はジベンゾチオフェン環である、請求項１に記載の金属錯体。
【請求項３】
式（１ａ）で表される、請求項２に記載の金属錯体。
【化２】
2017170916.tif 000172
［式中、
Ｍ、ｎ１、ｎ２、Ｒ１、Ｒ２、環Ａ、Ｘ及びＡ１−Ｇ１−Ａ２は、前記と同じ意味を表す。
Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、１価の複素環基、置換アミノ基又はハロゲン原子を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。
Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６が複数存在する場合、それらはそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。Ｒ３とＲ４、Ｒ４とＲ５、及び、Ｒ５とＲ６は、それぞれ結合して、それぞれが結合する炭素原子とともに環を形成していてもよい。］
【請求項４】
式（１ｂ）で表される、請求項３に記載の金属錯体。
【化３】
2017170916.tif 000173
［式中、
Ｍ、ｎ１、ｎ２、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｘ及びＡ１−Ｇ１−Ａ２は、前記と同じ意味を表す。
Ｒ７、Ｒ８及びＲ９は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、１価の複素環基、置換アミノ基又はハロゲン原子を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。Ｒ７、Ｒ８及びＲ９が複数存在する場合、それらはそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。Ｒ７とＲ８、Ｒ８とＲ９は、それぞれが結合して、それぞれが結合する炭素原子とともに環を形成していてもよい。］
【請求項５】
少なくとも一つのＲ１が、式（２）で表される基である、請求項１〜４のいずれか一項に記載の金属錯体。
【化４】
2017170916.tif 000174
［式中、
Ｒ１１はアルキル基を表し、該基は置換基を有していてもよい。Ｒ１１が複数存在する場合、それらは同一であっても異なっていてもよい。
Ｒ１２はシクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、１価の複素環基、置換アミノ基又はハロゲン原子を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。Ｒ１２が複数存在する場合、それらは同一であっても異なっていてもよい。
ｎ３は１〜３の整数を表し、ｎ４は０〜２の整数を表し、ｎ５は０又は１を表し、ｎ３＋ｎ４＋ｎ５は３である。］
【請求項６】
ｎ５が０である、請求項５に記載の金属錯体。
【請求項７】
ｎ４が０である、請求項５又は６に記載の金属錯体。
【請求項８】
Ｒ２が置換基を有していてもよいアルキル基である、請求項１〜７のいずれか一項に記載の金属錯体。
【請求項９】
Ｍが白金原子又はイリジウム原子である、請求項１〜８のいずれか一項に記載の金属錯体。
【請求項１０】
ｎ２が０である、請求項１〜９のいずれか一項に記載の金属錯体。
【請求項１１】
Ｘが窒素原子である、請求項１〜１０のいずれか一項に記載の金属錯体。
【請求項１２】
請求項１〜１１のいずれか一項に記載の金属錯体と、
式（Ｈ−１）で表される化合物及び式（Ｙ）で表される構成単位を含む高分子化合物からなる群より選択される少なくとも一種と、
を含有する、組成物。
【化５】
2017170916.tif 000175
［式中、
ＡｒＨ１及びＡｒＨ２は、それぞれ独立に、アリール基又は１価の複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。
ｎＨ１及びｎＨ２は、それぞれ独立に、０又は１を表す。ｎＨ１が複数存在する場合、それらは同一であっても異なっていてもよい。複数存在するｎＨ２は、同一であっても異なっていてもよい。
ｎＨ３は、０以上の整数を表す。
ＬＨ１は、アリーレン基、２価の複素環基、又は、−［Ｃ（ＲＨ１１）２］ｎＨ１１−で表される基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。ＬＨ１が複数存在する場合、それらは同一であっても異なっていてもよい。
ｎＨ１１は、１以上１０以下の整数を表す。ＲＨ１１は、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基又は１価の複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。複数存在するＲＨ１１は、同一であっても異なっていてもよく、互いに結合して、それぞれが結合する炭素原子とともに環を形成していてもよい。
ＬＨ２は、−Ｎ（−ＬＨ２１−ＲＨ２１）−で表される基を表す。ＬＨ２が複数存在する場合、それらは同一であっても異なっていてもよい。
ＬＨ２１は、単結合、アリーレン基又は２価の複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。ＲＨ２１は、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基又は１価の複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。］
【化６】
2017170916.tif 000176
［式中、ＡｒＹ１はアリーレン基、２価の複素環基、又は、少なくとも１種のアリーレン基と少なくとも１種の２価の複素環基とが直接結合した２価の基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。］
【請求項１３】
請求項１〜１１のいずれか一項に記載の金属錯体と、
正孔輸送材料、正孔注入材料、電子輸送材料、電子注入材料、発光材料、酸化防止剤及び溶媒からなる群より選ばれる少なくとも１種の材料と、
を含有する、組成物。
【請求項１４】
請求項１〜１１のいずれか一項に記載の金属錯体を含有する、膜。
【請求項１５】
請求項１〜１１のいずれか一項に記載の金属錯体を含有する、発光素子。
【国際調査報告】
2017170916.tif 000177
2017170916.tif 000178
2017170916.tif 000179
2017170916.tif 000180