(57)【要約】  本発明の課題は、耐久性に優れた光学異方性層を有する光学フィルム、それを用いた偏光板および画像表示装置ならびにそれに用いられる重合性化合物および１，４−シクロヘキサンジカルボン酸モノアリールエステルの製造方法を提供することである。本発明の光学フィルムは、少なくとも光学異方性層を有する光学フィルムであって、光学異方性層が、特定の構造を有する重合性化合物と、所定の構造を有する液晶性化合物と、重合開始剤と、を含有する重合性液晶組成物を重合して得られる層である、光学フィルムである。
2017090644.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも光学異方性層を有する光学フィルムであって、
前記光学異方性層が、下記式（Ｉ）で表される重合性化合物と、下記式（ＩＩ）で表され、かつ、下記式（Ｉ）に該当しない液晶性化合物と、重合開始剤と、を含有する重合性液晶組成物を重合して得られる層である、光学フィルム。
【化１】
2017090644.tif 000053
ここで、前記式（Ｉ）中、ｍおよびｎは、それぞれ独立に、０〜２の整数を表す。ただし、ｍ＋ｎは２〜４の整数を表す。
また、Ｚ1およびＺ2は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよいトランス−１，４−シクロヘキシレン基、置換基を有していてもよいアリーレン基または置換基を有していてもよいヘテロアリーレン基を表し、ｍが２である場合の複数のＺ1は、それぞれ同一であっても異なっていてもよく、ｎが２である場合の複数のＺ2は、それぞれ同一であっても異なっていてもよい。ただし、Ｚ1およびＺ2の少なくとも１つは、置換基を有していてもよいアリーレン基または置換基を有していてもよいヘテロアリーレン基を表す。
また、Ｌ1、Ｌ2、Ｌ3およびＬ4は、それぞれ独立に、単結合、−Ｏ−、−ＣＨ2Ｏ−、−ＯＣＨ2−、−（ＣＨ2）2ＯＣ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ（ＣＨ2）2−、−ＮＨ−、−Ｎ（ＣＨ3）−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｒ3）−、−Ｎ（Ｒ3）Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｓ−、−ＳＣ（＝Ｏ）−、−ＣＨ2Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）ＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝Ｎ−、−Ｎ＝ＣＨ−、および、−Ｎ＝Ｎ−からなる群から選択されるいずれか連結基を表し、Ｒ3は、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、または、炭素数６〜２０のアリール基を表す。ｍが２である場合の複数のＬ1は、それぞれ同一であっても異なっていてもよく、ｎが２である場合の複数のＬ4は、それぞれ同一であっても異なっていてもよい。
また、Ｓｐ1およびＳｐ2は、それぞれ独立に、単結合、炭素数１〜２０の直鎖状もしくは分岐鎖状のアルキレン基、および、炭素数１〜２０の直鎖状もしくは分岐鎖状のアルキレン基を構成する−ＣＨ2−の１個以上が−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−Ｎ（ＣＨ3）−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＯＣ（＝Ｏ）−または−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−で置換された基、からなる群から選択されるいずれか連結基を表す。
また、Ｒ1およびＲ2は、それぞれ独立に、下記式（Ｒ−１）〜（Ｒ−５）で表される基からなる群から選択されるいずれかの重合性基を表す。
また、Ａｒ1は、下記式（Ａｒ−１）〜（Ａｒ−４）で表される基からなる群から選択されるいずれかの芳香環を表す。
【化２】
2017090644.tif 000054
2017090644.tif 000055
ここで、前記式（Ｒ−１）〜（Ｒ−５）中、＊はＳｐ1またはＳｐ2との結合位置を表す。
また、前記式（Ａｒ−１）〜（Ａｒ−４）中、Ｘ1、Ｘ2、Ｘ3およびＸ4は、それぞれ独立に、炭素数１〜２０の１価の脂肪族炭化水素基、炭素数３〜２０の１価の脂環式炭化水素基、炭素数６〜２０の１価の芳香族炭化水素基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、−ＣＯ2Ｒ4、−ＮＲ5Ｒ6またはＳＲ5を表し、Ｒ4、Ｒ5およびＲ6は、それぞれ独立に、水素原子または炭素数１〜６のアルキル基を表し、＊１はＬ2との結合位置を表し、＊２はＬ3との結合位置を表す。
【化３】
2017090644.tif 000056
ここで、前記式（ＩＩ）中、Ａｒ2は、ｓ価の芳香族基を表す。
また、Ｌ5は、単結合、−ＣＯＯ−、または、−ＯＣＯ−を表し、Ａは、炭素数６以上の芳香環、または、炭素数６以上のシクロアルキレン環を表す。
また、Ｓｐ3は、単結合、炭素数１〜１２の直鎖状もしくは分岐状のアルキレン基、または、炭素数１〜１２の直鎖状もしくは分岐状のアルキレン基を構成する−ＣＨ2−の１個以上が−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−Ｎ（Ｑ）−、もしくは、−ＣＯ−に置換された２価の連結基を表し、Ｑは、重合性基を表す。
ｒは、０〜２の整数を表し、ｓは、１または２の整数を表し、ｒまたはｓの数によって複数となるＬ5、Ａ、Ｓｐ3およびＱは、いずれも、互いに同一であっても異なっていてもよい。
【請求項２】
前記光学異方性層が、下記式（１）を満たす、請求項１に記載の光学フィルム。
０．７５＜Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）＜１．００  ・・・（１）
ここで、式（１）中、Ｒｅ（４５０）は、前記光学異方性層の波長４５０ｎｍにおける面内レターデーションを表し、Ｒｅ（５５０）は、前記光学異方性層の波長５５０ｎｍにおける面内レターデーションを表す。
【請求項３】
前記液晶性化合物が、逆波長分散性を示す液晶性化合物である、請求項１または２に記載の光学フィルム。
【請求項４】
前記式（Ｉ）中のｍおよびｎが、いずれも１である、請求項１〜３のいずれか１項に記載の光学フィルム。
【請求項５】
前記式（Ｉ）中のＺ1およびＺ2が、いずれも置換基を有していてもよいアリーレン基である、請求項１〜４のいずれか１項に記載の光学フィルム。
【請求項６】
前記式（Ｉ）中のＬ1、Ｌ2、Ｌ3およびＬ4が、いずれも−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−または−ＯＣ（＝Ｏ）−である、請求項１〜５のいずれか１項に記載の光学フィルム。
【請求項７】
前記式（Ｉ）中のＳｐ1およびＳｐ2が、炭素数５〜１５の直鎖状もしくは分岐鎖状のアルキレン基を構成する−ＣＨ2−の１個以上が−Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）−または−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−で置換された基から選択される連結基である、請求項１〜６のいずれか１項に記載の光学フィルム。
【請求項８】
前記式（Ｉ）中のＲ1およびＲ2が、前記式（Ｒ−１）で表されるアクリロイル基、または、前記式（Ｒ−１）で表されるメタクリロイル基である、請求項１〜７のいずれか１項に記載の光学フィルム。
【請求項９】
前記式（Ｉ）中のＡｒ1が、前記式（Ａｒ−３）で表される芳香環である、請求項１〜８のいずれか１項に記載の光学フィルム。
【請求項１０】
前記重合開始剤が、オキシム型の重合開始剤である、請求項１〜９のいずれか１項に記載の光学フィルム。
【請求項１１】
請求項１〜１０のいずれか１項に記載の光学フィルムと、偏光子とを有する、偏光板。
【請求項１２】
請求項１〜１０のいずれか１項に記載の光学フィルム、または、請求項１１に記載の偏光板を有する、画像表示装置。
【請求項１３】
下記式（Ｉ）で表される重合性化合物。
【化４】
2017090644.tif 000057
ここで、前記式（Ｉ）中、ｍおよびｎは、それぞれ独立に、０〜２の整数を表す。ただし、ｍ＋ｎは２〜４の整数を表す。
また、Ｚ1およびＺ2は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよいトランス−１，４−シクロヘキシレン基、置換基を有していてもよいアリーレン基または置換基を有していてもよいヘテロアリーレン基を表し、ｍが２である場合の複数のＺ1は、それぞれ同一であっても異なっていてもよく、ｎが２である場合の複数のＺ2は、それぞれ同一であっても異なっていてもよい。ただし、Ｚ1およびＺ2の少なくとも１つは、置換基を有していてもよいアリーレン基または置換基を有していてもよいヘテロアリーレン基を表す。
また、Ｌ1、Ｌ2、Ｌ3およびＬ4は、それぞれ独立に、単結合、−Ｏ−、−ＣＨ2Ｏ−、−ＯＣＨ2−、−（ＣＨ2）2ＯＣ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ（ＣＨ2）2−、−ＮＨ−、−Ｎ（ＣＨ3）−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｒ3）−、−Ｎ（Ｒ3）Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｓ−、−ＳＣ（＝Ｏ）−、−ＣＨ2Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）ＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝Ｎ−、−Ｎ＝ＣＨ−、および、−Ｎ＝Ｎ−からなる群から選択されるいずれか連結基を表し、Ｒ3は、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、または、炭素数６〜２０のアリール基を表す。ｍが２である場合の複数のＬ1は、それぞれ同一であっても異なっていてもよく、ｎが２である場合の複数のＬ4は、それぞれ同一であっても異なっていてもよい。
また、Ｓｐ1およびＳｐ2は、それぞれ独立に、単結合、炭素数１〜２０の直鎖状もしくは分岐鎖状のアルキレン基、および、炭素数１〜２０の直鎖状もしくは分岐鎖状のアルキレン基を構成する−ＣＨ2−の１個以上が−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−Ｎ（ＣＨ3）−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＯＣ（＝Ｏ）−または−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−で置換された基、からなる群から選択されるいずれか連結基を表す。
また、Ｒ1およびＲ2は、それぞれ独立に、下記式（Ｒ−１）〜（Ｒ−５）で表される基からなる群から選択されるいずれかの重合性基を表す。
また、Ａｒ1は、下記式（Ａｒ−１）〜（Ａｒ−４）で表される基からなる群から選択されるいずれかの芳香環を表す。
【化５】
2017090644.tif 000058
2017090644.tif 000059
ここで、前記式（Ｒ−１）〜（Ｒ−５）中、＊はＳｐ1またはＳｐ2との結合位置を表す。
また、前記式（Ａｒ−１）〜（Ａｒ−４）中、Ｘ1、Ｘ2、Ｘ3およびＸ4は、それぞれ独立に、炭素数１〜２０の１価の脂肪族炭化水素基、炭素数３〜２０の１価の脂環式炭化水素基、炭素数６〜２０の１価の芳香族炭化水素基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、−ＣＯ2Ｒ4、−ＮＲ5Ｒ6またはＳＲ5を表し、Ｒ4、Ｒ5およびＲ6は、それぞれ独立に、水素原子または炭素数１〜６のアルキル基を表し、＊１はＬ2との結合位置を表し、＊２はＬ3との結合位置を表す。
【請求項１４】
前記式（Ｉ）中のｍおよびｎが、いずれも１である、請求項１３に記載の重合性化合物。
【請求項１５】
前記式（Ｉ）中のＺ1およびＺ2が、いずれも置換基を有していてもよいアリーレン基である、請求項１３または１４に記載の重合性化合物。
【請求項１６】
前記式（Ｉ）中のＬ1、Ｌ2、Ｌ3およびＬ4が、いずれも−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−または−ＯＣ（＝Ｏ）−である、請求項１３〜１５のいずれか１項に記載の重合性化合物。
【請求項１７】
前記式（Ｉ）中のＳｐ1およびＳｐ2が、炭素数５〜１５の直鎖状もしくは分岐鎖状のアルキレン基を構成する−ＣＨ2−の１個以上が−Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）−または−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−で置換された基から選択される連結基である、請求項１３〜１６のいずれか１項に記載の重合性化合物。
【請求項１８】
前記式（Ｉ）中のＲ1およびＲ2が、前記式（Ｒ−１）で表されるアクリロイル基、または、前記式（Ｒ−１）で表されるメタクリロイル基である、請求項１３〜１７のいずれか１項に記載の重合性化合物。
【請求項１９】
前記式（Ｉ）中のＡｒ1が、前記式（Ａｒ−３）で表される芳香環である、請求項１３〜１８のいずれか１項に記載の重合性化合物。
【請求項２０】
１，４−シクロヘキサンジカルボン酸ジクロライドとフェノール系化合物とを、フェノール系化合物のモル当量に対する１，４−シクロヘキサンジカルボン酸ジクロライドのモル当量の比率を１．５以上１０以下とし、共役酸の酸解離定数ｐＫａが７以上３０以下となる塩基の存在下で反応させる反応工程と、
前記反応工程で得られる反応生成物を加水分解することにより、下記式（Ｉａ）または（ＩＩａ）で表される１，４−シクロヘキサンジカルボン酸モノアリールエステルを得る加水分解工程と、を有する１，４−シクロヘキサンジカルボン酸モノアリールエステルの製造方法。
【化６】
2017090644.tif 000060
ここで、前記式（Ｉａ）中、ｇは、０〜１の整数を表す。
また、Ｘ5は、置換基を表し、ｋは、０〜４の整数を表す。ｋが２〜４の整数である場合、複数のＸ5は、それぞれ同一であっても異なっていてもよい。
また、Ｚ1は、置換基を有していてもよいトランス−１，４−シクロヘキシレン基、置換基を有していてもよいアリーレン基または置換基を有していてもよいヘテロアリーレン基を表す。
また、Ｌ1は、単結合、−Ｏ−、−ＣＨ2Ｏ−、−ＯＣＨ2−、−（ＣＨ2）2ＯＣ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ（ＣＨ2）2−、−ＮＨ−、−Ｎ（ＣＨ3）−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｒ3）−、−Ｎ（Ｒ3）Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｓ−、−ＳＣ（＝Ｏ）−、−ＣＨ2Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）ＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝Ｎ−、−Ｎ＝ＣＨ−、および、−Ｎ＝Ｎ−からなる群から選択されるいずれか連結基を表し、Ｒ3は、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、または、炭素数６〜２０のアリール基を表す。
また、Ｓｐ1は、単結合、炭素数１〜２０の直鎖状もしくは分岐鎖状のアルキレン基、および、炭素数１〜２０の直鎖状もしくは分岐鎖状のアルキレン基を構成する−ＣＨ2−の１個以上が−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−Ｎ（ＣＨ3）−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＯＣ（＝Ｏ）−または−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−で置換された基、からなる群から選択されるいずれか連結基を表す。
また、Ｒ1は、下記式（Ｒ−１）〜（Ｒ−５）で表される基からなる群から選択されるいずれかの重合性基を表す。下記式（Ｒ−１）〜（Ｒ−５）中、＊はＳｐ1との結合位置を表す。
【化７】
2017090644.tif 000061
ここで、前記式（ＩＩａ）中、ｈは、０〜１の整数を表す。
また、Ｘ6は、置換基を表し、ｐは、０〜４の整数を表す。ｐが２〜４の整数である場合、複数のＸ6は、それぞれ同一であっても異なっていてもよい。
また、Ｌ5は、単結合、−ＣＯＯ−、または、−ＯＣＯ−を表し、Ａは、炭素数６以上の芳香環、または、炭素数６以上のシクロアルキレン環を表す。
また、Ｓｐ3は、単結合、炭素数１〜１２の直鎖状もしくは分岐状のアルキレン基、または、炭素数１〜１２の直鎖状もしくは分岐状のアルキレン基を構成する−ＣＨ2−の１個以上が−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−Ｎ（Ｑ）−、もしくは、−ＣＯ−に置換された２価の連結基を表し、Ｑは、重合性基を表す。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学フィルム、偏光板、画像表示装置および重合性化合物に関する。
【背景技術】
【０００２】
光学補償シートや位相差フィルムなどの光学フィルムは、画像着色解消や視野角拡大のために、様々な画像表示装置で用いられている。
光学フィルムとしては延伸複屈折フィルムが使用されていたが、近年、延伸複屈折フィルムに代えて、液晶性化合物からなる光学異方性層を有する光学フィルムを使用することが提案されている。【０００３】
このような光学フィルムとして、所定の重合性化合物および重合開始剤を含有する組成物を用いて形成される光学フィルムが知られている（例えば、特許文献１〜３参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０１０−２７０１０８号公報
【特許文献２】特開２０１２−０７７０５５号公報
【特許文献３】国際公開第２０１４／０１０３２５号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明者らは、特許文献１〜３に記載された光学フィルムについて検討したところ、使用する重合性液晶化合物や重合開始剤の種類、硬化温度などの重合条件によっては、形成された光学異方性層が高温高湿下に晒された場合において、複屈折率が変化してしまうという耐久性の問題があることを明らかとした。【０００６】
そこで、本発明は、耐久性に優れた光学異方性層を有する光学フィルム、それを用いた偏光板および画像表示装置ならびにそれに用いられる重合性化合物および１，４−シクロヘキサンジカルボン酸モノアリールエステルの製造方法を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明者らは、上記課題を達成すべく鋭意検討した結果、シクロヘキサン環を有する所定の液晶性化合物とともに、シクロヘキサン環を有する特定の重合性化合物を併用することにより、形成される光学異方性層の耐久性が良好となることを見出し、本発明を完成させた。
すなわち、以下の構成により上記課題を達成することができることを見出した。【０００８】
［１］  少なくとも光学異方性層を有する光学フィルムであって、
光学異方性層が、後述する式（Ｉ）で表される重合性化合物と、後述する式（ＩＩ）で表され、かつ、後述する式（Ｉ）に該当しない液晶性化合物と、重合開始剤と、を含有する重合性液晶組成物を重合して得られる層である、光学フィルム。
［２］  光学異方性層が、下記式（１）を満たす、［１］に記載の光学フィルム。
０．７５＜Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）＜１．００  ・・・（１）
ここで、式（１）中、Ｒｅ（４５０）は、光学異方性層の波長４５０ｎｍにおける面内レターデーションを表し、Ｒｅ（５５０）は、光学異方性層の波長５５０ｎｍにおける面内レターデーションを表す。
［３］  液晶性化合物が、逆波長分散性を示す液晶性化合物である、［１］または［２］に記載の光学フィルム。
［４］  後述する式（Ｉ）中のｍおよびｎが、いずれも１である、［１］〜［３］のいずれかに記載の光学フィルム。
［５］  後述する式（Ｉ）中のＺ1およびＺ2が、いずれも置換基を有していてもよいアリーレン基である、［１］〜［４］のいずれかに記載の光学フィルム。
［６］  後述する式（Ｉ）中のＬ1、Ｌ2、Ｌ3およびＬ4が、いずれも−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−または−ＯＣ（＝Ｏ）−である、［１］〜［５］のいずれかに記載の光学フィルム。
［７］  後述する式（Ｉ）中のＳｐ1およびＳｐ2が、炭素数５〜１５の直鎖状もしくは分岐鎖状のアルキレン基を構成する−ＣＨ2−の１個以上が−Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）−または−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−で置換された基から選択される連結基である、［１］〜［６］のいずれかに記載の光学フィルム。
［８］  後述する式（Ｉ）中のＲ1およびＲ2が、式（Ｒ−１）で表されるアクリロイル基、または、式（Ｒ−１）で表されるメタクリロイル基である、［１］〜［７］のいずれかに記載の光学フィルム。
［９］  後述する式（Ｉ）中のＡｒ1が、式（Ａｒ−３）で表される芳香環である、［１］〜［８］のいずれかに記載の光学フィルム。
［１０］  重合開始剤が、オキシム型の重合開始剤である、［１］〜［９］のいずれかに記載の光学フィルム。
［１１］  ［１］〜［１０］のいずれかに記載の光学フィルムと、偏光子とを有する、偏光板。
［１２］  ［１］〜［１０］のいずれかに記載の光学フィルム、または、［１１］に記載の偏光板を有する、画像表示装置。【０００９】
［１３］  後述する式（Ｉ）で表される重合性化合物。
［１４］  後述する式（Ｉ）中のｍおよびｎが、いずれも１である、［１３］に記載の重合性化合物。
［１５］  後述する式（Ｉ）中のＺ1およびＺ2が、いずれも置換基を有していてもよいアリーレン基である、［１３］または［１４］に記載の重合性化合物。
［１６］  後述する式（Ｉ）中のＬ1、Ｌ2、Ｌ3およびＬ4が、いずれも−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−または−ＯＣ（＝Ｏ）−である、［１３］〜［１５］のいずれかに記載の重合性化合物。
［１７］  後述する式（Ｉ）中のＳｐ1およびＳｐ2が、炭素数５〜１５の直鎖状もしくは分岐鎖状のアルキレン基を構成する−ＣＨ2−の１個以上が−Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）−または−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−で置換された基から選択される連結基である、［１３］〜［１６］のいずれかに記載の重合性化合物。
［１８］  後述する式（Ｉ）中のＲ1およびＲ2が、式（Ｒ−１）で表されるアクリロイル基、または、式（Ｒ−１）で表されるメタクリロイル基である、［１３］〜［１７］のいずれかに記載の重合性化合物。
［１９］  後述する式（Ｉ）中のＡｒ1が、式（Ａｒ−３）で表される芳香環である、［１３］〜［１８］のいずれかに記載の重合性化合物。【００１０】
［２０］  １，４−シクロヘキサンジカルボン酸ジクロライドとフェノール系化合物とを、フェノール系化合物のモル当量に対する１，４−シクロヘキサンジカルボン酸ジクロライドのモル当量の比率を１．５以上１０以下とし、共役酸の酸解離定数ｐＫａが７以上３０以下となる塩基の存在下で反応させる反応工程と、
反応工程で得られる反応生成物を加水分解することにより、後述する式（Ｉａ）または（ＩＩａ）で表される１，４−シクロヘキサンジカルボン酸モノアリールエステルを得る加水分解工程と、を有する１，４−シクロヘキサンジカルボン酸モノアリールエステルの製造方法。
【発明の効果】
【００１１】
本発明によれば、耐久性に優れた光学異方性層を有する光学フィルム、それを用いた偏光板および画像表示装置ならびにそれに用いられる重合性化合物および１，４−シクロヘキサンジカルボン酸モノアリールエステルの製造方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１Ａ】図１Ａは、本発明の光学フィルムの一例を示す模式的な断面図である。
【図１Ｂ】図１Ｂは、本発明の光学フィルムの一例を示す模式的な断面図である。
【図１Ｃ】図１Ｃは、本発明の光学フィルムの一例を示す模式的な断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
以下、本発明について詳細に説明する。
以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施態様に限定されるものではない。
なお、本明細書において、「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。
【００１４】
［光学フィルム］
本発明の光学フィルムは、少なくとも光学異方性層を有する光学フィルムであって、光学異方性層が、後述する式（Ｉ）で表される重合性化合物（以下、「重合性化合物（Ｉ）」とも略す。）と、後述する式（ＩＩ）で表され、かつ、後述する式（Ｉ）に該当しない液晶性化合物（以下、「液晶性化合物（ＩＩ）とも略す。」）と、重合開始剤と、を含有する重合性液晶組成物を重合して得られる層である、光学フィルムである。
【００１５】
本発明においては、上述した通り、液晶性化合物（ＩＩ）とともに重合性化合物（Ｉ）を用いることにより、形成される光学異方性層の耐久性が良好となる。
これは、詳細には明らかではないが、本発明者らは以下のように推測している。
まず、液晶性化合物の構造に含まれるエステル結合は、重合後、すなわち光学異方性層が形成された後においても存在することになるが、本発明者らは、このエステル結合などの加水分解性の結合が高温高湿環境下において加水分解することで、重合性基によって固定化された液晶性化合物の一部が遊離して可動性を持ち、複屈折率が変化してしまうと推測している。
そのため、本発明においては、重合性化合物（Ｉ）を用いることにより、後述する式（Ｉ）中のＡｒ1が示す芳香環、すなわち、後述する式（Ａｒ−１）〜（Ａｒ−４）のいずれかで表される芳香環の２以上の置換基に由来する立体障害により、高温高湿環境下においても光学異方性層の内部に水分が侵入し難くなり、その結果、加水分解が生じ難くなったため、耐久性が向上したと考えられる。
【００１６】
図１Ａ、図１Ｂおよび図１Ｃ（以下、これらの図面を特に区別を要しない場合は「図１」と略す。）は、それぞれ本発明の光学フィルムの一例を示す模式的な断面図である。
なお、図１は模式図であり、各層の厚みの関係や位置関係などは必ずしも実際のものとは一致せず、図１に示す支持体、配向膜およびハードコート層は、いずれも任意の構成部材である。
図１に示す光学フィルム１０は、支持体１６と、配向膜１４と、光学異方性層１２とをこの順で有する。
また、光学フィルム１０は、図１Ｂに示すように、支持体１６の配向膜１４が設けられた側とは反対側にハードコート層１８を有していてもよく、図１Ｃに示すように、光学異方性層１２の配向膜１４が設けられた側とは反対側にハードコート層１８を有していてもよい。
以下、本発明の光学フィルムに用いられる種々の部材について詳細に説明する。
【００１７】
〔光学異方性層〕
本発明の光学フィルムが有する光学異方性層は、重合性化合物（Ｉ）と、液晶性化合物（ＩＩ）と、重合開始剤と、を含有する重合性液晶組成物を重合して得られる層である。
【００１８】
＜重合性化合物（Ｉ）＞
光学異方性層を形成する重合性液晶組成物は、下記式（Ｉ）で表される重合性化合物（Ｉ）を含む。
【化１】
2017090644.tif 000003
【００１９】
上記式（Ｉ）中、２つのシクロヘキサン環は、いずれもトランス−１，４−シクロヘキシレン基を表しているが、各シクロヘキサン環における結合手の向きが反対（トランス型）であることを示すものである。
そのため、上記式（Ｉ）中の左側のシクロヘキサン環とＬ2との結合向きと、右側のシクロヘキサン環とＬ3との結合向きとの関係は特に限定されず、上記式（Ｉ）で表される構造は、以下に示す構造のいずれであってもよい。
【化２】
2017090644.tif 000004
【００２０】
ここで、上記式（Ｉ）中、ｍおよびｎは、それぞれ独立に、０〜２の整数を表す。ただし、ｍ＋ｎは２〜４の整数を表す。なお、ｍまたはｎの数によって複数となるＺ1、Ｚ2、Ｌ1およびＬ4は、いずれも、互いに同一であっても異なっていてもよい。
本発明においては、溶解性に優れ、製造適性が向上する理由から、ｍおよびｎがいずれも１であるのが好ましい。
【００２１】
また、上記式（Ｉ）中、Ｚ1およびＺ2は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよいトランス−１，４−シクロヘキシレン基、置換基を有していてもよいアリーレン基または置換基を有していてもよいヘテロアリーレン基を表し、Ｚ1およびＺ2の少なくとも１つは、置換基を有していてもよいアリーレン基または置換基を有していてもよいヘテロアリーレン基を表す。
【００２２】
上記アリーレン基は、炭素数６〜２０のアリーレン基であるのが好ましく、炭素数６〜１０のアリーレン基であるのがより好ましい。このようなアリーレン基としては、具体的には、例えば、１，４−フェニレン基、ナフタレン−２，６−ジイル基、テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル基などが挙げられ、中でも、１，４−フェニレン基が好ましい。
また、上記ヘテロアリーレン基は、炭素数２〜９のヘテロアリーレン基であるのが好ましい。このようなヘテロアリーレン基としては、具体的には、例えば、ピリジン環、キノリン環、イソキノリン環、ピリミジン環、ピラジン環、チオフェン環、フラン環、オキサゾール環、チアゾール環、イミダゾール環、ピラゾール環、オキサジアゾール環、チアジアゾール環、トリアゾール環、および、これらが縮環して形成される縮環からなる群から選択されるいずれかの環構造を構成する２個の炭素原子から水素をそれぞれ１個ずつ除いて得られる基などが挙げられる。
【００２３】
また、Ｚ1およびＺ2が示すトランス−１，４−シクロヘキシレン基、アリーレン基またはヘテロアリーレン基が有していてもよい置換基としては、例えば、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子などが挙げられる。
アルキル基としては、例えば、炭素数１〜１８の直鎖状、分岐鎖状または環状のアルキル基が好ましく、炭素数１〜８のアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、シクロヘキシル基等）がより好ましく、メチル基またはエチル基であるのが更に好ましい。
アルコキシ基としては、例えば、炭素数１〜１８のアルコキシ基が好ましく、炭素数１〜８のアルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−ブトキシ基、メトキシエトキシ基等）がより好ましく、メトキシ基またはエトキシ基であるのが更に好ましい。
ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられ、中でも、フッ素原子、塩素原子であるのが好ましい。
【００２４】
本発明においては、液晶性を発現する理由から、上記式（Ｉ）中のＺ1およびＺ2が、いずれも置換基を有していてもよいアリーレン基であるのが好ましく、いずれも置換基を有していてもよい１，４−フェニレン基であるのがより好ましい。
【００２５】
また、上記式（Ｉ）中、Ｌ1、Ｌ2、Ｌ3およびＬ4は、それぞれ独立に、単結合、−Ｏ−、−ＣＨ2Ｏ−、−ＯＣＨ2−、−（ＣＨ2）2ＯＣ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ（ＣＨ2）2−、−ＮＨ−、−Ｎ（ＣＨ3）−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｒ3）−、−Ｎ（Ｒ3）Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｓ−、−ＳＣ（＝Ｏ）−、−ＣＨ2Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）ＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝Ｎ−、−Ｎ＝ＣＨ−、および、−Ｎ＝Ｎ−からなる群から選択されるいずれか連結基を表し、Ｒ3は、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、または、炭素数６〜２０のアリール基を表す。
Ｒ3が示すアルキル基としては、具体的には、例えば、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−デシル基、ｎ−ヘキサデシル基、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などが挙げられ、炭素数１〜１２のアルキル基が好ましく、炭素数１〜８のアルキル基がより好ましい。
また、Ｒ3が示すアリール基としては、具体的には、例えば、フェニル基、２，６−ジエチルフェニル基、ナフチル基、ビフェニル基などが挙げられ、炭素数６〜１２のアリール基が好ましい。
【００２６】
本発明においては、溶解性に優れ、製造適性が向上する理由から、上記式（Ｉ）中のＬ1、Ｌ2、Ｌ3およびＬ4が、いずれも−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−または−ＯＣ（＝Ｏ）−であるのが好ましい。
また、本発明においては、上記式（Ｉ）中のＬ2が、Ｒ1の方向から−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−であるのが好ましく、上記式（Ｉ）中のＬ2が、Ｒ1の方向から−ＯＣ（＝Ｏ）−であるのが好ましい。
【００２７】
また、上記式（Ｉ）中、Ｓｐ1およびＳｐ2は、それぞれ独立に、単結合、炭素数１〜２０の直鎖状もしくは分岐鎖状のアルキレン基、および、炭素数１〜２０の直鎖状もしくは分岐鎖状のアルキレン基を構成する−ＣＨ2−の１個以上が−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−Ｎ（ＣＨ3）−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＯＣ（＝Ｏ）−または−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−で置換された基、からなる群から選択されるいずれか連結基を表す。
Ｓｐ1およびＳｐ2が示す炭素数１〜２０の直鎖状もしくは分岐鎖状のアルキレン基（置換前のアルキレン基も含む。）としては、炭素数５〜１５の直鎖状もしくは分岐鎖状のアルキレン基が好ましく、具体的には、ペンチレン基、ヘキシレン基、オクチレン基、デシレン基等が挙げられる。
【００２８】
本発明においては、液晶性を発現する理由から、上記式（Ｉ）中のＳｐ1およびＳｐ2が、炭素数１〜２０の直鎖状もしくは分岐鎖状のアルキレン基を構成する−ＣＨ2−の１個以上が−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−Ｎ（ＣＨ3）−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＯＣ（＝Ｏ）−または−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−で置換された基（連結基）であるのが好ましく、炭素数５〜１５の直鎖状もしくは分岐鎖状のアルキレン基を構成する−ＣＨ2−の１個以上が−Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）−または−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−で置換された基（連結基）であるのがより好ましく、炭素数５〜１５の直鎖状もしくは分岐鎖状のアルキレン基を構成する−ＣＨ2−の１個または２個が−ＯＣ（＝Ｏ）−または−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−で置換され、かつ、炭素数５〜１５の直鎖状もしくは分岐鎖状のアルキレン基を構成する−ＣＨ2−の１個が−Ｏ−で置換された基（連結基）であるのが更に好ましい。
【００２９】
また、上記式（Ｉ）中、Ｒ1およびＲ2は、それぞれ独立に、下記式（Ｒ−１）〜（Ｒ−５）で表される基からなる群から選択されるいずれかの重合性基を表す。なお、下記式（Ｒ−１）〜（Ｒ−５）中、＊はＳｐ1またはＳｐ2との結合位置を表す。
これらのうち、重合適性の観点から、上記式（Ｉ）中のＲ1およびＲ2は、下記式（Ｒ−１）で表されるアクリロイル基、または、下記式（Ｒ−１）で表されるメタクリロイル基であるのが好ましい。
【化３】
2017090644.tif 000005
【００３０】
また、上記式（Ｉ）中、Ａｒ1は、下記式（Ａｒ−１）〜（Ａｒ−４）で表される基からなる群から選択されるいずれかの芳香環を表す。なお、下記式（Ａｒ−１）〜（Ａｒ−４）中、＊１はＬ2との結合位置を表し、＊２はＬ3との結合位置を表す。
【化４】
2017090644.tif 000006
【００３１】
上記式（Ａｒ−１）〜（Ａｒ−４）中、Ｘ1、Ｘ2、Ｘ3およびＸ4は、それぞれ独立に、炭素数１〜２０の１価の脂肪族炭化水素基、炭素数３〜２０の１価の脂環式炭化水素基、炭素数６〜２０の１価の芳香族炭化水素基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、−ＣＯ2Ｒ4、−ＮＲ5Ｒ6またはＳＲ5を表し、Ｒ4、Ｒ5およびＲ6は、それぞれ独立に、水素原子または炭素数１〜６のアルキル基を表す。
炭素数１〜２０の１価の脂肪族炭化水素基としては、炭素数１〜１５のアルキル基が好ましく、炭素数１〜８のアルキル基がより好ましく、具体的には、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ペンチル基（１，１−ジメチルプロピル基）、ｔｅｒｔ−ブチル基、１，１−ジメチル−３，３−ジメチル−ブチル基が更に好ましく、メチル基、エチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基が特に好ましい。
炭素数３〜２０の１価の脂環式炭化水素基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロデシル基、メチルシクロヘキシル基、エチルシクロヘキシル基等の単環式飽和炭化水素基；シクロブテニル基、シクロペンテニル基、シクロヘキセニル基、シクロヘプテニル基、シクロオクテニル基、シクロデセニル基、シクロペンタジエニル基、シクロヘキサジエニル基、シクロオクタジエニル基、シクロデカジエン等の単環式不飽和炭化水素基；ビシクロ［２．２．１］ヘプチル基、ビシクロ［２．２．２］オクチル基、トリシクロ［５．２．１．０２，６］デシル基、トリシクロ［３．３．１．１３，７］デシル基、テトラシクロ［６．２．１．１３，６．０２，７］ドデシル基、アダマンチル基等の多環式飽和炭化水素基；等が挙げられる。
炭素数６〜２０の１価の芳香族炭化水素基としては、具体的には、例えば、フェニル基、２，６−ジエチルフェニル基、ナフチル基、ビフェニル基などが挙げられ、炭素数６〜１２のアリール基（特にフェニル基）が好ましい。
ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられ、中でも、フッ素原子、塩素原子、臭素原子であるのが好ましい。
一方、Ｒ4、Ｒ5およびＲ6が示すアルキル基としては、具体的には、例えば、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基などが挙げられる。
【００３２】
本発明においては、原料の入手性の観点から、上記式（Ｉ）中のＡｒ1が、上記式（Ａｒ−３）で表される芳香環であるのが好ましい。
【００３３】
また、本発明においては、溶解性、製造適性、液晶性の発現、重合適性などの観点から、上記式（Ｉ）で表される重合性化合物（Ｉ）は、下記式（ＩＡ）〜（ＩＤ）のいずれかで表される重合性化合物であるのが好ましく、下記式（ＩＡ）で表される重合性化合物であるのがより好ましい。
【００３４】
【化５】
2017090644.tif 000007
【００３５】
ここで、上記式（ＩＡ）〜式（ＩＤ）中、Ｓｐ1およびＳｐ2ならびにＸ1、Ｘ2、Ｘ3およびＸ4は、それぞれ、上述した式（Ｉ）において説明したものと同義である。
また、上記式（ＩＡ）〜式（ＩＤ）中、Ｒ7は、水素原子、アルキル基、アルコキシ基またはハロゲン原子を表し、アルキル基、アルコキシ基およびハロゲン原子としては、例えば、上述した式（Ｉ）中のＺ1およびＺ2が有していてもよい置換基と同様のものが挙げられる。なお、複数のＲ7は、それぞれ同一であっても異なっていてもよい。
また、Ｒ8は、水素原子またはメチル基を表す。
【００３６】
上記式（Ｉ）で表される重合性化合物（Ｉ）としては、例えば、下記式（Ｉ−１）〜（Ｉ−１８）で表される化合物等が挙げられる。
【００３７】
【化６】
2017090644.tif 000008
【００３８】
ここで、上記式（Ｉ−１）〜（Ｉ−１８）で示すＲには、Ｒに隣接する炭素原子との結合を含めて表記している。そのため、例えば、上記式（Ｉ−１）で表される化合物の構造は以下の通りとなる。
【化７】
2017090644.tif 000009
【００３９】
また、上記式（Ｉ）で表される重合性化合物（Ｉ）の他の具体例としては、下記式（Ｉ−１９）〜（Ｉ−２８）で表される化合物等が挙げられる。
【化８】
2017090644.tif 000010
【００４０】
また、上記式（Ｉ）で表される重合性化合物（Ｉ）の他の具体例としては、下記式（Ｉ−２９）〜（Ｉ−４０）で表される化合物等が挙げられる。なお、下記式中、「ｔＢｕ」はｔｅｒｔ−ブチル基を表し、「Ｍｅ」はメチル基を表し、「Ｅｔ」はエチル基を表し、「ＯＭｅ」はメトキシ基を表し、「ＯＥｔ」はエトキシ基を表し、＊はベンゼン環との結合位置を表す。これらは、後述する例示化合物でも同様である。
【化９】
2017090644.tif 000011
【００４１】
また、上記式（Ｉ）で表される重合性化合物（Ｉ）の他の具体例としては、下記式（Ｉ−４１）〜（Ｉ−５３）で表される化合物等が挙げられる。なお、下記式中のアクリロイルオキシ基に隣接する基は、プロピレン基（メチル基がエチレン基に置換した基）を表し、メチル基の位置が異なる位置異性体の混合物を表す。
【化１０】
2017090644.tif 000012
【００４２】
また、上記式（Ｉ）で表される重合性化合物（Ｉ）の他の具体例としては、下記式（Ｉ−５４）〜（Ｉ−６６）で表される化合物等が挙げられる。
【化１１】
2017090644.tif 000013
【００４３】
また、上記式（Ｉ）で表される重合性化合物（Ｉ）の他の具体例としては、下記式（Ｉ−６７）〜（Ｉ−８６）で表される化合物等が挙げられる。
【化１２】
2017090644.tif 000014
【化１３】
2017090644.tif 000015
【００４４】
＜液晶性化合物（ＩＩ）＞
光学異方性層を形成する重合性液晶組成物は、下記式（ＩＩ）で表され、かつ、上述した式（Ｉ）に該当しない液晶性化合物（ＩＩ）を含む。なお、本発明においては、下記式（ＩＩ）で表され、かつ、上述した式（Ｉ）にも該当する化合物は、重合性化合物（Ｉ）に該当するものとする。
【化１４】
2017090644.tif 000016
ここで、上記式（ＩＩ）中、Ａｒ2は、ｓ価の芳香族基を表す。
また、Ｌ5は、単結合、−ＣＯＯ−、または、−ＯＣＯ−を表し、Ａは、炭素数６以上の芳香環、または、炭素数６以上のシクロアルキレン環を表す。
また、Ｓｐ3は、単結合、炭素数１〜１２の直鎖状もしくは分岐状のアルキレン基、または、炭素数１〜１２の直鎖状もしくは分岐状のアルキレン基を構成する−ＣＨ2−の１個以上が−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−Ｎ（Ｑ）−、もしくは、−ＣＯ−に置換された２価の連結基を表し、Ｑは、重合性基を表す。
また、ｒは、０〜２の整数を表し、ｓは、１または２の整数を表し、ｒまたはｓの数によって複数となるＬ5、Ａ、Ｓｐ3およびＱは、いずれも、互いに同一であっても異なっていてもよい。
【００４５】
上記式（ＩＩ）中、Ａｒ2が示す芳香族基とは、芳香族性を有する環を含む基をいい、例えば、芳香族炭化水素環および芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも１つの芳香環を有するｓ価の基などが挙げられる。ここで、芳香族炭化水素環としては、例えば、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、フェナンスロリン環等が挙げられ、芳香族複素環としては、例えば、フラン環、ピロール環、チオフェン環、ピリジン環、チアゾール環、ベンゾチアゾール環等が挙げられる。なかでも、ベンゼン環、チアゾール環、ベンゾチアゾール環が好ましい。
また、上記式（ＩＩ）中、Ａが示す炭素数６以上の芳香環としては、例えば、上述したＡｒ2に含まれる芳香環が挙げられ、なかでも、ベンゼン環（例えば、１，４−フェニル基など）が好ましい。同様に、上記式（ＩＩ）中、Ａが示す炭素数６以上のシクロアルキレン環としては、例えば、シクロヘキサン環、シクロヘキセン環などが挙げられ、なかでも、シクロヘキサン環（例えば、シクロヘキサン−１，４−ジイル基など）が好ましい。
また、上記式（ＩＩ）中、Ｓｐ3が示す炭素数１〜１２の直鎖状もしくは分岐状のアルキレン基としては、例えば、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基等が好適に挙げられる。
また、上記式（ＩＩ）中、Ｑが示す重合性基としては、例えば、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基等が挙げられる。なお、「（メタ）アクリロイル基」とは、アクリロイル基またはメタクリロイル基を表す表記である。
【００４６】
本発明においては、上記式（ＩＩ）で表される液晶性化合物としては、剛直なメソゲンと柔軟な側鎖が擬似的に相分離することでスメクチック性を発現しやすくなり、かつ、十分な剛直性を示す理由から、ベンゼン環およびシクロヘキサン環からなる群から選択される環構造を少なくとも３個有する化合物であるのが好ましい。
【００４７】
また、本発明においては、上記式（ＩＩ）で表される液晶性化合物としては、光学異方性層の耐久性がより良好となる理由から、重合性基（例えば、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基等）を２個以上有する化合物であるのが好ましい。
【００４８】
更に、本発明においては、上記式（ＩＩ）で表される液晶性化合物が、逆波長分散性を示す液晶性化合物であるのが好ましい。
ここで、本明細書において「逆波長分散性」の液晶性化合物とは、これを用いて作製された位相差フィルムの特定波長（可視光範囲）における面内のレターデーション（Ｒｅ）値を測定した際に、測定波長が大きくなるにつれてＲｅ値が同等または高くなるものをいう。
【００４９】
逆波長分散性を示す液晶性化合物としては、上記式（ＩＩ）中のＡｒ2が下記式（ＩＩ−１）、（ＩＩ−２）、（ＩＩ−３）または（ＩＩ−４）で表される２価の芳香環基である化合物が好ましい。
【００５０】
【化１５】
2017090644.tif 000017
【００５１】
上記式（ＩＩ−１）〜（ＩＩ−４）中、Ｑ1は、ＮまたはＣＨを表し、Ｑ2は、−Ｓ−、−Ｏ−、または、−ＮＲ11−を表し、Ｒ11は、水素原子または炭素数１〜６のアルキル基を表し、Ｙ1は、置換基を有してもよい、炭素数６〜１２の芳香族炭化水素基、または、炭素数３〜１２の芳香族複素環基を表す。
Ｒ11が示す炭素数１〜６のアルキル基としては、具体的には、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、および、ｎ−ヘキシル基などが挙げられる。
Ｙ1が示す炭素数６〜１２の芳香族炭化水素基としては、例えば、フェニル基、２，６−ジエチルフェニル基、ナフチル基などのアリール基が挙げられる。
Ｙ1が示す炭素数３〜１２の芳香族複素環基としては、例えば、チエニル基、チアゾリル基、フリル基、ピリジル基などのヘテロアリール基が挙げられる。
また、Ｙ1が有していてもよい置換基としては、ハロゲン原子、アルキル基、ハロゲン化アルキル基、アルケニル基、アリール基、シアノ基、アミノ基、ニトロ基、ニトロソ基、カルボキシ基、炭素数１〜６のアルキルスルフィニル基、炭素数１〜６のアルキルスルホニル基、炭素数１〜６のフルオロアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、炭素数１〜６のアルキルスルファニル基、炭素数１〜６のＮ−アルキルアミノ基、炭素数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、炭素数１〜６のＮ−アルキルスルファモイル基、炭素数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルスルファモイル基、またはこれらを組み合わせた基等が挙げられる。
【００５２】
また、上記式（ＩＩ−１）〜（ＩＩ−４）中、Ｚ1、Ｚ2およびＺ3は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜２０の１価の脂肪族炭化水素基、炭素数３〜２０の１価の脂環式炭化水素基、炭素数６〜２０の１価の芳香族炭化水素基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、−ＮＲ12Ｒ13、または、−ＳＲ14を表し、Ｒ12〜Ｒ14は、それぞれ独立に、水素原子または炭素数１〜６のアルキル基を表し、Ｚ1およびＺ2は、互いに結合して芳香環を形成してもよい。
炭素数１〜２０の１価の脂肪族炭化水素基としては、炭素数１〜１５のアルキル基が好ましく、炭素数１〜８のアルキル基がより好ましく、具体的には、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ペンチル基（１，１−ジメチルプロピル基）、ｔｅｒｔ−ブチル基、１，１−ジメチル−３，３−ジメチル−ブチル基が更に好ましく、メチル基、エチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基が特に好ましい。
炭素数３〜２０の１価の脂環式炭化水素基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロデシル基、メチルシクロヘキシル基、エチルシクロヘキシル基等の単環式飽和炭化水素基；シクロブテニル基、シクロペンテニル基、シクロヘキセニル基、シクロヘプテニル基、シクロオクテニル基、シクロデセニル基、シクロペンタジエニル基、シクロヘキサジエニル基、シクロオクタジエニル基、シクロデカジエン等の単環式不飽和炭化水素基；ビシクロ［２．２．１］ヘプチル基、ビシクロ［２．２．２］オクチル基、トリシクロ［５．２．１．０２，６］デシル基、トリシクロ［３．３．１．１３，７］デシル基、テトラシクロ［６．２．１．１３，６．０２，７］ドデシル基、アダマンチル基等の多環式飽和炭化水素基；等が挙げられる。
炭素数６〜２０の１価の芳香族炭化水素基としては、具体的には、例えば、フェニル基、２，６−ジエチルフェニル基、ナフチル基、ビフェニル基などが挙げられ、炭素数６〜１２のアリール基（特にフェニル基）が好ましい。
ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられ、中でも、フッ素原子、塩素原子、臭素原子であるのが好ましい。
一方、Ｒ5〜Ｒ7が示す炭素数１〜６のアルキル基としては、具体的には、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、および、ｎ−ヘキシル基などが挙げられる。
【００５３】
また、上記式（ＩＩ−２）中、Ａ1およびＡ2は、それぞれ独立に、−Ｏ−、−Ｎ（Ｒ15）−、−Ｓ−、および、−ＣＯ−からなる群から選択される基を表し、Ｒ15は、水素原子または置換基を表す。
Ｒ15が示す置換基としては、上記式（ＩＩ−１）中のＹ1が有していてもよい置換基と同様のものが挙げられる。
【００５４】
また、上記式（ＩＩ−２）中、Ｘは、水素原子または置換基が結合していてもよい第１４〜１６族の非金属原子を表す。
また、Ｘが示す第１４〜１６族の非金属原子としては、例えば、酸素原子、硫黄原子、置換基を有する窒素原子、置換基を有する炭素原子が挙げられ、置換基としては、上記式（ＩＩ−１）中のＹ1が有していてもよい置換基と同様のものが挙げられる。
【００５５】
また、上記式（ＩＩ−３）〜（ＩＩ−４）中、Ａｘは、芳香族炭化水素環および芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも１つの芳香環を有する、炭素数２〜３０の有機基を表す。
また、上記式（Ａｒ−３）〜（Ａｒ−４）中、Ａｙは、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜６のアルキル基、または、芳香族炭化水素環および芳香族複素環からなる群から選択される少なくとも１つの芳香環を有する、炭素数２〜３０の有機基を表す。
ここで、ＡｘおよびＡｙにおける芳香環は、置換基を有していてもよく、ＡｘとＡｙとが結合して環を形成していてもよい。
また、Ｑ3は、水素原子、または、置換基を有していてもよい炭素数１〜６のアルキル基を表す。
ＡｘおよびＡｙとしては、特許文献３（国際公開第２０１４／０１０３２５号）の［００３９］〜［００９５］段落に記載されたものが挙げられる。
また、Ｑ3が示す炭素数１〜６のアルキル基としては、具体的には、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、および、ｎ−ヘキシル基などが挙げられ、置換基としては、上記式（ＩＩ−１）中のＹ1が有していてもよい置換基と同様のものが挙げられる。
【００５６】
上記式（ＩＩ−１）〜（ＩＩ−４）で表される液晶性化合物の好ましい例を以下に示すが、これらの液晶性化合物に限定されるものではない。なお、下記式中の１，４−シクロヘキシレン基は、いずれもトランス−１，４−シクロヘキシレン基である。
【００５７】
【化１６】
2017090644.tif 000018
【００５８】
【化１７】
2017090644.tif 000019
【００５９】
【化１８】
2017090644.tif 000020
なお、上記式中、「＊」は結合位置を表す。
【００６０】
【化１９】
2017090644.tif 000021
【００６１】
【化２０】
2017090644.tif 000022
【００６２】
【化２１】
2017090644.tif 000023
【００６３】
【化２２】
2017090644.tif 000024
【００６４】
【化２３】
2017090644.tif 000025
【００６５】
更に、本発明においては、上記式（ＩＩ）で表される液晶性化合物としては、液晶分子間に電子的相互作用が働くことで光学異方性層の耐久性がより良好となる理由から、上記式（ＩＩ）中のＡｒ2が上述した一般式（ＩＩ−２）で表される化合物が好ましく、具体的には、上記式（ＩＩ）中のｎが２であり、Ａｒ2が下記式（２ａ）で表される化合物であるのがより好ましい。
【化２４】
2017090644.tif 000026
ここで、上記式（２ａ）中、＊は結合位置を表し、Ｒ9はそれぞれ独立に水素原子または炭素数１〜６のアルキル基を表す。
【００６６】
上記式（ＩＩ）中のｎが２であり、Ａｒ2が上記式（２ａ）で表される化合物としては、例えば、下記式Ｌ−１で表される化合物や、下記式Ｌ−２で表される化合物などが挙げられる。下記式Ｌ−１で表される化合物（液晶性化合物Ｌ−１）、下記式Ｌ−２で表される化合物（液晶性化合物Ｌ−２）、下記式Ｌ−３で表される化合物（液晶性化合物Ｌ−３）、下記式Ｌ−４で表される化合物（液晶性化合物Ｌ−４）、下記式Ｌ−５で表される化合物（液晶性化合物Ｌ−５）などが挙げられる。なお、下記式Ｌ−１およびＬ−２中のアクリロイルオキシ基に隣接する基は、プロピレン基（メチル基がエチレン基に置換した基）を表し、液晶性化合物Ｌ−１およびＬ−２は、メチル基の位置が異なる位置異性体の混合物を表す。また、下記式Ｌ−１〜Ｌ−５中、１，４−シクロヘキシレン基は、いずれもトランス−１，４−シクロヘキシレン基である。
【化２５】
2017090644.tif 000027
2017090644.tif 000028
【００６７】
＜重合開始剤＞
光学異方性層を形成する重合性液晶組成物は、重合開始剤を含む。
使用する重合開始剤は、紫外線照射によって重合反応を開始可能な光重合開始剤であるのが好ましい。
光重合開始剤としては、例えば、α−カルボニル化合物（米国特許第２３６７６６１号、同２３６７６７０号の各明細書記載）、アシロインエーテル（米国特許第２４４８８２８号明細書記載）、α−炭化水素置換芳香族アシロイン化合物（米国特許第２７２２５１２号明細書記載）、多核キノン化合物（米国特許第３０４６１２７号、同２９５１７５８号の各明細書記載）、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ−アミノフェニルケトンとの組み合わせ（米国特許第３５４９３６７号明細書記載）、アクリジンおよびフェナジン化合物（特開昭６０−１０５６６７号公報、米国特許第４２３９８５０号明細書記載）およびオキサジアゾール化合物（米国特許第４２１２９７０号明細書記載）、アシルフォスフィンオキシド化合物（特公昭６３−４０７９９号公報、特公平５−２９２３４号公報、特開平１０−９５７８８号公報、特開平１０−２９９９７号公報記載）等が挙げられる。
【００６８】
本発明においては、光学異方性層の耐久性がより良好となる理由から、重合開始剤がオキシム型の重合開始剤であるのが好ましく、具体的には、下記式（ＩＩＩ）で表される重合開始剤であるのがより好ましい。
【化２６】
2017090644.tif 000029
ここで、上記式（ＩＩＩ）中、Ｘは、水素原子またはハロゲン原子を表し、Ｙは、１価の有機基を表す。
また、Ａｒ3は、２価の芳香族基を表し、Ｌ6は、炭素数１〜１２の２価の有機基を表し、Ｒ10は、炭素数１〜１２のアルキル基を表す。
【００６９】
上記式（ＩＩＩ）中、Ｘが示すハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられ、なかでも、塩素原子であるのが好ましい。
また、上記式（ＩＩＩ）中、Ａｒ3が示す２価の芳香族基としては、上記式（ＩＩ）中のＡｒ2として例示した芳香族炭化水素環および芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも１つの芳香環を有する２価の基などが挙げられる。
また、上記式（ＩＩＩ）中、Ｌ6が示す炭素数１〜１２の２価の有機基としては、例えば、炭素数１〜１２の直鎖状もしくは分岐状のアルキレン基が挙げられ、具体的には、メチレン基、エチレン基、プロピレン基等が好適に挙げられる。
また、上記式（ＩＩＩ）中、Ｒ10が示す炭素数１〜１２のアルキル基としては、具体的には、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基等が好適に挙げられる。
また、上記式（ＩＩＩ）中、Ｙが示す１価の有機基としては、例えば、ベンゾフェノン骨格（（Ｃ6Ｈ5）2ＣＯ）を含む官能基が挙げられる。具体的には、下記式（２ａ）および下記式（２ｂ）で表される基のように、末端のベンゼン環が無置換または１置換であるベンゾフェノン骨格を含む官能基が好ましい。
【００７０】
【化２７】
2017090644.tif 000030
ここで、上記式（３ａ）および上記式（３ｂ）中、＊は結合位置、すなわち、上記式（ＩＩＩ）におけるカルボニル基の炭素原子との結合位置を表す。
【００７１】
上記式（ＩＩＩ）で表されるオキシム型の重合開始剤としては、例えば、下記式Ｓ−１で表される化合物や、下記式Ｓ−２で表される化合物などが挙げられる。
【化２８】
2017090644.tif 000031
【００７２】
本発明においては、上記重合開始剤の含有量は特に限定されないが、重合性液晶組成物の固形分の０．０１〜２０質量％であることが好ましく、０．５〜５質量％であることがより好ましい。
【００７３】
＜他の重合性化合物＞
光学異方性層を形成する重合性液晶組成物は、上述した式（Ｉ）で表される重合性化合物（Ｉ）以外に、他の重合性化合物を含んでいてもよい。
ここで、他の重合性化合物が有する重合性基は特に限定されず、例えば、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基等が挙げられる。なかでも、（メタ）アクリロイル基を有しているのが好ましい。
【００７４】
本発明においては、光学異方性層の耐久性がより向上する理由から、重合性基を２〜４個有する他の重合性化合物であるのが好ましく、重合性基を２個有する他の重合性化合物であるのがより好ましい。
【００７５】
このような他の重合性化合物としては、特開２０１４−０７７０６８号公報の［００３０］〜［００３３］段落に記載された式（Ｍ１）、（Ｍ２）、（Ｍ３）で表される化合物が挙げられ、より具体的には、同公報の［００４６］〜［００５５］段落に記載された具体例が挙げられる。
【００７６】
＜有機溶媒＞
光学異方性層を形成する重合性液晶組成物は、光学異方性層を形成する作業性等の観点から、有機溶媒を含有するのが好ましい。
有機溶媒としては、具体的には、例えば、ケトン類（例えば、アセトン、２−ブタノン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンなど）、エーテル類（例えば、ジオキサン、テトラヒドロフランなど）、脂肪族炭化水素類（例えば、ヘキサンなど）、脂環式炭化水素類（例えば、シクロヘキサンなど）、芳香族炭化水素類（例えば、トルエン、キシレン、トリメチルベンゼンなど）、ハロゲン化炭素類（例えば、ジクロロメタン、ジクロロエタン、ジクロロベンゼン、クロロトルエンなど）、エステル類（例えば、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチルなど）、水、アルコール類（例えば、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、シクロヘキサノールなど）、セロソルブ類（例えば、メチルセロソルブ、エチルセロソルブなど）、セロソルブアセテート類、スルホキシド類（例えば、ジメチルスルホキシドなど）、アミド類（例えば、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドなど）等が挙げられ、これらを１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【００７７】
本発明においては、光学異方性層の形成方法としては、例えば、上述した重合性化合物（Ｉ）、液晶性化合物（ＩＩ）および重合開始剤ならびに任意の他の重合性化合物および有機溶媒などを含有する重合性液晶組成物を用いて、所望の配向状態とした後に、重合により固定化する方法などが挙げられる。
ここで、重合条件は特に限定されないが、光照射による重合においては、紫外線を用いることが好ましい。照射量は、１０ｍＪ／ｃｍ2〜５０Ｊ／ｃｍ2であることが好ましく、２０ｍＪ／ｃｍ2〜５Ｊ／ｃｍ2であることがより好ましく、３０ｍＪ／ｃｍ2〜３Ｊ／ｃｍ2であることが更に好ましく、５０〜１０００ｍＪ／ｃｍ2であることが特に好ましい。また、重合反応を促進するため、加熱条件下で実施してもよい。
なお、本発明においては、光学異方性層は、後述する任意の支持体上や、後述する本発明の偏光板における偏光子上に形成することができる。
【００７８】
また、本発明においては、光学異方性層の耐久性がより向上する理由から、光学異方性層が、上述した重合性液晶組成物をスメクチック相に配向した後に重合（配向を固定化）して得られる層であるのが好ましい。これは、スメクチック相が、ネマチック相に比べて液晶分子の重心が揃っているため、エステル結合の周囲の構造により、上述した加水分解を受けにくいためと考えられる。
【００７９】
また、本発明の光学フィルムが有する光学異方性層は、優れた視野角特性を付与する観点から、下記式（１）を満たすのが好ましい。
０．７５＜Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）＜１．００  ・・・（１）
ここで、式（１）中、Ｒｅ（４５０）は、光学異方性層の波長４５０ｎｍにおける面内レターデーションを表し、Ｒｅ（５５０）は、光学異方性層の波長５５０ｎｍにおける面内レターデーションを表す。
また、面内レターデーションの値は、Ａｘｏ Ｓｃａｎ（０ＰＭＦ−１、Ａｘｏｍｅｔｒｉｃｓ社製）と付属のソフトウェアを使用し、測定波長の光を用いて測定した値をいう。
【００８０】
本発明においては、上記光学異方性層の厚みについては特に限定されないが、０．１〜１０μｍであるのが好ましく、０．５〜５μｍであるのがより好ましい。
【００８１】
〔支持体〕
本発明の光学フィルムは、上述したように、光学異方性層を形成するための基材として支持体を有していてもよい。
このような支持体は、透明であるのが好ましく、具体的には、光透過率が８０％以上であるのが好ましい。
【００８２】
このような支持体としては、例えば、ガラス基板やポリマーフィルムが挙げられ、ポリマーフィルムの材料としては、セルロース系ポリマー；ポリメチルメタクリレート、ラクトン環含有重合体等のアクリル酸エステル重合体を有するアクリル系ポリマー；熱可塑性ノルボルネン系ポリマー；ポリカーボネート系ポリマー；ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系ポリマー；ポリスチレン、アクリロニトリル・スチレン共重合体（ＡＳ樹脂）等のスチレン系ポリマー；ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン・プロピレン共重合体等のポリオレフィン系ポリマー；、塩化ビニル系ポリマー；ナイロン、芳香族ポリアミド等のアミド系ポリマー；イミド系ポリマー；スルホン系ポリマー；ポリエーテルスルホン系ポリマー；ポリエーテルエーテルケトン系ポリマー；ポリフェニレンスルフィド系ポリマー；塩化ビニリデン系ポリマー；ビニルアルコール系ポリマー；ビニルブチラール系ポリマー；アリレート系ポリマー；ポリオキシメチレン系ポリマー；エポキシ系ポリマー；またはこれらのポリマーを混合したポリマーが挙げられる。
また、後述する偏光子がこのような支持体を兼ねる態様であってもよい。
【００８３】
本発明においては、上記支持体の厚みについては特に限定されないが、５〜６０μｍであるのが好ましく、５〜３０μｍであるのがより好ましい。
【００８４】
〔配向膜〕
本発明の光学フィルムは、上述した任意の支持体を有する場合、支持体と光学異方性層との間に、配向膜を有しているのが好ましい。なお、上述した支持体が配向膜を兼ねる態様であってもよい。
【００８５】
配向膜は、一般的にはポリマーを主成分とする。配向膜用ポリマー材料としては、多数の文献に記載があり、多数の市販品を入手することができる。
本発明において利用されるポリマー材料は、ポリビニルアルコール又はポリイミド、及びその誘導体が好ましい。特に変性又は未変性のポリビニルアルコールが好ましい。
本発明に使用可能な配向膜については、例えば、国際公開第０１／８８５７４号の４３頁２４行〜４９頁８行に記載された配向膜；特許第３９０７７３５号公報の段落［００７１］〜［００９５］に記載の変性ポリビニルアルコール；特開２０１２−１５５３０８号公報に記載された液晶配向剤により形成される液晶配向膜;等が挙げられる。
【００８６】
本発明においては、配向膜の形成時に配向膜表面に接触しないことで面状悪化を防ぐことが可能となる理由から、配向膜といては光配向膜を利用することも好ましい。
光配向膜としては特に限定はされないが、国際公開第２００５／０９６０４１号の段落［００２４］〜［００４３］に記載されたポリアミド化合物やポリイミド化合物などのポリマー材料；特開２０１２−１５５３０８号公報に記載された光配向性基を有する液晶配向剤により形成される液晶配向膜；Ｒｏｌｉｃ ｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ社製の商品名ＬＰＰ−ＪＰ２６５ＣＰなどを用いることができる。
【００８７】
また、本発明においては、上記配向膜の厚さは特に限定されないが、支持体に存在しうる表面凹凸を緩和して均一な膜厚の光学異方性層を形成するという観点から、０．０１〜１０μｍであることが好ましく、０．０１〜１μｍであることがより好ましく、０．０１〜０．５μｍであることがさらに好ましい。
【００８８】
〔ハードコート層〕
本発明の光学フィルムは、フィルムの物理的強度を付与するために、ハードコート層を有しているのが好ましい。具体的には、支持体の配向膜が設けられた側とは反対側にハードコート層を有していてもよく（図１（Ｂ）参照）、光学異方性層の配向膜が設けられた側とは反対側にハードコート層を有していてもよい（図１（Ｃ）参照）。
ハードコート層としては特開２００９−９８６５８号公報の段落［０１９０］〜［０１９６］に記載のものを使用することができる。
【００８９】
〔他の光学異方性層〕
本発明の光学フィルムは、上述した重合性化合物（Ｉ）、液晶性化合物（ＩＩ）および重合開始剤ならびに任意の他の重合性化合物および有機溶媒などを含有する重合性液晶組成物を重合して得られる層（以下、本段落において形式的に「本発明の光学異方性層」という。）とは別に、他の光学異方性層を有していてもよい。
すなわち、本発明の光学フィルムは、本発明の光学異方性層と他の光学異方性層との積層構造を有していてもよい。
このような他の光学異方性層は、上述した液晶性化合物（ＩＩ）以外の液晶性化合物を含む光学異方性層であれば特に限定されない。
ここで、一般的に、液晶性化合物はその形状から、棒状タイプと円盤状タイプに分類できる。さらにそれぞれ低分子と高分子タイプがある。高分子とは一般に重合度が１００以上のものを指す（高分子物理・相転移ダイナミクス，土井 正男 著，２頁，岩波書店，１９９２）。本発明では、いずれの液晶性化合物を用いることもできるが、棒状液晶性化合物またはディスコティック液晶性化合物（円盤状液晶性化合物）を用いるのが好ましい。２種以上の棒状液晶性化合物、２種以上の円盤状液晶性化合物、または棒状液晶性化合物と円盤状液晶性化合物との混合物を用いてもよい。上述の液晶性化合物の固定化のために、重合性基を有する棒状液晶性化合物または円盤状液晶性化合物を用いて形成することがより好ましく、液晶性化合物が１分子中に重合性基を２以上有することがさらに好ましい。液晶性化合物が二種類以上の混合物の場合には、少なくとも１種類の液晶性化合物が１分子中に２以上の重合性基を有していることが好ましい。
棒状液晶性化合物としては、例えば、特表平１１−５１３０１９号公報の請求項１や特開２００５−２８９９８０号公報の段落［００２６］〜［００９８］に記載のものを好ましく用いることができ、ディスコティック液晶性化合物としては、例えば、特開２００７−１０８７３２号公報の段落［００２０］〜［００６７］や特開２０１０−２４４０３８号公報の段落［００１３］〜［０１０８］に記載のものを好ましく用いることができるが、これらに限定されない。
【００９０】
〔紫外線吸収剤〕
本発明の光学フィルムは、外光（特に紫外線）の影響を考慮して、紫外線（ＵＶ）吸収剤を含むことが好ましく、支持体に紫外線吸収剤を含むことがより好ましい。
【００９１】
紫外線吸収剤としては、紫外線吸収性を発現できるもので、公知のものがいずれも使用できる。そのような紫外線吸収剤のうち、紫外線吸収性が高く、電子画像表示装置で用いられる紫外線吸収能（紫外線カット能）を得るためにベンゾトリアゾール系又はヒドロキシフェニルトリアジン系の紫外線吸収剤が好ましい。また、紫外線の吸収幅を広くするために、最大吸収波長の異なる紫外線吸収剤を２種以上併用することができる。
【００９２】
［偏光板］
本発明の偏光板は、上述した本発明の光学フィルムと、偏光子とを有するものである。
【００９３】
〔偏光子〕
本発明の偏光板が有する偏光子は、光を特定の直線偏光に変換する機能を有する部材であれば特に限定されず、従来公知の吸収型偏光子および反射型偏光子を利用することができる。
吸収型偏光子としては、ヨウ素系偏光子、二色性染料を利用した染料系偏光子、およびポリエン系偏光子などが用いられる。ヨウ素系偏光子および染料系偏光子には、塗布型偏光子と延伸型偏光子があり、いずれも適用できるが、ポリビニルアルコールにヨウ素または二色性染料を吸着させ、延伸して作製される偏光子が好ましい。
また、基材上にポリビニルアルコール層を形成した積層フィルムの状態で延伸および染色を施すことで偏光子を得る方法として、特許第５０４８１２０号公報、特許第５１４３９１８号公報、特許第５０４８１２０号公報、特許第４６９１２０５号公報、特許第４７５１４８１号公報、特許第４７５１４８６号公報を挙げることができ、これらの偏光子に関する公知の技術も好ましく利用することができる。
反射型偏光子としては、複屈折の異なる薄膜を積層した偏光子、ワイヤーグリッド型偏光子、選択反射域を有するコレステリック液晶と１／４波長板とを組み合わせた偏光子などが用いられる。
なかでも、後述する樹脂層との密着性がより優れる点で、ポリビニルアルコール系樹脂（−ＣＨ２−ＣＨＯＨ−を繰り返し単位として含むポリマー。特に、ポリビニルアルコールおよびエチレン−ビニルアルコール共重合体からなる群から選択される少なくとも１つ）を含む偏光子であることが好ましい。
【００９４】
本発明においては、偏光子の厚みは特に限定されないが、３μｍ〜６０μｍであるのが好ましく、５μｍ〜３０μｍであるのがより好ましく、５μｍ〜１５μｍであるのが更に好ましい。
【００９５】
〔粘着剤層〕
本発明の偏光板は、本発明の光学フィルムにおける光学異方性層と、偏光子との間に、粘着剤層が配置されていてもよい。
光学異方性層と偏光子との積層のために用いられる粘着剤層としては、例えば、動的粘弾性測定装置で測定した貯蔵弾性率Ｇ’と損失弾性率Ｇ”との比（ｔａｎδ＝Ｇ”／Ｇ’）が０．００１〜１．５である物質のことを表し、いわゆる、粘着剤やクリープしやすい物質等が含まれる。本発明に用いることのできる粘着剤としては、例えば、ポリビニルアルコール系粘着剤が挙げられるが、これに限定されない。
【００９６】
［画像表示装置］
本発明の画像表示装置は、本発明の光学フィルムまたは本発明の偏光板を有する、画像表示装置である。
本発明の画像表示装置に用いられる表示素子は特に限定されず、例えば、液晶セル、有機エレクトロルミネッセンス（以下、「ＥＬ」と略す。）表示パネル、プラズマディスプレイパネル等が挙げられる。
これらのうち、液晶セル、有機ＥＬ表示パネルであるのが好ましく、液晶セルであるのがより好ましい。すなわち、本発明の画像表示装置としては、表示素子として液晶セルを用いた液晶表示装置、表示素子として有機ＥＬ表示パネルを用いた有機ＥＬ表示装置であるのが好ましく、液晶表示装置であるのがより好ましい。
【００９７】
〔液晶表示装置〕
本発明の画像表示装置の一例である液晶表示装置は、上述した本発明の偏光板と、液晶セルとを有する液晶表示装置である。
なお、本発明においては、液晶セルの両側に設けられる偏光板のうち、フロント側の偏光板として本発明の偏光板を用いるのが好ましく、フロント側およびリア側の偏光板として本発明の偏光板を用いるのがより好ましい。
以下に、液晶表示装置を構成する液晶セルについて詳述する。
【００９８】
＜液晶セル＞
液晶表示装置に利用される液晶セルは、ＶＡ（Ｖｉｒｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）モード、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｅｄ Ｂｅｎｄ）モード、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ−Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）モード、又はＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）であることが好ましいが、これらに限定されるものではない。
ＴＮモードの液晶セルでは、電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に水平配向し、更に６０〜１２０゜にねじれ配向している。ＴＮモードの液晶セルは、カラーＴＦＴ液晶表示装置として最も多く利用されており、多数の文献に記載がある。
ＶＡモードの液晶セルでは、電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に垂直に配向している。ＶＡモードの液晶セルには、（１）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直に配向させ、電圧印加時に実質的に水平に配向させる狭義のＶＡモードの液晶セル（特開平２−１７６６２５号公報記載）に加えて、（２）視野角拡大のため、ＶＡモードをマルチドメイン化した（ＭＶＡモードの）液晶セル（ＳＩＤ９７、Ｄｉｇｅｓｔ ｏｆ ｔｅｃｈ．Ｐａｐｅｒｓ（予稿集）２８（１９９７）８４５記載）、（３）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直配向させ、電圧印加時にねじれマルチドメイン配向させるモード（ｎ−ＡＳＭモード）の液晶セル（日本液晶討論会の予稿集５８〜５９（１９９８）記載）及び（４）ＳＵＲＶＩＶＡＬモードの液晶セル（ＬＣＤインターナショナル９８で発表）が含まれる。また、ＰＶＡ（Ｐａｔｔｅｒｎｅｄ Ｖｅｒｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）型、光配向型（Ｏｐｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）、及びＰＳＡ（Ｐｏｌｙｍｅｒ−Ｓｕｓｔａｉｎｅｄ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）のいずれであってもよい。これらのモードの詳細については、特開２００６−２１５３２６号公報、及び特表２００８−５３８８１９号公報に詳細な記載がある。
ＩＰＳモードの液晶セルは、棒状液晶分子が基板に対して実質的に平行に配向しており、基板面に平行な電界が印加することで液晶分子が平面的に応答する。ＩＰＳモードは電界無印加状態で黒表示となり、上下一対の偏光板の吸収軸は直交している。光学補償シートを用いて、斜め方向での黒表示時の漏れ光を低減させ、視野角を改良する方法が、特開平１０−５４９８２号公報、特開平１１−２０２３２３号公報、特開平９−２９２５２２号公報、特開平１１−１３３４０８号公報、特開平１１−３０５２１７号公報、特開平１０−３０７２９１号公報などに開示されている。
【００９９】
〔有機ＥＬ表示装置〕
本発明の画像表示装置の一例である有機ＥＬ表示装置としては、例えば、視認側から、本発明の偏光板と、λ／４機能を有する板（以下、「λ／４板」ともいう。）と、有機ＥＬ表示パネルとをこの順で有する態様が好適に挙げられる。
ここで、「λ／４機能を有する板」とは、ある特定の波長の直線偏光を円偏光に（または円偏光を直線偏光に）変換する機能を有する板をいい、例えば、λ／４板が単層構造である態様としては、具体的には、延伸ポリマーフィルムや、支持体上にλ／４機能を有する光学異方性層を設けた位相差フィルム等が挙げられ、また、λ／４板が複層構造である態様としては、具体的には、λ／４板とλ／２板とを積層してなる広帯域λ／４板が挙げられる。
また、有機ＥＬ表示パネルは、電極間（陰極および陽極間）に有機発光層（有機エレクトロルミネッセンス層）を挟持してなる有機ＥＬ素子を用いて構成された表示パネルである。有機ＥＬ表示パネルの構成は特に制限されず、公知の構成が採用される。
【０１００】
［重合性化合物］
本発明の重合性化合物は、上述した式（Ｉ）で表される重合性化合物であり、上述した本発明の光学フィルムが有する光学異方性層において説明した重合性化合物（Ｉ）と同様である。
【０１０１】
［モノアリールエステルの製造方法］
本発明の１，４−シクロヘキサンジカルボン酸モノアリールエステル（以下、単に「モノアリールエステル」とも略す。）の製造方法は、１，４−シクロヘキサンジカルボン酸ジクロライドとフェノール系化合物とを、フェノール系化合物のモル当量に対する１，４−シクロヘキサンジカルボン酸ジクロライドのモル当量の比率を１．５以上１０以下とし、共役酸の酸解離定数ｐＫａが７以上３０以下となる塩基の存在下で反応させる反応工程と、上記反応工程で得られる反応生成物を加水分解することにより、後述する式（Ｉａ）または式（ＩＩａ）で表される１，４−シクロヘキサンジカルボン酸モノアリールエステルを得る加水分解工程と、を有する製造方法である。
ここで、本発明のモノアリールエステルの製造方法で得られる「１，４−シクロヘキサンジカルボン酸モノアリールエステル」は、上述した式（Ｉ）で表される重合性化合物または上述した式（ＩＩ）で表される液晶性化合物の合成に用いる中間生成物として有用な化合物である。
【０１０２】
〔反応工程〕
本発明のモノアリールエステルの製造方法が有する反応工程は、１，４−シクロヘキサンジカルボン酸ジクロライドとフェノール系化合物とを反応させる工程である。
本発明においては、上記反応工程は、フェノール系化合物のモル当量に対する１，４−シクロヘキサンジカルボン酸ジクロライドのモル当量の比率を１．５以上１０以下とし、共役酸の酸解離定数ｐＫａが７以上３０以下となる塩基の存在下で行う。
【０１０３】
＜出発原料＞
上記反応工程で用いる１，４−シクロヘキサンジカルボン酸ジクロライドとしては、後述する式（Ｉａ）または式（ＩＩａ）で表されるモノアリールエステルを合成する観点から、トランス−１，４−シクロヘキサンジカルボン酸ジクロライドを用いる。
一方、上記反応工程で用いるフェノール系化合物としては、後述する式（Ｉａ）または式（ＩＩａ）で表されるモノアリールエステルを合成する観点から、下記式（Ｉｂ）または下記式（ＩＩｂ）で表される化合物を用いる。
【化２９】
2017090644.tif 000032
【０１０４】
ここで、上記式（Ｉｂ）中、ｇは、０〜１の整数を表す。
本発明においては、溶解性に優れ、製造適性が向上する理由から、ｇが０であるのが好ましい。
【０１０５】
また、上記式（Ｉｂ）中、Ｘ5は、置換基を表し、ｋは、０〜４の整数を表す。ｋが２〜４の整数である場合、複数のＸ5は、それぞれ同一であっても異なっていてもよい。
置換基としては、上述した式（Ｉ）中のＺ1で説明したものと同様、例えば、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子などが挙げられる。
【０１０６】
また、上記式（Ｉｂ）中、Ｚ1は、置換基を有していてもよいトランス−１，４−シクロヘキシレン基、置換基を有していてもよいアリーレン基または置換基を有していてもよいヘテロアリーレン基を表す。
本発明においては、アリーレン基およびヘテロアリーレン基、ならびに、トランス−１，４−シクロヘキシレン基、アリーレン基またはヘテロアリーレン基が有していてもよい置換基としては、上述した式（Ｉ）中のＺ1で説明したものと同様である。
また、液晶性を発現する理由から、上記式（Ｉｂ）中のＺ1が、置換基を有していてもよいアリーレン基であるのが好ましく、置換基を有していてもよい１，４−フェニレン基であるのがより好ましい。
【０１０７】
また、上記式（Ｉｂ）中、Ｌ1は、単結合、−Ｏ−、−ＣＨ2Ｏ−、−ＯＣＨ2−、−（ＣＨ2）2ＯＣ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ（ＣＨ2）2−、−ＮＨ−、−Ｎ（ＣＨ3）−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｒ3）−、−Ｎ（Ｒ3）Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｓ−、−ＳＣ（＝Ｏ）−、−ＣＨ2Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）ＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝Ｎ−、−Ｎ＝ＣＨ−、および、−Ｎ＝Ｎ−からなる群から選択されるいずれか連結基を表し、Ｒ3は、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、または、炭素数６〜２０のアリール基を表す。
本発明においては、Ｒ3が示すアルキル基およびＲ3が示すアリール基としては、上述した式（Ｉ）中のＬ1で説明したものと同様である。
また、溶解性に優れ、製造適性が向上する理由から、上記式（Ｉｂ）中のＬ1が、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−または−ＯＣ（＝Ｏ）−であるのが好ましい。
【０１０８】
また、上記式（Ｉｂ）中、Ｓｐ1は、単結合、炭素数１〜２０の直鎖状もしくは分岐鎖状のアルキレン基、および、炭素数１〜２０の直鎖状もしくは分岐鎖状のアルキレン基を構成する−ＣＨ2−の１個以上が−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−Ｎ（ＣＨ3）−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＯＣ（＝Ｏ）−または−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−で置換された基、からなる群から選択されるいずれか連結基を表す。
本発明においては、Ｓｐ1が示す炭素数１〜２０の直鎖状もしくは分岐鎖状のアルキレン基（置換前のアルキレン基も含む。）としては、上述した式（Ｉ）中のＳｐ1で説明したものと同様である。
また、液晶性を発現する理由から、上記式（Ｉｂ）中のＳｐ1が、炭素数１〜２０の直鎖状もしくは分岐鎖状のアルキレン基を構成する−ＣＨ2−の１個以上が−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−Ｎ（ＣＨ3）−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＯＣ（＝Ｏ）−または−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−で置換された基（連結基）であるのが好ましく、炭素数５〜１５の直鎖状もしくは分岐鎖状のアルキレン基を構成する−ＣＨ2−の１個以上が−Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）−または−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−で置換された基（連結基）であるのがより好ましく、炭素数５〜１５の直鎖状もしくは分岐鎖状のアルキレン基を構成する−ＣＨ2−の１個または２個が−ＯＣ（＝Ｏ）−または−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−で置換され、かつ、炭素数５〜１５の直鎖状もしくは分岐鎖状のアルキレン基を構成する−ＣＨ2−の１個が−Ｏ−で置換された基（連結基）であるのが更に好ましい。
【０１０９】
また、上記式（Ｉｂ）中、Ｒ1は、下記式（Ｒ−１）〜（Ｒ−５）で表される基からなる群から選択されるいずれかの重合性基を表す。下記式（Ｒ−１）〜（Ｒ−５）中、＊はＳｐ1との結合位置を表す。
【化３０】
2017090644.tif 000033
【０１１０】
一方、上記式（ＩＩｂ）中、ｈは、０〜１の整数を表す。
本発明においては、溶解性に優れ、製造適性が向上する理由から、ｈが０であるのが好ましい。
【０１１１】
また、上記式（ＩＩｂ）中、Ｘ6は、置換基を表し、ｐは、０〜４の整数を表す。ｐが２〜４の整数である場合、複数のＸ6は、それぞれ同一であっても異なっていてもよい。
置換基としては、上述した式（Ｉ）中のＺ1で説明したものと同様、例えば、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子などが挙げられる。
【０１１２】
また、上記式（ＩＩｂ）中、Ｌ5は、単結合、−ＣＯＯ−、または、−ＯＣＯ−を表し、Ａは、炭素数６以上の芳香環、または、炭素数６以上のシクロアルキレン環を表す。
本発明においては、Ａが示す炭素数６以上の芳香環および炭素数６以上のシクロアルキレン環としては、上述した式（ＩＩ）中のＡで説明したものと同様である。
【０１１３】
また、上記式（ＩＩｂ）中、Ｓｐ3は、単結合、炭素数１〜１２の直鎖状もしくは分岐状のアルキレン基、または、炭素数１〜１２の直鎖状もしくは分岐状のアルキレン基を構成する−ＣＨ2−の１個以上が−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−Ｎ（Ｑ）−、もしくは、−ＣＯ−に置換された２価の連結基を表し、Ｑは、重合性基を表す。
本発明においては、Ｓｐ3が示す炭素数１〜１２の直鎖状もしくは分岐状のアルキレン基としては、上述した式（ＩＩ）中のＳｐ3で説明したものと同様である。
【０１１４】
＜反応条件＞
上記反応工程は、上述した通り、フェノール系化合物の当量に対する１，４−シクロヘキサンジカルボン酸ジクロライドの当量の比率を１．５以上１０以下とし、共役酸の酸解離定数ｐＫａが７以上３０以下となる塩基の存在下で行う。
ここで、酸解離定数ｐＫａとは、水溶液中でのｐＫａを意味し、例えば、化学便覧（ＩＩ）（改訂４版、１９９３年、日本化学会編、丸善株式会社）に記載のものであり、この値が低いほど酸強度が大きいことを示している。水溶液中での酸解離定数ｐＫａは、具体的には、無限希釈水溶液を用い、２５℃での酸解離定数を測定することにより実測することができ、また、下記ソフトウェアパッケージ１を用いて、ハメットの置換基定数及び公知文献値のデータベースに基づいた値を、計算により求めることもできる。本明細書中に記載したｐＫａの値は、全て、このソフトウェアパッケージを用いて計算により求めた値を示している。
＜ソフトウェアパッケージ１＞
Advanced Chemistry Development (ACD/Labs) Software V8.14 for Solaris (1994-2007 ACD/Labs)。
【０１１５】
本発明のモノアリールエステルの製造方法においては、上記反応工程を経ることにより、モノアリールエステル体の生成が優先され、ジアリールエステル体の生成が抑制され、後述する加水分解工程により所望の１，４−シクロヘキサンジカルボン酸モノアリールエステルを効率的に得ることができる。
【０１１６】
本発明においては、上記反応工程は、フェノール系化合物のモル当量に対する１，４−シクロヘキサンジカルボン酸ジクロライドのモル当量の比率を１．６〜３．０とすることが好ましく、１．７〜２．５とすることがより好ましい。
【０１１７】
また、上記反応工程は、共役酸の酸解離定数ｐＫａが８以上２０以下となる塩基の存在下で行うことが好ましく、共役酸の酸解離定数ｐＫａが９以上１３以下となる塩基の存在下で行うことがより好ましい。
このような塩基としては、具体的には、例えば、トリエチルアミン、Ｎ−エチルジイソプロピルアミン、Ｎ−メチルモルホリン、トリブチルアミン、Ｎ−メチルピペリジン、Ｎ−ブチルジメチルアミン等が挙げられる。
【０１１８】
〔加水分解工程〕
本発明のモノアリールエステルの製造方法が有する加水分解工程は、上記反応工程で得られる反応生成物を加水分解することにより、下記式（Ｉａ）または式（ＩＩａ）で表される１，４−シクロヘキサンジカルボン酸モノアリールエステルを得る工程である。
【化３１】
2017090644.tif 000034
ここで、上記式（Ｉａ）中のＲ1、Ｓｐ1、Ｚ1、Ｌ1、ｇ、Ｘ5およびｋは、いずれも、上述した式（Ｉｂ）において説明したものと同様である。
また、上記式（ＩＩａ）中のＱ、Ｓｐ3、Ａ、Ｌ5、ｈ、Ｘ6およびｐは、いずれも、上述した式（ＩＩｂ）において説明したものと同様である。
【実施例】
【０１１９】
以下に実施例に基づいて本発明をさらに詳細に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。したがって、本発明の範囲は以下に示す実施例により限定的に解釈されるべきものではない。【０１２０】
〔重合性化合物（Ｉ−１）の合成〕
下記スキームに従い、化合物（Ｉ−１）を合成した。なお、化合物（Ｉ−１）は、上述した式（Ｉ−１）で表される化合物と同じ化合物である。
【化３２】
2017090644.tif 000035
【０１２１】
＜化合物（Ｉ−１Ｂ）の合成＞
コハク酸モノ（２−アクリロイルオキシエチル）（Ｉ−１Ａ）１８２ｇ（８３９ｍｍｏｌ）、酢酸エチル６００ｍＬ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド１５０ｍＬ、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノール６８０ｍｇを混合し、内温を５℃まで冷却した。混合物に、塩化チオニル６４２ｍＬ（８７９ｍｍｏｌ）を内温が１０℃以上に上昇しないように滴下した。５℃で１時間撹拌した後、２−（４−ヒドロキシフェニル）エタノール１１１ｇ（８００ｍｍｏｌ）のＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド２２０ｍＬ溶液を加えた。その後、室温にて１２時間撹拌した後、水４００ｍＬを加えて分液を行った。集めた有機層を１Ｎ塩酸水、飽和重曹水、飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。硫酸ナトリウムを濾別して、ロータリーエバポレーターで溶媒を除去し、透明なオイルである化合物（Ｉ−１Ｂ）を２５５ｇ（７５８ｍｍｏｌ）得た（収率９５％）。
得られた化合物（Ｉ−１Ｂ）の1Ｈ−ＮＭＲ（nuclear magnetic resonance）を以下に示す。
1Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：ＣＤＣｌ3）δ（ｐｐｍ）：２．６３（ｓ，４Ｈ），２．８５（ｔ，２Ｈ），４．２５（ｔ，２Ｈ），４．２８−４．４０（ｍ，４Ｈ），５．７５（ｂｒ ｓ，１Ｈ），５．８６（ｄｄ，１Ｈ），６．１４（ｄｄ，１Ｈ），６．４５（ｄｄ，１Ｈ），６．７８−６．８０（ｍ，２Ｈ），７．０２−７．１０（ｍ，２Ｈ）【０１２２】
＜化合物（Ｉ−１Ｃ）の合成＞
１，４−トランス−シクロヘキサンジカルボン酸３０５ｇ（１．７７ｍｏｌ）、メタンスルホン酸クロリド７４．２ｇ（６４８ｍｍｏｌ）、テトラヒドロフラン５７６ｍＬ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド５７６ｍＬを、室温にて混合した。得られた混合物に内温が３０℃以上に上昇しないよう、トリエチルアミン７２ｇ（７０８ｍｍｏｌ）を滴下し、その後室温にて２時間撹拌した。この反応液に、化合物（Ｉ−１Ｂ）１９８ｇ（５８９ｍｍｏｌ）と２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノール１２ｍｇのテトラヒドロフラン５０ｍＬ溶液を加えた。その後、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン１．４ｇ（１１ｍｍｏｌ）を加えた後、トリエチルアミン７２ｇ（７０８ｍｍｏｌ）を内温が３０℃以上に上昇しないように滴下した。その後、室温にて１２時間撹拌した後、水５７ｍＬを加えて反応を停止した。得られた反応液を、１．８ｗｔ％重曹水５．７Ｌ中に滴下し、析出した固形分をろ過により集めた。得られた固形分を１．６Ｌのメタノールと混合した後、水１．９Ｌを加えて、再び析出した固形分をろ過により集めた。得られた固形分を乾燥させた後、酢酸エチル１．６Ｌに溶かした。得られた溶液にヘキサン１．９Ｌをゆっくりと加えて、再結晶を行い、沈殿した結晶をろ過により集めることで白色固体（Ｉ−１Ｃ）２０２ｇを得た（収率７０％）。得られた白色固体（Ｉ−１Ｃ）の1Ｈ−ＮＭＲを以下に示す。
この際、不純物としてシクロヘキサンジカルボン酸のジエステル体が残存するが、次工程で除けるため、混合物の状態で次工程に使用した。
1Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：ＣＤＣｌ3）δ（ｐｐｍ）：１．４０−１．７３（ｍ，４Ｈ），２．０８−２．３１（ｍ，４Ｈ），２．３１−２．４５（ｍ，１Ｈ），２．４５−２．７０（ｍ，１Ｈ），２．６３（ｍ，４Ｈ），２．９３（ｔ，２Ｈ），４．２９（ｔ，２Ｈ），４．２９−４．４０（ｍ，４Ｈ），５．８６（ｄｄ，１Ｈ），６．１５（ｄｄ，１Ｈ），６．４４（ｄｄ，１Ｈ），６．９５−７．０５（ｍ，２Ｈ），７．１７−７．２５（ｍ，２Ｈ）【０１２３】
＜化合物（Ｉ−１）の合成＞
化合物（Ｉ−１Ｃ）（純度７４．１５％）６７．４４ｇ、酢酸エチル２８０ｍｌ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド７５ｍｌ、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノール３００ｍｇを混合し、内温を０℃まで冷却した。混合物に、塩化チオニル１２．０４ｇを内温０〜５℃にて滴下した。５℃で６０分間攪拌した後、化合物トリメチルハイドロキノン６．３８ｇ、酢酸エチル１０ｍｌの溶液を内温０〜８℃にて滴下した。その後、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン１．５４ｇを添加し、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン２６．１４ｇを内温０〜１０℃にて滴下した。内温１５〜２０℃で４時間攪拌した後、アセトニトリル２００ｍｌ、水２００ｍｌ、濃塩酸２１ｍｌを加え洗浄した。有機層を飽和食塩水２００ｍｌで洗浄、分液し、続いて、飽和食塩水１００ｍｌ、７．５ｗｔ％重曹水１０ｍｌで洗浄、分液した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、シルカゲル（ワコーゲルＣ−２００）１９ｇを添加し６０分間攪拌した。硫酸マグネシウムおよびシリカゲルを濾別して溶媒を減圧留去した後、メタノールを用いて再結晶を行い、化合物（Ｉ−１）３７．８ｇ（収率８０％）を得た。
得られた化合物（Ｉ−１）の1Ｈ−ＮＭＲを以下に示す。
1Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：ＣＤＣｌ3）σ（ｐｐｍ）：１．２５−１．３２（ｍ，８Ｈ），１．６２−１．７６（ｍ，８Ｈ），２．０５（ｓ，３Ｈ），２．０６（ｓ，３Ｈ），２．１０（ｓ，３Ｈ），２．２１−２．３７（ｍ，８Ｈ），２．５４−２．６８（ｍ，１２Ｈ），２．９４（ｔ，４Ｈ），４．１０−４．２４（ｍ，４ｓＨ），４．２９（ｔ，４Ｈ），５．１５−５．２５（ｍ，２Ｈ），５．８２−５．８８（ｍ，２Ｈ），６．０７−６．１８（ｍ，２Ｈ），６．３８−６．４６（ｍ，２Ｈ），６．７３（ｓ，１Ｈ），７．０１（ｄ，４Ｈ），７．２３（ｄ，４Ｈ）【０１２４】
＜化合物（Ｉ−１Ｃ）の合成＞
下記スキームに従い、上記化合物（Ｉ−１）を合成に用いる上記化合物（Ｉ−１Ｃ）を合成した。その結果、上述したスキームと比べて、不純物であるシクロヘキサンジカルボン酸のジエステル体の生成が抑制されることが分かった。
【化３３】
2017090644.tif 000036
【０１２５】
具体的には、化合物（Ｉ−１Ｂ）８．４１ｇ（２５．０ｍｍｏｌ）、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノール６０ｍｇ、トランス−１，４−シクロヘキサンジカルボン酸ジクロライド９．４１ｇ（４５．０ｍｍｏｌ）、および、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）４０ｍｌを混合した後、Ｎ−エチルジイソプロピルアミン（ｉＰｒ２ＮＥｔ）〔ｐＫａ値：１１〕３．８８ｇ（３０．０ｍｍｏｌ）を５℃〜１０℃にて３０分かけて滴下した。
次いで、５℃〜１０℃にて１時間撹拌した後、炭酸ナトリウム水２０ｍｌを、３０分かけて滴下し、３０分間撹拌した。
次いで、分液した後、有機層に酢酸エチル１８ｍｌを加え、炭酸ナトリウム水で２回、希塩酸水で１回洗浄した。溶媒を減圧留去した後、エタノール／ヘプタン混合溶媒を用いて再結晶を行い、化合物（Ｉ−１Ｃ）１０．８９ｇ（粗収率８８．８％）を得た。高速液体クロマトグラフィー（high performance liquid chromatography：ＨＰＬＣ）にて、精製した化合物Ｉ−１Ｃを用いて定量した結果、純度は８１．６％であり、収率は７２．５％であった。また、ＨＰＬＣより、化合物Ｉ−１Ｃ／ジエステル体の比は９１／９であった。【０１２６】
〔重合性化合物（Ｉ−２）の合成〕
下記スキームに従い、化合物（Ｉ−２）を合成した。なお、化合物（Ｉ−２）は、上述した式（Ｉ−２）で表される化合物と同じ化合物である。
【化３４】
2017090644.tif 000037
【０１２７】
＜化合物（Ｉ−２Ａ）の合成＞
メタクリル酸２−ヒドロキシエチル（Ｉ−２ａ）４０ｇ（３０７ｍｍｏｌ）、ジクロロメタン３００ｍＬ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン３．８ｇ（３０．７ｍｍｏｌ）、無水コハク酸３３．８ｇ（３３８ｍｍｏｌ）、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノール２００ｍｇを混合し、内温を４０℃まで加熱した。１２時間撹拌した後、室温へと冷却して水３００ｍＬを加えて１時間撹拌し、分液を行った。集めた有機層を１Ｎ塩酸水、飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。硫酸ナトリウムを濾別して、ロータリーエバポレーターで溶媒を除去し、透明なオイルである化合物（Ｉ−２Ａ）を６４ｇ（２７８ｍｍｏｌ）得た（収率９１％）。【０１２８】
＜化合物（Ｉ−２Ｂ）の合成＞
化合物（Ｉ−２Ａ）３０ｇ（１３０ｍｍｏｌ）、酢酸エチル５０ｍＬ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド１５ｍＬ、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノール１００ｍｇを混合し、内温を５℃まで冷却した。混合物に、塩化チオニル１０．０ｍＬ（１３７ｍｍｏｌ）を内温が１０℃以上に上昇しないように滴下した。５℃で１時間撹拌した後、２−（４−ヒドロキシフェニル）エタノール１８．０ｇ（１３０ｍｍｏｌ）のＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド１００ｍＬ溶液を加えた。その後、室温にて１２時間撹拌した後、水１００ｍＬを加えて分液を行った。集めた有機層を１Ｎ塩酸水、飽和重曹水、飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。硫酸ナトリウムを濾別して、ロータリーエバポレーターで溶媒を除去し、透明なオイルである化合物（Ｉ−２Ｂ）を４４．１ｇ（１２６ｍｍｏｌ）得た（収率９７％）。【０１２９】
＜化合物（Ｉ−２Ｃ）の合成＞
１，４−トランス−シクロヘキサンジカルボン酸１４．７ｇ（８５．６ｍｏｌ）、メタンスルホン酸クロリド３．６０ｇ（３１．４ｍｍｏｌ）、テトラヒドロフラン２８ｍＬ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド２８ｍＬを、室温にて混合した。得られた混合物に内温が３０℃以上に上昇しないよう、トリエチルアミン３．２ｇ（３１．６ｍｍｏｌ）を滴下し、その後室温にて２時間撹拌した。この反応液に、化合物（Ｉ−２Ｂ）１０ｇ（２８．５ｍｍｏｌ）と２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノール５０ｍｇのテトラヒドロフラン１０ｍＬ溶液を加えた。その後、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン１７１ｍｇ（１．４ｍｍｏｌ）を加えた後、トリエチルアミン３．２ｇ（３１．６ｍｍｏｌ）を内温が３０℃以上に上昇しないように滴下した。その後、室温にて１２時間撹拌した後、水７ｍＬを加えて反応を停止した。得られた反応液を、１．８ｗｔ％重曹水２７５ｍＬ中に滴下し、析出した固形分をろ過により集めた。得られた固形分を８０ｍＬのメタノールと混合した後、水９２ｍＬを加えて、再び析出した固形分をろ過により集めた。得られた固形分を乾燥させた後、酢酸エチル８０ｍＬに溶かした。得られた溶液にヘキサン９２ｍＬをゆっくりと加えて、再結晶を行い、沈殿した結晶をろ過により集めることで白色固体（Ｉ−２Ｃ）９．８ｇ（１９．４ｍｍｏｌ）を得た（収率６８％）。この際、不純物としてシクロヘキサンジカルボン酸のジエステル体が残存するが、次工程で除けるため、混合物の状態で次工程に使用した。【０１３０】
＜化合物（Ｉ−２）の合成＞
化合物（Ｉ−１）の合成法における、化合物（Ｉ−１Ｃ）を化合物（Ｉ−２Ｃ）に変更した以外は化合物（Ｉ−１）と同様の方法で、化合物（Ｉ−２）を合成した。（収率８０％）
得られた化合物（Ｉ−２）の1Ｈ−ＮＭＲを以下に示す。
1Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：ＣＤＣｌ3）σ（ｐｐｍ）：１．２５−１．３２（ｍ，８Ｈ），１．６２−１．７６（ｍ，８Ｈ），１．９５（ｓ，６Ｈ），２．０５（ｓ，３Ｈ），２．０６（ｓ，３Ｈ），２．１０（ｓ，３Ｈ），２．２１−２．３７（ｍ，８Ｈ），２．５４−２．６８（ｍ，１２Ｈ），２．９４（ｔ，４Ｈ），４．１０−４．２４（ｍ，４Ｈ），４．２９（ｔ，４Ｈ），５．１５−５．２５（ｍ，２Ｈ），５．５９（ｓ，２Ｈ），６．１２（ｓ，２Ｈ），６．７３（ｓ，１Ｈ），７．０１（ｄ，４Ｈ），７．２３（ｄ，４Ｈ）【０１３１】
〔重合性化合物（Ｉ−３）の合成〕
下記スキームに従い、化合物（Ｉ−３）を合成した。なお、化合物（Ｉ−３）は、上述した式（Ｉ−３）で表される化合物と同じ化合物である。
【化３５】
2017090644.tif 000038
【０１３２】
＜化合物（Ｉ−３Ａ）の合成＞
化合物（Ｉ−２Ａ）の合成法における、化合物（Ｉ−２ａ）を化合物（Ｉ−３ａ）に変更した以外は化合物（Ｉ−２Ａ）と同様の方法で、化合物（Ｉ−３Ａ）を合成した（収率９２％）。【０１３３】
＜化合物（Ｉ−３Ｂ）の合成＞
化合物（Ｉ−１Ｂ）の合成法における、化合物（Ｉ−１Ａ）を化合物（Ｉ−３Ａ）に変更した以外は化合物（Ｉ−１Ｂ）と同様の方法で、化合物（Ｉ−３Ｂ）を合成した（収率９４％）。【０１３４】
＜化合物（Ｉ−３Ｃ）の合成＞
化合物（Ｉ−１Ｃ）の合成法における、化合物（Ｉ−１Ｂ）を化合物（Ｉ−３Ｂ）に変更した以外は化合物（Ｉ−１Ｃ）と同様の方法で、化合物（Ｉ−３Ｃ）を合成した（収率７０％）。【０１３５】
＜化合物（Ｉ−３）の合成＞
化合物（Ｉ−１）の合成法における、化合物（Ｉ−１Ｃ）を化合物（Ｉ−３Ｃ）に変更した以外は化合物（Ｉ−１）と同様の方法で、化合物（Ｉ−３）を合成した（収率８８％）。
得られた化合物（Ｉ−３）の1Ｈ−ＮＭＲを以下に示す。
1Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：ＣＤＣｌ3）δ（ｐｐｍ）：１．４５−１．７２（ｍ，８Ｈ），１．７２−１．８０（ｍ，８Ｈ），２．０５（ｓ，３Ｈ），２．０６（ｓ，３Ｈ），２．１０（ｓ，３Ｈ），２．１０−２．３０（ｍ，８Ｈ），２．３３−２．４５（ｍ，２Ｈ），２．４７−２．６５（ｍ，２Ｈ），２．６２（ｓ，８Ｈ），２．９３（ｔ，４Ｈ），４．１０−４．２２（ｍ，８Ｈ），４．３０（ｔ，４Ｈ），５．８３（ｄｄ，２Ｈ），６．１２（ｄｄ，２Ｈ），６．４１（ｄｄ，２Ｈ），６．７３（ｓ，１Ｈ），７．０１（ｄ，４Ｈ），７．２３（ｄ，４Ｈ）【０１３６】
〔重合性化合物（Ｉ−４）の合成〕
下記スキームに従い、化合物（Ｉ−４）を合成した。なお、化合物（Ｉ−４）は、上述した式（Ｉ−４）で表される化合物と上述した式（Ｉ−５）で表される化合物との混合物として得られる化合物である。
【化３６】
2017090644.tif 000039
【０１３７】
＜化合物（Ｉ−４Ａ）の合成＞
化合物（Ｉ−２Ａ）の合成法における、化合物（Ｉ−２ａ）を化合物（Ｉ−４ａ）に変更した以外は化合物（Ｉ−２Ａ）と同様の方法で、化合物（Ｉ−４Ａ）を合成した（収率９９％）。【０１３８】
＜化合物（Ｉ−４Ｂ）の合成＞
化合物（Ｉ−１Ｂ）の合成法における、化合物（Ｉ−１Ａ）を化合物（Ｉ−４Ａ）に変更した以外は化合物（Ｉ−１Ｂ）と同様の方法で、化合物（Ｉ−４Ｂ）を合成した（収率９１％）。【０１３９】
＜化合物（Ｉ−４Ｃ）の合成＞
化合物（Ｉ−１Ｃ）の合成法における、化合物（Ｉ−１Ｂ）を化合物（Ｉ−４Ｂ）に変更した以外は化合物（Ｉ−１Ｃ）と同様の方法で、化合物（Ｉ−４Ｃ）を合成した（収率６７％）。【０１４０】
＜化合物（Ｉ−４）の合成＞
化合物（Ｉ−１）の合成法における、化合物（Ｉ−１Ｃ）を化合物（Ｉ−４Ｃ）に変更した以外は化合物（Ｉ−１）と同様の方法で、化合物（Ｉ−４）を合成した（収率８０％）。
得られた化合物（Ｉ−４）の1Ｈ−ＮＭＲを以下に示す。
1Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：ＣＤＣｌ3）σ（ｐｐｍ）：１．２５−１．３２（ｍ，６Ｈ），１．６２−１．７６（ｍ，８Ｈ），２．０５（ｓ，３Ｈ），２．０６（ｓ，３Ｈ），２．１０（ｓ，３Ｈ），２．２１−２．３７（ｍ，８Ｈ），２．５４−２．６８（ｍ，１２Ｈ），２．９４（ｔ，４Ｈ），４．１０−４．２４（ｍ，４Ｈ），４．２９（ｔ，４Ｈ），５．１５−５．２５（ｍ，２Ｈ），５．８２−５．８８（ｍ，２Ｈ），６．０７−６．１８（ｍ，２Ｈ），６．３８−６．４６（ｍ，２Ｈ），６．７３（ｓ，１Ｈ），７．０１（ｄ，４Ｈ），７．２３（ｄ，４Ｈ）【０１４１】
〔重合性化合物（Ｉ−５）の合成〕
下記スキームに従い、化合物（Ｉ−５）を合成した。
なお、下記スキーム中、化合物（Ｉ−５Ａ）は、上述した重合性化合物（Ｉ−４）の合成に用いた化合物（Ｉ−４Ａ）と同様の混合物である。
また、化合物（Ｉ−５）は、上述した式（Ｉ−４１）で表される化合物と同じ化合物である。
【化３７】
2017090644.tif 000040
【０１４２】
＜化合物（Ｉ−５）の合成＞
化合物（Ｉ−５Ａ）（７４．５４％）５．１０ｇ（７．５ｍｍｏｌ）、酢酸エチル２１ｍｌ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド５ｍｌ、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノール１０．６ｍｇを混合し、内温を０℃まで冷却した。混合物に、塩化チオニル０．９４ｇ（７．９ｍｏｌ）を内温０〜５℃にて滴下した。５℃で６０分間攪拌した後、化合物（Ｉ−５Ｂ）であるジメチルハイドロキノン０．４４ｇ（３．２ｍｍｏｌ）、テトラヒドロフラン５．６ｍｌ、ピリジン１．４５ｇ（１８．３ｍｍｏｌ）の溶液を内温０〜８℃にて滴下した。５℃で６０分間撹拌した後、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン３９．２ｍｇ、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン２．０７ｇ（１６．０ｍｍｏｌ）を内温０〜１０℃にて滴下した。内温１５〜２０℃で１．５時間攪拌した後、酢酸エチル５ｍｌ、水１９ｍｌ、濃塩酸１．６ｍｌを加え洗浄した。有機層を１５ｗｔ％食塩水１５ｍｌで洗浄、分液し、続いて、１５ｗｔ％食塩水１５ｍｌで洗浄、分液した。有機層に無水硫酸マグネシウム１．５６ｇを添加し３０分撹拌したのち、シリカゲル（ワコーゲルＣ−２００）１．５６ｇを添加し３０分間攪拌した。その後、活性炭を０．５ｇ添加して更に３０分間撹拌した。硫酸マグネシウム、シリカゲル、および活性炭を濾別して溶媒を減圧留去した後、メタノール３０ｍｌを用いて再結晶を行い、化合物（Ｉ−５）１．２ｇ（収率３４．２％）を得た。
得られた化合物（Ｉ−５）の1Ｈ−ＮＭＲを以下に示す。
1Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：ＣＤＣｌ3）δ（ｐｐｍ）：１．２６（ｍ，６Ｈ），１．６４−１．７０（ｍ，８Ｈ），２．０９（ｓ，６Ｈ），２．２７−２．３０（ｍ，８Ｈ），２．５７−２．６３（ｍ，１２Ｈ），２．９４（ｔ，Ｊ＝６．０Ｈｚ，４Ｈ），４．１２−４．２６（ｍ，４Ｈ），４．２９（ｔ，Ｊ＝６．０Ｈｚ，４Ｈ），５．１７−５．３０（ｍ，２Ｈ），５．８２−５．８８（ｍ，２Ｈ），６．０７−６．１８（ｍ，２Ｈ），６．３８−６．４６（ｍ，２Ｈ），６．８６（ｓ，２Ｈ），７．０１（ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ，４Ｈ），７．２２（ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ，４Ｈ）【０１４３】
〔重合性化合物（Ｉ−６）の合成〕
下記スキームに従い、化合物（Ｉ−６）を合成した。
なお、下記スキーム中、化合物（Ｉ−６Ａ）は、上述した重合性化合物（Ｉ−４）の合成に用いた化合物（Ｉ−４Ａ）と同様の混合物である。
また、化合物（Ｉ−６）は、上述した式（Ｉ−４３）で表される化合物と同じ化合物である。
【化３８】
2017090644.tif 000041
【０１４４】
＜化合物（Ｉ−６）の合成＞
化合物（Ｉ−６Ａ）（７４．５４％）９．７８ｇ（１４．４ｍｍｏｌ）、ジクロロメタン１５ｍｌ、クロロホルム４ｍｌ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン４４ｍｇ（０．３６ｍｍｏｌ）、１−（３−ジメチルアミノプロピル）−３−エチルカルボジイミド塩酸塩４．１６ｇ（２１．７ｍｍｏｌ）を加え室温で１０分撹拌した。その後、化合物（Ｉ−６Ｂ）であるテトラメチルヒドロキノン０．６ｇ（３．６１ｍｍｏｌ）を添加しさらに５時間撹拌した。得られた溶液にヘキサン５０ｍＬ、１規定塩酸１５０ｍＬを添加し、有機層を洗浄後、分液した。有機層を１５％食塩水１００ｍｌで洗浄、分液した後、さらに有機層を１５％食塩水１００ｍｌで洗浄、分液した。溶媒を減圧留去し、酢酸エチル４０ｍｌ、無水硫酸マグネシウム１．５６ｇを添加し３０分撹拌したのち、シリカゲル（ワコーゲルＣ−２００）１．５６ｇを添加し３０分間攪拌した。その後、硫酸マグネシウムおよびシリカゲルを濾別して溶媒を減圧留去した後、メタノール５０ｍｌを用いて再結晶を行った。その後、シリカゲルカラム（ヘキサン／酢酸エチル＝１／２）を行い、化合物（Ｉ−６）１．３ｇ（収率３１．６％）を得た。
得られた化合物（Ｉ−６）の1Ｈ−ＮＭＲを以下に示す。
1Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：ＣＤＣｌ3）δ（ｐｐｍ）：１．２６（ｍ，６Ｈ），１．６４−１．７０（ｍ，８Ｈ），２．０９（ｓ，１２Ｈ），２．２７−２．３０（ｍ，８Ｈ），２．５７−２．６３（ｍ，１２Ｈ），２．９４（ｔ，Ｊ＝６．０Ｈｚ，４Ｈ），４．１２−４．２６（ｍ，４Ｈ），４．２９（ｔ，Ｊ＝６．０Ｈｚ，４Ｈ），５．１７−５．３０（ｍ，２Ｈ），５．８２−５．８８（ｍ，２Ｈ），６．０７−６．１８（ｍ，２Ｈ），６．３８−６．４６（ｍ，２Ｈ），７．０１（ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ，４Ｈ），７．２２（ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ，４Ｈ）【０１４５】
〔重合性化合物（Ｉ−７）の合成〕
下記スキームに従い、化合物（Ｉ−７）を合成した。なお、化合物（Ｉ−７）は、上述した式（Ｉ−６６）で表される化合物と同じ化合物である。
【化３９】
2017090644.tif 000042
【０１４６】
＜化合物（Ｉ−７Ａ）の合成＞
化合物（Ｉ−７Ａ）は、特開２０１０−０３１２２３号公報の［０２４４］〜［０２４６］段落に記載された方法で合成した。【０１４７】
＜化合物（Ｉ−７）の合成＞
化合物（Ｉ−７Ａ）５．８２ｇ（１４．４ｍｍｏｌ）、ジクロロメタン１５ｍｌ、クロロホルム４ｍｌ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン４４ｍｇ（０．３６ｍｍｏｌ）、１−（３−ジメチルアミノプロピル）−３−エチルカルボジイミド塩酸塩４．１６ｇ（２１．７ｍｍｏｌ）を加え室温で１０分撹拌した。その後、トリメチルヒドロキノン０．６ｇ（３．９４ｍｍｏｌ）を添加しさらに５時間撹拌した。得られた溶液にヘキサン５０ｍＬ、１規定塩酸１５０ｍＬを添加し、有機層を洗浄後、分液した。有機層を１５％食塩水１００ｍｌで洗浄、分液した後、さらに有機層を１５％食塩水１００ｍｌで洗浄、分液した。溶媒を減圧留去し、酢酸エチル４０ｍｌ、無水硫酸マグネシウム１．５６ｇを添加し３０分撹拌したのち、シリカゲル（ワコーゲルＣ−２００）１．５６ｇを添加し３０分間攪拌した。その後、硫酸マグネシウムおよびシリカゲルを濾別して溶媒を減圧留去した後、メタノール５０ｍｌを用いて再結晶を行った。その後、シリカゲルカラム（ヘキサン／酢酸エチル＝１／２）を行い、化合物（Ｉ−７）１．０ｇ（収率２６．６％）を得た。
得られた化合物（Ｉ−７）の1Ｈ−ＮＭＲを以下に示す。
1Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：ＣＤＣｌ3）σ（ｐｐｍ）：１．４３−１．５４（ｍ、８Ｈ），１．６２−１．７６（ｍ、１６Ｈ），２．０６（ｓ，３Ｈ），２．０８（ｓ，３Ｈ），２．１５（ｓ，３Ｈ），２．２７（ｍ、４Ｈ），３．９７（ｔ、４Ｈ），４．０６（ｔ、４Ｈ），５．５９（ｄ、２Ｈ），６．０５（ｔ、２Ｈ），６．２７（ｄ、２Ｈ），６．９７（ｓ，１Ｈ），６．８８（ｄ、４Ｈ），６．９６（ｄ、４Ｈ）【０１４８】
〔重合性化合物（Ｘ−１）の合成〕
下記スキームに従い、化合物（Ｘ−１）を合成した。
【化４０】
2017090644.tif 000043
【０１４９】
＜化合物（Ｘ−１）の合成＞
化合物（Ｉ−１Ｃ）までは化合物（Ｉ−１）と同様に合成した。
化合物（Ｉ−１Ｃ）（純度７４．５４％）１４．５１ｇ（０．０２１ｍｏｌ）、酢酸エチル６２ｍｌ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド１５ｍｌ、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノール３２．４ｍｇを混合し、内温を０℃まで冷却した。混合物に、塩化チオニル２．６６ｇ（０．０２２ｍｏｌ）を内温０〜５℃にて滴下した。５℃で６０分間攪拌した後、ハイドロキノン１．０ｇ（０．００９ｍｏｌ）、酢酸エチル１０ｍｌの溶液を内温０〜８℃にて滴下した。その後、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン５．７７ｇ（０．０４５ｍｏｌ）を内温０〜１０℃にて滴下した。内温１５〜２０℃で４．５時間攪拌した後、内温を０℃まで冷却した。１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン３．０４ｇ（０．０２０ｍｏｌ）を内温０〜５℃にて滴下した。内温１５〜２０℃で１．３時間攪拌した後、酢酸エチル１５０ｍｌ、水１００ｍｌ、濃塩酸１０ｍｌを加え洗浄した。有機層を飽和食塩水１００ｍｌで洗浄、分液し、続いて、飽和食塩水１００ｍｌ、７．５ｗｔ％重曹水５０ｍｌで洗浄、分液した。更に飽和食塩水１００ｍｌで洗浄した後、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、シルカゲル（ワコーゲルＣ−２００）１０ｇを添加し６０分間攪拌した。硫酸マグネシウムおよびシリカゲルを濾別して溶媒を減圧留去した後、メタノール１００ｍｌを用いて再結晶を行い、化合物（Ｘ−１）３．０ｇ（収率３０．４％）を得た。
得られた化合物（Ｘ−１）の1Ｈ−ＮＭＲを以下に示す。
1Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：ＣＤＣｌ3）σ（ｐｐｍ）：１．２５−１．３２（ｍ，８Ｈ），１．６２−１．７６（ｍ，８Ｈ），２．２１−２．３７（ｍ，８Ｈ），２．５４−２．６８（ｍ，１２Ｈ），２．９４（ｔ，４Ｈ），４．１０−４．２４（ｍ，４Ｈ），４．２９（ｔ，４Ｈ），５．１５−５．２５（ｍ，２Ｈ），５．８２−５．８８（ｍ，２Ｈ），６．０７−６．１８（ｍ，２Ｈ），６．３８−６．４６（ｍ，２Ｈ），７．００−７．０３（ｍ，４Ｈ），７．１０（ｓ，４Ｈ），７．２１−７．２４（ｍ，４Ｈ）【０１５０】
〔重合性化合物（Ｘ−２）の合成〕
下記スキームに従い、化合物（Ｘ−２）を合成した。
【化４１】
2017090644.tif 000044
【０１５１】
＜化合物（Ｘ−２）の合成＞
化合物（Ｉ−２Ｃ）までは化合物（Ｉ−２）と同様に合成した。
化合物（Ｘ−１）の合成法における、化合物（Ｉ−１Ｃ）を化合物（Ｉ−２Ｃ）に変更した以外は化合物（Ｘ−１）と同様の方法で、化合物（Ｘ−２）を合成した（収率８０％）。
得られた化合物（Ｘ−２）の1Ｈ−ＮＭＲを以下に示す。
1Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：ＣＤＣｌ3）σ（ｐｐｍ）：１．２５−１．３２（ｍ，８Ｈ），１．６２−１．７６（ｍ，８Ｈ），１．９５（ｓ，６Ｈ），２．２１−２．３７（ｍ，８Ｈ），２．５４−２．６８（ｍ，１２Ｈ），２．９４（ｔ，４Ｈ），４．１０−４．２４（ｍ，４Ｈ），４．２９（ｔ，４Ｈ），５．１５−５．２５（ｍ，２Ｈ），５．５９（ｓ，２Ｈ），６．１２（ｓ，２Ｈ），７．００−７．０３（ｍ，４Ｈ），７．１０（ｓ，４Ｈ），７．２１−７．２４（ｍ，４Ｈ）【０１５２】
〔重合性化合物（Ｘ−３）の合成〕
下記スキームに従い、化合物（Ｘ−３）を合成した。
【化４２】
2017090644.tif 000045
【０１５３】
＜化合物（Ｘ−３）の合成）
化合物（Ｉ−３Ｃ）までは化合物（Ｉ−３）と同様に合成した。
化合物（Ｘ−１）の合成法における、化合物（Ｉ−１Ｃ）を化合物（Ｉ−３Ｃ）に変更した以外は化合物（Ｘ−１）と同様の方法で、化合物（Ｘ−３）を合成した（収率８８％）。
得られた化合物（Ｘ−３）の1Ｈ−ＮＭＲを以下に示す。
1Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：ＣＤＣｌ3）δ（ｐｐｍ）：１．４５−１．７２（ｍ，８Ｈ），１．７２−１．８０（ｍ，８Ｈ），２．１０−２．３０（ｍ，８Ｈ），２．３３−２．４５（ｍ，２Ｈ），２．４７−２．６５（ｍ，２Ｈ），２．６２（ｓ，８Ｈ），２．９３（ｔ，４Ｈ），４．１０−４．２２（ｍ，８Ｈ），４．３０（ｔ，４Ｈ），５．８３（ｄｄ，２Ｈ），６．１２（ｄｄ，２Ｈ），６．４１（ｄｄ，２Ｈ），７．００−７．０３（ｍ，４Ｈ），７．１０（ｓ，４Ｈ），７．２１−７．２４（ｍ，４Ｈ）【０１５４】
〔重合性化合物（Ｘ−４）の合成〕
下記スキームに従い、化合物（Ｘ−４）を合成した。
【化４３】
2017090644.tif 000046
【０１５５】
＜化合物（Ｘ−４）の合成＞
化合物（Ｉ−４Ｃ）までは化合物（Ｉ−４）と同様に合成した。
化合物（Ｘ−１）の合成法における、化合物（Ｉ−１Ｃ）を化合物（Ｉ−４Ｃ）に変更した以外は化合物（Ｘ−１）と同様の方法で、化合物（Ｘ−４）を合成した（収率８０％）。
得られた化合物（Ｘ−４）の1Ｈ−ＮＭＲを以下に示す。
1Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：ＣＤＣｌ3）σ（ｐｐｍ）：１．２６−１．３０（ｍ，６Ｈ），１．６４−１．７０（ｍ，８Ｈ），２．２７−２．３０（ｍ，８Ｈ），２．５７−２．６３（ｍ，１２Ｈ），２．９４（ｔ，Ｊ＝６．０Ｈｚ，４Ｈ），４．１２−４．２６（ｍ，４Ｈ），４．２９（ｔ，Ｊ＝６．０Ｈｚ，４Ｈ），５．１７−５．４０（ｍ，２Ｈ），５．８２−５．８８（ｍ，２Ｈ），６．０７−６．１８（ｍ，２Ｈ），６．３８−６．４６（ｍ，２Ｈ），７．００−７．０３（ｍ，４Ｈ），７．１０（ｓ，４Ｈ），７．２１−７．２４（ｍ，４Ｈ）【０１５６】
〔重合性化合物（Ｘ−５）の合成〕
下記スキームに従い、化合物（Ｘ−５）を合成した。
【化４４】
2017090644.tif 000047
【０１５７】
＜化合物（Ｘ−５）の合成＞
化合物（Ｘ−１）の合成法におけるハイドロキノンをメチルハイドロキノンに変更した以外は化合物（Ｘ−１）と同様の方法で化合物（Ｘ−５）を得た（収率６８％）。
得られた化合物（Ｘ−５）の1Ｈ−ＮＭＲを以下に示す。
1Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：ＣＤＣｌ3）σ（ｐｐｍ）：１．２５−１．３２（ｍ，８Ｈ），１．６２−１．７６（ｍ，８Ｈ），２．１８（ｓ，３Ｈ），２．２１−２．３７（ｍ，８Ｈ），２．５４−２．６８（ｍ，１２Ｈ），２．９４（ｔ，４Ｈ），４．１０−４．２４（ｍ，４Ｈ），４．２９（ｔ，４Ｈ），５．１５−５．２５（ｍ，２Ｈ），５．８２−５．８８（ｍ，２Ｈ），６．０７−６．１８（ｍ，２Ｈ），６．３８−６．４６（ｍ，２Ｈ），６．９０−７．００（ｍ，３Ｈ），７．０１（ｄ，４Ｈ），７．２３（ｄ，４Ｈ）【０１５８】
〔重合性化合物（Ｘ−６）の合成〕
下記スキームに従い、化合物（Ｘ−６）を合成した。
【化４５】
2017090644.tif 000048
【０１５９】
＜化合物（Ｘ−６）の合成＞
化合物（Ｉ−４Ｃ）までは化合物（Ｉ−４）と同様に合成した。
化合物（Ｘ−１）の合成法における、化合物（Ｉ−１Ｃ）を化合物（Ｉ−４Ｃ）に変更し、ハイドロキノンをメチルハイドロキノンに変更した以外は、化合物（Ｘ−１）と同様の方法で、化合物（Ｘ−６）を合成した（収率６２％）。
得られた化合物（Ｘ−６）の1Ｈ−ＮＭＲを以下に示す。
1Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：ＣＤＣｌ3）σ（ｐｐｍ）：１．２５−１．３０（ｍ，６Ｈ），１．６０−１．７５（ｍ，８Ｈ），２．１８（ｓ，３Ｈ），２．２１−２．３７（ｍ，８Ｈ），２．５２−２．６８（ｍ，１２Ｈ），２．９４（ｔ，４Ｈ），４．１０−４．２４（ｍ，４Ｈ），４．２９（ｔ，４Ｈ），５．１５−５．２５（ｍ，２Ｈ），５．８２−５．８８（ｍ，２Ｈ），６．０７−６．１８（ｍ，２Ｈ），６．３８−６．４６（ｍ，２Ｈ），６．９０−７．００（ｍ，３Ｈ），７．０１（ｄ，４Ｈ），７．２３（ｄ，４Ｈ）【０１６０】
［実施例１］
＜光配向膜Ｐ−１の形成＞
特開２００１−１４１９２６号公報の実施例１に従い、延伸したポリビニルアルコールフィルムにヨウ素を吸着させることにより作製した膜厚２０μｍの偏光子１の片側の面に、特開２０１２−１５５３０８号公報の実施例３の記載を参考に作製した光配向用塗布液１を２番手のバーを用いて塗布した。
塗布後、乾燥により溶剤を除去し、光異性化組成物層１を形成した。
得られた光異性化組成物層１を偏光紫外線照射（５００ｍＪ／ｃｍ２、７５０Ｗ超高圧水銀ランプ使用）することで、光配向膜Ｐ−１を形成した。【０１６１】
＜光学異方性層１の形成＞
光配向膜Ｐ−１上に、下記組成の光学異方性層用塗布液１をスピンコート法によって塗布し、液晶組成物層１を形成した。
形成した液晶組成物層１をホットプレート上でいったんネマチック相（Ｎｅ相）まで加熱した後、６０℃に冷却することで、スメクチックＡ相（ＳｍＡ相）で配向を安定化させた。
その後、６０℃のまま紫外線照射によって配向を固定化して光学異方性層を形成し、光学フィルムを作製した。【０１６２】
―――――――――――――――――――――――――――――――――
光学異方性層用塗布液１
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記液晶性化合物Ｌ−１                          ４３．７５質量部
・下記液晶性化合物Ｌ−２                          ４３．７５質量部
・上記重合性化合物（Ｉ−１）                      １２．５０質量部
・下記重合開始剤Ｓ−１（オキシム型）                ３．００質量部
・レベリング剤（下記化合物Ｔ−１）                  ０．２０質量部
・メチルエチルケトン                            ２１９．３０質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――【０１６３】
【化４６】
2017090644.tif 000049
【０１６４】
［実施例２］
実施例１で使用した重合性化合物（Ｉ−１）に代えて、重合性化合物（Ｉ−２）を使用した以外は、実施例１と同様の方法で光学フィルムを作製した。【０１６５】
［実施例３］
実施例１で使用した重合性化合物（Ｉ−１）に代えて、重合性化合物（Ｉ−３）を使用した以外は、実施例１と同様の方法で光学フィルムを作製した。【０１６６】
［実施例４］
実施例１で使用した重合性化合物（Ｉ−１）に代えて、重合性化合物（Ｉ−４）を使用した以外は、実施例１と同様の方法で光学フィルムを作製した。【０１６７】
［実施例５］
実施例１で使用した重合性化合物（Ｉ−１）に代えて、重合性化合物（Ｉ−５）を使用した以外は、実施例１と同様の方法で光学フィルムを作製した。【０１６８】
［実施例６］
実施例１で使用した重合性化合物（Ｉ−１）に代えて、重合性化合物（Ｉ−６）を使用した以外は、実施例１と同様の方法で光学フィルムを作製した。【０１６９】
［実施例７］
実施例１において、光学異方性層用塗布液１の代わりに、下記組成の光学異方性層用塗布液２を用いた以外は、実施例１と同様の方法で光学フィルムを作製した。【０１７０】
――――――――――――――――――――――――――――――――――
光学異方性層用塗布液２
――――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記液晶性化合物Ｌ−６                            ８７．５０質量部
・上記重合性化合物（Ｉ−７）                        １２．５０質量部
・上記重合開始剤Ｓ−１（オキシム型）                  ３．００質量部
・レベリング剤（上記化合物Ｔ−１）                    ０．２０質量部
・メチルエチルケトン                              ２１９．３０質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――
【化４７】
2017090644.tif 000050
【０１７１】
［実施例８］
実施例１において、光学異方性層用塗布液１の代わりに、下記組成の光学異方性層用塗布液３を用いた以外は、実施例１と同様の方法で光学フィルムを作製した。【０１７２】
――――――――――――――――――――――――――――――――――
光学異方性層用塗布液３
――――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記液晶性化合物Ｌ−７                            ８７．５０質量部
・上記重合性化合物（Ｉ−７）                        １２．５０質量部
・上記重合開始剤Ｓ−１（オキシム型）                  ３．００質量部
・レベリング剤（上記化合物Ｔ−１）                    ０．２０質量部
・メチルエチルケトン                              ２１９．３０質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――
【化４８】
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【０１７３】
［比較例１］
重合性化合物（Ｉ−１）を使用せず、液晶性化合物Ｌ−１および液晶性化合物Ｌ−２の使用量をそれぞれ５０．０質量部に変更した以外は、実施例１と同様の方法で、光学フィルムを作製した。【０１７４】
［比較例２］
重合性化合物（Ｉ−１）に代えて、重合性化合物（Ｘ−１）を用いた以外は、実施例１と同様の方法で、光学フィルムを作製した。【０１７５】
［比較例３］
重合性化合物（Ｉ−１）に代えて、重合性化合物（Ｘ−２）を用いた以外は、実施例１と同様の方法で、光学フィルムを作製した。【０１７６】
［比較例４］
重合性化合物（Ｉ−１）に代えて、重合性化合物（Ｘ−３）を用いた以外は、実施例１と同様の方法で、光学フィルムを作製した。【０１７７】
［比較例５］
重合性化合物（Ｉ−１）に代えて、重合性化合物（Ｘ−４）を用いた以外は、実施例１と同様の方法で、光学フィルムを作製した。【０１７８】
［比較例６］
重合性化合物（Ｉ−１）に代えて、重合性化合物（Ｘ−５）を用いた以外は、実施例１と同様の方法で、光学フィルムを作製した。【０１７９】
［比較例７］
重合性化合物（Ｉ−１）に代えて、重合性化合物（Ｘ−６）を用いた以外は、実施例１と同様の方法で、光学フィルムを作製した。【０１８０】
［比較例８］
重合性化合物（Ｉ−７）を使用せず、液晶性化合物Ｌ−６の使用量を１００質量部に変更した以外は、実施例７と同様の方法で、光学フィルムを作製した。【０１８１】
［比較例９］
重合性化合物（Ｉ−７）を使用せず、液晶性化合物Ｌ−７の使用量を１００質量部に変更した以外は、実施例８と同様の方法で、光学フィルムを作製した。【０１８２】
上述した各実施例および比較例で作製した各光学フィルムを５０℃の温水中に３０分以上浸漬し、軟化した偏光子１を取り除き光学異方性層を単離した。
各光学異方性層について、Ａｘｏ Ｓｃａｎ（０ＰＭＦ−１、Ａｘｏｍｅｔｒｉｃｓ社製）を用いて、波長４５０ｎｍと５５０ｎｍの面内レターデーションを測定し、Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）を算出した。結果を下記表１に示す。【０１８３】
＜耐久性＞
上述した各実施例および比較例で作製した各光学フィルムについて、ガラス板上に光学異方性層側をガラス側にして粘着剤を介して貼り合せた。
Ａｘｏ Ｓｃａｎ（０ＰＭＦ−１、Ａｘｏｍｅｔｒｉｃｓ社製）を用いて、レターデーション値の耐久性を下記の指標で評価した。結果を下記表１に示す。
なお、試験条件は、下記表１に示す通り、６０℃相対湿度９０％の環境下に１０００時間放置する試験と、８５℃相対湿度８５％の環境下に１２０時間放置する試験を行った。また、８５℃相対湿度８５％の環境下に１０００時間放置する試験において「Ａ」と評価されれば、耐久性は良好であると判断することができる。
Ａ：初期の位相差値に対する試験後の値の変化量が初期の値の５％未満
Ｂ：初期の位相差値に対する試験後の値の変化量が初期の値の５％以上１０％未満
Ｃ：初期の位相差値に対する試験後の値の変化量が初期の値の１０％以上【０１８４】
【表１】
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【０１８５】
表１に示す結果から、上記式（Ｉ）で表される重合性化合物を用いない場合は、上記式（ＩＩ）で表される液晶性化合物を用いた場合であっても、耐久性が劣ることが分かった（比較例１、８および９）。
また、上記式（Ｉ）で表される重合性化合物に代えて、上記式（Ｉ）中のＡｒ1の構造のみ異なる他の重合性化合物を用いた場合には、比較例１よりも耐久性は若干改善するが、不十分であることが分かった（比較例２〜７）。
これに対し、上記式（Ｉ）で表される重合性化合物および上記式（ＩＩ）で表される液晶性化合物を用いた場合には、いずれも耐久性が良好となることが分かった（実施例１〜８）。
【符号の説明】
【０１８６】
１０  光学フィルム
１２  光学異方性層
１４  配向膜
１６  支持体
１８  ハードコート層
【図１Ａ】
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【図１Ｂ】
2017090644.tif 000063
【図１Ｃ】
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【国際調査報告】
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2017090644.tif 000066
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