(57)【要約】  中空糸膜により、比抵抗値を調整する液体が供給される液相側領域と比抵抗値を調整する調整ガスが供給される気相側領域とに分けられて、前記液体に前記調整ガスを溶解させる中空糸膜モジュールと、前記液相側領域に連通されて、前記液相側領域に前記液体を供給する液体供給管と、前記液相側領域に連通されて、前記液相側領域から前記液体を排出する液体排出管と、前記気相側領域に連通されて、前記気相側領域に前記調整ガスを供給するガス供給管と、前記気相側領域に連通されて、前記気相側領域から前記調整ガスを排出するガス排出管と、前記中空糸膜モジュールをバイパスするように前記液体供給管及び前記液体排出管に連通されるバイパス管と、前記ガス排出管に接続されて、前記ガス排出管内の第一流路を開閉する第一開閉弁と、を備え、前記第一開閉弁は、前記第一流路を開けることにより、前記気相側領域に溜まった水を排出する。
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
中空糸膜により、比抵抗値を調整する液体が供給される液相側領域と比抵抗値を調整する調整ガスが供給される気相側領域とに分けられて、前記液体に前記調整ガスを溶解させる中空糸膜モジュールと、
前記液相側領域に連通されて、前記液相側領域に前記液体を供給する液体供給管と、
前記液相側領域に連通されて、前記液相側領域から前記液体を排出する液体排出管と、
前記気相側領域に連通されて、前記気相側領域に前記調整ガスを供給するガス供給管と、
前記気相側領域に連通されて、前記気相側領域から前記調整ガスを排出するガス排出管と、
前記中空糸膜モジュールをバイパスするように前記液体供給管及び前記液体排出管に連通されるバイパス管と、
前記ガス排出管に接続されて、前記ガス排出管内の第一流路を開閉する第一開閉弁と、を備え、
前記第一開閉弁は、前記第一流路を開けることにより、前記気相側領域に溜まった水を排出する、
比抵抗値調整装置。
【請求項２】
定期的に前記第一開閉弁を開閉するタイマー部を更に有する、
請求項１に記載の比抵抗値調整装置。
【請求項３】
前記第一開閉弁が開状態の場合、前記第一開閉弁を通過する流体の流量は、１［Ｌ／ｍｉｎ］以上３００［Ｌ／ｍｉｎ］以下である、
請求項１又は２に記載の比抵抗値調整装置。
【請求項４】
前記ガス排出管は、前記中空糸膜モジュールの下部において前記気相側領域に連通される、
請求項１〜３の何れか一項に記載の比抵抗値調整装置。
【請求項５】
前記第一開閉弁に対して並設されるように前記ガス排出管に接続されて、前記気相側領域の前記調整ガスを漏れ出させる漏出部を更に備える、
請求項１〜４の何れか一項に記載の比抵抗値調整装置。
【請求項６】
前記第一開閉弁が開状態の場合に前記第一開閉弁を通過する流体の流量は、前記漏出部を通過する調整ガスの流量よりも大きい、
請求項５に記載の比抵抗値調整装置。
【請求項７】
前記漏出部を通過する前記調整ガスの流量は、０［ｍＬ／ｍｉｎ］以上１０００［ｍＬ／ｍｉｎ］以下である、
請求項６に記載の比抵抗値調整装置。
【請求項８】
前記中空糸膜モジュールをバイパスするように前記液体供給管及び前記液体排出管に連通される第二バイパス管と、
前記第二バイパス管内の第二流路を開閉する第二開閉弁と、を更に備える、
請求項１〜７の何れか一項に記載の比抵抗値調整装置。
【請求項９】
中空糸膜により、比抵抗値を調整する液体が供給される液相側領域と比抵抗値を調整する調整ガスが供給される気相側領域とに分けられて、前記液体に前記調整ガスを溶解させる中空糸膜モジュールを用いて、前記液体の比抵抗値を調整する比抵抗値調整方法であって、
前記液相側領域に前記液体を通過させながら前記気相側領域に前記調整ガスを通過させて前記液体に前記調整ガスを溶解させるとともに、前記調整ガスが溶解された前記液体と前記中空糸膜モジュールをバイパスさせた前記液体とを混合させて前記液体の比抵抗値を調整する比抵抗値調整工程と、
前記気相側領域に連通された第一流路を開閉する第一開閉弁により前記気相側領域に溜まった水を排出する排出工程と、を備え、
前記比抵抗値調整工程では、前記第一開閉弁により前記第一流路を閉じ、
前記排出工程では、前記第一開閉弁により前記第一流路を開く、
比抵抗値調整方法。
【請求項１０】
前記比抵抗値調整工程では、前記第一開閉弁に対して並設されるように前記第一流路に連通された漏出部から、前記気相側領域の前記調整ガスを漏れ出させる、
請求項９に記載の比抵抗値調整方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液体の比抵抗値を調整する比抵抗値調整装置及び比抵抗値調整方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体又は液晶の製造工程では、超純水を使用して基板を洗浄する。この場合、超純水の比抵抗値が高いと、静電気が発生する。これにより、絶縁破壊して、又は微粒子が再付着して、製品歩留まりに著しく悪影響を及ぼす。【０００３】
このような問題を解決するために、疎水性の中空糸膜モジュールを用いた方法が提案されている。この方法は、中空糸膜モジュールを用いて超純水中に炭酸ガス又はアンモニアガス等のガスを溶解させる。すると、解離平衡によりイオンが発生し、この発生したイオンにより超純水の比抵抗値が低下する。【０００４】
また、基板の洗浄、ダイシング等の工程では、超純水の流動変動が激しい。そこで、特許文献１及び２では、流量が変動しても比抵抗値を安定させる技術が提案されている。特許文献１に記載された技術では、小流量のガス高濃度付加液体を生成する中空糸膜モジュールと、大流量の超純水を通過させるバイパス管路と、を設ける。そして、生成されたガス高濃度付加液体とバイパス管路を通過した超純水とを混合させる。これにより、容易に超純水の比抵抗値を調整できる。特許文献２に記載された技術では、複数のバイパス管路を設け、１又は複数のバイパス管路にシャット弁を設ける。そして、超純水の流量が低下すると、一部又は全部のシャット弁を開ける。これにより、超純水が低流量になることにより、超純水の比抵抗値が上昇するのを抑制できる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特許第３９５１３８５号公報
【特許文献２】特開２０１２−２２３７２５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
このような中空糸膜モジュールでは、中空糸膜を介して、超純水が流れる液相側領域とガスが流れる気相側領域とに分けられている。そして、気相側領域のガスは、中空糸膜を透過して液相側の超純水に溶解される。【０００７】
しかしながら、本発明者が、中空糸膜モジュールを用いて超純水中に炭酸ガス又はアンモニアガスを溶解させたところ、超純水の流量が低下しないにもかかわらず、時間の経過とともに超純水の比抵抗値が上昇する現象が現れた。【０００８】
そこで、本発明は、長期にわたって液体の比抵抗値が上昇するのを抑制できる比抵抗値調整装置及び比抵抗値調整方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明者は、上記目的を達成するために鋭意研究したところ、次の原因により上記現象が現れることを見出した。すなわち、超純水中には、水蒸気が溶解されている。このため、中空糸膜モジュールを用いて超純水中に炭酸ガス又はアンモニアガスを溶解させると、超純水に溶解されていた水蒸気が気相側領域に逆拡散する。気相側領域では、気相側領域に逆拡散した水蒸気が結露して、結露水が溜まる。その結果、中空糸膜が結露水で覆われてしまい、気相側領域のガスが中空糸膜を透過することができなくなる。本発明者は、このような知見に基づいて、本発明を完成するに至った。【００１０】
すなわち、本発明の一側面に係る比抵抗値調整装置は、中空糸膜により、比抵抗値を調整する液体が供給される液相側領域と比抵抗値を調整する調整ガスが供給される気相側領域とに分けられて、液体に調整ガスを溶解させる中空糸膜モジュールと、液相側領域に連通されて、液相側領域に液体を供給する液体供給管と、液相側領域に連通されて、液相側領域から液体を排出する液体排出管と、気相側領域に連通されて、気相側領域に調整ガスを供給するガス供給管と、気相側領域に連通されて、気相側領域から調整ガスを排出するガス排出管と、中空糸膜モジュールをバイパスするように液体供給管及び液体排出管に連通されるバイパス管と、ガス排出管に接続されて、ガス排出管内の第一流路を開閉する第一開閉弁と、を備え、第一開閉弁は、第一流路を開けることにより、気相側領域に溜まった水を排出する。【００１１】
本発明の一側面に係る比抵抗値調整装置では、比抵抗値を調整する液体は、液体供給管から中空糸膜モジュールの液相側領域に供給されて、液体排出管に排出される。比抵抗値を調整する調整ガスは、ガス供給管から中空糸膜モジュールの気相側領域に供給されて、ガス排出管に排出される。中空糸膜モジュールでは、気相側領域に供給された調整ガスは、中空糸膜を透過することにより、液相側領域に供給された液体に溶解される。そして、中空糸膜モジュールにより調整ガスが溶解された液体と、バイパス管を通過した液体とが混合される。これにより、液体の流量に関わらず、液体の比抵抗値を容易に調整できる。【００１２】
一方、液体に溶解されていた水蒸気は、中空糸膜を透過することにより、気相側領域に逆拡散する。気相側領域に逆拡散した水蒸気は、結露して水となる。そして、この水が、気相側領域に溜まる。しかしながら、この比抵抗値調整装置では、第一開閉弁によりガス排出管内の第一流路を開けることにより、気相側領域に溜まった水は、第一開閉弁から排出される。これにより、気相側領域に溜まった水によって気相側領域の調整ガスが中空糸膜を通過できなくなるのを抑制できる。このため、定期的に、又は、気相側領域に所定量の水が溜まるたびに、第一開閉弁により第一流路を開けることで、長期にわたって液体の比抵抗値が上昇するのを抑制できる。【００１３】
一実施形態として、定期的に第一開閉弁を開閉するタイマー部を更に有してもよい。【００１４】
また、一実施形態として、第一開閉弁が開状態の場合、第一開閉弁を通過する流体の流量は、１［Ｌ／ｍｉｎ］以上３００［Ｌ／ｍｉｎ］以下であってもよい。【００１５】
また、一実施形態として、ガス排出管は、中空糸膜モジュールの下部において気相側領域に連通されてもよい。【００１６】
また、一実施形態として、第一開閉弁に対して並設されるようにガス排出管に接続されて、気相側領域の調整ガスを漏れ出させる漏出部を更に備えてもよい。【００１７】
また、一実施形態として、第一開閉弁が開状態の場合に第一開閉弁を通過する流体の流量は、漏出部を通過する調整ガスの流量よりも大きくてもよい。【００１８】
また、一実施形態として、漏出部を通過する調整ガスの流量は、０［ｍＬ／ｍｉｎ］以上１０００［ｍＬ／ｍｉｎ］以下であってもよい。【００１９】
また、一実施形態として、中空糸膜モジュールをバイパスするように液体供給管及び液体排出管に連通される第二バイパス管と、第二バイパス管内の第二流路を開閉する第二開閉弁と、を更に備えてもよい。【００２０】
本発明の一側面に係る比抵抗値調整方法は、中空糸膜により、比抵抗値を調整する液体が供給される液相側領域と比抵抗値を調整する調整ガスが供給される気相側領域とに分けられて、液体に調整ガスを溶解させる中空糸膜モジュールを用いて、液体の比抵抗値を調整する比抵抗値調整方法であって、液相側領域に液体を通過させながら気相側領域に調整ガスを通過させて液体に調整ガスを溶解させるとともに、調整ガスが溶解された液体と中空糸膜モジュールをバイパスさせた液体とを混合させて液体の比抵抗値を調整する比抵抗値調整工程と、気相側領域に連通された第一流路を開閉する第一開閉弁により気相側領域に溜まった水を排出する排出工程と、を備え、比抵抗値調整工程では、第一開閉弁により第一流路を閉じ、排出工程では、第一開閉弁により第一流路を開く。【００２１】
本発明の一側面に係る比抵抗値調整方法では、比抵抗値調整工程において、中空糸膜モジュールにより調整ガスが溶解された液体と、中空糸膜モジュールをバイパスした液体とを混合する。これにより、液体の流量に関わらず、液体の比抵抗値を容易に調整できる。このとき、第一開閉弁により第一流路を閉じておくことで、調整ガスの使用量を抑制できる。【００２２】
そして、排出工程において、第一開閉弁により第一流路を開き、気相側領域に溜まった水を、第一開閉弁から排出する。これにより、気相側領域に溜まった水によって気相側領域の調整ガスが中空糸膜を通過できなくなるのを抑制できる。このため、定期的に、又は、気相側領域に所定量の水が溜まるたびに、排出工程を行うことで、長期にわたって液体の比抵抗値が上昇するのを抑制できる。【００２３】
一実施形態として、比抵抗値調整工程では、第一開閉弁に対して並設されるように第一流路に連通された漏出部から、気相側領域の調整ガスを漏れ出させてもよい。
【発明の効果】
【００２４】
本発明によれば、長期にわたって比抵抗値の上昇を抑制できる。
【図面の簡単な説明】
【００２５】
【図１】第１実施形態の比抵抗値調整装置の模式図である。
【図２】第２実施形態の比抵抗値調整装置の模式図である。
【図３】第３実施形態の比抵抗値調整装置の模式図である。
【図４】第４実施形態の比抵抗値調整装置の模式図である。
【図５】実施例１の計測結果を示すグラフである。
【図６】実施例２の計測結果を示すグラフである。
【図７】実施例３−１の計測結果を示すグラフである。
【図８】実施例３−２の計測結果を示すグラフである。
【図９】比較例１の比抵抗値調整装置の模式図である。
【図１０】比較例１の計測結果を示すグラフである。
【図１１】比較例２の比抵抗値調整装置の模式図である。
【図１２】比較例２の計測結果を示すグラフである。
【発明を実施するための形態】
【００２６】
以下、図面を参照して、実施形態の比抵抗値調整装置及び比抵抗値調整方法について詳細に説明する。なお、全図中、同一または相当部分には同一符号を付し、重複する説明を省略する。
【００２７】
［第１実施形態］
図１は、第１実施形態の比抵抗値調整装置の模式図である。図１に示すように、本実施形態の比抵抗値調整装置１Ａは、中空糸膜モジュール２と、液体供給管３と、液体排出管４と、ガス供給管５と、ガス排出管６と、バイパス管７と、第一開閉弁８と、を備える。
【００２８】
中空糸膜モジュール２は、比抵抗値を調整する液体Ｌに比抵抗値を調整する調整ガスＧを溶解させる。液体Ｌとして用いる液体は、特に限定されないが、例えば、半導体、液晶等を洗浄するための超純水とすることができる。通常、超純水の比抵抗値は、１７．５［ＭΩ・ｃｍ］以上１８．２［ＭΩ・ｃｍ］の範囲である。調整ガスＧとしても用いるガスは、特に限定されないが、例えば、炭酸ガス又はアンモニアガスとすることができる。中空糸膜モジュール２は、複数本の中空糸膜２１と、これらの中空糸膜２１を内部に収容するハウジング２２と、を備える。
【００２９】
中空糸膜２１は、気体は透過するが液体は透過しない中空糸状の膜である。中空糸膜２１の素材、膜形状、膜形態等は、特に制限されない。ハウジング２２は、中空糸膜２１を内部に収容する密閉容器である。
【００３０】
中空糸膜モジュール２は、中空糸膜２１により、液相側領域ＬＡと、気相側領域ＧＡと、に分けられる。液相側領域ＬＡは、中空糸膜モジュール２内の領域のうち、比抵抗値を調整する液体Ｌが供給される領域である。気相側領域ＧＡは、中空糸膜モジュール２内の領域のうち、比抵抗値を調整する調整ガスＧが供給される領域である。中空糸膜モジュール２の種類としては、内部灌流型及び外部灌流型がある。本実施形態では、内部灌流型及び外部灌流型の何れであってもよい。外部灌流型の中空糸膜モジュール２では、中空糸膜２１の内側（内表面側）が気相側領域ＧＡとなり、中空糸膜２１の外側（外表面側）が液相側領域ＬＡとなる。内部灌流型の中空糸膜モジュール２では、中空糸膜２１の内側（内表面側）が液相側領域ＬＡとなり、中空糸膜２１の外側（外表面側）が気相側領域ＧＡとなる。
【００３１】
ハウジング２２には、液体供給口２２Ａと、液体排出口２２Ｂと、ガス供給口２２Ｃと、ガス排出口２２Ｄと、が形成される。液体供給口２２Ａは、液相側領域ＬＡに液体Ｌを供給するためにハウジング２２に形成された開口である。液体排出口２２Ｂは、液相側領域ＬＡから液体Ｌを排出するためにハウジング２２に形成された開口である。ガス供給口２２Ｃは、気相側領域ＧＡに調整ガスＧを供給するためにハウジング２２に形成された開口である。ガス排出口２２Ｄは、気相側領域ＧＡから調整ガスＧを排出するためにハウジング２２に形成された開口である。このため、液体供給口２２Ａ及び液体排出口２２Ｂは、液相側領域ＬＡと連通される。また、ガス供給口２２Ｃ及びガス排出口２２Ｄは、気相側領域ＧＡと連通される。
【００３２】
液体供給口２２Ａ、液体排出口２２Ｂ、ガス供給口２２Ｃ、及びガス排出口２２Ｄの位置は特に限定されない。但し、ガス排出口２２Ｄは、中空糸膜モジュール２の下部に形成されることが好ましく、気相側領域ＧＡの最下端に形成されることが更に好ましい。中空糸膜モジュール２の下部とは、比抵抗値調整装置１Ａを設置した際の、中空糸膜モジュール２の鉛直方向における下側の部分をいう。気相側領域ＧＡの最下端とは、比抵抗値調整装置１Ａを設置した際の、気相側領域ＧＡの鉛直方向における最下端をいう。
【００３３】
液体供給管３は、液相側領域ＬＡに連通されて、液相側領域ＬＡに液体Ｌを供給する。液体供給管３は、内部に流路（不図示）が形成された管状の部材である。液体供給管３は、液体供給口２２Ａに接続される。液体排出管４の素材、特性（硬さ、弾性等）、形状、寸法等は、特に限定されない。
【００３４】
液体供給管３には、流量計Ｆが接続される。流量計Ｆは、液体供給管３を流れる液体Ｌの流量を計測する。そして、比抵抗値調整装置１Ａを制御する制御部（不図示）は、流量計Ｆで計測した液体Ｌの流量に基づいて、液体供給管３に所定流量の液体Ｌを供給する。流量計Ｆとしては、周知の様々な流量計を採用することができる。
【００３５】
液体排出管４は、液相側領域ＬＡに連通されて、液相側領域ＬＡから液体Ｌを排出する。液体排出管４は、内部に流路（不図示）が形成された管状の部材である。液体排出管４は、液体排出口２２Ｂに接続される。液体排出管４の素材、特性（硬さ、弾性等）、形状、寸法等は、特に限定されない。
【００３６】
ガス供給管５は、気相側領域ＧＡに連通されて、気相側領域ＧＡに調整ガスＧを供給する。ガス供給管５は、内部に流路（不図示）が形成された管状の部材である。ガス供給管５は、ガス供給口２２Ｃに接続される。ガス供給管５の素材、特性（硬さ、弾性等）、形状、寸法等は、特に限定されない。
【００３７】
ガス供給管５には、圧力調整弁９と、圧力計Ｐと、が接続される。圧力調整弁９は、圧力調整弁９を通過する調整ガスのガス圧を調整する。つまり、気相側領域ＧＡにおける調整ガスＧのガス圧は、圧力調整弁９により調整される。圧力調整弁９としては、周知の様々な圧力調整弁を採用することができる。圧力計Ｐは、ガス供給管５を流れる調整ガスＧのガス圧を計測する。圧力計Ｐは、ガス供給管５における圧力計Ｐの下流側、すなわち、圧力計Ｐに対する気相側領域ＧＡ側に接続される。圧力計Ｐとしては、周知の様々な圧力計を採用することができ、例えば、ダイヤフラム弁を採用することができる。そして、比抵抗値調整装置１Ａを制御する制御部（不図示）は、圧力調整弁９を通過する調整ガスＧのガス圧、すなわち、気相側領域ＧＡにおける調整ガスＧのガス圧が、所定値（又は所定範囲内）となるように、圧力計Ｐで計測した調整ガスＧのガス圧に基づいて圧力調整弁９を制御する。
【００３８】
ガス排出管６は、気相側領域ＧＡに連通されて、気相側領域ＧＡから調整ガスＧを排出する。ガス排出管６は、内部に流路が形成された管状の部材である。なお、ガス排出管６内の流路を、特に第一流路６ａという。ガス排出管６は、ガス排出口２２Ｄに接続される。ガス排出管６の素材、特性（硬さ、弾性等）、形状、寸法等は、特に限定されない。
【００３９】
バイパス管７は、中空糸膜モジュール２をバイパスするように液体供給管３及び液体排出管４に連通される。バイパス管７は、内部に流路が形成された管状の部材である。バイパス管７の一方端部は、中空糸膜モジュール２の上流側において液体供給管３に接続される。バイパス管７の他方端部は、中空糸膜モジュール２の下流側において液体排出管４に接続される。このため、液体供給管３に供給された液体Ｌは、中空糸膜モジュール２を通って液体排出管４に流れていく液体Ｌと、中空糸膜モジュール２を迂回してバイパス管７から液体排出管４に流れていく液体Ｌと、に分配される。このとき、中空糸膜モジュール２を通って液体排出管４に流れていく液体Ｌの流量が、中空糸膜モジュール２を迂回して液体排出管４に流れていく液体Ｌの流量よりも大きくなるように、バイパス管７の内径（流路径）が設定される。
【００４０】
第一開閉弁８は、ガス排出管６に接続されて、ガス排出管６内の第一流路６ａを開閉する。第一開閉弁８は、流体が通過する流路（不図示）と、当該流路を開閉する弁体（不図示）と、を備える開閉弁である。なお、第一開閉弁８が第一流路６ａを開いた際に第一開閉弁８を通過する流体には、調整ガスＧと、水（結露水）と、液体Ｌに溶解されていた溶解ガスと、が含まれる。当該流体の詳細については、後述する。
【００４１】
第一開閉弁８が開状態（第一開閉弁８の流路が全開）の場合、第一開閉弁８を通過する流体の流量は、１［Ｌ／ｍｉｎ］以上３００［Ｌ／ｍｉｎ］以下とすることが好ましい。この場合、第一開閉弁８を通過する流体の流量は、１０［Ｌ／ｍｉｎ］以上１００［Ｌ／ｍｉｎ］以下とすることが更に好ましく、５０［Ｌ／ｍｉｎ］以上８０［Ｌ／ｍｉｎ］以下とすることが特に好ましい。第一開閉弁８を通過する流体の流量は、気相側領域ＧＡの内圧と、第一開閉弁８の流路径と、流路長と、の関係により求まる。例えば、気相側領域ＧＡの内圧が０．１［ＭＰａ］であり、第一開閉弁８の流路径（直径）が４［ｃｍ］であり、流路長が１０［ｃｍ］である場合、第一開閉弁８を通過する流体の流量は、６０［Ｌ／ｍｉｎ］となる。
【００４２】
第一開閉弁８には、タイマー部ＴＭが接続される。タイマー部ＴＭは、定期的に（所定時間ごとに）第一開閉弁８を開閉する。タイマー部ＴＭは、通常時、第一開閉弁８により第一流路６ａを閉じておく。なお、第一開閉弁８により第一流路６ａを閉じるとは、第一開閉弁８の流路を第一開閉弁８の弁体により閉じることをいう。一方、タイマー部ＴＭは、所定時間が経過すると、第一開閉弁８を作動させて、所定時間だけ、第一開閉弁８により第一流路６ａを開く。第一開閉弁８により第一流路６ａを開くとは、第一開閉弁８の流路を閉じている第一開閉弁８の弁体を移動させて、第一開閉弁８の流路を開くことをいう。第一開閉弁８により第一流路６ａを開く時間は、適宜設定される。
【００４３】
次に、比抵抗値調整装置１Ａにより液体Ｌの比抵抗値を調整する方法について説明する。
【００４４】
まず、比抵抗値調整工程を行う。比抵抗値調整工程では、液相側領域ＬＡに液体Ｌを通過させながら気相側領域ＧＡに調整ガスを通過させて、液体Ｌに調整ガスＧを溶解させる。そして、調整ガスＧが溶解された液体Ｌと中空糸膜モジュール２をバイパスさせた液体Ｌとを混合させて、液体Ｌの比抵抗値を調整する。
【００４５】
具体的に説明すると、比抵抗値調整工程では、まず、第一開閉弁８により第一流路６ａを閉じ、液体供給管３に液体Ｌを供給し、ガス供給管５に調整ガスＧを供給する。すると、液体Ｌは、液体供給管３から中空糸膜モジュール２の液相側領域ＬＡに供給されて、液体排出管４に排出される。また、液体Ｌは、液体供給管３から、中空糸膜モジュール２を迂回するようにバイパス管７を通って、液体排出管４に排出される。調整ガスＧは、ガス供給管５から中空糸膜モジュール２の気相側領域ＧＡに供給されて、ガス排出管６に排出される。
【００４６】
中空糸膜モジュール２では、気相側領域ＧＡに供給された調整ガスＧは、中空糸膜２１を透過することにより、液相側領域ＬＡに供給された液体Ｌに溶解される。そして、中空糸膜モジュール２により調整ガスＧが溶解された液体Ｌと、バイパス管７を通過した液体Ｌとが混合される。これにより、液体Ｌの流量に関わらず、液体Ｌの比抵抗値を容易に調整できる。
【００４７】
ところで、液体Ｌには、水蒸気が含まれている。液体Ｌに溶解されていた水蒸気は、中空糸膜２１を透過することにより、気相側領域ＧＡに逆拡散する。気相側領域ＧＡに逆拡散した水蒸気は、結露して水（結露水）となる。そして、この水が、気相側領域ＧＡに溜まる。また、液体Ｌには、水蒸気の他に、酸素、窒素等の溶解ガスが溶解されている場合がある。なお、溶解ガスには、水蒸気も含まれる。このような場合、溶解ガスも、中空糸膜２１を透過することにより、気相側領域ＧＡに逆拡散する。
【００４８】
そこで、次に、排出工程を行う。排出工程では、気相側領域ＧＡに連通された第一流路６ａを開閉する第一開閉弁８により気相側領域ＧＡに溜まった水を排出する。
【００４９】
詳しく説明すると、排出工程では、第一開閉弁８により、ガス排出管６内の第一流路６ａを開ける。すると、気相側領域ＧＡに溜まった水及び気相側領域ＧＡに逆拡散した溶解ガスは、第一開閉弁８から排出される。これにより、気相側領域ＧＡに溜まった水によって気相側領域ＧＡの調整ガスＧが中空糸膜２１を通過できなくなるのを抑制できる。
【００５０】
この排出工程は、定期的に行う。つまり、比抵抗値調整装置１Ａを稼働させてから所定時間が経過すると、又は、前回の排出工程から所定時間が経過すると、タイマー部ＴＭは、第一開閉弁８を作動させて、所定時間だけ第一開閉弁８により第一流路６ａを開く。なお、排出工程を行う間隔、及び、排出工程を行う時間は、適宜設定される。例えば、排出工程を行う間隔としては、０．１秒以上５００時間以下とすることができる。この場合、第一開閉弁８により第一流路６ａを開く時間は、０．５秒以上１分以下とすることが好ましく、１秒以上１０秒以下とすることが更に好ましい。排出工程を行う間隔は、前回の排出工程が終了してから次回の排出工程を開始するまでの時間である。排出工程を行う時間は、排出工程において第一開閉弁８により第一流路６ａを開いておく時間である。
【００５１】
このように、本実施形態の比抵抗値調整装置１Ａでは、第一開閉弁８を開閉することで、気相側領域ＧＡから水が排出されるため、長期にわたって液体Ｌの比抵抗値が上昇するのを抑制できる。同様に、気相側領域ＧＡに逆拡散した溶解ガスによって気相側領域ＧＡにおける調整ガスＧの濃度が低くなる（調整ガスＧの分圧が低くなる）のを抑制できる。
【００５２】
また、本実施形態の比抵抗値調整装置１Ａでは、タイマー部ＴＭが定期的に第一開閉弁８を開閉するため、簡便に、気相側領域ＧＡに溶解ガスが逆拡散するのを抑制できるとともに、気相側領域ＧＡに水が溜まるのを抑制できる。
【００５３】
また、本実施形態の比抵抗値調整装置１Ａでは、第一開閉弁８を通過する流体の流量を上記範囲とすることで、気相側領域ＧＡに溜まった水及び気相側領域ＧＡに逆拡散した溶解ガスを一気に排出することができる。これにより、水及び溶解ガスを排出するために第一開閉弁８を開く時間を短くすることができるため、第一開閉弁８から排出される調整ガスＧの排出量を小さくすることができる。しかも、気相側領域ＧＡでは、第一開閉弁８側に向かう気流が発生し、この気流は、中空糸膜２１に付着している結露水を第一開閉弁８側に押し進めるように作用する。これにより、気相側領域ＧＡに溜まった水の排出効果を高めることができる。
【００５４】
また、気相側領域において結露した水は、重力により中空糸膜モジュールの下部に下降する。本実施形態の比抵抗値調整装置１Ａでは、ガス排出管６が、中空糸膜モジュール２の下部において気相側領域ＧＡに連通されるため、気相側領域ＧＡにおいて結露した水を、重力により気相側領域ＧＡからガス排出管６に排出させることができる。これにより、気相側領域ＧＡに溜まった水の排出効果を高めることができる。
【００５５】
また、本実施形態の比抵抗値調整方法では、比抵抗値調整工程において、中空糸膜モジュール２により調整ガスＧが溶解された液体Ｌと、中空糸膜モジュール２をバイパスした液体Ｌとを混合する。これにより、液体Ｌの流量に関わらず、液体Ｌの比抵抗値を容易に調整できる。このとき、第一開閉弁８により第一流路６ａを閉じておくことで、調整ガスＧの使用量を抑制できる。
【００５６】
そして、排出工程において、第一開閉弁８により第一流路６ａを開き、気相側領域ＧＡに溜まった水を、第一開閉弁８から排出する。これにより、気相側領域ＧＡに溜まった水によって気相側領域ＧＡの調整ガスＧが中空糸膜２１を通過できなくなるのを抑制できる。このため、定期的に、又は、気相側領域ＧＡに所定量の水が溜まるたびに、排出工程を行うことで、長期にわたって液体Ｌの比抵抗値が上昇するのを抑制できる。
【００５７】
［第２実施形態］
次に、第２実施形態について説明する。第２実施形態は、基本的に第１実施形態と同様であり、漏出部を更に備える点のみ、第１実施形態と相違する。このため、以下では、第１実施形態と相違する事項のみを説明し、第１実施形態と同様の事項の説明を省略する。
【００５８】
図２は、第２実施形態の比抵抗値調整装置の模式図である。図２に示すように、本実施形態の比抵抗値調整装置１Ｂは、中空糸膜モジュール２と、液体供給管３と、液体排出管４と、ガス供給管５と、ガス排出管６と、バイパス管７と、第一開閉弁８と、漏出部１２と、を備える。
【００５９】
漏出部１２は、第一開閉弁８に対して並設されるようにガス排出管６に接続されて、気相側領域ＧＡの調整ガスＧを漏れ出させる。漏出部１２は、内部に細い流路（不図示）が形成された毛細管状の部材である。なお、漏出部１２には、第一開閉弁８のような流路を閉じる弁は設けられていない。つまり、漏出部１２からは、常時、調整ガスＧが漏れ出る。
【００６０】
第一開閉弁８が開状態の場合に第一開閉弁８を通過する流体の流量は、漏出部１２を通過する調整ガスＧの流量よりも大きい。換言すると、漏出部１２を通過する調整ガスＧの流量は、第一開閉弁８が開状態の場合に第一開閉弁８を通過する流体の流量よりも小さい。
【００６１】
漏出部１２を通過する調整ガスＧの流量は、０［ｍＬ／ｍｉｎ］以上１０００［ｍＬ／ｍｉｎ］以下とすることが好ましい。この場合、第一開閉弁８を定期的に開閉する場合、開状態の間隔を短くするほど、漏出部１２を通過する調整ガスＧの流量を少なくすることができ、０［ｍＬ／ｍｉｎ］とすることもできる。また、漏出部１２を通過する調整ガスＧの流量は、１［ｍＬ／ｍｉｎ］以上５００［ｍＬ／ｍｉｎ］以下とすることが更に好ましく、５［ｍＬ／ｍｉｎ］以上１００［ｍＬ／ｍｉｎ］以下とすることが特に好ましい。漏出部１２を通過する調整ガスＧの流量は、気相側領域ＧＡの内圧と、漏出部１２の流路径と、の関係により求まる。例えば、気相側領域ＧＡの内圧が０．１［ＭＰａ］であり、漏出部１２の流路径（直径）が４［ｃｍ］、流路長が１０［ｃｍ］である場合、漏出部１２を通過する調整ガスＧの流量は、６０［Ｌ／ｍｉｎ］となる。
【００６２】
次に、比抵抗値調整装置１Ｂにより液体Ｌの比抵抗値を調整する方法について説明する。
【００６３】
比抵抗値調整工程では、まず、第一開閉弁８により第一流路６ａを閉じ、液体供給管３に液体Ｌを供給し、ガス供給管５に調整ガスＧを供給する。すると、液体Ｌは、液体供給管３から中空糸膜モジュール２の液相側領域ＬＡに供給されて、液体排出管４に排出される。また、液体Ｌは、液体供給管３から、中空糸膜モジュール２を迂回するようにバイパス管７を通って、液体排出管４に排出される。調整ガスＧは、ガス供給管５から中空糸膜モジュール２の気相側領域ＧＡに供給されて、ガス排出管６に排出される。そして、ガス排出管６に排出された調整ガスＧは、漏出部１２から漏れ出る。
【００６４】
このように、液体供給管３から中空糸膜モジュール２に供給される液体Ｌには、水蒸気の他に、酸素、窒素等の溶解ガスが溶解されている場合がある。なお、溶解ガスには、水蒸気も含まれる。このような場合、溶解ガスは、中空糸膜２１を透過することにより、気相側領域ＧＡに逆拡散する。すると、気相側領域ＧＡにおける調整ガスＧの濃度が低くなる（調整ガスＧの分圧が低くなる）ため、液体Ｌに対する調整ガスＧの溶解効率が低下する。
【００６５】
そこで、本実施形態の比抵抗値調整装置１Ｂでは、漏出部１２を第一開閉弁８に対して並設されるようにガス排出管６に接続し、気相側領域ＧＡの調整ガスＧを漏出部１２から漏れ出させる。これにより、ガス供給管５から気相側領域ＧＡに調整ガスＧが供給され続けるため、気相側領域ＧＡにおける調整ガスＧの濃度が低くなるのを抑制できる。
【００６６】
また、本実施形態の比抵抗値調整装置１Ｂでは、第一開閉弁８を通過する流体の流量は、漏出部１２を通過する調整ガスＧの流量よりも大きい。これにより、気相側領域ＧＡに溜まった水を効果的に排出しつつ、漏出部１２から排出される調整ガスＧの排出量を小さくすることができる。
【００６７】
また、本実施形態の比抵抗値調整装置１Ｂでは、漏出部１２を通過する調整ガスＧの流量を上記範囲とすることで、気相側領域ＧＡにおける調整ガスＧの濃度が低くなるのを抑制しつつ、漏出部１２から排出される調整ガスＧの排出量を小さくすることができる。
【００６８】
また、本実施形態の比抵抗値調整方法では、比抵抗値調整工程において、気相側領域ＧＡの調整ガスＧを漏出部１２から漏れ出させる。これにより、ガス供給管５から気相側領域ＧＡに調整ガスＧが供給され続けるため、気相側領域ＧＡにおける調整ガスＧの濃度が低くなるのを抑制できる。
【００６９】
［第３実施形態］
次に、第３実施形態について説明する。第３実施形態は、基本的に第１実施形態と同様であり、複数のバイパス管路を備える点のみ、第１実施形態と相違する。このため、以下では、第１実施形態と相違する事項のみを説明し、第１実施形態と同様の事項の説明を省略する。
【００７０】
図３は、第３実施形態の比抵抗値調整装置の模式図である。図３に示すように、本実施形態の比抵抗値調整装置１Ｃは、中空糸膜モジュール２と、液体供給管３と、液体排出管４と、ガス供給管５と、ガス排出管６と、バイパス管７と、第一開閉弁８と、第二バイパス管１３と、第二バイパス管１４と、を備える。
【００７１】
第二バイパス管１３は、中空糸膜モジュール２をバイパスするように液体供給管３及び液体排出管４に連通される。第二バイパス管１３は、内部に流路が形成された管状の部材である。第二バイパス管１３内の流路を、特に第二流路１３ａという。第二バイパス管１３の一方端部は、中空糸膜モジュール２の上流側、且つ、液体供給管３とバイパス管７との接続位置よりも下流側において、液体供給管３に接続される。第二バイパス管１３の他方端部は、中空糸膜モジュール２の下流側、且つ、液体排出管４とバイパス管７との接続位置よりも上流側において、液体排出管４に接続される。
【００７２】
第二バイパス管１４は、中空糸膜モジュール２をバイパスするように液体供給管３及び液体排出管４に連通される。第二バイパス管１４は、内部に流路が形成された管状の部材である。第二バイパス管１４内の流路を、特に第二流路１４ａという。第二バイパス管１４の一方端部は、中空糸膜モジュール２の上流側、且つ、液体供給管３と第二バイパス管１３との接続位置よりも下流側において、液体供給管３に接続される。第二バイパス管１４の他方端部は、中空糸膜モジュール２の下流側、且つ、液体排出管４と第二バイパス管１３との接続位置よりも上流側において、液体排出管４に接続される。
【００７３】
このため、液体供給管３に供給された液体Ｌは、中空糸膜モジュール２を通って液体排出管４に流れていく液体Ｌと、中空糸膜モジュール２を迂回してバイパス管７から液体排出管４に流れていく液体Ｌと、中空糸膜モジュール２を迂回して第二バイパス管１３から液体排出管４に流れていく液体Ｌと、中空糸膜モジュール２を迂回して第二バイパス管１４から液体排出管４に流れていく液体Ｌと、に分配される。つまり、液体供給管３に供給された液体Ｌは、中空糸膜モジュール２を通って液体排出管４に流れていく液体Ｌと、中空糸膜モジュール２を迂回して液体排出管４に流れていく液体Ｌと、に分配される。このとき、中空糸膜モジュール２を通って液体排出管４に流れていく液体Ｌの流量が、中空糸膜モジュール２を迂回して液体排出管４に流れていく液体Ｌの合計流量よりも大きくなるように、バイパス管７、第二バイパス管１３及び第二バイパス管１４の内径（流路径）が設定される。
【００７４】
第二バイパス管１３には、第二開閉弁１５が接続される。第二開閉弁１５は、第二バイパス管１３内の第二流路１３ａを開閉する。第二開閉弁１５は、流体が通過する流路（不図示）と、当該流路を開閉する弁体（不図示）と、を備える開閉弁である。
【００７５】
第二バイパス管１４には、第二開閉弁１６が接続される。第二開閉弁１６は、第二バイパス管１４内の第二流路１４ａを開閉する。第二開閉弁１６は、流体が通過する流路（不図示）と、当該流路を開閉する弁体（不図示）と、を備える開閉弁である。
【００７６】
次に、比抵抗値調整装置１Ｃにより液体Ｌの比抵抗値を調整する方法について説明する。
【００７７】
比抵抗値調整工程では、まず、第一開閉弁８により第一流路６ａを閉じ、第二開閉弁１５により第二流路１３ａを閉じ、第二開閉弁１６により第二流路１４ａを閉じ、液体供給管３に液体Ｌを供給し、ガス供給管５に調整ガスＧを供給する。すると、液体Ｌは、液体供給管３から中空糸膜モジュール２の液相側領域ＬＡに供給されて、液体排出管４に排出される。また、液体Ｌは、液体供給管３から、中空糸膜モジュール２を迂回するようにバイパス管７、第二バイパス管１３及び第二バイパス管１４を通って、液体排出管４に排出される。調整ガスＧは、ガス供給管５から中空糸膜モジュール２の気相側領域ＧＡに供給されて、ガス排出管６に排出される。
【００７８】
中空糸膜モジュール２では、気相側領域ＧＡに供給された調整ガスＧは、中空糸膜２１を透過することにより、液相側領域ＬＡに供給された液体Ｌに溶解される。そして、中空糸膜モジュール２により調整ガスＧが溶解された液体Ｌと、バイパス管７、第二バイパス管１３及び第二バイパス管１４を通過した液体Ｌとが混合される。これにより、液体Ｌの流量に関わらず、液体Ｌの比抵抗値を容易に調整できる。
【００７９】
ここで、液体供給管３に供給する液体Ｌの流量が低下した場合を考える。
【００８０】
中空糸膜モジュール２を流れる液体Ｌの圧力損失は、バイパス管７、第二バイパス管１３及び第二バイパス管１４を流れる液体Ｌの圧力損失よりも高い。このため、液体Ｌの流量が低下すると、バイパス管７、第二バイパス管１３及び第二バイパス管１４に流れ込む液体Ｌの流量に対する中空糸膜モジュール２に流れ込む液体Ｌの流量の割合が小さくなる。その結果、液体Ｌの溶存ガス濃度が低くなって、液体Ｌの比抵抗値が上昇する。
【００８１】
そこで、通常時は、第二開閉弁１５及び第二開閉弁１６により第二流路１３ａ及び第二流路１４ａを開いておく。そして、液体Ｌの流量が小さくなると、第二開閉弁１５及び第二開閉弁１６の少なくとも一方により第二流路１３ａ及び第二流路１４ａの少なくとも一方を閉じる。つまり、第二開閉弁１５により第二流路１３ａのみを閉じてもよく、第二開閉弁１６により第二流路１４ａのみを閉じてもよく、第二開閉弁１５及び第二開閉弁１６により第二流路１３ａ及び第二流路１４ａの双方を閉じてもよい。すると、中空糸膜モジュール２をバイパスする液体Ｌの圧力損失が大きくなり、中空糸膜モジュール２に液体Ｌが流れ込み易くなる。第二開閉弁１５及び第二開閉弁１６の少なくとも一方を閉じるタイミングは、適宜設定できる。例えば、事前に液体Ｌの比抵抗値が上昇する流量を計測しておく。そして、流量計Ｆにより計測した液体Ｌの流量が、液体Ｌの比抵抗値が上昇する流量になったことを検出すると、第二開閉弁１５及び第二開閉弁１６の少なくとも一方を閉じてもよい。
【００８２】
排出工程は、第１実施形態と同様であるため、説明を省略する。
【００８３】
このように、本実施形態の比抵抗値調整装置１Ｃでは、通常時は、第二開閉弁１５，１６により第二流路１３ａ，１４ａを開いておくが、液体Ｌの流量が小さくなると、第二開閉弁１５，１６により第二流路１３ａ，１４ａを閉じる。すると、第二開閉弁１５，１６により第二流路１３ａ，１４ａを閉じることにより、中空糸膜モジュール２をバイパスする液体Ｌの圧力損失が大きくなる。これにより、中空糸膜モジュール２をバイパスする液体Ｌの流量に対する中空糸膜モジュール２に流れ込む液体Ｌの流量の割合が小さくなるのを抑制できる。その結果、液体Ｌの流量が低下しても、液体Ｌの比抵抗値が上昇するのを抑制できる。
【００８４】
［第４実施形態］
次に、第４実施形態について説明する。第４実施形態は、第１〜３実施形態を組み合わせた形態である。すなわち、第１実施形態において、漏出部を更に備えるとともに、複数のバイパス管路を備える。このため、以下では、第１〜３実施形態と相違する事項のみを説明し、第１〜３実施形態と同様の事項の説明を省略する。
【００８５】
図４は、第４実施形態の比抵抗値調整装置の模式図である。図４に示すように、本実施形態の比抵抗値調整装置１Ｄは、中空糸膜モジュール２と、液体供給管３と、液体排出管４と、ガス供給管５と、ガス排出管６と、バイパス管７と、第一開閉弁８と、漏出部１２と、第二バイパス管１３と、第二バイパス管１４と、を備える。
【００８６】
漏出部１２は、第２実施形態の漏出部１２と同じである。第二バイパス管１３及び第二バイパス管１４は、第３実施形態の第二バイパス管１３及び第二バイパス管１４と同様である。また、第二バイパス管１３及び第二バイパス管１４には、それぞれ第３実施形態の第二開閉弁１５及び第二開閉弁１６と同じ第二開閉弁１５及び第二開閉弁１６が接続されている。
【００８７】
このように、本実施形態の比抵抗値調整装置１Ｄでは、第１実施形態の作用効果に加え、第２及び３実施形態の作用効果が得られる。
【００８８】
以上、本発明の実施形態について説明したが、本発明は上記実施形態に限定されるものではない。例えば、上記実施形態では、タイマー部ＴＭにより定期的に第一開閉弁８を開閉するものとして説明した。しかしながら、第一開閉弁８を開閉するタイミングは、適宜設定することができる。例えば、気相側領域ＧＡ又はガス排出管６に所定量の水が溜まったことを検出した場合に、第一開閉弁８を開閉するものとしてもよい。
【実施例】
【００８９】
次に、本発明の実施例を説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。【００９０】
（実施例１）
実施例１では、図３に示す第３実施形態の比抵抗値調整装置１Ｃを用いた。【００９１】
液体供給管３に供給する液体Ｌとしては、２５［℃］における比抵抗値が１８．２［ＭΩ・ｃｍ］の超純水を用いた。液体供給管３に供給する液体Ｌの流量は、５〜３０[Ｌ／ｍｉｎ]の間で変動させた。一定流量を維持する流量維持時間は、３０秒とし、段階的に当該流量を変動させた。液体供給管３に供給する液体Ｌの水圧は、０．３［ＭＰａ］とした。【００９２】
ガス供給管５に供給する調整ガスＧとしては、炭酸ガスを用いた。炭酸ガスの供給源には、７［ｍ３］の炭酸ガスボンベを用いた。圧力調整弁９として、二段式圧力調整器及びプレッシャーレギュレーティングバルブを用い、中空糸膜モジュール２の気相側領域ＧＡに供給する調整ガスＧのガス圧を、０．１［ＭＰａ］とした。【００９３】
中空糸膜モジュール２として、ポリ−４−メチルペンテン−１を素材とする内径１８０［μｍ］、外径２５０［μｍ］の中空糸膜２１を束にし、ＰＰ樹脂製のハウジング２２内で、中空糸膜２１の束の両端を樹脂で固め、２．０［ｍ２］の膜面積を有する外部灌流型の気体給気用中空糸モジュール（ＤＩＣ（株）製  ＳＥＰＡＲＥＬ  ＥＦ−００２Ａ）を得た。中空糸膜２１の炭酸ガス透過速度は、３．５×１０−５［ｃｍ３／ｃｍ２・ｓｅｃ・ｃｍＨｇ］であった。【００９４】
そして、第一開閉弁８により第一流路６ａを閉じた状態で、液体供給管３に液体Ｌを供給するとともに、ガス供給管５に調整ガスＧを供給した。液体供給管３に供給した液体Ｌは、中空糸膜モジュール２の液相側領域ＬＡに流れ込む比較的小流量の流れと、中空糸膜モジュール２を迂回してバイパス管７、第二バイパス管１３及び第二バイパス管１４に流れ込む比較的大流量の流れと、に分配され、その後、液体排出管４で合流した。ガス供給管５に供給した調整ガスＧは、圧力調整弁９により０．１［ＭＰａ］に調整された後、中空糸膜モジュール２の気相側領域ＧＡに供給された。中空糸膜モジュール２では、調整ガスＧは、中空糸膜２１を透過し、中空糸膜２１内の液相側領域ＬＡを流れる液体Ｌに溶解され、液体Ｌは、炭酸ガスが付加された炭酸ガス付加超純水となった。このとき、炭酸ガス付加超純水の比抵抗値が０．１［ＭΩ・ｃｍ］になるように、第二開閉弁１５，１６を調節した。また、タイマー部ＴＭにより、第一開閉弁８を１５分に１秒（１Ｌ）開かせた。【００９５】
そして、液体排出管４から排出された炭酸ガス付加超純水（液体Ｌ）の比抵抗値を計測した。この計測結果を図５に示す。【００９６】
図５では、縦軸に計測した比抵抗値を示し、横軸に経過時間を示す。図５に示すように、実施例１では、比抵抗値のズレは、０．１［ＭΩ・ｃｍ］±０．０２［ＭΩ・ｃｍ］以内となり、比抵抗値の変化は、殆ど見られなかった。これは、実施例１では、気相側領域ＧＡから水が排出されたことにより、気相側領域ＧＡに逆拡散した水蒸気の影響による比抵抗値の上昇が、効果的に抑制された結果だと考えられる。【００９７】
（実施例２）
実施例２では、図４に示す第４実施形態の比抵抗値調整装置１Ｄを用いた。【００９８】
漏出部１２として、中空糸キャピラリを用い、漏出部１２を通過する調整ガスＧの流量を、５０［ｍｌ／ｍｉｎ］とした。また、タイマー部ＴＭにより、第一開閉弁８を１時間に１秒（１Ｌ）開かせた。その他は、実施例１と同条件とした。【００９９】
そして、液体排出管４から排出された炭酸ガス付加超純水（液体Ｌ）の比抵抗値を計測した。この計測結果を図６に示す。図６では、縦軸に計測した比抵抗値を示し、横軸に経過時間を示す。【０１００】
図６に示すように、実施例２では、比抵抗値のズレは、０．１［ＭΩ・ｃｍ］±０．００５［ＭΩ・ｃｍ］以内となり、比抵抗値の変化は、殆ど見られなかった。これは、実施例２では、実施例１に加え、気相側領域ＧＡから調整ガスＧが常時排出されたことにより、気相側領域ＧＡに逆拡散した溶解ガスの影響による比抵抗値の上昇が、効果的に抑制された結果だと考えられる。【０１０１】
（実施例３−１及び実施例３−２）
実施例３−１及び実施例３−２では、実施例２と同様に、図４に示す第４実施形態の比抵抗値調整装置１Ｄを用いた。【０１０２】
実施例３−１では、第二開閉弁１５を常時開いた。実施例３−２では、流量計Ｆにより計測した液体Ｌの流量が１０［Ｌ／ｍｉｎ］以下になると第二開閉弁１５を閉じた。その他は、実施例２と同条件とした。【０１０３】
そして、実施例３−１及び実施例３−２において、液体排出管４から排出された炭酸ガス付加超純水（液体Ｌ）の比抵抗値を計測した。実施例３−１の計測結果を図７に示し、実施例３−２の計測結果を図８に示す。図７及び図８では、縦軸に計測した比抵抗値を示し、横軸に流量計Ｆにより計測した液体Ｌの流量（ＤＩＷ）を示す。【０１０４】
図７に示すように、実施例３−１では、液体Ｌの流量が１０［Ｌ／ｍｉｎ］を下回ると、比抵抗値が上昇した。これは、液体Ｌの流量が小さくなることで、中空糸膜モジュール２に液体Ｌが流れにくくなるため、殆どの液体Ｌが中空糸膜モジュール２を迂回してバイパス管７、第二バイパス管１３及び第二バイパス管１４に流れ込んだ結果だと考えられる。【０１０５】
一方、図８に示すように、実施例３−２では、液体Ｌの流量が１０［Ｌ／ｍｉｎ］以下になっても、比抵抗値の上昇（変動）が抑制された。これは、比抵抗値が上昇し始めるタイミング（液体Ｌの流量が１０［Ｌ／ｍｉｎ］程度）で第二開閉弁１５を閉じることで、中空糸膜モジュール２にも液体Ｌが流れやすくなった結果だと考えられる。【０１０６】
なお、実施例３−２の計測を１週間継続したが、気相側領域ＧＡに溜まった水の影響と考えられる比抵抗値の変化は見られなかった。【０１０７】
（比較例１）
比較例１では、図９に示す比抵抗値調整装置１００Ａを用いた。【０１０８】
比抵抗値調整装置１００Ａは、基本的に実施例１の比抵抗値調整装置１Ｃ（図３参照）と同様であり、第一開閉弁８及びタイマー部ＴＭを備えず、また、ガス排出管６が封止されている点のみ、比抵抗値調整装置１Ｃと相違する。つまり、比抵抗値調整装置１００Ａでは、ガス排出管６における流体の流れが遮断されて、ガス排出管６から流体が排出されない。【０１０９】
この比抵抗値調整装置１００Ａにおいて、流量計Ｆにより計測した液体Ｌの流量が１０［Ｌ／ｍｉｎ］以下になると第二開閉弁１５を閉じた。その他は、実施例１と同条件とした。【０１１０】
そして、液体排出管４から排出された炭酸ガス付加超純水（液体Ｌ）の比抵抗値を計測した。この計測結果を図１０に示す。図１０では、縦軸に計測した比抵抗値を示し、横軸に経過時間を示す。【０１１１】
図１０に示すように、比較例１では、液体Ｌの流量が１０［Ｌ／ｍｉｎ］以下になると第二開閉弁１５を閉じたが、０．１［ＭΩ・ｃｍ］に設定した比抵抗値が０．１４５［ＭΩ・ｃｍ］まで上昇した。これは、比較例１では、気相側領域ＧＡに溜まった水及び気相側領域ＧＡに逆拡散した溶解ガスの影響により、比抵抗値が上昇した結果だと考えられる。【０１１２】
（比較例２）
比較例２では、図１１に示す比抵抗値調整装置１００Ｂを用いた。【０１１３】
比抵抗値調整装置１００Ａは、基本的に実施例２の比抵抗値調整装置１Ｄ（図４参照）と同様であり、第一開閉弁８及びタイマー部ＴＭを備えない点のみ、比抵抗値調整装置１Ｄと相違する。つまり、比抵抗値調整装置１００Ａでは、漏出部１２から調整ガスＧが漏れ出すが、気相側領域ＧＡに溜まった水は排出されない。【０１１４】
第一開閉弁８を開閉しない他は、実施例２と同条件とした。【０１１５】
そして、液体排出管４から排出された炭酸ガス付加超純水（液体Ｌ）の比抵抗値を計測した。この計測結果を図１２に示す。図１２では、縦軸に計測した比抵抗値を示し、横軸に経過時間を示す。【０１１６】
図１２に示すように、比較例２では、０．１［ＭΩ・ｃｍ］に設定した比抵抗値が、６時間経過後に０．１４［ＭΩ・ｃｍ］まで上昇した。これは、比較例２では、気相側領域ＧＡに逆拡散した溶解ガスの影響は多少改善されたものの、依然として、気相側領域ＧＡに溜まった水の影響により、比抵抗値が上昇した結果だと考えられる。
【符号の説明】
【０１１７】
１Ａ，１Ｂ，１Ｃ，１Ｄ…比抵抗値調整装置、２…中空糸膜モジュール、３…液体供給管、４…液体排出管、５…ガス供給管、６…ガス排出管、６ａ…第一流路、７…バイパス管、８…第一開閉弁、９…圧力調整弁、１２…漏出部、１３，１４…第二バイパス管、１３ａ，１４ａ…第二流路、１５，１６…第二開閉弁、２１…中空糸膜、２２…ハウジング、２２Ａ…液体供給口、２２Ｂ…液体排出口、２２Ｃ…ガス供給口、２２Ｄ…ガス排出口、１００Ａ，１００Ｂ…比抵抗値調整装置、Ｆ…流量計、Ｇ…調整ガス、ＧＡ…気相側領域、Ｌ…液体、ＬＡ…液相側領域、Ｐ…圧力計、ＴＭ…タイマー部。
【図１】
2016167134.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【国際調査報告】
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