(57)【要約】      （修正有）【課題】画像表示にむらが発生することを低減し、表示品位の低下を抑制できる液晶表示装置を提供する。【解決手段】液晶表示装置は、表示領域ＥＤに重なる領域に位置する複数の第１柱状スペーサ２４ａと遮光膜２１２に重なる領域に位置する第２柱状スペーサ２４ｂを含む、複数の柱状スペーサ２４を有し、遮光膜２１２に重なる領域における第２柱状スペーサ２４ｂの占有率は、表示領域ＥＤに重なる領域における第１柱状スペーサ２４ａの占有率に比べて小さい。【選択図】図３
2014089302.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
外側主面に表示領域を有している第１基板と、該第１基板に対して互いに内側主面同士を対向させて配置された第２基板と、前記表示領域に重なるように前記第１基板および前記第２基板の間に配置された液晶層と、前記表示領域に重なる前記第２基板の内側主面上に配置された第１表示電極と、該第１表示電極との間で電界を発生させる第２表示電極と、前記第１基板と前記第２基板との間に配置された複数の柱状スペーサと、前記液晶層を取り囲むように前記第１基板と前記第２基板との間に配置されたシール材と、前記表示領域を取り囲むように前記表示領域と前記シール材との間の前記第１基板の内側主面上に配置された遮光膜とを備え、
複数の前記柱状スペーサは、前記表示領域に重なる領域に位置する複数の第１柱状スペーサと前記遮光膜に重なる領域に位置する第２柱状スペーサとを有し、
前記遮光膜に重なる領域における前記第２柱状スペーサの占有率は、前記表示領域に重なる領域における前記第１柱状スペーサの占有率に比べて小さいことを特徴とする液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、携帯電話、デジタルカメラ、携帯ゲーム機または携帯情報端末などの様々な用途に用いられる液晶表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置は、外側主面に表示領域を有している第１基板と、第１基板に対して互いに内側主面同士を対向させて配置された第２基板と、第１基板および第２基板の間に配置された液晶層と、液晶層を取り囲むように第１基板と第２基板との間に配置されるシール材とを備える（例えば、特許文献１参照）。さらに、シール材によって囲まれた領域に重なる第１基板と第２基板との間には、第１基板と第２基板との間隔を均一化するために一定の占有率で複数の柱状スペーサが設けられている。
【０００３】
また、このような液晶表示装置では、表示領域よりも外側に位置する領域から光漏れが発生することを抑制するため、表示領域を取り囲むように表示領域とシール材との間の第１基板の内側主面上に遮光膜が配置されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０００−１９３９６９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、このような液晶表示装置では、遮光膜によって第２基板の内側主面上に形成された部材全体の膜厚が大きくなるため、柱状スペーサが遮光膜に重なる領域において部材と接触することで第１基板と第２基板との距離が離れ、遮光膜に重なる領域における第１基板と第２基板との間隔が大きくなりやすい。また、例えば、モノクロの液晶表示装置では、表示領域における第１基板の内側主面上にはカラーフィルタが設けられていないため第２基板の内側主面上に形成された部材全体の膜厚が小さくなることで表示領域に重なる領域における第１基板と第２基板との間隔が小さくなりやすい。
【０００６】
すなわち、このような液晶表示装置では、表示領域と遮光膜に重なる領域とにおいて、第１基板と第２基板との間隔が不均一になりやすく、この間隔の差によって画像表示にむらが発生し、表示品位が低下する可能性があるという問題点があった。
【０００７】
本発明は、上記の問題点に鑑みてなされたものであり、その目的は、画像表示にむらが発生することを低減し、表示品位の低下を抑制できる液晶表示装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の液晶表示装置は、外側主面に表示領域を有している第１基板と、該第１基板に対して互いに内側主面同士を対向させて配置された第２基板と、前記表示領域に重なるように前記第１基板および前記第２基板の間に配置された液晶層と、前記表示領域に重なる前記第２基板の内側主面上に配置された第１表示電極と、該第１表示電極との間で電界を発生させる第２表示電極と、前記第１基板と前記第２基板との間に配置された複数の柱状スペーサと、前記液晶層を取り囲むように前記第１基板と前記第２基板との間に配置されたシール材と、前記表示領域を取り囲むように前記表示領域と前記シール材との間の前記第１基板の内側主面上に配置された遮光膜とを備え、複数の前記柱状スペーサは、前記表
示領域に重なる領域に位置する複数の第１柱状スペーサと前記遮光膜に重なる領域に位置する第２柱状スペーサとを有し、前記遮光膜に重なる領域における前記第２柱状スペーサの占有率は、前記表示領域に重なる領域における前記第１柱状スペーサの占有率に比べて小さいことを特徴とする。
【発明の効果】
【０００９】
本発明に係る液晶表示装置は、画像表示にむらが発生することを低減し、表示品位の低下を抑制できる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】本発明の実施形態における液晶表示装置を表す平面図である。
【図２】図１のＩ−Ｉ線に沿った断面図である。
【図３】図１のＲ近傍を拡大した平面図である。
【図４】図３のII−II線に沿った断面図である。
【図５】表示領域の外側に位置する領域に重なる第２基板に設けられた電極、配線などを表す平面図である。
【図６】図１の液晶表示装置におけるシール材の注入部近傍を表した平面図である。
【図７】（ａ）は第１基板側から見た柱状スペーサを表した平面図である。（ｂ）は柱状スペーサの底部の形状の例を表した平面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
本発明の実施形態における液晶表示装置１について、図１〜図７を参照しながら説明する。
【００１２】
液晶表示装置１は、液晶パネル２と、液晶パネル２に向かって光を出射する光源装置３と、液晶パネル２上に配置される第１偏光板４と、液晶パネル２と光源装置３との間に配置される第２偏光板５とを備えている。
【００１３】
液晶パネル２では、第１基板21と第２基板22とが対向配置され、第１基板21と第２基板22との間に液晶層23および複数の柱状スペーサ24が設けられ、この液晶層23および複数の柱状スペーサ24を取り囲むようにシール材25が設けられている。また、第２基板22にはドライバＩＣ26が設けられているとともに、回路基板27が接続されている。
【００１４】
第１基板21は、画像を表示する表示領域ＥＤを有する第１主面21ａと、第１主面21ａとは反対側に位置する第２主面21ｂとを有している。また、第１基板21は、例えばガラス、プラスチックなどの透光性を有する材料によって形成される。
【００１５】
第１基板21の第２主面21ｂ上には、ブラックマトリクス211、遮光膜212、平坦化膜213
および共通電極214が設けられている。
【００１６】
ブラックマトリクス211は、第１基板21の第２主面21ｂ上に設けられている。また、ブ
ラックマトリクス211は、平面視して表示領域ＥＤと重なる領域に位置しているとともに
、各画素Ｐの外周に沿って格子状に設けられている。ブラックマトリクス211の材料は、
例えば、遮光性の高い色（例えば黒色）の染料または顔料が添加された樹脂、またはクロムなどの金属が挙げられる。なお、本実施形態におけるブラックマトリクス211は第２主
面21ｂ上に格子状に形成されているが、これには限られない。
【００１７】
遮光膜212は光を遮る機能を有する。遮光膜212は第１基板21の第２主面21ｂ上に設けられている。また、遮光膜212は、平面視して表示領域ＥＤを取り囲むように環状に設けら
れている。すなわち、平面視して、遮光膜212は表示領域ＥＤとシール材25との間に設け
られている。また、本実施形態における遮光膜212はシール材25とも重なっている。なお
、遮光膜212はブラックマトリクス211と同様の材料で形成できる。
【００１８】
また、遮光膜212は表示領域ＥＤと重ならないように設けられている。すなわち、表示
領域ＥＤと外側に位置する領域との境界は遮光膜212によって規定できる。なお、図１お
よび図３において、遮光膜212の形成領域は斜線で示された領域である。
【００１９】
平坦化膜213は、ブラックマトリクス211および遮光膜212を覆うように第１基板21の第
２主面21ｂ上に設けられている。平坦化膜213は、表示領域ＥＤ、シール材25および表示
領域ＥＤとシール材25との間の領域に渡って連続的に形成されている。平坦化膜213は、
アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂またはポリイミド系樹脂などの有機材料によって形成される。平坦化膜213の膜厚は例えば１μｍ〜５μｍの範囲で設定されている。
【００２０】
共通電極214は信号電極221との間で電界を発生させる機能を有する。共通電極214は平
坦化膜213上に設けられている。また、共通電極214は、透光性および導電性を有する材料によって形成され、例えばＩＴＯ（Indium Tin Oxide）、ＩＺＯ（Indium Zinc Oxide）
、ＡＴＯ（Antimony Tin Oxide）、ＡＺＯ（Al-Doped Zinc Oxide）、酸化錫、酸化亜鉛
または導電性高分子によって形成される。
【００２１】
第２基板22は、第１基板21の第２主面21ｂに対向する第１主面22ａと、第１主面22ａの反対側に位置する第２主面22ｂとを有している。第２基板22は第１基板21と同様の材料で形成されている。
【００２２】
表示領域ＥＤと重なる第２基板22の第１主面22ａ上には、ゲート配線、ゲート絶縁膜、ソース配線、薄膜トランジスタ、層間絶縁膜、信号電極221などが設けられている。
【００２３】
表示領域ＥＤと重なる第２基板22の第１主面22ａ上には、一定方向に沿って配列している複数のゲート配線と、各々のゲート配線と交差するとともに、ゲート配線の配列方向と直交する方向に沿って配列している複数のソース配線とが設けられている。なお、画素Ｐは複数のゲート配線と複数のソース配線とによって囲まれた領域である。
【００２４】
また、各々のゲート配線上にはゲート絶縁膜を介して複数の薄膜トランジスタが位置している。各々のソース配線は薄膜トランジスタを介して複数の信号電極221が接続されて
いる。なお、信号電極221は、ドライバＩＣ26から供給された信号電圧によって共通電極214との間で電界を発生させる機能を有する。信号電極221は画素Ｐ内に設けられている。
信号電極221は共通電極214と同様の材料で形成してもよい。
【００２５】
１つのゲート配線に電圧が印加されれば、そのゲート配線上に位置する薄膜トランジスタの半導体層の抵抗が変化し、その薄膜トランジスタに電流が流れる状態になる（ＯＮ状態）。薄膜トランジスタがＯＮ状態で、ソース配線に画像信号を印加すれば、薄膜トランジスタを介してソース配線から信号電極221へ画像信号が印加され、画像信号に基づき信
号電極221と共通電極214との間で電界が発生し、画素Ｐに位置する液晶分子の配列方向を制御することができる。
【００２６】
液晶表示装置１では、第１基板21に設けられた共通電極214と第２基板22に設けられた
信号電極221との間で発生する電界によって液晶層23中の液晶分子の方向を制御する縦電
界方式を採用しているが、これに限定されない。すなわち、第２基板22側に設けられた共通電極214と信号電極221との間で電界を発生させる横電界方式を採用してもよい。
【００２７】
また、表示領域ＥＤの外側に位置する領域に重なる第２基板22の第１主面22ａ上には、
ドライバ用配線222、共通電極用配線223、検査用電極224、検査用配線225、接続配線226
が設けられている。
【００２８】
ドライバ用配線222は液晶パネル２を駆動するための電圧が印加される配線である。ド
ライバ用配線222としては、一端がドライバＩＣ26に接続されており、他端がゲート配線
、ソース配線または回路基板27に接続されている配線と、２つのドライバＩＣ26を接続する配線とが形成されている。
【００２９】
共通電極用配線223は、第１基板21上に設けられた共通電極214と電気的に接続されている。具体的には、共通電極用配線223と共通電極214とは、第１基板21および第２基板22の角部近傍に設けられた電極（不図示）に配置された樹脂に含有された導電性粒子によって接続されている。また、共通電極用配線223は表示領域ＥＤを取り囲むように環状に設け
られている。共通電極用配線223はシール材25と重なるように設けられている。また、共
通電極用配線223の一部は表示領域ＥＤとシール材25との間の領域に位置している。また
、共通電極用配線223の一部はシール材25よりも外側の領域に位置している。
【００３０】
検査用電極224および検査用配線225は、第２基板22の第１主面22ａに設けられている。検査用電極224および検査用配線225に電圧を印加することで、液晶パネル２が正常に動作するか否かを検査できる。
【００３１】
接続配線226は回路基板27に接続されている。接続配線226は、第２基板22の第１主面22ａに設けられている。接続配線226は回路基板27からシール材25の形成領域を通過して表
示領域ＥＤとシール材25との間の領域まで延在している。
【００３２】
なお、図５において、重なり領域Ｏ１，Ｏ２では平面視して配線が重なっている。具体的には、重なり領域Ｏ１では共通電極用配線223と検査用配線225とが絶縁膜を介して重なっているとともに、重なり領域Ｏ２では共通電極用配線223と接続配線226とが絶縁膜を介して重なっている。
【００３３】
液晶層23は第１基板21と第２基板22との間に設けられている。液晶層23は、ネマティック液晶などの分子を含む。
【００３４】
シール材25は、第１基板21と第２基板22とを貼り合わせる機能を有する。シール材25は、第１基板21と第２基板22との間に設けられている。シール材25は、平面視して表示領域ＥＤを取り囲むように設けられている。シール材25は、エポキシ樹脂などの有機材料によって形成されてシリカなどからなる粒子25ｂを含んでいる。また、シール材25の注入部25ａには封止材が位置している。注入部25ａは、封止材が位置する部位であって、液晶表示装置１の製造工程において液晶が注入される部位である。
【００３５】
柱状スペーサ24は第１基板21と第２基板22との間隔を制御する機能を有する。複数の柱状スペーサ24は第１基板21と第２基板22との間に設けられている。また、柱状スペーサ24の一端は第１基板21側に固定されている。柱状スペーサ24は、例えばアクリル樹脂、エポキシ樹脂などの樹脂材料によって形成される。なお、本実施形態の柱状スペーサ24に用いられる材料のヤング率は例えば4.8ＧＰａである。
【００３６】
また、図７（ａ）に示すように、柱状スペーサ24は、頂部241と、底部242とを有している。なお、図７（ａ）は柱状スペーサ24を第１基板21側から見た平面図である。
【００３７】
頂部241は第２基板22と対向している部位である。また、底部242は第１基板21側に固定されている部位である。平面視したときの底部242の面積は、頂部の面積よりも大きくな
っている。なお、本実施形態の柱状スペーサ24の底部242は円形状をしているが、これに
限定されず、例えば図７（ｂ）に示すような形状であってもよい。
【００３８】
柱状スペーサ24の形成方法としては、部材が形成された第１基板21の第２主面21ｂ上に、上記樹脂材料を塗布し、樹脂膜を形成する。その後、マスクを用いて樹脂膜の所定部分を露光し、現像することで樹脂膜の露光部分を処理し、加熱硬化させることで、柱状スペーサ24を形成できる。
【００３９】
柱状スペーサ24は、表示領域ＥＤに重なる複数の第１柱状スペーサ24ａと、表示領域ＥＤとシール材25との間の遮光膜212に重なる領域に位置する第２柱状スペーサ24ｂと、注
入部25ａに重なる領域に位置する第３柱状スペーサ24ｃとを有している。
【００４０】
複数の第１柱状スペーサ24ａは、表示領域ＥＤに重なる第１基板21の第２主面21ｂ上に設けられている。また、第１柱状スペーサ24ａはブラックマトリクス211に重なるように
設けられている。
【００４１】
また、液晶表示装置１では、表示領域ＥＤに重なる領域における第１柱状スペーサ24ａの占有率が例えば0.3％に設定されている。ここで、表示領域ＥＤに重なる領域における
第１柱状スペーサ24ａの占有率とは、表示領域ＥＤに重なる領域の面積に占める第１柱状スペーサ24ａの底部242ａの面積の割合を示している。占有率の算出方法としては、例え
ば、画素Ｐの短辺方向（Ｘ方向）に隣接する３つの画素Ｐの面積の総和を算出し、３つの画素Ｐに位置する全ての第１柱状スペーサ24ａの底部242ａの面積の総和を算出し、３つ
の画素Ｐの総面積に対する第１柱状スペーサ24ａの底部242ａの総面積の割合を算出する
。この算出を他の３つの画素Ｐについても同様に行う。例えば、10箇所測定し、算出値の平均値を、表示領域ＥＤに重なる領域における第１柱状スペーサ24ａの占有率としてもよい。
【００４２】
複数の第２柱状スペーサ24ｂは、平面視して表示領域ＥＤとシール材25との間に位置している。すなわち、複数の第２柱状スペーサ24ｂは平面視して遮光膜212に重なる領域に
位置している。また、複数の第２柱状スペーサ24ｂはシール材25には重なっていない。すなわち、第２柱状スペーサ24ｂはシール材25の形成領域には配置されていない。
【００４３】
また、液晶表示装置１では、表示領域ＥＤとシール材25との間の遮光膜212に重なる領
域における第２柱状スペーサ24ｂの占有率は例えば0.05％に設定されている。ここで、表示領域ＥＤとシール材25との間の遮光膜212に重なる領域における第２柱状スペーサ24ｂ
の占有率とは、表示領域ＥＤとシール材25との間の遮光膜212に重なる領域の面積に占め
る第２柱状スペーサ24ｂの底部242ｂの面積の割合を示している。占有率の算出方法とし
ては、例えば、表示領域ＥＤとシール材25との間の遮光膜212に重なる領域において、表
示領域ＥＤでの３つの画素Ｐの総面積に相当する面積を特定し、特定された領域内に位置する全ての第２柱状スペーサ24ｂの底部242ｂの面積の総和を算出する。この算出を他の
領域についても同様に行う。例えば、10箇所測定し、算出値の平均値を、表示領域ＥＤとシール材25との間の遮光膜212に重なる領域における第２柱状スペーサ24ｂの占有率とし
て算出してもよい。
【００４４】
また、第２柱状スペーサ24ｂは重なり領域Ｏ１，Ｏ２には設けられていない。重なり領域Ｏ１では共通電極用配線223と検査用配線225とが絶縁膜を介して重なっており、重なり領域Ｏ２では絶縁膜を介して共通電極用配線223と接続配線226とが重なっている。すなわち、重なり領域Ｏ１，Ｏ２では絶縁膜を介して配線同士が重なっているので膜厚が大きくなりやすい。そのため、第２柱状スペーサ24ｂを配置すると、第１基板21と第２基板22との間隔が大きくなりやすい。これに対して、第２柱状スペーサ24ｂが重なり領域Ｏ１，Ｏ
２を避けて配置されることで、重なり領域Ｏ１，Ｏ２における第１基板21と第２基板22との間隔が大きくなることを抑制できる。
【００４５】
液晶表示装置１では、表示領域ＥＤとシール材25との間の遮光膜212に重なる領域にお
ける第２柱状スペーサ24ｂの占有率は、表示領域ＥＤに重なる領域における第１柱状スペーサ24ａの占有率に比べて小さい。これによって、表示領域ＥＤに重なる領域に位置する複数の第１柱状スペーサ24ａに比べて、遮光膜212に重なる領域に位置する複数の第２柱
状スペーサ24ｂを収縮させやすくなるので、遮光膜212に重なる領域において第１基板21
と第２基板22との間隔が大きくなることを低減できる。したがって、遮光膜212に重なる
領域における第１基板21と第２基板22との間隔と、表示領域ＥＤに重なる領域における第１基板21と第２基板22との間隔との差を低減できるので、画像表示にむらが発生することを低減し、表示品位の低下を抑制できる。
【００４６】
また、表示領域ＥＤとシール材25との間の遮光膜212に重なる領域において、第２柱状
スペーサ24ｂの占有率を一定にする例に限られない。例えば、表示領域ＥＤとシール材25との間の遮光膜212に重なる領域において、表示領域ＥＤ側の領域は第２柱状スペーサ24
ｂの占有率を高くし、シール材25側の領域は第２柱状スペーサ24ｂの占有率を低くしてもよい。これによって、シール材25は粒子25ｂを含んでいるため、シール材25の近傍は柱の圧縮力が弱い傾向があるが、これを補うことができる。
【００４７】
なお、本実施形態では、第１柱状スペーサ24ａの底部242ａと第２柱状スペーサ24ｂの
底部242ｂとを同じ面積にして、柱状スペーサ24の形成数を変えることで占有率を設定し
たが、これには限定されない。例えば、同じ形成数として、第２柱状スペーサ24ｂの底部242ｂの面積を第１柱状スペーサ24ａの底部242ａの面積に比べて小さくすることで、占有率を小さくしてもよい。また、第１柱状スペーサ24ａおよび第２柱状スペーサ24ｂにおいて、底部242ａ，242ｂの面積および形成数の両方を変えて占有率を設定してもよい。
【００４８】
また、本実施形態では、第１柱状スペーサ24ａの高さと第２柱状スペーサ24ｂの高さとは同じである。第１柱状スペーサ24ａの高さと第２柱状スペーサ24ｂの高さとを異ならせる場合、第１基板21と第２基板22との間隔に対応させて柱状スペーサ24の高さを調整する必要があるため、製造工程が複雑化する可能性がある。これに対して、第１柱状スペーサ24ａの高さと第２柱状スペーサ24ｂの高さとを同じにすることで、液晶表示装置１の製造工程を簡略化できる。
【００４９】
複数の第３柱状スペーサ24ｃは、図６に示すように、シール材25における注入部25ａに位置している。
【００５０】
また、液晶表示装置１では、シール材25の注入部25ａに重なる領域における第３柱状スペーサ24ｃの占有率は例えば0.3％に設定されている。ここで、シール材25の注入部25ａ
に重なる領域における第３柱状スペーサ24ｃの占有率とは、シール材25の注入部25ａに重なる領域の面積に占める複数の第３柱状スペーサ24ｃの底部242ｃの面積の割合を示して
いる。占有率の算出方法としては、第２柱状スペーサ24ｂで説明した場合と同様である。
【００５１】
液晶表示装置１では、シール材25の注入部25ａに重なる領域における第３柱状スペーサ24ｃの占有率が、表示領域ＥＤとシール材25との間の遮光膜212に重なる領域における第
２柱状スペーサ24ｂの占有率に比べて大きく設定されている。シール材25の注入部25ａに重なる領域における第３柱状スペーサ24ｃの占有率が小さくなると、注入部25ａにおける第１基板21と第２基板22との間隔が小さくなりやすく、液晶を注入しにくくなる可能性がある。また、注入部25ａにはシール材25の粒子25ｂが存在しないので、第１基板21と第２基板22とを貼り合わせてシール材25となる樹脂を硬化させる際に、注入部25ａにおける第
１基板21と第２基板22との間隔が小さくなってしまう可能性がある。そのため、シール材25の注入部25ａに重なる領域における第３柱状スペーサ24ｃの占有率が、表示領域ＥＤとシール材25との間の遮光膜212に重なる領域における第２柱状スペーサ24ｂの占有率に比
べて大きく設定することで、注入部25ａの領域に重なる第１基板21と第２基板22との間隔が小さくなることを低減し、液晶を注入しにくくなることを低減できる。また、シール材25を硬化する際に注入部25ａにおいて第１基板21と第２基板22との間隔が小さくなり、第１基板21と第２基板22との間隔が不均一になることを低減できる。
【００５２】
また、シール材25の注入部25ａに重なる領域における第３柱状スペーサ24ｃの占有率は、表示領域ＥＤに重なる領域における第１柱状スペーサ24ａの占有率と同じであることが好ましい。
【００５３】
上述と同様に、第３柱状スペーサ24ｃの占有率の設定は、第３柱状スペーサ24ｃの底部242ｃの面積、形成数のいずれかまたは両方を変更してもよい。
【００５４】
ドライバＩＣ26はゲート配線、ソース配線などの駆動を制御する機能を有する。ドライバＩＣ26は第２基板22の第２主面22ａ上に位置している。ドライバＩＣ26には複数のドライバ用配線222が接続されている。
【００５５】
回路基板27は、液晶パネル２と電気的に接続されている。回路基板27は、基体、配線パターンおよび回路電極端子を有し、配線パターンおよび回路電極端子を支持する機能を有する。基体は絶縁性の材料で形成され、例えばポリイミド樹脂などの可撓性を有する材料で形成される。
【００５６】
液晶層23は、第１基板21と第２基板22との間に設けられている。液晶層23は、ネマティック液晶、コレステリック液晶、またはスメクティック液晶などの液晶分子を含む。
【００５７】
シール材25は、第１基板21と第２基板22とを貼り合わせる機能を有する。シール材25は、第１基板21と第２基板22との間に設けられている。このシール材25は、エポキシ樹脂などの有機材料によって形成される。
【００５８】
光源装置３は、液晶パネル２に向けて光を出射する機能を有する。光源装置３は、光源31と、導光板32とを有している。なお、本実施形態における光源装置３では、光源31にＬＥＤなどの点光源を採用しているが、冷陰極管などの線光源を採用してもよい。
【００５９】
第１偏光板４は所定の振動方向の光を選択的に透過させる機能を有する。この第１偏光板４は液晶パネル２の第１基板21の第１主面21ａに対向するように配置されている。
【００６０】
第２偏光板５は所定の振動方向の光を選択的に透過させる機能を有する。この第２偏光板５は、第２基板22の第２主面22ｂに対向するように配置されている。
【００６１】
本発明は、上述した実施形態に特に限定されるものではなく、本発明の範囲内で種々の変更および改良が可能である。
【００６２】
上記実施形態における柱状スペーサ24は第１基板21側に固定されているが、第２基板22側に固定してもよい。その場合、柱状スペーサ24の底部242は第２基板22側に位置するこ
とになる。
【００６３】
本実施形態では、カラーフィルタがこれには限られず、第２基板22の第２主面22ｂ上にカラーフィルタを設けてもよい。
【符号の説明】
【００６４】
１  液晶表示装置
２  液晶パネル
ＥＤ  表示領域
Ｐ  画素
21  第１基板
21ａ  第１主面（外側主面）
21ｂ  第２主面（内側主面）
211  ブラックマトリクス
212  遮光膜
213  平坦化膜
214  共通電極（第２表示電極）
22  第２基板
22ａ  第１主面（内側主面）
22ｂ  第２主面（外側主面）
221  信号電極（第１表示電極）
222  ドライバ用配線
223  共通電極配線
224  検査用電極
225  検査用配線
226  接続配線
23  液晶層
24  柱状スペーサ
24ａ  第１柱状スペーサ
24ｂ  第２柱状スペーサ
24ｃ  第３柱状スペーサ
241，241ａ，241ｂ，241ｃ  頂部
242，242ａ，242ｂ，242ｃ  底部  25  シール材
25ａ  注入部
25ｂ  粒子
26  ドライバＩＣ
27  回路基板
Ｏ１、Ｏ２  重なり領域
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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