(57)【要約】【課題】最表面層にフッ素系粒子を含む場合に、使用開始初期において接触部材との摩擦が小さく、かつ、画像欠陥の発生が抑制される電子写真感光体を提供する。【解決手段】表面粗さの中心線平均粗さ（Ｒａ）が１．０μｍ以上１．７μｍ以下であり、かつ、最大高さ（Ｒｍａｘ）が３．０μｍ以上４．０μｍ以下である導電性基材４と、前記導電性基材上に配置された感光層２，３，５と、を有し、最表面層５がフッ素系粒子を含む電子写真感光体７。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
表面粗さの中心線平均粗さ（Ｒａ）が１．０μｍ以上１．７μｍ以下であり、かつ、最大高さ（Ｒｍａｘ）が３．０μｍ以上４．０μｍ以下である導電性基材と、
前記導電性基材上に配置された感光層と、
を有し、
最表面層がフッ素系粒子を含む電子写真感光体。
【請求項２】
前記導電性基材の厚みが０．４ｍｍ以上０．７ｍｍ以下である請求項１に記載の電子写真感光体。
【請求項３】
請求項１又は請求項２に記載の電子写真感光体と、
前記電子写真感光体の表面を帯電する帯電手段と、
帯電した前記電子写真感光体の表面に静電潜像を形成する静電潜像形成手段と、
前記電子写真感光体の表面に形成された静電潜像をトナーを含む現像剤により現像してトナー像を形成する現像手段と、
前記電子写真感光体の表面に形成されたトナー像を記録媒体に転写する転写手段と、
前記電子写真感光体の表面に接触する部材を有し、前記電子写真感光体の表面に残留するトナーを除去するトナー除去手段と、
を備える画像形成装置。
【請求項４】
請求項１又は請求項２に記載の電子写真感光体と、
前記電子写真感光体の表面に接触する部材を有し、前記電子写真感光体の表面に残留するトナーを除去するトナー除去手段と、
を備え、
画像形成装置に着脱されるプロセスカートリッジ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電子写真感光体、画像形成装置およびプロセスカートリッジに関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、電子写真方式の画像形成装置としては、電子写真感光体（以下、「感光体」という場合がある。）を用いて帯電、露光、現像、転写、クリーニング等の工程を順次行う装置が広く知られている。
このような画像形成装置の分野では、近時、装置の高画質化及び長寿命化に対する要求が高く、感光体表面層の摩耗を減らす方法、電子写真感光体において表面層中にフッ素系粒子を分散する方法が提案されている。
【０００３】
また、特許文献１には、樹脂基材と導電材とを含む導電性樹脂組成物から形成される円筒状の感光ドラム用基体であって、該感光ドラム用基体の外周面の表面粗さとして、中心線平均粗さ（Ｒａ）が０．２μｍを超えて０．８μｍ未満であり、かつ最高高さ（Ｒｍａｘ）が０．８〜３．０μｍであることを特徴とする感光ドラム用基体が提案されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００４−３４７７４８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明は、最表面層にフッ素系粒子を含む場合に、使用開始初期において接触部材との摩擦が小さく、かつ、画像欠陥の発生が抑制される電子写真感光体を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記課題は、以下の手段により解決される。
請求項１に係る発明は、表面粗さの中心線平均粗さ（Ｒａ）が１．０μｍ以上１．７μｍ以下であり、かつ、最大高さ（Ｒｍａｘ）が３．０μｍ以上４．０μｍ以下である導電性基材と、前記導電性基材上に配置された感光層と、を有し、最表面層がフッ素系粒子を含む電子写真感光体である。
請求項２に係る発明は、前記導電性基材の厚みが０．４ｍｍ以上０．７ｍｍ以下である請求項１に記載の電子写真感光体である。
請求項３に係る発明は、請求項１又は請求項２に記載の電子写真感光体と、前記電子写真感光体の表面を帯電する帯電手段と、帯電した前記電子写真感光体の表面に静電潜像を形成する静電潜像形成手段と、前記電子写真感光体の表面に形成された静電潜像をトナーを含む現像剤により現像してトナー像を形成する現像手段と、前記電子写真感光体の表面に形成されたトナー像を記録媒体に転写する転写手段と、前記電子写真感光体の表面に接触する部材を有し、前記電子写真感光体の表面に残留するトナーを除去するトナー除去手段と、を備える画像形成装置である。
請求項４に係る発明は、請求項１又は請求項２に記載の電子写真感光体と、前記電子写真感光体の表面に接触する部材を有し、前記電子写真感光体の表面に残留するトナーを除去するトナー除去手段と、を備え、画像形成装置に着脱されるプロセスカートリッジである。
【発明の効果】
【０００７】
請求項１に係る発明によれば、最表面層にフッ素系粒子を含み、導電性基材の表面粗さの中心線平均粗さ（Ｒａ）と最大高さ（Ｒｍａｘ）の少なくとも一方が上記範囲外である場合に比べ、使用開始初期において接触部材との摩擦が小さく、かつ、画像欠陥の発生が抑制される電子写真感光体が提供される。
請求項２に係る発明によれば、前記導電性基材の厚みが上記範囲外である場合に比べ、基材の剛性に起因する画像欠陥の発生が抑制される電子写真感光体が提供される。
請求項３、４に係る発明によれば、最表面層にフッ素系粒子を含み、導電性基材の表面粗さの中心線平均粗さ（Ｒａ）と最大高さ（Ｒｍａｘ）の少なくとも一方が上記範囲外である電子写真感光体を備える場合に比べ、使用開始初期において接触部材との摩擦が小さく、かつ、画像欠陥の発生が抑制される画像形成装置、プロセスカートリッジが提供される。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
【図１】本実施形態に係る電子写真感光体の構成の一例を示す概略部分断面図である。
【図２】本実施形態に係る導電性基材をインパクトプレス加工により製造する工程の一部を示す概略図である。
【図３】本実施形態に係る画像形成装置の一例を示す概略構成図である。
【図４】本実施形態に係る画像形成装置の他の例を示す概略構成図である。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
以下、本発明の実施形態について説明する。
＜電子写真感光体＞
本実施形態に係る電子写真感光体は、表面粗さの中心線平均粗さ（Ｒａ）が１．０μｍ以上１．７μｍ以下であり、かつ、最大高さ（Ｒｍａｘ）が３．０μｍ以上４．０μｍ以下である導電性基材と、前記導電性基材上に配置された感光層と、を有し、最表面層がフッ素系粒子を含んで構成されている。
【００１０】
本実施形態に係る電子写真感光体を用いることで、最表面層にフッ素系粒子を含む場合に、使用開始初期において接触部材との摩擦が小さく、かつ、画像欠陥の発生が抑制される。その理由は以下のように推測される。
電子写真感光体の最表面層がフッ素系粒子を含む場合、潤滑性が付与されるため、最表面層の磨耗や傷の発生が抑制され、また、感光体表面に残留した現像剤のクリーニング性が高められるが、最表面層中に分散しているフッ素系粒子は最表面層の摩耗により感光体の表面に露出するまで、感光体の表面に接触しているクリーニングブレードとの摩擦が大きく、画質や寿命に大きな影響を与えていると考えられる。
【００１１】
しかし、基材の表面粗さの中心線平均粗さ（Ｒａ）が１．０μｍ以上１．７μｍ以下であり、かつ、最大高さ（Ｒｍａｘ）が３．０μｍ以上４．０μｍ以下の範囲で適度に粗れた導電性基材の表面に感光層等を塗布して形成することで、最表面層に研磨などの加工を施すことなく、電子写真感光体の最表面が粗れる。これにより、表面が滑らかな導電性基材を用いて作製された電子写真感光体に比べ、電子写真感光体とクリーニングブレード等の接触部材との接触面積が減り、初期摩擦が小さく、摩擦に起因する画質欠陥の発生が抑制されると考えられる。
【００１２】
なお、基材の表面粗さＲａが１．０μｍ未満である場合は、クリーニングブレード等の接触部材との接触面積が大きいため、使用開始初期において、クリーニングブレード等の接触部材に対する摩擦が高くなり易く、一方、１．７μｍを超える場合はクリーニングブレードとの隙間が大きくなるため、残留トナーがクリーニングブレードをすり抜けて次の画像形成に残り易くなると考えられる。
また、基材の表面粗さＲｍａｘが３．０μｍ未満である場合は、反射光の干渉が強くなるため、干渉縞が生じ易く、一方、４．０μｍを超える場合は感光層内へのキャリア注入部として作用するため、黒点が生じ易くなると考えられる。
【００１３】
図１は、本実施形態に係る電子写真用感光体の構成の一例を示す概略部分断面図である。図１に示す電子写真感光体７は、導電性基材４上に下引層１が設けられ、その上に、感光層として、電荷発生層２、電荷輸送層３、保護層５が順次設けられている。なお、下引層１、保護層５は設けても設けなくてもよい。また、電荷発生層２、電荷輸送層３、保護層５を一体化した機能を持たせた単層型の電子写真感光体であっても良い。
【００１４】
（導電性基材）
本実施形態の電子写真感光体７において支持体となる導電性基材４は、表面粗さの中心線平均粗さ（Ｒａ）が１．０μｍ以上１．７μｍ以下であり、かつ、最大高さ（Ｒｍａｘ）が３．０μｍ以上４．０μｍ以下である。ここで、「導電性」とは体積抵抗率が１０１３Ωｃｍ未満であることをいう。
【００１５】
導電性基材４を構成する材料としては、アルミニウムの他に、例えば、銅、マグネシウム、シリコン、亜鉛、ステンレス、クロム、ニッケル、モリブデン、バナジウム、インジウム、金、白金等の金属又は合金を用いて構成される。
導電性基材４の形状としては、金属板、金属ドラム、及び金属ベルト等、が挙げられる。
【００１６】
本実施形態に係る導電性基材４の表面粗さＲａは、ＪＩＳ  Ｂ０６０１（１９８２）に規定されている中心線平均粗さであり、表面粗さ測定機(サーフコム、東京精密製)によって測定される値である。本実施形態の導電性基材４の表面粗さＲａは１．０μｍ以上１．７μｍ以下であり、１．１μｍ以上１．５μｍ以下であることが望ましく、１．２μｍ以上１．４μｍ以下であることがより望ましい。
【００１７】
また、本実施形態に係る導電性基材４の表面粗さＲｍａｘは、ＪＩＳ  Ｂ０６０１（１９８２）に規定されている最大高さであり、表面粗さ測定機(サーフコム、東京精密製)によって測定される値である。本実施形態の導電性基材４の表面粗さＲｍａｘは３．０μｍ以上４．０μｍ以下であり、３．２μｍ以上３．８μｍ以下であることが望ましく、３．４μｍ以上３．６μｍ以下であることがより望ましい。
【００１８】
導電性基材４の表面粗さＲａを１．０μｍ以上１．７μｍ以下、かつ、Ｒｍａｘを３．０μｍ以上４．０μｍ以下に制御する方法は特に限定されず、例えば、円筒状に成形した金属製の基材の表面を、エッチング、陽極酸化、粗切削、センタレス研削、サンドブラスト、湿式ホーニングなどによって粗面化する方法が挙げられる。これらの粗面化方法を２種以上適用してＲａ、Ｒｍａｘをそれぞれ上記範囲内に調整してもよい。
【００１９】
また、円筒状の基材を作製するための金属の塊（スラグ）の表面に予め傷を付与してインパクトプレス加工により基材を作製してもよい。
図２は、本実施形態に係る電子写真感光体７の基材４をインパクトプレス加工によって製造する工程の一例を示している。
まず、表面に予め傷を付与したスラグ３０を用意し、図２（Ａ）に示すようにダイ（雌型）２０に設けられている円形孔２４にセットする。次いで、図２（Ｂ）に示すように、ダイ２０にセットしたスラグ３０を円柱状のパンチ（雄型）２１によりプレスする。これによりスラグ３０がダイ２０の円形孔からパンチ２１の周囲を覆うように円筒状に伸びて成形される。成形後、図２（Ｃ）に示すように、パンチ２１を引き上げてストリッパー２２の中央孔２３を通すことによりパンチ２２が引き抜かれて円筒形状の基材４が得られる。
【００２０】
このような表面に傷をつけたスラグ３０を用いたインパクトプレス加工によれば、厚みが薄く、かつ、Ｒａが１．０μｍ以上１．７μｍ以下、かつ、Ｒｍａｘが３．０μｍ以上４．０μｍ以下となる円筒形状の基材４が成形される。なお、基材４の表面の粗さＲａ，Ｒｍａｘは、スラグ３０の表面に予め付与する傷の大きさ（深さ、長さ、太さなど）や数などによって調整される。例えば、スラグの表面傷の数を多くすれば、円筒状の基材に成形したときの外周面のＲａが大きくなり易く、スラグの表面傷の深さを大きくすれば、円筒状の基材に成形したときの外周面のＲｍａｘが大きくなり易い。
【００２１】
なお、インパクトプレス加工によってスラグから円筒状の基材４に成形した後、エッチング、陽極酸化、粗切削、センタレス研削、サンドブラスト、湿式ホーニングなどの粗面化方法を適用して基材４の表面の粗さＲａ，Ｒｍａｘを調整してもよい。
【００２２】
本実施形態の導電性基材４の肉厚は特に限定されないが、望ましくは０．４ｍｍ以上０．７ｍｍ以下の範囲であり、より望ましくは０．４ｍｍ以上０．５ｍｍ以下である。導電性基材４の肉厚を薄くすることで基材４の柔軟性が得られ、画像形成プロセス中で電子写真感光体７に接触する部材（クリーニングブレード等）からより均一に部材の作用を受け易く、高画質な画像が得られ易い。
【００２３】
本実施形態の電子写真感光体７は、導電性基材４の表面粗さＲａが１．０μｍ以上１．７μｍ以下、かつ、Ｒｍａｘが３．０μｍ以上４．０μｍ以下であればよく、導電性基材４の表面には、例えば、酸性水溶液による処理またはベーマイト処理を施してもよい。
【００２４】
リン酸、クロム酸およびフッ酸を含む酸性処理液による処理は以下のようにして実施される。先ず、酸性処理液を調製する。酸性処理液におけるリン酸、クロム酸およびフッ酸の配合割合は、リン酸が１０質量％以上１１質量％以下の範囲、クロム酸が３質量％以上５質量％以下の範囲、フッ酸が０．５質量％以上２質量％以下の範囲であって、これらの酸全体の濃度は１３．５質量％以上１８質量％以下の範囲が望ましい。処理温度は４２℃以上４８℃以下が望ましい。被膜の膜厚は、０．３μｍ以上１５μｍ以下が望ましい。
【００２５】
ベーマイト処理は、９０℃以上１００℃以下の純水中に５分間以上６０分間以下浸漬すること、または９０℃以上１２０℃以下の加熱水蒸気に５分間以上６０分間以下接触させることにより行われる。被膜の膜厚は、０．１μｍ以上５μｍ以下が望ましい。これをさらにアジピン酸、硼酸、硼酸塩、燐酸塩、フタル酸塩、マレイン酸塩、安息香酸塩、酒石酸塩、クエン酸塩等の他種に比べ被膜溶解性の低い電解質溶液を用いて陽極酸化処理してもよい。
【００２６】
（下引層）
次に、下引層１について説明する。
下引層１は、有機金属化合物及び結着樹脂を含有して構成される。
下引層１を構成する有機金属化合物としては、例えば、ジルコニウムキレート化合物、ジルコニウムアルコキシド化合物、ジルコニウムカップリング剤等の有機ジルコニウム化合物、チタンキレート化合物、チタンアルコキシド化合物、チタネートカップリング剤等の有機チタン化合物、アルミニウムキレート化合物、アルミニウムカップリング剤等の有機アルミニウム化合物のほか、アンチモンアルコキシド化合物、ゲルマニウムアルコキシド化合物、インジウムアルコキシド化合物、インジウムキレート化合物、マンガンアルコキシド化合物、マンガンキレート化合物、スズアルコキシド化合物、スズキレート化合物、アルミニウムシリコンアルコキシド化合物、アルミニウムチタンアルコキシド化合物、アルミニウムジルコニウムアルコキシド化合物等が挙げられる。有機金属化合物としては、特に、有機ジルコニウム化合物、有機チタニル化合物、有機アルミニウム化合物が残留電位が低く良好な電子写真特性を示すため、好ましく使用される。
【００２７】
下引層１を構成する結着樹脂としては、例えば、ポリビニルアルコール、ポリビニルメチルエーテル、ポリ−Ｎ−ビニルイミダゾール、ポリエチレノキシド、エチルセルロース、メチルセルロース、エチレン−アクリル酸共重合体、ポリアミド、ポリイミド、カゼイン、ゼラチン、ポリエチレン、ポリエステル、フェノール樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、エポキシ樹脂、ポリビニルピロリドン、ポリビニルピリジン、ポリウレタン、ポリグルタミン酸、ポリアクリル酸等の公知の結着樹脂が用いられる。これらの結着樹脂は２種以上を混合しても用いてもよい。
【００２８】
下引層１には、例えば、ビニルトリクロロシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス−２−メトキシエトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシラン、３−（２−アミノエチルアミノ）プロピルトリメトキシシラン、３−メルカプロプロピルトリメトキシシラン、３−ウレイドプロピルトリエトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）トリメトキシシラン等のシランカップリング剤を含有させてもよい。
【００２９】
下引層１中には、電子輸送性顔料を分散させてもよい。電子輸送性顔料としては、例えば、特開昭４７−３０３３０号公報に記載のペリレン顔料、ビスベンズイミダゾールペリレン顔料、多環キノン顔料、インジゴ顔料、キナクリドン顔料等の有機顔料、また、シアノ基、ニトロ基、ニトロソ基、ハロゲン原子等の電子吸引性の置換基を有するビスアゾ顔料やフタロシアニン顔料等の有機顔料、酸化亜鉛、酸化チタン等の無機顔料が挙げられる。これらの顔料の中ではペリレン顔料、ビスベンズイミダゾールペリレン顔料と多環キノン顔料、酸化亜鉛、酸化チタンが、電子移動性が高いので好ましく使用される。
これらの顔料の表面は、分散性、電荷輸送性を制御する目的で上記カップリング剤や、結着樹脂等で表面処理しても良い。
なお、電子輸送性顔料の含有量が多すぎると下引層１の強度を低下させ、塗膜欠陥を生じる原因となるため、好ましくは９５質量％以下、より好ましくは９０質量％以下で使用される。
【００３０】
下引層１は、上記各構成材料を含有する下引層形成用塗布液を用いて形成される。
下引層形成用塗布液の混合／分散方法は、ボールミル、ロールミル、サンドミル、アトライター、超音波等を用いる常法が適用される。混合／分散は有機溶剤中で行われるが、有機溶剤としては、有機金属化合物や結着樹脂を溶解し、また、電子輸送性顔料を混合／分散したときにゲル化や凝集を起こさないものであればよい。
【００３１】
下引層形成用塗布液に含まれる有機溶剤としては、例えば、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ベンジルアルコール、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸ｎ−ブチル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチレンクロライド、クロロホルム、クロルベンゼン、トルエン等の通常の有機溶剤が挙げられる。これらは、１種を単独で又は２種以上を混合して用いてもよい。
【００３２】
下引層１を設けるときに用いる塗布方法としては、ブレード塗布法、マイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、浸漬塗布法、ビード塗布法、エアーナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法が用いられる。
塗布後、塗膜を乾燥させて下引層１を得るが、通常、乾燥は溶剤を蒸発させ、成膜可能な温度で行われる。
【００３３】
下引層１の膜厚は、好ましくは１μｍ以上３０μｍ以下、より好ましくは２μｍ以上２５μｍ以下が適当である。
【００３４】
下引層１は導電性基材４上に必ずしも設ける必要はないが、特に、酸性溶液処理、ベーマイト処理を行った導電性基材４は、その欠陥隠蔽力が不十分となり易いため、下引層１を形成することが好ましい。
【００３５】
（電荷発生層）
電荷発生層２は、電荷発生材料を含有して、又は電荷発生材料及び結着樹脂を含有して構成される。
電荷発生材料は、ビスアゾ、トリスアゾ等のアゾ顔料、ジブロモアントアントロン等の縮環芳香族顔料、ペリレン顔料、ピロロピロール顔料、フタロシアニン顔料等の有機顔料や、三方晶セレン、酸化亜鉛等の無機顔料等既知のものが使用される。
【００３６】
電荷発生材料は、３８０ｎｍ以上５００ｎｍ以下の露光波長の光源を用いる場合には無機顔料が好ましく、７００ｎｍ以上８００ｎｍ以下の露光波長の光源を用いる場合には、金属及び無金属フタロシアニン顔料が好ましい。その中でも、特開平５−２６３００７号公報及び特開平５−２７９５９１号公報に開示されたヒドロキシガリウムフタロシアニン、特開平５−９８１８１号公報に開示されたクロロガリウムフタロシアニン、特開平５−１４０４７２号公報及び特開平５−１４０４７３号公報に開示されたジクロロスズフタロシアニン、又は特開平４−１８９８７３号公報及び特開平５−４３８１３号公報に開示されたチタニルフタロシアニンが特に好ましい。
【００３７】
電荷発生材料としては、ＣｕＫα特性Ｘ線に対するブラッグ角度（２θ±０．２°）の７．５°、９．９°、１２．５°、１６．３°、１８．６°、２５．１°、及び２８．３°に回折ピークを有するヒドロキシガリウムフタロシアニン、ＣｕＫα特性Ｘ線に対するブラッグ角度（２θ±０．２°）の２７．２°に強い回折ピークを持つチタニルフタロシアニン、ＣｕＫα特性Ｘ線に対するブラッグ角度（２θ±０．２°）の７．４°、１６．６°、２５．５°及び２８．３°に強い回折ピークを持つクロロガリウムフタロシアニンも好ましい。
【００３８】
電荷発生層２を構成する結着樹脂としては、広範な絶縁性樹脂から選択される。また、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリビニルアントラセン、ポリビニルピレン、ポリシラン等の有機光導電性ポリマーから選択してもよい。好ましい結着樹脂としては、ポリビニルブチラール樹脂、ポリアリレート樹脂（例えば、ビスフェノールＡとフタル酸の重縮合体などのビスフェノール類と芳香族２価カルボン酸の重縮合体等）、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、フェノキシ樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリアミド樹脂、アクリル樹脂、ポリアクリルアミド樹脂、ポリビニルピリジン樹脂、セルロース樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、カゼイン、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂等の絶縁性樹脂が挙げられるが、これらに限定されるものではない。これらの結着樹脂は、１種を単独で又は２種以上を混合して用いられる。
【００３９】
電荷発生層２は、上記電荷発生材料を用いて蒸着により、又は上記電荷発生材料及び結着樹脂を含有する電荷発生層形成用塗布液を用いて形成される。
電荷発生層形成用塗布液は、電荷発生材料と結着樹脂の配合比（質量比）が、１０：１乃至１：１０であることが好ましい。また、これらを分散させる方法としては、ボールミル分散法、アトライター分散法、サンドミル分散法等の通常の方法が用いられる。これらの分散方法によれば、分散による電荷発生材料の結晶型の変化が防止される。
【００４０】
さらに、この分散の際、粒子を好ましくは０．５μｍ以下、より好ましくは０．３μｍ以下、さらに好ましくは０．１５μｍ以下の粒子サイズにすることが有効である。
また、これらの分散に用いる溶剤としては、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ベンジルアルコール、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸ｎ−ブチル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチレンクロライド、クロロホルム、クロルベンゼン、トルエン等の通常の有機溶剤が挙げられる。これらは、１種を単独で又は２種以上を混合して用いられる。
【００４１】
また、電荷発生層２を設けるときに用いる塗布方法としては、ブレード塗布法、マイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、浸漬塗布法、ビード塗布法、エアーナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法が用いられる。
【００４２】
電荷発生層２の膜厚は、好ましくは０．１μｍ以上５．０μｍ以下、より好ましくは０．２μｍ以上２．０μｍ以下である。
【００４３】
（電荷輸送層）
電荷輸送層３は、電荷輸送材料及び結着樹脂を含有して、又は高分子電荷輸送材を含有して構成される。
電荷輸送材料としては、ｐ−ベンゾキノン、クロラニル、ブロマニル、アントラキノン等のキノン系化合物、テトラシアノキノジメタン系化合物、２，４，７−トリニトロフルオレノン等のフルオレノン化合物、キサントン系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノビニル系化合物、エチレン系化合物等の電子輸送性化合物、トリアリールアミン系化合物、ベンジジン系化合物、アリールアルカン系化合物、アリール置換エチレン系化合物、スチルベン系化合物、アントラセン系化合物、ヒドラゾン系化合物等の正孔輸送性化合物が挙げられる。これらの電荷輸送材料は１種を単独で又は２種以上を混合して用いればよいが、これらに限定されるものではない。
【００４４】
電荷輸送材料としては、モビリティーの観点から、下記一般式（ａ−１）、（ａ−２）又は（ａ−３）で示される化合物が好ましい。
【００４５】
【化１】
2014038137.tif 000003
【００４６】
上記式（ａ−１）中、Ｒ３４は水素原子又はメチル基を、ｋ１０は１又は２を示す。また、Ａｒ６及びＡｒ７は置換又は未置換のアリール基、−Ｃ６Ｈ４−Ｃ（Ｒ３８）＝Ｃ（Ｒ３９）（Ｒ４０）、又は、−Ｃ６Ｈ４−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝Ｃ（Ａｒ）２を示し、置換基としてはハロゲン原子、炭素数１以上５以下のアルキル基、炭素数１以上５以下のアルコキシ基、又は炭素数１以上３以下のアルキル基で置換された置換アミノ基が挙げられる。また、Ｒ３８、Ｒ３９、Ｒ４０は水素原子、置換若しくは未置換のアルキル基、又は置換若しくは未置換のアリール基を、Ａｒは置換又は未置換のアリール基を示す。
【００４７】
【化２】
2014038137.tif 000004
【００４８】
ここで、上記式（ａ−２）中、Ｒ３５及びＲ３５’はそれぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、炭素数１以上５以下のアルキル基又は炭素数１以上５以下のアルコキシ基を、Ｒ３６、Ｒ３６’、Ｒ３７及びＲ３７’はそれぞれ独立にハロゲン原子、炭素数１以上５以下のアルキル基、炭素数１以上５以下のアルコキシ基、炭素数１以上２以下のアルキル基で置換されたアミノ基、置換若しくは未置換のアリール基、−Ｃ（Ｒ３８）＝Ｃ（Ｒ３９）（Ｒ４０）、又は、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝Ｃ（Ａｒ）２を、Ｒ３８、Ｒ３９及びＲ４０はそれぞれ独立に水素原子、置換若しくは未置換のアルキル基、又は置換若しくは未置換のアリール基を、Ａｒは置換又は未置換のアリール基を示す。ｍ３及びｍ４はそれぞれ独立に０以上２以下の整数を示す。
【００４９】
【化３】
2014038137.tif 000005
【００５０】
ここで、上記式（ａ−３）中、Ｒ４１は水素原子、炭素数１以上５以下のアルキル基、炭素数１以上５以下のアルコキシ基、置換若しくは未置換のアリール基、又は、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝Ｃ（Ａｒ）２を示す。Ａｒは、置換又は未置換のアリール基を示す。Ｒ４２、Ｒ４２’、Ｒ４３、及びＲ４３’はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１以上５以下のアルキル基、炭素数１以上５以下のアルコキシ基、炭素数１以上２以下のアルキル基で置換されたアミノ基、又は置換若しくは未置換のアリール基を示す。
【００５１】
電荷輸送層３は、例えば、電荷輸送材料と、結着樹脂と、を含んで構成される。
電荷輸送材料として、具体的には、２，５−ビス（ｐ−ジエチルアミノフェニル）−１，３，４−オキサジアゾール等のオキサジアゾール誘導体、１，３，５−トリフェニル−ピラゾリン、１−［ピリジル−（２）］−３−（ｐ−ジエチルアミノスチリル）−５−（ｐ−ジエチルアミノスチリル）ピラゾリン等のピラゾリン誘導体、トリフェニルアミン、Ｎ，Ｎ′−ビス（３，４−ジメチルフェニル）ビフェニル−４−アミン、トリ（ｐ−メチルフェニル）アミニル−４−アミン、ジベンジルアニリン等の芳香族第３級アミノ化合物、Ｎ，Ｎ′−ビス（３−メチルフェニル）−Ｎ，Ｎ′−ジフェニルベンジジン等の芳香族第３級ジアミノ化合物、３−（４′−ジメチルアミノフェニル）−５，６−ジ−（４′−メトキシフェニル）−１，２，４−トリアジン等の１，２，４−トリアジン誘導体、４−ジエチルアミノベンズアルデヒド−１，１−ジフェニルヒドラゾン等のヒドラゾン誘導体、２−フェニル−４−スチリル−キナゾリン等のキナゾリン誘導体、６−ヒドロキシ−２，３−ジ（ｐ−メトキシフェニル）ベンゾフラン等のベンゾフラン誘導体、ｐ−（２，２−ジフェニルビニル）−Ｎ，Ｎ−ジフェニルアニリン等のα−スチルベン誘導体、エナミン誘導体、Ｎ−エチルカルバゾール等のカルバゾール誘導体、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール及びその誘導体などの正孔輸送物質、クロラニル、ブロアントラキノン等のキノン系化合物、テトラアノキノジメタン系化合物、２，４，７−トリニトロフルオレノン、２，４，５，７−テトラニトロ−９−フルオレノン等のフルオレノン化合物、キサントン系化合物、チオフェン化合物等の電子輸送物質、及び上記した化合物からなる基を主鎖又は側鎖に有する重合体などが挙げられる。これらの電荷輸送材料は、１種又は２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００５２】
電荷輸送層３を構成する結着樹脂としては、ビフェニル共重合型ポリカーボネート樹脂、ビスフェノールＡ型あるいはビスフェノールＺ型等のポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリスチレン樹脂、アクリロニトリル−スチレン共重合体樹脂、アクリロニトリル−ブタジエン共重合体樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、ポリビニルホルマール樹脂、ポリスルホン樹脂、スチレン−ブタジエン共重合体樹脂、塩化ビニリデン−アクリルニトリル共重合体樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸樹脂、シリコーン樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、ポリアクリルアミド樹脂、ポリアミド樹脂、塩素ゴム等の絶縁性樹脂、およびポリビニルカルバゾール、ポリビニルアントラセン、ポリビニルピレン等の有機光導電性ポリマー等が挙げられる。これらの結着樹脂は、単独で用いてもよく、あるいは２種以上を併用してもよい。
これらの中でも、ビスフェノールＣ型あるいはビスフェノールＺ型等のポリカーボネート樹脂が望ましい。
【００５３】
電荷輸送層３は、電荷輸送層３が電子写真感光体の最表面層（感光層の導電性基材４から最も遠い側に配置される層）である場合、フッ素系粒子を含有する。最表面層がフッ素系粒子を含むことで潤滑性が付与され、最表面層が磨耗されにくく、傷がつきにくなる、また、感光体表面に残留した現像剤のクリーニング性が高められる。
【００５４】
フッ素系粒子としては、４フッ化エチレン樹脂、３フッ化塩化エチレン樹脂、６フッ化プロピレン樹脂、フッ化ビニル樹脂、フッ化ビニリデン樹脂、２フッ化２塩化エチレン樹脂およびそれらの共重合体の中から１種あるいは２種以上を選択するのが望ましいが、特に、４フッ化エチレン樹脂、フッ化ビニリデン樹脂が好ましい。
【００５５】
前記フッ素系粒子の一次粒径は０．０５μｍ以上１μｍ以下の範囲が良く、更に好ましくは０．１μｍ以上０．５μｍ以下の範囲である。フッ素系粒子の一次粒径が０．０５μｍ以上であれば分散時あるいは分散後の凝集が抑制され、１μｍ以下であれば画質欠陥の発生が抑制される。
【００５６】
電荷輸送層３におけるフッ素系粒子の含有量は、電荷輸送層全量に対し、０．１質量％以上４０質量％以下の範囲が適当であり、特に１質量％以上３０質量％以下の範囲が好ましい。フッ素系粒子の含有量が０．１質量％以上であればフッ素系粒子の分散による改質効果が十分得られ一方、４０質量％以下であれば光通過性の低下が抑制され、かつ、繰返し使用による残留電位の上昇が抑制される。
【００５７】
なお、電荷輸送層３は、フッ素系粒子以外の潤滑性粒子（例えば、シリカ粒子、シリコーン系樹脂粒子）を含有してもよい。これらの潤滑性粒子は、２種以上を混合して用いてもよい。
【００５８】
電荷輸送層３は、電荷輸送物質及び結着樹脂、並びに必要に応じてその他の材料を溶媒に溶解させた電荷輸送層形成用塗布液を塗布した後、乾燥することによって形成される。
電荷輸送層３の形成に使用される溶媒としては、例えば、トルエン、クロロベンゼン等の芳香族炭化水素系溶剤、メタノール、エタノール、ｎ−ブタノール等の脂肪族アルコール系溶剤、アセトン、シクロヘキサノン、２−ブタノン等のケトン系溶剤、塩化メチレン、クロロホルム、塩化エチレン等のハロゲン化脂肪族炭化水素溶剤、テトラヒドロフラン、ジオキサン、エチレングリコール、ジエチルエーテル等の環状或いは直鎖状エーテル系溶剤、或いはこれらの混合溶剤等が用いられる。
【００５９】
電荷輸送層形成用塗布液には塗膜の平滑性向上のためのシリコーオイル等のレベリング剤を微量添加してもよい。
【００６０】
電荷輸送層３を形成する塗布液の分散例としては、溶媒に溶解した結着樹脂、電荷輸送材料などを含む溶液中にフッ素系粒子を分散する方法が挙げられる。
電荷輸送層中に前記フッ素系粒子を分散させる方法としては、ロールミル、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、サンドミル、高圧ホモジナイザー、超音波分散機、コロイドミル、衝突式メディアレス分散機、貫通式メディアレス分散機等の方法が用いられる。
【００６１】
電荷輸送層３を形成する塗工液を製造する工程では、塗工液の温度を０℃以上５０℃以下の範囲に制御することが好ましい。塗工液製造工程での塗工液の温度を０℃以上５０℃以下に制御する方法として、水で冷やす、風で冷やす、冷媒で冷やす、製造工程の室温を調節する、温水で暖める、熱風で温める、ヒーターで暖める、発熱しにくい材料で塗工液製造設備を作る、放熱しやすい材料で塗工液製造設備を作る、蓄熱しやすい材料で塗工液製造設備を作るなどの方法が利用される。
【００６２】
分散液の分散安定性を向上させるため、及び塗膜形成時の凝集を防止するために分散助剤を添加することも有効である。分散助剤として、フッ素系界面活性剤、フッ素系ポリマー、シリコーン系ポリマー、シリコーンオイル等が挙げられる。また、フッ素系樹脂と前記分散助剤を少量の分散溶剤中で予め分散、撹拌、混合した後、電荷輸送材料と結着樹脂と分散溶剤とを混合溶解した液と撹拌、混合した後に前記方法により分散することも有効な手段である。
【００６３】
電荷輸送層３を設けるときに用いられる塗布方法としては、浸漬塗布法、突き上げ塗布法、スプレー塗布法、ロールコータ塗布法、ワイヤーバー塗布法、グラビアコータ塗布法、ビード塗布法、カーテン塗布法、ブレード塗布法、エアーナイフ塗布法等が用いられる。
【００６４】
電荷輸送層３の膜厚は、望ましくは５μｍ以上５０μｍ以下、より望ましくは１０μｍ以上４０μｍ以下の範囲に設定される。
【００６５】
さらに、本実施形態の電子写真感光体７には、画像形成装置中で発生するオゾンや酸化性ガス、あるいは光・熱による電子写真感光体７の劣化を防止する目的で、電荷輸送層３中に酸化防止剤、光安定剤などの添加剤を添加してもよい。
【００６６】
例えば酸化防止剤としては、ヒンダードフェノール、ヒンダードアミン、パラフェニレンジアミン、アリールアルカン、ハイドロキノン、スピロクロマン、スピロインダノン及びそれらの誘導体、有機硫黄化合物、有機燐化合物等が挙げられる。
【００６７】
酸化防止剤の具体的な化合物例としては、フェノール系酸化防止剤では、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノール、スチレン化フェノール、ｎ−オクタデシル−３−（３’，５’−ジ−ｔ−ブチル４’−ヒドロキシフェニル）−プロピオネート、２，２’−メチレン−ビス−（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２−ｔ−ブチル−６−（３’−ｔ−ブチル−５’−メチル−２’−ヒドロキシベンジル）−４−メチルフェニル−アクリレート、４，４’−ブチリデン−ビス−（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、４，４’−チオ−ビス−（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、１，３，５−トリス（４−ｔ−ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）イソシアヌレート、テトラキス−［メチレン−３−（３’，５’−ジ−ｔ−ブチル−４’−ヒドロキシ−フェニル）プロピオネート］−メタン、３，９−ビス［２−［３−（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオニルオキシ］−１，１−ジメチルエチル］−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ−［５，５］−ウンデカン等が挙げられる。
【００６８】
ヒンダードアミン系化合物としては、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）セバケート、１−［２−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ］エチル］−４−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ］−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、８−ベンジル−７，７，９，９−テトラメチル−３−オクチル−１，３，８−トリアザスピロ［４，５］ウンデカン−２，４−ジオン、４−ベンゾイルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、コハク酸ジメチル−１−（２−ヒドロキシエチル）−４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン重縮合物、ポリ［｛６−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）イミノ−１，３，５−トリアジン−２，４−ジイミル｝｛（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ｝ヘキサメチレン｛（２，３，６，６，−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ｝］、２−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２−ｎ−ブチルマロン酸ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）、Ｎ，Ｎ’−ビス（３−アミノプロピル）エチレンジアミン−２，４−ビス［Ｎ−ブチル−Ｎ−（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４ピペリジル）アミノ］−６−クロロ−１，３，５−トリアジン縮合物等が挙げられる。
【００６９】
有機硫黄系酸化防止剤としては、ジラウリル−３，３’−チオジプロピオネート、ジミリスチル−３，３’−チオジプロピオネート、ジステアリル−３，３’−チオジプロピオネート、ペンタエリスリトール−テトラキス−（２−ラウリル−チオプロピオネート）、ジトリデシル−３，３’−チオジプロピオネート、２−メルカプトベンズイミダゾール等が挙げられる。
【００７０】
有機燐系酸化防止剤としては、トリスノニルフェニルフォスフィート、トリフェニルフォスフィート、トリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）−フォスフィート等が挙げられる。
有機硫黄系および有機燐系酸化防止剤は２次酸化防止剤と言われ、フェノール系あるいはアミン系などの１次酸化防止剤と併用することにより相乗効果が得られる。
【００７１】
光安定剤としては、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、ジチオカルバメート系、テトラメチルピペリジン系などの誘導体が挙げられる。
前記ベンゾフェノン系光安定剤としては、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−オクトキシベンゾフェノン、２，２’−ジ−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン等が挙げられる。
【００７２】
前記ベンゾトリアゾール系光安定剤としては、２−（２’−ヒドロキシ−５’メチルフェニル）−ベンゾトリアゾール、２−［２’−ヒドロキシ−３’−（３”，４”，５”，６”−テトラ−ヒドロフタルイミド−メチル）−５’−メチルフェニル］−ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’−ｔ−ブチル−５’−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’−ｔ−ブチル−５’−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ｔ−ブチルフェニル）−ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−５’−ｔ−オクチルフェニル）−ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔ−アミルフェニル）−ベンゾトリアゾール等が挙げられる。
その他の化合物としては、２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル−３’，５’−ジ−ｔ−ブチル−４’−ヒドロキシベンゾエート、ニッケルジブチル−ジチオカルバメート等がある。
【００７３】
電荷輸送層３は、感度の向上、残留電位の低減、繰り返し使用時の疲労低減等を目的として少なくとも１種の電子受容性物質を含有してもよい。
電子受容性物質としては、例えば無水琥珀酸、無水マレイン酸、ジブロム無水マレイン酸、無水フタル酸、テトラブロム無水フタル酸、テトラシアノエチレン、テトラシアノキノジメタン、ｏ−ジニトロベンゼン、ｍ−ジニトロベンゼン、クロラニル、ジニトロアントラキノン、トリニトロフルオレノン、ピクリン酸、ｏ−ニトロ安息香酸、ｐ−ニトロ安息香酸、フタル酸等が挙げられる。これらのうち、フルオレノン系、キノン系や、Ｃｌ、ＣＮ、ＮＯ２等の電子吸引性置換基を有するベンゼン誘導体が特によい。
【００７４】
（保護層）
保護層５は、電子写真感光体７における最表面層であり、最表面の磨耗、傷などに対する耐性を持たせる、あるいは、トナーの転写効率を上げるために必要に応じて設けられる層である。
【００７５】
最表面層として保護層５を設ける場合、保護層５は、フッ素系粒子のほか、電荷輸送層３と同様、電荷輸送材料と結着樹脂を含有して形成されるか、架橋性の電荷輸送性材料を架橋させて形成される。
【００７６】
保護層５に用いる架橋性の電荷輸送性材料としては、例えば、−ＯＨ、−ＯＣＨ３、−ＮＨ２、−ＳＨ、及び−ＣＯＯＨから選択される置換基を少なくとも１つ持つものが好適に挙げられ、置換基を少なくとも２つ（さらには３つ）持つものが架橋密度を高められるため好適である。
【００７７】
保護層５に用いる電荷輸送性材料としては、下記一般式（Ｉ）で示される化合物であることが望ましい。
Ｆ−（（−Ｒ１−Ｘ）ｎ１Ｒ２−Ｙ）ｎ２          （Ｉ）
【００７８】
一般式（Ｉ）中、Ｆは正孔輸送能を有する化合物から誘導される有機基、Ｒ１及びＲ２はそれぞれ独立に炭素数１以上５以下の直鎖状若しくは分岐状のアルキレン基を示し、ｎ１は０又は１を示し、ｎ２は１以上４以下の整数を示す。Ｘは酸素、ＮＨ、又は硫黄原子を示し、Ｙは−ＯＨ、−ＯＣＨ３、−ＮＨ２、−ＳＨ、又は−ＣＯＯＨを示す。
【００７９】
一般式（Ｉ）中、Ｆを示す正孔輸送能を有する化合物から誘導される有機基における正孔輸送能を有する化合物としては、アリールアミン誘導体が好適に挙げられる。アリールアミン誘導体としては、トリフェニルアミン誘導体、テトラフェニルベンジジン誘導体が好適に挙げられる。
【００８０】
一般式（Ｉ）で示される化合物は、下記一般式（ＩＩ）で示される化合物であることが望ましい。一般式（ＩＩ）で示される化合物は、特に、電荷移動度、酸化などに対する安定性等に優れる。
【００８１】
【化４】
2014038137.tif 000006
【００８２】
一般式（ＩＩ）中、Ａｒ１乃至Ａｒ４は、同一でも異なっていてもよく、それぞれ独立に置換若しくは未置換のアリール基を示し、Ａｒ５は置換若しくは未置換のアリール基又は置換若しくは未置換のアリーレン基を示し、Ｄは−（−Ｒ１−Ｘ）ｎ１Ｒ２−Ｙを示し、ｃはそれぞれ独立に０又は１を示し、ｋは０又は１を示し、Ｄの総数は１以上４以下である。また、Ｒ１及びＲ２はそれぞれ独立に炭素数１以上５以下の直鎖状若しくは分岐状のアルキレン基を示し、ｎ１は０又は１を示し、Ｘは酸素、ＮＨ、又は硫黄原子を示し、Ｙは−ＯＨ、−ＯＣＨ３、−ＮＨ２、−ＳＨ、又は−ＣＯＯＨを示す。
【００８３】
一般式（ＩＩ）中、Ｄを示す「−（−Ｒ１−Ｘ）ｎ１Ｒ２−Ｙ」は、一般式（Ｉ）と同様であり、Ｒ１及びＲ２はそれぞれ独立に炭素数１以上５以下の直鎖状若しくは分岐状のアルキレン基である。ｎ１として望ましくは、１である。Ｘとして望ましくは、酸素である。Ｙとして望ましくは水酸基である。
【００８４】
一般式（Ｉ）で示される化合物の具体例としては、以下に示す化合物（Ｉ）−１乃至（Ｉ）−５が挙げられる。なお、上記一般式（Ｉ）で示される化合物は、これらにより何ら限定されるものではない。
【００８５】
【化５】
2014038137.tif 000007
【００８６】
また、保護層５に架橋性の電荷輸送性材料を用いる場合、グアナミン骨格（構造）を有する化合物（グアナミン化合物）やメラミン骨格（構造）を有する化合物（メラミン化合物）を用いても良い。
【００８７】
グアナミン化合物としては、例えば、アセトグアナミン、ベンゾグアナミン、ホルモグアナミン、ステログアナミン、スピログアナミン、シクロヘキシルグアナミンなどが挙げられる。
【００８８】
グアナミン化合物としては、特に下記一般式（Ａ）で示される化合物及びその多量体の少なくとも１種であることが望ましい。ここで、多量体は、一般式（Ａ）で示される化合物を構造単位として重合されたオリゴマーであり、その重合度は例えば２以上２００以下（望ましくは２以上１００以下）である。なお、一般式（Ａ）で示される化合物は、一種単独で用いもよいが、２種以上を併用してもよい。
【００８９】
【化６】
2014038137.tif 000008
【００９０】
一般式（Ａ）中、Ｒ１は、炭素数１以上１０以下の直鎖状若しくは分岐状のアルキル基、炭素数６以上１０以下の置換若しくは未置換のフェニル基、又は炭素数４以上１０以下の置換若しくは未置換の脂環式炭化水素基を示す。Ｒ２乃至Ｒ５は、それぞれ独立に水素、−ＣＨ２−ＯＨ、又は−ＣＨ２−Ｏ−Ｒ６を示す。Ｒ６は、水素、又は炭素数１以上１０以下の直鎖状若しくは分岐状のアルキル基を示す。
【００９１】
一般式（Ａ）で示される化合物の市販品としては、例えば、”スーパーベッカミン（Ｒ）Ｌ−１４８−５５、スーパーベッカミン（Ｒ）１３−５３５、スーパーベッカミン（Ｒ）Ｌ−１４５−６０、スーパーベッカミン（Ｒ）ＴＤ−１２６”以上大日本インキ社製、”ニカラッＢＬ−６０、ニカラックＢＸ−４０００”以上日本カーバイド社製、などが挙げられる。
【００９２】
保護層５に用いるフッ素原子含有樹脂粒子は、ポリテトラフルオロエチレン、ペルフルオロアルコキシフッ素樹脂、ポリクロロトリフルオロエチレン、ポリフッ化ビニリデン、ポリジクロロジフルオロエチレン、テトラフルオロエチレン−パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体、テトラフルオロエチレン−ヘ+キサフルオロプロピレン共重合体、テトラフルオロエチレン−エチレン共重合体、及びテトラフルオロエチレン−ヘキサフルオロプロピレン−パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体から群から選ばれた１種または２種以上から構成されているものである。
市販のフッ素原子含有樹脂粒子をそのまま用いてもよい。０．３万以上５００万以下の分子量のものが使用可能であり、０．０１μｍ以上１０μｍ以下、好ましくは０．０５μｍ以上２．０μｍ以下の粒径のものが使用可能である。
市販品としては、例えばルブロンシリーズ（ダイキン工業株式会社製）、テフロン（登録商標）シリーズ（デュポン社製）、ダイニオンシリーズ（住友３Ｍ社製）などが挙げられる。
【００９３】
フッ素原子を有するオリゴマーとしては例えばパーフルオロアルキルを含有したオリゴマーが挙げられ、バーフルオロアルキルスルホン酸類（例えば、バーフルオロブタンスルホン酸、バーフルオロオクタンスルホン酸など）、バーフルオロアルキルカルボン酸類（例えば、バーフルオロブタンカルボン酸、バーフルオロオクタンカルボン酸など）、バーフルオロアルクル基含有リン酸エステルが好適に挙げられる。
バーフルオロアルキルスルホン酸類、及びバーフルオロアルキルカルボン酸類は、その塩及びアミド変性体であってもよい。具体的には、ＧＦ３００（東亞合成製）サーフロンシリーズ（ＡＧＣセイミケキカル製）、フタージェントシリーズ（ネオス製）、ＰＦシリーズ（北村化学製）、メガファックシリーズ（ＤＩＣ製）、ＦＣシリーズ（３Ｍ製）、ポリフローＫＬ６００（共栄社化学社製）、エフトップシリーズ（以上、ＪＥＭＣＯ社製）が主に挙げられる。市販のフッ素原子含有樹脂粒子をそのまま用いることも可能であり、数種類を混合して用いても良い。
【００９４】
メラミン化合物としては、メラミン骨格（構造）であり、特に下記一般式（Ｂ）で示される化合物及びその多量体の少なくとも１種であることが望ましい。ここで、多量体は、一般式（Ａ）と同様に、一般式（Ｂ）で示される化合物を構造単位として重合されたオリゴマーであり、その重合度は例えば２以上２００以下（望ましくは２以上１００以下）である。
一般式（Ｂ）で示される化合物又はその多量体は、一種単独で用いもよいが、２種以上を併用してもよい。また、前記一般式（Ａ）で示される化合物又はその多量体と併用してもよい。
【００９５】
【化７】
2014038137.tif 000009
【００９６】
一般式（Ｂ）中、Ｒ６乃至Ｒ１１はそれぞれ独立に、水素原子、−ＣＨ２−ＯＨ、−ＣＨ２−Ｏ−Ｒ１２を示し、Ｒ１２は炭素数１以上５以下の直鎖状又は分岐状のアルキル基を示す。Ｒ１２としてはメチル基、エチル基、ブチル基などが挙げられる。
一般式（Ｂ）で示される化合物の市販品としては、例えば、スーパーメラミＮｏ．９０（日本油脂社製）、スーパーベッカミン（Ｒ）ＴＤ−１３９−６０（大日本インキ社製）、ユーバン２０２０（三井化学社製）、スミテックスレジンＭ−３（住友化学工業社製）、ニカラックＭＷ−３０（日本カーバイド社製）、などが挙げられる。
【００９７】
保護層５は構成成分を含む塗布液を塗布して形成される。当該保護層形成用塗布液の調製は、無溶媒で行うか、必要に応じてメタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール等のアルコール類；アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類；テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジオキサン等のエーテル類等の溶剤を用いて行ってもよい。かかる溶剤は１種を単独で又は２種以上を混合して使用するが、望ましくは沸点が１００℃以下のものである。特に、１種以上の水酸基を持つ溶剤（例えば、アルコール類等）を用いることがよい。
そして、保護層形成用塗布液を電荷輸送層３の上に、ブレード塗布法、マイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、浸漬塗布法、ビード塗布法、エアーナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法により塗布し、必要に応じて例えば温度１００以上１７０以下で加熱して硬化させることで、保護層５が得られる。
【００９８】
＜プロセスカートリッジ及び画像形成装置＞
次に、本実施形態の電子写真感光体を用いたプロセスカートリッジおよび画像形成装置について説明する。
本実施形態のプロセスカートリッジは、前記本実施形態の電子写真感光体と、前記電子写真感光体の表面に接触する部材を有し、前記電子写真感光体の表面に残留するトナーを除去するトナー除去手段と、を備えて構成される。
【００９９】
また、本実施形態の画像形成装置は、前記本実施形態の電子写真感光体と、前記電子写真感光体の表面を帯電する帯電手段と、帯電した前記電子写真感光体の表面に静電潜像を形成する静電潜像形成手段と、前記電子写真感光体の表面に形成された静電潜像をトナーを含む現像剤により現像してトナー像を形成する現像手段と、前記電子写真感光体の表面に形成されたトナー像を記録媒体に転写する転写手段と、前記電子写真感光体の表面に接触する部材を有し、前記電子写真感光体の表面に残留するトナーを除去するトナー除去手段と、を備えて構成される。
【０１００】
本実施形態の画像形成装置は、各色のトナーに対応した感光体を複数有するいわゆるタンデム機であってもよく、この場合、全ての感光体が本実施形態の電子写真感光体であることが望ましい。また、トナー像の転写は、中間転写体を利用した中間転写方式であってもよい。
【０１０１】
図３は、本実施形態に係る画像形成装置の一例を示す概略構成図である。画像形成装置１００は、図３に示すように電子写真感光体７を備えるプロセスカートリッジ３００と、露光装置９と、転写装置４０と、中間転写体５０とを備える。画像形成装置１００において、露光装置９はプロセスカートリッジ３００の開口部から電子写真感光体７に露光し得る位置に配置されており、転写装置４０は中間転写体５０を介して電子写真感光体７に対向する位置に配置されており、中間転写体５０はその一部が電子写真感光体７に接触して配置されている。
【０１０２】
図３に示す画像形成装置１００の一部を構成するプロセスカートリッジ３００は、ハウジング内に、電子写真感光体７、帯電装置８（帯電手段の一例）、現像装置１１（現像手段の一例）およびクリーニング装置１３（トナー除去手段の一例）を一体に支持している。クリーニング装置１３は、クリーニングブレード１３１（クリーニング部材）を有しており、クリーニングブレード１３１は、電子写真感光体７の表面に残留するトナーを除去するように感光体７の表面に接触するように配置されている。
【０１０３】
クリーニング装置１３は、クリーニングブレード１３１のほかに、潤滑材１４を感光体７の表面に供給する繊維状部材１３２（ロール状）、クリーニングを補助する繊維状部材１３３（平ブラシ状）を用いた例を示してあるが、これらは使用しても、使用しなくてもよい。
【０１０４】
帯電装置８としては、例えば、導電性または半導電性の帯電ローラ、帯電ブラシ、帯電フィルム、帯電ゴムブレード、帯電チューブ等を用いた接触型帯電器が使用される。また、非接触方式のローラ帯電器、コロナ放電を利用したスコロトロン帯電器やコロトロン帯電器等のそれ自体公知の帯電器等も使用される。
【０１０５】
なお、図示しないが、電子写真感光体７の周囲には、電子写真感光体７の温度を上昇させ、相対温度を低減させるための感光体加熱部材を設けてもよい。
【０１０６】
露光装置９（静電潜像形成手段の一例）としては、例えば、感光体７の表面に、半導体レーザ光、ＬＥＤ光、液晶シャッタ光等の光を、定められた像様に露光する光学系機器等が挙げられる。光源の波長は感光体の分光感度領域にあるものが使用される。半導体レーザーの波長としては、７８０ｎｍ付近に発振波長を有する近赤外が主流である。しかし、この波長に限定されず、６００ｎｍ台の発振波長レーザーや青色レーザーとして４００ｎｍ以上４５０ｎｍ以下近傍に発振波長を有するレーザーも利用してもよい。また、カラー画像形成のためにはマルチビームを出力し得るタイプの面発光型のレーザー光源も有効である。
【０１０７】
現像装置１１としては、例えば、磁性若しくは非磁性の一成分系現像剤または二成分系現像剤等を接触または非接触させて現像する一般的な現像装置を用いてもよい。現像装置としては、上述の機能を有している限り特に制限はなく、目的に応じて選択される。例えば、上記一成分系現像剤または二成分系現像剤をブラシ、ローラ等を用いて感光体７に付着させる機能を有する公知の現像器等が挙げられる。中でも現像剤を表面に保持した現像ローラを用いるものが望ましい。
【０１０８】
以下、現像装置１１に使用されるトナーについて説明する。
トナーは、特に製造方法により限定されるものではないが、例えば、結着樹脂、着色剤および離型剤、やその他更に帯電制御剤等を加えて混練、粉砕、分級する混練粉砕法；混練粉砕法にて得られた粒子を機械的衝撃力または熱エネルギーにて形状を変化させる方法；結着樹脂の重合性単量体を乳化重合させ、形成された分散液と、着色剤および離型剤、その他更に帯電制御剤等の分散液とを混合し、凝集、加熱融着させ、トナー粒子を得る乳化重合凝集法；結着樹脂を得るための重合性単量体と、着色剤および離型剤、その他更に帯電制御剤等の溶液を水系溶媒に懸濁させて重合する懸濁重合法；結着樹脂と、着色剤および離型剤、その他更に帯電制御剤等の溶液とを水系溶媒に懸濁させて造粒する溶解懸濁法等により製造されるトナーが使用される。
【０１０９】
また上記方法で得られたトナーをコアにして、さらに凝集粒子を付着、加熱融合してコアシェル構造をもたせる製造方法等、公知の方法が使用される。なお、トナーの製造方法としては、形状制御、粒度分布制御の観点から水系溶媒にて製造する懸濁重合法、乳化重合凝集法、溶解懸濁法が望ましく、乳化重合凝集法が特に望ましい。
【０１１０】
トナー粒子は、結着樹脂、着色剤および離型剤を含有することが望ましく、更にシリカや帯電制御剤を含有してもよい。
【０１１１】
トナー粒子に使用される結着樹脂としては、スチレン、クロロスチレン等のスチレン類、エチレン、プロピレン、ブチレン、イソプレン等のモノオレフィン類、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、安息香酸ビニル、酪酸ビニル等のビニルエステル類、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸ブチル、アクリル酸ドデシル、アクリル酸オクチル、アクリル酸フェニル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸ドデシル等のα−メチレン脂肪族モノカルボン酸エステル類、ビニルメチルエーテル、ビニルエチルエーテル、ビニルブチルエーテル等のビニルエーテル類、ビニルメチルケトン、ビニルヘキシルケトン、ビニルイソプロペニルケトン等のビニルケトン類等の単独重合体および共重合体、ジカルボン酸類とジオール類との共重合によるポリエステル樹脂等が挙げられる。
【０１１２】
特に代表的な結着樹脂としては、ポリスチレン、スチレン−アクリル酸アルキル共重合体、スチレン−メタクリル酸アルキル共重合体、スチレン−アクリロニトリル共重合体、スチレン−ブタジエン共重合体、スチレン−無水マレイン酸共重合体、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエステル樹脂等が挙げられる。さらに、ポリウレタン、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂、ポリアミド、変性ロジン、パラフィンワックス等が挙げられる。
【０１１３】
また、着色剤としては、マグネタイト、フェライト等の磁性粉、カーボンブラック、アニリンブルー、カルイルブルー、クロムイエロー、ウルトラマリンブルー、デュポンオイルレッド、キノリンイエロー、メチレンブルークロリド、フタロシアニンブルー、マラカイトグリーンオキサレート、ランプブラック、ローズベンガル、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド４８：１、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１２２、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド５７：１、Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー９７、Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー１７、Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー１５：１、Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー１５：３等が代表的なものとして例示される。
【０１１４】
離型剤としては、低分子ポリエチレン、低分子ポリプロピレン、フィッシャートロピィシュワックス、モンタンワックス、カルナバワックス、ライスワックス、キャンデリラワックス等が代表的なものとして例示される。
【０１１５】
帯電制御剤としては、公知のものが使用され、例えば、アゾ系金属錯化合物、サリチル酸の金属錯化合物、極性基を含有する樹脂タイプの帯電制御剤が用いられる。湿式製法でトナーを製造する場合、水に溶解しにくい素材を使用することが望ましい。また、トナーとしては、磁性材料を内包する磁性トナーおよび磁性材料を含有しない非磁性トナーのいずれであってもよい。
【０１１６】
現像装置１１に用いるトナーとしては、上記トナー粒子および上記外添剤をヘンシェルミキサーまたはＶブレンダー等で混合することによって製造される。また、トナー粒子を湿式にて製造する場合は、湿式にて外添してもよい。
【０１１７】
現像装置１１に用いるトナーには滑性粒子を添加してもよい。滑性粒子としては、グラファイト、二硫化モリブデン、滑石、脂肪酸、脂肪酸金属塩等の固体潤滑剤や、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリブテン等の低分子量ポリオレフィン類、加熱により軟化点を有するシリコーン類、オレイン酸アミド、エルカ酸アミド、リシノール酸アミド、ステアリン酸アミド等の脂肪族アミド類やカルナバワックス、ライスワックス、キャンデリラワックス、木ロウ、ホホバ油等の植物系ワックス、ミツロウの動物系ワックス、モンタンワックス、オゾケライト、セレシン、パラフィンワックス、マイクロクリスタリンワックス、フィッシャートロプシュワックス等の鉱物、石油系ワックス、およびそれらの変性物が使用される。これらは、１種を単独で、または２種以上を併用して使用される。
【０１１８】
現像装置１１に用いるトナーには、無機粒子、有機粒子、該有機粒子に無機粒子を付着させた複合粒子等を加えてもよい。
【０１１９】
無機粒子としては、シリカ、アルミナ、チタニア、ジルコニア、チタン酸バリウム、チタン酸アルミニウム、チタン酸ストロンチウム、チタン酸マグネシウム、酸化亜鉛、酸化クロム、酸化セリウム、酸化アンチモン、酸化タングステン、酸化スズ、酸化テルル、酸化マンガン、酸化ホウ素、炭化ケイ素、炭化ホウ素、炭化チタン、窒化ケイ素、窒化チタン、窒化ホウ素等の各種無機酸化物、窒化物、ホウ化物等が好適に使用される。
【０１２０】
また、上記無機粒子を、テトラブチルチタネート、テトラオクチルチタネート、イソプロピルトリイソステアロイルチタネート、イソプロピルトリデシルベンゼンスルフォニルチタネート、ビス（ジオクチルパイロフォスフェート）オキシアセテートチタネート等のチタンカップリング剤、３−（２−アミノエチル）アミノプロピルトリメトキシシラン、３−（２−アミノエチル）アミノプロピルメチルジメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−２−（Ｎ−ビニルベンジルアミノエチル）３−アミノプロピルトリメトキシシラン塩酸塩、ヘキサメチルジシラザン、メチルトリメトキシシラン、ブチルトリメトキシシラン、イソブチルトリメトキシシラン、ヘキシルトエリメトキシシラン、オクチルトリメトキシシラン、デシルトリメトキシシラン、ドデシルトリメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、ｏ−メチルフェニルトリメトキシシラン、ｐ−メチルフェニルトリメトキシシラン等のシランカップリング剤等で処理を行ってもよい。また、シリコーンオイル、ステアリン酸アルミニウム、ステアリン酸亜鉛、ステアリン酸カルシウム等の高級脂肪酸金属塩によって疎水化処理したものも望ましく使用される。
【０１２１】
有機粒子としては、スチレン樹脂粒子、スチレンアクリル樹脂粒子、ポリエステル樹脂粒子、ウレタン樹脂粒子等が挙げられる。
【０１２２】
トナーに添加されるその他の無機酸化物としては、公知のものが使用されるが、シリカと酸化チタンを併用することが望ましい。
【０１２３】
小径無機粒子については表面処理してもよい。さらに、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム等の炭酸塩や、ハイドロタルサイト等の無機鉱物を添加することも望ましい。
【０１２４】
電子写真用カラートナーはキャリアと混合して使用されるが、キャリアとしては、鉄粉、ガラスビーズ、フェライト粉、ニッケル粉またはそれ等の表面に樹脂を被覆したものが使用される。また、キャリアとの混合割合は、必要に応じて設定される。
【０１２５】
転写装置４０（転写手段の一例）としては、例えば、ベルト、ローラ、フィルム、ゴムブレード等を用いた接触型転写帯電器、コロナ放電を利用したスコロトロン転写帯電器やコロトロン転写帯電器等のそれ自体公知の転写帯電器が挙げられる。
【０１２６】
中間転写体５０としては、半導電性を付与したポリイミド、ポリアミドイミド、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリエステル、ゴム等のベルト状のもの（中間転写ベルト）が使用される。また、中間転写体５０の形態としては、ベルト状以外にドラム状のものが用いられる。
【０１２７】
画像形成装置１００は、上述した各装置の他に、例えば、感光体７に対して光除電を行う光除電装置を備えていてもよい。
【０１２８】
図３に示す画像形成装置１００では、帯電装置８によって感光体７の表面が帯電され、露光装置９によって静電潜像が形成された後、現像装置１１内のトナーによって感光体７表面の前記静電潜像がトナー像として現像される。感光体７上のトナー像は中間転写ベルト５０に転写された後、記録媒体（図示せず）表面にトナー像が転写され、その後図示しない定着装置によって定着される。
【０１２９】
なお、モノクロ専用の画像形成装置では、中間転写ベルト５０に代えて、記録媒体搬送ベルトによって記録媒体が、転写装置４０と感光体７とが対向する位置に搬送され、該記録媒体に前記トナー像が転写された後、定着される。
【０１３０】
図４は、他の実施形態に係る画像形成装置を示す概略構成図である。画像形成装置１２０は、図４に示すように、プロセスカートリッジ３００を４つ搭載したタンデム方式の多色画像形成装置である。画像形成装置１２０では、中間転写体５０上に４つのプロセスカートリッジ３００がそれぞれ並列に配置されており、１色に付き１つの電子写真感光体が使用される構成となっている。なお、画像形成装置１２０は、タンデム方式であること以外は、画像形成装置１００と同様の構成を有している。
【実施例】
【０１３１】
以下、本発明の実施例について説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
【０１３２】
［実施例１］
＜電子写真感光体の製造＞
（基材の作製）
アルミニウム含有率９９％のアルミニウム合金を４８０℃で４０分均質化した。ブラストマシンを用いてアルミニウム合金母材の表面に深さ８μｍ、長さ５０μｍ、幅５０μｍ、３０個／ｃｍ２の傷を入れ、インパクトプレス加工を行った。これにより、肉厚０．５ｍｍ、表面粗さＲａ：１．３μｍ、Ｒｍａｘ：３．５μｍの円筒形のアルミニウム基材を作製した。なお、基材の表面粗さＲａは表面粗さ測定機(サーフコム、東京精密製)により測定し、Ｒｍａｘは表面粗さ測定機(サーフコム、東京精密製)により測定した。
【０１３３】
（下引層の形成）
酸化亜鉛：（平均粒子径７０ｎｍ：テイカ社製：比表面積値１５ｍ２／ｇ）１００質量部をトルエン５００質量部と攪拌混合し、シランカップリング剤（ＫＢＭ６０３：信越化学社製、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン）１．３質量部を添加し、２時間攪拌した。その後トルエンを減圧蒸留にて留去し、１２０℃で３時間焼き付けを行い、シランカップリング剤表面処理酸化亜鉛を得た。
【０１３４】
前記表面処理を施した酸化亜鉛１１０質量部を５００質量部のテトラヒドロフランと攪拌混合し、アリザリン０．６質量部を５０質量部のテトラヒドロフランに溶解させた溶液を添加し、５０℃にて５時間攪拌した。その後、減圧ろ過にてアリザリンを付与させた酸化亜鉛をろ別し、さらに６０℃で減圧乾燥を行いアリザリン付与酸化亜鉛を得た。
【０１３５】
このアリザリン付与酸化亜鉛６０質量部と硬化剤（ブロック化イソシアネート  スミジュール３１７５、住友バイエルンウレタン社製）：１３．５質量部とブチラール樹脂（エスレックＢＭ−１、積水化学社製）１５質量部をメチルエチルケトン８５質量部に溶解した溶液３８質量部とメチルエチルケトン：２５質量部とを混合し、１ｍｍφのガラスビーズを用いてサンドミルにて２時間の分散を行い、分散液を得た。
【０１３６】
得られた分散液に触媒としてジオクチルスズジラウレート：０．００５質量部、シリコーン樹脂粒子（トスパール１４５、ＧＥ東芝シリコーン社製）：４０質量部を添加し、下引層形成用塗布液を得た。この塗布液を浸漬塗布法にて直径３０ｍｍ、長さ３４０ｍｍ、肉厚０．５ｍｍのアルミニウム基材上に塗布し、１７０℃、４０分の乾燥硬化を行い、厚さ１９μｍの下引層を得た。
【０１３７】
（電荷発生層の形成）
電荷発生物質としてのＣｕｋα特性Ｘ線を用いたＸ線回折スペクトルのブラッグ角度（２θ±０．２°）が少なくとも７．５°、９．９°、１２．５°、１６．３°、１８．６°、２５．１°、及び２８．３°の位置に回折ピークを有するヒドロキシガリウムフタロシアニン１５質量部、結着樹脂としての塩化ビニル・酢酸ビニル共重合体樹脂（ＶＭＣＨ、日本ユニカー社製）１０質量部、ｎ−酢酸ブチル２００質量部からなる混合物を、直径１ｍｍφのガラスビーズを用いてサンドミルにて４時間分散した。得られた分散液にｎ−酢酸ブチル１７５質量部、メチルエチルケトン１８０質量部を添加し、攪拌して電荷発生層形成用の塗布液を得た。この電荷発生層形成用塗布液を下引層上に浸漬塗布し、常温（２５℃）で乾燥して、膜厚が０．２μｍの電荷発生層を形成した。
【０１３８】
（電荷輸送層の形成）
次に、４フッ化エチレン樹脂粒子（平均一次粒径：０．２μｍ）０．５質量部および下記構造式Ａ−１および構造式Ｂ−１で表される繰り返し単位を含むフッ化アルキル基含有共重合体（ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）によるポリスチレン換算の重量平均分子量２００，０００、ｌ：ｍ＝１：１、ｓ＝１、ｎ＝６０）０．０１質量部を、テトラヒドロフラン４質量部、トルエン１質量部とともに２０℃の液温に保ち、４８時間攪拌混合し、４フッ化エチレン樹脂粒子懸濁液（Ａ液）を得た。
【０１３９】
【化８】
2014038137.tif 000010
【０１４０】
次に、電荷輸送物質としてＮ，Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）−Ｎ，Ｎ’−ジフェニルベンジジン２部質量及びＮ，Ｎ’−ビス（３，４−ジメチルフェニル）ビフェニル−４−アミン２質量部、結着樹脂としてビスフェノールＺ型ポリカーボネート樹脂（粘度平均分子量：４０，０００）６質量部、酸化防止剤として２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノール０．１質量部を混合して、テトラヒドロフラン２４質量部およびトルエン１１質量部を混合溶解したＢ液を得た。
【０１４１】
前記Ｂ液に前記Ａ液を加えて攪拌混合した後、微細な流路を持つ貫通式チャンバーを装着した高圧ホモジナイザー（吉田機械興行株式会社製）を用いて、５００ｋｇｆ／ｃｍ２まで昇圧しての分散処理を３回繰り返した液に、ジメチルシリコーンオイル（商品名：ＫＰ−３４０  信越シリコーン社製）を５ｐｐｍ添加し、攪拌して電荷輸送層形成用塗布液を得た。
【０１４２】
この電荷輸送層形成用塗布液を、浸漬塗布にて前記電荷発生層上に塗布して１３５℃、２５分の乾燥を行って膜厚が２０μｍの電荷輸送層を形成し、電子写真感光体を得た。
【０１４３】
［実施例２］
アルミニウム合金母材の表面傷数を２０個／ｃｍ２、表面傷の深さを６μｍにし、表面粗さＲａ：１．０μｍ、Ｒｍａｘ：３．０μｍのアルミニウム基材を作製したこと以外は、実施例１と同様の方法で感光体を作製した
【０１４４】
［実施例３］
アルミニウム合金母材の表面傷数を２０個／ｃｍ２、表面傷の深さを１２μｍにし、表面粗さＲａ：１．０μｍ、Ｒｍａｘ：４．０μｍのアルミニウム基材を作製したこと以外は、実施例１と同様の方法で感光体を作製した
【０１４５】
［実施例４］
アルミニウム合金母材の表面傷数を４０個／ｃｍ２、表面傷の深さを６μｍにし、表面粗さＲａ：１．７μｍ、Ｒｍａｘ：３．０μｍのアルミニウム基材を作製したこと以外は、実施例１と同様の方法で感光体を作製した
【０１４６】
［実施例５］
アルミニウム合金母材の表面傷数を４０個／ｃｍ２、表面傷の深さを１２μｍにし、表面粗さＲａ：１．７μｍ、Ｒｍａｘ：４．０μｍのアルミニウム基材を作製したこと以外は、実施例１と同様の方法で感光体を作製した
【０１４７】
［実施例６］
厚さが０．３ｍｍのアルミニウム基材を作製したこと以外は、実施例１と同様の方法で感光体を作製した。
【０１４８】
［実施例７］
厚さが１．０ｍｍのアルミニウム基材を作製したこと以外は、実施例１と同様の方法で感光体を作製した。
【０１４９】
［実施例８］
４フッ化エチレン樹脂粒子が１．０質量部添加された電荷輸送層を作製したこと以外は、実施例１と同様の方法で感光体を作製した。
【０１５０】
［実施例９］
４フッ化エチレン樹脂粒子が０．１質量部添加された電荷輸送層を作製したこと以外は、実施例１と同様の方法で感光体を作製した。
【０１５１】
［実施例１０］
円筒形状のアルミニウム基材（肉厚０．５ｍｍ、外径３０ｍｍ）の外周面に対し、ダイヤモンドバイトを用いた旋盤を用いて切削を行った。これにより、表面粗さＲａ：１．３μｍ、Ｒｍａｘ：３．５μｍのアルミニウム基材を作製した。このアルミ二ウム基材上に実施例１と同様の方法で下引層、電荷発生層、電荷輸送層を順次形成して感光体を作製した。
【０１５２】
［比較例１］
アルミニウム合金母材の表面傷数を１０個／ｃｍ２、表面傷の深さを６μｍにし、表面粗さＲａ：０．８μｍ、Ｒｍａｘ：３．０μｍのアルミニウム基材を作製したこと以外は、実施例１と同様の方法で感光体を作製した。
【０１５３】
［比較例２］
アルミニウム合金母材の表面傷数を１０個／ｃｍ２、表面傷の深さを１２μｍにし、表面粗さＲａ：０．８μｍ、Ｒｍａｘ：４．０μｍのアルミニウム基材を作製したこと以外は、実施例１と同様の方法で感光体を作製した。
【０１５４】
［比較例３］
アルミニウム合金母材の表面傷数を２０個／ｃｍ２、表面傷の深さを４μｍにし、表面粗さＲａ：１．０μｍ、Ｒｍａｘ：２．５μｍのアルミニウム基材を作製したこと以外は、実施例１と同様の方法で感光体を作製した。
【０１５５】
［比較例４］
アルミニウム合金母材の表面傷数を２０個／ｃｍ２、表面傷の深さを１６μｍにし、表面粗さＲａ：１．０μｍ、Ｒｍａｘ：４．５μｍのアルミニウム基材を作製したこと以外は、実施例１と同様の方法で感光体を作製した。
【０１５６】
［比較例５］
アルミニウム合金母材の表面傷数を４０個／ｃｍ２、表面傷の深さを４μｍにし、表面粗さＲａ：１．７μｍ、Ｒｍａｘ：２．５μｍのアルミニウム基材を作製したこと以外は、実施例１と同様の方法で感光体を作製した。
【０１５７】
［比較例６］
アルミニウム合金母材の表面傷数を４０個／ｃｍ２、表面傷の深さを１６μｍにし、表面粗さＲａ：１．７μｍ、Ｒｍａｘ：４．５μｍのアルミニウム基材を作製したこと以外は、実施例１と同様の方法で感光体を作製した。
【０１５８】
［比較例７］
アルミニウム合金母材の表面傷数を５０個／ｃｍ２、表面傷の深さを６μｍにし、表面粗さＲａ：１．９μｍ、Ｒｍａｘ：３．０μｍのアルミニウム基材を作製したこと以外は、実施例１と同様の方法で感光体を作製した。
【０１５９】
［比較例８］
アルミニウム合金母材の表面傷数を５０個／ｃｍ２、表面傷の深さを１２μｍにし、表面粗さＲａ：１．９μｍ、Ｒｍａｘ：４．０μｍのアルミニウム基材を作製したこと以外は、実施例１と同様の方法で感光体を作製した。
【０１６０】
［比較例９］
４フッ化エチレン樹脂粒子を添加せずに電荷輸送層を作製したこと以外は、実施例１と同様の方法で感光体を作製した。
【０１６１】
このようにして得られた電子写真感光体を、接触帯電装置、中間転写装置を有する富士ゼロックス社製  フルカラープリンター  Ｄｏｃｕ  Ｃｅｎｔｒｅ  Ｃｏｌｏｒ  Ｃ４００に搭載し、Ａ４用紙(富士ゼロックス製、Ｃ２紙)を用いて１万枚の画像形成を行った。
【０１６２】
画像形成時のトルク値、画質のすり抜け、黒点、干渉縞を確認した。具体的には、以下のようにして測定又は評価を行った。
【０１６３】
（トルク値）
試験前に感光体をカートリッジに装着した状態で手動トルクゲージを用いて、感光体の起動最大トルクをトルク値とした。
【０１６４】
実施例３を標準とし、以下のような基準によりトルク値を評価した。
Ａ：標準に比べかなり低い。
Ｂ：標準に比べ同等かやや高い。
Ｃ：標準に比べ高い。
【０１６５】
（画質のすり抜け）
目視による判定。
【０１６６】
（黒点）
目視による判定。
【０１６７】
（干渉縞）
目視による判定。
【０１６８】
画質のすり抜け、黒点、干渉縞の評価は、実施例４の結果を標準とし、以下のような基準により評価した。
Ａ：標準に比べかなり改善されている。
Ｂ：標準に比べ同等かやや悪い。
Ｃ：標準に比べ悪化。
【０１６９】
実施例、比較例で作製した各感光体の最表面層（電荷輸送層）のＲａ，Ｒｍａｘ，ＰＴＦＥ含有量及び評価結果を下記表１にまとめて示す。
【０１７０】
【表１】
2014038137.tif 000011
【符号の説明】
【０１７１】
１  下引層、２  電荷発生層、３  電荷輸送層、４  導電性基材、５  保護層、７  電子写真感光体、８  帯電装置、９  露光装置、１１  現像装置、１３  クリーニング装置、１４  潤滑剤、４０  転写装置、５０  中間転写体、１００  画像形成装置、１２０  画像形成装置、１３１  クリーニングブレード、１３２  繊維状部材（ロール状）、１３３  繊維状部材（平ブラシ状）、３００  プロセスカートリッジ
【図１】
2014038137.tif 000012
【図３】
2014038137.tif 000013
【図４】
2014038137.tif 000014
【図２】
2014038137.tif 000015