(57)【要約】【課題】  坩堝から放出される気化材料の量を調整できるようにする。【解決手段】  有機ＥＬ素子の製造方法は、有機ＥＬ素子における発光層を形成する材料層が３００ｎｍ／ｓｅｃ以上の製膜速度で形成される。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
有機ＥＬ素子における発光層を形成する材料層が３００ｎｍ／ｓｅｃ以上の製膜速度で形成されることを特徴とする有機ＥＬ素子の製造方法。
【請求項２】
真空室と、蒸着源を収容するとともに該蒸着源からの気化材料を所定方向に搬送される被処理基材に蒸着するために真空室内に設けられる坩堝とを備える蒸着装置において、
前記坩堝は、前記蒸着源からの前記気化材料を放出する放出口を備え、
前記放出口から放出される前記気化材料の量を調節するためのシャッタ装置を備えることを特徴とする蒸着装置。
【請求項３】
前記真空室内に導入される前記被処理基材と前記坩堝との間隔を変更する間隔変更装置を備える請求項２に記載の蒸着装置。
【請求項４】
請求項２又は３に記載の蒸着装置を使用して前記蒸着源からの前記気化材料を前記被処理基材に蒸着する蒸着方法であって、
前記シャッタ装置によって、前記放出口を所定の開口面積に設定するとともに、この放出口から放出される前記気化材料を前記被処理基材に蒸着することを特徴とする蒸着方法。
【請求項５】
前記シャッタ装置によって、前記被処理基材の搬送方向における前記放出口の開口幅を、１ｍｍ以上１０ｍｍ以下に設定して蒸着を行う請求項４に記載の蒸着方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機ＥＬ素子の製造方法及び蒸着装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来の蒸着装置としては、例えば、いわゆるバッチ方式のものや、ロールtoロールによるものが挙げられる。このうち、ロールtoロールによる蒸着装置は、真空室と、真空室内に設けられる蒸着源と、被処理基材を搬送するための送りロール及び巻き取りロールとを備える（例えば特許文献１参照）。
【０００３】
真空室内の蒸着源は、坩堝に収容されており、この坩堝が加熱されることにより、蒸着源から気化した気化材料が真空室内を通過する被処理基材に蒸着される。その結果、この被処理基材の表面には、気化材料の蒸着による所定厚さの膜が形成され、これによって所定の素子（例えば有機ＥＬ素子等）を製造できるようになる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０００−１８３５００号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
有機ＥＬ素子において実用化にむけて駆動点灯寿命の改善は必須の命題である。従来はより安定な材料の開発、それら材料の組み合わせ最適化によって検討されてきた。しかしながら、特性の改善とともに素子設計の緻密化が進み、製造工程における品質安定性、歩留りにおける問題が起こっている。上記のような現状において、製造する素子の設計に関わらず、有機ＥＬ素子の性能向上も付与する製造方法の開発が望まれている。
【０００６】
上記のような事情から、有機ＥＬ素子の寿命を向上させるためには、例えば、製造する素子の用途や性能に応じて被処理基材に形成される膜の成膜速度をどの程度に調整するかということも重要になる。このためには、例えば、坩堝から放出される気化材料の量を調節することが望ましい。
【０００７】
さらに、本発明の発明者は、気化材料の量をどの程度に調節すれば、有機ＥＬ素子の寿命を向上できるかを実験により見出した。
【０００８】
本発明は、上記の事情に鑑みてなされたものであり、坩堝から放出される気化材料の成膜速度を所定の値に設定することによって、有機ＥＬ素子の寿命を向上させることができる有機ＥＬ素子の製造方法を提供することを課題とする。
【０００９】
また、本発明は、坩堝から放出される気化材料の量を調節できるようにした蒸着装置を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明に係る有機ＥＬ素子の製造方法は、上記の課題を解決するためのものであって、有機ＥＬ素子における発光層を形成する材料層が３００ｎｍ／ｓｅｃ以上の製膜速度で形成されることを特徴とする。
かかる構成によれば、有機ＥＬ素子の寿命を向上させることができるようになる。
【００１１】
本発明は、上記の課題を解決するためのものであって、真空室と、蒸着源を収容するとともに該蒸着源からの気化材料を所定方向に搬送される被処理基材に蒸着するために真空室内に設けられる坩堝とを備える蒸着装置において、前記坩堝は、前記蒸着源からの前記気化材料を放出する放出口を備え、前記放出口から放出される前記気化材料の量を調節するためのシャッタ装置を備えることを特徴とする。
【００１２】
かかる構成によれば、シャッタ装置によって放出口から放出される気化材料の量を調節できるようになる。
【００１３】
また、本発明に係る蒸着装置によれば、前記真空室内に導入される前記被処理基材と前記坩堝との間隔を変更する間隔変更装置を備える。
【００１４】
かかる構成によれば、間隔変更装置によって坩堝と被処理基材との間隔を変更できることから、蒸着開始前には、坩堝と被処理基材との間隔を十分に大きく確保しておき、蒸着時に坩堝と被処理基材とを近接させることで、所望の成膜レートでの蒸着を行うことができるようになる。
【００１５】
また、本発明は、上記の蒸着装置を使用して前記蒸着源からの前記気化材料を前記被処理基材に蒸着する蒸着方法であって、前記シャッタ装置によって、前記放出口を所定の開口面積に設定するとともに、この放出口から放出される前記気化材料を前記被処理基材に蒸着することを特徴とする。
【００１６】
かかる構成によれば、シャッタ装置によって坩堝の放出口の開口面積を調節することで、放出口から放出される気化材料の量を調節できるようになる。
【００１７】
また、本発明に係る蒸着方法によれば、  前記シャッタ装置によって、前記被処理基材の搬送方向における前記放出口の開口幅を、１ｍｍ以上１０ｍｍ以下に設定して蒸着を行うことが望ましい。
【発明の効果】
【００１８】
本発明によれば、有機ＥＬ素子の寿命を向上させることができる。
また、本発明によれば、坩堝から放出される気化材料の量を調整できるようになる。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】図１は、本発明の一実施形態を示す蒸着装置の部分断面図である。
【図２】図２は、蒸着装置の要部を示す斜視図である。
【図３】図３は、蒸着装置の他の例を示す要部断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
以下、本発明を実施するための形態について、図１、図２を参照して説明する。本実施形態における蒸着装置１は、いわゆる近接蒸着によって有機ＥＬ素子その他の素子を製造するために使用される。この蒸着装置１は、ロールtoロールによる連続蒸着を可能にするものとして例示される。また、蒸着装置１は、フィルム状で帯状に構成される被処理基材２を所定の方向に搬送しながら、蒸着源３から気化させた気化材料をこの被処理基材２に蒸着することにより、所定厚さの薄膜を形成する。
【００２１】
この蒸着装置１によって製造される有機ＥＬ素子は、少なくとも、被処理基材２に重なるように形成される電極層（下部電極層）と、この電極層に重なるように形成される有機ＥＬ層と、この有機ＥＬ層に重なるように形成される電極層（上部電極層）とを有する。有機ＥＬ層を挟むように形成される２つの電極層（上部電極層、下部電極層）の一方は、陽極層であり、他方は陰極層である。
【００２２】
より具体的には、この蒸着装置１は、真空室４と、真空室４に接続される真空ポンプ（図示せず）と、被処理基材２を真空室４に向かって送り出す送出ローラ（図示せず）と、蒸着源３と、真空室４内で蒸着源３を収納する坩堝５と、坩堝５の近傍位置に設けられるとともに被処理基材２に形成される薄膜の厚さを測定するためのセンサ６と、坩堝５を加熱するヒータ（図示せず）と、被処理基材２と坩堝５との間隔を変更する間隔変更装置７と、真空室４内で蒸着された被処理基材２を巻き取る巻取ローラ（図示せず）と、を備える。
【００２３】
坩堝５は、蒸着源３を収容する収容部１１と、蒸着源３から放出される気化材料を被処理基材２に案内する第１の案内通路１２と、第１の案内通路１２の一端部に設けられるとともに、この第１の案内通路１２を通過する気化材料を、被処理基材２に向けて放出すべく、所定の開口面積を有する放出口１３と、第１の案内通路１２の中途部から分岐して坩堝５の外部に連通する第２の案内通路１４と、送方向における放出口１３の開口面積を調節するためのシャッタ装置１５とを有する。
【００２４】
収容部１１は、蒸着源３を収容すべく、底壁部１６と、この底壁部１６に対して垂直に設けられる側壁部１７とを有する。収容部１１には、これらの壁部１６，１７によって囲繞されることによって、気化材料の収容空間が形成される。収容部１１は、その外側からヒータによって加熱されることで、蒸着源３にその熱を伝えるように構成される。
【００２５】
第１の案内通路１２は、収容部１１を覆うように設けられる壁部によって形成される。この壁部は、収容部１１の側壁部１７の一部と一体的かつ連続的に繋がって形成される第１壁部２１と、第１壁部２１に対して略直交するように拡がる第２壁部２２と、第２壁部２２に対して略直交するとともに、第１壁部２１に対して略平行に設けられる第３壁部２３とを有する。なお、第１壁部２１と第３壁部２３とは、同様な構成の第４壁部２４（図２参照）及び第５壁部（図示せず）によって連結されている。第１の案内通路１２は、上記の第１壁部２１〜第５壁部に区画されて覆われた空間に形成される。
【００２６】
上記の構成により、第１の案内通路１２は、蒸着源３から放出される気化材料を、第１壁部２１を介して上方に案内するとともに、第２壁部２２を介して横方向に案内する。さらに、第１の案内通路１２は、第３壁部２３を介して気化材料を下方に案内するとともに、放出口１３を介して気化材料を被処理基材２に向かって放出させることができる。
【００２７】
第２の案内通路１４は、第２壁部２２の中途部に設けられている。より具体的には、第２の案内通路１４は、第２壁部２２を貫通して外部と連通する孔（オリフィス）によって構成される。第２の案内通路１４は、第２壁部２２の内面側における孔の開口部が気化材料の入口３２となり、第２壁部２２の外面側における孔の開口部が気化材料の出口３３となっている。この孔の直径又は幅は、入口３２から出口３３まで一定となっている。また、この孔の直径又は幅は、第１の案内通路１２の大きさよりも小さくされることが望ましい。
【００２８】
シャッタ装置１５は、坩堝５の放出口１３を覆うことが可能なシャッタ部材２６と、このシャッタ部材２６を駆動するための駆動部２７とを有する。
【００２９】
シャッタ部材２６は、放出口１３の開口面積よりも大きな面積を有する板状部材である。シャッタ部材２６は、駆動部２７によって駆動されることで、水平方向に移動（スライド）可能に構成される。
【００３０】
駆動部２７は、例えばラックアンドピニオンによる機構その他のスライド機構、及びこれを駆動する駆動モータ等の駆動源を使用して、シャッタ部材２６を水平方向に移動させることができる。
【００３１】
シャッタ装置１５により、坩堝５の放出口１３の開口量（開口面積）を変更することで、放出される気化材料の量を変更することができる。具体的には、シャッタ装置１５のシャッタ部材２６は、放出口１３の全体を覆って、気化材料の吐出量を０にする閉塞位置から、放出口１３を全て開口させ、その開口量（Ｗ）を最大（Ｗｍａｘ）にする全開位置まで移動可能に構成される。
【００３２】
これにより、シャッタ装置１５は、放出口１３から放出される気化材料の量を適宜調節するとともに、放出口１３から気化材料が放出されないようにすることも可能になる。
【００３３】
上記のように、シャッタ装置１５によって、気化材料の吐出量を調節することで、気化材料によって被処理基材２に形成される膜の成膜レート（成膜速度）を調節できるようになる。成膜レートは、被処理基材２の搬送速度を変更することによっても調節可能である。
【００３４】
なお、成膜レート（ｎｍ／ｓｅｃ）の制御は、センサ６で検知される第２の案内路１４からの蒸気速度と、この時の基材搬送速度での製膜厚を接触式膜厚計で読み取り、センサ６のモニタ値と実際の製膜厚の関係より検量線を作成することで実施される。この検量線より、デバイス作成時に目的とする膜厚で製膜することができる。
【００３５】
例えば、この蒸着装置１によって有機ＥＬ素子を製造する場合には、発光層の成膜レートは、例えば３００ｎｍ／ｓｅｃ以上に設定されることが望ましい。これにより、有機ＥＬ素子の発光層と正孔輸送層との界面が相溶し、電子移動障壁が緩和されることが予想される。このようにすることで、有機ＥＬ素子の寿命を向上させることが可能になる。なお、上記のように、成膜レートを３００ｎｍ／ｓｅｃ以上とする場合には、被処理基材２の搬送速度ｖを３ｍ／ｍｉｎ以上とすることが望ましい。また、放出口１３の開口幅Ｗは、１ｍｍ以上１０ｍｍ以下とされることが望ましい。さらに望ましい開口幅Ｗは１０ｍｍである。
【００３６】
本実施形態において、センサ６には、水晶振動子（ＱＣＭ）が使用される。このセンサ６は、真空室４内において、坩堝５に近接する位置に設けられている。より具体的には、センサ６は、坩堝５の第２壁部２２に形成される第２の案内通路１４の上方に配置される。さらに、センサ６は、その検出面６ａが、第２の案内通路１４の出口３３と対向するように配置されている。このように、第２の案内通路１４の近傍位置にセンサ６が配置されていることにより、第２の案内通路１４から坩堝５外に放出される気化材料をセンサ６に付着させ、被処理基材２に対する成膜レートを検出することが可能になる。
【００３７】
間隔変更装置７は、坩堝５を被処理基材２に対して移動させることによって、坩堝５と被処理基材２との間隔を変更できる。この間隔変更装置７は、図２に示すように、坩堝５を支持する支持部材３５と、支持部材３５に連結されるとともに、この支持部材３５を介して坩堝５を移動させる移動機構３６と、移動機構３６を支持する支持台３７とを有する。
【００３８】
支持部材３５は、坩堝５に連結される第１支持部材３５ａと、この第１支持部材３５ａと移動機構３６との間に設けられる第２支持部材３５ｂとを有する。
【００３９】
第１支持部材３５ａとしては、所定長さを有する長尺状の棒材が使用される。第１支持部材３５ａは、その一端部が坩堝５に連結され、その他端部が第２支持部材３５ｂに連結されている。この第１支持部材３５ａは、両端部にねじ部（図示せず）を有する。
【００４０】
第２支持部材３５ｂとしては、所定の面積及び厚さを有する板部材が使用される。この第２支持部材３５ｂは、移動機構３６を第２支持部材３５ｂに連結するための連結孔（以下「第１連結孔」という）３８と、第１支持部材３５ａを連結するための連結孔（以下「第２連結孔」という）３９とを有する。この第２支持部材３５ｂの一方の面（裏面）には、センサ６が固定されている。
【００４１】
第１連結孔３８及び第２連結孔３９は、第１支持部材３５ａの厚さ方向に貫通して形成されている。第１連結孔３８及び第２連結孔３９は、ねじ孔として形成されている。
【００４２】
第２連結孔３９は、第１連結孔３８から所定の間隔をおいて、第２支持部材３５ｂの所定の２箇所の位置に形成されている。第２連結孔３９には、第１支持部材３５ａの端部に形成されるねじ部が螺合されている。
【００４３】
移動機構３６は、第２支持部材３５ｂに連結されるねじ部材４１と、このねじ部材４１を回転駆動する駆動モータ４２とを有する。
【００４４】
ねじ部材４１は、その中途部が第２支持部材３５ｂの第２連結孔３９に螺合されている。また、ねじ部材４１は、一端部に抜け止め部４３を有する。ねじ部材４１の他端部は、駆動モータ４２に連結されている。
【００４５】
駆動モータ４２は、本体部４６と、本体部４６から突出する駆動軸４７とを有する。本体部４６は、支持台３７に支持されている。駆動軸４７は、連結部材４８を介してねじ部材４１の端部に連結されている。
【００４６】
支持台３７は、真空室４内に固定される第１支持部４９と、駆動モータ４２を支持する第２支持部５０とを有する。第１支持部４９は、長尺状の板状に構成される。第１支持部４９は、上下方向に沿って配置されており、その下端部が真空室４内に固定されている。
【００４７】
第２支持部５０は、板状に構成され、第１支持部４９の上端部に設けられている。この第２支持部５０は、第１支持部４９の上端部から水平方向に突出するように設けられている。第２支持部５０には、駆動モータ４２の駆動軸４７を挿通するための挿通孔（図示せず）が形成されている。第２支持部５０は、駆動モータ４２の駆動軸４７を挿通孔に挿通するとともに、その上面に駆動モータ４２が載置されることによって、この駆動モータ４  ２を支持している。
【００４８】
以下、上記のような構成の蒸着装置１を使用して被処理基材２に気化材料を蒸着する蒸着方法について説明する。
【００４９】
蒸着が開始される前の段階では、坩堝５は、図１において実線で示す待機位置に配置されている。この待機位置において、シャッタ装置１５は、坩堝５の放出口１３を全て覆って閉塞している。したがって、待機位置では、気化材料は坩堝５から放出されていない。
【００５０】
この待機位置における坩堝５と被処理基材２との間隔を、以下「第１離間間隔」（図１において符号Ｄ１で示す）という。蒸着が開始されるまでは、この第１離間間隔Ｄ１が維持される。なお、この状態において、被処理基材２の搬送は停止されている。
【００５１】
蒸着が開始される場合には、間隔変更装置７における移動機構３６の駆動モータ４２を駆動することによって、坩堝５を下方に移動させる。これによって、坩堝５は、被処理基材２に近接する位置（図１において２点鎖線で示す位置）に配置される。この近接位置における坩堝５と被処理基材２との間隔を、以下「第２離間間隔」（図１において符号Ｄ２で示す）という。この第２離間間隔Ｄ２は、当然に、第１離間間隔Ｄ１よりも小さくなる。また、第２離間間隔Ｄ２は、例えば、１０ｍｍ以下とされるのが望ましい。
【００５２】
坩堝５が被処理基材２に近接する位置に到達すると、シャッタ装置１５の駆動部２７がシャッタ部材２６を動作させる。これによって、シャッタ部材２６は、所定の位置に移動する。このシャッタ部材２６の移動により、坩堝５の放出口１３が所定の開口面積にて開口し、気化材料が放出される。
【００５３】
そして、被処理基材２は、送出ローラから送り出されるとともに、巻取ローラによって巻き取られることで、所定の搬送方向に搬送される。この後、蒸着が終了するまでの間、第２離間間隔Ｄ２が維持される。これによって、坩堝５の放出口１３から放出された気化材料が、搬送されている被処理基材２に順次蒸着される。蒸着装置１は、シャッタ装置１５による放出口１３の開口面積の変更、被処理基材２の搬送速度の変更、及び間隔変更装置７による坩堝５と被処理基材２との間隔の変更によって、所望の成膜レートで蒸着を行うことができる。
【００５４】
蒸着を終了する場合には、送出ローラ及び巻取ローラを停止させて、搬送されている被処理基材２を停止させるとともに、間隔変更装置７によって、坩堝５を上方に移動させ、再び第１離間間隔Ｄ１が確保される。さらに、シャッタ装置１５のシャッタ部材２６が、駆動部２７の駆動によって水平方向に移動し、放出口１３を閉塞する。以上によって、被処理基材２に対する気化材料の蒸着が終了する。
【００５５】
以上説明した本実施形態に係る蒸着装置１及び蒸着方法によれば、シャッタ装置１５によって坩堝５の放出口１３の開口面積を調節することで、放出口１３から放出される気化材料の量を調節できるようになる。
【００５６】
図３は、本発明に係る坩堝及びシャッタ装置の他の例を示す。
【００５７】
この例において、坩堝５は、蒸着源３を収容する収容部１１と、蒸着源３からの気化材料を被処理基材２に向けて案内する第１の案内通路１２と、この第１の案内通路１２から分岐する第２の案内通路１４とを有する。この例では、収容部１１は、シャッタ装置１５のシャッタ部材２６を支持可能な壁部１１ａを有する。この壁部１１ａには、シャッタ部材１１が係合する係合孔１１ｂが貫通形成されている。係合孔１１ｂは、上部から下部に向かうにつれて、直径が徐々に小さくなるように構成されている。なお、この例では、図１、図２で示した真空室４及びセンサ６等の図示を省略している。
【００５８】
また、第１の案内通路１２は、蒸着源３からの気化材料を横方向（水平方向）に向かって案内するように構成される。第１の案内通路１２の一端部に形成される放出口１３は、坩堝５の側部に設けられている。この放出口１３は、坩堝５の側部から側方に突出する筒状部材によって構成されている。
【００５９】
シャッタ装置１５は、垂直方向（上下方向）に移動可能なシャッタ部材２６と、このシャッタ部材２６を駆動する駆動部２７とを有する。
【００６０】
シャッタ部材２６は、円錐状、具体的には、円錐台（截頭円錐体）状に構成されている。したがって、シャッタ部材２６の側部はテーパ状に構成されている。シャッタ部材２６は、駆動部２７による駆動によって上下に移動できる。シャッタ部材２６は、その上下動により、前記係合孔１１ｂを閉塞する閉塞位置と、この閉塞を解除する閉塞解除位置との間で、位置変更可能に構成される。
【００６１】
駆動部２７は、シャッタ部材２６に連結されるシャフト２７ａと、このシャフト２７ａを昇降させる昇降機構（図示せず）とを備える。
【００６２】
シャフト２７ａの一端部は、シャッタ部材２６の上部に連結されている。シャフト２７ａの中途部は、坩堝５の上壁部を貫通する孔に挿通されている。シャフト２７ａの他端部は、坩堝５の外側で位置するとともに、昇降機構に接続されている。
【００６３】
なお、この例では、蒸着装置１は、被処理基材２を上下方向に搬送することができる。
【００６４】
この例では、蒸着源３からの気化材料を、第１の案内通路１２を介して放出口１３から横方向に放出することによって、上下方向に搬送される被処理基材２の表面に蒸着できる。シャッタ装置１５は、シャッタ部材２６の側部がテーパ状に構成され、坩堝５の収容部１１に形成される係合孔１１ｂがシャッタ部材２６に係合するように形成されていることから、シャッタ部材２６を上下に移動させることで、係合孔１１ｂを閉塞し、又はその閉塞を解除できるとともに、係合孔１１ｂとシャッタ部材２６との隙間（開口面積）を調節することによって、係合孔１１ｂを通過する気化材料の量を調節することができる。
【実施例】
【００６５】
以下に、実施例および比較例を示し、本発明をさらに具体的に説明するが、本発明は、何らそれらに限定されない。
【００６６】
上記のロールｔｏロール蒸着装置にて有機ＥＬ素子を作製した。基板にはＩＴＯをあらかじめ製膜している絶縁材料によってコートされているステンレス基材を用いた。有機層の膜厚は正孔注入層(ＣｕＰｃ)を２５ｎｍ、正孔輸送層(ＮＰＢ)を４５ｎｍ、発光層(Ａｌｑ３)を６０ｎｍとした。電子注入層としてＬｉＦを１ｎｍ、陰極としてＡｌを１００ｎｍになるように製膜した。
【００６７】
実施例１（３００ｎｍ／ｓｅｃでの発光層形成）
発光層（Ａｌｑ３）の蒸着速度を３００ｎｍ／ｓｅｃとなるように蒸着した。この際、開口部幅Ｗを１０ｍｍ、搬送速度３ｍ／ｍｉｎで基材を搬送することで、Ａｌｑ３層を６０ｎｍとした。得られた実施例１に係る有機ＥＬ素子の連続点灯寿命を、１５０ｍＡ／ｃｍ2の電流を印加し計測した。その結果、初期輝度半減時間は１２４時間であった。
【００６８】
実施例２（５００ｎｍ／ｓｅｃでの発光層形成）
発光層（Ａｌｑ３）の蒸着速度を５００ｎｍ／ｓｅｃとなるように蒸着した。この際、開口部幅Ｗを１０ｍｍ、搬送速度５ｍ／ｍｉｎで基材を搬送することで、Ａｌｑ３層を６０ｎｍとした。上記有機ＥＬ素子を作製した。得られた有機ＥＬ素子の連続点灯寿命を１５０ｍＡ／ｃｍ2の電流を印加し計測した。初期輝度半減時間は１２０時間であった。
【００６９】
比較例１（１００ｎｍ／ｓｅｃでの発光層形成）
発光層（Ａｌｑ３）の蒸着速度を１００ｎｍ／ｓｅｃとなるように蒸着した。この際、開口部幅Ｗを１０ｍｍ、搬送速度１ｍ／ｍｉｎで基材を搬送することで、Ａｌｑ３層を６０ｎｍとした。得られた比較例１に係る有機ＥＬ素子の連続点灯寿命を、１５０ｍＡ／ｃｍ2の電流を印加し計測した。その結果、初期輝度半減時間は３５時間であった。
【００７０】
比較例２（２００ｎｍ／ｓｅｃでの発光層形成）
発光層（Ａｌｑ３）の蒸着速度を２００ｎｍ／ｓｅｃとなるように蒸着した。この際、開口部幅Ｗを１０ｍｍ、搬送速度２ｍ／ｍｉｎで基材を搬送することで、Ａｌｑ３層を６０ｎｍとした。上記有機ＥＬ素子を作製した。得られた比較例２に係る有機ＥＬ素子の連続点灯寿命を１５０ｍＡ／ｃｍ2の電流を印加し計測した。その結果、初期輝度半減時間は５０時間であった。
【００７１】
実施例１及び２、比較例１及び２を比較した結果、実施例１及び２の寿命が、比較例１及び２よりも向上することが判った。
【００７２】
なお、本発明に係る製造装置及び製造方法は、上記実施形態の構成に限定されるものではない。また、本発明に係る製造装置及び製造方法は、上記した作用効果に限定されるものでもない。本発明に係る製造装置及び製造方法は、本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々の変更が可能である。
【００７３】
上記の実施形態では、間隔変更装置７を用いて坩堝５と被処理基材２との間隔を変更するようにした例を示したが、この間隔変更装置７を用いることなく蒸着を行ってもよい。
【符号の説明】
【００７４】
１…蒸着装置、２…被処理基材、３…蒸着源、４…真空室、５…坩堝、６…センサ、６ａ…検出面、７…間隔変更装置、１１…収容部、１１ａ…壁部、１１ｂ…係合孔、１２…第１の案内通路、１３…放出口、１４…第２の案内通路、１５…シャッタ装置、１６…底壁部、１７…側壁部、２１…第１壁部、２２…第２壁部、２３…第３壁部、２６…シャッタ部材、２７…駆動部、２７ａ…シャフト、３２…入口、３３…出口、３５…支持部材、３５ａ…第１支持部材、３５ｂ…第２支持部材、３６…移動機構、３７…支持台、３８…第１連結孔、３９…第２連結孔、４１…ねじ部材、４２…駆動モータ、４３…抜け止め部、４６…本体部、４７…駆動軸、４９…第１支持部、５０…第２支持部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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