(57)【要約】【課題】製造歩留まりの低下を抑制することが可能な液晶表示装置を提供する。【解決手段】第１絶縁基板上において画像を表示するアクティブエリアの外側の周辺エリアに配置され周辺エリアに第１表面及び第１凹部を有する第１有機絶縁膜と、を備えた第１基板と、第２絶縁基板の第１基板と対向側において周辺エリアに配置された周辺遮光層と、周辺エリアにおいて周辺遮光層に積層された周辺カラーフィルタであって第１凹部と対向する位置に形成され周辺遮光層まで貫通し第１基板に向かうにしたがって広がる第２凹部を有する周辺カラーフィルタと、周辺エリアにおいて周辺カラーフィルタを覆うとともに第２凹部を覆う第３凹部を有する第２有機絶縁膜と、を備えた第２基板と、第１表面と第２表面との間及び第１凹部と第３凹部との間に介在し、第１基板と第２基板とを貼り合わせるシール材と、第１基板と第２基板との間に保持された液晶層と、を備えた液晶表示装置。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１絶縁基板と、前記第１絶縁基板上において画像を表示するアクティブエリアの外側の周辺エリアに配置され前記周辺エリアに第１表面及び第１凹部を有する第１有機絶縁膜と、を備えた第１基板と、
第２絶縁基板と、前記第２絶縁基板の前記第１基板と対向側において前記周辺エリアに配置された周辺遮光層と、前記周辺エリアにおいて前記周辺遮光層に積層された周辺カラーフィルタであって前記第１凹部と対向する位置に形成され前記周辺遮光層まで貫通し前記第１基板に向かうにしたがって広がる第２凹部を有する周辺カラーフィルタと、前記周辺エリアにおいて前記周辺カラーフィルタを覆うとともに前記第２凹部を覆う第３凹部を有する第２有機絶縁膜と、を備えた第２基板と、
前記第１表面と前記第２表面との間、及び、前記第１凹部と前記第３凹部との間に介在し、前記第１基板と前記第２基板とを貼り合わせるシール材と、
前記シール材によって囲まれた内側において前記第１基板と前記第２基板との間に保持された液晶層と、
を備えた液晶表示装置。
【請求項２】
前記シール材は、前記第１絶縁基板の第１端部と前記第２絶縁基板の第２端部とが重なる位置まで延在している、請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項３】
さらに、前記第１絶縁基板の第１端部と前記第２絶縁基板の第２端部とが重なる位置において、前記第１表面と前記第２表面との間に介在するスペーサを備えた、請求項１または２に記載の液晶表示装置。
【請求項４】
前記スペーサは、前記第１端部と前記第２端部とが重なる位置に沿って直線状に形成された、請求項３に記載の液晶表示装置。
【請求項５】
前記第１表面または前記第２表面と前記スペーサとの間に前記シール材が介在している、請求項３または４に記載の液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明の実施形態は、液晶表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置は、表示装置として各種分野で利用されている。アレイ基板と対向基板との間に液晶層を保持した構成の液晶表示パネルは、大型のマザー基板を用いて製造されている。すなわち、複数個の液晶表示パネルを一括して製造した後に、割断することで単個の液晶表示パネルが得られる。
【０００３】
近年、液晶表示パネルの額縁すなわちアクティブエリアからパネル端部までの幅が狭くなる傾向にある。狭額縁化の要望が高まるほど、アレイ基板と対向基板とを貼り合わせるシール材の形成精度に起因してシール材の位置や幅にバラツキが生じ、割断の際のカットラインとシール材の外端との距離にバラツキが生じやすい。このため、シール材に生じたバラツキに起因して割断精度にバラツキが生じる虞がある。
【０００４】
一方で、マザー基盤における隣り合った液晶表示パネルで共有するように黒色シール材を配置する技術が提案されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２０１２−３２５０６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本実施形態の目的は、製造歩留まりの低下を抑制することが可能な液晶表示装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本実施形態によれば、
第１絶縁基板と、前記第１絶縁基板上において画像を表示するアクティブエリアの外側の周辺エリアに配置され前記周辺エリアに第１表面及び第１凹部を有する第１有機絶縁膜と、を備えた第１基板と、第２絶縁基板と、前記第２絶縁基板の前記第１基板と対向側において前記周辺エリアに配置された周辺遮光層と、前記周辺エリアにおいて前記周辺遮光層に積層された周辺カラーフィルタであって前記第１凹部と対向する位置に形成され前記周辺遮光層まで貫通し前記第１基板に向かうにしたがって広がる第２凹部を有する周辺カラーフィルタと、前記周辺エリアにおいて前記周辺カラーフィルタを覆うとともに前記第２凹部を覆う第３凹部を有する第２有機絶縁膜と、を備えた第２基板と、前記第１表面と前記第２表面との間、及び、前記第１凹部と前記第３凹部との間に介在し、前記第１基板と前記第２基板とを貼り合わせるシール材と、前記シール材によって囲まれた内側において前記第１基板と前記第２基板との間に保持された液晶層と、を備えた液晶表示装置が提供される。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
【図１】図１は、本実施形態の液晶表示装置に適用可能な表示パネルＰＮＬの一例を概略的に示す平面図である。
【図２】図２は、図１に示した表示パネルＰＮＬの周辺エリアＰＲＰをＡ−Ｂ線で切断したときの構造の一例を概略的に示す断面図である。
【図３】図３は、本実施形態の表示パネルＰＮＬにおけるシール材ＳＥと第１スペーサＳＰ１及び第２スペーサＳＰ２のレイアウトの一例を示す平面図である。
【図４】図４は、本実施形態の表示パネルＰＮＬにおける周辺カラーフィルタ２２のレイアウトの一例を示す平面図である。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
以下、本実施形態について、図面を参照しながら詳細に説明する。なお、各図において、同一又は類似した機能を発揮する構成要素には同一の参照符号を付し、重複する説明は省略する。
【００１０】
図１は、本実施形態の液晶表示装置に適用可能な表示パネルＰＮＬの一例を概略的に示す平面図である。
【００１１】
すなわち、表示パネルＰＮＬは、アクティブマトリクスタイプの液晶表示パネルであり、アレイ基板ＡＲと、アレイ基板ＡＲに対向配置された対向基板ＣＴと、アレイ基板ＡＲと対向基板ＣＴとの間に保持された液晶層ＬＱと、を備えている。アレイ基板ＡＲと対向基板ＣＴとは、これらの間に所定のセルギャップを形成した状態でシール材ＳＥによって貼り合わせられている。セルギャップは、アレイ基板ＡＲまたは対向基板ＣＴに形成された図示しない柱状スペーサによって形成されている。液晶層ＬＱは、アレイ基板ＡＲと対向基板ＣＴとの間のセルギャップにおいてシール材ＳＥによって囲まれた内側に保持されている。表示パネルＰＮＬは、シール材ＳＥによって囲まれた内側に、画像を表示するアクティブエリアＡＣＴを備えている。アクティブエリアＡＣＴは、例えば、略長方形状であり、マトリクス状に配置された複数の画素ＰＸによって構成されている。
【００１２】
アレイ基板ＡＲは、第１方向Ｘに沿って延出したゲート配線Ｇ、第２方向Ｙに沿って延出しゲート配線Ｇと交差するソース配線Ｓ、ゲート配線Ｇ及びソース配線Ｓに接続されたスイッチング素子ＳＷ、スイッチング素子ＳＷに接続された画素電極ＰＥなどを備えている。液晶層ＬＱを介して画素電極ＰＥの各々と対向する対向電極ＣＥは、例えば対向基板ＣＴに備えられているが、アレイ基板ＡＲに備えられていても良い。
【００１３】
なお、表示パネルＰＮＬの詳細な構成については説明を省略するが、ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）モード、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ  Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｅｄ  Ｂｅｎｄ）モード、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌ  Ａｌｉｇｎｅｄ）モードなどの主として縦電界を利用するモードでは、画素電極ＰＥがアレイ基板ＡＲに備えられる一方で、対向電極ＣＥが対向基板ＣＴに備えられている。また、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ  Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）モード、ＦＦＳ（Ｆｒｉｎｇｅ  Ｆｉｅｌｄ  Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）モードなどの主として横電界を利用するモードでは、画素電極ＰＥ及び対向電極の双方がアレイ基板ＡＲに備えられている。
【００１４】
駆動ＩＣチップ２及びフレキシブル・プリンテッド・サーキット（ＦＰＣ）基板３などの表示パネルＰＮＬの駆動に必要な信号供給源は、アクティブエリアＡＣＴよりも外側の周辺エリアＰＲＰに実装されている。図示した例では、駆動ＩＣチップ２及びＦＰＣ基板３は、対向基板ＣＴの基板端部ＣＴＥよりも外側に延出したアレイ基板ＡＲの実装部ＭＴに実装されている。周辺エリアＰＲＰは、アクティブエリアＡＣＴを囲むエリアであり、シール材ＳＥが配置されるエリアを含み、矩形枠状に形成されている。なお、図示した表示パネルＰＮＬは、四角形状であり、実装部ＭＴを除く３辺については、アレイ基板ＡＲの基板端部と対向基板ＣＴの基板端部とが重なり、パネル端部を形成している。シール材ＳＥは、少なくとも実装部ＭＴを除く３辺については、パネル端部まで延在している。
【００１５】
図２は、図１に示した表示パネルＰＮＬの周辺エリアＰＲＰをＡ−Ｂ線で切断したときの構造の一例を概略的に示す断面図である。
【００１６】
アレイ基板ＡＲは、ガラス基板や樹脂基板などの透明な第１絶縁基板１０を用いて形成されている。アレイ基板ＡＲは、周辺エリアＰＲＰにおいては、第１絶縁基板１０の対向基板ＣＴに対向する側に、図示しない外周配線や、第１有機絶縁膜１１などを備えている。なお、図示しないが、アレイ基板ＡＲは、アクティブエリアＡＣＴにおいては、第１絶縁基板１０の対向基板ＣＴに対向する側に、スイッチング素子、画素電極、配向膜などを備えている。また、周辺エリアＰＲＰにおいて、第１絶縁基板１０と第１有機絶縁膜１１との間に他の絶縁膜が介在していても良い。
【００１７】
第１有機絶縁膜１１は、周辺エリアＰＲＰのみならずアクティブエリアＡＣＴにも延在している。第１有機絶縁膜１１は、周辺エリアＰＲＰにおいて、アクティブエリアＡＣＴに近接する側に第１セグメント１１Ａを有するとともに、アレイ基板ＡＲの基板端部１０Ｅに近接する側に第２セグメント１１Ｂを有している。第２セグメント１１Ｂは、基板端部１０Ｅまで延在している。図示した例では、第１有機絶縁膜１１において、第１セグメント１１Ａと第２セグメント１１Ｂとの間には、第１凹部１１Ｃが形成されている。第１セグメント１１Ａ及び第２セグメント１１Ｂは、それぞれ対向基板ＣＴに面して略平坦な第１表面１１Ｓを有している。第１凹部１１Ｃは、例えば第１絶縁基板１０まで貫通する深さを有している。このような有機絶縁膜１１は、例えば透明な樹脂材料によって形成されている。
【００１８】
一方、対向基板ＣＴは、ガラス基板や樹脂基板などの透明な第２絶縁基板２０を用いて形成されている。対向基板ＣＴは、周辺エリアＰＲＰにおいて、第２絶縁基板２０のアレイ基板ＡＲに対向する側に、周辺遮光層２１、周辺カラーフィルタ２２、第２有機絶縁膜２３などを備えている。なお、図示しないが、対向基板ＣＴは、アクティブエリアＡＣＴにおいては、ブラックマトリクス、カラーフィルタ層、配向膜などを備えている。
【００１９】
周辺遮光層２１は、第２絶縁基板２０のアレイ基板ＡＲと対向する側に形成され、周辺エリアＰＲＰの略全体に亘って延在している。つまり、周辺遮光層２１は、第１セグメント１１Ａ、第２セグメント１１Ｂ、及び、第１凹部１１Ｃのそれぞれの上方に位置し、途切れることなく連続的に形成され、対向基板ＣＴの基板端部２０Ｅまで延在している。周辺遮光層２１は、略一定の膜厚を有している。また、周辺遮光層２１は、アクティブエリアＡＣＴのブラックマトリクスと同一材料で形成され、ブラックマトリクスと繋がっている。このような周辺遮光層２１は、例えば、黒色に着色された樹脂材料や、クロム（Ｃｒ）などの遮光性の金属材料によって形成されている。
【００２０】
周辺カラーフィルタ２２は、周辺遮光層２１に積層されている。周辺カラーフィルタ２２は、周辺エリアＰＲＰにおいて、アクティブエリアＡＣＴに近接する側に第１セグメント２２Ａを有するとともに、基板端部２０Ｅに近接する側に第２セグメント２２Ｂを有している。第２セグメント２２Ｂは、基板端部２０Ｅまで延在している。図示した例では、周辺カラーフィルタ２２において、第１セグメント２２Ａと第２セグメント２２Ｂとの間には、第２凹部２２Ｃが形成されている。第２凹部２２Ｃは、例えば周辺遮光層２１まで貫通する深さを有している。第２凹部２２Ｃは、第１凹部１１Ｃと対向する位置に形成されている。この第２凹部２２Ｃの底部に相当する位置、つまり図示した例では周辺遮光層２１まで貫通した位置からアレイ基板ＡＲに向かうにしたがって次第に広がるように形成されている。つまり、第２凹部２２Ｃは、第１セグメント２２Ａの端部に位置する傾斜面２２ＡＳと、第２セグメント２２Ｂの端部に位置する傾斜面２２ＢＳとの間に形成されている。
【００２１】
第２有機絶縁膜２３は、周辺エリアＰＲＰのみならずアクティブエリアＡＣＴにも延在している。第２有機絶縁膜２３は、周辺エリアＰＲＰにおいて、周辺カラーフィルタ２２を覆うとともに、第２凹部２２Ｃも覆っている。つまり、第２有機絶縁膜２３は、第１セグメント２２Ａ及び第２セグメント２２Ｂに積層されるとともに、第２凹部２２Ｃから露出した周辺遮光層２１を覆っている。図示した例では、第２有機絶縁膜２３において、第２凹部２２Ｃを覆っている位置には、第３凹部２３Ｃが形成されている。第１セグメント２２Ａ及び第２セグメント２２Ｂに積層された第２有機絶縁膜２３は、略平坦な第２表面２３Ｓを有している。第２表面２３Ｓは、第１表面１１Ｓに対向している。第３凹部２３Ｃに着目すると、周辺遮光層２１を覆う底部に相当する位置からアレイ基板ＡＲに向かうにしたがって次第に広がるように形成されている。つまり、第３凹部２３Ｃは、傾斜面２２ＡＳを覆う傾斜面（緩斜面）２３ＡＳと、傾斜面２２ＢＳを覆う傾斜面（緩斜面）２３ＢＳとの間に形成されている。傾斜面２３ＡＳ及び傾斜面２３ＢＳは、第２表面２３Ｓから周辺遮光層２１に向かって傾斜している。このような第２有機絶縁膜２３は、例えば透明な樹脂材料によって形成されている。
【００２２】
表示パネルＰＮＬは、周辺エリアＰＲＰにおいて、さらに、第１スペーサＳＰ１及び第２スペーサＳＰ２を備えている。第１スペーサＳＰ１及び第２スペーサＳＰ２は、いずれも第１表面１１Ｓと第２表面２３Ｓとの間に介在している。第１スペーサＳＰ１はアクティブエリアＡＣＴに近接する側に位置し、第２スペーサＳＰ２は基板端部１０Ｅ及び基板端部２０Ｅの側に位置している。図示した例では、第１スペーサＳＰ１及び第２スペーサＳＰ２は、いずれもアレイ基板ＡＲに備えられ、第１有機絶縁膜１１の第１表面１１Ｓに形成されおり、対向基板ＣＴに向かって先細りとなるテーパー状に形成されている。第１スペーサＳＰ１の先端部は、第２表面２３Ｓに接触している。第２スペーサＳＰ２の先端部は、第２表面２３Ｓから離間している。なお、第１スペーサＳＰ１及び第２スペーサＳＰ２は、いずれも対向基板ＣＴに備えられていても良く、この場合には、第２有機絶縁膜２３の第２表面に形成され、アレイ基板ＡＲに向かって先細りとなるテーパー状に形成される。
【００２３】
アレイ基板ＡＲと対向基板ＣＴとを貼り合せるシール材ＳＥは、第１表面１１Ｓと第２表面２３Ｓとの間に介在している。また、シール材ＳＥは、第１凹部１１Ｃ及び第３凹部２３Ｃにも介在している。さらに、シール材ＳＥは、第２スペーサＳＰ２と第２表面２３Ｓとの間にも介在し、基板端部１０Ｅと基板端部２０Ｅとが重なる位置まで延在している。第１スペーサＳＰ１は、シール材ＳＥによって包囲されている。
【００２４】
液晶層ＬＱは、シール材ＳＥよりも内側（アクティブエリア側）に封入されている。
【００２５】
図３は、本実施形態の表示パネルＰＮＬにおけるシール材ＳＥと第１スペーサＳＰ１及び第２スペーサＳＰ２のレイアウトの一例を示す平面図である。ここでは、説明に必要な主要部のみを図示している。
【００２６】
シール材ＳＥは、アレイ基板ＡＲにおいて、実装部ＭＴを除く３辺については基板端部１０Ｅまで延在している。第１スペーサＳＰ１は、シール材ＳＥの内側に位置し、ドット状に形成されている。図示した例では、第１スペーサＳＰ１が２列に形成された場合を示しているが、第１スペーサＳＰ１のレイアウトについてはこの例に限らない。第２スペーサＳＰ２は、実装部ＭＴを除く３辺において、基板端部１０Ｅに沿って直線状に形成されている。図示した例では、第２スペーサＳＰ２が連続的に延出した矩形枠状に形成された場合を示しているが、第２スペーサＳＰ２の形状についてはこの例に限らない。
【００２７】
図４は、本実施形態の表示パネルＰＮＬにおける周辺カラーフィルタ２２のレイアウトの一例を示す平面図である。ここでは、説明に必要な主要部のみを図示している。
【００２８】
図示した例では、周辺カラーフィルタ２２の第１セグメント２２Ａ及び第２セグメント２２Ｂはいずれも、第１方向Ｘ及び第２方向Ｙにそれぞれ延出した直線状に形成されている。第１セグメント２２Ａは、長方形状のアクティブエリアＡＣＴを囲む矩形枠状に形成されている。第２セグメント２２Ｂは、第２凹部２２Ｃを挟んで第１セグメント２２Ａの外側に位置している。第２セグメント２２Ｂは、表示パネルＰＮＬの最外周（パネル端部）に位置している。なお、図示しないが、ドット状の第１スペーサＳＰ１は、第１セグメント２２Ａに重なる位置に点在している。また、直線状の第２スペーサＳＰ２は、第２セグメント２２Ｂに重なる位置に形成されている。ここに示した例では、第１セグメント２２Ａ及び第２セグメント２２Ｂは、それぞれ連続的に形成された枠状であるが、途中で途切れていても良い。
【００２９】
アクティブエリアＡＣＴに配置されるカラーフィルタは、赤色画素に対応して配置された赤色カラーフィルタＣＦＲ、緑色画素に対応して配置された緑色カラーフィルタＣＦＧ、及び、青色画素に対応して配置された青色カラーフィルタＣＦＢからなる。これらのカラーフィルタは、例えば、赤色、緑色、青色などにそれぞれ着色された樹脂材料によって形成されている。上記の周辺カラーフィルタ２２は、アクティブエリアＡＣＴに配置されるカラーフィルタ層のいずれかと同一材料で形成されている。本実施形態では、周辺カラーフィルタ２２は、例えば、青色カラーフィルタＣＦＢと同一材料で形成されている。
【００３０】
次に、上記の表示パネルＰＮＬの製造方法の一例について簡単に説明する。
【００３１】
まず、複数のアレイ基板ＡＲを一括して形成する第１マザー基板を用意する。第１マザー基板は、第１絶縁基板となる絶縁基板を用いて形成され、ゲート配線、ソース配線、スイッチング素子などの各種配線、有機絶縁膜などの各種絶縁膜、画素電極、配向膜、第１スペーサ、第２スペーサなどを備えている。
【００３２】
一方においては、複数の対向基板ＣＴを一括して形成する第２マザー基板を用意する。第２マザー基板は、第２絶縁基板となる絶縁基板を用いて形成され、ブラックマトリクス、周辺遮光層、周辺カラーフィルタ、カラーフィルタ層、第２有機絶縁膜、配向膜などを備えている。
【００３３】
続いて、第１マザー基板あるいは第２マザー基板の上において、アクティブエリアを各々囲むようにシール材を配置した後、シール材によって囲まれた内側に液晶材料を滴下し、第１マザー基板と第２マザー基板とを貼り合わせる。
【００３４】
その後、第１マザー基板と第２マザー基板との間に液晶層を形成したマザー基板対から表示パネルＰＮＬを取り出す。この工程では、第１マザー基板及び第２マザー基板の双方を割断線にてそれぞれ割断する。これにより、アレイ基板ＡＲと対向基板ＣＴとの間に液晶層ＬＱを保持した表示パネルＰＮＬが製造される。
【００３５】
本実施形態によれば、シール材ＳＥが配置される領域において、アレイ基板ＡＲには第１凹部１１Ｃが設けられ、対向基板ＣＴには第１凹部１１Ｃに対向する位置に第３凹部２３Ｃが設けられている。特に、第３凹部２３Ｃは、その底部からアレイ基板ＡＲに向かうにしたがって広がるような形状を有し、緩やかに傾斜した傾斜面２３ＡＳ及び２３ＢＳの間に規定されている。このため、シール材ＳＥがその幅方向に広がる際に、緩斜面である傾斜面２３ＡＳ及び２３ＢＳを伝わって基板端部１０Ｅ及び２０Ｅに向かって広がるため、シール材ＳＥが広がる際の抵抗を低減することが可能となる。したがって、シール材ＳＥが基板端部１０Ｅ及び２０Ｅまで延在しやすくなる。
【００３６】
特に、近年では、アクティブエリアＡＣＴから基板端部１０Ｅ及び２０Ｅまでの距離が短い狭額縁化の要求が高まっている。このため、シール材ＳＥの形成精度に起因した割断精度のバラツキが懸念されるが、本実施形態によれば、シール材ＳＥの広がり抵抗を低減したことにより、シール材ＳＥが基板端部１０Ｅ及び２０Ｅまで延在しやすくなるため、シール材ＳＥの形成精度のバラツキを低減することが可能となる。したがって、シール材ＳＥの形成精度に起因した割断精度のバラツキを低減することが可能となる。これにより、製造歩留まりの低下を抑制することが可能となる。
【００３７】
また、シール材ＳＥは、第１有機絶縁膜１１の第１表面１１Ｓと第２有機絶縁膜２３の第２表面２３Ｓとの間のみならず、第１凹部１１Ｃ及び第３凹部２３Ｃにも充填されるため、シール材ＳＥの塗布量を増やすことができ、また、シール材ＳＥが接触するアレイ基板表面の面積及び対向基板表面の面積を拡大することができる。このため、シール材ＳＥによるアレイ基板ＡＲと対向基板ＣＴとの接着力を向上することが可能となる。
【００３８】
以上説明したように、本実施形態によれば、製造歩留まりの低下を抑制することが可能な液晶表示装置を提供することができる。
【００３９】
なお、この発明は、上記実施形態そのものに限定されるものではなく、その実施の段階ではその要旨を逸脱しない範囲で構成要素を変形して具体化できる。また、上記実施形態に開示されている複数の構成要素の適宜な組み合せにより種々の発明を形成できる。例えば、実施形態に示される全構成要素から幾つかの構成要素を削除してもよい。更に、異なる実施形態に亘る構成要素を適宜組み合せてもよい。
【符号の説明】
【００４０】
ＰＮＬ…表示パネル  ＡＲ…アレイ基板  ＣＴ…対向基板  ＬＱ…液晶層
ＡＣＴ…アクティブエリア  ＰＸ…画素  ＰＲＰ…周辺エリア
ＰＥ…画素電極  ＣＥ…対向電極
１１…有機絶縁膜
１１Ａ…第１セグメント  １１Ｂ…第２セグメント  １１Ｃ…第１凹部
２１…周辺遮光層  ２２…周辺カラーフィルタ  ２３…第２有機絶縁膜
２２Ａ…第１セグメント  ２２Ｂ…第２セグメント
２２Ｃ…第２凹部  ２３Ｃ…第３凹部
ＳＰ１…第１スペーサ  ＳＰ２…第２スペーサ
ＳＥ…シール材
【図１】
2014197093.tif 000003
【図２】
2014197093.tif 000004
【図３】
2014197093.tif 000005
【図４】
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