(57)【要約】  真空装置（１）は、真空容器（２）と、ガス導入部（４）と、ヒータ（５）と、ガス排出部（６）と、真空ポンプ（７）とを備えている。そして、ガス導入部（４）の流入配管内のガスは、ヒータ（５）によって加熱されながら、真空容器（２）内に導入される。そして、真空容器（２）内のガスは、ガス排出部（６）から排出される。そして、真空容器（２）内のフライトチューブ（３）が加熱されて所定温度になった後、真空容器（２）内へのガスの導入が停止されて、第１バルブ（４３）及び第２バルブ（６２）が閉鎖される。次いで、真空ポンプ（７）が作動されて、真空容器（２）内が真空雰囲気になる。このように、真空装置（１）では、真空容器（２）内のフライトチューブ（３）の温度が高温になった後、真空容器（２）内が真空雰囲気になる。
2017002176.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
内部に部品を収容し、ガス流入口及びガス排出口が形成される真空容器と、
前記真空容器内の気体を吸引して前記真空容器内を真空雰囲気にする真空ポンプと、
前記ガス流入口から前記真空容器内に加熱されたガスを導入するガス導入部と、
加熱されたガスを前記ガス導入部によって前記ガス流入口から前記真空容器内に導入させながら前記ガス排出口から排出させることより、前記真空容器内の部品を加熱した後、前記ガス導入部によるガスの導入を停止し、その後、前記真空ポンプによって前記真空容器内を真空雰囲気にする制御部と、を備えることを特徴とする真空装置。
【請求項２】
前記ガス導入部には、ガスが通過する流路が形成されており、
前記真空容器を加熱するとともに、前記流路を通過するガスを加熱するヒータをさらに備えることを特徴とする請求項１に記載の真空装置。
【請求項３】
前記ガス導入部には、前記ガス排出口から排出されたガスを再度真空容器内に導入する流路が形成されており、
前記流路を通過するガスを加熱するヒータをさらに備えることを特徴とする請求項１に記載の真空装置。
【請求項４】
前記ヒータは、前記真空容器の外方に配置され、前記真空容器を加熱することを特徴とする請求項３に記載の真空装置。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか一項に記載の真空装置を備え、
前記真空容器内に試料を導入することにより、当該試料の分析を行うことを特徴とする分析装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、加熱対象の部品を収容する真空容器を備える真空装置、及び、これを備えた分析装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来から、内部に部品を収容する真空容器を備える真空装置が知られている。真空装置では、真空容器内が真空雰囲気にされた状態で、内部の部品が使用される。【０００３】
この種の真空装置を備えた分析装置として、内部にフライトチューブ（部品）を収容する真空チャンバー（真空容器）を備える質量分析装置が知られている（例えば、下記特許文献１参照）。【０００４】
この質量分析装置では、真空雰囲気となった真空チャンバー内にイオン化された試料が導入される。そして、このイオンは、フライトチューブに取り付けられた加速器によって射出され、フライトチューブ内を飛行する。このとき、イオンは、その質量に応じた飛行時間で、フライトチューブ内の検出器に到達する。これにより、質量分析装置において、連続的に得られる検出信号に基づいて、質量スペクトルが作成される。【０００５】
また、この質量分析装置では、通常、部品であるフライトチューブを一定温度に保ちながら、試料の分析が行われる。これにより、フライトチューブの膨張又は収縮を抑制して、分析において誤差が生じることを抑制している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特許第５５０５２２４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
上記のような従来の質量分析装置では、真空容器内を真空雰囲気にした後、フライトチューブを加熱してその温度を一定温度に到達させている。一方、真空容器内の気体が少なくなるにつれて、真空容器内の熱伝導率は低くなる。そのため、フライトチューブに対する熱の伝達速度が遅くなり、フライトチューブの温度を一定温度に到達させるまでの時間が長くなるという不具合がある。そして、その結果、分析処理を開始する時間が遅くなり、処理時間全体が長くなるという不具合がある。【０００８】
本発明は、上記実情に鑑みてなされたものであり、短時間で真空容器内の部品の温度を高温にできる真空装置、及び、これを備えた分析装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
（１）本発明に係る真空装置は、真空容器と、真空ポンプと、ガス導入部と、制御部とを備える。前記真空容器は、内部に部品を収容し、ガス流入口及びガス排出口が形成される。前記真空ポンプは、前記真空容器内の気体を吸引して前記真空容器内を真空雰囲気にする。前記ガス導入部は、前記ガス流入口から前記真空容器内に加熱されたガスを導入する。前記制御部は、加熱されたガスを前記ガス導入部によって前記ガス流入口から前記真空容器内に導入させながら前記ガス排出口から排出させることより、前記真空容器内の部品を加熱した後、前記ガス導入部によるガスの導入を停止し、その後、前記真空ポンプによって前記真空容器内を真空雰囲気にする。  
このような構成によれば、真空装置では、真空容器内の部品の温度が高温になった後、真空容器内が真空雰囲気になる。
そのため、真空容器内を真空雰囲気にした後、部品の温度を高温にする場合に比べて、短時間で部品の温度を高温にできる。
その結果、この真空装置を用いて分析処理を行う場合には、分析処理の開始時間を早めることができ、処理時間全体を短くできる。【００１０】
（２）また、前記ガス導入部には、ガスが通過する流路が形成されていてもよい。前記真空装置は、ヒータをさらに備えてもよい。前記ヒータは、前記真空容器を加熱するとともに、前記流路を通過するガスを加熱する。
このような構成によれば、真空容器を加熱するヒータが、ガス導入部の流路を通過するガスを加熱するヒータを兼ねる。
そのため、真空装置において、部品点数が増えることを抑制できる。
その結果、真空装置の小型化を図ることができる。【００１１】
（３）また、前記ガス導入部には、前記ガス排出口から排出されたガスを再度真空容器内に導入する流路が形成されていてもよい。前記真空装置は、ヒータをさらに備えてもよい。前記ヒータは、前記流路を通過するガスを加熱する。【００１２】
このような構成によれば、ガス排出口から排出されたガスは、ガス導入部の流路を通過して再度真空容器内に導入される。また、ガスは、ガス導入部の流路を通過する際にヒータによって加熱される。
そのため、高温のガスを循環させながら、真空容器内に導入できる。
その結果、ヒータから発せられる熱を効率的に利用して、部品の温度を高温にできる。【００１３】
（４）また、前記ヒータは、前記真空容器の外方に配置され、前記真空容器を加熱してもよい。
このような構成によれば、ガス導入部の流路を循環するガスを加熱するヒータが、真空容器を加熱するヒータを兼ねる。
そのため、真空装置において、部品点数が増えることを抑制できる。
その結果、真空装置の小型化を図ることができる。【００１４】
（５）本発明に係る分析装置は、前記真空装置を備える。前記分析装置は、前記真空容器内に試料を導入することにより、当該試料の分析を行う。
そのため、分析処理の開始時間を早めることができ、処理時間全体を短くできる。
【発明の効果】
【００１５】
本発明によれば、真空容器内の部品の温度が高温になった後、真空容器内が真空雰囲気になるため、短時間で部品の温度を高温にできる。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】本発明の第１実施形態に係る真空装置の構成例を示した概略図である。
【図２】図１の真空装置を用いた質量分析装置の具体的構成を示したブロック図である。
【図３】質量分析装置の制御部による処理の一例を示したフローチャートである。
【図４】本発明の第２実施形態に係る真空装置の構成例を示した概略図である。
【図５】本発明の第３実施形態に係る真空装置の構成例を示した概略図である。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
１．真空装置の全体構成
図１は、本発明の第１実施形態に係る真空装置１の構成例を示した概略図である。
【００１８】
真空装置１は、例えば、飛行時間型質量分析装置（ＴＯＦ−ＭＳ）に用いられる装置であって、真空容器２と、フライトチューブ３と、ガス導入部４と、ヒータ５と、ガス排出部６と、真空ポンプ７と、温度センサ８とを備えている。
真空容器２は、長尺状の中空形状に形成されている。真空容器２には、ガス流入口２１と、ガス排出口２２とが形成されている。
ガス流入口２１は、真空容器２の長手方向一端部に配置されている。ガス流入口２１は、真空容器２の外壁を貫通している。
【００１９】
ガス排出口２２は、真空容器２の長手方向他端部に配置されている。すなわち、ガス排出口２２は、真空容器２の長手方向において、ガス流入口２１と反対側に配置されている。ガス排出口２２は、真空容器２の外壁を貫通している。
【００２０】
フライトチューブ３は、真空容器２内に収容されている。フライトチューブ３は、長尺状の中空形状に形成されている。フライトチューブ３の内部空間は、飛行空間３１として形成されている。
【００２１】
ガス導入部４は、真空容器２内にガス（例えば、Ｎ２ガス）を導入するように構成されている。ガス導入部４は、流入配管４１と、送風機４２と、第１バルブ４３とを備えている。このガス導入部４としては、真空容器２内を真空状態から大気圧状態とするための機構を流用することができる。
【００２２】
流入配管４１は、その一端がガス流入口２１を覆うようにして真空容器２に接続されている。これにより、流入配管４１の内部空間と、真空容器２の内部空間とは、ガス流入口２１を介して連通している。また、流入配管４１の内部空間は、ガスが通過する流路として形成されている。流入配管４１の他端は、図示しないガス供給部に連通している。
送風機４２は、流入配管４１に取り付けられている。送風機４２は、例えば、ファン又はブロワなどにより構成されている。
【００２３】
第１バルブ４３は、流入配管４１に取り付けられており、かつ、送風機４２と、真空容器２との間に配置されている。第１バルブ４３が開放された状態で、送風機４２が作動すると、流入配管４１を介して真空容器２内にガスが流入する。
ヒータ５は、流入配管４１の外面に取り付けられている。ヒータ５は、送風機４２と、第１バルブ４３との間に配置されている。
ガス排出部６は、真空容器２内のガスを排出するように構成されている。ガス排出部６は、排出配管６１と、第２バルブ６２とを備えている。
【００２４】
排出配管６１は、その一端がガス排出口２２を覆うようにして真空容器２に接続されている。これにより、排出配管６１の内部空間と、真空容器２の内部空間とは、ガス排出口２２を介して連通している。また、排出配管６１の内部空間は、ガスが通過する流路として形成されている。
【００２５】
第２バルブ６２は、排出配管６１に取り付けられている。第２バルブ６２が開放された状態で、真空容器２内にガスが流入すると、そのガスは、真空容器２内を流れた後、排出配管６１を介して真空容器２外に排出される。
【００２６】
真空ポンプ７は、真空容器２に取り付けられている。真空ポンプ７は、真空容器２内の気体（ガス）を吸引して真空容器２内を真空雰囲気にする減圧機構を構成している。
【００２７】
温度センサ８は、真空容器２内に配置されており、フライトチューブ３の温度を検知する。
【００２８】
２．分析装置の具体的構成
図２は、真空装置１を用いた質量分析装置１１の具体的構成を示したブロック図である。
上記した真空装置１は、質量分析装置１１に含まれる。
【００２９】
質量分析装置１１は、上記したヒータ５、真空ポンプ７、温度センサ８、送風機４２、第１バルブ４３及び第２バルブ６２を備えており、さらに、温調部１２と、検出器１３と、制御部１４とを備えている。
温調部１２は、真空容器２（図１参照）の温度を一定温度に保つように構成されている。
【００３０】
検出器１３は、フライトチューブ３（図１参照）内に配置されている。検出器１３は、飛行空間３１（図１参照）を飛行するイオンを検出するように構成されている。また、検出器１３は、検出したイオンに応じた検出信号を出力する。
【００３１】
制御部１４は、例えば、ＣＰＵ（Central Processing Unit）を含む構成である。制御部１４は、検出器１３からの検出信号、及び、温度センサ８からの検出信号を受け取るとともに、ヒータ５、真空ポンプ７、送風機４２、第１バルブ４３、第２バルブ６２及び温調部１２を制御する。
【００３２】
質量分析装置１１では、図１に示すように、真空装置１において、真空容器２内が真空雰囲気となった状態で、試料の分析が行われる。具体的には、試料を分析する際は、まず、イオン化された試料が真空装置１のフライトチューブ３内に導入されるとともに、真空装置１において高電圧がかけられて、フライトチューブ３内に電場が形成される。フライトチューブ３の飛行空間３１においては、電場により加速されたイオンが、飛行空間３１内を飛行する。そして、そのイオンが、飛行空間３１を飛行する間に質量電荷比に応じて時間的に分離され、検出器１３（図２参照）により順次検出される。これにより、質量電荷比と、検出器１３における検出強度との関係がスペクトルとして測定され、質量分析が実現される。
【００３３】
３．質量分析装置における制御動作
図３は、質量分析装置１１の制御部１４による処理の一例を示したフローチャートである。
【００３４】
この例では、質量分析装置１１において、上記した質量分析に先立って、真空容器２内を真空雰囲気にするための処理が行われる。以下、当該処理について詳しく説明する。
【００３５】
質量分析装置１１では、図１に示すように、当初、第１バルブ４３及び第２バルブ６２は、それぞれ閉鎖されている。また、質量分析装置１１（図２参照）のフライトチューブ３の温度は、例えば、２０℃〜３０℃程度の常温である。
【００３６】
この状態から、ユーザが図示しない操作部を操作して分析処理の開始を要求すると、まず、制御部１４によって、第１バルブ４３が開放される（ステップＳ１０１）。
また、ヒータ５が作動されるとともに（ステップＳ１０２）、送風機４２が作動される（ステップＳ１０３）。さらに、温調部１２が作動される。
【００３７】
これにより、送風機４２によって、真空容器２に向かうようにガスが流入配管４１内を流れるともに、そのガスはヒータ５によって加熱される。すなわち、真空容器２内に高温のガスが流入する。真空容器２内に流入するガスの温度は、例えば、数十℃〜１００℃である。
そして、所定時間が経過するまでは、真空容器２内に高温のガスが溜められる（ステップＳ１０４でＮＯ）。
第１バルブ４３を開放してから所定時間が経過すると（ステップＳ１０４でＹＥＳ）、第２バルブ６２が開放される（ステップＳ１０５）。
【００３８】
これにより、ヒータ５によって加熱された高温のガスが、流入配管４１を流れてガス流入口２１を介して真空容器２内に導入され、真空容器２内を流れた後、ガス排出口２２を介して排出配管６１を流れて真空容器２外に排出される。
このようにして、真空容器２内を高温のガスが強制対流されて、フライトチューブ３が加熱される。
【００３９】
そして、温度センサ８が検知するフライトチューブ３の温度が、所定温度（例えば、４０℃）になると（ステップＳ１０６でＹＥＳ）、送風機４２の作動が停止されるとともに（ステップＳ１０７）、ヒータ５の作動が停止されて（ステップＳ１０８）、真空容器２内への高温のガスの導入が停止される。
次いで、第１バルブ４３及び第２バルブ６２のそれぞれが閉鎖される（ステップＳ１０９）。
なお、このとき、温調部１２は、作動される状態が維持される。これにより、真空容器２の温度が保たれ、真空容器２内のフライトチューブ３の温度が保たれる。
その後、真空ポンプ７が作動されて、真空容器２内が真空雰囲気となる（ステップＳ１１０）。
【００４０】
このように、質量分析装置１１では、質量分析に先立って、真空容器２内に高温のガスを強制対流させてフライトチューブ３が所定温度に到達した後、真空容器２内を真空雰囲気にする。
そして、真空容器２内が真空雰囲気になった状態で、質量分析装置１１において、質量分析が行われる。
【００４１】
４．作用効果
本実施形態では、図１に示すように、質量分析装置１１において、制御部１４は、ヒータ５によって加熱された高温のガスを、ガス流入口２１から真空容器２内に導入させながらガス排出口２２から排出させる。すなわち、制御部１４は、真空容器２内において高温のガスを強制対流させる。そして、制御部１４は、真空容器２内のフライトチューブ３が加熱されて所定温度になった後、真空容器２内への高温のガスの導入を停止して、第１バルブ４３及び第２バルブ６２を閉鎖する。次いで、制御部１４は、真空ポンプ７を作動させて真空容器２内を真空雰囲気にする。
そのため、質量分析装置１１では、真空容器２内のフライトチューブ３の温度が高温になった後、真空容器２内が真空雰囲気になる。
その結果、真空容器２内を真空雰囲気にした後、フライトチューブ３の温度を高温にする場合に比べて、短時間でフライトチューブ３の温度を高温にできる。
よって、質量分析装置１１における分析処理の開始時間を早めることができ、処理時間全体を短くできる。
【００４２】
なお、質量分析装置１１において、真空容器２のガス流入口２１の大きさ、及び、ガス排出口２２の大きさは、互いに同じ大きさであってもよいし、異なる大きさであってもよい。例えば、ガス流入口２１の大きさを、ガス排出口２２の大きさよりも大きくすれば、真空容器２内に高温のガスを効率よく溜めておくことができる。
【００４３】
５．第２実施形態
図４を参照して、本発明の第２実施形態を説明する。なお、以下において、上記した第１実施形態と同様の構成には同様の符号を付し、その説明を省略する。
（１）真空装置の全体構成
上記した第１実施形態では、真空容器２内に導入されるガスは、流入配管４１の外面に取り付けられたヒータ５によって加熱される。
対して、第２実施形態では、図４に示すように、真空容器２内に導入されるガスは、真空容器２の外面に取り付けられたヒータ７１によって加熱される。
詳しくは、第２実施形態では、真空装置１は、ヒータ５（図１参照）に代えて、ヒータ７１を備えおり、さらに、断熱材７２を備えている。
【００４４】
ヒータ７１は、真空容器２の外方に配置されている。ヒータ７１は、略筒形状に形成されており、真空容器２を覆うようにして、真空容器２の外面に取り付けられている。
【００４５】
また、第２実施形態において、流入配管４１の一部は、ヒータ７１の外側に巻かれるようにして、真空容器２及びヒータ７１の外方に配置されている。具体的には、流入配管４１における送風機４２が取り付けられる部分と第１バルブ４３が取り付けられる部分との間の部分は、ヒータ７１の外側に巻回されている。
断熱材７２は、流入配管４１におけるヒータ７１を巻回する部分の外方から真空容器２及びヒータ７１を覆っている。
断熱材７２及びヒータ７１は、温調部１２（図２参照）に含まれる。
質量分析装置１１では、質量分析に先立って、第１バルブ４３が開放された後に、ヒータ７１が作動されるとともに、送風機４２が作動される。
【００４６】
これにより、流入配管４１内の流路を通過するガスは、ヒータ７１によって加熱されて高温のガスとなった状態で、ガス流入口２１を介して真空容器２内に導入される。
【００４７】
真空容器２内のフライトチューブ３の温度が所定温度まで加熱されると、真空容器２内へのガスの導入が停止され、第１バルブ４３及び第２バルブ６２のそれぞれが閉鎖された状態において、ヒータ７１の作動は継続される。そして、ヒータ７１によって、真空容器２は温調され続ける。
これにより、ヒータ７１及び断熱材７２によって、真空容器２の温度が保たれ、真空容器２内のフライトチューブ３の温度が保たれる。
その後は、上記したように、真空ポンプ７によって真空容器２内が真空雰囲気にされた後、質量分析が行われる。
【００４８】
（２）第２実施形態の作用効果
本実施形態によれば、第１実施形態と同様の作用効果を得ることができる。
また、本実施形態では、図４に示すように、真空装置１は、ヒータ７１を備えている。ヒータ７１は、真空容器２を加熱するとともに、流入配管４１内の流路を通過するガスを加熱する。すなわち、真空容器２を温調するためのヒータ７１を用いて、流入配管４１内の流路を通過するガスが加熱される。
そのため、真空装置１において、部品点数が増えることを抑制できる。
その結果、真空装置１の小型化を図ることができる。
【００４９】
６．第３実施形態
図５を参照して、本発明の第３実施形態を説明する。なお、以下において、上記した第１実施形態と同様の構成には同様の符号を付し、その説明を省略する。
（１）真空装置の全体構成
上記した第１実施形態では、真空容器２内にガス流入口２１を介してガスが導入されるとともに、真空容器２内を流れたガスは、ガス排出口２２を介して真空容器２外に排出される。このように、第１実施形態では、真空容器２内には、常に新しいガスが導入される。
対して、第３実施形態では、真空容器２内には、循環するガスが導入される。
詳しくは、第３実施形態では、真空装置１において、ガス導入部４は、循環配管８１と、送風機８２とを備えている。
【００５０】
循環配管８１は、その一端が排出配管６１に接続されるとともに、その他端が流入配管４１に接続されている。これにより、循環配管８１の内部空間は、排出配管６１及び流入配管４１を介して、真空容器２内に連通している。循環配管８１の内部空間は、真空容器２内のガスが通過する流路として形成されている。
送風機８２は、循環配管８１に取り付けられている。送風機８２は、例えば、ファン又はブロワなどにより構成されている。
また、真空装置１は、ヒータ５（図１参照）に代えて、ヒータ８６を備えており、さらに、断熱材８７を備えている。  
【００５１】
ヒータ８６は、真空容器２の外方に配置されている。ヒータ８６は、略筒形状に形成されており、真空容器２を覆うようにして、真空容器２の外面に取り付けられている。
【００５２】
また、循環配管８１の一部は、ヒータ８６の外側に巻かれるようにして、真空容器２及びヒータ８６の外方に配置されている。具体的には、循環配管８１における送風機８２が取り付けられる部分と第１バルブ４３が取り付けられる部分との間の部分は、ヒータ８６の外側に巻回されている。
断熱材８７は、循環配管８１におけるヒータ８６を巻回する部分の外方から真空容器２及びヒータ８６を覆っている。
断熱材８７及びヒータ８６は、温調部１２（図２参照）に含まれる。
【００５３】
質量分析装置１１では、質量分析に先立って、第１バルブ４３及び第２バルブ６２が開放された後に、ヒータ８６が作動されるとともに、送風機８２が作動される。
【００５４】
これにより、真空容器２内のガスが、ガス排出口２２を介して循環配管８１内の流路を通過する。循環配管８１内の流路を通過するガスは、ヒータ８６によって加熱されて高温のガスとなった状態で、ガス流入口２１を介して真空容器２内に導入される。
このように、真空装置１では、真空容器２外に排出されたガスが、ヒータ８６によって加熱されながら、循環配管８１を介して、再度、真空容器２内に流入する。
【００５５】
真空容器２内のフライトチューブ３の温度が所定温度まで加熱されると、真空容器２内へのガスの導入が停止され、第１バルブ４３及び第２バルブ６２のそれぞれが閉鎖された状態において、ヒータ８６の作動は継続される。そして、ヒータ８６によって、真空容器２は温調され続ける。
これにより、ヒータ８６及び断熱材８７によって、真空容器２の温度が保たれ、真空容器２内のフライトチューブ３の温度が保たれる。
その後は、上記したように、真空ポンプ７によって真空容器２内が真空雰囲気にされた後、質量分析が行われる。
【００５６】
（２）第３実施形態の作用効果
本実施形態によれば、第１実施形態と同様の作用効果を得ることができる。
また、本実施形態では、図５に示すように、真空装置１は、循環配管８１及びヒータ８６を備えている。そして、ガス排出口２２から真空容器２外に排出されたガスは、循環配管８１内の流路を通過して、再度、真空容器２内に導入される。また、循環配管８１内の流路を通過するガスは、ヒータ８６によって加熱される。
そのため、高温のガスを循環させながら、真空容器２内に導入できる。
その結果、ヒータ８６から発せられる熱を効率的に利用して、フライトチューブ３の温度を高温にできる。
【００５７】
また、本実施形態では、図５に示すように、ヒータ８６は、真空容器２を加熱するとともに、循環配管８１内の流路を通過するガスを加熱する。すなわち、真空容器２を温調するためのヒータ８６を用いて、循環配管８１内の流路を通過するガスが加熱される。
そのため、真空装置１において、部品点数が増えることを抑制できる。
その結果、真空装置１の小型化を図ることができる。
【００５８】
７．変形例
以上の実施形態では、真空装置１は、質量分析装置１１に用いられるとして説明したが、真空装置１は、質量分析装置以外の分析装置に用いることもできるし、分析装置以外の各種装置にも用いることができる。この場合、真空容器２内に収容される加熱対象の部品は、フライトチューブ３に限らず、いかなる部品であってもよい。
また、以上の実施形態では、真空容器２内には、例えば、Ｎ２ガスが導入されるとして説明したが、真空容器２内に導入される加熱されたガスは、Ｎ２ガスに限らず、空気などの他のガスであってもよい。
【００５９】
また、以上の実施形態では、真空装置１において、第１バルブ４３を開放してから所定時間経過した後に第２バルブ６２を開放するとして説明したが、第２バルブ６２を開放するタイミングはこれに限られない。すなわち、第２バルブ６２を開放するタイミングは、フライトチューブ３が所定温度に到達したときであってもよいし、第１バルブ４３を開放するときと同時であってもよい。
【００６０】
また、以上の実施形態では、フライトチューブ３の温度が所定温度に到達した後に、第１バルブ４３及び第２バルブ６２のそれぞれを閉鎖するとして説明したが、第１バルブ４３及び第２バルブ６２のそれぞれを閉鎖するタイミングはこれに限られない。すなわち、第１バルブ４３及び第２バルブ６２のそれぞれを閉鎖するタイミングは、第１バルブ４３を開放してから所定時間経過したときであってもよい。
【符号の説明】
【００６１】
１    真空装置
２    真空容器
３    フライトチューブ
４    ガス導入部
７    真空ポンプ
１１    質量分析装置
１４    制御部
２１    ガス流入口
２２    ガス排出口
７１    ヒータ
８６    ヒータ
【図１】
2017002176.tif 000003
【図２】
2017002176.tif 000004
【図３】
2017002176.tif 000005
【図４】
2017002176.tif 000006
【図５】
2017002176.tif 000007
【手続補正書】
【提出日】平成29年12月28日(2017.12.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
内部にフライトチューブを収容し、ガス流入口及びガス排出口が形成される真空容器と、
前記真空容器内の気体を吸引して前記真空容器内を真空雰囲気にする真空ポンプと、
前記ガス流入口から前記真空容器内に加熱されたガスを導入するガス導入部と、
加熱されたガスを前記ガス導入部によって前記ガス流入口から前記真空容器内に導入させながら前記ガス排出口から排出させることより、前記真空容器内の前記フライトチューブを加熱した後、前記ガス導入部によるガスの導入を停止し、その後、前記真空ポンプによって前記真空容器内を真空雰囲気にする制御部と、を備えることを特徴とする飛行時間型質量分析装置。
【請求項２】
前記ガス導入部には、ガスが通過する流路が形成されており、
前記真空容器を加熱するとともに、前記流路を通過するガスを加熱するヒータをさらに備えることを特徴とする請求項１に記載の飛行時間型質量分析装置。
【請求項３】
前記ガス導入部には、前記ガス排出口から排出されたガスを再度真空容器内に導入する流路が形成されており、
前記流路を通過するガスを加熱するヒータをさらに備えることを特徴とする請求項１に記載の飛行時間型質量分析装置。
【請求項４】
前記ヒータは、前記真空容器の外方に配置され、前記真空容器を加熱することを特徴とする請求項３に記載の飛行時間型質量分析装置。
【請求項５】
前記ガス排出口から前記真空容器内のガスを排出するガス排出部をさらに備え、
前記ガス導入部は、
前記ガス流入口を覆うようにして前記真空容器に接続される流入配管と、
前記流入配管に設けれる第１バルブとを備え、
前記ガス排出部は、
前記ガス排出口を覆うようにして前記真空容器に接続される排出配管と、
前記排出配管に設けられる第２バルブとを備え、
前記制御部は、前記第２バルブを閉鎖した状態で前記第１バルブを開放することにより、加熱されたガスを前記真空容器内に溜め、その後、所定時間が経過した後に、前記第２バルブを開放することにより、前記真空容器内のガスを外部に排出させることを特徴とする請求項１に記載の飛行時間型質量分析装置。
【国際調査報告】
2017002176.tif 000008
2017002176.tif 000009
2017002176.tif 000010
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