(57)【要約】【課題】本発明は、上記事情に鑑みて為されたものであり、その目的は、基板搬送機構から基板を脱落させずに、基板を往復運動させることができる基板搬送機構を提供することにある。【解決手段】本発明に係る露光用基板搬送装置１は、空気の吹き出しにて基板２を浮上させながら搬送する基板浮上機構３と、基板浮上機構３の側面からはみ出した基板２の片端部及び両端部を固定する基板把持機構５と、基板浮上機構３及の側面と隣接して設けられ、基板把持機構５を介して基板２を正負のＸ軸に沿った方向に往復運動する基板搬送機構６と、を備えることを特徴とする露光用基板搬送装置。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板の片端部もしくは両端部を把持する基板把持機構と、
前記基板把持機構を移動させる基板移動機構と、
前記基板を浮上させる媒質を発生させる複数の基板浮上機構と、
を備え、
前記基板が媒質によって浮上され、かつ、前記基板移動機構が前記把持機構を往復運動させることを特徴とする露光用基板搬送装置。
【請求項２】
前記隣接する基板浮上機構の高さを段々低くすることを特徴とする請求項１の露光装置用基板搬送装置。
【請求項３】
前記基板浮上機構の表面に傾斜を設けることを特徴とする請求項１の露光用基板搬送装置。
【請求項４】
前記基板浮上機構の隣に補機が設けられていることを特徴とする請求項１から請求項３の露光装置用基板搬送装置。
【請求項５】
前記基板を前記基板浮上機構から吹き出される前記媒質によって浮上させることを特徴とする請求項１から請求項４の露光装置用基板搬送装置。
【請求項６】
前記基板浮上機構を振動させて超音波の振動数にした媒質によって基板を浮上させることを特徴とする請求項１から請求項４の露光装置用基板搬送装置。
【請求項７】
前記補機がローラまたは空気ノズルであることを特徴とする請求項４の露光装置用基板搬送装置。
【請求項８】
前記媒質が気体であることを特徴とする請求項１から請求項６の露光装置用基板搬送装置。
【請求項９】
前記気体が空気であることを特徴とする請求項８の露光装置用基板搬送装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、露光装置用基板搬送機構に関し、例えば、液晶ディスプレイやプラズマディスプレイ等の大型のフラットパネルディスプレイの基板上にマスクのパターンを露光転写するのに好適な露光装置用基板搬送機構に関する。
【背景技術】
【０００２】
大型の薄形テレビ等に用いられる液晶ディスプレイやプラズマディスプレイ等の大型のフラットパネルディスプレイは、基板をマスクに近接させて、基板上にマスクのパターンを分割逐次露光方式で露光転写することで製造される。従来のこの種の分割逐次露光装置としては、例えば、被露光材としての基板より小さいマスクを用い、該マスクをマスクステージで保持すると共に基板をワークステージで保持して両者を近接して対向配置し、この状態でワークステージをマスクに対してステップ移動させて各ステップ毎にマスク側から基板にパターン露光用の光を照射することにより、マスクに描かれた複数のマスクパターンを基板上に露光転写して一枚の基板に複数のディスプレイ等を作成するようにしたものが知られている。特に、特許文献１の技術では、基板に対して、それより小型のマスクと光源とを同期して移動させることで、大型の基板にマスクのパターンを露光できるようになっている。
【０００３】
ところで、近接露光には、マスクを基板と同じ大きさにして一括で露光する方式があるが、このような方式では、大型基板上にマスクのパターンを露光転写する場合にマスクが大型化し、マスクの撓みによるパターン精度への影響やコスト面等で問題が生じる。このような事情から、従来においては、大型基板上にマスクのパターンを露光転写する場合には、基板より小さいマスクを用い、ワークステージをマスクに対してステップ移動させてステップ毎にマスクを基板に近接配置した状態でパターン露光光を照射し、これにより、マスクに描かれた複数のパターンを基板上に露光転写する、所謂ステップ式の近接露光方式が用いられる場合がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
特開平１１−２３７７４４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
このような露光装置において、露光用基板搬送機構には、基板リフトピンなどが取り付けられている。
【０００６】
ところで、近年の基板の大型化に伴い、基板を隣接するリフトピンに渡す際に、基板を基板搬送機構に接触させ、基板を破損する恐れがある。
【０００７】
本発明は、上記事情に鑑みて為されたものであり、その目的は、基板搬送機構に接触させずに、基板を往復運動させることができる露光用基板搬送装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の上記目的は、下記の構成により達成される。
（１）基板の片端部もしくは両端部を把持する基板把持機構と、
前記基板把持機構を移動させる基板移動機構と、
前記基板を浮上させる基板浮上機構と、
を備え、
前記基板が媒質によって浮上され、かつ、前記基板移動機構が前記把持機構を往復運動させることを特徴とする露光用基板搬送装置。
（２）前記隣接する基板浮上機構の高さを段々低くすることを特徴とする（１）の露光装置用基板搬送装置。
（３）前記基板浮上機構の表面に傾斜を設けていることを特徴とする（１）の露光用基板搬送装置。
（４）前記基板浮上機構の隣に補機が設けられていることを特徴とする（１）から（３）の露光装置用基板搬送装置。
（５）前記基板を前記基板浮上機構から吹き出される前記媒質によって浮上させることを特徴とする（１）から（４）の露光装置用基板搬送装置。
（６）前記基板浮上機構を振動させて発生した超音波によって、基板を浮上させることを特徴とする（１）から（４）の露光装置用基板搬送装置。
（７）前記補機がローラまたは空気ノズルであることを特徴とする（４）の露光装置用基板搬送装置。
（８）前記媒質が気体であることを特徴とする（１）から（６）の露光装置用基板搬送装置。
（９）前記気体が空気であることを特徴とする（８）の露光装置用基板搬送装置。
【発明の効果】
【０００９】
本発明は、上記事情に鑑みて為されたものであり、その目的は、露光用基板搬送機構に基板を接触させないために、基板を媒質によって浮上させ、基板の端部を少なくとも１箇所以上を把持する把持手段を往復運動させる基板搬送機構を提供することにある。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】本発明の基板把持機構を使用した露光用基板搬送装置の実施例を示す概略斜視図。
【図２】図２（ａ）は露光用基板搬送装置の基板浮上機構の第一実施形態を示した断面模式図。図２（ｂ）は基板浮上機構の第一実施形態の変形例を示した断面模式図。
【図３】図３（ａ）と図３（ｂ）とは第１実施形態における露光用基板搬送装置の具体的な浮上状態を示した説明図である。図３（ｃ）と図３（ｄ）とは第１実施形態の変形例における露光用基板搬送装置の具体的な浮上状態を示した説明図である。
【図４】図４（ａ）は露光用基板搬送装置の基板浮上機構の第２実施形態を示した断面模式図。図４（ｂ）は基板浮上機構の第２実施形態の変形例を示した断面模式図。
【図５】図５（ａ）と図５（ｂ）とは第２実施形態における露光用基板搬送装置の具体的な浮上状態を示した説明図である。図５（ｃ）と図５（ｄ）とは第２実施形態の変形例における露光用基板搬送装置の具体的な浮上状態を示した説明図である。
【図６】図６（ａ）は露光用基板搬送装置の基板浮上機構の第３実施形態を示した断面模式図。図６（ｂ）は基板浮上機構の第３実施形態の変形例を示した断面模式図。
【図７】図７（ａ）と図７（ｂ）とは第３実施形態における露光用基板搬送装置の具体的な浮上状態を示した説明図である。図７（ｃ）と図７（ｄ）とは第３実施形態の変形例における露光用基板搬送装置の具体的な浮上状態を示した説明図である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
（第１実施形態）
以下、本発明の実施形態である基板把持構成を有する露光用基板搬送装置について図面に基づいて説明する。図１は露光用基板搬送装置の構成図である。
図２は露光用基板搬送装置の基板浮上機構を示した断面模式図。図３は搬送中の基板の具体的な浮上状態を示した説明図である。
【００１２】
本発明に係る露光用基板搬送装置１は、空気の吹き出しにて基板２を浮上させながら搬送する基板浮上機構３と、基板浮上機構３の側面からはみ出した基板２の片端部及び両端部を固定する基板把持機構５と、基板浮上機構３との側面と隣接して設けられ、基板把持機構５を介して基板２を正負のＸ軸方向に往復運動する基板搬送機構６と、を備える。
【００１３】
次に基板浮上機構３の構造について図２（ａ）を使用して説明する。なお、図２（ａ）は基板浮上機構３の断面模式図である。
【００１４】
本発明の露光用基板搬送装置１における基板浮上機構３は、矩形状の中空構造体であり、基板２と対向する基板浮上機構３の表面３ａから空気を吹き出すことによって、基板２を浮上させる事が可能となる。
【００１５】
本発明の露光用基板搬送装置１における基板搬送機構６は、図１に示すように、基板浮上機構３の片側もしくは両側に隣接して設けられ、Ｘ軸方向に沿って基板２をムラ無く一定速度で搬送する一軸の搬送機構である。例えば、リニアモーターとリニアガイドの組み合わせが適している。
しかしながら今後検査の要求精度が上がり超高分解能の検査機等に本搬送装置を適用させる場合などは、コアレスタイプのリニアモーターに空気浮上ガイド等を組み合わせいくことも考えられる。
【００１６】
また、図２（ｂ）に示すように、第１実施形態の変形例として、基搬送浮上機構３の表面３ａから空気を吹き出す代わりに、基搬送浮上機構３をＺ軸方向に空気を振動させることにより発生した超音波によって、基板２を浮上させても良い。
【００１７】
また、図３（ａ）に示すように、基板浮上機構３の表面３ａから吹き出される空気によって浮上した基板２が正のＸ軸方向に搬送される。基板浮上機構３と隣接する浮上機構３の間は、空気が吹き出していないため、基板２の先端部２ａは撓む。撓んだ基板２の先端部２ａは、隣接する基板浮上機構３の表面３a上に搬送される。図３（ｂ）に示すように、基板浮上機構３の表面３ａから吹き出される空気は、撓んだ基板２の先端部２ａを持ち上げる。そのため、基板２は平坦度を保ち浮上しながら、基板２は搬送させることができる。基板２を把持した基板把持機構５が正負のＸ軸方向に往復運動することができるため、正負のＸ軸方向に基板２を往復搬送させることができる。
【００１８】
また、図３（ｃ）に示すように、基搬送浮上機構３をＺ軸方向に振動させることによって発生した超音波は、基板２を浮上させ搬送することができる。基板浮上機構３と隣接する浮上機構３の間は、超音波が発生していないため、基板２の先端部２ａは撓む。垂れた基板２の先端部２ａは、隣接する基板浮上機構３の表面３a上に搬送される。図３（ｄ）に示すように、基搬送浮上機構３をＺ軸方向に振動させることによって発生した超音波は、撓んだ基板２の先端部２ａを持ち上げる。そのため、基板２の平坦度を保ちながら浮上して、基板２を搬送させることができる。基板２を把持した基板把持機構５が正負のＸ軸方向に往復運動することができるため、正負のＸ軸方向に基板２を往復搬送させることができる。
【００１９】
（第２実施形態）
次に、露光用基板搬送装置の第２実施形態について図４を参照して説明する。なお、第１実施形態と同一または同等部分については同一符号又は相当符号を付して、説明を簡略化又は省略する。
図３（ａ）または図３（ｃ）に示すように、浮上量が少ない場合は基板２の先端部２ａが垂れることによって、基板２の先端部２ａが基板浮上機構３の表面３ａまたは縁３ｂなどに接触する恐れがある。
【００２０】
図４（ａ）に示すように、このような接触を回避するため、正のＸ軸方向へ隣接する基板浮上機構３の高さを段々と低くする。それにより、基板把持機構５（図１）を正のＸ軸方向に運動させると、基板２の先端部２ａが隣接する基板浮上機構３の表面３ａまたは縁３ｂなどに接触する恐れがない。
【００２１】
基板２の先端部２ａの撓み量を考慮せずに基板２を浮上させることができるので、不図示の浮上制御部で消費する電力量を減らすことが出来る。そのため、基板２を浮上させるために吹き出される空気量を少なくして、消費電力量を減らすことができる。
【００２２】
また、図４（ｂ）に示すように、第２実施例の変形例として、基搬送浮上機構３の表面３ａから空気を吹き出す代わりに、基搬送浮上機構３をＺ軸方向に空気を振動させることにより発生した超音波によって、基板２を浮上させても良い。
【００２３】
また、図５（ａ）に示すように、基板２を負のＸ軸方向へ搬送するとき、基板２の先端部２ａが隣接する基板浮上機構３の表面３ａまたは縁３ｂなどに接触する恐れがある。このような接触を回避するため、隣接する基板浮上機構３の間に、ノズル４ｂ（補機４）を備える。基板２の先端部２aが上空にある時だけノズル４ｂから空気を吹き出す。吹き出された空気は、基板２の先端部２ａを持ち上げる。そのため、基板２の先端部２ａは隣接する基板浮上機構３の表面３ａまたは縁３ｂなどに接触することなく、基板２を負のＸ軸方向へも搬送することができる。
【００２４】
また、図５（ｂ）に示すように、基板２を負のＸ軸方向へ搬送するとき、基板２の先端部２ａが撓んだ隣接する基板浮上機構３の表面３ａまたは縁３ｂなどに接触する恐れがある。このような接触を回避するため、隣接する基板浮上機構３の間に、ローラ４ａ（補機４）を備える。基板２の先端部が隣接する基板浮上機構３の間に搬送されたとき、ローラ４ａはＺ軸方向に上昇して基板２の先端部２ａを持ち上げる。そのため、基板２の先端部２ａは隣接する基板浮上機構３の表面３ａまたは縁３ｂなどに接触することなく、基板２を搬送することができる。
【００２５】
また、図５(ｃ)及び図５（ｄ）に示すように、基搬送浮上機構３をＺ軸方向に空気を振動させることにより発生した超音波によって、基板２を浮上させたときも、補機４（ローラ４ａ、ノズル４ｂ）により、基板２の先端部２ａは隣接する基板浮上機構３の表面３ａまたは縁３ｂなどに接触することなく、基板２を搬送することができる。
【００２６】
（第３実施形態）
次に、露光用基板搬送装置の第３実施形態について図６を参照して説明する。なお、第１実施形態と同一または同等部分については同一符号又は相当符号を付して、説明を簡略化又は省略する。
図４（ａ）または図４（ｃ）に示すように、正のＸ軸方向へ隣接する基板浮上機構３の高さを段々と低くする。これにより、基板２が基板浮上機構３の高さに合わせて正のＸ軸方向へ搬送される。そのため、隣接する基板浮上機構３の高さは異なるので、基板２の先端部２ａが隣接する基板浮上機構３の表面３ａまたは縁３ｂなどに接触する恐れがある。
【００２７】
このような接触を回避するため、図６（ａ）に示すように、表面３ａに傾斜を設ける。それにより、基板把持機構５を正のＸ軸方向に運動させても、基板２の搬送高さを変化させることなく、基板２の先端部２ａが基板浮上機構３の表面３ａまたは縁３ｂなどに接触する恐れを無くすことができる。
【００２８】
また、図６(ｂ)に示すように、基搬送浮上機構３をZ軸方向に超音波の振動数で空気を振動させて、基板２を浮上させ、基板２の先端部２ａは隣接する基板浮上機構３の表面３ａまたは縁３ｂなどに接触することなく、基板２を搬送することができる。
【００２９】
また、図7(ａ)及び図７（ｂ）に示すように基板把持機構５（図１）を負のＸ軸方向へ運動するときに、基板２の先端部２ａが、隣接する基板浮上機構３の表面３ａまたは縁３ｂなどに接触するのを回避するため、隣接する基板浮上機構３の間に、補機４を備える。
【００３０】
また、図７(ｃ)及び図７（ｄ）に示すように、基搬送浮上機構３を、Ｘ軸方向に超音波の振動数で空気を振動させて、基板２を浮上させたときも、補機４（ローラ４ａ、ノズル４ｂ）は、基搬送浮上機構３の表面３ａから空気を吹き出して、基板２を浮上させたときと同様の効果を生じる。
【００３１】
本実施形態に限らず補機４（ローラ４ａ、ノズル４ｂ）の配置は適宜変更が可能である。また、本実子形態において流体よりも気体である空気を媒質としたが、不図示の露光照射装置にて、基板２に波長が２００ｎｍ以下の紫外線を利用する場合には、空気中の酸素が紫外線と化学反応を起こしてオゾンが発生するおそれがある。そのため、オゾンを除去する設備を備える必要がある。媒質を窒素、アルゴン、ヘリウムのような不活性な気体にすることによって、オゾンを除去する設備を備えることなしに、オゾンを除去することができる。コストを考慮すれば、媒質としては窒素がよい。
【符号の説明】
【００３２】
１・・・露光用基板搬送装置
２・・・基板
３・・・基板浮上機構
３ａ・・・（基板浮上機構）の表面
３ｂ・・・（基板浮上機構）の縁
４・・・補機
４ａ・・・ローラ
４ｂ・・・ノズル
５・・・基板把持機構
６・・・基板搬送機構
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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