(57)【要約】  本発明の課題は、光透過性を有する有機ＥＬ素子より構成され、複数の分割された発光エリアより構成される広い発光面積を有し、輝度均一性及び安定性が向上した有機ＥＬパネルとその製造方法を提供することである。  本発明の有機ＥＬパネルは、非発光時の波長５５０ｎｍにおける光透過率が５０％以上である有機ＥＬ素子を有し、当該有機ＥＬ素子は、基材上に、少なくとも陽極、有機機能層ユニット及び陰極より構成される発光エリアが、複数に分割されており、前記発光エリアを構成する前記陽極及び前記陰極が、いずれも光透過性を有する電極で構成され、前記陰極が、前記陽極上に設けたセパレーターにより分離した構成であり、かつ、分割されている一方の発光エリアを構成する陽極が、隣接する他方の発光エリアを構成する陰極と、直列に電気的に接続されていることを特徴とする。
2017056684.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
非発光時の波長５５０ｎｍにおける光透過率が５０％以上である有機エレクトロルミネッセンス素子を有する有機エレクトロルミネッセンスパネルであって、
前記有機エレクトロルミネッセンス素子は、基材上に、少なくとも陽極、有機機能層ユニット及び陰極より構成される発光エリアが、複数に分割されており、
前記発光エリアを構成する前記陽極及び前記陰極が、いずれも光透過性を有する電極で構成され、
前記陰極が、前記陽極上に設けたセパレーターにより分離した構成であり、
かつ、分割されている一方の発光エリアを構成する陽極が、隣接する他方の発光エリアを構成する陰極と、直列に電気的に接続されていることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンスパネル。
【請求項２】
前記陽極と前記セパレーターとの間に、絶縁層を有することを特徴とする請求項１に記載の有機エレクトロルミネッセンスパネル。
【請求項３】
前記基材が、光透過性を有するガラス基材又はフレキシブル性樹脂基材であることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の有機エレクトロルミネッセンスパネル。
【請求項４】
前記フレキシブル性樹脂基材が、ガスバリアー層を有していることを特徴とする請求項３に記載の有機エレクトロルミネッセンスパネル。
【請求項５】
前記光透過性を有する陽極が、酸化物半導体又は薄膜の金属若しくは合金で構成されていることを特徴とする請求項１から請求項４までのいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンスパネル。
【請求項６】
前記光透過性を有する陰極が、少なくとも薄膜の金属又は合金で構成されていることを特徴とする請求項１から請求項５までのいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンスパネル。
【請求項７】
前記光透過性を有する陰極が、含窒素化合物を用いて構成された下地層と、当該下地層上に、銀又は銀を主成分とした合金で構成されている電極層を有する構成であることを特徴とする請求項１から請求項６までのいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンスパネル。
【請求項８】
前記有機エレクトロルミネッセンスパネルと外部電極との接続部は、導電性接着剤により電気的接続されていることを特徴とする請求項１から請求項７までのいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンスパネル。
【請求項９】
前記複数の有機エレクトロルミネッセンス素子が、ガスバリアー層を有するフレキシブル性樹脂部材により封止されていることを特徴とする請求項１から請求項８までのいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンスパネル。
【請求項１０】
前記複数の発光エリアが、前記セパレーターにより分離され、ストライプ状に並列配置されていることを特徴とする請求項１から請求項９までのいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンスパネル。
【請求項１１】
前記外部電極は、光透過性を有するフレキシブルプリント回路から構成されることを特徴とする請求項８から請求項１０までのいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンスパネル。
【請求項１２】
請求項１から請求項１１までのいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンスパネルを製造する有機エレクトロルミネッセンスパネルの製造方法であって、
非発光時の波長５５０ｎｍにおける光透過率が５０％以上である有機エレクトロルミネッセンス素子を有し、
当該有機エレクトロルミネッセンス素子において、基材上に、少なくとも陽極、有機機能層ユニット及び陰極より構成される発光エリアを、複数に分割して形成し、
前記陰極を、前記陽極上に設けたセパレーターにより分離したパターンを形成し、
分割されている一方の発光エリアを構成する陽極を、隣接する他方の発光エリアを構成する陰極と、直列に電気的に接続し、
かつ、前記陽極、陰極及びセパレーターを、フォトリソグラフィー法により形成することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンスパネルの製造方法。
【請求項１３】
前記陽極と前記セパレーターとの間に、フォトリソグラフィー法を用いて絶縁層を形成することを特徴とする請求項１２に記載の有機エレクトロルミネッセンスパネルの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、各種表示装置（以下、「ディスプレイ」ともいう。）及び照明装置等に適用される光透過性を有する有機エレクトロルミネッセンスパネルとその製造方法に関し、更に詳しくは、本発明は、光透過性を有する有機エレクトロルミネッセンス素子より構成される発光エリアを複数個配置し、広い発光面積で、輝度均一性及び安定性が向上した有機エレクトロルミネッセンスパネルとその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
有機材料のエレクトロルミネッセンス（ｅｌｅｃｔｒｏ  ｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ：以下、「ＥＬ」と略記する。）を利用した有機エレクトロルミネッセンスＬ素子（以下、「有機ＥＬ素子」と略記する。）は、数Ｖ〜数十Ｖ程度の低電圧で発光が可能な薄膜型の完全固体素子であり、高輝度、高発光効率、薄型、軽量といった多くの優れた特徴を有する。このため、有機ＥＬ素子は、各種ディスプレイのバックライト、スマートデバイス、照明光源等の面発光体として近年注目されている。【０００３】
このような有機ＥＬ素子は、２枚の対向する電極間に有機材料からなる発光層を挟持させた構成であり、発光層で生じた発光光は電極を透過して外部に取り出される。このため、２枚の電極のうちの少なくとも一方は光透過性を有する電極（以下、透明電極ともいう。）として構成される。【０００４】
光透過性を有する電極としては、酸化インジウム・スズ（ＳｎＯ２−Ｉｎ２Ｏ３：Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ、以下、「ＩＴＯ」と略記する。）等の酸化物半導体系の材料が一般的に用いられている。【０００５】
また、有機エレクトロルミネッセンス素子を用いたディスプレイにおいて、その適用分野を拡大させる観点より、両面発光型の光透過性を有する有機エレクトロルミネッセンス素子の検討が、例えば、特表２００８−５２４８１９号公報、特開２０１３−００４２４５号公報、特開２０１３−２４２９９８号公報等で開示されている。【０００６】
このような両面発光型の有機エレクトロルミネッセンス素子においては、発光層を挟んで、陽極及び陰極の両極が光透過性を有する透明電極対で構成されており、このような光透過性を有する電極としては、前述のとおりＩＴＯを用いることが一般的であったが、ＩＴＯは仕事関数が大きいため、陽極としての性能には優れるが、陰極としての性能が劣る傾向にあった。このため、両面に光透過性を有する電極を用いる光透過性を有するディスプレイ用の電極としては、現状技術で高い性能を得るためには、陽極、陰極共にＩＴＯ−ＩＴＯの電極を用いるのではなく、陽極ＩＴＯ−陰極アルミニウム等の電極を用い、陰極の面積をできるだけ小さくすることで発光部とシースルー部分（光透過部）を設ける光透過性を有するディスプレイが開示されている（例えば、特許文献１参照。）。また、陰極として電気伝導率の高い銀や銀とアルミニウムの合金を用いて構成された光透過性を有する電極が知られているが、光透過性の有機エレクトロルミネッセンス素子においては、陽極及び陰極に用いる薄膜金属層や酸化物半導体の多くは、抵抗値が高く、電圧降下が大きく、特に、発光効率を向上させるために、光透過性を有する電極を薄膜化した場合や、素子の発光面積を大面積化した場合にはシート抵抗値が大きくなり、輝度均一性が大きく低下するという問題を抱えており、将来の大面積化や高輝度化を目指した有機エレクトロルミネッセンス素子の開発に対し大きな障害になっている。【０００７】
有機エレクトロルミネッセンス素子の大型化により、発光層の各位置において、電流密度を面方向で均一化することが困難となり、その結果、輝度ムラ、素子寿命差あるいは色度ムラが生じる要因としては、以下のような現象が推測される。【０００８】
大面積化に伴う輝度ムラの発生要因としては、発光画面を大型化することで、画面内で電流が多く流れる箇所と少なくしか流れない箇所とが存在するため、有機ＥＬ素子全体として輝度ムラが生じる。有機ＥＬ素子の輝度は、流れる電流が大きくなるほど高くなるため、電流が多く流れる箇所と少なくしか流れない箇所が存在すると両者の間で輝度の差が生じ、輝度ムラ発生の要因となる。【０００９】
また、大型化に伴い有機ＥＬ素子内のそれぞれの発光領域において寿命差が発生する。これは、電流が多く流れる箇所と少なくしか流れない箇所とで、有機ＥＬ素子の寿命が変わってしまう。一般に、流れる電流の多い部分は寿命が短くなる。このため、電流が均一に流れる素子と比べると、寿命の短い箇所が存在してしまい、有機ＥＬ素子としての寿命が短くなってしまう。【００１０】
このような問題を解決するために、従来、種々の技術が提案されてきた。【００１１】
例えば、電圧印加用の取出部（上記端子部）を多数箇所設ける技術が、特開平５−３１５０７３号公報にて開示されている。しかし、有機ＥＬ素子が組み込まれる携帯端末等の装置は大きさが限定されるため、有機ＥＬ素子の大きさも限定される。すなわち、有機ＥＬ素子の発光面積を大きくするためには、端子部の総面積を小さくしなければならない。また、端子部と外部駆動回路とを接続する配線が占める領域の割合も考慮しなければならない。したがって、この従来技術のように取出部を多数設けることは、上記問題を解決するには有効であるが、実用上採用することは極めて困難である。【００１２】
一方、発光領域を複数に分割し、各発光領域を直列で接続するライン配置方式の光源に関する技術も提案されている（例えば、特許文献２を参照。）。より具体的には、複数の薄型発光素子（発光領域）を直列に接続し、さらに各薄型発光素子の面積を等しくすることで、各々の発光素子における電流密度を等しくし、これにより各薄型発光素子の輝度を等しくする技術である。また、複数の発光領域を設け、物理的に隣接する発光領域の光透過性を有する電極間に絶縁部を設け、複数の発光領域が電気的に直列に接続された構成の有機ＥＬ素子が開示されている（例えば、特許文献３参照。）。【００１３】
しかしながら、上記特許文献２及び特許文献３に開示された実施例等に基づいて有機ＥＬ素子を作製しても、各発光領域における陽極と陰極とが短絡してしまったり、光らない発光領域が生じてしまったりするという、不良が生じやすいと言う問題が生じることがあった。【００１４】
一方、透明基板上に、第１透明電極、絶縁性の隔壁、有機ＥＬ層と、当該隔壁に分断されている第２透明電極から構成される透明有機ＥＬ素子が開示されている（例えば、特許文献４参照。）。【００１５】
特許文献４によれば、アライメントがずれても短絡を起こすことがなく第２透明電極層の抵抗を低減することができるとされている。しかしながら、特許文献４で開示されている具体的な構成について検討を進めた結果、分割されている各発光エリアを構成している第１透明電極と第２透明電極とが直接接続さている構成ではないため、各有機ＥＬ素子における電流値が高くなり、発光の不均一性を生じ、かつ過酷な条件で使用された場合には、各電極を接続している配線の切断や電極間での短絡を起こしやすいことが判明した。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１６】
【特許文献１】特開２０１２−０１４８５９号公報
【特許文献２】特開２０００−１７３７７１号公報
【特許文献３】特開２００５−１１６１９３号公報
【特許文献４】特開２０１１−２１６３１７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１７】
本発明は、上記問題に鑑みてなされたものであり、その解決課題は、光透過性を有する有機エレクトロルミネッセンス素子より構成され、複数の分割された発光エリアより構成される広い発光面積を有し、輝度均一性及び安定性が向上した有機エレクトロルミネッセンスパネル及びその製造方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１８】
本発明者は、上記課題に鑑み鋭意検討を進めた結果、両面発光型の光透過性を有する有機エレクトロルミネッセンス素子を具備し、当該有機エレクトロルミネッセンス素子は、基材上に、少なくとも光透過性を有する陽極、有機機能層ユニット及び光透過性を有する陰極より構成される発光エリアが、複数に分割され、当該陰極が前記陽極上に設けたセパレーターにより分離した構成であり、かつ、一方の発光エリアを構成する陽極が、他方の発光エリアを構成する陰極と、直列に電気的に接続されていることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンスパネルにより、大発光面積化を可能とし、各有機ＥＬ素子における発光に必要な電流値を低減でき、輝度均一性及び安定性が向上した有機エレクトロルミネッセンスパネルを実現することができることを見出し、本発明に至った。【００１９】
すなわち、本発明の上記課題は、下記の手段により解決される。【００２０】
１．非発光時の波長５５０ｎｍにおける光透過率が５０％以上である有機エレクトロルミネッセンス素子を有する有機エレクトロルミネッセンスパネルであって、
前記有機エレクトロルミネッセンス素子は、基材上に、少なくとも陽極、有機機能層ユニット及び陰極より構成される発光エリアが、複数に分割されており、
前記発光エリアを構成する前記陽極及び前記陰極が、いずれも光透過性を有する電極で構成され、
前記陰極が、前記陽極上に設けたセパレーターにより分離した構成であり、
かつ、分割されている一方の発光エリアを構成する陽極が、隣接する他方の発光エリアを構成する陰極と、直列に電気的に接続されていることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンスパネル。【００２１】
２．前記陽極と前記セパレーターとの間に、絶縁層を有することを特徴とする第１項に記載の有機エレクトロルミネッセンスパネル。【００２２】
３．前記基材が、光透過性を有するガラス基材又はフレキシブル性樹脂基材であることを特徴とする第１項又は第２項に記載の有機エレクトロルミネッセンスパネル。【００２３】
４．前記フレキシブル性樹脂基材が、ガスバリアー層を有していることを特徴とする第３項に記載の有機エレクトロルミネッセンスパネル。【００２４】
５．前記光透過性を有する陽極が、酸化物半導体又は薄膜の金属若しくは合金で構成されていることを特徴とする第１項から第４項までのいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンスパネル。【００２５】
６．前記光透過性を有する陰極が、少なくとも薄膜の金属又は合金で構成されていることを特徴とする第１項から第５項までのいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンスパネル。【００２６】
７．前記光透過性を有する陰極が、含窒素化合物を用いて構成された下地層と、当該下地層上に、銀又は銀を主成分とした合金で構成されている電極層を有する構成であることを特徴とする第１項から第６項までのいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンスパネル。【００２７】
８．前記有機エレクトロルミネッセンスパネルと外部電極との接続部は、導電性接着剤により電気的接続されていることを特徴とする第１項から第７項までのいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンスパネル。【００２８】
９．前記複数の有機エレクトロルミネッセンス素子が、ガスバリアー層を有するフレキシブル性樹脂部材により封止されていることを特徴とする第１項から第８項までのいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンスパネル。【００２９】
１０．前記複数の発光エリアが、前記セパレーターにより分離され、ストライプ状に並列配置されていることを特徴とする第１項から第９項までのいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンスパネル。【００３０】
１１．前記外部電極は、光透過性を有するフレキシブルプリント回路から構成されることを特徴とする第８項から第１０項までのいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンスパネル。【００３１】
１２．第１項から第１１項までのいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンスパネルを製造する有機エレクトロルミネッセンスパネルの製造方法であって、
非発光時の波長５５０ｎｍにおける光透過率が５０％以上である有機エレクトロルミネッセンス素子を有し、
当該有機エレクトロルミネッセンス素子において、基材上に、少なくとも陽極、有機機能層ユニット及び陰極より構成される発光エリアを、複数に分割して形成し、
前記陰極を、前記陽極上に設けたセパレーターにより分離したパターンを形成し、
分割されている一方の発光エリアを構成する陽極を、隣接する他方の発光エリアを構成する陰極と、直列に電気的に接続し、
かつ、前記陽極、陰極及びセパレーターを、フォトリソグラフィー法により形成することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンスパネルの製造方法。【００３２】
１３．前記陽極と前記セパレーターとの間に、フォトリソグラフィー法を用いて絶縁層を形成することを特徴とする第１２項に記載の有機エレクトロルミネッセンスパネルの製造方法。
【発明の効果】
【００３３】
本発明によれば、複数の分割された発光エリアより構成される広い発光面積を有し、輝度均一性及び安定性が向上した有機エレクトロルミネッセンスパネル及びその製造方法を提供することができる。【００３４】
本発明で規定する構成からなる有機エレクトロルミネッセンスパネルの技術的特徴とその効果の発現機構は、以下のように推察される。【００３５】
通常、光透過性を有する有機エレクトロルミネッサンス素子を大面積化しようとした場合、供給する電流量が大きいため、給電端からパネル中央部にかけての陽極もしくは陰極の電圧降下の影響が大きく、輝度ムラが発生する問題があった。【００３６】
本発明の有機エレクトロルミネッサンスパネルでは、発光エリアを複数に分割し（分割数をＮとする。）、一方の発光エリアを構成する陽極が、他方の発光エリアを構成する陰極と、直列に電気的に接続することにより、必要な電流をＩ／Ｎに低減することで、給電端からパネル中央部までの陽極もしくは陰極の電圧降下も、Ｉ／Ｎに低減する。それにより、発光均一性に優れた大面積の有機エレクトロルミネッセンスパネルの実現が可能となった。
【図面の簡単な説明】
【００３７】
【図１】本発明に適用可能な有機ＥＬ素子の構成の一例を示す概略断面図
【図２】本発明の有機ＥＬパネルの構成の一例を示す概略断面図（実施形態１）
【図３】本発明の有機ＥＬパネルの構成で、絶縁層を有する一例を示す概略断面図（実施形態２）
【図４】本発明の有機ＥＬパネルの構成で、ガスバリアー層を有する構成の一例を示す概略断面図（実施形態３）
【図５】複数の発光エリアをストライプ状に配置した有機ＥＬパネルの上面図及び概略断面図（実施形態４）
【図６Ａ】比較例の有機ＥＬパネルの回路構成の一例を示す概略回路図
【図６Ｂ】本発明の有機ＥＬパネルの回路構成の一例を示す概略回路図
【図７】本発明の有機ＥＬパネルの構成で、封止部材を設けた構成の一例を示す概略断面図（実施形態５）
【図８】図７で示す実施形態５の有機ＥＬパネルの作製手順の一例を示す工程フロー図（実施形態６）
【図９】本発明に適用可能な有機ＥＬ素子の構成の他の一例を示す概略断面図（実施形態７）
【図１０】本発明に適用可能な有機ＥＬ素子の構成の他の一例を示す概略断面図（実施形態８）
【図１１】本発明に適用可能な有機ＥＬパネルと外部電極との電気的接続方法の一例を示す概略図（実施態様９）
【発明を実施するための形態】
【００３８】
本発明の有機エレクトロルミネッセンスパネルは、非発光時の波長５５０ｎｍにおける光透過率が５０％以上である有機エレクトロルミネッセンス素子を有し、前記有機エレクトロルミネッセンス素子は、基材上に、少なくとも陽極、有機機能層ユニット及び陰極より構成される発光エリアが、複数に分割されており、前記発光エリアを構成する前記陽極及び前記陰極が、いずれも光透過性を有する電極で構成され、前記陰極が、前記陽極上に設けたセパレーターにより分離した構成であり、かつ、分割されている一方の発光エリアを構成する陽極が、隣接する他方の発光エリアを構成する陰極と、直列に電気的に接続されていることを特徴とする。この特徴は、各請求項に係る発明に共通する又は対応する技術的特徴である。
【００３９】
本発明の実施形態としては、本発明の目的とする効果をより発現できる観点から、陽極とセパレーターとの間に、更に絶縁層を設ける構成とすることが、より優れた同一発光エリア内での各電極間の絶縁性を更に高めることができ、安定性がより向上することができる観点から好ましい形態である。
【００４０】
また、基材として、光透過性を有するガラス基材又はフレキシブル性樹脂基材を適用することが、より高い光透過性を実現することができる観点から好ましい形態である。
【００４１】
また、基材としてフレキシブル性樹脂基材を適用する場合には、フレキシブル性樹脂基材と有機ＥＬ構成層との間にガスバリアー層を形成することが、有機ＥＬ構成層に対する水分や酸素等による影響を排除することができ、高い耐久性を得ることができる観点から好ましい。
【００４２】
また、光透過性を有する陽極を、酸化物半導体又は薄膜の金属若しくは合金で構成することが、高い光透過性と優れた導電性を両立する電極を得ることができる点で好ましい。
【００４３】
また、光透過性を有する陰極が少なくとも薄膜の金属又は合金で構成されていることが、高い光透過性と優れた導電性を両立する電極を得ることができる点で好ましい。
【００４４】
また、光透過性を有する陰極として、銀又は銀を主成分とした合金で構成されている電極層を適用する場合、含窒素化合物を用いて構成された下地層を設け、その上部に当該電極層を形成することが、陰極として、銀原子が凝集等を起こすことなく存在し、均一な薄銀膜を形成することができる観点から好ましい。
【００４５】
また、有機エレクトロルミネッセンスパネルと外部電極との接続部は、導電性接着剤により電気的接続されていることが好ましい形態である。
【００４６】
また、複数の有機エレクトロルミネッセンス素子が、ガスバリアー層を有するフレキシブル性樹脂基材により封止されていることが、有機ＥＬ構成層に対する水分や酸素等による影響を排除することができ、高い耐久性を得ることができる観点から好ましい。
【００４７】
また、複数の発光エリアが、ストライプ状に並列配置されていることが、効率よく広い面積を分割することにより、安定した発光特性を得ることができる観点から好ましい。
【００４８】
また、外部電極は、光透過性を有するフレキシブルプリント回路から構成されることが、薄膜でかつ光透過性の高い回路設計を行うことができる観点から好ましい形態である。
【００４９】
また、本発明の有機エレクトロルミネッセンスパネルの製造方法としては、上記で規定する構成からなる非発光時の波長５５０ｎｍにおける光透過率が５０％以上である有機エレクトロルミネッセンス素子を有し、当該有機エレクトロルミネッセンス素子において、基材上に、少なくとも陽極、有機機能層ユニット及び陰極より構成される発光エリアを、複数に分割して形成し、前記陰極を、前記陽極上に設けたセパレーターにより分離したパターンを形成し、分割されている一方の発光エリアを構成する陽極を、隣接する他方の発光エリアを構成する陰極と、直列に電気的に接続し、かつ、前記陽極、陰極及びセパレーターを、フォトリソグラフィー法により形成することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンスパネルの製造方法であることが、高精細で構成パターンを形成でき、狭い非発光エリアを形成することができる有機エレクトロルミネッセンスパネルを製造することができる。
【００５０】
また、陽極とセパレーターとの間に、フォトリソグラフィー法を用いて絶縁層を形成することが、高い絶縁性を得ることができるとともに、高精細な絶縁層を形成することができる点で、好ましい形態である。
【００５１】
本発明でいう「有機ＥＬパネル」とは、複数に分割した発光エリアを構成する複数の有機ＥＬ素子を同一平面状に配置し、それぞれ、有機ＥＬ素子の陽極が、隣接する他方の陰極と電気的に接し、大面積の発光体を構成しているものをいう。
【００５２】
本発明でいう「有機ＥＬ素子」とは、分割した発光エリアを構成する素子で、基材上に、対向する一対の光透過性を有する電極（陽極及び陰極）と、当該光透過性を有する電極間に、主に電子又は正孔の輸送を制御するキャリア輸送機能層と発光層により構成される有機機能層ユニットを有し、更にその上部に封止部材を設けた構成をいう。ただし、説明の都合で、封止部材の記載や説明を省略する場合がある。また、本発明においては、有機ＥＬ素子の発光を制御する制御回路や配線の記載は省略する。
【００５３】
本発明でいう「有機機能層ユニット」とは、後述の図１で説明するが、一例としては、基材上に、第１のキャリア輸送機能層群１（例えば、正孔注入層、正孔輸送層等）と、リン光性化合物等を含有する発光層と、第２のキャリア輸送機能層群２（例えば、正孔阻止層、電子輸送層、電子注入層等）が積層配置されている構成をいう。
【００５４】
本発明でいう「発光エリア」とは、層厚方向で、陽極、有機機能層ユニット及び陰極の全ての構成要素が存在している領域をいう。
【００５５】
本発明でいう「陽極」とは、電圧として（＋）を印加する電極であり、「アノード」あるいは「第１の電極」という場合がある。また、「陰極」とは、電圧として（−）を印加する電極であり、「カソード」または「第２の電極」という場合がある。
【００５６】
また、本発明でいう「光透過性」とは、波長５５０ｎｍにおける光透過率が５０％以上であることをいい、好ましくは６０％以上であり、さらに好ましくは７０％以上である。
【００５７】
以下、本発明の構成要素、及び本発明を実施するための形態について、図を交えて詳細な説明をする。なお、本願において、数値範囲を表す「〜」は、その前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味で使用している。なお、各図の説明において、構成要素の末尾に括弧内で記載した数字は、各図における符号を表す。
【００５８】
《有機ＥＬ素子の基本構成》
はじめに、有機ＥＬ素子の基本的な構成について、図を交えて説明する。
【００５９】
本発明の有機ＥＬパネルにおいては、適用する有機ＥＬ素子が、非発光時の波長５５０ｎｍにおける光透過率が５０％以上である両面発光型の有機ＥＬ素子であることを１つの特徴とする。
【００６０】
図１は、本発明に適用可能な有機ＥＬ素子の有機機能層ユニットを含めた基本的な構成を示す概略断面図である。
【００６１】
図１で示す本発明に係る有機ＥＬ素子（ＯＬＥＤ）は、光透過性を有する基材（１）、例えば、ガラス基材又はフレキシブル性樹脂基材上に、陽極（３）、発光層及びキャリア輸送機能層から構成される有機機能層ユニット（Ｕ）、陰極（７）等を積層した構造を示してある。
【００６２】
図１に示す有機ＥＬ素子（ＯＬＥＤ）は、光透過性を有する基材（１）上に、ガスバリアー層（２）を形成している例を示してある。当該ガスバリアー層（２）上に分割して形成する発光エリアにおいては、第１電極として陽極（３）を形成し、陽極（３）の一方の端部（図１の左側）の上部に、セパレーター（８）が設けられている。セパレーター（８）の形状としては、特に制限はなく、矩形状、台形状、逆テーパー形状等が挙げられるが、図１に示すような逆テーパー状のオーバーハング構造であること好ましい。このセパレーター（８）は、隔壁あるいはカソードセパレーターという場合もある。
【００６３】
一方、陽極（３）のセパレーター（８）を形成した以外の領域上に、例えば、正孔注入層、正孔輸送層等から構成される第１のキャリア輸送機能層群１（４）、発光層（５）及び、例えば、電子輸送層、電子注入層等から構成される第２のキャリア輸送機能層群２（６）を積層して、有機機能層ユニット（Ｕ）を構成している。
【００６４】
更に、一方の有機ＥＬ素子（ＯＬＥＤ）と隣接する他方の有機ＥＬ素子のそれぞれのセパレーター（８）間には、独立したパターンで、第２電極として、陰極（７）が設けられている。そして、上記説明した構成の積層体全体を被覆する形で、封止用接着層（９）及びガスバリアー層（１０）を有する封止基板（１１）が設けられて、有機ＥＬ素子（ＯＬＥＤ）を構成している。この時、分割されている一方の発光エリアを構成する陽極（３）が、隣接する他方の発光エリアを構成する陰極（３）と、直列に電気的に接続されている。
【００６５】
本発明においては、図１に示す構成において、第１電極である陽極（３）及び第２電極である陰極（７）が、いずれも波長５５０ｎｍにおける光透過率が５０％以上である電極であることを１つの特徴とする。
【００６６】
このように陽極及び陰極の双方を、光透過性を有する電極で構成することにより、有機機能層ユニットの発光層又はその界面で発光した発光光（Ｌ）を、光透過性を有する第１電極（３）側である基材（１）面の発光エリア及び、同じく光透過性を有する第２電極（７）側の封止部材（１１）面側の発光エリアより外部に発光光（Ｌ）を取り出すことができる。
【００６７】
発光エリアとは、図１で示すように、陽極（３）と、有機機能層ユニット（Ｕ）、特には発光層（５）と、陰極（７）の全ての構成要素が、同一面上に存在する領域をいう。
【００６８】
本発明の有機ＥＬパネルにおいては、基材上に、少なくとも陽極（８）、有機機能層ユニット（Ｕ）及び陰極（７）より構成される発光エリアが、セパレーター（８）を介して、複数に分割されて配置されていて、分割されている一方の発光エリアを構成する陽極が、隣接する他方の発光エリアを構成する陰極と、直列に電気的に接続されていることを１つの特徴とする。詳しくは、図１で示すように、「ＯＬＥＤの１構成単位」として示す有機ＥＬ素子（ＯＬＥＤ）を構成する陽極（３）が、左側に配置（詳細な記載は省略）されている陰極（７）と電気的に接続され、かつ「「ＯＬＥＤの１構成単位」として示す有機ＥＬ素子（ＯＬＥＤ）の陰極（７）が、右側に配置（詳細な構成の記載は省略してある。）されている陽極（３）と電気的に接続されている構成で、複数個存在する発光エリア（有機ＥＬ素子）が直列に接続されている構成であることを特徴とする。
【００６９】
また、本発明に係る有機ＥＬ素子においては、２つ以上の有機機能層ユニットを積層したタンデム型構成としてもよい。
【００７０】
本発明の有機ＥＬパネルにおいては、この様に、セパレーター（８）を介して、発光エリアを複数に分割し、分割されている一方の発光エリアを構成する陽極を、隣接する他方の発光エリアを構成する陰極と、直列に電気的に接続する構成とすることにより、発光に必要な電流値を低減し、輝度均一性に優れた大面積の有機ＥＬパネルを実現することができた。
【００７１】
［有機ＥＬ素子の構成要素］
はじめに、本発明の有機ＥＬパネルを構成する有機ＥＬ素子の主要構成要素の詳細について説明する。
【００７２】
本発明に係る光透過性を有する有機ＥＬ素子（ＯＬＥＤ）は、前述の図１における説明と重複するが、ガスバリアー層（２）を有する基板（１）上に、第１電極である光透過性を有する陽極（３）を当該ガスバリアー層（２）上の分割してある領域に、第１電極として陽極（３）を形成し、陽極（３）の一方の端部（図１の左側）の上部に、逆台形のセパレーター（８）が設けられている。
【００７３】
次いで、陽極（３）のセパレーター（８）を形成した以外の領域上に、例えば、正孔注入層、正孔輸送層等から構成されるキャリア輸送機能層群１（４）、発光層（５）、例えば、電子輸送層、電子注入層等から構成されるキャリア輸送機能層群２（６）が積層されて、発光領域を構成している。そして、さらに上部の一対のセパレーター（８）により分離されている領域に、第２電極である光透過性を有する陰極（７）が形成され、その上に封止用接着層（９）及びガスバリアー層（１０）を有する封止基板（１１）が設けられている。
【００７４】
以下に、有機ＥＬ素子の構成の代表例を示す。
【００７５】
（ｉ）光透過性を有する陽極（３）／セパレーター（８）／有機機能層ユニット（Ｕ）〔キャリア輸送機能層群１（４：正孔注入輸送層）／発光層（５）／キャリア輸送機能層群２（６：電子注入輸送層）〕／光透過性を有する陰極（７）
（ii）光透過性を有する陽極（３）／セパレーター（８）／有機機能層ユニット（Ｕ）〔キャリア輸送機能層群１（４：正孔注入輸送層）／発光層（５）／キャリア輸送機能層群２（６：正孔阻止層／電子注入輸送層）〕／光透過性を有する陰極（７）
（iii）光透過性を有する陽極（３）／セパレーター（８）／有機機能層ユニット（Ｕ）〔キャリア輸送機能層群１（４：正孔注入輸送層／電子阻止層）／発光層（５）／キャリア輸送機能層群２（６：正孔阻止層／電子注入輸送層）〕／光透過性を有する陰極（７）
（iv）光透過性を有する陽極（３）／セパレーター（８）／有機機能層ユニット（Ｕ）〔キャリア輸送機能層群１（４：正孔注入層／正孔輸送層）／発光層（５）／キャリア輸送機能層群２（６：電子輸送層／電子注入層）〕／光透過性を有する陰極（７）
（ｖ）光透過性を有する陽極（３）／セパレーター（８）／有機機能層ユニット（Ｕ）〔キャリア輸送機能層群１（４：正孔注入層／正孔輸送層）／発光層（５）／キャリア輸送機能層群２（６：正孔阻止層／電子輸送層／電子注入層）〕／光透過性を有する陰極（７）
（vi）光透過性を有する陽極（３）／セパレーター（８）／有機機能層ユニット（Ｕ）〔キャリア輸送機能層群１（４：正孔注入層／正孔輸送層／電子阻止層）／発光層（５）／キャリア輸送機能層群２（６：正孔阻止層／電子輸送層／電子注入層）〕／光透過性を有する陰極（７）
更に、上記構成に加えて、陽極（３）とセパレーター（８）との間には、後述する絶縁層（１２）を設ける構成も、好ましい形態である。
【００７６】
本発明に適用可能な有機ＥＬ素子の概要については、例えば、特開２０１３−１５７６３４号公報、特開２０１３−１６８５５２号公報、特開２０１３−１７７３６１号公報、特開２０１３−１８７２１１号公報、特開２０１３−１９１６４４号公報、特開２０１３−１９１８０４号公報、特開２０１３−２２５６７８号公報、特開２０１３−２３５９９４号公報、特開２０１３−２４３２３４号公報、特開２０１３−２４３２３６号公報、特開２０１３−２４２３６６号公報、特開２０１３−２４３３７１号公報、特開２０１３−２４５１７９号公報、特開２０１４−００３２４９号公報、特開２０１４−００３２９９号公報、特開２０１４−０１３９１０号公報、特開２０１４−０１７４９３号公報、特開２０１４−０１７４９４号公報等に記載されている構成を挙げることができる。
【００７７】
また、タンデム型の有機ＥＬ素子とすることもでき、タンデム型の具体例としては、例えば、米国特許第６３３７４９２号明細書、米国特許第７４２０２０３号明細書、米国特許第７４７３９２３号明細書、米国特許第６８７２４７２号明細書、米国特許第６１０７７３４号明細書、米国特許第６３３７４９２号明細書、国際公開第２００５／００９０８７号、特開２００６−２２８７１２号公報、特開２００６−２４７９１号公報、特開２００６−４９３９３号公報、特開２００６−４９３９４号公報、特開２００６−４９３９６号公報、特開２０１１−９６６７９号公報、特開２００５−３４０１８７号公報、特許第４７１１４２４号公報、特許第３４９６６８１号公報、特許第３８８４５６４号公報、特許第４２１３１６９号公報、特開２０１０−１９２７１９号公報、特開２００９−０７６９２９号公報、特開２００８−０７８４１４号公報、特開２００７−０５９８４８号公報、特開２００３−２７２８６０号公報、特開２００３−０４５６７６号公報、国際公開第２００５／０９４１３０号等に記載の素子構成や構成材料等が挙げられるが、本発明はこれらに限定されない。
【００７８】
更に、有機ＥＬ素子の各構成要素の詳細について説明する。
【００７９】
〔基材〕
有機ＥＬ素子（ＯＬＥＤ）に適用可能な基材（１）としては、光透過性を有する基材であれば特に制限はなく、例えば、ガラス、樹脂基材等の種類を挙げることができる。
【００８０】
本発明に適用可能な光透過性を有する基材（１）としては、ガラス、石英、樹脂基材を挙げることができるが、更に好ましくは、有機ＥＬ素子にフレキシブル性を付与することができる観点からフレキシブル性樹脂基材である。
【００８１】
本発明に適用可能な樹脂基材を構成する樹脂材料としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート（略称：ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（略称：ＰＥＮ）等のポリエステル、ポリエチレン、ポリプロピレン、セロファン、セルロースジアセテート、セルローストリアセテート（略称：ＴＡＣ）、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートプロピオネート（略称：ＣＡＰ）、セルロースアセテートフタレート、セルロースナイトレート等のセルロースエステル類及びそれらの誘導体、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアルコール、ポリエチレンビニルアルコール、シンジオタクティックポリスチレン、ポリカーボネート（略称：ＰＣ）、ノルボルネン樹脂、ポリメチルペンテン、ポリエーテルケトン、ポリイミド、ポリエーテルスルホン（略称：ＰＥＳ）、ポリフェニレンスルフィド、ポリスルホン類、ポリエーテルイミド、ポリエーテルケトンイミド、ポリアミド、フッ素樹脂、ナイロン、ポリメチルメタクリレート、アクリル及びポリアリレート類、アートン（商品名、ＪＳＲ社製）及びアペル（商品名、三井化学社製）等のシクロオレフィン系樹脂等を挙げることができる。
【００８２】
これら樹脂基材のうち、コストや入手の容易性の点から、ポリエチレンテレフタレート（略称：ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート（略称：ＰＥＮ）、ポリカーボネート（略称：ＰＣ）等のフレキシブル性を有する樹脂基材が好ましく用いることができる。
【００８３】
また、上記の樹脂基材は、未延伸フィルムでもよく、延伸フィルムでもよい。
【００８４】
本発明に適用可能な樹脂基材は、従来公知の製膜方法により製造することが可能である。例えば、材料となる樹脂を押出機により溶融し、環状ダイやＴダイにより押し出して急冷することにより、実質的に無定形で配向していない未延伸の樹脂基材を製造することができる。また、樹脂成分を溶媒に溶解してドープを調製した後、当該ドープを金属支持体上に流延、乾燥して成膜する溶液流延法により製造した樹脂基材も適用することができる。また、未延伸の樹脂基材を一軸延伸、テンター式逐次二軸延伸、テンター式同時二軸延伸、チューブラー式同時二軸延伸等の公知の方法により、樹脂基材の搬送方向（縦軸方向、ＭＤ方向）、又は樹脂基材の搬送方向と直角の方向（横軸方向、ＴＤ方向）に延伸することにより、延伸樹脂基材を製造することができる。この場合の延伸倍率は、樹脂基材の原料となる樹脂に合わせて適宜選択することできるが、縦軸方向及び横軸方向にそれぞれ１．０１〜１０倍の範囲内であることが好ましい。
【００８５】
樹脂基材は、厚さとして３〜２００μｍの範囲内にある薄膜の樹脂基材であることが好ましいが、より好ましくは１０〜１５０μｍの範囲内であり、特に好ましくは、２０〜１２０μｍの範囲内である。
【００８６】
また、本発明に係る光透過性を有する基材として適用可能なガラス基材としては、ソーダ石灰ガラス、バリウム・ストロンチウム含有ガラス、鉛ガラス、アルミノケイ酸ガラス、ホウケイ酸ガラス、バリウムホウケイ酸ガラス、石英等を挙げることができる。
【００８７】
〔第１電極：光透過性を有する陽極〕
有機ＥＬ素子を構成する光透過性を有する陽極としては、酸化物半導体又は薄膜の金属若しくは合金で構成されていることが好ましい形態であり、例えば、Ａｇ、Ａｕ等の金属又は金属を主成分とする合金、ＣｕＩ、あるいはインジウム・スズの複合酸化物（ＩＴＯ）、ＳｎＯ２及びＺｎＯ等の酸化物半導体を挙げることができる。
【００８８】
光透過性を有する陽極を、銀を主成分として構成する場合、銀の純度としては、９９％以上であることが好ましい。また、銀の安定性を確保するためにパラジウム（Ｐｄ）、銅（Ｃｕ）及び金（Ａｕ）等が添加されていてもよい。
【００８９】
光透過性を有する陽極は、銀を主成分として構成されている層とすることができるが、具体的には、銀単独で形成しても、あるいは銀（Ａｇ）を含有する合金から構成されていてもよい。そのような合金としては、例えば、銀・マグネシウム（Ａｇ・Ｍｇ）、銀・銅（Ａｇ・Ｃｕ）、銀・パラジウム（Ａｇ・Ｐｄ）、銀・パラジウム・銅（Ａｇ・Ｐｄ・Ｃｕ）、銀・インジウム（Ａｇ・Ｉｎ）などが挙げられる。
【００９０】
上記陽極を構成する各構成材料の中でも、本発明に係る有機ＥＬ素子を構成する陽極としては、銀を主成分として構成し、厚さが２〜２０ｎｍの範囲内にある光透過性を有する陽極であることが好ましいが、更に好ましくは厚さが４〜１２ｎｍの範囲内である。厚さが２０ｎｍ以下であれば、光透過性を有する陽極の吸収成分及び反射成分が低く抑えられ、高い光透過率が維持されるため好ましい。
【００９１】
本発明でいう銀を主成分として構成されている層とは、光透過性を有する陽極中の銀の含有量が６０質量％以上であることをいい、好ましくは銀の含有量が８０質量％以上であり、より好ましくは銀の含有量が９０質量％以上であり、特に好ましくは銀の含有量が９８質量％以上である。また、本発明に係る光透過性を有する陽極でいう「光透過性」とは、波長５５０ｎｍでの光透過率が５０％以上であることをいう。
【００９２】
光透過性を有する陽極においては、銀を主成分として構成されている層が、必要に応じて複数の層に分けて積層された構成であっても良い。
【００９３】
また、本発明においては、陽極が、銀を主成分として構成する光透過性を有する陽極である場合には、形成する光透過性を有する陽極の銀膜の均一性を高める観点から、その下部に、下地層を設けることが好ましい。下地層としては、特に制限はないが、窒素原子又は硫黄原子を有する有機化合物を含有する層であることが好ましく、当該下地層上に、銀を主成分として光透過性を有する陽極を形成する方法が好ましい態様である。なお、本発明に適用可能な下地層の詳細については後述する。
【００９４】
〔セパレーター〕
本発明においては、各有機ＥＬ素子間にセパレーターを設け、陰極が、陽極上に設けた２つのセパレーターにより分離した構成であることを特徴とする。
【００９５】
本発明に係るセパレーターは、陽極の長手方向と直交する方向にストライプ状に形成される。このセパレーターは、絶縁性を有しており、陰極を複数のエリアに分割する機能を有するものである。
【００９６】
パッシブ型の光透過性を有する有機ＥＬ素子の場合、通常、陽極がストライプ状に形成されることから、このストライプ状の陽極の長手方向に直交するように、セパレーターもストライプ状に形成される。
【００９７】
セパレーターが所定の高さを有していれば、陰極を複数のエリアに分割することができるため、セパレーターの断面形状としては、特に限定されるものではなく、例えば、矩形状、台形状（順テーパー形状）、逆テーパー形状等が挙げられる。好ましくは、図１で示すような逆テーパー状のオーバーハング構造である。
【００９８】
セパレーターが逆テーパー形状の場合、基材あるいは陽極表面に対するテーパー角度θは、０°＜θ＜９０°であればよいが、好ましくは２０°＜θ＜８０°、より好ましくは３０°＜θ＜７０°である。
【００９９】
セパレーターの高さとしては、通常、セパレーターの下地である陽極あるいは絶縁層表面からセパレーター表面までの高さが、発光領域の中心部における基材（１）表面から陰極（７）表面までの高さよりも高くなるように設定される。
【０１００】
セパレーターの幅は、特に限定されるものではないが、１００μｍ以下であることが好ましい。セパレーターの幅が広すぎると、発光領域が相対的に狭くなり、発光面積が低下するため好ましくない。
【０１０１】
セパレーターのピッチは、特に限定されるものではなく、目的とする有機ＥＬ素子の画素の大きさ等によって、適宜選択されるものである。
【０１０２】
セパレーターの構成材料としては、例えば、感光性ポリイミド樹脂、アクリル系樹脂、ノボラック系樹脂、スチレン系樹脂、フェノール系樹脂、メラミン系樹脂等の光硬化型樹脂、または熱硬化型樹脂、および無機材料等を挙げることができる。
【０１０３】
セパレーターの形成方法としては、フォトリソグラフィー法、印刷法等の一般的な方法を挙げることができるが、本発明の有機エレクトロルミネッセンスパネルの製造方法においては、フォトリソグラフィー法により形成することを特徴とする。フォトリソグラフィー法によるセパレーターの形成方法の詳細ついては後述する。
【０１０４】
〔発光層〕
有機ＥＬ素子（ＯＬＥＤ）を構成する発光層（５）は、発光材料としてリン光発光化合物、あるいは蛍光性化合物を用いることができるが、本発明においては、特に、発光材料としてリン光発光化合物が含有されている構成が好ましい。
【０１０５】
この発光層は、電極又は電子輸送層から注入された電子と、正孔輸送層から注入された正孔とが再結合して発光する層であり、発光する部分は発光層の層内領域であっても発光層と隣接する層との界面領域であってもよい。
【０１０６】
このような発光層としては、含まれる発光材料が発光要件を満たしていれば、その構成には特に制限はない。また、同一の発光スペクトルや発光極大波長を有する層が複数層あってもよい。この場合、各発光層間には非発光性の中間層を有していることが好ましい。
【０１０７】
発光層の厚さの総和は、１〜１００ｎｍの範囲内にあることが好ましく、より低い駆動電圧を得ることができることから１〜３０ｎｍの範囲内がさらに好ましい。なお、発光層の厚さの総和とは、発光層間に非発光性の中間層が存在する場合には、当該中間層も含む厚さである。
【０１０８】
以上のような発光層は、後述する発光材料やホスト化合物を、例えば、真空蒸着法、スピンコート法、キャスト法、ＬＢ法（ラングミュア・ブロジェット、Ｌａｎｇｍｕｉｒ  Ｂｌｏｄｇｅｔｔ法）及びインクジェット法等の公知の方法により形成することができる。
【０１０９】
また発光層は、複数の発光材料を混合してもよく、リン光発光材料と蛍光発光材料（蛍光ドーパント、蛍光性化合物ともいう）とを同一発光層中に混合して用いてもよい。発光層の構成としては、ホスト化合物（発光ホスト等ともいう）及び発光材料（発光ドーパント化合物ともいう。）を含有し、発光材料より発光させることが好ましい。
【０１１０】
〈ホスト化合物〉
発光層に含有されるホスト化合物としては、室温（２５℃）におけるリン光発光のリン光量子収率が０．１未満の化合物が好ましい。さらにリン光量子収率が０．０１未満であることが好ましい。また、発光層に含有される化合物の中で、その層中での体積比が５０％以上であることが好ましい。
【０１１１】
ホスト化合物としては、公知のホスト化合物を単独で用いてもよく、あるいは、複数種のホスト化合物を用いてもよい。ホスト化合物を複数種用いることで、電荷の移動を調整することが可能であり、有機ＥＬ素子を高効率化することができる。また、後述する発光材料を複数種用いることで、異なる発光を混ぜることが可能となり、これにより任意の発光色を得ることができる。
【０１１２】
発光層に用いられるホスト化合物としては、従来公知の低分子化合物でも、繰り返し単位をもつ高分子化合物でもよく、ビニル基やエポキシ基のような重合性基を有する低分子化合物（蒸着重合性発光ホスト）でもよい。
【０１１３】
本発明に適用可能なホスト化合物としては、例えば、特開２００１−２５７０７６号公報、同２００１−３５７９７７号公報、同２００２−８８６０号公報、同２００２−４３０５６号公報、同２００２−１０５４４５号公報、同２００２−３５２９５７号公報、同２００２−２３１４５３号公報、同２００２−２３４８８８号公報、同２００２−２６０８６１号公報、同２００２−３０５０８３号公報、米国特許出願公開第２００５／０１１２４０７号明細書、米国特許出願公開第２００９／００３０２０２号明細書、国際公開第２００１／０３９２３４号、国際公開第２００８／０５６７４６号、国際公開第２００５／０８９０２５号、国際公開第２００７／０６３７５４号、国際公開第２００５／０３０９００号、国際公開第２００９／０８６０２８号、国際公開第２０１２／０２３９４７号、特開２００７−２５４２９７号公報、欧州特許第２０３４５３８号明細書等に記載されている化合物を挙げることができる。
【０１１４】
〈発光材料〉
本発明で用いることのできる発光材料としては、リン光発光性化合物（リン光性化合物、リン光発光材料又はリン光発光ドーパントともいう。）及び蛍光発光性化合物（蛍光性化合物又は蛍光発光材料ともいう。）が挙げられるが、特に、リン光発光性化合物を用いることが、高い発光効率を得ることができる観点から好ましい。
【０１１５】
〈リン光発光性化合物〉
リン光発光性化合物とは、励起三重項からの発光が観測される化合物であり、具体的には室温（２５℃）にてリン光発光する化合物であり、リン光量子収率が２５℃において０．０１以上の化合物であると定義されるが、好ましいリン光量子収率は０．１以上である。
【０１１６】
上記リン光量子収率は、第４版実験化学講座７の分光IIの３９８頁（１９９２年版、丸善）に記載の方法により測定できる。溶液中でのリン光量子収率は、種々の溶媒を用いて測定できるが、本発明においてリン光発光性化合物を用いる場合、任意の溶媒のいずれかにおいて、上記リン光量子収率として０．０１以上が達成されればよい。
【０１１７】
リン光発光性化合物は、一般的な有機ＥＬ素子の発光層に使用される公知のものの中から適宜選択して用いることができるが、好ましくは元素の周期表で８〜１０族の金属を含有する錯体系化合物であり、さらに好ましくはイリジウム化合物、オスミウム化合物、白金化合物（白金錯体系化合物）又は希土類錯体であり、中でも最も好ましいのはイリジウム化合物である。
【０１１８】
本発明においては、少なくとも一つの発光層が、二種以上のリン光発光性化合物が含有されていてもよく、発光層におけるリン光発光性化合物の濃度比が発光層の厚さ方向で変化している態様であってもよい。
【０１１９】
本発明に使用できる公知のリン光発光性化合物の具体例としては、以下の文献に記載されている化合物等が挙げられる。
【０１２０】
Ｎａｔｕｒｅ  ３９５，１５１（１９９８）、Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．Ｌｅｔｔ．７８，  １６２２（２００１）、Ａｄｖ．Ｍａｔｅｒ．１９，７３９（２００７）、Ｃｈｅｍ．Ｍａｔｅｒ．１７，３５３２（２００５）、Ａｄｖ．Ｍａｔｅｒ．１７，１０５９（２００５）、国際公開第２００９／１００９９１号、国際公開第２００８／１０１８４２号、国際公開第２００３／０４０２５７号、米国特許出願公開第２００６／８３５４６９号明細書、米国特許出願公開第２００６／０２０２１９４号明細書、米国特許出願公開第２００７／００８７３２１号明細書、米国特許出願公開第２００５／０２４４６７３号明細書等に記載の化合物を挙げることができる。
【０１２１】
また、Ｉｎｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．４０，１７０４（２００１）、Ｃｈｅｍ．Ｍａｔｅｒ．１６，２４８０（２００４）、Ａｄｖ．Ｍａｔｅｒ．１６，２００３（２００４）、Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．ｌｎｔ．Ｅｄ．２００６，４５，７８００、Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．Ｌｅｔｔ．８６，１５３５０５（２００５）、Ｃｈｅｍ．Ｌｅｔｔ．３４，５９２（２００５）、Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍｕｎ．２９０６（２００５）、Ｉｎｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．４２，１２４８（２００３）、国際公開第２００９／０５０２９０号、国際公開第２００９／０００６７３号、米国特許第７３３２２３２号明細書、米国特許出願公開第２００９／００３９７７６号、米国特許第６６８７２６６号明細書、米国特許出願公開第２００６／０００８６７０号明細書、米国特許出願公開第２００８／００１５３５５号明細書、米国特許第７３９６５９８号明細書、米国特許出願公開第２００３／０１３８６５７号明細書、米国特許第７０９０９２８号明細書等に記載の化合物を挙げることができる。
【０１２２】
また、Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．ｌｎｔ．Ｅｄ．４７，１（２００８）、Ｃｈｅｍ．Ｍａｔｅｒ．１８，５１１９（２００６）、Ｉｎｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．４６，４３０８（２００７）、Ｏｒｇａｎｏｍｅｔａｌｌｉｃｓ  ２３，３７４５（２００４）、Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．Ｌｅｔｔ．７４，１３６１（１９９９）、国際公開第２００６／０５６４１８号、国際公開第２００５／１２３８７３号、国際公開第２００５／１２３８７３号、国際公開第２００６／０８２７４２号、米国特許出願公開第２００５／０２６０４４１号明細書、米国特許第７５３４５０５号明細書、米国特許出願公開第２００７／０１９０３５９号明細書、米国特許第７３３８７２２号明細書、米国特許第７２７９７０４号明細書、米国特許出願公開第２００６／１０３８７４号明細書等に記載の化合物も挙げることができる。
【０１２３】
さらには、国際公開第２００５／０７６３８０号、国際公開第２００８／１４０１１５号、国際公開第２０１１／１３４０１３号、国際公開第２０１０／０８６０８９号、国際公開第２０１２／０２０３２７号、国際公開第２０１１／０５１４０４号、国際公開第２０１１／０７３１４９号、特開２００９−１１４０８６号公報、特開２００３−８１９８８号公報、特開２００２−３６３５５２号公報等に記載の化合物も挙げることができる。
【０１２４】
本発明においては、好ましいリン光発光性化合物としてはＩｒを中心金属に有する有機金属錯体が挙げられる。さらに好ましくは、金属−炭素結合、金属−窒素結合、金属−酸素結合、金属−硫黄結合の少なくとも１つの配位様式を含む錯体が好ましい。
【０１２５】
上記説明したリン光発光性化合物（リン光発光性金属錯体ともいう）は、例えば、Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｌｅｔｔｅｒ誌、ｖｏｌ３、Ｎｏ．１６、２５７９〜２５８１頁（２００１）、Ｉｎｏｒｇａｎｉｃ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，第３０巻、第８号、１６８５〜１６８７頁（１９９１年）、Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，１２３巻、４３０４頁（２００１年）、Ｉｎｏｒｇａｎｉｃ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，第４０巻、第７号、１７０４〜１７１１頁（２００１年）、Ｉｎｏｒｇａｎｉｃ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，第４１巻、第１２号、３０５５〜３０６６頁（２００２年）、Ｎｅｗ  Ｊｏｕｒｎａｌ  ｏｆ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ．，第２６巻、１１７１頁（２００２年）、Ｅｕｒｏｐｅａｎ  Ｊｏｕｒｎａｌ  ｏｆ  Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，第４巻、６９５〜７０９頁（２００４年）、さらにこれらの文献中に記載されている参考文献等に開示されている方法を適用することにより合成することができる。
【０１２６】
〈蛍光発光性化合物〉
蛍光発光性化合物としては、クマリン系色素、ピラン系色素、シアニン系色素、クロコニウム系色素、スクアリウム系色素、オキソベンツアントラセン系色素、フルオレセイン系色素、ローダミン系色素、ピリリウム系色素、ペリレン系色素、スチルベン系色素、ポリチオフェン系色素又は希土類錯体系蛍光体等が挙げられる。
【０１２７】
〔キャリア輸送機能層群〕
次いで、キャリア輸送機能層群を構成する各層の代表例として、電荷注入層、正孔輸送層、電子輸送層及び阻止層の順に説明する。
【０１２８】
（電荷注入層）
電荷注入層は、駆動電圧低下や発光輝度向上のために、電極と発光層の間に設けられる層のことで、「有機ＥＬ素子とその工業化最前線（１９９８年１１月３０日エヌ・ティー・エス社発行）」の第２編第２章「電極材料」（１２３〜１６６頁）にその詳細が記載されており、正孔注入層と電子注入層とがある。
【０１２９】
電荷注入層としては、一般には、正孔注入層であれば、陽極と発光層又は正孔輸送層との間、電子注入層であれば陰極と発光層又は電子輸送層との間に存在させることができるが、本発明においては、光透過性を有する電極に隣接して電荷注入層を配置させることが好まし構成である。また、中間電極で用いられる場合は、隣接する電子注入層及び正孔注入層の少なくとも一方が、本発明の要件を満たしていれば良い。
【０１３０】
正孔注入層は、駆動電圧低下や発光輝度向上のために、光透過性を有する電極である陽極に隣接して配置される層であり、「有機ＥＬ素子とその工業化最前線（１９９８年１１月３０日エヌ・ティー・エス社発行）」の第２編第２章「電極材料」（１２３〜１６６頁）に詳細に記載されている。
【０１３１】
正孔注入層は、特開平９−４５４７９号公報、同９−２６００６２号公報、同８−２８８０６９号公報等にもその詳細が記載されており、正孔注入層に用いられる材料としては、例えば、ポルフィリン誘導体、フタロシアニン誘導体、オキサゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、トリアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、ピラゾリン誘導体、ピラゾロン誘導体、フェニレンジアミン誘導体、ヒドラゾン誘導体、スチルベン誘導体、ポリアリールアルカン誘導体、トリアリールアミン誘導体、カルバゾール誘導体、インドロカルバゾール誘導体、イソインドール誘導体、アントラセンやナフタレン等のアセン系誘導体、フルオレン誘導体、フルオレノン誘導体、及びポリビニルカルバゾール、芳香族アミンを主鎖又は側鎖に導入した高分子材料又はオリゴマー、ポリシラン、導電性ポリマー又はオリゴマー（例えば、ＰＥＤＯＴ（ポリエチレンジオキシチオフェン）：ＰＳＳ（ポリスチレンスルホン酸）、アニリン系共重合体、ポリアニリン、ポリチオフェン等）等が挙げられる。
【０１３２】
トリアリールアミン誘導体としては、α−ＮＰＤ（４，４′−ビス〔Ｎ−（１−ナフチル）−Ｎ−フェニルアミノ〕ビフェニル）に代表されるベンジジン型や、ＭＴＤＡＴＡ（４，４′，４″−トリス〔Ｎ−（３−メチルフェニル）−Ｎ−フェニルアミノ〕トリフェニルアミン）に代表されるスターバースト型、トリアリールアミン連結コア部にフルオレンやアントラセンを有する化合物等が挙げられる。
【０１３３】
また、特表２００３−５１９４３２号公報や特開２００６−１３５１４５号公報等に記載されているようなヘキサアザトリフェニレン誘導体も同様に正孔輸送材料として用いることができる。
【０１３４】
電子注入層は、駆動電圧低下や発光輝度向上のために、陰極と発光層との間に設けられる層のことであり、陰極が本発明に係る光透過性を有する電極で構成されている場合には、当該光透過性を有する電極に隣接して設けられ、「有機ＥＬ素子とその工業化最前線（１９９８年１１月３０日エヌ・ティー・エス社発行）」の第２編第２章「電極材料」（１２３〜１６６頁）に詳細に記載されている。
【０１３５】
電子注入層は、特開平６−３２５８７１号公報、同９−１７５７４号公報、同１０−７４５８６号公報等にもその詳細が記載されており、電子注入層に好ましく用いられる材料の具体例としては、ストロンチウムやアルミニウム等に代表される金属、フッ化リチウム、フッ化ナトリウム、フッ化カリウム等に代表されるアルカリ金属化合物、フッ化マグネシウム、フッ化カルシウム等に代表されるアルカリ金属ハライド層、フッ化マグネシウムに代表されるアルカリ土類金属化合物層、酸化モリブデン、酸化アルミニウム等に代表される金属酸化物、リチウム８−ヒドロキシキノレート（Ｌｉｑ）等に代表される金属錯体等が挙げられる。また、本発明における光透過性を有する電極が陰極の場合は、金属錯体等の有機材料が特に好適に用いられる。電子注入層はごく薄い膜であることが望ましく、構成材料にもよるが、その層厚は１ｎｍ〜１０μｍの範囲が好ましい。
【０１３６】
（正孔輸送層）
正孔輸送層とは正孔を輸送する機能を有する正孔輸送材料からなり、広い意味で正孔注入層及び電子阻止層も正孔輸送層の機能を有する。正孔輸送層は単層又は複数層設けることができる。
【０１３７】
正孔輸送材料としては、正孔の注入又は輸送、電子の障壁性のいずれかを有するものであり、有機物、無機物のいずれであってもよい。例えば、トリアゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、ポリアリールアルカン誘導体、ピラゾリン誘導体、ピラゾロン誘導体、フェニレンジアミン誘導体、アリールアミン誘導体、アミノ置換カルコン誘導体、オキサゾール誘導体、スチリルアントラセン誘導体、フルオレノン誘導体、ヒドラゾン誘導体、スチルベン誘導体、シラザン誘導体、アニリン系共重合体、導電性高分子オリゴマー及びチオフェンオリゴマー等が挙げられる。
【０１３８】
正孔輸送材料としては、上記のものを使用することができるが、ポルフィリン化合物、芳香族第３級アミン化合物及びスチリルアミン化合物を用いることができ、特に芳香族第３級アミン化合物を用いることが好ましい。
【０１３９】
芳香族第３級アミン化合物及びスチリルアミン化合物の代表例としては、Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラフェニル−４，４′−ジアミノフェニル、Ｎ，Ｎ′−ジフェニル−Ｎ，Ｎ′−ビス（３−メチルフェニル）−〔１，１′−ビフェニル〕−４，４′−ジアミン（略称：ＴＰＤ）、２，２−ビス（４−ジ−ｐ−トリルアミノフェニル）プロパン、１，１−ビス（４−ジ−ｐ−トリルアミノフェニル）シクロヘキサン、Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラ−ｐ−トリル−４，４′−ジアミノビフェニル、１，１−ビス（４−ジ−ｐ−トリルアミノフェニル）−４−フェニルシクロヘキサン、ビス（４−ジメチルアミノ−２−メチルフェニル）フェニルメタン、ビス（４−ジ−ｐ−トリルアミノフェニル）フェニルメタン、Ｎ，Ｎ′−ジフェニル−Ｎ，Ｎ′−ジ（４−メトキシフェニル）−４，４′−ジアミノビフェニル、Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラフェニル−４，４′−ジアミノジフェニルエーテル、４，４′−ビス（ジフェニルアミノ）クオードリフェニル、Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリ（ｐ−トリル）アミン、４−（ジ−ｐ−トリルアミノ）−４′−〔４−（ジ−ｐ−トリルアミノ）スチリル〕スチルベン、４−Ｎ，Ｎ−ジフェニルアミノ−（２−ジフェニルビニル）ベンゼン、３−メトキシ−４′−Ｎ，Ｎ−ジフェニルアミノスチルベンゼン及びＮ−フェニルカルバゾール等が挙げられる。
【０１４０】
正孔輸送層は、上記正孔輸送材料を、例えば、真空蒸着法、スピンコート法、キャスト法、インクジェット法を含む印刷法及びＬＢ法（ラングミュア・ブロジェット、Ｌａｎｇｍｕｉｒ  Ｂｌｏｄｇｅｔｔ法）等の公知の方法により、薄膜化することにより形成することができる。正孔輸送層の層厚については特に制限はないが、通常は５ｎｍ〜５μｍ程度、好ましくは５〜２００ｎｍの範囲である。この正孔輸送層は、上記材料の一種又は二種以上からなる単層構造であってもよい。
【０１４１】
また、正孔輸送層の材料に不純物をドープすることにより、ｐ性を高くすることもできる。その例としては、特開平４−２９７０７６号公報、特開２０００−１９６１４０号公報、同２００１−１０２１７５号公報及びＪ．Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．，９５，５７７３（２００４）等に記載されたものが挙げられる。
【０１４２】
このように、正孔輸送層のｐ性を高くすると、より低消費電力の素子を作製することができるため好ましい。
【０１４３】
（電子輸送層）
電子輸送層は、電子を輸送する機能を有する材料から構成され、広い意味で電子注入層、正孔阻止層も電子輸送層に含まれる。電子輸送層は、単層構造又は複数層の積層構造として設けることができる。
【０１４４】
単層構造の電子輸送層及び積層構造の電子輸送層において、発光層に隣接する層部分を構成する電子輸送材料（正孔阻止材料を兼ねる）としては、カソードより注入された電子を発光層に伝達する機能を有していれば良い。このような材料としては、従来公知の化合物の中から任意のものを選択して用いることができる。例えば、ニトロ置換フルオレン誘導体、ジフェニルキノン誘導体、チオピランジオキシド誘導体、カルボジイミド、フレオレニリデンメタン誘導体、アントラキノジメタン、アントロン誘導体及びオキサジアゾール誘導体等が挙げられる。さらに、上記オキサジアゾール誘導体において、オキサジアゾール環の酸素原子を硫黄原子に置換したチアジアゾール誘導体、電子吸引基として知られているキノキサリン環を有するキノキサリン誘導体も、電子輸送層の材料として用いることができる。さらにこれらの材料を高分子鎖に導入した高分子材料又はこれらの材料を高分子の主鎖とした高分子材料を用いることもできる。
【０１４５】
また、８−キノリノール誘導体の金属錯体、例えば、トリス（８−キノリノール）アルミニウム（略称：Ａｌｑ３）、トリス（５，７−ジクロロ−８−キノリノール）アルミニウム、トリス（５，７−ジブロモ−８−キノリノール）アルミニウム、トリス（２−メチル−８−キノリノール）アルミニウム、トリス（５−メチル−８−キノリノール）アルミニウム、ビス（８−キノリノール）亜鉛（略称：Ｚｎｑ）等及びこれらの金属錯体の中心金属がＩｎ、Ｍｇ、Ｃｕ、Ｃａ、Ｓｎ、Ｇａ又はＰｂに置き替わった金属錯体も、電子輸送層の材料として用いることができる。
【０１４６】
電子輸送層は、上記材料を、例えば、真空蒸着法、スピンコート法、キャスト法、インクジェット法を含む印刷法及びＬＢ法等の公知の方法により、薄膜化することで形成することができる。電子輸送層の層厚については特に制限はないが、通常は５ｎｍ〜５μｍ程度、好ましくは５〜２００ｎｍの範囲内である。電子輸送層は上記材料の一種又は二種以上からなる単層構造であってもよい。
【０１４７】
（阻止層）
阻止層としては、正孔阻止層及び電子阻止層が挙げられ、上記説明したキャリア輸送機能層ユニット３の各構成層の他に、必要に応じて設けられる層である。例えば、特開平１１−２０４２５８号公報、同１１−２０４３５９号公報、及び「有機ＥＬ素子とその工業化最前線（１９９８年１１月３０日エヌ・ティー・エス社発行）」の２３７頁等に記載されている正孔阻止（ホールブロック）層等を挙げることができる。
【０１４８】
正孔阻止層とは、広い意味では、電子輸送層の機能を有する。正孔阻止層は、電子を輸送する機能を有しつつ正孔を輸送する能力が著しく小さい正孔阻止材料からなり、電子を輸送しつつ正孔を阻止することで電子と正孔の再結合確率を向上させることができる。また、電子輸送層の構成を必要に応じて、正孔阻止層として用いることができる。正孔阻止層は、発光層に隣接して設けられていることが好ましい。
【０１４９】
一方、電子阻止層とは、広い意味では、正孔輸送層の機能を有する。電子阻止層は、正孔を輸送する機能を有しつつ、電子を輸送する能力が著しく小さい材料からなり、正孔を輸送しつつ電子を阻止することで電子と正孔の再結合確率を向上させることができる。また、正孔輸送層の構成を必要に応じて電子阻止層として用いることができる。本発明に適用する正孔阻止層の層厚としては、好ましくは３〜１００ｎｍの範囲であり、さらに好ましくは５〜３０ｎｍの範囲である。
【０１５０】
〔第２電極：光透過性を有する陰極〕
本発明に係るセパレーターにより分割して構成される陰極は、キャリア輸送機能層群や発光層に正孔を供給するために機能する光透過性を有する電極であり、金属、合金、有機又は無機の導電性化合物若しくはこれらの混合物として、例えば、金、アルミニウム、銀、マグネシウム、リチウム、マグネシウム／銅混合物、マグネシウム／銀混合物、マグネシウム／アルミニウム混合物、マグネシウム／インジウム混合物、インジウム、リチウム／アルミニウム混合物、希土類金属、ＩＴＯ、ＺｎＯ、ＴｉＯ２及びＳｎＯ２等の酸化物半導体などが挙げられるが、その中でも、少なくとも薄膜の金属又は合金で構成されていることが好ましい構成であり、さらに好ましくは、含窒素化合物を用いて構成された下地層と、当該下地層上に、銀又は銀を主成分とした合金で構成されている電極層を有する構成であることが好ましい。
【０１５１】
光透過性を有する陰極として好適な銀又は銀を主成分とした合金とは、上記陽極の説明で記載したのと同様の材料を挙げることができ、具体的には、銀単独で形成しても、あるいは銀（Ａｇ）を含有する合金から構成されていてもよい。そのような合金としては、例えば、銀・マグネシウム（Ａｇ・Ｍｇ）、銀・銅（Ａｇ・Ｃｕ）、銀・パラジウム（Ａｇ・Ｐｄ）、銀・パラジウム・銅（Ａｇ・Ｐｄ・Ｃｕ）、銀・インジウム（Ａｇ・Ｉｎ）などが挙げられる。
【０１５２】
陰極は、これらの導電性材料を蒸着やスパッタリング等の方法により薄膜を形成させて作製することができる。また、第２電極としてのシート抵抗は、数百Ω／ｓｑ．以下が好ましく、膜厚は通常５ｎｍ〜５μｍ、好ましくは５〜２００ｎｍの範囲で選ばれる。
【０１５３】
《有機ＥＬパネルの基本構成》
次いで、本発明の有機ＥＬパネルの詳細について説明する。
【０１５４】
本発明の有機ＥＬパネルにおいては、複数の発光エリア（有機ＥＬ素子）に分割された構成を有し、分割されている一方の発光エリアを構成する陽極が、隣接する他方の発光エリアを構成する陰極と、直列に電気的に接続されている構成であることを特徴とする。
【０１５５】
以下、複数の分割した発光エリアを有する本発明の有機ＥＬパネルの基本的な構成について説明する。
【０１５６】
〔実施形態１〕
図２は、複数の有機ＥＬ素子を具備した本発明の有機ＥＬパネルの構成の一例を示す概略断面図（実施形態１）である。
【０１５７】
図２に示す有機ＥＬパネル（Ｐ）では、上記図１で説明した有機ＥＬ素子（ＯＬＥＤ）の構成材料のうち、ガスバリアー層、封止用接着層及び封止部材等の記載は省略してある。
【０１５８】
図２に示す有機ＥＬパネル（Ｐ）では、一枚の広い面積を有する光透過性を有する基材（１）上に、複数の有機ＥＬ素子（ＯＬＥＤ）をそれぞれ離間した状態で配置して、独立した発光エリアを形成している。詳しくは、基材（１）上に、陽極（３）、セパレーター（８）、有機機能層ユニット（Ｕ）及び陰極（７）等により構成されている有機ＥＬ素子（ＯＬＥＤ）を複数個配置している。２つのセパレーター（８）間に陰極（７）が電気的に分割した状態で形成され、分割されている一方の発光エリアを構成する陰極（７）が、円形の破線部で示す領域で、隣接する他方の発光エリアを構成する陽極（３）の端部と、直列に電気的に接続した構成を有している。このような構成とすることにより、複数個の有機ＥＬ素子（ＯＬＥＤ）を直列に接続することができる。
【０１５９】
図２に示す構成においては、陰極（７）のセパレーター（８）に接している左端部から陽極（３）の右端部までの領域が「発光エリア」となり、陽極（３）の右端部から隣接する他方の有機ＥＬ素子（ＯＬＥＤ）のセパレーター（８）に接している陰極（７）の左端部までが「非発光エリア」となる。
【０１６０】
〔実施形態２：絶縁層の形成〕
本発明の有機ＥＬパネル(Ｐ)においては、陽極（３）とセパレーター（８）との間に、絶縁層（１２）を設けることが、好ましい形態である。
【０１６１】
図３は、本発明の有機ＥＬパネル（Ｐ）の構成で、絶縁層（１２）を有する一例を示す概略断面図（実施形態２）である。
【０１６２】
基本的な構成は、図２で説明した実施形態１の構成と同様であり、陽極（３）とセパレーター（８）との間に、絶縁層（１２）を有している。このように絶縁層（１２）を設けることにより、同一発光エリア内での陽極と陰極間の絶縁性を更に高めることができ、短絡等を防止することができ、高い発光安定性を実現することができる。
【０１６３】
（絶縁層）
絶縁層は、陽極（３）の端部を覆うように形成されていることが好ましい。陽極の端部では有機機能層ユニット（Ｕ）の厚みが薄くなるため、絶縁層を形成することでショートし難くすることができる。絶縁層が形成された部分は、発光に寄与しない非発光領域とすることができる。
【０１６４】
絶縁層の形成位置としては、発光エリア内で陽極が露出するように、絶縁層が形成されていればよい。発光領域の大きさとしては、特に限定されるものではなく、有機ＥＬパネルの用途等に応じて適宜設定される。
【０１６５】
絶縁層の形成材料としては、感光性ポリイミド樹脂、アクリル系樹脂等の光硬化型樹脂、または熱硬化型樹脂、および無機材料等を挙げることができる。
【０１６６】
絶縁層の形成方法としては、フォトリソグラフィー法、印刷法等の一般的な方法を用いることができるが、特に、フォトリソグラフィー法で形成することが好ましい。
【０１６７】
〔実施形態３：基材にガスバリアー層を形成〕
本発明においては、基材としてフレキシブル性樹脂基材を用い、かつフレキシブル性樹脂基材上にガスバリアー層を有している構成であることが好ましい形態である（実施形態３）。
【０１６８】
図４で示す有機ＥＬパネル（Ｐ）は、基材上にガスバリアー層（２）を有する構成の一例を示す概略断面図（実施形態３）である。
【０１６９】
基本的な構成は、上記実施態様２の図３で説明した構成と同一であるが、基材（１）と陽極（３）との間に、ガスバリアー層（２）を形成した構成である。
【０１７０】
このようなガスバリアー層（２）を設けることにより、基材としてガラス基材に比べ、水蒸気透過度等が高いフレキシブル性樹脂基材に対し、高次のガスバリアー性を付与することができる。
【０１７１】
〈ガスバリアー層〉
基材（１）の片面又は両面で、少なくとも陽極（３、第１電極）が形成される側の全面に、光透過性のあるガスバリアー層（２）を形成することにより、水分や酸素など、有機ＥＬ素子の構成材料に対し劣化をもたらすものの浸入を抑制することができる。
【０１７２】
ガスバリアー層（２）は、無機材料被膜だけでなく、有機材料との複合材料からなる被膜又はこれらの被膜を積層したハイブリッド被膜であってもよい。ガスバリアー層（２）の性能としては、ＪＩＳ（日本工業規格）−Ｋ７１２９（２００８年）に準拠した方法で測定した水蒸気透過度（環境条件：２５±０．５℃、相対湿度：９０±２％）が約０．０１ｇ／ｍ２・２４ｈ以下であり、ＪＩＳ−Ｋ７１２６（２００６年）に準拠した方法で測定した酸素透過度が約０．０１ｍｌ／ｍ２・２４ｈ・ａｔｍ以下、抵抗率が１×１０１２Ω・ｃｍ以上、光線透過率は可視光領域で約８０％以上であるような、ガスバリアー性を有する光透過性の絶縁膜であることが好ましい。
【０１７３】
ガスバリアー層（２）の形成材料としては、有機ＥＬ素子の劣化を招く、例えば水や酸素等のガスの有機ＥＬ素子への浸入を抑制できる材料であれば、任意の材料を用いることができる。
【０１７４】
ガスバリアー層（２）は、例えば、酸化ケイ素、窒化ケイ素、酸窒化ケイ素、炭化ケイ素、酸炭化ケイ素、酸化アルミニウム、窒化アルミニウム、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化ニオブ、酸化モリブデン等の無機材料からなる被膜で構成することができ、好ましくは、窒化ケイ素や酸化ケイ素等のケイ素化合物を主原料とする構成である。
【０１７５】
ガスバリアー層の形成方法としては、従来公知の薄膜形成方法を適宜選択して用いることができ、例えば、真空蒸着法、スパッタ法、マグネトロンスパッタ法、分子線エピタキシー法、クラスターイオンビーム法、イオンプレーティング法、プラズマ重合法、大気圧プラズマ重合法（特開２００４−６８１４３号公報参照）、プラズマＣＶＤ（Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｖａｐｏｒ  Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）法、レーザーＣＶＤ法、熱ＣＶＤ法、ＡＬＤ（原子層堆積）法、また、ポリシラザン等を用いた湿式塗布法を適用することもできる。
【０１７６】
〔実施形態４：有機ＥＬ素子の配置パターン〕
複数の独立している発光エリア（有機ＥＬ素子）を有する本発明の有機ＥＬパネルにおいては、複数の発光エリアが、ストライプ状に並列配置されているパターンであることが好ましい形態である。
【０１７７】
図５は、複数の発光エリアをストライプ状に配置した有機ＥＬパネルの一例を示す上面図及び概略断面図（実施形態４）である。
【０１７８】
図５の（ａ）に示す構成では、広い面積からなる基材（１）上に、短冊状の有機ＥＬ素子（ＯＬＥＤ）より構成される発光エリアをストライプ状に配列した例を示してある。図５の（ａ）では、有機ＥＬ素子（ＯＬＥＤ）としては、ＯＬＥＤ１〜ＯＬＥＤｎまでのｎ個を並列配置している。同一平面上にＯＬＥＤをストライプ状に配置する場合、そのＯＬＥＤの配置数としては、基材の大きさや、ＯＬＥＤの大きさにより、一概に規定することはできないが、最小構成は２つのＯＬＥＤを用いた構成であるが、本願発明の輝度均一性を達成する観点からは、好ましくは２〜２０個の範囲内であり、さらに好ましくは２〜１０個の範囲内である。したがって、一例としては、基材の幅が１０ｃｍ×１０ｃｍの大面積の有機ＥＬパネルにおいては、ＯＬＥＤによる発光エリアのサイズとしては、幅０．５ｃｍ×長さ１０ｃｍ〜巾５ｃｍ×長さ１０ｃｍ、好ましくは巾１．０ｃｍ×長さ１０ｃｍ〜巾５ｃｍ×長さ１０ｃｍの範囲内となるが、これらの発光エリア面積は、基材のサイズ及びＯＬＥＤの配置数により、適宜選択することができる。
【０１７９】
また、図５で示す「非発光エリア」の幅としては、おおむね０．２〜１．０ｍｍの範囲内であることが好ましい。
【０１８０】
図５の（ｂ）は、図５の（ａ）で示した構成の有機ＥＬパネル（Ｐ）の概略断面図であり、ＯＬＥＤ１〜ＯＬＥＤｎまでのｎ個のＯＬＥＤが並列配置している有機ＥＬ素子（ＯＬＥＤ）群において、分割されている一方の発光エリアを構成する陽極（３）の端部と、隣接する他方の発光エリアを構成する陰極（７）の端部とが直列に電気的に接続されている。更に、一方の端部に配置されているＯＬＥＤ（例えば、図５の（ｂ）で示す左端部のＯＬＥＤ１）の陽極（３）と、他方の端部に配置されているＯＬＥＤ（例えば、図５の（ｂ）で示す右端部のＯＬＥＤｎ）の陰極（７）間が、配線（１８）により接続され、その回路内に印加電源（１３）が設けられており、各ＯＬＥＤを発光させるための電力供給を行う。
【０１８１】
〔有機ＥＬパネルの概略回路図〕
図６Ａに従来型の有機ＥＬパネルの回路図を示し、図６Ｂには本発明の有機ＥＬパネルの回路図を示す。
【０１８２】
図６Ａは、従来型の有機ＥＬパネル（Ｐ）の回路図であり、単一の大型の有機ＥＬ素子（ＯＬＥＤ）で構成した際の回路図で、印加電源（１３）より、有機ＥＬ素子に電圧Ｖ、電流Ｉを印加して発光させるが、この構成では、広い面積のＯＬＥＤに大容量の電流Ｉが流れるため、有機ＥＬ素子面内で、電流が多く流れる領域と少なくしか流れない領域が発生し、輝度ムラが発生しやすくなる。有機ＥＬ素子の輝度は、流れる電流が大きくなればなるほど高くなるため、このような電流差が発生することにより、輝度ムラが発生しやすい状態にあった。
【０１８３】
これに対し、図６Ｂに示す回路図では、複数のＯＬＥＤ（ＯＬＥＤ１〜ＯＬＥＤｎ）を並列配置した本発明の有機ＥＬパネル（Ｐ）においては、有機ＥＬ素子に印加電源（１３）より電圧Ｎ×Ｖ、電流Ｉを印加して発光させるが、個々の有機ＥＬ素子（ＯＬＥＤ）に流れる電流は、Ｉ／Ｎとなり、有機ＥＬ素子間における電流差が生じ難くなるため、輝度ムラが発生しにくくなるため、発光均一性に優れた大型の有機ＥＬパネルを実現することができる。
【０１８４】
〔実施形態５：封止部材を具備した有機ＥＬ素子〕
図７は、本発明の有機ＥＬパネルの構成で、封止部材を設けた構成の一例を示す概略断面図（実施形態５）である。
【０１８５】
図７に示す有機ＥＬパネル（Ｐ）では、上記説明した図４で示した陰極まで形成した複数の有機ＥＬ素子（ＯＬＥＤ）を具備した有機ＥＬパネル（Ｐ）に対し、更にその上部に封止部材を形成している一例を示してある。
【０１８６】
図７で示すように、複数の有機ＥＬ素子（ＯＬＥＤ）の全面に、封止用接着剤（９）を付与した後、最表面にガスバリアー層（１０）を具備している封止部材（１１）を形成する。
【０１８７】
封止部材としては、有機ＥＬ素子の表示領域を覆うように配置されていればよく、凹板状でも、平板状でもよい。また透明性を有していれば電気絶縁性は特に限定されない。
【０１８８】
具体的には、フレキシブル性を備えた光透過性のガラス基板、樹脂基板、フィルム、金属フィルム（金属箔）等が挙げられる。ガラス基板としては、特にソーダ石灰ガラス、バリウム・ストロンチウム含有ガラス、鉛ガラス、アルミノケイ酸ガラス、ホウケイ酸ガラス、バリウムホウケイ酸ガラス、石英等を挙げることができる。また、樹脂基板としては、ポリカーボネート、アクリル、ポリエチレンテレフタレート、ポリエーテルサルファイド、ポリサルフォン等を挙げることができる。
【０１８９】
封止用接着剤としては、ポリウレタン系、ポリエステル系、エポキシ系、アクリル系等の接着剤を用いることができる。必要に応じて硬化剤を併用してもよい。ホットメルトラミネーション法やエクストルージョンラミネート法および共押出しラミネーション法も使用できるがドライラミネート方式が好ましい。
【０１９０】
本発明においては、封止部材としては、有機ＥＬ素子を薄膜化することできる観点から、樹脂基板及びカラス基板を好ましく使用することができる。さらに、樹脂基板は、ＪＩＳ  Ｋ  ７１２９−１９９２に準拠した方法で測定された温度２５±０．５℃、相対湿度９０±２％ＲＨにおける水蒸気透過度が、１×１０−３ｇ／ｍ２・２４ｈ以下であることが好ましく、さらには、ＪＩＳ  Ｋ  ７１２６−１９８７に準拠した方法で測定された酸素透過度が、１×１０−３ｍｌ／ｍ２・２４ｈ・ａｔｍ（１ａｔｍは、１．０１３２５×１０５Ｐａである）以下であって、温度２５±０．５℃、相対湿度９０±２％ＲＨにおける水蒸気透過度が、１×１０−３ｇ／ｍ２・２４ｈ以下であることが好ましい。この条件を満たすため、前述の基材にて説明したのと同様のガスバリアー層を設けることが好ましい形態である。
【０１９１】
封止部材と有機ＥＬ素子の表示領域（発光領域）との間隙には、気相及び液相では窒素、アルゴン等の不活性気体やフッ化炭化水素、シリコンオイルのような不活性液体を注入することもできる。また、封止部材と有機ＥＬ素子の表示領域との間隙を真空とすることや、間隙に吸湿性化合物を封入することもできる。
【０１９２】
〔有機ＥＬ素パネルの製造方法：実施形態６〕
次いで、本発明の有機ＥＬパネルの製造方法の概略について説明する。
【０１９３】
本発明の有機Ｅパネルの製造方法は、上記説明した構成からなる非発光時の波長５５０ｎｍにおける光透過率が５０％以上である有機エレクトロルミネッセンス素子を具備した有機ＥＬパネルの製造方法であり、当該有機エレクトロルミネッセンス素子において、基材上に、少なくとも陽極、有機機能層ユニット及び陰極より構成される発光エリアを、複数に分割して形成し、前記陰極を、前記陽極上に設けたセパレーターにより分離したパターンを形成し、分割されている一方の発光エリアを構成する陽極を、隣接する他方の発光エリアを構成する陰極と、直列に電気的に接続し、かつ、前記陽極、陰極及びセパレーターを、フォトリソグラフィー法により形成することを特徴とする。
【０１９４】
加えて、陽極と前記セパレーターとの間に、フォトリソグラフィー法を用いて絶縁層を形成する製造方法が好ましい実施形態である。
【０１９５】
代表的な有機ＥＬパネル（Ｐ）の各構成部材の形成工程としては、基板（１）上に、真空蒸着法、スパッタ法、ＣＶＤ法、湿式塗布法によりガスバリアー層（２）を形成した後、陽極（３）、絶縁層（１２）、及びセパレーター（８）をフォトリソグラフィー法により成膜した後、有機機能層ユニット（Ｕ）及び陰極（７）を蒸着法により形成し、最後に、湿式塗布法等で、封止用接着剤（９）を形成した後、ガスバリアー層（１０）を有する封止基板（１１）で、全面を封止して、有機ＥＬパネル（Ｐ）を作製する。
【０１９６】
（フォトリソグラフィー法）
本発明では、フォトリソグラフィー法を用いたエッチング加工（パターニング）により、所望のパターンの陽極（３）、絶縁層（１２）、及びセパレーター（８）を形成することができる。上記形成にフォトリソグラフィー法を適用することにより、高精度で精細な陽極（３）、絶縁層（１２）、及びセパレーター（８）を形成でき、極めて狭い非発光エリアを形成することができる。
【０１９７】
本発明に適用可能なフォトリソグラフィー法とは、レジスト塗布、（予備加熱、）露光、現像、リンス、（前処理）、エッチング、レジスト剥離の各工程を経ることにより、陽極（３）、絶縁層（１２）及びセパレーター（８）を所望の高精細パターンで形成する方法である。本発明では、従来公知の一般的なフォトリソグラフィー法を適宜利用することができ、例えば、特開２０１０−１４５５３２号公報、特開２０１２−１１８４２５号公報、特開２０１３−２５４４７号公報、特開２０１３−２５４４８号公報等に記載されている方法を参考にすることができる。
【０１９８】
フォトリソグラフィー法としては、例えば、レジストとしてはポジ型又はネガ型のいずれのレジストでも使用可能である。また、レジスト塗布後、必要に応じて予備加熱又はプリベークを実施することができる。露光に際しては、所望のパターンを有するパターンマスクを配置し、その上から、用いたレジストに適合する波長の光、一般には紫外光を照射すればよい。露光後、用いたレジストに適合する現像液で現像を行うことができる。現像後、水等のリンス液で現像を止めるとともに洗浄を行うことで、レジストパターンが形成される。
【０１９９】
次いで、形成されたレジストパターンを、必要に応じて前処理又はポストベークを実施してから、エッチングで彫り込むことができる。エッチング後、残留するレジストを剥離することによって、所望のパターンを有する陽極（３）、絶縁層（１２）、及びセパレーター（８）が得られる。このように、本発明に適用されるフォトリソグラフィー法は、当業者に一般に認識されている方法であり、その具体的な適用態様は当業者であれば、目的に応じて容易に選定することができる。
【０２００】
図８は、前記図７で示した実施形態５の有機ＥＬパネル（Ｐ）の作製手順の一例を示す工程フロー図（実施形態６）である。
【０２０１】
はじめに、図８の（ａ）で示すように、光透過性を有する基材（１）上にガスバリアー層（２）を形成する。ガスバリアー層（２）の形成方法としては、前述のとおり、真空蒸着法、スパッタ法、マグネトロンスパッタ法、分子線エピタキシー法、クラスターイオンビーム法、イオンプレーティング法、プラズマ重合法、大気圧プラズマ重合法、プラズマＣＶＤ法や、ポリシラザン等を用いた湿式塗布法を用いて形成する。
【０２０２】
次いで、図８の（ｂ）で示すように、ガスバリアー層（２）上の所定の位置に、フォトリソグラフィー法を用いて、複数の光透過性を有する陽極（３）をそれぞれ離間した状態で形成する。
【０２０３】
次いで、図８の（ｃ）で示すように、陽極上の特定のエリア（端部）に、絶縁層（１２）を、同じくフォトリソグラフィー法を用いて形成する。
【０２０４】
次いで、図８の（ｄ）で示すように、形成した絶縁層（１２）上に、セパレーター（８）を、同じくフォトリソグラフィー法を用いて形成する。
【０２０５】
次いで、図８の（ｅ）で示すように、例えば、キャリア輸送機能層群１（４、例えば、正孔注入層及び正孔輸送層等）、発光層（５）、キャリア輸送機能層群２（６、電子輸送層等）より構成される複数の有機機能層ユニット（Ｕ）を形成する。
【０２０６】
これら有機機能層ユニットを形成している各層の形成は、スピンコート法、キャスト法、インクジェット法、蒸着法、印刷法等があるが、均質な層が得られやすく、かつ、高精度で成膜を行うことができる点で、ファインマスク（Ｍ）を用いた蒸着法を適用することが好ましい。具体的には、蒸着用の加熱ボートに各有機機能層ユニット形成用の各原料を充填し、加熱ボートを加熱して、ファインマスクを介して、光透過性を有する陽極（３）上に、有機機能層ユニット（Ｕ）の各層のパターンを形成する。
【０２０７】
この時、有機機能層ユニット層（Ｕ）を構成する各層ごとに異なる形成法を適用しても良い。これらの各層の形成に蒸着法を採用する場合、その蒸着条件は使用する化合物の種類等により異なるが、一般にボート加熱温度を５０〜４５０℃の範囲、真空度を１×１０−６〜１×１０−２Ｐａの範囲、蒸着速度０．０１〜５０ｎｍ／秒の範囲、基板温度−５０〜３００℃の範囲、層厚０．１〜５μｍの範囲内で、各条件を適宜選択することが望ましい。
【０２０８】
次いで、図８の（ｆ）で示すように、複数の有機機能層ユニット（Ｕ）上で、２つのセパレーター（８）により分離されている特定のエリア全面に、光透過性を有する陰極（７）を形成する。この時、隣接する位置形成してある一方の有機ＥＬ素子の陽極（３）の端部と、導電性接着剤等を介して電気的に接続させるように形成する。具体的には、蒸着用の加熱ボートに陰極形成用の原料を充填し、当該加熱ボートを加熱して、ファインマスクを介して、有機機能層ユニット（Ｕ）上及び隣接する陽極（３）上に、陰極（７）を形成する。この時、陰極（７）と、隣接する陽極（３）間は、導電性接着剤（不図示）により電気的接続されている。
【０２０９】
次いで、図８の（ｇ）で示すように、陰極（７）を形成した後、これら光透過性を有する基材（１）、ガスバリアー層（２）、陽極（３）、絶縁層（１２）、セパレーター（８）、有機機能層ユニット（Ｕ）及び陰極（７）の全面を、封止用樹脂層（９）と、ガスバリアー層（１０）を有する封止部材（１１）で封止する。
【０２１０】
〔実施形態７：陰極を薄膜銀層で形成〕
本発明においては、光透過性を有する陰極が、含窒素化合物を用いて構成された下地層と、当該下地層上に、銀又は銀を主成分とした合金で構成されている薄膜銀層（陰極）を有する構成であることが好ましい形態の一つである。
【０２１１】
図９は、陰極として、下地層（１４）とその上に、銀又は銀を主成分とした合金で構成されている薄膜銀層（１５）を設けた構成を示してある。
【０２１２】
上記図９で記載した構成とすることにより、下地層上に銀又は銀を主成分とした合金で構成されている陰極を形成する際には、陰極を構成する銀原子が、下地層に含有されている窒素原子を有する化合物と相互作用を生じることにより、該下地層表面上での銀原子の拡散距離が減少し、特定箇所での銀原子の凝集を抑えることができ、均質な薄膜銀層（１５）を得ることができる。
【０２１３】
すなわち、銀原子は、まず窒素原子を有する化合物、更に詳しくは、銀原子と親和性のある芳香族性に関与しない非共有電子対を持つ窒素原子を有する非対称性化合物を含有する下地層表面上で２次元的な核を形成し，それを中心に２次元の単結晶層を形成するという単層成長型（Ｆｒａｎｋ−ｖａｎ  ｄｅｒ  Ｍｅｒｗｅ：ＦＭ型）の膜成長によって成膜されるようになり、均質性の高い薄膜の銀膜を形成することができる。
【０２１４】
（下地層）
下地層を構成する材料としては、特に限定されるものではなく、その上に形成する陰極の構成材料である銀の凝集を抑制できるものであり、窒素原子を含んだ化合物等が挙げられる。
【０２１５】
下地層（１４）を構成するのに用いることができる窒素原子含有化合物としては、分子内に窒素原子を含んでいる化合物であれば、特に限定はないが、窒素原子をヘテロ原子とした複素環を有する化合物が好ましい。窒素原子をヘテロ原子とした複素環としては、アジリジン、アジリン、アゼチジン、アゼト、アゾリジン、アゾール、アジナン、ピリジン、アゼパン、アゼピン、イミダゾール、ピラゾール、オキサゾール、チアゾール、イミダゾリン、ピラジン、モルホリン、チアジン、インドール、イソインドール、ベンゾイミダゾール、プリン、キノリン、イソキノリン、キノキサリン、シンノリン、プテリジン、アクリジン、カルバゾール、ベンゾ−Ｃ−シンノリン、ポルフィリン、クロリン及びコリン等が挙げられる。
【０２１６】
さらには、下地層（１４）が含有する窒素原子含有化合物は、芳香族性に関与しない非共有電子対を持つ窒素原子を有する芳香族複素環化合物であることが好ましい。
【０２１７】
これらの窒素原子含有化合物の具体例としては、特開２０１５−０４６３６４号公報の段落（００９７）〜同（０２２１）に記載の例示化合物Ｎｏ．１〜Ｎｏ．１３４を挙げることができる。
【０２１８】
〔実施形態８：光学調整層の形成〕
本発明においては、陰極の上部に光学調整層を設ける構成が好ましい形態である。
【０２１９】
図１０は、本発明に適用可能な有機ＥＬ素子の構成の一例で、上記図９で説明した構成の薄膜銀層（１５）の上部に、光学調整層（１６）を形成した構成を示す概略断面図（実施形態６）である。
【０２２０】
本発明に適用可能な光学調整層とは、光学干渉作用により光透過性材料の透過率を向上させる役割を果たすものをいう。
【０２２１】
本発明に適用可能な光学調整層を構成する材料としては、適当な屈折率が得られれば特に制限なく既存の化合物を利用できる。有機ＥＬの陰極上に、ダメージなく成膜できるという点から、真空蒸着法を適用できる化合物が好ましい。
【０２２２】
光学調整層の形成材料としては、例えば、Ａｌ２Ｏ３（屈折率１．６）、ＣｅＯ３（屈折率２．２）、Ｇａ２Ｏ３（屈折率１．５）、ＨｆＯ２（屈折率２．０）、ＩＴＯ（インジウム・スズ酸化物  屈折率２．１）、ＩＺＯ（インジウム・亜鉛酸化物、屈折率２．１）、ＭｇＯ（屈折率１．７）、Ｎｂ２Ｏ５（屈折率２．３）、ＳｉＯ２（屈折率１．５）、Ｔａ２Ｏ５（屈折率２．２）、ＴｉＯ２（屈折率２．３〜２．５）、Ｙ２Ｏ３（屈折率１．９）、ＺｎＯ（屈折率２．１）、ＺｒＯ２（屈折率２．１）、ＡｌＦ３（１．４）、ＣａＦ２（１．２〜１．４）、ＣｅＦ３（１．６）、ＧｄＦ３（１．６）、ＬａＦ３（１．５９）、ＬｉＦ（１．３）、ＭｇＦ２（１．４）、ＮａＦ（１．３）等を用いることができる。
【０２２３】
〔実施形態９：電気接続ユニット（ＦＰＣ）の適用〕
本発明においては、有機ＥＬパネルと外部電極との接続部が、導電性接着剤により電気的接続されている構成であることが好ましく、更には外部電極が、光透過性を有するフレキシブルプリント回路（ＦＰＣ）より構成されることが好ましい形態である。
【０２２４】
図１１は、本発明に適用可能な有機ＥＬパネルと外部電極との電気的接続方法の一例を示す概略図である。
【０２２５】
図１１においては、複数の有機ＥＬ素子（ＯＬＥＤ）を並列配置してある有機ＥＬパネル（Ｐ）の両端部設けた引出電極（１７）に対し、外部電極として光透過性を有するフレキシブルプリント回路（ＦＰＣ、２０）を、異方性導電膜（ＡＣＦ、１９）を介して接続している一例を示している。
【０２２６】
本発明の有機ＥＬパネルの形成においては、電気接続ユニットとして、透過性の高いＦＰＣ（フレキシブルプリント回路）を適用することができる。ＦＰＣ（Ｆｌｅｘｉｂｌｅ  ｐｒｉｎｔｅｄ  ｃｉｒｃｕｉｔｓ）とは、「フレキシブルプリント回路基板」や「フレキシブルプリント配線板」とも呼ばれ、絶縁性を持った薄く柔らかいベースフィルム（ポリイミド等）と銅箔等の導電性金属を貼り合わせた基材に電気回路を形成した基板をいう。
【０２２７】
電気接続ユニットであるＦＰＣは、フレキシブル基板の表面側に回路部を有し、裏面側には配線を有している。
【０２２８】
電気接続ユニット（ＦＰＣ）を構成するフレキシブル基板としては、透明でフレキシブル性を有し、かつ十分な機械的強度を備えたプラスチック材料であれば特に制限はなく、ポリイミド樹脂（ＰＩ）、ポリカーボネート樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート樹脂（ＰＥＮ）、シクロオレフィン樹脂（ＣＯＰ）等が挙げられるが、好ましくは、ポリイミド樹脂（ＰＩ）、ポリエチレンテレフタレート樹脂（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート樹脂（ＰＥＮ）が好ましい。
【０２２９】
表面の回路部と裏面の配線は、導電性を有する金属材料で構成されていることが好ましく、例えば、金、銀、銅、ＩＴＯ等を挙げることができるが、本発明では、銅により形成することが好ましい。
【０２３０】
透明ＦＰＣと有機ＥＬパネルを電気的に接続する導電性接着剤としては、導電性を備えた部材であれば特に制限はないが、異方性導電膜（ＡＣＦ）、導電性ペースト、又は金属ペーストであることが好ましい態様である。
【０２３１】
異方性導電膜（ＡＣＦ）とは、例えば、熱硬化性樹脂に混ぜ合わせた導電性を持つ微細な導電性粒子を有する層を挙げることができる。本発明に用いることができる導電性粒子含有層としては、異方性導電部材としての導電性粒子を含有する層であれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。本発明に係る異方性導電部材として用いることができる導電性粒子としては、例えば、金属粒子、金属被覆樹脂粒子などが挙げられる。市販されているＡＣＦとしては、例えば、ＭＦ−３３１（日立化成製）などの、樹脂フィルムにも適用可能な低温硬化型のＡＣＦを挙げることができる。
【０２３２】
金属粒子としては、例えば、ニッケル、コバルト、銀、銅、金、パラジウムなどが挙げられる。これらは、一種単独で使用してもよいし、二種以上を併用してもよい。これらの中でも、ニッケル、銀、銅が好ましい。これらの表面酸化を防ぐ目的で、表面に金、パラジウムを施した粒子を用いてもよい。更に、表面に金属突起や有機物で絶縁被膜を施したものを用いてもよい。
【０２３３】
金属被覆樹脂粒子としては、例えば、樹脂コアの表面をニッケル、銅、金、及びパラジウムのいずれかの金属を被覆した粒子が挙げられる。同様に、樹脂コアの最外表面に金、パラジウムを施した粒子を用いてもよい。更に、樹脂コアの表面に金属突起や有機物で絶縁皮膜を施したものを用いてもよい。
【０２３４】
また、金属ペーストとしては、市販されている金属ナノ粒子ペーストである、銀粒子ペースト、銀−パラジウム粒子ペースト、金粒子ペースト、銅粒子ペースト等を適宜選択して用いることができる。金属ペーストとしては、例えば、大研化学社から販売されている有機ＥＬ素子基板用銀ペースト（ＣＡ−６１７８、ＣＡ−６１７８Ｂ、ＣＡ−２５００Ｅ、ＣＡ−２５０３−４、ＣＡ−２５０３Ｎ、ＣＡ−２７１等、比抵抗値：１５〜３０ｍΩ・ｃｍ、スクリーン印刷法で形成、硬化温度：１２０〜２００℃）、ＬＴＣＣ用ペースト（ＰＡ−８８（Ａｇ）、ＴＣＲ−８８０（Ａｇ）、ＰＡ−Ｐｔ（Ａｇ・Ｐｔ））、ガラス基板用銀ペースト（ＵＳ−２０１、ＵＡ−３０２、焼成温度：４３０〜４８０℃）等を挙げることができる。
【産業上の利用可能性】
【０２３５】
本発明の有機エレクトロルミネッセンスパネルは、輝度均一性を達成し、各種照明装置の面発光体やスマートフォンやタブレット等の各種スマートデバイスに好適に利用できる。
【符号の説明】
【０２３６】
１  基材
２、１０  ガスバリアー層
３  陽極（光透過性を有する陽極）
４  キャリア輸送機能層群１
５  発光層
６  キャリア輸送機能層群２
７  陰極（光透過性を有する陰極）
８  セパレーター（隔壁）
９  封止用接着層
１１  封止基板
１２  絶縁層
１３  印加電源
１４  下地層
１５  薄膜銀層
１６  光学調整層
１７  引出電極
１８  配線
１９  ＡＣＦ接続エリア
２０  ＦＰＣ
Ｌ  発光光
ＯＬＥＤ  有機ＥＬ素子
Ｐ  有機ＥＬパネル
Ｕ  有機機能層ユニット
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６Ａ】
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【図６Ｂ】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【国際調査報告】
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2017056684.tif 000016
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