(57)【要約】【課題】  タッチパネル用電極に形成する透明保護膜で、低誘電率を有すると共に透明保護膜を形成できるタッチパネル電極の保護膜用感光性透明材を提供する。【解決手段】  タッチパネル電極の保護膜用感光性透明材であって、（Ａ）（メタ）アクリル酸に由来する構造単位ａ１と、炭素数４〜１８のアルキル基を有する（メタ）アクリル酸アルキルエステルに由来する構造単位ａ２を含むバインダーポリマー、（Ｂ）少なくとも３つのエチレン性不飽和基を有し、酸価が５ｍｇＫＯＨ／ｇ以下である光重合性化合物、（Ｃ）光重合開始剤を含むタッチパネル電極の保護膜用感光性透明材。【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
タッチパネル電極の保護膜用感光性透明材であって、（Ａ）（メタ）アクリル酸に由来する構造単位ａ１と、炭素数４〜１８のアルキル基を有する（メタ）アクリル酸アルキルエステルに由来する構造単位ａ２を含むバインダーポリマー、（Ｂ）少なくとも３つのエチレン性不飽和基を有し、酸価が５ｍｇＫＯＨ／ｇ以下である光重合性化合物、（Ｃ）光重合開始剤を含むタッチパネル電極の保護膜用感光性透明材。
【請求項２】
厚み１０μｍの膜を形成したときの可視光透過率が９０％以上である、請求項１に記載のタッチパネル電極の保護膜用感光性透明材。
【請求項３】
硬化膜を形成したときの比誘電率が３．１〜３．８である、請求項１又は２に記載のタッチパネル電極の保護膜用感光性透明材。
【請求項４】
前記バインダーポリマーの前記構造単位ａ１とａ２の重合モル比がａ１／ａ２＝１５／８５〜４０／６０の範囲で重合されたバインダーポリマーを含む請求項１〜３のいずれかに記載のタッチパネル電極の保護膜用感光性透明材。
【請求項５】
前記（Ｂ）光重合性化合物が、ペンタエリスリトール由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物、ジペンタエリスリトール由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物、トリメチロールプロパン由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物からなる群より選択される少なくとも１種の化合物を含む、請求項１〜４のいずれかに記載のタッチパネル電極の保護膜用感光性透明材。
【請求項６】
前記（Ｃ）光重合開始剤が、オキシムエステル化合物、又はホスフィンオキサイド化合物を含有する請求項１〜５のいずれかに記載のタッチパネル電極の保護膜用感光性透明材。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、タッチパネル用電極の保護膜に用いるタッチパネル電極の保護膜用感光性透明材に関する。
【背景技術】
【０００２】
パソコンやテレビの大型電子機器からカーナビゲーション、携帯電話、電子辞書等の小型電子機器やＯＡ・ＦＡ機器等の表示機器には液晶表示素子やタッチパネル（タッチセンサー）が用いられている。これら液晶表示素子やタッチパネルには透明導電電極材からなる電極が設けられている。透明導電電極材としては、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ−Ｔｉｎ−Ｏｘｉｄｅ）、酸化インジュウムや酸化スズが知られており、これらの材料は高い可視光透過率を示すことから液晶表示素子用基板等の電極材として主流となっている。
【０００３】
タッチパネルはすでに各種の方式が実用化されているが、近年、静電容量方式のタッチパネルの利用が進んでいる。静電容量方式タッチパネルでは、指先（導電体）がタッチ入力面に接触すると、指先と導電膜との間が静電容量結合し、コンデンサを形成する。このため、静電容量方式タッチパネルは、指先の接触位置における電荷の変化を捉えることによって、その座標を検出している。
【０００４】
特に、投影型静電容量方式のタッチパネルは、指先の多点検出が可能なため、複雑な指示を行うことができるという良好な操作性を備え、その操作性の良さから、携帯電話や携帯型音楽プレーヤなどの小型の表示装置を有する機器における表示面上の入力装置として利用が進んでいる。
【０００５】
一般に、投影型静電容量方式のタッチパネルでは、Ｘ軸とＹ軸による２次元座標を表現するために、複数のＸ電極と、当該Ｘ電極に直交する複数のＹ電極とが、２層構造を形成しており、該電極としてはＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ−Ｔｉｎ−Ｏｘｉｄｅ）が用いられる。
【０００６】
ところで、タッチパネルの額縁領域はタッチ位置を検出できない領域であるため、その額縁領域の面積を狭くすることが製品価値の重要な要素である。額縁面積の狭小化を図るためには、バス電極及び引き回し線の幅を狭くする必要がある。ＩＴＯの導電性は充分に高くないので、一般的にはバス電極にアルミ／モリブデンや銅などの金属層を形成して導電性を上げる処理がなされる。
【０００７】
しかしながら、上述のようなタッチパネルは、指先に接触される際に水分や塩分などの腐食成分がセンシング領域から内部に侵入することがある。タッチパネルの内部に腐食成分が侵入すると、金属配線が腐食し、電極と駆動用回路間の電気抵抗の増加や、断線の恐れがあった。
【０００８】
金属配線の腐食を防ぐために、金属上に絶縁層を形成した静電容量方式の投影型タッチパネルが開示されている（例えば、特許文献１）。このタッチパネルでは、二酸化ケイ素層をプラズマ化学気相成長法（プラズマＣＶＤ法）で金属上に形成し、金属の腐食を防いでいる。しかしながら、この手法はプラズマＣＶＤ法を用いるため、高温処理が必要となり基材が限定される問題があった。また、製造コストが高くなる問題もあった。
【０００９】
必要な箇所にレジスト膜を設ける方法として、所定の基材上に感光性樹脂組成物からなる感光層を設けてこの感光層を露光、現像する方法が知られている（例えば、特許文献２〜３）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１０】
【特許文献１】特開２０１１−２８５９４号公報
【特許文献２】特開平７−２５３６６６号公報
【特許文献３】特開２００５−９９６４７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
感光性樹脂組成物によるタッチパネル電極用透明保護膜において、厚み１０μｍ以下で透明性、現像性及び防錆性を有する保護膜は多々検討されてきた。しかし、タッチセンサーの感度向上のため、タッチパネル用電極透明保護膜の低誘電率化について検討された例はなかった。
【００１２】
本発明は、所定のタッチパネル用電極に形成する透明保護膜であって、かつ低誘電率を有すると共に透明保護膜を形成できるタッチパネル電極の保護膜用感光性透明材を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
上記課題を解決するために本発明者らは鋭意検討した結果、感光性樹脂組成物に使用するバインダーポリマーに長鎖アルキルを共重合することで、誘電率を上昇させる原因であるカルボキシル基の分子運動を阻害し、カルボキシル基の配向分極を抑制し低誘電率化を実現するに至った。また、前記バインダーポリマーと特定の光重合性化合物、及び光重合開始剤を含有する感光性樹脂組成物が、充分な透明性、現像性及び低誘電率を有することを見出した。
【００１４】
本発明は、［１］  タッチパネル電極の保護膜用感光性透明材であって、（Ａ）（メタ）アクリル酸に由来する構造単位ａ１と、炭素数４〜１８のアルキル基を有する（メタ）アクリル酸アルキルエステルに由来する構造単位ａ２を含むバインダーポリマー、（Ｂ）少なくとも３つのエチレン性不飽和基を有し、酸価が５ｍｇＫＯＨ／ｇ以下である光重合性化合物、（Ｃ）光重合開始剤を含むタッチパネル電極の保護膜用感光性透明材に関する。
本発明で用いるバインダーポリマーは、（メタ）アクリル酸に由来するカルボキシル基を有し、酸価が３０〜１９０ｍｇＫＯＨ／ｇであり、炭素数４〜１８のアルキル基を有する（メタ）アクリル酸アルキルエステルを共重合させた（Ａ）バインダーポリマーと、（Ｂ）少なくとも３つのエチレン性不飽和基を有し、酸価が５ｍｇＫＯＨ／ｇ以下である光重合性化合物と、（Ｃ）光重合開始剤とを含有する感光性樹脂組成物からなる感光層を設け、当該感光層の所定部分を活性光線の照射により硬化させた後に所定部分以外の感光層を除去し、上記電極の一部又は全部を被覆する厚みが好ましくは、１０μｍ以下の上記感光性樹脂組成物の硬化物からなるタッチパネル電極の保護膜用感光性透明材を形成する。
【００１５】
本明細書においてタッチパネル電極とは、タッチパネルのセンシング領域にある電極だけでなく額縁領域の金属配線も含まれる。保護層を設ける電極は、いずれか一方であってもよく、両方であってもよい。
【００１６】
また、本発明は、［２］  厚み１０μｍの膜を形成したときの可視光透過率が９０％以上である、上記［１］に記載のタッチパネル電極の保護膜用感光性透明材に関する。
また、本発明は、［３］  硬化膜を形成したときの比誘電率が３．１〜３．８である、上記［１］又は［２］に記載のタッチパネル電極の保護膜用感光性透明材に関する。
また、本発明は、［４］  前記バインダーポリマーの前記構造単位ａ１とａ２の重合モル比がａ１／ａ２＝１５／８５〜４０／６０の範囲で重合されたバインダーポリマーを含む上記［１］〜［３］のいずれかに記載のタッチパネル電極の保護膜用感光性透明材に関する。
また、本発明は、［５］  前記（Ｂ）光重合性化合物が、ペンタエリスリトール由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物、ジペンタエリスリトール由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物、トリメチロールプロパン由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物からなる群より選択される少なくとも１種の化合物を含む、上記［１］〜［４］のいずれかに記載のタッチパネル電極の保護膜用感光性透明材に関する。
【００１７】
また、本発明は、［６］  前記（Ｃ）光重合開始剤が、オキシムエステル化合物、又はホスフィンオキサイド化合物を含有する上記［１］〜［５］のいずれかに記載のタッチパネル電極の保護膜用感光性透明材に関する。
上記のようにタッチパネルの視認性を充分に確保する観点から、上記感光層は可視光透過率が９０％以上であることが好ましい。この場合、センシング領域の電極を被覆する保護膜の形成に好適である。
【００１８】
ところで、タッチパネルの視認性や外観を考慮すると、保護膜の透明性はより高いことが望ましい。しかし、その一方で、透明性が高い薄膜の感光層をパターニングする場合、解像性が低下する傾向にあることを本発明者らは見出している。この原因について本発明者らは、感光層の厚みが小さくなると、基材からの光散乱の影響を受けやすく、ハレーションが発生するためと考えている。
【００１９】
これに対し、本発明においては上記光重合開始剤がオキシムエステル化合物又はホスフィンオキサイド化合物を含有することによって、充分な解像度でパターン形成が可能となる。
【００２０】
なお、上記の効果が得られる理由を、オキシムエステル化合物に含まれるオキシム部位又はホスフィンオキサイド化合物に含まれるホスフィンオキサイド部位が、比較的高い光分解効率を有しつつも僅かな漏れ光では分解しない適度な閾値を有するために、漏れ光による影響が抑制された結果であると、本発明者らは推察する。
【００２１】
本発明のタッチパネル用電極の保護膜の形成方法においては、支持フィルムと、該支持フィルム上に設けられた上記感光性樹脂組成物（少なくとも上記（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）を含む）からなる感光層とを備える感光性エレメントを用意し、該感光性エレメントの感光層を基材上に転写して上記感光層を設けることができる。この場合、感光性エレメントを用いることにより、ロールツーロールプロセスが容易に実現できる、溶剤乾燥工程が短縮できるなど、製造工程の短縮やコスト低減に大きく貢献することができる。
【発明の効果】
【００２２】
本発明によれば、所定のタッチパネル用電極上に形成する充分な透明性、現像性及び低誘電率を有する保護膜であって、そのような保護膜を形成できるタッチパネル電極の保護膜用感光性透明材を提供することができる。
【００２３】
また、本発明のタッチパネル電極の保護膜用感光性透明材によれば、低誘電率を有することで電極間の電気的ノイズ等を低減することができ、タッチセンサーとしての感度を向上させることができる。
【発明を実施するための形態】
【００２４】
以下、本発明を実施するための形態について詳細に説明する。ただし、本発明は以下の実施形態に限定されるものではない。
【００２５】
本発明のタッチパネル電極の保護膜用感光性透明材は、タッチパネル用電極の保護膜として使用する感光性樹脂組成物を、支持フィルム上に設けたものを感光性エレメントとする。
【００２６】
支持フィルムとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエーテルサルフォン等からなる厚さ５〜１００μｍ程度のフィルムが挙げられる。
【００２７】
支持フィルムの厚さは、被覆性の確保と、支持フィルムを介して露光する際の解像度の低下を抑制する観点から、５〜１００μｍであることが好ましく、１０〜７０μｍであることがより好ましい。
【００２８】
本発明に係る感光性樹脂組成物は、カルボキシル基を有し、酸価が１００〜１９０ｍｇＫＯＨ／ｇであり、炭素数４〜１８のアルキル基を有する（メタ）アクリル酸を共重合させたバインダーポリマー（以下、（Ａ）成分ともいう）と、少なくとも３つのエチレン性不飽和基を有し、酸価が５ｍｇＫＯＨ／ｇ以下である光重合性化合物（以下、（Ｂ）成分ともいう）と、光重合開始剤（以下、（Ｃ）成分ともいう）と、を含有する。
【００２９】
本実施形態においては、酸価が上記範囲内にある（Ａ）成分と、上記条件を満たす（Ｂ）成分とを組み合わせて用いることにより、現像性及び基材への密着性を確保しつつ、１０μｍ以下の厚みで充分な防錆性を有する保護膜を形成することができる。
【００３０】
本実施形態において、（Ａ）成分は、（ａ１）（メタ）アクリル酸、及び（ａ２）炭素数４〜１８のアルキル基を有する（メタ）アクリル酸アルキルエステルに由来する構成単位を含有する共重合体が好適である。
ここで（メタ）アクリル酸は、アクリル酸及びメタクリル酸を意味し、同様に（メタ）アクリル酸アルキルエステルは、アクリル酸アルキルエステル及びメタクリル酸アルキルエステルを意味する。
【００３１】
本実施形態において、現像性及び低誘電率の観点から、上記（ａ１）（メタ）アクリル酸と（ａ２）炭素数４〜１８のアルキル基を有する（メタ）アクリル酸アルキルエステルに由来する構成単位の共重合モル比が合計量１００モル％に対し、重合モル比でａ１／ａ２＝１５／８５〜４０／６０の範囲で重合されたバインダーポリマーを含むことが好ましく、ａ１／ａ２＝２５／７５〜４０／６０であることがより好ましい。
【００３２】
上記（メタ）アクリル酸アルキルエステルとしては、例えば、（メタ）アクリル酸ブチルエステル、（メタ）アクリル酸ラウリルエステル及び（メタ）アクリル酸ステアリルエステル等が挙げられる。
【００３３】
（Ａ）成分であるバインダーポリマーの分子量は、特に制限はないが、塗工性及び塗膜強度、現像性の見地から、通常、重量平均分子量（ＧＰＣを用いて、標準ポリスチレン換算で測定した値）が１０，０００〜２００，０００であることが好ましく、３０，０００〜１５０，０００であることがより好ましく、５０，０００〜１００，０００であることがさらに好ましい。
【００３４】
（Ａ）成分であるバインダーポリマーの酸価は、現像工程により感光性樹脂組成物層を選択的に除去してパターンを形成する工程において、公知の各種現像液により現像可能となり、且つ、電極の保護膜として機能させる際に水分や塩分などの腐食成分への耐性を向上させる観点から、３０〜１９０ｍｇＫＯＨ／ｇの範囲とすることが好ましい。
【００３５】
また、バインダーポリマーの酸価を、３０〜１９０ｍｇＫＯＨ／ｇとすることにより、水と、アルカリ金属塩と、界面活性剤とを含むアルカリ水溶液を用いて現像することができる。この酸価が、３０ｍｇＫＯＨ／ｇ未満では、現像が困難となる傾向があり、１９０ｍｇＫＯＨ／ｇを超えると誘電率が上昇していく傾向にある。
【００３６】
（Ｂ）成分である光重合性化合物は、少なくとも３つのエチレン性不飽和基を有し、酸価が５ｍｇＫＯＨ／ｇ以下である光重合性化合物としては、例えば、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、テトラメチロールメタントリ（メタ）アクリレート、テトラメチロールメタンテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等の多価アルコールにα、β−不飽和飽和カルボン酸を反応させて得られる化合物；トリメチロールプロパントリグリシジルエーテルトリアクリレート等のグリシジル基含有化合物にα、β−不飽和カルボン酸を付加して得られる化合物が挙げられる。
【００３７】
本実施形態の感光性樹脂組成物においては、誘電率及び現像容易性の観点から、ペンタエリスリトール由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物、ジペンタエリスリトール由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物、トリメチロールプロパン由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物からなる群より選択される少なくとも１種を含むことが好ましく、ジペンタエリスリトール由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物及びトリメチロールプロパン由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物から選択される少なくとも１種を含むことがより好ましい。
【００３８】
ここで、ジペンタエリスリトール由来の骨格を有する（メタ）アクリレートとは、ジペンタエリスリトールと、（メタ）アクリル酸とのエステル化物を意味し、当該エステル化物には、アルキレンオキシ基で変性された化合物も包含される。上記のエステル化物は、一分子中におけるエステル結合の数が６であることが好ましいが、エステル結合の数が１〜５の化合物が混合していてもよい。
【００３９】
また、上記トリメチロールプロパン由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物とは、トリメチロールプロパンと、（メタ）アクリル酸とのエステル化物を意味し、当該エステル化物には、アルキレンオキシ基で変性された化合物も包含される。上記のエステル化物は、一分子中におけるエステル結合の数が３であることが好ましいが、エステル結合の数が１〜２の化合物が混合していてもよい。
【００４０】
上記の化合物は、１種を単独で又は２種以上組み合わせて用いることができる。
【００４１】
本実施形態の感光性樹脂組成物における（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の含有量は、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の合計量１００質量部に対し、（Ａ）成分が４０〜８０質量部、（Ｂ）成分が２０〜６０質量部であることが好ましく、（Ａ）成分が５０〜７０質量部、（Ｂ）成分が３０〜５０質量部であることがより好ましく、（Ａ）成分が５５〜６５質量部、（Ｂ）成分が３５〜４５質量部であることが更により好ましい。
【００４２】
（Ａ）成分の含有量を上記範囲内とすることにより、塗布性あるいは感光性エレメントでのフィルム性を充分に確保しつつ、充分な感度が得られ、光硬化性、現像性、及び低誘電率化を充分に確保することができる。
【００４３】
（Ｃ）成分である光重合開始剤としては、例えば、ベンゾフェノン、Ｎ，Ｎ´−テトラメチル−４，４´−ジアミノベンゾフェノン（ミヒラーケトン）、Ｎ，Ｎ´−テトラエチル−４，４´−ジアミノベンゾフェノン、４−メトキシ−４´−ジメチルアミノベンゾフェノン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン−１、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノ−プロパノン−１等の芳香族ケトン；２−エチルアントラキノン、フェナントレンキノン、２−ｔｅｒｔ−ブチルアントラキノン、オクタメチルアントラキノン、１，２−ベンズアントラキノン、２，３−ベンズアントラキノン、２−フェニルアントラキノン、２，３−ジフェニルアントラキノン、１−クロロアントラキノン、２−メチルアントラキノン、１,４−ナフトキノン、９，１０−フェナンタラキノン、２−メチル１,４−ナフトキノン、２，３−ジメチルアントラキノン等のキノン類；ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインフェニルエーテル等のベンゾインエーテル化合物、ベンゾイン、メチルベンゾイン、エチルベンゾイン等のベンゾイン化合物；１，２−オクタンジオン，１−［４−（フェニルチオ）−，２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）］、エタノン，１−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］−、１−（０−アセチルオキシム）等のオキシムエステル化合物；ベンジルジメチルケタール等のベンジル誘導体；２−（ｏ−クロロフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体、２−（ｏ−クロロフェニル）−４，５−ジ（メトキシフェニル）イミダゾール二量体、２−（ｏ−フルオロフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体、２−（ｏ−メトキシフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体、２−（ｐ−メトキシフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体等の２，４，５−トリアリールイミダゾール二量体；９−フェニルアクリジン、１，７−ビス（９，９´−アクリジニル）ヘプタン等のアクリジン誘導体；Ｎ−フェニルグリシン、Ｎ−フェニルグリシン誘導体、クマリン系化合物、オキサゾール系化合物が挙げられる。また、２つの２，４，５−トリアリールイミダゾールのアリール基の置換基は同一で対象な化合物を与えてもよいし、相違して非対称な化合物を与えてもよい。また、ジエチルチオキサントンとジメチルアミノ安息香酸の組み合わせのように、チオキサントン系化合物と３級アミン化合物とを組み合わせてもよい。
【００４４】
これらの中でも、形成する保護膜の透明性、及び膜厚を１０μｍ以下としたときのパターン形成能から、オキシムエステル化合物又はホスフィンオキサイド化合物が好ましい。オキシムエステル化合物としては、下記一般式（Ｃ−１）及び一般式（Ｃ−２）で表される化合物が挙げられるが、速硬化性、透明性の観点から、下記一般式（Ｃ−１）で表される化合物が好ましい。
【００４５】
【化１】
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【００４６】
上記一般式（Ｃ−１）中、Ｒ１は、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数３〜２０のシクロアルキル基を含む有機基、炭素数２〜１２のアルカノイル基、二重結合がカルボニル基と共役していない炭素数４〜６のアルケノイル基、ベンゾイル基、炭素数２〜６のアルコキシカルボニル基又はフェノキシカルボニル基を示す。なお、本発明の効果を阻害しない限り、上記一般式（Ｃ−１）中の芳香環上に置換基を有していてもよい。
【００４７】
上記一般式（Ｃ−１）中、Ｒ１は炭素数１〜１２のアルキル基、又は炭素数３〜２０のシクロアルキル基を含む有機基であることが好ましく、炭素数３〜１０のアルキル基、又は炭素数４〜１５のシクロアルキル基を含む有機基であることがより好ましく、炭素数４〜８のアルキル基、又は炭素数４〜１０のシクロアルキル基を含む有機基であることが特に好ましい。
【００４８】
【化２】
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【００４９】
上記一般式（Ｃ−２）中、Ｒ２は、ハロゲン原子、炭素数１〜１２のアルキル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、フェニル基、ベンジル基、ベンゾイル基、炭素数２〜１２のアルカノイル基、炭素数２〜１２のアルコキシカルボニル基又はフェノキシカルボニル基を示し、Ｒ３は、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数３〜２０のシクロアルキル基を含む有機基を示し、Ｒ４はそれぞれ独立に、ハロゲン原子、炭素数１〜１２のアルキル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、フェニル基、ベンジル基、ベンゾイル基、炭素数２〜１２のアルカノイル基、炭素数２〜１２のアルコキシカルボニル基、又はフェノキシカルボニル基を示し、Ｒ５は、炭素数２〜２０のアルキル基又はアリーレン基を示し、ｐ１は０〜３の整数を示す。なお、ｐ１が２以上である場合、複数存在するＲ４はそれぞれ同一でも異なっていてもよい。なお、カルバゾール上には本発明の効果を阻害しない範囲で置換基を有していてもよい。
【００５０】
上記一般式（Ｃ−２）中、Ｒ２は炭素数１〜１２のアルキル基であることが好ましく、炭素数１〜８のアルキル基であることがより好ましく、炭素数１〜４のアルキル基であることが特に好ましい。
【００５１】
上記一般式（Ｃ−２）中、Ｒ３は炭素数１〜８のアルキル基、炭素数４〜１５のシクロアルキル基を含む有機基であることが好ましく、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数４〜１０のシクロアルキル基であることがより好ましい。
【００５２】
上記一般式（Ｃ−１）で表される化合物及び一般式（Ｃ−２）で表される化合物としては、１，２−オクタンジオン，１−［４−（フェニルチオ）−，２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）］、エタノン，１−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］−，１−（Ｏ−アセチルオキシム）等が挙げられる。１，２−オクタンジオン，１−［４−（フェニルチオ）−，２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）］は、ＩＲＧＡＣＵＲＥ−ＯＸＥ０１（ＢＡＳＦ社製、商品名）として、エタノン，１−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］−，１−（Ｏ−アセチルオキシム）は、ＩＲＧＡＣＵＲＥ−ＯＸＥ０２（ＢＡＳＦ社製、商品名）として商業的に入手可能である。これらは単独で、又は２種類以上を組み合わせて使用される。
【００５３】
上記一般式（Ｃ−１）の中でも、特に１，２−オクタンジオン，１−［４−（フェニルチオ）−，２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）］が極めて好ましい。
【００５４】
上記ホスフィンオキサイド化合物としては、下記一般式（Ｃ−３）及び一般式（Ｃ−４）で表される化合物が挙げられる。速硬化性、透明性の観点から、下記一般式（Ｃ−３）で表される化合物が好ましい。
【００５５】
【化３】
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【００５６】
上記一般式（Ｃ−３）中、Ｒ６、Ｒ７及びＲ８はそれぞれ独立に、炭素数１〜２０のアルキル基又はアリール基を示す。一般式（Ｃ−４）中、Ｒ９、Ｒ１０及びＲ１１はそれぞれ独立に、炭素数１〜２０のアルキル基又はアリール基を示す。
【００５７】
上記一般式（Ｃ−３）におけるＲ６、Ｒ７又はＲ８が、炭素数１〜２０のアルキル基の場合、該アルキル基は直鎖状、分岐鎖状、及び環状のいずれであってもよく、また該アルキル基の炭素数は５〜１０であることがより好ましい。上記一般式（Ｃ−４）におけるＲ９、Ｒ１０又はＲ１１が炭素数１〜２０のアルキル基の場合、該アルキル基は直鎖状、分岐鎖状、及び環状のいずれであってもよく、また該アルキル基の炭素数は５〜１０であることがより好ましい。
【００５８】
上記一般式（Ｃ−３）におけるＲ６、Ｒ７又はＲ８がアリール基の場合、該アリール基は置換基を有していてもよい。該置換基としては、例えば、炭素数１〜６のアルキル基及び炭素数１〜４のアルコキシ基を挙げることができる。上記一般式（Ｃ−４）におけるＲ９、Ｒ１０又はＲ１１がアリール基の場合、該アリール基は置換基を有していてもよい。該置換基としては例えば、炭素数１〜６のアルキル基及び炭素数１〜４のアルコキシ基を挙げることができる。
【００５９】
これらの中でも、上記一般式（Ｃ−３）は、Ｒ６、Ｒ７、及びＲ８がアリール基であることが好ましく、一般式（Ｃ−４）で表わされる化合物は、Ｒ９、Ｒ１０及びＲ１１がアリール基であることが好ましい。
【００６０】
上記一般式（Ｃ−３）で表わされる化合物としては、形成する保護膜の透明性、及び膜厚を１０μｍ以下としたときのパターン形成能から、２，４，６−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−ホスフィンオキサイドが好ましい。２，４，６−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−ホスフィンオキサイドは、例えば、ＤＡＲＯＣＵＲ−ＴＰＯ（ＢＡＳＦジャパン社製、商品名）として商業的に入手可能である。
【００６１】
（Ｃ）成分である光重合開始剤の含有量は、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の合計量１００質量部に対し、０．１〜１０質量部であることが好ましく、１〜２質量部であることがより好しい。
【００６２】
（Ｃ）成分の含有量を上記範囲内とすることにより、光感度が充分となるとともに、露光の際に組成物の表面での吸収が増大して内部の光硬化が不充分となることや可視光透過率が低下するなどの不具合を抑制することができる。
【００６３】
本実施形態の感光性樹脂組成物の硬化膜の可視光線透過率が９０％以上であることが好ましく、９２％以上であることがより好ましく、９５％以上であることが更により好ましい。
【００６４】
ここで、感光性樹脂組成物の可視光線透過率は以下のようにして求められる。まず、支持フィルム上に感光性樹脂組成物を乾燥後の厚みが１０μｍとなるように塗布し、これを乾燥することにより、感光性樹脂組成物層を形成する。次に、ガラス基板上に、感光性樹脂組成物層が接するようにラミネータを用いてラミネートする。こうして、ガラス基板上に、感光性樹脂組成物層及び支持フィルムが積層された測定用試料を得る。次に、得られた測定用試料に紫外線を照射して感光性樹脂組成物層を光硬化し、支持フィルムを剥がした後、紫外可視分光光度計を用いて、測定波長域３００〜８００ｎｍにおける透過率を測定する。
【００６５】
一般的な可視光波長域の光線である４００〜７００ｎｍの波長域における透過率が９０％以上であれば、例えば、タッチパネル（タッチセンサー）の表示部分の透明電極も保護する場合や、タッチパネル（タッチセンサー）の額縁領域の金属層（例えば、ＩＴＯ電極上に銅層を形成した層など）を保護したときに表示部分の端部から保護層が見える場合において、表示部分での表示品質、色合い、輝度が低下することを充分抑制することができる。
【００６６】
本実施形態の感光性樹脂組成物は、感光性フィルムに製膜して用いることが好ましい。感光性フィルムを、タッチパネル用電極を有する基材上に積層することにより、ロールツーロールプロセスが容易に実現できる、溶剤乾燥工程が短縮できるなど、製造工程の短縮やコスト低減に大きく貢献することができる。
【００６７】
感光性フィルム（感光性エレメント）は、本実施形態の感光性樹脂組成物を塗布液とし、これを支持フィルム上に塗布、乾燥することにより形成できる。塗布液は、上述した本実施形態の感光性樹脂組成物を構成する各成分を溶剤に均一に溶解又は分散することにより得ることができる。
【００６８】
溶剤としては、特に制限はなく、公知のものが使用でき、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、トルエン、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、メチレングリコール、エチレングリコール、プロピレングリコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、クロロホルム、塩化メチレン等が挙げられる。これら溶剤は、１種を単独で用いてもよいし、２種以上の溶剤からなる混合溶剤として用いてもよい。
【００６９】
塗布方法としては、例えば、ドクターブレードコーティング法、ワイヤーバーコーティング法、ロールコーティング法、スクリーンコーティング法、スピナーコーティング法、インクジェットコーティング法、スプレーコーティング法、ディップコーティング法、グラビアコーティング法、カーテンコーティング法、ダイコーティング法等が挙げられる。
【００７０】
乾燥条件に特に制限はないが、乾燥温度は、６０〜１３０℃とすることが好ましく、乾燥時間は、０．５〜３０分とすることが好ましい。
【００７１】
感光層の厚みは、電極保護に充分な効果を発揮し、かつ部分的な電極保護膜形成により生じるタッチパネル（タッチセンサー）表面の段差が極力小さくなるよう、乾燥後の厚みで１０μｍ以下であることが好ましい。
【００７２】
次に、本発明のタッチパネル用電極の保護膜の形成方法について説明する。
【００７３】
本実施形態のタッチパネル用電極の保護膜の形成方法は、タッチパネル用電極を有する基材上に、上記の本実施形態に係る感光性樹脂組成物からなる感光層を設ける第１工程と、感光層の所定部分を活性光線の照射により硬化させる第２工程と、露光後に所定部分以外の感光層を除去し、電極の一部又は全部を被覆する感光性樹脂組成物の硬化物からなる保護膜を形成する第３工程とを備える。
【００７４】
本実施形態で使用される基材には特に制限はなく、一般にタッチパネル（タッチセンサー）用として用いられる、ガラス板、プラスチック板、セラミック板等の基板が挙げられる。この基板上には、保護膜を形成する対象となるタッチパネル用電極が設けられる。電極としては、ＩＴＯ、Ｃｕ、Ａｌ、Ｍｏ等の電極、ＴＦＴ等が挙げられる。
【００７５】
タッチパネル用電極を有する基材は、例えば、以下の手順で得ることができる。ＰＥＴフィルムなどの基材上に、ＩＴＯ、Ｃｕの順にスパッタより金属膜を形成した後、金属膜上にエッチング用感光性フィルムを貼り付け、所望のレジストパターンを形成し、不要なＣｕを塩化鉄水溶液等のエッチング液で除去した後、レジストパターンをはく離除去する。
【００７６】
本実施形態の第１工程では、本実施形態の感光層を加熱しながら、基材のタッチパネル用電極が設けられている表面に感光層を圧着することにより積層する。
【００７７】
圧着手段としては、圧着ロールが挙げられる。圧着ロールは、加熱圧着できるように加熱手段を備えたものであってもよい。
【００７８】
加熱圧着する場合の加熱温度は、感光層と基材との密着性を充分確保しながら、感光層の構成成分が熱硬化あるいは熱分解されにくいよう、１０〜１８０℃とすることが好ましく、２０〜１６０℃とすることがより好ましく、３０〜１５０℃とすることが更により好ましい。
【００７９】
また、加熱圧着時の圧着圧力は、感光層と基材との密着性を充分確保しながら、基材の変形を抑制する観点から、線圧で５０〜１×１０５Ｎ／ｍとすることが好ましく、２．５×１０２〜５×１０４Ｎ／ｍとすることがより好ましく、５×１０２〜４×１０４Ｎ／ｍとすることが更により好ましい。
【００８０】
感光層を上記のように加熱すれば、基材を予熱処理することは必要ではないが、感光層と基材との密着性を更に向上させる点から、基材を予熱処理することが好ましい。このときの予熱温度は、３０〜１８０℃とすることが好ましい。
【００８１】
本実施形態においては、感光性エレメントを用いる代わりに、本実施形態の感光性樹脂組成物を塗布液として基材のタッチパネル用電極が設けられている表面に塗布し、乾燥して感光層を形成することができる。
【００８２】
本実施形態の第２工程では、感光層に、フォトマスクを介して、活性光線をパターン状に露光する。
【００８３】
露光の際、感光層上の支持フィルムが透明の場合には、そのまま露光することができ、不透明の場合には除去してから露光する。感光層の保護という点からは、支持フィルムとして透明な重合体フィルムを用い、この重合体フィルムを残存させたまま、それを通して露光することが好ましい。
【００８４】
露光に用いられる活性光線の光源としては、公知の活性光源が使用でき、例えば、カーボンアーク灯、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、キセノンランプ等が挙げられ、紫外線を有効に放射するものであれば特に制限されない。
【００８５】
本実施形態の第３工程では、露光後の感光層を現像液で現像して未露光部を除去し、電極の一部又は全部を被覆する本実施形態の感光性樹脂組成物の硬化物からなる保護膜を形成する。形成される保護膜は所定のパターンを有することができる。
【００８６】
なお、露光後、感光層に支持フィルムが積層されている場合にはそれを除去した後、現像液による未露光部を除去する現像が行われる。
【００８７】
現像方法としては、アルカリ水溶液、水系現像液、有機溶剤等の公知の現像液を用いて、スプレー、シャワー、浸漬、揺動浸漬、ブラッシング、スクラッピング等の公知の方法により現像を行い、不要部を除去する方法等が挙げられ、中でも、環境、安全性の観点からアルカリ水溶液を用いることが好ましいものとして挙げられる。
【００８８】
アルカリ水溶液の塩基としては、水酸化アルカリ（リチウム、ナトリウム又はカリウムの水酸化物等）、炭酸アルカリ（リチウム、ナトリウム又はカリウムの炭酸塩若しくは重炭酸塩等）、アルカリ金属リン酸塩（リン酸カリウム、リン酸ナトリウム等）、アルカリ金属ピロリン酸塩（ピロリン酸ナトリウム、ピロリン酸カリウム等）、水酸化テトラメチルアンモニウム、トリエタノールアミンなどが挙げられ、中でも、水酸化テトラメチルアンモニウム等が好ましいものとして挙げられる。
【００８９】
また、炭酸ナトリウムの水溶液も好ましく用いられ、例えば、２０〜５０℃の炭酸ナトリウムの希薄溶液（０．５〜５質量％水溶液）が好適に用いられる。
【００９０】
現像温度及び時間は、本実施形態の感光性樹脂組成物の現像性に合わせて調整することができる。
【００９１】
また、アルカリ水溶液中には、界面活性剤、消泡剤、現像を促進させるための少量の有機溶剤等を混入させることができる。
【００９２】
また、現像後、光硬化後の感光層に残存したアルカリ水溶液の塩基を、有機酸、無機酸又はこれらの酸水溶液を用いて、スプレー、揺動浸漬、ブラッシング、スクラッピング等の公知方法により酸処理（中和処理）することができる。
【００９３】
さらに、酸処理（中和処理）の後、水洗する工程を行うこともできる。
【実施例】
【００９４】
以下、実施例を挙げて本発明についてより具体的に説明する。ただし、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
【００９５】
［バインダーポリマー溶液（Ａ１）の作製］
撹拌機、還流冷却機、不活性ガス導入口及び温度計を備えたフラスコに、表１に示した（１）を仕込み、窒素ガス雰囲気下で６５℃に昇温し、反応温度を６５℃±２℃に保ちながら、表１に示した（２）を３時間かけて均一に滴下した。（２）の滴下後、７９℃±２℃で１時間撹拌を続け、重量平均分子量が約６５９００、酸価が１６３．８ｍｇＫＯＨ／ｇのバインダーポリマーの溶液（Ａ１）を得た。
【００９６】
［バインダーポリマー溶液（Ａ２）の作製］
上記（Ａ１）と同様にし、重量平均分子量が約７９５００、酸価が１５１．４ｍｇＫＯＨ／ｇのバインダーポリマーの溶液（Ａ２）を得た。
【００９７】
［バインダーポリマー溶液（Ａ３）の作製］
上記（Ａ１）と同様にし、重量平均分子量が約７０２００、酸価が１４０．８ｍｇＫＯＨ／ｇのバインダーポリマーの溶液（Ａ３）を得た。
【００９８】
［バインダーポリマー溶液（Ａ４）の作製］
上記（Ａ１）と同様にし、重量平均分子量が約７８０００、酸価が１３３．７ｍｇＫＯＨ／ｇのバインダーポリマーの溶液（Ａ４）を得た。
【００９９】
［バインダーポリマー溶液（Ａ５）の作製］
上記（Ａ１）と同様にし、重量平均分子量が約６５０００、酸価が１０９．０ｍｇＫＯＨ／ｇのバインダーポリマーの溶液（Ａ５）を得た。
【０１００】
［バインダーポリマー溶液（Ａ６）の作製］
上記（Ａ１）と同様にし、重量平均分子量が約７２０００、酸価が１８６．６ｍｇＫＯＨ／ｇのバインダーポリマーの溶液（Ａ６）を得た。
【０１０１】
［バインダーポリマー溶液（Ａ７）の作製］
上記（Ａ１）と同様にし、重量平均分子量が約６０４００、酸価が１７４．５ｍｇＫＯＨ／ｇのバインダーポリマーの溶液（Ａ７）を得た。
【０１０２】
【表１】
2014137394.tif 000005
なお、重量平均分子量（Ｍｗ）は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー法（ＧＰＣ）によって測定し、標準ポリスチレンの検量線を用いて換算することにより導出した。ＧＰＣの条件を以下に示す。
［ＧＰＣ条件］
ポンプ：ＤＰ−８０２０（東ソー株式会社）
カラム：Ｇｅｌｐａｃｋ  ＧＬ−Ｗ５２０―Ｓ、Ｇｅｌｐａｃｋ  ＧＬ−Ｗ５３０−Ｓ（日立化成株式会社）
溶離液：テトラヒドロフラン
測定温度：２５℃
流量：１．００ｍＬ／分
検出器：ＲＩ−８０２０（東ソー株式会社）
【０１０３】
（実施例１）
［感光性樹脂組成物溶液の作製］
表２に示した材料を、攪拌機を用いて１５分間混合し、感光性樹脂組成物溶液を作製した。
【０１０４】
【表２】
2014137394.tif 000006
【０１０５】
［感光性エレメントの作製］
支持フィルムとして厚さ１６μｍのポリエチレンテレフタレートフィルムを使用し、前記感光性樹脂組成物溶液を支持フィルム上にアプリケーターを用いて均一に塗布し、１００℃の無塵乾燥機で４分間乾燥して溶剤を除去し、感光性樹脂組成物からなる感光層（感光性樹脂組成物層）を形成した。得られた感光層の厚さは１０μｍであった。
【０１０６】
［感光性エレメントの透過率の測定］
次いで、得られた感光性エレメントを厚さ０.５ｍｍで縦４ｃｍ×横４ｃｍのガラス基板上に、感光層が接するようにラミネータ（日立化成テクノプラント株式会社製、ＨＬＭ−１５００型）を用いて、ロール温度１１０℃、基板送り速度０.５ｍ／分、圧着圧力（シリンダ圧力）０.３ＭＰａの条件でラミネートしガラス基板上に、感光層及び支持フィルムが積層された積層体を作製した。
【０１０７】
次いで、得られた積層体の感光層に、大型マニュアル露光機（大日本スクリーン製造株式会社製、ＭＡＰ１２００Ｌ）を使用して、感光層側上方より露光量１００ｍＪ／ｃｍ２で（ｉ線（波長３６５ｎｍ）における測定値）、紫外線を照射した後、支持フィルムを除去し、感光層（光硬化した硬化膜）厚１０μｍの透過率測定用試料を得た。
【０１０８】
次いで、得られた試料を日本分光株式会社製、紫外可視分光光度計（Ｖ−５７０型）を使用して、測定波長域３００〜８００ｎｍで可視光線透過率を測定した。測定結果としては、全光線透過率９７％以上、また４００ｎｍ透過率も９５％と比較例１と同等の透明性を有した。
【０１０９】
［感光性エレメントの解像度測定］
得られた感光性エレメントを厚さ０.５ｍｍで縦４ｃｍ×横４ｃｍのガラス基板上に、感光層が接するようにラミネータ（日立化成テクノプラント株式会社製、ＨＬＭ−１５００型）を用いて、ロール温度１１０℃、基板送り速度０.５ｍ／分、圧着圧力（シリンダ圧力）０.３ＭＰａの条件でラミネートしガラス基板上に、感光層及び支持フィルムが積層された積層体を作製した。
【０１１０】
上記で得られた積層体を作製後、活性光線透過部と活性光線遮光部が交互にパターニングされた、スクエアの開口径５〜１００μｍのフォトマスクを用い、支持フィルム上にフォトマスクを載置し、大型マニュアル露光機（大日本スクリーン製造株式会社製、ＭＡＰ１２００Ｌ）を使用して、フォトマスク面垂直上方より露光量２０ｍＪ／ｃｍ２で（ｉ線（波長３６５ｎｍ）における測定値）、紫外線を像的に照射した。
【０１１１】
次いで、感光層上に積層されている支持フィルムを除去し、２.３８質量％水酸化テトラメチルアンモニウム（ＴＭＡＨ）溶液を用いて、２５℃で１４秒間ディップ現像して、感光層を選択的に除去しパターンを形成した。得られたパターン付き基板の、選択的に感光層を除去した部分の基材表面状態を顕微鏡で観察し評価した。評価用試料の表面状態を観察したところ、１５×１５μｍのスクエア開口パターンが残渣なく形成され、これを解像度とした。
【０１１２】
［感光性エレメントの比誘電率測定］
得られた感光性エレメントを厚さ０.５ｍｍで縦４ｃｍ×横４ｃｍのｐ型シリコンウェハ基板上に、感光層が接するようにラミネータ（日立化成テクノプラント株式会社製、ＨＬＭ−１５００型）を用いて、ロール温度１１０℃、基板送り速度０.５ｍ／分、圧着圧力（シリンダ圧力）０.３ＭＰａの条件でラミネートし、ｐ型シリコンウェハ基板上に、感光層及び支持フィルムが積層された積層体を作製した。
【０１１３】
次いで、得られた積層体の感光層に、大型マニュアル露光機（大日本スクリーン製造株式会社製、ＭＡＰ１２００Ｌ）を使用して、感光層側上方より露光量１００ｍＪ／ｃｍ２で（ｉ線（波長３６５ｎｍ）における測定値）、紫外線を照射した後、支持フィルムを除去し、感光層（光硬化した硬化膜）厚１０μｍの比誘電率測定用試料を得た。周波数１．０ＫＨｚでの測定結果、比誘電率３．６であった。
【０１１４】
（実施例２〜７、比較例１）
表３（表中の数値の単位は質量部）に示した感光性樹脂組成物溶液を用いて、実施例１と同様に感光性エレメントを作製し、全光線、４００ｎｍの透過率の測定、解像度測定、比誘電率測定を行い、その測定結果を纏めて表４に示した。
【０１１５】
【表３】
2014137394.tif 000007
（Ａ１）：メタクリル酸／メタクリル酸メチル／メタクリル酸ブチル＝３０／５５／１５（モル比）、酸価１６３．８（ｍｇＫＯＨ／ｇ）
（Ａ２）：メタクリル酸／メタクリル酸メチル／メタクリル酸ブチル＝３０／３５／３５（モル比）、酸価１５１．４（ｍｇＫＯＨ／ｇ）
（Ａ３）：メタクリル酸／メタクリル酸メチル／メタクリル酸ブチル＝３０／１５／５５（モル比）、酸価１４０．８（ｍｇＫＯＨ／ｇ）
（Ａ４）：メタクリル酸／メタクリル酸ブチル＝３０／７０（モル比）、酸価１３３．７（ｍｇＫＯＨ／ｇ）
（Ａ５）：メタクリル酸／メタクリル酸ブチル＝２５／７５（モル比）、酸価１０９．０（ｍｇＫＯＨ／ｇ）
（Ａ６）：メタクリル酸／メタクリル酸ブチル＝４０／６０（モル比）、酸価１８６．６（ｍｇＫＯＨ／ｇ）
（Ａ７）：メタクリル酸／メタクリル酸メチル＝３０／７０（モル比）、酸価１７４．５（ｍｇＫＯＨ／ｇ）
ＴＭＰ−Ａ：ペンタエリスリトールテトラアクリレート（共栄社化学株式会社製、酸価５ｍｇＫＯＨ／ｇ以下）
Ｉｒｇ−ＯＸＥ０１：１，２−オクタンジオン，１−［４−（フェニルチオ）−，２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）］（ＢＡＳＦ社）
ＡＯ−８０：３，９−ビス［１，１−ジメチル−２−［ベータ−（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフィエニル）プロピオニルオキシ］エチル］２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５，５］−ウンデカン（株式会社ＡＤＥＫＡ）
ＫＢＭ−５０３：３−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン（信越化学工業株式会社）
ＰＧＭＥＡ：プロピレングリコール−１−メチルエーテルアセテート
【０１１６】
【表４】
2014137394.tif 000008
【０１１７】
表４に示したように、実施例４及び５において比誘電率３．２と比較例１の比誘電率３．７と比較し低誘電率が実現されており、当初の課題であった誘電率の観点からは優位性がある。また、実施例４及び５の透明性も比較例１と比較し同等の値が得られた。さらに、実施例４及び５は解像度が２０μｍと、比較例１の解像度と比較し現像性も同等の値であった。
本発明で用いる炭素数４〜１８のアルキル基を有する（メタ）アクリル酸アルキルエステルに対して炭素数１のアルキル基を共重合させた（Ａ７）を用いた比較例１は、光線透過率には優れるが、比誘電率が高い。本発明は、バインダーポリマーとして、（メタ）アクリル酸と、炭素数４〜１８のアルキル基を有する（メタ）アクリル酸アルキルエステルを含む共重合体とし、少なくとも３つのエチレン性不飽和基を有する光重合性化合物を用いることで、光線透過率が同等であり、上記実施例で比誘電率を２．７〜１３．５％も低下させたタッチパネル電極の保護膜用感光性透明材を提供することが出来る。
構造単位ａ１と（（メタ）アクリル酸）ａ２（炭素数４〜１８のアルキル基を有する（メタ）アクリル酸アルキルエステル）の重合モル比がａ１／ａ２＝１５／８５〜４０／６０の範囲である実施例３〜６では比誘電率がより低下する。