(57)【要約】【課題】低着色で耐擦傷性等の被膜性能に優れた硬化被膜を形成可能なハードコート層形成用活性エネルギー線硬化性組成物、その硬化被膜の形成方法及び硬化被膜を基材の表面に有する積層体を提供する。【解決手段】シロキサンオリゴマー（Ａ）及び下記一般式（１）で表されるヨードニウム塩系光重合開始剤（Ｂ）を含有するハードコート層形成用活性エネルギー線硬化性組成物、この活性エネルギー線硬化性組成物を基材に塗付し、活性エネルギー線を照射して硬化被膜を形成する硬化被膜の形成方法及び活性エネルギー線硬化性組成物の硬化被膜を基材の表面に有する積層体。  【化１】2014148574.tif 000013【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
シロキサンオリゴマー（Ａ）及び下記一般式（１）で表されるヨードニウム塩系光重合開始剤（Ｂ）を含有する、ハードコート層形成用活性エネルギー線硬化性組成物。
【化１】
2014148574.tif 000010
【請求項２】
前記シロキサンオリゴマー（Ａ）が、下記一般式（２）で表されるアルコキシシラン類及び一般式（３）で表されるアルキルシリケート類から選ばれる１種以上の化合物の加水分解・縮合物である、請求項１又は２に記載のハードコート層形成用活性エネルギー線硬化性組成物。
【化２】
2014148574.tif 000011
（式中、Ｒ１は炭素数１〜１０の１価の有機基を表す。Ｒ２は炭素数１〜５のアルキル基
又は炭素数１〜４のアシル基を表す。ａは０〜３のいずれかの整数を表す。）
【化４】
2014148574.tif 000012
（式中、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６はそれぞれ独立して炭素数１〜５のアルキル基を表す
。ｎは２〜２０のいずれかの整数を表す。）
【請求項３】
請求項１又は２に記載の活性エネルギー線硬化性組成物を基材に塗付し、活性エネルギー線を照射して硬化被膜を形成する硬化被膜の形成方法。
【請求項４】
請求項１又は２に記載の活性エネルギー線硬化性組成物の硬化被膜を基材の表面に有する積層体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はハードコート層形成用活性エネルギー線硬化性組成物、その硬化被膜の形成方法及び硬化被膜を基材の表面に有する積層体に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、透明ガラスの代替として、耐破砕性及び軽量性に優れるアクリル樹脂、ポリカー
ボネート樹脂等の透明プラスチック材料が広く使用されるようになってきた。
しかしながら、透明プラスチック材料はガラスに比較して表面硬度が低いので、表面に傷を受け易いという問題、硬化被膜の黄変等の着色の問題を有していた。
そこで、従来からプラスチック材料の耐擦傷性及び着色性を改良すべく多くの試みがなされてきた。
例えば、重合開始剤（酸発生剤）として、カウンターアニオンがヘキサフルオロアンチモネートまたはテトラ（ペンタフルオロフェニル）ボレートであるヨードニウム塩系重合開始剤を含有する活性エネルギー線硬化性組成物や芳香族ヨードニウム塩系酸発生剤を含有する活性エネルギー線硬化性組成物が開示されている（例えば、特許文献１〜３）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００９−７３９４４号公報
【特許文献２】特開２００９−１６７２４３号公報
【特許文献３】特開２００４−１０７５６２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、特許文献１〜３記載の硬化性組成物から得られる硬化被膜も、短時間に被膜形成が可能であるが耐擦傷性が十分でないという問題、又は耐擦傷性を良好にする硬化条件にした場合には硬化被膜が着色し易いという問題があった。
【０００５】
本発明は、上記事情に鑑みてなされたもので、低着色で耐擦傷性等の被膜性能に優れた無機系の透明な硬化被膜を短時間で形成可能な活性エネルギー線硬化性組成物、その硬化被膜の形成方法及び硬化被膜を基材の表面に有する積層体を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の第一の観点は、
シロキサンオリゴマー（Ａ）及び下記一般式（１）で表されるヨードニウム塩系光重合開始剤（Ｂ）を含有する、ハードコート層形成用活性エネルギー線硬化性組成物に関する。
【０００７】
【化１】
2014148574.tif 000002
【０００８】
本発明の第二の観点は、
前記シロキサンオリゴマー（Ａ）が、下記一般式（２）で表されるアルコキシシラン類及び一般式（３）で表されるアルキルシリケート類から選ばれる１種以上の化合物の加水分解・縮合物である前記活性エネルギー線硬化性組成物に関する。
【０００９】
【化２】
2014148574.tif 000003
【００１０】
（式中、Ｒ１は炭素数１〜１０の１価の有機基を表す。Ｒ２は炭素数１〜５のアルキル基
又は炭素数１〜４のアシル基を表す。ａは０〜３のいずれかの整数を表す。）
【００１１】
【化３】
2014148574.tif 000004
【００１２】
（式中、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６はそれぞれ独立して炭素数１〜５のアルキル基を表す
。ｎは２〜２０のいずれかの整数を表す。）
【００１３】
本発明の第三の観点は、
前記活性エネルギー線硬化性組成物を基材に塗付し、活性エネルギー線を照射して硬化被膜を形成する硬化被膜の形成方法に関し、
本発明の第四の観点は、
前記活性エネルギー線硬化性組成物の硬化被膜を基材の表面に有する積層体に関する。
【発明の効果】
【００１４】
本発明の活性エネルギー線硬化性組成物は、短時間で硬化することができ、低着色、且つ耐擦傷性に優れた硬化被膜が得られることから、幅広い基材及び用途に適用することが
できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
＜シロキサンオリゴマー（Ａ）＞
本発明で使用されるシロキサンオリゴマー（Ａ）は、シロキサン結合を主骨格とし、光
照射により酸発生剤から発生する酸を触媒として縮合可能なシラノール基又はアルコキシ
シリル基を分子内に含有するオリゴマーである。
当該オリゴマーに含まれるシラノール基は、シラノール基又はアルコキシシリル基と縮合してシロキサン結合を形成する。
また、オリゴマーに含まれるアルコキシシリル基はシラノール基と直接縮合するか、又は、アルコキシシリル基を一旦加水分解してシラノール基とした後にシラノール基若しくはアルコキシシリル基と縮合させてシロキサン結合を形成することができる。
【００１６】
アルコキシシリル基としては、例えば、メトキシシリル基、エトキシシリル基又はプロピルオキシシリル基が挙げられる。
これらの中で、加水分解速度、縮合速度が速い点でメトキシシリル基又はエトキシシリル基が好ましい。
【００１７】
シロキサンオリゴマー（Ａ）の分子量は特に限定されないが、質量平均分子量で５００
〜５０，０００が好ましく、７００〜２０，０００がより好ましい。
シロキサンオリゴマー（Ａ）の質量平均分子量を５００以上とすることで活性エネルギー線硬化性組成物の成膜性を向上することができると共に、得られる硬化被膜の耐擦傷性を向上することができる。
また、シロキサンオリゴマー（Ａ）の質量平均分子量を５０，０００以下とすることで得られる硬化被膜の均一性と透明性を高めることができる。
シロキサンオリゴマー（Ａ）は１種を単独で、又は２種以上を併用して使用できる。
シロキサンオリゴマー（Ａ）は市販のものをそのまま使用することもできるし、各種オ
ルガノシラン類、アルキルシリケート類等を原料として加水分解・縮合により合成したも
のを使用することもできる。
【００１８】
本発明においては、シロキサンオリゴマー（Ａ）として、加水分解又は縮合時に生成す
るアルコールやカルボン酸の沸点が低い点で、下記一般式（２）で表されるアルコキシシ
ラン類及び下記一般式（３）で表されるアルキルシリケート類から選ばれる１種以上の化
合物の加水分解・縮合物が好ましい。
【００１９】
【化４】
2014148574.tif 000005
（式中、Ｒ１は炭素数１〜１０の１価の有機基を表す。Ｒ２は炭素数１〜５のアルキル基又は炭素数１〜４のアシル基を表す。ａは０〜３のいずれかの整数を表す。）
【００２０】
【化５】
2014148574.tif 000006
（式中、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６はそれぞれ独立して炭素数１〜５のアルキル基を表す。ｎは２〜２０のいずれかの整数を表す。）
【００２１】
一般式（２）で表されるアルコキシシラン類としては、例えば、テトラメトキシシラン
、テトラエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、フェ
ニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビ
ニルトリエトキシシラン、３−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、３−
メタクリロイルオキシプロピルトリエトキシシラン、３−アクリロイルオキシプロピルト
リメトキシシラン、３−アクリロイルオキシプロピルトリエトキシシラン、３−グリシド
キシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、２−
（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、２−（３，４−エポキ
シシクロヘキシル）エチルトリエトキシシラン、ｐ−ビニルフェニレントリメトキシシラ
ン、ｐ−ビニルフェニレントリエトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン及びジメチル
ジエトキシシランが挙げられる。
これらの中で、アルコキシシラン類の加水分解・縮合反応が速い点で、テトラメトキシ
シラン、テトラエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン
、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、ジメチルジメトキシシラ
ン及びジメチルジエトキシシランが好ましい。
アルコキシシラン類は１種を単独で、又は２種以上を併用して使用することもできる。
【００２２】
一般式（３）で表されるアルキルシリケート類としては、例えば、メチルシリケート、
エチルシリケート、イソプロピルシリケート、ｎ−プロピルシリケート、イソブチルシリ
ケート及びｎ−ブチルシリケートが挙げられる。
これらの中で、アルキルシリケート類の加水分解・縮合反応が速い点で、Ｒ３〜Ｒ６の
全てがメチル基を表すメチルシリケート及びＲ３〜Ｒ６の全てがエチル基を表すエチルシ
リケートが好ましい。
アルキルシリケート類は１種を単独で、又は２種以上を併用して使用することもできる。
【００２３】
＜ヨードニウム塩系光重合開始剤（Ｂ）＞
本発明において、ヨードニウム塩系光重合開始剤（Ｂ）は、下記一般式（１）で表される。
【００２４】
【化６】
2014148574.tif 000007
【００２５】
前記ヨードニウム塩系光重合開始剤（Ｂ）を含有することにより、短時間で硬化することができ、低着色、且つ耐擦傷性に優れた硬化被膜が得られる。
【００２６】
前記光重合開始剤（Ｂ）の配合量は特に限定されないが、前記シロキサンオリゴマー（Ａ）１００質量部に対して、硬化性及び着色性抑制の観点から、０．０１〜１０質量部が好ましく、０．０５〜５．０質量部がより好ましい。
ここで、前記光重合開始剤（Ｂ）の配合量が、前記シロキサンオリゴマー（Ａ）１００質量部に対して０．０１質量部以上の場合、活性エネルギー線硬化性組成物が光照射によって短時間に硬化し、良好な硬化被膜が得られる傾向にある。
また、前記光重合開始剤（Ｂ）の配合量が、前記シロキサンオリゴマー（Ａ）１００質量部に対して１０質量部以下の場合、得られる硬化被膜の着色が特に少なく、且つ硬化被膜の表面硬度や耐擦傷性が良好となる傾向にある。
【００２７】
＜活性エネルギー線硬化性組成物＞
本発明の活性エネルギー線硬化性組成物はシロキサンオリゴマー（Ａ）及び前記ヨードニウム塩系光重合開始剤（Ｂ）を含有するが、固形分濃度調整、分散安定性向上、塗付性向上、基材への密着性向上等を目的として、有機溶媒を含有することができる。
有機溶媒としては、例えば、アルコール類、ケトン類、エーテル類、エステル類、セロ
ソルブ類及び芳香族化合物類が挙げられる。
【００２８】
有機溶媒の具体例としては、メチルアルコール、エチルアルコール、１−プロピルアル
コール、２−プロピルアルコール、１−ブチルアルコール、２−ブチルアルコール、イソ
ブチルアルコール、ｔ−ブチルアルコール、ベンジルアルコール、２−メトキシエチルア
ルコール、２−エトキシエチルアルコール、２−（メトキシメトキシ）エチルアルコール
、２−ブトキシエチルアルコール、フルフリルアルコール、テトラヒドロフルフリルアル
コール、ジエチレングリコール、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレン
グリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、１−メトキ
シ−２−プロピルアルコール、１−エトキシ−２−プロピルアルコール、ジプロピレング
リコール、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエ
チルエーテル、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジアセトンアルコール、
アセトン、メチルエチルケトン、２−ペンタノン、３−ペンタノン、２−ヘキサノン、メ
チルイソブチルケトン、２−ヘプタノン、４−ヘプタノン、ジイソブチルケトン、シクロ
ヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、アセトフェノン、ジエチルエーテル、ジプロピル
エーテル、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、ジヘキシルエーテル、アニソー
ル、フェネトール、テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、１，２−ジメトキシエタ
ン、１，２−ジエトキシエタン、１，２−ジブトキシエタン、ジエチレングリコールジメ
チルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジブチル
エーテル、グリセリンエーテル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ｎ−プロピル、酢酸イソ
プロピル、酢酸ｎ−ブチル、酢酸イソブチル、酢酸ｓｅｃ−ブチル、酢酸ｎ−ペンチル、
酢酸イソペンチル、３−メトキシブチルアセテート、２−エチルブチルアセテート、２−
エチルヘキシルアセテート、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、プロピオン酸ブ
チル、γ−ブチロラクトン、２−メトキシエチルアセテート、２−エトキシエチルアセテ
ート、２−ブトキシエチルアセテート、２−フェノキシエチルアセテート、ジエチレング
リコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセ
テート、ベンゼン、トルエン及びキシレンが挙げられる。これらの有機溶媒は１種を単独
で、又は２種以上を併用して使用できる。
【００２９】
有機溶剤の配合量はシロキサンオリゴマー（Ａ）１００質量部に対して０〜５，０００
質量部が好ましく、１００〜１，０００質量部がより好ましい。有機溶剤の配合量が１，０００質量部以下で、固形分が低くなりすぎて塗膜が薄くなるという問題が生じ難くなり、耐擦傷性が良好な硬化被膜が得られる傾向にある。
【００３０】
本発明の活性エネルギー線硬化性組成物には、必要に応じて、高分子化合物、コロイド
状シリカ、コロイド状金属、レベリング剤、紫外線吸収剤、光安定剤、酸化防止剤等の各
種添加剤を配合することができる。
【００３１】
＜基材＞
本発明の活性エネルギー線硬化性組成物は塗装材やインキ材等として基材の表面に塗付
された後に、活性エネルギー線の照射により硬化される。
本発明に使用される基材としては、例えば、金属板、金属缶等の金属材料、紙、木質材
等の天然材料、セラミック等の無機質材、アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂等のプラ
スチック成形物、ＰＥＴ、ポリオレフィン等のフィルム及び電着塗装板、ラミネート板等
の複合材料が挙げられる。
【００３２】
本発明の活性エネルギー線硬化性組成物を基材の表面に塗付する方法としては、例えば
、スプレー法、ロールコーター法、グラビアコーター法、フレキソ法、スクリーン法、ス
ピンコーター法、フローコーター法、静電塗装法等の公知の方法が挙げられる。
【００３３】
＜硬化被膜＞
本発明においては、基材の表面に塗付された活性エネルギー線硬化性組成物に活性エネ
ルギー線を照射することにより硬化被膜が形成される。
本発明に使用される活性エネルギー線としては、例えば、真空紫外線、紫外線及び可視
光線が挙げられる。
【００３４】
活性エネルギー線の具体例としては、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水
銀灯、白熱電球、キセノンランプ、ハロゲンランプ、カーボンアーク灯、メタルハライド
ランプ、蛍光灯、タングステンランプ、ガリウムランプ、エキシマーレーザー及び太陽光
を光源とする光が挙げられる。
これらの中で、硬化性の観点から、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯及びメタルハライドランプを光源とした光が好ましい。
活性エネルギー線は１種を単独で、又は２種以上を併用して使用できる。
【００３５】
活性エネルギー線の照射量としては、例えば、紫外線を照射する場合においては、積算
光量が１００〜５，０００ｍＪ／ｃｍ２が好ましい。
積算光量が少ないと硬化不足になり易く、積算光量が多いと硬化被膜の着色が目立つようになる。
【００３６】
本発明においては、活性エネルギー線硬化性組成物を活性エネルギー線照射により硬化
する際に、必要に応じて加熱硬化と併用することができる。
加熱硬化を併用する際の加熱時期としては、必要に応じて、活性エネルギー線照射前、
活性エネルギー線照射と同時又は活性エネルギー線照射後のいずれかの時期から選ばれる
少なくとも１時期を選択することができる。
【００３７】
加熱方法としては、例えば、赤外線ヒーターによる照射法及び熱風による循環加熱法が
挙げられる。
加熱温度としては、例えば、硬化性の観点から、活性エネルギー線硬化性組成物の温度が５０〜１００℃となる温度が好ましく、活性エネルギー線照射後に加熱する場合は、硬化物の温度が５０〜１００℃となることが好ましい。
また、加熱時間としては、硬化性の観点から、活性エネルギー線照射前に加熱する場合は１〜２０分間、活性エネルギー線照射と同時に加熱する場合は０．２〜１０分間、及び活性エネルギー線照射後に加熱する場合は１〜６０分間が好ましい。
本発明においては、硬化被膜の厚みは特に限定されないが、通常、０．５〜１００μｍ
程度である。
【００３８】
＜積層体＞
本発明の積層体は活性エネルギー線硬化性組成物の硬化被膜が基材の表面に積層された
ものであり、用途に応じて適正な基材を選択することにより種々の用途に適用することが
できる。
【実施例】
【００３９】
以下、実施例及び比較例により本発明を詳細に説明するが、本発明はこれら実施例および比較例に限定されるものではない。
また、以下の記載において「部」及び「％」は、それぞれ「質量部」及び「質量％」を示す。
なお、実施例および比較例における評価方法は以下の通りである。
【００４０】
＜外観評価＞
表面に硬化被膜を形成させたアクリル板の積層体の透明性、クラック及び白化の有無を
目視にて観察し、以下の基準で評価した。
（評価基準）
○：透明で、クラック及び白化も認められなかった。
×：不透明な部分が認められた、又はクラック若しくは白化が認められた。
【００４１】
＜耐擦傷性評価＞
テーバー磨耗試験機（商品名：ロータリーアブレージョンテスタ、（株）東洋精機製作所製を用い、下記条件で５００回転磨耗した後のΔＨを測定した。
磨耗輪（商品名：ＣＳ１０Ｆ（タイプＩＶ））、回転速度：７０ｒｐｍ、荷重： ４．９Ｎ（５００ｇｆ）、吸引口高さ：３ｍｍ。
（評価基準）
○：ΔＨが２０未満
×：ΔＨが２０以上
【００４２】
＜鉛筆硬度＞
硬化被膜の鉛筆硬度をＪＩＳ−Ｋ５６００−５−４；引っかき硬度（鉛筆法）に準じて
評価した。
【００４３】
＜基材密着性＞
アクリル板の積層体の表面の硬化被膜に、カミソリの刃で１ｍｍ間隔に縦横１１本ずつ
のアクリル板の表面まで達する切れ目を入れて１００個のマス目を作り、セロハンテープ
を良く密着させた後、４５度手前方向に急激に剥がし、硬化被膜が剥離せずに残存したマ
ス目数を計測して、以下の基準で評価した。
（評価基準）
○：剥離したマス目がない（密着性良好）。
△：剥離したマス目が１〜５個（密着性中程度）。
×：剥離したマス目が６個以上（密着性不良）。
【００４４】
＜黄色度（ＹＩ）＞
黄色度（ＹＩ）は日本電色工業（株）製ＮＤＲ２０００（商品名）を使用して測定し、
次式により硬化被膜の黄色度を求め、以下の基準で評価した。
硬化被膜の黄色度）＝（アクリル板の積層体の黄色度）−（アクリル板の黄色度）
（評価基準）
○：黄色度が１．０以下（良好）。
×：黄色度が１．０を超える（不良）。
【００４５】
［合成例１：シロキサンオリゴマー（Ａ１）の合成］
撹拌機付き反応容器中に、メチルトリメトキシシラン（信越化学工業（株）製、分子量
１３６．２）２４．５２ｇ、フェニルトリメトキシシラン（信越化学工業（株）製、分子
量１９８．３）３．９７ｇ及びイソプロピルアルコール８．５ｇを加え、攪拌して均一な
溶液とした。次いで、反応容器中に水２１．６ｇを加え、攪拌しながら８０℃で９時間加
熱することにより加水分解・縮合を行った。更に、反応容器中にイソプロピルアルコール
を追加して全体を７３．２ｇとし、固形分濃度２０％のシロキサンオリゴマー（Ａ１）の
溶液を得た。シロキサンオリゴマー（Ａ１）のＧＰＣによる質量平均分子量を測定したと
ころ、ポリスチレン換算による質量平均分子量は約１，５００であった。
尚、本発明において、固形分濃度とは、完全に加水分解・縮合した場合に得られるシロ
キサンオリゴマー量の溶液全体に対する算出した質量分率を意味する。
【００４６】
［合成例２］シロキサンオリゴマー（Ａ２）の合成
撹拌機付き反応容器中に、シリカ換算濃度５１％のメチルシリケート（コルコート（株
）製、平均４量体、分子量（平均値）４７０．７、商品名：メチルシリケート５１）９．
４１ｇ、メチルトリメトキシシラン（信越化学工業（株）製、分子量１３６．２）２４．
５２ｇ及びイソプロピルアルコール６．９ｇを加え、攪拌して均一な溶液とした。次いで
、反応容器中に水２６．６ｇを加え、攪拌しながら８０℃で３時間加熱することにより加
水分解・縮合を行った。更に、反応容器中にイソプロピルアルコールを追加して全体を８
４．３ｇとし、固形分濃度２０％のシロキサンオリゴマー（Ａ２）の溶液を得た。シロキ
サンオリゴマー（Ａ２）のＧＰＣによる質量平均分子量を測定したところ、ポリスチレン
換算による質量平均分子量は約４，３００であった。
【００４７】
［実施例１］
（１）活性エネルギー線硬化性組成物の調製
撹拌機付き容器中に、シロキサンオリゴマー（Ａ）として合成例１で得られた固形分濃
度２０％のシロキサンオリゴマー（Ａ１）の溶液５００部（固形分として１００部）に、
光重合開始剤（Ｂ）（トリルクミルヨードニウムトリフルオロメタンスルホネート）２部、溶媒としてＰＧＭ１２５部、レベリング剤としてシリコーン系界面活性剤（東レダウコーニング（株）製、商品名：Ｌ−７００１）０．１部を添加し、混合して活性エネルギー線硬化性組成物（１）を得た。
【００４８】
（２）活性エネルギー線硬化性組成物の基材の表面への塗付膜の形成
基材として、長さ１０ｃｍ、幅１０ｃｍ及び厚み３ｍｍのアクリル板（三菱レイヨン（
株）製、商品名：アクリライトＥＸ）を使用し、この表面に、乾燥後の厚みが３〜４μｍ
になるように上記（１）で調整した活性エネルギー線硬化性組成物（１）を適量滴下した
後、バーコーティング法（バーコーターＮｏ．２６使用）にて塗付し、熱風乾燥機にて９０℃で１０分間乾燥し、基材の表面に活性エネルギー線硬化性組成物（１）の塗付膜を形成させた。
【００４９】
（３）硬化被膜を有するアクリル板の積層体の形成
上記（２）で得られた、表面に活性エネルギー線硬化性組成物（１）の塗付膜を形成さ
せた基材を、コンベアを備えた１２０Ｗ／ｃｍの高圧水銀ランプ（（株）オーク製作所製
紫外線照射装置、商品名：ハンディーＵＶ−１２００、ＱＲＵ−２１６１型）を用いて、
積算光量３，０００ｍＪ／ｃｍ２となるように紫外線を照射した。次いで、熱風乾燥機に
て９０℃で１０分間加熱し、アクリル板の表面に硬化被膜を形成し、アクリル板の積層体
を得た。
なお、積算光量は紫外線光量計（（株）オーク製作所製、商品名：ＵＶ−３５１型）を用
いて測定した。
【００５０】
（４）硬化被膜の評価
得られた硬化被膜の各種評価を行った結果を表２に示す。
【００５１】
［実施例２〜４、比較例１〜４］
シロキサンオリゴマー（Ａ）及び光重合開始剤として表１に記載のものを配合する以外は実施例１と同様にして活性エネルギー線硬化性組成物の調製、活性エネルギー線硬化性組成物の基材の表面への塗付膜の形成、硬化被膜の形成及び硬化被膜の各種評価を実施した。各種評価に用いた配合比率を表１、各種評価結果を表２に示す。
【００５２】
【表１】
2014148574.tif 000008
【００５３】
Ａ−１：合成例１で得た固形分濃度２０％のシロキサンオリゴマー（Ａ１）の溶液
Ａ−２：合成例２で得た固形分濃度２０％のシロキサンオリゴマー（Ａ２）の溶液
ＰＧＭ：１−メトキシ−２−プロパノール
Ｌ−７００１：シリコン系界面活性剤（東レ・ダウコーニング（株）製、Ｌ−７００１）
ＳＩ−１００Ｌ（芳香族スルホニウム塩）：光感応性酸発生剤（三新化学工業（株）製、サンエイドＳＩ−１００Ｌ、固形分５０％）
Ｉｒｇ２５０：ヨードニウム、（４−メチルフェニル）［４−（２−メチルプロピル）フェニル］−ヘキサフルオロフォスフェート（１−）の７５％プロピレンカーボネート溶液（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製、商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ２５０）
ｂ−１：光重合開始剤（Ｂ）のヘキサフルオロアンチモネート
ｂ−２：トリアリールスルホニウム塩のトリフレート
【００５４】
【表２】
2014148574.tif 000009
【００５５】
表１で示される通り、特定構造を有するヨードニウム塩系光重合開始剤（Ｂ）を含有する活性エネルギー線硬化性組成物は、各種評価において良好な結果を得た。
一方、光重合開始剤として、スルホニウム塩系光重合開始剤（ＳＩ−１００Ｌ）を用いた比較例１及び２、ヨードニウム塩系光重合開始剤であるが、カウンターアニオンが異なる光重合開始剤を用いた比較例３〜５（Ｉｒｇ２５０又はｂ−１）、ヨードニウム塩系でもなく、且つ特定カウンターアニオンを有しない光重合開始剤（ｂ−２）を用いた比較例６は、実施例と比較して、各種評価において良好な結果を得られなかった。
以上より、本発明によって、低着色で耐擦傷性等の被膜性能に優れた硬化被膜を形成可能な活性エネルギー線硬化性組成物、その硬化被膜の形成方法及び硬化被膜を基材の表面に有する積層体を提供することができることが明らかとなった。
【手続補正書】
【提出日】平成25年2月15日(2013.2.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
シロキサンオリゴマー（Ａ）及び下記一般式（１）で表されるヨードニウム塩系光重合開始剤（Ｂ）を含有する、ハードコート層形成用活性エネルギー線硬化性組成物。
【化１】
2014148574.tif 000014
【請求項２】
前記シロキサンオリゴマー（Ａ）が、下記一般式（２）で表されるアルコキシシラン類及び一般式（３）で表されるアルキルシリケート類から選ばれる１種以上の化合物の加水分解・縮合物である、請求項１に記載のハードコート層形成用活性エネルギー線硬化性組成物。
【化２】
2014148574.tif 000015
（式中、Ｒ１は炭素数１〜１０の１価の有機基を表す。Ｒ２は炭素数１〜５のアルキル基
又は炭素数１〜４のアシル基を表す。ａは０〜３のいずれかの整数を表す。）
【化４】
2014148574.tif 000016
（式中、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６はそれぞれ独立して炭素数１〜５のアルキル基を表す
。ｎは２〜２０のいずれかの整数を表す。）
【請求項３】
請求項１又は２に記載の活性エネルギー線硬化性組成物を基材に塗付し、活性エネルギー線を照射して硬化被膜を形成する硬化被膜の形成方法。
【請求項４】
請求項１又は２に記載の活性エネルギー線硬化性組成物の硬化被膜を基材の表面に有する積層体。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
【化３】
2014148574.tif 000017
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
【化５】
2014148574.tif 000018
（式中、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６はそれぞれ独立して炭素数１〜５のアルキル基を表す。ｎは２〜２０のいずれかの整数を表す。）