(57)【要約】  光重合性液晶化合物を含む液晶組成物を硬化してなる光学異方性層であって、前記光学異方性層における前記光重合性液晶化合物の割合が２５重量％以下であり、２３０ｎｍ以上３００ｎｍ未満の第一波長範囲、及び、３００ｎｍ以上４００ｎｍ以下の第二波長範囲における、前記光学異方性層の配向方向に平行な偏光に対する極大吸収波長、及び、前記光学異方性層の配向方向に垂直な偏光に対する極大吸収波長それぞれでの、前記光学異方性層の吸光度が、所定の関係を満たす。
2017110631.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光重合性液晶化合物を含む液晶組成物を硬化してなる光学異方性層であって、
前記光学異方性層における前記光重合性液晶化合物の割合が、２５重量％以下であり、
前記光学異方性層が、２３０ｎｍ以上３００ｎｍ未満の第一波長範囲、及び、３００ｎｍ以上４００ｎｍ以下の第二波長範囲において、それぞれ、前記光学異方性層の配向方向に平行な偏光に対する極大吸収波長、及び、前記光学異方性層の配向方向に垂直な偏光に対する極大吸収波長を有し、
前記光学異方性層の配向方向に平行な偏光に対する、前記第一波長範囲における極大吸収波長での、前記光学異方性層の吸光度ε１ｍ、
前記光学異方性層の配向方向に垂直な偏光に対する、前記第一波長範囲における極大吸収波長での、前記光学異方性層の吸光度ε１ｓ、
前記光学異方性層の配向方向に平行な偏光に対する、前記第二波長範囲における極大吸収波長での、前記光学異方性層の吸光度ε２ｍ、及び、
前記光学異方性層の配向方向に垂直な偏光に対する、前記第二波長範囲における極大吸収波長での、前記光学異方性層の吸光度ε２ｓが、下記式（１）及び（２）
１．３０＜ε１ｍ／ε１ｓ＜１．７０  （１）
０．２５＜ε２ｍ／ε２ｓ＜０．７０  （２）
を満たす、光学異方性層。
【請求項２】
波長４５０ｎｍにおける前記光学異方性層の面内レターデーションＲｅ（Ａ４５０）、波長５５０ｎｍにおける前記光学異方性層の面内レターデーションＲｅ（Ａ５５０）、及び、波長６５０ｎｍにおける前記光学異方性層の面内レターデーションＲｅ（Ａ６５０）が、下記式（３）及び（４）
０．７０＜Ｒｅ（Ａ４５０）／Ｒｅ（Ａ５５０）＜１．００    （３）
１．００＜Ｒｅ（Ａ６５０）／Ｒｅ（Ａ５５０）＜１．２０    （４）
を満たす、請求項１記載の光学異方性層。
【請求項３】
前記光重合性液晶化合物が、下記式（Ａ）で表される側鎖メソゲンを有する、請求項１又は２記載の光学異方性層。
【化１】
2017110631.tif 000051
（前記式（Ａ）において、
Ａｘは、芳香族炭化水素環及び芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数２〜３０の有機基を表す。
Ａｙは、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数２〜２０のアルケニル基、置換基を有していてもよい炭素数３〜１２のシクロアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数２〜２０のアルキニル基、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ３、−ＳＯ２−Ｒ４、−Ｃ（＝Ｓ）ＮＨ−Ｒ９、又は、芳香族炭化水素環及び芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数２〜３０の有機基を表す。ここで、Ｒ３は、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数２〜２０のアルケニル基、置換基を有していてもよい炭素数３〜１２のシクロアルキル基、又は、炭素数５〜１２の芳香族炭化水素環基を表す。Ｒ４は、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数２〜２０のアルケニル基、フェニル基、又は、４−メチルフェニル基を表す。Ｒ９は、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数２〜２０のアルケニル基、置換基を有していてもよい炭素数３〜１２のシクロアルキル基、又は、置換基を有していてもよい炭素数５〜２０の芳香族基を表す。前記Ａｘ及びＡｙが有する芳香環は、置換基を有していてもよい。また、前記ＡｘとＡｙは、一緒になって、環を形成していてもよい。
Ａ１は、置換基を有していてもよい三価の芳香族基を表す。
Ｑ１は、水素原子、又は、置換基を有していてもよい炭素数１〜６のアルキル基を表す。）
【請求項４】
前記光重合性液晶化合物が、下記式（Ｉ）で表される、請求項１〜３のいずれか１項に記載の光学異方性層。
【化２】
2017110631.tif 000052
（前記式（Ｉ）において、
Ｙ１〜Ｙ８は、それぞれ独立して、化学的な単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−ＮＲ１−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ１−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ１−、−ＮＲ１−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−ＮＲ１−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ１−、−Ｏ−ＮＲ１−、又は、−ＮＲ１−Ｏ−を表す。ここで、Ｒ１は、水素原子又は炭素数１〜６のアルキル基を表す。
Ｇ１及びＧ２は、それぞれ独立して、置換基を有していてもよい、炭素数１〜２０の二価の脂肪族基を表す。また、前記脂肪族基には、１つの脂肪族基当たり１以上の−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−ＮＲ２−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ２−、−ＮＲ２−、又は、−Ｃ（＝Ｏ）−が介在していてもよい。ただし、−Ｏ−又は−Ｓ−がそれぞれ２以上隣接して介在する場合を除く。ここで、Ｒ２は、水素原子又は炭素数１〜６のアルキル基を表す。
Ｚ１及びＺ２は、それぞれ独立して、ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数２〜１０のアルケニル基を表す。
Ａｘは、芳香族炭化水素環及び芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数２〜３０の有機基を表す。
Ａｙは、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数２〜２０のアルケニル基、置換基を有していてもよい炭素数３〜１２のシクロアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数２〜２０のアルキニル基、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ３、−ＳＯ２−Ｒ４、−Ｃ（＝Ｓ）ＮＨ−Ｒ９、又は、芳香族炭化水素環及び芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数２〜３０の有機基を表す。ここで、Ｒ３は、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数２〜２０のアルケニル基、置換基を有していてもよい炭素数３〜１２のシクロアルキル基、又は、炭素数５〜１２の芳香族炭化水素環基を表す。Ｒ４は、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数２〜２０のアルケニル基、フェニル基、又は、４−メチルフェニル基を表す。Ｒ９は、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数２〜２０のアルケニル基、置換基を有していてもよい炭素数３〜１２のシクロアルキル基、又は、置換基を有していてもよい炭素数５〜２０の芳香族基を表す。前記Ａｘ及びＡｙが有する芳香環は、置換基を有していてもよい。また、前記ＡｘとＡｙは、一緒になって、環を形成していてもよい。
Ａ１は、置換基を有していてもよい三価の芳香族基を表す。
Ａ２及びＡ３は、それぞれ独立して、置換基を有していてもよい炭素数３〜３０の二価の脂環式炭化水素基を表す。
Ａ４及びＡ５は、それぞれ独立して、置換基を有していてもよい、炭素数６〜３０の二価の芳香族基を表す。
Ｑ１は、水素原子、又は、置換基を有していてもよい炭素数１〜６のアルキル基を表す。
ｍは、０または１である。）
【請求項５】
前記光重合性液晶化合物のＣＮ点が、２５℃以上１２０℃以下である、請求項１〜４のいずれか１項に記載の光学異方性層。
【請求項６】
前記光学異方性層が、λ／４波長板である、請求項１〜５のいずれか１項に記載の光学異方性層。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれか一項に記載の光学異方性層と、位相差層とを備え、
前記位相差層の、面内方向であって最大の屈折率を与える方向の屈折率ｎｘ、前記面内方向であって前記ｎｘの方向に直交する方向の屈折率ｎｙ、及び、厚み方向の屈折率ｎｚが、ｎｚ＞ｎｘ≧ｎｙを満たす、光学異方性積層体。
【請求項８】
前記光学異方性層が、λ／４波長板であり、
波長５５０ｎｍにおける前記位相差層の面内レターデーションＲｅ（Ｂ５５０）、及び、波長５５０ｎｍにおける前記位相差層の厚み方向のレターデーションＲｔｈ（Ｂ５５０）が、下記式（５）及び（６）
Ｒｅ（Ｂ５５０）≦１０ｎｍ    （５）
−１００ｎｍ≦Ｒｔｈ（Ｂ５５０）≦−２０ｎｍ    （６）
を満たす、請求項７記載の光学異方性積層体。
【請求項９】
請求項１〜６のいずれか一項に記載の光学異方性層又は請求項７若しくは８に記載の光学異方性積層体と、直線偏光子とを備える、円偏光板。
【請求項１０】
請求項１〜６のいずれか一項に記載の光学異方性層の製造方法であって、
基材上に前記液晶組成物を塗工して、前記液晶組成物の層を得る工程と、
前記液晶組成物の層に含まれる前記光重合性液晶化合物を配向させる工程と、
前記液晶組成物を硬化する工程と、を含む、光学異方性層の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学異方性層及びその製造方法；前記の光学異方性層を備えた光学異方性積層体；並びに、前記の光学異方性層又は光学異方性積層体を備える円偏光板に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、液晶化合物を用いたλ／４波長板等の位相差フィルムが知られている。近年、これらの位相差フィルムにおいて、広い波長範囲で均一に光学的作用を発揮させるため、逆波長分散特性を有する位相差フィルムが検討されている。このような逆波長分散特性を有する位相差フィルムを実現するために、逆波長重合性液晶化合物を含む液晶組成物を用いて製造された光学異方性層を、位相差フィルムとして用いることが提案されている（特許文献１）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】国際公開第２０１４／６５２４３号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
前記のように、従来の技術では、逆波長分散特性を有する光学異方性層は製造できていた。しかし、その光学異方性層の耐久性試験による逆波長分散特性の変化を抑制することは、困難であった。具体的には、逆波長分散特性を有する従来の光学異方性層は、耐久性試験を実施すると、短波長における面内レターデーションと長波長における面内レターデーションとの差が小さくなり、広い波長範囲で均一に光学的作用を発揮することは難しかった。【０００５】
本発明は、前記の課題に鑑みて創案されたもので、耐久性試験の前及び後の両方において、良好な逆波長分散特性を有する光学異方性層及びその製造方法；前記の光学異方性層を備えた光学異方性積層体；並びに、前記の光学異方性層又は光学異方性積層体を備えた円偏光板；を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明者は、前記の課題を解決するべく、鋭意検討した。その結果、本発明者は、光学異方性層が、一般に、その光学異方性層の材料となりうる光重合性液晶化合物に対応した極大吸収波長を、２３０ｎｍ〜４００ｎｍの範囲に２つ有すること；逆波長分散特性を有する光学異方性層の材料となりうる光重合性液晶化合物の分子が、一般に、主鎖メソゲンと、この主鎖メソゲンに結合した側鎖メソゲンとを有すること；前記の極大吸収波長それぞれにおいて、主鎖メソゲンに対応した吸光度と、側鎖メソゲンに対応した吸光度とが、所定の関係を満たす場合に、良好な逆波長分散特性が得られること；光学積層体が残留モノマーを多く含む場合に、耐久性試験による逆波長分散特性の変化が大きいこと；並びに、所定の条件での紫外線（ＵＶ）硬化によれば光学異方性層内の残留モノマーの量は低減させられ、特にＵＶ硬化時に光学異方性層を加熱すれば光反応を促進されて残留モノマーの量が顕著に低減させられること；を見出した。その結果、耐久性試験後においても、良好な逆波長分散特性を維持する光学異方性層を製造することが可能になった。
すなわち、本発明は、下記の通りである。【０００７】
〔１〕  光重合性液晶化合物を含む液晶組成物を硬化してなる光学異方性層であって、
前記光学異方性層における前記光重合性液晶化合物の割合が、２５重量％以下であり、
前記光学異方性層が、２３０ｎｍ以上３００ｎｍ未満の第一波長範囲、及び、３００ｎｍ以上４００ｎｍ以下の第二波長範囲において、それぞれ、前記光学異方性層の配向方向に平行な偏光に対する極大吸収波長、及び、前記光学異方性層の配向方向に垂直な偏光に対する極大吸収波長を有し、
前記光学異方性層の配向方向に平行な偏光に対する、前記第一波長範囲における極大吸収波長での、前記光学異方性層の吸光度ε１ｍ、
前記光学異方性層の配向方向に垂直な偏光に対する、前記第一波長範囲における極大吸収波長での、前記光学異方性層の吸光度ε１ｓ、
前記光学異方性層の配向方向に平行な偏光に対する、前記第二波長範囲における極大吸収波長での、前記光学異方性層の吸光度ε２ｍ、及び、
前記光学異方性層の配向方向に垂直な偏光に対する、前記第二波長範囲における極大吸収波長での、前記光学異方性層の吸光度ε２ｓが、下記式（１）及び（２）
１．３０＜ε１ｍ／ε１ｓ＜１．７０  （１）
０．２５＜ε２ｍ／ε２ｓ＜０．７０  （２）
を満たす、光学異方性層。
〔２〕  波長４５０ｎｍにおける前記光学異方性層の面内レターデーションＲｅ（Ａ４５０）、波長５５０ｎｍにおける前記光学異方性層の面内レターデーションＲｅ（Ａ５５０）、及び、波長６５０ｎｍにおける前記光学異方性層の面内レターデーションＲｅ（Ａ６５０）が、下記式（３）及び（４）
０．７０＜Ｒｅ（Ａ４５０）／Ｒｅ（Ａ５５０）＜１．００    （３）
１．００＜Ｒｅ（Ａ６５０）／Ｒｅ（Ａ５５０）＜１．２０    （４）
を満たす、〔１〕記載の光学異方性層。
〔３〕  前記光重合性液晶化合物が、下記式（Ａ）で表される側鎖メソゲンを有する、〔１〕又は〔２〕記載の光学異方性層。
【化１】
2017110631.tif 000003
（前記式（Ａ）において、
Ａｘは、芳香族炭化水素環及び芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数２〜３０の有機基を表す。
Ａｙは、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数２〜２０のアルケニル基、置換基を有していてもよい炭素数３〜１２のシクロアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数２〜２０のアルキニル基、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ３、−ＳＯ２−Ｒ４、−Ｃ（＝Ｓ）ＮＨ−Ｒ９、又は、芳香族炭化水素環及び芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数２〜３０の有機基を表す。ここで、Ｒ３は、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数２〜２０のアルケニル基、置換基を有していてもよい炭素数３〜１２のシクロアルキル基、又は、炭素数５〜１２の芳香族炭化水素環基を表す。Ｒ４は、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数２〜２０のアルケニル基、フェニル基、又は、４−メチルフェニル基を表す。Ｒ９は、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数２〜２０のアルケニル基、置換基を有していてもよい炭素数３〜１２のシクロアルキル基、又は、置換基を有していてもよい炭素数５〜２０の芳香族基を表す。前記Ａｘ及びＡｙが有する芳香環は、置換基を有していてもよい。また、前記ＡｘとＡｙは、一緒になって、環を形成していてもよい。
Ａ１は、置換基を有していてもよい三価の芳香族基を表す。
Ｑ１は、水素原子、又は、置換基を有していてもよい炭素数１〜６のアルキル基を表す。）
〔４〕  前記光重合性液晶化合物が、下記式（Ｉ）で表される、〔１〕〜〔３〕のいずれか１項に記載の光学異方性層。
【化２】
2017110631.tif 000004
（前記式（Ｉ）において、
Ｙ１〜Ｙ８は、それぞれ独立して、化学的な単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−ＮＲ１−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ１−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ１−、−ＮＲ１−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−ＮＲ１−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ１−、−Ｏ−ＮＲ１−、又は、−ＮＲ１−Ｏ−を表す。ここで、Ｒ１は、水素原子又は炭素数１〜６のアルキル基を表す。
Ｇ１及びＧ２は、それぞれ独立して、置換基を有していてもよい、炭素数１〜２０の二価の脂肪族基を表す。また、前記脂肪族基には、１つの脂肪族基当たり１以上の−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−ＮＲ２−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ２−、−ＮＲ２−、又は、−Ｃ（＝Ｏ）−が介在していてもよい。ただし、−Ｏ−又は−Ｓ−がそれぞれ２以上隣接して介在する場合を除く。ここで、Ｒ２は、水素原子又は炭素数１〜６のアルキル基を表す。
Ｚ１及びＺ２は、それぞれ独立して、ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数２〜１０のアルケニル基を表す。
Ａｘは、芳香族炭化水素環及び芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数２〜３０の有機基を表す。
Ａｙは、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数２〜２０のアルケニル基、置換基を有していてもよい炭素数３〜１２のシクロアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数２〜２０のアルキニル基、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ３、−ＳＯ２−Ｒ４、−Ｃ（＝Ｓ）ＮＨ−Ｒ９、又は、芳香族炭化水素環及び芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数２〜３０の有機基を表す。ここで、Ｒ３は、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数２〜２０のアルケニル基、置換基を有していてもよい炭素数３〜１２のシクロアルキル基、又は、炭素数５〜１２の芳香族炭化水素環基を表す。Ｒ４は、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数２〜２０のアルケニル基、フェニル基、又は、４−メチルフェニル基を表す。Ｒ９は、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数２〜２０のアルケニル基、置換基を有していてもよい炭素数３〜１２のシクロアルキル基、又は、置換基を有していてもよい炭素数５〜２０の芳香族基を表す。前記Ａｘ及びＡｙが有する芳香環は、置換基を有していてもよい。また、前記ＡｘとＡｙは、一緒になって、環を形成していてもよい。
Ａ１は、置換基を有していてもよい三価の芳香族基を表す。
Ａ２及びＡ３は、それぞれ独立して、置換基を有していてもよい炭素数３〜３０の二価の脂環式炭化水素基を表す。
Ａ４及びＡ５は、それぞれ独立して、置換基を有していてもよい、炭素数６〜３０の二価の芳香族基を表す。
Ｑ１は、水素原子、又は、置換基を有していてもよい炭素数１〜６のアルキル基を表す。
ｍは、０または１である。）
〔５〕  前記光重合性液晶化合物のＣＮ点が、２５℃以上１２０℃以下である、〔１〕〜〔４〕のいずれか１項に記載の光学異方性層。
〔６〕  前記光学異方性層が、λ／４波長板である、〔１〕〜〔５〕のいずれか１項に記載の光学異方性層。
〔７〕  〔１〕〜〔６〕のいずれか一項に記載の光学異方性層と、位相差層とを備え、
前記位相差層の、面内方向であって最大の屈折率を与える方向の屈折率ｎｘ、前記面内方向であって前記ｎｘの方向に直交する方向の屈折率ｎｙ、及び、厚み方向の屈折率ｎｚが、ｎｚ＞ｎｘ≧ｎｙを満たす、光学異方性積層体。
〔８〕  前記光学異方性層が、λ／４波長板であり、
波長５５０ｎｍにおける前記位相差層の面内レターデーションＲｅ（Ｂ５５０）、及び、波長５５０ｎｍにおける前記位相差層の厚み方向のレターデーションＲｔｈ（Ｂ５５０）が、下記式（５）及び（６）
Ｒｅ（Ｂ５５０）≦１０ｎｍ    （５）
−１００ｎｍ≦Ｒｔｈ（Ｂ５５０）≦−２０ｎｍ    （６）
を満たす、〔７〕記載の光学異方性積層体。
〔９〕  〔１〕〜〔６〕のいずれか一項に記載の光学異方性層又は〔７〕若しくは〔８〕に記載の光学異方性積層体と、直線偏光子とを備える、円偏光板。
〔１０〕  〔１〕〜〔６〕のいずれか一項に記載の光学異方性層の製造方法であって、
基材上に前記液晶組成物を塗工して、前記液晶組成物の層を得る工程と、
前記液晶組成物の層に含まれる前記光重合性液晶化合物を配向させる工程と、
前記液晶組成物を硬化する工程と、を含む、光学異方性層の製造方法。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によれば、耐久性試験の前及び後の両方において、良好な逆波長分散特性を有する光学異方性層及びその製造方法；前記の光学異方性層を備えた光学異方性積層体；並びに、前記の光学異方性層又は光学異方性積層体を備えた円偏光板；を提供できる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】図１は、光学異方性層を製造する製造方法の一例において、基材フィルム上に形成された液晶組成物の層を硬化させて光学異方性層を得る工程（III）の様子を模式的に示す概略図である。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
以下、本発明について実施形態及び例示物を示して詳細に説明する。ただし、本発明は以下に示す実施形態及び例示物に限定されるものではなく、本発明の請求の範囲及びその均等の範囲を逸脱しない範囲において任意に変更して実施してもよい。
【００１１】
以下の説明において、「長尺」のものとは、幅に対して、通常５倍以上の長さを有するものをいい、好ましくは１０倍若しくはそれ以上の長さを有し、具体的にはロール状に巻き取られて保管又は運搬される程度の長さを有するものをいう。
【００１２】
以下の説明において、「基材」、「偏光板」及び「波長板」とは、剛直な部材だけでなく、例えば樹脂製のフィルムのように可撓性を有する部材も含む。
【００１３】
以下の説明において、層の面内レターデーションＲｅは、別に断らない限り、Ｒｅ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄで表される値である。また、層の厚み方向のレターデーションＲｔｈは、別に断らない限り、Ｒｔｈ＝［｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２｝−ｎｚ］×ｄで表される値である。ここで、ｎｘは、層の厚み方向に垂直な方向（面内方向）であって最大の屈折率を与える方向の屈折率を表す。ｎｙは、層の前記面内方向であってｎｘの方向に直交する方向の屈折率を表す。ｎｚは、層の厚み方向の屈折率を表す。ｄは、層の厚みを表す。これらのレターデーションは、市販の位相差測定装置あるいはセナルモン法を用いて測定しうる。
【００１４】
以下の説明において、別に断らない限り、「（メタ）アクリレート」は「アクリレート」及び「メタクリレート」の両方を包含する用語であり、「（メタ）アクリル」は「アクリル」及び「メタクリル」の両方を包含する用語である。
【００１５】
以下の説明において、層の遅相軸とは、別に断らない限り、当該層の面内方向における遅相軸を表す。
【００１６】
以下の説明において、要素の方向が「平行」及び「垂直」とは、別に断らない限り、本発明の効果を損ねない範囲内、例えば±５°の範囲内での誤差を含んでいてもよい。
【００１７】
以下の説明において、別に断らない限り、「逆波長分散特性」とは、波長４５０ｎｍにおける面内レターデーションＲｅ（４５０）、波長５５０ｎｍにおける面内レターデーションＲｅ（５５０）、及び、波長６５０ｎｍにおける面内レターデーションＲｅ（６５０）が、下記の式（７）及び式（８）を満たす特性をいう。
Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）＜１．００  （７）
Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０）＞１．００  （８）
【００１８】
以下の説明において、ある面の正面方向とは、別に断らない限り、当該面の法線方向を意味し、具体的には前記面の極角０°且つ方位角０°の方向を指す。
【００１９】
以下の説明において、ある面の傾斜方向とは、別に断らない限り、当該面に平行でも垂直でもない方向を意味し、具体的には前記面の極角が０°より大きく９０°より小さい範囲の方向を指す。
【００２０】
［１．光学異方性層の構造及び物性］
本発明の光学異方性層は、光重合性液晶化合物を含む液晶組成物を硬化してなる。よって、光学異方性層は、液晶組成物を硬化した硬化物からなる層である。この光学異方性層は、通常、光重合性液晶化合物から得られる硬化液晶分子を含む。「硬化液晶分子」とは、液晶相を呈しうる化合物を、液晶相を呈した状態のまま固体とした際の当該化合物の分子を意味する。光学異方性層が含む硬化液晶分子は、通常、光重合性液晶化合物を重合させてなる重合体である。よって、光学異方性層は、通常は、光重合性液晶化合物を重合させてなる重合体を含み、必要に応じて任意の成分を含みうる樹脂の層となっている。そして、光学異方性層は、前記の硬化液晶分子の配向状態に応じた光学異方性を有する。
【００２１】
前記のように光学異方性を有するので、光学異方性層は、二色性を有する。したがって、光学異方性層の配向方向に平行な偏光に対する光学異方性層の吸光度と、光学異方性層の配向方向に垂直な偏光に対する光学異方性層の吸光度とは、通常、異なる。ここで、「光学異方性層の配向方向」は、光学異方性層に含まれる硬化液晶分子の配向方向を表し、通常は、硬化前の液晶組成物に含まれていた光重合性液晶化合物の配向方向と平行である。また、「配向方向に平行な偏光」とは、直線偏光であって、その直線偏光の電場の振動方向が配向方向に平行な偏光を表す。さらに、「配向方向に垂直な偏光」とは、直線偏光であって、その直線偏光の電場の振動方向が配向方向に垂直な偏光を表す。光重合性液晶化合物が、主鎖メソゲン及び側鎖メソゲンを分子中に含む液晶化合物である場合、通常は、光学異方性層の配向方向に平行な偏光に対する光学異方性層の吸光度が、主鎖メソゲンに対応し、光学異方性層の配向方向に垂直な偏光に対する光学異方性層の吸光度が、側鎖メソゲンに対応する。
【００２２】
光学異方性層は、一般に、２３０ｎｍ以上３００ｎｍ未満の第一波長範囲、及び、３００ｎｍ以上４００ｎｍ以下の第二波長範囲のそれぞれにおいて、極大吸収波長を有する。したがって、光学異方性層は、前記の第一波長範囲において、光学異方性層の配向方向に平行な偏光に対する極大吸収波長、及び、前記光学異方性層の配向方向に垂直な偏光に対する極大吸収波長を有する。更に、光学異方性層は、前記の第二波長範囲において、光学異方性層の配向方向に平行な偏光に対する極大吸収波長、及び、前記光学異方性層の配向方向に垂直な偏光に対する極大吸収波長を有する。通常、光学異方性層の配向方向に平行な偏光に対し、極大吸収波長は、第一波長範囲に１つあり、また、第二波長範囲に１つある。さらに、通常、光学異方性層の配向方向に垂直な偏光に対し、極大吸収波長は、第一波長範囲に１つあり、また、第二波長範囲に１つある。そして、本発明の光学異方性層は、前記の極大吸収波長における吸光度ε１ｍ、ε１ｓ、ε２ｍ及びε２ｓが、下記式（１）及び式（２）を満たす。
１．３０＜ε１ｍ／ε１ｓ＜１．７０  （１）
０．２５＜ε２ｍ／ε２ｓ＜０．７０  （２）
【００２３】
前記の式（１）及び式（２）において、吸光度ε１ｍ、ε１ｓ、ε２ｍ及びε２ｓの意味は、以下の通りである。
吸光度ε１ｍは、光学異方性層の配向方向に平行な偏光に対する、第一波長範囲における極大吸収波長での、光学異方性層の吸光度を表す。
吸光度ε１ｓは、光学異方性層の配向方向に垂直な偏光に対する、第一波長範囲における極大吸収波長での、光学異方性層の吸光度を表す。
吸光度ε２ｍは、光学異方性層の配向方向に平行な偏光に対する、第二波長範囲における極大吸収波長での、光学異方性層の吸光度を表す。
吸光度ε２ｓは、光学異方性層の配向方向に垂直な偏光に対する、第二波長範囲における極大吸収波長での、光学異方性層の吸光度を表す。
これらの吸光度ε１ｍ、ε１ｓ、ε２ｍ及びε２ｓは、分光光度計（例えば、日本分光社製のｓｐｅｃｔｒｏｐｈｔｏｍｅｔｅｒ「Ｖ−７２００」等）を用いて測定しうる。
【００２４】
前記の式（１）及び式（２）について、より詳細に説明する。第一波長範囲における前記の吸光度の二色比ε１ｍ／ε１ｓは、通常１．３０より大きく、好ましくは１．３５より大きく、更に好ましくは１．４０より大きく、また、通常１．７０未満、好ましくは１．６０未満、更に好ましくは１．５０未満である。さらに、第二波長範囲における前記の吸光度の二色比ε２ｍ／ε２ｓは、通常０．２５より大きく、また、通常０．７０未満、好ましくは０．６８未満、更に好ましくは０．６６未満である。
【００２５】
吸光度の二色比ε１ｍ／ε１ｓ及びε２ｍ／ε２ｓが前述した範囲に収まる本発明の光学異方性層は、良好な逆波長分散特性を有することができる。このように良好な逆波長分散特性を有する光学異方性層は、短波長よりも長波長の透過光について、大きい面内レターデーションを示すことができる。そのため、光学異方性層が良好な逆波長分散特性を有することにより、光学異方性層は、λ／４波長板等の光学フィルムとしての機能を、広い波長帯域において均一に発現することができる。
【００２６】
光学異方性層が有する良好な逆波長分散特性とは、具体的には、波長４５０ｎｍにおける光学異方性層の面内レターデーションＲｅ（Ａ４５０）、波長５５０ｎｍにおける光学異方性層の面内レターデーションＲｅ（Ａ５５０）、及び、波長６５０ｎｍにおける光学異方性層の面内レターデーションＲｅ（Ａ６５０）が、下記式（３）及び（４）を満たすことをいう。
０．７０＜Ｒｅ（Ａ４５０）／Ｒｅ（Ａ５５０）＜１．００    （３）
１．００＜Ｒｅ（Ａ６５０）／Ｒｅ（Ａ５５０）＜１．２０    （４）
【００２７】
より詳細には、Ｒｅ（Ａ４５０）／Ｒｅ（Ａ５５０）は、好ましくは０．７０より大きく、更に好ましくは０．７４より大きく、特に好ましくは０．７８より大きく、また、好ましくは１．００未満、更に好ましくは０．９５未満、特に好ましくは０．９０未満である。さらに、Ｒｅ（Ａ６５０）／Ｒｅ（Ａ５５０）は、好ましくは１．００より大きく、更に好ましくは１．０２より大きく、特に好ましくは１．０４より大きく、また、好ましくは１．２０未満、更に好ましくは１．１９未満である。このようなＲｅ（Ａ４５０）／Ｒｅ（Ａ５５０）及びＲｅ（Ａ６５０）／Ｒｅ（Ａ５５０）が前記の範囲に収まる光学異方性層は、当該光学異方性層の光学的機能を広い波長帯域において均一に発現し易い。
【００２８】
光学異方性層の吸光度の二色比ε１ｍ／ε１ｓ及びε２ｍ／ε２ｓを上述した範囲に収める方法としては、光重合性液晶化合物を適切に選択すること、硬化前の液晶組成物における光重合性液晶化合物の配向を適切に制御すること、などの手法を採用しうる。さらに、耐久性試験後において、光学異方性層の良好な逆波長分散特性を維持させるために、後述する残留モノマー割合を所定の範囲に収めることが重要になりうる。
【００２９】
前記のように、光学異方性層が、光重合性液晶化合物を含む液晶組成物を硬化した硬化物からなるので、当該光学異方性層は、光重合性液晶化合物を含みうる。ただし、光学異方性層においては、前記の光重合性液晶化合物の割合が、小さい。以下、光学異方性層における光重合性液晶化合物の割合を、適宜「残留モノマー割合」と呼ぶことがある。光学異方性層の重量を１００重量％とした場合において、当該光学異方性層の具体的な残留モノマー割合は、通常２５重量％以下、好ましくは２０重量％以下、より好ましくは１０重量％以下、特に好ましくは６重量％以下である。残留モノマー割合の下限は、理想的には０重量％であるが、２重量％以上となりうる。
【００３０】
光学異方性層の残留モノマー割合は、光学異方性層から光重合性液晶化合物を抽出して抽出溶液を得て、当該抽出溶液中の光重合性液晶化合物の量を定量することにより、測定しうる。抽出溶液中の光重合性液晶化合物の定量は、高速液体クロマトグラフィー（ＨＰＬＣ）等の定量方法により行いうる。
【００３１】
残留モノマー割合が大きい光学異方性層においては、光重合性液晶化合物の選択、硬化前の液晶組成物における光重合性液晶化合物の配向の制御などの手法によって、光学異方性層の吸光度の二色比ε１ｍ／ε１ｓ及びε２ｍ／ε２ｓを上述した範囲に収めることは出来るが、耐久性試験後においてもその特性を維持させることが困難であった。これに対し、前記のように残留モノマー割合を小さくすることによって、耐久性試験後において光学異方性層の吸光度の二色比ε１ｍ／ε１ｓ及びε２ｍ／ε２ｓを、上述した範囲で維持させることが可能になる。よって、耐久性試験の前だけでなく、耐久性試験の後においても、良好な逆波長分散特性を得ることができる。
【００３２】
光学異方性層の残留モノマー割合を前記の範囲に収める方法に、制限は無い。光学異方性層に含まれる前記の光重合性液晶化合物は、通常は、液晶組成物の硬化時において重合しなかった残留モノマーであるので、例えば、液晶組成物を硬化させる際の条件を調整することにより、光学異方性層の残留モノマー割合を前記の範囲に収められる。具体例を挙げると、重合開始剤の量を調整したり、重合開始剤として適切な種類のものを選択したり、液晶組成物を硬化させる工程における温度を調整したり、液晶組成物を硬化させる工程における積算光量を調整したりする方法が挙げられる。
【００３３】
光学異方性層の具体的な面内レターデーションは、当該光学異方性層の用途に応じて設定しうる。特に、光学異方性層は、λ／２波長板又はλ／４波長板として機能できる面内レターデーションを有することが好ましく、λ／４波長板として機能できる面内レターデーションを有することがより好ましい。光学異方性層が、このようなλ／４波長板又はλ／２波長板として機能する場合、当該光学異方性層を利用して、λ／４波長板又はλ／２波長板を有する円偏光板等の光学素子を容易に製造できる。
【００３４】
具体的には、測定波長５５０ｎｍで測定した面内レターデーションＲｅ（Ａ５５０）が、１０８ｎｍ〜１６８ｎｍである場合、光学異方性層はλ／４波長板として機能できる。また、測定波長５５０ｎｍで測定した面内レターデーションＲｅ（Ａ５５０）が２４５ｎｍ〜３０５ｎｍである場合、光学異方性層はλ／２波長板として機能できる。より具体的には、λ／４波長板の場合、測定波長５５０ｎｍで測定した面内レターデーションＲｅ（Ａ５５０）は、好ましくは１０８ｎｍ以上、より好ましくは１１０ｎｍ以上、更に好ましくは１２８ｎｍ以上、特に好ましくは１３５ｎｍ以上であり、また、好ましくは１６８ｎｍ以下、より好ましくは１５８ｎｍ以下、更に好ましくは１４８ｎｍ以下、特に好ましくは１４５ｎｍ以下である。さらに、λ／２波長板の場合、測定波長５５０ｎｍで測定した面内レターデーションＲｅ（Ａ５５０）は、好ましくは２４５ｎｍ以上、より好ましくは２６５ｎｍ以上、更に好ましくは２７０ｎｍ以上であり、好ましくは３０５ｎｍ以下、より好ましくは２８５ｎｍ以下、更に好ましくは２８０ｎｍ以下である。
【００３５】
光学異方性層は、通常、当該光学異方性層の配向方向に平行な遅相軸を有する。光学異方性層の具体的な遅相軸の方向は、光学異方性層の用途に応じて任意に設定しうる。光学異方性層が長尺の形状を有する場合、光学異方性層の遅相軸と光学異方性層の幅方向とがなす角度は、０°超９０°未満であることが好ましい。また、ある態様において、光学異方性層の遅相軸と光学異方性層の幅方向とがなす角度は、好ましくは１５°±５°、２２．５°±５°、４５°±５°、又は７５°±５°、より好ましくは１５°±４°、２２．５°±４°、４５°±４°、又は７５°±４°、さらにより好ましくは１５°±３°、２２．５°±３°、４５°±３°、又は７５°±３°といった特定の範囲としうる。このような角度関係を有することにより、光学異方性層を、円偏光板の効率的な製造を可能にする材料とすることができる。
【００３６】
光学異方性層の厚みは、特に限定されず、面内レターデーションなどの特性を所望の範囲とできるように適切に調整しうる。光学異方性層の具体的な厚みは、好ましくは０．５μｍ以上、より好ましくは１．０μｍ以上であり、好ましくは１０μｍ以下、より好ましくは７μｍ以下、特に好ましくは５μｍ以下である。
【００３７】
また、光学異方性層は、効率的に生産を行う観点から、長尺の形状を有することが好ましい。
【００３８】
［２．液晶組成物］
光学異方性層の形成に用いうる液晶組成物について説明する。前記の液晶組成物は、光重合性液晶化合物を含み、必要に応じて任意の成分を含む。
【００３９】
液晶化合物は、液晶組成物に配合し配向させた際に、液晶相を呈しうる化合物である。光重合性液晶化合物とは、かかる液晶相を呈した状態で液晶組成物中で重合し、液晶相における分子の配向を維持したまま重合体となりうる液晶化合物である。
また、以下の説明において、液晶組成物の成分であって、重合性を有する化合物（光重合性液晶化合物及びその他の重合性を有する化合物等）を総称して単に「重合性化合物」ということがある。
【００４０】
光重合性液晶化合物のＣＮ点は、好ましくは２５℃以上、より好ましくは４５℃以上、特に好ましくは６０℃以上であり、好ましくは１２０℃以下、より好ましくは１１０℃以下、特に好ましくは１００℃以下である。ここで、「ＣＮ点」とは、結晶−ネマチック相転移温度のことをいう。前記の範囲にＣＮ点を有する光重合性液晶化合物を用いることにより、光学異方性層を容易に製造することが可能である。
【００４１】
光重合性液晶化合物としては、重合性基を有する液晶化合物、側鎖型液晶ポリマーを形成しうる化合物、円盤状液晶化合物などの化合物が挙げられ、中でも、可視光線、紫外線、及び赤外線等の光を照射することによって重合しうる光重合性の化合物が好ましい。重合性基を有する液晶化合物としては、例えば、特開平１１−５１３３６０号公報、特開２００２−０３００４２号公報、特開２００４−２０４１９０号公報、特開２００５−２６３７８９号公報、特開２００７−１１９４１５号公報、特開２００７−１８６４３０号公報などに記載された重合性基を有する棒状液晶化合物などが挙げられる。また、側鎖型液晶ポリマー化合物としては、例えば、特開２００３−１７７２４２号公報などに記載の側鎖型液晶ポリマー化合物などが挙げられる。また、好ましい液晶化合物の例を製品名で挙げると、ＢＡＳＦ社製「ＬＣ２４２」等が挙げられる。円盤状液晶化合物の具体例としては、特開平８−５０２０６号公報、文献（C.  Destrade  et  al.,  Mol.  Crysr.  Liq.  Cryst.,  vol.  71,  page  111  (1981)  ；日本化学会編、季刊化学総説、Ｎｏ．２２、液晶の化学、第５章、第１０章第２節(1994)；J.  Zhang  et  al.,  J.  Am.  Chem.  Soc.,  vol.  116,  page  2655  (1994)）に記載されている。これらの光重合性液晶化合物は、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
【００４２】
中でも、光重合性液晶化合物としては、逆波長光重合性液晶化合物が好ましい。ここで、逆波長光重合性液晶化合物とは、重合体とした場合、得られた重合体が逆波長分散特性を示す光重合性液晶化合物を示す。液晶組成物が含む光重合性液晶化合物の一部又は全部として、逆波長光重合性液晶化合物を用いることにより、逆波長分散特性を有する光学異方性層を容易に得ることができる。
【００４３】
逆波長光重合性液晶化合物としては、当該逆波長光重合性液晶化合物の分子中に、主鎖メソゲンと、前記主鎖メソゲンに結合した側鎖メソゲンとを含む化合物を用いうる。主鎖メソゲン及び側鎖メソゲンを含む前記の逆波長光重合性液晶化合物は、当該逆波長光重合性液晶化合物が配向した状態において、側鎖メソゲンが主鎖メソゲンと異なる方向に配向しうる。そのため、このような配向を維持したまま逆波長光重合性液晶化合物を重合させて得た重合体においては、主鎖メソゲン及び側鎖メソゲンは、異なる方向に配向しうる。このような場合、複屈折は主鎖メソゲンに対応する屈折率と側鎖メソゲンに対応する屈折率との差として発現するので、結果として、逆波長光重合性液晶化合物及びその重合体は、逆波長分散特性を発現できる。
【００４４】
前記のように主鎖メソゲン及び側鎖メソゲンを有する化合物の立体形状は、一般的な正波長光重合性液晶化合物の立体形状とは異なる特異的な形状である。ここで、「正波長光重合性液晶化合物」とは、重合体とした場合、得られる重合体が正波長分散特性を示す光重合性液晶化合物である。また、正波長分散特性とは、波長４５０ｎｍにおける面内レターデーションＲｅ（４５０）、波長５５０ｎｍにおける面内レターデーションＲｅ（５５０）、及び、波長６５０ｎｍにおける面内レターデーションＲｅ（６５０）が、下記の式（９）及び式（１０）を満たす特性をいう。
Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）＞１．００  （９）
Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０）＜１．００  （１０）
【００４５】
前記の逆波長重合性液晶化合物の例としては、下記式（Ｉａ）で表される化合物が挙げられる。以下の説明において、式（Ｉａ）で表される化合物を、適宜「化合物（Ｉａ）」ということがある。
【００４６】
【化３】
2017110631.tif 000005
【００４７】
前記式（Ｉａ）において、Ｙ１ａ〜Ｙ８ａ、Ｇ１ａ、Ｇ２ａ、Ｚ１ａ、Ｚ２ａ、Ａ２ａ〜Ａ５ａは、それぞれ独立して、後述する、Ｙ１〜Ｙ８、Ｇ１、Ｇ２、Ｚ１、Ｚ２、Ａ２〜Ａ５と同じ意味を表し、好適例も同じである。
【００４８】
前記式（Ｉａ）において、Ａ１ａは、芳香族炭化水素環および芳香族複素環からなる群より選ばれる少なくとも１つの芳香環を有する炭素数１〜６７の有機基を置換基として有する芳香族炭化水素環基；または、芳香族炭化水素環および芳香族複素環からなる群より選ばれる少なくとも１つの芳香環を有する炭素数１〜６７の有機基を置換基として有する芳香族複素環基；を表す。
【００４９】
Ａ１ａの具体例としては、式：−ＲｆＣ（＝Ｎ−ＮＲｇＲｈ）、あるいは式：−ＲｆＣ（＝Ｎ−Ｎ＝Ｒｆ１Ｒｈ）で表される基で置換された芳香族基；１−ベンゾフラン−２−イル基で置換されたベンゾチアゾール−４，７−ジイル基；５−（２−ブチル）−１−ベンゾフラン−２−イル基で置換されたベンゾチアゾール−４，７−ジイル基；４，６−ジメチル−１−ベンゾフラン−２−イル基で置換されたベンゾチアゾール−４，７−ジイル基；６−メチル−１−ベンゾフラン−２−イル基で置換されたベンゾチアゾール−４，７−ジイル基；４，６，７−トリメチル−１−ベンゾフラン−２−イル基で置換されたベンゾチアゾール−４，７−ジイル基；４，５，６−トリメチル−１−ベンゾフラン−２−イル基で置換されたベンゾチアゾール−４，７−ジイル基；５−メチル−１−ベンゾフラン−２−イル基で置換されたベンゾチアゾール−４，７−ジイル基；５−プロピル−１−ベンゾフラン−２−イル基で置換されたベンゾチアゾール−４，７−ジイル基；７−プロピル−１−ベンゾフラン−２−イル基で置換されたベンゾチアゾール−４，７−ジイル基；５−フルオロ−１−ベンゾフラン−２−イル基で置換されたベンゾチアゾール−４，７−ジイル基；フェニル基で置換されたベンゾチアゾール−４，７−ジイル基、４−フルオロフェニル基で置換されたベンゾチアゾール−４，７−ジイル基；４−ニトロフェニル基で置換されたベンゾチアゾール−４，７−ジイル基；４−トリフルオロメチルフェニル基で置換されたベンゾチアゾール−４，７−ジイル基；４−シアノフェニル基で置換されたベンゾチアゾール−４，７−ジイル基；４−メタンスルホニルフェニル基で置換されたベンゾチアゾール−４，７−ジイル基；チオフェン−２−イル基で置換されたベンゾチアゾール−４，７−ジイル基；チオフェン−３−イル基で置換されたベンゾチアゾール−４，７−ジイル基；５−メチルチオフェン−２−イル基で置換されたベンゾチアゾール−４，７−ジイル基；５−クロロチオフェン−２−イル基で置換されたベンゾチアゾール−４，７−ジイル基；チエノ［３，２−ｂ］チオフェン−２−イル基で置換されたベンゾチアゾール−４，７−ジイル基；２−ベンゾチアゾリル基で置換されたベンゾチアゾール−４，７−ジイル基；４−ビフェニル基で置換されたベンゾチアゾール−４，７−ジイル基；４−プロピルビフェニル基で置換されたベンゾチアゾール−４，７−ジイル基；４−チアゾリル基で置換されたベンゾチアゾール−４，７−ジイル基；１−フェニルエチレン−２−イル基で置換されたベンゾチアゾール−４，７−ジイル基；４−ピリジル基で置換されたベンゾチアゾール−４，７−ジイル基；２−フリル基で置換されたベンゾチアゾール−４，７−ジイル基；ナフト［１，２−ｂ］フラン−２−イル基で置換されたベンゾチアゾール−４，７−ジイル基；５−メトキシ−２−ベンゾチアゾリル基で置換された１Ｈ−イソインドール−１，３（２Ｈ）−ジオン−４，７−ジイル基；フェニル基で置換された１Ｈ−イソインドール−１，３（２Ｈ）−ジオン−４，７−ジイル基；４−ニトロフェニル基で置換された１Ｈ−イソインドール−１，３（２Ｈ）−ジオン−４，７−ジイル基；または、２−チアゾリル基で置換された１Ｈ−イソインドール−１，３（２Ｈ）−ジオン−４，７−ジイル基；等が挙げられる。ここで、ＲｆおよびＲｆ１は、それぞれ独立して、後述するＱ１と同じ意味を表す。Ｒｇは、後述するＡｙと同じ意味を表し、Ｒｈは、後述するＡｘと同じ意味を表す。
【００５０】
前記式（Ｉａ）において、ｋ及びｌは、それぞれ独立に、０又は１を表す。
【００５１】
逆波長光重合性液晶化合物の好適な具体例としては、下記式（Ｉ）で示される化合物を挙げることができる。以下、式（Ｉ）で示される化合物を、適宜「化合物（Ｉ）」ということがある。
【００５２】
【化４】
2017110631.tif 000006
【００５３】
逆波長光重合性液晶化合物が化合物（Ｉ）である場合、基−Ｙ５−Ａ４−Ｙ３−Ａ２−Ｙ１−Ａ１−Ｙ２−Ａ３−Ｙ４−Ａ５−Ｙ６−が主鎖メソゲンとなり、また、下記式（Ａ）で表される基が側鎖メソゲンとなる。下記式（Ａ）において、Ａｘ、Ａｙ、Ａ１及びＱ１の意味は、式（Ｉ）におけるＡｘ、Ａｙ、Ａ１及びＱ１と同じである。基Ａ１は、主鎖メソゲン及び側鎖メソゲンの両方の性質に影響する。式（Ａ）で表される側鎖メソゲンを有することにより、逆波長分散性、有機溶媒への溶解性、および、フィルムに塗布可能な低融点、のすべてを備える逆波長重合性液晶化合物が得られる。
【００５４】
【化５】
2017110631.tif 000007
【００５５】
前記式（Ｉ）において、Ｙ１〜Ｙ８は、それぞれ独立して、化学的な単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−ＮＲ１−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ１−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ１−、−ＮＲ１−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−ＮＲ１−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ１−、−Ｏ−ＮＲ１−、又は、−ＮＲ１−Ｏ−を表す。
【００５６】
ここで、Ｒ１は、水素原子又は炭素数１〜６のアルキル基を表す。
Ｒ１の炭素数１〜６のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−へキシル基等が挙げられる。
Ｒ１としては、水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基が好ましい。
【００５７】
化合物（Ｉ）においては、Ｙ１〜Ｙ８は、それぞれ独立して、化学的な単結合、−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、又は、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−であるのが好ましい。
【００５８】
前記式（Ｉ）において、Ｇ１及びＧ２は、それぞれ独立して、置換基を有していてもよい、炭素数１〜２０の二価の脂肪族基を表す。
炭素数１〜２０の二価の脂肪族基としては、例えば、炭素数１〜２０のアルキレン基、炭素数２〜２０のアルケニレン基等の鎖状構造を有する二価の脂肪族基；炭素数３〜２０のシクロアルカンジイル基、炭素数４〜２０のシクロアルケンジイル基、炭素数１０〜３０の二価の脂環式縮合環基等の二価の脂肪族基；等が挙げられる。
【００５９】
Ｇ１及びＧ２の二価の脂肪族基の置換基としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子；メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔ−ブトキシ基、ｎ−ペンチルオキシ基、ｎ−へキシルオキシ基等の炭素数１〜６のアルコキシ基；等が挙げられる。なかでも、フッ素原子、メトキシ基、エトキシ基が好ましい。
【００６０】
また、前記脂肪族基には、１つの脂肪族基当たり１以上の−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−ＮＲ２−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ２−、−ＮＲ２−、又は、−Ｃ（＝Ｏ）−が介在していてもよい。ただし、−Ｏ−又は−Ｓ−がそれぞれ２以上隣接して介在する場合を除く。ここで、Ｒ２は、前記Ｒ１と同じく、水素原子又は炭素数１〜６のアルキル基を表し、水素原子又はメチル基であることが好ましい。
前記脂肪族基に介在する基としては、−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）−が好ましい。
【００６１】
これらの基が介在する脂肪族基の具体例としては、−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ２−、−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｓ−ＣＨ２−ＣＨ２−、−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−ＣＨ２−ＣＨ２−、−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ２−、−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−ＣＨ２−、−ＣＨ２−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ２−、−ＣＨ２−ＣＨ２−ＮＲ２−Ｃ（＝Ｏ）−ＣＨ２−ＣＨ２−、−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ２−ＣＨ２−、−ＣＨ２−ＮＲ２−ＣＨ２−ＣＨ２−、−ＣＨ２−Ｃ（＝Ｏ）−ＣＨ２−等が挙げられる。
【００６２】
これらの中でも、本発明の所望の効果をより良好に発現させる観点から、Ｇ１及びＧ２は、それぞれ独立して、炭素数１〜２０のアルキレン基、炭素数２〜２０のアルケニレン基等の鎖状構造を有する二価の脂肪族基が好ましく、メチレン基、エチレン基、トリメチレン基、プロピレン基、テトラメチレン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基、オクタメチレン基、デカメチレン基〔−（ＣＨ２）１０−〕等の、炭素数１〜１２のアルキレン基がより好ましく、テトラメチレン基〔−（ＣＨ２）４−〕、ヘキサメチレン基〔−（ＣＨ２）６−〕、オクタメチレン基〔−（ＣＨ２）８−〕、及び、デカメチレン基〔−（ＣＨ２）１０−〕が特に好ましい。
【００６３】
前記式（Ｉ）において、Ｚ１及びＺ２は、それぞれ独立して、無置換又はハロゲン原子で置換された炭素数２〜１０のアルケニル基を表す。
該アルケニル基の炭素数としては、２〜６が好ましい。Ｚ１及びＺ２のアルケニル基の置換基であるハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等が挙げられ、塩素原子が好ましい。
【００６４】
Ｚ１及びＺ２の炭素数２〜１０のアルケニル基の具体例としては、ＣＨ２＝ＣＨ−、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）−、ＣＨ２＝ＣＨ−ＣＨ２−、ＣＨ３−ＣＨ＝ＣＨ−、ＣＨ２＝ＣＨ−ＣＨ２−ＣＨ２−、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）−ＣＨ２−ＣＨ２−、（ＣＨ３）２Ｃ＝ＣＨ−ＣＨ２−、（ＣＨ３）２Ｃ＝ＣＨ−ＣＨ２−ＣＨ２−、ＣＨ２＝Ｃ（Ｃｌ）−、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）−ＣＨ２−、ＣＨ３−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ２−等が挙げられる。
【００６５】
なかでも、本発明の所望の効果をより良好に発現させる観点から、Ｚ１及びＺ２としては、それぞれ独立して、ＣＨ２＝ＣＨ−、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）−、ＣＨ２＝Ｃ（Ｃｌ）−、ＣＨ２＝ＣＨ−ＣＨ２−、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）−ＣＨ２−、又は、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）−ＣＨ２−ＣＨ２−が好ましく、ＣＨ２＝ＣＨ−、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）−、又は、ＣＨ２＝Ｃ（Ｃｌ）−がより好ましく、ＣＨ２＝ＣＨ−が特に好ましい。
【００６６】
前記式（Ｉ）において、Ａｘは、芳香族炭化水素環及び芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数２〜３０の有機基を表す。「芳香環」は、Ｈｕｃｋｅｌ則に従う広義の芳香族性を有する環状構造、すなわち、π電子を（４ｎ＋２）個有する環状共役構造、及びチオフェン、フラン、ベンゾチアゾール等に代表される、硫黄、酸素、窒素等のヘテロ原子の孤立電子対がπ電子系に関与して芳香族性を示す環状構造を意味する。
【００６７】
Ａｘの、芳香族炭化水素環及び芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数２〜３０の有機基は、芳香環を複数個有するものであってもよく、芳香族炭化水素環及び芳香族複素環を有するものであってもよい。
【００６８】
前記芳香族炭化水素環としては、例えば、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環等が挙げられる。前記芳香族複素環としては、ピロール環、フラン環、チオフェン環、ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環、ピラゾール環、イミダゾール環、オキサゾール環、チアゾール環等の単環の芳香族複素環；ベンゾチアゾール環、ベンゾオキサゾール環、キノリン環、フタラジン環、ベンゾイミダゾール環、ベンゾピラゾール環、ベンゾフラン環、ベンゾチオフェン環、チアゾロピリジン環、オキサゾロピリジン環、チアゾロピラジン環、オキサゾロピラジン環、チアゾロピリダジン環、オキサゾロピリダジン環、チアゾロピリミジン環、オキサゾロピリミジン環等の縮合環の芳香族複素環；等が挙げられる。
【００６９】
Ａｘが有する芳香環は置換基を有していてもよい。かかる置換基としては、例えば、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子；シアノ基；メチル基、エチル基、プロピル基等の炭素数１〜６のアルキル基；ビニル基、アリル基等の炭素数２〜６のアルケニル基；トリフルオロメチル基等の炭素数１〜６のハロゲン化アルキル基；ジメチルアミノ基等の置換アミノ基；メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基等の炭素数１〜６のアルコキシ基；ニトロ基；フェニル基、ナフチル基等のアリール基；−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ５；−Ｃ（＝Ｏ）−ＯＲ５；−ＳＯ２Ｒ６；等が挙げられる。ここで、Ｒ５は炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数２〜２０のアルケニル基、又は、炭素数３〜１２のシクロアルキル基を表し、Ｒ６は、後述するＲ４と同じく、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数２〜２０のアルケニル基、フェニル基、又は、４−メチルフェニル基を表す。
【００７０】
また、Ａｘが有する芳香環は、同一又は相異なる置換基を複数有していてもよく、隣り合った二つの置換基が一緒になって結合して環を形成していてもよい。形成される環は単環であっても、縮合多環であってもよく、不飽和環であってもよく、飽和環であってもよい。
さらに、Ａｘの炭素数２〜３０の有機基の「炭素数」は、置換基の炭素原子を含まない有機基全体の総炭素数を意味する（後述するＡｙにて同じである。）。
【００７１】
Ａｘの、芳香族炭化水素環及び芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数２〜３０の有機基としては、例えば、ベンゼン環基、ナフタレン環基、アントラセン環基等の芳香族炭化水素環基；ピロール環基、フラン環基、チオフェン環基、ピリジン環基、ピリダジン環基、ピリミジン環基、ピラジン環基、ピラゾール環基、イミダゾール環基、オキサゾール環基、チアゾール環基、ベンゾチアゾール環基、ベンゾオキサゾール環基、キノリン環基、フタラジン環基、ベンゾイミダゾール環基、ベンゾピラゾール環基、ベンゾフラン環基、ベンゾチオフェン環基、チアゾロピリジン環基、オキサゾロピリジン環基、チアゾロピラジン環基、オキサゾロピラジン環基、チアゾロピリダジン環基、オキサゾロピリダジン環基、チアゾロピリミジン環基、オキサゾロピリミジン環基等の芳香族複素環基；少なくとも１つの芳香環を有する複素基；芳香族炭化水素環及び芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数３〜３０のアルキル基；芳香族炭化水素環及び芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数４〜３０のアルケニル基；芳香族炭化水素環及び芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数４〜３０のアルキニル基；等が挙げられる。
【００７２】
なお、上記の有機基は、置換基を有していてもよい。かかる置換基としては、例えば、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子；シアノ基；メチル基、エチル基、プロピル基等の炭素数１〜６のアルキル基；ビニル基、アリル基等の炭素数２〜６のアルケニル基；トリフルオロメチル基等の炭素数１〜６のハロゲン化アルキル基；ジメチルアミノ基等の置換アミノ基；メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基等の炭素数１〜６のアルコキシ基；ニトロ基；フェニル基、ナフチル基等のアリール基；−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ８；−Ｃ（＝Ｏ）−ＯＲ８；−ＳＯ２Ｒ６；等が挙げられる。ここでＲ８は、メチル基、エチル基等の炭素数１〜６のアルキル基；又は、フェニル基等の炭素数６〜１４のアリール基；を表す。なかでも、ハロゲン原子、シアノ基、炭素数１〜６のアルキル基、及び炭素数１〜６のアルコキシ基が好ましい。
【００７３】
Ａｘの好ましい具体例を以下に示す。但し、Ａｘは以下に示すものに限定されるものではない。なお、下記式中、「−」は環の任意の位置からのびるＮ原子（即ち、式（Ｉ）又は式（Ａ）においてＡｘと結合するＮ原子）への結合手を表す（以下にて同じである。）。
【００７４】
（１）芳香族炭化水素環基
【００７５】
【化６】
2017110631.tif 000008
【００７６】
【化７】
2017110631.tif 000009
【００７７】
（２）芳香族複素環基
【００７８】
【化８】
2017110631.tif 000010
【００７９】
【化９】
2017110631.tif 000011
【００８０】
上記式中、Ｅは、ＮＲ６a、酸素原子又は硫黄原子を表す。ここで、Ｒ６aは、水素原子；又は、メチル基、エチル基、プロピル基等の炭素数１〜６のアルキル基を表す。
【００８１】
【化１０】
2017110631.tif 000012
【００８２】
上記式中、Ｘ及びＹは、それぞれ独立して、ＮＲ７、酸素原子、硫黄原子、−ＳＯ−、又は、−ＳＯ２−を表す（ただし、酸素原子、硫黄原子、−ＳＯ−、−ＳＯ２−が、それぞれ隣接する場合を除く。）。Ｒ７は、前記Ｒ６aと同じく、水素原子；又は、メチル基、エチル基、プロピル基等の炭素数１〜６のアルキル基を表す。
【００８３】
【化１１】
2017110631.tif 000013
【００８４】
（上記式中、Ｘは前記と同じ意味を表す。）
【００８５】
【化１２】
2017110631.tif 000014
【００８６】
〔各式中、Ｘ１は、−ＣＨ２−、−ＮＲｃ−、酸素原子、硫黄原子、−ＳＯ−または−ＳＯ２−を表し、Ｅ１は、−ＮＲｃ−、酸素原子または硫黄原子を表す。ここで、Ｒｃは、水素原子；または、メチル基、エチル基、プロピル基等の炭素数１〜６のアルキル基を表す。（但し、各式中において酸素原子、硫黄原子、−ＳＯ−、−ＳＯ２−は、それぞれ隣接しないものとする。）〕
（３）少なくとも１つの芳香環を有する複素環基
【００８７】
【化１３】
2017110631.tif 000015
【００８８】
（上記式中、Ｘ、及びＹは、それぞれ独立して、前記と同じ意味を表す。また、上記式中、Ｚは、ＮＲ７、酸素原子、硫黄原子、−ＳＯ−、又は、−ＳＯ２−を表す（ただし、酸素原子、硫黄原子、−ＳＯ−、−ＳＯ２−が、それぞれ隣接する場合を除く。）。）
（４）芳香族炭化水素環及び芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、アルキル基
【００８９】
【化１４】
2017110631.tif 000016
【００９０】
（５）芳香族炭化水素環及び芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、アルケニル基
【００９１】
【化１５】
2017110631.tif 000017
【００９２】
（６）芳香族炭化水素環及び芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、アルキニル基
【００９３】
【化１６】
2017110631.tif 000018
【００９４】
上記したＡｘの中でも、炭素数６〜３０の芳香族炭化水素環基、又は炭素数４〜３０の芳香族複素環基であることが好ましく、下記に示すいずれかの基であることがより好ましい。
【００９５】
【化１７】
2017110631.tif 000019
【００９６】
【化１８】
2017110631.tif 000020
【００９７】
（式中、Ｘ、Ｘ１及びＥ１は、前記と同じ意味を表す。）
さらに、Ａｘは、下記に示すいずれかの基であることが更に好ましい。
【００９８】
【化１９】
2017110631.tif 000021
【００９９】
（式中、Ｘは、前記と同じ意味を表す。）
Ａｘが有する環は、置換基を有していてもよい。かかる置換基としては、例えば、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子；シアノ基；メチル基、エチル基、プロピル基等の炭素数１〜６のアルキル基；ビニル基、アリル基等の炭素数２〜６のアルケニル基；トリフルオロメチル基等の炭素数１〜６のハロゲン化アルキル基；ジメチルアミノ基等の置換アミノ基；メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基等の炭素数１〜６のアルコキシ基；ニトロ基；フェニル基、ナフチル基等のアリール基；−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ８；−Ｃ（＝Ｏ）−ＯＲ８；−ＳＯ２Ｒ６；等が挙げられる。なかでも、ハロゲン原子、シアノ基、炭素数１〜６のアルキル基、及び炭素数１〜６のアルコキシ基が好ましい。
【０１００】
また、Ａｘが有する環は、同一又は相異なる置換基を複数有していてもよく、隣り合った二つの置換基が一緒になって結合して環を形成していてもよい。形成される環は、単環であってもよく、縮合多環であってもよい。
Ａｘの炭素数２〜３０の有機基の「炭素数」は、置換基の炭素原子を含まない有機基全体の総炭素数を意味する（後述するＡｙにて同じである。）。
【０１０１】
前記式（Ｉ）において、Ａｙは、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数２〜２０のアルケニル基、置換基を有していてもよい炭素数３〜１２のシクロアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数２〜２０のアルキニル基、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ３、−ＳＯ２−Ｒ４、−Ｃ（＝Ｓ）ＮＨ−Ｒ９、又は、芳香族炭化水素環及び芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数２〜３０の有機基を表す。ここで、Ｒ３は、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数２〜２０のアルケニル基、置換基を有していてもよい炭素数３〜１２のシクロアルキル基、又は、炭素数５〜１２の芳香族炭化水素環基を表す。Ｒ４は、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数２〜２０のアルケニル基、フェニル基、又は、４−メチルフェニル基を表す。Ｒ９は、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数２〜２０のアルケニル基、置換基を有していてもよい炭素数３〜１２のシクロアルキル基、又は、置換基を有していてもよい炭素数５〜２０の芳香族基を表す。
【０１０２】
Ａｙの、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基の炭素数１〜２０のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、１−メチルペンチル基、１−エチルペンチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ｎ−へキシル基、イソヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基、ｎ−ウンデシル基、ｎ−ドデシル基、ｎ−トリデシル基、ｎ−テトラデシル基、ｎ−ペンタデシル基、ｎ−ヘキサデシル基、ｎ−ヘプタデシル基、ｎ−オクタデシル基、ｎ−ノナデシル基、ｎ−イコシル基等が挙げられる。置換基を有してもよい炭素数１〜２０のアルキル基の炭素数は、１〜１２であることが好ましく、４〜１０であることが更に好ましい。
【０１０３】
Ａｙの、置換基を有していてもよい炭素数２〜２０のアルケニル基の炭素数２〜２０のアルケニル基としては、例えば、ビニル基、プロペニル基、イソプロペニル基、ブテニル基、イソブテニル基、ペンテニル基、ヘキセニル基、ヘプテニル基、オクテニル基、デセニル基、ウンデセニル基、ドデセニル基、トリデセニル基、テトラデセニル基、ペンタデセニル基、ヘキサデセニル基、ヘプタデセニル基、オクタデセニル基、ノナデセニル基、イコセニル基等が挙げられる。置換基を有していてもよい炭素数２〜２０のアルケニル基の炭素数は、２〜１２であることが好ましい。
【０１０４】
Ａｙの、置換基を有していてもよい炭素数３〜１２のシクロアルキル基の炭素数３〜１２のシクロアルキル基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロオクチル基等が挙げられる。
【０１０５】
Ａｙの、置換基を有していてもよい炭素数２〜２０のアルキニル基の炭素数２〜２０のアルキニル基としては、例えば、エチニル基、プロピニル基、２−プロピニル基（プロパルギル基）、ブチニル基、２−ブチニル基、３−ブチニル基、ペンチニル基、２−ペンチニル基、ヘキシニル基、５−ヘキシニル基、ヘプチニル基、オクチニル基、２−オクチニル基、ノナニル基、デカニル基、７−デカニル基等が挙げられる。
【０１０６】
Ａｙの、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基、及び置換基を有していてもよい炭素数２〜２０のアルケニル基の置換基としては、例えば、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子；シアノ基；ジメチルアミノ基等の置換アミノ基；メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基等の炭素数１〜２０のアルコキシ基；メトキシメトキシ基、メトキシエトキシ基等の、炭素数１〜１２のアルコキシ基で置換された炭素数１〜１２のアルコキシ基；ニトロ基；フェニル基、ナフチル基等のアリール基；シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等の炭素数３〜８のシクロアルキル基；シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基等の炭素数３〜８のシクロアルキルオキシ基；テトラヒドロフラニル基、テトラヒドロピラニル基、ジオキソラニル基、ジオキサニル基等の炭素数２〜１２の環状エーテル基；フェノキシ基、ナフトキシ基等の炭素数６〜１４のアリールオキシ基；トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、−ＣＨ２ＣＦ３等の、少なくとも１個がフッ素原子で置換された炭素数１〜１２のフルオロアルコキシ基；ベンゾフリル基；ベンゾピラニル基；ベンゾジオキソリル基；ベンゾジオキサニル基；−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ７ａ；−Ｃ（＝Ｏ）−ＯＲ７ａ；−ＳＯ２Ｒ８ａ；−ＳＲ１０；−ＳＲ１０で置換された炭素数１〜１２のアルコキシ基；水酸基；等が挙げられる。ここで、Ｒ７ａ及びＲ１０は、それぞれ独立して、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数２〜２０のアルケニル基、炭素数３〜１２のシクロアルキル基、又は、炭素数６〜１２の芳香族炭化水素環基を表し、Ｒ８ａは、前記Ｒ４と同じく、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数２〜２０のアルケニル基、フェニル基、又は、４−メチルフェニル基を表す。
【０１０７】
Ａｙの、置換基を有していてもよい炭素数３〜１２のシクロアルキル基の置換基としては、例えば、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子；シアノ基；ジメチルアミノ基等の置換アミノ基；メチル基、エチル基、プロピル基等の炭素数１〜６のアルキル基；メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基等の炭素数１〜６のアルコキシ基；ニトロ基；フェニル基、ナフチル基等のアリール基；シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等の炭素数３〜８のシクロアルキル基；−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ７ａ；−Ｃ（＝Ｏ）−ＯＲ７ａ；−ＳＯ２Ｒ８ａ；水酸基；等が挙げられる。ここでＲ７ａ、Ｒ８ａは前記と同じ意味を表す。
【０１０８】
Ａｙの、置換基を有していてもよい炭素数２〜２０のアルキニル基の置換基としては、例えば、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基、及び、置換基を有していてもよい炭素数２〜２０のアルケニル基の置換基と同じ置換基が挙げられる。
【０１０９】
Ａｙの、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ３で表される基において、Ｒ３は、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数２〜２０のアルケニル基、置換基を有していてもよい炭素数３〜１２のシクロアルキル基、又は、炭素数５〜１２の芳香族炭化水素環基を表す。これらの具体例は、前記Ａｙの、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数２〜２０のアルケニル基、及び、置換基を有していてもよい炭素数３〜１２のシクロアルキル基；並びに、前記Ａｘで説明した芳香族炭化水素環基のうち炭素数が５〜１２のものの例として列記したものと同じものが挙げられる。
【０１１０】
Ａｙの、−ＳＯ２−Ｒ４で表される基において、Ｒ４は、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数２〜２０のアルケニル基、フェニル基、又は、４−メチルフェニル基を表す。Ｒ４の、炭素数１〜２０のアルキル基、及び炭素数２〜２０のアルケニル基の具体例は、前記Ａｙの、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数２〜２０のアルケニル基の例として列記したものと同じものが挙げられる。
【０１１１】
Ａｙの、芳香族炭化水素環及び芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数２〜３０の有機基としては、前記Ａｘで例示したのと同じものが挙げられる。
【０１１２】
これらの中でも、Ａｙとしては、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数２〜２０のアルケニル基、置換基を有していてもよい炭素数３〜１２のシクロアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数２〜２０のアルキニル基、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ３、−ＳＯ２−Ｒ４、又は、芳香族炭化水素環及び芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数２〜３０の有機基で表される基が好ましく、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数２〜２０のアルケニル基、置換基を有していてもよい炭素数３〜１２のシクロアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数２〜２０のアルキニル基、置換基を有してもよい炭素数６〜１２の芳香族炭化水素環基、置換基を有していてもよい炭素数３〜９の芳香族複素環基、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ３、−ＳＯ２−Ｒ４で表される基が更に好ましい。ここで、Ｒ３、Ｒ４は前記と同じ意味を表す。
【０１１３】
Ａｙの、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数２〜２０のアルケニル基、置換基を有していてもよい炭素数２〜２０のアルキニル基の置換基としては、ハロゲン原子、シアノ基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数１〜１２のアルコキシ基で置換された炭素数１〜１２のアルコキシ基、フェニル基、シクロヘキシル基、炭素数２〜１２の環状エーテル基、炭素数６〜１４のアリールオキシ基、水酸基、ベンゾジオキサニル基、フェニルスルホニル基、４−メチルフェニルスルホニル基、ベンゾイル基、−ＳＲ１０が好ましい。ここで、Ｒ１０は前記と同じ意味を表す。
【０１１４】
Ａｙの、置換基を有していてもよい炭素数３〜１２のシクロアルキル基、置換基を有してもよい炭素数６〜１２の芳香族炭化水素環基、置換基を有していてもよい炭素数３〜９の芳香族複素環基の置換基としては、フッ素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、シアノ基が好ましい。
【０１１５】
上述した中でも、Ａｙとしては、水素、ｎ−へキシル基、及び、２−（１−シアノ）−プロピル基が好ましい。
【０１１６】
また、ＡｘとＡｙは、一緒になって、環を形成していてもよい。かかる環としては、例えば、置換基を有していてもよい、炭素数４〜３０の不飽和複素環、炭素数６〜３０の不飽和炭素環が挙げられる。
【０１１７】
前記炭素数４〜３０の不飽和複素環、及び、炭素数６〜３０の不飽和炭素環としては、特に制約はなく、芳香族性を有していても有していなくてもよい。
ＡｘとＡｙが一緒になって形成される環としては、例えば、下記に示す環が挙げられる。なお、下記に示す環は、式（Ｉ）中の
【０１１８】
【化２０】
2017110631.tif 000022
【０１１９】
として表される部分を示すものである。
【０１２０】
【化２１】
2017110631.tif 000023
【０１２１】
【化２２】
2017110631.tif 000024
【０１２２】
【化２３】
2017110631.tif 000025
【０１２３】
（式中、Ｘ、Ｙ、Ｚは、前記と同じ意味を表す。）
また、これらの環は置換基を有していてもよい。かかる置換基としては、Ａｘが有する芳香環の置換基として例示したのと同じものが挙げられる。
【０１２４】
ＡｘとＡｙに含まれるπ電子の総数は、本発明の所望の効果をより良好に発現させる観点から、好ましくは４以上、より好ましくは６以上であり、好ましくは２４以下、より好ましくは２０以下、特に好ましくは１８以下である。
【０１２５】
ＡｘとＡｙの好ましい組み合わせとしては、下記の組み合わせ（α）及び組み合わせ（β）が挙げられる。
（α）Ａｘが炭素数４〜３０の、芳香族炭化水素環基又は芳香族複素環基であり、Ａｙが水素原子、炭素数３〜８のシクロアルキル基、（ハロゲン原子、シアノ基、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、若しくは炭素数３〜８のシクロアルキル基）を置換基として有していてもよい炭素数６〜１２の芳香族炭化水素環基、（ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、シアノ基）を置換基として有していてもよい炭素数３〜９の芳香族複素環基、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルケニル基、又は、置換基を有していてもよい炭素数２〜２０のアルキニル基であり、当該置換基が、ハロゲン原子、シアノ基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数１〜１２のアルコキシ基で置換された炭素数１〜１２のアルコキシ基、フェニル基、シクロヘキシル基、炭素数２〜１２の環状エーテル基、炭素数６〜１４のアリールオキシ基、水酸基、ベンゾジオキサニル基、ベンゼンスルホニル基、ベンゾイル基及び−ＳＲ１０のいずれかである組み合わせ。
（β）ＡｘとＡｙが一緒になって不飽和複素環又は不飽和炭素環を形成している組み合わせ。
ここで、Ｒ１０は前記と同じ意味を表す。
【０１２６】
ＡｘとＡｙのより好ましい組み合わせとしては、下記の組み合わせ（γ）が挙げられる。
（γ）Ａｘが下記構造を有する基のいずれかであり、Ａｙが水素原子、炭素数３〜８のシクロアルキル基、（ハロゲン原子、シアノ基、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、若しくは炭素数３〜８のシクロアルキル基）を置換基として有していてもよい炭素数６〜１２の芳香族炭化水素環基、（ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、シアノ基）を置換基として有していてもよい炭素数３〜９の芳香族複素環基、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルケニル基、又は、置換基を有していてもよい炭素数２〜２０のアルキニル基であり、当該置換基が、ハロゲン原子、シアノ基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数１〜１２のアルコキシ基で置換された炭素数１〜１２のアルコキシ基、フェニル基、シクロヘキシル基、炭素数２〜１２の環状エーテル基、炭素数６〜１４のアリールオキシ基、水酸基、ベンゾジオキサニル基、ベンゼンスルホニル基、ベンゾイル基、及び−ＳＲ１０のいずれかである組み合わせ。ここで、Ｒ１０は前記と同じ意味を表す。
【０１２７】
【化２４】
2017110631.tif 000026
【０１２８】
【化２５】
2017110631.tif 000027
【０１２９】
（式中、Ｘ、Ｙは、前記と同じ意味を表す。）
ＡｘとＡｙの特に好ましい組み合わせとしては、下記の組み合わせ（δ）が挙げられる。
（δ）Ａｘが下記構造を有する基のいずれかであり、Ａｙが水素原子、炭素数３〜８のシクロアルキル基、（ハロゲン原子、シアノ基、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、若しくは炭素数３〜８のシクロアルキル基）を置換基として有していてもよい炭素数６〜１２の芳香族炭化水素環基、（ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、シアノ基）を置換基として有していてもよい炭素数３〜９の芳香族複素環基、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルケニル基、又は、置換基を有していてもよい炭素数２〜２０のアルキニル基であり、当該置換基が、ハロゲン原子、シアノ基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数１〜１２のアルコキシ基で置換された炭素数１〜１２のアルコキシ基、フェニル基、シクロヘキシル基、炭素数２〜１２の環状エーテル基、炭素数６〜１４のアリールオキシ基、水酸基、ベンゾジオキサニル基、ベンゼンスルホニル基、ベンゾイル基、及び、−ＳＲ１０のいずれかである組み合わせ。下記式中、Ｘは前記と同じ意味を表す。ここで、Ｒ１０は前記と同じ意味を表す。
【０１３０】
【化２６】
2017110631.tif 000028
【０１３１】
（式中、Ｘは、前記と同じ意味を表す。）
前記式（Ｉ）において、Ａ１は、置換基を有していてもよい三価の芳香族基を表す。三価の芳香族基としては、三価の炭素環式芳香族基であってもよく、三価の複素環式芳香族基であってもよい。本発明の所望の効果をより良好に発現させる観点から、三価の炭素環式芳香族基が好ましく、三価のベンゼン環基又は三価のナフタレン環基がより好ましく、下記式に示す三価のベンゼン環基又は三価のナフタレン環基がさらに好ましい。なお、下記式においては、結合状態をより明確にすべく、置換基Ｙ１、Ｙ２を便宜上記載している（Ｙ１、Ｙ２は、前記と同じ意味を表す。以下にて同じ。）。
【０１３２】
【化２７】
2017110631.tif 000029
【０１３３】
これらの中でも、Ａ１としては、下記に示す式（Ａ１１）〜（Ａ２５）で表される基がより好ましく、式（Ａ１１）、（Ａ１３）、（Ａ１５）、（Ａ１９）、（Ａ２３）で表される基がさらに好ましく、式（Ａ１１）、（Ａ２３）で表される基が特に好ましい。
【０１３４】
【化２８】
2017110631.tif 000030
【０１３５】
Ａ１の、三価の芳香族基が有していてもよい置換基としては、前記Ａｘの芳香環の置換基として例示したのと同じものが挙げられる。Ａ１としては、置換基を有さないものが好ましい。
【０１３６】
前記式（Ｉ）において、Ａ２及びＡ３は、それぞれ独立して、置換基を有していてもよい炭素数３〜３０の二価の脂環式炭化水素基を表す。炭素数３〜３０の二価の脂環式炭化水素基としては、例えば、炭素数３〜３０のシクロアルカンジイル基、炭素数１０〜３０の二価の脂環式縮合環基等が挙げられる。
【０１３７】
炭素数３〜３０のシクロアルカンジイル基としては、例えば、シクロプロパンジイル基；シクロブタン−１，２−ジイル基、シクロブタン−１，３−ジイル基等のシクロブタンジイル基；シクロペンタン−１，２−ジイル基、シクロペンタン−１，３−ジイル基等のシクロペンタンジイル基；シクロヘキサン−１，２−ジイル基、シクロヘキサン−１，３−ジイル基、シクロヘキサン−１，４−ジイル基等のシクロへキサンジイル基；シクロヘプタン−１，２−ジイル基、シクロヘプタン−１，３−ジイル基、シクロヘプタン−１，４−ジイル基等のシクロへプタンジイル基；シクロオクタン−１，２−ジイル基、シクロオクタン−１，３−ジイル基、シクロオクタン−１，４−ジイル基、シクロオクタン−１，５−ジイル基等のシクロオクタンジイル基；シクロデカン−１，２−ジイル基、シクロデカン−１，３−ジイル基、シクロデカン−１，４−ジイル基、シクロデカン−１，５−ジイル基等のシクロデカンジイル基；シクロドデカン−１，２−ジイル基、シクロドデカン−１，３−ジイル基、シクロドデカン−１，４−ジイル基、シクロドデカン−１，５−ジイル基等のシクロドデカンジイル基；シクロテトラデカン−１，２−ジイル基、シクロテトラデカン−１，３−ジイル基、シクロテトラデカン−１，４−ジイル基、シクロテトラデカン−１，５−ジイル基、シクロテトラデカン−１，７−ジイル基等のシクロテトラデカンジイル基；シクロエイコサン−１，２−ジイル基、シクロエイコサン−１，１０−ジイル基等のシクロエイコサンジイル基；等が挙げられる。
【０１３８】
炭素数１０〜３０の二価の脂環式縮合環基としては、例えば、デカリン−２，５−ジイル基、デカリン−２，７-ジイル基等のデカリンジイル基；アダマンタン−１，２−ジイル基、アダマンタン−１，３−ジイル基等のアダマンタンジイル基；ビシクロ［２．２．１］へプタン−２，３−ジイル基、ビシクロ［２．２．１］へプタン−２，５-ジイル基、ビシクロ［２．２．１］へプタン−２，６−ジイル基等のビシクロ［２．２．１］へプタンジイル基；等が挙げられる。
【０１３９】
これらの二価の脂環式炭化水素基は、任意の位置に置換基を有していてもよい。置換基としては、前記Ａｘの芳香環の置換基として例示したのと同じものが挙げられる。
【０１４０】
これらの中でも、Ａ２及びＡ３としては、炭素数３〜１２の二価の脂環式炭化水素基が好ましく、炭素数３〜１２のシクロアルカンジイル基がより好ましく、下記式（Ａ３１）〜（Ａ３４）
【０１４１】
【化２９】
2017110631.tif 000031
【０１４２】
で表される基がさらに好ましく、前記式（Ａ３２）で表される基が特に好ましい。
前記炭素数３〜３０の二価の脂環式炭化水素基は、Ｙ１、Ｙ３（又はＹ２、Ｙ４）と結合する炭素原子の立体配置の相違に基づく、シス型、トランス型の立体異性体が存在し得る。例えば、シクロヘキサン−１，４−ジイル基の場合には、下記に示すように、シス型の異性体（Ａ３２ａ）とトランス型の異性体（Ａ３２ｂ）が存在し得る。
【０１４３】
【化３０】
2017110631.tif 000032
【０１４４】
前記炭素数３〜３０の二価の脂環式炭化水素基は、シス型であってもよく、トランス型であってもよく、あるいはシス型及びトランス型の異性体混合物であってもよいが、配向性が良好であることから、トランス型あるいはシス型であるのが好ましく、トランス型がより好ましい。
【０１４５】
前記式（Ｉ）において、Ａ４及びＡ５は、それぞれ独立して、置換基を有していてもよい、炭素数６〜３０の二価の芳香族基を表す。Ａ４及びＡ５の芳香族基は、単環のものであっても、多環のものであってもよい。Ａ４及びＡ５の好ましい具体例としては、下記のものが挙げられる。
【０１４６】
【化３１】
2017110631.tif 000033
【０１４７】
上記Ａ４及びＡ５の二価の芳香族基は、任意の位置に置換基を有していてもよい。当該置換基としては、例えば、ハロゲン原子、シアノ基、ヒドロキシル基、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、ニトロ基、−Ｃ（＝Ｏ）−ＯＲ８ｂ基；等が挙げられる。ここでＲ８ｂは、炭素数１〜６のアルキル基である。なかでも、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、アルコキシ基が好ましい。また、ハロゲン原子としてはフッ素原子が、炭素数１〜６のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基が、アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基が、より好ましい。
【０１４８】
これらの中でも、本発明の所望の効果をより良好に発現させる観点から、Ａ４及びＡ５は、それぞれ独立して、置換基を有していてもよい、下記式（Ａ４１）、（Ａ４２）及び（Ａ４３）で表される基がより好ましく、置換基を有していてもよい式（Ａ４１）で表される基が特に好ましい。
【０１４９】
【化３２】
2017110631.tif 000034
【０１５０】
前記式（Ｉ）において、Ｑ１は、水素原子、又は、置換基を有していてもよい炭素数１〜６のアルキル基を示す。置換基を有していてもよい炭素数１〜６のアルキル基としては、前記Ａｙで例示した置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基のうち、炭素数が１〜６のものが挙げられる。これらの中でも、Ｑ１は、水素原子又は炭素数１〜６のアルキル基が好ましく、水素原子及びメチル基がより好ましい。
【０１５１】
前記式（Ｉ）において、ｍは、０又は１であり、特に１が好ましい。
【０１５２】
化合物（Ｉ）は、例えば、国際公開第２０１２／１４７９０４号に記載される、ヒドラジン化合物とカルボニル化合物との反応により製造しうる。
【０１５３】
液晶組成物は、重合性モノマーを含みうる。「重合性モノマー」とは、重合能を有しモノマーとして働きうる化合物のうち、特に、逆波長光重合性液晶化合物以外の化合物をいう。重合性モノマーとしては、例えば、１分子当たり１以上の重合性基を有するものを用いうる。そのような重合性基を有することにより、光学異方性層の形成に際し重合を達成することができる。重合性モノマーが１分子当たり２以上の重合性基を有する架橋性モノマーである場合、架橋的な重合を達成することができる。かかる重合性基の例としては、化合物（Ｉ）中の基Ｚ１−Ｙ７−及びＺ２−Ｙ８−と同じ基を挙げることができ、より具体的には例えば、アクリロイル基、メタクリロイル基、及びエポキシ基を挙げることができる。
【０１５４】
重合性モノマーは、それ自体が液晶性のものであってもよく、非液晶性のものであってもよい。ここで、それ自体が「非液晶性」であるとは、当該重合性モノマーそのものを、室温から２００℃のいずれの温度に置いた場合にも、配向処理をした基材フィルム上で配向を示さないものをいう。配向を示すかどうかは、偏光顕微鏡のクロスニコル透過観察にてラビング方向を面相で回転させた場合に、明暗のコントラストがあるかどうかで判断する。
【０１５５】
液晶組成物において、重合性モノマーの割合は、逆波長光重合性液晶化合物１００重量部に対し、好ましくは１重量部〜１００重量部、より好ましくは５重量部〜５０重量部である。当該範囲内で、重合性モノマーの割合を、所望の逆波長分散特性を示すように適宜調整することにより、逆波長分散特性の精密な制御が容易となる。
重合性モノマーは、既知の製造方法により製造することができる。または、化合物（Ｉ）と類似の構造を持つものについては、化合物（Ｉ）の製造方法に準じて製造することができる。
【０１５６】
液晶組成物は、光重合開始剤を含みうる。光重合開始剤としては、液晶組成物中の重合性化合物が有する重合性基の種類に応じて適宜選択しうる。例えば、重合性基がラジカル重合性であればラジカル重合開始剤を、アニオン重合性の基であればアニオン重合開始剤を、カチオン重合性の基であればカチオン重合開始剤を、それぞれ使用しうる。
【０１５７】
ラジカル重合開始剤の例としては、光照射により、重合性化合物の重合を開始しえる活性種が発生する化合物である光ラジカル発生剤が挙げられる。
【０１５８】
光ラジカル発生剤としては、例えば、国際公開第２０１２／１４７９０４号に記載される、アセトフェノン系化合物、ビイミダゾール系化合物、トリアジン系化合物、Ｏ−アシルオキシム系化合物、オニウム塩系化合物、ベンゾイン系化合物、ベンゾフェノン系化合物、α−ジケトン系化合物、多核キノン系化合物、キサントン系化合物、ジアゾ系化合物、イミドスルホナート系化合物等を挙げることができる。
【０１５９】
前記アニオン重合開始剤としては、例えば、アルキルリチウム化合物；ビフェニル、ナフタレン、ピレン等の、モノリチウム塩又はモノナトリウム塩；ジリチウム塩やトリリチウム塩等の多官能性開始剤；等が挙げられる。
【０１６０】
また、前記カチオン重合開始剤としては、例えば、硫酸、リン酸、過塩素酸、トリフルオロメタンスルホン酸等のプロトン酸；三フッ化ホウ素、塩化アルミニウム、四塩化チタン、四塩化スズのようなルイス酸；芳香族オニウム塩又は芳香族オニウム塩と、還元剤との併用系；が挙げられる。
【０１６１】
市販の光重合開始剤の具体的な例としては、ＢＡＳＦ社製の、商品名：Ｉｒｇａｃｕｒｅ９０７、商品名：Ｉｒｇａｃｕｒｅ１８４、商品名：Ｉｒｇａｃｕｒｅ３６９、品名：Ｉｒｇａｃｕｒｅ６５１、商品名：Ｉｒｇａｃｕｒｅ８１９、商品名：Ｉｒｇａｃｕｒｅ９０７、商品名：Ｉｒｇａｃｕｒｅ３７９、商品名：Ｉｒｇａｃｕｒｅ３７９ＥＧ、及び商品名：Ｉｒｇａｃｕｒｅ  ＯＸＥ０２；ＡＤＥＫＡ社製の、商品名：アデカオプトマーＮ１９１９等が挙げられる。
【０１６２】
これらの重合開始剤は、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
【０１６３】
関彰組成物において、重合開始剤の割合は、重合性化合物１００重量部に対し、好ましくは０．１重量部〜３０重量部、より好ましくは０．５重量部〜１０重量部である。
【０１６４】
液晶組成物は、表面張力を調整するための、界面活性剤を含みうる。当該界面活性剤としては、特に限定はないが、ノニオン系界面活性剤が好ましい。当該ノニオン系界面活性剤としては、市販品を用いうる。例えば、分子量が数千程度のオリゴマーであるノニオン系界面活性剤を用いうる。これらの界面活性剤の具体例としては、ＯＭＮＯＶＡ社ＰｏｌｙＦｏｘの「ＰＦ−１５１Ｎ」、「ＰＦ−６３６」、「ＰＦ−６３２０」、「ＰＦ−６５６」、「ＰＦ−６５２０」、「ＰＦ−３３２０」、「ＰＦ−６５１」、「ＰＦ−６５２」；ネオス社フタージェントの「ＦＴＸ−２０９Ｆ」、「ＦＴＸ−２０８Ｇ」、「ＦＴＸ−２０４Ｄ」、「６０１ＡＤ」；セイミケミカル社サーフロンの「ＫＨ−４０」、「Ｓ−４２０」等を用いることができる。また、界面活性剤は、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。液晶組成物において、界面活性剤の割合は、重合性化合物１００重量部に対し、好ましくは０．０１重量部〜１０重量部、より好ましくは０．１重量部〜２重量部である。
【０１６５】
液晶組成物は、有機溶媒等の溶媒を含みうる。かかる有機溶媒の例としては、シクロペンタン、シクロヘキサン等の炭化水素溶媒；シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、アセトン、メチルイソブチルケトン等のケトン溶媒；酢酸ブチル、酢酸アミル等の酢酸エステル溶媒；クロロホルム、ジクロロメタン、ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素溶媒；１，４−ジオキサン、シクロペンチルメチルエーテル、テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、１，３−ジオキソラン、１，２−ジメトキシエタン等のエーテル溶媒；トルエン、キシレン、メシチレン等の芳香族炭化水素溶媒；及びこれらの混合物が挙げられる。溶媒の沸点は、取り扱い性に優れる観点から、６０℃〜２５０℃であることが好ましく、６０℃〜１５０℃であることがより好ましい。溶媒の使用量は、重合性化合物１００重量部に対し、好ましくは１００重量部〜１０００重量部である。
【０１６６】
液晶組成物は、さらに、金属、金属錯体、染料、顔料、蛍光材料、燐光材料、レベリング剤、チキソ剤、ゲル化剤、多糖類、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、抗酸化剤、イオン交換樹脂、酸化チタン等の金属酸化物等の任意の添加剤を含みうる。かかる任意の添加剤の割合は、重合性化合物１００重量部に対し、好ましくは、各々０．１重量部〜２０重量部である。
【０１６７】
［３．光学異方性層の製造方法］
光学異方性層は、例えば、
工程（Ｉ）：基材上に液晶組成物を塗工して、液晶組成物の層を得る工程、
工程（II）：液晶組成物の層に含まれる光重合性液晶化合物を配向させる工程、及び、
工程（III）：液晶組成物を硬化する工程
を含む製造方法によって、製造できる。
【０１６８】
工程（Ｉ）は、例えば、基材上に液晶組成物を塗工することによって行いうる。基材としては、長尺の基材を用いることが好ましい。長尺の基材を用いる場合、連続的に搬送される基材上に、液晶組成物を連続的に塗工することが可能である。よって、長尺の基材を用いることにより、光学異方性層を連続的に製造できるので、生産性を向上させることが可能である。
【０１６９】
液晶組成物を基材上に塗工する場合、基材に適度の張力（通常、１００Ｎ／ｍ〜５００Ｎ／ｍ）を掛けて、基材の搬送ばたつきを少なくし、平面性を維持したまま塗布することが好ましい。平面性とは、基材の幅手方向および搬送方向に垂直な上下方向の振れ量であり、理想的には０ｍｍであるが、通常、１ｍｍ以下である。
【０１７０】
基材としては、通常、基材フィルムを用いる。基材フィルムとしては、光学的な積層体の基材として用いうるフィルムを、適切に選択して用いうる。中でも、基材フィルム及び光学異方性層を備える複層フィルムを光学フィルムとして利用可能にして、基材フィルムからの光学異方性層の剥離を不要にする観点から、基材フィルムとしては透明なフィルムが好ましい。具体的には、基材フィルムの全光線透過率は、好ましくは８０％以上、より好ましくは８５％以上、特に好ましくは８８％以上である。基材フィルムの全光線透過率は、紫外・可視分光計を用いて、波長４００ｎｍ〜７００ｎｍの範囲で測定しうる。
【０１７１】
基材フィルムの材料は、特に限定されず、種々の樹脂を用いうる。樹脂の例としては、各種の重合体を含む樹脂が挙げられる。当該重合体としては、脂環式構造含有重合体、セルロースエステル、ポリビニルアルコール、ポリイミド、ＵＶ透過アクリル、ポリカーボネート、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、エポキシ重合体、ポリスチレン、及びこれらの組み合わせが挙げられる。これらの中でも、透明性、低吸湿性、寸法安定性及び軽量性の観点から、脂環式構造含有重合体及びセルロースエステルが好ましく、脂環式構造含有重合体がより好ましい。
【０１７２】
脂環式構造含有重合体は、繰り返し単位中に脂環式構造を有する重合体であり、通常は非晶質の重合体である。脂環式構造含有重合体としては、主鎖中に脂環式構造を含有する重合体及び側鎖に脂環式構造を含有する重合体のいずれも用いうる。
脂環式構造としては、例えば、シクロアルカン構造、シクロアルケン構造等が挙げられるが、熱安定性等の観点からシクロアルカン構造が好ましい。
１つの脂環式構造の繰り返し単位を構成する炭素数に特に制限はないが、好ましくは４個以上、より好ましくは５個以上、特に好ましくは６個以上であり、好ましくは３０個以下、より好ましくは２０個以下、特に好ましくは１５個以下である。
【０１７３】
脂環式構造含有重合体中の脂環式構造を有する繰り返し単位の割合は、使用目的に応じて適宜選択されうるが、好ましくは５０重量％以上、より好ましくは７０重量％以上、特に好ましくは９０重量％以上である。脂環式構造を有する繰り返し単位を前記のように多くすることにより、基材フィルムの耐熱性を高くできる。
【０１７４】
脂環式構造含有重合体は、例えば、（１）ノルボルネン重合体、（２）単環の環状オレフィン重合体、（３）環状共役ジエン重合体、（４）ビニル脂環式炭化水素重合体、及びこれらの水素添加物などが挙げられる。これらの中でも、透明性及び成形性の観点から、ノルボルネン重合体がより好ましい。
【０１７５】
ノルボルネン重合体としては、例えば、ノルボルネンモノマーの開環重合体、ノルボルネンモノマーと開環共重合可能なその他のモノマーとの開環共重合体、及びそれらの水素添加物；ノルボルネンモノマーの付加重合体、ノルボルネンモノマーと共重合可能なその他のモノマーとの付加共重合体などが挙げられる。これらの中でも、透明性の観点から、ノルボルネンモノマーの開環重合体水素添加物が特に好ましい。
【０１７６】
上記の脂環式構造含有重合体は、例えば特開２００２−３２１３０２号公報等に開示されている公知の重合体から選ばれる。
【０１７７】
脂環式構造含有重合体のガラス転移温度は、好ましくは８０℃以上、より好ましくは１００℃〜２５０℃の範囲である。ガラス転移温度がこのような範囲にある脂環式構造含有重合体は、高温下での使用における変形及び応力を生じ難く、耐久性に優れる。
【０１７８】
脂環式構造含有重合体の重量平均分子量（Ｍｗ）は、好ましくは１０，０００〜１００，０００、より好ましくは２５，０００〜８０，０００、さらにより好ましくは２５，０００〜５０，０００である。重量平均分子量がこのような範囲にあるときに、基材フィルムの機械的強度及び成形加工性が高度にバランスされ好適である。前記の重量平均分子量は、溶媒としてシクロヘキサンを用いたゲル・パーミエーション・クロマトグラフィー（以下、「ＧＰＣ」と略す。）により、ポリイソプレン換算の値で測定しうる。また、樹脂が溶媒に溶解しない場合、前記のＧＰＣの溶媒としてはトルエンを用い、重量平均分子量はポチスチレン換算の値で測定しうる。
【０１７９】
脂環式構造含有重合体の分子量分布（重量平均分子量（Ｍｗ）／数平均分子量（Ｍｎ））は、好ましくは１以上、より好ましくは１．２以上であり、好ましくは１０以下、より好ましくは４以下、特に好ましくは３．５以下である。
【０１８０】
基材フィルムの材質として脂環式構造含有重合体を含む樹脂を用いた場合の、基材フィルムの厚みは、生産性の向上、薄型化及び軽量化を容易にする観点から、好ましくは１μｍ〜１０００μｍ、より好ましくは５μｍ〜３００μｍ、特に好ましくは３０μｍ〜１００μｍである。
【０１８１】
脂環式構造含有重合体を含む樹脂は、脂環式構造含有重合体のみからなってもよいが、本発明の効果を著しく損なわない限り、任意の配合剤を含んでもよい。脂環式構造含有重合体を含む樹脂中の、脂環式構造含有重合体の割合は、好ましくは７０重量％以上、より好ましくは８０重量％以上である。
脂環式構造含有重合体を含む樹脂の好適な具体例としては、日本ゼオン社製「ゼオノア１４２０」、「ゼオノア１４２０Ｒ」を挙げうる。
【０１８２】
セルロースエステルとしては、セルロースの低級脂肪酸エステル（例：セルロースアセテート、セルロースアセテートブチレートおよびセルロースアセテートプロピオネート）が代表的である。低級脂肪酸は、１分子あたりの炭素原子数６以下の脂肪酸を意味する。セルロースアセテートには、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）及びセルロースジアセテート（ＤＡＣ）が含まれる。
【０１８３】
セルロースアセテートの酢化度は、５０％〜７０％が好ましく、特に５５％〜６５％が好ましい。重量平均分子量７００００〜１２００００が好ましく、特に８００００〜１０００００が好ましい。また、上記セルロースアセテートは、酢酸だけでなく、一部プロピオン酸、酪酸等の脂肪酸でエステル化されていてもよい。また、基材フィルムを構成する樹脂は、セルロースアセテートと、セルロースアセテート以外のセルロースエステル（セルロースプロピオネート及びセルロースブチレート等）とを組み合わせて含んでもよい。その場合、これらのセルロースエステルの全体が、上記酢化度を満足することが好ましい。
【０１８４】
基材フィルムとして、トリアセチルセルロースのフィルムを用いる場合、かかるフィルムとしては、トリアセチルセルロースを低温溶解法あるいは高温溶解法によってジクロロメタンを実質的に含まない溶媒に溶解することで調製されたトリアセチルセルロースドープを用いて作製されたトリアセチルセルロースフィルムが、環境保全の観点から特に好ましい。トリアセチルセルロースのフィルムは、共流延法により作製しうる。共流延法は、トリアセチルセルロースの原料フレーク及び溶媒並びに必要に応じて任意の添加剤を含む溶液（ドープ）を調製し、当該ドープをドープ供給器（ダイ）から支持体の上に流延し、流延物をある程度乾燥して剛性が付与された時点でフィルムとして支持体から剥離し、当該フィルムをさらに乾燥して溶媒を除去することにより行いうる。原料フレークを溶解する溶媒の例としては、ハロゲン化炭化水素溶媒（ジクロロメタン等）、アルコール溶媒（メタノール、エタノール、ブタノール等）、エステル溶媒（蟻酸メチル、酢酸メチル等）、エーテル溶媒（ジオキサン、ジオキソラン、ジエチルエーテル等）等が挙げられる。ドープが含む添加剤の例としては、レターデーション上昇剤、可塑剤、紫外線吸収剤、劣化防止剤、滑り剤、剥離促進剤等が挙げられる。ドープを流延する支持体の例としては、水平式のエンドレスの金属ベルト、及び回転するドラムが挙げられる。流延に際しては、単一のドープを単層流延することもできるが、複数の層を共流延することもできる。複数の層を共流延する場合、例えば、低濃度のセルロースエステルドープの層と、そのおもて面及び裏面に接して設けられた高濃度のセルロースエステルドープの層が形成されるよう、複数のドープを順次流延しうる。フィルムを乾燥して溶媒を除去する方法の例としては、フィルムを搬送して、内部を乾燥に適した条件に設定した乾燥部を通過させる方法が挙げられる。
【０１８５】
トリアセチルセルロースのフィルムの好ましい例としては、富士写真フィルム社製「ＴＡＣ−ＴＤ８０Ｕ」、及び、発明協会公開技報公技番号２００１−１７４５号にて公開されたものが挙げられる。トリアセチルセルロースのフィルムの厚みは特に限定されないが、２０μｍ〜１５０μｍが好ましく、４０μｍ〜１３０μｍがより好ましく、７０μｍ〜１２０μｍが更に好ましい。
【０１８６】
基材としては、配向規制力を有するものを用いうる。基材の配向規制力とは、基材の上に塗工された液晶組成物中の光重合性液晶化合物を配向させうる、基材の性質をいう。
【０１８７】
配向規制力は、基材の材料となるフィルム等の部材に、配向規制力を付与する処理を施すことにより付与しうる。かかる処理の例としては、延伸処理及びラビング処理が挙げられる。
【０１８８】
好ましい態様において、基材は延伸フィルムである。かかる延伸フィルムとすることにより、延伸方向に応じた配向規制力を有する基材としうる。
【０１８９】
延伸フィルムの延伸方向は、任意である。よって、延伸は、斜め延伸（基材の長手方向及び幅方向のいずれとも非平行な方向への延伸）のみでもよく、横延伸（基材の幅方向への延伸）のみでもよく、縦延伸（基材の長手方向への延伸）のみでもよい。さらに、これらの延伸は、組み合わせて行ってもよい。延伸倍率は、基材表面に配向規制力が生じる範囲で適宜設定しうる。基材が正の固有複屈折性を有する樹脂を材料として用いた場合、延伸方向に分子が配向して延伸方向に配向軸が発現する。延伸は、テンター延伸機などの既知の延伸機を用いて行いうる。
【０１９０】
更に好ましい態様において、基材は斜め延伸フィルムである。即ち、基材は、長尺のフィルムであり、且つフィルムの長手方向及び幅方向のいずれとも非平行な方向に延伸されたフィルムであることが更に好ましい。
【０１９１】
基材が斜め延伸フィルムである場合の、延伸方向と延伸フィルムの幅方向とがなす角度は、具体的には０°超９０°未満としうる。このような斜め延伸フィルムを用いることにより、長尺の直線偏光子に光学異方性層をロールツーロールで転写、積層し、円偏光板等の光学フィルムの効率的な製造が可能となる。
【０１９２】
また、ある態様において、延伸方向と延伸フィルムの幅方向とがなす角度を、好ましくは１５°±５°、２２．５±５°、４５°±５°、又は７５°±５°、より好ましくは１５°±４°、２２．５°±４°、４５°±４°、又は７５°±４°、さらにより好ましくは１５°±３°、２２．５°±３°、４５°±３°、又は７５°±３°といった特定の範囲としうる。このような角度関係を有することにより、光学異方性層を、円偏光板の効率的な製造を可能にする材料とすることができる。
【０１９３】
液晶組成物の塗工方法の例としては、カーテンコーティング法、押し出しコーティング法、ロールコーティング法、スピンコーティング法、ディップコーティング法、バーコーティング法、スプレーコーティング法、スライドコーティング法、印刷コーティング法、グラビアコーティング法、ダイコーティング法、ギャップコーティング法、及びディッピング法が挙げられる。塗工される液晶組成物の層の厚みは、光学異方性層に求められる所望の厚さに応じて適切に設定しうる。
【０１９４】
工程（Ｉ）の後で、光重合性液晶化合物を配向させる工程（II）を行う。工程（II）により、液晶組成物の層に含まれる光重合性液晶化合物は、基材の配向規制力に応じた配向方向に配向する。例えば、基材として延伸フィルムを用いた場合、延伸フィルムの延伸方向に平行に、液晶組成物の層に含まれる光重合性液晶化合物が配向する。この際、基材として長尺の基材フィルムを用いている場合には、光重合性液晶化合物を、基材の長手方向でもなく幅方向でもない斜め方向に配向させることが好ましい。このような斜め方向に配向させた光重合性液晶化合物を含む液晶組成物の層からは、通常、斜め方向に配向方向を有する光学異方性層が得られる。そのため、長尺の直線偏光子に光学異方性層をロールツーロールで転写、積層し、円偏光板等の光学フィルムの効率的な製造が可能となる。
【０１９５】
工程（II）は、塗工により直ちに達成される場合もあるが、必要に応じて、塗工の後に、加温などの配向処理を施すことにより達成される場合もある。配向処理の条件は、使用する液晶組成物の性質に応じて適宜設定しうるが、例えば、５０℃〜１６０℃の温度条件において３０秒間〜５分間処理する条件としうる。
【０１９６】
工程（II）の後、直ちに工程（III）を行ってもよいが、工程（II）の後工程（III）の前等の任意の段階で、必要に応じて液晶組成物の層を乾燥させる工程を行なってもよい。かかる乾燥は、自然乾燥、加熱乾燥、減圧乾燥、減圧加熱乾燥等の乾燥方法で達成しうる。かかる乾燥により、液晶組成物の層から、溶媒を除去することができる。
【０１９７】
工程（III）では、液晶組成物に含まれる光重合性液晶化合物等の重合性化合物を重合させることにより、液晶組成物の層を硬化させて、光学異方性層を得る。重合性化合物の重合方法は、重合性化合物及び重合開始剤等の、液晶組成物の成分の性質に適合した方法を適切に選択しうる。例えば、光を照射する方法が好ましい。ここで、照射される光には、可視光線、紫外線、及び赤外線等の光が含まれうる。なかでも、操作が簡便なことから、紫外線を照射する方法が好ましい。
【０１９８】
工程（III）において紫外線を照射する場合の紫外線照射強度は、好ましくは０．１ｍＷ／ｃｍ２〜１０００ｍＷ／ｃｍ２の範囲、より好ましくは０．５ｍＷ／ｃｍ２〜６００ｍＷ／ｃｍ２の範囲である。紫外線照射時間は、好ましくは１秒〜３００秒の範囲、より好ましくは５秒〜１００秒の範囲である。紫外線積算光量（ｍＪ／ｃｍ２）＝紫外線照射強度（ｍＷ／ｃｍ２）×照射時間（秒）で求められる。紫外線照射光源としては、例えば、高圧水銀灯、メタルハライドランプ、低圧水銀灯を用いることができる。
【０１９９】
また、工程（III）においては、光学異方性層における残留モノマー割合を小さくするために、重合性化合物の重合条件を調整することが好ましい。例えば、工程（III）において、液晶組成物の層の温度を調節することが好ましい。
【０２００】
図１は、光学異方性層１１０を製造する製造方法の一例において、基材フィルム２１０上に形成された液晶組成物の層２２０を硬化させて光学異方性層１１０を得る工程（III）の様子を模式的に示す概略図である。
図１に示すように、工程（III）における液晶組成物の層２２０の温度の調節は、基材フィルム２１０をバックロール３１０により支持した状態で工程（III）を行い、バックロール３１０の温度を調節することにより行いうる。
【０２０１】
バックロール３１０とは、光の照射に際して、基材フィルム２１０を被照射面２００Ｕの裏側から支持するロールである。図１において、基材フィルム２１０及びその上に設けられた液晶組成物の層２２０を含む積層体２００は、矢印Ａ１の方向に平面性を維持したまま搬送される。積層体２００は、位置Ｌにおいて、矢印Ａ３方向に回転するバックロール３１０に、基材フィルム２１０側の面２００Ｄが接する状態で支持されて搬送される。この位置Ｌにおいて、液晶組成物の層２２０は、光源３２０から矢印Ａ２方向に紫外線照射を受け、硬化する。これにより液晶組成物の層２２０が硬化し、光学異方性層１１０が得られる。ここで、バックロール３１０の温度を様々に調節することにより、残留モノマー割合の低い硬化を達成しうる。概して、バックロール３１０の温度が高いほど、残留モノマー割合は低減する傾向があるが、至適な温度は他の条件によっても異なるので、残留モノマー割合が低減される温度は、実験的に定めることが好ましい。他に、光の照射量を増量したり、重合開始剤を増量したりすることによっても、残留モノマー割合を低減しうる。
【０２０２】
バックロール３１０の温度の上限は、基材フィルム２１０の変形を防ぐ観点から、基材フィルム２１０のガラス転移温度（Ｔｇ）以下とすることが好ましい。具体的なバックロール３１０の温度は、好ましくは１５０℃以下、より好ましくは１００℃以下、特に好ましくは８０℃以下の範囲である。バックロール３１０の温度の下限は、１５℃以上としうる。したがって好ましくは、この温度範囲内で、残留モノマー割合が低減される温度を実験的に定めうる。
【０２０３】
また、工程（III）を空気下で行うよりは、窒素雰囲気下等の不活性ガス雰囲気下で行ったほうが、残留モノマー割合が低減される傾向にあるので、工程（III）は、そのような不活性ガス雰囲気下で行うことが好ましい。
【０２０４】
工程（III）における重合の際、光重合性液晶化合物は、通常、その分子の配向を維持したままで重合する。よって、前記の重合により、硬化前の液晶組成物に含まれていた光重合性液晶化合物の配向方向と平行な方向に配向した硬化液晶分子を含む光学異方性層が得られる。したがって、例えば、基材として延伸フィルムを用いた場合には、延伸フィルムの延伸方向と平行な配向方向を有する光学異方性層を得ることができる。ここで平行とは、延伸フィルムの延伸方向と硬化液晶分子の配向方向のズレが、通常±３°、好ましくは±１°、理想的には０°であることをいう。
【０２０５】
上述した製造方法で製造された光学異方性層において、光重合性液晶化合物から得られた硬化液晶分子は、好ましくは、基材フィルムに対して水平配向した配向規則性を有する。例えば、基材フィルムとして配向規制力を有するものを用いた場合、光学異方性層において硬化液晶分子を水平配向させることができる。ここで、硬化液晶分子が基材フィルムに対して「水平配向」するとは、硬化液晶分子のメソゲンの長軸方向の平均方向が、フィルム面と平行又は平行に近い（例えばフィルム面となす角度が５°以内）、ある一の方向に整列することをいう。硬化液晶分子が水平配向しているか否か、及びその整列方向は、ＡｘｏＳｃａｎ（Ａｘｏｍｅｔｒｉｃｓ社製）等の位相差計を用いた測定により確認しうる。
【０２０６】
特に、硬化液晶分子が、棒状の分子構造を有する光重合性液晶化合物を重合させてなるものである場合は、通常は、当該光重合性液晶化合物のメソゲンの長軸方向が、硬化液晶分子のメソゲンの長軸方向となる。また、光重合性液晶化合物として逆波長光重合性液晶化合物を用いた場合のように、光学異方性層中に、配向方向の異なる複数種類のメソゲンが存在する場合は、通常、それらのうち最も長い種類のメソゲンの長軸方向が整列する方向が、当該整列方向となる。
【０２０７】
上述した製造方法は、更に、任意の工程を含んでいてもよい。例えば、上述した製造方法は、光学異方性層を基材から剥離する工程、などを含んでいてもよい。
【０２０８】
［５．光学異方性積層体］
上述した光学異方性層は、単独で、又は、任意のフィルムと組み合わせて、光学フィルムとして用いうる。中でも、光学異方性層は、位相差層と組み合わせて、光学異方性積層体として用いることが好ましい。
【０２０９】
光学異方性積層体は、光学異方性層と、位相差層とを備える。光学異方性積層体において、光学異方性層と位相差層とは、粘接着剤層等の任意の層を介して貼り合わせられていてもよく、任意の層を介さずに直接に接していてもよい。ただし、位相差層としては、その屈折率がｎｚ＞ｎｘ≧ｎｙを満たすものを用いる。このように光学異方性層と位相差層とを組み合わせた光学異方性積層体は、直線偏光子と組み合わせることにより、正面方向だけではなく傾斜方向から画面を見た場合でも外光の反射を抑制する反射防止フィルムとして機能できる円偏光板を実現できる。
【０２１０】
特に、光学異方性層がλ／４波長板であり、波長５５０ｎｍにおける位相差層の面内レターデーションＲｅ（Ｂ５５０）、及び、波長５５０ｎｍにおける位相差層の厚み方向のレターデーションＲｔｈ（Ｂ５５０）が、下記式（５）及び（６）を満たすことが好ましい。
Ｒｅ（Ｂ５５０）≦１０ｎｍ    （５）
−１００ｎｍ≦Ｒｔｈ（Ｂ５５０）≦−２０ｎｍ    （６）
【０２１１】
より詳細には、位相差層の面内レターデーションＲｅ（Ｂ５５０）は、好ましくは０ｎｍ〜１０ｎｍ、より好ましくは０ｎｍ〜５ｎｍ、特に好ましくは０ｎｍである。また、位相差層の厚み方向のレターデーションＲｔｈ（Ｂ５５０）は、好ましくは−１００ｎｍ以上、より好ましくは−９０ｎｍ以上、特に好ましくは−８０ｎｍ以上であり、好ましくは−２０ｎｍ以下、より好ましくは−３５ｎｍ以下、特に好ましくは−５０ｎｍ以下である。
【０２１２】
光学異方性層をλ／４波長板とし、位相差層の面内レターデーションＲｅ（Ｂ５５０）及び厚み方向のレターデーションＲｔｈ（Ｂ５５０）が、前記範囲に収まる場合、光学異方性積層体を備える円偏光板を、傾斜方向から画面を見た場合に外光の反射を効果的に抑制する反射防止フィルムとして機能させることができる。
【０２１３】
前記の位相差層としては、例えば、特許第２８１８９８３号公報、特開平６−８８９０９号公報等に記載の延伸フィルム層を用いてもよいが、薄膜にすることができるという観点から、下記の化合物（Ｐ１）〜（Ｐ７）を含む層を用いることが好ましい。下記の化合物（Ｐ１）〜（Ｐ７）は、当該化合物（Ｐ１）〜（Ｐ７）及び溶媒を含む組成物を塗工し、乾燥させることにより、容易に前記の位相差層を得ることができる。ここで、化合物（Ｐ１）〜（Ｐ７）は、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
【０２１４】
【化３３】
2017110631.tif 000035
【０２１５】
【化３４】
2017110631.tif 000036
【０２１６】
【化３５】
2017110631.tif 000037
【０２１７】
【化３６】
2017110631.tif 000038
【０２１８】
【化３７】
2017110631.tif 000039
【０２１９】
【化３８】
2017110631.tif 000040
【０２２０】
【化３９】
2017110631.tif 000041
【０２２１】
化合物（Ｐ１）は、ポリ（Ｎ−ビニルカルバゾール）である。化合物（Ｐ１）において、ｍは、繰り返し単位の数を表す。化合物（Ｐ１）の重量平均分子量は、通常、５０００〜１０００００である。この化合物（Ｐ１）は、丸善石油化学（株）製：ＰＶシリーズとして購入しうる。
化合物（Ｐ２）は、ポリ（Ｎ−ビニルカルバゾール）とポリスチレンの共重合体である。化合物（Ｐ２）において、ｍは３０〜１００の数を表し、ｎは３０〜１００の数を表す。この化合物（Ｐ２）については、特開２０１０−１２６５８３号公報を参照しうる。
化合物（Ｐ３）は、フマル酸ジイソプロピルとアクリル酸３−エチル−３オキセタニルメチルの共重合体である。化合物（Ｐ３）において、ｍは２０〜１２０の数を表し、ｎは２０〜１２０の数を表す。この化合物（Ｐ３）については、特開２０１１−１３７０５１号公報を参照しうる。
化合物（Ｐ４）は、フマル酸ジイソプロピルとケイ皮酸エステルの共重合体である。化合物（Ｐ４）において、ｍ及びｎは、繰り返し単位の数を表す。化合物（Ｐ４）の重量平均分子量は、通常、１００００〜５０００００である。この化合物（Ｐ４）については、国際公開第２０１４／０１３９８２号を参照しうる。
化合物（Ｐ５）は、Ｐｏｌｙ（６−（４−ｃｙａｎｏｂｉｐｈｅｎｙｌ−４−ｙｌｏｘｙ）ｈｅｘｙｌ  ｍｅｔｈａｃｒｙｌａｔｅ）である。化合物（Ｐ５）において、ｎは２０〜１５０の数を表す。
化合物（Ｐ６）は、Ｐｏｌｙ［１１−（４−４（４−ｂｕｔｙｌｐｈｅｎｙｌａｚｏ）ｐｈｅｎｏｘｙ）−ｕｎｄｅｃｙｌ  ｍｅｔｈａｃｒｙｌａｔｅ）］である。化合物（Ｐ６）において、ｎは２０〜１００の数を表す。
化合物（Ｐ７）において、ｎは１０であり、ρは２０〜１００の数を表す。この化合物（Ｐ７）については、文献「Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ  ２０１５，  ｖｏｌ．４８，  ｐｐ．２２０３−２２１０」を参照しうる。
【０２２２】
位相差層の厚みは、所望のレターデーションが得られる範囲で、任意に設定しうる。位相差層の具体的な厚みは、好ましくは２μｍ以上、より好ましくは５μｍ以上、特に好ましくは７μｍ以上であり、好ましくは１５μｍ以下、より好ましくは１２μｍ以下、特に好ましくは１０μｍ以下である。
【０２２３】
光学異方性積層体は、光学異方性層及び位相差層に組み合わせて、任意の層を備えうる。任意の層としては、例えば、接着層、ハードコート層等が挙げられる。
【０２２４】
光学異方性積層体の製造方法に制限は無く、例えば、下記の製造方法１又は製造方法２によって製造しうる。
【０２２５】
・製造方法１：
化合物（Ｐ１）〜（Ｐ７）のうち１以上及び溶媒を含む塗工組成物を、光学異方性層上に塗工して、塗工組成物の層を形成する工程と、
塗工組成物の層を乾燥させて位相差層を形成することにより、光学異方性積層体を得る工程と、を含む製造方法。
【０２２６】
・製造方法２：
化合物（Ｐ１）〜（Ｐ７）のうち１以上及び溶媒を含む塗工組成物を、任意の支持体上に塗工して、塗工組成物の層を形成する工程と、
塗工組成物の層を乾燥させて、位相差層を形成する工程と、
前記の位相差層を、光学異方性層と貼り合わせて、光学異方性積層体を得る工程と、を含む製造方法。
【０２２７】
塗工組成物が含む溶媒としては、化合物（Ｐ１）〜（Ｐ７）を溶解させられるものが好ましく、例えば、Ｎ−メチルピロリドン（ＮＭＰ）、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、メチルイソプロピルケトン（ＭＩＰＫ）、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）、トルエン、１，３−ジオキソラン等が挙げられる。また、溶媒は、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
【０２２８】
溶媒の量は、塗工組成物の固形分濃度を所望の範囲にできるように調整することが好ましい。塗工組成物の固形分濃度は、好ましくは６重量％以上、より好ましくは８重量％以上、特に好ましくは１０重量％以上であり、好ましくは２０重量％以下、より好ましくは１８重量％以下、特に好ましくは１５重量％以下である。塗工組成物の固形分濃度を前記の範囲に収めることにより、上述したレターデーションを有する位相差層を容易に形成できる。
【０２２９】
塗工組成物は、所望のレターデーションを有する位相差層を形成できる範囲において、上述した化合物（Ｐ１）〜（Ｐ７）及び溶媒に加えて、任意の成分を含みうる。任意の成分としては、例えば、トリフェニルホスフィン（可塑剤）等が挙げられる。また、任意の成分は、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
【０２３０】
塗工組成物は、製造方法１のように光学異方性層上に塗工してもよく、製造方法２のように光学異方性層以外の支持体上に塗工してもよい。支持体としては、通常は、フィルムを用いる。中でも、位相差層を効率良く製造するために、長尺のフィルムが好ましく、長尺の樹脂フィルムが好ましい。
【０２３１】
塗工組成物の塗工方法の例としては、カーテンコーティング法、押し出しコーティング法、ロールコーティング法、スピンコーティング法、ディップコーティング法、バーコーティング法、スプレーコーティング法、スライドコーティング法、印刷コーティング法、グラビアコーティング法、ダイコーティング法、ギャップコーティング法、及びディッピング法が挙げられる。
【０２３２】
塗工組成物を塗工することによって、前記の塗工組成物の層を得る。この塗工組成物の層を乾燥することにより、位相差層が得られる。塗工組成物の層を乾燥する方法は、任意であり、例えば、自然乾燥、加熱乾燥、減圧乾燥、減圧加熱乾燥等の乾燥方法を採用しうる。
【０２３３】
製造方法１のように光学異方性層上に塗工組成物を塗工した場合は、塗工組成物の層の乾燥によって、光学異方性層上に位相差層が形成されて、光学異方性積層体が得られる。
【０２３４】
他方、製造方法２のように支持体上に塗工組成物を塗工した場合は、塗工組成物の層の乾燥によって、支持体上に位相差層が形成される。この形成された位相差層を光学異方性層に貼り合わせることにより、光学異方性積層体が得えられる。貼り合わせには、適切な接着剤を用いうる。この接着剤としては、例えば、後述する円偏光板において用いるのと同じ接着剤を用いうる。
【０２３５】
また、前記の光学異方性積層体の製造方法は、上述した工程に加えて任意の工程を含んでいてもよい。例えば、前記の製造方法は、支持体を剥離する工程、ハードコート層等の任意の層を設ける工程、を含んでいてもよい。
【０２３６】
［４．円偏光板］
上述した光学異方性層及び光学異方性積層体は、円偏光板の構成部材として、直線偏光子と組み合わせて用いうる。前記の円偏光板は、直線偏光子及び光学異方性層を備えるか、又は、直線偏光子及び光学異方性積層体を備える。
【０２３７】
円偏光板は、更に、直線偏光子と光学異方性層との貼り合わせのため、又は、直線偏光子と光学異方性積層体との貼り合わせのために、接着層を備えうる。通常、円偏光板は、直線偏光子、接着層及び光学異方性層を、この順に備えるか、又は、直線偏光子、接着層及び光学異方性積層体を、この順に備える。この際、円偏光板は、直線偏光子、接着層、光学異方性層及び光学異方性積層体を、それぞれ、１層のみ有していてもよく、２層以上有していてもよい。よって、円偏光板は、例えば、（直線偏光子）／（接着層）／（光学異方性層又は光学異方性積層体）の層構成を有するものであってもよく、（直線偏光子）／（接着層）／（光学異方性層又は光学異方性積層体）／（接着層）／（光学異方性層又は光学異方性積層体）の層構成を有するものであってもよい。
【０２３８】
円偏光板のより具体的な態様の例としては、下記の２つの態様が挙げられる。ここで、以下に示す円偏光板（ｉ）及び（ii）において、光学異方性層は、光学異方性積層体に含まれるものであってもよい。
円偏光板（ｉ）：光学異方性層がλ／４波長板であり、直線偏光子の偏光透過軸または偏光吸収軸に対するλ／４波長板の遅相軸の方向が４５°またはそれに近い角度である、円偏光板。ここで、「４５°またはそれに近い角度」とは、例えば４５°±５°、好ましくは４５°±４°、より好ましくは４５°±３°をいう。
円偏光板（ii）：λ／４波長板と、λ／２波長板と、直線偏光子とを、貼合してなる円偏光板であって、λ／４波長板、λ／２波長板、またはこれらの両方が、前記の光学異方性層である、円偏光板。
【０２３９】
円偏光板（ii）において、λ／４波長板の遅相軸と、λ／２波長板の遅相軸と、直線偏光子の偏光吸収軸との関係は、既知の様々な関係としうる。例えば、直線偏光子の偏光吸収軸の方向に対するλ／２波長板の遅相軸の方向が１５°またはそれに近い角度であり、直線偏光子の偏光吸収軸の方向に対するλ／４波長板の遅相軸の方向が７５°またはそれに近い角度である関係としうる。ここで、「１５°またはそれに近い角度」とは、例えば１５°±５°、好ましくは１５°±°４、より好ましくは１５°±３°をいう。また、「７５°またはそれに近い角度」とは、例えば７５°±５°、好ましくは７５°±°４、より好ましくは７５°±３°をいう。このような態様を有することにより、円偏光板を、有機エレクトロルミネッセンス表示装置用の広帯域反射防止フィルムとして用いることができる。
【０２４０】
本発明にかかるある製品（円偏光板等）において、面内の光学軸（遅相軸、偏光透過軸、偏光吸収軸等）の方向及び幾何学的方向（フィルムの長手方向及び幅方向等）の角度関係は、ある方向のシフトを正、他の方向のシフトを負として規定され、当該正及び負の方向は、当該製品内の構成要素において共通に規定される。例えば、ある円偏光板において、「直線偏光子の偏光吸収軸の方向に対するλ／２波長板の遅相軸の方向が１５°であり直線偏光子の偏光吸収軸の方向に対するλ／４波長板の遅相軸の方向が７５°である」とは、下記の２通りの場合を表す：
・当該円偏光板を、そのある一方の面から観察すると、λ／２波長板の遅相軸の方向が、直線偏光子の偏光吸収軸の方向から時計周りに１５°シフトし、且つλ／４波長板の遅相軸の方向が、直線偏光子の偏光吸収軸の方向から時計周りに７５°シフトしている。
・当該円偏光板を、そのある一方の面から観察すると、λ／２波長板の遅相軸の方向が、直線偏光子の偏光吸収軸の方向から反時計周りに１５°シフトし、且つλ／４波長板の遅相軸の方向が、直線偏光子の偏光吸収軸の方向から反時計周りに７５°シフトしている。
【０２４１】
直線偏光子としては、液晶表示装置、及びその他の光学装置等の装置に用いられている既知の偏光子を用いうる。直線偏光子の例としては、ポリビニルアルコールフィルムにヨウ素又は二色性染料を吸着させた後、ホウ酸浴中で一軸延伸することによって得られるもの；ポリビニルアルコールフィルムにヨウ素又は二色性染料を吸着させ延伸しさらに分子鎖中のポリビニルアルコール単位の一部をポリビニレン単位に変性することによって得られるもの；が挙げられる。また、直線偏光子の他の例としては、グリッド偏光子、多層偏光子、コレステリック液晶偏光子などの、偏光を反射光と透過光に分離する機能を有する偏光子が挙げられる。これらのうち、直線偏光子としては、ポリビニルアルコールを含有する偏光子が好ましい。
【０２４２】
直線偏光子に自然光を入射させると、一方の偏光だけが透過する。この直線偏光子の偏光度は特に限定されないが、好ましくは９８％以上、より好ましくは９９％以上である。
また、直線偏光子の厚みは、好ましくは５μｍ〜８０μｍである。
【０２４３】
接着層としては、硬化性接着剤を硬化させてなる層を用いうる。硬化性接着剤としては、熱硬化性接着剤を用いてもよいが、光硬化性接着剤を用いることが好ましい。光硬化性接着剤としては、重合体又は反応性の単量体を含んだものを用いうる。また、接着剤は、必要に応じて溶媒、光重合開始剤、その他の添加剤等の一以上を含みうる。
【０２４４】
光硬化性接着剤は、可視光線、紫外線、及び赤外線等の光を照射すると硬化しうる接着剤である。中でも、操作が簡便なことから、紫外線で硬化しうる接着剤が好ましい。
【０２４５】
好ましい態様において、光硬化性接着剤は、水酸基を有する（メタ）アクリレートモノマーを５０重量％以上含む。ここで、「接着剤が、ある割合で単量体を含む」という場合、当該単量体の割合は、当該単量体が単量体のまま存在しているもの、当該単量体が既に重合して重合体の一部となっているものの両方の合計の割合である。
【０２４６】
水酸基を有する（メタ）アクリレートモノマーの例としては、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−アクリロイロキシプロピルメタクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート等のヒドロキシアルキル（メタ）アクリレートが挙げられる。これらは、１種類で使用してもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。組合わせて使用する場合の含有量は、合計の割合である。
【０２４７】
光硬化性接着剤が含みうる、水酸基を有する（メタ）アクリレートモノマー以外の単量体の例としては、単官能、又は多官能の水酸基を有しない（メタ）アクリレートモノマー、及び１分子あたり１以上のエポキシ基を含有する化合物が挙げられる。
【０２４８】
接着剤は、本発明の効果を著しく損なわない範囲で、さらに任意の成分を含んでいてもよい。任意の成分の例としては、光重合開始剤、架橋剤、無機フィラー、重合禁止剤、着色顔料、染料、消泡剤、レベリング剤、分散剤、光拡散剤、可塑剤、帯電防止剤、界面活性剤、非反応性ポリマー（不活性重合体）、粘度調整剤、近赤外線吸収材等が挙げられる。これらは、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
【０２４９】
光重合開始剤の例としては、ラジカル開始剤及びカチオン開始剤が挙げられる。カチオン開始剤の例としてはＩｒｇａｃｕｒｅ２５０（ジアリルヨードニウム塩、ＢＡＳＦ社製）が挙げられる。ラジカル開始剤の例としてＩｒｇａｃｕｒｅ１８４、Ｉｒｇａｃｕｒｅ８１９、Ｉｒｇａｃｕｒｅ２９５９、（いずれもＢＡＳＦ社製）が挙げられる。
【０２５０】
接着層の厚みは、好ましくは０．５μｍ以上、より好ましくは１μｍ以上であり、好ましくは３０μｍ以下、より好ましくは２０μｍ以下、さらに好ましくは１０μｍ以下である。接着層の厚みを前記範囲内とすることにより、光学異方性積層体の光学的性質を損ねずに、良好な接着を達成しうる。
【０２５１】
更に、円偏光板は、光学異方性層、光学異方性積層体、直線偏光子及び接着層に組み合わせて、任意の層を含みうる。
例えば、円偏光板は、直線偏光子の表面に、偏光子保護フィルム層を含みうる。偏光子保護フィルム層としては、任意の透明フィルム層を用いうる。中でも、透明性、機械的強度、熱安定性、水分遮蔽性等に優れる樹脂のフィルム層が好ましい。そのような樹脂としては、トリアセチルセルロース等のアセテート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、鎖状オレフィン樹脂、環式オレフィン樹脂、（メタ）アクリル樹脂等が挙げられる。
【０２５２】
さらに、円偏光板が含みうる任意の層としては、例えば、耐衝撃性ポリメタクリレート樹脂層などのハードコート層、フィルムの滑り性を良くするマット層、反射防止層、防汚層等が挙げられる。
前記の層は、それぞれ、１層だけを設けてもよく、２層以上を設けてもよい。
【０２５３】
円偏光板は、光学異方性層と直線偏光子とを接着層によって貼り合わせることを含む製造方法、又は、光学異方性積層体と直線偏光子とを接着層によって貼り合わせることを含む製造方法によって、製造しうる。
【０２５４】
前記の円偏光板において、光学異方性層は、良好な逆波長分散特性を有するので、λ／４波長板及びλ／２波長板としての機能を、広い波長範囲において均一に発揮できる。そのため、当該円偏光板を透過する光の偏光状態が適切な状態から外れることを抑制できる。したがって、この円偏光板を適用した画像表示装置（液晶表示装置、有機エレクトロルミネッセンス表示装置等）において、意図しない偏光状態の変化による色味の変化（表示面が青く見えたり、赤く見えたりする現象）を低減できる。
【０２５５】
前記の円偏光板は、有機エレクトロルミネッセンス表示装置の表示面に、反射防止フィルムとして設けることが好ましい。表示装置の表示面に、上に述べた円偏光板を、直線偏光子側の面が視認側に向くように設けることにより、装置外部から入射した光が装置内で反射して装置外部へ出射することを抑制することができ、その結果、表示装置の表示面のぎらつきなどの不所望な減少を抑制しうる。
【０２５６】
具体的には、装置外部から入射した光は、その一部の直線偏光のみが直線偏光子を通過し、次にそれが光学異方性層又は光学異方性積層体を通過することにより円偏光となる。ここでいう円偏光としては、実質的に反射防止機能を発現する範囲であれば、楕円偏光も包含される。円偏光は、装置内の光を反射する構成要素（有機エレクトロルミネッセンス素子中の反射電極等）により反射され、再び光学異方性層又は光学異方性積層体を通過することにより、入射した直線偏光の偏光軸と直交する方向に偏光軸を有する直線偏光となり、直線偏光子を通過しなくなる。これにより、反射防止の機能が達成される。特に、上述した光学異方性層は良好な逆波長分散特性を有するので、広帯域での反射防止の機能が達成される。
【０２５７】
さらに、光学異方性積層体を備える円偏光板では、位相差層が、表示面に入射する光に対して適切な光学補償機能を発揮する。そのため、光学異方性積層体を備える円偏光板を反射防止フィルムとして表示装置に設けることにより、表示面の正面方向だけではなく、表示面の傾斜方向から見た場合でも、外光の反射を効果的に抑制することができる。
【実施例】
【０２５８】
以下、実施例を示して本発明について具体的に説明するが、本発明は以下に説明する実施例に限定されるものではなく、本発明の請求の範囲及びその均等の範囲を逸脱しない範囲において任意に変更して実施しうる。
以下の説明において、量を表す「％」及び「部」は、別に断らない限り、重量基準である。また、以下に説明する操作は、別に断らない限り、常温常圧大気中の条件において行った。【０２５９】
［評価方法］
〔光学異方性層の残留モノマー割合の測定方法〕
各実施例及び比較例で用いた光重合性液晶化合物を、溶媒としての１，３−ジオキソランに溶解し、様々な濃度の検量線作成用の溶液を得た。これらの溶液をＨＰＬＣに供し、検量線を作成した。【０２６０】
各実施例及び比較例で得られた光学異方性層転写体から、光学異方性層の１０ｃｍ×１０ｃｍ分を、スパチュラで削り取り、バイアルに入れ、秤量した。さらに、溶媒として１，３−ジオキソラン１ｇを入れ、２４時間静置し、０．４５μｍフィルターで１回濾過することによって未反応モノマーを抽出して、抽出液を得た。得られた抽出液をＨＰＬＣにて分析し、測定結果を検量線と対照することにより、光学異方性層における残留モノマー割合を求めた。【０２６１】
ＨＰＬＣの条件は、下記の通りとした。
カラム：ＬＣ１２００（Ａｇｉｌｅｎｔ  Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ社製）
カラム温度：４０℃
キャリア（水：アセトニトリル）
０ｍｉｎ（水：アセトニトリル＝５：９５）から５ｍｉｎ（水：アセトニトリル＝０：１００）まで直線濃度勾配、その後２５ｍｉｎ（水：アセトニトリル＝０：１００）
残留モノマーの流出時間：１３．２ｍｉｎ付近【０２６２】
〔吸光度の二色比の測定方法〕
各光学異方性層の吸光度の二色比は、分光光度計（日本分光社製のｓｐｅｃｔｒｏｐｈｔｏｍｅｔｅｒ「Ｖ−７２００」）及び自動絶対反射率測定ユニット（日本分光社製「ＶＡＲ−７０２０」）を組み合わせた測定装置を用いて、下記の手順で測定した。【０２６３】
光学異方性層の単層のみでは測定の実施が困難なため、サンプルとして、各実施例及び比較例で得られた、基材フィルム及び光学異方性層を備える光学異方性層転写体を用意した。この光学異方性層転写体を、測定装置のＳ偏光方向と光学異方層の配向方向とが平行になるように、測定装置に取り付けた。光学異方性層転写体の基材フィルムとして用いた斜め延伸ゼオノアフィルムは、波長２３０ｎｍよりも長波側に、吸収を有さない。そのため、波長２３０ｎｍよりも長波長の吸光度は、光学異方性層の吸光度とみなせる。そこで、測定を実施して、Ｓ偏光に対する吸光度を「光学異方性層の配向方向に平行な偏光に対する吸光度」、Ｐ偏光に対する吸光度を「光学異方性層の配向方向に垂直な偏光に対する吸光度」として求めた。そして、吸光度の二色比は各波長範囲における主鎖および側鎖の極大吸収波長の吸光度の比から算出した。【０２６４】
〔面内レターデーションの測定方法、及び、逆波長分散特性の評価方法〕
各実施例及び比較例で得られた光学異方性層の面内レターデーションは、位相差計（Ａｘｏｍｅｔｒｉｃｓ社製）を用いて、下記の手順で測定した。
光学異方性層転写体の光学異方性層を、粘着剤付スライドガラス（粘着剤は、日東電工社製「ＣＳ９６２１Ｔ」）に貼り合せた。その後、基材フィルムを剥離し、スライドガラス及び光学異方性層を備えるサンプルを得た。このサンプルを用いて、前記の位相差計により、光学異方性層の面内レターデーションＲｅ（４５０）、Ｒｅ（５５０）及びＲｅ（６５０）を測定した。【０２６５】
測定された光学異方性層の面内レターデーションＲｅ（４５０）、Ｒｅ（５５０）及びＲｅ（６５０）が、上述した式（３）及び（４）の両方を満たす場合、その光学異方性層の逆波長分散特性を「良」と判定した。また、光学異方性層の面内レターデーションＲｅ（４５０）、Ｒｅ（５５０）及びＲｅ（６５０）が、上述した式（３）及び（４）の少なくとも一方を満たさない場合、逆波長分散特性を「不良」と判定した。【０２６６】
〔耐久性試験後の光学異方性層の評価方法〕
各実施例及び比較例で得られた光学異方性転写体から一部を切り取った。切り取られた部分を用いて、上述した方法によって、光学異方性層の耐久性試験の前の「吸光度の二色比」及び「面内レターデーション」を測定した。
その後、光学異方性転写体を、８５℃８５％の恒温恒湿槽に入れ、２５０時間静置する耐久性試験を行った。
耐久性試験の後、恒温恒湿層から光学異方性転写体を取り出した。取り出された光学異方性転写体を用いて、上述した方法によって、光学異方性層の耐久性試験後の「吸光度の二色比」及び「面内レターデーション」を測定した。そして、耐久性試験前の値と耐久性試験後の値とを比較して、光学異方性層が耐久性試験に耐えうるかを確認した。【０２６７】
［実施例１］
（１−１．液晶組成物の調製）
下記式（Ｂ１）で表される光重合性液晶化合物ＬＣＫ１（ＣＮ点は９６℃）１００重量部、光重合開始剤（ＢＡＳＦ社製「Ｉｒｇａｃｕｒｅ３７９ＥＧ」）３重量部、及び、界面活性剤（ＤＩＣ社製「メガファックＦ−５６２」）０．３重量部を混合し、更に、希釈溶媒としてシクロペンタノン及び１，３−ジオキソランの混合溶媒（重量比シクロペンタノン：１，３−ジオキソラン＝４：６）を、固形分が２２重量％になるように加え、５０℃に加温し溶解させた。得られた混合物を、孔径０．４５μｍのメンブレンフィルターでろ過して、液晶組成物を得た。【０２６８】
【化４０】
2017110631.tif 000042
【０２６９】
（１−２．残留モノマー割合及び面内レターデーション測定用の光学異方性層転写体の製造及び評価）
基材フィルムとして、脂環式構造含有重合体を含む樹脂からなる長尺の斜め延伸フィルム（日本ゼオン社製「斜め延伸ゼオノアフィルム」、樹脂のガラス遠位温度（Ｔｇ）１２６℃、厚み４７μｍ、波長５５０ｎｍにおける面内レターデーション１４１ｎｍ、延伸方向は幅方向に対して４５°の方向）を用意した。【０２７０】
前記の基材フィルム上に、工程（１−１）で得られた液晶組成物を、スピンコーターで塗工し、液晶組成物の層を形成した。液晶組成物の層の厚みは、得られる光学異方性層の厚みが２．３μｍ程度になるように調整した。【０２７１】
その後、液晶組成物の層を、１１０℃オーブンで４分ほど乾燥させて、液晶組成物中の溶媒を蒸発させると同時に、液晶組成物に含まれる光重合性液晶化合物を、基材フィルムの延伸方向に配向させた。【０２７２】
その後、液晶組成物の層に、紫外線照射装置を用いて紫外線を照射した。この紫外線の照射は、窒素雰囲気下において、６０℃に加熱されたＳＵＳ板に基材フィルムをテープで固定した状態で行った。紫外線の照射により液晶組成物の層を硬化させて、光学異方性層及び基材フィルムを備える光学異方性層転写体を得た。
この光学異方性層転写体を用いて、上述した方法で、光学異方性層の残留モノマー割合の測定、光学異方性層の面内レターデーションの測定、及び、光学異方性層の逆波長分散特性の評価を行った。【０２７３】
（１−３．吸光度測定用の光学異方性層転写体の製造及び評価）
光学異方性層の厚みが１．０μｍ以下となるように、液晶組成物の塗工厚みを変更したこと以外は、前記の工程（１−２）と同じにして、光学異方性層転写体を製造した
この光学異方性層転写体を用いて、上述した方法で、光学異方性層の吸光度ε１ｍ、ε１ｓ、ε２ｍ、及び、ε２ｓを測定し、吸光度の二色比ε１ｍ／ε１ｓ及びε２ｍ／ε２ｓを計算した。【０２７４】
［実施例２］
光重合性液晶化合物の種類を、下記式（Ｂ２）で表される光重合性液晶化合物ＬＣＫ２（ＣＮ点は１０２℃）に変更したこと以外は、実施例１と同じにして、光学異方性層転写体の製造及び光学異方性層の評価を行った。【０２７５】
【化４１】
2017110631.tif 000043
【０２７６】
［実施例３］
光重合性液晶化合物の種類を、下記式（Ｂ３）で表される光重合性液晶化合物ＬＣＫ３（ＣＮ点は９０℃）に変更したこと以外は、実施例１と同じにして、光学異方性層転写体の製造及び光学異方性層の評価を行った。【０２７７】
【化４２】
2017110631.tif 000044
【０２７８】
［実施例４］
光重合性液晶化合物の種類を、下記式（Ｂ４）で表される光重合性液晶化合物ＬＣＫ４（ＣＮ点は１１０℃）に変更したこと以外は、実施例１と同じにして、光学異方性層転写体の製造及び光学異方性層の評価を行った。【０２７９】
【化４３】
2017110631.tif 000045
【０２８０】
［比較例１］
光重合性液晶化合物の種類を、下記式（Ｂ５）で表される光重合性液晶化合物ＬＣＫ５（ＣＮ点は６６℃）に変更したこと以外は、実施例１と同じにして、光学異方性層転写体の製造及び光学異方性層の評価を行った。【０２８１】
【化４４】
2017110631.tif 000046
【０２８２】
［比較例２］
工程（１−２）及び工程（１−３）における紫外線の照射を、空気雰囲気下において、２０℃〜２５℃程度の常温のＳＵＳ板に基材フィルムを水貼りした状態で行ったこと以外は実施例１と同じにして、光学異方性層転写体の製造及び光学異方性層の評価を行った。【０２８３】
［実施例１〜４及び比較例１〜２の結果］
前記の実施例１〜４及び比較例１〜２の結果を、下記の表１に示す。表１において、略称の意味は、以下の通りである。
極大吸収波長（平行）：光学異方性層の配向方向に平行な偏光に対する、光学異方性層の極大吸収波長。
極大吸収波長（垂直）：光学異方性層の配向方向に垂直な偏光に対する、光学異方性層の極大吸収波長。【０２８４】
【表１】
2017110631.tif 000047
【０２８５】
［実施例１〜４及び比較例１〜２の結果の検討］
表１から分かるように、二色比ε１ｍ／ε１ｓ及びε２ｍ／ε２ｓが式（１）及び式（２）を満たし、且つ、残留モノマー割合が小さい実施例１〜４においては、耐久性試験の前及び後の両方において、良好な波長分散特性を実現できている。この結果から、本発明により、良好な逆波長分散特性を有する光学異方性層を実現できることが確認された。【０２８６】
［実施例５］
〔５−１．位相差層形成用の塗工組成物の用意〕
下記式で表される化合物（Ｐ１）（ポリ−９−ビニルカルバゾール；数平均分子量は約１，１００，０００；Ａｌｄｒｉｃｈ社製）を、溶媒であるＮ−メチルピロリドンに、固形分濃度が１２重量％になるように加え、室温にて溶解させて、位相差層形成用の塗工組成物を得た。【０２８７】
【化４５】
2017110631.tif 000048
【０２８８】
〔５−２．光学異方性積層体の製造〕
実施例１の工程（１−２）と同じ方法で、光学異方性層及び基材フィルムを備える光学異方性層転写体を用意した。この光学異方性層の面内レターデーションを位相差計（Ａｘｏｍｅｔｒｉｃｓ社製）で測定したところ、波長５５０ｎｍにおける面内レターデーション１３９ｎｍであった。この光学異方性層転写体の光学異方性層上に、位相差層形成用の塗工組成物を、アプリケーターを用いて塗工して、塗工組成物の層を形成した。その後、８５℃オーブンで１０分ほど乾燥させて、塗工組成物の層に含まれる溶媒を蒸発させることにより、厚み１０μｍ程度の位相差層を形成した。その後、基材フィルムを剥離して、光学異方性層及び位相差層を備える、光学異方性積層体を得た。【０２８９】
この光学異方性積層体の位相差層について、位相差計（Ａｘｏｍｅｔｒｉｃｓ社製）により、波長５５０ｎｍにおけるレターデーションＲｅ（Ｂ５５０）及びＲｔｈ（Ｂ５５０）を測定した。その結果、面内レターデーションＲｅ（Ｂ５５０）は１ｎｍ、厚み方向のレターデーションＲｔｈ（Ｂ５５０）は−５９ｎｍであった。【０２９０】
〔５−３．有機エレクトロルミネッセンス表示装置のシミュレーション〕
前記の光学異方性積層体を、有機エレクトロルミネッセンス表示装置に取り付けた場合の、反射防止性能を、シミュレーションによって評価した。
シミュレーションは、シンテック社製のソフトウェア「ＬＣＤ−ＭＡＳＴＥＲ」を用いて行った。また、このシミュレーションでは、直線偏光子／光学異方性層／位相差層／反射ミラーを備える有機エレクトロルミネッセンス表示装置を設定した。ここで、直線偏光子の吸収軸と光学異方性層の遅相軸とのなす角度は、４５°とした。
直線偏光子側のあらゆる角度から入射した光の反射輝度、反射色度、および反射色度変化を算出した。なお、反射色度変化とは、直線偏光子に法線方向からの入射した光の反射色度を（ｘ０，ｙ０）、傾斜方向から入射した反射色度を（ｘ１，ｙ１）とした場合に、
反射色度変化Δｘｙ＝｛（ｘ１−ｘ０）２＋（ｙ１−ｙ０）２｝（１／２）
で表わされる値である。【０２９１】
反射輝度のシミュレーション結果を表２に示し、反射色度及び反射色度変化のシミュレーション結果を表３に示す。表２において、数値は、反射率［単位：％］を表す。また、表３のｘ及びｙは、色度座標のｘ値及びｙ値を表す。さらに、表２及び３には、参考例１として、直線偏光子／光学異方性層／反射ミラーを備える有機エレクトロルミネッセンス表示装置のシミュレーション結果も併せて示す。参考例１と比較して、実施例５では、法線方向からの光の反射特性には変化がなく、傾斜方向からの光の反射輝度及び反射色度変化は、ともに小さい値を示している。この結果より、位相差層は法線方向の光の反射特性には影響を及ぼさず、傾斜方向からの光の反射を効果的に抑制していることがわかった。【０２９２】
［実施例６］
〔６−１．光学異方性積層体の製造〕
支持体フィルムとして、脂環式構造含有重合体を含む樹脂からなる未延伸フィルム（日本ゼオン社製「ゼオノアフィルム」）を用意した。この支持体フィルム上に、実施例５の工程〔５−１〕で製造した位相差層形成用の塗工組成物を、アプリケーターを用いて塗工して、塗工組成物の層を形成した。その後、８５℃オーブンで１０分ほど乾燥させて、塗工組成物の層に含まれる溶媒を蒸発させることにより、厚み１０μｍ程度の位相差層を形成した。この位相差層について、位相差計（Ａｘｏｍｅｔｒｉｃｓ社製）により、波長５５０ｎｍにおけるレターデーションＲｅ（Ｂ５５０）及びＲｔｈ（Ｂ５５０）を測定した。その結果、面内レターデーションＲｅ（Ｂ５５０）は１ｎｍ、厚み方向のレターデーションＲｔｈ（Ｂ５５０）は−７１ｎｍであった。【０２９３】
実施例１の工程（１−２）と同じ方法で、光学異方性層及び基材フィルムを備える光学異方性層転写体を用意した。この光学異方性層の面内レターデーションを位相差計（Ａｘｏｍｅｔｒｉｃｓ社製）で測定したところ、波長５５０ｎｍにおける面内レターデーション１３９ｎｍであった。この光学異方性層転写体の光学異方性層上に、前記の位相差層を、接着剤（日東電工社製「ＣＳ９６２１Ｔ」）を介して貼り合わせ、支持体フィルム及び基材フィルムを剥離した。これにより、光学異方性層、接着層及び位相差層をこの順で備える、光学異方性積層体を得た。【０２９４】
〔６−２．有機エレクトロルミネッセンス表示装置のシミュレーション〕
前記の光学異方性積層体を、有機エレクトロルミネッセンス表示装置に取り付けた場合の、反射防止性能を、シミュレーションによって評価した。
シミュレーションは、実施例５と同じソフトウェアを用いて、直線偏光子／位相差層／接着層／光学異方性層／反射ミラーを備える有機エレクトロルミネッセンス表示装置を設定して、行った。ここで、直線偏光子の吸収軸と光学異方性層の遅相軸とのなす角度は４５°とした。直線偏光子側のあらゆる角度から入射した光の反射輝度、反射色度および反射色度変化を算出した。【０２９５】
反射輝度のシミュレーション結果を表２に示し、反射色度及び反射色度変化のシミュレーション結果を表３に示す。参考例１と比較して、実施例６では、法線方向からの光の反射特性には変化がなく、傾斜方向からの光の反射輝度及び反射色度変化は、ともに小さい値を示した。この結果より、位相差層は法線方向の光の反射特性には影響を与えず、傾斜方向からの光の反射を効果的に抑制していることがわかった。【０２９６】
【表２】
2017110631.tif 000049
【０２９７】
【表３】
2017110631.tif 000050
【符号の説明】
【０２９８】
１１０  光学異方性層
２１０  基材フィルム
２２０  液晶組成物の層
３１０  バックロール
３２０  光源
【図１】
2017110631.tif 000053
【国際調査報告】
2017110631.tif 000054
2017110631.tif 000055
2017110631.tif 000056
2017110631.tif 000057