(57)【要約】  基質上に均一にムラなく塗布することができ、且つ、基質への塗膜後活性エネルギー線を照射して得られる成膜上に積層可能である重合性液晶組成物を提供し、併せて、当該重合性組成物を用いた配向性が良好な光学異方体及び積層体を提供することにある。  本発明は、少なくとも１種以上の熱分解性基を有する重合体、及び、重合性液晶化合物を含有する重合性液晶組成物を提供する。また、本発明の重合性液晶組成物を用いた光学異方体及び積層体も提供する。【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも１種以上の熱分解性基を有する重合体、及び、重合性液晶化合物を含有する重合性液晶組成物。
【請求項２】
前記熱分解性基がフッ素原子及び／又はケイ素原子を含有する、請求項１に記載の重合性液晶組成物。
【請求項３】
前記熱分解性基が下記一般式（Ｉ−１−１）又は一般式（Ｉ−１−２）
【化１】
2017183682.tif 000083
（一般式（Ｉ−１−１）及び一般式（Ｉ−１−２）中、Ｒ１、Ｒ２はそれぞれ独立して、水素原子あるいは直鎖状又は分岐状の炭素原子数１〜１８の有機基を表し、Ｙ１は酸素原子又は硫黄原子を表し、Ｒ４はフッ素原子及び／又はケイ素原子を有する有機基を表し、＊は結合部位を表す。）で表される構造単位を含有する、請求項１又は請求項２に記載の重合性液晶組成物。
【請求項４】
前記重合性液晶化合物が一般式（ＩＩ）
【化２】
2017183682.tif 000084
（式中、Ｐ２は重合性官能基を表し、
Ｓｐ１は炭素原子数１〜１８のアルキレン基を表し（該アルキレン基中の水素原子は１つ以上のハロゲン原子又はＣＮにより置換されていても良く、この基中に存在する１個のＣＨ2基又は隣接していない２個以上のＣＨ2基はそれぞれ相互に独立して、−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−又は−ＯＣＯ−Ｏ−により置き換えられていても良い。）、
Ｘ１は−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＳＣＨ２−、−ＣＨ２Ｓ−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＦ２Ｓ−、−ＳＣＦ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＯＣＯ−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−ＣＯＯ−、−ＣＨ２ＣＨ２−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ２−、−ＯＣＯ−ＣＨ２−、−ＣＨ２−ＣＯＯ−、−ＣＨ２−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＨ＝Ｎ−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−又は単結合を表し（ただし、Ｐ２−Ｓｐ１、及びＳｐ１−Ｘ１は、−Ｏ−Ｏ−、−Ｏ−ＮＨ−、−Ｓ−Ｓ−及び−Ｏ−Ｓ−基を含まない。）、
ｑ１は０又は１を表し、
ＭＧはメソゲン基を表し、
Ｒ２は、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、又は炭素原子数１から１２の直鎖又は分岐アルキル基を表し、該アルキル基は直鎖状であっても分岐していてもよく、該アルキル基は１個の−ＣＨ２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ２−が各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−によって置換されても良く、あるいは、Ｒ２は、一般式（ＩＩ−ａ）
【化３】
2017183682.tif 000085
（式中、Ｐ３は重合性官能基を表し、
Ｓｐ２は、Ｓｐ１で定義されたものと同一のものを表し、
Ｘ２は、Ｘ１で定義されたものと同一のものを表し（ただし、Ｐ３−Ｓｐ２、及びＳｐ２−Ｘ２は、−Ｏ−Ｏ−、−Ｏ−ＮＨ−、−Ｓ−Ｓ−及び−Ｏ−Ｓ−基を含まない。）、
ｑ２は０又は１を表す。）で表される基を表す。）
で表される化合物である、請求項１〜請求項３のいずれか一項に記載の重合性液晶組成物。
【請求項５】
前記一般式（ＩＩ）において、ＭＧが一般式（ＩＩ−ｂ）
【化４】
2017183682.tif 000086
（式中、Ｂ１、Ｂ２及びＢ３はそれぞれ独立的に、１，４−フェニレン基、１，４−シクロヘキシレン基、１，４−シクロヘキセニル基、テトラヒドロピラン−２，５−ジイル基、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル基、テトラヒドロチオピラン−２，５−ジイル基、１，４−ビシクロ（２，２，２）オクチレン基、デカヒドロナフタレン−２，６−ジイル基、ピリジン−２，５−ジイル基、ピリミジン−２，５−ジイル基、ピラジン−２，５−ジイル基、チオフェン−２，５−ジイル基−、１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル基、２，６−ナフチレン基、フェナントレン−２，７−ジイル基、９，１０−ジヒドロフェナントレン−２，７−ジイル基、１，２，３，４，４ａ，９，１０ａ−オクタヒドロフェナントレン−２，７−ジイル基、１，４−ナフチレン基、ベンゾ［１，２−ｂ：４，５−ｂ‘］ジチオフェン−２，６−ジイル基、ベンゾ［１，２−ｂ：４，５−ｂ‘］ジセレノフェン−２，６−ジイル基、［１］ベンゾチエノ［３，２−ｂ］チオフェン−２，７−ジイル基、［１］ベンゾセレノフェノ［３，２−ｂ］セレノフェン−２，７−ジイル基、又はフルオレン−２，７−ジイル基を表し、置換基として１個以上のＦ、Ｃｌ、ＣＦ3、ＯＣＦ3、ＣＮ基、炭素原子数１〜８のアルキル基（当該アルキル基中の水素原子は、１つ以上のフェニル基により置換されていても良く、この基中に存在する１つのＣＨ2基又は隣接していない２つ以上のＣＨ2基はそれぞれ相互に独立して、−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−又は−ＯＣＯ−Ｏ−により置き換えられていても良い。）、アルコキシ基、アルカノイル基、アルカノイルオキシ基、炭素原子数２〜８のアルケニル基、アルケニルオキシ基、アルケノイル基、アルケノイルオキシ基、及び／又は一般式（ＩＩ−ｃ）
【化５】
2017183682.tif 000087
（式中、Ｐ４は重合性官能基を表し、
Ｓｐ３は、炭素原子数１〜１８のアルキレン基を表し、Ｘ３は、−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＨ2−、−ＣＨ2Ｏ−、−ＣＨ2ＣＨ2ＯＣＯ−、又は−ＣＨ2ＣＨ2ＣＯＯ−を表し、ｑ３は０又は１を表し、ｑ４は０又は１を表す。（ただし、Ｐ４−Ｓｐ３、及びＳｐ３−Ｘ３は、−Ｏ−Ｏ−、−Ｏ−ＮＨ−、−Ｓ−Ｓ−及び−Ｏ−Ｓ−基を含まない。））を有していても良く、
Ｚ１及びＺ２はそれぞれ独立して、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ2 ＣＨ2−、−ＯＣＨ2−、−ＣＨ2Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ＝ＣＨＣＯＯ−、−ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ2ＣＨ2ＣＯＯ−、−ＣＨ2ＣＨ2ＯＣＯ−、−ＣＯＯＣＨ2ＣＨ2−、−ＯＣＯＣＨ2ＣＨ2−、−ＣＯＮＨ−、−ＮＨＣＯ−、ハロゲン原子を有してもよい炭素原子数２〜１０のアルキル基又は単結合を表し、
ｒ１は０、１又は２を表し、Ｂ１、及びＺ１が複数存在する場合は、それぞれ、同一であっても、異なっていても良い。）で表される化合物である、請求項４に記載の重合性液晶組成物。
【請求項６】
前記一般式（ＩＩ）が、一般式（ＩＩ−２−２−２）
【化６】
2017183682.tif 000088
（式中、Ｐ２及びＰ３はそれぞれ独立して重合性官能基を表し、Ｓｐ１及びＳｐ２はそれぞれ独立して炭素原子数１〜１８のアルキレン基を表し（該アルキレン基中の水素原子は、１つ以上のハロゲン原子、ＣＮ基、又は重合性官能基を有する炭素原子数１〜８のアルキル基により置換されていても良く、この基中に存在する１つのＣＨ2基又は隣接していない２つ以上のＣＨ2基はそれぞれ相互に独立して、−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−又は−ＯＣＯ−Ｏ−により置き換えられていても良い。）、
Ｘ１及びＸ２はそれぞれ独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＳＣＨ２−、−ＣＨ２Ｓ−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＦ２Ｓ−、−ＳＣＦ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＯＣＯ−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−ＣＯＯ−、−ＣＨ２ＣＨ２−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ２−、−ＯＣＯ−ＣＨ２−、−ＣＨ２−ＣＯＯ−、−ＣＨ２−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＨ＝Ｎ−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−又は単結合を表し（ただし、Ｐ２−Ｓ１、及びＳ１−Ｘ１は、−Ｏ−Ｏ−、−Ｏ−ＮＨ−、−Ｓ−Ｓ−及び−Ｏ−Ｓ−基を含まない。）、ｑ１及びｑ２はそれぞれ独立して０又は１を表し、
Ｂ１１、Ｂ２及びＢ３はそれぞれ独立的に、１，４−フェニレン基、１，４−シクロヘキシレン基、１，４−シクロヘキセニル基、テトラヒドロピラン−２，５−ジイル基、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル基、テトラヒドロチオピラン−２，５−ジイル基、１，４−ビシクロ（２，２，２）オクチレン基、デカヒドロナフタレン−２，６−ジイル基、ピリジン−２，５−ジイル基、ピリミジン−２，５−ジイル基、ピラジン−２，５−ジイル基、チオフェン−２，５−ジイル基−、１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル基、２，６−ナフチレン基、フェナントレン−２，７−ジイル基、９，１０−ジヒドロフェナントレン−２，７−ジイル基、１，２，３，４，４ａ，９，１０ａ−オクタヒドロフェナントレン−２，７−ジイル基、１，４−ナフチレン基、ベンゾ［１，２−ｂ：４，５−ｂ‘］ジチオフェン−２，６−ジイル基、ベンゾ［１，２−ｂ：４，５−ｂ‘］ジセレノフェン−２，６−ジイル基、［１］ベンゾチエノ［３，２−ｂ］チオフェン−２，７−ジイル基、［１］ベンゾセレノフェノ［３，２−ｂ］セレノフェン−２，７−ジイル基、又はフルオレン−２，７−ジイル基を表し、置換基として１個以上のＦ、Ｃｌ、ＣＦ3、ＯＣＦ3、ＣＮ基、炭素原子数１〜８のアルキル基、炭素原子数１〜８のアルコキシ基、炭素原子数１〜８のアルカノイル基、炭素原子数１〜８のアルカノイルオキシ基、炭素原子数１〜８のアルコキシカルボニル基、炭素原子数２〜８のアルケニル基、炭素原子数２〜８のアルケニルオキシ基、炭素原子数２〜８のアルケノイル基、炭素原子数２〜８のアルケノイルオキシ基を有していても良く、Ｚ１１及びＺ２はそれぞれ独立して、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ2 ＣＨ2−、−ＯＣＨ2−、−ＣＨ2Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ＝ＣＨＣＯＯ−、−ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ2ＣＨ2ＣＯＯ−、−ＣＨ2ＣＨ2ＯＣＯ−、−ＣＯＯＣＨ2ＣＨ2−、−ＯＣＯＣＨ2ＣＨ2−、−Ｃ＝Ｎ−、−Ｎ＝Ｃ−、−ＣＯＮＨ−、−ＮＨＣＯ−、−Ｃ（ＣＦ３）２−、ハロゲン原子を有してもよい炭素原子数２〜１０のアルキル基又は単結合を表す。）で表される化合物からなる群より選ばれる少なくとも１種の化合物である請求項５に記載の重合性液晶組成物。
【請求項７】
前記重合性液晶化合物が一般式（ＩＩＩ）
【化７】
2017183682.tif 000089
（式中、Ｒ７はそれぞれ独立して一般式（ＩＩＩ−ａ）で表される置換基を表す。
【化８】
2017183682.tif 000090
（式中、Ｒ９及びＲ１０はそれぞれ独立的に水素原子、ハロゲン原子又はメチル基を表し、Ｒ８は炭素原子数１〜２０のアルコキシ基を表すが、該アルコキシ基中の水素原子は一般式（ＩＩＩ−ｂ）、一般式（ＩＩＩ−ｃ）、又は一般式（ＩＩＩ−ｄ）で表される置換基によって置換されていても良く、一般式（ＩＩＩ）中に存在するＲ８の少なくとも１つは、一般式（ＩＩＩ−ｂ）、一般式（ＩＩＩ−ｃ）、又は一般式（ＩＩＩ−ｄ）で表される置換基によって置換されている。）
【化９】
2017183682.tif 000091
（式中、Ｒ８１、Ｒ８２、Ｒ８３、Ｒ８４、Ｒ８５、Ｒ８６、Ｒ８７、Ｒ８８及びＲ８９はそれぞれ独立的に水素原子、ハロゲン原子又は炭素原子数１〜５のアルキル基を表し、ｎは０又は１を表す。））で表される化合物である、請求項１〜請求項３のいずれか一項に記載の重合性液晶組成物。
【請求項８】
請求項１〜請求項７のいずれか一項に記載の重合性液晶組成物を重合させることにより得られる重合体。
【請求項９】
請求項１〜請求項７のいずれか一項に記載の重合性液晶組成物を用いてなる光学異方体。
【請求項１０】
請求項１〜請求項７のいずれか一項に記載の重合性液晶組成物を用いてなる位相差膜。
【請求項１１】
請求項１〜請求項７のいずれか一項に記載の重合性液晶組成物を用いてなる位相差パターニング膜。
【請求項１２】
請求項１〜請求項７のいずれか一項に記載の重合性液晶組成物を用いてなる輝度向上フィルム。
【請求項１３】
請求項１〜請求項７のいずれか一項に記載の重合性液晶組成物を用いてなる反射防止膜。
【請求項１４】
請求項１〜請求項７のいずれか一頁に記載の重合性液晶組成物を用いてなる視野角補償膜。
【請求項１５】
請求項１０に記載の位相差膜にネガティブＣプレートを積層してなる位相差膜。
【請求項１６】
請求項１０に記載の位相差膜にポジティブＣプレートを積層してなる位相差膜。
【請求項１７】
請求項１０に記載の位相差膜にポジティブＡプレートを積層してなる位相差膜。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本願発明は、液晶デバイス、ディスプレイ、光学部品、着色剤、セキュリティ用マーキング、レーザー発光用部材、又は、液晶ディスプレイ等の光学補償に用いられる光学異方体の構成部材として有用な重合性液晶組成物、及び該組成物からなる光学異方体、位相差膜、位相差パターニング膜、輝度向上フィルム、視野角補償膜及び反射防止膜に関する。
【背景技術】
【０００２】
重合性液晶組成物は光学異方体の構成部材として有用であり、光学異方体は、例えば、偏光フィルム、位相差フィルムとして、種々の液晶ディスプレイに応用されている。偏光フィルムや位相差フィルムは、重合性液晶組成物を基材に塗布し、溶剤を乾燥させた後に、配向膜等により重合性液晶組成物を配向させた状態で、加熱、あるいは活性エネルギー線を照射して重合性液晶組成物を硬化することにより得られる。また、重合性液晶組成物にキラル化合物を添加した重合性コレステリック液晶組成物を用いると、円偏光分離素子が得られることが知られており、輝度向上フィルム等への応用が検討されている。【０００３】
これらの重合性液晶組成物は、一般的に、ガラス基材やプラスチック基材上、又は、さらに必要に応じて配向膜を形成した基質上に塗布し硬化して位相差膜を作製するが、重合性液晶組成物を均一にムラなく塗布することが求められている。そこで、塗膜の表面張力を著しく低くすることが可能なフッ素系界面活性剤が添加剤として一般的に使用されている。しかしながら、フッ素系界面活性剤を用いると、位相差膜表面にフッ素原子が残存するため、位相差膜表面が低表面エネルギー層となり位相差膜表面への積層が困難になっていた。また、非重合性フッ素系界面活性剤を使用した位相差膜に偏光板を粘着層を介して積層した場合には、フッ素系界面活性剤が経時で粘着層に浸透するため、偏光板の剥離トラブルを発生することがあった。【０００４】
上記問題点を改善する方法として、重合性フッ素系界面活性剤を使用した積層フィルムが報告されているが、当該方法では、均一にムラなく塗布することができても、位相差膜に積層した良好な密着性を有する積層体を得ることができなかった（特許文献１〜３）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００３−１０５０３０号公報
【特許文献２】特開２００９−４１０２３号公報
【特許文献３】特許第５０２６０６０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明が解決しようとする課題は、基質上に均一にムラなく塗布することができ、且つ、基質への塗膜後活性エネルギー線を照射して得られる成膜上に積層可能である重合性液晶組成物を提供し、併せて、当該重合性組成物を用いた配向性が良好な光学異方体及び積層体を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明は、上記課題を解決するために、重合性液晶組成物に着目して鋭意研究を重ねた結果、本発明を提供するに至った。【０００８】
即ち、本発明は、少なくとも１種以上の熱分解性基を有する重合体、及び、重合性液晶化合物を含有する重合性液晶組成物を提供する。また、本発明の重合性液晶組成物を用いた光学異方体及び積層体も提供する。
【発明の効果】
【０００９】
本発明の重合性液晶組成物を用いることで、基質上に均一にムラなく塗布することができ、得られる成膜上に良好な密着性を有する積層を有する積層体を得ることができることから、光学材料の用途に有用である。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
以下に本発明による重合性液晶組成物の最良の形態について説明するが、本発明において、重合性液晶組成物の「液晶」とは、重合性液晶組成物を基質に塗布後、有機溶剤を除去した状態において液晶性を示すことを意図する。また、本発明において、重合性液晶化合物の「液晶」とは、用いる重合性液晶化合物１種のみの化合物で液晶性を示すことを意図する場合や、その他の液晶化合物と混合し混合物とした場合に液晶性を示すことを意図する。なお、重合性液晶組成物は紫外線等の光照射、加熱又はそれらの併用によって重合処理を行うことでポリマー化（フィルム化）することができる。
（熱分解性基を有する熱分解性重合体）
本発明の重合性液晶組成物には、熱分解性基を有する重合体を少なくとも１種以上含有することを特徴とする。熱分解性基を有する重合体は、重合性液晶組成物中に添加することにより用いられ、基材や必要に応じて用いられる配向膜からなる基質上に、重合性液晶組成物を均一にムラなく塗布することができる。前記熱分解性基を有する重合体として具体的には、熱分解性基がフッ素原子及び／又はケイ素原子を含有する重合体を挙げることができる。
【００１１】
また、熱分解性基を有する重合体は、下記一般式（Ｉ−１−１）又は一般式（Ｉ−１−２）で表される構造単位を側鎖として含有することが好ましい。
【００１２】
【化１】
2017183682.tif 000002
【００１３】
（一般式（Ｉ−１−１）及び一般式（Ｉ−１−２）中、Ｒ１、Ｒ２はそれぞれ独立して、水素原子あるいは直鎖状又は分岐状の炭素原子数１〜１８の有機基を表し、Ｙ１は酸素原子又は硫黄原子を表し、Ｒ４はフッ素原子及び／又はケイ素原子を有する有機基を表し、＊は結合部位を表す。）で表される構造単位を含有することが好ましい。
【００１４】
一般式（Ｉ−１−１）及び一般式（Ｉ−１−２）中、Ｒ１は、水素原子あるいは直鎖状又は分岐状の炭素原子数１〜１８の有機基を表すが、Ｒ１は水素原子又はメチル基が好ましく、Ｒ１は水素原子がより好ましい。
【００１５】
一般式（Ｉ−１−１）及び一般式（Ｉ−１−２）中、Ｒ２は、水素原子あるいは直鎖状又は分岐状の炭素原子数１〜１８の有機基を表すが、Ｒ２は直鎖状の炭素原子数１〜１２のアルキル基が好ましく、Ｒ２はメチル基がより好ましい。
【００１６】
一般式（Ｉ−１−１）及び一般式（Ｉ−１−２）中、Ｙ１は酸素原子又は硫黄原子を表すが、Ｙ１は酸素原子が好ましい。
【００１７】
一般式（Ｉ−１−１）及び一般式（Ｉ−１−２）中、Ｒ４はフッ素原子及び／又はケイ素原子を有する有機基を表すが、Ｒ４は、優れた平滑性を発現するためフッ素化アルキル基、フッ素化アルケニル基、フッ素化芳香族基、ポリ（パーフルオロアルキレンエーテル）基、ケイ素原子に結合する１つ又は２つ以上の水素原子がそれぞれ独立してメチル基及びフェニレン基から選択される基に置換されても良いポリシロキサン基が好ましく、フッ素原子が直接結合した炭素原子の数が１〜１２のフッ素化アルキル基、ケイ素原子に結合する１つ又は２つ以上の水素原子がそれぞれ独立してメチル基及びフェニレン基から選択される基に置換されても良いポリシロキサン基がより好ましく、フッ素原子が直接結合した炭素原子の数が１〜８のフッ素化アルキル基が特に好ましい。
【００１８】
前記Ｒ４としては、例えば、下記式（Ｉ−Ｒ４−１）〜式（Ｉ−Ｒ４−１９）で示す基が好ましい。
【００１９】
【化２】
2017183682.tif 000003
【００２０】
【化３】
2017183682.tif 000004
【００２１】
上記式中、＊はＹ１への結合部位を表し、Ｒ５１〜Ｒ５６はそれぞれ独立して水素原子、メチル基、フェニル基を表し、ｎ５は１〜１５０の整数を表す。
【００２２】
本発明の熱分解性基を有する重合体は、本発明の効果を損なわない範囲で前記一般式（Ｉ−１−１）又は一般式（Ｉ−１−２）で表される構造単位以外の構造単位を含有していても良い。具体的には、下記一般式（Ｉ−２−１）又は一般式（Ｉ−２−２）で側鎖を例示することができる。
【００２３】
【化４】
2017183682.tif 000005
【００２４】
（一般式（Ｉ−２−１）及び一般式（Ｉ−２−２）中、Ｒ１１、Ｒ２１はそれぞれ独立して、水素原子あるいは直鎖状又は分岐状の炭素原子数１〜１８の有機基を表し、Ｙ１１は酸素原子又は硫黄原子を表し、Ｒ４１は炭素原子数１〜１８の有機基であって、Ｒ２１とＲ４１は互いに結合してＹ１１をヘテロ原子とする複素環を形成していてもよく、＊は結合部位を表す。）
前記、一般式（Ｉ−２−１）及び一般式（Ｉ−２−２）中、Ｒ１１は水素原子を表し、Ｒ２１はメチル基を表し、Ｙ１１は酸素原子またはイオウ原子であるものが、ブロック化されたカルボキシル基と復活したカルボキシル基の極性の差が大きく好ましい。また、前記一般式（Ｉ−２−１）又は一般式（Ｉ−２−２）で表される側鎖としては、下記式（Ｉ−２−１−１）又は式（Ｉ−２−２−１）で表される側鎖がより好ましい。
【００２５】
【化５】
2017183682.tif 000006
【００２６】
本発明の熱分解性基を有する重合体は、例えば、下記の方法により効率よく製造することができる。
【００２７】
製法１：ヒドロキシル基又はカルボキシル基を有する重合性単量体（α）と下記一般式（Ｉ−Ａ）
【００２８】
【化６】
2017183682.tif 000007
【００２９】
（一般式（Ｉ−Ａ）中、Ｒ１、Ｒ２１及びＲ２２はそれぞれ水素原子または炭素原子数１〜１８の有機基で、Ｒ４はフッ素原子及び／又はケイ素原子を有する有機基である。〕
で表されるビニルエーテル化合物とを反応させてブロック化されたカルボキシル基を有する重合性単量体を得た後、該重合性単量体を重合させる方法。
【００３０】
製法２：ヒドロキシル基又はカルボキシル基を有する重合性単量体（α）を用いて得られる重合体と、前記一般式（Ｉ−Ａ）で表されるビニルエーテル化合物とを反応させる方法。
【００３１】
前記ヒドロキシル基又はカルボキシル基を有する重合性単量体（α）としては、例えば、（メタ）アクリル酸、イタコン酸、メサコン酸、マレイン酸、フマル酸、カルボキシエチル（メタ）アクリレート、カルボキシペンチル（メタ）アクリレート、２−（メタ）アクリロイロキシエチルヘキサヒドロフタル酸、２−（メタ）アクリロイロキシプロピルヘキサヒドロフタル酸、２−（メタ）アクリロイロキシエチルフタル酸、２−（メタ）アクリロイロキシエチルコハク酸、２−（メタ）アクリロイロキシエチルマレイン酸、カルボキシポリカプロラクトンモノ（メタ）アクリレート、２−（メタ）アクリロイロキシエチルテトラヒドロフタル酸等を好ましく例示できる。中でも、安価で取り扱いが容易であることから（メタ）アクリル酸が好ましく、メタクリル酸がより好ましい。
【００３２】
なお、本発明において、「（メタ）アクリレート」とは、メタクリレートとアクリレートの一方又は両方をいい、「（メタ）アクリロイル基」とは、メタクリロイル基とアクリロイル基の一方又は両方をいい、「（メタ）アクリル酸」とは、メタクリル酸とアクリル酸の一方又は両方をいう。
【００３３】
前記製造方法１において、ブロック化されたヒドロキシル基又はカルボキシル基を有する重合性単量体を得た後、該重合性単量体を重合させる際や、製造方法２においてヒドロキシル基又はカルボキシル基を有する重合性単量体（α）を用いて得られる重合体を得る際には、本発明の効果を損なわない範囲で重合性単量体（α）以外の重合性単量体（Ａ）を併用して重合体を得ることもできる。重合性単量体（Ａ）としては、例えば、アクリル酸エステル類、メタクリル酸エステル類、アクリルアミド類、メタクリルアミド類、アリル化合物、ビニルエーテル類、ビニルエステル類等が挙げられる。
【００３４】
前記アクリル酸エステル類としては、例えば、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル、クロルエチルアクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、トリメチロールプロパンモノアクリレート、ベンジルアクリレート、メトキシベンジルアクリレート、フルフリルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート等が挙げられる。
【００３５】
前記メタクリル酸エステル類としては、例えば、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル、クロルエチルメタクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、トリメチロールプロパンモノメタクリレート、ベンジルメタクリレート、メトキシベンジルメタクリレート、フルフリルメタクリレート、テトラヒドロフルフリルメタクリレート等が挙げられる。
【００３６】
前記アクリルアミド類としては、例えば、アクリルアミド、Ｎ−アルキルアクリルアミド（アルキル基としては炭素原子数１〜３のもの、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基）、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアクリルアミド（アルキル基としては炭素原子数１〜３のもの）、Ｎ−ヒドロキシエチル−Ｎ−メチルアクリルアミド、Ｎ−２−アセトアミドエチル−Ｎ−アセチルアクリルアミド等が挙げられる。
【００３７】
前記メタクリルアミド類としては、例えば、メタクリルアミド、Ｎ−アルキルメタクリルアミド（アルキル基としては炭素原子数１〜３のもの、例えばメチル基、エチル基、プロピル基）、Ｎ，Ｎ−ジアルキルメタクリルアミド（アルキル基としては炭素原子数１〜３のもの）、Ｎ−ヒドロキシエチル−Ｎ−メチルメタクリルアミド、Ｎ−２−アセトアミドエチル−Ｎ−アセチルメタクリルアミド等が挙げられる。
【００３８】
前記アリル化合物としては、例えば、アリルエステル類（例えば、酢酸アリル、カプロン酸アリル、カプリル酸アリル、ラウリン酸アリル、パルミチン酸アリル、ステアリン酸アリル、安息香酸アリル、アセト酢酸アリル、乳酸アリルなど）、アリルオキシエタノール等が挙げられる。
【００３９】
前記ビニルエーテル類としては、例えば、ヘキシルビニルエーテル、オクチルビニルエーテル、デシルビニルエーテル、エチルヘキシルビニルエーテル、メトキシエチルビニルエーテル、エトキシエチルビニルエーテル、クロルエチルビニルエーテル、１−メチル−２，２−ジメチルプロピルビニルエーテル、２−エチルブチルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、ジエチレングリコールビニルエーテル、ジメチルアミノエチルビニルエーテル、ジエチルアミノエチルビニルエーテル、ブチルアミノエチルビニルエーテル、ベンジルビニルエーテル、テトラヒドロフルフリルビニルエーテル等、ビニルエステル類：ビニルビチレート、ビニルイソブチレート、ビニルトリメチルアセテート、ビニルジエチルアセテート、ビニルバレート、ビニルカプロエート、ビニルクロルアセテート、ビニルジクロルアセテート、ビニルメトキシアセテート、ビニルブトキシアセテート、ビニルラクテート、ビニル−β−フェニルブチレート、ビニルシクロヘキシルカルボキシレート等が挙げられる。
【００４０】
前記イタコン酸ジアルキル類としては、イタコン酸ジメチル、イタコン酸ジエチル、イタコン酸ジブチル等が挙げられる。フマール酸のジアルキルエステル類又はモノアルキルエステル類としては、ジブチルフマレート等、その他、クロトン酸、イタコン酸、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、マレイロニトリル、スチレン等も挙げられる。
【００４１】
また、重合性単量体（Ａ）として、オキシアルキレン基を有するラジカル重合性単量体も使用することができる。オキシアルキレン基を有するラジカル重合性単量体としては、例えば、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリテトラメチレングリコール（メタ）アクリレート、ポリ（エチレングリコール・プロピレングリコール）モノ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコール・ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリ（エチレングリコール・テトラメチレングリコール）モノ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコール・ポリテトラメチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリ（プロピレングリコール・テトラメチレングリコール）モノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコール・ポリテトラメチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリ（プロピレングリコール・ブチレングリコール）モノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコール・ポリブチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリ（エチレングリコール・ブチレングリコール）モノ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコール・ポリブチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリ（テトラエチレングリコール・ブチレングリコール）モノ（メタ）アクリレート、ポリテトラエチレングリコール・ポリブチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリブチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリ（エチレングリコール・トリメチレングリコール）モノ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコール・ポリトリメチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリ（プロピレングリコール・トリメチレングリコール）モノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコール・ポリトリメチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリ（トリメチレングリコール・テトラメチレングリコール）モノ（メタ）アクリレート、ポリトリメチレングリコール・ポリテトラメチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリ（ブチレングリコール・トリメチレングリコール）モノ（メタ）アクリレート、ポリブチレングリコール・ポリトリメチレングリコールモノ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００４２】
なお、前記「ポリ（エチレングリコール・プロピレングリコール）」は、エチレングリコールとプロピレングリコールとのランダム共重合物を意味し、「ポリエチレングリコール・ポリプロピレングリコール」は、エチレングリコールとプロピレングリコールとのブロック共重合物を意味し、他のものも同様である。
【００４３】
前記オキシアルキレン基を有するラジカル重合性単量体の市販品としては、例えば、新中村化学工業株式会社製の「ＮＫエステルＡＭＰ−１０Ｇ」、「ＮＫエステルＡＭＰ−２０Ｇ」、「ＮＫエステルＡＭＰ−６０Ｇ」、日油株式会社製の「ブレンマーＰＭＥ−１００」、「ブレンマーＰＭＥ−２００」、「ブレンマーＰＭＥ−４００」、「ブレンマーＰＭＥ−４０００」、「ブレンマーＰＰ−１０００」、「ブレンマーＰＰ−５００」、「ブレンマーＰＰ−８００」、「ブレンマー７０ＰＥＰ−３５０Ｂ」、「ブレンマー５５ＰＥＴ−８００」、「ブレンマー５０ＰＯＥＰ−８００Ｂ」、「ブレンマー１０ＰＰＢ−５００Ｂ」、「ブレンマーＮＫＨ−５０５０」、「ブレンマーＡＰ−４００」、サートマー社製の「ＳＲ６０４」等が挙げられる。ラジカル重合性単量体（γ）は、単独で用いることも２種以上併用することもできる。
【００４４】
更に、重合性単量体（Ａ）として、フッ素化アルキル基やポリ（パーフルオロアルキレンエーテル）鎖を有するラジカル重合性単量体も本発明の効果を損なわない範囲で使用することができる。該ラジカル重合性単量体としては、例えば、下記一般式（Ａ０）で表されるものを好ましく例示することができる。
【００４５】
【化７】
2017183682.tif 000008
【００４６】
〔上記一般式（Ａ０）中、Ｒは水素原子又はメチル基を表し、Ｌは、下記式（Ｌ−１）〜（Ｌ−１０）のいずれか１つの基を表し、Ｒｆは下記式（Ｒｆ−１）〜（Ｒｆ−７）のいずれか１つの基を表す。〕
【００４７】
【化８】
2017183682.tif 000009
【００４８】
（上記式（Ｌ−１）、（Ｌ−３）、（Ｌ−５）、（Ｌ−６）及び（Ｌ−７）中のｎは１〜８の整数を表す。上記式（Ｌ−８）、（Ｌ−９）及び（Ｌ−１０）中のｍは１〜８の整数を表し、ｎは０〜８の整数を表す。上記式（Ｌ−６）及び（Ｌ−７）中のＲｆ’’は下記式（Ｒｆ−１）〜（Ｒｆ−７）のいずれか１つの基を表す。）
【００４９】
【化９】
2017183682.tif 000010
【００５０】
（上記式（Ｒｆ−１）〜（Ｒｆ−４）中のｎは、例えば１〜６の整数であり、好ましくは４〜６の整数である。上記式（Ｒｆ−５）中のｍは、例えば１〜１８の整数であり、ｎは０〜５の整数であり、かつｍ及びｎの合計は１〜２３である。好ましくは、ｍは１〜５の整数であり、ｎは０〜４の整数であり、かつｍ及びｎの合計は４〜５である。上記式（Ｒｆ−６）中のｍは例えば１〜６の整数であり、ｎは１〜３の整数であり、ｌは１〜２０の整数であり、ｐは０〜５の整数であり、かつ、ｍ、ｐ及びｎとｌとの積の合計は２〜７１である。好ましくは、ｍは１〜３の整数であり、ｎは１〜３の整数であり、ｌは１〜６の整数であり、ｐは０〜２の整数であり、かつ、ｍ、ｐ及びｎとｌとの積の合計は２〜２３である。）
前記フッ素化アルキル基やポリ（パーフルオロアルキレンエーテル）鎖を有するラジカル重合性単量体の具体的な例として、例えば下記の重合性単量体（Ａ−１）〜（Ａ−１５）等を好ましく例示することができる。
【００５１】
【化１０】
2017183682.tif 000011
【００５２】
式（Ａ−１３）〜式（Ａ−１５）におけるｎは、例えば、０〜２０である。
【００５３】
前記一般式（Ｉ−Ａ）で表されるビニルエーテル化合物としては、例えば、３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，８−トリデカフルオロ−１−ビニルオキシオクタン、３，３，４，４，５，５，６，６，６−ノナフルオロ−１−ビニルオキシヘキサン、等が挙げられる。中でも前記重合性単量体（α）を用いて得られる重合体との反応が容易に進み、且つ、加熱前後での極性差が大きくなるため好ましい。また、熱分解性基を有する重合体を含有する重合性液晶組成物の塗布性及び成膜後の積層容易性の観点から３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，８−トリデカフルオロ−１−ビニルオキシオクタンが好ましい。
【００５４】
本発明の熱分解性基を有する重合体を得る際には、前記一般式（Ｉ−Ａ）で表される化合物以外のビニルエーテル化合物を、一般式（Ｉ−Ａ）で表されるビニルエーテル化合物と本発明の効果を損なわない範囲で併用することもできる。この様なビニルエーテル化合物としては、例えば、メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、イソプロピルビニルエーテル、ｎ−プロピルビニルエーテル、ｎ−ブチルビニルエーテル、イソブチルビニルエーテル、２−エチルヘキシルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテルなどの脂肪族ビニルエーテル化合物；これらに対応する脂肪族ビニルチオエーテル化合物；２,３−ジヒドロフラン、３,４−ジヒドロフラン、２,３−ジヒドロ−２Ｈ−ピラン、３,４−ジヒドロ−２Ｈ−ピラン、３,４−ジヒドロ−２−メトキシ−２Ｈ−ピラン、３,４−ジヒドロ−４,４−ジメチル−２Ｈ−ピラン−２−オン、３,４−ジヒドロ−２−エトキシ−２Ｈ−ピラン、３,４−ジヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−カルボン酸ナトリウムなどの環状ビニルエーテル化合物；これらに対応する環状ビニルチオエーテル化合物等が挙げられる。
【００５５】
前記製法１では、カルボキシル基を有する重合性単量体（α）と前記一般式（Ｉ−Ａ）で表されるビニルエーテル化合物とを反応させる。これによりブロック化されたカルボキシル基を有する重合性単量体が得られる。反応条件は、例えば、酸触媒の存在下、２０〜１００℃程度に加熱する条件を挙げることができる。そして、ブロック化されたカルボキシル基を有する重合性単量体を重合させる際には、後述する重合性単量体（α）を重合させる条件にて行うことができる。
【００５６】
前記製法２において、重合性単量体（α）を用いて重合体を得る方法としては、特に制限はないが、例えば、重合性単量体（α）及び必要に応じラジカル重合性単量体（γ）を有機溶剤中、ラジカル重合開始剤を使用して重合させる方法等が挙げられる。ここで用いる有機溶媒としては、ケトン類、エステル類、アミド類、スルホキシド類、エーテル類、炭化水素類が好ましく、具体的には、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸エチル、酢酸ブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、トルエン、キシレン等が挙げられる。これらは、沸点、相溶性、重合性を考慮して適宜選択される。ラジカル重合開始剤としては、例えば過酸化ベンゾイル等の過酸化物、アゾビスイソブチロニトリル等のアゾ化合物等が例示できる。さらに必要に応じてラウリルメルカプタン、２−メルカプトエタノ−ル、チオグリセロール、エチルチオグリコ−ル酸、オクチルチオグリコ−ル酸等の連鎖移動剤を使用することができる。
【００５７】
前記製法２において、前記重合体と、前記一般式（Ｉ−Ａ）で表されるビニルエーテル化合物とは、例えば、酸触媒の存在下、２０〜１００℃程度に加熱することにより反応させることができる。この反応により重合体が有するカルボキシル基がブロック化し、前記一般式（Ｉ−１−１）又は一般式（Ｉ−１−２）で表される構造を有する重合体が得られる。前記ブロック化したカルボキシル基は、高温環境下、例えば、１５０〜３００℃の環境下でブロック化したビニルエーテルが外れ、カルボキシル基が再生する。
【００５８】
前記熱分解性基を有する重合体としては、下記一般式（Ｉ−１−１−１）〜一般式（Ｉ−１−２−２）から選択される構造単位を有する重合体が好ましい。
【００５９】
【化１１】
2017183682.tif 000012
【００６０】
（上記一般式（Ｉ−１−１−１）〜一般式（Ｉ−１−２−２）中、Ｒ１は水素原子あるいは直鎖状又は分岐状の炭素原子数１〜１８の有機基を表す。Ｒ４１及びＲ５はそれぞれ独立して、炭素原子数１〜１２のアルキレン基、炭素数６〜１２の芳香族炭化水素基、又は炭素原子数４〜１２の脂環式炭化水素基を表す。Ｒ６は、水素原子又はメチル基を表す。Ｒ４２はフッ素原子及び／又はケイ素原子を有する有機基を表す。ｎは０〜１２の整数を表す。）
上記一般式（Ｉ−１−１−１）〜一般式（Ｉ−１−２−２）中、Ｒ４２の好ましい基は、上記一般式（Ｉ−１−１）又は一般式（Ｉ−１−２）に記載したＲ４の好ましい基と同一である。
【００６１】
前記熱分解性基を有する重合体を含有する重合性液晶組成物を基質に塗布すると、フッ素原子及び／又はケイ素原子を含有する重合体は、塗膜表面に偏析する。この表面に偏析した状態でフッ素原子及び／又はケイ素原子を有する基が重合体から脱離することで得られる成膜表面の撥水性と撥油性が低下する。このような現象の結果として重合性液晶組成物からなる成膜上にさらにその他の膜を積層しやすくなり、容易に積層体を得ることができる。
【００６２】
上記一般式（Ｉ−１−１−１）〜一般式（Ｉ−１−２−２）等で表される、本発明において用いる熱分解性基を有する重合体の数平均分子量（Ｍｎ）は、用いる重合性液晶化合物との相溶性や用いる溶剤への溶解性の観点から、１，０００〜５０，０００の範囲が好ましく、１，５００〜２０，０００の範囲がより好ましく、２，０００〜８，０００の範囲がさらに好ましい。また、重量平均分子量（Ｍｗ）は、１，０００〜１００，０００の範囲が好ましく、５，０００〜７０，０００の範囲がより好ましい。なお、数平均分子量（Ｍｎ）及び重量平均分子量（Ｍｗ）は、ゲル浸透クロマトグラフィー（以下、「ＧＰＣ」と略記する。）測定に基づきポリスチレン換算した値である。
【００６３】
本発明において用いる熱分解性基を有する重合体は、１種又は２種以上混合して使用することができる。
【００６４】
本発明において用いる熱分解性基を有する重合体の含有量は、重合性液晶組成物中に含まれる重合性液晶化合物、重合性キラル化合物、重合性ディスコチック化合物の合計量１００質量部に対して、０．００５〜５質量部とすることが好ましく、０．０１〜２質量部とすることがより好ましく、０．０５〜１質量部とすることがさらに好ましく、０．１〜０．５質量部とすることが特に好ましい。重合性液晶組成物中に含有させる熱分解性基を有する重合体の含有量を特定の範囲とすることにより、基質上に均一にムラなく塗布することができ、且つ、基質への塗膜後活性エネルギー線を照射し、焼成して得られる成膜上にその他の層を積層した積層体を得ることができる。
（重合性液晶化合物）
本発明において用いられる、重合性液晶化合物としては、単独または他の化合物との組成物において液晶性を示し、少なくとも１つ以上の重合性官能基を有する化合物であれば、特に限定はなく、公知慣用のものを用いることができる。
【００６５】
例えば、Ｈａｎｄｂｏｏｋ  ｏｆ  Ｌｉｑｕｉｄ  Ｃｒｙｓｔａｌｓ（Ｄ．Ｄｅｍｕｓ，Ｊ．Ｗ．Ｇｏｏｄｂｙ，Ｇ．Ｗ．Ｇｒａｙ，Ｈ．Ｗ．Ｓｐｉｅｓｓ，Ｖ．Ｖｉｌｌ編集、Ｗｉｌｅｙ−ＶＣＨ社発行，１９９８年）、季刊化学総説Ｎｏ．２２、液晶の化学（日本化学会編，１９９４年）、あるいは、特開平７−２９４７３５号公報、特開平８−３１１１号公報、特開平８−２９６１８号公報、特開平１１−８００９０号公報、特開平１１−１１６５３８号公報、特開平１１−１４８０７９号公報、等に記載されているような、１，４−フェニレン基１，４−シクロヘキレン基等の構造が複数繋がったメソゲンと呼ばれる剛直な部位と、ビニル基、アクリル基、（メタ）アクリル基といった重合性官能基を有する棒状重合性液晶化合物、あるいは特開２００４−２３７３号公報、特開２００４−９９４４６号公報に記載されているようなマレイミド基を有する棒状重合性液晶化合物が挙げられる。中でも、重合性基を有する棒状液晶化合物が、液晶温度範囲として室温前後の低温を含むものを作りやすく好ましい。
【００６６】
重合性液晶化合物は、具体的には以下の一般式（ＩＩ）で表される化合物が好ましい。
【００６７】
【化１２】
2017183682.tif 000013
【００６８】
式中、Ｐ２は重合性官能基を表し、
Ｓｐ１は炭素原子数１〜１８のアルキレン基を表し（該アルキレン基中の水素原子は、１つ以上のハロゲン原子、ＣＮ基、又は重合性官能基を有する炭素原子数１〜８のアルキル基により置換されていても良く、この基中に存在する１つのＣＨ2基又は隣接していない２つ以上のＣＨ2基はそれぞれ相互に独立して、−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−又は−ＯＣＯ−Ｏ−により置き換えられていても良い。）、
Ｘ１は−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＳＣＨ２−、−ＣＨ２Ｓ−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＦ２Ｓ−、−ＳＣＦ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＯＣＯ−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−ＣＯＯ−、−ＣＨ２ＣＨ２−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ２−、−ＯＣＯ−ＣＨ２−、−ＣＨ２−ＣＯＯ−、−ＣＨ２−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＨ＝Ｎ−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−又は単結合を表し（ただし、Ｐ２−Ｓｐ１、及びＳｐ１−Ｘ１は、−Ｏ−Ｏ−、−Ｏ−ＮＨ−、−Ｓ−Ｓ−及び−Ｏ−Ｓ−基を含まない。）、
ｑ１は０又は１を表し、
ＭＧはメソゲン基を表し、
Ｒ２は、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、又は炭素原子数１から１２の直鎖又は分岐アルキル基を表し、該アルキル基は直鎖状であっても分岐していてもよく、該アルキル基は１個の−ＣＨ２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ２−が各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−によって置換されても良く、あるいはＲ２は、一般式（ＩＩ−ａ）
【００６９】
【化１３】
2017183682.tif 000014
【００７０】
（式中、Ｐ３は重合性官能基を表し、Ｓｐ２は、Ｓｐ１で定義されたものと同一のものを表し、Ｘ２は、Ｘ１で定義されたものと同一のものを表し（ただし、Ｐ３−Ｓｐ２、及びＳｐ２−Ｘ２は、−Ｏ−Ｏ−、−Ｏ−ＮＨ−、−Ｓ−Ｓ−及び−Ｏ−Ｓ−基を含まない。）、ｑ２は０又は１を表す。）を表し、
上記ＭＧで表されるメソゲン基は、一般式（ＩＩ−ｂ）
【００７１】
【化１４】
2017183682.tif 000015
【００７２】
（式中、Ｂ１、Ｂ２及びＢ３はそれぞれ独立的に、１，４−フェニレン基、１，４−シクロヘキシレン基、１，４−シクロヘキセニル基、テトラヒドロピラン−２，５−ジイル基、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル基、テトラヒドロチオピラン−２，５−ジイル基、１，４−ビシクロ（２，２，２）オクチレン基、デカヒドロナフタレン−２，６−ジイル基、ピリジン−２，５−ジイル基、ピリミジン−２，５−ジイル基、ピラジン−２，５−ジイル基、チオフェン−２，５−ジイル基−、１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル基、２，６−ナフチレン基、フェナントレン−２，７−ジイル基、９，１０−ジヒドロフェナントレン−２，７−ジイル基、１，２，３，４，４ａ，９，１０ａ−オクタヒドロフェナントレン−２，７−ジイル基、１，４−ナフチレン基、ベンゾ［１，２−ｂ：４，５−ｂ‘］ジチオフェン−２，６−ジイル基、ベンゾ［１，２−ｂ：４，５−ｂ‘］ジセレノフェン−２，６−ジイル基、［１］ベンゾチエノ［３，２−ｂ］チオフェン−２，７−ジイル基、［１］ベンゾセレノフェノ［３，２−ｂ］セレノフェン−２，７−ジイル基、又はフルオレン−２，７−ジイル基を表し、置換基として１個以上のＦ、Ｃｌ、ＣＦ3、ＯＣＦ3、ＣＮ基、炭素原子数１〜８のアルキル基（当該アルキル基中の水素原子は、１つ以上のフェニル基により置換されていても良く、この基中に存在する１つのＣＨ2基又は隣接していない２つ以上のＣＨ2基はそれぞれ相互に独立して、−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−又は−ＯＣＯ−Ｏ−により置き換えられていても良い。）、炭素原子数１〜８のアルコキシ基、炭素原子数１〜８のアルカノイル基、炭素原子数１〜８のアルカノイルオキシ基、炭素原子数１〜８のアルコキシカルボニル基、炭素原子数２〜８のアルケニル基、炭素原子数２〜８のアルケニルオキシ基、炭素原子数２〜８のアルケノイル基、炭素原子数２〜８のアルケノイルオキシ基、及び／又は一般式（ＩＩ−ｃ）
【００７３】
【化１５】
2017183682.tif 000016
【００７４】
（式中、Ｐ４は重合性官能基を表し、
Ｓｐ３は、Ｓｐ１で定義されたものと同一のものを表し、Ｘ３は、−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＨ2−、−ＣＨ2Ｏ−、−ＣＨ2ＣＨ2ＯＣＯ−、−ＣＯＯＣＨ2ＣＨ2−、−ＯＣＯＣＨ2ＣＨ2−、又は単結合を表し、ｑ３は０又は１を表し、ｑ４は０又は１を表す。（ただし、Ｐ４−Ｓｐ３、及びＳｐ３−Ｘ３は、−Ｏ−Ｏ−、−Ｏ−ＮＨ−、−Ｓ−Ｓ−及び−Ｏ−Ｓ−基を含まない。））を有していても良く、
Ｚ１及びＺ２はそれぞれ独立して、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ2 ＣＨ2−、−ＯＣＨ2−、−ＣＨ2Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ＝ＣＨＣＯＯ−、−ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ2ＣＨ2ＣＯＯ−、−ＣＨ2ＣＨ2ＯＣＯ−、−ＣＯＯＣＨ2ＣＨ2−、−ＯＣＯＣＨ2ＣＨ2−、−Ｃ＝Ｎ−、−Ｎ＝Ｃ−、−ＣＯＮＨ−、−ＮＨＣＯ−、−Ｃ（ＣＦ３）２−、ハロゲン原子を有してもよい炭素原子数２〜１０のアルキル基又は単結合を表し、ｒ１は０、１、２又は３を表し、Ｂ１、及びＺ１が複数存在する場合は、それぞれ、同一であっても、異なっていても良い。）で表される。
【００７５】
Ｐ２、Ｐ３及びＰ４は、それぞれ独立して、下記の式（Ｐ−２−１）から式（Ｐ−２−２０）で表される重合性基から選ばれる置換基を表すのが好ましい。
【００７６】
【化１６】
2017183682.tif 000017
【００７７】
これらの重合性官能基のうち、重合性を高める観点から、式（Ｐ−２−１）、（Ｐ−２−２）、（Ｐ−２−７）、（Ｐ−２−１２）、（Ｐ−２−１３）が好ましく、式（Ｐ−２−１）、（Ｐ−２−２）がより好ましい。
（単官能重合性液晶化合物）
前記一般式（ＩＩ）で表される化合物のうち、分子内に１個の重合性官能基を有する単官能重合性液晶化合物として、下記一般式（ＩＩ−２−１）で表される化合物が好ましい。
【００７８】
【化１７】
2017183682.tif 000018
【００７９】
式中、Ｐ２、Ｓｐ１、Ｘ１、ｑ１及び、ＭＧは、それぞれ、上記一般式（ＩＩ）の定義と同じものを表し、Ｒ２１は、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、１個の−ＣＨ２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ２−が各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＮＨ−、−Ｎ（ＣＨ３）−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−によって置換されても良い、炭素原子数１から１２の直鎖又は分岐アルキル基、炭素原子数１から１２の直鎖又は分岐アルケニル基を表し、該アルキル基、アルケニル基の有する１個又は２個以上の水素原子は、ハロゲン原子、シアノ基によって置換されても良く、複数置換されている場合それぞれ同一であっても、異なっていても良い。一般式（ＩＩ−２−１）の例として、下記一般式（ＩＩ−２−１−１）〜（ＩＩ−２−１−４）で表される化合物を挙げることができるが、下記の一般式に限定されるわけではない。
【００８０】
【化１８】
2017183682.tif 000019
【００８１】
式中、Ｐ２、Ｓｐ１、Ｘ１、及び、ｑ１は、それぞれ、上記一般式（ＩＩ）の定義と同じものを表し、
Ｂ１１、Ｂ１２、Ｂ１３、Ｂ２、Ｂ３は、上記一般式（ＩＩ−ｂ）のＢ１〜Ｂ３の定義と同じものを表し、それぞれ、同一であっても、異なっていても良く、
Ｚ１１、Ｚ１２、Ｚ１３、Ｚ２は、上記一般式（ＩＩ−ｂ）のＺ１〜Ｚ３の定義と同じものを表し、それぞれ、同一であっても、異なっていても良く、
Ｒ２１は、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、１個の−ＣＨ２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ２−が各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＮＨ−、−Ｎ（ＣＨ３）−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−によって置換されても良い、炭素原子数１から１２の直鎖又は分岐アルキル基、炭素原子数１から１２の直鎖又は分岐アルケニル基を表し、該アルキル基、アルケニル基の有する１個又は２個以上の水素原子は、ハロゲン原子、シアノ基によって置換されても良く、複数置換されている場合それぞれ同一であっても、異なっていても良い。
【００８２】
上記一般式（ＩＩ−２−１−１）〜（ＩＩ−２−１−４）で表される化合物としては、以下の式（ＩＩ−２−１−１−１）〜式（ＩＩ−２−１−１−２６）で表される化合物を例示されるが、これらに限定される訳ではない。
【００８３】
【化１９】
2017183682.tif 000020
【００８４】
【化２０】
2017183682.tif 000021
【００８５】
【化２１】
2017183682.tif 000022
【００８６】
【化２２】
2017183682.tif 000023
【００８７】
【化２３】
2017183682.tif 000024
【００８８】
式中、Ｒｃは水素原子又はメチル基を表し、ｍは０〜１８の整数を表し、ｎは０又は１を表し、Ｒ２１は、上記一般式（ＩＩ−２−１−１）〜（ＩＩ−２−１−４）の定義と同じものを表すが、Ｒ２１は、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、１個の−ＣＨ２−が−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、によって置換されても良い、炭素原子数１から６の直鎖アルキル基又は炭素原子数１から６の直鎖アルケニル基を表すことが好ましく、
上記環状基は、置換基として１個以上のＦ、Ｃｌ、ＣＦ3、ＯＣＦ3、ＣＮ基、炭素原子数１〜８のアルキル基、炭素原子数１〜８のアルコキシ基、炭素原子数１〜８のアルカノイル基、炭素原子数１〜８のアルカノイルオキシ基、炭素原子数１〜８のアルコキシカルボニル基、炭素原子数２〜８のアルケニル基、炭素原子数２〜８のアルケニルオキシ基、炭素原子数２〜８のアルケノイル基、炭素原子数２〜８のアルケノイルオキシ基を有していても良い。
【００８９】
分子内に１個の重合性官能基を有する単官能重合性液晶化合物の合計含有量は、重合性液晶組成物に用いる重合性液晶化合物の合計量のうち、０〜９０質量％含有することが好ましく、０〜８５質量％含有することがより好ましく、０〜８０質量％含有することが特に好ましい。光学異方体の配向性を重視する場合には下限値を５質量％以上にすることが好ましく、１０質量％以上にすることがより好ましく、塗膜の硬さを重視する場合には上限値を８０質量％以下とすることが好ましく、７０質量％以下とすることがより好ましい。
（２官能重合性液晶化合物）
前記一般式（ＩＩ）で表される化合物のうち、分子内に２個の重合性官能基を有する２官能重合性液晶化合物として、下記一般式（ＩＩ−２−２）で表される化合物が好ましい。
【００９０】
【化２４】
2017183682.tif 000025
【００９１】
式中、Ｐ２、Ｓｐ１、Ｘ１、ｑ１、ＭＧ、Ｘ２、Ｓｐ２、ｑ２、Ｐ３は、それぞれ、上記一般式（ＩＩ）の定義と同じものを表す。一般式（ＩＩ−２−２）の例として、下記一般式（ＩＩ−２−２−１）〜（ＩＩ−２−２−４）で表される化合物を挙げることができるが、下記の一般式に限定されるわけではない。
【００９２】
【化２５】
2017183682.tif 000026
【００９３】
式中、Ｐ２、Ｓｐ１、Ｘ１、ｑ１、ＭＧ、Ｘ２、Ｓｐ２、ｑ２、Ｐ３は、それぞれ、上記一般式（ＩＩ）の定義と同じものを表し、
Ｂ１１、Ｂ１２、Ｂ１３、Ｂ２、Ｂ３は、上記一般式（ＩＩ−ｂ）のＢ１〜Ｂ３の定義と同じものを表し、それぞれ、同一であっても、異なっていても良く、
Ｚ１１、Ｚ１２、Ｚ１３、Ｚ２は、上記一般式（ＩＩ−ｂ）のＺ１〜Ｚ３の定義と同じものを表し、それぞれ、同一であっても、異なっていても良い。
【００９４】
上記一般式（ＩＩ−２−２−１）〜（ＩＩ−２−２−４）で表される化合物のうち、一般式（ＩＩ−２−２−２）〜（ＩＩ−２−２−４）で表される、化合物中に３つ以上の環構造を有する化合物を用いると、得られる光学異方体の配向性が良好で、かつ硬化性も良好であるため好ましく、化合物中に３つの環構造を有する一般式（ＩＩ−２−２−２）で表される化合物を用いることが特に好ましい。
【００９５】
上記一般式（ＩＩ−２−２−１）〜（ＩＩ−２−２−４）で表される化合物としては、以下の式（ＩＩ−２−２−１−１）〜式（ＩＩ−２−２−１−２１）で表される化合物を例示されるが、これらに限定される訳ではない。
【００９６】
【化２６】
2017183682.tif 000027
【００９７】
【化２７】
2017183682.tif 000028
【００９８】
【化２８】
2017183682.tif 000029
【００９９】
【化２９】
2017183682.tif 000030
【０１００】
式中、Ｒｄ及びＲｅは、それぞれ独立して水素原子又はメチル基を表し、
上記環状基は、置換基として１個以上のＦ、Ｃｌ、ＣＦ3、ＯＣＦ3、ＣＮ基、炭素原子数１〜８のアルキル基、炭素原子数１〜８のアルコキシ基、炭素原子数１〜８のアルカノイル基、炭素原子数１〜８のアルカノイルオキシ基、炭素原子数１〜８のアルコキシカルボニル基、炭素原子数２〜８のアルケニル基、炭素原子数２〜８のアルケニルオキシ基、炭素原子数２〜８のアルケノイル基、炭素原子数２〜８のアルケノイルオキシ基を有していても良い。
【０１０１】
ｍ１、ｍ２はそれぞれ独立して０〜１８の整数を表し、ｎ１、ｎ２、ｎ３、ｎ４はそれぞれ独立して０又は１を表す。
【０１０２】
２つの重合性官能基を有する液晶化合物は、１種又は２種以上用いることができるが、１種〜５種が好ましく、２種〜５種がより好ましい。
【０１０３】
分子内に２個の重合性官能基を有する２官能重合性液晶化合物の合計含有量は、重合性液晶組成物に用いる重合性液晶化合物の合計量のうち、１０〜１００質量％含有することが好ましく、１５〜８５質量％含有することがより好ましく２０〜８０質量％含有することが特に好ましい。塗膜の硬さを重視する場合には下限値を３０質量％以上にすることが好ましく、５０質量％以上にすることがより好ましく、光学異方体の配向性を重視する場合には上限値を８５質量％以下とすることが好ましく、８０質量％以下とすることがより好ましい。
（多官能重合性液晶化合物）
３つ以上の重合性官能基を有する多官能重合性液晶化合物としては、３つの重合性官能基を有する化合物を用いることが好ましい。前記一般式（ＩＩ）で表される化合物のうち、分子内に３個の重合性官能基を有する多官能重合性液晶化合物として、下記一般式（ＩＩ−２−３）で表される化合物が好ましい。
【０１０４】
【化３０】
2017183682.tif 000031
【０１０５】
式中、Ｐ２、Ｓｐ１、Ｘ１、ｑ１、ＭＧ、Ｘ２、Ｓｐ２、ｑ２、Ｐ３、Ｘ３、ｑ４、Ｓｐ３、ｑ３、Ｐ４は、それぞれ、上記一般式（ＩＩ）の定義と同じものを表す。一般式（ＩＩ−２−３）の例として、下記一般式（ＩＩ−２−３−１）〜（ＩＩ−２−３−８）で表される化合物を挙げることができるが、下記の一般式に限定されるわけではない。
【０１０６】
【化３１】
2017183682.tif 000032
【０１０７】
【化３２】
2017183682.tif 000033
【０１０８】
式中、Ｐ２、Ｓｐ１、Ｘ１、ｑ１、ＭＧ、Ｘ２、Ｓｐ２、ｑ２、Ｐ３、Ｘ３、ｑ４、Ｓｐ３、ｑ３、Ｐ４は、それぞれ、上記一般式（ＩＩ）の定義と同じものを表し、
Ｂ１１、Ｂ１２、Ｂ１３、Ｂ２、Ｂ３は、上記一般式（ＩＩ−ｂ）のＢ１〜Ｂ３の定義と同じものを表し、それぞれ、同一であっても、異なっていても良く、
Ｚ１１、Ｚ１２、Ｚ１３、Ｚ２は、上記一般式（ＩＩ−ｂ）のＺ１〜Ｚ３の定義と同じものを表し、それぞれ、同一であっても、異なっていても良い。
【０１０９】
上記一般式（ＩＩ−２−３−１）〜（ＩＩ−２−３−８）で表される化合物としては、以下の式（ＩＩ−２−３−１−１）〜式（ＩＩ−２−３−１−６）で表される化合物を例示されるが、これらに限定される訳ではない。
【０１１０】
【化３３】
2017183682.tif 000034
【０１１１】
【化３４】
2017183682.tif 000035
【０１１２】
式中、Ｒｆ、Ｒｇ及びＲｈは、それぞれ独立して水素原子又はメチル基を表し、Ｒｉ、Ｒｊ及びＲｋはそれぞれ独立して水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、シアノ基を表し、これらの基が炭素数１〜６のアルキル基、あるいは炭素数１〜６のアルコキシ基の場合、全部が未置換であるか、あるいは１つまたは２つ以上のハロゲン原子により置換されていてもよく、上記環状基は、置換基として１個以上のＦ、Ｃｌ、ＣＦ3、ＯＣＦ3、ＣＮ基、炭素原子数１〜８のアルキル基、炭素原子数１〜８のアルコキシ基、炭素原子数１〜８のアルカノイル基、炭素原子数１〜８のアルカノイルオキシ基、炭素原子数１〜８のアルコキシカルボニル基、炭素原子数２〜８のアルケニル基、炭素原子数２〜８のアルケニルオキシ基、炭素原子数２〜８のアルケノイル基、炭素原子数２〜８のアルケノイルオキシ基を有していても良い。
ｍ４〜ｍ９はそれぞれ独立して０〜１８の整数を表し、ｎ４〜ｎ９はそれぞれ独立して０又は１を表す。
【０１１３】
３個以上の重合性官能基を有する多官能重合性液晶化合物は、１種又は２種以上用いることができる。
【０１１４】
分子内に３個以上の重合性官能基を有する多官能重合性液晶化合物の合計含有量は、重合性液晶組成物に用いる重合性液晶化合物の合計量のうち、０〜８０質量％含有することが好ましく、０〜６０質量％含有することがより好ましく、０〜４０質量％含有することが特に好ましい。光学異方体の剛直性を重視する場合には、下限値を１０質量％以上にすることが好ましく、２０質量％以上にすることがより好ましく、３０質量％以上にすることが特に好ましく、一方、低硬化収縮性を重視する場合には上限値を５０質量％以下とすることが好ましく、３５質量％以下とすることがより好ましく、２０質量％以下とすることが特に好ましい。
（重合性液晶化合物の複数種併用）
本発明の重合性液晶組成物には、上記重合性液晶化合物を複数種混合して用いることが好ましい。上記少なくとも１種以上の単官能重合性液晶化合物と、少なくとも１種以上の２官能重合性液晶化合物及び／又は多官能重合性液晶化合物を併用して用いると得られる光学異方体の硬化性が向上し、かつ基材との密着性も良好となるため好ましく、少なくとも１種以上の単官能重合性液晶化合物と、少なくとも１種以上の２官能重合性液晶化合物を併用することがより好ましい。中でも、本発明の重合性液晶組成物を用いて光学異方体とした時に、より硬化性を向上させたい場合、２官能重合性液晶化合物として、化合物中に３つ以上の環構造を有する上記（ＩＩ−２−２−２）〜（ＩＩ−２−２−４）から選択される化合物を用いて重合性液晶化合物の混合物とすることが好ましく、化合物中に３つの環構造を有する上記（ＩＩ−２−１−２）で表される化合物及び、上記（ＩＩ−２−２−２）で表される化合物を併用した混合物とすることが特に好ましい。
【０１１５】
上記単官能重合性液晶化合物と２官能重合性液晶化合物との合計量は、重合性液晶組成物に用いる重合性液晶化合物の合計量のうち、７０質量％〜１００質量％とすることが好ましく、８０質量％〜１００質量％とすることが特に好ましい。
（その他の液晶化合物）
また、本発明の液晶組成物には、重合性基を有さないメソゲン基を含有する化合物を添加しても良く、通常の液晶デバイス、例えばＳＴＮ（スーパー・ツイステッド・ネマチック）液晶や、ＴＮ（ツイステッド・ネマチック）液晶、ＴＦＴ（薄膜トランジスター）液晶等に使用される化合物が挙げられる。
【０１１６】
重合性官能基を有さないメソゲン基を含有する化合物は、具体的には以下の一般式（５）で表される化合物が好ましい。
【０１１７】
【化３５】
2017183682.tif 000036
【０１１８】
ＭＧ３で表されるメソゲン基又はメソゲン性支持基は、一般式（５−ｂ）
【０１１９】
【化３６】
2017183682.tif 000037
【０１２０】
（式中、Ａ１ｄ、Ａ２ｄ及びＡ３ｄはそれぞれ独立的に、１，４−フェニレン基、１，４−シクロヘキシレン基、１，４−シクロヘキセニル基、テトラヒドロピラン−２，５−ジイル基、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル基、テトラヒドロチオピラン−２，５−ジイル基、１，４−ビシクロ（２，２，２）オクチレン基、デカヒドロナフタレン−２，６−ジイル基、ピリジン−２，５−ジイル基、ピリミジン−２，５−ジイル基、ピラジン−２，５−ジイル基、チオフェン−２，５−ジイル基−、１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル基、２，６−ナフチレン基、フェナントレン−２，７−ジイル基、９，１０−ジヒドロフェナントレン−２，７−ジイル基、１，２，３，４，４ａ，９，１０ａ−オクタヒドロフェナントレン−２，７−ジイル基、１，４−ナフチレン基、ベンゾ［１，２−ｂ：４，５−ｂ‘］ジチオフェン−２，６−ジイル基、ベンゾ［１，２−ｂ：４，５−ｂ‘］ジセレノフェン−２，６−ジイル基、［１］ベンゾチエノ［３，２−ｂ］チオフェン−２，７−ジイル基、［１］ベンゾセレノフェノ［３，２−ｂ］セレノフェン−２，７−ジイル基、又はフルオレン−２，７−ジイル基を表し、置換基として１個以上のＦ、Ｃｌ、ＣＦ３、ＯＣＦ３、ＣＮ基、炭素原子数１〜８のアルキル基、アルコキシ基、アルカノイル基、アルカノイルオキシ基、炭素原子数２〜８のアルケニル基、アルケニルオキシ基、アルケノイル基、アルケノイルオキシ基を有していても良く、
Ｚ０ｄ、Ｚ１ｄ、Ｚ２ｄ及びＺ３ｄはそれぞれ独立して、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ２  ＣＨ２−、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ＝ＣＨＣＯＯ−、−ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＯＯ−、−ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＯ−、−ＣＯＯＣＨ２ＣＨ２−、−ＯＣＯＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＯＮＨ−、−ＮＨＣＯ−、炭素数２〜１０のハロゲン原子を有してもよいアルキレン基又は単結合を表し、
ｎｅは０、１又は２を表し、
Ｒ５１及びＲ５２はそれぞれ独立して水素原子、ハロゲン原子、シアノ基又は炭素原子数１〜１８のアルキル基を表すが、該アルキル基は１つ以上のハロゲン原子又はＣＮにより置換されていても良く、この基中に存在する１つのＣＨ２基又は隣接していない２つ以上のＣＨ２基はそれぞれ相互に独立して、酸素原子が相互に直接結合しない形で、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−Ｎ（ＣＨ３）−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＯＯ−、−ＳＣＯ−、−ＣＯＳ−又は−Ｃ≡Ｃ−により置き換えられていても良い。）で表される化合物が挙げられる。
【０１２１】
具体的には、以下に示されるが、これらに限定される訳ではない。
【０１２２】
【化３７】
2017183682.tif 000038
【０１２３】
【化３８】
2017183682.tif 000039
【０１２４】
Ｒａ及びＲｂはそれぞれ独立して水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、炭素数１〜６のアルケニル基、シアノ基を表し、これらの基が炭素数１〜６のアルキル基、あるいは炭素数１〜６のアルコキシ基の場合、全部が未置換であるか、あるいは１つまたは２つ以上のハロゲン原子により置換されていてもよい。
【０１２５】
メソゲン基を有する化合物の総含有量は、重合性液晶組成物の総量に対して０質量％以上２０質量％以下であることが好ましく、用いる場合は、１質量％以上であることが好ましく、２質量％以上であることが好ましく、５質量％以上であることが好ましく、また、１５質量％以下であることが好ましく、１０質量％以下であることが好ましい。
（その他の成分）
（キラル化合物）
本発明における重合性液晶組成物には、上記一般式（ＩＩ）に示す重合性化合物以外の液晶性を示してもよく、非液晶性であってもよい、重合性キラル化合物を含有することもできる。
【０１２６】
本発明に使用する重合性キラル化合物としては、重合性官能基を１つ以上有することが好ましい。このような化合物としては、例えば、特開平１１−１９３２８７号公報、特開２００１−１５８７８８号公報、特表２００６−５２６６９号公報、特開２００７−２６９６３９号公報、特開２００７−２６９６４０号公報、２００９−８４１７８号公報等に記載されているような、イソソルビド、イソマンニット、グルコシド等のキラルな糖類を含み、かつ、１，４−フェニレン基１，４−シクロヘキレン基等の剛直な部位と、ビニル基、アクリロイル基、（メタ）アクリロイル基、また、マレイミド基といった重合性官能基を有する重合性キラル化合物、特開平８−２３９６６６号公報に記載されているような、テルペノイド誘導体からなる重合性キラル化合物、ＮＡＴＵＲＥ  ＶＯＬ３５  ４６７〜４６９ページ（１９９５年１１月３０日発行）、ＮＡＴＵＲＥ  ＶＯＬ３９２  ４７６〜４７９ページ（１９９８年４月２日発行）等に記載されているような、メソゲン基とキラル部位を有するスペーサーからなる重合性キラル化合物、あるいは特表２００４−５０４２８５号公報、特開２００７−２４８９４５号公報に記載されているような、ビナフチル基を含む重合性キラル化合物が挙げられる。中でも、らせんねじれ力（ＨＴＰ）の大きなキラル化合物が、本発明の重合性液晶組成物に好ましい。
【０１２７】
重合性キラル化合物の配合量は、化合物の螺旋誘起力によって適宜調整することが必要であるが、重合性液晶組成物の内、０〜２５質量％含有することが好ましく、０〜２０質量％含有することがより好ましく、０〜１５質量％含有することが特に好ましい。
【０１２８】
重合性キラル化合物の一般式の一例として、一般式（３−１）〜（３−４）を挙げることができるが、下記の一般式に限定されるわけではない。
【０１２９】
【化３９】
2017183682.tif 000040
【０１３０】
式中、Ｓｐ３ａ、及び、Ｓｐ３ｂはそれぞれ独立して炭素原子数０〜１８のアルキレン基を表し、該アルキレン基は１つ以上のハロゲン原子、ＣＮ基、又は重合性官能基を有する炭素原子数１〜８のアルキル基により置換されていても良く、この基中に存在する１つのＣＨ2基又は隣接していない２つ以上のＣＨ2基はそれぞれ相互に独立して、酸素原子が相互に直接結合しない形で、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−Ｎ（ＣＨ３）−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＯＯ−、−ＳＣＯ−、−ＣＯＳ−又は−Ｃ≡Ｃ−により置き換えられていても良く、
Ａ１、Ａ２、Ａ３、Ａ４、及びＡ５はそれぞれ独立して、１，４−フェニレン基、１，４−シクロヘキシレン基、１，４−シクロヘキセニル基、テトラヒドロピラン−２，５−ジイル基、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル基、テトラヒドロチオピラン−２，５−ジイル基、１，４−ビシクロ（２，２，２）オクチレン基、デカヒドロナフタレン−２，６−ジイル基、ピリジン−２，５−ジイル基、ピリミジン−２，５−ジイル基、ピラジン−２，５−ジイル基、チオフェン−２，５−ジイル基−、１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル基、２，６−ナフチレン基、フェナントレン−２，７−ジイル基、９，１０−ジヒドロフェナントレン−２，７−ジイル基、１，２，３，４，４ａ，９，１０ａ−オクタヒドロフェナントレン−２，７−ジイル基、１，４−ナフチレン基、ベンゾ［１，２−ｂ：４，５−ｂ‘］ジチオフェン−２，６−ジイル基、ベンゾ［１，２−ｂ：４，５−ｂ‘］ジセレノフェン−２，６−ジイル基、［１］ベンゾチエノ［３，２−ｂ］チオフェン−２，７−ジイル基、［１］ベンゾセレノフェノ［３，２−ｂ］セレノフェン−２，７−ジイル基、又はフルオレン−２，７−ジイル基を表し、n、ｌ及びｋはそれぞれ独立して、０又は１を表し、０≦ｎ＋ｌ＋ｋ≦３となり、
Ｚ０、Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３、Ｚ４、Ｚ５、及び、Ｚ６はそれぞれ独立して、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ2 ＣＨ2−、−ＯＣＨ2−、−ＣＨ2Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ＝ＣＨＣＯＯ−、−ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ2ＣＨ2ＣＯＯ−、−ＣＨ2ＣＨ2ＯＣＯ−、−ＣＯＯＣＨ2ＣＨ2−、−ＯＣＯＣＨ2ＣＨ2−、−ＣＯＮＨ−、−ＮＨＣＯ−、炭素数２〜１０のハロゲン原子を有してもよいアルキル基又は単結合を表し、
ｎ５、及び、ｍ５はそれぞれ独立して０又は１を表し、
Ｒ３ａ及びＲ３ｂは、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基又は炭素原子数１〜１８のアルキル基を表すが、該アルキル基は１つ以上のハロゲン原子又はＣＮにより置換されていても良く、この基中に存在する１つのＣＨ2基又は隣接していない２つ以上のＣＨ2基はそれぞれ相互に独立して、酸素原子が相互に直接結合しない形で、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−Ｎ（ＣＨ３）−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＯＯ−、−ＳＣＯ−、−ＣＯＳ−又は−Ｃ≡Ｃ−により置き換えられていても良く、
あるいはＲ３ａ及びＲ３ｂは一般式（３−ａ）
【０１３１】
【化４０】
2017183682.tif 000041
【０１３２】
（式中、Ｐ３ａは重合性官能基を表し、Ｓｐ３ａはＳｐ１と同じ意味を表す。）
Ｐ３ａは、下記の式（Ｐ−１）から式（Ｐ−２０）で表される重合性基から選ばれる置換基を表すのが好ましい。
【０１３３】
【化４１】
2017183682.tif 000042
【０１３４】
これらの重合性官能基のうち、重合性および保存安定性を高める観点から、式（Ｐ−１）又は式（Ｐ−２）、（Ｐ−７）、（Ｐ−１２）、（Ｐ−１３）が好ましく、式（Ｐ−１）、（Ｐ−７）、（Ｐ−１２）がより好ましい。
【０１３５】
重合性キラル化合物の具体的例としては、化合物（３−５）〜（３−２５）の化合物を挙げることができるが、下記の化合物に限定されるものではない。
【０１３６】
【化４２】
2017183682.tif 000043
【０１３７】
【化４３】
2017183682.tif 000044
【０１３８】
【化４４】
2017183682.tif 000045
【０１３９】
【化４５】
2017183682.tif 000046
【０１４０】
式中、ｍ、ｎ、ｋ、ｌはそれぞれ独立して１〜１８の整数を表し、Ｒ１〜Ｒ４はそれぞれ独立して水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、カルボキシ基、シアノ基を示す。これらの基が炭素数１〜６のアルキル基、あるいは炭素数１〜６のアルコキシ基の場合、全部が未置換であるか、あるいは１つまたは２つ以上のハロゲン原子により置換されていてもよい。
（重合性ディスコチック化合物）
本発明の重合性液晶組成物において、重合性液晶化合物として液晶性を示す重合性ディスコチック液晶化合物を用いることもできる。また、本発明の重合性液晶組成物には、非液晶性の重合性ディスコチック化合物を含有することもできる。
【０１４１】
本発明に使用する重合性ディスコチック化合物としては、重合性官能基を１つ以上有することが好ましい。このような化合物としては、例えば、特開平７−２８１０２８号公報、特開平７−２８７１２０号公報、特開平７−３３３４３１号公報、特開平８−２７２８４号公報に記載されているような重合性化合物が挙げられる。
【０１４２】
前記重合性液晶化合物である液晶性を示す重合性ディスコチック液晶化合物としては、以下の一般式（ＩＩＩ）で表される化合物が挙げられる。
【０１４３】
【化４６】
2017183682.tif 000047
【０１４４】
（式中、Ｒ７はそれぞれ独立して一般式（ＩＩＩ−ａ）で表される置換基を表す。
【０１４５】
【化４７】
2017183682.tif 000048
【０１４６】
（式中、Ｒ９およびＲ１０はそれぞれ独立的に水素原子、ハロゲン原子又はメチル基を表し、Ｒ８は炭素原子数１〜２０のアルコキシ基を表すが、該アルコキシ基中の水素原子は一般式（ＩＩＩ−ｂ）、一般式（ＩＩＩ−ｃ）、又は一般式（ＩＩＩ−ｄ）で表される置換基によって置換されていても良く、一般式（ＩＩＩ）中に存在するＲ８の少なくとも１つは、一般式（ＩＩＩ−ｂ）、一般式（ＩＩＩ−ｃ）、又は一般式（ＩＩＩ−ｄ）で表される置換基によって置換されている。）
【０１４７】
【化４８】
2017183682.tif 000049
【０１４８】
（式中、Ｒ８１、Ｒ８２、Ｒ８３、Ｒ８４、Ｒ８５、Ｒ８６、Ｒ８７、Ｒ８８及びＲ８９はそれぞれ独立的に水素原子、ハロゲン原子又は炭素原子数１〜５のアルキル基を表し、ｎ１は０又は１を表す。））
前記一般式（ＩＩＩ）中に存在するＲ８の少なくとも１つは、一般式（ＩＩＩ−ｂ）、一般式（ＩＩＩ−ｃ）、又は一般式（ＩＩＩ−ｄ）で表される置換基によって置換されているが、前記一般式（ＩＩＩ）中に存在するすべてのＲ８は、それぞれ独立して一般式（ＩＩＩ−ｂ）、一般式（ＩＩＩ−ｃ）、又は一般式（ＩＩＩ−ｄ）で表される置換基によって置換されていることが好ましい。
【０１４９】
また、前記一般式（ＩＩＩ−ａ）で表される置換基は、具体的には一般式(ＩＩＩ−e)で表される置換基が好ましい。
【０１５０】
【化４９】
2017183682.tif 000050
【０１５１】
（式中n２は１〜１８の整数を表す。）
前記一般式（ＩＩＩ）で表される化合物として、下記一般式（ＩＩＩ−１）、一般式（ＩＩＩ−２）で表される化合物を好適な化合物として挙げられる。
【０１５２】
【化５０】
2017183682.tif 000051
【０１５３】
（一般式（ＩＩＩ−１）、一般式（ＩＩＩ−２）中、ｎは１〜１８の整数を表す。）
重合性液晶化合物として液晶性を示す重合性ディスコチック液晶化合物は、１種又は２種以上用いることができる。
【０１５４】
重合性液晶化合物として重合性ディスコチック液晶化合物のみを用いることもできるし、重合性棒状液晶化合物と重合性ディスコチック液晶化合物を併用することもできる。
【０１５５】
重合性液晶化合物として重合性棒状液晶化合物と重合性ディスコチック液晶化合物を併用する場合、液晶性を示す重合性ディスコチック液晶化合物の合計含有量は、重合性液晶組成物に用いる重合性液晶化合物の合計量のうち、５〜９５質量％含有することが好ましく、１０〜９０質量％含有することがより好ましく、２０〜８０質量％含有することが特に好ましい。
【０１５６】
その他の重合性ディスコチック化合物の一般式の一例として、一般式（４−１）〜（４−３）を挙げることができるが、下記の一般式に限定されるわけではない。
【０１５７】
【化５１】
2017183682.tif 000052
【０１５８】
式中、Ｓｐ４は炭素原子数０〜１８のアルキレン基を表し、該アルキレン基は１つ以上のハロゲン原子、ＣＮ基、又は重合性官能基を有する炭素原子数１〜８のアルキル基により置換されていても良く、この基中に存在する１つのＣＨ2基又は隣接していない２つ以上のＣＨ2基はそれぞれ相互に独立して、酸素原子が相互に直接結合しない形で、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−Ｎ（ＣＨ３）−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＯＯ−、−ＳＣＯ−、−ＣＯＳ−又は−Ｃ≡Ｃ−により置き換えられていても良く、
Ｚ４ａは、−ＣＯ−、−ＣＨ2 ＣＨ2−、−ＣＨ2Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨＣＯＯ−、−ＣＨ2ＣＨ2ＣＯＯ−、−ＣＨ2ＣＨ2ＯＣＯ−、−ＣＯＣＨ2ＣＨ2−、炭素数２〜１０のハロゲン原子を有してもよいアルキル基又は単結合を表し、
Ｒ４は、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基又は炭素原子数１〜１８のアルキル基を表すが、該アルキル基は１つ以上のハロゲン原子又はＣＮにより置換されていても良く、この基中に存在する１つのＣＨ2基又は隣接していない２つ以上のＣＨ2基はそれぞれ相互に独立して、酸素原子が相互に直接結合しない形で、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−Ｎ（ＣＨ３）−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＯＯ−、−ＳＣＯ−、−ＣＯＳ−又は−Ｃ≡Ｃ−により置き換えられていても良く、
あるいはＲ４は一般式（４−ａ）
【０１５９】
【化５２】
2017183682.tif 000053
【０１６０】
（式中、Ｐ４ａは重合性官能基を表し、Ｓｐ３ａはＳｐ１と同じ意味を表す。）
Ｐ４ａは、下記の式（Ｐ−１）から式（Ｐ−２０）で表される重合性基から選ばれる置換基を表すのが好ましい。
【０１６１】
【化５３】
2017183682.tif 000054
【０１６２】
これらの重合性官能基のうち、重合性および保存安定性を高める観点から、式（Ｐ−１）又は式（Ｐ−２）、（Ｐ−７）、（Ｐ−１２）、（Ｐ−１３）が好ましく、式（Ｐ−１）、（Ｐ−７）、（Ｐ−１２）がより好ましい。
【０１６３】
重合性ディスコチック化合物の具体的例としては、化合物（４−４）〜（４−６）の化合物を挙げることができるが、下記の化合物に限定されるものではない。
【０１６４】
【化５４】
2017183682.tif 000055
【０１６５】
【化５５】
2017183682.tif 000056
【０１６６】
一般式（４−４）〜一般式（４−６）中、ｎは１〜１８の整数を表す。
（有機溶剤）
本発明における重合性液晶組成物に有機溶剤を添加してもよい。用いる有機溶剤としては特に限定はないが、重合性液晶化合物が良好な溶解性を示す有機溶剤が好ましく、１００℃以下の温度で乾燥できる有機溶剤であることが好ましい。そのような溶剤としては、例えば、トルエン、キシレン、クメン、メシチレン等の芳香族系炭化水素、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶剤、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン等のケトン系溶剤、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン、アニソール等のエーテル系溶剤、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、等のアミド系溶剤、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、γ−ブチロラクトン及びクロロベンゼン等が挙げられる。これらは、単独で使用することもできるし、２種類以上混合して使用することもできるが、ケトン系溶剤、エーテル系溶剤、エステル系溶剤及び芳香族炭化水素系溶剤のうちのいずれか１種類以上を用いることが溶液安定性の点から好ましい。
【０１６７】
本発明に用いられる組成物は有機溶媒の溶液とすると基板に対して塗布することができ、重合性液晶組成物に用いる有機溶剤の比率は、塗布した状態を著しく損なわない限りは特に制限はないが、重合性液晶組成物中に含有する有機溶剤の合計量が１０〜９５質量％であることが好ましく、１２〜９０質量％であることが更に好ましく、１５〜８５質量％であることが特に好ましい。
【０１６８】
有機溶剤に重合性液晶組成物を溶解する際には、均一に溶解させるために、加熱攪拌することが好ましい。加熱攪拌時の加熱温度は、用いる組成物の有機溶剤に対する溶解性を考慮して適宜調節すればよいが、生産性の点から１５℃〜１１０℃が好ましく、１５℃〜１０５℃がより好ましく、１５℃〜１００℃がさらに好ましく、２０℃〜９０℃とするのが特に好ましい。
【０１６９】
また、溶媒を添加する際には分散攪拌機により攪拌混合することが好ましい。分散攪拌機として具体的には、ディスパー、プロペラ、タービン翼等攪拌翼を有する分散機、ペイントシェイカー、遊星式攪拌装置、振とう機、シェーカー又はロータリーエバポレーター等が使用できる。その他には、超音波照射装置が使用できる。
【０１７０】
溶媒を添加する際の攪拌回転数は、用いる攪拌装置により適宜調整することが好ましいが、均一な重合性液晶組成物溶液とするために攪拌回転数を１０ｒｐｍ〜１０００ｒｐｍとするのが好ましく、５０ｒｐｍ〜８００ｒｐｍとするのがより好ましく、１５０ｒｐｍ〜６００ｒｐｍとするのが特に好ましい。
（重合禁止剤）
本発明における重合性液晶組成物には、重合禁止剤を添加することが好ましい。重合禁止剤としては、フェノール系化合物、キノン系化合物、アミン系化合物、チオエーテル系化合物、ニトロソ化合物、等が挙げられる。
【０１７１】
フェノール系化合物としては、ｐ−メトキシフェノール、クレゾール、ｔ−ブチルカテコール、３．５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシトルエン、２．２'−メチレンビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２．２'−メチレンビス（４−エチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、４．４'−チオビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、４−メトキシ−１−ナフトール、４，４’−ジアルコキシ−２，２’−ビ−１−ナフトール、等が挙げられる。
【０１７２】
キノン系化合物としては、ヒドロキノン、メチルヒドロキノン（ＭＥＨＱ）、ｔｅｒｔ−ブチルヒドロキノン、ｐ−ベンゾキノン、メチル−ｐ−ベンゾキノン、ｔｅｒｔ−ブチル−ｐ−ベンゾキノン、２，５−ジフェニルベンゾキノン、２−ヒドロキシ−１，４−ナフトキノン、１，４−ナフトキノン、２，３−ジクロロ−１，４−ナフトキノン、アントラキノン、ジフェノキノン等が挙げられる。
【０１７３】
アミン系化合物としては、ｐ−フェニレンジアミン、４−アミノジフェニルアミン、Ｎ．Ｎ'−ジフェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−ｉ−プロピル−Ｎ'−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−（１．３−ジメチルブチル）−Ｎ'−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ．Ｎ'−ジ−２−ナフチル−ｐ−フェニレンジアミン、ジフェニルアミン、Ｎ−フェニル−β−ナフチルアミン、４．４'−ジクミル−ジフェニルアミン、４．４'−ジオクチル−ジフェニルアミン等が挙げられる。
【０１７４】
チオエーテル系化合物としては、フェノチアジン、ジステアリルチオジプロピオネート等が挙げられる。
【０１７５】
ニトロソ系化合物としては、Ｎ−ニトロソジフェニルアミン、Ｎ−ニトロソフェニルナフチルアミン、Ｎ−ニトロソジナフチルアミン、ｐ−ニトロソフェノール、ニトロソベンゼン、ｐ−ニトロソジフェニルアミン、α−ニトロソ−β−ナフトール等、Ｎ、Ｎ−ジメチルｐ−ニトロソアニリン、ｐ−ニトロソジフェニルアミン、ｐ−ニトロンジメチルアミン、ｐ−ニトロン−Ｎ、Ｎ−ジエチルアミン、Ｎ−ニトロソエタノールアミン、Ｎ−ニトロソジ−ｎ−ブチルアミン、Ｎ−ニトロソ−Ｎ−ｎ−ブチル−４−ブタノールアミン、Ｎ−ニトロソ−ジイソプロパノールアミン、Ｎ−ニトロソ−Ｎ−エチル−４−ブタノールアミン、５−ニトロソ−８−ヒドロキシキノリン、Ｎ−ニトロソモルホリン、Ｎ−二トロソーＮ−フェニルヒドロキシルアミンアンモニウム塩、二トロソベンゼン、２，４．６−トリーｔｅｒｔ−ブチルニトロンベンゼン、Ｎ−ニトロソ−Ｎ−メチル−ｐ−トルエンスルホンアミド、Ｎ−ニトロソ−Ｎ−エチルウレタン、Ｎ−ニトロソ−Ｎ−ｎ−プロピルウレタン、１−ニトロソ−２−ナフトール、２−ニトロソー１−ナフトール、１−ニトロソ−２−ナフトール−３，６−スルホン酸ナトリウム、２−ニトロソ−１−ナフトール−４−スルホン酸ナトリウム、２−ニトロソ−５−メチルアミノフェノール塩酸塩、２−ニトロソ−５−メチルアミノフェノール塩酸塩等が挙げられる。
【０１７６】
重合禁止剤の添加量は重合性液晶組成物に対して０．０１〜１．０質量％であることが好ましく、０．０５〜０．５質量％であることがより好ましい。
（酸化防止剤）
本発明における重合性液晶組成物の安定性を高めるため、酸化防止剤等を添加することが好ましい。そのような化合物として、ヒドロキノン誘導体、ニトロソアミン系重合禁止剤、ヒンダードフェノール系酸化防止剤等が挙げられ、より具体的には、tert−ブチルハイドロキノン、メチルハイドロキノン、和光純薬工業株式会社製の「Ｑ−１３００」、「Ｑ−１３０１」、ＢＡＳＦ社の「ＩＲＧＡＮＯＸ１０１０」、「ＩＲＧＡＮＯＸ１０３５」、「ＩＲＧＡＮＯＸ１０７６」、「ＩＲＧＡＮＯＸ１０９８」、「ＩＲＧＡＮＯＸ１１３５」、「ＩＲＧＡＮＯＸ１３３０」、「ＩＲＧＡＮＯＸ１４２５」、「ＩＲＧＡＮＯＸ１５２０」、「ＩＲＧＡＮＯＸ１７２６」、「ＩＲＧＡＮＯＸ２４５」、「ＩＲＧＡＮＯＸ２５９」、「ＩＲＧＡＮＯＸ３１１４」、「ＩＲＧＡＮＯＸ３７９０」、「ＩＲＧＡＮＯＸ５０５７」、「ＩＲＧＡＮＯＸ５６５」等々があげられる。
【０１７７】
酸化防止剤の添加量は重合性液晶組成物に対して０．０１〜２．０質量％であることが好ましく、０．０５〜１．０質量％であることがより好ましい。
（光重合開始剤）
本発明における重合性液晶組成物は光重合開始剤を含有することが好ましい。光重合開始剤は少なくとも１種類以上含有することが好ましい。具体的には、ＢＡＳＦジャパン株式会社製の「イルガキュア６５１」、「イルガキュア１８４」、「イルガキュア９０７」、「イルガキュア１２７」、「イルガキュア３６９」、「イルガキュア３７９」、「イルガキュア８１９」、「イルガキュア２９５９」、「イルガキュア１８００」、「イルガキュア２５０」、「イルガキュア７５４」、「イルガキュア７８４」、「イルガキュアＯＸＥ０１」、「イルガキュアＯＸＥ０２」、「ルシリンＴＰＯ」、「ダロキュア１１７３」、「ダロキュアＭＢＦ」やＬＡＭＢＳＯＮ社製の「エサキュア１００１Ｍ」、「エサキュアＫＩＰ１５０」、「スピードキュアＢＥＭ」、「スピードキュアＢＭＳ」、「スピードキュアＭＢＰ」、「スピードキュアＰＢＺ」、「スピードキュアＩＴＸ」、「スピードキュアＤＥＴＸ」、「スピードキュアＥＢＤ」、「スピードキュアＭＢＢ」、「スピードキュアＢＰ」や日本化薬株式会社製の「カヤキュアＤＭＢＩ」、日本シイベルヘグナー株式会社製(現ＤＫＳＨジャパン株式会社)の「ＴＡＺ−Ａ」、株式会社ＡＤＥＫＡ製の「アデカオプトマーＳＰ−１５２」、「アデカオプトマーＳＰ−１７０」、「アデカオプトマーＮ−１４１４」、「アデカオプトマーＮ−１６０６」、「アデカオプトマーＮ−１７１７」、「アデカオプトマーＮ−１９１９」等が挙げられる。
【０１７８】
光重合開始剤の使用量は重合性液晶組成物に対して０．１〜１０質量％が好ましく、０．５〜７質量％が特に好ましい。これらは、単独で使用することもできるし、２種類以上混合して使用することもでき、また、増感剤等を添加しても良い。
（熱重合開始剤）
本発明における重合性液晶組成物には、光重合開始剤とともに、熱重合開始剤を併用してもよい。具体的には、和光純薬工業株式会社製の「Ｖ−４０」、「ＶＦ−０９６」、日本油脂株式会社（現日油株式会社）の「パーへキシルＤ」、「パーへキシルＩ」等が挙げられる。
【０１７９】
熱重合開始剤の使用量は重合性液晶組成物に対して０．１〜１０質量％が好ましく、０．５〜５質量％が特に好ましい。これらは、単独で使用することもできるし、２種類以上混合して使用することもできる。
（界面活性剤）
本発明における重合性液晶組成物は、光学異方体とした場合の膜厚むらを低減させるために、本発明の効果を損なわない範囲で更に界面活性剤を少なくとも１種類以上含有してもよい。含有することができる界面活性剤としては、アルキルカルボン酸塩、アルキルリン酸塩、アルキルスルホン酸塩、フルオロアルキルカルボン酸塩、フルオロアルキルリン酸塩、フルオロアルキルスルホン酸塩、ポリオキシエチレン誘導体、フルオロアルキルエチレンオキシド誘導体、ポリエチレングリコール誘導体、アルキルアンモニウム塩、フルオロアルキルアンモニウム塩類等をあげることができ、特に含フッ素界面活性剤が好ましい。
【０１８０】
具体的には、「メガファック  Ｆ−２５１」、「メガファック  Ｆ−４４４」、「メガファック  Ｆ−４７７」、「メガファック  Ｆ−５１０」、「メガファック  Ｆ−５５２」、「メガファック  Ｆ−５５３」、「メガファック  Ｆ−５５４」、「メガファック  Ｆ−５５５」、「メガファック  Ｆ−５５６」、「メガファック  Ｆ−５５７」、「メガファック  Ｆ−５５８」、「メガファック  Ｆ−５５９」、「メガファック  Ｆ−５６０」、「メガファック  Ｆ−５６１」、「メガファック  Ｆ−５６２」、「メガファック  Ｆ−５６３」、「メガファック  Ｆ−５６５」、「メガファック  Ｆ−５６７」、「メガファック  Ｆ−５６８」、「メガファック  Ｆ−５６９」、「メガファック  Ｆ−５７０」、「メガファック  Ｆ−５７１」、「メガファック  Ｒ−４０」、「メガファック  Ｒ−４１」、「メガファック  Ｒ−４３」、「メガファック  Ｒ−９４」、「メガファック  ＲＳ−７２−Ｋ」、「メガファック  ＲＳ−７５」、「メガファック  ＲＳ−７６−Ｅ」、「メガファック  ＲＳ−９０」、（以上、ＤＩＣ株式会社製）、
「フタージェント１００」、「フタージェント１００Ｃ」、「フタージェント１１０」、「フタージェント１５０」、「フタージェント１５０ＣＨ」、「フタージェントＡ」、「フタージェント１００Ａ-Ｋ」、「フタージェント５０１」、「フタージェント３００」、「フタージェント３１０」、「フタージェント３２０」、「フタージェント４００ＳＷ」、「ＦＴＸ-４００Ｐ」、「フタージェント２５１」、「フタージェント２１５Ｍ」、「フタージェント２１２ＭＨ」、「フタージェント２５０」、「フタージェント２２２Ｆ」、「フタージェント２１２Ｄ」、「ＦＴＸ-２１８」、「ＦＴＸ-２０９Ｆ」、「ＦＴＸ-２１３Ｆ」、「ＦＴＸ-２３３Ｆ」、「フタージェント２４５Ｆ」、「ＦＴＸ-２０８Ｇ」、「ＦＴＸ-２４０Ｇ」、「ＦＴＸ-２０６Ｄ」、「ＦＴＸ-２２０Ｄ」、「ＦＴＸ-２３０Ｄ」、「ＦＴＸ-２４０Ｄ」、「ＦＴＸ-２０７Ｓ」、「ＦＴＸ-２１１Ｓ」、「ＦＴＸ-２２０Ｓ」、「ＦＴＸ-２３０Ｓ」、「ＦＴＸ-７５０ＦＭ」、「ＦＴＸ-７３０ＦＭ」、「ＦＴＸ-７３０ＦＬ」、「ＦＴＸ-７１０ＦＳ」、「ＦＴＸ-７１０ＦＭ」、「ＦＴＸ-７１０ＦＬ」、「ＦＴＸ-７５０ＬＬ」、「ＦＴＸ-７３０ＬＳ」、「ＦＴＸ-７３０ＬＭ」、「ＦＴＸ-７３０ＬＬ」、「ＦＴＸ-７１０ＬＬ」（以上、株式会社ネオス製）、
「ＢＹＫ−３００」、「ＢＹＫ−３０２」、「ＢＹＫ−３０６」、「ＢＹＫ−３０７」、「ＢＹＫ−３１０」、「ＢＹＫ−３１５」、「ＢＹＫ−３２０」、「ＢＹＫ−３２２」、「ＢＹＫ−３２３」、「ＢＹＫ−３２５」、「ＢＹＫ−３３０」、「ＢＹＫ−３３１」、「ＢＹＫ−３３３」、「ＢＹＫ−３３７」、「ＢＹＫ−３４０」、「ＢＹＫ−３４４」、「ＢＹＫ−３４４０」、「ＢＹＫ−３７０」、「ＢＹＫ−３７５」、「ＢＹＫ−３７７」、「ＢＹＫ−３５０」、「ＢＹＫ−３５２」、「ＢＹＫ−３５４」、「ＢＹＫ−３５５」、「ＢＹＫ−３５６」、「ＢＹＫ−３５８Ｎ」、「ＢＹＫ−３６１Ｎ」、「ＢＹＫ−３５７」、「ＢＹＫ−３９０」、「ＢＹＫ−３９２」、「ＢＹＫ−ＵＶ３５００」、「ＢＹＫ−ＵＶ３５１０」、「ＢＹＫ−ＵＶ３５７０」、「ＢＹＫ−Ｓｉｌｃｌｅａｎ３７００」（以上、ビックケミー・ジャパン社製）、
「ＴＥＧＯ Ｒａｄ２１００」、「ＴＥＧＯ Ｒａｄ２２００Ｎ」、「ＴＥＧＯ Ｒａｄ２２５０」、「ＴＥＧＯ Ｒａｄ２３００」、「ＴＥＧＯ Ｒａｄ２５００」、「ＴＥＧＯ Ｒａｄ２６００」、「ＴＥＧＯ Ｒａｄ２７００」（以上、テゴ社製）
「Ｎ２１５」、「Ｎ５３５」、「Ｎ６０５Ｋ」、「Ｎ９３５」（以上、ソルベイソレクシス社製）等の例をあげることができる。
【０１８１】
界面活性剤の添加量は重合性組成物に対して、０．０１〜２質量％であることが好ましく、０．０５〜０．５質量％であることがより好ましい。
【０１８２】
また、上記界面活性剤を使用することで、本発明の重合性液晶組成物を光学異方体とした場合、空気界面のチルト角を効果的に減じることができる。
【０１８３】
本発明における重合性液晶組成物は、本発明の効果を損なわない範囲で光学異方体とした場合の空気界面のチルト角を効果的に減じる効果を持つ、下記一般式（７）で表される繰り返し単位を有する重量平均分子量が１００以上である化合物が挙げられる。
【０１８４】
【化５６】
2017183682.tif 000057
【０１８５】
式中、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３及びＲ１４はそれぞれ独立的に水素原子、ハロゲン原子又は炭素原子数１〜２０の炭化水素基を表し、該炭化水素基中の水素原子は１つ以上のハロゲン原子で置換されていても良い。
【０１８６】
一般式（７）で表される好適な化合物として、例えばポリエチレン、ポリプロピレン、ポリイソブチレン、パラフィン、流動パラフィン、塩素化ポリプロピレン、塩素化パラフィン、塩素化流動パラフィン等を挙げることができる。
【０１８７】
一般式（７）で表される化合物の添加量は重合性液晶組成物に対して、０．０１〜１質量％であることが好ましく、０．０５〜０．５質量％であることがより好ましい。
（その他の添加剤）
更に物性調整のため、目的に応じて、液晶性のない重合性化合物、チキソ剤、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、抗酸化剤、表面処理剤等の添加剤を液晶の配向能を著しく低下させない程度添加することができる。
（光学異方体の製造方法）
（光学異方体）
本発明の重合性液晶組成物を用いて作製した光学異方体は、基材、必要に応じて配向膜、及び、重合性液晶組成物の重合体を順次積層したものである。
（基材）
本発明の光学異方体に用いられる基材は、液晶デバイス、ディスプレイ、光学部品や光学フィルムに通常使用する基材であって、本発明の重合性液晶組成物の塗布後の乾燥時における加熱に耐えうる耐熱性を有する材料であれば、特に制限はない。そのような基材としては、ガラス基材、金属基材、セラミックス基材やプラスチック基材等の有機材料が挙げられる。特に基材が有機材料の場合、セルロース誘導体、ポリオレフィン、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリアクリレート（アクリル樹脂）、ポリアリレート、ポリエーテルサルホン、ポリイミド、ポリフェニレンスルフィド、ポリフェニレンエーテル、ナイロン又はポリスチレン等が挙げられる。中でもポリエステル、ポリスチレン、ポリアクリレート、ポリオレフィン、セルロース誘導体、ポリアリレート、ポリカーボネート等のプラスチック基材が好ましく、ポリアクリレート、ポリオレフィン、セルロース誘導体等の基材がさらに好ましく、ポリオレフィンとしてＣＯＰ（シクロオレフィンポリマー）を用い、セルロース誘導体としてＴＡＣ（トリアセチルセルロース）を用い、ポリアクリレートとしてＰＭＭＡ（ポリメチルメタクリレート）を用いることが特に好ましい。基材の形状としては、平板の他、曲面を有するものであっても良い。これらの基材は、必要に応じて、電極層、反射防止機能、反射機能を有していてもよい。
【０１８８】
本発明の重合性液晶組成物の塗布性や接着性向上のために、これらの基材の表面処理を行っても良い。表面処理として、オゾン処理、プラズマ処理、コロナ処理、シランカップリング処理などが挙げられる。また、光の透過率や反射率を調節するために、基材表面に有機薄膜、無機酸化物薄膜や金属薄膜等を蒸着など方法によって設ける、あるいは、光学的な付加価値をつけるために、基材がピックアップレンズ、ロッドレンズ、光ディスク、位相差フィルム、光拡散フィルム、カラーフィルター、等であっても良い。中でも付加価値がより高くなるピックアップレンズ、位相差フィルム、光拡散フィルム、カラーフィルターは好ましい。
（配向処理）
また、上記基材には、本発明の重合性液晶組成物を塗布乾燥した際に重合性液晶組成物が配向するように、通常配向処理が施されている、あるいは配向膜が設けられていても良い。配向処理としては、延伸処理、ラビング処理、偏光紫外可視光照射処理、イオンビーム処理等が挙げられる。配向膜を用いる場合、配向膜は公知慣用のものが用いられる。そのような配向膜としては、ポリイミド、ポリシロキサン、ポリアミド、ポリビニルアルコール、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリフェニレンエーテル、ポリアリレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリエーテルサルホン、エポキシ樹脂、エポキシアクリレート樹脂、アクリル樹脂、クマリン化合物、カルコン化合物、シンナメート化合物、フルギド化合物、アントラキノン化合物、アゾ化合物、アリールエテン化合物等の化合物が挙げられる。ラビングにより配向処理する化合物は、配向処理、もしくは配向処理の後に加熱工程を入れることで材料の結晶化が促進されるものが好ましい。ラビング以外の配向処理を行う化合物の中では光配向材料を用いることが好ましい。
【０１８９】
本発明において、上記基材や、配向膜等を用いた配向処理した膜を合わせて基質と呼ぶことがある。
（塗布）
本発明の光学異方体を得るための塗布法としては、アプリケーター法、バーコーティング法、スピンコーティング法、ロールコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、フレキソコーティング法、インクジェット法、ダイコーティング法、キャップコーティング法、ディップコーティング法、スリットコーティング法等、公知慣用の方法を行うことができる。重合性液晶組成物を基質に塗布後、必要に応じて乾燥させる。
（重合工程）
本発明の重合性液晶組成物の重合操作については、重合性液晶組成物中の液晶化合物が基質に対して水平配向、垂直配向、又はハイブリッド配向、あるいはコレステリック配向（平面配向）した状態で一般に紫外線等の光照射、あるいは加熱によって行われる。重合を光照射で行う場合は、具体的には３９０ｎｍ以下の紫外光を照射することが好ましく、２５０〜３７０ｎｍの波長の光を照射することが最も好ましい。但し、３９０ｎｍ以下の紫外光により重合性液晶組成物が分解などを引き起こす場合は、３９０ｎｍ以上の紫外光で重合処理を行ったほうが好ましい場合もある。この光は、拡散光で、かつ偏光していない光であることが好ましい。
（重合方法）
本発明の重合性液晶組成物を重合させる方法としては、活性エネルギー線を照射する方法や熱重合法等が挙げられるが、加熱を必要とせず、室温で反応が進行することから活性エネルギー線を照射する方法が好ましく、中でも、操作が簡便なことから、紫外線等の光を照射する方法が好ましい。
【０１９０】
照射時の温度は、本発明の重合性液晶組成物が液晶相を保持できる温度とし、重合性液晶組成物の熱重合の誘起を避けるため、可能な限り４０℃以下とすることが好ましい。尚、液晶組成物は、通常、昇温過程において、Ｃ（固相）−Ｎ（ネマチック）転移温度（以下、Ｃ−Ｎ転移温度と略す。）から、Ｎ−Ｉ転移温度範囲内で液晶相を示す。一方、降温過程においては、熱力学的に非平衡状態を取るため、Ｃ−Ｎ転移温度以下でも凝固せず液晶状態を保つ場合がある。この状態を過冷却状態という。本発明においては、過冷却状態にある液晶組成物も液晶相を保持している状態に含めるものとする。具体的には３９０ｎｍ以下の紫外光を照射することが好ましく、２５０〜３７０ｎｍの波長の光を照射することが最も好ましい。但し、３９０ｎｍ以下の紫外光により重合性組成物が分解などを引き起こす場合は、３９０ｎｍ以上の紫外光で重合処理を行ったほうが好ましい場合もある。この光は、拡散光で、かつ偏光していない光であることが好ましい。紫外線照射強度は、０．０５ｋＷ／ｍ２〜１０ｋＷ／ｍ２の範囲が好ましい。特に、０．２ｋＷ／ｍ２〜２ｋＷ／ｍ２の範囲が好ましい。紫外線強度が０．０５ｋＷ／ｍ２未満の場合、重合を完了させるのに多大な時間がかかる。一方、２ｋＷ／ｍ２を超える強度では、重合性液晶組成物中の液晶分子が光分解する傾向にあることや、重合熱が多く発生して重合中の温度が上昇し、重合性液晶のオーダーパラメーターが変化して、重合後のフィルムのリタデーションに狂いが生じる可能性がある。
【０１９１】
マスクを使用して特定の部分のみを紫外線照射で重合させた後、該未重合部分の配向状態を、電場、磁場又は温度等をかけて変化させ、その後該未重合部分を重合させると、異なる配向方向をもった複数の領域を有する光学異方体を得ることもできる。
【０１９２】
また、マスクを使用して特定の部分のみを紫外線照射で重合させる際に、予め未重合状態の重合性液晶組成物に電場、磁場又は温度等をかけて配向を規制し、その状態を保ったままマスク上から光を照射して重合させることによっても、異なる配向方向をもった複数の領域を有する光学異方体を得ることができる。
【０１９３】
本発明の重合性液晶組成物を重合させて得られる光学異方体は、基板から剥離して単体で光学異方体として使用することも、基板から剥離せずにそのまま光学異方体として使用することもできる。特に、他の部材を汚染し難いので、被積層基板として使用したり、他の基板に貼り合わせて使用したりするときに有用である。
（熱分解性基を有する重合体の焼成処理）
本発明の重合性液晶組成物を用いて塗布工程、重合工程を経て作製した光学異方体は、１８０〜３００℃の環境下において加熱する工程（焼成処理）を必要とする。フッ素原子及び／又はケイ素原子を含有する熱分解性基を有する重合体が光学異方体の表面に偏析した状態である当該光学異方体を加熱すると、フッ素原子及び／又はケイ素原子を含有する熱分解性基部分が光学異方体に含まれる重合体から脱離し、成膜表面の撥水性と撥油性が低下する。このような現象の結果として重合性液晶組成物からなる成膜上にさらにその他の膜を積層しやすくなり、容易に積層体を得ることができる。熱分解性基を有する重合体に結合する熱分解性基部分を脱離するためには、１８０〜３００℃で３０分間焼成処理することが好ましく、２００〜２５０℃で３０分間焼成処理することがより好ましい。
（位相差膜）
本発明の位相差膜は、本発明の光学異方体と同様にして作成される。得られる位相差膜は、ホモジニアス液晶フィルム等として使用することができる。液晶デバイス、ディスプレイ、光学素子、光学部品、着色剤、セキュリティ用マーキング、レーザー発光用部材、光学フィルム、及び、補償フィルム等の用途に応じて、用途に適した形で形成される。
【０１９４】
そのような位相差膜としては、例えば、基材に対して棒状液晶性化合物が実質的に水平配向したポジティブＡプレート、基材に対して円盤状液晶性化合物が垂直に一軸配向したネガティブＡプレート、基材に対して棒状液晶性化合物が実質的に垂直に配向したポジティブＣプレート、基材に対して棒状液晶性化合物がコレステリック配向、あるいは、円盤状液晶性化合物が水平に一軸配向したネガティブＣプレート、二軸性プレート、基材に対して棒状液晶性化合物がハイブリッド配向したポジティブＯプレート、基材に対して円盤状液晶性化合物がハイブリッド配向したネガティブＯプレートの配向モードを適用できる。液晶表示素子に用いた場合は、視野角依存性を改善するものであれば、特に限定なく様々な配向モードが適用できる。
【０１９５】
例えば、ポジティブＡプレート、ネガティブＡプレート、ポジティブＣプレート、ネガティブＣプレート、二軸性プレート、ポジティブＯプレート、ネガティブＯプレートの配向モードを適用できる。その中でも、ポジティブＡプレート及びネガティブＣプレートを使用することが好ましい。更に、ポジティブＡプレート及びネガティブＣプレートを積層することがより好ましい。
【０１９６】
ここで、ポジティブＡプレートとは、重合性液晶組成物をホモジニアス配向させた、光学異方体を意味する。また、ネガティブＣプレートとは、重合性液晶組成物をコレステリック配向させた、光学異方体を意味する。
【０１９７】
位相差フィルムを利用した液晶セルでは、偏光軸直交性の視野角依存を補償して視野角を広げるため、第１の位相差層として、ポジティブＡプレートを使用することが好ましい。ここで、ポジティブＡプレートは、フィルムの面内遅相軸方向の屈折率をｎｘ、フィルムの面内進相軸方向の屈折率をｎｙ、フィルムの厚み方向の屈折率をｎｚとしたときに、「ｎｘ＞ｎｙ＝ｎｚ」の関係となる。ポジティブＡプレートとしては、波長５５０ｎｍにおける面内位相差値が３０〜５００ｎｍの範囲にあるものが好ましい。また、厚み方向位相差値は特に限定されない。Ｎｚ係数は、０．９〜１．１の範囲が好ましい。
【０１９８】
また、液晶分子自体の複屈折を打ち消すために、第２の位相差層としては負の屈折率異方性を有する、いわゆるネガティブＣプレートを使用することが好ましい。また、ポジティブＡプレート上にネガティブＣプレートを積層してもよい。
【０１９９】
ここで、ネガティブＣプレートは、位相差層の面内遅相軸方向の屈折率をｎｘ、位相差層の面内進相軸方向の屈折率をｎｙ、位相差層の厚み方向の屈折率をｎｚとしたときに、「ｎｘ＝ｎｙ＞ｎｚ」の関係となる位相差層である。ネガティブＣプレートの厚み方向位相差値は２０〜４００ｎｍの範囲が好ましい。
【０２００】
なお、厚み方向の屈折率異方性は、下記式（２）により定義される厚み方向位相差値Ｒｔｈで表される。厚み方向位相差値Ｒｔｈは、面内位相差値Ｒ０、遅相軸を傾斜軸として５０°傾斜して測定した位相差値Ｒ５０、フィルムの厚みｄ、フィルムの平均屈折率ｎ０を用いて、式（１）と次式（４）〜（７）から数値計算によりｎｘ、ｎｙ、ｎｚを求め、これらを式（２）に代入して算出することができる。また、Ｎｚ係数＝は、式（３）から算出することができる。以下、本明細書の他の記載において同様である。
【０２０１】
Ｒ０＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ                  （１）
Ｒｔｈ＝［（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ］×ｄ    （２）
Ｎｚ係数＝（ｎｘ−ｎｚ）／（ｎｘ−ｎｙ）    （３）
Ｒ５０＝（ｎｘ−ｎｙ’）×ｄ／ｃｏｓ（φ）                    （４）
（ｎｘ＋ｎｙ＋ｎｚ）／３＝ｎ０                              （５）
ここで、
φ＝ｓｉｎ−１［ｓｉｎ（５０°）／ｎ０］                      （６）
ｎｙ’＝ｎｙ×ｎｚ／［ｎｙ２×ｓｉｎ２（φ）＋ｎｚ２×ｃｏｓ２（φ）］１／２  （７）
市販の位相差測定装置では、ここに示した数値計算を装置内で自動的に行い、面内位相差値Ｒ０や厚み方向位相差値Ｒｔｈなどを自動的に表示するようになっているものが多い。このような測定装置としては、例えば、ＲＥＴＳ−１００（大塚化学（株）製）を挙げることができる。
（位相差パターニング膜）
本発明の位相差パターニング膜は、本発明の光学異方体同様に、基材、配向膜、及び、重合性液晶組成物の重合体を順次積層したものであるが、重合工程において、部分的に異なる位相差が得られるようにパターニングされたものである。パターニングは、線状のパターニング、格子状のパターニング、円状のパターニング、多角形状のパターニング等、異なる方向の場合もある。液晶デバイス、ディスプレイ、光学素子、光学部品、着色剤、セキュリティ用マーキング、レーザー発光用部材、光学フィルム、及び、補償フィルム等の用途に応じて、適用される。
【０２０２】
部分的に異なる位相差を得る方法としては、基材に配向膜を設け、配向処理する際に本発明の重合性液晶組成物を塗布乾燥した際に重合性液晶組成物がパターニング配向するように処理する。そのような配向処理は、微細ラビング処理、フォトマスクを介しての偏光紫外可視光照射処理、微細形状加工処理等が挙げられる。配向膜は、公知慣用のものが用いられる。そのような配向膜としては、ポリイミド、ポリシロキサン、ポリアミド、ポリビニルアルコール、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリフェニレンエーテル、ポリアリレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリエーテルサルホン、エポキシ樹脂、エポキシアクリレート樹脂、アクリル樹脂、クマリン化合物、カルコン化合物、シンナメート化合物、フルギド化合物、アントラキノン化合物、アゾ化合物、アリールエテン化合物等の化合物が挙げられる。微細ラビングにより配向処理する化合物は、配向処理、もしくは配向処理の後に加熱工程を入れることで材料の結晶化が促進されるものが好ましい。ラビング以外の配向処理を行う化合物の中では光配向材料を用いることが好ましい。
（輝度向上フィルム）
本発明の輝度向上フィルムは、λ／４板と、反射偏光子とを有する輝度向上フィルムであり、反射偏光子が、λ／４板側から第一の光反射層、第二の光反射層および第三の光反射層をこの順で含み、第一の光反射層、第二の光反射層および第三の光反射層がいずれもコレステリック液晶相を固定してなる光反射層であり、第一の光反射層、第二の光反射層および第三の光反射層のうち、いずれか一つが反射中心波長３８０〜４９９ｎｍかつ半値幅１００ｎｍ以下である反射率のピークを有する青色光反射層であり、いずれか一つが反射中心波長５００〜５９９ｎｍ、半値幅２００ｎｍ以下である反射率のピークを有する緑色光反射層であり、いずれか一つが反射中心波長６００〜７５０ｎｍ、半値幅１５０ｎｍ以下である反射率のピークを有する赤色光反射層であり、第一の光反射層のＲｔｈ（５５０）と第二の光反射層のＲｔｈ（５５０）の符号が逆であることを特徴とする。このような構成により、本発明の輝度向上フィルムは、液晶表示装置に組み込んだときに、輝度が高く、斜め色味変化を抑制できる。
（コレステリック反射膜）
本発明のコレステリック反射膜は、プレーナー配向した重合性液晶組成物の硬化物によって構成されるこれ捨てリック反射膜であって、該重合性液晶組成物が、重合性官能基を１つのみ有し、トラン骨格を有する液晶化合物を１種又は２種以上含有し、重合性官能基を２つ以上有する液晶化合物を1種又は２種以上含有し、重合性官能基を１つ以上有するキラル化合物を１種又は２種以上含有し、重合開始剤を１種又は２種以上含有することを特徴とするものである。（反射防止膜）
本発明の反射防止膜は、偏光板に更に位相差板が積層されてなる円偏光板である。直線偏光を円偏光に変えたり、円偏光を直線偏光に変えたり、あるいは直線偏光の偏光方向を変える場合に、位相差板などが用いられる。特に、直線偏光を円偏光に変えたり、円偏光を直線偏光に変える位相差板としては、いわゆる１／４波長板（λ／４板とも言う）が用いられる。１／２波長板（λ／２板とも言う）は、通常、直線偏光の偏光方向を変える場合に用いられる。
【０２０３】
円偏光板は、例えば画像がカラー表示になる反射型液晶表示装置の画像の色調を整える場合などに有効に用いられ、また、反射防止の機能も有する。上記した位相差板としては、液晶ポリマーの配向フィルム、液晶ポリマーの配向層をフィルムにて支持したものなどが挙げられる。位相差板は、例えば各種波長板や液晶層の複屈折による着色や視角等の補償を目的としたものなどの使用目的に応じた適宜な位相差を有するものであってよく、２種以上の位相差板を積層して位相差等の光学特性を制御したものなどであってもよい。
（視野角補償膜）
本発明の視野角補償膜は、液晶表示装置の画面を、画面に垂直でなくやや斜めの方向から見た場合でも、画像が比較的鮮明にみえるように視野角を広げるための膜である。このような視野角補償膜としては、例えば位相差フィルム、液晶ポリマー等の配向フィルムや透明基材上に液晶ポリマー等の配向層を支持したものなどからなる。通常の位相差板は、その面方向に一軸に延伸された複屈折を有するポリマーフィルムや一軸配向した液晶ポリマー膜が用いられるのに対し、視野角補償膜として用いられる位相差板には、面方向に二軸に延伸された複屈折を有するポリマーフィルムとか、面方向に一軸に延伸され厚さ方向にも延伸された厚さ方向の屈折率を制御した複屈折を有するポリマーや傾斜配向フィルムのような二方向延伸フィルムなどが用いられる。傾斜配向フィルムとしては、例えば、液晶ポリマーを斜め配向させたものや重合性液晶を斜め配向させた状態で紫外線等の活性エネルギー線により重合したポリマー膜などが挙げられる。液晶セルによる位相差に基づく視認角の変化による着色等の防止や良視認の視野角の拡大などを目的とした適宜なものを用いる。
【０２０４】
また良視認の広い視野角を達成する点などより、液晶ポリマーの傾斜配向膜からなる光学的異方性層を光学フィルムにて支持した光学補償位相差板が好ましく用いられる。
（反射型偏光板）
本発明の反射型偏光板は、コレステリック反射膜、粘着層、直線偏光フィルムが順次積層された反射型偏光板であって、該コレステリック反射膜が前記本発明のコレステリック反射膜を用いるものである。また、反射型偏光板中に位相差膜を１つ以上有し、また、該位相差膜が位相差の異なる位相差膜を用いてもよい。位相差フィルムの積層は、得られた位相差膜に接着剤、あるいは、接着フィルムを貼り合わせた後、本発明のコレステリック反射フィルム、および、前記位相差膜を接着剤、あるいは、接着フィルムを介して貼合することによって得られる。接着剤、あるいは、接着フィルムを用いる場合、接着剤、接着フィルムは、光学フィルム用途の公知慣用のものが用いられる。
【実施例】
【０２０５】
以下に本発明を合成例、実施例、及び、比較例によって説明するが、もとより本発明はこれらに限定されるものではない。なお、特に断りのない限り、「部」及び「％」は質量基準である。
（含フッ素熱分解性重合体（Ｄ−１）の合成）
撹拌装置、温度計、冷却管、滴下装置を備えたガラスフラスコに、アクリル酸２６．８ｇと３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，８−トリデカフルオロ−１−ビニルオキシオクタン３０．０ｇとを仕込み、乾燥空気気流下、室温にて２１時間攪拌した。次いで、メトキノン０．００３ｇとジイソプロピルエーテル１０７．６ｇを加え、飽和炭酸ナトリウム水溶液１６１．４ｇ、イオン交換水１６１．４ｇを加えて分液した。次いで、上層を取り出した後、イオン交換水１６１．４ｇを加えて分液した。更に、上層を取り出した後、脱溶剤し、ブロック化されたカルボキシル基を有する重合性単量体を得た。【０２０６】
撹拌装置、温度計、冷却管、滴下装置を備えたガラスフラスコに、溶媒としてプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート５０ｇを仕込み、窒素気流下にて攪拌しながら８０℃に昇温した。次いで、前記ブロック化されたカルボキシル基を有する重合性単量体１７．５ｇ、プロピレングリコールポリブチレングリコールモノメタクリレート３２．５ｇをプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート４０ｇに溶解したモノマー溶液と、ラジカル重合開始剤として２，２’−アゾビス（イソ酪酸メチル）０．５ｇをプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート１７ｇに溶解した重合開始剤溶液との２種類の滴下液をそれぞれ別々の滴下装置にセットし、フラスコ内を８０℃に保ちながら同時に滴下を開始し、モノマー溶液を３時間、開始剤溶液を４時間かけてそれぞれ滴下した。滴下終了後、８０℃で１０時間攪拌した後、更にプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートを加え、本発明の含フッ素熱分解性樹脂（Ｄ−１）を２０質量％含有するプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶液を得た。得られた含フッ素熱分解性樹脂の分子量をＧＰＣ（ポリスチレン換算分子量）で測定した結果、数平均分子量２，９００、重量平均分子量２８，０００、最大分子量３００，０００であった。
（含シロキサン熱分解性重合体（Ｄ−２）の合成）
上記（Ｄ−１）化合物と同様な製造方法により、以下の実施例においては、式（Ｄ−２ａ）で表される重合性単量体を合成し、当該（Ｄ−２ａ）で表される重合性単量体とプロピレングリコールポリブチレングリコールモノメタクリレートとの重合体（Ｄ−２）（数平均分子量２，５００、重量平均分子量１５，０００、最大分子量１６０，０００）を使用した。【０２０７】
【化５７】
2017183682.tif 000058
【０２０８】
また、（Ｄ−３）〜（Ｄ−７）の化合物としては、以下の化合物を使用した。
ＢＹＫ−３５２（ビックケミー・ジャパン株式会社製）（Ｄ−３）
ＴＥＧＯＦＬＯＷ  ＺＦＳ−４６０（エボニック・ジャパン株式会社製）（Ｄ−４）
メガファック  Ｆ−５５４（ＤＩＣ株式会社製）（Ｄ−５）
メガファック  Ｆ−４４７（ＤＩＣ株式会社製）（Ｄ−６）
メガファック  ＲＳ−７５（ＤＩＣ株式会社製）（Ｄ−７）
（重合性液晶組成物（１）の調製）
表１に示す通り、式（Ａ-１）で表される化合物４０質量部、式（Ａ-２）で表される化合物４０質量部、式（Ａ-３）で表される化合物２０質量部の合計値１００質量部に対して、（Ｄ-１）の化合物０．１質量部、重合開始剤（Ｅ-１）５質量部、及び、パラーメトキシフェノール（ＭＥＨＱ）（Ｆ−１）０．１質量部用い、これらの化合物の全合計量が２０質量％となるように、有機溶媒であるシクロペンタノン（Ｈ−１）を用い、攪拌プロペラを有する攪拌装置を使用し、攪拌速度が３００ｒｐｍ、溶液温度が８０℃の条件下で１時間攪拌後、０．２μｍのメンブランフィルターで濾過して重合性液晶組成物（１）を得た。
（重合性液晶組成物（２）〜（２９）及び比較用重合性液晶組成物（Ｃ１）〜（Ｃ３）の調製）
本発明の重合性液晶組成物（１）の調製と同様に、表１に示す（Ａ−１）〜式（Ａ−１４）、式（Ｂ−１）〜式（Ｂ−１１）、式（Ｃ−１）〜式（Ｃ−５）、（Ｄ−１）〜（Ｄ−７）の化合物、（Ｅ−１）で表される化合物、（Ｅ−２）で表される化合物、（Ｆ−１）で表される化合物、（Ｆ−２）で表される化合物、式（Ｇ−１）で表される化合物の各化合物をそれぞれ表１〜表４に示す割合に変更し、有機溶媒であるシクロペンタノン（Ｈ−１）の配合割合をそれぞれ表１〜表４に示す割合に変更した以外は重合性液晶組成物（１）の調製と同一条件で、それぞれ、重合性液晶組成物（２）〜（２９）及び比較用重合性液晶組成物（Ｃ１）〜（Ｃ３）を得た。【０２０９】
表１〜表４に、本発明の重合性液晶組成物（１）〜（２９）及び比較用重合性液晶組成物（Ｃ１）〜（Ｃ３）の具体的な組成を示す。【０２１０】
【表１】
2017183682.tif 000059
【０２１１】
【表２】
2017183682.tif 000060
【０２１２】
【表３】
2017183682.tif 000061
【０２１３】
【表４】
2017183682.tif 000062
【０２１４】
【化５８】
2017183682.tif 000063
【０２１５】
【化５９】
2017183682.tif 000064
【０２１６】
【化６０】
2017183682.tif 000065
【０２１７】
【化６１】
2017183682.tif 000066
【０２１８】
【化６２】
2017183682.tif 000067
【０２１９】
【化６３】
2017183682.tif 000068
【０２２０】
【化６４】
2017183682.tif 000069
【０２２１】
【化６５】
2017183682.tif 000070
【０２２２】
イルガキュア９０７（ＢＡＳＦジャパン株式会社製）（Ｅ−１）
ルシリンＴＰＯ（ＢＡＳＦジャパン株式会社製）（Ｅ−２）
ＭＥＨＱ（和光純薬工業株式会社社製）（Ｆ−１）
ＩＲＧＡＮＯＸ−１０７６（ＢＡＳＦジャパン株式会社製）（Ｆ−２）【０２２３】
【化６６】
2017183682.tif 000071
【０２２４】
（重合性液晶組成物を用いた光学異方体の製造）
（実施例１）
配向膜用ポリイミド溶液を厚さ０．７ｍｍのガラス基材にスピンコート法を用いて塗布し、１００℃で１０分乾燥した後、２００℃で６０分焼成することによりポリイミド塗膜を得た。得られたポリイミド塗膜をラビング処理した。ラビング処理は、市販のラビング装置を用いて行った。【０２２５】
ラビングした基材に本発明の重合性液晶組成物（１）を室温でスピンコート法で塗布し、８０℃で２分乾燥し、室温で２分放置した。その後、コンベア式の高圧水銀ランプを使用して、ＵＶ光を５０ｍＷ／ｃｍ２の条件で１０秒照射することにより、塗膜の重合を行い、得られた塗膜表面のレベリング性及び濡れ性を以下の条件で測定した。【０２２６】
その後、前記重合して得られた塗膜０を２３０℃で３０分間焼成し、実施例１の塗膜１（位相差膜）を得た。また、得られた塗膜１の位相差（Ｒｅ）の測定を以下の条件で行った。また、得られた塗膜１表面の濡れ性を再度測定した。
＜レベリング性の評価＞
得られた塗膜０表面のレベリング性は、目視にて観察し、以下のとおり評価した。
○：目視観察で塗膜全面にハジキがなく、均一で平滑な面状態を有する。
△：目視観察で塗膜全面にハジキがないが、部分的に平滑でない面状態を有する。
×：目視観察で塗膜全面にハジキがあり、均一でない面状態を有する。
＜濡れ性の評価＞
得られた塗膜０及び塗膜１表面の濡れ性を水の接触角により以下の条件下で評価した。当該評価においては、水の接触角が低くなるほど濡れ性が良いことを表す。
（接触角の測定条件）塗膜０及び塗膜１の上に超純水を３μＬ滴下した。滴下後、3000ｍｓ後の写真を撮影し、撮影した液滴の画像から、θ／２法を用いて接触角を求めた。なお、測定装置としては、協和界面科学株式会社製「ＤｒｏｐＭａｓｔｅｒ５００」を用いた。
＜位相差（Ｒｅ（θr））の測定＞
得られた塗膜１のθr＝０°方向の位相差をＲＥＴＳ−１００で測定した。θrは塗膜面に対する入射光の角度であり、θｒ＝０°は塗膜に対して垂直方向を表し、θｒ＝±５０°は塗膜に対して垂直方向から５０°傾斜した方向を表す。【０２２７】
結果を以下の表に示す。【０２２８】
【表５】
2017183682.tif 000072
【０２２９】
【表６】
2017183682.tif 000073
【０２３０】
【表７】
2017183682.tif 000074
【０２３１】
（実施例２〜１８、比較例１〜２）
実施例１と同一条件で、重合性液晶組成物（２）〜（１８）、（Ｃ１）〜（Ｃ３）を用いて塗膜１（位相差膜）を作製した。また、実施例１と同一条件で、Ｒｅ（θｒ）、レベリング性、及び、濡れ性（焼成前、焼成後）を測定し、結果を実施例２〜１８、比較例１〜２とし、上記表５〜７に示す。
（実施例１９）
実施例１と同様に作製したラビングしたポリイミド塗膜が形成されたガラス基材に、本発明の重合性液晶組成物（１９）を室温でスピンコート法で塗布し、８０℃で２分乾燥し、室温で２分放置した。その後、コンベア式の高圧水銀ランプを使用して、ＵＶ光を５０ｍＷ／ｃｍ２の条件で１０秒照射することにより、塗膜の重合を行い、さらに前記重合して得られた塗膜を２３０℃で３０分間焼成し、厚さ５．０ミクロンのコレステリック反射膜である塗膜１を得た。【０２３２】
得られた塗膜１のＲｅ（θｒ）、レベリング性、及び、濡れ性（焼成前、焼成後）を実施例１と同一条件で測定した。また、得られた塗膜１の選択反射波長を分光光度計Ｕ−４１００（株式会社日立製作所製）を用いて測定したところ、偏光反射帯域は２６５ｎｍであった。【０２３３】
得られた結果を下表に示す。【０２３４】
【表８】
2017183682.tif 000075
【０２３５】
（実施例２０及び比較例３）
実施例１９と同一条件で、本発明の重合性液晶組成物（２０）及び比較用重合性液晶組成物（Ｃ３）を用いてコレステリック反射膜である塗膜１を作製した。また、実施例１９と同一条件で、Ｒｅ（θｒ）、レベリング性、濡れ性（焼成前、焼成後）、選択反射波長を測定し、結果を実施例２０、比較例３とし、上記表８に示す。【０２３６】
上記の結果のとおり、熱分解性基を有する重合体を含有する本発明の重合性液晶組成物を用いた塗膜は焼成後濡れ性が向上している。これは、塗膜の乾燥工程において熱分解性基を有する重合体が塗膜表面に偏析し、その後の焼成工程において、撥水性および撥油性を付与する当該重合体の熱分解性基部分が脱離したことによって、塗膜表面の表面エネルギーが上昇したためと考察される。一方、添加剤として従来用いられている界面活性剤を用いた比較例１〜３においては、塗膜の焼成前後の濡れ性に大きな差は見られず、焼成による特定部分の脱離及び、それに伴う塗膜表面の表面エネルギーの上昇はなかったと考察される。
（積層体の製造）
（実施例２１）
配向膜用ポリイミド溶液を厚さ０．７ｍｍのガラス基材にスピンコート法を用いて塗布し、１００℃で１０分乾燥した後、２００℃で６０分焼成することによりポリイミド塗膜を得た。得られたポリイミド塗膜をラビング処理した。ラビング処理は、市販のラビング装置を用いて行った。【０２３７】
ラビングしたポリイミド塗膜が形成されたガラス基材（基質：ラビングＰＩ付ガラス）に本発明の重合性液晶組成物（１）を室温でスピンコート法で塗布し、８０℃で２分乾燥し、室温で２分放置した。その後、コンベア式の高圧水銀ランプを使用して、ＵＶ光を５０ｍＷ／ｃｍ２の条件で１０秒照射することにより、塗膜の重合を行い、さらに前記重合して得られた塗膜を２３０℃で３０分間焼成し、厚さ０．６ミクロンのポジティプＡプレートである塗膜１（位相差膜）を得た。【０２３８】
次に、ポジティプＡプレートである塗膜１上に、調整した前記重合性液晶組成物（２１）を室温で、スピンコート法で塗布し、８０℃で２分乾燥し、室温で２分放置した。その後、コンベア式の高圧水銀ランプを使用して、ＵＶ光を５０ｍＷ／ｃｍ２の条件で１０秒照射することにより、塗膜の重合を行い、０．６ミクロンのポジティプＡプレートと厚さ４．０ミクロンのネガティブＣプレートがこの順に積層された塗膜２（位相差膜の積層体）を得た。得られた塗膜２表面のハジキを以下の条件で評価した。
＜ハジキの評価＞
得られた塗膜２のハジキは、目視にて観察し、以下のとおり評価した。
○：目視観察で塗膜全面にハジキが見られない。
△：目視観察で塗膜一部にハジキが見られる。
×：目視観察で塗膜全面にハジキが見られる。【０２３９】
結果を以下の表に示す。【０２４０】
【表９】
2017183682.tif 000076
【０２４１】
（実施例２２〜３２、比較例５及び比較例６）
実施例２１と同一条件で、重合性液晶組成物（２）〜（１０）、（Ｃ１）〜（Ｃ２）を用いてポジティブＡプレートである塗膜１を作製した。さらに、得られたポジティブＡプレートである塗膜１上に、実施例２１と同一条件で、重合性液晶組成物（２１）〜（２４）を用いて、ポジティブＡプレートとネガティブＣプレートがこの順に積層された塗膜２を作製した。塗膜１、塗膜２に用いた重合性液晶組成物及び、得られた結果を実施例２２〜３２、比較例５及び比較例６とし、上記表９に示す。
（実施例３３）
実施例２１とスピンコート条件を変えた以外は同一条件で、重合性液晶組成物（１）を用いて厚さ０．９ミクロンのポジティブＡプレートである塗膜１を作製した。次に、垂直配向膜用であるシランカップリング系材料（ＪＮＣ製：ＤＭＯＡＰ）をポジティブＡプレートである塗膜１上にスピンコート法で塗布し、１００℃で１時間焼成して、塗膜１上に垂直配向膜を形成した。得られた垂直配向膜上に重合性液晶組成物（２７）をスピンコート法で塗布し、８０℃で２分乾燥した。得られた塗膜を室温まで冷却した後、高圧水銀ランプを用いて、５０ｍＷ／ｃｍ２の強度で１０秒間紫外線を照射し、厚さ０．９ミクロンのポジティブＡプレートと厚さ１．０ミクロンのポジティブＣプレートがこの順で積層された塗膜２を作製した。得られた塗膜２表面のハジキを実施例２１と同様に確認したところ、目視観察で塗膜全面にハジキが見られなかった。【０２４２】
結果を以下の表に示す。【０２４３】
【表１０】
2017183682.tif 000077
【０２４４】
（実施例３４〜４２）
実施例３３と同一条件で、重合性液晶組成物（１）〜（５）、（７）〜（１０）を用いてポジティブＡプレートである塗膜１を作製した。さらに、得られたポジティブＡプレートである塗膜１上に、実施例３３と同一条件で、重合性液晶組成物（２７）及び（２８）を用いて、ポジティブＡプレートとポジティブＣプレートがこの順で積層された塗膜２を作製した。塗膜１、塗膜２に用いた重合性液晶組成物及び、得られた結果を実施例３４〜４２とし、上記表１０に示す。
（実施例４３）
実施例２１と同一条件で、重合性液晶組成物（２）を用いて厚さ０．９ミクロンのポジティブＡプレートである塗膜１を作製した。次に、ポジティブＡプレートである塗膜１上に、調整した前記重合性液晶組成物（２９）を室温で、スピンコート法で塗布し、８０℃で２分乾燥し、室温で２分放置した。その後、コンベア式の高圧水銀ランプを使用して、ＵＶ光を５０ｍＷ／ｃｍ２の条件で１０秒照射することにより、塗膜の重合を行い、厚さ０．９ミクロンのポジティブＡプレートと厚さ１．０ミクロンのポジティブＯプレートがこの順で積層された塗膜２を得た。得られた塗膜２表面のハジキを実施例３３と同様に確認したところ、目視観察で塗膜全面にハジキが見られなかった。
（実施例４４）
下記式（３０−１）で表される光配向材料（Ｍｗ：１０万〜３０万）５部をトルエン４７．５部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート４７．５部に溶解させ、溶液を得た。得られた溶液を０．４５μｍのメンブランフィルターでろ過し、光配向溶液（３０）を得た。【０２４５】
次に、実施例３３と同一条件で、重合性液晶組成物（１）を用いて厚みが０．９ミクロンのポジティブＡプレートである塗膜１を作製した。前記光配向溶液（３０）をポジティブＡプレートである塗膜１上にスピンコート法を用いて塗布し、８０℃で２分乾燥した後、直ぐに３１３ｎｍの直線偏光を１０ｍＷ／ｃｍ２の強度で２０秒間照射し、ポジティブＡプレートである塗膜１上に光配向膜（１）を形成した。得られた光配向膜（１）上に重合性液晶組成物（２５）をスピンコート法で塗布し、８０℃で２分乾燥した。得られた塗膜を室温まで冷却した後、高圧水銀ランプを用いて、５０ｍＷ／ｃｍ２の強度で１０秒間紫外線を照射し、厚みが０．９ミクロンのポジティブＡプレートと厚みが１．８ミクロンのポジティブＡプレートをこの順で積層した塗膜２を得た。この塗膜２は円偏光板として機能した。塗膜２表面のハジキを実施例３３と同様に確認したところ、目視観察で塗膜全面にハジキは見られなかった。【０２４６】
【化６７】
2017183682.tif 000078
【０２４７】
結果を以下の表に示す。【０２４８】
【表１１】
2017183682.tif 000079
【０２４９】
（実施例４５〜４８）
実施例４４と同一条件で、重合性液晶組成物（２）〜（３）及び（７）を用いて厚さ１．０ミクロンのポジティブＣプレートである塗膜１を作製した。得られた塗膜１上に、実施例４４と同一条件で、光配向膜（１）を形成し、さらに、重合性液晶組成物（２５）及び（２６）を用い、厚みが０．９ミクロンのポジティブＡプレートと厚みが１．８ミクロンのポジティブＡプレートをこの順で積層した塗膜２を作製した。この塗膜２は円偏光板として機能した。塗膜１、塗膜２に用いた重合性液晶組成物及び、得られた結果を実施例４５〜４８とし、上記表１１に示す。
（実施例４９）
垂直配向膜用であるシランカップリング系材料（ＪＮＣ製：ＤＭＯＡＰ）をガラス基板上にスピンコート法で塗布し、１００℃で１時間焼成して、ガラス基板上に垂直配向膜を形成した。得られた垂直配向膜上に重合性液晶組成物（１１）をスピンコート法で塗布し、８０℃で２分乾燥した。得られた塗膜を室温まで冷却した後、コンベア式の高圧水銀ランプを使用して、ＵＶ光を５０ｍＷ／ｃｍ２の強度で１０秒間紫外線を照射することにより塗膜の重合を行い、さらに前記重合して得られた塗膜を２３０℃で３０分間焼成し、厚み１．０ミクロンのポジティブＣプレートである塗膜１を得た。【０２５０】
次に、前記光配向溶液（３０）を塗膜１上にスピンコート法を用いて塗布し、８０℃で２分乾燥した後、直ぐに３１３ｎｍの直線偏光を１０ｍＷ／ｃｍ２の強度で２０秒間照射し、塗膜１上に光配向膜（１）を形成した。得られた光配向膜（１）上に重合性液晶組成物（２５）をスピンコート法で塗布し、８０℃で２分乾燥した。得られた塗膜を室温まで冷却した後、高圧水銀ランプを用いて、５０ｍＷ／ｃｍ２の強度で１０秒間紫外線を照射して厚み１．０ミクロンのポジティブＣプレートと厚み０．９ミクロンのポジティブＣプレートをこの順で積層した塗膜２を得た。得られた塗膜２表面のハジキを実施例２１と同様に評価した。
結果を以下の表に示す。【０２５１】
【表１２】
2017183682.tif 000080
【０２５２】
（実施例５０〜５６）
実施例４９と同一条件で、重合性液晶組成物（１１）〜（１５）を用いて厚さ１．０ミクロンのポジティブＣプレートである塗膜１を作製した。得られた塗膜１上に、実施例４４と同一条件で、光配向膜（１）を形成し、さらに、重合性液晶組成物（２５）及び（２６）を用い、厚みが１．０ミクロンのポジティブＣプレートと厚みが０．９ミクロンのポジティブＡプレートをこの順で積層した塗膜２を作製した。塗膜１、塗膜２に用いた重合性液晶組成物及び、得られた結果を実施例５０〜５６とし、上記表１２に示す。
（転写型偏光板積層体の製造）
（実施例５７）
垂直配向膜用であるシランカップリング系材料（ＪＮＣ製：ＤＭＯＡＰ）をガラス基板上にスピンコート法で塗布し、１００℃で１時間焼成して、ガラス基板上に垂直配向膜を形成した。得られた垂直配向膜上に重合性液晶組成物（１６）をスピンコート法で塗布し、８０℃で２分乾燥した。得られた塗膜を室温まで冷却した後、コンベア式の高圧水銀ランプを使用して、ＵＶ光を５０ｍＷ／ｃｍ２の強度で１０秒間紫外線を照射することにより塗膜の重合を行い、さらに前記重合して得られた塗膜を２３０℃で３０分間焼成し、厚さ０．５ミクロンのポジティブＯプレートである塗膜１を得た。【０２５３】
次に、塗膜１表面上に粘着材としてＤＡＩＴＡＣ  ＺＢ７０１０Ｗ−１５（ＤＩＣ株式会社製）を用い、偏光板を積層した。その後、ガラス基板を剥がし、塗膜１が積層した転写型視野角補償偏光板を得た。得られた転写型視野角補償偏光板（積層体）の耐熱剥離性について以下の条件にて評価を行った。
＜耐熱剥離性の評価＞
得られた積層体の剥離性は、８５℃５００時間の耐熱試験を実施し、以下のとおり評価した。
○：塗膜１と偏光板の間に剥離した箇所はない。
△：塗膜１と偏光板の間に若干剥離した箇所がある。
×：塗膜１と偏光板の間に一部剥離した箇所がある。【０２５４】
結果を以下の表に示す。【０２５５】
【表１３】
2017183682.tif 000081
【０２５６】
（実施例５８〜６０）
実施例５７と同様にして、重合性液晶組成物（１６）〜（１８）を用いて厚さ０．５ミクロンのハイブリッド配向層と偏光板の積層体である転写型視野角補償偏光板を得た。【０２５７】
得られた結果を上記の表１３に示す。
（反射型偏光板）
（実施例６１）
実施例２１と同様に作製したラビングしたポリイミド塗膜が形成されたガラス基材に、本発明の重合性液晶組成物（１９）を室温でスピンコート法で塗布し、８０℃で２分乾燥し、室温で２分放置した。その後、コンベア式の高圧水銀ランプを使用して、ＵＶ光を５０ｍＷ／ｃｍ２の条件で１０秒照射することにより、塗膜の重合を行い、さらに前記重合して得られた塗膜を２３０℃で３０分間焼成し、厚さ５．０ミクロンのコレステリック反射膜である塗膜１を得た。【０２５８】
次に、塗膜１表面上に粘着材としてＤＡＩＴＡＣ  ＺＢ７０１０Ｗ−１５（ＤＩＣ株式会社製）を用い、偏光板を積層した。その後、ガラス基板を剥がし、コレステリック反射膜が積層した反射型偏光板（積層体）を得た。得られた反射型偏光板の耐熱剥離性を実施例５７と同様に行った。【０２５９】
得られた結果を下表に示す。【０２６０】
【表１４】
2017183682.tif 000082
【０２６１】
（実施例６２、比較例６）
実施例６１と同様にして、本発明の重合性液晶組成物（２０）、比較用重合性液晶組成物（Ｃ３）を用いて厚さ５．０ミクロンのコレステリック反射膜が積層した反射型偏光板を得た。得られた反射型偏光板の耐熱剥離性を実施例５７と同様に行った。【０２６２】
得られた結果を上記の表１４に示す。【０２６３】
上記の結果のとおり、熱分解性基を有する重合体を含有する本発明の重合性液晶組成物を用いた塗膜１は塗膜上に更なる塗膜を積層した積層体とすることが可能であり、得られる積層体表面のレベリング性に優れ、また、耐熱剥離性も非常に高いことが明らかとなった。
【手続補正書】
【提出日】平成29年9月22日(2017.9.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも１種以上の下記一般式（Ｉ−１−１）又は一般式（Ｉ−１−２）
【化１】
2017183682.tif 000092
（一般式（Ｉ−１−１）及び一般式（Ｉ−１−２）中、Ｒ１、Ｒ２はそれぞれ独立して、水素原子あるいは直鎖状又は分岐状の炭素原子数１〜１８の有機基を表し、Ｙ１は酸素原子又は硫黄原子を表し、Ｒ４はフッ素原子及び／又はケイ素原子を有する有機基を表し、＊は結合部位を表す。）で表される構造単位を含有する熱分解性基を有する重合体、及び、重合性液晶化合物を含有する重合性液晶組成物。
【請求項２】
前記重合性液晶化合物が一般式（ＩＩ）
【化２】
2017183682.tif 000093
（式中、Ｐ２は重合性官能基を表し、
Ｓｐ１は炭素原子数１〜１８のアルキレン基を表し（該アルキレン基中の水素原子は１つ以上のハロゲン原子又はＣＮにより置換されていても良く、この基中に存在する１個のＣＨ2基又は隣接していない２個以上のＣＨ2基はそれぞれ相互に独立して、−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−又は−ＯＣＯ−Ｏ−により置き換えられていても良い。）、
Ｘ１は−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＳＣＨ２−、−ＣＨ２Ｓ−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＦ２Ｓ−、−ＳＣＦ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＯＣＯ−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−ＣＯＯ−、−ＣＨ２ＣＨ２−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ２−、−ＯＣＯ−ＣＨ２−、−ＣＨ２−ＣＯＯ−、−ＣＨ２−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＨ＝Ｎ−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−又は単結合を表し（ただし、Ｐ２−Ｓｐ１、及びＳｐ１−Ｘ１は、−Ｏ−Ｏ−、−Ｏ−ＮＨ−、−Ｓ−Ｓ−及び−Ｏ−Ｓ−基を含まない。）、
ｑ１は０又は１を表し、
ＭＧはメソゲン基を表し、
Ｒ２は、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、又は炭素原子数１から１２の直鎖又は分岐アルキル基を表し、該アルキル基は直鎖状であっても分岐していてもよく、該アルキル基は１個の−ＣＨ２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ２−が各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−によって置換されても良く、あるいは、Ｒ２は、一般式（ＩＩ−ａ）
【化３】
2017183682.tif 000094
（式中、Ｐ３は重合性官能基を表し、
Ｓｐ２は、Ｓｐ１で定義されたものと同一のものを表し、
Ｘ２は、Ｘ１で定義されたものと同一のものを表し（ただし、Ｐ３−Ｓｐ２、及びＳｐ２−Ｘ２は、−Ｏ−Ｏ−、−Ｏ−ＮＨ−、−Ｓ−Ｓ−及び−Ｏ−Ｓ−基を含まない。）、
ｑ２は０又は１を表す。）で表される基を表す。）
で表される化合物である、請求項１に記載の重合性液晶組成物。
【請求項３】
前記一般式（ＩＩ）において、ＭＧが一般式（ＩＩ−ｂ）
【化４】
2017183682.tif 000095
（式中、Ｂ１、Ｂ２及びＢ３はそれぞれ独立的に、１，４−フェニレン基、１，４−シクロヘキシレン基、１，４−シクロヘキセニル基、テトラヒドロピラン−２，５−ジイル基、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル基、テトラヒドロチオピラン−２，５−ジイル基、１，４−ビシクロ（２，２，２）オクチレン基、デカヒドロナフタレン−２，６−ジイル基、ピリジン−２，５−ジイル基、ピリミジン−２，５−ジイル基、ピラジン−２，５−ジイル基、チオフェン−２，５−ジイル基−、１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル基、２，６−ナフチレン基、フェナントレン−２，７−ジイル基、９，１０−ジヒドロフェナントレン−２，７−ジイル基、１，２，３，４，４ａ，９，１０ａ−オクタヒドロフェナントレン−２，７−ジイル基、１，４−ナフチレン基、ベンゾ［１，２−ｂ：４，５−ｂ‘］ジチオフェン−２，６−ジイル基、ベンゾ［１，２−ｂ：４，５−ｂ‘］ジセレノフェン−２，６−ジイル基、［１］ベンゾチエノ［３，２−ｂ］チオフェン−２，７−ジイル基、［１］ベンゾセレノフェノ［３，２−ｂ］セレノフェン−２，７−ジイル基、又はフルオレン−２，７−ジイル基を表し、置換基として１個以上のＦ、Ｃｌ、ＣＦ3、ＯＣＦ3、ＣＮ基、炭素原子数１〜８のアルキル基（当該アルキル基中の水素原子は、１つ以上のフェニル基により置換されていても良く、この基中に存在する１つのＣＨ2基又は隣接していない２つ以上のＣＨ2基はそれぞれ相互に独立して、−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−又は−ＯＣＯ−Ｏ−により置き換えられていても良い。）、アルコキシ基、アルカノイル基、アルカノイルオキシ基、炭素原子数２〜８のアルケニル基、アルケニルオキシ基、アルケノイル基、アルケノイルオキシ基、及び／又は一般式（ＩＩ−ｃ）
【化５】
2017183682.tif 000096
（式中、Ｐ４は重合性官能基を表し、
Ｓｐ３は、炭素原子数１〜１８のアルキレン基を表し、Ｘ３は、−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＨ2−、−ＣＨ2Ｏ−、−ＣＨ2ＣＨ2ＯＣＯ−、又は−ＣＨ2ＣＨ2ＣＯＯ−を表し、ｑ３は０又は１を表し、ｑ４は０又は１を表す。（ただし、Ｐ４−Ｓｐ３、及びＳｐ３−Ｘ３は、−Ｏ−Ｏ−、−Ｏ−ＮＨ−、−Ｓ−Ｓ−及び−Ｏ−Ｓ−基を含まない。））を有していても良く、
Ｚ１及びＺ２はそれぞれ独立して、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ2 ＣＨ2−、−ＯＣＨ2−、−ＣＨ2Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ＝ＣＨＣＯＯ−、−ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ2ＣＨ2ＣＯＯ−、−ＣＨ2ＣＨ2ＯＣＯ−、−ＣＯＯＣＨ2ＣＨ2−、−ＯＣＯＣＨ2ＣＨ2−、−ＣＯＮＨ−、−ＮＨＣＯ−、ハロゲン原子を有してもよい炭素原子数２〜１０のアルキル基又は単結合を表し、
ｒ１は０、１又は２を表し、Ｂ１、及びＺ１が複数存在する場合は、それぞれ、同一であっても、異なっていても良い。）で表される化合物である、請求項２に記載の重合性液晶組成物。
【請求項４】
前記一般式（ＩＩ）が、一般式（ＩＩ−２−２−２）
【化６】
2017183682.tif 000097
（式中、Ｐ２及びＰ３はそれぞれ独立して重合性官能基を表し、Ｓｐ１及びＳｐ２はそれぞれ独立して炭素原子数１〜１８のアルキレン基を表し（該アルキレン基中の水素原子は、１つ以上のハロゲン原子、ＣＮ基、又は重合性官能基を有する炭素原子数１〜８のアルキル基により置換されていても良く、この基中に存在する１つのＣＨ2基又は隣接していない２つ以上のＣＨ2基はそれぞれ相互に独立して、−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−又は−ＯＣＯ−Ｏ−により置き換えられていても良い。）、
Ｘ１及びＸ２はそれぞれ独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＳＣＨ２−、−ＣＨ２Ｓ−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＦ２Ｓ−、−ＳＣＦ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＯＣＯ−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−ＣＯＯ−、−ＣＨ２ＣＨ２−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ２−、−ＯＣＯ−ＣＨ２−、−ＣＨ２−ＣＯＯ−、−ＣＨ２−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＨ＝Ｎ−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−又は単結合を表し（ただし、Ｐ２−Ｓ１、及びＳ１−Ｘ１は、−Ｏ−Ｏ−、−Ｏ−ＮＨ−、−Ｓ−Ｓ−及び−Ｏ−Ｓ−基を含まない。）、ｑ１及びｑ２はそれぞれ独立して０又は１を表し、
Ｂ１１、Ｂ２及びＢ３はそれぞれ独立的に、１，４−フェニレン基、１，４−シクロヘキシレン基、１，４−シクロヘキセニル基、テトラヒドロピラン−２，５−ジイル基、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル基、テトラヒドロチオピラン−２，５−ジイル基、１，４−ビシクロ（２，２，２）オクチレン基、デカヒドロナフタレン−２，６−ジイル基、ピリジン−２，５−ジイル基、ピリミジン−２，５−ジイル基、ピラジン−２，５−ジイル基、チオフェン−２，５−ジイル基−、１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル基、２，６−ナフチレン基、フェナントレン−２，７−ジイル基、９，１０−ジヒドロフェナントレン−２，７−ジイル基、１，２，３，４，４ａ，９，１０ａ−オクタヒドロフェナントレン−２，７−ジイル基、１，４−ナフチレン基、ベンゾ［１，２−ｂ：４，５−ｂ‘］ジチオフェン−２，６−ジイル基、ベンゾ［１，２−ｂ：４，５−ｂ‘］ジセレノフェン−２，６−ジイル基、［１］ベンゾチエノ［３，２−ｂ］チオフェン−２，７−ジイル基、［１］ベンゾセレノフェノ［３，２−ｂ］セレノフェン−２，７−ジイル基、又はフルオレン−２，７−ジイル基を表し、置換基として１個以上のＦ、Ｃｌ、ＣＦ3、ＯＣＦ3、ＣＮ基、炭素原子数１〜８のアルキル基、炭素原子数１〜８のアルコキシ基、炭素原子数１〜８のアルカノイル基、炭素原子数１〜８のアルカノイルオキシ基、炭素原子数１〜８のアルコキシカルボニル基、炭素原子数２〜８のアルケニル基、炭素原子数２〜８のアルケニルオキシ基、炭素原子数２〜８のアルケノイル基、炭素原子数２〜８のアルケノイルオキシ基を有していても良く、Ｚ１１及びＺ２はそれぞれ独立して、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ2 ＣＨ2−、−ＯＣＨ2−、−ＣＨ2Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ＝ＣＨＣＯＯ−、−ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ2ＣＨ2ＣＯＯ−、−ＣＨ2ＣＨ2ＯＣＯ−、−ＣＯＯＣＨ2ＣＨ2−、−ＯＣＯＣＨ2ＣＨ2−、−Ｃ＝Ｎ−、−Ｎ＝Ｃ−、−ＣＯＮＨ−、−ＮＨＣＯ−、−Ｃ（ＣＦ３）２−、ハロゲン原子を有してもよい炭素原子数２〜１０のアルキル基又は単結合を表す。）で表される化合物からなる群より選ばれる少なくとも１種の化合物である請求項３に記載の重合性液晶組成物。
【請求項５】
前記重合性液晶化合物が一般式（ＩＩＩ）
【化７】
2017183682.tif 000098
（式中、Ｒ７はそれぞれ独立して一般式（ＩＩＩ−ａ）で表される置換基を表す。
【化８】
2017183682.tif 000099
（式中、Ｒ９及びＲ１０はそれぞれ独立的に水素原子、ハロゲン原子又はメチル基を表し、Ｒ８は炭素原子数１〜２０のアルコキシ基を表すが、該アルコキシ基中の水素原子は一般式（ＩＩＩ−ｂ）、一般式（ＩＩＩ−ｃ）、又は一般式（ＩＩＩ−ｄ）で表される置換基によって置換されていても良く、一般式（ＩＩＩ）中に存在するＲ８の少なくとも１つは、一般式（ＩＩＩ−ｂ）、一般式（ＩＩＩ−ｃ）、又は一般式（ＩＩＩ−ｄ）で表される置換基によって置換されている。）
【化９】
2017183682.tif 000100
（式中、Ｒ８１、Ｒ８２、Ｒ８３、Ｒ８４、Ｒ８５、Ｒ８６、Ｒ８７、Ｒ８８及びＲ８９はそれぞれ独立的に水素原子、ハロゲン原子又は炭素原子数１〜５のアルキル基を表し、ｎは０又は１を表す。））で表される化合物である、請求項１に記載の重合性液晶組成物。
【請求項６】
請求項１〜請求項５のいずれか一項に記載の重合性液晶組成物を重合させることにより得られる重合体。
【請求項７】
請求項１〜請求項５のいずれか一項に記載の重合性液晶組成物を用いてなる光学異方体。
【請求項８】
請求項１〜請求項５のいずれか一項に記載の重合性液晶組成物を用いてなる位相差膜。
【請求項９】
請求項１〜請求項５のいずれか一項に記載の重合性液晶組成物を用いてなる位相差パターニング膜。
【請求項１０】
請求項１〜請求項５のいずれか一項に記載の重合性液晶組成物を用いてなる輝度向上フィルム。
【請求項１１】
請求項１〜請求項５のいずれか一項に記載の重合性液晶組成物を用いてなる反射防止膜。
【請求項１２】
請求項１〜請求項５のいずれか一頁に記載の重合性液晶組成物を用いてなる視野角補償膜。
【請求項１３】
請求項８に記載の位相差膜にネガティブＣプレートを積層してなる位相差膜。
【請求項１４】
請求項８に記載の位相差膜にポジティブＣプレートを積層してなる位相差膜。
【請求項１５】
請求項８に記載の位相差膜にポジティブＡプレートを積層してなる位相差膜。
【国際調査報告】
2017183682.tif 000101
2017183682.tif 000102
2017183682.tif 000103
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