(57)【要約】【課題】  簡単な構成で基板の露光面全領域にわたって安定して結像できる露光技術の提供。【解決手段】  フレキシブルな帯状の基板を露光する露光装置は、光透過性の部材で形成され、平坦面を有する透過部を有し、平坦面の各々によって基板を挟持可能な第１および第２の挟持部と、第２の挟持部を、２つの挟持部が近づく方向および遠ざかる方向に移動させる第１の移動部と、第１の挟持部の側に位置固定された第１の露光部と、第２の挟持部の側に配置された第２の露光部と、基板の挟持状態において、２つの挟持部と２つの露光部とを相対移動させる第２の移動部とを備える。露光装置は、挟持状態において、２つの挟持部の各々の平坦面と２つの露光部との距離を一定に保ちつつ、第１および第２の挟持部を移動させて基板を長手方向に送り、２つの挟持部の透過部を介して基板の両面を同時に露光する。【選択図】図１
2014190987.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
フレキシブルな帯状の基板を露光する露光装置であって、
光透過性の部材で形成されるとともに平坦面を有する透過部を有し、前記平坦面の各々によって前記基板を挟持可能な第１の挟持部および第２の挟持部と、
前記第１の挟持部および前記第２の挟持部の少なくとも一方を、前記第１の挟持部と前記第２の挟持部とが近づく方向および遠ざかる方向に移動させる第１の移動部と、第１の方向に光を照射し、前記第１の挟持部の前記平坦面上に結像する結像光学系を有する、第１の露光部と、
前記第１の露光部と離間して配置され、前記第１の方向と反対の第２の方向に光を照射し、前記第２の挟持部の前記平坦面上に結像する結像光学系を有する、第２の露光部と、
前記第１の移動部によって前記第１の挟持部および前記第２の挟持部の少なくとも一方が移動されることによって前記第１の挟持部および前記第２の挟持部の前記平坦面の各々の間に配置された前記基板が該平坦面の各々に挟持された挟持状態において、前記第１の挟持部および前記第２の挟持部と、前記第１の露光部および前記第２の露光部と、を、前記第１の挟持部および前記第２の挟持部が前記第１の露光部と前記第２の露光部との間を通過するように１つの方向のみに相対移動させる第２の移動部と
を備え、
前記露光装置は、前記挟持状態において、前記第１の挟持部および前記第２の挟持部の各々の前記平坦面と、前記第１の露光部および前記第２の露光部と、の距離を一定に保ちつつ、前記１つの方向に前記相対移動を行いながら、前記第１の露光部および前記第２の露光部の各々から前記光を照射して、前記第１の挟持部および前記第２の挟持部の前記透過部を介して前記基板の両面を同時に露光し、
前記第２の移動部は、前記挟持状態において前記第１の挟持部および前記第２の挟持部を移動させ、該移動によって、前記基板が該基板の長手方向に送られる
露光装置。
【請求項２】
請求項１に記載の露光装置であって、
前記第１の挟持部は、前記第１の移動部が前記第１の挟持部および前記第２の挟持部の少なくとも一方を移動させる方向における位置が固定され、
前記第２の挟持部は、前記第１の移動部によって、位置が移動可能に構成された
露光装置。
【請求項３】
請求項１に記載の露光装置であって、
前記第２の露光部を、前記第１の露光部に近づく方向および遠ざかる方向に直線的に移動させる第３の移動部と、
前記第１の露光部を、前記第２の露光部に近づく方向および遠ざかる方向に直線的に移動させる第４の移動部と、
前記挟持状態の前記基板の位置および形状の少なくとも一方を検出する検出部と
を備え、
前記第２の露光部は、前記第３の移動部によって移動可能な第１の支持部材に固定されており、前記検出部による検出結果に応じた前記露光を行い、
前記第１の露光部は、前記第４の移動部によって移動可能な第２の支持部材に固定されており、前記検出部による検出結果に応じた前記露光を行い、
前記検出部は、前記第２の露光部と共通の前記第１の支持部材、および、前記第１の露光部と共通の前記第２の支持部材の少なくとも一方に固定されている
露光装置。
【請求項４】
基板を露光する露光装置であって、
光透過性の部材で形成されるとともに平坦面を有する透過部を有し、前記平坦面の各々によって前記基板を挟持可能な第１の挟持部および第２の挟持部と、
前記第２の挟持部を、前記第１の挟持部と前記第２の挟持部とが近づく方向および遠ざかる方向に移動させる第１の移動部と、
前記第１の挟持部の側に位置が固定された状態で配置され、第１の方向に光を照射し、前記第１の挟持部の前記平坦面上に結像する結像光学系を有する、第１の露光部と、
第２の挟持部の側に、前記第１の露光部と離間して配置され、前記第１の方向と反対の第２の方向に光を照射し、前記第２の挟持部の前記平坦面上に結像する結像光学系を有する、第２の露光部と、
前記第１の移動部によって前記第２の挟持部が移動されることによって前記第１の挟持部および前記第２の挟持部の前記平坦面の各々の間に配置された前記基板が該平坦面の各々に挟持された挟持状態において、前記第１の挟持部および前記第２の挟持部と、前記第１の露光部および前記第２の露光部と、を、前記第１の挟持部および前記第２の挟持部が前記第１の露光部と前記第２の露光部との間を通過するように１つの方向のみに相対移動させる第２の移動部と、
前記第２の露光部を、前記第１の露光部に近づく方向および遠ざかる方向に直線的に移動させる第３の移動部と
を備え、
前記第１の挟持部は、前記第１の移動部が前記第２の挟持部を移動させる方向における位置が固定され、
前記露光装置は、前記挟持状態において、前記第１の挟持部および前記第２の挟持部の各々の前記平坦面と、前記第１の露光部および前記第２の露光部と、の距離を一定に保ちつつ、前記１つの方向に前記相対移動を行いながら、前記第１の露光部および前記第２の露光部の各々から前記光を照射して、前記第１の挟持部および前記第２の挟持部の前記透過部を介して前記基板の両面を同時に露光する
露光装置。
【請求項５】
請求項４に記載の露光装置であって、
さらに、前記挟持状態の前記基板の位置および形状の少なくとも一方を検出する検出部を備え、  前記第２の露光部は、
前記第３の移動部によって移動可能な支持部材に固定されており、
前記検出部による検出結果に応じた前記露光を行い、
前記検出部は、前記第２の露光部と共通の前記支持部材に固定されている
露光装置。
【請求項６】
請求項４または請求項５に記載の露光装置であって、
さらに、前記第１の挟持部および前記第２の挟持部の一方に弾性部材によって形成されたシール部であって、前記第１の挟持部および前記第２の挟持部の他方に当接した際に、前記平坦面の各々の間に配置された前記基板の周囲を取り囲み、該基板の周囲をシールするシール部と、
前記シール部が、前記他方の前記平坦面に当接した状態において、前記シール部の内側の空間を減圧する減圧部と
を備えた露光装置。
【請求項７】
請求項１ないし請求項６のいずれか一項に記載の露光装置であって、
前記第１の挟持部および前記第２の挟持部の前記平坦面は、対向して設けられ、
前記第１の移動部は、前記第１の挟持部および前記第２の挟持部の少なくとも一方を前記平坦面と直交する方向に移動させる
露光装置。
【請求項８】
露光装置によってフレキシブルな帯状基板を露光する露光方法であって、
光透過性の部材で形成されるとともに平坦面を有する透過部を有し、前記平坦面の各々によって前記基板を挟持可能な第１および第２の挟持部を用いて、前記平坦面の各々で前記帯状基板を挟持する第１の工程と、
前記帯状基板を挟持した状態の前記２つの挟持部を、第１の方向に光を照射し、前記第１の挟持部の前記平坦面上に結像する結像光学系を有する、第１の露光部と、前記第１の露光部と離間して設けられ、前記第１の方向と反対の第２の方向に光を照射し、前記第２の挟持部の前記平坦面上に結像する結像光学系を有する、第２の露光部と、の間を通過するように、かつ、前記平坦面と、前記第１の露光部および前記第２の露光部と、の距離を一定に保つように、１つの方向のみに移動させることによって、前記帯状基板が該帯状基板の長手方向に送られて、該帯状基板の送りに合わせて、前記第１の露光部および前記第２の露光部の各々から前記光を照射して、前記２つの挟持部の前記透過性光透過性の部材を介して前記帯状基板の両面を同時に露光する第２の工程と
を備えた露光方法。
【請求項９】
露光装置によって基板を露光する露光方法であって、
光透過性の部材で形成されるとともに平坦面を有する第１の透過部を有する第１の挟持部と、光透過性の部材で形成されるとともに平坦面を有する第２の透過部を有する第２の挟持部と、を備える挟持部であって、前記第１の挟持部と前記第２の挟持部とが近づく方向および遠ざかる方向に移動不能に固定された前記第１の挟持部と、前記近づく方向および遠ざかる方向に移動可能に構成された第２の挟持部と、を備える挟持部を用いて、前記平坦面の各々で前記基板を挟持する第１の工程と、
前記基板を挟持した状態における前記２つの挟持部のうちの前記第１の挟持部の側に位置が固定された状態で配置された第１の露光部であって、第１の方向に光を照射し、前記第１の挟持部の前記平坦面上に結像する結像光学系を有する、第１の露光部、と離間して設けられた第２の露光部であって、前記第１の方向と反対の第２の方向に光を照射し、前記第２の挟持部の前記平坦面上に結像する結像光学系を有する、第２の露光部を、前記基板に応じて、前記第１の露光部に近づく方向または遠ざかる方向に直線的に移動させる第２の工程と、
前記基板を挟持した状態の前記２つの挟持部と、前記第１の露光部および前記第２の露光部と、を、前記２つの挟持部が前記第１の露光部と前記第２の露光部との間を通過するように、かつ、前記平坦面と、前記第１の露光部および前記第２の露光部と、の距離を一定に保つように、１つの方向のみに相対移動させながら、前記第１の露光部および前記第２の露光部の各々から前記光を照射して、前記２つの挟持部の前記透過性光透過性の部材を介して前記基板の両面を同時に露光する第３の工程と
を備えた露光方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、露光装置を用いた基板の露光技術に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、表面に感光層を有する基板の露光面に導電パターン等を形成するために、基板と、パターンが描かれたフォトマスクとを重ねて配置し、フォトマスクを通じて基板に光を照射することにより、パターンを基板表面の感光層に転写する露光方法が広く行われてきた。これに対して、フォトマスクを用いずに所定のパターンを基板に直接形成するマスクレス露光（直接露光）方式が提案されている（例えば、下記の特許文献１）。かかるマスクレス露光方式によれば、フォトマスクが不要となるため、コスト的に有利であり、また、高精度露光が可能であるとされている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００６−２５０９８２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、基板は、厚み方向に対する不均一さや、製作誤差や温度、湿度変化、露光工程に至るまでの熱履歴などによる伸縮、反り、などによって露光面が非平坦形状を有していることが多く、その場合露光面全領域にわたって結像させることが難しく、結像光学系を用いるマスクレス露光方式では高精度露光が行えないことがある。かかる問題を解決するために、オートフォーカス機能を備えた光学系を導入することも可能であるが、制御が複雑になり、また、装置が高コストになる。このようなことから、簡単な構成で露光面全領域にわたって安定して結像できる露光技術が求められる。また、基板がフレキシブルな帯状である場合には、基板がたわみやすく、たわみを解消するために、あるいは、基板をたわみなく搬送するために、基板に対して長手方向に所定の張力を作用させる必要がある。しかしながら、基板に過剰な張力を作用させると、基板が長手方向に伸びるので、その状態で露光を行うと、本来の基板形状と異なる基板に対して露光することとなり、精度良くパターンを基板に形成することができない。このようなことから、フレキシブルな帯状基板に対して、本来の基板形状に対して露光することによって、精度良くパターンを形成できる露光技術が求められる。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明は、上述の課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、例えば、以下の形態として実現することが可能である。
【０００６】
本発明の第１の形態は、フレキシブルな帯状の基板を露光する露光装置として提供される。この露光装置は、光透過性の部材で形成されるとともに平坦面を有する透過部を有し、平坦面の各々によって基板を挟持可能な第１の挟持部および第２の挟持部と、第１の挟持部および第２の挟持部の少なくとも一方を、第１の挟持部と第２の挟持部とが近づく方向および遠ざかる方向に移動させる第１の移動部と、第１の方向に光を照射し、前記第１の挟持部の前記平坦面上に結像する結像光学系を有する、第１の露光部と、第１の露光部と離間して配置され、第１の方向と反対の第２の方向に光を照射し、前記第２の挟持部の前記平坦面上に結像する結像光学系を有する、第２の露光部と、第１の移動部によって第１の挟持部および第２の挟持部の少なくとも一方が移動されることによって第１の挟持部および第２の挟持部の平坦面の各々の間に配置された基板が平坦面の各々に挟持された挟持状態において、第１の挟持部および第２の挟持部と、第１の露光部および第２の露光部と、を、第１の挟持部および第２の挟持部が第１の露光部と第２の露光部との間を１つの方向のみに通過するように相対移動させる第２の移動部とを備える。露光装置は、挟持状態において、第１の挟持部および第２の挟持部の各々の平坦面と、第１の露光部および第２の露光部と、の距離を一定に保ちつつ、１つの方向に相対移動を行いながら、第１の露光部および第２の露光部の各々から光を照射して、第１の挟持部および第２の挟持部の透過部を介して基板の両面を同時に露光する。第２の移動部は、挟持状態において第１の挟持部および第２の挟持部を移動させ、移動によって、基板が基板の長手方向に送られる。
【０００７】
かかる露光装置によれば、フレキシブルな帯状の基板が多少のたわみがある状態で設置されても、フレキシブルな帯状の基板の両面の露光面は、第１の挟持部および第２の挟持部に挟持されることによって、平坦化される。しかも、第１の挟持部が、第１の移動部が第１の挟持部および第２の挟持部の少なくとも一方を移動させる方向における位置が固定されている場合には、挟持状態において、第１の挟持部の平坦面と第１の露光部との第１の方向の距離は、一定に保たれる。このため、第１の露光部は、基板の露光面に接触する１の挟持部の平坦面上に安定して結像することができる。また、この場合、フレキシブルな帯状の基板は、通常、厚みが薄いので、挟持状態において、第２の挟持部の平坦面と第２の露光部との第２の方向の距離についても、一定に保たれる。このため、第２の露光部は、第１の露光部に近づく方向または遠ざかる方向に移動しなくても、基板の露光面に接触する第２の挟持部の平坦面上に安定して結像することができる。したがって、簡単な構成で、基板の両面の露光面全領域に対して、安定して結像することができる。この点は、第２の挟持部が、第１の移動部が第１の挟持部および第２の挟持部の少なくとも一方を移動させる方向における位置が固定されている場合、第１の挟持部と第２の挟持部との両方が移動して、予め定められた一定の位置で基板を挟持する場合、第１の挟持部と第２の挟持部との両方が移動し、かつ、その移動量に応じて、第１の露光部および第２の露光部が移動する場合も同様である。さらに、第１の挟持部および第２の挟持部に挟持されることによって露光面が平坦化されるので、平坦化するために基板の長手方向に必要以上の張力をかけなくても良い。このため、基板に過剰な張力が作用して露光面が長手方向に伸びた状態で露光されることがない。したがって、精度良く基板上にパターンを形成することができる。
【０００８】
本発明の第２の形態として、第１の形態において、第１の挟持部は、第１の移動部が第１の挟持部および第２の挟持部の少なくとも一方を移動させる方向における位置が固定されていてもよい。第２の挟持部は、第１の移動部によって、位置が移動可能に構成されていてもよい。かかる形態によれば、第２の挟持部のみを移動可能に構成すればよいので、構成が簡単である。基板が第１の挟持部と第２の挟持部との間に、第１の挟持部および第２の挟持部に接触しないように配置される場合にも、基板の長手方向に必要以上に張力が生じない状態で基板を配置すれば、基板は、第１の移動部が第２の挟持部を移動させる方向にたわむことができる。このため、第２の挟持部が基板を第１の挟持部側に押圧して、基板を容易に挟持できる。しかも、第１の挟持部は、第２の挟持部を移動させる方向における位置が固定されているので、挟持状態において、第１の挟持部の平坦面と、第１の露光部との第１の方向の距離は、一定に保たれる。このため、第１の露光部は、第１の挟持部の平坦面上に安定して結像することができる。また、フレキシブルな帯状の基板は、通常、厚みが薄いので、挟持状態において、第２の挟持部の平坦面と第２の露光部との第２の方向の距離についても、一定に保たれる。このため、第２の露光部は、第１の露光部に近づく方向または遠ざかる方向に移動しなくても、第２の挟持部の平坦面上に安定して結像することができる。したがって、簡単な構成で、基板の両面の露光面全領域に対して、安定して結像することができる。
【０００９】
本発明の第３の形態として、第１の形態において、露光装置は、第２の露光部を、第１の露光部に近づく方向および遠ざかる方向に直線的に移動させる第３の移動部と、第１の露光部を、第２の露光部に近づく方向および遠ざかる方向に直線的に移動させる第４の移動部と、挟持状態の基板の位置および形状の少なくとも一方を検出する検出部とを備えていてもよい。第２の露光部は、第３の移動部によって移動可能な第１の支持部材に固定されており、検出部による検出結果に応じた露光を行ってもよい。第１の露光部は、第４の移動部によって移動可能な第２の支持部材に固定されており、検出部による検出結果に応じた露光を行ってもよい。検出部は、第２の露光部と共通の第１の支持部材、および、第１の露光部と共通の第２の支持部材の少なくとも一方に固定されていてもよい。かかる形態によれば、挟持状態、すなわち、露光時と同じ状態で、基板の位置および形状の少なくとも一方を検出するので、正確な位置に露光することができる。さらに、第１の挟持部の平坦面に結像するために第１の挟持部の位置に応じて第１の露光部が移動され、第２の挟持部の平坦面に結像するために第２の挟持部の位置に応じて第２の露光部が移動された場合、検出部も第１の露光部および第２の露光部の少なくとも一方と同一の方向に同一の距離だけ同時に移動することになる。このため、検出部についても、第１の挟持部および第２の挟持部の平坦面に結像することになる。すなわち、検出部にオートフォーカスなど別手段、あるいは別機構を設けなくても、第１の挟持部および第２の挟持部の基板を挟持する位置に応じて常に基板の露光面に接触する第１の挟持部および第２の挟持部の平坦面に結像することができ、装置構成も簡単にできる。
【００１０】
本発明の第４の形態は、基板を露光する露光装置として提供される。この露光装置は、光透過性の部材で形成されるとともに平坦面を有する透過部を有し、平坦面の各々によって基板を挟持可能な第１の挟持部および第２の挟持部と、第２の挟持部を、第１の挟持部に近づく方向および遠ざかる方向に移動させる第１の移動部と、第１の挟持部の側に位置が固定された状態で配置され、第１の方向に光を照射し、第１の挟持部の平坦面上に結像する結像光学系を有する、第１の露光部と、第２の挟持部の側に、第１の露光部と離間して配置され、第１の方向と反対の第２の方向に光を照射し、第２の挟持部の平坦面上に結像する結像光学系を有する、第２の露光部と、第１の移動部によって第２の挟持部が移動されることによって第１の挟持部および第２の挟持部の平坦面の各々の間に配置された基板が平坦面の各々に挟持された挟持状態において、第１の挟持部および第２の挟持部と、第１の露光部および第２の露光部と、を、第１の挟持部および第２の挟持部が第１の露光部と第２の露光部との間を通過するように１つの方向のみに相対移動させる第２の移動部と、第２の露光部を、第１の露光部に近づく方向および遠ざかる方向に直線的に移動させる第３の移動部と、を備える。第１の挟持部は、第１の移動部が第２の挟持部を移動させる方向における位置が固定される。露光装置は、挟持状態において、第１の挟持部および第２の挟持部の各々の平坦面と、第１の露光部および第２の露光部と、の距離を一定に保ちつつ、１つの方向に相対移動を行いながら、第１の露光部および第２の露光部の各々から光を照射して、第１の挟持部および第２の挟持部の透過部を介して基板の両面を同時に露光する。
【００１１】
かかる露光装置によれば、基板の露光面が非平坦形状を有している場合であっても、基板が第１の挟持部と第２の挟持部とに挟持されることによって、基板の露光面が第１の挟持部の平坦面と第２の挟持部の平坦面に対して押圧され、これらの平坦面に追従するので、当該非平坦形状が低減される。また、第１の挟持部は、第１の移動部が第２の挟持部を移動させる方向における位置が固定されているので、挟持状態において、第１の挟持部の平坦面に接触する基板の露光面と、第１の露光部との第１の方向の距離は、一定に保たれる。このため、第１の挟持部の平坦面に接触する基板の露光面全領域にわたって安定して結像することができる。さらに、挟持状態において、第２の挟持部の平坦面に接触する基板の露光面の第２の方向の位置は基板の厚みによって変化するが、基板の露光面の非平坦形状は、上述の通り低減されている。このため、第３の移動部によって、第２の露光部を、第２の挟持部の平坦面に接触する基板の露光面の変化量（基板の厚みの違いに起因する変化量）と同じ量を直線的に移動させれば、オートフォーカス機能を使用しなくても、第２の挟持部の平坦面に接触する基板の露光面と、第２の露光部と、の第２の方向の距離を、基板の厚みに依存することなく一定に保つことができる。その結果、第２の挟持部の平坦面に接触する基板の露光面全領域にわたって安定して結像することができる。したがって、簡単な装置構成で、基板の両面に対して安定して結像することができる。
【００１２】
本発明の第５の形態として、第４の形態において、さらに、挟持状態の基板の位置および形状の少なくとも一方を検出する検出部を備えていてもよい。第２の露光部は、第３の移動部によって移動可能な支持部材に固定されており、検出部による検出結果に応じた露光を行ってもよい。検出部は、第２の露光部と共通の支持部材に固定されていてもよい。かかる形態によれば、挟持状態、すなわち、露光時と同じ状態で、基板の位置および形状の少なくとも一方を検出するので、正確な位置に露光することができる。さらに、基板の露光面に接触する第２の挟持部の平坦面に結像するために基板の厚みに応じて第２の露光部が移動された場合、検出部も第２の露光部と同一の方向に同一の距離だけ同時に移動することになる。このため、検出部についても、基板の露光面に接触する第２の挟持部の平坦面に結像することになる。すなわち、検出部にオートフォーカスなど別手段、あるいは別機構を設けなくても基板の厚みに応じて常に基板の露光面に接触する第２の挟持部の平坦面に結像することができ、装置構成も簡単にできる。
【００１３】
本発明の第６の形態として、第４または第５の形態の露光装置は、さらに、第１の挟持部および第２の挟持部の一方に弾性部材によって形成されたシール部であって、第１の挟持部および第２の挟持部の他方に当接した際に、平坦面の各々の間に配置された基板の周囲を取り囲み、基板の周囲をシールするシール部と、シール部が、他方の平坦面に当接した状態において、シール部の内側の空間を減圧する減圧部とを備えていてもよい。かかる形態によれば、シール部の内側の空間を減圧することによって、シール部が押しつぶされるとともに、第２の挟持部が第１の挟持部側に移動されて、第１の挟持部および第２の挟持部がいっそう強い力で基板を挟持できる。その結果、非平坦な基板、すなわち、厚み方向に対して不均一な基板や反りの大きい基板であっても、当該基板を第１の挟持部および第２の挟持部の平坦面に確実に追従させることができるので、高精度の露光を行うことができる。
【００１４】
本発明の第７の形態として、第１ないし第６のいずれかの形態において、第１の挟持部および第２の挟持部の平坦面は、対向して設けられていてもよい。第１の移動部は、第１の挟持部および第２の挟持部の少なくとも一方を平坦面と直交する方向に移動させてもよい。かかる形態によれば、第１の挟持部および第２の挟持部の少なくとも一方を１つの方向にのみに移動させるだけで基板を挟持できるので、装置構成が簡単である。
【００１５】
本発明は、露光装置によってフレキシブルな帯状基板を露光する露光方法、露光装置によって基板を露光する露光方法等としても実現可能である。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】本発明の一実施例としての露光装置の概略構成を示す説明図である。
【図２】図１に示す露光装置のＡ−Ａ矢視図である。
【図３】図２に示す露光装置のＢ−Ｂ矢視図である。
【図４】露光装置の動作の流れを示すフローチャートである。
【図５】図４に示すフローチャートの各工程における露光装置の状態を示す説明図である。
【図６】第２実施例としての露光装置の概略構成を示す説明図である。
【図７】第３実施例としての露光装置の概略構成を示す説明図である。
【図８】図７に示す露光装置のＣ−Ｃ矢視図である。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
Ａ．第１実施例：
図１〜図３は、本発明の一実施例としての露光装置１０の概略構成を示す。図２は、図１に示す露光装置１０のＡ−Ａ矢視図であり、図３は、図２に示す露光装置１０のＢ−Ｂ矢視図である。露光装置１０は、表面に感光層を有する基板の露光面に対し、電気回路などの２次元パターンを表す露光データに基づいて、露光を行うことによって、当該パターンを基板上に形成する。露光装置１０は、フォトマスクを使用せずに、基板の両面に対してパターンを形成する。図１に示すように、露光装置１０は、ベース部材１５上に設置されており、第１の挟持部２０ａ、第２の挟持部２０ｂ、第１の露光部３０、第２の露光部４０、第１の移動部５０、第２の移動部６０、第３の移動部７０および検出部８１〜８４を備えている。以下の説明において、第１の挟持部２０ａおよび第２の挟持部２０ｂを挟持部２０とも呼ぶ。
【００１８】
第１の挟持部２０ａは、透過部２１ａと支持部２２ａとを備えている。透過部２１ａは、光透過性の部材で形成されている。本実施例では、透過部２１ａは、ガラスによって形成されている。ただし、ガラスに代えて、アクリルなどを使用してもよい。また、本実施例では、透過部２１ａは、矩形平板形状を有しており、その上面は、平坦な平坦面２３ａとして形成されている。透過部２１ａを下側ガラス板２１ａとも呼ぶ。
【００１９】
支持部２２ａは、透過部２１ａの周囲を取り囲み、透過部２１ａを支持する。具体的には、支持部２２ａは、矩形の平板の中央に貫通穴が形成された枠状形状を有している。支持部２２ａの貫通穴は、相対的に小さな矩形形状を有する第１の貫通穴と、相対的に大きな矩形形状を有する第２の貫通穴とが組み合わされた形状を有している。第１の貫通穴は、下側に形成され、第２の貫通穴は、上側に形成されている。そして、第２の貫通穴に透過部２１ａがはめ込まれている。透過部２１ａの外縁部は、上述の２つの貫通穴の大きさの違いを利用して、支持部２２ａに接着されている。
【００２０】
第２の挟持部２０ｂは、透過部２１ｂと支持部２２ｂとを備えている。透過部２１ｂおよび支持部２２ｂは、透過部２１ａおよび支持部２２ａと同一の構成を有している。ただし、透過部２１ｂおよび支持部２２ｂは、透過部２１ａおよび支持部２２ａと比べて、上下が逆に配置されている。透過部２１ｂの下面は、平坦な平坦面２３ｂとして形成されている。透過部２１ｂを上側ガラス板２１ｂとも呼ぶ。
【００２１】
本実施例では、第１の挟持部２０ａと第２の挟持部２０ｂとは、鉛直方向に対向して配置されている。これによって、平坦面２３ａと平坦面２３ｂとも対向している。第１の挟持部２０ａは、鉛直方向の位置が固定されている。一方、第２の挟持部２０ｂは、第１の移動部５０によって、鉛直方向、換言すれば、第１の挟持部２０ａと第２の挟持部２０ｂとが近づく方向および遠ざかる方向に移動可能に構成されている。下側ガラス板２１ａの平坦面２３ａに基板Ｓを載置した状態で第２の挟持部２０ｂが下方に移動することによって、基板Ｓは、平坦面２３ａと平坦面２３ｂとの間に挟持される。このように基板Ｓが挟持された状態を挟持状態とも呼ぶ。なお、平坦面２３ａと平坦面２３ｂとは、必ずしも対向して配置されている必要はなく、第１の挟持部２０ａおよび第２の挟持部２０ｂの少なくとも一方が、水平方向および鉛直方向に移動可能に構成され、当該両方向への移動によって、基板Ｓが挟持される構成であってもよい。
【００２２】
第１の移動部５０は、ガイドシャフト５１を備えている。ガイドシャフト５１は、第１の挟持部２０ａおよび第２の挟持部２０ｂの四隅において、第１の挟持部２０ａおよび第２の挟持部２０ｂを鉛直方向に貫通するように配置されている。第１の移動部５０は、アクチュエータ（図示省略）によって、第２の挟持部２０ｂをガイドシャフト５１に沿って、鉛直方向に往復動させる。
【００２３】
第２の移動部６０は、リニアモータ６１と、２つのガイド６２と、２つのガイドレール６３とを備えている。２つのガイドレール６３は、平行に配置されており、鉛直方向と直交する所定の方向に直線状に延びて形成されている。２つのガイド６２の一方は、リニアモータ６１の可動子に固定されている。また、２つのガイド６２には、第１の挟持部２０ａの支持部２２ａが固定されている。リニアモータ６１を駆動すると、第１の挟持部２０ａと、ガイドシャフト５１を介して第１の挟持部２０ａに接続された第２の挟持部２０ｂとは、２つのガイド６２を介してガイドレール６３上を移動する。かかる構成によって、第２の移動部６０は、挟持状態の挟持部２０（挟持部２０に挟持された基板Ｓ）を、後述する第１の露光部３０と第２の露光部４０との間を通過するように移動させる。
【００２４】
第１の露光部３０は、第１の方向に光を照射する。第１の露光部３０は、第１の挟持部２０ａおよび第２の挟持部２０ｂのうちの第１の挟持部２０ａ側、すなわち、下方側に配置されている。第１の方向は、本実施例では、下方から上方に向かう方向である。本実施例では、第１の露光部３０は、図２に示すように、２つの露光ユニット３１，３２を備えている。露光ユニット３１，３２の各々は、光源（ここでは、レーザ光源）と、光ビームを偏向走査するポリゴンミラーと、を備えている。露光ユニット３１，３２は、第２の移動部６０が基板Ｓを移動させる方向に配列されている。かかる露光ユニット３１，３２は、ベース部材１５の上に設けられた支持部材１６上に固定されている。
【００２５】
第２の露光部４０は、第１の露光部３０よりも上方（第２の挟持部２０ｂ側）に、第１の露光部３０と離間して設けられ、第１の方向と反対の第２の方向、すなわち、上方から下方に向かう方向に光を照射する。第２の露光部４０は、２つの露光ユニット４１，４２を備えている。本実施例では、露光ユニット４１，４２は、露光ユニット３１，３２と同一の構成を有しており、露光ユニット３１，３２と鉛直方向に対向する位置に設けられている。露光ユニット４１，４２は、その上方に設けられた支持部材１７に固定されている。
【００２６】
第１の露光部３０および第２の露光部４０の構成は、基板Ｓが移動する領域を間に挟んで鉛直方向に離間して設けられていれば、上述の例に限らず、任意の構成とすることができる。例えば、レーザ光源は、露光ユニット３１，３２の外部に設置され、光ファイバを介して、露光ユニット３１，３２に光が供給されてもよい。あるいは、ポリゴンミラーに代えて、ＤＭＤ（Digital Mirror Device）を採用してもよい。あるいは、第１の露光部３０および第２の露光部４０は、それぞれ単一のユニットのみで構成されていてもよい。あるいは、第２の移動部６０が基板Ｓを移動させる方向と直交する方向に、２以上のユニットが配列されていてもよい。あるいは、第１の露光部３０と第２の露光部４０とは、異なる構成を有していてもよい。
【００２７】
かかる第１の露光部３０および第２の露光部４０の動作は、露光データを扱う画像処理ユニット（図示省略）によって制御される。この画像処理ユニットは、後述する検出部８１〜８４の検出結果に応じて第１の露光部３０および第２の露光部４０からの光の照射を制御する。
【００２８】
第３の移動部７０は、ガイド７１とガイドレール７２とを備えている。ガイドレール７２は、鉛直方向に直線状に延びて形成されている。ガイド７１は、支持板１８を介して、支持部材１７に固定されている。また、支持部材１７は、アクチュエータ（図示省略）に連結されており、アクチュエータを駆動することによって、ガイドレール７２上をガイドレール７２に沿って摺動する。かかる支持部材１７の移動によって、支持部材１７に固定された露光ユニット４１，４２は、鉛直方向に、換言すれば、第１の露光部３０に近づく方向および遠ざかる方向に、直線的に移動する。アクチュエータは、特に限定されるものではなく、例えば、モータおよびボールねじを使用できる。
【００２９】
検出部８１〜８４は、それぞれカメラを有している。これらのカメラは、挟持状態において、基板Ｓ上の所定位置に予め付された位置合わせマークやパターン（以下、単にマークとも呼ぶ）を光学的に読み取ることによって、読み取ったマークの座標位置に基づいて、挟持状態の基板Ｓの位置および形状を検出する。検出部８１，８２は、基板Ｓの上面（第２の露光部４０が露光する側）の位置および形状を検出し、検出部８３，８４は、基板Ｓの下面（第１の露光部３０が露光する側）の位置および形状を検出する。なお、検出部８１〜８４は、基板Ｓの位置および形状のうちの一方のみを検出するものであってもよい。
【００３０】
かかる検出部８１〜８４は、第１の露光部３０および第２の露光部４０よりも、基板Ｓが第１の露光部３０および第２の露光部４０に向かって移動する際の上流側に配置されている。検出部８１，８２は、第２の露光部４０を支持する支持部材１７に固定されている。つまり、検出部８１，８２は、第２の露光部４０と共通の支持部材１７に固定されている。このため、第３の移動部７０は、簡単な構成によって、第２の露光部４０と検出部８１，８２とを、同一の方向に同一の距離だけ同時に移動させることができる。なお、検出部の数は、特に限定するものではなく、基板Ｓの両面の各々に対して、それぞれ１つ以上の任意の数だけ設けてもよい。また、検出部は、基板Ｓの一方の面側のみに設けてもよい。
【００３１】
かかる露光装置１０の露光動作について説明する。図４は、基板Ｓの露光処理の流れを示す。図５は、図４に示す各工程における露光装置１０の状態を示す。基板の露光処理では、まず、図５（ａ）に示すように、第１の挟持部２０ａと第２の挟持部２０ｂとの間に基板Ｓが投入され、下側ガラス板２１ａの平坦面２３ａに基板Ｓが載置される（ステップＳ１１０）。かかる動作は、例えば、基板Ｓを吸着保持するクランプ装置（図示省略）によって行うことができる。
【００３２】
基板Ｓを載置すると、次に、露光装置１０は、第１の移動部５０によって第２の挟持部２０ｂを下降させて、上側ガラス板２１ｂの平坦面２３ｂと下側ガラス板２１ａの平坦面２３ａとの間で、基板Ｓを挟持する（ステップＳ１２０）。このとき、基板Ｓは、上側ガラス板２１ｂによって下側ガラス板２１ａ側に押圧されるので、基板Ｓの露光面が非平坦形状を有していても、当該非平坦形状は低減される。
【００３３】
基板Ｓを挟持すると、次に、露光装置１０は、第２の移動部６０によって基板Ｓを第１の露光部３０および第２の露光部４０側に前進させ、検出部８１〜８４によって、挟持状態の基板Ｓの両面のマークを読み取る（ステップＳ１３０）。本実施例では、マークは、基板Ｓの両面の４隅付近に付されている。まず、図５（ｃ）に示すように、挟持状態の基板Ｓの一端側（第１の露光部３０および第２の露光部４０側）の２つのマークが読み取られる。そして、基板Ｓがさらに前進させられた後、図５（ｄ）に示すように、挟持状態の基板Ｓの他端側の２つのマークが読み取られる。本実施例では、露光時と同じ状態、すなわち、挟持状態でマークの読み取りを行うので、精度良く露光することができる。
【００３４】
マークを読み取ると、次に、露光装置１０は、検出部８１〜８４の読み取り結果から基板Ｓの位置および形状を認識し、その認識結果に応じて、露光データを補正する（ステップＳ１４０）。次に、露光装置１０は、図５（ｅ）に示すように、基板Ｓをさらに前進させながら、第１の露光部３０および第２の露光部４０から挟持状態の基板Ｓの両面に光を照射して、基板Ｓの両面を同時に露光する（ステップＳ１５０）。光の照射タイミングは、検出部８１〜８４の読み取り結果、すなわち、基板Ｓの位置、形状、傾きなどに応じて制御される。基板Ｓは、下側ガラス板２１ａおよび上側ガラス板２１ｂに挟持されているので、第１の露光部３０および第２の露光部４０から照射される光は、下側ガラス板２１ａまたは上側ガラス板２１ｂを透過して、基板Ｓに到達する。
【００３５】
このように露光している間、第１の挟持部２０ａおよび第２の挟持部２０ｂは、鉛直方向の位置を変えずに水平方向に移動するので、平坦面２３ａ（すなわち、基板Ｓの下面側の露光面）と第１の露光部３０との光の照射方向の距離（鉛直方向の距離）、および、平坦面２３ｂ（すなわち、基板Ｓの上面側の露光面）と第２の露光部４０との光の照射方向の距離は、いずれも、一定に保たれる。特に、第１の挟持部２０ａは、その位置が固定されているので、基板Ｓの厚みに依存することなく、平坦面２３ａと第１の露光部３０との距離は、常に一定となる。
【００３６】
図５（ｆ）は、基板Ｓがさらに前進して、基板Ｓの所要の露光領域のすべてに対して露光が終了した状態を示す。このように露光が終了すると、次に、露光装置１０は、第２の移動部６０によって、挟持状態の基板Ｓを初期位置（図５（ｂ）参照）まで後退させる（ステップＳ１６０）。そして、露光装置１０は、第１の移動部５０によって、第２の挟持部２０ｂを上昇させて挟持状態を解除し、露光が終了した基板Ｓを排出する（ステップＳ１７０）。本実施例では、基板Ｓの排出は、上述のクランプ装置によって行われる。かかるステップＳ１１０〜Ｓ１７０のサイクルが繰り返されることによって、複数の基板Ｓが連続して露光される。
【００３７】
本実施例では、かかる露光装置１０は、第３の移動部７０によって、基板Ｓの厚みに応じて所定に位置まで第２の露光部４０の位置を予め移動させておく位置設定部を有している。具体的には、基板Ｓの厚みによって、挟持状態にある第２の挟持部２０ｂの平坦面２３ｂ（基板Ｓの露光面）の鉛直方向の位置が変わるので、位置設定部は、挟持状態にある第２の挟持部２０ｂ（平坦面２３ｂ）の鉛直方向の位置を特定可能な情報（以下、位置情報とも呼ぶ）に応じて平坦面２３ｂ上に結像する位置まで第２の露光部４０を鉛直方向に移動させる。かかる位置設定部は、露光装置１０の動作全般を制御する制御装置に含まれる。本実施例では、位置設定部は、ユーザが入力する位置情報を受け付けて、その入力値に応じた位置まで第２の露光部４０を移動させる。位置情報は、例えば、基板Ｓの厚み（例えば、基板Ｓの設計寸法）とすることができる。かかる構成によれば、処理対象の基板Ｓの厚みが異なる場合でも、基板Ｓの露光面に対して安定して結像することができる。
【００３８】
基板Ｓの種類に応じた厚みの違いは、せいぜい数ｍｍ程度までであるのが通常である。このため、第３の移動部７０による第２の露光部４０の可動域は、数ｍｍ程度であってもよい。ただし、本実施例では、第２の露光部４０は、平坦面２３ｂ上に結像するために必要な可動域よりも広い可動域（例えば、数１０ｃｍ）を確保している。かかる構成とすることで、第１の露光部３０および第２の露光部４０のメンテナンスを行う際に、第２の露光部４０を第１の露光部３０から遠ざかる方向に移動させることによって、メンテナンス作業を行いやすくできる。
【００３９】
さらに、露光装置１０は、第２の露光部４０と、挟持状態の基板Ｓの露光面（上面）と、の距離を測定する測定部を備えていてもよい。この場合、位置設定部は、測定部の測定結果を位置情報として受け付けて、測定部の測定結果に応じて、第２の露光部４０の位置を変更してもよい。測定部は、例えば、レーザ距離計であってもよい。測定部は、支持部材１７に固定されていてもよい。この場合、測定部と第２の露光部４０とは、ともに支持部材１７に固定されるので、両者の距離は、常に一定である。このため、測定部によって計測された、測定部と露光面との距離に対して、測定部と第２の露光部４０との距離を加算または減算して、第２の露光部４０と、基板Ｓの露光面（上面）との距離を容易に計測できる。これらの構成とすれば、上述したユーザの入力が不要となり、ユーザの利便性が向上する。かかる測定部の測定は、基板Ｓごとに行ってもよいし、露光装置１０で処理する基板Ｓの種類ごとに行ってもよい。
【００４０】
上述した露光装置１０によれば、基板Ｓが非平坦形状を有している場合であっても、基板Ｓが挟持部２０に挟持されることによって、基板Ｓが露光面に垂直な方向に押圧され、非平坦形状が低減される。つまり、基板Ｓの非平坦形状が、平坦形状に近づくように修正される。また、第１の挟持部２０ａは、第１の移動部５０が第２の挟持部２０ｂを移動させる方向における位置が固定されているので、挟持状態において、第１の挟持部２０ａの平坦面２３ａに接触する基板Ｓの露光面と、第１の露光部３０との鉛直方向の距離は、一定に保たれる。このため、平坦面２３ａに接触する基板Ｓの露光面全領域にわたって安定して結像することができる。さらに、挟持状態において、第２の挟持部２０ｂの平坦面２３ｂに接触する基板Ｓの露光面の鉛直方向の位置は、基板Ｓの厚みによって変化するが、基板Ｓの露光面の非平坦形状は、挟持されることによって低減されている。このため、第２の挟持部２０ｂの平坦面２３ｂに接触する基板Ｓの露光面の位置が基板Ｓの厚みによって変化する量と同じ量だけ、第３の移動部７０によって第２の露光部４０を直線的に移動させれば、オートフォーカス機能を使用しなくても、第２の挟持部２０ｂの平坦面２３ｂに接触する基板Ｓの露光面と、第２の露光部４０と、の鉛直方向（光の照射方向）の距離を、基板Ｓの厚みが変わっても一定に保つことができる。その結果、第２の挟持部２０ｂの平坦面２３ｂに接触する基板Ｓの露光面全領域にわたって安定して結像することができる。したがって、簡単な装置構成で、基板Ｓの両面に対して安定して結像することができる。
【００４１】
また、露光装置１０によれば、検出部８１，８２は、第２の露光部４０と共通の支持部材である支持部材１７に固定されている。このため、第３の移動部７０は、簡単な構成によって、第２の露光部４０と検出部８１，８２とを、同一の方向に同一の距離だけ同時に移動させることができる。したがって、もともと第２の露光部４０および検出部８１，８２が基板Ｓの第２の挟持部２０ｂ側の露光面に結像する位置にあれば、基板Ｓの厚みに応じて第２の露光部４０が移動されたときに、その移動と同一の方向に同一の距離だけ検出部８１，８２が移動するので、検出部８１，８２の位置を再調整しなくてもよい。このため、ユーザの利便性が向上する。あるいは、検出部８１，８２に、オートフォーカス機能を導入しなくても、安定して基板Ｓの第２の挟持部２０ｂ側の露光面に結像することができるので、装置構成を簡単にできる。しかも、第２の露光部４０と検出部８１，８２とを移動させるアクチュエータは、１つで済むので、その点においても、装置構成を簡単にできる。さらに、第２の露光部４０と検出部８１，８２とがそれぞれ独立して移動可能な構成である場合には、第２の露光部４０および検出部８１，８２を移動させた際に、第２の移動部６０による挟持部２０（基板Ｓ）の移動方向における検出部８１，８２と第２の露光部４０との相対位置が、部材の据付精度に起因してずれるおそれがあるが、本実施例の構成によれば、第２の露光部４０と検出部８１，８２とは、支持部材１７を介して一体化されているため、そのようなおそれも生じない。
【００４２】
Ｂ．第２実施例：
図６は、第２実施例としての露光装置２１０の概略構成を示す。図６は、第１実施例の図２に対応している。図６において、第１実施例と同一の構成要素については、図２と同一の符号を付して、説明を省略する。図６に示すように、露光装置２１０は、第１実施例としての露光装置１０の構成に加えて、シール部２８１と減圧部２９０とを備えている。シール部２８１は、弾性部材によって形成されており、支持部２２ａの上面に下側ガラス板２１ａを取り囲むように取り付けられている。シール部２８１の高さは、基板Ｓの厚みよりも大きく形成されている。下側ガラス板２１ａには、貫通穴２８５が形成されており、貫通穴２８５には、配管を介して減圧部２９０が接続されている。減圧部２９０は、例えば、真空ポンプとすることができる。
【００４３】
かかる露光装置２１０では、下側ガラス板２１ａに基板Ｓを載置した状態で、第２の挟持部２０ｂを下降させると、まず、シール部２８１と、支持部２２ｂの下面とが基板Ｓの周囲にわたって当接し、基板Ｓの周囲は、シール部２８１によってシールされた状態となる。このとき、基板Ｓと平坦面２３ｂとの間に僅かな隙間が形成されるか、または、基板Ｓと平坦面２３ｂとがほぼ接触する。かかる状態において、減圧部２９０を駆動させて、シール部２８１の内部の空間を減圧する。これによって、シール部２８１が鉛直方向につぶれるとともに、第２の挟持部２０ｂがさらに下方に移動する。その結果、平坦面２３ｂは、基板Ｓと当接し、非常に強い力で基板Ｓを下方に押圧する。露光装置２１０では、このようにして、挟持状態が得られる。
【００４４】
かかる構成によれば、より強い力で基板Ｓが挟持されるので、基板Ｓが非平坦形状を有する場合に、非平坦形状をいっそう低減できる。その結果、基板Ｓの露光面に対して安定して結像することができる。なお、貫通穴２８５は、支持部２２ａに形成されていてもよい。また、シール部２８１は、下側ガラス板２１ａ上に形成されていてもよい。さらに、シール部２８１および貫通穴２８５は、第２の挟持部２０ｂに形成されていてもよい。
【００４５】
Ｃ．第３実施例：
図７は、第３実施例としての露光装置３１０の概略構成を示す。図８は、図７に示す露光装置３１０のＣ−Ｃ矢視図である。図７は、第１実施例の図２に対応しており、図８は、図３に対応している。図７，８において、第１実施例と同一の構成要素については、図２，３と同一の符号を付して、説明を省略する。この露光装置３１０では、基板Ｓとして、フレキシブルな帯状基板を使用する。
【００４６】
図７，８に示すように、露光装置３１０は、繰出装置３８１と、ローラ３８２，３８３，３８５，３８６と、搬送装置３８４と、巻取装置３８７とを備えている。繰出装置３８１は、露光処理の対象となるロール状の基板Ｓがセットされたドラム（巻胴）を回転させて、基板Ｓを繰り出す。繰出装置３８１から繰り出された基板Ｓは、ローラ３８２上を介して、第１の挟持部２０ａと第２の挟持部２０ｂとの間を通り、さらに、第１の露光部３０と第２の露光部４０との間を通り、ローラ３８３上、搬送装置３８４、ローラ３８５，３８６上を介して、巻取装置３８７に巻き取られる。巻取装置３８７は、ドラムを回転させて、露光された基板Ｓをドラム上に巻き取る。搬送装置３８４は、繰出装置３８１と巻取装置３８７との間で基板Ｓを、繰出装置３８１から巻取装置３８７に向かう方向および巻取装置３８７から繰出装置３８１に向かう方向に搬送する。本実施例では、搬送装置３８４は、ニップローラである。繰出装置３８１と巻取装置３８７との間の基板Ｓは、基板Ｓに極力長手方向の張力が作用しないように、テンション調整がなされている。このテンション調整は、基板Ｓが第１の挟持部２０ａと接触しない程度に行われることが望ましい。こうすれば、挟持部２０が基板Ｓを挟持していない状態で挟持部２０が移動した際に、基板Ｓが第１の挟持部２０ａ上を摺動することなないので、基板Ｓが傷付くことを抑制できる。
【００４７】
かかる露光装置３１０は、例えば、以下のように動作する。まず、露光装置３１０は、図７に示すように、ローラ３８２と検出部８１〜８４との間の位置において、第２の挟持部２０ｂを下降させ、平坦面２３ａと平坦面２３ｂとによって基板Ｓの所定の露光領域を挟持する。次に、露光装置３１０は、挟持状態のまま挟持部２０を第１の露光部３０および第２の露光部４０の方向に移動させることによって、基板Ｓを、その長手方向（繰出装置３８１から巻取装置３８７に向かう方向）に送る。このとき、繰出装置３８１および巻取装置３８７は、基板Ｓに極力張力が生じない範囲でドラムを回転させる。つまり、繰出装置３８１および巻取装置３８７は、基板Ｓの送り出し、または、巻き取り動作を行っているに過ぎず、基板Ｓの送りに必要な力を基板Ｓに作用させているわけではない。同様に、このとき、搬送装置３８４も基板Ｓの搬送動作には寄与しない。
【００４８】
基板Ｓが所定位置まで送られると、露光装置３１０は、検出部８１〜８４によって所定の露光領域、あるいはその近傍に設けられた基板Ｓ上のマークを検出する。そして、露光装置３１０は、基板Ｓを送りながら、その検出結果に応じて、第１の露光部３０および第２の露光部４０によって、挟持状態の基板Ｓの所定の露光領域を露光する。所定の露光領域の露光が終了すると、露光装置３１０は、第２の挟持部２０ｂを上昇させて、挟持状態を解除する。挟持状態を解除すると、露光装置３１０は、搬送装置３８４によって基板Ｓを逆方向、すなわち、巻取装置３８７から繰出装置３８１に向かう方向に移動させる。このとき、繰出装置３８１および巻取装置３８７も、基板Ｓに張力が生じない範囲でドラムを反対に回転させる。かかる逆方向への基板Ｓの移動は、次に露光すべき露光領域がローラ３８２と検出部８１〜８４との間の所定位置まで戻るまで行われる。
【００４９】
そして、次の露光領域が所定位置まで戻った時点で、露光装置３１０は、挟持部２０を、第２の挟持部２０ｂが上昇した状態で、つまり、非挟持の状態で、次の露光領域を挟持可能な位置まで移動させる。そして、露光装置３１０は、第２の挟持部２０ｂを再び下降させて、基板Ｓの次の露光領域を挟持する。その後、上述した露光サイクルが繰り返し行われる。
【００５０】
かかる露光装置３１０によれば、基板Ｓに多少のたわみが生じている場合であっても、基板Ｓは、平坦面２３ａと平坦面２３ｂに挟持されるので、極めて平坦な状態で挟持される。しかも、挟持状態において、第１の挟持部２０ａの平坦面２３ａに接触する基板Ｓの露光面と、第１の露光部３０との鉛直方向の距離は、第１実施例と同様に、一定に保たれる。また、フレキシブルな帯状の基板Ｓは、通常、厚みが薄いので、挟持状態において、第２の挟持部２０ｂの平坦面２３ｂに接触する基板Ｓの露光面と第２の露光部４０との鉛直方向の距離についても、一定に保たれる。したがって、簡単な構成で、基板Ｓの両面の露光面に対して、安定して結像することができる。
【００５１】
また、露光装置３１０によれば、基板Ｓを送る際、すなわち、露光中に、基板Ｓの露光面に過剰な長手方向の張力が生じない。つまり、基板Ｓに過剰な張力が作用して露光面が長手方向に伸びた状態で露光されることがない。したがって、精度良く基板Ｓ上にパターンを形成することができる。
【００５２】
また、露光装置３１０は、搬送装置３８４を備えているので、基板Ｓの交換時において、繰出装置３８１に新規に取り付けられた基板Ｓを搬送装置３８４によって巻取装置３８７の方向に送り出し、巻取装置３８７に巻き付けることができる。また、基板Ｓのテンション調整を容易に行うことができる。なお、搬送装置３８４は、省略することも可能である。この場合、基板Ｓの逆方向への移動も、第１の挟持部２０ａおよび第２の挟持部２０ｂによって行ってもよい。
【００５３】
Ｄ．変形例：
Ｄ−１．変形例１：
上述の実施例では、第２の挟持部２０ｂのみが移動することによって基板Ｓを挟持する構成を例示したが、基板Ｓを挟持するための態様は、上述の例に限られない。例えば、第１の挟持部２０ａのみが移動してもよいし、第１の挟持部２０ａおよび第２の挟持部２０ｂの両方が移動してもよい。
【００５４】
上述した第３実施例において、第１の挟持部２０ａおよび第２の挟持部２０ｂの両方が移動可能に構成される場合、露光装置３１０は、予め定められた一定の位置において、第１の挟持部２０ａおよび第２の挟持部２０ｂによって基板Ｓを挟持する構成であってもよい。あるいは、露光装置３１０は、第２の露光部４０を第１の露光部３０に近づく方向および遠ざかる方向に直線的に移動させる第３の移動部７０に加えて、第１の露光部３０を第２の露光部４０に近づく方向および遠ざかる方向に直線的に移動させる第４の移動部を備えていてもよい。第１の露光部３０は、第４の移動部によって移動可能な支持部材（第２の支持部材とも呼ぶ）に固定されていてもよい。検出部８３，８４は、第２の支持部材に固定されていてもよい。第４の移動部は、第３の移動部と同様の構成とすることができる。これらの構成によっても、基板Ｓの両面の露光面全領域に対して、安定して結像することができる。
【００５５】
Ｄ−２．変形例２：
上述の実施例では、透過部２１ａ，２１ｂは、支持部２２ａ，２２ｂによって支持されていたが、支持部２２ａ，２２ｂは、省略可能である。例えば、透過部２１ａ，２１ｂは、上述の透過部２１ａ，２１ｂおよび支持部２２ａ，２２ｂを組み合わせた形状を有していてもよい。
【００５６】
以上、いくつかの実施例に基づいて本発明の実施の形態について説明してきたが、上記した発明の実施の形態は、本発明の理解を容易にするためのものであり、本発明を限定するものではない。本発明は、その趣旨を逸脱することなく、変更、改良され得るとともに、本発明にはその等価物が含まれることはもちろんである。また、上述した課題の少なくとも一部を解決できる範囲、または、効果の少なくとも一部を奏する範囲において、特許請求の範囲および明細書に記載された各構成要素の組み合わせ、または、省略が可能である。
【符号の説明】
【００５７】
１０，２１０，３１０…露光装置
１５…ベース部材
１６，１７…支持部材
１８…支持板
２０…挟持部
２０ａ…第１の挟持部
２０ｂ…第２の挟持部
２１ａ…透過部（下側ガラス板）
２１ｂ…透過部（上側ガラス板）
２２ａ，２２ｂ…支持部
２３ａ，２３ｂ…平坦面
３０…第１の露光部
３１，３２…露光ユニット
４０…第２の露光部
４１，４２…露光ユニット
５０…第１の移動部
５１…ガイドシャフト
６０…第２の移動部
６１…リニアモータ
６２…ガイド
６３…ガイドレール
７０…第３の移動部
７１…ガイド
７２…ガイドレール
８１〜８４…検出部
２８１…シール部
２８５…貫通穴
２９０…減圧部
３８１…繰出装置
３８２，３８３，３８５，３８６…ローラ
３８４…巻取装置
３８７…巻取装置
Ｓ…基板
【図１】
2014190987.tif 000003
【図２】
2014190987.tif 000004
【図３】
2014190987.tif 000005
【図４】
2014190987.tif 000006
【図５】
2014190987.tif 000007
【図６】
2014190987.tif 000008
【図７】
2014190987.tif 000009
【図８】
2014190987.tif 000010