(57)【要約】【課題】パターニング工程を簡易化できて、なおかつ、赤・緑・青の３色に対して均等に発光特性の向上が得られるようにした有機ＥＬパネル及びその製造方法。【解決手段】赤発光画素１７と、緑発光画素１８と、青発光画素１９とによる画素毎の区画が設定された表示領域を有する有機ＥＬパネル１において、赤発光画素１７の区画及び緑発光画素１８の区画には、赤及び緑による混合色の有機発光層８を設け、赤及び緑による混合色の有機発光層８の上下層の何れかと、青発光画素１９の区画とに青色のみの有機発光層９を設け、少なくとも赤発光画素１７と、緑発光画素１８と、青発光画素１９とのいずれかの画素の区画にカラーフィルタを備えている。また、カラーフィルタは、赤発光画素１７の区画に配設された赤のカラーフィルタ１４と、緑発光画素１８の区画に配設された緑のカラーフィルタ１５とより構成されている。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
赤発光画素と、緑発光画素と、青発光画素とによる画素毎の区画が設定された表示領域を有する有機ＥＬパネルにおいて、
前記赤発光画素の区画及び前記緑発光画素の区画には、赤及び緑による混合色の有機発光層を設け、
前記赤及び緑による混合色の有機発光層の上下層の何れかと、前記青発光画素の区画とに青色のみの有機発光層を設け、
少なくとも前記赤発光画素と、前記緑発光画素と、前記青発光画素とのいずれかの画素の区画にカラーフィルタを備えていることを特徴とする有機ＥＬパネル。
【請求項２】
前記カラーフィルタは、前記赤発光画素の区画に配設された赤のカラーフィルタと、前記緑発光画素の区画に配設された緑のカラーフィルタとより構成され、前記青発光画素の区画には前記カラーフィルタを設けないことを特徴とする請求項１に記載の有機ＥＬパネル。
【請求項３】
前記有機発光層の上下層に配設された、正孔注入層または正孔輸送層の少なくとも一方を含む正孔機能層と、電子注入層または電子輸送層の少なくとも一方を含む電子機能層と、を備えたことを特徴とする請求項１または２に記載の有機ＥＬパネル。
【請求項４】
前記混合色の有機発光層は、可溶性低分子材料による湿式成膜可能な材料、または高分子材料を用いて形成されたことを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の有機ＥＬパネル。
【請求項５】
請求項１乃至４のいずれかに記載の有機ＥＬパネルを製造する方法であって、前記赤及び緑による混合色の有機発光層を、前記表示領域の所定部分に形成する第１工程と、前記第１工程の後に、前記青色有機発光層を、前記表示領域の全面に形成する第２工程とを有することを特徴とする有機ＥＬパネルの製造方法。
【請求項６】
前記第１工程における混合色の有機発光層は、印刷法により形成され、前記第２工程における青色発光層は、蒸着法により形成されることを特徴とする請求項５に記載の有機ＥＬパネルの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機薄膜のＥＬ（エレクトロルミネッセンス）現象を利用した有機ＥＬパネル及びその製造方法に関し、より詳細には、赤発光画素と、緑発光画素と、青発光画素とによる画素毎の区画が設定された表示領域を有する有機ＥＬパネル及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
有機ＥＬパネルは、陽極としての電極と陰極としての電極との間に、少なくともＥＬ現象を呈する有機発光層を挟持した構造である。また、これらの電極（陽極と陰極）間に電圧が印加されると、有機発光層に正孔と電子とが注入される。有機ＥＬパネルは、注入された正孔と電子とが有機発光層で再結合することにより、有機発光層が発光する自発光型のパネルである。このような有機ＥＬパネルでは、発光効率を増大させるなどの目的から、陽極と有機発光層との間、あるいは有機発光層と陰極との間の少なくとも一方に、機能層を設けることが行われている。各機能層として、陽極と有機発光層との間には、正孔注入層及び正孔輸送層の少なくとも一方が設けられる。同様に、各機能層として、有機発光層と陰極との間には、電子輸送層及び電子注入層の少なくとも一方が設けられる。そして、これらは適宜選択して設けられている。
【０００３】
これら有機発光層及び機能層に用いる材料としては、低分子材料と高分子材料に分けられる。低分子材料を用いた例としては、例えば、正孔注入層に銅フタロシアニン（ＣｕＰｃ）、正孔輸送層にＮ，Ｎ’―ジフェニル―Ｎ，Ｎ’―ビス（３―メチルフェニル）―１，１’―ビフェニル―４，４’ジアミン（ＴＰＤ）、有機発光層にトリス（８―キノリノール）アルミニウム（Ａｌｑ３）、電子輸送層に２―（４―ビフェニリル）―５―（４―ｔｅｒｔ―ブチル―フェニル）―１，３，４，―オキサジゾール（ＰＢＤ）、電子注入層にＬｉＦを用いたものなどが挙げられる。これらの低分子系材料よりなる各層は、一般に０．１［ｎｍ］以上２００［ｎｍ］以下の範囲内程度の厚みで、主に抵抗加熱方式などの真空蒸着法や、スパッタ法などの真空中の乾式法（ドライプロセス）によって成膜されるが、一部溶解性のある材料の場合は、高分子材料同様に湿式法にて成膜可能である。また、低分子系材料は種類が豊富であるため、その組み合わせによって、発光効率や発光輝度、寿命などの向上が期待されている。
【０００４】
一方、高分子系材料としては、例えば、有機発光層にポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリビニルカルバゾールなどの高分子中に低分子の発光色素を溶解させたものや、ポリフェニレンビニレン誘導体（以下、ＰＰＶともいう）、ポリアルキルフルオレン誘導体（以下、ＰＡＦともいう）などの高分子蛍光体、希土類金属系などの高分子燐光体が用いられている。
【０００５】
これらの高分子系材料は、一般に、溶剤に溶解または分散され、塗布や印刷などの湿式法（ウェットプロセス）を用いて、１［ｎｍ］以上２００［ｎｍ］以下の膜厚で成膜されている。
高分子系材料を用いて成膜した有機薄膜は結晶化や凝集が起こりにくく、さらには他層のピンホールや異物を被覆するため、短絡やダークスポットなどの不良を防ぐことができるという利点がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開平７−２２０８７１号公報
【特許文献２】特開２００７−７３５３２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、材料特性としては、一般的に低分子材料の方が優れており、特に寿命が長い。但し、低分子や高分子材料に関わらず、青色の特性が最も劣っており、青色の発光効率を改善することが重要な課題となっている。
プロセスを比べると、低分子材料のようなメタルマスクを用いて形成する乾式法は、大型化や高精細化が進むにつれ、パターニング形成やコストに難があり、高分子材料の方が塗り分け精度や大型化、設備費などの観点から利点が多い。
【０００８】
このような利点に基づき、材料やプロセスなどの観点も交えて様々な構造、方式及び製造方法が選定されているのが現状である。例えば、ＲＧＢ（赤・緑・青）の塗り分けを回避でき、かつ高精細化が可能となる白色ＥＬ構造とカラーフィルタの組合せ方式が提案されている。例えば、特許文献１に記載のものは、高分子中に色素を分散させた白色発光層を用いた白色ＥＬ構造にカラーフィルタを組み合わせた有機ＥＬデバイスを提供できることを開示している。
【０００９】
但し、特許文献１に記載のものは、色毎のキャリアトラップ効果や青色成分の早期劣化、キャリア注入バランスの崩れによって、赤・緑・青の全色成分が発光効率良くかつ永続的に均一発光させるのが難しいという問題がある。加えて、カラーフィルタを用いることで、フィルタによる光吸収の影響を受けて、全色の発光効率が低下するという欠点があった。
一方、低分子材料と高分子材料の両方の利点を活かす方式として、赤色と緑色の発光層は高分子材料を用いて湿式法にて成膜し、青色の発光層は低分子材料を用いて乾式法にて成膜するハイブリッド構造、方式及び製造方法も提案されている。
【００１０】
また、例えば、特許文献２に記載のものは、基板の赤と緑の透明画素電極上にのみ赤、緑色の有機発光材料をインクジェット法によりパターニング塗布し、続けて全面に青色発光層を蒸着法により積層構造を形成することで、特性に優れた低分子材料の青色発光層をパターニングせずに形成でき、かつフルカラー有機ＥＬ表示装置を提供できることを開示している。但し、この積層構造の状態で電荷を流した場合、赤色及び緑色の発光層に注入された正孔が通り抜け、青色の発光層で電子と正孔が再結合する確率が高く、赤及び緑発光画素領域に青色成分が混色してしまう危険性がある。
本発明は、このような問題に鑑みてなされたもので、その目的とするところは、パターニング工程を簡易化できて、なおかつ、赤・緑・青の３色に対して均等に発光特性の向上が得られる有機ＥＬパネル及び有機ＥＬパネルの製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明のうち、請求項１に記載の発明は、赤発光画素（１７）と、緑発光画素（１８）と、青発光画素（１９）とによる画素毎の区画が設定された表示領域を有する有機ＥＬパネル（１）において、前記赤発光画素（１７）の区画及び前記緑発光画素（１８）の区画には、赤及び緑による混合色の有機発光層（８）を設け、前記赤及び緑による混合色の有機発光層（８）の上下層の何れかと、前記青発光画素（１９）の区画とに青色のみの有機発光層（９）を設け、少なくとも前記赤発光画素（１７）と、前記緑発光画素（１８）と、前記青発光画素（１９）とのいずれかの画素の区画にカラーフィルタを備えていることを特徴とする有機ＥＬパネル。（図１）
【００１２】
また、請求項２に記載した発明は、請求項１の発明において、前記カラーフィルタは、前記赤発光画素（１７）の区画に配設された赤のカラーフィルタ（１４）と、前記緑発光画素（１８）の区画に配設された緑のカラーフィルタ（１５）とより構成され、前記青発光画素（１９）の区画には前記カラーフィルタ（１４），（１５）を設けないことを特徴とする。（図１）
【００１３】
また、請求項３に記載の発明は、請求項１または２に記載の発明において、前記有機発光層（８），（９）の上下層に配設された、正孔注入層（５）または正孔輸送層（６）の少なくとも一方を含む正孔機能層（７）と、電子注入層（１１）または電子輸送層（１０）の少なくとも一方を含む電子機能層（１２）と、を備えたことを特徴とする。（図１）
また、請求項４に記載の発明は、請求項１乃至３のいずれかに記載の発明において、前記混合色の有機発光層（８）は、可溶性低分子材料による湿式成膜可能な材料、または高分子材料を用いて形成されたことを特徴とする。
【００１４】
また、請求項５に記載した発明は、請求項１乃至４のいずれかに記載の有機ＥＬパネルを製造する方法であって、前記赤及び緑による混合色の有機発光層（８）を、前記表示領域の所定部分に形成する第１工程（Ｓ１）と、前記第１工程（Ｓ１）の後に、前記青色有機発光層（９）を、前記表示領域の全面に形成する第２工程（Ｓ２）とを有する。（図４）
また、請求項６に記載の発明は、請求項５に記載の発明において、前記第１工程（Ｓ１）における混合色の有機発光層（８）は、印刷法により形成され、前記第２工程（Ｓ２）における青色発光層は、蒸着法により形成されることを特徴とする。（図４）
【発明の効果】
【００１５】
本発明によれば、パターニング工程を簡易化できて、なおかつ、赤・緑・青の３色に対して均等に発光特性の向上が得られる有機ＥＬパネル及び有機ＥＬパネルの製造方法を実現できる。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】本発明の実施形態に係る有機ＥＬパネルの概略構成を示す断面図である。
【図２】図１で概略構成を示した基板において、ＴＦＴまで詳細に示した断面図である。
【図３】凸版印刷法に用いる凸版印刷装置の概略構成を示す図である。
【図４】本発明の実施形態に係る有機ＥＬパネルの製造方法の一部を示すフローチャートである。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
以下、図面を参照しつつ、本発明の本実施形態に係る有機ＥＬパネルの構成と、有機ＥＬパネルの製造方法について説明する。
（構成）
図１は、本発明の実施形態に係る有機ＥＬパネルの概略構成を示す断面図である。この有機ＥＬパネル１の構成として、基板２は第１電極３と隔壁４とにより赤、緑、青の発光画素１７、１８、１９毎に区画されている。そして、基板２と第１電極３及び隔壁４との間の赤発光画素部１７には、赤のカラーフィルタ（以下、赤フィルタともいう）１４を形成している。同様に、緑発光画素部１８には緑のカラーフィルタ（以下、緑フィルタともいう）１５を形成している。さらに、これらのカラーフィルタ１４，１５を覆うように、平坦化膜１６が、表示領域全面に設けられている。
【００１８】
なお、表示領域とは、有機ＥＬパネル１において、基板２の表面に、赤発光画素１７と、緑発光画素１８と、青発光画素１９とによる画素毎の区画が設定され、て画像情報を表示可能な領域を意味する。
続けて、基板２の表示領域全面に、正孔注入層５及び正孔輸送層６から成る正孔機能層７が形成されている。また、赤発光画素１７と緑発光画素１８とに、赤及び緑（赤・緑）による混合色の有機発光層８が形成されている。さらに、表示領域全面には、青色発光層９、電子輸送層１０及び電子注入層１１から成る電子機能層１２、第２電極１３の順に形成されている。
【００１９】
なお、有機ＥＬパネル１は、第１電極３を陽極とし、第２電極１３を陰極とし、アクティブマトリクス駆動型とした場合について説明する。また、有機ＥＬパネル１の構成は、上記の構成に限定するものではなく、例えば、各電極（第１電極３、第２電極１３）がそれぞれ直交するストライプ状とした、パッシプマトリクス駆動型の有機ＥＬパネルであってもよい。
【００２０】
この有機ＥＬパネル１は、赤発光画素１７と、緑発光画素１８と、青発光画素１９とによる画素毎の区画が設定された表示領域を有する有機ＥＬパネル１において、赤発光画素１７の区画及び緑発光画素１８の区画には、赤及び緑による混合色の有機発光層８を設け、赤及び緑による混合色の有機発光層８の上下層の何れかと、青発光画素１９の区画とに青色のみの有機発光層９を設け、少なくとも赤発光画素１７と、緑発光画素１８と、青発光画素１９とのいずれかの画素の区画にカラーフィルタを備えている。
【００２１】
このように、赤発光画素１７及び緑発光画素１８に、赤及び緑による混合色の有機発光層８を、一括で形成した後、表示領域全面に青色のみの有機発光層８を形成する。そして、例えば、基板２の赤発光画素１７と緑発光画素１８に、赤と緑のカラーフィルタ１４，１５をそれぞれ設けるようにした。その結果、パターニング工程を簡易化できて、なおかつ、赤・緑・青の３色に対して均等に発光特性の向上が得られる有機ＥＬパネル及び有機ＥＬパネルの製造方法を実現できる。
【００２２】
また、上述したカラーフィルタ１４，１５は、赤発光画素１７の区画に配設された赤のカラーフィルタ１４と、緑発光画素１８の区画に配設された緑のカラーフィルタ１５とより構成されている。一方、青発光画素１９の区画には、カラーフィルタを設けない構成である。
また、有機ＥＬパネル１は、有機発光層８，９の上下層に配設された、正孔注入層５または正孔輸送層６の少なくとも一方を含む正孔機能層７と、電子注入層１１または電子輸送層１０の少なくとも一方を含む電子機能層１２と、を備えている。
また、混合色の有機発光層８は、可溶性低分子材料による湿式成膜可能な材料、または高分子材料を用いて形成されている。
【００２３】
（基板２の詳細な構成）
以下、図１を参照しつつ、図２を用いて、基板２の詳細な構成について説明する。
図２は、図１で概略構成を示した基板において、ＴＦＴまで詳細に示した断面図である。なお、本実施形態では、基板２として、第１電極３及び隔壁４が設けられたＴＦＴ基板を用いた場合を例に挙げて説明する。図２に示すように、本実施形態の有機ＥＬパネル１が備える基板２は、薄膜トランジスタ（ＴＦＴ：Ｔｈｉｎ  Ｆｉｌｍ  Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）２０と、第１電極（陽極、画素電極）３とが設けられている。
【００２４】
薄膜トランジスタ２０と第１電極３とは、電気接続している。また、薄膜トランジスタ２０は、基板（支持体）２で支持されている。基板２としては、機械的強度及び絶縁性を有し、寸法安定性に優れていれば、如何なる材料も使用することが可能である。ここで、基板２の材料としては、例えば、ガラスや石英、ポリプロピレン、ポリエーテルサルフォン、ポリカーボネート、シクロオレフィンポリマー、ポリアリレート、ポリアミド、ポリメチルメタクリレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のプラスチックフィルムやシートを用いることが可能である。
【００２５】
また、基板２の材料としては、例えば、上記のプラスチックフィルムやシートに、酸化珪素、酸化アルミニウム等の金属酸化物や、弗化アルミニウム、弗化マグネシウム等の金属弗化物、窒化珪素、窒化アルミニウム等の金属窒化物、酸窒化珪素等の金属酸窒化物、アクリル樹脂やエポキシ樹脂、シリコーン樹脂、ポリエステル樹脂等の高分子樹脂膜を単層もしくは積層させた透光性基材や、アルミニウムやステンレス等の金属箔、シート、板等を用いることが可能である。
【００２６】
さらに、基板２の材料としては、例えば、上記のプラスチックフィルムやシートにアルミニウム、銅、ニッケル、ステンレス等の金属膜を積層させた非透光性基材等を用いることが可能である。ここで、基板２の透光性は、どちらの面から光を取出すかに応じて選択すればよい。上記の材料からなる基板２は、有機ＥＬパネル１内への水分の侵入を避けるために、無機膜を形成したり、フッ素樹脂を塗布したりして、防湿処理や疎水性処理を施してあることが好適である。特に、有機発光層８，９への水分の侵入を避けるために、基板２における含水率及びガス透過係数を小さくすることが好適である。
【００２７】
薄膜トランジスタ２０としては、公知の薄膜トランジスタを用いることが可能である。具体的には、主として、ソース／ドレイン領域及びチャネル領域が形成される活性層２１と、ゲート絶縁膜２２及びゲート電極２３から構成される薄膜トランジスタ２０が挙げられる。ここで、薄膜トランジスタ２０の構造は、特に限定されるものではなく、例えば、スタガ型、逆スタガ型、トップゲート型、コプレーナ型等が挙げられる。また、活性層２１の構成は、特に限定されるものではなく、例えば、非晶質シリコン、多結晶シリコン、微結晶シリコン、セレン化カドミウム等の無機半導体材料、または、チオフェンオリゴマー、ポリ（ｐ−フェリレンビニレン）等の有機半導体材料により形成することが可能である。
【００２８】
活性層２１は、例えば、以下の（ａ）から（ｃ）に記載する方法を用いて形成する。
（ａ）アモルファスシリコンをＰＥＣＶＤ（ｐｌａｓｍａ ｃｈｅｍｉｃａｌ ｖａｐｏｒ ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ ｍｅｔｈｏｄ）法により積層し、イオンドーピングする方法。具体的には、ＳｉＨ４ガスを用いて、ＬＰＣＶＤ法（減圧化学蒸着：ｌｏｗ ｐｒｅｓｓｕｒｅ ｃｈｅｍｉｃａｌ ｖａｐｏｒ ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ ｍｅｔｈｏｄ）によりアモルファスシリコンを形成し、固相成長法によりアモルファスシリコンを結晶化してポリシリコンを得た後、イオン打ち込み法によりイオンドーピングする方法。
【００２９】
（ｂ）Ｓｉ２Ｈ６ガスを用いたＬＰＣＶＤ法により、また、ＳｉＨ４ガスを用いたＰＥＣＶＤ法によりアモルファスシリコンを形成し、エキシマレーザー等のレーザーによりアニールし、さらに、アモルファスシリコンを結晶化してポリシリコンを得た後、イオンドーピング法によりイオンドーピングする方法（低温プロセス）。
（ｃ）ＰＥＣＶＤ法またはＬＰＣＶＤ法によりポリシリコンを積層し、１０００［℃］以上で熱酸化してゲート絶縁膜２２を形成し、その上にｎ＋ポリシリコンのゲート電極２３を形成し、その後、イオン打ち込み法によりイオンドーピングする方法（高温プロセス）。
【００３０】
ゲート絶縁膜２２としては、一般的にゲート絶縁膜２２として使用されているものを用いることが可能である。すなわち、ゲート絶縁膜２２としては、例えば、ＰＥＣＶＤ法、ＬＰＣＶＤ法等により形成されたＳｉＯ２や、ポリシリコン膜を熱酸化して得られるＳｉＯ２等を用いることが可能である。ゲート電極２３としては、一般的にゲート電極２３として使用されているものを用いることが可能である。すなわち、ゲート電極２３の材料としては、例えば、アルミ、銅等の金属（チタン、タンタル、タングステン等の高融点金属）や、ポリシリコン、高融点金属のシリサイド、ポリサイド等が挙げられる。
【００３１】
なお、薄膜トランジスタ２０の構造は、シングルゲート構造、ダブルゲート構造、ゲート電極が三つ以上のマルチゲート構造であってもよい。また、ＬＤＤ構造、オフセット構造を有していてもよい。さらに、一つの画素中に二つ以上の薄膜トランジスタ２０が配置されていてもよい。また、本実施形態の有機ＥＬパネル１は、薄膜トランジスタ２０が有機ＥＬパネル１のスイッチングパネルとして機能するように接続されている必要がある。このため、薄膜トランジスタ２０のドレイン電極２４と、第１電極３を電気的に接続している。なお、図２中では、ソース電極に符号２５を付し、走査線に符号２６を付し、薄膜トランジスタ２０と第１電極３及び隔壁４との間に介挿したトランジスタ絶縁膜に符号２７を付している。
【００３２】
（赤フィルタ１４及び緑フィルタ１５の詳細な構成）
以下、図１及び図２を参照して、赤フィルタ１４及び緑フィルタ１５の詳細な構成について説明する。各色カラーフィルタはトランジスタ絶縁膜２７上に形成されており、さらに赤フィルタ１４は赤発光画素１７の区画に、緑フィルタ１５は緑発光画素１８の区画に位置するようパターニングされている。
【００３３】
赤フィルタ１４を形成するための赤色着色組成物としては、例えばＣ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｒｅｄ  ７、９、１４、４１、４８：１、４８：２、４８：３、４８：４、８１：１、８１：２、８１：３、９７、１２２、１２３、１４６、１４９、１６８、１７７、１７８、１７９、１８０、１８４、１８５、１８７、１９２、２００、２０２、２０８、２１０、２１５、２１６、２１７、２２０、２２３、２２４、２２６、２２７、２２８、２４０、２４６、２５４、２５５、２６４、２７２、２７９等の赤色顔料を用いることができる。緑フィルタ１５を形成するための緑色着色組成物には、例えばＣ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｇｒｅｅｎ  ７、１０、３６、３７等の緑色顔料を用いることができる。
【００３４】
（平坦化膜１６の詳細な構成）
以下、図１及び図２を参照して、平坦化膜１６の詳細な構成について説明する。平坦化膜１６は、赤フィルタ１４と緑フィルタ１５とを覆うように、表示領域全面に形成するのが好ましい。さらに第１電極３側から光を取り出すために、平坦化膜１６は、透明であることが要求される。平坦化膜１６に用いられる材料としては、樹脂が好適であり、例えばアクリル樹脂、ポリイミド、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリエチレンテレフタレート等が挙げられる。また、平坦化膜１６の一部に、第１電極３とＴＦＴのドレイン電極２４を接続するためのコンタクトホールを開けている。
【００３５】
（第１電極３の詳細な構成）
以下、図１及び図２を参照して、第１電極３の詳細な構成について説明する。第１電極３は、基板２上にパターン化して形成されており、隔壁４によって区画されて、各画素に対応した画素電極を形成している。第１電極３の材料として、本実施形態の有機ＥＬパネル１のようなボトムエミッション方式（構造、方式及び製造方法）の場合、第１電極３側から光を取り出すために、第１電極３が透明であることが要求される。したがって、ＩＴＯ（インジウムスズ複合酸化物）やＩＺＯ（インジウム亜鉛複合酸化物）、ＡＺＯ（亜鉛アルミニウム複合酸化物）等の導電性金属酸化物を使用する。また、ＩＴＯ等の仕事関数の高い材料を選択することが好適である。
【００３６】
（隔壁４の詳細な構成）
以下、図１を参照して、隔壁４の詳細な構成について説明する。隔壁４は、基板２上に形成されており、第１電極３の周囲を囲むことにより、画素に対応した発光領域を区画するように形成されている。ここで、一般的に、アクティブマトリクス駆動型の有機ＥＬパネル１は、各画素（サブピクセル）に対して第１電極３が形成されており、それぞれの画素が、できるだけ広い面積を占有しようとするため、第１電極３の端部（側面）を覆うように形成される隔壁４の最も好適な形状は、第１電極３を最短距離で区切る格子状を基本とする。
【００３７】
また、隔壁４の材料は、少なくとも、エチレン性不飽和化合物、光重合開始剤及びアルカリ可溶性バインダーを含有する。さらに、隔壁４の材料は、界面活性剤等を含有することが好適であり、溶剤も含有している。隔壁４の好適な高さは、０．１［μｍ］以上１０［μｍ］以下であり、より好適には、０．５［μｍ］以上２［μｍ］以下である。その理由は、隔壁４の高さが高すぎる場合、第２電極１３（対向電極）の形成及び封止を妨げ、隔壁４の高さが低すぎる場合、第１電極３の端部を覆い切れないという不具合がある。また、赤・緑による混合色の有機発光層８の形成時に、隣接する青発光画素１９の領域まで成膜してしまう恐れもある。
【００３８】
（正孔機能層７の詳細な構成）
以下、図１及び図２を参照して、正孔機能層７の詳細な構成について説明する。正孔機能層７は、第１電極３から有機発光層へ正孔を効率良く注入させる役割を担うため、一般的に正孔注入層５と正孔輸送層６の２層以上の積層構造が用いられる。また、該有機ＥＬパネルは、赤・緑による混合色の有機発光層８が、湿式法の可能な材料を青色有機発光層９は蒸着法の可能な材料を用いて構成される。そのため、発光材料との相性を考慮し、赤発光画素１７及び緑発光画素１８と、青発光画素１９とでは、正孔機能層７の材料及び積層構造をそれぞれ異なるように形成しても良い。
【００３９】
例えば、ポリアニリン誘導体、オリゴアニリン誘導体、キノンジイミン誘導体、ポリチオフェン誘導体、ポリビニルカルバゾール（ＰＶＫ）誘導体、ポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）（ＰＥＤＯＴ）、ピロール誘導体、芳香族アミン、（トリフェニルアミン）ダイマー誘導体（ＴＰＤ）、（α−ナフチルジフェニルアミン）ダイマー（α−ＮＰＤ）、［（トリフェニルアミン）ダイマー］スピロダイマー（Ｓｐｉｒｏ−ＴＡＤ）等のトリアリールアミン類、４，４’，４”−トリス［３−メチルフェニル（フェニル）アミノ］トリフェニルアミン（ｍ−ＭＴＤＡＴＡ）、４，４’，４”−トリス［１−ナフチル（フェニル）アミノ］トリフェニルアミン（１−ＴＮＡＴＡ）等のスターバーストアミン類及び５，５’−α−ビス−｛４−［ビス（４−メチルフェニル）アミノ］フェニル｝−２，２’:５’，２’−α−ターチオフェン（ＢＭＡ−３Ｔ）等のオリゴチオフェン類、芳香族アミン含有高分子、芳香族ジアミン含有高分子、フルオレン含有芳香族アミン高分子、トリアゾール系、オキサゾール系、オキサジアゾール系、シロール系、ボロン系、などの有機材料が挙げられる。
【００４０】
また、Ｃｕ２ Ｏ，Ｃｒ２ Ｏ３ ，Ｍｎ２ Ｏ３ ，ＦｅＯｘ ，ＮｉＯ，ＣｏＯ，Ｐｒ２Ｏ３ ，Ａｇ２ Ｏ，ＭｏＯ２ ，Ｂｉ２ Ｏ３ 、ＺｎＯ，ＴｉＯ２ ，ＳｎＯ２ ，ＴｈＯ２，Ｖ２ Ｏ５ ，Ｎｂ２ Ｏ５ ，Ｔａ２ Ｏ５ ，ＭｏＯ３ ，ＷＯ３ ，ＭｎＯ２ 等の遷移金属酸化物及びこれらの窒化物、硫化物を一種以上含んだ無機化合物、などの無機材料も挙げられる。ただし、材料はこれらに限定されるものではない。正孔機能層７に含まれる各層の膜厚は、２０［ｎｍ］以上１００［ｎｍ］以下であることが好適である。これは、膜厚が２０［ｎｍ］よりも薄くなると、ショート欠陥が生じやすくなり、また１００［ｎｍ］を超えると、高抵抗化により低電流化してしまうためである。
【００４１】
（有機発光層の詳細な構成）
まず、発光材料としては、一般的に乾式法で形成する低分子材料と湿式法で形成する高分子材料がある。各材料の特長として、発光特性は低分子材料の方が優れており、青色発光材料の寿命の差は顕著である。但し、近年の赤色及び緑色それぞれの高分子材料は性能がかなり向上しており、低分子材料と同等ぐらいの性能も得られている。高精細化や大型化するためには、塗り分け性能やコスト面が優れている湿式法を用いることが可能な高分子材料が、有利とされている。高分子材料以外にも可溶性低分子材料も使用することができる。しかし、可溶性低分子材料の発光特性は溶媒などの影響を受けて、本来持つ低分子材料の特性より劣ることや高分子材料と比べて粘度が低く成膜が難しいなどの課題もある。
【００４２】
高分子材料は、例えば、クマリン系、ペリレン系、ピラン系、アンスロン系、ポルフィレン系、キナクリドン系、Ｎ，Ｎ’−ジアルキル置換キナクリドン系、ナフタルイミド系、Ｎ，Ｎ’−ジアリール置換ピロロピロール系、イリジウム錯体系等の発光性色素を、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリビニルカルバゾール等の高分子中に分散させたものや、ポリアリーレン系、ポリアリーレンビニレン系やポリフルオレン系が挙げられる。なお、本実施形態では、これらの材料に限定するものではない。
【００４３】
上述した高分子材料に加え、低分子材料としては、９，１０−ジアリールアントラセン誘導体、ピレン、コロネン、ペリレン、ルブレン、１，１，４，４−テトラフェニルブタジエン、トリス（８−キノラート）アルミニウム錯体、トリス（４−メチル−８−キノラート）アルミニウム錯体、ビス（８−キノラート）亜鉛錯体、トリス（４−メチル−５−トリフルオロメチル−８−キノラート）アルミニウム錯体、トリス（４−メチル−５−シアノ−８−キノラート）アルミニウム錯体、ビス（２−メチル−５−トリフルオロメチル−８−キノリノラート）［４−（４−シアノフェニル）フェノラート］アルミニウム錯体、ビス（２−メチル−５−シアノ−８−キノリノラート）［４−（４−シアノフェニル）フェノラート］アルミニウム錯体、トリス（８−キノリノラート）スカンジウム錯体、ビス［８−（パラ−トシル）アミノキノリン］亜鉛錯体及びカドミウム錯体、１，２，３，４−テトラフェニルシクロペンタジエン、ポリ−２，５−ジヘプチルオキシ−パラ−フェニレンビニレンなどが挙げられる。なお、本実施形態では、これらの材料に限定するものではない。さらに、これら材料の中で溶解性のある場合は、可溶性低分子材料として高分子材料の代わりに用いても良い。
【００４４】
ここで、本実施形態として、赤発光画素１７及び緑発光画素１８に赤・緑による混合色の有機発光層８を湿式法にて一括でパターニング形成した後、表示領域全面に青色有機発光層９を乾式法にてパターニングせず形成したＥＬ構造と前述の赤フィルタ１４と緑フィルタ１５を組合せることを提案する。このような高分子材料と低分子材料を組合せた該ＥＬ構造は双方材料の利点を活かすことができる。さらに、パターニング工程の簡易化及び高精細化を狙い緑色と赤色の混合色発光材料を一括にて成膜しているため、赤フィルタ１４及び緑フィルタ１５を設けて、赤・緑による混合色の有機発光層８から発生した光を赤色と緑色に分離している。また、該ＥＬ構造のように赤・緑による混合色の有機発光層８と青色発光層９を積層すると、赤・緑による混合色の有機発光層８に注入された正孔の一部が通り抜け、青色発光層９で電子と正孔が再結合し、赤発光画素１７及び緑発光画素１８の発光色に青色成分が混色する危険性がある。この不具合については、カラーフィルタでこの青色成分を除去することで解消できる。このような作用効果によって、性能と生産性に優れた有機ＥＬパネルを提供できる。
【００４５】
赤・緑による混合色の有機発光層８の材料として、例えば、上記に挙げた高分子ホスト材料に赤色と緑色の色素をドーパント（ｄｏｐａｎｔ）させた高分子分散型の材料や、赤色と緑色の高分子、または可溶性低分子媒体を混合させた材料などを用いることができる。
【００４６】
また、湿式法を用いる場合は、溶媒に溶解または安定に分散させることにより、有機発光インクとして使用する。ここで、発光材料を溶解または分散する溶媒としては、トルエン、キシレン、アセトン、アニソール、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等の単独、または、これらの混合溶媒が挙げられる。特に、トルエン、キシレン、アニソールといった芳香族有機溶媒が、有機発光材料の溶解性の面から好適である。また、上記の有機発光インクには、必要に応じて、界面活性剤、酸化防止剤、粘度調整剤、紫外線吸収剤等が添如されていてもよい。
【００４７】
（赤・緑による混合色の有機発光層８の詳細な構成）
以下、図１を参照して、赤・緑による混合色の有機発光層８の詳細な構成について説明する。該有機ＥＬパネルにおいて、赤・緑による混合色の有機発光層８は、上記に記載した高分子材料または可溶性のある低分子材料の中から選択し、湿式法にて赤発光画素１７及び緑発光画素１８の正孔機能層７上にパターニング形成する。赤・緑による混合色の有機発光層８の膜厚は、発光効率及び寿命の観点から、２０［ｎｍ］以上２００［ｎｍ］以下であることが好ましい。
【００４８】
（青色発光層９の詳細な構成）
以下、図１を参照して、青色発光層９の詳細な構成について説明する。青色発光層９は特性に優れた低分子材料の乾式法にて、表示領域全面に形成される。青色発光材料は、上述した有機発光層の低分子材料の中から選択する。
【００４９】
（電子機能層１２の詳細な構成）
以下、図１を参照して、電子輸送層１０及び電子注入層１１を含む電子機能層１２の詳細な構成について説明する。まず、電子輸送層１０は、電子輸送効率が高く、かつ仕事関数または最低非占有分子軌道ＬＵＭＯが小さく、しかも正孔ブロック性の高い材料を用いる。例えば、オキサジアゾール環、トリアゾール環、トリアジン環、キノリン環、フェナントロリン環、ピリミジン環、ピリジン環、イミダゾール環カルバゾール環等の含窒素ヘテロ環を、１つ以上含む化合物や錯体が挙げられる。具体例としては、バソクプロインやバソフェナントロリン等の１，１０−フェナントロリン誘導体、１，３，５−トリス（Ｎ−フェニルベンズイミダゾール−２−イル）ベンゼン（以下、ＴＰＢＩと略する）等のベンズイミダゾール誘導体、ビス（１０−ベンゾキノリノラト）ベリリウム錯体、８−ヒドロキシキノリンＡｌ錯体、ビス（２−メチル−８−キノリナート）−４−フェニルフェノレートアルミニウム等の金属錯体、４，４’−ビスカルバゾールビフェニル等が挙げられる。その他、芳香族ホウ素化合物、芳香族シラン化合物、フェニルジ（１−ピレニル）ホスフィン等の芳香族ホスフィン化合物、バソフェナントロリン、バソクプロイン、２，２’，２”−（１，３，５−ベンゼントリイル）−トリス（１−フェニル−１−Ｈ−ベンズイミダゾール）（ＴＰＢＩと略）、またはトリアジン誘導体等の含窒素ヘテロ環化合物等が挙げられる。但し、これらの材料に限定されるものではない。膜厚は、キャリアバランスを考慮して最適値を決定するため、一般的には０．１［ｎｍ］以上５０［ｎｍ］以下が好ましい。
【００５０】
次に、電子注入層１１は、電子注入効率が高く、さらに仕事関数の小さい材料を用いる。この場合、具体的な材料としては、Ｃａ、Ｃｓ、ＬｉＦ、ＢａＦ２等の、アルカリ金属及びアルカリ土類金属の化合物が挙げられる。これ以外にも、電子注入層１１の材料としては、例えば、有機材料として、Ａ１ｑ３等が挙げられる。膜厚は、キャリアバランスを考慮して最適値を決定するため、一般的には０．１［ｎｍ］以上５０［ｎｍ］以下が好ましい。
【００５１】
（第２電極１３の詳細な構成）
以下、図１を参照して、第２電極１３の詳細な構成について説明する。第２電極１３は、電子機能層１２上に形成されており、第１電極３と対向している。ここで、第２電極１３は、例えば、電子機能層１２へ水や酸素の浸入を防ぐために、表示領域全体を覆うように形成する。第２電極１３の材料としては、例えば、Ｍｇ、Ａ１、Ｙｂ等の金属単体を用いる。
【００５２】
（封止体について）
有機ＥＬパネル１は、電極（第１電極３、第２電極１３）間に有機発光材料（赤・緑による混合色の有機発光層８、青色有機発光層９）を挟み、電流を流すことで発光させることが可能である。しかし、これらの有機発光材料は、大気中の水分や酸素によって容易に劣化してしまう。このため、通常、有機ＥＬパネル１には、外部と遮断するための封止体（図示せず）を設ける。このような封止体として、例えば、封止材の上に樹脂層を設けて形成することが可能である。
【００５３】
上記の封止材の材料としては、水分や酸素の透過性が低い基材を用いる必要がある。ここで、封止材の材料としては、例えば、アルミナ、窒化ケイ素、窒化ホウ素等のセラミックス、無アルカリガラス、アルカリガラス等のガラス、石英、耐湿性フィルム等を挙げることができる。耐湿性フィルムとしては、例えば、プラスチック基材の両面にＳｉＯｘ をＣＶＤ法で形成したフィルムや、透過性の小さいフィルムと吸水性のあるフィルム、または、吸水剤を塗布した重合体フィルム等がある。ここで、耐湿性フィルムの水蒸気透過率は、１０−６［ｇ／ｍ２／ｄａｙ］以下であることが好適である。
【００５４】
樹脂層の材料としては、例えば、エポキシ系樹脂、アクリル系樹脂、シリコン樹脂等からなる光硬化型接着性樹脂、熱硬化型接着性樹脂、二液硬化型接着性樹脂や、エチレンエチルアクリレート（ＥＥＡ）ポリマー等のアクリル系樹脂、エチレンビニルアセテート（ＥＶＡ）等のビニル系樹脂、ポリアミド、合成ゴム等の熱可塑性樹脂や、ポリエチレンやポリプロピレンの酸変性物等の熱可塑性接着性樹脂を挙げることができる。ここで、封止材上に形成する樹脂層の厚みは、封止する有機ＥＬ表示装置の大きさや形状により任意に決定されるが、５［μｍ］以上５００［μｍ］以下が好適である。
【００５５】
なお、上記の説明では、封止体を、封止材上に樹脂層として形成したが、封止体を、有機ＥＬパネル１側に、直接形成することも可能である。ここで、封止体を、封止材と樹脂層の二層構造とし、樹脂層に熱可塑性樹脂を使用した場合は、加熱したロールで圧着のみ行うことが好適である。一方、樹脂層に熱硬化型接着樹脂を使用した場合は、加熱したロールで圧着した後、さらに、硬化温度で加熱硬化を行うことが好適である。また、樹脂層に光硬化性接着樹脂を使用した場合は、ロールで圧着した後、さらに光を照射することで硬化を行うことが可能である。
【００５６】
なお、上述したような封止材を用いて封止を行う代わりに、例えば、パッシベーション膜として、ＥＢ蒸着法やＣＶＤ法等のドライプロセスを用いて、窒化珪素膜等無機薄膜による封止体を用いることも可能である。また、これらを組み合わせた封止体を用いることも可能である。この場合、上述したパッシベーション膜の膜厚は、１００［ｎｍ］以上５００［ｎｍ］以下にすることが可能である。特に、材料の透湿性や、水蒸気光透過性等により異なるが、パッシベーション膜の膜厚は、１５０［ｎｍ］以上３００［ｎｍ］以下が好適である。
【００５７】
（有機ＥＬパネル１の製造方法）
以下、図１を参照しつつ、図３を用いて、有機ＥＬパネル１の製造方法を説明する。
図３は、凸版印刷法に用いる凸版印刷装置の概略構成を示す図である。有機ＥＬパネル１を製造する際には、まず基板２に赤フィルタ１４と緑フィルタ１５をスリットコート法やスピンコート法、ロールコート法などの塗布法で各層を構成する樹脂組成物からなる樹脂膜を形成した後にフォトリソグラフィー法でパターニングするか、インクジェット法や、グラビア印刷法、フレキソ印刷法などの各種印刷法、ラミネート法などの方法でパターン形成することができる。
【００５８】
続いて、平坦化膜１６の形成方法としては、公知の方法を適宜選択することができるが、スピンコート法やスリットコート法等の塗布法を用いるのが好ましい。
そして、平坦化膜１６上に第１電極３を形成する、陽極形成工程を行う。すなわち、有機ＥＬパネル１の製造方法には、陽極形成工程を含む。陽極形成工程において、第１電極３を形成する方法としては、第１電極３の材料に応じて、抵抗加熱蒸着法、電子ビーム蒸着法、反応性蒸着法、イオンプレーティング法、スパッタリング法等の乾式成膜法を用いることが可能である。また、第１電極３を形成する方法としては、乾式成膜法以外にも、グラビア印刷法や、スクリーン印刷法等の湿式成膜法等を用いることが可能である。
【００５９】
ここで、第１電極３を、赤発光画素１７、緑発光画素１８及び青発光画素１９毎に区画するようにパターニングする。このパターニングする方法としては、第１電極３の材料や成膜方法に応じて、マスク蒸着法、フォトリソグラフィ法、ウェットエッチング法、ドライエッチング法等の既存のパターニング法を用いることが可能である。なお、基板２として薄膜トランジスタ２０を形成した基板（図２参照）を用いる場合は、下層の画素に対応して導通を図ることができるように形成する。
【００６０】
そして、第１電極３を形成した後、第１電極３の周囲を囲む隔壁４を、基板２上に形成するように隔壁形成工程を行う。すなわち、有機ＥＬパネル１の製造方法には、隔壁形成工程を含む。隔壁形成工程において、第１電極３を形成した基板２上に隔壁４を形成するためには、以下の方法がある。例えば、第１電極３を形成した基板２上に無機膜を一様に形成し、レジストでマスキングした後、ドライエッチングを行う方法や、第１電極３を形成した基板２上に、感光性樹脂を積層し、フォトリソ法により所定のパターンとする方法などが挙げられる。
【００６１】
また、必要に応じて、隔壁４の材料に、撥水剤を添加することや、プラズマやＵＶを照射して、隔壁４の形成後に、隔壁４に対して、インクに対する撥液性を付与することも可能である。隔壁４を形成した後、正孔機能層７に含まれる正孔注入層５、正孔輸送層６を順に第１電極３上に形成する、正孔機能層７形成工程を行う。すなわち、有機ＥＬパネル１の製造方法には、正孔機能層７形成工程を含む。
【００６２】
正孔機能層７形成工程では、正孔注入層５や正孔輸送層６の材料に応じて、溶媒に溶解または分散させ、スピンコーター等を用いた各種塗布方法が用いられる。そのほかに、スリットコート法、スプレーコート法、バーコート法、ディップコート法、凸版印刷法によって形成する方法や、抵抗加熱蒸着法によって形成する方法も用いられる。これらの方法以外に、例えば、抵抗加熱蒸着法、電子ビーム蒸着法、反応性蒸着法、イオンプレーティング法、スパッタ法等の乾式法や、スピンコート法、ゾルゲル法等の湿式法等、既存の成膜法を用いてもよい。
【００６３】
また、適宜構造によって、正孔機能層７に含まれる正孔注入層５及び正孔輸送層６の形成は、２層以上積層する工程や赤発光画素１７及び緑発光画素１８、青発光画素１９毎に異なる材料を、パターニングする工程が含まれる。次に、赤・緑による混合色の有機発光層８を、赤発光画素１７及び緑発光画素１８に形成された正孔機能層７上に形成する、赤・緑による混合色の有機発光層８形成工程を行う。すなわち、有機ＥＬパネル１の製造方法には、赤・緑による混合色の有機発光層８形成工程を含む。
【００６４】
そして、赤・緑による混合色の有機発光層８形成工程では、赤色と緑色の混合有機色発光層８の材料に応じて、インクジェット印刷法、ノズルプリント印刷法、凸版印刷法、グラビア印刷法、スクリーン印刷法等のウェット成膜法等既存の成膜法を用いる。特に、発光材料を、溶媒に溶解、または、安定に分散させた有機発光インクを用いて、赤・緑による混合色の有機発光層８を、各発光色（赤色、緑色）に塗り分ける場合には、隔壁４間にインクを転写してパターニングできるインクジェット法、ノズルプリント法、凸版印刷法が好適である。
【００６５】
すなわち、赤・緑による混合色の有機発光層８形成工程では、赤発光画素１７及び緑発光画素１８の正孔機能層７上に、赤・緑による混合色の有機発光層８の材料である有機発光材料を溶媒に溶解または分散させた有機発光インクを塗工する。このようにして、赤・緑による混合色の有機発光層８を、一括で赤発光画素１７及び緑発光画素１８上にパターン化して形成する。また、有機発光層形成工程は、印刷法、インクジェット法及びノズルプリント法のうちいずれかを用いて行う。なお、上述した成膜法以外の方法を用いて、赤・緑による混合色の有機発光層８を形成してもよい。
【００６６】
ここで、図３を用いて、上記の凸版印刷法により、赤・緑による混合色の有機発光層８を形成する手順を説明する。図３は、凸版印刷法に用いる凸版印刷装置３０の概略構成を示す図である。図３中に示すように、凸版印刷装置３０は、有機発光材料からなる有機発光インクを、第１電極３、正孔機能層７が形成された基板２上にパターン印刷する際に用いる装置であり、インクタンク３１と、インクチャンバー３２と、アニロックスロール３３と、凸部が設けられた凸版３４がマウントされた版胴３５を有している。
【００６７】
インクタンク３１には、溶剤で希釈された有機発光インクが収容されており、インクチャンバー３２には、インクタンク３１から、有機発光インクが送り込まれるようになっている。アニロックスロール３３は、インクチャンバー３２のインク供給部に接して、インクチャンバー３２へ回転可能に支持されている。上記のパターン印刷を行う際には、アニロックスロール３３の回転に伴い、アニロックスロール３３の表面に供給された有機発光インクのインク層３６が、均一な膜厚に形成される。このインク層３６のインクは、アニロックスロール３３に近接して回転駆動される版胴３５にマウントされた凸版３４の凸部に転移する。
【００６８】
そして、被印刷基板（基板２）が、ステージ３７に、設置されており、凸版３４の凸部にあるインクにより、基板２に対して印刷される。この時、必要に応じた乾燥工程を経て、基板２上に赤・緑による混合色の有機発光層８が形成されることとなる。
次に、青発光画素１９の正孔機能層７の上部と、赤・緑による混合色の有機発光層８の上部とを含む表示領域全面に、青色有機発光層９を形成する青色有機発光層９形成工程を含む。すなわち、有機ＥＬパネル１の製造方法には、青色有機発光層９形成工程を含む。青色有機発光層９形成工程は、抵抗加熱蒸着法、電子ビーム蒸着法、反応性蒸着法等の乾式法を用いて行う。
【００６９】
このようにして青色有機発光層９を形成した後、電子輸送層１０、電子注入層１１、第２電極１２の順に形成するための電子輸送層１０形成工程、電子注入層１１形成工程、第２電極１２形成工程を含む。すなわち、有機ＥＬパネル１の製造方法には、電子輸送層１０形成工程、電子注入層１１形成工程、第２電極１２形成工程を含む。この電子輸送層１０形成工程、電子注入層１１形成工程、第２電極１２形成工程では、材料に応じ抵抗加熱法、電子ビーム蒸着法、反応性蒸着法、イオンプレーティング法、スパッタ法等を用いて形成する。
【００７０】
封止材上に樹脂層を設けて形成する。樹脂層の形成方法としては、例えば、溶剤溶液法、押出ラミネーション法、溶融・ホットメルト法、カレンダー法、ノズル塗布法、スクリーン印刷法、真空ラミネート法、熱ロールラミネート法等を挙げることができる。この場合、必要に応じて、吸湿性や吸酸素性を有する材料を含有させることも可能である。なお、有機ＥＬパネルと封止体との貼り合わせは、封止室で行う。
【実施例１】
【００７１】
［構成］
本実施例１の有機ＥＬパネル１は、図２に示したように、アクティブマトリクス基板（基板２）を用いた。この基板２上には、薄膜トランジスタ２０が、配設されている。この薄膜トランジスタ２０は、スイッチングパネルとして機能する。
また、アクティブマトリクス基板（基板２）のサイズは、２００［ｍｍ］×２００［ｍｍ］である。さらに、上記のアクティブマトリクス基板は、その中に対角が５インチであり、画素数が３２０×２４０のディスプレイが中央に配置されている。
【００７２】
［製造方法］
そして、上記のアクティブマトリクス基板（基板２）上に、感光性樹脂中に赤色素の顔料（Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ  ＲＥＤ  ２５４）を分散させた赤着色組成物を、スピンコート法により塗布する。その後、フォトマスクを介して所定のパターン露光及びアルカリ現像を着色組成物に行うことにより、赤発光画素に対応する部分に赤フィルタ１４のパターンを形成した。同様の工程にて、感光性樹脂中に緑色素の顔料（Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｇｒｅｅｎ  ３６）を分散させた緑着色組成物によって、緑発光画素に対応する部分に、緑フィルタ１５のパターンを形成した。
この上に感光性の平坦化材をコートし、平坦化膜１６を形成した。その後、フォトリソグラフィ法を用いてパターニングを行った。そして、薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）２０のドレイン電極と接続するためのコンタクトホールを開けた。
【００７３】
続けて、この平坦化膜１６上に、画素電極を形成した。電極にはＩＴＯを用いて、スパッタ法にてパターニング成膜することにより、厚さ１５０［ｎｍ］のＩＴＯ膜を形成し、これを第１電極３とした。さらに、第１電極３の周囲を囲んで、赤発光画素１７と、緑発光画素１８と、青発光画素１９とをそれぞれ区画する形状で、隔壁４を形成した。ここで、隔壁４を形成する際には、まず、アクリル系のフォトレジスト材料を、アクティブマトリクス基板の全面に厚さ２［μｍ］で形成する。その後、上記のフォトレジスト材料に対して、フォトリソグラフィ法により、第１電極３上に幅３０［μｍ］の隔壁４を形成した。その結果、各画素の幅は、８０［μｍ］×１５０［μｍ］となった。
【００７４】
次に、上記のように形成した第１電極３及び隔壁４上に、正孔注入層５と正孔輸送層６の順に形成し、正孔機能層７とした。正孔注入層５は、有機材料としてポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）と、ポリスチレンスルホン酸（以下ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ）の１ｗｔ％水分散液とを、スリットコート法を用いて表示領域となる部分全面に成膜した。表示領域以外の余分な箇所に成膜されたインクはウエスで拭き取った。乾燥後の正孔注入層５の膜厚は５０ｎｍとなった。続いて、正孔注入層５の上に、正孔輸送層６の材料であるポリビニルカルバゾール誘導体を、濃度が０．５［％］となるように、トルエンに溶解させたインクを用いて、上記のアクティブマトリクス基板を印刷機にセッティングする。そして、赤発光画素１７及び緑発光画素１８、青発光画素１９の第１電極３の真上に、そのラインパターンに合わせて、凸版印刷法で印刷する。その後、乾燥工程を行った。このとき、３００［線／インチ］のアニロックスロール及び感光性樹脂版を使用した。正孔輸送層６の狙い膜厚は、２０［ｎｍ］として印刷した。
【００７５】
次に、赤・緑による混合色の有機発光層８を形成する。その工程に、特徴があるので、有機ＥＬパネル１を製造する方法の一部を、図４も参照して説明する。
図４は、本発明の実施形態に係る有機ＥＬパネルの製造方法の一部を示すフローチャートである。図４に示すように、この有機ＥＬパネル１を製造する方法において、赤及び緑による混合色の有機発光層８を、表示領域の所定部分に形成する第１工程（Ｓ１）と、この第１工程（Ｓ１）の後に、青色有機発光層９を、表示領域の全面に形成する第２工程Ｓ２とを有する。なお、第１工程（Ｓ１）における混合色の有機発光層８は、印刷法により形成され、第２工程（Ｓ２）における青色発光層は、蒸着法により形成される。
【００７６】
赤色と緑色の混合色有機発光材料としては、赤色の色素：Ｂｔｐ２Ｉｒ（ａｃａｃ）と緑色の色素：Ｉｒ（ｐｐｙ）３がドープされたポリフルオレン誘導体を用いる。この発光材料を濃度が１［％］となるようにトルエンに溶解させて有機発光インクとする。そして、上述した第１工程（Ｓ１）において、アクティブマトリクス基板（基板２）を印刷機にセッティングする。次に、赤発光画素１７及び緑発光画素１８上に凸版印刷法にて、赤・緑による混合色の有機発光層８を一括でパターン印刷する。その後、乾燥工程を行った。このとき、１５０［線／インチ］のアニロックスロール４２及び水現像タイプの感光性樹脂板を使用した。赤・緑による混合色の有機発光層８の狙い膜厚は６０［ｎｍ］として印刷した。
【００７７】
次に、上述した第２工程（Ｓ２）において、青発光画素１９の正孔機能層７の上と赤発光画素１７及び緑発光画素１８の赤・緑による混合色の有機発光層８の上を含む表示領域全面に積層するように、青色有機発光層９を形成した。青色有機発光材料としては、アントラセン誘導体を用いた。成膜方法はメタルマスクを用いて抵抗加熱蒸着法により形成し、狙い膜厚は３０［ｎｍ］となった。
【００７８】
次に、電子輸送層１０と電子注入層１１から成る電子機能層１２を形成した。電子輸送材料としてはＢＡｌｑを、電子注入材料としてはＬｉＦを選択し、共にメタルマスクを用いて抵抗加熱蒸着法により形成した。厚みはそれぞれ、電子輸送層１０は１５［ｎｍ］、電子注入層１１は２［ｎｍ］となるように形成した。次に、第２電極１２として、Ａｌ膜を真空蒸着法によりメタルマスクを用いて１５０ｎｍ成膜した。そしてキャップ型封止ガラスと接着剤を、表示領域をカバーするように載せ、約９０℃で１時間接着剤を熱硬化して密閉封止し、アクティブマトリックス駆動型有機ＥＬパネル１を製作した。
【００７９】
このように作製したアクティブマトリックスの駆動型有機ＥＬパネル１は、発光層のパターニング工程を簡易化できる。この駆動型有機ＥＬパネル１の発光特性は、印加電圧７Ｖにおいて、赤・緑・青の３色に対して均等に発光特性が良い有機ＥＬパネルを実現した。すなわち、青発光画素１９で、発光効率が７ｃｄ／Ａ、ＣＩＥ色度がｘ＝０．１４３、ｙ＝０．１４５。また、緑発光画素１８で、発光効率が１４ｃｄ／Ａ、ＣＩＥ色度がｘ＝０．３０、ｙ＝０．６３５、赤発光画素１７で、発光効率が８ｃｄ／Ａ、ＣＩＥ色度がｘ＝０．６４、ｙ＝０．３１１という結果である。
【００８０】
以上説明したように、本発明によれば、赤発光画素及び緑発光画素に、赤及び緑による混合色の有機発光層を、一括で形成した後、表示領域全面に青色有機発光層を形成する。そして、例えば、基板の赤発光画素と緑発光画素に、赤と緑のカラーフィルタをそれぞれ設けるようにした。その結果、パターニング工程を簡易化できて、なおかつ、赤・緑・青の３色に対して均等に発光特性の向上が得られる有機ＥＬパネル及び有機ＥＬパネルの製造方法を実現できる。
【００８１】
［比較例１］
実施例１に対する比較例１として、本発明には該当しない有機ＥＬパネルを作製した。この比較例１には、赤フィルタ１４及び緑フィルタ１５を設けていない。そして、赤発光画素１７及び緑発光画素１８の区画に配設された発光層は赤・緑による混合色の有機発光層を形成していない。その代わり、色毎に赤色発光層と緑色発光層を凸版印刷法にてパターニング成膜した。その他、選択した材料、工程は実施例１と同じにして堆積した。このようにして作製した比較例１のアクティブマトリックスの駆動型有機ＥＬパネルの発光特性は、印加電圧７Ｖにおいて、実施例１に対し、青発光画素１６の発光効率のみ同レベルで良好だった。すなわち、青発光画素１６の発光効率が、７ｃｄ／Ａ、ＣＩＥ色度がｘ＝０．１４３、ｙ＝０．１４５であった。しかしながら、緑発光画素１５の緑発光画素は発光効率が、１５ｃｄ／Ａ、ＣＩＥ色度がｘ＝０．２７、ｙ＝０．５６３、赤発光画素１７の赤発光画素で発光効率が、９ｃｄ／Ａ、ＣＩＥ色度がｘ＝０．５８、ｙ＝０．３０となり、実施例１に対して、低効率であった。その他、青色成分が混色し色純度の悪い特性となり、さらにパターニング工程も増えてしまうという結果であった。
【符号の説明】
【００８２】
１      有機ＥＬパネル
２      基板
３      第１電極、陽極
４      隔壁
５      正孔注入層
６      正孔輸送層
７      正孔機能層
８      赤・緑による混合色の有機発光層
９      青色有機発光層
１０    電子輸送層
１１    電子注入層
１２    電子機能層
１３    第２電極、陰極
１４    赤のカラーフィルタ（赤フィルタ）
１５    緑のカラーフィルタ（緑フィルタ）
１６    平坦化膜
１７    赤発光画素
１８    緑発光画素
１９    青発光画素
２０    薄膜トランジスタ
２１    活性層
２２    ゲート絶縁膜
２３    ゲート電極
２４    ドレイン電極
２５    ソース電極
２６    走査線
２７    トランジスタ絶縁膜
３０    凸版印刷装置
３１    インクタンク
３２    インクチャンバー
３３    アニロックスロール
３４    凸版
３５    版胴
３６    インク層
３７    ステージ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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