(57)【要約】【課題】明色層を有する額縁部が形成された表示装置用のタッチパネル用前面板に関して、貼り合わせ時に気泡が発生したり、空気層が形成されることで界面反射が生じたりすることのない、表示領域の表示品位に優れたタッチパネル用前面板を提供する。【解決手段】タッチパネル用前面板では、透明な材料よりなる前面板２の片面に、その周縁部に積層されて表示領域を区画する額縁部３と、額縁部３の内側に積層される平坦化層１２とを形成する。平坦化層１２は、粘度が１０ｄＰａ・ｓ〜２００ｄＰａ・ｓの範囲にあり、且つ、２５℃、１ａｔｍの条件下において測定される相対蒸発速度の値が、酢酸ブチルの値を１としたとき０．２以下の範囲内にある有機溶剤を、少なくとも１種類以上含む有機材料を用いて、スクリーン印刷で形成される。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
タッチパネルに使用されるタッチパネル用前面板であって、
前記前面板の片面には、その周縁部に積層されて所定の形状の表示領域を区画する額縁部と、前記額縁部の内側に積層されて前記額縁部と前記表示領域の段差を平坦化する平坦化層とを備え、
前記前面板は透明な材料よりなり、
前記平坦化層が、粘度が１０ｄＰａ・ｓ〜２００ｄＰａ・ｓの範囲にあり、且つ、２５℃、１ａｔｍの条件下において測定される相対蒸発速度の値が、酢酸ブチルの値を１としたとき０．２以下の範囲内にある有機溶剤を、少なくとも１種類以上含む有機材料を用いて、スクリーン印刷で形成されることを特徴とするタッチパネル用前面板。
【請求項２】
前記有機材料が、芳香環を有さない樹脂を含むことを特徴とする請求項１に記載のタッチパネル用前面板。
【請求項３】
前記芳香環を有さない樹脂が、メタクリル酸環状アルキルエステル及び／またはアクリル酸環状アルキルエステル、よりなる群から選ばれる少なくとも１種と、他のラジカル重合性化合物との共重合体である樹脂であることを特徴とする請求項２に記載のタッチパネル用前面板。
【請求項４】
前記額縁部と前記表示領域との段差が、０以上１０μｍ以下であることを特徴とする請求項１乃至３の何れか１つに記載のタッチパネル用前面板。
【請求項５】
表示装置であって、
複数の画素が行列状に配列された画素領域を有し、入力信号に基づいて、前記画素領域に画像を構成する表示パネルと、
前記画素領域を覆うように取り付けられたタッチパネルセンサーと、
請求項１乃至４の何れか１つに記載のタッチパネル用前面板とを備えることを特徴とする表示装置。
【請求項６】
透明な前面板とタッチパネルセンサーとの一体型センサー基板であって、
前記前面板の片面には、その周縁部に積層されて所定の形状の表示領域を区画する額縁部と、前記額縁部の内側に積層されて前記額縁部と前記表示領域の段差を平坦化する平坦化層とを備え、
前記前面板における前記平坦化層及び前記額縁部の上には、前記前面板と一体化された前記タッチパネルセンサーのセンサー層を備え、
前記センサー層は、互いに絶縁された第１の透明電極及び第２の透明電極を含み、
前記平坦化層が、粘度が１０ｄＰａ・ｓ〜２００ｄＰａ・ｓの範囲にあり、且つ、２５℃、１ａｔｍの条件下において測定される相対蒸発速度の値が、酢酸ブチルの値を１としたとき０．２以下の範囲内にある有機溶剤を、少なくとも１種類以上含む有機材料を用いてスクリーン印刷で形成されることを特徴とする一体型センサー基板。
【請求項７】
前記有機材料が、芳香環を有さない樹脂を含むことを特徴とする請求項６に記載の一体型センサー基板。
【請求項８】
前記芳香環を有さない樹脂が、メタクリル酸環状アルキルエステル及び／またはアクリル酸環状アルキルエステル、よりなる群から選ばれる少なくとも１種と、他のラジカル重合性化合物との共重合体である樹脂であることを特徴とする請求項７に記載の一体型センサー基板。
【請求項９】
前記額縁部と前記表示領域との段差が、０以上１０μｍ以下であることを特徴とする請求項６乃至８の何れか１つに記載の一体型センサー基板。
【請求項１０】
表示装置であって、
複数の画素が行列状に配列された画素領域を有し、入力信号に基づいて、前記画素領域に画像を構成する表示パネルと、
前記画素領域を覆うように取り付けられた、請求項６乃至９の何れか１つに記載の一体型センサー基板とを備えることを特徴とする表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、表示装置用のタッチパネル用前面板に関し、より詳細には表示部に平坦化層を備えたタッチパネル用前面板に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、スマートフォンやタブレット等の携帯端末、カーナビゲーションシステムを始め、様々な電子機器の操作部にタッチパネル型入力装置（以下、単に「タッチパネル」と称す）が採用されている。タッチパネルは、液晶パネルや有機ＥＬ（Ｅｌｅｃｔｒｏ−Ｌｕｍｉｎｅｓｅｎｃｅ）等の表示デバイスの表示画面上に、指等の接触位置を検出可能な位置入力装置を貼り合わせて構成される。タッチパネルの方式としては、抵抗膜式、静電容量式、光学式、超音波式に大別されるが、それぞれメリット／デメリットがあるため用途に応じて使い分けられている。
【０００３】
静電容量式のタッチパネルは、一枚のガラス基板上にマトリックス状の透光性導電膜を形成し、電極間部分に指等が接触することによって誘起される静電容量の変化を、微弱な電流変化として検出することで、タッチパネル上の接触位置（タッチ位置）を特定するものである。静電容量式には、さらに、表面型と投影型とがある。投影型静電容量式タッチパネルは、Ｘ方向及びＹ方向にグリッド上に配列された複数の電極を備え、マルチタッチが可能であり、現在急速に普及しつつある。
【０００４】
投影型静電容量式のタッチパネルには、フィルムタイプとガラスタイプがある。フィルムタイプには、軽量・割れにくい、製造コストが安い、柔軟性があるため、表示装置や後述する前面板（カバーガラス）と貼り合わせる際に、気泡を除去し易く貼り合わせ易いというメリットがある。しかしながら、フィルムの透過率がガラスに比べて低いという問題や、フィルム上に形成された配線パターンの位置精度がガラスに比べて劣るので、配線を隠すための額縁部が大きくなり、表示エリアが狭くなるという問題や、表面の平滑性の差によりガラスタイプより見栄えが悪いという問題がある。高精細で低消費電力が要求されるスマートフォンやタブレットコンピュータ等の携帯端末等の小型品では、ガラスタイプが採用されることが多く、大面積で貼り合わせ易い等の生産性が要求されるテレビ等の中型、大型品では、安価で軽量なフィルム式が採用されることが多い。
【０００５】
投影型静電容量式タッチパネルは、一般的に５層構造、すなわち、金属配線、Ｘ方向用及びＹ方向用の２層の透明電極、２層の透明電極間の層間絶縁層、表面の保護層からなる。また、層間絶縁層を有機膜で形成することによってガラス基板の片面に２層の透明電極層を形成した片面構造と、ガラス基板を層間絶縁層としても使用し、２層の透明電極層をガラスの両面に分けて形成した両面構造の２つに大別される。
【０００６】
ここで、スマートフォンやタブレット等の携帯情報端末等のディスプレイには、最表面に前面板（カバーガラス）を設けた構造を採用することが一般的である。この前面板には、周縁部の配線等を隠すために遮光性の高い材料からなる額縁部が形成される。この額縁部には、機器のデザインに応じて、様々な色や模様、製造メーカ名の文字等を施すことができる。そのため、この額縁部は加飾層とも呼ばれる。黒色の額縁部を形成する場合、カラーフィルタのブラックマトリクス（以下、「ＢＭ」と称する）の黒色感光性組成物を用いて、ＢＭ製造工程を利用して、ガラス基板上に高抵抗の黒色の額縁部を精度良く形成できる。そのため、フォトリソグラフィ法（以下、「フォトリソ法」と称する）が一般的に広く用いられる（例えば、特許文献１参照）。
【０００７】
一方、白色やピンク色などの明るい色の額縁部を形成する場合、黒色の額縁部より隠蔽性が劣るため、隠蔽性を得るために通常５μｍ以上６０μｍ以下の膜厚で額縁部が形成される場合が多い。このため、白色やピンク色などの明るい色の額縁部を形成する方法として、厚膜での形成が可能なスクリーン印刷法が一般的に用いられる（例えば特許文献２参照）。
【０００８】
この白色やピンク色などの明るい色の額縁部を形成するときに使用するインキとしては、一般的には、波長４００ｎｍから７００ｎｍの可視領域での反射率が高い酸化チタンを分散させた材料が使用される。酸化チタンの粒子径は種々のものが組み合わされて使用されるが、０．１６μｍから０．３０μｍの平均粒子径のものが、青白い色相を呈することから広く用いられている。
【０００９】
従来は、加飾が施された前面板と、タッチパネルセンサー基板は別々に製造され、最終的に表示装置に貼り合わされてタッチパネルとして組み立てられていた。これに対し、前面板上にタッチパネルセンサーを形成する、加飾付き前面板一体型タッチパネルセンサー構造が、近年採用され始めている。この方式では、従来、タッチパネルセンサー基板として１枚余分に使用していたガラス基板を省略できることから、低コスト化技術として広がりつつある。
【００１０】
図１に、従来のスマートフォン等に使われる白色加飾付き前面板と静電容量式タッチパネルセンサーとの一体型センサー基板の一例を示す。図１において、（ａ）は断面図であり、（ｂ）は平面図である。また、図１の（ｂ）に示す二点鎖線は、（ａ）の断面図の切断位置を表す。
【００１１】
図１（ａ）、及び図１（ｂ）に示すように、前面板１０２上には矩形枠状の白色やピンク色などの明るい色の明色層１０３Ａを有する額縁部１０３が形成され、額縁部１０３の内側が表示領域１１０となっている。前述した通り白色やピンク色などの明るい色の明色層１０３Ａは隠蔽性が低いため、明色層１０３Ａ上には、遮光性の高い黒色または灰色の着色組成物からなる暗色層１０３Ｂが形成される。明色層１０３Ａ及び暗色層１０３Ｂには、図示しない赤外線通信用窓や近接センサー用窓を形成するために、遮光性材料が形成されていない開口部が設けられる。
【００１２】
暗色層１０３Ｂ上には、保護層１１（第２の絶縁層）及び取出し配線である金属配線６が形成され、表示領域１１０には、図１（ｂ）に示すように、ジャンパ配線４で接続された透明電極７及びその透明電極７に交差するように配置された透明電極８が形成される。これらの透明電極７及び透明電極８は、額縁部１０３上の金属配線６と接続されることで、表示領域で認識された入力情報が検出可能となる。
【００１３】
しかしながら、図１（ａ）に示すように、隠蔽性の低い白色やピンク色などの明るい色の明色層１０３Ａを有する額縁部１０３が形成されると、表示領域１１０の表面に対して段差が生じる。白色やピンク色の明るい色の明色層１０３Ａと、遮光性の高い黒色または灰色の着色組成物からなる暗色層１０３Ｂとの合計の膜厚は、通常１０μｍから６０μｍであり、これが表示領域１１０との段差となる。この段差により、透明電極７及び８の抵抗値が上昇し検出感度が悪化する、もしくは、透明電極７及び８に断線が生じ検出不良が発生するという不都合があった。
【００１４】
また、前記加飾が施された前面板と、タッチパネルセンサー基板を別々に製造し、表示装置に貼り合わせてタッチパネルを製造する従来構造においても、前記段差のために貼り合わせ時に空気層が形成されてしまい、気泡が発生したり、空気層による界面反射により表示品位低下を招いたりする不具合を生じていた。
【００１５】
これに対して、表示領域１１０に平坦化層を設けることで段差を解消する技術が開示されている（例えば特許文献３参照）。しかしながら、この平坦化層を得るための具体的な製造方法についての開示はなく、また、広い表示領域全面に亘る透明層を、気泡や異物混入などの欠陥がなく、高い歩留りで形成することは容易ではない。そのため、結果として、白色やピンク色などの明るい色の額縁部が形成され、表示領域との段差の影響がないタッチパネル用前面版を安価に製造することは出来なかった。
【００１６】
他方、携帯電話機やスマートフォンをはじめとしたモバイル機器は、屋外で使用されることが多いため、前面板における観測者側の面の裏面に直接積層される平坦化層に、太陽光が直接照射されることになる。しかしながら、従来の平坦化層では、長時間太陽光を照射した場合に樹脂劣化による色変化が生じたり、前面板との間に気泡を生じたりする課題があった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１７】
【特許文献１】特開２０１２−７８４８３号公報
【特許文献２】国際公開第２００９／１５７６４５号
【特許文献３】特開２００９−１９３５８７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１８】
本発明は、白色やピンク色などの明るい色の明色層を有する額縁部が形成された表示装置用のタッチパネル用前面板に関して、貼り合わせ時に気泡が発生したり、空気層が形成されることで界面反射が生じたりすることのない、表示領域の表示品位に優れたタッチパネル用前面板を提供する。また、長時間屋外で使用されても、表示領域に気泡が発生したり色変化を生じたりすることがなく、表示領域の表示品位に優れたタッチパネル用前面板を提供する。さらに、検出感度の悪化や検出不良の不具合が発生することのない、前記の額縁部を有する前面板と静電容量式タッチパネルセンサーとの一体型センサー基板を提供する。前記前面板または前記一体型センサー基板を備えた、表示品位のよい表示装置を提供する。
【課題を解決するための手段】
【００１９】
本発明の目的は、上記の不都合を解決するために、以下の構成を採用した。
【００２０】
第１の発明は、タッチパネルに使用されるタッチパネル用前面板であって、前面板の片面には、その周縁部に積層されて所定の形状の表示領域を区画する額縁部と、額縁部の内側に積層されて額縁部と表示領域の段差を平坦化する平坦化層とを備え、前面板は透明な材料よりなり、平坦化層が、粘度が１０ｄＰａ・ｓ〜２００ｄＰａ・ｓの範囲にあり、且つ、２５℃、１ａｔｍの条件下において測定される相対蒸発速度の値が、酢酸ブチルの値を１としたとき０．２以下の範囲内にある有機溶剤を、少なくとも１種類以上含む有機材料を用いて、スクリーン印刷で形成されることを特徴とする。
【００２１】
また、第２の発明は、第１の発明において、有機材料が、芳香環を有さない樹脂を含むことを特徴とする。
【００２２】
また、第３の発明は、第２の発明において、芳香環を有さない樹脂が、メタクリル酸環状アルキルエステル及び／またはアクリル酸環状アルキルエステル、よりなる群から選ばれる少なくとも１種と、他のラジカル重合性化合物との共重合体である樹脂であることを特徴とする。
【００２３】
また、第４の発明は、第１乃至第３の何れか１つの発明において、額縁部と表示領域との段差が、０以上１０μｍ以下であることを特徴とする。
【００２４】
また、第５の発明は、表示装置であって、複数の画素が行列状に配列された画素領域を有し、入力信号に基づいて、前記画素領域に画像を構成する表示パネルと、画素領域を覆うように取り付けられたタッチパネルセンサーと、第１乃至第４の何れか１つの発明のタッチパネル用前面板とを備えることを特徴とする。
【００２５】
また、第６の発明は、透明な前面板とタッチパネルセンサーとの一体型センサー基板であって、前面板の片面には、その周縁部に積層されて所定の形状の表示領域を区画する額縁部と、額縁部の内側に積層されて額縁部と表示領域の段差を平坦化する平坦化層とを備え、前面板における平坦化層及び額縁部の上には、前面板と一体化されたタッチパネルセンサーのセンサー層を備え、センサー層は、互いに絶縁された第１の透明電極及び第２の透明電極を含み、平坦化層が、粘度が１０ｄＰａ・ｓ〜２００ｄＰａ・ｓの範囲にあり、且つ、２５℃、１ａｔｍの条件下において測定される相対蒸発速度の値が、酢酸ブチルの値を１としたとき０．２以下の範囲内にある有機溶剤を、少なくとも１種類以上含む有機材料を用いてスクリーン印刷で形成されることを特徴とする。
【００２６】
また、第７の発明は、第６の発明において、有機材料が、芳香環を有さない樹脂を含むことを特徴とする。
【００２７】
また、第８の発明は、第７の発明において、芳香環を有さない樹脂が、メタクリル酸環状アルキルエステル及び／またはアクリル酸環状アルキルエステル、よりなる群から選ばれる少なくとも１種と、他のラジカル重合性化合物との共重合体である樹脂であることを特徴とする。
【００２８】
また、第９の発明は、第６乃至第８の何れか１つの発明において、額縁部と表示領域との段差が、０以上１０μｍ以下であることを特徴とする。
【００２９】
また、第１０の発明は、表示装置であって、複数の画素が行列状に配列された画素領域を有し、入力信号に基づいて、前記画素領域に画像を構成する表示パネルと、画素領域を覆うように取り付けられた、第６乃至第９の何れか１つの発明の一体型センサー基板とを備えることを特徴とする。
【発明の効果】
【００３０】
本発明によれば、上述の特徴を有することから、下記に示すことが可能となる。
【００３１】
本発明では、タッチパネルに使用される前面板の片面に、その周縁部に形成されて所定の形状の表示領域を区画する額縁部と、額縁部と表示領域の段差を平坦化する平坦化層が形成される。そのため、加飾が施された前面板と、タッチパネルセンサー基板を別々に製造しても、表示装置に貼り合わせてタッチパネルを製造する従来構造において生じる不具合、つまり、額縁部と表示領域の段差のために貼り合わせ時に空気層が形成されてしまい、気泡が発生したり、空気層による界面反射による表示品位低下を招いたりする不具合を回避できる。
【００３２】
また、平坦化層が、粘度が１０ｄＰａ・ｓ〜２００ｄＰａ・ｓの範囲にあり、且つ、２５℃、１ａｔｍの条件下において測定される相対蒸発速度の値が、酢酸ブチルの値を１としたとき０．２以下の範囲内にある有機溶剤を、少なくとも１種類以上含む有機材料を用いてスクリーン印刷で形成される。そのため、広い表示領域全面に亘る透明層を、気泡や異物混入などの欠陥がなく高い歩留りで形成することが可能となり、前面板を簡素化された工程で製造することが可能となる。
【００３３】
さらに、額縁部で囲まれた表示領域に相当する印刷領域を備えたスクリーン印刷版を用いて平坦化層をスクリーン印刷する際に、従来、スクリーン印刷時の重ね合わせ精度が不十分であるために、印刷された平坦化層が額縁部と重なってしまう不具合や、額縁部と印刷された平坦化層との間に隙間が生じる不具合が発生していた。しかしながら、本発明者らは鋭意検討の結果、平坦化層が前記有機材料からなる場合に、印刷された前記有機材料が適度に広がろうとする性質を有するため、印刷された平坦化層の有機材料と額縁部との間に隙間が生じても、前記有機材料が広がって隙間が埋められることや、印刷された前記有機材料が額縁部上に乗り上げた場合でも、広がろうとする力が働き乗り上げ部分がレべリングされるために、額縁部と平坦化層との重なり部分が滑らかになることを見出した。従って、本発明の平坦化層を有するタッチパネルに使用される前面板は、平坦化層によって表示領域と額縁部の段差が十分低減されている。そのため、前記加飾が施された前面板と、タッチパネルセンサー基板を、表示装置に貼り合わせる際においても、空気層が形成されて気泡が発生したり、空気層による界面反射で表示品位低下を招いたりする不具合を生じない。さらに、前記平坦化層がスクリーン印刷により必要部分にのみ形成されるため、フォトリソ法でパターニングした場合と比べて感光成分による色付きが少なく、光学特性に優れた平坦化層を提供できる。
【００３４】
また、第２の発明では、前記有機材料が、芳香環を有しない樹脂を含む。そのため、屋外使用時など、長時間太陽光を照射した場合にも、樹脂劣化による色変化や、前面板との間に気泡を生じることのない、表示品位に優れたタッチパネル用前面板を提供できる。
【００３５】
また、第４の発明では、額縁部と表示領域の段差が０以上１０μｍ以下である。そのため、貼り合わせ時に気泡が発生したり、空気層による界面反射で表示品位低下を招いたりする不具合を生じないタッチパネル用前面板が提供できる。
【００３６】
また、第５の発明は、表示パネルと、タッチパネルセンサー基板と、第１乃至第４の何れか１つの発明の静電容量式タッチパネル用前面板とを備える。そのため、前記加飾が施された前面板と、タッチパネルセンサー基板を、表示装置に貼り合わせる際においても、空気層が形成されて気泡が発生したり、空気層による界面反射で表示品位低下を招いたりする不具合が発生することがなく、表示品位に優れた表示装置を歩留り良く提供できる。
【００３７】
また、第６の発明では、透明な前面板の前記平坦化層及び前記額縁部の上に、互いに絶縁された第１の透明電極及び第２の透明電極を含むタッチパネルセンサー層が積層されて、タッチパネルセンサー層が前面板に一体化される。そのため、表示領域の透明電極と額縁部上の金属配線と接続する際に段差によって抵抗値が上昇したり、断線が生じたりする不具合を生じることのない、感度に優れた一体型センサー基板を提供できる。また、表示装置に貼り合わせてタッチパネルを製造する際においても、前記段差のために貼り合わせ時に空気層が形成されてしまい、気泡が発生したり、空気層による界面反射による表示品位低下を招いたりする不具合を回避できる。
【００３８】
また、前記平坦化層が、粘度が１０ｄＰａ・ｓ〜２００ｄＰａ・ｓの範囲にあり、且つ、２５℃、１ａｔｍの条件下において測定される相対蒸発速度の値が、酢酸ブチルの値を１としたとき０．２以下の範囲内にある有機溶剤を、少なくとも１種類以上含む有機材料を用いてスクリーン印刷で形成される。そのため、広い表示領域全面に亘る透明層を、気泡や異物混入などの欠陥がなく高い歩留りで形成することが可能となり、表示品位に優れた一体型センサー基板を、簡素化された工程で高い歩留りで製造できる。
【００３９】
さらに、本発明の平坦化層を有する一体型センサー基板は、平坦化層によって表示領域と額縁部の段差が十分低減されている。そのため、前記加飾が施された一体型センサー基板を、表示装置に貼り合わせる際においても、空気層が形成されて気泡が発生したり、空気層による界面反射で表示品位低下を招いたりする不具合を生じない。さらに、前記平坦化層がスクリーン印刷により必要部分にのみ形成される。そのため、フォトリソ法でパターニングした場合と比べて、感光成分による色付きが少なく、光学特性に優れた平坦化層を提供できる。
【００４０】
また、第７の発明では、前記有機材料が、芳香環を有しない樹脂を含む。そのため、屋外使用時など、長時間太陽光を照射した場合にも、樹脂劣化による色変化や、前面板との間に気泡を生じることのない、表示品位に優れた一体型センサー基板を提供できる。
【００４１】
また、第９の発明では、一体型センサー基板であって、額縁部と表示領域との段差が０以上１０μｍ以下である。そのため、表示領域の透明電極と額縁部上の金属配線とを接続する際に段差により抵抗値が上昇したり、断線が生じたりする不具合や、貼り合わせ時に気泡が発生したり、空気層による界面反射で表示品位低下を招いたりする不具合を生じない一体型センサー基板が提供できる。
【００４２】
また、第１０の発明は、表示パネルと、第６乃至第９の何れか１つの発明の一体型センサー基板とを備える。そのため、検出感度の悪化や検出不良の不具合、貼り合わせ時の気泡や、空気層による界面反射起因の表示品位低下の不具合を生じない、検出感度及び表示品位に優れた表示装置を提供できる。
【図面の簡単な説明】
【００４３】
【図１】従来の一体型センサー基板の構造を示す概略図であり、図１（ａ）は断面図であり、図１（ｂ）は平面図である。
【図２】本発明の一実施形態の一体型センサー基板と液晶表示装置を組み合わせた概略断面図である。
【図３】本発明の一実施形態の図２とは別の一体型センサー基板と液晶表示装置を組み合わせた概略断面図である。
【図４】図４（ａ）は、本発明の一実施形態のタッチパネル用前面板と静電容量式タッチパネルセンサー基板と液晶表示装置とを分離した状態の概略断面図であり、図４（ｂ）は、本発明の一実施形態のタッチパネル用前面板と静電容量式タッチパネルセンサー基板と液晶表示装置とを組み合わせた状態の概略断面図である。
【図５】平坦化層を形成した後のタッチパネル用前面板の概略図であり、図５（ａ）は断面図であり、図５（ｂ）は平面図である。
【図６】ジャンパ配線を形成した後のタッチパネル用前面板の概略図であり、図６（ａ）は断面図であり、図６（ｂ）は平面図である。
【図７】絶縁膜を形成した後のタッチパネル用前面板の概略図であり、図７（ａ）は断面図であり、図７（ｂ）は平面図である。
【図８】金属配線を形成した後のタッチパネル用前面板の概略図であり、図８（ａ）は断面図であり、図８（ｂ）は平面図である。
【図９】透明電極を形成した後のタッチパネル用前面板の概略図であり、図９（ａ）は断面図であり、図９（ｂ）は平面図である。
【図１０】絶縁保護膜を形成した後のタッチパネル用前面板の概略図であり、図１０（ａ）は断面図であり、図１０（ｂ）は平面図である。
【発明を実施するための形態】
【００４４】
以下、図面を参照して、本発明の実施形態について、詳細に説明する。
【００４５】
（第１の実施形態）
本実施形態に係る加飾付き前面板と静電容量式タッチパネルセンサーとの一体型センサー基板は、加飾が形成された前面板とタッチパネルセンサーとが一体に直接形成されている。また、金属配線を額縁部に設ける構成となっている。
【００４６】
図９（ａ）は、本実施形態に係る加飾付き前面板と静電容量式タッチパネルセンサーとの一体型センサー基板１の断面図である。図９（ｂ）は、図９（ａ）に示した一体型センサー基板１の積層構造の詳細を示す平面図であって、絶縁保護膜９の形成前の状態を示す。図９（ａ）は、図９（ｂ）に示した２点破線に沿う断面図である。図９（ｂ）では、図示を簡略化するために、Ｘ方向及びＹ方向のそれぞれに２ラインの電極パターンを模式的に示しているが、実際には、Ｘ方向及びＹ方向に図９（ｂ）より多くの電極が設けられる。図２は、本実施形態に係る一体型センサー基板１に表示デバイスを直接貼りつけ、一体としたときの形態を示すものである。図２における一体型センサー基板１は、図９（ｂ）に示した２点破線に沿う断面図に相当するものである。
【００４７】
加飾付き前面板と静電容量式タッチパネルセンサーとの一体型センサー基板１は、液晶パネル２１や有機ＥＬパネルなどの表示デバイスと組み合わせて用いられる位置入力装置である。一体型センサー基板１は、Ｘ方向に延びる複数の電極及びＹ方向に延びる複数の電極を有し、指が接触または近接した電極の静電容量の変化を検出することによって、指の接触位置（タッチ位置）の座標を特定する。
【００４８】
具体的には、一体型センサー基板１は、前面板２と、額縁部３と、額縁部３上に形成された保護層１１と、平坦化層１２と、複数のジャンパ配線４と、絶縁膜５（第１の絶縁膜）と、金属配線６と、第１の透明電極である複数の透明電極７と、第２の透明電極である複数の透明電極８と、絶縁保護膜９とを備える。額縁部３は、白色やピンク色などの明るい色の明色層３Ａと、遮光性の高い黒色または灰色の着色組成物からなる暗色層３Ｂとを備えている。明色層３Ａと暗色層３Ｂは、枠形状である。明色層３Ａと暗色層３Ｂでは、明色層３Ａが前面板２側に形成されている。なお、額縁部３と平坦化層１２が形成された前面板２（透明基板）は、タッチパネル用前面板（加飾付き前面板）を構成する。
【００４９】
前面板２は、一体型センサー基板１の最表面に位置する透明な前面板であり、使用者によってタッチされる部材である。本実施形態では、前面板として強化ガラス２を使用した例を説明するが、ガラスに代えて、耐熱性透明樹脂材料を前面板として使用してもよい。また、前面板２は、ガラス表面に樹脂材料からなる透明板を貼るなどして、複数の層から形成してもよい。
【００５０】
白色やピンク色などの明るい色の明色層３Ａは、波長４００ｎｍから７００ｎｍの可視領域での反射率が高い酸化チタンを分散させたスクリーン印刷用インキなどを用いて、前面板２の一方の面にスクリーン印刷により形成される。暗色層３Ｂは、遮光性の高い黒色または灰色の着色組成物を用いて、明色層３Ａに重なるようにスクリーン印刷またはフォトリソ法により形成される。明色層３Ａ及び暗色層３Ｂは、中央の窓部分に所定形状の表示領域１０を区画し、一体型センサー基板１の周縁部に設けられる金属配線６を隠す役割を果たす。明色層３Ａ及び暗色層３Ｂは、前面板２の周縁部に表示領域１０を区画するよう矩形枠状に形成されている。なお、明色層３Ａ及び暗色層３Ｂの平面形状は、本実施形態のような矩形枠状に限定されず、ハート型、たまご型、丸型などの枠状であってもよく、その平面形状は任意である。また、額縁部３の外周縁形状（外形）と内周縁形状（表示領域１０の外周形状）とは相似であってもよいし、非相似でもよい。
【００５１】
スクリーン印刷用インキを所望のパターンに印刷するスクリーン印刷版としては、ポリエステル繊維紗、ナイロン繊維紗、及びステンレス金属紗のものが用いられ、伸縮が少なく、インキやペーストを厚く塗布できる点でステンレス製が好適に用いられる。膜厚は、メッシュ数と呼ばれるスクリーンの織り密度によって決まり、１インチ間の網目の数を選択することで調整される。スクリーン印刷用インキ、スクリーン版、及びスキージを用いてスクリーン印刷機で印刷を行い、有機溶剤を蒸発させるために必要に応じてプリベークが実施される。プリベークには、熱風循環式オーブン、ホットプレート、又はＩＲオーブンを用いることができる。プリベーク後、加熱処理を行うことにより任意の額縁パターンが得られる。加熱処理には、熱乾燥オーブンを用いることができる。加熱処理は、スクリーン印刷用インキの硬化条件に合わせて、適宜１５０℃から２３０℃程度の温度範囲で、１０分から６０分の時間範囲で行われる。
【００５２】
平坦化層１２は、粘度が１０ｄＰａ・ｓ〜２００ｄＰａ・ｓの範囲にあり、且つ、２５℃、１ａｔｍの条件下において測定される相対蒸発速度の値が、酢酸ブチルの値を１としたとき０．２以下の範囲内にある有機溶剤を、少なくとも１種類以上含む有機材料を用いてスクリーン印刷で形成される。使用するスクリーン印刷版には、前述の通り所望のパターンが形成されている。
【００５３】
本実施の形態では、有機材料が前記粘度範囲、及び前記蒸発速度範囲にある。そのため、印刷された前記有機材料が適度に広がろうとする性質を有するので、額縁部３と印刷された平坦化層１２との間の隙間が埋められる。また、印刷された平坦化層１２が額縁部３上に乗り上げた場合でも、広がろうとする力が働き、乗り上げ部分がレべリングされ、額縁部３と平坦化層１２との重なり部分が滑らかになる。従って、本実施形態に係る平坦化層１２は、表示領域１０と額縁部３の段差を十分に低減することができる。
【００５４】
他方、平坦化層が前記粘度範囲、及び前記蒸発速度範囲にない場合には、印刷された前記有機材料が十分広がることができない。そのため、額縁部と印刷された平坦化層との間の隙間を埋めることができない。また、印刷された平坦化層が額縁部上に乗り上げた場合でも、乗り上げ部分がレべリングされず、額縁部と平坦化層との重なり部分が突起状の障壁となる。そのため、前記加飾が施された前面板と、タッチパネルセンサー基板を、表示装置に貼り合わせる際に、空気層が形成されて気泡が発生したり、空気層による界面反射で表示品位低下を招いたりする不具合を生じてしまう。
【００５５】
さらに、本実施形態では、平坦化層１２がスクリーン印刷により必要部分にのみ形成されるため、フォトリソ法でパターニングした場合と比べて、感光成分による色付きが少なく、光学特性に優れた平坦化層１２を提供できる。
【００５６】
以下で、本発明に係る平坦化層１２に用いる有機材料について詳述する。
【００５７】
＜平坦化層１２に用いる有機材料＞
平坦化層１２に用いる有機材料は、少なくとも（Ａ）樹脂と、（Ｂ）有機溶剤からなる有機材料である。（Ｂ）有機溶剤は、粘度が１０ｄＰａ・ｓ〜２００ｄＰａ・ｓの範囲にあり、且つ、２５℃、１ａｔｍの条件下において測定される相対蒸発速度の値が、酢酸ブチルの値を１としたとき０．２以下の範囲内にある有機材料である。本実施形態に係る（Ａ）樹脂は、芳香環を有さないことが好ましい。具体的には、芳香環を有さないアクリル樹脂、α-オレフィン／（無水）マレイン酸共重合体、エチレン／（メタ）アクリル酸共重合体、イソブチレン／（無水）マレイン酸共重合体、ポリエステル／エポキシ樹脂等を用いることができる。また、（Ａ）樹脂は、可視光領域の４００〜７００ｎｍの全波長領域において透過率が好ましくは８０％以上、より好ましくは９５％以上で、かつ重量平均分子量（Ｍｗ）が１０００〜５０万、好ましくは３０００〜１０万の透明樹脂である。また、数平均分子量（Ｍｎ）は１，０００〜５０，０００の範囲が好ましく、Ｍｗ／Ｍｎの値は１０以下であることが好ましい。（Ａ）樹脂について、芳香環を有さない樹脂と併用可能なその他の樹脂としては、熱可塑性樹脂や熱硬化性樹脂が挙げられる。
【００５８】
＜（Ａ）樹脂＞
前面板２は、使用者によってタッチされる部材であるので、直接太陽光が照射される最表面側に位置することになる。前面板２の観測者側の面の裏面には、平坦化層１２が形成される。そのため、平坦化層１２には太陽光の暴露に対する耐候性（耐光性）が求められる。芳香環を有さない樹脂を用いた平坦化層１２では、以下の不具合を解消できる。すなわち、観測者側の面から太陽光を長時間照射した場合、または、例えば３００〜４００ｎｍの範囲の波長の照度が６０Ｗ／ｍ２のキセノンアークランプ光を５００時間照射した場合でも、気泡が生じたり、照射部（照射された部位）と未照射部（照射されていない部位）の間の反射率の相違によってムラに見えたりするなどの問題を解決できる。
【００５９】
前記キセノンアークランプとしては、ＪＩＳ  Ｋ７３５０−２（ＩＳＯ４３９２−２）に定められている６０Ｗ／ｍ２のものを用い、キセノンアークランプ式耐候性試験機はＪＩＳ  Ｂ７７５４（１９９１）に記載のものを用いることができる。
【００６０】
本実施形態において好適に用いられる（Ａ）芳香環を有さない樹脂の一例としては、メタクリル酸環状アルキルエステル及び／またはアクリル酸環状アルキルエステルの少なくともいずれか１種と、他のラジカル重合性化合物との共重合体を挙げることができる。該共重合体中のメタクリル酸環状アルキルエステル及び／またはアクリル酸環状アルキルエステル成分の共重合割合が１０〜７０重量％であることが好ましい。
【００６１】
メタクリル酸アルキルエステル及び／またはアクリル酸アルキルエステルの主な機能は、透明基材などの前面板２との密着性付与にある。メタクリル酸アルキルエステル及び／またはアクリル酸環状アルキルエステルの側鎖の比較的大きな環状構造（後述）が、前面板２（透明基材）との密着性に寄与すると考えられる。
【００６２】
メタクリル酸環状アルキルエステル及び／またはアクリル酸環状アルキルエステルは、下記一般式（１）及び（２）に示す脂肪族環基からなる群から選ばれる１種類以上の環状構造を有し、前面板２（透明基材）に対する密着部位として機能する。（Ａ）樹脂の全構成単位の重量を基準として、メタクリル酸環状アルキルエステル及び／またはアクリル酸環状アルキルエステルは、前面板２との密着性、及び有機溶剤中での溶解性の観点から、１０〜７０重量％が好ましい。１０重量％未満では、前面板２に対する密着部位が不足して、高品質な平坦化層が得られないといった問題や、平坦化層１２に用いる有機材料の保存安定性が悪くなるといった問題などが発生し易くなる。７０重量％を越えると、（Ｂ）有機溶剤への溶解性が悪くなり、所定の粘度範囲に制御することができず、印刷性が悪くなる。
【００６３】
一般式（１）：
【化１】
2014197323.tif 000003
【００６４】
一般式（２）：
【化２】
2014197323.tif 000004
【００６５】
本実施形態に用いられるメタクリル酸環状アルキルエステル及び／またはアクリル酸環状アルキルエステルとしては、下記一般式（３）に示すエチレン性不飽和単量体、または下記一般式（４）に示すエチレン性不飽和単量体等が挙げられる。
一般式（３）：
【化３】
2014197323.tif 000005
【００６６】
一般式（４）：
【化４】
2014197323.tif 000006
【００６７】
（一般式（３）〜一般式（４）中、Ｒ１は、水素原子、またはメチル基であり、Ｒ２は、炭素数２もしくは３のアルキレン基であり、ｍは、０〜２の整数である。）
【００６８】
一般式（３）に示されるエチレン性不飽和単量体としては、例えば、
日立化成社製ファンクリル  ＦＡ−５１３Ａ〔ジシクロペンタニルアクリレート、Ｒ１：水素原子、Ｒ２：なし、ｍ＝０〕、またはＦＡ−５１３Ｍ〔ジシクロペンタニルメタクリレート、Ｒ１：水素原子、Ｒ２：なし、ｍ＝０〕等を用いることができるが、これらに限定されることなく、２種類以上を併用することもできる。
【００６９】
一般式（４）に示される不飽和エチレン製単量体としては、例えば、
日立化成社製ファンクリル  ＦＡ−５１１Ａ〔ジシクロペンテニルアクリレート、Ｒ１：水素原子、Ｒ２：なし、ｍ＝０〕、ＦＡ−５１２Ａ〔ジシクロペンテニルオキシエチルアクリレート、Ｒ１：水素原子、Ｒ２：エチレン基、ｍ＝１〕、ＦＡ−５１２Ｍ〔ジシクロペンテニルオキシエチルメタクリレート、Ｒ１：メチル基、Ｒ２：エチレン基、ｍ＝１〕、またはＦＡ−５１２ＭＴ〔ジシクロペンテニルオキシエチルメタクリレート、Ｒ１：メチル基、Ｒ２：エチレン基、ｍ＝１〕等を用いることができるが、これらに限定されることなく、２種類以上を併用することもできる。
【００７０】
メタクリル酸環状アルキルエステル及び／またはアクリル酸環状アルキルエステル以外に共重合体に用いて好適な構成単位としては、メチル（メタ）メタアクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ−プロピル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｓ−ブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、ペンチル（メタ）アクリレート、イソペンチルアクリレート、ネオペンチル(メタ)アクリレート、ｔ−ペンチル(メタ)アクリレート、１−メチルブチル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、ヘプタ（メタ）アクリレート、オクチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、セチル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、イソステアリル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、アリル（メタ）アクリレート、またはオレイル（メタ）アクリレート等のアルキルまたはアルケニル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、β−カルボキシエチル（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジグリシジルエーテルジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテルジ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、エステルアクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート、ウレタンアクリレート等の各種アクリル酸エステル及びメタクリル酸エステル、酢酸ビニル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、エチレングリコールジビニルエーテル、ペンタエリスリトールトリビニルエーテル、（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ビニルホルムアミド、アクリロニトリル、ジメチル−２，２′−［オキシビス（メチレン）］ビス−２−プロペノエート、ジエチル−２，２′−［オキシビス（メチレン）］ビス−２−プロペノエート、ジシクロヘキシル−２，２′−［オキシビス（メチレン）］ビス−２−プロペノエート、ジベンジル−２，２′−［オキシビス（メチレン）］ビス−２−プロペノエート等のモノマー・オリゴマーが挙げられるが、目的に応じて、これらに限定することなく、他のエチレン性不飽和単量体を選ぶこともでき、２種類以上併用することもできる。
【００７１】
その他のエチレン性不飽和単量体としては、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、または３−メチルオキセタニル（メタ）アクリレート等の複素環式置換基を有する（メタ）アクリレート類；
メトキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、またはエトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート等のアルコキシポリアルキレングリコール（メタ）アクリレート類；あるいは、
（メタ）アクリルアミド（なお、「（メタ）アクリルアミド」と表記した場合には、アクリルアミド及び／またはメタクリルアミドを示すものとする。以下同じ。）、Ｎ，Ｎ−ジメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−イソプロピル（メタ）アクリルアミド、ダイアセトン（メタ）アクリルアミド、またはアクリロイルモルホリン等の（メタ）アクリルアミド類等を用いることができる。
【００７２】
また、前記アクリル単量体以外の単量体としては、エチルビニルエーテル、ｎ−プロピルビニルエーテル、イソプロピルビニルエーテル、ｎ−ブチルビニルエーテル、またはイソブチルビニルエーテル等のビニルエーテル類；あるいは、酢酸ビニル、またはプロピオン酸ビニル等の脂肪酸ビニル類等を用いることができる。アクリル単量体以外の前記単量体を、前記アクリル単量体と併用することもできる。
【００７３】
また、本実施形態に係る（Ａ）樹脂は、エチレン性不飽和二重結合を有してもよく、後述するエチレン性不飽和二重結合を導入するために、エポキシ基を有するエチレン性不飽和単量体、または水酸基を有するエチレン性不飽和単量体を用いることもできる。エチレン性不飽和二重結合を導入する方法としては、例えば、後述する方法（ａ）又は方法（ｂ）の方法を用いることができる。
【００７４】
［方法（ａ）］
方法（ａ）としては、例えば、エポキシ基を有するエチレン性不飽和単量体と、他の１種類以上の単量体とを共重合することによって得られた共重合体の側鎖エポキシ基に、エチレン性不飽和二重結合を有する不飽和一塩基酸のカルボキシル基を付加反応させ、更に、生成した水酸基に、多塩基酸無水物を反応させ、エチレン性不飽和二重結合及びカルボキシル基を導入する方法がある。
【００７５】
エポキシ基を有するエチレン性不飽和単量体としては、例えば、グリシジル（メタ）アクリレート、メチルグリシジル（メタ）アクリレート、２−グリシドキシエチル（メタ）アクリレート、３，４−エポキシブチル（メタ）アクリレート、及び３，４−エポキシシクロヘキシル（メタ）アクリレートが挙げられ、これらは、単独で用いても、２種類以上を併用してもかまわない。次工程の不飽和一塩基酸との反応性の観点で、グリシジル（メタ）アクリレートが好ましい。
【００７６】
不飽和一塩基酸としては、（メタ）アクリル酸、クロトン酸、ｏ−、ｍ−、Ｐ−ビニル安息香酸、（メタ）アクリル酸のα位ハロアルキル、アルコキシル、ハロゲン、ニトロ、シアノ置換体等のモノカルボン酸等が挙げられ、これらは、単独で用いても、２種類以上を併用してもかまわない。
【００７７】
多塩基酸無水物としては、テトラヒドロ無水フタル酸、無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、無水コハク酸、無水マレイン酸等が挙げられ、これらは単独で用いても、２種類以上を併用してもかまわない。カルボキシル基の数を増やす等、必要に応じて、トリメリット酸無水物等のトリカルボン酸無水物を用いたり、ピロメリット酸二無水物等のテトラカルボン酸二無水物を用いたりして、残った無水物基を加水分解すること等もできる。また、多塩基酸無水物として、エチレン性不飽和二重結合を有する、エトラヒドロ無水フタル酸、または無水マレイン酸を用いると、更にエチレン性不飽和二重結合を増やすことができる。
【００７８】
方法（ａ）に類似の方法として、例えば、カルボキシル基を有するエチレン性不飽和単量体と、他の１種類以上の単量体とを共重合することによって得られた共重合体の側鎖カルボキシル基の一部に、エポキシ基を有するエチレン性不飽和単量体を付加反応させ、エチレン性不飽和二重結合及びカルボキシル基を導入する方法を用いることもできる。
【００７９】
［方法（ｂ）］
方法（ｂ）としては、水酸基を有するエチレン性不飽和単量体を使用し、他のカルボキシル基を有する不飽和一塩基酸の単量体や、他の単量体とを共重合することによって得られた共重合体の側鎖水酸基に、イソシアネート基を有するエチレン性不飽和単量体のイソシアネート基を反応させる方法がある。
【００８０】
水酸基を有するエチレン性不飽和単量体としては、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−もしくは３−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−もしくは３−もしくは４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、グリセロール（メタ）アクリレート、またはシクロヘキサンジメタノールモノ（メタ）アクリレート等のヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート類が挙げられ、これらは、単独で用いても、２種類以上を併用してもかまわない。また、上記ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレートに、エチレンオキシド、プロピレンオキシド、及び／またはブチレンオキシド等を付加重合させたポリエーテルモノ（メタ）アクリレートや、（ポリ）γ−バレロラクトン、（ポリ）ε−カプロラクトン、及び／または（ポリ）１２−ヒドロキシステアリン酸等を付加した（ポリ）エステルモノ（メタ）アクリレートも用いることができる。塗膜異物抑制の観点から、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、またはグリセロール（メタ）アクリレートが好ましい。
【００８１】
イソシアネート基を有するエチレン性不飽和単量体としては、２−（メタ）アクリロイルオキシエチルイソシアネート、または１，１−ビス〔（メタ）アクリロイルオキシ〕エチルイソシアネート等を用いることができるが、これらに限定することなく、２種類以上併用することもできる。
【００８２】
＜熱可塑性樹脂＞
熱可塑性樹脂としては、アクリル樹脂、ブチラール樹脂、塩素化ポリエチレン、塩素化ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリ酢酸ビニル、ポリウレタン系樹脂、ポリエステル樹脂、ビニル系樹脂、アルキッド樹脂、ポリアミド樹脂、ゴム系樹脂、環化ゴム系樹脂、セルロース類、ポリエチレン（ＨＤＰＥ、ＬＤＰＥ）、ポリブタジエン、及びポリイミド樹脂等を用いることができる。
【００８３】
＜熱硬化性樹脂＞
熱硬化性樹脂としては、エポキシ樹脂、ベンゾグアナミン樹脂、ロジン変性マレイン酸樹脂、ロジン変性フマル酸樹脂、メラミン樹脂、尿素樹脂、及びフェノール樹脂等を用いることができる。
【００８４】
＜（Ｂ）有機溶剤＞
本実施形態に係る（Ｂ）有機溶剤は、蒸発速度が０．２以下であることが必須であり、０．１５以下であることがさらに好ましい。蒸発速度が０．２を超える溶剤を用いると、印刷塗布後のペーストに含まれる溶剤の乾燥が速く、スクリーン印刷塗布時に塗膜の擦れやメッシュの詰まりが発生し、連続して印刷することが困難である。更に、塗膜表面においては溶剤の蒸発の速度が速いために、スクリーンメッシュの紗の部位に相当する凹凸が維持され易く、最終的にその凹凸が残ってしまう。
【００８５】
本実施形態に係る溶剤の蒸発速度は、温度が２５℃及び相対湿度が５５％ＲＨのときの酢酸ブチルの単位時間あたりの重量減少量を１とした場合の相対速度である。蒸発速度は、本実施形態に用いる溶剤１０ｇを直径が９０ｍｍのガラスシャーレに滴下し、これを常温常圧の雰囲気に１時間放置し、１時間後の溶剤乾燥重量減少量をＡとし、また酢酸ブチル１０ｇを前記と同様、直径９０ｍｍのガラスシャーレに滴下し、これを常温常圧の雰囲気に１時間放置し、１時間後の溶剤乾燥重量減少量をＢとして、次式により求めることができる。
【００８６】
数１：蒸発速度＝Ａ／Ｂ
【００８７】
本実施形態に係る（Ｂ）有機溶剤としては、メタノール、エタノール、イソプロパノール、エチレングリコール、プロピレングリコール、等のアルコール類や、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブトルケトンイソホロン等のケトン系溶剤、テトラヒドロフラン等のエーテル系溶剤、カルビトール、メチルカルビトール、ブチルカルビトール、プロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル等のグリコールエーテル系溶剤、酢酸エチル、酢酸イソブチル、エチルセロソルブアセテート、ブチルセロソルブアセテート、エチルカルビトールアセテート、１-メトキシ-２-プロピルアセテート、エステル系溶剤、エチルベンゼン、シクロヘキサノン、キシレンソルベントナフサ、ミネラルスピリット等の炭化水素系溶剤等を用いることができる。本発明の趣旨を逸脱しない範囲において、これらを単独でもしくは混合して用いることができる。有機溶剤の添加量として、有機材料全量を基準として、１〜７０重量％の範囲で添加することが好ましく、より好ましい範囲は５〜３０重量％である。
【００８８】
本実施形態の平坦化層１２に用いる有機材料は、以下に例示するような、光重合モノマー、光重合開始剤、増感剤、多官能チオール、紫外線吸収剤及び重合禁止剤をさらに含んでもよい。
【００８９】
＜光重合モノマー＞
光重合性モノマーとしては、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、プロピレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレートなどの各種アクリル酸エステル及びメタクリル酸エステルなどを用いることができる。
【００９０】
＜光重合開始剤＞
光重合開始剤としては、４−フェノキシジクロロアセトフェノン、４−ｔ−ブチル−ジクロロアセトフェノン、ジエトキシアセトフェノン、ｐ−ジメチルアミノアセトフェノン、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノプロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタン−１−オン、２−（ジメチルアミノ）−２−［（４−メチルフェニル）メチル］−１−［４−（４−モルホリニル）フェニル］−１−ブタノンなどのアセトフェノン系化合物、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンジルジメチルケタールなどのベンゾイン系化合物、ベンゾフェノン、ベンゾイル安息香酸、ベンゾイル安息香酸メチル、４−フェニルベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、アクリル化ベンゾフェノン、４−ベンゾイル−４’−メチルジフェニルサルファイド、３，３’，４，４’−テトラ（ｔ−ブチルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノンなどのベンゾフェノン系化合物、チオキサントン、２−クロルチオキサントン、２−メチルチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、２，４−ジイソプロピルチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントンなどのチオキサントン系化合物、２，４，６−トリクロロ−ｓ−トリアジン、２−フェニル−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−メトキシフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−トリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−ピペロニル−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−スチリル−ｓ−トリアジン、２−（ナフト−１−イル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−メトキシ−ナフト−１−イル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２，４−トリクロロメチル−（ピペロニル）−６−トリアジン、２，４−トリクロロメチル（４’−メトキシスチリル）−６−トリアジンなどのトリアジン系化合物、１，２−オクタンジオン，１−〔４−（フェニルチオ）フェニル−，２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）〕、Ｏ−（アセチル）−Ｎ−（１−フェニル−２−オキソ−２−（４’−メトキシ−ナフチル）エチリデン）ヒドロキシルアミンなどのオキシムエステル系化合物、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）フェニルホスフィンオキサイド、２，４，６−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−ホスフィンオキサイドなどのホスフィン系化合物、２，２´−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，５，４´，５´−テトラフェニル−１，２´−ビイミダゾール、２，２’−ビス（ｏ−メトキシフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラ（ｐ−メチルフェニル）ビイミダゾール、などのイミダゾール系化合物、９，１０−フェナンスレンキノン、カンファーキノン、エチルアントラキノンな���のキノン系化合物、ボレート系化合物、カルバゾール系化合物、チタノセン系化合物などを用いることができる。
【００９１】
これらの中でも、アセトフェノン系化合物、ホスフィン系化合物、及びオキシムエステル系化合物からなる群より選ばれる少なくとも１種類以上の光重合開始剤を含むことがより好ましい。
【００９２】
これらの光重合開始剤は、１種または必要に応じて任意の比率で２種以上混合して用いることができる。光重合開始剤の含有量は、平坦化層１２に用いる有機材料全量を基準として、１．０〜２００重量部、好ましくは１．０〜１５０重量部の量で用いることができる。
【００９３】
＜増感剤＞
増感剤としては、例えばカルコン誘導体やジベンザルアセトンなどに代表される不飽和ケトン類、ベンジルやカンファーキノンなどに代表される１，２−ジケトン誘導体、ベンゾイン誘導体、フルオレン誘導体、ナフトキノン誘導体、アントラキノン誘導体、キサンテン誘導体、チオキサンテン誘導体、キサントン誘導体、チオキサントン誘導体、クマリン誘導体、ケトクマリン誘導体、シアニン誘導体、メロシアニン誘導体、オキソノ−ル誘導体などのポリメチン色素、アクリジン誘導体、アジン誘導体、チアジン誘導体、オキサジン誘導体、インドリン誘導体、アズレン誘導体、アズレニウム誘導体、スクアリリウム誘導体、ポルフィリン誘導体、テトラフェニルポルフィリン誘導体、トリアリールメタン誘導体、テトラベンゾポルフィリン誘導体、テトラピラジノポルフィラジン誘導体、フタロシアニン誘導体、テトラアザポルフィラジン誘導体、テトラキノキサリロポルフィラジン誘導体、ナフタロシアニン誘導体、サブフタロシアニン誘導体、ピリリウム誘導体、チオピリリウム誘導体、テトラフィリン誘導体、アヌレン誘導体、スピロピラン誘導体、スピロオキサジン誘導体、チオスピロピラン誘導体、金属アレーン錯体、有機ルテニウム錯体、ミヒラーケトン誘導体などを用いることができる。なお、本発明において誘導体とは、もとの化合物に対して、その化合物の一部を他の原子や官能基で置換、あるいは、酸化、還元するなどの改変がなされた化合物を意味する。誘導体は、構造上、もとの化合物の骨格の大部分を含有していればよく、もとの化合物の構造が類似しているだけで、全く異なる性質を示すものであってもよい。
【００９４】
さらに、増感剤として、具体例には、大河原信ら編、「色素ハンドブック」（１９８６年、講談社）、大河原信ら編、「機能性色素の化学」（１９８１年、シーエムシー）、池森忠三朗ら編、「特殊機能材料」（１９８６年、シーエムシー）に記載の増感剤が挙げられるが、これらに限定されるものではない。また、その他、紫外から近赤外域にかけての光に対して吸収特性を示す増感剤を含有させることもできる。
【００９５】
上記増感剤の中で、特に好適な増感剤としては、チオキサントン誘導体、ミヒラーケトン誘導体、カルバゾール誘導体が挙げられる。さらに具体的には、２，４−ジエチルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２，４−ジクロロチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、４−イソプロピルチオキサントン、１−クロロ−４−プロポキシチオキサントン、４，４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４’−ビス（エチルメチルアミノ）ベンゾフェノン、Ｎ−エチルカルバゾール、３−ベンゾイル−Ｎ−エチルカルバゾール、３，６−ジベンゾイル−Ｎ−エチルカルバゾールなどが用いられる。増感剤は、任意の比率で２種以上の増感剤を含んでいてもかまわない。増感剤の含有量は、光重合開始剤１００重量部に対して、１．０〜１００重量部の量で用いることができる。
【００９６】
＜多官能チオール＞
多官能チオールは、チオール（ＳＨ）基を２個以上有する化合物である。多官能チオールは、光重合開始剤とともに用いることにより、光照射後のラジカル重合過程において、連鎖移動剤として働き、酸素による重合阻害を受けにくいチイルラジカルが発生する。特にＳＨ基がメチレン、エチレン基などの脂肪族基に結合した多官能脂肪族チオールが好ましい。
【００９７】
多官能チオールとしては、例えば、ヘキサンジチオール、デカンジチオール、１，４−ブタンジオールビスチオプロピオネート、１，４−ブタンジオールビスチオグリコレート、エチレングリコールビスチオグリコレート、エチレングリコールビスチオプロピオネート、トリメチロールプロパントリスチオグリコレート、トリメチロールプロパントリスチオプロピオネート、トリメチロールエタントリス（３−メルカプトブチレート）、トリメチロールプロパントリス（３−メルカプトブチレート）、トリメチロールプロパントリス（３−メルカプトプロピオネート）、ペンタエリスリトールテトラキスチオグリコレート、ペンタエリスリトールテトラキスチオプロピオネート、ペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトプロピオネート）、ジペンタエリスリトールヘキサキス（３−メルカプトプロピオネート）、トリメルカプトプロピオン酸トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、１，４−ジメチルメルカプトベンゼン、２、４、６−トリメルカプト−ｓ−トリアジン、２−（Ｎ，Ｎ−ジブチルアミノ）−４，６−ジメルカプト−ｓ−トリアジンなどが挙げられる。これらの多官能チオールは、１種を単独で、または２種以上を混合して用いることができる。
【００９８】
多官能チオールの含有量は、平坦化層１２に用いる有機材料全量を基準として、０．０５〜１００重量部が好ましく、より好ましくは１．０〜５０．０重量部である。
【００９９】
＜紫外線吸収剤、重合禁止剤＞
本実施形態の顔料系レジストは、紫外線吸収剤または重合禁止剤を含有する。紫外線吸収剤としては、例えば２−［４−［（２−ヒドロキシ−３−（ドデシル及びトリデシル）オキシプロピル）オキシ］−２−ヒドロキシフェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−［１−オクチルオキシカルボニルエトキシ］フェニル）−４，６−ビス（４−フェニルフェニル）−１，３，５−トリアジンなどのヒドロキシフェニルトリアジン系、２−（５−メチル−２−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４，６−ビス（１−メチル−１−フェニルエチル）フェノール、２−（３−ｔブチル−５−メチル−２−ヒドロキシフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾールなどのベンゾトリアゾール系、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−オクトキシベンゾフェノン、２，２’，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノンなどのベンゾフェノン系、フェニルサリチレート、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニルサリチレートなどのサリチレート系、エチル−２−シアノ−３，３’−ジフェニルアクリレートなどのシアノアクリレート系、２，２，６，６，−テトラメチルピペリジン−１−オキシル（トリアセトン−アミン−Ｎ−オキシル）、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−セバケート、ポリ［［６−［（１，１，３，３−テトラブチル）アミノ］−１，３，５−トリアジン−２，４−ジイル］［（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジニル）イミノ］などのヒンダードアミン系などが挙げられ、これらを単独でもしくは２種以上混合して用いる。
【０１００】
また、重合禁止剤としては、例えばメチルハイドロキノン、ｔ−ブチルハイドロキノン、２，５−ジ−ｔ−ブチルハイドロキノン、４−ベンゾキノン、４−メトキシフェノール、４−メトキシ−１−ナフトール、ｔ−ブチルカテコールなどのハイドロキノン誘導体及びフェノール化合物、フェノチアジン、ビス−（１−ジメチルベンジル）フェノチアジン、３，７−ジオクチルフェノチアジンなどのアミン化合物、ジブチルジチオカルバミン酸銅、ジエチルジチオカルバミン酸銅、ジエチルジチオカルバミン酸マンガン、ジフェニルジチオカルバミン酸マンガンなどの銅及びマンガン塩化合物、４−ニトロソフェノール、Ｎ−ニトロソジフェニルアミン、Ｎ−ニトロソシクロヘキシルヒドロキシルアミン、Ｎ−ニトロソフェニルヒドロキシルアミンなどのニトロソ化合物及びそのアンモニウム塩またはアルミニウム塩などが挙げられ、これらを単独でもしくは２種以上混合して用いる。
【０１０１】
紫外線吸収剤及び重合禁止剤の合計含有量は、平坦化層１２に用いる有機材料全量を基準として、０．０１〜２０重量部、好ましくは０．０５〜１０重量部の量で用いることができる。
【０１０２】
前記成分の他に、本実施形態に係る有機材料の経時粘度を安定化させるために貯蔵安定剤を含有させることができる。貯蔵安定剤としては、例えばベンジルトリメチルクロライド、ジエチルヒドロキシアミンなどの４級アンモニウムクロライド、乳酸、シュウ酸などの有機酸およびそのメチルエーテル、ｔ−ブチルピロカテコール、トリエチルホスフィン、トリフェニルフォスフィンなどの有機ホスフィン、亜リン酸塩等を用いることができる。貯蔵安定剤は、平坦化層１２に用いる有機材料全量を基準として、０．１〜１０重量％の量で含有させることができる。
【０１０３】
また、本実施形態に係る有機材料に界面活性剤を含ませることが出来る。界面活性剤として、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸塩、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム、スチレン−アクリル酸共重合体のアルカリ塩、アルキルナフタリンスルホン酸ナトリウム、アルキルジフェニルエーテルジスルホン酸ナトリウム、ラウリル硫酸モノエタノールアミン、ラウリル硫酸トリエタノールアミン、ラウリル硫酸アンモニウム、ステアリン酸モノエタノールアミン、ステアリン酸ナトリウム、ラウリル硫酸ナトリウム、スチレン−アクリル酸共重合体のモノエタノールアミン、ポリオキシエチレンアルキルエーテルリン酸エステルなどのアニオン性界面活性剤；ポリオキシエチレンオレイルエーテル、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルエーテルリン酸エステル、ポリオキシエチレンソルビタンモノステアレート、ポリエチレングリコールモノラウレートなどのノニオン性界面活性剤；アルキル４級アンモニウム塩やそれらのエチレンオキサイド付加物などのカオチン性界面活性剤；アルキルジメチルアミノ酢酸ベタインなどのアルキルベタイン、アルキルイミダゾリンなどの両性界面活性剤が挙げられ、これらは単独でまたは２種以上を混合して用いることができる。 
【０１０４】
本実施形態に係る有機材料に、前面板２との密着性向上のためにシランカップリング剤を含ませることができる。シランカップリング剤として、ＫＢＭ-３０３、ＫＢＭ-４０２、ＫＢＭ-４０３、ＫＢＥ-４０２、ＫＢＥ-４０３、ＫＢＭ-５０２、ＫＢＭ-５０３、ＫＢＥ-５０２、ＫＢＥ-５０３、ＫＢＭ-５１０３、ＫＢＭ-８０２、ＫＢＭ-８０３、ＫＢＥ-９００７（以上、信越シリコーン社製）、Ｚ-６０１１、Ｚ-６０２０、Ｚ-６０３０、Ｚ-６０４０、Ｚ-６０４３、Ｚ-６０９４、Ｚ-６５１９（以上、東レダウコーニング社製）等を用いることができる。シランカップリング剤は、平坦化層１２に用いる有機材料全量を基準として、０．１重量％以上１重量％以下の量で含有させることができる。
【０１０５】
また、平坦化層１２の比誘電率は、好ましくは１０以下、より好ましくは４．０以下とする必要がある。静電容量結合方式のタッチパネルの応答性を確保するためである。
【０１０６】
ここで比誘電率とは、媒質の誘電率εと真空の誘電率ε０の比ε／ε０で表され、用いる単位系によらず、一定の値をとる無次元量である。比誘電率を単に誘電率と称して、比誘電率と区別なく表現される場合があるが、本発明の特徴は、比誘電率を意味する限り、これらの表現の違いによっては限定されない。
【０１０７】
比誘電率の測定は、ＪＩＳ−Ｋ−６９１１、ＪＩＳ−Ｃ−６４８１、ＡＳＴＭ−Ｄ−１５０のいずれかの規格に準じて試験片を作製し、インピーダンスアナライザ（ＬＣＲメーター）を用いて行われる。その他には、アルミ蒸着電極上に、顔料系レジストを所定の厚みになるように成膜して、さらにその上にアルミ電極を蒸着して作製される試験片をインピーダンスアナライザで計測することで行ってもよい。
【０１０８】
また、本実施形態の平坦化層１２上には、透明電極７、８が形成されるため、電気的な絶縁性を確保する必要がある。すなわち、平坦化層１２の体積抵抗率としては、１×１０９Ω・ｃｍ以上が好ましく、１×１０１２Ω・ｃｍ以上がさらに好ましい。平坦化層１２の体積抵抗率が、１×１０９Ω・ｃｍ未満の場合、平坦化層１２上に形成された透明電極配線が短絡（ショート）することとなり、タッチパネルセンサーが正常に動作しなくなるためである。
【０１０９】
ここで体積抵抗率とは、単位体積当たりの抵抗である。体積抵抗率は、物質に固有の絶対値であり、各辺１ｃｍの立方体の相対する２表面を電極として、２つの電極間の抵抗を測定することで得られる。体積抵抗率を単に抵抗率と称して、体積抵抗率と区別なく表現される場合があるが、本発明の特徴は、体積抵抗率を意味する限り、これらの表現の違いによっては限定されない。
【０１１０】
体積抵抗率の測定は、ＪＩＳ−Ｋ−６９１１、ＪＩＳ−Ｋ−６２７１、ＡＳＴＭ−Ｄ−２５７、ＩＥＣ−６００９３のいずれかの規格に準じて試験片を作製し、円形電極の間で絶縁抵抗計により電気抵抗を測定する方法（二重リング電極法）や、ＪＩＳ−Ｋ−７１９４規格に準じて作製した試験片に４本の針状の電極を直線上に置き、外側の二探針間に一定電流を流し、内側の二探針間に生じる電位差を測定し抵抗を求める（四深針法）方法を用いて行われる。二重リング電極法は、１０８〜１０１６Ωの絶縁体の抵抗率測定に適しており、５００Ｖを電極間に印加して１分後の抵抗値を測定し、電極形状から体積抵抗率及び表面抵抗率を求める方法である。一方、四深針法は、１０−２〜１０７Ωの導電体の抵抗率測定に適しており、測定された抵抗に試料厚さ、補正係数ＲＣＦ（Ｒｅｓｉｓｔｉｖｉｔｙ  Ｃｏｒｒｅｃｔｉｏｎ  Ｆａｃｔｏｒ）をかけて体積抵抗率を算出する。これらは、測定する体積抵抗率の範囲により適宜使い分けられる。
【０１１１】
保護層１１は、後工程での薬液処理に対して保護する目的で、明色層３Ａと暗色層３Ｂからなる額縁部３を覆うように、絶縁性を有する材料を用いて形成される。工程を簡素化するために、後述する絶縁膜５と同時に形成してもよい。
【０１１２】
ジャンパ配線４は、導電性を有する材料を用いて形成される。ジャンパ配線４は、表示領域１０内の平坦化膜１２上に、表示領域１０の一辺と平行なＸ方向に延びる配線として形成される。ジャンパ配線４は、Ｘ方向と、Ｘ方向に直交するＹ方向とに、間欠的かつ行列状に配列されている。ジャンパ配線４は、Ｘ方向に整列する透明電極７を接続するためのものである。
【０１１３】
複数の絶縁膜５は、ジャンパ配線４の各々に対応して設けられる。絶縁膜５の各々は、対応するジャンパ配線４と交差してＹ方向に延びるように形成され、Ｘ方向におけるジャンパ配線４の中央部と部分的に重なっている。絶縁膜５は、ジャンパ配線４と透明電極８との間の層間絶縁膜として機能する。ジャンパ配線４と透明電極７とのＸ方向の接続を可能とするため、絶縁膜５は、ジャンパ配線４の両端部とは重なっていない。
【０１１４】
金属配線６は、暗色層３Ｂ上に直接または間接的に形成され、表示領域１０の周縁部に位置する透明電極７及び透明電極８に電気的に接続されている。本実施形態では、金属配線６は、保護層１１上に、Ｍｏ／Ａｌ／Ｍｏ（モリブデン／アルミニウム／モリブデン）の積層体から形成されてなるが、これ以外にＡｕ（金）やＡｇ（銀）、Ａｇ合金などによって形成されてもよい。
【０１１５】
透明電極７は、Ｘ座標を検出するためのものである。透明電極７は、電気伝導性と透明性とを有する材料を用いて、表示領域１０内の前面板２上の平坦化層１２上に形成されている。透明電極７は、Ｘ方向及びＹ方向に間欠的かつ行列状に配列され、Ｘ方向に隣接するジャンパ配線４に電気的に接続されている。透明電極７は、例えば、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）によって形成される。
【０１１６】
透明電極８は、Ｙ座標を検出するためのものである。本実施形態では、透明電極８は、透明電極７と同一材料を用いて、透明電極７と同一工程で形成される。透明電極８は、Ｙ方向に整列する透明電極７の各列間をＹ方向に延び、図２及び図３に示すように、絶縁膜５上でジャンパ配線４と立体交差している。
【０１１７】
絶縁保護膜９は、ジャンパ配線４と、金属配線６と、透明電極７及び透明電極８と、額縁部３とを覆うように、金属配線６の引き出し配線に当たる部分を除き前面板２のほぼ全面に亘って形成されている。絶縁保護膜９は、前面板２上に形成された各構成要素を保護する保護膜として機能する。
【０１１８】
なお、本実施形態に係る一体型センサー基板１においては、ジャンパ配線４と、絶縁膜５と、透明電極７及び透明電極８と、絶縁保護膜９とが、タッチパネルセンサー層に相当する。
【０１１９】
図２に、本実施形態に係る一体型センサー基板１に、表示デバイスとして液晶パネル２１を直接貼りつけて一体としたときの形態を示す。図２に示すように、液晶パネル２１は、偏光板２２及び偏光板２７、前面ガラス２３、カラーフィルタ２４、液晶／電極／ＴＦＴなどの層２５、及び背面ガラス２６を備えている。
【０１２０】
液晶パネル２１は、図示しないバックライトで背面ガラス２６側から照明される。液晶パネル２１に表示された画像は、前面板２に形成された額縁部３の内側の表示領域１０を介して視認され、一体型センサー基板１に対するタッチ操作により操作される。図２に示すように、一体型センサー基板１は、液晶パネル２１と比べ、額縁部３（Ａ）と額縁部３（Ｂ）からなる額縁部３がある分だけ大きな幅となっている。
【０１２１】
（第２の実施形態）
図３を参照して、本発明の第２の実施形態に係る加飾付き前面板２と静電容量式タッチパネルセンサーとの一体型センサー基板１について説明する。第２の実施形態において、第１の実施形態と同じ部分は同一符号を付し、説明を省略し、異なった部分だけを説明する。図３は、本実施形態に係る一体型センサー基板１に液晶パネル２１を直接貼りつけて一体としたときの形態を示す。なお、本実施形態でも、明色層３Ａと暗色層３Ｂからなる額縁部３の切断面において、額縁部３の側面は、第１の実施形態と同じ順テーパー形状である。
【０１２２】
本実施形態に係る一体型センサー基板１は、前面板２にタッチパネルセンサーを一体に直接形成した構成となっている点は第１の実施形態と同一であるが、明色層３Ａと暗色層３Ｂからなる額縁部３に保護層１１を形成せずに金属配線６を設ける構成となっている点が第１の実施形態とは異なる。
【０１２３】
第１の実施形態では、明色層３Ａと暗色層３Ｂからなる額縁部３を、金属配線６を形成する工程での薬液処理から保護するために、図７に示すように、額縁部３の上に保護層１１を形成してから、金属配線６を設けたが、明色層３Ａと暗色層３Ｂからなる額縁部３を構成する材料の薬液耐性が高く、また、暗色層３Ｂの表面が平滑な場合には、額縁部３上に保護層１１を形成せずに金属配線６を直接形成してもよい。
【０１２４】
（第３の実施形態）
図４（ａ）、及び図４（ｂ）を参照して、本発明の第３の実施形態に係る加飾付き前面板２と静電容量式タッチパネルセンサー基板３１について説明する。この第３の実施形態において、今まで説明した実施形態と同じ部分は同一符号を付し、説明を省略し、異なった部分だけを説明する。図４（ａ）は、組み立て前の状態を示し、図４（ｂ）は、本実施形態に係る加飾付き前面板２と静電容量式タッチパネルセンサー基板３１に液晶パネル２１を一体としたときの形態を示す。
【０１２５】
図４（ａ）に示すように、タッチパネル１３は、前面板２と、静電容量式タッチパネルセンサー基板３１との２つの部分から構成される。前面板２には、第１の実施形態と同様に、白色やピンク色などの明るい色の明色層３Ａと、遮光性の高い黒色または灰色の着色組成物を用いて明色層３Ａに重なるように形成される暗色層３Ｂからなる額縁部３が形成されている。白色やピンク色などの明るい色の明色層３Ａは、波長４００ｎｍから７００ｎｍの可視領域での反射率が高い酸化チタンを分散させた材料などを用いて、前面板２の一方の面上の前面板２側に形成される。前面板２には、さらに、額縁部３の段差を低減する平坦化層１２が形成されている。静電容量式タッチセンサー基板３１の片面には、いままで説明した実施形態と同様、複数のジャンパ配線４と、絶縁膜５と、透明電極８と、金属配線６が形成される（図４では、ジャンパ配線４及び絶縁膜５を省略している。）。液晶パネル２１には、端部にスペーサ２８が配設される。
【０１２６】
図４（ｂ）は、上記の３つの部品を貼りつけ、一体としたものである。タッチパネルセンサー基板３１と液晶パネル２１との間には、スペーサ２８の分だけ、エアギャップ層２９が形成される。
【０１２７】
なお、本発明の加飾付きタッチパネル用前面板、及び加飾付き前面板と静電容量式タッチパネルセンサーとの一体型センサー基板は、その細部が上述した第１〜第３の実施形態に限定されず、種々の変形が可能である。上述の第１〜第３の実施形態として、３つの種類の構成を説明したが、これらの構造に限定されるわけではない。例えば、絶縁膜を一部の電極などの部分に形成するだけでなく、パネル全体に広がる層状の絶縁層として形成したりしてもよい。
【０１２８】
また、上述した第１〜第３の実施形態では、タッチパネルセンサーとして投影型静電容量式タッチパネルを用いて説明したが、静電容量式に限定されるわけではなく、額縁部を有する種々の方式のタッチパネルに応用できる。
【実施例】
【０１２９】
本発明をさらに詳しく説明するために以下に実施例を挙げるが、本発明はこれらの実施例のみに限定されるものではない。なお、この実施例では、前述の第１の実施形態で説明した構成についての製造方法について詳述する。
【０１３０】
図５〜図１０は、本実施例に係るタッチパネルセンサー１の製造工程を示す図である。図５〜図１０において、（ａ）は断面図であり、（ｂ）は平面図である。また、図５〜１０の（ｂ）に示す二点鎖線は、（ａ）の断面図の切断位置を表す。
（実施例１）
【０１３１】
＜１．明色層３Ａの形成＞
まず、前面板２の一方面の上に、波長４００ｎｍから７００ｎｍの可視領域での反射率が高い酸化チタンを分散させた白インキを、所望のパターンを施したスクリーン印刷版を用いて、スクリーン印刷法により塗布した。次に、乾燥機にて溶剤分を除去したのち、２３５℃で２０分間の熱処理を行い、図５に示す明色層３Ａを形成した。
【０１３２】
＜２．暗色層３Ｂの形成＞
次に、前面板２上の明色層３Ａの上面に、カーボン系墨インキを、所望のパターンを施したスクリーン印刷版を用いて、スクリーン印刷法により塗布した。次に、乾燥機にて溶剤分を除去したのち、２３５℃で２０分間の熱処理を行い、図５に示す暗色層３Ｂを形成した。
【０１３３】
＜３．平坦化層１２の形成＞
次に、前面板２のうち、明色層３Ａ及び暗色層３Ｂを形成した面の上に、後述する平坦化層用有機材料を、所望のパターンを施したスクリーン印刷版を用いて、スクリーン印刷法により塗布した。次に、乾燥機にて溶剤分を除去したのち、２３５℃で２０分間の熱処理を行い、図５に示す平坦化層１２を形成した。
【０１３４】
＜４．ジャンパ配線４の形成＞
まず、図５に示す中間生成物の上に、ＤＣマグネトロンスパッタ方式にて、成膜材料を加熱しながらスパッタする加熱スパッタによって、ＩＴＯ膜を形成した。次に、一般的なノボラック系ポジレジストをスピンコートし、プレベーク後、露光したのち、アルカリ水溶液にてポジ現像を行った。ここで、露光はプロキシミティー露光方式（超高圧水銀ランプ）を使用し、露光用フォトマスクとしてはソーダガラスにＣｒでパターンを施したものを用いた。そして、シュウ酸（（ＣＯＯＨ）２）を用いてＩＴＯ膜のエッチングを行い、ポジレジストを全面露光したのち、アルカリ水溶液にてポジレジストを剥離して、図６に示すように、ＩＴＯ膜によりジャンパ配線４を形成した。
【０１３５】
＜５．絶縁膜５及び保護層１１の形成＞
まず、図６に示す中間生成物の上に、アクリル系絶縁材料をスピンコートにより塗布した。次に、プレベークして溶剤分を除去し、プロキシミティー露光方式（超高圧水銀ランプ）にて露光した。ここで、露光用フォトマスクとしては、クオーツガラスにＣｒでパターンを施したものを用いた。次に、アルカリ水溶液にて現像し、熱処理を行った。このようにして、図７に示すように、ジャンパ配線４上の絶縁膜５と、額縁部３上の保護層１１とを、同時に形成した。この工程において、絶縁膜５と保護層１１とを、同時に形成するため、別々に形成する場合と比べて、製造工程及び製造コストの増加を招くことはない。
【０１３６】
＜６．金属配線６の形成＞
まず、図７に示す中間生成物の上に、ＤＣマグネトロンスパッタ方式にて、真空中でＭｏの層、Ａｌの層、Ｍｏの層を順次形成し、３層積層構造のＭｏ／Ａｌ／Ｍｏ積層体を形成した。次に、一般的なノボラック系ポジレジストをスピンコートし、プレベーク後、露光したのち、アルカリ水溶液にてポジ現像を行った。ここで、露光は、プロキシミティー露光方式（超高圧水銀ランプ）を使用し、露光用フォトマスクとしては、ソーダガラスにＣｒでパターンを施したものを用いた。そして、燐酸・硝酸・酢酸の３成分系のエッチャント（エッチング液）にてエッチングし、ポジレジストを全面露光したのち、珪酸塩を含む水溶性のアルカリ剥離液にてポジレジストを剥離した。このようにして、図８に示すように、保護層１１上に金属配線６を形成した。
【０１３７】
＜７．透明電極７及び透明電極８の形成＞
まず、図８に示す中間生成物の上に、ＤＣマグネトロンスパッタ方式にて、成膜材料を加熱しながらスパッタする加熱スパッタによって、ＩＴＯ膜を形成した。次に、一般的なノボラック系ポジレジストをスピンコートし、プレベーク後、露光したのち、アルカリ水溶液にてポジ現像を行った。ここで、露光は、プロキシミティー露光方式（超高圧水銀ランプ）を使用し、露光用フォトマスクとしては、ソーダガラスにＣｒでパターンを施したものを用いた。そして、シュウ酸を用いてＩＴＯ膜のエッチングを行い、ポジレジストを全面露光したのち、アルカリ水溶液にてポジレジストを剥離した。このようにして、図９に示すように、ＩＴＯ膜により透明電極７及び透明電極８を形成した。
【０１３８】
＜８．絶縁保護膜９の形成＞
まず、図９に示す中間生成物の上に、アクリル系オーバーコート材料をスピンコートにより塗布した。次に、プレベークして溶剤分を除去し、プロキシミティー露光方式（超高圧水銀ランプ）を使用し露光した。ここで、露光用フォトマスクとしては、クオーツガラスにＣｒでパターンを施したものを用いた。次に、アルカリ水溶液にて現像し、熱処理を行った。このようにして、図１０に示すように、絶縁保護膜９を形成して、一体型センサー基板１を製造し完成させた。
【０１３９】
＜９．平坦化層用有機材料について＞
以下に、平坦化層用有機材料を詳述する。
【０１４０】
（樹脂１の調製）
温度計、冷却管、窒素ガス導入管、滴下管及び撹拌装置を備えたセパラブル４口フラスコに、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート（蒸発速度０．１未満）１００．０部を仕込み、８０℃に昇温し、反応容器内を窒素置換した後、滴下管よりメタクリル酸メチル６７．２部、ジシクロペンタニルメタクリレート３２．８部、及び２，２’−アゾビスイソブチロニトリル０．４部の混合物を２時間かけて滴下し重合反応を行った。滴下終了後、さらに３時間反応を継続させて、不揮発分５０重量％のアクリル樹脂溶液を得た。
【０１４１】
そして、室温まで冷却した後、樹脂溶液約２ｇをサンプリングして、１１０℃で１８０分間に亘って加熱乾燥して不揮発分を測定し、先に合成した樹脂溶液に不揮発分が４０重量％になるようにジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテートを添加して、樹脂１を調製した。重量平均分子量は１７０００であった。
【０１４２】
（樹脂２の調製）
温度計、冷却管、窒素ガス導入管、滴下管及び撹拌装置を備えたセパラブル４口フラスコに、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート（蒸発速度０．１未満）１００．０部を仕込み、８０℃に昇温し、反応容器内を窒素置換した後、滴下管よりジシクロペンタニルメタクリレート３０．０部、２−ヒドロキシエチルメタクリレート１５．０部、ｎ−ブチルメタクリレート５５．０部、及び２，２’−アゾビスイソブチロニトリル０．４部の混合物を２時間かけて滴下し重合反応を行った。滴下終了後、さらに３時間反応を継続させて、不揮発分５０重量％のアクリル樹脂溶液を得た。
【０１４３】
そして、室温まで冷却した後、樹脂溶液約２ｇをサンプリングして１１０℃、１８０分加熱乾燥して不揮発分を測定し、先に合成した樹脂溶液に不揮発分が４０重量％になるようにジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテートを添加して、樹脂２を調製した。重量平均分子量は４３０００であった。
【０１４４】
（樹脂３の調製）
セパラブル４口フラスコに温度計、冷却管、窒素ガス導入管、及び撹拌装置を取り付けた反応容器に、イソホロン（蒸発速度０．０２６）１００部を入れ、容器に窒素ガスを注入しながら１２０℃に加熱して、同温度で滴下管よりスチレン５．２部、グリシジルメタクリレート３５．５部、ジシクロペンタニルメタクリレート４１．０部、アゾビスイソブチロニトリル１．０部の混合物を２．５時間かけて滴下し重合反応を行った。次に、フラスコ内を空気置換し、アクリル酸１７．０部にトリスジメチルアミノメチルフェノール０．３部、及びハイドロキノン０．３部を投入し、１２０℃で５時間反応を続け、アクリル樹脂溶液を得た。
【０１４５】
さらに、テトラヒドロ無水フタル酸３０．４部、トリエチルアミン０．５部を加え１２０℃で４時間反応させ、室温まで冷却した後、樹脂溶液約２ｇをサンプリングして１８０℃、２０分加熱乾燥して不揮発分を測定し、先に合成した樹脂溶液に不揮発分が４０％になるようにイソホロンを添加して、樹脂３を調製した。重量平均分子量は１２０００であった。
【０１４６】
（樹脂４の調製）
温度計、冷却管、窒素ガス導入管、滴下管及び撹拌装置を備えたセパラブル４口フラスコに、シクロヘキサノン（蒸発速度０．２５）１００．０部を仕込み、８０℃に昇温し、反応容器内を窒素置換した後、滴下管よりベンジルメタクリレート６７．２部、ジシクロペンタニルメタクリレート３２．８部、及び２，２’−アゾビスイソブチロニトリル０．４部の混合物を２時間かけて滴下し重合反応を行った。滴下終了後、さらに３時間反応を継続させて、不揮発分５０重量％のアクリル樹脂溶液を得た。
【０１４７】
室温まで冷却した後、樹脂溶液約２ｇをサンプリングして１１０℃、１８０分加熱乾燥して不揮発分を測定し、先に合成した樹脂溶液に不揮発分が４０重量％になるようにシクロヘキサノンを添加して、樹脂４を調製した。重量平均分子量は１８０００であった。
【０１４８】
（樹脂５の調整）
温度計、冷却管、窒素ガス導入管、滴下管及び撹拌装置を備えたセパラブル４口フラスコに、シクロヘキサノン（蒸発速度０．２５）４００部を仕込み、８０℃に昇温し、反応容器内を窒素置換した後、滴下管より９，９−ビス（４−アクリロイルオキシエトキシフェニル）フルオレン（大阪ガスケミカル（株）製、オグソールＥＡ−０２００）６７．２部、ジシクロペンタニルメタクリレート３２．８部、及び２，２’−アゾビスイソブチロニトリル０．４部の混合物を２時間かけて滴下し重合反応を行った。滴下終了後、さらに３時間反応を継続させて、不揮発分５０重量％のアクリル樹脂溶液を得た。
【０１４９】
そして、室温まで冷却した後、樹脂溶液約２ｇをサンプリングして１１０℃、１８０分加熱乾燥して不揮発分を測定し、先に合成した樹脂溶液に不揮発分が２０重量％になるようにシクロヘキサノンを添加して、樹脂５を調製した。重量平均分子量は８５００であった。
【０１５０】
得られた樹脂１〜５の不揮発分と重量平均分子量を表１に示す。
【表１】
2014197323.tif 000007
【０１５１】
［平坦化層用有機材料１］
下記組成の混合物を均一に拡販混合した後、５μｍのフィルターで濾過して平坦化層用有機材料１を得た。
樹脂１                                                                １００部
熱硬化剤（日本ユピカ社製「ネオポール８３１３」）                        ２０部
消泡剤（ビックケミージャパン社製「ＢＹＫ−０６６４」）                    １部
シランカップリング剤（信越化学工業社製「ＫＢＭ−４０３」）                ５部
ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート（蒸発速度０．１未満）  ２０部
得られた平坦化層用有機材料１の不揮発分は４５重量％であった。
【０１５２】
この材料を用いて＜３．平坦化層１２の形成＞に記載の方法で、１０．０μｍの厚さに平坦化層１２を形成した。
【０１５３】
＜１０．加飾付き前面板と静電容量式タッチパネルセンサーとの一体型センサー基板１の平坦化層の評価方法＞
［印刷性評価］
前述に記載した方法で一体型センサー基板１を作製した。このとき、平坦化層１２には平坦化層用有機材料１を使用した。得られた一体型センサー基板１の平坦化層１２部分の外観を目視、及び顕微鏡で観察した。評価基準は、額縁部３と平坦化層１２の間に隙間が見られたり、ハジキやムラの外観不良が見られない場合を“○”、見られる場合を“×”と評価した。この結果を表３に示す。
【０１５４】
［透過率測定］
前述に記載した方法で一体型センサー基板１を作製した。このとき、平坦化層１２には平坦化層用有機材料１を使用した。得られた一体型センサー基板１を、紫外可視分光光度計（日立ハイテク社製Ｕ−４１００）を使用し、表示領域１０の平坦化層１２部分の透過光測定を実施した。得られた４００ｎｍ波長における透過率、及びＣＩＥ１９７６（Ｌ＊ａ＊ｂ＊）表色系における色相ｂ＊（Ｃ光源）を表３に示す。透過率が９９％以上を“◎”、９８％以上を“○”、９７％以下を“△”と評価した。
【０１５５】
［比誘電率測定］
ガラス基板の一方面の上に、蒸着法によりアルミ導電膜をパターン形成した。その導電膜パターンを形成したガラス基板上に有機材料１を、スクリーン印刷により塗布し、乾燥機にて溶剤分を除去したのち、２３５℃で２０分間の熱処理を行った。さらに、この平坦化層の上に蒸着法によりアルミ導電膜パターンを形成して比誘電率測定用基板を作製した。得られた基板を、Ｓｏｌａｒｔｒｏｎ社製インピーダンスアナライザ１２６０型を用いて、電圧５Ｖ・温度２４℃の条件にて、１００ＫＨｚの周波数で比誘電率を測定した。この結果を表３に示す。
【０１５６】
［体積抵抗率測定］
ガラス基板の一方面の上に、有機材料１を、スクリーン印刷により塗布し、乾燥機にて溶剤分を除去したのち、２３５℃で２０分間の熱処理を行い、体積抵抗率測定用基板を作製した。得られた塗膜の体積抵抗率を、二重リング電極法を用いて、電圧５Ｖ・温度２４℃の条件にて、微小電流測定器（Ｋｅｉｔｈｌｅｙ社製「２３７型」）によって測定した。この際、抵抗値が低すぎて測定できない場合には、四深針法を用いて抵抗率計（三菱化学アナリテック製ロレスタＭＣＰ−Ｔ６１０）を用いて測定した。この結果を表３に示す。
【０１５７】
［通電試験］
本発明により製造される一体型センサー基板１が、電気回路として問題ないか確認するために通電試験を実施した。ラインアンドスペース（Ｌ／Ｓ）が３０μｍ／３０μｍの寸法のフォトマスクを用いて取出配線を形成した一体型センサー基板１を作製した。一体型センサー基板１の取出配線のうち外部回路との接続部と透明電極７及び透明電極８の間をテスター（オーム電機製デジタルマルチテスターＭＣＤ−００７）を用いて導通確認を実施した。判定基準として、導通が確認されたものを“○”、導通不良が発生したものを“×”と評価した。この結果を表３に示す。
【０１５８】
［高温高湿投入後密着性評価］
前述に記載した方法で一体型センサー基板１を作製した。このとき、平坦化層１２には平坦化層用有機材料１を使用した。得られた一体型センサー基板１を、６０℃９０％ＲＨの恒温恒湿槽に５００時間静置した。その後、取り出した基板１について、ＪＩＳ Ｋ５６００−５−６のクロスカット法により平坦化層１２の密着性を評価した。碁盤目２５個中、残った塗膜の面積の割合で評価を行った。評価基準は、膜の剥がれが全く無い場合を“◎”（分類０）、５％剥がれ以下である場合を“○”（分類１）、一部に剥がれが見られた場合を“△”（分類２以下）と評価した。この結果を表３に示す。
【０１５９】
［耐光性試験］
前述に記載した方法で一体型センサー基板１を作製した。このとき、平坦化層１２には平坦化層用有機材料１を使用した。得られた一体型センサー基板１を、スガ試験機株式会社製のキセノンロングライフフェードメーター（ＦＡＬ−２５ＡＬ）を使用し、観測者側の面から３００〜４００ｎｍの範囲の波長の照度が６０Ｗ/ｍ２のキセノンアークランプ光を５００時間照射した。５００時間照射後の一体型センサー基板１の外観を目視及び顕微鏡で観察し、気泡や剥がれ、ムラ、変色の異常が見られない場合を“○”、見られる場合を“×”と評価した。結果を表３に示す。
【０１６０】
（実施例２〜３、比較例１〜２）
実施例２〜５及び比較例１〜２では、平坦化層として、樹脂及び有機溶剤に、表２に記載のものを用いた。平坦化層用有機材料２〜５以外は、実施例１と同様にして、加飾付き前面板と静電容量式タッチパネルセンサーとの一体型センサー基板を得た。
【表２】
2014197323.tif 000008
【０１６１】
【表３】
2014197323.tif 000009
【０１６２】
表３のとおり、有機溶剤に蒸発速度が０．２以下の有機溶剤を使用した実施例１〜３においては印刷性が良好で、通電試験でも問題ない結果となった。また、有機材料に芳香環を有しない樹脂を使用しているために、耐光性試験でも異常が発生しない、信頼性に優れたタッチパネルセンサー基板を提供できることが示された。
【０１６３】
なお、上述の各実施形態においては、金属配線６、透明電極７及び透明電極８が配置されたタッチパネルセンサー１と、カラーフィルタ２４を配置した液晶パネル２１とを貼りつけて一体化する形態について説明した。しかし、本発明の前面板２は、１枚のガラスの一面に金属配線６、透明電極７及び透明電極８を配置し、他面にカラーフィルタ２４を配置したオンセル型と呼ばれる、タッチパネルセンサーと液晶パネルとが一体化した形態に対しても適用可能である。
【産業上の利用可能性】
【０１６４】
本発明は、携帯電話機や、携帯情報端末などの電子機器用の位置入力装置として利用することができる。
【符号の説明】
【０１６５】
１    一体型センサー基板
２、１０２    前面板
３、１０３    額縁部
３Ａ、１０３Ａ  明色層
３Ｂ、１０３Ｂ  暗色層
４    ジャンパ配線
５    絶縁膜
６    金属配線
７、８    透明電極
９    絶縁保護膜
１０、１１０    表示領域
１１    保護層
１２    平坦化層
１３    タッチパネル
２１    液晶パネル
２２、２７    偏光板
２３    前面ガラス
２４    カラーフィルタ
２５    液晶／電極／ＴＦＴなどの層
２６    背面ガラス
２８    スペーサ
２９    エアギャップ層
３１    タッチパネルセンサー基板
【図１】
2014197323.tif 000010
【図２】
2014197323.tif 000011
【図３】
2014197323.tif 000012
【図４】
2014197323.tif 000013
【図５】
2014197323.tif 000014
【図６】
2014197323.tif 000015
【図７】
2014197323.tif 000016
【図８】
2014197323.tif 000017
【図９】
2014197323.tif 000018
【図１０】
2014197323.tif 000019