(57)【要約】【課題】信号領域を拡大することにより、高容量化を実現できる光記録媒体および光記録媒体の製造方法を提供する。【解決手段】光記録媒体は、基板と、情報層と、光透過層とを備え、光透過層を通して情報層に光を照射することで情報信号の記録および／または再生が行われる信号領域が、外周端からの距離で１．０ｍｍ以上１．５ｍｍ未満の位置まであるものである。【選択図】図１
2014038682.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板と、
情報層と、
光透過層と
を備え、
上記光透過層を通して上記情報層に光を照射することで情報信号の記録および／または再生が行われる信号領域が、外周端からの距離で１．０ｍｍ以上１．５ｍｍ未満の位置まである光記録媒体。
【請求項２】
上記光透過層の厚さの変化が±２μｍ以下の領域が、外周端からの距離で１．０ｍｍ以上１．５ｍｍ未満の位置まである請求項１に記載の光記録媒体。
【請求項３】
上記光透過層は、外周端からの距離で１．０ｍｍ以上１．５ｍｍ未満の位置から外周に向かって傾斜が開始する傾斜面を有する請求項１に記載の光記録媒体。
【請求項４】
上記傾斜面は、傾斜開始部分で円弧状の曲面を形成している請求項３に記載の光記録媒体。
【請求項５】
上記情報層を２層以上備えた請求項１に記載の光記録媒体。
【請求項６】
上記情報層間にある中間層をさらに備えた請求項５に記載の光記録媒体。
【請求項７】
上記光透過層は、紫外線硬化樹脂をインクジェット法で塗布することにより形成されたものである請求項１に記載の光記録媒体。
【請求項８】
情報層を形成し、
インクジェット法で紫外線硬化樹脂を塗布することで塗布樹脂層を形成し、
上記紫外線硬化樹脂の塗布では、外周端からの距離で１．０ｍｍ以上１．５ｍｍ未満の位置より外周側の外周領域における上記紫外線硬化樹脂の塗布態様と、上記外周領域より内周側の内周領域における上記紫外線硬化樹脂の塗布態様とを変え、
上記塗布樹脂層形成後、上記塗布樹脂層を紫外線照射により硬化させることによって、光透過層を形成する光記録媒体の製造方法。
【請求項９】
上記紫外線硬化樹脂の塗布では、上記外周領域の上記紫外線硬化樹脂の塗布量を、上記内周領域の上記紫外線硬化樹脂の塗布量より少なくするようにして、上記外周領域の上記紫外線硬化樹脂の上記塗布態様と上記内周領域の上記紫外線硬化樹脂の上記塗布態様とを変える請求項８に記載の光記録媒体の製造方法。
【請求項１０】
上記塗布樹脂層を形成した後、所定時間経過後に上記塗布樹脂層を紫外線照射により硬化させる請求項９に記載の光記録媒体の製造方法。
【請求項１１】
上記光透過層の形成では、外周端からの距離で１．０ｍｍ以上１．５ｍｍ未満の位置から外周に向かって傾斜が開始する傾斜面が形成される請求項１０に記載の光記録媒体の製造方法。
【請求項１２】
上記光透過層の形成では、上記光透過層の厚さの変化が±２μｍ以下の領域が、外周端からの距離で１．０ｍｍ以上１．５ｍｍ未満の位置まで形成される請求項８に記載の光記録媒体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本技術は、光記録媒体および光記録媒体の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
光記録媒体としては、ＣＤ（Compact Disc）、ＤＶＤ（Digital Versatile Disc）およびＢｌｕ−ｒａｙ Ｄｉｓｃ（登録商標）（以下ＢＤ）などが広く普及している。ＢＤなどの高密度記録光ディスクでは、ディスクの信号読み取り面側に、いわゆるカバー層と称する紫外線硬化樹脂からなる光透過性の樹脂層を形成している。また、多層情報層を有する光ディスクでは、情報層の間に、いわゆる中間層と称する紫外線硬化樹脂からなる樹脂層を形成している。
【０００３】
上記の樹脂層は、例えば、スピンコート法、インクジェット法などを用いて形成している（例えば、特許文献１〜特許文献３参照）。また、カバー層と称する樹脂層をスピンコート法で作製する場合には、エッジカット法などを用いている。エッジカット法は、概略すると、スピンコート法において、最外周部をマスクで覆うなどして、最外周部に紫外線が照射されないようにして、最外周部以外の紫外線硬化樹脂を硬化させた後、最外周の紫外線硬化樹脂を振り切って除去し、外周の樹脂盛り上がりを抑制することで、均一な膜厚の樹脂層を得る方法である。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００４−２８０８６３号公報
【特許文献２】特許第３９２４６８５号公報
【特許文献３】国際公開第２００９／０９８８７１号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、スピンコート法では、樹脂層の外周部に盛り上がりが、発生してしまうため、外周部に１．５ｍｍ以上の信号領域として利用することができない領域が存在してしまう。また、エッジカット法を用いた場合、最外周のマスクで覆われる部分では、樹脂層においてへこみ方向に大きな段差が生じることで、信号領域として利用できない領域が存在してしまうため、信号領域をさらに外周側に拡大することは困難である。
【０００６】
したがって、本技術の目的は、信号領域を拡大することにより、高容量化を実現できる光記録媒体および光記録媒体の製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上述した課題を解決するために、本技術は、基板と、情報層と、光透過層とを備え、光透過層を通して情報層に光を照射することで情報信号の記録および／または再生が行われる信号領域が、外周端からの距離で１．０ｍｍ以上１．５ｍｍ未満の位置まである光記録媒体である。
【０００８】
本技術は、情報層を形成し、インクジェット法で紫外線硬化樹脂を塗布することで塗布樹脂層を形成し、紫外線硬化樹脂の塗布では、外周端からの距離で１．０ｍｍ以上１．５ｍｍ未満の位置より外周側の外周領域における紫外線硬化樹脂の塗布態様と、外周領域より内周側の内周領域における紫外線硬化樹脂の塗布態様とを変え、塗布樹脂層形成後、塗布樹脂層を紫外線照射により硬化させることによって、光透過層を形成する光記録媒体の製造方法である。
【０００９】
本技術では、信号領域が、外周端からの距離で１．０ｍｍ以上１．５ｍｍ未満の位置まである構成を有することで、高容量化を実現できる。
【発明の効果】
【００１０】
本技術によれば、信号領域を拡大することにより、高容量化を実現できる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】図１は、本技術の第１の実施の形態による光記録媒体の構成例を示す概略断面図である。
【図２】図２Ａは、信号領域を説明するための概略平面図である。図２Ｂは、信号領域を説明するための概略断面図である。
【図３】図３Ａ〜図３Ｄは、光記録媒体の製造工程を説明するための概略断面図である。
【図４】図４は、紫外線硬化樹脂の塗り分け態様を説明するための概略平面図である。
【図５】図５は、光記録媒体の製造装置の構成例を示すブロック図である。
【図６】図６は、本技術の第２の実施の形態による光記録媒体の構成例を示す概略断面図である。
【図７】図７Ａは、サンプル１−１について測定した光透過層の厚さ分布を示すグラフである。図７Ｂは、サンプル１−２について測定した光透過層の厚さ分布を示すグラフである。
【図８】図８は、サンプル２−１について測定した光透過層の厚さ分布を示すグラフである。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
以下、本技術の実施の形態について図面を参照して説明する。なお、説明は、以下の順序で行う。
１．第１の実施の形態（光記録媒体の第１の例）
２．第２の実施の形態（光記録媒体の第２の例）
３．他の実施の形態（変形例）
【００１３】
１．第１の実施の形態
＜光記録媒体の構成＞
本技術の第１の実施の形態による光記録媒体について説明する。図１は、本技術の第１の実施の形態による光記録媒体の一構成例を示す概略断面図である。例えば、光記録媒体は、中央に開口（センターホールとも称する）が設けられた円盤形状を有する光ディスクである。
【００１４】
図１に示すように、本技術の第１の実施の形態による光記録媒体は、単層の情報層２を有する書換型、追記型または再生専用型の光記録媒体である。この光記録媒体は、基板１上に、情報層２と光透過層３とが順次積層されたものである。
【００１５】
本技術の第１の実施の形態による光記録媒体では、光透過層３の側からレーザ光を情報層２に照射することにより、情報信号の記録および／または再生が行われる。例えば、４０５ｎｍの範囲の波長を有するレーザ光を、０．８５の開口数を有する対物レンズにより集光し、光透過層３の側から情報層２に照射することにより、情報信号の記録または再生が行われる。
【００１６】
以下、光記録媒体を構成する基板１、情報層２、光透過層３について順次説明する。
【００１７】
（基板）
基板１は、中央に開口が形成された円環形状を有する。この基板１の一主面は、凹凸面となっており、この凹凸面上に情報層２が形成されている。以下では、凹凸面の凹部をイングルーブ、凹凸面の凸部をオングルーブと称する。
【００１８】
このイングルーブおよびオングルーブの形状としては、例えば、スパイラル状、同心円状などの各種形状が挙げられる。また、イングルーブおよび／またはオングルーブが、アドレス情報付加などのためにウォブル（蛇行）されている。
【００１９】
基板１の直径は、例えば１２０ｍｍに選ばれる。基板１の厚さは、剛性を考慮して選ばれ、好ましくは０．３ｍｍ以上１．３ｍｍ以下に選ばれ、例えば１．１ｍｍに選ばれる。また、センタホールの径（半径）は、例えば１５ｍｍに選ばれる。
【００２０】
基板１の材料としては、例えばポリカーボネート系樹脂、ポリオレフィン系樹脂若しくはアクリル系樹脂などのプラスチック材料、またはガラスなどを用いることができる。なお、コストを考慮した場合には、基板１の材料として、プラスチック材料を用いることが好ましい。
【００２１】
（情報層）
情報層２は、基板１の凹凸上に成膜された反射膜、記録膜などのことである。光記録媒体が再生専用型である場合には、情報層２は、例えば、金（Ａｕ）、銀（Ａｇ）、銀合金、アルミニウム（Ａｌ）またはアルミニウム合金などからなる反射膜である。光記録媒体が追記型である場合には、情報層２は、有機化合物または無機化合物の追記材料などで構成される。光記録媒体が書き換え可能型である場合、情報層２は相変化材料などで構成される。
【００２２】
（光透過層）
光透過層３は、紫外線硬化樹脂が硬化した樹脂層である。この樹脂層の材料としては、例えば、紫外線硬化型のアクリル系樹脂などが挙げられる。具体的には、例えば、ソニーケミカル＆インフォメーションデバイス株式会社製のブルーレイディスク層形成用樹脂などの光ディスク用紫外線硬化型樹脂などが挙げられる。
【００２３】
光透過層３の厚さは、好ましくは１０μｍ以上１７７μｍ以下の範囲内から選ばれ、例えば１００μｍに選ばれる。光透過層３の厚さは、好ましくは１０μｍ以上１７７μｍ以下の範囲内から選ばれ、例えば７５μｍに選ばれる。このような薄い光透過層３と、例えば０．８５程度の高ＮＡ（numerical aperture）化された対物レンズとを組み合わせることによって、高密度記録を実現することができる。また、光透過層３の内径（直径）は、例えば２２．７ｍｍに選ばれる。
【００２４】
（信号領域）
図２Ａは、信号領域を説明するための光記録媒体の平面図である。図２Ｂは、信号領域を説明するための概略断面図である。なお、図２Ａでは、情報層２および基板１以外の部材の図示を省略している。
【００２５】
図２Ａおよび図２Ｂに示すように、光記録媒体では、情報層２が形成されており良好な記録／再生信号特性を有する円環状の信号領域Ｒを有する。この信号領域Ｒでは、光透過層３を通して情報層２に光を照射することで情報信号の記録および／または再生が行われる。この光記録媒体は、信号領域Ｒが、光記録媒体の外周端からの距離で１．０ｍｍ以上１．５ｍｍ未満の位置まである。図２Ａおよび図２Ｂに示す例は、信号領域Ｒが、光記録媒体の外周端からの距離ｔ１＝１ｍｍまであるものである。なお、光記録媒体の外周端からの距離は、光記録媒体の外周端から半径方向の距離である。
【００２６】
信号領域Ｒでは、光透過層３の膜厚変化（膜厚誤差）が、例えば、±２μｍ以下になっている。この光透過層３の膜厚変化が±２μｍ以下の領域は、例えば、光記録媒体の外周端からの距離で１．０ｍｍ以上１．５ｍｍ未満の位置まである。
【００２７】
図２Ｂに示すように、光透過層３は、内周側に平坦面を有し、外周端部に傾斜面を有している。この傾斜面は、例えば、光記録媒体の外周端からの距離で１．０ｍｍ以上１．５ｍｍ未満の位置から、外周に向かって傾斜が開始する急な傾斜面である。この傾斜面は、例えば、傾斜開始部分では円弧状の曲面を形成している。この光記録媒体では、光透過層３が外周端部に急な傾斜面を有し、外周端部の盛り上がりが抑制されていると共に光透過層３の膜厚変化が少ない領域が外周側に拡大されている。
【００２８】
この光記録媒体は、従来と比べて、外周側に信号領域が拡大されているため、従来の光記録媒体と同じ寸法でも、従来の光記録媒体に比べて、より大容量な光記録媒体を実現できる。なお、従来の光記録媒体において、スピンコート法により形成した光透過層では、外周端部に盛り上がりが発生するため、外周端から１．５ｍｍ以上の記録再生不能な領域が存在してしまう。このため、本技術の光記録媒体のように、良好な記録／再生信号特性を有する信号領域を、光記録媒体の外周端から距離で１．０ｍｍ以上１．５ｍｍ未満まであるようにすることが困難であった。
【００２９】
＜光記録媒体の製造方法＞
本技術の第１の実施の形態による光記録媒体の製造方法について説明する。図３Ａ〜図３Ｄは、光記録媒体の製造方法を説明するための概略断面図である。以下では、図３Ａ〜図３Ｄを適宜参照しながら光記録媒体の製造方法について説明する。
【００３０】
（基板の成形工程）
まず、一主面に凹凸面が形成された基板１を成形する。基板１の成形の方法としては、例えば射出成形（インジェクション）法、フォトポリマー法（２Ｐ法：Photo Polymerization）などを用いることができる。
【００３１】
（情報層の形成工程）
次に、例えばスパッタリング法などにより、情報層２を形成する。これにより、図３Ａに示すように情報層２を基板１上に形成する。
【００３２】
（光透過層の形成工程）
次に、情報層２上に光透過層３を形成する。本技術では、以下に説明するインクジェット法により紫外線硬化樹脂を塗布後、これを硬化させることによって、光透過層３を形成している。
【００３３】
（塗布工程）
図３Ｂに示すように、情報層２上に紫外線硬化樹脂３ａをインクジェット法により、塗布する。インクジェット法は、例えば、インクジェットヘッド１１および基板１の少なくとも何れかを移動させると共に、インクジェットヘッド１１から紫外線硬化樹脂を吐出させて紫外線硬化樹脂を塗布する方法である。
【００３４】
紫外線硬化樹脂３ａの塗布工程では、紫外線硬化樹脂３ａの塗布態様を、図４に示す外周領域Ｑ１と、内周領域Ｑ２とで変えることが好ましい。例えば、紫外線硬化樹脂３ａの塗布工程では、外周領域Ｑ１の紫外線硬化樹脂の塗布量を、内周領域Ｑ２の紫外線硬化樹脂の塗布量より少なくするようにして、外周領域Ｑ１の紫外線硬化樹脂の塗布態様と内周領域Ｑ２の紫外線硬化樹脂の塗布態様とを変える。
【００３５】
例えば、内周領域Ｑ２では、インクジェットヘッド１１のインクジェットノズルから吐出される紫外線硬化樹脂３ａからなる液滴の吐出量を大きくし、外周領域Ｑ１では、紫外線硬化樹脂３ａからなる液滴の吐出量を小さく設定する。なお、外周領域Ｑ１は、例えば、外周端からの距離で１ｍｍ以上１．５ｍｍ未満の位置より外周側の領域である。内周領域Ｑ２は、例えば、外周領域Ｑ１より内周側の領域である。
【００３６】
液適の吐出量は、例えば、外周領域Ｑ１では１２ｐｌ／ノズル量などに設定し、内周領域Ｑ２では３０ｐｌ／ノズル量などに設定する。これにより、外周領域Ｑ１の膜厚が小さい紫外線硬化樹脂３ａの塗布層と内周領域Ｑ２の膜厚が大きい紫外線硬化樹脂３ａの塗布層とで段差が形成される。
【００３７】
（レベリング工程）
図３Ｃに示すように、紫外線硬化樹脂３ａを塗布後、所定時間静置することにより、内周領域Ｑ２の紫外線硬化樹脂３ａが、塗布量の少ない外周領域Ｑ１に移動して、外周領域Ｑ１と内周領域Ｑ２との段差が解消された傾斜面が形成される。この傾斜面は、例えば、外周端からの距離で１．０ｍｍ以上１．５ｍｍ未満の位置から外周に向かって傾斜が開始する急な傾斜面である。また、この傾斜面は、例えば、傾斜開始部分では円弧状の曲面を形成している。
【００３８】
（ＵＶ照射工程）
図３Ｃに示すレベリング工程後、図３Ｄに示すＵＶ照射工程を行う。紫外線硬化樹脂３ａに対するＵＶ照射１２により、未硬化状態の紫外線硬化樹脂３ａが硬化し、所望の光透過層３が形成される。以上により、目的とする光記録媒体を得ることができる。
【００３９】
＜光記録媒体の製造装置＞
図５に、上述の光透過層形成工程で使用する光記録媒体の製造装置の一例を示す。図５に示すように、光記録媒体の製造装置は、１または複数個のインクジェットヘッド（ＩＪヘッド）２１と、ＵＶ硬化装置２２と、送りステージ２３と、これらを操作および制御するための操作部２４および制御部２５と、パターン生成部２６とを備える。操作部２４より入力される記録メディア（ディスク２０）の種類に応じた塗布目標メディア入力に従い、制御部２５は、インクジェットヘッド２１への吐出パターンを生成するためのパターン生成部２６と通信して、インクジェット吐出パターンを生成する。例えば、パターン生成部２６では、例えば、上述した外周領域Ｑ１と内周領域Ｑ２とで吐出量を変えた吐出パターンなどが生成される。
【００４０】
その後、インクジェットヘッド２１、送りステージ２３を制御して所定のパターンをディスク２０上に吐出する。その後、所定の待機時間の後に、ＵＶ硬化装置２２にて、ＵＶ光をディスク２０上に照射することにより、ディスク２０上の保護材料（紫外線硬化樹脂）を硬化させる。これにより、光透過層３が形成される。
【００４１】
２．第２の実施の形態
＜光記録媒体の構成＞
本技術の第２の実施の形態による光記録媒体について説明する。図６は、本技術の第２の実施の形態による光記録媒体の一構成例を示す断面図である。図６に示すように、本技術の第２の実施の形態による光記録媒体は、２層の情報層を有する書換型、追記型または再生専用型の光記録媒体である。この光記録媒体は、基板３１上に、第１の情報層３２と、中間層３３と、第２の情報層３４と、光透過層３５とが順次積層されたものである。
【００４２】
（基板）
基板３１は、第１の実施の形態と同様である。
【００４３】
（第１の情報層）
第１の情報層３２は、基板３１の凹凸上に成膜された反射膜、記録膜などのことである。光記録媒体が再生専用型である場合には、第１の情報層３２は、例えば、金（Ａｕ）、銀（Ａｇ）、銀合金、アルミニウム（Ａｌ）またはアルミニウム合金などからなる反射膜である。光記録媒体が追記型である場合には、第１の情報層３２は、有機化合物または無機化合物の追記材料などで構成される。光記録媒体が書き換え可能型である場合、第１の情報層３２は相変化材料などで構成される。
【００４４】
（中間層）
中間層３３は、第１の情報層３２および第２の情報層３４を物理的および光学的に十分な距離をもって離間させる役割を果たし、その表面には凹凸面が設けられている。その凹凸面は、例えば、同心円状または螺旋状のグルーブ（イングルーブおよびオングルーブ）を形成している。中間層３３の材料は特に限定されるものではないが、紫外線硬化性樹脂を用いることが好ましい。紫外線硬化樹脂は、第１の実施の形態と同様の材料を用いることができる。また、中間層３３は、奥側の層への情報信号の記録または再生のためのレーザー光の光路となることから、十分に高い光透過性を有していることが好ましい。
【００４５】
（第２の情報層）
第２の情報層３４は、レーザ光の照射により情報信号を記録および／または再生できる記録膜である。第２の情報層３４は、中間層３３の凹凸上に成膜された反射膜、記録膜などのことである。光記録媒体が再生専用型である場合には、第２の情報層３４は、例えば、金（Ａｕ）、銀（Ａｇ）、銀合金、アルミニウム（Ａｌ）またはアルミニウム合金などからなる反射膜である。光記録媒体が追記型である場合には、第２の情報層３４は、有機化合物または無機化合物の追記材料などで構成される。光記録媒体が書き換え可能型である場合、第２の情報層３４は相変化材料などで構成される。
【００４６】
（光透過層）
光透過層３５は、第１の実施の形態と同様である。
【００４７】
（光記録媒体の製造方法）
本技術の第２の実施の形態の光記録媒体の製造方法について説明する。
【００４８】
（基板の成形工程）
まず、一主面に凹凸面が形成された基板３１を成形する。基板３１の成形の方法としては、例えば射出成形（インジェクション）法、フォトポリマー法（２Ｐ法：Photo Polymerization）などを用いることができる。
【００４９】
（第１の情報層の形成工程）
次に、例えばスパッタリング法などにより、基板３１上に第１の情報層３２を形成する。
【００５０】
（中間層の形成工程）
次に、第１の情報層３２上に中間層３３を形成する。中間層３３は、例えば、上述したインクジェット法により紫外線硬化樹脂を第１の情報層３２上に均一に塗布する。このとき、第１の実施の形態の光透過層３の形成工程と同様、外周領域Ｑ１の紫外線硬化樹脂の塗布態様と内周領域Ｑ２の紫外線硬化樹脂の塗布態様とを変えてもよく、レベリング工程を行ってもよい。
【００５１】
その後、第１の情報層３２上に均一に塗布された紫外線硬化樹脂に対してスタンパの凹凸パターンを押し当て、紫外線を紫外線硬化樹脂に対して照射して硬化させた後、スタンパを剥離する。これにより、スタンパの凹凸パターンが紫外線硬化樹脂に転写され、例えばイングルーブおよびオングルーブが設けられた中間層３３が第１の情報層３２上に形成される。
【００５２】
（第２の情報層の形成工程）
次に、例えばスパッタリング法などにより、中間層３３の凹凸上に第２の情報層３４を形成する。
【００５３】
（光透過層の形成工程）
次に、第２の情報層３４上に光透過層３５を形成する。光透過層３５の形成は、第１の実施の形態と同様、インクジェット法により紫外線硬化樹脂を塗布後、硬化させることにより行うことができる。以上により、目的とする光記録媒体を得ることができる。
【実施例】
【００５４】
本技術の具体的な実施例について詳細に説明するが、本技術はこれに限定されるものではない。
【００５５】
［試験例］
＜サンプル１−１＞
円盤状のポリカーボネート樹脂基板上に、インクジェット法で紫外線硬化樹脂（ＢＤ用ベースレジン（粘度＞４００ｃｐ））を塗布した。サンプル１では、内周領域Ｑ２の塗布量と、外周領域Ｑ１（外周端から１ｍｍ以内の領域）の塗布量とを変えた。すなわち、内周領域Ｑ２を３０ｐｌ／ノズル、外周領域Ｑ１を１２ｐｌ／ノズルの量で吐出した。その後、２０秒間静置した後に、ＵＶ照射を行うことで紫外線硬化樹脂を硬化させるＵＶ硬化を行った。これにより、基板上に光透過層を形成したサンプル１−１を得た。なお、インクジェットヘッドのノズル解像度は、３６０ｄｐｉ×３６０ｄｐｉである。
【００５６】
＜サンプル１−２＞
円盤状のポリカーボネート樹脂基板上に、インクジェット法で紫外線硬化樹脂（ＢＤ用ベースレジン（粘度＞４００ｃｐ））を塗布した。サンプル２では、内周領域Ｑ２と外周領域Ｑ１の塗布量とを等しくした。すなわち、内周領域Ｑ２および外周領域Ｑ１を３０ｐｌ／ノズルの量で吐出した。その後、２０秒間静置した後に、ＵＶ照射を行うことで紫外線硬化樹脂を硬化させるＵＶ硬化を行った。これにより、基板上に光透過層を形成したサンプル１−２を得た。なお、インクジェットヘッドのノズル解像度は、３６０ｄｐｉ×３６０ｄｐｉである。
【００５７】
（評価）
（光透過層の厚さ分布）
サンプル１−１〜サンプル１−２について、光透過層の厚さ分布を測定した。図７Ａに、サンプル１−１の光透過層の厚さ分布を示す。図７Ｂにサンプル１−２の厚さ分布を示す。
【００５８】
図７Ａに示すように、紫外線硬化樹脂の塗布量を、内周領域と外周領域とで変えたものでは、外周端部で隆起が無く、幅１ｍｍの範囲で傾斜が急峻であることが確認できた。一方、図７Ｂに示すように、紫外線硬化樹脂の塗布量を、内周領域と外周領域とで等しくしたものでは、外周端で盛り上がりが生じた。
【００５９】
＜サンプル２−１＞
ポリカーボネート樹脂基板上に、Ａｇ膜を形成後、インクジェット法で紫外線硬化樹脂（ＢＤ用ベースレジン（粘度＞４００ｃｐ））を塗布した。塗布条件は、インクジェットの送り速度：７ｍ／ｍｉｎ、塗布厚：１６μｍ、液：５drop per dpt、塗布幅７０ｍｍ×1scanとした。塗布後、３０秒静置した後、紫外線照射により硬化させた。これにより、目的とする基板上に光透過層を形成したサンプル２−１を得た。
【００６０】
＜サンプル２−２＞
ポリカーボネート樹脂基板上に、Ａｇ膜を形成後、スピンコート法により、紫外線硬化樹脂（ＢＤ用ベースレジン（粘度＞４００ｃｐ））を塗布し、その後、紫外線照射により硬化させた。これにより、目的とする基板上に光透過層を形成したサンプル２−２を得た。
【００６１】
（評価）
（光透過層の厚さ分布）
サンプル２−１について、光透過層の厚さ分布を測定した。図８に、サンプル２−１の光透過層の厚さ分布を示す。図８に示すように、光透過層の膜厚変化（膜厚１６μｍからの誤差）が±２μｍ以下の領域を外周端から１ｍｍの位置まで拡大できた。
【００６２】
（ノイズレベル測定）
インクジェット法を用いて光透過層を形成したサンプル２−１、スピンコート法を用いて光透過層を形成したサンプル２−２のノイズレベルを測定したところ、サンプル２−１では、ノイズレベルが−７６．８ｄＢｍであり、サンプル２−２では、ノイズレベルが−７７．４ｄＢｍであった。すなわち、インクジェット法を用いて作製したサンプル２−１では、スピンコート法を用いて作製したサンプル２−２と同程度のノイズレベルが得られた。
【００６３】
３．他の実施の形態（変形例）
本技術は、上述した本技術の実施の形態に限定されるものでは無く、本技術の要旨を逸脱しない範囲内で様々な変形や応用が可能である。
【００６４】
例えば、上述の実施の形態および実施例において挙げた数値、構造、形状、材料、原料、製造プロセスなどはあくまでも例に過ぎず、必要に応じてこれらと異なる数値、構造、形状、材料、原料、製造プロセスなどを用いてもよい。
【００６５】
また、上述の実施の形態および実施例の構成、方法、工程、形状、材料および数値などは、本技術の主旨を逸脱しない限り、互いに組み合わせることが可能である。
【００６６】
また、上述の第１〜第２の実施の形態では、１層または２層の情報層を有する光記録媒体に対してこの発明を適用したが、この発明は３層以上の情報層を有する光記録媒体に対して適用することも可能である。
【００６７】
上述の実施の形態において、光透過層の形成および／または中間層の形成では、紫外線硬化樹脂の塗布量を外周領域Ｑ１と内周領域Ｑ２とで変えるようにして、外周領域Ｑ１と内周領域Ｑ２との紫外線硬化樹脂の塗布態様を変えたが、これに限定されるものではない。
【００６８】
例えば、光透過層の形成および／または中間層の形成では、外周領域をメッシュパターンまたは千鳥パターンなどの所定のパターンを印刷するようにして、紫外線硬化樹脂を塗布してもよい。紫外線硬化樹脂を塗布後、所定のパターンの液滴が存在しない部分に紫外線硬化樹脂が流れ込み、塗布後の外周領域の膜厚を低減させることができるため、外周領域の紫外線硬化樹脂の盛り上がりを低減できる。
【００６９】
例えば、光透過層の形成および／または中間層の形成では、塗液濃度を内周領域と外周領域とで変えてもよい。外周領域では、塗液濃度を下げて溶媒量を増やすことにより、溶媒乾燥時の体積減少を増加させる。これにより相対的に外周領域の紫外線硬化樹脂の盛り上がりを低減することができる。なお、この場合、複数台のインクジェットが必要である。
【００７０】
例えば、光透過層の形成および／または中間層の形成では、外周部に低粘度かつ低表面張力の材料を塗布してもよい。内周領域の液が、外周領域の液に移動した際に、外周領域では液がなじむため、盛り上がりが低減される。
【００７１】
例えば、光透過層の形成および／または中間層の形成では、基板の外周側に溝、へこみおよび傾斜の少なくともいずれかを設けるようにしてもよい。スピンコート法による紫外線硬化樹脂の塗布では、外周領域の塗液量がコントロールできないため、突起は防げるが、膜厚コントロールはできない。インクジェットの場合は、塗布量、塗布場所が精密にコントロールできるため、膜厚均一性を保ったまま、紫外線硬化樹脂の塗布が可能である。
【００７２】
また、例えば、光透過層の形成および／または中間層の形成では、吐出が必要なエリアのみに正確に塗布するようにしてもよい。カメラにてディスク外径および製膜外径を検出する。検出位置に基づいて製膜外径を均一な膜厚で完全に覆いつつ、ディスク外径に入る範囲の塗布パターンを生成し、その後生成した塗布パターンで吐出を行うようにしてもよい。
【００７３】
また、本技術は、以下の構成を採ることができる。
【００７４】
［１］
基板と、
情報層と、
光透過層と
を備え、
上記光透過層を通して上記情報層に光を照射することで情報信号の記録および／または再生が行われる信号領域が、外周端からの距離で１．０ｍｍ以上１．５ｍｍ未満の位置まである光記録媒体。
［２］
上記光透過層の厚さの変化が±２μｍ以下の領域が、外周端からの距離で１．０ｍｍ以上１．５ｍｍ未満の位置まである［１］に記載の光記録媒体。
［３］
上記光透過層は、外周端からの距離で１．０ｍｍ以上１．５ｍｍ未満の位置から外周に向かって傾斜が開始する傾斜面を有する［１］〜［２］の何れかに記載の光記録媒体。
［４］
上記傾斜面は、傾斜開始部分で円弧状の曲面を形成している［３］に記載の光記録媒体。
［５］
上記情報層を２層以上備えた［１］〜［４］の何れかに記載の光記録媒体。
［６］
上記情報層間にある中間層をさらに備えた［５］に記載の光記録媒体。
［７］
上記光透過層は、紫外線硬化樹脂をインクジェット法で塗布することにより形成されたものである［１］〜［６］の何れかに記載の光記録媒体。
［８］
情報層を形成し、
インクジェット法で紫外線硬化樹脂を塗布することで塗布樹脂層を形成し、
上記紫外線硬化樹脂の塗布では、外周端からの距離で１．０ｍｍ以上１．５ｍｍ未満の位置より外周側の外周領域における上記紫外線硬化樹脂の塗布態様と、上記外周領域より内周側の内周領域における上記紫外線硬化樹脂の塗布態様とを変え、
上記塗布樹脂層形成後、上記塗布樹脂層を紫外線照射により硬化させることによって、光透過層を形成する光記録媒体の製造方法。
［９］
上記紫外線硬化樹脂の塗布では、上記外周領域の上記紫外線硬化樹脂の塗布量を、上記内周領域の上記紫外線硬化樹脂の塗布量より少なくするようにして、上記外周領域の上記紫外線硬化樹脂の上記塗布態様と上記内周領域の上記紫外線硬化樹脂の上記塗布態様とを変える［８］に記載の光記録媒体の製造方法。
［１０］
上記塗布樹脂層を形成した後、所定時間経過後に上記塗布樹脂層を紫外線照射により硬化させる［９］に記載の光記録媒体の製造方法。
［１１］
上記光透過層の形成では、外周端からの距離で１．０ｍｍ以上１．５ｍｍ未満の位置から外周に向かって傾斜が開始する傾斜面が形成される［８］〜［１０］の何れかに記載の光記録媒体の製造方法。
［１２］
上記光透過層の形成では、上記光透過層の厚さの変化が±２μｍ以下の領域が、外周端からの距離で１．０ｍｍ以上１．５ｍｍ未満の位置まで形成される［８］〜［１１］の何れかに記載の光記録媒体の製造方法。
【符号の説明】
【００７５】
１・・・基板
２・・・情報層
３・・・光透過層
３ａ・・・紫外線硬化樹脂
５・・・光透過層
１１・・・インクジェットヘッド
１２・・・ＵＶ照射
２０・・・ディスク
２１・・・インクジェットヘッド
２２・・・ＵＶ硬化装置
２３・・・ステージ
２４・・・操作部
２５・・・制御部
２６・・・パターン生成部
３１・・・基板
３２・・・情報層
３３・・・中間層
３４・・・情報層
３５・・・光透過層
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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