(57)【要約】【課題】本発明は、微細な凹凸パターンを高精度で転写可能なインプリント装置の提供を主目的とする。【解決手段】本発明は、凹凸のパターンが形成されたテンプレートを保持するテンプレート保持手段と、被転写基板上に被転写層を形成する樹脂塗布手段と、上記被転写基板を保持するステージと、上記ステージの保持手段側端部に形成された気流制御部と、を有し、上記ステージは、上記被転写層を上記樹脂塗布手段と対向する位置から上記テンプレート保持手段に保持された上記テンプレートと対向する位置に移動可能に設けられ、上記気流制御部の上面は、上記ステージの上記被転写基板が載置される面と平行であり、上記上面の位置が上記ステージの上記被転写基板が載置される面および上記テンプレート表面の間であり、上記気流制御部の上記上面からの厚みが、テンプレート保持手段側から樹脂塗布手段側に向かって、厚くなることを特徴とするインプリント装置を提供することにより上記目的を達成する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
凹凸のパターンが形成されたテンプレートを保持するテンプレート保持手段と、
被転写基板上に被転写層を形成する樹脂塗布手段と、
前記被転写基板を保持するステージと、
前記ステージのテンプレート保持手段側端部に形成された気流制御部と、
を有し、
前記ステージは、前記被転写層を前記樹脂塗布手段と対向する位置から前記テンプレート保持手段に保持された前記テンプレートと対向する位置に移動可能に設けられ、
前記気流制御部の上面は、前記ステージの前記被転写基板が載置される面と平行であり、
前記上面の位置が前記ステージの前記被転写基板が載置される面および前記テンプレート表面の間であり、
前記気流制御部の前記上面からの厚みが、テンプレート保持手段側から樹脂塗布手段側に向かって、厚くなることを特徴とするインプリント装置。
【請求項２】
凹凸のパターンが形成されたテンプレートを保持するテンプレート保持手段と、
被転写基板上に被転写層を形成する樹脂塗布手段と、
前記被転写基板を保持するステージと、
前記ステージの前記被転写層が形成される領域よりもテンプレート保持手段側に形成された気流制御部と、
を有し、
前記ステージは、前記被転写層を前記樹脂塗布手段と対向する位置から前記テンプレート保持手段に保持された前記テンプレートと対向する位置に移動可能に設けられ、
前記気流制御部の上面は、前記ステージの前記被転写基板が載置される面と平行であり、
前記上面の位置が前記ステージの前記被転写基板が載置される面および前記テンプレート表面の間であり、
前記気流制御部のテンプレート保持手段側端部が、前記樹脂塗布手段により前記被転写基板上に前記被転写層を形成する際に、前記テンプレートと平面視上重なる位置であることを特徴とするインプリント装置。
【請求項３】
ステージ上に保持された被転写基板上に樹脂塗布手段を用いて被転写層を形成する樹脂塗布工程を有し、
前記樹脂塗布工程は、前記ステージのテンプレート保持手段側に形成された気流制御部のテンプレート保持手段側端部が、テンプレート保持手段に保持されたテンプレートと平面視上重なる状態で行うものであり、
前記気流制御部の上面は、前記ステージの前記被転写基板が載置される面と平行であり、
前記上面の位置が前記ステージの前記被転写基板が載置される面および前記テンプレート表面の間であることを特徴とするインプリント転写体の製造方法。
【請求項４】
前記気流制御部が、前記被転写基板の一部であることを特徴とする請求項３に記載のインプリント転写体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、微細な凹凸パターンを高精度で転写可能なインプリント装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、特に半導体デバイスにおいては、微細化の一層の進展により高速動作、低消費電力動作が求められ、また、システムＬＳＩという名で呼ばれる機能の統合化などの高い技術が求められている。このような中、半導体デバイスのパターンを作製する要となるリソグラフィ技術は、デバイスパターンの微細化が進むにつれ露光波長の問題などからフォトリソ方式の限界が指摘され、また、露光装置などが極めて高価になってきている。
【０００３】
その対案として、近年、微細凹凸パターンを用いたナノインプリントリソグラフィ（ＮＩＬ）法が注目を集めている。１９９５年Ｐｒｉｎｃｅｔｏｎ大学のＣｈｏｕらによって提案されたナノインプリント法（以後、インプリント法と言う）は、装置価格や使用材料などが安価でありながら、１０ｎｍ程度の高解像度を有する微細パターンを形成できる技術として期待されている。
【０００４】
インプリント法は、予め表面にナノメートルサイズの凹凸パターンを形成したテンプレート（モールド、スタンパとも言われる）を、被転写基板表面に塗布形成された樹脂などの転写材料（被転写層）に押し付けて力学的に変形させて凹凸パターンを精密に転写し、パターン形成されたインプリント材料をレジストマスクとして被転写基板を加工する技術である。一度テンプレートを作製すれば、ナノ構造が簡単に繰り返して成型できるため高いスループットが得られて経済的であるとともに、有害な廃棄物が少ないナノ加工技術であるため、近年、半導体デバイスに限らず、さまざまな分野への応用が進められている。
【０００５】
このようなインプリント法には、熱可塑性樹脂を用いて熱により凹凸パターンを転写する熱インプリント法や、光硬化性材料を用いて紫外線により凹凸パターンを転写する光インプリント法などが知られている。転写材料としては、熱インプリント法では熱可塑性樹脂、光インプリント法では光硬化性樹脂などの光硬化性材料が用いられる。光インプリント法は、室温で低い印加圧力でパターン転写でき、熱インプリント法のような加熱・冷却サイクルが不要でテンプレートや樹脂の熱による寸法変化が生じないために、解像性、アライメント精度、生産性などの点で優れていると言われている。
なお、本発明のインプリント装置等に用いられるインプリント法については、特に断らない限り、光インプリント法を示すものとする。
【０００６】
従来、インプリント法においては、テンプレートと被転写層との間に空気などの気体が入り込み、テンプレートのパターンの凹部に転写材料の樹脂が充填されない部分を生じ、転写性を悪化させる問題があった。そこで、被転写層を形成する際には被転写層に対する溶解度が空気よりも低い第１の気体（低溶解性ガス）を供給し、パターンを転写する際には被転写層に対する溶解度が空気よりも高い第２の気体（高溶解性ガス）を供給することで樹脂が充填されない部分をなくし、転写性を向上させるインプリントシステムおよびインプリント方法が提案されている（特許文献１参照）。
【０００７】
しかしながら、このような気体供給方法によってもなお、テンプレートと被転写層との間に空気などの気体が入り込み、テンプレートのパターンの凹部に転写材料の樹脂が充填されない部分を生じ、転写性を悪化させる問題があった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開２０１１−９６７６６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
本発明は、上記実情に鑑みてなされたものであり、微細な凹凸パターンを高精度で転写可能なインプリント装置を提供することを主目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明者等は、上記課題を解決すべく研究を重ねた結果、インプリント装置内清浄化のための空気の流れや、被転写基板を保持するステージが移動した際に、テンプレート表面近傍に供給された高溶解性ガスが、テンプレート表面近傍において、その濃度が低下してしまっていることを見出し、本発明を完成させるに至ったのである。
【００１１】
すなわち、本発明は、凹凸のパターンが形成されたテンプレートを保持するテンプレート保持手段と、被転写基板上に被転写層を形成する樹脂塗布手段と、上記被転写基板を保持するステージと、上記ステージのテンプレート保持手段側端部に形成された気流制御部と、を有し、上記ステージは、上記被転写層を上記樹脂塗布手段と対向する位置から上記テンプレート保持手段に保持された上記テンプレートと対向する位置に移動可能に設けられ、上記気流制御部の上面は、上記ステージの上記被転写基板が載置される面と平行であり、上記上面の位置が上記ステージの上記被転写基板が載置される面および上記テンプレート表面の間であり、上記気流制御部の上記上面からの厚みが、テンプレート保持手段側から樹脂塗布手段側に向かって、厚くなることを特徴とするインプリント装置を提供する。
【００１２】
また、本発明は、凹凸のパターンが形成されたテンプレートを保持するテンプレート保持手段と、被転写基板上に被転写層を形成する樹脂塗布手段と、上記被転写基板を保持するステージと、上記ステージの上記被転写層が形成される領域よりもテンプレート保持手段側に形成された気流制御部と、を有し、上記ステージは、上記被転写層を上記樹脂塗布手段と対向する位置から上記テンプレート保持手段に保持された上記テンプレートと対向する位置に移動可能に設けられ、上記気流制御部の上面は、上記ステージの上記被転写基板が載置される面と平行であり、上記上面の位置が上記ステージの上記被転写基板が載置される面および上記テンプレート表面の間であり、上記気流制御部のテンプレート保持手段側端部が、上記樹脂塗布手段により上記被転写基板上に上記被転写層を形成する際に、上記テンプレートと平面視上重なる位置であることを特徴とするインプリント装置を提供する。
【００１３】
本発明によれば、上記気流制御部を有することにより、インプリント装置内清浄化のための空気の流れがある場合や、上記被転写層がテンプレートと対向する位置に移動する際に、テンプレート表面近傍に供給された高溶解性ガスの濃度の低下を抑制できる。このため、微細な凹凸パターンを高精度で転写可能とすることができる。
【００１４】
本発明は、ステージ上に保持された被転写基板上に樹脂塗布手段を用いて被転写層を形成する樹脂塗布工程を有し、上記樹脂塗布工程は、上記ステージのテンプレート保持手段側に形成された気流制御部のテンプレート保持手段側端部が、テンプレート保持手段に保持されたテンプレートと平面視上重なる状態で行うものであり、上記気流制御部の上面は、上記ステージの上記被転写基板が載置される面と平行であり、上記上面の位置が上記ステージの上記被転写基板が載置される面および上記テンプレート表面の間であることを特徴とするインプリント転写体の製造方法を提供する。
【００１５】
本発明によれば、上記樹脂塗布工程が、上記気流制御部のテンプレート保持手段側端部およびテンプレートが平面視上重なる状態で行われることにより、インプリント装置内清浄化のための空気の流れがある場合や、テンプレート表面近傍に供給された高溶解性ガスの濃度の低下を抑制できる。このため、微細な凹凸パターンを高精度で転写可能なものとすることができる。
【００１６】
本発明においては、上記気流制御部が、上記被転写基板の一部であること、すなわち、上記被転写基板の一部が、上記気流制御部の機能を発揮するような配置で構成されていても良い。気流制御部の形成を容易なものとすることができるからである。
【発明の効果】
【００１７】
本発明においては、微細な凹凸パターンを高精度で転写可能なインプリント装置を提供できるといった効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】本発明のインプリント装置の一例を示す概略断面図である。
【図２】本発明のインプリント装置の他の例を示す概略断面図である。
【図３】本発明のインプリント装置の一例を示す概略平面図である。
【図４】本発明における気流制御部の他の例を示す概略断面図である。
【図５】本発明における気流制御部の他の例を示す概略断面図である。
【図６】本発明における気流制御部の他の例を示す概略断面図である。
【図７】本発明における気流制御部の他の例を示す概略断面図である。
【図８】本発明における気流制御部の他の例を示す概略断面図である。
【図９】本発明における気流制御部の他の例を示す概略断面図である。
【図１０】本発明における気流制御部の他の例を示す概略断面図である。
【図１１】本発明における気流制御部の他の例を示す概略断面図である。
【図１２】本発明における気流制御部の他の例を示す概略断面図である。
【図１３】本発明のインプリント転写体の製造方法の一例を示す工程図である。
【図１４】本発明における気流制御部の一例を示す概略断面図である。
【図１５】本発明における気流制御部の一例を示す概略断面図である。
【図１６】シミュレーションに用いたモデルを説明する説明図である。
【図１７】実施例１のシミュレーション結果である。
【図１８】比較例１のシミュレーション結果である。
【図１９】実施例２のシミュレーション結果である。
【図２０】比較例２のシミュレーション結果である。
【図２１】実施例３のシミュレーション結果である。
【図２２】比較例３のシミュレーション結果である。
【図２３】参考例１および実施例４〜６のシミュレーション結果である。
【図２４】参考例１および実施例４〜６のシミュレーション結果の評価結果を示すグラフである。
【図２５】参考例２〜７のシミュレーション結果である。
【発明を実施するための形態】
【００１９】
以下、本発明のインプリント装置およびインプリント転写体の製造方法について説明する。
【００２０】
Ａ．インプリント装置
まず、本発明のインプリント装置について説明する。
本発明のインプリント装置は、凹凸のパターンが形成されたテンプレートを保持するテンプレート保持手段と、被転写基板上に被転写層を形成する樹脂塗布手段と、上記被転写基板を保持するステージと、気流制御部と、を有し、上記ステージは、上記被転写層を上記樹脂塗布手段と対向する位置から上記テンプレート保持手段に保持された上記テンプレートと対向する位置に移動可能に設けられ、上記気流制御部の上面は、上記ステージの上記被転写基板が載置される面と平行であり、上記上面の位置が上記ステージの上記被転写基板が載置される面および上記テンプレート表面の間であるインプリント装置であって、上記気流制御部が上記ステージのテンプレート保持手段側端部に形成され、上記気流制御部の上記上面からの厚みが、テンプレート保持手段側から樹脂塗布手段側に向かって、厚くなることを特徴とするもの、または、上記気流制御部が上記ステージの上記被転写層が形成される領域よりもテンプレート保持手段側に形成され、上記気流制御部のテンプレート保持手段側端部が、上記樹脂塗布手段により上記被転写基板上に上記被転写層を形成する際に、上記テンプレートと平面視上重なる位置であることを特徴とするものである。
【００２１】
このような本発明のインプリント装置について図を参照して説明する。図１は、本発明のインプリント装置の一例を示す概略断面図である。図１に例示するように、本発明のインプリント装置１０は、凹凸のパターンが形成されたテンプレート１１を保持するテンプレート保持手段１と、被転写基板１３上にインクジェット法により樹脂として光硬化性樹脂を塗布し被転写層１２を形成する樹脂塗布手段２と、上記被転写基板１３を保持するステージ３と、上記ステージ３のテンプレート保持手段側端部に形成された気流制御部４と、を有し、上記ステージ３は、上記被転写層１３を上記樹脂塗布手段２と対向する位置から上記テンプレート保持手段１に保持された上記テンプレート１１と対向する位置に移動可能に設けられ、上記気流制御部４の上面は、上記ステージ３の上記被転写基板１３が載置される面と平行であり、上記上面の位置が上記ステージ３の上記被転写基板１３が載置される面および上記テンプレート１１表面の間であり、上記気流制御部４の上記上面からの厚みが、テンプレート保持手段側から樹脂塗布手段側に向かって、厚くなるものである。
なお、この例においては、テンプレートの近傍に高溶解性ガスｇを供給するガス供給手段５を有するものである。また、図１では、断面視上ガス供給手段５はテンプレートの２辺に配置されているが、上記ガス供給手段５は、平面視上テンプレートの全周囲を囲むように配置され、テンプレートの全周囲から高溶解性ガスｇを供給するものである。
【００２２】
図２は、本発明のインプリント装置の他の例を示す概略断面図である。図２に例示するように、本発明のインプリント装置１０は、上記ステージ３のテンプレート保持手段側に形成された気流制御部４を有し、上記気流制御部４のテンプレート保持手段側端部Kが、上記樹脂塗布手段２により上記被転写基板１３上に上記被転写層１２を形成する際に、上記テンプレート１１と平面視上重なる位置であるものである。
なお、この例においては、気流制御部４がステージ３のテンプレート保持手段側端部に形成されるものである。
【００２３】
本発明によれば、上記気流制御部を有することにより、インプリント装置内清浄化のための空気の流れがある場合や、ステージが上記被転写層を上記樹脂塗布手段と対向する位置から上記テンプレート保持手段に保持された上記テンプレートと対向する位置に移動する際に、ステージのテンプレート保持手段側端部により巻き込まれた周辺空気がテンプレート表面近傍に流れ込むことを抑制することができる。
このため、テンプレートおよび被転写層の間への空気などの気体の入り込みを防ぐためにテンプレート表面近傍に供給された高溶解性ガスの濃度の低下を抑制できる。
したがって、被転写層がテンプレートと対向した際には、高溶解性ガスが両者の間に充満した状態とすることができ、微細な凹凸パターンを高精度で転写可能とすることができる。
【００２４】
本発明のインプリント装置は、テンプレート保持手段、樹脂塗布手段、ステージおよび気流制御部を有するものである。
以下、本発明のインプリント装置の各構成について詳細に説明する。
【００２５】
１．気流制御部
本発明における気流制御部は、上記ステージのテンプレート保持手段側端部に形成され、上記気流制御部の上面は、上記ステージの上記被転写基板が載置される面と平行であり、上記上面の位置が上記ステージの上記被転写基板が載置される面および上記テンプレート表面の間であり、上記気流制御部の上記上面からの厚みが、テンプレート保持手段側から樹脂塗布手段側に向かって、厚くなる態様（第１態様）と、上記ステージの上記被転写層が形成される領域よりもテンプレート保持手段側に形成され、上記気流制御部のテンプレート保持手段側端部が、上記樹脂塗布手段により上記被転写基板上に上記被転写層を形成する際に、上記テンプレートと平面視上重なる位置である態様（第２態様）との２態様に分けることができる。
以下、各態様に分けて本発明に用いられる気流制御部について説明する。
【００２６】
（１）第１態様の気流制御部
本態様の気流制御部は、上記ステージのテンプレート保持手段側端部に形成され、上記気流制御部の上面は、上記ステージの上記被転写基板が載置される面と平行であり、上記上面の位置が上記ステージの上記被転写基板が載置される面および上記テンプレート表面の間であり、上記気流制御部の上記上面からの厚みが、テンプレート保持手段側から樹脂塗布手段側に向かって、厚くなるものである。
【００２７】
ここで、テンプレート保持手段側とは、ステージが上記被転写層を上記樹脂塗布手段と対向する位置から上記テンプレート保持手段に保持された上記テンプレートと対向する位置に移動する際の移動方向側をいうものであり、平面視上テンプレートと重なって移動するステージの移動方向側をいうものである。
具体的には、図３に例示するように、ステージ３もしくは被転写層１２の重心がＸの軌跡を描くように移動する場合には辺ＢＤから辺ＡＣに向かう方向がステージ移動方向であり、ステージ３もしくは被転写層１２の重心がＹの軌跡を描くように移動する場合には辺ＣＤから辺ＡＢに向かう方向がステージの移動方向である。また、テンプレート保持手段側端部は、それぞれ辺ＡＣおよび辺ＡＢとなる。
なお、図３は、本発明のインプリント装置の一例を示す概略平面図である。また、図３中の符号については、図１と同一の部材を示すものであるので、ここでの説明は省略する。さらに、説明の容易のため、樹脂塗布手段、テンプレート保持手段、気流制御部、および被転写基板等については記載を省略するものである。また、Ａ〜Ｄは、ステージ３の角の絶対的な位置を示す符号である。
また、樹脂塗布手段側とは、上記移動方向側と１８０°反対側の方向をいうものである。
【００２８】
上記気流制御部の上面が、上記ステージの上記被転写基板が載置される面と平行であるとは、上記上面および上記被転写基板が載置される面がなす角度が、上記ステージの移動により、上記気流制御部の上面が、上記テンプレートの下面と接触しない範囲であることをいうものである。したがって、上記ステージの移動距離と、上記気流制御部の上面と上記テンプレートの下面の間隔の大きさに依存するが、通常は、０°である。
【００２９】
上記上面の位置が上記ステージの上記被転写基板が載置される面および上記テンプレート表面の間であるとは、ステージが上記被転写層を上記樹脂塗布手段と対向する位置から上記テンプレート保持手段に保持された上記テンプレートと対向する位置に移動する際に、また、インプリント工程の際に、気流制御部がテンプレートと接触しない位置であることをいうものである。
このような上面の位置としては、上記ステージの上記被転写基板が載置される面および上記テンプレート表面の間であり、テンプレート表面近傍に供給された高溶解性ガスの濃度の低下を抑制できるものであれば特に限定されるものではないが、テンプレート表面との間隔が上記被転写基板およびテンプレート表面の間隔と同じとなる位置、または、上記被転写基板およびテンプレート表面の間であることが好ましく、なかでも、上記被転写基板およびテンプレート表面の間であることが好ましい。テンプレート表面近傍に供給された高溶解性ガスの濃度の低下を効果的に抑制できるからである。
具体的には、上記気流制御部の上面およびテンプレート表面の間隔が、１ｍｍ以下であることが好ましく、なかでも、０．５ｍｍ〜０．３ｍｍの範囲内であることが好ましい。上記被転写基板の厚さの公差に対する裕度を保持しつつ、テンプレート表面近傍に供給された高溶解性ガスの濃度の低下を効果的に抑制できるからである。
【００３０】
上記気流制御部の上記上面からの厚みは、上記気流制御部の上記上面からの厚みが、テンプレート保持手段側から樹脂塗布手段側に向かって、厚くなるものである。
ここで、テンプレート保持手段側から樹脂塗布手段側に向かって、厚くなるものとしては、既に説明した図１に示すように、一定の割合で厚くなるものであっても良く、図４または図５に例示するように、断面形状が曲線状となるように厚くなるものであっても良い。また、図６に例示するように、テンプレート保持手段側端部においても一定の厚みを有するものであっても良い。
また、図４〜図６中の符号については、図１と同一の部材を示すものであるので、ここでの説明は省略する。
【００３１】
また、厚みが一定の割合で厚くなるものである場合、厚くなる割合であるテーパー角度としては、テンプレート表面近傍に供給された高溶解性ガスの濃度の低下を抑制できるものであれば特に限定されるものではないが、例えば、６０°以下であることが好ましく、なかでも、４５°以下であることが好ましい。上記角度であることにより、上記ステージが移動する際に、空気を効果的に下方に流し、高溶解性ガスの濃度の低下を効果的に抑制できるからである。
なお、テーパー角度の下限については小さければ小さいほど好ましいので、テーパー角度の下限については特に限定されない。
また、テーパー角度とは、既に説明した図１または図６中のθで表される角度を示すものである。
【００３２】
本発明における気流制御部の上記上面からの厚みのうち、上記ステージの被転写基板が載置される面からの最大厚みとしては、ステージの移動によって、他の部品と接触干渉するものではなく、高溶解性ガスの濃度の低下を抑制できるものであれば特に限定されるものではないが、上記ステージの厚みの半分以上かつ上記ステージの厚み以内が好ましく、なかでも、上記ステージの厚みと同一であることが好ましい。上記厚みであることにより、テンプレート表面近傍に供給された高溶解性ガスの濃度の低下を効果的に抑制できると共に、既存の設備を有効利用できるからである。
また、このような最大厚みとしては、具体的には、ステージの厚みが２０ｍｍの場合、１０ｍｍ〜２０ｍｍの範囲内であることが好ましく、なかでも２０ｍｍであることが好ましい。上記厚みであることにより、上記ステージが移動する際に、空気を効果的に下方に流し、テンプレート表面近傍に供給された高溶解性ガスの濃度の低下を効果的に抑制できるからである。
なお、上記ステージの被転写基板が載置される面からの最大厚みとは、既に説明した図４中のｄ２で表される距離を示すものである。また、図４では、上記最大厚みｄ２がステージの厚みより厚い場合を示すものである。
【００３３】
上記上面の幅としては、上記ステージの厚みや、上記テーパー角度や、上記ステージの移動距離、及び上記被転写基板の厚みに依存し、テンプレート表面近傍に供給された高溶解性ガスの濃度の低下を抑制できるものであれば特に限定されるものではない。本発明のインプリント装置のサイズ等に応じて適宜設定されるものである。
このような上面の幅としては、例えば、上記ステージの厚みに対する比率（上面の幅／ステージの厚み）が、０．３〜２.９の範囲内であることが好ましく、なかでも、０．６〜２．３の範囲内であることが好ましく、特に、１．０〜１．６の範囲内であることが好ましい。上記比率が上述の範囲内であることにより、上記ステージが移動する際に、空気を効果的に下方に流し、高溶解性ガスの濃度の低下を効果的に抑制できるからである。
また、このような上面の幅としては、具体的には、ステージの厚みが２０ｍｍ、被転写基板の厚みが６．４ｍｍ、６０°から２５°のテーパー角の三角形状とした場合、６ｍｍ〜５８ｍｍの範囲内であることが好ましく、なかでも、１２ｍｍ〜４６ｍｍの範囲内であることが好ましく、特に４５°〜４０°のテーパー角とした場合、２０ｍｍ〜３２ｍｍの範囲内であることが好ましい。
なお、上記上面の幅とは、ステージが上記被転写層を上記樹脂塗布手段と対向する位置から上記テンプレート保持手段に保持された上記テンプレートと対向する位置に移動する際の移動方向の幅をいうものであり、具体的には、すでに説明した図１のｄ１で示される距離をいうものである。
【００３４】
上記気流制御部のテンプレート保持手段側端部の位置としては、テンプレート表面近傍に供給された高溶解性ガスの濃度の低下を抑制できるものであれば特に限定されるものではないが、上記樹脂塗布手段により上記被転写基板上に上記被転写層を形成する際に、上記テンプレートと平面視上重なる位置であること、すなわち、上記気流制御部が、そのテンプレート保持手段側端部が上記樹脂塗布手段により上記被転写基板上に上記被転写層を形成する際に、上記テンプレートと平面視上重なる位置となる長さを有するものであることが好ましい。上記位置であることにより、テンプレートの微細な凹凸パターンが形成された領域および被転写層を対向させるようにステージを移動する際に、気流制御部の上面またはステージとテンプレートとが常に平面視上重なる関係を維持することができ、上記気流制御部と上記テンプレートの間への空気の流入を抑制し、ステージの移動により排除された空気を、ステージの下側に向かってより効果的に排出することが可能になり、テンプレート表面近傍に供給された高溶解性ガスの濃度の低下をより効果的に抑制できるからである。
また、上記気流制御部が、そのテンプレート保持手段側端部が上記樹脂塗布手段により上記被転写基板上に上記被転写層を形成する際に、その上面が上記テンプレートの微細な凹凸パターンが形成された領域と重ならない長さを有するものであることが好ましい。テンプレートの微細な凹凸パターン表面近傍への高溶解性ガスの供給を安定的に行うことが可能となるからである。
なお、気流制御部のテンプレート保持手段側端部および上記テンプレートが平面視上重なる位置とは、図７に例示するように、気流制御部のテンプレート保持手段側端部Ｋと、テンプレートの樹脂塗布側端部Ｔとが断面視上同一箇所である場合をも含む、すなわち、気流制御部のテンプレート保持手段側端部および上記テンプレートの重なり幅が０以上であることを指すものである。
また、気流制御部の上面がテンプレートの微細な凹凸パターンが形成された領域と重ならない長さとは、気流制御部のテンプレート保持手段側端部とテンプレートの上記領域の樹脂塗布側端部とが断面視上同一箇所である場合をも含むことを指すものであり、気流制御部の上面および上記領域の重なり幅が０以上とならない長さを示すものである。
図８は、気流制御部の他の例を示す概略断面図であり、上記気流制御部の上面が上記テンプレートの微細な凹凸パターンが形成された領域１１ａと重ならない長さを有する場合の一例を示すものである。
また、図７〜図８中の符号については、図１と同一の部材を示すものであるので、ここでの説明は省略する。
【００３５】
上記気流制御部の幅方向の形成箇所としては、テンプレート表面近傍に供給された高溶解性ガスの濃度の低下を抑制できるものであれば特に限定されるものではないが、ステージが上記被転写層を上記樹脂塗布手段と対向する位置から上記テンプレート保持手段に保持された上記テンプレートと対向する位置に移動する際に、平面視上テンプレートと重なる箇所であること、すなわち、ステージの移動方向に向かいあったテンプレートの幅および気流制御部の幅が重なることが好ましく、なかでも、上記移動する際に、平面視上テンプレートと重なる全ての箇所であること、すなわち、ステージの移動方向に向かいあったテンプレートの上記平面視上テンプレートと重なる幅の全てが気流制御部の幅と重なることが好ましく、特に、ステージのプレート保持手段側端部の全面に形成されることが好ましい。テンプレート表面近傍に流れ込んだ周辺空気によりテンプレート表面近傍に供給された高溶解性ガスの濃度が低下することを効果的に抑制できるからである。
また、本発明においては、ステージの全周囲に形成されるものであることが好ましい。ステージのバランス制御が容易であり、テンプレート保持手段および樹脂塗布手段に対して平行に移動することが容易なものとすることができるからである。
なお、ステージの移動方向に向かいあったテンプレートの幅および気流制御部の幅とは、ステージが上記被転写層を上記樹脂塗布手段と対向する位置から上記テンプレート保持手段に保持された上記テンプレートと対向する位置に移動する方向に対して垂直方向の幅のうち、最大の幅をいうものである。
具体的には、インプリント装置を平面視した図９、図１０および図１１中のＨおよびｈを指すものである。また、図９〜図１１中の符号については、図１と同一の部材を示すものであるので、ここでの説明は省略する。さらに、図９〜図１１においては、説明の容易のため、テンプレート、ステージおよび気流制御部以外の構成の記載を省略するものである。
また、図１０および図１１は、気流制御部がステージのプレート保持手段側端部の全面に形成される場合の一例を示すものであり、図１１は、気流制御部がステージの全周囲に形成される場合の一例を示すものである。
【００３６】
上記気流制御部の構造としては、上記ステージと別体であっても良く、一体形成されたものであっても良い。
また、上記ステージと別体として形成された場合の上記気流制御部の材料としては、所望の形状とすることができるものであれば特に限定されるものではなく、金属、樹脂等とすることができる。
【００３７】
（２）第２態様
本態様の気流制御部は、上記ステージの上記被転写層が形成される領域よりもテンプレート保持手段側に形成され、上記気流制御部のテンプレート保持手段側端部が、上記樹脂塗布手段により上記被転写基板上に上記被転写層を形成する際に、上記テンプレートと平面視上重なる位置であるものである。
【００３８】
上記気流制御部のステージのテンプレート保持手段側端部に対する形成位置としては、上記被転写層が形成される領域よりもテンプレート保持手段側に形成されるものであり、テンプレート表面近傍に供給された高溶解性ガスの濃度の低下を抑制できるものであれば特に限定されるものではない。具体的には、上記ステージのテンプレート保持手段側端部が上記気流制御部のテンプレート保持手段側端部より、テンプレート保持手段側となるものとすることができる。
本発明においては、なかでも上記気流制御部のテンプレート保持手段側端部が、上記ステージのテンプレート保持手段側端部より、テンプレート保持手段側であることが好ましい。上記位置であることにより、上記気流制御部と上記テンプレートの間への空気の流入を抑制し、ステージの移動により排除された空気を、ステージの下側に向かって排出することが可能になり、テンプレート表面近傍に供給された高溶解性ガスの濃度の低下を効果的に抑制できるからである。
図１２は、気流制御部の他の例を示す概略断面図であり、上記ステージのテンプレート保持手段側端部Ｓが上記気流制御部のテンプレート保持手段側端部Ｋより、テンプレート保持手段側となる例を示すものである。なお、図１２中の符号については、図１と同一の部材を示すものであるので、ここでの説明は省略する。
【００３９】
上記気流制御部のテンプレート保持手段側端部の位置は、上記樹脂塗布手段により上記被転写基板上に上記被転写層を形成する際に、上記テンプレートと平面視上重なる位置であるものである。このような位置としては、上記樹脂塗布手段により上記被転写基板上に上記被転写層を形成する際に、上記テンプレートと平面視上重なる位置であるものであれば特に限定されるものではなく、上記「（１）第１態様」の項に記載の内容と同様とすることができる。
【００４０】
上記気流制御部の上記上面からの厚みとしては、テンプレート表面近傍に供給された高溶解性ガスの濃度の低下を抑制できるものであれば特に限定されるものではないが、例えば、既に説明した図２に例示するように厚みが一定なものや、既に説明した図１に示すようにテンプレート保持手段側端部から樹脂塗布手段側端部に向かって厚くなるものとすることができ、なかでも、テンプレート保持手段側端部から樹脂塗布手段側端部に向かうにつれて、厚くなるものであることが好ましい。上記厚みであることにより、ステージの移動により排除された空気を、ステージの下側に向かって排出することが可能になり、テンプレート表面近傍に供給された高溶解性ガスの濃度の低下を効果的に抑制できるからである。
【００４１】
上記気流制御部の上面の幅、上面の位置、上面からの厚みが一定の割合で厚くなるものである場合のテーパー角度、幅方向の形成箇所、構造、材料、上記ステージのテンプレート保持手段側端部に形成される場合における上記上面からの厚みのうち上記ステージの被転写基板が載置される面からの最大厚み等については、上記「（１）第１態様」の項に記載の内容と同様とすることができるため、ここでの説明は省略する。
【００４２】
２．ステージ
本発明におけるステージは、上記被転写基板を保持するものであり、上記被転写層を上記樹脂塗布手段と対向する位置から上記テンプレート保持手段に保持された上記テンプレートと対向する位置に移動可能に設けられるものである。
【００４３】
上記ステージの上記樹脂塗布手段と対向する位置から上記テンプレートと対向する位置に移動する際の平面視上の移動方向としては、上記被転写層を上記樹脂塗布手段と対向する位置から上記テンプレートと対向する位置に移動可能なものであれば特に限定されるものではないが、気流制御部の上面およびテンプレートが平面視上重なった後、気流制御部の上面またはステージとテンプレートとが常に平面視上重なる移動方向であることが好ましく、なかでも上記ステージの上記被転写層を上記樹脂塗布手段と対向する位置から上記テンプレートと対向する位置に直線的に移動する方向であることが好ましい。上記平面視上の移動方向であることにより、本発明の効果をより効果的に発揮できるからである。
なお、上記ステージの上記被転写層を上記樹脂塗布手段と対向する位置から上記テンプレートと対向する位置に直線的に移動するとは、上記樹脂塗布手段と対向する位置における被転写層の重心から上記テンプレートと対向する位置における被転写層の重心とを直線で結ぶ方向に移動することをいうものである。
【００４４】
上記ステージの上記被転写層を上記樹脂塗布手段と対向する位置から上記テンプレートと対向する位置に移動する際の断面視上の移動方向としては、被転写層が樹脂塗布手段と対向する位置から被転写層がテンプレートと対向する位置へ水平に移動するものとすることが好ましい。
上記断面視上の移動方向であることにより、本発明の効果をより効果的に発揮できるからである。
【００４５】
上記ステージの移動速度としては、繰り返し位置精度やスループットの観点から設定されるものであり、ステージ上の被転写基板および被転写層を安定的に保持した状態で移動させることができるものであれば特に限定されるものではなく、インプリント装置に一般的に用いられるものと同様とすることができる。例えば、１０ｃｍ／ｓ〜２５ｃｍ／ｓの範囲内とすることができる。
なお、ステージの移動速度が速い程、上記ステージおよび上記テンプレートの間への空気の流入が増加するが、本発明においては、上記気流制御部を有することから、このような空気の流入を抑制することが可能となり、本発明の効果をより効果的に発揮できる。
したがって、本発明においては、上記ステージの移動速度を上述のような移動速度より高速なものとしても良い。
【００４６】
なお、このようなステージの材質、形状、サイズ、および移動方法等については、インプリント装置に一般的に用いられるものと同様とすることができるため、ここでの説明は省略する。
【００４７】
ステージに保持される被転写基板については、インプリント装置を用いて形成されたインプリント転写体をマスクとしてパターニングされるものであれば特に限定されるものではなく、例えば、半導体デバイス形成用、及び磁気記録媒体用のウェハ等の製品や、ウェハ等の製品を形成するためのテンプレート形成用基板（コピー原版）を挙げることができる。
上記被転写基板のステージ上の設置位置としては、上記被転写層を形成可能なものであれば特に限定されるものではないが、通常、被転写基板の中心とステージの中心とが一致する位置である。
また、上記被転写基板の気流制御部に対する距離としては、狭いことが好ましく、なかでも上記気流制御部に接することが好ましい。
【００４８】
３．テンプレート保持手段
本発明におけるテンプレート保持手段は、凹凸のパターンが形成されたテンプレートを保持するものである。
【００４９】
上記テンプレート保持手段のテンプレートの保持方法としては、安定的にテンプレートを保持できるものであれば特に限定されるものではないが、通常、テンプレートの表面が被転写基板および被転写層の表面と平行となる方法が用いられる。
また、上記テンプレート保持手段は、上記被転写体表面に対して垂直方向にテンプレート表面を接近させ、押し付け、被転写層にテンプレートの凹凸パターンの転写の完了後に、テンプレートをインプリント転写体から垂直方向に剥離可能に移動できる等、テンプレートの微細な凹凸パターンを被転写層に転写可能に移動できるものとすることができる。
このようなテンプレートの固定方法や上記テンプレート保持手段に保持されるテンプレートについては、インプリント装置に一般的に用いられるものと同様とすることができるため、ここでの説明は省略する。
【００５０】
４．樹脂塗布手段
本発明における樹脂塗布手段は、被転写基板上に被転写層を形成するものである。
【００５１】
上記樹脂塗布手段としては、樹脂を滴下することにより被転写基板上に被転写層を形成できるものであれば特に限定されるものではないが、インクジェット法により被転写層を形成するインクジェット装置であることが好ましい。インクジェット装置であることにより、被転写層に含まれる樹脂量を高精度に制御でき、被転写層を所望のパターン状に短時間で形成できるからである。
また、インクジェット法のように塗布される樹脂の液滴が非常に小さいことにより生じやすい樹脂に含まれる揮発成分の揮発およびそれに伴う粘性などの特性の変化が懸念される場合、特に液滴周囲の雰囲気の制御が重要な要素となりうる。より、高溶解性ガスが、樹脂に溶解される必要があるからである。したがって、ステージを高速移動する場合であっても、テンプレート表面近傍に流れ込んだ周辺空気によるテンプレート表面近傍に供給された高溶解性ガスの濃度の低下を効果的に抑制できることから本発明の効果をより効果的に発揮できる。すなわち、微細な凹凸パターンを高精度で転写可能されたインプリント転写体を高精度で形成することができるからである。
【００５２】
また、滴下される樹脂としては、光硬化性樹脂を用いることができ、通常、重合性化合物、光重合開始剤などの成分を含むものである。
なお、このような光硬化性樹脂については、インプリント装置に一般的に用いられるものと同様とすることができるため、ここでの説明は省略する。
【００５３】
上記被転写層が形成される位置としては、上記被転写基板のパターニングされる箇所に形成されるものであれば特に限定されるものではないが、上記被転写基板に１つのパターンを形成する場合には、通常、上記被転写基板の中心と上記被転写層の中心とが同一となる位置に形成されるものである。
【００５４】
上記樹脂塗布手段により形成される被転写層の厚みについては、本装置により製造されるインプリント転写体の種類等に応じて適宜設定されるものであり、インプリント装置に一般的に用いられるものと同様とすることができる。
【００５５】
５．インプリント装置
本発明のインプリント装置は、テンプレート保持手段、樹脂塗布手段、ステージおよび気流制御部を有するものであるが、通常、テンプレート保持手段近傍に配置され、テンプレート表面近傍に高溶解性ガスを供給するガス供給手段、テンプレート保持手段近傍に配置され、テンプレートを被転写層に接触させた状態で被転写層に対して光照射を行う光照射手段を有するものである。
また、上記テンプレート保持手段、樹脂塗布手段、ステージ等を収納する収納容器、インプリント装置内部（収納容器内部）の空気を清浄化するフィルター、収納容器内に空気を取り入れるまたは空気を循環させるファン等を有するものとすることができる。
さらに、テンプレートに対する被転写層の平面視上の位置を決定する位置決め手段や、テンプレートおよび被転写層周辺の高溶解性ガスや周辺空気（収容容器内の空気）の温度の調整を行う冷却機やヒーター等の温調手段を有するものとすることができる。
なお、これらの各手段については、一般的にインプリント装置に用いられるものを使用できるため、ここでの説明は省略する。
また、高溶解性ガスとしては、一般的にインプリント装置に用いられるものを使用でき、具体的には、ヘリウム等を挙げることができる。
【００５６】
Ｂ．インプリント転写体の製造方法
次に、本発明のインプリント転写体の製造方法について説明する。
本発明のインプリント転写体の製造方法は、ステージ上に保持された被転写基板上に樹脂塗布手段を用いて被転写層を形成する樹脂塗布工程を有し、上記樹脂塗布工程は、上記ステージのテンプレート保持手段側に形成された気流制御部のテンプレート保持手段側端部が、テンプレート保持手段に保持されたテンプレートと平面視上重なる状態で行うものであり、上記気流制御部の上面は、上記ステージの上記被転写基板が載置される面と平行であり、上記上面の位置が上記ステージの上記被転写基板が載置される面および上記テンプレート表面の間であることを特徴とするものである。
【００５７】
このようなインプリント転写体の製造方法について、図を参照して説明する。図１３は、本発明のインプリント転写体の製造方法の一例を示す工程図である。本発明のインプリント転写体の製造方法は、図１３（ａ）に例示するように、上記ステージ３のテンプレート保持手段側に形成された気流制御部４のテンプレート保持手段側端部が、テンプレート保持手段１に保持されたテンプレート１１と平面視上重なる状態で、ステージ３上に保持された被転写基板１３上に樹脂塗布手段２を用いてインクジェット法により樹脂１２´を塗布することにより、被転写層を形成するとともに、テンプレート１１表面近傍にガス供給手段５から高溶解性ガスｇを供給する。次いで、上記ステージ３を移動することにより、上記気流制御部４の上面またはステージ３とテンプレート１１とが常に平面視上重なる関係を維持しつつ、上記被転写層１２を上記樹脂塗布手段２と対向する位置からテンプレート保持手段１に保持されたテンプレート１１と対向する位置に移動し（図１３（ｂ））、その後、上記テンプレート１１および上記被転写層１２を接触させることにより（図１３（ｃ））、上記被転写層１２を上記テンプレート１１の凹凸パターンが転写されたインプリント転写体２２とするものである（図１３（ｄ））。また、上記気流制御部４の上面は、上記ステージ３の上記被転写基板１３が載置される面と平行であり、上記上面の位置が上記ステージ３の上記被転写基板１３が載置される面および上記テンプレート１１表面の間であるものである。
なお、図１３中の（ａ）が樹脂塗布工程およびガス供給工程、（ｂ）が移動工程、（ｃ）〜（ｄ）がインプリント工程である。
【００５８】
本発明によれば、上記樹脂塗布工程が、上記気流制御部のテンプレート保持手段側端部および上記テンプレートが平面視上重なる状態で行われることにより、テンプレート周辺に供給された高溶解性ガスの濃度の低下を抑制できる。このため、微細な凹凸パターンを高精度で転写可能なものとすることができる。
【００５９】
本発明のインプリント転写体の製造方法は、樹脂塗布工程を少なくとも有するものである。
以下、本発明のインプリント転写体の製造方法の各工程について詳細に説明する。
【００６０】
１．樹脂塗布工程
本発明における樹脂塗布工程は、ステージ上に保持された被転写基板上に樹脂塗布手段を用いて被転写層を形成する工程である。
また、本工程は、上記ステージのテンプレート保持手段側に形成された気流制御部のテンプレート保持手段側端部が、テンプレート保持手段に保持されたテンプレートと平面視上重なる状態で行うもの、すなわち、本工程の実施時において上記テンプレートと平面視上重なる位置となる長さを有する気流制御部を用いるものである。
【００６１】
このような気流制御部としては、例えば、上記「Ａ．インプリント装置」の「１．気流制御部」の「（２）第２態様」の項に記載のものと同様のものであっても良いが、上記被転写基板の一部を気流制御部として用いること、すなわち、上記被転写基板を、そのテンプレート保持手段側端部が上記樹脂塗布手段により上記被転写基板上に上記被転写層を形成する際に、上記テンプレートと平面視上重なる位置となる長さを有するものとし、被転写基板の一部が、気流制御部の機能を発揮するような配置で構成されているものとしても良い。または、上記被転写基板を、そのテンプレート保持手段側端部が上記樹脂塗布手段により上記被転写基板上に上記被転写層を形成する際に、上記テンプレートと平面視上重なる位置となる位置関係となるように、上記樹脂塗布手段が配置されるよう構成されているものとしても良い。気流制御部の形成を容易なものとすることができるからである。
図１４および図１５は、上記被転写基板１３の上面が上記気流制御部４の上面として機能している場合の一例を示す概略断面図である。
なお、図１４および図１５中の符号については、図１３と同一の部材を示すものであるので、ここでの説明は省略する。
また、上記気流制御部として用いられる被転写基板の一部は、通常、被転写基板のうち被転写層が形成されない領域である。
【００６２】
上記気流制御部としての被転写基板の上面およびテンプレート表面の間隔、ステージのテンプレート保持手段側端部に対する形成位置ならびに幅方向の形成箇所等については、上記「Ａ．インプリント装置」の「１．気流制御部」の「（２）第２態様」の項に記載のものと同様とすることができるのでここでの説明は省略する。
【００６３】
本工程において用いられる樹脂塗布手段、被転写層を形成する方法、本工程において樹脂塗布手段により塗布される樹脂および本工程により形成される被転写層としては、インプリント法を用いたインプリント転写体の製造方法に一般的に用いられる方法を使用することができ、具体的には、上記「Ａ．インプリント装置」の「４．樹脂塗布手段」の項に記載のものと同様のものとすることができるので、ここでの説明は省略する。
【００６４】
本工程におけるステージおよびステージ上に保持される被転写基板については、インプリント法を用いたインプリント転写体の製造方法に一般的に用いられる方法を使用することができ、例えば、上記「Ａ．インプリント装置」の「２．ステージ」の項に記載のものと同様のものとすることができるので、ここでの説明は省略する。
【００６５】
２．インプリント転写体の製造方法
本発明のインプリント転写体の製造方法は、上記樹脂塗布工程を有するものであるが、通常、上記樹脂塗布工程後に、上記ステージを移動することにより、上記被転写層を上記樹脂塗布手段と対向する位置からテンプレート保持手段に保持されたテンプレートと対向する位置に移動する移動工程と、上記移動工程後に、上記テンプレートおよび上記被転写層を接触させることにより、上記被転写層を上記テンプレートの凹凸パターンが転写されたインプリント転写体とするインプリント工程と、テンプレート表面近傍に高溶解性ガスを供給するガス供給工程と、上記被転写層に対して光照射し硬化させる光照射工程と、を有するものである。
【００６６】
（１）移動工程
本発明における移動工程は、上記樹脂塗布工程後に、上記ステージを移動することにより、上記被転写層を上記樹脂塗布手段と対向する位置からテンプレート保持手段に保持されたテンプレートと対向する位置に移動する工程である。
【００６７】
本工程におけるステージ、テンプレート保持手段およびテンプレートについては、インプリント法を用いたインプリント転写体の製造方法に一般的に用いられるものを使用することができ、例えば、上記「Ａ．インプリント装置」の「２．ステージ」および「３．テンプレート保持手段」の項に記載のものと同様のものとすることができるので、ここでの説明は省略する。
また、ステージの移動方法や移動方向等については、上記被転写層を上記樹脂塗布手段と対向する位置からテンプレート保持手段に保持されたテンプレートと対向する位置に移動することができる方法等であれば特に限定されるものではなく、インプリント法を用いたインプリント転写体の製造方法に一般的に用いられる方法等を用いることができる。例えば、上記「Ａ．インプリント装置」の「２．ステージ」の項に記載のものと同様とすることができる。
【００６８】
（２）インプリント工程
本発明におけるインプリント工程は、上記移動工程後に、上記テンプレートおよび上記被転写層を接触させることにより、上記被転写層を上記テンプレートの凹凸パターンが転写されたインプリント転写体とする工程である。
【００６９】
本工程における上記テンプレートおよび上記被転写層の接触方法としては、上記被転写層を上記テンプレートの凹凸パターンが転写されたインプリント転写体とすることができるものであれば良く、例えば、上記被転写体表面に対して垂直にテンプレート表面を接近させ、押し付け、被転写層にテンプレートの凹凸パターンの転写の完了後に、テンプレートをインプリント転写体から剥離する方法を用いることができる。
【００７０】
（３）ガス供給工程
本発明におけるガス供給工程は、上記テンプレート表面近傍に高溶解性ガスを供給する工程である。
本工程の実施タイミングとしては、上記樹脂塗布工程の前後またはそれと同時に行うものとすることができる。
また、本工程において高溶解性ガスを供給する方法としては、上記テンプレート保持手段近傍に配置されたガス供給手段を用いることができ、例えば、上記「Ａ．インプリント装置」の「５．インプリント装置」の項に記載のものと同様のものとすることができるので、ここでの説明は省略する。
【００７１】
（４）光照射工程
本発明における光照射工程は、上記被転写層に対して光照射し被転写層を硬化させる工程である。
本工程の実施タイミングとしては、上記インプリント工程と同時にまたはその後に行うことができる。
また、本工程において光照射する方法としては、上記被転写層に対して照射することができる方法であれば特に限定されるものではなく、インプリント装置に一般的に用いられるＵＶ照射装置等を使用する方法とすることができる。
【００７２】
（５）その他
本発明のインプリント転写体の製造方法は、上記各工程以外にも、テンプレートに対する被転写層の平面視上の位置を決定する位置決め工程や、被転写基板について、インプリント転写体をマスクとして加工し、パターン転写基板とする加工工程等を有するものとすることができる。
なお、これらの各工程については、インプリント法によるインプリント転写体の製造方法に一般的に行われるものと同様とすることができるため、ここでの説明は省略する。
【００７３】
なお、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は、例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。
【実施例】
【００７４】
以下に実施例を示して、本発明をさらに具体的に説明する。
【００７５】
気流の状態について、２次元流体シミュレーションを用いて検討した。モデルを図１６に示す。ここでは、テンプレート、テンプレート保持手段、気流制御部、被転写基板、ステージをモデル化した。気流制御部およびステージを固定し、テンプレート保持手段側から樹脂塗布手段側に向かう方向に空気を流す条件とした。インプリント装置内清浄化のための空気の流れがある場合や、相対的にステージが移動する際の気流の状態について想定したものである。
なお、図１６に記載のテンプレート、気流制御部およびステージの寸法、位置関係等は後述する実施例１のシミュレーションで用いたものを示すものである、また、シミュレーション条件については、気流制御部およびステージを固定し、テンプレート保持手段側から樹脂塗布手段側に向かう方向に風速０．１ｍ／ｓの空気を流す条件とした。
また、シミュレーション結果中の矢印は、空気の流れの方向を示すものであり、色の濃さは、空気の流れの速さを示すものである。
【００７６】
［実施例１］
気流制御部のテンプレート保持手段側端部がテンプレートと重ならない状態について、シミュレーションを行った。結果を図１７に示す。
なお、気流制御部の上面およびテンプレート間の厚み方向の間隔を図１６に示すように０．８ｍｍとし、平面視上の気流制御部のテンプレート保持手段側端部およびテンプレートの樹脂塗布手段側端部間の間隔を図１６に示すように４．０ｍｍとした。
【００７７】
［比較例１］
気流制御部を有しないものとし、平面視上の被転写基板のテンプレート保持手段側端部およびテンプレートの樹脂塗布手段側端部間の間隔を４．０ｍｍとした以外は、実施例１と同様のシミュレーションを行った。結果を図１８に示す。
【００７８】
実施例１および比較例１のシミュレーション結果について、気流の分かれ目や流速を目視にて比較した。
その結果、比較例１のように気流制御部を有しない場合、気流はステージの高さ方向の中心付近より上下に分かれるが、実施例１のように気流制御部を備える場合、気流制御部の高さを基準としてその８０％程度の部分が下方に流れることが確認できた。流速については、広い空間を有し、抵抗の小さい下方が、速くなっていることが確認できた。また、気流制御部で、上方へ流れる空気の量を抑制できることが確認できた。
【００７９】
［実施例２］
気流制御部のテンプレート保持手段側端部がテンプレートの樹脂塗布手段側端部と重なる状態（両端部の重なりが０の状態）とした以外は、実施例１と同様のシミュレーションを行った。結果を図１９に示す。
【００８０】
［比較例２］
気流制御部を有しないものとし、被転写基板のテンプレート保持手段側端部がテンプレートの樹脂塗布手段側端部と重なる状態（両端部の重なりが０の状態）とした以外は、実施例２と同様のシミュレーションを行った。結果を図２０に示す。
【００８１】
実施例２および比較例２のシミュレーション結果について、気流の分かれ目や流速を目視にて比較した。
その結果、実施例２に示すように気流制御部のテンプレート保持手段側端部がテンプレートと重なる、もしくは、被転写基板のテンプレート保持手段側端部がテンプレートと重なることにより、空気はほとんどステージ下方へ流れていることが確認できた。これは、間隔が狭くなることにより空気の流れに対する抵抗が大きくなるためであると考えられる。
【００８２】
［実施例３］
気流制御部のテンプレート保持手段側端部がテンプレートの樹脂塗布手段側端部と重なる状態（両端部の重なりが４．４ｍｍ）とした以外は、実施例１と同様のシミュレーションを行った。結果を図２１に示す。
【００８３】
［比較例３］
気流制御部を有しないものとし、被転写基板のテンプレート保持手段側端部がテンプレートの樹脂塗布手段側端部と重なる状態（両端部の重なりが４．４ｍｍの状態）とした以外は、実施例２と同様のシミュレーションを行った。結果を図２２に示す。
【００８４】
実施例１〜３および比較例１〜３の結果をまとめると、実施例１および比較例１より、気流制御部として上面からの厚みが、テンプレート保持手段側から樹脂塗布手段側に向かって、厚くなるものを用いることにより、インプリント装置内清浄化のための空気の流れがある場合やステージの移動により排除された空気がテンプレート近傍に流れることを抑制することができることが確認できた。
実施例１〜３の比較、ならびに、比較例１〜３の比較より、気流制御部のテンプレート保持手段側端部がテンプレートと重なることにより、さらに、その重なりが大きくなるにつれて、インプリント装置内清浄化のための空気の流れがある場合やステージにより排除された空気がテンプレート近傍に流れることを抑制することができることが確認できた。
したがって、気流制御部のテンプレート保持手段側端部をテンプレートと重なる状態で、樹脂塗布手段により被転写層を形成することにより、その後のステージの移動による、テンプレート表面近傍に供給された高溶解性ガスの濃度の低下を抑制することが可能であることが確認できた。
【００８５】
［参考例１および実施例４〜６］
気流制御部の先端角度を９０°、６３°、４５°および２７°とした以外は、実施例１と同様のシミュレーションを行った。結果を図２３に示す。
また、気流が上下に分かれる高さを上方への廻り込み量を、気流制御部の先端角度が９０°の場合を基準として、その比を評価した結果を、図２４に示す。角度が小さいほどテンプレート表面近傍への空気の流れ込みを抑制できることが確認できた。
特に、角度が４５°以下である場合には、９０°の場合を基準として、廻り込みを半減できること、すなわち、上部回り込み量を効果的に少ないものとすることができ、テンプレート表面近傍への空気の流れ込みを抑制できることが確認できた。
【００８６】
［参考例２〜７］
被転写基板およびテンプレートが対向した状態とし、両者の間隔を０．４ｍｍ、０．８ｍｍ、１．２ｍｍ、２．０ｍｍ、２．８ｍｍおよび４．０ｍｍとした以外は、比較例１と同様のシミュレーションを行った。結果を図２５に示す。
図中の両者の間に流れる気流の流速を評価することにより、両者の間隔が狭いほど、テンプレート表面近傍への空気の流れ込みを抑制できることが確認できた。
特に、１ｍｍ以下とすることで、流速をほぼ０に抑制できるといった結果が得られることが確認できた。
【符号の説明】
【００８７】
１  …  テンプレート保持手段
２  …  樹脂塗布手段
３  …  ステージ
４  …  気流制御部
５  …  ガス供給手段
１０  …  インプリント装置
１１  …  テンプレート
１２  …  被転写層
１３  …  被転写基板
２２  …  インプリント転写体
【図１】
2014165342.tif 000003
【図２】
2014165342.tif 000004
【図３】
2014165342.tif 000005
【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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