(57)【要約】【課題】生産性が高く、かつ、斜め方向から表示パネルを観察した場合にも色味変化の小さい多色表示が可能な反射型表示装置を提供する。【解決手段】画素電極を備える基板と、画素電極の上から順に、反射型表示層、透明電極層、透明受容層、及びカラーフィルタ層が形成された反射型表示装置であって、透明受容層のカラーフィルタ層形成面に、カラーフィルタのパターンに対応した凹凸が形成されていることを特徴とする。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
画素電極を備える基板と、当該画素電極の上から順に、反射型表示層、透明電極層、透明受容層、及びカラーフィルタ層が形成された反射型表示装置であって、
前記透明受容層のカラーフィルタ層形成面に、カラーフィルタのパターンに対応した凹凸が形成されていることを特徴とする、反射型表示装置。
【請求項２】
前記カラーフィルタ層が、前記透明受容層の表面にインキで着色させた構成であることを特徴とする、請求項１に記載の反射型表示装置。
【請求項３】
前記カラーフィルタ層の上にさらに保護フィルムが形成された、請求項１又は２に記載の反射型表示装置。
【請求項４】
前記透明受容層の厚さが０．１μｍ以上１００μｍ以下の範囲内であることを特徴とする、請求項１乃至３のいずれかに記載の反射型表示装置。
【請求項５】
画素電極を備える基板と、当該画素電極の上から順に、反射型表示層、透明電極層、透明受容層、及びカラーフィルタ層が形成された反射型表示装置を製造する方法であって、
カラーフィルタのパターンに対応した凹凸が形成された基材の凹凸形成面上に、前記透明受容層、前記透明電極層、前記反射型表示層、及び接着剤層を順に積層する工程と、
前記基板の画素電極面と前記基材の接着剤層面とを貼り合わせる工程と、
前記基材を剥離して前記透明受容層にカラーフィルタのパターンに対応した凹凸を形成する工程と、
前記透明受容層の凹凸形成面にカラーフィルタ層を形成する工程とを備えることを特徴とする、反射型表示装置の製造方法。
【請求項６】
前記基材の凹凸形成面に剥離層が形成されている、請求項５に記載の反射型表示装置の製造方法。
【請求項７】
前記カラーフィルタ層を形成する工程が、インクジェット印刷法により前記透明受容層にインキを吐き出すことにより行われることを特徴とする、請求項５又は６に記載の反射型表示装置の製造方法。
【請求項８】
前記カラーフィルタ層が、前記透明受容層の表面にインキで着色させた構成であることを特徴とする、請求項７に記載の反射型表示装置の製造方法。
【請求項９】
前記透明受容層の厚さが０．１μｍ以上１００μｍ以下の範囲内であることを特徴とする、請求項５乃至８のいずれかに記載の反射型表示装置の製造方法。
【請求項１０】
前記画素電極を備える基板及び前記凹凸が形成された基材には、画素位置合わせ用の模様がそれぞれ形成されており、当該画素位置合わせ用の模様により貼り合わされる位置が定められていることを特徴とする、請求項５乃至９のいずれかに記載の反射型表示装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、カラーフィルタ層を形成することで多色表示を可能としたディスプレイパネルを用いた反射型表示装置、及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
表示装置としては、バックライトを使用した液晶表示パネルが主流である。しかし、この液晶表示パネルは、目の負担が大きく、長時間見続ける用途に適していない。そこで、目の負担が小さい表示装置として、一対の対向する電極間とその電極間に設けられた反射型表示層とを有する表示パネルが、提案されている（例えば、特許文献１を参照）。
【０００３】
この反射型表示層を有する表示パネルを用いた反射型表示装置は、印刷された紙面と同様に、反射光によって文字や画像を表示するので、目に対する負荷が少なく、画面を長時間見続ける作業に適している。
【０００４】
反射型表示装置の表示方式の１つに、マイクロカプセル型電気泳動方式がある。この方式は、荷電粒子を分散させた分散液に電界を印加することによって荷電粒子を移動させ、画像表示を可能とする原理に基づくものである。着色された荷電粒子をマイクロカプセルに封入し、マイクロカプセルを一対の対向する電極間に配置したマイクロカプセル型電気泳動方式の反射型表示装置は、低駆動電圧及び高柔軟性等の利点があり、実用化され、さらに開発が行われている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特公昭５０−０１５１１５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
現在、反射型表示装置は、白黒表示を主とする二色表示が主流であり、その構造は、例えば基板に設けられた画素電極層の上に、反射型表示層、透明電極、及び透明基材を順に形成するというものである。
【０００７】
一方、近年では、反射型表示装置に求められるものが、二色表示から多色表示（カラー表示）に変化している。この要求に応えるため、反射型表示層と透明電極との間、又は透明電極と透明基材との間、あるいは透明基材上のいずれかにカラーフィルタ層を形成することによって、多色表示を可能とした反射型表示装置が考案されている。
【０００８】
しかしながら、カラーフィルタ層を形成して反射型表示装置を多色表示化する構造では、パターン形成されたカラーフィルタ層と反射型表示層との間の距離が大きくなると、斜め方向から観察した場合に色味が薄れるといった問題が発生する。この問題は、観察角度の影響が少ないという反射型表示装置の長所を失うことになる。
【０００９】
それ故に、本発明の目的は、生産性が高く、かつ、斜め方向から観察した場合にも色味変化の小さい多色表示が可能な反射型表示装置及びその製造方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記課題を解決するために、本発明の第１の局面は、画素電極を備える基板と、画素電極の上から順に、反射型表示層、透明電極層、透明受容層、及びカラーフィルタ層が形成された反射型表示装置であって、透明受容層のカラーフィルタ層形成面に、カラーフィルタのパターンに対応した凹凸が形成されていることを特徴とする。
【００１１】
第１の局面において、カラーフィルタ層は、例えば透明受容層の表面にインキで着色させた構成である。このカラーフィルタ層の上には、さらに保護フィルムを備えてもよい。なお、透明受容層の厚さは、０．１μｍ以上１００μｍ以下の範囲内であることが望ましい。
【００１２】
また、本発明の第２の局面は、画素電極を備える基板と、画素電極の上から順に、反射型表示層、透明電極層、透明受容層、及びカラーフィルタ層が形成された反射型表示装置を製造する方法であって、カラーフィルタのパターンに対応した凹凸が形成された基材の凹凸形成面上に、透明受容層、透明電極層、反射型表示層、及び接着剤層を順に積層する工程と、基板の画素電極面と基材の接着剤層面とを貼り合わせる工程と、基材を剥離して透明受容層にカラーフィルタのパターンに対応した凹凸を形成する工程と、透明受容層の凹凸形成面にカラーフィルタ層を形成する工程とを備えることを特徴とする。
【００１３】
第２の局面において、基材の凹凸形成面には剥離層が形成されていてもよい。また、カラーフィルタ層を形成する工程が、インクジェット印刷法により透明受容層にインキを吐き出すことにより行われてもよい。このカラーフィルタ層は、透明受容層の表面にインキで着色させた構成であることが望ましい。また、透明受容層の厚さは、０．１μｍ以上１００μｍ以下の範囲内であることが望ましい。さらに、画素電極を備える基板及び凹凸が形成された基材には、画素位置合わせ用の模様がそれぞれ形成されており、画素位置合わせ用の模様により貼り合わされる位置が定められていてもよい。
【発明の効果】
【００１４】
上記本発明によれば、生産性が高く、かつ、斜め方向から観察した場合にも色味変化の小さい多色表示が可能である反射型表示装置を実現できる。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】本発明の一実施形態に係る反射型表示装置の構造を模式的に示した断面図
【図２】本発明の一実施形態に係る反射型表示装置の製造方法の一例を説明する図
【発明を実施するための形態】
【００１６】
１．反射型表示装置の構造
図１を用いて、本発明の一実施形態に係る反射型表示装置１の構造例を説明する。
本発明の反射型表示装置１は、画素電極２１が形成された基板２０、接着剤層３０、反射型表示層１１、透明電極層１２、透明受容層１４、カラーフィルタ層１５ａ、１５ｂ、１５ｃ、及び保護フィルム４０で構成される。
【００１７】
反射型表示層１１は、電気泳動粒子を分散媒中に分散させた分散液を封入したマイクロカプセルをバインダー樹脂で固定した構成である。この反射型表示層１１は、画素電極２１が形成された基板２０の上に、接着剤層３０を介して積層される。この反射型表示層１１の上には、透明電極層１２及び透明受容層１４が順に積層される。透明受容層１４は、カラーフィルタ層１５ａ、１５ｂ、１５ｃがパターニングされた層であり、画素電極２１のパターンとカラーフィルタ層１５ａ、１５ｂ、１５ｃのパターンとが、反射型表示層１１及び透明電極層１２を挟んで一致かつ対向するように、設けられる。透明受容層１４の上には、保護フィルム４０が形成される。
【００１８】
本発明の反射型表示装置１にあっては、後述する反射型表示装置製造時の画素位置合わせに利用される画素位置合わせ用の模様（アライメントマーク）２２が基板２０に設けられている。また、反射型表示装置１には、反射型表示層１１の側面に、反射型表示層１１への水分の浸入を防ぐための封止層５０が設けられていてもよい。
【００１９】
２．反射型表示装置の製造方法
図２を用いて、本発明の一実施形態に係る反射型表示装置１の製造方法の一例を説明する。
まず、図２（ａ）に示すように、カラーフィルタ層１５ａ、１５ｂ、１５ｃのパターンとなる凹凸とアライメントマーク２２とが形成された基材１３の上に、透明受容層１４、透明電極層１２、反射型表示層１１、接着剤層３０、及び離型導電リリース層３１を順に積層した、積層フィルム１０を用意する。また、画素電極２１とアライメントマーク２２とが形成された、基板２０を用意する。
【００２０】
次に、図２（ｂ）に示すように、積層フィルム１０の離型導電リリース層３１を剥離して、積層フィルム１０の接着剤層３０面と基板２０の画素電極２１面とを貼り合わせる。このとき、基材１３のアライメントマーク２２と基板２０のアライメントマーク２２とを合わせることで、積層フィルム１０と基板２０との位置合わせを行う。これにより、積層フィルム１０の透明受容層１４の凹凸パターンと基板２０の画素電極２１のパターンとを、一致させた状態で貼り合わせることができる。そして、基板２０に貼り合わせた積層フィルム１０から基材１３を剥離して、透明受容層１４を露出させる。
【００２１】
次に、図２（ｃ）に示すように、露出した透明受容層１４に対してインクジェット印刷法により２種類以上のインキを吐き出し、透明受容層１４上にカラーフィルタ層１５ａ、１５ｂ、１５ｃを形成する。図２（ｃ）の例では、赤色カラーフィルタ層１５ａ、青色カラーフィルタ層１５ｂ、及び緑色カラーフィルタ層１５ｃが形成されている。このカラーフィルタ層１５ａ、１５ｂ、１５ｃを形成するにあたっては、基板２０上の画素電極２１のパターンとカラーフィルタ層１５ａ、１５ｂ、１５ｃのパターンとを対応させる必要がある。本発明の反射型表示装置１の製造方法では、画素位置合わせ用のアライメントマーク２２の上部に反射型表示層１１を配置しないことにより、積層フィルム１０と基板２０とを貼り合わせた後のカラーフィルタ層形成工程において、アライメントマーク２２を基準として容易に画素電極２１のパターンに対応したカラーフィルタ層１５ａ、１５ｂ、１５ｃのパターンを形成することができる。また、透明受容層１４の表面にカラーフィルタ層１５ａ、１５ｂ、１５ｃのパターンに対応した凹凸が予め形成されているので、インクジェット印刷法では困難であった四角形状を容易に形成することができる。
【００２２】
最後に、図２（ｄ）に示すように、カラーフィルタ層１５ａ、１５ｂ、１５ｃの上に粘着層を設けた保護フィルム４０を貼り合わせることで、反射型表示装置１が製造される。
【００２３】
３．反射型表示装置の動作原理
本発明の反射型表示装置１における動作原理を説明する。
基板２０上の画素電極２１は、各々がスイッチング素子に接続されており、透明電極層１２との間に正負の電圧を印加することができる。画像を表示するためには、通常、画素電極２１は、アクティブマトリクス型駆動方式の電圧供給回路に接続される。画素電極２１に電圧を印加させると、反射型表示層１１にかかる電界が変動する。画素電極２１が正極のときは、マイクロカプセル内の負に帯電している粒子は、装置背面となる画素電極２１側へ移動し、マイクロカプセル内の正に帯電している粒子は、装置前面となる透明電極層１２側に移動する。同様に、画素電極２１が負極になれば、正に帯電している粒子は画素電極２１側に移動し、負に帯電している粒子は透明電極層１２側へ移動する。
【００２４】
ここで、表示色は、透明電極層１２側へ移動した粒子の色に依存する。よって、例えば黒色粒子を正に帯電させ、白色粒子を負に帯電させておき、透明電極層１２側に移動する白色粒子を制御することで、観察側から入射する光のうち白色粒子だけで反射した反射光をカラーフィルタ層１５ａ、１５ｂ、１５ｃの所望の着色パターンを透過させることができ、所望の文字や画像を色表示することが可能となる。
【００２５】
本発明の反射型表示装置１では、反射型表示層１１とカラーフィルタ層１５ａ、１５ｂ、１５ｃとの間には、透明電極層１２と透明受容層１４のみが存在する。透明電極層１２の厚さはサブミクロンオーダーであるので、反射型表示層１１とカラーフィルタ層１５ａ、１５ｂ、１５ｃとの距離は、透明受容層１４の厚みによって決定される。よって、透明受容層１４の厚さを薄くすることにより、反射型表示層１１とカラーフィルタ層１５ａ、１５ｂ、１５ｃとの距離を近接させることができ、斜め方向から観察した場合にも色味変化の小さい多色表示が可能となる。
【００２６】
なお、本発明の反射型表示装置１の製造方法にあっては、カラーフィルタ層１５ａ、１５ｂ、１５ｃが、透明受容層１４に対しインクジェット印刷法により複数色のインキを吐出することにより形成されることが好ましい。透明受容層１４がカラーフィルタ層に合った凹凸で予めパターニングされているので、インキが球状に吐き出されるインクジェット印刷では制御が難しかった四角形状を容易に形成することができ、明彩度の高い反射型表示装置１を実現することができる。
【００２７】
また、積層フィルム１０と基板２０とを貼り合わせた後に積層フィルム１０の基材１３を剥離し、透明受容層１４の表面にカラーフィルタ層１５ａ、１５ｂ、１５ｃを形成する。従って、積層フィルム１０と基板２０とを貼り合わせたパネルへのダメージを考慮すると、やはりカラーフィルタ層１５ａ、１５ｂ、１５ｃは、非接触であるインクジェット印刷法により複数色のインキを吐出することにより形成されることが好ましい。
【００２８】
なお、本発明の反射型表示装置１では、カラーフィルタ層１５ａ、１５ｂ、１５ｃの上にさらに保護フィルム４０が積層される。保護フィルム４０を設けることにより、反射型表示装置１の耐擦傷性を向上させることができる。
【００２９】
また、本発明の反射型表示装置１及びその製造方法にあっては、透明受容層１４の厚さが０．１μｍ以上１００μｍ以下の範囲内とすることが好ましい。前述の通り、本発明にあっては、反射型表示層１１とカラーフィルタ層１５ａ、１５ｂ、１５ｃとの距離は、透明受容層１４の厚みによって決定される。よって、透明受容層１４の厚さを上述した数値範囲とすれば、カラーフィルタ層の印刷位置合わせが容易になり、生産性が向上すると共に、斜め方向から観察した場合に色味変化を小さくすることができる。
一方、透明受容層１４の厚さが１００μｍを超えてしまうと、斜め方向から観察した場合に色味の変化が大きくなってしまう。また、透明受容層１４の厚みが０．１μｍ未満になれば、カラーフィルタ層を形成する際に十分にインキを受容できず、パターンが崩れることがある。
【００３０】
以下、さらに詳細に、本発明の一実施形態に係る反射型表示装置１及びその製造方法について説明する。
凹凸を形成した基材１３としては、アルミ、銅等の金属板、ソーダガラスや無アルカリガラス等のガラス基板、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリエーテルサルフォン、シクロオレフィンポリマー、ポリイミド、ナイロン、アラミド、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、ポリ塩化ビニル、トリアセチルセルロース等のフィルム基板を加工して、用いることが可能である。貼り合わせ時のアライメントを容易にするという観点、及び寸法安定性という観点から、ガラス基板が最も好ましい。
【００３１】
この基材１３のパターン加工方法としては、基板表面に感光性樹脂を塗布し、マスクを介した露光処理によりパターン形成及び現像処理後、既存のドライエッチング処理やウエットエッチング処理、もしくはサンドブラスト処理を用いて、形成する透明受容層１４の膜厚に応じた深さに基板を加工した後、この感光性樹脂を剥離して形成する方法を用いることができる。
又は、基材１３のパターン加工方法としては、形成する透明受容層１４の膜厚やカラーフィルタ層１５ａ、１５ｂ、１５ｃのパターンに応じた厚みで基板表面に感光性樹脂を塗布し、マスクを介した露光処理によりパターン形成及び現像処理後、この感光性樹脂を硬化する方法を用いることができる。
【００３２】
基材１３のパターンは、形成するカラーフィルタ層１５ａ、１５ｂ、１５ｃのパターンに準じ、画素サイズに対応した５０〜５００μｍ角のパターンが、パターン間隔５〜５０μｍの等間隔で配置されたものである。画素部エリアは、透明受容層１４の膜厚に準じた０．１〜１００μｍの深さに加工する。
【００３３】
基材１３上には剥離層が設けられる。この剥離層には、シリコーンオイルやシリコーンワニスで代表される離型剤を用いてもよいし、あるいはシリコーンゴムを薄く設けてもよい。また、同じ目的でフッ素系樹脂やフッ素系ゴムも利用され得るし、フッ素樹脂微粉末をシリコーンゴムあるいは普通のゴムに混ぜて、剥離性を出す等の使い方をしてもよい。剥離層の膜厚は、透明受容層１４が均一に塗布可能で、かつ、画素電極２１が形成された基板２０と貼り合わされた時に剥離性を発現すればよく、概ね０．０５〜５μｍに設定されるのが好ましい。
【００３４】
具体的なシリコーンとしては、ジメチルポリシロキサンの各種分子量のもの、その他メチルハイドロジエンポリシロキサン、メチルフェニルシリコーンオイル、メチル塩素化フェニルシリコーンオイル、あるいはこれらポリシロキサンと有機化合物との共重合体等、変成したもの、を用いることができる。シリコーンゴムとしては、二液型のジオルガノポリシロキサンと架橋剤としての三官能性以上のシラン、又はシロキサン及び硬化触媒を組み合わせたもの、あるいは一液型ではジオルガノポリシロキサンとアセトンオキシム、各種メトキシシラン、メチルトリアセトキシシラン等の組み合わせ等が用いられ、その他ゴム硬度を調節するためのポリシロキサンが適宜用いられる。
【００３５】
上述した剥離層を基材１３上に形成する方法としては、インキの粘度や溶媒の乾燥性によって公知の塗工方法を用いることができる。例えば、スピンコート、ディッピング法、ロールコート、グラビアコート、リバースコート、エアナイフコート、コンマコート、ダイコート、スクリーン印刷法、スプレーコート、グラビアオフセット法等が挙げられる。この中でも、ダイコート、キャップコート、ロールコート、アプリケータは、広い範囲の粘度のインキについて均一なインキ液膜を形成することができる。
【００３６】
基材１３上に形成される透明受容層１４は、樹脂を含む受容層形成用塗液を透明基材上に塗布することにより形成される。透明受容層１４としては、ウレタン樹脂、ポリエステル、アクリル樹脂、ビニルアルコール樹脂等を用いることができ、インキの溶媒の吸収性を高めるため合成シリカやアルミナ等の多孔質物質を含ませることもできる。透明受容層１４の形成は、枚葉処理を行うのであれば、スクリーン印刷法やオフセット印刷法やスピンコート法、ダイによる間欠塗工により形成することができる。また、ロール・ツー・ロールによる連続処理を行うのであれば、ダイコーティング、コンマコート、カーテンコート、グラビアコート等の汎用の塗布技術による受容層形成が可能である。また、受容層形成用塗液が塗工された後は、透明基材上の塗液は乾燥される。乾燥方法としては、加熱、送風等を用いることができる。また、透明受容層１４は、ロール・ツー・ロール方式による連続塗工により形成することが好ましい。
【００３７】
透明受容層１４上に形成される透明電極層１２の材料としては、ＩＴＯ等の酸化インジウム系、酸化スズ系、酸化亜鉛系のような透明性を有する導電性酸化物、又はカーボンナノチューブやチオフェン系化合物等を用いることができる。また、透明電極層１２の形成には、蒸着法、スパッタ法、ＣＶＤ法等の乾式成膜法や、塗液を用いた湿式成膜法等の従来技術を用いることができる。
【００３８】
透明電極層１２上に形成される反射型表示層１１は、電気泳動粒子を分散媒中に分散した分散液を封入したマイクロカプセルと、バインダー樹脂と、溶媒とを含む反射型表示層形成用塗液を、透明電極を備えた透明基材上に塗布することにより形成される。マイクロカプセルは、殻内に少なくとも電気極性の異なる２種類の粒子が透明な分散媒中に分散された構造である。マイクロカプセル内に封入される電気極性の異なる２種類の粒子としては、黒色粒子と白色粒子との組み合わせを挙げることができる。マイクロカプセルは、篩い分け法や比重分離法等により精製されていて、平均粒径が３０〜１００μｍであるものを用いることが好ましい。また、マイクロカプセルの平均粒径に対し前後１０μｍ以内の粒径を有するマイクロカプセルの割合は、少なくとも５０％を超えることが好ましい。
【００３９】
マイクロカプセル分散液は、アルコール等の水系溶剤が使用され、特に問題なければ水を使用する。分散媒としては、例えば、脂肪族炭化水素、芳香族炭化水素、脂環式炭化水素、ハロゲン化炭化水素、各種エステル類、アルコール系溶媒、又はその他の脂等を単独又は適宜混合した透明な溶媒を使用する。
【００４０】
黒色粒子には、無機炭素等の無機顔料の他、ガラスあるいは樹脂等の微粉末、さらにはこれらの複合体等を使用することができる。一方、白色粒子としては、公知の酸化チタン、シリカ、アルミナ、酸化亜鉛等の白色無機顔料、酢酸ビニルエマルション等の有機化合物、さらにはこれらの複合体等を使用することができる。なお、黒色粒子及び白色粒子は、必要に応じて、粒子の表面を種々の界面活性剤、分散剤、有機及び無機化合物、金属等を用いて処理することで、所望の表面電荷を付与することができるのみならず、分散媒中での分散安定性を向上させることができる。
【００４１】
マイクロカプセルを分散した分散液は、混合コアセルベーション法等の相分離法、界面重合法、ｉｎ−ｓｉｔｕ法、溶解分散冷却法等、公知の方法を用いてマイクロカプセルカプセル殻に封入され、マイクロカプセルとなる。マイクロカプセル殻は、例えばゴムやゼラチンを用いることができる。
【００４２】
反射型層形成用塗液に含まれるバインダー樹脂としては、ポリ乳酸、フェノール樹脂、ポリプロピレン樹脂、アクリル樹脂等の誘電体樹脂を用いることができる。反射型層形成用塗液の塗工方法としては、スクリーン印刷方式、マイクログラビアコーター、キスコーター、コンマコーター、ダイコーター、バーコーダー、カーテンコーター等の塗工装置を用いることができる。反射型層形成用塗液が塗工された後は、透明電極層上の塗液は乾燥される。乾燥方法としては、加熱、送風等を用いることができる。
【００４３】
反射型表示層１１上に形成される接着剤層３０は、予め離型導電フィルムに形成したものを積層フィルム１０の反射型表示層１１側に貼り合わせると、積層フィルム１０の透明導電膜と離型導電フィルムとの間に電圧を印加し、反射型表示層１１の不良検査を行うことができ、好ましい。このとき、接着剤として使用することができるものは、ウレタン樹脂系接着剤、アクリル樹脂系接着剤等の合成樹脂系接着剤を用いることが好ましい。特に、高誘電体樹脂を使用した接着剤を用いることが好ましい。離型導電フィルムとしては、例えばＩＴＯ層や金属薄膜が挙げられる。
【００４４】
透明受容層１４の凹凸形成面には、カラーフィルタ層１５ａ、１５ｂ、１５ｃが設けられる。カラーフィルタ層１５ａ、１５ｂ、１５ｃは、透明受容層１４に複数のインキを塗布することにより形成される。透明受容層１４の表面には、カラーフィルタのパターンに対応した凹凸部が形成されているので、インクジェット印刷法では困難な微細な形状制御を行うことができる。
【００４５】
カラーフィルタ層１５ａ、１５ｂ、１５ｃを形成するためのインキとしては、公知の着色顔料もしくは着色染料を含むインキを用いることができる。カラーフィルタ層１５ａ、１５ｂ、１５ｃは、画素毎に光を着色するもので、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）の三色パターン、あるいはイエロー（Ｙ）、マゼンタ（Ｍ）、シアン（Ｃ）の３色のパターンを用いることができる。また、これらの色の組み合わせであってもよく、また、ホワイト（Ｗ）等の他の色を組み合わせてもよい。
【００４６】
具体的に着色顔料の成分を挙げるのであれば、赤色着色層もしくは赤色画素を形成するための赤色着色組成物には、例えばＣ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｒｅｄ  ７、９、１４、４１、４８：１、４８：２、４８：３、４８：４、８１：１、８１：２、８１：３、９７、１２２、１２３、１４６、１４９、１６８、１７７、１７８、１７９、１８０、１８４、１８５、１８７、１９２、２００、２０２、２０８、２１０、２１５、２１６、２１７、２２０、２２３、２２４、２２６、２２７、２２８、２４０、２４６、２５４、２５５、２６４、２７２、２７９等の赤色顔料を用いることができる。赤色着色組成物には、黄色顔料、橙色顔料を添加併用することができる。
【００４７】
緑色着色組成物には、例えばＣ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｇｒｅｅｎ  ７、１０、３６、３７等の緑色顔料を用いることができる。緑色着色組成物には、赤色着色組成物と同様の黄色顔料を添加併用することができる。
【００４８】
青色着色組成物には、例えばＣ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｂｌｕｅ  １５、１５：１、１５：２、１５：３、１５：４、１５：６、１６、２２、６０、６４、８０等の青色顔料、好ましくはＣ．Ｉ．  Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｂｌｕｅ  １５：６を用いることができる。また、青色着色組成物には、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｖｉｏｌｅｔ  １、１９、２３、２７、２９、３０、３２、３７、４０、４２、５０等の紫色顔料、好ましくはＣ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｖｉｏｌｅｔ  ２３を添加併用することができる。
【００４９】
本発明のカラーフィルタ層１５ａ、１５ｂ、１５ｃには、画素毎を黒色で区切るためのブラックマトリクスは形成しない。このため、本発明では、カラーフィルタ層１５ａ、１５ｂ、１５ｃを形成する際に透明受容層１４を形成し、この透明受容層１４中にインクジェット印刷法によりインキを吐き出しカラーフィルタを形成する。この方法は、最も生産性が高く、好適に用いることができる。
【００５０】
透明受容層１４へのインキの塗布方法としては、色による塗り分けが必要であるため、スクリーン印刷法、オフセット印刷法、インクジェット印刷法等を用いることができる。その中でも、位置合わせが容易であることから、インクジェット印刷法を用いて透明受容層１４にインキを吐き出し、カラーフィルタ層を形成する方法が好ましい。
【００５１】
画素電極２１を備える基板２０としては、公知のものを用いることができる。画素電極２１は、各々がスイッチング素子に接続されており、透明電極層１２との間に正負の電圧を印加することができる。画素電極２１は、アクティブマトリクス型駆動方式の電圧供給回路に接続される。基板２０に設けられる位置合わせ用の模様（アライメントマーク）２２としては、画素電極２１の形成と同時に基板２０の端にパターン形成できる。位置合わせ模様としては、十字型、丸型、多重同心円型、楔型等が挙げられる。
【００５２】
保護フィルム４０としては、透明基材で示した材料、つまりポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）やポリカーボネート、ポリイミド、ポリエチレンナフタレート、ポリエーテルスルホン、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル等のプラスチックフィルム、あるいはガラス等を使用することができる。また、保護フィルム４０にあっては、観察者側に表面の耐擦傷性を向上させるためのハードコート層や、表面の写りこみを防ぐための反射防止層、防湿性を考慮した金属成分を含有した薄膜層が設けられていてもよい。なお、透明受容層１４と保護フィルム４０は、公知の接着剤により貼り合わせられる。
【００５３】
反射型表示層１１のマクロカプセルを挟む封止層５０としては、熱可塑性樹脂であるポリオレフィン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリシリコーン樹脂系のシール剤又は熱硬化性樹脂であるエポキシ樹脂、ウレタン樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂、アクリル樹脂系のシール剤等を用いることができる。
【００５４】
４．実施例
ポリエチレン樹脂で表面を被覆した平均粒径３μｍの酸化チタン粉末（白色粒子）と、アルキルトリメチルアンモニウムクロライドで表面処理した平均粒径４μｍのカーボンブラック粉末（黒色粒子）とを、テトラクロロエチレンに分散させた分散液を用意する。この場合、白色粒子が負に帯電し、黒色粒子が正に帯電する。この分散液をＯ／Ｗエマルジョン化し、ゼラチン−アラビアゴムによるコンプレックス・コアセルベーション法によりマイクロカプセルを形成することで、分散液をマイクロカプセル中に封入した。このようにして得られたマイクロカプセルを篩い分けして、平均粒径が６０μｍ、５０〜７０μｍ粒径のマイクロカプセルの割合が５０％以上になるように、粒径をそろえた。
【００５５】
次に、固形分４０質量％のマイクロカプセルの水分散液を調整した。その水分散液と、固形分２５質量％のウレタン系バインダー（ＣＰ−７０５０、大日本インキ株式会社製）と、界面活性剤と、増粘剤と、純水とを混合し、反射型表示層形成用塗液を作製した。
【００５６】
反射型表示層を形成する基材は、次の通り形成した。無アルカリガラス（コーニング社、１７３７ガラス、３００ｍｍ角、１．１ｍｍ厚）にポジ型レジスト（シプレイ製、Ｓ１８１３）をスピンコート法で塗布し、マスクを介して露光し、アルカリ現像液（シプレイ製、ＭＦＣＤ−２６）で現像処理を行うことで、カラーフィルタ層に準じたパターンを形成した。このパターンの開口部分を、フッ酸によって深さが５．０μｍとなるようにエッチング処理をし、レジスト剥膜剤（シプレイ製、リムーバ１１６５）によりレジストを剥膜して凹凸基板を得た。このガラス凹版上にフッ素系撥水処理剤（３Ｍ製、ＥＧＣ−１７２０）をディップコーティングし、８０℃で３０分間乾燥処理することにより剥離層を設けた。
【００５７】
この基材上にポリエステル樹脂系の受容液ＮＳ−１４１ＬＸ（高松油脂株式会社）をダイコーターを用いて塗工し、平均膜厚１０ｕｍの透明受容層を形成した。次に、透明受容層上にＩＴＯ層を湿式成膜法により形成し、金属板／シリコーン層／受容層／ＩＴＯ層からなる基板を得た。
【００５８】
続いて、上記得られたフィルムのＩＴＯ層側にマイクロカプセルインキをダイによる塗工を行い、マイクロカプセル面にウレタン系接着剤付のシリコーン付アルミリリースを貼り合わせ、金属板／シリコーン層／受容層／ＩＴＯ層／マイクロカプセル型反射型表示層／シリコーン付アルミリリース層からなる積層基板を得た。
【００５９】
この得られた積層基板のＩＴＯ層とアルミリリース層との間に電圧を印加し、反射型表示層を駆動させ、表示欠陥検査を行った。
また、この得られた積層基板を、ＣＯ２レーザーカット装置を用いて、画素電極を備える基板よりも小さいサイズに断裁を行った。
そして、得られた積層基板の接着剤側のシリコーン付アルミリリースフィルムを剥離して、薄膜トランジスタを用いたアクティブマトリクス型駆動方式回路に接続された画素電極と、端部に位置合わせ用の全幅５００ｕｍ線幅２００ｕｍの十字模様とを備える基板に、ラミネートにより貼り合わせ、受容層付反射型表示基板を得た。
【００６０】
この受容層付反射型表示基板の透明受容層側の基材を剥がし、透明受容層上にインクジェット印刷を用い、画素毎に色分け印刷を行いカラーフィルタ層を形成した。このとき、基板上の位置合わせ用の十字模様により位置合わせを行った。また、カラーフィルタ層は、赤、青、緑のパターンとした。最後に、保護フィルムとして粘着付きハードコートフィルム  ＫＢスティックＳＧ９０Ｒ（株式会社きもと）を透明受容層上にラミネートした。
【００６１】
以上により反射型表示装置を作製した。
作製した反射型表示装置において、各画素に電圧を印加したところ、カラーの表示を行うことができた。また、透明受容層に形成された凹凸により四角形状のカラーフィルタが形成され、また反射型層とカラーフィルタ層が近接しているため、視差による色ムラは観察されなかった。
【産業上の利用可能性】
【００６２】
本発明は、カラーフィルタ層を形成することで多色表示を可能としたディスプレイパネルを用いた反射型表示装置等に有用である。
【符号の説明】
【００６３】
１０  積層フィルム
１１  反射型表示層
１２  透明電極層
１３  基材
１４  透明受容層
１５ａ、１５ｂ、１５ｃ  カラーフィルタ層
２０  基板
２１  画素電極
２２  画素位置合わせ用の模様
３０  接着剤層
３１  離型導電リリース
４０  保護フィルム
５０  封止層
【図１】
2014142549.tif 000003
【図２】
2014142549.tif 000004