(57)【要約】【課題】新規なインプリント材料を提供すること。【解決手段】下記（Ａ）成分、（Ｂ）成分、（Ｃ）成分及び（Ｄ）成分を含有するインプリント材料。（Ａ）下記式（１）で表される化合物（Ｂ）下記式（２）で表される化合物（Ｃ）下記式（３）で表される化合物（Ｄ）光重合開始剤【化１】2017002506.tif 000013（式中、Ｒ１はそれぞれ独立に水素原子又はメチル基を表し、Ｒ２は置換基としてヒドロキシ基を有してもよい炭素原子数１乃至５の炭化水素基を表し、ｍは２又は３を表し、Ｘはエチレンオキサイドユニット及び／又はプロピレンオキサイドユニットを有する二価の連結基を表し、Ｒ３は水素原子又は炭素原子数１乃至３のアルキル基を表し、ｎは１又は２を表し、ｎが１を表す場合、Ｒ４は、少なくとも一つの置換基で置換されていてもよい、炭素原子数１乃至１２のアルキル基を表し、ｎが２を表す場合、Ｒ４は、少なくとも一つの置換基で置換されていてもよい、炭素原子数１乃至１２のアルキレン基を表す。）【選択図】なし
2017002506.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記（Ａ）成分、（Ｂ）成分、（Ｃ）成分及び（Ｄ）成分を含有するインプリント材料。
（Ａ）下記式（１）で表される化合物
（Ｂ）下記式（２）で表される化合物
（Ｃ）下記式（３）で表される化合物
（Ｄ）光重合開始剤
【化１】
2017002506.tif 000011
（式中、Ｒ１はそれぞれ独立に水素原子又はメチル基を表し、Ｒ２は置換基としてヒドロキシ基を有してもよい炭素原子数１乃至５の炭化水素基を表し、ｍは２又は３を表し、Ｘはエチレンオキサイドユニット及び／又はプロピレンオキサイドユニットを有する二価の連結基を表し、Ｒ３は水素原子又は炭素原子数１乃至３のアルキル基を表し、ｎは１又は２を表し、
ｎが１を表す場合、Ｒ４は、ヒドロキシ基、カルボキシ基、アセチル基、１つ又は２つの水素原子がメチル基で置換されていてもよいアミノ基、スルホ基、及び炭素原子数１乃至４のアルコキシ基からなる群から選択される少なくとも一つの置換基で置換されていてもよい、炭素原子数１乃至１２のアルキル基を表し、
ｎが２を表す場合、Ｒ４は、ヒドロキシ基、カルボキシ基、アセチル基、１つ又は２つの水素原子がメチル基で置換されていてもよいアミノ基、スルホ基、及び炭素原子数１乃至４のアルコキシ基からなる群から選択される少なくとも一つの置換基で置換されていてもよい、炭素原子数１乃至１２のアルキレン基を表す。）
【請求項２】
前記（Ｂ）成分は下記式（２ａ）：
【化２】
2017002506.tif 000012
（式中、Ｒ１はそれぞれ独立に水素原子又はメチル基を表し、Ｒ５はトリメチレン基又はプロピレン基を表し、ｐ及びｑはそれぞれ独立に０以上の整数を表し、かつ１≦（ｐ＋ｑ）≦３０の関係式を満たす。）
で表される１種又は２種の化合物を含む請求項１に記載のインプリント材料。
【請求項３】
前記（Ａ）成分、（Ｂ）成分及び（Ｃ）成分の合計質量に基づいて、該（Ａ）成分の含有割合は１０質量％以上４０質量％以下である請求項１又は請求項２に記載のインプリント材料。
【請求項４】
前記（Ａ）成分、（Ｂ）成分及び（Ｃ）成分の合計質量に基づいて、該（Ｃ）成分の含有割合は１質量％以上４０質量％以下である請求項１又は請求項２に記載のインプリント材料。
【請求項５】
（Ｅ）成分としてシリコーン化合物をさらに含有する請求項１乃至請求項４のいずれか一項に記載のインプリント材料。
【請求項６】
（Ｆ）成分として界面活性剤をさらに含有する請求項１乃至請求項５のいずれか一項に記載のインプリント材料。
【請求項７】
（Ｇ）成分として溶剤をさらに含有する請求項１乃至請求項６のいずれか一項に記載のインプリント材料。
【請求項８】
請求項１乃至請求項７のいずれか一項に記載のインプリント材料を基材に塗布して膜を形成する工程、及び光インプリント装置を用いて、パターンが形成されたモールドを前記膜に接触させ、さらに該膜を前記モールドと圧着させ、続いて該膜を光硬化させ、その後前記モールドと該膜を離すことにより前記パターンを該膜に転写する工程、を有する、
パターンが転写された膜の作製方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、インプリント材料（インプリント用膜形成組成物）及び当該材料から作製され、パターンが転写された膜に関する。より詳しくは、当該材料から作製され、表面の拭き取り性、基板との密着性、耐擦傷性に優れるパターンが転写された膜に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
１９９５年、現プリンストン大学のチョウ教授らがナノインプリントリソグラフィという新たな技術を提唱した（特許文献１）。ナノインプリントリソグラフィは、任意のパターンを有するモールドを樹脂膜が形成された基材と接触させ、当該樹脂膜を加圧すると共に、熱又は光を外部刺激として用い、目的のパターンを硬化された当該樹脂膜に形成する技術であり、このナノインプリントリソグラフィは、従来の半導体デバイス製造における光リソグラフィ等に比べて簡便・安価にナノスケールの加工が可能であるという利点を有する。
したがって、ナノインプリントリソグラフィは、光リソグラフィ技術に代わり、半導体デバイス、オプトデバイス、ディスプレイ、記憶媒体、バイオチップ等の製造への適用が期待されている技術であることから、ナノインプリントリソグラフィに用いる光ナノインプリントリソグラフィ用硬化性組成物について様々な報告がなされている（特許文献２、特許文献３）。【０００３】
また、光ナノインプリントリソグラフィにおいて、パターンが転写された膜を高効率で量産する方法として、ロール・ツー・ロール方式が提唱されている。従来光ナノインプリントリソグラフィにおいて提案されているロール・ツー・ロール方式は、フレキシブルなフィルムを基材として用い、ナノインプリントリソグラフィに用いる材料（以下、本明細書では「インプリント材料」と略称する。）としてパターン寸法が変化しにくいように溶剤を加えない無溶剤タイプの材料を使用する方法が主流となっている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】米国特許第５７７２９０５号明細書
【特許文献２】特開２００８−１０５４１４号公報
【特許文献３】特開２００８−２０２０２２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
上述したように、従来提案されているインプリント材料には無溶剤タイプの材料が使用されているが、インプリント後の膜と基材フィルムとの好適な密着性が構築できない場合がある。また、固体撮像装置、太陽電池、ＬＥＤデバイス、ディスプレイなどの製品では、その内部又は表面に光学部材として作製した凹凸形状に対して、耐擦傷性が求められることがある。さらに上記製品の表面に上記凹凸形状が採用される場合には、水拭きでその表面の汚れを除去することがあるが、その時に該凹凸形状において隣接する凸部同士の付着を防ぐことが必須となる。しかしながら、従来種々のインプリント材料が開示されているものの、フィルム基材に十分な密着性を有し、かつ耐擦傷性に優れ、水拭き時における上記隣接する凸部同士の付着が起こらない材料について具体的な検討や報告はなされていない。【０００６】
本発明は、上記の事情に基づいてなされたものであり、その解決しようとする課題は、インプリント材料を用いて樹脂膜を形成したとき、フィルム基材に対して十分な密着性を有しかつ耐擦傷性に優れ、水拭き時における上記隣接する凸部同士の付着が起こらない膜を形成するインプリント材料を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明者らは、上記の課題を解決するべく鋭意検討を行った結果、重合性基を末端に有する所定の化合物とプロピレンオキサイドユニット及び／又はエチレンオキサイドユニットを有しかつ重合性基を末端に有する化合物と所定の（メタ）アクリルアミド化合物及び光重合開始剤を含有する材料をインプリント材料として使用することにより、次の知見を得、本発明を完成した。凹凸形状が転写された膜と基材との密着性に優れ、該膜の凹凸形状が転写された面でスチールウール擦傷試験を行っても傷が殆ど発生せず、該凹凸形状が転写された面を水拭きしても該凹凸形状において隣接する凸部同士の付着が起こらない。【０００８】
すなわち本発明は、第１観点として、
下記（Ａ）成分、（Ｂ）成分、（Ｃ）成分及び（Ｄ）成分を含有するインプリント材料に関する。
（Ａ）下記式（１）で表される化合物
（Ｂ）下記式（２）で表される化合物
（Ｃ）下記式（３）で表される化合物
（Ｄ）光重合開始剤
【化１】
2017002506.tif 000003
（式中、Ｒ１はそれぞれ独立に水素原子又はメチル基を表し、Ｒ２は置換基としてヒドロキシ基を有してもよい炭素原子数１乃至５の炭化水素基を表し、ｍは２又は３を表し、Ｘはエチレンオキサイドユニット及び／又はプロピレンオキサイドユニットを有する二価の連結基を表し、Ｒ３は水素原子又は炭素原子数１乃至３のアルキル基を表し、ｎは１又は２を表し、
ｎが１を表す場合、Ｒ４は、ヒドロキシ基、カルボキシ基、アセチル基、１つ又は２つの水素原子がメチル基で置換されていてもよいアミノ基、スルホ基、及び炭素原子数１乃至４のアルコキシ基からなる群から選択される少なくとも一つの置換基で置換されていてもよい、炭素原子数１乃至１２のアルキル基を表し、
ｎが２を表す場合、Ｒ４は、ヒドロキシ基、カルボキシ基、アセチル基、１つ又は２つの水素原子がメチル基で置換されていてもよいアミノ基、スルホ基、及び炭素原子数１乃至４のアルコキシ基からなる群から選択される少なくとも一つの置換基で置換されていてもよい、炭素原子数１乃至１２のアルキレン基を表す。）
第２観点として、前記（Ｂ）成分は下記式（２ａ）：
【化２】
2017002506.tif 000004
（式中、Ｒ１はそれぞれ独立に水素原子又はメチル基を表し、Ｒ５はトリメチレン基又はプロピレン基を表し、ｐ及びｑはそれぞれ独立に０以上の整数を表し、かつ１≦（ｐ＋ｑ）≦３０の関係式を満たす。）
で表される１種又は２種の化合物を含む第１観点に記載のインプリント材料に関する。
第３観点として、前記（Ａ）成分、（Ｂ）成分及び（Ｃ）成分の合計質量に基づいて、該（Ａ）成分の含有割合は１０質量％以上４０質量％以下である第１観点又は第２観点に記載のインプリント材料に関する。
第４観点として、前記（Ａ）成分、（Ｂ）成分及び（Ｃ）成分の合計質量に基づいて、該（Ｃ）成分の含有割合は１質量％以上４０質量％以下である第１観点又は第２観点に記載のインプリント材料に関する。
第５観点として、（Ｅ）成分としてシリコーン化合物をさらに含有する第１観点乃至第４観点のいずれか一に記載のインプリント材料に関する。
第６観点として、（Ｆ）成分として界面活性剤をさらに含有する第１観点乃至第５観点のいずれか一に記載のインプリント材料に関する。
第７観点として、（Ｇ）成分として溶剤をさらに含有する第１観点乃至第６観点のいずれか一に記載のインプリント材料に関する。
第８観点として、第１観点乃至第７観点のいずれか一に記載のインプリント材料を基材に塗布して膜を形成する工程、及び光インプリント装置を用いて、パターンが形成されたモールドを前記膜に接触させ、さらに該膜を前記モールドと圧着させ、続いて該膜を光硬化させ、その後前記モールドと該膜を離すことにより前記パターンを該膜に転写する工程、を有する、パターンが転写された膜の作製方法に関する。
【発明の効果】
【０００９】
本発明のインプリント材料は、重合性基を末端に有する所定の化合物とプロピレンオキサイドユニット及び／又はエチレンオキサイドユニットを有しかつ重合性基を末端に有する化合物と所定の（メタ）アクリルアミド化合物を含有させることにより、当該インプリント材料から作製された硬化膜はフィルム基材への十分な密着性を獲得し、かつ、該硬化膜は高擦傷耐性を有するとともに、該硬化膜の凹凸形状が転写された面を水拭きしても該凹凸形状において隣接する凸部同士の付着が起こらない。【００１０】
また本発明のインプリント材料は、光硬化が可能であり、かつモールド面からの剥離時にパターンの一部に剥がれが生じないため、所望のパターンが正確に形成された膜が得られる。したがって、良好な光インプリントのパターン形成が可能である。【００１１】
また、本発明のインプリント材料は、任意の基材上に製膜することができ、また形成された膜とフィルム基材とは十分な密着性を有し、かつ当該膜は耐擦傷性を有する。更に当該膜の凹凸形状が転写された面を水拭きしたときに該凹凸形状において隣接する凸部同士の付着が起こらない。このためインプリント後に形成されるパターンが転写された膜は、固体撮像装置、太陽電池、ＬＥＤデバイス、ディスプレイなどの、耐擦傷性や水拭き耐性が求められる光学部材の製造に好適に用いることができる。【００１２】
さらに、本発明のインプリント材料は、上記（Ｂ）成分の化合物の種類及び含有割合を変更することで、硬化速度、動的粘度、膜厚をコントロールすることができる。したがって、本発明のインプリント材料は、製造するデバイス種と露光プロセス及び焼成プロセスの種類に対応した材料の設計が可能であり、プロセスマージンを拡大できるため、光学部材の製造に好適に用いることができる。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
［（Ａ）成分：式（１）で表される化合物］
（Ａ）成分の化合物は、下記式（１）で表される化合物である。
【化３】
2017002506.tif 000005
（式中、Ｒ１は水素原子又はメチル基を表し、Ｒ２は置換基としてヒドロキシ基を有してもよい炭素原子数１乃至５の炭化水素基を表し、ｍは２又は３を表す。）
【００１４】
上記式（１）で表される化合物の具体例としては、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、トリメチロールプロパントリメタアクリレート、ペンタエリスリトールトリメタアクリレートが挙げられる。
【００１５】
上記式（１）で表される化合物は、市販品として入手が可能であり、その具体例としては、ＮＫエステル  ７０１Ａ、同７０１、同Ａ−ＨＤ−Ｎ、同Ａ−ＮＰＧ、同ＮＰＧ、同Ａ−ＴＭＰＴ、同ＴＭＰＴ（以上、新中村化学工業株式会社製）、アロニックス（登録商標）Ｍ３０９（東亞合成株式会社製）、ＫＡＹＡＲＡＤ  ＮＰＧＤＡ、同ＴＭＰＴＡ（以上、日本化薬株式会社製）が挙げられる。
【００１６】
上記（Ａ）成分の化合物は、単独で又は２種以上を組み合わせて使用することができる。
【００１７】
本発明のインプリント材料における上記（Ａ）成分の含有割合は、上記（Ａ）成分、並びに後述する（Ｂ）成分及び（Ｃ）成分の総質量に基づいて、１０質量％以上４０質量％以下であることが好ましい。（Ａ）成分の割合が１０質量％未満であると、光インプリントにより得られる膜を水拭きした際に、構造物同士の付着が起こりやすくなる。一方、４０質量％を超えて添加すると、耐擦傷性が急激に低下する。
【００１８】
［（Ｂ）成分：式（２）で表される化合物］
（Ｂ）成分の化合物は、下記式（２）で表される化合物である。
【化４】
2017002506.tif 000006
（式中、Ｒ１はそれぞれ独立に水素原子又はメチル基を表し、Ｘはエチレンオキサイドユニット及び／又はプロピレンオキサイドユニットを有する二価の連結基を表す。）
なお、上記プロピレンオキサイドユニットとは例えば（−ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２Ｏ−）、（−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｏ−）を表し、上記エチレンオキサイドユニットとは例えば（−ＣＨ２ＣＨ２Ｏ−）を表す。
【００１９】
上記式（２）で表される化合物のうち、一分子内にエチレンオキサイドユニットを１つ以上有する化合物としては、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、エトキシ化ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸エチレンオキサイド変性ジアクリレートが挙げられる。なお、本明細書では（メタ）アクリレート化合物とは、アクリレート化合物とメタクリレート化合物の両方を意味し、例えば（メタ）アクリル酸は、アクリル酸とメタクリル酸の両方を意味する。
【００２０】
上記式（２）で表される化合物のうち一分子内にエチレンオキサイドユニットを１つ以上有する化合物は、市販品として入手が可能であり、その具体例としては、ＮＫエステル  Ａ−２００、同Ａ−４００、同Ａ−６００、同Ａ−１０００、同１Ｇ、同２Ｇ、同３Ｇ、同４Ｇ、同９Ｇ、同１４Ｇ、同２３Ｇ、同ＡＢＥ−３００、同Ａ−ＢＰＥ−４、同Ａ−ＢＰＥ−６、同Ａ−ＢＰＥ−１０、同Ａ−ＢＰＥ−２０、同Ａ−ＢＰＥ−３０、同ＢＰＥ−８０Ｎ、同ＢＰＥ−１００Ｎ、同ＢＰＥ−２００、同ＢＰＥ−５００、同ＢＰＥ−９００、同ＢＰＥ−１３００Ｎ、（以上、新中村化学工業株式会社製）、ＫＡＹＡＲＡＤ（登録商標）ＰＥＧ４００ＤＡ（以上、日本化薬株式会社製）、アロニックス（登録商標）Ｍ−２１５（東亞合成株式会社製）が挙げられる。
【００２１】
上記式（２）で表される化合物のうち、一分子内にプロピレンオキサイドユニットを１つ以上有する化合物としては、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコール＃４００ジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコール＃７００ジ（メタ）アクリレートが挙げられる。
【００２２】
上記式（２）で表される化合物のうち一分子内にプロピレンオキサイドユニットを１つ以上有する化合物は、市販品として入手が可能であり、その具体例としては、ＮＫエステル  ＡＰＧ−１００、ＡＰＧ−２００、ＡＰＧ−４００、ＡＰＧ−７００、３ＰＧ、９ＰＧ（以上、新中村化学工業株式会社製）、ファンクリル（登録商標）ＦＡ−Ｐ２４０Ａ、同ＦＡ−Ｐ２７０Ａ（以上、日立化成工業株式会社製）が挙げられる。
【００２３】
上記式（２）で表される化合物のうち、一分子内にエチレンオキサイドユニットとプロピレンオキサイドユニットをそれぞれ１つ以上有する化合物としては、エチレンオキサイドプロピレンオキサイド共重合体ジ（メタ）アクリル酸エステル、プロポキシ化エトキシ化ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、エトキシ化ポリプロピレングリコール＃７００ジ（メタ）アクリレートが挙げられる。
【００２４】
上記式（２）で表される化合物のうち一分子内にエチレンオキサイドユニットとプロピレンオキサイドユニットをそれぞれ１つ以上有する化合物は、市販品として入手が可能であり、その具体例としては、Ａ−１０００ＰＥＲ、Ａ−Ｂ１２０６ＰＥ（以上、新中村化学工業株式会社製）、ファンクリル（登録商標）ＦＡ−０２３Ｍ（以上、日立化成工業株式会社製）が挙げられる。
【００２５】
上記（Ｂ）成分の化合物は、単独で又は２種以上を組み合わせて使用することができる。（Ｂ）成分の化合物を２種以上用いる場合、その化合物として、例えば、下記式（２ａ）：
【化５】
2017002506.tif 000007
（式中、Ｒ１はそれぞれ独立に水素原子又はメチル基を表し、Ｒ５はトリメチレン基又はプロピレン基を表し、ｐ及びｑはそれぞれ独立に０以上の整数を表し、かつ１≦（ｐ＋ｑ）≦３０の関係式を満たす。）
で表される化合物において、ｐが０を表しｑが１以上の整数を表す（すなわち一分子内にエチレンオキサイドユニットを１つ以上有する）化合物と、ｐが１以上の整数を表しｑが１以上の整数を表す（すなわち一分子内にプロピレンオキサイドユニットとエチレンオキサイドユニットをそれぞれ１つ以上有する）化合物との組み合わせが挙げられる。
【００２６】
本発明のインプリント材料における（Ｂ）成分の含有割合は、上記（Ａ）成分及び（Ｂ）成分並びに後述する（Ｃ）成分の総質量に基づいて、例えば５質量％以上８０質量％以下、好ましくは５０質量％以上８０質量％以下である。
【００２７】
本発明のインプリント材料における（Ｂ）成分は、パターン転写後の膜に対して耐擦傷性を付与することができる。またインプリント時の硬化時において、後述する（Ｅ）成分のシリコーン化合物をブリードアウトさせる一助を担い、得られた樹脂膜（硬化被膜）においてモールド面から剥離した際に計測される離型力を低下させることができる。また上記（Ｂ）成分の化合物の種類及び含有割合を変更することで、インプリント材料の動的粘度、インプリント時の硬化速度及び形成される膜厚をコントロールすることができる。
【００２８】
［（Ｃ）成分：式（３）で表される化合物］
（Ｃ）成分の化合物は、下記式（３）で表される化合物であり、すなわちその構造内に（メタ）アクリルアミド構造を有する化合物である。
【化６】
2017002506.tif 000008
（式中、Ｒ１は水素原子又はメチル基を表し、Ｒ３は水素原子又は炭素原子数１乃至３のアルキル基を表し、ｎは１又は２を表し、
ｎが１を表す場合、Ｒ４は、ヒドロキシ基、カルボキシ基、アセチル基、１つ又は２つの水素原子がメチル基で置換されていてもよいアミノ基、スルホ基、及び炭素原子数１乃至４のアルコキシ基からなる群から選択される少なくとも一つの置換基で置換されていてもよい炭素原子数１乃至１２のアルキル基を表し、
ｎが２を表す場合、Ｒ４は、ヒドロキシ基、カルボキシ基、アセチル基、１つ又は２つの水素原子がメチル基で置換されていてもよいアミノ基、スルホ基、及び炭素原子数１乃至４のアルコキシ基からなる群から選択される少なくとも一つの置換基で置換されていてもよい炭素原子数１乃至１２のアルキレン基を表す。）
【００２９】
上記炭素原子数１乃至１２のアルキル基としては、直鎖状、分枝鎖状、環状のいずれのアルキル基であってもよく、具体的には、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、シクロプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、シクロブチル基、１−メチル−シクロプロピル基、２−メチル−シクロプロピル基、ｎ−ペンチル基、１−メチル−ｎ−ブチル基、２−メチル−ｎ−ブチル基、３−メチル−ｎ−ブチル基、１，１−ジメチル−ｎ−プロピル基、１，２−ジメチル−ｎ−プロピル基、２，２−ジメチル−ｎ−プロピル基、１−エチル−ｎ−プロピル基、シクロペンチル基、１−メチル−シクロブチル基、２−メチル−シクロブチル基、３−メチル−シクロブチル基、１，２−ジメチル−シクロプロピル基、２，３−ジメチル−シクロプロピル基、１−エチル−シクロプロピル基、２−エチル−シクロプロピル基、ｎ−ヘキシル基、１−メチル−ｎ−ペンチル基、２−メチル−ｎ−ペンチル基、３−メチル−ｎ−ペンチル基、４−メチル−ｎ−ペンチル基、１，１−ジメチル−ｎ−ブチル基、１，２−ジメチル−ｎ−ブチル基、１，３−ジメチル−ｎ−ブチル基、２，２−ジメチル−ｎ−ブチル基、２，３−ジメチル−ｎ−ブチル基、３，３−ジメチル−ｎ−ブチル基、１−エチル−ｎ−ブチル基、２−エチル−ｎ−ブチル基、１，１，２−トリメチル−ｎ−プロピル基、１，２，２−トリメチル−ｎ−プロピル基、１−エチル−１−メチル−ｎ−プロピル基、１−エチル−２−メチル−ｎ−プロピル基、シクロヘキシル基、１−メチル−シクロペンチル基、２−メチル−シクロペンチル基、３−メチル−シクロペンチル基、１−エチル−シクロブチル基、２−エチル−シクロブチル基、３−エチル−シクロブチル基、１，２−ジメチル−シクロブチル基、１，３−ジメチル−シクロブチル基、２，２−ジメチル−シクロブチル基、２，３−ジメチル−シクロブチル基、２，４−ジメチル−シクロブチル基、３，３−ジメチル−シクロブチル基、１−ｎ−プロピル−シクロプロピル基、２−ｎ−プロピル−シクロプロピル基、１−ｉ−プロピル−シクロプロピル基、２−ｉ−プロピル−シクロプロピル基、１，２，２−トリメチル−シクロプロピル基、１，２，３−トリメチル−シクロプロピル基、２，２，３−トリメチル−シクロプロピル基、１−エチル−２−メチル−シクロプロピル基、２−エチル−１−メチル−シクロプロピル基、２−エチル−２−メチル−シクロプロピル基、２−エチル−３−メチル−シクロプロピル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基、ｎ−ウンデシル基、ｎ−ドデシル基が挙げられる。なお炭素原子数１乃至３のアルキル基の具体例としては、上記炭素原子数１乃至１２のアルキル基として挙げた基のうち、炭素原子数が１乃至３の基を挙げることができる。
【００３０】
また炭素原子数１乃至１２のアルキレン基の具体例としては、直鎖状、分岐状、環状のいずれでもよく、具体的には、メチレン基、エチレン基、プロパン−１，２−ジイル基、プロパン−１，３−ジイル基、２，２−ジメチルプロパン−１，３−ジイル基、２−エチル−２−メチルプロパン−１，３−ジイル基、２，２−ジエチルプロパン−１，３−ジイル基、２−メチル−２−プロピルプロパン−１，３−ジイル基、ブタン−１，３−ジイル基、ブタン−２，３−ジイル基、ブタン−１，４−ジイル基、２−メチルブタン−２，３−ジイル基、２，３−ジメチルブタン−２，３−ジイル基、ペンタン−１，３−ジイル基、ペンタン−１，５−ジイル基、ペンタン−２，３−ジイル基、ペンタン−２，４−ジイル基、２−メチルペンタン−２，３−ジイル基、３−メチルペンタン−２，３−ジイル基、４−メチルペンタン−２，３−ジイル基、２，３−ジメチルペンタン−２，３−ジイル基、３−メチルペンタン−２，４−ジイル基、３−エチルペンタン−２，４−ジイル基、３，３−ジメチルペンタン−２，４−ジイル基、３，３−ジメチルペンタン−２，４−ジイル基、２，４−ジメチルペンタン−２，４−ジイル基、ヘキサン−１，６−ジイル基、ヘキサン−１，２−ジイル基、ヘキサン−１，３−ジイル基、ヘキサン−２，３−ジイル基、ヘキサン−２，４−ジイル基、ヘキサン−２，５−ジイル基、２−メチルヘキサン−２，３−ジイル基、４−メチルヘキサン−２，３−ジイル基、３−メチルヘキサン−２，４−ジイル基、２，３−ジメチルヘキサン−２，４−ジイル基、２，４−ジメチルヘキサン−２，４−ジイル基、２，５−ジメチルヘキサン−２，４−ジイル基、２−メチルヘキサン−２，５−ジイル基、３−メチルヘキサン−２，５−ジイル基、２，５−ジメチルヘキサン−２，５−ジイル基が挙げられる。
【００３１】
上記式（３）で表される化合物の具体例としては、（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ’−ジメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ’−ジエチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−［３−（ジメチルアミノ）プロピル］（メタ）アクリルアミド、Ｎ−イソプロピル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−（ヒドロキシメチル）（メタ）アクリルアミド、Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ドデシル（メタ）アクリルアミド、ジアセトン（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−（ブトキシメチル）（メタ）アクリルアミド、２−（メタ）アクリルアミド−２−メチルプロパンスルホン酸、６−（メタ）アクリルアミドへキサン酸、Ｎ，Ｎ’−（１，２−ジヒドロキシエチレン）ビス（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ’−メチレンビス（メタ）アクリルアミドが挙げられる。なお本明細書において、（メタ）アクリルアミド化合物はアクリルアミド化合物とメタクリルアミド化合物の両方を意味する。
【００３２】
上記式（３）で表される化合物の具体例の中で、極少量の添加量で密着性を発現させる観点から、Ｎ，Ｎ’−ジメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ’−ジエチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ’−（１，２−ジヒドロキシエチレン）ビス（メタ）アクリルアミドが好ましく、これらの中でもＮ，Ｎ’−ジメチルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ’−ジエチルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ’−（１，２−ジヒドロキシエチレン）ビスアクリルアミドが最も好ましい。
【００３３】
上記（Ｃ）成分の化合物は、単独で又は２種以上を組み合わせて使用することができる。
【００３４】
本発明のインプリント材料における（Ｃ）成分の含有割合は、上記（Ａ）成分、（Ｂ）成分及び（Ｃ）成分の総質量に基づいて、例えば１質量％以上４０質量％以下、好ましくは５質量％以上２０質量％以下である。（Ｃ）成分の含有割合が１質量％未満であると、光インプリントによる得られる膜の基板に対する密着性が低下し、一方４０質量％を超えると、得られる膜の耐擦傷性が低下する。
【００３５】
［（Ｄ）成分：光重合開始剤］
（Ｄ）成分である光重合開始剤は、光硬化時に使用する光源に吸収をもつものであれば、特に限定されるものではない。例えば、ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシ−ｉｓｏ−ブチレート、２，５−ジメチル−２，５−ビス（ベンゾイルジオキシ）ヘキサン、１，４−ビス［α−（ｔｅｒｔ−ブチルジオキシ）−ｉｓｏ−プロポキシ］ベンゼン、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシド、２，５−ジメチル−２，５−ビス（ｔｅｒｔ−ブチルジオキシ）ヘキセンヒドロペルオキシド、α−（ｉｓｏ−プロピルフェニル）−ｉｓｏ−プロピルヒドロペルオキシド、ｔｅｒｔ−ブチルヒドロペルオキシド、１，１−ビス（ｔｅｒｔ−ブチルジオキシ）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン、ブチル−４，４−ビス（ｔｅｒｔ−ブチルジオキシ）バレレート、シクロヘキサノンペルオキシド、２，２’，５，５’−テトラ（ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３’，４，４’−テトラ（ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３’，４，４’−テトラ（ｔｅｒｔ−アミルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３’，４，４’−テトラ（ｔｅｒｔ−ヘキシルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３’−ビス（ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシカルボニル）−４，４’−ジカルボキシベンゾフェノン、ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシベンゾエート、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルジペルオキシイソフタレート等の有機過酸化物；９，１０−アントラキノン、１−クロロアントラキノン、２−クロロアントラキノン、オクタメチルアントラキノン、１，２−ベンズアントラキノン等のキノン類；ベンゾインメチル、ベンゾインエチルエーテル、α−メチルベンゾイン、α−フェニルベンゾイン等のベンゾイン誘導体；２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オン、１−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−フェニル］−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン、２−ヒドロキシ−１−［４−｛４−（２−ヒドロキシ−２−メチル−プロピオニル）ベンジル｝−フェニル］−２−メチル−プロパン−１−オン、フェニルグリオキシリックアシッドメチルエステル、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノプロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−１−ブタノン、２−ジメチルアミノ−２−（４−メチル−ベンジル）−１−（４−モルホリン−４−イル−フェニル）−ブタン−１−オン等のアルキルフェノン系化合物；ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルホスフィンオキサイド、２，４，６−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−ホスフィンオキサイド等のアシルホスフィンオキサイド系化合物；２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）−１−［４−（フェニルチオ）フェニル］−１，２−オクタンジオン、１−（Ｏ−アセチルオキシム）−１−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］エタノン等のオキシムエステル系化合物が挙げられる。
【００３６】
上記光重合開始剤は、市販品として入手が可能であり、その具体例としては、ＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標）６５１、同１８４、同５００、同２９５９、同１２７、同７５４、同９０７、同３６９、同３７９、同３７９ＥＧ、同８１９、同８１９ＤＷ、同１８００、同１８７０、同７８４、同ＯＸＥ０１、同ＯＸＥ０２、同２５０、同１１７３、同ＭＢＦ、同４２６５、同ＴＰＯ（以上、ＢＡＳＦジャパン株式会社製）、ＫＡＹＡＣＵＲＥ（登録商標）ＤＥＴＸ、同ＭＢＰ、同ＤＭＢＩ、同ＥＰＡ、同ＯＡ（以上、日本化薬株式会社製）、ＶＩＣＵＲＥ−１０、同５５（以上、ＳＴＡＵＦＦＥＲ  Ｃｏ．ＬＴＤ製）、ＥＳＡＣＵＲＥ（登録商標）ＫＩＰ１５０、同ＴＺＴ、同１００１、同ＫＴＯ４６、同ＫＢ１、同ＫＬ２００、同ＫＳ３００、同ＥＢ３、トリアジン−ＰＭＳ、トリアジンＡ、トリアジンＢ（以上、日本シイベルヘグナー株式会社製）、アデカオプトマーＮ−１７１７、同Ｎ−１４１４、同Ｎ−１６０６（株式会社ＡＤＥＫＡ製）が挙げられる。
【００３７】
上記光重合開始剤は、単独で又は２種以上を組み合わせて使用することができる。
【００３８】
本発明のインプリント材料における（Ｄ）成分の含有割合は、上記（Ａ）成分、（Ｂ）成分及び（Ｃ）成分の総質量に基づいて、例えば０．１ｐｈｒ乃至３０ｐｈｒであり、好ましくは１ｐｈｒ乃至２０ｐｈｒであり、より好ましくは１ｐｈｒ乃至８ｐｈｒである。（Ｄ）成分の含有割合が０．１ｐｈｒ未満の場合には、十分な硬化性が得られず、パターニング特性の悪化及び耐擦傷性の低下が起こるからである。本明細書において“ｐｈｒ”とは、（Ａ）成分、（Ｂ）成分及び（Ｃ）成分の総質量１００ｇに対する、例えば（Ｄ）成分である光重合開始剤の質量を表す。
【００３９】
［（Ｅ）成分：シリコーン化合物］
本発明のインプリント材料は、（Ｅ）成分としてシリコーン化合物を含んでいてもよい。任意成分であるそのシリコーン化合物は、分子内にシリコーン骨格（シロキサン骨格）を有する化合物を表し、特にジメチルシリコーン骨格を有することが好ましい。
【００４０】
上記シリコーン化合物としては市販品として入手が可能であり、その具体例としては、ＢＹＫ−３０２、ＢＹＫ−３０７、ＢＹＫ−３２２、ＢＹＫ−３２３、ＢＹＫ−３３０、ＢＹＫ−３３３、ＢＹＫ−３７０、ＢＹＫ−３７５、ＢＹＫ−３７８、ＢＹＫ−ＵＶ  ３５００、ＢＹＫ−ＵＶ  ３５７０（以上、ビックケミー・ジャパン株式会社製）、Ｘ−２２−１６４、Ｘ−２２−１６４ＡＳ、Ｘ−２２−１６４Ａ、Ｘ−２２−１６４Ｂ、Ｘ−２２−１６４Ｃ、Ｘ−２２−１６４Ｅ、Ｘ−２２−１６３、Ｘ−２２−１６９ＡＳ、Ｘ−２２−１７４ＤＸ、Ｘ−２２−２４２６、Ｘ−２２−９００２、Ｘ−２２−２４７５、Ｘ−２２−４９５２、ＫＦ−６４３、Ｘ−２２−３４３、Ｘ−２２−２４０４、Ｘ−２２−２０４６、Ｘ−２２−１６０２（以上、信越化学工業株式会社製）が挙げられる。
【００４１】
上記シリコーン化合物は、単独で又は２種以上を組み合わせて使用することができる。
【００４２】
本発明のインプリント材料が（Ｅ）成分であるシリコーン化合物を含む場合、その含有割合は、上記（Ａ）成分、上記（Ｂ）成分及び上記（Ｃ）成分の総質量に基づいて、０．１ｐｈｒ乃至１５ｐｈｒであることが好ましく、１ｐｈｒ乃至１０ｐｈｒであることがより好ましい。この割合が０．１ｐｈｒを下回る場合には、添加しても十分な低離型力性を得ることができず、１５ｐｈｒを上回る場合には硬化が不十分になることがあり、パターニング特性が悪化する。
【００４３】
［（Ｆ）成分：界面活性剤］
本発明のインプリント材料は、（Ｆ）成分として界面活性剤を含有してもよい。任意成分であるその界面活性剤は、得られる塗膜の製膜性を調整する役割を果たす。
【００４４】
上記界面活性剤としては、例えば、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンセチルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル等のポリオキシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル等のポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル類、ポリオキシエチレン・ポリオキシプロピレンブロックコポリマー類、ソルビタンモノラウレート、ソルビタンモノパルミテート、ソルビタンモノステアレート、ソルビタンモノオレエート、ソルビタントリオレエート、ソルビタントリステアレート等のソルビタン脂肪酸エステル類、ポリオキシエチレンソルビタンモノラウレート、ポリオキシエチレンソルビタンモノパルミテート、ポリオキシエチレンソルビタンモノステアレート、ポリオキシエチレンソルビタントリオレエート、ポリオキシエチレンソルビタントリステアレート等のポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル類等のノニオン系界面活性剤；商品名エフトップ（登録商標）ＥＦ３０１、同ＥＦ３０３、同ＥＦ３５２（三菱マテリアル電子化成株式会社）、商品名メガファック（登録商標）Ｆ−１７１、同Ｆ−１７３、同Ｆ−４７７、同Ｆ−４８６、同Ｆ−５５４、同Ｆ−５５６、同Ｒ−０８、同Ｒ−３０、同Ｒ−３０Ｎ、同Ｒ−４０、同Ｒ−４０−ＬＭ（ＤＩＣ株式会社製）、フロラードＦＣ４３０、同ＦＣ４３１（住友スリーエム株式会社製）、商品名アサヒガード（登録商標）ＡＧ７１０、サーフロン（登録商標）Ｓ−３８２、同ＳＣ１０１、同ＳＣ１０２、同ＳＣ１０３、同ＳＣ１０４、同ＳＣ１０５、同ＳＣ１０６（旭硝子株式会社製）等のフッ素系界面活性剤；及びオルガノシロキサンポリマーＫＰ３４１（信越化学工業株式会社製）を挙げることができる。
【００４５】
上記界面活性剤は、単独で又は２種以上を組み合わせて使用することができる。界面活性剤が使用される場合、その割合は、上記（Ａ）成分、（Ｂ）成分及び（Ｃ）成分の総質量に基づいて、好ましくは０．０１ｐｈｒ乃至４０ｐｈｒ、より好ましくは０．０１ｐｈｒ乃至１０ｐｈｒである。
【００４６】
［（Ｇ）成分：溶剤］
本発明のインプリント材料は、（Ｇ）成分として溶剤を含有してもよい。任意成分であるその溶剤は、前記（Ａ）成分、（Ｂ）成分及び（Ｃ）成分の粘度調節の役割を果たす。
【００４７】
上記溶剤としては、例えば、トルエン、ｐ−キシレン、ｏ−キシレン、スチレン、エチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、エチレングリコールメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコ−ルジメチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコール、１−オクタノール、エチレングリコール、ヘキシレングリコール、ジアセトンアルコール、フルフリルアルコール、テトラヒドロフルフリルアルコール、プロピレングリコール、ベンジルアルコール、１，３−ブタンジオール、１,４−ブタンジオール、２，３−ブタンジオール、γ−ブチロラクトン、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソプロピルケトン、ジエチルケトン、メチルイソブチルケトン、メチルｎ−ブチルケトン、シクロヘキサノン、２−ヘプタノン、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ｎ−プロピル、酢酸イソブチル、酢酸ｎ−ブチル、乳酸エチル、ピルビン酸エチル、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ｔｅｒｔ−ブタノール、アリルアルコール、ｎ−プロパノール、２−メチル−２−ブタノール、イソブタノール、ｎ−ブタノール、２−メチル−１−ブタノール、１−ペンタノール、２−メチル−１−ペンタノール、２−エチルヘキサノール、トリメチレングリコール、１−メトキシ−２−ブタノール、イソプロピルエーテル、１，４−ジオキサン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン、ジメチルスルホキシド、Ｎ−シクロヘキシル−２−ピロリジンが挙げられ、上記（Ａ）成分、（Ｂ）成分、及び（Ｃ）成分の粘度を調節することができるものであれば、特に限定されるものではない。
【００４８】
上記溶剤は、単独で又は２種以上を組み合わせて使用することができる。溶剤が使用される場合、本発明のインプリント材料の全成分、すなわち前述の（Ａ）成分乃至（Ｃ）成分、並びに後述するその他添加剤を含む全成分から（Ｇ）成分の溶剤を除いたものとして定義される固形分は、本発明のインプリント材料の総質量に対して２０質量％乃至８０質量％、好ましくは４０質量％乃至６０質量％含有することが好ましい。
【００４９】
［その他添加剤］
本発明のインプリント材料は、本発明の効果を損なわない限りにおいて、必要に応じて、エポキシ化合物、光酸発生剤、光増感剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、密着補助剤又は離型性向上剤を含有することができる。
【００５０】
上記エポキシ化合物としては、例えば、エポリード（登録商標）ＧＴ−４０１、同ＰＢ３６００、セロキサイド（登録商標）２０２１Ｐ、同２０００、同３０００、ＥＨＰＥ３１５０、ＥＨＰＥ３１５０ＣＥ、サイクロマー（登録商標）Ｍ１００（以上、株式会社ダイセル製）、ＥＰＩＣＬＯＮ（登録商標）８４０、同８４０−Ｓ、同Ｎ−６６０、同Ｎ−６７３−８０Ｍ（以上、ＤＩＣ株式会社製）が挙げられる。
【００５１】
上記光酸発生剤としては、例えば、ＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標）ＰＡＧ１０３、同ＰＡＧ１０８、同ＰＡＧ１２１、同ＰＡＧ２０３、同ＣＧＩ７２５（以上、ＢＡＳＦジャパン株式会社製）、ＷＰＡＧ−１４５、ＷＰＡＧ−１７０、ＷＰＡＧ−１９９、ＷＰＡＧ−２８１、ＷＰＡＧ−３３６、ＷＰＡＧ−３６７（以上、和光純薬工業株式会社製）、ＴＦＥトリアジン、ＴＭＥ−トリアジン、ＭＰ−トリアジン、ジメトキシトリアジン、ＴＳ−９１、ＴＳ−０１（株式会社三和ケミカル製）が挙げられる。
【００５２】
上記光増感剤としては、例えば、チオキサンテン系、キサンテン系、ケトン系、チオピリリウム塩系、ベーススチリル系、メロシアニン系、３−置換クマリン系、３，４−置換クマリン系、シアニン系、アクリジン系、チアジン系、フェノチアジン系、アントラセン系、コロネン系、ベンズアントラセン系、ペリレン系、ケトクマリン系、クマリン系、ボレート系が挙げられる。この光増感剤は、単独で又は２種以上を組み合わせて使用することができる。当該光増感剤を用いることによって、ＵＶ領域の吸収波長を調整することもできる。
【００５３】
上記紫外線吸収剤としては、例えば、ＴＩＮＵＶＩＮ（登録商標）ＰＳ、同９９−２、同１０９、同３２８、同３８４−２、同４００、同４０５、同４６０、同４７７、同４７９、同９００、同９２８、同１１３０、同１１１ＦＤＬ、同１２３、同１４４、同１５２、同２９２、同５１００、同４００−ＤＷ、同４７７−ＤＷ、同９９−ＤＷ、同１２３−ＤＷ、同５０５０、同５０６０、同５１５１（以上、ＢＡＳＦジャパン株式会社）が挙げられる。この紫外線吸収剤は、単独で又は２種以上を組み合わせて使用することができる。当該紫外線吸収剤を用いることによって、光硬化時に膜の最表面の硬化速度を制御することができ、離型性を向上できる場合がある。
【００５４】
上記酸化防止剤としては、例えば、ＩＲＧＡＮＯＸ（登録商標）１０１０、同１０３５、同１０７６、同１１３５、同１５２０Ｌ（以上、ＢＡＳＦジャパン株式会社）が挙げられる。この酸化防止剤は、単独で又は２種以上を組み合わせて使用することができる。当該酸化防止剤を用いることで、酸化によって膜が黄色に変色することを防止することができる。
【００５５】
上記密着補助剤としては、例えば、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−アクリロキシプロピルトリメトキシシランが挙げられる。当該密着補助剤を用いることによって、基材との密着性が向上する。当該密着補助剤の含有量は、上記（Ａ）成分、（Ｂ）成分及び（Ｃ）成分の総質量に基づいて、好ましくは５ｐｈｒ乃至５０ｐｈｒ、より好ましくは１０ｐｈｒ乃至５０ｐｈｒである。
【００５６】
上記離型性向上剤としては、例えば、フッ素含有化合物が挙げられる。フッ素含有化合物としては、例えば、Ｒ−５４１０、Ｒ−１４２０、Ｍ−５４１０、Ｍ−１４２０、Ｅ−５４４４、Ｅ−７４３２、Ａ−１４３０、Ａ−１６３０（以上、ダイキン工業株式会社製）が挙げられる。
【００５７】
［インプリント材料の調製］
本発明のインプリント材料の調製方法は、特に限定されないが、（Ａ）成分、（Ｂ）成分、（Ｃ）成分、（Ｄ）成分、並びに任意成分である（Ｅ）成分、（Ｆ）成分及び（Ｇ）成分並びに所望によりその他添加剤を混合し、インプリント材料が均一な状態となっていればよい。また、（Ａ）成分乃至（Ｇ）成分並びに所望によりその他添加剤を混合する際の順序は、均一なインプリント材料が得られるなら問題なく、特に限定されない。当該調製方法としては、例えば、（Ａ）成分、（Ｂ）成分、（Ｃ）成分及び任意で（Ｅ）成分を所定の割合で混合し、これに更に（Ｄ）成分、並びに任意で（Ｆ）成分及び（Ｇ）成分を適宜混合し、均一なインプリント材料とする方法も挙げられる。さらに、この調製方法の適当な段階において、必要に応じて、その他の添加剤を更に添加して混合する方法が挙げられる。
【００５８】
［光インプリント及びパターンが転写された膜］
本発明のインプリント材料は、基材上に塗布し光硬化させることで所望の被膜を得ることができる。塗布方法としては、公知又は周知の方法、例えば、スピンコート法、ディップ法、フローコート法、インクジェット法、スプレー法、バーコート法、グラビアコート法、スリットコート法、ロールコート法、転写印刷法、刷毛塗り、ブレードコート法、エアーナイフコート法を挙げることができる。
【００５９】
本発明のインプリント材料を塗布するための基材としては、例えば、シリコン、インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）が製膜されたガラス（以下、本明細書では「ＩＴＯ基板」と略称する。）、シリコンナイトライド（ＳｉＮ）が製膜されたガラス（ＳｉＮ基板）、インジウム亜鉛酸化物（ＩＺＯ）が製膜されたガラス、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、アクリル、プラスチック、ガラス、石英、セラミックス等からなる基材を挙げることができる。また、可撓性を有するフレキシブル基材、例えばトリアセチルセルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリメタクリル酸メチル、シクロオレフィン（コ）ポリマー、ポリビニルアルコール、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリイミド、ポリアミド、ポリオレフィン、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリエチレンナフタレート、ポリエーテルスルフォン、並びにこれらポリマーを組み合わせた共重合体からなる基材を用いることも可能である。
【００６０】
本発明のインプリント材料を硬化させる光源としては、特に限定されないが、例えば、高圧水銀ランプ、低圧水銀ランプ、無電極ランプ、メタルハライドランプ、ＫｒＦエキシマーレーザー、ＡｒＦエキシマーレーザー、Ｆ２エキシマーレーザー、電子線（ＥＢ）、極端紫外線（ＥＵＶ）を挙げることができる。また、波長は、一般的には、４３６ｎｍのＧ線、４０５ｎｍのＨ線、３６５ｎｍのＩ線、又はＧＨＩ混合線を用いることができる。さらに、露光量は、好ましくは、３０ｍＪ／ｃｍ２乃至２０００ｍＪ／ｃｍ２、より好ましくは３０ｍＪ／ｃｍ２乃至１０００ｍＪ／ｃｍ２である。
【００６１】
なお、前述の（Ｇ）成分である溶剤を用いる場合には、光照射前の塗膜及び光照射後の被膜の少なくとも一方に対し、溶剤を蒸発させる目的で、焼成工程を加えてもよい。焼成機器としては、特に限定されるものではなく、例えば、ホットプレート、オーブン、ファーネスを用いて、適切な雰囲気下、すなわち大気、窒素等の不活性ガス、又は真空中で焼成することができるものであればよい。焼成温度は、溶剤を蒸発させる目的では、特に限定されないが、例えば、４０℃乃至２００℃で行うことができる。
【００６２】
光インプリントを行う装置は、目的のパターンが得られれば特に限定されないが、例えば、東芝機械株式会社製のＳＴ５０、Ｏｂｄｕｃａｔ社製のＳｉｎｄｒｅ（登録商標）６０、明昌機工株式会社製のＮＭ−０８０１ＨＢ等の市販されている装置にて、基材とモールドをローラー圧着し、光硬化後に該モールドを離型する方法を用いることができる。
【００６３】
また、本発明で用いる光インプリント用に使用するモールド材としては、例えば、石英、シリコン、ニッケル、アルミナ、カルボニルシラン、グラッシーカーボンを挙げることができるが、目的のパターンが得られるなら、特に限定されない。また、モールドは、離型性を高めるために、その表面にフッ素系化合物等の薄膜を形成する離型処理を行ってもよい。離型処理に用いる離型剤としては、例えば、ダイキン工業株式会社製のオプツール（登録商標）ＨＤ、同ＤＳＸが挙げられるが、目的のパターンが得られるなら、特に限定されない。
【００６４】
光インプリントのパターンサイズはナノメートルオーダーであり、具体的には１ミクロン未満のパターンサイズに準ずる。
【００６５】
こうして本発明のインプリント材料から作製され、パターンが転写された膜、また該膜を備えた半導体素子並びに該膜を基材上に備えた光学部材、固体撮像素子、ＬＥＤデバイス、太陽電池、ディスプレイ及び電子デバイスも本発明の対象である。
【実施例】
【００６６】
以下、実施例及び比較例を挙げて、本発明を更に詳しく説明するが、本発明は、これら実施例に限定されるものでない。【００６７】
［インプリント材料の調製］
＜実施例１＞
ＮＫエステル  Ａ−ＴＭＰＴ（以下、本明細書では「Ａ−ＴＭＰＴ」と略称する。）（新中村化学工業株式会社製）２ｇ、ＮＫエステル  Ａ−２００（以下、本明細書では「Ａ−２００」と略称する。）（新中村化学工業株式会社製）７ｇ、及びＮ，Ｎ’−ジメチルアクリルアミド（以下、本明細書では「ＤＭＡＡ」と略称する。）（ＫＪケミカルズ株式会社製）１ｇを混合し、その混合物にＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標）ＴＰＯ（ＢＡＳＦジャパン株式会社製）（以下、本明細書では「ＩＲＧＡＣＵＲＥ  ＴＰＯ」と略称する。）を０．２５ｇ（Ａ−ＴＭＰＴ、Ａ−２００、ＤＭＡＡの総質量に対して２．５ｐｈｒ）加え、インプリント材料ＰＮＩ−ａ１を調製した。【００６８】
＜実施例２＞
Ａ−ＴＭＰＴを１．９ｇ、Ａ−２００を７ｇ、ＮＫエコノマー  Ａ−１０００ＰＥＲ（以下、本明細書では「Ａ−１０００ＰＥＲ」と略称する。）（新中村化学工業株式会社製）０．１ｇ、及びＤＭＡＡを１ｇ混合し、その混合物にＩＲＧＡＣＵＲＥ  ＴＰＯを０．２５ｇ（Ａ−ＴＭＰＴ、Ａ−２００、Ａ−１０００ＰＥＲ、ＤＭＡＡの総質量に対して２．５ｐｈｒ）加え、インプリント材料ＰＮＩ−ａ２を調製した。【００６９】
＜実施例３＞
Ａ−ＴＭＰＴを３ｇ、Ａ−２００を６ｇ、及びＤＭＡＡを１ｇ混合し、その混合物にＩＲＧＡＣＵＲＥ  ＴＰＯを０．２５ｇ（Ａ−ＴＭＰＴ、Ａ−２００、ＤＭＡＡの総質量に対して２．５ｐｈｒ）加え、インプリント材料ＰＮＩ−ａ３を調製した。【００７０】
＜実施例４＞
Ａ−ＴＭＰＴを２．９ｇ、Ａ−２００を６ｇ、Ａ−１０００ＰＥＲを０．１ｇ、及びＤＭＡＡを１ｇ混合し、その混合物にＩＲＧＡＣＵＲＥ  ＴＰＯを０．２５ｇ（Ａ−ＴＭＰＴ、Ａ−２００、Ａ−１０００ＰＥＲ、ＤＭＡＡの総質量に対して２．５ｐｈｒ）加え、インプリント材料ＰＮＩ−ａ４を調製した。【００７１】
＜実施例５＞
Ａ−ＴＭＰＴを２．５ｇ、Ａ−２００を６ｇ、Ａ−１０００ＰＥＲを０．５ｇ、及びＤＭＡＡを１ｇ混合し、その混合物にＩＲＧＡＣＵＲＥ  ＴＰＯを０．２５ｇ（Ａ−ＴＭＰＴ、Ａ−２００、Ａ−１０００ＰＥＲ、ＤＭＡＡの総質量に対して２．５ｐｈｒ）加え、インプリント材料ＰＮＩ−ａ５を調製した。【００７２】
＜実施例６＞
Ａ−ＴＭＰＴを２ｇ、Ａ−２００を７ｇ、ＤＭＡＡを１ｇ、及びＢＹＫ−３３３（ビックケミー・ジャパン株式会社製）を０．１ｇ（Ａ−ＴＭＰＴ、Ａ−２００、ＤＭＡＡの総質量に対して１ｐｈｒ）混合し、その混合物にＩＲＧＡＣＵＲＥ  ＴＰＯを０．２５ｇ（Ａ−ＴＭＰＴ、Ａ−２００、ＤＭＡＡの総質量に対して２．５ｐｈｒ）加え、インプリント材料ＰＮＩ−ａ６を調製した。【００７３】
＜実施例７＞
Ａ−ＴＭＰＴを１．９ｇ、Ａ−２００を７ｇ、Ａ−１０００ＰＥＲを０．１ｇ、ＤＭＡＡを１ｇ、及びＢＹＫ−３３３を０．１ｇ（Ａ−ＴＭＰＴ、Ａ−２００、Ａ−１０００ＰＥＲ、ＤＭＡＡの総質量に対して１ｐｈｒ）混合し、その混合物にＩＲＧＡＣＵＲＥ  ＴＰＯを０．２５ｇ（Ａ−ＴＭＰＴ、Ａ−２００、Ａ−１０００ＰＥＲ、ＤＭＡＡの総質量に対して２．５ｐｈｒ）加え、インプリント材料ＰＮＩ−ａ７を調製した。【００７４】
＜実施例８＞
Ａ−ＴＭＰＴを３ｇ、Ａ−２００を６ｇ、ＤＭＡＡを１ｇ、及びＢＹＫ−３３３を０．１ｇ（Ａ−ＴＭＰＴ、Ａ−２００、ＤＭＡＡの総質量に対して１ｐｈｒ）混合し、その混合物にＩＲＧＡＣＵＲＥ  ＴＰＯを０．２５ｇ（Ａ−ＴＭＰＴ、Ａ−２００、ＤＭＡＡの総質量に対して２．５ｐｈｒ）加え、インプリント材料ＰＮＩ−ａ８を調製した。【００７５】
＜実施例９＞
Ａ−ＴＭＰＴを２．９ｇ、Ａ−２００を６ｇ、Ａ−１０００ＰＥＲを０．１ｇ、ＤＭＡＡを１ｇ、及びＢＹＫ−３３３を０．１ｇ（Ａ−ＴＭＰＴ、Ａ−２００、Ａ−１０００ＰＥＲ、ＤＭＡＡの総質量に対して１ｐｈｒ）混合し、その混合物にＩＲＧＡＣＵＲＥ  ＴＰＯを０．２５ｇ（Ａ−ＴＭＰＴ、Ａ−２００、Ａ−１０００ＰＥＲ、ＤＭＡＡの総質量に対して２．５ｐｈｒ）加え、インプリント材料ＰＮＩ−ａ９を調製した。【００７６】
＜実施例１０＞
Ａ−ＴＭＰＴを２．５ｇ、Ａ−２００を６ｇ、Ａ−１０００ＰＥＲを０．５ｇ、ＤＭＡＡを１ｇ、及びＢＹＫ−３３３を０．１ｇ（Ａ−ＴＭＰＴ、Ａ−２００、Ａ−１０００ＰＥＲ、ＤＭＡＡの総質量に対して１ｐｈｒ）混合し、その混合物にＩＲＧＡＣＵＲＥ  ＴＰＯを０．２５ｇ（Ａ−ＴＭＰＴ、Ａ−２００、Ａ−１０００ＰＥＲ、ＤＭＡＡの総質量に対して２．５ｐｈｒ）加え、インプリント材料ＰＮＩ−ａ１０を調製した。【００７７】
＜実施例１１＞
Ａ−ＴＭＰＴを２ｇ、Ａ−２００を７ｇ、ＤＭＡＡを１ｇ、及びＢＹＫ−ＵＶ３５７０（ビックケミー・ジャパン株式会社製）を０．１ｇ（Ａ−ＴＭＰＴ、Ａ−２００、ＤＭＡＡの総質量に対して１ｐｈｒ）混合し、その混合物にＩＲＧＡＣＵＲＥ  ＴＰＯを０．２５ｇ（Ａ−ＴＭＰＴ、Ａ−２００、ＤＭＡＡの総質量に対して２．５ｐｈｒ）加え、インプリント材料ＰＮＩ−ａ１１を調製した。【００７８】
＜実施例１２＞
Ａ−ＴＭＰＴを２ｇ、Ａ−２００を７ｇ、ＤＭＡＡを１ｇ、及びＢＹＫ−ＵＶ３５７０を０．５ｇ（Ａ−ＴＭＰＴ、Ａ−２００、ＤＭＡＡの総質量に対して５ｐｈｒ）混合し、その混合物にＩＲＧＡＣＵＲＥ  ＴＰＯを０．２５ｇ（Ａ−ＴＭＰＴ、Ａ−２００、ＤＭＡＡの総質量に対して２．５ｐｈｒ）加え、インプリント材料ＰＮＩ−ａ１２を調製した。【００７９】
＜実施例１３＞
Ａ−ＴＭＰＴを２ｇ、Ａ−２００を７ｇ、ＤＭＡＡを１ｇ、及びＢＹＫ−ＵＶ３５７０を１ｇ（Ａ−ＴＭＰＴ、Ａ−２００、ＤＭＡＡの総質量に対して１０ｐｈｒ）混合し、その混合物にＩＲＧＡＣＵＲＥ  ＴＰＯを０．２５ｇ（Ａ−ＴＭＰＴ、Ａ−２００、ＤＭＡＡの総質量に対して２．５ｐｈｒ）加え、インプリント材料ＰＮＩ−ａ１３を調製した。【００８０】
＜実施例１４＞
Ａ−ＴＭＰＴを１．９ｇ、Ａ−２００を７ｇ、Ａ−１０００ＰＥＲを０．１ｇ、ＤＭＡＡを１ｇ、及びＢＹＫ−ＵＶ３５７０を０．１ｇ（Ａ−ＴＭＰＴ、Ａ−２００、Ａ−１０００ＰＥＲ、ＤＭＡＡの総質量に対して１ｐｈｒ）混合し、その混合物にＩＲＧＡＣＵＲＥ  ＴＰＯを０．２５ｇ（Ａ−ＴＭＰＴ、Ａ−２００、Ａ−１０００ＰＥＲ、ＤＭＡＡの総質量に対して２．５ｐｈｒ）加え、インプリント材料ＰＮＩ−ａ１４を調製した。【００８１】
＜実施例１５＞
Ａ−ＴＭＰＴを１．９ｇ、Ａ−２００を７ｇ、Ａ−１０００ＰＥＲを０．１ｇ、ＤＭＡＡを１ｇ、及びＢＹＫ−ＵＶ３５７０を０．５ｇ（Ａ−ＴＭＰＴ、Ａ−２００、Ａ−１０００ＰＥＲ、ＤＭＡＡの総質量に対して５ｐｈｒ）混合し、その混合物にＩＲＧＡＣＵＲＥ  ＴＰＯを０．２５ｇ（Ａ−ＴＭＰＴ、Ａ−２００、Ａ−１０００ＰＥＲ、ＤＭＡＡの総質量に対して２．５ｐｈｒ）加え、インプリント材料ＰＮＩ−ａ１５を調製した。【００８２】
＜実施例１６＞
Ａ−ＴＭＰＴを１．９ｇ、Ａ−２００を７ｇ、Ａ−１０００ＰＥＲを０．１ｇ、ＤＭＡＡを１ｇ、及びＢＹＫ−ＵＶ３５７０を１ｇ（Ａ−ＴＭＰＴ、Ａ−２００、Ａ−１０００ＰＥＲ、ＤＭＡＡの総質量に対して１０ｐｈｒ）混合し、その混合物にＩＲＧＡＣＵＲＥ  ＴＰＯを０．２５ｇ（Ａ−ＴＭＰＴ、Ａ−２００、Ａ−１０００ＰＥＲ、ＤＭＡＡの総質量に対して２．５ｐｈｒ）加え、インプリント材料ＰＮＩ−ａ１６を調製した。【００８３】
＜実施例１７＞
Ａ−ＴＭＰＴを３ｇ、Ａ−２００を６ｇ、ＤＭＡＡを１ｇ、及びＢＹＫ−ＵＶ３５７０を０．１ｇ（Ａ−ＴＭＰＴ、Ａ−２００、ＤＭＡＡの総質量に対して１ｐｈｒ）混合し、その混合物にＩＲＧＡＣＵＲＥ  ＴＰＯを０．２５ｇ（Ａ−ＴＭＰＴ、Ａ−２００、ＤＭＡＡの総質量に対して２．５ｐｈｒ）加え、インプリント材料ＰＮＩ−ａ１７を調製した。【００８４】
＜実施例１８＞
Ａ−ＴＭＰＴを３ｇ、Ａ−２００を６ｇ、ＤＭＡＡを１ｇ、及びＢＹＫ−ＵＶ３５７０を０．５ｇ（Ａ−ＴＭＰＴ、Ａ−２００、ＤＭＡＡの総質量に対して５ｐｈｒ）混合し、その混合物にＩＲＧＡＣＵＲＥ  ＴＰＯを０．２５ｇ（Ａ−ＴＭＰＴ、Ａ−２００、ＤＭＡＡの総質量に対して２．５ｐｈｒ）加え、インプリント材料ＰＮＩ−ａ１８を調製した。【００８５】
＜実施例１９＞
Ａ−ＴＭＰＴを３ｇ、Ａ−２００を６ｇ、ＤＭＡＡを１ｇ、及びＢＹＫ−ＵＶ３５７０を１ｇ（Ａ−ＴＭＰＴ、Ａ−２００、ＤＭＡＡの総質量に対して１０ｐｈｒ）混合し、その混合物にＩＲＧＡＣＵＲＥ  ＴＰＯを０．２５ｇ（Ａ−ＴＭＰＴ、Ａ−２００、ＤＭＡＡの総質量に対して２．５ｐｈｒ）加え、インプリント材料ＰＮＩ−ａ１９を調製した。【００８６】
＜実施例２０＞
Ａ−ＴＭＰＴを２．９ｇ、Ａ−２００を６ｇ、Ａ−１０００ＰＥＲを０．１ｇ、ＤＭＡＡを１ｇ、及びＢＹＫ−ＵＶ３５７０を０．１ｇ（Ａ−ＴＭＰＴ、Ａ−２００、Ａ−１０００ＰＥＲ、ＤＭＡＡの総質量に対して１ｐｈｒ）混合し、その混合物にＩＲＧＡＣＵＲＥ  ＴＰＯを０．２５ｇ（Ａ−ＴＭＰＴ、Ａ−２００、Ａ−１０００ＰＥＲ、ＤＭＡＡの総質量に対して２．５ｐｈｒ）加え、インプリント材料ＰＮＩ−ａ２０を調製した。【００８７】
＜実施例２１＞
Ａ−ＴＭＰＴを２．９ｇ、Ａ−２００を６ｇ、Ａ−１０００ＰＥＲを０．１ｇ、ＤＭＡＡを１ｇ、及びＢＹＫ−ＵＶ３５７０を０．５ｇ（Ａ−ＴＭＰＴ、Ａ−２００、Ａ−１０００ＰＥＲ、ＤＭＡＡの総質量に対して５ｐｈｒ）混合し、その混合物にＩＲＧＡＣＵＲＥ  ＴＰＯを０．２５ｇ（Ａ−ＴＭＰＴ、Ａ−２００、Ａ−１０００ＰＥＲ、ＤＭＡＡの総質量に対して２．５ｐｈｒ）加え、インプリント材料ＰＮＩ−ａ２１を調製した。【００８８】
＜実施例２２＞
Ａ−ＴＭＰＴを２．９ｇ、Ａ−２００を６ｇ、Ａ−１０００ＰＥＲを０．１ｇ、ＤＭＡＡを１ｇ、及びＢＹＫ−ＵＶ３５７０を１ｇ（Ａ−ＴＭＰＴ、Ａ−２００、Ａ−１０００ＰＥＲ、ＤＭＡＡの総質量に対して１０ｐｈｒ）混合し、その混合物にＩＲＧＡＣＵＲＥ  ＴＰＯを０．２５ｇ（Ａ−ＴＭＰＴ、Ａ−２００、Ａ−１０００ＰＥＲ、ＤＭＡＡの総質量に対して２．５ｐｈｒ）加え、インプリント材料ＰＮＩ−ａ２２を調製した。【００８９】
＜実施例２３＞
Ａ−ＴＭＰＴを２．５ｇ、Ａ−２００を６ｇ、Ａ−１０００ＰＥＲを０．５ｇ、ＤＭＡＡを１ｇ、及びＢＹＫ−ＵＶ３５７０を０．１ｇ（Ａ−ＴＭＰＴ、Ａ−２００、Ａ−１０００ＰＥＲ、ＤＭＡＡの総質量に対して１ｐｈｒ）混合し、その混合物にＩＲＧＡＣＵＲＥ  ＴＰＯを０．２５ｇ（Ａ−ＴＭＰＴ、Ａ−２００、Ａ−１０００ＰＥＲ、ＤＭＡＡの総質量に対して２．５ｐｈｒ）加え、インプリント材料ＰＮＩ−ａ２３を調製した。【００９０】
＜実施例２４＞
Ａ−ＴＭＰＴを２．５ｇ、Ａ−２００を６ｇ、Ａ−１０００ＰＥＲを０．５ｇ、ＤＭＡＡを１ｇ、及びＢＹＫ−ＵＶ３５７０を０．５ｇ（Ａ−ＴＭＰＴ、Ａ−２００、Ａ−１０００ＰＥＲ、ＤＭＡＡの総質量に対して５ｐｈｒ）混合し、その混合物にＩＲＧＡＣＵＲＥ  ＴＰＯを０．２５ｇ（Ａ−ＴＭＰＴ、Ａ−２００、Ａ−１０００ＰＥＲ、ＤＭＡＡの総質量に対して２．５ｐｈｒ）加え、インプリント材料ＰＮＩ−ａ２４を調製した。【００９１】
＜実施例２５＞
Ａ−ＴＭＰＴを２．５ｇ、Ａ−２００を６ｇ、Ａ−１０００ＰＥＲを０．５ｇ、ＤＭＡＡを１ｇ、及びＢＹＫ−ＵＶ３５７０を１ｇ（Ａ−ＴＭＰＴ、Ａ−２００、Ａ−１０００ＰＥＲ、ＤＭＡＡの総質量に対して１０ｐｈｒ）混合し、その混合物にＩＲＧＡＣＵＲＥ  ＴＰＯを０．２５ｇ（Ａ−ＴＭＰＴ、Ａ−２００、Ａ−１０００ＰＥＲ、ＤＭＡＡの総質量に対して２．５ｐｈｒ）加え、インプリント材料ＰＮＩ−ａ２５を調製した。【００９２】
＜実施例２６＞
Ａ−ＴＭＰＴを２ｇ、Ａ−２００を７ｇ、ＤＭＡＡを１ｇ、及びＢＹＫ−ＵＶ３５７０を０．５ｇ（Ａ−ＴＭＰＴ、Ａ−２００、ＤＭＡＡの総質量に対して５ｐｈｒ）混合し、その混合物にＩＲＧＡＣＵＲＥ  ＴＰＯを０．５ｇ（Ａ−ＴＭＰＴ、Ａ−２００、ＤＭＡＡの総質量に対して５ｐｈｒ）加え、インプリント材料ＰＮＩ−ａ２６を調製した。【００９３】
＜実施例２７＞
Ａ−ＴＭＰＴを１．９ｇ、Ａ−２００を７ｇ、Ａ−１０００ＰＥＲを０．１ｇ、ＤＭＡＡを１ｇ、及びＢＹＫ−ＵＶ３５７０を０．５ｇ（Ａ−ＴＭＰＴ、Ａ−２００、Ａ−１０００ＰＥＲ、ＤＭＡＡの総質量に対して５ｐｈｒ）混合し、その混合物にＩＲＧＡＣＵＲＥ  ＴＰＯを０．５ｇ（Ａ−ＴＭＰＴ、Ａ−２００、Ａ−１０００ＰＥＲ、ＤＭＡＡの総質量に対して５ｐｈｒ）加え、インプリント材料ＰＮＩ−ａ２７を調製した。【００９４】
＜実施例２８＞
Ａ−ＴＭＰＴを３ｇ、Ａ−２００を６ｇ、ＤＭＡＡを１ｇ、及びＢＹＫ−ＵＶ３５７０を０．５ｇ（Ａ−ＴＭＰＴ、Ａ−２００、ＤＭＡＡの総質量に対して５ｐｈｒ）混合し、その混合物にＩＲＧＡＣＵＲＥ  ＴＰＯを０．５ｇ（Ａ−ＴＭＰＴ、Ａ−２００、ＤＭＡＡの総質量に対して５ｐｈｒ）加え、インプリント材料ＰＮＩ−ａ２８を調製した。【００９５】
＜実施例２９＞
Ａ−ＴＭＰＴを２．９ｇ、Ａ−２００を６ｇ、Ａ−１０００ＰＥＲを０．１ｇ、ＤＭＡＡを１ｇ、及びＢＹＫ−ＵＶ３５７０を０．５ｇ（Ａ−ＴＭＰＴ、Ａ−２００、Ａ−１０００ＰＥＲ、ＤＭＡＡの総質量に対して５ｐｈｒ）混合し、その混合物にＩＲＧＡＣＵＲＥ  ＴＰＯを０．５ｇ（Ａ−ＴＭＰＴ、Ａ−２００、Ａ−１０００ＰＥＲ、ＤＭＡＡの総質量に対して５ｐｈｒ）加え、インプリント材料ＰＮＩ−ａ２９を調製した。【００９６】
＜実施例３０＞
Ａ−ＴＭＰＴを２．５ｇ、Ａ−２００を６ｇ、Ａ−１０００ＰＥＲを０．５ｇ、ＤＭＡＡを１ｇ、及びＢＹＫ−ＵＶ３５７０を０．５ｇ（Ａ−ＴＭＰＴ、Ａ−２００、Ａ−１０００ＰＥＲ、ＤＭＡＡの総質量に対して５ｐｈｒ）混合し、その混合物にＩＲＧＡＣＵＲＥ  ＴＰＯを０．５ｇ（Ａ−ＴＭＰＴ、Ａ−２００、Ａ−１０００ＰＥＲ、ＤＭＡＡの総質量に対して５ｐｈｒ）加え、インプリント材料ＰＮＩ−ａ３０を調製した。【００９７】
＜実施例３１＞
Ａ−ＴＭＰＴを２ｇ、Ａ−２００を７ｇ、ＤＭＡＡを１ｇ、ＢＹＫ−３３３を０．１ｇ（Ａ−ＴＭＰＴ、Ａ−２００、ＤＭＡＡの総質量に対して１ｐｈｒ）、及びＢＹＫ−ＵＶ３５７０を０．５ｇ（Ａ−ＴＭＰＴ、Ａ−２００、ＤＭＡＡの総質量に対して５ｐｈｒ）混合し、その混合物にＩＲＧＡＣＵＲＥ  ＴＰＯを０．５ｇ（Ａ−ＴＭＰＴ、Ａ−２００、ＤＭＡＡの総質量に対して５ｐｈｒ）加え、インプリント材料ＰＮＩ−ａ３１を調製した。【００９８】
＜実施例３２＞
Ａ−ＴＭＰＴを１．９ｇ、Ａ−２００を７ｇ、Ａ−１０００ＰＥＲを０．１ｇ、ＤＭＡＡを１ｇ、ＢＹＫ−３３３を０．１ｇ（Ａ−ＴＭＰＴ、Ａ−２００、Ａ−１０００ＰＥＲ、ＤＭＡＡの総質量に対して１ｐｈｒ）、及びＢＹＫ−ＵＶ３５７０を０．５ｇ（Ａ−ＴＭＰＴ、Ａ−２００、Ａ−１０００ＰＥＲ、ＤＭＡＡの総質量に対して５ｐｈｒ）混合し、その混合物にＩＲＧＡＣＵＲＥ  ＴＰＯを０．５ｇ（Ａ−ＴＭＰＴ、Ａ−２００、ＤＭＡＡの総質量に対して５ｐｈｒ）加え、インプリント材料ＰＮＩ−ａ３２を調製した。【００９９】
＜実施例３３＞
Ａ−ＴＭＰＴを３ｇ、Ａ−２００を６ｇ、ＤＭＡＡを１ｇ、ＢＹＫ−３３３を０．１ｇ（Ａ−ＴＭＰＴ、Ａ−２００、ＤＭＡＡの総質量に対して１ｐｈｒ）、及びＢＹＫ−ＵＶ３５７０を０．５ｇ（Ａ−ＴＭＰＴ、Ａ−２００、ＤＭＡＡの総質量に対して５ｐｈｒ）混合し、その混合物にＩＲＧＡＣＵＲＥ  ＴＰＯを０．５ｇ（Ａ−ＴＭＰＴ、Ａ−２００、ＤＭＡＡの総質量に対して５ｐｈｒ）加え、インプリント材料ＰＮＩ−ａ３３を調製した。【０１００】
＜実施例３４＞
Ａ−ＴＭＰＴを２．９ｇ、Ａ−２００を６ｇ、Ａ−１０００ＰＥＲを０．１ｇ、ＤＭＡＡを１ｇ、ＢＹＫ−３３３を０．１ｇ（Ａ−ＴＭＰＴ、Ａ−２００、Ａ−１０００ＰＥＲ、ＤＭＡＡの総質量に対して１ｐｈｒ）、及びＢＹＫ−ＵＶ３５７０を０．５ｇ（Ａ−ＴＭＰＴ、Ａ−２００、Ａ−１０００ＰＥＲ、ＤＭＡＡの総質量に対して５ｐｈｒ）混合し、その混合物にＩＲＧＡＣＵＲＥ  ＴＰＯを０．５ｇ（Ａ−ＴＭＰＴ、Ａ−２００、Ａ−１０００ＰＥＲ、ＤＭＡＡの総質量に対して５ｐｈｒ）加え、インプリント材料ＰＮＩ−ａ３４を調製した。【０１０１】
＜実施例３５＞
Ａ−ＴＭＰＴを２．５ｇ、Ａ−２００を６ｇ、Ａ−１０００ＰＥＲを０．５ｇ、ＤＭＡＡを１ｇ、ＢＹＫ−３３３を０．１ｇ（Ａ−ＴＭＰＴ、Ａ−２００、Ａ−１０００ＰＥＲ、ＤＭＡＡの総質量に対して１ｐｈｒ）、及びＢＹＫ−ＵＶ３５７０を０．５ｇ（Ａ−ＴＭＰＴ、Ａ−２００、Ａ−１０００ＰＥＲ、ＤＭＡＡの総質量に対して５ｐｈｒ）混合し、その混合物にＩＲＧＡＣＵＲＥ  ＴＰＯを０．５ｇ（Ａ−ＴＭＰＴ、Ａ−２００、Ａ−１０００ＰＥＲ、ＤＭＡＡの総質量に対して５ｐｈｒ）加え、インプリント材料ＰＮＩ−ａ３５を調製した。【０１０２】
＜実施例３６＞
Ａ−ＴＭＰＴを２．５ｇ、Ａ−２００を６ｇ、Ａ−１０００ＰＥＲを０．５ｇ、ＤＭＡＡを１ｇ、及びＢＹＫ−ＵＶ３５７０を０．５ｇ（Ａ−ＴＭＰＴ、Ａ−２００、Ａ−１０００ＰＥＲ、ＤＭＡＡの総質量に対して５ｐｈｒ）混合し、その混合物にＩＲＧＡＣＵＲＥ  ＴＰＯを０．１ｇ（Ａ−ＴＭＰＴ、Ａ−２００、Ａ−１０００ＰＥＲ、ＤＭＡＡの総質量に対して１ｐｈｒ）加え、インプリント材料ＰＮＩ−ａ３６を調製した。【０１０３】
＜実施例３７＞
Ａ−ＴＭＰＴを２．５ｇ、Ａ−２００を６．５ｇ、ＤＭＡＡを１ｇ、及びＢＹＫ−ＵＶ３５７０を０．５ｇ（Ａ−ＴＭＰＴ、Ａ−２００、Ａ−１０００ＰＥＲ、ＤＭＡＡの総質量に対して５ｐｈｒ）混合し、その混合物にＩＲＧＡＣＵＲＥ  ＴＰＯを０．１ｇ（Ａ−ＴＭＰＴ、Ａ−２００、Ａ−１０００ＰＥＲ、ＤＭＡＡの総質量に対して１ｐｈｒ）加え、インプリント材料ＰＮＩ−ａ３７を調製した。【０１０４】
＜実施例３８＞
Ａ−ＴＭＰＴを２．５ｇ、Ａ−２００を６．５ｇ、ＤＭＡＡを１ｇ、及びＢＹＫ−ＵＶ３５７０を０．５ｇ（Ａ−ＴＭＰＴ、Ａ−２００、Ａ−１０００ＰＥＲ、ＤＭＡＡの総質量に対して５ｐｈｒ）混合し、その混合物にＩＲＧＡＣＵＲＥ  ＴＰＯを０．５ｇ（Ａ−ＴＭＰＴ、Ａ−２００、Ａ−１０００ＰＥＲ、ＤＭＡＡの総質量に対して５ｐｈｒ）加え、インプリント材料ＰＮＩ−ａ３８を調製した。【０１０５】
＜実施例３９＞
Ａ−ＴＭＰＴを２．５ｇ、Ａ−２００を６ｇ、Ａ−１０００ＰＥＲを０．５ｇ、ＤＭＡＡを１ｇ、及びＢＹＫ−ＵＶ３５７０を０．５ｇ（Ａ−ＴＭＰＴ、Ａ−２００、Ａ−１０００ＰＥＲ、ＤＭＡＡの総質量に対して５ｐｈｒ）混合し、その混合物にＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標）  ８１９（ＢＡＳＦジャパン株式会社製）（以下、本明細書では「ＩＲＧＡＣＵＲＥ  ８１９」と略称する。）を０．１ｇ（Ａ−ＴＭＰＴ、Ａ−２００、Ａ−１０００ＰＥＲ、ＤＭＡＡの総質量に対して１ｐｈｒ）加え、インプリント材料ＰＮＩ−ａ３９を調製した。【０１０６】
＜実施例４０＞
Ａ−ＴＭＰＴを２．５ｇ、Ａ−２００を６．５ｇ、ＤＭＡＡを１ｇ、及びＢＹＫ−ＵＶ３５７０を０．５ｇ（Ａ−ＴＭＰＴ、Ａ−２００、Ａ−１０００ＰＥＲ、ＤＭＡＡの総質量に対して５ｐｈｒ）混合し、その混合物にＩＲＧＡＣＵＲＥ  ８１９を０．１ｇ（Ａ−ＴＭＰＴ、Ａ−２００、Ａ−１０００ＰＥＲ、ＤＭＡＡの総質量に対して１ｐｈｒ）加え、インプリント材料ＰＮＩ−ａ４０を調製した。【０１０７】
＜実施例４１＞
Ａ−ＴＭＰＴを２．５ｇ、Ａ−２００を６ｇ、Ａ−１０００ＰＥＲを０．５ｇ、ＤＭＡＡを１ｇ、及びＢＹＫ−ＵＶ３５７０を０．５ｇ（Ａ−ＴＭＰＴ、Ａ−２００、Ａ−１０００ＰＥＲ、ＤＭＡＡの総質量に対して５ｐｈｒ）混合し、その混合物にＩＲＧＡＣＵＲＥ  ８１９を０．５ｇ（Ａ−ＴＭＰＴ、Ａ−２００、Ａ−１０００ＰＥＲ、ＤＭＡＡの総質量に対して５ｐｈｒ）加え、インプリント材料ＰＮＩ−ａ４１を調製した。【０１０８】
＜比較例１＞
ＫＡＹＡＲＡＤ（登録商標）ＰＥＴ３０（以下、本明細書では「ＰＥＴ３０」と略称する。）（日本化薬株式会社製）を３．０ｇ、Ａ−２００を６．０ｇ、及びＤＭＡＡを１ｇ混合し、その混合物にＩＲＧＡＣＵＲＥ  ＴＰＯを０．２５ｇ（ＰＥＴ３０、Ａ−２００、ＤＭＡＡの総質量に対して２．５ｐｈｒ）加え、インプリント材料ＰＮＩ−ｂ１を調製した。【０１０９】
＜比較例２＞
ＰＥＴ３０を３．０ｇ、Ａ−２００を６．０ｇ、ＤＭＡＡを１ｇ、及びＢＹＫ−３３３を０．１ｇ（ＰＥＴ３０、Ａ−２００、ＤＭＡＡの総質量に対して１ｐｈｒ）混合し、その混合物にＩＲＧＡＣＵＲＥ  ＴＰＯを０．２５ｇ（ＰＥＴ３０、Ａ−２００、ＤＭＡＡの総質量に対して２．５ｐｈｒ）加え、インプリント材料ＰＮＩ−ｂ２を調製した。【０１１０】
＜比較例３＞
ＰＥＴ３０を３．０ｇ、Ａ−２００を６．０ｇ、ＤＭＡＡを１ｇ、及びＢＹＫ−ＵＶ３５７０を０．１ｇ（ＰＥＴ３０、Ａ−２００、ＤＭＡＡの総質量に対して１ｐｈｒ）混合し、その混合物にＩＲＧＡＣＵＲＥ  ＴＰＯを０．２５ｇ（ＰＥＴ３０、Ａ−２００、ＤＭＡＡの総質量に対して２．５ｐｈｒ）加え、インプリント材料ＰＮＩ−ｂ３を調製した。【０１１１】
＜比較例４＞
ＫＡＹＡＲＡＤ（登録商標）ＤＰＨＡ（以下、本明細書では「ＤＰＨＡ」と略称する。）（日本化薬株式会社製）を３．０ｇ、Ａ−２００を６．０ｇ、及びＤＭＡＡを１ｇ混合し、その混合物にＩＲＧＡＣＵＲＥ  ＴＰＯを０．２５ｇ（ＤＰＨＡ、Ａ−２００、ＤＭＡＡの総質量に対して２．５ｐｈｒ）加え、インプリント材料ＰＮＩ−ｂ４を調製した。【０１１２】
＜比較例５＞
ＤＰＨＡを３．０ｇ、Ａ−２００を６．０ｇ、ＤＭＡＡを１ｇ、及びＢＹＫ−３３３を０．１ｇ（ＤＰＨＡ、Ａ−２００、ＤＭＡＡの総質量に対して１ｐｈｒ）混合し、その混合物にＩＲＧＡＣＵＲＥ  ＴＰＯを０．２５ｇ（ＤＰＨＡ、Ａ−２００、ＤＭＡＡの総質量に対して２．５ｐｈｒ）加え、インプリント材料ＰＮＩ−ｂ５を調製した。【０１１３】
＜比較例６＞
ＤＰＨＡを３．０ｇ、Ａ−２００を６．０ｇ、ＤＭＡＡを１ｇ、及びＢＹＫ−ＵＶ３５７０を０．１ｇ（ＤＰＨＡ、Ａ−２００、ＤＭＡＡの総質量に対して１ｐｈｒ）混合し、その混合物にＩＲＧＡＣＵＲＥ  ＴＰＯを０．２５ｇ（ＤＰＨＡ、Ａ−２００、ＤＭＡＡの総質量に対して２．５ｐｈｒ）加え、インプリント材料ＰＮＩ−ｂ６を調製した。【０１１４】
＜比較例７＞
Ａ−２００を６．５ｇ、及びＡ−１０００ＰＥＲを３．５ｇ混合し、その混合物にＩＲＧＡＣＵＲＥ  ＴＰＯを０．２５ｇ（Ａ−２００、Ａ−１０００ＰＥＲの総質量に対して２．５ｐｈｒ）加え、インプリント材料ＰＮＩ−ｂ７を調製した。【０１１５】
［モールドの離型処理］
ニッケル製のピッチ２５０ｎｍ、高さ２５０ｎｍのモスアイパターンモールド（株式会社イノックス製）及びシリコンウエハを、オプツール（登録商標）ＤＳＸ（ダイキン工業株式会社製）をノベック（登録商標）ＨＦＥ−７１００（ハイドロフルオロエーテル、住友スリーエム株式会社）（以下、本明細書では「ノベックＨＦＥ−７１００」と略称する。）で０．１質量％に希釈した溶液へ浸漬し、温度が９０℃、湿度が９０ＲＨ％の高温高湿装置を用いて１時間処理し、ノベックＨＦＥ−７１００でリンス後、エアーで乾燥させた。【０１１６】
［光インプリント］
実施例１乃至実施例４１及び比較例１乃至比較例７で得られた各インプリント材料を、厚さ６０μｍのトリアセチルセルロースフィルム（富士フイルム株式会社製  フジタック（登録商標）を使用）（以下、本明細書では「ＴＡＣフィルム」と略称する。）上にバーコーター（全自動フィルムアプリケーター  ＫＴ−ＡＢ３１２０  コーテック株式会社製）を用いて塗布し、そのＴＡＣフィルム上の塗膜を前述の離型処理を施したモスアイパターンモールドへローラー圧着させた。続いて該塗膜に対し、ＴＡＣフィルム側から無電極均一照射装置（ＱＲＥ−４０１６Ａ、株式会社オーク製作所製）にて、３５０ｍＪ／ｃｍ２の露光を施し、光硬化を行った後にそのＴＡＣフィルムを前記モスアイパターンモールドから剥離し、そのモスアイパターンモールドの凹凸形状が転写された硬化被膜を得た。【０１１７】
［密着性試験］
得られた硬化被膜について、ＴＡＣフィルムとの密着性試験を行った。密着性試験はＪＩＳ  Ｋ５４００に従い、以下の手順にて行った。
まず、前記硬化被膜を、カッターを用いてＴＡＣフィルムに達する碁盤目状の切り傷を１ｍｍ間隔にて１００マス付けた。約５０ｍｍの長さのセロハン粘着テープを碁盤目の上に粘着し、膜面に対して９０°の角度で瞬間的に引き剥がした。テープ剥離後のマス目を観察し、１００マスに対して剥離しなかったマス目数をｘとし、密着性をｘ／１００として評価した。本密着性試験を３回繰り返し、各評価の平均値を算出した。【０１１８】
［スチールウール擦傷試験］
得られた硬化被膜について、スチールウール擦傷試験を行った。試験機は大栄精機（有）製を使用し、＃００００のスチールウールを使用した。単位面積当たりの荷重は１５ｇ／ｃｍ２とし、上記スチールウールを１０往復させ、擦傷後の傷本数を確認した。本擦傷試験を３回繰り返し、擦傷後の傷本数の平均値を算出し、以下のように評価した。
０〜１本：Ａ
２〜５本：Ｂ
６〜１０本：Ｃ
１１本以上：Ｄ【０１１９】
［水拭き耐性試験］
得られた硬化被膜の凹凸形状が転写された面を、水を含んだベンコットＭ−１（旭化成せんい株式会社製）で擦った。その後、硬化被膜のＴＡＣフィルム側から蛍光灯を照射し、その硬化被膜に対して斜め３０°から目視で上記凹凸形状において隣接する凸部同士の付着によるヘイズの有無を確認した。
得られた結果を表１及び表２に示す。【０１２０】
【表１】
2017002506.tif 000009
【０１２１】
【表２】
2017002506.tif 000010
【０１２２】
表１及び表２に示す結果より、実施例１乃至実施例４１で調製されたインプリント材料を用いて得られた硬化被膜はいずれも、ＴＡＣフィルムとの密着性に優れ、スチールウール擦傷試験後に発生する傷の本数は０〜５本と少ないため耐擦傷性が確認され、凹凸形状が転写された面を水拭きしても該凹凸形状において隣接する凸部同士の付着は起こらず、水拭き耐性を有するという結果を得た。一方、比較例１乃至比較例６で調製されたインプリント材料を用いて得られた硬化被膜は、スチールウール擦傷試験後に傷が多数発生し、さらにＴＡＣフィルムとの密着性に欠ける結果となった。そして比較例７で調製されたインプリント材料を用いて得られた硬化被膜は、ＴＡＣフィルムとの密着性に欠け、さらに凹凸形状が転写された面を水拭きすると該凹凸形状において隣接する凸部同士の付着は起こるという結果となった。以上、本発明のインプリント材料により得られる硬化被膜は、基板に対する密着性に優れ、耐擦傷性を有し、しかも水拭き耐性に優れるものとなる。
【国際調査報告】
2017002506.tif 000014
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