(57)【要約】      （修正有）【課題】ベルト感光体の、長期間の使用中における物理的損傷および機械的損傷、特に表面引っ掻き傷の形成を減少させることができる画像形成部材を提供する。【解決手段】少なくとも１つの電気活性セグメントと有効量の第２のフッ素化成分を含む、複数のセグメントおよび複数のリンカーを含む構造化有機フィルム（ＳＯＦ）である最外層を有する感光体のような画像形成部材。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材と、
電荷発生層と、
電荷輸送層と、
任意のオーバーコート層と、を備え、最外層が、少なくとも１つの電気活性セグメントおよび粒径が１００ｎｍ〜５０００ｎｍの第２のフッ素化成分とを含む、複数のセグメントおよび複数のリンカーを含む構造化有機フィルム（ＳＯＦ）を含む画像形成表面である、画像形成部材。
【請求項２】
前記第２のフッ素化成分が、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）、ペルフルオロアルコキシポリマー（ＰＦＡ）、テトラフルオロエチレン（ＴＦＥ）とヘキサフルオロプロピレン（ＨＦＰ）のコポリマー、ヘキサフルオロプロピレン（ＨＦＰ）とフッ化ビニリデン（ＶＤＦ）のコポリマー、ヘキサフルオロプロピレン（ＨＦＰ）とフッ化ビニリデン（ＶＦ２）のコポリマー、テトラフルオロエチレン（ＴＦＥ）、フッ化ビニリデン（ＶＤＦ）、ヘキサフルオロプロピレン（ＨＦＰ）のターポリマー、テトラフルオロエチレン（ＴＦＥ）、フッ化ビニリデン（ＶＦ２）、ヘキサフルオロプロピレン（ＨＦＰ）のテトラポリマー、およびこれらの混合物からなる群から選択される、請求項１に記載の画像形成部材。
【請求項３】
前記第２のフッ素化成分が、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）粒子を含む、請求項１に記載の画像形成部材。
【請求項４】
前記ＰＴＦＥの前記含有量が、ＳＯＦの約１〜約３０重量％である、請求項１に記載の画像形成部材。
【請求項５】
前記最外層がオーバーコート層であり、前記オーバーコート層は、厚みが約２〜約１０μｍである、請求項１に記載の画像形成部材。
【請求項６】
前記最外層が電荷輸送層であり、前記電荷輸送層は、厚みが約１５〜約４０μｍである、請求項１に記載の画像形成部材。
【請求項７】
前記少なくとも１つの電気活性セグメントが、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラ−（ｐ−トリル）ビフェニル−４，４’−ジアミンである第１のセグメントと、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラフェニル−ビフェニル−４，４’−ジアミンである第２のセグメントとを含む、請求項１に記載の画像形成部材。
【請求項８】
前記第１のセグメントと前記第２のセグメントの比率が、約１：１〜約１：３．５である、請求項７に記載の画像形成部材。
【請求項９】
前記少なくとも１つの電気活性セグメントが、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラ−（ｐ−トリル）ビフェニル−４，４’−ジアミン：
【化１】
2014038325.tif 000005
Ｎ４，Ｎ４’−ビス（３，４−ジメチルフェニル）−Ｎ４，Ｎ４’−ジ−ｐ−トリル−［１，１’−ビフェニル］−４，４’−ジアミン：
【化２】
2014038325.tif 000006
およびトリス−（４−ヒドロキシメチル）トリフェニルアミン：
【化３】
2014038325.tif 000007
からなる群から選択される、請求項１に記載の画像形成部材。
【請求項１０】
前記少なくとも１つの電気活性セグメントが、最外層のＳＯＦ中に、ＳＯＦの約４０〜約９５重量％の量で存在する、請求項１に記載の画像形成部材。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本開示は、画像形成部材、例えば、基材、電荷発生層、電荷輸送層、および任意のオーバーコート層を備える画像形成部材に関する。本開示の画像形成部材の画像形成表面の最外層は、少なくとも１つの電気活性セグメントおよび第２のフッ素化成分を含む、複数のセグメントおよび複数のリンカーを含む構造化有機フィルム（ＳＯＦ）を含む。
【背景技術】
【０００２】
ゼログラフィー、電子写真式画像形成または静電複写式画像形成としても知られる電子写真において、伝導性層上に光伝導性絶縁層を含有する電子写真式プレート、ドラム、ベルトなど（画像形成部材または感光体）の表面は、最初に均一に帯電される。次いで画像形成部材は、ある模様を描く活性化電磁放射線、例えば光に曝される。この放射線は、光伝導性絶縁層の照射領域において電荷を選択的に消散させると同時に、非照射領域に静電潜像を残す。次いでこの静電潜像は現像されて、微粉化された検電マーキング粒子を光伝導性絶縁層の表面に堆積させることによって、視覚化可能な画像を形成し得る。得られた視覚化可能な画像は、画像形成部材から、プリント基材、例えば透明フィルムまたは紙に直接または間接的に（例えば転写部材または他の部材によって）転写されてもよい。画像形成プロセスを、再使用可能な画像形成部材を用いて複数回繰り返してもよい。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
優れたトナー画像は、ベルトまたはドラムの多層感光体を用いて得ることができるが、より高度で、より高速の電子写真コピー機、複写機、および印刷機が開発されるにつれ、印刷品質に対する要求が高くなっていることがわかる。荷電画像およびバイアス電位の微妙なバランスや、トナーおよび現像剤の特徴が維持されなければならない。このことが、感光体製造の品質、およびひいては製造収率にさらなる制限をもたらす。
【０００４】
画像形成部材は、一般に反復性電子写真サイクルに曝され、それによって、曝された荷電輸送層またはそれらの代替的な頂部層に機械的摩耗、化学的攻撃および熱が加わる。こうした反復性サイクルは、曝された電荷輸送層の機械的特徴および電気的特徴を徐々に劣化させる。長期間の使用中における物理的損傷および機械的損傷、特に表面引っ掻き傷の形成は、ベルト感光体の故障の主な原因の１つである。故に、感光体の機械的ロバスト性を改善し、特にそれらの引掻耐性を増大させることによって、それらの耐用年数を延ばすことが所望されている。加えて、画像ゴースト発生、背景の陰影生成などがプリント中で最小限となるように軽衝撃への耐性を増大させることが望ましい。
【０００５】
保護オーバーコート層を与えることは、感光体の有用寿命を延ばす従来の手段である。従来では、例えばポリマーの耐引掻性および耐クラック性を有するオーバーコート層が、感光体の寿命を延ばすためにロバスト性のオーバーコート設計として利用されている。しかし、従来のオーバーコート層の形成は、印刷中のゴースト発生および背景の陰影生成を示す。軽衝撃耐性を改善することにより、より安定な画像形成部材を提供し、改善された印刷品質をもたらす。
【０００６】
画像形成部材を作成するために採用されている種々の手法にかかわらず、改善された画像形成性能および長い寿命を提供し、ヒトおよび環境への健康リスクを低減するためなどに、改善された画像形成部材設計が依然として必要である。
【０００７】
本明細書に記載される構造化有機フィルム（ＳＯＦ）組成物は、化学的および機械的に非常にロバスト性の材料であり、従来の感光体材料よりも優れた多くの特性を示し、ゼログラフィープロセスによって生じる化学的分解経路を阻止することによって感光体の寿命を延ばす。加えて、感光体のような画像形成部材を備えるＳＯＦの特性を改善するために、酸化防止剤のような添加剤が本開示のＳＯＦ組成物に加えられてもよい。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
いくつかの実施形態では、基材、電荷発生層、電荷輸送層、および任意のオーバーコート層とを備え、最外層が、少なくとも１つの電気活性セグメントおよび第２のフッ素化成分とを含む、複数のセグメントおよび複数のリンカーを含む構造化有機フィルム（ＳＯＦ）を含む画像形成表面である、画像形成部材が提供される。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１Ａ】図１Ａは、例示的なビルディングブロックについて、対称型の要素の概略を示した図である。
【図１Ｂ】図１Ｂは、例示的なビルディングブロックについて、対称型の要素の概略を示した図である。
【図１Ｃ】図１Ｃは、例示的なビルディングブロックについて、対称型の要素の概略を示した図である。
【図１Ｄ】図１Ｄは、例示的なビルディングブロックについて、対称型の要素の概略を示した図である。
【図１Ｅ】図１Ｅは、例示的なビルディングブロックについて、対称型の要素の概略を示した図である。
【図１Ｆ】図１Ｆは、例示的なビルディングブロックについて、対称型の要素の概略を示した図である。
【図１Ｇ】図１Ｇは、例示的なビルディングブロックについて、対称型の要素の概略を示した図である。
【図１Ｈ】図１Ｈは、例示的なビルディングブロックについて、対称型の要素の概略を示した図である。
【図１Ｉ】図１Ｉは、例示的なビルディングブロックについて、対称型の要素の概略を示した図である。
【図１Ｊ】図１Ｊは、例示的なビルディングブロックについて、対称型の要素の概略を示した図である。
【図１Ｋ】図１Ｋは、例示的なビルディングブロックについて、対称型の要素の概略を示した図である。
【図１Ｌ】図１Ｌは、例示的なビルディングブロックについて、対称型の要素の概略を示した図である。
【図１Ｍ】図１Ｍは、例示的なビルディングブロックについて、対称型の要素の概略を示した図である。
【図１Ｎ】図１Ｎは、例示的なビルディングブロックについて、対称型の要素の概略を示した図である。
【図１Ｏ】図１Ｏは、例示的なビルディングブロックについて、対称型の要素の概略を示した図である。
【図２】図２は、ＳＯＦを組み込んだ例示的な感光体の簡素化された側面図を表す。
【図３】図３は、ＳＯＦを組み込んだ第２の例示的な感光体の簡素化された側面図を表す。
【図４】図４は、ＳＯＦを組み込んだ第３の例示的な感光体の簡素化された側面図を表す。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
「構造化された有機フィルム」、「ＳＯＦ」、「ＳＯＦ組成物」は、一般的に、巨視的な見方だとフィルムである共有結合性有機骨格（ＣＯＦ）を指す。
【００１１】
画像形成部材は、第１の電気活性セグメント、例えば、正孔輸送特性を有するセグメントと、場合により、第２のセグメント（場合により、電気活性であってもよい）と、第２のフッ素化成分とを少なくとも含む、ＳＯＦを含む最外層を含んでいてもよい。
【００１２】
ＳＯＦは、１つ以上の分子ビルディングブロックの反応によって製造されてもよく、ここで少なくとも１つの分子ビルディングブロックは、電荷輸送分子機能を有する（または反応時に正孔輸送分子機能を有するセグメントをもたらす）。
【００１３】
分子ビルディングブロックは、炭素原子またはケイ素原子のコア、アルコキシコア、窒素原子またはリン原子がコアにあるアリールコア、カーボネートコア、炭素環式、炭素二環式、または炭素三環式のコアを含有する１つ以上のビルディングブロック、およびオリゴチオフェンコアを含有するビルディングブロックから誘導されてもよい。
【００１４】
１つ以上の分子ビルディングブロックは、それぞれ、個々にまたは全体として、ＳＯＦ１００重量部に対して約５〜約１００重量％、例えば少なくとも約５０重量％、または少なくとも約７５重量％の割合で、画像形成部材の最外層に含まれるＳＯＦ中に存在してもよい。
【００１５】
いくつかの実施形態において、画像形成部材の最外層は、ＳＯＦを含んでいてもよく、このとき、ＳＯＦ中の任意の望ましい量のセグメントが電気活性であってもよい。例えば、電気活性セグメントの割合は、約１０重量％より大きくてもよく、例えば、約３０重量％より大きくてもよく、または５０重量％より大きくてもよく、電気活性セグメントの割合の上限は、１００％であってもよく、例えば、約９５重量％未満、または約７０重量％未満であってもよい。
【００１６】
いくつかの実施形態において、本開示の画像形成部材および／または感光体の最外層は、最外層のＳＯＦ中に第１の電気活性セグメントと第２の電気活性セグメントとを、ＳＯＦの約４０重量％より多く、例えば、約５０〜約９０重量％、または約６０〜約８０重量％の量で含んでいてもよい。
【００１７】
いくつかの実施形態において、本開示の画像形成部材および／または感光体の最外層に含まれるＳＯＦは、「溶媒耐性」ＳＯＦ、模様がつけられたＳＯＦ、キャップされたＳＯＦ、コンポジットＳＯＦおよび／または周期的ＳＯＦであってもよく、これらをまとめて、特に断らない限り、以下、一般的に「ＳＯＦ」と呼ぶ。
【００１８】
用語「溶媒耐性」とは、例えば、ＳＯＦが組み込まれた層の溶媒／応力クラッキングまたは分解に対する感受性を増大させるような、（１）ＳＯＦおよび／またはＳＯＦ組成物（例えばコンポジットＳＯＦ）にそれまで共有結合していた原子および／または分子の流出、および／または（２）それまでＳＯＦおよび／またはＳＯＦ組成物（例えばコンポジットＳＯＦ）の一部であった分子の相分離が実質的にないことを指す。
【００１９】
キャッピングユニットがＳＯＦに導入される場合、ＳＯＦ骨格が、キャッピングユニットが存在する場所で局所的に「妨害される」。
【００２０】
「実質的にピンホールのないＳＯＦ」または「ピンホールのないＳＯＦ」は、その下にある基材の表面に堆積した反応混合物から形成されてもよい。用語「実施的にピンホールのないＳＯＦ」は、平方センチメートルあたりの２つの隣接セグメントコア間の距離を超えるピンホール、孔またはギャップが実質的にない、または平方センチメートルあたり約２５０ナノメートルを超える直径のピンホール、孔またはギャップが１０個未満であるＳＯＦを指す。用語「ピンホールのないＳＯＦ」は、平方ミクロンあたりの２つの隣接セグメントのコア間の距離を超えるピンホール、孔またはギャップがない、または平方ミクロンあたり約５００オングストロームを超える直径のピンホール、孔またはギャップがないＳＯＦを指す。
【００２１】
分子ビルディングブロックは、少なくとも２個の官能基を必要とし（ｘ≧２）、１種類または２種類以上の官能基を含んでいてもよい。分子ビルディングブロックの対称性は、分子ビルディングブロックセグメントの周辺付近の官能基（Ｆｇ）の位置に関係がある。対称型のビルディングブロックの使用は、（１）規則的な形状の連結が網目状構造化学においてよく理解されたプロセスであるので、分子ビルディングブロックの模様形成を問題なく利用でき、（２）対称性の劣るビルディングブロックについて、ＳＯＦ内に複数の連結欠陥を起こし得る可能性がある逸脱した配座／配向を取り得るため、分子ビルディングブロック間の完全な反応が促進されるという２つの理由から実施される。
【００２２】
図１Ａ〜Ｏは、例示的なビルディングブロックについて、対称型の要素の概略を示す。こうした対称型要素は、使用可能なビルディングブロック中にみられる。こうした例示的なビルディングブロックは、フッ素化されていてもよく、またはフッ素化されていなくてもよい。
【００２３】
官能基は、分子ビルディングブロックの反応性化学部分であり、この部分が、ＳＯＦ形成プロセス中に、セグメント同士を連結させる化学反応に関与する。官能基の例としては、ハロゲン、アルコール、エーテル、ケトン、カルボン酸、エステル、カーボネート、アミン、アミド、イミン、尿素、アルデヒド、イソシアネート、トシレート、アルケン、アルキンなどが挙げられる。セグメントは、官能基を保持し、官能基に関連しない全原子を含む分子ビルディングブロックの部分である。ＳＯＦは、複数の孔を有する共有結合性有機骨格（ＣＯＦ）として並んだ、少なくとも第１のセグメントタイプを含む複数のセグメントおよび第１のリンカータイプを少なくとも含む複数のリンカーを含み、ここで第１のセグメントタイプおよび／または第１のリンカータイプが、炭素でない少なくとも１つの原子を含む。ＳＯＦのセグメント（またはＳＯＦを構成する複数のセグメントに含まれる１つ以上のセグメントタイプ）は、炭素でない少なくとも１つの元素原子を含み、例えばセグメント構造は、水素、酸素、窒素、ケイ素、リン、セレン、フッ素、ホウ素、および硫黄からなる群から選択される少なくとも１つの原子を含む。
【００２４】
リンカーは、分子ビルディングブロックおよび／またはキャッピングユニットに存在する官能基間で化学反応が起こるとＳＯＦ中に現れる化学部分である。
【００２５】
リンカーは、共有結合、１個の原子、または共有結合した原子群を含んでいてもよい。化学部分リンカーは、周知の化学基、例えばエステル、ケトン、アミド、イミン、エーテル、ウレタン、カーボネートなど、またはそれらの誘導体であってもよい。
【００２６】
ＳＯＦの疎水性（超疎水性）、親水性、疎油性（超疎油性）、親油性、光発色性および／または電気活性（導体、半導体、電荷輸送材料）といった性質は、ＳＯＦの「追加機能」を表し得る特性の一部の例である。
【００２７】
電気活性との用語は、電荷（電子および／または正孔）を輸送する特性を指す。電気活性材料としては、導体、半導体、電荷輸送材料が挙げられる。導体は、電位差がある状態で電荷を簡単に輸送する材料であると定義される。半導体は、それ自体は電荷を伝導しないが、電位差があり、刺激（例えば、電場、電磁照射、熱など）が加えられた状態で伝導性になり得る材料であると定義される。電荷輸送材料は、電位差のある状態で、別の材料（例えば、染料、顔料または金属）から電荷が注入されると、電荷を輸送することができる材料であると定義される。
【００２８】
画像形成部材の最外層に含まれる、追加機能として電気活性（または正孔輸送分子機能）を有するＳＯＦは、記載した分子ビルディングブロック（フッ素化されていてもよい）および偏った特性として電気活性を有する分子ビルディングブロック、および／または共役したセグメントおよびリンカーの集合の結果として電気活性となる分子ビルディングブロックを含有する反応混合物を形成することによって調製されてもよい。
【００２９】
画像形成部材の最外層に含まれるＳＯＦは、少なくとも１つのビルディングブロックおよび電気活性特性、例えば正孔輸送分子機能を有する少なくとも１つのビルディングブロックを含有する反応混合物を調製することによって製造されてもよく、こうしたＨＴＭセグメントは、以下に記載されるようなもの、例えばヒドロキシル官能基（−ＯＨ）を有し、反応時に、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラ−（ｐ−トリル）ビフェニル−４，４’−ジアミンのセグメントを生じるＮ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス−［（４−ヒドロキシメチル）フェニル］−ビフェニル−４，４’−ジアミンおよび／またはヒドロキシル官能基（−ＯＨ）を有し、反応時にＮ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラフェニル−ビフェニル−４，４’−ジアミンのセグメントを生じるＮ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス−（３−ヒドロキシフェニル）−ビフェニル−４，４’−ジアミンであってもよい。
【００３０】
追加機能として正孔輸送機能を有するＳＯＦは、次の一般構造、
【化１】
2014038325.tif 000002
（Ａｒ１、Ａｒ２、Ａｒ３、Ａｒ４およびＡｒ５はそれぞれ独立に、置換または非置換アリール基を表し、またはＡｒ５は独立に、置換または非置換アリーレン基を表し、ｋは０または１を表し、Ａｒ１、Ａｒ２、Ａｒ３、Ａｒ４およびＡｒ５のうち、少なくとも２つは、Ｆｇを含む）を有するセグメントコア、例えばトリアリールアミン、ヒドラゾン（Ｔｏｋａｒｓｋｉ  ｅｔ  ａｌ．に対する米国特許第７，２０２，００２Ｂ２号明細書）およびエナミン（Ｋｏｎｄｏｈ  ｅｔ  ａｌ．に対する米国特許第７，４１６，８２４Ｂ２号明細書）を選択することによって得られてもよい。Ａｒ５はさらに、例えば置換されたフェニル環、置換／非置換のフェニレン、置換／非置換の一価の連結した芳香族環（例えば、ビフェニル、ターフェニルなど）、または置換／非置換の縮合した芳香族環（ナフチル、アントラニル、フェナントリルなど）であると定義されてもよい。
【００３１】
追加機能として正孔輸送性を有する、アリールアミンを含むセグメントコアとしては、例えば、アリールアミン、例えば、トリフェニルアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラフェニル−（１，１’−ビフェニル）−４，４’−ジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）−（１，１’−ビフェニル）−４，４’−ジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（４−ブチルフェニル）−Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−［ｐ−ターフェニル］−４，４”−ジアミン、ヒドラゾン、例えば、Ｎ−フェニル−Ｎ−メチル−３−（９−エチル）カルバジルヒドラゾン、４−ジエチルアミノベンズアルデヒド−１，２−ジフェニルヒドラゾン、およびオキサジアゾール、例えば、２，５−ビス（４−Ｎ，Ｎ’−ジエチルアミノフェニル）−１，２，４−オキサジアゾール、スチルベンなどが挙げられる。
【００３２】
ＳＯＦは、ｐ型半導体、ｎ型半導体、または両極性半導体であってもよい。
【００３３】
（構造化有機フィルム（ＳＯＦ）を調製するプロセス）
ＳＯＦを製造するプロセスは、典型的には、
（ａ）複数の分子ビルディングブロックを含む液体含有反応混合物を調製し、それぞれのブロックが、セグメント（得られたセグメントの少なくとも１つは電気活性であり、例えばＨＴＭである）と、多数の官能基と、場合によりプレＳＯＦと、場合により第２のフッ素化成分とを含み、
（ｂ）濡れたフィルムとして反応混合物を堆積させ、
（ｃ）分子ビルディングブロックを含む濡れたフィルムから、共有結合性有機骨格として配置される複数のセグメントおよび複数のリンカーを含むＳＯＦを含む乾燥フィルムへの変化を促進し、巨視的レベルでは、共有結合性有機骨格がフィルムであり、いくつかの実施形態では、乾燥フィルムの生成によって、ＳＯＦの骨格に第２のフッ素化成分が捕捉され、
（ｄ）場合により、基材からＳＯＦを取り除き、自立型ＳＯＦを得ることと、
（ｅ）場合により、自立型ＳＯＦをロールになるように処理することと、
（ｆ）場合によりＳＯＦをベルトに切断し、つなぎ合わせることと、
（ｇ）場合により、上記ＳＯＦ形成プロセスを、その後のＳＯＦ形成プロセスのための基材として（上記ＳＯＦ形成プロセスによって調製された）ＳＯＦ上にて行うことと、
を含む。
【００３４】
反応混合物は、液体中に溶解、懸濁、または混合される複数の分子ビルディングブロックを含み、こうしたビルディングブロックは、少なくとも１つのビルディングブロック（例えば、少なくとも１つの電気活性ビルディングブロック）を含んでいてもよく、例えばヒドロキシル官能基（−ＯＨ）およびＮ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラ−（ｐ−トリル）ビフェニル−４，４’−ジアミンのセグメントを有するＮ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス−［（４−ヒドロキシメチル）フェニル］−ビフェニル−４，４’−ジアミン、および／またはヒドロキシル官能基（−ＯＨ）およびＮ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラフェニル−ビフェニル−４，４’−ジアミンのセグメントを有するＮ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス−（３−ヒドロキシフェニル）−ビフェニル−４，４’−ジアミンを挙げることができる。
【００３５】
反応混合物成分の添加順序は変わってもよいが、典型的には、触媒が最後に添加される。溶媒中にフルオロ−ポリマーと、場合により分散剤とを含む第２のフッ素化成分（フルオロ−ポリマー）懸濁物または分散物を調製した後、反応混合物に加えてもよい。分子ビルディングブロックの分解を補助する触媒が存在しない状態で、液体中で分子ビルディングブロックを加熱してもよい。また、反応混合物を混合し、撹拌し、ミルで粉砕し、反応混合物が濡れた膜として堆積する前に配合物の成分を均一に分散させてもよい。
【００３６】
いくつかの実施形態において、反応混合物が濡れた膜として堆積する前に、反応混合物を加熱してもよい。１つ以上の分子ビルディングブロック（または第２のフッ素化成分）の分解を補助し、および／または濡れた層が堆積する前に反応混合物を部分的に反応させることによって反応混合物の粘度を上げてもよい。
【００３７】
反応混合物は、堆積する濡れた層を保持するような粘度である必要がある。反応混合物の粘度は、約１０〜約５０，０００ｃｐ、例えば、約２５〜約２５，０００ｃｐ、または約５０〜約１０００ｃｐの範囲である。
【００３８】
ビルディングブロックの保有量は、約１０〜５０％、例えば、約２０〜約４０％、または約２５〜約３０％の範囲であってもよい。
【００３９】
画像形成部材の損耗率は、実験設備におけるキロサイクル回転あたり約０．５〜約４０ナノメートル、またはキロサイクル回転あたり約１０〜約３０ナノメートルであってもよい。乾燥ＳＯＦ中の有効な第２の成分（フッ素化されているか、またはその他）は、画像形成部材の損耗率を低減するか、または画像形成部材の損耗率を上げるように選択されてもよい。画像形成部材の損耗率は、同一のセグメントおよびリンカーを含むキャップされていないＳＯＦに対して、１０００サイクルあたり少なくとも約２％低減してもよく、例えば、１００サイクルあたり少なくとも５％、または１０００サイクルあたり少なくとも１０％低減してもよい。
【００４０】
画像形成部材の損耗率は、同一のセグメントおよびリンカーを含むキャップされていないＳＯＦに対して、１０００サイクルあたり少なくとも約５％増加してもよく、例えば、１００サイクルあたり少なくとも１０％、または１０００サイクルあたり少なくとも２５％増加してもよい。
【００４１】
反応混合物中で用いられる液体は、純粋な液体（例えば、溶媒）であってもよく、および／または溶媒混合物であってもよい。適切な液体は、沸点が約３０〜約３００℃、例えば、約６５℃〜約２５０℃、または約１００℃〜約１８０℃であってもよい。
【００４２】
液体としては、アルカン、混合アルカン、分岐アルカン、芳香族化合物、エーテル、環状エーテル、エステル、ケトン、環状ケトン、アミン、アミド、アルコール、ニトリル、ハロゲン化芳香族、ハロゲン化アルカン、および水などの種類の分子を挙げることができる。場合により、反応混合物中に触媒を存在させて、濡れた層の乾燥したＳＯＦへの促進を補助してもよい。典型的な触媒の保有量は、反応混合物中の分子ビルディングブロックの保有量の約０．０１％〜約２５％、例えば約０．１％〜約５％の範囲である。触媒は、最終的なＳＯＦ組成物中に存在していてもよく、存在していなくてもよい。
【００４３】
溶媒中にフルオロ−ポリマーと、場合により、分散剤とを含む第２のフッ素化成分（フルオロ−ポリマー）懸濁物または分散物を調製してもよい。フルオロ−ポリマーは、フルオロ−ポリマー分散物全体の約１重量％〜約９０重量％、または約３重量％〜約８０重量％、または約５重量％〜約６０重量％の範囲の量で存在していてもよい。
【００４４】
いくつかの実施形態において、分散剤は、以下の一般式、
【化２】
2014038325.tif 000003
を有するペルフルオロ−界面活性剤であってもよく、式中、ｍおよびｎは、独立して、約１〜約３００の整数を表し、ｐは、約１〜約１００の整数を表し、ｆは、約１〜約２０の整数を表し、ｉは、約１〜約５００の整数を表す。また、分散剤は、ヒドロキシルと、約６〜約２０個の炭素を含むフルオロアルキル基とを含むポリアクリレートポリマーを含む、ヒドロキシルを含有するフッ素化分散剤であってもよい。
【００４５】
分散物のための溶媒は、例えば、水、炭化水素溶媒、アルコール、ケトン、塩素化溶媒、エステル、エーテルなどであってもよい。第２のフッ素化成分は、直径が約１０ｎｍ〜約１０μｍ、または１００ｎｍ〜５０００ｎｍの粒子であってもよい。第２のフッ素化成分は、フルオロ−ポリマーコアとポリマーシェルとを含む粒子であってもよい。
【００４６】
ＳＯＦオーバーコート層は、トルクを下げるために、有効量の第２のフッ素化成分（例えばＰＴＦＥ）を含んでいてもよい。トルクは、トルク変換センサーを使用して評価されてもよいが、１Ｎｍ未満、例えば、約０．０５Ｎｍ〜約０．９Ｎｍ、または約０．２Ｎｍ〜０．８Ｎｍであってもよい。トルクを少なくとも１０％、または少なくとも３０％、または少なくとも５０％下げるために、有効なフッ素化粒子の保持率を有するようにＳＯＦオーバーコート層を調製してもよい。また、有効な保有量の第２のフッ素化成分は、その保有量の第２のフッ素化成分を含まないオーバーコート層と似た光放電曲線（ＰＩＤＣ）の特徴を示してもよいが、さらに、コントロールオーバーコート層より低いトルク（例えば、洗浄ブレードとの低い摩擦）および／または損耗率を示す。ＳＯＦオーバーコート中の第２のフッ素化成分保有量は、オーバーコート層またはオーバーコート層のＳＯＦの約１〜４０％、例えば、約５〜約３５％、または約１０〜約２５重量％の範囲であってもよい。任意の添加剤または第２の成分（第２のフッ素化成分に加えて）、例えば、ドーパントは、反応混合物および濡れた層に存在していてもよい。
【００４７】
ＳＯＦは、ＳＯＦを酸化しないように保護するために、第２の成分として酸化防止剤を含んでいてもよい。酸化防止剤は、立体的に嵩高いビス−フェノール、立体的に嵩高いジヒドロキノンまたは立体的に嵩高いアミンの中から選択されてもよい。酸化防止剤は、存在する場合、ＳＯＦ中に、ＳＯＦの約０．２５重量％〜約１０重量％の量で存在していてもよい。
【００４８】
画像形成部材の外側層はさらに、ＳＯＦに存在する他のセグメントに加えて、非正孔輸送分子セグメントを含んでいてもよく、それはＨＴＭ、例えばＮ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラ−（ｐ−トリル）ビフェニル−４，４’−ジアミンの第１のセグメント、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラフェニル−ビフェニル−４，４’−ジアミンの第２のセグメントである。非正孔輸送分子セグメントは、ＳＯＦ中の第３のセグメントを構成し、フッ素化セグメントであってもよい。ＳＯＦは、正孔輸送特性を有する１つ以上のセグメント、例えばＮ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラ−（ｐ−トリル）ビフェニル−４，４’−ジアミンの第１のセグメントおよび／またはＮ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラフェニル−ビフェニル−４，４’−ジアミンの第２のセグメントに加えて、正孔輸送特性を有する、または有していない、のいずれかである他の追加セグメント（例えば第４、第５、第６、第７セグメント）の中でも特に、フッ素化非正孔輸送分子セグメントを含んでいてもよい。
【００４９】
適切な非正孔輸送分子セグメントとしては、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’，Ｎ”，Ｎ”−ヘキサキス（メチレンメチル）−１，３，５−トリアジン−２，４，６−トリアミン、
【化３】
2014038325.tif 000004
Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’，Ｎ”，Ｎ”−ヘキサキス（メトキシメチル）−１，３，５−トリアジン−２，４，６−トリアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’，Ｎ”，Ｎ”−ヘキサキス（エトキシメチル）−１，３，５−トリアジン−２，４，６−トリアミンなどが挙げられる。非正孔輸送分子セグメントの量は、存在する場合、ＳＯＦの約３０重量％まで、または約５重量％〜約３０重量％の量であってもよい。
【００５０】
適切な第２の架橋性成分、例えば、メラミンモノマーまたはポリマー、ベンゾグアナミン−ホルムアルデヒド樹脂、尿素−ホルムアルデヒド樹脂、グルコールウリル−ホルムアルデヒド樹脂、トリアジン系アミノ樹脂またはこれらの組み合わせを加えてもよい。
【００５１】
反応混合物を、濡れたフィルムとして種々の基材に適用してもよい。
【００５２】
スピンコーティング、ブレードコーティング、ウェブコーティング、浸漬コーティング、カップコーティング、ロッドコーティング、スクリーン印刷、インクジェット印刷、スプレーコーティング、スタンピングなどによって、反応混合物を基材に塗布してもよい。濡れた層の厚みは、約１０ｎｍ〜約５ｍｍ、例えば、約１００ｎｍ〜約１ｍｍ、または約１μｍ〜約５００μｍの範囲であってもよい。
【００５３】
上に記載する処理作業Ｂの終了後、第２のフッ素化成分を導入してもよい。この様式での第２のフッ素化成分の組み込みは、第２のフッ素化成分を濡れたフィルムの上に均一に、不均一に、または特定のパターンとして分布させるのに役立つ任意の手段によって達成されてもよい。第２のフッ素化成分を導入した後、処理作業Ｃを再開してその後の処理作業を行ってもよい。
【００５４】
処理作業Ｂの終了後（すなわち、反応混合物を基材に塗布してもよいその後）、第２のフッ素化成分が濡れた層の上にある第２のフッ素化成分が粒子、粉末または液体のいずれであるかに依存して、任意の適切な方法によって、例えば、分布させること（例えば、粉付け、噴霧、注ぐ、散布など）によって、第２のフッ素化成分を濡れた層に加えてもよい。生成した濡れた層に対し、第２のフッ素化成分を、種々のパターンを含む均一または不均一な様式で塗布してもよく、キャッピングユニットおよび／または第２の成分の濃度または密度は、濡れた層の所与の幅の第２のフッ素化部分が高濃度の部分と低濃度の部分が交互に帯状に並んだ模様を形成するように、特定の領域で小さい。
【００５５】
用語「促進する」は、分子ビルディングブロックの反応、例えば、ビルディングブロックの官能基の化学反応を容易にする任意の適切な技術を指す。液体を除去して乾燥フィルムを形成する必要がある場合には、「促進する」は、液体を除去することも指す。
【００５６】
濡れた層から乾燥ＳＯＦを形成するのを促進することは、任意の適切な技術によって行われてもよい。濡れた層から乾燥ＳＯＦの形成の促進は、典型的には、温度が４０〜３５０℃の範囲での熱処理を含む。総加熱時間は、約４秒〜約２４時間であってもよい。
【００５７】
種々の種類のＩＲエミッタを用いてもよく、例えば、炭素ＩＲエミッタまたは短波ＩＲエミッタ（Ｈｅｒａｅｒｕｓから入手可能）を用いてもよい。接着性の低い適切な基板を用いて濡れた層の堆積物を支える場合に、自立型のＳＯＦが得られてもよい。
【００５８】
ＳＯＦベルトは、単一ＳＯＦ、多層ＳＯＦまたはウェブから切断されたＳＯＦシートから製作されてもよい。ＳＯＦは、ＳＯＦシートの反対側のマージン終端領域を重複接合させることによって、ベルトのような形状に製作されてもよい。典型的な接合技術としては、溶接（超音波を含む）、糊付け、テープ付け、圧力熱定着などが挙げられる。
【００５９】
電子写真式画像形成部材（例えば感光体）の代表的な構造を図２から４に示す。これらの画像形成部材は、カール防止層１、支持基材２、電気伝導性地板３、電荷ブロッキング層４、接着剤層５、電荷発生層６、電荷輸送層７、オーバーコーティング層８、および接地ストリップ９を備える。図４において、画像形成層１０（電荷発生材料および電荷輸送材料の両方を含有する）は、別個の電荷発生層６および電荷輸送層７と交換される。
【００６０】
図からわかるように、感光体を製作する際、電荷発生材料（ＣＧＭ）および電荷輸送材料（ＣＴＭ）は、ＣＧＭおよびＣＴＭが異なる層にある積層体タイプの構成（例えば図２および３）、またはＣＧＭおよびＣＴＭが同一層にある単一層構成（例えば図４）のいずれかにおいて、基材表面上に堆積されてもよい。感光体は、電気伝導性層上にわたって電荷発生層６および場合により電荷輸送層７を塗布することによって調製されてもよい。ある用途の場合、感光体は任意のカール防止層１を有し得る。
【００６１】
カール防止層１は、画像形成層とは反対側において、基材２の背面に形成されてもよい。添加剤は、カール防止層中に、カール防止層の約０．５重量％〜約４０重量％の範囲で存在してもよい。カール防止層の厚みは、典型的には、約３μｍ〜約３５μｍである。
【００６２】
基材は、不透明または実質的に透明であってもよく、所与の必要とされる機械的特性を有するいずれかの追加の好適な材料を含んでいてもよい。
【００６３】
基材は、非電導性の材料の層、または電導性材料の層、例えば無機または有機組成物を含んでいてもよい。非伝導性材料が使用される場合、こうした非伝導性材料の上に電導性の地板を提供する必要がある場合がある。伝導性材料が基材として使用される場合、別個の地板層は必ずしも必要でない場合がある。
【００６４】
基材は、可撓性または硬質であってもよく、いずれかの多数の異なる構成、例えばシート、スクロール、終端のない可撓性ベルト、ウェブ、シリンダーなどを有していてもよい。感光体は、硬質の不透明伝導性基材、例えばアルミニウムドラムにコーティングされてもよい。
【００６５】
種々の樹脂は、電気的に非伝導性の材料として使用されてもよい。感光体はまた、絶縁プラスチックドラムにコーティングされてよいが、ただし伝導性地板は、予めその表面にコーティングされている。
【００６６】
伝導性プラスチックドラム、ならびにアルミニウムのような材料から製造された伝導性金属ドラムが使用されてもよい。
【００６７】
基材の厚みは、典型的には、約６５μｍ〜約１５０μｍである。可撓性ベルト用の基材は、最終的な光伝導性デバイスに何ら悪影響を与えない限り、かなり厚くてもよく（２００μｍを超える）、または最小限の厚みであってもよい（５０μｍ未満）。
【００６８】
調製された感光体は、電導性または非電導性のいずれかの基材を含む。非伝導性基材が使用される場合、電導性地板３が使用されなければならず、地板は伝導性層として作用する。伝導性基材が使用される場合、基材は、伝導性層として作用し得るが、伝導性地板も備えていてもよい。
【００６９】
可撓性の光応答性画像形成デバイスについて、伝導性層の厚みは、約２０オングストローム〜約７５０オングストロームであってもよい。
【００７０】
電導性地板層の堆積後、電荷ブロッキング層４をそれに対して塗布してもよい。
【００７１】
ブロッキング層が使用される場合、電導性層の上に配置されてもよい。ブロッキング層４は、既知のポリマーを含んでいてもよい。
【００７２】
ブロッキング層は、連続であってもよく、例えば約０．０１〜約１０μｍの範囲の厚みを有していてもよい。
【００７３】
ブロッキング層と電荷発生層との間に中間層５が、所望により、接着を促進するために提供されてもよい。浸漬コーティングされたアルミニウムドラムは接着剤層を有することなく利用されてもよい。
【００７４】
さらに、いずれかの隣接層の接着を確実にするために、感光体中のいずれかの層の間に、接着剤層が必要により提供されてもよい。あるいは、またはこれに加えて、接着剤材料は、接着されるべきそれぞれの層の１つまたは両方に組み込まれてもよい。画像形成層は、電荷発生材料、電荷輸送材料または電荷発生材料および電荷輸送材料の両方を含有する１つ以上の層を指す。
【００７５】
ｎ−型またはｐ−型の電荷発生材料のいずれかが、本発明の感光体に使用されてもよい。
【００７６】
電荷発生材料および電荷輸送材料が異なる層、例えば電荷発生層および電荷輸送層にある場合、この電荷輸送層は、第２のフッ素化成分を含むＳＯＦを含んでいてもよい。さらに電荷発生材料および電荷輸送材料が同じ層にある場合、この層は、第２のフッ素化成分を含むＳＯＦを含んでいてもよい。
【００７７】
例示的な有機光伝導性電荷発生材料はアゾ顔料を含む。
【００７８】
いずれかの好適な不活性樹脂バインダー材料が、電荷発生層に使用されてもよい。組成物中の電荷発生材料の量は、例えば、溶媒を含む組成物の重量に基づいて、約０．５重量％〜約３０重量％の範囲である。乾燥された光伝導性コーティング中に分散する光伝導性粒子（すなわち電荷発生材料）の量は、選択された特定の光伝導性顔料粒子によりある程度変動する。
【００７９】
一般に、満足する結果は、光伝導性コーティングが浸漬コーティングによって適用される場合に、約０．６μｍ未満の平均光伝導性粒径により得られる。平均光伝導性粒子の粒径は、約０．４μｍ未満であってもよい。光伝導性粒子の粒径はまた、それが分散した乾燥した光伝導性コーティングの厚み未満である。
【００８０】
電荷発生層において、電荷発生材料（「ＣＧＭ」）とバインダーの重量比は、３０（ＣＧＭ）：７０（バインダー）〜７０（ＣＧＭ）：３０（バインダー）の範囲である。
【００８１】
電荷発生層（本明細書では光伝導性層とも称される）および電荷輸送層を含む多層感光体について、光伝導性層コーティングの厚みは、約０．１μｍ〜約１０μｍ、または０．２μｍ〜４μｍある。
【００８２】
電荷輸送材料としては、有機ポリマー、非ポリマー性材料またはコンポジットおよび／またはキャップされたＳＯＦであってもよいＳＯＦが挙げられ、それらは光励起された正孔の注入を支持でき、または光伝導性材料から電子を輸送でき、これらの正孔または電子を、有機層を通して輸送し、表面電荷を選択的に消散できる。
【００８３】
例示的な電荷輸送材料としては、例えば主鎖または側鎖に多環式芳香族環または窒素含有ヘテロ環を有する化合物から選択される、正の正孔輸送材料が挙げられる。いずれかの好適な不活性樹脂バインダーは、電荷輸送層に使用されてもよい。
【００８４】
電荷輸送層において、電荷輸送材料（「ＣＴＭ」）とバインダーの重量比は、３０（ＣＴＭ）：７０（バインダー）から７０（ＣＴＭ）：３０（バインダー）の範囲である。
【００８５】
一般に、輸送層の厚みは約５μｍから約１００μｍである。電荷輸送層と電荷発生層との厚みの比は、約２：１〜２００：１または約４００：１に維持される。第２のフッ素成分を含む例示的な電荷輸送ＳＯＦとしては、例えば、多環芳香族環、例えばアントラセン、ピレン、フェナントレン、コロネンなど）、または窒素を含有するヘテロ環、例えばインドール、カルバゾール、オキサゾール、イソオキサゾール、チアゾール、イミダゾール、ピラゾール、オキサジアゾール、ピラゾリン、チアジアゾール、トリアゾール、ヒドラゾン化合物を有する化合物から選択される正の正孔輸送材料が挙げられる。典型的な正孔輸送ＳＯＦセグメントとしては、電子供与材料、例えばカルバゾール、Ｎ−エチルカルバゾール、Ｎ−イソプロピルカルバゾール、Ｎ−フェニルカルバゾール、テトラフェニルピレン、１−メチルピレン、ペリーレン、クリセン、アントラセン、テトラフェン、２−フェニルナフタレン、アゾピレン、１−エチルピレン、アセチルピレン、２，３−ベンゾクリセン、２，４−ベンゾピレン、および１，４−ブロモピレンが挙げられる。好適な電子輸送ＳＯＦセグメントとしては、電子受容体、例えば２，４，７−トリニトロ−９−フルオレノン、２，４，５，７−テトラニトロ−フルオレノン、ジニトロアントラセン、ジニトロアクリデン、テトラシアノピレン、ジニトロアントラキノン、およびブチルカルボニルフルオレンマロノニトリルが挙げられる。他の正孔輸送ＳＯＦセグメントとしては、アリールアミン、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（アルキルフェニル）−（１，１’−ビフェニル）−４，４’−ジアミンが挙げられ、ここでアルキルは、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ヘキシルなどからなる群から選択される。
【００８６】
一般に、電荷輸送ＳＯＦ層の厚みは、約５μｍから約１００μｍ、または約１０μｍ〜約７０μｍまたは１０μｍ〜約４０μｍである。電荷輸送層と電荷発生層との厚みの比は、約２：１〜２００：１または約４００：１に維持されてもよい。
【００８７】
本明細書に記載される材料および手順は、バインダー、電荷発生材料および電荷輸送材料を含有する単一画像形成層タイプの感光体を製作するために使用されてもよい。本明細書に記載される材料および手順は、第２のフッ素成分を含む電荷発生材料および電荷輸送ＳＯＦを含有する単一画像形成層タイプの感光体を製作するために使用されてもよい。例えば、単層画像形成層のための分散液における固体含有量は、分散液の重量に基づいて約２重量％〜約６０重量％の範囲であってもよい。
【００８８】
画像形成層が、電荷発生層および電荷輸送層の機能を組み合わせた単層である場合、そこに含有される成分の例示的な量は、次の通りである：電荷発生材料（約２重量％〜約４０重量％）、偏った追加の電荷輸送機能を有する分子ビルディングブロック（約２０重量％〜約７５重量％）。
【００８９】
オーバーコーティング層または層８は、電荷発生層上にわたって、または電荷輸送層上にわたって配置されてもよい。この層は、電気的に絶縁性またはわずかに半導電性であるＳＯＦを含んでいてもよい。
【００９０】
こうした保護オーバーコーティング層は、反応して少なくとも１つの電気活性セグメント（例えば、電荷輸送セグメント）を生成し、第２のフッ素化成分を含む複数の分子ビルディングブロックを含む反応混合物を生成する第２のフッ素化成分を含むＳＯＦを含む。
【００９１】
オーバーコーティング層は、約２μｍ〜約１５μｍ、例えば約３μｍ〜約８μｍであってもよい。
【００９２】
接地ストリップ９は、フィルム形成バインダーおよび電導性粒子を含んでいてもよい。セルロースは、伝導性粒子を分散させるために使用されてもよい。いずれかの好適な電気伝導性粒子は、電気伝導性接地ストリップ層８に使用されてもよい。接地ストリップ層は、約７μｍ〜約４２μｍ、例えば約１４μｍ〜約２７μｍの厚みを有していてもよい。
【００９３】
画像形成部材は、本開示の第２のフッ素化成分を表面層（ＯＣＬまたはＣＴＬ）として含むＳＯＦを含んでいてもよい。この画像形成部材は、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラ−（メチレンフェニレン）ビフェニル−４，４’−ジアミンおよび／またはＮ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラフェニル−ｔｅｒフェニル−４，４’−ジアミンセグメントと、第２のフッ素化成分とを含むＳＯＦであってもよい。
【００９４】
画像形成部材は、第２のフッ素化成分を有するＳＯＦを含むＳＯＦ層を含んでいてもよく、ＳＯＦ層の厚みは、任意の望ましい厚みであってもよく、例えば、約３０μｍまで、または約１〜約１５μｍであってもよい。最外層は、オーバーコート層であってもよく、第２のフッ素化成分を有するＳＯＦを含むオーバーコート層は、厚みが約１〜約２０μｍ、例えば、約２〜約１０μｍであってもよい。このような第２のフッ素化成分を有するＳＯＦは、第１のセグメントを含んでいてもよく、場合により、電気活性セグメント、第２の電気活性セグメントであってもよく、第１のセグメントと第２の電気活性セグメントの比率は、約５：１〜約０．２：１、例えば、約３．５：１〜約０．５：１、または約１．５：１〜約０．７５：１である。
【００９５】
最外層の第２のフッ素化成分を有するＳＯＦは、少なくとも１つの電気活性セグメントを含むＳＯＦであってもよい。少なくとも１つの電気活性セグメントは、最外層のＳＯＦ中に、ＳＯＦの約２０〜約８０重量％、例えば、約２５〜約７５重量％、または約３５〜約７０重量％の量で存在していてもよい。このような画像形成部材中に第２のフッ素化成分を有するＳＯＦは、単一層であってもよく、２つ以上の層であってもよい。このような画像形成部材中に第２のフッ素化成分を有するＳＯＦは、酸化防止剤および酸捕捉剤からなる群から選択される第２の成分を含まない。
【００９６】
ＳＯＦは、電子写真式感光体、接触荷電デバイス、曝露デバイス、現像デバイス、転写デバイス、および／または洗浄ユニットに組み込まれてもよい。
【００９７】
接触荷電部材は、ＳＯＦおよびまたは金属、伝導性ポリマー材料、またはエラストマー材料中の微粒子分散液から形成されてもよい。
【００９８】
さらに、場合によりＳＯＦを含む被覆層はまた、接触荷電部材の表面に提供されてもよい。抵抗率をさらに調節するために、ＳＯＦは、コンポジットＳＯＦまたはキャップされたＳＯＦまたはこれらの組み合わせであってもよく、劣化を防止するために、ＳＯＦはそこに結合または添加される酸化防止剤を含むように調整されてもよい。
【００９９】
接触荷電部材の抵抗は、いずれかの所望の範囲、例えば約１００〜約１０１４Ωｃｍ、または約１０２〜約１０１２Ωｃｍであってもよい。電圧をこの接触荷電部材に適用する場合、ＤＣ電圧またはＡＣ電圧のいずれかは印加電圧として使用されてもよい。さらに、ＤＣ電圧およびＡＣ電圧の電圧印加がまた使用されてもよい。
【０１００】
接触荷電デバイスの、場合によりＳＯＦ、例えばコンポジットおよび／またはキャップされたＳＯＦを含む接触荷電部材は、ローラ、ブレード、ベルト、ブラシなどの形状であってもよい。
【０１０１】
接触タイプの転写荷電デバイスは、転写デバイスとして使用されてもよい。荷電ユニットは、バイアス荷電ロールであってもよい。洗浄デバイスは、洗浄ブレード、洗浄ブラシ、洗浄ロールなどであってもよい。洗浄ブレードのための材料としては、ＳＯＦまたはウレタンゴム、ネオプレンゴムおよびシリコーンゴムを挙げることができる。
【０１０２】
Ｍｙｌａｒ上にコーティングされたＳＯＦは、室温の水浴に含浸させることによって剥離させた。１０分間の浸漬後、ＳＯＦは一般にＭｙｌａｒ基材から剥がれる。このプロセスは、高い表面エネルギー（極性）を有することが既知の基材、例えばガラス、雲母、塩など上にコーティングされたＳＯＦを用いる場合に最も効率的である。
【実施例】
【０１０３】
実施例１：
（作業Ａ）反応混合物を含有する液体の調製。以下を組み合わせた。ビルディングブロックＮ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス−［（４−ヒドロキシメチル）フェニル］−ビフェニル−４，４’−ジアミン［セグメント＝Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラ−（ｐ−トリル）ビフェニル−４，４’−ジアミン，Ｆｇ＝ヒドロキシ（−ＯＨ），１．６０ｇ］、ビルディングブロックＮ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス−（３−ヒドロキシフェニル）−ビフェニル−４，４’−ジアミン［セグメント＝Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラフェニル−ビフェニル−４，４’−ジアミン，Ｆｇ−ヒドロキシル（−ＯＨ），４．８０ｇ］，添加剤Ｃｙｍｅｌ  ３０３（０．７０ｇ）、Ｓｉｌｃｌｅａｎ  ３７００（２００ｍｇ）、ＢＮＸ−ＴＡＨＱ（２５０ｍｇ）、触媒Ｎａｃｕｒｅ  ＸＰ−３５７（５００ｍｇ）、１−メトキシ−２−プロパノール（１７．７ｇ）。混合物をローリングウェーブ回転機で１０分間混合し、次いで、均一な溶液が得られるまで５０℃で６５分間加熱した。この混合物を上の回転機に入れ、室温まで冷却した。この溶液を０．４５μｍ  ＰＴＦＥ膜で濾過した。ＧＦ−４００（ＰＴＦＥ粒子について５％ｍ／ｍ，１２５ｍｇ）を１−メトキシ−２−プロパノール（７．５ｇ）に溶解し、次いでＰＴＦＥ粒子（２．５ｇ）を加え、２５℃で９０分間遠心分離処理することによって、２５％ＰＴＦＥ分散物を調製した。この分散物（１０ｇ）をＳＯＦ溶液に加えた。コーティング前に、反応混合物を室温で１時間撹拌した。
【０１０４】
（作業Ｂ）濡れたフィルムとしての反応混合物の堆積。反応混合物を、カップコーター（突き上げコーティング）を用い、引っ張り速度２００ｍｍ／分で市販の３０ｍｍドラム感光体に塗布した。
【０１０５】
（作業Ｃ）濡れたフィルムの乾燥ＳＯＦへの変化の促進。濡れた層を支持する感光体ドラムを、１５５℃に予熱された活性ベント型オーブンに素早く移し、４０分間加熱した。これらの作業により、厚みが５．９μｍの膜を得た。
【０１０６】
ＳＯＦ骨格内に取り込まれたＰＴＦＥ粒子を含むＳＯＦオーバーコート層でコーティングされたデバイスは、優れた電気特性（ＰＩＤＣ、Ｂゾーン）を有する。ＳＯＦ骨格内に取り込まれたＰＴＦＥ粒子を含むＳＯＦオーバーコート層でコーティングされた２種類のオーバーコートの設計（実施例１および２）に関するＢゾーンでの光放電曲線（ＰＩＤＣ）を図１に示し、標準的な感光体およびＰＴＦＥを含まない以外は同じ成分でオーバーコーティングされたドラム配合物（比較例１）と比較する。ＰＩＤＣ曲線は、ＰＴＦＥ粒子を含むＳＯＦオーバーコート層のＶｌｏｗが比較例１より小さいことを示している。
【０１０７】
上に詳細を記載した特定の配合物の損耗率は、ＰＴＦＥを含まない元々のオーバーコート配合物の損耗率が２６．３ｎｍ／キロサイクルであるのに対し、２６．８ｎｍ／キロサイクルであった。損耗率（促進型の感光体摩耗設備）：表面の摩耗をＸｅｒｏｘ  Ｆ４６９  ＣＲＵドラム／トナーカートリッジを用いて評価した。洗浄ブレードおよび１要素のトナーを用いたＦ４６９ＣＲＵにおいて５０，０００サイクル後、感光体の厚みの変化によって表面の摩耗を決定する。この厚みをＰｅｒｍａｓｃｏｐｅ  ＥＣＴ−１００を用い、長さ方向に沿ってコーティングの上端から１インチ間隔で測定する。記録したすべての厚み値を平均し、感光体デバイス全体の平均厚みを得た。５０，０００サイクル後の厚みの変化をナノメートル単位で測定し、キロサイクル数で割り、ナノメートル／キロサイクル単位での損耗率を得た。この促進型の感光体摩耗設備は、ゼログラフィーシステムで実際に使用される機械で観察される損耗率よりもかなり大きな損耗率を達成し、損耗率は、一般的に、ゼログラフィーシステムに依存するが、５〜１０倍低くなる。
【０１０８】
トルク設備は、トルク変換器を使用し、ＤＣ４００シリーズのＣＲＵ中、ブレードとＰ／Ｒドラムとの間のトルクを測定する。このシステムにトナーおよび現像剤を加え、機械内の状態を模倣する。この測定は、トルクの問題が最も頻繁に起こるＡゾーンで行う。トルクプロフィールの比較から、ＰＴＦＥ粒子を含むＳＯＦオーバーコート層が、標準的なドラム（機械内のトルクに関する問題は存在しない）に対し、非常に似た挙動を有することを示す。ＰＴＦＥ配合物を含まないＯＣＬは、高いトルクを記録し、最終的には、ブレードの欠陥を生じる（トルクプロフィールデータの軌跡において、大きな急上昇によって示されるような）。機械内のブレードの欠陥によって、Ｐ／Ｒからのトナーの洗浄が不十分となり、最終的に、縞模様のついた画像が得られる。
【０１０９】
実施例１と同様に、ただし、これらのＳＯＦ  ＯＣＬ配合物が、（ａ）７．５％の３００ｎｍ  ＰＴＦＥ粒子と、（ｂ）２５％の３００ｎｍ  ＰＴＦＥ  粒子とを含むように、改変されたＯＣＬ配合物を調製した。これらのＳＯＦ  ＯＣＬ配合物を市販のドラムにコーティングした。市販ドラム（底部層）のＣＴＬは、７．５％の３００ｎｍ  ＰＴＦＥ粒子を含む。ドラムのＳＥＭ画像から、７．５％のＰＴＦＥ粒子を含むＯＣＬが、ＣＴＬと同じＰＴＦＥ粒子分布を有し、一方、２５％のＰＴＦＥ粒子を含むＯＣＬは、密度が大きな分散したＰＴＦＥ粒子を明らかに含む。
【図１Ａ】
2014038325.tif 000008
【図１Ｂ】
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【図１Ｃ】
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【図１Ｄ】
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【図１Ｅ】
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【図１Ｆ】
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【図１Ｇ】
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【図１Ｈ】
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【図１Ｉ】
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【図１Ｊ】
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【図１Ｋ】
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【図１Ｌ】
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【図１Ｍ】
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【図１Ｎ】
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【図１Ｏ】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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