(57)【要約】【課題】被測定物の反射率が異なる領域の境界部分における変位量の測定誤差を低減する。【解決手段】被測定物に所定の照射長を有する帯状の光を照射する光源部と当該被測定物により反射された前記帯状の光を受光する受光部とを備え、当該受光部への前記反射された帯状の光の受光位置に基づいた複数の変位情報を出力する２次元変位センサと、前記複数の変位情報から前記被測定物の反射率が単一の箇所に対する変位情報のみ選択し出力する変位情報選択部と、前記変位情報選択部で選択された変位情報からそれぞれ変位量を算出し、この算出したそれぞれの変位量から前記被測定物の変位量を算出する変位算出部と、前記被測定物および前記２次元変位センサのうちの少なくともいずれか一方を相対的に前記被測定部の測定面に略平行に移動させる移動手段とを備える構成とした。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
被測定物（１００）に所定の照射長を有する帯状の光（２０）を照射する光源部（１１）と当該被測定物により反射された前記帯状の光を受光する受光部（１２）とを備え、当該受光部への前記反射された帯状の光の受光位置に基づいた複数の変位情報（３０）を出力する２次元変位センサ（１０）と、
前記複数の変位情報から前記被測定物の反射率が単一の箇所に対する変位情報のみ選択し出力する変位情報選択部（４０）と、
前記変位情報選択部で選択された変位情報からそれぞれ変位量を算出し、この算出したそれぞれの変位量から前記被測定物の変位量を算出する変位算出部（７０）と、
前記被測定物および前記2次元変位センサのうちの少なくともいずれか一方を相対的に前記被測定部の測定面に略平行に移動させる移動手段（５０）とを備えることを特徴とする変位測定装置。
【請求項２】
前記変位情報選択部（４０）は、予め定められた基準変位情報を記憶しており前記複数の変位情報のそれぞれと前記基準変位情報との相関値を算出し、この算出した相関値に基づき前記複数の変位情報から出力するべき変位情報を選択することを特徴とする請求項１に記載の変位測定装置。
【請求項３】
前記変位情報選択部（４０）は、前記複数の変位情報それぞれから受光した光量の総和である光量値情報を算出し、この算出した光量値情報に基づき前記複数の変位情報から出力するべき変位情報を選択することを特徴とする請求項１に記載の変位測定装置。
【請求項４】
被測定物に所定の照射長を有する帯状の光を照射し、当該被測定物により反射された前記帯状の光を受光し、当該反射された帯状の光の受光位置に基づいた複数の変位情報を出力する２次元変位センシング段階（Ｓ１０）と、
前記複数の変位情報から前記被測定物の反射率が単一の箇所に対する変位情報のみ選択し出力する変位情報選択段階（Ｓ２０）と、
前記変位情報選択段階で選択された変位情報からそれぞれ変位量を算出し、この算出したそれぞれの変位量から前記被測定物の変位量を算出する変位算出段階（Ｓ３０）と、
前記被測定物および前記被測定物に照射する前記帯状の光のうちの少なくともいずれか一方を相対的に前記被測定部の測定面に略平行に移動させる移動段階（Ｓ４０）とを備えたことを特徴とする変位測定方法。
【請求項５】
前記変位情報選択段階（Ｓ２０）は、前記複数の変位情報のそれぞれと予め定められた基準変位情報との相関値を算出する段階と、この算出した相関値に基づき前記複数の変位情報から出力するべき変位情報を選択する段階とを備えることを特徴とする請求項４に記載の変位測定方法。
【請求項６】
前記変位情報選択段階（Ｓ２０）は、前記複数の変位情報それぞれから受光した光量の総和である光量値情報を算出する段階と、この算出した光量値情報に基づき前記複数の変位情報から出力するべき変位情報を選択する段階とを備えることを特徴とする請求項４に記載の変位測定装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、被測定物の測定面の変位量を非接触で測定できる変位測定装置および変位測定方法に関し、特に、被測定物の測定面において反射率の異なる領域の境界部分の変位量の測定誤差を低減することができる変位測定装置および変位測定方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
被測定物の測定点にレーザ等の光を照射し、三角測量の原理を適用して被測定物の測定点からの反射光を受光素子に結像し、受光素子の結像状態に基づいて被測定物の測定点の変位量を測定し、さらに被測定物上の光の照射位置（測定点）を移動させながら変位を測定する変位測定装置がある。
【０００３】
この種の変位測定装置の用途として、被測定物の表面の反りやうねりの測定や、被測定物の表面との距離を測定するといった用途がある。また、被測定物の一例として、液晶表示パネルに使用されるガラス基板がある。
【０００４】
液晶表示パネルを製造するにあたっては、所定の大きさに切除された２枚のガラス基板の一方の外周部分に対し、ノズルから接着剤を噴射して塗布し、２枚のガラス基板の距離を一定に保ってその外周部分を接着剤で貼り合わせた後、２枚のガラス基板間の空間部分に液晶が注入される。
【０００５】
このとき、ガラス基板の外周部分に対し、一定量の接着剤を噴射して塗布する必要があるが、ノズルとガラス基板との距離を一定に制御することにより塗布量を一定とすることが可能となる。
【０００６】
そこで、液晶表示パネルの製造装置に変位測定装置を採用し、ノズルとガラス基板との距離を変位測定装置で測定し、その測定結果によりノズルとガラス基板の距離が一定となるように制御することが行われている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２００７−０２９９１９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
液晶表示装置パネルのガラス基板には、ＴＦＴ基板とカラーフィルタ基板があり、基板上に配線パタンが存在する。配線パタンは金属膜蒸着のため、配線パタンが蒸着された部分と配線パタンが無いガラス部分との間に変位測定上実質的な段差はない。しかしながら、特許文献１に開示される従来の変位測定装置では、ガラス部分と配線パタンの境界で誤った変位の測定結果を出力してしまうことがある。
【０００９】
特許文献１に開示される従来の変位測定装置では、被測定物の測定点には点状の光が照射される。このとき、ガラス部分に対し配線パタンの金属膜部分は光の反射率が高いが、被測定物の測定点からの反射光を受光素子で受ける際、受光素子上の結像状態は被測定物の反射状態の影響を受ける。そのため図２に示す様なガラス部分２００と配線パタン２０１の境界部分（反射率が異なる領域の境界部分、以降、明暗境界とも言う。）２０２に測定点（点と表記するが所定の面積を持つ。以下同じ。）２０３がある場合には明部（配線パタン）２０１と暗部（ガラス部分）２００の両方の反射状態の影響を受けた複雑な結像状態となる。特許文献１に開示される従来の変位測定装置では、反射光の光量の重心（受光素子上の結像状態の重心）を変位の測定結果としている。そのため、受光素子上の結像状態が被測定物の反射状態の影響を受けてしまうと、段差があるかのような誤った測定結果を出力するということが起きてしまっていた。
【００１０】
特許文献１に開示される従来の変位測定装置を液晶表示パネルの製造装置に適用した場合、ガラス部分と配線パタンの境界部分でノズルとガラス基板との距離が誤って測定されると誤った測定結果に基づいてノズルとガラス基板の距離が制御されてしまう。その結果、実際にはノズルとガラス基板の距離が一定とならず、一定量の接着剤を噴射して塗布することが行えなくなる。
【００１１】
そこで従来の変位測定装置では、被測定物に照射するレーザ等の光学系を調整して光スポットの径をできるだけ小さくすることにより測定点の面積を小さくし、ガラス部分と配線パタンの両方からの反射光を受光しないようにすることも行われていたが、その調整は非常に手間のかかるものであった。
【００１２】
また、従来の変位測定装置では、測定結果に時間的な平均処理を施すことも行われていた。ガラス部分と配線パタンの境界を横切って変位を測定する場合には測定値に時間的な平均処理を行うことは効果が高いが、図３のようにガラス部分２００と配線パタン２０１の明暗境界２０２に沿って変位を測定（測定点２０３が移動）する場合には測定値に時間的な平均化処理を行っても効果はあまりない。
【００１３】
本発明は、これらの課題を解決し、被測定物の測定面の変位量を非接触で測定できる変位測定装置および変位測定方法に関し、特に、被測定物の測定面において反射率の異なる領域の境界部分（明暗境界）の変位量の測定誤差を低減することができる変位測定装置および変位測定方法を提供することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
前記目的を達成するために、本発明の請求項１の変位測定装置は、
被測定物１００に所定の照射長を有する帯状の光２０を照射する光源部１１と当該被測定物により反射された前記帯状の光を受光する受光部１２とを備え、当該受光部への前記反射された帯状の光の受光位置に基づいた複数の変位情報３０を出力する２次元変位センサ１０と、
前記複数の変位情報から前記被測定物の反射率が単一の箇所に対する変位情報のみ選択し出力する変位情報選択部４０と、
前記変位情報選択部で選択された変位情報からそれぞれ変位量を算出し、この算出したそれぞれの変位量から前記被測定物の変位量を算出する変位算出部７０と、
前記被測定物および前記2次元変位センサのうちの少なくともいずれか一方を相対的に前記被測定部の測定面に略平行に移動させる移動手段５０とを備えることを特徴とする。
【００１５】
また、本発明の請求項２の変位測定装置は、請求項１記載の変位測定装置において、
前記変位情報選択部４０は、予め定められた基準変位情報を記憶しており前記複数の変位情報のそれぞれと前記基準変位情報との相関値を算出し、この算出した相関値に基づき前記複数の変位情報から出力するべき変位情報を選択することを特徴とする。
【００１６】
また、本発明の請求項３の変位測定装置は、請求項１記載の変位測定装置において、
前記変位情報選択部４０は、前記複数の変位情報それぞれから受光した光量の総和である光量値情報を算出し、この算出した光量値情報に基づき前記複数の変位情報から出力するべき変位情報を選択することを特徴とする。
【００１７】
また、本発明の請求項４の変位測定方法は、
被測定物に所定の照射長を有する帯状の光を照射し、当該被測定物により反射された前記帯状の光を受光し、当該反射された帯状の光の受光位置に基づいた複数の変位情報を出力する２次元変位センシング段階Ｓ１０と、
前記複数の変位情報から前記被測定物の反射率が単一の箇所に対する変位情報のみ選択し出力する変位情報選択段階Ｓ２０と、
前記変位情報選択段階で選択された変位情報からそれぞれ変位量を算出し、この算出したそれぞれの変位量から前記被測定物の変位量を算出する変位算出段階Ｓ３０と、
前記被測定物および前記被測定物に照射する前記帯状の光のうちの少なくともいずれか一方を相対的に前記被測定部の測定面に略平行に移動させる移動段階Ｓ４０とを備えたことを特徴とする。
【００１８】
また、本発明の請求項５の変位測定方法は、請求項４記載の変位測定方法において、
前記変位情報選択段階Ｓ２０は、前記複数の変位情報のそれぞれと予め定められた基準変位情報との相関値を算出する段階と、この算出した相関値に基づき前記複数の変位情報から出力するべき変位情報を選択する段階とを備えることを特徴とする。
【００１９】
また、本発明の請求項６の変位測定方法は、請求項４記載の変位測定方法において、
前記変位情報選択段階Ｓ２０は、前記複数の変位情報それぞれから受光した光量の総和である光量値情報を算出する段階と、この算出した光量値情報に基づき前記複数の変位情報から出力するべき変位情報を選択する段階とを備えることを特徴とする。
【発明の効果】
【００２０】
本発明の変位測定装置および変位測定方法は、変位センサの光源部から所定の照射長を有する帯状の光を照射し、被測定物より反射された光を２次元イメージセンサによる受光部により受光した２次元変位センサの出力のうち、被測定物の反射率が単一の箇所に対する変位情報のみ選択して被測定物の変位を測定するので、被測定物の測定面において反射率の異なる領域との境界部分の変位量の測定誤差を低減することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２１】
【図１】本発明の実施形態の構成を示す図
【図２】明暗境界に測定点がある場合を示す図
【図３】明暗境界を測定点が移動した場合を示す図
【図４】光源部から照射される光のイメージを示す図
【図５】帯状ビームが明暗境界を照射した場合を示す図
【図６】単一の反射率の箇所に対する変位情報を示す図
【図７】反射率が異なる領域の境界部分（明暗境界）の箇所に対する変位情報を示す図
【図８】被測定物と光変位センサとの相対的な移動方向と光源部から照射される帯状ビームとの関係を示す図
【図９】本発明の測定方法のフローを示す図
【発明を実施するための最良の形態】
【００２２】
図１は、本発明の変位測定装置１を示す構成図である。変位測定装置１は２次元変位センサ１０、変位情報選択部４０、変位算出部７０、移動手段５０を備えて構成される。
【００２３】
２次元変位センサ１０は、光源部１１と受光部１２を備えて構成され、光源部１１からはレーザ光等の帯状の光２０が被測定物１００に照射され、被測定物１００で反射された光は２次元イメージセンサである受光部１２で受光される。
【００２４】
光源部１１から照射される帯状の光（以降、帯状ビームとも言う）２０が被測定物１００表面に照射されたときのイメージを図４（ｂ）に示す。図４（ａ）上段は、従来の点状の光（以降、点状ビームとも言う）１９が光源部１１から照射され、被測定物１００で反射され受光部１２に入射するイメージを示す。図４（ａ）下段は、被測定物の表面に点状ビーム１９が照射されたときのイメージ２０３を示している。
【００２５】
図４（ｂ）の上段は、本発明の帯状の光２０が光源部１１から照射され、被測定物１００で反射され受光部１２に入射するイメージを示す。図４（ｂ）の下段は、被測定物１００の表面に所定の照射長２０ｂを有する帯状ビーム２０が照射されたときのイメージ２０ａを示している。図４（ｂ）は、あくまでイメージであり、後述するように帯状ビーム２０は、1点ではなく、多点が同時に測定（照射）できるよう広がったビームであれば良い。
【００２６】
従来は、光源部１１から照射されるのは点状ビーム１９であり、受光部１２は１次元イメージセンサ、または位置検出素子（ＰＳＤ：Ｐｏｓｉｔｉｏｎ  Ｓｅｎｓｉｔｉｖｅ  Ｄｅｖｉｃｅ）であったため1点（所定の面積を持つ範囲）のみ測定であった。それに対し本発明では、光源部１１から照射されるのは帯状ビーム２０であり、受光部１２は２次元イメージセンサであるため同時に帯状ビーム２０の照射された範囲（２０ａ）にある多点の測定が行える。
【００２７】
光源部１１では、レーザダイオード等の発光素子からの光をレンズ等により帯状に広げて帯状ビーム２０として照射する。本発明の変位測定装置を液晶表示パネルの製造装置に適用した場合、帯状ビーム２０の一例としては照射長２０ｂ約１ｍｍ、照射幅約３０μｍのビームが使用される。
【００２８】
受光部１２の２次元イメージセンサとしては、ＣＣＤやＣＭＯＳイメージセンサが利用される。２次元イメージセンサはセンサ上の光の入射位置に基づいた信号を出力するが、このセンサ上の光の入射位置は被測定物１００の変位により変わる。帯状ビーム２０の照射された範囲にある多点のそれぞれの測定結果が複数の変位情報３０として２次元イメージセンサ（受光部１２）より出力される。つまり、複数の変位情報３０は２次元イメージセンサの出力である。この複数の変位情報３０を後述する変位算出部７０で演算処理することにより被測定物１００の変位を算出できる。
【００２９】
帯状ビーム２０の照射された範囲にある多点の測定結果である複数の変位情報３０が２次元変位センサ１０から出力され後述する変位情報選択部４０に入力される。
【００３０】
移動手段５０は、被測定物１００および２次元変位センサ１０の少なくともいずれか一方を相対的に被測定物の測定面に略平行に移動させる。本発明の変位測定装置を液晶表示パネルの製造装置に適用した場合、ノズルと２次元変位センサ１０が一緒に移動するよう固定する。製造装置の備える移動機構によりノズルが被測定物１００であるガラス基板に対して移動すると、ノズルの移動に伴って２次元変位センサ１０も被測定物１００に対して移動する。この場合、液晶表示パネル製造装置のノズルの移動機構が移動手段５０となる。２次元変位センサ１０の移動する方向と光源部１１から照射される帯状ビーム２０の関係については後述する。
【００３１】
変位情報選択部４０は、２次元変位センサ１０から入力される複数の変位情報３０から被測定物１００の反射率が単一の箇所に対する変位情報のみ選択し後述する変位算出部７０へ出力し、被測定物１００の反射率が単一でない箇所に対する変位情報は変位算出部７０へ出力せず廃棄する。ここで図５の様に、所定の照射長を有する帯状ビーム２０が反射率が異なる領域の境界部分である明暗境界２０２を照射した場合、帯状ビーム２０の照射長方向の中央部分は明部２０１と暗部２００の両方の反射状態の影響を受けている。しかしながら、中央部分以外の両端に近い部分は明部２０１もしくは暗部２００どちらかの反射状態の影響しか受けていない。変位情報選択部４０は後述する方法により、２次元光変位センサ１０から入力される複数の変位情報３０から、暗部２００もしくは明部２０１どちらかの反射状態の影響しか受けていない変位情報（単一の反射率の箇所に対する変位情報）３０のみ選択し変位算出部７０へ出力する。
【００３２】
暗部２００もしくは明部２０１どちらかの反射状態の影響しか受けていない変位情報（単一の反射率の箇所に対する変位情報）３０の選択方法について説明する。選択方法の一つの例は、変位情報選択部４０に予め定められた基準となる変位情報（基準変位情報）が記憶されるようになっており、その記憶された基準変位情報と複数の変位情報３０のそれぞれとの相関値を算出し、この算出した相関値に基づき複数の変位情報３０から変位算出部７０へ出力する変位情報３０を選択する方法である。図６に単一の反射率（明部（ａ）、暗部（ｂ））の箇所に対する変位情報３０の例を示す。図６に示すように単一の反射率（明部（ａ）、暗部（ｂ））の箇所に対する変位情報３０はガウス分布となる。ただし、光量値（Ｙ軸方向）の最大値は明部と暗部の反射率のちがいによって異なる。一方、反射率が異なる領域の境界部分（明暗境界）２０２の箇所に対する変位情報３０の例を図７に示す。図７に示すように変位情報３０は単一の反射率の箇所に対する変位情報３０の様なガウス分布とならず複雑な分布となる。
【００３３】
この様に、単一の反射率（明部もしくは暗部のどちらか）の箇所に対する変位情報３０はガウス分布となり、反射率が異なる領域の境界部分（明暗境界）２０２の箇所に対する変位情報３０はガウス分布とならず複雑な分布となる。そこで、単一の反射率（明部もしくは暗部のどちらか）の箇所に対する変位情報３０の最大光量値を正規化した理想的な変位情報を基準変位情報として記憶し、この記憶された基準変位情報と、同じく最大光量値を正規化した測定の結果得られた複数の変位情報３０それぞれとの相関値を算出する。相関値が大きい変位情報３０は単一の反射率（明部もしくは暗部のどちらか）の箇所に対する変位情報３０であり、相関値が小さい変位情報３０は反射率が異なる領域の境界部分（明暗境界）２０２の箇所に対する変位情報３０であると判断する。変位情報選択部４０では、記憶された基準変位情報と複数の変位情報３０の相関値をそれぞれ算出し、予め定められた値以上の相関値となる変位情報３０のみを単一の反射率（明部もしくは暗部のどちらか）の箇所に対する変位情報３０とみなして選択し変位算出部７０へ出力し、予め定められた値未満の相関値となる変位情報３０は明暗境界２０２の箇所に対する変位情報３０と判断して変位算出７０へ出力せず廃棄する。
【００３４】
別な選択方法の例は、複数の変位情報３０それぞれについて受光した光量の総和である光量値情報を算出し、この算出した光量値情報に基づき出力する変位情報３０を選択する方法である。複数の変位情報３０それぞれから受光した光量の総和（光量値情報）を算出すると、反射率が異なる領域の境界部分（明暗境界）２０２の箇所に対する光量値情報は、明部の箇所の光量値情報（大）と暗部の箇所の光量値情報（小）の中間の値となる。
【００３５】
変位情報選択部４０では、例えば、複数の変位情報３０それぞれから受光した光量の総和である光量値情報を算出し、光量値情報が予め定められた値（明部閾値）以上もしくは予め定められた値（暗部閾値）以下となる変位情報３０のみを単一の反射率（明部もしくは暗部のどちらか）の箇所に対する変位情報３０とみなして選択し変位算出部７０へ出力し、光量値情報が暗部閾値より大きく明部閾値より小さい値となる変位情報３０は明暗境界２０２の箇所に対する変位情報３０と判断して変位算出部７０へ出力せず廃棄する。あるいは、隣接する変位情報３０より算出した光量値情報を比較し、その差が予め定められた値以下の変位情報３０のみを単一の反射率（明部もしくは暗部のどちらか）の箇所に対する変位情報３０とみなして選択し変位算出部７０へ出力するようにする。
【００３６】
変位算出部７０は、変位情報選択部４０から出力される複数の変位情報３０に基づき、被測定物１００の変位量を算出し出力する。複数の変位情報３０のそれぞれは、帯状ビーム２０の照射された範囲にある複数点の変位の情報である。変位演算部３０では、誤差を低減するための演算処理を行って帯状ビーム２０が照射された複数点の変位量を出力する。
【００３７】
演算処理の具体例を説明する。演算処理の１つの例は、複数の変位情報３０のそれぞれを光量値のピークを検出する手法や、光量値の重心を検知する手法などの周知の手法により変位量に変換し、それらの平均値を複数点の変位量とする処理である。それぞれの測定に誤差が含まれていた場合でも、平均処理を行う事により測定誤差が低減できる。
【００３８】
演算処理の他の例は、複数の変位情報３０のそれぞれを変位量に変換し、それら複数の変位の中央の値を複数点の変位量とする処理である。実際の変位より大きな変位量や小さな変位量が含まれていたとしても、中央の値を選択することにより除外されるので測定誤差が低減できる。
【００３９】
なお、変位算出部７０で、複数の変位情報３０をそれぞれ変位量に変換し、平均処理や中央の値の選択といった処理を行わず複数点の変位量として出力することも可能である。
【００４０】
次に、２次元変位センサ１０の移動する方向と光源部１１から照射される帯状ビーム２０の関係について説明する。ここでは被測定物１００が固定され、前述した移動手段５０により２次元変位センサ１０を移動させながら測定をする場合で説明する。
【００４１】
被測定物１００が工業製品である場合、被測定物１００の測定面において反射率の異なる領域の境界部分（明暗境界）は、２次元変位センサ１０が被測定物１００の測定面に対して略平行に移動する方向に対して、一般的に平行、垂直、左右４５度となる場合が多い。例えば、液晶表示パネルの場合、方形のガラス基板の表面に蒸着されるＴＦＴ基板やカラーフィルタなどの配線パタンは、ガラス基板の外周に対して、平行、垂直、斜め４５度となる場合が多い。
【００４２】
本発明の変位測定装置１を液晶表示パネルの製造装置に適用した場合、方形のガラス基板の外周部分に沿ってノズルから接着剤を噴射して塗布するため、ノズルは方形のガラス基板の外周に沿って移動する。従って、ノズルと被測定物１００であるガラス基板との距離を測定するため２次元変位センサ１０もノズルとともにガラス基板の外周に沿って移動することになる。
【００４３】
図８（ａ）の様に方形のガラス基板の外周に沿って、平行に配線パタン２０１が蒸着されていて、この配線パタン２０１（図中、白色で示す場所）とガラス部分２００の境界２０２に沿ってノズル２０４が接着剤を噴射しつつ移動（Ｘ１→Ｙ１→Ｘ２→Ｙ２）して塗布する場合を考える。このとき、ノズル２０４と一緒に移動するよう固定された２次元変位センサ１０は明暗境界２０２に沿って移動（Ｘ１→Ｙ１→Ｘ２→Ｙ２）することになる。光源部１１からは図８（ｂ）の様に明暗境界２０２と交差するように帯状ビーム２０が照射されるのがより良い。この理由を次に説明する。
【００４４】
光源部１１から図８（ｂ）の様に明暗境界２０２と帯状ビーム２０（イメージとして２０ａ）の照射長方向を示す仮想の延長線２０ｃが所定の角度を有して交差するように帯状ビーム２０が照射された場合、帯状ビーム２０の一部は明暗境界２０２で反射され受光部１２に入射するが、残りは明暗境界２０２ではなく配線パタン（明部）２０１もしくはガラス部分（暗部）２００で反射され受光部１２に入射する。この結果、２次元変位センサ１０から出力される複数の変位情報３０の一部は明暗境界２０２の変位情報３０となり誤った変位を示す。しかし、その他の変位情報は、明部２０１のみもしくは暗部２００のみ変位の情報であり、正しい変位を示すので、変位情報選択部４０および変位算出部７０で前述したような処理を行う事で測定誤差を低減することが出来る。
【００４５】
前述したように、被測定物１００が工業製品である場合、被測定物１００の測定面において反射率の異なる領域の境界部分（明暗境界）２０２は、２次元変位センサ１０が移動する方向に対して、一般的に平行、垂直、左右４５度となる場合が多いので、帯状ビーム２０の照射長方向は２次元変位センサ１０が移動する方向と斜めに交差するように角度を有することで測定誤差を低減する効果が得られる。特にこの交差する角度は、０度より大きく４５度未満もしくは４５度より大きく９０度未満の角度で２次元変位センサ１０が移動する方向と帯状ビーム２０の照射長方向とが斜めに交差するように光源部１１から照射するのが好適である。
【００４６】
次に、本発明の変位測定方法について図９を用いて説明する。
被測定物１００に帯状の光２０を照射し、被測定物１００で反射された帯状の光を受光する。そして被測定物１００で反射された帯状の光２０の受光位置に基づいた複数の変位情報を出力する（２次元変位センシング段階（Ｓ１０））。
【００４７】
次に、２次元変位センシング段階Ｓ１０で出力された複数の変位情報３０から被測定物１００の反射率が単一の箇所に対する変位情報のみ選択し出力する（変位情報選択段階（Ｓ２０））。ここで、暗部２００もしくは明部２０１どちらかの反射状態の影響しか受けていない変位情報（単一の反射率の箇所に対する変位情報）３０は既に説明した方法により選択する。
【００４８】
次に、変位情報選択段階Ｓ２０で選択され出力された複数の変位情報３０に基づき、被測定物１００の変位量を算出し出力する（変位算出段階（Ｓ３０））。複数の変位情報３０のそれぞれは、帯状ビーム２０が照射された範囲にある複数点の変位の情報である。変位算出段階Ｓ３０では、すでに説明した方法により誤差を低減するための演算処理を行って帯状ビーム２０が照射された範囲にある複数点の変位量を出力する。なお、誤差を低減するための演算処理を行わず複数点の変位量として出力することも可能である。
【００４９】
次に、被測定物１００および被測定物に照射する帯状の光２０の少なくともいずれか一方を相対的に移動させる（移動段階（Ｓ４０））。
【００５０】
次に、測定終了の位置まで移動したかを判断し、終了でなければ（Ｎ）２次元変位センシング段階（Ｓ１０）に戻り測定を継続、終了と判断されたら（Ｙ）測定を終了する。
【００５１】
本発明の変位測定装置および変位測定方法を液晶表示パネルの製造装置に適用した場合、ガラス部分と配線パタンの境界部分でのノズルとガラス基板との距離の測定誤差が低減されることにより、ノズルからガラス基板へより一定量の接着剤を噴射して塗布することが行えるようになる。
【符号の説明】
【００５２】
１…変位測定装置、１０…２次元変位センサ、１１…光源部、１２…受光部、１９…点状ビーム、２０…帯状の光（帯状ビーム）、２０ａ…帯状の光の照射イメージ、２０ｂ…帯状の光の照射長、２０ｃ…帯状の光の照射長方向を示す仮想の延長線、３０…変位情報、４０…変位情報選択部、７０…変位算出部、２００…暗部、ガラス部分、２０１…明部、配線パタン、２０２…明暗境界、２０３…測定点、２０４…ノズル
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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