(57)【要約】【課題】アーク放電の発生を正確に検知することができるプラズマ処理装置を提供する。【解決手段】プラズマを用いて基板Ｇに処理を施すプラズマ処理装置１０は、高周波電力が供給されて内部にプラズマが生じるチャンバ１１と、高周波電力の進行波電圧Ｖｆを時間的に微分する第１の微分回路２１と、高周波電力の反射波電圧Ｖｒを時間的に微分する第２の微分回路２３と、ｄＶｒ／ｄｔ  −  ｄＶｆ／ｄｔを算出し、該算出されたｄＶｒ／ｄｔ  −  ｄＶｆ／ｄｔがアーク放電検出値を上回る場合にチャンバ１１内でアーク放電が発生したと判定して信号を送信するコンパレータ２２と、ｄＶｆ／ｄｔが負となる場合、ｄＶｒ／ｄｔ  −  ｄＶｆ／ｄｔが小さくなるように、ｄＶｆ／ｄｔを０にするダイオード２５とを備える。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
高周波電力が供給される処理室を備え、前記処理室内にプラズマを生じさせて該プラズマを用いて被処理体に処理を施すプラズマ処理装置であって、
前記処理室へ向かう高周波電力の進行波電圧を時間的に微分する第１の時間微分部と、
前記処理室から戻る高周波電力の反射波電圧を時間的に微分する第２の時間微分部と、
前記反射波電圧の時間微分値及び前記進行波電圧の時間微分値の差分に対応する値を算出し、該算出された差分に対応する値が所定の閾値を上回る場合に前記処理室内でアーク放電が発生したと判定する判定部と、
前記進行波電圧の時間微分値が負となる場合、前記差分に対応する値が所定の閾値よりも小さくなるように、少なくとも前記反射波電圧の時間微分値及び前記進行波電圧の時間微分値のいずれかを変更する微分値変更部とをさらに備えることを特徴とするプラズマ処理装置。
【請求項２】
前記判定部は、前記進行波電圧の時間微分値が入力される第１の入力部と、前記反射波電圧の時間微分値が入力される第２の入力部とを有し、
前記微分値変更部は、少なくとも第１の入力部及び第２の入力部のいずれかに接続されることを特徴とする請求項１記載のプラズマ処理装置。
【請求項３】
前記差分に対応する値は、前記反射波電圧の時間微分値から前記進行波電圧の時間微分値を差し引いた値であることを特徴とする請求項１又は２記載のプラズマ処理装置。
【請求項４】
前記微分値変更部は、前記進行波電圧の時間微分値が負となる場合、前記進行波電圧の時間微分値を０とすることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載のプラズマ処理装置。
【請求項５】
前記微分値変更部はダイオードからなることを特徴とする請求項４記載のプラズマ処理装置。
【請求項６】
前記微分値変更部は、前記進行波電圧の時間微分値が負となる場合、前記進行波電圧の時間微分値の絶対値を小さくすることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載のプラズマ処理装置。
【請求項７】
前記微分値変更部は、前記進行波電圧の時間微分値が負となる場合、前記反射波電圧の時間微分値を小さくすることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載のプラズマ処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、アーク放電の発生を防止するプラズマ処理装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
高周波電力を供給して発生させたプラズマを用いて基板、例えば、ＦＰＤの製造に用いられるガラス基板や半導体ウエハに所定の処理を施すプラズマ処理装置では、プラズマが発生する処理室内においてアーク放電が発生することがある。アーク放電が持続すると処理室内の部品、ガラス基板や半導体ウエハに損傷を与えるおそれがあるために、アーク放電の発生が検知されたらプラズマを生成するための高周波電力の供給を速やかに停止する必要がある。
【０００３】
アーク放電が発生すると高周波電力の反射波電圧にピークが発生するため、反射波電圧をモニタし、ピークの発生を検知すると高周波電力の供給を遮断することが一般的に行われている。
【０００４】
高周波電力の供給形態は、所定の処理の内容に応じて様々な形態があるが、従来、供給形態が変化する形態としては、供給される高周波電力を段階的に増大させていく形態が主流であった。
【０００５】
ところで、高周波電力を段階的に増大させていく際、進行波電圧も増加するが、この場合、マッチング回路によって進行波電圧と反射波電圧のインピーダンスの整合が取れるまで、反射波電圧にピークが発生することがある。
【０００６】
そこで、進行波電圧の増加に起因する反射波電圧のピークの発生を、アーク放電の発生に起因する反射波電圧のピークの発生と誤認しないように、通常、下記式が成立する場合にアーク放電の発生に起因する反射波電圧のピークが発生したと判定する（例えば、特許文献１参照。）。
ｄＶｒ／ｄｔ  −  ｄＶｆ／ｄｔ  ＞  アーク放電検出値
ここで、Ｖｒは反射波電圧であり、Ｖｆは進行波電圧であり、アーク放電検出値は予め設定される所定の閾値である。
【０００７】
上記式では、進行波電圧が増加する場合、ｄＶｒ／ｄｔ  −  ｄＶｆ／ｄｔの値が小さくなるため、進行波電圧の増加に起因する反射波電圧のピークが発生しても、上記式は殆ど成立しない。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】国際公開第０３／０３７０４７号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
ところで、近年、プラズマ処理の複雑化に伴い、高周波電力（進行波電圧）の増加だけでなく、図７に示すように、進行波電圧の低下を伴う高周波電力の供給形態が求められるようになっている。
【００１０】
進行波電圧が低下する場合にも、マッチング回路によって進行波電圧と反射波電圧のインピーダンスの整合が取れるまで、反射波電圧にピークが発生することがあるが、このとき、上記式のｄＶｆ／ｄｔが負の値となるため、ｄＶｒ／ｄｔ  −  ｄＶｆ／ｄｔの値が過剰に大きくなって上記式が成立し、アーク放電の発生に起因する反射波電圧のピークが発生したと誤って判定されるおそれがある。
【００１１】
アーク放電検出値を大きくすれば、上述した誤判定の可能性は低下するが、さほど強くないアーク放電の発生に起因する反射波電圧のピークが発生するのみであって、ｄＶｒ／ｄｔが大きくならない場合、アーク放電の発生を検知することができなくなるおそれがある。
【００１２】
本発明の目的は、アーク放電の発生を正確に検知することができるプラズマ処理装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
上記目的を達成するために、請求項１記載のプラズマ処理装置は、高周波電力が供給される処理室を備え、前記処理室内にプラズマを生じさせて該プラズマを用いて被処理体に処理を施すプラズマ処理装置であって、前記処理室へ向かう高周波電力の進行波電圧を時間的に微分する第１の時間微分部と、前記処理室から戻る高周波電力の反射波電圧を時間的に微分する第２の時間微分部と、前記反射波電圧の時間微分値及び前記進行波電圧の時間微分値の差分に対応する値を算出し、該算出された差分に対応する値が所定の閾値を上回る場合に前記処理室内でアーク放電が発生したと判定する判定部と、前記進行波電圧の時間微分値が負となる場合、前記差分に対応する値が所定の閾値よりも小さくなるように、少なくとも前記反射波電圧の時間微分値及び前記進行波電圧の時間微分値のいずれかを変更する微分値変更部とをさらに備えることを特徴とする。
【００１４】
請求項２記載のプラズマ処理装置は、請求項１記載のプラズマ処理装置において、前記判定部は、前記進行波電圧の時間微分値が入力される第１の入力部と、前記反射波電圧の時間微分値が入力される第２の入力部とを有し、前記微分値変更部は、少なくとも第１の入力部及び第２の入力部のいずれかに接続されることを特徴とする。
【００１５】
請求項３記載のプラズマ処理装置は、請求項１又は２記載のプラズマ処理装置において、前記差分に対応する値は、前記反射波電圧の時間微分値から前記進行波電圧の時間微分値を差し引いた値であることを特徴とする。
【００１６】
請求項４記載のプラズマ処理装置は、請求項１乃至３のいずれか１項に記載のプラズマ処理装置において、前記微分値変更部は、前記進行波電圧の時間微分値が負となる場合、前記進行波電圧の時間微分値を０とすることを特徴とする。
【００１７】
請求項５記載のプラズマ処理装置は、請求項４記載のプラズマ処理装置において、前記微分値変更部はダイオードからなることを特徴とする。
【００１８】
請求項６記載のプラズマ処理装置は、請求項１乃至３のいずれか１項に記載のプラズマ処理装置において、前記微分値変更部は、前記進行波電圧の時間微分値が負となる場合、前記進行波電圧の時間微分値の絶対値を小さくすることを特徴とする。
【００１９】
請求項７記載のプラズマ処理装置は、請求項１乃至３のいずれか１項に記載のプラズマ処理装置において、前記微分値変更部は、前記進行波電圧の時間微分値が負となる場合、前記反射波電圧の時間微分値を小さくすることを特徴とする。
【発明の効果】
【００２０】
本発明によれば、進行波電圧の時間微分値が負となる場合、高周波電力の反射波電圧の時間微分値及び進行波電圧の時間微分値の差分に対応する値が小さくなるように、少なくとも反射波電圧の時間微分値及び進行波電圧の時間微分値のいずれかが変更されるので、算出された差分に対応する値が所定の閾値を上回りにくくなる。これにより、進行波電圧の減少に起因する反射波電圧のピークが発生しても、アーク放電の発生に起因する反射波電圧のピークが発生したと誤って判定されることが抑制され、もって、アーク放電の発生を正確に検知することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２１】
【図１】本発明の実施の形態に係るプラズマ処理装置の構成を概略的に示す図である。
【図２】図１のプラズマ処理装置で実行される進行波電圧の時間微分値の変更処理を説明するための図である。
【図３】図１のプラズマ処理装置の第１の変形例の構成を概略的に示す図である。
【図４】図３のプラズマ処理装置で実行される進行波電圧の時間微分値の変更処理を説明するための図である。
【図５】図１のプラズマ処理装置の第２の変形例の構成を概略的に示す図である。
【図６】図５のプラズマ処理装置で実行される反射波電圧の時間微分値の変更処理を説明するための図である。
【図７】複雑化したプラズマ処理に伴う高周波電力の供給形態を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００２２】
以下、本発明の実施の形態について図面を参照しながら説明する。
【００２３】
図１は、本発明の実施の形態に係るプラズマ処理装置の構成を概略的に示す図である。
【００２４】
図１において、プラズマ処理装置１０は、内部が減圧される直方体状のチャンバ１１（処理室）と、高周波電源１２とを備え、チャンバ１１は、底部に配置された台状のサセプタ１３と、天井部に配置されたシャワーヘッド１４とを内部に有し、高周波電源１２はサセプタ１３に接続されて該サセプタ１３へ高周波電力を供給する。サセプタ１３は下部電極として機能し、シャワーヘッド１４は上部電極として機能する。これにより、サセプタ１３及びシャワーヘッド１４の間の処理空間Ｓにサセプタ１３へ供給された高周波電力を印加することができる。
【００２５】
チャンバ１１では、サセプタ１３へ被処理体としてのガラス基板（以下、単に「基板」という。）Ｇが載置され、シャワーヘッド１４が内部の処理空間Ｓへ処理ガスを導入するとともに、サセプタ１３が処理空間Ｓへ高周波電力を印加して処理空間Ｓにおいて処理ガスからプラズマを生じさせる。このプラズマ中のイオンやラジカルは基板Ｇへ到達して該基板Ｇへ所定のプラズマ処理、例えば、ドライエッチング処理を施す。
【００２６】
チャンバ１１及び高周波電源１２の間には、チャンバ１１側から順に、直流カットキャパシタ１５、マッチング回路１６、同軸ケーブル１７及び電力計１８が介在し、高周波電流供給路を形成する。高周波電流供給路において、電力計１８は高周波電源１２からサセプタ１３へ供給される高周波電力の進行波電圧Ｖｆ及び反射波電圧Ｖｒを測定し、それぞれの値を出力する。
【００２７】
電力計１８の進行波電圧Ｖｆの出力側は第１のアンプ１９へ接続され、第１のアンプ１９は入力された進行波電圧Ｖｆを適当な大きさの信号に増幅、若しくは減衰する。また、電力計１８の反射波電圧Ｖｒの出力側は第２のアンプ２０へ接続され、第２のアンプ２０は入力された反射波電圧Ｖｒを適当な大きさの信号に増幅、若しくは減衰する。
【００２８】
第１のアンプ１９から出力された進行波電圧Ｖｆは第１の微分回路２１（第１の時間微分部）によって時間的に微分され、該微分された進行波電圧Ｖｆ（以下、「ｄＶｆ／ｄｔ」という。）（進行波電圧の時間微分値）はコンパレータ２２（判定部）のマイナス入力側２２ａ（第１の入力部）へ入力される。
【００２９】
第２のアンプ２０から出力された反射波電圧Ｖｒは第２の微分回路２３（第２の時間微分部）によって時間的に微分され、該微分された反射波電圧Ｖｒ（以下、「ｄＶｒ／ｄｔ」という。）（反射波電圧の時間微分値）はコンパレータ２２のプラス入力側２２ｂ（第２の入力部）へ入力される。
【００３０】
処理空間Ｓにアーク放電が発生したか否かについては、反射波電圧Ｖｒの時間微分値をモニタすることで判定できるが、進行波電圧Ｖｆに起因した反射波電圧Ｖｒの変化分を排除するため、反射波電圧Ｖｒの時間微分値から進行波電圧Ｖｆの時間微分値を差し引いた評価値を用い、該評価値が所定の閾値を超えたかどうかにより判定する。具体的には、コンパレータ２２で下記式（１）が成立するか否かが判定され、下記式（１）が成立する場合、コンパレータ２２から出力遮断回路２４（判定部）へ信号が送信される。
ｄＶｒ／ｄｔ  −  ｄＶｆ／ｄｔ  ＞  アーク放電検出値（所定の閾値）  …  （１）
処理空間Ｓにおいて発生するアーク放電は、反射波電圧に対して影響を及す一方で、進行波電圧に対しては影響を及ぼさないか、若しくは、影響を与えてたとしても当該影響は小さいため、上記式（１）によって処理空間Ｓにおいてアーク放電が発生したか否かを判定することができ、上記式（１）が成立する場合は、反射波電圧Ｖｒのピークが発生しても進行波電圧Ｖｆが増加しない、若しくは、変化が微少な場合に該当するため、処理空間Ｓにおいてアーク放電が発生した場合に該当する。
【００３１】
上記式（１）が成立してコンパレータ２２から送信された信号を受信した出力遮断回路２４は、処理空間Ｓにおいてアーク放電が発生したと判断して高周波電源１２へ向けて出力遮断信号を送信する。該出力遮断信号を受信した高周波電源１２は所定の期間に亘って高周波電力の供給を停止する。これにより、処理空間Ｓにおいてアーク放電の発生が持続するのを防止する。
【００３２】
但し、プラズマ処理のレシピに応じて進行波電圧Ｖｆが低下する場合、ｄＶｆ／ｄｔが負の値となるため、反射波電圧Ｖｒが変動しないとき（ｄＶｒ／ｄｔが０）、ノイズレベルの微小なピークが発生したに過ぎないとき、または、マッチング回路１６によって進行波電圧Ｖｆと反射波電圧Ｖｒのインピーダンスの整合が取れるまで、反射波電圧Ｖｒに微少なピークが発生したに過ぎないとき（Ｖｒの増加が微少）であっても、上記式（１）が成立し、処理空間Ｓにおいてアーク放電が発生したと判断されて高周波電力の供給が停止されるおそれがある。すなわち、進行波電圧Ｖｆが低下する場合、処理空間Ｓにおいてアーク放電が発生したと誤って判定されるおそれがある。
【００３３】
本実施の形態では、これに対応して、進行波電圧Ｖｆが低下する場合、ｄＶｒ／ｄｔ  −  ｄＶｆ／ｄｔが過剰に増加しないように、コンパレータ２２のマイナス入力側２２ａへ入力されるｄＶｆ／ｄｔを０とする。具体的には、第１の微分回路２１及びコンパレータ２２の間に、第１のアンプ１９からコンパレータ２２へ向けて電流を整流するダイオード２５（微分値変更部）を配置する。ダイオード２５は、第１の微分回路２１で得られたｄＶｆ／ｄｔが正の場合、すなわち、ダイオード２５の整流方向に電位差が生じる場合、又はｄＶｆ／ｄｔが０の場合、すなわち、ダイオード２５において電位差が生じない場合は、ｄＶｆ／ｄｔをそのまま出力し、ｄＶｆ／ｄｔが負の場合、すなわち、ダイオード２５の整流方向とは反対方向に電位差が生じる場合、電流を遮断して０を出力する。
【００３４】
図２は、図１のプラズマ処理装置で実行される進行波電圧の時間微分値の変更処理を説明するための図である。
【００３５】
図２において、反射波電圧Ｖｒにアーク放電に起因しない微少なピークが発生するものの、進行波電圧Ｖｆが減少する場合を示す。図中のｄＶｆ／ｄｔは破線で示すように一部が負の方向に突出するが、プラズマ処理装置１０では、ｄＶｆ／ｄｔの突出部がフラットになるように、第１の微分回路２１によって得られるｄＶｆ／ｄｔがダイオード２５によって０に変更される。これにより、本来、図中の破線に示すように変化してアーク放電検出値を超えるｄＶｒ／ｄｔ  −  ｄＶｆ／ｄｔが、実線で示すようにオフセットされ（図中矢印参照）、アーク放電検出値を超えることが無くなる。すなわち、上記式（１）が成立しなくなる。これにより、処理空間Ｓにおいてアーク放電が発生したと誤判断されるのを防止することができる。
【００３６】
本実施の形態に係るプラズマ処理装置１０によれば、進行波電圧Ｖｆが低下してｄＶｆ／ｄｔが負となる場合であっても、ｄＶｒ／ｄｔ  −  ｄＶｆ／ｄｔが過剰に大きくならないように、コンパレータ２２のマイナス入力側２２ａへ入力されるｄＶｆ／ｄｔを０とするので、ｄＶｒ／ｄｔ  −  ｄＶｆ／ｄｔがアーク放電検出値を上回りにくくなる。これにより、反射波電圧Ｖｒが変動しないとき、ノイズレベルの微小なピークが発生したに過ぎないとき、または、マッチング回路１６によって進行波電圧Ｖｆと反射波電圧Ｖｒのインピーダンスの整合が取れるまで、反射波電圧Ｖｒに微少なピークが発生したに過ぎないときに、高周波電力を減少させるようなプラズマ処理のレシピを実行させて進行波電圧Ｖｆが低下しても、アーク放電の発生に起因する反射波電圧Ｖｒのピークが発生したと誤って判定されることが抑制され、もって、アーク放電の発生を正確に検知することができる。
【００３７】
また、アーク放電の発生を正確に検知することにより、不必要な高周波電力の供給停止を抑制することができ、もって、処理空間Ｓにおいてプラズマを安定的に維持することができる。
【００３８】
以上、本発明について、実施の形態を用いて説明したが、本発明は上述した実施の形態に限定されるものではない。
【００３９】
上述した実施の形態では、コンパレータ２２において、反射波電圧Ｖｒの時間微分値から進行波電圧Ｖｆの時間微分値を差し引いた差分を評価値として直接用いてアーク放電が発生したか否かを判定したが、上記差分を用いて算出される別の評価値、例えば、階段関数的に変化する値に変換された評価値や、上記差分の絶対値のみを抽出して得た評価値を用いてアーク放電の発生の有無を判定してもよい。
【００４０】
上述したプラズマ処理装置１０では、ｄＶｆ／ｄｔを０とする手段としてダイオード２５を用いたが、ダイオード２５の代わりに、ｄＶｆ／ｄｔが正又は０の場合には当該ｄＶｆ／ｄｔを出力し、ｄＶｆ／ｄｔが負の場合には０を出力する電気回路を第１の微分回路２１及びコンパレータ２２のマイナス入力側２２ａの間に配置してもよい。
【００４１】
また、上述したプラズマ処理装置１０では、進行波電圧Ｖｆが低下してｄＶｆ／ｄｔが負となる場合、ｄＶｆ／ｄｔを０としたが、ｄＶｆ／ｄｔは必ずしも０にする必要はなく、例えば、ｄＶｆ／ｄｔの絶対値を小さくするだけでもよい。
【００４２】
図３は、図１のプラズマ処理装置の第１の変形例の構成を概略的に示す図である。
【００４３】
図３において、プラズマ処理装置２６は、ダイオード２５の代わりに第１の微分回路２１及びコンパレータ２２のマイナス入力側２２ａの間に配置される微分値減少回路２７を備える。
【００４４】
微分値減少回路２７は、第１の微分回路２１で得られたｄＶｆ／ｄｔが正や０の場合、ｄＶｆ／ｄｔをそのまま出力し、ｄＶｆ／ｄｔが負の場合、ｄＶｆ／ｄｔの絶対値を小さくして出力する。
【００４５】
図４は、図３のプラズマ処理装置で実行される進行波電圧の時間微分値の変更処理を説明するための図である。
【００４６】
図４において、反射波電圧Ｖｒにアーク放電に起因しない微少なピークが発生するものの、進行波電圧Ｖｆが減少する場合を示す。図中のｄＶｆ／ｄｔは破線で示すように一部が突出するが、プラズマ処理装置２６では、ｄＶｆ／ｄｔの突出量が減少するように、第１の微分回路２１によって得られるｄＶｆ／ｄｔの絶対値が微分値減少回路２７によって小さくされる。これにより、本来、図中の破線に示すように変化してアーク放電検出値を超えるｄＶｒ／ｄｔ  −  ｄＶｆ／ｄｔが、実線で示すようにオフセットされ（図中矢印参照）、アーク放電検出値を超えることが無くなる。これにより、処理空間Ｓにおいてアーク放電が発生したと誤判断されるのを抑制することができる。
【００４７】
さらに、進行波電圧Ｖｆが低下してｄＶｆ／ｄｔが負となる場合、ｄＶｆ／ｄｔを変更せずにｄＶｒ／ｄｔを変更してもよい。
【００４８】
図５は、図１のプラズマ処理装置の第２の変形例の構成を概略的に示す図である。
【００４９】
図５において、プラズマ処理装置２８は、ダイオード２５の代わりに第１の微分回路２１及びコンパレータ２２のマイナス入力側２２ａの間に配置される微分値検出回路２９と、該微分値検出回路２９に接続され、且つ第２の微分回路２３及びコンパレータ２２のプラス入力側２２ｂの間に配置される微分値減少回路３０を備える。
【００５０】
微分値検出回路２９は、第１の微分回路２１で得られたｄＶｆ／ｄｔが負であることを検出すると、微分値減少回路３０へ信号を送信し、該信号を受信した微分値減少回路３０は第２の微分回路２３で得られたｄＶｒ／ｄｔを小さくして出力する。
【００５１】
図６は、図５のプラズマ処理装置で実行される反射波電圧の時間微分値の変更処理を説明するための図である。
【００５２】
図６において、反射波電圧Ｖｒにアーク放電に起因しない微少なピークが発生するものの、進行波電圧Ｖｆが減少する場合を示す。図中のｄＶｒ／ｄｔは破線で示すように上下に変動するが、プラズマ処理装置２８では、ｄＶｒ／ｄｔの変動量が減少するように、第２の微分回路２３によって得られるｄＶｒ／ｄｔが微分値減少回路３０によって小さくされる。これにより、本来、図中の破線に示すように変化してアーク放電検出値を超えるｄＶｒ／ｄｔ  −  ｄＶｆ／ｄｔは実線で示すように変動量が減少し、アーク放電検出値を超えることが無くなる。これにより、処理空間Ｓにおいてアーク放電が発生したと誤判断されるのを抑制することができる。
【００５３】
なお、本発明は高周波電力を用いてプラズマを生じさせるプラズマ処理装置であれば、適用することができる。例えば、本発明は、図１に示すような平行平板型（ＣＣＰ型）のチャンバ１１を備えるプラズマ処理装置１０だけでなく、ＩＣＰ型のチャンバを備えるプラズマ処理装置にも適用することができる。
【符号の説明】
【００５４】
１０，２６，２８  プラズマ処理装置
１１  チャンバ
１２  高周波電源
１８  電力計
２１  第１の微分回路
２２  コンパレータ
２２ａ  マイナス入力側
２２ｂ  プラス入力側
２３  第２の微分回路
２４  出力遮断回路
２５  ダイオード
２９  微分値検出回路
２７，３０  微分値減少回路
【図１】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
2014165437.tif 000007
【図７】
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【図２】
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