(57)【要約】【課題】基板をしっかりと保持しながら基板の受け渡しができる基板検査装置及び基板受け渡し方法を提供する。【解決手段】  基板検査装置１は、ウエハＷを吸着させるための複数の真空吸着パッド６１を有する載置台４ａと、裏面アーム１０とを有する。裏面アーム１０は、開口部４２ａ２から真空吸引してウエハＷを吸着させるし複数の真空吸着パッド７１と、一対の噴射口４１ａから所定の気体を吹き出すことによりウエハＷとの間に負圧を発生させてウエハＷを吸着させる複数の吸着パッド７２とを有する。【選択図】図１２
2014197651.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を吸着させるための第１の吸引部を有する載置台と、
第１の開口部から真空吸引して前記基板を吸着させる第２の吸引部と、第２の開口部から所定の気体を吹き出すことにより前記基板との間に負圧を発生させて前記基板を吸着させる第３の吸引部とを有する検査用保持部材と、
を有することを特徴とする基板検査装置。
【請求項２】
前記基板が吸着する前記第２の吸引部の上面は、前記基板が吸着する第３の吸引部の上面よりも高いことを特徴とする請求項１に記載の基板検査装置。
【請求項３】
前記第３の吸引部は、前記検査用保持部材上において前記第２の吸引部の近傍に設けられていることを特徴とする請求項１又は２に記載の基板検査装置。
【請求項４】
前記検査用保持部材は、前記第２の吸引部の前記真空吸引を行うための吸引管路への第１の接続口金と、前記第３の吸引部からの前記所定の吹き出しを行うための送気管路への第２の接続口金とを有し、
前記第１の接続口金の中心軸と、前記第２の接続口金の中心軸は、同軸であり、かつ回転中心が一致することを特徴とする請求項１、２又は３に記載の基板検査装置。
【請求項５】
前記基板の前記載置台から前記検査用保持部材への受け渡しを行うときに、前記検査用保持部材の前記第３の吸引部の吸着動作をオンにして前記第２の開口部から前記所定の気体を吹き出すように制御する制御部と、
を有することを特徴とする請求項１から４のいずれか１つに記載の基板検査装置。
【請求項６】
基板を吸着させるための第１の吸引部を有する載置台と、
第１の開口部から真空吸引して前記基板を吸着させる第２の吸引部、及び第２の開口部から所定の気体を吹き出すことにより前記基板との間に負圧を発生させて前記基板を吸着させる第３の吸引部を有する検査用保持部材と、
前記基板の前記載置台から前記検査用保持部材への受け渡しを行うときに、前記検査用保持部材の前記第３の吸引部の吸着動作をオンにして前記第２の開口部から前記所定の気体を吹き出すように制御する制御部と、
を有し、
前記検査用保持部材の前記基板が吸着する前記第２の吸引部の上面は、前記基板が吸着する第３の吸引部の上面よりも高い、
前記載置台から検査用保持部材への前記基板の受け渡しを行う方法であって、
前記検査用保持部材を、退避位置から、前記第２の吸引部の上面が前記基板の下面と同じ高さになって、前記基板の受け渡しを行う受渡位置まで、移動し、
前記第２の吸引部と前記第３の吸引部による吸着動作をオンにして、前記検査用保持部材に前記基板を保持し、
前記検査用保持部材への前記基板の吸着が確認された後に、前記第１の吸引部による吸着動作をオフにして、前記載置台から前記検査用保持部材への前記基板の受け渡しを行う、
基板受け渡し方法。
【請求項７】
前記検査用保持部材は、前記載置台から前記検査用保持部材への前記基板の受け渡しを行い、前記基板の裏面検査をするための部材であることを特徴とする請求項６に記載の基板受け渡し方法。
【請求項８】
前記制御部は、前記検査用保持部材が、前記受渡位置に移動した後に、あるいは前記受渡位置へ移動しているときに、前記第３の吸引部による吸着動作をオンにすることを特徴とする請求項７に記載の基板受け渡し方法。
【請求項９】
前記第１の吸引部による吸着動作をオフにして、前記載置台から前記検査用保持部材への前記基板の受け渡しを行った後に、前記基板の裏面検査のために、前記基板を前記検査用保持部材により移動することを特徴とする請求項６かた８のいずれか１つに記載の基板受け渡し方法。
【請求項１０】
基板を吸着させるための第１の吸引部を有する載置台と、
第１の開口部から真空吸引して前記基板を吸着させる第２の吸引部、及び第２の開口部から所定の気体を吹き出すことにより前記基板との間に負圧を発生させて前記基板を吸着させる第３の吸引部を有する検査用保持部材と、
前記第２の吸引部の吸着動作がオンされて前記基板を吸着して保持している前記検査用保持部材から前記載置台への前記基板の受け渡しを行うときに、前記載置台の前記第１の吸引部と前記検査用保持部材の前記第３の吸引部の吸着動作をオンにして前記第２の開口部から前記所定の気体を吹き出すように制御する制御部と、
を有し、
前記検査用保持部材の前記基板が吸着する前記第２の吸引部の上面は、前記基板が吸着する第３の吸引部の上面よりも高い、
検査用保持部材から前記載置台への前記基板の受け渡しを行う方法であって、
前記検査用保持部材を、前記基板の裏面検査位置から、前記第２の吸引部の上面が前記第１の吸引部の上面と同じ高さになって前記基板の受け渡しを行う受渡位置まで、移動し、
前記載置台への前記基板の吸着が確認された後に、前記第２吸引部及び前記第３の吸引部による吸着動作をオフにし、前記第１の吸引部による吸着動作をオンにして、前記検査用保持部材から前記載置台への前記基板の受け渡しを行う、
ことを基板受け渡し方法。
【請求項１１】
前記検査用保持部材は、前記載置台から前記検査用保持部材への前記基板の受け渡しを行い、前記基板の裏面検査をするための部材であることを特徴とする請求項１０に記載の基板受け渡し方法。
【請求項１２】
前記制御部は、前記検査用保持部材が、前記受渡位置に移動した後に、あるいは前記受渡位置へ移動しているときに、前記第３の吸引部による吸着動作をオンにすることを特徴とする請求項１０又は１１に記載の基板受け渡し方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板検査装置及び基板受け渡し方法に関し、特に、半導体ウエハなどの基板を検査する基板検査装置及び基板受け渡し方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来より、半導体製造工程では、製造装置において基板に対して、各種加工処理が施され、基板の検査が行われる。近年は、ウエハなどの基板の大型化及び薄型化が進んでおり、製造工程において、反りや撓みが生じる基板を、確実に搬送するための工夫もいろいろ提案されている。
【０００３】
例えば、特開２０１０−１３５３８１号公報に開示のように、ウエハをアームの載置面に吸着させて保持するようにした基板検査装置がある。その基板検査装置では、ウエハカセットからウエハが取り出されて、目視によるマクロ検査と、顕微鏡によるミクロ検査が行われる。ウエハは、搬送手段としてのアームに載置されて、ウエハカセットから検査用の載置台へ、載置台から別の載置台へ、さらに載置台からウエハカセットへ搬送される。
【０００４】
また、ウエハは、表面だけでなく、裏面についても検査が行われる場合がある。その場合、ウエハの裏面が上方を向くようにウエハは反転されて、検査が行われる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００２−１２３３４５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかし、ウエハ検査装置においてウエハの受け渡しが行われるとき、ウエハに反りや撓みがあると、ウエハの受け渡しを確実に行うことができない。例えば、ウエハの裏面を検査するためにウエハを反転するときに、ウエハ保持部材によりウエハをしっかりと保持していないと、ウエハが落下したり、破損したりしてしまう虞がある。
【０００７】
そこで、本発明は、基板をしっかりと保持しながら基板の受け渡しができる基板検査装置及び基板受け渡し方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の一態様によれば、基板を吸着させるための第１の吸引部を有する載置台と、第１の開口部から真空吸引して前記基板を吸着させる第２の吸引部と、第２の開口部から所定の気体を吹き出すことにより前記基板との間に負圧を発生させて前記基板を吸着させる第３の吸引部とを有する検査用保持部材と、を有する基板検査装置を提供することができる。
【０００９】
さらに、本発明の一態様によれば、基板を吸着させるための第１の吸引部を有する載置台と、第１の開口部から真空吸引して前記基板を吸着させる第２の吸引部、及び第２の開口部から所定の気体を吹き出すことにより前記基板との間に負圧を発生させて前記基板を吸着させる第３の吸引部を有する検査用保持部材と、前記基板の前記載置台から前記検査用保持部材への受け渡しを行うときに、前記検査用保持部材の前記第３の吸引部の吸着動作をオンにして前記第２の開口部から前記所定の気体を吹き出すように制御する制御部と、を有し、前記検査用保持部材の前記基板が吸着する前記第２の吸引部の上面は、前記基板が吸着する第３の吸引部の上面よりも高い、前記載置台から検査用保持部材への前記基板の受け渡しを行う方法であって、前記検査用保持部材を、退避位置から、前記第２の吸引部の上面が前記基板の下面と同じ高さになって、前記基板の受け渡しを行う受渡位置まで、移動し、前記第２の吸引部と前記第３の吸引部による吸着動作をオンにして、前記検査用保持部材に前記基板を保持し、前記検査用保持部材への前記基板の吸着が確認された後に、前記第１の吸引部による吸着動作をオフにして、前記載置台から前記検査用保持部材への前記基板の受け渡しを行う、基板受け渡し方法を提供することができる。
【００１０】
さらに、本発明の一態様によれば、基板を吸着させるための第１の吸引部を有する載置台と、第１の開口部から真空吸引して前記基板を吸着させる第２の吸引部、及び第２の開口部から所定の気体を吹き出すことにより前記基板との間に負圧を発生させて前記基板を吸着させる第３の吸引部）を有する検査用保持部材と、前記第２の吸引部の吸着動作がオンされて前記基板を吸着して保持している前記検査用保持部材から前記載置台への前記基板の受け渡しを行うときに、前記載置台の前記第１の吸引部と前記検査用保持部材の前記第３の吸引部の吸着動作をオンにして前記第２の開口部から前記所定の気体を吹き出すように制御する制御部と、を有し、前記検査用保持部材の前記基板が吸着する前記第２の吸引部の上面は、前記基板が吸着する第３の吸引部の上面よりも高い、検査用保持部材から前記載置台への前記基板の受け渡しを行う方法であって、前記検査用保持部材を、前記基板の裏面検査位置から、前記第２の吸引部の上面が前記第１の吸引部の上面と同じ高さになって前記基板の受け渡しを行う受渡位置まで、移動し、前記載置台への前記基板の吸着が確認された後に、前記第２吸引部及び前記第３の吸引部による吸着動作をオフにし、前記第１の吸引部による吸着動作をオンにして、前記検査用保持部材から前記載置台への前記基板の受け渡しを行う、基板受け渡し方法を提供することができる。
【発明の効果】
【００１１】
本発明によれば、基板をしっかりと保持しながら基板の受け渡しができる基板検査装置及び基板受け渡し方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】本発明の実施の形態に係わるウエハ検査装置の構成を説明するための平面図である。
【図２】本発明の実施の形態に係わる、アーム支持部９に接続されたアーム８ａ、８ｂの斜視図である。
【図３】本発明の実施の形態に係わるアーム８の斜め下方向からの斜視図である。
【図４】本発明の実施の形態に係わる、アームの保持面上に設けられた吸着パッド４１、摩擦部材４２及び真空吸着パッド４２ａの斜視図である。
【図５】本発明の実施の形態に係わる、アーム８の側面図である。
【図６】本発明の実施の形態に係わる、裏面アーム１０が待避位置ＢＰ２にあるときの、ウエハ載置台４ａと、アーム８と、裏面アーム１０の配置を示す平面図である。
【図７】本発明の実施の形態に係わる、アーム８が待避位置ＢＰ１にあり、裏面アーム１０が受渡位置ＣＰにあるときのウエハ載置台４ａと、アーム８と、裏面アーム１０の配置を示す側面図である。
【図８】本発明の実施の形態に係わる、裏面アーム１０が待避位置ＢＰ２にあり、アーム８も待避位置ＢＰ１にあるが２本のアーム８ａ、８ｂ同士が近づいていないときの、ウエハ載置台４ａと、アーム８と、裏面アーム１０の配置を説明するための斜視図である。
【図９】本発明の実施の形態に係わる、裏面アーム１０が受渡位置ＣＰにあり、アーム８が待避位置ＢＰ１にあってかつ２本のアーム８ａ、８ｂ同士が近づいているときの、ウエハ載置台４ａと、アーム８と、裏面アーム１０との配置を説明するための他の斜視図である。
【図１０】本発明の実施の形態に係わる、アーム８が待避位置ＢＰ１にあってかつ２本のアーム８ａ、８ｂ同士が近づいているときの、ウエハ載置台４ａと、アーム８と、裏面アーム１０の配置を示す平面図である。
【図１１】本発明の実施の形態に係わる、アーム８と裏面アーム１０がそれぞれの待避位置ＢＰ１とＢＰ２にあって、かつ２本のアーム８ａ、８ｂ同士が近づいているときの、ウエハ載置台４ａと、アーム８と、裏面アーム１０の配置を説明するための斜視図である。
【図１２】本発明の実施の形態に係わる裏面アーム１０の斜視図である。
【図１３】本発明の実施の形態に係わる、アーム８と裏面アーム１０がそれぞれ待避位置ＢＰ１とＢＰ２に位置するときのウエハ載置台４ａと、アーム８と、裏面アーム１０の配置を示す側面図である。
【図１４】本発明の実施の形態に係わる、裏面アーム１０上の各真空吸着パッド７１の上面と、各吸着パッド７２の上面の位置関係を説明するための図である。
【図１５】本発明の実施の形態に係わる、裏面検査時の動作の流れを示すフローチャートである。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
以下、図面を参照して本発明の実施の形態を説明する。
（全体構成）
図１は、本実施の形態に係わるウエハ検査装置の構成を説明するための平面図である。ウエハ検査装置１は、ウエハ搬送装置２と、ウエハカセット３と、ウエハ搬送装置２により搬送される検査対象であるウエハＷ（二点鎖線で示す）のマクロ検査を行うマクロ検査部４と、ウエハＷのミクロ検査を行うミクロ検査部５と、操作部６と、裏面アーム１０とを含む基板検査装置である。
【００１４】
基板搬送装置であるウエハ搬送装置２は、アーム駆動部７と、２本のアーム８ａ，８ｂ（以下、２本のアームの全て若しくは１つを指すときは、アーム８という）と、２本のアーム８を支持するアーム支持部９とを有している。２本のアーム８ａ，８ｂは、アーム支持部９の一側面から延出するようにアーム支持部９に設けられている。
【００１５】
操作部６は、キーボード等の入力装置６ａと、液晶表示装置等の表示装置６ｂを有している。検査者は、表示装置６ｂに表示される画面を見ながら、入力装置６ａから各種指示コマンドを入力することにより、ウエハ搬送装置２、マクロ検査部４及びミクロ検査部５の各種動作を指示することができる。
【００１６】
アーム駆動部７は、２本のアーム８ａ，８ｂが所定の回動軸（Ｚ軸方向の軸）を中心に回動可能に、かつ上下方向（Ｚ軸方向）に移動可能に、アーム支持部９を上方から支持している。
【００１７】
すなわち、アーム駆動部７は、アーム支持部９を、回動軸回りに回動させ、かつ上下方向（Ｚ軸方向）に移動するように、駆動する。アーム支持部９の回動により、２本のアーム８も、矢印Ａ１で示す方向に回動し、ウエハＷをミクロ検査部５へ搬送する。さらに、アーム支持部９の上下方向の移動により、２本のアーム８を上下移動させることによって、マクロ検査部４及びミクロ検査部５へのウエハＷの載置あるいは取り出しが行われる。アーム駆動部７は、アーム８の位置を検出する機能を有し、後述する制御部２５がアーム８の位置情報を得ることができるようになっている。後述するように、制御部２５は、ＣＰＵ及びメモリを有し、ウエハ検査装置１の各部の動作を制御する。
【００１８】
また、アーム支持部９は、２本のアーム８ａ，８ｂが、それぞれのアームの伸びる軸方向（Ｙ軸方向）に対して直交し、かつ２本のアーム８ａ，８ｂ間の距離が短くなったり長くなったりする方向に移動可能に、構成されている。アーム支持部９の構成については、後述する。
【００１９】
ウエハカセット３内には、検査対象である複数のウエハＷが高さ方向に積層されている。基板である各ウエハＷは、ウエハＷの周縁部が、ウエハカセット３内の周縁支持部により支持されている。
【００２０】
ウエハカセット３内から、各ウエハＷがウエハ搬送装置２により取り出され、マクロ検査部４とミクロ検査部５において、所定の検査が行われ、検査が終了したウエハＷは、ウエハカセット３内にウエハ搬送装置２により収容される。そのため、アーム駆動部７は、図示しないレールに沿って矢印Ａ２方向（Ｘ軸方向）に、移動可能となっている。
【００２１】
さらに、ウエハ検査装置１には、ウエハWの裏面検査をするための検査用保持部材としての裏面アーム１０が設けられている。裏面アーム１０は、載置台４ａから裏面アーム１０へのウエハＷの受け渡しを行い、ウエハＷの裏面検査をするための部材である。
【００２２】
さらに、基板検査装置１には、送気ポンプ２１と吸引ポンプ２２が設けられている。本実施の形態では、送気ポンプ２１は、基板検査装置１のコネクタを介して、内部の管路２３ａ〜２３ｃ内へ圧縮空気を送気し、吸引ポンプ２２は、基板検査装置１のコネクタを介して、基板検査装置１内に配設された管路２４ａ〜２４ｄ内の空気を吸引する。管路２４ａ〜２４ｄのそれぞれには、真空センサが設けられており、各管路内の真空状態が検出可能となっている。  
なお、送気ポンプ２１の送気機能と吸引ポンプ２２の吸引機能は、１つのポンプを利用して実現するようにしてもよい。
【００２３】
基板検査装置１は、基板であるウエハＷの搬送を制御する制御部２５を有し、制御部２５は、中央処理装置（CPU）と、ROM,RAM等の記憶装置を有する。制御部２５は、ウエハ搬送装置２、マクロ検査部４、ミクロ検査部５に接続されており、制御部２５は、操作部６に入力された検査指示に応じて、所定のプログラムを実行させることにより、ウエハ搬送装置２、マクロ検査部４、ミクロ検査部５、及び裏面アーム１０の制御を実行する。さらに、制御部２５には、各真空センサの出力も接続されている。制御部２５は、後述するように、ウエハWの搬送及び検査時に、ウエハ搬送装置２、送気ポンプ２１、吸引ポンプ２２、及び裏面アーム１０の動作制御を行いながら、ウエハＷが矯正された状態で、アーム８上、載置台４ｂ、５ｃ上に載置されているか否かを検出する。特に、制御部２５は、各管路を介する送気、及び各管路を介する吸引を、互いに独立に制御することができる。
（搬送アーム）
図２から図５は、ウエハ搬送装置２のアーム８の構成を説明するための図である。図２は、アーム支持部９に接続されたアーム８ａ、８ｂの斜視図である。図３は、アーム８の斜め下方向からの斜視図である。図４は、アームの保持面上に設けられた吸着パッド４１、摩擦部材４２及び真空吸着パッド４２ａの斜視図である。図５は、アーム８の側面図である。
【００２４】
基板搬送用アームであるアーム８は、先端部の幅が狭い板形状を有している。図５に示すように、アーム８は、２枚の板部材３１と３２を貼り合わせて構成されている。板部材３１は、幅が狭いアーム先端部３１ａと、アーム先端部３１ａの幅よりも広い幅を有するアーム基端部３１ｂを有している。板部材３２は、アーム基端部３１ｂと略同じ形状の矩形形状を有している。各アーム８は、後述する２つの流路（４３ａ、４４ａ）を有し、基板であるウエハWを、ウエハＷの下面で保持するアームである。
【００２５】
また、図２では、２本のアーム８ａと８ｂが、矢印Ａ１ａで示す方向に移動可能であることが示されている。  
図２に示すように、アーム基端部３１ｂの先端部側には、負圧発生部としての吸着パッド４１と、複数の摩擦部材４２とを有している。複数の摩擦部材４２の１つは、吸引機能を有する真空吸着パッド４２ａである。
【００２６】
図４に示すように、吸着パッド４１は、円形の凹部に設けられた開口部である一対の噴射口４１ａを有し、一対の噴射口４１ａは、アーム８内の流路４３ａと連通している。吸着パッド４１は、流路４３ａを介して供給される圧縮空気をその一対の噴射口４１ａから所定の方向に噴射させ、その噴射による発生する旋回流により、吸着パッド４１の表面に負圧を発生させることにより、ウエハＷを吸着させる。
【００２７】
すなわち、吸着パッド４１は、アーム８におけるウエハＷを保持する保持面である上面８ｓに設けられ、かつ開口部である一対の噴射口４１ａを有し、流路４３ａを介する所定の気体の送気を行って、一対の噴射口４１ａから所定の気体を吹き出すことにより、ウエハＷを上面に吸着させるように、アーム８の上面８ｓとウエハＷの間に負圧を発生させる負圧発生部を構成する。このような負圧発生部としての吸着パッド４１の構成は、例えば特許第４２９９１０４号公報に開示されており、公知である。
【００２８】
摩擦部材４２は、円柱形状を有する部材であり、ゴム部材である。すなわち、摩擦部材４２は、アーム８の保持面である上面８ｓに設けられ、ウエハＷと接触したときの摩擦により、上面８ｓに吸着されたウエハＷを上面８ｓの平行な方向に横滑りしないようにする摩擦部材である。
【００２９】
真空吸着パッド４２ａは、図４に示すように、円筒形状を有し、先端すなわち上面部には、円環状の摩擦部材４２ａ１が設けられている。真空吸着パッド４２ａの中央部に形成された開口部４２ａ２は、アーム８内に形成された流路４４ａと連通している。
【００３０】
すなわち、真空吸着パッド４２ａは、アーム８の保持面である上面８ｓに設けられ、かつ開口部４２ａ２を有し、流路４４ａ内を真空にすることにより開口部４２ａ２からの吸引を行ってウエハＷの下面を開口部４２ａ２に吸着させて、ウエハＷが開口部４２ａ２に吸着しているかを検知するための吸着パッドである。
【００３１】
また、真空吸着パッド４２ａ上の摩擦部材４２ａ１と２つの摩擦部材４２は、吸着パッド４１の周囲に配置されているので、吸着パッド４１によりウエハＷが吸着されたときに、ウエハＷを３点で支持することができる。すなわち、摩擦部材は、アーム８の上面８ｓ上に、複数設けられ、かつ、負圧発生部である吸着パッド４１の周囲に設けられている。
【００３２】
流路４３ａと４４ａは、２枚の板部材３１と３２の密着面の少なくとも一方に形成された溝により、形成される。流路４３ａの一端は、開口部である一対の噴射口４１ａに連通し、流路４３ａの他端は、アーム８の基端側の下部に設けられた開口部４５に連通している。図２及び図３に示すように、流路４３ａと流路４４ａは、アーム８内に並走するように配設されている。  
流路４４ａの一端は、開口部４２ａ２に連通し、流路４４ａの他端は、アーム８の基端側の下部に設けられた開口部４６に連通している。そして、流路４３ａは、開口部４５を介して、送気ポンプ２１に接続された管路２３ａと接続されている。流路４４ａは、開口部４６を介して、吸引ポンプ２２に接続された管路２４ａと接続されている。また、管路２４ａには真空センサ（図示せず）が設けられ、流路４４ａ内の真空状態を検知する。  
なお、図３に示すように、アーム８の基端部には、アーム支持部９にネジ止めにより、固定するためのネジ孔４７が複数設けられている。
【００３３】
また、図５に示すように、吸着パッド４１のアーム８の表面８ｓからの高さｄ１は、摩擦部材４２と真空吸着パッド４２ａの高さｄ２よりも低い。これは、吸着パッド４１によりウエハＷが吸引されたときに、摩擦部材４２，４２ａ１がウエハＷにしっかりと接触して、摩擦力によりウエハＷが動かないようにウエハＷを支持するためである。
【００３４】
なお、本実施の形態では、真空吸着パッド４２ａ上に摩擦部材４２ａ１が設けられているが、真空吸着パッド４２ａ上に摩擦部材４２ａ１を設けなくてもよい。その場合、真空吸着パッド４２ａの保持面８ｓからの高さは、吸着パッド４１の高さｄ１よりも高い。
【００３５】
アーム８の上面８ｓにウエハＷが密着すると、真空センサにより管路２４ａ内の真空状態が検知されて、ウエハＷがアーム８に吸引保持されていることが検知される。  
上述した吸着パッド４１と真空吸着パッド４２ａを有するアーム８を用いて、制御部２５が送気ポンプ２１と吸引ポンプ２２を制御して、ウエハＷを吸着して保持しながら、ウエハＷのウエハカセット３内からの取り出し、ウエハ載置台４ａへの搬送、ウエハＷのウエハ載置台４ａからの取り出し、ミクロ検査部５への搬送等が行われる。
【００３６】
以上のように、アーム８は、開口部である一対の噴射口４１ａのから所定の気体としての圧縮空気を吹き出すことにより、ウエハＷを吸着させるように、ウエハＷとの間に負圧を発生させる負圧発生部としての２つの吸着パッド４１を有し、ウエハＷを搬送する搬送用補助部材である。
（ミクロ検査部）
図１に戻り、ミクロ検査部５は、ウエハＷを拡大観察するための顕微鏡５ａと、２軸方向に移動可能なＸＹステージ５ｂと、ＸＹステージ５ｂ上に設置され、ウエハＷをＸＹＺの各軸方向に移動させると共に回動させ、更にウエハＷの受け渡しに用いられるウエハ載置台５ｃと、を有する。  
ウエハ載置台５ｃの上面側には、図１に示すように、複数の吸着パッド５１と、複数の真空吸着パッド５２が設けられている。各吸着パッド５１は、上述した吸着パッド４１と同じ構成であり、各真空吸着パッド５２は、真空吸着パッド４２ａと同じ構成である。
【００３７】
吸着パッド５１は、ウエハ載置台５ｃ内、及び送気ポンプ２１に接続された管路２３ｂと接続され、真空吸着パッド５２は、ウエハ載置台５ｃ内、及び吸引ポンプ２２に接続された管路２４ｂと接続されている。また、管路２４ｂには真空センサ（図示せず）が設けられ、管路２４ｂ内の真空状態を検知する。
【００３８】
ウエハ載置台５ｃの上面にウエハＷが密着すると、真空センサにより管路２４ｂ内の真空状態が検知されて、ウエハＷがウエハ載置台５ｃの上面に吸引保持されていることが検知される。
【００３９】
ミクロ検査時、ウエハＷは、ウエハ載置台５ｃ上に載置され、複数の吸着パッド５１と複数の真空吸着パッド５２により、ウエハ載置台５ｃ上に吸引されて保持されて、ミクロ検査部５の顕微鏡５ａによりミクロ検査が行われる。
（マクロ検査部）
マクロ検査部４は、ウエハＷの受け渡しとマクロ検査のための円板状のウエハ載置台４ａを有する。マクロ検査部４は、ウエハ載置台４ａをＺ方向に上昇させてウエハＷを揺動させる揺動機構と、ウエハＷの平面に直交する軸周りにウエハＷを回動する回動機構とを有する。
【００４０】
上述したアーム８によりウエハＷがウエハカセット３内から取り出されてウエハ載置台４ａ上に搭載されると、ウエハＷは、ウエハ載置台４ａに吸着固定される。  
ウエハ検査装置１の装置本体には、ウエハＷのオリフラ（ノッチ）の位置を検出するセンサ（図示せず）が設けられており、ウエハＷを回動機構により回動させて、オリフラの位置合わせが行われる。
【００４１】
制御部２５は、マクロ検査（すなわち検査者によるウエハＷの目視検査）を行うときは、ウエハ載置台４ａをＺ方向に所定量だけ上昇させて、所定の検査位置にウエハWを上方へ移動し、所定の揺動ができるようにする。例えば、検査者は、ウエハ載置台４ａ上のウエハWを所定の角度（例えば３０度）だけ傾けて、ジョイスティックなどを用いて、検査者がウエハ載置台４ａを回動させてマクロ検査を行う。  
よって、ウエハ載置台４ａは、オリフラ位置検出機能付きで、かつウエハ載置面４ａ１を傾斜させ回動させることにより、ウエハＷを揺動可能な回動テーブルである。
【００４２】
ウエハ検査装置１の装置本体の上部には、ウエハＷに照明光を照射するための照明装置（図示せず）が設けられており、検査者は、ウエハＷからの反射光をみて、マクロ検査を行う。
【００４３】
さらに、ウエハＷの表面だけでなく、裏面のマクロ検査も行われる。  
ウエハＷの裏面を検査する場合、裏面アーム１０にウエハＷが吸着されて保持される。裏面アーム１０が所定の距離だけ上方に移動して、ウエハＷを保持した状態で、裏面アーム１０を、所定の軸（後述する軸Ｊ２）周りに１８０度以上回動することによって、ウエハＷの裏面を上方に向けて、検査者により、ウエハＷの裏面のマクロ検査が行われる。ウエハ検査装置１の制御部２５は、ウエハＷの表面と裏面のマクロ検査ができるように、各部の動作を制御する。
【００４４】
図６から図１１は、マクロ検査部４における、ウエハ載置台４ａと、アーム８と、裏面アーム１０の構成を説明するための図である。図６は、裏面アーム１０が待避位置ＢＰ２にあるときの、ウエハ載置台４ａと、アーム８と、裏面アーム１０の配置を示す平面図である。
【００４５】
図７は、アーム８が待避位置ＢＰ１にあり、裏面アーム１０が受渡位置ＣＰにあるときのウエハ載置台４ａと、アーム８と、裏面アーム１０の配置を示す側面図である。  
図７は、裏面アーム１０が待避位置ＢＰ２にああって、裏面アーム１０からウエハ載置台４ａへのウエハWの受け渡しを行うとき、あるいはウエハ載置台４ａから裏面アーム１０へのウエハＷの受け渡しを行うときの、ウエハ載置台４ａと、アーム８と、裏面アーム１０の配置を示す。裏面アーム１０が受渡位置ＣＰにあるとき、各真空吸着パッド７１の上面は、ウエハＷの下面と同じ高さにある。
【００４６】
図８は、裏面アーム１０が待避位置ＢＰ２にあり、アーム８も待避位置ＢＰ１にあるが２本のアーム８ａ、８ｂ同士が近づいていないときの、ウエハ載置台４ａと、アーム８と、裏面アーム１０の配置を説明するための斜視図である。  
図９は、裏面アーム１０が受渡位置ＣＰにあり、アーム８が待避位置ＢＰ１にあってかつ２本のアーム８ａ、８ｂ同士が近づいているときの、ウエハ載置台４ａと、アーム８と、裏面アーム１０との配置を説明するための他の斜視図である。
【００４７】
図１０は、アーム８が待避位置ＢＰ１にあってかつ２本のアーム８ａ、８ｂ同士が近づいているときの、ウエハ載置台４ａと、アーム８と、裏面アーム１０の配置を示す平面図である。
【００４８】
図１１は、アーム８と裏面アーム１０がそれぞれの待避位置ＢＰ１とＢＰ２にあって、かつ２本のアーム８ａ、８ｂ同士が近づいているときの、ウエハ載置台４ａと、アーム８と、裏面アーム１０の配置を説明するための斜視図である。  
図１２は、裏面アーム１０の斜視図である。
【００４９】
まず、アーム８を支持するアーム支持部９の構成について説明する。図８に示すように、アーム支持部９は、支持プレート９ａと、回動支持部９ｂと、２つの可動部９ｃとを有する。支持プレート９ａの上面には、レール溝９ａ１が形成されており、２つの可動部９ｃは、レール溝９ａ１に係止され、かつレール溝９ａ１に沿って、すなわちＹ方向に沿って、移動可能となっている。各可動部９ｃに、アーム８が接続されて固定されている。
【００５０】
回動支持部９ｂは、アーム駆動部７の回動駆動機構（図示せず）に接続され、回動支持部９ｂの軸回りにアーム８を回動可能に支持している。  
すなわち、回動支持部９ｂがアーム駆動部７の回動駆動機構（図示せず）により回動すると、回動支持部９ｂに固定された支持プレート９ａも回動する。その結果、アーム８は、ＸＹ平面内において、回動支持部９ｂの軸回りに回動する。さらに、各可動部９ｃは、支持プレート９ａ上のレール溝９ａ１に沿って移動可能であり、２つの可動部９ｃが互いに離れるように移動すると、２つのアーム８ａ、８ｂ間の距離が長くなり、２つの可動部９ｃが互いに接近するように移動すると、２つのアーム８ａ、８ｂ間の距離が短くなる。後述するように、アーム８が待避位置ＢＰ１にあるとき、２つのアーム８ａ、８ｂ間の距離が短くなるように、アーム８は駆動される。
【００５１】
アーム８の軸周りの回動は、アーム駆動部７内のステッピングモータ等（図示せず）により行われ、具体的には、制御部２５の制御の下、エンコーダ（図示せず）でアーム８の回動位置を検出しながら、ステッピングモータ等（図示せず）を駆動することによって行われる。
【００５２】
２つのアーム８ａ、８ｂ間の距離の変更も、２つの可動部９ｃ内に設けられたステッピングモータ等（図示せず）により行われ、具体的には、制御部２５の制御の下、エンコーダ（図示せず）で２つの可動部９ｃの位置を検出しながら、ステッピングモータ等（図示せず）を駆動することによって行われる。
【００５３】
図１３は、アーム８と裏面アーム１０がそれぞれ待避位置ＢＰ１とＢＰ２に位置するときのウエハ載置台４ａと、アーム８と、裏面アーム１０の配置を示す側面図である。図１２に示す状態で、アーム８はＸＹ平面内で移動して、２つのアーム８ａ、８ｂ間の距離が変更される。図１２に示す状態において、アーム８が２本のアーム８ａ、８ｂが互いに近づくように移動することによって、裏面アーム１０は、待避位置ＢＰ２の状態（図１１の状態）から、受渡位置ＣＰの状態（図９の状態）になるように、上方へ移動することができる。すなわち、図１０に示すように、裏面アーム１０が上方へ移動するときには、アーム８は、Ｚ方向において待避位置ＢＰ１にあるとき、裏面アーム１０の上昇を邪魔しないように、２本のアーム８ａ、８ｂが互いに近づいて、いわゆる逃げをつくる。
（ウエハ載置台４ａ）
ウエハ載置台４ａは、円板状の形状を有し、上面に複数の真空吸着パッド６１が設けられている。ウエハ載置台４ａの一部には、複数の孔６２が形成されている。吸引部としての複数の真空吸着パッド６１のそれぞれの構成は、上述した真空吸着パッド４２ａと同じ構成である。すなわち、ウエハ載置台４ａは、基板であるウエハWを吸着させるための吸引部を有する載置台である。
【００５４】
上述したように、ウエハ載置台４ａは、円板の中心を通る軸Ｊ１（図８）の軸周りに回動可能となっている。さらに、ウエハ載置台４ａは、ウエハ載置台４ａの上面が、軸Ｊ１に直交する平面に対して、所定の角度だけ傾斜可能に構成されている。
【００５５】
真空吸着パッド６１は、ウエハ載置台４ａ内、及び吸引ポンプ２２に接続された管路２４ｃと接続されている。また、管路２４ｃには真空センサ２６ａが設けられ、管路２４ｃ内の真空状態を検知する。
【００５６】
ウエハ載置台４ａの上面にウエハＷが吸着すると、真空センサ２６ａの出力により管路２４ｃ内の真空状態が検知されて、制御部２５において、ウエハＷがウエハ載置台４ａの上面に吸着して保持されていることが検知される。
【００５７】
なお、ウエハ載置台４ａの上下方向（Ｚ方向）の移動及び回動などの動作は、制御部２５の制御の下、エンコーダ（図示せず）でウエハ載置台４ａの高さ及び回動位置を検出しながら、ステッピングモータ等（図示せず）を駆動することによって行われる。ウエハ載置台４ａの駆動機構としてのステッピングモータ等は、ウエハ検査装置１の装置本体内のウエハ載置台支持部Ｂ０内に取り付けられている。ステッピングモータ等は、例えば、ウエハ載置台支持部Ｂ０の最上部に設けられる。
（裏面アーム）
裏面アーム１０は、図６及び図１０に示すように、平面視したときに、略９０度の範囲が切り欠かかれた、Ｃ字型の形状を有する円弧部１０ａと、円弧部１０ａの内側に延出する複数（ここでは４つ）の延出部１０ｂを有する。円弧部１０ａの外周側には、突出部１０ｃが設けられている。図１及び図６に示すように、円弧部１０ａは、円弧の中心に対して１８０度以上の範囲に亘る長さを有する。すなわち、裏面アーム１０は、基板であるウエハWを吸着させるための吸引部を有する検査用保持部材である。
【００５８】
裏面アーム１０の延出部１０ｂの先端部の上面には、複数（ここでは４つ）の真空吸着パッド７１と複数（ここでは４つ）の吸着パッド７２が設けられている。吸引部としての複数の真空吸着パッド７１は、ウエハＷを裏面アーム１０上で吸着できる位置に設けられる。各真空吸着パッド７１の構成は、上述した真空吸着パッド４２ａと同じ構成である。
【００５９】
また、吸引部としての複数の吸着パッド７２は、ウエハＷを裏面アーム１０上で吸着できる位置に設けられる。各真空吸着パッド７２の構成は、上述した吸着パッド４１と同じ構成である。
【００６０】
各吸着パッド７２は、各吸着パッド７２の裏面アーム１０の円弧のなす円の中心からの距離が各真空吸着パッド７１の裏面アーム１０のその中心からの距離よりも短い位置に、設けられる。言い換えれば、各吸着パッド７２は、各真空吸着パッド７１よりも、ウエハＷの中心寄りの位置でウエハＷを吸着する。  
そして、各吸着パッド７２は、裏面アーム１０上において、各真空吸着パッド７１の近傍に設けられている。
【００６１】
すなわち、裏面アーム１０は、開口部４２ａ２から真空吸引して基板としてのウエハＷを吸着させる吸引部である複数の真空吸着パッド７１と、開口部である一対の噴射口４１ａから所定の気体を吹き出すことによりウエハＷとの間に負圧を発生させてウエハＷを吸着させる吸引部７２と、を有する検査用保持部材を構成する。
【００６２】
図１４は、裏面アーム１０上の各真空吸着パッド７１の上面と、各吸着パッド７２の上面の位置関係を説明するための図である。  
図１４は、真空吸着パッド７１と吸着パッド７２を横方向から見たときの状態を示す。図１４に示すように、裏面アーム１０の吸着パッド７２の上面は、真空吸着パッド６１の上面よりも所定量ｄｄ１だけＺ方向において下方の位置にある。言い換えれば、基板であるウエハＷが吸着する吸引部である真空吸着パッド７１の上面は、ウエハＷが吸着するもう一つの吸引部である各吸着パッド７２の上面よりも高い。
【００６３】
真空吸着パッド７１は、裏面アーム１０内の流路７３、及び吸引ポンプ２２に接続された管路２４ｄと接続されている。また、管路２４ｄには真空センサ２６ｂが設けられ、管路２４ｄ内の真空状態を検知する。
【００６４】
裏面アーム１０の上面にウエハＷが密着すると、真空センサ２６ｂにより管路２４ｄ内の真空状態が検知されて、制御部２５において、ウエハＷが裏面アーム１０の上面に吸着されて保持されていることが検知される。
【００６５】
各吸着パッド７２の構成は、上述した吸着パッド４１と同じ構成である。吸着パッド７２は、裏面アーム１０内の流路７４、及び送気ポンプ２１に接続された管路２３ｃと接続されている。
【００６６】
裏面アーム１０は、複数の板部材を貼り合わせて構成されている。裏面アーム１０は、複数の板部材の内、隣合う貼り合わされた２枚の密着面の少なくとも一方に形成された溝により形成された２つの流路７３と７４を、内部に有する。
【００６７】
図１２において、一点鎖線で示す流路７３は、４つの真空吸着パッド７１の開口部４２ａ２に連通しており、流路７３は、突出部１０ｃ内の口金８１を通り、管路２４ｄに接続されている。さらに、図１２において、二点鎖線で示す流路７４は、４つの吸着パッド７２の一対の噴射口４１ａに連通しており、流路７４は、裏面アーム１０の一端に設けられた圧空供給口７５と、圧空供給口部材７５に接続された圧空供給口金７６内の口金８２とを介して、管路２３ｃに接続されている。  
圧空供給口金７６は、図示しない支持部材により支持されているが、支持部材により支持されていなくてもよい。
【００６８】
また、裏面アーム１０の上下方向（Ｚ方向）の移動は、制御部２５の制御の下、エンコーダ（図示せず）で裏面アーム１０の位置を検出しながら、ステッピングモータ等（図示せず）を駆動することによって行われる。裏面アーム１０の駆動機構としてのステッピングモータ等は、ウエハ検査装置１の装置本体内の裏面アーム支持部Ｂ１内に取り付けられている。ステッピングモータ等は、例えば、裏面アーム支持部Ｂ１の最上部に設けられる。さらに、裏面アーム１０を、所定の軸（軸Ｊ２）周りに１８０度回動するための駆動機構も、ステッピングモータ等により行われる。裏面アーム１０の回動のためのステッピングモータ等は、裏面アーム１０の突出部１０ｃに接続された軸部材に、ギヤ機構などを介して接続されている。
【００６９】
裏面アーム１０が、図１２において矢印Ａ３で示すように、所定の軸（軸Ｊ２）回りに回動可能なように、口金８１の中心軸と口金８２の中心軸は、共に回転中心（軸Ｊ２軸中心）と一致する。すなわち、検査用保持部材である裏面アーム１０は、各真空吸着パッド７１の真空吸引を行うための吸引管路である管路２４ｄへの接続口金８１と、各吸着パッド７２からの所定の吹き出しを行うための送気管路である管路２３ｃへの接続口金８２とを有し、接続口金８１の中心軸と接続口金８２の中心軸は、同軸かつ回転軸Ｊ2中心軸と一致する。
【００７０】
後述するように、ウエハ載置台４ａ上に載置されたウエハＷを、裏面アーム１０に載置するとき、裏面アーム１０は、待避位置ＢＰ２から受渡位置ＣＰに移動した後、複数（ここでは４つ）の真空吸着パッド７１の吸着動作と、複数（ここでは４つ）の吸着パッド７２の吸着動作をオンにして、各真空吸着パッド７１の開口部４２ａ２からの吸引を行うと共に、各吸着パッド７２の一対の噴射口４１ａから圧縮空気を所定の方向に噴射させ、その噴射による発生する旋回流により、吸着パッド７２の表面に負圧を発生させることにより、裏面アーム１０の上面にウエハＷを吸着させる。
【００７１】
４つの吸着パッド７２は、４つの真空吸着パッド７１よりも、略円形のウエハＷの中心寄りの位置で、ウエハＷを吸着するので、裏面アーム１０が受渡位置ＣＰにあるとき、ウエハＷの反りや撓みが矯正される。  
よって、裏面アーム１０が受渡位置ＣＰにあるとき、ウエハＷの反り撓みが矯正されて、ウエハＷは裏面アーム１０に吸着するので、ウエハ載置台４ａから裏面アーム１０へのウエハＷの受け渡しを確実に行うことができる。
（動作）
次に、検査対象のウエハＷの検査の流れについて説明する。はじめに、検査対象のウエハＷはアーム８によりウエハ載置台４ａに載置される。検査者は、ウエハＷがウエハ載置台４ａに載置された状態で、ウエハＷの表面のマクロ検査を行う。次に、検査者は、ウエハＷの裏面のマクロ検査を行い、マクロ検査部４におけるマクロ検査が終了すると、検査対象のウエハＷはアーム８によりウエハ載置台５ｃに載置され、ミクロ検査部５におけるミクロ検査が行われる。
【００７２】
ここでは、マクロ検査時の動作、特に、ウエハＷの裏面を検査するときの、ウエハ検査装置１の動作について説明する。
（ウエハの表面検査）
検査者によるウエハＷの目視検査（すなわちマクロ検査）を行うときは、検査者による指示に応じて、制御部２５は、ウエハ載置台４ａ上に搭載されたウエハＷを、載置台４ａ表面に設けられた複数の真空吸着パッド６１により吸着させた状態で、軸回りに回動させてオリフラの位置を検出する。
【００７３】
オリフラの位置が検出されると、制御部２５は、ウエハＷの表面が水平となる所定の初期位置でウエハＷを保持する。制御部２５は、ウエハＷが搭載されたウエハ載置台４ａをＺ方向に所定量だけ上昇させ、かつウエハWを所定の角度だけ傾ける。その状態で、検査者は、ジョイスティックなどを用いて、検査者がウエハ載置台４ａを回動させてマクロ検査を行う。
【００７４】
マクロ検査は、ウエハＷの表面だけでなく、裏面のマクロ検査についても行われる。次に、ウエハWの裏面検査時のウエハ検査装置１の動作について説明する。
（ウエハの裏面検査）
ウエハＷの裏面検査は、裏面アーム１０にウエハＷを吸着させて保持した状態で、ウエハＷの裏面が上方を向くように、ウエハＷを反転した状態で行われる。  
裏面検査の開始時、図１１に示すように、アーム８及び裏面アーム１０は、それぞれの待避位置ＢＰ１とＢＰ２に位置している。そのため、制御部２５は、アーム８を、Ｚ方向において待避位置ＢＰ１において、図１１に示すように、２本のアーム８ａ、８ｂが互いに近づくように内側に逃げた状態に位置させるように、移動させる。
【００７５】
まず、検査者が操作部６を操作して、裏面検査の指示を入力すると、制御部２５は、次の処理を実行する。なお、裏面検査の指示は、検査者により入力された指示によらずに、制御部２５が、表面検査の後に続いて自動的に実行するようにしてもよい。
【００７６】
図１５は、裏面検査時の動作の流れを示すフローチャートである。  
図１５の処理は、制御部２５により実行され、制御部２５は、基板であるウエハＷの載置台４ａから検査用保持部材である裏面アーム１０への受け渡しを行うときに、裏面アーム１０の各吸着パッド７２の吸着動作をオンにして一対の噴射口４２ａ２から所定の気体を吹き出すように制御する。
さらに、制御部２５は、各真空吸着パッド７１の吸着動作がオンされて基板であるウエハＷを吸着して保持している裏面アーム１０から載置台４ａへのウエハＷの受け渡しを行うときに、載置台４ａの各真空吸着パッド６１と裏面アーム１０の各吸着パッド７２の吸着動作をオンにして一対の噴出口４１ａから所定の気体を吹き出すように制御する。
【００７７】
具体的には、はじめ、上述したように、アーム８は、Ｚ方向において待避位置ＢＰ１あって、かつ図１１に示すように、２本のアーム８ａ、８ｂが互いに近づくように内側に逃げた状態にする。
【００７８】
そして、制御部２５は、裏面アーム１０の受渡位置ＣＰへの移動を行う（Ｓ１）。すなわち、制御部２５は、検査用保持部材である裏面アーム１０を、退避位置ＢＰ２から、各吸着パッド７２の上面がウエハＷの下面と同じ高さになって、ウエハＷの受け渡しを行う受渡位置ＣＰまで、移動する。
【００７９】
Ｓ１の処理前、ウエハＷはウエハ載置台４ａ上に吸着されて固定されている。アーム８及び裏面アーム１０は、それぞれの待避位置ＢＰ１とＢＰ２に位置しており、裏面アーム１０は、真空吸着パッド７１及び吸着パッド７２の吸着動作はオフ状態である。そのような状態で、制御部２５は、裏面アーム１０を待避位置ＢＰ２から受渡位置ＣＰへ移動させる。よって、裏面アーム１０は、図１１において点線で示すように上方へ移動し、図９及び図１０に示す位置に移動する。  
この移動により、裏面アーム１０の各真空吸着パッド７１の上面は、ウエハ載置台４ａの各真空吸着パッド６１の上面と略同じ高さに位置する。
【００８０】
制御部２５は、各真空吸着パッド７１及び各吸着パッド７２の吸着動作をオンにして、裏面アーム１０によるウエハＷの吸着保持を行う（Ｓ２）。すなわち、制御部２５は、複数の真空吸着パッド７１と複数の吸着パッド７２による吸着動作をオンにして、裏面アーム１０にウエハＷを保持させる。
【００８１】
そして、各真空吸着パッド７１及び各吸着パッド７２の吸着動作をオンした結果、裏面アーム１０が受渡位置ＣＰにあるとき、ウエハＷの反り撓みが矯正されて、ウエハＷは裏面アーム１０に吸着固定される。そして、制御部２５は、真空センサ２６ｂの出力に基づいて、ウエハＷの裏面アーム１０への真空吸着を確認する。
【００８２】
すなわち、裏面アーム１０の複数の真空吸着パッド７１と複数の吸着パッド７２による吸着動作をオンされることにより、ウエハＷの反り撓みを矯正しながら、裏面アーム１０にウエハＷが保持される。吸着状態が確認できなければ、制御部２５は、各真空吸着パッド７１及び各吸着パッド７２による吸着を停止し、裏面アーム１０を下方に下げて、再度Ｓ１から実行する。  
以上のように、ウエハＷの反りや撓みを矯正しながら、裏面アーム１０へのウエハＷの真空吸着が行われる。
【００８３】
さらに、Ｓ２では、裏面アーム１０への真空吸着状態の確認後、制御部２５は、ウエハ載置台４ａの真空吸着パッド６１の吸着動作と、吸着パッド７２の吸着動作を、オフにする。すなわち、裏面アーム１０へのウエハＷの吸着が確認された後に、ウエハ載置台４ａの真空吸着パッド６１による吸着動作をオフにして、ウエハＷをウエハ載置台４ａから裏面アーム１０への受け渡しが行われる。  
その結果、ウエハＷは、裏面アーム１０のみにより吸着保持された状態となる。  
Ｓ２の後、制御部２５は、裏面アーム１０を所定の高さ位置まで上方移動させる（Ｓ３）。すなわち、ウエハＷのウエハ載置台４ａから裏面アーム１０への受け渡しを行った後に、ウエハＷの裏面検査のために、ウエハＷを裏面アーム１０により移動する。
【００８４】
制御部２５は、裏面アーム１０を１８０度回動させて、ウエハＷの裏面が上方を向くように、裏面アーム１０を反転させる（Ｓ４）。  
ウエハＷは所定の高さ位置にあり、ウエハＷの裏面が上方に向いているので、検査者は、ウエハＷの裏面のマクロ検査を行うことができる（Ｓ５）。
【００８５】
Ｓ５が終了し、検査者が検査終了の指示を入力すると、制御部２５は、裏面アーム１０をＳ４の回動方向とは逆方向に、１８０度回動させて、ウエハＷの表面が上方を向くように、裏面アーム１０を反転させる（Ｓ６）。
【００８６】
次に、制御部２５は、裏面アーム１０を元の位置まで下方移動させる（Ｓ７）。  
Ｓ７により、裏面アーム１０は、裏面アーム１０の各真空吸着パッド７１の上面が、Ｚ方向においてウエハ載置台４ａの各真空吸着パッド６１の上面と同じ位置になるまで移動する。すなわち、制御部２５は、検査用保持部材である裏面アーム１０を、ウエハＷの裏面検査位置から、各真空吸着パッド７１の上面が、各真空吸着パッド６１の上面と同じ高さになってウエハＷの受け渡しを行う受渡位置ＣＰまで、移動させる。
【００８７】
そして、制御部２５は、ウエハＷをウエハ載置台４ａ上に載置する（Ｓ８）。  
Ｓ８の処理は、さらに次のステップを含む。  
（Ｓ８−１：真空吸着パッド６１などによる吸着）
制御部２５は、ウエハ載置台４ａの２つの真空吸着パッド６１の吸着動作及び裏面アーム１０の４つの吸着パッド７２の吸着動作をオンにする。すなわち、真空吸着パッド７１の吸着動作がオンされてウエハＷを吸着して保持している裏面アーム１０からウエハ載置台４ａへのウエハＷの受け渡しを行う場合、制御部２５は、裏面アーム１０の各真空吸着パッド７１の上面が受渡位置ＣＰにあるときに、ウエハ載置台４ａの複数の真空吸着パッド６１、及び裏面アーム１０の４つの吸着パッド７２の各吸着動作をオンにして、ウエハ載置台４ａにウエハＷを吸着させる。
（Ｓ８−２：真空吸着パッド６１による吸着の確認）
制御部２５は、真空センサ２６ａの出力に基づいて、真空吸着パッド６１により、ウエハＷがウエハ載置台４ａに吸着されたか否かを確認する。真空吸着状態が確認できなければ、制御部２５は、各真空吸着パッド６１の吸着動作、各吸着パッド７２の吸着動作をオフし、再度Ｓ８−１を実行する。
【００８８】
真空吸着状態の確認後、制御部２５は、裏面アーム１０の複数の真空吸着パッド７１及び複数の吸着パッド７２の吸着動作をオフする。すなわち、ウエハ載置台４ａへのウエハＷの吸着が確認された後に、裏面アーム１０の複数の真空吸着パッド７１及び複数の吸着パッド７２による吸着動作をオフにして、各真空吸着パッド６１による吸着動作をオンにして、裏面アーム１０からウエハ載置台４ａへのウエハＷの受け渡しが行われる。
（Ｓ８−３：裏面アーム１０の下方への移動）
Ｓ８−２の後、制御部２５は、裏面アーム１０を、待避位置ＢＰ２まで、下方へ移動させる。  
Ｓ８の後、ウエハ載置台４ａを軸Ｊ１回りに所定角度だけ回動させる（Ｓ９）。
【００８９】
裏面検査が行われているとき、裏面アーム１０の４つの延出部１０ｂにより、ウエハＷの裏面の一部が覆われて、検査者に見えない部分が存在する。よって、その見えなかった部分が、延出部１０ｂに覆われないように、ウエハＷを回動して、再度Ｓ１から上述した処理を行う。すなわち、検査者がウエハＷの裏面を完全にマクロ検査できるようにするために、Ｓ９の処理が実行され、Ｓ９の処理の後、Ｓ１の処理に戻り、Ｓ１からＳ８までの処理が実行されることによって、前の裏面検査では見えなかった部分も検査者に見えるようになって、検車者はウエハＷの裏面を完全にマクロ検査できる。
【００９０】
２回目のＳ８の処理が実行されて、裏面検査が終了すると、制御部２５は、アーム８により、ウエハ載置台４ａ上のウエハＷをミクロ検査部５へ搬送する。なお、裏面検査が終了して、マクロ検査部５へウエハＷを搬送するとき、ウエハＷをウエハ載置台４ａ上に載置しないで、裏面アーム１０から搬送用のアーム８へ、ウエハＷを直接渡すようにしてもよい。
【００９１】
以上のように、上述した基板検査装置によれば、基板をしっかりと保持しながら基板の受け渡しができる基板検査装置及び基板受け渡し方法を実現することができる。
【００９２】
なお、上述したＳ２において、裏面アーム１０は、各真空吸着パッド７１の上面が、Ｚ方向においてウエハＷの下面の高さの受渡位置ＣＰ（ウエハ載置台４ａの各真空吸着パッド６１の上面と同じ（又は略同じ）位置）に移動した後に、各真空吸着パッド７１の真空吸着動作と各吸着パッド７２の吸着動作をオンにしているが、裏面アーム１０が受渡位置ＣＰへ移動しているとき、各真空吸着パッド７１の真空吸着動作と各吸着パッド７２の吸着動作をオンにしてもよい。
【００９３】
すなわち、制御部２５は、各真空吸着パッド７１の上面を、受渡位置ＣＰに移動した後に、各真空吸着パッド７１及び各吸着パッド７２による吸着動作をオンにするのではなく、各真空吸着パッド７１の上面が移動して受渡位置ＣＰに達する前に、すなわち各真空吸着パッド７１の上面が受渡位置ＣＰへ移動しているときに、各真空吸着パッド７１及び各吸着パッド７２の吸着動作をオンにしてもよい。
【００９４】
例えば、裏面アーム１０を上方へ移動させているとき、制御部２５は、各真空吸着パッド７１の上面が各真空吸着パッド６１の上面よりも、所定量ｄｄ３だけ低い位置（例えば真空吸着パッド６１の上面より１ｍｍだけ低い位置）に達したときに、裏面アーム１０の移動速度を、それまでの速度よりも低い速度で上方への移動を継続する。  
制御部２５は、裏面アーム１０の移動速度が低速になったときに、裏面アーム１０の各真空吸着パッド７１及び各吸着パッド７２の吸着動作をオンにし、真空センサ２６ｂの出力を監視する。
【００９５】
このようにして裏面アーム１０の移動を行い、各真空吸着パッド７１の上面が、各真空吸着パッド６１の上面の高さ位置を通過するときに、制御部２５は、真空センサ２６ｂの出力により真空が検知されると、各真空吸着パッド６１、各吸着パッド７２の吸着動作をオフにする。
【００９６】
なお、各真空吸着パッド７１の上面が、各真空吸着パッド６１の上面の高さ位置を通過するときに、真空センサ２６ｂの出力により真空が検知されなかったときは、制御部２５は、裏面アーム１０の移動を停止し、真空センサ２６ｂの出力が真空を検知するまで裏面アーム１０を微小量だけZ方向に沿って上下させる。これによっても、真空が検知されないときは、制御部２５は、Ｓ１から再度実行する。  
真空が検知されて、裏面アーム１０にのみウエハＷが吸着された状態になると、制御部２５は、Ｓ３では、元の速度（低速にする前の速度）で、裏面アーム１０を上方へ移動する。
【００９７】
同様に、（８−１）と（８−２）においても、Ｓ７により裏面アーム１０が下方に移動して、各真空吸着パッド７１の上面が、Ｚ方向においてウエハ載置台４ａの各真空吸着パッド６１の上面と同じ高さの受渡位置ＣＰに移動した後に、ウエハ載置台４ａの各真空吸着パッド６１の真空吸着動作と裏面アーム１０の各吸着パッド７２の吸着動作をオンにしているが、裏面アーム１０を受渡位置ＣＰへ移動しているときに、ウエハ載置台４ａの真空吸着動作と裏面アーム１０の各吸着パッド７２の吸着動作をオンにしてもよい。
【００９８】
例えば、裏面アーム１０を下方へ移動させているとき、制御部２５は、各真空吸着パッド７１の上面が各真空吸着パッド６１の上面よりも、所定量ｄｄ４だけ高い位置（例えば真空吸着パッド６１の上面より１ｍｍだけ高い位置）に達したときに、裏面アーム１０の移動速度を、それまでの速度よりも低い速度で下方への移動を継続する。
【００９９】
制御部２５は、裏面アーム１０の移動速度が低速になったときに、ウエハ載置台４ａの各真空吸着パッド６１の真空吸着動作と裏面アーム１０の各吸着パッド７２の吸着動作をオンにし、真空センサ２６ａの出力を監視する。
【０１００】
このようにして裏面アーム１０の移動を行い、各真空吸着パッド７１の上面が、各真空吸着パッド６１の上面の高さ位置を通過するときに、制御部２５は、真空センサ２６ａの出力により真空が検知されると、裏面アーム１０の真空吸着動作をオフにして、Ｓ８−３の処理へ移行する。なお、各真空吸着パッド７１の上面が、各真空吸着パッド６１の上面の高さ位置を通過するときに、真空センサ２６ａの出力により真空が検知されなかったときは、制御部２５は、裏面アーム１０の移動を停止し、真空センサ２６ａの出力が真空を検知するまで裏面アーム１０を微小量だけZ方向に沿って上下させる。これによっても、真空が検知されないときは、制御部２５は、裏面アーム１０を一旦上昇させた後、Ｓ７から再度実行する。
【０１０１】
真空が検知されて、ウエハ載置台４ａにのみウエハＷが吸着された状態になると、制御部２５は、Ｓ８−３では、元の速度（低速にする前の速度）で、裏面アーム１０を待避位置ＢＰ２まで移動する。  
以上のように、吸着動作のタイミングを変更してもよい。  
以上説明したように、上述した基板検査システムによれば、基板をしっかりと保持しながら基板の受け渡しができる基板検査装置及び基板受け渡し方法を提供することができる。
【０１０２】
特に、裏面検査ようの検査用保持部材である裏面アーム１０に、真空吸着パッドの吸引部と共に負圧発生部の吸引部を設けて、負圧発生部の吸引部により基板の矯正をするので、基板の矯正用の部材を別途も受けることなく、簡単な構成で、かつ簡単な動作制御で、基板をしっかりと保持しながら基板の受け渡しができる。
【０１０３】
本発明は、上述した実施の形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を変えない範囲において、種々の変更、改変等が可能である。
【符号の説明】
【０１０４】
１  ウエハ検査装置、２  ウエハ搬送装置、３  ウエハカセット、４  マクロ検査部、４ａ  ウエハ載置台、５  ミクロ検査部、５ａ  顕微鏡、５ｂ  ＸＹステージ５ｂ、５ｃ  ウエハ載置台、６  操作部、６ａ  入力装置、６ｂ  表示装置、７  アーム駆動部、８（８ａ，８ｂ）  アーム、８ｓ  アームの上面、９  アーム支持部、９ａ  支持プレート、９ａ１レール溝、９ｂ  回動支持部、９ｃ  可動部、１０  裏面アーム、１０ａ  円弧部、１０ｂ  延出部、１０ｃ  突出部、２１  送気ポンプ、２２  吸引ポンプ、２３ａ〜２３ｃ、２４ａ〜２４ｄ  管路、２５  制御部、２６ａ、２６ｂ  真空センサ、３１  板部材、３１ａ  アーム先端部、３１ｂ  アーム基端部、３２  板部材、４１  吸着パッド、４１ａ  噴射口、４２  摩擦部材、４２ａ  真空吸着パッド、４２ａ１  摩擦部材、４２ａ２  開口部、４３ａ、４４ａ  流路、４５  、４６  開口部、４７  ネジ孔、５１  吸着パッド、５２  真空吸着パッド、６１  真空吸着パッド、６２  孔、７１  真空吸着パッド、７２  吸着パッド。
【図１】
2014197651.tif 000003
【図２】
2014197651.tif 000004
【図３】
2014197651.tif 000005
【図４】
2014197651.tif 000006
【図５】
2014197651.tif 000007
【図６】
2014197651.tif 000008
【図７】
2014197651.tif 000009
【図８】
2014197651.tif 000010
【図９】
2014197651.tif 000011
【図１０】
2014197651.tif 000012
【図１１】
2014197651.tif 000013
【図１２】
2014197651.tif 000014
【図１３】
2014197651.tif 000015
【図１４】
2014197651.tif 000016
【図１５】
2014197651.tif 000017