(57)【要約】【課題】本発明は、タッチスクリーンパネルに関し、より詳細には、携帯用端末機に装着されるタッチスクリーンパネルに関する。【解決手段】本発明のタッチスクリーンパネルは、第１の表面粗度を有する第１の領域と第２の表面粗度を有する第２の領域を有する透明基板と、上記第２の領域に形成されるインク層と、を含み、上記第２の表面粗度は上記第１の表面粗度よりも高い。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の表面粗度を有する第１の領域と第２の表面粗度を有する第２の領域を有する透明基板と、
前記第２の領域に形成されるインク層と、
を含み、
前記第２の表面粗度は前記第１の表面粗度より高い、タッチスクリーンパネル。
【請求項２】
前記インク層は明度の高いインクからなる、請求項１に記載のタッチスクリーンパネル。
【請求項３】
前記インク層は白色インクからなる、請求項１または２に記載のタッチスクリーンパネル。
【請求項４】
前記インク層の厚さは１０μｍ以下である、請求項１から３何れか１項に記載のタッチスクリーンパネル。
【請求項５】
前記第２の領域は、
前記透明基板の縁を研磨して形成される溝を有する、請求項１から４の何れか１項に記載のタッチスクリーンパネル。
【請求項６】
前記第２の領域は、
前記透明基板の縁をエッチングして形成される溝を有する、請求項１から４の何れか１項に記載のタッチスクリーンパネル。
【請求項７】
前記溝の深さは１０μｍである、請求項５または６に記載のタッチスクリーンパネル。
【請求項８】
前記インク層の上面は前記透明基板の上面と同一の高さを有する、請求項５から７の何れか１項に記載のタッチスクリーンパネル。
【請求項９】
前記インク層と前記透明基板に形成されるセンサー電極をさらに含む、請求項１から８の何れか１項に記載のタッチスクリーンパネル。
【請求項１０】
前記第２の表面粗度は条件式１を満足する、請求項１から９の何れか１項に記載のタッチスクリーンパネル。
［数１］
０．０１μｍ＜第２の表面粗度＜１．０μｍ
【請求項１１】
透明基板と、
前記透明基板に付着され、前記透明基板とは異なる表面粗度を有する散乱層と、
前記散乱層に形成されるインク層と、
を含む、タッチスクリーンパネル。
【請求項１２】
前記散乱層は前記透明基板の縁に付着される粘着物質からなる、請求項１１に記載のタッチスクリーンパネル。
【請求項１３】
前記インク層は明度の高いインクからなる、請求項１１または１２に記載のタッチスクリーンパネル。
【請求項１４】
前記インク層は白色インクからなる、請求項１１から１３の何れか１項に記載のタッチスクリーンパネル。
【請求項１５】
前記インク層の厚さは１０μｍ以下である、請求項１１から１４の何れか１項に記載のタッチスクリーンパネル。
【請求項１６】
前記インク層と前記透明基板に形成されるセンサー電極をさらに含む、請求項１１から１５の何れか１項に記載のタッチスクリーンパネル。
【請求項１７】
前記散乱層の表面粗度は条件式２を満足する、請求項１１から１６の何れか１項に記載のタッチスクリーンパネル。
［数２］
０．０１μｍ＜散乱層の表面粗度＜１．０μｍ
【請求項１８】
縁に溝が形成される透明基板と、
前記溝に形成されるインク層と、
前記インク層に含まれて乱反射を起こす微粒子と、
を含む、タッチスクリーンパネル。
【請求項１９】
前記インク層は明度の高いインクからなる、請求項１８に記載のタッチスクリーンパネル。
【請求項２０】
前記インク層は白色インクからなる、請求項１８または１９に記載のタッチスクリーンパネル。
【請求項２１】
前記インク層の厚さは１０μｍ以下である、請求項１８から２０の何れか１項に記載のタッチスクリーンパネル。
【請求項２２】
前記インク層と前記透明基板に形成されるセンサー電極をさらに含む、請求項１８から２１の何れか１項に記載のタッチスクリーンパネル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、タッチスクリーンパネルに関し、より詳細には、携帯用端末機に装着されるタッチスクリーンパネルに関する。
【背景技術】
【０００２】
スマートフォンとタブレット型コンピューターの商用化によって、タッチスクリーンパネルに対する技術開発が行われ続けている。一例として、タッチスクリーンモジュール（ＴＳＭ）の作動方式が、最近になって、抵抗膜方式から静電容量方式に急速に変わっている。他の例として、静電容量方式の構造も、ＧＦＦ又はＧＦ２等の方式からウィンドウ一体型ＴＳＭやオン‐セル（ｏｎ‐ｃｅｌｌ）又はイン‐セル（ｉｎ‐ｃｅｌｌ）方式に変わっている。
【０００３】
一方、ウィンドウ一体型ＴＳＭでは、ベゼル（ｂｅｚｅｌ）をインクでコーティングした後にセンサー電極を被せる。しかしながら、この際に用いるセンサー電極が非常に薄いことから、ベゼルのコーナーでセンサー電極が切断される現象が発生する。
【０００４】
このような問題を解決するためには、ベゼルを最大限薄い厚さで形成しなければならない。しかしながら、明度の高いインク（例えば、白色）は、光が透過し易いため、ベゼルの後面に形成されるセンサー電極がベゼルの前面から透過して見えるという問題がある。したがって、インクの明度に関係なくベゼルの厚さを最小化させることができる技術の開発が求められている。
【０００５】
一方、タッチスクリーンパネルと関連した先行技術として特許文献１がある。特許文献１は、ブラックカラー層を薄膜蒸着によって形成する技術思想を開示している。しかしながら、特許文献１は、単にカラー層を薄く形成する技術のみを開示しているため、光透過率の良いカラー層（例えば、白色カラー層）をタッチパネルガラス１０に形成するのに適用することは困難である。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】韓国特開２０１１−０５３９４０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は、上述した問題を解決するためのもので、薄い厚さを有し且つ光が容易に透過しないベゼルを備えたタッチスクリーンパネルを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記の目的を達成するための本発明の一実施例によるタッチスクリーンパネルは、第１の表面粗度を有する第１の領域と第２の表面粗度を有する第２の領域を有する透明基板と、上記第２の領域に形成されるインク層と、を含み、上記第２の表面粗度は上記第１の表面粗度よりも高い。
【０００９】
本発明の一実施例によるタッチスクリーンパネルにおいて、上記インク層は明度の高いインクからなることができる。
【００１０】
本発明の一実施例によるタッチスクリーンパネルにおいて、上記インク層は白色インクからなることができる。
【００１１】
本発明の一実施例によるタッチスクリーンパネルにおいて、上記インク層の厚さは１０μｍ以下であることができる。
【００１２】
本発明の一実施例によるタッチスクリーンパネルにおいて、上記第２の領域は、上記透明基板の縁を研磨して形成される溝であることができる。
【００１３】
この場合、上記溝の深さは１０μｍであり、上記インク層の上面は上記透明基板の上面と同一の高さを有することができる。
【００１４】
本発明の一実施例によるタッチスクリーンパネルにおいて、上記第２の領域は、上記透明基板の縁をエッチングして形成される溝であることができる。
【００１５】
この場合、上記溝の深さは１０μｍであり、上記インク層の上面は上記透明基板の上面と同一の高さを有することができる。
【００１６】
本発明の一実施例によるタッチスクリーンパネルにおいて、上記インク層と上記透明基板に形成されるセンサー電極をさらに含むことができる。
【００１７】
上記の目的を達成するための本発明の他の実施例によるタッチスクリーンパネルは、透明基板と、上記透明基板に付着され、上記透明基板とは異なる粗度を有する散乱層と、上記散乱層に形成されるインク層と、を含むことができる。
【００１８】
本発明の他の実施例によるタッチスクリーンパネルにおいて、上記散乱層は上記透明基板の縁に付着される粘着物質からなることができる。
【００１９】
本発明の他の実施例によるタッチスクリーンパネルにおいて、上記インク層は明度の高いインクからなることができる。
【００２０】
本発明の他の実施例によるタッチスクリーンパネルにおいて、上記インク層は白色インクからなることができる。
【００２１】
本発明の他の実施例によるタッチスクリーンパネルにおいて、上記インク層の厚さは１０μｍ以下であることができる。
【００２２】
本発明の他の実施例によるタッチスクリーンパネルにおいて、上記インク層と上記透明基板に形成されるセンサー電極をさらに含むことができる。
【００２３】
上記の目的を達成するための本発明のさらに他の実施例によるタッチスクリーンパネルは、縁に溝が形成される透明基板と、上記溝に形成されるインク層と、上記インク層に含まれて乱反射を起こす微粒子と、を含むことができる。
【００２４】
本発明のさらに他の実施例によるタッチスクリーンパネルにおいて、上記インク層は明度の高いインクからなることができる。
【００２５】
本発明のさらに他の実施例によるタッチスクリーンパネルにおいて、上記インク層は白色インクからなることができる。
【００２６】
本発明のさらに他の実施例によるタッチスクリーンパネルにおいて、上記インク層の厚さは１０μｍ以下であることができる。
【００２７】
本発明のさらに他の実施例によるタッチスクリーンパネルにおいて、上記インク層と上記透明基板に形成されるセンサー電極をさらに含むことができる。
【発明の効果】
【００２８】
本発明は、インク層の厚さを最小化することにより、センサー電極の破断現象を減少させることができる。
【図面の簡単な説明】
【００２９】
【図１】本発明の第１の実施例によるタッチスクリーンパネルの断面図である。
【図２】図１に示されたＡ部分の拡大図である。
【図３】図１に示されたタッチスクリーンパネルの製作工程を示した図面である。
【図４】本発明の第２の実施例によるタッチスクリーンパネルの断面図である。
【図５】本発明の第３の実施例によるタッチスクリーンパネルの断面図である。
【図６】図５に示されたタッチスクリーンパネルの製作工程を示した図面である。
【図７】本発明の第４の実施例によるタッチスクリーンパネルの断面図である。
【図８】図７に示されたＢ部分の拡大図である。
【図９】本発明の第５の実施例によるタッチスクリーンパネルの断面図である。
【図１０】図９に示されたＣ部分の拡大図である。
【発明を実施するための形態】
【００３０】
以下では、添付の図面を参照して本発明の好ましい実施形態について説明する。しかし、本発明の実施形態は様々な他の形態に変形されることができ、本発明の範囲は以下で説明する実施形態に限定されない。また、本発明の実施形態は、当該技術分野で平均的な知識を有する者に本発明をより完全に説明するために提供されるものである。したがって、図面における要素の形状及び大きさなどはより明確な説明のために誇張されることがある。
【００３１】
図１は本発明の第１の実施例によるタッチスクリーンパネルの断面図であり、図２は図１に示されたＡ部分の拡大図であり、図３は図１に示されたタッチスクリーンパネルの製作工程を示した図面であり、図４は本発明の第２の実施例によるタッチスクリーンパネルの断面図であり、図５は本発明の第３の実施例によるタッチスクリーンパネルの断面図であり、図６は図５に示されたタッチスクリーンパネルの製作工程を示した図面であり、図７は本発明の第４の実施例によるタッチスクリーンパネルの断面図であり、図８は図７に示されたＢ部分の拡大図であり、図９は本発明の第５の実施例によるタッチスクリーンパネルの断面図であり、図１０は図９に示されたＣ部分の拡大図である。
【００３２】
図１から図３を参照して、本発明の第１の実施例によるタッチスクリーンパネルを説明する。
【００３３】
本実施例によるタッチスクリーンパネル１００は、透明基板１１０とインク層１２０を含むことができる。また、タッチスクリーンパネル１００は、図示されていないセンサー電極をさらに含むことができる。
【００３４】
透明基板１１０は、ガラス材質又はプラスチック材質からなることができる。より詳細には、透明基板１１０は、衝撃に強い強化ガラス材質からなるか、又は透光性に優れたポリメタクリル酸メチル（ＰＭＭＡ：Ｐｏｌｙ（ｍｅｔｈｙｌ  ｍｅｔｈａｃｒｙｌａｔｅ））のような合成樹脂からなることができる。
【００３５】
透明基板１１０の両面は、光の透過がうまく行われるように加工されることができる。例えば、透明基板１１０の両面は、微細な研磨材によって加工されることができる。研磨加工が完了した透明基板１１０は、別途の洗浄工程により洗浄されることができる。
【００３６】
一方、透明基板１１０は、一面に互いに異なる表面粗度（ｓｕｒｆａｃｅ  ｒｏｕｇｈｎｅｓｓ）を有する領域を有することができる。より詳細には、透明基板１１０の一面は、第１の表面粗度を有する第１の領域２１０と第２の表面粗度を有する第２の領域２２０に区画されることができる。
【００３７】
第１の領域２１０は、透明基板１１０の中央に形成されることができる。より詳細には、第１の領域２１０は、タッチスクリーンパネル１００において実行画面が実質的に投影される領域に形成されることができる。したがって、第１の領域２１０は、このような実行画面がユーザーに鮮明に見えるよう、非常に低い第１の表面粗度を有することができる。例えば、第１の表面粗度は、滑らかなガラス表面と同一の表面粗度であることができる。
【００３８】
第２の領域２２０は、透明基板１１０の縁に形成されることができる。より詳細には、第２の領域２２０は、タッチスクリーンパネル１００において実行画面が投影されない領域に形成されることができる。したがって、第２の領域は、第１の領域２１０より高い第２の表面粗度を有することができる。ここで、第２の表面粗度は０．０１μｍより大きくて１．０μｍより小さい。
【００３９】
第２の領域２２０は、化学的加工又は機械的加工によって、高い第２の表面粗度を有することができる。例えば、第２の領域２２０は、透明基板１１０の一部分をエッチングして得られた領域であるか、又は透明基板１１０の一部分を研削機で研削して得られた領域であることができる。なお、本実施例の第２の領域２２０は、透明基板１１０の一部分をエッチングして得られた領域であることができる。
【００４０】
第２の領域２２０は、第１の領域２１０より低く形成されることができる。より詳細には、第２の領域２２０は、図１に示されたように、溝１１２の形態を有することができる。ここで、溝１１２は、所定の深さｈ１を有することができる。ここで、上記深さｈ１は、１０μｍ以下であることができる。
【００４１】
このように、第２の表面粗度を有する第２の領域２２０は、図２に示されたように、光を屈折させるか又は散乱させることができる。したがって、第２の領域２２０に位置した電極センサー又はその他の配線は、このような特性によって透明基板１１０の他面からはよく見えない。
【００４２】
インク層１２０は、第２の領域２２０に形成されることができる。より詳細には、インク層１２０は、第２の領域２２０である透明基板１１０の溝１１２に所定の高さｈ２で形成されることができる。ここで、インク層１２０の高さｈ２は１０μｍ以下であることができる。ここで、上記高さｈ２は、センサー電極の損傷（例えば、切断）を最小化し、タッチスクリーンパネル１００の全厚さを最小化する高さであることができる。
【００４３】
一方、インク層１２０の高さｈ２は、溝１１２の深さｈ１に反比例することができる。例えば、溝１１２の深さｈ１が大きくなると、インク層１２０の高さｈ２を大きくすることができ、溝１１２の深さｈ１が小さくなると、インク層１２０の高さｈ２を小さくすることができる。但し、このようなインク層１２０の高さｈ２の変更は、センサー電極の損傷を最小化する範囲で行われる。
【００４４】
インク層１２０は、所定の色を有するインクからなることができる。例えば、インク層１２０は、白色、黄色、青色、黒色のうちいずれか一つのインクからなることができる。
【００４５】
インク層１２０は、感光性インクからなり、スピンコーティング又はスリットコーティング等の方法により形成されることができる。しかしながら、インク層１２０の形成方法は前述した二つの方法に限定されず、その他の方法により形成されることもできる。
【００４６】
このように構成されたタッチスクリーンパネル１００は、インク層１２０が形成される第２の領域２２０で光の乱反射が起こるため、インク層１２０の色が相対的に鮮明に見える。即ち、本タッチスクリーンパネル１００では、インク層１２０の上方に形成されるセンサー電極が、第２の領域２２０の乱反射現象によって透明基板１１０の一面からはよく見えない。したがって、本タッチスクリーンパネル１００は、インク層１２０を従来より薄く形成することができるため、センサー電極の損傷を軽減させることができる。
【００４７】
以上のような効果は、本発明者の実験からも確認することができる。表１は、インク層１２０を白色で構成した例に対する実験結果である。なお、表１中、各実験に対応するパーセント数値は、インク層の色が具現される程度を示す。したがって、パーセント数値が１００％に近いほど、インク層の色が鮮明に示されることを意味する。
【００４８】
【表１】
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【００４９】
表１から分かるように、本実施例によるタッチスクリーンパネル１００は、相対的に低いインク層の厚さ（２．５μｍ）を有し且つ８３％を上回るパーセント数値を示した。したがって、本タッチスクリーンパネル１００は、インク層の厚さを２．５〜１０μｍで形成しても、インク層の色を鮮明に具現することができる。
【００５０】
これに対し、従来発明は、相対的に高いインク層の厚さ（４μｍ）を有し且つ６８％を下回るパーセント数値を示すため、インク層の色を鮮明に具現するためにはインク層の厚さを２０〜６０μｍで形成しなければならないという短所がある。
【００５１】
上述したように、本タッチスクリーンパネル１００は、第１の領域とは異なる表面粗度を有する第２の領域により、インク層１２０の厚さを１０μｍ以下に形成することができ、インク層１２０と透明基板１１０の高さの差によるセンサー電極の損傷を最小化することができる。また、インク層１２０の薄型化により、タッチスクリーンパネル１００の全厚さを軽減させることができるという長所がある。
【００５２】
次いで、図３を参照して、タッチスクリーンパネル１００の製作工程を説明する。
【００５３】
タッチスクリーンパネル１００の製作工程は、透明基板の準備段階、第２の領域の形成段階、インク層の形成段階、インク層の加工段階を含むことができる。
【００５４】
１）透明基板の準備段階
本段階は、透明基板１１０を準備する段階であることができる。より詳細には、本段階は、透明基板１１０をタッチスクリーンパネルのサイズに合わせて切断する工程を含むことができる。また、透明基板１１０の両面を滑らかに仕上げる工程をさらに含むことができる。
【００５５】
２）第２の領域の形成段階
本段階は、透明基板１１０に第１の領域２１０と第２の領域２２０を形成する段階であることができる。より詳細には、本段階は、透明基板１１０の一部分を加工して第２の領域２２０を形成する段階であることができる。例えば、本段階は、第１の表面粗度を有する第１の領域２１０の一部分をエッチングするか研削して第２の表面粗度を有する第２の領域２２０を形成することができる。一方、エッチング又は研削によって形成される第２の領域２２０は、第１の領域２１０より低く形成され、所定の深さｈ１を有することができる。
【００５６】
３）インク層の形成段階
本段階は、透明基板１１０の一面にインク層１２０を形成する段階であることができる。インク層１２０は、スピンコーティング又はスリットコーティング等の方法により形成されることができる。しかしながら、インク層１２０の形成方法は前述した二つの方法に限定されず、その他の方法により形成されることもできる。
【００５７】
４）インク層の加工段階
本段階は、インク層１２０を加工する段階であることができる。より詳細には、本段階は、第１の領域２２０に形成されたインク層１２０を除去する段階であることができる。インク層１２０の除去には、フォトレジスト及び現像を用いることができる。即ち、第１の領域２１０のインク層１２０上にマスクパターンを付着し第２の領域２２０のインク層１２０のみを露光して、第１の領域２１０のインク層１２０を現像液により除去することができる。
【００５８】
次いで、本発明の他の実施例によるタッチスクリーンパネルを説明する。なお、後述する実施例において第１の実施例と同一の構成要素には第１の実施例と同一の図面符号を用い、これら構成要素についての詳細な説明は省略する。
【００５９】
図４を参照して、本発明の第２の実施例によるタッチスクリーンパネルを説明する。
【００６０】
本実施例によるタッチスクリーンパネル１００は、インク層１２０の形状において第１の実施例と区別されることができる。より詳細には、本実施例のインク層１２０には、傾斜面１２２が形成されることができる。ここで、傾斜面１２２の傾斜度は、センサー電極１５０の損傷（例えば、切断現象）が最小化されるように決められる。一方、図４にはインク層１２０に直線形態の傾斜面１２２が形成されることが図示されているが、必要に応じてインク層１２０に曲線形態の傾斜面が形成されることができる。
【００６１】
このように構成されたタッチスクリーンパネル１００は、インク層１２０の上面（図４基準）と透明基板１１０の上面にセンサー電極１５０がゆるやかな曲線形態に形成されるため、インク層１２０と透明基板１１０の境界面でセンサー電極１５０が損傷される問題を最小化することができる。
【００６２】
次いで、図５及び図６を参照して本発明の第３の実施例によるタッチスクリーンパネルを説明する。
【００６３】
本実施例は、インク層１２０が透明基板１１０の一面と同一の高さで形成されるという点で、前述した実施例と区別されることができる。このため、溝１１２の深さｈ１は、インク層１２０の高さｈ２と同一であることができる。ここで、深さｈ１は１０μｍ以下であることができる。
【００６４】
一方、本実施例によるタッチスクリーンパネル１００は、図６に示されたように、透明基板の準備段階、第２の領域の形成段階、インク層の形成段階、インク層の加工段階によって製作されることができる。ここで、透明基板の準備段階、第２の領域の形成段階、インク層の形成段階は、第１の実施例によるタッチスクリーンパネル１００の製作工程と同一であるため、これらの工程についての説明は省略する。
【００６５】
インク層の加工段階は、研削工程をさらに含むことができる。より詳細には、インク層の加工段階は、透明基板１１０上に形成されたインク層１２０を透明基板１１０が露出されるように研削する工程を含むことができる。
【００６６】
あるいは、インク層の加工段階は、第１の領域２１０のインク層１２０をフォトレジストと現像工程により除去した後、第２の領域２２０のインク層１２０を研削工程により除去する順に行われることができる。
【００６７】
このように構成されたタッチスクリーンパネル１００は、インク層１２０の上面と透明基板１１０の上面が同一の高さで形成されるため、センサー電極１５０の付着が容易である上、センサー電極１５０の損傷を最小化させることができる。
【００６８】
次いで、図７及び図８を参照して、本発明の第４の実施例によるタッチスクリーンパネルを説明する。
【００６９】
本実施例によるタッチスクリーンパネル１００は、散乱層１３０をさらに備えるという点で、前述した実施例と区別されることができる。
【００７０】
散乱層１３０は、透明基板１１０の一部分に形成されることができる。より詳細には、散乱層１３０は、透明基板１１０の縁に形成されることができる。散乱層１３０は、インク層１２０及び透明基板１１０のうちいずれか一つに形成されることができる。このため、インク層１２０又は透明基板１１０の一面は、粗く加工されることができる。このような形状の一面は、エッチング又は研削工程により形成されることができる。あるいは、散乱層１３０は、所定の粒子を有する粘着物質で構成されることができる。この場合、散乱層１３０は、透明基板１１０にインク層１２０を付着させ、粘着物質に含まれた粒子により光を散乱させるか又は乱反射させることができる。ここで、散乱層１３０の表面粗度は０．０１μｍより大きくて１．０μｍより小さい。
【００７１】
散乱層１３０の上部には、インク層１２０が形成されることができる。ここで、インク層１２０と散乱層１３０の厚さは１０μｍ以下であることができる。
【００７２】
このように構成されたタッチスクリーンパネル１００は、光の散乱及び乱反射が別途の散乱層１３０によってなされるため、透明基板１１０の上面を第１の領域と第２の領域に分割しなくても良いという長所がある。
【００７３】
次いで、図９及び図１０を参照して、本発明の第５の実施例によるタッチスクリーンパネルを説明する。
【００７４】
本実施例によるタッチスクリーンパネル１００は、インク層１２０の構成において前述した実施例と区別されることができる。
【００７５】
本実施例によるインク層１２０は、微粒子１４０を含むことができる。例えば、インク層１２０は、微粒子を含むインクによって形成されることができる。ここで、微粒子１４０は、０．１μｍ以下のサイズを有する物質であり、透明基板１１０から入射される光を散乱させるか又は乱反射させることができる。
【００７６】
このように構成されたタッチスクリーンパネル１００は、インク層１２０の微粒子１４０によって光の散乱及び乱反射がなされるため、透明基板１１０を加工するか又は透明基板１１０に別途の散乱層１３０を付着する必要がない。したがって、本実施例によると、タッチスクリーンパネル１００を容易に製作することができる。
【００７７】
以上、本発明の実施形態について詳細に説明したが、本発明の権利範囲はこれに限定されず、特許請求の範囲に記載された本発明の技術的思想から外れない範囲内で多様な修正及び変形が可能であるということは、当技術分野の通常の知識を有する者には明らかである。
【符号の説明】
【００７８】
１００  タッチスクリーンパネル
１１０  透明基板
１２０  インク層
１３０  散乱層
１４０  微粒子
１５０  センサー電極
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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