(57)【要約】  優れた殺菌活性を有する新規なグアニジン化合物は、式〔I〕で表される（式中、Ｙは、下記式〔II〕（式中Ｒ7〜Ｒ9は、それぞれ独立に、水素原子等を示す）等で示される二価の基を示し、ＸおよびＺはそれぞれ独立に無置換の若しくは置換基を有するアルキレン基などを示し、Ｑ1およびＱ2はそれぞれ独立に単結合などを示し、Ａ1およびＡ2はそれぞれ独立に無置換の若しくは置換基を有する二価の複素環式化合物残基などを示し、Ｒ1〜Ｒ6はそれぞれ独立に水素原子などを示す。【化１】2016195077.tif 000254
2016195077.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式〔I〕で表される化合物またはその塩。
【化１】
2016195077.tif 000250
式〔I〕中、
Ｙは、式〔II〕、〔IIa〕、または〔IIb〕で表される二価の基を示す。
【化２】
2016195077.tif 000251
式〔II〕中、Ｒ7〜Ｒ9は、それぞれ独立に、水素原子、ニトロ基、シアノ基、無置換の若しくは置換基を有する炭化水素基、無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリル基、ヒドロキシル基、無置換の若しくは置換基を有するアルコキシ基、無置換の若しくは置換基を有するアルコキシカルボニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールオキシ基、無置換の若しくは置換基を有するアミノ基、無置換の若しくは置換基を有するアルキルスルホニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールスルホニル基、無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリルスルホニル基、無置換の若しくは置換基を有するアルキルカルボニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールカルボニル基、または無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリルカルボニル基を示す。Ｒ8とＲ9、Ｒ７とＲ８、または、Ｒ７とＲ９は一緒になって二価の有機基を形成してもよい。Ｒ８とＸ上の置換基は一緒になって二価の有機基を形成していてもよい。＊は結合位置を示す。
【化３】
2016195077.tif 000252
式〔IIa〕、式〔IIb〕中、Ｒ10〜Ｒ15は、それぞれ独立に、水素原子、ニトロ基、シアノ基、無置換の若しくは置換基を有する炭化水素基、無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリル基、ヒドロキシル基、無置換の若しくは置換基を有するアルコキシ基、無置換の若しくは置換基を有するアルコキシカルボニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールオキシ基、無置換の若しくは置換基を有するアミノ基、無置換の若しくは置換基を有するアルキルスルホニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールスルホニル基、無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリルスルホニル基、無置換の若しくは置換基を有するアルキルカルボニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールカルボニル基、または無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリルカルボニル基を示す。Ｒ10とＲ11、Ｒ10とＲ12、Ｒ13とＲ14、Ｒ14とＲ15は一緒になって二価の有機基を形成していてもよい。＊は結合位置を示す。
ＸおよびＺは、それぞれ独立に、無置換の若しくは置換基を有するアルキレン基、無置換の若しくは置換基を有するアルケニレン基、無置換の若しくは置換基を有するアルキニレン基、−Ｔa−Ｏ−Ｔb−、−Ｔａ−Ｓ−Ｔｂ−または−Ｔa−Ｎ（Ｒ21）−Ｔb−を示す。ＴaおよびＴbは、それぞれ独立に、単結合、または無置換の若しくは置換基を有するアルキレン基を示し、Ｒ21は、水素原子、無置換の若しくは置換基を有する炭化水素基、無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリル基、ヒドロキシル基、無置換の若しくは置換基を有するアルコキシ基、無置換の若しくは置換基を有するアルコキシカルボニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールオキシ基、無置換の若しくは置換基を有するアミノ基、無置換の若しくは置換基を有するアルキルスルホニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールスルホニル基、無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリルスルホニル基、無置換の若しくは置換基を有するアルキルカルボニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールカルボニル基、または無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリルカルボニル基を示す。
Ｑ1およびＱ2は、それぞれ独立に、単結合、無置換の若しくは置換基を有するフェニレン基、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ2−、または−Ｎ（Ｒ22）−を示す。Ｒ22は、水素原子、無置換の若しくは置換基を有する炭化水素基、無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリル基、ヒドロキシル基、無置換の若しくは置換基を有するアルコキシ基、無置換の若しくは置換基を有するアルコキシカルボニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールオキシ基、無置換の若しくは置換基を有するアミノ基、無置換の若しくは置換基を有するアルキルスルホニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールスルホニル基、無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリルスルホニル基、無置換の若しくは置換基を有するアルキルカルボニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールカルボニル基、または無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリルカルボニル基を示す。
Ａ1およびＡ2は、それぞれ独立に、無置換の若しくは置換基を有する二価の複素環式化合物残基、無置換の若しくは置換基を有する二価の芳香族炭化水素残基、または−Ｎ（Ｒ23）−を示す。Ｒ23は、水素原子、無置換の若しくは置換基を有する炭化水素基、無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリル基、ヒドロキシル基、無置換の若しくは置換基を有するアルコキシ基、無置換の若しくは置換基を有するアルコキシカルボニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールオキシ基、無置換の若しくは置換基を有するアミノ基、無置換の若しくは置換基を有するアルキルスルホニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールスルホニル基、無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリルスルホニル基、無置換の若しくは置換基を有するアルキルカルボニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールカルボニル基、または無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリルカルボニル基を示す。
Ｒ1〜Ｒ6は、それぞれ独立に、水素原子、無置換の若しくは置換基を有する炭化水素基、無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリル基、ヒドロキシル基、無置換の若しくは置換基を有するアルコキシ基、無置換の若しくは置換基を有するアルコキシカルボニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールオキシ基、無置換の若しくは置換基を有するアミノ基、無置換の若しくは置換基を有するアルキルスルホニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールスルホニル基、無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリルスルホニル基、無置換の若しくは置換基を有するアルキルカルボニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールカルボニル基、または無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリルカルボニル基を示す。Ｒ1とＲ2とが結合してそれらがそれぞれ結合する二つの窒素原子および該二つの窒素原子が結合する一つの炭素原子と伴に４〜８員環を形成していてもよいし、Ｒ2とＲ3とが結合してそれらが結合する一つの窒素原子と伴に４〜８員環を形成していてもよいし、Ｒ4とＲ5とが結合してそれらがそれぞれ結合する二つの窒素原子および該二つの窒素原子が結合する一つの炭素原子と伴に４〜８員環を形成していてもよいし、またはＲ5とＲ6とが結合してそれらが結合する一つの窒素原子と伴に４〜８員環を形成していてもよい。〕
【請求項２】
前記式〔I〕におけるＹは前記式〔II〕で表される二価の基を示し、前記式〔II〕で表される二価の基が、式〔III〕で表される二価の基である請求項１に記載の化合物またはその塩。
【化４】
2016195077.tif 000253
式〔III〕中、Ｒ51は、無置換の若しくは置換基を有するアルキレン基、無置換の若しくは置換基を有するアルケニレン基、無置換の若しくは置換基を有するフェニレン基を示す。Ｒ50は、それぞれ独立に、水素原子、ニトロ基、シアノ基、無置換の若しくは置換基を有する炭化水素基、無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリル基、ヒドロキシル基、無置換の若しくは置換基を有するアルコキシ基、無置換の若しくは置換基を有するアルコキシカルボニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールオキシ基、無置換の若しくは置換基を有するアミノ基、無置換の若しくは置換基を有するアルキルスルホニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールスルホニル基、無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリルスルホニル基、無置換の若しくは置換基を有するアルキルカルボニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールカルボニル基、または無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリルカルボニル基を示す。＊は結合位置を示す。
【請求項３】
請求項１に記載の化合物およびその塩から選ばれる少なくとも一つを有効成分として含有する殺菌剤。
【請求項４】
請求項１に記載の化合物およびその塩から選ばれる少なくとも一つを有効成分として含有する植物病害防除剤。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、グアニジン化合物および殺菌剤に関する。より詳細には、本発明は、優れた殺菌活性を有し、安全性に優れ、且つ工業的に有利に合成できる新規なグアニジン化合物、ならびに該グアニジン化合物を有効成分として含有する殺菌剤または植物病害防除剤に関する。
本願は、２０１５年６月３日に日本に出願された特願２０１５−１１３３７６号に基づき優先権を主張し、その内容をここに援用する。
【背景技術】
【０００２】
特許文献１、２、３または４は、ある種のアリールアミジン化合物が真菌や植物病害菌の防除効果を有すると述べている。そして該アリールアミジン化合物を有効成分として含有する抗真菌剤や植物病害防除剤などを提案している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】ＷＯ２０１３／０６２０２４Ａ１
【特許文献２】ＷＯ２００６／０１１４９９Ａ１
【特許文献３】ＷＯ２００７／０７４８６８Ａ１
【特許文献４】ＷＯ２００３／０７４４７６Ａ１
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明の課題は、殺菌活性に優れ、安全性に優れ、且つ工業的に有利に合成できる新規なグアニジン化合物を提供すること、該グアニジン化合物を有効成分として含有する殺菌剤または植物病害防除剤を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明は、以下の態様を含む。
〔１〕  式〔I〕で表される化合物またはその塩。【０００６】
【化１】
2016195077.tif 000003
【０００７】
式〔I〕中、
Ｙは、式〔II〕、〔IIa〕、または〔IIb〕で表される二価の基を示す。【０００８】
【化２】
2016195077.tif 000004
【０００９】
式〔II〕中、Ｒ7〜Ｒ9は、それぞれ独立に、水素原子、ニトロ基、シアノ基、無置換の若しくは置換基を有する炭化水素基、無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリル基、ヒドロキシル基、無置換の若しくは置換基を有するアルコキシ基、無置換の若しくは置換基を有するアルコキシカルボニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールオキシ基、無置換の若しくは置換基を有するアミノ基、無置換の若しくは置換基を有するアルキルスルホニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールスルホニル基、無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリルスルホニル基、無置換の若しくは置換基を有するアルキルカルボニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールカルボニル基、または無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリルカルボニル基を示す。Ｒ8とＲ9、Ｒ７とＲ８、または、Ｒ７とＲ９は一緒になって二価の有機基を形成していてもよい。Ｒ８とＸ上の置換基は一緒になって二価の有機基を形成していてもよい。＊は結合位置を示す。【００１０】
【化３】
2016195077.tif 000005
【００１１】
式〔IIa〕、式〔IIb〕中、Ｒ10〜Ｒ15は、それぞれ独立に、水素原子、ニトロ基、シアノ基、無置換の若しくは置換基を有する炭化水素基、無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリル基、ヒドロキシル基、無置換の若しくは置換基を有するアルコキシ基、無置換の若しくは置換基を有するアルコキシカルボニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールオキシ基、無置換の若しくは置換基を有するアミノ基、無置換の若しくは置換基を有するアルキルスルホニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールスルホニル基、無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリルスルホニル基、無置換の若しくは置換基を有するアルキルカルボニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールカルボニル基、または無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリルカルボニル基を示す。Ｒ10とＲ11、Ｒ10とＲ12、Ｒ13とＲ14、Ｒ14とＲ15は一緒になって二価の有機基を形成していてもよい。＊は結合位置を示す。
ＸおよびＺは、それぞれ独立に、無置換の若しくは置換基を有するアルキレン基、無置換の若しくは置換基を有するアルケニレン基、無置換の若しくは置換基を有するアルキニレン基、−Ｔa−Ｏ−Ｔb−、−Ｔａ−Ｓ−Ｔｂ−または−Ｔa−Ｎ（Ｒ21）−Ｔb−を示す。ＴaおよびＴbは、それぞれ独立に、単結合、または無置換の若しくは置換基を有するアルキレン基を示し、Ｒ21は、水素原子、無置換の若しくは置換基を有する炭化水素基、無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリル基、ヒドロキシル基、無置換の若しくは置換基を有するアルコキシ基、無置換の若しくは置換基を有するアルコキシカルボニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールオキシ基、無置換の若しくは置換基を有するアミノ基、無置換の若しくは置換基を有するアルキルスルホニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールスルホニル基、無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリルスルホニル基、無置換の若しくは置換基を有するアルキルカルボニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールカルボニル基、または無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリルカルボニル基を示す。
Ｑ1およびＱ2は、それぞれ独立に、単結合、無置換の若しくは置換基を有するフェニレン基、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ2−、または−Ｎ（Ｒ22）−を示す。Ｒ22は、水素原子、無置換の若しくは置換基を有する炭化水素基、無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリル基、ヒドロキシル基、無置換の若しくは置換基を有するアルコキシ基、無置換の若しくは置換基を有するアルコキシカルボニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールオキシ基、無置換の若しくは置換基を有するアミノ基、無置換の若しくは置換基を有するアルキルスルホニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールスルホニル基、無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリルスルホニル基、無置換の若しくは置換基を有するアルキルカルボニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールカルボニル基、または無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリルカルボニル基を示す。
Ａ1およびＡ2は、それぞれ独立に、無置換の若しくは置換基を有する二価の複素環式化合物残基、無置換の若しくは置換基を有する二価の芳香族炭化水素残基、または−Ｎ（Ｒ23）−を示す。Ｒ23は、水素原子、無置換の若しくは置換基を有する炭化水素基、無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリル基、ヒドロキシル基、無置換の若しくは置換基を有するアルコキシ基、無置換の若しくは置換基を有するアルコキシカルボニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールオキシ基、無置換の若しくは置換基を有するアミノ基、無置換の若しくは置換基を有するアルキルスルホニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールスルホニル基、無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリルスルホニル基、無置換の若しくは置換基を有するアルキルカルボニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールカルボニル基、または無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリルカルボニル基を示す。
Ｒ1〜Ｒ6は、それぞれ独立に、水素原子、無置換の若しくは置換基を有する炭化水素基、無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリル基、ヒドロキシル基、無置換の若しくは置換基を有するアルコキシ基、無置換の若しくは置換基を有するアルコキシカルボニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールオキシ基、無置換の若しくは置換基を有するアミノ基、無置換の若しくは置換基を有するアルキルスルホニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールスルホニル基、無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリルスルホニル基、無置換の若しくは置換基を有するアルキルカルボニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールカルボニル基、または無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリルカルボニル基を示す。Ｒ1とＲ2とが結合してそれらがそれぞれ結合する二つの窒素原子および該二つの窒素原子が結合する一つの炭素原子と伴に４〜８員環を形成していてもよいし、Ｒ2とＲ3とが結合してそれらが結合する一つの窒素原子と伴に４〜８員環を形成していてもよいし、Ｒ4とＲ5とが結合してそれらがそれぞれ結合する二つの窒素原子および該二つの窒素原子が結合する一つの炭素原子と伴に４〜８員環を形成していてもよいし、またはＲ5とＲ6とが結合してそれらが結合する一つの窒素原子と伴に４〜８員環を形成していてもよい。【００１２】
〔２〕前記式〔I〕におけるＹが前記式〔II〕で表される二価の基を示し、前記式〔II〕で表される二価の基が、式〔III〕で表される二価の基である〔１〕に記載の化合物またはその塩。【００１３】
【化４】
2016195077.tif 000006
【００１４】
式〔III〕中、Ｒ51は、無置換の若しくは置換基を有するアルキレン基、無置換の若しくは置換基を有するアルケニレン基、無置換の若しくは置換基を有するフェニレン基を示す。Ｒ50は、それぞれ独立に、水素原子、ニトロ基、シアノ基、無置換の若しくは置換基を有する炭化水素基、無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリル基、ヒドロキシル基、無置換の若しくは置換基を有するアルコキシ基、無置換の若しくは置換基を有するアルコキシカルボニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールオキシ基、無置換の若しくは置換基を有するアミノ基、無置換の若しくは置換基を有するアルキルスルホニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールスルホニル基、無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリルスルホニル基、無置換の若しくは置換基を有するアルキルカルボニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールカルボニル基、または無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリルカルボニル基を示す。＊は結合位置を示す。
〔３〕  前記〔１〕に記載の化合物およびその塩から選ばれる少なくとも一つを有効成分として含有する殺菌剤。
〔４〕  前記〔１〕に記載の化合物およびその塩から選ばれる少なくとも一つを有効成分として含有する植物病害防除剤。
【発明の効果】
【００１５】
本発明に係るグアニジン化合物（式〔I〕で表される化合物またはその塩）は、殺菌活性に優れ、安全性に優れ、且つ工業的に有利に合成することができる。当該グアニジン化合物を有効成分として含有する殺菌剤若しくは植物病害防除剤は、リンゴ黒星病、キュウリ灰色かび病、コムギうどんこ病、トマト疫病、コムギ赤さび病などの植物病害の防除価に特に優れている。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
まず、本発明において、「無置換の」の用語は、母核となる基のみであることを意味する。「置換基を有する」との記載がなく母核となる基の名称のみで記載しているときは、別段の断りがない限り「無置換の」の意味である。
一方、「置換基を有する」の用語は、母核となる基のいずれかの水素原子が、母核と同一または異なる構造の基で置換されていることを意味する。従って、「置換基」は、母核となる基に結合した他の基である。置換基は１つであってもよいし、２つ以上であってもよい。２つ以上の置換基は同一であってもよいし、異なるものであってもよい。
「Ｃ１〜６」などの用語は、母核となる基の炭素原子数が１〜６個などであることを表している。この炭素原子数には、置換基の中にある炭素原子の数を含まない。例えば、置換基としてエトキシ基を有するブチル基は、Ｃ２アルコキシＣ４アルキル基に分類する。
【００１７】
「置換基」は化学的に許容され、本発明の効果を有する限りにおいて特に制限されない。以下に「置換基」となり得る基を例示する。
メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基などのＣ１〜６アルキル基；
ビニル基、１−プロペニル基、２−プロペニル基（アリル基）、１−ブテニル基、２−ブテニル基、３−ブテニル基、１−メチル−２−プロペニル基、２−メチル−２−プロペニル基などのＣ２〜６アルケニル基；
エチニル基、１−プロピニル基、２−プロピニル基、１−ブチニル基、２−ブチニル基、３−ブチニル基、１−メチル−２−プロピニル基などのＣ２〜６アルキニル基；
シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などのＣ３〜８シクロアルキル基；
２−シクロペンテニル基、３−シクロヘキセニル基、４−シクロオクテニル基などのＣ４〜８シクロアルケニル基；
【００１８】
フェニル基、ナフチル基などのＣ６〜１０アリール基；
ベンジル基、フェネチル基などのＣ７〜１１アラルキル基；
３〜６員ヘテロシクリル基；
ホルミル基、アセチル基、プロピオニル基、ベンゾイル基、シクロヘキシルカルボニル基などのＣ１〜７アシル基；
【００１９】
ヒドロキシル基；
メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｓ−ブトキシ基、ｉ−ブトキシ基、ｔ−ブトキシ基などのＣ１〜６アルコキシ基；
ビニルオキシ基、アリルオキシ基、プロペニルオキシ基、ブテニルオキシ基などのＣ２〜６アルケニルオキシ基；
エチニルオキシ基、プロパルギルオキシ基などのＣ２〜６アルキニルオキシ基；
フェノキシ基、ナフトキシ基などのＣ６〜１０アリールオキシ基；
ベンジルオキシ基、フェネチルオキシ基などのＣ７〜１１アラルキルオキシ基；
【００２０】
ホルミルオキシ基、アセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基、ベンゾイルオキシ基、シクロヘキシルカルボニルオキシ基などのＣ１〜７アシルオキシ基；
メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｎ−プロポキシカルボニル基、ｉ−プロポキシカルボニル基、ｎ−ブトキシカルボニル基、ｔ−ブトキシカルボニル基などのＣ１〜６アルコキシカルボニル基；
メトキシカルボニルオキシ基、エトキシカルボニルオキシ基、ｎ−プロポキシカルボニルオキシ基、ｉ−プロポキシカルボニルオキシ基、ｎ−ブトキシカルボニルオキシ基、ｔ−ブトキシカルボニルオキシ基などのＣ１〜６アルコキシカルボニルオキシ基；
カルボキシル基；
【００２１】
フルオロ基、クロロ基、ブロモ基、イオド基などのハロゲノ基；
クロロメチル基、クロロエチル基、トリフルオロメチル基、１，２−ジクロロ−ｎ−プロピル基、１−フルオロ−ｎ−ブチル基、パーフルオロ−ｎ−ペンチル基などのＣ１〜６ハロアルキル基；
２−クロロ−１−プロペニル基、２−フルオロ−１−ブテニル基などのＣ２〜６ハロアルケニル基；
４，４−ジクロロ−１−ブチニル基、４−フルオロ−１−ペンチニル基、５−ブロモ−２−ペンチニル基などのＣ２〜６ハロアルキニル基；
４−クロロフェニル基、４−フルオロフェニル基、２，４−ジクロロフェニル基などのＣ６〜１０ハロアリール基；
トリフルオロメトキシ基、２−クロロ−ｎ−プロポキシ基、２，３−ジクロロブトキシ基などのＣ１〜６ハロアルコキシ基；
２−クロロプロペニルオキシ基、３−ブロモブテニルオキシ基などのＣ２〜６ハロアルケニルオキシ基；
４−フルオロフェニルオキシ基、４−クロロ−１−ナフトキシ基などのＣ６〜１０ハロアリールオキシ基；
クロロアセチル基、トリフルオロアセチル基、トリクロロアセチル基、４−クロロベンゾイル基などのＣ１〜７ハロアシル基；
【００２２】
アミノ基（ＮＨ2で表される基）；
メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基などのＣ１〜６アルキル置換アミノ基；
アニリノ基、ナフチルアミノ基などのＣ６〜１０アリールアミノ基；
ベンジルアミノ基、フェネチルアミノ基などのＣ７〜１１アラルキルアミノ基；
ホルミルアミノ基、アセチルアミノ基、プロパノイルアミノ基、ブチリルアミノ基、ｉ−プロピルカルボニルアミノ基、ベンゾイルアミノ基などのＣ１〜７アシルアミノ基；
メトキシカルボニルアミノ基、エトキシカルボニルアミノ基、ｎ−プロポキシカルボニルアミノ基、ｉ−プロポキシカルボニルアミノ基などのＣ１〜６アルコキシカルボニルアミノ基；
アミノカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、フェニルアミノカルボニル基、Ｎ−フェニル−Ｎ−メチルアミノカルボニル基などの無置換若しくは置換基を有するアミノカルボニル基；
イミノメチル基、（１−イミノ）エチル基、（１−イミノ）−ｎ−プロピル基などのイミノＣ１〜６アルキル基；
Ｎ−ヒドロキシ−イミノメチル基、（１−（Ｎ−ヒドロキシ）−イミノ）エチル基、（１−（Ｎ−ヒドロキシ）−イミノ）プロピル基、Ｎ−メトキシ−イミノメチル基、（１−（Ｎ−メトキシ）−イミノ）エチル基などの無置換の若しくは置換基を有するＮ−ヒドロキシイミノＣ１〜６アルキル基；
【００２３】
メルカプト基；
メチルチオ基、エチルチオ基、ｎ−プロピルチオ基、ｉ−プロピルチオ基、ｎ−ブチルチオ基、ｉ−ブチルチオ基、ｓ−ブチルチオ基、ｔ−ブチルチオ基などのＣ１〜６アルキルチオ基；
フェニルチオ基、ナフチルチオ基などのＣ６〜１０アリールチオ基；
チアゾリルチオ基、ピリジルチオ基などのヘテロアリールチオ基；
ベンジルチオ基、フェネチルチオ基などのＣ７〜１１アラルキルチオ基；
メチルスルフィニル基、エチルスルフィニル基、ｔ−ブチルスルフィニル基などのＣ１〜６アルキルスルフィニル基；
フェニルスルフィニル基などのＣ６〜１０アリールスルフィニル基；
チアゾリルスルフィニル基、ピリジルスルフィニル基などのヘテロアリールスルフィニル基；
ベンジルスルフィニル基、フェネチルスルフィニル基などのＣ７〜１１アラルキルスルフィニル基；
メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、ｔ−ブチルスルホニル基などのＣ１〜６アルキルスルホニル基；
フェニルスルホニル基などのＣ６〜１０アリールスルホニル基；
チアゾリルスルホニル基、ピリジルスルホニル基などのヘテロアリールスルホニル基；
ベンジルスルホニル基、フェネチルスルホニル基などのＣ７〜１１アラルキルスルホニル基；
アミノカルボニルオキシ基；
エチルアミノカルボニルオキシ基、ジメチルアミノカルボニルオキシ基などのＣ１〜６アルキル置換アミノカルボニルオキシ基；
【００２４】
トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、ｔ−ブチルジメチルシリル基などのトリＣ１〜６アルキル置換シリル基；
トリフェニルシリル基などのトリアリール置換シリル基；
シアノ基；ニトロ基；オキソ基
また、これらの「置換基」は、当該置換基中のいずれかの水素原子が、異なる構造の基で置換されていてもよい。
【００２５】
また、上記の「３〜６員ヘテロシクリル基」とは、窒素原子、酸素原子および硫黄原子からなる群から選ばれる１〜４個のヘテロ原子を環の構成原子として含むものである。ヘテロシクリル基は、単環および多環のいずれであってもよい。多環ヘテロシクリル基は、少なくとも一つの環がヘテロ環であれば、残りの環が飽和脂環、不飽和脂環または芳香環のいずれであってもよい。「３〜６員ヘテロシクリル基」としては、３〜６員飽和ヘテロシクリル基、５〜６員ヘテロアリール基、５〜６員部分不飽和ヘテロシクリル基などを挙げることができる。
【００２６】
３〜６員飽和ヘテロシクリル基としては、アジリジニル基、エポキシ基、ピロリジニル基、テトラヒドロフラニル基、チアゾリジニル基、ピペリジル基、ピペラジニル基、モルホリニル基、ジオキソラニル基、ジオキサニル基などを挙げることができる。
【００２７】
５員ヘテロアリール基としては、ピロリル基、フリル基、チエニル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、オキサゾリル基、イソオキサゾリル基、チアゾリル基、イソチアゾリル基、トリアゾリル基、オキサジアゾリル基、チアジアゾリル基、テトラゾリル基などを挙げることができる。
６員ヘテロアリール基としては、ピリジル基、ピラジニル基、ピリミジニル基、ピリダニジル基、トリアジニル基などを挙げることができる。
【００２８】
本発明のグアニジン化合物は、式〔I〕で表される化合物（以下、化合物〔I〕と表記することがある。）またはその塩である。
【００２９】
【化５】
2016195077.tif 000007
【００３０】
式〔I〕中、Ｙは、式〔II〕、式〔IIa〕、または式〔IIb〕で表される二価の基を示し、好ましくは式〔II〕で表される二価の基を示す。
【００３１】
【化６】
2016195077.tif 000008
【００３２】
式〔II〕中、Ｒ7〜Ｒ9は、それぞれ独立に、水素原子、ニトロ基、シアノ基、無置換の若しくは置換基を有する炭化水素基、無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリル基、ヒドロキシル基、無置換の若しくは置換基を有するアルコキシ基、無置換の若しくは置換基を有するアルコキシカルボニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールオキシ基、無置換の若しくは置換基を有するアミノ基、無置換の若しくは置換基を有するアルキルスルホニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールスルホニル基、無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリルスルホニル基、無置換の若しくは置換基を有するアルキルカルボニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールカルボニル基、または無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリルカルボニル基を示す。
【００３３】
式〔II〕中、＊は結合位置を示す。
【００３４】
Ｒ7〜Ｒ9における「炭化水素基」とは、炭化水素化合物中の水素原子１個が抜けて形成される基である。炭化水素化合物としては、メタン、エタン、プロパン、ブタン、ペンタン、ヘキサン、ヘプタンなどの飽和炭化水素化合物、エチレン、アセチレン、プロピレンなどの不飽和炭化水素化合物、シクロペンタン、シクロヘキサン、シクロヘキセンなどの脂環式炭化水素化合物、ベンゼン、ナフタレンなどの芳香族炭化水素化合物などを挙げることができる。これらの中でも、「炭化水素基」は、Ｃ１〜６アルキル基又はＣ６〜１０アリール基であることが好ましく、Ｃ１〜６アルキル基又はフェニル基であることがより好ましい。
【００３５】
Ｒ7〜Ｒ9における「ヘテロシクリル基」とは、複素環式化合物中の水素原子１個が抜けて形成される基である。ヘテロシクリル基としては、アジリジニル基、エポキシ基、ピロリジニル基、テトラヒドロフラニル基、チアゾリジニル基、ピペリジル基、ピペラジニル基、モルホリニル基、ジオキソラニル基、ジオキサニル基；ピロリル基、フリル基、チエニル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、オキサゾリル基、イソオキサゾリル基、チアゾリル基、イソチアゾリル基、トリアゾリル基、オキサジアゾリル基、チアジアゾリル基、テトラゾリル基、ピリジル基、ピラジニル基、ピリミジニル基、ピリダニジル基、トリアジニル基などを挙げることができる。
【００３６】
Ｒ7〜Ｒ9における「アルコキシ基」としては、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｓ−ブトキシ基、ｉ−ブトキシ基、ｔ−ブトキシ基などを挙げることができ、Ｃ１〜６アルコキシ基が好ましい。
【００３７】
Ｒ7〜Ｒ9における「アルコキシカルボニル基」としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｎ−プロポキシカルボニル基、ｉ−プロポキシカルボニル基、ｎ−ブトキシカルボニル基、ｓ−ブトキシカルボニル基、ｉ−ブトキシカルボニル基、ｔ−ブトキシカルボニル基などを挙げることができ、Ｃ１〜６アルコキシカルボニル基が好ましい。
【００３８】
Ｒ7〜Ｒ9における「アリールオキシ基」としては、フェノキシ基、ナフトキシ基などを挙げることができ、フェノキシ基が好ましい。
【００３９】
Ｒ7〜Ｒ9における「無置換の若しくは置換基を有するアミノ基」としては、アミノ基（ＮＨ2で表される基）；メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基などのＣ１〜６アルキル置換アミノ基；アニリノ基、ナフチルアミノ基などのＣ６〜１０アリールアミノ基；ベンジルアミノ基、フェネチルアミノ基などのＣ７〜１１アラルキルアミノ基；ホルミルアミノ基、アセチルアミノ基、プロパノイルアミノ基、ブチリルアミノ基、ｉ−プロピルカルボニルアミノ基、ベンゾイルアミノ基などのＣ１〜７アシルアミノ基；メトキシカルボニルアミノ基、エトキシカルボニルアミノ基、ｎ−プロポキシカルボニルアミノ基、ｉ−プロポキシカルボニルアミノ基などのＣ１〜６アルコキシカルボニルアミノ基などを挙げることができる。
【００４０】
Ｒ7〜Ｒ9における「アルキルスルホニル基」としては、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、ｎ−プロピルスルホニル基、ｉ−プロピルスルホニル基、ｎ−ブチルスルホニル基、ｓ−ブチルスルホニル基、ｉ−ブチルスルホニル基、ｔ−ブチルスルホニル基などを挙げることができ、Ｃ１〜６アルキルスルホニル基が好ましい。
【００４１】
Ｒ7〜Ｒ9における「アリールスルホニル基」としては、フェニルスルホニル基、ナフチルスルホニル基などを挙げることができ、フェニルスルホニル基が好ましい。
【００４２】
Ｒ7〜Ｒ9における「ヘテロシクリルスルホニル基」としては、アジリジニルスルホニル基、エポキシスルホニル基、ピロリジニルスルホニル基、テトラヒドロフラニルスルホニル基、チアゾリジニルスルホニル基、ピペリジルスルホニル基、ピペラジニルスルホニル基、モルホリニルスルホニル基、ジオキソラニルスルホニル基、ジオキサニルスルホニル基；ピロリルスルホニル基、フリルスルホニル基、チエニルスルホニル基、イミダゾリルスルホニル基、ピラゾリルスルホニル基、オキサゾリルスルホニル基、イソオキサゾリルスルホニル基、チアゾリルスルホニル基、イソチアゾリルスルホニル基、トリアゾリルスルホニル基、オキサジアゾリルスルホニル基、チアジアゾリルスルホニル基、テトラゾリルスルホニル基、ピリジルスルホニル基、ピラジニルスルホニル基、ピリミジニルスルホニル基、ピリダニジルスルホニル基、トリアジニルスルホニル基などを挙げることができる。
【００４３】
Ｒ7〜Ｒ9における「アルキルカルボニル基」としては、メチルカルボニル基、エチルカルボニル基、ｎ−プロピルカルボニル基、ｉ−プロピルカルボニル基、ｎ−ブチルカルボニル基、ｓ−ブチルカルボニル基、ｉ−ブチルカルボニル基、ｔ−ブチルカルボニル基などを挙げることができ、Ｃ１〜６アルキルカルボニル基が好ましい。また、置換基としては、上記の置換基の中でも、ハロゲノ基が好ましい。
【００４４】
Ｒ7〜Ｒ9における「アリールカルボニル基」としては、フェニルカルボニル基、ナフチルカルボニル基などを挙げることができ、フェニルカルボニル基が好ましい。
【００４５】
Ｒ7〜Ｒ9における「ヘテロシクリルカルボニル基」としては、アジリジニルカルボニル基、エポキシカルボニル基、ピロリジニルカルボニル基、テトラヒドロフラニルカルボニル基、チアゾリジニルカルボニル基、ピペリジルカルボニル基、ピペラジニルカルボニル基、モルホリニルカルボニル基、ジオキソラニルカルボニル基、ジオキサニルカルボニル基；ピロリルカルボニル基、フリルカルボニル基、チエニルカルボニル基、イミダゾリルカルボニル基、ピラゾリルカルボニル基、オキサゾリルカルボニル基、イソオキサゾリルカルボニル基、チアゾリルカルボニル基、イソチアゾリルカルボニル基、トリアゾリルカルボニル基、オキサジアゾリルカルボニル基、チアジアゾリルカルボニル基、テトラゾリルカルボニル基、ピリジルカルボニル基、ピラジニルカルボニル基、ピリミジニルカルボニル基、ピリダニジルカルボニル基、トリアジニルカルボニル基などを挙げることができる。
【００４６】
これらの中でも、式〔II〕中、Ｒ7〜Ｒ9は、それぞれ独立に、水素原子、ニトロ基、シアノ基、無置換の若しくは置換基を有する炭化水素基、無置換の若しくは置換基を有するアルコキシカルボニル基、または、無置換の若しくは置換基を有するアルキルカルボニル基であることが好ましい。
【００４７】
式〔II〕中、Ｒ8とＲ9、Ｒ７とＲ８、または、Ｒ７とＲ９は一緒になって二価の有機基を形成していてもよい。Ｒ8とＲ9が一緒になって二価の有機基を形成している場合としては、式〔III〕で表される二価の有機基を挙げることができる。
【００４８】
【化７】
2016195077.tif 000009
【００４９】
式〔III〕中、Ｒ51は、無置換の若しくは置換基を有するアルキレン基、無置換の若しくは置換基を有するアルケニレン基、無置換の若しくは置換基を有するフェニレン基を示す。
【００５０】
Ｒ51における「アルキレン基」としては、メチレン基、エチレン基、プロパン−１，３−ジイル基（別名：トリメチレン基）、プロパン−１，２−ジイル基（別名：プロピレン基）、ブタン−１，４−ジイル基、ブタン−１，３−ジイル基、ブタン−１，２−ジイル基、ペンタン−１，５−ジイル基、ヘキサン−１，６−ジイル基、ヘプタン−１，７−ジイル基、オクタン−１，８−ジイル基などを挙げることができ、好ましくは、エチレン基である。
【００５１】
Ｒ51における「アルケニレン基」としては、エテン−１，２−ジイル基（−ＣＨ＝ＣＨ−）基、プロペニレン基、２−ブテニレン基などを挙げることができ、好ましくはエテン−１，２−ジイル基である。
【００５２】
Ｒ51における「フェニレン基」としては、１，２−フェニレン基などを挙げることができる。
【００５３】
Ｒ51における「アルキレン基」、「アルケニレン基」上の置換基としては、Ｃ１〜６アルキル基、Ｃ６〜１０アリール基、ヒドロキシル基、Ｃ１〜６アルコキシ基、Ｃ６〜１０アリールオキシ基、カルボキシル基、ハロゲノ基、Ｃ１〜６ハロアルキル基、Ｃ６〜１０ハロアリール基、Ｃ１〜６ハロアルコキシ基、アミノ基（ＮＨ2で表される基）、Ｃ１〜６アルキル置換アミノ基、Ｃ６〜１０アリールアミノ基、Ｃ１〜７アシルアミノ基、Ｃ１〜６アルキルチオ基、Ｃ６〜１０アリールチオ基、ヘテロアリールチオ基、Ｃ１〜６アルキルスルフィニル基、Ｃ１〜６アルキルスルホニル基、Ｃ６〜１０アリールスルホニル基、ヘテロアリールスルホニル基、シアノ基、オキソ基などが好ましく、Ｃ１〜６アルキル基又はＣ６〜１０アリール基（フェニル基）がより好ましい。
【００５４】
Ｒ51における「フェニレン基」上の置換基としては、Ｃ１〜６アルキル基、Ｃ３〜８シクロアルキル基、Ｃ６〜１０アリール基、３〜６員ヘテロシクリル基、ヒドロキシル基、Ｃ１〜６アルコキシ基、Ｃ６〜１０アリールオキシ基、カルボキシル基、ハロゲノ基、Ｃ１〜６ハロアルキル基、Ｃ６〜１０ハロアリール基、Ｃ１〜６ハロアルコキシ基、アミノ基（ＮＨ2で表される基）、Ｃ１〜６アルキル置換アミノ基、Ｃ６〜１０アリールアミノ基、Ｃ１〜７アシルアミノ基、Ｃ１〜６アルコキシカルボニルアミノ基、Ｃ１〜６アルキルチオ基、Ｃ６〜１０アリールチオ基、ヘテロアリールチオ基、Ｃ７〜１１アラルキルチオ基、Ｃ１〜６アルキルスルフィニル基、Ｃ６〜１０アリールスルフィニル基、ヘテロアリールスルフィニル基、Ｃ７〜１１アラルキルスルフィニル基、Ｃ１〜６アルキルスルホニル基、Ｃ６〜１０アリールスルホニル基、ヘテロアリールスルホニル基、シアノ基、ニトロ基などが好ましい。
【００５５】
式〔III〕中、Ｒ50は、それぞれ独立に、水素原子、ニトロ基、シアノ基、無置換の若しくは置換基を有する炭化水素基、無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリル基、ヒドロキシル基、無置換の若しくは置換基を有するアルコキシ基、無置換の若しくは置換基を有するアルコキシカルボニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールオキシ基、無置換の若しくは置換基を有するアミノ基、無置換の若しくは置換基を有するアルキルスルホニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールスルホニル基、無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリルスルホニル基、無置換の若しくは置換基を有するアルキルカルボニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールカルボニル基、または無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリルカルボニル基を示す。
【００５６】
式〔III〕中、Ｒ50における「炭化水素基」、「ヘテロシクリル基」、「アルコキシ基」、「アルコキシカルボニル基」、「アリールオキシ基」、「無置換の若しくは置換基を有するアミノ基」、「アルキルスルホニル基」、「アリールスルホニル基」、「ヘテロシクリルスルホニル基」、「アルキルカルボニル基」、「アリールカルボニル基」、「ヘテロシクリルカルボニル基」としては、式〔II〕中のＲ7〜Ｒ9についての説明で例示したものと同じものをそれぞれ挙げることができる。これらの中でも、Ｒ50は、水素原子、ニトロ基、無置換の若しくは置換基を有するアルキルカルボニル基であることが好ましく、水素原子、ニトロ基、Ｃ１〜６アルキルカルボニル基、又は、Ｃ１〜６ハロアルキルカルボニル基であることがより好ましい。
【００５７】
式〔III〕中、＊は結合位置を示す。
【００５８】
また、Ｒ８とＸ上の置換基は一緒になって二価の有機基（例えばＣ１〜３アルキレン基）を形成していてもよい。
【００５９】
【化８】
2016195077.tif 000010
【００６０】
式〔IIa〕、式〔IIb〕中、Ｒ10〜Ｒ15は、それぞれ独立に、水素原子、ニトロ基、シアノ基、無置換の若しくは置換基を有する炭化水素基、無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリル基、ヒドロキシル基、無置換の若しくは置換基を有するアルコキシ基、無置換の若しくは置換基を有するアルコキシカルボニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールオキシ基、無置換の若しくは置換基を有するアミノ基、無置換の若しくは置換基を有するアルキルスルホニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールスルホニル基、無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリルスルホニル基、無置換の若しくは置換基を有するアルキルカルボニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールカルボニル基、または無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリルカルボニル基を示す。
【００６１】
式〔IIa〕、式〔IIb〕中、＊は結合位置を示す。
【００６２】
Ｒ10〜Ｒ15における「炭化水素基」とは、炭化水素化合物中の水素原子１個が抜けて形成される基である。炭化水素化合物としては、メタン、エタン、プロパン、ブタン、ペンタン、ヘキサン、ヘプタンなどの飽和炭化水素化合物、エチレン、アセチレン、プロピレンなどの不飽和炭化水素化合物、シクロペンタン、シクロヘキサン、シクロヘキセンなどの脂環式炭化水素化合物、ベンゼン、ナフタレンなどの芳香族炭化水素化合物などを挙げることができる。
【００６３】
Ｒ10〜Ｒ15における「ヘテロシクリル基」とは、複素環式化合物中の水素原子１個が抜けて形成される基である。ヘテロシクリル基としては、アジリジニル基、エポキシ基、ピロリジニル基、テトラヒドロフラニル基、チアゾリジニル基、ピペリジル基、ピペラジニル基、モルホリニル基、ジオキソラニル基、ジオキサニル基；ピロリル基、フリル基、チエニル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、オキサゾリル基、イソオキサゾリル基、チアゾリル基、イソチアゾリル基、トリアゾリル基、オキサジアゾリル基、チアジアゾリル基、テトラゾリル基、ピリジル基、ピラジニル基、ピリミジニル基、ピリダニジル基、トリアジニル基などを挙げることができる。
【００６４】
Ｒ10〜Ｒ15における「アルコキシ基」としては、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｓ−ブトキシ基、ｉ−ブトキシ基、ｔ−ブトキシ基などを挙げることができる。
【００６５】
Ｒ10〜Ｒ15における「アルコキシカルボニル基」としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｎ−プロポキシカルボニル基、ｉ−プロポキシカルボニル基、ｎ−ブトキシカルボニル基、ｓ−ブトキシカルボニル基、ｉ−ブトキシカルボニル基、ｔ−ブトキシカルボニル基などを挙げることができる。
【００６６】
Ｒ10〜Ｒ15における「アリールオキシ基」としては、フェノキシ基、ナフトキシ基などを挙げることができる。
【００６７】
Ｒ10〜Ｒ15における「無置換の若しくは置換基を有するアミノ基」としては、アミノ基（ＮＨ2で表される基）、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基などのＣ１〜６アルキル置換アミノ基；アニリノ基、ナフチルアミノ基などのＣ６〜１０アリールアミノ基；ベンジルアミノ基、フェネチルアミノ基などのＣ７〜１１アラルキルアミノ基；ホルミルアミノ基、アセチルアミノ基、プロパノイルアミノ基、ブチリルアミノ基、ｉ−プロピルカルボニルアミノ基、ベンゾイルアミノ基などのＣ１〜７アシルアミノ基；メトキシカルボニルアミノ基、エトキシカルボニルアミノ基、ｎ−プロポキシカルボニルアミノ基、ｉ−プロポキシカルボニルアミノ基などのＣ１〜６アルコキシカルボニルアミノ基などを挙げることができる。
【００６８】
Ｒ10〜Ｒ15における「アルキルスルホニル基」としては、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、ｎ−プロピルスルホニル基、ｉ−プロピルスルホニル基、ｎ−ブチルスルホニル基、ｓ−ブチルスルホニル基、ｉ−ブチルスルホニル基、ｔ−ブチルスルホニル基などを挙げることができる。
【００６９】
Ｒ10〜Ｒ15における「アリールスルホニル基」としては、フェニルスルホニル基、ナフチルスルホニル基などを挙げることができる。
【００７０】
Ｒ10〜Ｒ15における「ヘテロシクリルスルホニル基」としては、アジリジニルスルホニル基、エポキシスルホニル基、ピロリジニルスルホニル基、テトラヒドロフラニルスルホニル基、チアゾリジニルスルホニル基、ピペリジルスルホニル基、ピペラジニルスルホニル基、モルホリニルスルホニル基、ジオキソラニルスルホニル基、ジオキサニルスルホニル基；ピロリルスルホニル基、フリルスルホニル基、チエニルスルホニル基、イミダゾリルスルホニル基、ピラゾリルスルホニル基、オキサゾリルスルホニル基、イソオキサゾリルスルホニル基、チアゾリルスルホニル基、イソチアゾリルスルホニル基、トリアゾリルスルホニル基、オキサジアゾリルスルホニル基、チアジアゾリルスルホニル基、テトラゾリルスルホニル基、ピリジルスルホニル基、ピラジニルスルホニル基、ピリミジニルスルホニル基、ピリダニジルスルホニル基、トリアジニルスルホニル基などを挙げることができる。
【００７１】
Ｒ10〜Ｒ15における「アルキルカルボニル基」としては、メチルカルボニル基、エチルカルボニル基、ｎ−プロピルカルボニル基、ｉ−プロピルカルボニル基、ｎ−ブチルカルボニル基、ｓ−ブチルカルボニル基、ｉ−ブチルカルボニル基、ｔ−ブチルカルボニル基などを挙げることができる。
【００７２】
Ｒ10〜Ｒ15における「アリールカルボニル基」としては、フェニルカルボニル基、ナフチルカルボニル基などを挙げることができる。
【００７３】
Ｒ10〜Ｒ15における「ヘテロシクリルカルボニル基」としては、アジリジニルカルボニル基、エポキシカルボニル基、ピロリジニルカルボニル基、テトラヒドロフラニルカルボニル基、チアゾリジニルカルボニル基、ピペリジルカルボニル基、ピペラジニルカルボニル基、モルホリニルカルボニル基、ジオキソラニルカルボニル基、ジオキサニルカルボニル基；ピロリルカルボニル基、フリルカルボニル基、チエニルカルボニル基、イミダゾリルカルボニル基、ピラゾリルカルボニル基、オキサゾリルカルボニル基、イソオキサゾリルカルボニル基、チアゾリルカルボニル基、イソチアゾリルカルボニル基、トリアゾリルカルボニル基、オキサジアゾリルカルボニル基、チアジアゾリルカルボニル基、テトラゾリルカルボニル基、ピリジルカルボニル基、ピラジニルカルボニル基、ピリミジニルカルボニル基、ピリダニジルカルボニル基、トリアジニルカルボニル基などを挙げることができる。
【００７４】
式〔IIa〕、式〔IIb〕中、Ｒ10とＲ11、Ｒ10とＲ12、Ｒ13とＲ14、Ｒ14とＲ15は一緒になって二価の有機基を形成していてもよい。
【００７５】
これらの中でも、Ｒ10〜Ｒ15は、それぞれ独立に、水素原子、Ｃ１〜６アルキル基、又はフェニル基を示すことが好ましい。
【００７６】
式〔I〕中、ＸおよびＺは、それぞれ独立に、無置換の若しくは置換基を有するアルキレン基、無置換の若しくは置換基を有するアルケニレン基、無置換の若しくは置換基を有するアルキニレン基、−Ｔa−Ｏ−Ｔb−、−Ｔａ−Ｓ−Ｔｂ−または−Ｔa−Ｎ（Ｒ21）−Ｔb−を示す。ＴaおよびＴbは、それぞれ独立に、単結合、または無置換の若しくは置換基を有するアルキレン基を示し、Ｒ21は、水素原子、無置換の若しくは置換基を有する炭化水素基、無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリル基、ヒドロキシル基、無置換の若しくは置換基を有するアルコキシ基、無置換の若しくは置換基を有するアルコキシカルボニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールオキシ基、無置換の若しくは置換基を有するアミノ基、無置換の若しくは置換基を有するアルキルスルホニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールスルホニル基、無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリルスルホニル基、無置換の若しくは置換基を有するアルキルカルボニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールカルボニル基、または無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリルカルボニル基を示す。
【００７７】
Ｒ21における「炭化水素基」、「ヘテロシクリル基」、「アルコキシ基」、「アルコキシカルボニル基」、「アリールオキシ基」、「無置換の若しくは置換基を有するアミノ基」、「アルキルスルホニル基」、「アリールスルホニル基」、「ヘテロシクリルスルホニル基」、「アルキルカルボニル基」、「アリールカルボニル基」、「ヘテロシクリルカルボニル基」としては、式〔II〕中のＲ7〜Ｒ9についての説明で例示したものと同じものをそれぞれ挙げることができる。
【００７８】
ＸおよびＺにおける「アルキレン基」としては、式〔III〕中のＲ51についての説明で例示したものを挙げることができ、Ｃ１〜１０アルキレン基であることが好ましい。
【００７９】
ＸおよびＺにおける「アルケニレン基」としては、式〔III〕中のＲ51についての説明で例示したものと同じものを挙げることができる。
【００８０】
ＸおよびＺにおける「アルキニレン基」としては、エチニレン基、２−ブチニレン基などを挙げることができる。
【００８１】
ＸおよびＺにおける「アルキレン基」、「アルケニレン基」、「アルキニレン基」上の置換基としては、Ｃ１〜６アルキル基、Ｃ６〜１０アリール基、ヒドロキシル基、Ｃ１〜６アルコキシ基、Ｃ６〜１０アリールオキシ基、カルボキシル基、ハロゲノ基、Ｃ１〜６ハロアルキル基、Ｃ６〜１０ハロアリール基、Ｃ１〜６ハロアルコキシ基、アミノ基（ＮＨ2で表される基）、Ｃ１〜６アルキル置換アミノ基、Ｃ６〜１０アリールアミノ基、Ｃ１〜７アシルアミノ基、Ｃ１〜６アルキルチオ基、Ｃ６〜１０アリールチオ基、ヘテロアリールチオ基、Ｃ１〜６アルキルスルフィニル基、Ｃ１〜６アルキルスルホニル基、Ｃ６〜１０アリールスルホニル基、ヘテロアリールスルホニル基、シアノ基、オキソ基などが好ましい。
【００８２】
これらの中でも、ＸおよびＺは、それぞれ独立に、無置換の若しくは置換基を有するアルキレン基、または、−Ｔa−Ｏ−Ｔb−（ＴaおよびＴbは、それぞれ独立に、単結合、または無置換の若しくは置換基を有するＣ１〜６アルキレン基を示す）であることが好ましい。
【００８３】
式〔I〕中、Ｑ1およびＱ2は、それぞれ独立に、単結合、無置換の若しくは置換基を有するフェニレン基、エテン−１，２−ジイル基（−ＣＨ＝ＣＨ−）、エチン−１，２−ジイル基（−Ｃ≡Ｃ−）、オキシ基（−Ｏ−）、チオ基（−Ｓ−）、スルフィニル基（−ＳＯ−）、スルホニル基（−ＳＯ2−）、または無置換若しくはＮ−置換イミノ基（−Ｎ（Ｒ22）−）を示す。
【００８４】
Ｑ1およびＱ2における「フェニレン基」上の置換基としては、式〔III〕中Ｒ51における、フェニレン基上の置換基の説明で例示したものと同じものを挙げることができる。
【００８５】
Ｒ22は、水素原子、無置換の若しくは置換基を有する炭化水素基、無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリル基、ヒドロキシル基、無置換の若しくは置換基を有するアルコキシ基、無置換の若しくは置換基を有するアルコキシカルボニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールオキシ基、無置換の若しくは置換基を有するアミノ基、無置換の若しくは置換基を有するアルキルスルホニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールスルホニル基、無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリルスルホニル基、無置換の若しくは置換基を有するアルキルカルボニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールカルボニル基、または無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリルカルボニル基を示す。
【００８６】
Ｒ22における「炭化水素基」、「ヘテロシクリル基」、「アルコキシ基」、「アルコキシカルボニル基」、「アリールオキシ基」、「無置換の若しくは置換基を有するアミノ基」、「アルキルスルホニル基」、「アリールスルホニル基」、「ヘテロシクリルスルホニル基」、「アルキルカルボニル基」、「アリールカルボニル基」、「ヘテロシクリルカルボニル基」としては、式〔II〕中のＲ7〜Ｒ9についての説明で例示したものと同じものをそれぞれ挙げることができる。
【００８７】
これらの中でも、Ｑ1およびＱ2は、それぞれ独立に、単結合、エテン−１，２−ジイル基（−ＣＨ＝ＣＨ−）、エチン−１，２−ジイル基（−Ｃ≡Ｃ−）、オキシ基（−Ｏ−）、又は、チオ基（−Ｓ−）を示すことが好ましい。
【００８８】
式〔I〕中、Ａ1およびＡ2は、それぞれ独立に、無置換の若しくは置換基を有する二価の複素環式化合物残基、無置換の若しくは置換基を有する二価の芳香族炭化水素残基、または−Ｎ（Ｒ23）−を示す。Ｒ23は、水素原子、無置換の若しくは置換基を有する炭化水素基、無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリル基、ヒドロキシル基、無置換の若しくは置換基を有するアルコキシ基、無置換の若しくは置換基を有するアルコキシカルボニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールオキシ基、無置換の若しくは置換基を有するアミノ基、無置換の若しくは置換基を有するアルキルスルホニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールスルホニル基、無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリルスルホニル基、無置換の若しくは置換基を有するアルキルカルボニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールカルボニル基、または無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリルカルボニル基を示す。
【００８９】
Ａ1およびＡ2における「二価の複素環式化合物残基」とは、複素環式化合物中の水素原子２個が抜けて形成される基である。複素環式化合物は単環の複素環式化合物および多環の複素環式化合物のいずれであってもよい。単環の複素環式化合物としては、五員環の複素環式化合物、六員環の複素環式化合物などを挙げることができる。多環の複素環式化合物は、少なくとも一つの環が複素環であれば、残りの環が飽和脂環、不飽和脂環または芳香環のいずれであってもよい。
「複素環式化合物」は、窒素原子、酸素原子および硫黄原子からなる群から選ばれる１〜４個のヘテロ原子を環の構成原子として含む環状化合物である。
「単環の複素環式化合物」としては、イミダゾール、ピラゾール、オキサゾール、チアゾール、トリアゾール、テトラゾール、ピロール、フラン、チオフェンなどの五員芳香族複素環式化合物（好ましくは、チアゾール又はチオフェン）や、ピリジン、ピラジン、ピリミジン、ピリダジン、トリアジンなどの六員芳香族複素環式化合物（好ましくは、ピリジン又はピリダジン）や、ピロリジン、テトラヒドロフラン、テトラヒドロチオフェン、チアゾリンなどの五員飽和複素環式化合物や、ピペリジン、テトラヒドロピラン、テトラヒドロチオピランなどの六員飽和複素環式化合物や、ピロリン、イミダゾリン、ピラゾリン、オキサゾリン、イソオキサゾリンなどの五員部分不飽和複素環式化合物などを挙げることができる。
「多環の複素環式化合物」としては、ベンゾフラン、ベンゾチオフェン、インドール、イソインドール、ベンズイミダゾール、プリン、キノリン、イソキノリン、キノキサリン、シンノリン、プテリジン、クロメン、イソクロメンなどを挙げることができ、ベンゾフランが好ましい。
これらの中でも、五員芳香族複素環式化合物、六員芳香族複素環式化合物、又は多環の複素環式化合物が好ましく、六員芳香族複素環式化合物又は多環の複素環式化合物がより好ましく、ピリジンまたはベンゾフランがより更に好ましい。
【００９０】
Ａ1およびＡ2における「二価の芳香族炭化水素残基」は、芳香族炭化水素中の水素原子２個が抜けて形成される基である。芳香族炭化水素は単環および多環のいずれであってもよい。多環の芳香族炭化水素は、少なくとも一つの環が芳香環であれば、残りの環が飽和脂環、不飽和脂環または芳香環のいずれであってもよい。
「芳香族炭化水素」としては、ベンゼン、ナフタレン、アズレン、インデン、インダン、テトラリンなどを挙げることができる。これらのうち、ベンゼン又はナフタレンが好ましく、ベンゼンがより好ましい。
【００９１】
「二価の複素環式化合物残基」および「二価の芳香族炭化水素残基」上の置換基としては、Ｃ１〜６アルキル基、Ｃ３〜８シクロアルキル基、Ｃ６〜１０アリール基、３〜６員ヘテロシクリル基、ヒドロキシル基、Ｃ１〜６アルコキシ基、Ｃ６〜１０アリールオキシ基、カルボキシル基、ハロゲノ基、Ｃ１〜６ハロアルキル基、Ｃ６〜１０ハロアリール基、Ｃ１〜６ハロアルコキシ基、アミノ基（ＮＨ2で表される基）、Ｃ１〜６アルキル置換アミノ基、Ｃ６〜１０アリールアミノ基、Ｃ１〜７アシルアミノ基、Ｃ１〜６アルコキシカルボニルアミノ基、Ｃ１〜６アルキルチオ基、Ｃ６〜１０アリールチオ基、ヘテロアリールチオ基、Ｃ７〜１１アラルキルチオ基、Ｃ１〜６アルキルスルフィニル基、Ｃ６〜１０アリールスルフィニル基、ヘテロアリールスルフィニル基、Ｃ７〜１１アラルキルスルフィニル基、Ｃ１〜６アルキルスルホニル基、Ｃ６〜１０アリールスルホニル基、ヘテロアリールスルホニル基、シアノ基、ニトロ基などが好ましく、Ｃ１〜６アルキル基、又は、ハロゲノ基がより好ましい。
【００９２】
Ｒ23における「炭化水素基」、「ヘテロシクリル基」、「アルコキシ基」、「アルコキシカルボニル基」、「アリールオキシ基」、「無置換の若しくは置換基を有するアミノ基」、「アルキルスルホニル基」、「アリールスルホニル基」、「ヘテロシクリルスルホニル基」、「アルキルカルボニル基」、「アリールカルボニル基」、「ヘテロシクリルカルボニル基」としては、式〔II〕中のＲ7〜Ｒ9についての説明で例示したものと同じものをそれぞれ挙げることができる。これらの中でも、Ｒ23は、好ましくは水素原子を示す。
【００９３】
Ｒ1〜Ｒ6は、それぞれ独立に、水素原子、無置換の若しくは置換基を有する炭化水素基、無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリル基、ヒドロキシル基、無置換の若しくは置換基を有するアルコキシ基、無置換の若しくは置換基を有するアルコキシカルボニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールオキシ基、無置換の若しくは置換基を有するアミノ基、無置換の若しくは置換基を有するアルキルスルホニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールスルホニル基、無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリルスルホニル基、無置換の若しくは置換基を有するアルキルカルボニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールカルボニル基、または無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリルカルボニル基を示す。Ｒ1とＲ2とが結合してそれらがそれぞれ結合する二つの窒素原子および該二つの窒素原子が結合する一つの炭素原子と伴に４〜８員環を形成していてもよいし、Ｒ2とＲ3とが結合してそれらが結合する一つの窒素原子と伴に４〜８員環を形成していてもよいし、Ｒ4とＲ5とが結合してそれらがそれぞれ結合する二つの窒素原子および該二つの窒素原子が結合する一つの炭素原子と伴に４〜８員環を形成していてもよいし、またはＲ5とＲ6とが結合してそれらが結合する一つの窒素原子と伴に４〜８員環を形成していてもよい。
【００９４】
Ｒ1とＲ2とが結合してそれらがそれぞれ結合する二つの窒素原子および該二つの窒素原子が結合する一つの炭素原子と伴に４〜８員環を形成している場合として、具体的には、式〔IV-1〕、式〔IV-2〕、式〔IV-3〕などを挙げることができる。
【００９５】
【化９】
2016195077.tif 000011
【００９６】
式〔IV-1〕、式〔IV-2〕、式〔IV-3〕中、Ｒ３は前述のとおりのものである。
【００９７】
式〔IV-1〕、式〔IV-2〕、式〔IV-3〕中、Ｒ７１はそれぞれ独立に、無置換の若しくは置換基を有する炭化水素基、無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリル基、ヒドロキシル基、無置換の若しくは置換基を有するアルコキシ基、無置換の若しくは置換基を有するアルコキシカルボニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールオキシ基、無置換の若しくは置換基を有するアミノ基、無置換の若しくは置換基を有するアルキルスルホニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールスルホニル基、無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリルスルホニル基、無置換の若しくは置換基を有するアルキルカルボニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールカルボニル基、または無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリルカルボニル基を示す。
【００９８】
Ｒ７１における「炭化水素基」、「ヘテロシクリル基」、「アルコキシ基」、「アルコキシカルボニル基」、「アリールオキシ基」、「無置換の若しくは置換基を有するアミノ基」、「アルキルスルホニル基」、「アリールスルホニル基」、「ヘテロシクリルスルホニル基」、「アルキルカルボニル基」、「アリールカルボニル基」、「ヘテロシクリルカルボニル基」としては、式〔II〕中のＲ7〜Ｒ9についての説明で例示したものと同じものをそれぞれ挙げることができる。これらの中でも、Ｒ７１はそれぞれ独立に、無置換の若しくは置換基を有するＣ１〜６アルキル基、無置換の若しくは置換基を有するＣ１〜６アルコキシカルボニル基、又は、無置換の若しくは置換基を有するアミノ基（好ましくは無置換のアミノ基）を示すことが好ましい。
【００９９】
式〔IV-1〕、式〔IV-2〕、式〔IV-3〕中、ｎは、置換基Ｒ７１の数を示し、０〜４のいずれかの整数を示し、好ましくは０〜２のいずれかの整数を示す。
【０１００】
式〔IV-1〕、式〔IV-2〕、式〔IV-3〕中、＊はＡ１との結合部位を示す。
【０１０１】
Ｒ4とＲ5とが結合してそれらがそれぞれ結合する二つの窒素原子および該二つの窒素原子が結合する一つの炭素原子と伴に４〜８員環を形成している場合として、具体的には、式〔V-1〕、式〔V-2〕、式〔V-3〕などを挙げることができる。
【０１０２】
【化１０】
2016195077.tif 000012
【０１０３】
式〔V-1〕、式〔V-2〕、式〔V-3〕中、Ｒ６は前述のとおりのものである。
【０１０４】
式〔V-1〕、式〔V-2〕、式〔V-3〕中、Ｒ８１はそれぞれ独立に、無置換の若しくは置換基を有する炭化水素基、無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリル基、ヒドロキシル基、無置換の若しくは置換基を有するアルコキシ基、無置換の若しくは置換基を有するアルコキシカルボニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールオキシ基、無置換の若しくは置換基を有するアミノ基、無置換の若しくは置換基を有するアルキルスルホニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールスルホニル基、無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリルスルホニル基、無置換の若しくは置換基を有するアルキルカルボニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールカルボニル基、または無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリルカルボニル基を示す。
【０１０５】
Ｒ81における「炭化水素基」、「ヘテロシクリル基」、「アルコキシ基」、「アルコキシカルボニル基」、「アリールオキシ基」、「無置換の若しくは置換基を有するアミノ基」、「アルキルスルホニル基」、「アリールスルホニル基」、「ヘテロシクリルスルホニル基」、「アルキルカルボニル基」、「アリールカルボニル基」、「ヘテロシクリルカルボニル基」としては、前記置換基Ｒ７１と同じものをそれぞれ挙げることができる。
【０１０６】
式〔V-1〕、式〔V-2〕、式〔V-3〕中、ｍは、置換基Ｒ８１の数を示し、０〜４のいずれかの整数を示し、好ましくは０〜２のいずれかの整数を示す。
【０１０７】
式〔V-1〕、式〔V-2〕、式〔V-3〕中、＊はＡ２との結合部位を示す。
【０１０８】
Ｒ1〜Ｒ6における「炭化水素基」、「ヘテロシクリル基」、「アルコキシ基」、「アルコキシカルボニル基」、「アリールオキシ基」、「無置換の若しくは置換基を有するアミノ基」、「アルキルスルホニル基」、「アリールスルホニル基」、「ヘテロシクリルスルホニル基」、「アルキルカルボニル基」、「アリールカルボニル基」、「ヘテロシクリルカルボニル基」としては、式〔II〕中のＲ7〜Ｒ9についての説明で例示したものと同じものをそれぞれ挙げることができる。
【０１０９】
これらの中でも、Ｒ1〜Ｒ6は、それぞれ独立に、水素原子、無置換の若しくは置換基を有する炭化水素基（無置換の若しくはＣ１〜６アルキル置換アミノ基で置換されたＣ１〜６アルキル基）、無置換の若しくは置換基を有するＣ１〜６アルコキシカルボニル基、無置換の若しくは置換基を有するＣ１〜６アルキルカルボニル基、であることが好ましく、あるいは、Ｒ1とＲ2、もしくは、Ｒ４とＲ５とが結合してそれらがそれぞれ結合する二つの窒素原子および該二つの窒素原子が結合する一つの炭素原子と伴に４〜８員環を形成することが好ましい。
【０１１０】
Ａ1および／またはＡ２が−Ｎ（Ｒ23）−を示す時、Ｒ23とＲ２、もしくは、Ｒ23とＲ５とが結合して、それらがそれぞれ結合する二つの窒素原子及び該二つの窒素原子が結合する炭素原子と共に、４〜６員環（好ましくは５員環）を形成していてもよい。
【０１１１】
式〔I〕で表される化合物として具体的に、以下で示す化合物を挙げることができる。
【０１１２】
【化１１】
2016195077.tif 000013
【０１１３】
【表１】
2016195077.tif 000014
【０１１４】
【表２】
2016195077.tif 000015
【０１１５】
【表３】
2016195077.tif 000016
【０１１６】
【表４】
2016195077.tif 000017
【０１１７】
【表５】
2016195077.tif 000018
【０１１８】
【化１２】
2016195077.tif 000019
【０１１９】
【表６】
2016195077.tif 000020
【０１２０】
【表７】
2016195077.tif 000021
【０１２１】
【表８】
2016195077.tif 000022
【０１２２】
【表９】
2016195077.tif 000023
【０１２３】
【表１０】
2016195077.tif 000024
【０１２４】
【化１３】
2016195077.tif 000025
【０１２５】
【表１１】
2016195077.tif 000026
【０１２６】
【表１２】
2016195077.tif 000027
【０１２７】
【表１３】
2016195077.tif 000028
【０１２８】
【表１４】
2016195077.tif 000029
【０１２９】
【化１４】
2016195077.tif 000030
【０１３０】
【表１５】
2016195077.tif 000031
【０１３１】
【表１６】
2016195077.tif 000032
【０１３２】
【表１７】
2016195077.tif 000033
【０１３３】
【表１８】
2016195077.tif 000034
【０１３４】
【化１５】
2016195077.tif 000035
【０１３５】
【表１９】
2016195077.tif 000036
【０１３６】
【表２０】
2016195077.tif 000037
【０１３７】
【表２１】
2016195077.tif 000038
【０１３８】
【表２２】
2016195077.tif 000039
【０１３９】
【表２３】
2016195077.tif 000040
【０１４０】
【化１６】
2016195077.tif 000041
【０１４１】
【表２４】
2016195077.tif 000042
【０１４２】
【表２５】
2016195077.tif 000043
【０１４３】
【表２６】
2016195077.tif 000044
【０１４４】
【表２７】
2016195077.tif 000045
【０１４５】
【表２８】
2016195077.tif 000046
【０１４６】
【化１７】
2016195077.tif 000047
【０１４７】
【表２９】
2016195077.tif 000048
【０１４８】
【表３０】
2016195077.tif 000049
【０１４９】
【表３１】
2016195077.tif 000050
【０１５０】
【化１８】
2016195077.tif 000051
【０１５１】
【表３２】
2016195077.tif 000052
【０１５２】
【化１９】
2016195077.tif 000053
【０１５３】
【表３３】
2016195077.tif 000054
【０１５４】
【表３４】
2016195077.tif 000055
【０１５５】
【表３５】
2016195077.tif 000056
【０１５６】
【化２０】
2016195077.tif 000057
【０１５７】
【表３６】
2016195077.tif 000058
【０１５８】
【表３７】
2016195077.tif 000059
【０１５９】
【表３８】
2016195077.tif 000060
【０１６０】
【表３９】
2016195077.tif 000061
【０１６１】
【表４０】
2016195077.tif 000062
【０１６２】
【化２１】
2016195077.tif 000063
【０１６３】
【表４１】
2016195077.tif 000064
【０１６４】
【表４２】
2016195077.tif 000065
【０１６５】
【表４３】
2016195077.tif 000066
【０１６６】
【表４４】
2016195077.tif 000067
【０１６７】
【表４５】
2016195077.tif 000068
【０１６８】
【化２２】
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【０１６９】
【表４６】
2016195077.tif 000070
【０１７０】
【表４７】
2016195077.tif 000071
【０１７１】
【化２３】
2016195077.tif 000072
【０１７２】
【表４８】
2016195077.tif 000073
【０１７３】
【表４９】
2016195077.tif 000074
【０１７４】
【化２４】
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【０１７５】
【表５０】
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【０１７６】
【表５１】
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【０１７７】
【表５２】
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【０１７８】
【化２５】
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【０１７９】
【表５３】
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【０１８０】
【表５４】
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【０１８１】
【表５５】
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【０１８２】
【化２６】
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【０１８３】
【表５６】
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【０１８４】
【表５７】
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【０１８５】
【化２７】
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【０１８６】
【表５８】
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【０１８７】
【表５９】
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【０１８８】
【化２８】
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【０１８９】
【表６０】
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【０１９０】
【表６１】
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【０１９１】
【表６２】
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【０１９２】
【表６３】
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【０１９３】
【表６４】
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【０１９４】
【化２９】
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【０１９５】
【表６５】
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【０１９６】
【表６６】
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【０１９７】
【表６７】
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【０１９８】
【表６８】
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【０１９９】
【表６９】
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【０２００】
【化３０】
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【０２０１】
【表７０】
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【０２０２】
【表７１】
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【０２０３】
【化３１】
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【０２０４】
【表７２】
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【０２０５】
【表７３】
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【０２０６】
本発明に係る化合物〔I〕には、水和物、各種溶媒和物や結晶多形などが含まれる。さらに、本発明に係る化合物〔I〕は、不斉炭素原子、二重結合などに基づく立体異性体、互変異性体およびそれらの混合物を包含する。
【０２０７】
本発明に係る化合物〔I〕の塩は、農園芸学的に許容される塩であれば、特に制限されない。例えば、塩酸、硫酸などの無機酸の塩；酢酸、乳酸などの有機酸の塩；リチウム、ナトリウム、カリウムなどのアルカリ金属の塩；カルシウム、マグネシウムなどのアルカリ土類金属の塩；鉄、銅などの遷移金属の塩；アンモニア、トリエチルアミン、トリブチルアミン、ピリジン、ヒドラジンなどの有機塩基の塩などを挙げることができる。化合物〔I〕の塩は、化合物〔I〕から公知の手法によって得ることができる。
【０２０８】
つぎに、式〔I〕で表されるアミジン化合物およびその塩の製造例を示す。なお、以下に示す製造例は本発明を説明するためだけのものであって、本発明の範囲を制限するものではない。
【０２０９】
製造例１
環状グアニジン化合物（１）と、化合物（２）を反応させることにより、化合物（３）を得ることができる。化合物（３）とハロゲン化合物（４）を反応させて化合物（５）を得ることができる。グアニジン誘導体（６）と化合物（５）を反応させることで化合物（７）を得ることができる。化合物（７）の保護基Ｐと保護基Ｐ’を脱保護することにより、本発明に係るグアニジン化合物（８）を得ることができる。
【０２１０】
【化３２】
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【０２１１】
式中、Ａ1、Ｑ1、Ｘ、Ｚ、Ｒ51は、前述のとおりのものである。Ｈａｌはハロゲン原子を示し、Ｐ、Ｐ’は保護基を示す。
【０２１２】
製造例２
アルコール化合物（９）と、グアニジン誘導体（１０）を光延反応させることにより、化合物（１１）を得ることができる。化合物（１１）と前記グアニジン誘導体（６）を反応させて化合物（１２）を得ることができる。化合物（１２）の保護基Ｐと保護基Ｐ’を脱保護することにより、本発明に係るグアニジン化合物（１３）を得ることができる。
【０２１３】
【化３３】
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【０２１４】
式中、Ａ1、Ｑ1、Ｘ、Ｚは、前述のとおりのものである。Ｈａｌはハロゲン原子を示し、Ｐ、Ｐ’は保護基を示す。
【０２１５】
合成反応終了後は、有機合成化学における通常の後処理操作、および、必要により従来公知の分離精製手段を施すことによって、目的物を効率よく単離することができる。
目的物の構造は、1Ｈ−ＮＭＲスペクトル、ＩＲスペクトル、マススペクトルの測定や、元素分析などにより、同定・確認することができる。
【０２１６】
本発明に係る殺菌剤若しくは植物病害防除剤は、化合物〔I〕またはその塩からなる群から選ばれる少なくとも１つを有効成分として含有するものである。本発明の殺菌剤若しくは植物病害防除剤に含有される該有効成分の量は、製剤全体に対して、好ましくは０．０１〜９０重量％、より好ましくは０．０５〜８５重量％である。
【０２１７】
本発明の殺菌剤若しくは植物病害防除剤は、農薬としてとり得る形態、即ち、水和剤、粒剤、粉剤、乳剤、水溶剤、懸濁剤、顆粒水和剤などの農薬製剤の形態で使用することができる。
固体の製剤に用いられる添加剤および担体としては、大豆粉、小麦粉などの植物性粉末、珪藻土、燐灰石、石こう、タルク、ベントナイト、パイロフィライト、クレーなどの鉱物性微粉末、安息香酸ソーダ、尿素、芒硝などの有機および無機化合物などを挙げることができる。
液体の製剤に用いられる溶剤としては、ケロシン、キシレンおよび石油系の芳香族炭化水素、シクロヘキサン、シクロヘキサノン、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、アルコール、アセトン、トリクロロエチレン、メチルイソブチルケトン、鉱物油、植物油、水などを挙げることができる。
【０２１８】
さらに、これらの製剤において均一かつ安定な形態をとるために、必要に応じ界面活性剤を添加することができる。
添加することができる界面活性剤は特に限定されない。例えば、ポリオキシエチレンが付加したアルキルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンが付加したアルキルエーテル、ポリオキシエチレンが付加した高級脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンが付加したソルビタン高級脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンが付加したトリスチリルフェニルエーテルなどの非イオン性界面活性剤、ポリオキシエチレンが付加したアルキルフェニルエーテルの硫酸エステル塩、アルキルベンゼンスルホン酸塩、高級アルコールの硫酸エステル塩、アルキルナフタレンスルホン酸塩、ポリカルボン酸塩、リグニンスルホン酸塩、アルキルナフタレンスルホン酸塩のホルムアルデヒド縮合物、イソブチレン−無水マレイン酸共重合体などを挙げることができる。
【０２１９】
このようにして得られる、水和剤、乳剤、フロアブル剤、水溶剤、若しくは顆粒水和剤は水で所定の濃度に希釈して、溶解液、懸濁液あるいは乳濁液として植物に散布する方法で使用される。また、粉剤・粒剤はそのまま植物に散布する方法で使用される。
【０２２０】
本発明の殺菌剤若しくは植物病害防除剤は、花卉、芝、牧草を含む農園芸作物の栽培に際し発生する種々の病害の防除に、種子処理、茎葉散布、土壌施用または水面施用などにより使用することができる。
【０２２１】
本発明の殺菌剤若しくは植物病害防除剤の施用量は、気象条件、製剤形態、施用時期、施用方法、施用場所、防除対象病害、対象作物などにより異なるが、通常１ヘクタール当たり有効成分量にして好ましくは１〜１，０００ｇ、より好ましくは１０〜１００ｇである。
水和剤、乳剤、懸濁剤、水溶剤、顆粒水和剤などを水で希釈して施用する場合、その施用濃度は好ましくは１〜１，０００ｐｐｍ、より好ましくは１０〜２５０ｐｐｍである。
【０２２２】
本発明の殺菌剤若しくは植物病害防除剤は、広範囲の種類の糸状菌、例えば、藻菌類（Oomycetes）、子のう（嚢）菌類（Ascomycetes），不完全菌類（Deuteromycetes）、担子菌類（Basidiomycetes）、接合菌類（Zygomycetes）に属する菌に由来する植物病害の防除に使用できる。
【０２２３】
防除の対象となる植物病害と病原菌の例を以下に示す。
テンサイ：褐斑病（Cercospora beticola）、黒根病（Aphanomyces cochlioides）、根腐病（Thanatephorus cucumeris）、葉腐病（Thanatephorus cucumeris）など
ラッカセイ：褐斑病（Mycosphaerella arachidis）、汚斑病（Ascochyta sp.）、さび病（Puccinia arachidis）、立枯病（Pythium debaryanum）、さび斑病（Alternaria alternata）、白絹病（Sclerotium rolfsii）黒渋病（Mycosphaerella berkeleyi）など
キュウリ：うどんこ病（Sphaerotheca fuliginea）、べと病（Pseudoperonospora cubensis）、つる枯病（Mycosphaerella melonis）、つる割病（Fusarium oxysporum）、菌核病（Sclerotinia sclerotiorum）、灰色かび病（Botrytis cinerea）、炭そ病（Colletotrichum orbiculare）、黒星病（Cladosporium cucumerinum）、褐斑病（Corynespora cassicola）、苗立枯病（Pythium debaryanam、Rhizoctonia solani Kuhn）、ホモプシス根腐病（Phomopsis sp.）斑点細菌病（Pseudomonas syringae pv. Lecrymans）など
トマト：灰色かび病（Botrytis cinerea）、葉かび病（Cladosporium fulvum）、疫病（Phytophthora infestans）、半身萎凋病（Verticillium albo-atrum）、うどんこ病（Oidium neolycopersici）、輪紋病（Alternaria solani）、すすかび病（Pseudocercospora fuligena）など
ナス：灰色かび病（Botrytis cinerea）、黒枯病（Corynespora melongenae）、うどんこ病（Erysiphe cichoracearum）、すすかび病（Mycovellosiella nattrassii）、菌核病（Sclerotinia sclerotiorum）など
イチゴ：灰色かび病（Botrytis cinerea）、うどんこ病（Sohaerotheca humuli）、炭そ病（Colletotrichum acutatum、Colletotrichum fragariae）、疫病（Phytophthora cactorum）、軟腐病（Rhizopus stolonifer）、萎黄病（Fusarium oxysporum）など
タマネギ：灰色腐敗病（Botrytis allii）、灰色かび病（Botrytis cinerea）、白斑葉枯病（Botrytis squamosa）、べと病（Peronospora destructor）、白色疫病（Phytophthora porri）など
キャベツ：根こぶ病（Plasmodiophora brassicae）、軟腐病（Erwinia carotovora）、黒腐病（Xanthomonas campesrtis pv. campestris）、黒斑細菌病（Pseudomonas syringae pv. maculicala、Pseudomonas syringae pv. alisalensis）、べと病（Peronospora parasitica）、菌核病（Sclerotinia sclerotiorum）、黒すす病（Alternaria brassicicola）、灰色かび病（Botrytis cinerea）など
インゲン：菌核病（Sclerotinia sclerotiorum）、灰色かび病（Botrytis cinerea）、炭疽病（Colletotrichum lindemuthianum）、角斑病（Phaeoisariopsis griseola）など
【０２２４】
リンゴ：うどんこ病（Podosphaera leucotricha）、黒星病（Venturia inaequalis）、モニリア病（Monilinia mali）、黒点病（Mycosphaerella pomi）、腐らん病（Valsa mali）、斑点落葉病（Alternaria mali）、赤星病（Gymnosporangium yamadae）、輪紋病（Botryosphaeria berengeriana）、炭そ病（Glomerella cingulata、Colletotrichum acutatum）、褐斑病（Diplocarpon mali）、すす点病（Zygophiala jamaicensis）、すす斑病（Gloeodes pomigena）、紫紋羽病（Helicobasidium mompa）、灰色かび病（Botrytis cinerea）など
ウメ：黒星病（Cladosporium carpophilum）、灰色かび病（Botrytis cinerea）、灰星病（Monilinia mumecola）など
カキ：うどんこ病（Phyllactinia kakicola）、炭そ病（Gloeosporium kaki）、角斑落葉病（Cercospora kaki）など
モモ：灰星病（Monilinia fructicola）、黒星病（Cladosporium carpophilum）、ホモプシス腐敗病（Phomopsis sp.）、穿孔細菌病（Xanthomonas campestris pv. pruni）など
アーモンド：灰星病（Monilinia laxa）、斑点病（Stigmina carpophila）、黒星病（Cladosporium carpophilum）、葉ぶくれ病（Polystigma rubrum）、斑点落葉病（Alternariaalternata）、炭疽病（Colletotrichum gloeospoides）など
オウトウ：灰星病（Monilinia fructicola）、炭そ病（Colletotrichum acutatum）、黒斑病（Alternaria sp.）、幼果菌核病（Monilinia kusanoi）など
ブドウ：灰色かび病（Botrytis cinerea）、うどんこ病（Uncinula necator）、晩腐病（Glomerella cingulata、Colletotrichum acutatum）、べと病（Plasmopara viticola）、黒とう病（Elsinoe ampelina）、褐斑病（Pseudocercospora vitis）、黒腐病（Guignardia bidwellii）、白腐病（Coniella castaneicola）など
ナシ：黒星病（Venturia nashicola）、赤星病（Gymnosporangium asiaticum）、黒斑病（Alternaria kikuchiana）、輪紋病（Botryosphaeria berengeriana）、うどんこ病（Phyllactinia mali）、胴枯病（Phomopsis fukushii）、褐色斑点病（Stemphylium vesicarium）、炭そ病（Glomerella cingulata）など
チャ：輪斑病（Pestalotia theae）、炭そ病（Colletotrichum theae-sinensis）など
カンキツ：そうか病（Elsinoe fawcetti）、青かび病（Penicillium italicum）、緑かび病（Penicillium digitatum）、灰色かび病（Botrytis cinerea）、黒点病（Diaporthe citri）、かいよう病（Xanthomonas campestris pv.Citri）、うどんこ病（Oidium sp.）など
【０２２５】
コムギ：うどんこ病（Erysiphe graminis f.sｐ.Tritici）、赤かび病（Gibberella zeae）、赤さび病（Puccinia recondita）、褐色雪腐病（Pythium iwayamai）、紅色雪腐病（Monographella nivalis）、眼紋病（Pseudocercosporella herpotrichoides）、葉枯病（Septoria tritici）、ふ枯病（Leptosphaeria nodorum）、雪腐小粒菌核病（Typhula incarnata）、雪腐大粒菌核病（Myriosclerotinia borealis）、立枯病（Gaeumanomyces graminis）、麦角病（Claviceps purpurea）、なまぐさ黒穂病（Tilletia caries）、裸黒穂病（Ustilago nuda）など
オオムギ：斑葉病（Pyrenophora graminea）、網斑病（Pyrenophora teres）、雲形病（Rhynchosporium secalis）、裸黒穂病（Ustilago tritici、U.nuda）など
イネ：いもち病（Pyricularia oryzae）、紋枯病（Rhizoctonia solani）、馬鹿苗病（Gibberella fujikuroi）、ごま葉枯病（Cochliobolus miyabeanus）、苗立枯病（Pythiumgraminicolum）、白葉枯病（Xanthomonas oryzae）、苗立枯細菌病（Burkholderia plantarii）、褐条病（Acidovorax avenae）、もみ枯細菌病（Burkholderia glumae）、すじ葉枯病（Cercospora oryzae）、稲こうじ病（Ustilaginoidea virens）、褐色米（Alternaria alternata、Curvularia intermedia）、腹黒米（Alternaria padwickii）、紅変米（Epicoccam purpurascenns）など
タバコ：菌核病（Sclerotinia sclerotiorum）、うどんこ病（Erysiphe cichoracearum）、疫病（Phytophthora nicotianae）、など
チューリップ：灰色かび病（Botrytis cinerea）など
ヒマワリ：べと病（Plasmopara halstedii）、菌核病（Sclerotinia sclerotiorum）など
ベントグラス：雪腐大粒菌核病（Sclerotinia borealis）、ラージパッチ（Rhizoctonia solani）、ダラースポット（Sclerotinia homoeocarpa）、いもち病（Pyricularia sp.）、赤焼病（Pythium aphanidermatum）、炭そ病(Colletotrichum graminicola)など
オーチャードグラス：うどんこ病（Erysiphe graminis）など
ダイズ：紫斑病（Cercospora kikuchii）、べと病（Peronospora manshurica）、茎疫病（Phytophthora sojae）、さび病（Phakopsora pachyrhizi）、菌核病（Sclerotinia sclerotiorum）、炭そ病（Colletotrichum truncatum）、灰色かび病（Botrytis cinerea）など
ジャガイモ：疫病（Phytophthora infestans）、夏疫病（Aleternaria solani）、黒あざ病（Thanatephorus cucumeris）など
バナナ：パナマ病（Fusarium oxysporum）、シガトカ病（Mycosphaerella fijiensis、Mycosphaerella musicola）など
ナタネ：菌核病（Sclerotinia sclerotiorum）、根朽病（Phoma lingam）、黒斑病（Alternaria brassicae）など
コーヒー：さび病（Hemileia vastatrix）、炭疽病（Colletotrichum coffeanum）、褐眼病（Cercospora coffeicola）など
サトウキビ：褐さび病（Puccinia melanocephala）など
トウモロコシ：ひょう紋病（Gloecercospora sorghi）、さび病（Puccinia sorghi）、南方さび病（Puccinia polysora）、黒穂病（Ustilago maydis）、ごま葉枯病（Cochliobolus heterostrophus）、すす紋病（Setophaeria turcica）など
ワタ：苗立枯病（Pythium sp）、さび病（Phakopsora  gossypii）、白かび病（Mycosphaerella areola）、炭疽病（Glomerella gossypii）など
本発明の殺菌剤若しくは植物病害防除剤は薬害が少なく、魚類や温血動物への毒性が低く、安全性の高い薬剤である。
【０２２６】
本発明の殺菌剤若しくは植物病害防除剤には、他の殺菌剤や殺虫・殺ダニ剤、殺線虫剤、殺土壌害虫剤、駆虫剤、植物生長調節剤、共力剤等と混合または併用してもよい。
以下にその一例を示す。
【０２２７】
殺菌剤：
（１）核酸生合成阻害剤：
（ａ）RNAポリメラーゼＩ阻害剤：  ベナラキシル、ベナラキシル-M、フララキシル、メタラキシル、メタラキシル-M；オキサジキシル；クロジラコン、オフレース；
（ｂ）アデノシンデアミナーゼ阻害剤：  ブピリメート、ジメチリモール、エチリモール；
（ｃ）DNA/RNA合成阻害剤：  ハイメキサゾール、オクチリノン；
（ｄ）DNAトポイソメラーゼII阻害剤：  オキソリン酸；
【０２２８】
（２）有糸核分裂阻害剤および細胞分裂阻害剤：
（ａ）β−チューブリン重合阻害剤：  ベノミル、カルベンダジム、クロルフェナゾール、フベリダゾール、チアベンダゾール；チオファネート、チオファネートメチル（thiophanate-methyl）；ジエトフェンカルブ；ゾキサミド；エタボキサム；
（ｂ）細胞分裂阻害剤：  ペンシクロン；
（ｃ）スペクトリン様タンパク質の非局在化阻害剤：  フルオピコリド；
【０２２９】
（３）呼吸阻害剤：
（ａ）複合体I NADH酸化還元酵素阻害剤：  ジフルメトリム；トルフェンピラド；
（ｂ）複合体IIコハク酸脱水素酵素阻害剤：  ベノダニル、フルトラニル、メプロニル；イソフェタミド；フルオピラム；フェンフラム、フルメシクロックス；カルボキシン、オキシカルボキシン；チフルザミド；ベンゾビンジフルピル、ビキサフェン、フルキサピロキサド、フラメトピル、イソピラザム、ペンフルフェン、ペンチオピラド、セダキサン；ボスカリド；
（ｃ）複合体IIIユビキノールオキシダーゼQo阻害剤：  アゾキシストロビン、クモキシストロビン、クメトキシストロビン、エノキサストロビン、フルフェノキシストロビン、ピクオキシストロビン、ピラオキシストロビン；ピラクロストロビン、ピラメトストロビン、トリクロピリカルブ；クレソキシム-メチル、トリフロキシストロビン；ジモキシストロビン、フェナミンストロビン、メトミノストロビン、オリサストロビン；ファモキサドン；フルオキサストロビン；フェンアミドン；ピリベンカルブ；
（ｄ）複合体IIIユビキノール還元酵素Qi阻害剤：  シアゾファミド；アミスルブロム；
（ｅ）酸化的リン酸化の脱共役剤：  ビナパクリル、メプチルジノカップ、ジノカップ；フルアジナム；フェリムゾン；
（ｆ）酸化的リン酸化阻害剤（ATP 合成酵素の阻害剤）：  フェンチンアセテート、塩化フェンチン、水酸化フェンチン；
（ｇ）ATP生産阻害剤：  シルチオファム；
（ｈ）複合体III：チロクロームbc1(ユビキノン還元酵素)のQx(未知)阻害剤：  アメトクトラジン；
【０２３０】
（４）アミノ酸およびタンパク質合成阻害剤
（ａ）メチオニン生合成阻害剤：  アンドプリム、シプロジニル、メパニピリム、ピリメタニル；
（ｂ）タンパク質合成阻害剤：  ブラストサイジン-Ｓ；カスガマイシン、カスガマイシン塩酸塩；ストレプトマイシン；オキシテトラサイクリン；
【０２３１】
（５）シグナル伝達阻害剤：
（ａ）シグナル伝達阻害剤：  キノキシフェン、プロキナジド；
（ｂ）浸透圧シグナル伝達におけるMAP・ヒスチジンキナーゼ阻害剤：  フェンピクロニル、フルジオキソニル；クロゾリメート、イプロジオン、プロシミドン、ビンクロゾリン；
【０２３２】
（６）脂質および細胞膜合成阻害剤：
（ａ）りん脂質生合成、メチルトランス-フェラーゼ阻害剤：  エジフェンホス、イプロベンホス、ピラゾホス；イソプロチオラン；
（ｂ）脂質の過酸化剤：  ビフェニル、クロロネブ、ジクロラン、キンドゼン、テクナゼン、トルクロホスメチル；エトリジアゾール；
（ｃ）細胞膜に作用する剤：  ヨードカルブ、プロパモカルブ、プロパモカルブ塩酸塩、プロパモカルブホセチレート、プロチオカルブ；
（ｄ）病原菌細胞膜を撹乱する微生物：  バチルスズブチリス菌、バチルス ズブチリスQST713 株、バチルス ズブチリスFZB24 株、バチルス ズブチリスMBI600 株、バチルス ズブチリスD747株；
（ｅ）細胞膜を撹乱する剤：  ゴセイカユプテ(ティーツリー)の抽出物；
【０２３３】
（７）細胞膜のステロール生合成阻害剤：
（ａ）ステロール生合成におけるC14位の脱メチル化阻害剤：  トリホリン；ピリフェノックス、ピリイソキサゾール；フェナリモル、フルルプリミドール、ヌアリモル；イマザリル、イマザリル硫酸塩、オキスポコナゾール、ペフラゾエート、プロクロラズ、トリフルミゾール、ビニコナゾール；
アザコナゾール、ビテルタノール、ブロムコナゾール、シプロコナゾール、ジクロブトラゾール、ジフェノコナゾール、ジニコナゾール、ジニコナゾール-M、エポキシコナゾール、エタコナゾール、フェンブコナゾール、フルキンコナゾール、フルシラゾール、フルトリアホール）、フルコナゾール、フルコナゾール−シス、ヘキサコナゾール、イミベンコナゾール、イプコナゾール、メトコナゾール、ミクロブタニル、ペンコナゾール、プロピコナゾール、キンコナゾール、シメコナゾール、テブコナゾール、テトラコナゾール、トリアジメホン、トリアジメノール、トリチコナゾール；プロチオコナゾール、ボリコナゾール；
（ｂ）ステロール生合成におけるΔ14還元酵素およびΔ8→Δ7−イソメラーゼの阻害剤：
アルジモルフ、ドデモルフ、ドデモルフ酢酸塩、フェンプロピモルフ、トリデモルフ；フェンプロピジン、ピペラリン；スピロキサミン；
（ｃ）ステロール生合成系のC4位脱メチル化における3-ケト還元酵素阻害剤：  フェンヘキサミド；フェンピラザミン；
（ｄ）ステロール生合成系のスクワレンエポキシダーゼ阻害剤：  ピリブチカルブ；ナフチフェン、テルビナフィン；
【０２３４】
（８）細胞壁合成阻害
（ａ）トレハラーゼ阻害剤：  バリダマイシン；
（ｂ）キチン合成酵素阻害剤：  ポリオキシン、ポリオクソリム；
（ｃ）セルロース合成酵素阻害剤：  ジメトモルフ、フルモルフ、ピリモルフ；ベンチアバリカルブ、イプロバリカルブ、トルプロカルブ、バリフェナレート；マンジプロパミド；
【０２３５】
（９）メラニン生合成阻害剤
（ａ）メラニン生合成の還元酵素阻害剤：  フサライド；ピロキロン；トリシクラゾール；
（ｂ）メラニン生合成の脱水酵素阻害剤：  カルプロパミド；ジクロシメット；フェノキサニル；
【０２３６】
（１０）宿主植物の抵抗性誘導剤：
（ａ）サリチル酸合成経路に作用する剤：  アシベンゾラル-S-メチル；
（ｂ）その他：  プロベナゾール；チアジニル；イソチアニル；ラミナリン；オオイタドリ抽出液；
【０２３７】
（１１）作用性が不明な剤：  シモキサニル、ホセチルアルミニウム、リン酸（リン酸塩）、テクロフタラム、トリアゾキシド、フルスルファミド、ジクロメジン、メタスルホカルブ、シフルフェナミド、メトラフェノン、ピリオフェノン、ドジン、ドジン遊離塩基、フルチアニル；
【０２３８】
（１２）多作用点を有する剤：  銅（銅塩）、ボルドー液、水酸化銅、銅ナフタレート、酸化銅、オキシ塩化銅、硫酸銅、硫黄、硫黄製品、多硫化カルシウム；ファーバム、マンコゼブ、マネブ、マンカッパー、メチラム、ポリカーバメート、プロピネブ、チラム、ジネブ、ジラム；キャプタン、カプタホール、フォルペット；クロロタロニル；ジクロフルアニド、トリルフルアニド；グアザチン、イミノクタジン酢酸塩、イミノクタジンアルベシル酸塩；アニラジン；ジチアノン；キノメチオネート；フルオルイミド；
【０２３９】
（１３）その他の剤：  DBEDC、フルオロフォルペット、グアザチンアセテート、ビス（8-キノリノラト）銅（II）、プロパミジン、クロロピクリン、シプロフラム、アグロバクテリウム、ベトキサジン、ジフェニルアミン、メチルイソチアネート（MITC）、ミルデオマイシン、カプサイシン、クフラネブ、シプロスルファミド、ダゾメット、デバカルブ、ジクロロフェン、ジフェンゾクワット、ジフェンゾクワットメチルスルホネート、フルメトベル、ホセチルカルシウム、ホセチルナトリウム、イルママイシン、ナタマイシン、ニトロタールイソプロピル、オキサモカルブ、プロパモシンナトリウム、ピロールニトリン、テブフロキン、トルニファニド、ザリラミド、アルゴフェーズ（Algophase）、アミカルチアゾール（Amicarthiazol）、オキサチアピプロリン（Oxathiapiprolin）、メチラム亜鉛、ベンチアゾール、トリクラミド、ユニコナゾール、ミルデオマイシン、オキシフェンチイン（Oxyfenthiin）、ピカルブトラゾクス（picarbutrazox）；
【０２４０】
殺虫・殺ダニ剤、殺線虫剤、殺土壌害虫剤：
（１）アセチルコリンエステラーゼ阻害剤：
（ａ）カーバメート系：  アラニカルブ、アルジカルブ、ベンジオカルブ、ベンフラカルブ、ブトカルボキシム、ブトキシカルボキシム、カルバリル、カルボフラン、カルボスルファン、エチオフェンカルブ、フェノブカルブ、ホルメタネート、フラチオカルブ、イソプロカルブ、メチオカルブ、メソミル、オキサミル、ピリミカルブ、プロポキサル、チオジカルブ、チオファノックス、トリアザメート、トリメタカルブ、XMC、キシリルカルブ；フェノチオカルブ、MIPC、MPMC、MTMC、アルドキシカルブ、アリキシカルブ、アミノカルブ、ブフェンカルブ、クロエトカルブ、メタム・ナトリウム、プロメカルブ；
【０２４１】
（ｂ）有機リン系：  アセフェート、アザメチホス、アジンホス-エチル、アジンホス-メチル、カズサホス、クロルエトキシホス、クロルフェンビンホス、クロルメホス、クロルピリホス、クロルピリホス-メチル、クマホス、シアノホス、ジメトン-S-メチル、ダイアジノン、ジクロルボス/DDVP、ジクロトホス、ジメトエート、ジメチルビンホス、ジスルホトン、EPN、エチオン、エトプロホス、ファムフール、フェナミホス、フェニトロチオン、フェンチオン、ホスチアゼート、ヘプテノホス、イミシアホス、イソフェンホス、イソカルボホス、イソキサチオン、マラチオン、メカルバム、メタミドホス、メチダチオン、メビンホス、モノクロトホス、ナレド、オメトエート、オキシジメトン-メチル、パラチオン、パラチオン-メチル、フェントエート、ホレート、ホサロン、ホスメット、ホスファミドン、ホキシム、ピリミホス-メチル、プロフェノホス、プロペタムホス、プロチオホス、ピラクロホス、ピリダフェンチオン、キナルホス、スルホテップ、テブピリンホス、テメホス、テルブホス、テトラクロルビンホス、チオメトン、トリアゾホス、トリクロルホン、バミドチオン；ブロモホス・エチル、BRP、カルボフェノチオン、シアノフェンホス、CYAP、ジメトン-Ｓ-メチルスルホン、ジアリホス、ジクロフェンチオン、ジオキサベンゾホス、エトリムホス、フェンスルホチオン、フルピラゾホス、ホノホス、ホルモチオン、ホスメチラン、イサゾホス、ヨードフェンホス、メタクリホス、ピリミホス−エチル、ホスホカルブ、プロパホス、プロトエート、スルプロホス；
【０２４２】
（２）GABA-作動性塩素イオンチャネルアンタゴニスト：  クロルデン、エンドスルファン、エチプロール、フィプロニル、ピラフルプロール、ピリプロール；カンフェクロル、ヘプタクロル、ジエノクロル；
（３）ナトリウムチャンネルモジュレーター：  アクリナトリン、d-シス-トランス アレスリン、d-トランスアレスリン、ビフェントリン、ビオアレスリン、ビオアレスリンS-シクロペンチル異性体、ビオレスメトリン、シクロプロトリン、シフルトリン、ベータ-シフルトリン、シハロトリン、ラムダ-シハロトリン、ガンマ-シハロトリン、シペルメトリン、アルファ-シペルメトリン、ベータ-シペルメトリン、シータ-シペルメトリン、ゼータ-シペルメトリン、シフェノトリン［(1R)-トランス異性体］、デルタメトリン、エンペントリン［（EZ）-(1R)-異性体］、エスフェンバレレート、エトフェンプロックス、フェンプロパトリン、フェンバレレート、フルシトリネート、フルメトリン、タウ-フルバリネート、ハルフェンプロックス、イミプリトリン、カデスリン、ペルメトリン、フェノトリン［（1R）-トランス異性体］、プラレトリン、ピレスラム、レスメトリン、シラフルオフェン、テフルスリン、テトラメスリン、テトラメトリン［（1R）-異性体］、トラロメトリン、トランスフルトリン；アレスリン、ピレトリン、ピレトリンI、ピレトリンII、プロフルトリン、ジメフルトリン、ビオエタノメトリン、ビオペルメトリン、トランスペルメトリン、フェンフルトリン、フェンピリトリン、フルブロシトリネート、フルフェンプロックス、メトフルトリン、プロトリフェンブト、ピレスメトリン、テラレトリン；
【０２４３】
（４）ニコチン性アセチルコリン受容体アゴニスト：  アセタミプリド、クロチアニジン、ジノテフラン、イミダクロプリド、ニテンピラム、ニチアジン、チアクロプリド、チアメトキサム、スルフォキサフロール、ニコチン；フルピラジフロン；
（５）ニコチン性アセチルコリン受容体アロステリックモジュレーター：  スピネトラム、スピノサド；
（６）クロライドチャンネル活性化剤：  アバメクチン、エマメクチン安息香酸塩、レピメクチン、ミルベメクチン；イベルメクチン、セラメクチン、ドラメクチン、エプリノメクチン、モキシデクチン、ミルベマイシン、ミルベマイシンオキシム；
（７）幼若ホルモン様物質：  ヒドロプレン、キノプレン、メソプレン、フェノキシカルブ、ピリプロキシフェン；ジオフェノラン、エポフェノナン、トリプレン；
（８）その他非特異的阻害剤：  臭化メチル、クロルピクリン、フッ化スルフリル、ホウ砂、吐酒石；
（９）同翅目選択的摂食阻害剤：  フロニカミド、ピメトロジン、ピリフルキナゾン；
【０２４４】
（１０）ダニ類生育阻害剤：  クロフェンテジン、ジフロビダジン、ヘキシチアゾクス、エトキサゾール；
（１１）微生物由来昆虫中腸内膜破壊剤：  バチルス・チューリンゲンシス亜種イスラエレンシ、バチルス・スファエリクス、バチルス・チューリンゲンシス亜種アイザワイ、バチルス・チューリンゲンシス亜種クルスタキ、バチルス・チューリンゲンシス亜種テネブリオニス、Ｂｔ作物タンパク質：Cry1Ab、Cry1Ac、Cry1Fa、Cry1A.105、Cry2Ab、Vip3A、mCry3A、Cry3Ab、Cry3Bb、Cry34Ab1/Cry35Ab1；
（１２）ミトコンドリアATP生合成酵素阻害剤：  ジアフェンチウロン、アゾシクロチン、シヘキサチン、酸化フェンブタスズ、プロパルギット、テトラジホン；
（１３）酸化的リン酸化脱共役剤：  クロルフェナピル、スルフラミド、DNOC；ビナパクリル、ジノブトン、ジノカップ；
（１４）ニコチン性アセチルコリン受容体チャンネルブロッカー：  ベンスルタップ、カルタップ塩酸塩；ネライストキシン；チオスルタップ一ナトリウム塩、チオシクラム；
（１５）キチン合成阻害剤：  ビストリフルロン、クロルフルアズロン、ジフルベンズロン、フルシクロクスロン、フルフェノクスロン、ヘキサフルムロン、ルフェヌロン、ノバルロン、ノビフルムロン、テフルベンズロン、トリフルムロン、ブプロフェジン、フルアズロン；
（１６）双翅目脱皮かく乱剤：  シロマジン；
（１７）脱皮ホルモン受容体アゴニスト：  クロマフェノジド、ハロフェノジド、メトキシフェノジド、テブフェノジド；
（１８）オクトパミン受容体アゴニスト：  アミトラズ、デミジトラズ、クロルジメホルム；
（１９）ミトコンドリア電子伝達系複合体III阻害剤：  アセキノシル、フルアクリピリム、ヒドラメチルノン；
（２０）ミトコンドリア電子伝達系複合体I阻害剤：  フェナザキン、フェンプロキシメート、ピリミジフェン、ピリダベン、テブフェンピラド、トルフェンピラド、ロテノン；
【０２４５】
（２１）電位依存性ナトリウムチャネルブロッカー：  インドキサカルブ、メタフルミゾン；
（２２）アセチルCoAカルボキシラーゼ阻害剤：  スピロジクロフェン、スピロメシフェン、スピロテトラマト；
（２３）ミトコンドリア電子伝達系複合体IV阻害剤：  リン化アルミニウム、リン化カルシウム、ホスフィン、リン化亜鉛、シアニド；
（２４）ミトコンドリア電子伝達系複合体II阻害剤：  シエノピラフェン、シフルメトフェン、ピフルブミド；
（２５）リアノジン受容体モジュレーター：  クロラントラニリプロール、シアントラニプロール、フルベンジアミド、シクラニリプロール、テトラニリプロール；
（２６）混合機能オキシダーゼ阻害剤化合物：  ピペロニルブトキシド；
（２７）ラトロフィリン受容体作用薬：  デプシペプチド、環状デプシペプチド、24員環状デプシペプチド、エモデプシド；
（２８）その他の剤（作用機構が未知）：  アザジラクチン、ベンゾキシメート、ビフェナゼート、ブロモプロピレート、キノメチオネート、クリオライト、ジコホル、ピリダリル、；ベンクロチアズ、硫黄、アミドフルメット、1,3−ジクロロプロペン、DCIP、フェニソブロモレート、ベンゾメート、メタアルデヒド、クロルベンジレート、クロチアゾベン、ジシクラニル、フェノキサクリム、フェントリファニル、フルベンジミン、フルフェナジン、ゴシップルア、ジャポニルア、メトキサジアゾン、石油、オレイン酸カリウム、テトラスル、トリアラセン；アフィドピロペン（afidopyropen）、フロメトキン、フルフィプロル（flufiprole）、フルエンスルフォン、メペルフルスリン、テトラメチルフルスリン、トラロピリル、ジメフルスリン、メチルネオデカンアミド；フルララネル、アフォキソラネル、フルキサメタミド、５−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル］−２−（１Ｈ−１，２，４−トリアゾール−１−イル）ベンゾニトリル（CAS:943137-49-3）、ブロフラニリド、その他のメタジアミド類。
【０２４６】
以下、実施例を挙げて本発明をより具体的に説明する。なお、本発明は以下の実施例によって制限を受けるものではなく、本発明の趣旨に適合し得る範囲で適宜に変更を加えて実施することが勿論可能であり、それらはいずれも本発明の技術的範囲に包含される。
【０２４７】
実施例１
ｔｅｒｔ−ブチル  Ｎ−［４−［３−［３−［３−［４−（Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルカルバイミドイル）フェノキシ］プロピル］−２−イミノ−イミダゾリジン−１−イル］プロポキシ］ベンゼンカルボキシイミドイル］カルバメート＜tert-Butyl N-[4-[3-[3-[3-[4-(N-tert-butoxycarbonylcarbamimidoyl)phenoxy]propyl]-2-imino-imidazolidin-1-yl]propoxy]benzenecarboximidoyl]carbamate＞の合成
【０２４８】
【化３４】
2016195077.tif 000109
【０２４９】
ｔｅｒｔ−ブチル（（４−（３−ブロモプロポキシ）フェニル）（イミノ）メチル）カルバメート（６９７ｍｇ）をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（７ｍＬ）に溶解させた。これに、室温にて、炭酸カリウム（１．１５ｇ）、および２−アミノイミダゾリン臭化水素塩（５００ｍｇ）を添加した。得られた液を４０℃にて６時間撹拌した。該液を室温まで冷却した後、水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、ろ過した。ろ液を減圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製することで表題化合物（化合物番号１：９９．４ｍｇ、収率３．７％）を得た。
1HNMR(CDCl3)1.55(s,18H),2.00-2.11(m,4H),3.27(s,4H),3.36(t,4H),4.06(t,4H),6.88(d,4H),7.81(d,4H).
【０２５０】
実施例２
４−［３−［３−［３−（４−カルバイミドイルフェノキシ）プロピル］−２−イミノ−イミダゾリジン−１−イル］プロポキシ］ベンズアミジン＜4-[3-[3-[3-(4-Carbamimidoylphenoxy)propyl]-2-imino-imidazolidin-1-yl]propoxy]benzamidine＞  塩酸塩の合成
【０２５１】
【化３５】
2016195077.tif 000110
【０２５２】
実施例１で得られたｔｅｒｔ−ブチル  Ｎ−［４−［３−［３−［３−［４−（Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルカルバイミドイル）フェノキシ］プロピル］−２−イミノ−イミダゾリジン−１−イル］プロポキシ］ベンゼンカルボキシイミドイル］カルバメート（９９ｍｇ）をジクロロメタン（１ｍＬ）に溶解させた。室温にて、トリフルオロ酢酸（１ｍＬ）を添加し、同温にて一晩撹拌した。得られた液を減圧濃縮し、残渣をメタノール（１ｍＬ）に溶解させた。これに、室温にて、塩化水素（４Ｍジオキサン溶液、１ｍＬ）を添加した。これを室温にて１時間撹拌した。その後、減圧濃縮することで表題化合物（化合物番号２：７７ｍｇ）を得た。
1HNMR(CD3OD)1.29-1.41(m,4H),2.08-2.18(m,4H),3.55(t,4H),4.18(t,4H),7.16(d,4H),7.80(d,4H).
【０２５３】
実施例３
ｔｅｒｔ−ブチル−Ｎ−［［６−［３−［６−［［Ｎ，Ｎ’−ビス（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）カルバイミドイル］アミノ］ヘキシル］−２−イミノ−イミダゾリジン−１−イル］ヘキシルアミノ］−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ）メチレン］カルバメート＜tert-Butyl-N-[[6-[3-[6-[[N,N’-bis(tert-butoxycarbonyl)carbamimidoyl]amino]hexyl]-2-imino-imidazolidin-1-yl]hexylamino]-(tert-butoxycarbonylamino)methylene]carbamate＞の合成
【０２５４】
【化３６】
2016195077.tif 000111
【０２５５】
実施例１と同様の手法にて、表題化合物（化合物番号３）を得た。
1HNMR(CDCl3)1.32-1.41(m,10H),1.48-1.52(m,36H),1.52-1.64(m,10H),3.21(s,4H),3.87-3.96(m,4H).
【０２５６】
実施例４
１−［６−［３−（６−グアニジノヘキシル）−２−イミノ−イミダゾリジン−１−イル］ヘキシル］グアニジン＜1-[6-[3-(6-Guanidinohexyl)-2-imino-imidazolidin-1-yl]hexyl]guanidine＞  塩酸塩の合成
【０２５７】
【化３７】
2016195077.tif 000112
【０２５８】
実施例２と同様の手法にて、表題化合物（化合物番号４）を得た。
1HNMR(CD3OD)1.34-1.52(m,10H),1.54-1.71(m,10H),3.14-3.23(m,4H),3.66-3.69(m,4H).
【０２５９】
実施例５
ｔｅｒｔ−ブチル  Ｎ−［４−［４−［３−［４−［４−（Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルカルバイミドイル）フェノキシ］ブチル］−２−イミノ−イミダゾリジン−１−イル］ブトキシ］ベンゼンカルボキシイミドイル］カルバメート＜tert-Butyl N-[4-[4-[3-[4-[4-(N-tert-butoxycarbonylcarbamimidoyl)phenoxy]butyl]-2-imino-imidazolidin-1-yl]butoxy]benzenecarboximidoyl]carbamate＞の合成
【０２６０】
【化３８】
2016195077.tif 000113
【０２６１】
実施例１と同様の手法にて、表題化合物（化合物番号５）を得た。
1HNMR(CDCl3)1.55(s,18H),1.57-1.78(m,12H),1.79-1.91(m,4H),4.02(t,4H),6.89(d,4H),7.82(d,4H).
【０２６２】
実施例６
４−［４−［３−［４−（４−カルバイミドイルフェノキシ）ブチル］−２−イミノ−イミダゾリジン−１−イル］ブトキシ］ベンズアミジン＜4-[4-[3-[4-(4-Carbamimidoylphenoxy)butyl]-2-imino-imidazolidin-1-yl]butoxy]benzamidine＞  塩酸塩の合成
【０２６３】
【化３９】
2016195077.tif 000114
【０２６４】
実施例２と同様の手法にて、表題化合物（化合物番号６）を得た。
1HNMR(CD3OD)1.75-1.96(m,8H),3.37-3.46(m,4H),3.67-3.70(m,4H),4.10-4.18(m,4H),7.13(d,4H),7.79(d,4H).
【０２６５】
実施例７
ｔｅｒｔ−ブチル  Ｎ−［［７−［３−［７−［［Ｎ，Ｎ’−ビス（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）カルバイミドイル］アミノ］ヘプチル］−２−イミノ−イミダゾリジン−１−イル］ヘプチルアミノ］−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ）メチレン］カルバメート＜tert-Butyl N-[[7-[3-[7-[[N,N’-bis(tert-butoxycarbonyl)carbamimidoyl]amino]heptyl]-2-imino-imidazolidin-1-yl]heptylamino]-(tert-butoxycarbonylamino)methylene]carbamate＞の合成
【０２６６】
【化４０】
2016195077.tif 000115
【０２６７】
実施例１と同様の手法にて、表題化合物（化合物番号７）を得た。
1HNMR(CDCl3)1.27-1.38(m,14H),1.47-1.59(m,42H),3.16-3.00(m,4H),3.20(s,4H),3.88(dd,4H).
【０２６８】
実施例８
１−［７−［３−（７−グアニジノヘプチル）−２−イミノ−イミダゾリジン−１−イル］ヘプチル］グアニジン＜1-[7-[3-(7-Guanidinoheptyl)-2-imino-imidazolidin-1-yl]heptyl]guanidine＞  塩酸塩の合成
【０２６９】
【化４１】
2016195077.tif 000116
【０２７０】
実施例２と同様の手法にて、表題化合物（化合物番号８）を得た。
1HNMR(CD3OD)1.36-1.47(m,12H),1.54-1.69(m,8H),3.10-3.22(m,4H),3.30-3.44(m,4H),3.58-3.72(m,4H).
【０２７１】
実施例９
（工程１）ｔｅｒｔ−ブチル  Ｎ−（４−ブロモブチル）−Ｎ−［Ｎ−（４−ブロモブチル）−Ｎ，Ｎ’−ビス（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）カルバイミドイル］カルバメート＜tert-Butyl N-(4-bromobutyl)-N-[N-(4-bromobutyl)-N,N’-bis(tert-butoxycarbonyl)carbamimidoyl]carbamate＞の合成
【０２７２】
【化４２】
2016195077.tif 000117
【０２７３】
ｔｅｒｔ−ブチル  Ｎ−［ビス（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ）メチレン］カルバメート（１ｇ）をテトラヒドロフラン（７ｍＬ）に溶解させた。氷冷下、トリフェニルホスフィン（１．８３ｇ）、４−ブロモブタン−１−オール（１．０７ｇ）、アゾジカルボン酸ジエチル（２．２Ｍトルエン溶液、３．２ｍＬ）を添加した。室温にて一晩撹拌した。反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、ろ過した。ろ液を減圧濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製することで表題化合物（９３５ｍｇ、収率５３．４％）を得た。
1HNMR(CDCl3)1.48(s,27H),1.74-1.95(m,8H),3.42(t,4H),3.56(dd,4H).
【０２７４】
（工程２）ｔｅｒｔ−ブチル  Ｎ−［Ｎ，Ｎ’−ビス（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−Ｎ−［４−［４−（Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルカルバイミドイル）フェノキシ］ブチル］カルバイミドイル］−Ｎ−［４−［４−（Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルカルバイミドイル）フェノキシ］ブチル］カルバメート＜tert-Butyl N-[N,N’-bis(tert-butoxycarbonyl)-N-[4-[4-(N-tert-butoxycarbonylcarbamimidoyl)phenoxy]butyl]carbamimidoyl]-N-[4-[4-(N-tert-butoxycarbonylcarbamimidoyl)phenoxy]butyl]carbamate＞の合成
【０２７５】
【化４３】
2016195077.tif 000118
【０２７６】
工程１で得られたｔｅｒｔ−ブチル  Ｎ−（４−ブロモブチル）−Ｎ−［Ｎ−（４−ブロモブチル）−Ｎ，Ｎ’−ビス（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）カルバイミドイル］カルバメート（４００ｍｇ）をアセトニトリル（５ｍＬ）に溶解させた。炭酸カリウム（２６３ｍｇ）、ｔｅｒｔ−ブチル  Ｎ−（４−ヒドロキシベンゼンカルボキシイミドイル）カルバメート（３３０ｍｇ）を添加した。加熱還流下、反応液を一晩撹拌した。反応液を室温まで冷却し、水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、ろ過した。ろ液を減圧濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製することで表題化合物（化合物番号９：２９２ｍｇ、収率４８．８％）を得た。
1HNMR(CDCl3)1.45-1.60(m,45H),1.74-1.92(m,8H),3.61(dd,4H),3.94(t,4H),6.78(d,4H),7.75(d,4H).
【０２７７】
実施例１０
４−［４−［［Ｎ−［４−（４−カルバイミドイルフェノキシ）ブチル］カルバイミドイル］アミノ］ブトキシ］ベンズアミジン＜4-[4-[[N-[4-(4-Carbamimidoylphenoxy)butyl]carbamimidoyl]amino]butoxy]benzamidine＞  塩酸塩の合成
【０２７８】
【化４４】
2016195077.tif 000119
【０２７９】
実施例２と同様の手法にて、表題化合物（化合物番号１０）を得た。
1HNMR(CD3OD)1.75-1.95(m,8H),3.34-3.45(m,4H),4.14(t,4H),7.14(d,4H),7.78(d,4H).
【０２８０】
実施例１１
（工程１）ｔｅｒｔ−ブチル  Ｎ−（７−ブロモヘプチル）−Ｎ−［Ｎ−（７−ブロモヘプチル）−Ｎ，Ｎ’−ビス（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）カルバイミドイル］カルバメート＜tert-Butyl N-(7-bromoheptyl)-N-[N-(7-bromoheptyl)-N,N’-bis(tert-butoxycarbonyl)carbamimidoyl]carbamate＞の合成
【０２８１】
【化４５】
2016195077.tif 000120
【０２８２】
実施例９工程１と同様の手法にて表題化合物を得た。
1HNMR(CDCl3)1.25-1.40(m,8H),1.44-1.56(m,31H),1.60-1.71(m,4H),1.85(tt,4H),3.39(t,4H),3.52(dd,4H).
【０２８３】
（工程２）ｔｅｒｔ−ブチル  Ｎ−［７−［［Ｎ，Ｎ’−ビス（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）カルバイミドイル］アミノ］ヘプチル］−Ｎ−［Ｎ−［７−［［Ｎ，Ｎ’−ビス（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）カルバイミドイル］アミノ］ヘプチル］−Ｎ，Ｎ’−ビス（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）カルバイミドイル］カルバメート＜tert-Butyl N-[7-[[N,N’-bis(tert-butoxycarbonyl)carbamimidoyl]amino]heptyl]-N-[N-[7-[[N,N’-bis(tert-butoxycarbonyl)carbamimidoyl]amino]heptyl]-N,N’-bis(tert-butoxycarbonyl)carbamimidoyl]carbamate＞の合成
【０２８４】
【化４６】
2016195077.tif 000121
【０２８５】
工程１で得られたｔｅｒｔ−ブチル  Ｎ−（７−ブロモヘプチル）−Ｎ−［Ｎ−（７−ブロモヘプチル）−Ｎ，Ｎ’−ビス（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）カルバイミドイル］カルバメート（４００ｍｇ）をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（５ｍＬ）に溶解させた。室温にて、炭酸カリウム（２３２ｍｇ）、ｔｅｒｔ−ブチル  Ｎ−［アミノ−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ）メチレン］カルバメート（３６３ｍｇ）を添加した。５０℃にて一晩撹拌した後、反応液を室温まで冷却した。反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、ろ過した。ろ液を減圧濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製することで表題化合物（化合物番号１１：４０４ｍｇ、収率６７．３％）を得た。
1HNMR(CDCl3)1.24-1.40(m,12H),1.47-1.60(m,63H),1.54-1.76(m,8H),3.47(dd,4H),3.87(t,4H).
【０２８６】
実施例１２
１，３−ビス（７−グアニジノヘプチル）グアニジン＜1,3-Bis(7-guanidinoheptyl)guanidine＞  塩酸塩の合成
【０２８７】
【化４７】
2016195077.tif 000122
【０２８８】
実施例２と同様の手法にて、表題化合物（化合物番号１２）を得た。
1HNMR(CD3OD)1.37-1.45(m,12H),1.55-1.66(m,8H),3.14-3.24(m,8H).
【０２８９】
実施例１３
ｔｅｒｔ−ブチル  Ｎ−［Ｎ，Ｎ’−ビス（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−Ｎ−［７−［４−（Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルカルバイミドイル）フェノキシ］ヘプチル］カルバイミドイル］−Ｎ−［７−［４−（Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルカルバイミドイル）フェノキシ］ヘプチル］カルバメート＜tert-Butyl N-[N,N’-bis(tert-butoxycarbonyl)-N-[7-[4-(N-tert-butoxycarbonylcarbamimidoyl)phenoxy]heptyl]carbamimidoyl]-N-[7-[4-(N-tert-butoxycarbonylcarbamimidoyl)phenoxy]heptyl]carbamate＞の合成
【０２９０】
【化４８】
2016195077.tif 000123
【０２９１】
実施例９と同様の手法にて、表題化合物（化合物番号１３）を得た。
1HNMR(CDCl3)1.20-1.42(m,8H),1.42-1.55(m,49H),1.57-1.65(m,4H),1.77(tt,4H),3.49(dd,4H),3.95(t,4H),6.85(d,4H),7.78(d,4H).
【０２９２】
実施例１４
４−［７−［［Ｎ−［７−（４−カルバイミドイルフェノキシ）ヘプチル］カルバイミドイル］アミノ］ヘプトキシ］ベンズアミジン＜4-[7-[[N-[7-(4-Carbamimidoylphenoxy)heptyl]carbamimidoyl]amino]heptoxy]benzamidine＞  塩酸塩の合成
【０２９３】
【化４９】
2016195077.tif 000124
【０２９４】
実施例２と同様の手法にて、表題化合物（化合物番号１４）を得た。
1HNMR(CD3OD)1.39-1.50(m,8H),1.52-1.63(m,4H),1.59-1.64(m,4H),1.83(tt,4H),3.19(t,4H),4.09(t,4H),7.11(d,4H),7.78(d,4H).
【０２９５】
実施例１５
（工程１）ｔｅｒｔ−ブチル  Ｎ−［Ｎ，Ｎ’−ビス（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）カルバイミドイル］−Ｎ−［４−［４−（Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルカルバイミドイル）フェノキシ］ブチル］カルバメート＜tert-Butyl N-[N,N’-bis(tert-butoxycarbonyl)carbamimidoyl]-N-[4-[4-(N-tert-butoxycarbonylcarbamimidoyl)phenoxy]butyl]carbamate＞の合成
【０２９６】
【化５０】
2016195077.tif 000125
【０２９７】
ｔｅｒｔ−ブチル  （（４−（４−ブロモブトキシ）フェニル）（イミノ）メチル）カルバメート、およびｔｅｒｔ−ブチル  Ｎ−［ビス（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ）メチレン］カルバメートを用いて、実施例１１工程２と同様の手法で表題化合物を得た。
1HNMR(CDCl3)1.42-1.56(m,36H),1.80-1.86(m,4H),3.87(dd,2H),4.01(dd,2H),6.91(d,2H),7.82(d,2H).
【０２９８】
（工程２）ｔｅｒｔ−ブチル  Ｎ−［Ｎ，Ｎ’−ビス（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−Ｎ−［４−［４−（Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルカルバイミドイル）フェノキシ］ブチル］カルバイミドイル］−Ｎ−（７−ブロモヘプチル）カルバメート＜tert-Butyl N-[N,N’-bis(tert-butoxycarbonyl)-N-[4-[4-(N-tert-butoxycarbonylcarbamimidoyl)phenoxy]butyl]carbamimidoyl]-N-(7-bromoheptyl)carbamate＞の合成
【０２９９】
【化５１】
2016195077.tif 000126
【０３００】
工程１で得られたｔｅｒｔ−ブチル  Ｎ−［Ｎ，Ｎ’−ビス（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）カルバイミドイル］−Ｎ−［４−［４−（Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルカルバイミドイル）フェノキシ］ブチル］カルバメートを用いて実施例９工程１と同様の手法で表題化合物を得た。
1HNMR(CDCl3)1.21-1.34(m,4H),1.42-1.49(m,38H),1.61-1.70(m,2H),1.78-1.89(m,6H),3.38(t,2H),3.51(dd,2H),3.58(dd,2H),4.00(t,2H),6.89(d,2H),7.82(d,2H).
【０３０１】
（工程３）ｔｅｒｔ−ブチル  Ｎ−［Ｎ，Ｎ’−ビス（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−Ｎ−［４−［４−（Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルカルバイミドイル）フェノキシ］ブチル］カルバイミドイル］−Ｎ−［７−［［Ｎ，Ｎ’−ビス（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）カルバイミドイル］アミノ］ヘプチル］カルバメート＜tert-Butyl N-[N,N’-bis(tert-butoxycarbonyl)-N-[4-[4-(N-tert-butoxycarbonylcarbamimidoyl)phenoxy]butyl]carbamimidoyl]-N-[7-[[N,N’-bis(tert-butoxycarbonyl)carbamimidoyl]amino]heptyl]carbamate＞の合成
【０３０２】
【化５２】
2016195077.tif 000127
【０３０３】
工程２で得られたｔｅｒｔ−ブチル  Ｎ−［Ｎ，Ｎ’−ビス（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−Ｎ−［４−［４−（Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルカルバイミドイル）フェノキシ］ブチル］カルバイミドイル］−Ｎ−（７−ブロモヘプチル）カルバメートを用いて、実施例１１工程２と同様の手法で表題化合物（化合物番号１５）を得た。
1HNMR(CDCl3)1.12-1.36(m,8H),1.42-1.52(m,54H),1.76-1.90(m,6H),3.43-3.50(m,2H),3.56-3.63(m,2H),3.82(dd,2H),4.00(t,2H),6.88(d,2H),7.88(d,2H).
【０３０４】
実施例１６
４−［４−［［Ｎ−（７−グアニジノヘプチル）カルバイミドイル］アミノ］ブトキシ］ベンズアミジン＜4-[4-[[N-(7-Guanidinoheptyl)carbamimidoyl]amino]butoxy]benzamidine＞  塩酸塩の合成
【０３０５】
【化５３】
2016195077.tif 000128
【０３０６】
実施例２と同様の手法にて、表題化合物（化合物番号１６）を得た。
1HNMR(CD3OD)1.36-1.44(m,8H),1.54-1.67(m,4H),1.76-1.93(m,4H),3.10-3.24(m,4H),4.14(t,2H),7.14(d,2H),7.79(d,2H).
【０３０７】
実施例１７
６，６’−（（（（イミノメチレン）ビス（アザンジイル））ビス（プロパン−３，１−ジイル））ビス（オキシ））ジニコチンイミドアミド＜6,6’-((((iminomethylene)bis(azanediyl))bis(propane-3,1-diyl))bis(oxy))dinicotinimidamide＞  塩酸塩の合成
【０３０８】
【化５４】
2016195077.tif 000129
【０３０９】
ｔｅｒｔ−ブチル  （（６−（３−ヒドロキシプロポキシ）ピリジン−３−イル）（イミノ）メチル）カルバメート（０．５３ｇ）をテトラヒドロフラン（８ｍＬ）に溶解させた。室温にて、ｔｅｒｔ−ブチル  Ｎ−［ビス（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ）メチレン］カルバメート（０．３６ｇ）を添加した。室温にてトリフェニルホスフィン（０．６６ｇ）およびジエチルアゾジカルボキシレート（１．２ｍＬ，２．２Ｍトルエン溶液）を添加した。２４時間撹拌した後に、反応液から溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製した。得られた粗生成物を、ジクロロメタン（３ｍＬ）に溶解させた後に、トリフルオロ酢酸（１．５ｍＬ）を添加した。室温にて７２時間撹拌した後、反応液から溶媒を留去した。粗生成物をメタノール（３ｍＬ）に溶解させた後、塩化水素（３ｍＬ，４Ｍ１，４−ジオキサン溶液）を添加した。室温にて１８時間撹拌後、反応液から溶媒を留去することで表題化合物（化合物番号１７：０．２３ｇ）を得た。
1HNMR(CDCl3)2.16(m,4H),3.48(m,4H),4.58(m,4H),7.32(d,2H),8.37(d,2H),8.79(s,2H).
【０３１０】
実施例１８
ｔｅｒｔ−ブチル  Ｎ−［４−［３−［３−［３−［４−（Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルカルバイミドイル）フェノキシ］プロピル］−２−（２，２，２−トリフルオロアセチル）イミノ−イミダゾール−１−イル］プロポキシ］ベンゼンカルボキシイミドイル］カルバメート＜tert-Butyl N-[4-[3-[3-[3-[4-(N-tert-butoxycarbonylcarbamimidoyl)phenoxy]propyl]-2-(2,2,2-trifluoroacetyl)imino-imidazol-1-yl]propoxy]benzenecarboximidoyl]carbamate＞の合成
【０３１１】
【化５５】
2016195077.tif 000130
【０３１２】
Ｎ−（１，３−ジヒドロイミダゾール−２−イリデン）−２，２，２−トリフルオロ−アセトアミド（２５０ｍｇ）をアセトニトリル（５ｍＬ）およびベンゼン（２ｍＬ）に溶解させた。室温にて、炭酸カリウム（５８０ｍｇ）、ｔｅｒｔ−ブチル  Ｎ−［４−（３−ブロモプロポキシ）ベンゼンカルボキシイミドイル］カルバメート（１．０９ｇ）を添加した。反応液を５０℃まで昇温し、同温にて一晩撹拌した。反応液を室温まで冷却した後、水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、ろ過した。ろ液を減圧濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製することで表題化合物（化合物番号１８：４６５ｍｇ、収率４５．６％）および化合物Ａ（１８３ｍｇ、収率２８．８％）を得た。
化合物番号１８：
1HNMR(CDCl3)1.55(s,18H),2.25(tt,4H),3.95(t,4H),4.11(t,4H),6.67(d,2H),6.84(d,4H),7.81(d,4H).
【０３１３】
化合物Ａ：
ｔｅｒｔ−ブチル  Ｎ−［４−［３−［２−（２，２，２−トリフルオロアセチル）イミノ−１Ｈ−イミダゾール−３−イル］プロポキシ］ベンゼンカルボキシイミドイル］カルバメート＜tert-Butyl N-[4-[3-[2-(2,2,2-trifluoroacetyl)imino-1H-imidazol-3-yl]propoxy]benzenecarboximidoyl]carbamate＞
【０３１４】
【化５６】
2016195077.tif 000131
【０３１５】
1HNMR(CDCl3)1.55(s,9H),2.30(tt,2H),4.02(t,2H),4.23(t,2H),6.64(d,1H),6.77(d,1H),6.89(d,2H),7.83(d,2H).
【０３１６】
実施例１９
ｔｅｒｔ−ブチル  Ｎ−［４−［３−［３−［３−［４−（Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルカルバイミドイル）フェノキシ］プロピル］−２−イミノ−イミダゾール−１−イル］プロポキシ］ベンゼンカルボキシイミドイル］カルバメート＜tert-Butyl N-[4-[3-[3-[3-[4-(N-tert-butoxycarbonylcarbamimidoyl)phenoxy]propyl]-2-imino-imidazol-1-yl]propoxy]benzenecarboximidoyl]carbamate＞の合成
【０３１７】
【化５７】
2016195077.tif 000132
【０３１８】
実施例１８で得られたｔｅｒｔ−ブチル  Ｎ−［４−［３−［３−［３−［４−（Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルカルバイミドイル）フェノキシ］プロピル］−２−（２，２，２−トリフルオロアセチル）イミノ−イミダゾール−１−イル］プロポキシ］ベンゼンカルボキシイミドイル］カルバメート（４６５ｍｇ）をメタノール（５ｍＬ）に溶解させた。室温にて、炭酸カリウム（９７ｍｇ）を添加した。その後、６０℃にて一晩撹拌した。反応液を室温まで冷却した後、減圧濃縮した。得られた残渣に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、ろ過した。ろ液を減圧濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製することで表題化合物（化合物番号１９：１３９ｍｇ、収率３４．３％）を得た。
1H NMR(CDCl3)1.55(s,18H), 2.16(tt,4H), 3.77(t,4H), 3.99(t,4H), 6.01(s,2H), 6.88(d,4H), 7.81(d,4H).
【０３１９】
実施例２０
４−［３−［３−［３−（４−カルバイミドイルフェノキシ）プロピル］−２−イミノ−イミダゾール−１−イル］プロポキシ］ベンズアミジン＜4-[3-[3-[3-(4-Carbamimidoylphenoxy)propyl]-2-imino-imidazol-1-yl]propoxy]benzamidine＞  塩酸塩の合成
【０３２０】
【化５８】
2016195077.tif 000133
【０３２１】
実施例２と同様の手法にて、表題化合物（化合物番号２０）を得た。
融点（ｍｐ）：  284-286℃．
【０３２２】
実施例２１
ｔｅｒｔ−ブチル  Ｎ−［Ｎ，Ｎ’−ビス（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−Ｎ−［５−［４−（Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルカルバイミドイル）フェニル］ペンタ−４−インイル］カルバイミドイル］−Ｎ−［５−［４−（Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルカルバイミドイル）フェニル］ペンタ−４−インイル］カルバメート＜tert-Butyl N-[N,N’-bis(tert-butoxycarbonyl)-N-[5-[4-(N-tert-butoxycarbonylcarbamimidoyl)phenyl]pent-4-ynyl]carbamimidoyl]-N-[5-[4-(N-tert-butoxycarbonylcarbamimidoyl)phenyl]pent-4-ynyl]carbamate＞の合成
【０３２３】
【化５９】
2016195077.tif 000134
【０３２４】
ｔｅｒｔ−ブチル  Ｎ−［ビス（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ）メチレン］カルバメート（３６０ｍｇ）をテトラヒドロフラン（４ｍＬ）に溶解させた。氷冷下、ｔｅｒｔ−ブチル  Ｎ−［４−（５−ブロモペンタ−１−インイル）ベンゼンカルボキシイミドイル］カルバメート（１９４ｍｇ）、トリフェニルホスフィン（３１２ｍｇ）、ジイソプロピル  アゾジカルボキシレート（２．２Ｍトルエン溶液）（５４１μＬ）を添加した。反応液を室温まで昇温し、同温で一晩撹拌した。反応液を減圧濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製することで表題化合物（化合物番号２１：２６８ｍｇ、収率５３．４％）を得た。
1HNMR(CDCl3)1.47-1.59(m,45H),1.98(tt,4H),2.47(t,4H),3.69(dd,4H),7.38(d,4H),7.71(d,4H).
【０３２５】
実施例２２
４−［５−［［Ｎ−［５−（４−カルバイミドイルフェニル）ペンタ−４−インイル］カルバイミドイル］アミノ］ペンタ−１−インイル］ベンズアミジン＜4-[5-[[N-[5-(4-Carbamimidoylphenyl)pent-4-ynyl]carbamimidoyl]amino]pent-1-ynyl]benzamidine＞塩酸塩の合成
【０３２６】
【化６０】
2016195077.tif 000135
【０３２７】
実施例２と同様の手法にて、表題化合物（化合物番号２２）を得た。
1HNMR(CD3OD)1.91(tt,4H),2.59(t,4H),3.38(t,4H),7.62(d,4H),7.76(d,4H).
【０３２８】
実施例２３
（工程１）ｔｅｒｔ−ブチル  Ｎ−［４−［３−［３−（７−ブロモヘプチル）−２−（２，２，２−トリフルオロアセチル）イミノ−イミダゾール−１−イル］プロポキシ］ベンゼンカルボキシイミドイル］カルバメート＜tert-Butyl N-[4-[3-[3-(7-bromoheptyl)-2-(2,2,2-trifluoroacetyl)imino-imidazol-1-yl]propoxy]benzenecarboximidoyl]carbamate＞の合成
【０３２９】
【化６１】
2016195077.tif 000136
【０３３０】
実施例１８で得られたｔｅｒｔ−ブチル  Ｎ−［４−［３−［２−（２，２，２−トリフルオロアセチル）イミノ−１Ｈ−イミダゾール−３−イル］プロポキシ］ベンゼンカルボキシイミドイル］カルバメート（化合物Ａ：２９７ｍｇ）をアセトニトリル（６ｍＬ）に溶解させた。室温にて炭酸カリウム（９９ｍｇ）、１，７−ジブロモヘプタン（７０９ｍｇ）を添加した。６０℃にて一晩撹拌した後、反応液を室温まで冷却した。次いで、反応液を減圧濃縮した後、得られた残渣に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、ろ過した。ろ液を減圧濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製することで表題化合物（１７２ｍｇ、収率４０．８％）を得た。
1HNMR(CDCl3)1.28-1.36(m,6H),1.55(s,9H),1.64-1.79(m,2H),1.80-1.90(m,2H),2.25(tt,2H),3.40(t,2H),3.84(dd,2H),3.98(t,2H),4.12(t,2H),6.70(s,2H),6.89(d,2H),7.82(d,2H).
【０３３１】
（工程２）ｔｅｒｔ−ブチル  Ｎ−［４−［３−［３−［７−［［Ｎ，Ｎ’−ビス（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）カルバイミドイル］アミノ］ヘプチル］−２−（２，２，２−トリフルオロアセチル）イミノ−イミダゾール−１−イル］プロポキシ］ベンゼンカルボキシイミドイル］カルバメート＜tert-Butyl N-[4-[3-[3-[7-[[N,N’-bis(tert-butoxycarbonyl)carbamimidoyl]amino]heptyl]-2-(2,2,2-trifluoroacetyl)imino-imidazol-1-yl]propoxy]benzenecarboximidoyl]carbamate＞の合成
【０３３２】
【化６２】
2016195077.tif 000137
【０３３３】
実施例１１工程２と同様の手法にて、表題化合物（化合物番号２３）を得た。
1HNMR(CDCl3)1.23-1.36(m,6H),1.44-1.60(m,29H),1.63-1.76(m,2H),2.25(tt,2H),3.82-3.92(m,4H),3.98(t,2H),4.12(t,2H),6.70(s,2H),6.89(d,2H),7.85(d,2H).
【０３３４】
実施例２４
ｔｅｒｔ−ブチル  Ｎ−［４−［３−［３−［７−［［Ｎ，Ｎ’−ビス（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）カルバイミドイル］アミノ］ヘプチル］−２−イミノ−イミダゾール−１−イル］プロポキシ］ベンゼンカルボキシイミドイル］カルバメート＜tert-Butyl N-[4-[3-[3-[7-[[N,N’-bis(tert-butoxycarbonyl)carbamimidoyl]amino]heptyl]-2-imino-imidazol-1-yl]propoxy]benzenecarboximidoyl]carbamate＞の合成
【０３３５】
【化６３】
2016195077.tif 000138
【０３３６】
実施例１９と同様の手法にて、表題化合物（化合物番号２４）を得た。
1HNMR(CDCl3)1.26-1.36(m,6H),1.47-1.64(m,29H),1.66-1.75(m,2H),2.26(tt,2H),3.11(t,2H),3.85(t,2H),3.98(t,2H),4.11(t,2H),6.71-6.74(m,2H),6.89(d,2H),7.83(d,2H).
【０３３７】
実施例２５
４−［３−［３−（７−グアニジノヘプチル）−２−イミノ−イミダゾール−１−イル］プロポキシ］ベンズアミジン＜4-[3-[3-(7-Guanidinoheptyl)-2-imino-imidazol-1-yl]propoxy]benzamidine＞  塩酸塩の合成
【０３３８】
【化６４】
2016195077.tif 000139
【０３３９】
実施例２と同様の手法にて、表題化合物（化合物番号２５）を得た。
1HNMR(CD3OD)1.33-1.42(m,6H),1.52-1.64(m,2H),1.72-1.79(m,2H),2.25-2.33(m,2H),3.16(t,2H),3.86(t,2H),4.12-4.22(m,4H),6.97(s,2H),7.14(d,2H),7.81(d,2H).
【０３４０】
実施例２６
ｔｅｒｔ−ブチル  Ｎ−［４−［４−［３−［４−［４−（Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルカルバイミドイル）フェノキシ］ブチル］−２−イミノ−ベンズイミダゾール−１−イル］ブトキシ］ベンゼンカルボキシイミドイル］カルバメート＜tert-Butyl N-[4-[4-[3-[4-[4-(N-tert-butoxycarbonylcarbamimidoyl)phenoxy]butyl]-2-imino-benzimidazol-1-yl]butoxy]benzenecarboximidoyl]carbamate＞の合成
【０３４１】
【化６５】
2016195077.tif 000140
【０３４２】
１，３−ジヒドロベンズイミダゾール−２−イミン（２００ｍｇ）をアセトニトリル（１５ｍＬ）に溶解させた。氷冷下、炭酸カリウム（４１４ｍｇ）、テトラブチルアンモニウムブロマイド（７３ｍｇ）、ｔｅｒｔ−ブチル  Ｎ−［４−（４−ブロモブトキシ）ベンゼンカルボキシイミドイル］カルバメート（１．１１ｇ）を添加した。その後、室温にて、一晩撹拌した。その後、反応液を６０℃まで昇温し、同温にて５時間撹拌した。反応液にＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（５ｍＬ）を加え、８０℃に昇温した後、同温にて一晩撹拌した。反応液を室温まで冷却し、減圧濃縮した。得られた残渣に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、ろ過した。ろ液を減圧濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製することで表題化合物（化合物番号２６：１２１ｍｇ、収率１１．３％）を得た。
1HNMR(CDCl3)1.55(s,18H),1.82-2.00(m,8H),3.84-3.94(m,4H),4.02(t,4H),6.83-6.85(m,6H),6.99(dd,2H),7.79(d,4H).
【０３４３】
実施例２７
４−［４−［３−［４−（４−カルバイミドイルフェノキシ）ブチル］−２−イミノ−ベンズイミダゾール−１−イル］ブトキシ］ベンズアミジン＜4-[4-[3-[4-(4-Carbamimidoylphenoxy)butyl]-2-imino-benzimidazol-1-yl]butoxy]benzamidine＞  塩酸塩の合成
【０３４４】
【化６６】
2016195077.tif 000141
【０３４５】
実施例２と同様の手法にて、表題化合物（化合物番号２７）を得た。
1HNMR(CD3OD)1.87-2.12(m,8H),4.16(t,4H),4.30(t,4H),7.11(d,4H),7.40(dd,2H),7.57(dd,2H),7.77(d,4H).
【０３４６】
実施例２８
（工程１）ｔｅｒｔ−ブチル  Ｎ−［Ｎ，Ｎ’−ビス（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−Ｎ−［３−［４−（Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルカルバイミドイル）フェノキシ］プロピル］カルバイミドイル］−Ｎ−（７−ブロモヘプチル）カルバメート＜tert-Butyl N-[N,N’-bis(tert-butoxycarbonyl)-N-[3-[4-(N-tert-butoxycarbonylcarbamimidoyl)phenoxy]propyl]carbamimidoyl]-N-(7-bromoheptyl)carbamate＞の合成
【０３４７】
【化６７】
2016195077.tif 000142
【０３４８】
ｔｅｒｔ−ブチル  Ｎ−（７−ブロモヘプチル）−Ｎ−［Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−Ｎ’−イソプロポキシカルボニル−カルバイミドイル］カルバメート（４８０ｍｇ）をテトラヒドロフラン（７ｍＬ）に溶解させた。氷冷下、トリフェニルホスフィン（３０４ｍｇ）、ｔｅｒｔ−ブチル  Ｎ−［４−（３−ヒドロキシプロポキシ）ベンゼンカルボキシイミドイル］カルバメート（３４２ｍｇ）、アゾジカルボン酸ジエチル（２．２Ｍトルエン溶液）（５２７μＬ）を添加した。室温で一晩撹拌した後、反応液を減圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製することで表題化合物（３６５ｍｇ、収率５０．２％）を得た。
1HNMR(CDCl3)1.24-1.36(m,4H),1.46-1.55(m,38H),1.59-1.68(m,2H),1.83(tt,2H),2.16(tt,2H),3.38(t,2H),3.49(dd,2H),3.73(dd,2H),4.07(t,2H),6.90(d,2H),7.82(d,2H).
【０３４９】
（工程２）ｔｅｒｔ−ブチル  Ｎ−［Ｎ，Ｎ’−ビス（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−Ｎ−［３−［４−（Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルカルバイミドイル）フェノキシ］プロピル］カルバイミドイル］−Ｎ−［７−［［Ｎ，Ｎ’−ビス（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）カルバイミドイル］アミノ］ヘプチル］カルバメート＜tert-Butyl N-[N,N’-bis(tert-butoxycarbonyl)-N-[3-[4-(N-tert-butoxycarbonylcarbamimidoyl)phenoxy]propyl]carbamimidoyl]-N-[7-[[N,N’-bis(tert-butoxycarbonyl)carbamimidoyl]amino]heptyl]carbamate＞の合成
【０３５０】
【化６８】
2016195077.tif 000143
【０３５１】
実施例１１工程２と同様の手法にて、表題化合物（化合物番号２８）を得た。
1HNMR(CDCl3)1.10-1.22(m,6H),1.47-1.62(m,58H),2.10-2.22(m,2H),3.63-3.53(m,2H),3.74(t,2H),3.81(t,2H),4.07(d,2H),6.90(d,2H),7.93(d,2H).
【０３５２】
実施例２９
４−［３−［［Ｎ−（７−グアニジノヘプチル）カルバイミドイル］アミノ］プロポキシ］ベンズアミジン＜4-[3-[[N-(7-Guanidinoheptyl)carbamimidoyl]amino]propoxy]benzamidine＞塩酸塩の合成
【０３５３】
【化６９】
2016195077.tif 000144
【０３５４】
実施例２と同様の手法にて、表題化合物（化合物番号２９）を得た。
1HNMR(CD3OD)1.35-1.46(m,6H),1.54-1.66(m,4H),2.08-2.15(m,2H),3.16-3.24(m,4H),3.41-3.46(m,2H),4.19(t,2H),7.16(d,2H),7.80(d,2H).
【０３５５】
実施例３０
４−［４−［［Ｎ−（７−グアニジノヘプチル）カルバイミドイル］アミノ］ブトキシ］ベンズアミジン＜4-[4-[[N-(7-Guanidinoheptyl)carbamimidoyl]amino]butoxy]benzamidine＞酢酸塩の合成
【０３５６】
【化７０】
2016195077.tif 000145
【０３５７】
実施例１６で得られた４−［４−［［Ｎ−（７−グアニジノヘプチル）カルバイミドイル］アミノ］ブトキシ］ベンズアミジン塩酸塩（３９０ｍｇ）をジクロロメタン（２．５ｍＬ）、メタノール（１．５ｍＬ）に溶解させた。室温にて、１０％水酸化ナトリウム水溶液（３ｍＬ）を添加した。室温でさらに１時間撹拌した。反応液に水を加え、ジクロロメタンとメタノールの混合溶媒（２：１）で抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、ろ過した。ろ液を減圧濃縮して得られた残渣をメタノール（４ｍＬ）に溶解させた。室温にて酢酸（２２２μＬ）を添加した後、１時間撹拌した。反応液を減圧濃縮することで表題化合物（化合物番号３０：１０８ｍｇ）を得た。
1HNMR(CD3OD)1.35-1.44(m,4H),1.45-1.52(m,2H),1.56-1.64(m,2H),1.74-1.85(m,4H),1.87-1.94(m,2H),1.95(s,9H),3.18(t,2H),3.27(t,2H),3.55(t,2H),4.14(t,2H),7.12(d,2H),7.80(d,2H).
【０３５８】
実施例３１
（工程１）ｔｅｒｔ−ブチル  Ｎ−［Ｎ，Ｎ’−ビス（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−Ｎ−［４−［［５−（Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルカルバイミドイル）−２−ピリジル］オキシ］ブチル］カルバイミドイル］−Ｎ−（７−ブロモヘプチル）カルバメート＜tert-butyl N-[N,N’-bis(tert-butoxycarbonyl)-N-[4-[[5-(N-tert-butoxycarbonylcarbamimidoyl)-2-pyridyl]oxy]butyl]carbamimidoyl]-N-(7-bromoheptyl)carbamate＞の合成
【０３５９】
【化７１】
2016195077.tif 000146
【０３６０】
実施例２８工程１と同様の手法で表題化合物を得た。
1HNMR(CDCl3)1.24-1.30(m,4H),1.42-1.63(m,42H),1.81-1.85(m,4H),3.39(t,2H),3.48(t,2H),3.56(m,2H),4.35(t,2H),6.73(t,1H),8.13(d,1H),8.87(d,1H).
【０３６１】
（工程２）ｔｅｒｔ−ブチル  Ｎ−［Ｎ，Ｎ’−ビス（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−Ｎ−［４−［［５−（Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルカルバイミドイル）−２−ピリジル］オキシ］ブチル］カルバイミドイル］−Ｎ−［７−［［Ｎ，Ｎ’−ビス（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）カルバイミドイル］アミノ］ヘプチル］カルバメート＜tert-butyl N-[N,N’-bis(tert-butoxycarbonyl)-N-[4-[[5-(N-tert-butoxycarbonylcarbamimidoyl)-2-pyridyl]oxy]butyl]carbamimidoyl]-N-[7-[[N,N’-bis(tert-butoxycarbonyl)carbamimidoyl]amino]heptyl]carbamate＞の合成
【０３６２】
【化７２】
2016195077.tif 000147
【０３６３】
実施例２８工程２と同様の手法で表題化合物（化合物番号３１）を得た。
1HNMR(CDCl3)1.22-1.28(m,6H),1.46-1.60(m,58H),1.75-1.82(m,4H),3.39(m,2H),3.59(m,2H),3.82(t,2H),4.13(t,2H),6.72(d,1H),8.19(d,1H),8.68(s,1H).
【０３６４】
実施例３２
６−（４−（３−（７−グアニジノヘプチル）グアニジノ）ブトキシ）ニコチンイミドアミド＜6-(4-(3-(7-Guanidinoheptyl)guanidino)butoxy)nicotinimidamide＞の合成
【０３６５】
【化７３】
2016195077.tif 000148
【０３６６】
実施例２と同様の手法で表題化合物（化合物番号３２）を得た。
1HNMR(CDCl3)1.18-1.28(m,6H),1.46-1.58(m,4H),1.74(m,2H),1.87(m,2H),3.13-3.19(m,4H),3.28(m,2H),4.44(m,2H),7.01(br,1H),8.09(br,1H),8.64(s,1H).
【０３６７】
実施例３３
（工程１）ｔｅｒｔ−ブチル  Ｎ−［Ｎ，Ｎ’−ビス（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−Ｎ−［３−［５−（Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルカルバイミドイル）ベンゾフラン−２−イル］プロピル］カルバイミドイル］−Ｎ−（７−ブロモヘプチル）カルバメート＜tert-butyl N-[N,N’-bis(tert-butoxycarbonyl)-N-[3-[5-(N-tert-butoxycarbonylcarbamimidoyl)benzofuran-2-yl]propyl]carbamimidoyl]-N-(7-bromoheptyl)carbamate＞の合成
【０３６８】
【化７４】
2016195077.tif 000149
【０３６９】
実施例２８工程１と同様の手法で表題化合物を得た。
1HNMR(CDCl3)1.25-1.56(m,44H),1.84(m,2H),2.12(br,2H),2.82(m,2H),3.38(t,2H),3.49(m,2H),3.62(m,2H),6.45(s,1H),7.40(d,1H),7.72(d,1H),8.05(s,1H).
【０３７０】
（工程２）ｔｅｒｔ−ブチル  Ｎ−［Ｎ，Ｎ’−ビス（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−Ｎ−［３−［５−（Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルカルバイミドイル）ベンゾフラン−２−イル］プロピル］カルバイミドイル］−Ｎ−［７−［［Ｎ，Ｎ’−ビス（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）カルバイミドイル］アミノ］ヘプチル］カルバメート＜tert-Butyl N-[N,N’-bis(tert-butoxycarbonyl)-N-[3-[5-(N-tert-butoxycarbonylcarbamimidoyl)benzofuran-2-yl]propyl]carbamimidoyl]-N-[7-[[N,N’-bis(tert-butoxycarbonyl)carbamimidoyl]amino]heptyl]carbamate＞の合成
【０３７１】
【化７５】
2016195077.tif 000150
【０３７２】
実施例２８工程２と同様の手法で表題化合物（化合物番号３３）を得た。
1HNMR(CDCl3)1.20-1.28(m,6H),1.45-1.57(m,58H),2.12(m,2H),2.81(t,2H),3.47(t,2H),3.62(t,2H),3.82(t,2H),6.46(s,1H),7.40(d,1H),7.78(d,1H),8.11(s,1H).
【０３７３】
実施例３４
２−（３−（３−（７−グアニジノヘプチル）グアニジノ）プロピル）ベンゾフラン−５−カルボキシイミドアミド＜2-(3-(3-(7-Guanidinoheptyl)guanidino)propyl)benzofuran-5-carboximidamide＞の合成
【０３７４】
【化７６】
2016195077.tif 000151
【０３７５】
実施例２と同様の手法で表題化合物（化合物番号３４）を得た。
1HNMR(CDCl3)1.30-1.42(m,6H),1.55-1.62(m,4H),2.05(m,2H),2.93(t,2H),3.30(m,2H),3.10-3.18(m,4H),6.73(s,1H),7.64-7.66(m,2H),8.02(s,1H).
【０３７６】
実施例３５
ｔｅｒｔ−ブチル  Ｎ−［４−［４−［３−［４−［４−（Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルカルバイミドイル）フェノキシ］ブチル］−２−（２，２，２−トリフルオロアセチル）イミノ−イミダゾール−１−イル］ブトキシ］ベンゼンカルボキシイミドイル］カルバメート＜tert-Butyl N-[4-[4-[3-[4-[4-(N-tert-butoxycarbonylcarbamimidoyl)phenoxy]butyl]-2-(2,2,2-trifluoroacetyl)imino-imidazol-1-yl]butoxy]benzenecarboximidoyl]carbamate＞の合成
【０３７７】
【化７７】
2016195077.tif 000152
【０３７８】
実施例１８と同様の手法で表題化合物（化合物番号３５）を得た。
1HNMR(CDCl3)1.55(s,18H),1.79(tt,4H),1.97(tt,4H),3.96(t,4H),4.00(t,4H),6.78(s,2H),6.89(d,4H),7.81(d,4H).
【０３７９】
実施例３６
４−［４−［３−［４−（４−カルバイミドイルフェノキシ）ブチル］−２−イミノ−イミダゾール−１−イル］ブトキシ］ベンズアミジン＜4-[4-[3-[4-(4-Carbamimidoylphenoxy)butyl]-2-imino-imidazol-1-yl]butoxy]benzamidine＞塩酸塩の合成
【０３８０】
【化７８】
2016195077.tif 000153
【０３８１】
実施例３５で得られたｔｅｒｔ−ブチル  Ｎ−［４−［４−［３−［４−［４−（Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルカルバイミドイル）フェノキシ］ブチル］−２−（２，２，２−トリフルオロアセチル）イミノ−イミダゾール−１−イル］ブトキシ］ベンゼンカルボキシイミドイル］カルバメート（６６６ｍｇ）をメタノール（４ｍＬ）に溶解させた。室温にて、塩化水素（４Ｍジオキサン溶液）（１０ｍＬ）を添加した。反応液を５０℃にて一晩撹拌した。反応液を室温まで冷却し、減圧濃縮することで表題化合物（化合物番号３６：５３６ｍｇ）を得た。
融点（ｍｐ）：178-180℃
【０３８２】
実施例３７
（工程１）Ｎ−［１，３−ビス（４−ブロモブチル）イミダゾリジン−２−イリデン］ニトロアミド＜N-[1,3-Bis(4-bromobutyl)imidazolidin-2-ylidene]nitramide＞の合成
【０３８３】
【化７９】
2016195077.tif 000154
【０３８４】
Ｎ−イミダゾリジン−２−イリデンニトロアミド（１．５ｇ）をアセトニトリル（１５ｍＬ）に溶解させた。室温にて炭酸カリウム（４．７７ｍｇ）、１，４−ジブロモブタン（９．９６ｇ）を添加した。反応液を８０℃にて一晩撹拌した。反応液を室温まで冷却した後、減圧濃縮した。得られた残渣に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、ろ過した。ろ液を減圧濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製することで表題化合物（８３ｍｇ、収率１．８％）を得た。
1HNMR(CDCl3)1.74-1.83(m,4H),1.85-1.94(m,4H),3.33(t,4H),3.44(t,4H),3.75(s,4H).
【０３８５】
（工程２）ｔｅｒｔ−ブチル  Ｎ−［４−［４−［３−［４−［４−（Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルカルバイミドイル）フェノキシ］ブチル］−２−ニトロイミノ−イミダゾリジン−１−イル］ブトキシ］ベンゼンカルボキシイミドイル］カルバメート＜tert-Butyl N-[4-[4-[3-[4-[4-(N-tert-butoxycarbonylcarbamimidoyl)phenoxy]butyl]-2-nitroimino-imidazolidin-1-yl]butoxy]benzenecarboximidoyl]carbamate＞の合成
【０３８６】
【化８０】
2016195077.tif 000155
【０３８７】
工程１で得られたＮ−［１，３−ビス（４−ブロモブチル）イミダゾリジン−２−イリデン］ニトロアミド（８４ｍｇ）をアセトニトリル（３ｍｇ）に溶解させた。室温にて炭酸カリウム（１１５ｍｇ）、ｔｅｒｔ−ブチル  Ｎ−（４−ヒドロキシベンゼンカルボキシイミドイル）カルバメート（１４９ｍｇ）を添加した。反応液を８０℃にて一晩撹拌した。反応液を室温まで冷却し、減圧濃縮した。得られた残渣に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、ろ過した。ろ液を減圧濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製することで表題化合物（化合物番号３７：３８ｍｇ、収率２５．７％）を得た。
1HNMR(CDCl3)1.55-1.59(m,22H),1.17-1.85(m,8H),3.37(t,4H),4.00-4.04(m,4H),6.89(d,4H),7.81(d,4H).
【０３８８】
実施例３８
４−［４−［３−［４−（４−カルバイミドイルフェノキシ）ブチル］−２−ニトロイミノ−イミダゾリジン−１−イル］ブトキシ］ベンズアミジン＜4-[4-[3-[4-(4-Carbamimidoylphenoxy)butyl]-2-nitroimino-imidazolidin-1-yl]butoxy]benzamidine＞塩酸塩の合成
【０３８９】
【化８１】
2016195077.tif 000156
【０３９０】
実施例２と同様の手法にて、表題化合物（化合物番号３８）を得た。
1HNMR(CD3OD)1.31(t,4H),1.82-1.88(m,8H),3.20(dd,4H),4.11-4.16(m,4H),7.13(d,4H),7.86(d,4H).
【０３９１】
実施例３９
ｔｅｒｔ−ブチル  Ｎ−［４−［３−［３−［４−［４−（Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルカルバイミドイル）フェノキシ］ブチル］−２−（２，２，２−トリフルオロアセチル）イミノ−イミダゾール−１−イル］プロポキシ］ベンゼンカルボキシイミドイル］カルバメート＜tert-Butyl N-[4-[3-[3-[4-[4-(N-tert-butoxycarbonylcarbamimidoyl)phenoxy]butyl]-2-(2,2,2-trifluoroacetyl)imino-imidazol-1-yl]propoxy]benzenecarboximidoyl]carbamate＞の合成
【０３９２】
【化８２】
2016195077.tif 000157
【０３９３】
実施例１８と同様の手法にて、表題化合物（化合物番号３９）を得た。
1HNMR(CDCl3)1.55(s,18H),1.76-1.84(m,2H),1.96(tt,2H),2.25(tt,2H),3.94-4.04(m,6H),4.12(t,2H),6.72(dd,2H),6.88(dd,4H),7.81(d,4H).
【０３９４】
実施例４０
４−［４−［３−［３−（４−カルバイミドイルフェノキシ）プロピル］−２−イミノ−イミダゾール−１−イル］ブトキシ］ベンズアミジン＜4-[4-[3-[3-(4-Carbamimidoylphenoxy)propyl]-2-imino-imidazol-1-yl]butoxy]benzamidine＞  塩酸塩の合成
【０３９５】
【化８３】
2016195077.tif 000158
【０３９６】
実施例１９、２０と同様の手法にて、表題化合物（化合物番号４０）を得た。
1HNMR(CD3OD)1.82-2.00(m,4H),2.29(tt,2H),3.97(t,2H),4.11-4.22(m,6H),6.96(dd,2H),7.14(dd,4H),7.79(d,2H),7.81(d,2H).
【０３９７】
実施例４１
ｔｅｒｔ−ブチル  Ｎ−［Ｎ，Ｎ’−ビス（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−Ｎ−［３−［４−（Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルカルバイミドイル）フェノキシ］プロピル］カルバイミドイル］−Ｎ−［３−［４−（Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルカルバイミドイル）フェノキシ］プロピル］カルバメート＜tert-Butyl N-[N,N’-bis(tert-butoxycarbonyl)-N-[3-[4-(N-tert-butoxycarbonylcarbamimidoyl)phenoxy]propyl]carbamimidoyl]-N-[3-[4-(N-tert-butoxycarbonylcarbamimidoyl)phenoxy]propyl]carbamate＞の合成
【０３９８】
【化８４】
2016195077.tif 000159
【０３９９】
実施例９と同様の手法にて、表題化合物（化合物番号４１）を得た。
1HNMR(CDCl3)1.44-1.59(m,45H),2.13(dt,4H),3.69(t,4H),3.99(t,4H),6.81(d,4H),7.74(d,4H).
【０４００】
実施例４２
４−［３−［［Ｎ−［３−（４−カルバイミドイルフェノキシ）プロピル］カルバイミドイル］アミノ］プロポキシ］ベンズアミジン＜4-[3-[[N-[3-(4-Carbamimidoylphenoxy)propyl]carbamimidoyl]amino]propoxy]benzamidine＞  塩酸塩の合成
【０４０１】
【化８５】
2016195077.tif 000160
【０４０２】
実施例２と同様の手法にて、表題化合物（化合物番号４２）を得た。
1HNMR(CD3OD)2.12(tt,4H),3.41-3.51(m,4H),4.19(t,4H),7.16(d,4H),7.79(d,4H).
【０４０３】
実施例４３
（工程１）６−（３−（（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル）オキシ）プロポキシ）ピリダジン−３−カルボニトリル＜6-(3-((tert-Butyldimethylsilyl)oxy)propoxy)pyridazine-3-carbonitrile＞の合成
【０４０４】
【化８６】
2016195077.tif 000161
【０４０５】
３−（（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル）オキシ）プロパン−１−オール（２．５ｇ）をテトラヒドロフラン（３０ｍＬ）に溶解させた。０℃にて、水素化ナトリウム（０．５８ｇ）、次いで、６−クロロピリダジン−３−カルボニトリル（１．７ｇ）を添加した。室温にて、１８時間撹拌した後、飽和塩化アンモニウム水溶液を添加した。酢酸エチルで抽出した後、有機層を濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することで表題化合物（２．２ｇ）を得た。
1HNMR(CDCl3)0.037(s,6H),0.87(s,9H),2.04(m,2H),3.79(t,2H),4.71(t,2H),7.04(d,1H),7.65(d,1H).
【０４０６】
（工程２）
ｔｅｒｔ−ブチル  （（６−（３−ヒドロキシプロポキシ）ピリダジン−３−イル）（イミノ）メチル）カルバメート＜tert-Butyl ((6-(3-hydroxypropoxy)pyridazin-3-yl)(imino)methyl)carbamate＞の合成
【０４０７】
【化８７】
2016195077.tif 000162
【０４０８】
工程１で得られた６−（３−（（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル）オキシ）プロポキシ）ピリダジン−３−カルボニトリル（０．５９ｇ）をテトラヒドロフラン（６ｍＬ）に溶解させた。室温にて、リチウム  ビス（トリメチルシリル）アミド（２ｍＬ，１．３Ｍテトラヒドロフラン溶液）を添加した。室温にて２時間撹拌した後に、塩化水素（３ｍＬ，４Ｍ１，４−ジオキサン溶液）を添加した。室温にて、２時間撹拌した後、溶媒を留去した。得られた粗生成物をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（４ｍＬ）に溶解させた。トリエチルアミン（１．０ｇ）およびジ−ｔｅｒｔ−ブチル  ジカーボネート（０．６５ｇ）を加えた。３時間撹拌後に飽和塩化アンモニウム水溶液を加えた。酢酸エチルで抽出した後に、有機層を濃縮した。得られた結晶をヘキサンで洗浄することで表題化合物（０．４０ｇ）を得た。
1HNMR(CDCl3)1.55(s,9H),2.11(m,2H),3.80(t,2H),4.74(t,2H),7.03(d,1H),8.41(d,1H).
【０４０９】
（工程３）ｔｅｒｔ−ｂｕｔｙｌ  Ｎ−［−Ｎ，Ｎ’−ビス（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−Ｎ−［３−［６−（Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルカルバイミドイル）ピリダジン−３−イル］オキシプロピル］カルバイミドイル］−Ｎ−（７−ブロモヘプチル）カーバメート＜tert-butyl N-[-N,N’-bis(tert-butoxycarbonyl)-N-[3-[6-(N-tert-butoxycarbonylcarbamimidoyl)pyridazin-3-yl]oxypropyl]carbamimidoyl]-N-(7-bromoheptyl)carbamate＞の合成
【０４１０】
【化８８】
2016195077.tif 000163
【０４１１】
実施例２８工程１と同様の手法にて、表題化合物を得た。
1HNMR(CDCl3)1.25-1.55(m,42H),1.62(m,2H),1.81(m,2H),2.20(m,2H),3.38(t,2H),3.42(m,2H),3.70(m,2H),4.60(t,2H),7.01(d,1H),8.39(d,1H).
【０４１２】
（工程４）ｔｅｒｔ−ｂｕｔｙｌ  Ｎ−［Ｎ，Ｎ’−ビス（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−Ｎ−［３−［６−（Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルカルボキシカルバイミドイル）ピリダジン−３−イル］オキシプロピル］カルバイミドイル］−Ｎ−［７−［［Ｎ，Ｎ’−ビス（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）カルバイミドイル］アミノ］ヘプチル］カーバメート＜tert-butyl N-[N,N’-bis(tert-butoxycarbonyl)-N-[3-[6-(N-tert-butoxycarbonylcarbamimidoyl)pyridazin-3-yl]oxypropyl]carbamimidoyl]-N-[7-[[N,N’-bis(tert-butoxycarbonyl)carbamimidoyl]amino]heptyl]carbamate＞の合成
【０４１３】
【化８９】
2016195077.tif 000164
【０４１４】
実施例１１工程２と同様の手法にて、表題化合物（化合物番号４３）を得た。
1HNMR(CDCl3)1.44-1.65(m,64H),2.22(m,2H),3.48(m,2H),3.71(t,2H),3.85(m,2H),4.61(t,2H),7.01(d,1H),8.38(d,1H).
【０４１５】
実施例４４
６−（３−（３−（７−グアニジノヘプチル）グアニジノ）プロポキシ）ピリダジン−３−カルボキシアミジン塩酸塩＜6-(3-(3-(7-guanidinoheptyl)guanidino)propoxy)pyridazine-3-carboxamidine＞の合成
【０４１６】
【化９０】
2016195077.tif 000165
【０４１７】
実施例２と同様の手法にて、表題化合物（化合物番号４４）を得た。
融点（ｍｐ）  242-249℃．
【０４１８】
実施例４５
（工程１）
６−（４−ブロモブトキシ）ニコチノニトリル＜6-(4-Bromobutoxy)nicotinonitrile＞の合成
【０４１９】
【化９１】
2016195077.tif 000166
【０４２０】
６−（４−ヒドロキシブトキシ）ニコチノニトリル（２．４７ｇ）をテトラヒドロフラン（３０ｍＬ）に溶解させた。０℃にて四臭化炭素（５．６ｇ）およびトリフェニルホスフィン（４．４ｇ）を添加した。室温にて、２３時間撹拌後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を添加した。酢酸エチルで抽出後、溶媒を留去して得られる残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することで表題化合物（２．８ｇ）を得た。
1HNMR(CDCl3)1.93-2.04(m,4H),3.45(d,2H),4.38(t,2H),6.78(d,1H),7.76(dd,1H),8.45(d,1H).
【０４２１】
（工程２）ｔｅｒｔ−ブチル  （（６−（４−ブロモブトキシ）ピリジン−３−イル）（イミノ）メチル）カルバメート＜tert-Butyl ((6-(4-bromobutoxy)pyridin-3-yl)(imino)methyl)carbamate＞の合成
【０４２２】
【化９２】
2016195077.tif 000167
【０４２３】
工程１で得られた６−（４−ブロモブトキシ）ニコチノニトリル６−（４−ブロモブトキシ）（２．８ｇ）をテトラヒドロフラン（３０ｍＬ）に溶解させた。０℃にてリチウム  ビス（トリメチルシリル）アミド（１０ｍＬ，１．３Ｍテトラヒドロフラン溶液）を添加した。室温にて４時間撹拌後、０℃に冷却してメタノール（１０ｍＬ）および塩化水素（１０ｍＬ，４Ｍ１，４−ジオキサン溶液）を添加した。０℃にて３０分撹拌した後、溶媒を留去した。粗生成物をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（３０ｍＬ）に溶解させてトリエチルアミン（５．６ｇ）およびジ−ｔｅｒｔ−ブチル  ジカーボネート（３．６ｇ）を加えた。１．５時間撹拌後にシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することで表題化合物（４．０ｇ）を得た。
1HNMR(CDCl3)1.55(s,9H),1.90-2.04(m,4H),3.46(d,2H),4.36(t,2H),6.73(d,1H),8.10(d,1H),8.57(s,1H).
【０４２４】
（工程３）ジ−ｔｅｒｔ−ブチル  （（（（（２−（（２，２，２−トリフルオロアセチル）イミノ）−１Ｈ−イミダゾール−１，３（２Ｈ）−ジイル）ビス（ブタン−４，１−ジイル））ビス（オキシ））ビス（ピリジン−６，３−ジイル））ビス（イミノメチレン））ジカルバメート＜Di-tert-butyl (((((2-((2,2,2-trifluoroacetyl)imino)-1H-imidazole-1,3(2H)-diyl)bis(butane-4,1-diyl))bis(oxy))bis(pyridine-6,3-diyl))bis(iminomethylene))dicarbamate＞の合成
【０４２５】
【化９３】
2016195077.tif 000168
【０４２６】
工程２で得られたｔｅｒｔ−ブチル  （（６−（４−ブロモブトキシ）ピリジン−３−イル）（イミノ）メチル）カルバメート（０．７４ｇ）をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（３ｍＬ）に溶解させた。Ｎ−（１，３−ジヒドロ−２Ｈ−イミダゾール−２−イリデン）−２，２，２−トリフルオロアセトアミド（０．１４ｇ）、ヨウ化ナトリウム（０．３６ｇ）および炭酸カリウム（０．２８ｇ）を添加した。６０℃にて、９時間撹拌後に水を加えた。酢酸エチルで抽出後に有機層を減圧濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することで表題化合物（化合物番号４５：０．４１ｇ）を得た。
1HNMR(CDCl3)1.51(s,18H),1.75(m,4H),1.87(m,4H),3.89(m,4H),4.31(m,4H),6.65(d,2H),6.75(s,2H),8.07(d,2H),8.55(s,2H).
【０４２７】
実施例４６
Ｎ−（１，３−ビス（４−（（５−カルバイミドイルピリジン−２−イル）オキシ）ブチル）−１，３−ジヒドロ−２Ｈ−イミダゾール−２−イリデン）−２，２，２−トリフルオロアセトアミド＜N-(1,3-Bis(4-((5-carbamimidoylpyridin-2-yl)oxy)butyl)-1,3-dihydro-2H-imidazol-2-ylidene)-2,2,2-trifluoroacetamide＞  トリフルオロ酢酸塩の合成
【０４２８】
【化９４】
2016195077.tif 000169
【０４２９】
実施例４５工程３で得られたジ−ｔｅｒｔ−ブチル  （（（（（２−（（２，２，２−トリフルオロアセチル）イミノ）−１Ｈ−イミダゾール−１，３（２Ｈ）−ジイル）ビス（ブタン−４，１−ジイル））ビス（オキシ））ビス（ピリジン−６，３−ジイル））ビス（イミノメチレン））ジカルバメート（０．４１ｇ）をジクロロメタン（３ｍＬ）に溶解させた。室温にて、トリフルオロ酢酸（１．５ｍＬ）を添加した後、室温にて１７時間撹拌した。反応液の溶媒を留去することで表題化合物（化合物番号４６：０．２０ｇ）を得た。
1HNMR(CDCl3)1.77(m,4H),1.91(m,4H),3.93(t,4H),4.41(t,4H),6.93(d,2H),7.25(s,2H),8.00(d,2H),8.59(s,2H).
【０４３０】
実施例４７
（工程１）ｔｅｒｔ−ブチル  Ｎ−［５−（ヒドロキシメチル）チオフェン−３−カルボキシイミドイル］カルバメート＜tert-Butyl N-[5-(hydroxymethyl)thiophene-3-carboximidoyl]carbamate＞の合成
【０４３１】
【化９５】
2016195077.tif 000170
【０４３２】
５−［［ｔｅｒｔ−ブチル（ジメチル）シリル］オキシメチル］チオフェン−３−カルボニトリル（２ｇ）をテトラヒドロフラン（２０ｍＬ）に溶解させた。室温でリチウム  ビス（トリメチルシリル）アミド（１．３Ｍテトラヒドロフラン溶液）（９．１ｍＬ）を添加した。同温で１時間撹拌した後、氷冷下、塩化水素（４Ｍジオキサン溶液）（２０ｍＬ）、メタノール（２０ｍＬ）を添加した。反応液を室温で２時間撹拌した。反応液を減圧濃縮し、得られた残渣をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（２０ｍＬ）に溶解させた。氷冷下、トリエチルアミン（４．７９ｇ）、ジ−ｔｅｒｔ−ブチル  ジカーボネート（５．１６ｇ）を添加した。室温にて、４時間撹拌した。反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、ろ過した。ろ液を減圧濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製することで表題化合物（３９２ｍｇ、収率１９．４％）を得た。
1HNMR(CDCl3)1.54(s,9H),4.81(s,2H),7.38(s,1H),7.92(s,1H).
【０４３３】
（工程２）ｔｅｒｔ−ブチル  Ｎ−［５−（ブロモメチル）チオフェン−３−カルボキシイミドイル］カルバメート＜tert-Butyl N-[5-(bromomethyl)thiophene-3-carboximidoyl]carbamate＞の合成
【０４３４】
【化９６】
2016195077.tif 000171
【０４３５】
工程１で得られたｔｅｒｔ−ブチル  Ｎ−［５−（ヒドロキシメチル）チオフェン−３−カルボキシイミドイル］カルバメート（１３４ｍｇ）をテトラヒドロフラン（３ｍＬ）に溶解させた。氷冷下、トリフェニルホスフィン（１５０ｍｇ）、四臭化炭素（１９０ｍｇ）を添加した。反応液を室温で４時間撹拌した。反応液を減圧濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製することで表題化合物（８１ｍｇ、収率１６．７％）を得た。
1HNMR(CDCl3)1.54(s,9H),4.67(s,2H),7.51(d,1H),7.97(d,1H).
【０４３６】
（工程３）ｔｅｒｔ−ブチル  Ｎ−［５−（２−ヒドロキシエトキシメチル）チオフェン−３−カルボキシイミドイル］カルバメート＜tert-Butyl N-[5-(2-hydroxyethoxymethyl)thiophene-3-carboximidoyl]carbamate＞の合成
【０４３７】
【化９７】
2016195077.tif 000172
【０４３８】
工程２で得られたｔｅｒｔ−ブチル  Ｎ−［５−（ブロモメチル）チオフェン−３−カルボキシイミドイル］カルバメート（８１ｍｇ）をエチレングリコール（２ｍＬ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（２ｍＬ）に溶解させ、室温にて炭酸カリウム（７０ｍｇ）を添加した。反応液を減圧濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製することで表題化合物（３１ｍｇ、収率４０．８％）を得た。
1HNMR(CDCl3)1.55(s,9H),3.60(t,2H),3.76(t,2H),4.69(s,2H),7.41(s,1H),7.93(s,1H).
【０４３９】
（工程４）ｔｅｒｔ−ブチル  Ｎ−［Ｎ，Ｎ’−ビス（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−Ｎ−［２−［［４−（Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルカルバイミドイル）−２−チエニル］メトキシ］エチル］カルバイミドイル］−Ｎ−（７−ブロモヘプチル）カルバメート＜tert-Butyl N-[N,N’-bis(tert-butoxycarbonyl)-N-[2-[[4-(N-tert-butoxycarbonylcarbamimidoyl)-2-thienyl]methoxy]ethyl]carbamimidoyl]-N-(7-bromoheptyl)carbamate＞の合成
【０４４０】
【化９８】
2016195077.tif 000173
【０４４１】
実施例２８工程１と同様の手法にて、表題化合物を得た。
1HNMR(CDCl3)1.12-1.25(m,4H),1.33-1.40(m,2H),1.43-1.60(m,38H),1.75-1.86(m,4H),3.38(t,2H),3.72(t,2H),3.87(t,2H),4.63(s,2H),7.49(s,1H),8.07(s,1H).
【０４４２】
（工程５）ｔｅｒｔ−ブチル  Ｎ−［Ｎ，Ｎ’−ビス（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−Ｎ−［２−［［４−（Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルカルバイミドイル）−２−チエニル］メトキシ］エチル］カルバイミドイル］−Ｎ−［７−［［Ｎ，Ｎ’−ビス（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）カルバイミドイル］−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−アミノ］ヘプチル］カルバメート＜tert-Butyl N-[N,N’-bis(tert-butoxycarbonyl)-N-[2-[[4-(N-tert-butoxycarbonylcarbamimidoyl)-2-thienyl]methoxy]ethyl]carbamimidoyl]-N-[7-[[N,N’-bis(tert-butoxycarbonyl)carbamimidoyl]-tert-butoxycarbonyl-amino]heptyl]carbamate＞の合成
【０４４３】
【化９９】
2016195077.tif 000174
【０４４４】
実施例２８工程２と同様の手法にて、表題化合物（化合物番号４７）を得た。
1HNMR(CDCl3)1.01-1.16(m,6H),1.43-1.62(m,58H),3.34-3.42(m,2H),3.71-3.75(m,2H),3.76-3.83(m,2H),3.84-3.91(m,2H),4.62(s,2H),7.54(s,1H),8.16(s,1H).
【０４４５】
実施例４８
５−［２−［［Ｎ−（７−グアニジノヘプチル）カルバイミドイル］アミノ］エトキシメチル］チオフェン−３−カルボキシアミジン＜5-[2-[[N-(7-Guanidinoheptyl)carbamimidoyl]amino]ethoxymethyl]thiophene-3-carboxamidine＞  塩酸塩の合成
【０４４６】
【化１００】
2016195077.tif 000175
【０４４７】
実施例２と同様の手法にて、表題化合物（化合物番号４８）を得た。
1HNMR(CD3OD)1.36-1.45(m,6H),1.53-1.67(m,4H),3.11-3.23(m,6H),3.41-3.50(m,2H),3.65-3.72(m,2H),7.52(d,1H),8.37(d,1H).
【０４４８】
実施例４９
（工程１）エチル  ２−（５−ヒドロキシペンタ−１−インイル）チアゾール−４−カルボキシレート＜Ethyl 2-(5-hydroxypent-1-ynyl)thiazole-4-carboxylate＞の合成
【０４４９】
【化１０１】
2016195077.tif 000176
【０４５０】
エチル  ２−ブロモチアゾール−４−カルボキシレート（２．３２ｇ）をジイソプロピルアミンに溶解させた。室温にて、ペンタ−４−イン−１−オール（１．０７ｇ）、ビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（ＩＩ）ジクロリド（３４４ｍｇ）、ヨウ化銅（５６ｍｇ）を添加した。７０℃にて、６時間撹拌した。反応液を室温まで冷却した後、セライト（登録商標）ろ過を行った。ろ液に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥させた後、ろ過した。ろ液を減圧濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製することで、表題化合物と構造不明物を含む混合物（９９２ｍｇ）を得た。
1HNMR(CDCl3)1.41(t,3H),1.88(dt,2H),2.61(t,2H),3.80(dd,2H),4.44(dd,2H),8.11(s,1H)
【０４５１】
（工程２）エチル  ２−［５−［ｔｅｒｔ−ブチル（ジメチル）シリル］オキシペンタ−１−インイル］チアゾール−４−カルボキシレート＜Ethyl 2-[5-[tert-butyl(dimethyl)silyl]oxypent-1-ynyl]thiazole-4-carboxylate＞の合成
【０４５２】
【化１０２】
2016195077.tif 000177
【０４５３】
工程１で得られたエチル  ２−（５−ヒドロキシペンタ−１−インイル）チアゾール−４−カルボキシレートを含む混合物（９９２ｍｇ）をジクロロメタン（１０ｍＬ）に溶解させた。氷冷下、トリエチルアミン（１．０５ｇ）、塩化ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル（７５０ｍｇ）、Ｎ，Ｎ−ジメチル−４−アミノピリジン（５０ｍｇ）を添加した。室温にて２時間撹拌した。反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、ろ過した。ろ液を減圧濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製することで表題化合物（８１７ｍｇ、収率５５．９％）を得た。
1HNMR(CDCl3)0.07(s,6H),0.90(s,9H),1.41(t,3H),1.83(dt,2H),2.56(t,2H),3.73(t,2H),4.42(dd,2H),8.10(s,1H).
【０４５４】
（工程３）２−［５−［ｔｅｒｔ−ブチル（ジメチル）シリル］オキシペンタ−１−インイル］チアゾール−４−カルボキシイミド酸＜2-[5-[tert-Butyl(dimethyl)silyl]oxypent-1-ynyl]thiazole-4-carboximidicacid＞の合成
【０４５５】
【化１０３】
2016195077.tif 000178
【０４５６】
工程２で得られたエチル  ２−［５−［ｔｅｒｔ−ブチル（ジメチル）シリル］オキシペンタ−１−インイル］チアゾール−４−カルボキシレート（１ｇ）をシールドチューブ内でメタノール（６ｍＬ）に溶解させ、室温にてアンモニア（７Ｍメタノール溶液）（４ｍＬ）を加えた。反応容器を密栓し、８０℃まで昇温した。同温にて一晩撹拌した。反応液を室温まで冷却した後、減圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製することで表題化合物（８６２ｍｇ、収率９１．８％）を得た。
1HNMR(CDCl3)0.07(s,6H),0.91(s,9H),1.85(dt,2H),2.59(t,2H),3.74(t,2H),8.09(s,1H).
【０４５７】
（工程４）ｔｅｒｔ−ブチル  Ｎ−［２−（５−ヒドロキシペンタ−１−インイル）チアゾール−４−カルボキシイミドイル］カルバメート＜tert-Butyl N-[2-(5-hydroxypent-1-ynyl)thiazole-4-carboximidoyl]carbamate＞の合成
【０４５８】
【化１０４】
2016195077.tif 000179
【０４５９】
工程３で得られた２−［５−［ｔｅｒｔ−ブチル（ジメチル）シリル］オキシペンタ−１−インイル］チアゾール−４−カルボキシイミド酸（２６４ｍｇ）をジクロロメタン（４ｍＬ）に溶解させた。氷冷下、トリメチルオキソニウムテトラフルオロボレート（Ｍｅ3ＯＢＦ4）（１４４ｍｇ）を添加した。反応液を室温で一晩撹拌した。反応液を減圧濃縮して得られた残渣を、メタノール（２ｍＬ）に溶解させた。氷冷下、アンモニア（７Ｍメタノール溶液）（４ｍＬ）を添加した。室温にて一晩撹拌した。反応液を減圧濃縮して得られた残渣をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（３ｍＬ）に溶解させ、氷冷下トリフルオロ酢酸（３２９ｍｇ）、ジ−ｔｅｒｔ−ブチル  ジカーボネート（２６６ｍｇ）を添加した。室温にて５時間撹拌した。反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、ろ過した。ろ液を減圧濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製することで表題化合物（３５．４ｍｇ、収率１０．２％）を得た。
1HNMR(CDCl3)1.55(s,9H),1.91(dt,2H),2.64(t,2H),3.82(dd,2H),8.29(s,1H).
【０４６０】
（工程５）ｔｅｒｔ−ブチル  Ｎ−［Ｎ，Ｎ’−ビス（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−Ｎ−［５−［４−（Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルカルバイミドイル）チアゾール−２−イル］ペンタ−４−インイル］カルバイミドイル］−Ｎ−（７−ブロモヘプチル）カルバメート＜tert-Butyl N-[N,N’-bis(tert-butoxycarbonyl)-N-[5-[4-(N-tert-butoxycarbonylcarbamimidoyl)thiazol-2-yl]pent-4-ynyl]carbamimidoyl]-N-(7-bromoheptyl)carbamate＞の合成
【０４６１】
【化１０５】
2016195077.tif 000180
【０４６２】
実施例２８工程１と同様の手法にて、表題化合物を得た。
1HNMR(CDCl3)1.24-1.38(m,4H),1.45-1.56(m,36H),1.62-1.72(m,4H),1.83(dt,2H),1.98-2.05(m,2H),2.56(t,2H),3.39(t,2H),3.51(dd,2H),3.67(dd,2H),8.28(s,1H).
【０４６３】
（工程６）ｔｅｒｔ−ブチル  Ｎ−［Ｎ，Ｎ’−ビス（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−Ｎ−［５−［４−（Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルカルバイミドイル）チアゾール−２−イル］ペンタ−４−インイル］カルバイミドイル］−Ｎ−［７−［［Ｎ，Ｎ’−ビス（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）カルバイミドイル］−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−アミノ］ヘプチル］カルバメート＜tert-Butyl N-[N,N’-bis(tert-butoxycarbonyl)-N-[5-[4-(N-tert-butoxycarbonylcarbamimidoyl)thiazol-2-yl]pent-4-ynyl]carbamimidoyl]-N-[7-[[N,N’-bis(tert-butoxycarbonyl)carbamimidoyl]-tert-butoxycarbonyl-amino]heptyl]carbamate＞の合成
【０４６４】
【化１０６】
2016195077.tif 000181
【０４６５】
実施例２８工程２と同様の手法にて、表題化合物（化合物番号４９）を得た。
1HNMR(CDCl3)1.23-1.33(m,6H),1.45-1.56(m,54H),1.60-1.72(m,6H),2.56(t,2H),3.49(dd,2H),3.66(dd,2H),3.87(dd,2H),8.28(s,1H).
【０４６６】
実施例５０
２−［５−［［Ｎ−（７−グアニジノヘプチル）カルバイミドイル］アミノ］ペンタ−１−インイル］チアゾール−４−カルボキシアミジン＜2-[5-[[N-(7-Guanidinoheptyl)carbamimidoyl]amino]pent-1-ynyl]thiazole-4-carboxamidine＞  塩酸塩の合成
【０４６７】
【化１０７】
2016195077.tif 000182
【０４６８】
実施例２と同様の手法にて、表題化合物（化合物番号５０）を得た。
1HNMR(CD3OD)1.36-1.46(m,6H),1.54-1.68(m,4H),1.93(dt,2H),2.66(t,2H),3.12-3.24(m,6H),8.66(s,1H).
【０４６９】
実施例５１
（工程１）ｔｅｒｔ−ブチル Ｎ−［４−［４−［２−（２，２，２−トリフルオロアセチル）イミノ−１Ｈ−イミダゾール−３−イル］ブトキシ］ベンゼンカルボキシイミドイル］カルバメート〈tert-Butyl N-[4-[4-[2-(2,2,2-trifluoroacetyl)imino-1H-imidazol-3-yl]butoxy]benzenecarboximidoyl]carbamate〉の合成
【０４７０】
【化１０８】
2016195077.tif 000183
【０４７１】
ｔｅｒｔ−ブチル Ｎ−［４−（４−ブロモブトキシ）ベンゼンカルボキシイミドイル］カルバメート（３．００ｇ）をアセトニトリル（５０ｍＬ）及びベンゼン（２５ｍＬ）に溶解させた。Ｎ−（１，３−ジヒドロイミダゾール−２−イリデン）−２,２,２−トリフルオロ−アセトアミド（４．３４ｇ）、炭酸カリウム（１．６８ｇ）及びヨウ化ナトリウム（１．３３ｇ）を順次加え、５０℃で一晩撹拌した。その後、反応液を室温に冷却し、水を加え、クロロホルムで抽出した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、ろ過した。ろ液を減圧濃縮した後、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製することで表題化合物（０．９３ｇ、収率２５％）を得た。
1H NMR(CDCl3) : 1.55 (s, 9H), 1.76-1.87 (m, 2H), 2.01 (tt, 2H), 4.03-4.14 (m, 4H), 6.70 (d, 1H), 6.81 (d, 1H), 6.90 (d, 2H), 7.83 (d, 2H).
【０４７２】
（工程２）ｔｅｒｔ−ブチル Ｎ−［４−［４−［３−［７−［［Ｎ,Ｎ’−ビス（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）カルバイミドイル］アミノ］ヘプチル］−２−（２，２，２−トリフルオロアセチル）イミノ−イミダゾール−１−イル］ブトキシ］ベンゼンカルボキシイミドイル］カルバメート〈tert-butyl N-[4-[4-[3-[7-[[N,N'-Bis(tert-butoxycarbonyl)carbamimidoyl]amino]heptyl]-2-(2,2,2-trifluoroacetyl)imino-imidazol-1-yl]butoxy]benzenecarboximidoyl]carbamate〉の合成
【０４７３】
【化１０９】
2016195077.tif 000184
【０４７４】
工程１で得られたｔｅｒｔ−ブチル Ｎ−［４−［４−［２−（２，２，２−トリフルオロアセチル）イミノ−１Ｈ−イミダゾール−３−イル］ブトキシ］ベンゼンカルボキシイミドイル］カルバメート（４９１．３ｍｇ）及びｔｅｒｔ−ブチル Ｎ−［（７−ブロモヘプチルアミノ）−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ）メチレン］カルバメート（０．６８ｇ）をアセトニトリル（１０ｍＬ）及びベンゼン（５ｍＬ）に溶解させた。炭酸カリウム（０．１８ｇ）を添加し、５０℃で２日間撹拌した。その後、反応液を室温に冷却し、セライト（登録商標）でろ過した。ろ液を減圧濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製することで表題化合物（化合物番号５１：２７８ｍｇ、収率３２％）を得た。
1H NMR (CDCl3) : 1.23-1.39 (m, 6H), 1.45-1.63 (m, 29H), 1.68-1.86 (m, 4H), 1.97 (tt, 2H), 3.81-3.91 (m, 4H), 3.95 (t, 2H), 4.02 (t, 2H), 6.74 (d, 1H), 6.77 (d, 1H), 6.88 (d, 2H), 7.83 (d, 2H).
【０４７５】
実施例５２
４−［４−［３−（７−グアニジノヘプチル）−２−イミノ−イミダゾール−１−イル］ブトキシ］ベンズアミジン〈4-[4-[3-(7-guanidinoheptyl)-2-imino-imidazol-1-yl]butoxy]benzamidine〉塩酸塩の合成
【０４７６】
【化１１０】
2016195077.tif 000185
【０４７７】
実施例５１で得られたｔｅｒｔ−ブチル Ｎ−［４−［４−［３−［７−［［Ｎ,Ｎ’−ビス（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）カルバイミドイル］アミノ］ヘプチル］−２−（２，２，２−トリフルオロアセチル）イミノ−イミダゾール−１−イル］ブトキシ］ベンゼンカルボキシイミドイル］カルバメート（２７８ｍｇ）をメタノール（１０ｍＬ）に溶解させた。室温で塩化水素の１，４−ジオキサン溶液（４Ｍ、１０ｍＬ）を添加し、５０℃にて一晩撹拌した。反応液を室温に冷却し、減圧濃縮することで表題化合物（化合物番号５２：２３０ｍｇ、定量的）を得た。
1H NMR (CD3OD) : 1.33-1.46 (m, 6H), 1.59 (tt, 2H), 1.76 (tt, 2H), 1.82-2.02 (m, 4H), 3.17 (t, 2H), 3.88 (t, 2H), 3.98 (t, 2H), 4.15 (t, 2H), 6.98 (d, 1H), 7.01 (d, 1H), 7.14 (d, 2H), 7.80 (d, 2H).
【０４７８】
実施例５３
（工程１）  Ｎ−［１，３−ビス［３−ヒドロキシプロピル］−１,３−ジヒドロ−２Ｈ−イミダゾール−２−イリデン］−２,２,２−トリフルオロアセトアミド〈N-[1,3-Bis[3-hydroxypropyl]-1,3-dihydro-2H-imidazol-2-ylidene]-2,2,2-trifluoroacetamide〉の合成
【０４７９】
【化１１１】
2016195077.tif 000186
【０４８０】
Ｎ−［１，３−ジヒドロ−２Ｈ−イミダゾール−２−イリデン］−２,２,２−トリフルオロアセトアミド（０．３１ｇ）をアセトニトリル（１０ｍＬ）に溶解させた。室温にて、炭酸カリウム（０．７５ｇ）、３−ブロモ−１−プロパノール（０．７５ｇ）を添加した。反応液を６０℃まで昇温し、同温にて一晩撹拌した後、水に注ぎ入れ、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。有機層を濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製することで表題化合物（０．３２ｇ）を得た。
1H NMR(CD3OD):1.93 （ｔｔ, 4H）, 3.53 (t, 4H), 3.98 (t, 4H), 7.21 (s, 2H).
【０４８１】
（工程２）ｔｅｒｔ−ブチル Ｎ−［３−ブロモ−４−［３−［３−［３−［２−ブロモ−４−（Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルカルバイミドイル）フェノキシ］プロピル］−２−（２，２，２−トリフルオロアセチル）イミノ−イミダゾール−１−イル］プロポキシ］ベンゼンカルボキシイミドイル］カルバメート〈tert-Butyl N-[3-bromo-4-[3-[3-[3-[2-bromo-4-(N-tert-butoxycarbonylcarbamimidoyl)phenoxy]propyl]-2-(2,2,2-trifluoroacetyl)imino-imidazol-1-yl]propoxy]benzenecarboximidoyl]carbamate〉の合成
【０４８２】
【化１１２】
2016195077.tif 000187
【０４８３】
工程１で得られたＮ−［１，３−ビス［３−ヒドロキシプロピル］−１,３−ジヒドロ−２Ｈ−イミダゾール−２−イリデン］−２,２,２−トリフルオロアセトアミド（０．３２ｇ）をトルエン（３０ｍＬ）に溶解させた。室温にてテトラヒドロフラン（１０ｍＬ）を加え、ｔｅｒｔ−ブチル Ｎ−（３−ブロモ−４−ヒドロキシ−ベンゼンカルボキシイミドイル）カルバメート（０．７６ｇ）を添加した。室温にてトリブチルホスフィン（０．９０ｇ）および１，１’−(アゾジカルボニル)ジピペリジン（１．１０ｇ）を添加した。一晩撹拌した後に、水に注ぎ入れ、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、ろ過した。ろ液を減圧濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製することで表題化合物（化合物番号５３：０．４０ｇ）を得た。
1H NMR (CD3OD) : 1.51 (s, 18H), 2.29 (ｔｔ, 4H）, 4.10 (ｔ, 4H), 4.15 (t, 4H), 7.04 (ｄ, 2H), 7.79 (dｄ, 2H), 8.07 (d, 2H).
【０４８４】
実施例５４
３−ブロモ−４−［３−［３−［３−（２−ブロモ−４−カルバイミドイル−フェノキシ）プロピル］−２−イミノ−イミダゾール−１−イル］プロポキシ］ベンズアミジン〈3-Bromo-4-[3-[3-[3-(2-bromo-4-carbamimidoyl-phenoxy)propyl]-2-imino-imidazol-1-yl]propoxy]benzamidine〉塩酸塩の合成  
【０４８５】
【化１１３】
2016195077.tif 000188
【０４８６】
実施例５２と同様の手法にて、表題化合物（化合物番号５４）を得た。
融点：１９３−１９７℃
【０４８７】
実施例５５
Ｎ−［１，３−ビス［３−［４−［Ｎ’−ヒドロキシカルバイミドイル］フェノキシ］プロピル］−１,３−ジヒドロ−２Ｈ−イミダゾール−２−イリデン］−２,２,２−トリフルオロアセトアミド〈N-[1,3-Bis[3-[4-[N'-hydroxycarbamimidoyl]phenoxy]propyl]-1,3-dihydro-2H-imidazol-2-ylidene]-2,2,2-trifluoroacetamide〉の合成
【０４８８】
【化１１４】
2016195077.tif 000189
【０４８９】
Ｎ−［１，３−ビス［３−［４−シアノフェノキシ］プロピル］−１,３−ジヒドロ−２Ｈ−イミダゾール−２−イリデン］−２,２,２−トリフルオロアセトアミド（０．６０ｇ）をＮ，Ｎ−ジメチルスルホキシド（６ｍＬ）に溶解させた。室温にて５０％ヒドロキシルアミン溶液（０．１３ｇ）を添加した。反応液を５０℃まで昇温し、同温にて一晩撹拌した。反応液に２Ｎ水酸化ナトリウム水溶液を注ぎ、テトラヒドロフランで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、ろ過した。ろ液を減圧濃縮し、濃縮残渣を水、酢酸エチル、ヘキサンで順次洗浄することで表題化合物（化合物番号５５：０．３９ｇ）を得た。
融点：１８７−２０１℃
【０４９０】
実施例５６
（工程１）ｔｅｒｔ−ブチル Ｎ−［４−［３−［３−［４−（Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルカルバイミドイル）フェノキシ］プロピルカルバモチオイルアミノ］プロポキシ］ベンゼンカルボキシイミドイル］カルバメート〈tert-Butyl N-[4-[3-[3-[4-(N-tert-butoxycarbonylcarbamimidoyl)phenoxy]propylcarbamothioylamino]propoxy]benzenecarboximidoyl]carbamate〉の合成
【０４９１】
【化１１５】
2016195077.tif 000190
【０４９２】
ｔｅｒｔ−ブチル Ｎ−［４−（３−アミノプロポキシ）ベンゼンカルボキシイミドイル］カルバメート（４４５ｍｇ）をジクロロメタン（５ｍＬ）に溶解させた。室温にてトリエチルアミン（２７３ｍｇ）、ｔｅｒｔ−ブチル Ｎ−［４−（３−イソチオシアナトプロポキシ）ベンゼンカルボキシイミドイル］カルバメート（３８９ｇ）を加えた。同温にて３時間撹拌し、反応液に水を加え、クロロホルムで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過した。ろ液を減圧濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製することで表題化合物（７６７ｍｇ、収率９１．７％）を得た。
1H NMR(CDCl3): 1.55 (s, 18H), 2.03-2.10 (m, 4H), 3.57-3.73 (m, 4H), 4.04 (t, 4H), 6.79 (d, 4H), 7.70 (t, 4H).
【０４９３】
（工程２）ｔｅｒｔ−ブチル Ｎ−［４−［３−［［［３−［４−（Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルカルバイミドイル）フェノキシ］プロピルアミノ］−メチルスルファニル−メチレン］アミノ］プロポキシ］ベンゼンカルボキシイミドイル］カルバメート〈tert-Butyl N-[4-[3-[(Z)-[[3-[4-(N-tert-butoxycarbonylcarbamimidoyl)phenoxy]propylamino]-methylsulfanyl-methylene]amino]propoxy]benzenecarboximidoyl]carbamate〉の合成
【０４９４】
【化１１６】
2016195077.tif 000191
【０４９５】
工程１で得られたｔｅｒｔ−ブチル Ｎ−［４−［３−［３−［４−（Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルカルバイミドイル）フェノキシ］プロピルカルバモチオイルアミノ］プロポキシ］ベンゼンカルボキシイミドイル］カルバメート（７６７ｍｇ）をアセトン（１０ｍＬ）に溶解させた。氷冷下にて炭酸カリウム（２５３ｍｇ）とヨウ化メチル（２５９ｍｇ）を加えた。反応液を室温まで昇温し、同温にて４時間撹拌した。反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過後、減圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製することで表題化合物（５６６ｍｇ、収率７２％）を得た。
1H NMR (CDCl3) :  1.55 (s, 18H), 2.00-2.09 (m, 4H), 2.33 (s, 3H), 3.39-3.51 (m, 4H), 4.07 (dd, 4H), 6.86 (d, 4H), 7.77 (d, 4H).
【０４９６】
（工程３）ｔｅｒｔ−ブチル Ｎ−［Ｎ,Ｎ’−ビス［３−［４−（Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルカルバイミドイル）フェノキシ］プロピル］カルバイミドイル］−Ｎ−メチル−カルバメート〈tert-Butyl N-[N,N'-bis[3-[4-(N-tert-butoxycarbonylcarbamimidoyl)phenoxy]propyl]carbamimidoyl]-N-methyl-carbamate〉の合成
【０４９７】
【化１１７】
2016195077.tif 000192
【０４９８】
工程２で得られたｔｅｒｔ−ブチル Ｎ−［４−［３−［［［３−［４−（Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルカルバイミドイル）フェノキシ］プロピルアミノ］−メチルスルファニル−メチレン］アミノ］プロポキシ］ベンゼンカルボキシイミドイル］カルバメート（２５０ｍｇ）をテトラヒドロフラン（４ｍＬ）に溶解させた。氷冷下にてトリエチルアミン（１１８ｍｇ）、トリフルオロメタンスルホン酸銀（１２０ｍｇ）、メチルアミン（２Ｍ テトラヒドロフラン溶液 ２５３ｍＬ）を添加した。反応液を室温まで昇温し、同温にて一晩撹拌した。反応液をろ過後、減圧濃縮した。
【０４９９】
得られた残渣をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（４ｍＬ）に溶解させ、氷冷下にてトリエチルアミン（１９７ｍｇ）、二炭酸ジ−ｔｅｒｔ−ブチル（２５５ｍｇ）を加えた。反応液を室温まで昇温し、同温にて一晩撹拌した。反応液に水を加え、酢酸エチルにて抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過後、減圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製することで表題化合物（化合物番号５６：１２ｍｇ、収率３．７％）を得た。
1H NMR(CDCl3) : 1.37-1.69 (m, 36H), 2.00-2.07 (m, 4H), 2.76 (s, 3H), 3.27-3.36 (m, 4H), 3.99-4.08 (m, 4H), 6.79-6.87 (m, 4H), 7.33-7.41 (m, 2H), 7.72 (d, 2H).
【０５００】
実施例５７
４−［３−［［Ｎ−［３−（４−カルバイミドイルフェノキシ）プロピル］−Ｎ’−メチル−カルバイミドイル］アミノ］プロポキシ］ベンズアミジン〈4-[3-[[N-[3-(4-carbamimidoylphenoxy)propyl]-N'-methyl-carbamimidoyl]amino]propoxy]benzamidine
〉塩酸塩の合成
【０５０１】
【化１１８】
2016195077.tif 000193
【０５０２】
実施例２と同様の手法にて、表題化合物（化合物番号５７）を得た。
融点：２１９−２２０℃
【０５０３】
実施例５８
（工程１）ｔｅｒｔ−ブチル Ｎ−［Ｎ,Ｎ’−ビス（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）カルバイミドイル］−Ｎ−［５−［［ Ｎ,Ｎ’−ビス（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）カルバイミドイル］アミノ］ペンチル］カルバメート〈tert-Butyl N-[N,N'-bis(tert-butoxycarbonyl)carbamimidoyl]-N-[5-[[ N,N'-bis(tert-butoxycarbonyl)carbamimidoyl]amino]pentyl]carbamate〉の合成
【０５０４】
【化１１９】
2016195077.tif 000194
【０５０５】
ｔｅｒｔ−ブチル Ｎ−［［ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ］−［５−ヒドロキシペンチルアミノ］メチレン］カルバメート（２．６１ｇ）をトルエン（５０ｍＬ）に溶解した。室温にて、１，２，３−トリス（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）グアニジン（４．１１ｇ）を添加した。室温にてトリフェニルホスフィン（３．０２ｇ）およびビス（２−メトキシエチル）アゾジカルボキシレート（２．７４ｇ）を添加した。一晩撹拌した後に溶液を水に注ぎ入れ、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製することで表題化合物（２．５９ｇ）を得た。
1H NMR (CDCl3) : 1.30-1.74 (m, 51H), 3.40 (ｑ, 2H), 3.77 (t, 2H).
【０５０６】
（工程２）ｔｅｒｔ−ブチル Ｎ−［Ｎ,Ｎ’−ビス（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−Ｎ−［４−［４−（Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルカルバイミドイル）フェノキシ］ブチル］カルバイミドイル］−Ｎ−［５−［［Ｎ，Ｎ’−ビス（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）カルバイミドイル］アミノ］ペンチル］カルバメート〈tert-butyl N-[N,N'-bis(tert-butoxycarbonyl)-N-[4-[4-(N-tert-butoxycarbonylcarbamimidoyl)phenoxy]butyl]carbamimidoyl]-N-[5-[[N,N'-bis(tert-butoxycarbonyl)carbamimidoyl]amino]pentyl]carbamate〉の合成
【０５０７】
【化１２０】
2016195077.tif 000195
【０５０８】
ｔｅｒｔ−ブチル （（４−（４−ヒドロキシブトキシ）フェニル）（イミノ）メチル）カルバメート（０．２５ｇ）をテトラヒドロフラン（１０ｍＬ）に溶解した。室温にて、ｔｅｒｔ−ブチル  Ｎ−［Ｎ，Ｎ’−ビス（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）カルバイミドイル］−Ｎ−［５−［［Ｎ，Ｎ’−ビス（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）カルバイミドイル］アミノ］ペンチル］カルバメート（０．５８ｇ）を添加した。室温にてトリフェニルホスフィン（０．３６ｇ）およびビス（２−メトキシエチル）アゾジカルボキシレート（０．３５ｇ）を添加した。一晩撹拌した後に溶液を濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製することで表題化合物（０．３３ｇ）を得た。
1HNMR(CDCl3):1.21-1.70(m,60H),1.75-1.89(m,4H),3.34(q,2H),3.50(t,2H),3.57(t,2H),4.01(t,2H), 6.89(d,2H）,7.85(d,2H).
【０５０９】
実施例５９
４−［３−［［（５−グアニジノペンチル）カルバイミドイル］アミノ］ブトキシ］ベンズアミジン〈4-[3-[[(5-Guanidinopentyl)carbamimidoyl]amino]butoxy]benzamidine〉塩酸塩の合成
【０５１０】
【化１２１】
2016195077.tif 000196
【０５１１】
実施例２と同様の手法にて、表題化合物（化合物番号５９）を得た。
1H NMR (CD3OD)：1.41-1.53 (m, 2H), 1.58-1.71 (m, 4H), 1.75-1.97 (m, 4H), 3.16-3.25 (m, 4H), 3.26-3.37 (m, 2H), 4.15 (t, 2H), 7.14 (d, 2H), 7.79 (d, 2H).
【０５１２】
実施例６０
（工程１）ｔｅｒｔ−ブチル Ｎ−［Ｎ,Ｎ’−ビス（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）カルバイミドイル］−Ｎ−［４−［［５−（Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルカルバイミドイル）−２−ピリジル］オキシ］ブチル］カルバメート〈tert-Butyl N-[N,N'-bis(tert-butoxycarbonyl)carbamimidoyl]-N-[4-[[5-(N-tert-butoxycarbonylcarbamimidoyl)-2-pyridyl]oxy]butyl]carbamate〉の合成
【０５１３】
【化１２２】
2016195077.tif 000197
【０５１４】
ｔｅｒｔ−ブチル Ｎ−［６−（４−ブロモブトキシ）ピリジン−３−カルボキシイミドイル］カルバメート（０．５０ｇ）及び１，２，３−トリス（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）グアニジン（０．９７ｇ）をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（１３ｍＬ）に溶解させた。炭酸カリウム（０．２０ｇ）を添加し、室温で一晩撹拌した。その後、反応液を室温に冷却した後、水を加え、クロロホルムで抽出した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、ろ過した。ろ液を減圧濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製することで表題化合物（０．１６ｇ、収率１８％）を得た。
1H NMR (CDCl3) : 1.45-1.57 (m, 36H), 1.73-1.88 (m, 4H), 3.79-3.93 (m, 2H), 4.29-4.40 (m, 2H), 6.71 (d, 1H), 8.12 (dd, 1H), 8.59 (d, 1H).
【０５１５】
（工程２）
ｔｅｒｔ−ブチル Ｎ−［Ｎ,Ｎ’−ビス（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−Ｎ−［４−［［５−（Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルカルバイミドイル）−２−ピリジル］オキシ］ブチル］カルバイミドイル］−Ｎ−［８−［［Ｎ,Ｎ’−ビス（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）カルバイミドイル］アミノ］オクチル］カルバメート〈tert-butyl N-[N,N'-bis(tert-butoxycarbonyl)-N-[4-[[5-(N-tert-butoxycarbonylcarbamimidoyl)-2-pyridyl]oxy]butyl]carbamimidoyl]-N-[8-[[N,N'-bis(tert-butoxycarbonyl)carbamimidoyl]amino]octyl]carbamate〉の合成
【０５１６】
【化１２３】
2016195077.tif 000198
【０５１７】
工程１で得られたｔｅｒｔ−ブチル Ｎ−［Ｎ,Ｎ’−ビス（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）カルバイミドイル］−Ｎ−［４−［［５−（Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルカルバイミドイル）−２−ピリジル］オキシ］ブチル］カルバメート（０．１６ｇ）及びｔｅｒｔ−ブチル Ｎ−［（８−ブロモオクチルアミノ）−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ）メチレン］カルバメート（０．１７ｇ）をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（５ｍＬ）に溶解させた。炭酸カリウム（０．０７ｇ）を加え、５０℃で一晩撹拌した。その後、反応液を室温に冷却し、水を加え、クロロホルムで抽出した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、ろ過した。ろ液を減圧濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製することで表題化合物（化合物番号６０：８１ｍｇ、収率３２％）を得た。
1H NMR(CDCl3) :1.08-1.37 (m, 10H), 1.39-1.65 (m, 56H), 1.73-1.88 (m, 4H), 3.48 (t, 2H), 3.60 (t, 2H), 3.82 (t, 2H), 4.34 (t, 2H), 6.71 (d, 1H), 8.20 (dd, 1H), 8.69 (d, 1H).
【０５１８】
実施例６１
６−［４−［［Ｎ−（８−グアニジノオクチル）カルバイミドイル］アミノ］ブトキシ］ピリジン−３−カルボキシアミジン〈6-[4-[[N-(8-Guanidinooctyl)carbamimidoyl]amino]butoxy]pyridine-3-carboxamidine〉塩酸塩の合成
【０５１９】
【化１２４】
2016195077.tif 000199
【０５２０】
実施例２と同様の手法にて、表題化合物（化合物番号６１）を得た。
1H NMR (CD3OD)：1.32-1.66 (m, 12H), 1.70-1.90 (m, 4H), 3.13-3.23 (m, 4H), 3.28 (t, 2H), 4.39-4.53 (m, 2H), 6.95-7.04 (m, 1H), 8.04-8.17 (m, 1H), 8.61-8.70 (m, 1H).
【０５２１】
実施例６２
ｔｅｒｔ−ブチル Ｎ−［Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−Ｎ−［３−［４−（Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルカルバイミドイル）フェノキシ］プロピル］−Ｎ’−フェニル−カルバイミドイル］−Ｎ−［３−［４−（Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルカルバイミドイル）フェノキシ］プロピル］カルバメート〈tert-butyl N-[N-tert-butoxycarbonyl-N-[3-[4-(N-tert-butoxycarbonylcarbamimidoyl)phenoxy]propyl]-N'-phenyl-carbamimidoyl]-N-[3-[4-(N-tert-butoxycarbonylcarbamimidoyl)phenoxy]propyl]carbamate〉の合成
【０５２２】
【化１２５】
2016195077.tif 000200
【０５２３】
ｔｅｒｔ−ブチル Ｎ−［４−（３−ブロモプロポキシ）ベンゼンカルボキシイミドイル］カルバメート（０．２７ｇ）及びｔｅｒｔ−ブチル Ｎ−（Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−Ｎ’−フェニル−カルバイミドイル）カルバメート（０．６０ｇ）をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（５ｍＬ）に溶解させた。炭酸カリウム（０．５６ｇ）を添加した後、５０ ℃で一晩撹拌した。その後、反応液を室温に冷却し、水を加え、クロロホルムで抽出した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、ろ過した。ろ液を減圧濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製することで表題化合物（化合物番号６２：０．３０ｇ、収率４２％）を得た。
1H NMR (CDCl3) : 1.35-1.60 (m, 38H), 2.24 (tt, 2H), 3.25 (t, 2H), 3.71 (t, 2H), 3.99 (t, 2H), 4.11 (t, 2H), 6.74 (d, 2H), 6.80 (d, 2H), 6.86 (d, 2H), 7.02 (dd, 2H), 7.25 (dd, 2H), 7.77 (d, 2H).
【０５２４】
実施例６３
４−［３−［［Ｎ−［３−（４−カルバイミドイルフェノキシ）プロピル］−Ｎ’−フェニル−カルバイミドイル］アミノ］プロポキシ］ベンズアミジン〈4-[3-[[N-[3-(4-Carbamimidoylphenoxy)propyl]-N'-phenyl-carbamimidoyl]amino]propoxy]benzamidine〉塩酸塩の合成
【０５２５】
【化１２６】
2016195077.tif 000201
【０５２６】
実施例２と同様の手法にて、表題化合物（化合物番号６３）を得た。
1HNMR(CD3OD): 2.02-2.26 (m, 4H), 3.50-3.62 (m, 4H), 4.20 (t, 2H), 7.11 (d, 2H), 7.23 (d, 2H), 7.33 (t, 1H), 7.43 (dd, 2H), 7.79 (d, 2H).
【０５２７】
実施例６４
ｔｅｒｔ−ブチル Ｎ−［Ｎ,Ｎ’−ビス（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−Ｎ−［３−［４−（Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルカルバイミドイル）フェニル］プロピル］カルバイミドイル］−Ｎ−［３−［４−（Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルカルバイミドイル）フェニル］プロピル］カルバメート〈tert-Butyl N-[N,N'-bis(tert-butoxycarbonyl)-N-[3-[4-(N-tert-butoxycarbonylcarbamimidoyl)phenyl]propyl]carbamimidoyl]-N-[3-[4-(N-tert-butoxycarbonylcarbamimidoyl)phenyl]propyl]carbamate〉の合成
【０５２８】
【化１２７】
2016195077.tif 000202
【０５２９】
ｔｅｒｔ−ブチル Ｎ−［Ｎ,Ｎ’−ビス（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−Ｎ−［３−［４−（Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルカルバイミドイル）フェニル］プロプ−２−イニル］カルバイミドイル］−Ｎ−［３−［４−（Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルカルバイミドイル）フェニル］プロプ−２−イニル］カルバメート（４５０ｍｇ）をメタノール（５ｍＬ）に溶解させ、室温にてパラジウム炭素（４５ｍｇ）を加えた。水素雰囲気下、同温にて一晩撹拌した。反応液ろ過し、減圧濃縮することで表題化合物（化合物番号６４：９０．８ｍｇ、収率２０％）を得た。
1H NMR (CDCl3) : 1.43-1.56 (m, 45H), 1.87-1.98 (m, 4H), 2.62 (t, 4H), 3.52 (dd, 4H), 7.17 (d, 2H), 7.71 (d, 2H).
【０５３０】
実施例６５
４−［３−［［Ｎ−［３−（４−カルバイミドイルフェニル）プロピル］カルバイミドイル］アミノ］プロピル］ベンズアミジン〈4-[3-[[N-[3-(4-Carbamimidoylphenyl)propyl]carbamimidoyl]amino]propyl]benzamidine〉塩酸塩の合成
【０５３１】
【化１２８】
2016195077.tif 000203
【０５３２】
実施例２と同様の手法にて、表題化合物（化合物番号６５）を得た。
1HNMR(CD3OD): 1.95 (dt, 4H), 2.83 (dd, 4H), 3.27 (dd, 4H), 7.51 (d, 4H), 7.75 (d, 4H)
【０５３３】
実施例６６
ジ−ｔｅｒｔ−ブチル ［［［［２−［［２，２，２−トリフルオロアセチル］イミノ］−１Ｈ−イミダゾール−１,３［２Ｈ］−ジイル］ビス［プロパン−３,１−ジイルスルホニル］］ビス［４，１−フェニレン］］ビス［イミノメチレン］］ジカルバメート〈Di-tert-butyl [[[[2-[[2,2,2-trifluoroacetyl]imino]-1H-imidazole-1,3[2H]-diyl]bis[propane-3,1-diylsulfonyl]]bis[4,1-phenylene]]bis[iminomethylene]]dicarbamate〉の合成
【０５３４】
【化１２９】
2016195077.tif 000204
【０５３５】
ジ−ｔｅｒｔ−ブチル ［［［［［２−［［２，２，２−トリフルオロアセチル］イミノ］−１Ｈ−イミダゾール−１,３［２Ｈ］−ジイル］ビス［プロパン−３,１−ジイル］］ビス［スルファンジイル］］ビス［４，１−フェニレン］］ビス［イミノメチレン］］ジカルバメート（１６８ｍｇ）をジクロロメタン（５ ｍＬ）に溶解した。室温にて、３−クロロ過安息香酸（２６８ｍｇ）を添加した。１．５時間撹拌した後に水に注ぎ入れ、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和チオ硫酸ナトリウム水溶液、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、ろ過した。ろ液を減圧濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製することで表題化合物（化合物番号６６：１１６ｍｇ）を得た。
1H NMR (CDCl3) : 1.56 (s, 18H), 2.22 (tt, 4H), 3.12 (t, 4H), 4.03 (t, 4H), 6.86 (s, 2H), 7.85 (d, 4H), 7.91 (d, 4H).
【０５３６】
実施例６７
４−［３−［３−［３−（４−カルバイミドイルフェニル）スルホニルプロピル］−２−イミノ−イミダゾール−１−イル］プロピルスルホニル］ベンズアミジン〈4-[3-[3-[3-(4-Carbamimidoylphenyl)sulfonylpropyl]-2-imino-imidazol-1-yl]propylsulfonyl]benzamidine〉塩酸塩の合成
【０５３７】
【化１３０】
2016195077.tif 000205
【０５３８】
実施例５２と同様の手法にて、表題化合物（化合物番号６７）を得た。
1HNMR(CD3OD): 2.11-2.26 (m, 4H), 3.42 (t, 4H), 4.05 (t, 4H), 6.99 (s, 2H), 8.05 (d, 4H), 8.18 (d, 4H).
【０５３９】
実施例６８
ｔｅｒｔ−ブチル Ｎ−［Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−Ｎ−［４−［４−（Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルカルバイミドイル）フェノキシ］ブチル］−Ｎ’−フェニル−カルバイミドイル］−Ｎ−［４−［４−（Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルカルバイミドイル）フェノキシ］ブチル］カルバメート（化合物番号６８−１）〈tert-butyl N-[N-tert-butoxycarbonyl-N-[4-[4-(N-tert-butoxycarbonylcarbamimidoyl)phenoxy]butyl]-N'-phenyl-carbamimidoyl]-N-[4-[4-(N-tert-butoxycarbonylcarbamimidoyl)phenoxy]butyl]carbamate〉及びｔｅｒｔ−ブチル Ｎ−［Ｎ’−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−Ｎ−［４−［４−（Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルカルバイミドイル）フェノキシ］ブチル］−Ｎ−フェニル−カルバイミドイル］−Ｎ−［４−［４−（Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルカルバイミドイル）フェノキシ］ブチル］カルバメート（化合物番号６８−２）〈tert-butyl N-[N'-tert-butoxycarbonyl-N-[4-[4-(N-tert-butoxycarbonylcarbamimidoyl)phenoxy]butyl]-N-phenyl-carbamimidoyl]-N-[4-[4-(N-tert-butoxycarbonylcarbamimidoyl)phenoxy]butyl]carbamate〉の合成
【０５４０】
【化１３１】
2016195077.tif 000206
【０５４１】
ｔｅｒｔ−ブチル Ｎ−［４−（４−ブロモブトキシ）ベンゼンカルボキシイミドイル］カルバメート（３．０３ｇ）及びｔｅｒｔ−ブチル Ｎ−（Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−Ｎ’−フェニル−カルバイミドイル）カルバメート（１．２５ｇ）をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（５ｍＬ）に溶解させ、炭酸カリウム（２．０６ｇ）を添加し、６０ ℃で一晩撹拌した。その後、反応混合物を室温に冷却し、水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、ろ過後、減圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製することで表題化合物（化合物番号６８−１：５９０ｍｇ、収率１７％）と表題化合物（化合物番号６８−２：１５２ｍｇ、４．５％）を得た。
化合物番号６８−１：
1H NMR (CDCl3) : 1.37 (s, 9H), 1.43-1.68 (m, 31H), 1.75-1.98 (m, 4H), 3.16 (t, 2H), 3.79 (t, 2H), 3.85 (t, 2H), 3.99 (t, 2H), 6.75-6.88 (m, 6H), 7.03 (dd, 2H), 7.26 (d, 2H), 7.72-7.82 (m, 4H).
化合物番号６８−２：
1H NMR (CDCl3) : 1.41-1.72 (m, 40H), 1.73-1.91 (m, 4H), 2.89-3.15 (m, 2H), 3.71-4.08 (m, 6H), 6.80 (d, 2H), 6.82 (d, 2H), 7.20-7.36 (m, 5H), 7.73-7.84 (m, 4H).
【０５４２】
実施例６９
４−［４−［［Ｎ−［４−（４−カルバイミドイルフェノキシ）ブチル］−Ｎ’−フェニル−カルバイミドイル］アミノ］ブトキシ］ベンズアミジン〈4-[4-[[N-[4-(4-Carbamimidoylphenoxy)butyl]-N'-phenyl-carbamimidoyl]amino]butoxy]benzamidine〉  塩酸塩の合成
【０５４３】
【化１３２】
2016195077.tif 000207
【０５４４】
実施例２と同様の手法にて、表題化合物（化合物番号６９）を得た。
1HNMR(CD3OD): 1.77-1.97 (m, 8H), 3.36-3.47 (m, 4H), 4.14 (t, 4H), 7.12 (d, 4H), 7.28 (d, 2H), 7.34 (dd, 1H), 7.47 (dd, 2H), 7.79 (d, 4H).
【０５４５】
実施例７０
４−［４−［［Ｎ―［４−（４−カルバイミドイルフェノキシ）ブチル］−Ｎ−フェニル−カルバイミドイル］アミノ］ブトキシ］ベンズアミジン〈4-[4-[[N-[4-(4-Carbamimidoylphenoxy)butyl]-N-phenyl-carbamimidoyl]amino]butoxy]benzamidine〉  塩酸塩の合成
【０５４６】
【化１３３】
2016195077.tif 000208
【０５４７】
実施例２と同様の手法にて、表題化合物（化合物番号７０）を得た。
1HNMR(CD3OD): 1.71-1.93 (m, 8H), 3.63-3.69 (m, 2H), 3.80 (t, 2H), 4.08 (t, 2H), 4.12 (t, 2H), 7.07 (d, 2H), 7.12 (d, 2H), 7.37 (d, 2H), 7.49 (dd, 1H), 7.56 (dd, 2H), 7.72-7.84 (m, 4H).
【０５４８】
実施例７１
（工程１）２，２，２−トリフルオロ−Ｎ−［３−［８−［２−（２，２，２−トリフルオロアセチル）イミノ−１Ｈ−イミダゾール−３−イル］オクチル］−１Ｈ−イミダゾール−２−イリデン］アセトアミド〈2,2,2-trifluoro-N-[3-[8-[2-(2,2,2-trifluoroacetyl)imino-1H-imidazol-3-yl]octyl]-1H-imidazol-2-ylidene]acetamide〉の合成
【０５４９】
【化１３４】
2016195077.tif 000209
【０５５０】
Ｎ−（１，３−ジヒドロイミダゾール−２−イリデン）−２,２,２−トリフルオロ−アセトアミド（５ｇ）をアセトニトリル（５０ｍＬ）、ベンゼン（１５ｍＬ）に溶解させた。室温にて炭酸カリウム（３．８６ｇ）、ジブロモオクタン（２．５３ｇ）を添加した。反応液を６０℃まで昇温し、同温にて一晩撹拌した。反応液を室温まで冷却させ、水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過後、減圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製する事で表題化合物（３．２７ｇ、収率７５．０％）を得た。
1NMR (CDCl3)：1.24-1.37 (m, 8H), 1.76 (tt, 4H), 3.99 (dd, 4H), 6.65 (d, 2H), 6.81 (d, 2H)．
【０５５１】
（工程２）ｔｅｒｔ−ブチル  ２−［４−［３−［２−（２，２，２−トリフルオロアセチル）イミノ−３−［８−［２−（２，２，２−トリフルオロアセチル）イミノ−１Ｈ−イミダゾール−３−イル］オクチル］イミダゾール−１−イル］プロポキシ］フェニル］−５，６−ジヒドロ−４Ｈ−ピリミジン−１−カルボキシレート〈tert-butyl 2-[4-[3-[2-(2,2,2-trifluoroacetyl)imino-3-[8-[2-(2,2,2-trifluoroacetyl)imino-1H-imidazol-3-yl]octyl]imidazol-1-yl]propoxy]phenyl]-5,6-dihydro-4H-pyrimidine-1-carboxylate〉の合成
【０５５２】
【化１３５】
2016195077.tif 000210
【０５５３】
工程１で得られた２，２，２−トリフルオロ−Ｎ−［３−［８−［２−（２，２，２−トリフルオロアセチル）イミノ−１Ｈ−イミダゾール−３−イル］オクチル］−１Ｈ−イミダゾール−２−イリデン］アセトアミド（９４３ｍｇ）をアセトニトリル（１０ｍＬ）、ベンゼン（３ｍＬ）に溶解させた。室温にて炭酸カリウム（４１７ｍｇ）、ｔｅｒｔ−ブチル ２−［４−（３−ブロモプロポキシ）フェニル］−５,６−ジヒドロ−４Ｈ−ピリミジン−１−カルボキシレート（８００ｍｇ）を添加した。反応液を５０℃に昇温し、同温にて一晩撹拌した。反応液を室温まで冷却させ、水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過後、減圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製する事で表題化合物（化合物番号２８２：３３７ ｍｇ、収率２１．０％）を得た。
1NMR (CDCl3):1.16 (s, 9H), 1.24-1.36 (m, 8H), 1.69-1.79 (m, 4H), 1.92 (dt, 2H), 2.24 (tt, 2H), 3.60 (dd, 2H), 3.70 (dd, 2H), 3.83 (dd, 2H), 3.95 (dd, 2H), 3.98 (dd, 2H), 4.12 (dd, 2H), 6.67-6.71 (m, 3H), 6.80 (d, 1H), 6.83 (d, 2H), 7.42 (d, 2H)．
【０５５４】
実施例７２
ｔｅｒｔ−ブチル  ２−［４−［２−［３−［８−［［Ｎ，Ｎ’−ビス（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）カルバイミドイル］アミノ］オクチル］−２−イミノ−イミダゾリジン−１−イル］エトキシ］フェニル］−５，６−ジヒドロ−４Ｈ−ピリミジン−１−カルボキシレート〈tert-butyl 2-[4-[2-[3-[8-[[N,N'-bis(tert-butoxycarbonyl)carbamimidoyl]amino]octyl]-2-imino-imidazolidin-1-yl]ethoxy]phenyl]-5,6-dihydro-4H-pyrimidine-1-carboxylate〉の合成
【０５５５】
【化１３６】
2016195077.tif 000211
【０５５６】
ｔｅｒｔ−ブチル  ２−［４−［２−（２−イミノイミダゾリジン−１−イル）エトキシ］フェニル］−５,６−ジヒドロ−４Ｈ−ピリミジン−１−カルボキシレート（１４０ｍｇ）をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（５ｍＬ）に溶解させた。室温にて炭酸カリウム（１５３ｍｇ）、ｔｅｒｔ−ブチル−Ｎ−［（８−ブロモオクチルアミノ）−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ）メチレン］カルバメート（３３３ｍｇ）を添加した。反応液を同温にて一晩撹拌した。反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過後、減圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製する事で表題化合物（化合物番号３１５:１１９ｍｇ、収率４２．５％）を得た。
1NMR (CDCl3):1.16 (s, 9H), 1.24-1.36 (m, 8H), 1.47-1.54 (m, 20H), 1.59-1.72 (m, 2H), 1.94 (tt, 2H), 3.02-3.17 (m, 2H), 3.24 (dd, 2H), 3.42 (dd, 2H), 3.56-3.65 (m, 4H), 3.69 (dd, 2H), 3.88 (dd, 2H), 4.16 (dd, 2H), 6.89 (d, 2H), 7.41 (d, 2H)
【０５５７】
実施例１〜７２、合成例１〜９を参考に以下に示す化合物を合成した。
【０５５８】
【表７４】
2016195077.tif 000212
【０５５９】
表中ＢｏｃまたはＢＯＣは、ｔ−ブトキシカルボニル基を示す。表中「−」は、化合物をフリー体として合成したことを意味する。
【０５６０】
【表７５】
2016195077.tif 000213
【０５６１】
表中ＢｏｃまたはＢＯＣは、ｔ−ブトキシカルボニル基を示す。表中「−」は、化合物をフリー体として合成したことを意味する。
【０５６２】
【表７６】
2016195077.tif 000214
【０５６３】
表中ＢｏｃまたはＢＯＣは、ｔ−ブトキシカルボニル基を示す。表中「−」は、化合物をフリー体として合成したことを意味する。
【０５６４】
【表７７】
2016195077.tif 000215
【０５６５】
表中ＢｏｃまたはＢＯＣは、ｔ−ブトキシカルボニル基を示す。表中「−」は、化合物をフリー体として合成したことを意味する。
【０５６６】
【表７８】
2016195077.tif 000216
【０５６７】
表中ＢｏｃまたはＢＯＣは、ｔ−ブトキシカルボニル基を示す。表中「−」は、化合物をフリー体として合成したことを意味する。
【０５６８】
【表７９】
2016195077.tif 000217
【０５６９】
表中ＢｏｃまたはＢＯＣは、ｔ−ブトキシカルボニル基を示す。表中「−」は、化合物をフリー体として合成したことを意味する。
【０５７０】
【表８０】
2016195077.tif 000218
【０５７１】
表中ＢｏｃまたはＢＯＣは、ｔ−ブトキシカルボニル基を示す。表中「−」は、化合物をフリー体として合成したことを意味する。
【０５７２】
【表８１】
2016195077.tif 000219
【０５７３】
表中ＢｏｃまたはＢＯＣは、ｔ−ブトキシカルボニル基を示す。表中「−」は、化合物をフリー体として合成したことを意味する。
【０５７４】
【表８２】
2016195077.tif 000220
【０５７５】
表中ＢｏｃまたはＢＯＣは、ｔ−ブトキシカルボニル基を示す。表中「−」は、化合物をフリー体として合成したことを意味する。
【０５７６】
【表８３】
2016195077.tif 000221
【０５７７】
表中ＢｏｃまたはＢＯＣは、ｔ−ブトキシカルボニル基を示す。表中「−」は、化合物をフリー体として合成したことを意味する。
【０５７８】
【表８４】
2016195077.tif 000222
【０５７９】
表中ＢｏｃまたはＢＯＣは、ｔ−ブトキシカルボニル基を示す。表中「−」は、化合物をフリー体として合成したことを意味する。
【０５８０】
【表８５】
2016195077.tif 000223
【０５８１】
表中ＢｏｃまたはＢＯＣは、ｔ−ブトキシカルボニル基を示す。表中「−」は、化合物をフリー体として合成したことを意味する。
【０５８２】
【表８６】
2016195077.tif 000224
【０５８３】
表中ＢｏｃまたはＢＯＣは、ｔ−ブトキシカルボニル基を示す。表中「−」は、化合物をフリー体として合成したことを意味する。
【０５８４】
【表８７】
2016195077.tif 000225
【０５８５】
表中ＢｏｃまたはＢＯＣは、ｔ−ブトキシカルボニル基を示す。表中「−」は、化合物をフリー体として合成したことを意味する。
【０５８６】
【表８８】
2016195077.tif 000226
【０５８７】
表中ＢｏｃまたはＢＯＣは、ｔ−ブトキシカルボニル基を示す。表中「−」は、化合物をフリー体として合成したことを意味する。
【０５８８】
【表８９】
2016195077.tif 000227
【０５８９】
表中ＢｏｃまたはＢＯＣは、ｔ−ブトキシカルボニル基を示す。表中「−」は、化合物をフリー体として合成したことを意味する。
【０５９０】
【表９０】
2016195077.tif 000228
【０５９１】
表中ＢｏｃまたはＢＯＣは、ｔ−ブトキシカルボニル基を示す。表中「−」は、化合物をフリー体として合成したことを意味する。
【０５９２】
【表９１】
2016195077.tif 000229
【０５９３】
表中ＢｏｃまたはＢＯＣは、ｔ−ブトキシカルボニル基を示す。表中「−」は、化合物をフリー体として合成したことを意味する。
【０５９４】
【表９２】
2016195077.tif 000230
【０５９５】
表中ＢｏｃまたはＢＯＣは、ｔ−ブトキシカルボニル基を示す。表中「−」は、化合物をフリー体として合成したことを意味する。
【０５９６】
【表９３】
2016195077.tif 000231
【０５９７】
表中ＢｏｃまたはＢＯＣは、ｔ−ブトキシカルボニル基を示す。表中「−」は、化合物をフリー体として合成したことを意味する。
【０５９８】
【表９４】
2016195077.tif 000232
【０５９９】
表中ＢｏｃまたはＢＯＣは、ｔ−ブトキシカルボニル基を示す。表中「−」は、化合物をフリー体として合成したことを意味する。
【０６００】
【表９５】
2016195077.tif 000233
【０６０１】
表中ＢｏｃまたはＢＯＣは、ｔ−ブトキシカルボニル基を示す。表中「−」は、化合物をフリー体として合成したことを意味する。
【０６０２】
【表９６】
2016195077.tif 000234
【０６０３】
表中ＢｏｃまたはＢＯＣは、ｔ−ブトキシカルボニル基を示す。表中「−」は、化合物をフリー体として合成したことを意味する。
【０６０４】
【表９７】
2016195077.tif 000235
【０６０５】
表中ＢｏｃまたはＢＯＣは、ｔ−ブトキシカルボニル基を示す。表中「−」は、化合物をフリー体として合成したことを意味する。
【０６０６】
【表９８】
2016195077.tif 000236
【０６０７】
表中ＢｏｃまたはＢＯＣは、ｔ−ブトキシカルボニル基を示す。表中「−」は、化合物をフリー体として合成したことを意味する。
【０６０８】
合成例１
ｔｅｒｔ−ブチル ２−（４−ヒドロキシフェニル）−５,６−ジヒドロ−４Ｈ−ピリミジン−１−カルボキシレート ＜tert-Butyl 2-(4-hydroxyphenyl)-5,6-dihydro-4H-pyrimidine-1-carboxylate＞の合成
【０６０９】
【化１３７】
2016195077.tif 000237
【０６１０】
４−（１，４，５，６−テトラヒドロピリミジン−２−イル）フェノール（２０ｇ）をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（２００ｍＬ）に溶解させた。氷冷下にてトリエチルアミン（４５．７ｇ）、二炭酸ジ−ｔｅｒｔ−ブチル（７４ｇ）を加えた。反応液を室温まで昇温し、同温にて一晩撹拌した。反応液に水を加え、酢酸エチルにて抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、ろ過した。その後、ろ液を減圧濃縮した。得られた残渣をメタノール（３００ｍＬ）に溶解させた。室温にて１０％水酸化ナトリウム水溶液（１５０ｍＬ）を加え、同温にて６時間撹拌した。反応液を減圧濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製することで表題化合物（２２．０ｇ、収率７１％）を得た。
1H NMR (CDCl3) :1.14 (s, 9H), 1.93 (dt, 2H), 3.56 (dd, 2H), 3.70 (t, 2H), 6.58 (d, 2H), 7.23 (d, 2H).
【０６１１】
合成例２
（工程１）  ｔｅｒｔ−ブチル ２−（４−ヨードフェニル）−５,６−ジヒドロ−４Ｈ−ピリミジン−１−カルボキシレート＜tert-Butyl 2-(4-iodophenyl)-5,6-dihydro-4H-pyrimidine-1-carboxylate＞の合成
【０６１２】
【化１３８】
2016195077.tif 000238
【０６１３】
窒素雰囲気下、トルエン（１４５ｍＬ）に室温で２Ｍトリメチルアルミニウム トルエン溶液（２７ｍＬ）、１，３−プロパンジアミン（２．３０ｍＬ）及びエチル ４−ヨードベンゾエート（５．００ｇ）のトルエン溶液（１０ｍＬ）を順次加え、１３０ ℃に昇温し一晩撹拌した。その後、室温に冷却し、クロロホルム（３６ｍＬ）、メタノール（３６ｍＬ）及び水（７．５ｍＬ）を順次加え、室温で１時間撹拌した。その後、反応液をクロロホルム／メタノール＝９／１の混合溶媒で洗いながらセライト（登録商標）で濾過した。濾液を減圧濃縮し、残渣をメタノールに溶解させた。無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過した。ろ液を減圧濃縮して残渣（５．７７ｇ）を得た。続いて、この残渣をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（９１ｍＬ）に溶解させた。二炭酸ジ−ｔｅｒｔ−ブチル（１２．１５ｇ）及びトリエチルアミン（６．７６ｇ）を添加した後、室温で一晩撹拌した。反応液を水に注ぎ入れ、酢酸エチルにて抽出した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、ろ過した。ろ液を減圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製することで表題化合物（７．２８ ｇ、定量的）を得た。
1H NMR (CDCl3) : 1.15 (s, 9H), 1.92 (tt, 2H), 3.62 (t, 2H), 3.70 (t, 2H), 7.22 (d, 2H), 7.69 (d, 2H).
【０６１４】
（工程２）  ｔｅｒｔ−ブチル ２−［４−（３−ヒドロキシプロプ−１−イニル）フェニル］−５,６−ジヒドロ−４Ｈ−ピリミジン−１−カルボキシレート＜tert-Butyl 2-[4-(3-hydroxyprop-1-ynyl)phenyl]-5,6-dihydro-4H-pyrimidine-1-carboxylate＞の合成
【０６１５】
【化１３９】
2016195077.tif 000239
【０６１６】
工程１で得られたｔｅｒｔ−ブチル ２−［４−（３−ブロモプロポキシ）フェニル］−５,６−ジヒドロ−４Ｈ−ピリミジン−１−カルボキシレート（３．６０ｇ）をトリエチルアミン（１０ｍＬ）に溶解させ、プロパルギルアルコール（０．５８ｇ）、ビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(ＩＩ)ジクロリド（６５ｍｇ）及びヨウ化銅(I)（３６ｍｇ）を加え、窒素置換し、８０ ℃で４０分撹拌した。その後、室温に冷却し、水に注ぎ入れ、酢酸エチルで抽出した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、ろ過した。その後、ろ液を減圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製することで表題化合物（１．９４ ｇ、収率６６％）を得た。
1H NMR (CDCl3) : 1.11 (s, 9H), 1.92 (tt, 2H), 3.63 (t, 2H), 3.70 (t, 2H), 4.49 (s, 2H), 7.36-7.50 (m, 4H).
【０６１７】
合成例３
（工程１）［４−（１，４，５，６−テトラヒドロピリミジン−２−イル）フェニル］メタノール〈[4-(1,4,5,6-Tetrahydropyrimidin-2-yl)phenyl]methanol〉の合成
【０６１８】
【化１４０】
2016195077.tif 000240
エチル ４−（ヒドロキシメチル）ベンゼン−１−カルボキシイミデート塩酸塩（７．６８ｇ）をエタノール（３６ｍＬ）に溶解させた。１，３−プロパンジアミン（２．６４ｇ）を添加し、一晩加熱還流した。その後、室温まで冷却してから減圧濃縮した。析出した固体をエタノールで洗いながら濾取することで表題化合物（２．７８ ｇ、収率４１％）を得た。
1H NMR (CD3OD): 2.12 (tt, 2H), 3.60 (t, 4H), 4.71 (s, 2H), 7.58 (d, 2H), 7.68 (d, 2H).
【０６１９】
（工程２）ｔｅｒｔ−ブチル ２−（４−（ヒドロキシメチル）フェニル）−５,６−ジヒドロピリミジン−１（４Ｈ）−カルボキシレート〈tert-Butyl 2-(4-(hydroxymethyl)phenyl)-5,6-dihydropyrimidine-1(4H)-carboxylate〉の合成
【０６２０】
【化１４１】
2016195077.tif 000241
【０６２１】
工程１で得られた［４−（１，４，５，６−テトラヒドロピリミジン−２−イル）フェニル］メタノール（４．５２ｇ）をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（５００ ｍＬ）に溶解した。室温下、トリエチルアミン（１６ｍＬ）とＮ,Ｎ−ジメチル−４−アミノピリジン（０．２９ｇ）を添加した後、二炭酸ジ-tert-ブチル（１５．７１ｇ）を添加した。室温下、反応液を一晩撹拌した後、反応液を減圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製することで表題化合物（４．５７ｇ）を得た。
1H NMR (CD3OD) : 1.10 (s, 9H), 1.94 (tt, 2H), 3.52 (t, 2H), 3.7１ (t, 2H), 4.64 (s, 2H), 7.36-7.43 (m, 4H).
【０６２２】
合成例４
４−［［３−［［ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル］オキシ］プロピル］チオ］ベンゾニトリル〈4-[[3-[[tert-butyldimethylsilyl]oxy]propyl]thio]benzonitrile〉の合成
【０６２３】
【化１４２】
2016195077.tif 000242
【０６２４】
４−［３−［ｔｅｒｔ−ブチル（ジメチル）シリル］オキシプロピルスルファニル］ベンゾニトリル（５．７３ｇ）をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（１００ｍＬ）に溶解した。室温にて、イミダゾール（３．５５ｇ）とｔｅｒｔ−ブチルジメチルクロロシラン（５．５３ｇ）を添加した。１時間撹拌した後に溶液を水に注ぎ入れ、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、ろ過した。ろ液を減圧濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製することで表題化合物（９．７７ｇ）を得た。
1HNMR(CDCl3) : 0.07 (s, 6H), 0.91 (s, 9H), 1.88 (ｔｔ, 2H), 3.08 (t, 2H), 3.73 (t, 2H), 7.32 (d, 2H), 7.52 (d, 2H).
【０６２５】
合成例５
ｔｅｒｔ−ブチル ２−（６−（ヒドロキシメチル）ピリジン−３−イル）−５,６−ジヒドロピリミジン−１（４Ｈ）−カルボキシレート〈tert-butyl 2-(6-(hydroxymethyl)pyridin-3-yl)-5,6-dihydropyrimidine-1(4H)-carboxylate〉の合成
【０６２６】
【化１４３】
2016195077.tif 000243
【０６２７】
窒素雰囲気下、１，３−ジアミノプロパン（４．９１ｇ）をトルエン（９０ｍＬ）に溶解させた。氷浴で冷却しながら、トリメチルアルミニウム（２１ｍＬ，２．０Ｍ  トルエン溶液）を添加した。同温にて１時間撹拌した後、室温にて６−ヒドロキシメチルピリジン−３−カルボキシレート  メチルエステル （３．５２ ｇ）とトルエン（１００ ｍＬ）を加えた後、８０ ℃で一晩撹拌した。その後、氷浴で冷却しながらメタノールを加え、ろ過した。ろ液を減圧濃縮して得られた残渣をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（２００ ｍＬ）に溶解した。室温下、トリエチルアミン（６ｍＬ）を添加した後、二炭酸ジ−ｔｅｒｔ−ブチル（７．０９ｇ）とＮ,Ｎ−ジメチル−４−アミノピリジン（０．２９ｇ）を添加した。室温下、反応液を一晩撹拌した後、反応液をろ過した。これを水に注ぎ入れ、酢酸エチルで抽出した。有機層を合わせ、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、ろ過した。ろ液を減圧濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製することで表題化合物（０．８６ｇ）を得た。
1H NMR (CDCl3) :1.16 (s, 9H), 1.95 (ｔｔ, 2H), 3.67 (ｔ, 2H), 3.74 (ｔ, 2H), 4.79 (s, 2H), 7.25 (d, 1H), 7.80 (dd, 1H), 8.63 (d, 1H).
【０６２８】
合成例６
ｔｅｒｔ−ブチル Ｎ−［４−［３−［［Ｎ,Ｎ’−ビス（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）カルバイミドイル］−メチルアミノ］プロポキシ］ベンゼンカルボキシイミドイル］カルバメート〈tert-Butyl N-[4-[3-[[N,N'-bis(tert-butoxycarbonyl)carbamimidoyl]-methylamino]propoxy]benzenecarboximidoyl]carbamate〉の合成
【０６２９】
【化１４４】
2016195077.tif 000244
【０６３０】
ｔｅｒｔ−ブチル Ｎ−［４−［３−（メチルアミノ）プロポキシ］ベンゼンカルボキシイミドイル］カルバメート（２５４ｍｇ）をテトラヒドロフラン（４ｍＬ）に溶解させた。氷冷下にてトリエチルアミン（２５０ｍｇ）、トリフルオロメタンスルホン酸銀（２５５ｍｇ）、ｔｅｒｔ−ブチル−Ｎ−［（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ）−メチルスルファニル−メチレン］カルバメート（２４０ｍｇ）を添加した。反応液を室温まで昇温し、同温にて一晩撹拌した。反応液をろ過後、ろ液を減圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製することで表題化合物（３０１ｍｇ、収率６６％）を得た。
1H NMR (CDCl3) : 1.46-1.59 (m, 27H), 2.14 (dt, 2H), 3.02 (s, 3H), 3.61-3.76 (m, 2H), 4.08 (t, 2H), 6.92 (d, 2H), 7.82 (d, 2H).
【０６３１】
合成例７
ｔｅｒｔ−ブチル Ｎ−［８−［［Ｎ,Ｎ’−ビス（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）カルバイミドイル］アミノ］オクチル］−Ｎ−［Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−Ｃ−（４−ヒドロキシ−１−ピペリジル）カルボイミドイル］カルバメート〈tert-Butyl N-[8-[[N,N'-bis(tert-butoxycarbonyl)carbamimidoyl]amino]octyl]-N-[N-tert-butoxycarbonyl-C-(4-hydroxy-1-piperidyl)carbonimidoyl]carbamate〉の合成
【０６３２】
【化１４５】
2016195077.tif 000245
【０６３３】
ｔｅｒｔ−ブチル （（（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）アミノ）（４−ヒドロキシピペリジン−１−イル）メチレン）カルバメート（０．５３ｇ）をテトラヒドロフラン（１０ｍＬ）に溶解した。室温にて、ｔｅｒｔ−ブチル Ｎ−［（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ）−（８−ヒドロキシオクチルアミノ）メチレン］カルバメート（１．０２ｇ）を添加した。室温にてトリフェニルホスフィン（０．６２ｇ）およびビス（２−メトキシエチル）アゾジカルボキシレート（０．５８ｇ）を添加した。一晩撹拌した後に溶液を水に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、ろ過した。ろ液を減圧濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製することで、表題化合物（０．６４ｇ）を得た。
1H NMR (CDCl3) : 1.20‐1.38 (m, 8H), 1.40‐2.00 (m, 44H), 3.15‐4.33 (m, 9H).
【０６３４】
合成例８
ｔｅｒｔ−ブチル ２−（８−ヒドロキシオクチルアミノ）−４,５−ジヒドロイミダゾール−１−カルボキシレート〈tert-butyl 2-(8-hydroxyoctylamino)-4,5-dihydroimidazole-1-carboxylate〉の合成
【０６３５】
【化１４６】
2016195077.tif 000246
【０６３６】
２−（メチルスルファニル）−４,５−ジヒドロ−１Ｈ−イミダゾール ヒドロヨージド（４ｇ）をメタノール（５０ｍＬ）に溶解させた。室温にて１−アミノ−８−オクタノール（３．５７ｇ）を添加した。反応液を６０℃まで昇温し、同温にて一晩撹拌した。反応液を室温まで冷却した後、減圧濃縮した。得られた残渣をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（５０ｍＬ）に溶解させ、氷冷下トリエチルアミン（９．９６ｇ）、二炭酸ジ-tert-ブチル（１２．５２ｇ）を添加した。反応液を室温に昇温し、同温にて一晩撹拌した。反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過後、減圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製する事で表題化合物（１．８６ｇ、収率３６．２％）を得た。
1NMR (CDCl3) :1.27-1.36 (m, 8H), 1.44-1.58 (m, 17H), 3.07-3.14 (m, 2H), 3.63 (dd, 2H)．
【０６３７】
合成例９
（工程１）ｔｅｒｔ−ブチル ２−［４−［２−［２−（２，２，２−トリフルオロアセチル）イミノイミダゾリジン−１−イル］エトキシ］フェニル］−５,６−ジヒドロ−４Ｈ−ピリミジン−１−カルボキシレート〈tert-butyl 2-[4-[2-[2-(2,2,2-trifluoroacetyl)iminoimidazolidin-1-yl]ethoxy]phenyl]-5,6-dihydro-4H-pyrimidine-1-carboxylate〉の合成
【０６３８】
【化１４７】
2016195077.tif 000247
【０６３９】
ｔｅｒｔ−ブチル ２−［４−（２−ブロモエトキシ）フェニル］−５,６−ジヒドロ−４Ｈ−ピリミジン−１−カルボキシレート（６９８ｍｇ）をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（８ｍＬ）に溶解させた。室温にて炭酸カリウム（３４４ｍｇ）、２，２，２−トリフルオロ−Ｎ−イミダゾリジン−２−イリデン−アセトアミド（３００ｍｇ）を添加した。反応液を５０℃まで昇温し、同温にて一晩撹拌した。反応液を室温まで冷却させ、水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過後、減圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製する事で表題化合物（２１９ｍｇ、収率２７．３％）を得た。
1NMR (CDCl3): 1.12 (s, 9H), 1.92 (tt, 2H), 3.60 (dd, 2H), 3.69 (dd, 2H), 3.73-3.82 (m, 4H), 3.82 (dd, 2H), 4.19 (dd, 2H), 6.85 (d, 2H), 7.43 (d, 2H)
【０６４０】
（工程２）ｔｅｒｔ−ブチル ２−［４−［２−（２−イミノイミダゾリジン−１−イル）エトキシ］フェニル］−５,６−ジヒドロ−４Ｈ−ピリミジン−１−カルボキシレート〈tert-butyl 2-[4-[2-(2-iminoimidazolidin-1-yl)ethoxy]phenyl]-5,6-dihydro-4H-pyrimidine-1-carboxylate〉の合成
【０６４１】
【化１４８】
2016195077.tif 000248
【０６４２】
工程１で得られたｔｅｒｔ−ブチル ２−［４−［２−［２−（２，２，２−トリフルオロアセチル）イミノイミダゾリジン−１−イル］エトキシ］フェニル］−５,６−ジヒドロ−４Ｈ−ピリミジン−１−カルボキシレート（１８５ｍｇ）をメタノール（５ｍＬ）に溶解させた。室温にて炭酸カリウム（６１ｍｇ）を添加した後、同温にて一晩撹拌した。反応液を減圧濃縮した後、得られた残渣に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、ろ過した。ろ液を減圧濃縮することで表題化合物（１４０ ｍｇ、収率９７．９％）を得た。
1H NMR (CD3OD) : 1.13 (s, 9H), 1.92 (tt, 2H), 3.43-3.52 (m, 4H), 3.64-3.68 (m, 4H), 3.69 (dd, 2H), 4.19 (dd, 2H), 6.98 (d, 2H), 7.37 (d, 2H)
【０６４３】
製剤実施例（乳剤）
本発明化合物                  ５．６２  質量部
界面活性剤                    ４．４９  質量部
ジメチルホルムアミド        ８９．８９  質量部
以上を混合し溶解させて、有効成分５．６２％の乳剤を得た。
【０６４４】
試験例１
（リンゴ黒星病防除試験）
前記製剤実施例の配合処方で調製された乳剤を有効成分１２５ｐｐｍになるように水で希釈した。素焼きポットで栽培したリンゴ幼苗（品種「王林」、３〜４葉期）に、前記希釈液を散布した。室温で自然乾燥させた。その後、リンゴ黒星病菌（Venturia inaequalis）の分生胞子を接種し、明暗を１２時間毎に繰り返す２０℃、高湿度の室内に２週間保持した。病斑出現状態を無処理と比較し防除効果を調べた。なお、防除価は下記式により算出した。
【０６４５】
【数１】
2016195077.tif 000249
【０６４６】
化合物番号２、４、６、８、１０、１２、１６、１７、２０、２２、２５、２７、２９、３０、３２、３４、３６、３８、４０、４２、４４、４８、５０、５２、５７、５９、６１、６３、６５、７２、７３、７６、７８、８０、８２、８４、８６、８８、８９、９１、９３、９５、９７、９９、１０１、１０３、１０５、１０７、１０９、１１０、１１２、１１４、１１６、１１８、１２０、１２２、１２４、１２６、１２８、１３０、１３２、１３４、１３６、１３８、１４０、１４２、１４３、１４５、１４７、１４９、１５１、１５３、１５５、１５７、１５９、１６１、１６３、１６５、１６７、１６９、１７１、１７３、１７５、１７７、１７９、１８１、１８４、１８６、１８８、１９０、１９２、１９４、１９６、１９８、２００、２０２、２０６、２０８、２１０、２１２、２１４、２２０、２２２、２２４、２２６、２２８、２３０、２３２、２３４、２３６、２３８、２４０、２４２、２４４、２４６、２５０、２５４、２５６、２６２、２６４、２６６、２７０、２７１、２７３，２７５、２７７、２７９、２８３、２８５、２８８、２９０、２９２、２９４、２９６、２９８、３００、および３０２の化合物について前記リンゴ黒星病防除試験を行った。いずれの化合物も７５％以上の防除価を示した。
【０６４７】
試験例２
（キュウリ灰色かび病防除試験）
前記製剤実施例の配合処方で調製された乳剤を有効成分１２５ｐｐｍになるように水で希釈した。素焼きポットで栽培したキュウリ幼苗（品種「ときわ地這」、子葉期）に、前記希釈液を散布した。室温で自然乾燥させた。その後、キュウリ灰色かび病菌（Botrytis cinerea）の分生胞子懸濁液を滴下接種し、暗所、２０℃、高湿度の室内に４日間保持した。試験例１と同様にして、葉上の病斑出現状態を無処理と比較調査し、防除効果を求めた。
【０６４８】
化合物番号２、４、６、８、１０、１２、１４、１６、１７、２０、２２、２５、２７、２９、３０、３２、３４、３６、３８、４０、４２、４４、４６、４８、５０、５２、５４、５７、５９、６１、６３、６５、７２、７６、７８、８０、８２、８４、８６、８８、８９、９１、９３、９５、９９、１０１、１０３、１０５、１０７、１０９、１１０、１１２、１１４、１１６、１１８、１２０、１２２、１２４、１２６、１２８、１３０、１３２、１３４、１３６、１３８、１４０、１４２、１４３、１４５、１４７、１４９、１５１、１５３、１５５、１５７、１５９、１６１、１６３、１６５、１６７、１６９、１７１、１７３、１７５、１７７、１７９、１８１、１８４、１８６、１８８、１９０、１９２、１９４、１９６、１９８、２００、２０２、２０４、２０６、２０８、２１０、２１２、２１４、２１６、２１８、２２０、２２２、２２４、２２６、２２８、２３０、２３２、２３４、２３６、２３８、２４０、２４２、２４４、２４６、２４８、２５０、２５２、２５４、２５６、２５８、２６０、２６２、２６４、２６６、２６８、２７３、２７５，２７７、２７９、２８１、２８３、２８５、２８６、２８８、２９６、２９８、３００、および３０２の化合物について前記キュウリ灰色かび病防除試験を行った。いずれの化合物も７５％以上の防除価を示した。
【０６４９】
試験例３
（コムギうどんこ病防除試験）
前記製剤実施例の配合処方で調製された乳剤を有効成分１２５ｐｐｍになるように水で希釈した。素焼きポットで栽培したコムギ幼苗（品種「チホク」、１．０〜１．２葉期）に前記希釈液を散布した。葉を風乾させた。その後、コムギうどんこ病菌（Blumeria graminis f.sp.tritici）の分生胞子を振り払い接種し、２２〜２５℃の温室で７日間保持した。試験例１と同様にして葉上の病斑出現状態を無処理と比較調査し、防除効果を求めた。
【０６５０】
化合物番号２、６、８、１０、１２、１６、１７、２０、２２、２５、２９、３０、３２、３４、３６、４０、４２、４４、４６、５０、５２、５７、５９、６１、６３、６５、７２、８２、８９、９３、９９、１０１、１０３、１０５、１０７、１０９、１１０、１１２、１１４、１２０、１２２、１２６、１２８、１３０、１３２、１３４、１３６、１３８、１４０、１４２、１４３、１４５、１４７、１４９、１５１、１５３、１５５、１５７、１５９、１６１、１６３、１６５、１６７、１６９、１７１、１７３、１７５、１７７、１７９、１８１、１８４、１８６、１８８、１９０、１９２、１９４、１９６、１９８、２００、２０２、２０４、２０６、２０８、２１０、２１２、２１４、２１６、２１８、２２０、２２２、２２４、２２８、２３０、２３２、２３４、２３６、２３８、２４０、２４２、２４６、２４８、２５０、２５２、２５４、２５６、２５８、２６０、２６２、２６４、２６６、２６８、２７０、２７１、２７３、２７５、２７７、２７９、２８１、２８３、２８５、２８６、２８８、および３００の化合物について前記コムギうどんこ病防除試験を行った。いずれの化合物も７５％以上の防除価を示した。
【０６５１】
試験例４
（トマト疫病防除試験）
前記製剤実施例の配合処方で調製された乳剤を有効成分１２５ｐｐｍになるように水で希釈した。素焼きポットで栽培したトマト幼苗（品種「レジナ」、４〜５葉期）に、前記希釈液を散布した。葉を風乾させた後、トマト疫病菌（Phytophthora infestans）の遊走子嚢懸濁液を噴霧接種し、明暗を１２時間毎に繰り返す高湿度の恒温室（２０℃）に４日間保持した。試験例１と同様にして葉上の病斑出現状態を無処理と比較調査し、防除価を求めた。
【０６５２】
化合物番号２、６、８、１０、１６、２０、２２、２５、２７、２９、３０、３２、３４、３６、４０、４２、４４、５２、５４、５７、６１、７６、８０、８２、８４、８６、８８、８９、９１、９３、９９、１０１、１０３、１０５、１０７、１０９、１１０、１１２、１１４、１１６、１１８、１２０、１２２、１２４、１２６、１２８、１３０、１３２、１３４、１３６、１３８、１４０、１４２、１４３、１４５、１４７、１４９、１５１、１５３、１５５、１５７、１５９、１６３、１６５、１６７、１６９、１７１、１７３、１７７、１７９、１８１、１８４、１８６、１８８、１９０、１９２、１９４、１９６、１９８、２００、２０２、２０４、２０６、２０８、２１０、２１２、２１４、２１６、２１８、２２０、２２２、２２４、２２８、２３０、２３２、２３４、２４０、２４２、２４６、２４８、２５０、２５２、２５４、２５６、２５８、２６０、２６４、２６６、２６８、２７０、２７１、２７３、２７５、２７７、２７９、および２８１、２８５、２８８、２９０、２９２、２９８、３００、および３０２の化合物について前記トマト疫病防除試験を行った。いずれの化合物も７５％以上の防除価を示した。
【０６５３】
試験例５
（コムギ赤さび病防除試験）
前記製剤実施例の配合処方で調製された乳剤を有効成分１２５ｐｐｍになるように水で希釈した。素焼きポットで栽培したコムギ幼苗（品種「農林６１号」、１．０〜１．２葉期）に前記希釈液を散布した。葉を風乾させた後、コムギ赤さび病菌（Puccinia recondita）の夏胞子を振り払い接種し、２２〜２５℃の温室で１０日間保持した。試験例１と同様にして葉上の病斑出現状態を無処理と比較調査し、防除効果を求めた。
【０６５４】
化合物番号６、８、１０、１６、２０、２２、２５、２９、３２、３４、４０、４２、４８、５０、５２、５７、５９、６１、７２、８９、１０３、１０７、１０９、１１０、１１２、１１４、１２０、１２２、１２４、１２６、１２８、１３０、１３６、１４０、１４２、１４３、１４５、１５１、１５３、１５７、１６３、１６５、１６７、１６９、１７１、１７３、１７７、１７９、１８４、１８６、１８８、１９２、１９４、２００、２０４、２０６、２１６、２１８、２２０、２２２、２２８、２３０、２３２、２３４、２３６、２３８、２４０、２４２、２４４、２４６、２４８、２５２、２５４、２５６、２５８、２６０、２６２、２６４、２６６、２６８、２７０、２７１、２７３、２７５、２７７、２７９、２８１、２８５、２８６、２８８、２９２、２９８、３００、および３０２の化合物について前記コムギ赤さび病防除試験を行った。いずれの化合物も７５％以上の防除価を示した。
【産業上の利用可能性】
【０６５５】
本発明に係るグアニジン化合物（式〔I〕で表される化合物またはその塩）は、殺菌活性に優れ、安全性に優れ、且つ工業的に有利に合成することができる。当該グアニジン化合物を有効成分として含有する殺菌剤若しくは植物病害防除剤は、リンゴ黒星病、キュウリ灰色かび病、コムギうどんこ病、トマト疫病、コムギ赤さび病などの植物病害の防除に特に優れている。
【国際調査報告】
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