(57)【要約】【課題】作業負荷が少なく、生産性が高いトリアゾール化合物の製造方法及び当該トリアゾール化合物を含有する光学フィルムを提供する。【解決手段】下記一般式（１．１）で表される構造を有するトリアゾール化合物の製造方法であって、沸点が１１０℃以上でありかつ比誘電率が１３以上である極性溶媒中、イミノ構造を有する有機塩基の存在下、（Ａ）一般式（１ａ）で表される構造を有するヒドラジド誘導体と、一般式（１ｂ）で表される構造を有するニトリル誘導体とを反応させるか、又は（Ｂ）一般式（１ｃ）で表される構造を有するニトリル誘導体と、一般式（１ｄ）で表される構造を有するヒドラジド誘導体とを反応させて、トリアゾール化合物を製造することを特徴とするトリアゾール化合物の製造方法。    【化１】2014148496.tif 000054【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記一般式（１．１）で表される構造を有するトリアゾール化合物の製造方法であって、
沸点が１１０℃以上でありかつ比誘電率が１３以上である極性溶媒中、イミノ構造を有する有機塩基の存在下、
（Ａ）下記一般式（１ａ）で表される構造を有するヒドラジド誘導体と、下記一般式（１ｂ）で表される構造を有するニトリル誘導体とを反応させるか、又は
（Ｂ）下記一般式（１ｃ）で表される構造を有するニトリル誘導体と、下記一般式（１ｄ）で表される構造を有するヒドラジド誘導体とを反応させて、
トリアゾール化合物を製造することを特徴とするトリアゾール化合物の製造方法。
【化１】
2014148496.tif 000049
〔上記一般式（１．１）において、Ａ１は、アルキル基、シクロアルキル基、芳香族炭化水素環基又は芳香族複素環基を表す。Ｂは、芳香族炭化水素環又は芳香族複素環を表す。Ｔ１は、１，２，４−トリアゾール環を表す。Ｌ１及びＬ２は、それぞれ独立に、単結合又は２価の連結基を表す。ｋは、１〜４の整数を表す。〕
【化２】
2014148496.tif 000050
【化３】
2014148496.tif 000051
【化４】
2014148496.tif 000052
【化５】
2014148496.tif 000053
〔上記一般式（１ａ）〜（１ｄ）において、Ａ１、Ｂ、Ｔ１、Ｌ１及びＬ２の定義は、一般式（１．１）と同じである。〕
【請求項２】
前記有機塩基が、１,１,３,３−テトラメチルグアニジン、１,８−ジアザビシクロ[５.４.０]ウンデカ−７−エン又は１,５−ジアザビシクロ[４.３.０]ノナ−５−エンであることを特徴とする請求項１に記載のトリアゾール化合物の製造方法。
【請求項３】
前記極性溶媒の沸点が、１１０〜２００℃の範囲内にあることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載のトリアゾール化合物の製造方法。
【請求項４】
前記極性溶媒が、ｎ−ブタノールであることを特徴とする請求項１から請求項３までのいずれか一項に記載のトリアゾール化合物の製造方法。
【請求項５】
少なくとも樹脂と５員又は６員の芳香族複素環基を有するトリアゾール化合物とを含有する樹脂組成物を用いて作製された光学フィルムであって、
リターデーション値（Ｒｏ値又はＲｔ値）の変動抑制率が、下記測定条件下で、２０〜１００％の範囲内であることを特徴とする光学フィルム。
測定条件：
（ａ）作製した前記光学フィルム（サンプルフィルム）と同一膜厚で、かつ前記５員又は６員の芳香族複素環基を有する化合物を含まない光学フィルム（基準フィルム）を、サンプルフィルムと同様に作製し、
（ｂ）前記サンプルフィルムと基準フィルムとを温度２３℃の純水中に２４時間水浸漬する。
（ｃ）前記サンプルフィルムと基準フィルムについて、温度２３℃、相対湿度５５％における光波長５９０ｎｍでのリターデーション値Ｒｏ値及びＲｔ値を、水浸漬前と後に、測定し、水浸漬前後のリターデーション値の差の絶対値ΔＲｏ及びΔＲｔをそれぞれの光学フィルムについて求める。
（ｄ）下式により、リターデーション値（Ｒｏ値及びＲｔ値）の変動抑制率を求める。
Ｒｏ変動抑制率（％）＝（（基準フィルムのΔＲｏ）−（サンプルフィルムのΔＲｏ））÷（基準フィルムのΔＲｏ）×１００
Ｒｔ変動抑制率（％）＝（（基準フィルムのΔＲｔ）−（サンプルフィルムのΔＲｔ））÷（基準フィルムのΔＲｔ）×１００
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、トリアゾール化合物の製造方法及び光学フィルムに関する。より詳しくは、環境湿度に依存した光学フィルムの光学値変動を抑制できるトリアゾール化合物の製造方法及び当該トリアゾール化合物を含有し、光学値変動が抑制された光学フィルムに関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置は、消費電力の小さい省スペースの画像表示装置として年々その用途が広がっている。従来、液晶表示装置は表示画像の視野角依存性が大きいことが大きな欠点であったが、ＶＡモード等の広視野角液晶モードが実用化されており、これによってテレビ等の高品位の画像が要求される市場でも液晶表示装置の需要が急速に拡大しつつある。
【０００３】
液晶表示装置の基本的な構成は液晶セルの両側に偏光板を設けたものである。前記偏光板は一定方向の偏波面の光だけを通す役割を担っており、偏光板の性能によって液晶表示装置の性能が大きく左右される。偏光板は、一般にヨウ素や染料を吸着配向させたポリビニルアルコールフィルム等からなる偏光子の表裏両側に透明な保護フィルムを貼り合わせた構成となっている。セルロースアセテートに代表されるセルロースエステルフィルムは透明性が高く、偏光子に使用されるポリビニルアルコールとの密着性を容易に確保できることから偏光板保護フィルムとして広く使用されてきた。
【０００４】
また、液晶表示装置の偏光板と液晶セルとの間に、光学的に二軸性の位相差フィルムを配置することで、より広い視野角が実現できること、すなわち表示特性を向上できることが知られている。このような光学フィルムとして、優れた光学性能を発現させることができるセルロースエステルといった材料が注目されており液晶表示装置に用いられている。
【０００５】
近年では新たな画像表示装置として、有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）表示装置のような自発光型の表示装置が注目されている。有機ＥＬ表示装置においては、光取り出し効率を高めるため、ディスプレイの背面側にアルミニウム板等の反射体が設けられているが、ディスプレイに入射した外光が、この反射体で反射されて画像のコントラストを低下させる問題がある。その対策として、λ／４位相差フィルムと偏光子とを貼り合わせた円偏光板が、ディスプレイの表面に配置されることが一般的である。このような円偏光板は、立体映像を表示する、いわゆる３Ｄ液晶表示装置においても用いられている。セルロースエステルフィルムは優れた位相差発現性を示すことから、λ／４位相差フィルムとしての使用も期待されている。
【０００６】
近年、液晶表示装置、有機ＥＬ表示装置の用途拡大につれ、テレビ等の大サイズかつ高品位用途が拡大してきており、偏光板、位相差フィルム及び偏光板保護フィルムに対しても一段と高い品質が要求されるようになっている。なかでも、大サイズかつ高品位用途の液晶表示装置、有機ＥＬ表示装置は、従来に比べて過酷な環境下での使用が求められるため、これらの表示装置に用いるセルロースエステルフィルムには、環境湿度に依存した光学性能の変化の低減が望まれてきている。
【０００７】
しかしながら、セルロースエステルフィルムは吸湿性が高く、環境湿度の変化に応じた、リターデーション値の変動が大きいという問題があった。この問題に対して、セルロースエステルフィルムに特定の添加剤を含有させることによって環境湿度に依存した光学性能の変動を低減させる方法が検討されている。
【０００８】
特許文献１では、ポリエステルと多価アルコールエステル又は芳香族末端エステルを含有するセルロースエステルフィルムを用いる方法が開示されている。
【０００９】
特許文献２では、分子量を水素結合ドナー数と水素結合アクセプター数の合計数で除した値が特定の範囲にある化合物を含有するセルロースエステルフィルムを用いる方法が開示されている。
【００１０】
特許文献３では、含水率差が２％以上である高吸湿性化合物を含有するセルロースエステルフィルムを用いる方法が開示されている。
【００１１】
本発明者らが上記特許文献１〜３に記載の方法を、従来よりも過酷な条件で評価したところ、特許文献１〜３に記載の方法では、一定の効果は認められるものの、近年の高品位用途の表示装置に用いるには依然として改良不足であり、さらなる改善が必要であることがわかった。
【００１２】
すなわち、搬送中に結露などによりフィルムが直接水に晒されるような過酷な条件でも性能変動のないことも求められるようになってきたが、特許文献１、２及び３に記載の従来の技術では、上記のような直接水に晒されるような過酷な条件での改善効果は小さいということがわかった。
【００１３】
一方、本発明者らは、水よりもセルロースエステルとの相互作用が強いトリアゾール化合物を添加することにより、セルロースエステルの高分子鎖の配向を維持することができ、環境湿度が変化してもリターデーション値の変動を抑制できることを見出した。
【００１４】
トリアゾール化合物の製造方法としては、ニトリル誘導体とヒドラジド誘導体を、溶媒中、塩基の存在下で反応させる方法が知られている（例えば、特許文献４〜９参照。）。従来は、塩基として炭酸カリウムが用いられることが一般的であった。
【００１５】
従来用いられている溶媒及び塩基により、実験室等において少量のトリアゾール化合物を製造する場合には大きな問題は無いが、大型の生産設備を用いて大量に製造する場合には種々の問題があった。
【００１６】
例えば、数百ｇ〜数ｋｇスケールで反応を行うと、副生水によって炭酸カリウムの活性が徐々に低下し、触媒としての機能が失われていく。十分に反応を進めるには、反応させる原料の質量に対して３〜６倍程度の大量の炭酸カリウムが必要となる。大量の炭酸カリウムを使用すると、反応系内の撹拌を容易にするため、溶媒も反応させる原料の質量に対して１０倍以上と大量に必要となる。そのため、溶媒及び触媒の使用量あたりのトリアゾール化合物の収率が下がり、生産性が低かった。
また、反応終了後にトリアゾール化合物を取り出す際、大量の炭酸カリウムをろ過等によって除去する必要があり、製造工程における作業負荷が大きかった。
【００１７】
他の製造方法として、ナトリウムアルコキシドをニトリル誘導体とアルコール中で反応させて、アルコキシドとのイミノエーテル体を生成させた後、ヒドラジド誘導体を投入し、ジメチルホルムアミド中で反応させる製造方法が知られている。
この製造方法によれば、塩基の過剰な使用が無いため、ろ過等の作業が必要無いものの、二段階の反応工程を経なければならず、煩雑であった。
また、第一段の反応で用いたアルコール溶媒を一旦留去した後、第二段の反応で用いる溶媒に置き換えて反応を行う必要があった。やはり、作業負荷が大きく、大量生産に最適な製造方法とはいえなかった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１８】
【特許文献１】特開２００６−３４２２２７号公報
【特許文献２】特開２０１１−９４１１４号公報
【特許文献３】特開２０１２−２１５８１７号公報
【特許文献４】特開昭４７−７１２０号公報
【特許文献５】特開昭６１−１５２６６１号公報
【特許文献６】特開昭６２−１４９６７３号公報
【特許文献７】特表２００２−５２８４４７号公報
【特許文献８】欧州特許出願公開第５５９３６３号明細書
【特許文献９】特開２００５−４１８０２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１９】
本発明は、上記問題・状況に鑑みてなされたものであり、その解決課題は、作業負荷が少なく、生産性が高いトリアゾール化合物の製造方法及び当該トリアゾール化合物を含有する光学フィルムを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００２０】
本発明者らは、トリアゾール化合物の製造過程において、沸点が１１０℃以上で、かつ比誘電率が１３以上の極性溶媒を用いると、反応が進行しやすいことを見出した。反応が進行するにつれて水が副生するが、この副生水との反応性が低い有機塩基であれば、触媒作用を持続できるため、溶媒及び有機塩基の使用量が少なくても、十分な量のトリアゾール化合物を生成できることを見出した。多くの有機塩基を試したところ、なかでも、イミノ構造を有する有機塩基は反応の進行を促進しやすく、生産性を高める観点から特に有効であることを見出した。
【００２１】
また、本発明の製造方法により製造されたトリアゾール化合物は、５員又は６員の芳香族複素環基を有しており、当該トリアゾール化合物を用いた樹脂組成物により光学フィルムを作製すると、リターデーション値の変動が少ない光学フィルムが得られることが判明した。
【００２２】
すなわち、本発明に係る上記課題は、以下の手段により解決される。
【００２３】
１．下記一般式（１．１）で表される構造を有するトリアゾール化合物の製造方法であって、
沸点が１１０℃以上でありかつ比誘電率が１３以上である極性溶媒中、イミノ構造を有する有機塩基の存在下、
（Ａ）下記一般式（１ａ）で表される構造を有するヒドラジド誘導体と、下記一般式（１ｂ）で表される構造を有するニトリル誘導体とを反応させるか、又は
（Ｂ）下記一般式（１ｃ）で表される構造を有するニトリル誘導体と、下記一般式（１ｄ）で表される構造を有するヒドラジド誘導体とを反応させて、
トリアゾール化合物を製造することを特徴とするトリアゾール化合物の製造方法。
【化１】
2014148496.tif 000002
〔上記一般式（１．１）において、Ａ１は、アルキル基、シクロアルキル基、芳香族炭化水素環基又は芳香族複素環基を表す。Ｂは、芳香族炭化水素環又は芳香族複素環を表す。Ｔ１は、１，２，４−トリアゾール環を表す。Ｌ１及びＬ２は、それぞれ独立に、単結合又は２価の連結基を表す。ｋは、１〜４の整数を表す。〕
【化２】
2014148496.tif 000003
【化３】
2014148496.tif 000004
【化４】
2014148496.tif 000005
【化５】
2014148496.tif 000006
〔上記一般式（１ａ）〜（１ｄ）において、Ａ１、Ｂ、Ｔ１、Ｌ１及びＬ２の定義は、一般式（１．１）と同じである。〕
【００２４】
２．前記有機塩基が、１,１,３,３−テトラメチルグアニジン、１,８−ジアザビシクロ[５.４.０]ウンデカ−７−エン又は１,５−ジアザビシクロ[４.３.０]ノナ−５−エンであることを特徴とする第１項に記載のトリアゾール化合物の製造方法。
【００２５】
３．前記極性溶媒の沸点が、１１０〜２００℃の範囲内にあることを特徴とする第１項又は第２項に記載のトリアゾール化合物の製造方法。
【００２６】
４．前記極性溶媒が、ｎ−ブタノールであることを特徴とする第１項から第３項までのいずれか一項に記載のトリアゾール化合物の製造方法。
【００２７】
５．少なくとも樹脂と５員又は６員の芳香族複素環基を有するトリアゾール化合物とを含有する樹脂組成物を用いて作製された光学フィルムであって、
リターデーション値（Ｒｏ値又はＲｔ値）の変動抑制率が、下記測定条件下で、２０〜１００％の範囲内であることを特徴とする光学フィルム。
測定条件：
（ａ）作製した前記光学フィルム（サンプルフィルム）と同一膜厚で、かつ前記５員又は６員の芳香族複素環基を有する化合物を含まない光学フィルム（基準フィルム）を、サンプルフィルムと同様に作製し、
（ｂ）前記サンプルフィルムと基準フィルムとを温度２３℃の純水中に２４時間水浸漬する。
（ｃ）前記サンプルフィルムと基準フィルムについて、温度２３℃、相対湿度５５％における光波長５９０ｎｍでのリターデーション値Ｒｏ値及びＲｔ値を、水浸漬前と後に、測定し、水浸漬前後のリターデーション値の差の絶対値ΔＲｏ及びΔＲｔをそれぞれの光学フィルムについて求める。
（ｄ）下式により、リターデーション値（Ｒｏ値及びＲｔ値）の変動抑制率を求める。
Ｒｏ変動抑制率（％）＝（（基準フィルムのΔＲｏ）−（サンプルフィルムのΔＲｏ））÷（基準フィルムのΔＲｏ）×１００
Ｒｔ変動抑制率（％）＝（（基準フィルムのΔＲｔ）−（サンプルフィルムのΔＲｔ））÷（基準フィルムのΔＲｔ）×１００
【発明の効果】
【００２８】
本発明の上記手段により、作業負荷が少なく、生産性が高いトリアゾール化合物の製造方法及び当該トリアゾール化合物を含有する光学フィルムを提供することができる。
【００２９】
本発明の効果の発現機構ないし作用機構については、明確にはなっていないが、溶媒として、沸点が１１０℃以上であり、かつ比誘電率が１３以上の極性溶媒を用いると、反応系内で電荷の移動が起こりやすく、反応が進行しやすくなったと推察される。
また、イミノ構造を有する有機塩基は、触媒として反応を促進するが、当該有機塩基は、副生水との反応性が低いため、触媒作用が持続すると推察される。触媒機能を復活させるために、有機塩基及び溶媒を追加する必要も無いので、溶媒及び触媒の使用量あたりのトリアゾール化合物の生成量が増大し、生産性が向上する。
また、副生水を除去したり、２段階で反応を行って各段階で溶媒を入れ替えたりする作業は不要であり、少ない作業負荷でトリアゾール化合物を製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【００３０】
【図１】液晶表示装置の構成の一例を示す模式図
【図２】有機ＥＬ表示装置の構成の一例を示す模式図
【図３】円偏光板による反射防止機能を説明する模式図
【図４】液晶表示装置の構成の一例を示す模式図
【発明を実施するための形態】
【００３１】
本発明のトリアゾール化合物の製造方法は、前記一般式（１．１）で表される構造を有するトリアゾール化合物の製造方法であって、沸点が１１０℃以上でありかつ比誘電率が１３以上である極性溶媒中、イミノ構造を有する有機塩基の存在下、前記（Ａ）又は（Ｂ）の反応を行わせることを特徴としている。この特徴は請求項１から請求項５までの請求項に係る発明に共通の技術的特徴である。
【００３２】
本発明の実施態様としては、本発明の効果発現の観点から、前記有機塩基が、１,１,３,３−テトラメチルグアニジン、１,８−ジアザビシクロ[５.４.０]ウンデカ−７−エン又は１,５−ジアザビシクロ[４.３.０]ノナ−５−エンであることが好ましい。
【００３３】
また、本発明の実施態様として、本発明の効果発現の観点から、前記溶媒がｎ−ブタノールであることが好ましい。
【００３４】
以下、本発明とその構成要素及び本発明を実施するための形態・態様について詳細な説明をする。なお、本願において、「〜」は、その前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味で使用する。
【００３５】
＜本発明のトリアゾール化合物の製造方法の概要＞
本発明のトリアゾール化合物の製造方法は、前記一般式（１．１）で表される構造を有するトリアゾール化合物の製造方法であって、沸点が１１０℃以上でありかつ比誘電率が１３以上である極性溶媒中、イミノ構造を有する有機塩基の存在下、（Ａ）前記一般式（１ａ）で表される構造を有するヒドラジド誘導体と前記一般式（１ｂ）で表される構造を有するニトリル誘導体とを反応させるか、又は（Ｂ）前記一般式（１ｃ）で表される構造を有するニトリル誘導体と前記一般式（１ｄ）で表される構造を有するヒドラジド誘導体とを反応させて、トリアゾール化合物を製造することを特徴とする。
【００３６】
以下、当該製造方法の詳細について説明する前に、トリアゾール化合物について説明する。なお、本願発明に係る前記一般式（１．１）で表される構造を有するトリアゾール化合物は、後述する一般式（１）で表される構造を有する化合物に内包される化合物である。
【００３７】
＜トリアゾール化合物＞
トリアゾール化合物は、従来、種々の分野で有用な化合物として用いられている。なかでも、光学フィルムの技術分野における当該トリアゾール化合物の有用性については、本発明者らは下記の知見を得ている。
光学フィルム、特にセルロースエステルフィルムの位相差値の湿度依存性は、セルロースエステル分子鎖に水分子が入り込むことで、セルロースエステルの配向が変化して複屈折が変化して生じていると考えられる。従来公知の技術は、フィルム中への水分子の出入りを抑えるか、又は、フィルム中に入り込んだ水を添加剤が補足することで位相差値変動の低減を図っているが、環境湿度の変化に応じたフィルム中に存在する水分子の量を変わらなくすることは不可能であるため、湿度変動抑制効果が不十分であった。
【００３８】
これに対し、本発明者らはセルロースエステル分子鎖に水分子よりも強く相互作用する添加剤を含有させれば、たとえ水分子の量が変化しても配向を維持し、位相値の変動が抑制できると考え、種々の化合物を検討した結果、特定の５員又は６員の芳香族複素環基を有する化合物が優れた抑制効果を有することを見出し本発明に至った。特に特定の１，２，４−トリアゾール化合物が優れた抑制効果を有することを見出した。
【００３９】
芳香族複素環基を有する化合物は、分極したπ電子を有するため、樹脂の水素原子と強く相互作用し、水分子よりも樹脂に強く配位することで、水分子の量が変化しても位相差値の変動が抑制されると考えられる。特に極性基を有する樹脂の方が、芳香族環複素環基を有する化合物が該樹脂に強く配位するため、位相差値変動が抑制される。また、芳香族複素環基を有する化合物の中でも、１，２，４−トリアゾール環を有する化合物は、樹脂と強く配位するだけでなく、水分子との相互作用力も強く、樹脂／１，２，４−トリアゾール化合物／水分子の安定な構造をとると考えられるため、位相差値の変動の抑制に特に優れる。
【００４０】
また、特定の５員又は６員の芳香族複素環基を有する化合物は、セルロースエステル樹脂だけではなく、セルロースエーテル樹脂等のセルロース誘導体等においても同様に位相差値変動抑制効果を有すことを見出した。
【００４１】
＜一般式（１）で表される構造を有する化合物＞
上述した特定の５員又は６員の芳香族複素環基を有する化合物としては、下記一般式（１）で表される構造を有する化合物が好ましい。
【００４２】
【化６】
2014148496.tif 000007
【００４３】
前記一般式（１）において、Ａ１及びＡ２は、それぞれ独立に、アルキル基（メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−オクチル基、２−エチヘキシル基等）、シクロアルキル基（シクロヘキシル基、シクロペンチル基、４−ｎ−ドデシルシクロヘキシル基等）、芳香族炭化水素環基（フェニル基、ｐ−トリル基、ナフチル基等）、芳香族複素環基（２−ピロール基、２−フリル基、２−チエニル基、ピロール基、イミダゾリル基、オキサゾリル基、チアゾリル基、ベンゾイミダゾリル基、ベンゾオキサゾリル基、２−ベンゾチアゾリル基、ピラゾリノン基、ピリジル基、ピリジノン基、２−ピリミジニル基等）を表す。
【００４４】
Ａ１及びＡ２で表されるアルキル基、シクロアルキル基、芳香族炭化水素環基、芳香族複素環基は置換基を有していてもよく、該置換基としては、例えば、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等）、アルキル基（メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−オクチル基、２−エチルヘキシル基等）、シクロアルキル基（シクロヘキシル基、シクロペンチル基、４−ｎ−ドデシルシクロヘキシル基等）、アルケニル基（ビニル基、アリル基等）、シクロアルケニル基（２−シクロペンテン−１−イル、２−シクロヘキセン−１−イル基等）、アルキニル基（エチニル基、プロパルギル基等）、芳香族炭化水素環基（フェニル基、ｐ−トリル基、ナフチル基等）、芳香族複素環基（２−ピロール基、２−フリル基、２−チエニル基、ピロール基、イミダゾリル基、オキサゾリル基、チアゾリル基、ベンゾイミダゾリル基、ベンゾオキサゾリル基、２−ベンゾチアゾリル基、ピラゾリノン基、ピリジル基、ピリジノン基、２−ピリミジニル基、トリアジン基、ピラゾール基、１，２，３−トリアゾール基、１，２，４−トリアゾール基、オキサゾール基、イソオキサゾール基、１，２，４−オキサジアゾール基、１，３，４−オキサジアゾール基、チアゾール基、イソチアゾール基、１，２，４−チオジアゾール基、１，３，４−チアジアゾール基等）、シアノ基、ヒドロキシ基、ニトロ基、カルボキシ基、アルコキシ基（メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、ｎ−オクチルオキシ基、２−メトキシエトキシ基等）、アリールオキシ基（フェノキシ基、２−メチルフェノキシ基、４−ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシ基、３−ニトロフェノキシ基、２−テトラデカノイルアミノフェノキシ基等）、アシルオキシ基（ホルミルオキシ基、アセチルオキシ基、ピバロイルオキシ基、ステアロイルオキシ基、ベンゾイルオキシ基、ｐ−メトキシフェニルカルボニルオキシ基等）、アミノ基（アミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、アニリノ基、Ｎ−メチル−アニリノ基、ジフェニルアミノ基等）、アシルアミノ基（ホルミルアミノ基、アセチルアミノ基、ピバロイルアミノ基、ラウロイルアミノ基、ベンゾイルアミノ基等）、アルキル及びアリールスルホニルアミノ基（メチルスルホニルアミノ基、ブチルスルホニルアミノ基、フェニルスルホニルアミノ基、２，３，５−トリクロロフェニルスルホニルアミノ基、ｐ−メチルフェニルスルホニルアミノ基等）、メルカプト基、アルキルチオ基（メチルチオ基、エチルチオ基、ｎ−ヘキサデシルチオ基等）、アリールチオ基（フェニルチオ基、ｐ−クロロフェニルチオ基、ｍ−メトキシフェニルチオ基等）、スルファモイル基（Ｎ−エチルスルファモイル基、Ｎ−（３−ドデシルオキシプロピル）スルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル基、Ｎ−アセチルスルファモイル基、Ｎ−ベンゾイルスルファモイル基、Ｎ−（Ｎ’フェニルカルバモイル）スルファモイル基等）、スルホ基、アシル基（アセチル基、ピバロイルベンゾイル基等）、カルバモイル基（カルバモイル基、Ｎ−メチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−オクチルカルバモイル基、Ｎ−（メチルスルホニル）カルバモイル基等）等の各基が挙げられる。
【００４５】
前記一般式（１）において、Ａ１及びＡ２は、芳香族炭化水素環基又は芳香族複素環基であることが、セルロース誘導体と相互作用しやすくなることで環境湿度の変化に対する光学値の変動が抑制されるため好ましい。
【００４６】
前記一般式（１）において、Ｂは芳香族炭化水素環又は芳香族複素環を表す。
【００４７】
Ｂで表される芳香族炭化水素環は、単環であっても縮合環であってもよい。芳香族炭化水素環の好ましい例には、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、フェナントレン環、ペリレン環、テトラセン環、ピレン環、ベンゾピレン環、クリセン環、トリフェニレン環、アセナフテン環、フルオランテン環、フルオレン環等が含まれ、より好ましくはベンゼン環である。
【００４８】
Ｂで表される芳香族複素環は、単環であっても縮合環であってもよい。芳香族複素環の好ましい例には、フラン環、ベンゾフラン環、チオフェン環、ベンゾチオフェン環、ピロール環、ピラゾール環、イミダゾール環、オキサゾール環、１，２，４−オキサジアゾール環、１，３，４−オキサジアゾール環、イソオキサゾール環、チアゾール環、１，２，４−チオジアゾール環、１，３，４−チオジアゾール環、イソチアゾール環、インドール環、カルバゾール環、アザカルバゾール環（アザカルバゾール環とは、カルバゾール環を構成する炭素原子の一つ以上が窒素原子で置き換わったものをいう）、１，２，３−トリアゾール環、１，２，４−トリアゾール環、ピロロイミダゾール環、ピロロピラゾール環、ピロロピロール環、チエノピロール環、チエノチオフェン環、フロピロール環、フロフラン環、チエノフラン環、ベンゾイソオキサゾール環、ベンゾチアゾール環、ベンゾオキサゾール環、ベンゾイソチアゾール環、ベンゾイミダゾール環、ピリジン環、ピラジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、トリアジン環、キノリン環、イソキノリン環、シノリン環、キノキサリン環、フェナントリジン環、ベンゾイミダゾール環、ペリミジン環、キナゾリン環、キナゾリノン環、アズレン環、シロール環、ジベンゾフラン環、ジベンゾチオフェン環、ジベンゾカルバゾール環、ベンゾジフラン環、ベンゾジチオフェン環、フェナントロリン環、アクリジン環、ベンゾキノリン環、フェナジン環、フェナントリジン環、サイクラジン環、キンドリン環、テペニジン環、キニンドリン環、トリフェノジチアジン環、トリフェノジオキサジン環、フェナントラジン環、アントラジン環、ペリミジン環、ナフトフラン環、ナフトチオフェン環、ナフトジフラン環、ナフトジチオフェン環、アントラフラン環、アントラジフラン環、アントラチオフェン環等が含まれる。なかでも、ピリジン環等がより好ましい。
【００４９】
前記一般式（１）において、Ｂで表せる芳香族炭化水素環又は芳香族複素環は置換基を有してもよく、該置換基としては、前記一般式（１）におけるＡ１及びＡ２が有してもよい置換基と同様の基を挙げることができる。
【００５０】
前記一般式（１）において、Ｔ１及びＴ２はそれぞれ独立に１，２，４−トリアゾール環を表す。Ｔ１及びＴ２で表される１，２，４−トリアゾール環は、互変異性体であってもよい。具体的には、下記いずれの構造も、１，２，４−トリアゾール環を表す。
【００５１】
【化７】
2014148496.tif 000008
【００５２】
（式中、※はＬ１、Ｌ２、Ｌ３又はＬ４との結合位置を表す。Ｒ５は水素原子又は置換基を表す。Ｒ５で表される置換基としては、前記一般式（１）におけるＡ１が有してもよい置換基と同様の基を挙げることができる。Ｒ５は水素原子、アルキル基又はアシル基であることが好ましい。）
前記一般式（１）において、Ｔ１及びＴ２は置換基を有してもよく、該置換基としては、前記一般式（１）におけるＡ１及びＡ２が有してもよい置換基と同様の基を挙げることができる。
【００５３】
前記一般式（１）において、Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３及びＬ４は、それぞれ独立に、単結合又は２価の連結基を表す。２価の連結基としては、具体的には、アルキレン基、アルケニレン基、アルキニレン基、Ｏ、（Ｃ＝Ｏ）、（Ｃ＝Ｏ）−Ｏ、ＮＲ、Ｓ、（Ｏ＝Ｓ＝Ｏ）からなる群より選ばれる２価の連結基であるか、それらの組合せかを表す。Ｒは、水素原子又は置換基を表す。Ｒで表される置換基の例には、アルキル基（メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−オクチル基、２−エチルヘキシル基等）、シクロアルキル基（シクロヘキシル基、シクロペンチル基、４−ｎ−ドデシルシクロヘキシル基等）、芳香族炭化水素環基（フェニル基、ｐ−トリル基、ナフチル基等）、芳香族複素環基（２−フリル基、２−チエニル基、２−ピリミジニル基、２−ベンゾチアゾリル基、２−ピリジル基等）、シアノ基等が含まれる。Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３及びＬ４で表される２価の連結基は置換基を有してもよく、置換基としては特に制限はないが、例えば、前記一般式（１）におけるＡ１及びＡ２が有してもよい置換基と同様の基を挙げることができる。
【００５４】
前記一般式（１）において、Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３及びＬ４は、前記一般式（１）で表される化合物の平面性が高くなることでセルロース誘導体との相互作用が高くなり、環境湿度の変化に応じたリターデーション値の変動が抑制されるため、単結合、Ｏ、（Ｃ＝Ｏ）−Ｏ、Ｏ−（Ｃ＝Ｏ）、（Ｃ＝Ｏ）−ＮＲ又はＮＲ−（Ｃ＝Ｏ）であることが好ましく、単結合であることがより好ましい。
【００５５】
前記一般式（１）において、ｎは０〜５の整数を表す。ｎが２以上の整数を表すとき、前記一般式（１）における複数のＡ２、Ｔ２、Ｌ３、Ｌ４は同じであってもよく、異なっていてもよい。ｎが大きい程、前記一般式（１）で表される化合物がセルロース誘導体と相互作用しやすくなることで環境湿度の変化に対する光学値の変動が抑制されるため好ましいが、ｎが大きくなりすぎると、セルロースエステルとの相溶性が悪くなる。このため、ｎは１〜５の整数であることが好ましく、１〜４の整数であることがより好ましい。
【００５６】
一般式（１）で表される化合物は一般式（２）で表される化合物であることが好ましい。
【００５７】
【化８】
2014148496.tif 000009
【００５８】
〔上記一般式（２）において、Ａ１、Ａ２、Ｔ１、Ｔ２、Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３及びＬ４は、それぞれ前記一般式（１）におけるＡ１、Ａ２、Ｔ１、Ｔ２、Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３及びＬ４と同義である。Ａ３及びＴ３は、それぞれ一般式（１）におけるＡ１及びＴ１と同様の基を表す。Ｌ５及びＬ６は、前記一般式（１）におけるＬ１と同様の基を表す。Ｑ１、Ｑ２、Ｑ３及びＱ４は炭素原子又は窒素原子を表す。ｍは０〜４の整数を表す。〕
ｍが小さい方がセルロースエステルとの相溶性に優れるため、ｍは０〜３の整数であることがより好ましい。
【００５９】
＜一般式（１．１）で表される構造を有する化合物＞
一般式（１）で表される構造を有する化合物は、下記一般式（１．１）で表される構造を有するトリアゾール化合物であることが好ましい。
【００６０】
【化９】
2014148496.tif 000010
【００６１】
〔上記一般式（１．１）において、Ａ１、Ｂ、Ｔ１、Ｌ１及びＬ２は、上記一般式（１）におけるＡ１、Ｂ、Ｔ１、Ｌ１及びＬ２と同様の基を表す。ｋは、１〜４の整数を表す。〕
【００６２】
さらに、上記一般式（１．１）で表される構造を有するトリアゾール化合物は、下記一般式（１．２）で表される構造を有するトリアゾール化合物であることが好ましい。
【化１０】
2014148496.tif 000011
〔上記一般式（１．２）において、Ｚは、下記一般式（１．２ａ）の構造を表す。ｑは、２〜３の整数を表す。少なくとも２つのＺは、ベンゼン環に置換された少なくとも１つのＺに対してオルト位又はメタ位に結合する。〕
【化１１】
2014148496.tif 000012
〔上記一般式（１．２ａ）において、Ｒ１０は水素原子、アルキル基又はアルコキシ基を表す。ｐは１〜５の整数を表す。＊はベンゼン環との結合位置を表す。〕
【００６３】
前記一般式（１）、（２）、（１．１）又は（１．２）で表される構造を有する化合物は、水和物、溶媒和物若しくは塩を形成してもよい。なお、水和物は有機溶媒を含んでいてもよく、また溶媒和物は水を含んでいてもよい。即ち、「水和物」及び「溶媒和物」には、水と有機溶媒のいずれも含む混合溶媒和物が含まれる。塩としては、無機又は有機酸で形成された酸付加塩が含まれる。無機酸の例として、ハロゲン化水素酸（塩酸、臭化水素酸など）、硫酸、リン酸などが含まれ、またこれらに限定されない。また、有機酸の例には、酢酸、トリフルオロ酢酸、プロピオン酸、酪酸、シュウ酸、クエン酸、安息香酸、アルキルスルホン酸（メタンスルホン酸など）、アリルスルホン酸（ベンゼンスルホン酸、４−トルエンスルホン酸、１，５−ナフタレンジスルホン酸など）などが挙げられ、またこれらに限定されない。これらのうち好ましくは、塩酸塩、酢酸塩、プロピオン酸塩、酪酸塩である。
【００６４】
塩の例としては、親化合物に存在する酸性部分が、金属イオン（例えばアルカリ金属塩、例えばナトリウム又はカリウム塩、アルカリ土類金属塩、例えばカルシウム又はマグネシウム塩、アンモニウム塩アルカリ金属イオン、アルカリ土類金属イオン、又はアルミニウムイオンなど）により置換されるか、あるいは有機塩基（エタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、モルホリン、ピペリジンなど）と調整されたときに形成される塩が挙げられ、またこれらに限定されない。これらのうち好ましくはナトリウム塩、カリウム塩である。
【００６５】
溶媒和物が含む溶媒の例には、一般的な有機溶剤のいずれも含まれる。具体的には、アルコール（例、メタノール、エタノール、２−プロパノール、１−ブタノール、１−メトキシ−２−プロパノール、ｔ−ブタノール）、エステル（例、酢酸エチル）、炭化水素（例、トルエン、ヘキサン、ヘプタン）、エーテル（例、テトラヒドロフラン）、ニトリル（例、アセトニトリル）、ケトン（アセトン）などが挙げられる。好ましくは、アルコール（例、メタノール、エタノール、２−プロパノール、１−ブタノール、１−メトキシ−２−プロパノール、ｔ−ブタノール）の溶媒和物である。これらの溶媒は、前記化合物の合成時に用いられる反応溶媒であっても、合成後の晶析精製の際に用いられる溶媒であってもよく、又はこれらの混合であってもよい。
【００６６】
また、二種類以上の溶媒を同時に含んでもよいし、水と溶媒を含む形（例えば、水とアルコール（例えば、メタノール、エタノール、ｔ−ブタノールなど）など）であってもよい。
【００６７】
なお、前記一般式（１）、（２）、（１．１）又は（１．２）で表される構造を有する化合物を、水や溶媒、塩を含まない形態で添加し、樹脂組成物又は光学フィルム中において、水和物、溶媒和物又は塩を形成してもよい。
【００６８】
前記一般式（１）、（２）、（１．１）又は（１．２）で表される構造を有する化合物の分子量は特に制限はないが、小さいほど樹脂との相溶性に優れ、大きいほど環境湿度の変化に対する光学値の変動抑制効果が高いため、１５０〜２０００の範囲内であることが好ましく、２００〜１５００の範囲内であることがより好ましく、３００〜１０００の範囲内であることがより好ましい。
【００６９】
以下に、前記一般式（１）、（２）、（１．１）又は（１．２）で表される構造を有する化合物の具体例を示すが、前記一般式（１）、（２）、（１．１）又は（１．２）で表される構造を有する化合物は、以下の具体例によって何ら限定されることはない。なお、前述のように、以下の具体例は互変異性体であってもよく、水和物、溶媒和物又は塩を形成していてもよい。
【００７０】
【化１２】
2014148496.tif 000013
【００７１】
【化１３】
2014148496.tif 000014
【００７２】
【化１４】
2014148496.tif 000015
【００７３】
【化１５】
2014148496.tif 000016
【００７４】
【化１６】
2014148496.tif 000017
【００７５】
【化１７】
2014148496.tif 000018
【００７６】
【化１８】
2014148496.tif 000019
【００７７】
【化１９】
2014148496.tif 000020
【００７８】
【化２０】
2014148496.tif 000021
【００７９】
【化２１】
2014148496.tif 000022
【００８０】
【化２２】
2014148496.tif 000023
【００８１】
【化２３】
2014148496.tif 000024
【００８２】
【化２４】
2014148496.tif 000025
【００８３】
＜一般式（１）又は一般式（２）で表される構造を有する化合物の製造方法＞
次に、前記一般式（１）又は（２）で表される化合物の合成方法について説明する。
【００８４】
一般式（１）又は（２）で表される化合物は、いかなる原料を用いても構わないが、ニトリル誘導体又はイミノエーテル誘導体と、ヒドラジド誘導体を反応させる方法が好ましい。反応に用いる溶媒としては、原料と反応しないと溶媒であれば、いかなる溶媒でも構わないが、エステル系（例えば、酢酸エチル、酢酸メチル等）、アミド系（ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等）、エーテル系（エチレングリコールジメチルエーテル等）、アルコール系（例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、２−ブタノール、エチレングリコール、エチレングリコールモノメチルエーテル等）、芳香族炭化水素系（例えば、トルエン、キシレン等）、水を挙げられることができる。使用する溶媒として、好ましくは、アルコール系溶媒である。また、これらの溶媒は、混合して用いても良い。
【００８５】
溶媒の使用量は、特に制限はないが、使用するヒドラジド誘導体の質量に対して、０．５〜３０倍量の範囲内であることが好ましく、更に好ましくは、１．０〜２５倍量であり、特に好ましくは、３．０〜２０倍量の範囲内である。
【００８６】
ニトリル誘導体とヒドラジド誘導体を反応させる場合、触媒を使用しなくても構わないが、反応を加速させるために触媒を使用する方が好ましい。使用する触媒としては、酸を用いても良く、塩基を用いても良い。酸としては、塩酸、硫酸、硝酸、酢酸等が挙げられ、好ましくは塩酸である。酸は、水に希釈して添加しても良く、ガスを系中に吹き込む方法で添加しても良い。塩基としては、無機塩基（炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム等）及び有機塩基（ナトリウムメチラート、ナトリウムエチラート、カリウムメチラート、カリウムエチラート、ナトリウムブチラート、カリウムブチラート、ジイソプロピルエチルアミン、Ｎ，Ｎ′−ジメチルアミノピリジン、１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン、Ｎ−メチルモルホリン、イミダゾール、Ｎ−メチルイミダゾール、ピリジン等）のいずれを用いて良く、無機塩基としては、炭酸カリウムが好ましく、有機塩基としては、ナトリウムエチラート、ナトリウムエチラート、ナトリウムブチラートが好ましい。無機塩基は、粉体のまま添加しても良く、溶媒に分散させた状態で添加しても良い。また、有機塩基は、溶媒に溶解した状態（例えば、ナトリウムメチラートの２８％メタノール溶液等）で添加しても良い。
【００８７】
触媒の使用量は、反応が進行する量であれば特に制限はないが、形成されるトリアゾール環に対して１．０〜５．０倍モルの範囲内が好ましく、更に１．０５〜３．０倍モルの範囲内が好ましい。
【００８８】
イミノエーテル誘導体とヒドラジド誘導体を反応させる場合は、触媒を用いる必要がなく、溶媒中で加熱することにより目的物を得ることができる。
【００８９】
反応に用いる原料、溶媒及び触媒の添加方法は、特に制限がなく、触媒を最後に添加しても良く、溶媒を最後に添加しても良い。また、ニトリル誘導体を溶媒に分散若しくは溶解させ、触媒を添加した後、ヒドラジド誘導体を添加する方法も好ましい。
【００９０】
反応中の溶液温度は、反応が進行する温度であればいかなる温度でも構わないが、好ましくは、０〜１５０℃の範囲内であり、更に好ましくは、２０〜１４０℃の範囲内である。また、生成する水を除去しながら、反応を行っても良い。
【００９１】
反応溶液の処理方法は、いかなる手段を用いても良いが、塩基を触媒として用いた場合は、反応溶液に酸を加えて中和する方法が好ましい。中和に用いる酸としては、例えば、塩酸、硫酸、硝酸又は酢酸等が挙げられるが、特に好ましくは酢酸である。中和に使用する酸の量は、反応溶液のｐＨが４〜９になる範囲であれば特に制限はないが、使用する塩基に対して、０．１〜３倍モルが好ましく、特に好ましくは、０．２〜１．５倍モルの範囲内である。
【００９２】
反応溶液の処理方法として、適当な有機溶媒を用いて抽出する場合、抽出後に有機溶媒を水で洗浄した後、濃縮する方法が好ましい。ここでいう適当な有機溶媒とは、酢酸エチル、トルエン、ジクロロメタン、エーテル等非水溶性の溶媒、又は、前記非水溶性の溶媒とテトラヒドロフラン又はアルコール系溶媒との混合溶媒のことであり、好ましくは酢酸エチルである。
【００９３】
一般式（１）で表される化合物を晶析させる場合、特に制限はないが、中和した反応溶液に水を追加して晶析させる方法、若しくは、一般式（１）で表される化合物が溶解した水溶液を中和して晶析させる方法が好ましい。
【００９４】
例えば、例示化合物１は以下のスキームによって合成することができる。
【００９５】
【化２５】
2014148496.tif 000026
【００９６】
（例示化合物１の合成）
ｎ−ブタノール３５０ｍｌにベンゾニトリル７７．３ｇ（７５．０ｍｍｏｌ）、ベンゾイルヒドラジン３４．０ｇ（２５．０ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム１０７．０ｇ（７７．４ｍｍｏｌ）を加え、窒素雰囲気下、１２０℃で２４時間撹拌した。反応液を室温まで冷却し、析出物をろ過後、ろ液を減圧下で濃縮した。濃縮物にイソプロパノール２０ｍｌを加え、析出物をろ取した。ろ取した析出物をメタノール８０ｍｌに溶解し、純水３００ｍｌを加え、溶液のｐＨが７になるまで酢酸を滴下した。析出した結晶をろ取後、純水で洗浄し、５０℃で送風乾燥することにより、例示化合物１を３８．６ｇ得た。収率は、ベンゾイルヒドラジン基準で７０％であった。
【００９７】
得られた例示化合物１の１Ｈ−ＮＭＲスペクトルは以下のとおりである。
【００９８】
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、溶媒：重ＤＭＳＯ、基準：テトラメチルシラン）δ（ｐｐｍ）：７．５６−７．４８（６Ｈ、ｍ）、７．６２−７．６１（４Ｈ、ｍ）
例えば、例示化合物６は以下のスキームによって合成することができる。
【００９９】
【化２６】
2014148496.tif 000027
【０１００】
（例示化合物６の合成）
ｎ−ブタノール４０ｍｌに１，３−ジシアノベンゼン２．５ｇ（１９．５ｍｍｏｌ）、ベンゾイルヒドラジン７．９ｇ（５８．５ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム９．０ｇ（６８．３ｍｍｏｌ）を加え、窒素雰囲気下、１２０℃で２４時間撹拌した。反応液を冷却後、純水４０ｍｌを加え、室温で３時間撹拌した後、析出した固体を濾別し、純水で洗浄した。得られた固体に水及び酢酸エチルを加えて分液し、有機層を純水で洗浄した。有機層を硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧留去した。得られた粗結晶をシリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル／ヘプタン）で精製し、例示化合物６を５．５ｇ得た。収率は、１，３−ジシアノベンゼン基準で７７％であった。
【０１０１】
得られた例示化合物６の１Ｈ−ＮＭＲスペクトルは以下のとおりである。
【０１０２】
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、溶媒：重ＤＭＳＯ、基準：テトラメチルシラン）δ（ｐｐｍ）：８．８３（１Ｈ、ｓ）、８．１６〜８．１１（６Ｈ、ｍ）、７．６７−７．５４（７Ｈ、ｍ）
その他の化合物についても同様の方法によって合成が可能である。
【０１０３】
＜一般式（１．１）又は（１．２）で表される構造を有する化合物の製造方法＞
上記一般式（１．１）又は（１．２）で表される構造を有する化合物は、本発明の製造方法により、（Ａ）下記一般式（１ａ）で表される構造を有するヒドラジド誘導体と下記一般式（１ｂ）で表される構造を有するニトリル誘導体とを反応させるか、（Ｂ）下記一般式（１ｃ）で表される構造を有するニトリル誘導体と下記一般式（１ｄ）で表される構造を有するヒドラジド誘導体とを反応させて、製造することができる。
【０１０４】
【化２７】
2014148496.tif 000028
【０１０５】
【化２８】
2014148496.tif 000029
【０１０６】
【化２９】
2014148496.tif 000030
【０１０７】
【化３０】
2014148496.tif 000031
【０１０８】
〔上記一般式（１ａ）〜（１ｄ）において、Ａ１、Ｂ、Ｔ１、Ｌ１、Ｌ２及びｋは、上記一般式（１．１）におけるＡ１、Ｂ、Ｔ１、Ｌ１、Ｌ２及びｋと同じである。〕
【０１０９】
本発明の製造方法において、上記一般式（１ａ）又は（１ｄ）で表される構造を有するヒドラジド誘導体と、上記一般式（１ｂ）又は（１ｃ）で表される構造を有するニトリル誘導体の使用量は、特に制限は無く、トリアゾール化合物において求められるトリアゾール環の数に合わせて、任意の量を使用することができる。例えば、上記例示化合物１を製造する際には、ヒドラジド誘導体のモル数に対して使用するニトリル誘導体は、１．０〜３．０倍モルの範囲内であることが好ましく、より好ましくは１．５〜２．０倍モルの範囲内のである。
【０１１０】
〔溶媒〕
本発明の製造方法は、上記（Ａ）又は（Ｂ）の反応を、沸点が１１０℃以上であり、かつ比誘電率が１３以上の極性溶媒中において行わせる。
沸点が１１０℃以上であると反応が進行しやすい。また、比誘電率が１３以上の極性溶媒であると、反応系内で電荷の移動が起こりやすく、反応が進行しやすい。
【０１１１】
本発明の製造方法に用いられる極性溶媒は、沸点が１１０〜２００℃の範囲内にあることが好ましい。
沸点が１１０℃以上であると、ヒドラジド誘導体とニトリル誘導体の反応が容易に進行し、沸点が２００℃以下であると、２００℃を超える高温に対応する生産設備が不要となり、製造コストを低減できる。
【０１１２】
沸点が１１０℃以上であり、比誘電率が１３以上の極性溶媒としては、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、エチレングリコール、プロピレングリコール、ｎ−ブタノール等が挙げられる。なかでも、プロトン性極性溶媒であるエチレングリコール、プロピレングリコール又はｎ−ブタノールが好ましく、最も好ましくはｎ−ブタノールである。
【０１１３】
極性溶媒の使用量としては特に制限は無いが、原料となるヒドラジド誘導体の体積に対して０．５〜４．０倍程度の体積が好ましく、より好ましくは１〜３倍程度の体積である。
【０１１４】
〔有機塩基〕
本発明の製造方法は、上記（Ａ）又は（Ｂ）の反応を、イミノ構造を有する有機塩基の存在下で行わせる。
本発明においてイミノ構造を有する有機塩基とは、下記一般式（１．３）で表される構造を有する有機塩基を表す。
【０１１５】
【化３１】
2014148496.tif 000032
〔上記一般式（１．３）において、Ｒ１１は水素原子又はアルキル基を表す。Ｒ１２及びＲ１３は、それぞれ独立に、アルキル基又はＮＲ１４Ｒ１５を表す。Ｒ１４及びＲ１５は、それぞれ独立に、水素原子又はアルキル基を表す。Ｒ１２及びＲ１３のうちの少なくともいずれか一つは、ＮＲ１４である。Ｒ１１、Ｒ１２及びＲ１３は、互いに環を形成してもよい。〕
【０１１６】
上記一般式（１．３）で表されるイミノ構造を有する有機塩基としては、グアニジン類、アミジン類、複素環状有機塩基等が挙げられ、グアニジン類又は複素環状有機塩基類が好ましい。好ましいグアニジン類及び複素環状有機塩基類の具体例としては、１，１，３，３−テトラメチルグアニジン（ＴＭＧ）、１,８−ジアザビシクロ[５.４．０]ウンデカ−７−エン（ＤＢＵ）、１,５−ジアザビシクロ[４.３．０]ノナ−５−エン（ＤＢＮ）が挙げられるが、より好ましくは１,８−ジアザビシクロ[５.４．０]ウンデカ−７−エンである。
【０１１７】
有機塩基の使用量については特に制限は無いが、原料となるヒドラジド誘導体のモル数に対して０．１〜２．０倍モルの範囲内にあることが好ましく、より好ましくは０．３〜１．５倍モルの範囲内であり、最も好ましくは０．５〜１．１倍モルの範囲内である。
【０１１８】
本発明の製造方法は、具体的には、反応原料であるヒドラジド誘導体とニトリル誘導体を反応させてトリアゾール化合物を生成する反応工程と、生成されたトリアゾール化合物を反応溶液中から取り出す取出工程と、含む。
【０１１９】
〔反応工程〕
沸点が１１０℃以上、比誘電率が１３以上の極性溶媒中、イミノ構造を有する有機塩基の存在下、反応原料として、一般式（１ａ）で表されるヒドラジド誘導体と一般式（１ｂ）で表されるニトリル誘導体を添加するか、又は一般式（１ｃ）で表されるニトリル誘導体と一般式（１ｄ）で表されるヒドラジド誘導体を添加し、窒素雰囲気下で撹拌して反応させる。
【０１２０】
本発明の反応は、以下のスキームで表すことができる。
【化３２】
2014148496.tif 000033
【０１２１】
本発明に用いられる、イミノ構造を有する有機塩基は、反応原料並びに中間体と同一構造を塩基構造中に有することから、水素結合等に代表される相互作用により反応原料との親和性が高い。また、反応系内において有機溶媒としても振る舞って反応原料の溶解性を向上させる。その結果、上記スキームにおいて複雑な構造の原料や中間体を用いた場合においても溶解性が向上することから、無機塩基やその他の有機塩基と比較して、反応の進行に対する寄与が大きいと考えられる。
【０１２２】
反応開始時の原材料の添加順に関しては特に制限は無いが、ニトリル誘導体及びヒドラジド誘導体を投入した後に溶媒を投入することが、静電気による事故を抑制できる点において好ましい。溶媒を投入する際、反応容器内を窒素ガスに置換しておくことがより好ましい。
【０１２３】
有機塩基は、ヒドラジド誘導体及びニトリル誘導体の原料を投入後に、同様に室温付近で添加することが好ましい。
ヒドラジド誘導体及びニトリル誘導体は、窒素気流下で反応させることが好ましい。窒素気流化で行う際の流速に関しては特に制限は無く、必要とされる反応設備に合わせて適宜に調整してもよい。
また、反応溶媒が還流する状態になった際には、窒素気流を停止してもよい。
【０１２４】
反応温度は、１１０〜１８０℃程度であることが好ましく、より好ましくは１１０〜１５０℃の範囲内であり、最も好ましくは１１０〜１３０℃の範囲内である。
加熱により反応温度まで昇温させるのは、全ての反応原料を投入後であることが好ましい。
【０１２５】
反応が進行するに従って水が副生するが、有機塩基は水との反応性が低いため、副生水の影響を受けずに触媒作用を持続することができる。そのため、本発明の製造方法においては、副生水の除去は必須ではなく、除去の作業を省くことができる。
これに対し、炭酸カリウムのような無機塩基は、副生水に溶解して触媒機能が失活し、反応速度が低下する。そのため、副生水を反応系外に除去する必要があり、作業負荷が大きい。
【０１２６】
反応の終了は、反応原料として用いたヒドラジド誘導体のピークの消失を、ＨＰＬＣ（高速液体クロマトグラフィー）を用いて確認することにより、判断することができる。
【０１２７】
〔取出工程〕
反応終了後、得られたトリアゾール化合物を反応溶液中から取り出す。
トリアゾール化合物の取り出し方法としては、再結晶法、カラムクロマトグラフィー法等を用いることができる。なかでも、大量生産に好ましい取り出し方法としては、再結晶法が好ましい。
【０１２８】
再結晶法においてトリアゾール化合物を結晶化させる場合、前述のように酸付加塩を形成させるか、又は酸を加えて有機塩基を中和することが好ましい。
酸の添加量は、中和のみが目的である場合は、使用した有機塩基のモル数に対して１．０〜１．５倍モルの範囲内であることが好ましい。酸付加塩の形成を目的とする場合には、さらに目的物に対して１．０〜１．５倍モルの範囲内の酸を添加することが好ましい。
酸としては、上述した無機酸及び有機酸の例がすべて挙げられるが、好ましくは塩酸、酢酸、プロピオン酸又は酪酸であり、より好ましくは酢酸である。
【０１２９】
収率向上のため、水を添加して結晶を析出させることも好ましい。
水の添加量としては特に制限は無いが、反応に用いた溶媒の質量に対して０．５〜１倍程度の質量が好ましく、より好ましくは０．６〜０．８倍容量程度である。
【０１３０】
トリアゾール化合物の取り出し方法として最も好ましくは、反応溶液を３０〜５０℃程度まで冷却した後、反応に用いた有機塩基のモル数に対して１．０〜１．２倍モル程度の無機酸を投入して有機塩基を中和し、反応溶液を中性付近に調整してから、水を投入して晶析させる方法である。この方法は、取り出し操作において、作業者が反応溶液又は晶析液と接触する可能性が高い状況下において、作業者の安全性を向上させることができる点で、有効な方法でもある。
【０１３１】
＜５員又は６員の芳香族複素環基を有するトリアゾール化合物の使用方法＞
前記一般式（１）、（２）、（１．１）又は（１．２）で表される構造を有する化合物は、適宜量を調整して樹脂組成物、本発明の光学フィルム等に含有され得る。添加量としては光学フィルムを形成する樹脂（例えば、セルロースエステル等）に対して、１〜１５質量％の範囲内で含むことが好ましく、特に２〜１０質量％の範囲内で含むことが好ましい。この範囲内であれば、光学フィルムの機械強度を損なうことなく、環境湿度の変化に依存した光学値の変動を低減することができる。
【０１３２】
また、前記一般式（１）、（２）、（１．１）又は（１．２）で表される構造を有する化合物の添加方法としては、光学フィルムを形成する樹脂に粉体で添加しても良く、溶媒に溶解した後、光学フィルムを形成する樹脂に添加しても良い。
【０１３３】
＜光学フィルム＞
本発明の光学フィルムは、少なくとも樹脂と５員又は６員の芳香族複素環基を有するトリアゾール化合物とを含有する樹脂組成物を用いて作製された光学フィルムであって、リターデーション値（Ｒｏ値又はＲｔ値）の変動抑制率が、下記測定条件下で、２０〜１００％の範囲内である。
測定条件：
（ａ）作製した前記光学フィルム（サンプルフィルム）と同一膜厚で、かつ前記５員又は６員の芳香族複素環基を有する化合物を含まない光学フィルム（基準フィルム）を、サンプルフィルムと同様に作製し、
（ｂ）前記サンプルフィルムと基準フィルムとを温度２３℃の純水中に２４時間水浸漬する。
（ｃ）前記サンプルフィルムと基準フィルムについて、温度２３℃、相対湿度５５％における光波長５９０ｎｍでのリターデーション値Ｒｏ値及びＲｔ値を、水浸漬前と後に、測定し、水浸漬前後のリターデーション値の差の絶対値ΔＲｏ及びΔＲｔをそれぞれの光学フィルムについて求める。
（ｄ）下式により、リターデーション値（Ｒｏ値及びＲｔ値）の変動抑制率を求める。
Ｒｏ変動抑制率（％）＝（（基準フィルムのΔＲｏ）−（サンプルフィルムのΔＲｏ））÷（基準フィルムのΔＲｏ）×１００
Ｒｔ変動抑制率（％）＝（（基準フィルムのΔＲｔ）−（サンプルフィルムのΔＲｔ））÷（基準フィルムのΔＲｔ）×１００
【０１３４】
サンプルフィルムと基準フィルムの光学フィルム、は公知の方法で一定膜厚及び一定の厚さで作製することができる。
「同一膜厚」とは、１０〜１００μｍの範囲内をいい、迅速な測定の観点から、２０〜７０μｍの範囲内であることが好ましい。より好ましくは３０〜５０μｍの範囲内である。
【０１３５】
サンプルフィルムと基準フィルムの上記測定は同一条件で行う。
【０１３６】
上記測定に用いられるサンプルフィルムに含まれる５員又は６員の芳香族複素環基を有する化合物の含有量は、樹脂１００％に対して１〜１５質量％の範囲内であることが好ましい。２〜１０質量％の範囲内であることが好ましい。より好ましくは２〜５質量％の範囲内である。この範囲内であれば環境湿度の変化に依存した光学値の変動が少なく、樹脂との相溶性及びブリードアウト耐性に優れた光学フィルムが得られるため好ましい。
【０１３７】
上記光学フィルムのリターデーション値（Ｒｏ値及びＲｔ値）の変動抑制率は、Ｒｏ変動抑制率又はＲｔ変動抑制率が５０〜１００％の範囲内であることがより好ましく、Ｒｏ変動抑制率又はＲｔ変動抑制率が７０〜１００％の範囲内であることがさらに好ましい。特にＲｏ変動抑制率とＲｔ変動抑制率の両方が優れることが好ましい。
【０１３８】
従来は、環境湿度の変化に応じたリターデーション値の変動を一定の温度における低湿度条件と高湿度条件のリターデーション値の差で評価しているが、上記光学フィルムの場合、フィルムを水に浸す前と水に一定時間浸した後のリターデーション値の差で評価した。当該評価条件の方が、フィルムが直接水に晒されるため、従来よりも過酷な評価である。
【０１３９】
リターデーション値の測定は、光波長５９０ｎｍで、自動複屈折計ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ（王子計測機器）を用いて行うことができる。詳細は後述する。
【０１４０】
５員又は６員の芳香族複素環基としては、例えば、フラン環基、チオフェン環基、ピロール環基、ピラゾール環基、イミダゾール環基、オキサゾール環基、１，２，４−オキサジアゾール環基、１，３，４−オキサジアゾール環基、イソオキサゾール環基、チアゾール環基、１，２，４−チオジアゾール環基、１，３，４−チオジアゾール環基、イソチアゾール環基、１，２，３−トリアゾール環基、１，２，４−トリアゾール環基、ピリジン環基、ピラジン環基、ピリダジン環基、ピリミジン環基、トリアジン環基等が挙げられる。
【０１４１】
なかでも、少なくとも一つの窒素原子を有する５員又は６員の芳香族複素環が好ましく、少なくとも一つの窒素原子を有する５員の芳香族複素環基が好ましく、１，２，４−トリアゾール環基が好ましい。芳香族複素環基を有する化合物は、分極したπ電子を有するため、樹脂の水素原子と強く相互作用し、水分子よりも樹脂に強く配位することで、水分子の量が変化してもリターデーション値の変動が抑制されると考えられる。特に、１，２，４−トリアゾール環を有する化合物は、樹脂と強く配位するだけでなく、水分子との相互作用力も強く、樹脂／１，２，４−トリアゾール化合物／水分子が安定な構造をとると考えられるため、リターデーション値の変動の抑制に特に優れるため好ましい。
【０１４２】
前記樹脂としてセルロース誘導体を含有し、前記芳香族複素環基を有する化合物として、前記一般式（１）で表される構造を有する化合物を含有することが、セルロース誘導体と相互作用しやすくなることで環境湿度の変化に対する光学値の変動が抑制されるため好ましい。さらに、前記セルロース誘導体が、セルロースエステルであることが好ましい。セルロースエステルは前記一般式（１）で表される化合物とより強く相互作用することにより、環境湿度の変化に対する光学値の変動が抑制される。
【０１４３】
５員又は６員の芳香族複素環基を有する化合物が、前記一般式（１）、（２）、（１．１）又は（１．２）で表される構造を有する化合物である場合、Ａ１及びＡ２が、それぞれ独立に、芳香族炭化水素環基又は芳香族複素環基を表すことが好ましい。これにより芳香族炭化水素基又は芳香族複素環基はπ電子を有するため、セルロースエステルとの相互作用が強くなり環境湿度の変化に対する光学値の変動が抑制される。また、Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３及びＬ４が、単結合を表すことが好ましい。Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３及びＬ４が、単結合であると分子の平面性が増し、セルロースエステルとの相互作用が強くなり環境湿度の変化に対する光学値の変動が抑制される。さらに前記一般式（１）で表される構造を有する化合物において、ｎが１〜５の整数を表し、前記一般式（１．１）で表される構造を有する化合物において、ｋが１〜４の整数を表すことが、１，２，４−トリアゾール環の含有によってセルロースエステルとの相互作用が強くなり環境湿度の変化に対する光学値の変動が抑制されるため、好ましい。さらに、前記一般式（１）で表される構造を有する化合物が、前記一般式（２）又は（１．１）で表される構造をもつ化合物であることが好ましい。また、前記一般式（１．１）で表される構造を有する化合物が、前記一般式（１．３）で表される構造を有する化合物であることが好ましい。
【０１４４】
本発明の光学フィルムは、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ等の各種表示装置に用いられる機能フィルムのことであり、詳しくは偏光板保護フィルム、位相差フィルム、反射防止フィルム、輝度向上フィルム、ハードコートフィルム、防眩フィルム、帯電防止フィルム、視野角拡大等の光学補償フィルム等が含まれる。
【０１４５】
本発明の光学フィルムは、少なくとも樹脂と５員又は６員の芳香族複素環基を有する化合物とを含有する樹脂組成物を用いて作製することができる。
【０１４６】
本発明の光学フィルムの基材として用いられる樹脂組成物中の樹脂としてはセルロース誘導体（セルロースエステル系樹脂、セルロースエーテル系樹脂等）ポリカーボネート系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリスルホン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアリレート系樹脂、アクリル系樹脂、オレフィン系樹脂（ノルボルネン系樹脂、環状オレフィン系樹脂、環状共役ジエン系樹脂、ビニル脂環式炭化水素系樹脂等）等を挙げることができる。
【０１４７】
前記樹脂は、極性基を有することが好ましい。この樹脂中の極性基と水と５員又は６員の芳香族複素環基とが強い相互作用を持ち、光学フィルム中の水分子の量が変化しても配向を維持し、位相値の変動が抑制できるものと推定している。
【０１４８】
ここで極性基とは、酸素、窒素、イオウ、ハロゲン等電気陰性度の高い原子によって分極が生じている有機基であれば特に限定されない。極性基を有する樹脂としては、例えばヒドロキシ基、カルボニル基、ウレタン基、イソシアヌレート基、ウレア基、カーボネート基、アミド基、エステル基、カルボキシ基、酸無水物基、エーテル基、エポキシ基、イミノ基又はアミノ基などを有する樹脂が挙げられる。セルロースエステル系樹脂及びセルロースエーテル系樹脂等のセルロース誘導体が好ましい。
【０１４９】
またセルロース誘導体と上記樹脂とを併用することもできる。併用する樹脂としては、ポリカーボネート系樹脂、アクリル系樹脂、環状オレフィン系樹脂が好ましい。セルロース誘導体以外の樹脂を併用する場合、セルロース誘導体以外の樹脂含有量としては０〜５０質量％の範囲内が好ましい。
【０１５０】
（セルロース誘導体）
セルロース誘導体は、セルロースを原料とする化合物（セルロース骨格を有する化合物）である。セルロース誘導体の例には、セルロースエーテル（例えば、メチルセルロース、エチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、シアノエチルセルロース等）、セルロースエステル（詳細は後述）、セルロースエーテルエステル（例えば、アセチルメチルセルロース、アセチルエチルセルロース、アセチルヒドロキシエチルセルロース、ベンゾイルヒドロキシプロピルセルロース等）、セルロースカーボネート（例えば、セルロースエチルカーボネート等）、セルロースカルバメート（例えば、セルロースフェニルカルバメート等が挙げられる）等の樹脂が含まれ、好ましくはセルロースエステルである。セルロース誘導体は、一種類であってもよいし、二種類以上の混合物であってもよい。
【０１５１】
セルロースエステルは、セルロースと、炭素数２〜２２程度の脂肪族カルボン酸及び芳香族カルボン酸の少なくとも一方とをエステル化反応させて得られる化合物であり、好ましくはセルロースと、炭素数６以下の低級脂肪酸とをエステル化反応させて得られる化合物である。
【０１５２】
セルロースエステルに含まれるアシル基は、直鎖状であっても分岐状であってもよく、また環を形成していてもよく、さらに別の置換基を有していてもよい。アシル基の炭素数は２〜６であることが好ましく、２〜４であることがより好ましく、２〜３であることがさらに好ましい。
【０１５３】
セルロースエステルの具体例には、セルロースアセテートの他、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートプロピオネートブチレート又はセルロースアセテートフタレートなどの混合脂肪酸エステルを用いることができる。好ましくはセルロースアセテート、セルロースアセテートブチレート又はセルロースアセテートプロピオネートである。セルロースエステルに含まれうるブチリル基は、直鎖状であっても分岐状であってもよい。
【０１５４】
セルロースエステルのアシル基の総置換度は、１．０〜３．０程度としうる。アシル基の総置換度は、透湿性を低くする観点からは、２．０〜２．９５の範囲内であることが好ましい。
【０１５５】
セルロースエステルのアシル基の置換度は、ＡＳＴＭ−Ｄ８１７−９６に規定の方法で測定することができる。
【０１５６】
セルロース誘導体の数平均分子量は、得られるフィルムの機械的強度を高めるためには、６×１０４〜３×１０５の範囲であることが好ましく分子量、７×１０４〜２×１０５の範囲であることがより好ましい。
【０１５７】
セルロース誘導体の重量平均分子量（Ｍｗ）及び数平均分子量（Ｍｎ）は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）を用いて測定される。測定条件は以下のとおりである。
【０１５８】
溶媒：メチレンクロライド；
カラム：Ｓｈｏｄｅｘ  Ｋ８０６、Ｋ８０５、Ｋ８０３Ｇ（昭和電工株式会社製）を３本接続して使用する；
カラム温度：２５℃；
試料濃度：０．１質量％；
検出器：ＲＩ  Ｍｏｄｅｌ  ５０４（ＧＬサイエンス社製）；
ポンプ：Ｌ６０００（日立製作所株式会社製）；
流量：１．０ｍｌ／ｍｉｎ
校正曲線：標準ポリスチレンＳＴＫ  ｓｔａｎｄａｒｄ  ポリスチレン（東ソー株式会社製）  Ｍｗ＝１００００００〜５００の１３サンプルによる校正曲線を使用する。１３サンプルは、ほぼ等間隔に用いる。
【０１５９】
セルロース誘導体中の残留硫酸の含有量は、硫黄元素換算で０．１〜４５質量ｐｐｍの範囲であることが好ましく、１〜３０質量ｐｐｍの範囲がより好ましい。硫酸は、塩の状態でフィルムに残留していると考えられる。残留硫酸の含有量が４５質量ｐｐｍを超えると、フィルムを熱延伸する際や、熱延伸後にスリッティングする際に破断しやすくなる。残留硫酸の含有量は、ＡＳＴＭ  Ｄ８１７−９６に規定の方法により測定することができる。
【０１６０】
セルロース誘導体中の遊離酸の含有量は、１〜５００質量ｐｐｍの範囲内であることが好ましく、１〜１００質量ｐｐｍであることがより好ましく、１〜７０質量ｐｐｍの範囲内であることがさらに好ましい。遊離酸の含有量が上記範囲であると、前述と同様に、フィルムを熱延伸する際や、熱延伸後にスリッティングする際に破断しにくい。遊離酸の含有量はＡＳＴＭ  Ｄ８１７−９６に規定の方法により測定することができる。
【０１６１】
セルロース誘導体は、微量の金属成分を含有することがある。微量の金属成分は、セルロース誘導体の合成工程で用いられる水に由来すると考えられる。これらの金属成分のように、不溶性の核となりうるような成分の含有量はできるだけ少ないことが好ましい。特に鉄、カルシウム、マグネシウム等の金属イオンは、有機の酸性基を含んでいる可能性のある樹脂分解物等と塩形成して不溶物を形成する場合がある。また、カルシウム（Ｃａ）成分は、カルボン酸やスルホン酸等の酸性成分と、また多くの配位子と配位化合物（すなわち、錯体）を形成しやすく、多くの不溶なカルシウムに由来するスカム（不溶性の澱、濁り）を形成するおそれがある。
【０１６２】
具体的には、セルロース誘導体中の鉄（Ｆｅ）成分の含有量は、１質量ｐｐｍ以下であることが好ましい。また、セルロース誘導体中のカルシウム（Ｃａ）成分の含有量は、好ましくは６０質量ｐｐｍ以下であり、より好ましくは０〜３０質量ｐｐｍの範囲内である。セルロース誘導体中のマグネシウム（Ｍｇ）成分の含有量は、０〜７０質量ｐｐｍの範囲内であることが好ましく、特に０〜２０質量ｐｐｍの範囲内であることが好ましい。
【０１６３】
鉄（Ｆｅ）成分、カルシウム（Ｃａ）成分、及びマグネシウム（Ｍｇ）成分などの金属成分の含有量は、絶乾したセルロース誘導体をマイクロダイジェスト湿式分解装置（硫硝酸分解）、アルカリ溶融で前処理を行った後、ＩＣＰ−ＡＥＳ（誘導結合プラズマ発光分光分析装置）を用いて測定することができる。
【０１６４】
残留アルカリ土類金属、残留硫酸及び残留酸の含有量は、合成して得られるセルロース誘導体を、十分に洗浄することによって調整することができる。
【０１６５】
セルロース誘導体は、公知の方法により製造することができる。具体的には、例えば、特開平１０−４５８０４号に記載の方法を参考にして合成することができる。セルロース誘導体の原料のセルロースは、特に限定はないが、綿花リンター、木材パルプ、ケナフなどでありうる。原料の異なるセルロース誘導体を混合して用いてもよい。
【０１６６】
（（メタ）アクリル樹脂）
本発明の光学フィルムに用いることができる（メタ）アクリル樹脂は、（メタ）アクリル酸エステルの単独重合体であるか、又は（メタ）アクリル酸エステルと他の共重合モノマーとの共重合体であり得る。（メタ）アクリル樹脂は、一種類であっても、二種類以上の混合物であってもよい。（メタ）アクリル酸エステルは、好ましくはメチルメタクリレートである。共重合体におけるメチルメタクリレート由来の構成単位の含有割合は５０質量％以上であることが好ましく、７０質量％以上であることがより好ましい。
【０１６７】
メチルメタクリレートと共重合体をなす共重合モノマーの例には、アルキル部分の炭素数が２〜１８のアルキルメタクリレート；アルキル部分の炭素数が１〜１８のアルキルアクリレート；後述のラクトン環構造を形成し得る、ヒドロキシ基（水酸基）を有するアルキル部分の炭素数が１〜１８のアルキル（メタ）アクリレート；アクリル酸、メタクリル酸等のα，β−不飽和酸；マレイン酸、フマル酸、イタコン酸等の不飽和基含有２価カルボン酸；スチレン、α−メチルスチレン等の芳香族ビニル化合物；アクリロニトリル、メタクリロニトリル等のα，β−不飽和ニトリル；無水マレイン酸、マレイミド、Ｎ−置換マレイミド、グルタル酸無水物、アクリロイルモルホリン（ＡＣＭＯ）等のアクリルアミド誘導体；Ｎ−ビニルピロリドン（ＶＰ）等が含まれる。これらは、一種類で用いてもよいし、二種以上を組み合わせて用いてもよい。
【０１６８】
なかでも、共重合体の耐熱分解性や流動性を高めるためには、メチルアクリレート、エチルアクリレート、ｎ−プロピルアクリレート、ｎ−ブチルアクリレート、ｓ−ブチルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート等のアルキルアクリレート；２−（ヒドロキシメチル）アクリル酸メチル、２−（ヒドロキシメチル）アクリル酸エチル等のヒドロキシ基を有するアルキル（メタ）アクリレートが好ましい。セルロースエステルとの相溶性を高めるためには、アクリロイルモルホリン等が好ましい。
【０１６９】
（メタ）アクリル樹脂は、得られた光学フィルムの耐熱性を高めたり、光弾性係数を調整したりする観点等から、ラクトン環構造を含有することが好ましい。（メタ）アクリル樹脂に含まれるラクトン環構造は、好ましくは下記一般式（３）で表される。
【０１７０】
【化３３】
2014148496.tif 000034
【０１７１】
一般式（３）において、Ｒ１〜Ｒ３は、それぞれ独立に、水素原子又は炭素数１〜２０の有機残基を表す。有機残基は、酸素原子を含んでいてもよい。有機残基の例には、直鎖若しくは分岐状のアルキル基、直鎖若しくは分岐状のアルキレン基、芳香族炭化水素環基、−ＯＡｃ基（Ａｃはアセチル基）、−ＣＮ基等が含まれる。
【０１７２】
一般式（３）で表されるラクトン環構造は、後述するように、ヒドロキシ基を有するアルキル（メタ）アクリレートに由来する構造である。
【０１７３】
ラクトン環構造を含有する（メタ）アクリル樹脂は、アルキル部分の炭素数が１〜１８のアルキル（メタ）アクリレートに由来する構成単位をさらに含み、必要に応じてヒドロキシ基を含有するモノマー、不飽和カルボン酸、下記一般式（４）で表されるモノマー等に由来する構成単位をさらに含んでいてもよい。
【０１７４】
【化３４】
2014148496.tif 000035
【０１７５】
一般式（４）におけるＲ４は、水素原子又はメチル基を表す。Ｘは、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、芳香族炭化水素環基、−ＯＡｃ基（Ａｃはアセチル基）、−ＣＮ基、アシル基又は−Ｃ−ＯＲ基（Ｒは水素原子又は炭素数１〜２０の有機残基）を表す。
【０１７６】
ラクトン環構造を含有する（メタ）アクリル樹脂における、一般式（１）で表されるラクトン環構造の含有割合は、好ましくは５〜９０質量％の範囲内であり、より好ましくは１０〜８０質量％の範囲内であり、さらに好ましくは１５〜７０質量％の範囲内である。ラクトン環構造の含有割合が５質量％以上であれば、必要な位相差を有するフィルムが得られやすく、フィルムの耐熱性、耐溶剤性、表面硬度が十分である。ラクトン環構造の含有割合が９０質量％以下であれば、成形加工性が高く、得られたフィルムの可とう性も高くなりやすい。
【０１７７】
ラクトン環構造を含有する（メタ）アクリル樹脂における、アルキル（メタ）アクリレートに由来する構成単位の含有割合は、好ましくは１０〜９５質量％の範囲内であり、より好ましくは２０〜９０質量％の範囲内であり、さらに好ましくは３０〜８５質量％の範囲内である。
【０１７８】
ラクトン環構造を含有する（メタ）アクリル樹脂における、ヒドロキシ基含有モノマー、不飽和カルボン酸又は一般式（２）で表されるモノマーに由来する構成単位の含有割合は、それぞれ独立に、好ましくは０〜３０質量％の範囲内であり、より好ましくは０〜２０質量％であり、さらに好ましくは０〜１０質量％の範囲内である。
【０１７９】
ラクトン環構造を含有する（メタ）アクリル樹脂は、少なくとも、ヒドロキシ基を有するアルキル（メタ）アクリレートと、それ以外のアルキル（メタ）アクリレートとを含むモノマー成分を重合反応させて、分子鎖中にヒドロキシ基とエステル基とを有する重合体を得るステップ、得られた重合体を加熱処理してラクトン環構造を導入するステップ、を経て製造され得る。
【０１８０】
（メタ）アクリル樹脂の重量平均分子量Ｍｗは、好ましくは８．０×１０４〜５．０×１０５の範囲内であり、より好ましくは９．０×１０４〜４．５×１０５の範囲内であり、さらに好ましくは１．０×１０５〜４．０×１０５の範囲内である。（メタ）アクリル樹脂の重量平均分子量Ｍｗが８．０×１０４以上であれば、フィルムの耐脆性が向上やすく、５．０×１０５以下であれば、フィルムのヘイズが低くなりやすい。
【０１８１】
（メタ）アクリル樹脂の重量平均分子量Ｍｗは、セルロースエステルの重量平均分子量Ｍｗの測定方法と同様にして、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーにより測定することができる。
【０１８２】
本発明の光学フィルムは、必要に応じて下記のような種々の添加剤をさらに含有していてもよい。
【０１８３】
（糖エステル）
本発明の光学フィルムは、光学フィルムの可塑性を向上させる観点から、前述したセルロースエステル以外の糖エステルを含有することができる。
【０１８４】
本発明の光学フィルムに用いることのできる糖エステルは、フラノース構造若しくはピラノース構造を１〜１２個有する化合物であって、該化合物中のヒドロキシ基の全部又は一部がエステル化された化合物をいう。
【０１８５】
そのような糖エステルの好ましい例には、下記一般式（ＦＡ）で表されるスクロースエステルが含まれる。
【０１８６】
【化３５】
2014148496.tif 000036
【０１８７】
一般式（ＦＡ）のＲ１〜Ｒ８は、それぞれ独立に、水素原子、置換若しくは無置換のアルキルカルボニル基、又は置換若しくは無置換のアリールカルボニル基を表す。Ｒ１〜Ｒ８は、互いに同じであっても、異なってもよい。
【０１８８】
置換若しくは無置換のアルキルカルボニル基は、炭素原子数２以上の置換若しくは無置換のアルキルカルボニル基であることが好ましい。置換若しくは無置換のアルキルカルボニル基の例には、メチルカルボニル基（アセチル基）が含まれる。アルキル基が有する置換基の例には、フェニル基等の芳香族炭化水素環基が含まれる。
【０１８９】
置換又は無置換のアリールカルボニル基は、炭素原子数７以上の置換又は無置換のアリールカルボニル基であることが好ましい。アリールカルボニル基の例には、フェニルカルボニル基が含まれる。芳香族炭化水素環基が有する置換基の例には、メチル基等のアルキル基や、メトキシ基等のアルコキシル基等が含まれる。
【０１９０】
スクロースエステルのアシル基の平均置換度は、３．０〜７．５の範囲内であることが好ましい。アシル基の平均置換度がこの範囲内であると、セルロースエステルとの十分な相溶性が得られやすい。
【０１９１】
一般式（ＦＡ）で表されるスクロースエステルの具体例には、下記例示化合物ＦＡ−１〜ＦＡ−２４が含まれる。下記表は、例示化合物ＦＡ−１〜ＦＡ−２４の一般式（ＦＡ）におけるＲ１〜Ｒ８と、アシル基の平均置換度を示している。
【０１９２】
【化３６】
2014148496.tif 000037
【０１９３】
【化３７】
2014148496.tif 000038
【０１９４】
【化３８】
2014148496.tif 000039
【０１９５】
その他の糖エステルの例には、特開昭６２−４２９９６号公報及び特開平１０−２３７０８４号公報に記載の化合物が含まれる。
【０１９６】
糖エステルの含有量は、セルロースエステルに対して０．５〜３５．０質量％の範囲内であることが好ましく、５．０〜３０．０質量％の範囲内であることがより好ましい。
【０１９７】
（可塑剤）
本発明の光学フィルムは、フィルム製造時の組成物の流動性や、フィルムの柔軟性を向上するために可塑剤を含有していていもよい。可塑剤の例には、ポリエステル系可塑剤、多価アルコールエステル系可塑剤、多価カルボン酸エステル系可塑剤（フタル酸エステル系可塑剤を含む）、グリコレート系可塑剤、エステル系可塑剤（クエン酸エステル系可塑剤、脂肪酸エステル系可塑剤、リン酸エステル系可塑剤、トリメリット酸エステル系可塑剤等を含む）等が含まれる。これらは、単独で用いても、二種類以上を組み合わせて用いてもよい。
【０１９８】
ポリエステル系可塑剤は、１〜４価のカルボン酸と、１〜６価のアルコールとを反応させて得られた化合物であり、好ましくは２価カルボン酸とグリコールとを反応させて得られた化合物である。
【０１９９】
２価カルボン酸の例には、コハク酸、グルタル酸、イタコン酸、アジピン酸、フタル酸、アゼライン酸、セバシン酸等が含まれる。特に、２価カルボン酸として、コハク酸、アジピン酸、フタル酸等を用いた化合物は、可塑性を良好に付与し得る。
【０２００】
グリコールの例には、エチレングリコール、プロピレングリコール、１，３−ブチレングリコール、１，４−ブチレングリコール、１，６−ヘキサメチレングリコール、ネオペンチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ジプロピレングリコール等が含まれる。２価カルボン酸及びグリコールは、それぞれ一種類であってもよいし、二種類以上を併用してもよい。
【０２０１】
ポリエステル系可塑剤は、エステル、オリゴエステル、ポリエステルのいずれであってもよい。ポリエステル系可塑剤の分子量は、１００〜１００００の範囲が好ましく、可塑性を付与する効果が大きいことから、６００〜３０００の範囲がより好ましい。
【０２０２】
ポリエステル系可塑剤の粘度は、分子構造や分子量にもよるが、アジピン酸系可塑剤の場合、セルロースエステルとの相溶性が高く、かつ可塑性を付与する効果が高いこと等から、２００〜５０００ＭＰａ・ｓ（２５℃）の範囲であることが好ましい。ポリエステル系可塑剤は、一種類であっても、二種類以上を併用してもよい。
【０２０３】
多価アルコールエステル系可塑剤は、２価以上の脂肪族多価アルコールと、モノカルボン酸とのエステル化合物（アルコールエステル）であり、好ましくは２〜２０価の脂肪族多価アルコールエステルである。多価アルコールエステル系化合物は、分子内に芳香環又はシクロアルキル環を有することが好ましい。
【０２０４】
脂肪族多価アルコールの例には、エチレングリコール、プロピレングリコール、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール等が含まれる。
【０２０５】
モノカルボン酸は、脂肪族モノカルボン酸、脂環式モノカルボン酸、芳香族モノカルボン酸等であり得る。モノカルボン酸は、一種類であってもよいし、二種以上の混合物であってもよい。また、脂肪族多価アルコールに含まれるＯＨ基の全部をエステル化してもよいし、一部をＯＨ基のままで残してもよい。
【０２０６】
脂肪族モノカルボン酸は、炭素数１〜３２の直鎖又は側鎖を有する脂肪酸であることが好ましい。脂肪族モノカルボン酸の炭素数はより好ましくは１〜２０であり、さらに好ましくは１〜１０である。そのような脂肪族モノカルボン酸の例には、酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸等が含まれ、セルロースエステルとの相溶性を高めるためには、好ましくは酢酸であり得る。
【０２０７】
脂環式モノカルボン酸の例には、シクロペンタンカルボン酸、シクロヘキサンカルボン酸、シクロオクタンカルボン酸等が含まれる。
【０２０８】
芳香族モノカルボン酸の例には、安息香酸；安息香酸のベンゼン環にアルキル基又はアルコキシ基（例えばメトキシ基やエトキシ基）を１〜３個を導入したもの（例えばトルイル酸等）；ベンゼン環を２個以上有する芳香族モノカルボン酸（例えばビフェニルカルボン酸、ナフタリンカルボン酸、テトラリンカルボン酸等）が含まれ、好ましくは安息香酸である。
【０２０９】
多価アルコールエステル系可塑剤の分子量は、特に制限されないが、３００〜１５００の範囲内であることが好ましく、３５０〜７５０の範囲内であることがより好ましい。揮発し難くするためには、分子量が大きい方が好ましい。透湿性を高め、セルロースエステルとの相溶性を高めるためには、分子量が小さい方が好ましい。
【０２１０】
多価アルコールエステル系可塑剤の具体例には、トリメチロールプロパントリアセテート、ペンタエリスリトールテトラアセテート、特開２００８−８８２９２号公報に記載の一般式（Ｉ）で表されるエステル化合物（Ａ）等が含まれる。
【０２１１】
多価カルボン酸エステル系可塑剤は、２価以上、好ましくは２〜２０価の多価カルボン酸と、アルコール化合物とのエステル化合物である。多価カルボン酸は、２〜２０価の脂肪族多価カルボン酸、３〜２０価の芳香族多価カルボン酸又は３〜２０価の脂環式多価カルボン酸であることが好ましい。
【０２１２】
多価カルボン酸の例には、トリメリット酸、トリメシン酸、ピロメリット酸のような３価以上の芳香族多価カルボン酸又はその誘導体；コハク酸、アジピン酸、アゼライン酸、セバシン酸、シュウ酸、フマル酸、マレイン酸、テトラヒドロフタル酸のような脂肪族多価カルボン酸；酒石酸、タルトロン酸、リンゴ酸、クエン酸のようなオキシ多価カルボン酸等が含まれ、フィルムからの揮発を抑制するためには、オキシ多価カルボン酸が好ましい。
【０２１３】
アルコール化合物の例には、直鎖若しくは側鎖を有する脂肪族飽和アルコール化合物、直鎖若しくは側鎖を有する脂肪族不飽和アルコール化合物、脂環式アルコール化合物又は芳香族アルコール化合物等が含まれる。脂肪族飽和アルコール化合物又は脂肪族不飽和アルコール化合物の炭素数は、好ましくは１〜３２であり、より好ましくは１〜２０であり、さらに好ましくは１〜１０である。脂環式アルコール化合物の例には、シクロペンタノール、シクロヘキサノール等が含まれる。芳香族アルコール化合物の例には、フェノール、パラクレゾール、ジメチルフェノール、ベンジルアルコール、シンナミルアルコール等が含まれる。アルコール化合物は、一種類でもよいし、二種以上の混合物であってもよい。
【０２１４】
多価カルボン酸エステル系可塑剤の分子量は、特に制限はないが、３００〜１０００の範囲内であることが好ましく、３５０〜７５０の範囲内であることがより好ましい。多価カルボン酸エステル系可塑剤の分子量は、ブリードアウトを抑制する観点では、大きい方が好ましい。透湿性やセルロースエステルとの相溶性の観点では、小さい方が好ましい。
【０２１５】
多価カルボン酸エステル系可塑剤の酸価は、１ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることが好ましく、０．２ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることがさらに好ましい。酸価とは、試料１ｇ中に含まれる酸（試料中に存在するカルボキシ基）を中和するために必要な水酸化カリウムのミリグラム数をいう。酸価は、ＪＩＳ  Ｋ００７０に準拠して測定したものである。
【０２１６】
多価カルボン酸エステル系可塑剤の例には、特開２００８−８８２９２号公報に記載の一般式（II）で表されるエステル化合物（Ｂ）等が含まれる。
【０２１７】
多価カルボン酸エステル系可塑剤は、フタル酸エステル系可塑剤であってもよい。フタル酸エステル系可塑剤の例には、ジエチルフタレート、ジメトキシエチルフタレート、ジメチルフタレート、ジオクチルフタレート、ジブチルフタレート、ジ−２−エチルヘキシルフタレート、ジシクロヘキシルフタレート、ジシクロヘキシルテレフタレート等が含まれる。
【０２１８】
グリコレート系可塑剤の例には、アルキルフタリルアルキルグリコレート類が含まれる。アルキルフタリルアルキルグリコレート類の例には、メチルフタリルメチルグリコレート、エチルフタリルエチルグリコレート、プロピルフタリルプロピルグリコレート、ブチルフタリルブチルグリコレート、オクチルフタリルオクチルグリコレート等が含まれる。
【０２１９】
エステル系可塑剤には、脂肪酸エステル系可塑剤、クエン酸エステル系可塑剤、リン酸エステル系可塑剤、トリメリット酸系可塑剤等が含まれる。
【０２２０】
脂肪酸エステル系可塑剤の例には、オレイン酸ブチル、リシノール酸メチルアセチル、セバシン酸ジブチル等が含まれる。クエン酸エステル系可塑剤の例には、クエン酸アセチルトリメチル、クエン酸アセチルトリエチル、クエン酸アセチルトリブチル等が含まれる。リン酸エステル系可塑剤の例には、トリフェニルホスフェート、トリクレジルホスフェート、クレジルジフェニルホスフェート、オクチルジフェニルホスフェート、ジフェニルビフェニルホスフェート、トリオクチルホスフェート、トリブチルホスフェート等が含まれる。トリメリット酸系可塑剤の例には、トリメリット酸オクチル、トリメリット酸ｎ−オクチル、トリメリット酸イソデシル、トリメリット酸イソノニル等が含まれる。
【０２２１】
可塑剤の含有量は、セルロースエステルに対して０．５〜３０．０質量％の範囲内であることが好ましい。可塑剤の含有量が３０．０質量％以下であれば、光学フィルムがブリードアウトを生じにくい。
【０２２２】
（紫外線吸収剤）
本発明の光学フィルムは、紫外線吸収剤をさらに含有していてもよい。紫外線吸収剤は、ベンゾトリアゾール系、２−ヒドロキシベンゾフェノン系、サリチル酸フェニルエステル系等であり得る。具体的には、２−（５−メチル−２−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−［２−ヒドロキシ−３，５−ビス（α，α−ジメチルベンジル）フェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール等のトリアゾール類；２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−オクトキシベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン等のベンゾフェノン類等が挙げられる。
【０２２３】
なかでも、分子量が４００以上である紫外線吸収剤は、高沸点で揮発しにくく、高温成形時にも飛散しにくいため、比較的添加量が少なくても、得られたフィルムに耐候性を付与することができる。
【０２２４】
分子量が４００以上である紫外線吸収剤の例には、２−［２−ヒドロキシ−３，５−ビス（α，α−ジメチルベンジル）フェニル］−２−ベンゾトリアゾール、２，２−メチレンビス［４−（１，１，３，３−テトラブチル）−６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェノール］等のベンゾトリアゾール系；
ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）セバケート等のヒンダードアミン系；
２−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２−ｎ−ブチルマロン酸ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）、１−［２−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ］エチル］−４−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ］−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン等の分子内にヒンダードフェノールとヒンダードアミンの構造を共に有するハイブリッド系；
等が含まれ、好ましくは２−［２−ヒドロキシ−３，５−ビス（α，α−ジメチルベンジル）フェニル］−２−ベンゾトリアゾールや２，２−メチレンビス［４−（１，１，３，３−テトラブチル）−６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェノール］である。これらは、一種類であっても、二種以上を併用してもよい。
【０２２５】
（微粒子）
本発明の光学フィルムは、無機化合物又は有機化合物からなる微粒子を含有してもよい。
【０２２６】
無機化合物の例には、二酸化ケイ素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成ケイ酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム、リン酸カルシウム等が含まれる。
【０２２７】
有機化合物の例には、ポリテトラフルオロエチレン、セルロースアセテート、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリプロピルメタクリレート、ポリメチルアクリレート、ポリエチレンカーボネート、アクリルスチレン系樹脂、シリコーン系樹脂、ポリカーボネート樹脂、ベンゾグアナミン系樹脂、メラミン系樹脂、ポリオレフィン系粉末、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、有機高分子化合物（ポリフッ化エチレン系樹脂、澱粉等）の粉砕分級物、懸濁重合法で合成した高分子化合物、スプレードライ法又は分散法等により球型にした高分子化合物等が含まれる。
【０２２８】
微粒子は、得られたフィルムのヘイズを低く維持し得る点から、ケイ素を含む化合物、好ましくは二酸化ケイ素で構成され得る。
【０２２９】
二酸化ケイ素の微粒子の例には、アエロジルＲ９７２、Ｒ９７２Ｖ、Ｒ９７４、Ｒ８１２、２００、２００Ｖ、３００、Ｒ２０２、ＯＸ５０、ＴＴ６００（以上、日本アエロジル（株）製）等が含まれる。
【０２３０】
なかでも、アエロジル２００Ｖ、アエロジルＲ９７２Ｖが、光学フィルムのヘイズを低く保ちながら、フィルム表面の滑り性を高め得るため、特に好ましい。
【０２３１】
酸化ジルコニウムの微粒子の例には、アエロジルＲ９７６、Ｒ８１１（以上、日本アエロジル（株）製）等が含まれる。
【０２３２】
高分子化合物の例として、シリコーン樹脂、フッ素樹脂、（メタ）アクリル樹脂等が含まれ、好ましくはシリコーン樹脂であり、より好ましくは三次元の網状構造を有するシリコーン樹脂である。そのようなシリコーン樹脂の例には、トスパール１０３、同１０５、同１０８、同１２０、同１４５、同３１２０、同２４０（以上、東芝シリコーン（株）製）等が含まれる。
【０２３３】
微粒子の一次粒子の平均粒径は、好ましくは５〜４００ｎｍの範囲内であり、より好ましくは１０〜３００ｎｍの範囲内である。微粒子は、主に粒径が０．０５〜０．３０μｍの範囲内にある二次凝集体を形成していてもよい。微粒子の平均粒径が１００〜４００ｎｍの範囲内であれば、凝集せずに一次粒子として存在し得る。
【０２３４】
本発明の光学フィルムは、光学フィルムの少なくとも一方の面の動摩擦係数が０．２〜１．０の範囲内となるように、微粒子を含有することが好ましい。
【０２３５】
微粒子の含有量は、セルロースエステルに対して０．０１〜１．００質量％の範囲内であることが好ましく、０．０５〜０．５０質量％の範囲内であることがより好ましい。
【０２３６】
（分散剤）
本発明の光学フィルムは、微粒子の分散性を高める観点から、分散剤をさらに含有していてもよい。分散剤は、アミン系分散剤及びカルボキシ基含有高分子分散剤から選ばれる一種又は二種以上である。
【０２３７】
アミン系分散剤は、アルキルアミン又はポリカルボン酸のアミン塩であることが好ましく、その具体例には、ポリエステル酸、ポリエーテルエステル酸、脂肪酸、脂肪酸アミド、ポリカルボン酸、アルキレンオキサイド、ポリアルキレンオキサイド、ポリオキシエチレン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレングリセリン脂肪酸エステル等をアミン化した化合物等が含まれる。アミン塩の例には、アミドアミン塩、脂肪族アミン塩、芳香族アミン塩、アルカノールアミン塩、多価アミン塩等が含まれる。
【０２３８】
アミン系分散剤の具体例には、ポリオキシエチレン脂肪酸アミド、ポリオキシエチレンアルキルアミン、トリプロピルアミン、ジエチルアミノエチルアミン、ジメチルアミノプロピルアミン、ジエチルアミノプロピルアミン等が含まれる。市販品の例には、ソルスパーズシリーズ（ルーブリゾール社製）、アジスパーシリーズ（味の素社製）、ＢＹＫシリーズ（ビックケミー社製）、ＥＦＫＡシリーズ（ＥＦＫＡ社製）等を挙げることができる。
【０２３９】
カルボキシ基含有高分子分散剤は、ポリカルボン酸又はその塩であることが好ましく、例えばポリカルボン酸、ポリカルボン酸アンモニウム、ポリカルボン酸ナトリウム等であり得る。カルボキシ基含有高分子分散剤の具体例には、ポリアクリル酸、ポリアクリル酸アンモニウム、ポリアクリル酸ナトリウム、ポリアクリル酸アンモニウム共重合体、ポリマレイン酸、ポリマレイン酸アンモニウム、ポリマレイン酸ナトリウム等が含まれる。
【０２４０】
アミン系分散剤やカルボキシ基含有高分子分散剤は、溶剤成分に溶解させて用いてもよいし、市販されているものでもよい。
【０２４１】
分散剤の含有量は、分散剤の種類等にもよるが、微粒子に対して０．２質量％以上であることが好ましい。分散剤の含有量が、微粒子に対して０．２質量％以上であれば、微粒子の分散性を十分に高めることができる。
【０２４２】
本発明の光学フィルムが界面活性剤等をさらに含有する場合、分散剤の微粒子表面への吸着が、界面活性剤よりも生じにくく、微粒子同士を容易に再凝集させることがある。分散剤は高価であるため、その含有量はできるだけ少ないことが好ましい。一方、分散剤の含有量が少なすぎると、微粒子の濡れ不良や、分散安定性の低下を生じやすい。そのため、本発明の光学フィルムが界面活性剤等をさらに含有する場合の分散剤の含有量は、微粒子１０．００質量部に対して０．０５〜１０．００質量部程度とし得る。
【０２４３】
（位相差制御剤）
液晶表示装置等の画像表示装置の表示品質の向上のため、光学フィルム中に位相差制御剤を添加するか、配向膜を形成して液晶層を設け、偏光板保護フィルムと液晶層由来の位相差を複合化することにより、光学フィルムに光学補償能を付与することができる。
【０２４４】
位相差制御剤としては、欧州特許９１１，６５６Ａ２号明細書に記載されているような、２以上の芳香族環を有する芳香族化合物、特開２００６−２０２５号公報に記載の棒状化合物等が挙げられる。また、二種類以上の芳香族化合物を併用してもよい。この芳香族化合物の芳香族環には、芳香族炭化水素環に加えて、芳香族性ヘテロ環を含む芳香族性ヘテロ環であることが好ましい。芳香族性ヘテロ環は、一般に不飽和ヘテロ環である。なかでも、特開２００６−２０２６号公報に記載の１，３，５−トリアジン環が好ましい。
【０２４５】
なお、一般式（１）で表される化合物は、位相差制御剤としても機能する。このため、一般式（１）で表わされる化合物は、ひとつの化合物で位相差制御と湿度変動に対する光学値変動抑制の両方の機能を付与することができる。
【０２４６】
これらの位相差制御剤の添加量は、フィルム基材として使用する樹脂１００質量％に対して、０．５〜２０質量％の範囲内であることが好ましく、１〜１０質量％の範囲内であることがより好ましい。
【０２４７】
（その他の添加剤）
本発明の光学フィルムは、成形加工時の熱分解や熱による着色を防止するための酸化防止剤、帯電防止剤や難燃剤等をさらに含有していていもよい。
【０２４８】
リン系難燃剤としては、赤リン、トリアリールリン酸エステル、ジアリールリン酸エステル、モノアリールリン酸エステル、アリールホスホン酸化合物、アリールホスフィンオキシド化合物、縮合アリールリン酸エステル、ハロゲン化アルキルリン酸エステル、含ハロゲン縮合リン酸エステル、含ハロゲン縮合ホスホン酸エステル、含ハロゲン亜リン酸エステル等から選ばれる一種以上を挙げることができる。その具体例には、トリフェニルホスフェート、９，１０−ジヒドロ−９−オキサ−１０−ホスファフェナンスレン−１０−オキシド、フェニルホスホン酸、トリス（β−クロロエチル）ホスフェート、トリス（ジクロロプロピル）ホスフェート、トリス（トリブロモネオペンチル）ホスフェート等が含まれる。
【０２４９】
＜光学フィルムの物性＞
本発明の光学フィルムは、有機ＥＬ表示装置や液晶表示装置等の画像表示装置の光学フィルムとして用いることができる。本発明の光学フィルムは、偏光板保護フィルム、位相差フィルム、光学補償フィルムに好ましく用いられる。位相差フィルム又は光学補償フィルムが偏光板保護フィルムを兼ねていることが好ましい。
【０２５０】
λ／４位相差フィルムは、所定の光の波長（通常、可視光領域）の約１／４の面内方向のリターデーション値Ｒｏを有する。λ／４位相差フィルムは、本発明の光学フィルムの単層からなることが好ましい。λ／４位相差フィルムは、好ましくは有機ＥＬ表示装置の反射防止フィルムに用いられる。
【０２５１】
本発明の光学フィルムのリターデーション値は、特に制限なく、該光学フィルムを使用する用途に応じて適宜調整できる。
【０２５２】
本発明の光学フィルムを垂直配向型液晶表示装置用の光学補償フィルムとして用いる場合は、リターデーション値が下記条件１及び条件２を満たすことが、視野角拡大に好適である。
【０２５３】
条件１：温度２３℃、相対湿度５５％の環境下で、光波長５９０ｎｍで測定した下式（ｉ）で表される面内リターデーション値Ｒｏ（５９０）が３０〜１５０ｎｍの範囲内である。
【０２５４】
式（ｉ）：Ｒｏ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ
条件２：温度２３℃、相対湿度５５％の環境下で、光波長５９０ｎｍで測定した下式（ii）で表される厚さ方向のリターデーション値Ｒｔ（５９０）が、７０〜３００ｎｍの範囲内である。
【０２５５】
式（ii）：Ｒｔ＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄ
（ここで、フィルムの面内における遅相軸方向の屈折率をｎｘ、フィルムの面内における遅相軸に直交する方向の屈折率をｎｙ、フィルムの厚さ方向の屈折率をｎｚ、ｄはフィルムの厚さ（ｎｍ）をそれぞれ表す。）
所望のリターデーションは、フィルム作製時の延伸倍率やリターデーション上昇剤の添加量、セルロースエステルのアシル基の種類及び置換度、フィルムの膜厚などを制御することで調整することができる。
【０２５６】
本発明の光学フィルムを有機ＥＬ表示装置の反射防止等のλ／４位相差フィルムとして用いる場合は、温度２３℃・相対湿度５５％の条件下で、光波長４５０ｎｍ、５５０ｎｍ及び６５０ｎｍで測定された面内方向のリターデーション値Ｒｏを、それぞれＲｏ（４５０）、Ｒｏ（５５０）及びＲｏ（６５０）としたとき、当該Ｒｏ（４５０）、Ｒｏ（５５０）及びＲｏ（６５０）が、下記式（ａ１）〜（ａ３）を満たすことが好ましい。
【０２５７】
（ａ１）  １１０ｎｍ≦Ｒｏ（５５０）≦１７０ｎｍ
（ａ２）  ０．７２≦Ｒｏ（４５０）／Ｒｏ（５５０）≦０．９６
（ａ３）  ０．８３≦Ｒｏ（５５０）／Ｒｏ（６５０）≦０．９７
Ｒｏ（５５０）が、式（ａ１）を満たす光学フィルムは、λ／４位相差フィルムとして好ましく機能し得る。なかでも、１２０ｎｍ≦Ｒｏ（５５０）≦１６０ｎｍを満たすことがより好ましく、１３０ｎｍ≦Ｒｏ（５５０）≦１５０ｎｍを満たすことがさらに好ましい。
【０２５８】
Ｒｏ（４５０）、Ｒｏ（５５０）及びＲｏ（６５０）が、上記式（ａ２）及び（ａ３）を満たす光学フィルムは、逆波長分散性に優れ、λ／４位相差フィルムとしてより好ましく機能し得る。また、光学フィルムを用いた画像表示装置を黒表示させたときの光漏れ等も低減し得る。具体的には、式（ａ２）を満たすと青色の再現性が高く、式（ａ３）を満たすと赤色の再現性が高い。なかでも、０．７９≦Ｒｏ（４５０）／Ｒｏ（５５０）≦０．８９を満たすことがより好ましく、０．８４≦Ｒｏ（５５０）／Ｒｏ（６５０）≦０．９３を満たすことがより好ましい。
【０２５９】
また、本発明の光学フィルムは、２３℃・５５％ＲＨの条件下で、光波長５５０ｎｍで測定された厚さ方向のリターデーション値ＲｔをＲｔ（５５０）としたとき、当該Ｒｔ（５５０）が、５０ｎｍ≦Ｒｔ（５５０）≦２５０ｎｍを満たすことが好ましい。
【０２６０】
所望のリターデーションは、フィルム作製時の延伸倍率やリターデーション上昇剤の添加量、セルロースエステルのアシル基の種類及び置換度、フィルムの膜厚などを制御することで調整することができる。
【０２６１】
本発明の光学フィルムは、下記式（ａ４）で定義されるＮｚが、下記式（ａ５）を満たすことが好ましい。
【０２６２】
（ａ４）Ｎｚ＝Ｒｔ（５５０）／Ｒｏ（５５０）＋０．５
（ａ５）０≦Ｎｚ≦１
Ｎｚが式（ａ５）を満たせば、厚さ方向のリターデーション値Ｒｔが、面内方向のリターデーション値Ｒｏよりも相対的に小さいため、本発明の光学フィルムを具備する画像表示装置を斜め方向から観察したときの色味の変化を低減し得る。
【０２６３】
光学フィルムの面内の遅相軸とフィルムの搬送方向とがなす角度（配向角という）は、４０〜５０°の範囲内にあることが好ましい。配向角が上記範囲内にあると、ロール体から巻き出され、長尺方向（搬送方向）に対して斜め方向に遅相軸を有する光学フィルムと、ロール体から巻き出され、長尺方向（搬送方向）に平行な吸収軸を有する偏光フィルムとを、互いに長尺方向同士が重なるように、ロール・トゥ・ロール（roll to roll）で貼り合わせることで、円偏光板を容易に製造することができる。フィルムのカットロスも少なく、生産上有利である。光学フィルムの配向角の測定は、自動複屈折計ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ（王子計測機器）により測定することができる。
【０２６４】
上記Ｒｏ及びＲｔは、自動複屈折率計、例えばＡｘｏｍｅｔｒｉｃ社製のＡｘｏＳｃａｎ、王子計測機器株式会社製のＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨを用いて測定することができる。ＡｘｏＳｃａｎを用いる場合、具体的には、以下の方法で測定することができる。
【０２６５】
１）光学フィルムを、２３℃・５５％ＲＨで調湿する。調湿後の光学フィルムの、波長４５０ｎｍ、５５０ｎｍ、５９０ｎｍ及び６５０ｎｍのそれぞれにおける平均屈折率を、アッベ屈折計と分光光源を用いて測定する。また、光学フィルムの膜厚ｄ（ｎｍ）を、膜厚計を用いて測定する。
【０２６６】
２）調湿後の光学フィルムに、フィルム表面の法線と平行に、光波長４５０ｎｍ、５５０ｎｍ、５９０ｎｍ又は６５０ｎｍの光をそれぞれ入射させたときの面内方向のリターデーション値Ｒｏ（４５０）、Ｒｏ（５５０）及びＲｏ（６５０）を、ＡｘｏＳｃａｎにて測定する。測定は、２３℃・５５％ＲＨ条件下で行う。
【０２６７】
３）ＡｘｏＳｃａｎにより、光学フィルムの面内の遅相軸を確認する。確認された遅相軸を傾斜軸（回転軸）として、光学フィルムの表面の法線に対してφの角度（入射角（φ））から光波長４５０ｎｍ、５５０ｎｍ、５９０ｎｍ及び６５０ｎｍの光をそれぞれ入射させたときのリターデーション値Ｒ（φ）を測定する。Ｒ（φ）の測定は、φが０〜５０°の範囲で、１０°毎に６点行うことができる。測定は、２３℃・５５％ＲＨ条件下で行う。
【０２６８】
４）上記２）で測定されたＲｏ（４５０）、Ｒｏ（５５０）、Ｒｏ（５９０）及びＲｏ（６５０）と、上記３）で各光波長４５０ｎｍ、５５０ｎｍ、５９０ｎｍ又は６５０ｎｍにて測定されたＲ（φ）と、上記１）で測定された平均屈折率及び膜厚ｄとから、ＡｘｏＳｃａｎにより、ｎｘ、ｎｙ及びｎｚを算出する。そして、上記式（ii）に基づいて、各光波長４５０ｎｍ、５５０ｎｍ、５９０ｎｍ及び６５０ｎｍでの厚さ方向のリターデーション値Ｒｔ（４５０）、Ｒｔ（５５０）、Ｒｔ（５９０）及びＲｔ（６５０）を、それぞれ算出する。
【０２６９】
光学フィルムの膜厚は、表示装置の薄型化、生産性の観点から、１０〜１００μｍの範囲内であることが好ましい。膜厚が１０μｍ以上であれば、一定以上のフィルム強度や位相差を発現させることができる。膜厚が１００μｍ以下であれば、熱や湿度による位相差の変動を抑えることができる。好ましくは、２０〜７０μｍの範囲内である。
【０２７０】
本発明の光学フィルムの膜厚ムラは、厚さ方向又は幅方向のいずれも０〜５μｍの範囲内が好ましく、より好ましくは０〜３μｍの範囲内であり、さらに好ましくは０〜２μｍの範囲内である。
【０２７１】
光学フィルムのヘイズ（全ヘイズ）は、１％未満であることが好ましく、０．５％以下であることがより好ましく、０．２％以下であることがより好ましい。ヘイズが１％未満であれば、フィルムの透明性の低下が無く、光学フィルムとして十分に機能する。
【０２７２】
光学フィルムのヘイズ（全ヘイズ）は、ＪＩＳ  Ｋ−７１３６に準拠して、ヘイズメーターＮＤＨ−２０００（日本電色工業株式会社製）にて測定することができる。ヘイズメーターの光源は、５Ｖ９Ｗのハロゲン球とし、受光部は、シリコンフォトセル（比視感度フィルター付き）とし得る。ヘイズの測定は、２３℃・５５％ＲＨの条件下にて行うことができる。
【０２７３】
本発明の光学フィルムの可視光透過率は、９０％以上であることが好ましく、９３％以上であることがより好ましい。
【０２７４】
本発明の光学フィルムは、ＪＩＳ−Ｋ７１２７−１９９９に準拠して測定された、少なくとも一方向の破断伸度が、好ましくは１０％以上であり、より好ましくは２０％以上であり、さらに好ましくは３０％以上である。
【０２７５】
＜光学フィルムの製造方法＞
本発明の光学フィルムは、溶液流延法又は溶融流延法で製造され得る。光学フィルムの着色や異物欠点、ダイライン等の光学欠点を抑制する観点では、溶液流延法が好ましく、光学フィルムに溶媒が残留するのを抑制する観点では、溶融流延法が好ましい。
【０２７６】
Ａ）溶液流延法
セルロースエステルを含む光学フィルムを溶液流延法で製造する方法は、Ａ１）少なくともセルロースエステルと、必要に応じて他の添加剤とを溶剤に溶解させてドープを調製する工程、Ａ２）ドープを無端の金属支持体上に流延する工程、Ａ３）流延したドープから溶媒を蒸発させてウェブとする工程、Ａ４）ウェブを金属支持体から剥離する工程、Ａ５）ウェブを乾燥後、延伸してフィルムを得る工程を含む。
【０２７７】
Ａ１）ドープ調製工程
溶解釜において、セルロースエステルと、必要に応じて他の添加剤とを溶剤に溶解させてドープを調製する。
【０２７８】
溶剤は、セルロースエステル、その他の添加剤等を溶解するのであれば、制限なく用いることができる。例えば、塩素系有機溶媒としては、メチレンクロライド、非塩素系有機溶媒としては、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸アミル、アセトン、テトラヒドロフラン、１，３−ジオキソラン、１，４−ジオキサン、シクロヘキサノン、ギ酸エチル、２，２，２−トリフルオロエタノール、２，２，３，３−ヘキサフルオロ−１−プロパノール、１，３−ジフルオロ−２−プロパノール、１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロ−２−メチル−２−プロパノール、１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロ−２−プロパノール、２，２，３，３，３−ペンタフルオロ−１−プロパノール、ニトロエタン等を挙げることができ、好ましくはメチレンクロライド、酢酸メチル、酢酸エチル、アセトン等を用いることができる。
【０２７９】
ドープは、１〜４０質量％の炭素原子数１〜４の直鎖又は分岐鎖状の脂肪族アルコールをさらに含有することが好ましい。ドープ中のアルコールの比率が高いと、ウェブがゲル化し、金属支持体からの剥離が容易になる。一方、ドープ中のアルコールの比率が少ないと、非塩素系有機溶媒系でのセルロースアセテートの溶解を促進し得る。
【０２８０】
炭素原子数１〜４の直鎖又は分岐鎖状の脂肪族アルコールの例には、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉｓｏ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ｓｅｃ−ブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノール等が含まれる。なかでも、ドープの安定性が高く、沸点が比較的低く、乾燥性が高いこと等から、エタノールが好ましい。
【０２８１】
なかでも、ドープは、溶剤のメチレンクロライドと炭素数１〜４の直鎖又は分岐鎖状の脂肪族アルコールとを含有することが好ましい。
【０２８２】
ドープにおけるセルロースエステルの濃度は、乾燥負荷を低減するためには高い方が好ましいが、セルロースエステルの濃度が高すぎるとろ過しにくい。そのため、ドープにおけるセルロースエステルの濃度は、好ましくは１０〜３５質量％の範囲内であり、より好ましくは１５〜２５質量％の範囲内である。
【０２８３】
セルロースエステルを溶剤に溶解させる方法は、例えば、加熱及び加圧下で溶解させる方法であり得る。加熱温度は、セルロースエステルの溶解性を高める観点では、高い方が好ましい。温度が高すぎると圧力を高める必要があり、生産性が低下するため、加熱温度は、４５〜１２０℃の範囲内であることが好ましい。
【０２８４】
添加剤は、ドープにバッチ添加してもよいし、添加剤溶解液を別途用意してインライン添加してもよい。特に、微粒子は、ろ過材への負荷を減らすために、全部又は一部を、インライン添加することが好ましい。
【０２８５】
添加剤溶解液をインライン添加する場合は、ドープと混合しやすくするため、少量のセルロースエステルを溶解するのが好ましい。好ましい熱可塑性樹脂の含有量は、溶剤１００質量部に対して１〜１０質量部の範囲内とし、より好ましくは３〜５質量部の範囲内とし得る。
【０２８６】
インライン添加及び混合には、例えばスタチックミキサー（東レエンジニアリング製）、ＳＷＪ（東レ静止型管内混合器  Ｈｉ−Ｍｉｘｅｒ）等のインラインミキサー等が好ましく用いられる。
【０２８７】
得られたドープには、例えば原料であるセルロースエステルに含まれる不純物等の不溶物が含まれることがある。このような不溶物は、得られたフィルムにおいて輝点異物となり得る。不溶物を除去するため、得られたドープをさらにろ過することが好ましい。
【０２８８】
ドープのろ過は、得られたフィルムにおける輝点異物の数が一定以下となるように行うことが好ましい。具体的には、径が０．０１ｍｍ以上である輝点異物の数が、２００個／ｃｍ２以下、好ましくは１００個／ｃｍ２以下、より好ましくは５０個／ｃｍ２以下、さらに好ましくは３０個／ｃｍ２以下、特に好ましくは１０個／ｃｍ２以下となるようにろ過する。
【０２８９】
径が０．０１ｍｍ以下である輝点異物も２００個／ｃｍ２以下であることが好ましく、１００個／ｃｍ２以下であることがより好ましく、５０個／ｃｍ２以下であることがさらに好ましく、３０個／ｃｍ２以下であることがさらに好ましく、１０個／ｃｍ２以下であることが特に好ましく、皆無であることが最も好ましい。
【０２９０】
フィルムの輝点異物の数は、以下の手順で測定することができる。
【０２９１】
１）２枚の偏光板をクロスニコル状態に配置し、それらの間に得られたフィルムを配置する。
【０２９２】
２）一方の偏光板の側から光を当てて、他方の偏光板の側から観察したときに、光が漏れてみえる点を異物として数をカウントする。
【０２９３】
Ａ２）流延工程
ドープを、加圧ダイのスリットから無端状の金属支持体上に流延させる。
【０２９４】
金属支持体としては、ステンレススティールベルト又は鋳物で表面がメッキ仕上げされたドラム等が好ましく用いられる。金属支持体の表面は、鏡面仕上げされていることが好ましい。
【０２９５】
キャストの幅は１〜４ｍの範囲内とすることができる。流延工程の金属支持体の表面温度は−５０℃以上、溶剤が沸騰して発泡しない温度以下に設定される。温度が高い方がウェブの乾燥速度が速くできるので好ましいが、ウェブの発泡、平面性の低下を防ぐことができる温度の範囲内とする。
【０２９６】
金属支持体の表面温度は、好ましくは０〜１００℃の範囲内であり、より好ましくは５〜３０℃の範囲内である。また、金属支持体を冷却して、ウェブをゲル化させて残留溶媒を多く含んだ状態でドラムから剥離できるようにしてもよい。
【０２９７】
金属支持体の温度の調整方法は、特に制限されないが、温風又は冷風を吹きかける方法や、温水を金属支持体の裏側に接触させる方法がある。温水を用いる方が熱の伝達が効率的に行われるため、金属支持体の温度が一定になるまでの時間が短く好ましい。
【０２９８】
温風を用いる場合は溶媒の蒸発潜熱によるウェブの温度低下を考慮して、溶媒の沸点以上の温風を使用しつつ、発泡も防ぎながら目的の温度よりも高い温度の風を使う場合がある。特に、流延から剥離するまでの間で金属支持体の温度及び乾燥風の温度を変更し、効率的に乾燥を行うことが好ましい。
【０２９９】
Ａ３）溶媒蒸発工程
ウェブ（ドープを金属支持体上に流延して得られたドープ膜）を金属支持体上で加熱し、溶媒を蒸発させる。ウェブの乾燥方法や乾燥条件は、前述のＡ２）流延工程と同様とし得る。
【０３００】
Ａ４）剥離工程
金属支持体上で溶媒を蒸発させたウェブを、金属支持体上の剥離位置で剥離する。
【０３０１】
金属支持体上の剥離位置で剥離する際のウェブの残留溶媒量は、得られたフィルムの平面性を高めるためには、１０〜１５０質量％の範囲内とすることが好ましく、２０〜４０質量％又は６０〜１３０質量％の範囲内とすることがより好ましく、２０〜３０質量％又は７０〜１２０質量％の範囲内とすることがさらに好ましい。
【０３０２】
ウェブの残留溶媒量は、下記式で定義される。
【０３０３】
残留溶媒量（％）＝（ウェブの加熱処理前質量−ウェブの加熱処理後質量）／（ウェブの加熱処理後質量）×１００
なお、残留溶媒量を測定する際の加熱処理は、１１５℃で１時間の加熱処理を意味する。
【０３０４】
Ａ５）乾燥及び延伸工程
金属支持体から剥離して得られたウェブを、必要に応じて乾燥させた後、延伸する。ウェブの乾燥は、ウェブを、上下に配置した多数のローラーにより搬送しながら乾燥させてもよいし、ウェブの両端部をクリップで固定して搬送しながら乾燥させてもよい。
【０３０５】
ウェブの乾燥方法は、熱風、赤外線、加熱ローラー、マイクロ波等で乾燥する方法であってよく、簡便であることから熱風で乾燥する方法が好ましい。
【０３０６】
ウェブの延伸により、所望の位相差を有する光学フィルムを得る。光学補償フィルムの位相差は、ウェブに対する張力の大きさを調整することで制御することができる。
【０３０７】
ウェブの延伸は、ウェブの幅方向（ＴＤ方向）、搬送方向（ＭＤ方向）又は斜め方向のいずれかに行う。
【０３０８】
本発明の光学フィルムを有機ＥＬ表示装置の反射防止等のλ／４位相差フィルムとして用いる場合には、少なくとも斜め方向、具体的にはウェブの搬送方向に対して４５°方向に延伸することが好ましい。
【０３０９】
斜め方向への延伸によって、ロール体から巻き出され、長尺方向に吸収軸を有する偏光フィルムと、ロール体から巻き出され、長尺方向に対して４５°の角度に遅相軸を有する光学フィルムとを、長尺方向が互いに重なり合うようにロール・トゥ・ロールで貼り合わせるだけで、円偏光板を容易に製造できる。フィルムのカットロスも少なくすることができ、生産上有利である。
【０３１０】
ウェブの延伸は、一軸延伸であっても、二軸延伸であってもよい。二軸延伸は、逐次二軸延伸であっても同時二軸延伸であってもよい。
【０３１１】
延伸倍率は、得られた光学フィルムの膜厚や、求められる位相差にもよるが、例えば、互いに直交する二軸方向の延伸倍率は、それぞれ最終的には流延方向に０．８〜１．５倍の範囲内、幅方向に１．１〜２．５倍の範囲内であることが好ましく、流延方向に０．８〜１．０倍の範囲内、幅方向に１．２〜２．０倍に範囲内であることがより好ましい。斜め方向の延伸倍率は、１．１〜５．０倍の範囲内であることが好ましく、１．２〜２．５倍の範囲内であることがより好ましい。
【０３１２】
なお、延伸倍率は、延伸前後の延伸方向でのフィルムの長さの比の値Ｗ／Ｗ０（Ｗは延伸前、Ｗ０は延伸後の長さを表す）で表される。延伸倍率１．０は、延伸しないことを表す。
【０３１３】
延伸温度は、好ましくは１２０〜２３０℃の範囲内とし、より好ましくは１３０〜２２０℃の範囲内とし、さらに好ましくは１４０℃より大きく２１０℃以下の範囲内とし得る。
【０３１４】
ウェブの延伸方法は、特に制限されず、複数のローラーに周速差をつけ、その周速差を利用して流延方向（搬送方向）に延伸する方法（ローラー延伸法）、ウェブの両端をクリップやピンで固定し、クリップやピンの間隔を流延方向に向かって広げて流延方向に延伸したり、幅方向に広げて幅方向に延伸したり、流延方向と幅方向の両方に広げて流延方向と幅方向の両方に延伸する方法（テンター延伸法）等であってよい。
【０３１５】
斜め方向に延伸するためには、幅方向の左右を把持する把持手段によってウェブの把持長（把持開始から把持終了までの距離）を左右で独立に制御できるテンターを用いてもよい。これらの延伸方法は、組み合わせてもよい。
【０３１６】
斜め方向に延伸する機構を有する延伸装置の例には、特開２００３−３４０９１６号公報の実施例１に記載の延伸装置、特開２００５−２８４０２４号公報の図１に記載の延伸装置、特開２００７−３０４６６号公報に記載の延伸装置、特開２００７−９４００７号公報の実施例１に使用された延伸装置等が含まれる。
【０３１７】
延伸開始時のウェブの残留溶媒は、好ましくは２０質量％以下とし、より好ましくは１５質量％以下とし得る。
【０３１８】
延伸後のフィルムを、必要に応じて乾燥させた後、巻き取る。フィルムの乾燥は、前述と同様に、フィルムを、上下に配置した多数のローラーにより搬送しながら乾燥させてもよいし（ローラー方式）、ウェブの両端部をクリップで固定して搬送しながら乾燥させてもよい（テンター方式）。
【０３１９】
Ｂ）溶融流延法
本発明の光学フィルムを溶融流延法で製造する方法は、Ｂ１）溶融ペレットを製造する工程（ペレット化工程）、Ｂ２）溶融ペレットを溶融混練した後、押し出す工程（溶融押出し工程）、Ｂ３）溶融樹脂を冷却固化してウェブを得る工程（冷却固化工程）、Ｂ４）ウェブを延伸する工程（延伸工程）、を含む。
【０３２０】
Ｂ１）ペレット化工程
光学フィルムの主成分である熱可塑性樹脂を含む樹脂組成物は、あらかじめ混練してペレット化しておくことが好ましい。ペレット化は、公知の方法で行うことができ、例えば前述の熱可塑性樹脂と、必要に応じて可塑剤等の添加剤とを含む樹脂組成物を、押出機にて溶融混錬した後、ダイからストランド状に押し出す。ストランド状に押し出された溶融樹脂を、水冷又は空冷した後、カッティングしてペレットを得ることができる。
【０３２１】
ペレットの原材料は、分解を防止するために、押出機に供給する前に乾燥しておくことが好ましい。
【０３２２】
酸化防止剤と熱可塑性樹脂の混合は、固体同士で混合してもよいし、溶剤に溶解させた酸化防止剤を熱可塑性樹脂に含浸させて混合してもよいし、酸化防止剤を熱可塑性樹脂に噴霧して混合してもよい。また、押出機のフィーダー部分やダイの出口部分の周辺の雰囲気は、ペレットの原材料の劣化を防止するため等から、除湿した空気又は窒素ガス等の雰囲気とすることが好ましい。
【０３２３】
押出機では、樹脂の劣化（分子量の低下、着色、ゲルの生成等）が生じないように、低いせん断力又は低い温度で混練することが好ましい。例えば、二軸押出機で混練する場合、深溝タイプのスクリューを用いて、二つのスクリューの回転方向を同方向にすることが好ましい。均一に混錬するためには、二つのスクリュー形状が互いに噛み合うようにすることが好ましい。
【０３２４】
熱可塑性樹脂を含む樹脂組成物をペレット化せずに、溶融混練していない熱可塑性樹脂をそのまま原料として押出機にて溶融混練して光学フィルムを製造してもよい。
【０３２５】
Ｂ２）溶融押出し工程
得られた溶融ペレットと、必要に応じて他の添加剤とを、ホッパーから押出機に供給する。ペレットの供給は、ペレットの酸化分解を防止するため等から、真空下、減圧下又は不活性ガス雰囲気下で行うことが好ましい。そして、押出機にて、フィルム材料である溶融ペレット、必要に応じて他の添加剤を溶融混練する。
【０３２６】
押出機内のフィルム材料の溶融温度は、フィルム材料の種類にもよるが、フィルムのガラス転移温度をＴｇ（℃）としたときに、好ましくはＴｇ〜（Ｔｇ＋１００）℃の範囲内であり、より好ましくは（Ｔｇ＋１０）〜（Ｔｇ＋９０）℃の範囲内である。
【０３２７】
さらに、可塑剤や微粒子等の添加剤を、押出機の途中で添加する場合、これらの成分を均一に混合するために、押出機の下流側に、スタチックミキサー等の混合装置をさらに配置してもよい。
【０３２８】
押出機から押し出された溶融樹脂を、必要に応じてリーフディスクフィルター等でろ過した後、スタチックミキサー等でさらに混合して、ダイからフィルム状に押し出す。
【０３２９】
押出し流量は、ギヤポンプを用いて安定化させることが好ましい。また、異物の除去に用いるリーフディスクフィルターは、ステンレス繊維焼結フィルターであることが好ましい。ステンレス繊維焼結フィルターは、ステンレス繊維体を複雑に絡み合わせたうえで圧縮し、接触箇所を焼結して一体化したもので、その繊維の太さと圧縮量により密度を変え、ろ過精度を調整できる。
【０３３０】
ダイの出口部分における樹脂の溶融温度は、２００〜３００℃程度の範囲内とし得る。
【０３３１】
Ｂ３）冷却固化工程
ダイから押し出された樹脂を、冷却ローラーと弾性タッチローラーとでニップして、フィルム状の溶融樹脂を所定の厚さにする。そして、フィルム状の溶融樹脂を、複数の冷却ローラーで段階的に冷却して固化させる。
【０３３２】
冷却ローラーの表面温度は、得られたフィルムのガラス転移温度をＴｇ（℃）としたとき、Ｔｇ（℃）以下とし得る。複数の冷却ローラーの表面温度は異なっていてもよい。
【０３３３】
弾性タッチローラーは挟圧回転体ともいう。弾性タッチローラーは、市販のものを用いることもできる。弾性タッチローラー側のフィルム表面温度は、フィルムのＴｇ〜（Ｔｇ＋１１０）℃の範囲とし得る。
【０３３４】
冷却ローラーから固化したフィルム状の溶融樹脂を剥離ローラー等で剥離してウェブを得る。フィルム状の溶融樹脂を剥離する際は、得られたウェブの変形を防止するために、張力を調整することが好ましい。
【０３３５】
Ｂ４）延伸工程
得られたウェブを、延伸機にて延伸してフィルムを得る。延伸は、ウェブの幅方向、搬送方向又は斜め方向のいずれかに行う。
【０３３６】
本発明の光学フィルムを有機ＥＬ表示装置の反射防止等のλ／４位相差フィルムとして用いる場合には、少なくとも斜め方向、具体的にはウェブの搬送方向に対して４５°方向に延伸することが好ましい。
【０３３７】
ウェブの延伸方法、延伸倍率及び延伸温度は、前述と同様とし得る。
【０３３８】
＜偏光板＞
本発明の光学フィルムは、偏光板、それを用いた液晶表示装置に使用することができる。本発明の光学フィルムは、偏光板保護フィルムの機能を兼ねたフィルムとされることが好ましく、その場合、偏光板保護フィルムと別に位相差を有する光学フィルムを別途用意する必要がないため、液晶表示装置の厚さを薄く製造プロセスを簡略化することができる。
【０３３９】
液晶表示装置は、液晶セルの両方の面に、偏光板が粘着層を介して貼り合わされたものであることが好ましい。
【０３４０】
偏光板は一般的な方法で作製することができる。本発明の光学フィルムの偏光子側をアルカリケン化処理し、ヨウ素溶液中に浸漬延伸して作製した偏光子の少なくとも一方の面に、完全ケン化型ポリビニルアルコール水溶液を用いて貼り合わせることが好ましい。もう一方の面には他の偏光板保護フィルムを貼合することができる。本発明の光学フィルムは液晶表示装置とされた際に、偏光子の液晶セル側に設けられることが好ましく、偏光子の外側のフィルムは従来の偏光板保護フィルムを用いることができる。
【０３４１】
例えば、従来の偏光板保護フィルムとしては、市販のセルロースエステルフィルム（例えば、コニカミノルタタック  ＫＣ８ＵＸ、ＫＣ５ＵＸ、ＫＣ８ＵＣＲ３、ＫＣ８ＵＣＲ４、ＫＣ８ＵＣＲ５、ＫＣ８ＵＹ、ＫＣ６ＵＹ、ＫＣ４ＵＹ、ＫＣ４ＵＥ、ＫＣ８ＵＥ、ＫＣ８ＵＹ−ＨＡ、ＫＣ８ＵＸ−ＲＨＡ、ＫＣ８ＵＸＷ−ＲＨＡ−Ｃ、ＫＣ８ＵＸＷ−ＲＨＡ−ＮＣ、ＫＣ４ＵＸＷ−ＲＨＡ−ＮＣ、以上コニカミノルタ（株）製）が好ましく用いられる。
【０３４２】
〈接着剤〉
図１は液晶表示装置の構成の一例を示す模式図である。図１に示す形態において、位相差フィルム１０５と偏光子１０４とは活性エネルギー線硬化性接着剤１０３Ｂを介して接着されている。活性エネルギー線硬化性接着剤を用いることが透湿性を効果的に制御できることから好ましい。ただし、活性エネルギー線硬化性接着剤のみならず、ウレタン系粘着剤、エポキシ系粘着剤、水性高分子−イソシアネート系粘着剤、熱硬化型アクリル粘着剤等の硬化型粘着剤、湿気硬化ウレタン粘着剤、ポリエーテルメタクリレート型、エステル系メタクリレート型、酸化型ポリエーテルメタクリレート等の嫌気性粘着剤、シアノアクリレート系の瞬間粘着剤、アクリレートとペルオキシド系の２液型瞬間粘着剤などを用いることができる。上記粘着剤としては１液型であってもよいし、使用前に２液以上を混合して使用する２液型であってもよい。接着剤は、有機溶剤を媒体とする溶剤系であってもよいし、水を主成分とする媒体であるエマルジョン型、コロイド分散液型、水溶液型等の水系であってもよいし、無溶剤型であってもよい。接着剤液の濃度は、接着後の膜厚、塗布方法、塗布条件等により適宜決定されれば良く、通常は０．１〜５０質量％である。
【０３４３】
（活性エネルギー線硬化性接着剤）
活性エネルギー線硬化性接着剤の好ましい例としては、例えば、特開２０１１−０２８２３４号公報に開示されているような、（α）カチオン重合性化合物、（β）光カチオン重合開始剤、（γ）３８０ｎｍより長い光波長の光に極大吸収を示す光増感剤、及び（δ）ナフタレン系光増感助剤の各成分を含有する活性エネルギー線硬化性接着剤組成物が挙げられる。ただし、これ以外の活性エネルギー線硬化性接着剤組成物が用いられても、もちろんよい。
【０３４４】
偏光板は、活性エネルギー線硬化性接着剤を用いて、偏光子の一方の面に、本発明の光学フィルムを貼り合せることにより製造することができる。位相差フィルムの両面で接着性が異なる場合は、接着性の良い方に貼り合わせるのが好ましい。
【０３４５】
以下、活性エネルギー線硬化性接着剤を用いた偏光板の製造方法の一例を説明する。
【０３４６】
偏光板は、偏光子と位相差フィルムとの接着面のうち、少なくとも一方に、下記の活性エネルギー線硬化性接着剤を塗布して接着剤層を形成する接着剤塗布工程と、当該接着剤層を介して偏光子と位相差フィルムとを接着し、貼り合せる貼合工程と、当該接着剤層を介して偏光子と位相差フィルムとが接着された状態で接着剤層を硬化させる硬化工程とを含む製造方法によって製造することができる。また、位相差フィルムの偏光子を接着する面を易接着処理する前処理工程があってもよい。
【０３４７】
（前処理工程）
前処理工程では、偏光子と接着する位相差フィルムの表面が易接着処理される。偏光子の両面にそれぞれ位相差フィルム及び保護フィルムが接着される場合は、位相差フィルム及び保護フィルムのそれぞれに対し易接着処理が行われる。次の接着剤塗布工程では、易接着処理された表面が偏光子との貼合面として扱われるので、位相差フィルムの両表面のうち、活性エネルギー線硬化性接着剤と貼合する面に、易接着処理を施す。易接着処理としては、コロナ処理、プラズマ処理等が挙げられる。
【０３４８】
（接着剤塗布工程）
接着剤塗布工程では、偏光子と位相差フィルムとの接着面のうち少なくとも一方に、上記活性エネルギー線硬化性接着剤が塗布される。偏光子又は位相差フィルムの表面に直接、活性エネルギー線硬化性接着剤を塗布する場合、その塗布方法に特別な限定はない。例えば、ドクターブレード、ワイヤーバー、ダイコーター、カンマコーター、グラビアコーター等、種々の湿式塗布方式が利用できる。また、偏光子と位相差フィルムの間に、活性エネルギー線硬化性接着剤を流延させたのち、ローラー等で加圧して均一に押し広げる方法も利用できる。
【０３４９】
（貼合工程）
上記の方法により活性エネルギー線硬化性接着剤を塗布した後は、貼合工程で処理される。この貼合工程では、例えば、先の塗布工程で偏光子の表面に活性エネルギー線硬化性接着剤を塗布した場合、そこに位相差フィルムが重ね合わされる。先の塗布工程で位相差フィルムの表面に活性エネルギー線硬化性接着剤を塗布した場合は、そこに偏光子が重ね合わされる。また、偏光子と位相差フィルムの間に活性エネルギー線硬化性接着剤を流延させた場合は、その状態で偏光子と位相差フィルムとが重ね合わされる。偏光子の両面に位相差フィルム及び保護フィルムを接着する場合であって、両面とも活性エネルギー線硬化性接着剤用いる場合は、偏光子の両面にそれぞれ、活性エネルギー線硬化性接着剤を介して位相差フィルム及び保護フィルムが重ね合わされる。そして通常は、この状態で両面（偏光子の片面に位相差フィルムを重ね合わせた場合は、偏光子側と位相差フィルム側、また偏光子の両面に位相差フィルム及び保護フィルムを重ね合わせた場合は、その両面の位相差フィルム及び保護フィルム側）からローラー等で挟んで加圧することになる。ローラーの材質は、金属やゴム等を用いることが可能である。両面に配置されるローラーは、同じ材質であってもよいし、異なる材質であってもよい。
【０３５０】
（硬化工程）
硬化工程では、未硬化の活性エネルギー線硬化性接着剤に活性エネルギー線を照射して、カチオン重合性化合物（例えば、エポキシ化合物やオキセタン化合物）やラジカル重合性化合物（例えば、アクリレート系化合物、アクリルアミド系化合物等）を含む活性エネルギー線硬化性接着剤を硬化させ、活性エネルギー線硬化性接着剤を介して重ね合わせた偏光子と位相差フィルム、あるいは偏光子と位相差フィルムとを接着させる。偏光子の片面に位相差フィルムを貼合する場合、活性エネルギー線は、偏光子側又は位相差フィルム側のいずれから照射してもよい。また、偏光子の両面に位相差フィルム及び保護フィルムを貼合する場合、偏光子の両面にそれぞれ活性エネルギー線硬化性接着剤を介して位相差フィルム及び保護フィルムを重ね合わせた状態で、活性エネルギー線を照射し、両面の活性エネルギー線硬化性接着剤を同時に硬化させるのが有利である。
【０３５１】
硬化に適用される活性エネルギー線としては、可視光線、紫外線、Ｘ線、電子線等を用いることができるが、取扱いが容易で硬化速度も十分であることから、一般には電子線や紫外線が好ましく用いられる。
【０３５２】
電子線の照射条件は、前記接着剤を硬化しうる条件であれば、任意の適切な条件を採用できる。例えば、電子線照射は、加速電圧が好ましくは５〜３００ｋＶの範囲内であり、さらに好ましくは１０〜２５０ｋＶの範囲内である。加速電圧が５ｋＶ未満の場合、電子線が接着剤まで届かず硬化不足となるおそれがあり、加速電圧が３００ｋＶを超えると、試料を通る浸透力が強すぎて電子線が跳ね返り、位相差フィルムや偏光子にダメージを与えるおそれがある。照射線量としては、５〜１００ｋＧｙの範囲内、さらに好ましくは１０〜７５ｋＧｙの範囲内である。照射線量が５ｋＧｙ未満の場合は、接着剤が硬化不足となり、１００ｋＧｙを超えると、位相差フィルムや偏光子にダメージを与え、機械的強度の低下や黄変を生じ、所定の光学特性を得ることができない。
【０３５３】
紫外線の照射条件は、前記接着剤を硬化しうる条件であれば、任意の適切な条件を採用できる。紫外線の照射量は積算光量で５０〜１５００ｍＪ／ｃｍ２の範囲内であることが好ましく、１００〜５００ｍＪ／ｃｍ２の範囲内であるのがさらに好ましい。
【０３５４】
前記製造方法を連続ラインで行う場合、ライン速度は、接着剤の硬化時間によるが、好ましくは１〜５００ｍ／ｍｉｎの範囲内であり、より好ましくは５〜３００ｍ／ｍｉｎ、さらに好ましくは１０〜１００ｍ／ｍｉｎの範囲内である。ライン速度が遅すぎる場合は、生産性が乏しい、又は位相差フィルムへのダメージが大きすぎ、耐久性試験などに耐えうる偏光板が作製できない。ライン速度が速やすぎる場合は、接着剤の硬化が不十分となり、目的とする接着性が得られない場合がある。
【０３５５】
以上のようにして得られた偏光板において、接着剤層の厚さは、特に限定されないが、通常０．０１〜１０の範囲内であり、好ましくは０．５〜５μｍの範囲内である。
【０３５６】
表示装置の表面側に用いられる偏光板保護フィルムには、防眩層あるいはクリアハードコート層のほか、反射防止層、帯電防止層、防汚層、バックコート層を有することが好ましい。
【０３５７】
偏光板の主たる構成要素である偏光子とは、一定方向の偏波面の光だけを通す素子であり、現在知られている代表的な偏光子は、ポリビニルアルコール系偏光フィルムで、これはポリビニルアルコール系フィルムにヨウ素を染色させたものと二色性染料を染色させたものがある。
【０３５８】
偏光子は、ポリビニルアルコール水溶液を製膜し、これを一軸延伸させて染色するか、染色した後一軸延伸してから、好ましくはホウ素化合物で耐久性処理を行ったものが用いられている。偏光子の膜厚は５〜３０μｍの範囲内が好ましく、特に１０〜２０μｍの範囲内であることが好ましい。
【０３５９】
＜液晶表示装置＞
本発明の光学フィルムを用いた偏光板を液晶表示装置に用いることによって、種々の視認性に優れた本発明の画像表示装置を作製することができる。
【０３６０】
上記光学フィルム、偏光板はＳＴＮ、ＴＮ、ＯＣＢ、ＨＡＮ、ＶＡ（ＭＶＡ、ＰＶＡ）、ＩＰＳ、ＯＣＢなどの各種駆動方式の液晶表示装置に用いることができる。
【０３６１】
特にＶＡ（ＭＶＡ、ＰＶＡ）型液晶表示装置に用いられることが好ましい。
【０３６２】
特に画面が３０型以上の大画面の液晶表示装置であっても、光漏れによる黒表示時の着色を低減し、正面コントラストなど視認性に優れた液晶表示装置を得ることができる。
【０３６３】
＜円偏光板＞
円偏光板は、偏光子（直線偏光膜）と、その少なくとも一方の面上に配置された本発明の光学フィルムとを備える。本発明の光学フィルムは、偏光子に直接貼り合わされてもよいし、他の層又はフィルムを介して配置されてもよい。
【０３６４】
偏光子は、ヨウ素系偏光膜、二色染料を用いた染料系偏光膜又はポリエン系偏光膜であり得る。ヨウ素系偏光膜、染料系偏光膜は、一般的には、ポリビニルアルコール系フィルムを一軸延伸した後、ヨウ素又は二色性染料で染色して得られたフィルムであってもよいし、ポリビニルアルコール系フィルムをヨウ素又は二色性染料で染色した後、一軸延伸したフィルム（好ましくは、さらにホウ素化合物で耐久性処理を施したフィルム）であってもよい。偏光子の吸収軸は、フィルムの延伸方向と平行である。
【０３６５】
ポリビニルアルコール系フィルムは、ポリビニルアルコール水溶液を製膜したものであってもよい。ポリビニルアルコール系フィルムは、偏光性能及び耐久性能に優れ、色斑が少ない等ことから、エチレン変性ポリビニルアルコールフィルムが好ましい。
【０３６６】
二色性染料の例には、アゾ系色素、スチルベン系色素、ピラゾロン系色素、トリフェニルメタン系色素、キノリン系色素、オキサジン系色素、チアジン系色素及びアントラキノン系色素等が含まれる。
【０３６７】
偏光子の厚さは、５〜３０μｍの範囲内であることが好ましく、１０〜２０μｍの範囲内であることがより好ましい。
【０３６８】
偏光子の透過軸と、本発明の光学フィルムの面内の遅相軸とがなす角度は、４０〜５０°の範囲内であり、好ましくは４５°である。
【０３６９】
偏光子と本発明の光学フィルムとの間に、反射偏光板をさらに配置してもよい。反射偏光板は、偏光子の透過軸と平行な方向の直線偏光を透過させ、透過軸とは異なる方向の直線偏光を反射する。そのような円偏光板を有する有機ＥＬ表示装置は、発光層が発光した光をより多く、外側に出射させることができる。
【０３７０】
反射偏光板の例には、一方向において屈折率の異なる高分子薄膜を交互に積層した複屈折光偏光子（特表平８−５０３３１２号公報に記載）、コレステリック構造を有する偏光分離膜（特開平１１−４４８１６号公報に記載）等が含まれる。また、偏光子の表面に保護膜をさらに配置してもよい。
【０３７１】
偏光子の一方の面上に本発明の光学フィルムが配置される場合、偏光子の他方の面には、本発明の光学フィルム以外の透明保護フィルムが配置されてもよい。透明保護フィルムは、特に制限されず、通常のセルロースエステルフィルム等であってよい。セルロースエステルフィルムの例には、市販のセルロースエステルフィルム（例えば、コニカミノルタタック  ＫＣ８ＵＸ、ＫＣ５ＵＸ、ＫＣ８ＵＣＲ３、ＫＣ８ＵＣＲ４、ＫＣ８ＵＣＲ５、ＫＣ８ＵＹ、ＫＣ６ＵＹ、ＫＣ４ＵＹ、ＫＣ４ＵＥ、ＫＣ８ＵＥ、ＫＣ８ＵＹ−ＨＡ、ＫＣ８ＵＸ−ＲＨＡ、ＫＣ８ＵＸＷ−ＲＨＡ−Ｃ、ＫＣ８ＵＸＷ−ＲＨＡ−ＮＣ、ＫＣ４ＵＸＷ−ＲＨＡ−ＮＣ（以上、コニカミノルタ（株）製）等）が好ましく用いられる。
【０３７２】
透明保護フィルムの厚さは、特に制限されないが、１０〜２００μｍ程度の範囲内とすることができ、好ましくは１０〜１００μｍの範囲内であり、より好ましくは１０〜７０μｍの範囲内である。
【０３７３】
透明保護フィルム又はλ／４位相差フィルムが、ディスプレイの最表面に配置される場合には、当該透明保護フィルム又はλ／４位相差フィルムの最表面には、透明ハードコート層、防眩層、反射防止層等がさらに設けられてもよい。
【０３７４】
円偏光板は、偏光子と、光学フィルムとを貼り合わせるステップを経て製造することができる。貼り合わせに用いられる接着剤は、例えば完全ケン化型ポリビニルアルコール水溶液等が好ましく用いられる。
【０３７５】
円偏光板は、後述する有機ＥＬ表示装置や液晶表示装置等の画像表示装置に好ましく用いることができる。
【０３７６】
＜画像表示装置＞
画像表示装置は、本発明の光学フィルムを具備している。本発明の画像表示装置の例には、有機ＥＬ表示装置や液晶表示装置等が含まれる。
【０３７７】
図２は、有機ＥＬ表示装置の構成の一例を示す模式図である。
【０３７８】
有機ＥＬ表示装置は有機ＥＬ素子を用いた表示装置である。有機ＥＬ素子は一対の電極からの電流注入によって発光する有機発光材料を含む素子である。陰極から注入された電子と陽極から注入された正孔が有機発光材料内で再結合する際のエネルギーを光として外部へ取り出すものである。
【０３７９】
図２に示されるように、有機ＥＬ表示装置１０は、光反射電極１２、発光層１４、透明電極層１６、透明基板１８及び円偏光板２０をこの順に有している。円偏光板２０は、λ／４位相差フィルム２０Ａ及び偏光子２０Ｂを有している。λ／４位相差フィルム２０Ａは、本発明の光学フィルムであり、偏光子２０Ｂは直線偏光膜である。
【０３８０】
光反射電極１２は、光反射率の高い金属材料で構成されていることが好ましい。金属材料の例には、Ｍｇ、ＭｇＡｇ、ＭｇＩｎ、Ａｌ、ＬｉＡｌ等が含まれる。光反射電極１２の表面が平坦であるほど、光の乱反射を防止できるので好ましい。
【０３８１】
光反射電極１２は、スパッタリング法により形成され得る。光反射電極１２は、パターニングされていてもよい。パターニングは、エッチングにより行われ得る。
【０３８２】
発光層１４は、Ｒ（レッド）、Ｇ（グリーン）及びＢ（ブルー）の発光層を含む。各発光層は、発光材料を含有する。発光材料は、無機化合物であっても、有機化合物であってもよく、好ましくは有機化合物である。
【０３８３】
Ｒ、Ｇ、Ｂの各発光層は、電荷輸送材料をさらに含み、電荷輸送層としての機能をさらに有していてもよい。Ｒ、Ｇ、Ｂの各発光層は、ホール輸送材料をさらに含み、ホール輸送層としての機能をさらに有していてもよい。Ｒ、Ｇ、Ｂの各発光層が、電荷輸送材料又はホール輸送材料を含まない場合、有機ＥＬ表示装置１０は、電荷輸送層又はホール輸送層をさらに有し得る。
【０３８４】
発光層１４は、発光材料を蒸着して形成することができる。Ｒ、Ｇ、Ｂの各発光層は、それぞれパターニングされて得られる。パターニングは、フォトマスク等を用いて行うことができる。
【０３８５】
透明電極層１６は、一般的には、ＩＴＯ（酸化インジウムスズ）電極であり得る。透明電極層１６は、スパッタリング法等により形成され得る。透明電極層１６は、パターニングされていてもよい。パターニングは、エッチングにより行うことができる。
【０３８６】
透明基板１８は、光を透過させ得るものであればよく、ガラス基板、プラスチックフィルム等であり得る。
【０３８７】
円偏光板２０は、λ／４位相差フィルム２０Ａが透明基板１８側に位置し、偏光子２０Ｂが視認側に位置するように配置されている。
【０３８８】
有機ＥＬ表示装置１０は、光反射電極１２と透明電極層１６間を通電させると、発光層１４が発光し、画像を表示することができる。また、Ｒ、Ｇ及びＢの発光層のそれぞれが通電可能に構成されていることで、フルカラー画像の表示が可能となる。
【０３８９】
本発明の光学フィルム又はそれを含む円偏光板は、前述した構成を有する有機ＥＬ表示装置だけでなく、国際特許出願ＷＯ９６／３４５１４号明細書、特開平９−１２７８８５号公報及び同１１−４５０５８号公報に記載の有機ＥＬ表示装置にも適用することができる。その場合、あらかじめ設けられた有機ＥＬ表示装置の反射防止手段に代えて、又はそれとともに、本発明の光学フィルム又は円偏光板を配置すればよい。また、本発明の光学フィルム又は円偏光板は、例えば「エレクトロルミネッセンスディスプレイ」（猪口敏夫著、産業図書株式会社、１９９１年発行）に記載の無機ＥＬ表示装置にも適用することができる。
【０３９０】
図３は、上記円偏光板２０による反射防止機能を説明する模式図である。
【０３９１】
有機ＥＬ表示装置１０の表示画面の法線に平行に、外部から直線偏光ａ１及びｂ１を含む光が入射すると、偏光子２０Ｂの透過軸方向と平行な直線偏光ｂ１のみが偏光子２０Ｂを通過する。偏光子２０Ｂの透過軸と平行でない他の直線偏光ａ１は、偏光子２０Ｂに吸収される。偏光子２０Ｂを通過した直線偏光ｂ１は、λ／４位相差フィルム２０Ａを通過することで、円偏光ｃ２に変換される。円偏光ｃ２は、有機ＥＬ表示装置１０の光反射電極１２（図２参照）で反射されると、逆回りの円偏光ｃ３となる。逆回りの円偏光ｃ３は、λ／４位相差フィルム２０Ａを通過することで、偏光子２０Ｂの透過軸に直交する直線偏光ｂ３に変換される。この直線偏光ｂ３は、偏光子２０Ｂに吸収され、通過できない。
【０３９２】
このように、有機ＥＬ表示装置１０に外部から入射する光（直線偏光ａ１及びｂ１を含む）は、全て偏光子２０Ｂに吸収されるため、有機ＥＬ表示装置１０の光反射電極１２で反射しても、外部に出射しない。したがって、背景の映り込みによる画像表示特性の低下を防止することができる。
【０３９３】
また、有機ＥＬ表示装置１０の内部からの光、すなわち発光層１４からの光は、円偏光ｃ３及びｃ４の二つの円偏光成分を含む。一方の円偏光ｃ３は、上述のようにλ／４位相差フィルム２０Ａを通過することで直線偏光ｂ３に変換され、偏光子２０Ｂを通過できずに吸収される。他方の円偏光ｃ４は、λ／４位相差フィルム２０Ａを通過することで、偏光子２０Ｂの透過軸と平行な直線偏光ｂ４に変換される。そして、直線偏光ｂ４は偏光子２０Ｂを通過して、直線偏光ｂ４となり、画像として認識される。
【０３９４】
偏光子２０Ｂとλ／４位相差フィルム２０Ａ間に、反射偏光板（不図示）をさらに配置し、偏光子２０Ｂの透過軸と直交する直線偏光ｂ３を反射してもよい。反射偏光板は、直線偏光ｂ３を偏光子２０Ｂで吸収させずに反射させ、それを光反射電極１２で再度反射させて、偏光子２０Ｂの透過軸と平行な直線偏光ｂ４に変換することができる。反射偏光板をさらに配置することで、発光層１４が発光した光の全て（円偏光ｃ３及びｃ４）を外側に出射させることができる。
【０３９５】
図４は、液晶表示装置の構成の一例を示す模式図である。
【０３９６】
図４に示されるように、液晶表示装置３０は、液晶セル４０、液晶セル４０を挟持する二つの偏光板５０、６０及びバックライト７０を有する。
【０３９７】
液晶セル４０の表示方式は、特に制限されず、ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）方式、ＳＴＮ（Ｓｕｐｅｒ  Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）方式、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ  Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）方式、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ  Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｅｄ  Ｂｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｃｅ）方式、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌ  Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）方式（ＭＶＡ；Ｍｕｌｔｉ−ｄｏｍａｉｎ  Ｖｅｒｔｉｃａｌ  Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ、ＰＶＡ；Ｐａｔｔｅｒｎｅｄ  Ｖｅｒｔｉｃａｌ  Ａｌｉｇｎｍｅｎｔを含む）、ＨＡＮ（Ｈｙｂｒｉｄ  Ａｌｉｇｎｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）方式等がある。コントラストを高めるためには、ＶＡ（ＭＶＡ、ＰＶＡ）方式が好ましい。
【０３９８】
ＶＡ方式の液晶セルは、一対の透明基板と、それらの間に挟持された液晶層とを有する。
【０３９９】
一対の透明基板のうち、一方の透明基板には、液晶分子に電圧を印加するための画素電極が配置される。対向電極は、一方の透明基板（画素電極が配置された透明基板）に配置されてもよいし、他方の透明基板に配置されてもよい。
【０４００】
液晶層は、負又は正の誘電率異方性を有する液晶分子を含む。液晶分子は、透明基板の液晶層側の面に設けられた配向膜の配向規制力により、電圧が印加されずに、画素電極と対向電極との間に電界が生じていない時には、液晶分子の長軸が、透明基板の表面に対して略垂直となるように配向している。
【０４０１】
このように構成された液晶セルでは、画素電極に画像信号に応じた電圧を印加することで、画素電極と対向電極との間に電界を生じさせる。これにより、透明基板の表面に対して垂直に初期配向している液晶分子を、その長軸が基板面に対して水平方向となるように配向させる。このように、液晶層を駆動し、各副画素の透過率及び反射率を変化させて画像表示を行う。
【０４０２】
偏光板５０は視認側に配置され、偏光子５２と、偏光子５２を挟持する保護フィルム５４及び５６とを有する。
【０４０３】
偏光板６０はバックライト７０側に配置され、偏光子６２と、偏光子６２を挟持する保護フィルム６４及び６６とを有する。保護フィルム５６及び６４の一方は、必要に応じて省略されてもよい。
【０４０４】
保護フィルム５４、５６、６４及び６６のうちのいずれかを、本発明の光学フィルムとすることができる。
【実施例】
【０４０５】
以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、実施例において「部」あるいは「％」の表示を用いるが、特に断りがない限り「質量部」あるいは「質量％」を表す。
【０４０６】
〔実施例１〕
＜トリアゾール化合物の製造１＞
ｎ−ブタノール１３．６ｍｌ中に、ベンゾニトリル１５．５ｇ（１５０ｍｍｏｌ）及びベンゾイルヒドラジン１３．６ｇ（１００ｍｍｏｌ）、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデカ−７−エン（ＤＢＵ）１５．２ｇ（１００ｍｍｏｌ）を溶解させ、窒素雰囲気下、還流させて反応を実施した。反応温度は１１８〜１２０℃で１２時間反応させた。反応終点は、ＨＰＬＣを用いて測定されたベンゾイルヒドラジンのピークが消失する時点とした。
【０４０７】
反応終了後、４０℃まで冷却し、氷酢酸６．６ｇ（１１０ｍｍｏｌ）を添加した。さらに、純水８．２ｍｌを加えて冷却した。１０℃以下まで冷却後、析出した結晶をろ別し、純水２０ｍｌとメタノール２０ｍｌの混合液で結晶を洗浄した。洗浄終了後、５０℃で送風乾燥を行い、１６．６ｇの例示化合物１を得た。例示化合物１の収率は７５．０％、ＨＰＬＣを用いて測定された純度は、９９．７％であった。
【０４０８】
＜トリアゾール化合物の製造２＞
ｎ−ブタノール１６２０ｍｌ中に、ベンゾニトリル８１８ｇ（７．９４ｍｏｌ）、ベンゾイルヒドラジン５４０ｇ（３．９７ｍｏｌ）、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデカ−７−エン（ＤＢＵ）６１２ｇ（３．９７ｍｏｌ）を溶解し、窒素雰囲気下、還流させて反応を実施した。反応温度は１１８〜１２０℃で１２時間反応させた。反応終点は、ＨＰＬＣを用いて測定されたベンゾイルヒドラジンのピークが消失する時点とした。
【０４０９】
反応終了後、４０℃まで冷却し、氷酢酸２６２ｇ（４．３７ｍｏｌ）を添加した。さらに、純水９９０ｍｌを加えて冷却した。１０℃以下まで冷却後、析出した結晶をろ別し、純水２４００ｍｌとメタノール２４００ｍｌの混合液で結晶を洗浄した。洗浄終了後、５０℃で送風乾燥を行い、６７０ｇの例示化合物１を得た。例示化合物１の収率は７６．４％、ＨＰＬＣを用いて測定された純度は９９．７％であった。
【０４１０】
＜トリアゾール化合物の製造３＞
トリアゾール化合物の製造１において、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデカ−７−エン（ＤＢＵ）を等モルの１,５−ジアザビシクロ[４.３.０]ノナ−５−エン（ＤＢＮ）１２．４ｇに変更した以外はトリアゾール化合物の製造１と同様にして、例示化合物１を製造した。
トリアゾール化合物の製造３においては、１６．５ｇの例示化合物１が得られた。当該例示化合物１の収率は７４．５％、ＨＰＬＣを用いて測定された純度は９９．７％だった。
【０４１１】
＜トリアゾール化合物の製造４＞
トリアゾール化合物の製造１において、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデカ−７−エン（ＤＢＵ）を等モルの１,１,３,３−テトラメチルグアニジン（ＴＭＧ）１１．５ｇに変更した以外はトリアゾール化合物の製造１と同様にして、例示化合物１を製造した。
トリアゾール化合物の製造４においては、１６．０ｇの例示化合物１が得られた。当該例示化合物１の収率は７２．３％、ＨＰＬＣを用いて測定された純度は９９．６％だった。
【０４１２】
＜トリアゾール化合物の製造５＞
ｎ−ブタノール２７．２ｍｌ中に、イソフタロニトリル１０．３ｇ（１００ｍｍｏｌ）、ベンゾイルヒドラジン３４．１ｇ（２５０ｍｍｏｌ）及び１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデカ−７−エン（ＤＢＵ）３８．０ｇ（２５０ｍｍｏｌ）を溶解し、窒素雰囲気下、還流させて反応を実施した。反応温度は１１８〜１２０℃で１２時間反応させた。反応終点は、ＨＰＬＣを用いて測定されたベンゾイルヒドラジンのピークが消失する時点とした。
【０４１３】
反応終了後、４０℃まで冷却し、氷酢酸１６．５ｇ（２７５ｍｍｏｌ）を添加した。さらに、純水１６．４ｍｌを加えて冷却した。１０℃以下まで冷却後、析出した結晶を濾別し、純水３０ｍｌとメタノール３０ｍｌの混合液で結晶を洗浄した。洗浄終了後、５０℃で送風乾燥を行い、２７．３ｇの例示化合物６を得た。
例示化合物６の収率は７５．０％、ＨＰＬＣを用いて測定された純度は９９．６％だった。
【０４１４】
＜トリアゾール化合物の製造６＞
ｎ−ブタノール３８．８ｍｌ中に、イソフタル酸ジヒドラジド１９．４ｇ（１００ｍｍｏｌ）、ベンゾニトリル３０．９ｇ（３００ｍｍｏｌ）及び１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデカ−７−エン（ＤＢＵ）１２．３ｇ（８０ｍｍｏｌ）を溶解し、窒素雰囲気下、還流させて反応を実施した。反応温度は１２７〜１３０℃で１０時間反応させた。反応終点は、ＨＰＬＣを用いて測定されたベンゾイルヒドラジンのピークが消失する時点とした。
【０４１５】
反応終了後、４０℃まで冷却し、酢酸５．２８ｇ及び純水２３．３ｍｌを加えてさらに冷却した。１０℃以下まで冷却後、析出した結晶をろ別し、純水３０ｍｌとメタノール３０ｍｌの混合液で結晶を洗浄した。洗浄終了後、５０℃で送風乾燥を行い、２８．４ｇの例示化合物６を得た。例示化合物６の収率は７８．０％であり、ＨＰＬＣを用いて測定された純度は９９．７％だった。
【０４１６】
＜トリアゾール化合物の製造７＞
ｎ−ブタノール２７．２ｍｌ中に、テレフタロニトリル１０．３ｇ（１００ｍｍｏｌ）、４−ｔｅｒｔブチルベンゾイルヒドラジン４８．１ｇ（２５０ｍｍｏｌ）及び１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデカ−７−エン（ＤＢＵ）３８．０ｇ（２５０ｍｍｏｌ）を溶解し、窒素雰囲気下、還流させて反応を実施した。反応温度は１１８〜１２０℃で１５時間反応させた。反応終点は、ＨＰＬＣを用いて測定された４−ｔｅｒｔブチルベンゾイルヒドラジンのピークが消失する時点とした。
【０４１７】
反応終了後、４０℃まで冷却し、氷酢酸１６．５ｇ（２７５ｍｍｏｌ）を添加した。さらに、純水１６．４ｍｌを加えて冷却した。１０℃以下まで冷却後、析出した結晶をろ別し、純水３０ｍｌとメタノール３０ｍｌの混合液で結晶を洗浄した。洗浄終了後、５０℃で送風乾燥を行い、３４．８ｇの例示化合物９を得た。例示化合物９の収率は７３．０％、ＨＰＬＣを用いて測定された純度は９９．７％だった。
【０４１８】
＜トリアゾール化合物の製造８＞
ｎ−ブタノール４２ｍｌ中に、ベンゾニトリル３０．９ｇ（３００ｍｍｏｌ）、４−ペンチルシクロヘキサンカルボヒドラジド２１．３ｇ（１００ｍｍｏｌ）及び１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデカ−７−エン（ＤＢＵ）７．６ｇ（５０ｍｍｏｌ）を溶解し、窒素雰囲気下、還流させて反応を実施した。反応温度は１２４〜１２５℃で１５時間反応させた。反応終点は、ＨＰＬＣを用いて測定された４−ペンチルシクロヘキサンカルボヒドラジドのピークが消失する時点とした。
【０４１９】
反応終了後、４０℃まで冷却して、氷酢酸３．０ｇ（５０ｍｍｏｌ）及び純水２１ｍｌを加えてさらに冷却した。１０℃以下まで冷却後、析出した結晶を濾別した。結晶はメタノール４０ｍｌで洗浄した。洗浄終了後、４０℃で送風乾燥して、２０．８ｇの例示化合物２９を得た。例示化合物２９の収率は７０％、ＨＰＬＣにより測定された純度は９９．４％だった。
【０４２０】
＜トリアゾール化合物の製造９＞
ｎ−ブタノール８２ｍｌ中に、フラン−２，５−ジカルボニトリル１１．８ｇ（１００ｍｍｏｌ）、ベンゾイルヒドラジン４０．９ｇ（３００ｍｏｌ）及び１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデカ−７−エン（ＤＢＵ）１６．８ｇ（１１０ｍｍｏｌ）を溶解し、窒素雰囲気下、還流させて反応を実施した。反応温度は１２９〜１３０℃で１２時間反応させた。反応終点は、ＨＰＬＣを用いて測定されたベンゾイルヒドラジンのピークが消失する時点とした。
【０４２１】
反応終了後、４０℃まで冷却して、氷酢酸７．２６ｇ（１２１ｍｍｏｌ）及び純水８２ｍｌを加えてさらに冷却した。１０℃以下まで冷却後、析出した結晶をろ別した。結晶は純水５０ｍｌとメタノール５０ｍｌの混合液で洗浄した。洗浄終了後、５０℃で送風乾燥して、２６．９ｇの例示化合物８２を得た。例示化合物８２の収率は７６％、ＨＰＬＣにより測定された純度は９９．３％だった。
【０４２２】
＜トリアゾール化合物の製造１０＞
ｎ−ブタノール１３．６ｍｌ中に、シアノギ酸エチル１９．９ｇ（２００ｍｍｏｌ）、ベンゾイルヒドラジン１３．６ｇ（１００ｍｍｏｌ）及び１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデカ−７−エン（ＤＢＵ）１５．２ｇ（１００ｍｍｏｌ）を溶解し、窒素雰囲気下、還流させて反応を実施した。反応温度は１１８〜１２０℃で１０時間反応させた。反応終点は、ＨＰＬＣを用いて測定されたベンゾイルヒドラジンのピークが消失する時点とした。
【０４２３】
反応終了後、４０℃まで冷却し、氷酢酸６．６ｇ（１１０ｍｍｏｌ）を添加した。さらに、純水１３．６ｍｌを加えて冷却した。１０℃以下まで冷却後、析出した結晶をろ別し、純水２０ｍｌで結晶を洗浄した。洗浄終了後５０℃で送風乾燥を行い、１７．８ｇの例示化合物１０４を得た。例示化合物１０４の収率は８２．０％、ＨＰＬＣにより測定された純度は９９．７％だった。
【０４２４】
＜トリアゾール化合物の製造１１＞
トリアゾール化合物の製造１において、ｎ−ブタノールをエチレングリコール１５．０ｍｌに変更した以外はトリアゾール化合物の製造１と同様の原料を使用して反応を実施した。窒素雰囲気下、還流させて反応を実施し、反応温度は１９７〜１９９℃で１０時間反応を行った。
反応終了後の処理も同様に実施してトリアゾール化合物の製造１１においては、１６．５ｇの例示化合物１が得られた。当該例示化合物１の収率は７４．５％、ＨＰＬＣを用いて測定された純度は９９．７％だった。
【０４２５】
＜トリアゾール化合物の製造１２＞
無水酢酸５０ｍｌ中に、トリアゾール化合物の製造５で得られた例示化合物６を１０．０ｇ（２７．４ｍｍｏｌ）溶解し、温度１５０℃で６時間反応させた。反応終了後、反応液を６０℃の温水２００ｍｌに１時間かけて添加した。添加終了後に室温付近まで冷却し、析出している結晶をろ別した。結晶を純水５０ｍｌで洗浄後、さらにメタノール３０ｍｌで洗浄した。洗浄終了後、６０℃で送風乾燥し、８．４ｇの例示化合物８を得た。
【０４２６】
＜トリアゾール化合物の製造５１＞
トリアゾール化合物の製造２において、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデカ−７−エン（ＤＢＵ）を等モルのナトリウムメトキシド２８％メタノール溶液７６５．０ｇに置き換えて同様に反応させた。２４時間反応を行っても、ＨＰＬＣによるベンゾイルヒドラジンのピークが消失しなかったため、トリアゾール化合物の製造２と同様の操作により結晶を析出させた。析出した結晶をろ別及び洗浄し、３６８ｇの例示化合物１を得た。例示化合物１の収率は４１．９％、ＨＰＬＣにより測定された純度は９５．３％だった。
【０４２７】
＜トリアゾール化合物の製造５２＞
トリアゾール化合物の製造２において、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデカ−７−エン（ＤＢＵ）を等モルの炭酸カリウム５４８．７ｇに置き換えて同様に反応させた。１０時間反応を行ったところで、炭酸カリウムが反応容器に固着し撹拌不能になったため、固着した炭酸カリウムを崩し、ｎ−ブタノール１６２０ｍｌを追加してさらに反応を行った。ＨＰＬＣを用いて測定されたベンゾイルヒドラジンのピークが消失したところで、反応終了とした。
【０４２８】
炭酸カリウムをろ過して除去後、仕込み時と同量になるまでｎ−ブタノールを減圧留去した。その後、トリアゾール化合物の製造２と同様に操作により、結晶を析出させた。析出した結晶をろ別及び洗浄し、４４４ｇの例示化合物１を得た。例示化合物１の収率は５０．６％、ＨＰＬＣにより測定された純度は９９．３％であった。
【０４２９】
＜トリアゾール化合物の製造５３＞
トリアゾール化合物の製造１において、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデカ−７−エン（ＤＢＵ）を等モルのトリエチルアミン（ＴＥＡ）１０．２ｇに置き換えて同様に反応させた。２４時間反応を行っても、ＨＰＬＣによるベンゾイルヒドラジンのピークが消失しなかったため、トリアゾール化合物の製造１と同様の操作により結晶を析出させた。析出した結晶をろ別及び洗浄し、６．７５ｇの例示化合物１を得た。例示化合物１の収率は３０．５％、ＨＰＬＣにより測定された純度は９５．５％だった。
【０４３０】
＜トリアゾール化合物の製造５４＞
トリアゾール化合物の製造１において、反応溶媒をイソブチルアルコールに変更した以外は同様に反応させた。溶媒変更により反応温度は１０８〜１０９℃であった。２４時間反応を行っても、ＨＰＬＣによるベンゾイルヒドラジンのピークが消失しなかったため、トリアゾール化合物の製造１と同様の操作により結晶を析出させた。析出した結晶をろ別及び洗浄し、１５．６ｇの例示化合物１を得た。例示化合物１の収率は６０．４％、ＨＰＬＣにより測定された純度は９６．５％だった。
【０４３１】
下記表１は、各トリアゾール化合物の製造１〜１１及び５１〜５４において得られたトリアゾール化合物の収率及び純度を示している。
表１中、各トリアゾール化合物の製造１〜１１及び５１〜５４において使用した塩基を、上述した略記ＤＢＵ、ＤＢＮ、ＴＭＧ及びＴＥＡで表している。
なお、トリアゾール化合物の製造１２は、製造された例示化合物６を中間体として、例示化合物８を製造する実施例であるので、表１中の記載を省略している。
【表１】
2014148496.tif 000040
【０４３２】
本発明の製造方法によれば、収率及び純度の高いトリアゾール化合物の製造が可能であることが分かる。単一の反応系により結晶の析出まで完結できている。
一方、比較例によれば、反応開始時と同じ容積では反応を続けることができず、反応が完結しないか、反応が完結しても、塩基のろ過、溶媒の留居等の煩雑な工程が必要であり、作業性に著しく劣ることは明らかである。また、収率及び純度も低く、製造効率が低いことが分かる。
本発明以外の有機塩基を用いた場合、反応時間を延長しても反応が完結せず収率、純度ともに低い結果しか得られなかった。
また、本発明の反応温度より低い条件で反応を行った場合には、反応時間が２倍近くになるとともに収率も低下した。
【０４３３】
〔実施例２〕
＜光学フィルム１０１の作製＞
下記成分を、ディゾルバーで５０分間撹拌混合した後、マントンゴーリンで分散させて、微粒子分散液を調製した。
【０４３４】
（微粒子分散液）
微粒子（アエロジル  Ｒ９７２Ｖ  日本アエロジル（株）製）：        １１質量部
エタノール：                                                      ８９質量部
下記微粒子添加液の成分のうち、メチレンクロライドを溶解タンクに投入し、調製した微粒子分散液を下記の添加量で、十分撹拌しながらゆっくりと添加した。次いで、微粒子の二次粒子の粒径が所定の大きさとなるようにアトライターにて分散させた後、ファインメットＮＦ（日本精線（株）製）でろ過して、微粒子添加液を得た。
【０４３５】
（微粒子添加液）
メチレンクロライド：                                              ９９質量部
微粒子分散液：                                                      ５質量部
下記主ドープの成分のうち、メチレンクロライドとエタノールを加圧溶解タンクに投入した。次いで、下記セルロース誘導体Ｃ１、糖エステルＳ、例示化合物１及び調製した微粒子添加液を撹拌しながら投入し、加熱、撹拌して完全に溶解させた。得られた溶液を、安積濾紙（株）製の安積濾紙Ｎｏ．２４４を使用してろ過し、主ドープを調製した。
【０４３６】
（主ドープの組成）
メチレンクロライド：                                            ５２０質量部
エタノール：                                                      ４５質量部
セルロース誘導体Ｃ１：                                          １００質量部
糖エステルＳ：                                                      ５質量部
例示化合物１：（一般式（１）で表される〔化６〕に記載の化合物）      ３質量部
微粒子添加液：                                                      １質量部
以下に、糖エステルＳの構造を示す。
【０４３７】
【化３９】
2014148496.tif 000041
【０４３８】
得られたドープを、無端ベルト流延装置を用いて、ステンレスベルト支持体上に均一に流延させた。ステンレスベルト支持体上で、流延（キャスト）したドープ膜中の溶媒を、残留溶媒量が７５％になるまで蒸発させ、得られたウェブをステンレスベルト支持体上から剥離した。剥離したウェブを、テンター延伸装置のクリップで把持しながら搬送した。次いで、得られたフィルムを、乾燥ゾーン内で、多数のローラーで搬送させながら乾燥させた。テンタークリップで把持していたフィルムの幅方向端部をレーザーカッターでスリット除去した後、巻き取って原反フィルムを得た。
【０４３９】
得られた原反フィルムを巻き出して、原反フィルムのガラス転移温度Ｔｇ＋２０℃の延伸温度、１．３５倍の延伸倍率にて、フィルムの幅手方向に延伸し、光学フィルム１０１を得た。光学フィルム１０１の膜厚は５０μｍであった。
【０４４０】
＜光学フィルム１０２〜１５６の作製＞
光学フィルム１の作製において、セルロース誘導体の種類及び添加量、他の樹脂の種類及び添加量、糖エステル等の可塑剤の種類及び添加量、前記一般式（１）で表される化合物又は比較化合物の種類及び、延伸倍率、延伸後の光学フィルムの膜厚を、下記表３及び表４に示すように変更した以外は、同様の方法で光学フィルム１０２〜１５６を作製した。光学フィルムの膜厚は、ドープの流量を変化させることによって調整した。
【０４４１】
なお、光学フィルム１３７〜１４０は、延伸処理を行わなかった。
【０４４２】
また、光学フィルム１４８〜１５４は、原反フィルムのガラス転移温度Ｔｇ＋２０℃の延伸温度、２．２倍の延伸倍率にて、フィルムの搬送方向に対し４５°傾斜した斜め方向に延伸して作製した。得られた光学フィルム１の膜厚は４０μｍであった。光学フィルム１４８〜１５４の面内の遅相軸とフィルムの搬送方向とのなす角度はいずれも４５°だった。
【０４４３】
表２に、用いたセルロース誘導体の詳細を示す。
【０４４４】
【表２】
2014148496.tif 000042
【０４４５】
また、表３及び表４に記載した比較化合物の化学構造式を以下に示す。
【０４４６】
【化４０】
2014148496.tif 000043
【０４４７】
（ポリエステル化合物Ａ１の合成）
冷却凝縮器を装着した反応器に、２３６質量部のエチレングリコール、６８３質量部の１，４−ブチレングリコール、１１８０質量部のコハク酸、０．０３質量部のテトラブチルチタネートを投入し、１４０℃で２時間、２２０℃で２時間、冷却凝縮器を外して２２０℃でさらに２０時間、脱水縮合反応を行って、数平均分子量２０００のポリエステル（Ａ１）を得た。これに使用したグリコールの炭素数の平均は３．３３、二塩基酸の炭素数は４であった。
【０４４８】
（芳香族末端エステル化合物Ｐ１の合成）
反応容器にフタル酸４１０部、安息香酸６１０部、ジプロピレングリコール７３７部、及び触媒としてテトライソプロピルチタネート０．４０部を一括して仕込み窒素気流中で撹拌下、還流凝縮器を付して過剰の１価アルコールを還流させながら、酸価が２以下になるまで１３０〜２５０℃で加熱を続け生成する水を連続的に除去した。次いで２００〜２３０℃で１００〜最終的に４．００ＭＰａ以下の減圧下、留出分を除去し、この後濾過して次の性状を有する芳香族末端ポリエステルを得た。
【０４４９】
粘度（２５℃、ｍＰａ・ｓ）  ；４３４００
酸価                        ；０．２ｍｇＫＯＨ／ｇ
（芳香族末端エステル化合物Ｐ２の合成）
１，２−プロピレングリコール２５１ｇ、無水フタル酸２７８ｇ、アジピン酸９１ｇ、安息香酸６１０ｇ、エステル化触媒としてテトライソプロピルチタネート０．１９１ｇを、温度計、撹拌器、緩急冷却管を備えた２Ｌの四つ口フラスコに仕込み、窒素気流中２３０℃になるまで、撹拌しながら徐々に昇温する。１５時間脱水縮合反応させ、反応終了後２００℃で未反応の１，２−プロピレングリコールを減圧留去することにより、芳香族末端エステル化合物Ｐ２を得た。酸価は０．１０、数平均分子量は４５０であった。
【０４５０】
（芳香族末端エステル化合物Ｐ３の合成）
１，２−プロピレングリコール２５１ｇ、テレフタル酸３５４ｇ、安息香酸６１０ｇ、エステル化触媒としてテトライソプロピルチタネート０．１９１ｇを、温度計、撹拌器、緩急冷却管を備えた２Ｌの四つ口フラスコに仕込み、窒素気流中２３０℃になるまで、撹拌しながら徐々に昇温する。１５時間脱水縮合反応させ、反応終了後２００℃で未反応の１，２−プロピレングリコールを減圧留去することにより、芳香族末端エステル化合物Ｐ３を得た。酸価は０．１０、数平均分子量は４００であった。
【０４５１】
《光学フィルムの評価》
上記作製した各光学フィルムについて、下記の各特性値の測定及び評価を行った。
【０４５２】
（リターデーション値の測定）
作製した光学フィルムについて、温度２３℃、相対湿度５５％の環境下で、光波長５９０ｎｍで、自動複屈折計ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ（王子計測機器）を用いて下記式で表されるリターデーション値Ｒｏ、Ｒｔを測定した。
【０４５３】
具体的には、光学フィルムを２３℃、５５％ＲＨの環境下で、５９０ｎｍの光波長において１０カ所で三次元の屈折率測定を行い、屈折率ｎｘ、ｎｙ、ｎｚの平均値を求めた後、下記式に従って面内方向のリターデーション値Ｒｏ、厚さ方向のリターデーション値Ｒｔを算出した。
【０４５４】
式（ｉ）：Ｒｏ（５９０）＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ
式（ii）：Ｒｔ（５９０）＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄ
〔式（ｉ）及び式（ii）において、ｎｘは、フィルムの面内方向において屈折率が最大になる方向ｘにおける屈折率を表す。ｎｙは、フィルムの面内方向において、前記方向ｘと直交する方向ｙにおける屈折率を表す。ｎｚは、フィルムの厚さ方向ｚにおける屈折率を表す。ｄは、フィルムの厚さ（ｎｍ）を表す。〕
（湿度変動によるリターデーション値の測定）
（水浸漬によるリターデーション値の測定）
下記のようにして、湿度変動によるリターデーション値の測定を行った。なお、下記の操作は全て、温度２３℃、相対湿度５５％の環境下で行った。
【０４５５】
１．光学フィルムを２枚のスライドガラスで挟んだ状態で、Ｒｏ、Ｒｔを測定し、これをＲｏ１、Ｒｔ１とした。
【０４５６】
２．光学フィルムを純水中に２４時間浸した後、水で湿った光学フィルムを素早く２枚のスライドガラスで挟み、Ｒｏ、Ｒｔを測定し、これをＲｏ２、Ｒｔ２とした。このとき、スライドガラスとフィルムの間に気泡が入らない様に注意した。
【０４５７】
３．上記１、２で得られたＲｏ１、Ｒｔ１、Ｒｏ２、Ｒｔ２から、２３℃の純水に２４時間浸した後の光学フィルムのリターデーション値の変化量ΔＲｏ、ΔＲｔを差の絶対値として下記式に当てはめて算出した。
【０４５８】
ΔＲｏ＝｜Ｒｏ１−Ｒｏ２｜
ΔＲｔ＝｜Ｒｔ１−Ｒｔ２｜
また、本発明の化合物及び比較化合物のリターデーション値変動抑制効果を以下の式で求められる変動抑制率（％）として評価した。
【０４５９】
Ｒｏ変動抑制率（％）＝（（基準フィルムのΔＲｏ）−（各サンプルフィルムのΔＲｏ））÷（基準フィルムのΔＲｏ）×１００
Ｒｔ変動抑制率（％）＝（（基準フィルムのΔＲｔ）−（各サンプルフィルムのΔＲｔ））÷（基準フィルムのΔＲｔ）×１００
また、本発明に係る化合物及び比較化合物のリターデーション値変動抑制効果を以下の式で求められる変動抑制率（％）として評価した。
【０４６０】
Ｒｏ変動抑制率（％）＝（（基準フィルムのΔＲｏ）−（各サンプルフィルムのΔＲｏ））÷（基準フィルムのΔＲｏ）×１００
Ｒｔ変動抑制率（％）＝（（基準フィルムのΔＲｔ）−（各サンプルフィルムのΔＲｔ））÷（基準フィルムのΔＲｔ）×１００
添加剤のリターデーション値変動抑制効果は、基材となる樹脂１００質量部に対して添加剤を３質量部添加した時の、Ｒｏ変動率抑制率及びＲｔ変動抑制率が５０％以上であることが好ましく、Ｒｏ変動率抑制率及びＲｔ変動抑制率が共に７０％以上であることがより好ましい。
【０４６１】
以上の結果を表３及び表４に示す。なお、表では以下のように略号を用いて表した。
ＰＭＭＡ１：ポリメタクリル酸メチル（重量平均分子量：２８００００）
ＰＭＭＡ２：ポリメタクリル酸メチル（重量平均分子量：２５００）
Ｐ２：芳香族末端エステル化合物Ｐ２
Ｐ３：芳香族末端エステル化合物Ｐ３
比較１：比較化合物１（ポリエステル化合物Ａ１）
比較２：比較化合物２（芳香族末端エステル化合物Ｐ１）
比較３：比較化合物３
比較４：比較化合物４
比較５：比較化合物５
比較６：比較化合物６
また、表中一般式（１）で表される化合物の種類の欄の番号は〔化６〕〜〔化１８〕に記載の例示化合物の番号に対応している。
【０４６２】
【表３】
2014148496.tif 000044
【０４６３】
【表４】
2014148496.tif 000045
【０４６４】
本発明の樹脂から作製した光学フィルムは耐湿性に優れていることがわかる。
【０４６５】
〔実施例３〕
《偏光板の作製》
〔偏光板１０１の作製〕
（偏光子の作製）
厚さ３０μｍのポリビニルアルコールフィルムを、３５℃の水で膨潤させた。得られたフィルムを、ヨウ素０．０７５ｇ、ヨウ化カリウム５ｇ及び水１００ｇからなる水溶液に６０秒間浸漬し、さらにヨウ化カリウム３ｇ、ホウ酸７．５ｇ及び水１００ｇからなる４５℃の水溶液に浸漬した。得られたフィルムを、延伸温度５５℃、延伸倍率５倍の条件で一軸延伸した。この一軸延伸フィルムを、水洗した後、乾燥させて、厚さ１０μｍの偏光子を得た。
【０４６６】
（活性エネルギー線硬化性接着剤液の調製：カチオン重合型）
下記の各成分を混合した後、脱泡して、活性エネルギー線硬化性接着剤液を調製した。なお、トリアリールスルホニウムヘキサフルオロホスフェートは、５０％プロピレンカーボネート溶液として配合し、下記にはトリアリールスルホニウムヘキサフルオロホスフェートの固形分量を表示した。
【０４６７】
３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート                                                              ４５質量部
エポリードＧＴ−３０１（ダイセル化学社製の脂環式エポキシ樹脂）    ４０質量部
１，４−ブタンジオールジグリシジルエーテル                        １５質量部
トリアリールスルホニウムヘキサフルオロホスフェート              ２．３質量部
９，１０−ジブトキシアントラセン                                ０．１質量部
１，４−ジエトキシナフタレン                                    ２．０質量部
（偏光板１０１の作製）
下記の方法に従って、図１の偏光板１０１Ａの構成からなる偏光板１０１を作製した。カッコ内の数値は、図１に記載した各構成要素の番号を示す。
【０４６８】
まず、保護フィルム（１０２）として、ＫＣ６ＵＡフィルム（コニカミノルタ（株）製）を準備し、上記調製した活性エネルギー線硬化性接着剤液を、マイクログラビアコーター（グラビアローラー：＃３００、回転速度１４０％／ライン速）を用いて、厚さ５μｍになるように塗工して活性エネルギー線硬化性接着剤（１０３Ａ）を形成した。
【０４６９】
次いで、上記作製した光学フィルム１０１（１０５）に、上記調製した活性エネルギー線硬化性接着剤液を、上記と同様に、厚さ５μｍとなるように塗工して活性エネルギー線硬化性接着剤（１０３Ｂ）を形成した。
【０４７０】
この活性エネルギー線硬化性接着剤（１０３Ａ）と（１０３Ｂ）の間に、上記作製したポリビニルアルコール−ヨウ素系の偏光子（１０４）を配置し、ローラー機で貼合し、保護フィルム１（１０２）／活性エネルギー線硬化性接着剤（１０３Ａ）／偏光子（１０４）／活性エネルギー線硬化性接着剤（１０３Ｂ）／光学フィルム１０１（１０５）が積層された積層物を得た。その際に、光学フィルム（１０５）の遅相軸と偏光子（１０４）の吸収軸が互いに直交になるようにローラー機で貼合した。
【０４７１】
この積層物の両面側から、電子線を照射して、偏光板１０１（１０１Ａ）を作製した。
【０４７２】
ライン速度は２０ｍ／ｍｉｎ、加速電圧は２５０ｋＶ、照射線量は２０ｋＧｙとした。
【０４７３】
〔偏光板１０２〜１３１の作製〕
偏光板１０１の作製において、光学フィルム１０１を光学フィルム１０２〜１３１に変更したこと以外は同様にして、偏光板１０２〜１３１を作製した。
【０４７４】
《液晶表示装置の作製》
市販のＶＡ型液晶表示装置（ＳＯＮＹ製４０型ディスプレイＫＬＶ−４０Ｊ３０００）を用い、液晶セルの両面に貼合されていた偏光板を剥離し、上記作製した偏光板１０１〜１３１を、図１で示すように液晶セルの両面に貼合して液晶表示装置１０１〜１３１を作製した。その際、偏光板の吸収軸の向きはあらかじめ貼合されていた偏光板と同じ向きに調整した。
【０４７５】
《液晶表示装置の評価》
上記作製した各液晶表示装置について、下記の評価を行った。
【０４７６】
（耐湿性の評価：含水変動による色ムラの評価）
上記作製した液晶表示装置表面に水を浸したベンコット（旭化成せんい社製）を乗せ、水分が蒸発しない状態で３０時間保持した。次いで、各液晶表示装置を点灯し、表示画面の均一性を目視評価し、下記の基準に従って耐湿性の評価を行った。
【０４７７】
Ａ：色ムラの発生が全く認められない
Ｂ：僅かに弱い色ムラの発生が認められる
Ｃ：弱い色ムラの発生が認められるが、実用上問題のない品質である
Ｄ：色ムラの発生が認められる
Ｅ：強い色ムラが発生し、耐湿性に問題のある品質である
【０４７８】
【表５】
2014148496.tif 000046
【０４７９】
本発明の画像表示装置（液晶表示装置）は耐湿性に優れていることがわかる。
【０４８０】
〔実施例４〕
＜円偏光板１４８の作製＞
（偏光子の作製）
厚さ１２０μｍのポリビニルアルコールフィルムを、延伸温度１１０℃、延伸倍率５倍の条件で一軸延伸した。得られたフィルムを、ヨウ素０．０７５ｇ、ヨウ化カリウム５ｇ、水１００ｇからなる水溶液に６０秒間浸漬した。次いで、ヨウ化カリウム６ｇ、ホウ酸７．５ｇ、水１００ｇからなる６８℃の水溶液に浸漬し、水洗、乾燥して厚さ２０μｍの偏光子を得た。
【０４８１】
実施例１で作製した光学フィルム１４８の一方の表面をアルカリケン化処理した。コニカミノルタタックフィルムＫＣ６ＵＡ（コニカミノルタ（株）製）を準備し、同様に一方の表面をアルカリケン化処理した。いずれも、ケン化処理された表面が、偏光子との貼合面である。そして、偏光子の一方の面に、粘着剤であるポリビニルアルコール５％水溶液を介して、光学フィルム１４８のケン化処理された表面を貼り合わせた。また、偏光子の他方の面に、ポリビニルアルコール５％水溶液を介して、コニカミノルタタックフィルムＫＣ６ＵＡのケン化処理された表面を貼り合わせて、円偏光板１４８を作製した。光学フィルム１４８と偏光子との貼り合わせは、偏光子の透過軸と光学フィルム１４８の遅相軸とのなす角が４５°となるように行った。
【０４８２】
＜円偏光板１４９〜１５４の作製＞
円偏光板１４８の作製において、光学フィルム１４８を、光学フィルム１４９〜１５４に変更した以外は、円偏光板１４８と同様にして円偏光板１４８〜１５４をそれぞれ作製した。
【０４８３】
＜有機ＥＬ表示装置１４８の作製＞
ガラス基板上に、スパッタリング法により、厚さ８０ｎｍのクロムからなる光反射電極を形成した。この光反射電極上に、陽極として厚さ４０ｎｍのＩＴＯの薄膜を形成した。次いで、この陽極上に、スパッタリング法により、厚さ８０ｎｍのポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）−ポリスチレンスルホネート（ＰＥＤＯＴ：ＰＳＳ）からなる正孔輸送層を形成した。さらに、正孔輸送層上に、シャドーマスクを用いて、ＲＧＢの発光層をそれぞれパターニングして形成した。発光層の厚さは、色毎に１００ｎｍとした。赤色発光層は、ホストとしてトリス（８−ヒドロキシキノリナート）アルミニウム（Ａｌｑ３）と発光性化合物［４−（ｄｉｃｙａｎｏｍｅｔｈｙｌｅｎｅ）−２−ｍｅｔｈｙｌ−６（ｐ−ｄｉｍｅｔｈｙｌａｍｉｎｏｓｔｙｒｙｌ）−４Ｈ−ｐｙｒａｎ］（ＤＣＭ）とを共蒸着（質量比９９：１）して形成し、緑色発光層は、ホストとしてＡｌｑ３と、発光性化合物クマリン６とを共蒸着（質量比９９：１）して形成した。青色発光層は、ホストとして下記化合物ＢＡｌｑと発光性化合物Ｐｅｒｙｌｅｎｅとを共蒸着（質量比９０：１０）して形成した。
【０４８４】
【化４１】
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【０４８５】
得られたＲＧＢの発光層上に、真空蒸着法により、効率的に電子を注入できるような第１の陰極として、仕事関数の低いカルシウムからなる厚さ４ｎｍの薄膜を形成した。この第１の陰極上に、第２の陰極として厚さ２ｎｍのアルミニウムからなる薄膜を形成し、有機発光層を得た。第２の陰極として用いたアルミニウムは、その上に透明電極をスパッタリング法で成膜する際に、第１の陰極であるカルシウムが化学的に変質するのを防ぐ役割がある。
【０４８６】
次いで、第２の陰極上に、スパッタリング法により、ＩＴＯからなる厚さ８０ｎｍの透明導電膜（第１の陰極、第２の陰極及び透明導電膜を、合わせて透明電極層とする）を形成した。さらに、透明導電膜上に、ＣＶＤ法により、窒化ケイ素からなる厚さ２００ｎｍの薄膜を形成し、絶縁膜（透明基板）とした。
【０４８７】
得られた絶縁膜（透明基板）上に、作製した円偏光板１４８を、粘着剤を介して貼り合わせて、有機ＥＬ表示装置１４８を作製した。円偏光板１４８の貼り合わせは、光学フィルム１４８が絶縁膜側に位置するように行った。
【０４８８】
＜有機ＥＬ表示装置１４９〜１５１の作製＞
有機ＥＬ表示装置１４８の作製において、円偏光板１４８を各円偏光板１４９〜１５１に変更した以外は、有機ＥＬ表示装置１４８と同様にして有機ＥＬ表示装置１４９〜１５１をそれぞれ作製した。
【０４８９】
《有機ＥＬ表示装置の評価》
上記作製した各有機ＥＬ表示装置について、下記の評価を行った。
【０４９０】
（耐湿性の評価：含水変動による色ムラの評価）
上記作製した有機ＥＬ表示装置表面に水を浸したベンコット（旭化成せんい社製）を乗せ、水分が蒸発しない状態で３０時間保持した。次いで、各有機ＥＬ表示装置を点灯し、表示画面の均一性を目視評価し、下記の基準に従って耐湿性の評価を行った。
【０４９１】
Ａ：色ムラの発生が全く認められない
Ｂ：僅かに弱い色ムラの発生が認められる
Ｃ：弱い色ムラの発生が認められるが、実用上問題のない品質である
Ｄ：色ムラの発生が認められる
Ｅ：強い色ムラが発生し、耐湿性に問題のある品質である
【０４９２】
【表６】
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【０４９３】
表６から、本発明の画像表示装置（有機エレクトロルミネッセンス表示装置）は耐湿性に優れていることがわかる。
【符号の説明】
【０４９４】
１０１Ａ  偏光板
１０２  保護フィルム
１０３Ａ、１０３Ｂ  活性エネルギー線硬化性接着剤
１０４  偏光子
１０５  位相差フィルム
１０６  保護フィルム
１０７  液晶セル
１０８  液晶表示装置
ＢＬ  バックライト
１０  有機ＥＬ表示装置
１２  光反射電極
１４  発光層
１６  透明電極層
１８  透明基板
２０  円偏光板
２０Ａ  λ／４位相差フィルム
２０Ｂ  偏光子（直線偏光膜）
ａ１、ｂ１、ｂ２、ｂ３、ｂ４  直線偏光
ｃ１、ｃ２、ｃ３、ｃ４  円偏光板
３０  液晶表示装置
４０  液晶セル
５０、６０  偏光板
５２、６２    偏光子
５４、５６、６４、６６  保護フィルム
７０  バックライト
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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