(57)【要約】【課題】シート状のモールドに形成されている微細な転写パターンを被成形体に転写する転写装置において、モールドの取り付けが若干曲がってなされていても、転写の精度が悪化することを防止する。【解決手段】シート状のモールドＭの一端部を保持する第１の保持部３と、シート状のモールドＭの他端部を保持する第２の保持部５と、各保持部３，５で保持しているモールドＭに引張り力を付与する引張り力付与部７と、引張り力付与部７で引張り力が付与されているモールドＭに皺が生成されることを防止するために、第１の保持部３に対する第２の保持部５の姿勢を調整する姿勢調整部９とを有する転写装置１である。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
シート状のモールドに形成されている微細な転写パターンを被成形体に転写する転写装置において、
前記シート状のモールドの一端部を保持する第１の保持部と、
前記シート状のモールドの他端部を保持する第２の保持部と、
前記各保持部で保持しているモールドに引張り力を付与する引張り力付与部と、
前記引張り力付与部で引張り力が付与されているモールドに皺が生成されることを防止するために、前記第１の保持部に対する前記第２の保持部の姿勢を調整する姿勢調整部と、
を有することを特徴とする転写装置。
【請求項２】
請求項１に記載の転写装置において、
前記引張り力付与部で引張り力が付与されているモールドの引張り力を測定する複数の引張り力測定部を備え、
前記姿勢調整部は、前記各引っ張り力測定部で測定している引っ張り力がお互いに等しくなるように、前記第２の保持部を前記第１の保持部に対して回動位置決めする構成であることを特徴とする転写装置。
【請求項３】
請求項２に記載の転写装置において、
前記姿勢調整部は、前記各引っ張り力測定部で測定している引っ張り力がお互いに等しくなるように、前記第２の保持部を前記第１の保持部に対し直線的に移動位置決めする構成であることを特徴とする転写装置。
【請求項４】
請求項２または請求項３に記載の転写装置において、
前記第１の保持部は、一対のクランプ爪により前記モールドを挟み込んで保持するように構成されており、
前記第２の保持部は、一対のクランプ爪により前記モールドを挟み込んで保持するように構成されており、
前記第２の保持部の一対のクランプ爪は、前記姿勢調整部を構成するベース体に対して前記引っ張り力の付与方向で移動自在になっており、
前記引っ張り力測定部は、前記クランプ爪と前記ベース体との間に設けられているロードセルとロードセル押圧体と弾性体とを備えて構成されており、前記ロードセル押圧体が前記弾性体を介して前記ロードセルに押圧力を加えるように構成されていることを特徴とする転写装置。
【請求項５】
請求項１〜請求項４のいずれか１項に記載の転写装置を用いて微細な転写パターンが形成されたことを特徴とする被成形体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、転写装置および被成形体に係り、特に、微細な転写パターンを転写するもの（微細な転写パターンが転写されたもの）に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、電子線描画法などで石英基板等に超微細な転写パターンを形成して型（モールド）を作製し、被成型品に前記型を所定の圧力で押圧して、当該型に形成された転写パターンを転写するナノインプリント技術が研究開発されている（たとえば、非特許文献１参照）。
【０００３】
また、従来、図１３で示すような転写装置３０１が知られている。転写装置３０１は、除振台３０２とベース（基板保持用チャック；被成形体保持体）３０３と転写部３０５とモールド支持部３０７とを備えて構成されている。
【０００４】
ベース３０３は、除振台３０２に一体的に設けられており、板状の被成形体３０９をたとえば真空吸着によって保持するようになっている。
【０００５】
転写部３０５は、図１３の紙面に直交する方向に延びている中心軸Ｃ１３ａ，Ｃ１３ｂを回転中心にしサーボモータ（図示せず）によって回転する一対のローラ３１１Ａ，３１１Ｂと、この一対のローラ３１１Ａ，３１１Ｂをサーボモータ３１３により上下方向で移動位置決めするローラ駆動部３１５と、紫外線発生装置３１７とを備えて構成されている。
【０００６】
また、転写部３０５（一対のローラ３１１Ａ，３１１Ｂや紫外線発生装置３１７）は、サーボモータを含む駆動装置（図示せず）によって、除振台３０２に対して水平方向（図１３の左右方向）で移動位置決め自在になっている。
【０００７】
モールド支持部３０７で支持されるモールド３２３は、薄い板状に形成されており、厚さ方向の一方の面（図１３では、モールド３２３の下側の面）に微細な転写パターン（図１３では図示せず）が形成されている。
【０００８】
モールド支持部３０７は、第１のチャック部（第１の保持部）３１９と第２のチャック部（第２の保持部）３２１とを備えて構成されている。
【０００９】
第１の保持部（第１の保持体）３１９は、除振台３０２の上面近傍でベース３０３の一端（図１３では右端）から側方（図１３では右方）に離れている。そして、モールド３２３の一端（図１３では右端）を把持して保持するようになっている。
【００１０】
第２の保持部（第１の保持体）３２１は、除振台３０２の上側でベース３０３の他端（図１３では左端）から側方（図１３では左方）に離れている。第２のチャック部３２１は、モールド保持体３２５と回動支持体３２７と支柱３２９と支柱支持体３３１とを備えて構成されている。
【００１１】
モールド保持体３２５は、モールド３２３の他端部を把持して保持するようになっている。回動支持体３２７は、モールド保持体３２５を支持している。回動支持体３２７に支持されているモールド保持体３２５は、図１３の紙面に直交する方向に延びている軸Ｃ１３ｃを中心にして、回動支持体３２７に対して回動するようになっている。
【００１２】
支柱３２９は、回動支持体３２７を支持している。支柱３２９に支持されている回動支持体３２７は、サーボモータ（図示せず）によって、支柱３２９に対し上下方向で移動位置決めされるようになっている。
【００１３】
支柱３２９は支柱支持体３３１に一体的に設けられている。支柱支持体３３１は、サーボモータ（図示せず）によって、除振台３０２に対し水平方向（図１３では左右方向）で移動位置決めされるようになっている。
【００１４】
次に、転写装置３０１を用いて、モールド３２３の微細な転写パターンを被成形体３０９に転写する場合について説明する。
【００１５】
まず、初期状態では、モールド支持部３０７でモールド３２３が支持されており、ベース３０３に被成形体３０９が設置されており、各ローラ３１１Ａ，３１１Ｂが、ベース３０３の右端から右側に離れているものとする。
【００１６】
また、上記初期状態では、モールド３２３の左右方向の中間部がローラ３１１Ａの下部に巻き掛けられており、上下方向におけるローラ３１１Ａの下端とベース３０３の上面との間の距離は、モールド３２３の厚さと被成形体３０９の厚さの和程度になっている。
【００１７】
また、上記初期状態では、ローラ３１１Ａと第１のチャック部３１９との間でモールド３２３が水平方向に延びており（ローラ３１１Ａよりも右側に位置しているモールド３２３が水平方向に延びており）、ローラ３１１Ａと第２のチャック部３２１との間でモールド３２３が斜め上方に延びている（ローラ３１１Ａよりも左側に位置しているモールド３２３が斜め上方に延びている）。
【００１８】
さらに、上記初期状態では、モールド３２３が、所定の張力を持って緩みの無い状態になっており、図１３の紙面に直交する方向で所定の幅になっており、モールド３２３とベース３０３に設置されている被成形体３０９とは非接触の状態になっている。
【００１９】
上記初期状態から、転写部３０５（各ローラ３１１Ａ，３１１Ｂや紫外線発生装置３１７）を左側に移動して、ローラ３１１Ａ（ローラ３１１Ｂはバックアップローラ）とベース３０３とで協働して被成形体３０９とモールド３２３とを挟み込んで押圧し、紫外線発生装置３１７から被成形体３０９に紫外線を照射して、被成形体３０９（被成形体３０９の紫外線硬化樹脂３３３）にモールド３２３に形成されている微細な転写パターン（図１３では図示せず）を転写する。
【００２０】
転写が終了したときには、転写部３０５（各ローラ３１１Ａ，３１１Ｂや紫外線発生装置３１７）が、ベース３０３の左端から左側に離れるようになっている。
【００２１】
転写部３０５を図１３の左右方向で移動するとき、モールド３２３の形態が変化することにあわせて（モールド３２３の張力を一定にしモールド３２３に弛みが発生しないようにする等のために）、回動支持体３２７を支柱３２９に対して上下方向で移動位置決めし、支柱支持体３３１を除振台３０２に対して左右方向で移動位置決めしている。
【００２２】
なお、上記従来の技術に関連する特許文献として、たとえば特許文献１を掲げることができる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００２３】
【特許文献１】特開２０１０−２８００６５号公報
【非特許文献】
【００２４】
【非特許文献１】Precision Engineering Journal of the International Societies for Precision Engineering and Nanotechnology 25(2001) 192-199
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００２５】
ところで、従来の転写装置３０１では、モールド３２３がよれていたり、図９に示すように、モールド３２３が曲がっている状態（矩形状のモールド３２３の一方の辺３２３Ａに対して他方の辺３２３Ｂが非平行な状態）で、第１の保持部３１９と第２の保持部３２１とに取り付けられていると、転写（インプリント）するときに、モールドが横にずれていく等して、転写の精度が悪化するという問題がある。
【００２６】
なお、モールドが大きくなるほどモールドの取り付け精度が悪化しやすくなり、上記問題が顕著になる。
【００２７】
本発明は、上記問題点に鑑みてなされたものであり、シート状のモールドに形成されている微細な転写パターンを被成形体に転写する転写装置において、モールドの取り付けが若干曲がってなされていても、転写の精度が悪化することを防止することができる転写装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００２８】
請求項１に記載の発明は、シート状のモールドに形成されている微細な転写パターンを被成形体に転写する転写装置において、前記シート状のモールドの一端部を保持する第１の保持部と、前記シート状のモールドの他端部を保持する第２の保持部と、前記各保持部で保持しているモールドに引張り力を付与する引張り力付与部と、前記引張り力付与部で引張り力が付与されているモールドに皺が生成されることを防止するために、前記第１の保持部に対する前記第２の保持部の姿勢を調整する姿勢調整部とを有する転写装置である。
【００２９】
請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の転写装置において、前記引張り力付与部で引張り力が付与されているモールドの引張り力を測定する複数の引張り力測定部を備え、前記姿勢調整部は、前記各引っ張り力測定部で測定している引っ張り力がお互いに等しくなるように、前記第２の保持部を前記第１の保持部に対して回動位置決めする構成である転写装置である。
【００３０】
請求項３に記載の発明は、請求項２に記載の転写装置において、前記姿勢調整部は、前記各引っ張り力測定部で測定している引っ張り力がお互いに等しくなるように、前記第２の保持部を前記第１の保持部に対し直線的に移動位置決めする構成である転写装置である。
【００３１】
請求項４に記載の発明は、請求項２または請求項３に記載の転写装置において、前記第１の保持部は、一対のクランプ爪により前記モールドを挟み込んで保持するように構成されており、前記第２の保持部は、一対のクランプ爪により前記モールドを挟み込んで保持するように構成されており、前記第２の保持部の一対のクランプ爪は、前記姿勢調整部を構成するベース体に対して前記引っ張り力の付与方向で移動自在になっており、前記引っ張り力測定部は、前記クランプ爪と前記ベース体との間に設けられているロードセルとロードセル押圧体と弾性体とを備えて構成されており、前記ロードセル押圧体が前記弾性体を介して前記ロードセルに押圧力を加えるように構成されている転写装置である。
【００３２】
請求項５に記載の発明は、請求項１〜請求項４のいずれか１項に記載の転写装置を用いて微細な転写パターンが形成された被成形体である。
【発明の効果】
【００３３】
本発明によれば、シート状のモールドに形成されている微細な転写パターンを被成形体に転写する転写装置において、モールドの取り付けが若干曲がってなされていても、転写の精度が悪化することを防止することができるという効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【００３４】
【図１】本発明の実施形態に係る転写装置の概略構成を示す図である。
【図２】図１におけるＩＩ矢視図であって、第２の保持部等の構成を示す図である。
【図３】図２におけるＩＩＩ矢視図である。
【図４】図２におけるＩＶ矢視図である。
【図５】図２におけるＶ部の拡大図である。
【図６】図５におけるＶＩ矢視図である。
【図７】図５におけるＶＩＩ矢視図である。
【図８】第１の保持部と第２の保持部等でモールドを保持した状態を模式的に示す図であり、（ａ）は図２等に対応する図であり、（ｂ）は（ａ）におけるＶＩＩＩ矢視図であって図４対応する図である。
【図９】図８（ａ）に対応する図であって、モールドが曲がっている状態を示す図である。
【図１０】本発明の実施形態に係る転写装置の動作を示す図である。
【図１１】本発明の実施形態に係る転写装置の動作を示す図である。
【図１２】転写について説明する図である。
【図１３】従来の転写装置を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００３５】
本発明の実施形態に係る転写装置１は、たとえば矩形なシート状（薄い板状）のモールドＭの厚さ方向の一方の面に形成されている微細な転写パターンＭ１を被成形体Ｗに転写する装置であり（図１２参照）、第１の保持部３と第２の保持部５と引張り力付与部７と姿勢調整部９とを備えて構成されている（図１等参照）。
【００３６】
転写装置１を用いて微細な転写パターンＷ１が形成された被成形体Ｗ（図１２（ｂ）参照）は、たとえば、導光板、光学フィルタ等の光学素子として使用される。
【００３７】
ここで、説明の便宜のために水平な一方向をＸ軸方向とし、水平な他の一方向であってＸ軸方向に対して直交する方向をＹ軸方向とし、Ｘ軸方向とＹ軸方向とに対して直交する上下方向をＺ軸方向とする。
【００３８】
また、モールドＭの一部（図１の第１のローラ１３の左側の部位）における、お互いが直交する方向を、Ｕ軸方向、Ｖ軸方向、Ｗ軸方向とする（図１参照）。Ｗ軸は、Ｙ軸と平行な軸であり、Ｕ軸は、Ｗ軸に直交しＺ軸に対して所定の角度だけ傾斜している。Ｖ軸は、Ｗ軸とＵ軸とに直交しＸ軸に対して所定の角度だけ傾斜している。Ｕ軸のＺ軸に対する傾斜角度と、Ｖ軸のＸ軸に対する傾斜角度とは、お互いが等しくなっており、第１のローラ１３の位置によって変化するようになっている。
【００３９】
第１の保持部３は、シート状のモールドＭの長手方向（Ｘ軸方向）の一端部をモールドＭの幅（Ｙ軸方向の寸法）の全幅にわたって保持するように構成されている。
【００４０】
第２の保持部５は、シート状のモールドＭの長手方向（Ｖ軸方向）の他端部をモールドＭの幅（Ｗ軸方向の寸法）の全幅にわたって保持するように構成されている。
【００４１】
引張り力付与部７は、各保持部３，５で保持しているモールドＭに、モールドＭの長手方向（Ｘ軸方向；Ｖ軸方向）で各保持部３，５を介して引張り力を付与するように構成されている。
【００４２】
姿勢調整部９は、各保持部３，５で保持され引張り力付与部７で引張り力が付与されているモールドＭに皺（撓み、張りムラ）が生成されることを防止するために、第１の保持部３に対する第２の保持部５の姿勢（たとえば、所定の方向に延びた軸まわりの回動角度）を調整するように構成されている。
【００４３】
また、転写装置１には、被成形体保持体（被成形体設置体）１１と第１のローラ１３と第２のローラ１５とが設けられている。被成形体保持体１１は、被成形体Ｗを保持するものである。
【００４４】
第１のローラ１３には、各保持部３，５で保持され引張り力付与部７で引張り力が付与され姿勢調整部９で姿勢が調整されているモールドＭが巻き掛けられるようになっている。また、第１のローラ１３は、巻き掛けられたモールドＭと被成形体保持体１１に保持されている被成形体Ｗとを、転写をするために被成形体保持体１１と協働して挟み込み、Ｙ軸方向に延びた中心軸Ｃ２を回転中心にして回転しモールドＭの長手方向（Ｘ軸方向）で被成形体保持体１１に対して相対的に移動するようになっている。
【００４５】
図１に示す第１のローラ１３の右側では、モールドＭは水平方向に展開している。すなわち、モールドＭの厚さ方向がＺ軸方向になっており、モールドＭの長手方向がＸ軸方向になっており、モールドＭの幅方向がＹ軸方向になっている。
【００４６】
図１に示す第１のローラ１３の左側では、モールドＭは斜めに展開している。すなわち、モールドＭは、第１のローラ１３から左上方に向かって展開しており、この展開しているモールドＭの厚さ方向がＵ軸方向になっており、上記展開しているモールドＭの長手方向がＶ軸方向になっており、上記展開しているモールドＭの幅方向がＷ軸方向になっている。
【００４７】
また、上述したように、Ｕ軸、Ｖ軸のＺ軸、Ｘ軸に対する傾斜角度は、第１のローラ１３のＸ軸方向での移動量に応じて変化するようになっている。
【００４８】
第２のローラ１５は、第１のローラ１３のバックアップローラとして働くようになっており、Ｙ軸方向に延びた中心軸Ｃ３を回転中心にし、第１のローラ１３に対してころがり対偶をなして回転するようになっている。
【００４９】
また、転写装置１には、図２等で示すように、複数の（たとえば３つの）引張り力測定部１７（１７Ａ，１７Ｂ，１７Ｃ）が設けられている。各引張り力測定部１７Ａ〜１７Ｃの構成は、お互いが同じになっている。
【００５０】
各引張り力測定部１７は、各保持部３，５で保持され引張り力付与部７で引張り力が付与されているモールドＭの引張り力を、それぞれが測定するようになっている。
【００５１】
また、各引張り力測定部１７は、お互いの位置が異なる複数箇所でモールドＭの引っ張り力を測定するようになっている。さらに詳しくは、各引張り力測定部１７Ａ〜１７Ｃは、図２等で示すように、モールドＭの厚さ方向（Ｕ軸方向）と長手方向（Ｖ軸方向）とに直交する方向（Ｗ軸方向）で所定の間隔をあけて設けられており、モールドＭの幅方向の複数箇所（モールドＭの幅方向の一端の近傍、中央、他端の近傍）で、モールドＭの長手方向（Ｘ軸方向、Ｖ軸方向における引張り力）の引っ張り力を測定するようになっている。
【００５２】
また、姿勢調整部９は、各引っ張り力測定部１７で測定している引っ張り力がお互いに等しくなるように（各引っ張り力の値の総てが所定の閾値内におさまるように、または、各引っ張り力の差が所定の閾値内におさまるように）、第２の保持部５を第１の保持部３に対して、たとえば回動位置決めするように構成されている。
【００５３】
すなわち、第２の保持部５は、各保持部３，５で保持され引張り力付与部７で引張り力が付与されているモールドＭの厚さ方向に延びている軸（たとえばＵ軸と平行な軸；Ｚ軸と平行な軸でもよい。）Ｃ４を中心にして第２の保持部５を回動することで、各引っ張り力測定部１７で測定している引っ張り力がお互いに等しくなるようにしている。
【００５４】
第２の保持部５の回動位置決めは、たとえば、回動ステージ（α軸ゴニオステージ）１９を用いてなされるようになっている。
【００５５】
さらに説明すると、転写装置１には、各引っ張り力測定部１７で測定している引っ張り力を表示する表示部（図示せず）が設けられている。そして、転写装置１のオペレータが、表示部に表示されている各引っ張り力の値を見ながら、各引っ張り力の値がお互いにほぼ等しくなるように回動ステージ（回転ステージ）１９の図示しないツマミ（ハンドル）を操作（たとえば回転位置決め）することで、第２の保持部５の回動位置決めがなされるようになっている。
【００５６】
なお、図示しない制御装置（ＣＰＵを含む制御装置）の制御の下、各引っ張り力測定部１７で測定している引っ張り力に応じ、回動ステージ１９のツマミをサーボモータ等のアクチュエータを用いて回動位置決めし、第２の保持部５の回動位置決めがなされるように構成されていてもよい。
【００５７】
また、転写装置１の姿勢調整部９で、上述した回動位置決め（第２の保持部５を第１の保持部３に対し回動位置決めすること）に代えてもしくは加えて、第２の保持部５を第１の保持部３に対し直線的（モールドＭの幅方向；Ｙ軸方向やＷ軸方向）に、移動位置決めするようにしてもよい。
【００５８】
そして、上記直線的な移動位置決めによって、各引っ張り力測定部１７で測定している引っ張り力がお互いに等しくなるようにしてもよい。
【００５９】
この場合、第２の保持部５の移動位置決めは、たとえば、一軸ステージ（Ｘ軸ステージ）２１を用いてなされるようになっている。
【００６０】
さらに説明すると、回動ステージ１９の場合と同様にして、表示部に表示されている各引っ張り力の値を見ながら、各引っ張り力の値がお互いにほぼ等しくなるように一軸ステージ２１の図示しないツマミ（ハンドル）を操作（たとえば回転位置決め）することで、第２の保持部５の回動位置決めがなされるようになっていてもよい。
【００６１】
なお、回動ステージ１９の場合と同様にして、図示しない制御装置（ＣＰＵを含む制御装置）の制御の下、各引っ張り力測定部１７で測定している引っ張り力に応じ、一軸ステージ２１のツマミをサーボモータ等のアクチュエータを用いて回動位置決めし、第２の保持部５の位置決めがなされるように構成されていてもよい。
【００６２】
また、転写装置１の姿勢調整部９が、上述したＺ軸に平行な軸まわりでの回動位置決めやＹ軸方向での移動位置決めに代えてもしくは加えて、Ｖ軸に平行な軸まわり（Ｘ軸に平行な軸まわりでもよい。）での回動位置決めをするようにしてもよい。この場合、Ｖ軸まわりでの回動位置決めも、Ｚ軸まわりの回動位置決めと同様にして、たとえば、回動ステージを用いてされるものとする。
【００６３】
また、第２の保持部５に姿勢を調整することに代えてもしくは加えて、第１の保持部３の姿勢を調整することで、各保持部３，５で保持され引張り力付与部７で引張り力が付与されているモールドＭに皺が生成されることを防止するようにしてもよい。
【００６４】
ところで、第１の保持部３は、一対のクランプ爪２３によりモールドＭをこの厚さ方向で挟み込んで保持するように構成されている。第２の保持部５も、一対のクランプ爪２５によりモールドＭをこの厚さ方向で挟み込んで保持するように構成されている。
【００６５】
第２の保持部５の一対のクランプ爪２５は、姿勢調整部９を構成するベース体２７に支持されているとともに、ベース体２７に対して引っ張り力の付与方向（Ｖ軸方向）で移動自在になっている。
【００６６】
引っ張り力測定部１７は、図７等で示すように、第２の保持部５の一対のクランプ爪２５とベース体２７との間に設けられているロードセル２９とロードセル押圧体３１と弾性体（たとえば圧縮コイルばね）３３とを備えて構成されている（ロードセル２９とロードセル押圧体３１と弾性体３３とが、直列につながって設けられている。
【００６７】
そして、引っ張り力測定部１７は、ロードセル押圧体３１が弾性体３３を介してロードセル２９に押圧力を加えるように構成されている。
【００６８】
すなわち、各保持部３，５で保持されているモールドＭにこの長手方向で引張り力を加えることで、第２の保持部５のクランプ爪２５が力を受け、ロードセル２９とロードセル押圧体３１と弾性体３３とが圧縮力を受け、この圧縮力によって、ロードセル２９に押圧力が加えられ、この押圧力をロードセル２９で測定し、引っ張り力測定部１７での引っ張り力とするように構成されている。
【００６９】
なお、弾性体３３による付勢力（ロードセル押圧体３１がロードセル２９を押す力）は、詳しくは後述するが、たとえば、調整自在になっている。
【００７０】
ところで、シート状のモールドＭの微細な転写パターンＭ１は、ピッチや高さが、たとえば可視光線の波長程度である凹凸で形成されている。転写によって、モールドＭに形成されている転写パターンＭ１が被成形体Ｗに転写され、モールドＭに形成されている転写パターンＭ１とは逆形態の転写パターンＷ１が被成形体Ｗに形成されるようになっている（図１２参照）。
【００７１】
シート状のモールドMは、シート状の基材（モールド用基材）Ｍ２と転写パターン形成体Ｍ３とで構成されている。
【００７２】
また、モールドＭは、可撓性を備えている。さらに説明すると、シート状のモールドＭは、この厚さ方向に対して直交する方向の引張り力が加えられても弾性変形をほとんどせずほぼ剛体とみなせるが、紙幣等のように厚さ方向でめくれるような変形（厚さ方向に対して直交する方向に延伸している軸まわりのモーメントによる変形）を容易にするようになっている。したがって、モールドＭは、この厚さ方向が円柱状の第１のローラ１３の径方向と一致して、第１のローラ１３の外周の容易に巻き付くことができるようになっている。
【００７３】
シート状のモールド用基材Ｍ２は、たとえば、紫外線が透過可能なＰＥＴ樹脂等の樹脂材料で板状に形成されている。
【００７４】
微細な転写パターンＭ１が形成されている転写パターン形成体Ｍ３は、たとえば、紫外線が透過可能な硬化した紫外線硬化樹脂（熱硬化性樹脂や熱可塑性樹脂等の他の樹脂であってもよい。）で薄い膜状に形成されている。転写パターン形成体Ｍ３は、この厚さ方向がモールド用基材Ｍ２の厚さ方向と一致するようにして、シート状のモールド用基材Ｍ２の厚さ方向の一方の面でモールド用基材Ｍ２に一体に設けられている。
【００７５】
転写パターン形成体Ｍ３の微細な転写パターンＭ１は、転写パターン形成体Ｍ３の表面（厚さ方向における一方の面であって、モールド用基材Ｍ２に接している面とは反対の面）に形成されている。なお、転写パターン形成体Ｍ３の微細な転写パターンＭ１は、図示しないマスターモールドに形成されている微細な転写パターンを転写することで生成されたものである。
【００７６】
モールド用基材Ｍ２は、たとえば、たとえば、幅寸法が１．０ｍ〜１．５ｍである矩形な板状に形成されており、モールド用基材Ｍ２の幅寸法（従来のモールド３２３と同様な幅寸法；Y軸方向の寸法）はモールド用基材Ｍ２の厚さ寸法に比べてかなり大きくなっており、モールド用基材Ｍ２の長さ寸法（Ｘ軸方向の寸法）は、モールド用基材Ｍ２の幅寸法よりもたとえば、大きくなっている。
【００７７】
転写パターン形成体Ｍ３も、たとえば、矩形な板状に形成されている。転写パターン形成体Ｍ３は、幅方向がモールド用基材Ｍ２の幅方向と一致し、長さ方向がモールド用基材Ｍ２の長さ方向と一致するようにしてモールド用基材Ｍ２に設けられている。
【００７８】
転写パターン形成体Ｍ３の幅寸法は、たとえば、モールド用基材Ｍ２の幅寸法よりも若干小さくなっている。そして、モールドＭの幅方向の両端部には、転写パターン形成体Ｍ３が非存在である部位が存在している。
【００７９】
また、転写パターン形成体Ｍ３の長さ寸法は、たとえば、モールド用基材Ｍ２の長さ寸法よりも小さくなっている（たとえば１／３程度になっている）。そして、モールドＭの幅方向の両端部には、転写パターン形成体Ｍ３が非存在である部位が存在している。各クランプ爪２３，２５は、転写パターン形成体Ｍ３が非存在である部位（モールド用基材Ｍ２のみ）を保持するようになっている。
【００８０】
被成形体Ｗは、基材（被成形体用基材）Ｗ２と被成形物Ｗ３とを備えて構成されている。
【００８１】
シート状の被成形体用基材Ｗ２は、たとえば、ＰＥＴ樹脂等の樹脂材料で板状に形成されている。シート状のモールドＭの微細な転写パターンＭ１が転写されて形成される被成形物Ｗ３は、たとえば、紫外線硬化樹脂（熱硬化性樹脂や熱可塑性樹脂等の他の樹脂であってもよい。）で薄い膜状に形成されている。
【００８２】
被成形体用基材Ｗ２は、たとえば矩形な板状に形成されている。被成形体用基材Ｗ２の幅寸法は、モールド用基材Ｍ２の幅寸法と同程度になっており、被成形体用基材Ｗ２の長さ寸法は、シート状のモールド用基材Ｍ２に設けられている転写パターン形成体Ｍ３の長さ寸法よりも若干長くなっている。
【００８３】
被成形物Ｗ３も矩形な板状になって設けられている。被成形物Ｗ３は、この厚さ方向が被成形体用基材Ｗ２の厚さ方向と一致するようにして、シート状の被成形体用基材Ｗ２の厚さ方向の一方の面で被成形体用基材Ｗ２に設けられている。また、被成形物Ｗ３は、幅方向が被成形体用基材Ｗ２の幅方向と一致しており、長さ方向が被成形体用基材の長さ方向と一致している。被成形物Ｗ３の幅寸法や長さ寸法は、転写パターン形成体Ｍ３のものと同程度になっている。
【００８４】
そして、モールドＭの微細な転写パターンＭ１を被成形体Ｗ（被成形物Ｗ３）に転写するときには、モールドＭの転写パターン形成体Ｍ３のほぼ総てと被成形体Ｗの被成形物Ｗ３のほぼ総てとがお互いに重なって密着するようになっている。
【００８５】
被成形物Ｗ３の微細な転写パターンＷ１は、被成形物Ｗ３の表面（厚さ方向における一方の面であって、被成形体用基材Ｗ２に接している面とは反対の面）に形成されるようになっている。
【００８６】
被成形物Ｗ３が紫外線硬化樹脂や熱硬化性樹脂である場合、モールドＭの微細な転写パターンＭ１が転写される前の被成形物（未硬化の樹脂）Ｗ３は、液体状もしくは流動体状になっている。転写がなされるときに、被成形物Ｗ３が硬化し、転写終了時には、被成形物Ｗ３は硬化している。
【００８７】
被成形体保持体１１は、被成形体Ｗを保持するようになっている。
【００８８】
被成形体保持体１１は、たとえば、矩形な平板状に形成されており、被成形体Ｗを保持するための平面（厚さ方向の一方の面；上面；被成形体設置面）３９を備えている。被成形体Ｗは、この裏面（被成形体用基材Ｗ２の厚さ方向の一方の面であって被成形物Ｗ３が設けられている面とは反対側の面）の全面が、被成形体保持体１１の被成形体設置面３９に面接触し、たとえば真空吸着によって、被成形体保持体１１に保持されるようになっている。
【００８９】
被成形体保持体１１に設置された被成形体Ｗは、この幅方向、長さ方向が被成形体保持体１１の幅方向（Ｙ軸方向）、長さ方向（Ｘ軸方向）と一致している。
【００９０】
第１のローラ１３は、円柱状に形成されてモールドＭが巻き掛けられるように構成されている。第１のローラ１３は、巻き掛けられたモールドＭと被成形体保持体１１に保持されている被成形体Ｗとを、上述した転写をするために被成形体保持体１１と協働してＺ軸方向で挟み込むようになっている。
【００９１】
そして、第１のローラ１３は、Ｙ軸方向の延びた中心軸Ｃ２を回転中心にして回転し被成形体保持体１１に対して相対的にＸ軸方向に移動することで、挟み込んでいるモールドＭと被成形体Ｗとの部位が移動するようになっている。
【００９２】
第２のローラ１５も、円柱状に形成されており、たとえば、第１のローラ１３よりもＺ軸方向で被成形体保持体１１から離れている。そして、第２のローラ１５は、第１のローラの中心軸Ｃ１と平行な中心軸Ｃ２を回転中心にし、第１のローラ１３ところがり対偶をなし同期して回転し、被成形体保持体１１に対して第１のローラ１３とともに相対的に移動するようになっている。
【００９３】
第１のローラ１３の外径と第２のローラ１５の外径とはお互いがほぼ等しくなっており、第１のローラ１３の長さ（幅）と第２のローラ１５の長さ（幅）とはお互いがほぼ等しくなっている。
【００９４】
第１のローラ１３の幅寸法（Ｙ軸方向の寸法）は、モールドＭの幅寸法よりも僅かに大きくなっている。第１のローラ１３の軸Ｃ１の延伸方向（幅方向）は、巻き掛けられているモールドＭや被成形体保持体１１に保持されている被成形体Ｗの幅方向と一致しており、
第１のローラ１３の幅方向の中心と、巻き掛けられているモールドＭや被成形体保持体１１に保持されている被成形体Ｗの幅方向の中心とは、お互いが一致している。
【００９５】
また、第１のローラ１３は、被成形体保持体１１の被成形体設置面３９に直交する方向（Ｚ軸方向）で移動位置決め自在になっている。
【００９６】
第１のローラ１３が、モールドＭと被成形体保持体１１に保持されている被成形体Ｗとを被成形体保持体１１と協働して挟み込んでいるとき、第１のローラ１３の中心軸Ｃ２と被成形体設置面３９との間の距離は、第１のローラ１３の半径とモールドＭの厚さと被成形体Ｗの厚さとの和とほぼ等しいか、ごく僅かに小さくなっている。これによって上述した挟み込みがなされるようになっている。
【００９７】
第１のローラ１３に巻き掛けられているモールドＭは、第１のローラ１３に僅かな長さ（１／１０周程度）に巻き掛けられている。
【００９８】
第１のローラ１３に巻き掛けられているモールドＭは、モールド用基材Ｍ２の裏面（厚さ方向の他方の面であって転写パターン形成体Ｍ３が設けられている面とは反対側の面）が、第１のローラ１３の外周に面接触している。
【００９９】
第１のローラ１３に巻き掛けられ第１のローラ１３から延出しているモールドＭの長手方向の一方の側（図１で第１のローラ１３の右側のモールドＭ）は、被成形体設置面３９から僅かに離れ（被成形体Ｗの厚さ程度離れ）、被成形体設置面３９と平行になって、被成形体保持体１１の長さ方向（Ｘ軸方向）の一端側に延出している。
【０１００】
第２のローラ１５は、たとえば、第１のローラ１３を間にして、被成形体保持体１１とは反対側に位置している。また、被成形体設置面３９に対して直交する方向（Ｚ軸方向）から見ると、第１のローラ１３と第２のローラ１５とはお互いが重なっている。
【０１０１】
第１のローラ１３に巻き掛けられ第１のローラ１３から延出しているモールドＭの長手方向の他方の側（図１で第１のローラ１３の左側のモールドＭ）は、被成形体保持体１１から離れるようにして、斜め上方に延出している。
【０１０２】
第２のローラ１５の中心軸Ｃ２の第１のローラ１３の中心軸Ｃ１に対する位置関係は常に一定であり、第２のローラ１５は、第１のローラ１３といっしょになって、被成形体保持体１１の被成形体設置面３９に直交する方向（Ｚ軸方向）で移動位置決め自在になっている。
【０１０３】
各ローラ１３，１５は、上述したように、被成形体Ｗの長手方向（Ｘ軸方向）でも被成形体保持体１１に対して相対的に移動自在になっている。すなわち、各ローラ１３，１５は、被成形体保持体１１の長手方向で、被成形体保持体１１の長手方向の一端から僅かに離れた位置（図１０参照）と、被成形体保持体１１の長手方向の他端から僅かに離れた位置（図１１参照）との間で、移動するようになっている。
【０１０４】
被成形体保持体１１に被成形体Ｗが設置され、モールドＭが第１のローラ１３に巻き掛けられ、第１のローラ１３が被成形体設置面３９に対して直交する方向（Ｚ軸方向）で、被成形体設置面３９から被成形体Ｗの厚さとモールドＭの厚さとの和程度の距離（転写をするための距離）だけ離れており、各ローラ１３，１５が被成形体保持体１１の長手方向の一端から僅かに離れたところに位置している状態（初期状態；図１０参照）では、第１のローラ１３から第２の保持部５（右側）に延出しているモールドＭが、斜めになって被成形体保持体１１の真上に位置しており、この延出しているモールドＭの下面に、微細な転写パターンＭ１（図１、図１０、図１１等では図示せず）は存在している。
【０１０５】
図１０に示す上記初期状態から、各ローラ１３，１５が被成形体保持体１１の長手方向の他端側（図１０の左側）に移動すると、第１のローラ１３と被成形体保持体１１とで挟み込んでいるモールドＭと被成形体Ｗとの部位（被成形体保持体１１の幅方向に延びている直線状の部位）が、移動するようになっている（図１参照）。この移動は、各ローラ１３，１５が被成形体保持体１１の長手方向の他端から僅かに離れるまでなされる（図１１参照）。上記移動をするとき、各ローラ１３，１５とモールドＭとの間、モールドＭと被成形体Ｗとの間には、当然に滑りは発生していない。また、第１のローラ１３は、モールドＭを間にし、被成形体保持体１１に設置された被成形体Ｗに対して、ころがり対偶をなしている。
【０１０６】
また、転写装置１には、被成形体Ｗの被成形物Ｗ３が、紫外線硬化樹脂である場合、被成形物Ｗ３を硬化させるための紫外線発生装置４１が設けられている。紫外線発生装置４１は、各ローラ１３，１５とともに移動位置決めされるようになっている。そして、第１のローラ１３と被成形体保持体１１とが被成形体ＷとモールドＭとを挟み込んでいるところの近傍に紫外線を照射し、被成形体Ｗの被成形物Ｗ３を硬化させ、モールドＭの微細な転写パターンＭ１が被成形体Ｗに転写されるようになっている。
【０１０７】
すなわち、各ローラ１３，１５をＸ軸方向で移動しているときに、各ローラ１３，１５の後側（被成形体保持体１１の長手方向の他端側）でモールドＭを通して被成形体Ｗの被成形物Ｗ３に紫外線発生装置４１が発した紫外線を照射し、被成形物Ｗ３を図１等の右から左に向かって順に硬化するようになっている。
【０１０８】
この後、被成形体Ｗに貼り付いているモールドＭを、たとえば別の装置を用いて、被成形体Ｗから剥がすことで、微細な転写パターンＷ１が形成された被成形体Ｗを得ることができる（図１２（ｂ）参照）。
【０１０９】
転写装置１についてさらに説明する。
【０１１０】
転写装置１には、除振台４３が設けられている。除振台４３は架台４５の上部で架台４５に一体的に設けられている。被成形体保持体１１は、除振台４３の上面で除振台４３に一体的に設けられている。
【０１１１】
除振台４３の上方には、ローラ支柱４７が設けられている。ローラ支柱４７は、図示しないリニアガイドベアリングを介して除振台４３に支持されており、Ｘ軸方向で除振台４３に対して移動するようになっている。
【０１１２】
また、ローラ支柱４７は、図示しないサーボモータ等のアクチュエータやボールネジによって、制御装置の制御の下、除振台４３（被成形体保持体１１）に対してＸ軸方向で移動位置決めされるようになっている。
【０１１３】
ローラ支柱４７には、リニアガイドベアリング４９を介してローラ支持体５１が支持されている。ローラ支持体５１は、Ｚ軸方向でローラ支柱４７に対して移動するようになっている。また、ローラ支持体５１は、サーボモータ５３等のアクチュエータとボールネジ５５によって、制御装置の制御の下、ローラ支柱４７（除振台４３、被成形体保持体１１）に対してＺ軸方向で移動位置決めされるようになっている。
【０１１４】
ローラ支持体５１は各ローラ１３，１５を回転自在に支持している。これにより、各ローラ１３，１５は、X軸方向およびＺ軸方向で被成形体保持体１１に対して移動位置決め自在になっている。
【０１１５】
なお、各ローラ１３，１５は、図示しないサーボモータ等のアクチュエータで同期して回転するようになっているが、ローラ支持体５１が各ローラ１３，１５をフリーの状態で回転自在に支持している構成であってもよい。
【０１１６】
また、ローラ支持体５１には、紫外線発生装置４１が一体的に設けられている。
【０１１７】
なお、ローラ支柱４７を移動位置決めすることに代えてもしくは加えて、被成形体保持体１１を除振台４３に対して移動位置決めするように構成されていてもよい。
【０１１８】
第１の保持部３（クランプ爪２３）は、除振台４３の上側で除振台４３の上面近傍に設置されている。また、第１の保持部３は、Ｘ軸方向では、除振台４３の一端近傍に設けられている。
【０１１９】
第２の保持部５（クランプ爪２５）は、除振台４３の上側に設置されている。また、第２の保持部５は、Ｘ軸方向では、除振台４３の他端近傍に設けられている。各保持部３，５で保持しているモールドＭは、転写の際、第１のローラ１３と第１の保持部３とが被成形体保持体１１の上面３９の近傍に位置しており、第２の保持部５が、被成形体保持体１１や第１の保持部３よりも上方に位置していることで、第１のローラ１３の右側では、被成形体保持体１１の近傍で水平方向に延伸しており、第１のローラ１３の左側では、第１のローラ１３から斜め上方に延伸している。
【０１２０】
引張り力付与部７は、第２の保持部５をＸ軸、Ｚ軸方向に適宜移動位置決めすることで、各保持部３，５で保持しているモールドＭにＸ軸方向やＶ軸方向で引張り力を付与するようになっている。
【０１２１】
姿勢調整部９は、引張り力付与部７と第２の保持部５との間に配置されている。また、各ローラ１３，１５と紫外線発生装置４１とを備えて構成されている転写部５７は、各保持部３，５で保持しているモールドＭの中間部（Ｘ軸方向で中間部）に位置している。
【０１２２】
引張り力付与部７は、保持部移動体５９と保持部支柱６１と支柱支持体６３とを備えて構成されている。
【０１２３】
保持部移動体５９は、リニアガイドベアリング（図示せず）を介して保持部支柱６１に支持されており、Ｚ軸方向で保持部支柱６１に対して移動するようになっている。また、保持部移動体５９は、図示しないサーボモータ等のアクチュエータとボールネジによって、制御装置の制御の下、保持部支柱６１に対してＺ軸方向で移動位置決めされるようになっている。
【０１２４】
保持部支柱６１は、支柱支持体６３に一体的に設けられて支柱支持体６３から起立している。支柱支持体６３は、リニアガイドベアリング（図示せず）を介して除振台４３に支持されており、Ｘ軸方向で除振台４３に対して移動するようになっている。また、保持部支柱６１は、図示しないサーボモータ等のアクチュエータとボールネジによって、制御装置の制御の下、除振台４３に対してＸ軸方向で移動位置決めされるようになっている。
【０１２５】
これにより、保持部移動体５９は、X軸方向およびＺ軸方向で除振台４３（被成形体保持体１１）に対して移動位置決め自在になっている。
【０１２６】
そして、第２の保持部５が姿勢調整部９を介して保持部移動体５９に支持されていることで、制御装置の制御の下、保持部移動体５９の位置を適宜移動位置決めすれば、各保持部３，５で保持され第１のローラ１３に巻き掛けられている（第１のローラ１３で下方に押圧されている）モールドＭに、Ｘ軸方向（Ｖ軸方向）で張力を付与しこの張力を一定値に調整することができるとともに、図１等の第１のローラ１３の左側に存在しているモールドＭと、被成形体設置面３９との交差角度をたとえば一定に保つようになっている。
【０１２７】
姿勢調整部９は、図２に示すように、回動ステージ１９と一軸ステージ２１とを備えて構成されている。回動ステージ１９と一軸ステージ２１とは、保持部移動体５９と姿勢調整部９を支持しているアームベース６５との間に設けられている。
【０１２８】
さらに説明すると、回動ステージ１９は基台６７とテーブル６９とを備えて構成されている。一軸ステージ２１は基台７１とテーブル７３とを備えて構成されている。
【０１２９】
回動ステージ１９のテーブル６９は、Ｙ軸方向（Ｗ軸方向）の中央部でアームベース６５に一体的に設けられている。回動ステージ１９の基台６７は、一軸ステージ２１のテーブル７３に一体的に設けられている。一軸ステージ２１の基台は、保持部移動体５９に一体的に設けられている。
【０１３０】
そして、回動ステージ１９の図示しないツマミを回動位置決めすることで、回動ステージ１９のテーブル６９が、基台６７に対して、Ｚ軸方向に延びた軸Ｃ４を中心にして回動位置決めされるようになっている。また、一軸ステージ２１の図示しないツマミを回動位置決めすることで、一軸ステージ２１のテーブル７３が、基台７１に対して、Ｗ軸方向で移動位置決めされるようになっている。
【０１３１】
これにより、第２の保持部５の姿勢が姿勢調整部９により、Ｚ軸まわりで調整され、さらに、Ｗ軸方向で調整されるようになっている。
【０１３２】
なお、別の回動ステージをさらに設け、第２の保持部５の姿勢を、上述したように、Ｖ軸方向に延びた軸まわりでするようにしてもよい。
【０１３３】
さらには、回動ステージを設けることなく、第２の保持部５の姿勢が、Ｖ軸方向に延びた軸（クランプ爪２５の中心を通る軸）まわりで自由に変化するように（後述するベース体２７とアームベース６５との係合関係のように）構成にしてもよい。
【０１３４】
姿勢調整部９を構成するベース体２７は、アームベース６５に回動自在に支持されている。詳しく説明すると、図２に示すように、アームベース６５は、「コ」字状に形成されている。ベース体２７は、矩形な平板状に形成されており、アームベース６５の内側に設けられており、両端部がＷ軸方向に延びた軸Ｃ１を回動中心にして回動するようになっている。
【０１３５】
なお、ベース体２７が軸Ｃ１を中心にして回動することで、Ｘ軸とＶ軸とがお互いに平行になり、Ｚ軸とＵ軸とがお互いに平行になることがある。Ｙ軸とＷ軸とは、アームベース６５に対するベース体２７の回動角度にかかわらず、常にお互いが平行になっている。
【０１３６】
また、ベース体２７がアームベース６５に回動自在に支持されていることで、図１に示すように、第１のローラ１３と第２の保持部５（クランプ爪２５）との間で延びているモールドＭを適切に保持する（モールドＭに無理な想定外の力が加わらないように保持する）ことができるようになっている。
【０１３７】
引張り力測定部１７は、ベース体２７とロードセル２９とロードセル押圧体３１と圧縮コイルバネ３３とを備えて構成されている。
【０１３８】
ロードセル２９は、図５等で示すように、スペーサ７５を介してロードセル支持体７７に一体的に設けられている。ロードセル支持体７７には、ツメ支持体７９が一体的に設けられている。ツメ支持体７９には、一対のクランプ爪２５が設けられている。モールドＭは、一対のクランプ爪２５に挟まれて保持されている。
【０１３９】
ツメ支持体７９は、リニアガイドベアリング８１を介してベース体２７に支持されており、Ｖ軸方向でベース体２７に対して移動自在になっている。
【０１４０】
ベース体２７には、ネジ支持体８３が一体的に設けられている。ネジ支持体８３には、調整ネジ８５が一体的に設けられている。調整ネジ８５は、オスネジ部８７と円柱状のガイド部８９とが設けられている。調整ネジ８５のオスネジ部８７は、ネジ支持体８３に螺合している。調整ネジ８５の軸は、Ｖ軸方向に延びており、調整ネジ８５はネジ支持体８３からロードセル２９側に突出している。この突出長さは調整自在になっている。調整ネジ８５のガイド部８９は、ロードセル２９側に位置している。
【０１４１】
ロードセル２９とネジ支持体８３との間に存在しているオスネジ部８７には、バネ受け体９１が螺合している。バネ受け体９１は、Ｖ軸方向での位置が調整自在になっている。
【０１４２】
調整ネジ８５のガイド部８９には、ロードセル押圧体３１がＶ軸方向でスライド自在に係合している。ロードセル押圧体３１は、ロードセル２９に接触している。バネ受け体９１とロードセル押圧体３１との間には、圧縮コイルバネ３３が圧縮された状態で設置されている。これにより、ロードセル押圧体３１がロードセル２９図７の左側に押している。
【０１４３】
そして、ロードセル押圧体３１が弾性体３３を介してロードセル２９に押圧力を加えるように構成されている。
【０１４４】
さらに説明すると、たとえば図１０に示す状態でモールドＭに張力が加わっているとすると、図７に示す状態では、ベース体２７とネジ支持体８３と調整ネジ８５とバネ受け体９１とに対して、クランプ爪２５とツメ支持体７９とロードセル支持体７７とロードセル２９とが右側に移動するような力を受ける。そして、ロードセル２９が弾性体３３を介してロードセル押圧体３１より押されるようになっている。
【０１４５】
なお、転写装置１では、引張り力測定部１７（ロードセル２９）が３つ設けられているが、３つの引張り力測定部１７において、ネジ支持体８３に対する調整ネジ８５の位置の調整と調整ネジ８５に対するバネ受け体９１の位置の調整とが適宜されている。
【０１４６】
そして、モールドＭが各保持部３，５に正しく設置されており（図８参照）、各ロードセル２９での押圧力がお互いに等しければ、バネ受け体９１の位置の調整が適切になされていることになる（圧縮コイルバネ３３による押圧力の調整が適切になされていることになる）。
【０１４７】
なお、バネ受け体９１の位置の調整が適切になっている状態で、モールドＭが各保持部３，５に図９等に示すように傾いて設置されると、各ロードセル２９での押圧力は、お互いが異なった値になる。
【０１４８】
次に、転写装置１の動作について説明する。
【０１４９】
まず、初期状態として、各バネ受け体９１の位置の調整が適切になされており、図１０に示すように、各保持部３，５にモールドＭが設置され、モールドＭが第１のローラ１３に巻き掛けられ、各ローラ１３，１５がＺ軸方向で適宜位置決めされ被成形体保持体１１の右端から被成形体保持体１１の右側に僅かに離れているものとする。
【０１５０】
また、上記初期状態では、未硬化の被成形物Ｗ３が設けられている被成形体Ｗが被成形体保持体１１に保持されており、紫外線発生装置４１は紫外線を発していないものとする。
【０１５１】
なお、上記初期状態におけるモールドＭへの張力の付与は、たとえば、次のようにしてなされる。
【０１５２】
３つのロードセル２９が測定している３つの値を制御装置に入力し、この入力した値のうちの最大値が所定の値（転写をするときの目標値）になるように、制御装置に制御の下、支柱支持体６３や保持部移動体５９を移動位置決めすることでなされる。
【０１５３】
続いて、図示しない回動ステージ１９や一軸ステージ２１の回転ツマミを転写装置１のオペレータが操作し、３つのロードセル２９の測定値がお互いが等しくなるようにする。
【０１５４】
このとき、制御装置の制御の下、３つのロードセル２９による測定値が、所定の値（転写をするときの目標値）になるように、支柱支持体６３や保持部移動体５９が移動位置決めされる。
【０１５５】
続いて、図示しないスタートスイッチがオペレータによって押されると、各ローラ１３，１５を被成形体保持体１１の長手方向の他端側（図１０の左側）に移動する。これにより、第１のローラ１３と被成形体保持体１１とで挟み込んでいるモールドＭと被成形体Ｗとの部位が、図１０の右側から左側に向かって移動する（図１参照）。
【０１５６】
このときにも、制御装置の制御の下、３つのロードセル２９による測定値が、所定の値（転写をするときの目標値）になるように、支柱支持体６３や保持部移動体５９が移動位置決めされる。
【０１５７】
また、紫外線発生装置４１が、第１のローラ１３と被成形体保持体１１とが被成形体ＷとモールドＭとを挟み込んでいるところの近傍に紫外線を照射し、被成形体Ｗの被成形物Ｗ３を硬化させる。
【０１５８】
続いて、各ローラ１３，１５が被成形体保持体１１の長手方向の他端側に移動し終える（図１１参照）ことで、転写装置１の動作が終了する。
【０１５９】
続いて、被成形物Ｗ３が硬化しモールドＭが被成形体Ｗに貼り付いている状態において、別の装置を用いる等して、被成形体Ｗに貼り付いているモールドＭを、被成形体Ｗから剥がすことで、転写パターンＷ１が形成された被成形体Ｗ（図１２（ｂ）参照）を得ることができる。
【０１６０】
転写装置１によれば、第１の保持部３に対する第２の保持部５の姿勢を調整する姿勢調整部９を備えているので、モールドＭの取り付けが若干曲がってなされていても、姿勢調整部９で第１の保持部３に対する第２の保持部５の姿勢が調整され、転写をするときに、モールドＭが横ずれ等することが無くなり、転写の精度が悪化することを防止することができる。
【０１６１】
また、転写装置１によれば、姿勢調整部９での調整を各引張り力測定部１７で測定した引張り力の値を参照しながら行うことができ、姿勢調整部９での調整を一層正確かつ容易に行うことができる。
【０１６２】
また、転写装置１によれば、姿勢調整部９での調整を、第２の保持部５を第１の保持部３に対して回動位置決めすることに加えて、直線的に移動位置決めすることで行うので、モールドＭの取り付けがより大きく曲がってなされていても、姿勢調整部９での調整を確実に行うことができる。
【０１６３】
また、転写装置１によれば、引っ張り力測定部１７で、ロードセル押圧体３１が弾性体３３を介してロードセル２９に押圧力を加えるように構成されているので、ロードセル２９に急激に大きな力を加わりそうになっても、この力を弾性体３３で吸収することができ、ロードセル２９が破損することを防止することができる。
【０１６４】
また、各弾性体３３を介して、各保持部３，５で保持されているモールドＭに引張り力か加わるように構成されているので、モールドＭの幅方向でモールドＭにほぼ均等な引張り力を加えることができ、モールドＭに皺等が生成されることを一層確実に防止することができる。
【符号の説明】
【０１６５】
１  転写装置
３  第１の保持部
５  第２の保持部
７  引張り力付与部
９  姿勢調整部
１７  引張り力測定部
２３  第１の保持部のクランプ爪
２５  第２の保持部のクランプ爪
２７  ベース体
２９  ロードセル
３１  ロードセル押圧体
３３  弾性体
Ｍ  モールド
Ｍ１  転写パターン
Ｗ  被成形体
【図１】
2014054735.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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