(57)【要約】【課題】基板が内部の構造物に接触することを防止し、さらに内部に充填された液体４４に気泡が発生することを防止することを目的とする。【解決手段】表示装置は、第１基板１０と、第１基板１０に形成されたシャッタ１４及びシャッタ１４と接続された駆動部３６と、間隔をあけて第１基板１０に対向するように配置された第２基板１２と、第１基板１０と第２基板１２の間隔を保持してスペースを封止するシール材４２と、スペースに充填された液体４４と、第１基板１０及び第２基板１２の間に間隔方向の高さを有するように配置された高さの異なる第１スペーサ４６及び第２スペーサ４８と、を有する。【選択図】図１
2014092740.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１基板と、
前記第１基板に形成されたシャッタ及び前記シャッタと接続された駆動部と、
間隔をあけて前記第１基板に対向するように配置された第２基板と、
前記第１基板と前記第２基板の前記間隔を保持してスペースを封止するシール材と、
前記スペースに充填された液体と、
前記第１基板及び前記第２基板の間に、前記間隔方向の高さを有するように配置された高さの異なる第１スペーサ及び第２スペーサと、
を有することを特徴とする表示装置。
【請求項２】
請求項１に記載された表示装置において、
前記第１スペーサの前記高さは、前記シール材の高さと同じであり、前記第２スペーサの前記高さよりも高いことを特徴とする表示装置。
【請求項３】
請求項１又は２に記載された表示装置において、
前記第１スペーサ及び前記第２スペーサの少なくとも一方は、台座部及び柱状部からなることを特徴とする表示装置。
【請求項４】
請求項１又は２に記載された表示装置において、
前記第１スペーサ及び前記第２スペーサは、それぞれ、前記第１基板に形成された高さの異なる台座部からなることを特徴とする表示装置。
【請求項５】
請求項１又は２に記載された表示装置において、
前記第１スペーサ及び前記第２スペーサは、それぞれ、前記第２基板に形成された高さの異なる柱状部からなることを特徴とする表示装置。
【請求項６】
請求項１又は２に記載された表示装置において、
前記第１スペーサは、前記第１基板に形成された第１台座部及び前記第２基板に形成された第１柱状部からなり、
前記第２スペーサは、前記第１基板に形成された第２台座部及び前記第２基板に形成された第２柱状部からなり、
前記第１台座部と前記第２台座部の高さが異なり、
前記第１柱状部と前記第２柱状部の高さが同じであることを特徴とする表示装置。
【請求項７】
第１基板を用意する工程と、
第２基板を用意する工程と、
間隔をあけて前記第１基板に対向するように第２基板を配置し、シール材によって、前記第１基板と前記第２基板の前記間隔を保持して液体を封止する工程と、
を含み、
前記第１基板を用意する工程では、前記第１基板に、シャッタ及び前記シャッタと接続された駆動部を形成し、
前記第１基板を用意する工程及び前記第２基板を用意する工程の少なくとも一方は、高さの異なる第１スペーサ及び第２スペーサを形成することを含み、
前記第１基板に対向するように前記第２基板を配置する工程で、前記第１基板及び前記第２基板の間に、前記間隔方向の高さを有するように前記第１スペーサ及び前記第２スペーサを配置することを特徴とする表示装置の製造方法。
【請求項８】
請求項７に記載された表示装置の製造方法において、
前記第１基板を用意する工程で、前記シャッタの形成と同時に、前記第１スペーサ及び前記第２スペーサの少なくとも一部を形成することを特徴とする表示装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、表示装置及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
ＭＥＭＳディスプレイ（Micro Electro Mechanical System Display）は、液晶ディスプレイに取って代わると期待されているディスプレイである（特許文献１参照）。このディスプレイは、偏光を利用した液晶シャッタ方式とは異なり、機械シャッタ方式によって光の透過窓を開閉することで画像を表示する。シャッタは薄膜からなり、１画素を構成するシャッタの縦横サイズは数100μｍオーダで厚みが数μｍオーダである。１シャッタの開閉により、１画素のオンオフ動作が可能となる。シャッタは、静電引力によって動作するようになっている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００８−１９７６６８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
シャッタは一対のガラス基板の間にシールで囲まれたスペースに配置され、このスペースは液体（オイル）で満たされている。オイルは、シャッタの駆動のためのバネのくっつきを防止し、光透過性基板との光屈折率の差を小さくしている。また、オイルによって誘電率を上げることでシャッタを駆動するために必要な電圧を低下させている。
【０００５】
この構造によれば、環境温度が氷点下になると、オイルの収縮により、ガラス基板が内側に湾曲して内部の構造物に接触するおそれがある。あるいは、内部にスペーサを設けて一対のガラス基板の間隔を規制すればガラス基板の湾曲を防止することができるが、その場合、オイルに気泡が発生するという問題がある。
【０００６】
本発明は、基板が内部の構造物に接触することを防止し、さらに内部に充填された液体に気泡が発生することを防止することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
（１）本発明に係る表示装置は、第１基板と、前記第１基板に形成されたシャッタ及び前記シャッタと接続された駆動部と、間隔をあけて前記第１基板に対向するように配置された第２基板と、前記第１基板と前記第２基板の前記間隔を保持してスペースを封止するシール材と、前記スペースに充填された液体と、前記第１基板及び前記第２基板の間に、前記間隔方向の高さを有するように配置された高さの異なる第１スペーサ及び第２スペーサと、を有することを特徴とする。本発明によれば、第１スペーサ及び第２スペーサによって第１基板及び第２基板の湾曲を規制するので、これらが内部の構造物に接触することを防止できる。また、第１スペーサ及び第２スペーサの高さが異なるため、低いスペーサは第１基板及び第２基板の湾曲を多少許容するので、液体に気泡が発生することを防止することができる。
【０００８】
（２）（１）に記載された表示装置において、前記第１スペーサの前記高さは、前記シール材の高さと同じであり、前記第２スペーサの前記高さよりも高いことを特徴としてもよい。
【０００９】
（３）（１）又は（２）に記載された表示装置において、前記第１スペーサ及び前記第２スペーサの少なくとも一方は、台座部及び柱状部からなることを特徴としてもよい。
【００１０】
（４）（１）又は（２）に記載された表示装置において、前記第１スペーサ及び前記第２スペーサは、それぞれ、前記第１基板に形成された高さの異なる台座部からなることを特徴としてもよい。
【００１１】
（５）（１）又は（２）に記載された表示装置において、前記第１スペーサ及び前記第２スペーサは、それぞれ、前記第２基板に形成された高さの異なる柱状部からなることを特徴としてもよい。
【００１２】
（６）（１）又は（２）に記載された表示装置において、前記第１スペーサは、前記第１基板に形成された第１台座部及び前記第２基板に形成された第１柱状部からなり、前記第２スペーサは、前記第１基板に形成された第２台座部及び前記第２基板に形成された第２柱状部からなり、前記第１台座部と前記第２台座部の高さが異なり、前記第１柱状部と前記第２柱状部の高さが同じであることを特徴としてもよい。
【００１３】
（７）本発明に係る表示装置の製造方法は、第１基板を用意する工程と、第２基板を用意する工程と、間隔をあけて前記第１基板に対向するように第２基板を配置し、シール材によって、前記第１基板と前記第２基板の前記間隔を保持して液体を封止する工程と、を含み、前記第１基板を用意する工程では、前記第１基板に、シャッタ及び前記シャッタと接続された駆動部を形成し、前記第１基板を用意する工程及び前記第２基板を用意する工程の少なくとも一方は、高さの異なる第１スペーサ及び第２スペーサを形成することを含み、前記第１基板に対向するように前記第２基板を配置する工程で、前記第１基板及び前記第２基板の間に、前記間隔方向の高さを有するように前記第１スペーサ及び前記第２スペーサを配置することを特徴とする。本発明によれば、第１スペーサ及び第２スペーサによって第１基板及び第２基板の湾曲を規制するので、これらが内部の構造物に接触することを防止できる。また、第１スペーサ及び第２スペーサの高さが異なるため、低いスペーサは第１基板及び第２基板の湾曲を多少許容するので、液体に気泡が発生することを防止することができる。
【００１４】
（８）（７）に記載された表示装置の製造方法において、前記第１基板を用意する工程で、前記シャッタの形成と同時に、前記第１スペーサ及び前記第２スペーサの少なくとも一部を形成することを特徴としてもよい。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】本発明の実施形態に係る表示装置の概略断面図である。
【図２】シャッタ及びその駆動部の斜視図である。
【図３】本発明の実施形態に係る表示装置の製造方法を説明する図である。
【図４】本発明の実施形態に係る表示装置の製造方法を説明する図である。
【図５】本発明の実施形態に係る表示装置の製造方法を説明する図である。
【図６】本発明の実施形態に係る表示装置の製造方法を説明する図である。
【図７】本発明の実施形態に係る表示装置の製造方法を説明する図である。
【図８】本発明の実施形態に係る表示装置の製造方法を説明する図である。
【図９】本発明の実施形態に係る表示装置の製造方法を説明する図である。
【図１０】本発明の実施形態に係る表示装置の製造方法を説明する図である。
【図１１】本発明の実施形態に係る表示装置の製造方法を説明する図である。
【図１２】本発明の実施形態に係る表示装置の製造方法を説明する図である。
【図１３】本発明の実施形態に係る表示装置の製造方法を説明する図である。
【図１４】本発明の実施形態の変形例１に係る表示装置を示す概略断面図である。
【図１５】本発明の実施形態の変形例２に係る表示装置を示す概略断面図である。
【図１６】本発明の実施形態の変形例３に係る表示装置を示す概略断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
以下、本発明の実施形態について、図面を参照して説明する。
【００１７】
図１は、本発明の実施形態に係る表示装置の概略断面図である。表示装置は、光透過性の第１基板１０（例えばガラス基板）と、光透過性の第２基板１２（例えばガラス基板）と、を有する。第１基板１０及び第２基板１２は、間隔をあけて対向するように配置されている。第１基板１０は、図示しない薄膜トランジスタや配線などが形成された回路基板又はＴＦＴ（Thin Film Transistor）基板である。第１基板１０には、複数（多数）のシャッタ１４が設けられている。シャッタ１４は、図示しない薄膜トランジスタや配線などの上に設けられている。
【００１８】
図２は、シャッタ及びその駆動部の斜視図である。シャッタ１４は、無機材料からなる。シャッタ１４は、駆動開口１６を有するプレートである。また、シャッタ１４には、強度を高めるために凹部１８が形成されているが、この凹部１８は貫通していない。駆動開口１６を光が通過し、駆動開口１６以外の部分で光を遮断する。駆動開口１６は一方向に長い形状になっている。なお、光は、第２基板１２に重ねられたバックライト２０から供給される。
【００１９】
シャッタ１４は、第１バネ２２に支持されて第１基板１０から浮くようになっている。複数（図２では４つ）の第１バネ２２によってシャッタ１４が支持されている。第１バネ２２は、第１アンカー部２４で第１基板１０に固定されている。
【００２０】
第１バネ２２は、弾性変形可能な材料からなる。第１バネ２２は、厚みの薄い板状をなしており、厚み方向を横方向（第１基板１０の板面に平行な方向）に向けて、幅方向を上下方向（第１基板１０の板面に垂直な方向）に向けて配置されている。これにより、第１バネ２２は、その厚み方向である横方向に変形できるようになっている。
【００２１】
第１バネ２２は、シャッタ１４から離れる方向（駆動開口１６の長さ方向に交差（例えば直交）する方向）に延びる第１部２６と、駆動開口１６の長さ方向に沿った方向であって駆動開口１６の長さ方向の中央から外方向に向かって延びる第２部２８と、さらにシャッタ１４から離れる方向（駆動開口１６の長さ方向に交差（例えば直交）する方向）に延びる第３部３０と、を有する。そして、シャッタ１４は、図２に矢印で示すように、駆動開口１６の長さ方向に交差（例えば直交）する方向に移動できるように第１バネ２２に支持されている。
【００２２】
第１基板１０には、第２アンカー部３２に支持された第２バネ３４が設けられている。第２バネ３４も、弾性変形可能な材料からなる。第２バネ３４は、厚みの薄い板状をなしており、厚み方向を横方向（第１基板１０の板面に平行な方向）に向けて、幅方向を上下方向（第１基板１０の板面に垂直な方向）に向けて配置されている。これにより、第２バネ３４は、その厚み方向である横方向に変形できるようになっている。また、第２バネ３４は、ループ状になっており、第２アンカー部３２から延びた帯状部が、屈曲して折り返されて、同じ第２アンカー部３２に戻るようになっている。
【００２３】
第２バネ３４は、第１バネ２２の第２部２８よりもシャッタ１４から離れた側で、この第２部２８に対向するようになっている。第２アンカー部３２に電圧を印加し、第１バネ２２の第２部２８との電位差によって生じる静電引力によって、第２部２８が第２バネ３４に引き寄せられるようになっている。第２部２８が引き寄せられると、第２部２８と一体的な第１部２６を介して、シャッタ１４も引き寄せられる。つまり、第１バネ２２及び第２バネ３４は、シャッタ１４を機械的に駆動するための駆動部３６を構成するためのものである。駆動部３６は、シャッタ１４の少なくとも一部と同じ材料から形成されている。
【００２４】
図１に示すように、第２基板１２には遮光膜３８が形成されている。遮光膜３８には、固定開口４０が形成されている。シャッタ１４の上述した駆動開口１６と遮光膜３８の固定開口４０は、対向する位置に配置されており、両者が連通すれば光が通過し、シャッタ１４の移動によって遮光膜３８の固定開口４０が遮蔽されると光が遮断される。言い換えると、遮光膜３８の固定開口４０への光の通過及び遮断を制御するように、シャッタ１４は機械的に駆動される。１つのシャッタ１４が１画素に対応し、多数の画素によって画像が表示されるようになっている。そのため、複数（多数）のシャッタ１４が設けられている。シャッタ１４及び駆動部３６は、駆動開口１６及び固定開口４０を通過する光の有無及び強弱によって画像を表示する表示領域に配置されている。
【００２５】
第１基板１０及び第２基板１２は、図１に示すシール材４２によって間隔をあけて固定されている。シール材４２は第１基板１０及び第２基板１２の対向面同士に密着している。シール材４２は、比較的硬い樹脂などから形成され、変形しにくいため、シール材４２の高さは変動しにくい。第１基板１０と第２基板１２の間に、シール材４２によってスペースが封止されている。スペースには、液体４４（例えばシリコーンオイルなどのオイル）が充填されている。シャッタ１４及び駆動部３６は、液体４４内に配置されている。液体４４によってシャッタ１４及び駆動部３６の動きによる振動を抑えることができ、第１バネ２２と第２バネ３４の固着も防止することができる。第１基板１０及び第２基板１２がガラスからなる場合、ガラスと屈折率の近い液体４４を使用すれば、液体４４を満たすことで、第１基板１０及び第２基板１２との界面での光の反射を減らすことができる。
【００２６】
第１基板１０及び第２基板１２の間には、複数の第１スペーサ４６及び複数の第２スペーサ４８が配置されている。第１スペーサ４６及び第２スペーサ４８は、第１基板１０及び第２基板１２の間隔方向の高さを有する。第１スペーサ４６及び第２スペーサ４８は高さが異なる。
【００２７】
第１スペーサ４６の高さは、シール材４２の高さと同じである。第１スペーサ４６の高さは、第２スペーサ４８の高さよりも高い。第１スペーサ４６は、第１基板１０に設けられた台座部５０及び第２基板１２に設けられた柱状部５２からなる。これに対して、第２スペーサ４８は、第２基板１２に設けられた柱状部５２のみからなり、第１基板１０との間に隙間が形成されている。
【００２８】
本実施形態によれば、環境温度が低温（例えば氷点下）になると、液体４４が収縮する。しかし、シール材４２が収縮しにくいため、第１基板１０及び第２基板１２の少なくとも一方が内側に湾曲する。その結果、第１基板１０及び第２基板１２の間隔が狭くなる。しかし、第１スペーサ４６及び第２スペーサ４８によって第１基板１０及び第２基板１２の湾曲を規制するので、これらが内部の構造物に接触することを防止できる。また、第１スペーサ４６及び第２スペーサ４８の高さが異なるため、低い方の第２スペーサ４８は、第１基板１０及び第２基板１２の湾曲を多少許容するので、液体４４に気泡が発生することを防止することができる。
【００２９】
次に、本発明の実施形態に係る表示装置の製造方法を説明する。
【００３０】
図３に示すように、第１基板１０を用意する。第１基板１０上に第１フォトレジスト層５４を形成する。第１フォトレジスト層５４は、感光性を有する樹脂である。第１フォトレジスト層５４は、上述したシャッタ１４の浮く高さに対応する厚みを少なくとも有する。すなわち、第１フォトレジスト層５４の厚みは、シャッタ１４の浮く高さと同じかそれ以上である。また、第１フォトレジスト層５４は、駆動部３６の第１基板１０から浮いた状態の部分（例えば第１バネ２２及び第２バネ３４）の浮く高さに対応する厚みを少なくとも有する。すなわち、第１フォトレジスト層５４の厚みは、第１バネ２２及び第２バネ３４の浮く高さと同じかそれ以上である。
【００３１】
図４に示すように、第１フォトレジスト層５４をフォトリソグラフィによってパターニングする。フォトリソグラフィは露光と現像を含む。露光では、図示しないマスクを介して、第１フォトレジスト層５４に部分的に光を照射する。これにより、第１フォトレジスト層５４が、現像液に溶解する部分と溶解しにくい部分とを有するようになる。現像を行うことで、第１フォトレジスト層５４はパターニングされる。パターニングされた第１フォトレジスト層５４は、第１上面５６を有する。第１上面５６は、第１基板１０から浮かせて配置する部材（例えばシャッタ１４並びに第１バネ２２及び第２バネ３４）を形成するための面である。したがって、第１上面５６の高さ位置（第１基板１０の上面からの高さ位置。以下、同じ。）は、シャッタ１４の下端（最も低い面）及び第１バネ２２及び第２バネ３４の下端の高さ位置になる。なお、第１フォトレジスト層５４は硬化処理されることで収縮するので、第１上面５６の高さ位置は、硬化処理前の高さ位置よりも若干低くなる。
【００３２】
図５に示すように、パターニングされた第１フォトレジスト層５４上に第２フォトレジスト層５８を形成する。第２フォトレジスト層５８も、感光性を有する樹脂前駆体である。第２フォトレジスト層５８は、第１バネ２２及び第２バネ３４の高さ方向の幅に対応する厚みを少なくとも有する。すなわち、第２フォトレジスト層５８の厚みは、第１バネ２２及び第２バネ３４の高さ方向の幅と同じかそれ以上である。また、シャッタ１４に凹部１８を形成するときには、第２フォトレジスト層５８は、凹部１８の深さ（正確には、下に突出する凹部１８の突出下面から凹部１８の周囲の部分の下面までの高さの差）に対応する厚みを少なくとも有する。すなわち、第２フォトレジスト層５８の厚みは、凹部１８の深さと同じかそれ以上である。
【００３３】
図６に示すように、第２フォトレジスト層５８をフォトリソグラフィによってパターニングする。フォトリソグラフィの詳細は上述した通りである。パターニングされた第２フォトレジスト層５８は、第２上面６０を有する。第２フォトレジスト層５８も硬化処理されることで収縮するので、第２上面６０の高さ位置は、硬化処理前の高さ位置よりも若干低くなる。第１上面５６から第２上面６０までの高さは、第１バネ２２及び第２バネ３４の高さ方向に幅に相当する。また、第１上面５６から第２上面６０までの高さは、シャッタ１４の凹部１８の深さに相当する。
【００３４】
こうして、第１フォトレジスト層５４及び第２フォトレジスト層５８から樹脂層６２を形成する。つまり、パターニングされた樹脂層６２を第１基板１０に形成する。樹脂層６２は、シャッタ１４及び駆動部３６の形成領域に形成する。樹脂層６２は、最も低い第１上面５６を有する。樹脂層６２は、第１上面５６よりも高い（最も高い）第２上面６０を有する。樹脂層６２は、第１上面５６から底面に下がる第１側面６４を有する。樹脂層６２は、第１上面５６から第２上面６０に上がる第２側面６６を有する。
【００３５】
図７に示すように、膜６８を、樹脂層６２上及び第１基板１０上に形成する。膜６８は、シャッタ１４及び駆動部３６を形成するための材料から形成する。なお、第１スペーサ４６の台座部５０も膜６８から形成する。膜６８は複数層から形成してもよい。例えば、アモルファスシリコンなどの半導体からなる第１膜７０を形成し、その上にアルミニウムなどの金属からなる第２膜７２を形成する。
【００３６】
図８に示すように、エッチングレジスト７４を膜６８上に形成する。
【００３７】
図９に示すように、エッチングレジスト７４をパターニングする。このパターニングにもリソグラフィを適用することができる。パターニングされたエッチングレジスト７４は、シャッタ１４及び駆動部３６並びに第１スペーサ４６の一部となる台座部５０を形成する領域を覆う。
【００３８】
図１０に示すように、ウエットエッチングを適用して、金属からなる第２膜７２をエッチングする。エッチングレジスト７４から露出した第２膜７２は、ウエットエッチングの等方性によって、横方向に露出していても除去される。
【００３９】
図１１に示すように、ドライエッチングを適用して、半導体からなる第１膜７０をエッチングする。ドライエッチングの異方性によって、樹脂層６２の上面（第１上面５６及び第２上面６０）の第１膜７０は除去されるが、樹脂層６２の側面（第２側面６６）の第１膜７０は除去されずに残る。
【００４０】
図１２に示すように、エッチングレジスト７４を除去する。また、膜６８から露出した樹脂層６２を除去する。除去には例えばアッシングを適用することができる。樹脂層６２及びエッチングレジスト７４は同時に除去してもよい。
【００４１】
第１基板１０には、第１スペーサ４６の台座部５０、シャッタ１４及びシャッタ１４を機械的に駆動するための駆動部３６が形成される。本実施形態によれば、シャッタ１４の形成と同時に、第１スペーサ４６及び第２スペーサ４８の少なくとも一部（例えば第１スペーサ４６の台座部５０）を形成する。
【００４２】
次に、図１３に示すように、第２基板１２を用意する。第２基板１２に第１スペーサ４６の一部（柱状部５２）を形成する。また、第２基板１２に第２スペーサ４８（柱状部５２）を形成する。
【００４３】
そして、第１基板１０及び第２基板１２を、間隔をあけて対向するように配置する。また、第１基板１０及び第２基板１２の間に、図１に示すように、シール材４２によって間隔を保持して、スペースを区画する。そして、スペースに液体４４を充填する。第１基板１０及び第２基板１２の間には、間隔方向の高さを有するように第１スペーサ４６及び第２スペーサ４８が配置される。
【００４４】
本実施形態によれば、第１スペーサ４６及び第２スペーサ４８によって第１基板１０及び第２基板１２の湾曲を規制するので、これらが内部の構造物に接触することを防止できる。また、第１スペーサ４６及び第２スペーサ４８の高さが異なるため、低い方の第２スペーサ４８は第１基板１０及び第２基板１２の湾曲を多少許容するので、液体４４に気泡が発生することを防止することができる。
【００４５】
［変形例１］
図１４は、本発明の実施形態の変形例１に係る表示装置を示す概略断面図である。この例では、第１スペーサ１４６及び第２スペーサ１４８は、それぞれ、第２基板１２に形成された高さの異なる柱状部からなる。第２スペーサ１４８は、第１スペーサ１４６よりも低く形成されており、第１基板１０との間に隙間が形成されている。第１スペーサ１４６及び第２スペーサ１４８は、樹脂からなる。その製造プロセスには、フォトレジストを使用したフォトリソグラフィを適用することができる。その場合、第１スペーサ１４６及び第２スペーサ１４８を、一括して高さが異なるように形成するために、ハーフトーン露光を適用してもよい。図１４に示す第２スペーサ１４８は、ハーフトーン露光によって山形になった例である。その他の詳細は、上記実施形態で説明した内容が該当する。
【００４６】
［変形例２］
図１５は、本発明の実施形態の変形例２に係る表示装置を示す概略断面図である。この例では、第１スペーサ２４６は、第１基板２１０に形成された第１台座部２７６及び第２基板２１２に形成された第１柱状部２７８からなる。第１柱状部２７８は、レジストなどの樹脂から形成する。第１台座部２７６及び第１柱状部２７８は対向するように配置され、両者の合計高さが第１スペーサ２４６の高さである。第２スペーサ２４８は、第１基板２１０に形成された第２台座部２８０及び第２基板２１２に形成された第２柱状部２８２からなる。第２柱状部２８２は、レジストなどの樹脂から形成する。第２台座部２８０及び第２柱状部２８２は対向するように配置され、両者の合計高さが第２スペーサ２４８の高さである。
【００４７】
第１柱状部２７８と第２柱状部２８２の高さは同じであるが、第１台座部２７６と第２台座部２８０の高さが異なる。具体的には、第１台座部２７６が第２台座部２８０よりも低くなっている。そのため、第１台座部２７６及び第１柱状部２７８の間に隙間が形成されている。そして、第１スペーサ２４６及び第２スペーサ２４８の高さが異なるようになっている。
【００４８】
第１台座部２７６及び第２台座部２８０は、それぞれ、薄膜トランジスタの半導体層を形成するためのａ−Ｓｉなどからなる半導体膜２８４と、ゲート絶縁膜を形成するための無機材料（ＳｉＯ２，ＳｉＮ等）などからなる第１絶縁膜２８６と、ゲート電極を形成するためのＡｌなどの金属からなる第１導電膜２８８と、無機材料（ＳｉＯ２，ＳｉＮ等）などからなる第２絶縁膜２９０と、ドレイン電極及びソース電極を形成するための第２導電膜２９２と、無機材料（ＳｉＯ２，ＳｉＮ等）などからなる第３絶縁膜２９６と、の積層構造を有する。
【００４９】
さらに、第２台座部２８０は、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide）などからなる配線を形成するための第３導電膜２９４と、シャッタ２１４を形成するための膜２６８（ａ−Ｓｉなどの半導体からなる第１膜２７０及びＡｌなどの金属からなる第２膜２７２）との積層構造を有する。第１台座部２７６は、この構造がないため、第２台座部２８０よりも低くなっている。なお、第１台座部２７６と第２台座部２８０は、積層する膜及び積層しない膜を選択することで、それぞれの高さを設計することができる。
【００５０】
本変形例に係る表示装置の製造方法では、シャッタ２１４の形成と同時に、第１スペーサ２４６及び第２スペーサ２４８の少なくとも一部（例えば第２台座部２８０の一部である膜２６８）を形成する。また、第１スペーサ２４６及び第２スペーサ２４８の一部（例えば第１台座部２７６及び第２台座部２８０の一部）は、第１基板２１０上の回路層（例えば薄膜トランジスタ）の形成と同時に形成する。その他の詳細は、上記実施形態で説明した内容が該当する。
【００５１】
［変形例３］
図１６は、本発明の実施形態の変形例３に係る表示装置を示す概略断面図である。この例では、第１スペーサ３４６及び第２スペーサ３４８は、それぞれ、第１基板３１０に形成された高さの異なる第１台座部３７６及び第２台座部３８０のみからなる。
【００５２】
第１台座部３７６の下層部３７６Ｌ及び第２台座部３８０の下層部３８０Ｌは、図１５に示す第１台座部２７６と同じ積層構造を有する。第２台座部３８０の下層部３８０Ｌの上には、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide）などからなる配線を形成するための導電膜３９４が配置されているが、第１台座部３７６はこれを有していないため、第２台座部３８０よりも低くなっている。
【００５３】
第１台座部３７６の上層部３７６Ｕ及び第２台座部３８０の上層部３８０Ｕは、樹脂層３６２（下層３６２Ｌ及び上層３６Ｕ）と、樹脂層３６２を覆う膜３６８（第１膜３７０及び第２膜３７２）と、を含む積層構造を有する。第１膜３７０は、シャッタ３１４の構成材料であるａ−Ｓｉなどの半導体からなり、第２膜３７２は、Ａｌなどの金属からなる。樹脂層３６２は、膜３６８（第１膜３７０及び第２膜３７２）の下地層であり、シャッタ３１４及び駆動部３３６を形成するときにその下から除去されるが、第１スペーサ３４６及び第２スペーサ３４８の形成領域では構造物として残す。
【００５４】
本変形例に係る表示装置の製造方法では、シャッタ３１４の形成と同時に、第１スペーサ３４６及び第２スペーサ３４８の少なくとも一部（例えば第１台座部３７６の上層部３７６Ｕ及び第２台座部３８０の上層部３８０Ｕ）を形成する。また、第１スペーサ３４６及び第２スペーサ３４８の一部（例えば第１台座部３７６の下層部３７６Ｌ並びに第２台座部３８０の下層部３８０Ｌ及び導電膜３９４）は、第１基板３１０上の回路層（例えば薄膜トランジスタ）の形成と同時に形成する。その他の詳細は、上記実施形態で説明した内容が該当する。
【００５５】
本発明は、上述した実施形態に限定されるものではなく種々の変形が可能である。また、実施形態で説明した構成は、実質的に同一の構成、同一の作用効果を奏する構成又は同一の目的を達成することができる構成で置き換えることができる。
【符号の説明】
【００５６】
１０  第１基板、１２  第２基板、１４  シャッタ、１６  駆動開口、１８  凹部、２０  バックライト、２２  第１バネ、２４  第１アンカー部、２６  第１部、２８  第２部、３０  第３部、３２  第２アンカー部、３４  第２バネ、３６  駆動部、３８  遮光膜、４０  固定開口、４２  シール材、４４  液体、４６  第１スペーサ、４８  第２スペーサ、５０  台座部、５２  柱状部、５４  第１フォトレジスト層、５６  第１上面、５８  第２フォトレジスト層、６０  第２上面、６２  樹脂層、６４  第１側面、６６  第２側面、６８  膜、７０  第１膜、７２  第２膜、７４  エッチングレジスト、１４６  第１スペーサ、１４８  第２スペーサ、２１０  第１基板、２１２  第２基板、２１４  シャッタ、２４６  第１スペーサ、２４８  第２スペーサ、２６８  膜、２７０  第１膜、２７２  第２膜、２７６  第１台座部、２７８  第１柱状部、２８０  第２台座部、２８２  第２柱状部、２８４  半導体膜、２８６  第１絶縁膜、２８８  第１導電膜、２９０  第２絶縁膜、２９２  第２導電膜、２９４  第３導電膜、２９６  第３絶縁膜、３１０  第１基板、３１４  シャッタ、３３６  駆動部、３４６  第１スペーサ、３４８  第２スペーサ、３６２  樹脂層、３６８  膜、３７０  第１膜、３７２  第２膜、３７６  第１台座部、３８０  第２台座部、３９４  導電膜。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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