(57)【要約】【課題】  障害物の測定光に対する影響を低減する。【解決手段】  被検眼の眼底を照射する測定光を走査する走査手段と、被検眼への前記測定光の入射を妨げる障害物を避けるように、前記走査手段で走査された測定光の被検眼への入射位置を変更する入射位置変更手段と、をそなえる。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
被検眼の眼底を照射する測定光を走査する走査手段と、
被検眼への前記測定光の入射を妨げる障害物を避けるように、前記走査手段で走査された測定光の被検眼への入射位置を変更する入射位置変更手段と、
をそなえたことを特徴とする眼科装置。
【請求項２】
前記入射位置変更手段は、前記入射位置変更手段による入射位置の変更がない場合の前記眼底の撮像範囲と、前記入射位置変更手段による入射位置の変更があった場合の前記眼底の撮像範囲とが略等しくなるように前記走査された測定光の被検眼への入射位置を変更することを特徴とする請求項１記載の眼科装置。
【請求項３】
前記入射位置変更手段は、前記被検眼の鉛直方向において平行に前記入射位置を変更することを特徴とする請求項２記載の眼科装置。
【請求項４】
前記入射位置変更手段は、前記走査手段への前記測定光の入射位置を変更することを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の眼科装置。
【請求項５】
前記入射位置変更手段は、前記被検眼の瞳孔の大きさおよび照明光の径に基づいて前記走査された測定光の被検眼への入射位置を変更することを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の眼科装置。
【請求項６】
前記障害物を含む被検眼の前眼部像を撮像する撮像手段と、
撮像された前眼部像から前記障害物の前記前眼部上での位置情報を取得する取得手段と、
前記取得手段で取得した前記障害物の位置情報に基づいて被検眼への前記測定光の入射が妨げられるか否かを判断する判断手段とを更に備え、
前記判断手段によって被検眼への前記測定光の入射が妨げられると判断された場合、前記入射位置変更手段が、前記走査された測定光の被検眼への入射位置を変更することを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載の眼科装置。
【請求項７】
前記障害物は、まつ毛、まぶた、前記被検眼の虹彩および前記被検眼に現れた混濁の少なくとも１つであることを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載の眼科装置。
【請求項８】
被検眼の眼底を照射する測定光を走査する走査ミラーと、
前記走査ミラーへの前記測定光の入射位置を変更する入射位置変更ミラーとを備えたことを特徴とする眼科装置。
【請求項９】
前記入射位置変更ミラーは、自身に入射する前記測定光の光軸方向に移動可能に備えられたことを特徴とする請求項８記載の眼科装置。
【請求項１０】
前記測定光を射出する光源と、
前記走査された測定光の前記眼底からの反射光を受光するセンサとを更に備え、
前記反射光は、前記走査ミラーおよび前記入射位置変更ミラーを介して前記センサに受光されることを特徴とする請求項８または請求項９記載の眼科装置。
【請求項１１】
被検眼の眼底を照射する測定光を走査する走査工程と、
被検眼への前記測定光の入射を妨げる障害物を避けるように、前記走査工程で走査された測定光の被検眼への入射位置を変更する入射位置変更工程と、
をそなえたことを特徴とする眼科照明方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本件は、眼底装置および眼底照明方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、眼底画像に代表される眼科画像が、疾病の経過観察などのために診療に用いられている。そのため、眼科画像を撮像するための眼科用機器として、様々なものが使用されている。例えば、眼底画像を撮像する光学機器として、眼底カメラ、光干渉断層撮像（Ｏｐｔｉｃａｌ  Ｃｏｈｅｒｅｎｃｅ  Ｔｏｍｏｇｒａｐｈｙ：以下ＯＣＴと記載）装置、走査型レーザ検眼鏡（Ｓｃａｎｎｉｎｇ  Ｌａｓｅｒ  Ｏｐｈｔｈａｌｍｏｓｃｏｐｅ：以下ＳＬＯと記載）、等である。
【０００３】
特許文献１では、眼底カメラが装備されたＯＣＴ装置が開示されている。眼底カメラによって被検眼と装置のアライメント状態、フォーカス状態などの適否を判定する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０１０−１８１１７２
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ＯＣＴ測定において、装置と被検眼のアライメントやフォーカスが重要なことは言うまでもない。しかし、アライメントやフォーカスの調整をした後でも、撮像された断層像に劣化がみられることがある。その原因の一つは、例えばまぶたやまつ毛等の障害物によって測定光の眼底への入射が妨げられるからである。
【０００６】
本件は、障害物の測定光に対する影響を低減することを目的の一つとする。
【０００７】
なお、前記目的に限らず、後述する発明を実施するための形態に示す各構成により導かれる作用効果であって、従来の技術によっては得られない作用効果を奏することも本発明の他の目的の１つとして位置付けることができる。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記目的を達成するため、本眼科装置は、被検眼の眼底を照射する測定光を走査する走査手段と、被検眼への前記測定光の入射を妨げる障害物を避けるように、前記走査手段で走査された測定光の被検眼への入射位置を変更する入射位置変更手段とを備える。
【０００９】
また、本眼科装置は、被検眼の眼底を照射する測定光を走査する走査ミラーと、前記走査ミラーへの前記測定光の入射位置を変更する入射位置変更ミラーとを備える。
【００１０】
さらに、本眼科照明方法は、被検眼の眼底を照射する測定光を走査する走査工程と、被検眼への前記測定光の入射を妨げる障害物を避けるように、前記走査工程で走査された測定光の被検眼への入射位置を変更する入射位置変更工程とをそなえる。
【発明の効果】
【００１１】
本件によれば、測定光に対する障害物の影響を低減することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】実施例１におけるＯＣＴ装置の構成例について説明する図である。
【図２】実施例１における信号処理の一例を説明するためのフローチャートである。
【図３】（ａ），（ｂ）は、実施例１における測定光の制御の一例を説明する図である。
【図４】（ａ），（ｂ），（ｃ），（ｄ）は、実施例１における信号処理の一例を説明する図である。
【図５】実施例２における信号処理の一例を説明するためのフローチャートである。
【図６】実施例３におけるＯＣＴ装置の構成例について説明する図である。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
以下、本件の一実施例を、図面を用いて詳細に説明する。但し、開示の技術は以下の実施例に限定されるものではなく、本実施形態の趣旨を逸脱しない範囲で種々変形して実施することができる。
【００１４】
（実施例１）
本実施例においては、本発明を適用したＯＣＴ装置について説明する。
【００１５】
（光学系）
図１は、マイケルソン干渉系を用いたＯＣＴ装置（眼科装置）の概略構成の一例を示している。図１において、被検眼１０８の鉛直方向をＹ軸方向、被検眼の深さ方向と逆向きの方向をＺ軸方向，紙面奥行き方向をＸ軸方向と定義している。
【００１６】
まず、光源１０１からの出射光は、ファイバコリメータ１０２で平行にされ、ハーフミラー１０３によって測定光と参照光に分離される。すなわち、光源１０１は、測定光を射出する光源の一例に相当する。光源１０１は例えば低コヒーレント光源であるＳＬＤ（Ｓｕｐｅｒ  Ｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｔ  Ｄｉｏｄｅ）である。ここではＳＬＤから発せられる光は、一例として、中心波長８４０ｎｍ、波長幅５０ｎｍであるものとする。当然、観察対象の測定部位によっては、他の波長を選んでも良い。光源の種類は、低コヒーレント光が出射できればよく、ＡＳＥ（Ａｍｐｌｉｆｉｅｄ  Ｓｐｏｎｔａｎｅｏｕｓ  Ｅｍｉｓｓｉｏｎ）等も用いることができる。
【００１７】
ここで、測定光について説明する。測定光は、入射位置制御機構１０４を介し、ＸＹスキャナ１０５において走査される。すなわち、ＸＹスキャナ１０５は測定光を走査する走査手段の一例に相当する。入射位置制御機構１０４は、被検眼１０８の瞳孔に対するビームの入射位置を調整するための機構であり、矢印の方向に移動可能に備えられる。また、入射位置制御機構１０４は例えば、ミラーを備える。すなわち、入射位置制御機構１０４は入射位置変更手段および入射位置変更ミラーの一例に相当する。例えば、入射位置制御機構１０４の位置と被検眼１０８の瞳孔に対する入射位置とは予め対応付けられており図示しないメモリ等の記憶装置に記録されている。なお、この入射位置制御機構１０４の位置に対する入射位置は、ＯＣＴ装置の光学配置を示す光学配置情報に基づいて求められる。入射制御機構１０４の位置と測定光の被検眼１０８への入射位置とが予め対応付けられており図示しないメモリ等の記憶装置に記録されている。あるいは、入射制御機構１０４の移動量とｙ軸方向における測定光との移動量とが対応づけられており図示しないメモリ等の記憶装置に記録されている。コンピュータ１１５は、これらの対応付けのいずれかを参照し、障害物を避けるように入射制御機構１０４を移動させる。
【００１８】
ＸＹスキャナ１０５と被検眼１０８との間には、測定光を眼底１１８に照射するための、レンズ１０６、対物レンズ１０７が配置されている。ここでは簡単のために、ＸＹスキャナ１０５は１つのミラーとして記したが、実際にはＸスキャン用ミラーとＹスキャン用ミラーとの２枚のミラーが近接して配置された構成となっている。これにより、ＸＹスキャナ１０５は眼底１１８を光軸と垂直な方向にラスタースキャンすることができる。すなわち、ＸＹスキャナ１０５は、被検眼の眼底を照射する測定光を走査する走査手段および被検眼の眼底を照射する測定光を走査する走査ミラーの一例に相当する。
【００１９】
そして、被検眼１０８に入射した測定光は眼底１１８において反射、あるいは散乱され、戻り光として戻される。戻り光は、対物レンズ１０７に戻り、同じ経路（ＸＹスキャナ１０５および入射位置制御機構１０４を介して）をたどり、再びハーフミラー１０３に入射する。そして、ハーフミラー１０３を透過した戻り光が分光器１１２に入射する。この分光器１１２は図示しないセンサを備える。すなわち、分光器１１２が備えるセンサは走査された測定光の眼底からの反射光を受光するセンサの一例に相当する。
【００２０】
次に、参照光について説明する。ハーフミラー１０３によって分割された参照光は分散補償ガラス１１３を通過して、光路長可変機構１１４のミラーによって方向を変える。分散補償ガラス１１３は、被検眼１０８および測定光学系の分散を補償するためのものである。参照光学系の光路長は光路長可変機構１１４により調整され、被検眼１０８の所望の深さで断層像を得ることができる。ミラーによって反射した参照光は、分散補償ガラス１１３を再度通過して、ハーフミラー１０３を介し、分光器１１２に到達する。分光器１１２では、戻り光と参照光が合波された合波光を分光測定し、コンピュータ１１５へデータとして出力する。
【００２１】
ここで、前眼部の撮像について説明する。前眼部の撮像のための照明光は対物レンズの外側のリング状の光源（不図示）が使われる。そして、角膜１１６で反射した照明光は、対物レンズ１０７を介し、ダイクロイックミラー１０９によって偏向され、結像レンズ１１０を介し、前眼部を撮像するための前眼部撮像装置１１１で撮像される。
【００２２】
コンピュータ１１５は、入射位置制御機構１０４、スキャナ１０５、分光器１１２、などの制御を行う。そして、コンピュータ１１５は、得られたデータからＯＣＴ画像などを作成し、画像の解析や表示を行う。当然コンピュータ１１５はキーボード、マウスなどを有し、外部入力にも対応している。（信号処理）
【００２３】
次に図２に示すフローチャートを用いて、信号処理の一例について説明する。なお、以下の工程はコンピュータ１１５の制御の下に、各構成が動作することにより行われる。
【００２４】
Ｓ１工程で、測定を開始する。この状態はＯＣＴ装置が起動されており、被検眼１０８が測定位置に配置されている。当然、広画角測定の場合には、散瞳剤などであらかじめ散瞳しておく。検者は、ＯＣＴ装置による測定モードを選択し、被検眼１０８に対するＯＣＴ装置の高さなどを大まかに調整する。測定モードとは例えば、走査範囲、走査パターン、測定回数等である。走査範囲は例えば黄斑を含む６ｍｍ四方の範囲、黄斑と乳頭を含む１０ｍｍ四方の範囲、広画角測定の１２ｍｍ四方の範囲である。走査パターンとは例えばＢスキャンを得るためのラインスキャン、放射状にラインスキャンを繰り返すアスタリスクスキャン、一定の半径の軌跡を描くサークルスキャン、３Ｄデータを得るための２Ｄスキャンなどである。ここでは、例えば、網膜で１２ｍｍ四方の３Ｄ画像を撮像するものとして、ｘ方向には５００ライン、ｙ方向には５００ラインのデータを取得する２Ｄスキャンのモードが選択されているものとする。
【００２５】
Ｓ２工程で、前眼部の撮像を行う。図３を用いて、前眼部の撮像ついて説明する。図３（ａ）は被検眼１０８の前眼部を模式的に表した図である。前眼部の画像は、前眼部撮像装置１１１により画像を取得することができる。ここでは、画像は例えば縦横６００×８００画素で、８ビットの画像が得られるものとする。そして、例えば、瞳孔１２０の中心をｘｙ座標の中心とし、コンピュータ１１５は、瞳孔１２０、虹彩１２１、白目１２２、まぶた１１９、まつ毛１１７の位置関係を取得する。言い換えれば、コンピュータ１１５は瞳孔１２０、虹彩１２１、白目１２２、まぶた１１９、まつ毛１１７のそれぞれの位置を示す位置情報を取得する。また、コンピュータ１１５は、位置情報を取得することで、瞳孔１２０、虹彩１２１、白目１２２、まぶた１１９、まつ毛１１７のそれぞれ大きさを取得できる。すなわち、前眼部撮像装置１１１は障害物を含む被検眼の前眼部像を撮像する撮像手段の一例に相当する。さらに、コンピュータ１１５は、撮像された前眼部像から障害物の前眼部上での位置情報を取得する取得手段の一例として機能する。なお、瞳孔１２０の径は、散瞳している場合で、例えば、直径５ｍｍ以上である。その場合、瞳孔１２０での測定光のスポット径が１ｍｍ径とすると、入射位置制御機構１０４は、測定光の入射位置を±２ｍｍ以上で調整できる。また、散瞳していない場合や、縮瞳している場合の瞳孔２０の径は、例えば、それぞれ３〜４ｍｍと２ｍｍである。すなわち、入射位置制御機構１０４（入射位置変更手段）は、被検眼の瞳孔の大きさおよび照明光の径に基づいて走査された測定光の被検眼への入射位置を変更する。
【００２６】
コンピュータ１１５は、測定した瞳孔１２０、虹彩１２１、白目１２２、まぶた１１９、まつ毛１１７の位置関係を用いて、例えば、図３（ｂ）に示す被検眼１０８の断面図を構成する。煩雑さを避けるため図３（ｂ）にはｘ方向（被検眼の水平方向）における一枚の断面図しか示していないが、例えば、コンピュータ１１５は、ｘ方向における複数枚の断面図を構成する。なお、人眼の場合は人によって形状に大きな差がないため、例えば、水晶体１２４は直径１０ｍｍ、幅４ｍｍ、瞳孔１２０と角膜１１６との距離、瞳孔と網膜との距離はそれぞれ３ｍｍ、１７ｍｍとモデル化することができる。なお、これらの数値は例示であり、これらの数値に限定されるものではない。
【００２７】
従って、図３（ｂ）に示す被検眼１０８の断面図を構成する際に、モデル化されたデータと前眼部画像から求められた瞳孔１２０等の各要素の位置関係とを選択的に用いることとしてもよい。すなわち、モデル化されたデータのみを用いて断面図を構成してもよいし、前眼部画像から求められたデータのみを用いて断面図を構成してもよい。
【００２８】
ここで、図３（ｂ）中には通常のＯＣＴ装置、すなわち入射位置制御機構１０４を備えないＯＣＴ装置による代表的な測定光の軌跡を図中（１）から（３）に示している。なお、瞳孔の中心を原点に鉛直方向にｙ軸および眼軸方向にｚ軸を定めている。また、鉛直方向上向きをｙ軸の正方向，角膜方向をｚ軸の正方向としている。ここでは、被検眼１０８の瞳孔１２０が、測定光の走査の回転中心となるよう設計してある。（１）の軌跡のように上まぶた側に測定光が傾いているときはｙ軸の負の領域を測定することができる。この場合、上まつ毛などにより測定光の被検眼への入射が妨げられやすい。逆に（３）の軌跡のように下まぶた側に測定光が傾いている場合はｙ軸の正の領域を測定することができる。この場合、下まつ毛などにより測定光の被検眼への入射が妨げられやすい。
【００２９】
ところで、一般的な前眼部撮像装置では、瞳孔に焦点を合わせた場合にまつ毛が焦点深度に入らない場合がある。そのような場合は、コンピュータ１１５は、図３（ａ）のまつ毛を除く画像から瞳孔１２０等の各要素の位置関係および各要素の大きさを求める。そして、コンピュータ１１５はモデル化されたデータと瞳孔１２０等の各要素の位置関係および各要素の大きさとを選択的に用いることで図３（ｂ）に示すような断面図を構成する。なお、まつ毛等の撮影できなかった要素については、例えば、予め取得した統計データ等を用いて、コンピュータ１１５が、断面図に反映させる。
【００３０】
また、図３（ｂ）に示すような断面図を構成する際に、予め別の装置で計測した値を用いてもよい。さらに、例えば、まつ毛やまぶた等の障害物を確実に撮像できるように前眼部撮像装置１１１の焦点位置や水平位置を変えて被検眼を撮像することによって前眼部の図３（ａ），（ｂ）からなる３次元データを取得してもよい。
【００３１】
また、被検眼を横方向および上下方向の少なくとも一方から撮影したデータを用いれば、まつ毛の正確な長さを把握することができ、より正確に図３（ｂ）に示す断面図を構成することが可能である。
【００３２】
Ｓ３工程で、コンピュータ１１５は、測定プロファイルを作成する。ここで、測定プロファイルとは、どのように測定を行うかを示した情報であり、例えば、入射位置制御機構１０４およびＸＹスキャナ１０５をどのように制御するかを示す情報を含む。まず、コンピュータ１１５は、測定光が障害物に妨げられるかを判定する。障害物とは例えば、まぶた、まつ毛、虹彩、混濁などの測定光の被検眼への入射を阻害するものである。
【００３３】
例えば、網膜で１２ｍｍ四方の測定を行う場合、角膜１１６での測定光の走査範囲１２３は２．３ｍｍ四方程度である。これは、まぶた、まつ毛と瞳孔から離れるほど大きくなる。ここで、コンピュータ１１５は、Ｓ２工程で得た前眼部の３次元データと測定光の軌跡が重なり合うかを判定する。なお、測定光の軌跡は装置設計時に定まるもので既知である。コンピュータ１１５は、Ｓ２工程で得た断面図の各要素の座標および測定光の奇跡の座標を把握しているため、例えば、これらの座標を比較することで測定光の軌道がまつ毛等の障害物に重なるか否かを判断することができる。すなわち、コンピュータ１１５は、取得手段で取得した障害物の位置情報に基づいて被検眼への測定光の入射が妨げられるか否かを判断する判断手段の一例として機能する。測定光の軌跡が障害物と重なり合わない場合は、例えば、回転中心を瞳孔に設定した通常の測定を制御プロファイルに設定する。
【００３４】
一方、測定光の軌跡が障害物と重なりあう場合は、障害物による影響が小さくなるように（好ましくは最小限になるように）測定プロファイルを作成する。言い換えれば、コンピュータ１１５が、測定光が障害物を避けるように測定プロファイルを作成する。
【００３５】
まず、例えば、網膜を１２ｍｍ四方で測定する場合、１２ｍｍ四方のｙ軸方向の一端部を測定するときの測定光［図３（ｂ）中の（１）参照］の瞳孔１２０への最大入射角は２２度程度になる。この角度において、測定光に対する障害物（例えば上まつ毛１１７）の影響が小さくなるように（好ましくは最小となるように）、コンピュータ１１５は、通常の測定光の入射位置をｙ軸に沿って平行移動させた測定光の入射位置を設定する［図４（ａ）中の（１）´参照］。すなわち、入射位置制御機構１０４（入射位置変更手段）は、障害物を避けるように被検眼の鉛直方向において平行に入射位置を変更する。具体的には、入射位置制御機構１０４は、判断手段によって被検眼への測定光の入射が妨げられると判断された場合、走査された測定光の被検眼への入射位置を変更する。なお、平行光は同じまたは略同じ位置に結像するという光学的な性質により、撮像する範囲はほぼ変わらない。従って、入射位置制御機構１０４は、入射位置変更手段による入射位置の変更がない場合の眼底の撮像範囲と、入射位置変更手段による入射位置の変更があった場合の眼底の撮像範囲とが略等しくなるよう走査された測定光の被検眼への入射位置を変更する。
【００３６】
また下まつ毛側から入射する１２ｍｍ四方のｙ軸方向の他端部を測定するときの測定光、すなわち瞳孔への最低入射角を持つ測定光［図３（ａ）中の（３）］についての処理の一例について述べる。コンピュータ１１５は、例えば、最低入射角を持つ測定光がまつ毛に妨げられていなくとも、通常の測定光の瞳孔１２０への入射位置を、最大入射角を持つ測定光の移動量と同量かつ逆向きにｙ軸に沿って平行移動させた入射位置を設定する［図４（ａ）中の（３）´参照］。
【００３７】
そして、コンピュータ１１５は、例えば、設定されたこれらの測定光の入射位置の間を線形に変化させるように入射位置を制御するプロファイルを作成する。通常の測定において瞳孔１２０が測定光の走査の回転中心となっていたが、このようにプロファイル作成することで、瞳孔１２０以外が測定光の回転中心となる。例えば、図４（ａ）に示す例では角膜１２３が回転中心となっている。すなわち、入射位置を変更することで回転中心が変化する。
【００３８】
なお、最大入射角を持つ測定光の入射位置と最低入射角を持つ測定光の入射位置とを同じ量だけｙ軸に沿って移動することとしなくてもよい。例えば、最大入射角を持つ測定光の入射位置および最低入射角を持つ測定光の入射位置のそれぞれをまつ毛等の障害物の影響を低減する分だけ移動させることとしてもよく、この場合それぞれの入射位置の移動量は異なってもよい。
【００３９】
さらに、上記では、入射位置変更後の最大入射角を持つ測定光の入射位置と最低入射角を持つ測定光の入射位置との間を線形に変化させるように入射位置を制御するプロファイルを作成すると述べたが、これに限定されるものではない。例えば、測定光がまつ毛等により妨げられない場合には、通常の測定光の入射位置を変更しなくともよい。すなわち、測定光がまつ毛等により妨げられる場合には測定光の入射位置を変更するが、測定光がまつ毛等により妨げられない場合には測定光の入射位置を変更しないこととしてもよい。
また、当然瞳孔の直径を最大限移動するように測定プロファイルを設定してもよい。ここで、上下の入射位置を設定するが、上下の入射位置は中心から等距離であっても、距離が異なってもよい。要は、それぞれ最適な位置が設定されればよい。なお、測定光の入射位置の移動に際しては、上述のように測定光のビーム径と瞳孔の大きさを考慮することが望ましい。
【００４０】
このように設定されたプロファイルに基づいて入射位置制御機構１０４が自身に入射される測定光の光軸方向に移動することで、ＸＹスキャナ１０５への測定光の入射位置を変更し、結果としてＸＹスキャナ１０５で走査された測定光の被検眼への入射位置を変更する。すなわち、入射位置制御機構１０４は、被検眼への前記測定光の入射を妨げる障害物を避けるように、走査手段で走査された測定光の被検眼への入射位置を変更する入射位置変更手段の一例に相当する。また、入射位置制御機構１０４は例えばミラーにより構成される。従って、入射位置制御機構１０４は、走査ミラーへの測定光の入射位置を変更する入射位置変更ミラーの一例に相当する。
【００４１】
Ｓ４工程で、撮像前調整が行われる。この工程では、被検眼１０８と対物レンズ１０７とのワーキングディスタンス、フォーカス、光路長可変機構、などを調整して、ＯＣＴ画像が所望の画像になるように調整する。
【００４２】
Ｓ５工程で、コンピュータ１１５は、撮像スイッチが押されたかどうかを判定する。撮像スイッチが押されていればＳ６工程に進む。押されていない場合はＳ２工程に戻る。
【００４３】
Ｓ６工程で、ＯＣＴ測定を行う。例えば、３Ｄ測定において、Ｆａｓｔスキャンがｙ軸における低い位置から高い位置に向かって測定光をスキャンする場合、入射位置制御機構１０４により制御しながら測定するために、瞳孔１２０での測定光の入射位置は図４（ａ）の矢印のように往復運動することになる。測定光の軌跡（１）’は、ｙ軸の低い位置で瞳孔に入射し、網膜のｙ軸の低い位置を測定する。この時、測定光は、入射位置制御機構１０４により、ハーフミラー１０３に近い側で曲げられ、ＸＹスキャナ１０５に入射する。測定光の軌跡（３）’はｙ軸の高い位置で瞳孔に入射し、網膜のｙ軸の高い位置を測定する。この時測定光は、入射位置制御機構１０４により、ハーフミラー１０３から遠い側で曲げられ、ＸＹスキャナ１０５に入射する。なお、瞳孔への入射角度はそれぞれ通常測定［図３（ｂ）］と同じところを測定する場合と変わらない。測定光が（１）’〜（３）’に変化するときＸＹスキャナ１０５は自身に入射される測定光をＹ方向に走査している。すなわち、Ｓ６工程は、被検眼の眼底を照射する測定光を走査する走査工程の一例に相当する。さらに、Ｓ６工程は、被検眼への測定光の入射を妨げる障害物を避けるように、走査工程で走査された測定光の被検眼への入射位置を変更する入射位置変更工程の一例に相当する。このように、本装置では、ＸＹスキャナ１０５を走査しながら入射位置変更機構１０４を用いて測定光の入射位置を変更する。
【００４４】
図４（ｂ）−（ｅ）にｉ番目のフレーム前後の測定プロファイルを示す。図４（ｂ）はｙ軸がＦａｓｔスキャンの場合の瞳孔に対する入射位置、図４（ｃ）はその場合の瞳孔に対する入射角度である。それぞれのこぎり波状に制御する。図４（ｄ）はｘ軸がＦａｓｔスキャンの場合の瞳孔に対する測定光の入射位置、図４（ｅ）はその場合の入射角度である。それぞれステップ状に制御する。
【００４５】
図４（ｂ）−（ｅ）に示した測定プロファイルで、測定光を走査した状態で分光器１１２から測定点ごとに一次元配列のデータ（例えば、１０２４画素）が取得され、コンピュータ１１５に順次送られる。そしてフレーム毎に連続する１ライン（例えば、５００点）を、２次元配列のデータを単位として保存する。そのデータサイズは例えば、１０２４×５００×１２ビットである。コンピュータ１１５は、測定した２次元配列のデータから、固定ノイズの除去、波長波数変換、フーリエ変換などを行って断層画像（Ｂ−Ｓｃａｎ像）を得る。
【００４６】
Ｓ７工程で、コンピュータ１１５は、すべての画像が得られたかを判断する。必要な５００フレームの撮影が終了した場合には、Ｓ８工程に進む。終了していない場合はＳ６工程に戻る。
【００４７】
Ｓ８工程で、終了する。ここでは、装置から被検眼１０８を外し、装置を初期位置に戻す。
【００４８】
この結果、ＯＣＴ画像の撮像時にまぶたやまつ毛等の障害物による測定光に対する影響を低減することができる。具体的には、まぶたやまつ毛等の障害物による測定光の減光を低減することができる。特に広画角測定においては、測定光は障害物による影響を受ける可能性が高まり、このような制御が有効である。一方、狭画角の場合においても測定光は障害物による影響を受ける可能性がある場合は有効となる。
【００４９】
また、被検眼への入射位置を平行に移動させるため、入射位置の変更を行った場合でも、入射位置の変更を行わなかった場合と略同様の範囲の画像を得ることができる。
【００５０】
なお、ここでは入射位置制御機構１０４により入射位置を制御したが、被検眼１０８と装置の相対的な高さを変更する機構などによって本制御を実現してもよい。
【００５１】
また、瞳孔において測定光を移動させるには、眼と装置のワーキングディスタンスを変えることによっても実現することができる。ただし、焦点位置等がずれるために好ましくはないが、場合によってはこのような調整でもよい。
【００５２】
また、入射位置制御機構１０４を移動させた場合、測定光の光路長が若干変化する場合がある。それを補正するために、入射位置制御機構１０４の移動量と測定光の光路長の変化量をあらかじめ求めておき、光路長可変機構１１４を制御することにより補正すればよい。
【００５３】
（実施例２）
実施例１と同じ装置構成であるが、前眼部撮像の結果を用いて測定光の入射位置の補正を逐次行う例について説明する。（信号処理）に図５に示すフローチャートを用いて、信号処理の一例について説明する。なお、以下の工程はコンピュータ１１５の制御の下に、各構成が動作することにより行われる。
【００５４】
Ｃ１工程で、測定を開始する。この状態ではＯＣＴ装置が起動されていて、被検眼１０８が測定位置に配置されている。Ｃ１工程が終了すると、上述のＳ２工程およびＳ３工程が行われる。そして、Ｃ２工程へと移る。
【００５５】
Ｃ２工程で、前眼部および断層像の撮像前調整を行う。まず上述のＳ２工程と同様に前眼部撮像装置１１１による前眼部の撮像が行われる。そして得られた前眼部撮像装置１１１による画像をテンプレートとしてコンピュータ１１５内のメモリ（不図示）に記録する。さらに、実施例１で説明したＳ３工程と同様に、コンピュータ１１５は、障害物による測定光に対する影響が低減されるように、制御プロファイルの作成を行う。そして、前眼部および断層像の撮像前調整を行う。断層像の調整では、フォーカス、コヒーレンスゲートなどの位置が調整される。撮像準備が完了すれば、撮像スイッチが押されるのを待機する。
【００５６】
Ｃ３工程で、コンピュータ１１５は、撮像スイッチが押されているかどうかを判断する。押されている場合は、前眼部の撮像はＡ１工程、断層像の撮像はＢ１工程に進む。
【００５７】
まず、前眼部の撮像ループ（Ａ１工程−Ａ３工程およびＣ４工程）を説明する。前眼部の撮像は１フレームあたり例えば２５ｍｓｅｃであるとする。
【００５８】
Ａ１工程で、前眼部を撮像する。前眼部撮像装置１１１で例えば６００×８００画素の画像を取得する。
【００５９】
Ａ２工程で、コンピュータ１１５は、前眼部の評価を行う。具体的には、Ｃ２工程で記録をしたテンプレートとＡ１工程で取得した画像との比較を行う。この比較は、取得した画像とテンプレートとで一致する場所を探す。この方法は、一般的なパターンマッチングなどによって行われるため、詳細は省略する。
【００６０】
Ａ３工程で、コンピュータ１１５は、移動量計算を行う。パターンマッチングした位置と初期位置から、テンプレートの移動量が計算できる。なお、マッチングする場所がない場合が、例えば、前眼部が大きく動いたときや、まぶたが閉じたときに起こりうる。そのような場合には、移動量を例えば、前回求めた値とする。計算した移動量はＯＣＴの信号処理部に渡され、Ｃ４工程に進む。
【００６１】
次に、断層像の撮像ループ（Ｂ１工程−Ｂ３工程およびＣ４工程）を説明する。ＯＣＴ撮像部による撮像は１フレームあたり例えば２５ｍｓｅｃであるとする。
【００６２】
Ｂ１工程で、コンピュータ１１５の制御の下、入射位置制御機構１０４は、測定光の入射位置の補正を行う。測定光の入射位置の補正はＡ３工程からの移動量の計算結果を参照することによって行う。入射位置の補正は例えば一フレーム毎に行う。なお、前眼部の撮像ループの処理が滞っている場合は、移動量がＯＣＴの信号処理部に送られてこない。この場合、コンピュータ１１５は前回送られた移動量を用いて入射位置の補正を行うこととしてもよい。
【００６３】
なお、入射位置の補正とは、例えば被検眼が上向きに移動した場合には入射位置制御機構１０４を１０３側に移動させることで測定光の入射位置を上方向に移動させる。なお、被検眼の移動量と入射位置制御機構１０４の移動方向および移動量とは予め対応付けられており図示しないメモリ等の記憶装置に記録されている。従って、入射位置制御機構１０４はこの記憶装置に記録された情報を用いて移動する。
【００６４】
なお、Ｂ２工程で、ＸＹスキャナ１０５の移動を行う。これは、例えば、ｘ軸がＳｌｏｗスキャン，ｙ軸がＦａｓｔスキャンである場合に、測定光をｘ軸を方向にＳｔｅｐ的に動かすものである。
【００６５】
Ｂ３工程で、分光器１１２に備えれた図示しないラインセンサによってラインデータを取得する。より具体的には、ｙ軸スキャンをしながらラインデータを取得する。スキャンの際、上述のＳ６工程と同様にプロファイルに従って測定光の入射位置を変更させることで障害を避けながらＯＣＴ画像を得ることができる。
【００６６】
Ｃ４工程で、コンピュータ１１５は、所望の枚数のＯＣＴ画像の取得が終わったかどうかを判断する。所望の枚数を取得していない場合、眼底像撮像はＡ１に戻る。一方断層像撮像はＢ１に戻る。一方、所望の枚数のＯＣＴ画像の取得が終わっていると判断された場合にはＣ５工程に進む。
【００６７】
Ｃ５工程で、処理を終了する。
【００６８】
このように、本実施例によれば、第１の実施例と同様の効果を得られる他、前眼部の動きを略リアルタイムで解析しながら、測定光の入射位置を制御（補正）することによって、撮像の失敗を少なくすることができる。特に、被検眼が動く場合には有効である。
【００６９】
（実施例３）
本実施例においては、ＳＬＯ装置を有するＯＣＴ装置について図面を用いて説明する。ＳＬＯ装置およびＯＣＴ装置は、一部の光学系を共有し、それぞれにおいて、瞳孔に対する測定光の入射位置を補正することができる。
【００７０】
（光学系の構成）
図６は、フォトカプラ３０１を使ったＯＣＴ装置とＳＬＯ装置とが、対物レンズを共有している構成である。ＯＣＴ装置はフォトカプラ３０１、ファイバコリメータ３０２、３０３を利用している以外は実施例１とほぼ同じ構成であるので説明を省略する。
【００７１】
次に、眼底像を取得するＳＬＯ撮像部の光学系構成に関して説明する。レーザ光源３０４は、半導体レーザやＳＬＤ光源を用いることができる。この波長は、ダイクロイックミラー３１０によって、ＯＣＴ用の低コヒーレント光源１０１の波長と分離できればよい。一般的には眼底像の画質として良好な、７００ｎｍ〜１０００ｎｍの近赤外の波長域が用いられるが、本実施例においては、例えば、波長分離の可能な波長７６０ｎｍの半導体レーザを用いる。
【００７２】
まず、レーザ光源３０４から出射されたレーザビーム（ＳＬＯビーム）はファイバ３０５を介して、ファイバコリメータ３０６から平行光となって出射され、入射位置調整機構３０８、ＳＬＯスキャナ３０９に導かれる。ダイクロイックミラー３１０は、ＯＣＴビームを透過し、ＳＬＯビームを反射するように構成しておく。ＯＣＴ撮像部と同様、ＳＬＯ撮像部のスキャナはガルバノスキャナを用いている。被検眼１０８に入射したＳＬＯビームは、被検眼１０８の眼底に照射される。ここで、入射位置制御機構３０８はＳＬＯスキャナ３０９へのＳＬＯビームの入射位置を変更するもので、上述の入射位置制御機構１０４と略同様の機能を備える部材であるため、詳細な説明は省略する。また、ＳＬＯスキャナ３０９は、ＳＬＯビームをＸ方向およびＹ方向にＳＬＯビームを走査するもので、上述のＸＹスキャナ１０５と略同様の機能を備える部材であるため詳細な説明は省略する。すなわち、ＳＬＯスキャナ３０９は、被検眼の眼底を照射する測定光を走査する走査手段および被検眼の眼底を照射する測定光を走査する走査ミラーの一例に相当する。また、入射位置制御機構３０８は入射位置変更手段および入射位置変更ミラーの一例に相当する。
【００７３】
このＳＬＯビームが、被検眼１０８の眼底で反射あるいは散乱され、同一光路をたどり、穴あきミラー３０７まで戻る。穴あきミラー３０７の位置は、被検眼１０８の瞳孔位置と共役になっており、眼底に照射されているビームが後方散乱した光のうち、瞳孔周辺部を通った光が、穴あきミラー３０７によって反射され、レンズ３１１により光検出素子３１２上に結像する。光検出素子３１２は例えばＡＰＤ（アバランシェホトダイオード）である。コンピュータ１１５は、光検出素子３１２からの強度情報に基づき，眼底の平面画像を生成する。本実施例では、眼底に所定のスポット径のビームを照射しスキャンする事で眼底像を得るＳＬＯを用いたが、ラインビームを用いるＬＳＬＯ（Ｌｉｎｅ  ＳＬＯ）構成であっても構わない。
【００７４】
また、コンピュータ１１５は、ＯＣＴスキャナ、光路長可変機構１１４、分光器１１２、ＳＬＯスキャナ３０９、光検出素子４１２などの制御・データ取得を行うだけでなく、信号処理やデータの取り出し・保存などを行う。なお、ＯＣＴ装置、ＳＬＯ装置がそれぞれ単独の装置であってもよい。
【００７５】
（信号処理）
本実施例における信号処理は、実施例１における信号処理をＳＬＯ装置、ＯＣＴ装置それぞれで行えばよい。すなわち主な違いは次の工程である。
【００７６】
Ｓ３工程で、コンピュータ１１５は、測定プロファイルを作成する。このとき、ＯＣＴ撮像用のプロファイルとＳＬＯ撮像用のプロファイルを作成する。ＳＬＯとＯＣＴでは撮像範囲が異なる場合があり、そのため、それぞれに適したプロファイルを作成する。また、同一のプロファイルを用いることとしてもよい。
【００７７】
Ｓ６工程で、それぞれのプロファイルに基づいて、ＳＬＯ撮像およびＯＣＴ撮像を行う。
【００７８】
Ｓ７工程で、コンピュータ１１５は、ＯＣＴ撮像において、所望の測定が終わったかを判断する。
【００７９】
この結果、本実施例によれば、第１の実施例と同様の効果を得られる他、ＳＬＯ画像、ＯＣＴ画像ともに撮像時にまぶたやまつ毛による妨害を低減することができる。
【００８０】
本実施例はＳＬＯ装置つきのＯＣＴ装置であるが、当然、ＳＬＯ装置、ＯＣＴ装置が単体である場合も本構成が適応できる。
【００８１】
（その他の実施例）
また、本発明は、以下の処理を実行することによっても実現される。即ち、上述した実施形態の機能を実現するソフトウェア（プログラム）を、ネットワーク又は各種記憶媒体を介してシステム或いは装置に供給し、そのシステム或いは装置のコンピュータ（またはＣＰＵやＭＰＵ等）がプログラムを読み出して実行する処理である。
【符号の説明】
【００８２】
１０１  光源
１０２  ファイバコリメータ
１０３  ハーフミラー
１０４  入射位置制御装置
１０５  ＸＹスキャナ
１０６  レンズ
１０７  対物レンズ
１０８  被検眼
１０９  ダイクロイックミラー
１１０  結像レンズ
１１１  前眼部撮像装置
１１２  分光器
１１３  補償ガラス
１１４  光路長可変機構
１１５  コンピュータ
１１６  角膜
１１７  まつ毛
１１８  眼底
１１９  まぶた
１２０  瞳孔
１２１  虹彩
１２２  白目
１２３  走査範囲
１２４  水晶体
３０１  フォトカプラ
３０２  ファイバコリメータ
３０３  ファイバコリメータ
３０４  レーザ光源
３０５  ファイバ
３０６  ファイバコリメータ
３０７  穴あきミラー
３０８  入射位置調整機構
３０９  ＳＬＯスキャナ
３１０  ダイクロイックミラー
３１１  レンズ
３１２  光検出素子
【図１】
2014045950.tif 000003
【図２】
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【図３】
2014045950.tif 000005
【図４】
2014045950.tif 000006
【図５】
2014045950.tif 000007
【図６】
2014045950.tif 000008