(57)【要約】      （修正有）【課題】透明基材との密着性、帯電防止性、表面硬度に優れ、且つ、透明基材とハードコート層との屈折率の違いによって生じる干渉縞のないハードコート組成物及びハードコート材を提供する。【解決手段】（Ａ）帯電防止剤、（Ｂ）アクリレート化合物、（Ｃ）光重合開始剤、及び（Ｄ）溶剤からなるハードコート組成物であって、（Ａ）帯電防止剤が金属酸化物微粒子からなり、（Ｂ）アクリレート化合物が、分子量６００以下で、且つ、分子中に特定の繰り返し単位と、少なくとも１つ以上のアクリロイル基を有するハードコート組成物。【選択図】図１
2014089405.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（Ａ）帯電防止剤、（Ｂ）アクリレート化合物、（Ｃ）光重合開始剤、及び（Ｄ）溶剤からなるハードコート組成物であって、
前記（Ａ）帯電防止剤が金属酸化物微粒子からなり、
前記（Ｂ）アクリレート化合物が、分子量６００以下で、且つ、分子中に下記（化学式１）で表される繰り返し単位と、少なくとも１つ以上のアクリロイル基を有することを特徴とするハードコート組成物。
【化４】
2014089405.tif 000007
（式中、Ｒは水素原子又はアルキル基を表し、ｎは１以上の整数を表す。）
【請求項２】
上記繰り返し単位がエチレンオキシド基又はプロピレンオキシド基であることを特徴とする請求項１に記載のハードコート組成物。
【請求項３】
前記アクリレート化合物にアクリロイル基が２つ以上含まれることを特徴とする請求項１又は２に記載のハードコート組成物。
【請求項４】
透明基材の一方の面に、請求項１乃至３のいずれかに記載のハードコート組成物からなるハードコート層を有することを特徴とするハードコート材。
【請求項５】
請求項４に記載のハードコート層の上に反射防止層を積層してなることを特徴とするハードコート材。
【請求項６】
請求項４又は５に記載の透明基材がトリアセチルセルロース又はアクリル樹脂から成ることを特徴とするハードコート材。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、帯電防止や反射防止機能を有するハードコート組成物及びそれを用いたハードコート材に関する。
【背景技術】
【０００２】
一般にディスプレイの表面には、擦傷性を上げるためにアクリル系の電離放射線硬化型材料を硬化して得られるハードコート層が設けられている。しかし、ハードコート層と透明基材フィルムの屈折率差が大きくなると、ハードコート層上面（ディスプレイ表面）で反射する光と、ハードコート層下面（透明基材との界面）で反射する光で、両者の光が干渉して虹色のムラ（干渉縞）を生じ、ディスプレイの視認性が低下する要因となる。
【０００３】
干渉縞を軽減する方法として、これまでに以下の４つの方法が提案されている。一つ目は、透明基材上に凹凸をもうけることによって、ハードコート層と透明基材との界面での光の反射を散乱させる方法（特許文献１参照）、二つ目は、透明基材とハードコート層の屈折率差を低減するために、透明基材とハードコート層の間に、屈折率が透明基材とハードコート層の各値の中間の値である層（中間層）を１層設ける方法（特許文献２参照）、三つ目は透明基材とハードコート層の界面近傍の屈折率が連続的に変化するように、ハードコート塗液中の溶剤に透明基材を溶解又は膨潤させるものを用い、透明基材とハードコート層の間に屈折率傾斜層を設ける方法（特許文献３参照）、四つ目はハードコート層と透明基材の屈折率の差が小さくなるよう、ハードコート塗液の屈折率を調整する方法（特許文献４参照）がある。
【０００４】
しかし、表面凹凸を設ける方法では、凹凸による光散乱でヘイズが上昇するという懸念事項があり、干渉縞改善とヘイズ抑制の両立が困難である。また、中間層を設ける方法では、屈折率差は小さくなるが、層間の界面は残っており、干渉縞を完全になくすことは不可能であり、さらに中間層を形成させるプロセスが必要であるため、製造コストが増す。透明基材を溶解又は膨潤させる溶剤を用いた方法では、干渉縞をなくすために必要な厚さの屈折率傾斜層が形成される前に、溶剤が揮発してしまうため、干渉縞抑制が困難である。
また、透明基材を溶解または膨潤させる溶剤は主に導電性材料（特に金属酸化物微粒子）の分散を阻害することが多い。ハードコート材料の屈折率を調整する方法では、微粒子や含フッ素材料を用いる必要があるため、膜硬度や塗工性、材料コストの点で使用が困難である。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開平８−１９７６７０号公報
【特許文献２】特開２０００−１１１７０６号公報
【特許文献３】特開２００３−１３１００７号公報
【特許文献４】特開２００９−２６５６５８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は透明基材との密着性、帯電防止性、表面硬度に優れ、且つ、透明基材とハードコート層との屈折率の違いによって生じる干渉縞のないハードコート組成物及びハードコート材の提供を目的としている。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明に係る請求項１の発明は、（Ａ）帯電防止剤、（Ｂ）アクリレート化合物、（Ｃ）光重合開始剤、及び（Ｄ）溶剤からなるハードコート組成物であって、
（Ａ）帯電防止剤が金属酸化物微粒子からなり、
（Ｂ）アクリレート化合物が、分子量６００以下で、且つ、分子中に下記（化学式１）で表される繰り返し単位と、少なくとも１つ以上のアクリロイル基を有することを特徴とするハードコート組成物である。
【０００８】
【化１】
2014089405.tif 000003
（式中、Ｒは水素原子又はアルキル基を表し、ｎは１以上の整数を表す。）
【０００９】
また、請求項２の発明は、前記繰り返し単位が、エチレンオキシド基又はプロピレンオキシド基であることを特徴とする請求項１に記載のハードコート組成物である。
【００１０】
また、請求項３の発明は、前記アクリレート化合物に、アクリロイル基が２つ以上含まれることを特徴とする請求項１または２に記載のハードコート組成物である。
【００１１】
また、請求項４の発明は、透明基材の一方の面に、請求項１乃至３のいずれかに記載のハードコート組成物からなるハードコート層を有することを特徴とするハードコート材である。
【００１２】
また、請求項５の発明は、請求項４に記載のハードコート層の上に反射防止層を積層してなることを特徴とするハードコート材である。
【００１３】
また、請求項６の発明は、請求項４又は５に記載の透明基材がトリアセチルセルロース又はアクリル樹脂から成ることを特徴とするハードコート材である。
【発明の効果】
【００１４】
本発明の請求項１によれば、前記ハードコート組成物が金属感化物微粒子からなる帯電防止剤を含むことによって、ハードコート層の表面に微細な凹凸が生じ表面積を増大する効果が得られる。また、前記ハードコート組成物が、分子中に上記（化学式１）で表される繰り返し単位に、少なくとも一つ以上のアクリロイル基を有する、分子量が６００以下のアクリレート化合物を含有することによって、前記ハードコート組成物による透明基材の溶解性や膨潤性が向上し、屈折率に傾斜性のあるハードコート層を形成することができる。すなわち、本発明により、従来の溶剤による透明基材の溶解または膨潤では、干渉縞をなくすために必要な厚さの屈折率傾斜層が形成される前に溶剤が揮発してしまう問題が解決できる。その結果、透明基材とハードコート層間の屈折率の差を低減することができ干渉縞を抑制することができる。
【００１５】
また、本発明の請求項２によれば、前記繰り返し単位が、エチレンオキシド基又はプロピレンオキシド基であることにより、アルキル基の鎖長が短く、前記アルキル基によるエーテル結合が遮蔽されず、その結果、透明基材の溶解性や膨潤性が向上し、より好ましく屈折率に傾斜性のあるハードコート層を形成することができる。
【００１６】
また、本発明の請求項３によれば、前記アクリレート化合物がアクリロイル基を２つ以上含むことにより、反応性を著しく向上させることができ、透明基材の一方の面に高い表面硬度を付与することができる。
【００１７】
上記のように、本発明によれば、密着性、帯電防止性、表面硬度に優れ、且つ、透明基材とハードコート層との屈折率の差を低減することで干渉縞を抑制できる、ハードコート
組成物及びハードコート材を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】本発明に係るハードコート材の一実施形態を表す断面模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００１９】
本発明は、帯電防止剤、上記（化学式１）で表されるアクリレート化合物、光重合開始剤、及び溶剤からなるハードコート組成物と、透明基材の一方の面に前記ハードコート組成物を用いて形成されるハードコート材である。
【００２０】
図１は本発明に係るハードコート材の一実施形態を表す断面模式図を示している。図１（ａ）は、透明基材１１の一方の面に前記ハードコート組成物からなるハードコート層１２が形成されたハードコート材１の一実施形態を示している。また、図１（ｂ）は透明基材１の一方の面に、前記ハードコート層１２、反射防止層２１が順次積層されたハードコート材２の一実施形態を示している。
【００２１】
本発明のハードコート組成物は、（Ａ）帯電防止剤、（Ｂ）アクリレート化合物、（Ｃ）光重合開始剤、及び（Ｄ）溶剤からなり、上記（化１）式で表されるアクリレート化合物により透明基材を溶解又は膨潤させることができる。その結果、透明基材とその上に形成されるハードコート層との間に、屈折率を傾斜させることで干渉縞を抑制できる。また、前記アクリレート化合物に含まれるアクリロイル基が特に３つ以上あることで、高い密着性と表面硬度が得られる。
【００２２】
前記ハードコート組成物に用いられる（Ａ）帯電防止剤としては、金属酸化物微粒子からなる帯電防止剤が好ましい。前記金属酸化物微粒子としては、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化セリウム、酸化錫、アンチモン錫酸化物、インジウム錫酸化物、燐錫酸化物、酸化アンチモン、アルミニウム亜鉛酸化物、ガリウム亜鉛酸化物等が挙げられる。中でも、導電性と透明性の点から、アンチモン錫酸化物が好ましく、一般的に用いられている４級アンモニウム塩に比べて、湿度依存性が少なく、安定して導電性を発現することができる。
【００２３】
上記金属酸化物微粒子を用いることによって、ハードコート層の表面に微細な凹凸が生じ表面積を増大する効果が得られる。これにより、ハードコート層と後述する低屈折率層との間で物理的吸着力が増大し、密着性が向上し、低屈折率層の耐擦傷性を向上させることができる。
【００２４】
前記金属酸化物微粒子の粒径は、０．１μｍ以下であることが望ましく、０．１μｍより大きくなるとヘイズが高くなり、帯電防止機能付きハードコートの透過率が低下する。
【００２５】
また、ハードコート組成物全体に占める前記帯電防止剤の割合は、固形分３〜１０重量％が好ましく、さらには５重量％以上がより好ましい。前記帯電防止剤の占める割合が３重量％未満の場合、表面抵抗値が１×１０１１Ω／□以上となり、適正な帯電防止効果が得られない。
【００２６】
また、前記ハードコート組成物に用いられる（Ｂ）アクリレート化合物としては、分子量が６００以下で、且つ、分子中に上記（化学式１）で表される繰り返し単位に、少なくとも一つ以上のアクリロイル基を有するものである。特に、上記繰り返し単位の中でも、基材溶解性の高さから、エチレンオキシド基又はプロピレンオキシド基がより好ましい。アルキル基の鎖長が大きく、分鎖状のものになると、エーテル結合がアルキル基に遮蔽され、基材溶解性が低下する。
【００２７】
前記（Ｂ）アクリレート化合物の分子量は、前記透明基材への浸透性を左右するものであり、浸透性が著しく低下することにより干渉縞が発生する。本発明では、その分子量は６００以下が好ましい。特に、２００以上５００以下がより好ましい。分子量が２００を下回ると、透明基材への浸透が進行する前に揮発することが懸念される。また、６００を超えると透明基材への浸透性が著しく低下する。
【００２８】
また、ハードコート層としての硬度を保持するため、上記アクリレート化合物中に、アクリロイル基が２つ以上含まれることがより好ましい。また、アクリレート化合物は１種類であっても２種類以上用いてもよく、種類の数は特に限定されるものではない。
【００２９】
またさらに、前記アクリレート化合物は（化学式１）で表される繰り返し単位を有するアクリレート化合物と、（化学式１）で表される繰り返し単位を有さないアクリレート化合物から構成されていてもよく、繰り返し単位を持たないアクリレート化合物は１種類であっても２種類以上であってもよく、種類や種類の数は特に限定されない。なお、基材溶解性を保持するため、アクリレート組成物全体に占める前記（化学式１）で表される繰り返し単位を有するアクリレート化合物の割合は、１０重量％以上がより好ましい。１０重量％未満では、透明基材の溶解又は膨潤が十分でなくなり、干渉縞の抑制が困難となる。
【００３０】
前記（化学式１）で表される繰り返し単位を持つアクリレート化合物としては、例えば、２−（２−エトキシエトキシ）エチルアクリレート、２−フェノキシエチルアクリレート、エトキシ化ノニルフェニルアクリレート、アルコキシ化ノニルフェニルアクリレート、２−フェノキシエチルメタクリレート、ブトキシエチルアクリレート、エトキシージエチレングリコールアクリレート、メトキシ−トリエチレングリコールアクリレート、２エチルヘキシル−ジグリコールアクリレート、メトキシーポリエチレングリコールアクリレート、メトキシジプロピレングリコールアクリレート、フェノキシ−ポリエチレングリコールアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、ジプロピレングリコールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、エトキシ化トリメチロールプロパントリアクリレート、プロポキシ化トリメチロールプロパントリアクリレート、プロポキシ化グリセリルトリアクリレートなどが挙げられる。
【００３１】
また、本発明の前記ハードコート組成物に含まれる前記（Ｃ）光重合開始剤としては、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類等が挙げられる。また、光増感剤としてｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、ポリ−ｎ−ブチルホスフィン等を用いることができる。
【００３２】
また、本発明の前記ハードコート組成物に含まれる（Ｄ）溶剤としては、特に限定されないが、透明基材を溶解又は膨潤させる溶剤を用いることで、前記（化学式１）で表される繰り返し単位を有するアクリレート化合物の透明基材への浸透（溶解又は膨潤）が促進される。
【００３３】
例えば、前記透明基材としてトリアセチルセルロース、又はアクリル樹脂を用いた場合には、ジブチルエーテル、ジオキサン、ジオキソランなどのエーテル類、またアセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、ジプロピルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、およびメチルシクロヘキサノン等の一部のケトン類、また酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ｎ−ペンチルなどのエステル類、さらには、メチルセロソルブ、セロソルブなどのセロソルブ類、その他としてＮ−メチル−２−ピロリドン（Ｎ−メチルピロリドン）、炭酸ジメチルが挙げられる。これらは１種単独であるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。
【００３４】
次に、本発明に係るハードコート材について説明する。
【００３５】
本発明に係るハードコート材は、図１（ａ）に表すように、透明基材１１の一方の面に前記ハードコート組成物を塗布し、乾燥後、電離放射線照射により硬化させてハードコート層１２を形成して得られる。また、図１（ｂ）に表すように、前記ハードコート層１２の上にさらに反射防止層２１を形成したハードコート材を得ることができる。
【００３６】
本発明に係るハードコート材に用いられる透明基材としては、種々の有機高分子からなるフィルム又はシートを用いることができる。例えば、ディスプレイ等の光学部材に通常使用される透明基材が挙げられ、透明性や光の屈折率等の光学特性、さらには耐衝撃性、耐熱性、耐久性などの諸物性を考慮して、トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、セロファン等のセルロース系、６−ナイロン、６，６−ナイロン等のポリアミド系、ポリメチルメタクリレート等のアクリル樹脂、ポリビニルアルコール等の有機高分子からなるものが用いられる。特に、トリアセチルセルロース、アクリル樹脂は、複屈折率が小さく、透明性が良好であることから液晶ディスプレイに対し好適に用いることができる。
【００３７】
上記透明基材の一方の面に、前記ハードコート組成物を塗布する方法としては、ロールコーター、リバースロールコーター、グラビアコーター、マイクログラビアコーター、ナイフコーター、バーコーター、ワイヤーバーコーター、ダイコーター、ディップコーターを用いた塗布方法を用いることができる。
【００３８】
また、透明基材上に形成されたハードコート組成物の塗膜を乾燥する手段としては、加熱、送風、熱風等を用いることができる。
【００３９】
また、乾燥後の電離放射線の照射方法としては、紫外線、電子線を用いることができる。紫外線硬化の場合は、高圧水銀灯、低圧水銀灯、超高圧水銀灯、メタルハライドランプ、カーボンアーク、キセノンアーク等の光源が利用できる。また、電子線硬化の場合はコックロフトワルト型、バンデグラフ型、共振変圧型、絶縁コア変圧器型、直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子線加速器から放出される電子線が利用できる。電子線は、５０〜１０００ＫｅＶのエネルギーを有するのが好ましい。１００〜３００ＫｅＶのエネルギーを有する電子線がより好ましい。
【００４０】
本発明に係る前記ハードコート層の形成方法としては、ロール・ツー・ロール方式による連続形成もできる。例えば、ウェブ状の透明基材を塗布装置の巻き出し部から巻き取り部まで連続走行させ、このとき、透明基材を塗布ユニット、乾燥ユニット、電離放射線照射ユニットを通過させることにより、透明基材上にハードコート層が連続形成される。
【００４１】
なお、前記ハードコート組成物を塗布し、形成される塗膜においてハジキ、ムラといった塗膜欠陥の発生を防止するために、前記ハードコート組成物に表面調整剤と呼ばれる添加剤を加えても良い。表面調整剤は、その働きに応じて、レベリング剤、消泡剤、界面張力調整剤、表面張力調整剤とも呼ばれるが、いずれも形成される塗膜（防眩層）の表面張力を低下させる働きを備える。
【００４２】
また、前記ハードコート組成物には必要に応じて、他の添加剤を加えても良い。例えば、帯電防止剤、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、密着性向上剤、硬化剤などを用いることができる。
【００４３】
次に、図１（ｂ）に表すような、前記ハードコート層１２の上にさらに反射防止層２１を形成したハードコート材について具体的に説明する。
【００４４】
図１（ａ）に表すハードコート材のハードコート層１２の上に、反射防止組成物を塗布し、乾燥後、電離放射線を照射して反射防止層２１を形成する。前記反射防止組成物は少なくとも低屈折率シリカ粒子とバインダマトリックス形成材料を含む。
【００４５】
前記低屈折率シリカ粒子は粒子内部に空隙を有しているのが特徴であり、屈折率が１．２０〜１．４４であればよく、特に限定されるものではない。例えば、有機珪素化合物から成るマトリックス中に、内部に空隙を有する低屈折率シリカ粒子を添加することにより、低屈折率化が可能となる。内部に空隙を有する低屈折率シリカ粒子は内部に空気を含有しているために、それ自身の屈折率は、通常のシリカ（屈折率＝１．４６）と比較して著しく低い（屈折率＝１．４４〜１．３４）。内部に空隙を有する低屈折率シリカ粒子は、多孔性シリカ微粒子を有機珪素化合物等で表面を被覆し、その細孔入口を閉塞して作製される。
【００４６】
また、この内部に空隙を有する低屈折率シリカ粒子をマトリックス中に添加した場合、このシリカ微粒子は中空であるために、マトリックスがシリカ微粒子内部に浸漬することが無く、屈折率の上昇を防ぐことが出来る。内部に空隙を有する低屈折率シリカ粒子の平均粒径は、０．５ｎｍ以上２００ｎｍ以下の範囲内であれは良い。この平均粒径が２００ｎｍよりも大きくなると、反射防止層の表面においてレイリー散乱によって光が散乱され、白っぽく見え、その透明性が低下する。また、この平均粒径が０．５ｎｍ未満であると、内部に空隙を有する低屈折率シリカ粒子が凝集しやすくなってしまう。
【００４７】
前記バインダマトリックス形成材料としては、例えば、ケイ素アルコキシドの加水分解物を用いることができる。さらには、下記（化学式２）で示されるケイ素アルコキシドの加水分解物を用いることができる。
【００４８】
【化２】
2014089405.tif 000004
（但し、式中Ｒはアルキル基を示し、ｘは０≦ｘ≦３を満たす整数である）
【００４９】
前記（化学式２）で表されるケイ素アルコキシドとしては、例えば、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、テトラ−ｎ−プロポキシシラン、テトラ−ｎ−ブトキシシラン、テトラ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、テトラ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、テトラペンタエトキシシラン、テトラペンタ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、テトラペンタ−ｎ−プロキシシラン、テトラペンタ−ｎ−ブトキシシラン、テトラペンタ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、テトラペンタ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリブトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジメチルエトキシシラン、ジメチルメトキシシラン、ジメチルプロポキシシラン、ジメチルブトキシシラン、メチルジメトキシシラン、メチルジエトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン等を用いることができる。ケイ素アルコキシドの加水分解物は、（化学式２）で示される金属アルコキシドを原料として得られるものであればよく、例えば塩酸にて加水分解することで得られるものである。
【００５０】
また、前記バインダマトリックス形成材料として、（化学式２）で表されるケイ素アルコキシドに、下記（化学式３）で表されるケイ素アルコキシドの加水分解物を含有させることにより反射防止層表面に防汚性を付与することができ、加えて、反射防止層の屈折率を低下することができる。
【００５１】
【化３】
2014089405.tif 000005
但し、式中Ｒ´はアルキル基、フルオロアルキル基又はフルオロアルキレンオキサイド
基を有する非反応性官能基を示し、ｚは１≦ｚ≦３を満たす整数である。
【００５２】
（化学式３）で表されるケイ素アルコキシドとしては、例えば、オクタデシルトリメトキシシラン、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロオクチルトリメトキシシラン等が挙げられる。
【００５３】
また、バインダマトリックス形成材料として、電離放射線硬化型材料を用いることもできる。電離放射線硬化型材料としては、前記ハードコート組成物で挙げたアクリレート化合物を用いることができる。また、低屈折率のフッ素系電離放射線硬化型材料を用いて反射防止層を形成するにあっては、必ずしも低屈折率粒子を添加する必要はない。また、電離放射線硬化型材料を用いる場合にあっても、反射防止層表面に防汚性を発現する材料を添加することが好ましい。なお、バインダマトリックス形成材料として電離放射線硬化型材料を用い、紫外線を照射することにより反射防止層を形成する場合には、反射防止組成物に光重合開始剤が加えられる。
【００５４】
光重合開始剤としては、例えば、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類等が挙げられる。以上により、反射防止層は形成される。
【００５５】
バインダマトリックス形成材料として、ケイ素アルコキシドの加水分解物を用いた場合には、ケイ素アルコキシドの加水分解物と低屈折率粒子とを含む反射防止組成物を、前記ハードコート層上に塗布して塗膜を形成し、乾燥・加熱して、ケイ素アルコキシドの脱水縮合反応をおこなうことにより反射防止層を形成することができる。また、バインダマトリックス形成材料として電離放射線硬化型材料を用いた場合には、電離放射線硬化型材料と低屈折率粒子とを含む反射防止組成物を前記ハードコート層上に塗布して塗膜を形成し、必要に応じて乾燥をおこない、その後、電離放射線を照射することで硬化させ、反射防止層を形成することができる。
【００５６】
なお、反射防止組成物には、必要に応じて、溶媒や各種添加剤を加えることができる。溶媒としては、トルエン、キシレン、シクロヘキサン、シクロヘキシルベンゼンなどの芳香族炭化水素類、ｎ−ヘキサンなどの炭化水素類、ジブチルエーテル、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、ジエトキシエタン、プロピレンオキシド、ジオキサン、ジオキソラン、トリオキサン、テトラヒドロフラン、アニソールおよびフェネトール等のエーテル類、また、メチルイソブチルケトン、メチルブチルケトン、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、ジプロピルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、およびメチルシクロヘキサノン等のケトン類、また蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ｎ−ペンチル、酢酸メチル、酢酸エチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、酢酸ｎ−ペンチル、およびγ−プチロラクトン等のエステル類、さらには、メチルセロソルブ、セロソルブ、ブチルセロソルブ、セロソルブアセテート等のセロソルブ類、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等のアルコール類、水等の中から塗工適正等を考慮して適宜選択される。また、添加剤として、防汚剤、表面調整剤、レベリング剤、屈折率調整剤、密着性向上剤、光増感剤等を加えることもできる。
【００５７】
また、前記反射防止層の形成方法としては前記方法に限らず、真空蒸着法、スパッタリング法、反応性スパッタリング法、イオンプレーディング法、電気めっき法等の適宜な手段であってもよく、例えば、膜厚０．１μｍ程度のＭｇＦ２等の極薄膜や金属蒸着膜、あるいはＳｉＯｘやＭｇＦ２の蒸着膜により形成しても良い。
【実施例】
【００５８】
以下実施例について詳細に説明するが、本発明は実施例に限定されるものでは無い。
【００５９】
（実施例１）
透明基材として、厚さ８０μｍ、アクリル樹脂（屈折率１．４９）を用いた。その一方の面に下記のハードコート組成物をワイヤーバーコーターにより塗布し、２０秒２５℃の条件下で保持し、さらにオーブン中、４０秒８０℃の条件下で乾燥した。その後、窒素雰囲気下、コンベア式紫外線硬化装置で露光量２００ｍＪ／ｃｍ２で紫外線照射し、前記透明基材上に厚さ５μｍのハードコート層を形成した。
【００６０】
＜ハードコート組成物＞
・帯電防止剤：アンチモンドープ酸化スズ（エタノール分散）    １０重量部
・アクリレート化合物                                        ４７重量部
（エトキシ化トリメチロールプロパントリアクリレート）
・光重合開始剤：ＬＵＣＩＲＩＮ  ＴＰＯ（チバジャパン社製）    １重量部
・溶剤：メチルエチルケトン                                  ２９重量部
イソプロピルアルコール                              １９重量部
【００６１】
次に、前記ハードコート層の上に下記組成の反射防止組成物をワイヤーバーコーターにより塗布し、２０秒２５℃の条件下で保持し、さらにオーブン中、４０秒８０℃の条件下で乾燥した。その後、窒素雰囲気下、コンベア式紫外線硬化装置で露光量２４０ｍＪ／ｃｍ２で紫外線照射し、反射防止層を有するハードコート材を作製した。
【００６２】
＜反射防止組成物＞
・多孔質シリカ微粒子分散液                            １４．９４重量部
（平均粒子径５０ｎｍ、固形分２０重量％、溶剤：メチルイソブチルケト）
・ＥＯ変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート      １．９９重量部
（ＤＰＥＡ−１２、日本化薬社製）
・光重合開始剤：Ｉｒｇａｃｕｒｅ１８４                  ０．０７重量部
（ＢＡＳＦジャパン社製）
・添加剤：ＴＳＦ４４６０（ＧＥ東芝シリコーン社製）      ０．２０重量部
・溶剤：メチルイソブチルケトン                              ８２重量部
【００６３】
（実施例２）
＜透明基材＞
透明基材として、厚さ６０μｍ、トリアセチルセルロースフィルム（屈折率１．４９）を用いた。次に、下記組成のハードコート組成物を用いて、実施例１と同様にしてハードコート層を形成した。
【００６４】
＜ハードコート組成物＞
・帯電防止剤：五酸化アンチモン（エタノール分散）            １０重量部
・アクリレート化合物（α）：プロポキシ化グリセリルトリアクリレート
４７重量部
・光重合開始剤：Ｉｒｇａｃｕｒｅ１８４                        １重量部
（ＢＡＳＦジャパン社製）
・溶剤：エタノール                                          ４８重量部
【００６５】
次に、前記ハードコート層の上に、実施例１と同様にして反射防止層を有するハードコート材を作製した。
【００６６】
（実施例３）
透明基材として実施例２と同じものを用い、下記組成のハードコート組成物を用いた以外は、実施例１と同様にして反射防止層を有するハードコート材を作製した。
【００６７】
＜ハードコート組成物＞
・帯電防止剤：アンチモンドープ酸化スズ（エタノール分散）    １０重量部
・アクリレート化合物                                        ４７重量部
（プロポキシ化トリメチロールプロパントリアクリレート）
・光重合開始剤：Ｉｒｇａｃｕｒｅ９０７                        １重量部
（ＢＡＳＦジャパン社製）
・溶剤：イソプロピルアルコール                              ４８重量部
【００６８】
（実施例４）
透明基材として実施例２と同じものを用い、下記組成のハードコート組成物を用いた以外は、実施例１と同様にして反射防止層を有するハードコート材を作製した。
【００６９】
＜ハードコート組成物＞
・帯電防止剤：アンチモンドープ酸化スズ（エタノール分散）    １０重量部
・アクリレート化合物                                        ４７重量部
（トリエチレングリコールジアクリレート）
・光重合開始剤：Ｉｒｇａｃｕｒｅ１８４                        １重量部
（ＢＡＳＦジャパン社製）
・溶剤：エタノール                                          ４８重量部
【００７０】
（比較例１）
透明基材は実施例１と同じものを用い、下記組成のハードコート組成物を用いた以外は、実施例１と同様にして反射防止層を有するハードコート材を作製した。
【００７１】
＜ハードコート組成物＞
・帯電防止剤：アンチモンドープ酸化スズ（エタノール分散）    １０重量部
・アクリレート化合物                                        ４７重量部
（トリメチロールプロパントリアクリレート）
・光重合開始剤：Ｉｒｇａｃｕｒｅ９０７                        １重量部
（ＢＡＳＦジャパン社製）
・溶剤：アセトン                                            ３４重量部
エタノール                                          １４重量部
【００７２】
（比較例２）
透明基材は実施例１と同じものを用い、下記組成のハードコート組成物を用いた以外は、実施例１と同様にして反射防止層を有するハードコート材を作製した。
【００７３】
＜ハードコート組成物＞
・帯電防止剤：アンチモンドープ酸化スズ（エタノール分散）    １０重量部
・アクリレート化合物                                        ４７重量部
（ペンタエリスリトールトリアクリレート）
・光重合開始剤：Ｉｒｇａｃｕｒｅ９０７                        １重量部
（ＢＡＳＦジャパン社製）
・溶剤：イソプロピルアルコール                              １４重量部
【００７４】
（比較例３）
透明基材は実施例４と同じものを用い、記組成のハードコート組成物を用いた以外は、
実施例１と同様にして反射防止層を有するハードコート材を作製した。
【００７５】
＜ハードコート組成物＞
・帯電防止剤：ライトエステルＤＱ１００                        ５重量部
・アクリレート化合物                                        ４７重量部
（ペンタエリスリトールトリアクリレート）
・光重合開始剤：Ｉｒｇａｃｕｒｅ９０７                        １重量部
（ＢＡＳＦジャパン社製）
・溶剤：イソプロピルアルコール                              １４重量部
【００７６】
（比較例４）
透明基材は実施例１と同じものを用い、記組成のハードコート組成物を用いた以外は、実施例１と同様にして反射防止層を有するハードコート材を作製した。
【００７７】
＜ハードコート組成物＞
・帯電防止剤：アンチモンドープ酸化スズ（エタノール分散）    １０重量部
・アクリレート化合物                                        ４７重量部
（エトキシ化ビスフェノールジアクリレート）
・光重合開始剤：Ｉｒｇａｃｕｒｅ１８４                        １重量部
（ＢＡＳＦジャパン社製）
・溶剤：アセトン                                            ３４重量部
エタノール                                          １４重量部
【００７８】
＜評価及びその方法＞
実施例１〜４、比較例１〜４で得られたハードコート材について、以下の測定・評価を行い、その結果を下記の表１に示す。
【００７９】
・干渉縞の観察
透明基材の他方の面（裏面）をサンドペーパーで擦り、その後、艶消しの黒色塗料を塗布し、蛍光灯（三波長蛍光灯）直下、帯電防止機能付き反射防止層を観察した。なお、目視にて確認した干渉縞は、以下の基準で評価した。
◎：干渉縞が認められない。○：干渉縞がほとんど認められない。△：干渉縞がわずかに認められる。×：干渉縞が顕著に認められる。
【００８０】
・表面抵抗値の測定
ＪＩＳ  Ｋ６９１１に準拠して行った。
【００８１】
・耐擦傷性の評価
ハードコート材の一方の面（表面）をスチールウール（ボンスター＃００００：日本スチールウール社製）により、１０００ｇ／ｃｍ２で１０回擦り、キズの有無を目視判定した。目視にて確認した評価は、以下の基準で判定した。
○：傷を確認することが出来ない。△：数本傷を確認できる。×：傷を多数確認できる。
【００８２】
・脆さの評価
ハードコート材の一方の面（表面）を外側にして円柱に巻きつけ、割れ発生の有無を目視判定した。割れが発生しなかった円柱の直径により以下のように判定した。
○：円柱の直径が５ｍｍ以下である。△：円柱の直径が１０ｍｍ以下である。×：円柱の直径が２０ｍｍ以下である。
【００８３】
【表１】
2014089405.tif 000006
【００８４】
＜比較結果＞
実施例１〜４で得られた本発明品はいずれも、干渉縞の発生がなく、帯電防止性、耐擦傷性及び脆さに対して優れた性能を示した。一方、比較例１〜４で得られた比較例品は、上記各評価項目の少なくとも一つに不十分な性能を示した。
【００８５】
以下、比較例の評価結果について具体的に説明する。
比較例１では干渉縞が観察された。これは本発明に係るアクリレート化合物（化学式１）とは異なるアクリレート化合物を用いたため、該アクリレート化合物の透明基材への浸透性がなく、屈折率に傾斜性を持たせることができず干渉縞が発生したと考えられる。また浸透を促進する作用のあるアセトンを多量に用いても、透明基材が十分に溶解又は膨潤する前にアセトンが揮発したことが原因と考えられる。また、比較例２では、前記アクリレート化合物（化学式１）や基材溶解性を有する溶剤も含まれておらず、比較例１よりも顕著に干渉縞が発生した。また、比較例３では、耐擦傷性の低下が見られた。これは、ハードコート層と反射防止層との界面の物理的吸着が弱いためと考えられる。また、比較例４では前記アクリレート化合物（化学式１）が含まれているにもかかわらず、干渉縞がわずかに認められた。これは分子量が６００以上と大きいために、透明基材への浸透性が不足したためと考えられる。
【符号の説明】
【００８６】
１：ハードコート材
１１：透明基材
１２：ハードコート層
２：ハードコート材
２１：反射防止層
【図１】
2014089405.tif 000008