(57)【要約】  【課題】情報信号の記録に必要な光の照射パワーを低減することができる光情報記録媒体を提供する。  【解決手段】光情報記録媒体は、積層された複数の樹脂層と、樹脂層間の界面に設けられた無機層とを備える。樹脂層間の界面を境にして貯蔵弾性率が異なっている。樹脂層間の界面に情報信号が記録される。【選択図】図１
2014038677.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
積層された複数の樹脂層と、
上記樹脂層間の界面に設けられた無機層と
を備え、
上記界面を境にして貯蔵弾性率が異なっており、
上記界面に情報信号が記録される光情報記録媒体。
【請求項２】
上記無機層は、情報信号を記録する光に対して非吸収性を有する請求項１に記載の光情報記録媒体。
【請求項３】
上記無機層は、情報信号を記録する光に対して吸収性を有する請求項１に記載の光情報記録媒体。
【請求項４】
上記界面は、上記樹脂層の第１面と第２面とにより形成され、
上記第１面と上記第２面との貯蔵弾性率が異なっている請求項１に記載の光情報記録媒体。
【請求項５】
上記樹脂層は、上記第１面の近傍に情報信号を記録する光を吸収する領域を有している請求項４に記載の光情報記録媒体。
【請求項６】
上記情報信号は、上記第１面を基準にして凹状の記録マークとして記録される請求項５に記載の光情報記録媒体。
【請求項７】
上記領域は、酸化領域である請求項５に記載の光情報記録媒体。
【請求項８】
上記樹脂層は、紫外線硬化樹脂または熱硬化性樹脂を含んでいる請求項１に記載の光情報記録媒体。
【請求項９】
上記樹脂層は、紫外線硬化樹脂または熱硬化性樹脂を含む第１樹脂層と、粘着剤を含む第２樹脂層とを有し、
上記第１樹脂層と上記第２樹脂層とは、上記無機層を介して隣接している請求項１に記載の光情報記録媒体。
【請求項１０】
積層された複数の樹脂層と、
上記樹脂層間の界面に設けられた無機層と
を備え、
上記界面を境にして貯蔵弾性率が異なっており、
上記界面に情報信号が記録される光情報記録媒体用積層体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本技術は、光情報記録媒体およびそれに用いる光情報記録媒体用積層体に関する。詳しくは、光の照射により記録マークを形成可能な光情報記録媒体に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、光情報記録媒体としては、ＣＤ（Compact Disc）、ＤＶＤ（Digital Versatile Disc）およびＢｌｕ−ｒａｙ Ｄｉｓｃ（登録商標）などが広く普及している。しかし、近年では、テレビのハイビジョン化やＰＣ（Personal Computer）で取り扱うデータの急激な増大に伴い、光情報記録媒体の更なる大容量化が求められている。
【０００３】
そこで、光情報記録媒体を大容量化する方法の一つとして、光情報記録媒体の厚み方向に３次元的に情報を記録する方法が提案されている。このような方法を採用した光情報記録媒体として、記録層中に光子吸収によって発泡する記録材料を含有させておき、光ビームを照射することによりボイド（空孔）としての記録マークを形成する方式（以下、「ボイド記録方式」という。）がある（例えば特許文献１参照）。
【０００４】
しかしながら、ボイド記録方式は、上述のようにボイドを記録マークとして形成する方式であるため、情報信号の記録には非常に高いレーザパワーが必要になる。そこで、情報信号の記録に必要なレーザパワーを低減すべく、積層した複数の樹脂層間の界面に記録マークを形成する方式が提案されている（例えば特許文献２参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００８−１７６９０２号公報
【特許文献２】特開２０１１−８６３２７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
したがって、本技術の目的は、積層した複数の樹脂層間の界面に記録マークを形成することができる光情報記録媒体およびそれに用いる光情報記録媒体用積層体を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上述の課題を解決するために、第１技術は、
積層された複数の樹脂層と、
樹脂層間の界面に設けられた無機層と
を備え、
界面を境にして貯蔵弾性率が異なっており、
界面に情報信号が記録される光情報記録媒体である。
【０００８】
第２技術は、
積層された複数の樹脂層と、
樹脂層間の界面に設けられた無機層と
を備え、
界面を境にして貯蔵弾性率が異なっており、
界面に情報信号が記録される光情報記録媒体用積層体である。
【０００９】
本技術では、樹脂層間の界面を境にして貯蔵弾性率が異なっているので、界面近傍に光を照射すると、その近傍の界面が変形して記録マークが形成される。したがって、積層した複数の樹脂層間の界面に記録マークを形成することができる。また、界面に無機層を設けているので、情報信号記録時の熱伝導を制御して良好な記録マークを形成することができる。したがって、再生信号の波形を改善することができる。
【発明の効果】
【００１０】
以上説明したように、本技術によれば、積層した複数の樹脂層間の界面に記録マークを形成することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】図１は、本技術の第１の実施形態に係る光情報記録媒体の一構成例を示す概略断面図である。
【図２】図２は、バルク層の構成例を示す断面図である。
【図３】図３Ａ、図３Ｂは、第１中間層および第２中間層の構成例を示す概略断面図である。
【図４】図４は、本技術の第１の実施形態に係る光情報記録媒体の記録再生を説明するための概略断面図である。
【図５】図５Ａ〜図５Ｄは、本技術の第１の実施形態に係る光情報記録媒体の製造方法の一例を説明するための工程図である。
【図６】図６Ａ〜図６Ｄは、本技術の第１の実施形態に係る光情報記録媒体の製造方法の一例を説明するための工程図である。
【図７】図７Ａ、図７Ｂは、本技術の第１の実施形態に係る光情報記録媒体の製造方法の一例を説明するための工程図である。
【図８】図８は、本技術の第１の実施形態に係る光情報記録媒体の他の構成例を示す概略断面図である。
【図９】図９は、本技術の第２の実施形態に係る光情報記録媒体の一構成例を示す概略断面図である。
【図１０】図１０Ａ、図１０Ｂは、第１中間層および第２中間層の構成例を示す概略断面図である。
【図１１】図１１は、実施例１−１〜１−４、比較例１−１の光情報記録媒体の信号強度の記録パワー依存性を示す図である。
【図１２】図１２Ａは、実施例１−３の光情報記録媒体の信号波形を示す図である。図１２Ｂは、比較例１−１の光情報記録媒体の信号波形を示す図である。
【図１３】図１３Ａは、実施例２−１、２−２、比較例２−１の光情報記録媒体の信号強度の記録パワー依存性を示す図である。図１３Ｂは、実施例２−３、２−４、比較例２−２の光情報記録媒体の信号強度の記録パワー依存性を示す図である。
【図１４】図１４Ａは、実施例２−２の光情報記録媒体の信号波形を示す図である。図１４Ｂは、比較例２−１の光情報記録媒体の信号波形を示す図である。
【図１５】図１５Ａ〜図１５Ｃは、実施例３−１の光情報記録媒体の信号波形を示す図である。
【図１６】図１６Ａ〜図１６Ｃは、比較例３−１の光情報記録媒体の信号波形を示す図である。
【図１７】図１７Ａは、実施例４−１のＢｉＴｅＺｒＮ層のＡＥＭ像を示す図である。図１７Ｂは、実施例４−１のＢｉＴｅＺｒＮ層のＳＥＭ像を示す図である。
【図１８】図１８Ａは、実施例４−１のＢｉＴｅＺｒＮ層のＡＦＭ像を示す図である。図１８Ｂは、図１８Ａに示したＡＦＭ像の断面プロファイルを示す図である。
【図１９】図１９Ａは、実施例４−２のＢｉＴｅＴｉＮ層のＳＥＭ像を示す図である。図１９Ｂは、実施例４−１のＢｉＴｅＴｉＮ層のＡＦＭ像を示す図である。図１９Ｃは、図１９Ｂに示したＡＦＭ像の断面プロファイルを示す図である。
【図２０】図２０は、参考例５−１〜５−３の光情報記録媒体の信号強度の硬化条件依存性を示す図である。
【図２１】図２１は、参考例６−１〜６−５の積層体の中間層の透過率の硬化条件依存性を示す図である。
【図２２】図２２は、参考例７−１〜７−３の積層体の中間層表面のＡＴＲ−ＩＲ吸収スペクトルを示す。
【図２３】図２３は、図２２に示した領域Ａを拡大して表した図である。
【図２４】図２４は、図２２に示した領域Ｂを拡大して表した図である。
【図２５】図２５は、参考例８の積層体の中間層表面のＣ＝Ｏ基ピーク強度比の深さ依存性を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
本技術の実施形態について図面を参照しながら以下の順序で説明する。
１．第１の実施形態（界面に情報信号を記録可能である光情報記録媒体の第１例）
１．１．光情報記録媒体の構成
１．２．光情報記録媒体の記録原理
１．３．光情報記録媒体の記録再生
１．４．光情報記録媒体の製造方法
１．５．効果
１．６．変形例
２．第２の実施形態（界面に情報信号を記録可能である光情報記録媒体の第２例）
【００１３】
＜１．第１の実施形態＞
［１．１．光情報記録媒体の構成］
図１は、本技術の第１の実施形態に係る光情報記録媒体の一構成例を示す概略断面図である。光情報記録媒体１０は、図１に示すように、バルク層１と、バルク層１上設けられた選択反射層２と、選択反射層２上に設けられたカバー層３とを備える。光情報記録媒体１０が、必要に応じてカバー層３とは反対側の面に基板４をさらに備えるようにしてもよい。光情報記録媒体１０は、全体として略円板状の形状を有し、その中央部にはチャッキング用の開口部（以下センターホールと称する。）が設けられている。
【００１４】
この第１の実施形態に係る光情報記録媒体１０では、当該光情報記録媒体１０を回転駆動させるとともに、そのカバー層３側の表面からレーザ光をバルク層１内の界面Ｂに照射することにより、情報信号の記録または再生が行われる。以下では、レーザ光が入射される側の面を入射面と称し、それとは反対側の面を裏面と称する。
【００１５】
以下、光情報記録媒体１０を構成するカバー層３、選択反射層２、バルク層１および基板４について順次説明する。
【００１６】
（カバー層）
カバー層３は、透明性を有するものであればよく特に限定されるものではなく種々の材料を用いることができ、例えば、透明性を有するプラスチック材料などの有機材料、ガラスなどの無機材料を用いることができる。プラスチック材料としては、例えば、公知の高分子材料を用いることができる。公知の高分子材料としては、例えば、ポリカーボネート（ＰＣ）、アクリル樹脂（ＰＭＭＡ）、シクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、ポリエステル（ＴＰＥＥ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリイミド（ＰＩ）、ポリアミド（ＰＡ）、アラミド、ポリエチレン（ＰＥ）、ポリアクリレート、ポリエーテルスルフォン、ポリスルフォン、ポリプロピレン（ＰＰ）、ジアセチルセルロース、ポリ塩化ビニル、エポキシ樹脂、尿素樹脂、ウレタン樹脂、メラミン樹脂などが挙げられる。無機材料としては、例えば、石英、サファイア、ガラスなどが挙げられる。
【００１７】
カバー層３は、例えば、中央にセンターホールが形成された略円板形状を有する。このカバー層３の一主面は、例えば、凹凸面となっており、この凹凸面上に選択反射層２が設けられている。凹凸面は、記録または再生位置を案内するための案内溝により形成されている。光情報記録媒体１０の一主面側から見たときの案内溝の全体形状としては、例えば、スパイラル状、同心円状などの各種形状が挙げられる。
【００１８】
案内溝としては、例えば、連続溝（グルーブ）、ピット列またはそれらの組合せを用いることができる。線速の安定化や位置情報（例えば回転角度情報や半径位置情報など）を付加するために案内溝を蛇行させるようにしてもよい。
【００１９】
（選択反射層）
選択反射層２は、カバー層３の凹凸面側に設けられている。この光情報記録媒体１０では、バルク層１に対してマーク記録を行うための記録光（第１レーザ光）とは別に、上記カバー層３の案内溝に基づきトラッキングやフォーカスのエラー信号を得るためのサーボ光（第２レーザ光）が選択反射層２に別途照射される。記録光の照射に際して、選択反射層２が記録光を反射あるいは吸収してしまうとバルク層１内に達する記録光量が減衰し見かけの記録感度を低下させてしまう。このため、選択反射層２としては、サーボ光は反射し、記録光はほぼ全て透過するという選択性を有する反射層を用いることが好ましい。
【００２０】
この光情報記録媒体１０では、例えば、記録光とサーボ光としてはそれぞれ、波長の異なるレーザ光が用いられる。選択反射層２としては、例えば、サーボ光と同一の波長帯の光は反射するのに対して、それ以外の波長による光（例えば記録光）は透過するという、波長選択性を有する選択反射層が用いられる。
【００２１】
選択反射層２としては、例えば、屈折率の異なる低屈折率層および高屈折率層を交互に複数積層した積層膜を用いることができる。低屈折率層および高屈折率層としては、例えば、誘電体層を用いることができる。誘電体層の材料としては、例えば、窒化シリコン、酸化シリコン、酸化タンタル、酸化チタン、フッ化マグネシウム、酸化亜鉛などを用いることができる。
【００２２】
（バルク層）
バルク層１は、複数の樹脂層が積層された積層体（光情報記録媒体用積層体）であり、樹脂層間には界面Ｂが設けられている。この界面Ｂには無機層が設けられている。隣接する樹脂層間の界面Ｂを境にして貯蔵弾性率Ｅ’が異なっている。バルク層１は、積層した複数の樹脂層間の界面Ｂに情報マークを形成可能な構成を有している。隣接する樹脂層同士は、互いに異なる屈折率を有していてもよい。界面Ｂは、隣接する樹脂層のうちの一方の樹脂層の表面（第１面）と他方の樹脂層の表面（第２面）とにより形成され、第１面と第２面との貯蔵弾性率Ｅ’が異なっていることが好ましい。情報信号は、第１面および第２面の一方の面を基準にして凹状の記録マークとして記録される。ここで、情報信号の記録時に無機層に開口部が形成される場合には、無機層に形成される開口部も含めて記録マークと称するものとする。
【００２３】
図２は、バルク層の構成例を示す断面図である。図２に示すように、バルク層１は、第１樹脂層である第１中間層１１ａと、第２樹脂層である第２中間層１１ｂとを交互に複数積層した積層体である。バルク層１は、第１中間層１１ａと第２中間層１１ｂとにより形成される複数の第１の界面Ｂ１および第２の界面Ｂ２を有している。これらの第１の界面Ｂ１および第２の界面Ｂ２に無機層１２が設けられている。第１の界面Ｂ１は、第１中間層１１ａとその入射面側の第２中間層１１ｂとにより形成される界面であり、第２の界面Ｂ２は、第１中間層１１ａとその裏面側の第２中間層１１ｂとにより形成される界面である。第１中間層１１ａの入射面と第２中間層１１ｂの裏面との貯蔵弾性率Ｅ’が異なっていることが好ましい。第２中間層１１ｂの入射面と第１中間層１１ａの裏面との貯蔵弾性率Ｅ’が異なっていることが好ましい。例えば、第１中間層１１ａの貯蔵弾性率Ｅ’と第２中間層１１ｂの貯蔵弾性率Ｅ’とが異なっているようにしてもよい。第１中間層１１ａおよび第２中間層１１ｂの平均厚さは、例えば３０ｎｍ以上５μｍ以下の範囲内である。
【００２４】
図３Ａ、図３Ｂは、第１中間層および第２中間層の構成例を示す概略断面図である。図３Ａ、図３Ｂに示すように、第１中間層１１ａおよび第２中間層１１ｂのいずれか一方が、その界面に隣接する機能層１１ｃを含んでいる。より具体的には、図３Ａでは、機能層１１ｃが第１中間層１１ａの側に設けられた例が示されている。一方、図３Ｂでは、機能層１１ｃが第２中間層１１ｂの側に設けられた例が示されている。
【００２５】
第１中間層１１ａおよび第２中間層１１ｂは、例えば有機材料を主成分とする有機中間層である。第１中間層１１および第２中間層１１ｂとの材料としては、例えば互いに異なる材料が用いられる。より具体的には、第１中間層１１ａおよび第２中間層１１ｂの材料としては、例えば、貯蔵弾性率Ｅ’が互いに異なる材料が用いられる。第１中間層１１ａおよび第２中間層１１ｂの材料としては、例えば、屈折率が互いに異なる材料を用いてもよい。第１中間層１１ａおよび第２中間層１１ｂの材料としては、例えば、有機材料、有機無機複合材料を用いることができる。第１中間層１１ａおよび第２中間層１１ｂの少なくとも一方が、必要に応じて添加剤を含んでいてもよい。添加剤としては、記録感度を向上させることができるものが好ましい。
【００２６】
有機材料としては、例えば、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂およびエネルギー線硬化性樹脂などからなる群より選ばれる少なくとも１種を用いることができる。
【００２７】
熱可塑性樹脂としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン２，６−ナフタレート、ポリブチレンテレフタレートのような芳香族ポリエステルや、ポリエチレン、ポリプロピレンのようなポリオレフィンを用いることができる。或いは、ポリスチレンのようなポリビニル、ナイロン６６（ポリ（ヘキサメチレンジアミン-ｃｏ-アジピン酸））のようなポリアミド、ビスフェノールＡポリカーボネートのような芳香族ポリカーボネートを用いることができる。また、ポリスルフォンなどの単独重合体やそれらの共重合体を主成分とする樹脂、フッ素樹脂などを用いることもできる。また、これら例示した樹脂の混合体を用いてもよい。
【００２８】
熱硬化性樹脂としては、例えば、フェノール樹脂、メラミン樹脂、ユリア樹脂、エポキシ樹脂などを用いることができる。特に汎用性（例えば、光学設計や光吸収機能など）の点ではエポキシ基を末端に有する樹脂が好ましい。
【００２９】
エネルギー線硬化性樹脂は、エネルギー線を照射することによって硬化させることができる樹脂である。エネルギー線とは、電子線、紫外線、赤外線、レーザ光線、可視光線、電離放射線（Ｘ線、α線、β線、γ線など）、マイクロ波、高周波などのラジカル、カチオン、アニオンなどの重合反応の引き金と成りうるエネルギー線を示す。エネルギー線硬化性樹脂組成物は、有機無機複合材料であってもよい。また、２種以上のエネルギー線硬化性樹脂組成物を混合して用いるようにしてもよい。エネルギー線硬化性樹脂組成物としては、紫外線により硬化する紫外線硬化樹脂を用いることが好ましい。
【００３０】
紫外線硬化樹脂としては、例えば、１または２以上の（メタ）アクリロイル基を有する化合物を用いることができる。ここで、（メタ）アクリロイル基は、アクリロイル基またはメタアクリロイル基を意味する。紫外線硬化樹脂としては、例えば、例えば１官能モノマおよび２官能モノマとを含むものを用いることができる。１官能モノマとしては、例えば、ベンジルアクリレートを用いることができる。２官能モノマとしては、例えば、フロオレンアクリレート、２官能ウレタンアクリレートを用いることができる。フロオレンアクリレートとしては、具体的には例えば、大阪ガスケミカル株式会社製のオグゾールＥＡ−０２００、オグゾールＥＡ−Ｆ５５０３、オグゾールＥＡ−１０００などを用いることができる。２官能ウレタンアクリレートとしては、具体的には例えば、東亞合成株式会社製のＭ１２００などを用いることができる。また、紫外線硬化樹脂としては、フッ素系の紫外線硬化樹脂を用いるようにしてもよい。フッ素系の紫外線硬化樹脂としては、具体的には例えば、２，２，２−トリフロオロエチルアクリレート（大阪ガスケミカル、Ｖ３Ｆ）などを用いることができる。
【００３１】
有機無機複合材料としては、例えば、有機材料と無機材料とをナノレベルで複合化したナノコンポジットを用いることができる。
【００３２】
上記以外の材料として、粘着剤またはケイ素樹脂などを用いることもできる。粘着剤としては、例えば、感圧性粘着剤（ＰＳＡ：Pressure Sensitive Adhesive）、ＨＰＳＡ（Hard Pressure Sensitive Adhesive）を用いることができる。第１中間層１１ａおよび第２中間層１１ｂのうちの一方を熱硬化性樹脂またはエネルギー線硬化性樹脂が含む層とし、他方を粘着剤またはケイ素樹脂を含む層とする構成を採用してもよい。
【００３３】
機能層１１ｃは、情報信号を記録するためのレーザ光を吸収する吸収層（領域）である。吸収層としては、レーザ光を線形吸収する線形吸収層、およびレーザ光を非線形吸収する非線形吸収層のうちのいずれでもよく、作製プロセスの簡便性の観点からすると、線形吸収層が好ましい。ここで、線形吸収層は、非線形吸収および線形吸収のうち線形吸収を主とする吸収層であり、非線形吸収層は、非線形吸収および線形吸収のうち非線形吸収を主とする吸収層である。線形吸収層としては、作製プロセスの簡便性の観点からすると、酸素を含む高分子樹脂材料からなる酸化層（酸化領域）を用いることが好ましい。機能層１１ｃの厚さは、機能層１１ｃを含む第１中間層１１ａまたは第２中間層１１ｂの厚さ以下でよれば良く特に限定されるものではないが、薄いことが好ましく、例えば１００ｎｍ程度である。
【００３４】
機能層１１ｃは、例えば、その組成が厚さ方向に変化する傾斜層である。機能層１１ｃが酸化層である場合、酸素濃度が厚さ方向に変化する傾斜層であり、その酸素濃度は、例えば界面側が高くなっている。
【００３５】
機能層１１ｃは、第１中間層１１ａまたは第２中間層１１ｂの表面近傍の組成などを変化させることにより、光吸収性を向上させたものであってもよく、有機材料または有機無機複合材料などからなる層を第１中間層１１ａまたは第２中間層１１ｂの表面に別途形成したものであってもよい。有機材料または有機無機複合材料としては、光吸収性の観点からすると、色素などを含む有色材料を用いることが好ましい。
【００３６】
無機層１２は、情報信号を記録する光に対して非吸収性を有する無機層（以下「非光吸収性の無機層」と適宜称する。）、または情報信号を記録する光に対して吸収性を有する無機層（以下「光吸収性の無機層」と適宜称する。）であり、所望する光情報記録媒体１０の特性に応じて、これら２種の無機層を組み合わせて用いてもよい。無機層１２として非光吸収性の無機層を用いた場合には、記録マーク形成時の熱伝導を制御し、良好な記録マークを形成することができる。したがって、再生信号の波形を改善することができる。無機層１２として光吸収性の無機層を用いた場合には、上述の再生信号の波形の改善に加えて、ＣＮＲ（信号対雑音比）や記録感度も改善できる、という利点を得ることができる。なお、多層化の観点からすると、非光吸収性の無機層が好ましいが、光吸収性の無機層でも膜厚を薄くすることで、高透過率を得ることができる。これによって、非光吸収性の無機層を用いた場合に匹敵するような多層化を実現できる。
【００３７】
非光吸収性の無機層１２とは、消衰係数ｋがｋ≦０．０５の関係を有する無機層のことをいう。光情報記録媒体１０の透過特性の向上の観点からすると、消衰係数ｋがｋ≦０．０１の関係を有していることが好ましい。また、光吸収性の無機層１２とは、消衰係数ｋが０．０５＜ｋの関係を有する無機層のことをいう。ここで、無機層１２の消衰係数ｋは、Ｓｉ基板上に無機層１２を形成し、この無機層１２の消衰係数ｋを分光エリプソメータにより測定したものである。
【００３８】
非光吸収性の無機層１２の材料としては、例えば誘電体を用いることができるが、薄膜とした状態において情報信号を記録する光に対して非吸収性を有する材料であればよく、これに限定されるものではない。誘電体としては、例えば、酸化物、窒化物、硫化物、炭化物およびフッ化物からなる群より選ばれる少なくとも１種以上を含んでいる。
【００３９】
酸化物としては、例えば、Ｉｎ、Ｚｎ、Ｓｎ、Ａｌ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｔｉ、Ｇａ、Ｔａ、Ｎｂ、Ｈｆ、Ｚｒ、Ｃｒ、ＢｉおよびＭｇからなる群から選ばれる１種以上の元素の酸化物が挙げられる。窒化物としては、例えば、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｇｅ、Ｃｒ、Ｓｉ、Ａｌ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｔｉ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｔｉ、Ｗ、ＴａおよびＺｎからなる群から選ばれる１種以上の元素の窒化物、好ましくはＳｉ、ＧｅおよびＴｉからなる群から選ばれる１種以上の元素の窒化物が挙げられる。硫化物としては、例えば、Ｚｎ硫化物が挙げられる。炭化物としては、例えば、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｇｅ、Ｃｒ、Ｓｉ、Ａｌ、Ｔｉ、Ｚｒ、ＴａおよびＷからなる群より選ばれる１種以上の元素の炭化物、好ましくはＳｉ、Ｔｉ、およびＷからなる群より選ばれる１種以上の元素の炭化物が挙げられる。フッ化物としては、例えば、Ｓｉ、Ａｌ、Ｍｇ、ＣａおよびＬａからなる群より選ばれる１種以上の元素のフッ化物が挙げられる。これらの混合物としては、例えば、ＺｎＳ−ＳｉＯ2、ＳｉＯ2−Ｉｎ2Ｏ3−ＺｒＯ2（ＳＩＺ）、ＳｉＯ2−Ｃｒ2Ｏ3−ＺｒＯ2（ＳＣＺ）、Ｉｎ2Ｏ3−ＳｎＯ2（ＩＴＯ）、Ｉｎ2Ｏ3−ＣｅＯ2（ＩＣＯ）、Ｉｎ2Ｏ3−Ｇａ2Ｏ3（ＩＧＯ）、Ｉｎ2Ｏ3−Ｇａ2Ｏ3−ＺｎＯ（ＩＧＺＯ）、Ｓｎ2Ｏ3−Ｔａ2Ｏ5（ＴＴＯ）、ＴｉＯ2−ＳｉＯ2、Ａｌ2Ｏ3−ＺｎＯ、Ａｌ2Ｏ3−ＢａＯなどが挙げられる。
【００４０】
非光吸収性の無機層１２の厚さは、好ましくは０ｎｍより大きく２０ｎｍ未満、より好ましくは０ｎｍより大きく１０ｎｍ以下の範囲内である。無機層１２の厚さが２０ｎｍ以上になると、記録感度が低下する傾向にある。
【００４１】
光吸収性の無機層１２の材料としては、金属、金属化合物、炭素などが挙げられるが、薄膜とした状態において情報信号を記録する光に対して吸収性を有する材料であればよく、これに限定されるものではない。金属化合物としては、金属酸化物または金属窒化物などが挙げられる。光吸収性の無機層１２の具体的な材料としては、例えば、Ｔｉ、Ｖ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ａｇ、Ｃｕ、Ｎｉ、Ｉｎなどの金属、それらの酸化物または窒化物が挙げられる。金属窒化物の具体例としては、ＴｉＮ、ＢｉＴｅＴｉＮ、ＢｉＴｅＺｒＮなどが挙げられる。
【００４２】
（基板）
基板４は、例えば、中央部にセンターホールが設けられた略円板形状を有する。基板４の材料としては、透明性または不透明性を有する材料のいずれも用いることが可能であり、例えば、プラスチック材料またはガラスを用いることができ、成形性の観点から、プラスチック材料を用いることが好ましい。プラスチック材料としては、例えば、ポリカーボネート系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、アクリル系樹脂などを用いることができ、コストの観点から、ポリカーボネート系樹脂を用いることが好ましい。
【００４３】
［１．２．光情報記録媒体の記録原理］
上述の構成を有する光情報記録媒体では、レーザ光の照射により、以下のようにして記録マークが界面Ｂ１、Ｂ２に形成されると推測される。
まず、レーザ光が機能層１１ｃに照射されると、機能層１１ｃで局所的にレーザ光が吸収される。次に、レーザ光を吸収した部分が熱を発生し、その発熱を利用してその部分自体が分解および変形する。その後、その分解および変形した部分が、その周囲の無機層１２により急冷され、急激に収縮する。これにより、機能層１１ｃの表面に対して凹状の記録マークが形成される。無機層１２による冷却作用が、良好な記録マーク形成の要因の一つであると考えられる。また、レーザ光を吸収した部分の発熱により、それに隣接した部分の無機層１２が消失して、無機層１２に開口部が形成されるようにしてもよい。その開口部の周縁は無機層１２の表面に対して凸状に盛り上がっていてもよい。このようにして形成される記録マークでは、信号極性としては例えばＨｔｏＬ（High to Low）が得られる。非光吸収性の無機層１２には上記冷却の作用があり、光吸収性の無機層１２には上記冷却作用に加えて、レーザ光吸収による発熱作用がある。
【００４４】
［１．３．光情報記録媒体の記録再生］
次に、図４を参照しながら、本技術の第１の実施形態に係る光情報記録媒体の記録および再生の一例について説明する。
【００４５】
光情報記録媒体１０では、カバー層３側の対物レンズを介して第１レーザ光ＬＢ１を界面Ｂ１またはＢ２に照射すると共に、第２レーザ光ＬＢ２をカバー層３の凹凸面に照射することにより、情報信号の記録または再生が行われる。
【００４６】
第１レーザ光ＬＢ１は、情報信号を記録または再生をするための記録光または再生光としてのレーザ光であり、第２レーザ光ＬＢ２は、情報信号を記録または再生時におけるサーボ制御を行うためのサーボ光としてのレーザ光である。これら第１レーザ光ＬＢ１と第２レーザ光ＬＢ２は、例えば、記録再生装置における共通の対物レンズを介して光情報記録媒体１０に照射される。対物レンズの開口数は、例えば、０．８４以上０．９５以下の範囲内から選ばれる。第１レーザ光ＬＢ１と第２レーザ光ＬＢ２とは互いに異なる波長を有し、第１レーザ光ＬＢ１の波長λ１は、例えば、第２レーザ光ＬＢ２の波長λ２よりも短波長に選ばれる。第１レーザ光ＬＢ１は、例えば、３９５ｎｍ以上４２０ｎｍ以下の範囲の波長を有する青色または青紫色レーザ光であるのに対して、第２レーザ光ＬＢ２は、例えば、６４０ｎｍ以上６８０ｎｍ以下の範囲の波長を有する赤色レーザ光である。
【００４７】
［１．４．光情報記録媒体の製造方法］
以下、図５Ａ〜図７Ｂを参照して、本技術の第１の実施形態に係る光情報記録媒体１０の製造方法の一例について説明する。
【００４８】
（第１の塗布工程）
まず、図５Ａに示すように、塗布装置２１ａにより基板４の内周部に第１の樹脂組成物２２ａに滴下し、滴下された第１の樹脂組成物２２ａをスピンコート法により基板４の外周方向に延伸して、均一厚さの塗膜を基板４上に形成する。第１の樹脂組成物２２ａとしては、例えば、熱硬化性樹脂または紫外線硬化樹脂を用いることができる。なお、本製造方法に使用可能な樹脂組成物はこれに限定されるものではなく、紫外線硬化樹脂以外のエネルギー線硬化性樹脂や熱可塑性樹脂などを用いることも可能である。
【００４９】
（第１の硬化工程）
次に、図５Ｂに示すように、線源２３ａからの赤外線照射または紫外線照射により、基板４上に形成した第１の樹脂組成物２２ａからなる塗膜を硬化させる。これにより、均一厚さの第１中間層１１ａが基板４上に形成される。赤外線照射用の線源２３ａとしては、例えばＩＲランプを用いることができ、紫外線照射用の線源２３ａとしては、例えばＵＶランプを用いることができる。ＵＶランプとしては、例えば高圧水銀灯、フラッシュＵＶまたはＨバルブなどを用いることができる。
【００５０】
（第１の照射工程）
次に、図５Ｃに示すように、線源２３ｂからの紫外線照射により、第１中間層１１ａの表面に線形吸収を有する酸化層を形成する。酸化層は、その表面から厚さ方向に向かって酸素濃度が連続的に減少する濃度分布を有している。紫外線照射用の線源２３ｂとしては、例えば高圧水銀灯、フラッシュＵＶまたはＨバルブなどのＵＶランプを用いることができる。なお、線源２３ｂからの紫外線照射の照射パワーは、線源２３ａからの紫外線照射の照射パワーに比して高く設定される。
【００５１】
（第１の無機層形成工程）
次に、図５Ｄに示すように、第１中間層の酸化層の表面に無機層１２を形成する。無機層１２の形成方法としては、例えば、スパッタリング法、熱ＣＶＤ、プラズマＣＶＤ、光ＣＶＤなどのＣＶＤ法（Chemical Vapor Deposition（化学蒸着法）：化学反応を利用して気相から薄膜を析出させる技術）のほか、真空蒸着、プラズマ援用蒸着、イオンプレーティングなどのＰＶＤ法（Physical Vapor Deposition（物理蒸着法）：真空中で物理的に気化させた材料を基板上に凝集させ、薄膜を形成する技術）などを用いることができる。
【００５２】
（第２の塗布工程）
次に、図６Ａに示すように、塗布装置２１ｂにより基板４の内周部に第２の樹脂組成物２２ｂに滴下し、滴下された第２の樹脂組成物２２ｂをスピンコート法により基板４の外周方向に延伸して、均一厚さの塗膜を第１中間層１１ａ上に形成する。第２の樹脂組成物２２ｂとしては、例えば、熱硬化性樹脂または紫外線硬化樹脂を用いることができる。なお、本製造方法に使用可能な樹脂組成物はこれに限定されるものではなく、紫外線硬化樹脂以外のエネルギー線硬化性樹脂や熱可塑性樹脂などを用いることも可能である。
【００５３】
（第２の硬化工程）
次に、図６Ｂに示すように、線源２３ｃからの赤外線照射または紫外線照射により、第１中間層１１ａ上に形成した第２の樹脂組成物２２ｂからなる塗膜を硬化させる。これにより、基板４上に第１中間層１１ａ、無機層１２および第２中間層が形成される。赤外線照射用の線源２３ｃとしては、例えばＩＲランプを用いることができ、紫外線照射用の線源２３ｃとしては、例えばＵＶランプを用いることができる。
【００５４】
（第２の照射工程）
次に、図６Ｃに示すように、線源２３ｄからの紫外線照射により、第２中間層１１ｂの表面に線形吸収を有する酸化層を形成する。酸化層は、その表面から厚さ方向に向かって酸素濃度が連続的に減少する濃度分布を有している。紫外線照射用の線源２３ｄとしては、例えば高圧水銀灯、フラッシュＵＶまたはＨバルブなどのＵＶランプを用いることができる。なお、線源２３ｄからの紫外線照射の照射パワーは、線源２３ｃからの紫外線照射の照射パワーに比して高く設定される。
【００５５】
（第２の無機層形成工程）
次に、図６Ｄに示すように、第２中間層の酸化層の表面に無機層１２を形成する。無機層１２の形成方法としては、例えば、スパッタリング法、熱ＣＶＤ、プラズマＣＶＤ、光ＣＶＤなどのＣＶＤ法（Chemical Vapor Deposition（化学蒸着法）：化学反応を利用して気相から薄膜を析出させる技術）のほか、真空蒸着、プラズマ援用蒸着、イオンプレーティングなどのＰＶＤ法（Physical Vapor Deposition（物理蒸着法）：真空中で物理的に気化させた材料を基板上に凝集させ、薄膜を形成する技術）などを用いることができる。
【００５６】
（積層工程）
次に、「第１の塗布工程」から「第２の無機層形成工程」までの工程を複数回繰り返す。これにより、図７Ａに示すように、第１中間層１１ａおよび第２中間層が無機層１２を介して基板４上に交互に複数積層されて、基板４上にバルク層１が形成される。
【００５７】
次に、図７Ｂに示すように、選択反射層２が形成されたカバー層３を、基板４上に形成したバルク層１の一主面に貼り合わせる。以上により、目的とする光情報記録媒体１０が得られる。
【００５８】
［１．５．効果］
本実施形態では、界面Ｂ１、Ｂ２を形成する第１中間層１１ｂの表面と第２中間層１１ｂの表面とが異なる弾性率を有している。これにより、界面近傍の機能層１１ｃにレーザ光を照射すると、その機能層近傍の界面Ｂ１、Ｂ２が機能層１１ｃの表面に対して凹状に変形して、界面Ｂに記録マークが形成される。したがって、積層した複数の樹脂層間の界面に記録マークを形成することができる。
【００５９】
また、界面Ｂには無機層１２が設けられているので、記録マーク形成時の熱伝導が制御されて、良好な記録マークが形成される。したがって、再生信号の波形が改善される。
【００６０】
［１．６．変形例］
図８は、本技術の第１の実施形態に係る光情報記録媒体の他の構成例を示す概略断面図である。光情報記録媒体１０の構成として、図８に示すように、基板４の一主面上に、選択反射層２、バルク層１およびカバー層３が順次積層された積層構造を採用するようにしてもよい。この構成では、記録または再生位置を案内するための案内溝となる凹凸面が基板４の表面に設けられる。
【００６１】
また、選択反射層２をバルク層１の内部に設ける構成を採用してもよい。この構成を採用する場合には、記録または再生位置を案内するための案内溝となる凹凸面はバルク層１の内部に設けられ、この凹凸面上に選択反射層２が設けられる。
【００６２】
＜２．第２の実施形態＞
図９は、本技術の第２の実施形態に係る光情報記録媒体の一構成例を示す概略断面図である。図１０Ａ、図１０Ｂは、第１中間層および第２中間層の構成例を示す概略断面図である。第２の実施形態に係る光情報記録媒体は、バルク層１が同一の材料からなる中間層１１が積層された構成を有している点において、第１の実施形態とは異なっている。界面を形成する一方の中間層（樹脂層）１１の表面の貯蔵弾性率Ｅ’と、他方の中間層（樹脂層）１１の表面の貯蔵弾性率Ｅ’とは異なっている。
【００６３】
機能層１１ｃの形成方法としては、例えば、紫外線などのエネルギー線の照射により中間層１１の表面に酸化層などを形成する方法、有機材料または有機無機複合材料などからなる層を中間層１１の表面に別途形成する方法が挙がられるが、作製プロセスの簡便性の観点からすると、前者が好ましい。
【００６４】
有機材料としては、例えば、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂およびエネルギー線硬化性樹脂などからなる群より選ばれる少なくとも１種を用いることができる。エネルギー線硬化性樹脂組成物としては、紫外線により硬化する紫外線硬化樹脂を用いることが好ましい。有機無機複合材料としては、例えば、有機材料と無機材料とをナノレベルで複合化したナノコンポジットを用いることができる。
第２の実施形態において上記以外のことは、第１の実施形態と同様である。
【実施例】
【００６５】
以下、実施例により本技術を具体的に説明するが、本技術はこれらの実施例のみに限定されるものではない。
【００６６】
本技術の実施例、参考例および比較例について以下の順序で説明する。
１．非光吸収性の無機層を界面に設けた層構成
２．光吸収性の無機層を界面に設けた層構成
３．無機層の有無による信号特性の違い
４．マーク形状
５．記録特性の硬化条件依存性
６．中間層透過率の硬化条件依存性
７．中間層の表面分析（吸収スペクトル）
８．中間層の表面分析（酸素濃度）
【００６７】
＜１．非光吸収性の無機層を界面に設けた層構成＞
（実施例１−１）
まず、基板として、直径１２０ｍｍ、中心に直径１５ｍｍのセンターホールを有するガラス基板を準備した。次に、以下の配合を有するＵＶ硬化性樹脂組成物を調製した。
２官能モノマ：フルオレンアクリレート（大阪ガスケミカル社製、オグゾールＥＡ−０２００）  ８０質量部
１官能モノマ：ベンジルアクリレート（大阪有機化学社製）  ２０質量部
光重合開始剤：Darocure1173（旧チバケミカル製）  ３質量部
【００６８】
次に、スピンコート法により、調製したＵＶ硬化性樹脂組成物をガラス基板上に塗布して塗膜を形成した後、高圧水銀灯により紫外線を１０Ｊ／ｃｍ2照射して硬化させた。これにより、厚さ２０μｍの第１中間層がガラス基板上に形成された。次に、高圧水銀灯により第１中間層の表面に紫外線をさらに２０Ｊ／ｃｍ2照射した。これにより、第１中間層の表面に有機機能層（酸化層）が形成された。次に、スパッタリング法により、第１中間層の表面に膜厚２ｎｍのＳｉＯ2層（非光吸収性の無機層）を形成した。
【００６９】
次に、中心にセンターホールを有し、片面にグルーブが形成された厚さ７５μｍのポリカーボネート製フィルムを準備し、このフィルムのグルーブ形成面に選択反射層を形成した。次に、選択反射層に無色透明な厚さ２５μｍのＰＳＡ層を第２中間層として形成した。次に、このフィルムを第２中間層を介して第１中間層上に貼り合わせることにより、第１中間層上に第２中間層およびカバー層を形成した。以上により、目的とする光情報記録媒体を得た。
【００７０】
（実施例１−２）
ＳｉＯ2層の膜厚を５ｎｍとしたこと以外は実施例１−１と同様にして、光情報記録媒体を得た。
【００７１】
（実施例１−３）
ＳｉＯ2層の膜厚を１０ｎｍとしたこと以外は実施例１−１と同様にして、光情報記録媒体を得た。
【００７２】
（実施例１−４）
ＳｉＯ2層の膜厚を２０ｎｍとしたこと以外は実施例１−１と同様にして、光情報記録媒体を得た。
【００７３】
（比較例１−１）
ＳｉＯ2層の形成を省略して、第１中間層の表面に第２中間層を直接形成したこと以外は実施例１−１と同様にして、光情報記録媒体を得た。
【００７４】
（記録特性）
上述のようにして得られた実施例１−１〜１−４、比較例１−１の光情報記録媒体に情報信号を記録した。記録再生条件を以下に示す。
ライトストラテジー：ｄｕｔｙ５０％Ｂｌｏｃｋ（８Ｔモノトーン記録）
記録時および再生時の線速度：４．９２ｍ／ｓ
次に、情報信号を記録した光情報記録媒体を再生して、信号強度の記録パワー依存性を調べた。その結果を図１１に示す。図１２Ａは、実施例１−３の光情報記録媒体（ＳｉＯ2層：３０ｎｍ）の信号波形を示す。図１２Ｂは、比較例１−１の光情報記録媒体（ＳｉＯ2層：０ｎｍ）の信号波形を示す。
【００７５】
（反射特性および透過特性）
上述のようにして得られた実施例１−１、比較例１−１の光情報記録媒体の反射率を測定した。ここで、反射率は、波長４０５ｎｍの光に対するものである。その結果、実施例１−１、比較例１−１の光情報記録媒体の反射率はそれぞれ、０．３２％、０．２８％であった。
【００７６】
上記評価結果から以下のことがわかる。
界面反射：ＳｉＯ2層を界面に設けた場合とＳｉＯ2層を界面に設けていない場合とで、界面反射の割合はほぼ同じである。
記録感度：界面にＳｉＯ2層を設けていない場合と、界面に膜厚が０ｎｍより大きく２０ｎｍ未満のＳｉＯ2層を設けている場合とでは、記録感度はほとんど変わらない。しかし、界面に膜厚が２０ｎｍより大きいＳｉＯ2層を設けると、記録感度が低下する傾向にある。これは、膜厚が２０ｎｍになると、熱はけが良すぎるためと考えられる。
したがって、非光吸収性の無機層の厚さは、好ましくは０ｎｍより大きく２０ｎｍ未満、より好ましくは０ｎｍより大きく１０ｎｍ以下の範囲内である。
信号波形：界面にＳｉＯ2層を設けていない場合、中間層を形成する樹脂材料が弾性体であり、かつ、熱を逃がすことができないため、信号波形が歪んでしまう。一方、界面にＳｉＯ2層を設けている場合、書き終わりの歪みが改善する。すなわち、界面にＳｉＯ2層を設けた場合には、ＳｉＯ2層を界面に設けていない場合に比して、信号波形を改善できる。
界面における熱伝導を制御することで、再生信号の波形を改善（線密度やトラック密度などを改善）することができる。
なお、上記実施例では、非光吸収性の無機層としてＳｉＯ2層を設けた場合を例として説明したが、ＳｉＯ2層以外のＴｉＯ2層やＳｉＮ層などの誘電体層を設けた場合にも、ＳｉＯ2層を設けた場合と同様の効果が得られる。
【００７７】
＜２．光吸収性の無機層を界面に設けた層構成＞
（実施例２−１）
膜厚２ｎｍのＳｉＯ2層に代えて、膜厚２ｎｍのＴｉＮ層（光吸収性の無機層）を形成したこと以外は実施例１−１と同様にして、光情報記録媒体を得た。
【００７８】
（実施例２−２）
ＴｉＮ層の膜厚を５ｎｍとしたこと以外は実施例２−１と同様にして、光情報記録媒体を得た。
【００７９】
（比較例２−１）
ＴｉＮ層の形成を省略して、第１中間層の表面に第２中間層を直接形成したこと以外は実施例２−１と同様にして、光情報記録媒体を得た。
【００８０】
（実施例２−３）
膜厚２ｎｍのＳｉＯ2層に代えて、膜厚３ｎｍのカーボン層（光吸収性の無機層）を形成したこと以外は実施例１−１と同様にして、光情報記録媒体を得た。
【００８１】
（実施例２−４）
カーボン層の膜厚を５ｎｍとしたこと以外は実施例２−３と同様にして、光情報記録媒体を得た。
【００８２】
（比較例２−２）
カーボン層の形成を省略して、第１中間層の表面に第２中間層を直接形成したこと以外は実施例２−３と同様にして、光情報記録媒体を得た。
【００８３】
（記録特性）
上述のようにして得られた実施例２−１〜２−４、比較例２−１〜２−２の光情報記録媒体についての信号強度の記録パワー依存性を、上述の実施例１−１〜１−４、比較例１−１と同様にして調べた。その結果を図１３Ａ、図１３Ｂに示す。図１４Ａは、実施例２−２の光情報記録媒体の信号波形を示す。図１４Ｂは、比較例２−１の光情報記録媒体の信号波形を示す。
【００８４】
（反射特性および透過特性）
上述のようにして得られた実施例２−１〜２−４、比較例２−１〜２−２の光情報記録媒体についての反射率および透過率を測定した。ここで、反射率および透過率は、波長４０５ｎｍの光に対するものである。
【００８５】
表１は、実施例２−１、２−２、比較例２−１の光情報記録媒体の反射率および透過率の測定結果を示す。
【表１】
2014038677.tif 000003
【００８６】
表２は、実施例２−３、２−４、比較例２−２の光情報記録媒体の反射率および透過率の測定結果を示す。
【表２】
2014038677.tif 000004
【００８７】
上記評価結果から以下のことがわかる。
記録感度：ＴｉＮ層またはカーボン層の膜厚が厚くなるに従って（すなわち透過率が低下するに従って）、線形吸収が増加し、記録感度が向上する。
ＴｉＮ層またはカーボン層自体も光吸収するが、高い透過率が得られる。透過率は、Ｂｌｕ−ｒａｙ Ｄｉｓｃ（登録商標）などの従来の光情報記録媒体ではあり得ないような高い値であるが、十分な記録感度が得られる。これは、第１中間層および第２中間層の材料が有機材料であるためと考えられる。
信号強度：ＴｉＮ層またはカーボン層を界面に設けた場合には、これらの層を界面に設けなかった場合に比してＣＮＲ（信号対雑音比）を向上することができる。これは、二次高調波成分が低減されたこと、すなわち波形が方形波に近づいたことがその要因の一つと考えられる。
信号波形：界面にＴｉＮ層またはカーボン層を設けることで、上記実施例１−１〜１−４、比較例１−１と同様に再生信号の波形が改善される。
効果の材料依存性：記録感度、信号強度および信号波形の向上には、光吸収量とは別に熱伝導などの熱物性や、無機層の機械特性が影響していると考えられる。
【００８８】
実施例１−１〜１−４と実施例２−１〜２−４との評価結果を比較すると、以下のことがわかる。
光吸収性の無機層を界面に設けた場合には、非光吸収性の無機層を界面に設けた場合と同様の波形改善効果が得られる。
光吸収性の無機層を界面に設けた場合には、非光吸収性の無機層を界面に設けた場合に比べてＣＮＲ（信号対雑音比）や記録感度などを向上できる。
【００８９】
＜３．無機層の有無による信号特性の違い＞
（実施例３−１）
膜厚２ｎｍのＳｉＯ2層に代えて、膜厚５ｎｍのＢｉＴｅＴｉＮ層（光吸収性の無機層）を形成したこと以外は実施例１−１と同様にして、光情報記録媒体を得た。
【００９０】
（比較例３−１）
ＢｉＴｅＴｉＮ層の形成を省略して、第１中間層の表面に第２中間層を直接形成したこと以外は実施例２−１と同様にして、光情報記録媒体を得た。
【００９１】
（信号波形）
上述のようにして得られた実施例３−１、比較例３−１の光情報記録媒体に８Ｔ、３Ｔ、２Ｔの記録マークを形成して、その信号波形を評価した。その結果を図１５Ａ〜図１５Ｃ（実施例３−１）、図１６Ａ〜図１６Ｃ（比較例３−１）に示す。
実施例３−１の光情報記録媒体の再生条件などを以下に示す。
反射率：０．３５％（波長４０５ｎｍの光に対する反射率）
線速：４．９２ｍ／ｓ
再生Ｐｗ：２ｍＷ
比較例３−１の光情報記録媒体の再生条件などを以下に示す。
反射率：０．７２％（波長４０５ｎｍの光に対する反射率）
線速：４．９２ｍ／ｓ
再生Ｐｗ：２ｍＷ
【００９２】
図１５Ａ〜図１５Ｃ、図１６Ａ〜図１６Ｃから以下のことがわかる。
無機層を界面に設けることで、再生信号を方形波にすることができる。
無機層を界面に設けることで、２Ｔのアシメトリも下げることができる。
無機層を界面に設けることで、ＣＮＲ（信号対雑音比）を大きくすることができる。
したがって、記録マークを分離し、線密度を向上することができる。これにより、ランダムパターン記録も可能となる。
なお、上記の実施例では、光吸収性の無機層としてＢｉＴｅＴｉＮ層を設けた場合を例として説明したが、ＢｉＴｅＺｒＮ層などの無機層を設けた場合にも、ＢｉＴｅＴｉＮ層を設けた場合と同様の効果が得られる。
【００９３】
＜４．マーク形状＞
（実施例４−１）
膜厚２ｎｍのＳｉＯ2層に代えて、膜厚７ｎｍのＢｉＴｅＺｒＮ層（光吸収性の無機層）を形成したこと以外は実施例１−１と同様にして、光情報記録媒体を得た。
【００９４】
（実施例４−２）
膜厚２ｎｍのＳｉＯ2層に代えて、膜厚５ｎｍのＢｉＴｅＴｉＮ層（光吸収性の無機層）を形成したこと以外は実施例１−１と同様にして、光情報記録媒体を得た。
【００９５】
（マーク形状）
上述のようにして得られた実施例４−１、４−２の光情報記録媒体のマーク形状を以下のようにして観察した。
まず、上述のようにして得られた実施例４−１、４−２の光情報記録媒体に情報信号を記録した。記録再生条件を以下に示す。
ライトストラテジー：ｄｕｔｙ５０％Ｂｌｏｃｋ（８Ｔモノトーン記録）
記録時および再生時の線速度：４．９２ｍ／ｓ
次に、無機層（ＢｉＴｅＺｒＮ層またはＢｉＴｅＴｉＮ層）の表面から第２中間層（ＰＳＡ層）を剥離して、無機層の表面を原子間力顕微鏡（Atomic Force Microscope：ＡＦＭ）および走査型電子顕微鏡（Scanning Electron Microscope：ＳＥＭ）により観察した。
【００９６】
図１７Ａは、実施例４−１のＢｉＴｅＺｒＮ層のＡＥＭ像を示す。図１７Ｂは、実施例４−１のＢｉＴｅＺｒＮ層のＳＥＭ像を示す。図１８Ａは、実施例４−１のＢｉＴｅＺｒＮ層のＡＦＭ像を示す。図１８Ｂは、図１８Ａに示したＡＦＭ像の断面プロファイルを示す。図１９Ａは、実施例４−２のＢｉＴｅＴｉＮ層のＳＥＭ像を示す。図１９Ｂは、実施例４−１のＢｉＴｅＴｉＮ層のＡＦＭ像を示す。図１９Ｃは、図１９Ｂに示したＡＦＭ像の断面プロファイルを示す。なお、図１７Ｂにて記した数値は、記録マークが形成されていない平坦面を基準とした凸部の高さおよび凹部の深さを示している。その高さおよび深さの単位は「ｎｍ」であり、凸部の高さを「正」で表し、凹部の深さを「負」で表している。
【００９７】
上記観察結果から以下のことがわかる。
記録マークが形成された箇所では無機層が消失し、第１中間層（有機機能層）の表面が陥没している。
凹状の記録マークの底面が平面状となっている。上述した矩形状の再生信号波形（図１５Ａ参照）は、このような底面形状の記録マークの形成により得られたものと考えられる。
【００９８】
＜５．記録特性の硬化条件依存性＞
（参考例５−１）
まず、基板として、直径１２０ｍｍ、中心に直径１５ｍｍのセンターホールを有するガラス基板を準備した。次に、以下の配合を有するＵＶ硬化性樹脂組成物を調製した。
２官能モノマ：フルオレンアクリレート（大阪ガスケミカル社製、オグゾールＥＡ−０２００）Ｘ質量部
１官能モノマ：ベンジルアクリレート（大阪有機化学社製）  （１００−Ｘ）質量部
光重合開始剤：Darocure1173（旧チバケミカル製）  ２〜５質量部
ここで、１官能モノマと２官能モノマとは、Ｘが５０〜９０質量部の範囲内となるように配合した。
【００９９】
次に、スピンコート法により、調製したＵＶ硬化性樹脂組成物をガラス基板上に塗布して塗膜を形成した後、高圧水銀灯により紫外線を１０Ｊ／ｃｍ2照射して硬化させた。これにより、厚さ２０μｍの第１中間層がガラス基板上に形成された。次に、高圧水銀灯により第１中間層の表面に紫外線をさらに２．５Ｊ／ｃｍ2照射した。
【０１００】
次に、中心にセンターホールを有し、片面にグルーブが形成された厚さ７５μｍのポリカーボネート製フィルムを準備し、このフィルムのグルーブ形成面に選択反射層を形成した。次に、選択反射層に無色透明な厚さ２５μｍのＰＳＡ層を第２中間層として形成した。次に、このフィルムをＰＳＡ層を介して第１中間層上に貼り合わせることにより、第１中間層上に第２中間層およびカバー層を形成した。
以上により、目的とする光情報記録媒体を得た。
【０１０１】
（参考例５−２）
第１中間層の表面に照射する紫外線の量を２．５Ｊ／ｃｍ2から１１Ｊ／ｃｍ2に変更したこと以外は参考例５−１と同様にして、光情報記録媒体を得た。
【０１０２】
（参考例５−３）
第１中間層の表面に照射する紫外線の量を２．５Ｊ／ｃｍ2から２０Ｊ／ｃｍ2に変更したこと以外は参考例５−１と同様にして、光情報記録媒体を得た。
【０１０３】
（記録特性）
上述のようにして得られた参考例５−１〜５−３の光情報記録媒体の記録パワーを変更して情報信号を記録し、信号強度の硬化条件依存性を評価した。その結果を図２０に示す。
図２０から、Ｄｏｓｅ量増加に伴い、信号振幅が増加する傾向にあることがわかる。
【０１０４】
＜６．中間層透過率の硬化条件依存性＞
（参考例６−１）
まず、基板として、直径１２０ｍｍ、中心に直径１５ｍｍのセンターホールを有するガラス基板を準備した。次に、以下の配合を有するＵＶ硬化性樹脂組成物を調製した。
２官能モノマ：フルオレンアクリレート（大阪ガスケミカル社製、オグゾールＥＡ−０２００）  Ｘ質量部
１官能モノマ：ベンジルアクリレート（大阪有機化学社製）  （１００−Ｘ）質量部
光重合開始剤：Darocure1173（旧チバケミカル製）  ２〜５質量部
ここで、１官能モノマと２官能モノマとは、Ｘが５０〜９０質量部の範囲内となるように配合した。
【０１０５】
次に、スピンコート法により、調製したＵＶ硬化性樹脂組成物をガラス基板上に塗布して塗膜を形成した後、高圧水銀灯により紫外線を１０Ｊ／ｃｍ2照射して硬化させた。これにより、厚さ２０μｍの中間層がガラス基板上に形成された。以上により、目的とする積層体を得た。
【０１０６】
（参考例６−２）
中間層を形成した後、高圧水銀灯によりその表面に紫外線をさらに２Ｊ／ｃｍ2照射したこと以外は参考例６−１と同様にして、積層体を得た。
【０１０７】
（参考例６−３）
中間層の表面に照射する紫外線の量を２Ｊ／ｃｍ2から６Ｊ／ｃｍ2に変更したこと以外は参考例６−２と同様にして、積層体を得た。
【０１０８】
（参考例６−４）
中間層の表面に照射する紫外線の量を２Ｊ／ｃｍ2から１１Ｊ／ｃｍ2に変更したこと以外は参考例６−２と同様にして、積層体を得た。
【０１０９】
（参考例６−５）
中間層の表面に照射する紫外線の量を２Ｊ／ｃｍ2から２２Ｊ／ｃｍ2に変更したこと以外は参考例６−２と同様にして、積層体を得た。
【０１１０】
（透過特性）
上述のようにして得られた参考例６−１〜６−５の積層体の透過率を測定した。その結果を図２１に示す。図２１から、Ｄｏｓｅ量の増加に伴い、透過率が減衰する傾向にありことがわかる。すなわち、Ｄｏｓｅ量の増加に伴い、線形吸収が増加する傾向にあることがわかる。
【０１１１】
＜７．中間層の表面分析（吸収スペクトル）＞
（参考例７−１）
中間層の表面に照射する紫外線の量を２Ｊ／ｃｍ2から５．５Ｊ／ｃｍ2に変更したこと以外は参考例６−２と同様にして、積層体を得た。
【０１１２】
（参考例７−２）
中間層の表面に照射する紫外線の量を２Ｊ／ｃｍ2から１１Ｊ／ｃｍ2に変更したこと以外は参考例６−２と同様にして、積層体を得た。
【０１１３】
（参考例７−３）
中間層の表面に照射する紫外線の量を２Ｊ／ｃｍ2から１６．５Ｊ／ｃｍ2に変更したこと以外は参考例６−２と同様にして、積層体を得た。
【０１１４】
（参考例７−４）
中間層の表面に照射する紫外線の量を２Ｊ／ｃｍ2から２２Ｊ／ｃｍ2に変更したこと以外は参考例６−２と同様にして、積層体を得た。
【０１１５】
（表面分析）
上述のようにして得られた参考例７−１〜７−４の積層体の中間層の表面（表層１μｍ程度）を多重全反射赤外吸収分光法（Attenuated total reflection-infrared spectroscopy：ＡＴＲ−ＩＲ）により分析した。
【０１１６】
図２２は、中間層表面のＡＴＲ−ＩＲ吸収スペクトルを示す。図２３は、図２２に示した領域Ａを拡大して表した図であり、図２４は、図２２に示した領域Ｂを拡大して表した図である。図２３、図２４から、スペクトル幅が増加（ブロード化）していることがわかる。この増加は、中間層の表面に酸下層が形成されていることを示唆している。
【０１１７】
＜８．中間層の表面分析（酸素濃度）＞
（参考例８）
第１中間層の表面に照射する紫外線の量を２Ｊ／ｃｍ2から２０Ｊ／ｃｍ2に変更したこと以外は参考例６−２と同様にして、積層体を得た。
【０１１８】
（ピーク強度）
上述のようにして得られた参考例８の積層体の中間層表面のＣ＝Ｏ基ピーク強度比と深さとの関係を調べた。その結果を図２５に示す。図２５から、酸化層は、中間層表面から１００ｎｍ程度まで存在し、５０ｎｍ程度でその濃度は半分になることがわかる。
【０１１９】
以上、本技術の実施形態について具体的に説明したが、本技術は、上述の実施形態に限定されるものではなく、本技術の技術的思想に基づく各種の変形が可能である。
【０１２０】
例えば、上述の実施形態において挙げた構成、方法、工程、形状、材料および数値などはあくまでも例に過ぎず、必要に応じてこれと異なる構成、方法、工程、形状、材料および数値などを用いてもよい。
【０１２１】
また、上述の実施形態の構成、方法、工程、形状、材料および数値などは、本技術の主旨を逸脱しない限り、互いに組み合わせることが可能である。
【０１２２】
本技術は以下のような構成もとることができる。
（１）
積層された複数の樹脂層と、
上記樹脂層間の界面に設けられた無機層と
を備え、
上記界面を境にして貯蔵弾性率が異なっており、
上記界面に情報信号が記録される光情報記録媒体。
（２）
上記無機層は、情報信号を記録する光に対して非吸収性を有する（１）に記載の光情報記録媒体。
（３）
上記無機層は、情報信号を記録する光に対して吸収性を有する（１）に記載の光情報記録媒体。
（４）
上記界面は、上記樹脂層の第１面と第２面とにより形成され、
上記第１面と上記第２面との貯蔵弾性率が異なっている（１）から（３）のいずれかに記載の光情報記録媒体。
（５）
上記樹脂層は、上記第１面の近傍に情報信号を記録する光を吸収する領域を有している（４）に記載の光情報記録媒体。
（６）
上記情報信号は、上記第１面を基準にして凹状の記録マークとして記録される（５）に記載の光情報記録媒体。
（７）
上記領域は、酸化領域である（５）から（６）のいずれかにに記載の光情報記録媒体。
（８）
上記樹脂層は、紫外線硬化樹脂または熱硬化性樹脂を含んでいる（１）から（７）のいずれかに記載の光情報記録媒体。
（９）
上記樹脂層は、紫外線硬化樹脂または熱硬化性樹脂を含む第１樹脂層と、粘着剤を含む第２樹脂層とを有し、
上記第１樹脂層と上記第２樹脂層とは、上記無機層を介して隣接している（１）から（７）のいずれかに記載の光情報記録媒体。
（１０）
積層された複数の樹脂層と、
上記樹脂層間の界面に設けられた無機層と
を備え、
上記界面を境にして貯蔵弾性率が異なっており、
上記界面に情報信号が記録される光情報記録媒体用積層体。
【符号の説明】
【０１２３】
１    バルク層（積層体）
２    選択反射層
３    カバー層
４    基板
１０    光情報記録媒体
１１    樹脂層
１１ａ    第１中間層（第１樹脂層）
１１ｂ    第２中間層（第２樹脂層）
１１ｃ    機能層
１２    無機層
【図１】
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【図２】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２５】
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【図３】
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【図１０】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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