(57)【要約】【課題】基板をしっかりと保持しながら基板の受け渡しができる基板検査装置及び基板受け渡し方法を提供する。【解決手段】ウエハ検査装置１は、ウエハＷを吸着させるための複数の真空吸着パッド６１を有するウエハ載置台４ａと、ウエハＷを吸着させるための複数の真空吸着パッド７１を有する裏面アーム１０と、ウエハＷとの間に負圧を発生させる吸着パッド８１を有し、ウエハ載置台４ａから裏面アーム１０へのウエハＷの受け渡しを行うための吸着補助部材１１とを有し、吸着補助部材１１の吸着パッド８１の上面は、真空吸着パッド６１の上面よりも低い待避位置と、待避位置よりも高く、かつ真空吸着パッド６１の上面よりも低い矯正位置の２つの位置に移動可動である。【選択図】図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を吸着させるための第１の吸引部を有する載置台と、
前記基板を吸着させるための第２の吸引部を有する検査用保持部材と、
第１の開口部から所定の気体を吹き出すことにより、前記基板を吸着させるように、前記基板との間に負圧を発生させる第１の負圧発生部を有し、前記載置台から前記検査用保持部材への前記基板の受け渡しを補助するための受け渡し用補助部材と、
を有し、
前記受け渡し用補助部材の前記第１の負圧発生部の上面は、前記第１の吸引部の上面よりも低い第１の位置と、前記第１の位置よりも高く、かつ前記第１の吸引部の上面よりも低い第２の位置の２つの位置に移動可動であることを特徴とする基板検査装置。
【請求項２】
前記検査用保持部材は、前記載置台から前記検査用保持部材への前記基板の受け渡しを行い、前記基板の裏面検査をするための部材であることを特徴とする請求項１に記載の基板検査装置。
【請求項３】
前記基板の前記載置台から前記検査用保持部材への受け渡しを行うときに、前記受け渡し用補助部材の前記第１の負圧発生部の吸着動作をオンにして前記第１の開口部から前記所定の気体を吹き出すように制御する制御部と、
を有することを特徴とする請求項２に記載の基板検査装置。
【請求項４】
前記基板の前記載置台から前記検査用保持部材への受け渡しを行うときに、前記受け渡し用補助部材の前記第１の負圧発生部の上面は、前記第２の位置に位置していることを特徴とする請求項３に記載の基板検査装置。
【請求項５】
前記第１の位置は、前記基板の表面検査が行われる位置であることを特徴とする請求項４に記載の基板検査装置。
【請求項６】
第２の開口部から前記所定の気体を吹き出すことにより、前記基板を吸着させるように、前記基板との間に負圧を発生させる第２の負圧発生部を有し、前記基板を搬送する搬送用補助部材と、
を有し、
前記制御部は、前記基板の前記載置台から前記検査用保持部材への受け渡しを行うときに、前記搬送用補助部材の前記第２の負圧発生部の吸着動作をオンにして前記第２の開口部から前記所定の気体を吹き出すように制御することを特徴とする請求項１から５のいずれか１つに記載の基板検査装置。
【請求項７】
基板を吸着させるための第１の吸引部を有する載置台と、
前記基板を吸着させるための第２の吸引部を有する検査用保持部材と、
第１の開口部から所定の気体を吹き出すことにより、前記基板を吸着させるように、前記基板との間に負圧を発生させる第１の負圧発生部と、を有し、前記載置台から前記検査用保持部材への前記基板の受け渡しを補助するための受け渡し用補助部材と、
前記基板の前記載置台から前記検査用保持部材への受け渡しを行うときに、前記受け渡し用補助部材の前記第１の負圧発生部の吸着動作をオンにして前記第１の開口部から前記所定の気体を吹き出すように制御する制御部と、
を有し、
前記受け渡し用補助部材の前記第１の負圧発生部の上面は、前記第１の吸引部の上面よりも低い第１の位置と、前記第１の位置よりも高く、かつ前記第１の吸引部の上面よりも低い第２の位置の２つの位置に移動可動である、
前記載置台から検査用保持部材への前記基板の受け渡しを行う方法であって、
前記受け渡し用補助部材の前記第１の負圧発生部の上面を前記第２の位置に移動し、
前記第１の負圧発生部による吸着動作がオンの状態で、前記受け渡し用補助部材に前記基板を吸着させ、
前記検査用保持部材の前記第２の吸引部による吸着動作をオンにして、前記検査用保持部材に前記基板を保持し、
前記検査用保持部材への前記基板の吸着が確認された後に、前記受け渡し用補助部材の前記第１の負圧発生部による吸着動作をオフにして、前記載置台から前記検査用保持部材への前記基板の受け渡しを行う、
ことを基板受け渡し方法。
【請求項８】
前記検査用保持部材は、前記載置台から前記検査用保持部材への前記基板の受け渡しを行い、前記基板の裏面検査をするための部材であることを特徴とする請求項７に記載の基板受け渡し方法。
【請求項９】
前記制御部は、前記受け渡し用補助部材の前記第１の負圧発生部の上面が、前記第２の位置に移動した後に、あるいは前記第２の位置へ移動しているときに、前記第１の負圧発生部による吸着動作をオンにすることを特徴とする請求項８に記載の基板受け渡し方法。
【請求項１０】
前記第１の位置は、前記基板の表面検査が行われる位置であることを特徴とする請求項７から９のいずれか１つに記載の基板受け渡し方法。
【請求項１１】
前記制御部は、第２の開口部から前記所定の気体を吹き出すことにより、前記基板を吸着させるように、前記基板との間に負圧を発生させる第２の負圧発生部を有する、前記基板を搬送する搬送用補助部材を、前記載置台から前記検査用保持部材への前記基板の受け渡しを行うときに、前記搬送用補助部材の前記第２の負圧発生部の吸着動作をオンにして前記第２の開口部から前記所定の気体を吹き出すように制御することを特徴とする請求項７から９のいずれか１つに記載の基板受け渡し方法。
【請求項１２】
前記受け渡し用補助部材の前記第１の負圧発生部による吸着動作をオフにして、前記載置台から前記検査用保持部材への前記基板の受け渡しを行った後に、前記基板の裏面検査のために、前記基板を前記検査用保持部材により移動することを特徴とする請求項７に記載の基板受け渡し方法。
【請求項１３】
前記第１の位置は、前記受け渡し用補助部材の前記負圧発生部の上面が前記第１の位置にあるときに、前記基板の表面検査が行われる位置であることを特徴とする請求項７から９のいずれか１つに記載の基板受け渡し方法。
【請求項１４】
基板を吸着させるための第１の吸引部を有する載置台と、
前記基板を吸着させるための第２の吸引部を有する検査用保持部材と、
開口部から所定の気体を吹き出すことにより、前記基板を吸着させるように、前記基板との間に負圧を発生させる第１の負圧発生部と、を有し、前記検査用保持部材から前記載置台への前記基板の受け渡しを補助するための受け渡し用補助部材と、
前記第２の吸引部の吸着動作がオンされて前記基板を吸着して保持している前記検査用保持部材から前記載置台への前記基板の受け渡しを行うときに、前記受け渡し用補助部材の前記第１の負圧発生部と前記載置台の前記第１の吸引部の吸着動作をオンにして前記開口部から前記所定の気体を吹き出すように制御する制御部と、
を有し、
前記受け渡し用補助部材の前記第１の負圧発生部の上面は、前記第１の吸引部の上面よりも低い第１の位置と、前記第１の位置よりも高く、かつ前記第１の吸引部の上面よりも低い第２の位置の２つの位置に移動可動である、
検査用保持部材から前記載置台への前記基板の受け渡しを行う方法であって、
前記受け渡し用補助部材の前記第１の負圧発生部の上面が前記第２の位置にあるときに、前記第１の吸引部と前記負圧発生部による吸着動作をオンにして、前記載置台に前記基板を吸着させ、
前記載置台への前記基板の吸着が確認された後に、前記第１の負圧発生部による吸着動作をオフにして、前記検査用保持部材から前記載置台への前記基板の受け渡しを行う、
ことを基板受け渡し方法。
【請求項１５】
前記検査用保持部材は、前記載置台から前記検査用保持部材への前記基板の受け渡しを行い、前記基板の裏面検査をするための部材であることを特徴とする請求項１４に記載の基板受け渡し方法。
【請求項１６】
前記第１の位置は、前記基板の表面検査が行われる位置であることを特徴とする請求項１５に記載の基板受け渡し方法。
【請求項１７】
前記制御部は、第２の開口部から前記所定の気体を吹き出すことにより、前記基板を吸着させるように、前記基板との間に負圧を発生させる第２の負圧発生部を有する、前記基板を搬送する搬送用補助部材を、前記検査用保持部材から前記載置台への前記基板の受け渡しを行うときに、前記搬送用補助部材の前記第２の負圧発生部の吸着動作をオンにして前記第２の開口部から前記所定の気体を吹き出すように制御することを特徴とする請求項１４から１６のいずれか１つに記載の基板受け渡し方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板検査装置及び基板受け渡し方法に関し、特に、半導体ウエハなどの基板を検査する基板検査装置及び基板受け渡し方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来より、半導体製造工程では、製造装置において基板に対して、各種加工処理が施され、基板の検査が行われる。近年は、ウエハなどの基板の大型化及び薄型化が進んでおり、製造工程において、反りや撓みが生じる基板を、確実に搬送するための工夫もいろいろ提案されている。
【０００３】
例えば、特開２０１０−１３５３８１号公報に開示のように、ウエハをアームの載置面に吸着させて保持するようにした基板検査装置がある。その基板検査装置では、ウエハカセットからウエハが取り出されて、目視によるマクロ検査と、顕微鏡によるミクロ検査が行われる。ウエハは、搬送手段としてのアームに載置されて、ウエハカセットから検査用の載置台へ、載置台から別の載置台へ、さらに載置台からウエハカセットへ搬送される。
【０００４】
また、ウエハは、表面だけでなく、裏面についても検査が行われる場合がある。その場合、ウエハの裏面が上方を向くようにウエハは反転されて、検査が行われる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００２−１２３３４５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかし、ウエハ検査装置においてウエハの受け渡しが行われるとき、ウエハに反りや撓みがあると、ウエハの受け渡しを確実に行うことができない。例えば、ウエハの裏面を検査するためにウエハを反転するときに、ウエハ保持部材によりウエハをしっかりと保持していないと、ウエハが落下したり、破損したりしてしまう虞がある。
【０００７】
そこで、本発明は、基板をしっかりと保持しながら基板の受け渡しができる基板検査装置及び基板受け渡し方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の一態様によれば、基板を吸着させるための第１の吸引部を有する載置台と、前記基板を吸着させるための第２の吸引部を有する検査用保持部材と、第１の開口部から所定の気体を吹き出すことにより、前記基板を吸着させるように、前記基板との間に負圧を発生させる第１の負圧発生部を有し、前記載置台から前記検査用保持部材への前記基板の受け渡しを補助するための受け渡し用補助部材と、を有し、前記受け渡し用補助部材の前記第１の負圧発生部の上面は、前記第１の吸引部の上面よりも低い第１の位置と、前記第１の位置よりも高く、かつ前記第１の吸引部の上面よりも低い第２の位置の２つの位置に移動可動である基板検査装置を提供することができる。
【０００９】
本発明の一態様によれば、基板を吸着させるための第１の吸引部を有する載置台と、前記基板を吸着させるための第２の吸引部を有する検査用保持部材と、第１の開口部から所定の気体を吹き出すことにより、前記基板を吸着させるように、前記基板との間に負圧を発生させる第１の負圧発生部と、を有し、前記載置台から前記検査用保持部材への前記基板の受け渡しを補助するための受け渡し用補助部材と、前記基板の前記載置台から前記検査用保持部材への受け渡しを行うときに、前記受け渡し用補助部材の前記第１の負圧発生部の吸着動作をオンにして前記第１の開口部から前記所定の気体を吹き出すように制御する制御部と、を有し、前記受け渡し用補助部材の前記第１の負圧発生部の上面は、前記第１の吸引部の上面よりも低い第１の位置と、前記第１の位置よりも高く、かつ前記第１の吸引部の上面よりも低い第２の位置の２つの位置に移動可動である、前記載置台から検査用保持部材への前記基板の受け渡しを行う方法であって、前記受け渡し用補助部材の前記第１の負圧発生部の上面を前記第２の位置に移動し、前記第１の負圧発生部による吸着動作がオンの状態で、前記受け渡し用補助部材に前記基板を吸着させ、前記検査用保持部材の前記第２の吸引部による吸着動作をオンにして、前記検査用保持部材に前記基板を保持し、前記検査用保持部材への前記基板の吸着が確認された後に、前記受け渡し用補助部材の前記第１の負圧発生部による吸着動作をオフにして、前記載置台から前記検査用保持部材への前記基板の受け渡しを行う基板受け渡し方法を提供することができる。
【００１０】
本発明の一態様によれば、基板を吸着させるための第１の吸引部を有する載置台と、前記基板を吸着させるための第２の吸引部を有する検査用保持部材と、開口部から所定の気体を吹き出すことにより、前記基板を吸着させるように、前記基板との間に負圧を発生させる第１の負圧発生部と、を有し、前記検査用保持部材から前記載置台への前記基板の受け渡しを補助するための受け渡し用補助部材と、前記第２の吸引部の吸着動作がオンされて、前記検査用保持部材から前記載置台への前記基板の受け渡しを行うときに、前記受け渡し用補助部材の前記第１の負圧発生部と前記載置台の前記第１の吸引部の吸着動作をオンにして前記開口部から前記所定の気体を吹き出すように制御する制御部と、を有し、前記受け渡し用補助部材の前記第１の負圧発生部の上面は、前記第１の吸引部の上面よりも低い第１の位置と、前記第１の位置よりも高く、かつ前記第１の吸引部の上面よりも低い第２の位置の２つの位置に移動可動である、検査用保持部材から前記載置台への前記基板の受け渡しを行う方法であって、前記受け渡し用補助部材の前記第１の負圧発生部の上面が前記第２の位置にあるときに、前記第１の吸引部と前記負圧発生部による吸着動作をオンにして、前記載置台に前記基板を吸着させ、前記載置台への前記基板の吸着が確認された後に、前記第１の負圧発生部による吸着動作をオフにして、前記検査用保持部材から前記載置台への前記基板の受け渡しを行う基板受け渡し方法を提供することができる。
【発明の効果】
【００１１】
本発明によれば、基板をしっかりと保持しながら基板の受け渡しができる基板検査装置及び基板受け渡し方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】本発明の実施の形態に係わるウエハ検査装置の構成を説明するための平面図である。
【図２】本発明の実施の形態に係わる、アーム支持部９に接続されたアーム８ａ、８ｂの斜視図である。
【図３】本発明の実施の形態に係わる、アーム８の斜め下方向からの斜視図である。
【図４】本発明の実施の形態に係わる、アームの保持面上に設けられた吸着パッド４１、摩擦部材４２及び真空吸着パッド４２ａの斜視図である。
【図５】本発明の実施の形態に係わるアーム８の側面図である。
【図６】本発明の実施の形態に係わる、ウエハ載置台４ａと、アーム８と、裏面アーム１０と、吸着補助部材１１の配置を示す平面図である。
【図７】本発明の実施の形態に係わる、ウエハ載置台４ａと、アーム８と、裏面アーム１０と、吸着補助部材１１の配置を説明するための斜視図である。
【図８】本発明の実施の形態に係わる、ウエハ載置台４ａと、アーム８と、裏面アーム１０と、吸着補助部材１１の配置を説明するための他の斜視図である。
【図９】本発明の実施の形態に係わる、ウエハ載置台４ａと吸着補助部材１１の構成を説明するための他の斜視図である。
【図１０】本発明の実施の形態に係わる、裏面検査時の動作の流れを示すフローチャートである。
【図１１】本発明の実施の形態に係わる、吸着補助部材１１が待避位置ＢＰに位置するときの、吸着補助部材１１の吸着パッド８１の上面とウエハ載置台４ａの真空吸着パッド６１の上面の位置関係を説明するための図である。
【図１２】本発明の実施の形態に係わる、吸着補助部材１１が矯正補助位置ＣＰに位置するときの、吸着補助部材１１の吸着パッド８１の上面とウエハ載置台４ａの真空吸着パッド６１の上面の位置関係を説明するための図である。
【図１３】本発明の実施の形態に係わる、矯正補助部材１１とアーム８が矯正補助位置ＣＰにあるときの、ウエハ載置台４ａと、アーム８と、裏面アーム１０と、吸着補助部材１１の配置を説明するための斜視図である。
【図１４】本発明の実施の形態に係わる、矯正補助部材１１とアーム８が矯正補助位置ＣＰにあり、と裏面アーム１０が上方へ移動したときの、ウエハ載置台４ａと、アーム８と、裏面アーム１０と、吸着補助部材１１の配置を説明するための斜視図である。
【図１５】本発明の実施の形態に係わる吸着補助部材１１の変形例を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
以下、図面を参照して本発明の実施の形態を説明する。
（全体構成）
図１は、本実施の形態に係わるウエハ検査装置の構成を説明するための平面図である。ウエハ検査装置１は、ウエハ搬送装置２と、ウエハカセット３と、ウエハ搬送装置２により搬送される検査対象であるウエハＷ（二点鎖線で示す）のマクロ検査を行うマクロ検査部４と、ウエハＷのミクロ検査を行うミクロ検査部５と、操作部６と、裏面アーム１０と、吸着補助部材１１を含む基板検査装置である。
【００１４】
基板搬送装置であるウエハ搬送装置２は、アーム駆動部７と、２本のアーム８ａ，８ｂ（以下、２本のアームの全て若しくは１つを指すときは、アーム８という）と、２本のアーム８を支持するアーム支持部９とを有している。２本のアーム８ａ，８ｂは、アーム支持部９の一側面から延出するようにアーム支持部９に設けられている。
【００１５】
操作部６は、キーボード等の入力装置６ａと、液晶表示装置等の表示装置６ｂを有している。検査者は、表示装置６ｂに表示される画面を見ながら、入力装置６ａから各種指示コマンドを入力することにより、ウエハ搬送装置２、マクロ検査部４及びミクロ検査部５の各種動作を指示することができる。
【００１６】
アーム駆動部７は、２本のアーム８ａ，８ｂが所定の回動軸（Ｚ軸方向の軸）を中心に回動可能に、かつ上下方向（Ｚ軸方向）に移動可能に、アーム支持部９を上方から支持している。
【００１７】
すなわち、アーム駆動部７は、アーム支持部９を、回動軸回りに回動させ、かつ上下方向（Ｚ軸方向）に移動するように、駆動する。アーム支持部９の回動により、２本のアーム８も、矢印Ａ１で示す方向に回動し、ウエハＷをミクロ検査部５へ搬送する。さらに、アーム支持部９の上下方向の移動により、２本のアーム８を上下移動させることによって、マクロ検査部４及びミクロ検査部５へのウエハＷの載置あるいは取り出しが行われる。アーム駆動部７は、アーム８の位置を検出する機能を有し、後述する制御部２５がアーム８の位置情報を得ることができるようになっている。後述するように、制御部２５は、ＣＰＵ及びメモリを有し、ウエハ検査装置１の各部の動作を制御する。
【００１８】
ウエハカセット３内には、検査対象である複数のウエハＷが高さ方向に積層されている。基板である各ウエハＷは、ウエハＷの周縁部が、ウエハカセット３内の周縁支持部により支持されている。
【００１９】
ウエハカセット３内から、各ウエハＷがウエハ搬送装置２により取り出され、マクロ検査部４とミクロ検査部５において、所定の検査が行われ、検査が終了したウエハＷは、ウエハカセット３内にウエハ搬送装置２により収容される。そのため、アーム駆動部７は、図示しないレールに沿って矢印Ａ２方向（Ｘ軸方向）に、移動可能となっている。
【００２０】
さらに、ウエハ検査装置１には、ウエハWの裏面検査をするための検査用保持部材としての裏面アーム１０と、吸着補助部材１１とが設けられている。吸着補助部材１１は、ウエハＷの裏面を検査するために、ウエハＷの反りなどを水平矯正して、ウエハＷを裏面アーム１０に吸着させて保持させてウエハWの受け渡しを補助するための受け渡し用補助部材である。
【００２１】
さらに、基板検査装置１には、送気ポンプ２１と吸引ポンプ２２が設けられている。本実施の形態では、送気ポンプ２１は、基板検査装置１のコネクタを介して、内部の管路２３ａ〜２３ｃ内へ圧縮空気を送気し、吸引ポンプ２２は、基板検査装置１のコネクタを介して、基板検査装置１内に配設された管路２４ａ〜２４ｄ内の空気を吸引する。管路２４ａ〜２４ｄのそれぞれには、真空センサが設けられており、各管路内の真空状態が検出可能となっている。  
なお、送気ポンプ２１の送気機能と吸引ポンプ２２の吸引機能は、１つのポンプを利用して実現するようにしてもよい。
【００２２】
基板検査装置１は、基板であるウエハＷの搬送を制御する制御部２５を有し、制御部２５は、中央処理装置（CPU）と、ROM,RAM等の記憶装置を有する。制御部２５は、ウエハ搬送装置２、マクロ検査部４、ミクロ検査部５に接続されており、制御部２５は、操作部６に入力された検査指示に応じて、所定のプログラムを実行させることにより、ウエハ搬送装置２、マクロ検査部４、ミクロ検査部５、裏面アーム１０、及び吸着補助部材１１の制御を実行する。さらに、制御部２５には、各真空センサの出力も接続されている。制御部２５は、後述するように、ウエハWの搬送及び検査時に、ウエハ搬送装置２、送気ポンプ２１、吸引ポンプ２２、裏面アーム１０及び吸着補助部材１１の動作制御を行いながら、ウエハＷが矯正された状態で、アーム８上、載置台４ｂ、５ｃ上に載置されているか否かを検出する。特に、制御部２５は、各管路を介する送気、及び各管路を介する吸引を、互いに独立に制御することができる。
（搬送アーム）
図２から図５は、ウエハ搬送装置２のアーム８の構成を説明するための図である。図２は、アーム支持部９に接続されたアーム８ａ、８ｂの斜視図である。図３は、アーム８の斜め下方向からの斜視図である。図４は、アームの保持面上に設けられた吸着パッド４１、摩擦部材４２及び真空吸着パッド４２ａの斜視図である。図５は、アーム８の側面図である。
【００２３】
基板搬送用アームであるアーム８は、先端部の幅が狭い板形状を有している。図５に示すように、アーム８は、２枚の板部材３１と３２を貼り合わせて構成されている。板部材３１は、幅が狭いアーム先端部３１ａと、アーム先端部３１ａの幅よりも広い幅を有するアーム基端部３１ｂを有している。板部材３２は、アーム基端部３１ｂと略同じ形状の矩形形状を有している。各アーム８は、後述する２つの流路（４３ａ、４４ａ）を有し、基板であるウエハWを、ウエハＷの下面で保持するアームである。
【００２４】
図２に示すように、アーム基端部３１ｂの先端部側には、負圧発生部としての吸着パッド４１と、複数の摩擦部材４２とを有している。複数の摩擦部材４２の１つは、吸引機能を有する真空吸着パッド４２ａである。
【００２５】
図４に示すように、吸着パッド４１は、円形の凹部に設けられた開口部である一対の噴射口４１ａを有し、一対の噴射口４１ａは、アーム８内の流路４３ａと連通している。吸着パッド４１は、流路４３ａを介して供給される圧縮空気をその一対の噴射口４１ａから所定の方向に噴射させ、その噴射による発生する旋回流により、吸着パッド４１の表面に負圧を発生させることにより、ウエハＷを吸着させる。
【００２６】
すなわち、吸着パッド４１は、アーム８におけるウエハＷを保持する保持面である上面８ｓに設けられ、かつ開口部である一対の噴射口４１ａを有し、流路４３ａを介する所定の気体の送気を行って、一対の噴射口４１ａから所定の気体を吹き出すことにより、ウエハＷを上面に吸着させるように、アーム８の上面８ｓとウエハＷの間に負圧を発生させる負圧発生部を構成する。このような負圧発生部としての吸着パッド４１の構成は、例えば特許第４２９９１０４号公報に開示されており、公知である。
【００２７】
摩擦部材４２は、円柱形状を有する部材であり、ゴム部材である。すなわち、摩擦部材４２は、アーム８の保持面である上面８ｓに設けられ、ウエハＷと接触したときの摩擦により、上面８ｓに吸着されたウエハＷを上面８ｓの平行な方向に横滑りしないようにする摩擦部材である。
【００２８】
真空吸着パッド４２ａは、図４に示すように、円筒形状を有し、先端すなわち上面部には、円環状の摩擦部材４２ａ１が設けられている。真空吸着パッド４２ａの中央部に形成された開口部４２ａ２は、アーム８内に形成された流路４４ａと連通している。
【００２９】
すなわち、真空吸着パッド４２ａは、アーム８の保持面である上面８ｓに設けられ、かつ開口部４２ａ２を有し、流路４４ａ内を真空にすることにより開口部４２ａ２からの吸引を行ってウエハＷの下面を開口部４２ａ２に吸着させて、ウエハＷが開口部４２ａ２に吸着しているかを検知するための吸着パッドである。
【００３０】
また、真空吸着パッド４２ａ上の摩擦部材４２ａ１と２つの摩擦部材４２は、吸着パッド４１の周囲に配置されているので、吸着パッド４１によりウエハＷが吸着されたときに、ウエハＷを３点で支持することができる。すなわち、摩擦部材は、アーム８の上面８ｓ上に、複数設けられ、かつ、負圧発生部である吸着パッド４１の周囲に設けられている。
【００３１】
流路４３ａと４４ａは、２枚の板部材３１と３２の密着面の少なくとも一方に形成された溝により、形成される。流路４３ａの一端は、開口部である一対の噴射口４１ａに連通し、流路４３ａの他端は、アーム８の基端側の下部に設けられた開口部４５に連通している。図２及び図３に示すように、流路４３ａと流路４４ａは、アーム８内に並走するように配設されている。  
流路４４ａの一端は、開口部４２ａ２に連通し、流路４４ａの他端は、アーム８の基端側の下部に設けられた開口部４６に連通している。そして、流路４３ａは、開口部４５を介して、送気ポンプ２１に接続された管路２３ａと接続されている。流路４４ａは、開口部４６を介して、吸引ポンプ２２に接続された管路２４ａと接続されている。また、管路２４ａには真空センサ（図示せず）が設けられ、流路４４ａ内の真空状態を検知する。  
なお、図３に示すように、アーム８の基端部には、アーム支持部９にネジ止めにより、固定するためのネジ孔４７が複数設けられている。
【００３２】
また、図５に示すように、吸着パッド４１のアーム８の表面８ｓからの高さｄ１は、摩擦部材４２と真空吸着パッド４２ａの高さｄ２よりも低い。これは、吸着パッド４１によりウエハＷが吸引されたときに、摩擦部材４２，４２ａ１がウエハＷにしっかりと接触して、摩擦力によりウエハＷが動かないようにウエハＷを支持するためである。
【００３３】
なお、本実施の形態では、真空吸着パッド４２ａ上に摩擦部材４２ａ１が設けられているが、真空吸着パッド４２ａ上に摩擦部材４２ａ１を設けなくてもよい。その場合、真空吸着パッド４２ａの保持面８ｓからの高さは、吸着パッド４１の高さｄ１よりも高い。
【００３４】
アーム８の上面８ｓにウエハＷが密着すると、真空センサにより管路２４ａ内の真空状態が検知されて、ウエハＷがアーム８に吸引保持されていることが検知される。  
上述した吸着パッド４１と真空吸着パッド４２ａを有するアーム８を用いて、制御部２５が送気ポンプ２１と吸引ポンプ２２を制御して、ウエハＷを吸着して保持しながら、ウエハＷのウエハカセット３内からの取り出し、ウエハ載置台４ａへの搬送、ウエハＷのウエハ載置台４ａからの取り出し、ミクロ検査部５への搬送等が行われる。
【００３５】
以上のように、アーム８は、開口部である一対の噴射口４１ａのから所定の気体としての圧縮空気を吹き出すことにより、ウエハＷを吸着させるように、ウエハＷとの間に負圧を発生させる負圧発生部としての２つの吸着パッド４１を有し、ウエハＷを搬送する搬送用補助部材である。
（ミクロ検査部）
図１に戻り、ミクロ検査部５は、ウエハＷを拡大観察するための顕微鏡５ａと、２軸方向に移動可能なＸＹステージ５ｂと、ＸＹステージ５ｂ上に設置され、ウエハＷをＸＹＺの各軸方向に移動させると共に回動させ、更にウエハＷの受け渡しに用いられるウエハ載置台５ｃと、を有する。  
ウエハ載置台５ｃの上面側には、図１に示すように、複数の吸着パッド５１と、複数の真空吸着パッド５２が設けられている。各吸着パッド５１は、上述した吸着パッド４１と同じ構成であり、各真空吸着パッド５２は、真空吸着パッド４２ａと同じ構成である。
【００３６】
吸着パッド５１は、ウエハ載置台５ｃ内、及び送気ポンプ２１に接続された管路２３ｂと接続され、真空吸着パッド５２は、ウエハ載置台５ｃ内、及び吸引ポンプ２２に接続された管路２４ｂと接続されている。また、管路２４ｂには真空センサ（図示せず）が設けられ、管路２４ｂ内の真空状態を検知する。
【００３７】
ウエハ載置台５ｃの上面にウエハＷが密着すると、真空センサにより管路２４ｂ内の真空状態が検知されて、ウエハＷがウエハ載置台５ｃの上面に吸引保持されていることが検知される。
【００３８】
ミクロ検査時、ウエハＷは、ウエハ載置台５ｃ上に載置され、複数の吸着パッド５１と複数の真空吸着パッド５２により、ウエハ載置台５ｃ上に吸引されて保持されて、ミクロ検査部５の顕微鏡５ａによりミクロ検査が行われる。
（マクロ検査部）
マクロ検査部４は、ウエハＷの受け渡しとマクロ検査のための円板状のウエハ載置台４ａを有する。マクロ検査部４は、ウエハ載置台４ａをＺ方向に上昇させてウエハＷを揺動させる揺動機構と、ウエハＷの平面に直交する軸周りにウエハＷを回動する回動機構とを有する。
【００３９】
上述したアーム８によりウエハＷがウエハカセット３内から取り出されてウエハ載置台４ａ上に搭載されると、ウエハＷは、ウエハ載置台４ａに吸着固定される。  
ウエハ検査装置１の装置本体には、ウエハＷのオリフラ（ノッチ）の位置を検出するセンサ（図示せず）が設けられており、ウエハＷを回動機構により回動させて、オリフラの位置合わせが行われる。
【００４０】
制御部２５は、マクロ検査（すなわち検査者によるウエハＷの目視検査）を行うときは、ウエハ載置台４ａをＺ方向に所定量だけ上昇させて、所定の検査位置にウエハWを上方へ移動し、所定の揺動ができるようにする。例えば、検査者は、ウエハ載置台４ａ上のウエハWを所定の角度（例えば３０度）だけ傾けて、ジョイスティックなどを用いて、検査者がウエハ載置台４ａを回動させてマクロ検査を行う。  
よって、ウエハ載置台４ａは、オリフラ位置検出機能付きで、かつウエハ載置面４ａ１を傾斜させ回動させることにより、ウエハＷを揺動可能な回動テーブルである。
【００４１】
ウエハ検査装置１の装置本体の上部には、ウエハＷに照明光を照射するための照明装置（図示せず）が設けられており、検査者は、ウエハＷからの反射光をみて、マクロ検査を行う。
【００４２】
さらに、ウエハＷの表面だけでなく、裏面のマクロ検査も行われる。  
ウエハＷの裏面を検査する場合、裏面アーム１０にウエハＷが吸着されて保持される。裏面アーム１０が所定の距離だけ上方に移動して、ウエハＷを保持した状態で、裏面アーム１０を、所定の軸（後述する軸Ｊ２）周りに１８０度回動することによって、ウエハＷの裏面を上方に向けて、検査者により、ウエハＷの裏面のマクロ検査が行われる。ウエハ検査装置１の制御部２５は、ウエハＷの表面と裏面のマクロ検査ができるように、各部の動作を制御する。
【００４３】
図６から図９は、マクロ検査部４における、ウエハ載置台４ａと、アーム８と、裏面アーム１０と、吸着補助部材１１の構成を説明するための図である。図６は、ウエハ載置台４ａと、アーム８と、裏面アーム１０と、吸着補助部材１１の配置を示す平面図である。図７は、ウエハ載置台４ａと、アーム８と、裏面アーム１０と、吸着補助部材１１の配置を説明するための斜視図である。図７は、アーム８、裏面アーム１０及び吸着補助部材１１が、それぞれの待避位置にあるときの状態を示す。図８は、ウエハ載置台４ａと、アーム８と、裏面アーム１０と、吸着補助部材１１の配置を説明するための他の斜視図である。図９は、ウエハ載置台４ａと吸着補助部材１１の構成を説明するための他の斜視図である。
（ウエハ載置台４ａ）
ウエハ載置台４ａは、円板状の形状を有し、上面に複数の真空吸着パッド６１が設けられている。ウエハ載置台４ａの一部には、複数の孔６２が形成されている。吸引部としての複数の真空吸着パッド６１のそれぞれの構成は、上述した真空吸着パッド４２ａと同じ構成である。すなわち、ウエハ載置台４ａは、基板であるウエハWを吸着させるための吸引部を有する載置台である。
【００４４】
上述したように、ウエハ載置台４ａは、円板の中心を通る軸Ｊ１（図７）の軸周りに回動可能となっている。さらに、ウエハ載置台４ａは、ウエハ載置台４ａの上面が、軸Ｊ１に直交する平面に対して、所定の角度だけ傾斜可能に構成されている。
【００４５】
真空吸着パッド６１は、ウエハ載置台４ａ内、及び吸引ポンプ２２に接続された管路２４ｃと接続されている。また、管路２４ｃには真空センサ２６ａが設けられ、管路２４ｃ内の真空状態を検知する。
【００４６】
ウエハ載置台４ａの上面にウエハＷが吸着すると、真空センサ２６ａの出力により管路２４ｃ内の真空状態が検知されて、制御部２５において、ウエハＷがウエハ載置台４ａの上面に吸着して保持されていることが検知される。
【００４７】
なお、ウエハ載置台４ａの上下方向（Ｚ方向）の移動及び回動などの動作は、制御部２５の制御の下、エンコーダ（図示せず）でウエハ載置台４ａの高さ及び回動位置を検出しながら、ステッピングモータ等（図示せず）を駆動することによって行われる。ウエハ載置台４ａの駆動機構としてのステッピングモータ等は、ウエハ検査装置１の装置本体内のウエハ載置台支持部Ｂ０内に取り付けられている。ステッピングモータ等は、例えば、ウエハ載置台支持部Ｂ０の最上部に設けられる。
（裏面アーム）
裏面アーム１０は、略半分の円弧状の形状を有する円弧部１０ａと、円弧部１０ａの内側に延出する複数（ここでは４つ）の延出部１０ｂを有する。円弧部１０ａの外周側には、突出部１０ｃが設けられている。図１及び図６に示すように、円弧部１０ａは、円弧の中心に対して１８０度以上の範囲に亘る長さを有する。すなわち、裏面アーム１０は、基板であるウエハWを吸着させるための吸引部を有する検査用保持部材である。
【００４８】
裏面アーム１０の延出部１０ｂの先端部の上面には、複数の（ここでは４つ）の真空吸着パッド７１が設けられている。吸引部としての複数の真空吸着パッド７１は、ウエハＷを裏面アーム１０上で吸着できる位置に設けられる。各真空吸着パッド７１の構成は、上述した真空吸着パッド４２ａと同じ構成である。
【００４９】
真空吸着パッド７１は、裏面アーム１０内、及び吸引ポンプ２２に接続された管路２４ｄと接続されている。また、管路２４ｄには真空センサ２６ｂが設けられ、管路２４ｄ内の真空状態を検知する。
【００５０】
裏面アーム１０の上面にウエハＷが密着すると、真空センサ２６ｂにより管路２４ｄ内の真空状態が検知されて、制御部２５において、ウエハＷが裏面アーム１０の上面に吸着されて保持されていることが検知される。
【００５１】
また、裏面アーム１０の上下方向（Ｚ方向）の移動は、制御部２５の制御の下、エンコーダ（図示せず）で裏面アーム１０の位置を検出しながら、ステッピングモータ等（図示せず）を駆動することによって行われる。裏面アーム１０の駆動機構としてのステッピングモータ等は、ウエハ検査装置１の装置本体内の裏面アーム支持部Ｂ１内に取り付けられている。ステッピングモータ等は、例えば、裏面アーム支持部Ｂ１の最上部に設けられる。さらに、裏面アーム１０を、所定の軸（後述する軸Ｊ２）周りに１８０度回動するための駆動機構も、ステッピングモータ等により行われる。裏面アーム１０の回動のためのステッピングモータ等は、裏面アーム１０の突出部１０ｃに接続された軸部材に、ギヤ機構などを介して接続されている。
（吸着補助部材１１）
吸着補助部材１１は、ウエハ載置台４ａ上に載置されたウエハＷの反りや撓みを矯正するための部材である。吸着補助部材１１は、ウエハ検査装置１の装置本体内の吸着補助部材支持部Ｂ２に取り付けられている。
【００５２】
吸着補助部材１１の上面には、複数（ここでは２つ）の吸着パッド８１が設けられている。各吸着パッド８１の構成は、上述した吸着パッド４１と同じ構成である。  
吸着パッド８１は、吸着補助部材１１内、及び送気ポンプ２１に接続された管路２３ｃと接続されている。
【００５３】
図９に示すように、吸着補助部材１１は、管路２３ｃとの接続のためのコネクタ１１ａを有し、コネクタ１１ａは吸着補助部材１１の内部に形成された管路（図示せず）を介して吸着パッド８１と接続されている。
【００５４】
吸着補助部材１１は、略矩形であり、裏面アーム１０側の２つの角部が切り取られた６角形の形状を有する。吸着補助部材１１の四隅のそれぞれには、孔が設けられ、軸部材１１ｃが挿通されている。吸着補助部材１１は、吸着補助部材支持部Ｂ２を構成する固定部材１１ｂ上で、４つの軸部材１１ｃに沿って上下方向（Ｚ方向）に移動可能に設けられている。各軸部材１１ｃの基端部は、固定部材１１ｂに固定され、上部には、フランジ部であるストッパ部１１ｄが形成されている。  
よって、吸着補助部材１１は、固定部材１１ｂとストッパ部１１ｄの間で移動可能となっている。
【００５５】
図９に示すように、吸着補助部材１１が固定部材１１ｂに接しているときの位置が、吸着補助部材１１の待避位置ＢＰである。図９において、点線で示すように、吸着補助部材１１が上方に移動して、吸着補助部材１１の四隅の段差部の上面１１ｃ１がストッパ部１１ｄに接している位置が、吸着補助部材１１の矯正補助位置ＣＰである。
【００５６】
固定部材１１ｂには、吸着補助部材１１を移動させるためのシリンダ部１１ｅが設けられている。シリンダ１１ｅは、空気の供給により駆動される。シリンダ部１１ｅは、内部にセンサ（図示せず）を有し、駆動状態を検出することができる。上下方向における吸着補助部材１１の２位置（待避位置ＢＰと矯正補助位置ＣＰ）間の移動は、空気を用いたシリンダ機構を利用して行われる。  
なお、吸着補助部材１１の上下移動は、モータを用いた他の駆動機構を利用して行うようにしてもよい。
【００５７】
制御部２５が、シリンダ部１１ｅへ所定の駆動信号を出力すると、図示しない空気源からシリンダ部１１ｅに空気が供給されて、吸着補助部材１１の４つの段差部の上面１１ｃ１がストッパ部１１ｄに当接するように駆動され、吸着補助部材１１は、待避位置ＢＰから上方に移動し、矯正補助位置ＣＰに位置する。制御部２５が、シリンダ部１１ｅへの所定の駆動信号の出力を停止すると、吸着補助部材１１は、待避位置ＢＰに戻るように駆動される。
【００５８】
後述するように、ウエハＷがウエハ載置台４ａ上に載置され、吸着補助部材１１が待避位置ＢＰにあるとき、ウエハＷの下面が吸着補助部材１１及び２つの吸着パッド８１に全く接触しないように、吸着補助部材１１は、ウエハ載置台４ａに対して配置される。
【００５９】
ウエハＷがウエハ載置台４ａ上に載置され、吸着補助部材１１が矯正位置ＣＰにあるとき、吸着補助部材１１の２つの吸着パッド８１の上面は、ウエハＷの下面よりも所定の距離（ｄｄ２（図１２参照））だけ下方に位置した位置にある。
【００６０】
ウエハＷをウエハ載置台４ａから裏面アーム１０に受け渡すときに、ウエハＷが裏面アーム１０上に確実に吸着されて保持されるようにするために、吸着補助部材１１は、待避位置ＢＰから、矯正補助位置ＣＰに移動する。
【００６１】
待避位置ＢＰから矯正補助位置ＣＰに移動した後、吸着補助部材１１の２つの吸着パッド８１は、流路２３ｃを介して供給される圧縮空気をその一対の噴射口４１ａから所定の方向に噴射させ、その噴射による発生する旋回流により、吸着パッド８１の表面に負圧を発生させて、ウエハＷを吸着させる。すなわち、吸着補助部材１１は、開口部である一対の噴射口４１ａから圧縮空気を吹き出すことにより、ウエハＷを吸着させるように、ウエハＷとの間に負圧を発生させる負圧発生部である２つの吸着パッド８１を有し、ウエハ載置台４ａから検査用保持部材である裏面アーム１０へのウエハＷの受け渡しを補助するための受け渡し用補助部材である。
【００６２】
吸着補助部材１１が矯正位置ＣＰにあるとき、ウエハＷは２つの吸着パッド８１に吸着するので、ウエハＷの反りや撓みが矯正される。  
ウエハＷの反りや撓みが矯正された状態で、裏面アーム１０が、ウエハＷの下方から上昇し、裏面アーム１０の複数の真空吸着パッド７１の上面が、ウエハ載置台４ａ上の真空吸着パッド６１の上面と略同じ位置まで移動する。
【００６３】
その状態で、真空吸着パッド７１による吸引を行うと、ウエハＷの反り撓みが矯正されているので、ウエハＷは裏面アーム１０に吸着し、ウエハ載置台４ａから裏面アーム１０へのウエハＷの受け渡しを確実に行うことができる。
（動作）
次に、検査対象のウエハＷの検査の流れについて説明する。はじめに、検査対象のウエハＷはアーム８によりウエハ載置台４ａに載置される。検査者は、ウエハＷがウエハ載置台４ａに載置された状態で、ウエハＷの表面のマクロ検査を行う。次に、検査者は、ウエハＷの裏面のマクロ検査を行い、マクロ検査部４におけるマクロ検査が終了すると、検査対象のウエハＷはアーム８によりウエハ載置台５ｃに載置され、ミクロ検査部５におけるミクロ検査が行われる。
【００６４】
ここでは、マクロ検査時の動作、特に、ウエハＷの裏面を検査するときの、ウエハ検査装置１の動作について説明する。
（ウエハの表面検査）
検査者によるウエハＷの目視検査（すなわちマクロ検査）を行うときは、検査者による指示に応じて、制御部２５は、ウエハ載置台４ａ上に搭載されたウエハＷを、載置台４ａ表面に設けられた複数の真空吸着パッド６１により吸着させた状態で、軸回りに回動させてオリフラの位置を検出する。
【００６５】
オリフラの位置が検出されると、制御部２５は、ウエハＷの表面が水平となる所定の初期位置でウエハＷを保持する。制御部２５は、ウエハＷが搭載されたウエハ載置台４ａをＺ方向に所定量だけ上昇させ、かつウエハWを所定の角度だけ傾ける。その状態で、検査者は、ジョイスティックなどを用いて、検査者がウエハ載置台４ａを回動させてマクロ検査を行う。
【００６６】
マクロ検査は、ウエハＷの表面だけでなく、裏面のマクロ検査についても行われる。次に、ウエハWの裏面検査時のウエハ検査装置１の動作について説明する。
（ウエハの裏面検査）
ウエハＷの裏面検査は、裏面アーム１０にウエハＷを吸着させて保持した状態で、ウエハＷの裏面が上方を向くように、ウエハＷを反転した状態で行われる。  
裏面検査の開始時、図７に示すように、アーム８、裏面アーム１０及び吸着補助部材１１は、それぞれの待避位置に位置している。
【００６７】
まず、検査者が操作部６を操作して、裏面検査の指示を入力すると、制御部２５は、次の処理を実行する。なお、裏面検査の指示は、検査者により入力された指示によらずに、制御部２５が、表面検査の後に続いて自動的に実行するようにしてもよい。
【００６８】
図１０は、裏面検査時の動作の流れを示すフローチャートである。  
制御部２５は、ウエハＷの反りや撓みを矯正するために、ウエハＷの矯正処理を実行する（Ｓ１）。
【００６９】
Ｓ１の処理は、さらに次のステップを含む。  
（Ｓ１−１：吸着補助部材１１とアーム８の移動）
ウエハＷの矯正のために、まず、裏面検査の指示が入力されると、制御部２５は、吸着補助部材１１を、矯正補助位置ＣＰへ移動させる。
【００７０】
同時に、制御部２５は、アーム８も、各吸着パッド４１の上面が各吸着補助部材１１の吸着パッド８１の上面と同じ高さ位置まで上方へ移動させる。  
なお、ここでは、裏面アーム１０にウエハＷを吸着させるときに、吸着補助部材１１とアーム８とを用いてウエハＷの反りなどを小さくしてウエハＷ全体が水平すなわち平らになるように矯正を行っているが、吸着補助部材１１だけでウエハＷの矯正が可能な場合は、アーム８は用いなくてもよい。
【００７１】
表面検査の終了時、吸着補助部材１１は、各吸着パッド８１の上面がウエハ載置台４ａの各真空吸着パッド６１の上面よりも所定量ｄｄ１だけＺ方向において、下方の位置にある。ウエハＷは、ウエハ載置台４ａに吸着され固定されている。すなわち、ウエハＷの表面検査が終わったとき、ウエハ載置台４ａとアーム８は、それぞれの待避位置に戻されている。また、吸着補助部材１１も待避位置ＢＰの位置にある。このとき、アーム８の吸着パッド４１と吸着補助部材１１の吸着パッド８１の吸着動作はオフで、圧縮空気を噴出していない。また、裏面アーム１０の真空吸着動作もオフである。
【００７２】
図１１は、吸着補助部材１１が待避位置ＢＰに位置するときの、吸着補助部材１１の吸着パッド８１の上面とウエハ載置台４ａの複数の真空吸着パッド６１の上面の位置関係を説明するための図である。
【００７３】
図１１は、吸着補助部材１１の２つの吸着パッド８１と、ウエハ載置台４ａの真空吸着パッド６１を横方向から見たときの状態を示す。図１１に示すように、待避位置ＢＰのとき、吸着補助部材１１の吸着パッド８１の上面がウエハ載置台４ａの真空吸着パッド６１の上面よりも所定量ｄｄ１だけＺ方向において下方の位置にある。吸着補助部材１１が待避位置ＢＰに位置するとき、反りなどを有するウエハＷがウエハ載置台４ａ上に載置されても、ウエハＷが吸着補助部材１１に一切接触しない。  
吸着補助部材１１の２つの吸着パッド８１の上面が待避位置にあるときに、ウエハＷの表面検査が行われる。
【００７４】
図１１の状態から、裏面検査の指示が入力されると、制御部２５は、シリンダ１１ｅを駆動して、吸着補助部材１１を矯正補助位置ＣＰへ移動させる。すなわち、制御部２５は、受け渡し用補助部材である吸着補助部材１１の吸着パッド８１の上面を、矯正補助位置ＣＰに移動する。
【００７５】
また、アーム８も、待避位置では、吸着パッド４１の上面がウエハ載置台４ａの真空吸着パッド６１の上面よりも所定量ｄｄ１よりも長い距離だけＺ方向において下方の位置にある。
【００７６】
図１２は、吸着補助部材１１が矯正補助位置ＣＰに位置するときの、吸着補助部材１１の吸着パッド８１の上面とウエハ載置台４ａの真空吸着パッド６１の上面の位置関係を説明するための図である。
【００７７】
図１２は、吸着補助部材１１の吸着パッド８１と、ウエハ載置台４ａの真空吸着パッド６１を横方向から見たときの状態を示す。図１２に示すように、矯正補助位置ＣＰのとき、吸着補助部材１１の２つの吸着パッド８１の上面がウエハ載置台４ａの複数の真空吸着パッド６１の上面よりも所定量ｄｄ２だけＺ方向において下方の位置にある。
【００７８】
このとき、アーム８も、吸着パッド４１の上面がウエハ載置台４ａの複数の真空吸着パッド６１の上面よりも所定量ｄｄ２だけＺ方向において下方の位置にある。なお、ｄｄ２は、ｄｄ１より小さい。
【００７９】
図１３は、矯正補助部材１１とアーム８が矯正補助位置ＣＰにあるときの、ウエハ載置台４ａと、アーム８と、裏面アーム１０と、吸着補助部材１１の配置を説明するための斜視図である。図１３において点線の矢印で示すように、矯正補助部材１１は、上方へ移動し、矯正補助部材１１の矯正補助位置ＣＰに位置し、アーム８も、上方へ移動し、アーム８の矯正補助位置ＣＰに位置している。
（Ｓ１−２：吸着による矯正）
次に、ウエハＷの反りなどの矯正のために、制御部２５は、吸着パッド４１と吸着パッド８１の吸着動作をオンし、吸着パッド８１と４１から圧縮空気をその一対の噴射口４１ａから所定の方向に噴射させる。  
複数（ここでは４つ）の吸着パッド８１と４１が圧縮空気を噴射させるので、ウエハＷは、吸着パット８１と４１に吸引されて、反りや撓みが矯正された状態となる。
【００８０】
以上のように、受け渡し用補助部材である矯正補助部材１１の２つの吸着パッド８１の上面は、ウエハ載置台４ａの複数の真空吸着パッド６１の上面よりも低い待避位置と、待避位置よりも高く、かつ複数の真空吸着パッド６１の上面よりも低い矯正位置の２つの位置に移動可動である。そして、制御部２５は、ウエハＷのウエハ載置台４ａから裏面アーム１０への受け渡しをするときに、矯正補助部材１１の２つの吸着パッド８１の吸着動作をオンにして一対の噴射口４１ａから所定の気体である圧縮空気を吹き出すように制御する。
【００８１】
さらに、制御部２５は、ウエハＷをウエハ載置台４ａから裏面アーム１０への受け渡しを行うときに、アーム８の２つの吸着パッド４１の吸着動作もオンにして一つの噴射口４１ａから所定の気体としての圧縮空気を吹き出すように制御する。吸着補助部材１１が矯正補助位置ＣＰに位置するとき、２つの吸着パッド８１と２つの吸着パッド４１による吸着動作がオンの状態で、矯正補助部材１１にウエハＷは吸着される。
【００８２】
Ｓ１の後、制御部２５は、裏面アーム１０による吸着保持を行う（Ｓ２）。  
Ｓ２の処理は、さらに次のステップを含む。  
（Ｓ２−１：裏面アーム１０の移動）
制御部２５は、裏面アーム１０の各真空吸着パッド７１の上面が、Ｚ方向においてウエハ載置台４ａの各真空吸着パッド６１の上面（すなわちウエハ固定面）と同じ（又は略同じ）位置になるまで、裏面アーム１０を上昇させる。
【００８３】
図１４は、矯正補助部材１１とアーム８が矯正補助位置ＣＰにあり、と裏面アーム１０が上方へ移動したときの、ウエハ載置台４ａと、アーム８と、裏面アーム１０と、吸着補助部材１１の配置を説明するための斜視図である。図１４において点線の矢印で示すように、裏面アーム１０は、上方へ移動し、各真空吸着パッド７１の上面が、Ｚ方向においてウエハ載置台４ａの各真空吸着パッド６１の上面と同じ又は略同じ位置になるような位置まで移動している。
（Ｓ２−２：裏面アーム１０による吸着保持）
制御部２５は、裏面アーム１０の複数の真空吸着パッド７１の吸着動作をオンし、ウエハＷの吸着固定を行う。そして、制御部２５は、真空センサ２６ｂの出力に基づいて、ウエハＷの裏面アーム１０への真空吸着を確認する。すなわち、裏面アーム１０の複数の真空吸着パッド７１による吸着動作をオンにして、裏面アーム１０にウエハＷが保持される。吸着状態が確認できなければ、制御部２５は、真空吸着パッド７１による吸着を停止し、裏面アーム１０を下方に下げて、再度Ｓ２−１から実行する。  
以上のように、吸引補助部材１１とアーム８により、ウエハＷの反りや撓みを矯正してから裏面アーム１０へのウエハＷの真空吸着が行われる。
【００８４】
裏面アーム１０への真空吸着状態の確認後、制御部２５は、ウエハ載置台４ａの真空吸着パッド６１の吸着動作、吸着補助部材１１の２つの吸着パッド８１及びアーム８の吸着パッド４１の吸着動作を、オフにする。すなわち、裏面アーム１０へのウエハＷの吸着が確認された後に、ウエハ載置台４ａの真空吸着パッド６１、吸着補助部材１１の２つの吸着パッド８１及びアーム８の吸着パッド４１による吸着動作をオフにして、ウエハＷをウエハ載置台４ａから裏面アーム１０への受け渡しが行われる。  
その結果、ウエハＷは、裏面アーム１０のみにより吸着保持された状態となる。  
以上のように、ウエハＷのウエハ載置台４ａから裏面アーム１０への受け渡しを行うときに、吸着補助部材１１の２つの吸着パッド８１の上面は、矯正位置に位置している。
【００８５】
Ｓ２の後、制御部２５は、裏面アーム１０を所定の高さ位置まで上方移動させる（Ｓ３）。すなわち、吸着補助部材１１の２つの吸着パッド８１とアーム８の吸着パッド４１による吸着動作をオフにして、ウエハＷのウエハ載置台４ａから裏面アーム１０への受け渡しを行った後に、ウエハＷの裏面検査のために、ウエハＷを裏面アーム１０により移動する。
【００８６】
制御部２５は、裏面アーム１０を１８０度回動させて、ウエハＷの裏面が上方を向くように、裏面アーム１０を反転させる（Ｓ４）。  
ウエハＷは所定の高さ位置にあり、ウエハＷの裏面が上方に向いているので、検査者は、ウエハＷの裏面のマクロ検査を行うことができる（Ｓ５）。
【００８７】
Ｓ５が終了し、検査者が検査終了の指示を入力すると、制御部２５は、裏面アーム１０をＳ４の回動方向とは逆方向に、１８０度回動させて、ウエハＷの表面が上方を向くように、裏面アーム１０を反転させる（Ｓ６）。
【００８８】
次に、制御部２５は、裏面アーム１０を元の位置まで下方移動させる（Ｓ７）。  
Ｓ７により、裏面アーム１０は、裏面アーム１０の各真空吸着パッド７１の上面が、Ｚ方向においてウエハ載置台４ａの各真空吸着パッド６１の上面と同じ位置になるまで移動する。
【００８９】
そして、制御部２５は、ウエハＷをウエハ載置台４ａ上に載置する（Ｓ８）。  
Ｓ８の処理は、さらに次のステップを含む。  
（Ｓ８−１：真空吸着パッド６１などによる吸着）
制御部２５は、ウエハ載置台４ａの２つの真空吸着パッド６１の吸着動作をオンにし、かつ吸着補助部材１１の２つの吸着パッド８１、及びアーム８の２つの吸着パッド４１の吸着動作をオンにする。すなわち、真空吸着パッド７１の吸着動作がオンされてウエハＷを吸着して保持している裏面アーム１０からウエハ載置台４ａへのウエハＷの受け渡しを行う場合、制御部２５は、吸着補助部材１１の２つの吸着パッド８１の上面が矯正位置にあるときに、ウエハ載置台４ａの複数の真空吸着パッド６１、吸着補助部材１１の２つの吸着パッド８１及びアーム８の２つの吸着パッド４１の各吸着動作をオンにして、ウエハ載置台４ａにウエハＷを吸着させる。
（Ｓ８−２：真空吸着パッド６１による吸着の確認）
制御部２５は、真空センサ２６ａの出力に基づいて、真空吸着パッド６１により、ウエハＷがウエハ載置台４ａに吸着されたか否かを確認する。真空吸着状態が確認できなければ、制御部２５は、各真空吸着パッド６１の吸着動作、各吸着パッド８１と各吸着パッド４１の吸着動作をオフし、再度Ｓ８−１を実行する。
【００９０】
真空吸着状態の確認後、制御部２５は、裏面アーム１０の複数の真空吸着パッド７１の吸着動作をオフし、さらに、２つの吸着パッド８１と２つの吸着パッド４１の吸着動作をオフする。すなわち、ウエハ載置台４ａへのウエハＷの吸着が確認された後に、裏面アーム１０の複数の真空吸着パッド７１、吸着補助部材１１の２つの吸着パッド８１及びアーム８の２つの吸着パッド４１による吸着動作をオフにして、ウエハＷの裏面アーム１０からウエハ載置台４ａへの受け渡しが行われる。
（Ｓ８−３：裏面アーム１０、アーム８及び吸着補助部材１１の下方への移動）
Ｓ８−２の後、制御部２５は、裏面アーム１０、アーム８及び吸着補助部材１１を、それぞれの待避位置まで、下方へ移動させる。  
Ｓ８の後、ウエハ載置台４ａを軸Ｊ１回りに所定角度だけ回動させる（Ｓ９）。
【００９１】
裏面検査が行われているとき、裏面アーム１０の４つの延出部１０ｂにより、ウエハＷの裏面の一部が覆われて、検査者に見えない部分が存在する。よって、その見えなかった部分が、延出部１０ｂに覆われないように、ウエハＷを回動して、再度Ｓ１から上述した処理を行う。すなわち、検査者がウエハＷの裏面を完全にマクロ検査できるようにするために、Ｓ９の処理が実行され、Ｓ９の処理の後、Ｓ１の処理に戻り、Ｓ１からＳ８までの処理が実行されることによって、前の裏面検査では見えなかった部分も検査者に見えるようになって、検車者はウエハＷの裏面を完全にマクロ検査できる。
【００９２】
２回目のＳ８の処理が実行されて、裏面検査が終了すると、制御部２５は、アーム８により、ウエハ載置台４ａ上のウエハＷをミクロ検査部５へ搬送する。なお、裏面検査が終了して、マクロ検査部５へウエハＷを搬送するとき、ウエハＷをウエハ載置台４ａ上に載置しないで、裏面アーム１０から搬送用のアーム８へ、ウエハＷを直接渡すようにしてもよい。
【００９３】
以上のように、上述した基板検査装置によれば、基板をしっかりと保持しながら基板の受け渡しができる基板検査装置及び基板受け渡し方法を実現することができる。
【００９４】
なお、上述した（２−１）と（２−２）において、裏面アーム１０は、各真空吸着パッド７１の上面が、Ｚ方向においてウエハ載置台４ａの各真空吸着パッド６１の上面と同じ（又は略同じ）位置になった後に、真空吸着パッド７１の真空吸着動作をオンにしているが、裏面アーム１０の移動中に、真空吸着パッド７１の真空吸着動作をオンにしてもよい。
【００９５】
すなわち、制御部２５は、矯正補助部材１１の２つの吸着パッド８１の上面を、矯正補助位置ＣＰに移動した後に、２つの吸着パッド８１による吸着動作をオンにするのではなく、２つの吸着パッド８１の上面が移動して矯正補助位置ＣＰに達する前に、すなわち２つの吸着パッド８１の上面が矯正補助位置ＣＰへ移動しているときに、２つの吸着パッド８１の吸着動作をオンにしてもよい。
【００９６】
例えば、裏面アーム１０を上方へ移動させているとき、制御部２５は、各真空吸着パッド７１の上面が各真空吸着パッド６１の上面よりも、所定量ｄｄ３だけ低い位置（例えば真空吸着パッド６１の上面より１ｍｍだけ低い位置）に達したときに、裏面アーム１０の移動速度を、それまでの速度よりも低い速度で上方への移動を継続する。  
制御部２５は、裏面アーム１０の移動速度が低速になったときに、裏面アーム１０の真空吸着パッド７１の吸着動作をオンにし、真空センサ２６ｂの出力を監視する。
【００９７】
このようにして裏面アーム１０の移動を行い、各真空吸着パッド７１の上面が、各真空吸着パッド６１の上面の高さ位置を通過するときに、制御部２５は、真空センサ２６ｂの出力により真空が検知されると、真空吸着パッド６１、吸着パッド４１及び吸着パッド８１の吸着動作をオフにする。
【００９８】
なお、各真空吸着パッド７１の上面が、各真空吸着パッド６１の上面の高さ位置を通過するときに、真空センサ２６ｂの出力により真空が検知されなかったときは、制御部２５は、裏面アーム１０の移動を停止し、真空センサ２６ｂの出力が真空を検知するまで裏面アーム１０を微小量だけZ方向に沿って上下させる。これによっても、真空が検知されないときは、制御部２５は、Ｓ１−１から再度実行する。  
真空が検知されて、裏面アーム１０にのみウエハＷが吸着された状態になると、制御部２５は、Ｓ３では、元の速度（低速にする前の速度）で、裏面アーム１０を上方へ移動する。
【００９９】
同様に、（８−１）と（８−２）においても、Ｓ７により裏面アーム１０が下方に移動して、各真空吸着パッド７１の上面が、Ｚ方向においてウエハ載置台４ａの各真空吸着パッド６１の上面と同じ（又は略同じ）位置になった後に、ウエハ載置台４ａの真空吸着動作と、アーム８及び吸着補助部材１１の吸着動作をオンにしているが、裏面アーム１０の下方への移動中に、ウエハ載置台４ａの真空吸着動作と、アーム８及び吸着補助部材１１の吸着動作をオンにしてもよい。
【０１００】
例えば、裏面アーム１０を下方へ移動させているとき、制御部２５は、各真空吸着パッド７１の上面が各真空吸着パッド６１の上面よりも、所定量ｄｄ４だけ高い位置（例えば真空吸着パッド６１の上面より１ｍｍだけ高い位置）に達したときに、裏面アーム１０の移動速度を、それまでの速度よりも低い速度で下方への移動を継続する。
【０１０１】
制御部２５は、裏面アーム１０の移動速度が低速になったときに、ウエハ載置台４ａの真空吸着動作と、アーム８及び吸着補助部材１１の吸着動作をオンにし、真空センサ２６ａの出力を監視する。
【０１０２】
このようにして裏面アーム１０の移動を行い、各真空吸着パッド７１の上面が、各真空吸着パッド６１の上面の高さ位置を通過するときに、制御部２５は、真空センサ２６ａの出力により真空が検知されると、裏面アーム１０の真空吸着動作をオフにして、Ｓ８−３の処理へ移行する。なお、各真空吸着パッド７１の上面が、各真空吸着パッド６１の上面の高さ位置を通過するときに、真空センサ２６ａの出力により真空が検知されなかったときは、制御部２５は、裏面アーム１０の移動を停止し、真空センサ２６ａの出力が真空を検知するまで裏面アーム１０を微小量だけZ方向に沿って上下させる。これによっても、真空が検知されないときは、制御部２５は、裏面アーム１０を一旦上昇させた後、Ｓ７から再度実行する。
【０１０３】
真空が検知されて、ウエハ載置台４ａにのみウエハＷが吸着された状態になると、制御部２５は、Ｓ８−３では、元の速度（低速にする前の速度）で、裏面アーム１０を待避位置まで移動する。  
以上のように、吸着動作のタイミングを変更してもよい。  
さらになお、上述した例では、吸着補助部材１１は、６角形であるが、他の形状を有していてもよい。
【０１０４】
図１５は、吸着補助部材１１の変形例を示す図である。図１５に示すように、吸着補助部材１１Ａは、６角形ではなく、矩形の基部１１Ａａから、３方向に延出するアーム１１Ａｂを有する。１つの吸着パッド８１は、基部１１Ａａ上に設けられている。１つのアーム１１Ａｂ上に１つの吸着パッド８１が設けられるように、３つの吸着パッド８１は、３つのアーム１１Ａｂ上に設けられている。
【０１０５】
図１５に示すように、吸着補助部材１１Ａの４つの吸着パッド８１は、円形のウエハ載置台４ａの周囲に配置され、かつ各吸着パッド８１が隣合う２つの真空吸着パッド７１に対して略等距離で位置するように、吸着補助部材１１Ａは、ウエハ載置台４ａに対して配置される。さらに、４つの吸着パッド８１が円形のウエハ載置台４ａの中心から等距離で、かつ互いに等間隔になるように、吸着補助部材１１Ａは、ウエハ載置台４ａに対して配置される。
【０１０６】
図１５の場合、吸着パッド８１が４つあるため、アーム８を利用しないで、吸着補助部材１１Ａだけで、ウエハＷの矯正を行うことができる。しかし、上述したように、アーム８も一緒に利用して、吸着補助部材１１Ａとアーム８により、ウエハＷの矯正を行うようにしてもよい。
【０１０７】
また、上述した実施の形態及び図１５の例では、吸着補助部材１１，１１Ａは、ウエハ載置台４ａに対して取り付けられているが、吸着補助部材を、裏面アーム１０のように、ウエハ載置台４ａから独立した可動部材上に設けるようにしてもよい。
【０１０８】
以上説明したように、上述した基板検査システムによれば、基板をしっかりと保持しながら基板の受け渡しができる基板検査装置及び基板受け渡し方法を提供することができる。
【０１０９】
本発明は、上述した実施の形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を変えない範囲において、種々の変更、改変等が可能である。
【符号の説明】
【０１１０】
１  ウエハ検査装置、２  ウエハ搬送装置、３  ウエハカセット、４  マクロ検査部、４ａ  ウエハ載置台、５  ミクロ検査部、５ａ  顕微鏡、５ｂ  ＸＹステージ５ｂ、５ｃ  ウエハ載置台、６  操作部、６ａ  入力装置、６ｂ  表示装置、７  アーム駆動部、８（８ａ，８ｂ）  アーム、８ｓ  アームの上面、９  アーム支持部、１０  裏面アーム、１０ａ  円弧部、１０ｂ  延出部、１０ｃ  突出部、１１  吸着補助部材、１１Ａ  吸着補助部材、１１Ａａ  基部、１１Ａｂ  アーム、１１ａ  コネクタ、１１ｂ  固定部材、１１ｃ  軸部材、１１ｃ１  段差部の上面、１１ｄ  ストッパ部、１１ｅ  シリンダ部、２１  送気ポンプ、２２  吸引ポンプ、２３ａ〜２３ｃ、２４ａ〜２４ｄ  管路、２５  制御部、２６ａ、２６ｂ  真空センサ、３１  板部材、３１ａ  アーム先端部、３１ｂ  アーム基端部、３２  板部材、４１  吸着パッド、４１ａ  噴射口、４２  摩擦部材、４２ａ  真空吸着パッド、４２ａ１  摩擦部材、４２ａ２  開口部、４３ａ、４４ａ  流路、４５  、４６  開口部、４７  ネジ孔、５１  吸着パッド、５２  真空吸着パッド、６１  真空吸着パッド、６２  孔、７１  真空吸着パッド、８１  吸着パッド。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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