(57)【要約】【課題】筒型油空圧機器を構成する移動体の外周面をタングステンの溶射を用いて処理する表面処理方法であって、要求されるシール性能を発現させることが可能な表面処理方法、及びこの表面処理が施された移動体を備える筒型油空圧機器を提供する。【解決手段】移動体３ａの、少なくともシール部材と摺接する外周面に、溶射法によってタングステンを含む溶射皮膜面Ｄを形成する皮膜形成工程と、研磨工具Ｔを移動体３ａの溶射皮膜面Ｄに当接させるとともに、移動体３ａの中心軸方向に沿って予め定めた距離だけ往復動させる振動動作Ｃと、同じく移動体３ａの中心軸方向に沿って溶射皮膜面Ｄの全域を往復動させるトラバース動作Ｂとの複合動作を研磨工具Ｔに与えて、溶射皮膜面Ｄを研磨する第１研磨工程と、トラバース動作Ｂのみを研磨工具Ｔに与えて、第１研磨工程の終了した溶射皮膜面Ｄを研磨する第２研磨工程とを順次実施する。【選択図】図２
2014018908.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
内部空間を有する筒体と、該筒体の内部空間内に軸方向に移動自在に嵌挿される筒状又は棒状の移動体と、前記筒体の内周面と前記移動体の外周面との間に配設され、前記移動体の外周面と摺接して、前記筒体の内部空間内に充填された流体の漏洩を防止するシール部材とを備えた筒型油空圧機器における、前記移動体の外周面を表面処理する方法であって、
前記移動体の、少なくとも前記シール部材と摺接する外周面に、溶射法によってタングステンを含む溶射皮膜を形成する皮膜形成工程と、
前記移動体を軸中心に回転させた状態で、砥粒としてダイヤモンド粒子及び立方晶窒化ホウ素粒子のうち少なくとも一方を備えた研磨工具の研磨作用面を前記移動体の溶射皮膜面に当接させるとともに、前記移動体の中心軸方向に沿って予め定めた距離だけ往復動させる振動動作と、同じく前記移動体の中心軸方向に沿って前記溶射皮膜の全域を往復動させるトラバース動作との複合動作を前記研磨工具に与えて、前記溶射皮膜面を研磨する第１研磨工程と、
前記移動体を軸中心に回転させた状態で前記研磨工具の研磨作用面を前記移動体の溶射皮膜面に当接させるとともに、前記トラバース動作のみを前記研磨工具に与えて、前記第１研磨工程の終了した前記溶射皮膜面を研磨する第２研磨工程とを順次実施するようにしたことを特徴とする移動体の表面処理方法。
【請求項２】
前記第２研磨工程において、前記移動体を、その外周面の周速度が１１ｍ／ｍｉｎ以上となるように回転させることを特徴とする請求項１記載の移動体の表面処理方法。
【請求項３】
内部空間を有する筒体と、
前記筒体の内部空間内に、該筒体の軸方向に移動自在に嵌挿された筒状又は棒状の移動体と、
前記筒体の内周面と前記移動体の外周面との間に配設され、前記移動体の外周面と摺接して、前記筒体の内部空間内に充填された流体の漏洩を防止するシール部材とを備え、
前記移動体は、
少なくとも前記シール部材と摺接する外周面に、溶射法によってタングステンを含む溶射皮膜を形成する皮膜形成工程と、
前記移動体を軸中心に回転させた状態で、砥粒としてダイヤモンド粒子及び立方晶窒化ホウ素粒子のうち少なくとも一方を備えた研磨工具の研磨作用面を前記移動体の溶射皮膜面に当接させるとともに、前記移動体の中心軸方向に沿って予め定めた距離だけ往復動させる振動動作と、同じく前記移動体の中心軸方向に沿って前記溶射皮膜の全域を往復動させるトラバース動作との複合動作を前記研磨工具に与えて、前記溶射皮膜面を研磨する第１研磨工程と、
前記移動体を軸中心に回転させた状態で前記研磨工具の研磨作用面を前記移動体の溶射皮膜面に当接させるとともに、前記トラバース動作のみを前記研磨工具に与えて、前記第１研磨工程の終了した溶射皮膜面を研磨する第２研磨工程とを順次実施することにより、その外周面が表面処理されていることを特徴とする筒型油空圧機器。
【請求項４】
前記移動体は、前記第２研磨工程における前記移動体外周面の周速度が１１ｍ／ｍｉｎ以上となるように回転され、その外周面が表面処理されていることを特徴とする請求項３記載の筒型油空圧機器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、筒型油空圧機器における移動体の表面処理方法、及びこの表面処理が施された移動体を備える筒型油空圧機器に関する。
【背景技術】
【０００２】
筒型油空圧機器として、従来から、内部空間を有する筒体と、この筒体の内部空間に嵌挿された移動体と、筒体と移動体との間に配設されたシール部材とを備えたものが知られており、このような筒型油空圧機器に係る一具体的な装置として、例えば、航空機用の脚装置を挙げることができる。この脚装置の一例を、図９及び図１０に示す。尚、図９は、前記脚装置の主要な構成部分を示した正断面図であり、図１０は、図９のＥ部を拡大して示す拡大図である。
【０００３】
図９及び図１０に示すように、前記脚装置１は、内部空間を有する外筒２と、この外筒２の内部空間内に、軸方向に移動自在に嵌挿された内筒３と、この内筒３に固定され、当該内筒３とともに外筒２の内部空間内を移動する上側カム筒４と、外筒２の内周面に嵌合された下側カム筒５と、前記外筒２の内部空間内に充填された流体の漏洩を防止するためのシール部材６ａ，６ｂと、外筒２の内周面と内筒３の外周面との間に配設されて、前記シール部材６ａ，６ｂを保持する下側ベアリング７とを備えており、外筒２の上端部が航空機の機体に接続され、内筒３の下端部に車輪８が取り付けられる。また、前記内筒３は、内筒本体３ａと、外筒２の内周面に直接接触する上側ベアリング３ｂから構成されている。尚、前記２つのシール部材６ａ，６ｂのうち一方のシール部材６ａは前記内筒本体３ａとの間に介装され、他方のシール部材６ｂは前記外筒２との間に介装されている。
【０００４】
この脚装置１では、内筒３及び上側カム筒４が外筒２の内部空間内を上方向に移動することで収縮し、内筒３及び上側カム筒４が外筒２の内部空間内を下方向に移動することで伸長するように構成されている。即ち、航空機が地上を走行している間は収縮し、航空機が離陸する際は伸長する。
【０００５】
ところで、前記内筒本体３ａは、前記上下方向への移動の際に、その外周面が前記シール部材６ａに対して摺接するため、そのシール上の問題から、当該外周面は、耐摩耗性を有すること、及びその表面粗さが高精度であることが求められている。このため、従来では、一般的に、前記内筒本体３ａの外周面をクロムめっき処理し、その後、めっき部を鏡面仕上げするといった方法が採られていた。
【０００６】
しかしながら、近時、クロムめっきについては、環境上の問題が指摘されるところとなり、そこで、特許第４３０７１９６号に開示されるように、処理対象面に、所謂溶射法によってタングステンを含む溶射皮膜を形成し、形成した溶射皮膜を鏡面仕上げするといった表面処理法が検討されている。
【０００７】
尚、タングステンを含む溶射皮膜としては、タングステンカーバイド（ＷＣ）や、タングステンカーバイドとクロムカーバイドとを混合したものが例示される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特許４３０７１９６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
以上のような背景から、本発明者等は、上記溶射皮膜による表面処理法を、前記内筒本体３ａの外周面の表面処理に適用すべく、鋭意、検討を行なった。そして、まず、シール上の要請から、硬度が高い溶射皮膜表面の表面粗さを高精度に仕上げるべく、砥粒としてダイヤモンド粒子及び立方晶窒化ホウ素粒子のうち少なくとも一方を備えた砥石を用い、この砥石を、前記内筒本体３ａを軸中心に回転させた状態で、その外周面に形成した溶射皮膜面に当接させるとともに、前記内筒本体３ａの中心軸方向に沿って所定距離だけ往復動させる振動動作と、同じく中心軸方向に沿って溶射皮膜の全域を往復動させるトラバース動作との複合動作を前記砥石に与えて、前記溶射皮膜を研磨した。
【００１０】
このようにして、振動動作とトラバース動作との複合動作を砥石に与えることで、砥石の溶射皮膜表面に対する研磨作用を高めることができ、また、砥石の送り目が溶射皮膜面に転写されるのを防止することができることから、その表面粗さを、シール性能上要請される以上の高精度に仕上げることができる。
【００１１】
ところが、このようにして、溶射皮膜の表面粗さを、シール性能上要請される以上の高精度に仕上げても、前記内筒本体３ａの伸縮を繰り返すと、外筒２の内部空間内に充填された流体が、内筒本体３ａとシール部材６ａとの摺接部から漏洩するという問題を生じたのである。
【００１２】
そこで、本発明者等はその原因を探求すべく更に検討を重ねた結果、前記内筒本体３ａの伸縮を繰り返すことによって、シール部材の削り屑が当該内筒本体３ａの外周面に付着し、付着した削り屑によりシール性が低下して、流体の漏洩が起こるとの知見を得るに至り、更に、シール部材の削り屑の付着は、研磨加工によって溶射皮膜上に形成された所謂クロスハッチパターン（砥粒によって形成される研磨加工痕）に原因しているとの知見を得るに至った。
【００１３】
本発明は、以上の実情に鑑みなされたものであり、その目的は、筒型油空圧機器を構成する移動体の外周面をタングステンの溶射を用いて処理する表面処理方法であって、要求されるシール性能を発現させることが可能な表面処理方法、及びこの表面処理が施された移動体を備える筒型油空圧機器の提供にある。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
上記課題を解決するための本発明は、
内部空間を有する筒体と、該筒体の内部空間内に軸方向に移動自在に嵌挿される筒状又は棒状の移動体と、前記筒体の内周面と前記移動体の外周面との間に配設され、前記移動体の外周面と摺接して、前記筒体の内部空間内に充填された流体の漏洩を防止するシール部材とを備えた筒型油空圧機器における、前記移動体の外周面を表面処理する方法に係る。
【００１５】
そして、この表面処理方法は、
前記移動体の、少なくとも前記シール部材と摺接する外周面に、溶射法によってタングステンを含む溶射皮膜を形成する皮膜形成工程と、
前記移動体を軸中心に回転させた状態で、砥粒としてダイヤモンド粒子及び立方晶窒化ホウ素粒子のうち少なくとも一方を備えた研磨工具の研磨作用面を前記移動体の溶射皮膜面に当接させるとともに、前記移動体の中心軸方向に沿って予め定めた距離だけ往復動させる振動動作と、同じく前記移動体の中心軸方向に沿って前記溶射皮膜の全域を往復動させるトラバース動作との複合動作を前記研磨工具に与えて、前記溶射皮膜面を研磨する第１研磨工程と、
前記移動体を軸中心に回転させた状態で前記研磨工具の研磨作用面を前記移動体の溶射皮膜面に当接させるとともに、前記トラバース動作のみを前記研磨工具に与えて、前記第１研磨工程の終了した前記溶射皮膜面を研磨する第２研磨工程とを含み、
前記皮膜形成工程と、第１研磨工程と、第２研磨工程とが順次実施される。
【００１６】
この表面処理方法では、上記のように、まず、前記皮膜形成工程において、前記移動体の、少なくともシール部材と摺接する外周面に、溶射法によってタングステンを含む溶射皮膜を形成する。形成する溶射皮膜の膜厚は、必要に応じて適宜設定されるが、一般的には、０．０７６〜０．３ｍｍである。
【００１７】
ついで、前記第１研磨工程において、前記移動体を軸中心に回転させた状態で、前記研磨工具の研磨作用面を移動体の溶射皮膜面に当接させるとともに、前記振動動作とトラバース動作との複合動作を前記研磨工具に与えて、溶射皮膜面を研磨する。このようにして、振動動作とトラバース動作との複合動作を研磨工具に与えることで、当該研磨工具の溶射皮膜表面に対する研磨作用を高めることができ、また、研磨工具の送り目が溶射皮膜面に転写されるのを防止することができる、即ち、溶射皮膜面に、トラバース動作に伴う研磨加工痕が生じるのを防止することができることから、その表面粗さをシール性能上要請される以上の高精度に仕上げることができる。
【００１８】
尚、前記振動動作における移動距離は、前記トラバース動作における移動距離よりもごく短い、微小な距離である。
【００１９】
次に、前記第１研磨工程によって、その表面粗さを高精度に仕上げた後の移動体の溶射皮膜面に対して、前記第２研磨工程を実施する。この第２研磨工程では、上述のように、砥石に対してトラバース動作のみを与える。
【００２０】
前記第１研磨工程では、研磨工具に対して振動動作を付与していることから、その研磨作用が高く、この結果、得られる表面粗さは高精度となるが、その反面、得られる被研磨面には、振動動作に伴ったクロスハッチパターン（砥粒によって形成される研磨加工痕）が形成される。このクロスハッチパターンは、上述した通り、移動体の軸方向への移動によって、シール部材の削り屑が当該移動体の外周面に付着し、付着した削り屑によってシール性が低下する原因となるものである。
【００２１】
そこで、前記第１研磨工程によって、その表面粗さが高精度に仕上げられた後の移動体の溶射皮膜面を、第２研磨工程において、振動動作を伴わない、トラバース動作のみによって研磨加工することで、表面粗さを高精度に保ったまま、前記第１研磨工程で形成されたクロスハッチパターンを消し去ることができる。
【００２２】
斯くして、前記第１研磨工程後に第２研磨工程を実施することで、移動体の溶射皮膜面を、その表面粗さを高精度に、しかも、クロスハッチパターンの無い研磨面に仕上げることができる。したがって、従来問題となった、クロスハッチパターンに起因する流体の漏洩が生じることは無い。
【００２３】
また、本発明は、内部空間を有する筒体と、
前記筒体の内部空間内に、該筒体の軸方向に移動自在に嵌挿された筒状又は棒状の移動体と、
前記筒体の内周面と前記移動体の外周面との間に配設され、前記移動体の外周面と摺接して、前記筒体の内部空間内に充填された流体の漏洩を防止するシール部材とを備えた筒型油空圧機器であって、
前記移動体は、前記表面処理方法によって、その少なくとも前記シール部材と摺接する外周面が処理された筒型油空圧機器に係る。
【００２４】
この筒型油空圧機器によれば、移動体の、少なくとも前記シール部材と摺接する外周面に形成した溶射皮膜面を、その表面粗さを高精度に、しかも、クロスハッチパターンの無い研磨面に仕上げることができる。したがって、従来問題となった、クロスハッチパターンに起因した流体の漏洩が生じることが無い。
【００２５】
尚、前記第２研磨工程においては、前記移動体を、その外周面の周速度が１１ｍ／ｍｉｎ以上となるように回転させることが好ましい。このようにすれば、溶射皮膜面の表面粗さをより高精度に仕上げることができ、シール部材の削り屑が当該移動体の外周面に付着するのをより効果的に防止することができる。
【発明の効果】
【００２６】
以上詳述したように、本発明によれば、振動動作及びトラバース動作の複合動作を砥石に付与した第１研磨工程を実施した後、トラバース動作のみを砥石に付与した第２研磨工程を実施するようにしているので、移動体の溶射皮膜面を、その表面粗さを高精度に仕上げることができるとともに、クロスハッチパターンの無い研磨面とすることができる。したがって、従来問題となった、クロスハッチパターンに起因した流体の漏洩が生じることは無い。
【図面の簡単な説明】
【００２７】
【図１】本発明の一実地形態に係る表面処理方法の手順を説明するための説明図である。
【図２】本発明の一実地形態に係る表面処理方法の手順を説明するための説明図である。
【図３】本発明の一実地形態に係る表面処理方法の手順を説明するための説明図である。
【図４】実施例１，２及び比較例１，２に係る内筒本体の表面粗さを測定した結果を示す表である。
【図５】実施例１に係る内筒本体の外周面（溶射皮膜表面）を写した写真である。
【図６】実施例２に係る内筒本体の外周面（溶射皮膜表面）を写した写真である。
【図７】比較例１に係る内筒本体の外周面（溶射皮膜表面）を写した写真である。
【図８】比較例２に係る内筒本体の外周面（溶射皮膜表面）を写した写真である。
【図９】従来の航空機用脚装置の主要な構成部分を示した正断面図である。
【図１０】図９におけるＥ部を拡大した拡大図である。
【発明を実施するための形態】
【００２８】
以下、本発明の具体的な実施形態につき図面に基づいて説明する。
【００２９】
本実施形態に係る筒型油空圧機器は、上述した図９及び図１０に示す航空機用の脚装置１であり、その内筒本体３ａの外周面に表面処理を施すものとする。尚、脚装置１の具体的な構成は上述した通りであるので、その詳しい説明は省略する。
【００３０】
本実施形態に係る表面処理方法では、内筒本体３ａの外周面に対して、溶射皮膜を形成する皮膜形成工程と、形成された溶射皮膜を研磨する第１研磨工程及び第２研磨工程からなる研磨工程を実施する。以下、各工程について説明する。
【００３１】
Ａ．皮膜形成工程
皮膜形成工程では、前記内筒本体３ａを軸中心に回転させた状態で、この内筒本体３ａの外周面に、タングステンカーバイドの粉末を用いた高速フレーム溶射法によって溶射皮膜を形成させる。高速フレーム溶射法は、プロピレン、水素等と酸素を混合した高圧のガスを燃料として、粉末材料を溶射する方法であって、点火ガスが粉末材料を包み込むようにフレームを形成するため、粉末が均一に熱せられた状態で加速され、対象物の表面上に高品質な皮膜が形成される。尚、溶射法としては、この高速フレーム溶射法に限られるものではなく、他の溶射法によって溶射皮膜を形成させるようにしても良い。また、この皮膜形成工程で形成される溶射皮膜の厚さは、およそ０．０７６〜０．３ｍｍである。
【００３２】
Ｂ．研磨工程
次に、内筒本体３ａの外周面に形成された溶射皮膜面に、図１に示した研磨装置１０を用いて研磨加工を施す。
【００３３】
［研磨装置］
図１に示した研磨装置１０は、所謂円筒研削盤と呼ばれる装置と基本構成を同じくするものであり、加工対象物たる内筒本体３ａを保持するチャック１２が装着された主軸１１と、前記チャック１２と対向して設けられた芯押し台１３と、研磨工具Ｔを支持する砥石台１４とを備える。
【００３４】
前記主軸１１は、主軸台（図示せず）によって回転自在に支持されており、芯押し台１３は、前記チャック１２に対して進退する方向に移動可能となっている。
【００３５】
前記砥石台１４は、適宜送り装置（図示せず）により駆動されて、前記主軸１１の軸線方向、及びこの軸線と直交する方向に移動可能となっており、更に、前記主軸１１の軸線方向に沿って所定のストロークで往復動するトラバース動作（図２及び図３に示した矢示Ｂ方向の動作）が付与されるようになっている。尚、トラバース動作のストロークは、研磨対象物の研磨範囲に応じて設定可能であり、必要とされる研磨範囲をトレースできるストロークに設定される。
【００３６】
前記砥石台１４に保持される研磨工具Ｔは、適宜振動付与装置（図示せず）によって、前記主軸１１の軸線方向に沿った所定の微小距離（例えば、１〜５ｍｍの範囲内で設定される距離）だけ往復動する振動動作（図１及び図２に示した矢示Ｃ方向の動作）が付与されるようになっている。
【００３７】
また、前記研磨工具Ｔは、略直方体形状をした砥石であり、その研磨作用面Ｔａに砥粒としてのダイヤモンド粒子が固着されたダイヤモンド砥石である。尚、砥粒としては、ダイヤモンド粒子に限られるものではなく、立方晶窒化ホウ素の粒子であっても良い。また、研磨工具Ｔは、上記砥石の形態ではなく、これに代えて、表面に前記砥粒が均一に塗布、固着されたフィルム状の形態のものでも良い。この場合、フィルムをロール状に形成して、順次フィルムを繰り出しながら、研磨対象物に砥粒固着面を当接させる。
【００３８】
以上の構成を備えた研磨装置１０を用い、内筒本体３ａの外周面に形成された溶射皮膜面に対して、以下の第１研磨工程及び第２研磨工程を実施する。
【００３９】
［第１研磨工程］
第１研磨工程では、まず、前記チャック１２及び芯押し台１３によって、内筒本体３ａを、その軸線が主軸１１の軸線と同軸となるように保持した後、主軸１１をその軸線回りに回転させる。主軸１１の回転速度は、適宜設定し得るが、前記内筒本体３ａの外周面の周速度が、１１ｍ／ｍｉｎ以上なるような回転速度に設定するのが好ましい。
【００４０】
次に、図１に示すように、砥石台１４を内筒本体３ａに向けて矢示Ａ方向に移動させて、研磨工具Ｔの研磨作用面Ｔａを前記内筒本体３ａの溶射皮膜面（図１において、一点鎖線のハッチングで示す領域）に当接させた後、研磨工具Ｔに前記振動動作を与えて、内筒本体３ａの中心軸方向と平行な方向に当該研磨工具Ｔを振動させる。
【００４１】
ついで、図２に示すように、砥石台１４を矢示Ｂ方向に往復動させて、前記研磨工具Ｔにトラバース動作を付与する。これにより、研磨工具Ｔは、前記振動動作とトラバース動作とが複合された複合動作が付与され、この複合動作によって、内筒本体３ａの溶射皮膜面Ｄを研磨する。
【００４２】
このようにして、振動動作とトラバース動作との複合動作を研磨工具Ｔに与えることで、当該研磨工具Ｔの溶射皮膜表面Ｄに対する研磨作用を高めることができ、また、研磨工具Ｔの送り目が溶射皮膜面Ｄに転写されるのを防止することができる、即ち、溶射皮膜面Ｄに、トラバース動作に伴う研磨加工痕が生じるのを防止することができることから、その表面粗さをシール性能上要請される以上の高精度に仕上げることができる。
【００４３】
そして、第１研磨工程では、前記溶射皮膜面Ｄが、所定の表面粗さに仕上げられる回数だけ、前記トラバース動作を実行して、その処理を終了する。尚、前記振動動作の動作サイクルは、１５０〜１０００回／ｍｉｎの範囲で適宜設定され、トラバース動作の動作サイクルも、１〜３回／ｍｉｎの範囲で適宜設定される。
【００４４】
［第２研磨工程］
第２研磨工程では、前記第１研磨工程終了後、図３に示すように、研磨工具Ｔに前記振動動作を与えるのを止め、当該研磨工具Ｔを振動させていない状態で内筒本体３ａの溶射皮膜面Ｄに当接させたまま当該研磨工具Ｔに前記トラバース動作を付与する。
【００４５】
尚、第２研磨工程におけるトラバース動作の動作サイクルは、第１研磨工程と同じでも、異なる動作サイクルでも良く、１〜３回／ｍｉｎの範囲で適宜設定される。
【００４６】
第１研磨工程後の前記溶射皮膜面Ｄには、前記振動動作に起因したクロスハッチパターンが形成されるが、第２研磨工程において、トラバース動作のみを研磨工具Ｔに付与した研磨加工により、第１研磨工程で得られた高精度な表面粗さを保ったまま、当該第１研磨工程で形成されたクロスハッチパターンを消失させることができる。
【００４７】
そして、第２研磨工程では、前記溶射皮膜面Ｄに形成されたクロスハッチパターンが消失される回数だけ、前記トラバース動作を実行して、その処理を終了する。
【００４８】
Ｃ．まとめ
以上のように、本実施形態に係る表面処理方法では、溶射皮膜を形成した内筒本体３ａの当該溶射皮膜面Ｄに対し、振動動作とトラバース動作が複合された複合動作を研磨工具Ｔに付与して研磨する第１研磨工程、及びトラバース動作のみを研磨工具Ｔに付与して研磨する第２研磨工程を順次実施するようにしているので、内筒本体３ａの溶射皮膜面Ｄを、その表面粗さを高精度に、しかも、クロスハッチパターンの無い研磨面に仕上げることができる。
【００４９】
したがって、本実施形態に係る表面処理方法によって処理した前記内筒本体３ａは、これを前記脚装置１の部品として用いても、従来問題となった、クロスハッチパターンに起因する流体の漏洩が生じることは無い。
【００５０】
尚、言うまでも無いことであるが、本実施形態において、上述した第１研磨工程に先立って、粗研磨加工を実施するようにしても何ら問題は無い。
【実施例】
【００５１】
実施例１及び２、並びに比較例１及び２に係る各内筒本体３ａを作成し、その表面粗さ及び研磨加工痕について評価するとともに、作動試験を行って、内部流体の漏洩状況を観察した。その結果を図４〜図８に示す。
【００５２】
尚、実施例１，２及び比較例１，２とも、溶射膜形成工程において、皮膜が０．１ｍｍ程度のタングステンカーバイドの溶射皮膜を形成した。また、作動試験は、得られた内筒本体３ａを脚装置１として組付け、内部に流体を９００ｐｓｉ（初期封入圧）で封入し、内筒本体３ａの伸縮ストローク量を、全伸長の状態から７．５〜８．０インチとして、１００回程度伸縮させた後、全伸長させた状態で一晩保持して、前記流体の漏洩状況を観察した。また、実施例１，２及び比較例１，２における研磨条件は、以下の通りとした。
【００５３】
［実施例１］
内筒本体３ａの外周面の周速度が１８．３ｍ／ｍｉｎとなるように、当該内筒本体３ａを回転させて、前記第１研磨工程及び第２研磨工程を実施した。第１研磨工程では、♯１０００（平均砥粒径が１４〜２２μｍ）のダイヤモンド砥石を用い、その振動動作のストロークを２．５ｍｍとし、その動作サイクルを６００回／ｍｉｎとした。また、トラバース動作の動作サイクルを２回／ｍｉｎとした。第２研磨工程では、♯２０００（平均砥粒径が５〜１０μｍ）のダイヤモンド砥石を用い、トラバース動作の動作サイクルを２回／ｍｉｎとした。
【００５４】
［実施例２］
内筒本体３ａの外周面の周速度が３０．４ｍ／ｍｉｎとなるように、当該内筒本体３ａを回転させて、前記第１研磨工程及び第２研磨工程を実施した。第１研磨工程では、♯１０００（平均砥粒径が１４〜２２μｍ）のダイヤモンド砥石を用い、その振動動作のストロークを２．５ｍｍとし、その動作サイクルを６００回／ｍｉｎとした。また、トラバース動作の動作サイクルを２回／ｍｉｎとした。第２研磨工程では、♯２０００（平均砥粒径が５〜１０μｍ）のダイヤモンド砥石を用い、トラバース動作の動作サイクルを２回／ｍｉｎとした。
【００５５】
［比較例１］
内筒本体３ａの外周面の周速度が１８．３ｍ／ｍｉｎとなるように、当該内筒本体３ａを回転させて、前記第１研磨工程のみを実施した。第１研磨工程では、♯１０００（平均砥粒径が１４〜２２μｍ）のダイヤモンド砥石を用い、その振動動作のストロークを２．５ｍｍとし、その動作サイクルを６００回／ｍｉｎとした。また、トラバース動作の動作サイクルを２回／ｍｉｎとした。
【００５６】
［比較例２］
内筒本体３ａの外周面の周速度が１８．３ｍ／ｍｉｎとなるように、当該内筒本体３ａを回転させて、前記第１研磨工程を２回実施した。１回目の加工では、♯１０００（平均砥粒径が１４〜２２μｍ）のダイヤモンド砥石を用い、その振動動作のストロークを２．５ｍｍとし、その動作サイクルを６００回／ｍｉｎとし、トラバース動作の動作サイクルを２回／ｍｉｎとした。２回目の加工では、♯２０００（平均砥粒径が５〜１０μｍ）のダイヤモンド砥石を用い、その振動動作のストロークを２．５ｍｍとし、その動作サイクルを６００回／ｍｉｎとし、トラバース動作の動作サイクルを２回／ｍｉｎとした。
【００５７】
［評価］
図４は、実施例１，２及び比較例１，２に係る内筒本体３ａの溶射皮膜面Ｄの表面粗さの測定結果をまとめた表であり、表中のＲａは算術平均粗さ、Ｒｐは粗さ曲線の最大山高さ、Ｒｚは最大高さ粗さを示す（Ｒａ、Ｒｐ、ＲｚのいずれもＪＩＳ  Ｂ  ０６０１に準拠）。また、図５〜図８は、上記作動試験後の内筒本体３ａの外周面を写した写真であり、図５は実施例１、図６は実施例２、図７は比較例１、図８は比較例２における内筒本体３ａの外周面を写した写真である。
【００５８】
まず、図４に示すように、第１研磨工程を１回のみ実施した比較例１では、研磨工程を２回実施した実施例１、実施例２及び比較例２に比べて、Ｒａ，Ｒｐ，Ｒｚのいずれの値についても悪くなっている。このことから、当然のことならが、研磨工程を長く実施した方が、表面粗さを高精度に仕上げられることが分かる。
【００５９】
また、実施例１及び実施例２と比較例２とを対比すると、砥石に振動動作を付与した研磨工程を２度実施した比較例２の方が、Ｒａ，Ｒｐ，Ｒｚのいずれの値についても小さくなっており、このことから、砥石に振動動作を付与した研磨を行なうことで、表面粗さを高精度に仕上げられることが分かる。一方、実施例１及び実施例２と比較例２とでは、比較例１に比して、Ｒａ，Ｒｐ，Ｒｚのいずれの値についても大きな差は無く、砥石に振動動作を付与した研磨工程を２度実施する比較例２に比して、第１研磨工程及び第２研磨工程を実施する実施例１及び実施例２においても、十分に、表面粗さを高精度に仕上げられることが分かる。
【００６０】
また、実施例１と実施例２とを対比すると、実施例２の方が、Ｒａ，Ｒｐ，Ｒｚのいずれの値についても小さくなっており、このことから、内筒本体３ａの回転速度を速くすることで、表面粗さを高精度に仕上げられることが分かる。
【００６１】
以上の結果から、第１研磨工程及び第２研磨工程を実施することで、十分に、表面粗さを高精度に仕上げられることが分かる。
【００６２】
実施例１，２及び比較例１，２に係る内筒本体３ａの溶射皮膜表面を観察すると、図５に示した実施例１、及び図６に示した実施例２では、いずれの溶射皮膜表面にもクロスハッチパターンは形成されていない。一方、図７に示した比較例１、及び図８に示した比較例２では、いずれの溶射皮膜表面にもクロスハッチパターンが形成されている。したがって、上述した如く、第１研磨工程によって形成されたクロスハッチパターンが、前記第２研磨工程を実施することによって、消失されることが分かる。
【００６３】
そして、図７及び図８から分かるように、比較例１及び２では、いずれの場合も、シール部材６ａの削り屑が島状に多量に付着しており、溶射皮膜表面に形成されたクロスハッチパターンによって、シール部材６ａが大きく削り取られることが分かる。そして、この場合、いずれについても、シール部材６ａによるシール部からの流体の漏洩が確認された。
【００６４】
一方、図５及び図６から分かるように、実施例１では、シール部材６ａの削り屑が島状に少量に付着しているが、実施例２では、シール部材６ａの削り屑は全く付着しておらず、溶射皮膜表面にクロスハッチパターンが形成されていない場合には、シール部材６ａが削り取られ難いことが分かる。そして、実施例１及び２については、いずれも、充填した流体の前記シール部からの漏洩は確認されなかった。
【００６５】
以上の結果から、溶射皮膜を形成した内筒本体３ａの当該溶射皮膜面Ｄに対し、振動動作とトラバース動作が複合された複合動作を研磨工具Ｔに付与して研磨する第１研磨工程、及びトラバース動作のみを研磨工具Ｔに付与して研磨する第２研磨工程を順次実施することで、上述のように、内筒本体３ａの溶射皮膜面Ｄを、その表面粗さを高精度に、しかも、クロスハッチパターンの無い研磨面に仕上げることができ、このように表面処理した内筒本体３ａは、これを脚装置１の部品として用いても、従来問題となった流体の漏洩を生じることが無いことが分かる。
【符号の説明】
【００６６】
１    航空機用脚装置
２    外筒
３    内筒
３ａ  内筒本体
３ｂ  上側ベアリング
６ａ，６ｂ    シール部材
７    下側ベアリング
１０  研磨装置
１１  主軸
１２  チャック
１３  芯押し台
１４  砥石台
Ｔ    研磨工具
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図９】
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【図１０】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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