(57)【要約】【課題】小型化と生産性の向上との両立を図ることが可能な成膜処理装置を提供する。【解決手段】成膜処理装置は、ロードロックチャンバに隣接して配置される成膜処理チャンバ１４と、成膜手段と、成膜処理チャンバ１４内において基板Ｓを水平方向に搬送するローラコンベアと、二段コンベア２６と、昇降手段２８とを備える。二段コンベア２６は、成膜処理チャンバ１４内において基板Ｓを水平方向に搬送すると共に、ロードロックチャンバとローラコンベアとの間に配置されている。二段コンベア２６は、上下方向に重なるように並べられた下側コンベア３０Ａ及び上側コンベア３０Ｂを有する。昇降手段２８は、上側コンベア３０Ｂの高さがローラコンベアの高さに合わせられた下降位置と、下側コンベア３０Ａの高さがローラコンベアの高さに合わせられた上昇位置とに、二段コンベア２６を昇降させる。【選択図】図２
2014072366.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ロードロックチャンバに隣接して配置される成膜処理チャンバと、
前記成膜処理チャンバ内の成膜対象物の表面に成膜を行わせる成膜手段と、
前記成膜処理チャンバ内において成膜対象物を水平方向に搬送すると共に、前記成膜手段に対向するように配置された第１のコンベアと、
前記成膜処理チャンバ内において成膜対象物を水平方向に搬送すると共に、前記第１のコンベアと前記ロードロックチャンバとの間に配置された第２のコンベアであって、上下方向に重なるように並べられた上側コンベア及び下側コンベアを有する第２のコンベアと、
前記上側コンベアの高さが前記第１のコンベアの高さに合わせられた下降位置と、前記下側コンベアの高さが前記第１のコンベアの高さに合わせられた上昇位置とに、前記第２のコンベアを昇降させる昇降手段とを備える、成膜処理装置。
【請求項２】
前記上側コンベア及び前記下側コンベアはそれぞれ、成膜対象物を搬送するための搬送ローラと、前記搬送ローラが取り付けられた第１のシャフトと、前記第１のシャフトを回転駆動させる駆動手段とを有する、請求項１に記載の成膜処理装置。
【請求項３】
前記駆動手段は、
前記成膜処理チャンバの外部に位置するモータと、
前記成膜処理チャンバの外壁を上下方向に貫通すると共に前記モータに接続され、前記外壁に対して回転可能に取り付けられた円筒体と、
軸方向に延びる凹溝又は突条が少なくとも一つ形成され、前記円筒体内をスライドできるように前記円筒体内に配置された第２のシャフトと、
前記第２のシャフトの上端部に取り付けられた前記第１の歯車とを含み、
前記第１のシャフトの端部には、前記第１の歯車と歯合する第２の歯車が取り付けられており、
前記円筒体は、前記第２のシャフトの前記凹溝又は前記突条と係合しており、前記モータの回転力を前記第２のシャフトに伝達する、請求項２に記載の成膜処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、成膜処理装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
特許文献１は、ロードロックチャンバと、成膜処理チャンバと、反転チャンバと、これらのチャンバ内を移動可能な基板保持具とを備える、インターバック型の基板処理装置を開示している。この基板処理装置においては、基板を保持する基板保持具は、ロードロックチャンバに搬入されると、往路搬送ラインに沿って、ロードロックチャンバ、成膜処理チャンバ、及び反転チャンバの順に移動する。基板保持具が反転チャンバに到達すると、その向きが反転される。その後、基板保持具は、往路搬送ラインとは異なる復路搬送ラインに沿って、反転チャンバ、成膜処理チャンバ、及びロードロックチャンバの順に移動した後、装置外へと搬出される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００２−２０３８８５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
インターバック型の基板処理装置によれば、往路及び復路で基板に成膜を行えるので、一方の側から基板を搬入して他方の側から基板を搬出する必要があるインライン型の基板処理装置と比較して、成膜処理チャンバの長さを短くできるという利点がある。しかしながら、特許文献１に記載の基板処理装置では、基板保持具が往路と復路とで異なる経路を移動しなければならないので、反転チャンバを要し、成膜処理チャンバが大型化してしまう。そのため、コストの増加を招いたり、成膜処理チャンバ内を真空排気するために時間を要して生産性の低下を招いていた。
【０００５】
往路搬送ライン及び復路搬送ラインを共有化して、同じライン上を基板保持具が往復移動するように構成することも考えられる。この場合、反転チャンバが不要となり、成膜処理チャンバの小型化を図ることができるが、基板を一枚処理するたびに成膜処理チャンバを大気開放して、処理済みの基板を取り出す必要がある。そのため、成膜処理チャンバ内の真空排気を繰り返して行わなければならないので、やはり生産性の低下を招いていた。
【０００６】
そこで、本発明の目的は、小型化と生産性の向上との両立を図ることが可能な成膜処理装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の一側面に係る成膜処理装置は、ロードロックチャンバに隣接して配置される成膜処理チャンバと、成膜処理チャンバ内の成膜対象物の表面に成膜を行わせる成膜手段と、成膜処理チャンバ内において成膜対象物を水平方向に搬送すると共に前記成膜手段に対向するように配置された第１のコンベアと、成膜処理チャンバ内において成膜対象物を水平方向に搬送すると共に、第１のコンベアとロードロックチャンバとの間に配置された第２のコンベアであって、上下方向に重なるように並べられた上側コンベア及び下側コンベアを有する第２のコンベアと、上側コンベアの高さが第１のコンベアの高さに合わせられた下降位置と、下側コンベアの高さが第１のコンベアの高さに合わせられた上昇位置とに、第２のコンベアを昇降させる昇降手段とを備える。
【０００８】
本発明の一側面に係る成膜処理装置では、上下方向に重なるように配置された上側コンベア及び下側コンベアを有する第２のコンベアが、昇降手段の動作により、上側コンベアの高さが第１のコンベアの高さに合わせられた下降位置と、下側コンベアの高さが第１のコンベアの高さに合わせられた上昇位置とに、昇降される。従って、例えば、成膜前の成膜対象物が上側コンベアに載置された状態で昇降手段が第２のコンベアを上昇位置に移動させることで、第１のコンベアから下側コンベアへと成膜後の成膜対象物の移動を行える。さらに、昇降手段が第２のコンベアを下降位置に移動させることで、上側コンベアから第１のコンベアへと成膜前の成膜対象物の移動を行える。その結果、第１及び第２のコンベアが水平方向に一列に並んで配置されたコンパクトな成膜処理装置を実現しつつ、成膜処理チャンバの真空状態を保持したまま連続して複数の基板を処理できる。よって、本発明の一側面によれば、成膜処理装置において、小型化と生産性の向上との両立を図ることが可能となる。
【０００９】
上側コンベア及び下側コンベアはそれぞれ、成膜対象物を搬送するための搬送ローラと、搬送ローラが取り付けられた第１のシャフトと、第１のシャフトを回転駆動させる駆動手段とを有してもよい。この場合、上側コンベアと下側コンベアとがそれぞれ独立して駆動される。そのため、上側コンベアに載置された成膜対象物と、下側コンベアに載置された成膜対象物とを、それぞれ異なる方向に搬送することができる。
【００１０】
駆動手段は、成膜処理チャンバの外部に位置するモータと、成膜処理チャンバの外壁を上下方向に貫通すると共にモータに接続され、外壁に対して回転可能に取り付けられた円筒体と、軸方向に延びる凹溝又は突条が少なくとも一つ形成され、円筒体内をスライドできるように円筒体内に配置された第２のシャフトと、第２のシャフトの上端部に取り付けられた第１の歯車とを含み、第１のシャフトの端部には、第１の歯車と歯合する第２の歯車が取り付けられており、円筒体は、第２のシャフトの凹溝又は突条と係合しており、モータの回転力を第２のシャフトに伝達してもよい。この場合、第２のシャフトの凹溝又は突条と円筒体とが係合しているので、上側コンベア及び下側コンベアが昇降手段によって昇降しても、円筒体の回転に伴い第２のシャフトも回転される。そのため、上側コンベア及び下側コンベアの昇降にかかわらず、モータの駆動力を搬送ローラに伝達できる。
【発明の効果】
【００１１】
本発明によれば、小型化と生産性の向上との両立を図ることが可能な成膜処理装置を提供できる。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】図１は、本実施形態に係る成膜処理装置を概略的に示す側面図である。
【図２】図２は、図１のＩＩ−ＩＩ線断面図である。
【図３】図３は、図２の昇降機構を拡大して示す図である。
【図４】図４は、図１のＩＩ−ＩＩ線断面において、２段コンベアが上昇位置に位置している様子を示す図である。
【図５】図５は、成膜処理装置に基板を搬入してから搬出するまでの様子を説明するための図である。
【図６】図６は、成膜処理装置に基板を搬入してから搬出するまでの様子を説明するための図である。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
本発明の実施形態について図面を参照して説明するが、以下の本実施形態は、本発明を説明するための例示であり、本発明を以下の内容に限定する趣旨ではない。説明において、同一要素又は同一機能を有する要素には同一符号を用いることとし、重複する説明は省略する。
【００１４】
［成膜処理装置の構成］
成膜処理装置１０は、図１に示されるように、ロードロックチャンバ１２と、ロードロックチャンバ１２に隣接して配置される成膜処理チャンバ１４と、制御部（図示せず）を備える。ロードロックチャンバ１２は、成膜処理チャンバ１４内の真空状態を保持しつつ、成膜処理チャンバ１４に対して基板Ｓ（例えばガラス基板）の出し入れを行うことを目的とする。ロードロックチャンバ１２は、ローダ・アンローダ（図示せず）と、成膜処理チャンバ１４との間に、ゲートバルブ（真空扉）１６，１８を介して配置されている。ゲートバルブ１６が開放又は閉鎖されることで、ロードロックチャンバ１２とローダ・アンローダとの間の空間が連通又は隔離される。ゲートバルブ１６が開放又は閉鎖されることで、ロードロックチャンバ１２と成膜処理チャンバ１４との間の空間が連通又は隔離される。
【００１５】
ロードロックチャンバ１２の内部には、ローラコンベア２０が設けられている。ローラコンベア２０は、複数の搬送ローラと、各搬送ローラを回転駆動するための動力源とで構成されている。搬送ローラの回転方向に応じて、ローダ・アンローダから成膜処理チャンバへ（図１において左から右へ）、又は成膜処理チャンバからローダ・アンローダへ（図１において右から左）と、搬送ローラ上に載置された基板Ｓが水平方向（Ｘ方向）に沿って搬送される。
【００１６】
成膜処理チャンバ１４は、成膜手段２２と、図示しない真空ポンプと、ローラコンベア２４ａ，２４ｂと、二段コンベア２６と、昇降手段２８とを有する。成膜手段２２は、成膜処理チャンバ１４に位置する基板Ｓの表面に薄膜を成膜するためのものであり、例えばスパッタリング装置や化学蒸着（ＣＶＤ）装置などが用いられる。真空ポンプは、成膜処理チャンバ１４に接続されている。ゲートバルブ１６又はゲートバルブ１８が閉鎖された状態で真空ポンプが動作することで、成膜処理チャンバ１４内の気体が外部に排出され、成膜処理チャンバ１４内が真空状態（例えば０．００１Ｐａ以下）に維持される。
【００１７】
ローラコンベア２４ａ，２４ｂ及び二段コンベア９は、成膜処理チャンバ１４内に配置されており、ゲートバルブ１８に近い側から、二段コンベア２６、ローラコンベア２４ａ、ローラコンベア２４ｂの順で水平方向に一列に並んでいる。具体的には、ローラコンベア２４ａは、二段コンベア２６とローラコンベア２４ｂとの間であって、成膜手段２２と対向する位置に配置されている。二段コンベア２６は、ローラコンベア２４ａとロードロックチャンバ１２（ゲートバルブ１８）との間に配置されている。
【００１８】
ローラコンベア２４ａ，２４ｂは、ローラコンベア２０と同様に、複数の搬送ローラと、各搬送ローラを回転駆動するための動力源とで構成されている。搬送ローラの回転方向に応じて、ゲートバルブ１８から離れる側へ（図１において左から右へ）、又はゲートバルブ１８に向かう側へ（図１において右から左へ）と、搬送ローラ上に載置された基板Ｓが水平方向（Ｘ方向）に沿って搬送される。
【００１９】
二段コンベア２６は、図１〜図３に示されるように、ベース部３２と、上下方向（Ｚ方向）に重なるように並べられた下側コンベア３０Ａ及び上側コンベア３０Ｂとを有する。ベース部３２は、下側コンベア３０Ａ及び上側コンベア３０Ｂを支持するためのものであり、底板３２ａと、底板３２ａの側端部に取り付けられた一対の側板３２ｂと、外方に向けて水平方向（Ｙ方向）に延びるように側板３２ｂに取り付けられた補助板３２ｃとで構成されている。
【００２０】
下側コンベア３０Ａは、下側ローラコンベア部３４Ａと、駆動手段３６Ａとを有する。下側ローラコンベア部３４Ａは、ベアリングＢ１を介して一対の側板３２ｂに回転可能に取り付けられた４つのシャフト３８Ａと、各シャフト３８Ａの両端部にそれぞれ固定された一対の搬送ローラ４０Ａと、各シャフト３８Ａの一端に固定された傘歯車４２Ａとを含む。複数のシャフト３８Ａは、図１に示されるように、水平方向（Ｘ方向）に沿って並んでいる。そのため、本実施形態では、Ｘ方向において搬送ローラ４０Ａが２列並んでおり、これらの搬送ローラ４０Ａ上に載置された基板Ｓが水平方向（Ｘ方向）に搬送される。
【００２１】
駆動手段３６Ａは、図２及び図３に示されるように、成膜処理チャンバ１４の外部に配置されたモータ４４Ａと、鉛直方向（Ｚ方向）に沿って延びるシャフト４６Ａを下端部に有する円筒状のケース４８Ａと、ボールスプライン５０Ａと、スプラインシャフト５２Ａとを含む。モータ４４Ａの軸は、カップリングＣＡを介してシャフト４６Ａに接続されており、モータ４４Ａの回転力がケース４８Ａに伝達される。
【００２２】
ケース４８Ａは、成膜処理チャンバ１４の外壁に形成された貫通孔１４ａに挿通されると共に、鉛直方向（Ｚ方向）に沿って延びている。ケース４８Ａは、複数のベアリングＢ２を介して成膜処理チャンバ１４の外壁に回転可能に取り付けられている。ケース４８Ａと、成膜処理チャンバ１４の外壁の貫通孔１４ａとの間には、シール部材５４Ａが配置されている。シール部材５４Ａにより、ケース４８Ａの回転が阻害されることなく、成膜処理チャンバ１４内の真空状態が維持される。シール部材５４Ａとしては、成膜処理チャンバ１４の内外を隔離できるものであればよく、例えばオイルシール、磁気シール、ウィルソンシールなどを利用できる。
【００２３】
ボールスプライン５０Ａは、円筒状の本体部５６Ａと、本体部内に保持された複数のボール部材５８Ａとを含む。本体部５６Ａは、ケース４８Ａ内に挿嵌され、ケース４８Ａに固定されている。複数のボール部材５８Ａは、本体部の軸方向に沿って並ぶように配列されて一群をなしている。本実施形態においては、一対のボール部材群が、互いに対向するように本体部５６Ａ内に配置されている。ボール部材５８Ａのうち少なくとも一部は、その表面が本体部５６Ａの内面から露出し且つ内側に向けて突出している。
【００２４】
スプラインシャフト５２Ａは、円柱状を呈しており、軸方向に延びる一対の凹溝６０Ａが表面に形成されている。凹溝６０Ａには、本体部５６Ａの内面から内側に向けて突出しているボール部材５８Ａが係合されている。そのため、スプラインシャフト５２Ａは、ボールスプライン５０Ａとの関係において、回転はできないものの、凹溝６０Ａがボール部材５８Ａの表面を滑りながら自身の軸方向（Ｚ方向）に沿って摺動可能である。ただし、ボールスプライン５０Ａはケース４８Ａに固定されているので、ケース４８Ａが回転すると、本体部５６Ａ、ボール部材５８Ａ、凹溝６０Ａの順に回転力が伝達し、スプラインシャフト５２Ａが回転する。すなわち、スプラインシャフト５２Ａは、成膜処理チャンバ１４の外壁との関係において、回転可能となっている。
【００２５】
スプラインシャフト５２Ａの上端部は、ベアリングＢ４を介して補助板３２ｃに回転可能に取り付けられている。スプラインシャフト５２Ａの上端には、傘歯車６２Ａが固定されている。傘歯車６２Ａは、図１〜図３に示されるように、４つのシャフト３８Ａのうち最もローラコンベア２４ａ寄りに位置するシャフト３８Ａの傘歯車４２Ａ（以下、このシャフト及び傘歯車を「シャフト３８Ａ１」「傘歯車４２Ａ１」とそれぞれ称し、他の３つのシャフト及び傘歯車を「シャフト３８Ａ２」「傘歯車４２Ａ２」とそれぞれ称する。）と歯合している。そのため、スプラインシャフト５２Ａが回転すると、その回転力が、傘歯車６２Ａ、傘歯車４２Ａ１及びシャフト３８Ａ１を介して搬送ローラ４０Ａ（以下、この搬送ローラを「搬送ローラ４０Ａ１」と称し、他の３つのシャフト３８Ａ２に固定されている搬送ローラを「搬送ローラ４０Ａ２」と称する。）に伝達される。ただし、このままでは他の３つのシャフト３８Ａ２が回転しない。
【００２６】
そこで、二段コンベア２６は、図１〜図３に示されるように、動力伝達手段６４Ａをさらに備える。動力伝達手段６４Ａは、水平方向（Ｘ方向）に沿って延びると共に回転可能にベース部３２に支持されたシャフト６４Ａ１と、シャフト６４Ａ１に固定された４つの傘歯車６４Ａ２とを含む。各傘歯車６４Ａ２は、各傘歯車４２Ａとそれぞれ歯合している。従って、スプラインシャフト５２Ａが回転すると、その回転力が傘歯車６２Ａ、傘歯車４２Ａ１及び傘歯車４２Ａ１に歯合している傘歯車６４Ａ２の順に伝達され、シャフト６４Ａ１が回転する。シャフト６４Ａ１の回転に伴い他の３つの傘歯車６４Ａ２が回転すると、これら３つの傘歯車６４Ａ２と歯合している傘歯車４２Ａ２及びシャフト３８Ａ２を介して、回転力が搬送ローラ４０Ａ２に伝達される。
【００２７】
上側コンベア３０Ｂも、下側コンベア３０Ａと同様に構成されている。具体的には、上側コンベア３０Ｂは、下側ローラコンベア部３４Ａと重なるように下側ローラコンベア部３４Ａの上方に位置する上側ローラコンベア部３４Ｂと、駆動手段３６Ｂ（図１参照）とを有する。上側ローラコンベア部３４Ｂは、ベアリングＢ３を介して一対の側板３２ｂに回転可能に取り付けられた４つのシャフト３８Ｂと、各シャフト３８Ｂの両端部にそれぞれ固定された一対の搬送ローラ４０Ｂと、各シャフト３８Ｂの一端に固定された傘歯車４２Ｂとを含む。複数のシャフト３８Ｂは、図１に示されるように、複数のシャフト３８Ａの上方において水平方向（Ｘ方向）に沿って並んでいる。そのため、本実施形態では、Ｘ方向において搬送ローラ４０Ｂが２列並んでおり、これらの搬送ローラ４０Ｂ上に載置された基板Ｓが水平方向（Ｘ方向）に搬送される。
【００２８】
駆動手段３６Ｂは、図示していないが、成膜処理チャンバ１４の外部に配置されたモータ４４Ｂと、鉛直方向（Ｚ方向）に沿って延びるシャフト４６Ｂを下端部に有する円筒状のケース４８Ｂと、ボールスプライン５０Ｂと、スプラインシャフト５２Ｂとを含む。モータ４４Ｂの軸は、カップリングＣＢを介してシャフト４６Ｂに接続されており、モータ４４Ｂの回転力がケース４８Ｂに伝達される。
【００２９】
ケース４８Ｂは、成膜処理チャンバ１４の外壁に形成された貫通孔に挿通されると共に、鉛直方向（Ｚ方向）に沿って延びている。ケース４８Ｂは、複数のベアリングを介して成膜処理チャンバ１４の外壁に回転可能に取り付けられている。ケース４８Ｂと、成膜処理チャンバ１４の外壁の貫通孔との間には、シール部材５４Ｂが配置されている。シール部材５４Ｂにより、ケース４８Ｂの回転が阻害されることなく、成膜処理チャンバ１４内の真空状態が維持される。シール部材５４Ｂとしては、成膜処理チャンバ１４の内外を隔離できるものであればよく、例えばオイルシール、磁気シール、ウィルソンシールなどを利用できる。
【００３０】
ボールスプライン５０Ｂは、円筒状の本体部５６Ｂと、本体部内に保持された複数のボール部材５８Ｂとを含む。本体部５６Ｂは、ケース４８Ｂ内に挿嵌され、ケース４８Ｂに固定されている。複数のボール部材５８Ｂは、本体部の軸方向に沿って並ぶように配列されて一群をなしている。本実施形態においては、一対のボール部材群が、互いに対向するように本体部５６Ｂ内に配置されている。ボール部材５８Ｂのうち少なくとも一部は、その表面が本体部５６Ｂの内面から露出し且つ内側に向けて突出している。
【００３１】
スプラインシャフト５２Ｂは、円柱状を呈しており、軸方向に延びる一対の凹溝６０Ｂが表面に形成されている。凹溝６０Ｂには、本体部５６Ｂの内面から内側に向けて突出しているボール部材５８Ｂが係合されている。そのため、スプラインシャフト５２Ｂは、ボールスプライン５０Ｂとの関係において、回転はできないものの、凹溝６０Ｂがボール部材５８Ｂの表面を滑りながら自身の軸方向（Ｚ方向）に沿って摺動可能である。ただし、ボールスプライン５０Ｂはケース４８Ｂに固定されているので、ケース４８Ｂが回転すると、本体部５６Ｂ、ボール部材５８Ｂ、凹溝６０Ｂの順に回転力が伝達し、スプラインシャフト５２Ｂが回転する。すなわち、スプラインシャフト５２Ｂは、成膜処理チャンバ１４の外壁との関係において、回転可能となっている。
【００３２】
スプラインシャフト５２Ｂの上端部は、ベアリングを介して補助板３２ｃに回転可能に取り付けられている。スプラインシャフト５２Ｂの上端には、傘歯車６２Ｂが固定されている。傘歯車６２Ｂは、図１〜図３に示されるように、４つのシャフト３８Ｂのうち最もゲートバルブ１８寄りに位置するシャフト３８Ｂの傘歯車４２Ｂ（以下、このシャフト及び傘歯車を「シャフト３８Ｂ１」「傘歯車４２Ｂ１」とそれぞれ称し、他の３つのシャフト及び傘歯車を「シャフト３８Ｂ２」「傘歯車４２Ｂ２」とそれぞれ称する。）と歯合している。そのため、スプラインシャフト５２Ｂが回転すると、その回転力が、傘歯車６２Ｂ、傘歯車４２Ｂ１及びシャフト３８Ｂ１を介して搬送ローラ４０Ｂ（以下、この搬送ローラを「搬送ローラ４０Ｂ１」と称し、他の３つのシャフト３８Ｂ２に固定されている搬送ローラを「搬送ローラ４０Ｂ２」と称する。）に伝達される。ただし、このままでは他の３つのシャフト３８Ｂ２が回転しない。
【００３３】
そこで、二段コンベア２６は、図１〜図３に示されるように、動力伝達手段６４Ｂをさらに備える。動力伝達手段６４Ｂは、水平方向（Ｘ方向）に沿って延びると共に回転可能にベース部３２に支持されたシャフト６４Ｂ１と、シャフト６４Ｂ１に固定された４つの傘歯車６４Ｂ２とを含む。各傘歯車６４Ｂ２は、各傘歯車４２Ｂとそれぞれ歯合している。従って、スプラインシャフト５２Ｂが回転すると、その回転力が傘歯車６２Ｂ、傘歯車４２Ｂ１及び傘歯車４２Ｂ１に歯合している傘歯車６４Ｂ２の順に伝達され、シャフト６４Ｂ１が回転する。シャフト６４Ｂ１の回転に伴い他の３つの傘歯車６４Ｂ２が回転すると、これら３つの傘歯車６４Ｂ２と歯合している傘歯車４２Ｂ２及びシャフト３８Ｂ２を介して、回転力が搬送ローラ４０Ｂ２に伝達される。
【００３４】
昇降手段２８は、図２に示されるように、エアシリンダ６６と、シャフト６８と、真空ベローズ７０と、一対のガイド棒７２ａ及びガイド板７２ｂで構成されたガイド部材７２とを有する。エアシリンダ６６は、一方向（本実施形態ではＺ方向）に伸縮可能なロッド６６ａを含んでいる。
【００３５】
シャフト６８は、成膜処理チャンバ１４の外壁に形成された貫通孔１４ｂに挿通されると共に、鉛直方向（Ｚ方向）に沿って延びている。シャフト６８の下端は、ガイド板７２ｂを介してロッド６６ａに固定されており、シャフト６８の上端は、ベース部３２の底板３２ａに固定されている。そのため、エアシリンダ６６がロッド６６ａを伸縮動作させると、シャフト６８を介して二段コンベア２６（ベース部３２及びローラコンベア部３４Ａ，３４Ｂ）が上下動する。その結果、ベース部３２及びローラコンベア部３４Ａ，３４Ｂは、図１〜図３に示される下降位置と、図４に示される上昇位置との間を、上下に移動する。具体的には、ローラコンベア部３４Ａ，３４Ｂが下降位置にある場合、上側ローラコンベア部３４Ｂの搬送ローラ４０Ｂが、他のローラコンベア２０，２４ａ，２４ｂの搬送ローラと略同じ高さに位置する（図１、図５（ａ）、図５（ｃ）、図５（ｅ）参照）。一方、ローラコンベア部３４Ａ，３４Ｂが上昇位置にある場合、下側ローラコンベア部３４Ａの搬送ローラ４０Ａが、他のローラコンベア２０，２４ａ，２４ｂの搬送ローラと略同じ高さに位置する（図５（ｂ）、図５（ｄ）参照）。
【００３６】
エアシリンダ６６の動作に応じてベース部３２が上下動すると、ベース部３２の補助板３２ｃに回転可能に取り付けられたスプラインシャフト５２Ａ，５２Ｂも、凹溝６０Ａがボール部材５８Ａの表面を滑りながら上下動する。一方、ボール部材５８Ａ，５８Ｂを介してスプラインシャフト５２Ａ，５２Ｂと係合しているボールスプライン５０Ａ，５０Ｂは、ケース４８Ａ，４８Ｂに固定されているため上下動しない。
【００３７】
真空ベローズ７０は、シャフト６８を覆うように、成膜処理チャンバ１４の外壁とガイド板７２ｂとの間に配置されている。この真空ベローズ７０により、成膜処理チャンバ１４の内外が隔離され、成膜処理チャンバ１４内の真空状態が維持される。一対のガイド棒７２ａは、円柱状を呈しており、成膜処理チャンバ１４の外壁の下面から下側に向けて突出している。ガイド板７２ｂには、ガイド棒７２ａの外形に対応した円形状を呈する貫通孔７２ｃが２つ形成されている。各ガイド棒７２ａが貫通孔７２ｃにそれぞれ挿通されることで、ガイド板７２ｂがガイド棒７２ａに沿って移動可能となる。
【００３８】
制御部は、ローダ・アンローダ、ゲートバルブ１６，１８、成膜手段２２、ローラコンベア２０，２４ａ，２４ｂ及び二段コンベア２６に接続されている。制御部は、ローダ・アンローダを制御して、ロードロックチャンバ１２への基板Ｓの搬入、及びロードロックチャンバ１２からの基板Ｓの搬出を行わせる。制御部は、ゲートバルブ１６，１８の開閉を制御する。制御部は、成膜手段２２の動作（例えば、成膜材料の放散量）を制御する。制御部は、ローラコンベア２０，２４ａ，２４ｂの搬送ローラの回転方向や回転速度を制御する。制御部は、二段コンベア２６のモータ４４Ａ，４４Ｂに指示して搬送ローラ４０Ａ，４０Ｂの回転方向や回転速度を制御すると共に、エアシリンダ６６に指示してローラコンベア部３４Ａ，３４Ｂの上下動を制御する。
【００３９】
［成膜処理装置の動作］
続いて、図１〜図５を参照して、成膜処理装置１０の動作について説明する。まず、ゲートバルブ１８が閉鎖している状態において制御部が真空ポンプに指示して、成膜処理チャンバ１４内を真空状態とする。このとき、ローラコンベア部３４Ａ，３４Ｂは、下降位置に位置した状態（上側コンベア３０Ｂの高さがローラコンベア２０，２４ａ，２４ｂの高さに合わせられた状態）である。続いて、ゲートバルブ１６が開放している状態において、制御部がローダ・アンローダに指示して、成膜前の基板Ｓ（以下、「基板Ｓ１」と称する。）をロードロックチャンバ１２内に搬入し、ローラコンベア２０の搬送ローラ上に当該基板Ｓ１を載置する。続いて、制御部がゲートバルブ１６，１８に指示して、ゲートバルブ１６を閉鎖させた後にゲートバルブ１８を開放させる。この状態で、制御部からの指示に基づきローラコンベア２０の各搬送ローラを回転させることで、基板Ｓ１が上側ローラコンベア部３４Ｂへと搬送される。続いて、制御部がゲートバルブ１８に指示して、ゲートバルブ１８を閉鎖させる。
【００４０】
続いて、制御部の指示に基づきモータ４４Ｂを回転駆動させ、その回転力をケース４８Ｂ、ボールスプライン５０Ｂ、スプラインシャフト５２Ｂ、傘歯車６２Ｂ，４２Ｂ、動力伝達手段６４Ｂの順に伝達させて、４つのシャフト３８Ｂを介して搬送ローラ４０Ｂを回転させる。これにより、搬送ローラ４０Ｂ上に載置されている基板Ｓ１が、ローラコンベア２４ａに向けて所定の速度で水平方向（Ｘ方向）に搬送される（図５（ａ）参照）。同様に、制御部の指示に基づきローラコンベア２４ａ，２４ｂの搬送ローラを回転させることで、基板Ｓ１がローラコンベア２４ｂに向けて所定の速度で水平方向（Ｘ方向）に搬送される。
【００４１】
基板Ｓ１がローラコンベア２４ｂに到達すると、制御部の指示に基づきローラコンベア２４ａ，２４ｂの搬送ローラを逆回転させる。これにより、基板Ｓ１が二段コンベア２６に向けて所定の速度で水平方向（Ｘ方向）に搬送される（図５（ｂ）参照）。つまり、基板Ｓ１は、成膜手段２２の下方を往復移動する。この基板Ｓ１の往復移動の際に制御部が成膜手段２２を動作させると、所定厚さの薄膜が基板Ｓ１上に成膜される。基板Ｓ１の往復移動の際に、往路及び復路で共に同じ材料が基板Ｓ１上に成膜されてもよいし、往路と復路とで異なる材料（例えば、往路ではＣｒで復路ではＣｕ）が基板Ｓ１上に成膜されてもよい。
【００４２】
基板Ｓ１が往復移動している間に、制御部はゲートバルブ１６及びローダ・アンローダにも指示し、ゲートバルブ１６を開放させた後に、次の基板Ｓ１をロードロックチャンバ１２に搬入し、再びゲートバルブ１６を閉鎖する（図５（ｂ）参照）。基板Ｓ１が往復移動している間に、制御部はエアシリンダ６６にも指示し、ローラコンベア部３４Ａ，３４Ｂを上昇位置に位置させる。これにより、下側コンベア３０Ａの高さがローラコンベア２０，２４ａ，２４ｂの高さに合わせられた状態となる。そのため、ローラコンベア２４ａから二段コンベア２６に搬送される成膜後の基板Ｓ（以下、成膜後の基板を「基板Ｓ２」と称する）は、下側ローラコンベア部３４Ａの搬送ローラ４０Ａ上に到達する（図５（ｂ）参照）。
【００４３】
続いて、制御部はエアシリンダ６６に指示し、ローラコンベア部３４Ａ，３４Ｂを下降位置に位置させる（図５（ｃ）参照）。これにより、上側コンベア３０Ｂの高さがローラコンベア２０，２４ａ，２４ｂの高さに合わせられた状態となる。続いて、制御部がゲートバルブ１６，１８に指示して、ゲートバルブ１６を閉鎖させた後にゲートバルブ１８を開放させる。この状態で、制御部からの指示に基づきローラコンベア２０の各搬送ローラを回転させることで、基板Ｓ１が上側ローラコンベア部３４Ｂへと搬送される（図５（ｃ）参照）。これにより、搬送ローラ４０Ｂ上に基板Ｓ１が載置された状態となる。
【００４４】
続いて、制御部はエアシリンダ６６に指示して、ローラコンベア部３４Ａ，３４Ｂを上昇位置に位置させる（図５（ｄ）参照）。これにより、下側コンベア３０Ａの高さがローラコンベア２０，２４ａ，２４ｂの高さに合わせられた状態となる。続いて、制御部の指示に基づきモータ４４Ａを回転駆動させ、その回転力をケース４８Ａ、ボールスプライン５０Ａ、スプラインシャフト５２Ａ、傘歯車６２Ａ，４２Ａ、動力伝達手段６４Ａの順に伝達させて、４つのシャフト３８Ａを介して搬送ローラ４０Ａを回転させる。これにより、搬送ローラ４０Ａ上に載置されている基板Ｓ２が、ローラコンベア２０に向けて所定の速度で水平方向（Ｘ方向）に搬送される（図５（ｄ）参照）。
【００４５】
続いて、制御部はゲートバルブ１６，１８に指示して、ゲートバルブ１８を閉鎖させた後にゲートバルブ１６を開放させる。続いて、制御部はローダ・アンローダに指示して、ローラコンベア２０の搬送ローラ上に載置されている基板Ｓ２をロードロックチャンバ１２から搬出する（図５（ｅ）参照）。
【００４６】
続いて、制御部はエアシリンダ６６に指示して、ローラコンベア部３４Ａ，３４Ｂを下降位置に位置させる。これにより、上側コンベア３０Ｂの高さがローラコンベア２０，２４ａ，２４ｂの高さに合わせられた状態となる。続いて、制御部の指示に基づき上側ローラコンベア部３４Ｂの搬送ローラを回転させることで、搬送ローラ４０Ｂ上に載置されている基板Ｓ１が、ローラコンベア２４ａに向けて所定の速度で水平方向（Ｘ方向）に搬送される（図５（ｅ）参照）。以上の工程が繰り返されることで、成膜前の基板Ｓ１の搬入及び成膜と、成膜後の基板Ｓ２の搬出とが順次行われる。
【００４７】
以上より、本実施形態に係る成膜処理装置１０を用いた成膜方法は、少なくとも以下の工程を含むことにより、成膜前の基板Ｓ１と成膜後の基板Ｓ２とを成膜処理チャンバ１４内で入れ替えつつ、複数の基板Ｓに対して順次成膜が行われる。
（１）エアシリンダ６６により下側コンベア３０Ａの高さとローラコンベア２４ａの高さとを合せる工程
（２）成膜後の基板Ｓ２をローラコンベア２４ａから下側コンベア３０Ａへと搬送する工程
（３）真空状態のロードロックチャンバ１２から成膜前の基板Ｓ１を上側コンベア３０Ｂに搬入する工程
（４）真空状態のロードロックチャンバ１２に成膜後の基板Ｓ２を搬出する工程
（５）エアシリンダ６６により上側コンベア３０Ｂの高さとローラコンベア２４ａの高さとを合わせる工程
（６）成膜前の基板Ｓ１を上側コンベア３０Ｂからローラコンベア２４ａへと搬送する工程
（７）ローラコンベア２４ａ上に位置する基板Ｓ１に対して成膜手段２２により成膜を行う工程
【００４８】
［成膜処理装置の作用及び効果］
以上のような本実施形態では、上下方向に重なるように配置された上側コンベア３０Ｂ及び下側コンベア３０Ａを有する二段コンベア２６が、エアシリンダ６６（昇降手段２８）の動作により、上側コンベア３０Ｂの高さがローラコンベア２４ａの高さに合わせられた下降位置と、下側コンベア３０Ａの高さがローラコンベア２４ａの高さに合わせられた上昇位置とに、昇降される。従って、例えば、成膜前の基板Ｓ１が上側コンベア３０Ｂに載置された状態でエアシリンダ６６が二段コンベア２６を上昇位置に移動させることで、ローラコンベア２４ａから下側コンベア３０Ａへと成膜後の成膜後の基板Ｓ２の搬送を行える。さらに、エアシリンダ６６が二段コンベア２６を下降位置に移動させることで、上側コンベアからローラコンベア２４ａへと成膜前の基板Ｓ１の搬送を行える。その結果、二段コンベア２６及びローラコンベア２４ａが水平方向に一列に並んで配置されたコンパクトな成膜処理装置１０を実現しつつ、成膜処理チャンバ１４の真空状態を保持したまま連続して複数の基板Ｓを処理できる。よって、本実施形態によれば、成膜処理装置１０において、小型化と生産性の向上との両立を図ることが可能となる。
【００４９】
本実施形態では、下側コンベア３０Ａ及び上側コンベア３０Ｂはそれぞれ、基板Ｓを搬送するための搬送ローラ４０Ａ，４０Ｂと、搬送ローラ４０Ａ，４０Ｂが取り付けられたシャフト３８Ａ，３８Ｂと、シャフト３８Ａ，３８Ｂを回転駆動させる駆動手段３６Ａ，３６Ｂとを有している。そのため、下側コンベア３０Ａと上側コンベア３０Ｂとはそれぞれ、各駆動手段３６Ａ，３６Ｂによって独立して駆動される。従って、上側コンベア３０Ｂに載置された基板Ｓと、下側コンベア３０Ａに載置された基板Ｓとを、それぞれ異なる方向に搬送することができる。
【００５０】
本実施形態では、駆動手段３６Ａ，３６Ｂは、成膜処理チャンバ１４の外部に配置されたモータ４４Ａ，４４Ｂと、成膜処理チャンバ１４の外壁を上下方向に貫通すると共にモータ４４Ａ，４４Ｂに接続され、当該外壁に対して回転可能に取り付けられたケース４８Ａ，４８Ｂと、ケース４８Ａ，４８Ｂ内に挿嵌されたボールスプライン５０Ａ，５０Ｂと、軸方向に延びる凹溝６０Ａ，６０Ｂが形成され、ボールスプライン５０Ａ，５０Ｂに対して軸方向にスライド可能なスプラインシャフト５２Ａ，５２Ｂと、スプラインシャフト５２Ａ，５２Ｂの上端部に取り付けられた傘歯車６２Ａ，６２Ｂと含む。傘歯車６２Ａ，６２Ｂは、シャフト３８Ａ，３８Ｂの端部に取り付けられた傘歯車４２Ａ１，４２Ｂ１と歯合している。ボールスプライン５０Ａ，５０Ｂのボール部材５８Ａ，５８Ｂは、スプラインシャフト５２Ａ，５２Ｂの凹溝６０Ａ，６０Ｂと係合している。そのため、下側コンベア３０Ａ及び上側コンベア３０Ｂが昇降手段２８によって昇降した場合でも、モータ４４Ａ，４４Ｂの回転力が、ケース４８Ａ，４８Ｂ及びボールスプライン５０Ａ，５０Ｂを介してスプラインシャフト５２Ａ，５２Ｂに伝達され、スプラインシャフト５２Ａ，５２Ｂが回転される。従って、下側コンベア３０Ａ及び上側コンベア３０Ｂの昇降にかかわらず、モータ４４Ａ，４４Ｂの駆動力を搬送ローラ４０Ａ，４０Ｂに伝達できる。
【００５１】
［他の実施形態］
以上、本発明の実施形態について詳細に説明したが、本発明は上記した実施形態に限定されるものではない。例えば、成膜処理装置１０の動作は、上記した実施形態と異なっていてもよい。ここで、図６を参照して、成膜処理装置１０の他の動作について説明する。まず、ゲートバルブ１８が閉鎖している状態において制御部が真空ポンプに指示して、成膜処理チャンバ１４内を真空状態とする。このとき、ローラコンベア部３４Ａ，３４Ｂは、下降位置に位置した状態（上側コンベア３０Ｂの高さがローラコンベア２０，２４ａ，２４ｂの高さに合わせられた状態）である。続いて、ゲートバルブ１６が開放している状態において、制御部がローダ・アンローダに指示して、基板Ｓ１をロードロックチャンバ１２内に搬入し、ローラコンベア２０の搬送ローラ上に当該基板Ｓ１を載置する。続いて、制御部がゲートバルブ１６，１８に指示して、ゲートバルブ１６を閉鎖させた後にゲートバルブ１８を開放させる。この状態で、制御部からの指示に基づきローラコンベア２０の各搬送ローラを回転させることで、基板Ｓ１が上側ローラコンベア部３４Ｂへと搬送される。続いて、制御部がゲートバルブ１８に指示して、ゲートバルブ１８を閉鎖させる。
【００５２】
続いて、制御部の指示に基づきモータ４４Ｂを回転駆動させ、その回転力をケース４８Ｂ、ボールスプライン５０Ｂ、スプラインシャフト５２Ｂ、傘歯車６２Ｂ，４２Ｂ、動力伝達手段６４Ｂの順に伝達させて、４つのシャフト３８Ｂを介して搬送ローラ４０Ｂを回転させる。これにより、搬送ローラ４０Ｂ上に載置されている基板Ｓ１が、ローラコンベア２４ａに向けて所定の速度で水平方向（Ｘ方向）に搬送される（図６（ａ）参照）。同様に、制御部の指示に基づきローラコンベア２４ａ，２４ｂの搬送ローラを回転させることで、基板Ｓ１がローラコンベア２４ｂに向けて所定の速度で水平方向（Ｘ方向）に搬送される。
【００５３】
基板Ｓ１がローラコンベア２４ｂに到達すると、制御部の指示に基づきローラコンベア２４ａ，２４ｂの搬送ローラを逆回転させる。これにより、基板Ｓ１が二段コンベア２６に向けて所定の速度で水平方向（Ｘ方向）に搬送される（図６（ｂ）参照）。つまり、基板Ｓ１は、成膜手段２２の下方を往復移動する。この基板Ｓ１の往復移動の際に制御部が成膜手段２２を動作させると、所定厚さの薄膜が基板Ｓ１上に成膜される。ローラコンベア部３４Ａ，３４Ｂが下降位置に位置しているため、ローラコンベア２４ａから二段コンベア２６に搬送される成膜後の基板Ｓ２は、上側ローラコンベア部３４Ｂの搬送ローラ４０Ｂ上に到達する（図６（ｂ）参照）。基板Ｓ１が往復移動している間に、制御部はゲートバルブ１６及びローダ・アンローダにも指示し、ゲートバルブ１６を開放させた後に、次の基板Ｓ１をロードロックチャンバ１２に搬入し、再びゲートバルブ１６を閉鎖する（図６（ｂ）参照）。
【００５４】
続いて、制御部はエアシリンダ６６に指示し、ローラコンベア部３４Ａ，３４Ｂを上昇位置に位置させる。これにより、下側コンベア３０Ａの高さがローラコンベア２０，２４ａ，２４ｂの高さに合わせられた状態となる。続いて、制御部がゲートバルブ１６，１８に指示して、ゲートバルブ１６を閉鎖させた後にゲートバルブ１８を開放させる。この状態で、制御部からの指示に基づきローラコンベア２０の各搬送ローラを回転させることで、基板Ｓ１が下側ローラコンベア部３４Ａへと搬送される（図６（ｃ）参照）。これにより、搬送ローラ４０Ａ上に基板Ｓ１が載置された状態となる。
【００５５】
続いて、制御部の指示に基づきモータ４４Ａを回転駆動させ、その回転力をケース４８Ａ、ボールスプライン５０Ａ、スプラインシャフト５２Ａ、傘歯車６２Ａ，４２Ａ、動力伝達手段６４Ａの順に伝達させて、４つのシャフト３８Ａを介して搬送ローラ４０Ａを回転させる。これにより、搬送ローラ４０Ａ上に載置されている基板Ｓ１が、ローラコンベア２４ａに向けて所定の速度で水平方向（Ｘ方向）に搬送される（図６（ｄ）参照）。
【００５６】
続いて、制御部はエアシリンダ６６に指示して、ローラコンベア部３４Ａ，３４Ｂを下降位置に位置させる（図６（ｅ）参照）。これにより、上側コンベア３０Ｂの高さがローラコンベア２０，２４ａ，２４ｂの高さに合わせられた状態となる。続いて、制御部の指示に基づき上側ローラコンベア部３４Ｂの搬送ローラを回転させることで、搬送ローラ４０Ｂ上に載置されている基板Ｓ２が、ローラコンベア２０に向けて所定の速度で水平方向（Ｘ方向）に搬送される（図６（ｅ）参照）。
【００５７】
続いて、制御部はゲートバルブ１６，１８に指示して、ゲートバルブ１８を閉鎖させた後にゲートバルブ１６を開放させる。続いて、制御部はローダ・アンローダに指示して、ローラコンベア２０の搬送ローラ上に載置されている基板Ｓ２をロードロックチャンバ１２から搬出する（図６（ｅ）参照）。以上の工程が繰り返されることで、成膜前の基板Ｓ１の搬入及び成膜と、成膜後の基板Ｓ２の搬出とが順次行われる。
【００５８】
以上より、本実施形態に係る成膜処理装置１０を用いた他の成膜方法は、少なくとも以下の工程を含むことにより、成膜前の基板Ｓ１と成膜後の基板Ｓ２とを成膜処理チャンバ１４内で入れ替えつつ、複数の基板Ｓに対して順次成膜が行われる。
（１）エアシリンダ６６により上側コンベア３０Ｂの高さとローラコンベア２４ａの高さとを合せる工程
（２）成膜後の基板Ｓ２をローラコンベア２４ａから上側コンベア３０Ｂへと搬送する工程
（３）エアシリンダ６６により下側コンベア３０Ａの高さとローラコンベア２４ａの高さとを合わせる工程
（４）真空状態のロードロックチャンバ１２から成膜前の基板Ｓ１を下側コンベア３０Ａに搬入する工程
（５）成膜前の基板Ｓ１を下側コンベア３０Ｂからローラコンベア２４ａへと搬送する工程
（６）真空状態のロードロックチャンバ１２に成膜後の基板Ｓ２を搬出する工程
（７）ローラコンベア２４ａ上に位置する基板Ｓ１に対して成膜手段２２により成膜を行う工程
【００５９】
上記の実施形態では、ローラコンベア部３４Ａ，３４Ｂ（下側コンベア３０Ａ及び上側コンベア３０Ｂ）を昇降させるためにエアシリンダ６６を用いたが、一方向に往復動作できるものであればエアシリンダ６６に限定されずに種々の直動機構を採用することができる。
【００６０】
上記の実施形態では、基板Ｓを水平方向に搬送するために搬送ローラを用いたが、水平方向の搬送が可能であればローラ以外の他の構造（例えばベルトなど）であってもよい。
【００６１】
上記の実施形態では、ケース４８Ａ，４８Ｂに対するスプラインシャフト５２Ａ，５２Ｂの摺動と、ケース４８Ａ，４８Ｂからのスプラインシャフト５２Ａ，５２Ｂへの回転力の伝達とを、スプラインシャフト５２Ａ，５２Ｂの凹溝６０Ａと、ケース４８Ａ，４８Ｂに固定されたボールスプライン５０Ａ，５０Ｂのボール部材５８Ａ，５８Ｂとの係合によって実現していた。しかしながら、一の部材と他の部材との間での摺動及び回転力の伝達を、他の構成により実現してもよい。例えば、軸方向に延びる凹溝又は突条が少なくとも一つ形成されたシャフトと、当該凹溝又は突条と係合する凸部又は凹部を有し、スライド可能にシャフトが内部に配置された円筒体とにより、実現することができる。
【００６２】
上記の実施形態では、基板Ｓの表面に成膜を行ったが、平板、曲板、フィルムなどの種々の形状を呈する成膜対象物に対して成膜を行ってもよい。
【符号の説明】
【００６３】
１０…成膜処理装置、１２…ロードロックチャンバ、１４…成膜処理チャンバ、２０，２４ａ，２４ｂ…ローラコンベア、２２…成膜手段、２６…二段コンベア、２８…昇降手段、３０Ａ…下側コンベア、３０Ｂ…上側コンベア、３６Ａ，３６Ｂ…駆動手段、３８Ａ，３８Ｂ…シャフト、４０Ａ，４０Ｂ…搬送ローラ、４２Ａ，４２Ｂ，６２Ａ，６２Ｂ…傘歯車、４４Ａ，４４Ｂ…モータ、４８Ａ，４８Ｂ…ケース、５０Ａ，５０Ｂ…ボールスプライン、５２Ａ，５２Ｂ…スプラインシャフト、６０Ａ，６０Ｂ…凹溝、Ｓ…基板。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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