(57)【要約】【課題】洗浄後において、帯電防止機能を備えた、フォトマスクブランク等の精密基板の収納容器を得ることができる洗浄方法や、帯電防止機能を発揮することができる精密基板の収納容器の製造方法を提供する。【解決手段】精密基板を収納する容器の洗浄方法であって、前記収納容器の洗浄時に、界面活性剤を用いて収納容器の表面に界面活性剤による被膜を形成するとともに、該被膜が洗浄後に残るように洗浄を行う精密基板の収納容器の洗浄方法。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
精密基板を収納する容器の洗浄方法であって、
前記収納容器の洗浄時に、界面活性剤を用いて収納容器の表面に界面活性剤による被膜を形成するとともに、該被膜が洗浄後に残るように洗浄を行うことを特徴とする精密基板の収納容器の洗浄方法。
【請求項２】
前記洗浄後の前記界面活性剤による被膜付の収納容器の表面抵抗を１×１０１０Ω以下とすることを特徴とする請求項１に記載の精密基板の収納容器の洗浄方法。
【請求項３】
前記洗浄を行う収納容器を、表面抵抗が１×１０１４Ω以上のものとすることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の精密基板の収納容器の洗浄方法。
【請求項４】
前記洗浄を行う収納容器を、樹脂成型したものとすることを特徴とする請求項１乃至請求項３のいずれか一項に記載の精密基板の収納容器の洗浄方法。
【請求項５】
前記洗浄を行う収納容器を、ロックウエル硬度（Ｒスケール）が１００以上の樹脂を用いたものとすることを特徴とする請求項１乃至請求項４のいずれか一項に記載の精密基板の収納容器の洗浄方法。
【請求項６】
前記収納容器に収納する精密基板を、石英ガラス基板、フォトマスクブランク、フォトマスク、シリコンウエーハのいずれかとすることを特徴とする請求項１乃至請求項５のいずれか一項に記載の精密基板の収納容器の洗浄方法。
【請求項７】
前記洗浄において、前記界面活性剤による被膜を形成した収納容器を純水により前記被膜が残るようにリンスすることを特徴とする請求項１乃至請求項６のいずれか一項に記載の精密基板の収納容器の洗浄方法。
【請求項８】
請求項１乃至請求項７のいずれか一項に記載の精密基板の収納容器の洗浄方法によって、成型後の収納容器を洗浄して前記界面活性剤による被膜付の収納容器を製造することを特徴とする精密基板の収納容器の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、精密基板、例えば石英ガラス基板、フォトマスクブランク、フォトマスク、シリコンウエーハなどを収納する容器の洗浄方法および収納容器の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、フォトマスク、ウエーハに対するパターンの微細化、高密度化により、石英ガラス基板、フォトマスクブランク、シリコンウエーハ等の精密基板に対する高品質化の要求はますます大きくなり、それに伴いそれらの精密基板を収納する容器にも低発塵性、損傷防止、汚染防止などの特性が求められるようになってきている。
【０００３】
石英ガラス基板、シリコンウエーハ、フォトマスクブランクなど精密基板を収納して搬送およびその保管に用いられる容器には、その製造価格が安価であること、耐久性があることが求められ、一般的にはプラスチック樹脂で成型された収納容器が用いられている。
【０００４】
この収納容器には収納した精密基板に対する化学的、物理的影響を考慮して、常に一定の品質と性能が求められている。そのため収納容器の成型は環境条件を制御したクリーンルームで行われる。成型された収納容器は、その後に洗浄工程を経て梱包され、精密基板の収納時に開梱して使用される。
【０００５】
この収納容器に期待される品質の一つに清浄度がある。収納容器の清浄度は洗浄により向上することができるが、収納容器を構成する樹脂が帯電する性質のものである場合、周辺に存在するパーティクルを収納容器の表面に引き寄せ、時間が経つにつれ収納容器の清浄度を低下させてしまう。
【０００６】
そのため樹脂に帯電防止機能を付与することが望ましく、一般的には帯電防止剤を樹脂に加えることがおこなわれている。表面抵抗を所定値以下とし、何らかの原因で帯電した収納容器の表面の電荷を速やかに除去するためである（特許文献１参照）。
樹脂に帯電防止剤を付与する方法としては、樹脂へ帯電防止剤を混入する、樹脂表面に帯電防止剤を塗布するなど様々な方法がある（特許文献２−４参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開平９−９２７１４号公報
【特許文献２】特表２００５−５３７３７８号公報
【特許文献３】特開平１０−２８７７９１号公報
【特許文献４】特開２００６−３４２３４５号公報
【特許文献５】特開２００５−３５１９３５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
精密基板の出し入れ、搬送時の振動による精密基板の揺動などにより、精密基板と接触する部分の樹脂は擦れ、摩滅し、パーティクルとなり、収納容器の内部の清浄度が低下する。これを防ぐために、精密基板と接触する樹脂には耐摩耗性が高い樹脂が用いられる。
【０００９】
また別の問題として、収納容器から放出されるアウトガスは精密基板の表面に付着し、薄い被膜として堆積し、基板を汚染する。
精密基板であるフォトマスクブランクもしくはフォトマスク等では、このようなアウトガスの堆積物に、露光光など短波長の光エネルギーを照射することにより曇り（ヘイズ）が生じ、製品不良の原因となってしまう（特許文献５）。
【００１０】
これらのことから、精密基板を収納する容器においては、精密基板と接触する部材には耐摩耗性が高く（すなわち発塵が少なく）、アウトガスが少ない樹脂を用いることが多い。
【００１１】
また、特にフォトマスクブランクあるいはフォトマスクを収納する容器では、収納容器内の雰囲気と外界を分ける部分に求められる樹脂の機能として帯電防止機能が求められる。
近年、精密基板に対する品質向上の要求が更に高まり、収納容器において、精密基板の接触部の帯電による清浄度の低下も無視ができない問題となってきた。
そのため、特に精密基板の接触部には帯電防止効果を付与することが求められる。
【００１２】
そこで本発明者らは帯電を防止するための方法について鋭意研究を行った。
樹脂に帯電防止効果を付与する方法としては、前述したように特許文献２−４に、帯電防止剤を樹脂表面に塗布する方法や、界面活性剤を樹脂に添加、混合する方法などが記載されている。
【００１３】
しかし、帯電防止剤等を樹脂表面に塗布する方法では、成型後、帯電防止剤が施された各部材の表面に付着したパーティクルを除去するため、洗浄工程においてスクラブ洗浄や超音波洗浄などの物理的洗浄方法を行い除去するが、このとき表面に塗布した帯電防止剤が剥落し、帯電防止機能を損なう恐れがある。
その結果、帯電防止機能を喪失した樹脂表面が帯電し、塵埃が付着し、清浄度が悪化し、収納する精密基板にパーティクルが付着する原因となる。
【００１４】
また、界面活性剤を樹脂に添加、混合する方法などでは、耐摩耗性、低アウトガス性など他の特性との兼ね合いが難しい。また、洗浄時に表面から失われ、帯電防止機能を損なうことになる。
本発明者らはこれらの問題点を見出した。
【００１５】
本発明は上記問題点に鑑みてなされたものであって、洗浄後において、帯電防止機能を備えた、フォトマスクブランク等の精密基板の収納容器を得ることができる洗浄方法を提供することを目的とする。
また、帯電防止機能を発揮することができる精密基板の収納容器の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１６】
上記目的を達成するために、本発明は、精密基板を収納する容器の洗浄方法であって、前記収納容器の洗浄時に、界面活性剤を用いて収納容器の表面に界面活性剤による被膜を形成するとともに、該被膜が洗浄後に残るように洗浄を行うことを特徴とする精密基板の収納容器の洗浄方法を提供する。
【００１７】
このような本発明の洗浄方法であれば、収納容器の洗浄をするとともに界面活性剤による被膜を形成することができる。しかも、洗浄後に被膜が残っているので、洗浄後の収納容器は帯電防止機能を発揮することができる。
さらに、従来では予め塗布していた界面活性剤などが洗浄により表面から失われ、洗浄後に帯電防止機能が低いものとなってしまうが、本発明では上述したように洗浄後に帯電防止機能を備えたものとすることができる。また、本発明であれば、帯電防止機能を付与する際に、従来のような耐摩耗性や低アウトガスとの兼ね合いの困難性もなくすことができる。
また、従来のように界面活性剤等を混入し、帯電防止機能など全ての性能を満足する特殊な樹脂が開発されたとしても、樹脂としての汎用性が失われるため高価となり、そのような樹脂で成型した収納容器のコストは必然的に高いものとなり、フォトマスクブランクあるいはフォトマスク等の精密基板の収納容器を安価に得ることができなかったが、本発明であれば、低コストで簡便に帯電防止機能を付与することができる。
【００１８】
このとき、前記洗浄後の前記界面活性剤による被膜付の収納容器の表面抵抗を１×１０１０Ω以下とすることができる。
このようにすれば、収納容器が帯電しても速やかに放電されるため、浮遊するパーティクルを引きつけて収納容器が汚染されるのをより効果的に防ぐことができる。
【００１９】
また、前記洗浄を行う収納容器を、表面抵抗が１×１０１４Ω以上のものとすることができる。
本発明はこのようなものに帯電防止機能を付与することができ、パーティクル汚染を防ぐことが可能である。
【００２０】
また、前記洗浄を行う収納容器を、樹脂成型したものとすることができる。
精密基板を収納する容器は樹脂成型によるものがよく用いられており、本発明はそのようなものに適用することができる。耐摩耗性および帯電防止機能を十分に備えた収納容器を安価に得ることができる。
【００２１】
また、前記洗浄を行う収納容器を、ロックウエル硬度（Ｒスケール）が１００以上の樹脂を用いたものとすることができる。
このようにすれば、精密基板を収納する容器として十分な硬度を有しており、精密基板と接触するなどしても摩耗しにくい。
【００２２】
また、前記収納容器に収納する精密基板を、石英ガラス基板、フォトマスクブランク、フォトマスク、シリコンウエーハのいずれかとすることができる。
このように、精密基板としては石英ガラス基板、フォトマスクブランク、フォトマスク、シリコンウエーハなどが挙げられる。これらを保管等する場合に収納容器がよく用いられ、その洗浄方法として本発明が好適である。
【００２３】
また、前記洗浄において、前記界面活性剤による被膜を形成した収納容器を純水により前記被膜が残るようにリンスすることができる。
このようにすれば、表面のパーティクルを除去できるとともに、洗浄後においても帯電防止機能を有する収納容器を得ることができる。
【００２４】
また、上記本発明の精密基板の収納容器の洗浄方法によって、成型後の収納容器を洗浄して前記界面活性剤による被膜付の収納容器を製造することを特徴とする精密基板の収納容器の製造方法を提供する。
【００２５】
このような本発明の製造方法であれば、成型、洗浄の工程を経て、低コストで簡便に、界面活性剤による被膜付の収納容器、つまりは帯電防止機能を有する収納容器を得ることができる。
【発明の効果】
【００２６】
以上のように、本発明の精密基板の収納容器の洗浄方法および収納容器の製造方法によれば、洗浄後においても帯電防止機能を備えた精密基板の収納容器を得ることができる。しかも、低コストで簡便に帯電防止機能を付与することが可能である。
【図面の簡単な説明】
【００２７】
【図１】精密基板を収納する容器の一例を示す概略図である。
【図２】本発明の洗浄方法の一例を示すフロー図である。
【図３】シャワーリンス時間とインナーケースの帯電量との関係を示すグラフである。
【図４】シャワーリンス時間と液中パーティクルデータとの関係を示すグラフである。
【図５】実施例、比較例におけるインナーケースの帯電量の測定箇所を示す説明図である。
【発明を実施するための形態】
【００２８】
以下、本発明の精密基板の収納容器の洗浄方法および収納容器の製造方法について、実施態様の一例として、図を参照しながら詳細に説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。
本発明の洗浄方法について説明する。
まず、本発明の洗浄方法の対象となる精密基板の収納容器について説明する。
図１（ａ）は、収納容器１の外観を示す概略図である。この収納容器１は、図１（ｂ）に示したように、精密基板を固定するための基板固定部材１０と、精密基板が内部に配置されるインナーケース１２と、インナーケース１２を収納する容器本体１１と、蓋体１４とで構成される。尚、この収納容器１は、一辺が約２０ｃｍの略立方体の形をしており、収納容器１内には、均等な間隔で５枚の精密基板１３が入れられるようになっている。
【００２９】
精密基板１３が、保存、保管、搬送等のため収納容器１に収納されると、通常、その収納容器１は、外部環境の影響を受けないように、開閉部をテープによってテーピングされ、それから、プラスチック性の透明フィルムに入れシールされ、さらにアルミ薄をラミネートしたプラスチック性フィルムに入れられてシールされる。
【００３０】
収納容器の形態としては特に制限は無く、枚葉式、複数の基板を収納するタイプのもの、またその使用目的としては、工程内搬送用、出荷用のいずれでもよく、適宜決定することができる。
収納するものも精密基板であれば良く、特に限定されず、例えば石英ガラス基板、フォトマスクブランク、フォトマスク、シリコンウエーハなどが挙げられるほか、化合物半導体基板、酸化物単結晶等も挙げられる。
【００３１】
また、収納容器の材質は特に限定されず、耐摩耗性、低アウトガス性、コストなどを考慮して適宜決定することができる。
例えば、従来よりよく行われているように樹脂成型したものとすることができ、また耐摩耗性として所定のロックウエル硬度（Ｒスケール）の値を有するものとすることができる。特にはロックウエル硬度（Ｒスケール）で１００以上のものとすることができ、精密基板を収納する容器として十分な硬度を有しており、精密基板と接触するなどしても摩耗しにくい。
なお、当然樹脂に限定されるものではなく、部分的にあるいは全体的に、他の材質からなるものとすることもできる。
【００３２】
以下、さらに具体例を述べる。
収納容器のインナーケースなど、摺動部または精密基板と接触する部位には、特には、機能として耐摩耗性があり、かつ樹脂から生じる低分子物質由来のガスが少ない（低アウトガス性）樹脂が好ましく、例えばポリエチレン（ＰＥ）系、より好ましくは高密度ポリエチレン（ＨＤＰＥ）系、ポリアセタール（ＰＯＭ）、変性ポリフェニレンエーテル（ｍ−ＰＰＥ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリスチレン（ＰＳ）、ポリフェニレンサルファイド（ＰＰＳ）系、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）系、ポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）などがある。
【００３３】
この中で比較的安価な樹脂である、ＰＣ、ＰＥＴ系、ＰＢＴが好ましく、さらに好ましくはＰＥＴ系、ＰＢＴが挙げられる。これらの樹脂はロックウエル硬度（Ｒスケール）で１００以上である。
【００３４】
また、収納容器の蓋体または容器本体、あるいはその両方には、収納容器を開くことなく、容器内を確認することができるように透明樹脂で製造することが好ましい。
透明樹脂には、内部の製品に影響を与える有害な光を遮蔽するなどの機能を付与したものとすることもできる。このようなもので比較的安価な樹脂は、ポリメタクリル酸メチル樹脂（ＰＭＭＡ）や、ＰＣや、アクリロニトリル、ブタジエン、スチレンの共重合合成樹脂（ＡＢＳ）などがある。
【００３５】
なお、帯電防止剤を付与しないＰＥＴ、ＰＢＴ、透明樹脂であるＰＣなどの樹脂の表面抵抗は、１×１０１４Ω（ＪＩＳ  Ｋ６９１１）から５×１０１６Ω（ＪＩＳ  Ｋ６９１１）である。本発明はこのような樹脂からなる、表面抵抗が１×１０１４Ω以上の収納容器に帯電防止機能を付与することができ、パーティクル汚染を防ぐことが可能であるので、特に有効である。
当然、本発明はこれらの表面抵抗値を有するものに限定されず、種々の表面抵抗値を有するものに適用することができる。
【００３６】
そして、図１に示すような収納容器に洗浄工程を施す。本発明の洗浄方法では、洗浄時において、収納容器の表面に界面活性剤による被膜を形成し、しかもその被膜が洗浄後に残るように洗浄を行えば良く、洗浄工程中における具体的な手順は特に限定されない。
【００３７】
図２に本発明の洗浄方法のフローの一例を示す。
ここで、図２に示すようにドライ洗浄、ウエット洗浄などを用いた方法とすることができる（工程Ａ）。
ドライ洗浄としては、エアブロー等の異物を吹き飛ばすものや、紫外線を照射して異物を分解除去するもの等が挙げられる。ウエット洗浄としては、フロン系など種々の溶剤を使用する溶剤洗浄法、水系の洗浄剤を使用する水系洗浄法が挙げられる。本発明ではこれらのいずれか、あるいはそれらを組み合わせて適用することができる。また、この他、ブラシや超音波等、洗浄に必要なものを適宜用いることができる。
【００３８】
まず、ドライ洗浄を用いた場合は、そのドライ洗浄後、あるいは必要に応じてさらにウエット洗浄を行い、界面活性剤を例えば濃度０．０５〜１．０％含む洗浄槽に収納容器を浸漬してから引き上げる（工程Ｂ）。これにより界面活性剤による被膜を収納容器の表面に形成することができる。
工程Ｂの後、乾燥を行う（工程Ｃ）。乾燥方法自体は特に限定されず、例えば従来と同様の方法により行うことができる。
【００３９】
上記のように洗浄工程において最終的に界面活性剤を含む洗浄槽に浸漬し、乾燥すれば、洗浄後においても界面活性剤による被膜を効率良く残すことができる。すなわち、界面活性剤による被膜付の収納容器を得ることができ、その表面抵抗を下げることができる。
【００４０】
また、水面上に界面活性剤（両親媒性分子）による単分子膜を展開し、浸漬した収納容器を引き上げることによって、単分子膜による被膜を形成する方法もある。
単分子膜により被膜を形成することのできる収納容器のパーツとしては、多少の凹凸はあっても、水面に対して垂直に引き上げが可能なものが挙げられる。例えば、基板固定部材、精密基板をサポートするインナーケースなどがこれにあたるが、当然これらに限定されるものではない。
【００４１】
一方、ウエット洗浄を用いた場合は、バッチ式、枚葉式いずれのやり方でもよく、バッチ式はさらに多槽式、単槽式があるがどちらでも適用することができる。
収納容器の清浄度を向上するには枚葉式が向いているが、複数の収納容器を短時間で洗浄するためには、バッチ式が向いている。バッチ式のものを用いればコストをより低減することができる。
また、単槽式よりも多槽式の方が、多数の収納容器を短時間で洗浄することができる。多槽式において、洗浄槽の数は特に限定されない。
これらの条件は適宜決定することができる。
【００４２】
各洗浄槽では、収納容器を揺動する、あるいは、それと同時に、超音波振動子による適当な周波数の超音波を当て、収納容器を洗浄する。洗浄槽は後段になるにつれ、超純水の清浄度が高くなり、最終洗浄槽では最も清浄度が高くなっている。
【００４３】
ウエット洗浄において界面活性剤の被膜を形成するためには、界面活性剤を濃度０．０５〜１．０％含む超純水からなる洗浄槽を最終洗浄槽として配置し、これに収納容器を浸漬後、引上げて乾燥する。これにより、洗浄時に界面活性剤による被膜を形成するとともに、洗浄後においても界面活性剤による被膜を効率良く残すことができ、被膜付の収納容器を得ることができる。
また、上述したように単分子膜を展開して被膜を形成する方法も同様に適用することができる。
【００４４】
使用する界面活性剤は、陰イオン系、陽イオン系、非イオン系、両性界面活性剤などがある。いずれによっても被膜を形成した場合、表面で水を吸着することにより、表面の導電率を高め（表面の体積固有抵抗率を下げ）、帯電防止効果を生むことができる。
【００４５】
なお、上記例では、ドライ洗浄、ウエット洗浄の場合のそれぞれについて、最終的に界面活性剤を含む洗浄槽に浸漬して引上げ（工程Ｂ）、乾燥を行い（工程Ｃ）、界面活性剤による被膜付の収納容器を得ている。
しかしながら、該洗浄槽から引上げ後、その界面活性剤による被膜を形成した収納容器に対し、必要に応じて超純水のシャワー洗浄（すなわち純水によるリンス）をさらに施し（図２の（工程Ｄ））、その後に乾燥を施すこともできる。
ただし、この純水によるリンス後に上記被膜が残るようにリンスを行う。最終的に界面活性剤による被膜付の収納容器が得られれば良く、リンスの時間、回数等は特に限定されず、適宜決定することができる。
（工程Ａ）〜（工程Ｃ）を行い、界面活性剤の被膜の量を制御し、所望の表面抵抗に制御することができる。また、（工程Ｄ）をさらに行い、そのリンスの条件を調整することで、これらの値をさらに調整することもできる。
【００４６】
界面活性剤による被膜は収納容器の表面全体に完全に形成しても良い。
あるいは所望する帯電防止効果の程度に応じて形成することもできる。例えば表面抵抗が１×１０１２Ω以下（ＪＩＳ  Ｋ６９１１）、より好ましくは１×１０１０Ω以下（ＪＩＳ  Ｋ６９１１）とすることができる。これらの数値であれば、収納容器の樹脂表面に、浮遊するパーティクルを引きつけないようにするために十分である。各洗浄条件を最適化することにより、例えばＰＢＴなど、洗浄前では１×１０１６Ω程度であった表面抵抗を、洗浄後に上記のような低い値にすることができる。
【００４７】
また、単分子膜による被膜の場合は、例えば、水面上に展開した単分子膜の面積（Ａ）と収納容器の表面積（Ｂ）の比（累積比Ａ／Ｂ）が０．８以上１以下とすることができる。
【００４８】
このように収納容器の界面活性剤による被膜量を適切に調整することにより、収納容器が帯電しても速やかに放電されるため、帯電した収納容器表面が浮遊するパーティクルを引き付けて汚染されるのを抑制することができる。
【００４９】
このときの収納容器の帯電量は、例えば湿度４５％、流速０．１ｍ／秒のクリーンエアー（清浄度  クラス１０００（ＩＳＯ規格））の環境下で長時間放置したときに±０．１０Ｖ以下となる。
【００５０】
なお、例えば表面抵抗の下限を１×１０８Ω（ＪＩＳ  Ｋ６９１１）として被膜を形成するのがより良い。また単分子膜により被膜を形成する場合、同様の理由により、累積比で１以下として被膜の形成が厚くなりすぎないようにするのが良い。
このようにすることで、界面活性剤による被膜が厚すぎて、被膜が脱落し、パーティクルの原因になるのをより効果的に防ぐことができる。
【００５１】
以上のような本発明の洗浄方法によって、精密基板の収納容器に洗浄を施すと同時に、界面活性剤による被膜を形成して帯電防止機能を付与することができる。洗浄と併せて行うことができるため簡便である。
【００５２】
また、経時変化、あるいは精密基板との接触、収納容器の摺動によって、本発明の洗浄方法で付与した帯電防止機能の効果が薄れるとしても、例えば定期的に表面抵抗を測定し、その測定値が１×１０１２Ω（ＪＩＳ  Ｋ６９１１）など、適宜決めた所定値を超えた場合には、速やかに本発明の洗浄方法を施すことにより、清浄度を回復するとともに、元の帯電防止効果を得ることができる。
また予め使用期間を決め、上記洗浄を施してもよい。
【００５３】
このように、本発明の洗浄方法によって、収納容器の再生洗浄を行なう度に帯電防止機能が復元するという効果は、収納容器を搬送容器などの目的によって使用する場合、収納容器のコストを削減するために有効である。洗浄と同時に帯電防止機能を付与することにより、収納容器を繰り返し使用することが可能となるし、その繰り返し使用回数を多くすることができる。収納容器のコストの低減、さらには精密基板の製造コストの低減につなげることができる。
【００５４】
一方、従来、特に帯電防止剤を塗布した樹脂製の収納容器では、収納容器を再利用にあたって洗浄を複数回行うと、樹脂の帯電防止機能は徐々に失われてしまい、その結果、収納容器の表面が帯電し、収納されているフォトマスクブランクやフォトマスク等の清浄度が低下する原因となる。
【００５５】
次に、本発明の精密基板の収納容器の製造方法について説明する。
まず、図１に示すような収納容器を成型する。例えば樹脂成型により得ることができる。射出成型、真空成型などその都度適切な方法を用いて収納容器を得ることができる。
当然、樹脂製のものに限られず、種々の材質を用いて成型することが可能である。
【００５６】
そして、成型した収納容器を、図２に示すような本発明の洗浄方法によって洗浄する。これにより、収納容器の洗浄を行うとともに、洗浄後において界面活性剤による被膜付の収納容器を得ることができる。特殊な材質を用いなくとも汎用的な材質で簡便に帯電防止機能を付与することができ、低コストで製造することが可能である。
【実施例】
【００５７】
以下、実施例及び比較例を示して本発明をより具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００５８】
（実施例１）
本発明の製造方法および洗浄方法を実施した。
収納容器を構成するパーツの中で、容器本体と蓋体は界面活性剤を帯電防止剤として練りこんだＰＭＭＡを用いた。また精密基板と接触するインナーケースと基板固定部材に用いるパーツには、耐摩耗性を有し、かつアウトガスが少ないＰＢＴ（表面抵抗１×１０１６Ω）を用いた。
このような材質を用いて、フォトマスク、フォトマスクブランクを収納するための収納容器を成型する。
【００５９】
収納容器を構成するパーツは全て、温度２５℃、クリーン度クラス１（ＩＳＯ規格）であるクリーンルームにより同一環境下で製造される。
各パーツは射出成型により製造され、品質の異常が無いことを目視判定による外観検査により確認後、収納容器に組み立てた。
【００６０】
収納容器は個別に包装フィルムによって梱包され、洗浄工程へ送られる。
洗浄工程では、収納容器は各パーツ、すなわち、容器本体、蓋体、インナーケース、基板固定部材に分けられる。
【００６１】
まず非イオン界面活性である洗剤を超純水で０．１％まで希釈した溶液を調製する。この希釈液に浸した清浄なブラシや布材によって、収納容器の全面に対し物理的スクラブを施した後、超純水に浸漬しリンスした。
【００６２】
次にアミノアルコールとホスホン酸（アニオン性界面活性剤）を含む洗剤を濃度０．１％（ＰＨ９．８）に調整した洗浄槽に浸漬し、４６ｋＨｚ±２の超音波をあてて１０分間洗浄した。このとき、洗浄槽内の洗浄液は、０．１μｍのフィルターを介した循環ポンプによって常に洗浄槽内の清浄度を一定のレベルに保つように制御されている。
【００６３】
その後、各パーツを流速１２Ｌ／分の超純水シャワーによるリンス洗浄を行った。１パーツあたり１２０秒でリンス洗浄を行った。
次に、クリーン度クラス１（ＩＳＯ規格）であるクリーンルームにて乾燥した。
このようにして界面活性剤による被膜付の収納容器を得た。
【００６４】
上記の収納容器を組み上げ、収納容器の清浄度について調査を行った。収納容器内に純水を１Ｌ加え、蓋を閉めて純水がボックス内側全面に接するよう揺動し、純水中に含まれるパーティクル数を測定した。なお、リオン社製の液中パーティクルカウンタ（ＫＬ−２６）によって測定した。
測定した結果、０．３μｍ以上のパーティクル個数は５００個／１０ｍＬであった。この清浄度は精密基板を収納するための容器として使用するに十分な値である。
【００６５】
また、同条件で洗浄した各パーツを収納容器に組み立てた。その後、収納容器を温度２５℃、クリーン度クラス１０００（ＩＳＯ規格）であるクリーンルームで再度開梱し、インナーケースを取り出して流速０．１ｍ／ｓｅｃ下の状況で長時間（１２時間）放置した。その後、ヒューグルエレクトロニクス社製のデジタル静電気測定器（ＭＯＤＥＬ  ２０５０）でインナーケースの中央端部、および周縁部の帯電量を測定したところ、インナーケースの帯電量は中央端部で０．０３７ｋＶ、周縁部で０．０２８〜０．０３２ｋＶであった。
この値は帯電防止機能をもつ精密基板の収納容器として使用するに十分な値である。
なお、図５に示すように、測定を行った中央端部はａの箇所であり、周縁部はｂ、ｃの箇所である。
【００６６】
これらの測定によって、収納容器の全面において界面活性剤の薄い被膜が適量表面を保護しており、帯電防止機能を得ることができたことがわかる。
【００６７】
（実施例２）
実施例１の界面活性剤入りの洗浄槽後のシャワーリンスを行わなかった（すなわち、シャワーリンス時間が０ｓｅｃ）以外は実施例１と同様にして成型、洗浄して界面活性剤による被膜を全面に形成した収納容器を製造した。
【００６８】
そして、実施例１と同様の測定を行った。
その結果、０．３μｍ以上のパーティクル個数は１１００個／１０ｍＬであった。
また、１２時間放置したインナーケースの帯電量は中央端部で０．０３１ｋＶ、周縁部で０．０３１ｋＶであった。
これらの値は、精密基板の収納容器として十分な清浄度であるし、帯電防止機能をもつ精密基板の収納容器として使用するに十分な値である。
【００６９】
（実施例３）
実施例１の界面活性剤入りの洗浄槽後のリンス時間を半分に短くした（すなわち、６０ｓｅｃ）以外は実施例１と同様にして成型、洗浄して界面活性剤による被膜を全面に形成した収納容器を製造した。
【００７０】
そして、実施例１と同様の測定を行った。
その結果、０．３μｍ以上のパーティクル個数は６３０個／１０ｍＬであった。同じく、１２時間放置したインナーケースの帯電量は中央端部で−０．０２５ｋＶ、周縁部で−０．０９〜０．００９ｋＶであった。
これらの値は、精密基板の収納容器として十分な清浄度であるし、帯電防止機能をもつ精密基板の収納容器として使用するに十分な値である。
【００７１】
（比較例１）
実施例１と同様にして収納容器の成型を行ったが、実施例１の洗浄は行わなかった。
この未洗浄の収納容器に対して、実施例１と同様の測定を行った。
その結果、０．３μｍ以上のパーティクル個数は５０００個／１０ｍＬであった。同じく、１２時間放置したインナーケースの帯電量は中央端部で−０．３４０ｋＶ、周縁部で−０．１５０〜−０．１４０ｋＶであった。
このように大きな帯電量を持つ収納容器は、周囲のパーティクルをその静電力によって引き付け、付着させるため、精密基板の収納容器として好ましくない。また収納容器としての清浄度は低く、この点からも精密基板の収納容器として好ましくない。
【００７２】
（比較例２）
実施例１の界面活性剤入りの洗浄槽後のリンス時間を２倍に長くした（すなわち、２４０ｓｅｃ）以外は実施例１と同様にして成型、洗浄して収納容器を製造した。
そして、実施例１と同様の測定を行った。
その結果、０．３μｍ以上のパーティクル個数は１２５０個／１０ｍＬであった。同じく、１２時間放置したインナーケースの帯電量は中央端部で−０．３１２ｋＶ、周縁部で−０.０８９〜−０.０８８ｋＶであった。
このように収納容器の帯電量が再び大きな値をもつようになったのは、シャワーリンスを長時間当てた結果、収納容器の表面に形成した界面活性剤による被膜がほとんど失われ、表面抵抗が１×１０１４Ω以上となるためである。
【００７３】
（比較例３）
実施例１の界面活性剤入りの洗浄槽後のリンス時間を４倍に長くした（すなわち、４８０ｓｅｃ）以外は実施例１と同様にして成型、洗浄して収納容器を製造した。
そして、実施例１と同様の測定を行った。
その結果、０．３μｍ以上のパーティクル個数は２０００個／１０ｍＬであった。同じく、１２時間放置したインナーケースの帯電量は中央端部で−０．３５０ｋＶ、周縁部で−０．１４０〜−０．１２０ｋＶであった。
このように収納容器の帯電量が、未洗浄の収納容器（比較例１）とほぼ等しい程度の大きな値をもつようになったのは、比較例２よりも更にシャワーリンスを長時間当てた結果、収納容器の表面に形成した界面活性剤による被膜が全く失われ、表面抵抗が未洗浄の収納容器と同じ程度（１×１０１６Ω程度）の表面抵抗となったためである。
【００７４】
実施例、比較例の評価結果を図３、４に示す。
なお、図３はシャワーリンス時間とインナーケースの帯電量との関係を示すグラフである。
また、図４はシャワーリンス時間と液中パーティクルデータとの関係を示すグラフである。
【００７５】
これらの結果より、図３に示すように、収納容器を界面活性剤入りの溶液で洗い、洗浄後に表面に界面活性剤の被膜付の収納容器を得ることで、樹脂で成型した収納容器表面の帯電量が抑制されることが分かる。
なお、１５ｓｅｃ、３０ｓｅｃの場合についても同様の測定を行ったところ、実施例１−３とほぼ同様の帯電量であった。
インナーケースの中央端部は、上面が開口しているため、インナーケースの端部となり、電荷が溜まり、帯電量が大きくなる。これに対し、インナーケースの周縁部は、下面、側面が続いており、帯電量が小さくなる。そのため被膜の効果は、中央端部で顕著となる。
さらに、図４に示すように、実施例においては、界面活性剤入りの洗浄槽から引き上げた収納容器をシャワーリンスで洗い流すことでさらにパーティクル数を減少させることができる。
また、シャワーリンス時間が長くなるとともに、収納容器の清浄度、帯電防止機能は低下する。これは比較例２、３のように、収納容器の表面に一旦形成された界面活性剤の被膜が洗い流されたことによる影響と考えられる。
【００７６】
また、図４には２．０μｍ以上のパーティクル数についても示した。実施例１−３においてはいずれも１０個／１０ｍＬ未満であり、十分に抑えられている。一方、比較例１では約１９０個／１０ｍＬという高い値となった。また、比較例２、３では１０〜２０個／１０ｍＬであった。
【００７７】
なお、実施例１−３のように、２．０μｍ以上のパーティクルが１０個／１０ｍＬ未満の場合、収納容器に収納した精密基板を、工程内を搬送した結果、精密基板に付着する０．５μｍ以上のパーティクルを０個に抑制することができた。
【００７８】
今回の実験によれば、収納容器を界面活性剤入りの洗浄槽から引き上げた後、超純水をかけるシャワーリンス時間には、適当な時間が存在し、シャワーリンス時間が長過ぎると、収納容器の界面活性剤による被膜が失われていき、その結果、帯電防止効果が低減、さらには消失することがわかった。
その結果、収納容器を洗浄した後の清浄度を、液中パーティクルカウンタによって測定すると、パーティクル個数の結果も増加する傾向が見られた。
【００７９】
なお、純水によるリンスを十分に行わないとパーティクル除去が十分でないように思われるが、各実施例のように予め前段階においてパーティクル除去を充分に行っておけば、適量の界面活性剤を含有するアルカリ溶液よりなる洗浄槽に、収納容器を浸漬し、超音波を当て、数分後に引き上げ、超純水による最小限のシャワーによるリンスを行うことにより、図４の実施例に示すように、収納容器の表面抵抗が１×１０１０Ω以下となり、かえって清浄度が向上することが確認できる。
リンスの時間および界面活性剤の種類は、収納容器の形状、表面抵抗によって、その都度、最適な条件に決定することができる。
【００８０】
実施例と比較例を比較することにより、本発明により得られる、界面活性剤による被膜付の収納容器が帯電防止機能の点で優れていることが分かる。
【００８１】
なお、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は、例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。
【符号の説明】
【００８２】
１…収納容器、  １０…基板固定部材、  １１…容器本体、
１２…インナーケース、  １３…精密基板、  １４…蓋体。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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