(57)【要約】【課題】十分な作業スペースを確保できると共に、電源ケーブルの長さを可及的に短くすることができるＰＶＤ処理装置を提供する。【解決手段】本発明のＰＶＤ処理装置１は、互いに対向する側面のそれぞれにヒンジ部８ａ、８ｂにより回動自在とされたドア６、７が設けられた筺状の真空チャンバ２と、ドア６、７のそれぞれに設けられた電極４と、真空チャンバ２におけるドア６、７を有さない側面の外側に配置されて電極４に電力を供給する電源部３とを有し、電源部３から延びる電源ケーブル５をドア６、７のそれぞれのヒンジ部側から電極４に延設して電力を供給するように構成されていて、対向する側面のそれぞれに設けられたドア６、７のうち、一方のドアを上下軸回りに回動自在に枢支するヒンジ部と、他方のドアを上下軸回りに回動自在に枢支するヒンジ部とが、ドア６、７に平行な面への垂直投影において、異なる位置に配備されている。【選択図】図２
2014173132.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
互いに対向する側面のそれぞれにヒンジ部により回動自在とされたドアが設けられた筺状の真空チャンバと、前記ドアのそれぞれに設けられた電極と、前記真空チャンバにおけるドアを有さない側面の外側に配置されて前記電極に電力を供給する電源部とを有し、前記電源部から延びる電源ケーブルを前記ドアのそれぞれのヒンジ部側から電極に延設して電力を供給するように構成されたＰＶＤ処理装置であって、
前記対向する側面のそれぞれに設けられたドアのうち、一方のドアを上下軸回りに回動自在に枢支するヒンジ部と、他方のドアを上下軸回りに回動自在に枢支するヒンジ部とが、前記ドアに平行な面への垂直投影において、異なる位置に配備されていることを特徴とするＰＶＤ処理装置。
【請求項２】
前記一方のドアのヒンジ部と他方のドアのヒンジ部とが真空チャンバに対して対角に配置されていることを特徴とする請求項１に記載のＰＶＤ処理装置。
【請求項３】
前記電源部は、前記ドアに平行な真空チャンバの中心軸に対し、前記ドアに平行な面に垂直な方向にオフセットされた位置に配置されていることを特徴とする請求項１または２に記載のＰＶＤ処理装置。
【請求項４】
前記電源部は、前記真空チャンバにおけるドアを有さない側面のうち、一方の側面の外側に設けられた第１電源部と、他方の側面の外側に設けられた第２電源部との２つから構成されており、
前記第１電源部及び第２電源部は、互いに対向し合う側面に設けられたドアのうち、ヒンジ部までの距離が短い側のドアに設けられた電極に電力を供給していることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載のＰＶＤ処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ＰＶＤ処理装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、切削工具の耐磨耗性の向上や、機械部品の摺動面の摺動特性の向上を目的として、基材（成膜対象物）に対して、物理的蒸着（ＰＶＤ）法による硬質皮膜（ＴｉＮ、ＴｉＡｌＮ、ＣｒＮ等）の成膜が行われてきた。このような硬質皮膜の成膜に用いられる装置としては、アークイオンプレーティング装置やスパッタリング装置などの成膜装置がある。
【０００３】
例えば、特許文献１には、真空チャンバ内で物理的な蒸着の二重被覆を行う装置が開示されている。同文献の図６、図７を見ると、真空チャンバの左側の側面と右側の側面とに、上下方向を向く軸回りに回動自在とされたドアが設けられていて、左側のドアに凹みを設けて陰極とされた電極（蒸発源）を配設することが開示されている。特許文献１の装置のように真空チャンバに対面するようにドアを２つ設ければ、両ドアを開け放つことで真空チャンバ内の広い範囲に亘って手が届き、メンテナンスが楽になる。また、ドアに設けられた電極に対しては、ドアを開け放った状態で電極のメンテナンスができるようになり、電極に対するメンテナンス性が向上するものとなっている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０１０−５３３８２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ところで、特許文献１に示すようなドア配置を有するＰＶＤ処理装置においては、真空チャンバのドアに設けられた電極に電力を供給するために、図５（ａ）、（ｂ）に示すような設備レイアウト、ドアへ向けた電源ケーブルの敷設形態を採用することが多い。
図５（ａ）、（ｂ）はＰＶＤ処理装置１０１を平面視したものであり、真空チャンバ１０２の右側に電源部１０３が配備されている。真空チャンバ１０２は前側と後側（図５の下側と上側）に対面するようにドア（前側ドア１０６、後側ドア１０７）が設けられ、前側ドア１０６及び後側ドア１０７は、真空チャンバ１０２の左側に設けられたヒンジ部１０８ａ、１０８ｂにより、左右方向に開放自在となっている。図５（ａ）はドアを閉鎖した状態を示しており、図５（ｂ）はドアを開放した状態を示している。
【０００６】
前側ドア１０６及び後側ドア１０７には、電極１０４やＰＶＤ処理を行うための装置（例えば、磁場発生装置）が取り付けられており、これら電極１０４や処理部材に電力を供給するための電源ケーブル１０５が電源部１０３から延設されている。具体的には、図５（ａ）に示すように、電源部１０３から延びる電源ケーブル１０５は、真空チャンバ１０２の上方に配備された梯子形状のケーブルラック１０９に沿って敷設され、真空チャンバ１０２の左側へと延設される。その上で、真空チャンバ１０２の左側に設けられたヒンジ部１０８ａ、１０８ｂで折り返すように配線され、前側ドア１０６及び後側ドア１０７に設けられた電極１０４まで延設されて、ドアを貫通し電極１０４に接続される。
【０００７】
このような設備レイアウトは、ＰＶＤ処理のための作業スペースやメンテナンス作業のためのスペース（両者を合わせて、単に作業スペースＳと呼ぶ）を確保するには有利である。例えば、図５（ｂ）に示すように、ドアを開動させる場合を考える。電源部１０３から見ると、前側ドア１０６及び後側ドア１０７は観音開き状で開くことになり、開いたドア自体は、電源部１０３とは反対側に移動するようになる。そのため、電源部１０３の近傍は開放された空間となり、電源１０４や真空チャンバ１０２の周囲に十分な作業スペースＳを確保することが可能となる（図５（ｂ）においてハッチで示した部分）。
【０００８】
ところが、上述した図５（ａ）、（ｂ）の設備レイアウトでは、右側に配備された電源部１０３から真空チャンバ１０２の上方を経由して左側に到るように電源ケーブル１０５を延ばし、ヒンジ部１０８ａ、１０８ｂを取り巻くように折り返した上で電源ケーブル１０５を電極１０４に到達させているため、電源ケーブル１０５の長さが長くなり、以下に述べる問題を発生させる虞がある。
【０００９】
例えば、アークイオンプレーティングなどのように電源ケーブル１０５に大電流を流す場合には、電源ケーブル１０５の長さが長い場合、通電時のジュール熱発生により通電ロスが大きくなる。また、電源部１０３が高周波電力を供給する場合、通電時に電源ケーブル１０５から放出される電磁波の出力が大きくなってノイズが発生し、周囲の機器への影響も無視できなくなる。
【００１０】
一方、上述した問題を回避するために、ヒンジ部１０８ａ、１０８ｂの位置を電源部１０３に近い側、つまり真空チャンバ１０２の右側に設けた場合、今度は、電源部１０３に阻害されドアが大きく開放できなくなったり、作業スペースＳを確保できないといった問題が発生する。
本発明は、上述の問題に鑑みてなされたものであり、十分な作業スペースを確保できると共に、電源ケーブルの長さを可及的に短くすることができるＰＶＤ処理装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
上記課題を解決するため、本発明は以下の技術的手段を講じている。
即ち、本発明のＰＶＤ処理装置は、互いに対向する側面のそれぞれにヒンジ部により回動自在とされたドアが設けられた筺状の真空チャンバと、前記ドアのそれぞれに設けられた電極と、前記真空チャンバにおけるドアを有さない側面の外側に配置されて前記電極に電力を供給する電源部とを有し、前記電源部から延びる電源ケーブルを前記ドアのそれぞれのヒンジ部側から電極に延設して電力を供給するように構成されたＰＶＤ処理装置であって、前記対向する側面のそれぞれに設けられたドアのうち、一方のドアを上下軸回りに回動自在に枢支するヒンジ部と、他方のドアを上下軸回りに回動自在に枢支するヒンジ部とが、前記ドアに平行な面への垂直投影において、異なる位置に配備されていることを特徴とする。
【００１２】
なお、好ましくは、前記一方のドアのヒンジ部と他方のドアのヒンジ部とが真空チャンバに対して対角に配置されているとよい。
なお、好ましくは、前記電源部は、前記ドアに平行な真空チャンバの中心軸に対し、前記ドアに平行な面に垂直な方向にオフセットされた位置に配置されているとよい。
なお、好ましくは、前記電源部は、前記真空チャンバにおけるドアを有さない側面のうち、一方の側面の外側に設けられた第１電源部と、他方の側面の外側に設けられた第２電源部との２つから構成されており、前記第１電源部及び第２電源部は、互いに対向し合う側面に設けられたドアのうち、ヒンジ部までの距離が短い側のドアに設けられた電極に電力を供給しているとよい。
【発明の効果】
【００１３】
本発明のＰＶＤ処理装置を用いることで、十分な作業スペースを確保できると共に、電源ケーブルの長さを可及的に短くすることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】ＰＶＤ処理装置の全体構成を示す斜視図である。
【図２】第１実施形態のＰＶＤ処理装置の平面図であり、（ａ）はドアを閉じた状態を示し、（ｂ）はドアを開いた状態を示している。
【図３】第２実施形態のＰＶＤ処理装置の平面図であり、（ａ）はドアを閉じた状態を示し、（ｂ）はドアを開いた状態を示している。
【図４】第３実施形態のＰＶＤ処理装置の平面図であり、（ａ）はドアを閉じた状態を示し、（ｂ）はドアを開いた状態を示している。
【図５】従来のＰＶＤ処理装置の平面図であり、（ａ）はドアを閉じた状態を示し、（ｂ）はドアを開いた状態を示している。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
［第１実施形態］
本発明のＰＶＤ処理装置１は、ＰＶＤ（Physical Vapor Deposition）法を利用して、被処理物の表面に成膜を行う装置である。ＰＶＤ法は、成膜しようとする物質をアークを用いて蒸発させたりイオンを衝突させて弾き飛ばしたりするといった物理的手段により、ワーク上に成膜しようとする物質を堆積させて皮膜を成膜する方法である。
【００１６】
このＰＶＤ法を行うＰＶＤ処理装置１には、アークイオンプレーティング法により成膜を行うＡＩＰ装置（Arc Ion Plating）や、スパッタ装置などがある。なお、以降の説明では、ＡＩＰ装置を例に挙げて、本発明のＰＶＤ処理装置１を説明する。
図１に示すように、第１実施形態のＰＶＤ処理装置１は、互いに対向する側面のそれぞれにヒンジ部８ａ、８ｂにより回動自在とされたドア６、７が設けられた筺状の真空チャンバ２と、ドア６、７のそれぞれに設けられた電極４と、真空チャンバ２におけるドア６、７を有さない側面の外側に配備されて電極４に電力を供給する電源部３とを有し、電源部３から延びる電源ケーブル５をドア６、７のそれぞれのヒンジ部８ａ、８ｂ側から電極４に延設して電力を供給するように構成されている。
【００１７】
なお、以降の説明において、図２（ａ）におけるＰＶＤ処理装置１の下側及び上側の面を、ＰＶＤ処理装置１を説明する際の前側及び後側という。図２（ａ）におけるＰＶＤ処理装置１の左側及び右側の面を、ＰＶＤ処理装置１を説明する際の左側及び右側という。図２（ａ）の紙面貫通方向を、ＰＶＤ処理装置１を説明する際の上下方向という。これらの方向は、装置説明を行うために便宜的に設けたものであり、装置構成、配置レイアウトを限定するものではない。また、請求項の記載における方向の定義も上記に準ずるものとする。すなわち、請求項での「ドアが互いに対向する側面」を貫通する方向が、本実施形態での「前後方向」であり、請求項での「真空チャンバにおけるドアを有さない側面」を貫通する方向、言い換えれば「ドアに平行な面」に沿った方向が、本実施形態での「左右方向」である。この方向も装置レイアウトを限定するものではない。
【００１８】
真空チャンバ２は、外観が略直方体とされた筺体であり、その内部は空洞とされている。真空チャンバ２の内部に設けられた空洞の部分は、被処理物にＡＩＰ（アークイオンプレーティング）やスパッタなどのＰＶＤ処理を行う処理室とされている。例えば、ＰＶＤ処理がＡＩＰの場合であれば、真空チャンバ２の内部には、蒸発源（すなわち、陰極とされた電極）、蒸発源との間にアーク放電を生起させるアノード電極（すなわち、陽極とされた電極）、磁場を形成する磁場発生装置、プロセスガスなどを供給するプロセスガス導入部、処理室内を排気する排気部、あるいは被処理物を載せた状態で回転するターンテーブルなどが設けられている。なお、真空チャンバ２内に設けられる蒸発源以外の部材に関しては図示を省略する。
【００１９】
また、図２に示す如く、第１実施形態のＰＶＤ処理装置１では、真空チャンバ２の前側面には前側ドア６（前側のドア６）が設けられ、この前側ドア６に対面するように、真空チャンバ２の後側面には後側ドア７（後側のドア７）が設けられている。
この前側ドア６は、真空チャンバ２の前側であって左側に設けられたヒンジ部８ａ（蝶番８ａ）により、上下方向を向く軸回りに開閉自在とされている。また、後側ドア７は、真空チャンバ２の後側であって右側に設けられたヒンジ部８ｂ（蝶番８ｂ）により、上下方向を向く軸回りに開閉自在とされている。すなわち、前側ドア６のヒンジ部８ａと後側ドア７のヒンジ部８ｂとが、閉鎖状態にあるドアと平行となる面、つまり真空チャンバ２の前側面や後側面と平行となる面に対して、この面とは垂直となる方向（法線方向）から投影した場合の位置がそれぞれのヒンジ部で互いに異なるような配置となっている。
【００２０】
なお、図２の例では、平面視において、一方のドアのヒンジ部と他方のドアのヒンジ部とが真空チャンバ２に対して対角に配置されており、前側ドア６のヒンジ部８ａと後側ドア７のヒンジ部８ｂとが真空チャンバ２に対して対角に配置されることとなっている。しかし、前側ドア６のヒンジ部８ａと後側ドア７のヒンジ部８ｂとは真空チャンバ２の角（コーナ）に配置されなくても良い。例えば、角から少し左右方向の中央側にシフトした位置にそれぞれのヒンジ部８ａ、８ｂが設けられていてもよい。
【００２１】
この構成により、前側ドア６は右側に開くようになり、前側ドア６を開いた場合、開放空間が左側にできるようになる。後側ドア７は左側に開くようになり、後側ドア７を開いた場合、開放空間が右側にできるようになる。
そして、これら前側ドア６及び後側ドア７には、ＰＶＤ処理を行うための蒸発源やアノード電極など、陽極や陰極とされた電極（以降、ドアに設けられた陽極や陰極を単に電極４という）が取り付けられている。前側ドア６及び後側ドア７には、ＰＶＤ処理のためのプラズマを制御する磁場発生装置が設けられることもある。
【００２２】
図２に示すように、電源部３は、真空チャンバ２におけるドア６、７を有さない側面、すなわち左右の側面の外側に配備されており、本実施形態では、真空チャンバ２の右方に近接して配備されている。この電源部３は、真空チャンバ２と同等か、あるいは真空チャンバ２よりも若干小さい筺状の外観を備えており、前側ドア６や後側ドア７に取り付けられた電極４などに電力を供給できるようになっている。
【００２３】
第１実施形態の電源部３は、真空チャンバ２の中央部を通り左右方向を向く中心線と、電源部３の中央部を通り左右方向を向く中心線とが同一線上にくるように配置されている。言い換えれば、真空チャンバ２の右側の真横に隣接して電源部３が配備されている。
電源部３は、例えば、ＰＶＤ処理装置１がＡＩＰの場合であれば、陰極の電極４と陽極のアノード電極との間には２０〜３０Ｖ程度の電圧、１００Ａ〜２００Ａ程度の直流電力が供給される。なお、ＡＩＰ以外のＰＶＤ処理を行う場合には、電圧や電流がパルス状や正弦波状に周期的に変化する交流を電源部３から供給することもある。
【００２４】
また、この電源部３から供給される電力の電圧・電流・周波数、真空チャンバ２に送られるガスの流量などの成膜条件を調整して成膜を確実に行うために、電源やガスの調整弁などに信号を送る制御部を、電源部３と一体に設けてもよい。
図１、図２に示すように、電源部３の上部からは、電源ケーブル５が延びており、この電源ケーブル５の一部は、真空チャンバ２の上側に配備されたケーブルラック９上を這うように敷設されている。このケーブルラック９は、左右方向に沿って長尺なハシゴ状に形成されており、上側に載せられた電源ケーブル５を左右方向に沿って水平に案内できるようになっている。
【００２５】
ケーブルラック９上を這うように敷設された電源ケーブル５は、真空チャンバ２の左側の側面に沿って下側に降り、後側ドア７のヒンジ部８ｂを回り込むようにして、後側ドア７の略中央部へと延びるようになる。電源ケーブル５の先端は、後側ドア７を貫通して、後側ドア７に設けられた電極４や磁場発生装置へと繋がっている。
一方、電源部３から延びる電源ケーブル５の何本かは、真空チャンバ２の右側の側面に沿って下に向って延び、前側ドア６のヒンジ部８ａを回り込むようにして、前側ドア６の略中央部へと延びるようになる。この電源ケーブル５の先端は、前側ドア６を貫通して、前側ドア６に設けられた電極４や磁場発生装置へと繋がっている。
【００２６】
以上述べたようなＰＶＤ処理装置１の設備レイアウトを採用した場合、次のような作用効果が期待できる。
例えば、図２（ａ）に示すように、前側ドア６のヒンジ部８ａと、後側ドア７のヒンジ部８ｂとが、真空チャンバ２の中央部を挟んで対角となる（１８０°反対側にある）配置では、後側ドア７に関しては真空チャンバ２の後左側に設けられたヒンジ部８ｂを中心に電源部３から離れる方向（紙面では時計回り方向）にドアが開動する。そのため、図２（ｂ）中にハッチつきの円で示したように電源や真空チャンバ２の前側に十分な作業スペースＳを確保することが可能になる。
【００２７】
つまり、第１実施形態のＰＶＤ処理装置１では、電源部３から離れる方向に開動する後側ドア７においては、開動するドアが電源部３などと干渉することが無くなり、十分に広い作業スペースＳを確保することが可能となる。特に、真空チャンバ２から被処理物を取り出したりする際には、ドアを少なくとも９０°以上、好ましくは１８０°近くまで大きく開動できた方が作業しやすいことが現場の経験から分かっている。後側ドア７は、斯かる開閉角度を実現可能なものとなっている。
【００２８】
一方、前側ドア６に関しては真空チャンバ２の前右側に設けられたヒンジ部８ａを中心に電源部３に近づく方向（紙面では反時計回り方向）にドアが開動するため、図２（ｂ）中にハッチつきの楕円で示したようにやや狭めの作業スペースＳが確保されることになる。この状況は従来のＰＶＤ処理装置と同様である。
つまり、図２（ｂ）にハッチつきの円形で示したように、第１実施形態のＰＶＤ処理装置１では、後側ドア７が９０°以上、好ましくは１８０°近くまで開動する。このように後側ドア７を９０°以上開けば、支障なく被処理物の出し入れを行うことが可能となる。また、電極４やその周辺に取り付けられた機器類をドア開の状態でメンテナンスする際にも、作業を進めるのが容易になる。
【００２９】
また、図２（ａ）、図２（ｂ）に示すように、前側ドア６に電流を供給する電源ケーブル５は、真空チャンバ２の右側にヒンジ部８ａがあるので、ヒンジ部８ａを経由して電力を供給する場合であっても、真空チャンバ２の左側にヒンジ部８ａがある場合に比して、非常に短いものとなる。電源ケーブル５が短くなることで、通電ロスやノイズの発生を抑えることが可能となる。一方、後側ドア７に関しては真空チャンバ２の後方の左側に設けられたヒンジ部８ｂを介して電源ケーブル５が延設されるが、この状況は従来のＰＶＤ処理装置と同様である。
【００３０】
なお、図２の例では、前側ドア６のヒンジ部８ａを真空チャンバ２の右側、後側ドア７のヒンジ部８ｂを真空チャンバ２の左側とした例を挙げたが、ヒンジ部８ａ、８ｂの位置を左右で逆に入れ替えることもできる。つまり、前側ドア６のヒンジ部８ａを真空チャンバ２の左側、後側ドア７のヒンジ部８ｂを真空チャンバ２の右側としてもよく、この場合、前側ドア６が電源部３から離れる方向に開動するため、十分な作業スペースＳを電源部３や真空チャンバ２の前側に確保できる。加えて、後側ドア７に対する電源ケーブル５の長さを短くするといった作用効果を得ることができる。
【００３１】
また、図２の例では、前側のヒンジ部８ａと、後側のヒンジ部８ｂとが、真空チャンバ２の中央部を挟んで完全に対角となる配置を挙げたが、前後のヒンジ部８ａ、８ｂは完全な対角位置になくてもよい。例えば、前側のヒンジ部８ａ又は後側のヒンジ部８ｂの少なくとも一方を左右方向の中央側に向かって若干オフセットさせた場合にも、同様な作用効果を発揮させることができる。
［第２実施形態］
次に、第２実施形態のＰＶＤ処理装置１について説明する。
【００３２】
図３に示すように、第２実施形態のＰＶＤ処理装置１では、真空チャンバ２の中央部を通り左右方向を向く中心線に対して、電源部３の中央部を通り左右方向を向く中心線が前方または後方にオフセットして位置するように、電源部３を真空チャンバ２の真横より前後にずらして配置したものである。言い換えれば、第２実施形態のＰＶＤ処理装置１では、電源部３は、ドアが設けられた側面に貫通する方向に沿って、真空チャンバ２に対してオフセットされた位置に、電源部３が配置されたものである。言い換えれば、電源部３（の中心軸）は、ドアに平行な真空チャンバ２の中心軸に対し、ドアに平行な面に垂直な方向にオフセットされた位置に配置されている。このようにすれば、電源部３から遠ざかるように開動する後側ドア７と電源部３との間に、十分な作業スペースＳを確保することが可能になる。
【００３３】
特に、第２実施形態のＰＶＤ処理装置１では、電源部３の配設位置を第１実施形態の位置よりも後方にオフセットさせている。このようにすれば、電源部３が後方に向かって移動した分だけ、開動する前側ドア６と電源部３との間にもスペースを確保することができるようになり、電源部３の後側だけでなく電源部３の前側にも十分な作業スペースＳを確保することが可能となる。
【００３４】
なお、第２実施形態における他の構成や作用効果は第１実施形態と同じであるため、詳しい説明は省略する。
［第３実施形態］
次に、第３実施形態のＰＶＤ処理装置１について説明する。
図４に示すように、第３実施形態のＰＶＤ処理装置１は、真空チャンバ２におけるドアを有さない側面のうち、一方の側面の外側に設けられた第１電源部３１と、他方の側面の外側に設けられた第２電源部３２との２つから構成されており、第１電源部３１及び第２電源部３２は、互いに対向し合う側面に設けられたドア６，７のうち、ヒンジ部８ａ，８ｂまでの距離が短い側のドアに設けられた電極に電力を供給する構成とされている。
【００３５】
つまり、第３実施形態のＰＶＤ処理装置１に備えられる電源部３は、真空チャンバ２の左方に設けられた第１電源部３１と、真空チャンバ２の右方に設けられた第２電源部３２との２つであり、第１電源３１及び第２電源３２は、いずれも前後１組のドア６、７のうち、ヒンジ部８ａ、８ｂまでの距離が短い側のドアに設けられた電極４に電力を供給する構成とされている。
【００３６】
具体的には、第３実施形態のＰＶＤ処理装置１では、前側ドア６のヒンジ部８ａは真空チャンバ２の右側に設けられていて、前側ドア６は右方に向かって開動するようになっている。また、後側ドア７のヒンジ部８ｂは真空チャンバ２の左側に設けられていて、後側ドア７は左方に向かって開動するようになっている。
そして、真空チャンバ２の左方には、真空チャンバ２から左方に近接状態で、且つ、第１実施形態の位置よりも前方にオフセットした位置に第１電源部３１が設けられている。また、真空チャンバ２の右方には、真空チャンバ２から右方に距離をあけて、且つ、第１実施形態の位置よりも後方にオフセットした位置に第２電源部３２が設けられている。
【００３７】
このようなレイアウトを採用すると、左方に設けられた第１電源部３１から、真空チャンバ２の後側の左側に設けられたヒンジ部８ｂを経由して後側ドア７に設けられた電極４まで電源ケーブル５を設けることができ、第１電源部３１に関して電源ケーブル５の長さを短くしつつ、電極４への電源供給が可能となる。また、第１電源部３１の配設位置を第１実施形態の位置よりも前方にオフセットさせているため、前方への移動分だけ、開動した後側ドア７と電源部３との間にスペースが生じ、十分な作業スペースＳを確保することが可能となる。
【００３８】
また、第２電源部３２に関しても、真空チャンバ２の前右側に設けられたヒンジ部８ａを経由して前側ドア６に設けられた電極４まで電源ケーブル５を設けることができ、第２電源部３２に関しても電源ケーブル５の長さを短くしつつ、電極４への電源供給が可能となる。また、第２電源部３２の配設位置を第１実施形態の位置よりも後方にオフセットさせているため、後方への移動分だけ、開動した後側ドア７と電源部３との間にスペースが生じ、十分な作業スペースＳを確保することが可能となる。
【００３９】
このように、第１実施形態や第２実施形態に比べて、全ての電源ケーブル５の長さを短尺化できるので、電源ケーブル５の長さが短くなった分だけ通電ロスやノイズの発生をさらに効果的に抑えることが可能となる。
以上述べた第３実施形態の他の構成や奏する作用効果は、第１実施形態と略同様であるため、その詳細な説明は省略する。
【００４０】
ところで、本発明は上記各実施形態に限定されるものではなく、発明の本質を変更しない範囲で各部材の形状、構造、材質、組み合わせなどを適宜変更可能である。また、今回開示された実施形態において、明示的に開示されていない事項、例えば、運転条件や操業条件、各種パラメータ、構成物の寸法、重量、体積などは、当業者が通常実施する範囲を逸脱するものではなく、通常の当業者であれば、容易に想定することが可能な事項を採用している。
【符号の説明】
【００４１】
１  ＰＶＤ処理装置
２  真空チャンバ
３  電源部
４  電極
５  電源ケーブル
６  前側ドア
７  後側ドア
８ａ  前側に設けられたヒンジ部
８ｂ  後側に設けられたヒンジ部
９  ケーブルラック
３１  第１電源部
３２  第２電源
Ｓ  作業スペース
【図１】
2014173132.tif 000003
【図２】
2014173132.tif 000004
【図３】
2014173132.tif 000005
【図４】
2014173132.tif 000006
【図５】
2014173132.tif 000007