(57)【要約】      （修正有）【課題】反射膜が長期間にわたる過酷な熱環境、湿熱環境、日射環境においても変色が抑制され、十分な反射率を維持しうる塗布液を提供する。【解決手段】少なくとも、白色顔料、シラン化合物および溶媒を含有する塗布液であって、前記シラン化合物総量中の２官能シラン化合物の比率が８０モル％以下であり、３官能シラン化合物に対する４官能シラン化合物のモル比が、０以上３以下であることを特徴とする塗布液。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも、白色顔料、シラン化合物および溶媒を含有する塗布液であって、
前記シラン化合物総量中の２官能シラン化合物の比率をＲ２（モル％）と、３官能シラン化合物の比率をＲ３（モル％）と、４官能シラン化合物の比率をＲ４（モル％）としたときに、下記式（Ａ）、（Ｂ）の両方の条件が満たされていることを特徴とする塗布液。
Ｒ２≦８０  …  （Ａ）
０≦Ｒ４／Ｒ３≦３  …  （Ｂ）
【請求項２】
請求項１に記載の塗布液において、
前記シラン化合物がオリゴマー化されていることを特徴とする塗布液。
【請求項３】
請求項１または２に記載の塗布液において、
無機粒子または粘土鉱物粒子のうち少なくとも一方が含有されていることを特徴とする塗布液。
【請求項４】
請求項３に記載の塗布液において、
前記粘土鉱物粒子が層状ケイ酸塩鉱物、イモゴライトおよびアロフェンからなる群から選ばれる少なくとも１種であることを特徴とする塗布液。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか一項に記載の塗布液において、
粘度が１０ｍＰａ・ｓ以上で５００ｍＰａ・ｓ以下であることを特徴とする塗布液。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれか一項に記載の塗布液において、
シランカップリング剤が含有されていることを特徴とする塗布液。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれか一項に記載の塗布液において、
加熱硬化後の固形分中の前記白色顔料の濃度が６０質量％以上で９５質量％以下であることを特徴とする塗布液。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれか一項に記載の塗布液において、
前記白色顔料が酸化チタン、酸化アルミニウム、硫酸バリウムおよび酸化亜鉛からなる群から選ばれる少なくとも１種であることを特徴とする塗布液。
【請求項９】
請求項１〜８のいずれか一項に記載の塗布液において、
前記溶媒として、１価のアルコールまたは２価以上の多価アルコールのうち少なくとも一方が含有されていることを特徴とする塗布液。
【請求項１０】
請求項１〜９のいずれか一項に記載の塗布液を加熱硬化することによって得られることを特徴とする反射膜。
【請求項１１】
シート状の支持基板と、
前記支持基板の少なくとも一方の面に形成される反射膜とを備え、
前記反射膜が請求項１〜９のいずれか一項に記載の塗布液を加熱硬化することによって得られることを特徴とする反射シート。
【請求項１２】
請求項１１に記載の反射シートにおいて、
前記支持基板が樹脂またはガラスで構成されていることを特徴とする反射シート。
【請求項１３】
請求項１１または１２に記載の反射シートにおいて、
前記支持基板の他方の面には、硬化収縮性樹脂で構成された部材が形成されていることを特徴とする反射シート。
【請求項１４】
請求項１１または１２に記載の反射シートにおいて、
前記支持基板の他方の面にも、前記反射膜が形成されていることを特徴とする反射シート。
【請求項１５】
太陽電池セルと、
前記太陽電池セルを封止する封止部と、
前記太陽電池セルを保護するバックシートとを備え、
前記バックシートがシート状の支持基板およびその上に形成される反射膜を有し、
前記反射膜が請求項１〜９のいずれか一項に記載の塗布液を加熱硬化することによって得られることを特徴とする太陽電池モジュール。
【請求項１６】
ＬＥＤチップと、
前記ＬＥＤチップの光を反射する反射部材とを備え、
前記反射部材がシート状の支持基板およびその上に形成される反射膜を有し、
前記反射膜が請求項１〜９のいずれか一項に記載の塗布液を加熱硬化することによって得られることを特徴とするＬＥＤ照明装置。
【請求項１７】
支持基板と、
前記支持基板上に形成された導体回路と、
前記導体回路を絶縁保護する白色レジストとを備え、
前記白色レジストが前記支持基板上の前記導体回路を除いた部位に形成され、
前記白色レジストが請求項１〜９のいずれか一項に記載の塗布液を加熱硬化することによって得られることを特徴とする実装用基板。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は塗布液、反射膜、反射シート、太陽電池モジュール、ＬＥＤ照明装置および実装用基板に関し、特に反射率の低下を抑制しうる反射膜を形成するのに好適な塗布液に関する。
【背景技術】
【０００２】
反射シートの代表的な適用例として太陽電池バックシートが挙げられる。
従来の太陽電池バックシートでは、太陽電池モジュール自体が過酷な自然環境に曝されることから、長期間にわたって日射、太陽熱、湿気等の影響を受け、次第に光反射性が劣化していくという問題があった。
【０００３】
かかる太陽電池バックシートは一般的に、支持基板に対し白色塗料が塗布され形成される。太陽電池バックシート用の白色塗料として光硬化性樹脂組成物を使用する場合、塗膜を加熱して硬化させたときに変色が起こって着色することがあり、光反射率が低下していた。
これに対し、特許文献１（段落０００７〜０００８参照）では、紫外線や熱による変色及び反射率の低下を抑えるための光硬化性樹脂組成物として、（Ａ）脂環骨格エポキシ樹脂から得られ、１分子中に少なくとも２個のエチレン性不飽和結合を有する活性エネルギー線硬化性樹脂、（Ｂ）チオール系化合物、（Ｃ）光重合開始剤、（Ｄ）希釈剤、（Ｅ）ルチル型酸化チタン、および（Ｆ）エポキシ系熱硬化性化合物を含有する感光性樹脂組成物が開示されている。
しかし、特許文献１の感光性樹脂組成物でも、なお、塗膜の表面が黄色に変化して反射率が低下してしまうという問題が残っていた。
【０００４】
さらに、特許文献１の感光性樹脂組成物では、スクリーン印刷法等、従来の塗工方法を使用している。
近年では、生産効率をより向上させるために、シート等へ塗工する時間の短縮化、手間の省力化という要求も高まっており、スプレーによる塗工も検討されているが、スプレーによる塗工は、溶媒使用量が多くなって環境に大きな負荷がかかり、硬化塗膜にダレやユズ肌が生じて仕上がり外観が悪くなってしまうという問題があった。
このような問題を改善するための技術として、特許文献２（段落００１０〜００１２参照）では、スプレー塗装できるような粘度に調整した白色硬化性樹脂組成物が提案されている。具体的には、特許文献２の白色硬化性樹脂組成物は（Ａ）カルボキシル基含有感光性樹脂、（Ｂ）熱分解法により製造された二酸化ケイ素粉末及び／または金属酸化物粉末、（Ｃ）光重合開始剤、（Ｄ）希釈剤、（Ｅ）エポキシ化合物、（Ｆ）酸化チタン及び（Ｇ）溶剤を含有するものである。
しかしながら、この技術をもってしても、得られる反射膜の主成分が、有機物であることから、反射膜の耐熱性や耐湿熱性、耐光性が不十分であり、長期間の使用においてはやはり変色してしまい、反射率が低下するという問題があった。
【０００５】
反射シート（または反射膜）の他の適用例としては、ＬＥＤ照明装置やＬＥＤの実装用基板なども挙げられる。
ＬＥＤ照明装置では、発光輝度を向上させるために反射シートが使用される。
かかる反射シートとしては、一般的に、銀やアルミ合金などの金属を熱可塑性樹脂フィルムに蒸着したものや（特許文献３、段落００１１、００３２参照）、ポリエステル発泡シート（特許文献４、段落００３５参照）、酸化チタンを混練してＰＥＴフィルムに塗布したもの（特許文献５、段落００３７〜００３８参照）などが使用されている。
しかしながら、銀やアルミ合金などの金属を蒸着した反射シートでは、当該金属の酸化や硫化により、徐々に反射率が低下するという問題があった。ポリエステル発泡シートによる反射シートやＰＥＴフィルムを用いた反射シートでも、ＬＥＤから照射される光により樹脂の黄変が発生し、徐々に反射率が低下するという問題があった。
他方、ＬＥＤの実装用基板でも、発光輝度を向上させるために反射膜が使用される。
かかる実装用基板では、白色ソルダーレジストがプリント基板に塗布され、その白色ソルダーレジストが反射膜を構成している。白色ソルダーレジストには、たとえば、酸化チタンなどの白色顔料を、エポキシ樹脂やオキセタン樹脂などの熱硬化性樹脂に含有させたものが用いられている（特許文献６、段落０００７〜０００９参照）。
しかしながら、かかる実装用基板でも、現実にＬＥＤを実装するリフロー工程においてこれら熱硬化性樹脂が変色し、ＬＥＤ照明装置の場合と同様に、反射率が低下してしまうという問題があった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００８−２１１０３６号公報
【特許文献２】特開２０１２−００６１８８号公報
【特許文献３】国際公開第０８／１０５４２４号
【特許文献４】国際公開第０９／０３４７５５号
【特許文献５】特開２０１１−２４９７３２号公報
【特許文献６】特開２００９−２３８７７１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
したがって、本発明の主な目的は、スプレー塗布、またはコーターやスクリーン印刷等による塗布が可能な塗布液であって、それにより得られる反射膜が長期間にわたる過酷な熱環境、湿熱環境、日射環境においても変色が抑制され、十分な反射率を維持しうる塗布液を提供することにある。
本発明の他の目的は、上記塗布液を用いて形成され、反射率の低下を抑制することができる反射膜もしくは反射シートまたはこれらを適用した太陽電池モジュール、ＬＥＤ照明装置および実装用基板を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記課題を解決するため、本発明によれば、
少なくとも、白色顔料、シラン化合物および溶媒を含有する塗布液であって、
前記シラン化合物総量中の２官能シラン化合物の比率をＲ２（モル％）と、３官能シラン化合物の比率をＲ３（モル％）と、４官能シラン化合物の比率をＲ４（モル％）としたときに、下記式（Ａ）、（Ｂ）の両方の条件が満たされていることを特徴とする塗布液が提供される。
Ｒ２≦８０  …  （Ａ）
０≦Ｒ４／Ｒ３≦３  …  （Ｂ）
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、スプレー塗布等が可能で、それにより得られる反射膜が長期間にわたる過酷な熱環境、湿熱環境、日射環境においても変色が抑制され、十分な反射率を維持することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】反射シートの概略構成を示す断面図である。
【図２】固体Ｓｉ−ＮＭＲスペクトルの一例を示す図である。
【図３】太陽電池モジュールの概略構成を示す模式図である。
【図４】ＬＥＤ照明装置の概略構成を示す図である。
【図５】図４のＬＥＤ照明装置の変形例の概略構成を示す図である。
【図６】実装用基板の概略構成を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
以下、図面を参照しながら本発明の好ましい実施形態について説明する。
【００１２】
［反射シート］
図１（ａ）に示すとおり、反射シート１は主に、シート状の支持基板２と反射膜４とで構成されている。
支持基板２は樹脂またはガラスで構成されている。
支持基板２を構成しうる樹脂としては、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）等のポリエステル、ポリアミド、ポリイミド、ポリエーテルケトン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリアミドイミド、ポリフェニレンサルファイド、ポリエーテルイミド、ポリサルホン、ポリエーテルサルホン、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、ポリシクロオレフィン、変性ポリフェニレンオキサイド、液晶ポリマー、ポリアセタール、ポリオレフィン、ポリポリスチレン、フッ素樹脂、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体、トリアセチルセルロース、シリコーン、エポキシ、アクリル、エポキシシリコーンなどが挙げられる。
これら樹脂は１種が単独で使用されてもよいし、複数種が組み合わされ使用されてもよい。
これら樹脂には、反射シート１の強度を向上させたり、反射膜４自体の寸法変化を抑制したりするために、ガラス繊維や無機フィラーが含有されてもよい。
支持基板２を構成しうるガラスとしては、シリカホウ酸系ガラスやリン酸系ガラスなどが挙げられる。
反射膜４は光を反射するための部材で、基本的に、一定の塗布液が支持基板２に塗布され、その塗布液が加熱硬化され形成されている。かかる塗布液には、少なくとも、白色顔料、シラン化合物および溶媒が含有されている（後述参照）。
【００１３】
図１（ｂ）に示すとおり、支持基板２の反射膜４が形成された面の反対面には、反り防止材６が形成されてもよい。かかる構成によれば、反射膜４の形成時において塗布液の加熱硬化に伴い反射膜４が収縮しても、支持基板２が反り返って変形したり破損したりするのを防止することができる。
反り防止材６は硬化収縮性樹脂から構成されている。
反り防止材６を構成しうる硬化収縮性樹脂としては、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、シリコーン樹脂などが挙げられる。当該硬化収縮性樹脂は、熱または光によって硬化しその硬化時に収縮する樹脂であれば、その種類に特に限定はない。
これら硬化収縮性樹脂は１種が単独で使用されてもよいし、複数種が組み合わされ使用されてもよい。
硬化収縮性樹脂として、反射膜４（塗布液）の硬化温度や硬化収縮率と同等のものを使用すれば、支持基板２の反り返りの抑制効果が非常に高くなるし、また反射膜４を構成する塗布液と反り防止材６を構成する硬化収縮性樹脂とを、支持基板２の両面で、同時に硬化させることも可能となる。
【００１４】
他方、図１（ｃ）に示すとおり、支持基板２の反射膜４が形成された面の反対面にも、反射膜４が形成されてもよい。すなわち、支持基板２の表裏両面に対し反射膜４が形成されてもよい。
かかる構成によれば、反射機能を有する一方の反射膜４に対して他方の反射膜４が反り防止機能を有し、支持基板２の反り返りを防止することができる。すなわち、支持基板２の一方の面に反射膜４を形成しこれを厚くしていけば、支持基板２の反り返りを防止しうると考えられる。かかる場合、反射膜４の厚さが一定値を超えると（厚くなり過ぎると）クラックが形成される可能性があるが、支持基板２の表裏両面に対し反射膜４を形成すれば、反射膜４の厚さを確保しなくても、十分な反射率を得ることができ、かつ支持基板２の反り返りを防止することができる（後述の実施例参照）。
【００１５】
下記では、塗布液の組成物や調製方法等について説明する。
【００１６】
［白色顔料］
白色顔料は、反射性の高い粒子であれば、特に制限はない。
使用可能な白色顔料としては、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、炭酸バリウム、硫酸マグネシウム、硫酸バリウム、硫酸カルシウム、酸化亜鉛、酸化マグネシウム、酸化カルシウム、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、硫化亜鉛、水酸化アルミニウム、窒化ホウ素、窒化アルミニウム、チタン酸カリウム、チタン酸バリウム、チタン酸アルミニウム、チタン酸ストロンチウム、チタン酸カルシウム、チタン酸マグネシウム、ヒドロキシアパタイト、等から選ばれた少なくとも１種を挙げることができる。これらの中でも酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化亜鉛、硫酸バリウム及び窒化ホウ素の群より選ばれる１種又は２種以上の組合せからなる混合物が好ましい。
白色顔料の平均一次粒径は、好ましくは１００ｎｍより大きく２０μｍ以下であり、より好ましくは１００ｎｍより大きく１０μｍ以下であり、さらに好ましくは２００ｎｍ〜２．５μｍである。「平均一次粒径」とは、レーザー回折式粒度分布計で測定されるＤ５０の値をいう。レーザー回折式粒度分布計（測定装置）の例には、島津製作所製のレーザー回折式粒度分布測定装置等がある。
白色顔料の反射膜に含有される量は、反射膜全質量に対して、好ましくは６０〜９５質量％であり、より好ましくは７０〜９０質量％である。白色顔料の含有量が６０質量％以上であると、反射膜の光反射性が十分となり、光取り出し効率が高まる。一方、白色顔料の含有量が９５質量％以下であると、相対的なバインダの量が十分となり、反射膜の強度が低くなったり、反射膜の表面から白色顔料の欠落が生じたりするのを、防止することができる。
【００１７】
［シラン化合物］
（１）組成やその比率等
シラン化合物は具体的には、２官能シラン化合物、３官能シラン化合物、４官能シラン化合物のモノマーまたはそのオリゴマーの重合体（硬化物）であって、反射膜のバインダとして機能するものである。
本実施形態では、シラン化合物総量中の２官能シラン化合物の比率をＲ２（モル％）と、３官能シラン化合物の比率をＲ３（モル％）と、４官能シラン化合物の比率をＲ４（モル％）としたときに、式（Ａ）、（Ｂ）の両方の条件が満たされている。
Ｒ２≦８０  …  （Ａ）
０≦Ｒ４／Ｒ３≦３  …  （Ｂ）
式（Ａ）に示すとおり、２官能シラン化合物の比率は全シラン化合物中８０モル％以下である。２官能シラン化合物を加えることにより、反射膜のクラック耐性が向上する。Ｒ２が８０モル％以下であると、反射膜のガスバリア性が向上し、樹脂製の基材の劣化を防止することができる。
式（Ｂ）に示すとおり、３官能シラン化合物に対する４官能シラン化合物のモル比は０以上で３以下である。４官能シラン化合物を加えることにより、反射膜の基板に対する密着性が向上する。Ｒ４／Ｒ３が３以下であると、ポリシロキサンの架橋度が大きくなるのを抑制でき、反射膜にクラックが生じるのを防止することができる。
シラン化合物の総量は、反射膜全質量に対して、好ましくは５〜４０重量％であり、より好ましくは１０〜３０重量％である。シラン化合物の総量が５重量％以上であると、白色顔料を十分に保持することができ、反射膜の表面に顔料粉が発生するのを防止することができる。また、シラン化合物の総量が４０重量％以下であると、硬化収縮によるクラックが発生するのを防止することができる。
【００１８】
反射膜中におけるシラン化合物の２官能成分、３官能成分、４官能成分の比率は、固体Ｓｉ−ＮＭＲにより求めることができる。
また、塗布液中におけるシラン化合物の２官能成分、３官能成分、４官能成分の比率も、塗布液を１５０℃で乾燥固化させて得られた試料の、固体Ｓｉ−ＮＭＲにより求めることができる。
【００１９】
ここで、Ｓｉ−核磁気共鳴（以下「ＮＭＲ：Ｎｕｃｌｅａｒ  Ｍａｇｎｅｔｉｃ  Ｒｅｓｏｎａｎｃｅ」という。）スペクトルについて説明する。
【００２０】
ケイ素を主成分とする化合物は、ＳｉＯ２・ｎＨ２Ｏの示性式で表されるが、構造的には、ケイ素原子Ｓｉの四面体の各頂点に酸素原子Ｏが結合され、これらの酸素原子Ｏに更にケイ素原子Ｓｉが結合してネット状に広がった構造を有する。そして、以下に示す模式図は、上記の四面体構造を無視し、Ｓｉ−Ｏのネット構造を表わしたものであるが、Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ−Ｏ−の繰り返し単位において、酸素原子Ｏの一部が他の成員（例えば−Ｈ、−ＣＨ３など）で置換されているものもあり、１つのケイ素原子Ｓｉに注目した場合、模式図の（Ａ）に示す様に４個の−ＯＳｉを有するケイ素原子Ｓｉ（Ｑ４）、模式図の（Ｂ）に示す様に３個の−ＯＳｉを有するケイ素原子Ｓｉ（Ｑ３）等が存在する。そして、個体Ｓｉ−ＮＭＲスペクトルにおいて、上記の各ケイ素原子Ｓｉに基づくピークは、順次に、Ｑ４ピーク、Ｑ３ピーク、・・・と呼ばれる。
【００２１】
【化１】
2014141626.tif 000002
【００２２】
これら酸素原子が４つ結合したケイ素原子（即ち、Ｑｎ化合物に該当するケイ素）は、一般にＱサイトと総称される。本明細書においてはＱサイトに由来するＱ０〜Ｑ４の各ピークをＱｎピーク群と呼ぶこととする。有機置換基を含まないシリカ膜のＱｎピーク群は、通常ケミカルシフト−８０〜−１３０ｐｐｍの領域に連続した多峰性のピークとして観測される。
【００２３】
これに対し、酸素原子が３つ結合し、それ以外の原子（通常は炭素である。）が１つ結合しているケイ素原子（即ち、Ｔｎ化合物に該当するケイ素）は、一般にＴサイトと総称される。Ｔサイトに由来するピークはＱサイトの場合と同様に、Ｔ０〜Ｔ３の各ピークとして観測される。本明細書においてはＴサイトに由来する各ピークをＴｎピーク群と呼ぶこととする。Ｔｎピーク群は一般にＱｎピーク群より高磁場側（通常ケミカルシフト−８０〜−４０ｐｐｍ）の領域に連続した多峰性のピークとして観測される。
【００２４】
更に、酸素原子が２つ結合するとともに、それ以外の原子（通常は炭素である）が２つ結合しているケイ素原子（即ち、Ｄｎ化合物に該当するケイ素）は、一般にＤサイトと総称される。Ｄサイトに由来するピークも、ＱサイトやＴサイトに由来するピーク群と同様に、Ｄ０〜Ｄｎの各ピーク（Ｄｎピーク群）として観測され、ＱｎやＴｎのピーク群より更に、高磁場側の領域（通常ケミカルシフト−３〜−４０ｐｐｍの領域）に、多峰性のピークとして観測される。
【００２５】
同様に、酸素原子が１つ結合するとともに、それ以外の原子（通常は、炭素原子である）が３つ結合しているケイ素原子は、一般にＭサイトと総称されて、最も高磁場側の領域（通常ケミカルシフト０〜−３ｐｐｍ）に多峰性のピークとして観測される。
【００２６】
ここで、図２を参照する。
図２は、固体Ｓｉ−ＮＭＲスペクトルの一例を示している。
図２中、横軸はケミカルシフトを示しており、縦軸は各構造の化合物の存在量に依存した「相対強度」を示している。
【００２７】
例えば、図２に示す測定結果は、Ｄｎピーク群、Ｔｎピーク群、Ｑｎピーク群それぞれの存在を示すケイ素を主成分とする発光装置用封止材を対象とした測定結果である。
図２中、Ｄ１１は実測データを示している。Ｄ１２はガウス関数にてモデル化したデータを示している。Ｄ１３は差スペクトルを示している。
【００２８】
図２に示す例では、ピークＰ１１、Ｐ１２およびＰ１３が検出されている。
ピークＰ１１は、ピークトップがケミカルシフト−２０．０ｐｐｍ近傍に存在する。即ち、ピークＰ１１は、Ｄｎ化合物が含まれていることを示している。
ピークＰ１２は、ピークトップがケミカルシフト−６０．０ｐｐｍ近傍に存在する。即ち、ピークＰ１２は、Ｔｎ化合物が含まれていることを示している。
ピークＰ１３は、ピークトップがケミカルシフト−１００．０〜−１１０ｐｐｍ近傍に存在する。即ち、ピークＰ１３は、Ｑｎ化合物が含まれていることを示している。
このように、図２の例は、Ｄｎ化合物、Ｔｎ化合物およびＱｎ化合物を含んでいることを示している。
【００２９】
これらのＤｎ、Ｔｎ、Ｑｎの各ピーク群の互いの面積比は、各ピーク群に対応する環境におかれたケイ素原子のモル比と夫々等しい。そのため、全ピークの面積を全ケイ素原子のモル量とすれば、Ｑｎピーク群、Ｔｎピーク群、Ｄｎピーク群およびＭｎピーク群の合計面積は、通常これらに対応する炭素原子と直接結合した全ケイ素のモル量に相当する。
【００３０】
（２）２官能シラン化合物
２官能シラン化合物の例には一般式（ｉ）で表される化合物が含まれる。
Ｒ１２Ｓｉ（ＯＲ２）２  …  （ｉ）
一般式（ｉ）中、「Ｒ１」はそれぞれ独立にアルキル基またはフェニル基を表し、好ましくは炭素数１〜５のアルキル基またはフェニル基を表す。「Ｒ２」は水素原子またはアルキル基を表す。
２官能シラン化合物の具体例には、ジメトキシシラン、ジエトキシシラン、ジプロポキシシラン、ジペンチルオキシシラン、ジフェニルオキシシラン、メトキシエトキシシラン、メトキシプロポキシシラン、メトキシペンチルオキシシラン、メトキシフェニルオキシシラン、エトキシプロポキシシラン、エトキシペンチルオキシシラン、エトキシフェニルオキシシラン、メチルジメトキシシラン、メチルメトキシエトキシシラン、メチルジエトキシシラン、メチルメトキシプロポキシシラン、メチルメトキシペンチルオキシシラン、メチルメトキシフェニルオキシシラン、エチルジプロポキシシラン、エチルメトキシプロポキシシラン、エチルジペンチルオキシシラン、エチルジフェニルオキシシラン、プロピルジメトキシシラン、プロピルメトキシエトキシシラン、プロピルエトキシプロポキシシラン、プロピルジエトキシシラン、プロピルジペンチルオキシシラン、プロピルジフェニルオキシシラン、ブチルジメトキシシラン、ブチルメトキシエトキシシラン、ブチルジエトキシシラン、ブチルエトキシプロポキシシシラン、ブチルジプロポキシシラン、ブチルメチルジペンチルオキシシラン、ブチルメチルジフェニルオキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルメトキシエトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジメチルジペンチルオキシシラン、ジメチルジフェニルオキシシラン、ジメチルエトキシプロポキシシラン、ジメチルジプロポキシシラン、ジエチルジメトキシシラン、ジエチルメトキシプロポキシシラン、ジエチルジエトキシシラン、ジエチルエトキシプロポキシシラン、ジプロピルジメトキシシラン、ジプロピルジエトキシシラン、ジプロピルジペンチルオキシシラン、ジプロピルジフェニルオキシシラン、ジブチルジメトキシシラン、ジブチルジエトキシシラン、ジブチルジプロポキシシラン、ジブチルメトキシペンチルオキシシラン、ジブチルメトキシフェニルオキシシラン、メチルエチルジメトキシシラン、メチルエチルジエトキシシラン、メチルエチルジプロポキシシラン、メチルエチルジペンチルオキシシラン、メチルエチルジフェニルオキシシラン、メチルプロピルジメトキシシラン、メチルプロピルジエトキシシラン、メチルブチルジメトキシシラン、メチルブチルジエトキシシラン、メチルブチルジプロポキシシラン、メチルエチルエトキシプロポキシシラン、エチルプロピルジメトキシシラン、エチルプロピルメトキシエトキシシラン、ジプロピルジメトキシシラン、ジプロピルメトキシエトキシシラン、プロピルブチルジメトキシシラン、プロピルブチルジエトキシシラン、ジブチルメトキシエトキシシラン、ジブチルメトキシプロポキシシラン、ジブチルエトキシプロポキシシラン等が含まれる。
これらの中でもジメトキシシラン、ジエトキシシラン、メチルジメトキシシラン、メチルジエトキシシランが好ましい。
【００３１】
（３）３官能シラン化合物
３官能シラン化合物の例には一般式（ｉｉ）で表される化合物が含まれる。
Ｒ３Ｓｉ（ＯＲ４）３  …  （ｉｉ）
一般式（ｉｉ）中、「Ｒ３」はそれぞれ独立にアルキル基またはフェニル基を表し、好ましくは炭素数１〜５のアルキル基またはフェニル基を表す。「Ｒ４」は水素原子またはアルキル基を表す。
３官能シラン化合物の具体例には、トリメトキシシラン、トリエトキシシラン、トリプロポキシシラン、トリペンチルオキシシラン、トリフェニルオキシシラン、ジメトキシモノエトキシシラン、ジエトキシモノメトキシシラン、ジプロポキシモノメトキシシラン、ジプロポキシモノエトキシシラン、ジペンチルオキシルモノメトキシシラン、ジペンチルオキシモノエトキシシラン、ジペンチルオキシモノプロポキシシラン、ジフェニルオキシルモノメトキシシラン、ジフェニルオキシモノエトキシシラン、ジフェニルオキシモノプロポキシシラン、メトキシエトキシプロポキシシラン、モノプロポキシジメトキシシラン、モノプロポキシジエトキシシラン、モノブトキシジメトキシシラン、モノペンチルオキシジエトキシシラン、モノフェニルオキシジエトキシシラン等のモノヒドロシラン化合物；メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリペンチルオキシシラン、メチルモノメトキシジエトキシシラン、メチルモノメトキシジプロポキシシラン、メチルモノメトキシジペンチルオキシシラン、メチルモノメトキシジフェニルオキシシラン、メチルメトキシエトキシプロポキシシラン、メチルモノメトキシモノエトキシモノブトキシシラン等のモノメチルシラン化合物；エチルトリメトキシシラン、エチルトリプロポキシシラン、エチルトリペンチルオキシシラン、エチルトリフェニルオキシシラン、エチルモノメトキシジエトキシシラン、エチルモノメトキシジプロポキシシラン、エチルモノメトキシジペンチルオキシシラン、エチルモノメトキシジフェニルオキシシラン、エチルモノメトキシモノエトキシモノブトキシシラン等のモノエチルシラン化合物；プロピルトリメトキシシラン、プロピルトリエトキシシラン、プロピルトリペンチルオキシシラン、プロピルトリフェニルオキシシラン、プロピルモノメトキシジエトキシシラン、プロピルモノメトキシジプロポキシシラン、プロピルモノメトキシジペンチルオキシシラン、プロピルモノメトキシジフェニルオキシシラン、プロピルメトキシエトキシプロポキシシラン、プロピルモノメトキシモノエトキシモノブトキシシラン等のモノプロピルシラン化合物；ブチルトリメトキシシラン、ブチルトリエトキシシラン、ブチルトリプロポキシシラン、ブチルトリペンチルオキシシラン、ブチルトリフェニルオキシシラン、ブチルモノメトキシジエトキシシラン、ブチルモノメトキシジプロポキシシラン、ブチルモノメトキシジペンチルオキシシラン、ブチルモノメトキシジフェニルオキシシラン、ブチルメトキシエトキシプロポキシシラン、ブチルモノメトキシモノエトキシモノブトキシシラン等のモノブチルシラン化合物が含まれる。
【００３２】
（４）４官能シラン化合物
４官能シラン化合物の例には一般式（ｉｉｉ）で表される化合物が含まれる。
Ｓｉ（ＯＲ５）４  …  （ｉｉｉ）
一般式（ｉｉｉ）中、「Ｒ５」はそれぞれ独立にアルキル基またはフェニル基を表し、好ましくは炭素数１〜５のアルキル基またはフェニル基を表す。
【００３３】
４官能シラン化合物の具体例には、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシランテトラブトキシシラン、テトラペンチルオキシシラン、テトラフェニルオキシシラン、トリメトキシモノエトキシシラン、ジメトキシジエトキシシラン、トリエトキシモノメトキシシラン、トリメトキシモノプロポキシシラン、モノメトキシトリブトキシシラン、モノメトキシトリペンチルオキシシラン、モノメトキシトリフェニルオキシシラン、ジメトキシジプロポキシシラン、トリプロポキシモノメトキシシラン、トリメトキシモノブトキシシラン、ジメトキシジブトキシシラン、トリエトキシモノプロポキシシラン、ジエトキシジプロポキシシラン、トリブトキシモノプロポキシシラン、ジメトキシモノエトキシモノブトキシシラン、ジエトキシモノメトキシモノブトキシシラン、ジエトキシモノプロポキシモノブトキシシラン、ジプロポキシモノメトキシモノエトキシシラン、ジプロポキシモノメトキシモノブトキシシラン、ジプロポキシモノエトキシモノブトキシシラン、ジブトキシモノメトキシモノエトキシシラン、ジブトキシモノエトキシモノプロポキシシラン、モノメトキシモノエトキシモノプロポキシモノブトキシシランなどのアルコキシシラン、またはアリールオキシシラン等が含まれる。
これらの中でもテトラメトキシシラン、テトラエトキシシランが好ましい。
【００３４】
（５）オリゴマー化
これらのシラン化合物は、モノマーの状態で使用してもよいし、あらかじめ数〜数十のモノマーが重合されたオリゴマーの状態で使用してもよい。
オリゴマーの状態で使用するほうが、塗布液を硬化させたときの収縮が少なくなり、反射膜にクラックが発生しにくくなるという観点から、好ましい。
「オリゴマーの状態（オリゴマー化）」とは、その分子量が、ＧＰＣ（ゲルパーミエーションクロマトグラフ）で測定される重量平均分子量で、５００〜２００００、好ましくは１０００〜１００００、さらに好ましくは１５００〜６０００を満たす場合をいう。
オリゴマーはモノマーを酸触媒、水、溶媒の存在下で反応させることにより得られ、その分子量は反応時間、温度、水の濃度等により調整可能である。
【００３５】
［溶媒］
塗布液には、溶媒として、１価のアルコールまたは２価以上の多価アルコールのうち少なくとも一方が含有される。
溶媒の具体例には、メタノール、エタノール、プロパノール、ｎ−ブタノール等の一価アルコール；メチル−３−メトキシプロピオネート、エチル−３−エトキシプロピオネート等のアルキルカルボン酸エステル；エチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、グリセリン、トリメチロールプロパン、ヘキサントリオール等の多価アルコール；エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノプロピルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル等の多価アルコールのモノエーテル類、あるいはこれらのモノアセテート類；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソアミルケトン等のケトン類；エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、エチレングリコールジプロピルエーテル、エチレングリコールジブチルエーテル、プロピレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル等の多価アルコールの水酸基をすべてアルキルエーテル化した多価アルコールエーテル類；等が含まれる。
これらは１種単独で添加してもよく、また２種以上を添加してもよい。
【００３６】
白色顔料、無機粒子、粘土鉱物粒子等を、あらかじめ均一に撹拌・分散するための溶媒としては、１価のアルコール、およびまたは２価以上の多価アルコールが含まれることが好ましい。
１価のアルコールが含まれると、塗膜の濡れ広がりが良くなり、塗布し易くなる。１価のアルコールの例には、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール等が含まれる。１価のアルコールの含有量は、塗布液全体に対して、好ましくは１０〜５０質量％であり、より好ましくは２０〜４０質量％である。
一方、多価アルコールが含まれると、塗布液の粘度が高まりやすく、白色顔料が沈降し難くなる。多価アルコールは、ジオールまたはトリオールのいずれであってもよい。多価アルコールの例には、エチレングリコール、プロピレングリコール、ジエチレングリコール、グリセリン、１,３-ブタンジオール、１,４-ブタンジオールなどが挙げられ、好ましくは、エチレングリコール、プロピレングリコール、１,３-ブタンジオール、１,４-ブタンジオール等が含まれる。多価アルコールの含有量は、塗布液全体に対して、好ましくは１０〜５０質量％であり、より好ましくは２０〜４０質量％である。
溶媒には、水が含まれてもよい。塗布液に水が含まれていると、粘土鉱物粒子の層間に水が入り込んで粘土鉱物粒子が膨潤し、塗布液の粘度がより高まりやすくなる。
【００３７】
［無機粒子］
塗布液には無機粒子が含有されてもよい。
塗布液に平均粒径１００ｎｍ以上で１００μｍ以下の無機粒子が含まれると、白色顔料粒子と粘土鉱物粒子との界面に生じる隙間が無機粒子によって埋まり、塗布液の粘度が高まる。
無機粒子の例には、酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、などの酸化物粒子、フッ化マグネシウムなどのフッ化物粒子など、またはこれらの混合物が含まれる。
無機粒子は、好ましくは酸化物粒子であり、特に、白色顔料層のバインダをポリシロキサン等の含ケイ素有機化合物の硬化物（セラミック）とする場合には、白色顔料層のバインダに対する親和性の観点から、酸化物粒子を酸化ケイ素とすることが好ましい。
塗布液における無機粒子の含有量は、塗布液全量に対して、好ましくは０．１〜１０質量％であり、より好ましくは０．２〜５質量％である。無機粒子の含有量が１０質量％以下であると、成膜時にクラックが生じにくく、０．１％以上であると増粘効果が低くなるのを抑制することができる。
無機粒子の平均粒径は、白色顔料粒子と粘土鉱物粒子との界面に生じる隙間を埋めるとの観点から、好ましくは５ｎｍ以上で５０μｍ以下であり、より好ましくは１０ｎｍ以上で３０μｍ以下である。無機粒子の平均粒径は、例えばコールターカウンター法によって測定することができる。
無機粒子の表面は、シランカップリング剤やチタンカップリング剤で処理されていてもよい。表面処理によって、無機粒子と溶媒との相溶性が高まる。
【００３８】
［粘土鉱物粒子］
塗布液には粘土鉱物粒子が含有されてもよい。
塗布液に粘土鉱物粒子が含まれると、塗布液の粘度が高まり、白色顔料粒子の沈降が抑制される。
粘土鉱物粒子の例には、層状ケイ酸塩鉱物、イモゴライト、アロフェン等が含まれる。
層状ケイ酸塩鉱物は、好ましくは雲母構造、カオリナイト構造またはスメクタイト構造を有する膨潤性粘土鉱物であるのがよく、特に好ましくは膨潤性に富むスメクタイト構造を有する膨潤性粘土鉱物であるのがよい。
層状ケイ酸塩鉱物粒子は、塗布液の静置状態でカードハウス構造を形成しやすい。層状ケイ酸塩鉱物粒子がカードハウス構造を形成すると、塗布液の粘度が大幅に高まる。一方で、カードハウス構造は、一定の圧力を加える崩れやすく、これにより塗布液の粘度が低下する。すなわち、塗布液に層状ケイ酸塩鉱物粒子が含まれると、静置状態では塗布液の粘度が高くなり、一定の圧力をかけた場合には塗布液の粘度が低くなる。
このような層状ケイ酸塩鉱物の例には、天然または合成の、ヘクトライト、サポナイト、スチブンサイト、ハイデライト、モンモリロナイト、ノントライト、ベントナイト等のスメクタイト属粘土鉱物や、Ｎａ型テトラシリシックフッ素雲母、Ｌｉ型テトラシリシックフッ素雲母、Ｎａ型フッ素テニオライト、Ｌｉ型フッ素テニオライト等の膨潤性雲母属粘土鉱物およびバーミキュラライトやカオリナイト、またはこれらの混合物が含まれる。
粘土鉱物粒子の市販品の例には、ラポナイトＸＬＧ（英国、ラポート社製合成ヘクトライト類似物質）、ラポナイトＲＤ（英国、ラポート社製合成ヘクトライト類似物質）、サーマビス（独国、ヘンケル社製合成ヘクトライト類似物質）、スメクトンＳＡ−１（クニミネ工業（株）製サポナイト類似物質）、ベンゲル（ホージュン（株）販売の天然ベントナイト）、クニビアＦ（クニミネ工業（株）販売の天然モンモリロナイト）、ビーガム（米国、バンダービルト社製の天然ヘクトライト）、ダイモナイト（トピー工業（株）製の合成膨潤性雲母）、ミクロマイカ（コープケミカル（株）製の合成非膨潤性雲母）、ソマシフ（コープケミカル（株）製の合成膨潤性雲母）、ＳＷＮ（コープケミカル（株）製の合成スメクタイト）、ＳＷＦ（コープケミカル（株）製の合成スメクタイト）等が含まれる。
粘土鉱物粒子の含有量は、塗布液全体に対して、好ましくは０．１〜５質量％であり、より好ましくは０．２〜２質量％である。粘土鉱物粒子の含有量が０．１質量％以上であると、塗布液の粘度が高まり、白色顔料粒子が沈降しにくくなる。一方、粘土鉱物粒子の含有量が５質量％以下であると、塗布液の粘度が高くなり過ぎるのを抑制することができ、塗布液が塗布装置から均一に吐出されないといった事態を回避することができる。
粘土鉱物粒子の表面は、塗布液での溶媒との相溶性を考慮して、アンモニウム塩等で修飾（表面処理）されていてもよい。
【００３９】
［シランカップリング剤］
塗布液にはシランカップリング剤が含有されてもよい。
シランカップリング剤としては、例えば、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、ｐ−スチリルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、３−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−トリエトキシシリル−Ｎ−（１，３−ジメチル−ブチリデン）プロピルアミン、Ｎ−フェニル−３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−（ビニルベンジル）−２−アミノエチル−３−アミノプロピルトリメトキシシランの塩酸塩、３−ウレイドプロピルトリメトキシシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシラン、３−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、ビス（トリエトキシシリルプロピル）テトラスルフィド、３−イソシアネートプロピルトリエトキシシラン等があげられ、これらは単独でもしくは２種以上併せて用いられる。
シランカップリング剤の添加量は、反射膜中の固形分量に対して、好ましくは１〜１０質量％であり、より好ましくは３〜７質量％である。シランカップリング剤の添加量が１質量％以上であると、反射膜と基板の密着性が向上する。シランカップリング剤の添加量が１０質量％以下であると、耐熱性が低下するのを防止することができる。
【００４０】
［調液方法］
塗布液の調液方法は、白色顔料、シラン化合物、溶媒、無機粒子、粘土鉱物、シランカップリング剤等の原料を、一括して混合しても良いし、複数の原料を予め混合して、後から混合液同士を混合しても良い。
塗布液中の均一性を得るために、塗布液の原料のすべてまたは一部を、以下のような装置で撹拌・分散することが好ましい。
増粘効果を高めるために、無機粒子、粘土鉱物の一方または両方と溶媒とを含んだ混合液を、以下のような装置で、予め撹拌・分散してから、残りの成分と混合しても良い。
白色顔料の分散性を高めるためには、白色顔料が少なくとも１回、以下の装置で撹拌・分散されていることが好ましい。以下の装置で撹拌・分散を行うことにより、顔料粒子の凝集が低減し、より緻密で反射率の高い塗膜が形成される。
【００４１】
［撹拌・分散装置］
混合液の撹拌・分散は、例えば、マグネチックスターラー、超音波分散装置、ホモジナイザー、撹拌ミル、ブレード混練撹拌装置、薄膜旋回型分散機、高圧衝撃式分散装置、自転公転ミキサーなどを用いて行うことができる。
混合液の撹拌・分散に用いられる撹拌・分散装置としては公知のものを全て使用できる。例えば、ウルトラタラックス（ＩＫＡジャパン社製）、ＴＫホモミクサー（プライミクス社製）、ＴＫパイプラインホモミクサー（プライミクス社製）、ＴＫフィルミックス（プライミクス社製）、クレアミックス（エム・テクニック社製）、クレアＳＳ５（エム・テクニック社製）、キャビトロン（ユーロテック社製）、ファインフローミル（太平洋機工社製）のようなメディアレス撹拌機、ビスコミル（アイメックス製）、アペックスミル（寿工業社製）、スターミル（アシザワ、ファインテック社製）、ＤＭＰＡ・Ｓスーパーフロー（日本アイリッヒ社製）、エムピーミル（井上製作所社製）、スパイクミル（井上製作所社製）、マイティーミル（井上製作所社製）、ＳＣミル（三井鉱山社製）などのメディア撹拌機等やアルティマイザー（スギノマシン社製）、ナノマイザー（吉田機械社製）、ＮＡＮＯ３０００（美粒社製）などの高圧衝撃式分散装置が挙げられる。また、あわとり練太郎（新キー）などの自転公転式ミキサーや超音波分散装置も好適に用いることが可能である。
【００４２】
［塗布・硬化方法］
塗布液の塗布方法は、特に制限されず、スプレー装置やコーター等の一般的な塗布装置による塗布方法や、スクリーン印刷による塗布方法などを採用しうる。
コーターの具体例としては、ブレードコーター、ナイフコーター、含浸コーター、ＭＢコーター、ダイコーター、スロットダイコーター、ロールコーター、グラビアコーター、バーコーター、コンマコーター等が挙げられる。
塗布液の硬化方法や硬化条件は、シラン化合物の種類等によって適宜選択する。硬化方法の一例として、加熱硬化が挙げられる。
【００４３】
＜適用例＞
続いて、反射シート１（または反射膜４）を、太陽電池モジュールやＬＥＤ照明装置、実装用基板などに適用した例について、それぞれ説明する。
【００４４】
［太陽電池モジュール］
図３に示すとおり、太陽電池モジュール１０は主に、太陽電池セル１１、封止樹脂部２０、表面部３０およびバックシート４０で構成されている。
太陽電池セル１１は主に電極１２，１４、ｎ型半導体１６およびｐ型半導体１８で構成されている。太陽電池セル１１では、太陽光が照射されると、電子と正孔とが発生し、正孔はｎ型半導体に、電子はｐ型半導体にそれぞれ集まる。これら２つのｎ型半導体１６とｐ型半導体１８とが導通され、電流が流れる。
太陽電池セル１１は封止樹脂部２０により封止され、その表面が表面部３０で被覆されている。表面部３０はガラス等により構成されている。
太陽電池モジュール１０には、太陽電池セル１１の裏面保護材としてバックシート４０が設置され、バックシート４０として反射シート１（図１参照）が用いられている。
バックシート４０の支持基板２は好ましくはＰＥＴフィルムなどにより構成されている。バックシート４０の反射膜４は支持基板２の太陽電池セル１１に対向する面に形成され、太陽光を反射し太陽電池セル１１の発電効率を向上させるための部材として機能するようになっている。
なお、バックシート４０においても、支持基板２の反射膜４が形成された面の反対面には反り防止材６が形成されてもよいし（図１（ｂ）参照）、支持基板２の表裏両面に対し反射膜４が形成されてもよい（図１（ｃ）参照）。
【００４５】
［ＬＥＤ照明装置］
図４に示すとおり、ＬＥＤ照明装置５０は主に、ＬＥＤパッケージ６０および反射部材７０で構成されている。
ＬＥＤパッケージ６０は上方が開放したリフレクタ６２を有している。リフレクタ６２の内部にはＬＥＤチップ６４が設置されさらに樹脂が充填され、ＬＥＤチップ６４が封止樹脂部６６で封止されている。
発光素子８０の上方には反射部材７０が設置され、反射部材７０として反射シート１（図１参照）が用いられている。
反射部材７０の支持基板２は好ましくはＰＥＴフィルムなどにより構成されている。反射部材７０の反射膜４はＬＥＤパッケージ６０に対向する面に形成され、ＬＥＤチップ６４から発された光を反射し、これを下方に反射するための部材として機能するようになっている。
なお、反射部材７０においても、支持基板２の反射膜４が形成された面の反対面には反り防止材６が形成されてもよいし（図１（ｂ）参照）、支持基板２の表裏両面に対し反射膜４が形成されてもよい（図１（ｃ）参照）。
以上のＬＥＤ照明装置５０によれば、反射部材７０として反射シート１が用いられ、反射膜４が一定の塗布液により構成されているため、金属の酸化や硫化によって反射率が低下するといった事態や、ＬＥＤチップ６４の発光による樹脂の黄変発生によって反射率が低下するといった事態を、回避することができる。
【００４６】
［ＬＥＤ照明装置（変形例）］
図５に示すとおり、ＬＥＤ照明装置８０は基板８２を有している。
基板８２上にはＬＥＤチップ８４が設置され、ＬＥＤチップ８４が側壁８６で囲まれている。側壁８６の内側には樹脂が充填され、ＬＥＤチップ８４が封止樹脂部８８で封止されている。封止樹脂部８８上には反射部材９０が設置され、反射部材９０として反射シート１（図１参照）が用いられている。
反射部材９０の支持基板２は好ましくはＰＥＴフィルムなどにより構成されている。反射部材９０の反射膜４は支持基板２のＬＥＤチップ８４に対向する面に形成され、ＬＥＤチップ８４から発された光を反射しこれを図５中紙面の表側および裏側に取り出すための部材として機能するようになっている。
ＬＥＤ照明装置８０では、ＬＥＤチップ８４の光は図５中紙面の表側または裏側のいずれか一方のみから取り出すようにしてもよく、かかる場合には図５中紙面のＬＥＤチップ８４の奥側または手前側に反射部材９０を配置すればよい。
なお、反射部材９０においても、支持基板２の反射膜４が形成された面の反対面には反り防止材６が形成されてもよいし（図１（ｂ）参照）、支持基板２の表裏両面に対し反射膜４が形成されてもよい（図１（ｃ）参照）。
【００４７】
［実装用基板］
図６に示すとおり、実装用基板１００は可撓性を有する支持基板１０２を有している。支持基板１０２として支持基板２が用いられている。支持基板１０２は好ましくは耐熱性が良好なポリイミドなどにより構成されている。支持基板１０２上には接着層１０４を介して導体回路１０６が形成されている。導体回路１０６は、接着剤層１０４を介して金属箔層が接着されその不要部分がエッチングされ、形成されたものである。
支持基板１０２の導体回路１０６が形成された面には白色レジスト１０８が形成され、白色レジスト１０８として反射膜４が用いられている。白色レジスト１０８は接着剤層１０４上の導体回路１０６を除いた部位に形成され、導体回路１０６は白色レジスト１０８の一部から露出している。導体回路１０６の露出部には半田バンプ１１０を介してＬＥＤチップ１１２が実装されている。
実装用基板１００では、白色レジスト１０８が導体回路１０６を絶縁保護するとともに、反射部材としても作用するようになっている。
本実施形態では、実装用基板１００は少なくとも支持基板１０２、接着剤層１０４、導体回路１０６および白色レジスト１０８から構成される。ＬＥＤチップ１１２は、実装用基板１００とともにリフロー工程の処理に供され、半田バンプ１１０が溶融することにより、実装用基板１００に実装される。
なお、実装用基板１００においても、支持基板１０２の白色レジスト１０８が形成された面の反対面には反り防止材６が形成されてもよい（図１（ｂ）参照）。さらに、実装用基板１００の表裏両面に導体回路１０６が形成され、白色レジスト１０８が接着層１０４を介して支持基板１０２の表裏両面に形成されてもよい（図１（ｃ）参照）。白色レジスト１０８が実装用基板１００の両面に形成されると、ＬＥＤチップ１１２の実装面と反対側の面も白色となるため、実装面と反対側へ進入した光の反射も可能となり、迷光や色写りを減らして光の利用効率を高めることができる。
以上の実装用基板１００によれば、白色レジスト１０８として反射膜４が使用され、反射膜４が一定の塗布液により構成されているため、ＬＥＤチップ１１２を実装用基板１００に実装するリフロー工程において、白色レジスト１０８が変色するのを抑制することができ、反射率が低下するといった事態を、回避することができる。
【実施例１】
【００４８】
（１）シラン化合物溶液の調製
（１．１）シラン化合物溶液１
テトラエトキシシラン８質量％と、メチルトリエトキシシラン２質量％とエタノール３５質量％とアセトン３５質量％と水１９．９９質量％と硝酸０．０１質量％とを混合して、２３℃で３時間撹拌した後、２６℃で３日間撹拌しながら反応させ、ポリシロキサンオリゴマーを含有するシラン化合物溶液１を得た。
得られた溶液中の、ポリシロキサンオリゴマーの分子量をＧＰＣにより測定したところ、ポリスチレン換算の重量平均分子量は２０００であった。
また、この溶液を１５０℃で硬化させた固体を試料として、固体Ｓｉ−ＮＭＲの測定を行ったところ、Ｑ成分と、Ｔ成分に対応するピークがみられ、それぞれの面積比から、Ｑ成分とＴ成分の比、Ｒ４／Ｒ３は、３．４であった。
【００４９】
（１．２）シラン化合物溶液２
テトラエトキシシラン７．５質量％と、メチルトリエトキシシラン２．５質量％とエタノール３５質量％とアセトン３５質量％と水１９．９９質量％と硝酸０．０１質量％とを混合して、３０℃で３時間撹拌した後、２６℃で３日間撹拌しながら反応させ、ポリシロキサンオリゴマーを含有するシラン化合物溶液２を得た。
得られた溶液中の、ポリシロキサンオリゴマーの分子量をＧＰＣにより測定したところ、ポリスチレン換算の重量平均分子量は１８００であった。
また、この溶液を１５０℃で硬化させた固体を試料として、固体Ｓｉ−ＮＭＲの測定を行ったところ、Ｑ成分と、Ｔ成分に対応するピークがみられ、それぞれの面積比から、Ｑ成分とＴ成分の比、Ｒ４／Ｒ３は、２．６であった。
【００５０】
（１．３）シラン化合物溶液３
メチルトリメトキシシラン２０質量％とエタノール６０質量％と水１９．９９質量％と硝酸０．０１質量％とを混合して、シラン化合物溶液３を得た。
この溶液を１５０℃で硬化させた固体を試料として、固体Ｓｉ−ＮＭＲの測定を行ったところ、Ｔ成分に対応するピークのみがみられた。
【００５１】
（１．４）シラン化合物溶液４
メチルトリメトキシシラン５．５質量％とジメチルジエトキシシラン１４．５質量％とエタノール６０質量％と水１９．９９質量％と硝酸０．０１質量％とを混合して、２８℃で２日間撹拌し、ポリシロキサンオリゴマーを含有するシラン化合物溶液４を得た。
得られた溶液中の、ポロシロキサンオリゴマーの分子量をＧＰＣにより測定したところ、ポリスチレン換算の重量平均分子量は２４００であった。
また、この溶液を１５０℃で硬化させた固体を試料として、固体Ｓｉ−ＮＭＲの測定を行ったところ、Ｔ成分と、Ｄ成分に対応するピークがみられた。ピークの面積比を計算したところ、全ケイ素化合物中のＤ成分の含有率は７６モル％であった。
【００５２】
（１．５）シラン化合物溶液５
メチルトリメトキシシラン３．５質量％とジメチルジエトキシシラン１６．５質量％とエタノール６０質量％と水１９．９９質量％と硝酸０．０１質量％とを混合して、２８℃で２日間撹拌し、ポリシロキサンオリゴマーを含有するシラン化合物溶液５を得た。
得られた溶液中の、ポリシロキサンオリゴマーの分子量をＧＰＣにより測定したところ、ポリスチレン換算の重量平均分子量は２３００であった。
また、この溶液を１５０℃で硬化させた固体を試料として、固体Ｓｉ−ＮＭＲの測定を行ったところ、Ｔ成分と、Ｄ成分に対応するピークがみられた。ピークの面積比を計算したところ、全ケイ素化合物中のＤ成分の含有率は８５モル％であった。
【００５３】
（１．６）シラン化合物溶液６
テトラメトキシシラン２質量％とメチルトリメトキシシラン３質量％とジメチルジメトキシシラン５質量％とメタノール７０質量％と水１９．９９質量％と塩酸０．０１質量％とを混合して、２５℃で６日間撹拌し、ポリシロキサンオリゴマーを含有するシラン化合物溶液６を得た。
得られた溶液中の、ポリシロキサンオリゴマーの分子量をＧＰＣにより測定したところ、ポリスチレン換算の重量平均分子量は１６００であった。
また、この溶液を１５０℃で硬化させた固体を試料として、固体Ｓｉ−ＮＭＲの測定を行ったところ、Ｑ成分とＴ成分とＤ成分に対応するピークがみられた。ピークの面積比を計算したところ、Ｑ成分とＴ成分の比、Ｒ４／Ｒ３は、０．５であり、全ケイ素化合物中のＤ成分の含有率は５６．８モル％であった。
【００５４】
（１．７）シラン化合物溶液７
テトラメトキシシラン１質量％とメチルトリメトキシシラン１質量％とジメチルジメトキシシラン８質量％とメタノール７０質量％と水１９．９９質量％と塩酸０．０１質量％とを混合して、２５℃で６日間撹拌し、ポリシロキサンオリゴマーを含有するシラン化合物溶液７を得た。
得られた溶液中の、ポリシロキサンオリゴマーの分子量をＧＰＣにより測定したところ、ポリスチレン換算の重量平均分子量は１５００であった。
また、この溶液を１５０℃で硬化させた固体を試料として、固体Ｓｉ−ＮＭＲの測定を行ったところ、Ｑ成分とＴ成分とＤ成分に対応するピークがみられた。ピークの面積比を計算したところ、Ｑ成分とＴ成分の比、Ｒ４／Ｒ３は、０．７であり、全ケイ素化合物中のＤ成分の含有率は８４．６モル％であった。
【００５５】
（１．８）シラン化合物溶液８
テトラメトキシシラン７．３質量％とメチルトリメトキシシラン１．７質量％とジメチルジメトキシシラン１質量％とメタノール７０質量％と水１９．９９質量％と塩酸０．０１質量％とを混合して、３時間撹拌し、ポリシロキサンオリゴマーを含有するシラン化合物溶液８を得た。
得られた溶液中の、ポリシロキサンオリゴマーの分子量をＧＰＣにより測定したところ、ポリスチレン換算の重量平均分子量は１６００であった。
また、この溶液を１５０℃で硬化させた固体を試料として、固体Ｓｉ−ＮＭＲの測定を行ったところ、Ｑ成分とＴ成分とＤ成分に対応するピークがみられた。ピークの面積比を計算したところ、Ｑ成分とＴ成分の比、Ｒ４／Ｒ３は、３．５であり、全ケイ素化合物中のＤ成分の含有率は１４．９モル％であった。
【００５６】
（１．９）シラン化合物溶液９
テトラメトキシシラン８０ｇ、メチルトリメトキシシラン７２ｇ、ｎ−ブタノール１４０ｇ、メチル−３−メトキシプロピオネート１４０ｇ、水７０ｇ、硝酸０．１ｇを、２５℃で３時間撹拌して加水分解反応させた。その後、２６℃で２日間反応させることにより、シロキサンオリゴマーを含む反応溶液を得た。
得られた溶液中の、ポリシロキサンオリゴマーの分子量をＧＰＣにより測定したところ、ポリスチレン換算の重量平均分子量は１６００であった。
上記反応溶液４００ｇに、ｎ−ブタノール１００ｇおよびメチル−３−メトキシプロピオネート１００ｇを混合し、シリカ系被膜形成用塗布液としてシラン化合物溶液９を得た。
この溶液を１５０℃で硬化させた固体を試料として、固体Ｓｉ−ＮＭＲの測定を行ったところ、Ｑ成分と、Ｔ成分に対応するピークがみられ、それぞれの面積比から、Ｑ成分とＴ成分の比、Ｒ４／Ｒ３は、０．３であった。
【００５７】
（１．１０）シラン化合物溶液１０
メチルトリエトキシシラン７５ｇを、エチレングリコールジメチルエーテル４００ｇに溶解させかき混ぜた。次いで、純水２５ｇと濃硝酸０．１ｇとを混合したものを、ゆっくりかき混ぜながら滴下した後、２５℃で約３時間かき混ぜ、その後室温で６日間静置させて溶液を得た。この溶液を１２０〜１４０ｍｍＨｇ、４０℃にて１時間減圧蒸留し、シラン化合物溶液１０を得た。
得られた溶液中の、ポリシロキサンオリゴマーの分子量をＧＰＣにより測定したところ、ポリスチレン換算の重量平均分子量は１５００であった。
この溶液を１５０℃で硬化させた固体を試料として、固体Ｓｉ−ＮＭＲの測定を行ったところ、Ｔ成分に対応するピークのみがみられた。
【００５８】
シラン化合物溶液１〜１０の組成等を表１〜表２に示す。
【００５９】
【表１】
2014141626.tif 000003
【００６０】
【表２】
2014141626.tif 000004
【００６１】
（２）調整液１〜１０の調製
表３に示した組成物や撹拌・分散方法（装置）で調整液１〜１０を作製した。
なお、表３中、無機粒子、粘土鉱物およびシランカップリング剤の具体的な化合物は下記のとおりである。
（＊）無機粒子
サイリシア４７０：シリカ（サイリシア４７０、富士シリシア化学製）
ＳＰ−１：シリカ（マイクロビードＳＰ−１、日揮触媒化成製）
ＶＭ２２７０：シリカ（ＶＭ−２２７０、東レ・ダウコーニング製）
Ｚｒ−２１０：ＺｒＯ２粒子（ＴＥＣＮＡＤＩＳ−Ｚｒ−２１０、ＴＥＣＮＡＮ社製）
（＊）粘土鉱物
ＭＫ−１００：合成雲母（ミクロマイカＭＫ−１００、コープケミカル製）
クニピアＦ：モンモリロナイト（クニピアＦ、クニミネ工業製）
ＳＷＮ：スメクタイト（ルーセンタイトＳＷＮ、コープケミカル製）
ＭＥ−１００：合成雲母（ソマシフＭＥ−１００、コープケミカル製）
（＊）シランカップリング剤
ＫＢＭ−４０３：３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン（ＫＢＭ−４０３、信越シリコーン製）
ＫＢＭ−８０２：３−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン（ＫＢＭ−８０２、信越シリコーン製）
ＫＢＭ−９０３：３−アミノプロピルトリメトキシシラン（ＫＢＭ−９０３、信越シリコーン製）
【００６２】
【表３】
2014141626.tif 000005
【００６３】
（３）サンプルの作製
（３．１）実施例１〜１９および比較例１〜４
表４〜表５に示した白色顔料、シラン化合物溶液１〜１０および調整液１〜１０を、表４〜表５に記載の混合比で、表４〜表５に記載の撹拌・分散方法（装置）で撹拌し分散させ、塗布液サンプル（実施例１〜１９および比較例１〜４）を作製した。
なお、表４〜表５中、白色顔料の具体的な化合物は下記のとおりである。
（＊）白色顔料
ＣＲ−９３：ＴｉＯ２（酸化チタン）（ＣＲ−９３、石原産業製）
ＨＤ−１１：Ａｌ２Ｏ３（酸化アルミニウム）（ＨＤ−１１、ニッカトー製）
５０Ａ：ＺｎＯ（酸化亜鉛）（ファイネックス５０Ａ、堺化学工業製）
ＮＦＪ−３−１９９９：ＢａＳＯ４（硫酸バリウム）（ＮＦＪ−３−１９９９、山西物産製）
ＣＲ−９５：ＴｉＯ２（酸化チタン）（ＣＲ−９５、石原産業製）
（３．２）比較例５
特許文献２の実施例の記載（段落００６０〜００６２参照）を参考にして、サイクロマーＰ（ＡＣＡ）Ｚ−３００（１００質量部）、サイリシア４７０（１０質量部）、ＤＡＲＯＣＵＲＥ ＴＰＯ（１０質量部）、Ｍ−４０８（３０質量部）、ＦＲＩＣＲＯＮ８６０（１５質量部）、酸化チタンＣＲ−５０（８０質量部）を混合し、スプレー装置で、ＰＥＴシート上に塗布した。このサンプルを、７０℃、３０分の予備乾燥および、１５０℃、６０分の熱処理により硬化させ、厚さ２０μｍの塗膜（反射膜サンプル）を形成した。
【００６４】
【表４】
2014141626.tif 000006
【００６５】
【表５】
2014141626.tif 000007
【００６６】
なお、塗布液サンプル中の組成物やその組成比（質量％）は表６〜表７に示すとおりである。
【００６７】
【表６】
2014141626.tif 000008
【００６８】
【表７】
2014141626.tif 000009
【００６９】
（４）サンプルの評価
（４．１）塗布量安定性評価
塗布液サンプルを、スプレー装置のタンクに充填し、一定の条件でＰＥＴフィルム上にスプレー塗布し、その塗布膜を、１００℃、３０分の熱処理で硬化させ、硬化膜の重量を求めた。続いて、スプレー装置をそのまま保持した状態で、１０分毎に同様の操作を行い、４時間後に同条件下においてスプレー塗布し、同様にして、硬化膜の重量を求めた。
その後、１回目のスプレーで得られた硬化膜の重量をＡと、４時間後のスプレーで得られた硬化膜の重量をＢとして、下記式により重量変化率を算出した。
重量変化率＝（（Ｂ−Ａ）／Ａ）×１００［％］
かかる重量変化率の値に基づき塗布量安定性を以下のように分類した。
○：重量変化率が３％未満であった
×：重量変化率が３％以上であった
【００７０】
（４．２）製膜性評価
塗布液サンプルを、ＰＥＴシート上にスプレー塗布し、１００℃、３０分の熱処理により硬化させ、厚さ２０μｍの反射膜を備えた反射シートサンプルを作製した。かかる反射膜の状態を目視で観察し、以下のように判断した。
○：反射膜にクラックがみられなかった
△：反射膜に極僅かにクラックがみられたが、反射率に影響はなかった
×：反射膜にクラックが発生した
【００７１】
（４．３）テープ剥離実験
塗布液サンプルを、ＰＥＴシート上にスプレー塗布し、１００℃、３０分の熱処理により硬化させ、厚さ２０μｍの反射膜を備えた反射シートサンプルを作製した。形成された反射膜にニチバン製セロテープ（登録商標）（２４ｍｍ）を貼り付け、直ちに剥がす作業を２０回繰り返して行った。そして、各回の作業毎に反射膜の状態を顕微鏡により観察し、以下のように判断した。
◎：２０回作業後も反射膜の剥離がみられず、テープの表面に何も付着しなかった
○：１５回作業後は剥離がみられなかったが、２０回作業後に僅かに剥離がみられた
△：剥離は生じなかったが、１回目の作業後に、テープの表面に白色顔料の粉が僅かに付着した
×：１５回作業時点で反射膜の剥離が発生していた
【００７２】
（４．４）水蒸気透過試験
塗布液サンプルを、ＰＥＴシート上にスプレー塗布し、１００℃、３０分の熱処理により硬化させ、厚さ２０μｍの反射膜を備えた反射シートサンプルを作製した。かかるサンプルの水蒸気バリア性を評価するため、その指標として水蒸気透過度を求めた。すなわち、ＪＩＳ Ｋ７１２６（Ａ法；差圧法）に準拠して、ガス透過率・透湿度測定装置（ＧＴＲテック（株）製の「ＧＴＲ−１０Ｘ」）により、温度４０℃、相対湿度９０％の条件で、水蒸気透過度を測定した。
水蒸気透過度の測定値に基づき、水蒸気バリア性を以下のように評価した。
○：１０−３ｇ／ｍ２／ｄａｙ未満
△：１０−３〜１０−２ｇ／ｍ２／ｄａｙ
×：１０−２ｇ／ｍ２／ｄａｙ以上
【００７３】
（４．５）反射率測定
塗布液サンプルを、ＰＥＴシート上にスプレー塗布し、１００℃、３０分の熱処理により硬化させ、厚さ２０μｍの反射膜を備えた反射シートサンプルを作製した。そして、分光光度計Ｖ−６７０（日本分光株式会社製）により、各サンプルの反射率を測定した。評価結果の判断は、以下のように行った。
○：波長５００ｎｍにおける反射率が９５％以上であった
△：波長５００ｎｍにおける反射率が８５％以上９５％未満であった
【００７４】
（４．６）耐光試験による反射率評価
塗布液サンプルを、ＰＥＴシート上にスプレー塗布し、１００℃、３０分の熱処理により硬化させ、厚さ２０μｍの反射膜を備えた反射シートサンプルを作製した。その後、各サンプルに対し、キセノンウェザーメーター（スガ試験機社製：７．５ｋＷ スーパーキセノンウェザーメーター ＳＸ７５）を用い、放射照度６０Ｗ／ｍ２（波長３００〜４００ｎｍ）で１０００時間の照射を行い、試験前後での波長５００ｎｍにおける反射率を測定し、下記式により反射率の低下率を求めた。
低下率＝（試験前の反射率―試験後の反射率）×１００／試験前の反射率［％］
評価結果の判断は、以下のように行った。
○：低下率が５％未満である
×：低下率が５％以上である
【００７５】
評価結果を表８〜表９に示す。
【００７６】
【表８】
2014141626.tif 000010
【００７７】
【表９】
2014141626.tif 000011
【００７８】
（５）まとめ
表８〜表９に示すとおり、比較例２〜３の結果から、２官能シラン化合物の比率が８０モル％以上であると、ガスバリア性が不十分となり、水蒸気透過率が高くなる。比較例１，４の結果から、４官能シラン化合物／３官能シラン化合物の比が３を超えると、反射膜の成膜時にクラックが発生する。比較例５の結果から、反射膜の主成分が有機物であると、耐光試験により反射率が低下し耐光性が劣る。
これに対し、実施例１〜１９では、ガスバリア性やクラック発生、反射率に不都合がなく、反射膜の主成分が無機物で構成され、式（Ａ）、（Ｂ）の条件が満たされることが有用であることがわかる。
【００７９】
その他、実施例１〜１９のなかでも、実施例１３と実施例１〜１２，１４〜１９との結果から、シラン化合物がオリゴマー化されると、反射膜のクラックの発生が抑制されることがわかる。
実施例１，６と実施例２〜５，７，９〜１９との結果から、塗布液中に無機粒子や粘土鉱物が含有されると、粘度が上昇し、沈降防止効果が得られ、塗布量が安定することがわかる。特に、実施例１，６と実施例２〜５，７〜１９との結果から、塗布液の粘度は好ましくは１０ｍＰａ・ｓ以上で５００ｍＰａ・ｓ以下である。
実施例８〜１０，１８〜１９と実施例１〜７，１１〜１７との結果から、塗布液中にシランカップリング剤が含有されると、ガスバリア性が向上し、ＰＥＴシート（支持基板）との密着性も高まって剥離強度も向上することがわかる。
実施例１２と実施例１〜１０，１３〜１９との結果から、反射膜（加熱硬化後の塗布液）中の白色顔料の濃度が６０質量％以上であると、反射率の低下を抑制しうることがわかる。その一方、実施例１１と実施例１〜１０，１３〜１９との結果から、反射膜（加熱硬化後の塗布液）中の白色顔料の濃度が９５質量％以下であると、反射膜の表面で白色顔料が粉化して露出するのを防止することができ、反射膜の剥離を抑制しうることがわかる。
【実施例２】
【００８０】
（１）サンプルの作製
（１．１）実施例２０〜２３
実施例７（表４参照）の塗布液サンプルを、縦５０ｍｍ×横５０ｍｍ×厚さ０．１ｍｍのガラス板の片面に、バーコーターにより塗布した。続いて、ガラス板上の塗布液に対し１５０℃で３０分熱処理を行って硬化させ、反射膜を形成した。ここでは、塗布条件（主に塗布量）を変えることによって、反射膜の厚さを、３０μｍ、４０μｍ、５０μｍ、６０μｍと変動させ、その厚さに応じて実施例２０〜２３の反射シートサンプルを作製した。
（１．２）実施例２４
実施例７（表４参照）の塗布液サンプルを、縦５０ｍｍ×横５０ｍｍ×厚さ０．１ｍｍのガラス板の両面に、ディップコートにより同時に塗布した。続いて、ガラス板の塗布液に対し１５０℃で３０分熱処理を行って硬化させ、反射膜を形成した。その結果、反射膜の厚さが両面とも３０μｍである反射シートサンプルを作製した。
【００８１】
（２）サンプルの評価
これらのサンプルについて、波長５５０ｎｍの光に対する反射率や、反射膜のクラックの有無・状態、支持基板の反りの有無・状態を評価した。
評価結果の判断は、以下のように行った。
評価結果を表１０に示す。
（２．１）反射率
９５％以上が好ましく、高ければ高いほどさらに好ましい
（２．２）クラック
○：目視観察で、反射膜にクラックがみられなかった
△：目視観察で、反射膜に僅かなクラックがみられたが、波長５５０ｎｍの光に対する反射率は９５％以上であった
（２．３）反り
○：反りの発生はみられなかった。
△：反りの発生がみられたが、取り扱い上、問題のあるレベルではなかった
【００８２】
【表１０】
2014141626.tif 000012
【００８３】
（３）まとめ
表１０に示すとおり、実施例２０〜２３と実施例２４との比較から、支持基板の両面に反射膜を形成すると、反射率が高く維持され、反射膜のクラックの発生や支持基板の反りの発生も防止されることがわかる。特に、実施例２３と実施例２４との比較から、支持基板の厚さと反射膜の厚さとを足し合わせた総厚が同じであっても、支持基板の片面に反射膜を形成するよりも両面に反射膜を形成したほうが、結果が良好であり、反射シートの製造工程や製造後の取り扱いが容易となる。
【符号の説明】
【００８４】
１  反射シート
２  支持基板
４  反射膜
６  反り防止材
１０  太陽電池モジュール
１１  太陽電池セル
１２，１４  電極
１６  ｎ型半導体
１８  ｐ型半導体
２０  封止樹脂部
３０  表面部
４０  バックシート
５０  ＬＥＤ照明装置
６０  ＬＥＤパッケージ
６２  リフレクタ
６４  ＬＥＤチップ
６６  封止樹脂部
７０  反射部材
８０  ＬＥＤ照明装置
８２  基板
８４  ＬＥＤチップ
８６  側壁
８８  封止樹脂部
９０  反射部材
１００  実装用基板
１０２  支持基板
１０４  接着層
１０６  導体回路
１０８  白色レジスト
１１０  半田バンプ
１１２  ＬＥＤチップ
【図１】
2014141626.tif 000013
【図２】
2014141626.tif 000014
【図３】
2014141626.tif 000015
【図４】
2014141626.tif 000016
【図５】
2014141626.tif 000017
【図６】
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