(57)【要約】【課題】スペース効率と駆動精度に優れた防振機構を備え、小型に構成可能な撮像装置を提供する。【解決手段】物体側に位置する前方レンズ群のうち、反射素子より物体側の前方レンズを駆動して振れ補正を行う防振機構を備えた撮像装置であって、防振用の駆動手段として、反射素子を支持する支持部材と前方レンズを支持する可動枠の一方に磁力境界線が直交する２つの永久磁石を備え、他方に２つのコイルを備える。各永久磁石と各コイルは、前方レンズを通る第１の光軸と反射素子で偏向された第２の光軸を含む第１の平面を挟んだ２つの領域に分けて配置され、さらに全ての永久磁石とコイルの中心が、第１の光軸を通り第１の平面に直交する第２の平面に関して第２の光軸が延びる側と反対側の領域に配置される。２つの永久磁石は、互いの磁力境界線が、第２の平面から離れるにつれて第１の平面に接近するように傾けて配される。【選択図】図５
2014066770.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数のレンズ群を含む撮像光学系を有する撮像装置において、
上記撮像光学系を構成し、物体側から順に、少なくとも一つの前方レンズと、上記前方レンズから第１の光軸に沿って出射された光束を上記第１の光軸と非平行な第２の光軸方向へ反射させる反射素子とを有し、光軸方向位置が固定の前方レンズ群；
上記撮像光学系を構成し、上記前方レンズ群よりも像面側に位置する少なくとも一つの後方レンズ群；
少なくとも上記前方レンズ群の上記反射素子を支持する支持部材；
上記前方レンズ群の上記前方レンズを支持し、上記支持部材に対して上記第１の光軸と直交する平面に沿って可動に支持された可動枠；及び
上記撮影光学系に加わる振れに応じて上記可動枠を駆動して像面上での像振れを抑制する駆動手段；
を備え、
上記駆動手段は、上記支持部材と上記可動枠のいずれか一方に設けられたコイルに通電することにより、上記支持部材と上記可動枠の他方に設けた永久磁石の磁力境界線と垂直な方向への推力を発生するボイスコイルモータを有し、上記第１の光軸と直交する平面内において互いの磁力境界線の方向が直交する関係で２つの上記永久磁石が設けられ、上記第１の光軸と平行な方向で該２つの永久磁石に対向させて２つの上記コイルが設けられていること；
上記第１の光軸と上記第２の光軸を含む第１の平面を挟んだ一方の領域に１組の上記永久磁石と上記コイルが位置し、他方の領域に別の１組の上記永久磁石と上記コイルが位置すること；
上記２つの永久磁石と上記２つのコイルのそれぞれの中心は、上記第１の光軸を通り上記第１の平面に直交する第２の平面を挟んだ両側領域のうち、上記第２の光軸が延びる側と反対側の領域に配置されていること；及び
上記２つの永久磁石の磁力境界線はそれぞれ、上記第２の平面から離れるにつれて上記第１の平面に接近する傾きを有していること；
を特徴とする撮像装置。
【請求項２】
請求項１記載の撮像装置において、上記２つの永久磁石はそれぞれ、上記磁力境界線の方向に長手方向が向く細長形状であり、上記２つのコイルはそれぞれ、上記推力の作用方向と垂直な方向に長手方向が向く細長形状である撮像装置。
【請求項３】
請求項１または２記載の撮像装置において、上記２つの永久磁石と上記２つのコイルのそれぞれの全体が、上記第２の平面を挟んだ両側領域のうち上記第２の光軸が延びる側と反対側の領域に配置されている撮像装置。
【請求項４】
請求項１ないし３のいずれか１項記載の撮像装置において、上記２つの永久磁石の上記磁力境界線は、上記第１の平面に対して正逆に３５度から５５度の範囲の傾きを有している撮像装置。
【請求項５】
請求項１ないし３のいずれか１項記載の撮像装置において、上記２つの永久磁石の上記磁力境界線は、上記第１の平面に対して正逆に４５度の傾きを有している撮像装置。
【請求項６】
請求項１ないし５のいずれか１項記載の撮像装置において、上記第１の平面を挟んだ一方の領域に位置する上記１組の永久磁石とコイルによる第１の推力作用方向での上記可動枠の位置を検知する第１の検知手段と、上記第１の平面を挟んだ他方の領域に位置する上記別の１組の永久磁石とコイルによる第２の推力作用方向での上記可動枠の位置を検知する第２の検知手段を備え、上記第１の検知手段と上記第２の検知手段が上記第１の平面を挟んだ一方と他方の領域に設けられている撮像装置。
【請求項７】
請求項６記載の撮像装置において、上記第１の検知手段と上記第２の検知手段はそれぞれ磁気センサであり、上記第１の推力作用方向を向き上記第１の検知手段を構成する磁気センサの中心を通る直線と、上記第２の推力作用方向を向き上記第２の検知手段を構成する磁気センサの中心を通る直線が、上記第１の光軸上で交差する撮像装置。
【請求項８】
請求項１ないし７のいずれか１項記載の撮像装置において、上記２つの永久磁石が上記可動枠に支持され、上記２つのコイルが上記支持部材に支持されている撮像装置。
【請求項９】
請求項１ないし８のいずれか１項記載の撮像装置において、上記第２の平面を挟んだ両側領域のうち上記第２の光軸が延びる側の領域に、上記後方レンズ群の少なくとも一部を上記第２の光軸に沿って移動させる進退駆動機構を有する撮像装置。
【請求項１０】
請求項１ないし９のいずれか１項記載の撮像装置において、上記前方レンズ群の上記反射素子はプリズムである撮像装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、防振（像振れ補正）機構を備えた撮像装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、デジタルスチルカメラ、デジタルビデオカメラ等の主として撮影を目的とした携帯電子機器や、カメラ付き携帯電話機や携帯情報端末といった付随的に撮影機能を備えた携帯電子機器が広く普及している。この種の携帯電子機器においては、中空のハウジングに撮像センサ（撮像素子）と撮像センサに被写体光を導くための撮像光学系とを収納した構成の撮像ユニットを内蔵させることが広く行われている。そして近年、携帯電子機器の薄型化が進行しているため、撮像ユニットに対する薄型化の要求が強くなっている。撮像ユニットの薄型化の手段として、プリズムやミラーなどの反射要素の反射面を用いて光束を反射（屈曲）させる屈曲光学系を用いたものが知られている。
【０００３】
また撮像ユニットには、手振れなどの振動を起因とする像面上での像振れを軽減させるための、いわゆる防振機構の搭載が求められる傾向にある。屈曲光学系の撮像ユニットで防振機構を備えたものとして、撮像センサを像面と直交する方向に移動させて防振を行う第１のタイプ（特許文献１、２）、反射面を有する反射要素の後方（像面側）に配置したレンズを光軸直交方向に移動させて防振を行う第２のタイプ（特許文献３、４）、反射要素（反射面）の角度や反射要素に隣接するレンズの角度を変化させて防振を行う第３のタイプ（特許文献５、６、７、８）、撮像ユニット全体を傾動させて防振を行う第４のタイプ（特許文献９、１０）が知られている。
【０００４】
防振機構で防振用の光学要素を駆動させる手段として、永久磁石の磁界中に配したコイルに電流を流すことで力を発生させるボイスコイルモータを用いたものが知られている（特許文献１、３、４、５）。磁界の変化を検出するセンサ（ホールセンサ）によって防振用の光学要素の位置情報が得られる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００９-８６３１９号公報
【特許文献２】特開２００８-２６８７００号公報
【特許文献３】特開２０１０-１２８３８４号公報
【特許文献４】特許第４７８９６５５号
【特許文献５】特開２００７-２２８００５号公報
【特許文献６】特開２０１０-２０４３４１号公報
【特許文献７】特開２００６-３３０４３９号公報
【特許文献８】特許第４７１７５２９号
【特許文献９】特開２００６-１６６２０２号公報
【特許文献１０】特開２００６-２５９２４７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
第１のタイプの防振機構は、撮像センサに接続する基板が撮像センサに追随して移動されるため、撮像センサのみならず周囲の電装系の部品も可動対応の構成にする必要があり、構成が複雑でコスト高になりやすい。また撮像センサの撮像面周りは防塵構造であることが求められるが、携帯電話機や携帯情報端末への搭載を意図した小型の撮像ユニットでは、撮像センサの防塵構造を維持しながら防振用の動作を行わせるだけの十分なスペースをハウジング内に確保しにくい。
【０００７】
第２のタイプの防振機構は、防振動作時のレンズの移動方向が撮像ユニットの厚み方向（被写体の方向を前方とした場合の前後方向）になるため、薄型の撮像ユニット内に防振機構を設けることがスペース的に難しいという問題がある。逆に言えば、このタイプの防振機構を用いると撮像ユニットの薄型化が制約されてしまう。レンズではなく撮像センサを撮像ユニットの厚み方向に移動させるタイプの防振機構でも同様の問題がある。
【０００８】
第３のタイプの防振機構は、反射要素やレンズを傾動させるために広いスペースが必要であり、撮像ユニットが大型化しやすい。撮像ユニット全体を傾動させる第４のタイプの防振機構ではさらに大型化が避けられない。
【０００９】
よって、以上のような駆動形態とは異なる、撮像装置の小型化や薄型化に有利な防振機構が求められている。また、ボイスコイルモータを防振機構の駆動源として用いる場合、防振駆動の形態に加えて、永久磁石、コイル、センサといった各要素をスペース効率良く配置することも撮像装置の小型化にとって重要である。
【００１０】
直進運動を行わせるボイスコイルモータは、回転運動を直進変換させる機構などを要さずに動力伝達できるため、光軸と直交する平面内で防振用の光学要素を移動させる防振機構に用いると構成の簡略化を図りやすい。一方、ボイスコイルモータを構成する永久磁石やコイルは、防振用の光学要素の移動平面（防振用の光学要素を通る光軸と直交する平面）に沿って広い面を有する扁平な形状であるため、当該平面方向での配置スペースが大きくなりがちである。特に、防振用のボイスコイルモータには直進運動方向が直交する２組の永久磁石とコイルが用いられ、これら複数の永久磁石とコイルが防振用の光学要素の周囲に配置されるので、駆動源をボイスコイルモータとした防振機構を搭載した撮像ユニットで小型化や薄型化を図る場合、ボイスコイルモータの配置にも留意する必要がある。
【００１１】
また、移動される側の部材に永久磁石を配した、いわゆるムービングマグネットタイプのボイスコイルモータを防振機構に用いた場合、周囲の磁性体が永久磁石の磁界に影響を及ぼして防振駆動の精度を低下させるおそれがあるので、その対策が求められる。
【００１２】
本発明は以上の問題点に鑑みてなされたものであり、防振用の光学要素をボイスコイルモータで駆動する防振機構を備えた撮像装置において、スペース効率と駆動精度に優れた防振機構によって撮像装置の小型化及び薄型化を達成することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
本発明の撮像装置は、撮像光学系を構成し、物体側から順に、少なくとも一つの前方レンズと、前方レンズから第１の光軸に沿って出射された光束を第１の光軸と非平行な第２の光軸方向へ反射させる反射素子とを有し、光軸方向位置が固定の前方レンズ群；撮像光学系を構成し、前方レンズ群よりも像面側に位置する少なくとも一つの後方レンズ群；少なくとも前方レンズ群の反射素子を支持する支持部材；前方レンズ群の前方レンズを支持し、支持部材に対して第１の光軸と直交する平面に沿って可動に支持された可動枠；及び、撮影光学系に加わる振れに応じて可動枠を駆動して像面上での像振れを抑制する駆動手段；を有し、さらに以下の構成を備える。駆動手段は、支持部材と可動枠のいずれか一方に設けられたコイルに通電することにより、支持部材と可動枠の他方に設けた永久磁石の磁力境界線と垂直な方向への推力を発生するボイスコイルモータを有し、第１の光軸と直交する平面内において互いの磁力境界線の方向が直交する関係で２つの永久磁石が設けられ、第１の光軸と平行な方向で該２つの永久磁石に対向させて２つのコイルが設けられている。これら２つの永久磁石と２つのコイルのうち、１組の永久磁石とコイルは、第１の光軸と第２の光軸を含む第１の平面を挟んだ一方の領域に配置され、別の１組の永久磁石とコイルは、第１の平面を挟んだ他方の領域に配置される。これら２組の永久磁石とコイルのそれぞれの中心は、第１の光軸を通り第１の平面に直交する第２の平面を挟んだ両側領域のうち、第２の光軸が延びる側と反対側の領域に配置される。そして、２つの永久磁石の磁力境界線はそれぞれ、第２の平面から離れるにつれて第１の平面に接近する傾きを有している。この構成によると、前方レンズを駆動する防振機構を前方レンズの周囲にスペース効率良く配置することができる。
【００１４】
本発明は、２つの永久磁石がそれぞれ、磁力境界線の方向に長手方向が向く細長形状であり、２つのコイルがそれぞれ、推力の作用方向と垂直な方向に長手方向が向く細長形状であるタイプの撮像装置に好適である。
【００１５】
第２の平面を挟んだ両側領域のうち第２の光軸が延びる側と反対側の領域に、２つの永久磁石と２つのコイルのそれぞれの全体を配置してもよい。
【００１６】
２つの永久磁石の磁力境界線は、第１の平面に対して正逆に３５度から５５度の範囲の傾きで配置されることが好ましい。２つの永久磁石の磁力境界線を、第１の平面に対して正逆に４５度の傾きとなる対称配置にさせると、より好ましい。
【００１７】
さらに、第１の平面を挟んだ一方の領域に位置する１組の永久磁石とコイルによる第１の推力作用方向での可動枠の位置を検知する第１の検知手段と、第１の平面を挟んだ他方の領域に位置する別の１組の永久磁石とコイルによる第２の推力作用方向での可動枠の位置を検知する第２の検知手段を備え、第１の検知手段と第２の検知手段を第１の平面を挟んだ一方と他方の領域に設けると、よりスペース効率に優れた構成となる。
【００１８】
第１の検知手段と第２の検知手段をそれぞれ磁気センサとした上で、第１の推力作用方向を向き第１の検知手段を構成する磁気センサの中心を通る直線と、第２の推力作用方向を向き第２の検知手段を構成する磁気センサの中心を通る直線が、第１の光軸上で交差するように構成することが好ましい。
【００１９】
本発明は、２つの永久磁石が可動枠に支持され、２つのコイルが支持部材に支持されているタイプの防振機構を備えた撮像装置に好適である。
【００２０】
本発明はまた、第２の平面を挟んだ両側領域のうち第２の光軸が延びる側の領域に、後方レンズ群の少なくとも一部を第２の光軸に沿って移動させる進退駆動機構を有する撮像装置に好適である。進退駆動機構が磁性体からなる部材を含んでいても、防振用の駆動手段が第２の平面を挟んで進退駆動機構から遠い側に設けられているため、防振駆動の精度に影響が及びにくい。
【００２１】
前方レンズ群の反射素子は任意に選択できるが、例えばプリズムを用いることができる。
【発明の効果】
【００２２】
本発明によれば、前方レンズ群における反射要素の前方に位置する前方レンズを光軸直交方向に移動させて像振れ補正を行うため、防振機構を内蔵しつつ撮像装置の効率的な小型化、特に前後方向の薄型化を図ることができる。また、防振機構の駆動手段を構成する永久磁石とコイルが、前方レンズの周囲のうち他の光学要素と干渉しない領域にスペース効率良く配置されるため、防振機構を含めた撮像装置の小型化に寄与する。さらに、永久磁石を含む駆動手段が、他の磁性体の影響を受けにくい部分に配置されているため、防振機構の駆動精度の確保においても優れた効果が得られる。
【図面の簡単な説明】
【００２３】
【図１】本発明の一実施形態の撮像ユニットの斜視図である。
【図２】撮像ユニットの分解斜視図である。
【図３】撮像ユニットを構成する１群ブロックの分解斜視図である。
【図４】撮像ユニットの正面図である。
【図５】前カバーと基板モジュールを外した撮像ユニットの正面図である。
【図６】図４のVI-VI線に沿う撮像ユニットの断面図である。
【図７】図４のVII-VII線に沿う撮像ユニットの断面図である。
【図８】撮像ユニットの一部を後方から見た斜視図である。
【図９】後カバーを外した状態の撮像ユニットの一部の後方斜視図である。
【図１０】ベース枠の後方斜視図である。
【図１１】ベース枠の背面図である。
【図１２】ワイド端、中間焦点距離、テレ端での撮像ユニットの光学系の状態を示す側断面図である。
【図１３】撮像光学系に第２プリズムを備えない別実施形態の撮像ユニットの断面図である。
【図１４】第１レンズ枠を付勢する引張バネの数を異ならせた別実施形態の撮像ユニットの、前カバーと基板モジュールを外した状態の正面図である。
【図１５】第１レンズ枠を可動に支持する機構を異ならせた別実施形態の撮像ユニットの分解斜視図である。
【図１６】図１５の撮像ユニットを構成する１群ブロックの分解斜視図である。
【図１７】図１５の撮像ユニットの第１の仮想平面（第２光軸）に沿う断面図である。
【図１８】防振機構の構成要素を全て１群ブロックに搭載した別実施形態の撮像ユニットの一部の前方斜視図である。
【図１９】図１８の１群ブロックを本体モジュールから取り外した状態の前方斜視図である。
【図２０】図１８の１群ブロックの分解斜視図である。
【図２１】図２０の支持基板を分解した斜視図である。
【図２２】防振機構を構成する永久磁石とコイルの配置を異ならせた別実施形態における第１レンズ枠の正面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２４】
以下、添付図面を参照しながら本発明の一実施形態に係る撮像ユニット（撮像装置）１０について説明する。なお以下の説明における前後、左右、及び、上下の各方向は図中に記載した矢線方向を基準としており、被写体（物体）側が前方となる。図１や図４に外観形状を示すように、撮像ユニット１０は前後方向に薄く左右方向に長い横長形状をなしている。
【００２５】
図６や図１２に示すように、撮像ユニット１０の撮像光学系は、第１群（前方レンズ群）Ｇ１と第２群（後方レンズ群）Ｇ２と第３群（後方レンズ群）Ｇ３を有し、第１群Ｇ１に含まれる第１プリズム（反射素子）Ｌ１１と第３群Ｇ３の右方に位置する第２プリズムＬ１２でそれぞれ略直角に光束を反射させる屈曲光学系となっている。第１群Ｇ１は、第１プリズムＬ１１の入射面Ｌ１１−ａの前方（被写体側）に位置する第１レンズ（前方レンズ）Ｌ１と、第１プリズムＬ１１と、第１プリズムＬ１１の出射面Ｌ１１−ｂの右方（像面側）に位置する第２レンズＬ２及び第３レンズＬ３とから構成される。第１レンズＬ１は第１プリズムＬ１１に向く出射面を凹面とした負レンズ（平凹レンズ）、第２レンズＬ２は入射面と出射面をそれぞれ凹面とした負レンズ（両凹レンズ）、第３レンズＬ３は入射面を凸面とした正レンズ（メニスカスレンズ）であり、第１群Ｇ１は全体として負のパワーを持っている。第２群Ｇ２は、入射面と出射面を凸面とした正レンズ（両凸レンズ）である第４レンズＬ４と、入射面が凸面で出射面が凹面の負レンズ（メニスカスレンズ）である第５レンズＬ５で構成され、第２群Ｇ２全体として正のパワーを持っている。第３群Ｇ３は、出射面を凸面とした正レンズ（平凸レンズ）である第６レンズＬ６で構成され、正のパワーを有する。
【００２６】
前方から後方に向かう第１光軸Ｏ１に沿って第１レンズＬ１に入射した被写体からの光束は、入射面Ｌ１１−ａを通して第１プリズムＬ１１に入り、第１プリズムＬ１１内の反射面Ｌ１１−ｃによって第２光軸Ｏ２に沿う方向（左方から右方）に反射されて出射面Ｌ１１−ｂから出射される。続いて光束は、第２光軸Ｏ２上に位置する第２レンズＬ２から第６レンズＬ６までの各レンズを通り、入射面Ｌ１２−ａを通して第２プリズムＬ１２に入り、第２プリズムＬ１２内の反射面Ｌ１２−ｃによって第３光軸Ｏ３に沿う方向（後方から前方に向かう方向）に反射されて出射面Ｌ１２−ｂから出射され、撮像センサＩＳの撮像面上に結像される。第１光軸Ｏ１と第３光軸Ｏ３は略平行であり、第２光軸Ｏ２と共に同一の平面（図４、図５、図７及び図１１に示す仮想平面Ｐ１）内に位置する。撮像ユニット１０の撮像光学系は焦点距離可変であり、第２群Ｇ２と第３群Ｇ３を第２光軸Ｏ２に沿って移動させてズーミング（変倍）動作が行われる。また、第３群Ｇ３を第２光軸Ｏ２に沿って移動させてフォーカシング動作が行われる。すなわち撮像ユニット１０の撮像光学系は物体側から順に負、正、正のパワーを有する３群構成のズームレンズであり、変倍に際して第１群Ｇ１の光軸方向位置は固定で、第２群Ｇ２と第３群Ｇ３が光軸方向に進退する可動レンズ群となっている。詳細は後述するが、撮像ユニット１０は、手振れなどの振動を原因とする像面上での像振れを軽減させる防振（像振れ補正）機構を備えている。この防振機構は第１群Ｇ１中の第１レンズＬ１を第１光軸Ｏ１と直交する平面内で駆動させるものである。以下の説明及び図中における第１光軸Ｏ１は、第１レンズＬ１が防振機構による駆動範囲の中央に位置する状態（振れ補正動作を行なっていない光学設計上の初期位置にある状態）での、該第１レンズＬ１を通る光軸位置を示している。撮像ユニット１０の撮像光学系全体では第３光軸Ｏ３上の撮像センサＩＳの位置に像が形成されるが、第１光軸Ｏ１に沿う方向においては、撮像ユニット１０の前方が物体側で後方が像面側となる。
【００２７】
図１、図２に示すように撮像ユニット１０は大きな構成要素として本体モジュール１１、１群ブロック１２、基板モジュール１３、前カバー１４、後カバー１５を具備している。
【００２８】
本体モジュール１１は合成樹脂製のハウジング１６を備えていて、撮像光学系を構成する第２群Ｇ２と第３群Ｇ３と第２プリズムＬ１２がハウジング１６内に保持されている。ハウジング１６は、左右方向に長く前後方向の厚みが薄い箱状体であり、左端部に取付用凹部１７を有し、ハウジング１６の左右方向の大部分の領域に、前面が開口された断面略矩形の収納凹部１８を有し、取付用凹部１７と収納凹部１８の間には両者を区切る隔壁１９を備えている。隔壁１９の中央部には取付用凹部１７と収納凹部１８を連通させるための連通孔２０が穿設してある。収納凹部１８の右方には正面視略方形をなす位置決め凹部２２が前向きに形成されている。位置決め凹部２２内には弾性変形可能な材質からなるパッキン２３が支持されている。パッキン２３は位置決め凹部２２に嵌る方形の枠状をなし、底部に貫通孔２４が形成されている。位置決め凹部２２の内部には前面及び左側面が開口するプリズム用凹部２５が凹設してある。収納凹部１８の内周面の前縁部には、ハウジング１６の前面より後方に一段後退しかつ前後方向に対して直交する基板支持面２７が形成してあり、基板支持面２７の２カ所には前向きに突出する係止突起２８が設けてある。ハウジング１６の上面や下面には係合凹部２９Ａ、係合凹部２９Ｂ、係合凹部２９Ｃ、係合突起３０及び係合突起３１が形成される。係合凹部２９Ａ、２９Ｂ、２９Ｃと係合突起３０、３１はいずれもハウジング１６の上面と下面にそれぞれ１つずつ形成されている。さらにハウジング１６の右側面には上下一対の係合突起３２（図５）と１つの係合突起３３（図６）が突設される。
【００２９】
プリズム用凹部２５には第２プリズムＬ１２が嵌合固定されている。第２プリズムＬ１２は、第２光軸Ｏ２上に位置し左方を向く入射面Ｌ１２−ａと、第３光軸Ｏ３上に位置し前方を向く出射面Ｌ１２−ｂと、入射面Ｌ１２−ａと出射面Ｌ１２−ｂに対して約４５度の角度で斜設される反射面Ｌ１２−ｃとを備えている。第２プリズムＬ１２をプリズム用凹部２５に固定した状態で、パッキン２３の貫通孔２４を通して出射面Ｌ１２−ｂが前方に露出される。
【００３０】
第２プリズムＬ１２の入射面Ｌ１２−ａの左方の第２光軸Ｏ２上に、第２群Ｇ２と第３群Ｇ３が保持されている。ハウジング１６の右側壁の内面と隔壁１９には共に左右方向に直線的に延びる金属製の円柱部材である第１ロッド（進退駆動機構）３６と第２ロッド（進退駆動機構）３７の両端部が上下に並べた状態で固定してある。第１ロッド３６には合成樹脂製の２群レンズ枠３４の上部に形成した挿通孔が嵌合しており、第２ロッド３７には２群レンズ枠３４の下端部に形成した回転止め溝が係合している。このように回転止め溝が第２ロッド３７に係合することにより２群レンズ枠３４の第１ロッド３６回りの回転を規制しているので、２群レンズ枠３４は第１ロッド３６及び第２ロッド３７に沿って左右方向にスライド可能である。２群レンズ枠３４を左右方向に貫通するレンズ保持孔には、第２群Ｇ２を構成する第４レンズＬ４と第５レンズＬ５が嵌合固定してある。また、２群レンズ枠３４の上端部にはナット保持部３４ａ（図５）が形成してあり、ナット保持部３４ａには軸線が左右方向に延びる雌ねじ孔を備えるドリブンナット（進退駆動機構）３８（図５）が嵌合固定してある（ナット保持部３４ａの一部がドリブンナット３８の回転止めを構成している）。ナット保持部３４ａとドリブンナット３８は、トーションバネ１３０によって弾性的に結合されている。ハウジング１６内のプリズム用凹部２５の上部のスペースにはステッピングモータからなる第１モータＭ１（図５）が固定してある。第１モータＭ１は左方に向かって直線的に延びる回転駆動軸Ｍ１ａを備えており、回転駆動軸Ｍ１ａに形成した雄ねじ溝がドリブンナット３８の上記雌ねじ溝に螺合している。従って、第１モータＭ１を動作させることにより回転駆動軸Ｍ１ａをその軸線回りに正逆回転させると、２群レンズ枠３４（第２群Ｇ２）が第１ロッド３６と第２ロッド３７に沿って左右方向に直線移動する。
【００３１】
また第２ロッド３７には２群レンズ枠３４の右側に位置する合成樹脂製の３群レンズ枠３５の下部に形成した挿通孔が嵌合しており、第１ロッド３６には３群レンズ枠３５の上端部に形成した回転止め溝が係合しているので、３群レンズ枠３５は第１ロッド３６及び第２ロッド３７に沿って（第２ロッド３７回りに回転を規制された状態で）左右方向にスライド可能である。３群レンズ枠３５を左右方向に貫通するレンズ保持孔には第３群Ｇ２を構成する第６レンズＬ６が嵌合固定してあり、３群レンズ枠３５の下端部にはナット保持部３５ａ（図５）が形成してあり、ナット保持部３５ａにはドリブンナット（進退駆動機構）３９（図５）が嵌合固定してある（ナット保持部３５ａの一部がドリブンナット３９の回転止めを構成している）。ナット保持部３５ａとドリブンナット３９は、トーションバネ１３１によって弾性的に結合されている。ハウジング１６内のプリズム用凹部２５の下部のスペースには第１モータＭ１と同一仕様の第２モータＭ２（図５）が固定してあり、回転駆動軸Ｍ２ａ（回転駆動軸Ｍ１ａと同一仕様）に形成した雄ねじ溝がドリブンナット３９の上記雌ねじ溝に螺合している。従って、第２モータＭ２を動作させることにより回転駆動軸Ｍ２ａをその軸線回りに正逆回転させると、３群レンズ枠３９（第３群Ｇ）が第１ロッド３６と第２ロッド３７に沿って左右方向に直線移動する。
【００３２】
さらに第１ロッド３６と第２ロッド３７には遮光枠１２０と遮光枠１２１がスライド可能に支持されている。遮光枠１２０と遮光枠１２１は３群レンズ枠３５（第３群Ｇ３）とプリズム用凹部２５（第２プリズムＬ１２）の間に位置し、遮光枠１２０と２群レンズ枠３４の間には遮光枠１２０をスライド方向の適切な位置に保持させる圧縮バネ１２２が設けられ、遮光枠１２１と３群レンズ枠３５の間には遮光枠１２１をスライド方向の適切な位置に保持させる圧縮バネ１２３が設けられている。遮光枠１２０と遮光枠１２１はそれぞれ左右方向に貫通する矩形の開口と該開口を囲む枠部を有し、開口によって第３群Ｇ３（第６レンズＬ６）から第２プリズムＬ１２へ進む光束を通過させ、枠部によって不要な光を遮断する。
【００３３】
図３に示すように、１群ブロック１２は、第１レンズＬ１を保持する第１レンズ枠（可動枠）４０と、第１プリズムＬ１１と第２レンズＬ２と第３レンズＬ３を保持するベース枠（支持部材）４１を有している。図６に示すように、ベース枠４１には前面及び右側面が開口するプリズム用凹部４２が形成され、プリズム用凹部４２には第１プリズムＬ１１が嵌合固定されている。第１プリズムＬ１１は、第１光軸Ｏ１上に位置し前方を向く入射面Ｌ１１−ａと、第２光軸Ｏ２上に位置し右方を向く出射面Ｌ１１−ｂと、入射面Ｌ１１−ａと出射面Ｌ１１−ｂに対して約４５度の角度で斜設される反射面Ｌ１１−ｃと、入射面Ｌ１１−ａ及び出射面Ｌ１１−ｂに対して直交する一対の側面Ｌ１１−ｄを備えている。ベース枠４１にはさらに、プリズム用凹部４２から右方に貫通するレンズ保持部４３が形成され、このレンズ保持部４３内に第２レンズＬ２と第３レンズＬ３が嵌合保持されている。
【００３４】
ベース枠４１には上下方向へ一対のフランジ４４が突設されている。それぞれのフランジ４４は図５のように正面視してＬ字（逆Ｌ字）状をなしており、上下方向に延設される一辺部に左右方向へ貫通するネジ挿通孔４５が形成され、左右方向に延設される一辺部の外面には係合突起４６が突設されている。ネジ挿通孔４５が開口するフランジ４４の一辺部の右側面は平面状のスペーサ挟着面４７となっており、スペーサ挟着面４７の反対の左側面にネジ挿通孔４５を囲むネジ当付座４８が形成されている。ベース枠４１の左側端部には外囲壁４９が形成されている。またベース枠４１の外囲壁４９の近傍には、上下一対のセンサ支持部５５、５６が形成されている（図３、図７、図１０、図１１）。センサ支持部５５とセンサ支持部５６はベース枠４１の後面側に向く略矩形の凹状部である。
【００３５】
図５、図８、図９に示すように、ベース枠４１におけるフランジ４４よりも右側の部分が、ハウジング１６の取付用凹部１７に嵌る形状を有している。ハウジング１６の隔壁１９から第１ロッド３６と第２ロッド３７の一端部が突出しており（図２に第１ロッド３６が隔壁１９から突出した状態が示されている）、ベース枠４１を取付用凹部１７に嵌合させると、第１ロッド３６と第２ロッド３７の突出端部がベース枠４１に形成した位置決め孔５７（図１０）に挿入されて、ベース枠４１の前後方向と上下方向の位置が定まる。またベース枠４１のレンズ保持部４３がハウジング１６の連通孔２０に嵌合し、第１群Ｇ１を構成する第３レンズＬ３の出射面が第２群Ｇ２を構成する第４レンズＬ４の入射面に対向する。
【００３６】
ハウジング１６には取付用凹部１７の上下に一対のフランジ支持座５０が形成され、フランジ支持座５０にはネジ螺合孔５１が左右方向に軸線を向けて形成されている。一対のフランジ支持座５０は、ベース枠４１の一対のフランジ４４のスペーサ挟着面４７に対向しており、このスペーサ挟着面４７とフランジ支持座５０の間隔によって、ハウジング１６に対するベース枠４１の左右方向位置が決まる。一対のフランジ４４（スペーサ挟着面４７）と一対のフランジ支持座５０の間にはそれぞれ、間隔調整用のスペーサ５２が挟着される。スペーサ５２は四角形の板状をなし、その一辺部から中央に向けてネジ挿通溝５３が形成されている。スペーサ５２は厚みの異なる複数種が準備されており、適切な厚みのスペーサ５２を選択して挿入する。そして、固定ネジ５４の軸部を、各フランジ４４と各スペーサ５２に形成したネジ挿通孔４５とネジ挿通溝５３を通して、フランジ支持座５０のネジ螺合孔５１に螺合させ、固定ネジ５４の頭部がネジ当付座４８に当接するまで締め付ける。これによりベース枠４１がハウジング１６に対して固定される。スペーサ５２の厚さを異ならせることにより（厚さの異なるスペーサ５２に換装することにより）、第２光軸Ｏ２に沿う方向における第１群Ｇ１と第２群Ｇ２の相対位置が変わる。より詳しくは、第３レンズＬ３と第４レンズＬ４の間隔が変化する。所定の屈折力（パワー）を持つ第１群Ｇ１の光軸方向位置が変化することにより、撮像光学系全体におけるフランジバック調整の効果が得られる。
【００３７】
撮像ユニット１０は、手振れなどの振動を原因とする像面上での像振れを軽減させる防振（像振れ補正）機構を備えている。この防振機構は第１群Ｇ１中の第１レンズＬ１を第１光軸Ｏ１と直交する平面内で駆動させるものであり、より具体的にはベース枠４１に対して第１レンズ枠４０を駆動させる。ベース枠４１のプリズム用凹部４２の周囲に、前方へ突出する２つの移動制限突起６０と、前方に向けて開口された有底の凹部である３つのボール支持孔６１が形成されている。３つのボール支持孔６１は第１光軸Ｏ１を中心とする周方向へ概ね等間隔で配置されている。ベース枠４１にはさらに３つのバネ掛け突起６２が設けられている。図８から図１１に示すように、２つのバネ掛け突起６２は、第１プリズムＬ１１の入射面Ｌ１１−ａの長辺方向に離間させてプリズム用凹部４２の上下方向に突出形成されており、残る１つのバネ掛け突起６２は、プリズム用凹部４２から左方に突出する支持凸部７８の先端部に形成されている。
【００３８】
第１レンズ枠４０には、第１レンズＬ１が嵌合固定される円筒状のレンズ保持部６３の周囲に３つのフランジ６４が突設されている。それぞれのフランジ６４の後面にはボール当接面６６（図６、図７）が形成され、このボール当接面６６とボール支持孔６１の底面との間にガイドボール６７を挟持している。ボール当接面６６とボール支持孔６１の底面はそれぞれ第１光軸Ｏ１と略直交する平滑な平面である。ガイドボール６７は第１光軸Ｏ１と直交する方向にはボール支持孔６１に対して遊嵌しており、ガイドボール６７はボール支持孔６１内の中央付近に位置するときにはボール支持孔６１の内側壁に当接しない。
【００３９】
第１レンズ枠４０の外周部には周方向に位置を異ならせて３つのバネ掛け突起６８が設けられ、各バネ掛け突起６８とベース枠４１に３つ設けたバネ掛け突起６２との間に引張バネ６９が張設されている。第１レンズ枠４０は３つの引張バネ６９の付勢力によってベース枠４１に接近する方向（後方）に付勢され、ボール当接面６６をガイドボール６７に当接させることで第１レンズ枠４０の後方への移動が規制される。この状態で３箇所のボール当接面６６が３つのガイドボール６７に対してそれぞれ点接触しており、この点接触部分を摺接させることで（もしくは、ガイドボール６７がボール支持孔６１の内側壁に当接していないときはガイドボール６７を転動させながら）、第１レンズ枠４０は第１光軸Ｏ１と直交する方向へ自在に移動可能になっている。ベース枠４１のプリズム用凹部４２やフランジ４４や外囲壁４９は、第１レンズ枠４０の当該移動を妨げない形状に形成されている。
【００４０】
第１レンズ枠４０にはまた、ベース枠４１に設けた２つの移動制限突起６０を挿入させる２つの移動制限孔７０が形成されている。図４や図５に示すように、各移動制限孔７０は、第１光軸Ｏ１と直交する平面内において概ね正方形をなす矩形内面形状を有している。第１光軸Ｏ１と直交する平面内における各移動制限孔７０の内側壁の一方の対角線方向をＸ軸、他方の対角線方向をＹ軸と呼ぶ。Ｘ軸は撮像ユニット１０の上下方向、Ｙ軸は撮像ユニット１０の左右方向に概ね一致する。第１レンズ枠４０は、移動制限孔７０の内面に移動制限突起６０を当接させるまでの範囲でベース枠４１に対して移動することができる。
【００４１】
図５や図１１に示すように、ベース枠４１内に支持された第１プリズムＬ１１の入射面Ｌ１１−ａは２組の対辺によって囲まれる細長矩形であり、上下方向に長辺（１組の対辺）を向け、左右方向に短辺（別の１組の対辺）を向けて配置されている。以下、入射面Ｌ１１−ａの一対の長辺のうち出射面Ｌ１１−ｂに隣接する（入射面Ｌ１１−ａと出射面Ｌ１１−ｂの境界部分を構成する）側の長辺を出射側長辺、これと反対の出射面Ｌ１１−ｂから遠い（入射面Ｌ１１−ａと反射面Ｌ１１−ｃの境界部分を構成する）側の長辺を先端側長辺と呼ぶ。入射面Ｌ１１−ａの出射側長辺と先端側長辺を接続する一対の短辺は、入射面Ｌ１１−ａと一対の側面Ｌ１１−ｄの境界部分を構成している。３つのボール支持孔６１のうち２つ（ボール支持孔６１Ａ、６１Ｃとする）は、第１プリズムＬ１１の入射面Ｌ１１−ａの一対の短辺に沿う位置にある。残る１つボール支持孔６１（ボール支持孔６１Ｂとする）は、第１プリズムＬ１１の入射面Ｌ１１−ａの先端側長辺の中央付近に沿う位置にある。３つのバネ掛け突起６２のうち２つは、第１プリズムＬ１１の入射面Ｌ１１−ａの一対の短辺のそれぞれの中央付近に沿う位置にある。残る１つのバネ掛け突起６２は、第１プリズムＬ１１の入射面Ｌ１１−ａの先端側長辺の中央付近に沿う位置に、ボール支持孔６１Ｂの左方に並んで位置している。また、移動制限突起６０は、第１プリズムＬ１１の入射面Ｌ１１−ａの出射側長辺と、この出射側長辺に続く入射面Ｌ１１−ａの一対の短辺との境界付近に配置されている。つまり、ベース枠４１において、入射面Ｌ１１−ａのそれぞれの短辺に沿う領域では、先端側長辺に近い側（左方）から、バネ掛け突起６２、ボール支持孔６１（６１Ａ、６１Ｃ）、移動制限突起６０の順で配置されている。
【００４２】
第１レンズ枠４０の３つのバネ掛け突起６８は、ベース枠４１の３つのバネ掛け突起６２の前方に位置しており、第１レンズ枠４０が防振駆動範囲の中央に位置するときは、図５のように正面から見て３つのバネ掛け突起６８と３つのバネ掛け突起６２が完全に重なった関係になる。そして、第１プリズムＬ１１の入射面Ｌ１１−ａの一対の短辺を挟む上下位置に設けられる２つの引張バネ６９（引張バネ６９Ａ、６９Ｃとする）と、先端側長辺の左方に位置する１つの引張バネ６９（引張バネ６９Ｂとする）がそれぞれ、第１光軸Ｏ１と平行な方向に軸線を向けて延設される。
【００４３】
より詳しくは、第１光軸Ｏ１と第２光軸Ｏ２を含む仮想平面Ｐ１（図４、図５、図７、図１１）と、この仮想平面Ｐ１に直交して第１光軸Ｏ１を含む仮想平面Ｐ２（図４、図５、図１１）を設定すると、第１プリズムＬ１１の入射面Ｌ１１−ａの先端側長辺に沿って配したそれぞれ１つのボール支持孔６１Ｂと引張バネ６９Ｂ（引張バネ６９Ｂを支持するバネ掛け突起６２、６８）は、第１プリズムＬ１１よりも左方の仮想平面Ｐ１上に位置している。第１プリズムＬ１１の入射面Ｌ１１−ａの一対の短辺に沿って配した２つのボール支持孔６１Ａ、６１Ｃは、仮想平面Ｐ１及び第１プリズムＬ１１を挟んで対称の関係で、仮想平面Ｐ２よりも入射面Ｌ１１−ａの出射側長辺に近く位置している。第１プリズムＬ１１の入射面Ｌ１１−ａの一対の短辺に沿って配した２つの引張バネ６９Ａ、６９Ｃ（引張バネ６９Ａ、６９Ｃを支持する２組のバネ掛け突起６２、６８）は、仮想平面Ｐ１及び第１プリズムＬ１１を挟んで対称の関係で仮想平面Ｐ２上に位置している。仮想平面Ｐ２は第１プリズムＬ１１の入射面Ｌ１１−ａの一対の短辺の略中央を通っている。換言すれば、引張バネ６９Ａと引張バネ６９Ｃはそれぞれ、第１プリズムＬ１１の入射面Ｌ１１−ａの短手方向（左右方向）における略中央に位置している。また、第１プリズムＬ１１の入射面Ｌ１１−ａの長手方向（上下方向）において、第１光軸Ｏ１からの引張バネ６９Ａの距離と第１光軸Ｏ１からの引張バネ６９Ｃの距離は略等しい。
【００４４】
第１レンズ枠４０は電磁アクチュエータによって駆動される。この電磁アクチュエータは、第１レンズ枠４０に支持される２つの永久磁石（駆動手段）７１、７２と、基板モジュール１３を構成する回路基板７３に支持される２つのコイル（駆動手段）７４、７５を有するボイスコイルモータである。永久磁石７１と永久磁石７２はそれぞれ、第１レンズ枠４０に設けた磁石保持部７６、７７の支持凹部７６ａ、７７ａに固定されている。磁石保持部７６、７７は、レンズ保持部６３から外径方向に突出されたフランジ状の部位であり、支持凹部７６ａ、７７ａは磁石保持部７６、７７の前方に向けて開口された有底の凹部である。磁石保持部７６、７７の後面は、第１レンズ枠４０とベース枠４１を組み合わせた状態でベース枠４１側のセンサ支持部５５、５６の前面と重なる形状になっている（図７）。永久磁石７１と永久磁石７２の形状及び大きさは略同一であり、それぞれ細長矩形の薄板状をなし、前述の仮想平面Ｐ１に関して対称の関係で配置される。より詳しくは、永久磁石７１と永久磁石７２はそれぞれ、短手方向の略中央を通り長手方向に向く磁力境界線（長手方向線）Ｑ１、Ｑ２（図５）で分割される半割領域の一方がＮ極で他方がＳ極となっており、左方から右方に向かうにつれて磁力境界線Ｑ１と磁力境界線Ｑ２が徐々に離間するように、永久磁石７１と永久磁石７２が「ハ」の字状に配置されている。仮想平面Ｐ１に対する永久磁石７１の磁力境界線Ｑ１と永久磁石７２の磁力境界線Ｑ２の傾斜角は、正逆で約４５度に設定されている。つまり、永久磁石７１と永久磁石７２は互いの長手方向（磁力境界線Ｑ１、Ｑ２）を略直交させる関係にある。なお、ハウジング１６に対してベース枠４１を固定させる２つの固定ネジ５４が永久磁石７１と永久磁石７２の近傍に位置する関係で、電磁アクチュエータによる防振駆動に影響を及ぼさないように、それぞれの固定ネジ５４は樹脂などの非金属材料や非磁性の（磁石につかない）金属で形成されている。
【００４５】
基板モジュール１３は回路基板７３を具備している。回路基板７３は、正面形状がハウジング１６の収納凹部１８と１群ブロック１２の外形形状に対応し前後方向に対して直交する平板からなる平面部７９を有する。回路基板７３の平面部７９の後面にはプリント回路が形成してあり、プリント回路は回路基板７３から右方に延出されるフレキシブル基板ＦＬに接続している。回路基板７３の平面部７９の後面の右端部付近には撮像センサＩＳが固定してあり、撮像センサＩＳに設けた複数の端子（図示略）が上記プリント回路に半田付けにより固定状態で接続している。撮像センサＩＳの後方を向く面が撮像面となっており、撮像面全体がカバーガラスで覆われている。図６では撮像センサＩＳとカバーガラスを一体的に描いている。回路基板７３の平面部７９の角部の２カ所には円形孔８０が穿設され、回路基板７３の平面部７９の左端近くには前後方向に貫通する撮影開口８１が形成されている。
【００４６】
電磁アクチュエータを構成するコイル７４、７５は、回路基板７３の平面部７９の後面の左端部付近に固定されている。図４に示すように、コイル７４、７５は、略平行な一対の長辺部と該長辺部を接続する一対の湾曲部を有する空芯コイルであり、その形状及び大きさは略同一で、仮想平面Ｐ１に関して対称の関係で配置される。より詳しくは、コイル７４、７５は、それぞれの長辺部と平行で中央の空芯部を通る長軸（長手方向線）Ｒ１、Ｒ２（図４）の間隔が、左方から右方に向かうにつれて徐々に離間するように「ハ」の字状に配置されている。仮想平面Ｐ１に対するコイル７４の長軸Ｒ１とコイル７５の長軸Ｒ２の傾斜角は、正逆で約４５度に設定されている。つまり、コイル７４とコイル７５は互いの長手方向（長軸Ｒ１、Ｒ２）を略直交させる関係にある。
【００４７】
回路基板７３の左端部にはさらに、フレキシブル基板ＦＬの一部として、２つのセンサ支持腕部８２、８３が設けられている。各センサ支持腕部８２、８３は、平面部７９から後方に突出する延長部８２ａ、８３ａと、延長部８２ａ、８３ａの先端に位置し平面部７９と略平行になるように曲げられた対向平面部８２ｂ、８３ｂを有する片持ち形状の部位である。センサ支持腕部８２の対向平面部８２ｂの前面には磁気センサ（第１の検知手段）８４が支持され、磁気センサ８４はコイル７４の後方に対向している。センサ支持腕部８３の対向平面部８３ｂの前面には磁気センサ（第２の検知手段）８５が支持され、磁気センサ８５はコイル７５の後方に対向している。
【００４８】
１群ブロック１２を組み付けた状態の本体モジュール１１（ハウジング１６）に対して基板モジュール１３が組み付けられる。基板モジュール１３の組み付けに際しては、回路基板７３の２つの円形孔８０をハウジング１２の２つの係止突起２８にそれぞれ嵌合させながら回路基板７３の平面部７９によって収納凹部１８の前面開口を塞ぎ、回路基板７３の平面部７９の後面の周縁部を基板支持面２７に面接触させる（回路基板７３の平面部７９の前面とハウジング１６の前面は略同一平面上に位置する）。すると図６に示すように撮像センサＩＳ（カバーガラス）がパッキン２３に当接し、パッキン２３によって撮像センサＩＳの撮像面周辺が密封される。第２プリズムＬ１２の出射面Ｌ１２−ｂと撮像センサＩＳの間の光路はパッキン２３の貫通孔２４によって確保される。また回路基板７３（平面部７９）の撮影開口８１を通して第１レンズＬ１が前面側に露出し、撮影開口８１周辺の回路基板７３の板面によって第１レンズ枠４０の前方への脱落が規制される。この状態で、回路基板７３における平面部７９と対向平面部８２ｂ、８３ｂはそれぞれ第１光軸Ｏ１と略直交する平面として支持される。
【００４９】
以上の基板モジュール１３の組み付け状態で、コイル７４の長軸方向が永久磁石７１の磁力境界線Ｑ１と略平行になり、コイル７５の長軸方向が永久磁石７２の磁力境界線Ｑ２と略平行になる。コイル７４とコイル７５は回路基板７３の平面部７９後面の上記プリント回路に接続され、図示を省略する制御回路によって通電制御が行われる。コイル７４に通電すると、第１光軸Ｏ１と直交する平面内で永久磁石７１の磁力境界線Ｑ１（コイル７４の長軸方向線）と略直交する方向への推力が作用する。この推力の作用方向を図４、図５及び図１１に矢印Ｆ１で示した。コイル７５に通電すると、第１光軸Ｏ１と直交する平面内で永久磁石７２の磁力境界線Ｑ２（コイル７５の長軸方向線）と略直交する方向への推力が作用する。この推力の作用方向を図４、図５及び図１１に矢印Ｆ２で示した。これら推力の作用方向Ｆ１、Ｆ２はいずれもＸ軸とＹ軸の両方に対して約４５度の角度で交差する関係にある。これにより、各コイル７４、７５への通電制御によって、ベース枠４１（及びベース枠４１と固定関係にある本体モジュール１１や基板モジュール１３）に対して第１レンズ枠４０を、第１光軸Ｏ１と直交する平面内で任意の位置に移動させることができる。前述の通り、その移動範囲は移動制限孔７０が移動制限突起６０の内面に当接することによって規制される。
【００５０】
図５に示す７１ｕ、７２ｕは、第１光軸Ｏ１と直交する平面内における永久磁石７１と永久磁石７２の中心（外形形状に関する中心）であり、図４に示す７４ｕ、７５ｕは、第１光軸Ｏ１と直交する平面内におけるコイル７４とコイル７５の中心（外形形状に関する中心）である。永久磁石７１、７２のそれぞれの中心７１ｕ、７２ｕは、磁力境界線Ｑ１、Ｑ２に沿う長手方向の中心であり、かつ磁力境界線Ｑ１、Ｑ２に直交する短手方向の中心である。コイル７４、７５のそれぞれの中心７４ｕ、７５ｕは、長軸Ｒ１、Ｒ２に沿う長手方向の中心であり、かつ長軸Ｒ１、Ｒ２に直交する短手方向の中心である。図４と図５は、第１レンズ枠４０が移動制限突起６０と移動制限孔７０によって許される移動範囲の中央に位置する状態であり、このとき永久磁石７１の中心７１ｕとコイル７４の中心７４ｕの位置が一致し、永久磁石７２の中心７２ｕとコイル７５の中心７５ｕの位置が一致する。コイル７４、７５への通電によって第１レンズ枠４０が移動すると、該第１レンズ枠４０上の永久磁石７１、７２の中心７１ｕ、７２ｕの位置が変化する。
【００５１】
磁気センサ８４と磁気センサ８５はホールセンサからなり、回路基板７３の平面部７９後面の上記プリント回路に接続されている。図７に示すように、本体モジュール１１と１群ブロック１２に対して基板モジュール１３が組み付けられると、磁気センサ８４がベース枠４１のセンサ支持部５５に対して後方から進入して永久磁石７１の後方に位置され、磁気センサ８５がベース枠４１のセンサ支持部５６に対して後方から進入して永久磁石７２の後方に位置される。第１光軸Ｏ１に沿って見ると磁気センサ８４と磁気センサ８５はそれぞれ概ね矩形をなしており、図１１の８４ｕ、８５ｕは、第１光軸Ｏ１と直交する平面内における磁気センサ８４、８５の中心位置を示している。図１１に示すように、磁気センサ８４の中心８４ｕを通り、永久磁石７１とコイル７４による推力の作用方向Ｆ１に向く直線と、磁気センサ８５の中心８５ｕを通り、永久磁石７２とコイル７５による推力の作用方向Ｆ２に向く直線は、第１光軸Ｏ１上で交差する。この配置によって、電磁アクチュエータによる第１レンズ枠４０の移動に応じて永久磁石７１の位置が変化すると磁気センサ８４の出力が変化し、永久磁石７２の位置が変化すると磁気センサ８５の出力が変化し、この２つの磁気センサ８４、８５の出力変化によって、第１レンズ枠４０の駆動位置を検出することができる。
【００５２】
以上の本体モジュール１１と１群ブロック１２と基板モジュール１３の結合体に対して、前カバー１４と後カバー１５を組み付けることで撮像ユニット１０が完成する。前カバー１４と後カバー１５はそれぞれ金属製の板材のプレス成形品であり、電磁アクチュエータによる防振駆動に影響を及ぼさないように、非磁性体または弱磁性体の金属が材質として選択されている。前カバー１４は、前後方向に対して直交する平板部である基部９０と、基部９０の上下両縁部から後方に向かって延びる上下一対の係合片９１及び上下一対の係合片９２と、基部９０の右側縁部からそれぞれ後方に向かって延びる上下一対の側部係合片９３を一体的に備えている。各係合片９１と各係合片９２と各側部係合片９３には、方形をなす係合孔９１ａと係合孔９２ａと係合孔９３ａがそれぞれ穿設してある。基部９０の右端には前後方向に弾性変形可能な３つの押圧片９４を有している。各押圧片９４は自由状態にあるときは基部９０の他の部分と同一平面上に位置している。各押圧片９４の先端付近には、前方から後方に向かって突出する押圧突起９４ａが形成されている。基部９０の左端付近には、前後方向に貫通する撮影開口９５が形成されている。
【００５３】
後カバー１５は、前後方向に対して直交する平板部である基部１００と、基部１００の上下両縁部から前方に向かって延びる上下一対の係合片１０１及び上下一対の係合片１０２と、基部１００の右側縁部からそれぞれ前方に向かって延びる側部係合片１０３と、基部１００の左側縁部から突出する支持片１０４を一体的に備えている。各係合片１０１には方形をなす係合孔１０１ａが穿設され、側部係合片１０３にも係合孔１０３ａが穿設されている。図７に示すように、支持片１０４は、基部１００に連続して左方に突出する底部１０５と、底部１０５の上下両縁から前方へ突出する一対の立壁部１０６と、各立壁部１０６の前縁から互いに上下に離間する方向に延設される一対のセンサ支持壁１０７を有する。各立壁部１０６には係合孔１０６ａが穿設されている。１群ブロック１２を構成するベース枠４１には、センサ支持片１０４の底部１０５と一対の立壁部１０６に囲まれる部分に嵌合される支持凸部７８が後方に突出され、支持凸部７８の上下両側に係合孔１０６ａに係合する係合突起７８ａが形成されている。
【００５４】
基板モジュール１３の前部に、矩形状の遮光シート１０８を挟んで前カバー１４が組み付けられる。なお遮光シート１０８を備えずにハウジング１６内の十分な光密性が確保される場合は、遮光シート１０８を省略してもよい。前カバー１４の基部９０を回路基板７３の平面部７９の前方から被せて、前カバー１４の上下の係合片９１をハウジング１６の上下の係合凹部２９Ａに係合させ、各係合片９１の係合孔９１ａをハウジング１６の上下の係合突起３０に係合させ、さらに前カバー１４の上下の側部係合片９３の係合孔９３ａをハウジング１６の上下の係合突起３２に係合させて、前カバー１４をハウジング１６に固定する。また前カバー１４の上下の係合片９２をベース枠４１の上下のフランジ４４の上面と下面に当接させつつ、各係合片９３の係合孔９３ａをベース枠４１の上下の係合突起４６に係合させて、前カバー１４をベース枠４１に固定する。前カバー１４をハウジング１６に固定すると、前カバー１４の押圧片９４の押圧突起９４ａが回路基板７３の平面部７９の前面に接触し、僅かに前方に弾性変形した押圧片９４から回路基板７３の平面部７９の前面に後向きの押圧力（付勢力）が作用し、ハウジング１６（本体モジュール１１）に対して回路基板７３（基板モジュール１３）が前後方向の所定位置で正確に位置決めされて保持される。前カバー１４に形成した撮影開口９５は回路基板７３の撮影開口８１に対応する位置及び形状に形成されており、前カバー１４を組み付けた状態で撮影開口９５が撮影開口８１と連通し、撮影開口８１と撮影開口９５を通して第１レンズＬ１が撮像ユニット１０の前面側に露出する。
【００５５】
本体モジュール１１と１群ブロック１２の後部に後カバー１５が組み付けられる。後カバー１５の基部１００をハウジング１６の後方から被せて、後カバー１５の上下の係合片１０１と上下の係合片１０２をそれぞれハウジング１６の上下の係合凹部２９Ｂと上下の係合凹部２９Ｃに係合させ、各係合片１０１の係合孔１０１ａをハウジング１６の上下の係合突起３１に係合させ、さらに後カバー１５の側部係合片１０３の係合孔１０３ａをハウジング１６の右側面に形成した係合突起３３（図６）に係合させて、後カバー１５をハウジング１６に固定する。また図７に示すように、後カバー１５の基部１００をベース枠４１の後方から被せて、後カバー１５の支持片１０４のうち底部１０５と一対の立壁部１０６によって形成される凹部にベース枠４１の支持凸部７８を嵌合させ、支持凸部７８に設けた上下の係合突起７８ａを上下の係合孔１０６ａに係合させて、後カバー１５をベース枠４１に固定する。すると上下のセンサ支持壁１０７が、回路基板７３のセンサ支持腕部８２の対向平面部８２ｂとセンサ支持腕部８３の対向平面部８３ｂのそれぞれの後面に対向し、センサ支持腕部８２とセンサ支持腕部８３の後方への変形を規制する。上下のセンサ支持壁１０７は弾性変形してセンサ支持腕部８２とセンサ支持腕部８３を前方に軽く押圧し、磁気センサ８４をセンサ支持部５５内に保持させ、磁気センサ８５をセンサ支持部５６内に保持させる。これにより磁気センサ８４と磁気センサ８５が正確な位置に保持される。
【００５６】
以上のようにして完成された撮像ユニット１０を前方に位置する被写体に向けると、該被写体の反射光（撮影光）は第１レンズＬ１を透過した後に入射面Ｌ１１−ａから第１プリズムＬ１１の内部に入り、第１プリズムＬ１１の反射面Ｌ１１−ｃによって出射面Ｌ１１−ｂ側に進行方向を９０°変換されながら反射される。第１プリズムＬ１１の出射面Ｌ１１−ｂを出た該反射光は、各レンズＬ２〜Ｌ６を透過した後に入射面Ｌ１２−ａから第２プリズムＬ１２の内部に入り、第２プリズムＬ１２の反射面Ｌ１２−ｃによって出射面Ｌ１２−ｂ側に進行方向を９０°変換されながら反射され、撮像センサＩＳの撮像面によって撮像（受光）される。
【００５７】
第１モータＭ１と第２モータＭ２を利用して第２群Ｇ２（第４レンズＬ４と第５レンズＬ５）や第３群Ｇ３（第６レンズＬ６）を第１ロッド３６及び第２ロッド３７に沿って進退させることにより上記撮像光学系をズーミング動作及びフォーカシング動作させれば、被写体像を変倍及び合焦させた状態で撮像可能となる。ワイド端とテレ端とその中間焦点距離における撮像光学系の状態を図１２に示している。ワイド端からテレ端にズーミングするとき、第１群Ｇ１と第２プリズムＬ１２と撮像センサＩＳは位置が変化せず、第１群Ｇ１と第２群Ｇ２の間隔（第２光軸Ｏ２に沿う方向の距離）が徐々に小さくなる。２群Ｇ２と第３群Ｇ３の間隔（第２光軸Ｏ２に沿う方向の距離）は、ワイド端から中間焦点距離までは大きくなり、中間焦点距離からテレ端までは小さくなる。
【００５８】
さらに撮像ユニット１０では、第１群Ｇ１のうち第１プリズムＬ１１の前方に位置する第１レンズＬ１を用いて防振（像振れ補正）動作を行う。前述の通り、防振機構はハウジング１６に対して固定関係にあるベース枠４１に対して第１レンズ枠４０を第１光軸Ｏ１と直交する平面内で可動に支持し、電磁アクチュエータによって第１レンズ枠４０を駆動させるものである。図６に示すように、第１レンズ枠４０は撮像ユニット１０の左端近傍の前面側に位置している。第１レンズ枠４０の周囲にはハウジング１６の隔壁１９やフランジ支持座５０が配置されているが、防振機構による可動範囲内で第１レンズ枠４０が移動しても、該第１レンズ枠４０に対して隔壁１９やフランジ支持座５０が干渉しないように所定のスペースを空けてハウジング１６が形成されている。また図６に示すように、第１レンズ枠４０のレンズ保持部６３が回路基板７３の撮影開口８１と前カバー１４の撮影開口９５に挿入されて、第１レンズＬ１の入射面が前カバー１４の基部９０の前面と略面一になっているが、撮影開口８１や撮影開口９５についても、防振機構による可動範囲内で第１レンズ枠４０が移動しても該第１レンズ枠４０に対して干渉しない大きさに設定されている。従って撮像ユニット１０の他の構成部材に妨げられることなく、第１レンズ枠４０に防振用の動作を確実に行わせることができる。
【００５９】
防振時の第１レンズＬ１の移動方向は第１光軸Ｏ１と直交する方向である。すなわち第１レンズＬ１を保持する第１レンズ枠４０は、撮像ユニット１０の厚み方向である前後方向には移動しない。また、ベース枠４１に対して第１レンズ枠４０を移動させるための支持機構（移動制限突起６０、ボール支持孔６１、ボール当接面６６、ガイドボール６７、移動制限孔７０など）や駆動手段（永久磁石７１、７２、コイル７４、７５など）は、第１光軸Ｏ１を中心として第１レンズＬ１を囲む位置に配されており、撮像ユニット１０の前後方向に占める配置スペースが小さくて済む構成になっている。そのため第１レンズＬ１を防振用の光学要素として選択することで、防振機構を備えつつ撮像ユニット１０を薄型に構成することができる。例えば本実施形態と異なり、第２群Ｇ２や第３群Ｇ３を第２光軸Ｏ２と直交する方向に移動させる防振機構を想定した場合、２群レンズ枠３４や３群レンズ枠３５の移動用のスペースを確保したり、２群レンズ枠３４や３群レンズ枠３５の駆動手段を配置したりすることによって、ハウジング１６内に必要とされる前後方向のスペースが図示実施形態よりも広くなり、撮像ユニット１０の厚みが増してしまう。
【００６０】
また第１レンズ枠４０が支持する第１レンズＬ１は、撮像センサＩＳのような電気部品と異なり回路基板７３と接続させる必要がないため、基板の取り回しで構造が複雑化したり、基板によって防振時の移動抵抗が作用したりするおそれがない。例えば本実施形態と異なり、撮像センサＩＳを第３光軸Ｏ３と直交する方向に移動させる防振機構を想定した場合、回路基板７３に対して撮像センサＩＳを可動に支持させた上でフレキシブル基板によって両者を接続することになる。すると撮像センサＩＳの移動に対して移動抵抗を与えない十分な長さをフレキシブル基板に持たせる必要があるが、撮像センサＩＳの周囲にはスペースの余裕がなく、フレキシブル基板を長くすると他の部材と干渉してしまうおそれがある。これを避けるために撮像センサＩＳと回路基板７３の前後方向間隔を空けると、撮像ユニット１０の薄型化が阻害されてしまう。
【００６１】
防振用の光学要素として第１レンズＬ１を選択したことにより、以上のような不具合を回避して、簡略な構成で撮像ユニット１０の薄型化に寄与する防振機構を得ることができる。防振制御に際して駆動されるのが第１群Ｇ１の全体ではなく第１レンズＬ１のみであるから、可動部がコンパクトで駆動負荷が小さくて済むという利点もある。なお一般的な防振機構では、レンズ群を構成する一部のレンズのみを光軸直交方向に移動させると収差が悪化して実用的でなくなるおそれがある。これに関して本実施形態の第１群Ｇ１では、パワーを有する第１レンズＬ１と第２レンズＬ２の間に、光束の反射のみを行う第１プリズムＬ１１が配されているため、第１レンズＬ１と第２レンズＬ２の間の距離が大きくなっており、第１レンズＬ１を単独で移動させて防振制御を行なっても収差劣化が少ない。つまり、ズームレンズの一部としては第１レンズＬ１から第３レンズＬ３までの第１群Ｇ１全体で収差が管理されるが、防振に関しては、第１プリズムＬ１１を挟んで光軸方向間隔が大きくなっている第１レンズＬ１と第２レンズＬ２を実質的に別のレンズ群であるように扱っても光学性能を確保できることに着眼して、第１レンズＬ１のみを防振用の光学要素に設定している。
【００６２】
ズーミングや沈胴に際して光軸方向の長さ（最も物体側のレンズの像面からの距離）が変化するテレスコピック型のレンズ鏡筒と異なり、撮像ユニット１０では第１レンズＬ１の入射面から像面（撮像センサＩＳの撮像面）までの光路長が常に一定である。そのため、撮像ユニット１０を携帯電子機器内に組み込んで第１レンズＬ１の前方を保護用のガラスなどで覆うことが可能であり、最前方の第１レンズＬ１に防振用の移動を行わせても実用上の問題は生じない。
【００６３】
本発明は、図１３の撮像ユニット２１０のように可動レンズ群（第２群Ｇ２と第３群Ｇ３）と撮像センサＩＳの間にプリズムなどの反射素子を備えないタイプの撮像光学系にも適用が可能である。図１３の撮像ユニット２１０では、先の実施形態の撮像ユニット１０におけるハウジング１６内のプリズム用凹部２５に相当する位置にセンサ支持空間２２５が形成され、このセンサ支持空間２２５内に撮像センサＩＳが撮像面を左方に向けて配置されている。撮像センサＩＳは第２光軸Ｏ２上に位置しており、第３群Ｇ３（第６レンズＬ６）から出射された光束が反射されずに撮像センサＩＳの撮像面に入射する。このようなＬ字形の光路を有する撮像ユニット２１０においても、第１レンズＬ１を防振用の光学要素とさせることで前述の通りの効果が得られる。特に撮像ユニット２１０においては、撮像センサＩＳを防振用の光学要素にさせると、第２群Ｇ２や第３群Ｇ３を防振用の光学要素にする場合と同様にハウジング１６の前後方向サイズを増大させてしまうおそれが大きいため、撮像ユニット２１０の薄型化の観点から第１レンズＬ１を防振駆動させる構成が好適である。
【００６４】
先に述べたように、第１群Ｇ１のうち第１プリズムＬ１１の前方に位置する第１レンズＬ１を単独で防振駆動させる構造は、群の一部を駆動させる形態としては収差などへの影響が生じにくいが、群全体を防振駆動させる形態の防振機構に比して第１レンズＬ１に関する動作精度の要求が高いため、第１レンズＬ１を保持する第１レンズ枠４０を高精度に支持及び駆動して防振性能と光学性能の安定化を図ることが求められる。また、撮像光学系を構成するレンズの中で最大径の第１レンズＬ１を防振駆動させるにあたり、防振機構をできるだけコンパクトにして、撮像ユニットの小型化に寄与することが求められる。この防振機構の特徴を説明する。
【００６５】
説明の前提として、撮像ユニット１０（２１０）は第２光軸Ｏ２に沿う方向に長い形状をなしており、第１レンズＬ１は撮像ユニット１０（２１０）の長手方向の一端部に近い位置に寄せて配置されている。図４及び図５のように撮像ユニット１０（２１０）を正面視して、第１レンズＬ１上の第１光軸Ｏ１と第２光軸Ｏ２を含み撮像ユニットの長手方向（左右方向）に延びる第１の仮想平面Ｐ１と、第１光軸Ｏ１を通り第１の仮想平面Ｐ１と直交して撮像ユニットの短手方向（上下方向）に延びる第２の仮想平面Ｐ２で分けられる４つの象限Ｖ１、Ｖ２、Ｖ３及びＶ４を設定すると、第１プリズムＬ１１によって偏向された第２光軸Ｏ２に沿う光束の進行方向側に第１象限Ｖ１と第４象限Ｖ４が位置し、第２光軸Ｏ２が延びる側と反対側に第２象限Ｖ２と第３象限Ｖ３が位置する。
【００６６】
仮想平面Ｐ２を挟んだ左側領域と右側領域のうち、第１象限Ｖ１と第４象限Ｖ４が含まれる右側領域には、第２光軸Ｏ２に沿って第２レンズＬ２、第３レンズＬ３、第２群Ｇ２、第３群Ｇ３、第２プリズムＬ１２などの光学要素が配置されている。第２群Ｇ２と第３群Ｇ３を第２光軸Ｏ２に沿って移動させるため進退駆動機構を構成する、第１ロッド３６、第２ロッド３７、ドリブンナット３８及び３９、圧縮バネ１２２及び１２３、第１モータＭ１、第２モータＭ２といった要素も仮想平面Ｐ２の右側領域に配されている。
【００６７】
一方、仮想平面Ｐ２を挟んで第２光軸Ｏ２の進行方向と反対の左側領域に位置する第２象限Ｖ２と第３象限Ｖ３には、第１レンズＬ１を防振駆動させる電磁アクチュエータ（ボイスコイルモータ）を構成する永久磁石７１及び７２とコイル７４及び７５や、第１レンズＬ１の駆動位置を検出する磁気センサ８４及び８５が配置されている。具体的には、永久磁石７１とコイル７４と磁気センサ８４が第２象限Ｖ２に配置され、永久磁石７２とコイル７５と磁気センサ８５が第３象限Ｖ３に配置されており、第２象限Ｖ２に配置される各要素と第３象限Ｖ３に配置される各要素は、仮想平面Ｐ１に関して互いに略対称な配置になっている。前述のように、永久磁石７１と永久磁石７２は、互いの磁力境界線Ｑ１と磁力境界線Ｑ２が仮想平面Ｐ１に対して正逆で約４５度の関係をなす「ハ」の字状に配置されているが、その傾きの方向は、仮想平面Ｐ２から離れて左方に進むにつれて仮想平面Ｐ１に接近する（磁力境界線Ｑ１と磁力境界線Ｑ２の間隔を小さくする）ように設定されている。コイル７４とコイル７５も同様に、互いの長軸Ｒ１と長軸Ｒ２が仮想平面Ｐ１に対して正逆で約４５度の関係をなす「ハ」の字状の配置であり、仮想平面Ｐ２から離れて左方に進むにつれて仮想平面Ｐ１に接近する（長軸Ｒ１と長軸Ｒ２の間隔を小さくする）傾き方向に設定されている。別言すれば、磁力境界線Ｑ１と磁力境界線Ｑ２に沿って延びる２つの直線の交点と、長軸Ｒ１と長軸Ｒ２に沿って延びる２つの直線の交点はそれぞれ、第２光軸Ｏ２が延びる側とは反対の仮想平面Ｐ２の左側領域に位置する。
【００６８】
第１レンズＬ１の防振機構を構成する永久磁石７１、７２やコイル７４、７５をこのように配置したことにより、以下の効果が得られる。まず、第２象限Ｖ２と第３象限Ｖ３は、第１プリズムＬ１１により偏向された光束の進行方向と逆側の領域であり、撮像光学系を構成する光学要素のうち第１プリズムＬ１１から先の光学要素が配置されていないため、電磁アクチュエータの配置に関してスペース的な制約を受けにくい。例えば、永久磁石７１、７２やコイル７４、７５を、図示実施形態における位置に対して仮想平面Ｐ２を挟んで対称となるように第１象限Ｖ１と第４象限Ｖ４内に配置しても、第１レンズＬ１を駆動させることは可能である。しかし、第１象限Ｖ１と第４象限Ｖ４には、第１プリズムＬ１１の出射面Ｌ１１−ｂに隣接する位置に第２レンズＬ２や第３レンズＬ３が位置しており、第２レンズＬ２や第３レンズＬ３と干渉させずに電磁アクチュエータの全体を配置するスペースを確保することが難しいという問題がある。これに対して、第２象限Ｖ２と第３象限Ｖ３への配置にはこのような制約がない。
【００６９】
一般的に、永久磁石とコイルを有するボイスコイルモータによって駆動対象を所定の平面に沿って駆動させるには、推力の作用方向が互いに異なる２組の永久磁石とコイルが用いられる。本実施形態では、互いの長手方向（磁力境界線Ｑ１と長軸Ｒ１）が平行な永久磁石７１とコイル７４のセットと、互いの長手方向（磁力境界線Ｑ２と長軸Ｒ２）が平行な永久磁石７２とコイル７５のセットを備え、前者のセットによる推力の作用方向Ｆ１と後者のセットによる推力の作用方向Ｆ２が互いに直交している。これによって第１レンズＬ１を第１光軸Ｏ１と直交する平面に沿って自在に移動させることが可能になっている。そして、永久磁石７１とコイル７４のセットと、永久磁石７２とコイル７５のセットが、第２光軸Ｏ２が延びる右方に進むにつれて互いの磁力境界線Ｑ１、Ｑ２や長軸Ｒ１、Ｒ２の間隔を大きくさせ、これと反対の左方に進むにつれて互いの磁力境界線Ｑ１、Ｑ２や長軸Ｒ１、Ｒ２の間隔を小さくさせる傾き方向に設定されている。この配置によると、第２象限Ｖ２と第３象限Ｖ３内で、第１レンズ枠４０の円筒状をなすレンズ保持部６３の周辺領域にスペース効率良く永久磁石７１、７２とコイル７４、７５を収めることができる。
【００７０】
第１レンズＬ１を駆動させるという目的に限れば、仮想平面Ｐ１に対する永久磁石７１、７２やコイル７４、７５の傾き方向を、以上の構成とは異ならせることも可能である。例えば、磁力境界線Ｑ１と長軸Ｒ１が仮想平面Ｐ１と仮想平面Ｐ２のいずれか一方と平行で、磁力境界線Ｑ２と長軸Ｒ２が仮想平面Ｐ１と仮想平面Ｐ２の他方と平行となる配置であっても、第１レンズＬ１を第１光軸Ｏ１と直交する面内で駆動させることは可能である。しかしこの配置では、永久磁石７１とコイル７４のセットと、永久磁石７２とコイル７５のセットの少なくとも一方が、第１象限Ｖ１や第４象限Ｖ４内に大きく進入するため、スペース的な制約の少ない第２象限Ｖ２と第３象限Ｖ３を用いるという上記の利点が損なわれる。また、図４や図５における第１レンズＬ１の左方に、永久磁石７１とコイル７４のセットと、永久磁石７２とコイル７５のセットのいずれかが配置されるため、仮想平面Ｐ１に沿う方向の寸法が増大するというデメリットもある。
【００７１】
これに対して、図４や図５のように正面視した状態での永久磁石７１、７２やコイル７４、７５の傾き方向を図示実施形態のように設定することで、第２象限Ｖ２と第３象限Ｖ３に防振機構をスペース効率良く収めることができ、撮像ユニット１０（２１０）の小型化を図ることができる。なお、図示実施形態では永久磁石７１の磁力境界線Ｑ１と永久磁石７２の磁力境界線Ｑ２や、コイル７４の長軸Ｒ１とコイル７５の長軸Ｒ２が、仮想平面Ｐ１に対して正逆で約４５度の関係で対称的に設定されているが、以上に述べた省スペース化の効果は、仮想平面Ｐ１に対する磁力境界線Ｑ１、Ｑ２や長軸Ｒ１、Ｒ２の角度を若干変化させても得られる。具体的には、磁力境界線Ｑ１、Ｑ２の直交関係と長軸Ｒ１、Ｒ２の直交関係を維持しつつ、仮想平面Ｐ１に対する磁力境界線Ｑ１と長軸Ｒ１の傾き角や磁力境界線Ｑ２と長軸Ｒ２の傾き角を正逆に３５度から５５度の範囲内で定めると、防振機構の省スペースな配置を実現できる。
【００７２】
また、第１プリズムＬ１１から先の光路上には、第２光軸Ｏ２に沿って可動の第２群Ｇ２や第３群Ｇ３が設けられており、第２群Ｇ２や第３群Ｇ３の駆動機構を構成する第１モータＭ１と第２モータＭ２には金属部分が含まれ、圧縮バネ１２２、１２３や第１ロッド３６や第２ロッド３７も金属製の部品である。このような金属部品が磁性体金属からなる場合、電磁アクチュエータに接近していると防振駆動に影響を及ぼすおそれがある。特に、可動の第１レンズ枠４０上に永久磁石７１、７２を支持したムービングマグネットタイプの電磁アクチュエータでは、高精度な駆動制御を行わせるために、永久磁石７１、７２の磁界に対する外部の磁性体からの影響を排除することが求められる。第２象限Ｖ２と第３象限Ｖ３に配置した永久磁石７１、７２やコイル７４、７５は、第１象限Ｖ１や第４象限Ｖ４に配置した場合に比べて各モータＭ１、Ｍ２や各ロッド３６、３７や各圧縮バネ１２２、１２３からの距離が大きいため、これらの部材が磁性体金属を含んでいる場合も電磁アクチュエータの駆動に影響が及びにくい。これに加えて前述のように、ハウジング１６に対してベース枠４１を固定させるための固定ネジ５４の材質として、樹脂などの非金属材料や非磁性金属を選択したことや、前カバー１４や後カバー１５を非磁性体または弱磁性体の金属材料で形成したことも、電磁アクチュエータによる高精度な駆動制御に寄与している。
【００７３】
以上のように、第１レンズＬ１を駆動する防振機構の配置において、第１プリズムＬ１１により偏向された第２光軸Ｏ２と反対側の領域（第２象限Ｖ２と第３象限Ｖ３）に永久磁石７１、７２やコイル７４、７５を設け、さらに第２光軸Ｏ２の進行方向と反対方向に進むにつれて長手方向線の間隔を互いに小さくする傾き関係で永久磁石７１、７２とコイル７４、７５を配置したことで、スペース効率と駆動性能に優れた防振機構が得られる。
【００７４】
なお、以上の実施形態では永久磁石７１、７２とコイル７４、７５の全体が第２象限Ｖ２と第３象限Ｖ３に配置されているが、図２２に示すように、永久磁石７１、７２やコイル７４、７５の一部が仮想平面Ｐ２を超えて第１象限Ｖ１と第４象限Ｖ４側に突出する構成としてもよい。この場合、防振機構のスペース効率と駆動性能に関する上記効果を得るための条件として、少なくとも、永久磁石７１、７２の中心７１ｕ、７２ｕとコイル７４、７５の中心７４ｕ、７５ｕを仮想平面Ｐ２の左方、すなわち第２象限Ｖ２と第３象限Ｖ３内に配置することが望ましい。図２２の第１レンズ枠４０は、磁石保持部１７６、１７７を第１象限Ｖ１と第４象限Ｖ４の方向に延長した形状になっている点以外は、先の実施形態と共通の形状を有しているが、磁石保持部１７６、１７７のうち永久磁石７１、７２を支持する支持凹部１７６ａ、１７７ａよりも左方の領域を切除するなどして小型化を図ってもよい。
【００７５】
また、撮像ユニット１０（２１０）の前後方向（奥行き方向）における防振機構の薄型化も実現されている。防振機構の駆動源を構成する永久磁石７１、７２は、第１レンズ枠４０の磁石保持部７６、７７上の支持凹部７６ａ、７７ａに固定されている。磁石保持部７６、７７は、第１レンズＬ１を保持する円筒状のレンズ保持部６３から側方に突出するフランジ状部であり、第１光軸Ｏ１に沿う方向において、レンズ保持部６３による第１レンズＬ１の支持位置（図６参照）よりも磁石保持部７６、７７の方が後方（奥側）にずれて位置している。その結果、磁石保持部７６、７７上に支持される永久磁石７１、７２の前後方向位置は、第１レンズＬ１よりも後方の第１プリズムＬ１１と重なる位置（第１プリズムＬ１１の左方のスペース）に設定されている。換言すれば、永久磁石７１、７２は、第１光軸Ｏ１が延びる方向での第１プリズムＬ１１の厚みの範囲内に位置している。
【００７６】
永久磁石７１、７２と共に防振機構の駆動源を構成するコイル７４、７５と、第１レンズＬ１の位置を検出する磁気センサ８４、８５は、回路基板７３に支持されている。回路基板７３の平面部７９の大部分は本体モジュール１１のハウジング１６の支持を受けているが、コイル７４、７５を支持する回路基板７３の平面部７９の左端部付近はベース枠４１のフランジ４４や外囲壁４９の前面に当接支持され、コイル７４、７５の位置はベース枠４１を基準として定められる。また、回路基板７３のセンサ支持腕部８２、８３の対向平面部８２ｂ、８３ｂに支持された磁気センサ８４、８５は、ベース枠４１に形成したセンサ支持部５５、５６内に嵌合して位置が定まる。そして、ベース枠４１を介して位置決めされた磁気センサ８４、８５は、永久磁石７１、７２と同様に、第１レンズＬ１よりも後方の第１プリズムＬ１１と重なる前後方向位置（第１光軸Ｏ１が延びる方向での第１プリズムＬ１１の厚みの範囲内）に保持される。ベース枠４１を介して位置決めされたコイル７４、７５は、第１レンズＬ１及び第１プリズムＬ１１の一部と重なる前後方向位置に保持されている。なお、永久磁石７１、７２や磁気センサ８４、８５と同様に、コイル７４、７５の全体を第１プリズムＬ１１と重なる前後方向位置に配置してもよい。
【００７７】
図６、図１２及び図１３に示すように、第１プリズムＬ１１は第１レンズＬ１に比して第１光軸Ｏ１に沿う前後方向の厚みが大きい。また、第１プリズムＬ１１を囲む領域のうち該第１プリズムＬ１１よる光の偏向方向と反対側に位置する第２象限Ｖ２と第３象限Ｖ３には、第２レンズＬ２から先の光学要素が設けられていない。よって、第２象限Ｖ２と第３象限Ｖ３における第１プリズムＬ１１の側方領域には、第１プリズムＬ１１の厚み分に応じたスペースを確保しやすい。この第１プリズムＬ１１の側方スペースに、前後方向に積層する態様で永久磁石７１、７２とコイル７４、７５と磁気センサ８４、８５を配置したため（図７参照）、電磁アクチュエータを前後方向にスペース効率よく収めることができ、撮像ユニット１０（２１０）の薄型化に寄与している。
【００７８】
撮像ユニット１０（２１０）のような屈曲光学系では、光路を偏向させる反射素子と他の光学要素との相対的位置精度が極めて重要であり、第１群Ｇ１中の反射素子である第１プリズムＬ１１を保持するベース枠４１は精度良く構成される。また、図６や図１３に示すように、防振駆動される第１レンズＬ１に対する第１プリズムＬ１１の入射面Ｌ１１−ａの間隔が極めて近いため、第１レンズＬ１と第１プリズムＬ１１の干渉防止の観点からもベース枠４１は高精度に形成されている。加えて、ベース枠４１は、全体的に内部を中空とした箱状のハウジング１６に比べてプリズム用凹部４２の周囲に壁部が多く、部材の大きさとしてもハウジング１６より小型であるため、強度と精度を確保しやすい。撮像ユニット１０（２１０）では、このように精度的に優れたベース枠４１を基準として防振機構の構成要素を位置決めしているため、防振機構の位置精度や駆動精度において優れた効果が得られる。
【００７９】
具体的には、コイル７４、７５に関しては、回路基板７３の平面部７９のうちコイル７４、７５を支持する左端付近の一部領域が、ベース枠４１におけるフランジ４４や外囲壁４９の前面に当接支持されることで位置決めされており、ベース枠４１を介した高精度な位置管理が実現されている。磁気センサ８４、８５に関しては、図７や図９に示すように、センサ支持腕部８２、８３の対向平面部８２ｂ、８３ｂが、ベース枠４１におけるセンサ支持部５５、５６の周囲の後面に当接支持し、さらに磁気センサ８４、８５自体が凹状のセンサ支持部５５、５６に嵌合支持されることで位置決めされており、ベース枠４１を介した高精度な位置管理が実現されている。加えて、センサ支持腕部８２、８３の対向平面部８２ｂ、８３ｂが後カバー１５のセンサ支持壁１０７（センサ支持片１０４）によって後方から押さえられるので、平面部７９から延出された片持ち形状のセンサ支持腕部８２、８３であってもベース枠４１に対して確実に支持させることができる。また、永久磁石７１、７２に関しては、磁石保持部７６、７７を有する第１レンズ枠４０が、引張バネ６９の付勢力を受けてベース枠４１に当接支持（移動抵抗を小さくさせるためのガイドボール６７を挟んだ支持）されることで位置管理されており、第１レンズ枠４０がベース枠４１以外の部位に支持される態様に比べて、永久磁石７１、７２の位置精度が高くなっている。なお、図示実施形態では永久磁石７１、７２が可動の第１レンズ枠４０に支持されているが、第１レンズ枠４０側にコイル７４、７５を支持し、ベース枠４１側に永久磁石７１、７２を支持したムービングコイルタイプの電磁アクチュエータを備えた防振機構にも適用が可能であり、このタイプの防振機構においても、ベース枠４１を各構成要素の位置決めの基準とすることで同様の効果が得られる。
【００８０】
防振駆動される第１レンズＬ１を保持する第１レンズ枠４０は、ベース枠４１との間にガイドボール６７を挟んで引張バネ６９による付勢力を受けて支持されている。第１レンズＬ１のような円形の外形形状の可動部材をバネ付勢する場合、偏りがなく均等な付勢力を与えるための構造として、可動部材を囲んで３つ以上のバネを均等な間隔で配置することが考えられる。しかし前述のように、撮像ユニット１０（２１０）では、第１プリズムＬ１１により偏向された第２光軸Ｏ２の側（第１象限Ｖ１と第４象限Ｖ４）には第１プリズムＬ１１から先の光学要素が設けられるため、スペース的な制約がある。第１プリズムＬ１１の出射面Ｌ１１−ｂ（入射面Ｌ１１−ａの出射側長辺）に沿う位置に引張バネ６９を配置しようとすると、第２レンズＬ２や第３レンズＬ３やその保持部と干渉してしまうおそれがある。また、第１レンズ枠４０を可動に支持する部材が、矩形の入射面Ｌ１１−ａを持つ第１プリズムＬ１１を保持しているベース枠４１であるため、第１光軸Ｏ１を中心とする１２０度間隔で３つの引張バネ６９を配置するとバランスが悪く、防振駆動時に防振性能や光学性能が安定しないおそれがある。また、ベース枠４１においてバネ掛け突起６２を設けることが可能な位置は、第１プリズムＬ１１を保持するプリズム用凹部４２の外側位置であるが、プリズムＬ１１の矩形の入射面Ｌ１１−ａの対角線方向に離間させてバネ掛け突起６２を設けるとスペース効率が悪く、ベース枠４１が大型化してしまうおそれがある。
【００８１】
撮像ユニット１０（２１０）では、図４及び図５に示すように、３つの引張バネ６９が第１レンズ枠４０の周囲に第１光軸Ｏ１を中心とする所定の間隔で配置されており、そのうち２つは第１レンズ枠４０を挟んで仮想平面Ｐ２上に設けられた引張バネ６９Ａ、６９Ｃであり、残る１つは、第１レンズ枠４０に関して第２光軸Ｏ２が延びる方向と反対側の仮想平面Ｐ１上に設けられた引張バネ６９Ｂである。引張バネ６９Ａと引張バネ６９Ｃは第１プリズムＬ１１の入射面Ｌ１１−ａの一対の短辺（一対の側面Ｌ１１−ｄ）を挟む位置に配され、引張バネ６９Ａは第１象限Ｖ１と第２象限Ｖ２の境界に位置し、引張バネ６９Ｂが第２象限Ｖ２と第３象限Ｖ２の境界に位置する。引張バネ６９Ｃは、第１プリズムＬ１１の入射面Ｌ１１−ａの先端側長辺に沿う位置に配され、第３象限Ｖ３と第４象限Ｖ４の境界に位置する。
【００８２】
このように第１プリズムＬ１１の入射面Ｌ１１−ａのうち出射側長辺を除く各辺に沿う位置に３つの引張バネ６９を配置することで、前述の諸問題を回避してスペース効率と付勢力のバランスに優れた付勢構造を実現できる。まず、第１プリズムＬ１１の入射面Ｌ１１−ａの出射側長辺（出射面Ｌ１１−ｂ）に沿う部分を引張バネ６９の配置領域から外すことで、第２光軸Ｏ２上に位置する第２レンズＬ２や第３レンズＬ３などの光学要素と干渉せずに引張バネ６９を設けることができる。また、第１プリズムＬ１１の入射面Ｌ１１−ａの長辺方向に離間させて（一対の側面Ｌ１１−ｄに沿って）２つの引張バネ６９Ａと引張バネ６９Ｃを設けることで、第１レンズ枠４０に対してバランスの良い付勢力を与えることができる。特に、引張バネ６９Ａと引張バネ６９Ｃをそれぞれ第１プリズムＬ１１の入射面Ｌ１１−ａの短手方向における略中央に位置させたことで、左右方向での付勢力のバランスが良い。さらに第１プリズムＬ１１の入射面Ｌ１１−ａの長手方向において、第１光軸Ｏ１からの引張バネ６９Ａと引張バネ６９Ｃの距離を略等しくさせたので、上下方向での付勢力のバランスも良い。第１レンズ枠４０はベース枠４１に対して３つのガイドボール６７を介して支持されており、第１光軸Ｏ１と直交する平面内において、引張バネ６９Ａと引張バネ６９Ｃを結ぶ直線（本実施形態では仮想平面Ｐ２上を通る）の中心（本実施形態では第１光軸Ｏ１に概ね一致する）が、３つのガイドボール６７によって囲まれる三角形の領域内に位置している。この関係により、引張バネ６９Ａと引張バネ６９Ｃによる付勢力が３つのガイドボール６７にバランス良く作用し、第１レンズ枠４０の高精度な支持と円滑な摺動が実現される。これに加えて第１プリズムＬ１１の入射面Ｌ１１−ａの先端側長辺に沿う位置に第３の引張バネ６９Ｂを設けることで、第１レンズ枠４０の支持安定性をさらに高めることができる。また、第１プリズムＬ１１の一対の側面Ｌ１１−ｄや入射面Ｌ１１−ａの先端側長辺に沿う位置に引張バネ６９を配置する構成は、入射面Ｌ１１−ａの対角線方向に離間させて引張バネ６９を配置する構成に比べてバネ掛け突起６２を第１光軸Ｏ１に近づけやすく、ベース枠４１の小型化に寄与する。なお、実施形態の撮像ユニット１０（２１０）では、図４や図５に示すように、第１プリズムＬ１１の入射面Ｌ１１−ａの対角線方向に離間させて、第２象限Ｖ２と第３象限Ｖ３の側に永久磁石７１、７２とコイル７４、７５からなる電磁アクチュエータや磁気センサ８４、８５が設けられ、第１象限Ｖ１と第４象限Ｖ４の側に移動制限突起６０と移動制限孔７０が設けられており、これらの要素との関係で配置のスペース効率を高めるという観点からも、３つの引張バネ６９Ａ、６９Ｂ及び６９Ｃの配置が有効である。
【００８３】
第１プリズムＬ１１の周囲では、入射面Ｌ１１−ａに対向する位置に第１レンズＬ１があり、出射面Ｌ１１−ｂに対向する位置に第２レンズＬ２と第３レンズＬ３があるが、第１プリズムＬ１１のそれ以外の面に対向する領域には他の光学要素が設けられていない。第１プリズムＬ１１の一対の側面Ｌ１１−ｂに沿う位置に設けた引張バネ６９Ａ、６９Ｃと、第１プリズムＬ１１の入射面Ｌ１１−ａの先端側長辺に沿う位置に設けた引張バネ６９Ｂはいずれも、他の光学要素による制約を受けない領域にあるため、撮像ユニット１０（２１０）の厚み（前後）方向に収まるサイズという条件を満たしていればよく、長さに関する制限が少ない。つまり、各引張バネ６９におけるばね定数設定の自由度が高いという利点もある。
【００８４】
以上に述べた防振機構の特徴を備えた撮像ユニットの異なる実施形態を、図１４以降を参照して説明する。図１４の実施形態の撮像ユニット３１０は、第１レンズ枠４０をベース枠４１への接近方向に付勢する引張バネ６９として、第１プリズムＬ１１の一対の側面Ｌ１１−ｂに沿って設けた一対の引張バネ６９Ａ、６９Ｃが設けられており、先の実施形態の撮像ユニット１０（２１０）で設けられていた引張バネ６９Ｂが省略されている。一対の引張バネ６９Ａ、６９Ｃは、第１光軸Ｏ１に関して略対称の位置関係で、第１プリズムＬ１１の入射面Ｌ１１−ａの長手方向に離間して設けられている。また、個々の引張バネ６９Ａと引張バネ６９Ｃは、入射面Ｌ１１−ａの短手方向の略中央に位置している。この一対の引張バネ６９Ａ、６９Ｃの配置により、仮想平面Ｐ１を挟んだ両側で第１レンズ枠４０に対して均等な付勢力を与えることができ、引張バネ６９Ｂが省略されていても第１レンズ枠４０に傾きや倒れを生じさせることなく保持できる。そして、引張バネ６９の数を少なくしたことで、防振機構を小型軽量化させる効果が得られる。また、引張バネ６９Ｂを支持する箇所を省略できるので、第１レンズ枠４０やベース枠４１の構成の簡略化にも寄与する。
【００８５】
引張バネ６９Ｂを省略した構成は、図２２に示す防振機構にも好適である。図２２の防振機構は、第２象限Ｖ２と第３象限において仮想平面Ｐ２から離れる方向への永久磁石７１、７２とコイル７４，７５の突出量が小さく抑えられている。これに加えて、第２象限Ｖ２と第３象限のうち仮想平面Ｐ２から遠く位置する引張バネ６９Ｂを省略することで、第２象限Ｖ２と第３象限で防振機構が占めるスペースをさらに小さくさせて、第２光軸Ｏ２に沿う方向での防振機構の小型化を図ることができる。
【００８６】
図１５から図１７の実施形態の撮像ユニット４１０は、ベース枠４１に対して第１レンズ枠４０を可動に支持させる構造が異なっている。先の各実施形態の撮像ユニット１０、２１０及び３１０では、第１レンズ枠４０とベース枠４１の間に３つのガイドボール６７を挟んでいるが、この撮像ユニット４１０では、第１レンズ枠４０とベース枠４１の間に滑りシート８６が挟持されている。図１７に示すように、第１レンズ枠４０の３つのフランジ６４のそれぞれから、ベース枠４１に接近する後方に向けて、摺動突起８７が突設されている。摺動突起８７の先端は第１光軸Ｏ１と直交する面になっている。ベース枠４１には、第１レンズ枠４０の３つのフランジ６４に対向する位置に、第１光軸Ｏ１と直交する面である支持面８８が形成されている。支持面８８は、先の実施形態の３つのボール支持孔６１（６１Ａ、６１Ｂ、６１Ｃ）と同様に、第１プリズムＬ１１の入射面Ｌ１１−ａの一対の短辺に沿う位置と、入射面Ｌ１１−ａの先端側長辺に沿う位置に形成されている。このうち入射面Ｌ１１−ａの一対の短辺に沿う２箇所の支持面８８上には、位置決め突起８９が突設されている。滑りシート８６は、３箇所の当接部８６ａを枠状の接続部８６ｂで接続したコ字状の正面形状を有する薄板状の部材であり、表面の摩擦抵抗を小さくする材質（ポリテトラフルオロエチレンなど）で形成されている。滑りシート８６上には、ベース枠４１の２つの位置決め突起８９に係合する２つの位置決め孔８６ｃが設けられている。位置決め突起８９と位置決め孔８６ｃで位置決めされた滑りシート８６は、各当接部８６ａが摺動突起８７と支持面８８によって前後から挟まれ、引張バネ６９の付勢力によって第１レンズ枠４０とベース枠４１の間に保持される。
【００８７】
撮像ユニット４１０では、ガイドボール６７と同様に摺動抵抗の小さい滑りシート８６を挟むことによって、ベース枠４１に対して第１レンズ枠４０を円滑に防振駆動させることができる。滑りシート８６は３つの当接部８６ａを接続部８６ｂで接続した一部材からなるため、部品点数が少なく組み付けが容易である。滑りシート８６は、当接部８６ａと接続部８６ｂをいずれも、第１プリズムＬ１１の入射面Ｌ１１−ａの出射側長辺（出射面Ｌ１１−ｂ）に沿う領域には配置させない形状であり、第２光軸Ｏ２側に延びる光路との関係で配置が制約されることがない。また、滑りシート８６が薄板状であるため、撮像ユニット４１０の薄型化を図りやすい。また、摺動突起８７と支持面８８で滑りシート８６を挟む構造は、第１レンズ枠４０やベース枠４１に複雑な形状加工を要さないという利点もある。
【００８８】
図１８から図２１の実施形態の撮像ユニット５１０は、防振機構を構成するコイル７４、７５と磁気センサ８４、８５の支持構造が異なっている。先に説明した各実施形態では、本体モジュール１１側のハウジング１６と１群ブロック１２側のベース枠４１に亘って基板モジュール１３が支持されている。これに対して撮像ユニット５１０では、前カバー５１４や回路基板（図１８と図１９では前カバー５１４に覆われており表れていないが、先の実施形態の回路基板７３と同様に撮像センサＩＳなどが組み付けられている）で構成される基板モジュール５１３は、本体モジュール１１側のハウジング１６の前面だけをカバーしている。また、図１８と図１９に一部を示す後カバー５１５も、本体モジュール１１側のハウジング１６の後部だけをカバーしており、先の実施形態の後カバー１５のセンサ支持片１０４に相当する部位を備えていない。本体モジュール１１のフランジ支持座５０には、組立時や検査時に本体モジュール１１を固定させるための固定孔１５０が形成されている。
【００８９】
１群ブロック５１２には、基板モジュール５１３とは別体の支持基板１４０が組み付けられる。図２１に示すように、支持基板１４０は、第１基板１４０ａと第２基板１４０ｂを組みわせて構成される。第１基板１４０ａは金属製の板状材からなり、第１レンズ枠４０の磁石保持部７６、７７の前方を覆う平板状の前面部１４１と、前面部１４１の上下両縁部から後方に向かって延びる上下一対の係合片１４２を有する。第２基板１４０ｂはフレキシブル基板からなり、前面部１４１の裏面側に固定される平板状のコイル支持部１４３と、コイル支持部１４３に対して離間して対向する平板状のセンサ支持部１４４と、コイル支持部１４３とセンサ支持部１４４を接続するブリッジ部１４５と、ブリッジ部１４５から延設される延設部１４６を有する。前面部１４１には一対の位置決め孔１４１ａと一対の位置決め孔１４１ｂが形成されており、コイル支持部１４３にはこれらと重なる位置に一対の位置決め孔１４３ａと一対の位置決め孔１４３ｂが形成されている。一対の位置決め孔１４１ａ、１４３ａに対して、コイル７４を支持するコイル支持板１４７から突出する一対の位置決め突起１４７ａが係合し、一対の位置決め孔１４１ｂ、１４３ｂに対して、コイル７５を支持するコイル支持板１４８から突出する一対の位置決め突起１４８ａが係合し、コイル支持部１４３に対してコイル７４とコイル７５が固定的に支持される。センサ支持部１４４上には、コイル７４とコイル７５に対向する位置に磁気センサ８４と磁気センサ８５が固定されている。ベース枠４１の上下のフランジ４４の前面には、一対の位置決め突起１４９が設けられ、この一対の位置決め突起１４９に係合する一対の位置決め孔１４１ｃが第１基板１４０ａの前面部１４１に形成されている。また、第１基板１４０ａの一対の係合片１４２にはそれぞれ、ベース枠４１の上下のフランジ４４に形成した係合突起４６に係合する一対の係合孔１４２ａが形成されている。支持基板１４０は、第１基板１４０ａの前面部１４１をベース枠４１のフランジ４４や外囲壁４９の前面に当接させて一対の位置決め孔１４１ｃにそれぞれ位置決め突起１４９を係合させ、上下の係合片１４２をベース枠４１の上下のフランジ４４の上面と下面に当接させて一対の係合孔１４２ａにそれぞれ係合突起４６を係合させることで、ベース枠４１に対して所定の位置で支持される。このように支持された支持基板１４０における前面部１４１とコイル支持部１４３とセンサ支持部１４４はそれぞれ、第１光軸Ｏ１と略直交する平面部となる。
【００９０】
支持基板１４０をベース枠４１に取り付けた状態で、コイル７４、７５がそれぞれ第１レンズ枠４０上の永久磁石７１、７２に対向する。また、支持基板１４０をベース枠４１に取り付けることにより、センサ支持部１４４上の磁気センサ８４、８５がベース枠４１のセンサ支持部５５、５６に嵌合する。ベース枠４１にはさらに支持基板１４０とは別体の金属製のセンサ押さえ板１３９（図２０）が取り付けられる。先の実施形態の後カバー１５における支持片１０４と同様に、センサ押さえ板１３９は、後方からセンサ支持部１４４に当接して、センサ支持部５５、５６内に磁気センサ８４、８５を安定的に保持させる。支持基板１４０（特に第１基板１４０ａ）とセンサ押さえ板１３９は、永久磁石７１、７２の磁界に影響を及ぼさないように非磁性体または弱磁性体の金属で形成することが好ましい。支持基板１４０から延出される第２基板１４０ｂの延設部１４６を通じてコイル７４、７５と磁気センサ８４、８５が撮像ユニット５１０の制御回路に電気的に接続される。
【００９１】
以上のように支持基板１４０を介して１群ブロック５１２に組み付けられたコイル７４、７５と磁気センサ８４、８５は、先に説明した各実施形態の１群ブロック１２と共通の位置に固定されている。よって、コイル７４、７５に通電制御することで第１レンズ枠４０を第１光軸Ｏ１と直交する平面内で移動させることができる。この実施形態の撮像ユニット５１０では、第１レンズＬ１を駆動させる防振機構の構成要素が全て１群ブロック５１２に集約されているため、本体モジュール１１から取り外した１群ブロック５１２単体の状態で防振機構の検査や調整を行うことが可能であり、作業性に優れている。
【００９２】
以上、図示実施形態を利用して本発明を説明したが、本発明は様々な変形を施しながら実施可能である。例えば、図示実施形態の防振機構では、永久磁石７１、７２が磁力境界線Ｑ１、Ｑ２に沿う方向に長い矩形の正面形状を有し、コイル７４、７５が長軸Ｒ１、Ｒ２に沿う方向に長い正面形状を有しているが、これらとは異なる形状の永久磁石やコイルを備えた防振機構に本発明を適用することも可能である。具体的には、正方形の永久磁石を用いるなどの変更が可能である。
【００９３】
また、図示実施形態では、第１レンズ枠４０が可動範囲の中央に位置するときに、第１光軸Ｏ１と直交する面内で、永久磁石７１の中心７１ｕとコイル７４の中心７４ｕの位置が略一致し、永久磁石７２の中心７２ｕとコイル７５の中心７５ｕの位置が略一致しているが、初期状態で永久磁石の中心とコイルの中心の位置が互いに異なっている防振機構を備えた撮像装置にも本発明は適用可能である。
【００９４】
また、図示実施形態では第２光軸Ｏ２上に可動に支持されるレンズ群が第２群Ｇ２と第３群Ｇ３であるが、第２光軸Ｏ２上のレンズ群をこれよりも多くした４群、５群といったタイプの撮像光学系にも本発明は適用が可能である。
【００９５】
さらに第１群Ｇ１において、第１プリズムＬ１１の入射面Ｌ１１−ａの前方の第１光軸Ｏ１上に配されるレンズや、第１プリズムＬ１１の出射面Ｌ１１−ｂの右方の第２光軸Ｏ２上に配されるレンズの数を異ならせることが可能である。例えば、図示実施形態の第１レンズＬ１に代えて、第１プリズムＬ１１の前方に２つ以上のレンズを配置してもよい。この場合は、第１プリズムＬ１１の前方の複数レンズの光軸方向間隔が狭くなるので、収差劣化を防ぐべく第１プリズムＬ１１の前方の複数のレンズを全て第１光軸Ｏ１と直交する方向に移動させて防振制御を行うとよい。また図示実施形態では第１プリズムＬ１１の右方に第２レンズＬ２と第３レンズＬ３が配されているが、第１群Ｇ１で第１プリズムＬ１１に続く光路上に配置されるレンズの数を、１つまたは３つ以上とすることも可能である。さらには第１群Ｇ１で第１プリズムＬ１１に続く光路上にレンズを設けない態様にすることも可能である。
【００９６】
前述のように各実施形態の撮像ユニットでは第１レンズＬ１の入射面から像面までの光路長が常に一定である。このタイプの撮像光学系では一般的に最も物体側の第１レンズＬ１が負レンズとなる。但し本発明の防振制御用のレンズ（前方レンズ）は正レンズであってもよい。正、負を問わず屈折力を有するレンズであれば前方レンズとして適用が可能である。
【００９７】
また各実施形態の撮像ユニットの撮像光学系は、第２群Ｇ２と第３群Ｇ３を第２光軸Ｏ２に沿って移動させて変倍動作を行うズームレンズであるが、変倍機能を備えない撮像光学系を搭載した撮像装置においても本発明は適用可能である。例えば、第２群Ｇ２と第３群Ｇ３がズーミング用の移動を行わないものとし、第２群Ｇ２または第３群Ｇ３がフォーカシング用の移動のみを行う態様にすることもできる。
【００９８】
また各実施形態の撮像光学系は、光路を屈曲させる反射素子としてプリズムを用いているが、プリズムに代えてミラーなどを反射素子として用いてもよい。また反射素子による光軸の屈曲角度（反射角）は９０°以外の値であってもよい。
【００９９】
また、図示実施形態の第１プリズムＬ１１の入射面Ｌ１１−ａは横長矩形（長方形）であるが、プリズムの入射面が正方形、台形あるいはその他の形状をなすタイプの撮像装置にも本発明は適用可能である。
【符号の説明】
【０１００】
１０  ２１０  ３１０  ４１０  ５１０  撮像ユニット（撮像装置）
１１  本体モジュール
１２  ５１２  １群ブロック
１３  ５１３  基板モジュール
１４  ５１４  前カバー
１５  ５１５  後カバー
１６  ハウジング
１７  取付用凹部
１８  収納凹部
２３  パッキン
３４  ２群レンズ枠
３５  ３群レンズ枠
３６  第１ロッド（進退駆動機構）
３７  第２ロッド（進退駆動機構）
３８  ３９  ドリブンナット（進退駆動機構）
４０  第１レンズ枠（可動枠）
４１  ベース枠（支持部材）
４３  レンズ保持部
４４  フランジ
４９  外囲壁
５２  スペーサ
５４  固定ネジ
５５  ５６  センサ支持部
６０  移動制限突起
６１（６１Ａ、６１Ｂ、６１Ｃ）  ボール支持孔
６２  バネ掛け突起
６３  レンズ保持部
６４  フランジ
６６  ボール当接面
６７  ガイドボール
６８  バネ掛け突起
６９（６９Ａ、６９Ｂ、６９Ｃ）  引張バネ
７０  移動制限孔
７１  ７２  永久磁石（駆動手段）
７１ｕ  ７２ｕ  永久磁石の中心
７３  回路基板
７４  ７５  コイル（駆動手段）
７４ｕ  ７５ｕ  コイルの中心
７６  ７７  磁石保持部
７６ａ  ７７ａ  支持凹部
７８  支持凸部
７９  平面部
８１  撮影開口
８２  ８３  センサ支持腕部
８２ａ  ８３ａ  延長部
８２ｂ  ８３ｂ  対向平面部
８４  磁気センサ（第１の検知手段）
８４ｕ  磁気センサの中心
８５  磁気センサ（第２の検知手段）
８５ｕ  磁気センサの中心
８６  滑りシート
８６ａ  当接部
８６ｂ  接続部
８７  摺動突起
８８  支持面
８９  位置決め突起
９０  基部
９５  撮影開口
１００  基部
１０４  支持片
１０７  センサ支持壁
１２０  １２１  遮光枠
１３９  センサ押さえ板
１４０  支持基板
１４０ａ  第１基板
１４０ｂ  第２基板
１４１  前面部
１４１ａ  １４１ｂ  １４１ｃ  位置決め孔
１４２  係合片
１４２ａ  係合孔
１４３  コイル支持部
１４３ａ  １４３ｂ  位置決め孔
１４４  センサ支持部
１４５  ブリッジ部
１４６  延設部
１４７  １４８  コイル支持板
１４７ａ  １４８ａ  位置決め突起
１４９  位置決め突起
１５０  固定孔
１７６  １７７  磁石保持部
１７６ａ  １７７ａ  支持凹部
Ｆ１  第１レンズ枠への推力の作用方向
Ｆ２  第１レンズ枠への推力の作用方向
Ｇ１  第１群（前方レンズ群）
Ｇ２  第２群（後方レンズ群）
Ｇ３  第３群（後方レンズ群）
ＩＳ  撮像センサ
Ｌ１  第１レンズ（前方レンズ）
Ｌ２  第２レンズ
Ｌ３  第３レンズ
Ｌ４  第４レンズ
Ｌ５  第５レンズ
Ｌ６  第６レンズ
Ｌ１１  第１プリズム（反射素子）
Ｌ１１−ａ  入射面
Ｌ１１−ｂ  出射面
Ｌ１１−ｃ  反射面
Ｌ１１−ｄ  側面
Ｌ１２  第２プリズム
Ｌ１２−ｃ  反射面
Ｍ１  第１モータ（進退駆動機構）
Ｍ２  第２モータ（進退駆動機構）
Ｏ１  第１光軸
Ｏ２  第２光軸
Ｏ３  第３光軸
Ｐ１  第１の仮想平面（第１の平面）
Ｐ２  第２の仮想平面（第２の平面）
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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