(57)【要約】【課題】意図されたセルギャップを有する表示素子を容易に製造する方法を提供する。【解決手段】本発明の一形態に係る表示素子の製造方法は、第１基板５における光硬化性の接着剤８に囲まれた表示領域Ａ１内に表示材料（例えば液晶９）を配置するステップと、光透過性の第２基板６を第１基板５に積層し、積層体７を形成するステップと、第１基板押圧部４を、第１基板５における第２基板６と逆側に配置するステップと、光透過部１２と遮光部１３とを有する第２基板押圧部３を、第２基板６における第１基板５と逆側に、光透過部１２を接着剤８の配置領域と対応させ、遮光部１３を表示領域Ａ１と対応させるように配置するステップと、第２基板押圧部３の光透過部１２に光を照射しつつ、第１基板押圧部４と第２基板押圧部３とで積層体７を押圧するステップとを備える。【選択図】図１
2014092570.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
予め定められた表示領域を有する第１面と、その第１面の反対側に第２面を備える第１基板に対し、その第１面の表示領域の外周に光硬化性を有する接着剤を配置する接着剤配置ステップと、
前記第１面の前記接着剤に囲まれた前記表示領域内に表示材料を配置する表示材料配置ステップと、
第３面とその反対側に第４面とを備える光透過性の第２基板を、前記第１面に前記第３面を対向させて前記第１基板に積層し、積層体を形成する積層体形成ステップと、
第１基板押圧部を、前記第１基板の前記第２面側に配置する第１基板押圧部配置ステップと、
光透過部と遮光部とを有する第２基板押圧部を、前記第２基板の前記第４面側に、前記光透過部を前記接着剤の配置領域と対応させ、前記遮光部を前記表示領域と対応させるように配置する第２基板押圧部配置ステップと、
前記第２基板押圧部の前記光透過部に光を照射しつつ、前記第１基板押圧部と前記第２基板押圧部とで前記積層体を押圧する押圧ステップと
を備える表示素子の製造方法。
【請求項２】
予め定められた表示領域を有する第１面とその第１面の反対側に第２面を備える第１基板と、第３面とその反対側に第４面とを備える光透過性の第２基板とが、前記表示領域の外周に配置された光硬化性を有する接着剤を介して積層され、前記第１基板、前記第２基板、及び前記接着剤とで形成される空間に表示材料が配置された積層体を、前記第１基板の前記第２面側から押圧する第１基板押圧部と、
光透過部と遮光部とを有し、前記第２基板の前記第４面側から前記積層体を押圧する第２基板押圧部と、
前記第２基板押圧部に対して光を射出する光源とを備え、
前記第２基板押圧部の前記光透過部は、前記積層体の押圧時における前記接着剤の配置領域に対応する位置に設けられ、前記遮光部は、前記積層体の押圧時における前記表示領域に対応する位置に設けられたことを特徴とする表示素子の製造装置。
【請求項３】
予め定められた表示領域を有する第１面とその第１面の反対側に第２面を備える第１基板と、第３面とその反対側に第４面とを備える光透過性の第２基板とが、前記表示領域の外周に配置された光硬化性を有する接着剤を介して積層され、前記第１基板、前記第２基板、及び前記接着剤とで形成される空間に表示材料が封入された積層体を、第１基板押圧部によって前記第１基板の前記第２面側から押圧する第１基板押圧ステップと、
光透過部と遮光部とを有する第２基板押圧部に光を照射しつつ、前記第２基板押圧部によって前記第２基板の前記第４面側から前記積層体を押圧する第２基板押圧ステップとを有する表示素子の製造方法であって、
前記第２基板押圧ステップは、前記光透過部を前記接着剤の配置領域に対応させ、前記遮光部を前記表示領域に対応させるように、前記第２基板押圧部を配置することを特徴とする表示素子の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、表示素子の製造装置及び製造方法に関し、より詳細には第１基板と第２基板とが光硬化性の接着剤を介して積層される表示素子の製造装置及び製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶層と、その液晶層を挟持する２枚の基板などから構成される液晶表示素子が広く一般に普及し、液晶テレビに限らず、プロジェクタなどの画像投射装置に用いられている。近年では、例えばＬＣＯＳ（Liquid Crystal On Silicon）などのマイクロプロジェクションないしマイクロディスプレイ技術を用いることで、反射型液晶表示素子や画像表示装置自体の小型化も進んでいる。
【０００３】
この様な液晶表示素子では、各種基板、液晶層、又は接着剤などの各構成やその素材だけでなく、その液晶表示素子の品質や生産性を考慮した製造装置や製造方法もまた重要となる。例えば特許文献１には、画像品質や生成性が高くコストを抑えた液晶表示素子の製造装置及び生産方法が記載されている。
【０００４】
この特許文献１に記載された製造方法等では、シリコンＩＣ（Integrated Circuit）基板の表示領域の周囲にシール接着剤を塗布し、シール接着剤で囲まれた表示領域に液晶を滴下する。次に、真空状態でシリコンＩＣ基板とガラス基板とを積層し、所定の圧力で挟み込む。次に、圧力の印加を解除し、真空状態から大気圧状態まで圧力を上昇させることで、シリコンＩＣ基板とガラス基板とのセルギャップを減少させ、所定のセルギャップにする。次に、紫外線を照射してシール接着剤を硬化させる。最後に、シリコンＩＣ基板とガラス基板との積層体を切断する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００４−１７７５４２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
ところで、上述したような小型の液晶表示素子は、素子のパネルサイズは０．５インチ〜０．９インチサイズという比較的小さいサイズが一般的である。また、基板間のギャップ間隔（以下、「セルギャップ」ともいう。）は、液晶応答速度の高速化のため１μｍ〜３μｍ程度の狭ギャップ間隔になっている。
【０００７】
特許文献１の液晶表示素子の製造方法は、圧力の印加を解除してから、シール接着剤を硬化させている。そのため、圧力の印加を解除してからシール接着剤が硬化するまでの間に、シリコンＩＣ基板とガラス基板との間のセルギャップが広がってしまう場合がある。したがって、上述したような１μｍ〜３μｍ程度の狭ギャップを有する液晶表示素子の製造では、意図したセルギャップの実現が難しく、歩留まりが低下する等の問題があった。
【０００８】
本発明の目的は、上述した課題を解決するためになされたものであり、意図されたセルギャップを有する表示素子を容易に製造することができる、表示素子の製造装置及び製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明の一形態に係る表示素子の製造方法は、予め定められた表示領域（Ａ１）を有する第１面と、その第１面の反対側に第２面を備える第１基板（５）に対し、その第１面の表示領域（Ａ１）の外周に光硬化性を有する接着剤（８）を配置する接着剤配置ステップと、前記第１面の前記接着剤（８）に囲まれた前記表示領域（Ａ１）内に表示材料（例えば液晶９）を配置する表示材料配置ステップと、第３面とその反対側に第４面とを備える光透過性の第２基板（６）を、前記第１面に前記第３面を対向させて前記第１基板（５）に積層し、積層体（７）を形成する積層体形成ステップと、第１基板押圧部（４）を、前記第１基板（５）の前記第２面側に配置する第１基板押圧部配置ステップと、光透過部（１２）と遮光部（１３）とを有する第２基板押圧部（３）を、前記第２基板（６）の前記第４面側に、前記光透過部（１２）を前記接着剤（８）の配置領域と対応させ、前記遮光部（１３）を前記表示領域（Ａ１）と対応させるように配置する第２基板押圧部配置ステップと、前記第２基板押圧部（３）の前記光透過部（１２）に光を照射しつつ、前記第１基板押圧部（４）と前記第２基板押圧部（３）とで前記積層体（７）を押圧する押圧ステップとを備える。
本発明の一形態に係る表示素子の製造装置（１）は、予め定められた表示領域（Ａ１）を有する第１面とその第１面の反対側に第２面を備える第１基板（５）と、第３面とその反対側に第４面とを備える光透過性の第２基板（６）とが、前記表示領域（Ａ１）の外周に配置された光硬化性を有する接着剤（８）を介して積層され、前記第１基板（５）、前記第２基板（６）、及び前記接着剤（８）とで形成される空間に表示材料（例えば液晶９）が配置された積層体（７）を、前記第１基板（５）の前記第２面側から押圧する第１基板押圧部（４）と、光透過部（１２）と遮光部（１３）とを有し、前記第２基板（６）の前記第４面側から前記積層体（７）を押圧する第２基板押圧部（３）と、前記第２基板押圧部（３）に対して光を射出する光源（２）とを備え、前記第２基板押圧部（３）の前記光透過部（１２）は、前記積層体（７）の押圧時における前記接着剤（８）の配置領域に対応する位置に設けられ、前記遮光部（１３）は、前記積層体（７）の押圧時における前記表示領域（Ａ１）に対応する位置に設けられる。
本発明の一形態に係る表示素子の製造方法は、予め定められた表示領域（Ａ１）を有する第１面とその第１面の反対側に第２面を備える第１基板（５）と、第３面とその反対側に第４面とを備える光透過性の第２基板（６）とが、前記表示領域（Ａ１）の外周に配置された光硬化性を有する接着剤（８）を介して積層され、前記第１基板（５）、前記第２基板（６）、及び前記接着剤（８）とで形成される空間に表示材料（例えば液晶９）が封入された積層体（７）を、第１基板押圧部（４）によって前記第１基板（５）の前記第２面側から押圧する第１基板押圧ステップと、光透過部（１２）と遮光部（１３）とを有する第２基板押圧部（３）に光を照射しつつ、前記第２基板押圧部（３）によって前記第２基板（６）の前記第４面側から前記積層体（７）を押圧する第２基板押圧ステップとを有する表示素子の製造方法であって、前記第２基板押圧ステップは、前記光透過部（１２）を前記接着剤（８）の配置領域に対応させ、前記遮光部（１３）を前記表示領域（Ａ１）に対応させるように、前記第２基板押圧部（３）を配置する。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、意図されたセルギャップを有する表示素子を容易に製造することができる、表示素子の製造装置及び製造方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】本発明の実施の形態１の製造装置を概略的に示す斜視図である。
【図２】本発明の実施の形態１の製造装置を概略的に示す分解斜視図である。
【図３】本発明の実施の形態１の製造装置を概略的に示す断面図である。
【図４】第１基板における表示領域周辺を概略的に示す図である。
【図５】本発明の実施の形態１の製造装置における、第２基板押圧部を概略的に示す断面図である。
【図６】本発明の実施の形態２の製造装置を概略的に示す断面図である。
【図７】第２基板押圧部の光透過部材における第２基板と向かい合う面において、光透過部が形成される領域と遮光部が形成される領域とを平面的に示す図である。
【図８】（Ａ）は、図７の部分拡大図である。（Ｂ）は、（Ａ）の断面図である。
【図９】（Ａ）は、図７の部分拡大図である。（Ｂ）は、（Ａ）の断面図である。
【図１０】第２基板押圧部の凸部の幅寸法を説明するための図である。
【図１１】第２基板押圧部の凸部の高さを説明するための図である。
【図１２】本発明の実施の形態３の製造装置を概略的に示す断面図である。
【図１３】本発明の実施の形態４の製造装置を概略的に示す断面図である。
【図１４】本発明の実施の形態５の製造装置を概略的に示す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
以下に図面を参照しながら、本発明に係る表示素子の製造装置及び製造方法の好適な実施の形態を説明する。かかる実施の形態に示す具体的な数値等は、発明の理解を容易とするための例示にすぎず、特に断る場合を除き、本発明を限定するものではない。なお本明細書及び図面において、実質的に同一の機能・構成を有する要素については、同一の符号を付することにより重複説明を省略し、また本発明に直接関係のない要素は記載を省略する。また説明を明確にするため、以下の記載及び図面は適宜、簡略化されている。
【００１３】
＜実施の形態１＞
先ず、本実施の形態の表示素子の製造装置を概略的に説明する。本実施の形態の製造装置は、例えば液晶滴下工法によって液晶表示素子を製造する際に用いられる。この製造装置は、表示領域を囲む光硬化性の接着剤を介して第１基板と光透過性の第２基板とが積層された積層体を所定の圧力で挟み込むための、第１基板押圧部と第２基板押圧部とを備えている。第１基板押圧部は、第１基板を第２基板の方に向かって押圧する。第２基板押圧部は、第２基板を第１基板の方に向かって押圧する。ここで第２基板押圧部は、第１基板と第２基板との間に配置（塗布）された接着剤の位置と対応する位置（領域）に、光が透過する光透過部を備えている。
【００１４】
本実施の形態の表示素子の製造装置では、第１基板押圧部と第２基板押圧部とが積層体を挟み込むことで、第１基板と第２基板とのセルギャップを所定の値に維持しつつ、第２基板押圧部の光透過部から光透過性の第２基板を介して光を透過させて、接着剤を硬化させることができる。したがって、第１基板押圧部と第２基板押圧部との挟み込みにより調整したセルギャップを、接着剤硬化後のセルギャップとすることができる。そのため、意図されたセルギャップを有する表示素子を容易に製造することができる。
【００１５】
以下に、本実施の形態の表示素子の製造装置及び製造方法を詳細に説明する。図１に示すように、製造装置１は、光源２、第２基板押圧部３及び第１基板押圧部４を備えている。これらの光源２、第２基板押圧部３及び第１基板押圧部４は、内部の圧力が調整可能なチャンバ（図示を省略）内に収容されている。そして、図２に示すように、第２基板押圧部３と第１基板押圧部４とで、第１基板５と第２基板６とを積層した積層体７を挟み込む。
【００１６】
一つの積層体７から、最終的に複数の表示素子が形成される。積層体７は後述する各基板の接着等が完了したのち、図示しない分割ラインに沿って切断される。そして、個々の表示素子が形成されることになる。図３は、この積層体７に形成される複数の表示素子のうちの一つに対応した部分を、拡大した断面図である。図３に示すように、積層体７は、第１基板５、第２基板６、接着剤８、及び液晶９を備えている。図２に示すように、第１基板５は、第２基板６と積層されている。第１基板５には、第２基板６と向かい合う面に複数の＜表示領域Ａ１＞が設けられている。各々の＜表示領域Ａ１＞は、複数の画素電極１０（但し、図２では各々の画素電極は微細であるため、簡略化して示している。）を備えている。本実施の形態の第１基板５は、例えば複数の＜表示領域Ａ１＞がアレイ状に配列され、さらに各々の＜表示領域Ａ１＞に画素電極１０が、所定の規則に基づいてアレイ状に配列されたシリコンＩＣ基板である。この第１基板５は、円盤形状を有している。
【００１７】
第２基板６は、光透過性を有する基板である。本実施の形態の第２基板６は、紫外線（以下、「ＵＶ」と記載する。）を透過するガラス基板である。第２基板６は、第１基板５の形状と略等しい円盤形状となっている。そして、この第２基板６は、ガラス板を備え、当該ガラス板の、第１基板５と向かい合う面に透明電極膜（図示を省略）が形成されている。また、ガラス板の、第１基板５と逆側の面に反射防止膜（図示を省略）が形成されている。第２基板６に関し、本実施の形態では、ＵＶを透過するガラス基板を用いたが、接着剤８を硬化させることができる波長の光線（電磁波）を透過可能な基板であればよい。
【００１８】
接着剤８は、第１基板５と第２基板６とを接合すると共に、表示領域Ａ１に滴下された液晶９を封止する役割を果たす。接着剤８は、光硬化性を有している。接着剤８は、本実施の形態では、ＵＶ硬化性を有する接着剤であり、一般的に液晶滴下工法で用いられる接着剤を用いることができる。図４に示すように、接着剤８は、個々の＜表示領域Ａ１＞の周囲を囲むように配置（塗布）されている（図４では右下がりのハッチングで記載）。なお第１基板５の、第２基板６と向かい合う面において、接着剤８を挟んで＜表示領域Ａ１＞と逆側の領域、即ち接着剤８の外側の領域のいずれかに＜電極領域Ａ２＞が形成されている。本実施の形態では、接着剤８の一例としてＵＶ硬化性を有する接着剤を用いたが、接着剤８は、一般的な光硬化性を有する接着剤であればよい。
【００１９】
製造された液晶表示素子は、例えばプロジェクタ等の画像投射装置に搭載されると、この画像投射装置が備える光源から射出された光を画素電極が配置された領域で受光することになる。このとき液晶表示素子は、光源から射出された光を接着剤８が遮ることがないように設計される必要がある。すなわち、画素電極が配置された領域が光を受光する際に、接着剤８が陰となってしまうことを防止する必要がある。同様に接着剤８が、画素電極からの反射光に対する陰となってしまうことも防止しなければならない。画素電極が陰になると、投射される画像表示光が損なわれてしまうためである。加えて、塗布された接着剤８が、両基板の押圧により圧延する際に、画素電極上に被さることがないように設計される必要もある。
【００２０】
そこで図４に示すように、接着剤８と表示領域Ａ１との間隔Ｔ１（接着剤８で囲まれた＜表示領域Ａ１＞の周縁部と接着剤８における当該＜表示領域Ａ１＞側の端部との間隔）が、適切なものとなるように設定される。つまり、接着剤８と表示領域Ａ１との間に間隔Ｔ１を確保するために、表示領域Ａ１と接着剤８との間に、表示に寄与しない領域Ａ３（図４では右上がりのハッチングで記載）が形成される。
【００２１】
図３に戻り、液晶９は、第１基板５と第２基板６と接着剤８とで囲まれた空間に配置されている。液晶９は、第１基板５の画素電極１０と第２基板６の透明導電膜とから印加される電圧によって、分子の配列を変化させる。液晶９としては、一般的に液晶表示素子に用いられる液晶を用いることができる。
【００２２】
図１に戻り、光源２は、ＵＶを射出する。光源２は、第２基板押圧部３に光を照射可能な位置に配置されている。本実施の形態の光源２は、第２基板押圧部３を挟んで第１基板押圧部４と逆側に配置されている。本実施の形態では光源２は、ＵＶ光を出射する光源を用いたが、接着剤８を硬化させることができる波長の光線（電磁波）を出射可能なものであればよい。
【００２３】
図２に示すように、第２基板押圧部３は、積層体７を第１基板押圧部４と共に挟み込む。第２基板押圧部３は、第２基板６における第１基板５と向かい合った面と逆側の面を押圧する。ここで第２基板押圧部３は、図３に示すように、光透過部１２及び遮光部１３を備えている。
【００２４】
本実施の形態の第２基板押圧部３は、ＵＶ透過性の光透過部材１４に遮光部１３を形成することで、積層体７に対して光を透過する領域、及び積層体７へ向かう光を遮断する領域を有している。以下では第２基板押圧部３の、光を透過する領域に対応する部分を光透過部１２と、積層体７へ向かう光を遮断する領域に対応する領域を遮光部１３とする。ここで、本発明でいう「光透過部を接着剤の配置領域と対応させる」とは、光透過部１２を接着剤８が配置された領域を覆う位置及び面積とすることをいう。また、本発明でいう「遮光部を表示領域と対応させる」とは、遮光部１３を＜表示領域Ａ１＞を覆う位置及び面積とすることをいう。
【００２５】
光透過部材１４は、ＵＶを透過する石英や無アルカリガラスから成る。光透過部材１４は、積層体７を覆うのに十分な面積を有する。そして、光透過部材１４は、積層体７を押圧した際に変形しない厚さを有している。本実施の形態では光透過部材１４を、ＵＶを透過可能なものとしたが、接着剤１８を硬化させることができる波長の光線（電磁波）を透過可能なものであればよい。遮光部１３は、表示素子内に設けられた＜表示領域Ａ１＞に、ＵＶが透過されないように、この＜表示領域Ａ１＞に対応する位置に、この＜表示領域Ａ１＞と略同一の面積で、設けられている。つまり、遮光部１３は、液晶９への光の照射を防ぐように、第２基板押圧部３に形成されている。一方で、遮光部１３は、接着剤８への光の照射を阻害しないように、接着剤８が配置された領域を覆わない位置及び面積となっている。
【００２６】
本実施の形態の遮光部１３は、光透過部材１４における第２基板６と向かい合う面において、各＜表示領域Ａ１＞を覆うように、アレイ状に形成されている。その結果、光透過部材１４における第２基板１６と向かい合う面において、遮光部１３の形成領域以外の領域が光透過部１２となり、光透過部１２は接着剤８が配置された各領域の全てを覆うように格子状に配置されている。
【００２７】
遮光部１３は、ＵＶ光を遮光可能な金属やクロム等のマスク部材である。但し、遮光部１３は、液晶９への光の照射を防ぎ、且つ接着剤８への光の照射を阻害しなければ、形成箇所及び材料は特に限定されない。
【００２８】
ここで、光透過部材１４は枠材１５によって補強されていることが好ましい。図１及び図５等に示すように、本実施の形態の枠材１５は、開口部１５ａ、水平部１５ｂ及び垂直部１５ｃを備えている。詳細には、第２基板６の外形と略相似関係にある外形の平板部材の略中央部に開口部１５ａが形成され、この平板部材が水平部１５ｂとして光透過部材１４における第２基板６と向かい合う面と逆側の面上に配置されている。そして、水平部１５ｂの外周縁に第２基板６の側部を覆うように垂直部１５ｃが連結されている。これにより、光透過部材１４における第２基板６と向かい合う面と逆側の面を形成する辺の近傍を覆い、光透過部材１４を補強する。また、開口部１５ａから光透過部材１４が露出する。そして開口部１５ａを介して光が光透過部材１４を透過して積層体７に照射される。この枠材１５は、光透過部材１４に固定されている。
【００２９】
そして枠材１５は、チャンバに固定された固定冶具（図示を省略）に接合されている。これによって第２基板押圧部３は、この固定冶具に支持されることとなる。本実施の形態の第２基板押圧部３は、チャンバ内において、光源２の光を照射可能な位置に固定されている。
【００３０】
第１基板押圧部４は、第１基板５における第２基板６と向かい合う面と逆側の面を押圧する。図１及び図２に示すように、本実施の形態の第１基板押圧部４は、スペーサ１６及びプレス板１７を備えている。スペーサ１６は、第１基板５の全領域を押圧するために、第１基板５よりも大きな面積を有する平板部材である。プレス板１７は、スペーサ１６の外形と略等しい外形の平板部材である。このプレス板１７にプレス装置（図示を省略）から荷重が印加され、プレス板１７は第１基板５側に移動する。
【００３１】
ここで図１及び図２に示すように、第１基板押圧部４は、加熱部１８を備えていることが好ましい。加熱部１８は、接着剤８を加熱する。本実施の形態の加熱部１８は、スペーサ１６の外形と略等しい外形に形成されている。加熱部１８は、例えば抵抗体に電圧を印加することで加熱する加熱手段（図示を省略）を備えている。ここで加熱手段は特に限定されない。これにより、接着剤８は、スペーサ１６及び第１基板５を介して加熱部１８によって加熱される。
【００３２】
次に、上述の製造装置１を用いた表示素子の製造方法を説明する。本製造方法では先ず、積層体７を形成する。つまり、第１基板５の表示領域Ａ１を囲むように当該第１基板５に接着剤８を塗布し、接着剤８で周囲を囲まれた表示領域Ａ１に液晶９を滴下する。そして、製造装置１のチャンバ内に液晶９が滴下された第１基板５を搬送し、第１基板５と第２基板６とを貼り合せて積層体７を形成する。なお第２基板６は、予めチャンバ内にセッティングされていてもよいし、第１基板５の搬送時にセッティングされてもよい。
【００３３】
次に、積層体７を第２基板押圧部３と第１基板押圧部４とで所定の圧力で挟み込み、第１基板５と第２基板６とのセルギャップを所定の値に維持すると共に、積層体７にＵＶを照射する。詳細には、プレス装置を制御して第１基板押圧部４を第２基板押圧部３側に移動させる。第２基板押圧部３はチャンバ内に固定されているので、積層体７は第２基板押圧部３と第１基板押圧部４とで挟み込まれる。そして、第１基板５と第２基板６とのセルギャップを所定の値に維持するように、プレス装置を制御する。
【００３４】
同時に、光源２を制御して、図３に示すように、光源２からＵＶを積層体７に照射する。このとき、第２基板押圧部３の光透過部１２は、接着剤８の配置に対応する位置に設けられているので、ＵＶが光透過部１２を透過して接着剤８に照射される。これにより、第１基板５と第２基板６とのセルギャップを所定の値に維持しつつ、接着剤８を硬化させることができる。なお、図３は第２基板押圧部３及び第１基板押圧部４を概略的に示している。
【００３５】
一方、第２基板押圧部３の遮光部１３は、表示領域Ａ１を覆うように配置されているので、ＵＶが液晶９に照射されることを抑制することができる。そのため、ＵＶが照射されることによる液晶９の劣化を抑制することができる。
【００３６】
ここで、積層体７を第２基板押圧部３と第１基板押圧部４とで挟み込む際に、加熱部１８を加熱させると、接着剤８を加熱することができる。これにより、接着剤８の粘度を低下させることができ、第１基板５と第２基板６とのセルギャップを狭くすることができる。したがって、セルギャップが小さく応答性の高い表示素子の製造を、より容易に行うことができる。
【００３７】
そして、チャンバから接着剤８が硬化した積層体７を取り出し、分割ラインに沿って分割すると、第１基板５上に形成されていた＜表示領域Ａ＞毎に、表示素子を得ることができる。
【００３８】
従来の製造装置は、上述したように積層体への圧力の印加を解除してから、シール接着剤を硬化させている。したがって、積層体への圧力が開放されることで、硬化前の接着剤が、その弾性力によりシリコンＩＣ基板とガラス基板とのセルギャップを広げてしまう。シリコンＩＣ基板とガラス基板とのセルギャップを意図したものとするためには、この接着剤の弾性力による広がりを考慮して、圧力の印加時のセルギャップを調整する必要等がある。しかし、接着剤の広がりを完全に予想し制御することは極めて難しい。また、シリコンＩＣ基板とガラス基板とのセルギャップがシリコンＩＣ基板とガラス基板との積層方向に広がって接着剤の幅寸法（接着剤における当該接着剤を横断する方向の長さ）が狭くなる際に、接着剤に液晶が吸い込まれて、接着剤の硬化を阻害する可能性がある。また、液晶が配置された領域に接着剤が溶出することで、液晶の応答性能等を低下させ、表示画像の品位を低下させる可能性がある。
【００３９】
一方、本実施の形態の製造装置及び製造方法は、第１基板５と第２基板６とのセルギャップを所定の値に維持しつつ、接着剤８に光を照射して当該接着剤８を硬化させることができる。そのため、積層体７を挟み込んで第１基板５と第２基板６とのセルギャップを所定の値に維持している時と、接着剤８が硬化する時とで接着剤８の厚さは殆ど変化しない。したがって、第１基板５と第２基板６とのセルギャップを精度良く、所望の値とすることができる。しかも、接着剤８に液晶９が吸い込まれることがなく、接着剤８が良好に硬化すると共に、表示画像の品位を低下させることがない。
【００４０】
また、第２基板押圧部３の光透過部１２は接着剤８の配置に対応するように配置されているので、積層体７を挟み込んだ際の接着剤８を観察することができる。これにより、接着剤８への押圧具合や硬化具合等を観察することも可能となる。
【００４１】
＜実施の形態２＞
本実施の形態２に係る製造装置は、第２基板押圧部の構成が、前述した実施の形態１に係る製造装置と異なる。この実施の形態２における、第２基板押圧部は、積層体における接着剤の配置（塗布）領域を押圧するための凸部を有している。なおその他の構成は、実施の形態１の製造装置１と略同様の構成とされている。そのため、重複する説明は省略し、同一の要素には同一の符号を用いて説明する。
【００４２】
図６は、本実施の形態２において押圧される積層体に形成される複数の表示素子のうちの一つに対応した部分を、拡大した断面図である。図６に示す製造装置２１の第２基板押圧部２２は、第２基板６側に突出し、第２基板６における第１基板５と逆側の面と接する端面を有する凸部２２ａを備えている。そして、当該凸部２２ａの端面は、第２基板の押圧時に、第２基板における接着剤８の配置領域に対応する位置及び面積とされている。図６に示すように、製造装置２１が積層体７を押圧する際に、第２基板押圧部２２の凸部２２ａは、第２基板６に接する。この第２基板押圧部２２の凸部２２ａが第２基板６に接する面、つまり凸部２２ａの端面は、接着剤８が配置された領域の全体を押圧することができるように、接着剤８が配置された領域と対応する位置に、接着剤８が配置された領域以上の面積を有していることが望ましい。但し、凸部２２ａの端面の面積は、その端面が、液晶９が配置（滴下）されている領域に対応する領域にかからない程度の大きさにとどめる。なお、凸部２２ａの端面の面積は、接着剤８が配置された領域を押圧することができれば、必ずしも接着剤８が配置された領域以上の面積を有していなくともよい。従って凸部２２ａの端面は、例えば接着剤８が配置された領域と略相似関係にあり、接着剤８が配置された領域よりも小さい面積を有するような形状とされていてもよい。
一方で、第２基板押圧部２２のうち、押圧時に積層体７の液晶９が配置（滴下）されている領域に対応する領域は、第２基板６とは接しない構成となっている。
【００４３】
第２基板押圧部２２を以上のような構成とすることで、第２基板６から第１基板５に向かって、第２基板押圧部２２が積層体７に加える圧力は、接着剤８が配置されている領域に主に集中し、液晶９が配置されている領域には印加されないことになる。
【００４４】
図７は、第２基板押圧部２２の光透過部材２３を、第２基板６と向かい合う面を上方からみた斜視図である。前述の通り、第２基板押圧部２２の光透過部材２３には、積層体７の接着剤８の配置領域に対応する位置に凸部２２ａが設けられているが、この凸部２２ａは、光透過部材２３全体では、図７に示すとおり格子梁状に設けられることとなる。そして、図６で示した、積層体７の液晶９が配置された領域に対応する領域、つまり格子梁状に設けられた凸部２２ａに囲まれた矩形領域が、この光透過部材２３における遮光部２５となる。そして凸部２２ａが設けられた部分は、光透過部２４となる。この光透過部２４は遮光部２５に比べて第２基板６側に突出した構成となる。
【００４５】
このような凸部２２ａは、図８（Ａ）及び（Ｂ）に示すように、積層体７の押圧時に、第２基板６と接触する、光透過部材２３の基準面２３ａに対して遮光部２５が形成される領域を掘り下げることで形成することができる。但し、凸部２２ａは、図９（Ａ）及び（Ｂ）に示すように、光透過部材２３の基準面２３ａに対して光透過部２４が形成される領域を突出させることで形成することもできる。
【００４６】
第２基板押圧部２２に凸部２２ａを形成することで、積層体７のうち接着剤８が塗布された（配置される）領域に集中して圧力を印加させることができる。一般的に接着剤８の粘度は、液晶９の粘度よりも高い。粘度の高い接着剤８に集中して圧力が印加されるため、押圧時に基板６が撓むことを防ぐことができ、より精度高くセルギャップを確保することができる。
【００４７】
また凸部２２ａの形成により、押圧時に液晶９が配置される領域へ圧力が印加されることを防止することができる。これにより画素電極１０や配向膜が損傷されたり、液晶９が接着剤８の配置領域に侵入したりすることを防止することができる。
【００４８】
以上のように凸部２２ａの形成によりセルギャップの均一性の保持、画素電極１０や配向膜の損傷の防止、または精度の高い液晶９の配置領域の確保が可能となり、品質の高い液晶表示素子の製造をより容易とすることができる。
【００４９】
ここで図１０に示すように、本実施の形態２の、第２基板押圧部２２の凸部２２ａについて、凸部２２ａの幅寸法（凸部２２ａにおける当該凸部２２ａを横断する方向の長さ）Ｔ２が、互いに隣接する複数の＜表示に寄与しない領域Ａ３＞間の間隔と略等しくなるように設定されることが好ましい。これにより、凸部２２ａの幅寸法Ｔ２は、接着剤８の幅寸法Ｔ３（接着剤８における当該接着剤８を横断する方向の長さ）より広くなる。つまり、凸部２２ａにおける＜表示領域Ａ１＞側の端部は接着剤８における当該＜表示領域Ａ１＞側の端部より当該＜表示領域Ａ１＞側に配置される。そのため、接着剤８の側部に光を良好に照射することができ、接着剤８を確実に硬化させることができる。しかも、凸部２２ａを各々の接着剤８の配置に沿って形成する場合に比べて、凸部２２ａを簡単に形成することができる。また、凸部２２ａの強度を確保することができる。但し、凸部２２ａを各々の接着剤８の配置に沿って形成してもよい。
【００５０】
このとき、凸部２２ａの高さは当該凸部２２ａに入射した光が表示領域Ａ１に照射されないように設定することが好ましい。すなわち図１１に示すように、光源２から射出され光透過部２４に入射する光のうち、表示領域Ａ１の表示面が存在する面Ｆ１（図１１中では破線で示す）に対する入射光の進入角度が最も小さくなる光Ｒが、この面Ｆ１に到達する位置Ｐ１と、表示領域Ａ１の端部Ｅ１と凸部２２ａの表示領域Ａ１側の端部Ｅ２との間の距離Ｔ４とを考慮して適宜設計される。換言すると、光源２から射出された光のうち、凸部２２ａの表示領域Ａ１側の端部に対して最も遠くから入射する光Ｒが、表示領域Ａ１に照射されず、液晶９が劣化しないように設定される。
【００５１】
＜実施の形態３＞
本実施の形態３に係る製造装置は、第２基板押圧部に設けられた遮光部の構成が、前述した実施の形態２に係る製造装置と異なる。この実施の形態３における、第２基板押圧部は、積層体における接着剤の配置（塗布）領域を押圧するための凸部を有するとともに、凸部の側面にも遮光部が設けられる。なおその他の構成は、実施の形態１の製造装置１と略同様の構成とされている。そのため、重複する説明は省略し、同一の要素には同一の符号を用いて説明する。
【００５２】
図１２に示す製造装置３１は、凸部２２ａの、表示領域側の側面にも遮光部２５が配置されている。つまり、第２基板押圧部２２が第２基板を押圧する際に、第２基板押圧部２２における表示領域Ａ１と対向する領域が遮光部２５となっていることに加え、その対向する領域と、凸部２２ａの第２基板６における第１基板５と逆側の面に接する端面とに連なる面が遮光部２５となっている。これにより、凸部２２ａの側面から光が出射することがなく、表示領域Ａ１、つまり液晶９への光の照射を確実に防ぐことができる。しかも、実施の形態２の製造装置２１と同様に、積層体７を押圧する際に接着剤８に印加する圧力を集中させることができ、セルギャップの均一性の保持、画素電極１０や配向膜の損傷の防止、または精度の高い液晶９の配置領域の確保が可能となり、品質の高い液晶表示素子の製造をより容易とすることができる。
【００５３】
＜実施の形態４＞
本実施の形態４に係る製造装置は、第１基板押圧部に凸部が設けられている点が、前述した実施の形態１に係る製造装置と異なる。この実施の形態４における、第１基板押圧部は、積層体における接着剤の配置（塗布）領域を押圧するための凸部を有している。なおその他の構成は、実施の形態１の製造装置１と略同様の構成とされている。そのため、重複する説明を省略し、同一の要素には同一の符号を用いて説明する。
【００５４】
図１３は、本実施の形態４において押圧される積層体に形成される複数の表示素子のうちの一つに対応した部分を、拡大した断面図である。図１３に示す製造装置４１の第１基板押圧部４２は、第１基板５側に突出し、第１基板５における第２基板６と逆側の面に接する端面を有する凸部４２ａを備えている。そして、当該凸部４２ａは、接着剤８の配置領域に対応する位置及び面積とされている。図１３に示すように、製造装置４１が積層体７を押圧する際に、第１基板押圧部４２の凸部４２ａは、第１基板５に接する。この第１基板押圧部４２の凸部４２ａが第１基板５に接する面は、接着剤８が配置された領域の全体を押圧することができるように、接着剤８が配置された領域と対応する位置に、接着剤８が配置された領域以上の面積を有している。一方で、第１基板押圧部４２のうち、押圧時に積層体７の液晶９が配置（滴下）されている領域に対応する領域は、第１基板５とは接しない構成となっている。
【００５５】
第１基板押圧部４２を以上のような構成とすることで、第１基板５から第２基板６に向かって、第１基板押圧部４２が積層体７に加える圧力は、接着剤８が配置されている領域に主に集中し、液晶９が配置されている領域には印加されないことになる。
【００５６】
図１３に示す製造装置４１は、第１基板押圧部４２における第１基板５と向かい合う面に、第１基板５側に突出する凸部４２ａが形成されている。例えば、凸部４２ａは、実施の形態１における第１基板押圧部４のスペーサ１６における第１基板５と向かい合う面において、接着剤８の配置に沿って形成される。これにより、積層体７を押圧する際に接着剤８に印加する圧力を集中させることができ、セルギャップの均一性の保持、画素電極１０や配向膜の損傷の防止、または精度の高い液晶９の配置領域の確保が可能となり、品質の高い液晶表示素子の製造をより容易とすることができる。
【００５７】
このとき、凸部４２ａは、実施の形態２の凸部２２ａと同様に、格子梁状に形成するとよい。また、凸部４２ａが形成されるスペーサ１６を金属製とすると、凸部４２ａの耐久性を向上させることができる。
【００５８】
＜実施の形態５＞
本実施の形態の製造装置は、実施の形態２の製造装置２１と実施の形態４の製造装置４１とを組み合わせた構成とされている。そのため、重複する説明を省略し、同一の要素には同一の符号を用いて説明する。
【００５９】
図１４に示す製造装置５１は、第２基板押圧部２２における第２基板６と向かい合う面に凸部２２ａが形成され、さらに第１基板押圧部４２における第１基板５と向かい合う面に凸部４２ａが形成されている。これにより、積層体７を押圧する際に接着剤８に印加する圧力を集中させることができ、セルギャップの均一性の保持、画素電極１０や配向膜の損傷の防止、または精度の高い液晶９の配置領域の確保が可能となり、品質の高い液晶表示素子の製造をより容易とすることができる。
【００６０】
本発明は上記実施の形態に限られたものではなく、趣旨を逸脱しない範囲で適宜変更することが可能である。
例えば、上記実施の形態では、第１基板押圧部のみに荷重を印加して積層体７を所定の圧力で挟み込んでいるが、第２基板押圧部のみに荷重を印加して積層体７を所定の圧力で挟み込んでも良く、第１基板押圧部と第２基板押圧部とに荷重を印加して積層体７を所定の圧力で挟み込んでもよい。
【符号の説明】
【００６１】
１  表示素子の製造装置
２  光源
３  第２基板押圧部
４  第１基板押圧部
５  第１基板
６  第２基板
７  積層体
８  接着剤
９  液晶
１０  画素電極
１２  光透過部
１３  遮光部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
2014092570.tif 000007
【図６】
2014092570.tif 000008
【図７】
2014092570.tif 000009
【図８】
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【図９】
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【図１０】
2014092570.tif 000012
【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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