(57)【要約】【課題】表示に影響を及ぼすことがなく、周辺電極の断線状態を検査することができる液晶装置、液晶装置の検査方法、及び電子機器を提供する。【解決手段】素子基板は、表示領域に設けられた画素電極と、平面視で表示領域とシール材との間に設けられた第１周辺電極４０ａと、平面視で第１周辺電極４０ａとシール材との間に設けられた第２周辺電極４０ｂと、を含み、対向基板は、少なくとも画素電極、第１周辺電極４０ａ、及び第２周辺電極４０ｂと対向するように設けられた対向電極と、対向電極の液晶層と反対側で、平面視で表示領域とシール材との間に配置され、平面視で第１周辺電極４０ａと第２周辺電極４０ｂとの間の領域４０ｃの少なくとも一部の領域と重なる領域に開口部１９を有する遮光膜１８と、を備える。【選択図】図７
2014066780.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１基板と、
前記第１基板に対向配置された第２基板と、
前記第１基板と前記第２基板とを貼り合わせるシール材と、
前記第１基板と前記第２基板とにより挟持された液晶層と、
を含み、
前記第１基板は、表示領域に設けられた画素電極と、平面視で前記表示領域と前記シール材との間に設けられた第１周辺電極と、平面視で前記第１周辺電極と隣り合う第２周辺電極と、を含み、
前記第２基板は、少なくとも前記画素電極、前記第１周辺電極、及び前記第２周辺電極と対向するように設けられた対向電極と、前記対向電極の前記液晶層と反対側で、平面視で前記表示領域と前記シール材との間に配置され、平面視で前記第１周辺電極と前記第２周辺電極との間の少なくとも一部の領域と重なる領域に開口部を有する遮光膜と、
を備えることを特徴とする液晶装置。
【請求項２】
請求項１に記載の液晶装置であって、
前記第１周辺電極の前記第２周辺電極側の縁部、及び、前記第２周辺電極の前記第１周辺電極側の縁部は、前記遮光膜と重ならないことを特徴とする液晶装置。
【請求項３】
請求項１に記載の液晶装置であって、
前記開口部は、平面視で前記第１周辺電極と前記第２周辺電極との間の領域に設けられていることを特徴とする液晶装置。
【請求項４】
請求項１に記載の液晶装置であって、
前記開口部は、隣り合う前記第１周辺電極及び前記第２周辺電極に跨るように設けられていることを特徴とする液晶装置。
【請求項５】
請求項１に記載の液晶装置であって、
前記開口部は、前記第１周辺電極及び前記第２周辺電極の間の領域の一部と、隣り合う前記第１周辺電極及び前記第２周辺電極の間の領域の一部とに亘って繋がって設けられていることを特徴とする液晶装置。
【請求項６】
第１基板と、
前記第１基板に対向配置された第２基板と、
前記第１基板と前記第２基板とを貼り合わせるシール材と、
前記第１基板と前記第２基板とにより挟持された液晶層と、
を含み、
前記第１基板は、表示領域に設けられた画素電極と、平面視で前記表示領域と前記シール材との間に設けられた第１周辺電極と、平面視で前記第１周辺電極と前記表示領域との間に設けられた第２周辺電極と、を含み、
前記第２基板は、少なくとも前記画素電極、前記第１周辺電極、及び前記第２周辺電極と対向するように設けられた対向電極と、前記対向電極の前記液晶層と反対側で、平面視で前記表示領域と前記シール材との間に配置され、平面視で前記第１周辺電極と前記第２周辺電極との間の少なくとも一部の領域と重なる領域に開口部を有する遮光膜と、
を備え、
前記第１周辺電極及び前記第２周辺電極に同電位を印加し、前記第１周辺電極及び前記第２周辺電極の間の表示画像によって、前記第１周辺電極及び前記第２周辺電極の断線状態を検査する検査工程を有することを特徴とする液晶装置の検査方法。
【請求項７】
請求項６に記載の液晶装置の検査方法であって、
画像を表示するときは、前記第１周辺電極及び前記第２周辺電極に異なる電位を印加して、前記第１周辺電極と前記第２周辺電極との間の前記液晶層を黒表示にすることを特徴とする液晶装置の検査方法。
【請求項８】
請求項１乃至請求項５のいずれか一項に記載の液晶装置を備えることを特徴とする電子機器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶装置、液晶装置の検査方法、及び電子機器に関する。
【背景技術】
【０００２】
上記液晶装置の一つとして、例えば、画素電極をスイッチング制御する素子としてトランジスターを画素ごとに備えたアクティブ駆動方式の液晶装置が知られている。液晶装置は、例えば、直視型ディスプレイやプロジェクターのライトバルブなどにおいて用いられている。
【０００３】
このような液晶装置において、液晶注入時に混入したり、液晶層を取り囲んでいるシール材や封止材から溶出したりしたイオン性不純物が、液晶装置の駆動や熱拡散により、画素領域（表示領域）に拡散及び凝集することにより、液晶装置の表示特性が劣化する恐れがあることが知られている。
【０００４】
そこで、例えば、特許文献１に記載のように、画素領域の周囲にイオントラップ電極（電極パターン）を設け、イオントラップ電極に電圧を印加することにより、不純物をイオントラップ電極に吸着させる技術が開示されている。また、液晶装置を使用中はイオントラップ電極が表示に影響を与えないように、液晶層を挟んでイオントラップ電極と対向する位置に、遮光膜がイオントラップ電極を覆うように設けられている。
【０００５】
イオントラップ電極の断線を検査する方法としては、例えば、導通状態を調べて検査する方法がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２０００−３３８５１０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、イオントラップ電極の形状が、２つの端子間において１本の配線で接続されておらず、例えば分岐している形状（例えば、櫛歯等）において、イオントラップ電極の一部が断線している場合は、上記方法を用いても分岐した部分の断線の状況が判断できないという課題がある。
【０００８】
そのため、イオントラップ電極と隣り合うイオントラップ電極との間やイオントラップ電極と対向電極との間に電圧を印加することで液晶に電界をかけ、その液晶表示の状態によって分岐した部分の段線状況を検査する方法が考えられる。
【０００９】
しかし、特許文献１のように遮光膜がイオントラップ電極形成領域を覆うように設けられていると、遮光膜によって液晶表示が遮られ、液晶表示の状態によって断線検査を行うことができない。一方、イオントラップ電極上の遮光膜を設けないと、イオントラップ電極で反射又は透過した光が投影画像に表示されてしまう。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明の態様は、上記課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態又は適用例として実現することが可能である。
【００１１】
［適用例１］本適用例に係る液晶装置は、第１基板と、前記第１基板に対向配置された第２基板と、前記第１基板と前記第２基板とを貼り合わせるシール材と、前記第１基板と前記第２基板とにより挟持された液晶層と、を含み、前記第１基板は、表示領域に設けられた画素電極と、平面視で前記表示領域と前記シール材との間に設けられた第１周辺電極と、平面視で前記第１周辺電極と隣り合う第２周辺電極と、を含み、前記第２基板は、少なくとも前記画素電極、前記第１周辺電極、及び前記第２周辺電極と対向するように設けられた対向電極と、前記対向電極の前記液晶層と反対側で、平面視で前記表示領域と前記シール材との間に配置され、平面視で前記第１周辺電極と前記第２周辺電極との間の少なくとも一部の領域と重なる領域に開口部を有する遮光膜と、を備えることを特徴とする。
【００１２】
本適用例によれば、遮光膜において、第１周辺電極と第２周辺電極との間の少なくとも一部と平面視で重なる部分に開口部を有するので、開口部を介して、第１周辺電極及び第２周辺電極の間の表示（例えば、白表示状態又は黒表示状態などの階調）によって、第１周辺電極及び第２周辺電極のいずれかが断線していないかを検査することができる。
【００１３】
［適用例２］上記適用例に係る液晶装置において、前記第１周辺電極の前記第２周辺電極側の縁部、及び、前記第２周辺電極の前記第１周辺電極側の縁部は、前記遮光膜と重ならないことが好ましい。
【００１４】
本適用例によれば、互いの周辺電極に近い側の外縁と遮光膜とが重ならない、つまり、近接する外縁領域に開口部が設けられているので、開口部から外縁近傍の表示を確認することができる。
【００１５】
［適用例３］上記適用例に係る液晶装置において、前記開口部は、平面視で前記第１周辺電極と前記第２周辺電極との間の領域に設けられていることが好ましい。
【００１６】
本適用例によれば、２つの周辺電極の間に開口部が設けられているので、周辺電極の断線の有無を幅広い領域に亘って検査することができる。
【００１７】
［適用例４］上記適用例に係る液晶装置において、前記開口部は、隣り合う前記第１周辺電極及び前記第２周辺電極に跨るように設けられていることが好ましい。
【００１８】
本適用例によれば、隣り合う周辺電極に跨るように開口部が設けられているので、必要最低限の領域のみを開口させることが可能となる。これにより、開口部の領域より遮光膜の領域が多くなるので、黒表示のときの表示領域への影響をより少なくすることができる。
【００１９】
［適用例５］上記適用例に係る液晶装置において、前記開口部は、前記第１周辺電極及び前記第２周辺電極の間の領域の一部と、隣り合う前記第１周辺電極及び前記第２周辺電極の間の領域の一部とに亘って繋がって設けられていることが好ましい。
【００２０】
本適用例によれば、隣り合う領域に亘って繋がる開口部を設けることにより、例えば、開口部を形成する際の、エッチングに用いるマスクの形状を簡略化することが可能となり、形成しやすくすることができる。
【００２１】
本適用例によれば、遮光膜の外縁が第１周辺電極及び第２周辺電極の内側に配置されるので、第１周辺電極及び第２周辺電極の形状と遮光膜の形状とを、相似の関係にすることができる。つまり、２つの周辺電極の形状に沿って遮光膜を設けるので、周辺電極間の表示状態を確認することができる。
【００２２】
［適用例６］本適用例に係る液晶装置の検査方法は、第１基板と、前記第１基板に対向配置された第２基板と、前記第１基板と前記第２基板とを貼り合わせるシール材と、前記第１基板と前記第２基板とにより挟持された液晶層と、を含み、前記第１基板は、表示領域に設けられた画素電極と、平面視で前記表示領域と前記シール材との間に設けられた第１周辺電極と、平面視で前記第１周辺電極と前記表示領域との間に設けられた第２周辺電極と、を含み、前記第２基板は、少なくとも前記画素電極、前記第１周辺電極、及び前記第２周辺電極と対向するように設けられた対向電極と、前記対向電極の前記液晶層と反対側で、平面視で前記表示領域と前記シール材との間に配置され、平面視で前記第１周辺電極と前記第２周辺電極との間の少なくとも一部の領域と重なる領域に開口部を有する遮光膜と、を備え、前記第１周辺電極及び前記第２周辺電極に同電位を印加し、前記第１周辺電極及び前記第２周辺電極の間の表示画像によって、前記第１周辺電極及び前記第２周辺電極の断線状態を検査する検査工程を有することを特徴とする。
【００２３】
本適用例によれば、遮光膜において、第１周辺電極と第２周辺電極との間の少なくとも一部と平面視で重なる部分に開口部を有するので、開口部を介して、第１周辺電極及び第２周辺電極の間の表示（例えば、白表示状態又は黒表示状態などの階調）によって、第１周辺電極及び第２周辺電極のいずれかが断線していないかを検査することができる。例えば、同電位を印加することにより、第１周辺電極と対向電極との間、及び第２周辺電極と対向電極との間で電界が発生する。よって、第１周辺電極及び第２周辺電極が断線していなければ周辺電極間に画像が表示され（例えば、白色）、断線していれば周辺電極間に画像が表示されない（例えば、黒色）ので、第１周辺電極及び第２周辺電極が断線しているか否かを検査することができる。
【００２４】
［適用例７］上記適用例に係る液晶装置の検査方法において、画像を表示するときは、前記第１周辺電極及び前記第２周辺電極に異なる電位を印加して、前記第１周辺電極と前記第２周辺電極との間の前記液晶層を黒表示にすることが好ましい。
【００２５】
本適用例によれば、異なる電位を印加することにより、第１周辺電極及び第２周辺電極間に電界が発生する。よって、第１周辺電極及び第２周辺電極の間には画像が表示されないので、開口部と平面視で重なる領域は黒表示となる。これにより、液晶装置を使用するときには、開口部を含む遮光膜の領域を黒表示にすることができる。
【００２６】
［適用例８］本適用例に係る電子機器は、上記に記載の液晶装置を備えることを特徴とする。
【００２７】
本適用例によれば、上記した液晶装置を備えているので、表示に影響を及ぼすことがなく、周辺電極の断線状態を検査することが可能な電子機器を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２８】
【図１】液晶装置の構成を示す模式平面図。
【図２】図１に示す液晶装置のＨ−Ｈ’線に沿う模式断面図。
【図３】液晶装置の電気的な構成を示す等価回路図。
【図４】液晶装置の構造を示す模式断面図。
【図５】液晶装置のうち主に周辺電極及び遮光膜の構成を示す模式平面図。
【図６】図５に示す液晶装置のＡ−Ａ’線に沿う模式断面図。
【図７】（ａ）は図５に示す液晶装置のＢ部を拡大して示す周辺電極及び遮光膜を平面視で見た模式平面図、（ｂ）は（ａ）に示す模式平面図のＣ部を拡大して示す拡大平面図。
【図８】図７（ａ）に示す模式平面図のうち周辺電極のみの構造を示す模式平面図。
【図９】図７（ａ）に示す模式平面図のうち遮光膜のみの構造を示す模式平面図。
【図１０】液晶装置の検査方法を工程順に示すフローチャート。
【図１１】液晶装置の検査方法のうち一部の検査工程を示す模式図。
【図１２】液晶装置の実使用の一部の工程を示す模式図。
【図１３】液晶装置を備えた投射型表示装置の構成を示す概略図。
【図１４】変形例１の周辺電極及び遮光膜の構成を示す模式平面図。
【図１５】変形例２の周辺電極及び遮光膜の構成を示す模式平面図。
【図１６】変形例３の周辺電極及び遮光膜の構成を示す模式平面図。
【発明を実施するための形態】
【００２９】
以下、本発明を具体化した実施形態について図面に従って説明する。なお、使用する図面は、説明する部分が認識可能な状態となるように、適宜拡大または縮小して表示している。
【００３０】
なお、以下の形態において、例えば「基板上に」と記載された場合、基板の上に接するように配置される場合、または基板の上に他の構成物を介して配置される場合、または基板の上に一部が接するように配置され、一部が他の構成物を介して配置される場合を表すものとする。
【００３１】
本実施形態では、液晶装置として、薄膜トランジスター（ＴＦＴ：Thin Film Transistor）を画素のスイッチング素子として備えたアクティブマトリックス型の液晶装置を例に挙げて説明する。この液晶装置は、例えば、投射型表示装置（液晶プロジェクター）の光変調素子（液晶ライトバルブ）として好適に用いることができるものである。
【００３２】
＜液晶装置の構成＞
図１は、液晶装置の構成を示す模式平面図である。図２は、図１に示す液晶装置のＨ−Ｈ’線に沿う模式断面図である。図３は、液晶装置の電気的な構成を示す等価回路図である。以下、液晶装置の構成を、図１〜図３を参照しながら説明する。
【００３３】
図１及び図２に示すように、本実施形態の液晶装置１００は、対向配置された素子基板１０（第１基板）および対向基板２０（第２基板）と、これら一対の基板によって挟持された液晶層１５とを有する。素子基板１０を構成する第１基材１０ａ、および対向基板２０を構成する第２基材２０ａは、例えば、ガラス基板、石英基板などの透明基板が用いられている。
【００３４】
素子基板１０は対向基板２０よりも大きく、両基板は、対向基板２０の外周に沿って配置されたシール材１４を介して接合されている。平面視で環状に設けられたシール材１４の内側で、素子基板１０は対向基板２０の間に正または負の誘電異方性を有する液晶が封入されて液晶層１５を構成している。シール材１４は、例えば熱硬化性又は紫外線硬化性のエポキシ樹脂などの接着剤が採用されている。シール材１４には、一対の基板の間隔を一定に保持するためのスペーサー（図示省略）が混入されている。
【００３５】
シール材１４の内縁より内側には、複数の画素Ｐが配列した表示領域Ｅが設けられている。表示領域Ｅは、表示に寄与する複数の画素Ｐに加えて、複数の画素Ｐを囲むように配置されたダミー画素を含むとしてもよい。また、図１及び図２では図示を省略したが、表示領域Ｅにおいて複数の画素Ｐをそれぞれ平面的に区分する遮光膜（ブラックマトリックス；ＢＭ）が対向基板２０に設けられている。
【００３６】
素子基板１０の１辺部に沿ったシール材１４と該１辺部との間に、データ線駆動回路２２が設けられている。また、該１辺部に対向する他の１辺部に沿ったシール材１４と表示領域Ｅとの間に、検査回路２５が設けられている。さらに、該１辺部と直交し互いに対向する他の２辺部に沿ったシール材１４と表示領域Ｅとの間に走査線駆動回路２４が設けられている。該１辺部と対向する他の１辺部に沿ったシール材１４と検査回路２５との間には、２つの走査線駆動回路２４を繋ぐ複数の配線２９が設けられている。
【００３７】
対向基板２０における環状に配置されたシール材１４と表示領域Ｅとの間には、遮光膜１８（見切り部）が設けられている。遮光膜１８は、例えば、遮光性の金属あるいは金属酸化物などからなり、遮光膜１８の内側が複数の画素Ｐを有する表示領域Ｅとなっている。なお、図１では図示を省略したが、表示領域Ｅにおいても複数の画素Ｐを平面的に区分する遮光膜が設けられている。
【００３８】
これらデータ線駆動回路２２、走査線駆動回路２４に繋がる配線は、該１辺部に沿って配列した複数の外部接続用端子６１に接続されている。以降、該１辺部に沿った方向をＸ方向とし、該１辺部と直交し互いに対向する他の２辺部に沿った方向をＹ方向として説明する。
【００３９】
図２に示すように、第１基材１０ａの液晶層１５側の表面には、画素Ｐごとに設けられた透光性の画素電極２７およびスイッチング素子である薄膜トランジスター（ＴＦＴ：Thin Film Transistor、以降、「ＴＦＴ３０」と呼称する）と、信号配線と、これらを覆う配向膜２８とが形成されている。
【００４０】
また、ＴＦＴ３０における半導体層に光が入射してスイッチング動作が不安定になることを防ぐ遮光構造が採用されている。本発明における素子基板１０は、少なくとも画素電極２７、ＴＦＴ３０、信号配線、配向膜２８を含むものである。
【００４１】
対向基板２０の液晶層１５側の表面には、遮光膜１８と、これを覆うように成膜された平坦化層３３と、平坦化層３３を覆うように設けられた対向電極３１と、対向電極３１を覆う配向膜３２とが設けられている。本発明における対向基板２０は、少なくとも遮光膜１８、対向電極３１、配向膜３２を含むものである。
【００４２】
遮光膜１８は、図１に示すように、表示領域Ｅを取り囲むと共に、平面的に走査線駆動回路２４、検査回路２５と重なる位置に設けられている（図示簡略）。これにより対向基板２０側からこれらの駆動回路を含む周辺回路に入射する光を遮蔽して、周辺回路が光によって誤動作することを防止する役目を果たしている。また、不必要な迷光が表示領域Ｅに入射しないように遮蔽して、表示領域Ｅの表示における高いコントラストを確保している。
【００４３】
平坦化層３３は、例えば酸化シリコンなどの無機材料からなり、光透過性を有して遮光膜１８を覆うように設けられている。このような平坦化層３３の形成方法としては、例えばプラズマＣＶＤ（Chemical Vapor Deposition）法などを用いて成膜する方法が挙げられる。
【００４４】
対向電極３１は、例えばＩＴＯ（Indium Tin Oxide）などの透明導電膜からなり、平坦化層３３を覆うと共に、図１に示すように対向基板２０の四隅に設けられた上下導通部２６により素子基板１０側の配線に電気的に接続している。
【００４５】
画素電極２７を覆う配向膜２８および対向電極３１を覆う配向膜３２は、液晶装置１００の光学設計に基づいて選定される。例えば、気相成長法を用いてＳｉＯｘ（酸化シリコン）などの無機材料を成膜して、負の誘電異方性を有する液晶分子に対して略垂直配向させた無機配向膜が挙げられる。
【００４６】
このような液晶装置１００は、例えば透過型であって、画素Ｐが非駆動時に明表示となるノーマリーホワイトモードや、非駆動時に暗表示となるノーマリーブラックモードの光学設計が採用される。光の入射側と射出側とにそれぞれ偏光素子が光学設計に応じて配置されて用いられる。本実施形態ではノーマリーブラックモードが採用されている。
【００４７】
図３に示すように、液晶装置１００は、少なくとも表示領域Ｅにおいて互いに絶縁されて直交する複数の走査線３ａおよび複数のデータ線６ａと、容量線３ｂとを有する。走査線３ａが延在する方向がＸ方向であり、データ線６ａが延在する方向がＹ方向である。
【００４８】
走査線３ａとデータ線６ａならびに容量線３ｂと、これらの信号線類により区分された領域に、画素電極２７と、ＴＦＴ３０と、容量素子１６とが設けられ、これらが画素Ｐの画素回路を構成している。
【００４９】
走査線３ａはＴＦＴ３０のゲートに電気的に接続され、データ線６ａはＴＦＴ３０のデータ線側ソースドレイン領域（ソース領域）に電気的に接続されている。画素電極２７は、ＴＦＴ３０の画素電極側ソースドレイン領域（ドレイン領域）に電気的に接続されている。
【００５０】
データ線６ａは、データ線駆動回路２２（図１参照）に接続されており、データ線駆動回路２２から供給される画像信号Ｄ１，Ｄ２，…，Ｄｎを画素Ｐに供給する。走査線３ａは、走査線駆動回路２４（図１参照）に接続されており、走査線駆動回路２４から供給される走査信号ＳＣ１，ＳＣ２，…，ＳＣｍを各画素Ｐに供給する。
【００５１】
データ線駆動回路２２からデータ線６ａに供給される画像信号Ｄ１〜Ｄｎは、この順に線順次で供給してもよく、互いに隣り合う複数のデータ線６ａ同士に対してグループごとに供給してもよい。走査線駆動回路２４は、走査線３ａに対して、走査信号ＳＣ１〜ＳＣｍを所定のタイミングで供給する。
【００５２】
液晶装置１００は、スイッチング素子であるＴＦＴ３０が走査信号ＳＣ１〜ＳＣｍの入力により一定期間だけオン状態とされることで、データ線６ａから供給される画像信号Ｄ１〜Ｄｎが所定のタイミングで画素電極２７に書き込まれる構成となっている。そして、画素電極２７を介して液晶層１５に書き込まれた所定レベルの画像信号Ｄ１〜Ｄｎは、画素電極２７と液晶層１５を介して対向配置された対向電極３１との間で一定期間保持される。
【００５３】
保持された画像信号Ｄ１〜Ｄｎがリークするのを防止するため、画素電極２７と対向電極３１との間に形成される液晶容量と並列に容量素子１６が接続されている。容量素子１６は、ＴＦＴ３０の画素電極側ソースドレイン領域と容量線３ｂとの間に設けられている。容量素子１６は、２つの容量電極の間に誘電体層を有するものである。
【００５４】
図４は、液晶装置の構造を示す模式断面図である。以下、液晶装置の構造を、図４を参照しながら説明する。なお、図４は、各構成要素の断面的な位置関係を示すものであり、明示可能な尺度で表されている。
【００５５】
図４に示すように、液晶装置１００は、一対の基板のうち一方の基板である素子基板１０と、これに対向配置される他方の基板である対向基板２０とを備えている。素子基板１０を構成する第１基材１０ａ、及び対向基板２０を構成する第２基材２０ａは、上記したように、例えば、石英基板等によって構成されている。
【００５６】
第１基材１０ａ上には、チタン（Ｔｉ）やクロム（Ｃｒ）等からなる下側遮光膜３ｃが形成されている。下側遮光膜３ｃは、平面的に格子状にパターニングされており、各画素の開口領域を規定している。なお、下側遮光膜３ｃは、走査線３ａの一部として機能するようにしてもよい。第１基材１０ａ及び下側遮光膜３ｃ上には、シリコン酸化膜等からなる下地絶縁層１１ａが形成されている。
【００５７】
下地絶縁層１１ａ上には、ＴＦＴ３０及び走査線３ａ等が形成されている。ＴＦＴ３０は、例えば、ＬＤＤ（Lightly Doped Drain）構造を有しており、ポリシリコン等からなる半導体層３０ａと、半導体層３０ａ上に形成されたゲート絶縁膜１１ｇと、ゲート絶縁膜１１ｇ上に形成されたポリシリコン膜等からなるゲート電極３０ｇとを有する。上記したように、走査線３ａは、ゲート電極３０ｇとしても機能する。
【００５８】
半導体層３０ａは、例えば、リン（Ｐ）イオン等のＮ型の不純物イオンが注入されることにより、Ｎ型のＴＦＴ３０として形成されている。具体的には、半導体層３０ａは、チャネル領域３０ｃと、データ線側ＬＤＤ領域３０ｓ１と、データ線側ソースドレイン領域３０ｓと、画素電極側ＬＤＤ領域３０ｄ１と、画素電極側ソースドレイン領域３０ｄとを備えている。
【００５９】
チャネル領域３０ｃには、ボロン（Ｂ）イオン等のＰ型の不純物イオンがドープされている。その他の領域（３０ｓ１，３０ｓ，３０ｄ１，３０ｄ）には、リン（Ｐ）イオン等のＮ型の不純物イオンがドープされている。このように、ＴＦＴ３０は、Ｎ型のＴＦＴとして形成されている。
【００６０】
ゲート電極３０ｇ、下地絶縁層１１ａ、及び走査線３ａ上には、シリコン酸化膜等からなる第１層間絶縁層１１ｂが形成されている。第１層間絶縁層１１ｂ上には、容量素子１６が設けられている。具体的には、ＴＦＴ３０の画素電極側ソースドレイン領域３０ｄ及び画素電極２７に電気的に接続された画素電位側容量電極としての第１容量電極１６ａと、固定電位側容量電極としての容量線３ｂ（第２容量電極１６ｂ）の一部とが、誘電体膜１６ｃを介して対向配置されることにより、容量素子１６が形成されている。
【００６１】
容量線３ｂ（第２容量電極１６ｂ）は、例えば、Ｔｉ（チタン）、Ｃｒ（クロム）、Ｗ（タングステン）、Ｔａ（タンタル）、Ｍｏ（モリブデン）等の高融点金属のうち少なくとも一つを含む、金属単体、合金、金属シリサイド、ポリシリサイド、これらを積層したもの等からなる。或いは、Ａｌ（アルミニウム）膜から形成することも可能である。
【００６２】
第１容量電極１６ａは、例えば、導電性のポリシリコン膜からなり容量素子１６の画素電位側容量電極として機能する。ただし、第１容量電極１６ａは、容量線３ｂと同様に、金属又は合金を含む単一層膜又は多層膜から構成してもよい。第１容量電極１６ａは、画素電位側容量電極としての機能のほか、コンタクトホールＣＮＴ５２、中継層５５、コンタクトホールＣＮＴ５３、ＣＮＴ５１を介して、画素電極２７とＴＦＴ３０の画素電極側ソースドレイン領域３０ｄ（ドレイン領域）とを中継接続する機能を有する。
【００６３】
容量素子１６上には、第２層間絶縁層１１ｃを介してデータ線６ａが形成されている。データ線６ａは、第１層間絶縁層１１ｂ及び第２層間絶縁層１１ｃに開孔されたコンタクトホールＣＮＴ５４を介して、半導体層３０ａのデータ線側ソースドレイン領域３０ｓ（ソース領域）に電気的に接続されている。
【００６４】
データ線６ａ上には、第３層間絶縁層１１ｄを介して画素電極２７が形成されている。画素電極２７は、第２層間絶縁層１１ｃ及び第３層間絶縁層１１ｄに開孔されたコンタクトホールＣＮＴ５２、ＣＮＴ５３、中継層５５を介して第１容量電極１６ａに接続されることにより、半導体層３０ａの画素電極側ソースドレイン領域３０ｄ（ドレイン領域）に電気的に接続されている。なお、画素電極２７は、例えば、ＩＴＯ膜等の透明導電性膜から形成されている。
【００６５】
画素電極２７及び第３層間絶縁層１１ｄ上には、酸化シリコン（ＳｉＯ2）などの無機材料を斜方蒸着した配向膜２８が設けられている。配向膜２８上には、シール材１４（図１及び図２参照）により囲まれた空間に液晶等が封入された液晶層１５が設けられている。
【００６６】
一方、第２基材２０ａ上には、その全面に渡って対向電極３１が設けられている。対向電極３１上（図４では下側）には、酸化シリコン（ＳｉＯ2）などの無機材料を斜方蒸着した配向膜３２が設けられている。対向電極３１は、上述の画素電極２７と同様に、例えばＩＴＯ膜等の透明導電性膜からなる。
【００６７】
液晶層１５は、画素電極２７からの電界が印加されていない状態で配向膜２８，３２によって所定の配向状態をとる。シール材１４は、素子基板１０及び対向基板２０をそれらの周辺で貼り合わせるための、例えば光硬化性樹脂や熱硬化性樹脂からなる接着剤であり、両基板間の距離を所定値とするためのグラスファイバー或いはガラスビーズ等のスペーサーが混入されている。
【００６８】
＜周辺電極及び遮光膜の構成＞
図５は、液晶装置のうち主に周辺電極及び遮光膜の構成を示す模式平面図である。図６は、図５に示す液晶装置のＡ−Ａ’線に沿う模式断面図である。図７（ａ）は、図５に示す液晶装置のＢ部を拡大して示す、周辺電極及び遮光膜を平面視で見た模式平面図である。図７（ｂ）は、図７（ａ）に示す模式平面図のＣ部を拡大して示す拡大平面図である。図８は、図７（ａ）に示す模式平面図のうち周辺電極のみの構造を示す模式平面図である。図９は、図７（ａ）に示す模式平面図のうち遮光膜のみの構造を示す模式平面図である。
【００６９】
以下、周辺電極４０及び遮光膜１８の構成について、図５〜図９を参照しながら説明する。なお、第１基材１０ａから第３層間絶縁層１１ｄまでを第１基材１０ａと称して説明する。
【００７０】
図５及び図６に示すように、液晶装置１００を構成する第１基材１０ａ上には、周辺電極４０及び画素電極２７が設けられている。また、第２基材２０ａ上（液晶層１５側）には、平坦化層３３、遮光膜１８、及び対向電極３１が設けられている。
【００７１】
第１基材１０ａ上における表示領域Ｅの周囲（周辺領域）には、櫛歯形状の第１周辺電極４０ａ（図８参照）と、櫛歯形状の第２周辺電極４０ｂ（図８参照）とが、隣接するように配置されている。また、第１周辺電極４０ａと第２周辺電極４０ｂとが、表示領域Ｅの周囲を囲むように設けられている。
【００７２】
具体的には、第１周辺電極４０ａ及び第２周辺電極４０ｂは、一方の端を短絡するような櫛歯形状をなすように形成されている。すなわち、第１周辺電極４０ａは、表示領域Ｅの一辺に沿って形成された幹電極と、幹電極から分岐され表示領域Ｅの一辺と垂直方向で第２周辺電極４０ｂの幹電極の方向に延在する複数の枝電極とを有する。第２周辺電極４０ｂも同様に、表示領域Ｅの一辺に沿って形成された幹電極と、幹電極から分岐され表示領域Ｅの一辺と垂直方向で第１周辺電極４０ａの幹電極の方向に延在する複数の枝電極とを有する。第１周辺電極４０ａの幹電極と第２周辺電極４０ｂの幹電極は対向するように配置され、第１周辺電極４０ａの枝電極と第２周辺電極４０ｂの枝電極は、長手方向が平行になるよう交互に配置されている。第１周辺電極４０ａ及び第２周辺電極４０ｂは、図６に示すように、画素電極２７と同層に設けられている。両周辺電極４０ａ，４０ｂの材料は、ＩＴＯである。
【００７３】
図７に示すように、遮光膜１８は、平面視で、表示領域Ｅとシール材１４の内縁との間に第１周辺電極４０ａと第２周辺電極４０ｂを覆うように形成されている。遮光膜１８は、平面視で第１周辺電極４０ａと第２周辺電極４０ｂとの間の領域４０ｃの一部と重なる領域に開口部１９が設けられている。また、開口部１９は、周辺電極４０ａ，４０ｂの形状に沿った形状に設けられている。
【００７４】
具体的には、開口部１９は、第１周辺電極４０ａの枝電極と第２周辺電極４０ｂの枝電極の間で、第１周辺電極４０ａの枝電極と第２周辺電極４０ｂの枝電極の間で、の延在方向に形成されている。開口部１９の端部は、第１周辺電極４０ａの幹電極及び第２周辺電極４０ｂの幹電極と重ならないように形成されている。また、本実施形態では、第１周辺電極４０ａの幹電極と第２周辺電極４０ｂの枝電極との間隔、及び第２周辺電極４０ｂの幹電極と第１周辺電極４０ａの枝電極との間隔には、開口部が形成されていない。
【００７５】
図７〜図９に示すように、遮光膜１８の開口部（非形成領域）１９の幅Ｗ４は、第１周辺電極４０ａと第２周辺電極４０ｂとの間の隙間Ｗ３以下である。例えば、第１周辺電極４０ａ及び第２周辺電極４０ｂの幅Ｗ１，Ｗ２は、例えば、５μｍ〜１０μｍである。第１周辺電極４０ａと第２周辺電極４０ｂとの間の隙間Ｗ３は、例えば、１μｍである。遮光膜１８の開口部１９の幅Ｗ４は、例えば、１μｍ以下である。言い換えれば、遮光膜１８は、周辺電極４０ａ，４０ｂを十分に遮光しつつ、周辺電極４０ａ，４０ｂの断線の検査も十分に行える程度の開口部１９を有している。
【００７６】
このように、第１周辺電極４０ａと第２周辺電極４０ｂとの間の領域４０ｃの一部と平面視で重なるように遮光膜１８に開口部１９が設けられているので、第１周辺電極４０ａ及び第２周辺電極４０ｂへ印加する電圧によって、第１周辺電極４０ａ及び第２周辺電極４０ｂが断線しているか否かを判断することができる。特に、第１周辺電極４０ａの枝電極及び第２周辺電極４０ｂの枝電極が断線しているか否かも判断することができる。また、液晶装置１００の使用時には、開口部１９内の領域を黒表示にすることにより、遮光膜１８の領域全体を見えないように（黒表示に）することができる。
【００７７】
具体的には、液晶装置１００の使用時は、第１周辺電極４０ａ及び第２周辺電極４０ｂに異なる電位を印加して、第１周辺電極４０ａと第２周辺電極４０ｂとの間の液晶層１５を黒表示にする。つまり、異なる電位を印加することにより、第１周辺電極４０ａ及び第２周辺電極４０ｂ間に電界が発生する。よって、第１周辺電極４０ａ及び第２周辺電極４０ｂ間には画像が表示されないので、開口部１９と平面視で重なる領域は黒表示となり、通常の遮光膜１８として機能する（具体的な液晶の動作については後述する）。
【００７８】
一方、断線を判断（断線の検査）をするときは、第１周辺電極４０ａ及び第２周辺電極４０ｂに同電位を印加する。つまり、同電位を印加することにより、第１周辺電極４０ａと対向電極３１との間、及び第２周辺電極４０ｂと対向電極３１との間で電界が発生する。よって、第１周辺電極４０ａ及び第２周辺電極４０ｂが断線していなければ周辺電極４０ａ，４０ｂ間に画像が表示され（例えば、白色）、断線していれば周辺電極４０ａ，４０ｂ間に画像が表示されない（例えば、黒色）ので、第１周辺電極４０ａ及び第２周辺電極４０ｂが断線しているか否かを検査することができる（具体的な液晶の動作については後述する）。
【００７９】
＜液晶装置の検査方法（検査工程）＞
図１０は、液晶装置の検査方法を工程順に示すフローチャートである。図１１は、液晶装置の検査方法のうち一部の検査工程の状態を示す模式図である。図１２は、液晶装置の実使用時の一部の工程の状態を示す模式図である。以下、主に液晶装置の検査方法について、図１０〜図１２を参照しながら説明する。なお、第１基材１０ａ〜第３層間絶縁層１１ｄまでを、「第１基材１０ａ」と称して説明する。
【００８０】
図１０に示すように、第１周辺電極４０ａ及び第２周辺電極４０ｂが断線しているか否かの検査を開始する。まず、ステップＳ１１では、第１周辺電極４０ａ及び第２周辺電極４０ｂに同電位の電圧を印加する。具体的には、図１１（ａ）、（ｂ）に示すような矩形波の電圧を印加する。
【００８１】
図１１（ａ）は、第１周辺電極４０ａに印加する電位を示している。図１１（ｂ）は、第２周辺電極４０ｂに印加する電位を示している。図１１（ａ）、（ｂ）の矩形波において、周辺電極４０ａ，４０ｂに印加する電位は、画素電極２７の印加電圧よりも大きく、更に、第１周辺電極４０ａへの印加電圧と第２周辺電極４０ｂへの印加電圧との位相（又は極性）が一緒であることが特徴である。第１周辺電極４０ａに印加する電位及び第２周辺電極４０ｂに印加する電位は、対向電極３１に印加する電位を略中心に交流駆動される。
【００８２】
これにより、図１１（ｃ）に示すように、第１周辺電極４０ａと対向電極３１との間、及び第２周辺電極４０ｂと対向電極３１との間で電界が発生する。
【００８３】
ステップＳ１２では、図１１（ｆ）に示すように、表示画像（投射画像）を確認する。図１１（ｄ）は、液晶層１５の表示を示している。図１１（ｅ）は、遮光膜１８と開口部１９との関係を示している。図１１（ｆ）は、これらが足しあわされた画像である投影画像を示している。
【００８４】
図１１（ｄ）、（ｅ）、（ｆ）に示すように、遮光膜１８に設けられた開口部１９の中の領域１９ａの表示が「白色」だったら、ステップＳ１３に移行する。具体的には、図１１（ｃ）に示すように、第１周辺電極４０ａ及び第２周辺電極４０ｂが同位相であることにより、第１周辺電極４０ａと対向電極３１との間、及び第２周辺電極４０ｂと対向電極３１との間で電界が発生する。液晶表示は、液晶分子が水平に倒れるため、白表示となる。
【００８５】
すなわち、本実施形態のようにノーマリーブラックの場合、第１周辺電極４０ａ及び第２周辺電極４０ｂに対向電極３１と異なる電位が印加され、第１周辺電極４０ａ及び第２周辺電極４０ｂに同電位が印加される。ここで、第１周辺電極４０ａと第２周辺電極４０ｂの間に横電界が発生しないと、第１周辺電極４０ａ及び第２周辺電極４０ｂと対向電極３１との間に位置する液晶と、平面視で第１周辺電極４０ａと第２周辺電極４０ｂとの間に位置する液晶とは白表示となる。これにより、ステップＳ１３では、第１周辺電極４０ａ及び第２周辺電極４０ｂが断線していないと判断することができる。
【００８６】
また、開口部１９の中の領域１９ａの表示が「白色」でなかったら、ステップＳ１４に移行する。具体的には、周辺電極４０ａ，４０ｂと対向電極３１との間で電界がかかっていないためであり、液晶表示は、液晶分子が垂直のままのため、黒表示となる。これにより、ステップＳ１４では、第１周辺電極４０ａ及び第２周辺電極４０ｂのいずれかが断線していると判断することができる。
【００８７】
以上により、第１周辺電極４０ａ及び第２周辺電極４０ｂが断線しているか否かの検査が終了する。このように、第１周辺電極４０ａ及び第２周辺電極４０ｂが断線しているか否かを検査することができる。
【００８８】
＜実使用時＞
なお、図１２を参照しながら、液晶装置１００を実使用する場合の周辺電極４０ａ，４０ｂへの電圧の印加状況を説明する。まず、図１２（ａ）、（ｂ）に示すように、第１周辺電極４０ａへの矩形波の印加電圧と、第２周辺電極４０ｂへの矩形波の印加電圧との、位相（又は極性）が異なるように設定する。すなわち、実使用時と検査工程のいずれか一方は、周辺電極４０ａ，４０ｂに対向電極の電位を基準として同極性の電位を印加し、他方では、周辺電極４０ａ，４０ｂに対向電極の電位を基準として逆極性の電位を印加する。
【００８９】
これにより、図１２（ｃ）に示すように、第１周辺電極４０ａと対向電極３１との間、及び第２周辺電極４０ｂと対向電極３１との間で電界が発生する。更に、第１周辺電極４０ａと第２周辺電極４０ｂとの間で横電界が発生する。
【００９０】
よって、液晶分子は、周辺電極４０ａ，４０ｂと対向電極３１との間では水平に倒れる状態となるものの、周辺電極４０ａ，４０ｂ間では垂直配向の状態となる。これにより、図１２（ｆ）に示すように、表示画像（投射画像）は、開口部１９と重なる領域１９ａが黒表示となると共に、それ以外の領域も黒表示である。よって、遮光膜１８の領域の全面が黒色表示となり、実使用時は、表示領域Ｅの周囲が黒く、表示に影響を与えないようにすることができる。
【００９１】
また、横方向の電界が生じることにより、液晶の微小な揺らぎによる流れに加えて、イオン性不純物を移動させる力となり、表示領域Ｅ内から移動してくるイオン性不純物をすばやく、表示領域Ｅ外へ移動させることができる。
【００９２】
更に、周期的に隣接している周辺電極４０ａ，４０ｂの電位を入れ替えることにより、周辺領域でのイオン性不純物の流れを止めることなく、継続的に表示領域Ｅ外へイオン性不純物を移動させることができる。
【００９３】
＜電子機器の構成＞
次に、本実施形態の電子機器としての投射型表示装置について、図１３を参照して説明する。図１３は、上記した液晶装置を備えた投射型表示装置の構成を示す概略図である。
【００９４】
図１３に示すように、本実施形態の投射型表示装置１０００は、システム光軸Ｌに沿って配置された偏光照明装置１１００と、光分離素子としての２つのダイクロイックミラー１１０４，１１０５と、３つの反射ミラー１１０６，１１０７，１１０８と、５つのリレーレンズ１２０１，１２０２，１２０３，１２０４，１２０５と、３つの光変調手段としての透過型の液晶ライトバルブ１２１０，１２２０，１２３０と、光合成素子としてのクロスダイクロイックプリズム１２０６と、投射レンズ１２０７とを備えている。
【００９５】
偏光照明装置１１００は、超高圧水銀灯やハロゲンランプなどの白色光源からなる光源としてのランプユニット１１０１と、インテグレーターレンズ１１０２と、偏光変換素子１１０３とから概略構成されている。
【００９６】
ダイクロイックミラー１１０４は、偏光照明装置１１００から射出された偏光光束のうち、赤色光（Ｒ）を反射させ、緑色光（Ｇ）と青色光（Ｂ）とを透過させる。もう１つのダイクロイックミラー１１０５は、ダイクロイックミラー１１０４を透過した緑色光（Ｇ）を反射させ、青色光（Ｂ）を透過させる。
【００９７】
ダイクロイックミラー１１０４で反射した赤色光（Ｒ）は、反射ミラー１１０６で反射した後にリレーレンズ１２０５を経由して液晶ライトバルブ１２１０に入射する。ダイクロイックミラー１１０５で反射した緑色光（Ｇ）は、リレーレンズ１２０４を経由して液晶ライトバルブ１２２０に入射する。ダイクロイックミラー１１０５を透過した青色光（Ｂ）は、３つのリレーレンズ１２０１，１２０２，１２０３と２つの反射ミラー１１０７，１１０８とからなる導光系を経由して液晶ライトバルブ１２３０に入射する。
【００９８】
液晶ライトバルブ１２１０，１２２０，１２３０は、クロスダイクロイックプリズム１２０６の色光ごとの入射面に対してそれぞれ対向配置されている。液晶ライトバルブ１２１０，１２２０，１２３０に入射した色光は、映像情報（映像信号）に基づいて変調されクロスダイクロイックプリズム１２０６に向けて射出される。
【００９９】
このプリズムは、４つの直角プリズムが貼り合わされ、その内面に赤色光を反射する誘電体多層膜と青色光を反射する誘電体多層膜とが十字状に形成されている。これらの誘電体多層膜によって３つの色光が合成されて、カラー画像を表す光が合成される。合成された光は、投射光学系である投射レンズ１２０７によってスクリーン１３００上に投射され、画像が拡大されて表示される。
【０１００】
液晶ライトバルブ１２１０は、上述した液晶装置１００が適用されたものである。液晶装置１００は、色光の入射側と射出側とにおいてクロスニコルに配置された一対の偏光素子の間に隙間を置いて配置されている。他の液晶ライトバルブ１２２０，１２３０も同様である。
【０１０１】
このような投射型表示装置１０００によれば、液晶ライトバルブ１２１０，１２２０，１２３０として、焼き付き等が抑えられた液晶装置１００を用いているので、高い表示品質を実現することができる。
【０１０２】
なお、液晶装置１００が搭載される電子機器としては、投射型表示装置１０００の他、ヘッドアップディスプレイ、スマートフォン、ＥＶＦ（Electrical View Finder）、モバイルミニプロジェクター、携帯電話、モバイルコンピューター、デジタルカメラ、デジタルビデオカメラ、ディスプレイ、車載機器、オーディオ機器、露光装置や照明機器など各種電子機器に用いることができる。
【０１０３】
以上詳述したように、本実施形態の液晶装置１００、液晶装置１００の検査方法、及び電子機器によれば、以下に示す効果が得られる。
【０１０４】
（１）本実施形態の液晶装置１００によれば、遮光膜１８において、第１周辺電極４０ａと第２周辺電極４０ｂとの間の領域４０ｃの少なくとも一部と平面視で重なる部分に開口部１９を有するので、開口部１９を介して、第１周辺電極４０ａ及び第２周辺電極４０ｂの間の表示（例えば、白表示状態又は黒表示状態などの階調）によって、第１周辺電極４０ａ及び第２周辺電極４０ｂのいずれかが断線していないかを検査することができる。
【０１０５】
（２）本実施形態の液晶装置１００の検査方法によれば、遮光膜１８において、第１周辺電極４０ａと第２周辺電極４０ｂとの間の領域４０ｃの少なくとも一部と平面視で重なる部分に開口部１９を有するので、開口部１９を介して、第１周辺電極４０ａ及び第２周辺電極４０ｂの間の表示（例えば、白表示状態又は黒表示状態などの階調）によって、第１周辺電極４０ａ及び第２周辺電極４０ｂのいずれかが断線していないかを検査することができる。例えば、同電位を印加することにより、第１周辺電極４０ａと対向電極３１との間、及び第２周辺電極４０ｂと対向電極３１との間で電界が発生する。よって、第１周辺電極４０ａ及び第２周辺電極４０ｂが断線していなければ周辺電極４０ａ，４０ｂ間に画像が表示され（例えば、白色）、断線していれば周辺電極４０ａ，４０ｂ間に画像が表示されない（例えば、黒色）ので、第１周辺電極４０ａ及び第２周辺電極４０ｂが断線しているか否かを検査することができる。
【０１０６】
（３）本実施形態の電子機器によれば、上記に記載の液晶装置１００を備えるので、表示に影響を及ぼすことがなく、周辺電極の断線状態を検査することが可能な電子機器を提供することができる。
【０１０７】
なお、本発明の態様は、上記した実施形態に限られるものではなく、請求の範囲及び明細書全体から読み取れる発明の要旨あるいは思想に反しない範囲で適宜変更可能であり、本発明の態様の技術範囲に含まれるものである。また、以下のような形態で実施することもできる。
【０１０８】
（変形例１）
上記したように、第２基材２０ａに設けられた遮光膜１８の開口部１９は、第１周辺電極４０ａと第２周辺電極４０ｂとの間の領域の一部と重なるように設けられることに限定されず、以下のように設けてもよい。
【０１０９】
図１４は、変形例１の周辺電極４０ａ，４０ｂ及び遮光膜１１８の構成を示す模式平面図である。表示領域Ｅの周辺に設けられた周辺電極４０は、上記実施形態と同様に、櫛歯形状の第１周辺電極４０ａと櫛歯形状の第２周辺電極４０ｂとが、互いに隣り合うように配置されている。変形例１の特徴として、第２基材２０ａに設けられた遮光膜１１８は、平面視で第１周辺電極４０ａと第２周辺電極４０ｂの先端４０ｂ１（縁部）との間の領域と平面視で重なる領域の一部を含むように開口部１１９が設けられている。
【０１１０】
すなわち、平面視で、少なくとも、第１周辺電極４０ａの幹電極と第２周辺電極４０ｂの枝電極の端部（先端）４０ｂ１との間、及び第２周辺電極４０ｂの幹電極と第１周辺電極４０ａの枝電極の端部との間に開口部１１９が形成されている。
【０１１１】
このように、第１周辺電極４０ａと第２周辺電極４０ｂの先端４０ｂ１との間の領域と重なる領域を含むように開口部１１９が設けられているので、上記実施形態の効果と比較して、必要最低限の領域のみを開口させることが可能となる。言い換えれば、先端４０ｂ１を含む領域の表示を確認することにより、第２周辺電極４０ｂの途中の断線の有無も判断することができる。また、遮光膜１１８の領域が多いので、黒表示のときの表示領域Ｅへの影響をより少なくすることができる。
【０１１２】
（変形例２）
上記したように、第２基材２０ａに設けられた遮光膜１８の開口部１９は、第１周辺電極４０ａと第２周辺電極４０ｂとの間の領域の一部と重なるように設けられることに限定されず、以下のような形状に設けてもよい。
【０１１３】
図１５は、変形例２の周辺電極４０ａ，４０ｂ及び遮光膜２１８の構成を示す模式平面図である。表示領域Ｅの周辺に設けられた周辺電極４０ａ，４０ｂは、上記実施形態及び変形例１と同様に、櫛歯形状の第１周辺電極４０ａと櫛歯形状の第２周辺電極４０ｂとが、互いに組み合わさるように配置されている。変形例２の遮光膜２１８は、変形例１で記載した開口部１１９と隣接する開口部１１９とが繋がって大きな開口部２１９となっている部分が異なっている。
【０１１４】
このように、開口部２１９を設けることにより、上記変形例１の効果と比較して、例えば、開口部２１９のエッチングに用いるマスクの形状を簡略化することが可能となり、形成しやすくすることができる。
【０１１５】
（変形例３）
上記したように、櫛歯形状の周辺電極４０ａ，４０ｂを用いることに限定されず、図１６に示すような周辺電極１４０ａ，１４０ｂを用いるようにしてもよい。図１６は、変形例３の周辺電極１４０ａ，１４０ｂ及び遮光膜３１８の構成を示す模式平面図である。
【０１１６】
図１６の周辺電極１４０ａ，１４０ｂは、表示領域Ｅを囲むように外側に第１周辺電極１４０ａ、内側に第２周辺電極１４０ｂが二重に設けられている。遮光膜３１８の開口部３１９は、第１周辺電極１４０ａと第２周辺電極１４０ｂとの間の隙間の領域の一部と平面視で重なる領域にスリット状に設けられている。ここで、「スリット状」とは、長手方向が短手方向に対して大きい形状を有する複数の開口部が、隣り合うように延設している形状を指している。
【０１１７】
これによれば、表示領域Ｅを囲むように枠状の第１周辺電極１４０ａと第２周辺電極１４０ｂとが設けられている場合でも、２つの周辺電極１４０ａ，１４０ｂの間の領域と平面視で重なるように遮光膜３１８の開口部３１９が設けられているので、周辺電極１４０ａ，１４０ｂの断線の有無を検査することができると共に、黒表示のとき表示領域Ｅに影響が及ぶことを防ぐことができる。
【０１１８】
（変形例４）
上記したように、開口部１９は、周辺電極４０ａ，４０ｂ間の領域４０ｃの幅より狭くなっていることに限定されず、例えば、遮光膜１８の外縁が、第１周辺電極４０ａ及び第２周辺電極４０ｂの内側に位置するように設けてもよい。これによれば、第１周辺電極４０ａ及び第２周辺電極４０ｂの形状と遮光膜１８の形状に沿って遮光膜を設けるので、周辺電極間の表示状態全体を確認することができる。
【０１１９】
（変形例５）
上記したように、透過型の液晶装置１００に用いることに限定されず、反射型の液晶装置に適用するようにしてもよい。
【符号の説明】
【０１２０】
３ａ…走査線、３ｂ…容量線、３ｃ…下側遮光膜、６ａ…データ線、１０…第１基板としての素子基板、１０ａ…第１基材、１１ａ…下地絶縁層、１１ｂ…第１層間絶縁層、１１ｃ…第２層間絶縁層、１１ｄ…第３層間絶縁層、１１ｇ…ゲート絶縁膜、１４…シール材、１５…液晶層、１６…容量素子、１６ａ…第１容量電極、１６ｂ…第２容量電極、１６ｃ…誘電体膜、１８，１１８，２１８，３１８…遮光膜、１９，１１９，２１９，３１９…開口部、１９ａ…領域、２０…第２基板としての対向基板、２０ａ…第２基材、２２…データ線駆動回路、２４…走査線駆動回路、２５…検査回路、２６…上下導通部、２７…画素電極、２８，３２…配向膜、２９…配線、３０…ＴＦＴ、３０ａ…半導体層、３０ｃ…チャネル領域、３０ｄ…画素電極側ソースドレイン領域、３０ｄ１…画素電極側ＬＤＤ領域、３０ｇ…ゲート電極、３０ｓ…データ線側ソースドレイン領域、３０ｓ１…データ線側ＬＤＤ領域、３１…対向電極、３３…平坦化層、４０，１４０…周辺電極、４０ａ，１４０ａ…第１周辺電極、４０ｂ，１４０ｂ…第２周辺電極、４０ｃ…領域、ＣＮＴ５１，５２，５３，５４…コンタクトホール、５５…中継層、６１…外部接続用端子、１００…液晶装置、１０００…投射型表示装置、１１００…偏光照明装置、１１０１…ランプユニット、１１０２…インテグレーターレンズ、１１０３…偏光変換素子、１１０４，１１０５…ダイクロイックミラー、１１０６，１１０７，１１０８…反射ミラー、１２０１，１２０２，１２０３，１２０４，１２０５…リレーレンズ、１２０６…クロスダイクロイックプリズム、１２０７…投射レンズ、１２１０，１２２０，１２３０…液晶ライトバルブ、１３００…スクリーン。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１２】
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