(57)【要約】【課題】塗工領域と非塗工領域とが形成された可撓性の基材に乾燥処理を施しても皺状の欠陥を生じさせることが少ない、乾燥ユニット、乾燥装置、および塗膜形成システムを提供することを目的とする。【解決手段】乾燥処理部４２より搬送下流側に配される搬送ローラ２４ｃに対して搬送上流側に隣接した位置に、下方から基材ＦＳを支持することにより、基材ＦＳのうち塗工領域の平坦化を行う下方ローラ４５を備える。したがって、基材ＦＳの表面Ｓ１に塗工領域と非塗工領域とが形成されていることに起因して、乾燥処理による局所的な撓みが基材ＦＳに一時的に生じたとしても、基材ＦＳの塗工領域が下方ローラ４５によって平坦化されるため、それに連なる基材ＦＳの非塗工領域における撓みも空間的に分散する。上記局所的な撓みがそのまま集中して搬送ローラ２４ｃに当接することを防止でき、皺状欠陥の発生を抑制する。【選択図】図４
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
表面に塗工領域と非塗工領域とが形成された可撓性の基材を所定の搬送経路に沿って搬送しつつ、前記塗工領域に塗工された塗工液を乾燥する乾燥ユニットであって、
前記基材の前記表面が上方となるように当該基材の下方から所定の抱き角で当接し、当該基材を搬送する複数の搬送ローラと、
前記複数の搬送ローラによって搬送される前記基材の前記塗工領域に塗工された前記塗工液を乾燥する乾燥手段と、
前記複数の搬送ローラのうち前記乾燥手段より搬送下流側に配される搬送ローラである下流搬送ローラに対して、搬送上流側に隣接配置され、下方から前記基材を持ち上げ方向に水平支持することにより、前記下流搬送ローラへの前記基材の進入前に、前記基材のうち前記塗工領域の平坦化を行う平坦化手段と、
を備えることを特徴とする乾燥ユニット。
【請求項２】
請求項１に記載の乾燥ユニットであって、
前記基材が前記平坦化手段を通った後、前記下流搬送ローラに到るまでの区間に配置されて、前記基材を下方に押し下げる押下げ手段、
をさらに備えることを特徴とする乾燥ユニット。
【請求項３】
請求項１または請求項２に記載の乾燥ユニットであって、
前記塗工領域が、前記搬送経路に沿った方向に延びる複数の単位塗工領域を含むとともに、
前記非塗工領域が、前記複数の単位塗工領域の間隙に存在する少なくとも１つの単位非塗工領域を含むことを特徴とする乾燥ユニット。
【請求項４】
請求項１ないし請求項３のいずれかに記載の乾燥ユニットであって、
前記平坦化手段が、下方から前記基材に所定の抱き角で当接し当該基材を支持する下方ローラであり、当該下方ローラの前記基材に対する抱き角が、前記搬送ローラの前記基材に対する抱き角より小さいことを特徴とする乾燥ユニット。
【請求項５】
請求項２ないし請求項４のいずれかに記載の乾燥ユニットであって、
前記押下げ手段が、上方から前記基材に所定の抱き角で当接する上方ローラであり、当該上方ローラの前記基材に対する抱き角が、前記搬送ローラの前記基材に対する抱き角より小さいことを特徴とする乾燥ユニット。
【請求項６】
請求項５に記載の乾燥ユニットであって、
前記基材が前記下方ローラおよび前記上方ローラに当接する際のそれぞれの抱き角が５度以下であることを特徴とする乾燥ユニット。
【請求項７】
表面に塗工領域と非塗工領域とが形成された可撓性基材を、所定の搬送経路に沿って複数の乾燥ユニットに順次に搬送しつつ、前記塗工領域に塗工された塗工液を乾燥する乾燥装置であって、
１）前記複数の乾燥ユニットはそれぞれ、
前記基材の前記表面が上方となるように当該基材の下方から所定の抱き角で当接し、当該基材を搬送する複数の搬送ローラと、
前記複数の搬送ローラによって搬送される前記基材の前記塗工領域に塗工された前記塗工液を乾燥する乾燥手段と、
を備え、
２）前記複数の乾燥ユニットのうち、最も搬送下流側の乾燥ユニットである下流乾燥ユニットを含む１以上の乾燥ユニットは、
前記複数の搬送ローラのうち前記乾燥手段より搬送下流側に配される下流搬送ローラに対して、搬送上流側に隣接配置され、下方から前記基材を持ち上げ方向に水平支持することにより、前記下流搬送ローラへの前記基材の進入前に前記基材のうち前記塗工領域の平坦化を行う平坦化手段、
をさらに備え、
前記１以上の乾燥ユニットにおいては、前記基材は、前記乾燥手段により前記塗工液の乾燥処理を施された後、前記平坦化手段によって平坦化された状態で、前記下流搬送ローラによって搬送されることを特徴とする乾燥装置。
【請求項８】
（ａ）吐出口から塗工液を吐出する吐出部と、可撓性の基材を搬送する少なくとも１つの搬送ローラと、を備え、前記基材の表面に前記塗工液の塗工領域と非塗工領域とを形成する塗工部と、
（ｂ）前記基材の搬送経路に沿って前記塗工部よりも下流側に配置され、請求項１ないし請求項６のいずれかに記載の乾燥ユニットと、
を備えることを特徴とする塗膜形成システム。
【請求項９】
（ａ）吐出口から塗工液を吐出する吐出部と、可撓性の基材を搬送する少なくとも１つの搬送ローラと、を備え、前記基材の表面に前記塗工液の塗工領域と非塗工領域とを形成する塗工部と、
（ｂ）前記基材の搬送経路に沿って前記塗工部よりも下流側に配置され、請求項７に記載の乾燥装置と、
を備えることを特徴とする塗膜形成システム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、可撓性の基材を搬送経路に沿って搬送しつつ、当該基材に塗工された塗工液を乾燥する乾燥ユニット、乾燥装置、および、これを備える塗膜形成システムに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
搬送ローラによって支持搬送される可撓性の基材（例えば、金属箔）に電極材料（例えば、活物質を含有するペースト）を塗工する塗工装置と、塗工装置によって塗工膜が形成された基材を乾燥炉内で搬送しつつ乾燥する乾燥装置とを備える、電極シートの製造にかかる塗膜形成システムがある。
【０００３】
そして、この種の塗膜形成システムでは、塗工装置によって基材の表面に電極材料を塗工する際、基材上に、塗工液が塗工された領域（以下、「塗工領域」と呼ぶ）と塗工液が塗工されていない領域（以下、「非塗工領域」と呼ぶ）とを形成するパターン塗工を行なう場合がある。こうして塗工液が塗工された基材は、搬送下流の乾燥装置で塗工液の乾燥処理が施されて基材表面に塗工膜（塗工液が乾燥したもの）が形成された後、所望の大きさに切断され、電極板として加工される。
【０００４】
例えば特許文献１では、上記パターン塗工の典型例として、基材上にその搬送方向に延びる複数の塗工領域を形成するストライプ塗工を行い、搬送下流の乾燥装置で当該基材に乾燥処理を施す塗膜形成システムが示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００７−２５８０７８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、上記特許文献１に記載の塗膜形成システムのように、塗工領域と非塗工領域とが形成された可撓性の基材に乾燥処理を施した場合、塗工領域ではその塗工液に含まれる溶剤成分等の蒸発により塗工膜が形成され、これに伴って基材の当該領域に係る部分が収縮する。他方、基材の非塗工領域では、塗工領域での基材の収縮に起因して、基材上に局所的な撓みが生じる。
【０００７】
このような局所的な撓みを有する基材が、その撓み部分を分散することなくそのまま、一定以上の抱き角を有する搬送ローラに当接して搬送されると、上記撓み部分が基材上で皺状の欠陥になることが知られている。そして、基材のうちこの皺状欠陥が生じた部分は製品段階で不良品となる場合が多く、歩留まりの低下の原因となる。
【０００８】
本発明は、上記課題に鑑みてなされたものであり、塗工領域と非塗工領域とが形成された可撓性の基材に乾燥処理を施しても皺状の欠陥を生じさせることが少ない、乾燥ユニット、乾燥装置、および塗膜形成システムを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記課題を解決するため、請求項１に記載の発明は、表面に塗工領域と非塗工領域とが形成された可撓性の基材を所定の搬送経路に沿って搬送しつつ、前記塗工領域に塗工された塗工液を乾燥する乾燥ユニットであって、前記基材の前記表面が上方となるように当該基材の下方から所定の抱き角で当接し、当該基材を搬送する複数の搬送ローラと、前記複数の搬送ローラによって搬送される前記基材の前記塗工領域に塗工された前記塗工液を乾燥する乾燥手段と、前記複数の搬送ローラのうち前記乾燥手段より搬送下流側に配される搬送ローラである下流搬送ローラに対して、搬送上流側に隣接配置され、下方から前記基材を持ち上げ方向に水平支持することにより、前記下流搬送ローラへの前記基材の進入前に、前記基材のうち前記塗工領域の平坦化を行う平坦化手段と、を備えることを特徴とする。
【００１０】
請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の乾燥ユニットであって、前記基材が前記平坦化手段を通った後、前記下流搬送ローラに到るまでの区間に配置されて、前記基材を下方に押し下げる押下げ手段、をさらに備えることを特徴とする。
【００１１】
請求項３に記載の発明は、請求項１または請求項２に記載の乾燥ユニットであって、前記塗工領域が、前記搬送経路に沿った方向に延びる複数の単位塗工領域を含むとともに、前記非塗工領域が、前記複数の単位塗工領域の間隙に存在する少なくとも１つの単位非塗工領域を含むことを特徴とする。
【００１２】
請求項４に記載の発明は、請求項１ないし請求項３のいずれかに記載の乾燥ユニットであって、前記平坦化手段が、下方から前記基材に所定の抱き角で当接し当該基材を支持する下方ローラであり、当該下方ローラの前記基材に対する抱き角が、前記搬送ローラの前記基材に対する抱き角より小さいことを特徴とする。
【００１３】
請求項５に記載の発明は、請求項２ないし請求項４のいずれかに記載の乾燥ユニットであって、前記押下げ手段が、上方から前記基材に所定の抱き角で当接する上方ローラであり、当該上方ローラの前記基材に対する抱き角が、前記搬送ローラの前記基材に対する抱き角より小さいことを特徴とする。
【００１４】
請求項６に記載の発明は、請求項５に記載の乾燥ユニットであって、前記基材が前記下方ローラおよび前記上方ローラに当接する際のそれぞれの抱き角が５度以下であることを特徴とする。
【００１５】
請求項７に記載の発明は、表面に塗工領域と非塗工領域とが形成された可撓性基材を、所定の搬送経路に沿って複数の乾燥ユニットに順次に搬送しつつ、前記塗工領域に塗工された塗工液を乾燥する乾燥装置であって、１）前記複数の乾燥ユニットはそれぞれ、前記基材の前記表面が上方となるように当該基材の下方から所定の抱き角で当接し、当該基材を搬送する複数の搬送ローラと、前記複数の搬送ローラによって搬送される前記基材の前記塗工領域に塗工された前記塗工液を乾燥する乾燥手段と、を備え、２）前記複数の乾燥ユニットのうち、最も搬送下流側の乾燥ユニットである下流乾燥ユニットを含む１以上の乾燥ユニットは、前記複数の搬送ローラのうち前記乾燥手段より搬送下流側に配される下流搬送ローラに対して、搬送上流側に隣接配置され、下方から前記基材を持ち上げ方向に水平支持することにより、前記下流搬送ローラへの前記基材の進入前に前記基材のうち前記塗工領域の平坦化を行う平坦化手段、をさらに備え、前記１以上の乾燥ユニットにおいては、前記基材は、前記乾燥手段により前記塗工液の乾燥処理を施された後、前記平坦化手段によって平坦化された状態で、前記下流搬送ローラによって搬送されることを特徴とする。
【００１６】
請求項８に記載の発明は、（ａ）吐出口から塗工液を吐出する吐出部と、可撓性の基材を搬送する少なくとも１つの搬送ローラと、を備え、前記基材の表面に前記塗工液の塗工領域と非塗工領域とを形成する塗工部と、（ｂ）前記基材の搬送経路に沿って前記塗工部よりも下流側に配置され、請求項１ないし請求項６のいずれかに記載の乾燥ユニットと、を備えることを特徴とする塗膜形成システムである。
【００１７】
請求項９に記載の発明は、（ａ）吐出口から塗工液を吐出する吐出部と、可撓性の基材を搬送する少なくとも１つの搬送ローラと、を備え、前記基材の表面に前記塗工液の塗工領域と非塗工領域とを形成する塗工部と、（ｂ）前記基材の搬送経路に沿って前記塗工部よりも下流側に配置され、請求項７に記載の乾燥装置と、を備えることを特徴とする塗膜形成システムである。
【発明の効果】
【００１８】
請求項１ないし請求項９に記載の発明では、乾燥ユニットが、乾燥手段より搬送下流側に配される下流搬送ローラに対して搬送上流側に隣接した位置に、下方から基材を持ち上げ方向に支持することにより、下流搬送ローラへの基材の進入前に基材のうち塗工領域の平坦化を行う平坦化手段を備える。
【００１９】
したがって、基材の表面に塗工領域と非塗工領域とが形成されていることに起因して、乾燥処理による局所的な撓みが基材の非塗工領域に一時的に生じたとしても、基材の塗工領域が平坦化手段によって平坦化されるため、それに連なる基材の非塗工領域における上記撓みも空間的に分散する。その結果、基材の非塗工領域における局所的な撓みがそのまま集中して下流搬送ローラに当接することはなく、皺状欠陥の発生を有効に防止することができる。
【００２０】
請求項２に記載の発明では、乾燥ユニットには、搬送上流から下流に沿って、乾燥手段、平坦化手段、押下げ手段、および下流搬送ローラが順番に配される。このように押下げ手段は平坦化手段の下流側に配されるので、平坦化手段によってその塗工領域について平坦化された基材が、押下げ手段によって下方に押し下げられる。その結果、基材の非塗工領域の撓みのうち、平坦化手段によって平坦化された塗工領域の塗工膜の厚みより上方への撓みが大きい部分については、押下げ手段によってその撓みが分散される。
【００２１】
したがって、乾燥処理による局所的な撓みが基材の非塗工領域に一時的に生じたとしても、当該基材は、平坦化手段および押下げ手段によって非塗工領域の局所的な撓みが分散された状態で、下流搬送ローラに当接して搬送される。その結果、局所的な撓みがそのまま集中して下流搬送ローラに進入することはなく、皺状欠陥の発生を特に有効に防止することができる。
【００２２】
請求項３に記載の発明では、搬送経路に沿った方向に延びる複数の単位塗工領域の間に少なくとも１つの単位非塗工領域を含むよう、基材上に単位塗工領域と単位非塗工領域とが形成されている。このように、基材の表面に幅方向について単位塗工領域間に挟まれる単位非塗工領域が形成されている場合、当該基材に乾燥処理を施した際に、両側に位置する単位塗工領域の基材の収縮に伴って単位非塗工領域の基材に局所的な撓みが生じやすい。したがって、このような基材は、非塗工領域の局所的な撓みを平坦化させ皺状欠陥の発生を防止する本発明の対象として好適である。
【図面の簡単な説明】
【００２３】
【図１】実施形態にかかる塗膜形成システム１の構成を概略的に示す側面図である。
【図２】実施形態にかかる吐出部３１の構成を示す拡大図である。
【図３】実施形態にかかる塗工後の基材ＦＳの表面Ｓ１を示す上面図である。
【図４】実施形態にかかる乾燥ユニット４ｃの構成を示す側面図である。
【図５】実施形態にかかる抱き角を定義するための、基材ＦＳと搬送ローラ２４ｃとの概略的な側面図である。
【図６】実施形態にかかる搬送過程における基材ＦＳの縦断面図である。
【図７】実施形態と比較例とにかかる搬送過程における基材ＦＳの縦断面図である。
【図８】実施形態にかかる制御部６の電気的構成を示すブロック図である。
【図９】変形例にかかる塗工後の基材ＦＳの表面Ｓ１を示す上面図である。
【図１０】変形例にかかる乾燥ユニット４ｄの構成を示す側面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２４】
以下、図面を参照しつつ本発明の実施の形態について詳細に説明する。
【００２５】
＜１  実施形態＞
＜１．１  実施形態の塗膜形成システム１の構成＞
図１は、本発明の実施形態である塗膜形成システム１を示す概略的な側面図である。なお、図１および以降の各図にはそれらの方向関係を明確にするためＺ方向を鉛直方向とし、ＸＹ平面を水平面とするＸＹＺ直交座標系を適宜付している。また、理解容易の目的で、必要に応じて各部の寸法や数を誇張または簡略化して描いている。
【００２６】
図１に示すように、本実施形態の塗膜形成システム１は、大略的に、その表面Ｓ１（図２）に塗工処理を施される可撓性の基材ＦＳ（例えば、帯状の金属箔）を巻出し機２１から巻き出して巻取り機２６に巻き取られるまで搬送する搬送部２と、搬送部２によって搬送される基材ＦＳの表面Ｓ１に塗工液（正極或いは負極の活物質を含有するペースト）を吐出することによって、当該基材ＦＳの表面Ｓ１に搬送経路に沿って延びる複数の領域が平行配列したパターン（いわゆるストライプ形状）で塗工液を塗工する塗工部３と、基材ＦＳの搬送経路に沿って塗工部３より下流側で巻取り機２６より上流側に配せられ、基材ＦＳの表面Ｓ１に塗工された塗工液を乾燥させる乾燥装置４と、塗膜形成システム１の各部の動作制御を行う制御部６と、を備える。
【００２７】
以上のような全体構成となっているため、塗膜形成システム１では、塗工対象となる基材ＦＳを巻出し機２１より巻き出して巻取り機２６によって回収するまでの間に、基材ＦＳに対して、ストライプ状の平行配列パターンで塗工液を塗工する塗工処理と、当該塗工液に含まれる溶剤成分や水分などを蒸発させる乾燥処理とを施すことができる。この結果、基材ＦＳの表面Ｓ１にはストライプ状の平行配列パターンで塗工膜が形成され、当該塗工膜の形成された基材ＦＳを巻取り機２６によって回収することができる。
【００２８】
そして、回収された基材ＦＳは、塗膜形成システム１の外部の加工処理部（図示せず）に搬送され、当該加工処理部で所望の大きさに切断された後、電極板として加工される。なお、本明細書中では、基材ＦＳの表面Ｓ１とは、基材ＦＳの両主面のうち塗工液９０を塗工される側の主面を、裏面Ｓ２とは他方の主面を意味する。
【００２９】
＜１．２  塗膜形成システム１の各部の構成＞
以下、塗膜形成システム１の各部の構成について詳細に説明する。
【００３０】
搬送部２は、可撓性の基材ＦＳをコイル状に巻回して装着され、回転モータ２１ａの回転駆動によって当該基材ＦＳを繰り出す巻出し機２１と、巻出し機２１より繰り出される基材ＦＳを巻取り機２６まで搬送する複数の搬送ローラ２２〜２５と、複数の搬送ローラ２２〜２５を介して搬送される基材ＦＳを回転モータ２６ａの回転駆動によってコイル状に巻回して回収する巻取り機２６とを有する。
【００３１】
図１に示すように、搬送部２は、複数の搬送ローラ２２〜２５として、巻出し機２１より巻き出される基材ＦＳを塗工部３に向けて搬送する搬送ローラ２２（本実施形態では、３つ）と、吐出部３１に対向して配置されて基材ＦＳの裏面Ｓ２（図２）を支持する搬送ローラ２３と、乾燥装置４内において基材ＦＳを浮上搬送させる複数の搬送ローラ２４（本実施形態では、搬送ローラ２４ａ〜２４ｃの３つ）と、乾燥装置４から送られる基材ＦＳを巻取り機２６に巻き取られるまで搬送する複数の搬送ローラ２５（その一部を図１に図示）とを備える。
【００３２】
また、搬送ローラ２２〜２５はいずれも、基材ＦＳの幅（Ｙ方向長さ）より長い幅を有する円筒形状のフラットローラ（円筒形状のどの部分でも断面の円の直径が同じローラ）であり、図示しないモータによって主動的に回転可能となっている。このため、制御部６によって、搬送ローラ２２〜２５が同期して回転されることで基材ＦＳは搬送経路に沿って搬送される。なお、搬送部２としては可撓性の基材ＦＳを一定速度で搬送することができればよく、本実施形態の他にも種々の搬送形態を採用することができる。
【００３３】
塗工部３は、基材ＦＳの表面Ｓ１に向けてスラリー状の塗工液９０を吐出する吐出部３１と、塗工液９０を収容した供給源３２と、モータ３３ａを駆動させることによって供給源３２から吐出部３１まで配管部３４を通じて塗工液９０を送液する供給ポンプ３３と、を備える。
【００３４】
図２（ａ）は、吐出部３１によって基材ＦＳの表面Ｓ１に塗工液９０が塗工される様子を拡大して示す側面図である。図２（ｂ）は、吐出部３１のノズルの先端面３１０に形成される吐出口３０１，３０２を示す正面図である。
【００３５】
図２（ａ）に示すように、吐出部３１のノズル先端面３１０と対向する位置には、基材ＦＳの表面Ｓ１が吐出部３１と対向するように基材ＦＳに所定の抱き角で当接し当該基材ＦＳを搬送する搬送ローラ２３が配されている。また、図２（ｂ）に示すように、ノズル先端面３１０には、Ｙ方向に延びる長尺状の吐出口３０１，３０２がＹ方向に並設されている。
【００３６】
このため、供給ポンプ３３によって塗工液９０が吐出部３１まで送液され、搬送ローラ２３に支持搬送される基材ＦＳに向けて吐出口３０１，３０２から塗工液９０が吐出されると、基材ＦＳの表面Ｓ１には搬送経路に沿って延びるストライプ状（本実施形態では、吐出口３０１，３０２に対応して２本）の平行配列パターンで塗工液９０が塗工される。
【００３７】
図３は、塗工部３によってその表面Ｓ１に塗工液９０が塗工された基材ＦＳを示す上面図である。以下の説明では、基材ＦＳ上において塗工液９０が塗工された領域を「塗工領域ＲＴ１」、塗工領域ＲＴ１を構成する一単位を「単位塗工領域ＲＴ１０」と呼ぶ。また、塗工液９０が塗工されていない領域を「非塗工領域ＲＴ２」、非塗工領域ＲＴ２を構成する一単位を「単位非塗工領域ＲＴ２０」と呼ぶ。そして、単位塗工領域ＲＴ１０および単位非塗工領域ＲＴ２０のそれぞれが少なくとも１つ存在するようなパターンが本発明の対象となる塗工パターンである。
【００３８】
また、塗工部３は、吐出部３１のＸ方向位置を調整して、ノズル先端面３１０と搬送ローラ２３に支持される基材ＦＳの表面Ｓ１との間の間隙Ｄ１を調整する間隙調整手段３５が設けられる（図１）。本実施形態の間隙調整手段３５は、吐出部３１を搬送ローラ２３に対して遠近方向に移動自在に支持するスライドガイド３５ａと、吐出部３１を移動するスクリューネジ送り機構３５ｂにて構成され、そのスクリューネジをモータ３６にて正逆回転することで間隙Ｄ１を調整するように構成されている。
【００３９】
そして、間隙調整手段３５による間隙Ｄ１の調節と、供給ポンプ３３による塗工液９０供給量の調節とによって、基材ＦＳ上に形成される塗工膜９１の塗工幅や膜厚を調整することができる。
【００４０】
また、塗膜形成システム１は、上記各部に加えて、塗工部３と乾燥装置４との区間を搬送する基材ＦＳに対向する位置に配せられ、当該区間を搬送される基材ＦＳの表面Ｓ１に形成された単位塗工領域ＲＴ１０と単位非塗工領域ＲＴ２０との幅方向の寸法を測定する撮像部５を備える。撮像部５は、例えば、基材ＦＳの表面Ｓ１に形成された単位塗工領域ＲＴ１０を画像認識するカメラにて構成され、撮像した画像を基に、単位塗工領域ＲＴ１０と単位非塗工領域ＲＴ２０との幅方向の寸法を測定するように構成されている（図１、図３）。
【００４１】
この撮像部５による測定データは制御部６に送信され、制御部６において当該測定データと所定の塗工幅を規定する設定データとが比較される。そして、この比較結果に基づいて、間隙調整手段３５の駆動制御による間隙Ｄ１の調整、および供給ポンプ３３の駆動制御による塗工液９０供給量の調整が行なわれる。
【００４２】
このように、単位塗工領域ＲＴ１０および単位非塗工領域ＲＴ２０の幅方向の寸法は、撮像部５による撮像結果を基に、上記所定の塗工幅となるようフィードバック制御される。なお、本明細書中において、幅方向とは、基材ＦＳと平行な面内において搬送方向と直行する方向を意味し、Ｙ方向に対応する。
【００４３】
また、本実施形態の撮像部５は、上述したように塗工部３より搬送下流側で乾燥装置４より搬送上流側に配されるが、例えば、乾燥装置４と巻取り機２６との区間を搬送される基材ＦＳを撮像する位置に配されても本実施形態と同様の効果を得ることができる。
【００４４】
乾燥装置４は、搬送上流側から順に３つの乾燥ユニット４ａ，４ｂ，４ｃを有し、当該乾燥ユニット４ａ〜４ｃの内部を通じて基材ＦＳを順次に搬送しつつ、基材ＦＳ上の塗工領域ＲＴ１に塗工された塗工液９０を乾燥させる（基材ＦＳ上に塗工膜９１を形成する）装置である。
【００４５】
乾燥ユニット４ａ〜４ｃはいずれも同様の構成であるので、以下では、これらの代表として最も搬送下流側の乾燥ユニット４ｃについて詳細に説明し、乾燥ユニット４ａ，４ｂについては重複説明を省略する。
【００４６】
図４は、乾燥ユニット４ｃの構成を示す概略的な側面図である。
【００４７】
図４に示すように、乾燥ユニット４ｃは、大略的に、基材ＦＳが搬送される搬送経路を覆うように設けられるチャンバ４０と、搬送経路に沿って搬送される基材ＦＳの下方から当該基材ＦＳに向けて熱風を供給し当該基材ＦＳを浮上させる浮上機構４１と、搬送経路に沿って搬送される基材ＦＳの上方から当該基材ＦＳに向けて熱風を供給する乾燥処理部４２とを有する。
【００４８】
また、チャンバ４０内の乾燥処理部４２より搬送下流側には、基材ＦＳの表面Ｓ１が上方となるように基材ＦＳの下方から所定の抱き角で当接し、当該基材ＦＳを搬送する搬送ローラ２４ｃが配される。
【００４９】
チャンバ４０の搬送方向についての両端部には、基材ＦＳが通過するための開口４０１，４０２が形成されている。チャンバ４０の内側において、搬送経路の下方には、複数の熱風噴出部４１１（本実施形態では４個）が基材ＦＳの搬送方向に沿って設けられ、搬送経路の上方には、複数の熱風噴出部４２１（本実施形態では４個）が基材ＦＳの搬送方向に沿って設けられる。
【００５０】
乾燥ユニット４ｃのチャンバ４０の長さは特に限定されるものではないが、本実施形態では搬送経路に沿って約３０００ｍｍとしている。また、開口４０１および開口４０２の大きさも特に限定されるものではないが、本実施形態では搬送経路の上方および下方のそれぞれに約５ｍｍの間隔を確保できる程度（つまり、鉛直方向の大きさが約１０ｍｍ）としている。
【００５１】
浮上機構４１は、チャンバ４０内を搬送される基材ＦＳの裏面Ｓ２に対して上向きの風圧を与えるための構成として、複数の噴出孔（図示省略）を上側に向けて備える複数の熱風噴出部４１１と、配管４１２を介して各熱風噴出部４１１に熱風を送給する熱風送風部４１３とを有する。また、各配管４１２には開閉弁４１４が設けられているので、これらの開閉弁４１４の開度を制御部６によって制御することで、熱風噴出部４１１ごとに個別に熱風供給量を調整することができる。熱風送風部４１３は、例えば、ヒータと送風機とを備えており、加熱した空気を熱風噴出部４１１に送給する構成を採用することができる。
【００５２】
このような構成となっているので、搬送経路に沿ってチャンバ４０内を搬送される基材ＦＳの裏面Ｓ２には熱風噴出部４１１から上向きに熱風が吹き付けられ、基材ＦＳが上向きに浮上する力が作用する。これにより、乾燥ユニット４ｃ内に複数のローラを設けなくとも、搬送ローラ２４ｂと搬送ローラ２４ｃとの区間で基材ＦＳを大きく撓ませることなく搬送することができる。また、浮上機構４１によって熱風が基材ＦＳの裏面Ｓ２に供給されることで、基材ＦＳが加熱され、基材ＦＳの表面Ｓ１に塗工された塗工液９０に含まれる溶剤成分等の蒸発が促進される。なお、浮上機構４１の主たる目的は基材ＦＳを浮上させることであり、基材ＦＳの裏面Ｓ２に吹き付ける空気は常温の空気であっても構わない。言い換えると、浮上機構４１において、溶剤成分等の蒸発を促進することは必須の構成ではない。
【００５３】
また、浮上機構４１は、熱風噴出部４１１よりチャンバ４０内に供給された空気をチャンバ４０の外部に排気するための構成として、チャンバ４０の底面に開口する排気口４１５からチャンバ４０内の熱風を排気する複数の排気ボックス４１６（本実施形態では２個）と、配管４１７を介して各排気ボックス４１６からチャンバ４０内の空気を吸引し、装置外部の排気ラインに排気する排気部４１８とを有する。また、配管４１７には開閉弁４１９が設けられている。
【００５４】
このため、熱風送風部４１３による単位時間当たりの熱風供給量と排気部４１８による単位時間当たりの排気量とが同じになるように制御部６によって上記各部の動作を制御することによって、熱風噴出部４１１から噴出され基材ＦＳの下面に吹き付けられた熱風を排気ボックス４１６より吸引排気することができ、チャンバ４０内の気圧を大気圧と同程度に保つことができる。
【００５５】
すなわち、浮上機構４１は、チャンバ４０内の気圧を一定に保ちつつ、基材ＦＳに浮上方向の力を付与することで搬送部２の補助的役割を果たすこととなる。浮上機構４１には、チャンバ４０内での基材ＦＳの搬送中に熱風噴出部４２１から噴出される熱風に吹き付けられて基材ＦＳが下向きに湾曲することを防止する、というもう１つの役割があるが、これについては乾燥処理部４２について説明した後に詳細に述べる。
【００５６】
乾燥処理部４２（乾燥手段）は、搬送経路に沿って搬送される基材ＦＳの表面Ｓ１に対して熱風を吹き付けるための構成として、噴出口４２０を下側に向けて備える複数の熱風噴出部４２１（本実施形態では４個）と、配管４２２を介して各熱風噴出部４２１に熱風を送給する熱風送風部４２３とを有する。また、各配管４２２には開閉弁４２４が設けられているので、これらの開閉弁４２４の開度を制御部６によって制御することで、熱風噴出部４２１ごとに個別に熱風供給量を調整することができる。
【００５７】
このような構成となっているので、搬送経路に沿ってチャンバ４０内を搬送される基材ＦＳの表面Ｓ１には熱風噴出部４２１から下向きに熱風が吹き付けられ、塗工部３で基材ＦＳの表面上に塗工された塗工液９０を効率的に加熱し乾燥させる。この結果、基材ＦＳ上に塗工された塗工液９０の溶剤成分等が蒸発し、基材ＦＳ上に塗工膜９１が形成される。
【００５８】
なお、噴出口４２０は、基材ＦＳの幅方向に沿って延びる１本のスリット孔であっても良いし、当該幅方向に沿って複数に分割された孔であっても良い。熱風送風部４２３は、例えば、ヒータと送風機とを備えており、加熱した空気を熱風噴出部４２１に送給する構成を採用することができる。
【００５９】
また、乾燥処理部４２は、熱風噴出部４２１からチャンバ４０内に供給された熱風をチャンバ４０の外部に排気するための構成として、チャンバ４０内に開口する排気口４２５からチャンバ４０内の空気を排気する排気ボックス４２６と、配管４２７を介して各排気ボックス４２６からチャンバ４０内の空気を吸引し、装置外部の排気ラインに排気する排気部４２８とを有する。また、各配管４２７には開閉弁４２９が設けられているので、これらの開閉弁４２９の開度を制御部６によって制御することで、排気ボックス４２６ごとに個別に排気量を調整することができる。
【００６０】
図４に示すように、熱風噴出部４２１と排気ボックス４２６とは、チャンバ４０内の両端に排気ボックス４２６が配されるように、基材ＦＳの搬送経路の上方において搬送方向に沿って交互に配置されている。また、熱風噴出部４２１と排気ボックス４２６との間には、基材ＦＳの搬送経路と平行になるように整流板４２００が設けられている。このため、熱風送風部４２３による単位時間当たりの熱風供給量と排気部４２８による単位時間当たりの排気量とが対応するように制御部６によって上記各部の動作を制御することによって、熱風噴出部４２１から供給され基材ＦＳの表面Ｓ１に吹き付けられた熱風を隣接する排気ボックス４２６により効率よく吸引排気することができる（図４）。
【００６１】
この結果、基材ＦＳの表面Ｓ１に吹き付けられた熱風をチャンバ４０内に残留させずに、熱風噴出部４２１より新たに供給される熱風を基材ＦＳの表面Ｓ１に吹き付けることができるので、乾燥処理部４２による基材ＦＳの表面Ｓ１での加熱温度を一定に保つことができる。それと同時に、チャンバ４０内の気圧を大気圧と同程度に保ちつつ、チャンバ４０内からの溶剤成分の流出を防ぐことができる。
【００６２】
また、図４に示すように、各熱風噴出部４１１と各熱風噴出部４２１とは基材ＦＳを挟んで相対向して配置されており、基材ＦＳの裏面Ｓ２と表面Ｓ１との対応する位置に熱風噴出部４１１および熱風噴出部４２１からそれぞれ熱風が吹き付けられることとなる。
【００６３】
このため、各熱風噴出部４２１による熱風の供給量と各熱風噴出部４１１による熱風の供給量とを制御部６によって制御することで、基材ＦＳの裏面Ｓ２と表面Ｓ１との対応する位置に吹き付けられる風圧が調整され、チャンバ４０内を搬送される基材ＦＳが上下方向に変形（湾曲）することを防止できる。具体的には、熱風噴出部４１１からの空気供給によって基材ＦＳを裏面Ｓ２側から押し上げる力と、基材ＦＳの自重および熱風噴出部４２１からの熱風供給によって基材ＦＳを表面Ｓ１側から押下げる力とが相殺されるように、浮上機構４１および乾燥処理部４２の動作を制御すればよい。
【００６４】
以上説明したように、乾燥ユニット４ｃでは、浮上機構４１と乾燥処理部４２とが動作することで、搬送部２によって搬送される基材ＦＳの塗工領域ＲＴ１に塗工された塗工液９０を乾燥する。その結果、塗工液９０に含まれる溶剤成分等が蒸発し、基材ＦＳの塗工領域ＲＴ１に塗工膜９１が形成される。
【００６５】
また、乾燥ユニット４ｃは、上記各部に加えて、搬送ローラ２４ｃに対して搬送上流側に隣接配置されて下方から基材ＦＳを持ち上げ方向に水平支持する下方ローラ４５と、下方ローラ４５と搬送ローラ２４ｃとの区間に配置されて基材ＦＳを下方に押し下げる上方ローラ４６とを備える。下方ローラ４５および上方ローラ４６は、モータなどの駆動源を有しない従動のローラであり、搬送部２によって搬送される基材ＦＳに当接して基材ＦＳの搬送方向に沿って回転される。
【００６６】
下方ローラ４５は、基材ＦＳの幅（Ｙ方向長さ）より長い幅を有する円筒形状のフラットローラ（円筒形状のどの部分でも断面の円の直径が同じローラ）であり、搬送部２によって搬送される基材ＦＳに対する抱き角が搬送ローラ２４ｃの基材ＦＳに対する抱き角より小さくなるよう、基材ＦＳの下方に配される。また、その円筒の直径は、搬送ローラ２４ｃより小さい。
【００６７】
乾燥処理部４２より搬送下流側に配される搬送ローラ２４ｃに対して搬送上流側に隣接した位置に、下方から基材ＦＳを持ち上げ方向に支持する下方ローラ４５（平坦化手段）が配されることにより、搬送ローラ２４ｃへの基材ＦＳの進入前に基材ＦＳ塗工領域ＲＴ１について後述する原理によって平坦化が行なわれる（図６（ａ），（ｂ））。
【００６８】
上方ローラ４６は、その配置位置が異なるが、下方ローラ４５と同様の構成のローラである。上方ローラ４６は、基材ＦＳの幅（Ｙ方向長さ）より長い幅を有する円筒形状のフラットローラであり、搬送部２によって搬送される基材ＦＳに対する抱き角が搬送ローラ２４ｃの基材ＦＳに対する抱き角より小さくなるよう、下方ローラ４５と搬送ローラ２４ｃとの区間で基材ＦＳの上方に配される。また、その円筒の直径は、搬送ローラ２４より小さい。このように、下方ローラ４５および上方ローラ４６に関して、抱き角および円筒の直径について規定している理由については後述する。
【００６９】
乾燥ユニット４ｃには、搬送上流から下流に沿って、乾燥処理部４２、下方ローラ４５、上方ローラ４６、および搬送ローラ２４ｃが順番に配される。このように上方ローラ４６は下方ローラ４５の下流側に配されるので、下方ローラ４５によってその塗工領域ＲＴ１について平坦化された基材ＦＳが、上方ローラ４６によって下方に押し下げられる。その結果、基材ＦＳの非塗工領域ＲＴ２の撓みのうち、下方ローラ４５によって平坦化された塗工領域ＲＴ１の塗工膜９１の厚みより上方への撓みが大きい部分（図６の上下範囲Ｄ２）については、上方ローラ４６によってその撓みが分散される（図６（ｂ），（ｃ））。
【００７０】
図５は、本明細書中における「抱き角」という言葉の定義をする目的で用いる図であり、搬送ローラ２４ｃと当該搬送ローラ２４ｃに支持搬送される基材ＦＳとを示す模式的な側面図である。
【００７１】
図５に示すように、ＸＺ平面視において、搬送方向ＡＲ１に沿って搬送される基材ＦＳは、搬送ローラ２４ｃに当接することで搬送方向ＡＲ２に方向を変えて搬送される。この搬送方向の変化前後の角度差は、ＸＺ平面視において搬送ローラ２４ｃの周のうち基材ＦＳが接触している区間の弧（位置ＰＲ１から位置ＰＲ２までの弧）の占める割合に対応しており、また、ＸＺ平面視における、弧の両端位置ＰＲ１，ＰＲ２と搬送ローラ２４ｃの中心位置ＰＯを結んだ中心角θと一致する。
【００７２】
本明細書中ではこの角度θを「抱き角」と定義し、上述したように、下方ローラ４５および上方ローラ４６は、その基材ＦＳに対する抱き角が搬送ローラ２４ｃの基材ＦＳに対する抱き角より小さくなるよう配置される。
【００７３】
一般に、基材ＦＳにローラを当接した場合、基材ＦＳとローラとの接触面積が小さいほど基材ＦＳの撓みは幅方向へ分散しやすく、接触面積が大きいほど基材ＦＳの撓みは幅方向へ分散し難い。そして、この接触面積は、ローラの円筒における直径とローラの基材ＦＳに対する抱き角とに比例する。
【００７４】
したがって、この接触面積を小さくする、言い換えると基材ＦＳの撓みを幅方向へ分散しやすくする目的で、下方ローラ４５および上方ローラ４６は、その円筒の直径および基材ＦＳに対する抱き角がともに搬送ローラ２４ｃに比べて小さくなるよう設計されている。各ローラで設定される抱き角の一例として、本実施形態では、下方ローラ４５および上方ローラ４６では基材ＦＳに対する抱き角が２度に、搬送ローラ２４ｃでは基材ＦＳに対する抱き角が１５度になるよう設計されている。
【００７５】
図６は、搬送経路に沿って搬送される基材ＦＳの搬送方向についての縦断面図であり、図６（ａ）〜図６（ｃ）は、それぞれ図４中のＡ−Ａ断面〜Ｃ−Ｃ断面に対応している。
【００７６】
図６（ａ）に示すように、乾燥処理部４２によって乾燥処理を施され下方ローラ４５に当接されるまでの区間を搬送される基材ＦＳには、乾燥処理で基材ＦＳ上に塗工膜９１が形成されることに伴って基材ＦＳに上下方向の撓みが生じている。
【００７７】
より具体的には、塗工部３によって塗工領域ＲＴ１と非塗工領域ＲＴ２とが形成された可撓性の基材ＦＳ（図３）に乾燥処理部４２で乾燥処理を施すことによって、塗工領域ＲＴ１ではその塗工液９０に含まれる溶剤成分等の蒸発により塗工膜９１が形成され、これに伴って当該塗工領域ＲＴ１における基材ＦＳが収縮する。他方、非塗工領域ＲＴ２の基材ＦＳでは、塗工領域ＲＴ１での基材ＦＳの収縮に起因して、基材ＦＳ上に撓みが生じる。
【００７８】
特に、本実施形態の塗膜形成システム１のように基材ＦＳの表面Ｓ１に幅方向について単位塗工領域ＲＴ１０間に挟まれる単位非塗工領域ＲＴ２０が形成される場合、当該基材ＦＳに乾燥処理を施した際に、両側に位置する単位塗工領域ＲＴ１０の基材ＦＳの収縮に伴ってその中間の単位非塗工領域ＲＴ２０の基材ＦＳに局所的な撓みが生じやすい（図６（ａ））。
【００７９】
以下の説明では、基材ＦＳのうち局所的に（山型に近い形状で）撓んでいる部分を「局所的な撓みＣＵ２」と呼び、基材ＦＳが撓んでいる部分のうち上記局所的な撓みＣＵ２以外の部分（台地状に広がって撓んでいる部分）を「撓みＣＵ１」と呼ぶことで、これらを区別する。また、これらを特に区別しない場合には、単に、「撓みＣＵ」と呼ぶ。
【００８０】
局所的な撓みＣＵ２を有する基材ＦＳ（図６（ａ））が、その局所的な撓みＣＵ２を分散することなくそのまま、一定以上の（例えば、５度より大きい）抱き角を有する搬送ローラ２４ｃに当接して搬送されると、局所的な撓みＣＵ２が基材ＦＳの幅方向に分散されずに、基材ＦＳ上で皺状欠陥ＣＲ（図７（ｂ））になることが知られている。そして、基材ＦＳのうち皺状欠陥ＣＲが生じた部分は製品段階で不良品となる場合が多く、歩留まりの低下の原因となる。この皺状欠陥ＣＲの発生を予防するための構成として、本実施形態の乾燥ユニット４ｃは、上述した下方ローラ４５および上方ローラ４６を備える。
【００８１】
図６（ａ）および図６（ｂ）に示すように、基材ＦＳは、下方ローラ４５によって下方から持ち上げ方向に支持されることで、塗工領域ＲＴ１の基材ＦＳの平坦化が行なわれ、それに連なる非塗工領域ＲＴ２の基材ＦＳにおける撓みＣＵも空間的に分散される。この結果、乾燥処理によって局所的な撓みＣＵ２が基材ＦＳの非塗工領域ＲＴ２に一時的に生じたとしても、下方ローラ４５によって当該局所的な撓みＣＵ２を分散する（撓みＣＵ１にする）ことができ、局所的な撓みＣＵ２がそのまま集中して搬送ローラ２４ｃに巻きこまれる（皺状欠陥が発生する）ことを防止できる。
【００８２】
また、図６（ｂ），（ｃ）に示すように、基材ＦＳは、上方ローラ４６によって下方に向けて押下げられることで、非塗工領域ＲＴ２の撓みＣＵ１のうち、下方ローラ４５によって平坦化された塗工領域ＲＴ１の塗工膜９１の厚みより上方への撓みＣＵ１が大きい部分（図６（ｂ）の上下範囲Ｄ２に相当する部分）については押下げられ、その撓みＣＵ１が分散される。この結果、撓みＣＵ１はさらに空間的に分散されるため、搬送下流の搬送ローラ２４ｃに基材ＦＳが当接する際に皺状欠陥ＣＲが発生するリスクをさらに低下させることができる。
【００８３】
また、仮に下方ローラ４５によって基材ＦＳの局所的な撓みＣＵ２を十分に分散できていない場合であっても、上方ローラ４６で基材ＦＳのうち上下範囲Ｄ２に相当する部分を押下げることで局所的な撓みＣＵ２を分散させる（撓みＣＵ１とする）ことができ、局所的な撓みＣＵ２がそのまま集中して搬送ローラ２４ｃに当接することを確実に防止できる。
【００８４】
図７は、搬送ローラ２４ｃに所定の抱き角（例えば、１５度）で当接された基材ＦＳの搬送方向についての縦断面図である。図７（ａ）は、本実施形態の乾燥ユニット４ｃで乾燥処理を施された基材ＦＳの縦断面図を示しており、図４中のＤ−Ｄ断面に対応している。
【００８５】
上述したように、本実施形態の乾燥ユニット４ｃでは、下方ローラ４５および上方ローラ４６によって基材ＦＳに生じる撓みＣＵを十分に分散させた状態（図６（ｃ））で、搬送ローラ２４ｃに基材ＦＳが当接される。このため、製品段階で不良品となる皺状欠陥ＣＲが生じることはない。
【００８６】
なお、下方ローラ４５および上方ローラ４６の主たる役割は、基材ＦＳの一切の撓みＣＵを取り除くことではなく、基材ＦＳの撓みＣＵを空間的に分散させることである（図６（ｃ））。このため、基材ＦＳが搬送ローラ２４ｃに進入するタイミングで基材ＦＳに撓みＣＵ１が生じている可能性はある。そして、この撓みＣＵ１に起因して、搬送ローラ２４に当接されるタイミングで基材ＦＳの非塗工領域ＲＴ２に多少の皺ＣＳが生じうるが（図７（ａ））、この皺ＣＳは製品段階で不良品となるほどの皺状欠陥ＣＲではなく製造において実質的に許容範囲内の皺である。
【００８７】
図７（ｂ）は、本実施形態の乾燥ユニット４ｃの比較例として、下方ローラ４５および上方ローラ４６を備えない乾燥ユニットで乾燥処理を施された基材ＦＳの縦断面図を示している。この場合、搬送ローラ２４ｃに進入するタイミングの基材ＦＳは、図６（ａ）に示すように、局所的な撓みＣＵ２が生じている状態である。このため、基材ＦＳは局所的な撓みＣＵ２を分散することなくそのまま搬送ローラ２４ｃに当接して搬送されてしまい、基材ＦＳ上で塗工膜９１の上面の高さを超えるような盛上がりを持つ皺状欠陥ＣＲが発生する（図７（ｂ））。
【００８８】
ここまで、乾燥ユニット４ａ〜４ｃの代表として乾燥ユニット４ｃについて説明したが、乾燥ユニット４ａ，４ｂについても乾燥ユニット４ｃと同様の構成である。すなわち、乾燥ユニット４ａ，４ｂは、チャンバ４０内に、浮上機構４１、乾燥処理部４２、下方ローラ４５、上方ローラ４６、および搬送ローラ２４ａ，ｂを有する。そのため、乾燥ユニット４ｃと同様、乾燥処理部４２によって基材ＦＳ上に塗工膜９１を形成し、上方ローラ４６と下方ローラ４５とによって当該基材ＦＳの撓みＣＵを分散させた状態で搬送ローラ２４ａ，ｂに当接して基材ＦＳを搬送することができる。
【００８９】
また、本実施形態の乾燥装置４は、乾燥ユニット４ａ〜４ｃごとに個別に、浮上機構４１および乾燥処理部４２の制御、すなわち温度制御を行うことができる。
【００９０】
そして、乾燥ユニット４ａ〜４ｃで乾燥処理を施された基材ＦＳは、搬送下流の複数の搬送ローラ２５を介して搬送され、巻取り機２６によって回収される（図１）。回収された基材ＦＳは、塗膜形成システム１の外部の加工処理部（図示せず）に搬送され、当該加工処理部で所望の大きさに切断された後、電極板として加工される。
【００９１】
図８に示す制御部６は、塗膜形成システム１に設けられた上記の種々の動作機構を制御する。制御部６のハードウェアとしての構成は一般的なコンピュータと同様である。すなわち、制御部６は、各種演算処理を行うＣＰＵ６１、基本プログラムを記憶する読み出し専用のメモリであるＲＯＭ６２、各種情報を記憶する読み書き自在のメモリであるＲＡＭ６３、および処理プログラムやデータなどを記憶しておく固定ディスク６４をバスライン６９に接続して構成されている。
【００９２】
また、バスライン６９には、搬送部２、塗工部３、乾燥装置４および撮像部５が接続されている。制御部６のＣＰＵ６１は、固定ディスク６４に格納されている処理プログラムを実行することにより、塗膜形成システム１に係る各部を制御して各処理を実行する。
【００９３】
また、バスライン６９には、入力装置６５および表示装置６６が電気的に接続されている。入力装置６５は、例えばキーボードやマウス等を用いて構成されており、コマンドやパラメータ等の入力を受け付ける。表示装置６６は、例えば液晶ディスプレイ等を用いて構成されており、処理結果やメッセージ等の種々の情報を表示する。
【００９４】
塗膜形成システム１の使用者は、表示装置６６に表示された内容を確認しつつ入力装置６５からコマンドやパラメータ等の入力を行うことができる。なお、入力装置６５と表示装置６６とを一体化してタッチパネルとして構成するようにしても良い。
【００９５】
さらに、バスライン６９には、ＤＶＤやＣＤ−ＲＯＭなどの記録媒体ＲＭから記録内容を読み取る読取装置６７が接続されている。処理プログラムは、記録媒体ＲＭから読取装置６７によって読み出されて固定ディスク６４に格納されるようにしてもよい。また、ネットワーク経由で外部の情報処理装置からダウンロードされるようにしてもよい。
【００９６】
＜１．３  本実施形態の塗膜形成システム１の効果＞
以下、本実施形態の塗膜形成システム１の効果について説明する。
【００９７】
上述したように、乾燥ユニット４ａ〜４ｃではそれぞれ搬送ローラ２４ａ〜２４ｃに対して搬送上流側（下流搬送ローラに対して搬送上流側）に隣接する位置に下方ローラ４５および上方ローラ４６が配される。なお、下流搬送ローラとは、複数の搬送ローラ２２〜２５のうち乾燥処理部４２より搬送下流側に配される搬送ローラを意味し、乾燥ユニット４ａについては搬送ローラ２４ａ〜２４ｃおよび搬送ローラ２５が、乾燥ユニット４ｂについては搬送ローラ２４ｂ，２４ｃおよび搬送ローラ２５が、乾燥ユニット４ｃについては搬送ローラ２４ｃおよび搬送ローラ２５が、本発明の下流搬送ローラに相当する。
【００９８】
このため、基材の表面Ｓ１に塗工領域ＲＴ１と非塗工領域ＲＴ２とが形成されていることに起因して、乾燥処理による局所的な撓みＣＵ２が非塗工領域ＲＴ２の基材ＦＳに一時的に生じたとしても（図６（ａ））、下方ローラ４５と上方ローラ４６とによって非塗工領域ＲＴ２の基材ＦＳにおける撓みＣＵが空間的に分散される（図６（ｃ））。そして、この撓みＣＵが分散した状態で、基材ＦＳが下流搬送ローラに当接されるため、非塗工領域ＲＴ２の基材ＦＳの局所的な撓みＣＵ２がそのまま集中して下流搬送ローラに搬送されることはなく、皺状欠陥ＣＲの発生を防止することができる（図７（ａ））。
【００９９】
本実施形態の塗膜形成システム１は、基材ＦＳ上に形成する塗工膜９１の膜厚が厚い（例えば、３０μｍより大きい）場合、乾燥ユニット４ａで余熱処理を行わず乾燥ユニット４ａから高熱乾燥を実行する場合、浮上機構４１と協働して基材ＦＳを搬送することで搬送ローラ２４の設置数を減らす場合、或いは基材ＦＳの表面Ｓ１に幅方向について単位塗工領域ＲＴ１０間に挟まれる単位非塗工領域ＲＴ２０を形成する場合（典型的にはストライプ塗工）など、皺状欠陥ＣＲの発生しやすい種々の塗工処理や乾燥処理の態様に好適に利用することができる。
【０１００】
また、本実施形態の下方ローラ４５、上方ローラ４６、および搬送ローラ２２〜２５はいずれもフラットローラで構成されており、ローラの表面に凹凸を設けることで基材ＦＳの撓みＣＵを分散させるクランクローラや、その断面積が基材ＦＳの幅方向の中心側に向けて大きくなっていることによって基材ＦＳの撓みＣＵを幅方向外側に分散させる樽型ローラを利用していない。そして、下方ローラ４５および上方ローラ４６の設計や配置に技術的特徴を付与することよって、ローラに搬送される基材ＦＳの撓みＣＵを分散させている。
【０１０１】
このため、クランクローラを利用する場合と異なり、本実施形態の搬送ローラ２２〜２５では、基材ＦＳとの接触面であるローラの凹凸に起因して基材ＦＳが変形するおそれがない。
【０１０２】
また、幅方向（Ｙ方向）における基材ＦＳの中心位置とローラの中心位置とが一致しない状態で基材ＦＳの搬送が行なわれた場合、樽型ローラであれば当該ローラの曲面に沿って基材ＦＳに変形が生じるが、本実施形態の搬送ローラ２２〜２５はフラットローラであるためこのような変形が生じない。
【０１０３】
＜２  変形例＞
以上、本発明の実施の形態について説明したが、この発明はその趣旨を逸脱しない限りにおいて上述したもの以外に種々の変更を行うことが可能である。
【０１０４】
上記実施形態では、その表面Ｓ１に幅方向について単位塗工領域ＲＴ１０間に挟まれる単位非塗工領域ＲＴ２０を形成された基材ＦＳに対して、乾燥装置４で乾燥処理を行う場合について説明したが、これに限られるものではない。
【０１０５】
図９は、上記実施形態における塗工パターン（図３）の変形例の一例を示す図である。図９および以降の各図において、上記実施形態と同一の要素については同一の符号を付し、重複説明を省略する。塗工領域ＲＴ１が搬送方向に沿ったべた塗りで形成され、単位非塗工領域ＲＴ２０が幅方向の両端に形成されている基材ＦＳ（図９）についても、下方ローラ４５および上方ローラ４６によって基材ＦＳの非塗工領域ＲＴ２で生じる撓みＣＵを分散させ、皺状欠陥ＣＲの発生を防止することができる。すなわち、本発明は、塗工領域ＲＴ１と非塗工領域ＲＴ２とを形成された、言い換えると単位塗工領域ＲＴ１０および単位非塗工領域ＲＴ２０のそれぞれが少なくとも１つ形成された可撓性の基材ＦＳであれば、その塗工パターンによらずに利用可能である。
【０１０６】
上記実施形態では、図１に示すように、乾燥ユニット４ａ〜４ｃのそれぞれに、下方ローラ４５および上方ローラ４６が設けてある構成について説明したが、下方ローラ４５および上方ローラ４６は、複数の乾燥ユニット４ａ〜４ｃのうち最も搬送下流側の乾燥ユニットである乾燥ユニット４ｃ（下流乾燥ユニット）を含む１以上の乾燥ユニット（例えば乾燥ユニット４ｃのみ）に設けられる構成であってもよい。上述したように、基材ＦＳの非塗工領域ＲＴ２に撓みＣＵが生じるのは、基材ＦＳの塗工領域ＲＴ１に塗工された塗工液９０に含まれる溶剤等を蒸発させる乾燥処理に起因するものである。このため、最終的に乾燥処理を完了させる、言い換えると基材ＦＳに生じる撓みＣＵが最大化する乾燥ユニット４ｃ（下流搬送ユニット）において、下方ローラ４５および上方ローラ４６を設ければ、皺状欠陥ＣＲの発生防止に一定の効果がある。
【０１０７】
図１０は、上記実施形態の乾燥ユニット４ｃの変形例として、チャンバ４０の外側に搬送ローラ２４ｄがある場合の乾燥ユニット４ｄを示す。図１０に示すように、搬送ローラ２４ｄがチャンバ４０外にある場合でも、本発明を適用することができる。この場合、搬送ローラ２４ｄおよび搬送ローラ２５が下流搬送ローラに相当するため、下流搬送ローラの上流側、すなわち搬送ローラ２４ｄの搬送上流側に隣接して下方ローラ４５と上方ローラ４６とを設けることで、上記実施形態と同様の効果を得ることができる。
【０１０８】
上記実施形態の乾燥ユニット４ａ〜４ｃでは、搬送ローラ２４の搬送上流側に隣接して、下方ローラ４５および上方ローラ４６が配置されていたが、図６（ａ）および図６（ｂ）に示すように下方ローラ４５のみでも基材ＦＳの非塗工領域ＲＴ２の撓みＣＵを分散する一定程度の効果はある。
【０１０９】
このため、上方ローラ４６については必ずしも設ける必要はない。特に、基材ＦＳ上に形成される塗工膜９１の膜厚が薄い（例えば、３０μｍ以下）場合、低温度で乾燥させる場合、乾燥装置４内の搬送ローラ２４の設置数を増やす場合、或いは基材ＦＳ上の幅方向について２つの単位塗工領域ＲＴ１０に両側を挟まれる単位非塗工領域ＲＴ２０を形成しない場合など、基材ＦＳの非塗工領域ＲＴ２に撓みＣＵが生じにくい態様で塗工処理および乾燥処理を行う場合には、上方ローラ４６を設けずとも下方ローラ４５のみで基材ＦＳの非塗工領域ＲＴ２の撓みＣＵを分散させ、皺状欠陥ＣＲの発生を防止することが可能となる。
【０１１０】
上記実施形態では、基材ＦＳが搬送ローラ２４に当接される前に、基材ＦＳの塗工領域ＲＴ１の平坦化を行なう平坦化手段として下方ローラ４５が採用されていたがこれに限られるものではない。平坦化手段としては、例えば、基材ＦＳの搬送経路の下方に設けられ、幅方向について基材ＦＳの幅より長い開口を有し、当該開口から基材ＦＳの裏面Ｓ２に対して上向きの風圧を与えることで基材ＦＳの塗工領域ＲＴ１の平坦化を行なうエア供給機構を採用することができる。この場合、当該エア供給機構は上記実施形態における熱風噴出部４１１より強い風圧で、基材ＦＳの裏面Ｓ２に向けてエアを供給する構成となる。
【０１１１】
また、上記実施形態では、平坦化手段と搬送ローラ２４との区間に配され、基材ＦＳが搬送ローラ２４に当接される前に基材ＦＳを下方に押下げる押下げ手段として上方ローラ４６が採用されていたが、これについても搬送される基材ＦＳの表面Ｓ１に向けて上方から下向きの風圧を与えるエア供給機構で代用することができる。
【０１１２】
また別の例として、平坦化手段および押下げ手段は、抱き角や円筒の半径についての規定は上記実施形態の下方ローラ４５および上方ローラ４６と同様であるが、搬送方向に沿って回転しない不動の円筒状部材で構成されても良い。このように、実質的に平坦化手段および押下げ手段として機能する構成であれば、下方ローラ４５および上方ローラ４６の他にも公知の種々の構成を採用することができる。
【０１１３】
また、上記実施形態では乾燥ユニット４ｃの構成として、チャンバ４０の内部に、浮上機構４１、乾燥処理部４２、下方ローラ４５、上方ローラ４６、および搬送ローラ２４ｃを備える場合について説明したが、これらの構成に加え、乾燥処理部４２より搬送下流側に設けられ、乾燥処理部４２によって加熱された塗工膜９１に常温のドライエアを吹き付けて当該塗工膜９１を冷却する冷却部を設けてもよい。
【０１１４】
また、上記実施形態では、搬送ローラ２２〜２５にはそれぞれ駆動源となるモータが設けられており、下方ローラ４５および上方ローラ４６については駆動源が設けられていない構成の塗膜形成システム１について説明したが、各ローラに駆動源をつけるか否かは適宜に設計変更可能な事項である。搬送ローラ２２〜２５の個数、乾燥ユニットの個数、乾燥ユニット内に設けられる熱風噴出部４２１および熱風噴出部４１１の個数についても、上記実施形態の例に限定されるものではなく、適宜に設計変更可能である。また、熱風噴出部４１１，４２１から噴出される気体の温度も変更可能であり、塗工液９０に含まれる溶剤成分等の蒸発する温度が低温である場合には、熱風噴出部４１１，４２１から噴出する気体は熱風ではなく通常の気体（典型的にはエア）であってもよい。
【０１１５】
なお、上記実施形態と異なり、乾燥ユニットのチャンバ４０内に複数の搬送ローラ２４を設ける場合であっても、乾燥処理部４２より下流側に配される下流搬送ローラに対して、その搬送上流に下方ローラ４５（平坦化手段）および上方ローラ４６（押下げ手段）を設けることで、上記実施形態と同様の効果を得ることができる。また、上記実施形態とは異なり、塗工部３としていわゆるロールコータやグラビアコータなど種々の塗工形式を採用した場合でも、上記実施形態と同様の効果を得ることができる。
【符号の説明】
【０１１６】
１  塗膜形成システム
２  搬送部
３  塗工部
４  乾燥装置
４ａ，４ｂ，４ｃ，４ｄ  乾燥ユニット
５  撮像部
６  制御部
２１  巻出し機
２２，２３，２４，２５  搬送ローラ
２６  巻取り機
３１  吐出部
４５  下方ローラ
４６  上方ローラ
９０  塗工液
９１  塗工膜
ＦＳ  基材
ＣＵ，ＣＵ１  撓み
ＣＵ２  局所的な撓み
ＣＲ  皺状欠陥
ＣＳ  皺
ＲＴ１  塗工領域
ＲＴ２  非塗工領域
ＲＴ１０  単位塗工領域
ＲＴ２０  単位非塗工領域
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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