(57)【要約】【課題】配向露光方式をマルチドメイン法に適用する場合に、単位画像領域の分割領域における境界付近の配向乱れを解消する。【解決手段】液晶表示素子の各単位画像領域Ｐａを複数の分割領域Ｄａ１，Ｄａ２に分割し、各分割領域の配向材料膜をそれぞれ異なる方向に光配向する光配向露光方法であって、単位画像領域Ｐａ全面の被露光面に対して傾斜した光照射角度θ１で光を照射する第１露光工程と、分割領域の一つの領域（第２分割領域Ｄａ２）に対して、第１露光工程における光照射角度とは異なる角度で傾斜した光照射角度θ２で光を照射する第２露光工程を有する。第２露光工程は、分割領域の一つの領域（第２分割領域Ｄａ２）に対応したマスクパターンを介して光を照射し、マスクパターンの透過光を集光手段１３によって集光して露光する第２分割領域Ｄａ２に照射する。【選択図】図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
液晶表示素子の各単位画像領域を複数の分割領域に分割し、各分割領域の配向材料膜をそれぞれ異なる方向に光配向する光配向露光方法であって、
前記単位画像領域全面の被露光面に対して傾斜した光照射角度で光を照射する第１露光工程と、前記分割領域の一つの領域に対して、前記第１露光工程における光照射角度とは異なる角度で傾斜した光照射角度で光を照射する第２露光工程を有し、
前記第２露光工程は、前記分割領域の一つの領域に対応したマスクパターンを介して光を照射し、前記マスクパターンの透過光を集光手段によって集光して前記領域に照射することを特徴とする光配向露光方法。
【請求項２】
液晶表示素子の各単位画像領域を複数の分割領域に分割し、各分割領域の配向材料膜をそれぞれ異なる方向に光配向する光配向露光方法であって、
前記分割領域の一つの領域の被露光面に対して傾斜した光照射角度で光を照射する第１露光工程と、前記分割領域の他の領域の被露光面に対して、前記第１露光工程における光照射角度とは異なる角度で傾斜した光照射角度で光を照射する第２露光工程を有し、
前記第１及び第２露光工程は、露光するそれぞれの分割領域に対応したマスクパターンを介して光を照射し、各マスクパターンの透過光を集光手段によって集光してそれぞれの分割領域に照射することを特徴とする光配向露光方法。
【請求項３】
複数の前記単位画像領域の配列方向であり且つ前記分割領域の分割線に沿った走査方向に向けて前記単位画像領域を有する基板を移動させ、
前記走査方向の上流側で前記第１露光工程を行い、前記走査方向の下流側で前記第２露光工程を行い、
前記第１及び第２露光工程では、前記走査方向に沿った方向に光を照射することを特徴とする請求項１又は２記載の光配向露光方法。
【請求項４】
液晶表示素子の各単位画像領域を複数の分割領域に分割し、各分割領域の配向材料膜をそれぞれ異なる方向に光配向する光配向露光方法であって、
前記分割領域の一つの領域に対して傾斜した光照射角度で光を照射する露光工程を有し、
前記露光工程は、露光する分割領域に対応したマスクパターンを介して光を照射し、前記マスクパターンの透過光を集光手段によって集光して、露光する分割領域に照射することを特徴とする光配向露光方法。
【請求項５】
液晶表示素子の各単位画像領域を複数の分割領域に分割し、各分割領域の配向材料膜をそれぞれ異なる方向に光配向する光配向露光装置であって、
前記分割領域の一つの領域に対応したマスクパターンを有するマスクと、
前記分割領域の一つの領域の被露光面に対して、前記マスクを介して傾斜した光照射角度で光を照射する露光装置と、
前記マスクパターンの透過光を集光して、露光する分割領域に照射する集光手段とを備えることを特徴とする光配向露光装置。
【請求項６】
複数の前記単位画像領域の配列方向であり且つ前記分割領域の分割線に沿って前記単位画像領域を有する基板を走査する基板走査手段を備え、
前記基板走査手段の走査方向に沿って間隔を空けて複数の前記露光装置を配置し、
複数の前記露光装置は、前記走査方向に沿った方向で且つ被露光面に対して異なる角度で光を照射することを特徴とする請求項５記載の光配向露光装置。
【請求項７】
前記集光手段は、前記マスクパターンに沿って複数の単レンズを配置したマイクロレンズアレイであることを特徴とする請求項５又は６記載の光配向露光装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示素子の配向膜を形成するための光配向露光方法及び光配向露光装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示素子の配向膜を形成する方式として、液晶のプレチルト角の大きさと配向方向を決めるために、配向膜となる感光性高分子膜に対して光（紫外線）を斜めに照射する光配向露光方式が知られている。
【０００３】
一方、液晶表示素子の一つの単位画像領域（画素又はサブ画素、或いはそれらの集合領域）を２つ若しくはそれ以上に分割して、分割した領域毎に液晶の配向方向を変えることにより、液晶パネルの視野角を改善することが行われており、この方法は、画素分割法或いはマルチドメイン法と呼ばれている。
【０００４】
前述した光配向露光方式をマルチドメイン法に適用する場合には、配向材料膜上の被露光面に対して異なる角度で照射する複数の紫外線露光光を形成し、マスクの一つの開口を介して単位画像領域を分割した一つの領域に一方向から紫外線を照射し、マスクの他の開口を介して単位画像領域を分割した他の領域に他方向から紫外線を照射する。これによって、単位画像領域を分割した複数の領域毎にプレチルト角と配向方向が異なる光配向処理を施すことができる。
【０００５】
この際、下記特許文献１に記載の従来技術では、直線状に配列された複数の単位画像領域のそれぞれをその配列方向に沿った分割線で２つの領域に分割し、被露光面を単位画像領域の配列方向に沿って移動させて複数の単位画像領域を走査露光することで、複数の単位画像領域に対して連続的に光配向処理を施している。この従来技術では、分割された一つの領域に対応する開口パターンとそれに隣接する他の領域に対応する開口パターンを有する２つのマスクパターンを用いている。そして、それぞれの開口パターンに走査方向に沿った露光光で且つ被露光面に対して異なる角度の紫外線露光光を照射し、マスクパターンを被露光面に投影露光（プロキシミティ露光）することで、分割された２つの領域に走査方向に沿った互いに異なる方向の光配向処理を施している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２０１２−６３６５２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
従来技術に用いられる露光装置は、図１（ａ）に示すように、紫外線を放射する光源１と、光源１から放射された紫外線の露光光を平行光にしてマスクＭに照射するコンデンサレンズ２と、光源１とコンデンサレンズ２との間に配設され、マスクＭに照射される光の強度分布を均一化するフライアイレンズ（複数の単位レンズをマトリクス状に配列したレンズアレイ）３とを備えており、フライアイレンズ３を被露光面Ｂｓの走査方向Ｓに対して交差する方向に配列している。
【０００８】
このような露光装置においては、図１（ｂ）に示すように、フライアイレンズの集光作用によってマスクＭの開口Ｍａを斜めに通過する光線Ｌ１が生じ、この光線Ｌ１はマスクＭの開口Ｍａを通過するとコリメーション半角θにより広がって被露光面Ｂｓに照射する。これにより、被露光面Ｂｓには、マスクＭの開口パターンの直下の領域Ｍｅだけでなく、その領域Ｍｅをはみ出して露光光が照射されることになる。
【０００９】
このような露光装置を用いてマルチドメイン法による光配向露光を行うには、図２（ａ）に示すような光配向露光装置が用いられる。これによると、単位画像領域の分割された一方の領域を露光するための開口パターンを有する第１のマスクＭ１と分割された他方の領域を露光するための開口パターンを有する第２のマスクＭ２を被露光面Ｂｓ上に離れて配置し、それぞれのマスクＭ１，Ｍ２を介して基板Ｂの被露光面Ｂｓをそれぞれ露光する第１露光装置Ｅｘ１と第２露光装置Ｅｘ２を配備している。第１露光装置Ｅｘ１は、走査方向Ｓに沿った露光光で且つ基板Ｂの被露光面Ｂｓに対して照射角度θｅ（例えば４０°）の紫外線露光光を照射するものであり、第２露光装置Ｅｘ２は、走査方向Ｓに沿った露光光で且つ基板Ｂの被露光面Ｂｓに対して照射角度−θｅ（例えば−４０°）の紫外線露光光を照射するものである。
【００１０】
これによると、一つの単位画像領域Ｐａ内の分割領域Ｄａ１，Ｄａ２の露光が図２（ｂ）に示す露光強度で順次行われることになり、図１（ｂ）に示したコリメーション半角によるはみ出し露光によって、分割領域Ｄａ１，Ｄａ２の境界付近の範囲ａで二重露光がなされる。
【００１１】
この際、配向材料における光異性化反応の可逆性によって、範囲ａの分割領域Ｄａ２側は適正な光配向が得られるが、領域ａの分割領域Ｄａ１側の領域ａ１では所望の方向の光配向が得られない問題が生じる。領域ａ１における配向乱れは、前述したコリメーション半角によるはみだし露光による不十分な強度の二重露光で生じるものであり、その幅は１０〜１５μｍ程度になるが、液晶表示パネルの高精細化によってより狭い単位画像領域Ｐａの幅が求められる状況下では、有効画像領域を十分に確保するために無視できない幅になっている。
【００１２】
本発明は、このような問題に対処することを課題の一例とするものである。すなわち、光配向露光方式をマルチドメイン法に適用する場合に、単位画像領域を分割した分割領域における境界付近の配向乱れを解消すること、単位画像領域の狭幅化に対して十分な有効画像領域を確保すること、などが本発明の目的である。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
このような目的を達成するために、本発明による光配向露光装置及び光配向露光方法は、以下の特徴を少なくとも具備するものである。
【００１４】
液晶表示素子の各単位画像領域を複数の分割領域に分割し、各分割領域の配向材料膜をそれぞれ異なる方向に光配向する光配向露光方法及び光配向露光装置であって、被露光面に対して傾斜した光照射角度で光を照射する際に、分割領域の一つの領域に対して、マスクパターンを介して光を照射し、マスクパターンの透過光を集光手段によって集光して露光対象の分割領域に照射することを特徴とする。ここでの集光とは、マスクパターンから広がって露光対象外の領域に向かう光を露光対象内に集めることを意味し、マスクパターンと露光対象の領域の大小関係によって、等倍投影，縮小投影，拡大投影を含むものである。
【発明の効果】
【００１５】
このような特徴によると、マスクパターンを透過してコリメーション半角によって広がる光を集光手段によって集光することで、その広がりを抑えて被露光面に照射することができる。これによって、分割領域の境界付近で二重露光される領域を小さくすることができ、分割領域における境界付近の配向乱れを解消することができる。
【００１６】
このように本発明の光配向露光方法及び光配向露光装置によると、光配向露光方式をマルチドメイン法に適用する場合に、単位画像領域を分割した分割領域における境界付近の配向乱れを解消することができ、単位画像領域の狭幅化に対して十分な有効画像領域を確保することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】従来技術に用いる露光装置を示した説明図である。
【図２】従来の光配向露光装置を示した説明図である。
【図３】本発明の一実施形態に係る光配向露光方法及び光配向露光装置を示した説明図である。図３（ａ）が光配向露光装置の構成例を示しており、図３（ｂ）が基板（被露光面）の形態例を示している。
【図４】本発明の他の実施形態に係る光配向露光方法及び光配向露光装置を示した説明図である。
【図５】本発明の実施形態に係る光配向露光方法及び光配向露光装置に用いられるマスク及び集光手段の形態例を示した説明図である。
【図６】本発明の実施形態に係る光配向露光方法及び光配向露光装置に用いられる集光手段の機能を示した説明図である。図６（ａ）が走査方向Ｓに交差する方向の断面図であり、図６（ｂ）が走査方向Ｓに沿った方向の断面図である。
【図７】本発明の実施形態に係る光配向露光方法及び光配向露光装置に用いられる集光手段の他の形態例を示した説明図である。図７（ａ）が平面図、図７（ｂ）が図７（ａ）におけるＸ−Ｘ断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
以下、図面を参照して本発明の実施形態を説明する。図３は、本発明の一実施形態に係る光配向露光方法及び光配向露光装置を示した説明図である。図３（ａ）が光配向露光装置の構成例を示しており、図３（ｂ）が基板（被露光面）の形態例を示している。
【００１９】
光配向露光装置１００は、図３（ｂ）に示すように、液晶表示素子の各単位画像領域Ｐａを複数の分割領域Ｄａ１，Ｄａ２に分割し、各分割領域Ｄａ１，Ｄａ２の配向材料膜をそれぞれ異なる方向に光配向するための装置である。ここでの配向材料膜は、可逆性の光異性化反応を示す感光性高分子膜であり、配向材料膜の表面に対して斜めに照射された光（紫外線など）に反応して、所望のプレチルト角と照射方向に沿った方向の配向が得られるものである。ここでの単位画像領域Ｐａとは、画素或いは一画素内を複数色（Ｒ，Ｇ，Ｂ）毎に分けたサブ画素、又はこれらの集合領域を指している。
【００２０】
光配向露光装置１００は、図３（ａ）に示すように、第１露光装置１１、マスクＭ及び第２露光装置１２を備えている。第１露光装置１１は、単位画像領域Ｐａ全面の被露光面に対して傾斜した光照射角度θ１で光を照射する第１露光工程を実行するための装置である。マスクＭ及び第２露光装置１２は、前述した分割領域の一つであり前述した第１分割領域Ｄａ１に隣接する第２分割領域Ｄａ２を露光する第２露光工程を実行するためのものである。第２露光工程では、第１露光工程における光照射角度θ１とは異なる角度で傾斜した光照射角度θ２で光を照射する。第２露光工程における光照射角度θ２は、例えばθ２＝−θ１に設定することができる。
【００２１】
第１露光装置１１は、例えば、紫外線を照射する光源と光源から出射した光を配向材料膜が形成された基板Ｂの被露光面Ｂｓに角度θ１（例えば、４０°）の傾斜角で照射する光学系を備えている。第２露光装置１２は、第１露光装置１１と同様に、例えば、紫外線を照射する光源と光源から出射した光を被露光面Ｂｓに角度θ２（＝−θ１）の傾斜角で照射する光学系を備えている。
【００２２】
第２露光工程は、第１露光工程の後に行われ、分割領域の一つの領域である第２分割領域Ｄａ２に対応したマスクＭのマスクパターンを介して光を照射し、マスクパターンの透過光を集光手段１３によって集光して第２分割領域Ｄａ２に照射する。
【００２３】
このような構成を備えた光配向露光装置１００は、第１露光装置１１による第１露光工程で単位画像領域Ｐａの全面が第１の方向に光配向され、その後行われる第２露光装置１２による第２露光工程で、第２分割領域Ｄａ２が第２の方向に光配向される。この際、配向材料膜が可逆性の光異性化反応を示すことにより、後から露光する第２露光工程では上書き露光された部分だけが第２の方向に光配向されることになり、第２露光工程で露光されなかった部分は第１の方向の光配向が維持されることになる。
【００２４】
そして、第２露光工程では、マスクＭのマスクパターンを透過した光を集光手段１３で集光して第２分割領域Ｄａ２を露光するので、前述したコリメーション半角θによって第２分割領域Ｄａ２の外側に広がろうとする光を第２分割領域Ｄａ２の内側に集光することができる。このため、第２露光工程では、第１分割領域Ｄａ１内に不十分な強度の光がはみ出すことがなく、第２分割領域Ｄａ２のみを光配向処理に適正な強度で露光することができる。これによって、他の分割領域へのはみ出し露光が抑制され、分割領域の境界付近で生じる配向乱れを解消することができる。
【００２５】
図３に示した実施形態に係る光配向露光装置１００を更に詳細に説明する。この実施形態に係る光配向露光装置１００は基板走査手段１０を備えており、被露光面Ｂｓに単位画像領域Ｐａを有する基板Ｂは基板走査手段１０によって走査方向Ｓに沿って移動している。走査方向Ｓは、複数の単位画像領域Ｐａの配列方向であり且つ分割線ＤＬに沿った方向である。
【００２６】
そして、第１露光装置１１と第２露光装置１２を、間隔を空けて走査方向Ｓに沿って配置し、走査方向Ｓの上流側で第１露光工程を行い、走査方向Ｓの下流側で第２露光工程を行っている。第１露光装置１１及び第２露光装置１２によって照射される光は、走査方向Ｓに沿った方向であり、且つ被露光面Ｂｓに対して異なる角度（θ１，θ２）で照射されるものである。
【００２７】
なお、前述の説明では、配向材料膜が可逆性の光異性化反応を示すことを前提にしているが、配向材料膜が非可逆性の光異性化反応を示す場合には、前述した第２露光工程（第２露光装置１２とマスクＭによる分割領域の一つの領域に対する露光）を先行して行い、その後に第１露光工程（第１露光装置１１による単位画像領域全面に対する露光）を行うことができる。
【００２８】
図４は、本発明の他の実施形態に係る光配向露光方法及び光配向露光装置を示した説明図である。図４（ａ）に示した実施形態では、光配向露光装置２００は、第１露光装置１１と第１のマスクＭ１、第２露光装置１２と第２のマスクＭ２を備えており、第１のマスクＭ１と被露光面Ｂｓの間には集光手段２１が配備され、第２のマスクＭ２と被露光面Ｂｓの間には集光手段２２が配備されている。
【００２９】
この光配向露光装置２００によると、第１露光装置１１によって、分割領域の一つの領域（第１分割領域Ｄａ１）に対して傾斜した光照射角度θ１で光（例えば紫外線）を照射する第１露光工程が実行され、第２露光装置１２によって、分割領域の他の領域（第２分割領域Ｄａ２）に対して、第１露光工程における光照射角度とは異なる角度で傾斜した光照射角度θ２（＝−θ１）で光（例えば紫外線）を照射する第２露光工程が実行される。第１露光工程及び第２露光工程は、それぞれの分割領域に対応したマスクパターンを有する第１のマスクＭ１，第２のマスクＭ２をそれぞれ介して光を照射する。そして、第１露光工程及び第２露光工程では、各マスクパターンの透過光を集光手段２１，２２によって集光してそれぞれの分割領域（第１分割領域Ｄａ１，第２分割領域Ｄａ２）に照射する。
【００３０】
図４（ｂ）に示した実施形態では、光配向露光装置３００は、第１露光装置１１と第１のマスクＭ０、第２露光装置１２と第２のマスクＭ２を備えており、第２のマスクＭ２と被露光面Ｂｓの間には集光手段２２が配備されている。第１のマスクＭ０は、分割領域の一つである第１分割領域Ｄａ１を単独でプロキシミティ露光するためのものである。
【００３１】
この光配向露光装置３００によると、第１露光装置１１によって、分割領域の一つの領域（第１分割領域Ｄａ１）に対して傾斜した光照射角度θ１で光（例えば紫外線）を照射する第１露光工程が実行され、第２露光装置１２によって、分割領域の他の領域（第２分割領域Ｄａ２）に対して、第１露光工程における光照射角度とは異なる角度で傾斜した光照射角度θ２（＝−θ１）で光（例えば紫外線）を照射する第２露光工程が実行される。第１露光工程及び第２露光工程は、それぞれの分割領域に対応したマスクパターンを有する第１のマスクＭ０或いは第２のマスクＭ２をそれぞれ介して光を照射する。そして、第２露光工程では、マスクパターンの透過光を集光手段２２によって集光して第２分割領域Ｄａ２に照射する。
【００３２】
図４（ａ），（ｂ）において、被露光面Ｂｓに単位画像領域Ｐａを有する基板Ｂは走査方向Ｓに沿って移動する。そして、図３に示した例と同様に、第１露光装置１１と第２露光装置１２は間隔を空けて走査方向Ｓに沿って配置され、走査方向Ｓの上流側で第１露光工程が行われ、走査方向Ｓの下流側で第２露光工程を行う。第１露光装置１１及び第２露光装置１２によって照射される光は、走査方向Ｓに沿った方向であり、且つ被露光面Ｂｓに対して異なる角度（θ１，θ２）で照射されるものである。
【００３３】
図５は、本発明の実施形態に係る光配向露光方法及び光配向露光装置に用いられるマスク及び集光手段の形態例を示した説明図である。図においては第１のマスクＭ１と集光手段２１の例を示しているが、第２のマスクＭ２と集光手段２２も同様に形成することができる。但し、第１のマスクＭ１は第１分割領域Ｄａ１に対応したマスクパターンを有しており、第２のマスクＭ２は第２分割領域Ｄａ２に対応したマスクパターンを有している。図５（ａ）が基板Ｂの形態例、図５（ｂ）が第１のマスクＭ１と集光手段２１の一形態例を示し、図５（ｃ）が第１のマスクＭ１と集光手段２１の他の形態例を示している。
【００３４】
図５（ａ）に示すように、単位画像領域Ｐａがドットマトリクス状に配置されている場合には、これに対応する第１のマスクＭ１は、図５（ｂ）に示すように、複数のスリット状のマスクパターン（開口パターン）が形成されている。この例では、個々の開口Ｍａ１は被露光面Ｂｓ上の第１分割領域Ｄａ１上に配置され、第１分割領域Ｄａ１とほぼ等しい開口幅Ｗ１を有している。そして、スリット状の開口パターンは複数の開口Ｍａ１が互いに平行で、走査方向Ｓと交差する方向に並列されている。
【００３５】
この第１のマスクＭ１に対して、集光手段２１は、例えば、開口Ｍａ１の光透過側にそれぞれ複数の単レンズ２１ａを配置したマイクロレンズアレイとして構成することができる。集光手段２１は、この例に限らず、開口Ｍａ１にシリンドリカルレンズ（かまぼこ状凸レンズ）を個別に配置したものや、かまぼこ状凸レンズを複数一体にしたレンチキュラーレンズなどであってもよい。
【００３６】
図５（ｃ）に示す例は、第１のマスクＭ１のマスクパターンを形成する開口Ｍａ１を千鳥状に配置した例である。各の開口Ｍａ１は図５（ｂ）に示した例と同様に第１分割領域Ｄａ１上に配置される。このように開口Ｍａ１を千鳥状に配置することで、各開口Ｍａ１に対応して配置される単レンズ２１ａのレンズ径を比較的大きくすることができる。また、千鳥状に配置される開口Ｍａ１の長さを調整することで、一つの開口Ｍａ１に対応して配置される単レンズ２１ａのレンズ径を適宜調整することが可能になる。単レンズ２１ａのレンズ径を調整することで、マスクパターンを透過する光の集光度合いを任意に調整することができる。
【００３７】
図６は、本発明の実施形態に係る光配向露光方法及び光配向露光装置に用いられる集光手段の機能を示した説明図である。図６（ａ）が走査方向Ｓに交差する方向の断面図であり、図６（ｂ）が走査方向Ｓに沿った方向の断面図である。集光手段２１（２２）は、第１のマスクＭ１（第２のマスクＭ２）のマスクパターンを通過する光を第１分割領域Ｄａ１（第２分割領域Ｄａ２）に集光する。すなわち、集光手段２１（２２）によって第１のマスクＭ１（第２のマスクＭ２）の開口Ｍａ１を斜めに透過しようとする光Ｌ１に集光作用が働き、集光手段２１（２２）が無い場合に第１分割領域Ｄａ１（第２分割領域Ｄａ２）から外にはみ出す光Ｌ１’を第１分割領域Ｄａ１（第２分割領域Ｄａ２）内に集めることができる。集光手段２１（２２）として単レンズを用いると、開口Ｍａ１を通過する光は走査方向Ｓに沿っても集光されることになるが、被露光面Ｂｓが走査方向Ｓに沿って移動するので、この集光による露光むらは生じない。
【００３８】
図７は、本発明の実施形態に係る光配向露光方法及び光配向露光装置に用いられる集光手段の他の形態例を示した説明図である。図７（ａ）が平面図、図７（ｂ）が図７（ａ）におけるＸ−Ｘ断面図である。これによると、集光手段２１（２２）が、第１のマスクＭ１（第２のマスクＭ２）の開口Ｍａ１における分割線ＤＬ側のエッジ付近に設けられている。図示の例では微小な単レンズを開口Ｍａ１のエッジに沿って複数配列している。これによると、集光手段２１（２２）によって、第１のマスクＭ１（第２のマスクＭ２）の開口Ｍａ１を斜めに透過して分割線ＤＬを越えようとする光Ｌ１に集光作用が働き、集光手段２１（２２）が無い場合に第１分割領域Ｄａ１（第２分割領域Ｄａ２）から外にはみ出す光Ｌ１’を第１分割領域Ｄａ１（第２分割領域Ｄａ２）内に集めることができる。
【００３９】
このような本発明の実施形態によると、マスクパターンを透過してコリメーション半角によって広がる光を集光手段１３，２１，２２によって集光することで、その広がりを抑えて被露光面Ｂｓに照射することができる。これによって、分割領域Ｄａ１，Ｄａ２の境界付近で二重露光される領域を小さくすることができ、分割領域Ｄａ１，Ｄａ２における境界付近の配向乱れを解消することができる。
【００４０】
このような特徴を有する光配向露光方法及び光配向露光装置１００，２００，３００によると、単位画像領域Ｐａ内の全領域で配向乱れを抑制し、単位画像領域Ｐａ内を一方向に光配向した領域と他方向に光配向した領域にすることができるので、光配向露光方式をマルチドメイン法に適用する場合に、単位画像領域Ｐａの狭幅化に対して十分な有効画像領域を確保することができる。
【００４１】
以上、本発明の実施の形態について図面を参照して詳述してきたが、具体的な構成はこれらの実施の形態に限られるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲の設計の変更等があっても本発明に含まれる。
【符号の説明】
【００４２】
１００，２００，３００：光配向露光装置，
１１：第１露光装置，
１２：第２露光装置，
１３，２１，２２：集光手段，２１ａ：単レンズ，
Ｍ，Ｍ０，Ｍ１，Ｍ２：マスク，Ｍａ１：開口，
Ｓ：走査方向，Ｂ：基板，Ｂｓ：被露光面，Ｐａ：単位画像領域，
ＤＬ：分割線，Ｄａ１，Ｄａ２：分割領域
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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