(57)【要約】【課題】処理液をリザーブタンクに退避させるときの退避時間を短縮して、退避中の処理液の劣化が極力防止できる処理液塗布装置を提供する。【解決手段】表面塗布用供給パン２３と、裏面塗布用供給パン２４と、処理液２２を供給パン２３，２４に供給する供給ラインａ，ｂと、リザーブタンク２１と、フィルタ３２を内蔵したフィルタ室４１と、表面塗布用退避ラインｃと、裏面塗布用退避ラインｄと、フィルタ３２で異物除去した処理液２２を供給パン２３，２４に戻す戻しラインｅと、ポンプ２５と、複数の弁と、電源ＯＮ時の供給パン２３，２４に処理液２２を充填する過程で、退避ラインｃ，ｄ内に処理液２２を充填するようにポンプ２５と複数の弁を操作する制御手段４４を備えた。【選択図】図３
2014100805.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被記録媒体の表面に処理液を塗布するために前記処理液を貯留する表面塗布用供給パンと、
被記録媒体の裏面に処理液を塗布するために前記処理液を貯留する裏面塗布用供給パンと、
前記処理液を貯留する処理液カートリッジと、
前記処理液カートリッジに貯留されている前記処理液を前記各供給パンにそれぞれ供給する供給ラインと、
前記各供給パンよりも気密性の高いリザーブタンクと、
前記被記録媒体への処理液の塗布中に循環により前記処理液中に含まれている異物を除去するフィルタを内蔵したフィルタ室と、
前記表面塗布用供給パンと前記リザーブタンクおよび前記フィルタ室を連通する表面塗布用退避／循環ラインと、
前記裏面塗布用供給パンと前記リザーブタンクおよび前記フィルタ室を連通する裏面塗布用退避／循環ラインと、
前記フィルタ室から前記供給ラインの途中に接続されて、前記フィルタで異物が除去された処理液を前記各供給パンに戻す戻しラインと、
前記各ラインにおいて処理液の流れを発生させる液流れ発生手段と、
前記処理液が流れるラインを切り替えるために前記各ライン上に設置された複数の弁と、
当該処理液塗布装置の電源ＯＮ時の前記各供給パン内に処理液を充填する過程で、前記表面塗布用退避／循環ラインあるいは（および）裏面塗布用退避／循環ライン内に処理液を充填するために前記液流れ発生手段ならびに前記弁を操作する制御手段と
を備えたことを特徴とする処理液塗布装置。
【請求項２】
請求項1に記載の処理液塗布装置において、
前記表面塗布用退避／循環ラインと裏面塗布用退避／循環ラインに、ライン内の処理液の有無を検出する液検出センサをそれぞれ設け、
前記液検出センサによりライン内に処理液がないことを検出すると、当該退避／循環ライン内に処理液を充填する構成になっていることを特徴とする処理液塗布装置。
【請求項３】
請求項1に記載の処理液塗布装置において、
前記制御手段に入力される塗布モード情報により、前記処理液の塗布に使用する供給パンの退避／循環ライン内のみに処理液を充填する構成になっていることを特徴とする処理液塗布装置。
【請求項４】
請求項１に記載の処理液塗布装置において、
前記制御手段によって退避／循環ライン内に処理液を充填する契機は、前記退避／循環ラインに接続されている供給パン内の処理液量が前記退避／循環ライン内の処理液の容量以上格納された場合であることを特徴とする処理液塗布装置。
【請求項５】
請求項1に記載の処理液塗布装置において、
前記制御手段によって退避／循環ラインへの処理液の充填を終了する契機は、前記液流れ発生手段により前記退避／循環ライン内に処理液量が充填しきる時間経過後であることを特徴とする処理液塗布装置。
【請求項６】
インクジェットプリンタの被記録媒体搬送方向上流側に処理液塗布装置を備えた画像形成システムにおいて、
前記処理液塗布装置が請求項１ないし５のいずれか１項に記載の処理液塗布装置であることを特徴とする画像形成システム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、インク滴を吐出して、ウェブなどの被記録媒体上に画像を形成するインクジェットプリンタの画像滲みを抑制する滲み抑制剤などの処理液を、画像形成に先立って被記録媒体上に塗布するインクジェットプリンタ用の処理液塗布装置およびそれを備えた画像形成システムに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
プリンタ、ファクシミリ、複写装置、プロッタ、これらの複合機等の画像形成装置として、インク滴を吐出する記録ヘッドを用いた液体吐出記録方式のインクジェットプリンタが知られている。
【０００３】
このインクジェットプリンタは、記録ヘッドからインク滴を、搬送される被記録媒体に対して吐出して、画像形成を行うものであり、記録ヘッドが主走査方向に移動しながらインク滴を吐出して画像を形成するシリアル型インクジェットプリンタと、記録ヘッドが移動しない状態でインク滴を吐出して画像を形成するライン型インクジェットプリンタがある。
【０００４】
インクジェットプリンタは、低騒音、低ランニングコストに加えて、カラー化が容易といった利点を有していることから、近年、急速に普及してきている。しかし、専用紙以外の被記録媒体に画像を形成すると、滲み、濃度、色調や裏写りなどといった初期の品質問題に加えて、耐水性、耐候性といった画像の堅牢性に関わる問題を有しているため、これらの問題を解決する必要がある。
【０００５】
それらの解決手段として、被記録媒体に画像を形成する前にインクを凝集させる機能を有する処理液を塗布して、画質を改善する方法が種々提案されている。
【０００６】
従来、例えば特開２００７−５０３１５号公報（特許文献１）では、処理液を流通するチューブ内などで増粘した処理液により正常な循環が阻害されるのを防止する目的で、前回の処理液の循環終了からの時間を計測して、その時間に応じて処理液の循環方法を変える、または処理液の充填中に循環する処理液塗布装置が提案されている。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかし、この提案された処理液塗布装置では、処理液の循環ライン上にはフィルタがなく、処理液の循環ラインが１つしかない。また、処理液の循環動作と充填動作で処理液の流れが切り替わることもない。よって、充填動作で使用するラインと退避で使用するラインが異なる場合において、水頭差を利用して供給パン内の処理液を退避させる構成の処理液塗布装置では、退避に非常に多くの時間を要し、その間にも処理液が空気に晒され続けることにより、処理液の劣化が早まるという問題がある。
【０００８】
図９は、本発明者らが先に検討した処理液２２の退避／循環・充填系統を説明するための系統図である。  
この循環系統は、表面塗布用供給パン２３と、裏面塗布用供給パン２４と、供給パン２３，２４に処理液２２を補充する処理液カートリッジ２６と、供給パン２３，２４に処理液２２を送給するポンプ２５と、カートリッジ２６からポンプ２５まで延びた供給ラインｈと、ポンプ２５から表面塗布用供給パン２３まで延びた表面塗布用供給ラインａと、ポンプ２５から裏面塗布用供給パン２４まで延びた裏面塗布用供給ラインｂと、供給ラインａを開閉するための電磁弁２７と、供給ラインｂを開閉するための電磁弁２８を備えている。
【０００９】
また、処理液２２を一時的の貯蔵するリザーブタンク２１と、処理液２２中に含まれている異物を除去するためのフィルタ３２を内蔵したフィルタ室４１と、表面塗布用供給パン２３からリザーブタンク２１およびフィルタ室４１へ繋がる表面塗布用退避／循環ラインｃと、その退避／循環ラインｃにおいてリザーブタンク２１側の退避ラインを開閉するための電磁弁３０と、フィルタ室４１側の退避／循環ラインを開閉するための電磁弁３５と、裏面塗布用供給パン２４からリザーブタンク２１およびフィルタ室４１へ繋がる裏面塗布用退避／循環ラインｄと、その退避／循環ラインｄにおいてリザーブタンク２１側の退避ラインを開閉するための電磁弁３４と、フィルタ室４１側の退避／循環ラインを開閉するための電磁弁４０と、フィルタ室４１からの供給ラインｈの途中に繋がる戻しラインｅを備えている。
【００１０】
供給ラインｈと戻しラインｅの接合部には三方弁からなる電磁弁３９が設置されており、電磁弁３９を開放することによりポンプ２５とカートリッジ２６を繋ぐ供給ラインｈが開通し、電磁弁３９を閉塞することによりポンプ２５とフィルタ室４１を繋ぐ戻しラインｅが開通する。
【００１１】
さらに、処理液２２を廃棄するための廃液タンク３６と、リザーブタンク２１から廃液タンク３６へ延びた廃液ラインｆと、その廃液ラインｆを開閉するための電磁弁３７を備えている。
【００１２】
供給パン２３，２４内に貯留されている処理液２２を塗布ローラ３１に供給するためのスクイーズローラ２９と塗布ローラ３１は供給パン２３，２４内に収容されており、供給パン２３，２４の上部は塗布ローラ３１を覆うように形成されており、供給パン２３，２４内にある処理液２２の蒸発や処理液２２が空気に触れることによる劣化を少なく抑える形状になっている。しかし、塗布ローラ３１と加圧ローラ３３の圧接部（ニップ部）は開口しておく必要があり、完全な密閉構造にはなっていない。
【００１３】
そこで、供給パン２３，２４よりも気密性の高いリザーブタンク２１を設け、供給パン２３，２４とリザーブタンク２１を連通する退避／循環ラインｃ，ｄ上の電磁弁３０，３４を開放することで、供給パン２３，２４とリザーブタンク２１の水頭差により、供給パン２３，２４内の処理液２２をリザーブタンク２１に退避することができる。
【００１４】
なお、この退避動作の実施契機としては、処理液塗布装置の電源ＯＦＦ時や電源ＯＮ中であってもウェブＷの掛け替えや印刷パターンの変更など、通常のジョブ間よりも長い時間、塗布動作が停止しているときに実施することで、ジョブ間での退避動作を防止し、退避動作を実施した後のジョブ再開時に供給パン２３，２４に処理液２２を充填する待ち時間が極力発生しないようにしている。
【００１５】
前記ラインａ〜ｆはチューブで構成されており、処理液塗布装置の電源ＯＮ時、退避／循環ラインｃ，ｄのチューブ内は処理液２２が抜けており、空気が入っている状態となっている。それぞれの供給パン２３，２４に処理液２２の充填を行い、供給パン２３，２４内の処理液２２の液面が既定レベル以上になった後、上位装置（図示せず）より塗布開始信号を受信する。
【００１６】
この信号に基づいて処理液２２の塗布動作に入り、塗布中の一定時間間隔で退避／循環ラインｃ，ｄ上の電磁弁３５，４０を開放し、電磁弁３９を閉塞することにより、ポンプ２５とフィルタ室４１を繋ぐ戻しラインｅを開通させる。そしてポンプ２５を一定時間駆動することにより、ポンプ２５の動力により、それぞれの供給パン２３，２４内の処理液２２が退避／循環ラインｃ，ｄのチューブ内に強制的に送給され、以後、処理液２２はフィルタ３２を通過することにより、処理液２２中の異物除去が行われたのち、戻しラインｅ、供給ラインａおよび供給ラインｂによりそれぞれの供給パン２３，２４内に処理液２２を戻す循環動作を実施する。
【００１７】
この電源ＯＮ後、この循環動作を実施することによって、ポンプ２５の駆動で退避／循環ラインｃ，ｄのチューブ内は処理液２２で満たされた状態となる。
【００１８】
しかし、この処理液２２の循環系統では、電源がＯＮしてから処理液２２の循環動作が実施されるまでは、退避／循環ラインｃ，ｄのチューブ内には空気が入っている状態であるため、電源がＯＮしてそれぞれの供給パン２３，２４に処理液２２を充填した状態で処理液２２の塗布動作を実施せずに電源をＯＦＦされた場合や、処理液２２を充填した状態で処理液２２の塗布動作を実施せずに、長い期間放置された場合、電磁弁３０，３４を開放し、それぞれの供給パン２３，２４とリザーブタンク２１との水頭差により、それぞれの供給パン２３，２４内の処理液２２をリザーブタンク２１に退避させる際、退避／循環ラインｃ，ｄのチューブ内の空気により、水頭差による処理液２２が流れ落ちる力が吸収され、処理液２２の退避動作に非常に多くの時間を要し、その間にも処理液２２が空気に晒され続けることになり、処理液２２の劣化が早まるという問題がある。
【００１９】
図１０は、この先に検討した処理液塗布装置の動作シーケンスを示す制御フローチャートである。  
Ｓ２１：供給パン２３，２４に処理液２２を充填するか否かを判断する。処理液２２の充填は、処理液塗布装置の電源ＯＮ時、または供給パン２３，２４内に充填した処理液２２をリザーブタンク２１に退避後に塗布動作を開始する場合に充填を実施する。  
Ｓ２２：リザーブタンク２１またはカートリッジ２６から表面塗布用供給パン２３および裏面塗布用供給パン２４内に処理液２２を充填する。リザーブタンク２１内に処理液２２がある場合には、リザーブタンク２１内の処理液２２を充填する。リザーブタンク２１内に処理液２２がない場合には、カートリッジ２６内の処理液２２を充填する。
【００２０】
Ｓ２３：上位装置（図示せず）からの印刷情報により、処理液２２の塗布処理を行うかどうかを判断する。  
Ｓ２４：処理液２２の塗布処理を行う。処理液塗布装置は、表面塗布用供給パン２３および裏面塗布用供給パン２４の内部に設置されたＬＯＷレベル液面検知センサの出力値を読み込み、処理液２２の補充が必要と判断した場合には、リザーブタンク２１またはカートリッジ２６から供給パン２３，２４に処理液２２の補充を行う。
【００２１】
Ｓ２５：供給パン２３，２４内の処理液２２をリザーブタンク２１に退避させるか否かを判断する。通常は、塗布しない時間が連続で３０分〜２時間程度経過した場合に退避させる。退避しない場合はＳ２３に、退避する場合は次のＳ２６へ移る。  
Ｓ２６：電磁弁３０，３４を開放して、表面塗布用供給パン２３および裏面塗布用供給パン２４の処理液２２をリザーブタンク２１に退避する。
【００２２】
本発明の目的は、処理液をリザーブタンクに退避させるときの退避時間を短縮して、退避中の処理液の劣化が極力防止できる処理液塗布装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００２３】
前記目的を達成するため、本発明は、
被記録媒体の表面に処理液を塗布するために前記処理液を貯留する表面塗布用供給パンと、
被記録媒体の裏面に処理液を塗布するために前記処理液を貯留する裏面塗布用供給パンと、
前記処理液を貯留する処理液カートリッジと、
前記処理液カートリッジに貯留されている前記処理液を前記各供給パンにそれぞれ供給する供給ラインと、
前記各供給パンよりも気密性の高いリザーブタンクと、
前記被記録媒体への処理液の塗布中に循環により前記処理液中に含まれている異物を除去するフィルタを内蔵したフィルタ室と、
前記表面塗布用供給パンと前記リザーブタンクおよび前記フィルタ室を連通する表面塗布用退避／循環ラインと、
前記裏面塗布用供給パンと前記リザーブタンクおよび前記フィルタ室を連通する裏面塗布用退避／循環ラインと、
前記フィルタ室から前記供給ラインの途中に接続されて、前記フィルタで異物が除去された処理液を前記各供給パンに戻す戻しラインと、
前記各ラインにおいて処理液の流れを発生させる例えばポンプなどからなる液流れ発生手段と、
前記処理液が流れるラインを切り替えるために前記各ライン上に設置された複数の例えば電磁弁などの弁と、
当該処理液塗布装置の電源ＯＮ時の前記各供給パン内に処理液を充填する過程で、前記表面塗布用退避／循環ラインあるいは（および）裏面塗布用退避／循環ライン内に処理液を充填するために前記液流れ発生手段ならびに前記弁を操作する制御手段と
を備えたことを特徴とするものである。
【発明の効果】
【００２４】
本発明は前述のような構成になっており、処理液をリザーブタンクに退避させるときの退避時間を短縮して、退避中の処理液の劣化が極力防止できる処理液塗布装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２５】
【図１】本発明の実施例に係る画像形成システムの流れを示す概略構成図である。
【図２】この画像処理システムに用いられる処理液塗布装置の概略構成図である。
【図３】本発明の第１実施例に係る処理液の退避／循環・充填系統を説明するための系統図である。
【図４】本発明の第１実施例に係る処理液塗布装置の制御部とそれに関係する各部材の接続関係を示すブロック図である。
【図５】本発明の第１実施例に係る動作シーケンスを示す制御フローチャートである。
【図６】退避ラインへの充填処理における処理液の流れについて説明するための図である。
【図７】本発明の第２実施例に係る処理液の退避／循環・充填系統を説明するための系統図である。
【図８】本発明の第２実施例に係る動作シーケンスを示す制御フローチャートである。
【図９】本発明者らが先に検討した処理液の退避／循環・充填系統を説明するための系統図である。
【図１０】先に検討した処理液塗布装置の動作シーケンスを示す制御フローチャートである。
【発明を実施するための形態】
【００２６】
本発明は、具体的には以下のような特徴点を有している。  
（ａ）．処理液塗布装置の電源ＯＮ時には供給パンに処理液の充填動作を行うが、この充填動作中に充填動作では使用しない退避ラインのチューブ内で充填を行う。  
（ｂ）．退避ライン内に液検出センサを設け、処理液塗布装置の電源ＯＮ時はまず、液検出センサの出力値を読み込み、処理液なしを検出した場合のみ、供給パンへの充填動作中に退避ラインのチューブ内の充填を行う。  
（ｃ）．処理液の塗布動作前にインクジェットプリンタあるいは上位装置などから処理液塗布装置に対して、被記録媒体の表面、裏面、表裏両面のどの面に塗布するのかを表す塗布モード情報が送信される。そして前記（ａ）項において、この塗布モード情報が表面のみ塗布するモードであれば、表面塗布用供給パンの退避ラインのみ充填を行い、塗布モード情報が裏面のみ塗布するモードであれば、裏面塗布用供給パンの退避ラインのみ充填を行い、塗布モード情報が表裏両面に塗布するモードであれば、表面塗布用供給パンと裏面塗布用供給パンの両方の退避ラインに充填を行う。  
（ｄ）．退避ラインのチューブ内への充填時間は、退避ラインのチューブ内が処理液で満たされる時間とする。
【００２７】
次に本発明の実施例について、図面と共に説明する。図１は、本発明の実施例に係る画像形成システムの流れを示す概略構成図である。
【００２８】
同図に示しているように、給紙装置１００から繰り出された長尺状の連続紙からなるウェブＷは、最初、処理液塗布装置１０１に送り込まれ、ウェブＷの表裏両面にそれぞれ処理液２２が塗布されて、前処理が行われる。
【００２９】
次に処理されたウェブＷは第１の１０２ａに送り込まれて、ウェブＷの表側にインク滴を吐出して所望の画像が形成され、その後に反転装置１０３によりウェブＷの表裏が反転され、引き続きウェブＷは第２のインクジェットプリンタ１０２ｂに送り込まれて、ウェブＷの裏側にインク滴を吐出して所望の画像が形成される。
【００３０】
このようにして、ウェブＷの両面に印刷が施された後、後処理装置（図示せず）に送られて、所定の後処理がなされるシステムになっている。
【００３１】
図２はこの画像処理システムに用いられる処理液塗布装置１０１の概略構成図であり、処理液２２の塗布時の状態を示している。
【００３２】
同図に示すように、ローラ端部に軸受け（図示せず）を有し、回転自在のガイドローラ１が処理液塗布装置１０１内に多数本設置されて、ウェブＷの搬送パスを確保している。
【００３３】
図中の符号２はモータなどの駆動源（図示せず）で回転するＦＩローラ（フィードインローラ）であり、ＦＩローラ２にばね（図示せず）の引張力でＦＩニップローラ（フィードインニップローラ）４が押し付けられるようになっている。
【００３４】
ウェブＷはＦＩローラ２とＦＩニップローラ４の間に弾性的に挟持されており、前記駆動源によりＦＩローラ２を回転することで、この処理液塗布装置１０１の内部に前記給紙装置１００からウェブＷを引き込むことができる。
【００３５】
また、ＦＩローラ２とＦＩニップローラ４から送り出されたウェブＷは若干たるませてエアループＡＬを形成している。
【００３６】
エアループＡＬを経たウェブＷは、パスシャフト５とエッジガイド６の間を通る。図示していないが、ウェブＷの搬送方向（矢印方向）と直交する方向に２本のパスシャフト５が配置され、ウェブＷがそのパスシャフト５の間をＳの字状に通る。このパスシャフト５に一対の板状エッジガイド６が支持されており、エッジガイド６の間隔はウェブＷの幅寸法と同寸に設定されている。
【００３７】
そのため、パスシャフト５とエッジガイド６の働きにより、ウェブＷの幅方向の走行位置が規制され、安定した走行が可能となる。なお、エッジガイド６はパスシャフト５に例えばねじなどの固定手段によって固定されており、使用するウェブＷの幅寸法に応じてエッジガイド６に位置が調整可能になっている。
【００３８】
パスシャフト５とエッジガイド６の間を通過したウェブＷは、固定状態にあるテンションシャフト７により走行安定化のための張力が付与される。
【００３９】
テンションシャフト７を通過したウェブＷは、モータなどの駆動源（図示せず）で回転駆動するインフィードローラ８とフィードニップローラ９の間を通る。フィードニップローラ９は図示していないが、インフィードローラ８の軸方向に沿って複数個配置されており、各フィードニップローラ９はばね（図示せず）によりインフィードローラ８側に押し付けられている。
【００４０】
インフィードローラ８とフィードニップローラ９の間を通過したウェブＷは、第１のダンサーユニット１７に導かれる。この第１のダンサーユニット１７は、回転自在な１本の第１のダンサーローラ１１と、第１の可動フレーム１２から構成されている。したがって、この第1のダンサーユニット１７はウェブＷで吊り下げられた状態になっている。
【００４１】
この第1のダンサーユニット１７は重力方向Ａに沿って移動可能になっている。第1のダンサーユニット１７の位置を検出する第1のダンサーユニット位置検出手段（図示せず）が設けられており、この位置検出手段の出力に応じて、前記インフィードローラ８の駆動源を駆動制御することで、第1のダンサーユニット１７の位置が調整できる構成になっている。
【００４２】
第1のダンサーユニット１７を通過したウェブＷは、それの表面側に処理液２２を塗布する表面塗布手段１３ｆ、並びにウェブＷの裏面側に処理液２２を塗布する裏面塗布手段１３ｒを順次通過することにより、ウェブＷの両面に処理液２２が塗布される。処理液２２の塗布手段１３については、後に詳細を説明する。
【００４３】
裏面塗布手段１３ｒを通過したウェブＷは、モータなどの駆動源（図示せず）で回転駆動するアウトフィードローラ１４とフィードニップローラ９の間を通る。フィードニップローラ９は図示していないが、アウトフィードローラ１４の軸方向に沿って複数個配置されており、各フィードニップローラ９はばねによりアウトフィードローラ１４側に押し付けられている。
【００４４】
アウトフィードローラ１４とフィードニップローラ９の間を通過したウェブＷは、回転自在な第２のダンサーローラ１５ａ、１５ｂ並びに両ダンサーローラ１５ａ、１５ｂの間に配置されたガイドローラ１にわたってＷ型に巻き掛けられている。
【００４５】
２本のダンサーローラ１５ａ、１５ｂはそれぞれローラ端部に設けた軸受け（図示せず）を介して第２の可動フレーム１６に回転自在に取り付けられて、第２のダンサーユニット１８を構成している。従ってこの第２のダンサーユニット１８もウェブＷによって吊り下げられた状態になっている。
【００４６】
この第２のダンサーユニット１８も重力方向Ａに沿って移動可能になっており、第２のダンサーユニット１８の位置を検出する第２のダンサーユニット位置検出手段（図示せず）が設けられており、この位置検出手段の出力に応じて、前記アウトフィードローラ１４の駆動源を駆動制御することで、第２のダンサーユニット１８の位置が調整できる構成になっている。
【００４７】
処理液２２としては、例えば水溶性の色材を凝集させるか又は不溶化させる機能を有する水溶性の凝集剤を水あるいは有機溶剤に溶解または分散させた液が用いられる。
【００４８】
図３は、処理液２２の退避／循環・充填系統を説明するための系統図である。  
この循環系統は、表面塗布用供給パン２３と、裏面塗布用供給パン２４と、供給パン２３，２４に処理液２２を補充する処理液カートリッジ２６と、供給パン２３，２４に処理液２２を送給するポンプ２５と、カートリッジ２６からポンプ２５まで延びた供給ラインｈと、ポンプ２５から表面塗布用供給パン２３まで延びた表面塗布用供給ラインａと、ポンプ２５から裏面塗布用供給パン２４まで延びた裏面塗布用供給ラインｂと、供給ラインａを開閉するための電磁弁２７と、供給ラインｂを開閉するための電磁弁２８を備えている。
【００４９】
また、処理液２２を一時的の貯蔵するリザーブタンク２１と、処理液２２中に含まれている異物を除去するためのフィルタ３２を内蔵したフィルタ室４１と、表面塗布用供給パン２３からリザーブタンク２１およびフィルタ室４１へ繋がる表面塗布用退避／循環ラインｃと、その退避／循環ラインｃにおいてリザーブタンク２１側の退避ラインを開閉するための電磁弁３０と、フィルタ室４１側の循環ラインを開閉するための電磁弁３５と、裏面塗布用供給パン２４からリザーブタンク２１およびフィルタ室４１へ繋がる裏面塗布用退避／循環ラインｄと、その退避／循環ラインｄにおいてリザーブタンク２１側の退避ラインを開閉するための電磁弁３４と、フィルタ室４１側の循環ラインを開閉するための電磁弁４０と、フィルタ室４１からの供給ラインｈの途中に繋がる戻しラインｅを備えている。
【００５０】
供給ラインｈと戻しラインｅの接合部には三方弁からなる電磁弁３９が設置されており、電磁弁３９を開放することによりポンプ２５とカートリッジ２６を繋ぐ供給ラインｈが開通し、電磁弁３９を閉塞することによりポンプ２５とフィルタ室４１繋ぐ戻しラインｅが開通する。
【００５１】
さらに、処理液２２を廃棄するための廃液タンク３６と、リザーブタンク２１から廃液タンク３６へ延びた廃液ラインｆと、その廃液ラインｆを開閉するための電磁弁３７を備えている。
【００５２】
供給パン２３，２４内に貯留されている処理液２２を塗布ローラ３１に供給するためのスクイーズローラ２９と塗布ローラ３１は供給パン２３，２４内に収容されており、供給パン２３，２４の上部は塗布ローラ３１を覆うように形成されており、供給パン２３，２４内にある処理液２２の蒸発や処理液２２が空気に触れることによる劣化を少なく抑える形状になっている。しかし、塗布ローラ３１と加圧ローラ３３の圧接部（ニップ部）は開口しておく必要があり、完全な密閉構造にはなっていない。
【００５３】
そこで、供給パン２３，２４よりも気密性の高いリザーブタンク２１を設け、供給パン２３，２４とリザーブタンク２１を連通する退避／循環ラインｃ，ｄ上の電磁弁３０，３４を開放することで、供給パン２３，２４とリザーブタンク２１の水頭差により供給パン２３，２４内の処理液２２をリザーブタンク２１に退避することが可能になっている。
【００５４】
なお、この退避動作の実施契機としては、処理液塗布装置の電源ＯＦＦ時や電源ＯＮ中であってもウェブＷの掛け替えや印刷パターンの変更など、通常のジョブ間よりも長い時間、塗布動作が停止しているときに実施することで、ジョブ間での退避動作を防止し、退避動作を実施した後のジョブ再開時に供給パン２３，２４に処理液２２を充填する待ち時間が極力発生しないようにしている。
【００５５】
前記ラインａ〜ｆはチューブで構成されており、処理液塗布装置の電源ＯＮ時は、退避／循環ラインｃ，ｄのチューブ内は処理液２２が抜けており、空気が入っている状態となっている。それぞれの供給パン２３，２４に処理液２２の充填を行い、供給パン２３，２４内の処理液２２の液面が既定レベル以上になった後、上位装置（図示せず）より塗布開始信号を受信する。
【００５６】
図３に示すように、供給パン２３，２４の側面には、処理液２２の液面を検出するためのＬＯＷレベル液面センサ４２とＨＩＧＨレベル液面センサ４３がそれぞれ設置されている。ＬＯＷレベル液面センサ４２は、塗布中に供給パン２３，２４内の処理液２２が減少してきた場合に、処理液２２の補充を実施するか否かを判断するためのセンサである。またＨＩＧＨレベル液面センサ４３は、供給パン２３，２４内の処理液２２の充填、補充を完了するか否かを判断するためのセンサである。
【００５７】
前記塗布開始信号に基づいて処理液２２の塗布動作に入り、塗布中の一定時間間隔で退避／循環ラインｃ，ｄ上の電磁弁３５，４０を開放し、電磁弁３９を閉塞することにより、ポンプ２５とフィルタ３２を繋ぐ戻しラインｅを開通させる。そしてポンプ２５を一定時間駆動することにより、ポンプ２５の動力で、それぞれの供給パン２３，２４内の処理液２２が退避／循環ラインｃ，ｄのチューブ内に強制的に送給され、以後、処理液２２はフィルタ３２を通過することにより、処理液２２中の異物除去が行われたのち、戻しラインｅ、供給ラインａおよび供給ラインｂによりそれぞれの供給パン２３，２４内に処理液２２を戻す循環動作を実施する。
【００５８】
図３中の符号３８は、フィルタ室４１に接続されている液補充ラインｇ上に設置されているポンプで、このポンプ３８はフィルタ室４１内の処理液２２の液面レベルが規定値より下がった場合に、フィルタ室４１内の処理液２２の液面を規定値レベルまでに上げるために、処理液２２を強制的に補充するポンプである。フィルタ室４１内の処理液２２の液面レベルが規定値にないと、供給パン２３，２４内の処理液２２がスムーズにフィルタ室４１内に引き込めず、処理液２２の循環動作が円滑に行われなくなる。
【００５９】
図４は、本発明の第１実施例に係る処理液塗布装置の制御部４４とそれに関係する各部材の接続関係を示すブロック図である。  
同図に示すように制御部４４内には、後述する充填実施済み情報などの情報を格納するメモリ４５、後述する時間Ｔ１や時間Ｔ２を計測するタイマ４６などが設けられている。  
制御部４４の入力段には、ＬＯＷレベル液面センサ４２、ＨＩＧＨレベル液面センサ４３、第２実施例の液体センサ４７などの検出信号、ならびに塗布モード情報４８や印刷情報４９が入力される。  
また、制御部４４の出力段からは、ポンプ２５ならびに各電磁弁２７，２８，３０，３４，３５，３９，４０に対して制御信号が出力される。
【００６０】
図５は、本発明の第１実施例に係る動作シーケンスを示す制御フローチャートである。  
Ｓ１：供給パン２３，２４に処理液２２を充填するか否かを判断する。処理液２２の充填は、処理液塗布装置の電源ＯＮ時、または供給パン２３，２４内に充填した処理液２２をリザーブタンク２１に退避後に塗布動作を開始する場合に充填を実施する。  
Ｓ２：リザーブタンク２１またはカートリッジ２６から表面塗布用供給パン２３および裏面塗布用供給パン２４内に処理液２２を充填する。リザーブタンク２１内に処理液２２がある場合には、リザーブタンク２１内の処理液２２を充填する。リザーブタンク２１内に処理液２２がない場合には、カートリッジ２６内の処理液２２を充填する。
【００６１】
Ｓ３：退避ラインへの充填が実施済みかどうかを判断する。メモリ４５（図４参照）に格納された情報により、退避ラインへの充填が実施されたか否かを判断し、実施済みの情報が格納されていれていなければ次のＳ４に移る。  
Ｓ４：退避ラインへの充填契機かどうか判断する。充填契機としては、Ｓ２において供給パン２３，２４への充填を開始してから時間Ｔ１経過後とする。時間Ｔ１は、退避／循環ラインｃ，ｄへ充填する分の処理液２２が表面塗布用供給パン２３および裏面塗布用供給パン２４内に充填された時間であることが望ましい。
【００６２】
また、処理液塗布装置の電源がＯＮした際に、表面塗布用供給パン２３および裏面塗布用供給パン２４内の処理液２２の液面位置がＬＯＷレベル液面センサ４２（図３参照）の位置以上にある場合には、時間Ｔ１を待たずに直ちに退避ラインへの充填を開始してもよい。
【００６３】
Ｓ５：退避ラインへの充填処理を行う。退避ラインへの充填処理における処理液２２の流れについては、後から図６を用いて説明する。  
Ｓ６：表面塗布用供給パン２３および裏面塗布用供給パン２４への処理液２２の充填処理が終了したかどうかを判断する。この判断は、ＨＩＧＨレベル液面センサ４３（図３参照）からの信号に基づいてなされる。
【００６４】
Ｓ７：上位装置（図示せず）からの印刷情報４９（図４参照）により、処理液２２の塗布処理を行うかどうかを判断する。
【００６５】
Ｓ８：処理液２２の塗布処理を行う。処理液塗布装置は、表面塗布用供給パン２３および裏面塗布用供給パン２４に設置されたＬＯＷレベル液面センサ４２の出力値を読み込み、処理液２２の補充が必要と判断した場合には、リザーブタンク２１またはカートリッジ２６から供給パン２３，２４に処理液２２の補充を行う。
【００６６】
Ｓ９：供給パン２３，２４内の処理液２２をリザーブタンク２１に退避させるか否かを判断する。通常は、塗布しない時間が連続で３０分〜２時間程度経過した場合に退避させる。退避しない場合はＳ７に、退避する場合は次のＳ１０へ移る。  
Ｓ１０：電磁弁３０，３４を開放して、表面塗布用供給パン２３および裏面塗布用供給パン２４の処理液２２をリザーブタンク２１に退避する。
【００６７】
図６は、退避ラインへの充填処理における処理液２２の流れについて説明するための図であり、同図（ａ）はカートリッジ２６から供給パン２３，２４へ処理液２２を送給する状態、同図（ｂ）は処理液２２の退避／循環の状態を示している。
【００６８】
退避ラインへの充填処理は、退避／循環ラインｃ，ｄ上の電磁弁３５，４０を開放し、三方弁からなる電磁弁３９を閉塞することにより、ポンプ２５とフィルタ室４１を繋ぐ戻しラインｅを開通させ、ポンプ２５を一定時間（Ｔ２）駆動する。
【００６９】
このポンプ２５の駆動（吸引）により、戻しラインｅならびにフィルタ室４１の空気が吸われて、フィルタ室４１が負圧になり、同図（ｂ）に示すように、フィルタ室４１内に処理液２２を引き込む力が作用し、表面塗布用供給パン２３および裏面塗布用供給パン２４内の処理液２２が退避／循環ラインｃ，ｄのチューブ内に強制的に送給、充填され、一部はフィルタ３２を設置しているフィルタ室４１内に入る。  
ポンプ２５の駆動時間Ｔ２は、ポンプ２５の駆動により退避／循環ラインｃ，ｄのチューブ内に処理液２２が充填できる時間でよい。
【００７０】
画像形成システムではジョブに応じてウェブＷに対する処理液２２の塗布面をオペレータが選択することができ、選択された情報が上位装置やインクジェットプリンタから本実施例に係る処理液塗布装置に、塗布モード情報４８として送信される。この情報により、ウェブＷの表面のみに処理液２２を塗布するモードの場合は、電磁弁３５のみを開放し、表面塗布用供給パン２３に接続されている退避／循環ラインｃのチューブのみに処理液２２を充填する。また、ウェブＷの裏面のみに処理液２２を塗布するモードの場合は、電磁弁４０のみを開放し、裏面塗布用供給パン２４に接続されている退避／循環ラインｄのチューブのみに処理液２２を充填する。
【００７１】
こりようにすれば、片方の退避／循環ラインｃあるいはｄのみ充填を行えばよく、ポンプ２５の駆動により退避／循環ラインｃあるいはｄに流れる処理液２２の流速が２倍になるため、ポンプ２５の駆動時間Ｔ２を１／２に抑えることができ、充填時間の短縮が図れる。  
この処理液２２の充填処理が完了すると、退避／循環ラインへの充填済み情報を前記メモリ４５に格納する。
【００７２】
この図６において、（ａ）から（ｂ）の切り替えは、供給パン２３，２４のＬＯＷレベル液面センサ４２が検出信号を出力してから、あるいは充填時間からＴ１時間経過後に行われる。また、（ｂ）から（ａ）の切り替えは、退避ラインへの充填開始からＴ１時間経過後に行われる。
【００７３】
図７は、本発明の第２実施例に係る処理液２２の退避／循環・充填系統を説明するための系統図である。
【００７４】
この循環系統において、図３に示す第１実施例に係る処理液２２の退避／循環・充填系統と相違する点は、退避／循環ラインｃ，ｄ内に液検出センサ４７，４７をそれぞれ設けて、処理液塗布装置の電源ＯＮ時はまず、液検出センサ４７，４７の出力値を読み込み、処理液なしを検出した場合のみ、供給パンへの充填動作中に退避／循環ラインｃあるいは（および）ｄへの処理液２２の充填を行うようにした点である。  
この液検出センサ４７は、チューブ内に２本の電極ピンを差し込んで、チューブ内が処理液２２で満たされておれば電極ピン間が導電し、チューブ内に処理液２２有りを検出するようになっている。
【００７５】
この第２実施例に係る処理液塗布装置の制御部４４（図４参照）には、液検出センサ４７からの検出信号も入力されるようになっている（点線で表示）。
【００７６】
図８は、本発明の第２実施例に係る動作シーケンスを示す制御フローチャートである。  
Ｓ１１：供給パン２３，２４に処理液２２を充填するか否かを判断する。処理液２２の充填は、処理液塗布装置の電源ＯＮ時、または供給パン２３，２４内に充填した処理液２２をリザーブタンク２１に退避後に塗布動作を開始する場合に充填を実施する。  
Ｓ１２：リザーブタンク２１またはカートリッジ２６から表面塗布用供給パン２３および裏面塗布用供給パン２４内に処理液２２を充填する。リザーブタンク２１内に処理液２２がある場合には、リザーブタンク２１内の処理液２２を充填する。リザーブタンク２１内に処理液２２がない場合には、カートリッジ２６内の処理液２２を充填する。
【００７７】
Ｓ１３：退避ラインｃ，ｄ内に設置された液検出センサ４７の出力値を読み込み、退避ラインｃ，ｄへの充填が必要かどうかを判断する。退避ラインｃ，ｄ内に設置された両方の液検出センサ４７の出力値が処理液２２なしを検知している場合にのみ、退避ラインｃ，ｄへの充填を実施する。これにより、処理液塗布装置の電源ＯＮ時に毎回退避ラインｃ，ｄへの充填を繰り返す必要がなく、必要なときのみ実施することにより、供給パン２３，２４への充填時間が不必要に増加することが防止できる。  
Ｓ１４：退避ラインｃ，ｄへの充填契機かどうか判断する。充填契機としては、Ｓ１２において供給パン２３，２４への充填を開始してから時間Ｔ１経過後とする。時間Ｔ１は、退避／循環ラインｃ，ｄへ充填する分の処理液２２が表面塗布用供給パン２３および裏面塗布用供給パン２４内に充填された時間であることが望ましい。
【００７８】
また、処理液塗布装置の電源がＯＮした際に、表面塗布用供給パン２３および裏面塗布用供給パン２４内の処理液２２の液面位置がＬＯＷレベル液面センサ４２の位置以上である場合には、時間Ｔ１を待たずに直ちに退避ラインｃ，ｄへの充填を開始してもよい。
【００７９】
Ｓ１５：退避ラインｃ，ｄへの充填処理を行う。退避ラインｃ，ｄへの充填処理における処理液２２の流れは図６に示した通りである。  
Ｓ１６：表面塗布用供給パン２３および裏面塗布用供給パン２４への処理液２２の充填処理が終了したかどうかを判断する。  
Ｓ１７：上位装置（図示せず）からの印刷情報４９により、処理液２２の塗布処理を行うかどうかを判断する。
【００８０】
Ｓ１８：処理液２２の塗布処理を行う。処理液塗布装置は、表面塗布用供給パン２３および裏面塗布用供給パン２４に設置されたＬＯＷレベル液面検出センサ４２の出力値を読み込み、処理液２２の補充が必要と判断した場合には、リザーブタンク２１またはカートリッジ２６から供給パン２３，２４に処理液２２の補充を行う。
【００８１】
Ｓ１９：供給パン２３，２４内の処理液２２をリザーブタンク２１に退避させるか否かを判断する。通常は、塗布しない時間が連続で３０分〜２時間程度経過した場合に退避させる。退避しない場合はＳ１７に、退避する場合は次のＳ２０へ移る。  
Ｓ２０：電磁弁３０，３４を開放して、表面塗布用供給パン２３および裏面塗布用供給パン２４の処理液２２をリザーブタンク２１に退避する。
【符号の説明】
【００８２】
１３ｆ：表面塗布手段、
１３ｒ：裏面塗布手段、
２１：サブタンク、
２３：表面塗布用供給パット、
２４：裏面塗布用供給パット、
２５：ポンプ、
２６：処理液カートリッジ、
２７，２８，３０，３４，３５，３９，４０：電磁弁、
３２：フィルタ、
４１：フィルタ室、
４２：ＬＯＷレベル液面センサ、
４３：ＨＩＧＨレベル液面センサ、
４４：制御部、
４５：メモリ、
４６：タイマ、
４７：液検出センサ、
４８：塗布モード情報、
４９：印刷情報、
１０１：処理液塗布装置、
１０２：インクジェットプリンタ、
ａ：表面塗布用供給ライン、
ｂ：裏面塗布用供給ライン、
ｃ：表面塗布用退避／循環ライン、
ｄ：裏面塗布用退避／循環ライン、
ｅ：戻しライン、
Ｗ：ウェブ。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００８３】
【特許文献１】特開２００７−５０３１５号公報
【図１】
2014100805.tif 000003
【図２】
2014100805.tif 000004
【図３】
2014100805.tif 000005
【図４】
2014100805.tif 000006
【図５】
2014100805.tif 000007
【図６】
2014100805.tif 000008
【図７】
2014100805.tif 000009
【図８】
2014100805.tif 000010
【図９】
2014100805.tif 000011
【図１０】
2014100805.tif 000012