(57)【要約】【課題】表面の呈色および表面における光沢のムラを抑制し、かつワークの製造時における前加工の際に生じた傷を十分に取り除くことができ、表面粗さの低い部材を効率よく得ることができる、転動体の製造方法、ワークの研磨方法、研磨液および研磨装置を提供する。【解決手段】ワークの研磨に際し、光触媒からなる粒子径１４０〜５５０ｎｍの粒子と蛍光材料と当該光触媒および蛍光材料それぞれを励起させる光を透過する物質からなる砥粒と溶媒とを併用する。また、転動体用ワークの研磨装置１において、ワークＷを揺動可能に支持するための円盤状のワーク支持部２０と、ワーク支持部２０に支持されたワークＷの表面と摺接可能に配置され、ワーク支持部２０に対して中心軸回りに相対的に回転することによってワークＷを回転させながら、研磨液を介してワークＷの表面を研磨する円盤状の研磨パッド３０とを設ける。【選択図】  図１
2014037046.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
転動体用ワークに研磨加工を施す研磨加工工程を含む転動体の製造方法であって、
前記研磨加工工程が、光触媒からなる粒子と蛍光材料と当該光触媒および蛍光材料それぞれを励起させる光を透過する物質からなる砥粒と溶媒とを含有してなる研磨液に前記ワークを接触させるとともに当該研磨液に前記光を照射しながら、前記ワークに研磨加工を施す工程であり、
前記光触媒の粒子径が１４０〜５５０ｎｍであることを特徴とする転動体の製造方法。
【請求項２】
前記砥粒が、光触媒からなる粒子よりも大きい粒子径を有する粒子である請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記砥粒の粒子径が、１０００〜３００００ｎｍである請求項１または２に記載の方法。
【請求項４】
前記蛍光材料が、一般式（Ｉ）：
【化１】
2014037046.tif 000007
（式中、Ｒ1およびＲ2は、それぞれ独立して炭素数１〜４のアルキル基、Ｒ3およびＲ4は、それぞれ独立して炭素数１〜４のアルキル基、Ｘはハロゲン原子を示す）
で表わされる化合物である請求項１〜３のいずれかに記載の方法。
【請求項５】
ワークに研磨加工を施す方法であって、
光触媒からなる粒子径１４０〜５５０ｎｍの粒子と蛍光材料と当該光触媒および蛍光材料それぞれを励起させる光を透過する物質からなる砥粒と溶媒とを含有してなる研磨液に前記ワークを接触させるとともに当該研磨液に前記光を照射しながら、前記ワークの研磨加工を行なうことを特徴とするワークの研磨方法。
【請求項６】
前記砥粒が、光触媒からなる粒子よりも大きい粒子径を有する粒子である請求項５に記載の方法。
【請求項７】
ワークを研磨するための研磨液であって、
光触媒からなる粒子径１４０〜５５０ｎｍの粒子と、蛍光材料と、当該光触媒および蛍光材料それぞれを励起させる光を透過する物質からなる砥粒と、溶媒とを含有することを特徴とする研磨液。
【請求項８】
前記砥粒が、光触媒からなる粒子よりも大きい粒子径を有する粒子である請求項７に記載の研磨液。
【請求項９】
研磨液を用いて転動体用ワークの表面を研磨するための研磨装置であって、
前記ワークを揺動可能に支持するための円盤状のワーク支持部と、
前記ワーク支持部に支持された前記ワークの表面と摺接可能に配置され、当該ワーク支持部に対して中心軸回りに相対的に回転することによって前記ワークを回転させながら、前記研磨液を介して当該ワークの表面を研磨する円盤状の研磨パッドと、
前記研磨液を前記ワーク支持部と前記研磨パッドとの間に供給する研磨液供給部と、
を備えていることを特徴とする研磨装置。
【請求項１０】
前記研磨液が、光触媒からなる粒子径１４０〜５５０ｎｍの粒子と蛍光材料と当該光触媒および蛍光材料を励起させる光を透過する砥粒と溶媒とを含有してなる研磨液であり、
前記研磨液中に含まれる光触媒および蛍光材料を励起させる光を照射する光源をさらに備えている請求項９に記載の研磨装置。
【請求項１１】
前記容器の少なくとも内壁面が光触媒および蛍光材料を励起させる光を反射する性質を有する請求項１０に記載の研磨装置。
【請求項１２】
前記ワーク支持部が、ワークを揺動可能に収容可能なワーク支持孔を有する請求項９〜１１のいずれかに記載の研磨装置。
【請求項１３】
前記ワーク支持孔において、ワーク支持部に対して前記研磨パッドを中心軸回りに相対的に回転させたときにワークと接触する側壁部に研磨パッドがさらに設けられている請求項１２に記載の研磨装置。
【請求項１４】
前記研磨液供給部が前記研磨パッドの回転中心部に前記研磨液を供給するように配置されている請求項９〜１３のいずれかに記載の研磨装置。
【請求項１５】
前記研磨パッドのワークとの摺接面側の表面に複数の起毛した繊維からなる研磨パッド本体を有しており、当該研磨パッド本体には、放射状のパターンを有する溝が形成されている請求項９〜１４のいずれかに記載の研磨装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、転動体の製造方法、ワークの研磨方法、研磨液および研磨装置に関する。さらに詳しくは、本発明は、産業機械、自動車、飛行機、船舶、電気電子製品などに用いられる部材の製造に有用な転動体の製造方法、ワークの研磨方法、研磨液および研磨装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
産業機械、自動車、飛行機、船舶、電気電子製品などには、転動体などのように相手部材との間で転がり接触および／または滑り接触をする金属部材が用いられている。これらの産業機械、自動車などでは、寿命の向上および稼働時における騒音ならびに発熱量の低減が求められている。そこで、バレル研磨法、超仕上げ研磨法などによる研磨によって前記金属部材の表面粗さを低減させることが提案されている。しかしながら、バレル研磨法には、金属部材の表面に砥粒痕が残りやすく、かつ十分な表面粗さを確保することが困難であるという欠点がある。また、超仕上げ研磨法には、研磨に用いられる装置が高価であり、かつ十分な表面粗さを確保することが困難であるという欠点がある。
【０００３】
一方、金属部材を研磨する方法として、例えば、紫外光によって励起されるカチロンと紫外光によって励起される酸化チタンまたは酸化アルミニウムと水とを含む研磨液を用いて紫外光の照射下に金属部材を研磨する方法が提案されている（例えば、非特許文献１参照）。また、非特許文献１には、前記研磨液に紫外光を照射する図示しない光源と、研磨パッド１２１を有する研磨槽１０２と、この研磨槽１０２内に設けられ、太陽歯車１３１と２つの遊星歯車１３２とを有する遊星歯車機構１０３と、この遊星歯車機構１０３を回転させるモータと、遊星歯車機構１０３の回転速度を調節する減速機１０５とを備えた研磨装置１０１が開示されている（図３１参照）。
【先行技術文献】
【非特許文献】
【０００４】
【非特許文献１】千巖吉彦および田中武司、「紫外線により励起された蛍光材料と光触媒による銅の研磨現象について−紫外線励起加工の研究−」、砥粒加工学会誌、第５１号、第４巻、ｐｐ．２３２−２３７
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、非特許文献１に記載の研磨液を、転動体用ワークなどのように硬いワークの研磨に用いた場合には、ワークの表面が酸化して黒色化してしまったり、ワーク表面に光沢のムラが生じたりすることがある。また、この場合、ワークを所望の表面粗さに研磨したり、ワークの製造時における前加工の際に生じた傷を十分に取り除いたりすることができないことがある。
また、非特許文献１に記載の研磨装置では、ワークの平面部分の研磨を行なうことができても、曲面部分を効率よく研磨することが困難であり、所望の表面粗さに研磨したり、ワーク製造時における前加工の際に生じた傷を十分に取り除いたりすることが困難である。
【０００６】
本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであり、表面の呈色および表面における光沢のムラを抑制し、かつワークの製造時における前加工の際に生じた傷を十分に取り除くことができ、表面粗さの低い部材を効率よく得ることができる、転動体の製造方法、ワークの研磨方法、研磨液および研磨装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
すなわち、本発明の要旨は、
（１）転動体用ワークに研磨加工を施す研磨加工工程を含む転動体の製造方法であって、
前記研磨加工工程が、光触媒からなる粒子と蛍光材料と当該光触媒および蛍光材料それぞれを励起させる光を透過する物質からなる砥粒と溶媒とを含有してなる研磨液に前記ワークを接触させるとともに当該研磨液に前記光を照射しながら、前記ワークに研磨加工を施す工程であり、
前記光触媒の粒子径が１４０〜５５０ｎｍであることを特徴とする転動体の製造方法、
（２）前記砥粒が、光触媒からなる粒子よりも大きい粒子径を有する粒子である前記（１）に記載の方法、
（３）前記砥粒の粒子径が、１０００〜３００００ｎｍである前記（１）または（２）に記載の方法、
（４）前記蛍光材料が、一般式（Ｉ）：
【０００８】
【化１】
2014037046.tif 000003
【０００９】
（式中、Ｒ1およびＲ2は、それぞれ独立して炭素数１〜４のアルキル基、Ｒ3およびＲ4は、それぞれ独立して炭素数１〜４のアルキル基、Ｘはハロゲン原子を示す）
で表わされる化合物である前記（１）〜（３）のいずれかに記載の方法、
（５）ワークに研磨加工を施す方法であって、
光触媒からなる粒子径１４０〜５５０ｎｍの粒子と蛍光材料と当該光触媒および蛍光材料それぞれを励起させる光を透過する物質からなる砥粒と溶媒とを含有してなる研磨液に前記ワークを接触させるとともに当該研磨液に前記光を照射しながら、前記ワークの研磨加工を行なうことを特徴とするワークの研磨方法、
（６）前記砥粒が、光触媒からなる粒子よりも大きい粒子径を有する粒子である前記（５）に記載の方法、
（７）ワークを研磨するための研磨液であって、
光触媒からなる粒子径１４０〜５５０ｎｍの粒子と、蛍光材料と、当該光触媒および蛍光材料それぞれを励起させる光を透過する物質からなる砥粒と、溶媒とを含有することを特徴とする研磨液、
（８）前記砥粒が、光触媒からなる粒子よりも大きい粒子径を有する粒子である前記（７）に記載の研磨液、
（９）研磨液を用いて転動体用ワークの表面を研磨するための研磨装置であって、
前記ワークを揺動可能に支持するための円盤状のワーク支持部と、
前記ワーク支持部に支持された前記ワークの表面と摺接可能に配置され、当該ワーク支持部に対して中心軸回りに相対的に回転することによって前記ワークを回転させながら、前記研磨液を介して当該ワークの表面を研磨する円盤状の研磨パッドと、
前記研磨液を前記ワーク支持部と前記研磨パッドとの間に供給する研磨液供給部と、
を備えていることを特徴とする研磨装置、
（１０）前記研磨液が、光触媒からなる粒子径１４０〜５５０ｎｍの粒子と蛍光材料と当該光触媒および蛍光材料を励起させる光を透過する砥粒と溶媒とを含有してなる研磨液であり、
前記研磨液中に含まれる光触媒および蛍光材料を励起させる光を照射する光源をさらに備えている前記（９）に記載の研磨装置、
（１１）前記容器の少なくとも内壁面が光触媒および蛍光材料を励起させる光を反射する性質を有する前記（１０）に記載の研磨装置、
（１２）前記ワーク支持部が、ワークを揺動可能に収容可能なワーク支持孔を有する前記（９）〜（１１）のいずれかに記載の研磨装置、
（１３）前記ワーク支持孔において、ワーク支持部に対して前記研磨パッドを中心軸回りに相対的に回転させたときにワークと接触する側壁部に研磨パッドがさらに設けられている前記（１２）に記載の研磨装置、
（１４）前記研磨液供給部が前記研磨パッドの回転中心部に前記研磨液を供給するように配置されている前記（９）〜（１３）のいずれかに記載の研磨装置、ならびに
（１５）前記研磨パッドのワークとの摺接面側の表面に複数の起毛した繊維からなる研磨パッド本体を有しており、当該研磨パッド本体には、放射状のパターンを有する溝が形成されている前記（９）〜（１４）のいずれかに記載の研磨装置
に関する。
【発明の効果】
【００１０】
本発明は、本発明の転動体の製造方法、ワークの研磨方法、研磨液および研磨装置によれば、表面の呈色および表面における光沢のムラを抑制し、かつワークの製造時における前加工の際に生じた傷を十分に取り除くことができ、表面粗さの低い部材を効率よく得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】本発明の一実施形態に係る研磨装置の構成を示す概略説明図である。
【図２】（Ａ）は本発明の一実施形態に係る研磨装置の構成を示す平面説明図、（Ｂ）はＡＡ線での断面説明図である。
【図３】本発明の一実施形態に係る研磨装置のワーク支持部の構成を示す概略説明図である。
【図４】（Ａ）は本発明の一実施形態に係る研磨装置のワーク支持部のワーク支持孔の形状を示す平面説明図、（Ｂ）は本発明の一実施形態に係る研磨装置のワーク支持部のワーク支持孔の形状を示す側面説明図である。
【図５】（Ａ）は本発明の一実施形態に係る研磨装置の研磨パッドの構成を示す概略説明図、（Ｂ）は（Ａ）のＢＢ線での断面説明図、（Ｃ）は（Ｂ）の一部拡大説明図である。
【図６】本発明の一実施形態に係る研磨装置の研磨部の一例を示す概略説明図である。
【図７】本発明の一実施形態に係る研磨装置の研磨部の一例を示す概略説明図である。
【図８】本発明の一実施形態に係る転動体の製造方法の手順の一例を示す工程図である。
【図９】（Ａ）は実施例２において、研磨前の銅製の円筒ころ用ワークを観察した結果を示す図面代用写真、（Ｂ）は実施例２において、研磨後の銅製の円筒ころを観察した結果を示す図面代用写真である。
【図１０】（Ａ）は実施例７において、研磨前の一般構造用鋼ＳＳ４１製の円筒ころ用ワークを観察した結果を示す図面代用写真、（Ｂ）は実施例７において、研磨後の一般構造用鋼ＳＳ４１の円筒ころを観察した結果を示す図面代用写真である。
【図１１】（Ａ）は実施例９において、研磨前の軸受鋼ＳＵＪ２製の球面ころ用ワークを観察した結果を示す図面代用写真、（Ｂ）は実施例９において、研磨後の軸受鋼ＳＵＪ２製の球面ころを観察した結果を示す図面代用写真である。
【図１２】（Ａ）は実施例１２において、研磨前の軸受鋼ＳＵＪ２製の球面ころ用ワークを観察した結果を示す図面代用写真、（Ｂ）は実施例１２において、粒子径１１５００ｎｍの砥粒を含む研磨液を用いて研磨した後の軸受鋼ＳＵＪ２製の球面ころを観察した結果を示す図面代用写真、（Ｃ）は実施例１２において、粒子径１０００ｎｍの砥粒を含む研磨液を用いて研磨した後の軸受鋼ＳＵＪ２製の球面ころを観察した結果を示す図面代用写真である。
【図１３】（Ａ）は実施例１４において、研磨前の焼入れ鋼製の玉用ワークを観察した結果を示す図面代用写真、（Ｂ）は実施例１４において、鋭角状パッドを用いた場合の研磨後の焼入れ鋼製の玉を観察した結果を示す図面代用写真、（Ｃ）は実施例１４において、半球状パッドを用いた場合の研磨後の焼入れ鋼製の玉を観察した結果を示す図面代用写真である。
【図１４】実施例１６において、鋭角状パッドを用いた場合の研磨後の焼入れ鋼製の玉を観察した結果を示す図面代用写真である。
【図１５】（Ａ）比較例３において、研磨前の焼入れ鋼製の玉用ワークを観察した結果を示す図面代用写真、（Ｂ）は比較例３において、鋭角状パッドを用いた場合の研磨後の焼入れ鋼製の玉を観察した結果を示す図面代用写真である。
【図１６】（Ａ）比較例６において、研磨前の焼入れ鋼製の玉用ワークを観察した結果を示す図面代用写真、（Ｂ）は比較例６において、鋭角状パッドを用いた場合の研磨後の焼入れ鋼製の玉を観察した結果を示す図面代用写真である。
【図１７】（Ａ）は比較例８において、研磨前の軸受鋼ＳＵＪ２製の球面ころ用ワークを観察した結果を示す図面代用写真、（Ｂ）は比較例８において、研磨後の軸受鋼ＳＵＪ２製の球面ころを観察した結果を示す図面代用写真である。
【図１８】（Ａ）は実施例１７において、研磨前の軸受鋼ＳＵＪ２製の円筒ころ用ワークを観察した結果を示す図面代用写真、（Ｂ）は実施例１７において、研磨後の軸受鋼ＳＵＪ２製の円筒ころを観察した結果を示す図面代用写真である。
【図１９】（Ａ）は実施例１８において、研磨前の軸受鋼ＳＵＪ２製の円筒ころ用ワークを観察した結果を示す図面代用写真、（Ｂ）は実施例１８において、研磨後の軸受鋼ＳＵＪ２製の円筒ころを観察した結果を示す図面代用写真である。
【図２０】（Ａ）は実施例１９において、研磨前の軸受鋼ＳＵＪ２製の円筒ころ用ワークを観察した結果を示す図面代用写真、（Ｂ）は実施例１９において、研磨後の軸受鋼ＳＵＪ２製の円筒ころを観察した結果を示す図面代用写真である。
【図２１】（Ａ）は実施例２０において、研磨前の軸受鋼ＳＵＪ２製の円筒ころ用ワークを観察した結果を示す図面代用写真、（Ｂ）は実施例２０において、研磨後の軸受鋼ＳＵＪ２製の円筒ころを観察した結果を示す図面代用写真である。
【図２２】（Ａ）は比較例９において、研磨前の軸受鋼ＳＵＪ２製の円筒ころ用ワークを観察した結果を示す図面代用写真、（Ｂ）は比較例９において、研磨後の軸受鋼ＳＵＪ２製の円筒ころを観察した結果を示す図面代用写真である。
【図２３】（Ａ）は比較例１０において、研磨前の軸受鋼ＳＵＪ２製の円筒ころ用ワークを観察した結果を示す図面代用写真、（Ｂ）は比較例１０において、研磨後の軸受鋼ＳＵＪ２製の円筒ころを観察した結果を示す図面代用写真である。
【図２４】（Ａ）は実施例２１において、研磨前の軸受鋼ＳＵＪ２製の円筒ころ用ワークを観察した結果を示す図面代用写真、（Ｂ）は実施例２１において、研磨後の軸受鋼ＳＵＪ２製の円筒ころを観察した結果を示す図面代用写真である。
【図２５】（Ａ）は実施例２２において、研磨前の軸受鋼ＳＵＪ２製の円筒ころ用ワークを観察した結果を示す図面代用写真、（Ｂ）は実施例２２において、研磨後の軸受鋼ＳＵＪ２製の円筒ころを観察した結果を示す図面代用写真である。
【図２６】（Ａ）は実施例２３において、研磨前の軸受鋼ＳＵＪ２製の円筒ころ用ワークを観察した結果を示す図面代用写真、（Ｂ）は実施例２３において、研磨後の軸受鋼ＳＵＪ２製の円筒ころを観察した結果を示す図面代用写真である。
【図２７】（Ａ）は実施例２４において、研磨前の軸受鋼ＳＵＪ２製の円筒ころ用ワークを観察した結果を示す図面代用写真、（Ｂ）は実施例２４において、研磨後の軸受鋼ＳＵＪ２製の円筒ころを観察した結果を示す図面代用写真である。
【図２８】（Ａ）は比較例１１において、研磨前の軸受鋼ＳＵＪ２製の円筒ころ用ワークを観察した結果を示す図面代用写真、（Ｂ）は比較例１１において、研磨後の軸受鋼ＳＵＪ２製の円筒ころを観察した結果を示す図面代用写真である。
【図２９】（Ａ）は比較例１２において、研磨前の軸受鋼ＳＵＪ２製の円筒ころ用ワークを観察した結果を示す図面代用写真、（Ｂ）は比較例１２において、研磨後の軸受鋼ＳＵＪ２製の円筒ころを観察した結果を示す図面代用写真である。
【図３０】（Ａ）は比較例１３において、研磨前の軸受鋼ＳＵＪ２製の円筒ころ用ワークを観察した結果を示す図面代用写真、（Ｂ）は比較例１３において、研磨後の軸受鋼ＳＵＪ２製の円筒ころを観察した結果を示す図面代用写真である。
【図３１】従来の研磨装置の構成を示す概略説明図である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
１．転動体の製造方法
本発明の転動体の製造方法は、転動体用ワークに研磨加工を施す研磨加工工程を含む転動体の製造方法であって、前記研磨加工工程は、光触媒からなる粒子と蛍光材料と当該光触媒および蛍光材料それぞれを励起させる光（以下、「励起光」ともいう）を透過する物質からなる砥粒と溶媒とを含有している研磨液に前記ワークを接触させるとともに当該研磨液に前記光（励起光）を照射しながら、前記ワークに研磨加工を施す工程であり、前記光触媒の粒子径が１４０〜５５０ｎｍであることを特徴とする。
【００１３】
本発明の転動体の製造方法では、転動体用ワークに研磨加工を施す際に、光触媒からなる粒子径１４０〜５５０ｎｍの粒子と蛍光材料と当該光触媒および蛍光材料それぞれを励起させる光を透過する物質からなる砥粒と溶媒とを励起光照射下に併用している点に１つの特徴がある。したがって、本発明の転動体の製造方法によれば、ワークの表面の呈色およびワーク表面における光沢のムラを抑制し、かつワークの製造時における前加工の際に生じた傷を十分に取り除くことができ、表面粗さの低い転動体を、短時間に高い効率で、しかも低コストで製造することができる。
【００１４】
本発明の転動体の製造方法によって製造された転動体は、低い表面粗さを有するので、使用時における騒音および発熱量の低減が期待される。また、かかる転動体を、例えば、軸受の転動体として用いた場合には、当該軸受の長寿命化することが期待される。
【００１５】
従来、金属製のワークに研磨加工を施す際に、研磨液として、光触媒からなる粒子と蛍光材料と溶媒とからなる研磨液を用いる場合、光触媒からなる粒子は、光触媒作用を十分に発揮させて化学研磨を効率よく行なう観点から、粒子径が小さく表面積が大きい粒子であることが望ましいと考えられていた。しかしながら、本発明者らは、かかる研磨液を用い、転動体用ワークなどのように硬さが高い金属製のワークの研磨加工を試みたところ、ワークが呈色してしまううえに、ワーク表面における光沢のムラが生じ、ワークの製造時における前加工の際に生じた傷を十分に取り除くことができず、十分な表面粗さにまで研磨することが困難であることが判明した。そこで、本発明者らは、鋭意研究を重ねたところ、光触媒からなる粒子と蛍光材料と溶媒とに加え、当該光触媒および蛍光材料それぞれを励起させる光を透過する物質からなる砥粒を用いるとともに、光触媒からなる粒子として、粒子径１４０〜５５０ｎｍの粒子を用いたところ、転動体用ワークなどのように硬さが高い金属製のワークが、呈色せず、ワーク表面における光沢のムラを抑制することができ、ワークの製造時における前加工の際に生じた傷を十分に取り除くことができ、しかも、従来の超仕上げ研磨加工およびバレル研磨加工では到達し得ない低い表面粗さにまで短時間に効率よく研磨されていることが見出された。本発明は、本発明者らによって見出されたかかる知見に基づくものである。
【００１６】
本発明の転動体の製造方法は、図８に示されるように、例えば、前加工工程Ｓ１−１、表面硬化処理工程Ｓ１−２および研磨加工工程Ｓ１−３を含む。前記転動体としては、例えば、円筒ころ、円錐ころ、玉、球面ころなどが挙げられるが、本発明は、かかる例示のみに限定されるものではない。
【００１７】
前加工工程Ｓ１−１では、転動体用材料を所定の形状に加工して、相手部材との間で転がり接触および／または滑り接触をする転がり摺動面を形成する部分に研磨取代を少なくとも有する素形材を得る。
【００１８】
前記原材料は、転動体の製造に適したものであればよい。かかる転動体用材料としては、例えば、単金属；非鉄合金；一般構造用鋼、機械構造用鋼、軸受鋼などの鉄系合金などが挙げられるが、本発明は、かかる例示のみに限定されるものではない。本発明の転動体の製造方法では、これらの転動体用材料のなかでも、軸受鋼を好適に用いることができる。前記軸受鋼としては、例えば、ＳＵＪ２、ＳＵＪ３、ＳＵＪ４、ＳＵＪ５などの高炭素クロム軸受鋼；Ｚ鋼（日本精工（株）製）、ＥＰ鋼（日本精工（株）製）、ＳＨＸ鋼（日本精工（株）製）などの高速用耐熱鋼などが挙げられるが、本発明は、かかる例示のみに限定されるものではない。なお、本発明においては、転動体用材料として、一般構造用鋼または機械構造用鋼に焼入れ処理を施すことによって得られる焼入れ鋼も好適に用いることができる。
【００１９】
つぎに、表面硬化処理工程Ｓ１−２では、前加工工程Ｓ１−１で得られた素形材に対して表面硬化処理を施し、転動体用ワークを得る。
【００２０】
前記転動体用ワークとしては、例えば、転動体に対応する形状に加工され、かつ研磨取代を有する転動体用ワークなどが挙げられるが、本発明は、かかる例示のみに限定されるものではない。
【００２１】
前記表面硬化処理としては、例えば、浸炭処理、浸炭窒化処理、焼入れ処理、高周波焼入れ処理、焼きもどし処理などの熱処理、ショットピーニングなどのピーニング加工などが挙げられるが、本発明は、かかる例示のみに限定されるものではない。これらの表面硬化処理は、製造対象の転動体の種類に応じて、２種類以上を適宜組み合わせて行なうことができる。本工程で得られる転動体用ワークの硬さ（ロックウェル硬さ）は、本工程において採用された表面硬化処理の種類、転動体用材料の種類などによって異なるが、通常、転動体用原材料として高炭素クロム軸受鋼を用いる場合、好ましくは６０〜６７、より好ましくは６１〜６５である。
【００２２】
その後、研磨加工工程Ｓ１−３では、転動体用ワークを研磨液に接触させるとともに当該研磨液に前記光を照射しながら、当該転動体用ワークの前記転がり摺動面を形成する部分に研磨加工を施すことにより、所望の表面粗さを有する転がり摺動面を形成して転動体を得る。転動体用ワークの研磨には、例えば、転動体用ワークが転動体用ワークである場合、後述の研磨装置を用いることができる。なお、本発明の転動体の製造方法に用いられる研磨液については、後述する。
【００２３】
転動体用ワークの研磨時間は、転動体用ワークの大きさ、種類などによって異なることから、転動体用ワークの大きさ、種類などに応じて適宜設定することが好ましい。
【００２４】
研磨液に照射する光の種類は、研磨液中に含まれる光触媒および蛍光材料それぞれの種類などによって異なることから、研磨液中に含まれる光触媒および蛍光材料の種類などに応じて適宜選択することが好ましい。光の照射時間は、研磨時間と同じである。
【００２５】
転動体用ワークを研磨するときの研磨液の温度は、より低い表面粗さを有する転動体を得る観点から、好ましくは１５℃以上、より好ましくは２０℃以上であり、過度の酸化による呈色およびエッチピットの発生を防止する観点から、好ましくは５０℃以下、より好ましくは３５℃以下である。
【００２６】
なお、本発明においては、研磨加工工程Ｓ１−３以外の工程は、前加工工程Ｓ１−１および表面硬化処理工程Ｓ１−２のみに限定されるものではなく、必要により、他の工程を行なうことができる。また、本発明においては、表面硬化処理工程Ｓ１−２を行なわなくてもよい。
【００２７】
［ワークの研磨方法］
本発明のワークの研磨方法は、ワークに研磨加工を施す方法であって、光触媒からなる粒子径１４０〜５５０ｎｍの粒子と蛍光材料と当該光触媒および蛍光材料それぞれを励起させる光を透過する物質からなる砥粒と溶媒とを含有してなる研磨液に前記ワークを接触させるとともに当該研磨液に前記光を照射しながら、前記ワークの研磨加工を行なうことを特徴とする。
【００２８】
本発明のワークの研磨方法では、ワークの表面の研磨加工を行なうに際して、光触媒からなる粒子径１４０〜５５０ｎｍの粒子と蛍光材料と当該光触媒および蛍光材料それぞれを励起させる光を透過する物質からなる砥粒と溶媒とを含有している研磨液を用いる点に１つの特徴がある。したがって、本発明のワークの研磨方法によれば、ワークとして、例えば、軸受鋼からなるワーク、表面硬化処理が施されたワークなどをはじめ、硬いワークを用いた場合であっても、ワークの表面の呈色およびワーク表面における光沢のムラを抑制し、かつワークの製造時における前加工の際に生じた傷を十分に取り除くことができる。しかも、本発明のワークの研磨方法によれば、短時間で高い研磨効率で所望の表面粗さまで研磨することができ、所望の表面粗さの部材を高い製造効率で得ることができる。なお、本発明のワークの研磨方法に用いられる研磨液については、後述する。
【００２９】
前記ワークを構成する材料としては、例えば、金属などが挙げられるが、本発明は、かかる例示のみに限定されるものではない。金属としては、例えば、銅、ニッケル、チタンなどの単金属；ベリリウム銅、アルミニウム合金、超硬合金、などの非鉄合金；一般構造用鋼、機械構造用鋼（例えば、機械構造用高炭素鋼など）、軸受鋼、工具鋼などの鉄系合金などが挙げられるが、本発明は、かかる例示のみに限定されるものではない。本発明のワークの研磨方法によれば、これらの金属のなかでも、軸受鋼などのように硬い金属を呈色させることなく、好適に研磨することができる。
【００３０】
前記ワークは、表面硬化処理を施されたワークであってもよい。
【００３１】
本発明のワークの研磨方法によって研磨するのに好適なワークの硬さ（ロックウェル硬さ）は、好ましくは６０〜６７、より好ましくは６１〜６５である。
【００３２】
前記ワークの研磨加工は、前記研磨液を用いる代わりに前記研磨液から砥粒のみを取り除いた研磨液を用いる以外は前記ワークの研磨加工と同様に前記金属製のワークの研磨加工を行なったときに当該ワークの表面が酸化して呈色する場合と同様の条件（例えば、光触媒、蛍光材料および溶媒それぞれの種類、研磨液における光触媒からなる粒子および蛍光材料それぞれの含有率、研磨液のｐＨ、研磨時間、研磨温度など）下で行なうことができる。
【００３３】
ワークの研磨は、研磨液を保持しうるパッド上で行なうことができる。ワークが、転動体用ワークである場合には、例えば、後述の研磨装置を用いることができる。
【００３４】
ワークの研磨時間は、ワークの大きさおよび種類、ワークに用いられている金属の種類などによって異なることから、ワークの大きさおよび種類、ワークに用いられている材料の種類などに応じて適宜設定することが好ましい。ワークの研磨時間は、ワークが、例えば、軸受鋼からなるワークである場合、通常、好ましくは１５〜１２０分間、より好ましくは３０〜６０分間である。
【００３５】
研磨液に照射する光の種類および波長は、研磨液中に含まれる光触媒および蛍光材料それぞれの種類などによって異なることから、研磨液中に含まれる光触媒および蛍光材料の種類などに応じて適宜選択することが好ましい。光の照射時間は、研磨時間と同じである。
【００３６】
ワークを研磨するときの研磨液の温度は、より低い表面粗さを有する部材を得る観点から、好ましくは１５℃以上、より好ましくは２０℃以上であり、過度の酸化による呈色ならびにエッチピットの発生を防止する観点から、好ましくは５０℃以下、より好ましくは３５℃以下である。
【００３７】
［研磨液］
本発明の研磨液は、ワークを研磨するための研磨液であって、光触媒からなる粒子径１４０〜５５０ｎｍの粒子と、蛍光材料と、当該光触媒および蛍光材料それぞれを励起させる光を透過する物質からなる砥粒と、溶媒とを含有することを特徴とする。本発明の研磨液は、前記光触媒からなる粒子径１４０〜５５０ｎｍの粒子と蛍光材料と当該光触媒および蛍光材料を励起させる光を透過する砥粒と溶媒とが併用されているため、ワークとして、例えば、軸受鋼などのような高い硬さ、高い疲れ強さおよび高い耐磨耗性を有する金属製のワークなどを用いた場合であっても、ワークの表面の呈色およびワーク表面における光沢のムラを抑制しつつ、ワークの製造時における前加工の際に生じた傷を十分に取り除くことができ、高い研磨効率で研磨することができ、表面粗さの低い部材を効率よく得ることができる。
【００３８】
前記ワークに用いられる金属は、前述のワークの研磨方法におけるワークに用いられる金属と同様である。本発明の研磨液は、例えば、転動体用ワークなどのように硬いワークなどの研磨に好適に用いることができる。
【００３９】
前記ワークは、前述のワークの研磨方法におけるワークと同様である。
【００４０】
前記光触媒は、紫外光応答型光触媒であってもよく、可視光応答型光触媒であってもよい。前記光触媒としては、例えば、チタン酸化物、酸化亜鉛、三酸化タングステン、酸化カドミウム、酸化インジウム、酸化銀、二酸化マンガン、酸化銅、酸化鉄(III)、五酸化バナジウム、二酸化スズなどの金属酸化物；硫化カドミウム、硫化亜鉛、硫化インジウム、硫化銅、硫化モリブデン、硫化タングステン、硫化ビスマスなどの金属硫化物；セレン化インジウム（ＩＩＩ）、セレン化タングステン、テルル化カドミウムなどの金属カルコゲナイドなどが挙げられるが、本発明は、かかる例示のみに限定されるものではない。前記光触媒は、単独で用いてもよく、本発明の目的を阻害しない範囲で、２種類以上を混合して用いてもよい。前記光触媒は、白金原子、銀原子などをさらに担持させたものであってもよく、窒素原子、硫黄原子などをさらにドープしたものであってもよい。
【００４１】
前記光触媒のなかでは、化学的安定性が極めて優れ、長時間の使用に耐えることができ、ワークに対して高い密着性を示して研磨効率を高めることができる観点から、チタン酸化物が好ましい。前記チタン酸化物としては、例えば、アナターゼ型二酸化チタン、プルカイト型二酸化チタン、ルチル型二酸化チタンなどの二酸化チタンが挙げられるが、本発明は、かかる例示のみに限定されるものではない。これらのチタン酸化物のなかでは、化学的安定性が極めて優れ、長時間の使用に耐えることができ、ワークに対して高い密着性を示して研磨効率を高めることができる観点から、二酸化チタンが好ましく、アナターゼ型酸化チタンがより好ましい。
【００４２】
前記光触媒からなる粒子の粒子径は、ワークの呈色を抑制し、かつワークの加工精度を高める観点から、１４０ｎｍ以上であり、好ましくは１５０ｎｍ以上、より好ましくは１８０ｎｍ以上、さらに好ましくは２００ｎｍ以上である。前記光触媒からなる粒子の粒子径の上限は、十分な光触媒作用を有する範囲で適宜選択することができ、通常、入手および取り扱いが容易であり、しかも十分な光触媒作用が得られることから、好ましくは５５０ｎｍ以下、より好ましくは５００ｎｍ以下、さらに好ましくは４５０ｎｍ以下である。かかる粒子径は、研磨対象のワークに用いられる材料の種類などによって好適な光触媒作用の大きさが異なることから、研磨対象のワークに用いられる材料の種類などに応じて前記範囲から適宜設定することが望ましい。
【００４３】
なお、本明細書において、「粒子径」とは、透過型電子顕微鏡による観察に基づく数平均粒子径をいう。なお、粒子が凝集している場合は、前記「粒子径」は、透過型電子顕微鏡による観察に基づく凝集粒子の数平均粒子径を意味する。
【００４４】
研磨液中における光触媒からなる粒子の含有量は、ワークの呈色を抑制するとともに研磨効率を高める観点から、好ましくは０．５質量％以上、より好ましくは２．５質量％以上、さらに好ましくは５．０質量％以上であり、過度の光触媒作用を抑制して研磨対象の金属製のワークの加工精度を高める観点から、好ましくは２０質量％以下、より好ましくは１５質量％以下、さらに好ましくは１０質量％以下である。
【００４５】
前記蛍光材料は、光が照射されることによって励起状態となり、蛍光を発する物質である。かかる蛍光材料を励起させる光は、使用時における操作容易性を確保する観点から、前記光触媒を励起させる光と同じであることが好ましい。
【００４６】
前記蛍光材料としては、例えば、一般式（Ｉ）：
【００４７】
【化２】
2014037046.tif 000004
【００４８】
（式中、Ｒ1およびＲ2は、それぞれ独立して炭素数１〜４のアルキル基、Ｒ3およびＲ4は、それぞれ独立して炭素数１〜４のアルキル基、Ｘはハロゲン原子を示す）
で表わされる化合物（カチロン染料など）、スピロン染料、塩基性染料、酸性染料（ブリリアントブルー）などが挙げられるが、本発明は、かかる例示のみに限定されるものではない。前記蛍光材料は、単独で用いてもよく、本発明の目的を阻害しない範囲で、２種類以上を混合して用いてもよい。かかる蛍光材料の中では、ワークに用いられる金属との反応性に優れることから、一般式（Ｉ）で表わされる化合物が好ましい。
【００４９】
一般式（Ｉ）において、Ｒ1およびＲ2は、それぞれ独立して炭素数１〜４のアルキル基である。炭素数１〜４のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基などが挙げられるが、本発明は、かかる例示のみに限定されるものではない。Ｒ1およびＲ2は、研磨効率を高める観点から、メチル基であることが好ましい。また、一般式（Ｉ）において、Ｒ3およびＲ4は、それぞれ独立して炭素数１〜４のアルキル基である。炭素数１〜４のアルキル基としては、Ｒ1およびＲ2における炭素数１〜４のアルキル基と同様のものが例示されるが、本発明は、かかる例示のみに限定されるものではない。Ｒ3およびＲ4は、研磨効率を高める観点から、エチル基であることが好ましい。一般式（Ｉ）において、Ｘは、ハロゲン原子である。ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などが挙げられるが、本発明は、かかる例示のみに限定されるものではない。一般式（Ｉ）で表わされる化合物のなかでは、研磨効率を高める観点から、一般式（Ｉ）において、Ｒ1およびＲ2がメチル基であり、Ｒ3およびＲ4がエチル基であり、かつＸが塩素原子である化合物〔１Ｈ−ベンジミダゾリウム，２−［７−（ジエチルアミノ）−２−オキソ−２Ｈ−１−ベンゾピラン−３−イル］−１，３−ジメチル−，クロライド〕が好ましい。
【００５０】
前記研磨液中における光触媒からなる粒子の含有量は、ワークの呈色を抑制するとともに研磨効率を高める観点から、好ましくは０．５質量％以上、より好ましくは２．５質量％以上、さらに好ましくは５．０質量％以上であり、過度の光触媒作用を抑制して研磨対象のワークの加工精度を高める観点から、好ましくは２０質量％以下、より好ましくは１５質量％以下、さらに好ましくは１０質量％以下である。また、研磨効率を高めるとともに、研磨対象の金属製のワークの加工精度を高める観点から、光触媒１モルあたりの蛍光材料の量は、０．０２〜１．０モルであることが好ましい。
【００５１】
前記砥粒は、前記光触媒および前記蛍光材料それぞれを励起させる光を透過させる物質からなる。前記砥粒に用いられる物質としては、例えば、酸化アルミニウムなどの紫外光を透過させる化合物；ダイヤモンドなどの炭素材料、水晶、ルチル、アメジスト、透明ジルコニアなどの可視光を透過させる化合物などが挙げられる。前記砥粒は、単独で用いてもよく、本発明の目的を阻害しない範囲で、２種類以上を混合して用いてもよい。前記砥粒は、光触媒の種類、蛍光材料の種類などによって透過させるべき光の種類が異なることから、光触媒の種類、蛍光材料の種類などに応じて適宜選択されることが好ましい。例えば、光触媒が二酸化チタンであり、かつ蛍光材料が一般式（Ｉ）において、Ｒ1およびＲ2がメチル基であり、Ｒ3およびＲ4がエチル基であり、かつＸが塩素原子である化合物〔１Ｈ−ベンジミダゾリウム，２−［７−（ジエチルアミノ）−２−オキソ−２Ｈ−１−ベンゾピラン−３−イル］−１，３−ジメチル−，クロライド〕である場合、砥粒は、研磨液中において、当該砥粒の近傍に存在する二酸化チタンおよび蛍光材料に対して紫外光を効率よく照射して励起させることによって研磨効率をより一層高めることができることから、紫外光を透過させる化合物、好ましくは酸化アルミニウムからなる粒子である。前記酸化アルミニウムのなかでは、靱性に富み、一般的に過度の鋭利な切れ刃を有さず低い表面粗さを得るのに適した形状であり、化学的に安定であることから、α型酸化アルミニウムが好ましい。
【００５２】
前記砥粒の粒子径は、ワークの呈色を抑制するとともに研磨効率を高くする観点から、好ましくは１０００ｎｍ以上、より好ましくは２０００ｎｍ以上であり、ワークの表面の加工精度を高くし、表面粗さを小さくする観点から、好ましくは３００００ｎｍ以下、より好ましくは１１５００ｎｍ以下、さらに好ましくは４０００ｎｍ以下である。
【００５３】
なお、研磨液を用いて研磨する対象となるワークが、表面硬化処理が施された金属製のワークである場合、高い研磨効率で研磨し、表面粗さの低い金属部材を得る観点から、前記砥粒は、光触媒からなる粒子よりも大きい粒子径を有する粒子であることが好ましい。この場合、前記砥粒の粒子径と光触媒からなる粒子の粒子径との比（砥粒／光触媒）は、好ましくは２０／１１以上であり、ワークの呈色を抑制するとともにワークの表面の加工精度を高める観点から、好ましくは１５００／７以下である。
【００５４】
前記研磨液中における前記砥粒の含有量は、ワークの呈色を抑制するとともに研磨効率を高める観点から、好ましくは０．５質量％以上、より好ましくは２．５質量％以上、さらに好ましくは５．０質量％以上であり、研磨対象の金属製のワークの加工精度を高める観点から、好ましくは２０質量％以下、より好ましくは１５質量％以下、さらに好ましくは１０質量％以下である。また、研磨効率を高めるとともに研磨対象の金属製のワークの加工精度を高める観点から、光触媒１モルあたりの砥粒の量は、０．０７〜３．７モルであることが好ましい。
【００５５】
なお、研磨液を用いて研磨する対象となるワークが、表面硬化処理が施された金属製のワークである場合、高い研磨効率で研磨し、表面粗さの低い金属部材を得る観点から、前記研磨液中における前記砥粒の含有量は、前記研磨液中における前記光触媒の含有量よりも多いことが好ましい。
【００５６】
前記溶媒は、前記光触媒、蛍光材料および砥粒を懸濁させるのに適した溶媒であればよい。かかる溶媒としては、例えば、水などが挙げられるが、本発明は、かかる例示のみに限定されるものではない。前記溶媒は、単独で用いてもよく、２種類以上を混合して用いてもよい。
【００５７】
研磨液に用いられる溶媒が水または水を含む溶媒である場合、研磨液のｐＨは、過度の酸化による呈色ならびにエッチピットの発生を防止する観点から、好ましくは２以上、より好ましくは３以上であり、より低い表面粗さを有する部材を得る観点から、好ましくは７以下、より好ましくは６以下である。
【００５８】
なお、本発明の研磨液は、本発明の目的を阻害しない範囲で、種々の助剤をさらに含有していてもよい。
【００５９】
２．研磨装置
つぎに、本発明の一実施形態に係る金属製の転動体用ワークの表面を研磨するための研磨装置について、添付図面を参照しながら説明する。図１は、本発明の一実施形態に係る研磨装置の構成を示す概略説明図である。図２（Ａ）は、本発明の一実施形態に係る研磨装置の構成を示す平面説明図であり、図２（Ｂ）はＡＡ線での断面説明図である。本実施形態においては、前述した研磨液を用いて円筒ころ用ワークを研磨する場合を例として挙げて説明する。なお、図１および図２（Ａ）において、簡略化の観点から、研磨液の記載を省略している。
【００６０】
研磨装置１は、研磨部２と、この研磨部２を駆動および／または制御するため駆動部や制御部を収容している台座３と、光源４とを備えている（図１参照）。
【００６１】
研磨部２は、容器１０と、円筒ころ用ワークＷを支持する円盤状のワーク支持部２０と、研磨液を介して円筒ころ用ワークＷの表面を研磨する円盤状の研磨パッド３０と、ワーク支持部２０および研磨パッド３０の間に前述した研磨液を供給する研磨液供給部４０とを備えている〔図１、図２（Ａ）および（Ｂ）参照〕。
【００６２】
容器１０は、有底円筒状の形状を有する容器である。かかる容器１０は、光源４から照射される光を反射する性質を有する材料より構成される。容器１０を構成する材料としては、光源４から照射される光によって異なるが、例えば、ポリプロピレン樹脂などの紫外光を反射する材料；ポリエチレン樹脂、ポリスチレン樹脂、アクリロニトリル・ブタジエン・スチレン樹脂（ＡＢＳ樹脂）、フェノール樹脂、メラミン樹脂、アルミニウムなどの可視光を反射する材料などが挙げられる。なお、本発明においては、光源４から照射される光を容器１０の内壁で反射させることによって研磨液中の光触媒および蛍光材料の励起をさらに効率よく行なうことができる。したがって、本発明においては、容器１０の内壁のみが、光源４から照射される光を反射する性質を有する材料によって構成されていてもよい。
【００６３】
ワーク支持部２０は、容器１０内に収納されている。ワーク支持部２０の中心軸上には、研磨液供給部４０の一端部がワーク支持部２０を貫通するように一体的に設けられている。これにより、研磨液供給部４０によって研磨液を研磨パッド３０の回転中心部に供給することが可能となっている。また、本実施形態においては、研磨液供給部４０は、図示しない天板部に固定されており、かかる研磨液供給部４０によって、ワーク支持部２０が中心軸回りに回転できないように固定されている。
【００６４】
ワーク支持部２０は、軸方向に貫通したワーク支持孔２１を有している〔図２（Ａ）および（Ｂ）参照〕。かかるワーク支持孔２１内に円筒ころ用ワークＷが収容されることにより、円筒ころ用ワークＷは、ワーク支持部２０によって揺動可能に支持される。また、ワーク支持孔２１内に収容された円筒ころ用ワークＷの一部は、研磨液供給部４０から供給された研磨液Ｐに浸漬される。
【００６５】
ワーク支持孔２１における円筒ころ用ワークＷの移動方向前方の側壁部には、円筒ころ用ワークＷと摺接して研磨する側壁パッド２２が設けられている（図３参照）。なお、図３においては、ワーク支持孔２１を一部省略して記載している。側壁パッド２２は、ワーク支持部２０に対して研磨パッド３０を中心軸回りに相対的に回転させたときに円筒ころ用ワークＷと摺接する。かかる側壁パッド２２における円筒ころ用ワークＷとの摺接面側の表面には複数の繊維からなる起毛層が形成されている（図示せず）。かかる起毛層を構成する繊維の長さは、円筒ころ用ワークＷの回転を大きく妨げない程度に円筒ころ用ワークＷを研磨するに適した長さであればよい。前記繊維の長さは、通常、円筒ころ用ワークＷを十分に研磨する観点から、好ましくは１ｍｍ以上、より好ましくは１．５ｍｍ以上であり、円筒ころ用ワークＷの回転を十分に行なう観点から、好ましくは３ｍｍ以下、より好ましくは２．５ｍｍ以下である。
【００６６】
ワーク支持孔２１は、ワーク支持部２０の上方から中心軸方向に見て、長方形状を示す〔図４（Ａ）、２１ａ参照〕。ここで、長さａは、式（１）：
長さａ＝（２．０〜２．５）×円筒ころの直径Ｄ1        （１）
を満たす長さであり、長さｂは、式（２）：
長さｂ＝（３．０〜４．０）×円筒ころの長さＬ1        （２）
を満たす長さである。
【００６７】
研磨パッド３０は、容器１０内の底部に一体的に配置され、研磨パッド３０と容器１０とは一体回転可能になっている。また、研磨パッド３０は、ワーク支持部２０に支持された円筒ころ用ワークＷの表面と摺接可能に配置されている〔図２（Ｂ）参照〕。
【００６８】
研磨パッド３０は、プラスチック製の有縁プレート３１と、研磨パッド本体３２とからなる〔図５（Ａ）および（Ｂ）参照〕。研磨パッド本体３２は、複数の起毛した繊維３２ａからなり、有縁プレート３１における円筒ころ用ワークＷとの摺接面側の表面に付設されている〔図５（Ｂ）および（Ｃ）参照〕。かかる研磨パッド本体３２には、９０°毎に円筒ころ用ワークＷが研磨パッド３０の外側および内側に交互に移動するように遠心方向ベクトルと求心方向ベクトルとを変化さする放射状のパターンを有する溝３３が形成されている。
【００６９】
かかる研磨パッド本体３２を構成する繊維の長さは、円筒ころ用ワークＷに回転力を与え、かつ円筒ころ用ワークＷを研磨するに適した長さであればよい。前記繊維の長さは、通常、円筒ころ用ワークＷを十分に研磨する観点から、好ましくは２．０ｍｍ以上、より好ましくは２．３ｍｍ以上であり、円筒ころ用ワークＷの回転を十分に行なう観点から、好ましくは３ｍｍ以下、より好ましくは２．５ｍｍ以下である。なお、研磨パッド本体３２を構成する繊維の長さは、円筒ころ用ワークＷを効率よく研磨する観点から、前記側壁パッド２２を構成する繊維の長さよりも長いことが好ましい。
【００７０】
研磨装置１の台座３には、図２に示されるように、容器１０を回転駆動させる回転軸６０と、この回転軸６０を駆動させる駆動部７０と、駆動部７０の動作を制御する制御部８０とが収容されている。
【００７１】
光源４は、前述した研磨液に含まれている光触媒および蛍光材料を励起させる光を発生する。かかる光源４としては、例えば、紫外光ランプ、可視光ランプなどが挙げられるが、本発明は、かかる例示のみに限定されるものではない。
【００７２】
研磨装置１では、紫外光の照射下に容器１０を中心軸回りに矢印方向に回転駆動させることにより、ワーク支持部２０によって支持された円筒ころ用ワークＷが矢印方向に回転して研磨パッド３０および図示しない側壁パッド２２に線接触で摺接するとともに中心軸方向に揺動する（図６参照）。これにより、円筒ころ用ワークＷが研磨される。
【００７３】
なお、本発明においては、ワークとして、例えば、球面ころ用ワーク、玉用ワーク、円錐ころ用ワーク、棒状ころ用ワーク、針状ころ用ワークなどの転動体用ワークを用いることができる。例えば、ワークとして、玉用ワークを用いる場合、研磨装置１では、紫外光の照射下に容器１０を中心軸回りに矢印方向に回転駆動させることにより、ワーク支持部２０によって支持された玉用ワークＷが矢印方向に回転して研磨パッド３０および図示しない側壁パッド２２に点接触で摺接するとともに中心軸方向に揺動する（図７参照）。これにより、玉用ワークＷが研磨される。
【００７４】
また、本発明において、ワーク支持孔の形状は、ワークＷの形状に応じた形状を適宜選択することができる。
【００７５】
例えば、ワークＷが球面ころ用ワークである場合、ワーク支持孔として、図４（Ａ）のワーク支持孔２１ｂおよびワーク支持孔２１ｃが例示されるが、本発明は、かかる例示のみに限定されるものではない。ワーク支持孔２１ｂにおけるワークＷの移動方向前方の側壁部２０１は、ワーク支持部２０の上方から中心軸方向に見て、くの字状を示し、ワーク支持孔２１ｂにおけるワークＷの移動方向後方の側壁部２０２は、ワーク支持部２０の上方から中心軸方向に見て、逆くの字状を示す〔図４（Ａ）、２１ｂ参照〕。ここで、ワーク支持孔２１ｂの長さｃは、好ましくは式（３）：
長さｃ＝（１．５〜２．０）×球面ころの直径Ｄ2        （３）
を満たす長さ、長さｄは、好ましくは式（４）：
長さｄ＝（１．５〜２．０）×球面ころの長さＬ2        （４）
を満たす長さ、長さｅは、好ましくは式（５）：
長さｅ＝１／２ｄ                                    （５）
を満たす長さである。また、図４（Ａ）において、角度αおよびβは、好ましくは１〜１０°である。なお、ワーク支持孔２１ｂを側面から見た場合、側壁部の傾斜角度γおよびδは、好ましくは０〜３０°、より好ましくは０〜１５℃である〔図４（Ｂ）参照〕。一方、ワーク支持孔２１ｃにおけるワークＷの移動方向前方の側壁部２０３およびワークＷの移動方向後方の側壁部２０４には、Ｒがつけられている〔図４（Ａ）、２１ｃ参照〕。このとき、図４（Ａ）において、ワーク支持孔２１ｂの長さｆは、好ましくは式（６）：
長さｆ＝（２．０〜３．０）×球面ころの直径Ｄ2        （６）
を満たす長さ、長さｇは、好ましくは式（７）：
長さｇ＝（２．５〜３．０）×球面ころの長さＬ2        （７）
を満たす長さ、側壁部２０３，２０４の曲率は、好ましくは式（８）：
曲率＝（１．０〜１．５９）×球面ころの曲率Ｒ2        （８）
を満たす曲率である。また、図４（Ａ）において、角度εは、好ましくは１５〜３０°である。
【００７６】
また、ワークＷが玉用ワークである場合、ワーク支持孔として、図４（Ａ）のワーク支持孔２１ｄが例示されるが、本発明は、かかる例示のみに限定されるものではない。ワーク支持孔２１ｄにおける中心軸側の角部２０５，２０６には、Ｒがつけられている〔図４（Ａ）、２１ｄ参照〕。このとき、図４（Ａ）において、ワーク支持孔２１ｄの長さｈは、好ましくは式（９）：
長さｈ＝（２．０〜３．０）×玉の直径Ｄ3              （９）
を満たす長さ、長さｉは、好ましくは式（１０）：
長さｉ＝（２．０〜３．０）×玉の直径Ｄ3              （１０）
を満たす長さ、角部２０５，２０６の曲率は、好ましくは式（１１）：
曲率≧玉の直径Ｄ3／２                                （１１）
を満たす曲率である。また、図５（Ａ）において、角度ζは、好ましくは１０〜２０°である。
【００７７】
さらに、ワークＷが円錐ころ用ワークである場合、ワーク支持孔として、図４（Ａ）のワーク支持孔２１ｅが例示されるが、本発明は、かかる例示のみに限定されるものではない。ワーク支持孔２１ｅは、中心軸側から外側に向かって縮径している〔図４（Ａ）、２１ｅ参照〕。このとき、図４（Ａ）において、ワーク支持孔２１ｅの長さｊは、好ましくは式（１２）：
長さｊ＝（１．０〜２．０）×円錐ころの小端径Ｄ4      （１２）
を満たす長さ、長さｋは、好ましくは式（１３）：
長さｋ＝（２．０〜２．５）×円錐ころの大端径Ｄ5      （１３）
を満たす長さ、長さｌは、好ましくは式（１４）：
長さｌ＝（３．０〜４．０）×円錐ころの長さＬ4      （１４）
を満たす長さである。また、図４（Ａ）において、角度ηは、好ましくは１０〜２０°、角度θは、好ましくは１０〜２０°である。
【００７８】
本発明においては、研磨装置１の研磨パッド３０における溝３３のパターンは、直線以外に、放物線、２次曲線、渦巻き線、対数渦巻き線、インボリュート曲線、サイクロイド曲線、正弦曲線、余弦曲線などの曲線；楕円；円などによって形成されていてもよい。
【００７９】
本発明においては、ワークの自重によって自由落下するときの底パッドとの圧力を負荷に変えやすくするべく、容器１０を水平面に対して２０〜４０°傾斜させてもよい。この場合、ワークＷの回転および揺動をより大きくして研磨効率を高める観点から、ワーク支持部２０を設けず、研磨パッド３０の直径よりも小さい直径を有する容器１０を研磨パッド３０と独立して回転することができるように当該研磨パッド３０上に設けてもよい。
【００８０】
また、本発明においては、微小部品を効率よく研磨すべく、容器１０を水平面に対して２０〜４０°傾斜させるとともに、ワーク支持部２０の代わりに、ワークＷを研磨パッド３０に押し付けるワーク押圧部を研磨パッド３０と独立して回転することができるように当該研磨パッド３０上に設けてもよい。
【００８１】
以上説明したように、本発明によれば、金属製のワークを高い研磨効率で低い表面粗さにまで研磨することができることから、低い表面粗さおよび高い精度が求められる金属部材などの製造を製造することができる。したがって、本発明の転動体の製造方法、ワークの研磨方法、研磨液および研磨装置は、油圧機器、工作機械、繊維機械、建築機械、半導体製造装置などの産業機械、自動車、飛行機、船舶、電気電子製品などに用いられる部材の製造に有用である。
【実施例】
【００８２】
つぎに、本発明を実施例に基づいてさらに詳細に説明するが、本発明は、かかる実施例のみに限定されるものではない。
【００８３】
（実施例１）
酸化アルミニウムからなる粒子径１０００ｎｍの砥粒〔（株）フジミインコーポレーテッド製、商品名：ホワイトフューズドアルミナ〕７．８９ｇ（研磨液中における濃度：５質量％）と、酸化アルミニウムからなる粒子径４０００ｎｍの砥粒〔（株）フジミインコーポレーテッド製、商品名：ホワイトフューズドアルミナ〕７．８９ｇ（研磨液中における濃度：５質量％）と、二酸化チタンからなる粒子径１８０ｎｍの光触媒粒子〔石原テクノ（株）製、商品名：光触媒用酸化チタンＳＴ−４１〕（研磨液中における濃度：５質量％）と、蛍光材料〔１Ｈ−ベンジミダゾリウム，２−［７−（ジエチルアミノ）−２−オキソ−２Ｈ−１−ベンゾピラン−３−イル］−１，３−ジメチル−，クロライド、一般式（Ｉ）において、Ｒ1およびＲ2がメチル基であり、Ｒ3およびＲ4がエチル基であり、かつＸが塩素原子である化合物（保土ヶ谷化学工業（株）製、商品名：Ｃａｔｈｉｌｏｎ  Ｂｒｉｌｌｉａｎｔ  Ｆｌａｖｉｎｅ  ＧＦＨ）〕０．７５４ｇ（研磨液中における濃度：０．５質量％）と、精製水１５０ｇとを混合して研磨液（ｐＨ５．６３）を得た。
【００８４】
（製造例１）
純銅（組成：銅９９％）からなる材料を引き抜き加工およびアールバイト〔住友電工（株）製、商品名：ダイヤモンドバイトＤＡ１０００〕による切削加工によって加工して、直径１５ｍｍおよび長さ２５ｍｍの円筒ころ用ワークを得た。得られた円筒ころ用ワークの転がり摺動面を形成する部分の算術平均粗さＲａおよび最大高さＲｙをサーフテスト〔ミツトヨ（株）製、商品名：ＳＶ−４００〕によって測定した。その結果、円筒ころ用ワークの転がり摺動面を形成する部分の算術平均粗さＲａは０．５６９μｍであり、最大高さＲｙは４．５３μｍであった。
【００８５】
（実施例２）
製造例１で得られた円筒ころ用ワークを、図６に示される研磨部を有する本発明の研磨装置のワーク支持孔にセットし、実施例１で得られた研磨液を用いて当該円筒ころワークの表面を研磨した。なお、研磨条件は、容器の回転数：１００ｍｉｎ-1、円筒ころ用ワークの回転数：２０００ｍｉｎ-1、紫外線強度：０．８ｍＷ／ｃｍ２、研磨時間および光照射時間：１２０分、研磨液の温度：２５℃、ならびに使用した研磨パッドおよび側壁パッド：妙中パイル織物（株）製、商品名：ラビングクロスＹ１５−２３である。実施例２において、研磨前の銅製の円筒ころ用ワークを観察した結果を図９（Ａ）、研磨後の銅製の円筒ころ用ワークを観察した結果を図９（Ｂ）に示す。また、研磨後の円筒ころの転がり摺動面の算術平均粗さＲａおよび最大高さＲｙをサーフテスト〔ミツトヨ（株）製、商品名：ＳＶ−４００〕によって測定した。また、得られた円筒ころについて、下記基準：
（１）前加工の傷が取り除かれている。
（２）得られた金属部材の表面全体にわたって光沢ムラが見られない。
（３）酸化による呈色が見られない。
を満たすかどうかを目視および光学顕微鏡付き走査型レーザ顕微鏡〔レーザテック（株）製：商品名：１ＬＭ−２１〕によって評価した。
【００８６】
図９（Ａ）および（Ｂ）に示された結果から、研磨前の円筒ころ用ワークの表面には、多数の細かい切削痕が存在し、かつ濃茶色の酸化膜が存在していたのに対し、研磨後の円筒ころの表面は、平滑化されていることがわかる。また、研磨後の円筒ころの算術平均粗さＲａは０．１０９μｍであり、最大高さＲｙは１．４６μｍであったことから、低い表面粗さを有する円筒ころが得られたことがわかる。また、得られた円筒ころは、前記基準（１）〜（３）の全てを満たすことから、実用上十分なレベルに達していることがわかる。
【００８７】
（製造例２）
アルミニウム合金（ＡＬ５０５２）からなる材料を引き抜き加工およびダイヤモンドバイト〔住友電工（株）製、商品名：ダイヤモンドバイトＤＡ１０００〕による精密切削加工によって加工して、直径１５ｍｍおよび長さ２５ｍｍの円筒ころ用ワークを得た。得られた円筒ころ用ワークの転がり摺動面を形成する部分の算術平均粗さＲａおよび最大高さＲｙをサーフテスト〔ミツトヨ（株）製、商品名：ＳＶ−４００〕によって測定した。その結果、円筒ころ用ワークの転がり摺動面を形成する部分の算術平均粗さＲａは０．３８６μｍであり、最大高さＲｙは２．１３μｍであった。
【００８８】
（実施例３）
製造例２で得られた円筒ころ用ワークを、図６に示される研磨部を有する本発明の研磨装置のワーク支持孔にセットし、実施例１で得られた研磨液を用いて当該円筒ころワークの表面を研磨した。なお、研磨条件は、容器の回転数：１５０ｍｉｎ-1、円筒ころ用ワークの回転数：６０ｍｉｎ-1、紫外線強度：０．８ｍＷ／ｃｍ２、研磨時間および光照射時間：１２０分、研磨液の温度：２５℃、ならびに使用した研磨パッドおよび側壁パッド：妙中パイル織物（株）製、商品名：ラビングクロスＹ１５−２３である。研磨後の円筒ころの転がり摺動面の算術平均粗さＲａおよび最大高さＲｙをサーフテスト〔ミツトヨ（株）製、商品名：ＳＶ−４００〕によって測定した。また、得られた円筒ころについて、前記基準（１）〜（３）を満たすかどうかを目視および光学顕微鏡付き走査型レーザ顕微鏡〔レーザテック（株）製：商品名：１ＬＭ−２１〕によって評価した。
【００８９】
その結果、研磨後の円筒ころの算術平均粗さＲａは０．１０９μｍであり、最大高さＲｙは０．９８μｍであったことから、低い表面粗さを有する円筒ころが得られたことがわかる。また、得られた円筒ころは、前記基準（１）〜（３）の全てを満たすことから、実用上十分なレベルに達していることがわかる。
【００９０】
（実施例４）
酸化アルミニウムからなる粒子径４０００ｎｍの砥粒〔（株）フジミインコーポレーテッド製、商品名：ホワイトフューズドアルミナ〕１６．７ｇ（研磨液中における濃度：１０質量％）と、二酸化チタンからなる粒子径１８０ｎｍの光触媒粒子〔石原テクノ（株）製、商品名：光触媒用酸化チタンＳＴ−４１〕７．８９ｇ（研磨液中における濃度：５質量％）と、蛍光材料〔１Ｈ−ベンジミダゾリウム，２−［７−（ジエチルアミノ）−２−オキソ−２Ｈ−１−ベンゾピラン−３−イル］−１，３−ジメチル−，クロライド（保土ヶ谷化学工業（株）製、商品名：Ｃａｔｈｉｌｏｎ  Ｂｒｉｌｌｉａｎｔ  Ｆｌａｖｉｎｅ  ＧＦＨ）〕０．７５４ｇ（研磨液中における濃度：０．５質量％）と、精製水１５０ｇとを混合して研磨液（ｐＨ５．６３）を得た。
【００９１】
（製造例３）
チタン（組成：チタン９９．０質量％）からなる材料を引き抜き加工および超硬合金バイト〔東芝タンガロイ（株）製、商品名：タンガロイＴＮＰＬ３２１Ｃ〕による精密切削加工によって加工して、直径１２ｍｍおよび長さ２５ｍｍの円筒ころ用ワークを得た。得られた円筒ころ用ワークの転がり摺動面を形成する部分の算術平均粗さＲａおよび最大高さＲｙをサーフテスト〔ミツトヨ（株）製、商品名：ＳＶ−４００〕によって測定した。その結果、円筒ころ用ワークの転がり摺動面を形成する部分の算術平均粗さＲａは０．６５３μｍであり、最大高さＲｙは３．５６μｍであった。
【００９２】
（実施例５）
製造例３で得られた円筒ころ用ワークを、図６に示される研磨部を有する本発明の研磨装置のワーク支持孔にセットし、実施例４で得られた研磨液を用いて当該円筒ころワークの表面を研磨した。なお、研磨条件は、容器の回転数：１５０ｍｉｎ-1、円筒ころ用ワークの回転数：２０００ｍｉｎ-1、紫外線強度：０．８ｍＷ／ｃｍ２、研磨時間および光照射時間：１２０分、研磨液の温度：２５℃、ならびに使用した研磨パッドおよび側壁パッド：妙中パイル織物（株）製、商品名：ラビングクロスＹ１５−２３である。研磨後の円筒ころの転がり摺動面の算術平均粗さＲａおよび最大高さＲｙをサーフテスト〔ミツトヨ（株）製、商品名：ＳＶ−４００〕によって測定した。また、得られた円筒ころについて、前記基準（１）〜（３）を満たすかどうかを目視および光学顕微鏡付き走査型レーザ顕微鏡〔レーザテック（株）製：商品名：１ＬＭ−２１〕によって評価した。
【００９３】
その結果、研磨後の円筒ころの算術平均粗さＲａは０．３２４μｍであり、最大高さＲｙは１．８９μｍであったことから、低い表面粗さを有する円筒ころが得られたことがわかる。また、得られた円筒ころは、前記基準（１）〜（３）の全てを満たすことから、実用上十分なレベルに達していることがわかる。
【００９４】
（実施例６）
酸化アルミニウムからなる粒子径１０００ｎｍの砥粒〔（株）フジミインコーポレーテッド製、商品名：ホワイトフューズドアルミナ〕１６．７ｇ（研磨液中における濃度：１０質量％）と、二酸化チタンからなる粒子径１８０ｎｍの光触媒粒子〔石原テクノ（株）製、商品名：光触媒用酸化チタンＳＴ−４１〕３．８５ｇ（研磨液中における濃度：２．５質量％）と、蛍光材料〔１Ｈ−ベンジミダゾリウム，２−［７−（ジエチルアミノ）−２−オキソ−２Ｈ−１−ベンゾピラン−３−イル］−１，３−ジメチル−，クロライド（保土ヶ谷化学工業（株）製、商品名：Ｃａｔｈｉｌｏｎ  Ｂｒｉｌｌｉａｎｔ  Ｆｌａｖｉｎｅ  ＧＦＨ）〕３．８５ｇ（研磨液中における濃度：２．５質量％）と、精製水１５０ｇとを混合して研磨液（ｐＨ４．２３）を得た。
【００９５】
（製造例４）
一般構造用鋼ＳＳ４１からなる鋼材を引き抜き加工および精密旋盤〔ワシノ機械（株）製、商品名：ＬＥＯ〕による切削加工によって加工して、直径１２ｍｍおよび長さ１２ｍｍの円筒ころ用ワークを得た。得られた円筒ころ用ワークの転がり摺動面を形成する部分の算術平均粗さＲａおよび最大高さＲｙをサーフテスト〔ミツトヨ（株）製、商品名：ＳＶ−４００〕によって測定した。その結果、円筒ころ用ワークの転がり摺動面を形成する部分の算術平均粗さＲａは０．１９６μｍであり、最大高さＲｙは１．４５３μｍであった。
【００９６】
（実施例７）
製造例４で得られた円筒ころ用ワークを、図６に示される研磨部を有する本発明の研磨装置のワーク支持孔にセットし、実施例６で得られた研磨液を用いて当該円筒ころワークの表面を研磨した。なお、研磨条件は、容器の回転数：１３０〜１５０ｍｉｎ-1、円筒ころ用ワークの回転数：２５００ｍｉｎ-1、紫外線強度：０．８ｍＷ／ｃｍ２、研磨時間および光照射時間：６０分、研磨液の温度：２５℃、使用した研磨パッド：妙中パイル織物（株）製、商品名：ラビングクロスＹ１５−２３、使用した側壁パッド：妙中パイル織物（株）製、商品名：ラビングクロスＹ１５−２０である。実施例７において、研磨前の一般構造用鋼ＳＳ４１製の円筒ころ用ワークを観察した結果を図１０（Ａ）、研磨後の一般構造用鋼ＳＳ４１製の円筒ころを観察した結果を図１０（Ｂ）に示す。研磨後の円筒ころの転がり摺動面の算術平均粗さＲａおよび最大高さＲｙをサーフテスト〔ミツトヨ（株）製、商品名：ＳＶ−４００〕によって測定した。また、得られた円筒ころについて、前記基準（１）〜（３）を満たすかどうかを目視および光学顕微鏡付き走査型レーザ顕微鏡〔レーザテック（株）製：商品名：１ＬＭ−２１〕によって評価した。
【００９７】
図１０（Ａ）および（Ｂ）に示された結果から、研磨前の円筒ころ用ワークの表面には、多数の細かい切削痕が存在していたのに対し、研磨後の円筒ころの表面は、平滑化されていることがわかる。また、研磨後の円筒ころの算術平均粗さＲａは０．０３５６μｍであり、最大高さＲｙは０．６５μｍであったことから、低い表面粗さを有する円筒ころが得られたことがわかる。また、得られた円筒ころは、前記基準（１）〜（３）の全てを満たすことから、実用上十分なレベルに達していることがわかる。
【００９８】
（実施例８）
酸化アルミニウムからなる粒子径１０００ｎｍの砥粒〔（株）フジミインコーポレーテッド製、商品名：ホワイトフューズドアルミナ〕１６．７ｇ（研磨液中における濃度：１０質量％）と、二酸化チタンからなる粒子径１８０ｎｍの光触媒粒子〔石原テクノ（株）製、商品名：光触媒用酸化チタンＳＴ−４１〕７．８９ｇ（研磨液中における濃度：５質量％）と、蛍光材料〔１Ｈ−ベンジミダゾリウム，２−［７−（ジエチルアミノ）−２−オキソ−２Ｈ−１−ベンゾピラン−３−イル］−１，３−ジメチル−，クロライド（保土ヶ谷化学工業（株）製、商品名：Ｃａｔｈｉｌｏｎ  Ｂｒｉｌｌｉａｎｔ  Ｆｌａｖｉｎｅ  ＧＦＨ）〕３．８５ｇ（研磨液中における濃度：２．５質量％）と、精製水１５０ｇとを混合して研磨液（ｐＨ４．２３）を得た。
【００９９】
（製造例５）
軸受鋼ＳＵＪ２からなる鋼材に塑性加工、切削加工、熱処理、研削加工、バレル研磨加工を施して加工して、凸面壁部を有する球面ころの中央部の直径が１９ｍｍおよび長さが１５ｍｍである球面ころ用ワークを得た。得られたワークの算術平均粗さＲａを表面検査機〔テーラーホブソン（株）製、商品名：タリサーフ〕によって測定した。その結果、ワークの算術平均粗さＲａは０．１５０μｍであった。
【０１００】
（実施例９）
製造例５で得られたワークを、図４の２１ｂに示されるワーク支持孔を有する本発明の研磨装置のワーク支持孔にセットし、実施例８で得られた研磨液を用いて当該ワークの表面を研磨した。なお、研磨条件は、容器の回転数：１３０〜１５０ｍｉｎ-1、ワークの回転数：２２００ｍｉｎ-1、紫外線強度：０．８ｍＷ／ｃｍ２、研磨時間および光照射時間：３０分、研磨液の温度：２５℃、ならびに使用した研磨パッド：妙中パイル織物（株）製、商品名：ラビングクロスＹ１５−２３、使用した側壁パッド：妙中パイル織物（株）製、商品名：ラビングクロスＹ１５−２０である。実施例９において、研磨前の軸受鋼ＳＵＪ２製の球面ころ用ワークを観察した結果を図１１（Ａ）、研磨後の軸受鋼ＳＵＪ２製の球面ころを観察した結果を図１１（Ｂ）に示す。研磨後の軸受鋼ＳＵＪ２製の球面の凸面壁部の中央部における算術平均粗さＲａを表面検査機〔テーラーホブソン（株）製、商品名：タリサーフ〕によって測定した。また、得られた球面ころについて、前記基準（１）〜（３）を満たすかどうかを目視および光学顕微鏡付き走査型レーザ顕微鏡〔レーザテック（株）製：商品名：１ＬＭ−２１〕によって評価した。
【０１０１】
図１１（Ａ）および（Ｂ）に示された結果から、研磨前のワークの表面には、多数の細かい切削痕が存在していたのに対し、研磨後の球面ころの表面は、平滑化されていることがわかる。また、研磨後の球面ころの凸面壁部の中央部における算術平均粗さＲａは０．０３５μｍであったことから、低い表面粗さを有する球面ころが得られたことがわかる。なお、ワークの研磨をさらに１５分間行なったところ、研磨後の球面ころの凸面壁部の中央部における算術平均粗さＲａは０．０２８μｍであった。また、得られた球面ころは、前記基準（１）〜（３）の全てを満たすことから、実用上十分なレベルに達していることがわかる。
【０１０２】
（実施例１０）
酸化アルミニウムからなる粒子径１１５００ｎｍの砥粒〔（株）フジミインコーポレーテッド製、商品名：ホワイトフューズドアルミナ〕１６．７ｇ（研磨液中における濃度：１０質量％）と、二酸化チタンからなる粒子径１８０ｎｍの光触媒粒子〔石原テクノ（株）製、商品名：光触媒用酸化チタンＳＴ−４１〕７．８９ｇ（研磨液中における濃度：５質量％）と、蛍光材料〔１Ｈ−ベンジミダゾリウム，２−［７−（ジエチルアミノ）−２−オキソ−２Ｈ−１−ベンゾピラン−３−イル］−１，３−ジメチル−，クロライド（保土ヶ谷化学工業（株）製、商品名：Ｃａｔｈｉｌｏｎ  Ｂｒｉｌｌｉａｎｔ  Ｆｌａｖｉｎｅ  ＧＦＨ）〕３．８５ｇ（研磨液中における濃度：２．５質量％）と、精製水１５０ｇとを混合して研磨液（ｐＨ４．２３）を得た。
【０１０３】
（実施例１１）
酸化アルミニウムからなる粒子径１０００ｎｍの砥粒〔（株）フジミインコーポレーテッド製、商品名：ホワイトフューズドアルミナ〕１６．７ｇ（研磨液中における濃度：１０質量％）と、二酸化チタンからなる粒子径１８０ｎｍの光触媒粒子〔石原テクノ（株）製、商品名：光触媒用酸化チタンＳＴ−４１〕７．８９ｇ（研磨液中における濃度：５質量％）と、蛍光材料〔１Ｈ−ベンジミダゾリウム，２−［７−（ジエチルアミノ）−２−オキソ−２Ｈ−１−ベンゾピラン−３−イル］−１，３−ジメチル−，クロライド（保土ヶ谷化学工業（株）製、商品名：Ｃａｔｈｉｌｏｎ  Ｂｒｉｌｌｉａｎｔ  Ｆｌａｖｉｎｅ  ＧＦＨ）〕３．８５ｇ（研磨液中における濃度：２．５質量％）と、精製水１５０ｇとを混合して研磨液（ｐＨ４．２３）を得た。
【０１０４】
（製造例６）
軸受鋼ＳＵＪ２からなる鋼材に塑性加工、切削加工および研削加工を施して加工して、凸面壁部を有する球面ころの中央部の直径が１９ｍｍおよび長さが１５ｍｍである球面ころ用ワークを得た。得られたワークの算術平均粗さＲａを表面検査機〔テーラーホブソン（株）製、商品名：タリサーフ〕によって測定した。その結果、ワークの算術平均粗さＲａは０．２１９μｍであった。
【０１０５】
（実施例１２）
製造例６で得られたワークを、図４の２１ｂに示されるワーク支持孔を有する本発明の研磨装置のワーク支持孔にセットし、実施例１０で得られた研磨液を用いて当該ワークの表面を研磨した。なお、研磨条件は、容器の回転数：１３０〜１５０ｍｉｎ-1、ワークの回転数：２２００ｍｉｎ-1、紫外線強度：０．８ｍＷ／ｃｍ２、研磨時間および光照射時間：１２０分、研磨液の温度：２５℃、使用した研磨パッド：妙中パイル織物（株）製、商品名：ラビングクロスＹ１５−２３、使用した側壁パッド：妙中パイル織物（株）製、商品名：ラビングクロスＹ１５−２０である。
【０１０６】
つぎに、研磨後のワークの表面を、実施例１１で得られた研磨液を用いて研磨した。なお、研磨条件は、容器の回転数：１３０〜１５０ｍｉｎ-1、ワークの回転数：２２００ｍｉｎ-1、紫外線強度：０．８ｍＷ／ｃｍ２、研磨時間および光照射時間：３０分、研磨液の温度：２５℃、使用した研磨パッド：妙中パイル織物（株）製、商品名：ラビングクロスＹ１５−２３、使用した側壁パッド：妙中パイル織物（株）製、商品名：ラビングクロスＹ１５−２０である。実施例１２において、研磨前の軸受鋼ＳＵＪ２製の球面ころ用ワークを観察した結果を示す図１２（Ａ）、粒子径１１５００ｎｍの砥粒を含む研磨液を用いて研磨した後の軸受鋼ＳＵＪ２製の球面ころ用ワークを観察した結果を図１２（Ｂ）、粒子径１０００ｎｍの砥粒を含む研磨液を用いて研磨した後の軸受鋼ＳＵＪ２製の球面ころを観察した結果を図１２（Ｃ）に示す。また、粒子径１０００ｎｍの砥粒を含む研磨液を用いて研磨した後の軸受鋼ＳＵＪ２製の球面ころの凸面壁部の中央部における算術平均粗さＲａを表面検査機〔テーラーホブソン（株）製、商品名：タリサーフ〕によって測定した。また、得られた球面ころについて、前記基準（１）〜（３）を満たすかどうかを目視および光学顕微鏡付き走査型レーザ顕微鏡〔レーザテック（株）製：商品名：１ＬＭ−２１〕によって評価した。
【０１０７】
図１２（Ａ）〜（Ｃ）に示された結果から、研磨前のワークの表面には、多数の細かい切削痕が存在していたのに対し、研磨が進むほど、球面ころの表面が平滑化されていることがわかる。また、粒子径１０００ｎｍの砥粒を含む研磨液を用いて研磨した後の球面ころの凸面壁部の中央部における算術平均粗さＲａは０．０６１μｍであったことから、低い表面粗さを有する球面ころが得られたことがわかる。また、得られた球面ころは、前記基準（１）〜（３）の全てを満たすことから、実用上十分なレベルに達していることがわかる。
【０１０８】
以上の実施例１〜１２の結果から、本発明の研磨装置および研磨液を用いることにより、転動体に対応するワークを低い表面粗さになるまで効率よく研磨することができることがわかる。また、本発明の研磨装置および研磨液を用いることにより、実用上十分なレベルの部材を得ることができることがわかる。
【０１０９】
（実施例１３）
酸化アルミニウムからなる粒子径１０００ｎｍの砥粒〔（株）フジミインコーポレーテッド製、商品名：ホワイトフューズドアルミナ〕１６．７ｇ（研磨液中における濃度：１０質量％）と、二酸化チタンからなる粒子径１８０ｎｍの光触媒粒子〔石原テクノ（株）製、商品名：光触媒用酸化チタンＳＴ−４１〕３．８５ｇ（研磨液中における濃度：２．５質量％）と、蛍光材料〔１Ｈ−ベンジミダゾリウム，２−［７−（ジエチルアミノ）−２−オキソ−２Ｈ−１−ベンゾピラン−３−イル］−１，３−ジメチル−，クロライド（保土ヶ谷化学工業（株）製、商品名：Ｃａｔｈｉｌｏｎ  Ｂｒｉｌｌｉａｎｔ  Ｆｌａｖｉｎｅ  ＧＦＨ）〕３．８５ｇ（研磨液中における濃度：２．５質量％）と、精製水１５０ｇとを混合して研磨液（ｐＨ４．２３）を得た。
【０１１０】
（製造例７）
機械構造用高炭素鋼Ｓ５５Ｃに塑性加工、切削加工、研削加工、を施し、焼入れ処理（１３００℃、３０分間加熱後水焼入れ）および研磨加工を施して焼入れ鋼からなる鋼材を得た。得られた焼入れ鋼からなる鋼材に研削加工およびバレル研磨加工を施して加工して、直径１６ｍｍの玉用ワークを得た。得られたワークの算術平均粗さＲａおよび最大高さＲｙをサーフテスト〔ミツトヨ（株）製、商品名：ＳＶ−４００〕によって測定した。その結果、ワークの算術平均粗さＲａは０．１２μｍであり、最大高さＲｙは１．５１μｍであった。
【０１１１】
（実施例１４）
製造例７で得られたワークを、図７に示される研磨部を有する本発明の研磨装置のワーク支持孔にセットし、実施例１３で得られた研磨液を用いて当該ワークの表面を研磨した。なお、側壁パッドとして、鋭角状パッドまたは半球状パッドを用いた。また、研磨条件は、容器の回転数：２５０ｍｉｎ-1、ワークの回転数：３５００ｍｉｎ-1、紫外線強度：０．８ｍＷ／ｃｍ２、研磨時間および光照射時間：６０分、研磨液の温度：２５℃、使用した研磨パッド：妙中パイル織物（株）製、商品名：ラビングクロスＹ１５−２３、使用した側壁パッド：妙中パイル織物（株）製、商品名：ラビングクロスＹ１５−２０である。実施例１４において、研磨前の焼入れ鋼製の玉用ワークを観察した結果を示す図１３（Ａ）、鋭角状パッドを用いた場合の研磨後の焼入れ鋼製の玉を観察した結果を図１３（Ｂ）、半球状パッドを用いた場合の研磨後の焼入れ鋼製の玉を観察した結果を図１３（Ｃ）に示す。また、鋭角状パッドを用いた場合の研磨後の焼入れ鋼製の玉および半球状パッドを用いた場合の研磨後の焼入れ鋼製の玉それぞれの算術平均粗さＲａおよび最大高さＲｙをサーフテスト〔ミツトヨ（株）製、商品名：ＳＶ−４００〕によって測定した。また、得られた玉について、前記基準（１）〜（３）を満たすかどうかを目視および光学顕微鏡付き走査型レーザ顕微鏡〔レーザテック（株）製：商品名：１ＬＭ−２１〕によって評価した。
【０１１２】
図１３（Ａ）〜（Ｃ）に示された結果から、研磨前のワークの表面には、多数の細かい切削痕が存在していたのに対し、鋭角状パッドまたは半球状パッドを用いた場合の研磨後の焼入れ鋼製の玉の表面は、平滑化されていることがわかる。また、鋭角状パッドを用いた場合の研磨後の焼入れ鋼製の玉の算術平均粗さＲａは０．０４３μｍ、最大高さＲｙは０．５１μｍであり、半球状パッドを用いた場合の研磨後の焼入れ鋼製の玉の算術平均粗さＲａは０．０５１μｍ、最大高さＲｙは０．６２μｍであったことから、低い表面粗さを有する玉が得られたことがわかる。また、得られた玉は、前記基準（１）〜（３）の全てを満たすことから、実用上十分なレベルに達していることがわかる。
【０１１３】
（実施例１５）
酸化アルミニウムからなる粒子径１１５００ｎｍの砥粒〔フジミインコーポレーテッド（株）製、商品名：ホワイトフューズッドアルミナ〕１６．７ｇ（研磨液中における濃度：１０質量％）と、二酸化チタンからなる粒子径１８０ｎｍの光触媒粒子〔石原テクノ（株）製、商品名：光触媒用酸化チタンＳＴ−４１〕３．８５ｇ（研磨液中における濃度：２．５質量％）と、蛍光材料〔１Ｈ−ベンジミダゾリウム，２−［７−（ジエチルアミノ）−２−オキソ−２Ｈ−１−ベンゾピラン−３−イル］−１，３−ジメチル−，クロライド（保土ヶ谷化学工業（株）製、商品名：Ｃａｔｈｉｌｏｎ  Ｂｒｉｌｌｉａｎｔ  Ｆｌａｖｉｎｅ  ＧＦＨ）〕３．８５ｇ（研磨液中における濃度：２．５質量％）と、精製水１５０ｇとを混合して研磨液（ｐＨ４．２３）を得た。
【０１１４】
（実施例１６）
実施例１４において、実施例１３で得られた研磨液を用いる代わりに実施例１５で得られた研磨液を用いたことを除き、実施例１４と同様の操作を行ない、玉を得た。実施例１６において、鋭角状パッドを用いた場合の研磨後の焼入れ鋼製の玉を観察した結果を図１４に示す。また、得られた玉について、前記基準（１）〜（３）を満たすかどうかを目視および光学顕微鏡付き走査型レーザ顕微鏡〔レーザテック（株）製：商品名：１ＬＭ−２１〕によって評価した。
【０１１５】
図１４に示された結果から、得られた玉は、実施例１４で得られた玉と同様に、低い表面粗さを有していることがわかる。また、得られた玉は、前記基準（１）〜（３）の全てを満たすことから、実用上十分なレベルに達していることがわかる。
【０１１６】
（比較例１）
酸化アルミニウムからなる粒子径３００ｎｍの粒子〔フジミインコーポレーテッド（株）製、商品名：ホワイトフューズッドアルミナ〕３７．５ｇ（研磨液中における濃度：２０質量％）と、蛍光材料〔１Ｈ−ベンジミダゾリウム，２−［７−（ジエチルアミノ）−２−オキソ−２Ｈ−１−ベンゾピラン−３−イル］−１，３−ジメチル−，クロライド（保土ヶ谷化学工業（株）製、商品名：Ｃａｔｈｉｌｏｎ  Ｂｒｉｌｌｉａｎｔ  Ｆｌａｖｉｎｅ  ＧＦＨ）〕０．７５ｇ（研磨液中における濃度：０．５質量％）と、精製水１５０ｇとを混合して研磨液（ｐＨ５．６３）を得た。
【０１１７】
（比較例２）
二酸化チタンからなる粒子径１００ｎｍの粒子〔ホソカワミクロン（株）製、商品名：酸化チタン〕３７．５ｇ（研磨液中における濃度：２０質量％）と、蛍光材料〔１Ｈ−ベンジミダゾリウム，２−［７−（ジエチルアミノ）−２−オキソ−２Ｈ−１−ベンゾピラン−３−イル］−１，３−ジメチル−，クロライド（保土ヶ谷化学工業（株）製、商品名：Ｃａｔｈｉｌｏｎ  Ｂｒｉｌｌｉａｎｔ  Ｆｌａｖｉｎｅ  ＧＦＨ）〕０．７５ｇ（研磨液中における濃度：０．５質量％）と、精製水１５０ｇとを混合して研磨液（ｐＨ５．６３）を得た。
【０１１８】
（比較例３）
実施例１４において、実施例１３で得られた研磨液を用いる代わりに比較例１で得られた研磨液を用いたことを除き、実施例１４と同様の操作を行なった。比較例３において、研磨前の焼入れ鋼製の玉用ワークを観察した結果を示す図１５（Ａ）、鋭角状パッドを用いた場合の研磨後の焼入れ鋼製の玉を観察した結果を図１５（Ｂ）に示す。また、得られた玉について、前記基準（１）〜（３）を満たすかどうかを目視および光学顕微鏡付き走査型レーザ顕微鏡〔レーザテック（株）製：商品名：１ＬＭ−２１〕によって評価した。
【０１１９】
図１５に示された結果から、玉の表面は、研磨されておらず、酸化して黒色化していることがわかる。したがって、得られた玉は、前記基準のいずれも満たさず、実用上不十分であることがわかる。
【０１２０】
（比較例４）
実施例１４において、実施例１３で得られた研磨液を用いる代わりに比較例２で得られた研磨液を用いたことを除き、実施例１４と同様の操作を行なった。得られた玉について、前記基準（１）〜（３）を満たすかどうかを目視および光学顕微鏡付き走査型レーザ顕微鏡〔レーザテック（株）製：商品名：１ＬＭ−２１〕によって評価した。その結果、玉の表面は、研磨されておらず、酸化して黒色化していた。したがって、得られた玉は、前記基準のいずれも満たさず、実用上不十分であることがわかる。
【０１２１】
（比較例５）
酸化アルミニウムからなる粒子径３００ｎｍの粒子〔フジミインコーポレーテッド（株）製、商品名：ホワイトフューズッドアルミナ〕１６．７ｇ（研磨液中における濃度：１０質量％）と、二酸化チタンからなる粒子径１００ｎｍの粒子（ホソカワミクロン（株）製、商品名：酸化チタン）３．８５ｇ（研磨液中における濃度：２．５質量％）と、蛍光材料〔１Ｈ−ベンジミダゾリウム，２−［７−（ジエチルアミノ）−２−オキソ−２Ｈ−１−ベンゾピラン−３−イル］−１，３−ジメチル−，クロライド（保土ヶ谷化学工業（株）製、商品名：Ｃａｔｈｉｌｏｎ  Ｂｒｉｌｌｉａｎｔ  Ｆｌａｖｉｎｅ  ＧＦＨ）〕３．８５ｇ（研磨液中における濃度：２．５質量％）と、精製水１５０ｇとを混合して研磨液（ｐＨ４．２３）を得た。
【０１２２】
（比較例６）
実施例１４において、実施例１３で得られた研磨液を用いる代わりに比較例５で得られた研磨液を用いたことを除き、実施例１４と同様の操作を行なった。比較例６において、研磨前の焼入れ鋼製の玉用ワークを観察した結果を示す図１６（Ａ）、鋭角状パッドを用いた場合の研磨後の焼入れ鋼製の玉を観察した結果を図１６（Ｂ）に示す。また、得られた玉について、前記基準（１）〜（３）を満たすかどうかを目視および光学顕微鏡付き走査型レーザ顕微鏡〔レーザテック（株）製：商品名：１ＬＭ−２１〕によって評価した。
【０１２３】
図１６に示された結果から、玉の表面は、研磨されておらず、酸化して黒色化していることがわかる。したがって、得られた玉は、前記基準のいずれも満たさず、実用上不十分であることがわかる。
【０１２４】
（比較例７）
酸化アルミニウムからなる粒子径１０００ｎｍの粒子〔フジミインコーポレーテッド（株）製、商品名：ホワイトフューズッドアルミナ〕５．２６ｇ（研磨液中における濃度：５質量％）と、二酸化チタンからなる粒子径１００ｎｍの粒子（ホソカワミクロン（株）製、商品名：酸化チタン）１１．１ｇ（研磨液中における濃度：１０質量％）と、蛍光材料〔１Ｈ−ベンジミダゾリウム，２−［７−（ジエチルアミノ）−２−オキソ−２Ｈ−１−ベンゾピラン−３−イル］−１，３−ジメチル−，クロライド（保土ヶ谷化学工業（株）製、商品名：Ｃａｔｈｉｌｏｎ  Ｂｒｉｌｌｉａｎｔ  Ｆｌａｖｉｎｅ  ＧＦＨ）〕８．０１ｇ（研磨液中における濃度：７．５質量％）と、精製水１００ｇとを混合して研磨液（ｐＨ４．２３）を得た。
【０１２５】
（比較例８）
実施例９において、実施例８で得られた研磨液を用いる代わりに比較例７で得られた研磨液を用いたことを除き、実施例９と同様の操作を行なった。比較例８において、研磨前の軸受鋼ＳＵＪ２製の球面ころ用ワークを観察した結果を図１７（Ａ）、研磨後の軸受鋼ＳＵＪ２製の球面ころを観察した結果を図１７（Ｂ）に示す。また、得られた球面ころについて、前記基準（１）〜（３）を満たすかどうかを目視および光学顕微鏡付き走査型レーザ顕微鏡〔レーザテック（株）製：商品名：１ＬＭ−２１〕によって評価した。
【０１２６】
図１７（Ａ）および（Ｂ）に示された結果から、球面ころの表面は、酸化して黒色化していることがわかる。したがって、得られた球面ころは、前記基準のいずれも満たさず、実用上不十分であることがわかる。
【０１２７】
（実施例１７）
（１）研磨液の調製
酸化アルミニウムからなる粒子径１０００ｎｍの砥粒〔（株）フジミインコーポレーテッド製、商品名：ホワイトフューズドアルミナ〕７．８９ｇ（研磨液中における濃度：５質量％）と、二酸化チタンからなる粒子径１８０ｎｍの光触媒粒子〔石原テクノ（株）製、商品名：光触媒用酸化チタンＳＴ−４１〕７．８９ｇ（研磨液中における濃度：５質量％）と、蛍光材料〔１Ｈ−ベンジミダゾリウム，２−［７−（ジエチルアミノ）−２−オキソ−２Ｈ−１−ベンゾピラン−３−イル］−１，３−ジメチル−，クロライド（保土ヶ谷化学工業（株）製、商品名：Ｃａｔｈｉｌｏｎ  Ｂｒｉｌｌｉａｎｔ  Ｆｌａｖｉｎｅ  ＧＦＨ）〕３．８５ｇ（研磨液中における濃度：２．５質量％）と、精製水１５０ｇとを混合して研磨液（ｐＨ４．２３）を得た。
【０１２８】
（２）円筒ころ用ワークの研磨
軸受鋼ＳＵＪ２製の円筒ころ用ワーク〔（株）東振精機、外径：１９ｍｍ、ころ長さ：１９ｍｍの超仕上げ加工された円筒ころ用ワーク（算術平均粗さＲａ：０．０２３６μｍ、最大高さＲｙ：０．４８１μｍ）〕を、図４の２１ｂに示されるワーク支持孔を有する本発明の研磨装置のワーク支持孔にセットし、前記（１）で得られた研磨液を用いて当該ワークの表面を研磨した。なお、研磨条件は、容器の回転数：１３０〜１５０ｍｉｎ-1、ワークの回転数：２２００ｍｉｎ-1、紫外線強度：０．８ｍＷ／ｃｍ２、研磨時間および光照射時間：９０分、研磨液の温度：２５℃、ならびに使用した研磨パッド：妙中パイル織物（株）製、商品名：ラビングクロスＹ１５−２３、使用した側壁パッド：妙中パイル織物（株）製、商品名：ラビングクロスＹ１５−２０である。実施例１７において、研磨前の軸受鋼ＳＵＪ２製の円筒ころ用ワークを観察した結果を図１８（Ａ）、研磨後の軸受鋼ＳＵＪ２製の円筒ころを観察した結果を図１８（Ｂ）に示す。研磨後の軸受鋼ＳＵＪ２製の円筒ころの転がり摺動面の算術平均粗さＲａをサーフテスト〔ミツトヨ（株）製、商品名：ＳＶ−４００〕によって測定した。また、得られた円筒ころについて、前記基準（１）〜（３）を満たすかどうかを目視および光学顕微鏡付き走査型レーザ顕微鏡〔レーザテック（株）製：商品名：１ＬＭ−２１〕によって評価した。
【０１２９】
図１８（Ａ）および（Ｂ）に示された結果から、研磨前のワークの表面には、多数の深い切削痕が存在していたのに対し、研磨後の円筒ころの表面は、平滑化されていることがわかる。また、研磨後の円筒ころの転がり摺動面における算術平均粗さＲａは０．０１２９μｍであり、最大高さＲｙは０．２３０μｍであったことから、低い表面粗さを有する円筒ころが得られたことがわかる。また、得られた円筒ころは、前記基準（１）〜（３）の全てを満たすことから、実用上十分なレベルに達していることがわかる。
【０１３０】
（実施例１８）
（１）研磨液の調製
酸化アルミニウムからなる粒子径１０００ｎｍの砥粒〔（株）フジミインコーポレーテッド製、商品名：ホワイトフューズドアルミナ〕７．８９ｇ（研磨液中における濃度：５質量％）と、二酸化チタンからなる粒子径１５０ｎｍの光触媒粒子〔昭和電工(株)製、商品名：スーパータイタニアＦ−１０〕７．８９ｇ（研磨液中における濃度：５質量％）と、蛍光材料〔１Ｈ−ベンジミダゾリウム，２−［７−（ジエチルアミノ）−２−オキソ−２Ｈ−１−ベンゾピラン−３−イル］−１，３−ジメチル−，クロライド（保土ヶ谷化学工業（株）製、商品名：Ｃａｔｈｉｌｏｎ  Ｂｒｉｌｌｉａｎｔ  Ｆｌａｖｉｎｅ  ＧＦＨ）〕３．８５ｇ（研磨液中における濃度：２．５質量％）と、精製水１５０ｇとを混合して研磨液（ｐＨ４．２３）を得た。
【０１３１】
（２）円筒ころ用ワークの研磨
軸受鋼ＳＵＪ２製の円筒ころ用ワーク〔（株）東振精機、外径：１９ｍｍ、ころ長さ：１９ｍｍの超仕上げ加工された円筒ころ用ワーク（算術平均粗さＲａ：０．０２７２μｍ、最大高さＲｙ：０．５６３μｍ）〕を、図４の２１ｂに示されるワーク支持孔を有する本発明の研磨装置のワーク支持孔にセットし、前記（１）で得られた研磨液を用いて当該ワークの表面を研磨した。なお、研磨条件は、容器の回転数：１３０〜１５０ｍｉｎ-1、ワークの回転数：２２００ｍｉｎ-1、紫外線強度：０．８ｍＷ／ｃｍ２、研磨時間および光照射時間：９０分、研磨液の温度：２５℃、ならびに使用した研磨パッド：妙中パイル織物（株）製、商品名：ラビングクロスＹ１５−２３、使用した側壁パッド：妙中パイル織物（株）製、商品名：ラビングクロスＹ１５−２０である。実施例１８において、研磨前の軸受鋼ＳＵＪ２製の円筒ころ用ワークを観察した結果を図１９（Ａ）、研磨後の軸受鋼ＳＵＪ２製の円筒ころを観察した結果を図１９（Ｂ）に示す。研磨後の軸受鋼ＳＵＪ２製の円筒ころの転がり摺動面の算術平均粗さＲａをサーフテスト〔ミツトヨ（株）製、商品名：ＳＶ−４００〕によって測定した。また、得られた円筒ころについて、前記基準（１）〜（３）を満たすかどうかを目視および光学顕微鏡付き走査型レーザ顕微鏡〔レーザテック（株）製：商品名：１ＬＭ−２１〕によって評価した。
【０１３２】
図１９（Ａ）および（Ｂ）に示された結果から、研磨前のワークの表面には、多数の深い切削痕が存在していたのに対し、研磨後の円筒ころの表面は、平滑化されていることがわかる。また、研磨後の円筒ころの転がり摺動面における算術平均粗さＲａは０．０１２４μｍであり、最大高さＲｙは０．２８８μｍであったことから、低い表面粗さを有する円筒ころが得られたことがわかる。また、得られた円筒ころは、前記基準（１）〜（３）の全てを満たすことから、実用上十分なレベルに達していることがわかる。
【０１３３】
（実施例１９）
（１）研磨液の調製
酸化アルミニウムからなる粒子径１０００ｎｍの砥粒〔（株）フジミインコーポレーテッド製、商品名：ホワイトフューズドアルミナ〕７．８９ｇ（研磨液中における濃度：５質量％）と、二酸化チタンからなる粒子径２５０ｎｍの光触媒粒子〔昭和電工（株）製、商品名：スーパータイタニアＧ−１〕７．８９ｇ（研磨液中における濃度：５質量％）と、蛍光材料〔１Ｈ−ベンジミダゾリウム，２−［７−（ジエチルアミノ）−２−オキソ−２Ｈ−１−ベンゾピラン−３−イル］−１，３−ジメチル−，クロライド（保土ヶ谷化学工業（株）製、商品名：Ｃａｔｈｉｌｏｎ  Ｂｒｉｌｌｉａｎｔ  Ｆｌａｖｉｎｅ  ＧＦＨ）〕３．８５ｇ（研磨液中における濃度：２．５質量％）と、精製水１５０ｇとを混合して研磨液（ｐＨ４．２３）を得た。
【０１３４】
（２）円筒ころ用ワークの研磨
軸受鋼ＳＵＪ２製の円筒ころ用ワーク〔（株）東振精機、外径：１９ｍｍ、ころ長さ：１９ｍｍの超仕上げ加工された円筒ころ用ワーク（算術平均粗さＲａ：０．０２６６μｍ、最大高さＲｙ：０．４６０μｍ）〕を、図４の２１ｂに示されるワーク支持孔を有する本発明の研磨装置のワーク支持孔にセットし、前記（１）で得られた研磨液を用いて当該ワークの表面を研磨した。なお、研磨条件は、容器の回転数：１３０〜１５０ｍｉｎ-1、ワークの回転数：２２００ｍｉｎ-1、紫外線強度：０．８ｍＷ／ｃｍ２、研磨時間および光照射時間：９０分、研磨液の温度：２５℃、ならびに使用した研磨パッド：妙中パイル織物（株）製、商品名：ラビングクロスＹ１５−２３、使用した側壁パッド：妙中パイル織物（株）製、商品名：ラビングクロスＹ１５−２０である。実施例１９において、研磨前の軸受鋼ＳＵＪ２製の円筒ころ用ワークを観察した結果を図２０（Ａ）、研磨後の軸受鋼ＳＵＪ２製の円筒ころを観察した結果を図２０（Ｂ）に示す。研磨後の軸受鋼ＳＵＪ２製の円筒ころの転がり摺動面の算術平均粗さＲａをサーフテスト〔ミツトヨ（株）製、商品名：ＳＶ−４００〕によって測定した。また、得られた円筒ころについて、前記基準（１）〜（３）を満たすかどうかを目視および光学顕微鏡付き走査型レーザ顕微鏡〔レーザテック（株）製：商品名：１ＬＭ−２１〕によって評価した。
【０１３５】
図２０（Ａ）および（Ｂ）に示された結果から、研磨前のワークの表面には、多数の深い切削痕が存在していたのに対し、研磨後の円筒ころの表面は、平滑化されていることがわかる。また、研磨後の円筒ころの転がり摺動面の中央部における算術平均粗さＲａは０．０１３μｍであり、最大高さＲｙは０．２６６μｍであったことから、低い表面粗さを有する円筒ころが得られたことがわかる。また、得られた円筒ころは、前記基準（１）〜（３）の全てを満たすことから、実用上十分なレベルに達していることがわかる。
【０１３６】
（実施例２０）
（１）研磨液の調製
酸化アルミニウムからなる粒子径１０００ｎｍの砥粒〔（株）フジミインコーポレーテッド製、商品名：ホワイトフューズドアルミナ〕７．８９ｇ（研磨液中における濃度：５質量％）と、二酸化チタンからなる粒子径３００−５００ｎｍの光触媒粒子〔チタン工業（株）製、商品名：ＫＲＯＮＯＳ  ＫＡ−１０〕７．８９ｇ（研磨液中における濃度：５質量％）と、蛍光材料〔１Ｈ−ベンジミダゾリウム，２−［７−（ジエチルアミノ）−２−オキソ−２Ｈ−１−ベンゾピラン−３−イル］−１，３−ジメチル−，クロライド（保土ヶ谷化学工業（株）製、商品名：Ｃａｔｈｉｌｏｎ  Ｂｒｉｌｌｉａｎｔ  Ｆｌａｖｉｎｅ  ＧＦＨ）〕３．８５ｇ（研磨液中における濃度：２．５質量％）と、精製水１５０ｇとを混合して研磨液（ｐＨ４．２３）を得た。
【０１３７】
（２）円筒ころ用ワークの研磨
軸受鋼ＳＵＪ２製の円筒ころ用ワーク〔（株）東振精機、外径：１９ｍｍ、ころ長さ：１９ｍｍの超仕上げ加工された円筒ころ用ワーク（算術平均粗さＲａ：０．０２３３μｍ、最大高さＲｙ：０．４８７μｍ）〕を、図４の２１ｂに示されるワーク支持孔を有する本発明の研磨装置のワーク支持孔にセットし、前記（１）で得られた研磨液を用いて当該ワークの表面を研磨した。なお、研磨条件は、容器の回転数：１３０〜１５０ｍｉｎ-1、ワークの回転数：２２００ｍｉｎ-1、紫外線強度：０．８ｍＷ／ｃｍ２、研磨時間および光照射時間：９０分、研磨液の温度：２５℃、ならびに使用した研磨パッド：妙中パイル織物（株）製、商品名：ラビングクロスＹ１５−２３、使用した側壁パッド：妙中パイル織物（株）製、商品名：ラビングクロスＹ１５−２０である。実施例２０において、研磨前の軸受鋼ＳＵＪ２製の円筒ころ用ワークを観察した結果を図２１（Ａ）、研磨後の軸受鋼ＳＵＪ２製の円筒ころを観察した結果を図２１（Ｂ）に示す。研磨後の軸受鋼ＳＵＪ２製の円筒ころの転がり摺動面の算術平均粗さＲａをサーフテスト〔ミツトヨ（株）製、商品名：ＳＶ−４００〕によって測定した。また、得られた円筒ころについて、前記基準（１）〜（３）を満たすかどうかを目視および光学顕微鏡付き走査型レーザ顕微鏡〔レーザテック（株）製：商品名：１ＬＭ−２１〕によって評価した。
【０１３８】
図２１（Ａ）および（Ｂ）に示された結果から、研磨前のワークの表面には、多数の深い切削痕が存在していたのに対し、研磨後の円筒ころの表面は、平滑化されていることがわかる。また、研磨後の円筒ころの転がり摺動面の中央部における算術平均粗さＲａは０．００１２８μｍであり、最大高さＲｙは０．２６６μｍであったことから、低い表面粗さを有する円筒ころが得られたことがわかる。また、得られた円筒ころは、前記基準（１）〜（３）の全てを満たすことから、実用上十分なレベルに達していることがわかる。
【０１３９】
（比較例９）
（１）研磨液の調製
酸化アルミニウムからなる粒子径１０００ｎｍの砥粒〔（株）フジミインコーポレーテッド製、商品名：ホワイトフューズドアルミナ〕７．８９ｇ（研磨液中における濃度：５質量％）と、二酸化チタンからなる粒子径３０ｎｍの光触媒粒子〔テイカ（株）製、商品名：二酸化チタンＡＭＴ−６００〕７．８９ｇ（研磨液中における濃度：５質量％）と、蛍光材料〔１Ｈ−ベンジミダゾリウム，２−［７−（ジエチルアミノ）−２−オキソ−２Ｈ−１−ベンゾピラン−３−イル］−１，３−ジメチル−，クロライド（保土ヶ谷化学工業（株）製、商品名：Ｃａｔｈｉｌｏｎ  Ｂｒｉｌｌｉａｎｔ  Ｆｌａｖｉｎｅ  ＧＦＨ）〕３．８５ｇ（研磨液中における濃度：２．５質量％）と、精製水１５０ｇとを混合して研磨液（ｐＨ４．２３）を得た。
【０１４０】
（２）円筒ころ用ワークの研磨
軸受鋼ＳＵＪ２製の円筒ころ用ワーク〔（株）東振精機、外径：１９ｍｍ、ころ長さ：１９ｍｍの超仕上げ加工された円筒ころ用ワーク（算術平均粗さＲａ：０．０２６９μｍ、最大高さＲｙ：０．４６４μｍ）〕を、図４の２１ｂに示されるワーク支持孔を有する本発明の研磨装置のワーク支持孔にセットし、前記（１）で得られた研磨液を用いて当該ワークの表面を研磨した。なお、研磨条件は、容器の回転数：１３０〜１５０ｍｉｎ-1、ワークの回転数：２２００ｍｉｎ-1、紫外線強度：０．８ｍＷ／ｃｍ２、研磨時間および光照射時間：９０分、研磨液の温度：２５℃、ならびに使用した研磨パッド：妙中パイル織物（株）製、商品名：ラビングクロスＹ１５−２３、使用した側壁パッド：妙中パイル織物（株）製、商品名：ラビングクロスＹ１５−２０である。比較例９において、研磨前の軸受鋼ＳＵＪ２製の円筒ころ用ワークを観察した結果を図２２（Ａ）、研磨後の軸受鋼ＳＵＪ２製の円筒ころを観察した結果を図２２（Ｂ）に示す。また、得られた円筒ころについて、前記基準（１）〜（３）を満たすかどうかを目視および光学顕微鏡付き走査型レーザ顕微鏡〔レーザテック（株）製：商品名：１ＬＭ−２１〕によって評価した。
【０１４１】
図２２（Ａ）および（Ｂ）に示された結果から、研磨前のワークの表面および研磨後の円筒ころの表面ともに、多数の細かい切削痕が存在していることがわかる。したがって、得られた円筒ころは、前記基準（１）を満たさず、実用上不十分であることがわかる。
【０１４２】
（比較例１０）
（１）研磨液の調製
酸化アルミニウムからなる粒子径１０００ｎｍの砥粒〔（株）フジミインコーポレーテッド製、商品名：ホワイトフューズドアルミナ〕７．８９ｇ（研磨液中における濃度：５質量％）と、二酸化チタンからなる粒子径１００ｎｍの光触媒粒子〔ホソカワミクロン（株）製、商品名：二酸化チタン〕７．８９ｇ（研磨液中における濃度：５質量％）と、蛍光材料〔１Ｈ−ベンジミダゾリウム，２−［７−（ジエチルアミノ）−２−オキソ−２Ｈ−１−ベンゾピラン−３−イル］−１，３−ジメチル−，クロライド（保土ヶ谷化学工業（株）製、商品名：Ｃａｔｈｉｌｏｎ  Ｂｒｉｌｌｉａｎｔ  Ｆｌａｖｉｎｅ  ＧＦＨ）〕３．８５ｇ（研磨液中における濃度：２．５質量％）と、精製水１５０ｇとを混合して研磨液（ｐＨ４．２３）を得た。
【０１４３】
（２）円筒ころ用ワークの研磨
軸受鋼ＳＵＪ２製の円筒ころ用ワーク〔（株）東振精機、外径：１９ｍｍ、ころ長さ：１９ｍｍの超仕上げ加工された円筒ころ用ワーク（算術平均粗さＲａ：０．０２６８μｍ、最大高さＲｙ：０．５８０μｍ）〕を、図４の２１ｂに示されるワーク支持孔を有する本発明の研磨装置のワーク支持孔にセットし、前記（１）で得られた研磨液を用いて当該ワークの表面を研磨した。なお、研磨条件は、容器の回転数：１３０〜１５０ｍｉｎ-1、ワークの回転数：２２００ｍｉｎ-1、紫外線強度：０．８ｍＷ／ｃｍ２、研磨時間および光照射時間：９０分、研磨液の温度：２５℃、ならびに使用した研磨パッド：妙中パイル織物（株）製、商品名：ラビングクロスＹ１５−２３、使用した側壁パッド：妙中パイル織物（株）製、商品名：ラビングクロスＹ１５−２０である。比較例１０において、研磨前の軸受鋼ＳＵＪ２製の円筒ころ用ワークを観察した結果を図２３（Ａ）、研磨後の軸受鋼ＳＵＪ２製の円筒ころを観察した結果を図２３（Ｂ）に示す。また、得られた円筒ころについて、前記基準（１）〜（３）を満たすかどうかを目視および光学顕微鏡付き走査型レーザ顕微鏡〔レーザテック（株）製：商品名：１ＬＭ−２１〕によって評価した。
【０１４４】
図２３（Ａ）および（Ｂ）に示された結果から、研磨前のワークの表面および研磨後の円筒ころの表面ともに、光沢が少なく、多数の細かい切削痕が存在していることがわかる。したがって、得られた円筒ころは、前記基準（１）および（２）を満たさず、実用上不十分であることがわかる。
【０１４５】
（実施例２１〕
（１）研磨液の調製
酸化アルミニウムからなる粒子径１０００ｎｍの砥粒〔（株）フジミインコーポレーテッド製、商品名：ホワイトフューズドアルミナ〕７．８９ｇ（研磨液中における濃度：５質量％）と、二酸化チタンからなる粒子径１８０ｎｍの光触媒粒子〔石原テクノ（株）製、商品名：光触媒用酸化チタンＳＴ−４１〕３．８５ｇ（研磨液中における濃度：２．５質量％）と、蛍光材料〔１Ｈ−ベンジミダゾリウム，２−［７−（ジエチルアミノ）−２−オキソ−２Ｈ−１−ベンゾピラン−３−イル］−１，３−ジメチル−，クロライド（保土ヶ谷化学工業（株）製、商品名：Ｃａｔｈｉｌｏｎ  Ｂｒｉｌｌｉａｎｔ  Ｆｌａｖｉｎｅ  ＧＦＨ）〕３．８５ｇ（研磨液中における濃度：２．５質量％）と、精製水１５０ｇとを混合して研磨液（ｐＨ４．２３）を得た。
【０１４６】
（２）円筒ころ用ワークの研磨
軸受鋼ＳＵＪ２製の円筒ころ用ワーク〔（株）東振精機、外径：１９ｍｍ、ころ長さ：１９ｍｍの超仕上げ加工された円筒ころ用ワーク（算術平均粗さＲａ：０．０２３７μｍ、最大高さＲｙ：０．４５３μｍ）〕を、図４の２１ｂに示されるワーク支持孔を有する本発明の研磨装置のワーク支持孔にセットし、前記（１）で得られた研磨液を用いて当該ワークの表面を研磨した。なお、研磨条件は、容器の回転数：１３０〜１５０ｍｉｎ-1、ワークの回転数：２２００ｍｉｎ-1、紫外線強度：０．８ｍＷ／ｃｍ２、研磨時間および光照射時間：９０分、研磨液の温度：２５℃、ならびに使用した研磨パッド：妙中パイル織物（株）製、商品名：ラビングクロスＹ１５−２３、使用した側壁パッド：妙中パイル織物（株）製、商品名：ラビングクロスＹ１５−２０である。実施例２１において、研磨前の軸受鋼ＳＵＪ２製の円筒ころ用ワークを観察した結果を図２４（Ａ）、研磨後の軸受鋼ＳＵＪ２製の円筒ころを観察した結果を図２４（Ｂ）に示す。研磨後の軸受鋼ＳＵＪ２製の円筒ころの転がり摺動面の算術平均粗さＲａをサーフテスト〔ミツトヨ（株）製、商品名：ＳＶ−４００〕によって測定した。また、得られた円筒ころについて、前記基準（１）〜（３）を満たすかどうかを目視および光学顕微鏡付き走査型レーザ顕微鏡〔レーザテック（株）製：商品名：１ＬＭ−２１〕によって評価した。
【０１４７】
図２４（Ａ）および（Ｂ）に示された結果から、研磨前のワークの表面には、多数の深い切削痕が存在していたのに対し、研磨後の円筒ころの表面は、平滑化されていることがわかる。また、研磨後の円筒ころの転がり摺動面の中央部における算術平均粗さＲａは０．０１２０μｍであり、最大高さＲｙは０．１９７μｍであったことから、低い表面粗さを有する円筒ころが得られたことがわかる。また、得られた円筒ころは、前記基準（１）〜（３）の全てを満たすことから、実用上十分なレベルに達していることがわかる。
【０１４８】
（実施例２２）
（１）研磨液の調製
酸化アルミニウムからなる粒子径１０００ｎｍの砥粒〔（株）フジミインコーポレーテッド製、商品名：ホワイトフューズドアルミナ〕７．８９ｇ（研磨液中における濃度：５質量％）と、二酸化チタンからなる粒子径１５０ｎｍの光触媒粒子〔昭和電工（株）製、商品名：スーパータイタニアＦ−１０〕３．８５ｇ（研磨液中における濃度：２．５質量％）と、蛍光材料〔１Ｈ−ベンジミダゾリウム，２−［７−（ジエチルアミノ）−２−オキソ−２Ｈ−１−ベンゾピラン−３−イル］−１，３−ジメチル−，クロライド（保土ヶ谷化学工業（株）製、商品名：Ｃａｔｈｉｌｏｎ  Ｂｒｉｌｌｉａｎｔ  Ｆｌａｖｉｎｅ  ＧＦＨ）〕３．８５ｇ（研磨液中における濃度：２．５質量％）と、精製水１５０ｇとを混合して研磨液（ｐＨ４．２３）を得た。
【０１４９】
（２）円筒ころ用ワークの研磨
軸受鋼ＳＵＪ２製の円筒ころ用ワーク〔（株）東振精機、外径：１９ｍｍ、ころ長さ：１９ｍｍの超仕上げ加工された円筒ころ用ワーク（算術平均粗さＲａ：０．０２６６μｍ、最大高さＲｙ：０．５６９μｍ）〕を、図４の２１ｂに示されるワーク支持孔を有する本発明の研磨装置のワーク支持孔にセットし、前記（１）で得られた研磨液を用いて当該ワークの表面を研磨した。なお、研磨条件は、容器の回転数：１３０〜１５０ｍｉｎ-1、ワークの回転数：２２００ｍｉｎ-1、紫外線強度：０．８ｍＷ／ｃｍ２、研磨時間および光照射時間：９０分、研磨液の温度：２５℃、ならびに使用した研磨パッド：妙中パイル織物（株）製、商品名：ラビングクロスＹ１５−２３、使用した側壁パッド：妙中パイル織物（株）製、商品名：ラビングクロスＹ１５−２０である。実施例２２において、研磨前の軸受鋼ＳＵＪ２製の円筒ころ用ワークを観察した結果を図２５（Ａ）、研磨後の軸受鋼ＳＵＪ２製の円筒ころを観察した結果を図２５（Ｂ）に示す。研磨後の軸受鋼ＳＵＪ２製の円筒ころの転がり摺動面の算術平均粗さＲａをサーフテスト〔ミツトヨ（株）製、商品名：ＳＶ−４００〕によって測定した。また、得られた円筒ころについて、前記基準（１）〜（３）を満たすかどうかを目視および光学顕微鏡付き走査型レーザ顕微鏡〔レーザテック（株）製：商品名：１ＬＭ−２１〕によって評価した。
【０１５０】
図２５（Ａ）および（Ｂ）に示された結果から、研磨前のワークの表面には、多数の深い切削痕が存在していたのに対し、研磨後の円筒ころの表面は、平滑化されていることがわかる。また、研磨後の円筒ころの転がり摺動面の中央部における算術平均粗さＲａは０．００９６μｍであり、最大高さＲｙは０．２３７μｍであったことから、低い表面粗さを有する円筒ころが得られたことがわかる。また、得られた円筒ころは、前記基準（１）〜（３）の全てを満たすことから、実用上十分なレベルに達していることがわかる。
【０１５１】
（実施例２３）
（１）研磨液の調製
酸化アルミニウムからなる粒子径１０００ｎｍの砥粒〔（株）フジミインコーポレーテッド製、商品名：ホワイトフューズドアルミナ〕７．８９ｇ（研磨液中における濃度：５質量％）と、二酸化チタンからなる粒子径２５０ｎｍの光触媒粒子〔昭和電工（株）製、商品名：スーパータイタニアＧ−１〕３．８５ｇ（研磨液中における濃度：２．５質量％）と、蛍光材料〔１Ｈ−ベンジミダゾリウム，２−［７−（ジエチルアミノ）−２−オキソ−２Ｈ−１−ベンゾピラン−３−イル］−１，３−ジメチル−，クロライド（保土ヶ谷化学工業（株）製、商品名：Ｃａｔｈｉｌｏｎ  Ｂｒｉｌｌｉａｎｔ  Ｆｌａｖｉｎｅ  ＧＦＨ）〕３．８５ｇ（研磨液中における濃度：２．５質量％）と、精製水１５０ｇとを混合して研磨液（ｐＨ４．２３）を得た。
【０１５２】
（２）円筒ころ用ワークの研磨
軸受鋼ＳＵＪ２製の円筒ころ用ワーク〔（株）東振精機、外径：１９ｍｍ、ころ長さ：１９ｍｍの超仕上げ加工された円筒ころ用ワーク（算術平均粗さＲａ：０．０２３２μｍ、最大高さＲｙ：０．５０１μｍ）〕を、図４の２１ｂに示されるワーク支持孔を有する本発明の研磨装置のワーク支持孔にセットし、前記（１）で得られた研磨液を用いて当該ワークの表面を研磨した。なお、研磨条件は、容器の回転数：１３０〜１５０ｍｉｎ-1、ワークの回転数：２２００ｍｉｎ-1、紫外線強度：０．８ｍＷ／ｃｍ２、研磨時間および光照射時間：９０分、研磨液の温度：２５℃、ならびに使用した研磨パッド：妙中パイル織物（株）製、商品名：ラビングクロスＹ１５−２３、使用した側壁パッド：妙中パイル織物（株）製、商品名：ラビングクロスＹ１５−２０である。実施例２３において、研磨前の軸受鋼ＳＵＪ２製の円筒ころ用ワークを観察した結果を図２６（Ａ）、研磨後の軸受鋼ＳＵＪ２製の円筒ころを観察した結果を図２６（Ｂ）に示す。研磨後の軸受鋼ＳＵＪ２製の円筒ころの転がり摺動面の算術平均粗さＲａをサーフテスト〔ミツトヨ（株）製、商品名：ＳＶ−４００〕によって測定した。また、得られた円筒ころについて、前記基準（１）〜（３）を満たすかどうかを目視および光学顕微鏡付き走査型レーザ顕微鏡〔レーザテック（株）製：商品名：１ＬＭ−２１〕によって評価した。
【０１５３】
図２６（Ａ）および（Ｂ）に示された結果から、研磨前のワークの表面には、多数の深い切削痕が存在していたのに対し、研磨後の円筒ころの表面は、平滑化されていることがわかる。また、研磨後の円筒ころの転がり摺動面の中央部における算術平均粗さＲａは０．００９３μｍであり、最大高さＲｙは０．２２８μｍであったことから、低い表面粗さを有する円筒ころが得られたことがわかる。また、得られた円筒ころは、前記基準（１）〜（３）の全てを満たすことから、実用上十分なレベルに達していることがわかる。
【０１５４】
（実施例２４）
（１）研磨液の調製
酸化アルミニウムからなる粒子径１０００ｎｍの砥粒〔（株）フジミインコーポレーテッド製、商品名：ホワイトフューズドアルミナ〕７．８９ｇ（研磨液中における濃度：５質量％）と、二酸化チタンからなる粒子径３００−５００ｎｍの光触媒粒子〔チタン工業（株）製、商品名：ＫＲＯＮＯＳ  ＫＡ−１０〕３．８５ｇ（研磨液中における濃度：２．５質量％）と、蛍光材料〔１Ｈ−ベンジミダゾリウム，２−［７−（ジエチルアミノ）−２−オキソ−２Ｈ−１−ベンゾピラン−３−イル］−１，３−ジメチル−，クロライド（保土ヶ谷化学工業（株）製、商品名：Ｃａｔｈｉｌｏｎ  Ｂｒｉｌｌｉａｎｔ  Ｆｌａｖｉｎｅ  ＧＦＨ）〕３．８５ｇ（研磨液中における濃度：２．５質量％）と、精製水１５０ｇとを混合して研磨液（ｐＨ４．２３）を得た。
【０１５５】
（２）円筒ころ用ワークの研磨
軸受鋼ＳＵＪ２製の円筒ころ用ワーク〔（株）東振精機、外径：１９ｍｍ、ころ長さ：１９ｍｍの超仕上げ加工された円筒ころ用ワーク（算術平均粗さＲａ：０．０２５３μｍ、最大高さＲｙ：０．４９９μｍ）〕を、図４の２１ｂに示されるワーク支持孔を有する本発明の研磨装置のワーク支持孔にセットし、前記（１）で得られた研磨液を用いて当該ワークの表面を研磨した。なお、研磨条件は、容器の回転数：１３０〜１５０ｍｉｎ-1、ワークの回転数：２２００ｍｉｎ-1、紫外線強度：０．８ｍＷ／ｃｍ２、研磨時間および光照射時間：９０分、研磨液の温度：２５℃、ならびに使用した研磨パッド：妙中パイル織物（株）製、商品名：ラビングクロスＹ１５−２３、使用した側壁パッド：妙中パイル織物（株）製、商品名：ラビングクロスＹ１５−２０である。実施例２４において、研磨前の軸受鋼ＳＵＪ２製の円筒ころ用ワークを観察した結果を図２７（Ａ）、研磨後の軸受鋼ＳＵＪ２製の円筒ころを観察した結果を図２７（Ｂ）に示す。研磨後の軸受鋼ＳＵＪ２製の円筒ころの転がり摺動面の算術平均粗さＲａをサーフテスト〔ミツトヨ（株）製、商品名：ＳＶ−４００〕によって測定した。また、得られた円筒ころについて、前記基準（１）〜（３）を満たすかどうかを目視および光学顕微鏡付き走査型レーザ顕微鏡〔レーザテック（株）製：商品名：１ＬＭ−２１〕によって評価した。
【０１５６】
図２７（Ａ）および（Ｂ）に示された結果から、研磨前のワークの表面には、多数の深い切削痕が存在していたのに対し、研磨後の円筒ころの表面は、平滑化されていることがわかる。また、研磨後の円筒ころの転がり摺動面の中央部における算術平均粗さＲａは０．０１１６μｍであり、最大高さＲｙは０．２８９μｍであったことから、低い表面粗さを有する円筒ころが得られたことがわかる。また、得られた円筒ころは、前記基準（１）〜（３）の全てを満たすことから、実用上十分なレベルに達していることがわかる。
【０１５７】
（比較例１１）
（１）研磨液の調製
酸化アルミニウムからなる粒子径１０００ｎｍの砥粒〔（株）フジミインコーポレーテッド製、商品名：ホワイトフューズドアルミナ〕７．８９ｇ（研磨液中における濃度：５質量％）と、二酸化チタンからなる粒子径３０ｎｍの光触媒粒子〔テイカ（株）製、商品名：二酸化チタンＡＭＴ−６００〕３．８５ｇ（研磨液中における濃度：２．５質量％）と、蛍光材料〔１Ｈ−ベンジミダゾリウム，２−［７−（ジエチルアミノ）−２−オキソ−２Ｈ−１−ベンゾピラン−３−イル］−１，３−ジメチル−，クロライド（保土ヶ谷化学工業（株）製、商品名：Ｃａｔｈｉｌｏｎ  Ｂｒｉｌｌｉａｎｔ  Ｆｌａｖｉｎｅ  ＧＦＨ）〕３．８５ｇ（研磨液中における濃度：２．５質量％）と、精製水１５０ｇとを混合して研磨液（ｐＨ４．２３）を得た。
【０１５８】
（２）円筒ころ用ワークの研磨
軸受鋼ＳＵＪ２製の円筒ころ用ワーク〔（株）東振精機、外径：１９ｍｍ、ころ長さ：１９ｍｍの超仕上げ加工された円筒ころ用ワーク（算術平均粗さＲａ：０．０２３２μｍ、最大高さＲｙ：０．４３９μｍ）〕を、図４の２１ｂに示されるワーク支持孔を有する本発明の研磨装置のワーク支持孔にセットし、前記（１）で得られた研磨液を用いて当該ワークの表面を研磨した。なお、研磨条件は、容器の回転数：１３０〜１５０ｍｉｎ-1、ワークの回転数：２２００ｍｉｎ-1、紫外線強度：０．８ｍＷ／ｃｍ２、研磨時間および光照射時間：９０分、研磨液の温度：２５℃、ならびに使用した研磨パッド：妙中パイル織物（株）製、商品名：ラビングクロスＹ１５−２３、使用した側壁パッド：妙中パイル織物（株）製、商品名：ラビングクロスＹ１５−２０である。比較例１１において、研磨前の軸受鋼ＳＵＪ２製の円筒ころ用ワークを観察した結果を図２８（Ａ）、研磨後の軸受鋼ＳＵＪ２製の円筒ころを観察した結果を図２８（Ｂ）に示す。また、得られた円筒ころについて、前記基準（１）〜（３）を満たすかどうかを目視および光学顕微鏡付き走査型レーザ顕微鏡〔レーザテック（株）製：商品名：１ＬＭ−２１〕によって評価した。
【０１５９】
図２８（Ａ）および（Ｂ）に示された結果から、研磨前のワークの表面および研磨後の円筒ころの表面ともに、多数の細かい切削痕が存在していることがわかる。したがって、得られた円筒ころは、前記基準（１）を満たさず、実用上不十分であることがわかる。
【０１６０】
（比較例１２）
（１）研磨液の調製
酸化アルミニウムからなる粒子径１０００ｎｍの砥粒〔（株）フジミインコーポレーテッド製、商品名：ホワイトフューズドアルミナ〕７．８９ｇ（研磨液中における濃度：５質量％）と、二酸化チタンからなる粒子径１００ｎｍの光触媒粒子〔ホソカワミクロン（株）製、商品名：二酸化チタン〕３．８５ｇ（研磨液中における濃度：２．５質量％）と、蛍光材料〔１Ｈ−ベンジミダゾリウム，２−［７−（ジエチルアミノ）−２−オキソ−２Ｈ−１−ベンゾピラン−３−イル］−１，３−ジメチル−，クロライド（保土ヶ谷化学工業（株）製、商品名：Ｃａｔｈｉｌｏｎ  Ｂｒｉｌｌｉａｎｔ  Ｆｌａｖｉｎｅ  ＧＦＨ）〕３．８５ｇ（研磨液中における濃度：２．５質量％）と、精製水１５０ｇとを混合して研磨液（ｐＨ４．２３）を得た。
【０１６１】
（２）円筒ころ用ワークの研磨
軸受鋼ＳＵＪ２製の円筒ころ用ワーク〔（株）東振精機、外径：１９ｍｍ、ころ長さ：１９ｍｍの超仕上げ加工された円筒ころ用ワーク（算術平均粗さＲａ：０．０２５９μｍ、最大高さＲｙ：０．４８７μｍ）〕を、図４の２１ｂに示されるワーク支持孔を有する本発明の研磨装置のワーク支持孔にセットし、前記（１）で得られた研磨液を用いて当該ワークの表面を研磨した。なお、研磨条件は、容器の回転数：１３０〜１５０ｍｉｎ-1、ワークの回転数：２２００ｍｉｎ-1、紫外線強度：０．８ｍＷ／ｃｍ２、研磨時間および光照射時間：９０分、研磨液の温度：２５℃、ならびに使用した研磨パッド：妙中パイル織物（株）製、商品名：ラビングクロスＹ１５−２３、使用した側壁パッド：妙中パイル織物（株）製、商品名：ラビングクロスＹ１５−２０である。比較例１２において、研磨前の軸受鋼ＳＵＪ２製の円筒ころ用ワークを観察した結果を図２９（Ａ）、研磨後の軸受鋼ＳＵＪ２製の円筒ころを観察した結果を図２９（Ｂ）に示す。また、得られた円筒ころについて、前記基準（１）〜（３）を満たすかどうかを目視および光学顕微鏡付き走査型レーザ顕微鏡〔レーザテック（株）製：商品名：１ＬＭ−２１〕によって評価した。
【０１６２】
図２９（Ａ）および（Ｂ）に示された結果から、研磨前のワークの表面および研磨後の円筒ころの表面ともに、多数の細かい切削痕が存在していることがわかる。したがって、得られた円筒ころは、前記基準（１）を満たさず、実用上不十分であることがわかる。
【０１６３】
（比較例１３）
（１）研磨液の調製
酸化アルミニウムからなる粒子径５００〜７００ｎｍの砥粒〔フジミインコーポレーテッド（株）製、商品名：ホワイトフューズドアルミナ〕３７．５ｇ（研磨液中における濃度：２０質量％）と、二酸化チタンからなる粒子径１００ｎｍの光触媒粒子〔ホソカワミクロン（株）製、商品名：二酸化チタン〕３．８５ｇ（研磨液中における濃度：２．５質量％）と、蛍光材料〔１Ｈ−ベンジミダゾリウム，２−［７−（ジエチルアミノ）−２−オキソ−２Ｈ−１−ベンゾピラン−３−イル］−１，３−ジメチル−，クロライド（保土ヶ谷化学工業（株）製、商品名：Ｃａｔｈｉｌｏｎ  Ｂｒｉｌｌｉａｎｔ  Ｆｌａｖｉｎｅ  ＧＦＨ）〕０．３７８ｇ（研磨液中における濃度：０．２５質量％）と、精製水１５０ｇとを混合して研磨液（ｐＨ６．１７）を得た。
【０１６４】
（２）円筒ころ用ワークの研磨
軸受鋼ＳＵＪ２製の円筒ころ用ワーク〔（株）東振精機、外径：１９ｍｍ、ころ長さ：１９ｍｍの超仕上げ加工された円筒ころ用ワーク（算術平均粗さＲａ：０．０２６２μｍ、最大高さＲｙ：０．５３５μｍ）〕を、図４の２１ｂに示されるワーク支持孔を有する本発明の研磨装置のワーク支持孔にセットし、前記（１）で得られた研磨液を用いて当該ワークの表面を研磨した。なお、研磨条件は、容器の回転数：１３０〜１５０ｍｉｎ-1、ワークの回転数：２２００ｍｉｎ-1、紫外線強度：０．８ｍＷ／ｃｍ２、研磨時間および光照射時間：９０分、研磨液の温度：２５℃、ならびに使用した研磨パッド：妙中パイル織物（株）製、商品名：ラビングクロスＹ１５−２３、使用した側壁パッド：妙中パイル織物（株）製、商品名：ラビングクロスＹ１５−２０である。比較例１３において、研磨前の軸受鋼ＳＵＪ２製の円筒ころ用ワークを観察した結果を図３０（Ａ）、研磨後の軸受鋼ＳＵＪ２製の円筒ころを観察した結果を図３０（Ｂ）に示す。また、得られた円筒ころについて、前記基準（１）〜（３）を満たすかどうかを目視および光学顕微鏡付き走査型レーザ顕微鏡〔レーザテック（株）製：商品名：１ＬＭ−２１〕によって評価した。
【０１６５】
図３０（Ａ）および（Ｂ）に示された結果から、研磨前のワークの表面および研磨後の円筒ころの表面ともに、多数の細かい切削痕が存在していることがわかる。したがって、得られた円筒ころは、前記基準（１）を満たさず、実用上不十分であることがわかる。
【０１６６】
以上の結果から、光触媒粒子と砥粒と蛍光材料と溶媒とを含む研磨液において、光触媒粒子として、粒子径が１４０〜５５０ｎｍ、好ましくは１５０〜５００ｎｍである光触媒粒子を用いることにより、低い表面粗さにまでワークを効率よく研磨することができ、前記基準（１）〜（３）の全てを満たす実用上十分なレベルの部材を得ることができることがわかる。また、砥粒は、光触媒粒子よりも大きい粒子径が好ましいことが示される。
【０１６７】
砥粒の粒子径は、実施例１４、１６などの結果から、少なくとも１０００ｎｍであることが望ましいと考えられる。なお、砥粒の粒子径の上限は、ワークの呈色を抑制することができ、かつ低い表面粗さを達成することができる大きさであればよいと考えられ、通常、粒子径３００００ｎｍ以下、好ましくは１１５００ｎｍ以下の砥粒を用いることができると考えられる。
【０１６８】
また、実施例２、３、５、７、９および１４において、研磨前後の表面粗さ、ワークの表面積および研磨時間から、単位表面積あたり表面粗さを単位時間に減らす効率（研磨効率）を求めたところ、表１に示される研磨効率でワークを研磨することができたことがわかる。なお、実施例２、３、５、７、９および１４においては、ワークと研磨パッドとは点接触または線接触をしていることから、接触幅をほぼ１０μｍとし、表面積を算出した。
【０１６９】
【表１】
2014037046.tif 000005
【０１７０】
これに対し、非特許文献１に記載の方法にしたがい、純銅（組成：銅９９％）からなる直径１５ｍｍで厚さ３．５ｍｍの円板を４５０℃で３６０分間焼鈍し、酸化アルミニウムからなる砥粒（♯６０００）でポリシングして得られた試料片（表面粗さＲａ：０．０２６μｍ）を、比較例１または２で得られた研磨液と図３１に示される研磨装置とを用いて研磨し、研磨開始から最も低い表面粗さになったときの経過時間を研磨時間とし、研磨前の表面粗さ、最も低い表面粗さ、ワークの表面積および研磨時間から、従来の非特許文献１に記載の方法の研磨効率は、表２に示されるとおりであった。
【０１７１】
【表２】
2014037046.tif 000006
【０１７２】
材料が純銅である場合の研磨効率（実施例２、比較例１および２）それぞれを比較すると、本願発明の方法によれば、従来の非特許文献１に記載の方法よりも高い研磨効率でワークを研磨することができることがわかる。
【０１７３】
また、蛍光材料として１Ｈ−ベンジミダゾリウム，２−［７−（ジエチルアミノ）−２−オキソ−２Ｈ−１−ベンゾピラン−３−イル］−１，３−ジメチル−，クロライド以外の一般式（Ｉ）で表わされる化合物を用いた場合にも、実施例１〜２６と同様の結果が得られることが期待される。
【０１７４】
以上説明したように、光触媒からなる粒子径１４０〜５５０ｎｍの粒子と蛍光材料と当該光触媒および蛍光材料それぞれを励起させる光を透過する物質からなる砥粒と溶媒とを含有する本発明の研磨液を用いることにより、ワーク、特に、転動体用ワークなどの硬さが高いワークを低い表面粗さになるまで効率よく研磨することができ、ワークの表面の呈色およびワーク表面における光沢のムラが抑制され、かつワークの製造時における前加工の際に生じた傷が十分に取り除かれ、低い表面粗さを有する転動体を高い製造効率で製造することができることがわかる。
【符号の説明】
【０１７５】
１  研磨装置
２  研磨部
３  台座
４  光源
１０  容器
２０  ワーク支持部
２１  ワーク支持孔
２１ｂ  ワーク支持孔
２１ｃ  ワーク支持孔
２１ｄ  ワーク支持孔
２１ｅ  ワーク支持孔
２２  側壁パッド
３０  研磨パッド
３１  有縁プレート
３２  研磨パッド本体
３２ａ  繊維
３３  溝
４０  研磨液供給部
６０  回転軸
７０  駆動部
８０  制御部
２０１  側壁部
２０２  側壁部
２０３  側壁部
２０４  側壁部
２０５  角部
２０６  角部
【図１】
2014037046.tif 000008
【図２】
2014037046.tif 000009
【図３】
2014037046.tif 000010
【図４】
2014037046.tif 000011
【図５】
2014037046.tif 000012
【図６】
2014037046.tif 000013
【図７】
2014037046.tif 000014
【図８】
2014037046.tif 000015
【図３１】
2014037046.tif 000016
【図９】
2014037046.tif 000017
【図１０】
2014037046.tif 000018
【図１１】
2014037046.tif 000019
【図１２】
2014037046.tif 000020
【図１３】
2014037046.tif 000021
【図１４】
2014037046.tif 000022
【図１５】
2014037046.tif 000023
【図１６】
2014037046.tif 000024
【図１７】
2014037046.tif 000025
【図１８】
2014037046.tif 000026
【図１９】
2014037046.tif 000027
【図２０】
2014037046.tif 000028
【図２１】
2014037046.tif 000029
【図２２】
2014037046.tif 000030
【図２３】
2014037046.tif 000031
【図２４】
2014037046.tif 000032
【図２５】
2014037046.tif 000033
【図２６】
2014037046.tif 000034
【図２７】
2014037046.tif 000035
【図２８】
2014037046.tif 000036
【図２９】
2014037046.tif 000037
【図３０】
2014037046.tif 000038
【手続補正書】
【提出日】平成25年2月14日(2013.2.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
軸受の転動体用ワークに研磨加工を施す研磨加工工程を含む軸受の転動体の製造方法であって、
前記研磨加工工程が、光触媒からなる粒子と蛍光材料と当該光触媒および蛍光材料それぞれを励起させる光を透過する物質からなる砥粒と溶媒とを含有してなる研磨液に前記ワークを接触させるとともに当該研磨液に前記光を照射しながら、前記ワークに研磨加工を施す工程であり、
前記光触媒の粒子径が１４０〜５５０ｎｍであり、
前記砥粒の粒子径が、１０００〜３００００ｎｍであることを特徴とする軸受の転動体の製造方法。
【請求項２】
前記蛍光材料が、一般式（Ｉ）：
【化１】
2014037046.tif 000039
（式中、Ｒ1およびＲ2は、それぞれ独立して炭素数１〜４のアルキル基、Ｒ3およびＲ4は、それぞれ独立して炭素数１〜４のアルキル基、Ｘはハロゲン原子を示す）
で表わされる化合物である請求項１に記載の方法。
【請求項３】
研磨液を用いて転動体用ワークの表面を研磨するための研磨装置であって、
前記ワークを揺動可能に支持するための円盤状のワーク支持部と、
前記ワーク支持部に支持された前記ワークの表面と摺接可能に配置され、当該ワーク支持部に対して中心軸回りに相対的に回転することによって前記ワークを回転させながら、前記研磨液を介して当該ワークの表面を研磨する円盤状の研磨パッドと、
前記研磨液を前記ワーク支持部と前記研磨パッドとの間に供給する研磨液供給部と、
を備えており、
前記ワーク支持部が、ワークを揺動可能に収容可能なワーク支持孔を有しており、
前記ワーク支持孔において、ワーク支持部に対して前記研磨パッドを中心軸回りに相対的に回転させたときにワークと接触する側壁部に研磨パッドがさらに設けられていることを特徴とする研磨装置。
【請求項４】
前記研磨液が、光触媒からなる粒子径１４０〜５５０ｎｍの粒子と蛍光材料と当該光触媒および蛍光材料を励起させる光を透過する砥粒と溶媒とを含有してなる研磨液であり、
前記研磨液中に含まれる光触媒および蛍光材料を励起させる光を照射する光源と、
前記ワーク支持部と研磨パッドとを収容する容器と
をさらに備えている請求項３に記載の研磨装置。
【請求項５】
前記容器の少なくとも内壁面が光触媒および蛍光材料を励起させる光を反射する性質を有する請求項４に記載の研磨装置。
【請求項６】
前記研磨液供給部が前記研磨パッドの回転中心部に前記研磨液を供給するように配置されている請求項３〜５のいずれかに記載の研磨装置。
【請求項７】
前記研磨パッドのワークとの摺接面側の表面に複数の起毛した繊維からなる研磨パッド本体を有しており、当該研磨パッド本体には、放射状のパターンを有する溝が形成されている請求項３〜６のいずれかに記載の研磨装置。
【手続補正書】
【提出日】平成25年6月20日(2013.6.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
軸受の転動体用ワークに研磨加工を施す研磨加工工程を含む軸受の転動体の製造方法であって、
前記研磨加工工程が、光触媒からなる粒子と蛍光材料と当該光触媒および蛍光材料それぞれを励起させる光を透過する物質からなる砥粒と溶媒とを含有してなる研磨液に前記ワークを接触させるとともに当該研磨液に前記光を照射しながら、前記ワークに研磨加工を施す工程であり、
前記光触媒の粒子径が１４０〜５５０ｎｍであり、
前記砥粒の粒子径が、１０００〜３００００ｎｍであることを特徴とする軸受の転動体の製造方法。
【請求項２】
前記蛍光材料が、一般式（Ｉ）：
【化１】
2014037046.tif 000040
（式中、Ｒ1およびＲ2は、それぞれ独立して炭素数１〜４のアルキル基、Ｒ3およびＲ4は、それぞれ独立して炭素数１〜４のアルキル基、Ｘはハロゲン原子を示す）
で表わされる化合物である請求項１に記載の方法。
【請求項３】
研磨液を用いて転動体用ワークの表面を研磨するための研磨装置であって、
前記研磨液が、光触媒からなる粒子径１４０〜５５０ｎｍの粒子と蛍光材料と当該光触媒および蛍光材料を励起させる光を透過する砥粒と溶媒とを含有してなる研磨液であり、
前記ワークを揺動可能に支持するための円盤状のワーク支持部と、
前記ワーク支持部に支持された前記ワークの表面と摺接可能に配置され、当該ワーク支持部に対して中心軸回りに相対的に回転することによって前記ワークを回転させながら、前記研磨液を介して当該ワークの表面を研磨する円盤状の研磨パッドと、
前記研磨液を前記ワーク支持部と前記研磨パッドとの間に供給する研磨液供給部と、
前記研磨液中に含まれる光触媒および蛍光材料を励起させる光を照射する光源と、
前記ワーク支持部と研磨パッドとを収容する容器と
を備えており、
前記ワーク支持部が、ワークを揺動可能に収容可能なワーク支持孔を有しており、
前記ワーク支持孔において、ワーク支持部に対して前記研磨パッドを中心軸回りに相対的に回転させたときにワークと接触する側壁部に研磨パッドがさらに設けられており、
前記容器の少なくとも内壁面が光触媒および蛍光材料を励起させる光を反射する性質を有することを特徴とする研磨装置。
【請求項４】
前記研磨液供給部が前記研磨パッドの回転中心部に前記研磨液を供給するように配置されている請求項３記載の研磨装置。
【請求項５】
前記研磨パッドのワークとの摺接面側の表面に複数の起毛した繊維からなる研磨パッド本体を有しており、当該研磨パッド本体には、放射状のパターンを有する溝が形成されている請求項３または４記載の研磨装置。