(57)【要約】【課題】眼鏡レンズを処理液に浸漬させて表面処理する場合に、昇温所要時間の短縮と発泡量の低減を図る。【解決手段】染色液８を貯留する染色槽２と、この染色槽２に貯留された染色液８を加熱するヒータ３と、染色液８の温度を検出する温度センサ９と、この温度センサ９の検出結果に基づいてヒータ３の出力を制御するヒータ制御回路２０と、を備える。ヒータ制御回路２０は、第１の昇温期間と第２の昇温期間に分けてヒータ３の出力を制御するとともに、第１の昇温期間では、染色液８を加熱開始前温度から、目標温度よりも低い途中温度まで昇温させ、第２の昇温期間では、第１の昇温期間よりも遅い昇温速度で染色液８を途中温度から目標温度まで昇温させるように、ヒータ３の出力を制御する。【選択図】図１
2014016427.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
眼鏡レンズの表面処理に用いられる処理液を貯留する処理槽と、
前記処理槽に貯留された前記処理液を加熱する加熱手段と、
前記加熱手段の駆動を制御する制御手段と、
を備え、
前記制御手段によって目標温度に維持された前記処理液に前記眼鏡レンズを浸漬させて表面処理する眼鏡レンズの表面処理装置であって、
前記制御手段は、
前記処理液を加熱開始前温度から前記目標温度まで昇温させる期間を、第１の昇温期間と第２の昇温期間に分けて、前記加熱手段の駆動を制御するとともに、
前記第１の昇温期間では、前記処理液を前記加熱開始前温度から、前記目標温度よりも低い途中温度まで昇温させ、前記第２の昇温期間では、前記第１の昇温期間よりも遅い昇温速度で前記処理液を前記途中温度から前記目標温度まで昇温させるように、前記加熱手段の駆動を制御する
ことを特徴とする眼鏡レンズの表面処理装置。
【請求項２】
前記加熱手段は、ヒータであり、
前記制御手段は、前記処理液の温度を検出する温度検出手段と、当該温度検出手段の検出結果に基づいて前記ヒータの出力を制御するヒータ制御手段とを備え、
前記ヒータ制御手段は、前記第１の昇温期間では、前記ヒータの出力を第１の出力値に設定し、前記第２の昇温期間では、前記ヒータの出力を前記第１の出力値よりも小さい第２の出力値に設定する
ことを特徴とする請求項１に記載の眼鏡レンズの表面処理装置。
【請求項３】
眼鏡レンズを処理液に浸漬させて表面処理する表面処理工程を有する眼鏡レンズの製造方法であって、
前記表面処理工程は、
前記眼鏡レンズの表面処理に用いられる前記処理液を加熱開始前温度から、目標温度よりも低い途中温度まで昇温させる第１のステップと、
前記処理液を前記途中温度から前記目標温度まで昇温させる第２のステップと、
前記処理液を前記目標温度に維持しながら前記眼鏡レンズを前記処理液に浸漬させる第３のステップと、
を含み、
前記第２のステップにおける前記処理液の昇温速度を、前記第１のステップにおける前記処理液の昇温速度よりも遅くする
ことを特徴とする眼鏡レンズの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、眼鏡レンズを処理液に浸漬させて表面処理する際に適用される眼鏡レンズの表面処理装置および眼鏡レンズの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
眼鏡レンズ（以下、「レンズ」とも略称）の表面処理の一つとして、染色処理が知られている。また、染色処理の一つの方式として、浸漬染色方式が知られている。染色処理は、玉型加工前の眼鏡レンズに色づけする処理である。浸漬染色方式は、眼鏡レンズを染色液に浸漬させて染色する方式である。浸漬染色方式においては、眼鏡レンズをレンズ保持具で保持し、レンズ保持具と一緒に眼鏡レンズを染色液に浸漬させることにより、眼鏡レンズを染色している（たとえば、特許文献１、２を参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００９−２３５６０２号公報
【特許文献２】特開２０１０−２０１３８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
上述した浸漬染色方式に基づく眼鏡レンズの染色処理では、染色液に含まれる染料をレンズ内に浸透させるために染色液を常温よりも高い温度に加熱する必要がある。その際、染色液をあらかじめ決められた温度（以下、「目標温度」という）まで加熱しようとすると、その加熱の途中で、染色槽の底板部の表面に微細な泡が発生する。こうして発生した泡は、やがて底板部の表面を離れて浮上し、染色液の液面に漂うようになる。このような状況で眼鏡レンズを染色液に浸漬させると、レンズの表面に泡が付着し、色ムラなどの染色不良の原因となる。また、加熱の途中で発生する泡の量（以下、「発泡量」という）を減らすために、処理液（染色液等）をゆっくりと加熱するようにすると、処理液を目標温度まで上昇させるのに必要な時間（以下、「昇温所要時間」という）が長くなり、生産性の低下を招く。
【０００５】
本発明の主な目的は、眼鏡レンズを処理液に浸漬させて表面処理する場合に、昇温所要時間の短縮と発泡量の低減を図ることができる技術を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の第１の態様は、
眼鏡レンズの表面処理に用いられる処理液を貯留する処理槽と、
前記処理槽に貯留された前記処理液を加熱する加熱手段と、
前記加熱手段の駆動を制御する制御手段と、
を備え、
前記制御手段によって目標温度に維持された前記処理液に前記眼鏡レンズを浸漬させて表面処理する眼鏡レンズの表面処理装置であって、
前記制御手段は、
前記処理液を加熱開始前温度から前記目標温度まで昇温させる期間を、第１の昇温期間と第２の昇温期間に分けて、前記加熱手段の駆動を制御するとともに、
前記第１の昇温期間では、前記処理液を前記加熱開始前温度から、前記目標温度よりも低い途中温度まで昇温させ、前記第２の昇温期間では、前記第１の昇温期間よりも遅い昇温速度で前記処理液を前記途中温度から前記目標温度まで昇温させるように、前記加熱手段の駆動を制御する
ことを特徴とする眼鏡レンズの表面処理装置である。
【０００７】
本発明の第２の態様は、
前記加熱手段は、ヒータであり、
前記制御手段は、前記処理液の温度を検出する温度検出手段と、当該温度検出手段の検出結果に基づいて前記ヒータの出力を制御するヒータ制御手段とを備え、
前記ヒータ制御手段は、前記第１の昇温期間では、前記ヒータの出力を第１の出力値に設定し、前記第２の昇温期間では、前記ヒータの出力を前記第１の出力値よりも小さい第２の出力値に設定する
ことを特徴とする上記第１の態様に記載の眼鏡レンズの表面処理装置である。
【０００８】
本発明の第３の態様は、
眼鏡レンズを処理液に浸漬させて表面処理する表面処理工程を有する眼鏡レンズの製造方法であって、
前記表面処理工程は、
前記眼鏡レンズの表面処理に用いられる前記処理液を加熱開始前温度から、目標温度よりも低い途中温度まで昇温させる第１のステップと、
前記処理液を前記途中温度から前記目標温度まで昇温させる第２のステップと、
前記処理液を前記目標温度に維持しながら前記眼鏡レンズを前記処理液に浸漬させる第３のステップと、
を含み、
前記第２のステップにおける前記処理液の昇温速度を、前記第１のステップにおける前記処理液の昇温速度よりも遅くする
ことを特徴とする眼鏡レンズの製造方法である。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、眼鏡レンズを処理液に浸漬させて表面処理する場合に、昇温所要時間の短縮と発泡量の低減を図ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】本発明の実施の形態に係る眼鏡レンズの染色処理装置を示す概略断面図である。
【図２】本発明の実施の形態に係る眼鏡レンズの染色処理装置を示す要部斜視図である。
【図３】本発明の実施の形態における染色液の温度変化とヒータ出力の関係を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
以下、本発明の実施の形態について図面を参照しつつ詳細に説明する。
本発明の実施の形態においては、次の順序で説明を行う。
１．染色処理装置の構成
２．眼鏡レンズの製造方法
３．実施の形態に係る効果
４．変形例等
【００１２】
＜１．染色処理装置の構成＞
図１は本発明の実施の形態に係る眼鏡レンズの染色処理装置を示す概略断面図であり、図２はこの染色処理装置の要部斜視図である。図１および図２においては、染色処理装置１の幅方向をＸ方向、染色処理装置１の奥行き方向をＹ方向、染色処理装置１の高さ方向をＺ方向で示している。
【００１３】
図示した染色処理装置１は、眼鏡レンズＬの表面処理の一例として、眼鏡レンズＬの染色処理、さらに詳しくは眼鏡レンズＬを浸漬染色方式で染色処理する際に使用されるものである。染色処理装置１は、大きくは、染色槽２と、ヒータ３と、温度センサ９と、ヒータ制御回路２０と、を備えている。以下、各構成要素について説明する。
【００１４】
染色槽２は、眼鏡レンズＬの染色処理に用いられる染色液８を貯留するものである。染色槽２は、あらかじめ決められた量（以下、「規定の量」という）の染色液８を貯留できる程度の大きさで、全体に略直方体のボックス構造をなしている。染色槽２の本体部分は、平面視略長方形の底板部４と、この底板部４の外周部（４つの辺部）から垂直に立ち上がった側板部５と、Ｘ方向で相対向する２つの側板部５の上端から外側に延出した縁板部６とを一体に有している。また、染色槽２の本体部分（４，５，６）は、眼鏡レンズＬの染色に使用する染色液８に対して耐性（耐食性等）を有する金属材料、たとえば、ＳＵＳ４３０などのステンレスを用いて構成されている。
【００１５】
染色槽２の側板部５は、全周にわたって保温材７により覆われている。保温材７は、染色槽２に入れた染色液８を加熱したときに、熱の放散を抑えて染色液８の温度を保つために設けられたものである。保温材７は、たとえば発泡ポリプロピレンを用いて構成されている。
【００１６】
ヒータ３は、染色槽２に貯留された染色液８を加熱する加熱手段の一例として設けられたものである。ヒータ３は、染色槽２の底板部４に対向かつ近接して配置され、この底板部４を介して染色槽２内の染色液８を加熱する構成となっている。ヒータ３は、たとえば、シーズヒータを用いて構成されている。さらに詳述すると、ヒータ３は、図示しない複数本の棒状のシーズヒータを、熱伝導性の高い上下一対の金属プレート（たとえば、アルミニウム製のプレートなど）で挟み込んだ構成になっている。染色槽２に貯留された染色液８は、上側の金属プレートの上に染色槽２を乗せてシーズヒータに通電することにより加熱される。ただし、ヒータ３は、シーズヒータに限らず、シーズヒータよりも高い加熱能力を有するヒータ、たとえばＩＨヒータを用いることもできる。
【００１７】
また、染色処理装置１は、染色槽２に付属する部材の一つとして、泡遮蔽部材１０を備えている。泡遮蔽部材１０は、ヒータ３で染色槽２の底板部４を加熱した場合に、そこで発生した泡が真っ直ぐに浮上しないように遮蔽するものである。泡遮蔽部材１０は、全体的に板状の部材となっている。泡遮蔽部材１０は、染色槽２に対して着脱自在に構成されている。また、泡遮蔽部材１０は、遮蔽部１１と、立ち上がり部１２と、乗り上げ部１３とを一体に有している。以下、詳しく説明する。
【００１８】
遮蔽部１１は、染色槽２の底板部４をヒータ３で加熱したときに、泡の発生部位となる底板部４の表面を覆うように配置されている。また、遮蔽部１１は、染色槽２の槽内を上下２つの領域、すなわち眼鏡レンズＬの浸漬に用いる第１領域（上側の領域）Ｅ１と、第１領域Ｅ１よりも染色槽２の底板部４に近い第２領域（下側の領域）Ｅ２とに区画するように配置されている。さらに、遮蔽部１１は、Ｘ方向において傾斜する状態に配置されている。具体的には、遮蔽部１１は、水平面に対して角度θ（θ＞０度）で傾斜する状態に配置されている。ここで記述する「水平面」とは、鉛直方向に直交する平面をいう。染色槽２に染色液８を貯留した状態では、染色液８の液面が水平面と平行な面になる。また、染色槽２は、その底板部４が水平面と平行になるように設置される。このため、遮蔽部１１は、染色槽２の底板部４に対しても、角度θの傾きをもって配置されている。
【００１９】
遮蔽部１１は、染色槽２の底板部４よりも一回り小さい長方形に形成されている。このため、遮蔽部１１の４つの辺部と、これに対向する染色槽２の４つの側板部５との間には、それぞれスペースが確保されている。また、染色槽２の底板部４とこれに対向する遮蔽部１１との離間距離は、上記の傾斜角度θにもよるが、たとえば、低位側での最小距離が０．５〜５ｍｍの範囲、高位側での最大距離が５〜３０ｍｍの範囲となるように設定されている。
【００２０】
立ち上がり部１２は、遮蔽部１１の一端部から折れ曲がった状態に形成されている。立ち上がり部１２は、染色槽２の側板部５との間に適度な間隔（たとえば、２０ｍｍ程度の間隔）をあけて配置されている。また、立ち上がり部１２は、側板部５に沿ってＺ方向に立ち上がるように配置されている。立ち上がり部１２の奥行き寸法（Ｙ方向の寸法）は、立ち上がり部１２と対向する側板部５の奥行き寸法よりも少し小さく設定されている。また、立ち上がり部１２には開口部１４が形成されている。開口部１４は、第２領域Ｅ２でヒータ３により加熱されて上側に移動する染色液８を、第１領域Ｅ１へと導入するためのものである。開口部１４は、Ｙ方向を長軸方向とした横長の長方形に形成されている。開口部１４は、染色槽２に規定の量の染色液８を貯留した場合に、開口部１４全体が液中に沈む状態となるように、染色液８の液面高さを示す位置Ｓｈよりも低い位置に配置されている。
【００２１】
乗り上げ部１３は、立ち上がり部１２の上端部から水平方向（Ｘ方向）に折れ曲がった状態に形成されている。乗り上げ部１３は、染色槽２の縁板部６の上に乗り上げた状態で配置されている。染色槽２の縁板部６には、Ｙ方向に適度な間隔をあけて２つの位置決めピン１５が設けられている。各々の位置決めピン１５は、断面円形のいわゆる丸ピン構造になっている。また、位置決めピン１５は、縁板部６の上面から垂直に起立した状態で設けられている。これに対して、乗り上げ部１３には、２つの位置決め孔１６が設けられている。これらの位置決め孔１６は、上述した２つの位置決めピン１５に対応して設けられたものである。各々の位置決め孔１６は、乗り上げ部１３を貫通する状態で設けられている。２つの位置決め孔１６は、当該２つの位置決め孔１６の間隔と上述した２つの位置決めピン１５の間隔とのズレを吸収できるように、たとえば、一方の位置決め孔１６を円形に形成し、他方の位置決め孔１６をＹ方向に長い長孔に形成することが望ましい。
【００２２】
泡遮蔽部材１０は、たとえば、染色槽２の本体部分と同様に、ＳＵＳ４３０などのステンレスを用いて構成されている。ＳＵＳ４３０を含む４００系ステンレスは磁性材料であるため、磁石１７に吸着する性質を有する。この性質を利用して、泡遮蔽部材１０は、合計４つの磁石１７を用いて染色槽２に着脱自在に取り付けられている。さらに詳述すると、遮蔽部１１の低位側の端部近傍には２つの磁石１７がＹ方向に間隔をあけて配置され、これらの磁石１７の磁気吸着力によって遮蔽部１１が染色槽２の底板部４に固定されている。また、立ち上がり部１２の開口部１４のやや下方にも２つの磁石１７がＹ方向に間隔をあけて配置され、これらの磁石１７の磁気吸着力によって立ち上がり部１２が染色槽２の側板部５に固定されている。泡遮蔽部材１０の取り付けに使用する磁石１７の個数や配置は、適宜変更が可能である。
【００２３】
温度センサ９は、染色槽２に貯留された染色液８の温度（液温）を検出する温度検出手段の一例として設けられたものである。温度センサ９は、たとえば、白金や熱電対などを測温体に用いて温度を検出するセンサである。温度センサ９の測温部は棒状に形成されており、この棒状部分を染色液８に差し込むことにより、染色液８の温度に関する検出信号が温度センサ９から出力される構成になっている。
【００２４】
ヒータ制御回路２０は、温度センサ９の検出結果に基づいてヒータ３の出力を制御するヒータ制御手段の一例として設けられたものである。ヒータ制御回路２０は、温度センサ９から出力される検出信号を取り込み、この検出信号が示す染色液８の温度と目標温度との差が小さくなるようにヒータ３の出力を制御する回路である。ヒータ制御回路２０は、たとえば、図示しない操作部に設けられた起動スイッチおよび停止スイッチのうち、起動スイッチが押されたときにヒータ３の出力制御を開始し、停止スイッチが押されたときにヒータ３の出力制御を終了する。また、ヒータ制御回路２０は、たとえば、あらかじめ決められた電圧の駆動パルスをヒータ３に供給するとともに、この駆動パルスのパルス幅をＰＷＭ（Pulse Width Modulation）制御方式で変調することにより、ヒータ３の出力を可変制御する。ここでは一例として、ヒータ制御回路２０は、ＰＷＭ制御方式におけるヒータ３のオン時間の割合でヒータ３の出力を可変制御するとともに、このヒータ出力を０％から１００％の範囲内で１０％刻みに調整するものとする。
【００２５】
＜２．眼鏡レンズの製造方法＞
続いて、本発明の実施の形態に係る眼鏡レンズの製造方法について説明する。
本発明に係る眼鏡レンズの製造方法は、眼鏡レンズを処理液に浸漬させて表面処理する表面処理工程を有するもので、本実施の形態においては、表面処理工程の一例となる染色処理工程について以下に記述する。
【００２６】
（染色処理工程）
まず、染色処理の準備として、染色槽２に４つの磁石１７を用いて泡遮蔽部材１０を取り付ける。その際、泡遮蔽部材１０の乗り上げ部１３に設けた２つの位置決め孔１６を２つの位置決めピン１５に嵌合させる。また、泡遮蔽部材１０の遮蔽部１１を２つの磁石１７を用いて染色槽２の底板部４に固定するとともに、泡遮蔽部材１０の立ち上がり部１２を２つの磁石１７を用いて染色槽２の側板部５に固定する。これにより、染色槽２の底板部４の近傍に、これを覆うように遮蔽部１１が角度θの傾きをもって配置されるとともに、この遮蔽部１１によって染色槽２の槽内がＺ方向で第１領域Ｅ１と第２領域Ｅ２に区画される。次に、染色槽２の槽内に規定の量の染色液８を貯留する。このとき、染色液８の液面の高さは、図１の符号Ｓｈで示す位置になる。
【００２７】
次に、図示しない操作部に設けられた起動スイッチが押されると、これをきっかけにしてヒータ制御回路２０が以下のようにヒータ３の出力を制御する。
まず、ヒータ３による加熱を開始する前の染色液８の温度を「加熱開始前温度Ｔｓ」と定義し、ヒータ制御回路２０が温度制御の目標とする温度を「目標温度Ｔｔ」と定義する。目標温度Ｔｔは、染色液８の温度制御に際してあらかじめ設定される温度である。目標温度Ｔｔは、眼鏡レンズＬの染色処理に適合する染色液８の温度（以下、「染色処理適合温度」という）とする。そうした場合、たとえば図３に示すように、加熱開始前温度Ｔｓが常温（２０℃±１５℃）で、目標温度Ｔｔが９５℃であるとすると、ヒータ制御回路２０は、染色液８を加熱開始前温度Ｔｓから目標温度Ｔｔまで昇温させる期間を、第１の昇温期間Ｈｔ１と第２の昇温期間Ｈｔ２に分けて、ヒータ３の出力（駆動）を制御する。また、ヒータ制御回路２０は、第２の昇温期間Ｈｔ２後の期間を保温期間Ｈｔ３とし、この保温期間Ｈｔ３でヒータ３の出力を制御する。以下、詳しく説明する。
【００２８】
第１の昇温期間Ｈｔ１は、染色液８を加熱開始前温度Ｔｓから途中温度Ｔｈまで昇温させる期間である。第２の昇温期間Ｈｔ２は、第１の昇温期間Ｈｔ１のあとに続く期間であって、染色液８を途中温度Ｔｈから目標温度Ｔｔまで昇温させる期間である。保温期間Ｈｔ３は、第２の昇温期間Ｈｔ２のあとに続く期間であって、染色液８の温度を目標温度Ｔｔに維持する期間である。
【００２９】
途中温度Ｔｈは、加熱開始前温度Ｔｓよりも高く、かつ、目標温度Ｔｔよりも低い条件で、あらかじめ設定される温度である。途中温度Ｔｈの関しては、たとえば、ヒータ３の出力を最大（１００％）にして染色液８を常温から加熱したときに、染色液８の液中に泡が発生し始める温度（以下、「発泡開始温度」という）にあわせて設定することが好ましい。たとえば、事前の実験等により、ヒータ３の出力値を１００％として染色液８を加熱したときに、発泡開始温度が７５℃であった場合は、これにあわせて途中温度Ｔｈを７５℃に設定することが好ましい。ただし、途中温度Ｔｈに関しては、発泡開始温度よりも少し高い温度、または少し低い温度、より具体的には、たとえば、発泡開始温度±１０℃の範囲、好ましくは発泡開始温度±５℃の範囲、さらに好ましくは発泡開始温度±２℃の範囲で設定するとよい。図３の上側に表記したグラフでは、途中温度Ｔｈを７５℃に設定した場合の染色液８の温度変化（以下、「昇温速度プロファイル」ともいう）を、縦軸に染色液８の温度（液温）、横軸に時間をとって示している。
【００３０】
ヒータ制御回路２０は、第１の昇温期間Ｈｔ１および第２の昇温期間Ｈｔ２において、ヒータ３の出力を次のような条件で制御する。まず、第１の昇温期間Ｈｔ１においては、ヒータ３の出力を最大の１００％（第１の出力値）に設定して、染色液８を加熱開始前温度Ｔｓから途中温度Ｔｈまで昇温させる。次に、第２の昇温期間Ｈｔ２においては、ヒータ３の出力を８０％（第２の出力値）に設定して、染色液８を途中温度Ｔｈから目標温度Ｔｔまで昇温させる。このようにヒータ３の出力を制御することにより、第２の昇温期間Ｈｔ２では、第１の昇温期間Ｈｔ１よりも染色液８の昇温速度が遅くなる。
【００３１】
染色液８の昇温速度とは、単位時間あたりの染色液８の温度上昇量で規定されるものである。このため、染色液８の昇温速度は、たとえば、「℃／分」などの単位で表すことができる。また、第１の昇温期間Ｈｔ１における染色液８の昇温速度は、たとえば、第１の昇温期間Ｈｔ１における昇温速度の平均値、最大値または最小値で規定することが可能であるが、この中でも特に、昇温速度の平均値で規定することが好ましい。第１の昇温期間Ｈｔ１における昇温速度の平均値は、染色液８を加熱開始前温度Ｔｓから途中温度Ｔｈまで昇温させるのに要した時間を分母し、それらの温度差（Ｔｈ−Ｔｓ）を分子として算出されるものである。昇温速度の平均値が大きくなると、それにしたがって昇温速度プロファイル（図３参照）の傾き度合いも大きくなる。以上の点は、第２の昇温期間Ｈｔ２における染色液８の昇温速度についても同様である。
【００３２】
上述のように染色液８の昇温速度を平均値で規定することが好ましい理由は、次のような事情による。たとえば、第１の昇温期間Ｈｔ１の開始直後にヒータ３の出力を６０％に設定し、その後、第１の昇温期間Ｈｔ１が終了するまでヒータ３の出力を１００％に設定した場合は、第１の昇温期間Ｈｔ１の開始直後に染色液８の温度が緩やかに上昇し始め、その後で急激に上昇することになる。このため、第１の昇温期間Ｈｔ１の開始直後における染色液８の昇温速度が、第２の昇温期間Ｈｔ２における染色液８の昇温速度よりも遅くなる場合があり得る。ただし、上述のように染色液８の昇温速度を平均値で規定すれば、第１の昇温期間Ｈｔ１内で一時的に染色液８の昇温速度が遅くなったとしても、第１の昇温期間Ｈｔ１全体（平均の昇温速度）で比較すると、第２の昇温期間Ｈｔ２よりも染色液８の昇温速度は速くなる。このため、各期間内での一時的な昇温速度の遅速に影響されることなく、第１の昇温期間Ｈｔ１と第２の昇温期間Ｈｔ２で染色液８の昇温速度を相対的に比較することができる。
【００３３】
その後、ヒータ制御回路２０は、保温期間Ｈｔ３において、ヒータ３の出力を６０％に設定して、染色液８の温度を目標温度Ｔｔに保つ。また、ヒータ制御回路２０は、必要に応じてヒータ３の出力を増減することにより、染色液８の温度を目標温度Ｔｔに維持する。この保温期間Ｈｔ３では、染色液８の温度を目標温度Ｔｔに維持しながら眼鏡レンズＬを染色液８に浸漬させる。具体的には、眼鏡レンズＬを図示しないレンズ保持具で保持し、このレンズ保持具とともに眼鏡レンズＬを染色液８に向けて下降させる。このとき、眼鏡レンズＬ全体を均一に染色（以下、「均一染色」という）する場合は、染色液８の液中に眼鏡レンズＬ全体を浸漬させる。また、眼鏡レンズＬの一部を染色する場合は、あらかじめ決められた染色基準ラインにあわせて染色液８の液中に眼鏡レンズＬの一部を浸漬させるとともに、必要応じて眼鏡レンズＬを上下動させる。眼鏡レンズＬの浸漬を開始してからあらかじめ決められた染色時間が経過すると、レンズ保持具の上昇により眼鏡レンズＬを染色液８の液面よりも上方の空間まで引き上げる。
このようにヒータ制御回路２０によって目標温度Ｔｔに維持された染色液８に眼鏡レンズＬを浸漬させることにより、眼鏡レンズＬが染色される。
【００３４】
＜３．実施の形態に係る効果＞
本発明の実施の形態においては、染色液８を加熱開始前温度Ｔｓから途中温度Ｔｈまで昇温させた後、それまでよりも遅い昇温速度で染色液８を目標温度Ｔｔまで昇温させるようにしている。これにより、途中温度Ｔｈよりも高い温度域では、染色液８の温度上昇が緩やかになる。このため、染色液８の液中に泡が発生しにくくなる。一方、途中温度Ｔｈよりも低い温度域では、染色液８の温度上昇が急になる。このため、染色液８が途中温度Ｔｈに到達するまでの所要時間が短くなる。したがって、昇温期間全体（Ｈｔ１＋Ｈｔ２）でみると、昇温所要時間の短縮と発泡量の低減を図ることができる。特に、染色液８を加熱開始前温度Ｔｓから加熱するときのヒータ３の出力が大きくなると、その加熱途中で発泡量が多くなる傾向にある。このため、昇温所要時間の短縮と発泡量の低減を両立するうえでは、上記の加熱方式を採用することが非常に有効になる。
【００３５】
また、本発明の実施の形態においては、染色槽２の槽内を泡遮蔽部材１０の遮蔽部１１によって第１領域Ｅ１と第２領域Ｅ２に区画している。このため、たとえば、ヒータ３による加熱によって染色液８が途中温度Ｔｈに近づいたときや、途中温度Ｔｈよりも高温になったときに少量の泡が発生したとしても、この泡を遮蔽部１１によって遮蔽することができる。さらに、泡遮蔽部材１０の遮蔽部１１を水平面に対して傾けて配置しているため、染色液８の液中に発生した泡の多くを遮蔽部１１の傾きを利用して所望の方向に誘導することができる。具体的には、実際に眼鏡レンズＬを浸漬する位置からなるべく離れたところに泡を誘導し、そこに停留させることができる。また、泡遮蔽部材１０で誘導した泡を吸引によって除去したり、染色槽２とは別の槽に排出したりすることもできる。したがって、泡の付着に伴う染色不良を効果的に低減することができる。
＜４．変形例等＞
本発明の技術的範囲は上述した実施の形態に限定されるものではなく、発明の構成要件やその組み合わせによって得られる特定の効果を導き出せる範囲において、種々の変更や改良を加えた形態も含む。
【００３６】
たとえば、上記実施の形態においては、目標温度Ｔｔを染色処理適合温度と同じ温度としているが、目標温度Ｔｔは必ずしも染色処理適合温度と同じ温度とする必要はない。具体的には、たとえば、染色処理適合温度が９０℃である場合は、これよりも少し高い温度を目標温度Ｔｔとして染色液８を昇温させ、その後、染色液８の温度を９０℃まで低下させてから眼鏡レンズＬを浸漬させるようにしてもよい。
【００３７】
また、第２の昇温期間Ｈｔ２においては、温度センサ９で検出される染色液８の温度が目標温度Ｔｔに近づくにしたがって、ヒータ３の出力を９０％→８０％→７０％→６０％といった具合に徐々（段階的）に小さくするように制御してもよい。
【００３８】
また、第１の昇温期間Ｈｔ１に適用するヒータ３の出力値は、昇温所要時間を短縮するという観点では最大値（１００％）に設定することが好ましいものの、必ずしも最大値に設定する必要はない。具体的には、たとえば、第１の昇温期間Ｈｔ１ではヒータ３の出力を最大値よりも小さい９０％に設定し、第２の昇温期間Ｈｔ２ではヒータ３の出力を８０％または７０％に設定することにより、染色液８を加熱開始前温度Ｔｓから目標温度Ｔｔまで昇温させるようにしてもよい。
【００３９】
また、上記実施の形態においては、図３に示す時間軸上において、第１の昇温期間Ｈｔ１の終点と第２の昇温期間Ｈｔ２の始点が同じタイミングになっている（つまり、第１の昇温期間Ｈｔ１と第２の昇温期間Ｈｔ２が連続する関係）になっているが、本発明はこれに限らず、各期間Ｈｔ１，Ｈｔ２が不連続の関係になっていてもよい。たとえば、図示はしないが、第１の昇温期間Ｈｔ１と第２の昇温期間Ｈｔ２との間に、染色液８を途中温度Ｔｈに維持する期間を設けてもよい。この期間を設けた場合は、第１の昇温期間Ｈｔ１で染色液８の温度を急速に上昇させた場合でも、染色槽２内における染色液８の温度ムラ等の影響を抑えて、染色液８の温度を温度センサ９で正確に検出することができる。また、染色液８を目標温度Ｔｔまで加熱させる途中で一旦、染色液８の状態を落ち着かせることができる。このため、第１の昇温期間Ｈｔ１から第２の昇温期間Ｈｔ２への移行するときに、泡の発生を抑制する効果が期待できる。
【００４０】
また、上記実施の形態においては、泡遮蔽部材１０を備える染色処理装置１を例に挙げて説明したが、本発明はこれに限らず、泡遮蔽部材１０を具備しない染色処理装置１に上記同様の制御形態を適用してもよい。
【００４１】
また、上記実施の形態においては、眼鏡レンズの表面処理として、眼鏡レンズの染色処理を例に挙げて説明したが、本発明はこれに限らず、眼鏡レンズを処理液に浸漬させて所望の機能層を形成する表面処理に広く適用することが可能である。具体的には、たとえば、眼鏡レンズの光学面に防汚層もしくは防曇層を形成する処理、またはハードコート層を形成する処理（ハードコート処理）、撥水処理コートなどに適用することが可能である。
【符号の説明】
【００４２】
１…染色処理装置
２…染色槽
３…ヒータ
８…染色液
９…温度センサ
１０…泡遮蔽部材
１１…遮蔽部
１４…開口部
１７…磁石
２０…ヒータ制御回路
Ｌ…眼鏡レンズ
【図１】
2014016427.tif 000003
【図２】
2014016427.tif 000004
【図３】
2014016427.tif 000005