(57)【要約】      （修正有）【課題】面方向における表面抵抗の均一性が改善された、光透過性導電性フィルムを巻き取ってなるフィルムロールを提供する。【解決手段】幅０．１〜１０ｍかつ長さ１０〜３０００ｍの光透過性導電性フィルム１を巻き取ってなるフィルムロールであって、以下の要件（Ｉ）及び（ＩＩ）を満たすフィルムロール：（Ｉ）前記光透過性導電性フィルムが、光透過性支持層１１、下地層１２及び光透過性導電層１３を含有し、前記下地層１２が、ＳＩＭＳ測定（二次イオン質量分析）において、前記光透過性支持層１１からの距離が大きくなるにしたがって、窒素濃度が０．０５ａｔｏｍｉｃ％〜０．１ａｔｏｍｉｃ％である組成から０．２ａｔｏｍｉｃ％〜０．５ａｔｏｍｉｃ％である組成に略連続的に増加する傾斜組成領域を含有し；かつ（ＩＩ）前記フィルムロールにおいて、所定の複数の点において測定して得られる各表面抵抗値の標準偏差が５．８Ω／□以下である。【選択図】図１
2014184703.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
幅０．１〜１０ｍかつ長さ１０〜３０００ｍの光透過性導電性フィルムを巻き取ってなるフィルムロールであって、以下の要件（Ｉ）及び（ＩＩ）を満たすフィルムロール：
（Ｉ）前記光透過性導電性フィルムが、
（Ａ）光透過性支持層； 
（Ｂ）下地層；及び
（Ｃ）光透過性導電層
を含有し、
前記下地層（Ｂ）が、前記光透過性支持層（Ａ）の少なくとも一方の面に、直接又は一以上の他の層を介して配置されており、かつ
前記光透過性導電層（Ｃ）が、前記光透過性支持層（Ａ）の少なくとも一方の面に、少なくとも下地層（Ｂ）を介して配置されている光透過性導電性フィルムであって、
前記下地層（Ｂ）が、ＳＩＭＳ測定（二次イオン質量分析）において、前記光透過性支持層（Ａ）からの距離が大きくなるにしたがって、窒素濃度が０．０５ａｔｏｍｉｃ％〜０．１ａｔｏｍｉｃ％である組成から０．２ａｔｏｍｉｃ％〜０．５ａｔｏｍｉｃ％である組成に略連続的に増加する傾斜組成領域を含有し；
かつ
（ＩＩ）前記フィルムロールにおいて、幅方向の任意の中心点から幅方向に両端まで延ばした線上の点であって、当該中心点からそれぞれ５ｃｍ毎に、端部までの距離が１０ｃｍ未満となるまで取った点、及びそれらの両端の点から１ｃｍ毎に、端部までの距離が３ｃｍ未満となるまで取った点において得られる各表面抵抗値の標準偏差が５．８Ω／□以下である。
【請求項２】
前記傾斜組成領域が下地層（Ｂ）の半分以上を占めている、請求項１に記載のフィルムロール。
【請求項３】
請求項１又は２に記載のフィルムロールを裁断して得られる、光透過性導電性フィルム。
【請求項４】
請求項３に記載の光透過性導電性フィルムを含有する、タッチパネル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光透過性導電性フィルムロール、その製造方法及びタッチパネルに関する。
【背景技術】
【０００２】
タッチパネル等に搭載される光透過性導電性フィルムとして、プラスチックからなる光透過性支持層の上に酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）等からなる光透過性導電層を積層して得られる光透過性導電性フィルムが数多く使用されている（特許文献１）。これらの光透過性導電性フィルムには、望ましい表面抵抗を有していることが求められる。
【０００３】
これらの光透過性導電性フィルムは、幅０．５〜１０ｍかつ長さ１０〜３０００ｍ程度を巻き取ってなるフィルムロールとして取引されるのが通常である（特許文献２）。タッチパネル等に搭載する際には、このフィルムロールを必要に応じて適切な大きさに切り取って使用する。したがって、このようなフィルムロールとしては、どの箇所を切り取ったとしても、同程度の表面抵抗を有するフィルムが常に得られるものであることが望ましい。
【０００４】
従来の方法では、面方向において表面抵抗の均一性が充分に保たれているフィルムロールを得ることは困難であった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００２−３２６３０１号公報
【特許文献２】特開２００３−１９７０３４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は、面方向における表面抵抗の均一性が改善された、光透過性導電性フィルムを巻き取ってなるフィルムロールを提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明者らは、上記の課題を解決するため鋭意検討を行った。その結果、本発明者らは、光透過性導電層の下地として従来用いられている層においては、酸化度に関して面方向における偏りが生じがちであり、この偏りが、面方向における表面抵抗の均一性を損ねる要因となっていることを突き止めた。かかる知見に基づいて本発明者らはさらなる検討を重ね、下地層として、窒素濃度が特定の濃度範囲から特定の濃度範囲に略連続的に増加する傾斜組成領域を含有するものを採用することにより、この酸化度の偏りを解消することができ、ひいては面方向における表面抵抗の均一性を改善できることを見出した。
【０００８】
本発明は上記の新しい知見に基づいてさらなる研究を重ねることにより完成されたものであり、以下に掲げる通りである。
項１．
幅０．１〜１０ｍかつ長さ１０〜３０００ｍの光透過性導電性フィルムを巻き取ってなるフィルムロールであって、以下の要件（Ｉ）及び（ＩＩ）を満たすフィルムロール：
（Ｉ）前記光透過性導電性フィルムが、
（Ａ）光透過性支持層； 
（Ｂ）下地層；及び
（Ｃ）光透過性導電層
を含有し、
前記下地層（Ｂ）が、前記光透過性支持層（Ａ）の少なくとも一方の面に、直接又は一以上の他の層を介して配置されており、かつ
前記光透過性導電層（Ｃ）が、前記光透過性支持層（Ａ）の少なくとも一方の面に、少なくとも下地層（Ｂ）を介して配置されている光透過性導電性フィルムであって、
前記下地層（Ｂ）が、ＳＩＭＳ測定（二次イオン質量分析）において、前記光透過性支持層（Ａ）からの距離が大きくなるにしたがって、窒素濃度が０．０１ａｔｏｍｉｃ％〜０．１ａｔｏｍｉｃ％である組成から０．２ａｔｏｍｉｃ％〜０．５ａｔｏｍｉｃ％である組成に略連続的に増加する傾斜組成領域を含有し；
かつ
（ＩＩ）前記フィルムロールにおいて、幅方向の任意の中心点から幅方向に両端まで延ばした線上の点であって、当該中心点からそれぞれ５ｃｍ毎に、端部までの距離が１０ｃｍ未満となるまで取った点、及びそれらの両端の点から１ｃｍ毎に、端部までの距離が３ｃｍ未満となるまで取った点において測定して得られる各表面抵抗値の標準偏差が５．８Ω／□以下である。
項２
前記傾斜組成領域が下地層（Ｂ）の半分以上を占めている、項１に記載のフィルムロール。
項３
項１又は２に記載のフィルムロールを裁断して得られる、光透過性導電性フィルム。
項４
項３に記載の光透過性導電性フィルムを含有する、タッチパネル。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、光透過性導電性フィルムを巻き取ってなるフィルムロールにおいて、面方向における表面抵抗の均一性を改善できる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】光透過性支持層（Ａ）の片面に、下地層（Ｂ）及び光透過性導電層（Ｃ）がこの順で隣接して配置されている、本発明の光透過性導電性フィルムを示す断面図である。
【図２】光透過性支持層（Ａ）の両面に、下地層（Ｂ）及び光透過性導電層（Ｃ）がこの順で隣接して配置されている、本発明の光透過性導電性フィルムを示す断面図である。
【図３】光透過性支持層（Ａ）の片面に、ハードコート層（Ｄ）、下地層（Ｂ）及び光透過性導電層（Ｃ）がこの順で隣接して配置されている、本発明の光透過性導電性フィルムを示す断面図である。
【図４】光透過性支持層（Ａ）の一方の面に、ハードコート層（Ｄ）、下地層（Ｂ）及び光透過性導電層（Ｃ）がこの順で隣接して配置されており、光透過性支持層（Ａ）の他方の面に、別のハードコート層（Ｄ）が隣接して配置されている、本発明の光透過性導電性フィルムを示す断面図である。
【図５】光透過性支持層（Ａ）の両面に、ハードコート層（Ｄ）、下地層（Ｂ）及び光透過性導電層（Ｃ）がこの順で隣接して配置されている、本発明の光透過性導電性フィルムを示す断面図である。
【図６】フィルムロールにおいて、幅方向の任意の中心点から幅方向に両端まで延ばした線上の点であって、当該中心点からそれぞれ５ｃｍ毎に、端部までの距離が１０ｃｍ未満となるまで取った点、及びそれらの両端の点から１ｃｍ毎に、端部までの距離が３ｃｍ未満となるまで取った点を示す図面である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
１．  光透過性導電性フィルムロール
本発明の光透過性導電性フィルムロールは、
幅０．１〜１０ｍかつ長さ１０〜３０００ｍの光透過性導電性フィルムを巻き取ってなるフィルムロールであって、以下の要件（Ｉ）及び（ＩＩ）を満たすフィルムロール：
（Ｉ）前記光透過性導電性フィルムが、
（Ａ）光透過性支持層； 
（Ｂ）下地層；及び
（Ｃ）光透過性導電層
を含有し、
前記下地層（Ｂ）が、前記光透過性支持層（Ａ）の少なくとも一方の面に、直接又は一以上の他の層を介して配置されており、かつ
前記光透過性導電層（Ｃ）が、前記光透過性支持層（Ａ）の少なくとも一方の面に、少なくとも下地層（Ｂ）を介して配置されている光透過性導電性フィルムであって、
前記下地層（Ｂ）が、ＳＩＭＳ測定（二次イオン質量分析）において、前記光透過性支持層（Ａ）からの距離が大きくなるにしたがって、窒素濃度が０．０１ａｔｏｍｉｃ％〜０．１ａｔｏｍｉｃ％である組成から０．２ａｔｏｍｉｃ％〜０．５ａｔｏｍｉｃ％である組成に略連続的に増加する傾斜組成領域を含有し；
かつ
（ＩＩ）前記フィルムロールにおいて、幅方向の任意の中心点から幅方向に両端まで延ばした線上の点であって、当該中心点からそれぞれ５ｃｍ毎に、端部までの距離が１０ｃｍ未満となるまで取った点、及びそれらの両端の点から１ｃｍ毎に、端部までの距離が３ｃｍ未満となるまで取った点において得られる各表面抵抗値の標準偏差が５．８Ω／□以下となる。
【００１２】
本発明において「光透過性」とは、光を透過させる性質を有する（ｔｒａｎｓｌｕｃｅｎｔ）ことを意味する。「光透過性」には、透明（ｔｒａｎｓｐａｒｅｎｔ）が含まれる。「光透過性」とは、例えば、全光線透過率が８０％以上、好ましくは８５％以上、より好ましくは８７％以上である性質をいう。本発明において全光線透過率は、ヘーズメーター（日本電色社製、商品名：ＮＤＨ−２０００、またはその同等品）を用いてＪＩＳ−Ｋ−７１０５に基づいて測定する。
【００１３】
本発明において、表面抵抗値は、ＭＩＴＳＵＢＩＳＨＩ  ＣＨＥＭＩＣＡＬ  ＡＮＡＬＹＴＥＣＨ社製の表面抵抗計（商品名：Ｌｏｒｅｓｔａ−ＥＰ）又はその同等品を用いて、４端子法により測定する。
【００１４】
本発明において、特に断りのない限り、各層の厚さは、市販のＲｉｇａｋｕ製  薄膜評価用試料水平型Ｘ線回折装置ＳｍａｒｔＬａｂ、又はその同等品を用いて、Ｘ線反射率法により求める。
【００１５】
本明細書において、光透過性支持層（Ａ）の一方の面に配置される複数の層のうち二つの層の相対的な位置関係について言及する場合、光透過性支持層（Ａ）を基準にして、光透過性支持層（Ａ）からの距離が大きい一方の層を「上の層」等といい、光透過性支持層（Ａ）からの距離が小さい他方の層を「下の層」等ということがある。
【００１６】
本発明の光透過性導電性フィルムロールは、幅０．１〜１．０ｍかつ長さ１０〜３０００ｍの、上記要件（Ｉ）を満たす光透過性導電性フィルムを巻き取ってなるフィルムロールである。巻き取るフィルムのサイズは、使用目的等により異なっていてよく、適宜設定できる。例えば、幅０．２〜０．９ｍかつ長さ１５〜２５００ｍ等であってもよいし、幅０．５〜０．８ｍかつ長さ２０〜２０００ｍ等であってもよい。
【００１７】
光透過性導電性フィルムを巻き取る方法は、特に限定されないが、通常、巻き出しロールに設置したフィルムを任意の張力及び温度に制御しつつ、任意の本数の中間ロールを介して搬送し、各層成膜後、フィルムを巻き取りロールにより巻き取る。巻き出しロール、巻き取りロール、及び中間ロールは、任意の幅及びロール径を有し、また任意の材質からなる。これらのロールは必要に応じて固定軸の場合と回転軸の場合があり、必要に応じて外部駆動がかかる場合がある。  本発明の光透過性導電性フィルムロールを必要に応じて適当なサイズに裁断することにより、上記要件（Ｉ）を満たす光透過性導電性フィルムが得られる。光透過性導電性フィルムのサイズは、用途により異なり、特に限定されないが、例えばタッチパネル用途の場合は、通常幅０．５〜２ｍかつ長さ１００〜２５００ｍである。裁断の方法としては、特に限定されないが、例えば、フィルム用スリッター機にて、レザー刃又はシェアー刃にて加工する方法等が挙げられる。
【００１８】
以下にまずこの光透過性導電性フィルムについて説明する。
１．１  光透過性導電性フィルム
図１に、本発明の光透過性導電性フィルムの一態様を示す。この態様では、光透過性支持層（Ａ）の片面に、下地層（Ｂ）及び光透過性導電層（Ｃ）がこの順で隣接して配置されている。このような光透過性導電性フィルムのことを、「片面光透過性導電性フィルム」ということがある。
【００１９】
図２に、本発明の光透過性導電性フィルムの別の態様を示す。この態様では、光透過性支持層（Ａ）の両面に、下地層（Ｂ）及び光透過性導電層（Ｃ）がこの順で隣接して配置されている。このような光透過性導電性フィルムのことを、「両面光透過性導電性フィルム」ということがある。
【００２０】
１．１．１  光透過性支持層（Ａ）
本発明において光透過性支持層とは、光透過性導電性フィルムにおいて、光透過性導電層を含む層を支持する役割を果たすものをいう。光透過性支持層（Ａ）としては、特に限定されないが、例えば、タッチパネル用光透過性導電性フィルムにおいて、光透過性支持層として通常用いられるものを用いることができる。
【００２１】
光透過性支持層（Ａ）の素材は、特に限定されないが、例えば、各種の有機高分子等を挙げることができる。有機高分子としては、特に限定されないが、例えば、ポリエステル系樹脂、アセテート系樹脂、ポリエーテル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアクリル系樹脂、ポリメタクリル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリアセタール系樹脂、ポリ塩化ビニリデン系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、ポリアリレート系樹脂及びポリフェニレンサルファイド系樹脂等が挙げられる。ポリエステル系樹脂としては、特に限定されないが、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）及びポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）等が挙げられる。ポリエーテル系樹脂としては、ポリエーテルスルホン系樹脂等が挙げられる。光透過性支持層（Ａ）の素材は、ポリエステル系樹脂が好ましく、中でも特にＰＥＴが好ましい。光透過性支持層（Ａ）は、これらのうちいずれか単独からなるものであってもよいし、複数種からなるものであってもあってもよい。
【００２２】
光透過性支持層（Ａ）の厚さは、特に限定されないが、好ましくは２〜３００μｍ、より好ましくは２０〜２００μｍである。光透過性支持層（Ａ）の厚さをこれらの下限値以上とすることによって、光透過性導電性フィルムに十分な機械的強度を付与できる。また、光透過性導電性フィルムとしては通常、ある程度の厚さ以下であることが要求される。このように光透過性導電性フィルムとして通常要求される厚さを達成するためには、光透過性支持層（Ａ）の厚さを上記の上限値以下とすることが好ましい。
【００２３】
１．１．２  下地層（Ｂ）
下地層（Ｂ）は、光透過性支持層（Ａ）の少なくとも一方の面に、直接又は一以上の他の層を介して配置されている。
【００２４】
また、下地層（Ｂ）は、ＳＩＭＳ測定（二次イオン質量分析）において、前記光透過性支持層（Ａ）からの距離が大きくなるにしたがって、窒素濃度が０．０１ａｔｏｍｉｃ％〜０．１ａｔｏｍｉｃ％である組成から０．２ａｔｏｍｉｃ％〜０．５ａｔｏｍｉｃ％である組成に略連続的に増加する傾斜組成領域を含有する。
【００２５】
本発明において、ある領域において窒素濃度が略連続的に増加するとは、当該領域が、厳密には窒素濃度が連続的に増加しない領域を一部に含有することを許容するが、一方で、当該領域において窒素濃度が連続的に増加しない領域が支配的であること、及び、当該領域が、窒素濃度が急激に減少する領域を含有することは許容しないということを意味する。なお、前記光透過性支持層（Ａ）からの距離を横軸に、窒素濃度を縦軸にとって折れ線グラフを描いた場合に、ジグザグ状に波打ってはいるが全体としては増加している傾向が見て取れるときがある。このようなときも「窒素濃度が略連続的に増加する」ときに該当する。このような判定が難しい場合は次のようにして判定する。移動平均法を用いて、前後の測定点を含めた平均値を算出して、再度グラフにすることにより、略連続的に増加している傾向がみられれば、「窒素濃度が略連続的に増加する」ときに該当することとする。任意の測定点を中心に前後１点のデータも含めて平均を算出してもよいし（３項移動平均）、それでも傾向が読み取りにくい場合は、前後２点以上のデータも含めて平均を算出してもよい（前後２点以上のデータも含めて平均を算出する場合は、５項移動平均となる）。
【００２６】
あるいは、下地層（Ｂ）が、光透過性支持層（Ａ）からの距離が大きくなるにしたがって、窒素濃度が０．０１ａｔｏｍｉｃ％〜０．１ａｔｏｍｉｃ％である組成から０．２ａｔｏｍｉｃ％〜０．５ａｔｏｍｉｃ％である組成に略連続的に増加する傾斜組成領域を含有するか否かは次のようにして決定することもできる。下地層（Ｂ）の厚さｄを５分割し、下地層（Ｂ）の光透過性支持層（Ａ）側の面の任意の点（始点）から下地層（Ｂ）の反対側の面に向かう垂直方向にそれぞれ０．２ｄ、０．４ｄ、０．６ｄ、０．８ｄ及びｄの位置における窒素量（ａｔｏｍｉｃ％）をそれぞれ測定する。始点及びこれら５点における窒素量が、光透過性支持層（Ａ）側からの距離が大きくなるにしたがって、窒素濃度が少なくとも隣り合う２点において連続的に増加（隣り合う２点における値が互いに同一である場合を含む）しており、この連続的に増加している領域において、光透過性支持層（Ａ）側からの距離が最も小さい点の窒素濃度が０．０１ａｔｏｍｉｃ％〜０．１ａｔｏｍｉｃ％であり、光透過性支持層（Ａ）側からの距離が最も大きい点の窒素濃度が０．２ａｔｏｍｉｃ％〜０．５ａｔｏｍｉｃ％であれば、前記傾斜組成領域を含有すると決定する。
【００２７】
上記方法を用いて傾斜組成領域を含有するか否かを決定する場合、下地層（Ｂ）は、好ましくは窒素濃度が少なくとも隣り合う３点において連続的に増加しているものであり、より好ましくは窒素濃度が少なくとも隣り合う４点において連続的に増加しているものであり、さらに好ましくは窒素濃度が隣り合う５点において連続的に増加しているものである。
【００２８】
下地層（Ｂ）がこのような傾斜組成領域を含有していることに起因して、本発明の光透過性導電性フィルムは、面方向における表面抵抗の均一性が改善されている。より具体的には、下地層（Ｂ）がこのような傾斜組成領域を含有していることに起因して、通常であれば生じがちな面方向における下地層（Ｂ）の酸化度の偏りが改善され、これにより面方向における表面抵抗の均一性が改善される。
【００２９】
下地層（Ｂ）は、面方向における表面抵抗の均一性の点で、好ましくは、ＳＩＭＳ測定（二次イオン質量分析）において、前記光透過性支持層（Ａ）からの距離が大きくなるにしたがって、窒素濃度が０．０１ａｔｏｍｉｃ％〜０．１ａｔｏｍｉｃ％である組成から０．２ａｔｏｍｉｃ％〜０．５ａｔｏｍｉｃ％である組成に略連続的に増加する傾斜組成領域を含有する。
【００３０】
傾斜組成領域は、面方向における表面抵抗の均一性の点で、好ましくは、下地層（Ｂ）の半分以上を占めており、より好ましくは、７０％以上を占めており、さらに好ましくは８０％以上を占めており、最も好ましくは９０％以上を占めている。
【００３１】
本発明において、ＳＩＭＳ測定は次のようにして行う。
【００３２】
フィルムロールの任意の点に関して、ＰＨＩ  ＡＤＥＰＴ１０１０  二次イオン質量分析装置（アルバック−ファイ社製）またはその同等機を用い、一次イオン種・Ｃｓ＋、一次加速電圧・２ｋＶ、検出領域・１４０×１４０（μｍ×μｍ）にて二次イオン質量分析法（ＳＩＭＳ）により、下地層の深さ方向における窒素量分布の測定を行う。
【００３３】
下地層（Ｂ）の窒素を除く組成は、特に限定されないが、例えば、誘電性物質を含有する組成、又は誘電性物質からなる組成が挙げられる。下地層（Ｂ）の窒素を除く組成としては、特に限定されないが、例えば、次に挙げる物質のうち一種以上を含有する組成、又は次に挙げる物質のうち一種以上からなる組成が挙げられる。そのような物質としては、ケイ素、酸化ケイ素、炭化ケイ素、シリコンアルコキシド、アルキルシロキサン及びその縮合物、ポリシロキサン、シルセスキオキサン及びポリシラザン等が挙げられる。
【００３４】
下地層（Ｂ）の窒素を除く組成としては、ＳｉＯｘ（ｘ＝１．０〜２．０）を含有する組成、又はＳｉＯｘ（ｘ＝１．０〜２．０）からなる組成が好ましい。
【００３５】
下地層（Ｂ）は、一層が配置されていてもよい。あるいは二層以上が互いに隣接して、または他の層を介して互いに離間して配置されていてもよい。
【００３６】
下地層（Ｂ）の一層あたりの厚さとしては、特に限定されないが、例えば１５〜５０ｎｍ等が挙げられる。二層以上が互いに隣接して配置されている場合は互いに隣接している全ての下地層（Ｂ）の合計厚さが上記範囲内であればよい。
【００３７】
下地層（Ｂ）の屈折率は、本発明の光透過性導電性フィルムがタッチパネル用光透過性導電性フィルムとして使用できる限り特に限定されないが、例えば、１．４〜１．５が好ましい。
【００３８】
下地層（Ｂ）を配置する方法は、要件（Ｉ）を満たす層が得られればよく、特に限定されないが、例えば、光透過性支持層（Ａ）の上に、スパッタリング法を用い、ケイ素ターゲットをカソードに設置し、アルゴン・酸素・窒素の混合ガスを導入しながら積層を行う方法等が挙げられる。
【００３９】
１．１．３  光透過性導電層（Ｃ）
光透過性導電層（Ｃ）は、前記光透過性支持層（Ａ）の少なくとも一方の面に、少なくとも下地層（Ｂ）を介して配置されている。
【００４０】
光透過性導電層（Ｃ）は導電性物質を含有する。導電性物質としては、特に限定されないが、例えば、タッチパネル用光透過性導電性フィルムにおいて通常用いられる導電性物質を用いることができる。
【００４１】
この導電性物質としては、特に限定されないが、例えば、酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化錫、及び酸化チタン等が挙げられる。この導電性物質は、これらのうちいずれか単独からなるものであってもよいし、複数種からなるものであってもあってもよい。この導電性物質としては、これらの導電性物質にドーパントをドープしたものが好ましく、中でも透明性と導電性を両立する点で酸化インジウムにドーパントをドープしたものが特に好ましい。ドーパントとしては、特に限定されないが、例えば、酸化スズ及び酸化亜鉛、並びにそれらの混合物等が挙げられる。
【００４２】
導電性物質として酸化インジウムに酸化スズをドープしたものを用いる場合は、酸化インジウム（ＩＩＩ）（Ｉｎ２Ｏ３）に酸化スズ（ＩＶ）（ＳｎＯ２）をドープしたもの（ｔｉｎ−ｄｏｐｅｄｉｎｄｉｕｍｏｘｉｄｅ；ＩＴＯ）が好ましい。この場合、ＳｎＯ２の添加量としては、特に限定されないが、例えば、１〜１５重量％、好ましくは２〜１０重量％、より好ましくは３〜８重量％等が挙げられる。また、ドーパントの総量が左記の数値範囲を超えない範囲で、ＩＴＯにさらに他のドーパントが加えられたものを光透過性導電層（Ｂ）の素材として用いてもよい。左記において他のドーパントとしては、特に限定されないが、例えばセレン等が挙げられる。
【００４３】
光透過性導電層（Ｃ）の厚さは、特に限定されないが、通常は５〜５０ｎｍであり、より低抵抗であることが必要とされる場合には、好ましくは１０〜４０ｎｍ、より好ましくは１５〜３５ｎｍ、さらに好ましくは２０〜３０ｎｍである。
【００４４】
光透過性導電層（Ｃ）を形成する方法としては、特に限定されないが、例えば、イオンプレーティング法、スパッタリング法、真空蒸着法、ＣＶＤ法、及びパルスレーザーデポジション法等が挙げられる。これらのうち、タッチパネル用途に低抵抗で大面積の均質な膜を安定に生産するという観点において、スパッタリング法が好ましい。
【００４５】
光透過性導電層（Ｃ）を形成する方法としては、導電性物質を焼成する工程を含有する方法が好ましい。焼成方法としては、特に限定されないが、例えばスパッタリング等を行う際のドラム加熱や、熱風式焼成炉、遠赤外線焼成炉などを例として挙げることができる。焼成温度は、特に限定されないが、通常は３０〜２５０℃であり、好ましくは５０〜２００℃、より好ましくは８０〜１８０℃、さらに好ましくは１００〜１６０℃である。焼成時間は、好ましくは３分〜１８０分、より好ましくは５分〜１２０分、さらに好ましくは１０分〜９０分である。焼成を行う雰囲気としては、真空下、大気、窒素やアルゴンなどの不活性ガス、酸素、若しくは水素添加窒素等、又はこれらのうち二種以上の組合せが挙げられる。導電性物質を焼成することにより、導電性物質の結晶化が促進される。
【００４６】
１．１．４  ハードコート層（Ｄ）
本発明の光透過性導電性フィルムは、さらに、ハードコート層（Ｄ）を含有していてもよい。
【００４７】
図３に、ハードコート層（Ｄ）を含有する本発明の片面光透過性導電性フィルムの一態様を示す。この態様では、光透過性支持層（Ａ）の片面に、ハードコート層（Ｄ）、下地層（Ｂ）及び光透過性導電層（Ｃ）がこの順で隣接して配置されている。
【００４８】
図４に、ハードコート層（Ｄ）を含有する本発明の片面光透過性導電性フィルムの別の態様を示す。この態様では、光透過性支持層（Ａ）の一方の面に、ハードコート層（Ｄ）、下地層（Ｂ）及び光透過性導電層（Ｃ）がこの順で隣接して配置されており、光透過性支持層（Ａ）の他方の面に、別のハードコート層（Ｄ）が隣接して配置されている。
【００４９】
図５に、ハードコート層（Ｄ）を含有する本発明の両面光透過性導電性フィルムの一態様を示す。この態様では、光透過性支持層（Ａ）の両面に、ハードコート層（Ｄ）、下地層（Ｂ）及び光透過性導電層（Ｃ）がこの順で隣接して配置されている。
【００５０】
ハードコート層（Ｄ）としては、特に限定されないが、例えば、タッチパネル用光透過性導電性フィルムにおいてハードコート層として通常用いられるものを用いることができる。
【００５１】
ハードコート層（Ｄ）の素材は、特に限定されないが、例えば、アクリル系樹脂、シリコーン系樹脂、ウレタン系樹脂、メラミン系樹脂及びアルキド系樹脂等が挙げられる。
【００５２】
ハードコート層（Ｄ）の一層あたりの厚さは、特に限定されないが、例えば０．１〜１０μｍ、１〜７μｍ、及び２〜６μｍ等が挙げられる。二層以上が互いに隣接して配置されている場合は互いに隣接している全てのハードコート層（Ｄ）の合計厚さが上記範囲内であればよい。左記の例示列挙においては後出のものが前出のものよりも好ましい。
【００５３】
ハードコート層（Ｄ）を配置する方法としては、特に限定されないが、例えば、フィルムに塗布して、熱で硬化する方法、紫外線や電子線などの活性エネルギー線で硬化する方法等が挙げられる。生産性の点で、紫外線により硬化する方法が好ましい。
【００５４】
１．１．５  その他の層（Ｅ）
本発明の光透過性導電性フィルムは、光透過性支持層（Ａ）の少なくとも一方の面に、下地層（Ｂ）及び光透過性導電層（Ｃ）に加えて、ハードコート層（Ｄ）及びそれらと異なる少なくとも１種のその他の層（Ｅ）からなる群より選択される少なくとも１種の層がさらに配置されていてもよい。
【００５５】
その他の層（Ｅ）としては、特に限定されないが、例えば、接着層等が挙げられる。
【００５６】
接着層とは、二層の間に当該二層と互いに隣接して配置され、当該二層間を互いに接着するために配置される層である。接着層としては、特に限定されないが、例えば、タッチパネル用光透過性導電性フィルムにおいて接着層として通常用いられるものを用いることができる。接着層は、これらのうちいずれか単独からなるものであってもよいし、複数種からなるものであってもあってもよい。
【００５７】
１．２  本発明の光透過性導電性フィルムの製造方法
本発明の光透過性導電性フィルムの製造方法は、光透過性支持層（Ａ）の少なくとも一方の面に、下地層（Ｂ）及び光透過性導電層（Ｃ）を配置する工程をそれぞれ含む。
【００５８】
本発明の光透過性導電性フィルムの製造方法は、光透過性支持層（Ａ）の少なくとも一方の面に、下地層（Ｂ）及び光透過性導電層（Ｃ）に加えて、ハードコート層（Ｄ）及びそれらと異なる少なくとも１種のその他の層（Ｅ）からなる群より選択される少なくとも１種の層をそれぞれ配置する工程をそれぞれ含んでいてもよい。
【００５９】
上記において、それぞれの層を配置する工程は、それぞれの層について説明した通りである。それぞれの層を配置する順番については、特に限定されない。例えば、光透過性支持層（Ａ）の少なくとも一方の面に光透過性支持層（Ａ）側から順次配置させてもよい。あるいは、例えば、最初に光透過性支持層（Ａ）ではない層（例えば、光透過性導電層（Ｃ））の一方の面に他の層を配置させてもよい。あるいは、一方で２種以上の層を互いに隣接するように配置させることにより１種の複合層を得てから、又はそれと同時に、他方で同様に２種以上の層を互いに隣接するように配置させることにより１種の複合層を得て、これらの２種の複合層をさらに互いに隣接するように配置させてもよい。
【００６０】
１．３  本発明の光透過性導電性フィルムの用途
本発明の光透過性導電性フィルムは、特に限定されないが、例えば、静電容量型タッチシートパネル、光発電装置、電磁波遮蔽部材及び精密電子機器包装容器等の製造のために用いることができる。
【００６１】
静電容量型タッチパネルについて詳細は、後述する通りである。
【００６２】
また、本発明の光透過性導電性フィルムは、光透過性導電層（Ｂ）をパターン化した上で使用してもよい。このパターン化は、通常いわゆるエッチング処理により行われる。
【００６３】
パターン化の方法は、特に限定されないが、例えば次のようにして行う。まず、レジスト（エッチング液から層を保護するための保護膜）を、光透過性導電層上の、残したい領域に塗布する。塗布の手段はレジストの種類にもよるがスクリーン印刷によって行ってもよいし、フォトレジストを用いる場合であれば、次のようにして行う。光透過性導電層上の、残したい領域にスピンコーター又はスリットコーター等を用いてフォトレジストを塗布し、光又は電子線を部分的に照射してフォトレジストの溶解性をその部分においてのみ変化させ、その後に溶解性が相対的に低くなっている部分を除去する（これを現像という）。このようにしてレジストが光透過性導電層上の、残したい領域においてのみ存在している状態とする。引き続いて、エッチング液を光透過性導電層に作用させ、光透過性導電層のうちレジストで保護されていない領域を選択的に溶解し、この溶解物を最終的に除去することにより、パターンを形成する。
【００６４】
２．本発明のタッチパネル
本発明のタッチパネルは、本発明の光透過性導電性フィルムを含み、さらに必要に応じてその他の部材を含んでなる。
【００６５】
本発明のタッチパネルの具体的な構成例としては、次のような構成が挙げられる。なお、保護層（１）側が操作画面側を、ガラス（５）側が操作画面とは反対側を向くようにして使用される。
（１）保護層
（２）本発明の光透過性導電性フィルム（Ｙ軸方向）
（３）絶縁層
（４）本発明の光透過性導電性フィルム（Ｘ軸方向）
（５）ガラス
本発明のタッチパネルは、特に限定されないが、例えば、上記（１）〜（５）、並びに必要に応じてその他の部材を通常の方法に従って組み合わせることにより製造することができる。
【実施例】
【００６６】
以下に実施例を掲げて本発明をさらに詳しく説明するが、本発明はこれら実施例のみに限定されるものではない。
１．実施例１
以下の製法により、本発明の光透過性導電性フィルムを得た。
【００６７】
光透過性支持層として、両面にハードコート層が積層されたＰＥＴ基材（幅１ｍ、長さ５００ｍ）をスパッタリング装置に設置した。ハードコート層の上に、スパッタリング法を用い、ケイ素ターゲットをカソードに設置し、アルゴン６０．１％、酸素３９．３％、窒素０．６％の混合ガスを導入しチャンバー圧６×１０−１Ｐａで下地層を積層した。この下地層の厚みは４０ｎｍであった。下地層の上に、連続してスパッタリング法を用いて酸化インジウム及び酸化スズの混合物（ＩＴＯ）を積層化した。具体的には、ＳｎＯ２６重量％のＩＴＯ焼結体ターゲットをカソードに設置し、アルゴンガス９８％、酸素ガス２％の混合ガスを導入し真空度３×１０−１ＰａでＩＴＯ層を積層した。
【００６８】
このようにして得られたフィルムロールにおいて、幅方向の任意の中心点から幅方向に両端まで延ばした線上の点であって、当該中心点からそれぞれ５ｃｍ毎に、端部までの距離が１０ｃｍ未満となるまで取った点、及びそれらの両端の点から１ｃｍ毎に、端部までの距離が３ｃｍ未満となるまで取った点において測定して得られる１５０℃で１時間熱処理後の各表面抵抗値の標準偏差を計算したところ、５．３Ω／□となった。
【００６９】
得られたフィルムロールの任意の点に関して、ＰＨＩ  ＡＤＥＰＴ１０１０  二次イオン質量分析装置（アルバック−ファイ社製）を用い、一次イオン種・Ｃｓ＋、一次加速電圧・２ｋＶ、検出領域・１４０×１４０（μｍ×μｍ）にて二次イオン質量分析法（ＳＩＭＳ）により、下地層の深さ方向における窒素量分布の測定を行った。
【００７０】
２．実施例２
以下の製法により、本発明の光透過性導電性フィルムを得た。
【００７１】
光透過性支持層として、両面にハードコート層が積層されたＰＥＴ基材（幅１ｍ、長さ５００ｍ）をスパッタリング装置に設置した。ハードコート層の上に、スパッタリング法を用い、ケイ素ターゲットをカソードに設置し、アルゴン５７．０％、酸素３７．０％、窒素６．０％の混合ガスを導入しチャンバー圧６×１０−１Ｐａで下地層を積層した。この下地層の厚みは４０ｎｍであった。下地層の上に、連続してスパッタリング法を用いて酸化インジウム及び酸化スズの混合物（ＩＴＯ）を積層化した。具体的には、ＳｎＯ２６重量％のＩＴＯ焼結体ターゲットをカソードに設置し、アルゴンガス９８％、酸素ガス２％の混合ガスを導入し真空度３×１０−１ＰａでＩＴＯ層を積層した。
【００７２】
このようにして得られたフィルムロールにおいて、幅方向の任意の中心点から幅方向に両端まで延ばした線上の点であって、当該中心点からそれぞれ５ｃｍ毎に、端部までの距離が１０ｃｍ未満となるまで取った点、及びそれらの両端の点から１ｃｍ毎に、端部までの距離が３ｃｍ未満となるまで取った点において測定して得られる１５０℃で１時間熱処理後の各表面抵抗値の標準偏差を計算したところ、５．３Ω／□となった。
【００７３】
３．実施例３
以下の製法により、本発明の光透過性導電性フィルムを得た。
【００７４】
光透過性支持層として、両面にハードコート層が積層されたＰＥＴ基材（幅１ｍ、長さ５００ｍ）をスパッタリング装置に設置した。ハードコート層の上に、スパッタリング法を用い、ケイ素ターゲットをカソードに設置し、アルゴン６０．０％、酸素３９．０％、窒素１．０％の混合ガスを導入しチャンバー圧６×１０−１Ｐａで下地層を積層した。この下地層の厚みは４０ｎｍであった。下地層の上に、連続してスパッタリング法を用いて酸化インジウム及び酸化スズの混合物（ＩＴＯ）を積層化した。具体的には、ＳｎＯ２６重量％のＩＴＯ焼結体ターゲットをカソードに設置し、アルゴンガス９８％、酸素ガス２％の混合ガスを導入し真空度３×１０−１ＰａでＩＴＯ層を積層した。
【００７５】
このようにして得られたフィルムロールにおいて、幅方向の任意の中心点から幅方向に両端まで延ばした線上の点であって、当該中心点からそれぞれ５ｃｍ毎に、端部までの距離が１０ｃｍ未満となるまで取った点、及びそれらの両端の点から１ｃｍ毎に、端部までの距離が３ｃｍ未満となるまで取った点において測定して得られる１５０℃で１時間熱処理後の各表面抵抗値の標準偏差を計算したところ、４．８Ω／□となった。
【００７６】
４．実施例４
以下の製法により、本発明の光透過性導電性フィルムを得た。
【００７７】
光透過性支持層として、両面にハードコート層が積層されたＰＥＴ基材（幅１ｍ、長さ５００ｍ）をスパッタリング装置に設置した。ハードコート層の上に、スパッタリング法を用い、ケイ素ターゲットをカソードに設置し、アルゴン５９．０％、酸素３８．０％、窒素３．０％の混合ガスを導入しチャンバー圧６×１０−１Ｐａで下地層を積層した。この下地層の厚みは４０ｎｍであった。下地層の上に、連続してスパッタリング法を用いて酸化インジウム及び酸化スズの混合物（ＩＴＯ）を積層化した。具体的には、ＳｎＯ２６重量％のＩＴＯ焼結体ターゲットをカソードに設置し、アルゴンガス９８％、酸素ガス２％の混合ガスを導入し真空度３×１０−１ＰａでＩＴＯ層を積層した。
【００７８】
このようにして得られたフィルムロールにおいて、幅方向の任意の中心点から幅方向に両端まで延ばした線上の点であって、当該中心点からそれぞれ５ｃｍ毎に、端部までの距離が１０ｃｍ未満となるまで取った点、及びそれらの両端の点から１ｃｍ毎に、端部までの距離が３ｃｍ未満となるまで取った点において測定して得られる１５０℃で１時間熱処理後の各表面抵抗値の標準偏差を計算したところ、５．１Ω／□となった。
【００７９】
５．比較例
以下の製法により、本発明の光透過性導電性フィルムを得た。
【００８０】
光透過性支持層として、両面にハードコート層が積層されたＰＥＴ基材（幅１ｍ、長さ５００ｍ）をスパッタリング装置に設置した。ハードコート層の上に、スパッタリング法を用い、ケイ素ターゲットをカソードに設置し、アルゴン６０．０％、酸素４０．０％、窒素０．０％の混合ガスを導入しチャンバー圧６×１０−１Ｐａで下地層を積層した。この下地層の厚みは４０ｎｍであった。下地層の上に、連続してスパッタリング法を用いて酸化インジウム及び酸化スズの混合物（ＩＴＯ）を積層化した。具体的には、ＳｎＯ２６重量％のＩＴＯ焼結体ターゲットをカソードに設置し、アルゴンガス９８％、酸素ガス２％の混合ガスを導入し真空度３×１０−１ＰａでＩＴＯ層を積層した。
【００８１】
このようにして得られたフィルムロールにおいて、幅方向の任意の中心点から幅方向に両端まで延ばした線上の点であって、当該中心点からそれぞれ５ｃｍ毎に、端部までの距離が１０ｃｍ未満となるまで取った点、及びそれらの両端の点から１ｃｍ毎に、端部までの距離が３ｃｍ未満となるまで取った点において測定して得られる１５０℃で１時間熱処理後の各表面抵抗値の標準偏差を計算したところ、６．０Ω／□となった。
【００８２】
得られたフィルムロールの任意の点に関して、ＰＨＩ  ＡＤＥＰＴ１０１０  二次イオン質量分析装置（アルバック−ファイ社製）を用い、一次イオン種・Ｃｓ＋、一次加速電圧・２ｋＶ、検出領域・１４０×１４０（μｍ×μｍ）にて二次イオン質量分析法（ＳＩＭＳ）により、下地層の深さ方向における窒素量分布の測定を行った。
【００８３】
結果を表１及び２に示す。
【００８４】
表２中「ｄ」は、下地層の膜厚値を示す。表２は、下地層（Ｂ）の厚さｄを５分割し、下地層（Ｂ）の光透過性支持層（Ａ）側の面の任意の点（始点）から下地層（Ｂ）の反対側の面に向かう垂直方向にそれぞれ０．２ｄ、０．４ｄ、０．６ｄ、０．８ｄ及びｄの位置における窒素量（ａｔｏｍｉｃ％）をそれぞれ測定した結果を示している。
【００８５】
実施例１においては、始点及びこれら５点の計６点における窒素量が、光透過性支持層（Ａ）側からの距離が大きくなるにしたがって、窒素濃度が隣り合う点において常に連続的に増加（隣り合う２点における値が互いに同一である場合を含む）しており、この連続的に増加している領域において、光透過性支持層（Ａ）側からの距離が最も小さい点（始点）の窒素濃度が０．０２ａｔｏｍｉｃ％であり、光透過性支持層（Ａ）側からの距離が最も大きい点（ｄ）の窒素濃度が０．５０ａｔｏｍｉｃ％である。
【００８６】
比較例１においては、始点、０．２ｄ、０．４ｄ及び０．６ｄの計４点における窒素量が、光透過性支持層（Ａ）側からの距離が大きくなるにしたがって、窒素濃度が隣り合う点において常に連続的に増加（隣り合う２点における値が互いに同一である場合を含む）しているが、この連続的に増加している領域において、光透過性支持層（Ａ）側からの距離が最も小さい点（始点）の窒素濃度が０．０１ａｔｏｍｉｃ％であり、光透過性支持層（Ａ）側からの距離が最も大きい点の窒素濃度が０．８０ａｔｏｍｉｃ％である。
【００８７】
【表１】
2014184703.tif 000003
【００８８】
【表２】
2014184703.tif 000004
【符号の説明】
【００８９】
１        光透過性導電性フィルム
１１      光透過性支持層（Ａ）
１２      下地層（Ｂ）
１３      光透過性導電層（Ｃ）
１４      ハードコート層（Ｄ）
【図１】
2014184703.tif 000005
【図２】
2014184703.tif 000006
【図３】
2014184703.tif 000007
【図４】
2014184703.tif 000008
【図５】
2014184703.tif 000009
【図６】
2014184703.tif 000010