(57)【要約】【課題】供給水から純水を製造するための複数の構成機器を備え、開発に要するコストを低減することができる純水製造装置を提供すること。【解決手段】供給水から純水を製造するための複数の構成機器１０１，１０２と、複数の構成機器１０１，１０２それぞれに対応する個別回路基板４１１，４１２であって、複数の構成機器１０１，１０２それぞれを個別に制御する複数の個別制御部３０１，３０２が搭載された複数の個別回路基板４１１，４１２と、複数の個別回路基板４１１，４１２が電気的に接続される統括回路基板４１０であって、複数の個別制御部３０１，３０２を制御可能な統括制御部３００が搭載された統括回路基板４１０と、を備える。【選択図】図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
供給水から純水を製造するための複数の構成機器と、
前記複数の構成機器それぞれに対応する個別回路基板であって、前記複数の構成機器それぞれを個別に制御する複数の個別制御部が搭載された複数の個別回路基板と、
前記複数の個別回路基板が電気的に接続される統括回路基板であって、前記複数の個別制御部を制御可能な統括制御部が搭載された統括回路基板と、を備える
純水製造装置。
【請求項２】
前記複数の個別制御部の制御に関する設定情報を受け付け可能なタッチパネルを備え、
前記タッチパネルにより受け付けられた前記複数の個別制御部の制御に関する設定情報は、前記統括制御部に送信される
請求項１に記載の純水製造装置。
【請求項３】
供給水から第１透過水を分離する第１逆浸透膜モジュールと、
前記第１逆浸透膜モジュールで分離された第１透過水を脱イオン処理して脱イオン水を得る脱イオン部と、を備え、
前記複数の構成機器は、前記第１逆浸透膜モジュールを含んで構成される第１構成機器と、前記脱イオン部を含んで構成される第２構成機器と、を有して構成され、
前記複数の個別回路基板は、前記第１構成機器を制御する第１個別制御部が搭載された第１回路基板と、前記第２構成機器を制御する第２個別制御部が搭載された第２回路基板と、を有して構成される
請求項１又は２に記載の純水製造装置。
【請求項４】
供給水から第２透過水を分離する第２逆浸透膜モジュールと、
前記第２逆浸透膜モジュールで分離された第２透過水から第３透過水を分離する第３逆浸透膜モジュールと、
前記第３逆浸透膜モジュールで分離された第３透過水を脱イオン処理して脱イオン水を得る脱イオン部と、を備え、
前記複数の構成機器は、前記第２逆浸透膜モジュールを含んで構成される第３構成機器と、前記第３逆浸透膜モジュールを含んで構成される第４構成機器と、前記脱イオン部を含んで構成される第５構成機器と、を有して構成され、
前記複数の個別回路基板は、前記第３構成機器を制御する第３個別制御部が搭載された第３回路基板と、前記第４構成機器を制御する第４個別制御部が搭載された第４回路基板と、前記第５構成機器を制御する第５個別制御部が搭載された第５回路基板と、を有して構成される
請求項１又は２に記載の純水製造装置。
【請求項５】
前記脱イオン部は、電気脱イオンスタック又はイオン交換樹脂床である
請求項３又は４に記載の純水製造装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、供給水から純水を製造するための複数の構成機器を備える純水製造装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
医薬品や化粧品の製造、電子部品や精密機器の洗浄等においては、不純物を含まない高純度の純水が使用される。この種の純水を製造する場合には、純水製造装置が用いられることがある。このような純水製造装置においては、供給水から純水を製造するための複数の構成機器を備えている。複数の構成機器としては、例えば、供給水から透過水を分離する逆浸透膜モジュール（以下、「ＲＯ膜モジュール」ともいう）を含んで構成される構成機器や、逆浸透膜モジュールで分離された透過水を脱塩処理（脱イオン処理）して脱塩水（脱イオン水）を得る脱イオン部としての電気脱イオンスタック（以下、「ＥＤＩスタック」ともいう）を含んで構成される構成機器がある。
【０００３】
従来、純水製造装置における複数の構成機器を制御するために、システムの全体を１つの制御部で制御するように構成される技術が用いられている。しかし、システムの全体を１つの制御部で制御するように構成する場合には、システム開発に時間を要し、開発コストが高くなる虞がある。
【０００４】
ところで、複数の構成機器が別個に開発された後に、これらの別個に開発された複数の構成機器をまとめて、純水製造装置を構成する場合がある。このような場合に、別個に開発された複数の構成機器を有効的に活用すれば、開発に要するコストを削減できるものと考えられる。
【０００５】
ここで、前処理制御部を有する前処理部と、給水処理制御部を有する給水処理部と、が別個に開発され、前処理制御部及び給水処理制御部を連携させて制御する水処理システムが提案されている（例えば、特許文献１参照）。特許文献１に記載の水処理システムは、前処理制御部及び給水処理制御部を連携させて制御させているため、種々のバリエーションに対応可能な水処理システムを安価に実現させることができるとされる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００９−１１２９２１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかし、特許文献１に記載された水処理システムは、前処理制御部及び給水処理制御部を連携させて制御するため、前処理制御部が給水処理制御部を制御し、給水処理制御部が前処理制御部を制御するように改良されて構成されている。そのため、前処理制御部及び給水処理制御部を互いに改良する必要があり、既存のシステムを改良するために要する時間や、既存のシステムを改良するためのコストが高くなる虞がある。
【０００８】
本発明は、供給水から純水を製造するための複数の構成機器を備え、開発に要するコストを低減することができる純水製造装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明は、供給水から純水を製造するための複数の構成機器と、前記複数の構成機器それぞれに対応する個別回路基板であって、前記複数の構成機器それぞれを個別に制御する複数の個別制御部が搭載された複数の個別回路基板と、前記複数の個別回路基板が電気的に接続される統括回路基板であって、前記複数の個別制御部を制御可能な統括制御部が搭載された統括回路基板と、を備える純水製造装置に関する。
【００１０】
また、前記複数の個別制御部の制御に関する設定情報を受け付け可能なタッチパネルを備え、前記タッチパネルにより受け付けられた前記複数の個別制御部の制御に関する設定情報は、前記統括制御部に送信されることが好ましい。
【００１１】
また、供給水から第１透過水を分離する第１逆浸透膜モジュールと、前記第１逆浸透膜モジュールで分離された第１透過水を脱イオン処理して脱イオン水を得る脱イオン部と、を備え、前記複数の構成機器は、前記第１逆浸透膜モジュールを含んで構成される第１構成機器と、前記脱イオン部を含んで構成される第２構成機器と、を有して構成され、前記複数の個別回路基板は、前記第１構成機器を制御する第１個別制御部が搭載された第１回路基板と、前記第２構成機器を制御する第２個別制御部が搭載された第２回路基板と、を有して構成されることが好ましい。
【００１２】
また、供給水から第２透過水を分離する第２逆浸透膜モジュールと、前記第２逆浸透膜モジュールで分離された第２透過水から第３透過水を分離する第３逆浸透膜モジュールと、前記第３逆浸透膜モジュールで分離された第３透過水を脱イオン処理して脱イオン水を得る脱イオン部と、を備え、前記複数の構成機器は、前記第２逆浸透膜モジュールを含んで構成される第３構成機器と、前記第３逆浸透膜モジュールを含んで構成される第４構成機器と、前記脱イオン部を含んで構成される第５構成機器と、を有して構成され、前記複数の個別回路基板は、前記第３構成機器を制御する第３個別制御部が搭載された第３回路基板と、前記第４構成機器を制御する第４個別制御部が搭載された第４回路基板と、前記第５構成機器を制御する第５個別制御部が搭載された第５回路基板と、を有して構成されることが好ましい。
【００１３】
また、前記脱イオン部は、電気脱イオンスタック又はイオン交換樹脂床であることが好ましい。
【発明の効果】
【００１４】
本発明によれば、供給水から純水を製造するための複数の構成機器を備え、開発に要するコストを低減することができる純水製造装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】第１実施形態に係る純水製造装置１の全体概略図である。
【図２Ａ】第１実施形態に係る純水製造装置１の全体構成図の前段部分である。
【図２Ｂ】第１実施形態に係る純水製造装置１の全体構成図の中段部分である。
【図２Ｃ】第１実施形態に係る純水製造装置１の全体構成図の後段部分である。
【図３】第１実施形態に係る純水製造装置１の制御ユニット４００及び各構成機器の構成を示すブロック図である。
【図４】第１実施形態における純水製造装置１の処理手順を示すフローチャートである。
【図５】第１実施形態における純水製造装置１の処理手順を示すフローチャートである。
【図６】第２実施形態に係る純水製造装置１Ａの全体概略図である。
【図７Ａ】第２実施形態に係る純水製造装置１Ａの全体構成図の第１中段部分である。
【図７Ｂ】第２実施形態に係る純水製造装置１Ａの全体構成図の第２中段部分である。
【図７Ｃ】第２実施形態に係る純水製造装置１Ａの全体構成図の後段部分である。
【図８】第２実施形態に係る純水製造装置１の制御ユニット４００及び各構成機器の構成を示すブロック図である。
【図９】第２実施形態における純水製造装置１Ａの処理手順を示すフローチャートであって、第１実施形態における図４に対応するフローチャートである。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
（第１実施形態）
まず、第１実施形態に係る純水製造装置１について、図面を参照しながら説明する。図１は、第１実施形態に係る純水製造装置１の全体概略図である。図２Ａは、第１実施形態に係る純水製造装置１の全体構成図の前段部分である。図２Ｂは、第１実施形態に係る純水製造装置１の全体構成図の中段部分である。図２Ｃは、第１実施形態に係る純水製造装置１の全体構成図の後段部分である。本実施形態に係る純水製造装置１は、例えば、原水（例えば、水道水）から脱塩水（脱イオン水）を製造する純水製造装置に適用される。純水製造装置１で製造された脱塩水は、純水として、需要箇所等に送出される。なお、本実施形態に係る純水製造装置１において、需要箇所等へ純水を供給することを「採水」ともいう。
【００１７】
図１に示すように、第１実施形態に係る純水製造装置１は、第１オプション機器ＯＰ１と、プレフィルタ４と、第２オプション機器ＯＰ２と、加圧ポンプ５と、インバータ６と、第１逆浸透膜モジュールとしてのＲＯ膜モジュール７と、第３オプション機器ＯＰ３と、第１流路切換弁Ｖ７１と、脱イオン部としての電気脱イオンスタック（以下、「ＥＤＩスタック」ともいう）１６と、送出手段としての第２流路切換弁Ｖ７２と、第４オプション機器ＯＰ４と、制御部３０と、入力操作部４０と、直流電源装置５０と、表示部６０と、を備える。
【００１８】
第１オプション機器ＯＰ１〜第４オプション機器ＯＰ４は、純水製造装置１に着脱可能なオプション機器として、純水製造装置１に装備される機器である。第１オプション機器ＯＰ１は、軟水器２及び活性炭濾過器３を含む。第２オプション機器ＯＰ２は、硬度センサＳ１及び残留塩素センサＳ２を含む。第３オプション機器ＯＰ３は、脱炭酸装置１５を含む。第４オプション機器ＯＰ４は、第２比抵抗センサＲＳ２、全有機炭素センサＴＯＣ及び第３温度センサＴＥ３を含む。
【００１９】
また、図１に示すように、純水製造装置１は、供給水ラインＬ１と、第１透過水ラインとしての透過水ラインＬ２１と、第１循環水ラインとしてのＲＯ透過水リターンラインＬ４１と、ＲＯ濃縮水リターンラインＬ５１と、脱イオン水ラインとしての脱塩水ラインＬ３と、第２循環水ラインとしての脱塩水リターンラインＬ４２と、ＥＤＩ濃縮水ラインＬ５２と、を備える。なお、本明細書における「ライン」とは、流路、径路、管路等の流体の流通が可能なラインの総称である。
【００２０】
また、純水製造装置１は、図２Ａ〜図２Ｃに示すように、図１に示す構成に加えて、第１開閉弁Ｖ１１〜第７開閉弁Ｖ１７と、真空破壊弁Ｖ４１と、減圧弁Ｖ４２と、供給水補給弁Ｖ３１と、第１排水弁Ｖ３２〜第３排水弁Ｖ３４と、第１定流量弁Ｖ５１〜第５定流量弁Ｖ５５と、第１逆止弁Ｖ６１〜第５逆止弁Ｖ６５と、第１圧力計Ｐ１〜第６圧力計Ｐ６と、第１圧力センサＰＳ１〜第４圧力センサＰＳ４と、圧力スイッチＰＳＷと、第１温度センサＴＥ１及び第２温度センサＴＥ２と、第１流量センサＦＭ１及び第２流量センサＦＭ２と、第１電気的特性検出手段としての第１電気伝導率センサＥＣ１（第１電気伝導率測定手段）と、第２電気的特性検出手段としての第１比抵抗センサＲＳ１（第１比抵抗検出手段）と、を備える。
【００２１】
図１、図２Ａ〜図２Ｃでは、電気的な接続の経路を省略するが、制御部３０は、供給水補給弁Ｖ３１、第１流路切換弁Ｖ７１、第２流路切換弁Ｖ７２、第１排水弁Ｖ３２〜第３排水弁Ｖ３４、圧力スイッチＰＳＷ、第１温度センサＴＥ１〜第３温度センサＴＥ３、第１圧力センサＰＳ１〜第４圧力センサＰＳ４、第１流量センサＦＭ１及び第２流量センサＦＭ２、第１電気伝導率センサＥＣ１、第１比抵抗センサＲＳ１及び第２比抵抗センサＲＳ２、全有機炭素センサＴＯＣ、硬度センサＳ１、残留塩素センサＳ２等と電気的に接続される。
【００２２】
まず、純水製造装置１における全体構成図の前段部分について説明する。
図１及び図２Ａに示すように、供給水ラインＬ１には、供給水Ｗ１が流通する。供給水ラインＬ１は、供給水Ｗ１を、ＲＯ膜モジュール７へ流通させるラインである。供給水ラインＬ１は、第１供給水ラインＬ１１と、第２供給水ラインＬ１２と、を有する。
【００２３】
第１供給水ラインＬ１１には、原水Ｗ１１（供給水Ｗ１）が流通する。第１供給水ラインＬ１１は、原水Ｗ１１の供給源（不図示）と軟水器２とをつなぐラインである。第１供給水ラインＬ１１の上流側の端部は、原水Ｗ１１の供給源（不図示）に接続されている。また、第１供給水ラインＬ１１の下流側の端部は、軟水器２に接続されている。
【００２４】
第１供給水ラインＬ１１には、図２Ａに示すように、上流側から順に、接続部Ｊ１、第１開閉弁Ｖ１１、及び軟水器２が設けられている。第１開閉弁Ｖ１１は、第１供給水ラインＬ１１の開閉を操作可能な手動弁である。
【００２５】
軟水器２は、原水Ｗ１１中に含まれる硬度成分をナトリウムイオンに置換して軟水Ｗ１２（供給水Ｗ１）を製造する機器である。軟水器２は、圧力タンク内に陽イオン交換樹脂床を収容したイオン交換塔を有する。
【００２６】
第２供給水ラインＬ１２には、軟水Ｗ１２（供給水Ｗ１）が流通する。第２供給水ラインＬ１２は、軟水Ｗ１２を、ＲＯ膜モジュール７へ流通させるラインである。第２供給水ラインＬ１２は、軟水器２とＲＯ膜モジュール７とをつなぐラインである。図２Ａに示すように、第２供給水ラインＬ１２の上流側の端部は、軟水器２に接続されている。また、図２Ｂに示すように、第２供給水ラインＬ１２の下流側の端部は、ＲＯ膜モジュール７の一次側入口ポート（供給水Ｗ１の入口）に接続されている。
【００２７】
第２供給水ラインＬ１２には、上流側から順に、図２Ａに示すように、第２開閉弁Ｖ１２、接続部Ｊ２、第３開閉弁Ｖ１３、活性炭濾過器３、第４開閉弁Ｖ１４、接続部Ｊ３、プレフィルタ４、接続部Ｊ４、及び接続部Ｊ５が設けられている。また、接続部Ｊ５以降には、図２Ｂに示すように、第５開閉弁Ｖ１５、接続部Ｊ６、減圧弁Ｖ４２、供給水補給弁Ｖ３１、接続部Ｊ５９、接続部Ｊ５１、接続部Ｊ７、接続部Ｊ８、加圧ポンプ５、接続部Ｊ９、及びＲＯ膜モジュール７が設けられている。第２開閉弁Ｖ１２〜第５開閉弁Ｖ１５は、第２供給水ラインＬ１２の開閉を操作可能な手動弁である。供給水補給弁Ｖ３１は、第２供給水ラインＬ１２の開閉を制御可能な自動弁である。供給水補給弁Ｖ３１は、制御部３０と電気的に接続されている。供給水補給弁Ｖ３１の開閉は、制御部３０から送信される流路開閉信号により制御される。
【００２８】
活性炭濾過器３は、軟水Ｗ１２（供給水Ｗ１）に含まれる塩素成分（主として遊離残留塩素）を除去する機器である。活性炭濾過器３は、圧力タンク内に活性炭からなる濾材床を収容した濾過塔を有する。活性炭濾過器３は、軟水Ｗ１２に含まれる塩素成分を分解除去する他、有機成分を吸着除去したり、懸濁物質を捕捉したりして軟水Ｗ１２（供給水Ｗ１）を浄化する。
【００２９】
プレフィルタ４は、活性炭濾過器３により浄化された軟水Ｗ１２（供給水Ｗ１）に含まれる微粒子を除去するフィルタである。プレフィルタ４は、ハウジング内にフィルタエレメントが収容されて構成される。フィルタエレメントとしては、例えば、濾過精度が１〜５０μｍの不織布フィルタエレメント又は糸巻きフィルタエレメント等が用いられる。
【００３０】
硬度センサＳ１は、供給水ラインＬ１を流通する供給水Ｗ１の全硬度（すなわち、硬度リーク量）を測定する機器である。残留塩素センサＳ２は、供給水ラインＬ１を流通する供給水Ｗ１の遊離残留塩素濃度（すなわち、塩素リーク量）を測定する機器である。硬度センサＳ１及び残留塩素センサＳ２は、図２Ａに示すように、測定ラインＬ１１０を介して、接続部Ｊ５において供給水ラインＬ１に接続されている。接続部Ｊ５は、供給水ラインＬ１におけるプレフィルタ４と第５開閉弁Ｖ１５との間に配置されている。硬度センサＳ１及び残留塩素センサＳ２は、制御部３０と電気的に接続されている。硬度センサＳ１で測定された硬度リーク量、及び残留塩素センサＳ２で測定された塩素リーク量は、それぞれ制御部３０へ検出信号として送信される。
【００３１】
次に、純水製造装置１における全体構成図の中段部分について説明する。
図２Ｂに示すように、接続部Ｊ６には、真空破壊弁Ｖ４１が接続されている。真空破壊弁Ｖ４１は、常閉式の圧力作動弁であり、供給水ラインＬ１の管内圧力が大気圧力よりも低くなった場合に弁体が開いて大気を吸入する。真空破壊弁Ｖ４１を設けることにより、原水Ｗ１１（供給水Ｗ１）が断水となって供給水ラインＬ１が負圧になったとしても、ＲＯ膜モジュール７の膜の破損等の不具合を防止することができる。
【００３２】
減圧弁Ｖ４２は、軟水器２、活性炭濾過器３及びプレフィルタ４を通過した軟水Ｗ１２の圧力を、ＲＯ膜モジュール７から流出する濃縮水Ｗ３の圧力よりも低い圧力に調整する機器である。減圧弁Ｖ４２は、軟水Ｗ１２の圧力よりも濃縮水Ｗ３の圧力が大きく（軟水Ｗ１２の圧力＜濃縮水Ｗ３の圧力）なるように、軟水Ｗ１２の圧力を調整する。これにより、濃縮水Ｗ３の一部が軟水Ｗ１２に循環され、軟水Ｗ１２に濃縮水Ｗ３が混合された供給水は、ＲＯ膜モジュール７に供給される。即ち、ＲＯ膜モジュール７においては、加圧ポンプ５により供給水を循環させながら、透過水を生産するクロスフロー方式の分離操作が行われる。
【００３３】
接続部Ｊ５９には、後述する脱塩水リターンラインＬ４２の下流側の端部が接続されている。接続部Ｊ５１には、後述するＲＯ透過水リターンラインＬ４１の下流側の端部及びＲＯ濃縮水リターンラインＬ５１の下流側の端部が接続されている。
【００３４】
加圧ポンプ５は、供給水ラインＬ１を流通する供給水Ｗ１を吸入し、ＲＯ膜モジュール７へ向けて圧送（吐出）する装置である。加圧ポンプ５には、インバータ６から周波数が変換された駆動電力が供給される。加圧ポンプ５は、供給された駆動電力の周波数（以下、「駆動周波数」ともいう）に応じた回転速度で駆動される。
【００３５】
インバータ６は、加圧ポンプ５に、周波数が変換された駆動電力を供給する電気回路（又はその回路を持つ装置）である。インバータ６は、制御部３０と電気的に接続されている。インバータ６には、制御部３０から指令信号が入力される。インバータ６は、制御部３０により入力された指令信号（電流値信号又は電圧値信号）に対応する駆動周波数の駆動電力を加圧ポンプ５に出力する。
【００３６】
ＲＯ膜モジュール７は、加圧ポンプ５により圧送された供給水Ｗ１を、溶存塩類が除去された第１透過水としての透過水Ｗ２と、溶存塩類が濃縮された濃縮水Ｗ３と、に分離する。ＲＯ膜モジュール７は、単一又は複数のスパイラル型ＲＯ膜エレメントを圧力容器（ベッセル）に収容して構成される。当該ＲＯ膜エレメントに使用されるＲＯ膜としては、架橋芳香族ポリアミド系複合膜などが例示される。架橋芳香族ポリアミド系複合膜からなるＲＯ膜エレメントとしては、東レ社製：型式名「ＴＭＧ２０−４００」、ウンジン・ケミカル社製：型式名「ＲＥ８０４０−ＢＬＦ」、日東電工社製：型式名「ＥＳＰＡ１」等が市販されており、これらのエレメントを好適に用いることができる。
【００３７】
ＲＯ濃縮水リターンラインＬ５１は、ＲＯ膜モジュール７で分離された濃縮水Ｗ３の一部Ｗ３１を供給水ラインＬ１へ返送するラインである。ＲＯ濃縮水リターンラインＬ５１の上流側の端部は、ＲＯ膜モジュール７の一次側出口ポート（濃縮水Ｗ３の出口）に接続されている。ＲＯ濃縮水リターンラインＬ５１の下流側の端部は、接続部Ｊ５１において供給水ラインＬ１に接続されている。ＲＯ濃縮水リターンラインＬ５１には、第１逆止弁Ｖ６１及び第１定流量弁Ｖ５１が設けられている。
【００３８】
ＲＯ濃縮水排出ラインＬ６１は、ＲＯ膜モジュール７で分離された濃縮水Ｗ３の残部Ｗ３２を、ＲＯ濃縮水リターンラインＬ５１の途中から装置の外へ排出するラインである。ＲＯ濃縮水排出ラインＬ６１の上流側の端部は、接続部Ｊ５３に接続されている。接続部Ｊ５３は、ＲＯ濃縮水リターンラインＬ５１におけるＲＯ膜モジュール７と接続部Ｊ５２との間に配置されている。第１濃縮水排水ラインＬ６１１、第２濃縮水排水ラインＬ６１２及び第３濃縮水排水ラインＬ６１３の上流側の端部は、接続部Ｊ５５及びＪ５６において、ＲＯ濃縮水排出ラインＬ６１に接続されている。
【００３９】
第１濃縮水排水ラインＬ６１１〜第３濃縮水排水ラインＬ６１３には、それぞれ、第１排水弁Ｖ３２〜第３排水弁Ｖ３４、及び第２定流量弁Ｖ５２〜第４定流量弁Ｖ５４が設けられている。第２定流量弁Ｖ５２〜第４定流量弁Ｖ５４は、それぞれ異なる流量値に設定されている。第１排水弁Ｖ３２〜第３排水弁Ｖ３４により、第１濃縮水排水ラインＬ６１１〜第３濃縮水排水ラインＬ６１３を個別に開閉することができる。第１排水弁Ｖ３２〜第３排水弁Ｖ３４の開放数を適宜に選択することにより、装置外へ排出する濃縮水Ｗ３の排水流量を調節することができる。この調節により、透過水Ｗ２の回収率を予め設定された値に保つことができる。なお、透過水Ｗ２の回収率とは、ＲＯ膜モジュール７に供給される軟水Ｗ１２（濃縮水Ｗ３の一部Ｗ３１が混合される前の供給水Ｗ１）の流量に対する透過水Ｗ２の割合（％）をいう。
【００４０】
第１排水弁Ｖ３２〜第３排水弁Ｖ３４は、それぞれ制御部３０と電気的に接続されている。第１排水弁Ｖ３２〜第３排水弁Ｖ３４の開閉は、制御部３０から送信される駆動信号により制御される。
【００４１】
第１濃縮水排水ラインＬ６１１、第２濃縮水排水ラインＬ６１２及び第３濃縮水排水ラインＬ６１３の下流側の端部は、接続部Ｊ５７及びＪ５８において、合流排水ラインＬ６２の上流側の端部に接続されている。合流排水ラインＬ６２の下流側の端部は、例えば、排水ピット（不図示）に接続又は開口している。合流排水ラインＬ６２の途中には、第２逆止弁Ｖ６２が設けられている。
【００４２】
透過水ラインＬ２１は、ＲＯ膜モジュール７で分離された透過水Ｗ２をＥＤＩスタック１６に流通させるラインである。透過水ラインＬ２１は、図２Ｂ及び図２Ｃに示すように、前段側透過水ラインＬ２１１と、中段側透過水ラインＬ２１２と、脱塩室流入ラインＬ２１３と、濃縮室流入ラインＬ２１４と、を有する。
【００４３】
前段側透過水ラインＬ２１１の上流側の端部は、図２Ｂに示すように、ＲＯ膜モジュール７の二次側ポート（透過水Ｗ２の出口）に接続されている。前段側透過水ラインＬ２１１の下流側の端部は、図２Ｃに示すように、第１流路切換弁Ｖ７１を介して、中段側透過水ラインＬ２１２及びＲＯ透過水リターンラインＬ４１に接続されている。
【００４４】
前段側透過水ラインＬ２１１には、上流側から順に、図２Ｂに示すように、第３逆止弁Ｖ６３、接続部Ｊ１０、接続部Ｊ１１、及び第６開閉弁Ｖ１６が設けられている。また、第６開閉弁Ｖ１６以降には、図２Ｃに示すように、脱炭酸装置１５、接続部Ｊ３１、接続部Ｊ３２、及び第１流路切換弁Ｖ７１が設けられている。第６開閉弁Ｖ１６は、前段側透過水ラインＬ２１１の開閉を操作可能な手動弁である。
【００４５】
次に、純水製造装置１における全体構成図の後段部分について説明する。
図２Ｃにおいて、脱炭酸装置１５は、透過水Ｗ２に含まれる遊離炭酸（溶存炭酸ガス）を、気体分離膜モジュールにより脱気処理して、脱気水（脱気透過水）を得る設備である。ＲＯ膜モジュール７の下流側に脱炭酸装置１５を設けることにより、ＲＯ膜を透過しやすい遊離炭酸を透過水Ｗ２から除去することができる。従って、より純度の高い透過水Ｗ２を得ることができる。本実施形態の脱炭酸装置１５では、中空糸膜からなる外部灌流式の気体分離膜モジュールを用い、中空糸膜の内側を真空ポンプ（不図示）で吸引しながら、空気等の掃引ガスを導入し、膜壁を介して遊離炭酸を掃引ガス中に移行させつつ排気する。このような用途に適した気体分離膜モジュールとしては、例えば、セルガード社製：製品名「Ｌｉｑｕｉ−Ｃｅｌ  Ｇ−５２１Ｒ」等が挙げられる。気体分離膜モジュールに接続される真空ポンプは、制御部３０と電気的に接続されている。
【００４６】
第１流路切換弁Ｖ７１は、ＲＯ膜モジュール７で分離された透過水Ｗ２を、中段側透過水ラインＬ２１２を介してＥＤＩスタック１６へ向けて流通させる流路（採水側流路）、又は、ＲＯ透過水リターンラインＬ４１を介してＲＯ膜モジュール７の上流側の供給水ラインＬ１へ向けて流通させる流路（循環側流路）に切り換え可能な自動弁である。第１流路切換弁Ｖ７１は、例えば、電動式又は電磁式の三方弁により構成される。第１流路切換弁Ｖ７１は、制御部３０と電気的に接続されている。第１流路切換弁Ｖ７１における流路の切り換えは、制御部３０から送信される流路切換信号により制御される。
【００４７】
ＲＯ透過水リターンラインＬ４１は、ＲＯ膜モジュール７で分離された透過水Ｗ２を、ＲＯ膜モジュール７よりも上流側の供給水ラインＬ１へ返送するラインである。ＲＯ透過水リターンラインＬ４１の上流側の端部は、第１流路切換弁Ｖ７１に接続されている。ＲＯ透過水リターンラインＬ４１の下流側の端部は、接続部Ｊ５２において、ＲＯ濃縮水リターンラインＬ５１に接続されている。接続部Ｊ５２は、ＲＯ濃縮水リターンラインＬ５１における接続部Ｊ５３と接続部Ｊ５１との間に配置されている。ＲＯ透過水リターンラインＬ４１における接続部Ｊ５２から接続部Ｊ５１までの部分は、ＲＯ濃縮水リターンラインＬ５１における接続部Ｊ５２から接続部Ｊ５１までの部分と共通する。ＲＯ透過水リターンラインＬ４１の上流側には、第４逆止弁Ｖ６４が設けられている。
【００４８】
中段側透過水ラインＬ２１２の上流側の端部は、第１流路切換弁Ｖ７１に接続されている。中段側透過水ラインＬ２１２の下流側の端部は、分岐部Ｊ７１において、脱塩室流入ラインＬ２１３の上流側の端部及び濃縮室流入ラインＬ２１４の上流側の端部に接続されている。
【００４９】
脱塩室流入ラインＬ２１３の下流側の端部は、ＥＤＩスタック１６の一次側ポート（脱塩室１６１の入口側）に接続されている。脱塩室流入ラインＬ２１３には、接続部Ｊ３３が配置されている。濃縮室流入ラインＬ２１４の下流側の端部は、ＥＤＩスタック１６の一次側ポート（濃縮室１６２の各入口側）に接続されている。濃縮室流入ラインＬ２１４には、上流側から順に、第５定流量弁Ｖ５５、及び接続部Ｊ３４が設けられている。
【００５０】
ＥＤＩスタック１６は、ＲＯ膜モジュール７で分離された透過水Ｗ２を脱塩処理（脱イオン処理）して、脱塩水Ｗ６（脱イオン水）と濃縮水Ｗ７とを得る水処理機器である。ＥＤＩスタック１６は、直流電源装置５０（図１参照）と電気的に接続されている。ＥＤＩスタック１６には、直流電源装置５０から直流電圧が印加される。ＥＤＩスタック１６は、直流電源装置５０から印加された直流電圧により通電され、動作する。
【００５１】
直流電源装置５０は、直流電圧をＥＤＩスタック１６の一対の電極間に印加する。直流電源装置５０は、制御部３０と電気的に接続されている。直流電源装置５０は、制御部３０により入力された指令信号に応答して、直流電圧をＥＤＩスタック１６に出力する。
【００５２】
ＥＤＩスタック１６は、一対の電極間に、陽イオン交換膜及び陰イオン交換膜（不図示）が交互に配置される。ＥＤＩスタック１６の内部は、これらイオン交換膜により、脱塩室１６１及び濃縮室１６２（陽極室及び陰極室を含む）に区画される。脱塩室１６１には、イオン交換体（不図示）が充填される。脱塩室１６１に充填されるイオン交換体としては、例えば、イオン交換樹脂又はイオン交換繊維等が用いられる。なお、図２Ｃでは、ＥＤＩスタック１６の内部に区画された複数の脱塩室１６１及び濃縮室１６２を模式的に示す。
【００５３】
脱塩室１６１の入口側には、透過水Ｗ２を流入させる脱塩室流入ラインＬ２１３が接続されている。脱塩室１６１の出口側には、脱塩室１６１においてイオンが除去されて排出された脱塩水Ｗ６を流通させる脱塩水ラインＬ３が接続されている。濃縮室１６２の入口側には、透過水Ｗ２を流入させる濃縮室流入ラインＬ２１４が接続されている。濃縮室１６２の出口側には、イオンが濃縮されて排出された濃縮水Ｗ７を流通させるＥＤＩ濃縮水ラインＬ５２が接続されている。
【００５４】
脱塩室１６１及び濃縮室１６２それぞれには、透過水ラインＬ２１を流通する透過水Ｗ２が流入される。透過水Ｗ２に含まれる残留イオンは、脱塩室１６１内に充填されたイオン交換体（不図示）により捕捉され、脱塩水Ｗ６となる。脱塩水Ｗ６は、脱塩水ラインＬ３（後述）を介して需要箇所へ送出される。また、脱塩室１６１内のイオン交換体に捕捉された残留イオンは、印加された直流電圧の電気エネルギーにより濃縮室１６２に移動する。そして、残留イオンを含む水は、濃縮水Ｗ７として、濃縮室１６２からＥＤＩ濃縮水ラインＬ５２（後述）を介して脱炭酸装置１５に向けて送出される。脱炭酸装置１５に送出された濃縮水Ｗ７は、真空ポンプの封水として利用され、その後、封水排出ラインＬ７１（後述）を介して装置の外に排出される。
【００５５】
脱塩水ラインＬ３は、ＥＤＩスタック１６で得られた脱塩水Ｗ６を純水として需要箇所に向けて送出するラインである。脱塩水ラインＬ３は、上流側脱塩水ラインＬ３１と、下流側脱塩水ラインＬ３２と、を有する。
【００５６】
上流側脱塩水ラインＬ３１の上流側の端部は、ＥＤＩスタック１６の二次側ポート（脱塩室１６１の出口側）に接続されている。上流側脱塩水ラインＬ３１の下流側の端部は、第２流路切換弁Ｖ７２を介して、下流側脱塩水ラインＬ３２及び脱塩水リターンラインＬ４２（後述）に接続されている。上流側脱塩水ラインＬ３１には、上流側から順に、接続部Ｊ３６、接続部Ｊ３７、接続部Ｊ３８、第７開閉弁Ｖ１７、及び第２流路切換弁Ｖ７２が設けられている。第７開閉弁Ｖ１７は、上流側脱塩水ラインＬ３１の開閉を操作可能な手動弁である。
【００５７】
第２流路切換弁Ｖ７２は、ＥＤＩスタック１６の脱塩室１６１で得られた脱塩水Ｗ６を、下流側脱塩水ラインＬ３２を介して需要箇所に向けて送出させる流路（採水側流路）、又は、脱塩水リターンラインＬ４２を介してＲＯ膜モジュール７の上流側の供給水ラインＬ１に向けて流通させる流路（循環側流路）に切り換え可能な自動弁である。第２流路切換弁Ｖ７２は、例えば、電動式又は電磁式の三方弁により構成される。第２流路切換弁Ｖ７２は、制御部３０と電気的に接続されている。第２流路切換弁Ｖ７２における流路の切り換えは、制御部３０から送信される流路切換信号により制御される。
【００５８】
第２流路切換弁Ｖ７２は、制御部３０により採水側流路に切り換えられることにより、ＥＤＩスタック１６で得られた脱塩水Ｗ６を脱塩水ラインＬ３から需要箇所に供給するように送り出す処理を実行可能な送出手段として機能する。
【００５９】
下流側脱塩水ラインＬ３２の上流側の端部は、第２流路切換弁Ｖ７２に接続されている。下流側脱塩水ラインＬ３２の下流側の端部は、需要箇所の装置等（不図示）に接続されている。
【００６０】
脱塩水リターンラインＬ４２は、ＥＤＩスタック１６の脱塩室１６１で得られた脱塩水Ｗ６を、脱塩水ラインＬ３の途中から、ＲＯ膜モジュール７の上流側（供給水ラインＬ１）へ返送するラインである。本実施形態においては、脱塩水リターンラインＬ４２の上流側の端部は、第２流路切換弁Ｖ７２に接続されている。脱塩水リターンラインＬ４２の下流側の端部は、接続部Ｊ５９に接続されている。脱塩水リターンラインＬ４２の上流側には、第５逆止弁Ｖ６５が設けられている。
【００６１】
ＥＤＩ濃縮水ラインＬ５２は、ＥＤＩスタック１６の濃縮室１６２から排出された濃縮水Ｗ７を、脱炭酸装置１５に送出するラインである。ＥＤＩ濃縮水ラインＬ５２の上流側の端部は、ＥＤＩスタック１６の二次側ポート（濃縮室１６２の出口側）に接続されている。ＥＤＩ濃縮水ラインＬ５２の下流側の端部は、脱炭酸装置１５に接続されている。
【００６２】
封水排出ラインＬ７１は、脱炭酸装置１５から排出される封水排水Ｗ８を、装置の外に排出するラインである。封水排出ラインＬ７１の上流側の端部は、脱炭酸装置１５に接続されている。封水排出ラインＬ７１の下流側は、例えば、排水ピット（不図示）に接続又は開口している。
【００６３】
第１圧力計Ｐ１〜第６圧力計Ｐ６は、接続された各ラインを流通する水の圧力を計測する機器である。図２Ａに示すように、第１圧力計Ｐ１〜第４圧力計Ｐ４は、接続部Ｊ１〜Ｊ４において、それぞれ、供給水ラインＬ１に接続されている。図２Ｃに示すように、第５圧力計Ｐ５は、接続部Ｊ３５において、ＥＤＩ濃縮水ラインＬ５２に接続されている。第６圧力計Ｐ６は、接続部Ｊ３６において、脱塩水ラインＬ３に接続されている。
【００６４】
第１圧力センサＰＳ１〜第４圧力センサＰＳ４は、接続された各ラインを流通する水の圧力を計測する機器である。図２Ｂ及び図２Ｃに示すように、第１圧力センサＰＳ１は、接続部Ｊ９において、供給水ラインＬ１に接続されている。接続部Ｊ９は、供給水ラインＬ１における加圧ポンプ５とＲＯ膜モジュール７との間に配置されている。第２圧力センサＰＳ２は、接続部Ｊ１１において、透過水ラインＬ２１に接続されている。接続部Ｊ１１は、透過水ラインＬ２１におけるＲＯ膜モジュール７と脱炭酸装置１５との間に配置されている。第３圧力センサＰＳ３は、接続部Ｊ３３において、脱塩室流入ラインＬ２１３に接続されている。接続部Ｊ３３は、脱塩室流入ラインＬ２１３の途中に配置されている。第４圧力センサＰＳ４は、接続部Ｊ３４において、濃縮室流入ラインＬ２１４に接続されている。接続部Ｊ３４は、濃縮室流入ラインＬ２１４における第５定流量弁Ｖ５５とＥＤＩスタック１６との間に配置されている。
【００６５】
第１圧力センサＰＳ１〜第４圧力センサＰＳ４は、制御部３０と電気的に接続されている。第１圧力センサＰＳ１〜第４圧力センサＰＳ４で測定された供給水Ｗ１又は透過水Ｗ２の圧力は、制御部３０へ検出信号として送信される。
【００６６】
圧力スイッチＰＳＷは、供給水ラインＬ１を流通する供給水Ｗ１の圧力が第１設定圧力値以下又は第２設定圧力値以上であることを検出する機器である。図２Ｂに示すように、圧力スイッチＰＳＷは、接続部Ｊ７において、供給水ラインＬ１に接続されている。接続部Ｊ７は、供給水ラインＬ１における接続部Ｊ５１と加圧ポンプ５との間に配置されている。圧力スイッチＰＳＷで検出された供給水Ｗ１の圧力の検出信号は、制御部３０へ送信される。
【００６７】
第１温度センサＴＥ１〜第３温度センサＴＥ３は、接続された各ラインを流通する水の温度を測定し、検出水温値として出力する機器である。第１温度センサＴＥ１は、接続部Ｊ８において、供給水ラインＬ１に接続されている。接続部Ｊ８は、供給水ラインＬ１における接続部Ｊ５１と加圧ポンプ５との間に配置されている。第２温度センサＴＥ２は、接続部Ｊ３１において、透過水ラインＬ２１に接続されている。接続部Ｊ３１は、透過水ラインＬ２１における脱炭酸装置１５と第１流路切換弁Ｖ７１との間に配置されている。第３温度センサＴＥ３は、接続部Ｊ４３において、脱塩水ラインＬ３に接続されている。接続部Ｊ４３は、脱塩水ラインＬ３における第２流路切換弁Ｖ７２よりも下流側の下流側脱塩水ラインＬ３２に配置されている。
【００６８】
第１温度センサＴＥ１〜第３温度センサＴＥ３は、制御部３０と電気的に接続されている。第１温度センサＴＥ１〜第３温度センサＴＥ３で測定された供給水Ｗ１、透過水Ｗ２又は脱塩水Ｗ６の温度（検出水温値）は、制御部３０へ検出信号として送信される。
【００６９】
第１流量センサＦＭ１及び第２流量センサＦＭ２は、接続された各ラインを流通する水（透過水Ｗ２又は脱塩水Ｗ６）の流量を測定する機器である。第１流量センサＦＭ１は、接続部Ｊ１０において、透過水ラインＬ２１に接続されている。接続部Ｊ１０は、透過水ラインＬ２１におけるＲＯ膜モジュール７と脱炭酸装置１５との間に配置されている。第２流量センサＦＭ２は、接続部Ｊ３８において、脱塩水ラインＬ３に接続されている。接続部Ｊ３８は、脱塩水ラインＬ３におけるＥＤＩスタック１６と第２流路切換弁Ｖ７２との間に配置されている。
【００７０】
第１流量センサＦＭ１及び第２流量センサＦＭ２は、制御部３０と電気的に接続されている。第１流量センサＦＭ１及び第２流量センサＦＭ２で測定された透過水Ｗ２又は脱塩水Ｗ６の流量（検出流量値）は、制御部３０へ検出信号として送信される。
【００７１】
第１電気伝導率センサＥＣ１は、透過水ラインＬ２１を流通する透過水Ｗ２の電気伝導率（電気的特性値）を測定する機器である。第１電気伝導率センサＥＣ１は、接続部Ｊ３２において、透過水ラインＬ２１に接続されている。接続部Ｊ３２は、透過水ラインＬ２１における脱炭酸装置１５と第１流路切換弁Ｖ７１との間に配置されている。
【００７２】
第１比抵抗センサＲＳ１及び第２比抵抗センサＲＳ２は、脱塩水ラインＬ８を流通する脱塩水Ｗ６の比抵抗（電気的特性値）を測定する機器である。第１比抵抗センサＲＳ１は、接続部Ｊ３７において、脱塩水ラインＬ３に接続されている。接続部Ｊ３７は、脱塩水ラインＬ３におけるＥＤＩスタック１６と第２流路切換弁Ｖ７２との間に配置されている。第２比抵抗センサＲＳ２は、接続部Ｊ４１において、脱塩水ラインＬ３に接続されている。接続部Ｊ４１は、脱塩水ラインＬ３における第２流路切換弁Ｖ７２よりも下流側の下流側脱塩水ラインＬ３２に配置されている。なお、第１比抵抗センサＲＳ１及び第２比抵抗センサＲＳ２は、測定された比抵抗値の温度補償のため、温度センサを内蔵している。そのため、第１比抵抗センサＲＳ１及び第２比抵抗センサＲＳ２は、脱塩水Ｗ６の水温を測定することができる。
【００７３】
第１電気伝導率センサＥＣ１、第１比抵抗センサＲＳ１及び第２比抵抗センサＲＳ２は、制御部３０と電気的に接続されている。第１電気伝導率センサＥＣ１で測定された透過水Ｗ２の電気伝導率、第１比抵抗センサＲＳ１で測定された脱塩水Ｗ６の比抵抗（及び温度）、及び第２比抵抗センサＲＳ２で測定された脱塩水Ｗ６の比抵抗（及び温度）は、それぞれ、制御部３０へ検出信号として送信される。
【００７４】
全有機炭素センサＴＯＣは、脱塩水ラインＬ８を流通する脱塩水Ｗ６の有機体炭素量を検出する機器である。有機体炭素とは、水中に存在する有機物中の炭素である。全有機炭素センサＴＯＣは、接続部Ｊ４２において、脱塩水ラインＬ３に接続されている。接続部Ｊ４２は、脱塩水ラインＬ３における第２流路切換弁Ｖ７２よりも下流側の下流側脱塩水ラインＬ３２に配置されている。
【００７５】
全有機炭素センサＴＯＣは、制御部３０と電気的に接続されている。全有機炭素センサＴＯＣで検出された脱塩水Ｗ６の全有機炭素量は、制御部３０へ検出信号として送信される。
【００７６】
入力操作部４０は、装置の運転モードに係る選択（例えば、運転／停止の選択、警報の解除など）、装置の運転条件に係る各種設定について、ユーザー又は管理者の入力操作を受け付ける入力インターフェースである。この入力操作部４０は、ディスプレイとボタンスイッチを組み合わせた操作パネル、ディスプレイ上で直接操作するタッチパネル等により構成される。入力操作部４０は、制御部３０と電気的に接続されている。入力操作部４０から入力された情報は、制御部３０に送信される。本実施形態においては、入力操作部４０は、タッチパネルにより構成される。入力操作部４０は、第１個別制御部３０１（後述）及び第２個別制御部３０２（後述）の制御に関する設定情報を受け付け可能である。
【００７７】
表示部６０は、所望の情報を表示する。表示部６０は、制御部３０と電気的に接続されている。
【００７８】
次に、制御部３０について説明する。制御部３０は、ＣＰＵ及びメモリを含むマイクロプロセッサ（不図示）により構成される。制御部３０において、マイクロプロセッサのＣＰＵは、メモリから読み出した所定のプログラムに従って、後述する各種の制御を実行する。制御部３０において、マイクロプロセッサのメモリには、純水製造装置１を制御するためのデータや各種プログラムが記憶される。また、制御部３０のマイクロプロセッサには、時間の計時等を管理するインテグレーテッドタイマユニット（以下、「ＩＴＵ」ともいう）が組み込まれている。
【００７９】
次に、図３を参照して、第１実施形態の純水製造装置１における特徴部分に係る構成について詳細に説明する。図３は、第１実施形態に係る純水製造装置１の制御ユニット４００及び各構成機器の構成を示すブロック図である。
【００８０】
第１実施形態に係る純水製造装置１は、図３に示すように、供給水Ｗ１から純水を製造するための複数の構成機器１０１，１０２を備える。具体的には、純水製造装置１は、複数の構成機器１０１，１０２として、第１構成機器１０１と、第２構成機器１０２と、を備える。また、制御部３０は、統括制御部３００（後述）と、第１個別制御部３０１（後述）と、第２個別制御部３０２（後述）と、を備える。
【００８１】
第１構成機器１０１及び第２構成機器１０２は、前述した各構成要素を含んで構成されている。第１構成機器１０１は、図３に示すように、ＲＯ膜モジュール７と、加圧ポンプ５と、インバータ６と、供給水補給弁Ｖ３１と、第１流路切換弁Ｖ７１と、第１排水弁Ｖ３２〜第３排水弁Ｖ３４と、圧力スイッチＰＳＷと、第１温度センサＴＥ１と、第１圧力センサＰＳ１と、第１流量センサＦＭ１と、第２圧力センサＰＳ２と、第２温度センサＴＥ２と、第１電気伝導率センサＥＣ１と、を含んで構成される。ＲＯ膜モジュール７、加圧ポンプ５、インバータ６、供給水補給弁Ｖ３１、第１流路切換弁Ｖ７１、第１排水弁Ｖ３２〜第３排水弁Ｖ３４、圧力スイッチＰＳＷ、第１温度センサＴＥ１、第１圧力センサＰＳ１、第１流量センサＦＭ１、第２圧力センサＰＳ２、第２温度センサＴＥ２及び第１電気伝導率センサＥＣ１は、前述の通り、それぞれ、純水製造装置１の各位置に配置され、各種機能を有する。
【００８２】
第２構成機器１０２は、図３に示すように、ＥＤＩスタック１６と、直流電源装置５０と、第２流路切換弁Ｖ７２と、第３圧力センサＰＳ３と、第４圧力センサＰＳ４と、第１比抵抗センサＲＳ１と、第２流量センサＦＭ２と、を含んで構成される。ＥＤＩスタック１６、直流電源装置と、第２流路切換弁Ｖ７２、第３圧力センサＰＳ３、第４圧力センサＰＳ４、第１比抵抗センサＲＳ１及び第２流量センサＦＭ２は、前述の通り、それぞれ、純水製造装置１の各位置に配置され、各種機能を有する。
【００８３】
また、純水製造装置１は、第１構成機器１０１に対応する第１個別回路基板４１１（第１回路基板）と、第２構成機器１０２に対応する第２個別回路基板４１２（第２回路基板）と、統括回路基板４１０と、を備える。第１個別回路基板４１１は、統括回路基板４１０に電気的に接続されると共に、第１構成機器１０１に電気的に接続される。第２個別回路基板４１２は、中継部３１０を介して統括回路基板４１０に電気的に接続されると共に、第２構成機器１０２に電気的に接続される。本実施形態においては、第１個別回路基板４１１、第２個別回路基板４１２及び統括回路基板４１０は、ユニット化されており、制御ユニット４００を構成する。
【００８４】
第１個別回路基板４１１には、第１個別制御部３０１が搭載される。第１個別制御部３０１は、第１構成機器１０１を個別に制御する。具体的には、第１個別制御部３０１は、インバータ６、供給水補給弁Ｖ３１、第１流路切換弁Ｖ７１及び第１排水弁Ｖ３２〜第３排水弁Ｖ３４を制御する。第１個別制御部３０１には、圧力スイッチＰＳＷ、第１温度センサＴＥ１、第１圧力センサＰＳ１、第１流量センサＦＭ１、第２圧力センサＰＳ２、第２温度センサＴＥ２及び第１電気伝導率センサＥＣ１により検出された検出信号が入力される。第１個別制御部３０１に入力されたこれらのセンサの検出信号は、第１個別制御部３０１から統括制御部３００に送信される。
【００８５】
第２個別回路基板４１２には、第２個別制御部３０２が搭載される。第２個別制御部３０２は、第２構成機器１０２を個別に制御する。具体的には、第２個別制御部３０２は、直流電源装置５０及び第２流路切換弁Ｖ７２を制御する。第２個別制御部３０２には、第３圧力センサＰＳ３、第４圧力センサＰＳ４、第１比抵抗センサＲＳ１及び第２流量センサＦＭ２により検出された検出信号が入力される。第２個別制御部３０２に入力されたこれらのセンサの検出信号は、第２個別制御部３０２から中継部３１０を介して統括制御部３００に送信される。
【００８６】
統括回路基板４１０には、統括制御部３００が搭載される。統括回路基板４１０には、第１個別回路基板４１１と、第２個別回路基板４１２と、入力操作部４０と、脱炭酸装置１５とが、電気的に接続されている。
【００８７】
統括制御部３００は、第１個別制御部３０１、第２個別制御部３０２及び脱炭酸装置１５を制御可能である。統括制御部３００には、入力操作部４０（タッチパネル）により受け付けられた、第１個別制御部３０１、第２個別制御部３０２及び脱炭酸装置１５の制御に関する設定情報が送信される。
【００８８】
統括制御部３００は、第１工程及び第２工程を実行するように、第１個別制御部３０１及び第２個別制御部３０２を制御する。統括制御部３００により実行される第１工程とは、ＲＯ膜モジュール７で分離された透過水Ｗ２を、ＲＯ透過水リターンラインＬ４１（第１循環水ライン）を介してＲＯ膜モジュール７の上流側へ返送する工程である。具体的には、第１工程においては、第１流路切換弁Ｖ７１を循環側流路に切り換えて、加圧ポンプ５を駆動することにより、ＲＯ膜モジュール７で分離された透過水Ｗ２を、接続部Ｊ５１を介して供給水ラインＬ１におけるＲＯ膜モジュール７の上流側へ返送する。詳細には、第１工程においては、統括制御部３００は、第１流路切換弁Ｖ７１を循環側流路に切り換えるように、第１個別制御部３０１を制御する。そして、統括制御部３００は、第１個別制御部３０１を制御して、加圧ポンプ５を駆動するようにインバータ６を制御する。
【００８９】
統括制御部３００により実行される第２工程とは、ＥＤＩスタック１６で得られた脱塩水Ｗ６を、脱塩水リターンラインＬ４２（第２循環水ライン）を介してＲＯ膜モジュール７の上流側へ返送する工程である。具体的には、第２工程においては、第１流路切換弁Ｖ７１を採水側流路に切り換えると共に、第２流路切換弁Ｖ７２を循環側流路に切り換えて、加圧ポンプ５を駆動することにより、ＥＤＩスタック１６で得られた脱塩水Ｗ６を、接続部Ｊ５９を介して供給水ラインＬ１におけるＲＯ膜モジュール７の上流側へ返送する。詳細には、第２工程においては、統括制御部３００は、第１流路切換弁Ｖ７１を採水側流路に切り換えるように第１個別制御部３０１を制御すると共に、第２流路切換弁Ｖ７２を循環側流路に切り換えるように第２個別制御部３０２を制御する。そして、統括制御部３００は、第１個別制御部３０１を制御して、加圧ポンプ５を駆動するようにインバータ６を制御する。
【００９０】
統括制御部３００は、装置の起動時において、第１工程及び第２工程の実行後に、需要箇所への脱塩水Ｗ６の供給（採水）を開始するように第２流路切換弁Ｖ７２を採水側流路に切り換えるように、第２個別制御部３０２を制御する。具体的には、統括制御部３００は、第１工程の実行中において、透過水ラインＬ２１を流通する透過水Ｗ２の電気伝導率（電気的特性値）が所定の第１伝導率閾値（第１ＥＣ閾値）を下回る場合（第１範囲内にある場合）に、第２工程を実行するように、第１個別制御部３０１及び第２個別制御部３０２を制御する。また、統括制御部３００は、第２工程の実行中において、脱塩水ラインＬ３を流通する脱塩水Ｗ６の比抵抗（電気的特性値）が所定の第１比抵抗閾値を上回る場合（第２範囲内にある場合）に需要箇所への脱塩水Ｗ６の供給を開始するように、第２流路切換弁Ｖ７２を採水側流路に切り換えるように、第２個別制御部３０２を制御する。
【００９１】
所定の第１伝導率閾値としては、例えば、劣化や閉塞のないＲＯ膜モジュールを用いて標準的な水質の原水を所定の運転条件（運転圧力，回収率，水温等）で逆浸透膜処理したときに得られる透過水の電気伝導率値が設定される。また、所定の第１比抵抗閾値としては、例えば、劣化及び閉塞のない電気脱イオンスタックを用いて標準的な水質の透過水を所定の運転条件（電流値，流量，水温等）で脱塩処理したときに得られる脱塩水の比抵抗値が、設定される。
【００９２】
また、統括制御部３００は、第２工程の後において、脱塩水ラインＬ３を流通する脱塩水Ｗ６の流量が所定の流量閾値を上回る場合には、ＥＤＩスタック１６の動作を開始するように、第２個別制御部３０２を制御する。ＥＤＩスタック１６から流出される脱塩水Ｗ６の流量の所定の設定値を、ＥＤＩスタック１６の動作を開始するための条件とした理由は、脱塩水Ｗ６の所定値以上の流通流量がない場合には、イオン交換膜及び電極の表面において、スケール発生等のリスクが高まるためである。流量の所定の設定値としては、例えば、脱塩室１６１が正常に機能して、スケール発生等のリスクが生じない下限の流量値が設定される。
【００９３】
また、統括制御部３００は、待機状態中に需要箇所から純水の送水要求がある場合には、第１工程を実行する。統括制御部３００は、採水中に需要箇所から純水の送水要求がある場合には、純水製造装置１が採水を継続するように制御し、採水中に需要箇所から純水の送水要求がない場合には、純水製造装置１が待機状態に移行するように制御する。更に、統括制御部３００は、採水中に純水製造装置１の運転スイッチがＯＦＦ（停止）である場合には、純水製造装置１の運転を停止させる。
【００９４】
次に、本実施形態に係る純水製造装置１の動作について説明する。図４及び図５は、第１実施形態における純水製造装置１の動作の処理手順を示すフローチャートである。純水製造装置１は、運転スイッチがＯＮ（運転）にされることで、動作が開始される。図４及び図５に示すフローチャートの処理は、純水製造装置１の運転中において、繰り返し実行される。
【００９５】
図３に示すステップＳＴ１１０において、純水製造装置１は、電源が投入されて、運転スイッチがＯＮにされることで、待機状態となる。
【００９６】
ステップＳＴ１２０において、統括制御部３００は、待機状態中に需要箇所から純水の送水要求があるか否かを判定する。待機状態中に需要箇所から純水の送水要求があると判定された場合（ＹＥＳ）には、処理は、ステップＳＴ１３１へ移行する。待機状態中に需要箇所から純水の送水要求がないと判定された場合（ＮＯ）には、処理は、ステップＳＴ１２０を繰り返す。
【００９７】
待機状態中に需要箇所からの送水要求を受けると、ステップＳＴ１３１において、統括制御部３００は、装置を起動させて第１工程の実行を開始するように、第１個別制御部３０１を制御する。具体的には、統括制御部３００は、透過水Ｗ２をＲＯ膜モジュール７の上流側に返送するため、第１流路切換弁Ｖ７１を循環側流路に切り換えるように、第１個別制御部３０１を制御する。この状態で、統括制御部３００は、第１個別制御部３０１を制御して、加圧ポンプ５を駆動するようにインバータ６を制御する。これにより、ＲＯ膜モジュール７で分離された透過水Ｗ２を、ＲＯ透過水リターンラインＬ４１を介して、供給水ラインＬ１に返送する。
【００９８】
ステップＳＴ１３２において、統括制御部３００は、第１工程の実行中に、透過水ラインＬ２１を流通する透過水Ｗ２の電気伝導率（ＥＣ値）が所定の第１伝導率閾値（第１ＥＣ閾値；例えば、１μＳ／ｃｍ）を下回るか否かを判定する。第１工程の実行中に透過水ラインＬ２１を流通する透過水Ｗ２の電気伝導率が所定の第１伝導率閾値を下回ると判定された場合（ＹＥＳ）には、処理は、ステップＳＴ１３３に進む。第１工程の実行中に透過水ラインＬ２１を流通する透過水Ｗ２の電気伝導率が所定の第１伝導率閾値を上回ると判定された場合（ＮＯ）には、処理は、ステップＳＴ１３２に戻り、第１工程を継続する。
【００９９】
ステップＳＴ１３３において、統括制御部３００は、第２工程の実行を開始するように、第１個別制御部３０１及び第２個別制御部３０２を制御する。具体的には、統括制御部３００は、透過水Ｗ２をＥＤＩスタック１６へ供給するため、第１流路切換弁Ｖ７１を採水側流路に切り換えるように、第１個別制御部３０１を制御する。同時に、統括制御部３００は、脱塩水Ｗ６をＲＯ膜モジュール７の上流側に返送するため、第２流路切換弁Ｖ７２を循環側流路に切り換えるように、第２個別制御部３０２を制御する。この状態で、統括制御部３００は、第１個別制御部３０１を制御して、加圧ポンプ５を駆動するようにインバータ６を制御する。これにより、ＥＤＩスタック１６で得られた脱塩水Ｗ６を、脱塩水リターンラインＬ４２を介して、供給水ラインＬ１に返送する。ステップＳＴ１３３の後に、処理は、ステップＳＴ２１０に進む。
【０１００】
図５に示すステップＳＴ２１０において、統括制御部３００は、第２工程の実行中に、脱塩水ラインＬ３を流通する脱塩水Ｗ６の流量が所定の流量閾値を上回るか否かを判定する。第２工程の実行中に、脱塩水ラインＬ３を流通する脱塩水Ｗ６の流量が所定の流量閾値を上回ると判定された場合（ＹＥＳ）には、処理は、ステップＳＴ２２０へ移行する。第２工程の実行中に、脱塩水ラインＬ３を流通する脱塩水Ｗ６の流量が所定の流量閾値を上回らないと判定された場合（ＮＯ）には、処理は、ステップＳＴ２１０へ戻る。
【０１０１】
ステップＳＴ２２０において、統括制御部３００は、第２工程の実行中に、直流電源装置５０に対し、ＥＤＩスタック１６へ直流電圧を出力させる指令信号を送信するように、第２個別制御部３０２を制御する。これにより、ＥＤＩスタック１６へ通電がなされ、ＥＤＩスタック１６の動作が開始される。
【０１０２】
ステップＳＴ２３０において、統括制御部３００は、第２工程の実行中に、脱塩水ラインＬ３を流通する脱塩水Ｗ６の比抵抗が所定の第１比抵抗閾値（例えば、１ＭΩ・ｃｍ）を上回るか否かを判定する。第２工程の実行中に脱塩水ラインＬ３を流通する脱塩水Ｗ６の比抵抗が所定の比抵抗閾値を上回る場合（ＹＥＳ）には、処理は、ステップＳＴ２４０に進む。第２工程の実行中に、脱塩水ラインＬ３を流通する脱塩水Ｗ６の比抵抗が所定の第１比抵抗閾値を下回る場合（ＮＯ）には、処理は、ステップＳＴ２３０に戻る。
【０１０３】
ステップＳＴ２４０において、統括制御部３００は、第２工程の実行中に、脱塩水ラインＬ３を流通する脱塩水Ｗ６の比抵抗が所定の第１比抵抗閾値を上回る時間が所定時間（例えば、５秒）継続したか否かを判定する。第２工程の実行中に、脱塩水ラインＬ３を流通する脱塩水Ｗ６の比抵抗が所定の第１比抵抗閾値を上回る時間が所定時間継続した場合（ＹＥＳ）には、処理は、ステップＳＴ２５０に進む。第２工程の実行中に、脱塩水ラインＬ３を流通する脱塩水Ｗ６の比抵抗が所定の第１比抵抗閾値を上回る時間が所定時間継続しない場合（ＮＯ）には、処理は、ステップＳＴ２４０に戻る。
【０１０４】
ステップＳＴ２５０において、統括制御部３００は、純水の採水を開始して、需要箇所等へ脱塩水Ｗ６を供給するように、第２個別制御部３０２を制御する。具体的には、統括制御部３００は、脱塩水Ｗ６を需要箇所へ供給するように第２流路切換弁Ｖ７２を採水側流路に切り換えるように、第２個別制御部３０２を制御する。これにより、ＥＤＩスタック１６で得られた脱塩水Ｗ６を、脱塩水ラインＬ３を介して、需要箇所へ供給するように送り出す。これにより、需要箇所へ向けて純水の採水が実行される。
【０１０５】
ステップＳＴ２６０において、統括制御部３００は、採水中に需要箇所から純水の送水要求があるか否かを判定する。採水中に需要箇所から純水の送水要求があると判定された場合（ＹＥＳ）には、処理は、ステップＳＴ２７０へ移行する。採水中に需要箇所から純水の送水要求がないと判定された場合（ＮＯ）には、処理は、ステップＳＴ１１０に移行して、純水製造装置１は、待機状態（即ち、採水を終了）となる。
【０１０６】
ステップＳＴ２７０において、統括制御部３００は、純水製造装置１の運転スイッチがＯＦＦ（停止）であるか否かを判定する。純水製造装置１の運転スイッチがＯＦＦ（停止）である場合（ＹＥＳ）には、純水製造装置１の運転が停止されて、処理は、終了する。純水製造装置１の運転スイッチがＯＮ（運転）である場合（ＮＯ）には、処理は、ステップＳＴ２６０へ戻り、純水の採水を継続する。
【０１０７】
上述した第１実施形態に係る純水製造装置１によれば、例えば、以下のような効果が奏される。
【０１０８】
本実施形態に係る純水製造装置１は、供給水から純水を製造するための複数の構成機器１０１，１０２と、複数の構成機器１０１，１０２それぞれに対応する個別回路基板４１１，４１２であって、複数の構成機器１０１，１０２それぞれを個別に制御する複数の個別制御部３０１，３０２が搭載された複数の個別回路基板４１１，４１２と、複数の個別回路基板４１１，４１２が電気的に接続される統括回路基板４１０であって、複数の個別制御部３０１，３０２を制御可能な統括制御部３００が搭載された統括回路基板４１０と、を備える。具体的には、複数の構成機器１０１，１０２は、ＲＯ膜モジュール７を含んで構成される第１構成機器１０１と、ＥＤＩスタック１６を含んで構成される第２構成機器１０２と、を有して構成される。複数の個別回路基板４１１，４１２は、第１構成機器１０１を制御する第１個別制御部３０１が搭載された第１個別回路基板４１１と、第２構成機器１０２を制御する第２個別制御部３０２が搭載された第２個別回路基板４１２と、を有して構成される。そのため、統括制御部３００は、各構成機器（第１構成機器１０１及び第２構成機器１０２）の制御部を利用し且つ各種センサからの検出信号の情報を共有して、各構成機器の動作を制御することができる。これにより、開発に要するコストを低減することができる。更に、他の構成機器を追加することが容易であるため、拡張性を高めることができる。
【０１０９】
また、本実施形態に係る純水製造装置１においては、各構成機器（第１構成機器１０１及び第２構成機器１０２）を利用しているため、例えば、メンテナンスを行う場合に、一部の構成機器を、複数の構成機器１０１，１０２を備えた純水製造装置１から切り離すことが可能である。これにより、純水製造装置１は、一部の構成機器を純水製造装置１から切り離した状態で、残りの構成機器により、純水を製造することも可能である。従って、メンテナンス性を高めることができる。
【０１１０】
また、本実施形態においては、複数の個別制御部３０１，３０２の制御に関する設定情報を受け付け可能なタッチパネルにより構成される入力操作部４０を備える。タッチパネル（入力操作部）４０により受け付けられた複数の個別制御部３０１，３０２の制御に関する設定情報は、統括制御部３００に送信される。そのため、ユーザーによる操作を、タッチパネル（入力操作部）４０に集約することができる。これにより、ユーザーがタッチパネル（入力操作部）４０を操作することで、純水製造装置１を一括して制御することができる。
【０１１１】
（第２実施形態）
次に、本発明の第２実施形態に係る純水製造装置１Ａについて、図６及び図７Ａ〜図７Ｃを参照しながら説明する。図６は、第２実施形態に係る純水製造装置１Ａの全体概略図である。図７Ａは、第２実施形態に係る純水製造装置１Ａの全体構成図の第１中段部分である。図７Ｂは、第２実施形態に係る純水製造装置１Ａの全体構成図の第２中段部分である。図７Ｃは、第２実施形態に係る純水製造装置１Ａの全体構成図の後段部分である。
【０１１２】
なお、第２実施形態では、主に第１実施形態との相違点について説明する。このため、第１実施形態と同一（又は同等）の構成については同じ符号を付し、詳細な説明を省略する。また、第２実施形態において特に説明しない点については、第１実施形態の説明が適宜に適用される。また、第２実施形態においては、供給水ラインＬ１の上流側から供給水補給弁Ｖ３１までの構成は、第１実施形態と同様である。そのため、第２実施形態においては、第１実施形態における供給水ラインＬ１の上流側から供給水補給弁Ｖ３１までの構成についての主な図面（図２Ａに対応する図面）及びその説明を省略する。
【０１１３】
第２実施形態に係る純水製造装置１Ａは、第１実施形態における純水製造装置１が１段のＲＯ膜モジュール７を備えているのに対して、直列に並べられた２段のＲＯ膜モジュール１０，１４を備えている点、２段のＲＯ膜モジュール１０，１４の間に中間タンク１１が設けられている点、及びこれらの周辺の構成において、第１実施形態における純水製造装置１と主に異なる。
【０１１４】
なお、第２実施形態においては、第１実施形態における「ＲＯ膜モジュール７」を第２実施形態における１段目のＲＯ膜モジュールとして「前段ＲＯ膜モジュール１０」とし、更に、２段目のＲＯ膜モジュールとして「後段ＲＯ膜モジュール１４」を備える。そのため、第２実施形態では、第１実施形態における「透過水ラインＬ２１」を「前段ＲＯ透過水ラインＬ２２」とし、前段ＲＯ膜モジュール１０で分離された透過水を「前段透過水Ｗ２」（第２透過水）とする。
【０１１５】
また、第２実施形態では、第１実施形態における「ＲＯ透過水リターンラインＬ４１」を「前段ＲＯ透過水リターンラインＬ４３」とし、第１実施形態における「ＲＯ濃縮水リターンラインＬ５１」を「前段ＲＯ濃縮水リターンラインＬ５３」とする。また、第２実施形態では、第１実施形態における「加圧ポンプ５」を「前段加圧ポンプ８」とし、「インバータ６」を「前段インバータ９」とする。
【０１１６】
図６に示すように、第２実施形態に係る純水製造装置１Ａは、第１オプション機器ＯＰ１と、プレフィルタ４と、第２オプション機器ＯＰ２と、前段加圧ポンプ８と、前段インバータ９と、第２逆浸透膜モジュールとしての前段ＲＯ膜モジュール１０と、中間タンク１１と、後段加圧ポンプ１２と、後段インバータ１３と、第３逆浸透膜モジュールとしての後段ＲＯ膜モジュール１４と、第３オプション機器ＯＰ３と、第１流路切換弁Ｖ７１と、脱イオン部としての電気脱イオンスタック（ＥＤＩスタック）１６と、送出手段としての第２流路切換弁Ｖ７２と、第４オプション機器ＯＰ４と、制御部３０Ａと、入力操作部４０と、直流電源装置５０と、表示部６０と、を備える。
【０１１７】
また、図６に示すように、第２実施形態の純水製造装置１Ａは、供給水ラインＬ１と、第２透過水ラインとしての前段ＲＯ透過水ラインＬ２２と、第３循環水ラインとしての前段ＲＯ透過水リターンラインＬ４３と、前段ＲＯ濃縮水リターンラインＬ５３と、第３透過水ラインとしての後段ＲＯ透過水ラインＬ２３と、第４循環水ラインとしての後段ＲＯ透過水リターンラインＬ４４と、前段ＲＯ濃縮水リターンラインＬ５４と、脱イオン水ラインとしての脱塩水ラインＬ３と、第５循環水ラインとしての脱塩水リターンラインＬ４５と、を備える。
【０１１８】
図６に示すように、第２実施形態における純水製造装置１Ａは、第１実施形態におけるＲＯ透過水リターンラインＬ４１及び脱塩水リターンラインＬ４２に代えて、前段ＲＯ透過水リターンラインＬ４３（第３循環水ライン）、後段ＲＯ透過水リターンラインＬ４４（第４循環水ライン）及び脱塩水リターンラインＬ４５（第５循環水ライン）を備える。
【０１１９】
また、図７Ａ〜図７Ｃに示すように、第２実施形態の純水製造装置１Ａは、第１実施形態における第２圧力センサＰＳ２を備えておらず、一方、第５圧力センサＰＳ５、第４温度センサＴＥ４、第５温度センサＴＥ５、第３流量センサＦＭ３、及び第２電気伝導率センサＥＣ２を更に備える。また、第１実施形態と同様に、第２実施形態の純水製造装置１Ａは、第３電気的特性検出手段としての第１電気伝導率センサＥＣ１（第２電気伝導率測定手段）と、第４電気的特性検出手段としての第１比抵抗センサＲＳ１（第２比抵抗検出手段）と、を備える。
【０１２０】
前段ＲＯ膜モジュール１０は、前段加圧ポンプ８により圧送された供給水Ｗ１を、溶存塩類が除去された第２透過水としての前段透過水Ｗ２と、溶存塩類が濃縮された濃縮水Ｗ３と、に分離する。
【０１２１】
前段ＲＯ透過水ラインＬ２２は、前段ＲＯ膜モジュール１０で分離された前段透過水Ｗ２を後段ＲＯ膜モジュール１４に流通させるラインである。前段ＲＯ透過水ラインＬ２２の上流側の端部は、図７Ａに示すように、前段ＲＯ膜モジュール１０の二次側ポート（前段透過水Ｗ２の出口）に接続されている。前段ＲＯ透過水ラインＬ２２の下流側の端部は、図６Ｂに示すように、後段ＲＯ膜モジュール１４の一次側入口ポート（前段透過水Ｗ２の入口）に接続されている。
【０１２２】
前段ＲＯ透過水ラインＬ２２には、上流側から順に、図７Ａに示すように、接続部Ｊ５４、前段透過水補給弁Ｖ３５、第３逆止弁Ｖ６３、接続部Ｊ１０、接続部Ｊ１２、接続部Ｊ１３、及び第６開閉弁Ｖ１６が設けられている。また、第６開閉弁Ｖ１６以降には、図６Ｂに示すように、中間タンク１１、第７開閉弁Ｖ１７、接続部Ｊ６１、接続部Ｊ２１、後段加圧ポンプ１２、接続部Ｊ２２、及び後段ＲＯ膜モジュール１４が設けられている。図７Ａに示すように、接続部Ｊ５４には、前段ＲＯ透過水リターンラインＬ４３の上流側の端部が接続されている。また、図７Ｂに示すように、接続部Ｊ６１には、後段ＲＯ濃縮水リターンラインＬ５４の下流側の端部が接続されている。
【０１２３】
前段透過水補給弁Ｖ３５は、前段ＲＯ透過水ラインＬ２２の開閉を制御可能な自動弁である。前段透過水補給弁Ｖ３５は、制御部３０Ａと電気的に接続されている。前段透過水補給弁Ｖ３５における弁体の開閉は、制御部３０Ａから送信される流路開閉信号により制御される。
【０１２４】
図６に示すように、中間タンク１１は、前段ＲＯ透過水ラインＬ２２における前段ＲＯ膜モジュール１０と後段ＲＯ膜モジュール１４との間に設けられている。中間タンク１１は、前段ＲＯ膜モジュール１０で分離された前段透過水Ｗ２を貯留するタンクである。
【０１２５】
中間タンク１１には、図７Ｂに示すように、水位センサ１１１が設けられている。水位センサ１１１は、中間タンク１１に貯留された前段透過水Ｗ２の水位を検出する機器である。水位センサ１１１は、制御部３０Ａと電気的に接続されている。水位センサ１１１で測定された中間タンク１１の水位（以下、「検出水位値」ともいう）は、制御部３０Ａへ検出信号として送信される。
【０１２６】
本実施形態において、水位センサ１１１は、例えば、レベルスイッチである。レベルスイッチは、予め設定された液面位置の検出器であり、例えば、複数の液面位置（例えば、４位置）を検出するように構成されている。図６Ｂでは、水位センサ１１１として、フロート式のレベルスイッチを設けた例を示す。なお、水位センサ１１１は、レベルスイッチには制限されず、例えば、連続式レベルセンサであってもよい。連続式レベルセンサとしては、例えば、静電容量式センサ、圧力式センサ、超音波式センサ等が用いられる。
【０１２７】
後段加圧ポンプ１２は、前段ＲＯ透過水ラインＬ２２を流通する前段透過水Ｗ２を吸入し、後段ＲＯ膜モジュール１４へ向けて圧送する装置である。後段加圧ポンプ１２には、後段インバータ１３から周波数が変換された駆動電力が供給される。後段加圧ポンプ１２は、供給された駆動電力の周波数（以下、「駆動周波数」ともいう）に応じた回転速度で駆動される。
【０１２８】
後段インバータ１３は、後段加圧ポンプ１２に、周波数が変換された駆動電力を供給する電気回路（又はその回路を持つ装置）である。後段インバータ１３は、制御部３０Ａと電気的に接続されている。後段インバータ１３には、制御部３０Ａから指令信号が入力される。後段インバータ１３は、制御部３０Ａにより入力された指令信号（電流値信号又は電圧値信号）に対応する駆動周波数の駆動電力を後段加圧ポンプ１２に出力する。
【０１２９】
後段ＲＯ膜モジュール１４は、前段ＲＯ膜モジュール１０で分離されて後段加圧ポンプ１２により圧送された前段透過水Ｗ２を、前段透過水Ｗ２よりも溶存塩類が除去された第３透過水としての後段透過水Ｗ４と、溶存塩類が濃縮された濃縮水Ｗ５と、に分離する。後段ＲＯ膜モジュール１４は、単一又は複数のスパイラル型ＲＯ膜エレメントを圧力容器（ベッセル）に収容して構成される。
【０１３０】
前段ＲＯ透過水リターンラインＬ４３は、図７Ａに示すように、前段ＲＯ膜モジュール１０で分離された前段透過水Ｗ２を、前段ＲＯ膜モジュール１０の上流側の供給水ラインＬ１へ返送するラインである。前段ＲＯ透過水リターンラインＬ４３の上流側の端部は、接続部Ｊ５４に接続されている。前段ＲＯ透過水リターンラインＬ４３の下流側の端部は、接続部Ｊ５２において、前段ＲＯ濃縮水リターンラインＬ５３に接続されている。接続部Ｊ５２は、前段ＲＯ濃縮水リターンラインＬ５３における接続部Ｊ５３と接続部Ｊ５１との間に配置されている。前段ＲＯ透過水リターンラインＬ４３における接続部Ｊ５２から接続部Ｊ５１までの部分は、前段ＲＯ濃縮水リターンラインＬ５３における接続部Ｊ５２から接続部Ｊ５１までの部分と共通する。
【０１３１】
前段ＲＯ透過水リターンラインＬ４３には、図７Ａに示すように、リリーフ弁Ｖ４３が設けられている。リリーフ弁Ｖ４３は、常閉式の圧力作動弁であって、一次側の圧力が二次側の圧力よりも一定の圧力以上高い場合に開放される調整弁である。詳細には、リリーフ弁Ｖ４３は、前段ＲＯ透過水リターンラインＬ４３の管内圧力が予め設定された圧力以上になったときに開状態となり、前段ＲＯ透過水ラインＬ２２を流通される前段透過水Ｗ２を、接続部Ｊ５４を介して前段ＲＯ透過水リターンラインＬ４３に流通させるための弁である。
【０１３２】
リリーフ弁Ｖ４３における二次側の圧力（接続部Ｊ５１での供給水Ｗ１の圧力）は、減圧弁Ｖ４２により前段加圧ポンプ８の運転圧力未満に調整される。前段透過水補給弁Ｖ３５が閉状態に制御された状態で前段加圧ポンプ８を駆動させると、リリーフ弁Ｖ４３における一次側の圧力（接続部Ｊ５４での前段透過水Ｗ２の圧力）は、二次側の圧力よりも高くなる。これにより、リリーフ弁Ｖ４３が開放されて、前段ＲＯ透過水ラインＬ２２を流通する前段透過水Ｗ２を、前段ＲＯ透過水リターンラインＬ４３に流通させることができる。
【０１３３】
後段ＲＯ濃縮水リターンラインＬ５４は、図７Ｂに示すように、後段ＲＯ膜モジュール１４で分離された濃縮水Ｗ５の一部Ｗ５１を、前段ＲＯ透過水ラインＬ２２へ返送するラインである。後段ＲＯ濃縮水リターンラインＬ５４の上流側の端部は、後段ＲＯ膜モジュール１４の一次側出口ポート（濃縮水の出口）に接続されている。後段ＲＯ濃縮水リターンラインＬ５４の下流側の端部は、接続部Ｊ６１に接続されている。接続部Ｊ６１は、前段ＲＯ透過水ラインＬ２２における中間タンク１１と後段加圧ポンプ１２との間に配置されている。
【０１３４】
後段ＲＯ濃縮水リターンラインＬ５４は、図７Ｂに示すように、上流側から順に、接続部Ｊ６３、接続部Ｊ６２、第６逆止弁Ｖ６６、第６定流量弁Ｖ５６、及び接続部Ｊ６１が設けられている。接続部Ｊ６２には、第１後段ＲＯ濃縮水ラインＬ６３の上流側の端部が接続されている。接続部Ｊ６３には、第２後段ＲＯ濃縮水ラインＬ６４の上流側の端部が接続されている。
【０１３５】
第１後段ＲＯ濃縮水ラインＬ６３及び第２後段ＲＯ濃縮水ラインＬ６４は、後段ＲＯ膜モジュール１４で分離された濃縮水Ｗ５の残部Ｗ５２を、後段ＲＯ濃縮水リターンラインＬ５４の途中から脱炭酸装置１５に送出するラインである。第１後段ＲＯ濃縮水ラインＬ６３の下流側の端部及び第２後段ＲＯ濃縮水ラインＬ６４の下流側の端部は、接続部Ｊ６４において、後段ＲＯ濃縮水送出ラインＬ６５の上流側の端部に接続されている。後段ＲＯ濃縮水送出ラインＬ６５の下流側の端部は、図７Ｃに示すように、脱炭酸装置１５に接続されている。第１後段ＲＯ濃縮水ラインＬ６３及び第２後段ＲＯ濃縮水ラインＬ６４には、それぞれ、第１調整弁Ｖ３６及び第２調整弁Ｖ３７、並びに及び第７定流量弁Ｖ５７及び第８定流量弁Ｖ５８が設けられている。
【０１３６】
第１調整弁Ｖ３６及び第２調整弁Ｖ３７により、第１後段ＲＯ濃縮水ラインＬ６３及び第２後段ＲＯ濃縮水ラインＬ６４を個別に開閉することにより、濃縮水Ｗ５の送出流量を調節することができる。第１調整弁Ｖ３６及び第２調整弁Ｖ３７は、それぞれ制御部３０Ａと電気的に接続されている。第１調整弁Ｖ３６及び第２調整弁Ｖ３７の開閉は、制御部３０Ａから送信される駆動信号により制御される。
【０１３７】
後段ＲＯ濃縮水送出ラインＬ６５には、第８開閉弁Ｖ１８が設けられている。第８開閉弁Ｖ１８は、後段ＲＯ濃縮水送出ラインＬ６５の開閉を操作可能な手動弁である。
【０１３８】
後段ＲＯ透過水ラインＬ２３は、後段ＲＯ膜モジュール１４で分離された後段透過水Ｗ４をＥＤＩスタック１６に流通させるラインである。後段ＲＯ透過水ラインＬ２３の上流側の端部は、図７Ｂに示すように、後段ＲＯ膜モジュール１４の二次側ポート（後段透過水Ｗ４の出口）に接続されている。後段ＲＯ透過水ラインＬ２３の下流側の端部は、図７Ｃに示すように、第１流路切換弁Ｖ７１を介して、ＥＤＩスタック１６に接続されている。
【０１３９】
後段ＲＯ透過水ラインＬ２３は、前段側透過水ラインＬ２３１と、中段側透過水ラインＬ２３２と、脱塩室流入ラインＬ２３３と、濃縮室流入ラインＬ２３４と、を有する。前段側透過水ラインＬ２３１には、上流側から順に、図７Ｂに示すように、第４逆止弁Ｖ６４、接続部Ｊ２３、及び第９開閉弁Ｖ１９が設けられている。また、第９開閉弁Ｖ１９以降には、図７Ｃに示すように、脱炭酸装置１５、接続部Ｊ３１、接続部Ｊ３２、及び第１流路切換弁Ｖ７１が設けられている。
【０１４０】
第１流路切換弁Ｖ７１は、後段ＲＯ膜モジュール１４で分離された後段透過水Ｗ４を、中段側透過水ラインＬ２３２を介してＥＤＩスタック１６へ向けて流通させる流路（採水側流路）、又は、後段ＲＯ透過水リターンラインＬ４４を介して中間タンク１１へ向けて流通させる流路（循環側流路）に切り換え可能な弁である。第１流路切換弁Ｖ７１は、例えば、電動式又は電磁式の三方弁により構成される。第１流路切換弁Ｖ７１は、制御部３０Ａと電気的に接続されている。第１流路切換弁Ｖ７１における流路の切り換えは、制御部３０Ａから送信される流路切換信号により制御される。
【０１４１】
後段ＲＯ透過水リターンラインＬ４４は、後段ＲＯ膜モジュール１４で分離された後段透過水Ｗ４を、前段ＲＯ膜モジュール１０と後段ＲＯ膜モジュール１４との間に設けられた中間タンク１１へ返送するラインである。後段ＲＯ透過水リターンラインＬ４４の上流側の端部は、図７Ｃに示すように、第１流路切換弁Ｖ７１に接続されている。後段ＲＯ透過水リターンラインＬ４４の下流側は、図７Ｂに示すように、中間タンク１１に接続されている。
【０１４２】
なお、図７Ｃに示す第２実施形態において、第１流路切換弁Ｖ７１よりも下流側の部分の構成は、第１実施形態における「中段側透過水ラインＬ２１２」、「脱塩室流入ラインＬ２１３」、「濃縮室流入ラインＬ２１４」及び「透過水Ｗ２」を、それぞれ、「中段側透過水ラインＬ２３２」、「脱塩室流入ラインＬ２３３」、「濃縮室流入ラインＬ２３４」及び「後段透過水Ｗ４」としている。また、第２実施形態では、後述するＥＤＩ濃縮水排出ラインＬ７２及び脱塩水リターンラインＬ４５の構成を除いて、第１実施形態と同様の構成である。そのため、これらの部分に関しては、第１実施形態の説明を援用して、第２実施形態の説明を省略する。
【０１４３】
また、図７Ｃに示すように、第２実施形態における純水製造装置１Ａは、第１実施形態におけるＥＤＩ濃縮水ラインＬ５２に代えて、ＥＤＩ濃縮水排出ラインＬ７２を備える。
【０１４４】
ＥＤＩ濃縮水排出ラインＬ７２は、ＥＤＩスタック１６の濃縮室１６２から排出された濃縮水Ｗ７を、装置の外に排出するラインである。ＥＤＩ濃縮水排出ラインＬ７２の上流側の端部は、ＥＤＩスタック１６の二次側ポート（濃縮室１６２の出口側）に接続されている。ＥＤＩ濃縮水排出ラインＬ７２の下流側は、例えば、排水ピット（不図示）に接続又は開口している。
【０１４５】
第２流路切換弁Ｖ７２は、ＥＤＩスタック１６の脱塩室１６１で得られた脱塩水Ｗ６を、下流側脱塩水ラインＬ３２を介して需要箇所に向けて送出させる流路（採水側流路）、又は、脱塩水リターンラインＬ４５を介して中間タンク１１に向けて流通させる流路（循環側流路）に切り換え可能な弁である。
【０１４６】
脱塩水リターンラインＬ４５は、ＥＤＩスタック１６の脱塩室１６１で得られた脱塩水Ｗ６を、脱塩水ラインＬ３の途中から、前段ＲＯ膜モジュール１０と後段ＲＯ膜モジュール１４との間に設けられた中間タンク１１へ返送するラインである。本実施形態において、脱塩水リターンラインＬ４５の上流側の端部は、第２流路切換弁Ｖ７２に接続されている。脱塩水リターンラインＬ４５の下流側の端部は、中間タンク１１に接続されている。
【０１４７】
第５圧力センサＰＳ５は、前段ＲＯ透過水ラインＬ２２を流通する前段透過水Ｗ２の圧力を計測する機器である。第５圧力センサＰＳ５は、接続部Ｊ２２において、前段ＲＯ透過水ラインＬ２２に接続されている。接続部Ｊ２２は、前段ＲＯ透過水ラインＬ２２における後段加圧ポンプ１２と後段ＲＯ膜モジュール１４との間に配置されている。第５圧力センサＰＳ５は、制御部３０Ａと電気的に接続されている。第５圧力センサＰＳ５で測定された前段透過水Ｗ２の圧力は、制御部３０Ａへ検出信号として送信される。
【０１４８】
第４温度センサＴＥ４及び第５温度センサＴＥ５は、前段ＲＯ透過水ラインＬ２２を流通する前段透過水Ｗ２の温度を測定する機器である。第４温度センサＴＥ４は、図７Ａに示すように、接続部Ｊ１２において、前段ＲＯ透過水ラインＬ２２に接続されている。接続部Ｊ１２は、前段ＲＯ透過水ラインＬ２２における前段ＲＯ膜モジュール１０と中間タンク１１との間に配置されている。第５温度センサＴＥ５は、図７Ｂに示すように、接続部Ｊ２１において、前段ＲＯ透過水ラインＬ２２に接続されている。接続部Ｊ２１は、前段ＲＯ透過水ラインＬ２２における中間タンク１１と後段加圧ポンプ１２との間に配置されている。第４温度センサＴＥ４及び第５温度センサＴＥ５は、制御部３０Ａと電気的に接続されている。第４温度センサＴＥ４及び第４温度センサＴＥ４で測定された前段透過水Ｗ２の温度は、制御部３０Ａへ検出信号として送信される。
【０１４９】
第３流量センサＦＭ３は、後段ＲＯ透過水ラインＬ２３を流通する後段透過水Ｗ４の流量を測定する機器である。第３流量センサＦＭ３は、図７Ｂに示すように、接続部Ｊ２３において、後段ＲＯ透過水ラインＬ２３に接続されている。接続部Ｊ２３は、後段ＲＯ透過水ラインＬ２３における後段ＲＯ膜モジュール１４と脱炭酸装置１５との間に配置されている。第３流量センサＦＭ３は、制御部３０Ａと電気的に接続されている。第３流量センサＦＭ３で測定された後段透過水Ｗ４の流量は、制御部３０Ａへ検出信号として送信される。
【０１５０】
第２電気伝導率センサＥＣ２は、前段ＲＯ透過水ラインＬ２２を流通する前段透過水Ｗ２の電気伝導率を測定する機器である。第２電気伝導率センサＥＣ２は、図７Ａに示すように、接続部Ｊ１３において、前段ＲＯ透過水ラインＬ２２に接続されている。接続部Ｊ１３は、前段ＲＯ透過水ラインＬ２２における前段ＲＯ膜モジュール１０と中間タンク１１との間に配置されている。第２電気伝導率センサＥＣ２は、制御部３０Ａと電気的に接続されている。第２電気伝導率センサＥＣ２で測定された前段透過水Ｗ２の電気伝導率は、制御部３０Ａへ検出信号として送信される。
【０１５１】
次に、図８を参照して、第１実施形態の純水製造装置１における特徴部分に係る構成について詳細に説明する。図８は、第２実施形態に係る純水製造装置１Ａの制御ユニット４００及び各構成機器の構成を示すブロック図である。
【０１５２】
第２実施形態に係る純水製造装置１Ａは、図８に示すように、供給水Ｗ１から純水を製造するための複数の構成機器１０３，１０４，１０５を備える。具体的には、純水製造装置１は、複数の構成機器１０３，１０４，１０５として、第３構成機器１０３と、第４構成機器１０４と、第５構成機器１０５と、を備える。また、制御部３０Ａは、統括制御部３００Ａ（後述）と、第３個別制御部３０３（後述）と、第４個別制御部３０４（後述）と、第５個別制御部３０５（後述）と、を備える。
【０１５３】
第３構成機器１０３、第４構成機器１０４及び第５構成機器１０５は、前述した各構成要素を含んで構成されている。第３構成機器１０３は、図８に示すように、前段ＲＯ膜モジュール１０と、前段加圧ポンプ８と、前段インバータ９と、供給水補給弁Ｖ３１と、前段透過水補給弁Ｖ３５と、第１排水弁Ｖ３２〜第３排水弁Ｖ３４と、圧力スイッチＰＳＷと、第１温度センサＴＥ１と、第１圧力センサＰＳ１と、第１流量センサＦＭ１と、第４温度センサＴＥ４と、第２電気伝導率センサＥＣ２と、水位センサ１１１と、を含んで構成される。前段ＲＯ膜モジュール１０、前段加圧ポンプ８、前段インバータ９、供給水補給弁Ｖ３１、前段透過水補給弁Ｖ３５、第１排水弁Ｖ３２〜第３排水弁Ｖ３４、圧力スイッチＰＳＷ、第１温度センサＴＥ１、第１圧力センサＰＳ１、第１流量センサＦＭ１、第４温度センサＴＥ４、第２電気伝導率センサＥＣ２及び水位センサ１１１は、前述の通り、それぞれ、純水製造装置１Ａの各位置に配置され、各種機能を有する。
【０１５４】
第４構成機器１０４は、図８に示すように、後段ＲＯ膜モジュール１４と、後段加圧ポンプ１２と、後段インバータ１３と、第１流路切換弁Ｖ７１と、第１調整弁Ｖ３６及び第２調整弁Ｖ３７と、第５温度センサＴＥ５と、第５圧力センサＰＳ５と、第３流量センサＦＭ３と、第２温度センサＴＥ２と、第１電気伝導率センサＥＣ１と、を含んで構成される。後段ＲＯ膜モジュール１４、後段加圧ポンプ１２、後段インバータ１３、第１流路切換弁Ｖ７１、第１調整弁Ｖ３６及び第２調整弁Ｖ３７、第５温度センサＴＥ５、第５圧力センサＰＳ５、第３流量センサＦＭ３、第２温度センサＴＥ２及び第１電気伝導率センサＥＣ１は、前述の通り、それぞれ、純水製造装置１Ａの各位置に配置され、各種機能を有する。
【０１５５】
第５構成機器１０５は、図８に示すように、ＥＤＩスタック１６と、直流電源装置５０と、第２流路切換弁Ｖ７２と、第３圧力センサＰＳ３と、第４圧力センサＰＳ４と、第１比抵抗センサＲＳ１と、第２流量センサＦＭ２と、を含んで構成される。ＥＤＩスタック１６、直流電源装置５０、第２流路切換弁Ｖ７２、第３圧力センサＰＳ３、第４圧力センサＰＳ４、第１比抵抗センサＲＳ１及び第２流量センサＦＭ２は、前述の通り、それぞれ、純水製造装置１Ａの各位置に配置され、各種機能を有する。
【０１５６】
また、純水製造装置１Ａは、第３構成機器１０３に対応する第３個別回路基板４１３（第３回路基板）と、第４構成機器１０４に対応する第４個別回路基板４１４（第４回路基板）と、第５構成機器１０５に対応する第５個別回路基板４１５（第５回路基板）と、統括回路基板４１０と、を備える。第３個別回路基板４１３は、統括回路基板４１０に電気的に接続されると共に、第３構成機器１０３に電気的に接続される。第４個別回路基板４１４は、統括回路基板４１０に電気的に接続されると共に、第４構成機器１０４に電気的に接続される。第５個別回路基板４１５は、中継部３１０を介して統括回路基板４１０に電気的に接続されると共に、第５構成機器１０５に電気的に接続される。本実施形態においては、第３個別回路基板４１３、第４個別回路基板４１４、第５個別回路基板４１５及び統括回路基板４１０は、ユニット化されており、制御ユニット４００を構成する。
【０１５７】
第３個別回路基板４１３には、第３個別制御部３０３が搭載される。第３個別制御部３０３は、第３構成機器１０３を個別に制御する。具体的には、第３個別制御部３０３は、前段インバータ９、供給水補給弁Ｖ３１、前段透過水補給弁Ｖ３５及び第１排水弁Ｖ３２〜第３排水弁Ｖ３４を制御する。第３個別制御部３０３には、圧力スイッチＰＳＷ、第１温度センサＴＥ１、第１圧力センサＰＳ１、第１流量センサＦＭ１、第４温度センサＴＥ４、第２電気伝導率センサＥＣ２及び水位センサ１１１により検出された検出信号が入力される。第３個別制御部３０３に入力されたこれらのセンサの検出信号は、第３個別制御部３０３から統括制御部３００に送信される。
【０１５８】
第４個別回路基板４１４には、第４個別制御部３０４が搭載される。第４個別制御部３０４は、第４構成機器１０４を個別に制御する。具体的には、第４個別制御部３０４は、後段インバータ１３、第１流路切換弁Ｖ７１、第１調整弁Ｖ３６及び第２調整弁Ｖ３７を制御する。第４個別制御部３０４には、第５温度センサＴＥ５、第５圧力センサＰＳ５、第３流量センサＦＭ３、第２温度センサＴＥ２及び第１電気伝導率センサＥＣ１により検出された検出信号が入力される。第４個別制御部３０４に入力されたこれらのセンサの検出信号は、第４個別制御部３０４から統括制御部３００に送信される。
【０１５９】
第５個別回路基板４１５には、第５個別制御部３０５が搭載される。第５個別制御部３０５は、第５構成機器１０５を個別に制御する。具体的には、第５個別制御部３０５は、直流電源装置５０及び第２流路切換弁Ｖ７２を制御する。第２個別制御部３０２には、第３圧力センサＰＳ３、第４圧力センサＰＳ４、第１比抵抗センサＲＳ１及び第２流量センサＦＭ２により検出された検出信号が入力される。第５個別制御部３０５に入力されたこれらのセンサの検出信号は、第５個別制御部３０５から中継部３１０を介して統括制御部３００に送信される。
【０１６０】
統括回路基板４１０には、統括制御部３００が搭載される。統括回路基板４１０には、第３個別回路基板４１３と、第４個別回路基板４１４と、第５個別回路基板４１５と、入力操作部４０と、脱炭酸装置１５とが、電気的に接続されている。
【０１６１】
統括制御部３００は、第３個別制御部３０３、第４個別制御部３０４、第５個別制御部３０５及び脱炭酸装置１５を制御可能である。統括制御部３００には、入力操作部４０（タッチパネル）により受け付けられた、第３個別制御部３０３、第４個別制御部３０４、第５個別制御部３０５及び脱炭酸装置１５の制御に関する設定情報が送信される。
【０１６２】
次に、第２実施形態の純水製造装置１Ａの制御部３０Ａについて説明する。
統括制御部３００Ａは、第３工程、第４工程及び第５工程を実行するように、第３個別制御部３０３、第４個別制御部３０４及び第５個別制御部を制御する。統括制御部３００Ａにより実行される第３工程とは、前段ＲＯ膜モジュール１０で分離された前段透過水Ｗ２を、前段ＲＯ透過水リターンラインＬ４３（第３循環水ライン）を介して前段ＲＯ膜モジュール１０の上流側へ返送する工程である。具体的には、第３工程においては、供給水補給弁Ｖ３１を開状態に制御すると共に前段透過水補給弁Ｖ３５を閉状態に制御して、前段加圧ポンプ８を駆動することにより、リリーフ弁Ｖ４３の一次側の圧力を高めて開弁させ、前段ＲＯ膜モジュール１０で分離された前段透過水Ｗ２を接続部Ｊ５１を介して供給水ラインＬ１へ返送する。詳細には、第３工程においては、統括制御部３００Ａは、第１流路切換弁Ｖ７１を循環側流路に切り換えるように、第４個別制御部３０４を制御する。そして、統括制御部３００Ａは、第３個別制御部３０３を制御して、前段加圧ポンプ８を駆動するように前段インバータ９を制御する。
【０１６３】
統括制御部３００Ａにより実行される第４工程とは、後段ＲＯ膜モジュール１４で分離された後段透過水Ｗ４を、後段ＲＯ透過水リターンラインＬ４４（第４循環水ライン）を介して前段ＲＯ膜モジュール１０と後段ＲＯ膜モジュール１４との間に設けられた中間タンク１１へ返送する工程である。具体的には、第４工程においては、第１流路切換弁Ｖ７１を循環側流路に切り換えて、後段加圧ポンプ１２を駆動することにより、後段ＲＯ膜モジュール１４で分離された後段透過水Ｗ４を中間タンク１１へ返送する。詳細には、第４工程においては、統括制御部３００Ａは、第１流路切換弁Ｖ７１を循環側流路に切り換えるように、第４個別制御部３０４を制御する。そして、統括制御部３００Ａは、第４個別制御部３０４を制御して、後段加圧ポンプ１２を駆動するように後段インバータ１３を制御する。
【０１６４】
統括制御部３００Ａにより実行される第５工程とは、ＥＤＩスタック１６で得られた脱塩水Ｗ６を、脱塩水リターンラインＬ４５（第５循環水ライン）を介して前段ＲＯ膜モジュール１０と後段ＲＯ膜モジュール１４との間に設けられた中間タンク１１へ返送する工程である。具体的には、第５工程においては、第１流路切換弁Ｖ７１を採水側流路に切り換えると共に、第２流路切換弁Ｖ７２を循環側流路に切り換えて、後段加圧ポンプ１２を駆動することにより、ＥＤＩスタック１６で得られた脱塩水Ｗ６を中間タンク１１へ返送する。詳細には、第５工程においては、統括制御部３００Ａは、第１流路切換弁Ｖ７１を採水側流路に切り換えるように第４個別制御部３０４を制御すると共に、第２流路切換弁Ｖ７２を循環側流路に切り換えるように第５個別制御部３０５を制御する。そして、統括制御部３００Ａは、第４個別制御部３０４を制御して、後段加圧ポンプ１２を駆動するように後段インバータ１３を制御する。
【０１６５】
統括制御部３００Ａは、装置の起動時において、第３工程及び第４工程を実行し、第３工程及び第４工程の実行後に、第５工程を実行した後に、需要箇所への脱塩水Ｗ６の供給（採水）を開始するように、第２流路切換弁Ｖ７２を採水側流路に切り換えるように、第５個別制御部３０５を制御する。具体的には、統括制御部３００Ａは、第３工程の実行を開始してから所定時間経過後に第４工程を実行するように制御し、第４工程の実行中において、後段ＲＯ透過水ラインＬ２３を流通する後段透過水Ｗ４の電気伝導率（電気的特性値）が所定の第２伝導率閾値（第２ＥＣ閾値）を下回る場合（第３範囲内である場合）に、第５工程を実行するように制御する。また、制御部３０Ａは、第５工程の実行中において、脱塩水ラインＬ３を流通する脱塩水Ｗ６の比抵抗（電気的特性値）が所定の第２比抵抗閾値を上回る場合（第４範囲内である場合）に需要箇所への脱塩水Ｗ６の供給を開始するように、第２流路切換弁Ｖ７２を採水側流路に切り換えるように、第５個別制御部３０５を制御する。なお、統括制御部３００Ａは、第３工程と第４工程とを同期させて実行することもできる。
【０１６６】
所定の第２伝導率閾値としては、例えば、劣化や閉塞のないＲＯ膜モジュールを用いて標準的な水質の原水を所定の運転条件（運転圧力，回収率，水温等）で逆浸透膜処理したときに得られる透過水の電気伝導率値が設定される。また、所定の第２比抵抗閾値としては、例えば、劣化及び閉塞のない電気脱イオンスタックを用いて標準的な水質の透過水を所定の運転条件（電流値，流量，水温等）で脱塩処理したときに得られる脱塩水の比抵抗値が設定される。
【０１６７】
次に、第２実施形態に係る純水製造装置１Ａの動作について説明する。図９は、第２実施形態における純水製造装置１Ａの処理手順を示すフローチャートであって、第１実施形態における図４に対応するフローチャートである。第２実施形態の純水製造装置１Ａは、第１実施形態におけるステップＳＴ１３１〜ステップＳＴ１３３の動作に代えて、ステップＳＴ１４１〜ステップＳＴ１４５の動作を実行する。そのため、第２実施形態においては、第１実施形態におけるステップＳＴ１３１〜ステップＳＴ１３３の動作に代えて、ステップＳＴ１４１〜ステップＳＴ１４５の動作を説明する。その他の動作については、第１実施形態の説明が適宜に適用される。
【０１６８】
図９に示すステップＳＴ１２０において待機状態中に需要箇所からの送水要求を受けると、ステップＳＴ１４１において、装置を起動させて第３工程の実行を開始する。具体的には、統括制御部３００Ａは、供給水補給弁Ｖ３１を開状態にするように第３個別制御部３０３を制御すると共に、前段透過水補給弁Ｖ３５を閉状態にするように第３個別制御部３０３を制御する。この状態で、統括制御部３００Ａは、第３個別制御部を制御して、前段加圧ポンプ８を駆動するように前段インバータ９を制御することにより、リリーフ弁Ｖ４３の一次側の圧力を高めて開弁させ、前段ＲＯ膜モジュール１０で分離された前段透過水Ｗ２を接続部Ｊ５１を介して供給水ラインＬ１へ返送する。
【０１６９】
ステップＳＴ１４２において、統括制御部３００Ａは、第３工程の実行を開始してから所定時間（例えば、６０秒）経過したか否かを判定する。第３工程の実行を開始してから所定時間経過したと判定された場合（ＹＥＳ）には、処理は、ステップＳＴ１４３に進む。第３工程の実行を開始してから所定時間経過していないと判定された場合（ＮＯ）には、処理は、ステップＳＴ１４２に戻り、第３工程を継続する。
【０１７０】
ステップＳＴ１４３において、統括制御部３００Ａは、第４工程の実行を開始するように、第４個別制御部３０４を制御する。具体的には、統括制御部３００Ａは、後段透過水Ｗ４を中間タンク１１に返送するため、第１流路切換弁Ｖ７１を循環側流路に切り換えるように、第４個別制御部３０４を制御する。この状態で、統括制御部３００Ａは、第４個別制御部３０４を制御して、後段加圧ポンプ１２を駆動するように後段インバータ１３を制御する。これにより、後段ＲＯ膜モジュール１４で分離された後段透過水Ｗ４を、後段ＲＯ透過水リターンラインＬ４４を介して、中間タンク１１に返送する。
【０１７１】
ステップＳＴ１４４において、統括制御部３００Ａは、第４工程の実行中に、後段ＲＯ透過水ラインＬ２３を流通する後段透過水Ｗ４の電気伝導率が所定の第２伝導率閾値（第２ＥＣ閾値；例えば、１μＳ／ｃｍ）を下回るか否かを判定する。第４工程の実行中に後段ＲＯ透過水ラインＬ２３を流通する後段透過水Ｗ４の電気伝導率が所定の第２伝導率閾値を下回ると判定された場合（ＹＥＳ）には、処理は、ステップＳＴ１４５に進む。第４工程の実行中に後段ＲＯ透過水ラインＬ２３を流通する後段透過水Ｗ４の電気伝導率が所定の第２伝導率閾値を上回ると判定された場合（ＮＯ）には、処理は、ステップＳＴ１４４に戻り、第４工程を継続する。
【０１７２】
ステップＳＴ１４５において、統括制御部３００Ａは、第５工程の実行を開始するように、第５個別制御部３０５を制御する。具体的には、統括制御部３００Ａは、後段透過水Ｗ４をＥＤＩスタック１６へ供給するため、第１流路切換弁Ｖ７１を採水側流路に切り換えるように、第４個別制御部３０４を制御する。同時に、統括制御部３００Ａは、脱塩水Ｗ６を中間タンク１１に返送するため、第２流路切換弁Ｖ７２を循環側流路に切り換えるように、第５個別制御部３０５を制御する。この状態で、統括制御部３００Ａは、第５個別制御部３０５を制御して、後段加圧ポンプ１２を駆動するように後段インバータ１３を制御する。これにより、ＥＤＩスタック１６で得られた脱塩水Ｗ６を、脱塩水リターンラインＬ４５を介して、中間タンク１１に返送する。ステップＳＴ１４５の後に、処理は、図５におけるステップＳＴ２１０に進む。
【０１７３】
なお、図５のステップＳＴ２３０において、「脱塩水比抵抗値＞第１比抵抗閾値」とある箇所は、「脱塩水比抵抗値＞第２比抵抗閾値」と読み替えるものとする。すなわち、ステップＳＴ２３０において、制御部３０Ａは、第５工程の実行中に、脱塩水ラインＬ３を流通する脱塩水Ｗ６の比抵抗が所定の第２比抵抗閾値（例えば、１ＭΩ・ｃｍ）を上回るか否かを判定する。第５工程の実行中に脱塩水ラインＬ３を流通する脱塩水Ｗ６の比抵抗が所定の第２比抵抗閾値を上回ると判定された場合（ＹＥＳ）には、処理は、ステップＳＴ２４０に進む。第５工程の実行中に脱塩水ラインＬ３を流通する脱塩水Ｗ６の比抵抗が所定の第２比抵抗閾値を下回ると判定された場合（ＮＯ）には、処理は、ステップＳＴ２４０に戻り、第５工程を継続する。
【０１７４】
以上のように、装置の起動時において、第３工程、第４工程及び第５工程を実行することにより、水質の悪い前段透過水Ｗ２を前段ＲＯ膜モジュール１０の上流側に返送することができると共に、水質の悪い後段透過水Ｗ４及び脱塩水Ｗ６を前段ＲＯ膜モジュール１０と後段ＲＯ膜モジュール１４との間に返送することができる。
【０１７５】
上述した第２実施形態に係る純水製造装置１Ａによれば、例えば、以下のような効果が奏される。
【０１７６】
本実施形態に係る純水製造装置１Ａは、供給水から純水を製造するための複数の構成機器１０１，１０２と、複数の構成機器１０３，１０４，１０５それぞれに対応する個別回路基板４１３，４１４，４１５であって、複数の構成機器１０３，１０４，１０５それぞれを個別に制御する複数の個別制御部３０３，３０４，３０５が搭載された複数の個別回路基板４１３，４１４，４１５と、複数の個別回路基板４１３，４１４，４１５が電気的に接続される統括回路基板４１０であって、複数の個別制御部３０３，３０４，３０５を制御可能な統括制御部３００Ａが搭載された統括回路基板４１０と、を備える。具体的には、複数の構成機器１０３，１０４，１０５は、前段ＲＯ膜モジュール１０を含んで構成される第３構成機器１０３と、後段ＲＯ膜モジュール１４を含んで構成される第４構成機器１０４と、ＥＤＩスタック１６を含んで構成される第５構成機器１０５と、を有して構成される。複数の個別回路基板４１３，４１４，４１５は、第３構成機器１０３を制御する第３個別制御部３０３が搭載された第３個別回路基板４１３と、第４構成機器１０４を制御する第４個別制御部３０４が搭載された第４個別回路基板４１４と、第５構成機器１０５を制御する第５個別制御部３０５が搭載された第５個別回路基板４１５と、を有して構成される。そのため、第２実施形態に係る純水製造装置１Ａは、第１実施形態に係る純水製造装置１と同様の効果を奏する。
【０１７７】
以上、本発明の好ましい実施形態について説明した。しかし、本発明は、上述した実施形態に限定されることなく、種々の形態で実施することができる。
例えば、前記第１及び第２実施形態において、脱イオン部の構成として、ＥＤＩスタック（電気脱イオンスタック）１６の代わりに、非再生型の混床式イオン交換塔を設けてもよい。この場合には、前段のＲＯ膜モジュールで分離された透過水をイオン交換樹脂床により脱イオン処理して脱イオン水を得ることができる。また、装置の運転開始直後において、水質が回復された脱イオン水を需要箇所へ供給することができる。また、イオン交換塔を用いることにより、透過水から脱イオン水を得るための処理に掛かる電力をほぼゼロにすることができる。
【０１７８】
また、前記実施形態においては、各種センサは、対応する第１構成機器１０１〜第５構成機器１０５に備えられ、対応する第１個別回路基板４１１〜第５個別回路基板４１５に接続されているが、これに制限されない。各種センサは、統括回路基板４１０に直接的に又は間接的に接続されていればよい。これにより、各種センサで検出された検出信号の情報を共有化して、この各種センサの検出信号に基づいて、統括制御部３００，３００Ａは、各構成機器を制御することができる。
【０１７９】
また、前記第１実施形態においては、第１電気的特性検出手段を、透過水ラインＬ２１を流通する透過水Ｗ２の電気伝導率を測定する第１電気伝導率測定手段とし、第２電気的特性検出手段を、脱塩水ラインＬ３を流通する脱塩水Ｗ６の比抵抗を測定する第１比抵抗検出手段とした。しかし、これに制限されない。例えば、前記第１実施形態において、第１電気的特性検出手段及び第２電気特性検出手段の両方について電気伝導率を測定する電気伝導率測定手段としてもよいし、第１電気的特性検出手段及び第２電気特性検出手段の両方について比抵抗を測定する比抵抗検出手段としてもよいし、第１電気的特性検出手段を比抵抗検出手段とすると共に第２電気的特性検出手段を電気伝導率測定手段としてもよい。
【０１８０】
また、前記第２実施形態においては、第３電気的特性検出手段を、後段ＲＯ透過水ラインＬ２３を流通する後段透過水Ｗ４の電気伝導率を測定する第２電気伝導率測定手段とし、第４電気的特性検出手段を、脱塩水ラインＬ３を流通する脱塩水Ｗ６の比抵抗を測定する第２比抵抗検出手段とした。しかし、これに制限されず、前述と同様に、第３電気的特性検出手段及び第４電気的特性検出手段を、電気伝導率測定手段及び比抵抗検出手段のいかなる組み合わせとしてもよい。
【０１８１】
また、前記第２実施形態においては、制御部３０Ａは、装置の起動時おいて、第３工程、第４工程、第５工程を順に実行するように制御しているが、これに制限されない。例えば、制御部３０Ａは、第３工程と第４工程とを同期させて実行することもできる。この場合には、採水開始までの時間を短縮することができる。
【０１８２】
また、第１及び第２実施形態では、第１排水弁Ｖ３２〜第３排水弁Ｖ３４の開放数を選択することにより、濃縮水Ｗ３の排水流量を段階的に調節する例について説明した。これに限らず、例えば、ＲＯ濃縮水排出ラインＬ６１を分岐させずに、当該ＲＯ濃縮水排出ラインＬ６１に比例制御弁を設けた構成としてもよい。この場合、制御部（３０、３０Ａ）から電流値信号を比例制御弁に送信して弁開度を制御することにより、濃縮水Ｗ３の排水流量を調節することができる。
【０１８３】
また、ＲＯ濃縮水排出ラインＬ６１に比例制御弁を設けた構成において、ＲＯ濃縮水排出ラインＬ６１に流量センサを設けた構成としてもよい。この場合は、流量センサで測定された流量値を、制御部（３０，３０Ａ）にフィードバック値として入力することにより、濃縮水Ｗ３の実際の排水流量をより正確に制御することができる。
【０１８４】
第１及び第２実施形態においては、原水Ｗ１１中に含まれる硬度成分を除去した軟水Ｗ１２を供給水Ｗ１とする例について説明した。これに限らず、原水Ｗ１１を除鉄除マンガン装置、砂濾過装置、精密濾過膜装置、限外濾過膜装置等により前処理した水を供給水Ｗ１としてもよい。なお、原水Ｗ１１としては、例えば、地下水や水道水等を用いることができる。
【符号の説明】
【０１８５】
１，１Ａ  純水製造装置
７  ＲＯ膜モジュール（第１逆浸透膜モジュール）
１０  前段ＲＯ膜モジュール（第２逆浸透膜モジュール）
１４  後段ＲＯ膜モジュール（第３逆浸透膜モジュール）
１６  ＥＤＩスタック（電気脱イオンスタック、脱イオン部）
１０１  第１構成機器（構成機器）
１０２  第２構成機器（構成機器）
１０３  第３構成機器（構成機器）
１０４  第４構成機器（構成機器）
１０５  第５構成機器（構成機器）
３００，３００Ａ  統括制御部
３０１  第１個別制御部（個別制御部）
３０２  第２個別制御部（個別制御部）
３０３  第３個別制御部（個別制御部）
３０４  第４個別制御部（個別制御部）
３０５  第５個別制御部（個別制御部）
４１０  統括回路基板
４１１  第１個別回路基板（第１回路基板、個別回路基板）
４１２  第２個別回路基板（第２回路基板、個別回路基板）
４１３  第３個別回路基板（第３回路基板、個別回路基板）
４１４  第４個別回路基板（第４回路基板、個別回路基板）
４１５  第５個別回路基板（第５回路基板、個別回路基板）
Ｗ１  供給水
Ｗ２  透過水、前段透過水（第１透過水、第２透過水）
Ｗ４  後段透過水（第３透過水）
Ｗ６  脱塩水（脱イオン水）
【図１】
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【図２Ａ】
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【図２Ｂ】
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【図２Ｃ】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７Ａ】
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【図７Ｂ】
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【図７Ｃ】
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【図８】
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【図９】
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