(57)【要約】【課題】  半導体素子と被着体との熱応答挙動の差を緩和することで部材の材質の利用可能性を確保しつつ、接続信頼性の高い半導体装置を製造可能な熱硬化性樹脂組成物及びこれを用いる半導体装置の製造方法を提供すること。【解決手段】  本発明は、エポキシ樹脂と、水酸基当量が２００ｇ／ｅｑ以上であるノボラック型フェノール樹脂とを含む半導体装置製造用の熱硬化性樹脂組成物である。前記ノボラック型フェノール樹脂は下記構造式で表わされる構造を含むことが好ましい。 2014210880.tif 000007【選択図】  図２Ｆ
2014210880.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
エポキシ樹脂と、
水酸基当量が２００ｇ／ｅｑ以上であるノボラック型フェノール樹脂と
を含む半導体装置製造用の熱硬化性樹脂組成物。
【請求項２】
半導体素子封止用である請求項１に記載の熱硬化性樹脂組成物。
【請求項３】
前記ノボラック型フェノール樹脂が下記構造式で表わされる構造を含む請求項１又は２に記載の熱硬化性樹脂組成物。
【化１】
2014210880.tif 000006
（式中、ｎは０〜１２の整数である。）
【請求項４】
平均粒径が１０ｎｍ以上１０００ｎｍ以下の無機充填剤を含む請求項１〜３のいずれか１項に記載の熱硬化性樹脂組成物。
【請求項５】
１７５℃で１時間熱処理した後の熱膨張係数αが１０ｐｐｍ／Ｋ以上２００ｐｐｍ／Ｋ以下である請求項１〜４のいずれか１項に記載の熱硬化性樹脂組成物。
【請求項６】
１７５℃で１時間熱処理した後の貯蔵弾性率Ｅ’が１００ＭＰａ以上１００００ＭＰａ以下である請求項１〜５のいずれか１項に記載の熱硬化性樹脂組成物。
【請求項７】
シート状である請求項１〜６のいずれか１項に記載の熱硬化性樹脂組成物。
【請求項８】
半導体素子を被着体に請求項１〜７のいずれか１項に記載の熱硬化性樹脂組成物を介して固定する固定工程、及び
前記熱硬化性樹脂組成物を硬化させる硬化工程
を含む半導体装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、熱硬化性樹脂組成物及び半導体装置の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
電子機器の小型・薄型化による高密度実装の要求が、近年、急激に増加している。このため、半導体パッケージは、従来のピン挿入型に代わり、高密度実装に適した表面実装型が主流になっている。この表面実装型は、リードをプリント基板等に直接はんだ付けする。加熱方法としては、赤外線リフローやベーパーフェーズリフロー、はんだディップなどにより、パッケージ全体を加熱して実装される。
【０００３】
表面実装後には、半導体素子表面の保護や半導体素子と基板との間の接続信頼性を確保するために、半導体素子と基板との間の空間へのアンダーフィル材の充填が行われている。このようなアンダーフィル材としては、配置の容易性や充填度合いの調節の容易性を考慮し、液状のものに代えてシート状のアンダーフィル材を用いて半導体素子と基板との間の空間を充填する技術が提案されている（特許文献１）。
【０００４】
一般的に、シート状のアンダーフィル材を用いるプロセスとしては、シート状のアンダーフィル材を半導体素子に貼り付けた後、基板等の被着体に半導体素子を接続して実装しながら半導体素子と一体となっているシート状のアンダーフィル材にて基板等の被着体と半導体素子の間の空間を充填するという手順が採用されている。このプロセスでは被着体と半導体素子との間の空間の充填が容易となる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特許第４４３８９７３号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
ところで、半導体装置の小型化・薄型化には半導体素子の厚さを薄くすればよいものの、半導体素子の薄型化が進むにつれて、半導体素子に対する被着体の熱応答挙動の影響（反りや膨張等）が大きくなってくる。これは一般的に基板等の被着体の熱膨張係数の方が半導体素子の値よりも大きいことに起因する。特に、半導体素子と被着体とを接続するはんだバンプ等の接続部材には半導体素子及び被着体の熱応答挙動の相違に起因する応力が集中しやすく、場合によっては接合部に破断が生じることがある。これに対し、半導体素子と被着体との熱応答性挙動を整合させるように両者の材質等を選択することも可能であるが、選択できる材質の幅が制限されてしまう。
【０００７】
本発明は、半導体素子と被着体との熱応答挙動の差を緩和することで部材の材質の利用可能性を確保しつつ、接続信頼性の高い半導体装置を製造可能な熱硬化性樹脂組成物及びこれを用いる半導体装置の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本願発明者らは鋭意検討したところ、下記構成を採用することにより前記目的を達成できることを見出して、本発明を完成させるに至った。
【０００９】
本発明は、エポキシ樹脂と、
水酸基当量が２００ｇ／ｅｑ以上であるノボラック型フェノール樹脂と
を含む半導体装置製造用の熱硬化性樹脂組成物である。
【００１０】
当該熱硬化性樹脂組成物はエポキシ樹脂とともに、水酸基当量が２００ｇ／ｅｑ以上であるノボラック型フェノール樹脂（以下、「特定フェノール樹脂」ともいう。）を含むので、熱硬化後の硬化物（以下、単に「硬化物」ともいう。）における剛性を確保しつつ、両樹脂間の過度の架橋を抑制して適度な柔軟性を発揮することができる。これにより、半導体素子と被着体との熱応答挙動の差を緩和することができ、接合部の破断が抑制された接続信頼性の高い半導体装置を得ることができる。また、当該熱硬化性樹脂組成物を用いることにより半導体素子と被着体との熱応答挙動の差の緩和が可能となるので、半導体素子や被着体の材質に選択の幅を与えることができる。
【００１１】
当該熱硬化性樹脂組成物は、半導体素子封止用として好適である。
【００１２】
当該熱硬化性樹脂組成物では、前記ノボラック型フェノール樹脂が下記構造式で表わされる構造を含むことが好ましい。
【化１】
2014210880.tif 000003
（式中、ｎは０〜１２の整数である。）
【００１３】
上記特定構造を有するノボラック型フェノール樹脂を用いることで、硬化物における剛性と柔軟性とのバランスをより高度なレベルで達成することができ、半導体装置の信頼性をより向上させることができる。
【００１４】
当該熱硬化性樹脂組成物は、平均粒径が１０ｎｍ以上１０００ｎｍ以下の無機充填剤を含むことが好ましい。当該熱硬化性樹脂組成物が無機充填剤を含有することにより、硬化物の熱膨張率を低減させることができ、硬化物自体に起因する熱応答挙動の影響を抑制して、半導体装置の信頼性をより高めることができる。また、無機充填剤の平均粒径を上記範囲とすることにより、当該熱硬化性樹脂組成物において良好な透明性が得られ、その結果、ウェハのダイシング位置や半導体素子の被着体への実装位置のアライメントを容易に行うことができる。
【００１５】
当該熱硬化性樹脂組成物の１７５℃で１時間熱処理した後の熱膨張係数αは１０ｐｐｍ／Ｋ以上２００ｐｐｍ／Ｋ以下であることが好ましい。硬化物の熱膨張係数αを上記範囲とすることにより、硬化物自体に起因する熱応答挙動を抑制することができ、その結果、半導体装置の信頼性をより向上させることができる。
【００１６】
当該熱硬化性樹脂組成物の１７５℃で１時間熱処理した後の貯蔵弾性率Ｅ’は１００ＭＰａ以上１００００ＭＰａ以下であることが好ましい。これにより、硬化物において適度な剛性が得られ、熱応答挙動の差の吸収ないし分散を促進して半導体装置の信頼性をより向上させることができる。
【００１７】
当該熱硬化性樹脂組成物はシート状であることが好ましい。これにより、取り扱い性が良好になるとともに、半導体素子と被着体との間の空間への配置が容易となって、半導体装置の製造効率を向上させることができる。
【００１８】
本発明には、半導体素子を被着体に当該熱硬化性樹脂組成物を介して固定する固定工程、及び
前記熱硬化性樹脂組成物を硬化させる硬化工程
を含む半導体装置の製造方法も含まれる。
【００１９】
当該熱硬化性樹脂組成物を用いて半導体装置を製造することにより、半導体素子、当該熱硬化性樹脂組成物の硬化物、被着体の三者間の熱応答挙動の差を緩和することができ、優れた信頼性の半導体装置を効率良く製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２０】
【図１】本発明の一実施形態に係る熱硬化性樹脂組成物を有する封止シートを示す断面模式図である。
【図２Ａ】本発明の一実施形態に係る半導体装置の製造工程の一工程を示す断面模式図である。
【図２Ｂ】本発明の一実施形態に係る半導体装置の製造工程の一工程を示す断面模式図である。
【図２Ｃ】本発明の一実施形態に係る半導体装置の製造工程の一工程を示す断面模式図である。
【図２Ｄ】本発明の一実施形態に係る半導体装置の製造工程の一工程を示す断面模式図である。
【図２Ｅ】本発明の一実施形態に係る半導体装置の製造工程の一工程を示す断面模式図である。
【図２Ｆ】本発明の一実施形態に係る半導体装置の製造工程の一工程を示す断面模式図である。
【図３Ａ】本発明の他の実施形態に係る半導体装置の製造工程の一工程を示す断面模式図である。
【図３Ｂ】本発明の他の実施形態に係る半導体装置の製造工程の一工程を示す断面模式図である。
【図３Ｃ】本発明の他の実施形態に係る半導体装置の製造工程の一工程を示す断面模式図である。
【図３Ｄ】本発明の他の実施形態に係る半導体装置の製造工程の一工程を示す断面模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００２１】
以下、本発明の一実施形態について、シート状の熱硬化性樹脂組成物と裏面研削用テープとが一体となった封止シート及びこれを用いる半導体装置の製造方法を例に説明する。以下の説明は基本的に熱硬化性樹脂組成物単独の場合にも適用することができる。
【００２２】
＜封止シート＞
図１に示すように、封止シート１０は、裏面研削用テープ１と、裏面研削用テープ１上に積層されたシート状の熱硬化性樹脂組成物２とを備えている。なお、熱硬化性樹脂組成物２は、図１に示すように裏面研削用テープ１の全面に積層されていなくてもよく、半導体ウェハ３（図２Ａ参照）との貼り合わせに十分なサイズで設けられていればよい。
【００２３】
［熱硬化性樹脂組成物］
本実施形態における熱硬化性樹脂組成物２はシート状であり、表面実装（例えばフリップチップ実装等）された半導体素子と被着体との間の空間を充填する封止用フィルム、あるいは半導体素子を被着体に固定するための接着フィルムとして好適に用いることができる。
【００２４】
熱硬化性樹脂組成物２は、エポキシ樹脂と、水酸基当量が２００ｇ／ｅｑ以上であるノボラック型フェノール樹脂とを含み、必要に応じて熱硬化促進触媒、フラックス剤、架橋剤、無機充填剤等を含んでいてもよい。
【００２５】
（エポキシ樹脂）
エポキシ樹脂は、熱硬化性樹脂として一般に用いられるものであれば特に限定は無く、例えばビスフェノールＡ型、ビスフェノールＦ型、ビスフェノールＳ型、臭素化ビスフェノールＡ型、水添ビスフェノールＡ型、ビスフェノールＡＦ型、ビフェニル型、ナフタレン型、フルオンレン型、フェノールノボラック型、オルソクレゾールノボラック型、トリスヒドロキシフェニルメタン型、テトラフェニロールエタン型等の二官能エポキシ樹脂や多官能エポキシ樹脂、又はヒダントイン型、トリスグリシジルイソシアヌレート型若しくはグリシジルアミン型等のエポキシ樹脂が用いられる。これらは単独で、又は２種以上を併用して用いることができる。これらのエポキシ樹脂のうちノボラック型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、トリスヒドロキシフェニルメタン型樹脂又はテトラフェニロールエタン型エポキシ樹脂が特に好ましい。これらのエポキシ樹脂は、硬化剤としてのフェノール樹脂との反応性に富み、耐熱性等に優れるからである。
【００２６】
（水酸基当量が２００ｇ／ｅｑ以上であるノボラック型フェノール樹脂）
熱硬化性樹脂組成物２に含まれるノボラック型フェノール樹脂は、エポキシ樹脂の硬化剤として作用するものであり、その水酸基当量が２００ｇ／ｅｑ以上であれば特に限定されない。このような水酸基当量を有するノボラック型フェノール樹脂は、フェノール類と、このフェノール類との縮合反応し得る適度な分子鎖長を有する化合物（例えば、アルデヒド類、ビス（アルコキシメチル）ビフェニル類等）とを常法に従って反応させることにより得られる。また、市販の水酸基当量が２００ｇ／ｅｑ以上であるノボラック型フェノール樹脂も好適に用いることができ、例えば新日鉄化学製「ＳＮ−４９５」や明和化成製「ＭＥＨ−７８５１Ｈ」等が挙げられる。なお、水酸基当量の上限は特に限定されないものの、熱硬化性樹脂組成物の硬化性やその硬化物の剛性等を考慮すると、２５０ｇ／ｅｑ以下が好ましい。
【００２７】
中でも、ノボラック型フェノール樹脂が下記構造式で表わされる構造を含むことが好ましい。
【化２】
2014210880.tif 000004
（式中、ｎは０〜１２の整数である。）
【００２８】
上記特定構造を有するノボラック型フェノール樹脂を用いることで、硬化物における剛性と柔軟性とのバランスをより高度なレベルで達成することができ、半導体装置の信頼性をより向上させることができる。なお、上記式中のｎは０〜１２の整数であればよいが、０〜８の整数であることが好ましい。
【００２９】
（その他の樹脂）
熱硬化性樹脂組成物２は、上記エポキシ樹脂及び特定フェノール樹脂に加え、これら以外の熱硬化性樹脂や熱可塑性樹脂を含むことができる。
【００３０】
（他の熱硬化性樹脂）
他の熱硬化性樹脂としては、アミノ樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、シリコーン樹脂、又は熱硬化性ポリイミド樹脂等が挙げられる。これらの樹脂は、単独で又は２種以上を併用して用いることができる。
【００３１】
上記特定のノボラック型フェノール樹脂の他、フェノール樹脂として、本発明の効果を損ねない限り、フェノールアラルキル樹脂、クレゾールノボラック樹脂、ｔｅｒｔ−ブチルフェノールノボラック樹脂、ノニルフェノールノボラック樹脂等のノボラック型フェノール樹脂、レゾール型フェノール樹脂、ポリパラオキシスチレン等のポリオキシスチレン等のフェノール樹脂の１種又は２種以上を併用することができる。
【００３２】
前記エポキシ樹脂と前記特定フェノール樹脂の配合割合は、例えば、前記エポキシ樹脂成分中のエポキシ基１当量当たり特定フェノール樹脂中の水酸基が０．５〜２．０当量になるように配合することが好適である。より好適なのは、０．８〜１．２当量である。すなわち、両者の配合割合が前記範囲を外れると、十分な硬化反応が進まず、当該熱硬化性樹脂組成物の硬化物の特性が劣化し易くなるからである。
【００３３】
（熱可塑性樹脂）
前記熱可塑性樹脂としては、天然ゴム、ブチルゴム、イソプレンゴム、クロロプレンゴム、エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−アクリル酸共重合体、エチレン−アクリル酸エステル共重合体、ポリブタジエン樹脂、ポリカーボネート樹脂、熱可塑性ポリイミド樹脂、６−ナイロンや６，６−ナイロン等のポリアミド樹脂、フェノキシ樹脂、アクリル樹脂、ＰＥＴやＰＢＴ等の飽和ポリエステル樹脂、ポリアミドイミド樹脂、又はフッ素樹脂等が挙げられる。これらの熱可塑性樹脂は単独で、又は２種以上を併用して用いることができる。これらの熱可塑性樹脂のうち、イオン性不純物が少なく耐熱性が高く、半導体素子の信頼性を確保できるアクリル樹脂が特に好ましい。
【００３４】
前記アクリル樹脂としては、特に限定されるものではなく、炭素数３０以下、特に炭素数４〜１８の直鎖若しくは分岐のアルキル基を有するアクリル酸又はメタクリル酸のエステルの１種又は２種以上を成分とする重合体等が挙げられる。前記アルキル基としては、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｔ−ブチル基、イソブチル基、アミル基、イソアミル基、へキシル基、へプチル基、シクロヘキシル基、２−エチルヘキシル基、オクチル基、イソオクチル基、ノニル基、イソノニル基、デシル基、イソデシル基、ウンデシル基、ラウリル基、トリデシル基、テトラデシル基、ステアリル基、オクタデシル基、又はドデシル基等が挙げられる。
【００３５】
また、前記重合体を形成する他のモノマーとしては、特に限定されるものではなく、例えばアクリロニトリルのようなシアノ基含有モノマー、アクリル酸、メタクリル酸、カルボキシエチルアクリレート、カルボキシペンチルアクリレート、イタコン酸、マレイン酸、フマール酸若しくはクロトン酸等の様なカルボキシル基含有モノマー、無水マレイン酸若しくは無水イタコン酸等の様な酸無水物モノマー、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシエチル、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシプロピル、（メタ）アクリル酸４−ヒドロキシブチル、（メタ）アクリル酸６−ヒドロキシヘキシル、（メタ）アクリル酸８−ヒドロキシオクチル、（メタ）アクリル酸１０−ヒドロキシデシル、（メタ）アクリル酸１２−ヒドロキシラウリル若しくは（４−ヒドロキシメチルシクロヘキシル）−メチルアクリレート等の様なヒドロキシル基含有モノマー、スチレンスルホン酸、アリルスルホン酸、２−（メタ）アクリルアミド−２−メチルプロパンスルホン酸、（メタ）アクリルアミドプロパンスルホン酸、スルホプロピル（メタ）アクリレート若しくは（メタ）アクリロイルオキシナフタレンスルホン酸等の様なスルホン酸基含有モノマー、又は２−ヒドロキシエチルアクリロイルホスフェート等の様な燐酸基含有モノマーが挙げられる。
【００３６】
なお、本実施形態においては、エポキシ樹脂、特定フェノール樹脂及びアクリル樹脂を用いた熱硬化性樹脂組成物が特に好ましい。これらの樹脂は、イオン性不純物が少なく耐熱性が高いので、半導体素子の信頼性を確保できる。この場合の配合比は、アクリル樹脂成分１００重量部に対して、エポキシ樹脂と特定フェノール樹脂の混合量が１０〜２００重量部である。
【００３７】
（熱硬化促進触媒）
エポキシ樹脂と特定フェノール樹脂の熱硬化促進触媒としては、特に制限されず、公知の熱硬化促進触媒の中から適宜選択して用いることができる。熱硬化促進触媒は単独で又は２種以上を組み合わせて用いることができる。熱硬化促進触媒としては、例えば、アミン系硬化促進剤、リン系硬化促進剤、イミダゾール系硬化促進剤、ホウ素系硬化促進剤、リン−ホウ素系硬化促進剤などを用いることができる。熱硬化促進触媒の添加量は、エポキシ樹脂と特定フェノール樹脂との合計１００重量部に対し、０．１〜５重量部が好ましい。
【００３８】
（フラックス剤）
熱硬化性樹脂組成物２には、はんだバンプの表面の酸化膜を除去して半導体素子の実装を容易にするために、フラックス剤を添加してもよい。フラックス剤としては特に限定されず、従来公知のフラックス作用を有する化合物を用いることができ、例えば、ジフェノール酸、アジピン酸、アセチルサリチル酸、安息香酸、ベンジル酸、アゼライン酸、ベンジル安息香酸、マロン酸、２，２−ビス（ヒドロキシメチル）プロピオン酸、サリチル酸、ｏ−メトキシ安息香酸、ｍ−ヒドロキシ安息香酸、コハク酸、２，６−ジメトキシメチルパラクレゾール、安息香酸ヒドラジド、カルボヒドラジド、マロン酸ジヒドラジド、コハク酸ジヒドラジド、グルタル酸ジヒドラジド、サリチル酸ヒドラジド、イミノジ酢酸ジヒドラジド、イタコン酸ジヒドラジド、クエン酸トリヒドラジド、チオカルボヒドラジド、ベンゾフェノンヒドラゾン、４，４’−オキシビスベンゼンスルホニルヒドラジド及びアジピン酸ジヒドラジド等が挙げられる。フラックス剤の添加量は上記フラックス作用が発揮される程度であればよく、通常、熱硬化性樹脂組成物に含まれる樹脂成分１００重量部に対して０．１〜２０重量部程度である。
【００３９】
（架橋剤）
本実施形態の熱硬化性樹脂組成物２を予めある程度架橋をさせておく場合には、作製に際し、重合体の分子鎖末端の官能基等と反応する多官能性化合物を架橋剤として添加させておくのがよい。これにより、高温下での接着特性を向上させ、耐熱性の改善を図ることができる。
【００４０】
前記架橋剤としては、特に、トリレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、ｐ−フェニレンジイソシアネート、１，５−ナフタレンジイソシアネート、多価アルコールとジイソシアネートの付加物等のポリイソシアネート化合物がより好ましい。架橋剤の添加量としては、前記の重合体１００重量部に対し、通常０．０５〜７重量部とするのが好ましい。架橋剤の量が７重量部より多いと、接着力が低下するので好ましくない。その一方、０．０５重量部より少ないと、凝集力が不足するので好ましくない。また、この様なポリイソシアネート化合物と共に、必要に応じて、エポキシ樹脂等の他の多官能性化合物を一緒に含ませるようにしてもよい。
【００４１】
（無機充填剤）
また、熱硬化性樹脂組成物２には、無機充填剤を適宜配合することができる。無機充填剤の配合は、導電性の付与や熱伝導性の向上、貯蔵弾性率の調節等を可能にする。
【００４２】
前記無機充填剤としては、例えば、シリカ、クレー、石膏、炭酸カルシウム、硫酸バリウム、酸化アルミナ、酸化ベリリウム、炭化珪素、窒化珪素等のセラミック類、アルミニウム、銅、銀、金、ニッケル、クロム、鉛、錫、亜鉛、パラジウム、はんだ等の金属、又は合金類、その他カーボン等からなる種々の無機粉末が挙げられる。これらは、単独で又は２種以上を併用して用いることができる。なかでも、シリカ、特に溶融シリカが好適に用いられる。
【００４３】
無機充填剤の平均粒径は特に限定されないものの、１０ｎｍ以上１０００ｎｍ以下の範囲内であることが好ましく、２０ｎｍ以上２００ｎｍ以下の範囲内であることがより好ましく、３０ｎｍ以上１００ｎｍ以下の範囲内であることがさらに好ましい。無機充填剤の平均粒径が１０ｎｍ未満であると、熱硬化性樹脂組成物の可とう性が低下する原因となる。その一方、前記平均粒径が１０００ｎｍを超えると、熱硬化性樹脂組成物の透明性が低下するとともに、熱硬化性樹脂組成物が封止するギャップに対して粒径が大きく封止性が低下する要因となる。なお、本実施形態においては、平均粒径が相互に異なる無機充填剤同士を組み合わせて使用してもよい。また、平均粒径は、光度式の粒度分布計（ＨＯＲＩＢＡ製、装置名；ＬＡ−９１０）により求めた値である。
【００４４】
前記無機充填剤の配合量は、有機樹脂成分１００重量部に対し１０〜４００重量部であることが好ましく、５０〜２５０重量部がより好ましい。無機充填剤の配合量が１０重量部未満であると、貯蔵弾性率が低下しパッケージの応力信頼性が大きく損なわれる場合がある。一方、４００重量部を超えると、熱硬化性樹脂組成物２の流動性が低下し基板や半導体素子の凹凸に十分に埋まり込まずにボイドやクラックの原因となる場合がある。
【００４５】
（他の添加剤）
なお、熱硬化性樹脂組成物２には、前記無機充填剤以外に、必要に応じて他の添加剤を適宜に配合することができる。他の添加剤としては、例えば難燃剤、シランカップリング剤又はイオントラップ剤等が挙げられる。前記難燃剤としては、例えば、三酸化アンチモン、五酸化アンチモン、臭素化エポキシ樹脂等が挙げられる。これらは、単独で、又は２種以上を併用して用いることができる。前記シランカップリング剤としては、例えば、β−（３、４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン等が挙げられる。これらの化合物は、単独で又は２種以上を併用して用いることができる。前記イオントラップ剤としては、例えばハイドロタルサイト類、水酸化ビスマス等が挙げられる。これらは、単独で又は２種以上を併用して用いることができる。
【００４６】
本実施形態では、熱硬化性樹脂組成物２は、必要に応じて着色しても良い。熱硬化性樹脂組成物２において、着色により呈している色としては特に制限されないが、例えば、黒色、青色、赤色、緑色などが好ましい。着色に際しては、顔料、染料などの公知の着色剤の中から適宜選択して用いることができる。
【００４７】
（熱硬化性樹脂組成物の物性）
【００４８】
熱硬化前の熱硬化性樹脂組成物のヘイズは７０％以下であることが好ましく、５０％以下であることがより好ましく、３０％以下であることがさらに好ましい。当該熱硬化性樹脂組成物のヘイズを低下させて透明性を高めることにより、ダイシングや実装の際の半導体素子のアライメントをより容易に行うことができる。各熱硬化性樹脂組成物のヘイズは、ヘイズメーターＨＭ−１５０（村上色彩技術研究所製）を用いて測定した。測定は、ＪＩＳ  Ｋ  ７１３６に準拠して行った。
【００４９】
当該熱硬化性樹脂組成物を１７５℃で１時間熱処理した後の硬化物の熱膨張係数αは特に限定されないものの、１０ｐｐｍ／Ｋ以上２００ｐｐｍ／Ｋ以下であることが好ましく、１０ｐｐｍ／Ｋ以上１００ｐｐｍ／Ｋ以下であることがより好ましく、１０ｐｐｍ／Ｋ以上５０ｐｐｍ／Ｋ以下であることがさらに好ましい。硬化物の熱膨張係数αを上記範囲とすることにより、硬化物自体に起因する熱応答挙動を抑制することができ、その結果、半導体装置の信頼性をより向上させることができる。
【００５０】
当該熱硬化性樹脂組成物を１７５℃で１時間熱処理した後の硬化物の貯蔵弾性率Ｅ’は特に限定されないが、１００ＭＰａ以上１００００ＭＰａ以下であることが好ましく、５００ＭＰａ以上７０００ＭＰａ以下であることがより好ましく、１０００ＭＰａ以上５０００ＭＰａ以下であることがさらに好ましい。これにより、硬化物において適度な剛性が得られ、熱応答挙動の差の吸収ないし分散を促進して半導体装置の信頼性をより向上させることができる。
【００５１】
上記熱硬化性樹脂組成物を１７５℃で１時間熱硬化処理した後のガラス転移温度（Ｔｇ）は１００〜１８０℃であることが好ましく、１３０〜１７０℃であることがより好ましい。熱硬化後の熱硬化性樹脂組成物のガラス転移温度を上記範囲とすることで、熱サイクル信頼性試験の温度範囲における急激な物性変化を抑制することができ、さらなる信頼性の向上が期待できる。
【００５２】
本実施形態において、熱硬化前の上記熱硬化性樹脂組成物２の１００〜２００℃における最低溶融粘度は、１００Ｐａ・ｓ以上２００００Ｐａ・ｓ以下であることが好ましく、１０００Ｐａ・ｓ以上１００００Ｐａ・ｓ以下であることがより好ましい。最低溶融粘度を上記範囲とすることにより、接続部材４（図２Ａ参照）の熱硬化性樹脂組成物２への進入を容易にすることができる。また、半導体素子５の電気的接続の際のボイドの発生、及び半導体素子５と被着体６との間の空間からの熱硬化性樹脂組成物２のはみ出しを防止することができる（図２Ｅ参照）。なお、最低溶融粘度の測定は、レオメーター（ＨＡＡＫＥ社製、ＲＳ−１）を用いて、パラレルプレート法により測定した値である。より詳細には、ギャップ１００μｍ、回転プレート直径２０ｍｍ、回転速度１０ｓ−１、昇温速度１０℃／分の条件にて、６０℃から２００℃の範囲で溶融粘度を測定し、その際に得られる１００℃から２００℃までの範囲での溶融粘度の最低値を最低溶融粘度とする。
【００５３】
また、熱硬化前の上記熱硬化性樹脂組成物２の２３℃における粘度は、０．０１ＭＰａ・ｓ以上１００ＭＰａ・ｓ以下であることが好ましく、０．１ＭＰａ・ｓ以上１０ＭＰａ・ｓ以下であることがより好ましい。熱硬化前の熱硬化性樹脂組成物が上記範囲の粘度を有することで、ダイシングの際の半導体ウェハ３（図２Ｃ参照）の保持性や作業の際の取り扱い性を向上させることができる。なお、粘度の測定は、最低溶融粘度の測定法に準じて行うことができる。
【００５４】
さらに、熱硬化前の上記熱硬化性樹脂組成物２の温度２３℃、湿度７０％の条件下における吸水率は、１重量％以下であることが好ましく、０．５重量％以下であることがより好ましい。熱硬化性樹脂組成物２が上記のような吸水率を有することにより、熱硬化性樹脂組成物２への水分の吸収が抑制され、半導体素子５の実装時のボイドの発生をより効率的に抑制することができる。なお、上記吸水率の下限は小さいほど好ましく、実質的に０重量％が好ましく、０重量％であることがより好ましい。
【００５５】
熱硬化性樹脂組成物２の厚さ（複層の場合は総厚）は特に限定されないものの、熱硬化性樹脂組成物２の強度や半導体素子５と被着体６との間の空間の充填性を考慮すると１０μｍ以上１００μｍ以下程度であってもよい。なお、熱硬化性樹脂組成物２の厚さは、半導体素子５と被着体６との間のギャップや接続部材の高さを考慮して適宜設定することができる。
【００５６】
封止シート１０の熱硬化性樹脂組成物２は、セパレータにより保護されていることが好ましい（図示せず）。セパレータは、実用に供するまで熱硬化性樹脂組成物２を保護する保護材としての機能を有している。セパレータは封止シートの熱硬化性樹脂組成物２上に半導体ウェハ３を貼着する際に剥がされる。セパレータとしては、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレン、ポリプロピレンや、フッ素系剥離剤、長鎖アルキルアクリレート系剥離剤等の剥離剤により表面コートされたプラスチックフィルムや紙等も使用可能である。
【００５７】
［裏面研削用テープ］
裏面研削用テープ１は、基材１ａと、基材１ａ上に積層された粘着剤層１ｂとを備えている。なお、熱硬化性樹脂組成物２は、粘着剤層１ｂ上に積層されている。
【００５８】
（基材）
上記基材１ａは封止シート１０の強度母体となるものである。例えば、低密度ポリエチレン、直鎖状ポリエチレン、中密度ポリエチレン、高密度ポリエチレン、超低密度ポリエチレン、ランダム共重合ポリプロピレン、ブロック共重合ポリプロピレン、ホモポリプロレン、ポリブテン、ポリメチルペンテン等のポリオレフィン、エチレン−酢酸ビニル共重合体、アイオノマー樹脂、エチレン−（メタ）アクリル酸共重合体、エチレン−（メタ）アクリル酸エステル（ランダム、交互）共重合体、エチレン−ブテン共重合体、エチレン−ヘキセン共重合体、ポリウレタン、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル、ポリカーボネート、ポリイミド、ポリエーテルエーテルケトン、ポリイミド、ポリエーテルイミド、ポリアミド、全芳香族ポリアミド、ポリフェニルスルフイド、アラミド（紙）、ガラス、ガラスクロス、フッ素樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、セルロース系樹脂、シリコーン樹脂、金属（箔）、紙等が挙げられる。粘着剤層１ｂが紫外線硬化型である場合、基材１ａは紫外線に対し透過性を有するものが好ましい。
【００５９】
また基材１ａの材料としては、上記樹脂の架橋体等のポリマーが挙げられる。上記プラスチックフィルムは、無延伸で用いてもよく、必要に応じて一軸又は二軸の延伸処理を施したものを用いてもよい。
【００６０】
基材１ａの表面は、隣接する層との密着性、保持性等を高めるため、慣用の表面処理、例えば、クロム酸処理、オゾン暴露、火炎暴露、高圧電撃暴露、イオン化放射線処理等の化学的又は物理的処理、下塗剤（例えば、粘着物質）によるコーティング処理を施すことができる。
【００６１】
上記基材１ａは、同種又は異種のものを適宜に選択して使用することができ、必要に応じて数種をブレンドしたものを用いることができる。また、基材１ａには、帯電防止能を付与するため、上記の基材１ａ上に金属、合金、これらの酸化物等からなる厚さが３０〜５００Å程度の導電性物質の蒸着層を設けることができる。基材１ａは単層又は２種以上の複層でもよい。
【００６２】
基材１ａの厚さは適宜に決定でき、一般的には５μｍ以上２００μｍ以下程度であり、好ましくは３５μｍ以上１２０μｍ以下である。
【００６３】
なお、基材１ａには、本発明の効果等を損なわない範囲で、各種添加剤（例えば、着色剤、充填剤、可塑剤、老化防止剤、酸化防止剤、界面活性剤、難燃剤等）が含まれていてもよい。
【００６４】
（粘着剤層）
粘着剤層１ｂの形成に用いる粘着剤は、ダイシングの際に熱硬化性樹脂組成物を介して半導体ウェハ又は半導体チップをしっかり保持し、ピックアップ時に熱硬化性樹脂組成物付きの半導体チップを剥離可能に制御できるものであれば特に制限されない。例えば、アクリル系粘着剤、ゴム系粘着剤等の一般的な感圧性接着剤を用いることができる。上記感圧性接着剤としては、半導体ウェハやガラス等の汚染をきらう電子部品の超純水やアルコール等の有機溶剤による清浄洗浄性などの点から、アクリル系ポリマーをベースポリマーとするアクリル系粘着剤が好ましい。
【００６５】
上記アクリル系ポリマーとしては、アクリル酸エステルを主モノマー成分として用いたものが挙げられる。上記アクリル酸エステルとしては、例えば、（メタ）アクリル酸アルキルエステル（例えば、メチルエステル、エチルエステル、プロピルエステル、イソプロピルエステル、ブチルエステル、イソブチルエステル、ｓ−ブチルエステル、ｔ−ブチルエステル、ペンチルエステル、イソペンチルエステル、ヘキシルエステル、ヘプチルエステル、オクチルエステル、２−エチルヘキシルエステル、イソオクチルエステル、ノニルエステル、デシルエステル、イソデシルエステル、ウンデシルエステル、ドデシルエステル、トリデシルエステル、テトラデシルエステル、ヘキサデシルエステル、オクタデシルエステル、エイコシルエステル等のアルキル基の炭素数１〜３０、特に炭素数４〜１８の直鎖状又は分岐鎖状のアルキルエステル等）及び（メタ）アクリル酸シクロアルキルエステル（例えば、シクロペンチルエステル、シクロヘキシルエステル等）の１種又は２種以上を単量体成分として用いたアクリル系ポリマー等が挙げられる。なお、（メタ）アクリル酸エステルとはアクリル酸エステル及び／又はメタクリル酸エステルをいい、本発明の
（メタ）とは全て同様の意味である。
【００６６】
上記アクリル系ポリマーは、凝集力、耐熱性などの改質を目的として、必要に応じ、上記（メタ）アクリル酸アルキルエステル又はシクロアルキルエステルと共重合可能な他のモノマー成分に対応する単位を含んでいてもよい。このようなモノマー成分として、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、カルボキシエチル（メタ）アクリレート、カルボキシペンチル（メタ）アクリレート、イタコン酸、マレイン酸、フマル酸、クロトン酸などのカルボキシル基含有モノマー；無水マレイン酸、無水イタコン酸などの酸無水物モノマー；
（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシエチル、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシプロピル、（メタ）アクリル酸４−ヒドロキシブチル、（メタ）アクリル酸６−ヒドロキシヘキシル、（メタ）アクリル酸８−ヒドロキシオクチル、（メタ）アクリル酸１０−ヒドロキシデシル、（メタ）アクリル酸１２−ヒドロキシラウリル、（４−ヒドロキシメチルシクロヘキシル）メチル（メタ）アクリレートなどのヒドロキシル基含有モノマー；スチレンスルホン酸、アリルスルホン酸、２−（メタ）アクリルアミド−２−メチルプロパンスルホン酸、（メタ）アクリルアミドプロパンスルホン酸、スルホプロピル（メタ）アクリレート、（メタ）アクリロイルオキシナフタレンスルホン酸などのスルホン酸基含有モノマー；２−ヒドロキシエチルアクリロイルホスフェートなどのリン酸基含有モノマー；アクリルアミド、アクリロニトリルなどがあげられる。これら共重合可能なモノマー成分は、１種又は２種以上使用できる。これら共重合可能なモノマーの使用量は、全モノマー成分の４０重量％以下が好ましい。
【００６７】
さらに、上記アクリル系ポリマーは、架橋させるため、多官能性モノマーなども、必要に応じて共重合用モノマー成分として含むことができる。このような多官能性モノマーとして、例えば、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、（ポリ）エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、（ポリ）プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート、ポリエステル（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレートなどがあげられる。これらの多官能性モノマーも１種又は２種以上用いることができる。多官能性モノマーの使用量は、粘着特性等の点から、全モノマー成分の３０重量％以下が好ましい。
【００６８】
上記アクリル系ポリマーは、単一モノマー又は２種以上のモノマー混合物を重合に付すことにより得られる。重合は、溶液重合、乳化重合、塊状重合、懸濁重合等の何れの方式で行うこともできる。清浄な被着体への汚染防止等の点から、低分子量物質の含有量が小さいのが好ましい。この点から、アクリル系ポリマーの数平均分子量は、好ましくは３０万以上、さらに好ましくは４０万〜３００万程度である。
【００６９】
また、上記粘着剤には、ベースポリマーであるアクリル系ポリマー等の数平均分子量を高めるため、外部架橋剤を適宜に採用することもできる。外部架橋方法の具体的手段としては、ポリイソシアネート化合物、エポキシ化合物、アジリジン化合物、メラミン系架橋剤などのいわゆる架橋剤を添加し反応させる方法があげられる。外部架橋剤を使用する場合、その使用量は、架橋すべきベースポリマーとのバランスにより、さらには、粘着剤としての使用用途によって適宜決定される。一般的には、上記ベースポリマー１００重量部に対して、５重量部程度以下、さらには０．１〜５重量部配合するのが好ましい。さらに、粘着剤には、必要により、上記成分のほかに、従来公知の各種の粘着付与剤、老化防止剤などの添加剤を用いてもよい。
【００７０】
粘着剤層１ｂは放射線硬化型粘着剤により形成することができる。放射線硬化型粘着剤は、紫外線等の放射線の照射により架橋度を増大させてその粘着力を容易に低下させることができ、ピックアップを容易に行うことができる。放射線としては、Ｘ線、紫外線、電子線、α線、β線、中性子線等が挙げられる。
【００７１】
放射線硬化型粘着剤は、炭素−炭素二重結合等の放射線硬化性の官能基を有し、かつ粘着性を示すものを特に制限なく使用することができる。放射線硬化型粘着剤としては、例えば、上記アクリル系粘着剤、ゴム系粘着剤等の一般的な感圧性粘着剤に、放射線硬化性のモノマー成分やオリゴマー成分を配合した添加型の放射線硬化性粘着剤を例示できる。
【００７２】
配合する放射線硬化性のモノマー成分としては、例えば、ウレタンオリゴマー、ウレタン（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、テトラメチロールメタンテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリストールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリストールモノヒドロキシペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレートなどがあげられる。また放射線硬化性のオリゴマー成分はウレタン系、ポリエーテル系、ポリエステル系、ポリカーボネート系、ポリブタジエン系など種々のオリゴマーがあげられ、その重量平均分子量が１００〜３００００程度の範囲のものが適当である。放射線硬化性のモノマー成分やオリゴマー成分の配合量は、上記粘着剤層の種類に応じて、粘着剤層の粘着力を低下できる量を、適宜に決定することができる。一般的には、粘着剤を構成するアクリル系ポリマー等のベースポリマー１００重量部に対して、例えば５〜５００重量部、好ましくは４０〜１５０重量部程度である。
【００７３】
また、放射線硬化型粘着剤としては、上記説明した添加型の放射線硬化性粘着剤のほかに、ベースポリマーとして、炭素−炭素二重結合をポリマー側鎖または主鎖中もしくは主鎖末端に有するものを用いた内在型の放射線硬化性粘着剤があげられる。内在型の放射線硬化性粘着剤は、低分子成分であるオリゴマー成分等を含有する必要がなく、または多くは含まないため、経時的にオリゴマー成分等が粘着剤在中を移動することなく、安定した層構造の粘着剤層を形成することができるため好ましい。
【００７４】
上記炭素−炭素二重結合を有するベースポリマーは、炭素−炭素二重結合を有し、かつ粘着性を有するものを特に制限なく使用できる。このようなベースポリマーとしては、アクリル系ポリマーを基本骨格とするものが好ましい。アクリル系ポリマーの基本骨格としては、上記例示したアクリル系ポリマーがあげられる。
【００７５】
上記アクリル系ポリマーへの炭素−炭素二重結合の導入法は特に制限されず、様々な方法を採用できるが、炭素−炭素二重結合はポリマー側鎖に導入するのが分子設計が容易である。例えば、予め、アクリル系ポリマーに官能基を有するモノマーを共重合した後、この官能基と反応しうる官能基および炭素−炭素二重結合を有する化合物を、炭素−炭素二重結合の放射線硬化性を維持したまま縮合または付加反応させる方法があげられる。
【００７６】
これら官能基の組合せの例としては、カルボン酸基とエポキシ基、カルボン酸基とアジリジル基、ヒドロキシル基とイソシアネート基などがあげられる。これら官能基の組合せのなかでも反応追跡の容易さから、ヒドロキシル基とイソシアネート基との組合せが好適である。また、これら官能基の組み合わせにより、上記炭素−炭素二重結合を有するアクリル系ポリマーを生成するような組合せであれば、官能基はアクリル系ポリマーと上記化合物のいずれの側にあってもよいが、上記の好ましい組み合わせでは、アクリル系ポリマーがヒドロキシル基を有し、上記化合物がイソシアネート基を有する場合が好適である。この場合、炭素−炭素二重結合を有するイソシアネート化合物としては、例えば、メタクリロイルイソシアネート、２−メタクリロイルオキシエチルイソシアネート、ｍ−イソプロペニル−α，α−ジメチルベンジルイソシアネートなどがあげられる。また、アクリル系ポリマーとしては、上記例示のヒドロキシ基含有モノマーや２−ヒドロキシエチルビニルエーテル、４−ヒドロキシブチルビニルエーテル、ジエチレングルコールモノビニルエーテルのエーテル系化合物などを共重合したものが用いられる。
【００７７】
上記内在型の放射線硬化性粘着剤は、上記炭素−炭素二重結合を有するベースポリマー
（特にアクリル系ポリマー）を単独で使用することができるが、特性を悪化させない程度に上記放射線硬化性のモノマー成分やオリゴマー成分を配合することもできる。放射線硬化性のオリゴマー成分等は、通常ベースポリマー１００重量部に対して３０重量部の範囲内であり、好ましくは０〜１０重量部の範囲である。
【００７８】
上記放射線硬化型粘着剤には、紫外線等により硬化させる場合には光重合開始剤を含有させることが好ましい。光重合開始剤としては、例えば、４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル（２−ヒドロキシ−２−プロピル）ケトン、α−ヒドロキシ−α，α´−ジメチルアセトフェノン、２−メチル−２−ヒドロキシプロピオフェノン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンなどのα−ケトール系化合物；メトキシアセトフェノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフエノン、２，２−ジエトキシアセトフェノン、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）−フェニル］−２−モルホリノプロパン−１などのアセトフェノン系化合物；ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、アニソインメチルエーテルなどのベンゾインエーテル系化合物；ベンジルジメチルケタールなどのケタール系化合物；２−ナフタレンスルホニルクロリドなどの芳香族スルホニルクロリド系化合物；１−フェノン−１，１―プロパンジオン−２−（ｏ−エトキシカルボニル）オキシムなどの光活性オキシム系化合物；ベンゾフェノン、ベンゾイル安息香酸、３，３′−ジメチル−４−メトキシベンゾフェノンなどのベンゾフェノン系化合物；チオキサンソン、２−クロロチオキサンソン、２−メチルチオキサンソン、２，４−ジメチルチオキサンソン、イソプロピルチオキサンソン、２，４−ジクロロチオキサンソン、２，４−ジエチルチオキサンソン、２，４−ジイソプロピルチオキサンソンなどのチオキサンソン系化合物；カンファーキノン；ハロゲン化ケトン；アシルホスフィノキシド；アシルホスフォナートなどがあげられる。光重合開始剤の配合量は、粘着剤を構成するアクリル系ポリマー等のベースポリマー１００重量部に対して、例えば０．０５〜２０重量部程度である。
【００７９】
なお、放射線照射の際に、酸素による硬化阻害が起こる場合は、放射線硬化型の粘着剤層１ｂの表面よりなんらかの方法で酸素（空気）を遮断するのが望ましい。例えば、上記粘着剤層１ｂの表面をセパレータで被覆する方法や、窒素ガス雰囲気中で紫外線等の放射線の照射を行う方法等が挙げられる。
【００８０】
なお、粘着剤層１ｂには、本発明の効果等を損なわない範囲で、各種添加剤（例えば、着色剤、増粘剤、増量剤、充填剤、粘着付与剤、可塑剤、老化防止剤、酸化防止剤、界面活性剤、架橋剤等）が含まれていてもよい。
【００８１】
粘着剤層１ｂの厚さは特に限定されないが、チップ切断面の欠け防止、熱硬化性樹脂組成物２の固定保持の両立性等の観点から１〜５０μｍ程度であるのが好ましい。好ましくは２〜３０μｍ、さらには好ましくは５〜２５μｍである。
【００８２】
（封止シートの製造方法）
本実施の形態に係る封止シート１０は、例えば裏面研削用テープ１及び熱硬化性樹脂組成物２を別々に作製しておき、最後にこれらを貼り合わせることにより作成することができる。具体的には、以下のような手順に従って作製することができる。
【００８３】
まず、基材１ａは、従来公知の製膜方法により製膜することができる。当該製膜方法としては、例えばカレンダー製膜法、有機溶媒中でのキャスティング法、密閉系でのインフレーション押出法、Ｔダイ押出法、共押出し法、ドライラミネート法等が例示できる。
【００８４】
次に、粘着剤層形成用の粘着剤組成物を調製する。粘着剤組成物には、粘着剤層の項で説明したような樹脂や添加物等が配合されている。調製した粘着剤組成物を基材１ａ上に塗布して塗布膜を形成した後、該塗布膜を所定条件下で乾燥させ（必要に応じて加熱架橋させて）、粘着剤層１ｂを形成する。塗布方法としては特に限定されず、例えば、ロール塗工、スクリーン塗工、グラビア塗工等が挙げられる。また、乾燥条件としては、例えば乾燥温度８０〜１５０℃、乾燥時間０．５〜５分間の範囲内で行われる。また、セパレータ上に粘着剤組成物を塗布して塗布膜を形成した後、上記乾燥条件で塗布膜を乾燥させて粘着剤層１ｂを形成してもよい。その後、基材１ａ上に粘着剤層１ｂをセパレータと共に貼り合わせる。これにより、基材１ａ及び粘着剤層１ｂを備える裏面研削用テープ１が作製される。
【００８５】
シート状の熱硬化性樹脂組成物２は、例えば、以下のようにして作製される。まず、熱硬化性樹脂組成物２の形成材料であるエポキシ樹脂及び特定フェノール樹脂、必要に応じて熱可塑性成分や各種の添加剤等を配合し適宜溶媒（例えば、メチルエチルケトン、酢酸エチル等）に溶解ないし分散させて塗布液を調製する。
【００８６】
次に、調製した塗布液を基材セパレータ上に所定厚みとなる様に塗布して塗布膜を形成した後、該塗布膜を所定条件下で乾燥させ、シート状の熱硬化性樹脂組成物を形成する。塗布方法としては特に限定されず、例えば、ロール塗工、スクリーン塗工、グラビア塗工等が挙げられる。また、乾燥条件としては、例えば乾燥温度７０〜１６０℃、乾燥時間１〜５分間の範囲内で行われる。また、セパレータ上に塗布液を塗布して塗布膜を形成した後、上記乾燥条件で塗布膜を乾燥させてシート状の熱硬化性樹脂組成物を形成してもよい。その後、基材セパレータ上に熱硬化性樹脂組成物をセパレータと共に貼り合わせる。
【００８７】
続いて、裏面研削用テープ１及び熱硬化性樹脂組成物２からそれぞれセパレータを剥離し、熱硬化性樹脂組成物と粘着剤層とが貼り合わせ面となる様にして両者を貼り合わせる。貼り合わせは、例えば圧着により行うことができる。このとき、ラミネート温度は特に限定されず、例えば３０〜５０℃が好ましく、３５〜４５℃がより好ましい。また、線圧は特に限定されず、例えば０．９８〜１９６Ｎ／ｃｍが好ましく、９．８〜９８Ｎ／ｃｍがより好ましい。次に、熱硬化性樹脂組成物上の基材セパレータを剥離し、本実施の形態に係る封止シートが得られる。
【００８８】
＜半導体装置の製造方法＞
次に、上記封止シートを利用する半導体装置の製造方法の一実施形態について説明する。本実施形態に係る半導体装置の製造方法は、半導体素子を被着体に前記熱硬化性樹脂組成物を介して固定する固定工程、及び前記熱硬化性樹脂組成物を硬化させる硬化工程を含む。ただし、本実施形態において、上記熱硬化性樹脂組成物は、裏面研削用テープ上に積層されて封止シートを形成しており、また、半導体素子の固定の際には、被着体と半導体素子とが電気的に接続されることになる。従って、より詳細には、本実施形態の半導体装置の製造方法は、半導体ウェハの接続部材が形成された回路面と上記封止シートの熱硬化性樹脂組成物とを貼り合わせる貼合せ工程、上記半導体ウェハの裏面を研削する研削工程、上記熱硬化性樹脂組成物とともに半導体ウェハを裏面研削用テープから剥離して該半導体ウェハをダイシングテープに貼り付けるウェハ固定工程、上記半導体ウェハをダイシングして上記熱硬化性樹脂組成物付きの半導体素子を形成するダイシング工程、及び上記熱硬化性樹脂組成物付きの半導体素子を上記ダイシングテープから剥離するピックアップ工程、上記被着体と上記半導体素子の間の空間を上記熱硬化性樹脂組成物で充填しつつ上記接続部材を介して上記半導体素子と上記被着体とを電気的に接続する接続工程、及び前記熱硬化性樹脂組成物を硬化させる硬化工程を含む。
【００８９】
［貼合せ工程］
貼合せ工程では、半導体ウェハ３の接続部材４が形成された回路面３ａと上記封止シート１０の熱硬化性樹脂組成物２とを貼り合わせる（図２Ａ参照）。
【００９０】
（半導体ウェハ）
半導体ウェハ３の回路面３ａには、複数の接続部材４が形成されている（図２Ａ参照）。バンプや導電材等の接続部材の材質としては、特に限定されず、例えば、錫−鉛系金属材、錫−銀系金属材、錫−銀−銅系金属材、錫−亜鉛系金属材、錫−亜鉛−ビスマス系金属材等のはんだ類（合金）や、金系金属材、銅系金属材などが挙げられる。接続部材の高さも用途に応じて定められ、一般的には１５〜１００μｍ程度である。もちろん、半導体ウェハ３における個々の接続部材の高さは同一でも異なっていてもよい。
【００９１】
本実施形態に係る半導体装置の製造方法において、熱硬化性樹脂組成物の厚さとしては、半導体ウェハ表面に形成された接続部材の高さＸ（μｍ）と前記熱硬化性樹脂組成物の厚さＹ（μｍ）とが、下記の関係を満たすことが好ましい。
０．５≦Ｙ／Ｘ≦２
【００９２】
前記接続部材の高さＸ（μｍ）と前記硬化フィルムの厚さＹ（μｍ）とが上記関係を満たすことにより、半導体素子と被着体との間の空間を十分に充填することができると共に、当該空間からの熱硬化性樹脂組成物の過剰のはみ出しを防止することができ、熱硬化性樹脂組成物による半導体素子の汚染等を防止することができる。なお、各接続部材の高さが異なる場合は、最も高い接続部材の高さを基準とする。
【００９３】
（貼り合わせ）
まず、封止シート１０の熱硬化性樹脂組成物２上に任意に設けられたセパレータを適宜に剥離し、図２Ａに示すように、前記半導体ウェハ３の接続部材４が形成された回路面３ａと熱硬化性樹脂組成物２とを対向させ、前記熱硬化性樹脂組成物２と前記半導体ウェハ３とを貼り合わせる（マウント）。
【００９４】
貼り合わせの方法は特に限定されないが、圧着による方法が好ましい。圧着は通常、圧着ロール等の公知の押圧手段により、好ましくは０．１〜１ＭＰａ、より好ましくは０．３〜０．７ＭＰａの圧力を負荷して押圧しながら行われる。この際、４０〜１００℃程度に加熱しながら圧着させてもよい。また、密着性を高めるために、減圧下（１〜１０００Ｐａ）で圧着することも好ましい。
【００９５】
［研削工程］
研削工程では、上記半導体ウェハ３の回路面３ａとは反対側の面（すなわち、裏面）３ｂを研削する（図２Ｂ参照）。半導体ウェハ３の裏面研削に用いる薄型加工機としては特に限定されず、例えば研削機（バックグラインダー）、研磨パッド等を例示できる。また、エッチング等の化学的方法にて裏面研削を行ってもよい。裏面研削は、半導体ウェハが所望の厚さ（例えば、７００〜２５μｍ）になるまで行われる。
【００９６】
［ウェハ固定工程］
研削工程後、熱硬化性樹脂組成物２を貼り付けた状態で半導体ウェハ３を裏面研削用テープ１から剥離し、半導体ウェハ３とダイシングテープ１１とを貼り合わせる（図２Ｃ参照）。このとき、半導体ウェハ３の裏面３ｂとダイシングテープ１１の粘着剤層１１ｂとが対向するように貼り合わせる。従って、半導体ウェハ３の回路面３ａに貼り合わされた熱硬化性樹脂組成物２は露出した状態となる。なお、ダイシングテープ１１は、基材１１ａ上に粘着剤層１１ｂが積層された構造を有する。基材１１ａ及び粘着剤層１１ｂとしては、上記裏面研削用テープ１の基材１ａ及び粘着剤層１ｂの項で示した成分及び製法を用いて好適に作製することができる。また、市販のダイシングテープも好適に用いることができる。
【００９７】
半導体ウェハ３の裏面研削用テープ１からの剥離の際、粘着剤層１ｂが放射線硬化性を有する場合には、粘着剤層１ｂに放射線を照射して粘着剤層１ｂを硬化させることで、剥離を容易に行うことができる。放射線の照射量は、用いる放射線の種類や粘着剤層の硬化度等を考慮して適宜設定すればよい。
【００９８】
［ダイシング工程］
ダイシング工程では、直接光や間接光、赤外線等により求めたダイシング位置に基づき、図２Ｄに示すように半導体ウェハ３及び熱硬化性樹脂組成物２をダイシングしてダイシングされた熱硬化性樹脂組成物付きの半導体素子５を形成する。熱硬化性樹脂組成物２の透明性を無機充填剤の平均粒径等により適宜調整することにより、ダイシング位置を容易に決定することができる。ダイシング工程を経ることで、半導体ウェハ３を所定のサイズに切断して個片化（小片化）し、半導体チップ（半導体素子）５を製造する。ここで得られる半導体チップ５は同形状に切断された熱硬化性樹脂組成物２と一体になっている。ダイシングは、半導体ウェハ３の熱硬化性樹脂組成物２を貼り合わせた回路面３ａから常法に従い行われる。
【００９９】
本工程では、例えば、ダイシングテープ１１まで切込みを行うフルカットと呼ばれる切断方式等を採用できる。本工程で用いるダイシング装置としては特に限定されず、従来公知のものを用いることができる。また、半導体ウェハは、ダイシングテープ１１により優れた密着性で接着固定されているので、チップ欠けやチップ飛びを抑制できると共に、半導体ウェハの破損も抑制できる。なお、熱硬化性樹脂組成物がエポキシ樹脂を含む樹脂組成物により形成されていると、ダイシングにより切断されても、その切断面において熱硬化性樹脂組成物の熱硬化性樹脂組成物の糊はみ出しが生じるのを抑制又は防止することができる。その結果、切断面同士が再付着（ブロッキング）することを抑制又は防止することができ、後述のピックアップを一層良好に行うことができる。
【０１００】
なお、ダイシング工程に続いてダイシングテープのエキスパンドを行う場合、該エキスパンドは従来公知のエキスパンド装置を用いて行うことができる。エキスパンド装置は、ダイシングリングを介してダイシングテープを下方へ押し下げることが可能なドーナッツ状の外リングと、外リングよりも径が小さくダイシングテープを支持する内リングとを有している。このエキスパンド工程により、後述のピックアップ工程において、隣り合う半導体チップ同士が接触して破損するのを防ぐことが出来る。
【０１０１】
［ピックアップ工程］
ダイシングテープ１１に接着固定された半導体チップ５を回収するために、図２Ｅに示すように、熱硬化性樹脂組成物２付きの半導体チップ５のピックアップを行って、半導体チップ５と熱硬化性樹脂組成物２の積層体Ａをダイシングテープ１１より剥離する。
【０１０２】
ピックアップの方法としては特に限定されず、従来公知の種々の方法を採用できる。例えば、個々の半導体チップをダイシングテープの基材側からニードルによって突き上げ、突き上げられた半導体チップをピックアップ装置によってピックアップする方法等が挙げられる。なお、ピックアップされた半導体チップ５は、回路面３ａに貼り合わされた熱硬化性樹脂組成物２と一体となって積層体Ａを構成している。
【０１０３】
ここでピックアップは、ダイシングテープ１１の粘着剤層１１ｂが紫外線硬化型の場合、該粘着剤層１１ｂに紫外線を照射した後に行う。これにより、粘着剤層１１ｂの半導体チップ５に対する粘着力が低下し、半導体チップ５の剥離が容易になる。その結果、半導体チップ５を損傷させることなくピックアップが可能となる。紫外線照射の際の照射強度、照射時間等の条件は特に限定されず、適宜必要に応じて設定すればよい。また、紫外線照射に使用する光源としては、例えば低圧水銀ランプ、低圧高出力ランプ、中圧水銀ランプ、無電極水銀ランプ、キセノン・フラッシュ・ランプ、エキシマ・ランプ、紫外ＬＥＤ等を用いることができる。
【０１０４】
［実装工程］
実装工程では、半導体素子５の実装位置を直接光や間接光、赤外線等により予め求めておき、求めた実装位置に従って、被着体１６と半導体素子５の間の空間を熱硬化性樹脂組成物２で充填しつつ接続部材４を介して半導体素子５と被着体１６とを電気的に接続する（図２Ｆ参照）。熱硬化性樹脂組成物２の透明性を無機充填剤の平均粒径等により適宜調整することにより、実装位置を容易に決定することができる。具体的には、積層体Ａの半導体チップ５を、半導体チップ５の回路面３ａが被着体１６と対向する形態で、被着体１６に常法に従い固定させる。例えば、半導体チップ５に形成されているバンプ（接続部材）４を、被着体１６の接続パッドに被着された接合用の導電材１７（はんだなど）に接触させて押圧しながら導電材を溶融させることにより、半導体チップ５と被着体１６との電気的接続を確保し、半導体チップ５を被着体１６に固定させることができる。半導体チップ５の回路面３ａには熱硬化性樹脂組成物２が貼り付けられているので、半導体チップ５と被着体１６との電気的接続と同時に、半導体チップ５と被着体１６との間の空間が熱硬化性樹脂組成物２により充填されることになる。
【０１０５】
一般的に、実装工程における加熱条件としては１００〜３００℃であり、加圧条件としては０．５〜５００Ｎである。また、実装工程での熱圧着処理を多段階で行ってもよい。例えば、１５０℃、１００Ｎで１０秒間処理した後、３００℃、１００〜２００Ｎで１０秒間処理するという手順を採用することができる。多段階で熱圧着処理を行うことにより、接続部材とパッド間の樹脂を効率よく除去し、より良好な金属間接合を得ることが出来る。
【０１０６】
被着体１６としては、リードフレームや回路基板（配線回路基板など）等の各種基板、他の半導体素子を用いることができる。基板の材質としては、特に限定されるものではないが、セラミック基板や、プラスチック基板が挙げられる。プラスチック基板としては、例えば、エポキシ基板、ビスマレイミドトリアジン基板、ポリイミド基板、ガラスエポキシ基板等が挙げられる。
【０１０７】
なお、実装工程では、接続部材及び導電材の一方又は両方を溶融させて、半導体チップ５の接続部材形成面３ａのバンプ４と、被着体１６の表面の導電材１７とを接続させているが、このバンプ４及び導電材１７の溶融時の温度としては、通常、２６０℃程度（例えば、２５０℃〜３００℃）となっている。本実施形態に係る封止シートは、熱硬化性樹脂組成物２をエポキシ樹脂等により形成することにより、この実装工程における高温にも耐えられる耐熱性を有するものとすることができる。
【０１０８】
［熱硬化性樹脂組成物硬化工程］
半導体素子５と被着体１６との電気的接続を行った後は、熱硬化性樹脂組成物２を加熱により硬化させる。これにより、半導体素子５の表面を保護することができるとともに、半導体素子５と被着体１６との間の空間を封止して半導体装置の接続信頼性を確保することができる。熱硬化性樹脂組成物の硬化のための加熱温度としては特に限定されず、１５０〜２００℃で１０〜１２０分間であればよい。なお、実装工程における加熱処理により熱硬化性樹脂組成物が硬化する場合、本工程は省略することができる。
【０１０９】
［後封止工程］
次に、実装された半導体チップ５を備える半導体装置２０全体を保護するために後封止工程を行ってもよい。後封止工程は、封止樹脂を用いて行われる。このときの封止条件としては特に限定されないが、通常、１７５℃で６０秒間〜９０秒間の加熱を行うことにより、封止樹脂の熱硬化が行われるが、本発明はこれに限定されず、例えば１６５℃〜１８５℃で、数分間キュアすることができる。
【０１１０】
前記封止樹脂としては、絶縁性を有する樹脂（絶縁樹脂）であれば特に制限されず、公知の封止樹脂等の封止材から適宜選択して用いることができるが、弾性を有する絶縁樹脂がより好ましい。封止樹脂としては、例えば、エポキシ樹脂を含む樹脂組成物等が挙げられる。エポキシ樹脂としては、前記に例示のエポキシ樹脂等が挙げられる。また、エポキシ樹脂を含む樹脂組成物による封止樹脂としては、樹脂成分として、エポキシ樹脂以外に、エポキシ樹脂以外の熱硬化性樹脂（フェノール樹脂など）や、熱可塑性樹脂などが含まれていてもよい。なお、フェノール樹脂としては、エポキシ樹脂の硬化剤としても利用することができ、このようなフェノール樹脂としては、前記に例示のフェノール樹脂などが挙げられる。
【０１１１】
［半導体装置］
次に、当該封止シートを用いて得られる半導体装置について図面を参照しつつ説明する（図２Ｆ参照）。本実施形態に係る半導体装置２０では、半導体素子５と被着体１６とが、半導体素子５上に形成されたバンプ（接続部材）４及び被着体１６上に設けられた導電材１７を介して電気的に接続されている。また、半導体素子５と被着体１６との間には、その空間を充填するように熱硬化性樹脂組成物２が配置されている。半導体装置２０は、所定の熱硬化性樹脂組成物２を採用する上記製造方法にて得られるので、半導体素子５の表面保護、半導体素子５と被着体１６との間の空間の充填、及び半導体素子５と被着体１６との間の電気的接続がそれぞれ十分なレベルとなり、半導体装置２０として高い信頼性を発揮することができる。
【０１１２】
＜第２実施形態＞
第１実施形態では片面に回路が形成された半導体ウェハを用いているのに対し、本実施形態では両面に回路が形成された半導体ウェハを用いて半導体装置を製造する。また、本実施形態で用いる半導体ウェハは目的とする厚さを有していることから、研削工程は省略される。従って、第２実施形態での封止シートとしては、ダイシングテープと該ダイシングテープ上に積層された熱硬化性樹脂組成物とを備える封止シートを用いる。第２実施形態での代表的な工程として、上記封止シートを準備する準備工程、接続部材を有する回路面が両面に形成された半導体ウェハと上記封止シートの熱硬化性樹脂組成物とを貼り合わせる貼合せ工程、上記半導体ウェハをダイシングして上記熱硬化性樹脂組成物付きの半導体素子を形成するダイシング工程、上記熱硬化性樹脂組成物付きの半導体素子を上記封止シートから剥離するピックアップ工程が挙げられる。その後、実装工程以降の工程を行って半導体装置を製造する。
【０１１３】
［準備工程］
準備工程では、ダイシングテープ４１と該ダイシングテープ４１上に積層された熱硬化性樹脂組成物４２とを備える封止シートを準備する（図３Ａ参照）。ダイシングテープ４１は、基材４１ａと、基材４１ａ上に積層された粘着剤層４１ｂとを備えている。なお、熱硬化性樹脂組成物４２は、粘着剤層４１ｂ上に積層されている。このようなダイシングテープ４１の基材４１ａ及び粘着剤層４１ｂ、並びに熱硬化性樹脂組成物４２としては、第１実施形態と同様のものを用いることができる。
【０１１４】
［貼合せ工程］
貼合せ工程では、図３Ａに示すように、接続部材４４を有する回路面が両面に形成された半導体ウェハ４３と上記封止シートの熱硬化性樹脂組成物４２とを貼り合わせる。なお、所定の厚さに薄型化された半導体ウェハの強度は弱いことから、補強のために半導体ウェハを仮固定材を介してサポートガラス等の支持体に固定することがある（図示せず）。この場合は、半導体ウェハと熱硬化性樹脂組成物との貼り合わせ後に、仮固定材とともに支持体を剥離する工程を含んでいてもよい。半導体ウェハ４３のいずれの回路面と熱硬化性樹脂組成物４２とを貼り合わせるかは、目的とする半導体装置の構造に応じて変更すればよい。
【０１１５】
半導体ウェハ４３としては、両面に接続部材４４を有する回路面が形成されており、所定の厚さを有している点を除き、第１実施形態の半導体ウェハと同様である。半導体ウェハ４３の両面の接続部材４４同士は電気的に接続されていてもよく、接続されていなくてもよい。接続部材４４同士の電気的接続には、ＴＳＶ形式と呼ばれるビアを介しての接続による接続等が挙げられる。貼り合わせ条件としては、第１実施形態における貼り合わせ条件を好適に採用することができる。
【０１１６】
［ダイシング工程］
ダイシング工程では、上記半導体ウェハ４３及び熱硬化性樹脂組成物４２をダイシングして上記熱硬化性樹脂組成物付きの半導体素子４５を形成する（図３Ｂ参照）。ダイシング条件としては、第１実施形態における諸条件を好適に採用することができる。なお、ダイシングは、半導体ウェハ４３の露出した回路面に対して行うので、ダイシング位置の検出は容易である。
【０１１７】
［ピックアップ工程］
ピックアップ工程では、上記熱硬化性樹脂組成物４２付きの半導体素子４５を上記ダイシングテープ４１から剥離する（図３Ｃ）。ピックアップ条件としては、第１実施形態における諸条件を好適に採用することができる。
【０１１８】
［実装工程］
実装工程では、被着体６６と半導体素子４５の間の空間を熱硬化性樹脂組成物４２で充填しつつ接続部材４４を介して半導体素子４５と被着体６６とを電気的に接続する（図３Ｄ参照）。実装工程における条件は、第１実施形態における諸条件を好適に採用することができる。これにより、本実施形態に係る半導体装置６０を製造することができる。
【０１１９】
以降、第１実施形態と同様に、必要に応じて熱硬化性樹脂組成物硬化工程及び封止工程を行ってもよい。
【０１２０】
＜第３実施形態＞
第１実施形態では封止シートの構成部材として裏面研削用テープを用いたが、本実施形態では該裏面研削用テープの粘着剤層を設けずに基材単独を用いる。従って、本実施形態の封止シートとしては、基材上に熱硬化性樹脂組成物が積層された状態となる。本実施形態では研削工程は任意に行うことができるものの、ピックアップ工程前の紫外線照射は粘着剤層の省略により行わない。これらの点を除けば、第１実施形態と同様の工程を経ることで所定の半導体装置を製造することができる。
【実施例】
【０１２１】
以下に、この発明の好適な実施例を例示的に詳しく説明する。但し、この実施例に記載されている材料や配合量等は、特に限定的な記載がない限りは、この発明の範囲をそれらのみに限定する趣旨のものではない。また、部とあるのは、重量部を意味する。
【０１２２】
［実施例１〜４及び比較例１〜４］
（封止シートの作製）
以下の成分を表１に示す割合でメチルエチルケトンに溶解して、固形分濃度が２３．６〜６０．６重量％となる接着剤組成物の溶液を調製した。
【０１２３】
エラストマー１：アクリル酸エチル−メチルメタクリレートを主成分とするアクリル酸エステル系ポリマー（商品名「パラクロンＷ−１９７ＣＭ」、根上工業株式会社製）
エラストマー２：アクリル酸ブチルーアクリロニトリルを主成分とするアクリル酸エステル系ポリマー（商品名「ＳＧ−２８ＧＭ」、長瀬ケムテックス株式会社製）
エポキシ樹脂１：商品名「エピコート８２８」、ＪＥＲ株式会社製
エポキシ樹脂２：商品名「エピコート１００４」、ＪＥＲ株式会社製
フェノール樹脂１：商品名「ＭＥＨ−７８５１Ｍ」、明和化成株式会社製
フェノール樹脂２：商品名「ＭＥＨ−７８５１−３Ｈ」、明和化成株式会社製
フェノール樹脂３：商品名「Ｐ−２００」、荒川化学株式会社製
フェノール樹脂４：商品名「ＤＰＰ−Ｍ」、日本石油化学（株）製
無機充填剤１：球状シリカ（商品名「ＹＣ１００Ｃ―ＭＬＣ」、株式会社アドマテックス製）
無機充填剤２：球状シリカ（商品名「ＳＯ−２５Ｒ」、株式会社アドマテックス社製）
有機酸：ｏ−アニス酸（商品名「オルトアニス酸」、東京化成株式会社製）
硬化剤：イミダゾール触媒（商品名「２ＰＨＺ−ＰＷ」、四国化成株式会社製）
【０１２４】
この接着剤組成物の溶液を、剥離ライナ（セパレータ）としてシリコーン離型処理した厚さが５０μｍのポリエチレンテレフタレートフィルムからなる離型処理フィルム上に塗布した後、１３０℃で２分間乾燥させることにより、厚さ４５μｍの熱硬化性樹脂組成物を作製した。
【０１２５】
上記熱硬化性樹脂組成物をバックグラインドテープ（商品名「ＵＢ−２１５４」、日東電工株式会社製）の粘着剤層上にハンドローラーを用いて貼り合わせ、封止シートを作製した。
【０１２６】
（熱膨張率αの測定）
熱膨張率αは、まず作製した熱硬化性樹脂組成物を１７５℃で１時間熱硬化処理してから、熱機械測定装置（ティーエーインスツルメント社製：形式Ｑ−４００ＥＭ）を用いて測定した。具体的には、測定試料のサイズを長さ１５ｍｍ×幅５ｍｍ×厚さ２００μｍとし、測定試料を上記装置のフィルム引張測定用治具にセットした後、−５０〜３００℃の温度域で、引張荷重２ｇ、昇温速度１０℃／ｍｉｎの条件下におき、２０℃〜６０℃での膨張率から熱膨張係数αを算出した。結果を表に１示す。
【０１２７】
（貯蔵弾性率Ｅ’の測定）
貯蔵弾性率の測定は、作製した熱硬化性樹脂組成物を１７５℃で１時間熱硬化処理してから、固体粘弾性測定装置（レオメトリックサイエンティック社製：形式：ＲＳＡ−ＩＩＩ）を用いて測定した。すなわち、サンプルサイズを長さ４０ｍｍ×幅１０ｍｍ×厚さ２００μｍとし、測定試料をフィルム引っ張り測定用治具にセットし−５０〜３００℃の温度域での引張貯蔵弾性率及び損失弾性率を、周波数１Ｈｚ、昇温速度１０℃／ｍｉｎの条件下で測定し、２５℃での貯蔵弾性率（Ｅ’）を読み取ることにより得た。結果を表に１示す。
【０１２８】
（ガラス転移温度の測定）
熱硬化性樹脂組成物のガラス転移温度の測定方法は以下のとおりである。まず、熱硬化性樹脂組成物を１７５℃で１時間の加熱処理により熱硬化させ、その後厚さ２００μｍ、長さ４０ｍｍ（測定長さ）、幅１０ｍｍの短冊状にカッターナイフで切り出し、固体粘弾性測定装置（ＲＳＡＩＩＩ、レオメトリックサイエンティフィック（株）製）を用いて、−５０〜３００℃における貯蔵弾性率及び損失弾性率を測定した。測定条件は、周波数１Ｈｚ、昇温速度１０℃／ｍｉｎとした。さらに、ｔａｎδ（Ｇ’’（損失弾性率）／Ｇ’（貯蔵弾性率））の値を算出することによりガラス転移温度を得た。結果を表に１示す。
【０１２９】
（半導体装置の作製）
片面にバンプが形成されている片面バンプ付きシリコンウェハを用意し、この片面バンプ付きシリコンウェハのバンプが形成されている側の面に、作製した封止シートを、熱硬化性樹脂組成物を貼り合わせ面として貼り合わせた。片面バンプ付きシリコンウェハとしては、以下のものを用いた。また、貼り合わせ条件は以下の通りである。熱硬化性樹脂組成物の厚さＹ（＝４５μｍ）の接続部材の高さＸ（＝４５μｍ）に対する比（Ｙ／Ｘ）は、１であった。
【０１３０】
＜片面バンプ付きシリコンウェハ＞
シリコンウェハの直径：８インチ
シリコンウェハの厚さ：０．７ｍｍ（７００μｍ）
バンプの高さ：４５μｍ
バンプのピッチ：５０μｍ
バンプの材質：はんだ
【０１３１】
＜貼り合わせ条件＞
貼り付け装置：商品名「ＤＳＡ８４０−ＷＳ」、日東精機株式会社製
貼り付け速度：５ｍｍ／ｍｉｎ
貼り付け圧力：０．２５ＭＰａ
貼り付け時のステージ温度：８０℃
貼り付け時の減圧度：１５０Ｐａ
【０１３２】
上記手順に従って片面バンプ付きシリコンウェハと封止シートとを貼り合わせた後、下記条件にてシリコンウェハの裏面を研削した。
【０１３３】
＜研削条件＞
研削装置：商品名「ＤＦＧ−８５６０」、ディスコ社製
半導体ウェハ：厚さ０．７ｍｍ（７００μｍ）から０．２ｍｍ（２００μｍ）に裏面研削
【０１３４】
裏面研削後、バックグラインドテープから熱硬化性樹脂組成物とともにシリコンウェハを剥離し、シリコンウェハをダイシングテープ（ＤＵ−３００、日東電工（株）製）の粘着剤層上に貼り合わせて固定した。このとき、シリコンウェハの裏面と粘着剤層が貼り合わされており、シリコンウェハの回路面に貼り合わされた熱硬化性樹脂組成物は露出していた。
【０１３５】
次に、下記条件にて半導体ウェハのダイシングを行った。ダイシングは７．３ｍｍ角のチップサイズとなる様にフルカットした。
【０１３６】
＜ダイシング条件＞
ダイシング装置：商品名「ＤＦＤ−６３６１」ディスコ社製
ダイシングリング：「２−８−１」（ディスコ社製）
ダイシング速度：３０ｍｍ／ｓｅｃ
ダイシングブレード：
Ｚ１；ディスコ社製「２０３Ｏ−ＳＥ  ２７ＨＣＤＤ」
Ｚ２；ディスコ社製「２０３Ｏ−ＳＥ  ２７ＨＣＢＢ」
ダイシングブレード回転数：
Ｚ１；４０，０００ｒｐｍ
Ｚ２；４５，０００ｒｐｍ
カット方式：ステップカット
ウェハチップサイズ：７．３ｍｍ角
【０１３７】
次に、各封止シートの基材側からニードルによる突き上げ方式で、熱硬化性樹脂組成物と片面バンプ付き半導体チップとの積層体をピックアップした。ピックアップ条件は下記のとおりである。
【０１３８】
＜ピックアップ条件＞
ピックアップ装置：商品名「ＳＰＡ−３００」株式会社新川社製
ニードル本数：９本
ニードル突き上げ量：５００μｍ（０．５ｍｍ）
ニードル突き上げ速度：２０ｍｍ／秒
ピックアップ時間：１秒
エキスパンド量：３ｍｍ
【０１３９】
最後に、下記の熱圧着条件により、半導体チップのバンプ形成面とＢＧＡ基板とを対向させた状態で半導体チップをＢＧＡ基板に熱圧着して半導体チップの実装を行った。これにより、半導体チップがＢＧＡ基板に実装された半導体装置を得た。なお、本工程では、熱圧着条件１に続いて熱圧着条件２により熱圧着を行う２段階の処理を行った。
【０１４０】
＜熱圧着条件１＞
ピックアップ装置：商品名「ＦＣＢ−３」パナソニック製
加熱温度：１５０℃
荷重：９８Ｎ
保持時間：１０秒
【０１４１】
＜熱圧着条件２＞
ピックアップ装置：商品名「ＦＣＢ−３」パナソニック製
加熱温度：２６０℃
荷重：９８Ｎ
保持時間：１０秒
【０１４２】
（半導体装置の信頼性の評価）
実施例及び比較例に係る半導体装置を各１０サンプル作成し、−５５℃〜１２５℃を３０分で１サイクルする熱サイクルを５００サイクル繰り返した後、半導体装置を包埋用エポキシ樹脂で包埋した。次いで、半導体装置をはんだ接合部が露出するように基板に垂直な方向で切断し、露出したはんだ接合部の断面を研磨した。その後、研磨したはんだ接合部の断面を光学顕微鏡（倍率：１０００倍）により観察し、はんだ接合部が破断していない場合を「○」、はんだ接合部が１サンプルでも破断していた場合を「×」として評価した。結果を表１に示す。
【０１４３】
【表１】
2014210880.tif 000005
【０１４４】
表１から分かるように、実施例１〜４に係る半導体装置では、はんだ接合部の破断の発生が抑制されていた。一方、比較例１〜４の半導体装置でははんだ接合部が破断していた。以上より、エポキシ樹脂と、水酸基当量が２００ｇ／ｅｑ以上のノボラック型フェノール樹脂とを含む熱硬化性樹脂組成物を用いることにより、はんだ接合部の破断が抑制された高信頼性の半導体装置を製造することができることが分かる。
【符号の説明】
【０１４５】
２      熱硬化性樹脂組成物
３      半導体ウェハ
５      半導体チップ（半導体素子）
１６    被着体
２０  半導体装置
【図１】
2014210880.tif 000008
【図２Ａ】
2014210880.tif 000009
【図２Ｂ】
2014210880.tif 000010
【図２Ｃ】
2014210880.tif 000011
【図２Ｄ】
2014210880.tif 000012
【図２Ｅ】
2014210880.tif 000013
【図２Ｆ】
2014210880.tif 000014
【図３Ａ】
2014210880.tif 000015
【図３Ｂ】
2014210880.tif 000016
【図３Ｃ】
2014210880.tif 000017
【図３Ｄ】
2014210880.tif 000018