(57)【要約】【課題】床面からの突起部を無くした作業場所を確保することが可能な成膜装置を提供する。【解決手段】基板１０１の板厚方向（Ｘ方向）が水平方向となるように基板１０１を起立させた状態で、板厚方向と交差する搬送方向（Ｙ方向）に基板１０１を搬送可能な搬送装置１０を有し、内部を開放する開口部３１が形成された真空チャンバー本体３０と、真空チャンバー本体３０の開口部３１を開閉可能なチャンバー扉４０と、真空チャンバー本体３０よりも上方に設けられ、チャンバー扉４０を板厚方向に水平移動可能に案内する案内手段８０と、を備える構成とする。【選択図】図４
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板に成膜処理を行う成膜装置であって、
前記基板の板厚方向が水平方向となるように前記基板を起立させた状態で、前記板厚方向と交差する搬送方向に前記基板を搬送可能な搬送手段を有し、内部を開放する開口部が形成された真空チャンバー本体と、
前記真空チャンバー本体の前記開口部を開閉可能なチャンバー扉と、
前記真空チャンバー本体よりも上方に設けられ、前記チャンバー扉を前記板厚方向へ水平移動可能に案内する案内手段と、
を備えることを特徴とする成膜装置。
【請求項２】
前記案内手段は、
前記板厚方向に延在し、前記搬送方向に離間して配置された一対のレールと、
前記一対のレール間に掛け渡され、前記チャンバー扉と連結され、前記レールに沿って往復動可能な吊りビームと、
を有することを特徴とする請求項１に記載の成膜装置。
【請求項３】
前記搬送手段は、前記基板を着脱可能に保持する搬送トレイにより前記基板を保持して前記搬送方向に搬送し、
前記搬送トレイを前記搬送方向の上流側へ返送する返送手段を備え、
前記返送手段は、前記真空チャンバー本体の開口部と対向し、前記板厚方向に離間して配置され、
前記一対のレールは、一端側が前記真空チャンバー本体の上端に取り付けられ、他端側が前記返送手段の上端に取り付けられていることを特徴とする請求項２に記載の成膜装置。
【請求項４】
前記返送手段は、前記搬送トレイを起立状態で返送することを特徴とする請求項３に記載の成膜装置。
【請求項５】
前記吊りビームの両端部には、前記一対のレールに沿って走行可能なガイドローラーが設けられ、
前記案内手段は、前記ガイドローラーの脱線を防止する脱線防止機構を有することを特徴とする請求項２〜４の何れか一項に記載の成膜装置。
【請求項６】
前記吊りビームの両端部には、前記一対のレールに沿って走行可能なガイドローラーが設けられ、
前記案内手段は、前記ガイドローラーの蛇行を防止する蛇行防止機構を有することを特徴とする請求項２〜４の何れか一項に記載の成膜装置。
【請求項７】
前記一対のレールの一方を走行する前記ガイドローラーの周面には、周方向に連続する凹部又は凸部が形成され、
前記ガイドローラーが走行する前記レールには、前記ガイドローラーの前記凹部に対応する凸部、又は前記ガイドローラーの前記凸部に対応する凹部が形成されていることを特徴とする請求項５又は６に記載の成膜装置。
【請求項８】
前記吊りビームの前記両端部には、前記レールの延在する方向に複数の前記ガイドローラーが配置されていることを特徴とする請求項５〜７の何れか一項に記載の成膜装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、成膜装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
例えば、基板などの対象物に成膜を行う成膜装置には、基板の板厚方向が水平方向になるように基板を起立させた状態で搬送するものがある（例えば、特許文献１参照）。特許文献１に記載の成膜装置は、略垂直に起立させた基板が搬送される真空チャンバーと真空チャンバーを支持するデッキとを備えている。この真空チャンバーの側壁面には、ヒーター等の所要機構が組み込まれている。これら所要機構に対してクリーニング、交換等のメンテナンス作業をするために、該側壁面はデッキ上を移動可能な台車に取り付けられ、真空チャンバーから水平に離れる方向に台車を移動させることにより開閉可能とされている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開平１−２７２７６８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
特許文献１に記載された成膜装置では、４個の走行ローラーを設けた台車が移動される２本のレールをデッキ上に設けると共に、メンテナンス作業のための作業場所をデッキ上に確保する必要がある。しかし、レールの少なくとも一方は上向きに突出した凸形状とされるので、デッキ上における作業場所に凸部を形成するようなレールを配置することは安全上の観点から好ましくない。
【０００５】
本発明は、床面からの突起部を無くした作業場所を確保することが可能な成膜装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明は、基板に成膜処理を行う成膜装置であって、基板の板厚方向が水平方向となるように基板を起立させた状態で、板厚方向と交差する搬送方向に基板を搬送可能な搬送手段を有し、内部を開放する開口部が形成された真空チャンバー本体と、真空チャンバー本体の開口部を開閉可能なチャンバー扉と、真空チャンバー本体よりも上方に設けられ、チャンバー扉を板厚方向へ水平移動可能に案内する案内手段と、を備えることを特徴とする。
【０００７】
この成膜装置は、チャンバー扉が基板の板厚方向に水平移動可能に案内される。これにより、チャンバー扉を真空チャンバー本体から離れる方向に移動させて開口部を開くことができる。また、チャンバー扉を真空チャンバー本体へ近づける方向に移動させて開口部を閉じることができる。そして、このチャンバー扉は、真空チャンバー本体よりも上方に設けられた案内手段により水平に案内されるので、チャンバー扉の下方及びチャンバー扉が移動するデッキ上にチャンバー扉を支持及び案内するための構成を設ける必要がない。従って、床面からの突起部を無くした作業場所を確保することができる。
【０００８】
案内手段は、板厚方向に延在し、搬送方向に離間して配置された一対のレールと、一対のレール間に掛け渡され、チャンバー扉と連結され、レールに沿って往復動可能な吊りビームと、を有していてもよい。チャンバー扉が吊りビームに連結されているので、チャンバー扉の上下方向の位置調整を容易に実施することができる。
【０００９】
搬送手段は、基板を着脱可能に保持する搬送トレイにより基板を保持して搬送方向に搬送し、搬送トレイを搬送方向の上流側へ返送する返送手段を備え、返送手段は、真空チャンバー本体の開口部と対向し、板厚方向に離間して配置され、一対のレールは、一端側が真空チャンバー本体の上端に取り付けられ、他端側が返送手段の上端に取り付けられていてもよい。これにより、一対のレールは両端支持の状態とされるので、重量物であるチャンバー扉を好適に支持することができる。また、一対のレールの他端側を支持するための新たな部材を設ける必要がないので、成膜装置全体の省スペース化を図ることができる。
【００１０】
返送手段は、搬送トレイを起立状態で返送してもよい。これにより、返送手段が縦長となりレールの他端を返送手段の上端に容易に取り付けられる。従って、基板の板厚方向に対する返送手段の強度を高めることができる。
【００１１】
吊りビームの両端部には、一対のレールに沿って走行可能なガイドローラーが設けられ、案内手段は、ガイドローラーの脱線を防止する脱線防止機構を有してもよい。これにより、吊りビームに吊下げられたチャンバー扉が一対のレールから脱落すること防止して、チャンバー扉の開閉作業の安全性を向上させることができる。
【００１２】
吊りビームの両端部には、一対のレールに沿って走行可能なガイドローラーが設けられ、案内手段は、ガイドローラーの蛇行を防止する蛇行防止機構を有してもよい。これにより、吊りビームに吊下げられたチャンバー扉を円滑に水平移動させることができる。
【００１３】
一対のレールの一方を走行するガイドローラーの周面には、周方向に連続する凹部又は凸部が形成され、ガイドローラーが走行するレールには、ガイドローラーの凹部に対応する凸部、又はガイドローラーの凸部に対応する凹部が形成されてもよい。これにより、ガイドローラーの移動方向が板厚方向に規制されるので、ガイドローラーの脱線及び蛇行を好適に防止することができる。
【００１４】
吊りビームの両端部には、レールの延在する方向に複数のガイドローラーが配置されてもよい。これにより、レールの延在する方向に吊りビームが複数の点でレール上において支持されるので、レールの延在する方向へのチャンバー扉の揺れを防止してチャンバー扉を更に円滑に移動させることができる。
【発明の効果】
【００１５】
本発明によれば、床面からの突起部を無くした作業場所を確保することが可能な成膜装置が提供される。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】本発明の実施形態に係る成膜装置を示す平面図である。
【図２】チャンバー内を正面側から示す断面図である。
【図３】成膜チャンバー内を搬送方向の前面から示す断面図である。
【図４】チャンバー扉により真空チャンバー本体の開口部を開いた状態を示す斜視図である。
【図５】クランプ機構を側面から示す図である。
【図６】成膜装置を搬送方向の前面から示す断面図である。
【図７】案内手段及びチャンバー扉の一部を拡大して正面側から示す図である。
【図８】案内手段及びチャンバー扉の一部を拡大して天板側から示す図である。
【図９】案内手段、真空チャンバーの一部を拡大して搬送方向の前面から示す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
本発明に係る成膜装置について図面を参照して説明する。なお、「上」、「下」等の方向を示す語は、図面に示される状態に基づいており、便宜的なものである。また、図１〜図９には、説明を容易にするためにＸＹＺ直交座標系も示されている。
【００１８】
（成膜装置）
図１に示す成膜装置１００は、基板１０１（例えばガラス基板）に対して成膜処理等を施すためのものである。成膜装置１００は、例えばＲＰＤ法（反応性プラズマ蒸着法）による成膜を行う装置である。成膜装置１００は、プラズマを生成するプラズマガン（蒸着装置１４０）を備え、生成されたプラズマを用いて、成膜材料をイオン化し、成膜材料の粒子を基板１０１の表面に付着させることにより成膜を行う。
【００１９】
成膜装置１００は、ロードロックチャンバー１２１、バッファチャンバー１２２、成膜チャンバー（成膜室）１２３、バッファチャンバー１２４、ロードロックチャンバー１２５を備えている。これらの真空チャンバー１２１〜１２５は、この順に並んで配置されている。全ての真空チャンバー１２１〜１２５が真空容器にて構成され、真空チャンバー１２１〜１２５の出入口には、開閉ゲート１３１〜１３６が設けられている。成膜装置１００は、バッファチャンバー１２２，１２４、成膜チャンバー１２３が複数並べられている構成でもよい。また、一連の真空チャンバーによって構成されている成膜装置でもよい。
【００２０】
各真空チャンバー１２１〜１２５には、内部を適切な圧力とするための真空ポンプ（不図示）が接続されている。また、各真空チャンバー１２１〜１２５には、チャンバー内の圧力を監視するための真空計（不図示）が設置されている。各真空チャンバー１２１〜１２５には、真空ポンプに接続された真空排気管が連通され、この真空排気管に真空計が設置されている。
【００２１】
図２に示すように、成膜装置１００には、基板１０１を保持する搬送トレイ２０を搬送するための搬送装置１０が設けられている。搬送装置１０は、真空チャンバー１２１〜１２５内で、基板１０１及び搬送トレイ２０を直立させた状態で搬送する装置である（詳しくは後述する）。
【００２２】
（搬送トレイ）
次に、搬送トレイ２０について説明する。搬送トレイ２０は、本実施形態の成膜装置１００に使用可能なものであり、基板１０１を着脱可能に保持するものである。搬送トレイ２０は、基板１０１を直立させた状態で搬送する際に基板１０１を保持する。基板１０１を直立させた状態とは、基板１０１の板厚方向Ｘが水平方向となる起立状態である。このとき、基板１０１の成膜面は、上下方向（Ｚ方向）に沿って配置される。なお、基板１０１が直立した状態から傾斜した状態で、基板１０１を保持する構成でもよい。基板１０１の板厚方向Ｘが略水平な方向でもよく、水平方向より傾斜していてもよい。方向Ｘは、上下方向（Ｚ方向）と直交し、且つ、基板１０１の搬送方向Ｙと直交する方向である。
【００２３】
（真空チャンバー）
次に、真空チャンバー１２１〜１２５について説明する。図１に示すように、ロードロックチャンバー１２１は、入口側に設けられた開閉ゲート１３１を開放することで、大気開放され、処理される基板１０１、及びこの基板１０１を保持する搬送トレイ２０が導入されるチャンバーである。ロードロックチャンバー１２１の出口側は、開閉ゲート１３２を介して、バッファチャンバー１２２の入口側に接続されている。
【００２４】
バッファチャンバー１２２は、入口側に設けられた開閉ゲート１３２を開放することで、ロードロックチャンバー１２１と連通され、ロードロックチャンバー１２１を通過した基板１０１が導入される圧力調整用チャンバーである。バッファチャンバー１２２の出口側は、開閉ゲート１３３を介して、成膜チャンバー１２３の入口側に接続されている。また、バッファチャンバー１２２には、基板１０１を加熱するためのヒーター（不図示）が設けられている。このヒーターは、基板１０１の成膜面（成膜される面）を加熱すべく、成膜面と対向して配置されている。本実施形態では、基板１０１は直立状態で配置されているため、成膜面は、上下方向に沿って配置されている。バッファチャンバー１２２では、基板温度が例えば２００℃程度になるように加熱する。バッファチャンバー１２２は、成膜チャンバー１２３の前段に設置され、基板１０１を加熱する加熱用チャンバーとして機能する。
【００２５】
ヒーターとしては、例えばランプヒーターを使用することができる。ランプヒーターは、棒状を成し、上下方向（Ｚ方向）に延在している。ランプヒーターは、バッファチャンバー１２２内に複数本（例えば１２本）設置され、搬送方向Ｌ（Ｙ方向）に所定の間隔を空けて配置されている。ヒーターの熱は基板１０１に伝熱され、基板１０１が加熱される。
【００２６】
成膜チャンバー１２３は、入口側に設けられた開閉ゲート１３３を開放することで、バッファチャンバー１２２と連通され、バッファチャンバー１２２を通過した基板１０１及び搬送トレイ２０が導入され、基板１０１に薄膜層を成膜する処理チャンバーである。成膜チャンバー１２３の出口側は、開閉ゲート１３４を介して、バッファチャンバー１２４の入口側に接続されている。
【００２７】
成膜チャンバー１２３には、基板１０１に成膜材料（薄膜層）を成膜するための蒸着装置１４０が設置されている。蒸着装置１４０は、成膜材料を保持する主ハース、プラズマビームを主ハースへ照射するプラズマガン等で構成される。また、成膜チャンバー１２３には、基板１０１を加熱するためのヒーターが設けられている。このヒーターは、例えば基板１０１を背面１０１ｆ（成膜面１０１ｅと反対側の面）側から基板１０１を加熱するように設置されている（図３参照）。成膜チャンバー１２３では、基板温度が例えば２００℃程度に維持される。
【００２８】
バッファチャンバー１２４は、入口側に設けられた開閉ゲート１３４を開放することで、成膜チャンバー１２３と連通され、成膜チャンバー１２３によって成膜された基板１０１及びこれを保持する搬送トレイ２０が導入される圧力調整用チャンバーである。バッファチャンバー１２４の出口側は、開閉ゲート１３５を介して、ロードロックチャンバー１２５の入口側に接続されている。また、バッファチャンバー１２４には、基板１０１を冷却するための冷却板（不図示）が設けられている。この冷却板は、基板１０１の成膜面を冷却すべく、基板１０１の成膜面に対向して配置されている。基板１０１の背面１０１ｆ側から、基板１０１を冷却する冷却板を備える構成でもよい。バッファチャンバー１２４では、基板温度が例えば１２０℃程度になるように冷却される。バッファチャンバー１２４は、成膜チャンバー１２３の後段に設置され、基板１０１を冷却する冷却用チャンバーとして機能する。なお、バッファチャンバー１２４に冷却手段が設置されていない構成でもよい。真空チャンバーから出た後の大気圧環境において、基板１０１を大気により冷却（空冷）する構成でもよい。
【００２９】
真空チャンバー１２１〜１２５の構成について更に詳細に説明する。図２〜図４に示すように、真空チャンバー１２１〜１２５は、箱型を成し、天板１５１、底板１５２、背面壁１５４、入側壁１５５、及び出側壁１５６を有する真空チャンバー本体３０と、正面壁１５３を構成するチャンバー扉４０とを備えている。なお、図２及び図３では、チャンバー扉４０の図示を省略している。
【００３０】
（真空チャンバー本体）
図２及び図３に示すように、真空チャンバー本体３０を構成する天板１５１及び底板１５２は、上下方向（Ｚ方向）に対向して配置された壁体である。真空チャンバー本体３０を構成する入側壁１５５及び出側壁１５６は、搬送方向Ｙに対向して配置された壁体である。入側壁１５５は、基板１０１及び搬送トレイ２０が真空チャンバー１２１〜１２５内に搬入される側である入口側の壁体である。出側壁１５６は、基板１０１及び搬送トレイ２０が真空チャンバー１２１〜１２５の外へ搬出される側である出口側の壁体である。真空チャンバー本体３０を構成する背面壁１５４（図３参照）は、基板１０１の板厚方向（Ｘ方向）に対向して配置された壁体である。
【００３１】
入側壁１５５には、搬送トレイ２０及び基板１０１を、真空チャンバー１２１〜１２５内へ搬入させるための入口（開口部）１５５ａが形成されている。出側壁１５６には、搬送トレイ２０及び基板１０１を、真空チャンバー１２１〜１２５の外へ搬出させるための出口（開口部）１５６ａが形成されている。
【００３２】
図３に示すように、成膜チャンバー１２３は、背面壁１５４の少なくとも一部が、外方（基板１０１が搬送される搬送経路から離れる方向）に張り出すように配置されることで、凹部１５４ａが形成されている。この凹部１５４ａには、上記の蒸着装置１４０が配置されている。成膜チャンバー１２３では、プラズマガンによってプラズマを生成し、主ハースに保持された成膜材料を加熱して蒸発させる。成膜材料が蒸発してイオン化され、成膜材料の粒子が凹部１５４ａ内に拡散する。凹部１５４ａ内に拡散した成膜材料の粒子は、基板１０１に向けて飛行し、基板１０１の表面（成膜面１０１ｅ）に付着する。
【００３３】
天板１５１及び底板１５２は、搬送方向Ｙの一方の端部において、入側壁１５５と接合され、搬送方向Ｙの他方の端部において、出側壁１５６と接合されている（図２参照）。背面壁１５４は、搬送方向Ｙの一方の端部において、入側壁１５５と接合され、搬送方向Ｙの他方の端部において、出側壁１５６と接合されている。天板１５１及び底板１５２は、背面側で背面壁１５４と接合されている。これらの壁体１５１，１５２，１５４〜１５６は、例えば溶接により一体的に結合されている。
【００３４】
真空チャンバー本体３０は、真空領域を画成する６つの面のうちの５つの面を構成する天板１５１，底板１５２，背面壁１５４，入側壁１５５，及び出側壁１５６を備えている。このため、真空チャンバー本体３０は、正面壁１５３を備えておらず、正面壁１５３により構成される領域が真空チャンバー１２１〜１２５の内部を開放する開口部３１となる（図３，４参照）。真空チャンバー本体３０の開口部３１を画成する天板１５１，底板１５２，入側壁１５５，及び出側壁１５６の端面は、後述するチャンバー扉４０と当接する。このチャンバー扉４０と当接する端面上の領域に沿ってＯリングが配置されている。
【００３５】
（チャンバー扉）
次に、チャンバー扉４０について説明する。図４に示すように、チャンバー扉４０は、真空チャンバー１２１〜１２５の開口部３１を開放又は閉鎖する扉である。チャンバー扉４０は、真空チャンバー１２１〜１２５の開口部３１を閉鎖させたときに真空チャンバー１２１〜１２５の正面壁１５３として機能し、真空チャンバー本体３０と協働して真空領域を画成する。チャンバー扉４０は、開口部３１に対向する位置に配置され、後述する案内手段８０により板厚方向（Ｘ方向）に移動可能に上方から支持されている。すなわち、チャンバー扉４０は、案内手段８０から吊下げられて、真空チャンバー本体３０に対して離間する方向と、近接する方向とに移動可能となっている。
【００３６】
チャンバー扉４０は、Ｘ方向から見て開口部３１を完全に覆う平板状の扉本体４１を有している。
【００３７】
主面４１ａの反対側の裏面４１ｂには、扉本体４１の法線方向の強度を高めるためのリブ４２が設けられている。このリブ４２は、格子状に配置された複数の第１のリブ４２ａと複数の第２のリブ４２ｂとを含んでいる。第１のリブ４２ａは、平板状の形状を有し搬送方向（Ｙ方向）を板厚方向とするように扉本体４１に対して固定されている。第２のリブ４２ｂは、平板状の形状を有し上下方向（Ｚ方向）を板厚方向とするように扉本体４１に対して固定されている。これら第１及び第２のリブ４２ａ，４２ｂにより、チャンバー扉４０の法線方向（Ｘ方向）の強度が高まるので、真空チャンバー１２１〜１２５内を減圧したときのチャンバー扉４０の変形が抑制される。
【００３８】
チャンバー扉４０の裏面４１ｂには案内手段８０と連結するための２つの連結ブラケット４３が固定されている（図７参照）。連結ブラケット４３は、チャンバー扉４０の裏面４１ｂの上部に２つ固定され、それぞれの連結ブラケット４３は互いに搬送方向（Ｙ方向）に離間している。連結ブラケット４３の詳細は後述する。
【００３９】
（クランプ機構）
次に、図５に示されたクランプ機構５０について説明する。チャンバー扉４０により真空チャンバー本体３０の開口部３１を塞いだ後に真空チャンバー１２１〜１２５内を減圧する。このときチャンバー扉４０と真空チャンバー本体３０との間に隙間があると、真空チャンバー１２１〜１２５内を減圧することができない。従って、チャンバー扉４０と真空チャンバー本体３０との間に隙間がない状態において、真空ポンプ等による減圧が開始される。このクランプ機構５０は、真空チャンバー本体３０のＯリングとチャンバー扉４０との間の隙間をなくすために、チャンバー扉４０を真空チャンバー本体３０に押し付けるためのものである。
【００４０】
クランプ機構５０は、真空チャンバー本体３０及びチャンバー扉４０の四隅のそれぞれに設けられている（図４参照）。クランプ機構５０は、真空チャンバー本体３０の天板１５１に固定されたベース部５１と、ベース部５１に連結されたエアシリンダー５２と、ベース部５１及びエアシリンダー５２に連結されたクランプ部５３と、チャンバー扉４０に設けられた受け部５４とを有している。
【００４１】
エアシリンダー５２は、シリンダーチューブ５２ａと、シリンダーチューブ５２ａの内部において往復動するピストン（不図示）と、一端がピストンに接続され、他端がシリンダーチューブ５２ａの外部に突出したピストンロッド５２ｂとを有している。シリンダーチューブ５２ａの後端はベース５１に対して回動可能に連結されている。ピストンロッド５２ｂの他端はクランプ部５３の一端５３ａに回動可能に連結されている。クランプ部５３は、略クランク状の形状を有し、エアシリンダー５２の軸５２ｂに連結された一端５３ａと、ベース部５１に回動可能に連結された支持部５３ｂと、チャンバー扉４０に当接してチャンバー扉４０を真空チャンバー本体３０側に押圧するローラー５５が設けられた他端５３ｃとを含んでいる。
【００４２】
図５は、クランプ機構５０によりチャンバー扉４０を真空チャンバー本体３０側に押圧して、真空チャンバー本体３０の開口部３１を閉鎖した状態を示している。このとき、エアシリンダー５２は軸５２ｂを基板１０１の板厚方向（正のＸ方向）に移動させている。この移動に伴い、軸５２ｂに連結されたクランプ部５３の一端５３ａが所定角度だけ回動している。この一端５３ａの回動に伴い、クランプ部５３の他端５３ｃが下方であって真空チャンバー本体３０側へ移動して、ローラー５５が受け部５４に嵌合している。従って、チャンバー扉４０が真空チャンバー本体３０に押圧されている。
【００４３】
真空チャンバー本体３０の開口部３１を開放する場合には、エアシリンダー５２の軸５２ｂを逆方向に移動させる。この移動に伴い、クランプ部５３の一端５３ａが板厚方向における逆方向（負のＸ方向）に移動すると共に、他端５３ｃが上方に移動してチャンバー扉４０の受け部５４からローラー５５が離間する。これにより、チャンバー扉４０のクランプ状態が解除される。
【００４４】
（搬送装置）
次に、基板１０１を搬送する搬送装置１０について説明する。図２及び図３に示すように、搬送手段である搬送装置１０は、基板１０１の下端側に配置された複数の搬送ローラー１１と、基板１０１の上端側に配置された複数の従動ローラー（ガイドローラー）１２，１３とを備えている。
【００４５】
複数の搬送ローラー１１は、搬送方向Ｙに所定の間隔で配置されている。搬送ローラー１１は、図３に示すように、Ｘ方向に延在する回転軸１４に固定されている。回転軸１４は、一対の軸受け１９によって回転可能に支持されている。一対の軸受け１９は、底板１５２に固定されている。
【００４６】
回転軸１４は、真空チャンバー１２１〜１２５の背面壁１５４に設けられた開口部１５４ａに挿通されている。開口部１５４ａには、回転軸１４を回転可能に支持し真空チャンバー１２１〜１２５内と外部環境との間を封止する軸封装置１５が設けられている。軸封装置１５として、例えば磁性流体軸受けを使用することができる。回転軸１４は、背面壁１５４を貫通して、真空チャンバー１２１〜１２５の内部から外部まで延在している。なお、回転軸１４は、一体物として構成されているものでもよく、複数の部材を軸線方向に連結することで構成されているものでもよい。
【００４７】
真空チャンバー１２１〜１２５の外部には、回転軸１４を回転駆動するための駆動源（例えば電動モーター）１６が設置されている。駆動源１６から出力された駆動力は、ベルト車１７及び無端ベルト１８を有する動力伝達機構によって複数の回転軸１４に伝達される。回転軸１４の真空チャンバー１２１〜１２５の外部に配置された端部には、複数のベルト車１７が取り付けられている。搬送方向Ｙに隣接する回転軸１４に設けられたベルト車１７には、無端ベルト１８が架け渡されている。同様に、駆動源１６の出力軸には、ベルト車１７が取り付けられ、出力軸のベルト車１７及び隣接する回転軸１４に取り付けられたベルト車１７には、無端ベルト１８が架け渡されている。これにより、駆動源１６から出力された駆動力を分配して、複数の回転軸１４を回転駆動させることができる。なお、動力伝達機構は、無端ベルト１８及びベルト車１７を備えるものに限定されず、その他の動力伝達機構でもよい。例えば、チェーン及びスプロケットを備えるものでもよく、その他の動力伝達軸などを備えるものでもよい。
【００４８】
また、搬送ローラー１１は、搬送トレイ２０の下端部の両側を挟むように配置された一対のつば部を有する構成でもよい。これにより、つば部が、搬送トレイ２０のレールの側面（Ｘ方向に対向する面）に当接して、搬送トレイ２０のＸ方向の位置を規制する。
【００４９】
従動ローラー１２，１３は、搬送方向Ｙに所定の間隔で配置されている。従動ローラー１２，１３は、Ｚ方向に延在する軸回りに回転可能に、天板１５１に支持されている。従動ローラー１２，１３として、ころがり軸受けを使用することができる。従動ローラー１２，１３は、その他の回転体でもよい。従動ローラー１２，１３は、搬送トレイ２０との接触時の回転を衝撃なく円滑に行うため、回転慣性が小さい方が好ましい。従動ローラー１２，１３は、搬送トレイ２０のガイド溝の内壁に当接可能であり、搬送トレイ２０の移動に従って回転する。
【００５０】
（架台）
次に、真空チャンバー１２１〜１２５を支持するチャンバー架台６０について説明する。図６に示すように、チャンバー架台６０は、真空チャンバー１２１〜１２５を支持するためのものである。チャンバー架台６０は、例えば断面矩形状の構造用鋼管により構成された架台本体６１と、真空チャンバー１２１〜１２５の底板１５２に固定された鉛直支持部６２と、背面壁１５４に固定された水平支持部６３とを有している。また、チャンバー架台６０は、後述するレール８２，８３を支持するレール支持部６４を有している。
【００５１】
（レイアウト）
搬送装置１０は、図１に示すように、真空チャンバー１２５から排出された搬送トレイを搬送（返送）し、真空チャンバー１２１へ再び搬入する。搬送装置１０は、搬送トレイ２０を繰り返し使用できるように、搬送トレイ２０の搬送経路Ｌ（Ｌ１〜Ｌ４）が平面視において矩形の周回軌道（搬送経路Ｌ）を成すように形成されている。
【００５２】
搬送トレイ２０の搬送経路は、図示Ｙ方向に延在する第１搬送経路Ｌ１と、第１搬送経路Ｌ１の下流で図示Ｘ方向に延在する第２搬送経路Ｌ２と、第２搬送経路Ｌ２の下流でＹ方向に延在し、第１搬送経路Ｌ１と逆方向に搬送トレイ２０を搬送する第３搬送経路Ｌ３と、第３搬送経路Ｌ３の下流でＸ方向に延在し、第２搬送経路Ｌ２と逆方向に搬送トレイ２０を搬送する第４搬送経路Ｌ４とを備えている。第４搬送経路Ｌ４の下流側は、第１搬送経路Ｌ１の上流側に接続している。
【００５３】
第１搬送経路Ｌ１、第２搬送経路Ｌ２、第３搬送経路Ｌ３、及び第４搬送経路Ｌ４は、平面視において、直線的に形成されている。第１搬送経路Ｌ１及び第３搬送経路Ｌ３は、平行に配置され、第２搬送経路Ｌ２及び第４搬送経路Ｌ４は、平行に配置されている。搬送トレイ２０は、第１搬送経路Ｌ１、第２搬送経路Ｌ２、第３搬送経路Ｌ３、及び第４搬送経路Ｌ４を通過して、再び、第１搬送経路Ｌ１へ進入する。上記の真空チャンバー１２１〜１２５は、第１搬送経路Ｌ１を構成している。
【００５４】
第１搬送経路Ｌ１及び第３搬送経路Ｌ３では、搬送トレイ２０は、板厚方向と交差する方向（Ｙ方向）に搬送される。第２搬送経路Ｌ２及び第４搬送経路Ｌ４では、搬送トレイ２０は、板厚方向（Ｘ方向）に搬送される。これにより、各搬送経路の接続点において、搬送トレイ２０は、姿勢を変更せずに搬送方向を変更するので、装置全体としての搬送時間を短縮することができる。また、搬送トレイ２０の姿勢を変更する機構が必要なくなるので、装置が複雑化されるのを防止することができる。
【００５５】
成膜装置１００は、成膜前の基板１０１を水平状態で搬送し、周回軌道（Ｌ１〜Ｌ４）の外側から内側へ通過させる第５搬送経路Ｌ５（基板搬送機構）と、成膜後の基板１０１を水平状態で搬送し、周回軌道（Ｌ１〜Ｌ４）の内側から外側へ通過させる第６搬送経路Ｌ６とを備えている。
【００５６】
第５搬送経路Ｌ５は、ロードロックチャンバー１２１の上流側で、第１搬送経路Ｌ１を横切るようにＸ方向に形成されている。第５搬送経路Ｌ５と第１搬送経路Ｌ１との交差点には、基板１０１を搬送トレイ２０に装着するための基板装着装置１６０Ａが配置されている。第５搬送経路Ｌ５は、周回軌道の外側でＸ方向に基板１０１を搬送する基板搬入コンベア１９５、基板装着装置１６０Ａの搬送ローラーによって構成されている。成膜前の基板１０１は、第５搬送経路Ｌ５を通過して、第１搬送経路Ｌ１を横切って、周回軌道の外側から内側に搬入されて、成膜装置１００に受け入れられる。なお、基板装着装置１６０Ａは、搬送トレイ２０を支持するトレイ傾転フレームを備えている。また、基板装着装置１６０Ａは、搬送トレイ２０を直立状態で保持する第１の姿勢と、搬送トレイ２０を水平状態で保持する第２の姿勢に、トレイ傾転フレームの姿勢を切替え可能な構成となっている。また、第５搬送経路Ｌ５は、例えば、第３搬送経路Ｌ３、第４搬送経路Ｌ４などその他の搬送経路を横切るように形成されていてもよい。
【００５７】
第６搬送経路Ｌ６は、ロードロックチャンバー１２５の下流側で、第１搬送経路Ｌ１を横切るようにＸ方向に形成されている。第６搬送経路Ｌ６と第１搬送経路Ｌ１との交差点には、基板１０１を搬送トレイ２０から取り外すための基板離脱装置１６０Ｂが配置されている。なお、基板離脱装置１６０Ｂは、基板装着装置１６０Ａと同様の構成を有している。
【００５８】
第６搬送経路Ｌ６は、第５搬送経路Ｌ５とは逆方向に基板１０１を搬送する。第６搬送経路Ｌ６は、周回軌道の外側でＸ方向に基板を搬送する基板搬出コンベア１９６、基板離脱装置１６０Ｂの搬送ローラーによって構成されている。成膜後の基板１０１は、基板離脱装置１６０Ｂによって、搬送トレイ２０から取り外された後、第６搬送経路Ｌ６を通過して、第１搬送経路Ｌ１を横切って、周回軌道の内側から外側へ搬送され、成膜後の基板１０１が回収される。回収された基板１０１は、成膜装置１００外へ搬出される。なお、第６搬送経路Ｌ６は、例えば、第２搬送経路Ｌ２、第３搬送経路Ｌ３などその他の搬送経路を横切るように形成されていてもよい。
【００５９】
（返送手段）
ここで、返送手段であるリターンコンベア６５について説明する。リターンコンベア６５は、真空チャンバー１２１〜１２５に設けられた搬送装置１０の搬送方向Ｌ１と逆方向に搬送トレイ２０を搬送する第３搬送経路Ｌ３を構成するものである。図６に示されるように、リターンコンベア６５はメインフレーム６６と、メインフレーム６６に配置された搬送装置６７とを有している。メインフレーム６６は、搬送トレイ２０が搬送される空間を画成するものであり、例えば複数の構造用鋼管が組み合わされて構成されている。
【００６０】
メインフレーム６６内では、搬送トレイ２０を起立状態で上流側へ返送する。そのため、メインフレーム６６は、基板１０１の厚さ方向（Ｘ方向）の長さに対して、上下方向（Ｚ方向）及び搬送方向（Ｙ方向）の長さが大きい壁状の外形形状を有している。搬送装置６７は、真空チャンバー１２１〜１２５に設けられた搬送装置１０と類似した構成を有している。搬送装置６７は、搬送トレイ２０の下端面側に配置された複数の搬送ローラーと、搬送トレイ２０の上端側に配置された複数の従動ローラーを備えている。
【００６１】
（メンテナンスデッキ）
次に、メンテナンスデッキ７０について説明する。メンテナンスデッキ７０は、真空チャンバー１２１〜１２５のメンテナンス作業等を行う場合に作業者Ｍが立ち入る作業場所を確保するためのものである。また、真空チャンバー１２１〜１２５に接続される配管及び配線７１を設置するためのユーティリティとしての機能を有している。
【００６２】
メンテナンスデッキ７０は、真空チャンバー１２１〜１２５とリターンコンベア６５との間に設置されている。メンテナンスデッキ７０は、真空チャンバー１２１〜１２５の底板１５２よりも僅かに下側に位置する床板７２と、床板７２を支持する複数の脚部７３とを備えている。メンテナンスデッキ７０の床板７２と成膜装置１００が設置された床面Ｇとの間には、真空チャンバー１２１〜１２５に接続される配管及び配線７１が配い回される。また、メンテナンスデッキ７０の床板７２は、真空チャンバー１２１〜１２５の底板１５２よりも僅かに下側に配置されているので、床板７２とチャンバー扉４０の下端４０ａとの間には所定の空隙Ｈが形成されている。
【００６３】
（案内手段）
次に、案内手段について説明する。図６〜図９に示されるように、案内手段８０は、チャンバー扉４０を吊下げると共に、チャンバー扉４０を板厚方向（Ｘ方向）に水平移動可能に案内するためのものである。案内手段８０は、板厚方向（Ｘ方向）に延在する一対のレール組８１と、レール組８１に含まれた２本のレール８２，８３との間に架け渡された吊りビーム８４とを有している。
【００６４】
（レール）
図６に示されるように、レール８２，８３の第１の端部Ｅ１は、取付部材１５１ａを介して真空チャンバー本体３０の上端である天板１５１に取り付けられている。より詳細には、天板１５１の開口部３１側においてレール８２，８３が天板１５１に取り付けられている。また、レール８２，８３の第１の端部Ｅ１の先端は、チャンバー架台６０のレール支持部６４に取り付けられている。レール８２，８３の第２の端部Ｅ２はリターンコンベア６５のメインフレーム６６の上端６６ａに取り付けられている。チャンバー架台６０のレール支持部６４と、真空チャンバー１２１〜１２５の天板１５１と、リターンコンベア６５のメインフレーム６６の上端６６ａは略同じ高さとされているので、これらに取り付けられたレール８２，８３は、水平状態を保っている。
【００６５】
図７に示されるように、レール８２，８３は、例えば、断面コ字状（チャンネル形状）の溝型鋼であり、搬送方向（Ｙ方向）に互いに離間して水平に配置されている。レール８２，８３は、ウエブＷと、ウエブＷに対して直交する方向にウエブＷの両端から立設した２つのフランジＦとを有し、ウエブＷ及びフランジＦにより囲まれた凹部８２ａ，８３ａを有している。２つのレール８２，８３は、この凹部８２ａ，８３ａが互いに向かい合うように配置されている。
【００６６】
一方のレール８２の下側のフランジＦ１にはガイド８５が配置されている。また、他方のレール８３の下側のフランジＦ１にはガイド８６が配置されている。ガイド８５，８６は、後述するガイドローラー９６，９７が走行する走行路である。ガイド８５は、基板１０１の板厚方向（Ｘ方向）に延在し、ガイドローラー９６との接触面８７にはガイドローラー９６の凹部９６ａに対応する凸部８７ａが板厚方向（Ｘ方向）に延在して設けられている。ガイド８６は、板厚方向（Ｘ方向）に延在し、ガイドローラー９７との接触面８８は略平坦に形成されている。
【００６７】
（吊りビーム）
吊りビーム８４は、レール８２，８３の間に掛け渡された主ビーム９１と、主ビーム９１の両端のそれぞれに固定されたローラー保持部９２とを有している。吊りビーム８４は、Ｚ方向から見て略Ｈ状の外形形状を有している（図８参照）。
【００６８】
主ビーム９１には、例えば断面矩形状の構造用鋼管を用いることができる。主ビーム９１には、チャンバー扉４０の連結ブラケット４３と連結される吊下ブラケット９３が固定されている。吊下ブラケット９３は、連結ブラケット４３に対して上下方向（Ｚ方向）に対応する位置に設けられている。
【００６９】
連結ブラケット４３と吊下ブラケット９３とは、ネジ部が形成された連結ボルト９４により連結されている。より詳細には、連結ボルト９４は一端９４ａ側に位置決め用のナット９５が配置され、他端９４ｂ側から連結ブラケット４３の貫通穴に挿通される。貫通穴は、ナット９５の外径よりも小さい内径を有している。従って、連結ブラケット４３は、ナット９５により支持されることになる。なお、このナット９５を回転させることによりナット９５の位置が上下方向に移動されるので、チャンバー扉４０の上下方向の位置を容易に調整することができる。そして、連結ボルト９４の他端９４ｂは吊下ブラケット９３に設けられた雌ネジ部に螺合されて固定されることにより、吊りビーム８４にチャンバー扉４０が連結される。
【００７０】
ローラー保持部９２は、レール８２，８３が延びた方向を長手方向として配置され、ローラー保持部９２の長手方向の略中央において主ビーム９１に溶接固定されている（図８及び図９参照）。それぞれのローラー保持部９２の両端部には、ガイドローラー９６，９７が回転自在に取り付けられている。即ち、本実施形態のローラー保持部９２には２つのガイドローラー９６，９７が取り付けられている。
【００７１】
図７に示されるように、レール８２の凸部８７ａを有するガイド８５上を転動するガイドローラー９６は、レール８２の凸部８７ａに対応する形状の周方向に連続する凹部９６ａを有している。このようにレール８２の凸部８７ａとガイドローラー９６の凹部９６ａとが組み合わされることにより、ガイド８５上におけるガイドローラー９６の移動方向はＸ方向のみに規制されるので、吊りビーム８４の蛇行及び脱線が防止される。従って、本実施形態の蛇行防止機構及び脱線防止機構は、レール８２の凸部８７ａとガイドローラー９６の凹部９６ａとにより構成される。なお、レール８３のガイド８６上を転動するガイドローラー９７は、レール８３のガイド８６上を転動する平坦な円周面９７ａを含む円筒形状を有している。
【００７２】
成膜装置１００では、チャンバー扉４０が基板１０１の板厚方向（Ｘ方向）に水平移動可能に案内されるので、チャンバー扉４０を真空チャンバー本体３０から離れる方向（正のＸ方向）に移動させることにより、開口部３１を開くことができる。また、チャンバー扉４０を真空チャンバー本体３０へ近づける方向（負のＸ方向）に移動させることにより、開口部３１を閉じることができる。そして、このチャンバー扉４０は案内手段８０により下げられると共に水平方向（Ｘ方向）に案内される。これによれば、チャンバー扉４０の下方及びチャンバー扉４０が移動するメンテナンスデッキ７０上にチャンバー扉４０を移動及び支持するためのレール等の部材を設ける必要がない。従って、メンテナンスデッキ７０の床板７２からの突起部を無くした作業場所を確保することができる。
【００７３】
チャンバー扉４０は、チャンバー扉４０に固定された連結ブラケット４３、吊りビーム８４に固定された吊下ブラケット９３及び連結ボルト９４により吊りビーム８４に吊下げられている。従って、チャンバー扉４０の上下方向（Ｚ方向）の位置調整を容易に実施することができる。さらに、チャンバー扉４０を吊下げる構成によれば、真空チャンバー１２１〜１２５の減圧作業時において、真空チャンバー本体３０に対するチャンバー扉４０の馴染み性を高めることができる。
【００７４】
ところで、メンテナンスデッキの床面に設けられたレール等によりチャンバー扉が案内及び支持される場合には、チャンバー扉を移動させる際に転倒する虞がある。このため、チャンバー扉の転倒を防止するためにチャンバー扉の下部に転倒防止用の支持構造を設ける必要がある。さらに、メンテナンスデッキの床面に設けられたレール等によりチャンバー扉を支持する場合には、チャンバー扉が重量物であるために、メンテナンスデッキの強度を高める必要がある。一方、本実施形態のチャンバー扉４０は吊りビーム８４に連結されて吊下げられているので転倒することがなく、転倒防止用の支持構造を設ける必要もない。従って、チャンバー扉４０の開閉作業の安全性を向上できると共に、チャンバー扉４０の開閉領域の省スペース化を図ることができる。そして、メンテナンスデッキ７０がチャンバー扉４０の重量を支持しないので、強度メンバの追加等によるメンテナンスデッキ７０の構造の複雑化を抑制して、メンテナンスデッキ７０の構造をシンプルにできる。
【００７５】
一対のレール８１は、一端側が真空チャンバー本体３０に取り付けられ、他端側がリターンコンベア６５に取り付けられている。これにより、一対のレール８１は両端支持の状態とされるので、重量物であるチャンバー扉４０を好適に吊下げることができる。
【００７６】
さらに、一対のレール８１の一端側の先端は、チャンバー架台６０にも取り付けられているので、一対のレール８１の取付強度を更に高めることができる。また、真空チャンバー本体３０の天板１５１に一対のレール８１が取り付けられているので、天板１５１の法線方向における強度を高めることにより真空チャンバー１２１〜１２５の減圧時における天板１５１の変形を抑制できる。さらに、天板１５１において変形しやすい開口部３１近傍においてレール８２，８３が天板１５１に取り付けられているので、より好適に天板１５１の変形を抑制できる。また、一対のレール８１の他端側を支持するための新たな部材を設ける必要がないので、成膜装置１００全体の省スペース化を図ることができる。
【００７７】
リターンコンベア６５は、搬送トレイ２０を起立状態で返送する。これにより、リターンコンベア６５のメインフレーム６６が縦長となりレール８２，８３の他端をメインフレーム６６の上端に容易に取り付けられる。また、リターンコンベア６５のメインフレーム６６は、単体では壁状の外形形状を有しているので、上下方向（Ｚ方向）の強度に比べて搬送方向（Ｙ方向）に直交する方向（Ｘ方向）の強度が弱い。本実施形態のメインフレーム６６は、上端がレール８２，８３に取り付けられている。従って、レール８２，８３が搬送方向（Ｙ方向）に直交する板厚方向（Ｘ方向）への強度メンバとして作用するので、板厚方向（Ｘ方向）の強度を高めることができる。さらに、メインフレーム６６の板厚方向（Ｘ方向）の強度がレール８２，８３により補強されるので、メインフレーム６６のＸ方向の幅寸法を小さくすることができる。
【００７８】
吊りビーム８４の両端部には、一対のレール８１に沿って走行可能なガイドローラー９６，９７が設けられている。案内手段８０は、ガイドローラー９６，９７の脱線を防止する脱線防止機構を有している。これにより、一対のレール８１から吊りビーム８４に支持されたチャンバー扉４０の脱落を防止して、チャンバー扉４の開閉作業の安全性を向上させることができる。
【００７９】
案内手段８０は、ガイドローラー９６，９７の蛇行を防止する蛇行防止機構を有している。これにより、吊りビーム８４に支持されたチャンバー扉４０を円滑に水平移動させることができる。また、チャンバー扉４０はレール８２，８３に対して平行に移動されるため、チャンバー扉４０に対して回転モーメントが作用しないように複数の作業者Ｍにより均等にチャンバー扉４０を押す又は引く必要はなく、作業者Ｍが一人でチャンバー扉４０を開閉させることができる。
【００８０】
レール８２を走行するガイドローラー９６の周面には、周方向に連続する凹部９６ａ形成され、ガイドローラー９６が走行するレール８２のガイド８５には、ガイドローラー９６の凹部９６ａに対応する凸部８７ａが形成されている。これにより、ガイドローラー９６の移動方向が板厚方向（Ｘ方向）のみに規制されるので、ガイドローラー９６の脱線及び蛇行を好適に防止することができる。
【００８１】
吊りビーム８４の両端部には、レール８２，８３の延在する方向（Ｘ方向）に複数のガイドローラー９６，９７が配置されている。これにより、レール８２，８３の延在する方向（Ｘ方向）に吊りビーム８４が複数の点でレール８２，８３上において支持されるので、レール８２，８３の延在する方向（Ｘ方向）へのチャンバー扉４０の揺れを防止してチャンバー扉４０を更に円滑に移動させることができる。
【００８２】
以上、本発明をその実施形態に基づき具体的に説明したが、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。本発明の成膜装置は、イオンプレーティング法に限定されず、その他の成膜法（例えばスパッタリング法など）を適用してもよい。
【００８３】
本発明の成膜装置及び成膜装置用トレイは、基板を直立させて搬送するものに限定されず、基板を傾斜させて搬送するものでもよい。例えば、上記の成膜装置及び搬送トレイを傾けることで、傾斜した基板を搬送する構成でもよい。例えば、搬送ローラーの周面が、回転軸線と交差するように形成されているものでもよい。基板を傾斜させて支持する搬送トレイを用いて、基板を搬送する成膜装置でもよい。基板を傾ける場合の傾斜角度は、鉛直方向に対して０°〜１５°程度とすることができる。
【００８４】
本発明の案内手段８０は、ガイドローラー９６に凸部が形成され、レール８２のガイド８５に凹部が形成され、該凹部に対応する凸部がガイドローラー９６に形成される構成であってもよい。また、このようなガイド８５及びガイドローラー９６の凹凸は、レール８２側だけでなく、レール８３側のガイド８６及びガイドローラー９７に設けられていてもよい。また、一のレール８２，８３上を走行するガイドローラー９６，９７の数は２個に限定されず、ローラー保持部９２が２個以上のガイドローラー９６，９７を有していてもよい。
【００８５】
本発明では作業者Ｍが手動によりチャンバー扉４０を移動させる構成であったが、吊りビーム８４を水平方向に駆動する駆動源を用いてチャンバー扉４０を移動させてもよい。例えば、ガイドローラー９６，９７を回転させるための高トルクモーターを駆動源として用いることができ、また、ボールねじを用いたリニアガイドを駆動源として用いてもよい。
【００８６】
本発明において真空チャンバー１２１〜１２５の正面壁１５３の全体がチャンバー扉４０とされていたが、正面壁１５３の一部がチャンバー扉４０とされてもよい。この場合、例えば正面壁１５３は、天板１５１、底板１５２、背面壁１５４、入側壁１５５、及び出側壁１５６に固定され、矩形状の開口部を有する略ロ字の正面壁部と、水平方向に移動可能とされた開口部を塞ぐチャンバー扉とにより構成されてもよい。
【００８７】
本発明では、真空チャンバーの内部を開放する開口部３１及び開口部３１を塞ぐチャンバー扉４０は正面壁１５３側に設けられていたが、開口部及びチャンバー扉は背面壁１５４側に設けられていてもよい。また、開口部及びチャンバー扉は正面壁１５３側と背面壁１５４側の両方に設けられていてもよい。
【００８８】
本発明では、案内手段８０が蛇行防止機構及び脱線防止機構のためのレール８２の凸部８７ａとガイドローラー９６の凹部９６ａとを有していた。案内手段８０のレール８２は凸部８７ａを備えておらず、また、ガイドローラー９６は凹部９６ａを備えていない構成であってもよい。また、本発明では、案内手段８０においてガイドローラー９６，９７は、吊りビーム８４に設けられていたが、一対のレール８１側に設けられていてもよい。
【００８９】
さらに、脱線防止機構及び蛇行防止機構は、上記実施形態に記載された構成に限定されることはない。例えば、平坦な走行面を有するレールと、走行面に当接する凹凸のない周面を有するガイドローラーとを有していてもよい。このような構成では、レールに、ガイドローラーの回転軸方向にガイドローラーを挟むように配置された球面軸受が配置されている。このような構成によれば、レールが延在する方向には、走行面をガイドローラーが転動することにより、チャンバー扉をＸ方向のみに移動させることができる。さらに、ガイドローラーを挟むように配置された球面軸受によりＹ方向への移動が規制される。従って、チャンバー扉をＸ方向のみに、脱線及び蛇行させることなく移動させることができる。
【００９０】
また、上記実施形態では、成膜チャンバー１２３の一部の壁体を開閉自在な構成としているが、その他のチャンバーも成膜チャンバー１２３と同様に一部の壁体を開閉自在な構成としてもよい。
【符号の説明】
【００９１】
１０，６７…搬送装置（搬送手段）、２０…搬送トレイ、３０…真空チャンバー本体、３１…開口部、４０…チャンバー扉、６５…リターンコンベア（返送手段）、７０…メンテナンスデッキ、８０…案内手段、８２，８３…レール、８４…吊りビーム、９６，９７…ガイドローラー、１００…成膜装置、１０１…基板、１２１〜１２５…真空容器。
【図１】
2014077170.tif 000003
【図２】
2014077170.tif 000004
【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
2014077170.tif 000009
【図８】
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【図９】
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