(57)【要約】【課題】半田との保持性を向上させることができ、リフロー後の実装性を安定させることができるチップ部品を提供すること。【解決手段】チップ抵抗器１は、基板２と、基板２上に形成された複数の抵抗体Ｒを含む素子５と、素子５を外部接続するための第１接続電極３および第２接続電極４とを含む。第１接続電極３および第２接続電極４は、その周縁部に厚さ方向に切り欠かれた凹部１０，１５および凹部１０，１５に隣り合う凸部１１，１６が交互に配置されてなる凹凸１２，１７が形成された電極を含む。【選択図】図１Ａ
2014072241.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板と、
前記基板上に形成された複数の素子要素を含む素子回路網と、
前記基板上に設けられ、前記素子回路網を外部接続するための電極とを含み、
前記電極は、その周縁部に前記電極の厚さ方向に切り欠かれた凹部および前記凹部に隣り合う凸部が交互に配置されてなる凹凸が形成された電極を含む、チップ部品。
【請求項２】
前記凹凸は、前記電極の前記周縁部の全周にわたって形成されている、請求項１に記載のチップ部品。
【請求項３】
基板と、
前記基板上に形成された複数の素子要素を含む素子回路網と、
前記基板上に設けられ、前記素子回路網を外部接続するための電極とを含み、
前記電極は、その表面に選択的に突出した凸部が形成された凸型電極を含む、チップ部品。
【請求項４】
前記凸部は、前記電極の周縁部に沿って間隔を空けて配置された複数の凸部を含む、請求項３に記載のチップ部品。
【請求項５】
基板と、
前記基板上に形成された複数の素子要素を含む素子回路網と、
前記基板上に設けられ、前記素子回路網を外部接続するための電極とを含み、
前記電極は、その表面に選択的に窪んだ凹部が形成された凹型電極を含む、チップ部品。
【請求項６】
前記凹部は、互いに間隔を空けてストライプ状に形成された複数の凹部を含む、請求項５に記載のチップ部品。
【請求項７】
前記複数の素子要素を切り離し可能に前記電極にそれぞれ接続するための複数のヒューズを含む、請求項１〜６のいずれか一項に記載のチップ部品。
【請求項８】
前記素子回路網が、前記基板上に形成された複数の抵抗体を含む抵抗回路網を含み、
前記チップ部品がチップ抵抗器である、請求項７に記載のチップ部品。
【請求項９】
前記抵抗体が、前記基板上に形成された抵抗体膜および前記抵抗体膜に積層された配線膜を含む、請求項８に記載のチップ部品。
【請求項１０】
前記素子回路網が、前記基板上に形成された複数のキャパシタ要素を含むキャパシタ回路網を含み、
前記チップ部品がチップコンデンサである、請求項７に記載のチップ部品。
【請求項１１】
前記キャパシタ要素が、前記基板上に形成された容量膜と、前記容量膜を挟んで対向する下部電極膜および上部電極膜とを含み、
前記下部電極膜および前記上部電極膜が、分離された複数の電極膜部分を含み、
前記複数の電極膜部分が前記複数のヒューズにそれぞれ接続されている、請求項１０に記載のチップ部品。
【請求項１２】
前記素子回路網が、前記基板上に形成された複数のインダクタ要素を含むインダクタ回路網を含み、
前記チップ部品がチップインダクタである、請求項７に記載のチップ部品。
【請求項１３】
前記素子回路網が、前記基板上に形成された複数のダイオード要素を含むダイオード回路網を含み、
前記チップ部品がチップダイオードである、請求項７に記載のチップ部品。
【請求項１４】
前記電極は、Ｎｉ層と、Ａｕ層とを含み、前記Ａｕ層が最表面に露出している、請求項１〜１３のいずれか一項に記載のチップ部品。
【請求項１５】
前記電極が、前記Ｎｉ層と前記Ａｕ層との間に介装されたＰｄ層をさらに含む、請求項１４に記載のチップ部品。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、チップ部品に関する。
【背景技術】
【０００２】
特許文献１は、絶縁基板上に形成された抵抗膜をレーザトリミングした後、ガラスによるカバーコートを形成したチップ抵抗器を開示している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００１−７６９１２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
従来のチップ部品は、特許文献１のチップ抵抗器と同様に、電極の表面が滑らかである。そのため、配線基板への実装時に、半田との間に十分な保持性を確保することが困難であった。
本発明の目的は、半田との保持性を向上させることができ、リフロー後の実装性を安定させることができるチップ部品を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明の一の局面に係るチップ部品は、基板と、前記基板上に形成された複数の素子要素を含む素子回路網と、前記基板上に設けられ、前記素子回路網を外部接続するための電極とを含み、前記電極は、その周縁部に前記電極の厚さ方向に切り欠かれた凹部および前記凹部に隣り合う凸部が交互に配置されてなる凹凸が形成された電極を含む（請求項１）。
【０００６】
この構成によれば、配線基板への実装時、電極の周縁部の凹部に半田を入り込ませることができる。これにより、半田との間に十分な保持性を確保することができる。その結果、リフロー後の実装性を安定させることができる。
前記凹凸は、前記電極の前記周縁部の全周にわたって形成されていることが好ましい（請求項２）。
【０００７】
この構成によれば、半田との保持性を一層向上させることができる。
本発明の他の局面に係るチップ部品は、基板と、前記基板上に形成された複数の素子要素を含む素子回路網と、前記基板上に設けられ、前記素子回路網を外部接続するための電極とを含み、前記電極は、その表面に選択的に突出した凸部が形成された凸型電極を含む（請求項３）。
【０００８】
この構成によれば、配線基板への実装時、電極の凸部に半田が引っ掛かる。これにより、半田との間に十分な保持性を確保することができる。その結果、リフロー後の実装性を安定させることができる。
前記凸部は、前記電極の周縁部に沿って間隔を空けて配置された複数の凸部を含むことが好ましい（請求項４）。
【０００９】
この構成によれば、半田との保持性を一層向上させることができる。
本発明のさらに他の局面に係るチップ部品は、基板と、前記基板上に形成された複数の素子要素を含む素子回路網と、前記基板上に設けられ、前記素子回路網を外部接続するための電極とを含み、前記電極は、その表面に選択的に窪んだ凹部が形成された凹型電極を含む（請求項５）。
【００１０】
この構成によれば、配線基板への実装時、電極の表面の凹部に半田を入り込ませることができる。これにより、半田との間に十分な保持性を確保することができる。その結果、リフロー後の実装性を安定させることができる。
前記凹部は、互いに間隔を空けてストライプ状に形成された複数の凹部を含むことが好ましい（請求項６）。
【００１１】
この構成によれば、半田との保持性を一層向上させることができる。
前記チップ部品は、前記複数の素子要素を切り離し可能に前記電極にそれぞれ接続するための複数のヒューズを含むことが好ましい（請求項７）。
この構成によれば、一つまたは複数のヒューズを選択して切断することにより、素子回路網における複数の素子要素の組み合わせパターンを任意のパターンとすることができるので、素子回路網の電気的特性が様々なチップ部品を共通の設計で実現することができる。
【００１２】
前記素子回路網が、前記基板上に形成された複数の抵抗体を含む抵抗回路網を含み、前記チップ部品がチップ抵抗器であってもよい（請求項８）。
この構成によれば、このチップ部品（チップ抵抗器）では、一つまたは複数のヒューズを選択して切断することにより、複数種類の抵抗値に、容易にかつ速やかに対応することができる。換言すれば、抵抗値の異なる複数の抵抗体を組み合わせることによって、様々な抵抗値のチップ抵抗器を共通の設計で実現することができる。
【００１３】
前記抵抗体は、前記基板上に形成された抵抗体膜および前記抵抗体膜に積層された配線膜を含むことが好ましい（請求項９）。
この構成によれば、抵抗体膜において隣り合う配線膜の間の部分が抵抗体となるので、抵抗体膜に配線膜を積層するだけで抵抗体を簡易に構成することができる。
前記素子回路網が、前記基板上に形成された複数のキャパシタ要素を含むキャパシタ回路網を含み、前記チップ部品がチップコンデンサであってもよい（請求項１０）。
【００１４】
この構成によれば、このチップ部品（チップコンデンサ）では、一つまたは複数のヒューズを選択して切断することにより、複数種類の容量値に、容易にかつ速やかに対応することができる。換言すれば、容量値の異なる複数のキャパシタ要素を組み合わせることによって、様々な容量値のチップコンデンサを共通の設計で実現することができる。
前記キャパシタ要素が、前記基板上に形成された容量膜と、前記容量膜を挟んで対向する下部電極膜および上部電極膜とを含み、前記下部電極膜および前記上部電極膜が、分離された複数の電極膜部分を含み、前記複数の電極膜部分が前記複数のヒューズにそれぞれ接続されていることが好ましい（請求項１１）。
【００１５】
この構成によれば、電極膜部分の数に応じた複数のキャパシタ要素を形成することができる。
前記素子回路網が、前記基板上に形成された複数のインダクタ要素を含むインダクタ回路網を含み、前記チップ部品がチップインダクタであってもよい（請求項１２）。
この構成によれば、このチップ部品（チップインダクタ）では、一つまたは複数のヒューズを選択して切断することにより、インダクタ回路網における複数のインダクタ要素の組み合わせパターンを任意のパターンとすることができるので、インダクタ回路網の電気的特性が様々なチップインダクタを共通の設計で実現することができる。
【００１６】
前記素子回路網が、前記基板上に形成された複数のダイオード要素を含むダイオード回路網を含み、前記チップ部品がチップダイオードであってもよい（請求項１３）。
この構成によれば、このチップ部品（チップダイオード）では、一つまたは複数のヒューズを選択して切断することにより、ダイオード回路網における複数のダイオード要素の組み合わせパターンを任意のパターンとすることができるので、ダイオード回路網の電気的特性が様々なチップダイオードを共通の設計で実現することができる。
【００１７】
前記電極は、Ｎｉ層と、Ａｕ層とを含み、前記Ａｕ層が最表面に露出していることが好ましい（請求項１４）。
この構成によれば、電極では、Ｎｉ層の表面がＡｕ層によって覆われているので、Ｎｉ層が酸化することを防止できる。
前記電極は、前記Ｎｉ層と前記Ａｕ層との間に介装されたＰｄ層をさらに含むことが好ましい（請求項１５）。
【００１８】
この構成によれば、電極では、Ａｕ層を薄くすることによってＡｕ層に貫通孔（ピンホール）ができてしまっても、Ｎｉ層とＡｕ層との間に介装されたＰｄ層が当該貫通孔を塞いでいるので、当該貫通孔からＮｉ層が外部に露出されて酸化することを防止できる。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１Ａ】図１Ａは、本発明の一実施形態に係るチップ抵抗器の構成を説明するための模式的な斜視図である。
【図１Ｂ】図１Ｂは、チップ抵抗器が実装基板に実装された状態の回路アセンブリをチップ抵抗器の長手方向に沿って切断したときの模式的な断面図である。
【図２】図２は、チップ抵抗器の平面図であり、第１接続電極、第２接続電極および素子の配置関係ならびに素子の平面視の構成を示す図である。
【図３Ａ】図３Ａは、図２に示す素子の一部分を拡大して描いた平面図である。
【図３Ｂ】図３Ｂは、素子における抵抗体の構成を説明するために描いた図３ＡのＢ−Ｂに沿う長さ方向の縦断面図である。
【図３Ｃ】図３Ｃは、素子における抵抗体の構成を説明するために描いた図３ＡのＣ−Ｃに沿う幅方向の縦断面図である。
【図４】図４は、抵抗体膜ラインおよび配線膜の電気的特徴を回路記号および電気回路図で示した図である。
【図５】図５（ａ）は、図２に示すチップ抵抗器の平面図の一部分を拡大して描いたヒューズを含む領域の部分拡大平面図であり、図５（ｂ）は、図５（ａ）のＢ−Ｂに沿う断面構造を示す図である。
【図６】図６は、本発明の実施形態に係る素子の電気回路図である。
【図７】図７は、本発明の他の実施形態に係る素子の電気回路図である。
【図８】図８は、本発明のさらに他の実施形態に係る素子の電気回路図である。
【図９】図９は、チップ抵抗器の模式的な断面図である。
【図１０Ａ】図１０Ａは、図９に示すチップ抵抗器の製造方法を示す図解的な断面図である。
【図１０Ｂ】図１０Ｂは、図１０Ａの次の工程を示す図解的な断面図である。
【図１０Ｃ】図１０Ｃは、図１０Ｂの次の工程を示す図解的な断面図である。
【図１０Ｄ】図１０Ｄは、図１０Ｃの次の工程を示す図解的な断面図である。
【図１０Ｅ】図１０Ｅは、図１０Ｄの次の工程を示す図解的な断面図である。
【図１０Ｆ】図１０Ｆは、図１０Ｅの次の工程を示す図解的な断面図である。
【図１０Ｇ】図１０Ｇは、図１０Ｆの次の工程を示す図解的な断面図である。
【図１１】図１１は、図１０Ｂの工程において溝を形成するために用いられるレジストパターンの一部の模式的な平面図である。
【図１２】図１２は、第１接続電極および第２接続電極の製造工程を説明するための図である。
【図１３】図１３は、本発明の他の実施形態に係るチップコンデンサの平面図である。
【図１４】図１４は、図１３の切断面線ＸＩＶ−ＸＩＶから見た断面図である。
【図１５】図１５は、前記チップコンデンサの一部の構成を分離して示す分解斜視図である。
【図１６】図１６は、前記チップコンデンサの内部の電気的構成を示す回路図である。
【図１７】図１７は、本発明のさらに他の実施形態に係るチップ抵抗器の模式的な斜視図である。
【図１８】図１８は、図１７のチップ抵抗器の模式的な断面図である。
【図１９】図１９は、本発明のさらに他の実施形態に係るチップ抵抗器の模式的な斜視図である。
【図２０】図２０は、図１８のチップ抵抗器の模式的な断面図である。
【図２１】図２１は、本発明のチップ部品が用いられる電子機器の一例であるスマートフォンの外観を示す斜視図である。
【図２２】図２２は、スマートフォンの筐体の内部に収容された回路アセンブリの構成を示す図解的な平面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
以下では、本発明の実施形態を、添付図面を参照して詳細に説明する。
図１Ａは、本発明の一実施形態に係るチップ抵抗器の構成を説明するための模式的な斜視図である。
このチップ抵抗器１は、微小なチップ部品であり、図１Ａに示すように、直方体形状をなしている。チップ抵抗器１の平面形状は、直交する二辺（長辺８１、短辺８２）がそれぞれ０．４ｍｍ以下、０．２ｍｍ以下の矩形である。好ましくは、チップ抵抗器１の寸法に関し、長さＬ（長辺８１の長さ）が約０．３ｍｍであり、幅Ｗ（短辺８２の長さ）が約０．１５ｍｍであり、厚さＴが約０．１ｍｍである。
【００２１】
このチップ抵抗器１は、基板上に多数個のチップ抵抗器１を格子状に形成してから当該基板に溝を形成した後、裏面研磨（または当該基板を溝で分断）して個々のチップ抵抗器１に分離することによって得られる。
チップ抵抗器１は、チップ抵抗器１の本体を構成する基板２と、外部接続電極となる第１接続電極３および第２接続電極４と、第１接続電極３および第２接続電極４によって外部接続される素子５とを主に備えている。
【００２２】
基板２は、略直方体のチップ形状である。基板２において図１Ａにおける上面をなす一つの表面は、素子形成面２Ａである。素子形成面２Ａは、基板２において素子５が形成される表面であり、略長方形状である。基板２の厚さ方向において素子形成面２Ａとは反対側の面は、裏面２Ｂである。素子形成面２Ａと裏面２Ｂとは、ほぼ同寸法かつ同形状であり、互いに平行である。素子形成面２Ａにおける一対の長辺８１および短辺８２によって区画された矩形状の縁を、周縁部８５ということにし、裏面２Ｂにおける一対の長辺８１および短辺８２によって区画された矩形状の縁を、周縁部９０ということにする。素子形成面２Ａ（裏面２Ｂ）に直交する法線方向から見ると、周縁部８５と周縁部９０とは、重なっている。
【００２３】
基板２は、素子形成面２Ａおよび裏面２Ｂ以外の表面として、複数の側面（側面２Ｃ、側面２Ｄ、側面２Ｅおよび側面２Ｆ）を有している。当該複数の側面は、素子形成面２Ａおよび裏面２Ｂのそれぞれに交差（詳しくは、直交）して延びて、素子形成面２Ａおよび裏面２Ｂの間を繋いでいる。
側面２Ｃは、素子形成面２Ａおよび裏面２Ｂにおける長手方向一方側（図１Ａにおける左手前側）の短辺８２間に架設されていて、側面２Ｄは、素子形成面２Ａおよび裏面２Ｂにおける長手方向他方側（図１Ａにおける右奥側）の短辺８２間に架設されている。側面２Ｃおよび側面２Ｄは、当該長手方向における基板２の両端面である。側面２Ｅは、素子形成面２Ａおよび裏面２Ｂにおける短手方向一方側（図１Ａにおける左奥側）の長辺８１間に架設されていて、側面２Ｆは、素子形成面２Ａおよび裏面２Ｂにおける短手方向他方側（図１Ａにおける右手前側）の長辺８１間に架設されている。側面２Ｅおよび側面２Ｆは、当該短手方向における基板２の両端面である。側面２Ｃおよび側面２Ｄのそれぞれは、側面２Ｅおよび側面２Ｆのそれぞれと交差（詳しくは、直交）している。そのため、素子形成面２Ａ〜側面２Ｆにおいて隣り合うもの同士が直角を成している。
【００２４】
基板２では、素子形成面２Ａおよび側面２Ｃ〜２Ｆのそれぞれの全域がパッシベーション膜２３で覆われている。そのため、厳密には、図１Ａでは、素子形成面２Ａおよび側面２Ｃ〜２Ｆのそれぞれの全域は、パッシベーション膜２３の内側（裏側）に位置していて、外部に露出されていない。さらに、チップ抵抗器１は、樹脂膜２４を有している。樹脂膜２４は、素子形成面２Ａ上のパッシベーション膜２３の全域（周縁部８５およびその内側領域）を覆っている。パッシベーション膜２３および樹脂膜２４については、以降で詳説する。
【００２５】
第１接続電極３および第２接続電極４は、基板２の素子形成面２Ａ上において周縁部８５よりも内側の領域（周縁部８５から間隔を開けた位置）に形成されていて、素子形成面２Ａ上の樹脂膜２４から部分的に露出されている。換言すれば、樹脂膜２４は、第１接続電極３および第２接続電極４を露出させるように素子形成面２Ａ（厳密には素子形成面２Ａ上のパッシベーション膜２３）を覆っている。第１接続電極３および第２接続電極４のそれぞれは、たとえば、Ｎｉ（ニッケル）、Ｐｄ（パラジウム）およびＡｕ（金）をこの順番で素子形成面２Ａ上に積層することによって構成されている。第１接続電極３および第２接続電極４は、素子形成面２Ａの長手方向に互いに間隔を開けて配置されており、素子形成面２Ａの短手方向において長手の長方形状である。図１Ａでは、素子形成面２Ａにおいて、側面２Ｃ寄りの位置に第１接続電極３が設けられ、側面２Ｄ寄りの位置に第２接続電極４が設けられている。
【００２６】
第１接続電極３および第２接続電極４は、前述した法線方向から見た平面視において、ほぼ同寸法かつ同形状である。第１接続電極３は、平面視における４辺をなす１対の長辺３Ａおよび短辺３Ｂを有している。長辺３Ａと短辺３Ｂとは平面視において直交している。第２接続電極４は、平面視における４辺をなす１対の長辺４Ａおよび短辺４Ｂを有している。長辺４Ａと短辺４Ｂとは平面視において直交している。長辺３Ａおよび長辺４Ａは、基板２の短辺８２と平行に延びていて、短辺３Ｂおよび短辺４Ｂは、基板２の長辺８１と平行に延びている。
【００２７】
平面視において、第１接続電極３における１対の長辺３Ａのうち、基板２の素子形成面２Ａの周縁部８５に最も近い長辺３Ａ（図１Ａでは左手前側の長辺３Ａ）の全域は、最寄りの周縁部８５（短辺８２）から、基板２の内方へ離れている。第２接続電極４における１対の長辺４Ａのうち、基板２の素子形成面２Ａの周縁部８５に最も近い長辺４Ａ（図１Ａでは右奥側の長辺４Ａ）の全域も、平面視において、最寄りの周縁部８５（短辺８２）から、基板２の内方へ離れている。
【００２８】
平面視において、第１接続電極３の各短辺３Ｂの全域は、最寄りの周縁部８５（長辺８１）から、基板２の内方へ離れている。第２接続電極４の各短辺４Ｂの全域も、平面視において、最寄りの周縁部８５（長辺８１）から、基板２の内方へ離れている。
また、第１接続電極３は、その周縁部（具体的には、長辺３Ａ，短辺３Ｂ）に、厚さ方向に切り欠かれた凹部１０、および凹部１０に隣り合う凸部１１が交互に配置されてなる凹凸１２が形成されている。この凹凸１２は、第１接続電極３の周縁部の全周にわたって形成されている。
【００２９】
この実施形態では、平面視において円弧状の凹部１０が、第１接続電極３の周縁部の全周にわたって連続して形成されており、互いに隣り合う凹部１０の間に凸部１１が形成されている。凹部１０が互いに連続していることから、凸部１１は、平面視において、隣り合う凹部１０の接点部分に鋭い頂部（ピーク）１４を有する山状に形成されている。
なお、凹部１０および凸部１１の平面形状は、特に限定されず、さまざまなバリエーションに対応することができる。たとえば、平面視において、三角形状、四角形状等であってもよい。
【００３０】
同様に、第２接続電極４は、その周縁部（具体的には、長辺４Ａ，短辺４Ｂ）に、厚さ方向に切り欠かれた凹部１５、および凹部１５に隣り合う凸部１６が交互に配置されてなる凹凸１７が形成されている。この凹凸１７は、第２接続電極４の周縁部の全周にわたって形成されている。
この実施形態では、平面視において円弧状の凹部１５が、第２接続電極４の周縁部の全周にわたって連続して形成されており、互いに隣り合う凹部１５の間に凸部１６が形成されている。凹部１５が互いに連続していることから、凸部１６は、平面視において、隣り合う凹部１５の接点部分に鋭い頂部（ピーク）１８を有する山状に形成されている。
【００３１】
そして、チップ抵抗器１は、第１接続電極３および第２接続電極４が形成された素子形成面２Ａ以外の表面（つまり、裏面２Ｂおよび側面２Ｃ〜２Ｆ）に電極を有していない。
素子５は、回路素子であって、基板２の素子形成面２Ａにおける第１接続電極３と第２接続電極４との間の領域に形成されていて、パッシベーション膜２３および樹脂膜２４によって上から被覆されている。この実施形態の素子５は、抵抗５６である。抵抗５６は、等しい抵抗値を有する複数個の（単位）抵抗体Ｒを素子形成面２Ａ上でマトリックス状に配列した回路網によって構成されている。抵抗体Ｒは、ＴｉＮ（窒化チタン）、ＴｉＯＮ（酸化窒化チタン）またはＴｉＳｉＯＮからなる。素子５は、後述する配線膜２２に電気的に接続されていて、配線膜２２を介して第１接続電極３と第２接続電極４とに電気的に接続されている。つまり、素子５は、基板２上に形成され、第１接続電極３および第２接続電極４の間に接続されている。
【００３２】
図１Ｂは、チップ抵抗器が実装基板に実装された状態の回路アセンブリをチップ抵抗器の長手方向に沿って切断したときの模式的な断面図である。なお、図１Ｂでは、要部のみ、断面で示している。
図１Ｂに示すように、チップ抵抗器１は、実装基板９に実装される。この状態におけるチップ抵抗器１および実装基板９は、回路アセンブリ１００を構成している。図１Ｂにおける実装基板９の上面は、実装面９Ａである。実装面９Ａには、実装基板９の内部回路（図示せず）に接続された一対（２つ）のランド８８が形成されている。各ランド８８は、たとえば、Ｃｕからなる。各ランド８８の表面には、半田１３が当該表面から突出するように設けられている。
【００３３】
チップ抵抗器１を実装基板９に実装する場合、自動実装機（図示せず）の吸着ノズル９１をチップ抵抗器１の裏面２Ｂに吸着してから吸着ノズル９１を動かすことによって、チップ抵抗器１を搬送する。このとき、吸着ノズル９１は、裏面２Ｂの長手方向における略中央部分に吸着する。前述したように、第１接続電極３および第２接続電極４は、チップ抵抗器１の片面（素子形成面２Ａ）だけに設けられていることから、チップ抵抗器１において素子形成面２Ａ以外の表面２Ｂ〜２Ｆ（特に、裏面２Ｂ）は、電極（凹凸）がない平坦面となる。よって、吸着ノズル９１をチップ抵抗器１に吸着して移動させる場合に、平坦な裏面２Ｂに吸着ノズル９１を吸着させることができる。換言すれば、平坦な裏面２Ｂであれば、吸着ノズル９１が吸着できる部分のマージンを増やすことができる。これによって、吸着ノズル９１をチップ抵抗器１に確実に吸着させ、チップ抵抗器１を途中で吸着ノズル９１から脱落させることなく確実に搬送できる。
【００３４】
そして、チップ抵抗器１を吸着した吸着ノズル９１を実装基板９まで移動させる。このとき、チップ抵抗器１の素子形成面２Ａと実装基板９の実装面９Ａとが互いに対向する。この状態で、吸着ノズル９１を移動させて実装基板９に押し付け、チップ抵抗器１において、第１接続電極３を一方のランド８８の半田１３に接触させ、第２接続電極４を他方のランド８８の半田１３に接触させる。次に、半田１３を加熱すると、半田１３が溶融する。その後、半田１３が冷却されて固まると、第１接続電極３と当該一方のランド８８とが半田１３を介して接合し、第２接続電極４と当該他方のランド８８とが半田１３を介して接合する。つまり、２つのランド８８のそれぞれが、第１接続電極３および第２接続電極４において対応する電極に半田接合される。これにより、実装基板９へのチップ抵抗器１の実装（フリップチップ接続）が完了して、回路アセンブリ１００が完成する。なお、外部接続電極として機能する第１接続電極３および第２接続電極４は、半田濡れ性の向上および信頼性の向上のために、金（Ａｕ）で形成するか、または、後述するように表面に金メッキを施すことが望ましい。
【００３５】
完成状態の回路アセンブリ１００では、チップ抵抗器１の素子形成面２Ａと実装基板９の実装面９Ａとが、隙間を隔てて対向しつつ、平行に延びている。当該隙間の寸法は、第１接続電極３または第２接続電極４において素子形成面２Ａから突き出た部分の厚みと半田１３の厚さとの合計に相当する。
このチップ抵抗器１では、実装基板９への実装時、第１接続電極３および第２接続電極４の凹凸１２，１７に半田１３を入り込ませることができる。これにより、半田１３との間に十分な保持性を確保することができる。その結果、リフロー後の実装性を安定させることができる。
【００３６】
次に、チップ抵抗器１における他の構成を主に説明する。
図２は、チップ抵抗器の平面図であり、第１接続電極、第２接続電極および素子の配置関係ならびに素子の平面視の構成（レイアウトパターン）を示す図である。
図２を参照して、素子５は、抵抗回路網となっている。具体的に、素子５は、行方向（基板２の長手方向）に沿って配列された８個の抵抗体Ｒと、列方向（基板２の幅方向）に沿って配列された４４個の抵抗体Ｒとで構成された合計３５２個の抵抗体Ｒを有している。これらの抵抗体Ｒは、素子５の抵抗回路網を構成する複数の素子要素である。
【００３７】
これら多数個の抵抗体Ｒが１個〜６４個の所定個数毎にまとめられて電気的に接続されることによって、複数種類の抵抗回路が形成されている。形成された複数種類の抵抗回路は、導体膜Ｄ（導体で形成された配線膜）で所定の態様に接続されている。さらに、基板２の素子形成面２Ａには、抵抗回路を素子５に対して電気的に組み込んだり、または、素子５から電気的に分離したりするために切断（溶断）可能な複数のヒューズＦが設けられている。複数のヒューズＦおよび導体膜Ｄは、第１接続電極３の内側辺沿いに、配置領域が直線状になるように配列されている。より具体的には、複数のヒューズＦおよび導体膜Ｄが隣接するように配置され、その配列方向が直線状になっている。複数のヒューズＦは、複数種類の抵抗回路（抵抗回路毎の複数の抵抗体Ｒ）を第１接続電極３に対してそれぞれ切断可能（切り離し可能）に接続している。
【００３８】
図３Ａは、図２に示す素子の一部分を拡大して描いた平面図である。図３Ｂは、素子における抵抗体の構成を説明するために描いた図３ＡのＢ−Ｂに沿う長さ方向の縦断面図である。図３Ｃは、素子における抵抗体の構成を説明するために描いた図３ＡのＣ−Ｃに沿う幅方向の縦断面図である。
図３Ａ、図３Ｂおよび図３Ｃを参照して、抵抗体Ｒの構成について説明をする。
【００３９】
チップ抵抗器１は、前述した配線膜２２、パッシベーション膜２３および樹脂膜２４の他に、絶縁層２０と抵抗体膜２１とをさらに備えている（図３Ｂおよび図３Ｃ参照）。絶縁層２０、抵抗体膜２１、配線膜２２、パッシベーション膜２３および樹脂膜２４は、基板２（素子形成面２Ａ）上に形成されている。
絶縁層２０は、ＳｉＯ２（酸化シリコン）からなる。絶縁層２０は、基板２の素子形成面２Ａの全域を覆っている。絶縁層２０の厚さは、約１００００Åである。
【００４０】
抵抗体膜２１は、絶縁層２０上に形成されている。抵抗体膜２１は、ＴｉＮ、ＴｉＯＮまたはＴｉＳｉＯＮにより形成されている。抵抗体膜２１の厚さは、約２０００Åである。抵抗体膜２１は、第１接続電極３と第２接続電極４との間を平行に直線状に延びる複数本の抵抗体膜（以下「抵抗体膜ライン２１Ａ」という）を構成していて、抵抗体膜ライン２１Ａは、ライン方向に所定の位置で切断されている場合がある（図３Ａ参照）。
【００４１】
抵抗体膜ライン２１Ａ上には、配線膜２２が積層されている。配線膜２２は、Ａｌ（アルミニウム）またはアルミニウムとＣｕ（銅）との合金（ＡｌＣｕ合金）からなる。配線膜２２の厚さは、約８０００Åである。配線膜２２は、抵抗体膜ライン２１Ａ上に、ライン方向に一定間隔Ｒを開けて積層されていて、抵抗体膜ライン２１Ａに接している。
この構成の抵抗体膜ライン２１Ａおよび配線膜２２の電気的特徴を回路記号で示すと、図４の通りである。すなわち、図４（ａ）に示すように、所定間隔Ｒの領域の抵抗体膜ライン２１Ａ部分が、それぞれ、一定の抵抗値ｒを有する１つの抵抗体Ｒを形成している。
【００４２】
そして、配線膜２２が積層された領域では、配線膜２２が隣り合う抵抗体Ｒ同士を電気的に接続することによって、当該配線膜２２で抵抗体膜ライン２１Ａが短絡されている。よって、図４（ｂ）に示す抵抗ｒの抵抗体Ｒの直列接続からなる抵抗回路が形成されている。
また、隣接する抵抗体膜ライン２１Ａ同士は抵抗体膜２１および配線膜２２で接続されているから、図３Ａに示す素子５の抵抗回路網は、図４（ｃ）に示す（前述した抵抗体Ｒの単位抵抗からなる）抵抗回路を構成している。このように、抵抗体膜２１および配線膜２２は、抵抗体Ｒや抵抗回路（つまり素子５）を構成している。そして、各抵抗体Ｒは、抵抗体膜ライン２１Ａ（抵抗体膜２１）と、抵抗体膜ライン２１Ａ上にライン方向に一定間隔をあけて積層された複数の配線膜２２とを含み、配線膜２２が積層されていない一定間隔Ｒ部分の抵抗体膜ライン２１Ａが、１個の抵抗体Ｒを構成している。抵抗体Ｒを構成している部分における抵抗体膜ライン２１Ａは、その形状および大きさが全て等しい。よって、基板２上にマトリックス状に配列された多数個の抵抗体Ｒは、等しい抵抗値を有している。
【００４３】
また、抵抗体膜ライン２１Ａ上に積層された配線膜２２は、抵抗体Ｒを形成するとともに、複数個の抵抗体Ｒを接続して抵抗回路を構成するための導体膜Ｄの役目も果たしている（図２参照）。
図５（ａ）は、図２に示すチップ抵抗器の平面図の一部分を拡大して描いたヒューズを含む領域の部分拡大平面図であり、図５（ｂ）は、図５（ａ）のＢ−Ｂに沿う断面構造を示す図である。
【００４４】
図５（ａ）および（ｂ）に示すように、前述したヒューズＦおよび導体膜Ｄも、抵抗体Ｒを形成する抵抗体膜２１上に積層された配線膜２２により形成されている。すなわち、抵抗体Ｒを形成する抵抗体膜ライン２１Ａ上に積層された配線膜２２と同じレイヤーに、配線膜２２と同じ金属材料であるＡｌまたはＡｌＣｕ合金によってヒューズＦおよび導体膜Ｄが形成されている。なお、配線膜２２は、前述したように、抵抗回路を形成するために、複数個の抵抗体Ｒを電気的に接続する導体膜Ｄとしても用いられている。
【００４５】
つまり、抵抗体膜２１上に積層された同一レイヤーにおいて、抵抗体Ｒを形成するための配線膜や、ヒューズＦや、導体膜Ｄや、さらには、素子５を第１接続電極３および第２接続電極４に接続するための配線膜が、配線膜２２として、同一の金属材料（ＡｌまたはＡｌＣｕ合金）を用いて形成されている。なお、ヒューズＦを配線膜２２と異ならせている（区別している）のは、ヒューズＦが切断しやすいように細く形成されていること、および、ヒューズＦの周囲に他の回路要素が存在しないように配置されていることによるからである。
【００４６】
ここで、配線膜２２において、ヒューズＦが配置された領域を、トリミング対象領域Ｘということにする（図２および図５（ａ）参照）。トリミング対象領域Ｘは、第１接続電極３の内側辺沿いの直線状領域であって、トリミング対象領域Ｘには、ヒューズＦだけでなく、導体膜Ｄも配置されている。また、トリミング対象領域Ｘの配線膜２２の下方にも抵抗体膜２１が形成されている（図５（ｂ）参照）。そして、ヒューズＦは、配線膜２２において、トリミング対象領域Ｘ以外の部分よりも配線間距離が大きい（周囲から離された）配線である。
【００４７】
なお、ヒューズＦは、配線膜２２の一部だけでなく、抵抗体Ｒ（抵抗体膜２１）の一部と抵抗体膜２１上の配線膜２２の一部とのまとまり（ヒューズ素子）を指していてもよい。
また、ヒューズＦは、導体膜Ｄと同一のレイヤーを用いる場合のみを説明したが、導体膜Ｄでは、その上に更に別の導体膜を積層するようにし、導体膜Ｄ全体の抵抗値を下げるようにしてもよい。なお、この場合であっても、ヒューズＦの上に導体膜を積層しなければ、ヒューズＦの溶断性が悪くなることはない。
【００４８】
図６は、本発明の実施形態に係る素子の電気回路図である。
図６を参照して、素子５は、基準抵抗回路Ｒ８と、抵抗回路Ｒ６４、２つの抵抗回路Ｒ３２、抵抗回路Ｒ１６、抵抗回路Ｒ８、抵抗回路Ｒ４、抵抗回路Ｒ２、抵抗回路Ｒ１、抵抗回路Ｒ／２、抵抗回路Ｒ／４、抵抗回路Ｒ／８、抵抗回路Ｒ／１６、抵抗回路Ｒ／３２とを第１接続電極３からこの順番で直列接続することによって構成されている。基準抵抗回路Ｒ８および抵抗回路Ｒ６４〜Ｒ２のそれぞれは、自身の末尾の数（Ｒ６４の場合には「６４」）と同数の抵抗体Ｒを直列接続することで構成されている。抵抗回路Ｒ１は、１つの抵抗体Ｒで構成されている。抵抗回路Ｒ／２〜Ｒ／３２のそれぞれは、自身の末尾の数（Ｒ／３２の場合には「３２」）と同数の抵抗体Ｒを並列接続することで構成されている。抵抗回路の末尾の数の意味については、後述する図７および図８においても同じである。
【００４９】
そして、基準抵抗回路Ｒ８以外の抵抗回路Ｒ６４〜抵抗回路Ｒ／３２のそれぞれに対して、ヒューズＦが１つずつ並列的に接続されている。ヒューズＦ同士は、直接または導体膜Ｄ（図５（ａ）参照）を介して直列に接続されている。
図６に示すように全てのヒューズＦが溶断されていない状態では、素子５は、第１接続電極３および第２接続電極４間に設けられた８個の抵抗体Ｒの直列接続からなる基準抵抗回路Ｒ８の抵抗回路を構成している。たとえば、１個の抵抗体Ｒの抵抗値ｒをｒ＝８Ωとすれば、８ｒ＝６４Ωの抵抗回路（基準抵抗回路Ｒ８）により第１接続電極３および第２接続電極４が接続されたチップ抵抗器１が構成されている。
【００５０】
また、全てのヒューズＦが溶断されていない状態では、基準抵抗回路Ｒ８以外の複数種類の抵抗回路は、短絡された状態となっている。つまり、基準抵抗回路Ｒ８には、１２種類１３個の抵抗回路Ｒ６４〜Ｒ／３２が直列に接続されているが、各抵抗回路は、それぞれ並列に接続されたヒューズＦにより短絡されているので、電気的に見ると、各抵抗回路は素子５に組み込まれてはいない。
【００５１】
この実施形態に係るチップ抵抗器１では、要求される抵抗値に応じて、ヒューズＦを選択的に、たとえばレーザ光で溶断する。それにより、並列的に接続されたヒューズＦが溶断された抵抗回路は、素子５に組み込まれることになる。よって、素子５の全体の抵抗値を、溶断されたヒューズＦに対応する抵抗回路が直列に接続されて組み込まれた抵抗値とすることができる。
【００５２】
特に、複数種類の抵抗回路は、等しい抵抗値を有する抵抗体Ｒが、直列に１個、２個、４個、８個、１６個、３２個…と、公比が２となる等比数列的に抵抗体Ｒの個数が増加されて接続された複数種類の直列抵抗回路ならびに等しい抵抗値の抵抗体Ｒが並列に２個、４個、８個、１６個…と、公比が２となる等比数列的に抵抗体Ｒの個数が増加されて接続された複数種類の並列抵抗回路を備えている。そのため、ヒューズＦ（前述したヒューズ素子も含む）を選択的に溶断することにより、素子５（抵抗５６）全体の抵抗値を、細かく、かつデジタル的に、任意の抵抗値となるように調整して、チップ抵抗器１において所望の値の抵抗を発生させることができる。
【００５３】
図７は、本発明の他の実施形態に係る素子の電気回路図である。
図６に示すように基準抵抗回路Ｒ８および抵抗回路Ｒ６４〜抵抗回路Ｒ／３２を直列接続して素子５を構成する代わりに、図７に示すように素子５を構成してもかまわない。詳しくは、第１接続電極３および第２接続電極４の間で、基準抵抗回路Ｒ／１６と、１２種類の抵抗回路Ｒ／１６、Ｒ／８、Ｒ／４、Ｒ／２、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ４、Ｒ８、Ｒ１６、Ｒ３２、Ｒ６４、Ｒ１２８の並列接続回路との直列接続回路によって素子５を構成してもよい。
【００５４】
この場合、基準抵抗回路Ｒ／１６以外の１２種類の抵抗回路には、それぞれ、ヒューズＦが直列に接続されている。全てのヒューズＦが溶断されていない状態では、各抵抗回路は素子５に対して電気的に組み込まれている。要求される抵抗値に応じて、ヒューズＦを選択的に、たとえばレーザ光で溶断すれば、溶断されたヒューズＦに対応する抵抗回路（ヒューズＦが直列に接続された抵抗回路）は、素子５から電気的に分離されるので、チップ抵抗器１全体の抵抗値を調整することができる。
【００５５】
図８は、本発明のさらに他の実施形態に係る素子の電気回路図である。
図８に示す素子５の特徴は、複数種類の抵抗回路の直列接続と、複数種類の抵抗回路の並列接続とが直列に接続された回路構成となっていることである。直列接続される複数種類の抵抗回路には、先の実施形態と同様、抵抗回路毎に、並列にヒューズＦが接続されていて、直列接続された複数種類の抵抗回路は、全てヒューズＦで短絡状態とされている。したがって、ヒューズＦを溶断すると、その溶断されるヒューズＦで短絡されていた抵抗回路が、素子５に電気的に組み込まれることになる。
【００５６】
一方、並列接続された複数種類の抵抗回路には、それぞれ、直列にヒューズＦが接続されている。したがって、ヒューズＦを溶断することにより、溶断されたヒューズＦが直列に接続されている抵抗回路を、抵抗回路の並列接続から電気的に切り離すことができる。
かかる構成とすれば、たとえば、１ｋΩ以下の小抵抗は並列接続側で作り、１ｋΩ以上の抵抗回路を直列接続側で作れば、数Ωの小抵抗から数ＭΩの大抵抗までの広範な範囲の抵抗回路を、等しい基本設計で構成した抵抗の回路網を用いて作ることができる。つまりチップ抵抗器１では、一つまたは複数のヒューズＦを選択して切断することにより、複数種類の抵抗値に、容易にかつ速やかに対応することができる。換言すれば、抵抗値の異なる複数の抵抗体Ｒを組み合わせることによって、様々な抵抗値のチップ抵抗器１を共通の設計で実現することができる。
【００５７】
以上のように、このチップ抵抗器１では、トリミング対象領域Ｘにおいて、複数の抵抗体Ｒ（抵抗回路）の接続状態が変更可能である。
図９は、チップ抵抗器の模式的な断面図である。
次に、図９を参照して、チップ抵抗器１についてさらに詳しく説明する。なお、説明の便宜上、図９では、前述した素子５については簡略化して示しているとともに、基板２以外の各要素にはハッチングを付している。
【００５８】
ここでは、前述したパッシベーション膜２３および樹脂膜２４について説明する。
パッシベーション膜２３は、たとえばＳｉＮ（窒化シリコン）からなり、その厚さは、１０００Å〜５０００Å（ここでは、約３０００Å）である。パッシベーション膜２３は、素子形成面２Ａおよび側面２Ｃ〜２Ｆのそれぞれにおける全域にわたって設けられている。素子形成面２Ａ上のパッシベーション膜２３は、抵抗体膜２１および抵抗体膜２１上の各配線膜２２（つまり、素子５）を表面（図９の上側）から被覆していて、素子５における各抵抗体Ｒの上面を覆っている。そのため、パッシベーション膜２３は、前述したトリミング対象領域Ｘにおける配線膜２２も覆っている（図５（ｂ）参照）。また、パッシベーション膜２３は、素子５（配線膜２２および抵抗体膜２１）に接しており、抵抗体膜２１以外の領域では絶縁層２０にも接している。これにより、素子形成面２Ａ上のパッシベーション膜２３は、素子形成面２Ａ全域を覆って素子５および絶縁層２０を保護する保護膜として機能している。また、素子形成面２Ａでは、パッシベーション膜２３によって、抵抗体Ｒ間における配線膜２２以外での短絡（隣り合う抵抗体膜ライン２１Ａ間における短絡）が防止されている。
【００５９】
一方、側面２Ｃ〜２Ｆのそれぞれに設けられたパッシベーション膜２３は、側面２Ｃ〜２Ｆのそれぞれを保護する保護層として機能している。側面２Ｃ〜２Ｆのそれぞれと素子形成面２Ａとの境界は、前述した周縁部８５であるが、パッシベーション膜２３は、当該境界（周縁部８５）も覆っている。パッシベーション膜２３において、周縁部８５を覆っている部分（周縁部８５に重なっている部分）を端部２３Ａということにする。なお、パッシベーション膜２３は極めて薄い膜なので、本実施形態では、側面２Ｃ〜２Ｆのそれぞれを覆うパッシベーション膜２３を、基板２の一部とみなすことにする。そのため、側面２Ｃ〜２Ｆのそれぞれを覆うパッシベーション膜２３を、側面２Ｃ〜２Ｆそのものとみなすことにしている。
【００６０】
樹脂膜２４は、パッシベーション膜２３とともにチップ抵抗器１の素子形成面２Ａを保護するものであり、ポリイミド等の樹脂からなる。樹脂膜２４の厚みは、約５μｍである。
樹脂膜２４は、素子形成面２Ａ上のパッシベーション膜２３の表面（パッシベーション膜２３に被覆された抵抗体膜２１および配線膜２２も含む）の全域を被覆している。そのため、樹脂膜２４の周縁部は、平面視において、パッシベーション膜２３の端部２３Ａ（素子形成面２Ａの周縁部８５）と一致している。
【００６１】
樹脂膜２４において、平面視で離れた２つの位置には、開口２５が１つずつ形成されている。各開口２５は、樹脂膜２４およびパッシベーション膜２３を、それぞれの厚さ方向において連続して貫通する貫通孔である。そのため、開口２５は、樹脂膜２４だけでなくパッシベーション膜２３にも形成されている。各開口２５からは、配線膜２２の一部が露出されている。配線膜２２において各開口２５から露出された部分は、外部接続用のパッド領域２２Ａとなっている。
【００６２】
２つの開口２５のうち、一方の開口２５は、第１接続電極３によって埋め尽くされ、他方の開口２５は、第２接続電極４によって埋め尽くされている。
ここで、第１接続電極３および第２接続電極４のそれぞれは、Ｎｉ層３３、Ｐｄ層３４およびＡｕ層３５を素子形成面２Ａ側からこの順で有している。そのため、第１接続電極３および第２接続電極４のそれぞれにおいて、Ｎｉ層３３とＡｕ層３５との間にＰｄ層３４が介装されている。第１接続電極３および第２接続電極４のそれぞれにおいて、Ｎｉ層３３は各接続電極の大部分を占めており、Ｐｄ層３４およびＡｕ層３５は、Ｎｉ層３３に比べて格段に薄く形成されている。Ｎｉ層３３は、チップ抵抗器１が実装基板９に実装された際に（図１Ｂ参照）、各開口２５のパッド領域２２Ａにおける配線膜２２のＡｌと、前述した半田１３とを中継する役割を有している。
【００６３】
このように、第１接続電極３および第２接続電極４では、Ｎｉ層３３の表面がＡｕ層３５によって覆われているので、Ｎｉ層３３が酸化することを防止できる。また、第１接続電極３および第２接続電極４では、Ａｕ層３５を薄くすることによってＡｕ層３５に貫通孔（ピンホール）ができてしまっても、Ｎｉ層３３とＡｕ層３５との間に介装されたＰｄ層３４が当該貫通孔を塞いでいるので、当該貫通孔からＮｉ層３３が外部に露出されて酸化することを防止できる。
【００６４】
そして、第１接続電極３および第２接続電極４のそれぞれでは、Ａｕ層３５が、最表面に露出しており、樹脂膜２４の開口２５から外部を臨んでいる。第１接続電極３は、一方の開口２５を介して、この開口２５におけるパッド領域２２Ａにおいて配線膜２２に対して電気的に接続されている。第２接続電極４は、他方の開口２５を介して、この開口２５におけるパッド領域２２Ａにおいて配線膜２２に対して電気的に接続されている。第１接続電極３および第２接続電極４のそれぞれでは、Ｎｉ層３３がパッド領域２２Ａに対して接続されている。これにより、第１接続電極３および第２接続電極４のそれぞれは、素子５に対して電気的に接続されている。ここで、配線膜２２は、抵抗体Ｒのまとまり（抵抗５６）、第１接続電極３および第２接続電極４のそれぞれに接続された配線を形成している。
【００６５】
このように、開口２５が形成された樹脂膜２４およびパッシベーション膜２３は、開口２５から第１接続電極３および第２接続電極４を露出させた状態で素子形成面２Ａを覆っている。そのため、樹脂膜２４の表面において開口２５からはみ出した第１接続電極３および第２接続電極４を介して、チップ抵抗器１と実装基板９との間における電気的接続を達成することができる（図１Ｂ参照）。
【００６６】
図１０Ａ〜図１０Ｇは、図９に示すチップ抵抗器の製造方法を示す図解的な断面図である。
まず、図１０Ａに示すように、基板２の元となる基板３０を用意する。この場合、基板３０の表面３０Ａは、基板２の素子形成面２Ａであり、基板３０の裏面３０Ｂは、基板２の裏面２Ｂである。
【００６７】
そして、基板３０の表面３０Ａを熱酸化して、表面３０ＡにＳｉＯ２等からなる絶縁層２０を形成し、絶縁層２０上に素子５（抵抗体Ｒおよび抵抗体Ｒに接続された配線膜２２）を形成する。具体的には、スパッタリングにより、まず、絶縁層２０の上にＴｉＮ、ＴｉＯＮまたはＴｉＳｉＯＮの抵抗体膜２１を全面に形成し、さらに、抵抗体膜２１に接するように抵抗体膜２１の上にアルミニウム（Ａｌ）の配線膜２２を積層する。その後、フォトリソグラフィプロセスを用い、たとえばＲＩＥ（Reactive Ion Etching：反応性イオンエッチング）等のドライエッチングにより抵抗体膜２１および配線膜２２を選択的に除去してパターニングし、図３Ａに示すように、平面視で、抵抗体膜２１が積層された一定幅の抵抗体膜ライン２１Ａが一定間隔をあけて列方向に配列される構成を得る。このとき、部分的に抵抗体膜ライン２１Ａおよび配線膜２２が切断された領域も形成されるとともに、前述したトリミング対象領域ＸにおいてヒューズＦおよび導体膜Ｄが形成される（図２参照）。続いて、たとえばウェットエッチングにより抵抗体膜ライン２１Ａの上に積層された配線膜２２を選択的に除去する。この結果、抵抗体膜ライン２１Ａ上に一定間隔Ｒをあけて配線膜２２が積層された構成の素子５が得られる。この際、抵抗体膜２１および配線膜２２が目標寸法で形成されたか否かを確かめるために、素子５全体の抵抗値を測定してもよい。
【００６８】
図１０Ａを参照して、素子５は、１枚の基板３０に形成するチップ抵抗器１の数に応じて、基板３０の表面３０Ａ上における多数の箇所に形成される。基板３０において素子５（前述した抵抗５６）が形成された１つの領域をチップ部品領域Ｙというと、基板３０の表面３０Ａには、抵抗５６をそれぞれ有する複数のチップ部品領域Ｙ（つまり、素子５）が形成（設定）される。１つのチップ部品領域Ｙは、完成した１つのチップ抵抗器１（図９参照）を平面視したものと一致する。そして、基板３０の表面３０Ａにおいて、隣り合うチップ部品領域Ｙの間の領域を、境界領域Ｚということにする。境界領域Ｚは、帯状をなしていて、平面視で格子状に延びている。境界領域Ｚによって区画された１つの格子の中にチップ部品領域Ｙが１つ配置されている。境界領域Ｚの幅は、１μｍ〜６０μｍ（たとえば２０μｍ）と極めて狭いので、基板３０では多くのチップ部品領域Ｙを確保でき、結果としてチップ抵抗器１の大量生産が可能になる。
【００６９】
次に、図１０Ａに示すように、ＣＶＤ（Chemical Vapor Deposition：化学的気相成長）法によって、ＳｉＮからなる絶縁膜４５を、基板３０の表面３０Ａの全域にわたって形成する。絶縁膜４５は、絶縁層２０および絶縁層２０上の素子５（抵抗体膜２１や配線膜２２）を全て覆っていて、これらに接している。そのため、絶縁膜４５は、前述したトリミング対象領域Ｘ（図２参照）における配線膜２２も覆っている。また、絶縁膜４５は、基板３０の表面３０Ａにおいて全域にわたって形成されることから、表面３０Ａにおいて、トリミング対象領域Ｘ以外の領域にまで延びて形成される。これにより、絶縁膜４５は、表面３０Ａ（表面３０Ａ上の素子５も含む）全域を保護する保護膜となる。
【００７０】
次に、図１０Ｂに示すように、絶縁膜４５を全て覆うように、基板３０の表面３０Ａの全域にわたってレジストパターン４１を形成する。レジストパターン４１には、開口４２が形成されている。
図１１は、図１０Ｂの工程において溝を形成するために用いられるレジストパターンの一部の模式的な平面図である。
【００７１】
図１１を参照して、レジストパターン４１の開口４２は、多数のチップ抵抗器１（換言すれば、前述したチップ部品領域Ｙ）を行列状（格子状でもある）に配置した場合において平面視で隣り合うチップ抵抗器１の輪郭の間の領域（図１１においてハッチングを付した部分であり、換言すれば、境界領域Ｚ）に一致（対応）している。そのため、開口４２の全体形状は、互いに直交する直線部分４２Ａおよび４２Ｂを複数有する格子状になっている。
【００７２】
レジストパターン４１では、開口４２において互いに直交する直線部分４２Ａおよび４２Ｂは、互いに直交した状態を保ちながら（湾曲することなく）つながっている。そのため、直線部分４２Ａおよび４２Ｂの交差部分４３は、平面視で略９０°をなすように尖っている。
図１０Ｂを参照して、レジストパターン４１をマスクとするプラズマエッチングにより、絶縁膜４５、絶縁層２０および基板３０のそれぞれを選択的に除去する。これにより、隣り合う素子５（チップ部品領域Ｙ）の間の境界領域Ｚにおいて基板３０の材料が除去される。その結果、平面視においてレジストパターン４１の開口４２と一致する位置（境界領域Ｚ）には、絶縁膜４５および絶縁層２０を貫通して基板３０の表面３０Ａから基板３０の厚さ途中まで到達する所定深さの溝４４が形成される。溝４４は、互いに対向する１対の側壁４４Ａと、当該１対の側壁４４Ａの下端（基板３０の裏面３０Ｂ側の端）の間を結ぶ底壁４４Ｂとによって区画されている。基板３０の表面３０Ａを基準とした溝４４の深さは約１００μｍであり、溝４４の幅（対向する側壁４４Ａの間隔）は約２０μｍであって、深さ方向全域にわたって一定である。
【００７３】
基板３０における溝４４の全体形状は、平面視でレジストパターン４１の開口４２（図１１参照）と一致する格子状になっている。そして、基板３０の表面３０Ａでは、各素子５が形成されたチップ部品領域Ｙのまわりを溝４４における矩形枠体部分（境界領域Ｚ）が取り囲んでいる。基板３０において素子５が形成された部分は、チップ抵抗器１の半製品５０である。基板３０の表面３０Ａでは、溝４４に取り囲まれたチップ部品領域Ｙに半製品５０が１つずつ位置していて、これらの半製品５０は、行列状に整列配置されている。このように溝４４を形成することによって、基板３０を複数のチップ部品領域Ｙ毎の基板２に分離する。
【００７４】
図１０Ｂに示すように溝４４が形成された後、レジストパターン４１を除去し、図１０Ｃに示すようにマスク６５を用いたエッチングによって、絶縁膜４５を選択的に除去する。マスク６５では、絶縁膜４５において平面視で各パッド領域２２Ａ（図９参照）に一致する部分に、開口６６が形成されている。これにより、エッチングによって、絶縁膜４５において開口６６と一致する部分が除去され、当該部分には、開口２５が形成される。これにより、絶縁膜４５は、開口２５において各パッド領域２２Ａを露出させるように形成されたことになる。１つの半製品５０につき、開口２５は２つ形成される。
【００７５】
各半製品５０において、絶縁膜４５に２つの開口２５を形成した後に、抵抗測定装置（図示せず）のプローブ７０を各開口２５のパッド領域２２Ａに接触させて、素子５の全体の抵抗値を検出する。そして、絶縁膜４５越しにレーザ光（図示せず）を任意のヒューズＦ（図２参照）に照射することによって、前述したトリミング対象領域Ｘの配線膜２２をレーザ光でトリミングして、当該ヒューズＦを溶断する。このようにして、必要な抵抗値となるようにヒューズＦを溶断（トリミング）することによって、前述したように、半製品５０（換言すれば、チップ抵抗器１）全体の抵抗値を調整できる。このとき、絶縁膜４５が素子５を覆うカバー膜となっているので、溶断の際に生じた破片などが素子５に付着して短絡が生じることを防止できる。また、絶縁膜４５がヒューズＦ（抵抗体膜２１）を覆っていることから、レーザ光のエネルギーをヒューズＦに蓄えてヒューズＦを確実に溶断することができる。
【００７６】
その後、ＣＶＤ法によって絶縁膜４５上にＳｉＮを形成し、絶縁膜４５を厚くする。このとき、図１０Ｄに示すように、溝４４の内周面（前述した側壁４４Ａの区画面４４Ｃや底壁４４Ｂの上面）の全域にも絶縁膜４５が形成される。最終的な絶縁膜４５（図１０Ｄに示された状態）は、１０００Å〜５０００Å（ここでは、約３０００Å）の厚さを有している。このとき、絶縁膜４５の一部は、各開口２５に入り込んで開口２５を塞いでいる。
【００７７】
その後、ポリイミドからなる感光性樹脂の液体を、基板３０に対して、絶縁膜４５の上からスプレー塗布して、図１０Ｄに示すように感光性樹脂の樹脂膜４６を形成する。この際、当該液体が溝４４内に入り込まないように、平面視で溝４４だけを覆うパターンを有するマスク（図示せず）越しに、当該液体が基板３０に対して塗布される。その結果、当該液状の感光性樹脂は、基板３０上だけに形成され、基板３０上において、樹脂膜４６となる。表面３０Ａ上の樹脂膜４６の表面は、表面３０Ａに沿って平坦になっている。
【００７８】
なお、当該液体が溝４４内に入り込んでいないので、溝４４内には、樹脂膜４６が形成されていない。また、感光性樹脂の液体をスプレー塗布する以外に、当該液体をスピン塗布したり、感光性樹脂からなるシートを基板３０の表面３０Ａに貼り付けたりすることによって、樹脂膜４６を形成してもよい。
次に、樹脂膜４６に熱処理（キュア処理）を施す。これにより、樹脂膜４６の厚みが熱収縮するとともに、樹脂膜４６が硬化して膜質が安定する。
【００７９】
次に、図１０Ｅに示すように、樹脂膜４６をパターニングし、表面３０Ａ上の樹脂膜４６において平面視で配線膜２２の各パッド領域２２Ａ（開口２５）と一致する部分を選択的に除去する。具体的には、平面視で各パッド領域２２Ａに整合（一致）するパターンの開口６１が形成されたマスク６２を用いて、樹脂膜４６を、当該パターンで露光して現像する。これにより、各パッド領域２２Ａの上方で樹脂膜４６が分離される。次に、図示しないマスクを用いたＲＩＥによって各パッド領域２２Ａ上の絶縁膜４５が除去されることで、各開口２５が開放されてパッド領域２２Ａが露出される。その後、パッド領域２２Ａを選択的にエッチングすることによって、パッド領域２２Ａに、第１接続電極３および第２接続電極４の凹凸１２，１７に一致する凹凸を形成する。
【００８０】
次に、無電解めっきによって、Ｎｉ、ＰｄおよびＡｕを積層することで構成されたＮｉ／Ｐｄ／Ａｕ積層膜を各開口２５におけるパッド領域２２Ａ上に形成することによって、図１０Ｆに示すように、パッド領域２２Ａ上に第１接続電極３および第２接続電極４を形成する。
図１２は、第１接続電極および第２接続電極の製造工程を説明するための図である。
【００８１】
詳しくは、図１２を参照して、まず、パッド領域２２Ａの表面が浄化されることで、当該表面の有機物（炭素のしみ等のスマットや油脂性の汚れも含む）が除去（脱脂）される（ステップＳ１）。次に、当該表面の酸化膜が除去される（ステップＳ２）。次に、当該表面においてジンケート処理が実施されて、当該表面における（配線膜２２の）ＡｌがＺｎに置換される（ステップＳ３）。次に、当該表面上のＺｎが硝酸等で剥離されて、パッド領域２２Ａでは、新しいＡｌが露出される（ステップＳ４）。
【００８２】
次に、パッド領域２２Ａをめっき液に浸けることによって、パッド領域２２Ａにおける新しいＡｌの表面にＮｉめっきが施される。これにより、めっき液中のＮｉが化学的に還元析出されて、当該表面にＮｉ層３３が形成される（ステップＳ５）。
次に、Ｎｉ層３３を別のめっき液に浸けることによって、当該Ｎｉ層３３の表面にＰｄめっきが施される。これにより、めっき液中のＰｄが化学的に還元析出されて、当該Ｎｉ層３３の表面にＰｄ層３４が形成される（ステップＳ６）。
【００８３】
次に、Ｐｄ層３４をさらに別のめっき液に浸けることによって、当該Ｐｄ層３４の表面にＡｕめっきが施される。これにより、めっき液中のＡｕが化学的に還元析出されて、当該Ｐｄ層３４の表面にＡｕ層３５が形成される（ステップＳ７）。めっき工程（ステップＳ５〜Ｓ７）では、事前にパッド領域２２Ａに凹凸を形成しているので、その凹凸形状を維持したまま、めっき層（Ｎｉ層３３、Ｐｄ層３４およびＡｕ層３５）が形成される。
【００８４】
これによって、凹凸１２，１７を有する第１接続電極３および第２接続電極４が形成され、形成後の第１接続電極３および第２接続電極４を乾燥させると（ステップＳ８）、第１接続電極３および第２接続電極４の製造工程が完了する。なお、前後するステップの間には、半製品５０を水で洗浄する工程が適宜実施される。また、ジンケート処理は複数回実施されてもよい。
【００８５】
図１０Ｆでは、各半製品５０において第１接続電極３および第２接続電極４が形成された後の状態を示している。
以上のように、第１接続電極３および第２接続電極４を無電解めっきによって形成するので、第１接続電極３および第２接続電極４を電解めっきによって形成する場合に比べて、第１接続電極３および第２接続電極４についての形成工程の工程数（たとえば、電解めっきで必要となるリソグラフィ工程やレジストマスクの剥離工程等）を削減してチップ抵抗器１の生産性を向上できる。さらに、無電解めっきの場合には、電解めっきで必要とされるレジストマスクが不要であることから、レジストマスクの位置ずれによる第１接続電極３および第２接続電極４についての形成位置にずれが生じないので、第１接続電極３および第２接続電極４の形成位置精度を向上して歩留まりを向上できる。
【００８６】
このように第１接続電極３および第２接続電極４が形成されてから、第１接続電極３および第２接続電極４間での通電検査が行われた後に、基板３０が裏面３０Ｂから研削される。
具体的には、溝４４を形成した後に、図１０Ｇに示すように、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）からなる薄板状であって粘着面７２を有する支持テープ７１が、粘着面７２において、各半製品５０における第１接続電極３および第２接続電極４側（つまり、表面３０Ａ）に貼着される。これにより、各半製品５０が支持テープ７１に支持される。ここで、支持テープ７１として、たとえば、ラミネートテープを用いることができる。
【００８７】
各半製品５０が支持テープ７１に支持された状態で、基板３０を裏面３０Ｂ側から研削する。研削によって、溝４４の底壁４４Ｂ（図１０Ｆ参照）の上面に達するまで基板３０が薄型化されると、隣り合う半製品５０を連結するものがなくなるので、溝４４を境界として基板３０が分割され、半製品５０が個別に分離してチップ抵抗器１の完成品となる。つまり、溝４４（換言すれば、境界領域Ｚ）において基板３０が切断（分断）され、これによって、個々のチップ抵抗器１が切り出される。なお、基板３０を裏面３０Ｂ側から溝４４の底壁４４Ｂまでエッチングすることによってチップ抵抗器１を切り出しても構わない。
【００８８】
完成した各チップ抵抗器１では、溝４４の側壁４４Ａの区画面４４Ｃをなしていた部分が、基板２の側面２Ｃ〜２Ｆのいずれかとなり、裏面３０Ｂが裏面２Ｂとなる。つまり、前述したようにエッチングによって溝４４を形成する工程（図１０Ｂ参照）は、側面２Ｃ〜２Ｆを形成する工程に含まれる。また、絶縁膜４５がパッシベーション膜２３となり、分離した樹脂膜４６が樹脂膜２４となる。
【００８９】
以上のように、溝４４を形成してから基板３０を裏面３０Ｂ側から研削すれば、基板３０に形成された複数のチップ部品領域Ｙを一斉に個々のチップ抵抗器１（チップ部品）に分割できる（複数のチップ抵抗器１の個片を一度に得ることができる）。よって、複数のチップ抵抗器１の製造時間の短縮によってチップ抵抗器１の生産性の向上を図ることができる。
【００９０】
なお、完成したチップ抵抗器１における基板２の裏面２Ｂを研磨やエッチングすることによって鏡面化して裏面２Ｂを綺麗にしてもよい。
以上、本発明の実施形態について説明してきたが、本発明はさらに他の形態で実施することもできる。たとえば、本発明のチップ部品の一例として、前述した実施形態では、チップ抵抗器１を開示したが、本発明は、チップコンデンサやチップダイオードやチップインダクタといったチップ部品にも適用できる。以下では、チップコンデンサについて説明する。
【００９１】
図１３は、本発明の他の実施形態に係るチップコンデンサの平面図である。図１４は、図１３の切断面線ＸＩＶ−ＸＩＶから見た断面図である。図１５は、前記チップコンデンサの一部の構成を分離して示す分解斜視図である。
これから述べるチップコンデンサ１０１において、前述したチップ抵抗器１で説明した部分と対応する部分には、同一の参照符号を付し、当該部分についての詳しい説明を省略する。チップコンデンサ１０１において、チップ抵抗器１で説明した部分と同一の参照符号が付された部分は、特に言及しない限り、チップ抵抗器１で説明した部分と同じ構成を有していて、チップ抵抗器１で説明した部分（特に、第１接続電極３および第２接続電極４に関する部分について）と同じ作用効果を奏することができる。
【００９２】
図１３を参照して、チップコンデンサ１０１は、チップ抵抗器１と同様に、基板２と、基板２上（基板２の素子形成面２Ａ側）に配置された第１接続電極３と、同じく基板２上に配置された第２接続電極４とを備えている。基板２は、この実施形態では、平面視において矩形形状を有している。基板２の長手方向両端部に第１接続電極３および第２接続電極４がそれぞれ配置されている。第１接続電極３および第２接続電極４は、この実施形態では、基板２の短手方向に延びたほぼ矩形の平面形状を有している。チップコンデンサ１０１では、チップ抵抗器１と同様に、第１接続電極３および第２接続電極４が、基板２の素子形成面２Ａにおいて周縁部８５から間隔を開けて配置されている。そのため、チップコンデンサ１０１が実装基板９に実装された回路アセンブリ１００（図１Ｂ〜図１Ｅ参照）では、チップ抵抗器１の場合と同様に、小さな実装面積で実装基板９上にチップコンデンサ１０１を実装することができる。つまり、チップコンデンサ１０１は、小さな実装面積で実装基板９上に実装することができる。
【００９３】
基板２の素子形成面２Ａには、第１接続電極３および第２接続電極４の間のキャパシタ配置領域１０５内に、複数のキャパシタ要素Ｃ１〜Ｃ９が形成されている。複数のキャパシタ要素Ｃ１〜Ｃ９は、前述した素子５（ここでは、キャパシタ素子）を構成する複数の素子要素であり、第１接続電極３および第２接続電極４の間に接続されている。詳しくは、複数のキャパシタ要素Ｃ１〜Ｃ９は、複数のヒューズユニット１０７（前述したヒューズＦに相当する）を介してそれぞれ第２接続電極４に対して切り離し可能となるように電気的に接続されている。
【００９４】
図１４および図１５に示されているように、基板２の素子形成面２Ａには絶縁層２０が形成されていて、絶縁層２０の表面に下部電極膜１１１が形成されている。下部電極膜１１１は、キャパシタ配置領域１０５のほぼ全域にわたっている。さらに、下部電極膜１１１は、第１接続電極３の直下の領域にまで延びて形成されている。より具体的には、下部電極膜１１１は、キャパシタ配置領域１０５においてキャパシタ要素Ｃ１〜Ｃ９の共通の下部電極として機能するキャパシタ電極領域１１１Ａと、第１接続電極３の直下に配置される外部電極引き出しのためのパッド領域１１１Ｂとを有している。キャパシタ電極領域１１１Ａがキャパシタ配置領域１０５に位置していて、パッド領域１１１Ｂが第１接続電極３の直下に位置して第１接続電極３に接触している。
【００９５】
キャパシタ配置領域１０５において下部電極膜１１１（キャパシタ電極領域１１１Ａ）を覆って接するように容量膜（誘電体膜）１１２が形成されている。容量膜１１２は、キャパシタ電極領域１１１Ａ（キャパシタ配置領域１０５）の全域にわたって形成されている。容量膜１１２は、この実施形態では、さらにキャパシタ配置領域１０５外の絶縁層２０を覆っている。
【００９６】
容量膜１１２の上には、上部電極膜１１３が形成されている。図１３では、明瞭化のために、上部電極膜１１３を着色して示してある。上部電極膜１１３は、キャパシタ配置領域１０５に位置するキャパシタ電極領域１１３Ａと、第２接続電極４の直下に位置して第２接続電極４に接触するパッド領域１１３Ｂと、キャパシタ電極領域１１３Ａとパッド領域１１３Ｂとの間に配置されたヒューズ領域１１３Ｃとを有している。
【００９７】
キャパシタ電極領域１１３Ａにおいて、上部電極膜１１３は、複数の電極膜部分（上部電極膜部分）１３１〜１３９に分割（分離）されている。この実施形態では、各電極膜部分１３１〜１３９は、いずれも矩形形状に形成されていて、ヒューズ領域１１３Ｃから第１接続電極３に向かって帯状に延びている。複数の電極膜部分１３１〜１３９は、複数種類の対向面積で、容量膜１１２を挟んで（容量膜１１２に接しつつ）下部電極膜１１１に対向している。より具体的には、電極膜部分１３１〜１３９の下部電極膜１１１に対する対向面積は、１：２：４：８：１６：３２：６４：１２８：１２８となるように定められていてもよい。すなわち、複数の電極膜部分１３１〜１３９は、対向面積の異なる複数の電極膜部分を含み、より詳細には、公比が２の等比数列をなすように設定された対向面積を有する複数の電極膜部分１３１〜１３８（または１３１〜１３７，１３９）を含む。これによって、各電極膜部分１３１〜１３９と容量膜１１２を挟んで対向する下部電極膜１１１とによってそれぞれ構成される複数のキャパシタ要素Ｃ１〜Ｃ９は、互いに異なる容量値を有する複数のキャパシタ要素を含む。電極膜部分１３１〜１３９の対向面積の比が前述の通りである場合、キャパシタ要素Ｃ１〜Ｃ９の容量値の比は、当該対向面積の比と等しく、１：２：４：８：１６：３２：６４：１２８：１２８となる。すなわち、複数のキャパシタ要素Ｃ１〜Ｃ９は、公比が２の等比数列をなすように容量値が設定された複数のキャパシタ要素Ｃ１〜Ｃ８（またはＣ１〜Ｃ７，Ｃ９）を含むことになる。
【００９８】
この実施形態では、電極膜部分１３１〜１３５は、幅が等しく、長さの比を１：２：４：８：１６に設定した帯状に形成されている。また、電極膜部分１３５，１３６，１３７，１３８，１３９は、長さが等しく、幅の比を１：２：４：８：８に設定した帯状に形成されている。電極膜部分１３５〜１３９は、キャパシタ配置領域１０５の第２接続電極４側の端縁から第１接続電極３側の端縁までの範囲にわたって延びて形成されており、電極膜部分１３１〜１３４は、それよりも短く形成されている。
【００９９】
パッド領域１１３Ｂは、第２接続電極４とほぼ相似形に形成されており、ほぼ矩形の平面形状を有している。図１４に示すように、パッド領域１１３Ｂにおける上部電極膜１１３は、第２接続電極４に接している。
ヒューズ領域１１３Ｃは、基板２上において、パッド領域１１３Ｂの一つの長辺（基板２の周縁に対して内方側の長辺）に沿って配置されている。ヒューズ領域１１３Ｃは、パッド領域１１３Ｂの前記一つの長辺に沿って配列された複数のヒューズユニット１０７を含む。
【０１００】
ヒューズユニット１０７は、上部電極膜１１３のパッド領域１１３Ｂと同じ材料で一体的に形成されている。複数の電極膜部分１３１〜１３９は、１つまたは複数個のヒューズユニット１０７と一体的に形成されていて、それらのヒューズユニット１０７を介してパッド領域１１３Ｂに接続され、このパッド領域１１３Ｂを介して第２接続電極４に電気的に接続されている。図１３に示すように、面積の比較的小さな電極膜部分１３１〜１３６は、一つのヒューズユニット１０７によってパッド領域１１３Ｂに接続されており、面積の比較的大きな電極膜部分１３７〜１３９は複数個のヒューズユニット１０７を介してパッド領域１１３Ｂに接続されている。全てのヒューズユニット１０７が用いられる必要はなく、この実施形態では、一部のヒューズユニット１０７は未使用である。
【０１０１】
ヒューズユニット１０７は、パッド領域１１３Ｂとの接続のための第１幅広部１０７Ａと、電極膜部分１３１〜１３９との接続のための第２幅広部１０７Ｂと、第１および第２幅広部１０７Ａ，７Ｂの間を接続する幅狭部１０７Ｃとを含む。幅狭部１０７Ｃは、レーザ光によって切断（溶断）することができるように構成されている。それによって、電極膜部分１３１〜１３９のうち不要な電極膜部分を、ヒューズユニット１０７の切断によって第１および第２接続電極３，４から電気的に切り離すことができる。
【０１０２】
図１３および図１５では図示を省略したが、図１４に表れている通り、上部電極膜１１３の表面を含むチップコンデンサ１０１の表面は、前述したパッシベーション膜２３によって覆われている。パッシベーション膜２３は、たとえば窒化膜からなっていて、チップコンデンサ１０１の上面のみならず、基板２の側面２Ｃ〜２Ｆまで延びて、側面２Ｃ〜２Ｆの全域をも覆うように形成されている。さらに、パッシベーション膜２３の上には、前述した樹脂膜２４が形成されている。樹脂膜２４は、素子形成面２Ａを覆っている。
【０１０３】
パッシベーション膜２３および樹脂膜２４は、チップコンデンサ１０１の表面を保護する保護膜である。これらには、第１接続電極３および第２接続電極４に対応する領域に、前述した開口２５がそれぞれ形成されている。開口２５はそれぞれ下部電極膜１１１のパッド領域１１１Ｂの一部の領域、上部電極膜１１３のパッド領域１１３Ｂの一部の領域を露出させるようにパッシベーション膜２３および樹脂膜２４を貫通している。さらに、この実施形態では、第１接続電極３に対応した開口２５は、容量膜１１２をも貫通している。
【０１０４】
開口２５には、第１接続電極３および第２接続電極４がそれぞれ埋め込まれている。これにより、第１接続電極３は下部電極膜１１１のパッド領域１１１Ｂに接合しており、第２接続電極４は上部電極膜１１３のパッド領域１１３Ｂに接合している。第１および第２接続電極３，４は、樹脂膜２４の表面から突出するように形成されている。これにより、実装基板に対してチップコンデンサ１０１をフリップチップ接合することができる。
【０１０５】
図１６は、前記チップコンデンサの内部の電気的構成を示す回路図である。第１接続電極３と第２接続電極４との間に複数のキャパシタ要素Ｃ１〜Ｃ９が並列に接続されている。各キャパシタ要素Ｃ１〜Ｃ９と第２接続電極４との間には、一つまたは複数のヒューズユニット１０７でそれぞれ構成されたヒューズＦ１〜Ｆ９が直列に介装されている。
ヒューズＦ１〜Ｆ９が全て接続されているときは、チップコンデンサ１０１の容量値は、キャパシタ要素Ｃ１〜Ｃ９の容量値の総和に等しい。複数のヒューズＦ１〜Ｆ９から選択した１つまたは２つ以上のヒューズを切断すると、当該切断されたヒューズに対応するキャパシタ要素が切り離され、当該切り離されたキャパシタ要素の容量値だけチップコンデンサ１０１の容量値が減少する。
【０１０６】
そこで、パッド領域１１１Ｂ，１１３Ｂの間の容量値（キャパシタ要素Ｃ１〜Ｃ９の総容量値）を測定し、その後に所望の容量値に応じてヒューズＦ１〜Ｆ９から適切に選択した一つまたは複数のヒューズをレーザ光で溶断すれば、所望の容量値への合わせ込み（レーザトリミング）を行うことができる。とくに、キャパシタ要素Ｃ１〜Ｃ８の容量値が、公比２の等比数列をなすように設定されていれば、最小の容量値（当該等比数列の初項の値）であるキャパシタ要素Ｃ１の容量値に対応する精度で目標の容量値へと合わせ込む微調整が可能である。
【０１０７】
たとえば、キャパシタ要素Ｃ１〜Ｃ９の容量値は次のように定められていてもよい。
Ｃ１＝０．０３１２５ｐＦ
Ｃ２＝０．０６２５ｐＦ
Ｃ３＝０．１２５ｐＦ
Ｃ４＝０．２５ｐＦ
Ｃ５＝０．５ｐＦ
Ｃ６＝１ｐＦ
Ｃ７＝２ｐＦ
Ｃ８＝４ｐＦ
Ｃ９＝４ｐＦ
この場合、０．０３１２５ｐＦの最小合わせ込み精度でチップコンデンサ１０１の容量を微調整できる。また、ヒューズＦ１〜Ｆ９から切断すべきヒューズを適切に選択することで、１０ｐＦ〜１８ｐＦの間の任意の容量値のチップコンデンサ１０１を提供することができる。
【０１０８】
以上のように、この実施形態によれば、第１接続電極３および第２接続電極４の間に、ヒューズＦ１〜Ｆ９によって切り離し可能な複数のキャパシタ要素Ｃ１〜Ｃ９が設けられている。キャパシタ要素Ｃ１〜Ｃ９は、異なる容量値の複数のキャパシタ要素、より具体的には等比数列をなすように容量値が設定された複数のキャパシタ要素を含んでいる。それによって、ヒューズＦ１〜Ｆ９から１つまたは複数のヒューズを選択してレーザ光で溶断することにより、設計を変更することなく複数種類の容量値に対応でき、かつ所望の容量値に正確に合わせ込むことができるチップコンデンサ１０１を共通の設計で実現することができる。
【０１０９】
チップコンデンサ１０１の各部の詳細について以下に説明を加える。
図１３を参照して、基板２は、たとえば平面視において０．３ｍｍ×０．１５ｍｍ、０．４ｍｍ×０．２ｍｍなどの矩形形状（好ましくは、０．４ｍｍ×０．２ｍｍ以下の大きさ）を有していてもよい。キャパシタ配置領域１０５は、概ね、基板２の短辺の長さに相当する一辺を有する正方形領域となる。基板２の厚さは、１５０μｍ程度であってもよい。図１４を参照して、基板２は、たとえば、裏面側（キャパシタ要素Ｃ１〜Ｃ９が形成されていない表面）からの研削または研磨によって薄型化された基板であってもよい。基板２の材料としては、シリコン基板に代表される半導体基板を用いてもよいし、ガラス基板を用いてもよいし、樹脂フィルムを用いてもよい。
【０１１０】
絶縁層２０は、酸化シリコン膜等の酸化膜であってもよい。その膜厚は、５００Å〜２０００Å程度であってもよい。
下部電極膜１１１は、導電性膜、とくに金属膜であることが好ましく、たとえばアルミニウム膜であってもよい。アルミニウム膜からなる下部電極膜１１１は、スパッタ法によって形成することができる。上部電極膜１１３も同様に、導電性膜、とくに金属膜で構成することが好ましく、アルミニウム膜であってもよい。アルミニウム膜からなる上部電極膜１１３は、スパッタ法によって形成することができる。上部電極膜１１３のキャパシタ電極領域１１３Ａを電極膜部分１３１〜１３９に分割し、さらに、ヒューズ領域１１３Ｃを複数のヒューズユニット１０７に整形するためのパターニングは、フォトリソグラフィおよびエッチングプロセスによって行うことができる。
【０１１１】
容量膜１１２は、たとえば窒化シリコン膜で構成することができ、その膜厚は５００Å〜２０００Å（たとえば１０００Å）とすることができる。容量膜１１２は、プラズマＣＶＤ（化学的気相成長）によって形成された窒化シリコン膜であってもよい。
パッシベーション膜２３は、たとえば窒化シリコン膜で構成することができ、たとえばプラズマＣＶＤ法によって形成できる。その膜厚は、８０００Å程度とされてもよい。樹脂膜２４は、前述の通り、ポリイミド膜その他の樹脂膜で構成することができる。
【０１１２】
第１および第２接続電極３，４は、たとえば、下部電極膜１１１または上部電極膜１１３に接するニッケル層と、このニッケル層上に積層したパラジウム層と、そのパラジウム層上に積層した金層とを積層した積層構造膜からなっていてもよく、たとえば、めっき法（より具体的には無電解めっき法）で形成することができる。ニッケル層は下部電極膜１１１または上部電極膜１１３に対する密着性の向上に寄与し、パラジウム層は上部電極膜または下部電極膜の材料と第１および第２接続電極３，４の最上層の金との相互拡散を抑制する拡散防止層として機能する。
【０１１３】
このようなチップコンデンサ１０１の製造工程は、素子５を形成した後のチップ抵抗器１の製造工程と同じである。
チップコンデンサ１０１において素子５（キャパシタ素子）を形成する場合には、まず、前述した基板３０（基板２）の表面に、熱酸化法および／またはＣＶＤ法によって、酸化膜（たとえば酸化シリコン膜）からなる絶縁層２０が形成される。次に、たとえばスパッタ法によって、アルミニウム膜からなる下部電極膜１１１が絶縁層２０の表面全域に形成される。下部電極膜１１１の膜厚は８０００Å程度とされてもよい。次に、その下部電極膜の表面に、下部電極膜１１１の最終形状に対応したレジストパターンが、フォトリソグラフィによって形成される。このレジストパターンをマスクとして、下部電極膜がエッチングされることにより、図１３等に示したパターンの下部電極膜１１１が得られる。下部電極膜１１１のエッチングは、たとえば、反応性イオンエッチングによって行うことができる。
【０１１４】
次に、たとえばプラズマＣＶＤ法によって、窒化シリコン膜等からなる容量膜１１２が、下部電極膜１１１上に形成される。下部電極膜１１１が形成されていない領域では、絶縁層２０の表面に容量膜１１２が形成されることになる。次に、その容量膜１１２の上に、上部電極膜１１３が形成される。上部電極膜１１３は、たとえばアルミニウム膜からなり、スパッタ法によって形成することができる。その膜厚は、８０００Å程度とされてもよい。次に、上部電極膜１１３の表面に上部電極膜１１３の最終形状に対応したレジストパターンがフォトリソグラフィによって形成される。このレジストパターンをマスクとしたエッチングにより、上部電極膜１１３が、最終形状（図１３等参照）にパターニングされる。それによって、上部電極膜１１３は、キャパシタ電極領域１１３Ａに複数の電極膜部分１３１〜１３９に分割された部分を有し、ヒューズ領域１１３Ｃに複数のヒューズユニット１０７を有し、それらのヒューズユニット１０７に接続されたパッド領域１１３Ｂを有するパターンに整形される。上部電極膜１１３のパターニングのためのエッチングは、燐酸等のエッチング液を用いたウェットエッチングによって行ってもよいし、反応性イオンエッチングによって行ってもよい。
【０１１５】
以上によって、チップコンデンサ１０１における素子５（キャパシタ要素Ｃ１〜Ｃ９やヒューズユニット１０７）が形成される。素子５が形成された後に、プラズマＣＶＤ法によって絶縁膜４５が、素子５（上部電極膜１１３、上部電極膜１１３が形成されていない領域における容量膜１１２）を全て覆うように形成される（図１０Ａ参照）。その後は、溝４４が形成されてから（図１０Ｂ参照）、開口２５が形成される（図１０Ｃ参照）。そして、開口２５から露出された上部電極膜１１３のパッド領域１１３Ｂと下部電極膜１１１のパッド領域１１１Ｂとにプローブ７０を押し当てて、複数のキャパシタ要素Ｃ１〜Ｃ９の総容量値が測定される（図１０Ｃ参照）。この測定された総容量値に基づき、目的とするチップコンデンサ１０１の容量値に応じて、切り離すべきキャパシタ要素、すなわち切断すべきヒューズが選択される。
【０１１６】
この状態から、ヒューズユニット１０７を溶断するためのレーザトリミングが行われる。すなわち、前記総容量値の測定結果に応じて選択されたヒューズを構成するヒューズユニット１０７にレーザ光を当てて、そのヒューズユニット１０７の幅狭部１０７Ｃ（図１３参照）が溶断される。これにより、対応するキャパシタ要素がパッド領域１１３Ｂから切り離される。ヒューズユニット１０７にレーザ光を当てるとき、カバー膜である絶縁膜４５の働きによって、ヒューズユニット１０７の近傍にレーザ光のエネルギーが蓄積され、それによって、ヒューズユニット１０７が溶断する。これにより、チップコンデンサ１０１の容量値を確実に目的の容量値とすることができる。
【０１１７】
次に、たとえばプラズマＣＶＤ法によって、カバー膜（絶縁膜４５）上に窒化シリコン膜が堆積させられ、パッシベーション膜２３が形成される。前述のカバー膜は最終形態において、パッシベーション膜２３と一体化し、このパッシベーション膜２３の一部を構成する。ヒューズの切断後に形成されたパッシベーション膜２３は、ヒューズ溶断の際に同時に破壊されたカバー膜の開口内に入り込み、ヒューズユニット１０７の切断面を覆って保護する。したがって、パッシベーション膜２３は、ヒューズユニット１０７の切断箇所に異物が入り込んだり水分が侵入したりすることを防ぐ。これにより、信頼性の高いチップコンデンサ１０１を製造することができる。パッシベーション膜２３は、全体で、たとえば８０００Å程度の膜厚を有するように形成されてもよい。
【０１１８】
次に、前述した樹脂膜４６が形成される（図１０Ｄ参照）。その後、樹脂膜４６やパッシベーション膜２３によって塞がれていた開口２５が開放される（図１０Ｅ参照）。そして、パッド領域２２Ａが選択的にエッチングされて凹凸が形成された後、開口２５内に、たとえば無電解めっき法によって、第１接続電極３および第２接続電極４が成長させられる（図１０Ｆ参照）。
【０１１９】
その後、チップ抵抗器１の場合と同じように、基板３０を裏面３０Ｂから研削すると（図１０Ｇ参照）、チップコンデンサ１０１の個片を切り出すことができる。
フォトリソグラフィ工程を利用した上部電極膜１１３のパターニングでは、微小面積の電極膜部分１３１〜１３９を精度良く形成することができ、さらに微細なパターンのヒューズユニット１０７を形成することができる。そして、上部電極膜１１３のパターニングの後に、総容量値の測定を経て、切断すべきヒューズが決定される。その決定されたヒューズを切断することによって、所望の容量値に正確に合わせ込まれたチップコンデンサ１０１を得ることができる。
【０１２０】
図１７は、本発明のさらに他の実施形態に係るチップ抵抗器の模式的な斜視図である。図１８は、図１７のチップ抵抗器の模式的な断面図である。
これから述べるチップ抵抗器３０１において、前述したチップ抵抗器１で説明した部分と対応する部分には、同一の参照符号を付し、当該部分についての詳しい説明を省略する。チップ抵抗器３０１において、チップ抵抗器１で説明した部分と同一の参照符号が付された部分は、特に言及しない限り、チップ抵抗器１で説明した部分と同じ構成を有していて、チップ抵抗器１で説明した部分と同じ作用効果を奏することができる。
【０１２１】
このチップ抵抗器３０１の第１接続電極３および第２接続電極４は、凹凸１２，１７を有しておらず、長辺３Ａ，４Ａおよび短辺３Ｂ，４Ｂが共に直線状に形成されている。一方、このチップ抵抗器３０１の特徴は、第１接続電極３および第２接続電極４が、その表面に選択的に突出した凸部７３，７４を有する凸型電極である。
凸部７３，７４は、第１接続電極３および第２接続電極４の周縁部（具体的には、長辺３Ａ，４Ａおよび短辺３Ｂ，４Ｂ）に沿って間隔を空けて複数形成されている。この実施形態では、基板２の長手方向において素子５に近い側の長辺３Ａ，４Ａを除く周縁に沿ってコ字状に配置されている。すなわち、複数の凸部７３，７４で区画された領域は、素子５に向かって開放した領域である。なお、凸部７３，７４は、図１７に示す円柱状の他、多角柱状、多角錐状、円錐状等であってもよい。
【０１２２】
そして、このような複数の凸部７３，７４は、たとえば、図１０Ｅの工程後、図１０Ｆの工程前に、パッド領域２２Ａを選択的にエッチングすることによって、パッド領域２２Ａに、凸部７３，７４に一致する凸部７５，７６を形成すればよい。これにより、めっき工程（ステップＳ５〜Ｓ７）では、その凸部７５，７６の形状を維持したまま、めっき層（Ｎｉ層３３、Ｐｄ層３４およびＡｕ層３５）が形成され、第１接続電極３および第２接続電極４に凸部７３，７４が形成される。
【０１２３】
このチップ抵抗器３０１では、実装基板９への実装時（図１Ｂ参照）、第１接続電極３および第２接続電極４の凸部７３，７４に半田１３が引っ掛かる。これにより、半田１３との間に十分な保持性を確保することができる。その結果、リフロー後の実装性を安定させることができる。
図１９は、本発明のさらに他の実施形態に係るチップ抵抗器の模式的な斜視図である。図２０は、図１９のチップ抵抗器の模式的な断面図である。
【０１２４】
これから述べるチップ抵抗器４０１において、前述したチップ抵抗器１で説明した部分と対応する部分には、同一の参照符号を付し、当該部分についての詳しい説明を省略する。チップ抵抗器４０１において、チップ抵抗器１で説明した部分と同一の参照符号が付された部分は、特に言及しない限り、チップ抵抗器１で説明した部分と同じ構成を有していて、チップ抵抗器１で説明した部分と同じ作用効果を奏することができる。
【０１２５】
このチップ抵抗器４０１の第１接続電極３および第２接続電極４は、凹凸１２，１７を有しておらず、長辺３Ａ，４Ａおよび短辺３Ｂ，４Ｂが共に直線状に形成されている。一方、このチップ抵抗器４０１の特徴は、第１接続電極３および第２接続電極４が、その表面に選択的に窪んだ凹部７７，７８を有する凹型電極である。
凹部７７，７８は、第１接続電極３および第２接続電極４の基板２の長手方向（素子５を挟んで第１接続電極３と第２接続電極４とが対向する方向）に沿って直線状に形成されている。この実施形態では、その直線状の凹部７７，７８が、基板２の短手方向に沿って互いに間隔を空けてストライプ状に複数形成されている。なお、複数の凹部７７，７８は、図１８に示すストライプ状の他、点状に配置されていてもよい。
【０１２６】
そして、このような複数の凹部７７，７８は、たとえば、図１０Ｅの工程後、図１０Ｆの工程前に、パッド領域２２Ａを選択的にエッチングすることによって、パッド領域２２Ａに、凹部７７，７８に一致する凹部７９，８０を形成すればよい。これにより、めっき工程（ステップＳ５〜Ｓ７）では、その凹部７９，８０の形状を維持したまま、めっき層（Ｎｉ層３３、Ｐｄ層３４およびＡｕ層３５）が形成され、第１接続電極３および第２接続電極４に凹部７７，７８が形成される。
【０１２７】
このチップ抵抗器４０１では、実装基板９への実装時（図１Ｂ参照）、第１接続電極３および第２接続電極４の凹部７７，７８に半田１３を入り込ませることができる。これにより、半田１３との間に十分な保持性を確保することができる。その結果、リフロー後の実装性を安定させることができる。
以上、本発明のチップ部品（チップ抵抗器１やチップコンデンサ１０１）について説明してきたが、本発明はさらに他の形態で実施することもできる。
【０１２８】
たとえば、前述の実施形態では、チップ抵抗器１の場合、複数の抵抗回路が公比ｒ（０＜ｒ、ｒ≠１）＝２の等比数列をなす抵抗値を有する複数の抵抗回路を有している例を示したが、当該等比数列の公比は２以外の数であってもよい。また、チップコンデンサ１０１の場合にも、キャパシタ要素が公比ｒ（０＜ｒ、ｒ≠１）＝２の等比数列をなす容量値を有する複数のキャパシタ要素を有している例を示したが、当該等比数列の公比は２以外の数であってもよい。
【０１２９】
また、チップ抵抗器１やチップコンデンサ１０１では、基板２の表面に絶縁層２０が形成されているが、基板２が絶縁性の基板であれば、絶縁層２０を省くこともできる。
また、チップコンデンサ１０１では、上部電極膜１１３だけが複数の電極膜部分に分割されている構成を示したが、下部電極膜１１１だけが複数の電極膜部分に分割されていたり、上部電極膜１１３および下部電極膜１１１が両方とも複数の電極膜部分に分割されていたりしてもよい。さらに、前述の実施形態では、上部電極膜または下部電極膜とヒューズユニットとが一体化されている例を示したが、上部電極膜または下部電極膜とは別の導体膜でヒューズユニットを形成してもよい。また、前述したチップコンデンサ１０１では、上部電極膜１１３および下部電極膜１１１を有する１層のキャパシタ構造が形成されているが、上部電極膜１１３上に、容量膜を介して別の電極膜を積層することで、複数のキャパシタ構造が積層されてもよい。
【０１３０】
チップコンデンサ１０１では、また、基板２として導電性基板を用い、その導電性基板を下部電極として用い、導電性基板の表面に接するように容量膜１１２を形成してもよい。この場合、導電性基板の裏面から一方の外部電極を引き出してもよい。
また、本発明を、チップインダクタに適用した場合、当該チップインダクタにおいて前述した基板２上に形成された素子５は、複数のインダクタ要素（素子要素）を含んだインダクタ素子を含み、第１接続電極３および第２接続電極４の間に接続されている。素子５は、前述した多層基板の多層配線中に設けられ、配線膜２２によって形成されている。また、チップインダクタでは、基板２上に、前述した複数のヒューズＦが設けられていて、各インダクタ要素が、第１接続電極３および第２接続電極４に対して、ヒューズＦを介して切り離し可能に接続されている。
【０１３１】
この場合、チップインダクタでは、一つまたは複数のヒューズＦを選択して切断することにより、複数のインダクタ要素の組み合わせパターンを任意のパターンとすることができるので、電気的特性が様々なチップインダクタを共通の設計で実現することができる。
また、本発明を、チップダイオードに適用した場合、当該チップダイオードにおいて前述した基板２上に形成された素子５は、複数のダイオード要素（素子要素）を含んだダイオード回路網（ダイオード素子）を含む。ダイオード素子は基板２に形成されている。このチップダイオードでは、一つまたは複数のヒューズＦを選択して切断することにより、ダイオード回路網における複数のダイオード要素の組み合わせパターンを任意のパターンとすることができるので、ダイオード回路網の電気的特性が様々なチップダイオードを共通の設計で実現することができる。
【０１３２】
チップインダクタおよびチップダイオードのいずれにおいても、チップ抵抗器１およびチップコンデンサ１０１の場合と同じ作用効果を奏することができる。
また、前述した第１接続電極３および第２接続電極４において、Ｎｉ層３３とＡｕ層３５との間に介装されていたＰｄ層３４を省略することもできる。Ｎｉ層３３とＡｕ層３５との接着性が良好なので、Ａｕ層３５に前述したピンホールができないのであれば、Ｐｄ層３４を省略しても構わない。
【０１３３】
図２１は、本発明のチップ部品が用いられる電子機器の一例であるスマートフォンの外観を示す斜視図である。スマートフォン２０１は、扁平な直方体形状の筐体２０２の内部に電子部品を収納して構成されている。筐体２０２は表側および裏側に長方形状の一対の主面を有しており、その一対の主面が４つの側面で結合されている。筐体２０２の一つの主面には、液晶パネルや有機ＥＬパネル等で構成された表示パネル２０３の表示面が露出している。表示パネル２０３の表示面は、タッチパネルを構成しており、使用者に対する入力インターフェースを提供している。
【０１３４】
表示パネル２０３は、筐体２０２の一つの主面の大部分を占める長方形形状に形成されている。表示パネル２０３の一つの短辺に沿うように、操作ボタン２０４が配置されている。この実施形態では、複数（３つ）の操作ボタン２０４が表示パネル２０３の短辺に沿って配列されている。使用者は、操作ボタン２０４およびタッチパネルを操作することによって、スマートフォン２０１に対する操作を行い、必要な機能を呼び出して実行させることができる。
【０１３５】
表示パネル２０３の別の一つの短辺の近傍には、スピーカ２０５が配置されている。スピーカ２０５は、電話機能のための受話口を提供するとともに、音楽データ等を再生するための音響化ユニットとしても用いられる。一方、操作ボタン２０４の近くには、筐体２０２の一つの側面にマイクロフォン２０６が配置されている。マイクロフォン２０６は、電話機能のための送話口を提供するほか、録音用のマイクロフォンとして用いることもできる。
【０１３６】
図２２は、筐体２０２の内部に収容された回路アセンブリ１００の構成を示す図解的な平面図である。回路アセンブリ１００は、前述した実装基板９（前述した多層基板であってもよい）と、実装基板９の実装面９Ａに実装された回路部品とを含む。複数の回路部品は、複数の集積回路素子（ＩＣ）２１２−２２０と、複数のチップ部品とを含む。複数のＩＣは、伝送処理ＩＣ２１２、ワンセグＴＶ受信ＩＣ２１３、ＧＰＳ受信ＩＣ２１４、ＦＭチューナＩＣ２１５、電源ＩＣ２１６、フラッシュメモリ２１７、マイクロコンピュータ２１８、電源ＩＣ２１９およびベースバンドＩＣ２２０を含む。複数のチップ部品（本願発明のチップ部品に相当する）は、チップインダクタ２２１，２２５，２３５、チップ抵抗器２２２，２２４，２３３、チップキャパシタ２２７，２３０，２３４、およびチップダイオード２２８，２３１を含む。
【０１３７】
伝送処理ＩＣ２１２は、表示パネル２０３に対する表示制御信号を生成し、かつ表示パネル２０３の表面のタッチパネルからの入力信号を受信するための電子回路を内蔵している。表示パネル２０３との接続のために、伝送処理ＩＣ２１２には、フレキシブル配線２０９が接続されている。
ワンセグＴＶ受信ＩＣ２１３は、ワンセグ放送（携帯機器を受信対象とする地上デジタルテレビ放送）の電波を受信するための受信機を構成する電子回路を内蔵している。ワンセグＴＶ受信ＩＣ２１３の近傍には、複数のチップインダクタ２２１と、複数のチップ抵抗器２２２とが配置されている。ワンセグＴＶ受信ＩＣ２１３、チップインダクタ２２１およびチップ抵抗器２２２は、ワンセグ放送受信回路２２３を構成している。チップインダクタ２２１およびチップ抵抗器２２２は、正確に合わせ込まれたインダクタンスおよび抵抗をそれぞれ有し、ワンセグ放送受信回路２２３に高精度な回路定数を与える。
【０１３８】
ＧＰＳ受信ＩＣ２１４は、ＧＰＳ衛星からの電波を受信してスマートフォン２０１の位置情報を出力する電子回路を内蔵している。
ＦＭチューナＩＣ２１５は、その近傍において実装基板９に実装された複数のチップ抵抗器２２４および複数のチップインダクタ２２５とともに、ＦＭ放送受信回路２２６を構成している。チップ抵抗器２２４およびチップインダクタ２２５は、正確に合わせ込まれた抵抗値およびインダクタンスをそれぞれ有し、ＦＭ放送受信回路２２６に高精度な回路定数を与える。
【０１３９】
電源ＩＣ２１６の近傍には、複数のチップキャパシタ２２７および複数のチップダイオード２２８が実装基板９の実装面に実装されている。電源ＩＣ２１６は、チップキャパシタ２２７およびチップダイオード２２８とともに、電源回路２２９を構成している。
フラッシュメモリ２１７は、オペレーティングシステムプログラム、スマートフォン２０１の内部で生成されたデータ、通信機能によって外部から取得したデータおよびプログラムなどを記録するための記憶装置である。
【０１４０】
マイクロコンピュータ２１８は、ＣＰＵ、ＲＯＭおよびＲＡＭを内蔵しており、各種の演算処理を実行することにより、スマートフォン２０１の複数の機能を実現する演算処理回路である。より具体的には、マイクロコンピュータ２１８の働きにより、画像処理や各種アプリケーションプログラムのための演算処理が実現されるようになっている。
電源ＩＣ２１９の近くには、複数のチップキャパシタ２３０および複数のチップダイオード２３１が実装基板９の実装面に実装されている。電源ＩＣ２１９は、チップキャパシタ２３０およびチップダイオード２３１とともに、電源回路２３２を構成している。
【０１４１】
ベースバンドＩＣ２２０の近くには、複数のチップ抵抗器２３３、複数のチップキャパシタ２３４、および複数のチップインダクタ２３５が、実装基板９の実装面９Ａに実装されている。ベースバンドＩＣ２２０は、チップ抵抗器２３３、チップキャパシタ２３４およびチップインダクタ２３５とともに、ベースバンド通信回路２３６を構成している。ベースバンド通信回路２３６は、電話通信およびデータ通信のための通信機能を提供する。
【０１４２】
このような構成によって、電源回路２２９，２３２によって適切に調整された電力が、伝送処理ＩＣ２１２、ＧＰＳ受信ＩＣ２１４、ワンセグ放送受信回路２２３、ＦＭ放送受信回路２２６、ベースバンド通信回路２３６、フラッシュメモリ２１７およびマイクロコンピュータ２１８に供給される。マイクロコンピュータ２１８は、伝送処理ＩＣ２１２を介して入力される入力信号に応答して演算処理を行い、伝送処理ＩＣ２１２から表示パネル２０３に表示制御信号を出力して表示パネル２０３に各種の表示を行わせる。
【０１４３】
タッチパネルまたは操作ボタン２０４の操作によってワンセグ放送の受信が指示されると、ワンセグ放送受信回路２２３の働きによってワンセグ放送が受信される。そして、受信された画像を表示パネル２０３に出力し、受信された音声をスピーカ２０５から音響化させるための演算処理が、マイクロコンピュータ２１８によって実行される。
また、スマートフォン２０１の位置情報が必要とされるときには、マイクロコンピュータ２１８は、ＧＰＳ受信ＩＣ２１４が出力する位置情報を取得し、その位置情報を用いた演算処理を実行する。
【０１４４】
さらに、タッチパネルまたは操作ボタン２０４の操作によってＦＭ放送受信指令が入力されると、マイクロコンピュータ２１８は、ＦＭ放送受信回路２２６を起動し、受信された音声をスピーカ２０５から出力させるための演算処理を実行する。
フラッシュメモリ２１７は、通信によって取得したデータの記憶や、マイクロコンピュータ２１８の演算や、タッチパネルからの入力によって作成されたデータを記憶するために用いられる。マイクロコンピュータ２１８は、必要に応じて、フラッシュメモリ２１７に対してデータを書き込み、またフラッシュメモリ２１７からデータを読み出す。
【０１４５】
電話通信またはデータ通信の機能は、ベースバンド通信回路２３６によって実現される。マイクロコンピュータ２１８は、ベースバンド通信回路２３６を制御して、音声またはデータを送受信するための処理を行う。
その他、特許請求の範囲に記載された事項の範囲で種々の設計変更を施すことが可能である。
【符号の説明】
【０１４６】
１  チップ抵抗器
２  基板
２Ａ  素子形成面
３  第１接続電極
４  第２接続電極
５  素子
１０  凹部
１１  凸部
１２  凹凸
１５  凹部
１６  凸部
１７  凹凸
２１  抵抗体膜
２２  配線膜
３３  Ｎｉ層
３４  Ｐｄ層
３５  Ａｕ層
５６  抵抗
７３  凸部
７４  凸部
７７  凹部
７８  凹部
１０１  チップコンデンサ
１１１  下部電極膜
１１２  容量膜
１１３  上部電極膜
１３１〜１３９  電極膜部分
２２１  チップインダクタ
２２２  チップ抵抗器
２２４  チップ抵抗器
２２５  チップインダクタ
２２７  チップコンデンサ
２２８  チップダイオード
２３０  チップコンデンサ
２３１  チップダイオード
２３３  チップ抵抗器
２３４  チップコンデンサ
２３５  チップインダクタ
３０１  チップ抵抗器
４０１  チップ抵抗器
Ｃ１〜Ｃ９  キャパシタ要素
Ｆ（Ｆ１〜Ｆ９）  ヒューズ
Ｒ  抵抗体
【図１Ａ】
2014072241.tif 000003
【図１Ｂ】
2014072241.tif 000004
【図２】
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【図３Ａ】
2014072241.tif 000006
【図３Ｂ】
2014072241.tif 000007
【図３Ｃ】
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【図４】
2014072241.tif 000009
【図５】
2014072241.tif 000010
【図６】
2014072241.tif 000011
【図７】
2014072241.tif 000012
【図８】
2014072241.tif 000013
【図９】
2014072241.tif 000014
【図１０Ａ】
2014072241.tif 000015
【図１０Ｂ】
2014072241.tif 000016
【図１０Ｃ】
2014072241.tif 000017
【図１０Ｄ】
2014072241.tif 000018
【図１０Ｅ】
2014072241.tif 000019
【図１０Ｆ】
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【図１０Ｇ】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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