(57)【要約】【課題】本発明は、ガラス基板が内部の構造物に接触することを防止し、さらに内部に充填された液体に気泡が発生することを防止することを目的とする。【解決手段】表示装置は、第１基板１０と、第１基板１０に形成されたシャッタ１４及びシャッタ１４と接続された駆動部４０と、間隔をあけて第１基板１０に対向するように配置された第２基板１２と、第１基板１０と第２基板１２の間隔を保持してスペースを封止するシール材１１と、スペースに充填されたオイル４６と、第１基板１０に配置された第１スペーサ１３と、第１スペーサ１３に対向するように第２基板１２に配置された第２スペーサ１５と、を有する。第１スペーサ１３と第２スペーサ１５の合計高さｈ１＋ｈ２は、シール材１１の高さＨよりも低い。【選択図】図１
2014077912.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１基板と、
前記第１基板に形成されたシャッタ及び前記シャッタと接続された駆動部と、
間隔をあけて前記第１基板に対向するように配置された第２基板と、
前記第１基板と前記第２基板の前記間隔を保持してスペースを封止するシール材と、
前記スペースに充填された液体と、
前記第１基板に配置された第１スペーサと、
前記第１スペーサに対向するように前記第２基板に配置された第２スペーサと、
を有し、
前記第１スペーサと前記第２スペーサの合計高さは、前記シール材の高さよりも低いことを特徴とする表示装置。
【請求項２】
請求項１に記載された表示装置において、
常温で、前記第１スペーサと前記第２スペーサの間に隙間が形成されることを特徴とする表示装置。
【請求項３】
請求項１又は２に記載された表示装置において、
前記第１スペーサの高さは、前記シャッタの前記第１基板からの高さ以下であることを特徴とする表示装置。
【請求項４】
請求項１から３のいずれか１項に記載された表示装置において、
前記第１スペーサの少なくとも表面層は、前記シャッタを構成する材料からなることを特徴とする表示装置。
【請求項５】
請求項１から４のいずれか１項に記載された表示装置において、
前記シャッタの駆動方向に隣同士の一対の前記シャッタの間に、前記第１スペーサが配置されることを特徴とする表示装置。
【請求項６】
第１基板に、第１スペーサ、シャッタ及び前記シャッタを機械的に駆動するための駆動部を含む第１構造物を形成する工程と、
第２基板に、第２スペーサを含む第２構造物を形成する工程と、
前記第１スペーサと前記第２スペーサが対向するように、前記第１基板及び第２基板を、間隔をあけて配置する工程と、
前記第１基板及び前記第２基板の間に、前記第１スペーサと前記第２スペーサの合計高さよりも長い高さのシール材によって前記間隔を保持して区画されたスペースに液体を充填する工程と、
を含み、
前記第１構造物を形成する工程では、前記第１スペーサ、前記シャッタ及び前記駆動部の形成領域に樹脂層を形成し、前記シャッタ及び前記駆動部を形成するための材料で膜を前記樹脂層上に形成し、前記シャッタ及び前記駆動部の形成領域で前記膜を残して前記樹脂層を除去し、前記スペーサの形成領域で前記膜及び前記樹脂層を残すことを特徴とする表示装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、表示装置及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
ＭＥＭＳディスプレイ（Micro Electro Mechanical System Display）は、液晶ディスプレイに取って代わると期待されているディスプレイである（特許文献１）。このディスプレイは、偏光を利用した液晶シャッタ方式とは異なり、機械シャッタ方式によって光の透過窓を開閉することで画像を表示する。シャッタは薄膜からなり、１画素を構成するシャッタの縦横サイズは数100μｍオーダで厚みが数μｍオーダである。１シャッタの開閉により、１画素のオンオフ動作が可能となる。シャッタは、静電引力によって動作するようになっている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００８−１９７６６８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
シャッタは一対のガラス基板の間にシールで囲まれたスペースに配置され、このスペースは液体（オイル）で満たされている。オイルは、シャッタの駆動のためのバネのくっつきを防止し、光透過性基板との光屈折率の差を小さくしている。また、オイルによって誘電率を上げることでシャッタを駆動するために必要な電圧を低下させている。
【０００５】
この構造によれば、環境温度が氷点下になると、オイルの収縮により、ガラス基板が内側に湾曲して内部の構造物に接触するおそれがある。あるいは、内部にスペーサを設けて一対のガラス基板の間隔を規制すればガラス基板の湾曲を防止することができるが、その場合、オイルに気泡が発生するという問題がある。
【０００６】
本発明は、ガラス基板が内部の構造物に接触することを防止し、さらに内部に充填された液体に気泡が発生することを防止することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
（１）本発明に係る表示装置は、第１基板と、前記第１基板に形成されたシャッタ及び前記シャッタと接続された駆動部と、間隔をあけて前記第１基板に対向するように配置された第２基板と、前記第１基板と前記第２基板の前記間隔を保持してスペースを封止するシール材と、前記スペースに充填された液体と、前記第１基板に配置された第１スペーサと、前記第１スペーサに対向するように前記第２基板に配置された第２スペーサと、を有し、前記第１スペーサと前記第２スペーサの合計高さは、前記シール材の高さよりも低いことを特徴とする。本発明によれば、第１基板と第２基板の間には、第１スペーサと第２スペーサの合計高さの間隔が維持されるので、第１基板又は第２基板が、内部の構造物に接触することが防止される。また、シール材よりも第１スペーサと第２スペーサの合計高さが低いため、第１基板又は第２基板の多少の湾曲は許容され、内部に充填された液体に気泡が発生することを防止することができる。
【０００８】
（２）（１）に記載された表示装置において、常温で、前記第１スペーサと前記第２スペーサの間に隙間が形成されることを特徴としてもよい。
【０００９】
（３）（１）又は（２）に記載された表示装置において、前記第１スペーサの高さは、前記シャッタの前記第１基板からの高さ以下であることを特徴としてもよい。
【００１０】
（４）（１）から（３）のいずれか１項に記載された表示装置において、前記第１スペーサの少なくとも表面層は、前記シャッタを構成する材料からなることを特徴としてもよい。
【００１１】
（５）（１）から（４）のいずれか１項に記載された表示装置において、前記シャッタの駆動方向に隣同士の一対の前記シャッタの間に、前記第１スペーサが配置されることを特徴としてもよい。
【００１２】
（６）本発明に係る表示装置の製造方法は、第１基板に、第１スペーサ、シャッタ及び前記シャッタを機械的に駆動するための駆動部を含む第１構造物を形成する工程と、第２基板に、第２スペーサを含む第２構造物を形成する工程と、前記第１スペーサと前記第２スペーサが対向するように、前記第１基板及び第２基板を、間隔をあけて配置する工程と、前記第１基板及び前記第２基板の間に、前記第１スペーサと前記第２スペーサの合計高さよりも長い高さのシール材によって前記間隔を保持して区画されたスペースに液体を充填する工程と、を含み、前記第１構造物を形成する工程では、前記第１スペーサ、前記シャッタ及び前記駆動部の形成領域に樹脂層を形成し、前記シャッタ及び前記駆動部を形成するための材料で膜を前記樹脂層上に形成し、前記シャッタ及び前記駆動部の形成領域で前記膜を残して前記樹脂層を除去し、前記スペーサの形成領域で前記膜及び前記樹脂層を残すことを特徴とする。本発明によれば、第１スペーサをシャッタ及び駆動部と同時に形成することができる。第１基板と第２基板の間には、第１スペーサと第２スペーサの合計高さの間隔が維持されるので、第１基板又は第２基板が、内部の構造物に接触することが防止される。また、シール材よりも第１スペーサと第２スペーサの合計高さが低いため、第１基板又は第２基板の多少の湾曲は許容され、内部に充填された液体に気泡が発生することを防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】本発明の実施形態に係る表示装置の概略断面図である。
【図２】第１基板及びその上の構造物を示す概略図である。
【図３】低温時の表示装置の概略断面図である。
【図４】本発明の実施形態に係る表示装置の断面図である。
【図５】シャッタ及びその駆動部の斜視図である。
【図６】本発明の実施形態に係る表示装置の製造方法を説明する図である。
【図７】本発明の実施形態に係る表示装置の製造方法を説明する図である。
【図８】本発明の実施形態に係る表示装置の製造方法を説明する図である。
【図９】本発明の実施形態に係る表示装置の製造方法を説明する図である。
【図１０】本発明の実施形態に係る表示装置の製造方法を説明する図である。
【図１１】本発明の実施形態に係る表示装置の製造方法を説明する図である。
【図１２】本発明の実施形態に係る表示装置の製造方法を説明する図である。
【図１３】本発明の実施形態に係る表示装置の製造方法を説明する図である。
【図１４】本発明の実施形態に係る表示装置の製造方法を説明する図である。
【図１５】本発明の実施形態に係る表示装置の製造方法を説明する図である。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
以下、本発明の実施形態について、図面を参照して説明する。
【００１５】
［表示装置の概要］
図１は、本発明の実施形態に係る表示装置の概略断面図である。表示装置は、第１基板１０及び第２基板１２を有する。第２基板１２は、間隔をあけて第１基板１０に対向するように配置されている。第１基板１０と第２基板１２の間隔は、シール材１１によって保持されている。シール材１１は、比較的硬い樹脂などから形成され、変形しにくいため、シール材１１の高さＨは変動しにくい。第１基板１０と第２基板１２の間に、シール材１１によってスペースが封止されている。スペースには、液体の例としてオイル４６が充填されている。
【００１６】
図２は、第１基板１０及びその上の構造物を示す概略図である。第１基板１０には、シャッタ１４が形成されている。シャッタ１４には駆動部４０が接続されている。第１基板１０には、第１スペーサ１３が配置されている。第１スペーサ１３の形状は、円柱や角柱などの柱状であってもよいし、バンプ形状であってもよい。第１スペーサ１３の高さｈ１は、シャッタ１４の第１基板１０からの高さと同じかそれよりも低い。第１スペーサ１３の少なくとも表面層は、シャッタ１４を構成する材料からなる。図２に示すように、シャッタ１４の駆動方向（図２の矢印方向）に隣同士の一対のシャッタ１４の間に、第１スペーサ１３が配置される。
【００１７】
図１に示すように、第２基板１２には、第２スペーサ１５が配置されている。第２スペーサ１５の形状は、円柱や角柱などの柱状であってもよいし、バンプ形状であってもよい。第２スペーサ１５は、第１スペーサ１３に対向するように配置されている。第１スペーサ１３の高さｈ１と第２スペーサ１５の高さｈ２の合計ｈ１＋ｈ２は、シール材１１の高さＨよりも低い。常温で、第１スペーサ１３と第２スペーサ１５の間に、図１に示すように、隙間が形成される。なお、図１の例では、第１スペーサ１３の高さｈ１は、第２スペーサ１５の高さｈ２よりも高い。
【００１８】
図３は、低温時の表示装置の概略断面図である。環境温度が低温（例えば氷点下）になると、オイル４６が収縮する。しかし、シール材１１が収縮しにくいため、第１基板１０及び第２基板１２の少なくとも一方が内側に湾曲する。その結果、第１基板１０及び第２基板１２の間隔が狭くなる。ただし、第１スペーサ１３及び第２スペーサ１５が当たって、合計高さｈ１＋ｈ２よりも間隔が狭くなることを規制している。
【００１９】
本実施形態によれば、第１基板１０と第２基板１２の間には、第１スペーサ１３と第２スペーサ１５の合計高さｈ１＋ｈ２の間隔が維持されるので、第１基板１０又は第２基板１２が、内部の構造物に接触することが防止される。また、シール材１１の高さＨよりも第１スペーサ１３と第２スペーサ１５の合計高さｈ１＋ｈ２が低いため、第１基板１０又は第２基板１２の多少の湾曲は許容され、内部に充填されたオイル４６に気泡が発生することを防止することができる。また、第１基板１０と第２基板１２の間隔を維持するスペーサを第１スペーサ１３と第２スペーサ１５に分離したので、それぞれの高さを低くすることができ、倒れにくくすることができる。
【００２０】
［表示装置の詳細］
図４は、本発明の実施形態に係る表示装置の断面図である。表示装置は、光透過性の第１基板１０（例えばガラス基板）と、光透過性の第２基板１２（例えばガラス基板）と、を有する。第１基板１０及び第２基板１２は、間隔をあけて対向するように配置されている。第１基板１０は、図示しない薄膜トランジスタや配線などが形成された回路基板又はＴＦＴ（Thin Film Transistor）基板である。第１基板１０には、複数（多数）のシャッタ１４が設けられている。シャッタ１４は、図示しない薄膜トランジスタや配線などの上に設けられている。
【００２１】
図５は、シャッタ１４及びその駆動部４０の斜視図である。シャッタ１４は、無機材料からなる。図４に示すように、シャッタ１４は、アモルファスシリコンなどの半導体からなる第１膜１６と、アルミニウムなどの金属からなる第２膜１８とを含む膜５２から構成されている。シャッタ１４は、駆動開口２０を有するプレートである。また、シャッタ１４には、強度を高めるために凹部２２が形成されているが、この凹部２２は貫通していない。駆動開口２０を光が通過し、駆動開口２０以外の部分で光を遮断する。駆動開口２０は一方向に長い形状になっている。なお、光は、第１基板１０に重ねられたバックライト２４から供給される。
【００２２】
シャッタ１４は、第１バネ２６に支持されて第１基板１０から浮くようになっている。複数（図５では４つ）の第１バネ２６によってシャッタ１４が支持されている。第１バネ２６は、第１アンカー部２８で第１基板１０に固定されている。
【００２３】
第１バネ２６は、弾性変形可能な材料からなる。第１バネ２６は、厚みの薄い板状をなしており、厚み方向を横方向（第１基板１０の板面に平行な方向）に向けて、幅方向を上下方向（第１基板１０の板面に垂直な方向）に向けて配置されている。これにより、第１バネ２６は、その厚み方向である横方向に変形できるようになっている。
【００２４】
第１バネ２６は、シャッタ１４から離れる方向（駆動開口２０の長さ方向に交差（例えば直交）する方向）に延びる第１部３０と、駆動開口２０の長さ方向に沿った方向であって駆動開口２０の長さ方向の中央から外方向に向かって延びる第２部３２と、さらにシャッタ１４から離れる方向（駆動開口２０の長さ方向に交差（例えば直交）する方向）に延びる第３部３４と、を有する。そして、シャッタ１４は、図５に矢印で示すように、駆動開口２０の長さ方向に交差（例えば直交）する方向に移動できるように第１バネ２６に支持されている。
【００２５】
第１基板１０には、第２アンカー部３６に支持された第２バネ３８が設けられている。第２バネ３８も、弾性変形可能な材料からなる。第２バネ３８は、厚みの薄い板状をなしており、厚み方向を横方向（第１基板１０の板面に平行な方向）に向けて、幅方向を上下方向（第１基板１０の板面に垂直な方向）に向けて配置されている。これにより、第２バネ３８は、その厚み方向である横方向に変形できるようになっている。また、第２バネ３８は、ループ状になっており、第２アンカー部３６から延びた帯状部が、屈曲して折り返されて、同じ第２アンカー部３６に戻るようになっている。
【００２６】
第２バネ３８は、第１バネ２６の第２部３２よりもシャッタ１４から離れた側で、この第２部３２に対向するようになっている。第２アンカー部３６に電圧を印加し、第１バネ２６の第２部３２との電位差によって生じる静電引力によって、第２部３２が第２バネ３８に引き寄せられるようになっている。第２部３２が引き寄せられると、第２部３２と一体的な第１部３０を介して、シャッタ１４も引き寄せられる。つまり、第１バネ２６及び第２バネ３８は、シャッタ１４を機械的に駆動するための駆動部４０を構成するためのものである。
【００２７】
駆動部４０は、シャッタ１４の少なくとも一部と同じ材料から形成されている。例えば、第１バネ２６及び第２バネ３８は、シャッタ１４を構成する膜５２の一部（例えばアモルファスシリコンなどの半導体からなる第１膜１６）から構成されている。駆動部４０のその他の部分は、アモルファスシリコンなどの半導体からなる第１膜１６と、アルミニウムなどの金属からなる第２膜１８とを含む膜から構成してもよい。
【００２８】
図４に示すように、第２基板１２には遮光膜４２が形成されている。遮光膜４２には、固定開口４４が形成されている。シャッタ１４の上述した駆動開口２０と遮光膜４２の固定開口４４は、対向する位置に配置されており、両者が連通すれば光が通過し、シャッタ１４の移動によって遮光膜４２の固定開口４４が遮蔽されると光が遮断される。言い換えると、遮光膜４２の固定開口４４への光の通過及び遮断を制御するように、シャッタ１４は機械的に駆動される。１つのシャッタ１４が１画素に対応し、多数の画素によって画像が表示されるようになっている。そのため、複数（多数）のシャッタ１４が設けられている。シャッタ１４及び駆動部４０は、駆動開口２０及び固定開口４４を通過する光の有無及び強弱によって画像を表示する表示領域に配置されている。
【００２９】
第１基板１０及び第２基板１２は、図１に示すシール材１１によって間隔をあけて固定されている。シール材１１は第１基板１０及び第２基板１２の対向面同士に密着している。第１基板１０及び第２基板１２の間（シール材１１によって封止されたスペース）にはオイル４６（例えばシリコーンオイル４６）が満たされている。シャッタ１４及び駆動部４０は、オイル４６内に配置されている。オイル４６によってシャッタ１４及び駆動部４０の動きによる振動を抑えることができ、第１バネ２６と第２バネ３８の固着も防止することができる。第１基板１０及び第２基板１２がガラスからなる場合、ガラスと屈折率の近いオイル４６を使用すれば、オイル４６を満たすことで、第１基板１０及び第２基板１２との界面での光の反射を減らすことができる。
【００３０】
図４に示すように、表示装置は、第１基板１０及び第２基板１２間の間隔を規制するための、第１スペーサ１３及び第２スペーサ１５を有する。第１スペーサ１３は、第１基板１０に形成された樹脂層５０を有する。樹脂層５０の底面を除く全体は、膜５２によって覆われている。膜５２は、シャッタ１４及び駆動部４０を形成するための材料からなる。例えば、膜５２は、アモルファスシリコンなどの半導体からなる第１膜１６と、アルミニウムなどの金属からなる第２膜１８と、を含む。第２スペーサ１５は、第２基板１２（例えば遮光膜４２上）に形成されている。第２スペーサ１５は、例えば樹脂から形成する。
【００３１】
第１スペーサ１３及び第２スペーサ１５はオイル４６内に配置されている。第１スペーサ１３及び第２スペーサ１５は、対向するように形成され、常温では両者間に隙間が形成される高さで形成されている。したがって、第１スペーサ１３と第２スペーサ１５の間にオイル４６が入るようになっている。
【００３２】
［表示装置の製造方法］
図６〜図１５は、本発明の実施形態に係る表示装置の製造方法を説明する図である。
【００３３】
図６に示すように、第１基板１０上に第１フォトレジスト層５４を形成する。第１フォトレジスト層５４は、感光性を有する樹脂である。第１フォトレジスト層５４は、上述したシャッタ１４の浮く高さに対応する厚みを少なくとも有する。すなわち、第１フォトレジスト層５４の厚みは、シャッタ１４の浮く高さと同じかそれ以上である。また、第１フォトレジスト層５４は、駆動部４０の第１基板１０から浮いた状態の部分（例えば第１バネ２６及び第２バネ３８）の浮く高さに対応する厚みを少なくとも有する。すなわち、第１フォトレジスト層５４の厚みは、第１バネ２６及び第２バネ３８の浮く高さと同じかそれ以上である。なお、図４に示すように、シャッタ１４の下端（凹部２２の反対面）と第１バネ２６及び第２バネ３８の下端とは、同じ高さにある。
【００３４】
図７に示すように、第１フォトレジスト層５４をフォトリソグラフィによってパターニングする。フォトリソグラフィは露光と現像を含む。露光では、図示しないマスクを介して、第１フォトレジスト層５４に部分的に光を照射する。これにより、第１フォトレジスト層５４が、現像液に溶解する部分と溶解しにくい部分とを有するようになる。現像を行うことで、第１フォトレジスト層５４はパターニングされる。パターニングされた第１フォトレジスト層５４は、第１上面５６を有する。第１上面５６は、第１基板１０から浮かせて配置する部材（例えばシャッタ１４並びに第１バネ２６及び第２バネ３８）を形成するための面である。したがって、第１上面５６の高さ位置（第１基板１０の上面からの高さ位置。以下、同じ。）は、シャッタ１４の下端（最も低い面）及び第１バネ２６及び第２バネ３８の下端の高さ位置になる。なお、第１フォトレジスト層５４は硬化処理されることで収縮するので、第１上面５６の高さ位置は、硬化処理前の高さ位置よりも若干低くなる。また、第１フォトレジスト層５４の一部は、第１スペーサ１３の樹脂層５０（図４参照）の一部となる。そのため、第１スペーサ１３の形成領域を囲む第１切れ目５８を第１フォトレジスト層５４に形成する。
【００３５】
図８に示すように、パターニングされた第１フォトレジスト層５４上に第２フォトレジスト層６０を形成する。第２フォトレジスト層６０も、感光性を有する樹脂前駆体である。第２フォトレジスト層６０は、第１バネ２６及び第２バネ３８の高さ方向の幅に対応する厚みを少なくとも有する。すなわち、第２フォトレジスト層６０の厚みは、第１バネ２６及び第２バネ３８の高さ方向の幅と同じかそれ以上である。また、シャッタ１４に凹部２２を形成するときには、第２フォトレジスト層６０は、凹部２２の深さ（正確には、下に突出する凹部２２の突出下面から凹部２２の周囲の部分の下面までの高さの差）に対応する厚みを少なくとも有する。すなわち、第２フォトレジスト層６０の厚みは、凹部２２の深さと同じかそれ以上である。
【００３６】
図９に示すように、第２フォトレジスト層６０をフォトリソグラフィによってパターニングする。フォトリソグラフィの詳細は上述した通りである。第２フォトレジスト層６０の一部は、第１スペーサ１３の樹脂層５０（図４参照）の一部となる。そのため、第１スペーサ１３の形成領域を囲む第２切れ目６４を第２フォトレジスト層６０に形成する。
【００３７】
パターニングされた第２フォトレジスト層６０は、第２上面６２を有する。第２フォトレジスト層６０は、その第２上面６２が第１スペーサ１３の樹脂層５０の上面の高さ位置（第１基板１０の上面からの高さ位置）に到達する厚みを少なくとも有する。第１基板１０の上面から第２上面６２までの高さは、第１スペーサ１３の樹脂層５０の高さである。なお、第２フォトレジスト層６０も硬化処理されることで収縮するので、第２上面６２の高さ位置は、硬化処理前の高さ位置よりも若干低くなる。第１上面５６から第２上面６２までの高さは、第１バネ２６及び第２バネ３８の高さ方向に幅に相当する。また、第１上面５６から第２上面６２までの高さは、シャッタ１４の凹部２２の深さに相当する。
【００３８】
こうして、第１フォトレジスト層５４及び第２フォトレジスト層６０から樹脂層５０を形成する。つまり、パターニングされた樹脂層５０を第１基板１０に形成する。樹脂層５０は、第１スペーサ１３、シャッタ１４及び駆動部４０の形成領域に形成する。樹脂層５０は、最も低い第１上面５６を有する。樹脂層５０は、第１上面５６よりも高い（最も高い）第２上面６２を有する。樹脂層５０は、第１上面５６から底面に下がる第１側面７２を有する。樹脂層５０は、第１上面５６から第２上面６２に上がる第２側面７４を有する。樹脂層５０には、第２上面６２を囲むように貫通する切れ目７６が形成されている。切れ目７６は、第１フォトレジスト層５４及び第２フォトレジスト層６０にそれぞれ形成された第１切れ目５８及び第２切れ目６４が連通して形成されている。
【００３９】
図１０に示すように、膜５２を、樹脂層５０上及び第１基板１０上に形成する。膜５２は、シャッタ１４及び駆動部４０を形成するための材料から形成する。例えば、アモルファスシリコンなどの半導体からなる第１膜１６を形成し、その上にアルミニウムなどの金属からなる第２膜１８を形成する。
【００４０】
図１１に示すように、エッチングレジスト７８を膜５２上に形成する。エッチングレジスト７８のパターニングにもリソグラフィを適用することができる。パターニングされたエッチングレジスト７８は、シャッタ１４及び駆動部４０並びに第１スペーサ１３を形成する領域を覆う。
【００４１】
図１２に示すように、ウエットエッチングを適用して、金属からなる第２膜１８をエッチングする。エッチングレジスト７８から露出した第２膜１８は、ウエットエッチングの等方性によって、横方向に露出していても除去される。
【００４２】
図１３に示すように、ドライエッチングを適用して、半導体からなる第１膜１６をエッチングする。ドライエッチングの異方性によって、樹脂層５０の上面（第１上面５６及び第２上面６２）の第１膜１６は除去されるが、樹脂層５０の側面（第２側面７４）の第１膜１６は除去されずに残る。
【００４３】
図１４に示すように、エッチングレジスト７８を除去する。シャッタ１４を形成する領域では、樹脂層５０の第１上面５６、第１側面７２及び第２上面６２の上に膜５２（第１膜１６及び第２膜１８）が残されている。第１バネ２６及び第２バネ３８を形成する領域では、それぞれ、樹脂層５０の第２側面７４に膜５２（第１膜１６）が残されている。樹脂層５０の切れ目７６の内側では、樹脂層５０の底面を除く全体を覆うように膜５２（第１膜１６及び第２膜１８）が残されている。樹脂層５０の切れ目７６の外側では、樹脂層５０の少なくとも一部が露出するように膜５２が残る。
【００４４】
図１５に示すように、膜５２から露出した樹脂層５０を除去する。除去には例えばアッシングを適用することができる。樹脂層５０の除去は、上述したエッチングレジスト７８の除去と同時に行ってもよい。これにより、シャッタ１４及び駆動部４０の形成領域で膜を残して樹脂層５０を除去する。樹脂層５０の切れ目７６の内側（第１スペーサ１３の形成領域）では、膜５２に全体的に覆われた樹脂層５０が残る。樹脂層５０の切れ目７６の外側では、膜５２からの露出面から連続する樹脂層５０の全体が除去される。
【００４５】
切れ目７６の内側に、樹脂層５０及び膜５２から成る第１スペーサ１３を形成する。切れ目７６の外側に第１基板１０から浮いた状態で、膜５２から、シャッタ１４と駆動部４０の少なくとも一部とを形成する。こうして、第１基板１０に、第１スペーサ１３、シャッタ１４及びシャッタ１４を機械的に駆動するための駆動部４０を含む第１構造物を形成する。本実施形態によれば、第１スペーサ１３をシャッタ１４及び駆動部４０と同時に形成することができる。
【００４６】
次に、図１に示すように、第２基板１２に、第２スペーサ１５を含む第２構造物を形成する。そして、第１スペーサ１３と第２スペーサ１５が対向するように、第１基板１０及び第２基板１２を、間隔をあけて配置する。また、第１基板１０及び第２基板１２の間に、シール材１１によって間隔を保持して、スペースを区画する。そして、スペースにオイル４６を充填する。
【００４７】
本実施形態では、第１基板１０と第２基板１２の間隔を維持するスペーサを、第１スペーサ１３と第２スペーサ１５に分離して形成する。そのため、一体的なスペーサを形成するよりも、第１スペーサ１３と第２スペーサ１５をそれぞれ低く形成すれば足りる。
【００４８】
本発明は、上述した実施形態に限定されるものではなく種々の変形が可能である。また、実施形態で説明した構成は、実質的に同一の構成、同一の作用効果を奏する構成又は同一の目的を達成することができる構成で置き換えることができる。
【符号の説明】
【００４９】
１０  第１基板、１１  シール材、１２  第２基板、１３  第１スペーサ、１４  シャッタ、１５  第２スペーサ、１６  第１膜、１８  第２膜、２０  駆動開口、２２  凹部、２４  バックライト、２６  第１バネ、２８  第１アンカー部、３０  第１部、３２  第２部、３４  第３部、３６  第２アンカー部、３８  第２バネ、４０  駆動部、４２  遮光膜、４４  固定開口、４６  オイル、５０  樹脂層、５２  膜、５４  第１フォトレジスト層、５６  第１上面、５８  第１切れ目、６０  第２フォトレジスト層、６２  第２上面、６４  第２切れ目、７２  第１側面、７４  第２側面、７６  切れ目、７８  エッチングレジスト。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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