(57)【要約】      （修正有）【課題】レーザ変位計などの光学手段の移動精度に誤差に依存しない、被測定対象表面の平坦度を測定できる平坦度測定装置及びその方法を提供する。【解決手段】垂直に設けられたガラス基板と、ガラス基板を透過して、ガラス基板に垂直又は略垂直に保持された被測定対象と、に測定光を照射し、被測定対象からの測定反射光とガラス基板からのガラス基板反射光とを測定し、被測定対象の複数の位置に測定光を照射し、複数の測定反射光とガラス基板反射光を得、複数の測定反射光とガラス基板反射光とガラス基板表面の平坦度から被測定対象表面の平坦度を測定する。【選択図】図４
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
垂直又はほぼ垂直に保持された被測定対象と、
第１の保持手段に保持され、前記被測定対象に対して平行に対面して設けられたガラス基板と、
前記ガラス基板を透過して前記被測定対象に測定光を照射する照射手段と、
前記被測定対象からの測定反射光を測定する第１の測定手段と、
前記ガラス基板からのガラス基板反射光を測定する第２の測定手段と、
前記被測定対象の所定の位置に前記測定光を照射し、前記測定反射光と前記ガラス基板反射光を測定できるように、前記照射手段と、前記第１の測定手段と、前記第２の測定手段とを移動させる２次元移動機構と、
前記２次元移動機構を制御し、前記測定反射光と前記ガラス基板反射光の測定結果と前記ガラス基板の平坦度から前記被測定対象表面の平坦度を測定する制御装置と、
を有することを特徴とする平坦度測定装置。
【請求項２】
前記被測定対象は、蒸着材料を基板に蒸着する真空蒸着チャンバの前記基板を保持する基板保持台であり、
前記第１の保持手段は、前記基板の所定に位置に蒸着するためのマスクのフレーム部分を模擬した模擬マスクであり、
前記２次元移動機構は、前記模擬マスクに固定されていることを特徴とする請求項１に記載の平坦度測定装置。
【請求項３】
基台と、
前記被測定対象は、前記基台に設けられた第２の保持手段に保持され、
前記第１の保持手段は前記基台に設けられ、
前記２次元移動機構は、前記第１の保持手段又は前記基台に設けられたことを特徴とする請求項１に記載の平坦度測定装置。
【請求項４】
前記照射手段と、前記第１の測定手段と、前記第２の測定手段は、それらを一体化したレーザ変位計であることを特徴とする請求項１又は２或いは３に記載の平坦度測定装置。
【請求項５】
前記第１の測定手段と前記第２の測定手段は、それぞれ測定反射光、ガラス基板反射光を測定できるように前記照射手段に対してＶ字状に配置していることを特徴とする請求項１又は２或いは３に記載の平坦度測定装置。
【請求項６】
前記ガラス基板の平坦度は既知であることを特徴とする請求項１又は２或いは３に記載の平坦度測定装置。
【請求項７】
前記第２の測定手段は、前記ガラス基板の前記第２の測定手段側の表面とその反対側の裏面からのガラス基板表面反射光とガラス基板裏面反射光を測定し、
前記制御装置は、ガラス基板表面反射光とガラス基板裏面反射光に基づいて前記ガラス基板表面の平坦度を求めることを特徴とする請求項１又は２或いは３に記載の平坦度測定装置。
【請求項８】
垂直に設けられたガラス基板と、前記ガラス基板を透過して、前記ガラス基板に対面し垂直又は略垂直に保持された被測定対象と、に測定光を照射し、
前記被測定対象からの測定反射光と前記ガラス基板からのガラス基板反射光とを測定し、
前記被測定対象の複数の位置に前記測定光を照射し、複数の前記測定反射光と前記ガラス基板反射光を得、
複数の前記測定反射光と前記ガラス基板反射光と前記ガラス基板表面の平坦度から前記被測定対象表面の平坦度を測定する、
ことを特徴とする平坦度測定方法。
【請求項９】
前記照射と、前記測定反射光と前記ガラス基板反射光を測定は、レーザ変位計で行なわれることを特徴とする請求項８に記載の平坦度測定方法。
【請求項１０】
前記ガラス基板の平坦度は既知であることを特徴とする請求項８に記載の平坦度測定方法。
【請求項１１】
前記ガラス基板反射光は、前記ガラス基板の前記測定側の表面とその反対側の裏面からのガラス基板表面反射光とガラス基板裏面反射光を測定し、
前記ガラス基板表面反射光と前記ガラス基板裏面反射光に基づいて前記ガラス基板表面の平坦度を求めることを特徴とする請求項８に記載の平坦度測定方法。
【請求項１２】
前記ガラス基板の前記平坦度は、前記ガラス基板表面反射光と前記ガラス基板裏面反射光との測定距離の差に基づいて求められることを特徴とする請求項８に記載の平坦度測定方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、平坦度測定装置及びその方法に係わり、基板を保持する保持台の平坦度を測定する平坦度測定装置及びその方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶などを用いたフラットパネルディスプレイは、軽量、薄型、低消費電力などの特徴によりブラウン管を駆逐して、ＴＶの表示手段として主流となり、また携帯端末用表示装置としても無くてはならないものになっている。このようなフラットパネルディスプレイは、ガラスなどの基板上に表示素子を形成して製造するが、大画面化や製造コスト低減のため、より大きな基板上に素子を形成できる製造装置が求められている。
【０００３】
このような基板は、その大きさに比して薄いため、素子を形成する際は、基板を外側から支えるだけではその形状を保てず、基板と同寸か、それより大きな保持台上に基板を載置している。その場合、基板の重さにより、基板が保持台の表面形状に倣うように載置される。すなわち、保持台の表面精度（平坦度）が基板の平坦度に影響する。一方、特に携帯端末では、より高精細化のため画素の大きさが小さくなっているため、成膜時の基板の平坦度が悪いと画素に欠陥が発生する可能性がある。
【０００４】
このようなことから、保持台の平坦度を定期的にチェックすることが重要である。特許文献１には、基板の平坦度を測定する際、レーザ変位計を用いて測定する技術が記載されている。特に、高い平坦度を有する基準平面と基板の表面及び裏面との間隔をレーザ変位計で測定することが開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００７−４６９４６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
レーザ変位計を用いて平坦度を測定する場合、レーザ変位計を測定対象の基板や保持台に平行に走らせ、レーザ変位計と測定対象の基板表面との距離を測っている。一方、基板は、どんどん大型化しており、それに伴ってレーザ変位計の移動距離も大きくならざるを得ない。
【０００７】
移動距離の増加により、レーザ変位計の走行誤差も大きくなり、この移動誤差が測定対象の平坦度の測定値に含まれ正確な測定結果が得られなくなる。このため、レーザ変位計の移動精度を高精度にして誤差を小さく抑える必要がある。
【０００８】
しかしながら、レーザ変位計を高精度に移動させるには、高精度で高剛性な移動機構が必要であり、この種の移動機構は大型、高重量となり、その取り扱いが困難になることが予想される。
【０００９】
また、特許文献１の方法では、その表面粗さが４００ｎｍ以下の高精度な平面形状を有する基準平面が必要であるが、そのような高精度な基準平面は高価である。
【００１０】
本発明の第１の目的は、レーザ変位計などの光学手段の移動精度に依存しない、基板などの被測定対象表面の平坦度を測定できる平坦度測定装置及びその方法を提供することにある。
また、本発明の第２の目的は、有機ＥＬ成膜装置において、レーザ変位計などの光学手段の移動精度に依存しない、基板を保持する基板保持台表面の平坦度を測定可能な平坦度測定装置及びその方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明は、上記の目標を達成するために、少なくとも下記の特徴を有する。
本発明は、垂直又はほぼ垂直に保持された被測定対象と、第１の保持手段に保持され、前記被測定対象に対して平行に対面して設けられたガラス基板と、前記ガラス基板を透過して前記被測定対象に測定光を照射する照射手段と、前記被測定対象からの測定反射光を測定する第１の測定手段と、前記ガラス基板からのガラス基板反射光を測定する第２の測定手段と、前記被測定対象の所定の位置に前記測定光を照射し、前記測定反射光と前記ガラス基板反射光を測定できるように、前記照射手段と、前記第１の測定手段と、前記第２の測定手段とを移動させる２次元移動機構と、前記２次元移動機構を制御し、前記測定反射光と前記ガラス基板反射光の測定結果と前記ガラス基板の平坦度から前記被測定対象表面の平坦度を測定する制御装置と、を有することを第１の特徴とする。
【００１２】
また、本発明は、垂直に設けられたガラス基板と、前記ガラス基板を透過して、前記ガラス基板に垂直又は略垂直に保持された被測定対象と、に測定光を照射し、前記被測定対象からの測定反射光と前記ガラス基板からのガラス基板反射光とを測定し、前記被測定対象の複数の位置に前記測定光を照射し、複数の前記測定反射光と前記ガラス基板反射光を得、複数の前記測定反射光と前記ガラス基板反射光と前記ガラス基板表面の平坦度から前記被測定対象表面の平坦度を測定する、ことを第２の特徴とする。
【００１３】
さらに、前記被測定対象は、蒸着材料を基板に蒸着する真空蒸着チャンバの前記基板を保持する基板保持台であり、前記第１の保持手段は、前記基板の所定に位置に蒸着するためのマスクのフレーム部分を模擬した模擬マスクであり、前記２次元移動機構は、前記模擬マスクに固定されていてもよい。
【００１４】
また、基台と、前記被測定対象は、前記基台に設けられた第２の保持手段に保持され、前記第１の保持手段は前記基台に設けられ、前記２次元移動機構は、前記第１の保持手段又は前記基台に設けてもよい。
さらに、前記照射手段と、前記第１の測定手段と、前記第２の測定手段は、それらを一体化したレーザ変位計であってもよい。
また、前記ガラス基板の平坦度は既知であってもよい。
【００１５】
さらに、前記第２の測定手段は、前記ガラス基板の前記第２の測定手段側の表面とその反対側の裏面からのガラス基板表面反射光とガラス基板裏面反射光を測定し、前記制御装置は、ガラス基板表面反射光とガラス基板裏面反射光に基づいて前記ガラス基板表面の平坦度を求めてもよい。
また、前記ガラス基板の前記平坦度は、前記ガラス基板表面反射光と前記ガラス基板裏面反射光との測定距離の差に基づいて求めてもよい。
【発明の効果】
【００１６】
本発明によれば、レーザ変位計などの光学手段の移動精度に依存しない、基板などの被測定対象表面の平坦度を測定できる平坦度測定装置及びその方法を提供できる。
また、本発明によれば、有機ＥＬ成膜装置において、レーザ変位計などの光学手段の移動精度に依存しない、基板を保持する基板保持台表面の平坦度を測定可能な平坦度測定装置及びその方法を提供できる。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】本発明を適用した有機ＥＬデバイス製造装置の実施形態を示す図である。
【図２】本実施形態の有機ＥＬデバイス製造装置における真空搬送チャンバと真空蒸着チャンバの構成概要を示す図である。
【図３】マスクの構成と、基板保持部とマスクとの関係を示した図である。
【図４】平坦度測定装置の第１の実施例を示す図である。
【図５】平坦度を求めるための主要要素の関係と、そのときのレーザ変位計で測定されるデータを示している図である。
【図６】基板保持台表面の平坦度測定処理フローを示す図である。
【図７】平坦度測定装置の第２の実施例を示す図である。
【図８】平坦度測定装置をスタンドアロンとして用いる実施形態を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
以下本発明の実施形態を図面を用いて説明する。
図１は、本発明の実施形態を適用した有機ＥＬデバイス製造装置の実施形態であって、更にアライメントと蒸着を同一の真空蒸着チャンバ１で実現する有機ＥＬデバイス製造装置１００を示している。有機ＥＬデバイス製造装置１００は中心部に真空搬送ロボット５を持った多角形の真空搬送チャンバ２と、その周辺部に放射状に基板ストッカ室３や成膜室である真空蒸着チャンバ１を配置したクラスタ型の有機ＥＬデバイス製造装置の構成を有している。各真空蒸着チャンバ１は基板６を保持する基板保持部９と、アライメント部８と、基板に蒸着材料で蒸着する蒸着部７とを有する。また、真空蒸着チャンバ１及び基板ストッカ室３と真空搬送室２との間には、互いの真空を隔離するゲート弁１０が設けられている。なお、４０は有機ＥＬデバイス製造装置１００の構成要素を制御する制御装置である。
【００１９】
図２は、本実施形態の有機ＥＬデバイス製造装置における真空搬送チャンバ２と真空蒸着チャンバ１の構成概要を示す。
真空搬送チャンバ２は、ゲート弁１０を介して基板６を真空蒸着チャンバ１に搬入出する真空搬送ロボット５を有する。真空搬送ロボット５は、全体を上下に移動可能な自由度５９と、左右に旋回可能な２リンク構造のアーム５７と、その先端には基板搬送用の櫛歯状ハンド５８とを有する。
【００２０】
一方、真空蒸着チャンバは、蒸着材料である発光材料を基板６に蒸着し、ＥＬ層を形成する真空チャンバである。真空蒸着チャンバ１の基板保持部９は、搬送ロボット５の櫛歯状ハンド５８と干渉することなく、基板６を受渡し可能で、ゲート弁１０を介して搬入された基板６を保持する基板保持台９１と、基板保持台９１を旋回させて基板６を直立させマスク８１に正対させる基板保持台旋回手段９３とを有する。基板保持台９１は、基板６を冷却する冷却機構を有しており、クーリングプレートとも呼ばれる。
【００２１】
アライメント部８は、マスク８１と、マスク８１を上下左右に移動させるアライメント駆動部８３と、マスク８１と基板６のそれぞれに設けられたアラインメントマーク(図示せず)を撮像するアライメントカメラ８６とを有する。
【００２２】
マスク８１は、図３に示すように、基板６への蒸着パターンを形成するマスク部８１Ｍと、マスク部を保持するフレーム部８１Ｆとからなる。マスク部８１Ｍには、引出し図に示すように、基板６に蒸着する部分に対応した箇所に開口部８１ｈを有する。本例では赤(Ｒ)、緑(Ｇ)、青(Ｂ)の発光材料を蒸着するマスクのうち赤に対応する開口部を示している。即ち、赤(Ｒ)用のマスクの場合は引出し図の２、３段目に示すように赤(Ｒ)のみが開口している。マスクの寸法は基板の大型化に伴い２０００ｍｍ×２０００ｍｍにもなり、その重量も３００ｋｇ超にも及ぶ。マスク部８１Ｍの厚さは５０μｍ程度であり、今後さらに薄くなる傾向がある。一方、フレーム部８１Ｆの厚さは５０ｍｍである。
【００２３】
アライメント駆動部８３は、アライメントカメラ８６の撮像結果に基づいて制御装置４０によって駆動され、マスク８１と基板６とを共に垂直な状態でアライメントを行う。マスク８１は、アライメント駆動部８３で上下左右に駆動される方向以外、即ち前後方向には自由度を持たないように、その下部で保持されている。蒸着部７は、蒸発源７１と、蒸発源を昇降させる蒸発源昇降手段７２とを有し、基板６の全面に亘って蒸着する。
【００２４】
図４は、基板保持部９１とマスク８１との関係を示した図である。マスク８１は垂直に保持され、基板保持部９１は、垂直又はマスク側とは反対方向に最大１度位の傾斜を持ってマスク８１に正対している。
【００２５】
本実施形態の特徴は、マスク部８１Ｍを有しないフレーム部８１Ｆのみを有する模擬マスク８１ｓに、平坦度の既知のガラス基板を固定して、レーザ変位計で基板保持部９１の基板保持面９１ｈの平坦度を測定することである。
【００２６】
図４は、平坦度測定装置２０の第１の実施例を示す図である。図４(ａ)は、平坦度測定装置２０を、図３においてＡ方向から見た側面図である。図４（ｂ）は、平坦度測定装置２０を、図３においてＢ方向、即ち図２の蒸着部７側から見た正面図である。
【００２７】
平坦度測定装置２０は、フレーム部８１Ｆのみを有する模擬マスク８１ｓと、模擬マスクに固定された平坦度の既知のガラス基板６ｇと、測定対象である基板保持台９１の反対側に設けられ、照射手段及び受光手段を一体化し光学手段であるレーザ変位計２１と、模擬マスク８１ｓに固定され、レーザ変位計を基板保持面９１ｈと平行する面内を移動させる２次元移動機構２２とを有する。実施例では、２次元を、図４(ｂ）に示す紙面上下方向をＹ方向、紙面左右方向をＸ方向として表す。模擬マスク８１ｓをガラス基板６ｇの固定用に使用することにより、新たに機構を設けることなく、アライメント部８をガラス基板６ｇの保持部として使用できる利点がある。
【００２８】
２次元移動機構２２は、模擬マスク８１ｓのガラス基板６ｇが挿入されている開口部８１ｋより大きな開口部２３ｋを有する外枠２３と、レーザ変位計２１をＹ方向に移動させるＹ移動機構２４と、外枠２３の上下に設けられ、Ｙ移動機構２４をＸ方向に移動させるＸ方向機構２５と、外枠２３を模擬マスク８１ｓに固定する四隅に設けられた固定部２６と、を有する。
【００２９】
Ｘ移動機構２５は、上下外枠２３に設けられた２組のリニアガイドＬＧを有する。リニアガイドＬＧは、ガイドレール２５ｒとガイドレール上を移動するガイドブロック２５ｇとを有する。一方、Ｙ移動機構２４は、Ｘ移動機構２５のリニアガイド２５ｇに固定されたビーム２４ｂと、ビーム２４ｂに設けられたガイドレール２４ｒと、レーザ変位計２１を固定し、ガイドレール２４ｒ上を移動するリニアブロック２４ｇとを有する。
【００３０】
上記において、リニアブロック２４ｇ、２５ｇの駆動方法は図示しないが、所謂リニアモータや、回転モータによるボール螺子の駆動等を用いてもよい。
実施例１によれば、ガラス基板６ｇ、模擬マスク８１ｓ及び２次元移動機構を一体化することにより、メンテナンス時、装置への取り外しを行う際に作業の煩雑さを解消できる。
次に、本実施例における基板保持台９１表面即ち基板保持面９１ｈの平坦度測定方法を説明する。
【００３１】
図５は、平坦度を求めるための主要要素の関係と、そのときのレーザ変位計２１で測定されるデータを示している。測定されるデータは、レーザ変位計２１のパルス光に対するガラス基板６ｇの表面(又は裏面）から反射光２１ｇと、ターゲットである基板保持面９１ｈからの反射光２１ｔである。制御装置４０は、反射光２１ｇ、２１ｔの到達時間からそれぞれ往復距離Ｌｇ、Ｌｔを求めることができる。ガラス基板Ｌｇと基板保持面９１ｈ間の平坦度測定距離Ｌｓは式（１)で求めることができる。
Ｌｓ＝（Ｌｔ−Ｌｇ）／２                      （１）
式(１)及び図５から分かるように、ガラス基板６ｇとレーザ変位計２１との距離には無関係である。それ故、２次元移動機構２２は、レーザ変位計を基板保持面９１ｈと平行面に移動させる移動精度を必要としない。
【００３２】
以上説明した実施例によれば、被測定対象とレーザ変位計との間にガラス基板を設けることにより、レーザ変位計から被測定対象表面までの絶対距離ではなく、ガラス基板と被測定対象表面の相対距離を測ることによって、２次元移動機構２２の位置精度に関係なく、被測定対象表面の平坦度測定を行うことができる。
【００３３】
また、ガラス基板６ｇと基板保持部９１の位置関係は測定中変わらないため、基板保持部９１の多数の点で、平坦度測定距離Ｌｓを測定し、統計処理によって平坦度を評価することができる。
基板保持部９１の平坦度Ｈｓは、式(２)に示すように、平坦度測定距離Ｌｓを統計処理した測定平坦度Ｈｋから、同一統計処理したガラス基板６ｇの既知の平坦度Ｈｇの差として求められる。
Ｈｓ＝Ｈｋ−Ｈｇ                              （２）
なお、前述した統計処理としては、最大値と最小値の差、平均値などが上げられる。
【００３４】
以上説明した平坦度測定方法によれば、予めガラス基板６ｇの平坦度Ｈｇを求めておけば、基板保持面９１ｈの平坦度を求めることができる。ガラス基板６ｇの平坦度は、従来の技術方法で、特に模擬マス８１ｓにガラス基板６ｇをセットした状態で、既知の平坦度を求める。
【００３５】
次に、上述測定方法を含めた基板保持部９１の平坦度測定処理フローを図６を用いて説明する。処理フローは、図１に示す制御装置４０で行なわれる。制御装置４０は、Ｘ移動機構２５、Ｙ移動機構２４を制御すると共に、レーザ変位計２１の出力を取込み、データ処理して平坦度を求める。
まず、準備として、ガラス基板６ｇの平坦度を別の測定器で測定する（Ｓ１）。２次元移動機構２２がセットされた模擬マスク８１ｓ、即ち平坦度測定装置２０をアライメント部８にセットする（Ｓ２）。測定位置にレーザ変位計２１を移動させ、平坦度測定距離Ｌｓを測定する（Ｓ３）。Ｓ３の測定を予め決めた全ての位置で実施したかを判断する（Ｓ４）。実施していなければ、レーザ変位計２１を次の測定位置へ移動させ（Ｓ５）、Ｓ３へ行く。実施したならば、平坦度測定距離Ｌｓの統計処理を行ない測定平坦度Ｈｋを評価する（Ｓ６）。次に、ガラス基板６ｇの既知の平坦度Ｈｇから式（２）を用いて、基板保持台９１の基板保持面９１ｈの平坦度を求める（Ｓ７）。
【００３６】
以上説明した実施例１によれば、基板保持台９１の基板保持面９１ｈの平坦度を精度よく測ることができ、基板保持面９１ｈの表面精度(平坦度）が原因となる蒸着の品質低下を防ぐことができる。
【００３７】
図７は、平坦度測定装置２０の第２の実施例を示す図である。実施例２は、測定に用いるガラス基板６ｇから表面反射光２１ｇと裏面反射光２1ｒを弁別して測定できる場合の例である。
【００３８】
実施例２では、実施例１と同様に、表面反射光２１ｇと裏面反射光２１ｒから基板６ｇの表裏面を含めた平坦度Ｈｇ’を評価する。そして、表裏面のそれぞれに平坦度Ｈｇを平坦度Ｈｇ’の１／２とする。次に、基板保持面９１ｈから反射光２１ｔと表面反射光２１ｇ又は裏面反射光２１ｒとから、基板保持面９１の平坦度Ｈｓを求める。
【００３９】
実施例２によれば、ガラス基板６ｇの平坦度を予め測定することなく、ガラス基板の表裏面の平坦度を測定し、基板保持面９１の平坦度Ｈｓを求める方法を提供できる。
【００４０】
以上の説明した実施例１，２では、図１に示す基板保持台旋回手段９３で基板保持台９１を水平から垂直にたてて、基板保持台を模擬マスク８１ｓと平行に正対している例を説明した。しかし、図２の説明で述べたように多少の傾斜している場合はある。その場合は、例えば、基板保持台旋回手段９３の角度検出装置で傾斜角を検出し、その傾斜角と測定位置に基づいて各平坦度測定距離Ｌｓを補正して、基板保持面９１ｈの平坦度を測定することができる。
【００４１】
以上の説明では、有機ＥＬ成膜装置の基板保持台９１の基板保持面９１ｈの平坦度を求める場合を説明した。図８に示す実施形態では、平坦度測定装置２０及びガラス基板などの測定対象３０を保持する保持部２８と、保持部を固定する基台２７とを設け、スタンドアロンの平坦度測定装置として用いることができる。この場合、勿論、ガラス基板６ｇを保持するガラス基板保持部３１は、マスク８１を模擬する必要はない。なお、３０ｈは測定対象３０の平坦度測定表面を示す。
【００４２】
また、以上の説明では、測定光を照射し反射光を測定できるレーザ変位計を用いた、照射する照射手段と反射光を受光する受光手段を別々に設け、Ｖ字状に配置してもよい。
【符号の説明】
【００４３】
１：真空蒸着チャンバ                ２：真空搬送チャンバ
３：基板ストッカ室                  ５：真空搬送ロボット
６：基板                            ６ｇ：ガラス基板
７：蒸着部                          ７１：蒸発源
８：アライメント部                  ８１：マスク
８１Ｆ：マスクのフレーム部          ８１ｓ：模擬マスク
９：基板保持部                      ９１：基板保持台(クーリングプレート)
９１ｈ：基板保持部の基板保持面      １０：ゲート弁
２０：平坦度測定装置                ２１：レーザ変位計
２２：２次元移動機構                ２３：外枠
２４：Ｙ移動機構                    ２５：Ｘ移動機構
３０：測定対象                    
３１：ガラス基板を保持するガラス基板保持部
４０：制御装置                      ９３：基板保持台旋回駆動手段
１００：有機ＥＬデバイス製造装置    Ｈｓ：基板保持部の平坦度
Ｈｋ：基板保持部の測定平坦度平坦度  Ｈｇ：ガラス基板の既知の平坦度
Ｌｓ：ガラス基板と基板保持面間の平坦度測定距離
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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