(57)【要約】【課題】基板を検査することなく基板上に印刷欠陥のない印刷パターンを安定的に形成することができる凸版印刷装置及び高分子有機ＥＬ表示素子製造方法を提供する。【解決手段】被印刷基板（以下、基板と称す）上に凸版を用いてパターンを印刷する凸版印刷装置であって、凸版印刷装置は、印刷手段と、パターン検査手段と、を備え、前記印刷手段は、前記凸版と、凸版を表面に装着した版胴と、凸版の表面にインキを供給するインキ供給装置部と、基板を載置して搬送する移動定盤と、を備え、前記パターン検査手段は、前記移動定盤の移動機構に備えられた検査用ロールと、該検査用ロールに印刷されたパターンを検査する検査装置と、を備えたことを特徴とする凸版印刷装置。【選択図】図２
2014061653.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被印刷基板（以下、基板と称す）上に凸版を用いてパターンを印刷する凸版印刷装置であって、
凸版印刷装置は、印刷手段と、パターン検査手段と、を備え、
前記印刷手段は、前記凸版と、凸版を表面に装着した版胴と、凸版の表面にインキを供給するインキ供給装置部と、基板を載置して搬送する移動定盤と、を備え、
前記パターン検査手段は、前記移動定盤の移動機構に備えられた検査用ロールと、該検査用ロールに印刷されたパターンを検査する検査装置と、を備えたことを特徴とする凸版印刷装置。
【請求項２】
前記検査装置は検査用の照明光を前記検査用ロールに照射する照明手段と、前記検査用ロール上に印刷されたパターンを撮像する検査用カメラとを備えたことを特徴とする請求項１記載の凸版印刷装置。
【請求項３】
検査用ロールに印刷されたパターンがパターン検査手段によって正常と判断された場合に、基板への印刷を開始することを特徴とする請求項１または２に記載の凸版印刷装置。
【請求項４】
前記パターン検査手段によるパターンの検査は、予め設定された検査サイクル印刷枚数毎に行うことを特徴とする請求項１から３のいずれかに記載の凸版印刷装置。
【請求項５】
前記検査用ロール上に印刷されたパターンを洗浄液により洗浄する洗浄手段と、前記検査用ロール上に付着した洗浄液を乾かす乾燥手段とを備えることを特徴とする請求項１から４のいずれかに記載の凸版印刷装置。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれかに記載の凸版印刷装置を用いて高分子有機ＥＬ表示素子を製造することを特徴とする高分子有機ＥＬ表示素子製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、高分子有機ＥＬディスプレイパネルを製造するための印刷装置と高分子有機ＥＬ表示素子製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
有機エレクトロルミネッセンス（以下ＥＬ）素子は、対向する陽極と陰極との間に有機発光材料からなる有機発光層が形成された構造をもつ発光素子であり、電圧の印加によって陽極、陰極からそれぞれ正孔、電子が注入され、それらが有機発光層で再結合を起こすことにより発光するものであるが、効率の良い発光を得るためには、有機発光層の膜厚が重要な要素であり、数ｎｍから数十ｎｍ程度で膜厚をコントロールする必要がある。さらに、これをディスプレイ化するには高精細にパターニングする必要がある。
【０００３】
有機発光層に用いられる有機発光材料は、低分子系材料と高分子系材料に区分されており、有機発光層の形成方法は有機発光材料の種類によって異なる。
【０００４】
一般に低分子系材料は、抵抗加熱蒸着法（真空蒸着法）等によって基板に薄膜を形成する。有機ＥＬ表示素子をフルカラー化する場合には、各色の画素形状に応じたパターンのマスクを用いて、異なる発光色の発光材料をそれぞれの画素に蒸着して形成する方法が採用されている。この方法は、薄膜形状を均一に形成するには優れた方法であるが、蒸着される基板が大型になるとマスクのパターン精度が出難くなるという問題点がある。
【０００５】
一方で高分子系材料では、有機発光材料を溶剤に溶解あるいは分散させてインキ化し、これをウェットコーティング法によって薄膜を形成する方法が主に用いられている。ウェットコーティング法としては、スピンコート法、バーコート法、突出コート法、ディップコート法等があるが、高精細なパターニングや、フルカラー化の色の塗り分けにこれらの方法を用いることは困難である。そこで、フルカラー化に有機発光材層をパターニングする手段としては、インキジェット法や印刷法によるパターン印刷が有効であると考えられる。
【０００６】
高精細パターニング方法の一つとして、例えばインキジェットノズルから溶剤に溶かした有機発光材料を基板上に噴出させ、基板上で乾燥させることでパターンを形成するインキジェット方法がある（特許文献１）。この方法においては、ノズルから噴出されたインキ液滴は球状をしている為、基板上に着弾する際にインキが円形状に広がり、形成されたパターンの形状が直線性に欠けたり、あるいは着弾精度が悪くなってパターンの直線性が得られなかったりするという課題がある。
【０００７】
一方で印刷法によるパターン形成方法には、凸版印刷法、反転印刷法、スクリーン印刷法等が提案されている。有機ＥＬ表示素子やディスプレイでは、基材としてガラス基板を用いることが多く、グラビア印刷法等のように金属製等の硬い印刷版を用いる方法は不向きである。そのため、弾性を有するゴム製の印刷版を用いた印刷法や、ゴム製の印刷用ブランケットを用いたオフセット印刷法、弾性を有するゴムやその他の樹脂を主成分とした感光性樹脂版を用いる凸版印刷法等が適正な印刷法と考えられている。実際に、これらの印刷法の試みとして、オフセット印刷によるパターン印刷方法（特許文献２）、凸版印刷によるパターン印刷方法（特許文献３）などが提唱されている。特に凸版印刷による方法は、パターン形成精度や膜厚均一性などに優れ、印刷による有機ＥＬ表示素子の製造方法として最も適している。
【０００８】
図１に凸版印刷法によって有機ＥＬ表示素子の発光部を形成するための印刷装置の一例を図示する。図１に示すインキパン３にはインキが貯留されている。アニロックスロール４にはこのインキパン３中においてインキが供給された後に、そのロール面上の余分なインキがドクター５によって掻き落とされ、孔内部にのみインキが蓄えられる。孔内部のインキは、アニロックスロール４と相対して回転する版胴２に巻かれている凸版１の画像形成部上に転移され、そこにインキの薄膜を形成する。さらに、画像形成部上に形成された薄膜は版胴２と相対して移動する被印刷基板（以下、基板）６上に転写される。
【０００９】
有機ＥＬ表示素子を凸版印刷法で作製する場合、印刷版上の転写パターンは有機ＥＬ表示素子の各画素を構成する複数の発光部のうち、同色発光部を形成するための転写パターンが複数配列された構成となっており、それぞれの発光部を順次印刷していくことで有機発光層パターンを得ている。
【００１０】
前述したように、凸版印刷法ではアニロックスロールから樹脂凸版にインキを転写し、更に樹脂凸版上のインキを基板へ転写することで所望の有機発光層パターンを得るが、ここで樹脂凸版上に形成される樹脂パターンは基板上に形成される所望の有機発光層パターンと相対したパターンである必要がある。しかし、この樹脂凸版上に形成される樹脂パターンに欠けや突起、もしくは付着異物などが存在すると、基板上に形成されるパターンにそれらに起因した印刷欠陥が発生し、更にはその印刷欠陥は、連続して印刷される基板全てに共通の欠陥として発生するという問題があった。
【００１１】
そのため、印刷された基板を抜取り、検査を実施することで連続して印刷欠陥が発生することを防止する方法が採用されているが、検査時の検査光もしくは検査環境による有機発光層の特性低下が起こるため、不良品として扱われる。このため、歩留まり低下、コスト増大等に繋がるという課題がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１２】
【特許文献１】特開平１０−１２３７７号公報
【特許文献２】特開２００１−９３６６８号公報
【特許文献３】特開２００１−１５５８５８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１３】
本発明は、上記問題を解決するためになされたものであり、基板を検査することなく基板上に印刷欠陥のない印刷パターンを安定的に形成することができる凸版印刷装置及び高分子有機ＥＬ表示素子製造方法を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
上記の課題を解決するための手段として、請求項１に記載の発明は、
被印刷基板（以下、基板と称す）上に凸版を用いてパターンを印刷する凸版印刷装置であって、
凸版印刷装置は、印刷手段と、パターン検査手段と、を備え、
前記印刷手段は、前記凸版と、凸版を表面に装着した版胴と、凸版の表面にインキを供給するインキ供給装置部と、基板を載置して搬送する移動定盤と、を備え、
前記パターン検査手段は、前記移動定盤の移動機構に備えられた検査用ロールと、該検査用ロールに印刷されたパターンを検査する検査装置と、を備えたことを特徴とする凸版印刷装置である。
【００１５】
請求項２に記載の発明は、前記検査装置は検査用の照明光を前記検査用ロールに照射す
る照明手段と、前記検査用ロール上に印刷されたパターンを撮像する検査用カメラとを備えたことを特徴とする請求項１記載の凸版印刷装置である。
【００１６】
請求項３に記載の発明は、検査用ロールに印刷されたパターンがパターン検査手段によって正常と判断された場合に、基板への印刷を開始することを特徴とする請求項１または２に記載の凸版印刷装置である。
【００１７】
請求項４に記載の発明は、前記パターン検査手段によるパターンの検査は、予め設定された検査サイクル印刷枚数毎に行うことを特徴とする請求項１から３のいずれかに記載の凸版印刷装置である。
【００１８】
請求項５に記載の発明は、前記検査用ロール上に印刷されたパターンを洗浄液により洗浄する洗浄手段と、前記検査用ロール上に付着した洗浄液を乾かす乾燥手段とを備えることを特徴とする請求項１から４のいずれかに記載の凸版印刷装置である。
【００１９】
請求項６に記載の発明は、請求項１〜５のいずれかに記載の凸版印刷装置を用いて高分子有機ＥＬ表示素子を製造することを特徴とする高分子有機ＥＬ表示素子製造方法である。
【発明の効果】
【００２０】
本発明による凸版印刷装置及び高分子有機ＥＬ表示素子製造方法によれば、検査用ロール上に印刷したパターンを検査することによって、直接基板上で検査することがないため、その結果、従来の方法に比べ歩留まりを向上することが出来る。
【図面の簡単な説明】
【００２１】
【図１】凸版印刷法によって発光部を形成するための印刷装置の一例を示す図。
【図２】本発明による凸版印刷装置を示す図。
【図３】本発明の実施の形態に係る凸版の断面を示す図。
【図４】本発明の実施の形態に係るパターン検査手段を詳細に示す図。
【図５】本発明の凸版印刷装置の検査ロール洗浄手段及び検査ロール乾燥手段を断面で示す図。
【図６】本発明の凸版印刷装置の全体の動作を示すフロー図。
【発明を実施するための形態】
【００２２】
図２は本発明による凸版印刷装置を示す図である。本発明の凸版印刷装置は印刷手段と、パターン検査手段とを備えている。印刷手段１００は、凸版１０１と、凸版１０１を表面に装着した回転式の版胴１０２と、凸版１０１の表面にインキを供給するインキ供給部１０８と、版胴１０２の周囲に形成される発光パターン形成用の基板１０６を搬送する移動定盤１０７と、を備えている。上記インキ供給部１０８は、アニロックスロール１０４とアニロックスロール１０４にインキを供給するインキパン１０３とアニロックスロール１０４上の余剰インキを除去するドクター１０５と、で構成されている。パターン検査手段２０２は、検査用ロール２００と、検査用ロールに印刷されたパターンを検査する検査装置２０１で構成されている。
【００２３】
次に、本発明の各構成を詳細に説明する。版胴１０２は移動定盤１０７上に配置されるものであり、定位置で回転可能に支持されている。凸版１０１は、版胴１０２の周面に装着されている。アニロックスロール１０４は版胴１０２の回転軸と平行で、且つ凸版１０１の表面の版面と接触するように設置されている。インキパン１０３の内部にはインキが充填されており、アニロックスロール１０４はインキパン１０３内部のインキに浸漬するよう設置されている。基板１０６は移動定盤１０７上に載置されている。移動定盤１０７は版胴１０２の回転軸と直交する方向に水平で矢印１０７ａで示す方向に移動するよう設置されている。
【００２４】
また、本発明の実施の形態に係る印刷装置は、移動定盤１０７に伴って移動する検査用ロール２００と検査装置２０１を備えている。支持基台４００が版胴１０２の下方に位置して水平に設置され、移動定盤１０７、検査用ロール２００及び検査装置２０１は、支持基台４００上にガイドを介して版胴１０２の回転軸と直角な水平方向１０７ａに移動可能なように設置されている。
【００２５】
上述した構成の印刷装置では、アニロックスロール１０４の回転に伴い、インキパン１０３から供給されたインキがアニロックスロール１０４表面に均一に保持されたあと、版胴１０２に装着された凸版１０１の版面に転移される。基板１０６は移動定盤１０７上に固定され、凸版１０１のパターンと基板１０６のパターン形成位置との図示しない位置調整機構により、位置調整しながら印刷開始位置まで移動する。印刷開始位置からは基板１０６が凸版１０１の凸部と接して版胴１０２の回転と同期しながら移動し、凸版１０１から基板１０６の所定位置にインキが転写されパターニングされる。基板１０６にインキパターンが形成された後は、必要に応じてオーブンなどにより乾燥される。
【００２６】
本発明の実施の形態に係るアニロックスロール１０４は、版胴１０２の周速と同一の周速で回転しながらインキを凸版１０１に供給するものである。アニロックスロール１０４はクロム製やセラミックス製のものを用いることができ、アニロックスロール１０４の外周面には、インキを保持するための細かい孔や凹部、セル状などのパターンが形成されている。
【００２７】
本発明の実施の形態に係るインキパン１０３は、アニロックスロール１０４の下方周面部分を浸漬するインキ溜りや、滴下型のインキングユニット、ファウンテンロール、ダイコーター、キャップコーターなどのコーターやそれらを組み合わせたものなどを用いることができる。また、インキパン１０３にインキを補充するインキ補充装置（図示せず）や、インキを保存するインキタンク（図示せず）が接続されている。
【００２８】
また、アニロックスロール１０４上に均一にインキを供給する為にドクター１０５を併設する。ドクター１０５の形状は刃状のものやロール状のものなどがあり、そのいずれでもかまわない。また、インキパン１０３がインキ溜りの場合には、ドクター１０５は、アニロックスロール１０４の回転方向で、インキ溜りからアニロックスロール１０４と凸版１０１との当接点までの間に位置し、掻き取ったインキがインキ溜りに落ちるようにすることが好ましい。
【００２９】
図３は本発明の実施の形態に係る凸版１０１の断面を示す図である。凸版１０１は表面層１０１ａと基材層１０１ｂとで構成されている。
【００３０】
本発明の実施の形態に係る凸版１０１に用いられる表面層１０１ａの材料は、印刷に対する機械的強度を有すれば良く、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリブタジエン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ酢酸ビニル、ポリアミド、ポリエーテルスルホン、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリエーテルスルホン、ポリビニルアルコールなどの公知の合成樹脂、鉄や銅、アルミニウムといった公知の金属、またはそれらの積層体を用いることができる。
【００３１】
凸版１０１を構成する基材層１０１ｂとしては、高い寸法安定性を保持するものが望ましく、基材として用いられる材料としては金属が好適に使用される。基材として用いられる金属としては鉄、アルミニウム、銅、亜鉛、ニッケル、チタン、クロム、金、銀やそれ
らの合金、積層体などが挙げられるが、特に、加工性、経済性から鉄を主成分とするスチール基材やアルミ基材を好適に用いることができる。
【００３２】
凸版１０１の表面層１０１ａは樹脂層であって、その表面の凸部の形成方法としてはポジ型感光性樹脂を用いたフォトリソグラフィー法、ネガ型感光性樹脂を用いたフォトリソグラフィー法、射出成型、凸版印刷法、凹版印刷法、平版印刷法、孔版印刷法、レーザーアブレーション法等の種々のパターン成型法を用いることができるが、パターンの高精細さの観点から、感光性樹脂を用いたフォトリソグラフィー法が望ましく、また、要求精度を満足する凸版を形成するためにはネガ型感光性樹脂を用いたフォトリソグラフィー法が最も望ましい。
【００３３】
感光性樹脂を用いたフォトリソグラフィー法を凸部パターン形成法として適用する場合、基材層、反射抑制層、感光性樹脂層が順次積層されている板状感光性樹脂積層体から凸版１０１の凸部を形成することが最も望ましい。感光性樹脂層の成型方法は、射出成型法、突出成型法、ラミネート法、バーコート法、スリットコート法、カンマコート法などの公知の方法を用いることができる。
【００３４】
凸版１０１の表面層１０１ａの樹脂層は、用いる樹脂としてはインキに対する耐溶剤性があればよく、ニトリルゴム、シリコーンゴム、イソプレンゴム、スチレンブタジエンゴム、ブタジエンゴム、クロロプレンゴム、ブチルゴム、アクリロニトリルゴム、エチレンプロピレンゴム、ウレタンゴムなどのゴムの他に、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリブタジエン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ酢酸ビニル、ポリアミド、ポリエーテルスルホン、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリエーテルスルホン、ポリビニルアルコールなどの合成樹脂やそれらの共重合体、セルロース誘導体などや、フッ素系エラストマーやポリ四フッ化エチレン、ポリフッ化ビニリデン、ポリ六フッ化ビニリデンやそれらの共重合体といったフッ素系樹脂から一種類以上を選択することができる。
【００３５】
本発明の実施の形態に係る凸版１０１は、上記のように基材上に凸部パターンが形成された凸版１０１を版胴１０２に装着して使用されるが、版胴１０２を基材として直接版胴１０２に凸部パターンを形成しても良い。
【００３６】
また、使用するインキは、インキパン１０３からアニロックスロール１０４への塗工及びアニロックスロール１０４から凸版１０１への転写を考慮し適した粘度に調整し、インキの粘度は５〜１８０ｍＰａ・ｓとすることが望ましい。本実施の形態で用いる凸版印刷装置ではアニロックスロール１０４から凸版１０１上へのインキの転写が最初に行われるが、１８０ｍＰａ・ｓ以上の粘度ではアニロックスロール１０４から凸版１０１上へインキが転写した後、凸版１０１上で十分インキがレベリングせず、ムラの原因になる。また、５ｍＰａ・ｓ以下では、基板１０６に転写した際に画素内ではじきムラが発生しやすく、ムラの原因になる。
【００３７】
アニロックスロール１０４から凸版１０１上に転写されるインキ量は、基板１０６に成膜する膜厚によって決定するが、インキ濃度とアニロックスロール１０４のセル容積を調整することで凸版１０１上に転写されるインキ量を一定にすることが望ましい。
【００３８】
図４は本発明の実施の形態に係るパターン検査手段２０２を詳細に示す図で、凸版１０１にインキが供給された状態の印刷開始位置から、検査用ロール２００が凸版１０１の凸部と接して版胴１０２の回転と同期しながら回転し、凸版１０１から検査用ロール２００の周面にインキが転写されインキパターンが得られるように構成されている。転写されたインキパターンは検査用ロール２０１の表面に向けて設置された照明手段２０３と検査用カメラ２０４を備えた検査装置２００によりインキパターンの欠陥及び異物の検出を行なう。
【００３９】
本発明の実施の形態に係る検査用ロール２００は、クロムメッキロールなど表面が平滑なものが望ましいが、インキパターンの検査に悪影響を及ぼす表面形状、表面材質でなければその限りではない。また、検査用ロール２００は転写されるインキパターンの領域以上の検表面積を持ち得る周長、幅が得られる外形が望ましいが、その限りではない。
【００４０】
本発明の実施の形態に係るパターン検査手段２０２は、照明手段２０３により検査用の照明光を検査用ロール２００の上方から照射し、同じく検査用ロール２００の上方に設置した検査用カメラ２０４により、検査用ロール２００を回転させることで検査用ロールに形成された印刷パターンを撮像する。検査用カメラ２０４は、例えばラインセンサカメラを使用して連続撮像を実施するが、基板の幅方向に対してカメラの幅方向撮像範囲が不足し、１回の撮像で検査用ロール上全てのインキパターンを撮像できない場合は、カメラを２個以上並べて撮像するなど適宜選択すれば良い。
【００４１】
欠陥検出サイズは、数１０ｎｍ〜数１０μｍのゴミ等の異物が画素非点灯となるため、それに合わせた検出能力として、例えば１００ｎｍを検出可能なカメラとするが、検出感度を上げすぎると誤検出が多くなり、また検査に時間を要する等の悪影響もあるため、製品作製環境や、検出したい欠陥サイズ、生産数などを考慮して、検出サイズを適宜選択すれば良い。
【００４２】
撮像された画像を使用し、パターンマッチング方式や比較検査方式を用いて検査して欠陥を検出し、ＸＹ座標系のデータとして記録しておく。データフォーマットは特に制約はないが、一般的なパソコンで記録可能なファイル形式（データファイル形式、テキストファイル形式、ＣＳＶファイル形式など）を用いるのが良い。記録内容としては、例えば欠陥の位置情報（Ｘ座標、Ｙ座標）、欠陥サイズ、検出種類（白欠陥、黒欠陥、透過欠陥、反射欠陥）、等である。
【００４３】
従来の方式では、アニロックスロール１０４から凸版１０１、更には基板１０６へとインキを転写することで所望のインキパターンを得ることになるが、その際、凸版１０１の凸部パターン上に欠けや突起、もしくは付着異物などが存在した場合に、印刷する全ての基板１０６上にそれらに起因した印刷欠陥が発生してしまう問題がある。そこで本発明の検査用ロール２００を備え、前記検査用ロール２００上に転写されたインキパターンに生じた欠陥を検査するパターン検査手段２０２を用いることにより、基板１０６にインキパターンを形成する前に、検査用ロール２００にインキパターンを転写形成し、そのインキパターンをパターン検査手段２０２により検査することで、基板１０６に印刷することなく、版１０１の凸部パターン上の欠けや突起、もしくは付着異物などに起因して発生するインキパターンの欠陥を未然に防ぐことが可能となる。
【００４４】
図５は本発明の実施の形態に係る検査用ロール洗浄手段と検査用ロール乾燥手段を示す図である。検査用ロール洗浄手段は、検査用ロールの下面が内部に貯えられた洗浄液に浸漬するように設置された貯液槽３０２と、検査用ロール２００の表面がロールの回転に伴い貯液槽３０２に貯えられた洗浄液に浸漬された後、洗浄液から露出した場所において、検査用ロール２００の表面に洗浄液を噴きつけるように配置された洗浄液供給ノズル３０３を備えた検査用ロール洗浄装置３００である。また、検査用ロール乾燥手段は検査用ロール乾燥ノズル３０１であって、検査用ロール２０１に噴きつけられ付着した洗浄液を、窒素またはクリーンエアを吹き付けるように配置されている。検査用ロール洗浄装置３００と検査用ロール乾燥ノズル３０１により、検査用ロール２００の表面は清浄な状態に保たれる。尚、本実施の形態では、貯液槽３０２と洗浄液供給ノズル３０３、並びに乾燥ノズル３０４による構成を示したが、これらに限定されるものではなく、検査用ロール２００の表面を清浄にできる手段であれば上記構成に限定されるものではなく、貯液層３０２と洗浄液供給ノズル３０３いずれかがない構成であっても良く、または例えばドクターによる掻き取り、布による拭き取りなどでも良い。
【００４５】
図６は本発明の凸版印刷装置の全体の動作を示すフロー図である。開始後（Ｓ１）、検査用ローラを洗浄、乾燥する（Ｓ２）。次にアニロックスロールによって凸版にインキを転移（Ｓ３）した後、検査用ロールに凸版からパターンを転写し（Ｓ４）、転写された検査用ロールのパターンを検査する（Ｓ５）。パターンを検査した結果、パターンが正常であれば（Ｓ６のＹＥＳ）、基板上への印刷を開始する（Ｓ７）。パターンが正常でない場合は（Ｓ６のＮＯ）、基板上への印刷が出来ないため、不良欠陥の部分を修正した後、ステップ（Ｓ２）に移行し、検査用ロールの洗浄と乾燥を行う。ステップ（Ｓ７）で基板上へ印刷を行い、設定検査サイクルに達した場合（この場合の設定検査サイクルとは、例えば１０枚毎に洗浄、乾燥を行うサイクルを指し、サイクル印刷枚数は予め設定される）（Ｓ８のＹＥＳ）には、再度ステップ（Ｓ２）に移行し、検査用ロールの洗浄と乾燥を行う。これは、印刷を続行した場合には、その途中で凸版に異物が付着したり、パターンの欠けが発生することがあるため、設定サイクル毎に検査用ロールの洗浄と乾燥を行い、異物欠陥やパターン欠陥を防ぐためである。設定検査サイクルに達していない場合には（Ｓ８のＮＯ）、次に設定印刷枚数（印刷予定枚数を指し、予め設定される）に達したかどうかを確認し、設定印刷枚数に達した場合（Ｓ９のＹＥＳ）には印刷を終了する（Ｓ１０）。一方、設定印刷枚数に達していない場合（Ｓ９のＮＯ）にはステップ（Ｓ７）に移行し、印刷を続行する。
【００４６】
上記説明では高分子有機ＥＬ表示素子を製造する場合を例示したが、これに限定されず凸版印刷法で形成する高精細のパターニング、例えば金属インキによる配線印刷、カラーフィルター等の着色インキの印刷などに適用することが可能である。
【００４７】
以上のように本発明による凸版印刷装置及び高分子有機ＥＬ表示素子製造方法によれば、版の凸部パターン上の欠けや突起、付着異物に起因して発生するインキパターン欠陥を印刷前に確認することが出来、また直接基板上で検査することがないため、検査時の検査光もしくは検査環境による有機発光層の特性低下が起こることで、印刷欠陥が発生した基板の欠陥部を修正して再生することが出来ないという問題を解決することが出来る。この結果、歩留まりを向上することが出来る。
【符号の説明】
【００４８】
１００・・・印刷手段
１０１・・・凸版
１０１ａ・・・表面層
１０１ｂ・・・基材層
１０２・・・版胴
１０３・・・インキパン
１０４・・・アニロックスロール
１０５・・・ドクター
１０６・・・基板
１０７・・・移動定盤
１０７ａ・・・移動定盤が移動する方向を示す矢印
１０８・・・インキ供給部
２００・・・検査用ロール
２０１・・・検査装置
２０２・・・パターン検査手段
２０３・・・照明手段
２０４・・・検査用カメラ
３００・・・検査用ロール洗浄装置
３０１・・・検査用ロール乾燥ノズル
３０２・・・貯液槽
３０３・・・洗浄液供給ノズル
４００・・・支持基台
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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