(57)【要約】【課題】画素領域の境界部分での発光の反射を効果的に防ぐ。【解決手段】第１の基板上に配設された複数の発光素子と、上記各発光素子に対応する画素領域の境界部分で、上記第１の基板に対向する第２の基板側に配置され、上記第１の基板側からの光が反射することを防止する反射防止部材とを含む表示装置が提供される。【選択図】図５
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の基板上に配設された複数の発光素子と、
前記各発光素子に対応する画素領域の境界部分で、前記第１の基板に対向する第２の基板側に配置され、前記第１の基板側からの光が反射することを防止する反射防止部材と
を備える表示装置。
【請求項２】
前記第２の基板上で前記画素領域に配設されるカラーフィルタをさらに備え、
前記前記反射防止部材は、前記カラーフィルタと前記第２の基板との間に設けられる、請求項１に記載の表示装置。
【請求項３】
前記反射防止部材の反射防止対象波長は、該反射防止部材の両側の画素領域に配置される前記カラーフィルタの透過光の波長に応じて設定される、請求項２に記載の表示装置。
【請求項４】
前記第２の基板上で前記画素領域に配設されるカラーフィルタをさらに備え、
前記前記反射防止部材は、前記カラーフィルタの前記第１の基板側の表面に設けられる、請求項１に記載の表示装置。
【請求項５】
前記反射防止部材の反射防止対象波長は、該反射防止部材の両側の画素領域に対応する前記発光素子の発光波長に応じて設定される、請求項４に記載の表示装置。
【請求項６】
前記画素領域の境界部分に配置されるブラックマトリクスをさらに備え、
前記反射防止部材は、前記ブラックマトリクスの前記第１の基板側の表面に沿って設けられる、請求項１に記載の表示装置。
【請求項７】
前記反射防止部材は反射防止コーティングである、請求項６に記載の表示装置。
【請求項８】
前記画素領域の境界部分に配置され、前記第１の基板側の表面が加工されることによって前記反射防止部材としても機能するブラックマトリクスを備える、請求項１に記載の表示装置。
【請求項９】
前記反射防止部材の前記第１の基板側の表面にはモスアイ構造が形成される、請求項１に記載の表示装置。
【請求項１０】
第１の基板上に配設される複数の発光素子のそれぞれに対応する画素領域の境界部分で前記第１の基板側からの光が反射することを防止する反射防止部材を、前記第１の基板に対向する第２の基板側に配置する工程と、
前記第２の基板と、前記複数の発光素子が配設された前記第１の基板とを接合する工程と
を含む、表示装置の製造方法。
【請求項１１】
前記第２の基板上で前記画素領域にカラーフィルタを配設する工程をさらに含み、
前記反射防止部材を配置する工程は、前記カラーフィルタを配設する工程よりも前に実行される、請求項１０に記載の表示装置の製造方法。
【請求項１２】
前記第２の基板上で前記画素領域にカラーフィルタを配設する工程をさらに含み、
前記反射防止部材を配置する工程は、前記カラーフィルタを配設する工程よりも後に実行される、請求項１０に記載の表示装置の製造方法。
【請求項１３】
前記画素領域の境界部分にブラックマトリクスを配置する工程をさらに含み、
前記反射防止部材は、前記ブラックマトリクスの前記第１の基板側の表面に沿って配置される、請求項１０に記載の表示装置の製造方法。
【請求項１４】
前記反射防止部材を配置する工程は、
前記画素領域の境界部分にブラックマトリクスを配置する工程と、
前記ブラックマトリクスの前記第１の基板側の表面を加工して反射防止構造を形成する工程と
を含む、請求項１０に記載の表示装置の製造方法。
【請求項１５】
前記反射防止部材の前記第１の基板側の表面にモスアイ構造を形成する工程をさらに含む、請求項１０に記載の表示装置の製造方法。
【請求項１６】
前記モスアイ構造を形成する工程は、
微細粒子が分散された樹脂膜を前記反射防止部材の表面に形成する第１工程と、
前記樹脂膜中の前記微細粒子をマスクにして前記樹脂膜をエッチングするとともに、前記微細粒子も徐々にエッチングして、前記樹脂膜に微細突起ダミーパターンを形成する第２工程と、
前記微細突起ダミーパターンが形成された前記樹脂膜とともに前記反射防止部材の表面をエッチバックして、前記樹脂膜の表面に形成された前記微細突起ダミーパターンの表面形状を前記反射防止部材の表面に転写し、前記反射防止部材の表面に微細突起パターンを形成する第３工程と
を含む、請求項１５に記載の表示装置の製造方法。
【請求項１７】
前記モスアイ構造を形成する工程は、
前記反射防止部材の表面に微細粒子を配列する第１工程と、
前記反射防止部材のエッチング速度が前記微細粒子のエッチング速度よりも速い異方性エッチング加工を行って、前記反射防止部材の表面に微細突起パターンを形成する第２工程と
を含む、請求項１５に記載の表示装置の製造方法。
【請求項１８】
第１の基板上に配設された複数の発光素子と、
前記各発光素子に対応する画素領域の境界部分で、前記第１の基板に対向する第２の基板側に配置され、前記第１の基板側からの光が反射することを防止する反射防止部材と
を含む表示装置
を備える電子機器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本開示は、表示装置、表示装置の製造方法および電子機器に関し、特に、発光素子を備える表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
例えば有機ＥＬ（Electro  Luminescence）、無機ＥＬなどの発光素子を用いたトップエミッション型の表示装置では、発光素子が配設される素子基板と、素子基板に対向する封止基板とが設けられ、発光素子の発光は透明な封止基板を透過して観察される。例えば発光素子が白色発光である場合には、各発光素子からの発光が封止基板に設けられたカラーフィルタを通過することによって各画素の色の光として観察される。また、発光素子が赤、緑、青など各画素の色で発光する場合も、色純度の向上のためにカラーフィルタが使用される場合がある。
【０００３】
上記の封止基板（カラーフィルタ基板ともいう）には、コントラストを向上させるため、各画素領域の境界にあたる位置にブラックマトリクスと呼ばれる遮光部材が設けられる。ブラックマトリクスに関する技術は、例えば特許文献１に記載されている。特許文献１の技術では、カラーフィルタの透過領域とブラックマトリクスの領域との境界で生じる光の回折現象を抑制するために、透過領域に光学的濃度の勾配が設けられる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０１０−００８８６１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ところが、ブラックマトリクスとして一般的に用いられるチタンなどの金属膜は、遮光性が良好である一方で光の反射率が高い。従って、発光素子からの発光がブラックマトリクスの表面で反射して素子基板側に戻り、配線や各種膜の界面でさらに反射した結果、発光素子に対応する画素とは別の画素の領域に混入してしまう場合があった。
【０００６】
そこで、本開示では、画素領域の境界部分での発光の反射を効果的に防ぐことが可能な、新規かつ改良された表示装置、表示装置の製造方法および電子機器を提案する。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本開示によれば、第１の基板上に配設された複数の発光素子と、上記各発光素子に対応する画素領域の境界部分で、上記第１の基板に対向する第２の基板側に配置され、上記第１の基板側からの光が反射することを防止する反射防止部材とを含む表示装置が提供される。
【０００８】
また、本開示によれば、第１の基板上に配設される複数の発光素子のそれぞれに対応する画素領域の境界部分で上記第１の基板側からの光が反射することを防止する反射防止部材を、上記第１の基板に対向する第２の基板側に配置する工程と、上記第２の基板と、上記複数の発光素子が配設された上記第１の基板とを接合する工程とを含む、表示装置の製造方法が提供される。
【０００９】
また、本開示によれば、第１の基板上に配設された複数の発光素子と、上記各発光素子に対応する画素領域の境界部分で、上記第１の基板に対向する第２の基板側に配置され、上記第１の基板側からの光が反射することを防止する反射防止部材とを含む表示装置を備える電子機器が提供される。
【００１０】
画素領域の境界部分に反射防止部材を配置することによって、この部分での発光の反射が抑制される。従って、発光が別の画素の領域に混入することを防止できる。
【発明の効果】
【００１１】
以上説明したように本開示によれば、画素領域の境界部分での発光の反射を効果的に防ぐことができる。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】本開示の関連技術に係る表示装置の構成の例を示す図である。
【図２】有機ＥＬディスプレイに設けられる画素駆動回路の構成例を示す図である。
【図３】有機ＥＬディスプレイにおける表示領域の平面構成の例を示す図である。
【図４】図３のＩ−Ｉ断面図によって表示領域の断面構成の例を示す図である。
【図５】本開示の第１の実施形態に係る表示装置における表示領域の断面構成の例を示す図である。
【図６】本開示の第１の実施形態に係る表示装置の製造方法の各工程での表示装置の状態を示す図である。
【図７】本開示の第１の実施形態に係る電子機器の構成を示す概略的なブロック図である。
【図８】本開示の第２の実施形態に係る表示装置における表示領域の断面構成の例を示す図である。
【図９】本開示の第２の実施形態に係る表示装置の製造方法の各工程での表示装置の状態を示す図である。
【図１０】本開示の第３の実施形態に係る表示装置における表示領域の断面構成の例を示す図である。
【図１１】本開示の第３の実施形態に係る表示装置の製造方法の各工程での表示装置の状態を示す図である。
【図１２】本開示の第４の実施形態に係る表示装置における表示領域の断面構成の例を示す図である。
【図１３】本開示の第４の実施形態に係る表示装置の製造方法の各工程での表示装置の状態を示す図である。
【図１４Ａ】モスアイ構造の製造方法の第１の例を示す図である。
【図１４Ｂ】モスアイ構造の製造方法の第１の例を示す図である。
【図１５Ａ】モスアイ構造の製造方法の第２の例を示す図である。
【図１５Ｂ】モスアイ構造の製造方法の第２の例を示す図である。
【図１５Ｃ】モスアイ構造の製造方法の第２の例を示す図である。
【図１５Ｄ】モスアイ構造の製造方法の第２の例を示す図である。
【図１６Ａ】モスアイ構造の製造方法の第３の例を示す図である。
【図１６Ｂ】モスアイ構造の製造方法の第３の例を示す図である。
【図１６Ｃ】モスアイ構造の製造方法の第３の例を示す図である。
【図１６Ｄ】モスアイ構造の製造方法の第３の例を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
以下に添付図面を参照しながら、本開示の好適な実施の形態について詳細に説明する。なお、本明細書および図面において、実質的に同一の機能構成を有する構成要素については、同一の符号を付することにより重複説明を省略する。
【００１４】
なお、説明は以下の順序で行うものとする。
１．関連技術の説明
２．第１の実施形態
２−１．表示装置の構成
２−２．表示装置の製造方法
２−３．電子機器への適用
３．第２の実施形態
３−１．表示装置の構成
３−２．表示装置の製造方法
４．第３の実施形態
４−１．表示装置の構成
４−２．表示装置の製造方法
５．第４の実施形態
５−１．表示装置の構成
５−２．表示装置の製造方法
６．モスアイ構造について
７．補足
【００１５】
（１．関連技術の説明）
本開示の実施形態のよりよい理解のために、まず、図１〜図４を参照して関連する技術について説明する。
【００１６】
（全体構成）
図１は、本開示の関連技術に係る表示装置の構成の例を示す図である。本開示の関連技術に係る表示装置は、有機ＥＬディスプレイ１０である。
【００１７】
図１を参照すると、有機ＥＬディスプレイ１０は、素子基板２０上に、赤色発光素子３２Ｒ、緑色発光素子３２Ｇ、および青色発光素子３２Ｂがマトリクス状に配列された表示領域３０を有する。一組の赤色発光素子３２Ｒ、緑色発光素子３２Ｇ、および青色発光素子３２Ｂによって、画素３２が構成される。表示領域３０の周辺には、映像表示用のドライバとして、信号線駆動回路４０および走査線駆動回路５０が設けられる。
【００１８】
また、表示領域３０には、赤色発光素子３２Ｒ、緑色発光素子３２Ｇ、および青色発光素子３２Ｂにそれぞれ接続される画素駆動回路６０が設けられる。この画素駆動回路６０の構成について、以下で図２を参照してさらに説明する。
【００１９】
（画素駆動回路の構成）
図２は、有機ＥＬディスプレイ１０に設けられる画素駆動回路６０の構成例を示す図である。本実施形態において、画素駆動回路６０は、後述する発光素子の下部電極の仮想に形成されるアクティブ型の駆動回路である。
【００２０】
図２を参照すると、画素駆動回路６０には、駆動トランジスタＴｒ１および書き込みトランジスタＴｒ２が設けられ、駆動トランジスタＴｒ１と書き込みトランジスタＴｒ２との間にはキャパシタＣｓが接続される。赤色発光素子３２Ｒ、緑色発光素子３２Ｇ、または青色発光素子３２Ｂは、第１の電源ラインＶｃｃと第２の電源ラインＧＮＤとの間で駆動トランジスタＴｒ１に直列に接続される。
【００２１】
ここで、駆動トランジスタＴｒ１および書き込みトランジスタＴｒ２は、一般的な薄膜トランジスタ（ＴＦＴ：Thin  Film  Transistor）である。ＴＦＴの構造としては、例えば逆スタガ構造（ボトムゲート型）、またはスタガ構造（トップゲート型）など、各種の構造が用いられうる。
【００２２】
また、画素駆動回路６０では、列方向の信号線４０Ａと行方向の走査線５０Ａとが、それぞれ複数配列される。信号線４０Ａと走査線５０Ａとの交点は、それぞれが赤色発光素子３２Ｒ、緑色発光素子３２Ｇ、または青色発光素子３２Ｂのいずれかに対応する。それぞれの信号線４０Ａは上記の信号線駆動回路４０に接続され、信号線駆動回路４０は信号線４０Ａを介して書き込みトランジスタＴｒ２のソース電極に画像信号を供給する。同様に、それぞれの走査線５０Ａは上記の走査線駆動回路５０に接続され、走査線駆動回路５０は走査線５０Ａを介して書き込みトランジスタＴｒ２のゲート電極に走査信号を順次供給する。
【００２３】
（表示領域の構成）
図３は、有機ＥＬディスプレイ１０における表示領域３０の平面構成の例を示す図である。図４は、図３のＩ−Ｉ断面図によって表示領域３０の断面構成の例を示す図である。図３に示すように、表示領域３０には、赤色発光素子３２Ｒ、緑色発光素子３２Ｇ、および青色発光素子３２Ｂがマトリクス状に配列される。一組の赤色発光素子３２Ｒ、緑色発光素子３２Ｇ、および青色発光素子３２Ｂは、画素３２を構成する。
【００２４】
図４に示すように、有機ＥＬディスプレイ１０の表示領域３０では、素子基板２０と封止基板２３とが接着層２６を介して貼り合わされている。素子基板２０上には複数の発光素子２１が配設され、発光素子２１は保護層２２によって覆われている。一方、封止基板２３側にはカラーフィルタ２４（赤色カラーフィルタ２４Ｒ、緑色カラーフィルタ２４Ｇ、および青色カラーフィルタ２４Ｂ）が配設され、各色のカラーフィルタ２４の境界部分にはブラックマトリクス２５が設けられる。接着層２６は、保護層２２とカラーフィルタ２４との間に位置する。以下、それぞれの構成要素について説明する。
【００２５】
素子基板２０は、平坦面を有する支持体である。素子基板２０としては、例えば金属箔、または樹脂製のフィルムやシートなどが用いられる。有機ＥＬディスプレイ１０は、封止基板２３側から発光素子の光を取り出すトップエミッション型の表示装置であるため、素子基板２０は必ずしも透明でなくてよい。図示していないが、素子基板２０上には、上記で図２を参照して説明した画素駆動回路６０が形成されるＴＦＴ層や、ＴＦＴ層の表面を平坦化するための平坦化膜などが設けられうる。
【００２６】
発光素子２１は、所定の波長範囲に少なくとも１つのピーク波長を有する発光材料に電圧を印加することによって、例えば白色、赤色、緑色、または青色などに発光する。発光素子２１は、発光材料層と、発光材料層に電圧を印加するための下部電極および上部電極とを含む。下部電極は、例えばアルミニウム合金などで形成され、素子基板２０上に形成された画素駆動回路に接続される。上部電極は、例えばＩＺＯ（Indium  Zinc  Oxide）などの透明電極材料で形成される。発光材料層の上下には、正孔注入層、正孔輸送層、電子輸送層、電子注入層などが積層されうる。なお、図では各発光素子が独立して形成されているが、下部電極と発光材料層以外の層については、各発光素子に共通して形成されてもよい。
【００２７】
保護層２２は、例えば無機アモルファス系の絶縁性材料で形成され、発光素子２１を覆って素子基板２０上の全面に形成される。保護層２２は、例えば絶縁性や非透水性などを有することによって、発光素子２１を保護する。なお、保護層２２は必ずしも設けられなくてもよく、発光素子２１（上部電極）の上に接着層２６が位置してもよい。
【００２８】
封止基板２３（透明基板）は、ガラスなどで形成され、表示領域３０に形成された積層構造を封止する。封止基板２３上の、各発光素子２１に対応する画素領域には、各画素の色のカラーフィルタ２４（赤色カラーフィルタ２４Ｒ、緑色カラーフィルタ２４Ｇ、および青色カラーフィルタ２４Ｂ）が配設される。また、各色のカラーフィルタの境界部分にはブラックマトリクス２５が設けられる。
【００２９】
ここで、ブラックマトリクス２５は、各色のカラーフィルタ２４の境界領域を遮光し、表示される画像のコントラストを向上させる。ブラックマトリクス２５は、例えばチタン、窒化チタン、タンタル、窒化タンタル、タングステンなどの遮光性の金属、または炭素などの黒色顔料を含んだ樹脂の膜によって形成される。ブラックマトリクス２５の厚さは、図示されているようにカラーフィルタ２４よりも薄いか、カラーフィルタ２４と同程度である。
【００３０】
接着層２６は、熱硬化性樹脂または紫外線硬化性樹脂などによって形成され、素子基板２０と封止基板２３との間に介在してこれらの基板を接着する。
【００３１】
上記のような有機ＥＬディスプレイ１０では、発光素子２１からの発光の一部が、金属膜などによって形成されるブラックマトリクス２５の表面で反射して素子基板２０側に戻り、素子基板２０上の配線や各種膜の界面でさらに反射した結果、本来の発光素子２１が対応する画素領域とは別の画素領域に混入してしまう場合がある。これによって、表示される画像のコントラストが低下する可能性がある。
【００３２】
これに対して、例えばブラックマトリクス２５を低反射性の材料で形成することも考えられる。低反射性の金属膜としてはクロムおよび酸化クロムが用いられうるが、製造工程における環境への悪影響のために近年は使用が難しくなっている。その他の金属では、金属膜としてブラックマトリクス２５を形成した場合に、遮光性および低反射性に加えて耐食性を満足する材料は発見されていない。また、ブラックマトリクス２５を、金属膜よりも反射率が低い樹脂の膜で形成してもよいが、その場合も、必ずしも十分な低反射性は得られていない。
【００３３】
そこで、以下に説明する本開示のいくつかの実施形態では、ブラックマトリクス２５の材質に依存することなく、画素領域の境界部分での発光の反射を防ぐことを可能にするための構成を提案する。なお、以下で説明する実施形態は、全体構成、画素駆動回路の構成、および表示領域の平面構成については、上記の関連技術と同様の構成とすることが可能であるため、詳細な説明を省略する。また、表示領域の断面構成についても、上記の関連技術と同様である部分については共通の符号を付することによって、詳細な説明を省略する場合がある。
【００３４】
（２．第１の実施形態）
まず、本開示の第１の実施形態について説明する。
【００３５】
（２−１．表示装置の構成）
図５は、本開示の第１の実施形態に係る表示装置における表示領域の断面構成の例を示す図である。本実施形態に係る表示装置は、有機ＥＬディスプレイ１００である。
【００３６】
有機ＥＬディスプレイ１００の表示領域では、素子基板２０と封止基板２３とが接着層２６を介して貼り合わされている。素子基板２０上には複数の発光素子２１が配設され、発光素子２１は保護層２２によって覆われている。一方、封止基板２３側にはカラーフィルタ２４（赤色カラーフィルタ２４Ｒ、緑色カラーフィルタ２４Ｇ、および青色カラーフィルタ２４Ｂ）が配設される。
【００３７】
さらに、各色のカラーフィルタ２４の境界部分では、カラーフィルタ２４と封止基板２３との間に、ブラックマトリクス２５とともに反射防止膜１１０が設けられる。ブラックマトリクス２５は、上述の通り、金属または樹脂の膜によって形成される遮光部材である。反射防止膜１１０は、ブラックマトリクス２５の素子基板２０側の表面に沿って設けられ、素子基板２０側からの光、すなわち発光素子２１から放出された光が反射することを防止する部材（反射防止部材）である。
【００３８】
例えば、反射防止膜１１０は、表面にモスアイ構造が形成された金属、樹脂、または無機材料などの膜でありうる。ここで、モスアイ構造は、光の波長よりも短い間隔で微細突起による凹凸が形成される構造である。モスアイ構造が形成された膜の表面では、屈折率が急激に変化する界面が形成されないため、入射した光の反射を抑えることができる。後述するように、反射防止膜１１０のモスアイ構造は、例えばドライエッチング法やナノインプリント法などによって形成される。さらに、ナノインプリント法の場合、熱硬化による形状形成と、紫外線硬化による形状形成がある。熱硬化が用いられる場合、反射防止膜１１０の材料として例えばＣＯＰ（cyclo  olefin  polymer）が用いられる。一方、紫外線硬化が用いられる場合、反射防止膜１１０の材料としては例えばアクリル系やエポキシ系の紫外線硬化性樹脂が用いられる。ドライエッチング法の場合、微細加工が可能な任意の材料が反射防止膜１１０に用いられうるが、例えば二酸化ケイ素や、アルミニウムなどの金属材料を用いてもよい。
【００３９】
あるいは、反射防止膜１１０は、反射防止コーティング（ＡＲＣ：Anti-Reflection  Coating）であってもよい。反射防止コーティングの膜厚は、発光素子からの光が反射防止コーティングの界面で反射する場合と、反射防止コーティングとブラックマトリクス２５との界面で反射する場合とで逆位相になるように設定される。これによって、これらの２つの界面で反射する光が干渉して打ち消しあい、結果的に入射した光の反射を抑えることができる。反射防止コーティングが１層の場合、反射防止膜１１０には基板材料と空気の中間程度の屈折率を有する材料が用いられる。また、反射防止コーティングが多層の場合、反射防止膜１１０は低屈折率材料（二酸化ケイ素など）と高屈折率材料（二酸化チタンなど）とを積層することによって形成されうる。
【００４０】
このように、ブラックマトリクス２５の素子基板２０側の表面に沿って設けられた反射防止膜１１０によって、ブラックマトリクス２５の表面付近に到達した発光素子２１からの発光が、そこからさらに反射することが抑制される。従って、有機ＥＬディスプレイ１００では、発光が本来の発光素子２１が対応する画素領域とは別の画素領域に混入してしまうことが防止される。
【００４１】
ここで、反射防止膜１１０が有する反射防止構造には、反射を最も効率的に防止できる波長、つまり反射防止対象波長（以下、単に対象波長ともいう）がある。本実施形態では、発光素子２１の発光がカラーフィルタ２４を透過した後に反射防止膜１１０に到達するため、反射防止膜１１０の対象波長は、両側の画素領域に配置されたカラーフィルタ２４の透過光の波長に応じて設定されることが望ましい。より具体的には、反射防止膜１１０の対象波長は、両側の画素領域に配置されたカラーフィルタ２４の透過光の波長のうち、長い方の波長に基づいて設定されてもよい。一例として、カラーフィルタ２４Ｒ（透過光は赤色）とカラーフィルタ２４Ｇ（透過光は緑色）との間に配置される反射防止膜１１０の対象波長は、透過光の波長のうちのより長い波長、すなわち赤色の透過光の波長に基づいて設定されうる。
【００４２】
反射防止膜１１０の対象波長を設定する具体的な構成として、例えばモスアイ構造の場合、微小突起の間隔を調整することによって対象波長を設定することが可能である。微小突起の間隔が長いほど、対象波長が長くなる。一方、例えば反射防止コーティングの場合、膜厚を調整することによって対象波長を設定することが可能である。
【００４３】
（２−２．表示装置の製造方法）
図６は、本開示の第１の実施形態に係る表示装置の製造方法の各工程での表示装置の状態を示す図である。図６を参照すると、まず封止基板２３上にブラックマトリクス２５と反射防止膜１１０とが形成される。ブラックマトリクス２５および反射防止膜１１０は、例えば、まずブラックマトリクス２５の材料を封止基板２３上に塗布し、その上に反射防止膜１１０の材料を塗布した後、フォトリソグラフィを利用してパターニングすることによって形成されうる。
【００４４】
ここで、反射防止膜１１０が表面にモスアイ構造が形成された金属、樹脂、または無機材料などの膜である場合、例えばドライエッチング法やナノインプリント法などによって、反射防止膜１１０の表面にモスアイ構造が形成される。モスアイ構造は、反射防止膜１１０が図示されるような形状にパターニングされる前に形成されてもよいし、反射防止膜１１０がパターニングされた後に形成されてもよい。
【００４５】
次に、各色のカラーフィルタ２４が形成される。カラーフィルタ２４は、例えばフォトリソグラフィを利用したパターニングによって形成されてもよく、またインクジェット法によって形成されてもよい。図示された例では、ブラックマトリクス２５および反射防止膜１１０の厚さがカラーフィルタ２４よりも薄いため、カラーフィルタ２４がこれらの部材を覆うように形成されている。
【００４６】
一方で、素子基板２０上に発光素子２１および保護層２２が形成されたものが別途用意され、これらの２つの基板（基板上に形成された部材を含む）は接着層２６を介して接合される。その後、接着層２６を硬化させることによって、有機ＥＬディスプレイ１００が完成する。なお、図示された例では、素子基板２０側に接着層２６が塗布されているが、接着層２６は封止基板２３側に塗布されてもよい。
【００４７】
（２−３．電子機器への適用）
次に、図７を参照して、本開示の第１の実施形態に係る表示装置を有する電子機器の構成について説明する。図７は、本開示の第１の実施形態に係る電子機器の構成を示す概略的なブロック図である。
【００４８】
図７を参照すると、電子機器１０００は、有機ＥＬディスプレイ１００、制御回路５００、操作部６００、記憶部７００、および通信部８００を含む。電子機器１０００は、例えば、テレビジョン、携帯電話（スマートフォン）、デジタルカメラ、パーソナルコンピュータなど、表示部として有機ＥＬディスプレイ１００を有する何らかの機器である。
【００４９】
制御回路５００は、例えばＣＰＵ（Central  Processing  Unit）、ＲＡＭ（Random  Access  Memory）、およびＲＯＭ（Read  Only  Memory）などによって構成され、電子機器１０００の各部を制御する。有機ＥＬディスプレイ１００も、この制御回路５００によって制御される。
【００５０】
操作部６００は、例えばタッチパッド、ボタン、キーボード、またはマウスなどによって構成され、電子機器１０００に対するユーザの操作入力を受け付ける。制御回路５００は、操作部６００が取得した操作入力に従って電子機器１０００を制御する。
【００５１】
記憶部７００は、例えば半導体メモリ、磁気ディスク、または光ディスクなどによって構成され、電子機器１０００が機能するために必要な各種のデータを格納する。制御回路５００は、記憶部７００に格納されたプログラムを読み出して実行することによって動作してもよい。
【００５２】
通信部８００は、付加的に設けられる。通信部８００は、有線または無線のネットワーク９００に接続される通信インターフェースであり、例えばモデムやポート、またはアンテナなどによって構成される。制御回路５００は、通信部８００を介して、ネットワーク９００からデータを受信し、またネットワーク９００にデータを送信する。
【００５３】
上記で説明した有機ＥＬディスプレイ１００だけではなく、これを有する電子機器１０００もまた、本開示の実施形態に含まれる。
【００５４】
（３．第２の実施形態）
次に、本開示の第２の実施形態について説明する。なお、電子機器への適用については、上記の第１の実施形態と同様の構成とすることが可能であるため、重複した説明を省略する。
【００５５】
（３−１．表示装置の構成）
図８は、本開示の第２の実施形態に係る表示装置における表示領域の断面構成の例を示す図である。本実施形態に係る表示装置は、有機ＥＬディスプレイ２００である。
【００５６】
有機ＥＬディスプレイ２００の表示領域では、素子基板２０と封止基板２３とが接着層２６を介して貼り合わされている。素子基板２０上には複数の発光素子２１が配設され、発光素子２１は保護層２２によって覆われている。一方、封止基板２３側にはカラーフィルタ２４（赤色カラーフィルタ２４Ｒ、緑色カラーフィルタ２４Ｇ、および青色カラーフィルタ２４Ｂ）が配設される。
【００５７】
さらに、各色のカラーフィルタ２４の境界部分では、カラーフィルタ２４と封止基板２３との間に、ブラックマトリクス２２０が設けられる。ブラックマトリクス２２０は、上述した他のブラックマトリクスと同様に、金属または樹脂の膜によって形成される遮光部材である。他のブラックマトリクスとの相違点として、ブラックマトリクス２２０の素子基板２０側の表面には、加工によって反射防止構造２２０ａが形成されている。反射防止構造２２０ａは、例えばモスアイ構造であり、素子基板２０側からの光、すなわち発光素子２１から放出された光が反射することを防止する。つまり、本実施形態では、反射防止構造２２０ａが形成されることによって、ブラックマトリクス２２０が反射防止部材としても機能する。
【００５８】
このように、本実施形態では、ブラックマトリクス２２０の素子基板２０側の表面加工によって形成された反射防止構造２２０ａによって、ブラックマトリクス２２０の表面に到達した発光素子２１からの発光の一部が、そこからさらに反射することが抑制される。従って、有機ＥＬディスプレイ２００では、発光が本来の発光素子２１が対応する画素領域とは別の画素領域に混入してしまうことが防止される。
【００５９】
なお、反射防止構造２２０ａによる反射防止の対象波長については、上記の第１の実施形態における反射防止膜１１０の対象波長と同様に設定されうるため、重複した説明を省略する。
【００６０】
ここで、本実施形態と上記の第１の実施形態との比較として、本実施形態では、ブラックマトリクス２２０の表面に反射防止構造２２０ａが設けられるため、別途の反射防止部材を設置しなくてよく、表示装置の構成が簡略化される。一方、第１の実施形態の場合、ブラックマトリクス２５とは別の部材として反射防止膜１１０を設ける必要があり、表示装置の構成は本実施形態よりも複雑になる。しかし、第１の実施形態では、ブラックマトリクス２５と反射防止膜１１０とが別個の部材であるために、それぞれについて最適な材料を選択することができる。例えば、ブラックマトリクス２５については、遮光性が高い材料を選択することで、膜厚を薄くすることが可能である。また、反射防止膜については、例えばモスアイ構造の場合、ドライエッチング法やナノインプリント法による加工が容易な材料を選択することで、精度の高いモスアイ構造を形成することが可能である。
【００６１】
（３−２．表示装置の製造方法）
図９は、本開示の第２の実施形態に係る表示装置の製造方法の各工程での表示装置の状態を示す図である。図９を参照すると、まず封止基板２３上にブラックマトリクス２２０が形成され、ブラックマトリクス２２０の表面が加工されて反射防止構造２２０ａが形成される。ブラックマトリクス２２０は、例えば、材料を封止基板２３上に塗布し、フォトリソグラフィを利用してパターニングすることによって形成されうる。ブラックマトリクス２２０の表面には、例えばモスアイ構造の場合であればドライエッチング法やナノインプリント法などの加工によって、反射防止構造２２０ａが形成される。反射防止構造２２０ａは、ブラックマトリクス２２０が図示されるような形状にパターニングされる前に形成されてもよいし、ブラックマトリクス２２０がパターニングされた後に形成されてもよい。
【００６２】
次に、各色のカラーフィルタ２４が形成される。カラーフィルタ２４は、例えばフォトリソグラフィを利用したパターニングによって形成されてもよく、またインクジェット法によって形成されてもよい。図示された例では、ブラックマトリクス２２０の厚さがカラーフィルタ２４よりも薄いため、カラーフィルタ２４がブラックマトリクス２２０を覆うように形成されている。
【００６３】
一方で、素子基板２０上に発光素子２１および保護層２２が形成されたものが別途用意され、これらの２つの基板（基板上に形成された部材を含む）は接着層２６を介して接合される。その後、接着層２６を硬化させることによって、有機ＥＬディスプレイ２００が完成する。なお、図示された例では、素子基板２０側に接着層２６が塗布されているが、接着層２６は封止基板２３側に塗布されてもよい。
【００６４】
（４．第３の実施形態）
次に、本開示の第３の実施形態について説明する。なお、電子機器への適用については、上記の第１の実施形態と同様の構成とすることが可能であるため、重複した説明を省略する。
【００６５】
（４−１．表示装置の構成）
図１０は、本開示の第３の実施形態に係る表示装置における表示領域の断面構成の例を示す図である。本実施形態に係る表示装置は、有機ＥＬディスプレイ３００である。
【００６６】
有機ＥＬディスプレイ３００の表示領域では、素子基板２０と封止基板２３とが接着層２６を介して貼り合わされている。素子基板２０上には複数の発光素子２１が配設され、発光素子２１は保護層２２によって覆われている。一方、封止基板２３側にはカラーフィルタ２４（赤色カラーフィルタ２４Ｒ、緑色カラーフィルタ２４Ｇ、および青色カラーフィルタ２４Ｂ）が配設される。
【００６７】
さらに、各色のカラーフィルタ２４の境界部分では、カラーフィルタ２４の素子基板２０側の表面に、ブラックマトリクス２５とともに反射防止膜３１０が設けられる。ブラックマトリクス２５は、上述の通り、金属または樹脂の膜によって形成される遮光部材である。反射防止膜３１０は、ブラックマトリクス２５の素子基板２０側の表面に沿って設けられ、素子基板２０側からの光、すなわち発光素子２１から放出された光がその表面で反射することを防止する。
【００６８】
例えば、反射防止膜３１０は、上記の第１の実施形態に係る反射防止膜１１０と同様に、表面にモスアイ構造が形成された金属、樹脂、または無機材料などの膜であってもよく、反射防止コーティング（ＡＲＣ）であってもよい。本実施形態では、ブラックマトリクス２５の素子基板２０側の表面に沿って設けられた反射防止膜３１０によって、ブラックマトリクス２５の表面付近に到達した発光素子２１からの発光が、そこからさらに反射することが抑制される。従って、有機ＥＬディスプレイ３００では、発光が本来の発光素子２１が対応する画素領域とは別の画素領域に混入してしまうことが防止される。
【００６９】
ここで、上記の第１の実施形態と本実施形態との比較として、第１の実施形態の場合、ブラックマトリクス２５と反射防止膜１１０とが、カラーフィルタ２４と封止基板２３との間に設けられる。そのため、反射防止膜１１０による反射防止の対象になるのは、カラーフィルタ２４を透過した光である。従って、第１の実施形態において、反射防止膜１１０による反射防止の対象波長は、両側の画素領域に配置されたカラーフィルタの透過光の波長に応じて設定されうる。
【００７０】
一方、本実施形態では、ブラックマトリクス２５と反射防止膜３１０とが、カラーフィルタ２４の素子基板２０側の表面に設けられる。そのため、反射防止膜３１０による反射防止の対象になるのは、発光素子２１から放出されて、カラーフィルタ２４に入射する前の光である。従って、本実施形態において、反射防止膜３１０による反射防止の対象波長は、両側の画素領域に配置された発光素子２１の発光波長に応じて設定されうる。
【００７１】
上述のように、発光素子２１は、赤、緑、青など各画素の色で発光する場合もあれば、各画素に共通して白色で発光する場合もある。前者の場合、画素ごとに発光素子２１の発光波長が異なるため、反射防止膜３１０による反射防止の対象波長は、例えば両側の画素領域に配置された発光素子２１の発光波長のうち長い方の波長に応じて設定されうる。後者の場合、各画素での発光素子２１の発光波長が共通であるため、反射防止膜３１０による反射防止の対象波長は、各画素に共通でありうる。従って、本実施形態では、発光素子２１が白色発光である場合、反射防止膜３１０の対象波長を各画素で共通に設定でき、反射防止膜３１０の形成工程が簡略化されるという利点がある。
【００７２】
（４−２．表示装置の製造方法）
図１１は、本開示の第３の実施形態に係る表示装置の製造方法の各工程での表示装置の状態を示す図である。図１１を参照すると、まず封止基板２３上に各色のカラーフィルタ２４が形成される。カラーフィルタ２４は、例えばフォトリソグラフィを利用したパターニングによって形成されてもよく、またインクジェット法によって形成されてもよい。
【００７３】
次に、カラーフィルタ２４上にブラックマトリクス２５と反射防止膜３１０とが形成される。ブラックマトリクス２５および反射防止膜３１０は、例えば、まずブラックマトリクス２５の材料をカラーフィルタ２４または後述する保護層の上に塗布し、その上に反射防止膜１１０の材料を塗布した後、フォトリソグラフィを利用してパターニングすることによって形成されうる。
【００７４】
このとき、ブラックマトリクス２５および反射防止膜３１０の形成の工程によってカラーフィルタ２４へのダメージが懸念される場合には、カラーフィルタ２４の表面に図示しない保護層を形成し、その上にブラックマトリクス２５および反射防止膜３１０を形成してもよい。また、各色のカラーフィルタ２４は、分光特性上、異なる厚さで形成される場合があり、また形成の工程によっても境界部分に段差が生じうる。カラーフィルタ２４の境界部分の段差が大きい場合も、カラーフィルタ２４の表面に図示しない保護層を形成し、その保護層の表面をＣＭＰ（Chemical  Mechanical  Polishing）で研磨するなどして平滑化した上で、ブラックマトリクス２５および反射防止膜３１０を形成してもよい。あるいは、段差のある表面にブラックマトリクス２５の材料を塗布した時点で、その表面をＣＭＰで研磨するなどして平滑化してもよい。
【００７５】
ここで、反射防止膜３１０が表面にモスアイ構造が形成された金属、樹脂、または無機材料などの膜である場合、例えばドライエッチング法やナノインプリント法などによって、反射防止膜３１０の表面にモスアイ構造が形成される。モスアイ構造は、反射防止膜３１０が図示されるような形状にパターニングされる前に形成されてもよいし、反射防止膜３１０がパターニングされた後に形成されてもよい。
【００７６】
一方で、素子基板２０上に発光素子２１および保護層２２が形成されたものが別途用意され、これらの２つの基板（基板上に形成された部材を含む）は接着層２６を介して接合される。その後、接着層２６を硬化させることによって、有機ＥＬディスプレイ３００が完成する。なお、図示された例では、素子基板２０側に接着層２６が塗布されているが、接着層２６は封止基板２３側に塗布されてもよい。
【００７７】
（５．第４の実施形態）
次に、本開示の第４の実施形態について説明する。なお、電子機器への適用については、上記の第１の実施形態と同様の構成とすることが可能であるため、重複した説明を省略する。
【００７８】
（５−１．表示装置の構成）
図１２は、本開示の第４の実施形態に係る表示装置における表示領域の断面構成の例を示す図である。本実施形態に係る表示装置は、有機ＥＬディスプレイ４００である。
【００７９】
有機ＥＬディスプレイ４００の表示領域では、素子基板２０と封止基板２３とが接着層２６を介して貼り合わされている。素子基板２０上には複数の発光素子２１が配設され、発光素子２１は保護層２２によって覆われている。一方、封止基板２３側にはカラーフィルタ２４（赤色カラーフィルタ２４Ｒ、緑色カラーフィルタ２４Ｇ、および青色カラーフィルタ２４Ｂ）が配設される。
【００８０】
さらに、各色のカラーフィルタ２４の境界部分では、カラーフィルタ２４の素子基板２０側の表面に、ブラックマトリクス４２０が設けられる。ブラックマトリクス４２０は、上述した他のブラックマトリクスと同様に、金属または樹脂の膜によって形成される遮光部材である。他のブラックマトリクスとの相違点として、ブラックマトリクス４２０の素子基板２０側の表面には、加工によって反射防止構造４２０ａが形成されている。反射防止構造４２０ａは、例えばモスアイ構造であり、素子基板２０側からの光、すなわち発光素子２１から放出された光が反射することを防止する。つまり、本実施形態では、反射防止構造４２０ａが形成されることによって、ブラックマトリクス４２０が反射防止部材としても機能する。
【００８１】
このように、本実施形態では、ブラックマトリクス４２０の素子基板２０側の表面加工によって形成された反射防止構造４２０ａによって、ブラックマトリクス４２０の表面に到達した発光素子２１からの発光の一部が、そこからさらに反射することが抑制される。従って、有機ＥＬディスプレイ４００では、発光が本来の発光素子２１が対応する画素領域とは別の画素領域に混入してしまうことが防止される。
【００８２】
なお、反射防止構造４２０ａによる反射防止の対象波長については、上記の第３の実施形態における反射防止膜３１０の対象波長と同様に設定されうるため、重複した説明を省略する。
【００８３】
図から明らかなように、本実施形態は、反射防止構造４２０ａがブラックマトリクス４２０の表面の加工によって形成されるいという点では上記の第２の実施形態に共通し、反射防止構造４２０ａがカラーフィルタ２４の素子基板２０側の表面に形成されるという点では上記の第３の実施形態に共通する。従って、例えば上記の第１の実施形態と比較した場合の本実施形態の特徴は、第２の実施形態の特徴と第３の実施形態の特徴とを併せたものでありうる。
【００８４】
（５−２．表示装置の製造方法）
図１３は、本開示の第４の実施形態に係る表示装置の製造方法の各工程での表示装置の状態を示す図である。図１３を参照すると、まず封止基板２３上に各色のカラーフィルタ２４が形成される。カラーフィルタ２４は、例えばフォトリソグラフィを利用したパターニングによって形成されてもよく、またインクジェット法によって形成されてもよい。
【００８５】
次に、カラーフィルタ２４上にブラックマトリクス４２０が形成され、ブラックマトリクス４２０の表面が加工されて反射防止構造４２０ａが形成される。ブラックマトリクス４２０は、例えば、材料をカラーフィルタ２４上に塗布し、フォトリソグラフィを利用してパターニングすることによって形成されうる。ブラックマトリクス４２０の表面には、例えばモスアイ構造の場合であればドライエッチング法やナノインプリント法などの加工によって、反射防止構造４２０ａが形成される。反射防止構造４２０ａは、ブラックマトリクス４２０が図示されるような形状にパターニングされる前に形成されてもよいし、ブラックマトリクス４２０がパターニングされた後に形成されてもよい。
【００８６】
このとき、ブラックマトリクス４２０の形成の工程によってカラーフィルタ２４へのダメージが懸念される場合には、カラーフィルタ２４の表面に図示しない保護層を形成し、その上にブラックマトリクス４２０を形成してもよい。また、各色のカラーフィルタ２４は、分光特性上、異なる厚さで形成される場合があり、また形成の工程によっても境界部分に段差が生じうる。カラーフィルタ２４の境界部分の段差が大きい場合も、カラーフィルタ２４の表面に図示しない保護層を形成し、その保護層の表面をＣＭＰで研磨するなどして平滑化した上で、ブラックマトリクス４２０を形成してもよい。あるいは、段差のある表面にブラックマトリクス４２０の材料を塗布した時点で、その表面をＣＭＰで研磨するなどして平滑化してもよい。
【００８７】
一方で、素子基板２０上に発光素子２１および保護層２２が形成されたものが別途用意され、これらの２つの基板（基板上に形成された部材を含む）は接着層２６を介して接合される。その後、接着層２６を硬化させることによって、有機ＥＬディスプレイ４００が完成する。なお、図示された例では、素子基板２０側に接着層２６が塗布されているが、接着層２６は封止基板２３側に塗布されてもよい。
【００８８】
（６．モスアイ構造について）
次に、本開示の各実施形態において適用可能な、モスアイ構造の製造方法の例について説明する。以下では、ドライエッチング法を用いる製造方法について説明するが、本開示の実施形態において適用されうる製造方法がこれに限定されるものではない。また、以下の説明ではモスアイ構造の材料として樹脂膜を用いているが、本開示の実施形態において用いられる材料がこれに限定されるものではなく、微細加工が可能な任意の材料、例えば二酸化ケイ素や、アルミニウムなどの金属材料にも同様に適用されうる。
【００８９】
（第１の例）
図１４Ａに示すように、樹脂膜９２中の微細粒子（図示せず）をマスクにして微細粒子をエッチングするとともに、微細粒子も徐々にエッチングして、樹脂膜９２に微細突起ダミーパターン９４を形成する。
【００９０】
次に、図１４Ｂに示すように、微細突起ダミーパターン９４が形成された樹脂膜９２とともに被加工体９１表面をエッチバックする。その結果、樹脂膜９２の表面に形成された微細突起ダミーパターン９４の表面形状が被加工体９１表面に転写されて、被加工体９１表面に微細突起パターン９５が形成される。
【００９１】
（第２の例）
図１５Ａに示すように、被加工体９１表面に微細粒子９３を配列する。例えば、微細粒子９３が分散された溶媒（図示せず）を被加工体９１表面に膜状に形成して、被加工体９１表面に微細粒子９３を配列させる。具体的には、塗布法によって、微細粒子９３が分散された溶媒（図示せず）を被加工体９１表面に膜状に塗布した後、溶媒を蒸発させて、被加工体９１表面に微細粒子９３のみを配列させる。
【００９２】
具体的な成膜方法としては、乾燥固化、泳動吸着膜、気−液界面単粒子膜、スピンコート、光結合法、その他の液体薄膜法などが挙げられる。
【００９３】
例えば、被加工体９１として固体撮像装置のパッシベーション膜として利用される窒化シリコン膜を用い、マスクとなる微細粒子９３として酸化シリコン粒子（シリカ粒子）を用いた。溶媒には、水を用い、粒径が概ね９００ｎｍのシリカ粒子の水溶液（濃度は０．１〜９０ｗｔ％）の塗布液を作製した。例えばスピンコーターによって、シリコン基板（図示せず）の最表面に形成された窒化シリコン膜の被加工体９１上に、塗布液を塗布した。シリカ粒子の粒径は、厳密に制御する必要は無い。反射防止したい光の波長から、概ね３００ｎｍより小さく、かつ安定的に加工できるサイズ、すなわち９０ｎｍ程度以上であれば問題ない。また、スピンコーターに限らずノズル噴射型塗布装置にて塗布しても構わない。その後、ベークなどによる乾燥により溶媒を蒸発させて、単粒子層（シリカ粒子が１層配列した状態）９６を得ることができる。
【００９４】
次に、図１５Ｂ〜図１５Ｄに示すように、被加工体９１のエッチング速度が微細粒子９３のエッチング速度よりも速い異方性エッチング加工を行って、被加工体９１の表面に微細突起パターン９５を形成する。異方性エッチングでは、被加工体９１のエッチングと微細粒子９３のエッチングの選択比は一定としている。
【００９５】
具体的には、例えば平行平板型プラズマエッチング装置を用いて、単粒子層９６が形成された被加工体９１を異方性エッチング加工する。この異方性エッチングのエッチングガスには、４フッ化炭素（ＣＦ４）とアルゴン（Ａｒ）と酸素（Ｏ２）を用いる。例えばＣＦ４、Ａｒ、Ｏ２のそれぞれの流量を、９０ｃｍ３／ｍｉｎ、９００ｃｍ３／ｍｉｎ、６ｃｍ３／ｍｉｎに設定する。また、エッチング雰囲気の圧力（チャンバ内圧力）を０．６７Ｐａ、ソースパワーを９０００Ｗ、バイアスパワーを５００Ｗ、基板温度を２０℃に設定する。これらの条件は一例であって、適宜変更することができる。
【００９６】
エッチング条件では、シリカ粒子と窒化シリコン膜のエッチング選択比は３となる。すなわち、単位面積当たり、シリカ粒子が１エッチングされる間に窒化シリコン膜が３の割合でエッチングされる。
【００９７】
図１５Ｂは、上記条件でのエッチングで、微細粒子９３（シリカ粒子）が厚さにして１／２エッチングされた段階を示している。図１５Ｃは、微細粒子９３（シリカ粒子）が厚さにして３／４エッチングされた段階を示している。さらに、図１５Ｄは、微細粒子９３（シリカ粒子）が完全にエッチングされた段階を示している。エッチング工程により、被加工体９１の表面に、横方向に約９００ｎｍ、高さ方向に約３００ｎｍの紡錘形状の微細突起パターン９５を形成することができる。このようにして、被加工体９１表面の全面に形成された微細突起パターン９５の集合体からなるモスアイ構造体９０が形成される。
【００９８】
微細突起パターン９５の高さが高いほど屈折率変化がよりなだらかとなるので、モスアイ構造体としては望ましい。ただしモスアイ構造体９０が厚くなればなるほど光の吸収量も増えるため、微細突起パターン９５の高さは、反射と吸収を勘案して決めればよい。
【００９９】
この例ではアスペクト（横方向に対する高さ方向の比）が３となるようにエッチング選択比を調整したが、素子に要求される性能から微細突起パターン９５の横と高さのサイズを決め、それに応じた微細粒子９３とエッチングの諸条件を決めればよい。
【０１００】
このようにして得られた窒化シリコン膜からなる被加工体９１表面に形成された微細突起パターン９５の上部に、窒化シリコン膜とは屈折率の異なる別の材料を成膜しても、反射が極めて生じにくくなる。もちろん、別の材料を成膜するのではなく、微細突起パターン９５の上部が空気であるとしても、同様に反射が極めて生じにくい。
【０１０１】
なお、用いることのできる微細粒子９３は酸化シリコン粒子（シリカ粒子）に限定されない。無機粒子としては、例えば、酸化物、窒化物、炭化物、硼化物および硫化物等の化合物からなる粒子や金属粒子等を用いることができる。酸化物としては、酸化シリコン（シリカ）、酸化アルミニウム（アルミナ）、酸化ジルコニウム（ジルコニア）、酸化チタン（チタニア）、酸化セリウム（セリア）、酸化亜鉛、酸化スズ等が挙げられる。窒化物としては、窒化シリコン、窒化アルミニウム、窒化ホウ素等が挙げられる。炭化物としては、炭化シリコン、炭化ホウ素、ダイヤモンド、グラファイト、フラーレン類等が挙げられる。ホウ化物としては、ホウ化ジルコニウム（ＺｒＢ２）、ホウ化クロム（ＣｒＢ２）等が挙げられる。金属粒子としては、金、銀、白金、パラジウム、銅、ニッケル、コバルト、鉄等が挙げられる。しかしながら、より好適には汚染の原因となる金属元素を含まない材料からなる微細粒子が望ましい。したがって、シリコン、シリカ、ダイヤモンド、シリコン窒化物、炭化シリコン（ＳｉＣ）が好適である。
【０１０２】
また、有機材料としては、ポリスチレンなどのスチレン系樹脂、ポリメチルメタクリレートなどのアクリル系樹脂、ポリエチレンやポリプロピレン等の配位重合によって得られる重合体、ポリカーボネート、ポリアミド（例えばナイロン６６（商品名）など）、ポリエステル、ポリイミド、ポリフェニレンエーテル、ポリアリーレンスルフィド、ポリエーテルケトン、ポリエーテルエーテルケトン等の縮重合によって得られる重合体、ナイロン６（商品名）やポリカプロラクトン等の開環重合により得られる重合体、顔料等の有機物結晶などが挙げられる。
【０１０３】
微細粒子９３の粒子の形状は、多面体状、球状などを好適に利用できるが、中でも球状のものは、配列制御が容易で最密充填のものが得やすいので好ましい。粒子の大きさは、所望のモスアイ構造に応じて適宜選択できるが、平均粒径は９０ｎｍ以上３００ｎｍ以下が好ましい。微細粒子９３の粒度分布に関して、特別な制限は無いが、単粒子層の形成の容易さの観点からは、シャープな粒度分布のもの、とりわけ単分散のものが、粒度分布が大きなものよりも好ましい。
【０１０４】
被加工体９１には各種の材料を用いることができる。例えば、シリコン基板、単結晶シリコン膜、多結晶シリコン膜、アモルファスシリコン膜、シリコン酸化膜、シリコン窒化膜、シリコン酸化窒化膜、樹脂膜、タングステン膜、アルミニウム膜、カッパー（Ｃｕ）膜、ガラス、水晶、樹脂板、などである。これら被加工体９１に適したエッチング条件に適合するように微細粒子９３の材質を選択し、エッチング選択比が上述したようなモスアイ構造の形成に適するようにエッチング条件を調整すればよい。
【０１０５】
以上で説明した第２の例におけるモスアイ構造体９０の製造方法では、被加工体９１表面に微細粒子９３を配列した状態で、被加工体９１のエッチング速度が微細粒子９３のエッチング速度よりも速い異方性エッチング加工を行う。この結果、微細粒子９３をエッチングマスクにしながら被加工体９１表面をエッチングすることができる。そして、微細粒子９３は被加工体９１よりも遅いエッチング速度でエッチングされるから、微細突起パターン９５は、頂部から底部に向かうに従って、高さ方向の同等な厚さに分割した場合、体積が線形に近い状態で増加する形状に形成される。
【０１０６】
また、微細粒子９３が球形であることから、微細粒子９３がエッチングされながら被加工体９１表面をエッチングすると、被加工体９１表面に紡錘形状の微細突起パターン９５が形成される。したがって、球形もしくは略球形の微細粒子を用いることで、高価なリソグラフィー手段を用いることなく、モスアイ構造に必要な微細な二次元パターンを形成することが可能となる。
【０１０７】
また、微細粒子９３を溶媒中に分散することで、微細粒子９３を均一に分布させることができる。そのため、被加工体９１表面に形成された微細粒子９３が分散された溶媒中の微細粒子９３は、被加工体９１表面に均一な分布で配列される。また、溶媒が例えば０．０１Ｐａ・ｓ程度以上の粘度を有するものであれば、曲面に微細粒子９３を配列させることもできる。
【０１０８】
（第３の例）
図１６Ａに示すように、上記第２の例と同様にして、被加工体９１表面に微細粒子９３を配列する。例えば、微細粒子９３が分散された溶媒（図示せず）を被加工体９１表面に膜状に形成して、被加工体９１表面に微細粒子９３を配列させる。具体的には、塗布法によって、微細粒子９３が分散された溶媒（図示せず）を被加工体９１表面に膜状に塗布した後、溶媒を蒸発させて、被加工体９１表面に微細粒子９３のみを配列させる。
【０１０９】
具体的な成膜方法としては、乾燥固化、泳動吸着膜、気−液界面単粒子膜、スピンコート、光結合法、その他の液体薄膜法などが挙げられる。
【０１１０】
例えば、被加工体９１として固体撮像装置のパッシベーション膜として利用される窒化シリコン膜を用い、マスクとなる微細粒子９３として酸化シリコン粒子（シリカ粒子）を用いた。溶媒には、水を用い、粒径が概ね９００ｎｍのシリカ粒子の水溶液（濃度は０．１〜９０ｗｔ％）の塗布液を作製した。例えばスピンコーターによって、シリコン基板（図示せず）の最表面に形成された窒化シリコン膜の被加工体９１上に、塗布液を塗布した。シリカ粒子の粒径は、厳密に制御する必要は無い。反射防止したい光の波長から、概ね３００ｎｍより小さく、かつ安定的に加工できるサイズ、すなわち９０ｎｍ程度以上であれば問題ない。また、スピンコーターに限らずノズル噴射型塗布装置にて塗布しても構わない。その後、ベークなどによる乾燥により溶媒を蒸発させて、単粒子層（シリカ粒子が１層配列した状態）９６を得ることができる。
【０１１１】
次に、図１６Ｂ〜図１６Ｄに示すように、被加工体９１のエッチング速度が微細粒子９３のエッチング速度よりも速い異方性エッチング加工を行って、被加工体９１の表面に微細突起パターン９５を形成する。異方性エッチングでは、エッチング中に被加工体９１と微細粒子９３のエッチング選択比の関係を可変として、被加工体９１のエッチング速度を微細粒子９３のエッチング速度に対してより速くしていく。これによって、微細突起パターン９５の高さ方向の体積変化が線形に近い状態となる。
【０１１２】
具体的には、例えば平行平板型プラズマエッチング装置を用いて、単粒子層９６が形成された被加工体９１を異方性エッチング加工する。この異方性エッチングのエッチングガスには、４フッ化炭素（ＣＦ４）とアルゴン（Ａｒ）と酸素（Ｏ２）を用いる。例えばＣＦ４、Ａｒ、Ｏ２のそれぞれの流量を、最初は４ｃｍ３／ｍｉｎ、９００ｃｍ３／ｍｉｎ、６ｃｍ３／ｍｉｎに設定する。また、エッチング雰囲気の圧力（チャンバ内圧力）を０．６７Ｐａ、ソースパワーを９０００Ｗ、バイアスパワーを５００Ｗ、基板温度を２０℃に設定する。これらの条件は一例であって、適宜変更することができる。
【０１１３】
図１６Ｂは、条件でのエッチングで、微細粒子９３（シリカ粒子）が厚さにして１／２エッチングされた段階を示している。
【０１１４】
次に、微細粒子９３（シリカ粒子）が７０％エッチングされるまで、酸素（Ｏ２）流量を６ｃｍ３／ｍｉｎとしてエッチング選択比を３とする。図１６Ｃは微細粒子９３（シリカ粒子）が厚さにして７０％エッチングされた段階を示している。
【０１１５】
次に、微細粒子９３（シリカ粒子）が厚さにして９０％エッチングされるまで、酸素（Ｏ２）流量を８ｃｍ３／ｍｉｎとしてエッチング選択比を４とする。さらに、微細粒子９３（シリカ粒子）が完全にエッチングされるまで酸素（Ｏ２）流量を９０ｃｍ３／ｍｉｎとしてエッチング選択比を５とする。図１６Ｄは、微細粒子９３（シリカ粒子）が完全にエッチングされた段階を示している。
【０１１６】
これらの工程により、被加工体９１の表面に、横方向に約９００ｎｍ、高さ方向に約３００ｎｍの紡錘形状の微細突起パターン９５を形成することができる。このようにして、被加工体９１表面の全面に形成された微細突起パターン９５の集合体からなるモスアイ構造体９０が形成される。
【０１１７】
微細突起パターン９５の高さが高いほど屈折率変化がよりなだらかとなるので、モスアイ構造としては望ましい。ただしモスアイ構造が厚くなればなるほど光の吸収量も増えるため、微細突起パターン９５の高さは、反射と吸収を勘案して決めればよい。
【０１１８】
上記の例では、酸素（Ｏ２）流量を変化させることで、微細粒子９３（シリカ粒子）と被加工体９１（窒化シリコン膜）のエッチング選択比を変化させたが、チャンバー圧力を変化させることで、同様にエッチング選択比を制御することが可能である。微細粒子９３（シリカ粒子）はチャンバー圧力が変化してもあまりエッチング速度は変化しないが、窒化シリコン膜のエッチング速度は変化する。例えばチャンバー圧力を０．２７Ｐａから９３．３Ｐａに変化させた場合、窒化シリコン膜のエッチング速度は３倍程度にまで速くなる。したがって、当初のエッチング選択比を２（単位面積あたり、微細粒子９３（シリカ粒子）が１エッチングされる間に窒化シリコン膜が２エッチングされる）となるようにエッチング条件を設定する。そして、上述のように最終的にエッチング選択比が５となるようにチャンバー圧力を上げることによっても、同様に好適なモスアイ構造が形成できる。
【０１１９】
以上で説明した第３の例におけるモスアイ構造体９０の製造方法では、被加工体９１表面に微細粒子９３を配列した状態で、被加工体９１のエッチング速度が微細粒子９３のエッチング速度よりも速い異方性エッチング加工を行う。この結果、微細粒子９３をエッチングマスクにしながら被加工体９１表面をエッチングすることができる。しかも、異方性エッチングでは、エッチング中に被加工体９１と微細粒子９３のエッチング選択比の関係を可変として、被加工体９１のエッチング速度を微細粒子９３のエッチング速度に対してより速くしている。これによって、微細突起パターン９５の高さ方向の体積変化が線形に近い状態となる。したがって、モスアイ構造体９０における微細突起パターン９５の高さ方向に向かって、屈折率が線形に変化する。すなわち、微細突起パターン９５の基部から頂部に向かって、屈折率が線形に減少するようになっている。
【０１２０】
また、微細粒子９３が球形であることも、微細突起パターン９５の高さ方向の体積変化が線形に近い状態となりやすくしている。つまり、微細粒子９３がエッチングされながら小さくなることで、被加工体９１表面が紡錘形状にエッチングされて、微細突起パターン９５が形成されるからである。例えば、微細粒子９３が平板状であると、エッチングが進行しても、微細粒子９３の膜厚は薄くなるが、その大きさはほとんど変化しないため、被加工体９１は微細粒子９３の平面形状を転写した柱状に形成されることになり、紡錘形状には形成されない。
【０１２１】
また、微細粒子９３を溶媒中に分散することで、微細粒子９３を均一に分布させることができる。そのため、被加工体９１表面に形成された微細粒子９３が分散された溶媒中の微細粒子９３は、被加工体９１表面に均一な分布で配列される。また、球形もしくは略球形の微細粒子を用いることで、高価なリソグラフィー手段を用いることなく、モスアイ構造に必要な微細な二次元パターンを形成することが可能となる。
【０１２２】
以上で説明した第３の例のように、エッチングの進行とともにエッチング選択比が増加するようにエッチング条件を定める方法を、上記の第１の例の微細突起ダミーパターン１４を形成するエッチングに適用することもできる。この場合、微細突起ダミーパターン１４を紡錘形状に形成することが可能になる。
【０１２３】
（７．補足）
上記の実施形態の説明では、表示装置が有機ＥＬディスプレイであるものについて例として説明したが、本開示の実施形態はかかる例には限定されない。発光素子を有する表示装置であれば、例えば無機ＥＬディスプレイなど、各種の表示装置に本開示の実施形態が適用可能である。
【０１２４】
以上、添付図面を参照しながら本開示の好適な実施形態について詳細に説明したが、本開示の技術的範囲はかかる例に限定されない。本開示の技術分野における通常の知識を有する者であれば、特許請求の範囲に記載された技術的思想の範疇内において、各種の変更例または修正例に想到し得ることは明らかであり、これらについても、当然に本開示の技術的範囲に属するものと了解される。
【０１２５】
なお、以下のような構成も本開示の技術的範囲に属する。
（１）第１の基板上に配設された複数の発光素子と、
前記各発光素子に対応する画素領域の境界部分で、前記第１の基板に対向する第２の基板側に配置され、前記第１の基板側からの光が反射することを防止する反射防止部材と
を備える表示装置。
（２）前記第２の基板上で前記画素領域に配設されるカラーフィルタをさらに備え、
前記前記反射防止部材は、前記カラーフィルタと前記第２の基板の表面との間に設けられる、前記（１）に記載の表示装置。
（３）前記反射防止部材の反射防止対象波長は、該反射防止部材の両側の画素領域に配置される前記カラーフィルタの透過光の波長に応じて設定される、前記（２）に記載の表示装置。
（４）前記第２の基板上で前記画素領域に配設されるカラーフィルタをさらに備え、
前記前記反射防止部材は、前記カラーフィルタの前記第１の基板側の表面に設けられる、前記（１）に記載の表示装置。
（５）前記反射防止部材の反射防止対象波長は、該反射防止部材の両側の画素領域に対応する前記発光素子の発光波長に応じて設定される、前記（４）に記載の表示装置。
（６）前記画素領域の境界部分に配置されるブラックマトリクスをさらに備え、
前記反射防止部材は、前記ブラックマトリクスの前記第１の基板側の表面に沿って設けられる、前記（１）〜（５）のいずれか１項に記載の表示装置。
（７）前記反射防止部材は反射防止コーティングである、前記（６）に記載の表示装置。
（８）前記画素領域の境界部分に配置され、前記第１の基板側の表面が加工されることによって前記反射防止部材としても機能するブラックマトリクスを備える、前記（１）〜（５）のいずれか１項に記載の表示装置。
（９）前記反射防止部材の前記第１の基板側の表面にはモスアイ構造が形成される、前記（１）〜（６），（８）のいずれか１項に記載の表示装置。
（１０）第１の基板上に配設される複数の発光素子のそれぞれに対応する画素領域の境界部分で前記第１の基板側からの光が反射することを防止する反射防止部材を、前記第１の基板に対向する第２の基板側に配置する工程と、
前記第２の基板と、前記複数の発光素子が配設された前記第１の基板とを接合する工程と
を含む、表示装置の製造方法。
（１１）前記第２の基板上で前記画素領域にカラーフィルタを配設する工程をさらに含み、
前記反射防止部材を配置する工程は、前記カラーフィルタを配設する工程よりも前に実行される、前記（１０）に記載の表示装置の製造方法。
（１２）前記第２の基板上で前記画素領域にカラーフィルタを配設する工程をさらに含み、
前記反射防止部材を配置する工程は、前記カラーフィルタを配設する工程よりも後に実行される、前記（１０）に記載の表示装置の製造方法。
（１３）前記画素領域の境界部分にブラックマトリクスを配置する工程をさらに含み、
前記反射防止部材は、前記ブラックマトリクスの前記第１の基板側の表面に沿って配置される、前記（１０）〜（１２）のいずれか１項に記載の表示装置の製造方法。
（１４）前記反射防止部材を配置する工程は、
前記画素領域の境界部分にブラックマトリクスを配置する工程と、
前記ブラックマトリクスの前記第１の基板側の表面を加工して反射防止構造を形成する工程と
を含む、前記（１０）〜（１２）のいずれか１項に記載の表示装置の製造方法。
（１５）前記反射防止部材の前記第１の基板側の表面にモスアイ構造を形成する工程をさらに含む、前記（１０）に記載の表示装置の製造方法。
（１６）前記モスアイ構造を形成する工程は、
微細粒子が分散された樹脂膜を前記反射防止部材の表面に形成する第１工程と、
前記樹脂膜中の前記微細粒子をマスクにして前記樹脂膜をエッチングするとともに、前記微細粒子も徐々にエッチングして、前記樹脂膜に微細突起ダミーパターンを形成する第２工程と、
前記微細突起ダミーパターンが形成された前記樹脂膜とともに前記反射防止部材の表面をエッチバックして、前記樹脂膜の表面に形成された前記微細突起ダミーパターンの表面形状を前記反射防止部材の表面に転写し、前記反射防止部材の表面に微細突起パターンを形成する第３工程と
を含む、前記（１５）に記載の表示装置の製造方法。
（１７）前記モスアイ構造を形成する工程は、
前記反射防止部材の表面に微細粒子を配列する第１工程と、
前記反射防止部材のエッチング速度が前記微細粒子のエッチング速度よりも速い異方性エッチング加工を行って、前記反射防止部材の表面に微細突起パターンを形成する第２工程と
を含む、前記（１５）に記載の表示装置の製造方法。
（１８）第１の基板上に配設された複数の発光素子と、
前記各発光素子に対応する画素領域の境界部分で、前記第１の基板に対向する第２の基板側に配置され、前記第１の基板側からの光が反射することを防止する反射防止部材と
を含む表示装置
を備える電子機器。
【符号の説明】
【０１２６】
２０    素子基板
２１    発光素子
２２    保護層
２３，５３０    封止基板
２４    カラーフィルタ
２５，２２０，４２０    ブラックマトリクス
２６    接着層
１００，２００，３００，４００，５５０    有機ＥＬディスプレイ
１１０，３１０    反射防止膜
２２０ａ，４２０ａ，５３０ａ    反射防止構造
１０００    電子機器
【図１】
2014153425.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４Ａ】
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【図１４Ｂ】
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【図１５Ａ】
2014153425.tif 000018
【図１５Ｂ】
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【図１５Ｃ】
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【図１５Ｄ】
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【図１６Ａ】
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【図１６Ｂ】
2014153425.tif 000023
【図１６Ｃ】
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【図１６Ｄ】
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