(57)【要約】【課題】ガス吹出口とランプと被照射面との間の空間に形成される渦気流を遮ることにより、当該渦気流により舞い上がる粉体がランプに付着することを防ぐ。【解決手段】被照射面Ｗａに向けて光を照射するランプ４と、ランプ４の側方に配置されてランプ４の側面４１ｃ、４１ｄにガスを吹き出すガス吹出口５１ｘを有するガス供給部５と、ガス吹出口５１ｘ及びランプ４の間においてガス吹出口５１ｘよりも被照射面Ｗａ側に設けられた遮蔽体６とを備える。【選択図】図５
2014193450.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被照射面に向けて光を照射するランプと、
前記ランプと前記被照射面との対向方向に直交する側方に配置され、前記ランプの側面にガスを吹き出すガス吹出口を有するガス供給部と、
前記ガス吹出口及び前記ランプの間に配置され、前記ガス吹出口と前記ランプと前記被照射面との間の空間に形成される渦気流を遮蔽する遮蔽板とを備える光照射装置。
【請求項２】
前記ランプが、直管状をなすものであり、
前記ガス吹出口が前記ランプの側方において、ランプ長手方向に沿って複数設けられており、
前記遮蔽板が、前記複数のガス吹出口それぞれに対応して、前記ランプ長手方向に沿って設けられている請求項１記載の光照射装置。
【請求項３】
前記ランプが、一方向に長い扁平形状で且つ短辺方向の端部が滑らかな湾曲形状を有するものであり、前記ガス吹出口が、前記ランプの短辺方向の端部に向けて前記ガスを吹き出すように、前記ランプの両側に複数並べて配置されている請求項１又は２記載の光照射装置。
【請求項４】
前記ランプに対して前記被照射面とは反対側において前記ランプの周囲空間を覆うカバー体を備え、前記遮蔽板が、前記カバー体に設けられていること請求項１乃至３の何れかに記載の光照射装置。
【請求項５】
前記遮蔽板が、前記被照射面と平行な方向に延びている請求項１乃至４の何れかに記載の光照射装置。
【請求項６】
前記遮蔽板が、前記ランプの側面方向に向かって照射面側に傾いて延びている請求項１乃至４の何れかに記載の光照射装置。
【請求項７】
前記遮蔽板が、前記被照射面側の表面に凹凸を有する請求項１乃至４の何れかに記載の光照射装置。
【請求項８】
前記ランプが、紫外線を照射する紫外線ランプである請求項１乃至７の何れかに記載の光照射装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えば紫外線照射装置などの光照射装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、例えば紫外線照射装置は、例えば１７２ｎｍ等の紫外線を処理対象物に照射して、当該処理対象物を洗浄するために用いられている。このような紫外線は、雰囲気中に酸素が存在すると、その酸素に吸収されて著しく減衰する。このため、特許文献１に示すように、紫外線ランプと処理対象物との間の空間に窒素ガス等の不活性ガスを供給して、紫外線の減衰を抑制している。
【０００３】
そして、紫外線ランプと処理対象物との間の空間への不活性ガスの供給方法としては、紫外線ランプとその紫外線ランプの下方に位置する処理対象物に対して、紫外線ランプの上方側に配置されたガス吹出口から不活性ガスをダウンフローで供給する手法等が考えられている。
【０００４】
ところが、ダウンフローで不活性ガスを供給する方法では、いわゆる白粉と称される粉状物質が紫外線ランプの表面に付着してしまうことがある。この白粉は、処理対象物から昇華した紫外線照射装置を設置した雰囲気中に存在するＳｉ系の浮遊物質が紫外線照射装置内に侵入し、紫外線ランプから放射された紫外線と反応して酸化物となったものと考えられている。
【０００５】
具体的には、ダウンフローで噴出する構成では、ガス吹出口から噴出されたガスの流れに、紫外線ランプの上方に向かって巻き上げられる垂直方向の渦状の乱流が発生する。そして、前記粉状物質が、この渦状の乱流によって、紫外線ランプの上方まで巻き上げられ、その巻き上げられた粉状物質が、更にガスのダウンフローに乗って紫外線ランプに吹き付けられてしまう。このようにして、紫外線ランプに上述の白粉が付着してしまう。このように紫外線ランプの表面にこの白粉が付着すると、その白粉が紫外線を吸収することによって紫外線ランプからの紫外線放射光量が低下する他、処理対象物不良の一因であるパーティクルになる等の問題がある。
【０００６】
このため、特許文献２に示すように、ランプの側方にガス吹出口を配置して、当該ガス吹出口からランプの側面にガスを供給することによって、従来のダウンフローでガスを供給することで生じていた渦状の乱流の発生を抑制し、粉状物質が紫外線ランプの上方に巻き上げられて、紫外線ランプに吹き付けられてしまうことを防止している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２００５−１９７２９１号公報
【特許文献２】国際公開第２０１０／３２８５２号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかしながら、本願発明者は、上記のようにガス吹出口をランプの側方に配置した構成とした場合でも、図７に示すように、ガス吹出口と紫外線ランプと処理対象物の被照射面との間の空間に渦気流が生じることを見出した。そして、本願発明者は、紫外線が照射されて被照射面で発生する昇華物等の粉体が、前記渦気流に乗って舞い上がり、ランプの側面に吹き付けられて、粉体がランプの側面に付着し、紫外線ランプの放電管の歪みが増加して、破損等の原因となることを突き止めた。
【０００９】
そこで本発明は、上記問題点を解決すべくなされたものであって、ガス吹出口とランプと被照射面との間の空間に形成される渦気流を遮ることにより、当該渦気流により舞い上がる粉体がランプに付着することを防ぐことをその主たる課題とするものである。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
すなわち本発明に係る光照射装置は、被照射面に向けて光を照射するランプと、前記ランプと前記被照射面との対向方向に直交する側方に配置され、前記ランプの側面にガスを吹き出すガス吹出口を有するガス供給部と、前記ガス吹出口及び前記ランプの間に配置され、前記ガス吹出口と前記ランプと前記被照射面との間の空間に形成される渦気流を遮蔽する遮蔽板とを備えることを特徴とする。
【００１１】
このような光照射装置であれば、前記粉体がランプに付着することを抑制でき、ランプの汚れ、ランプの放電管に付着して生じる歪みや破損を抑制できる。
また、ランプの側方にガス吹出口を配置して、ランプの側面にガスを直接吹き付ける構成としているので、比較的少ないガスの流量でランプを的確に冷却してランプの温度上昇に伴う光強度の低下を抑制でき、ランニングコストを抑えることができる。ここで、ガスをランプに直接吹き付ける構成としては、前記ガスがランプ表面に沿った層状の流れを形成するようにランプ表面にガスを吹き付けることであると好ましい。これにより、ランプ表面への白粉の付着を十分に抑制できるからである。
【００１２】
前記ランプが、直管状をなすものであり、前記ガス吹出口が、前記ランプの側方において、ランプ長手方向に沿って複数設けられていることが望ましい。
これならば、ランプ長手方向において均一な冷却効果及び粉体の付着抑制効果を得ることができる。
【００１３】
この構成において、前記遮蔽板が、前記複数のガス吹出口それぞれに対応して、前記ランプ長手方向に沿って設けられていることが望ましい。つまり、複数のガス吹出口それぞれに対応して遮蔽板を設けることで、全てのガス吹出口とランプと被照射面との間の空間に形成される渦気流を遮ることができる。特に、前記複数のガス吹出口が、ランプの両側の側方にそれぞれ配置されたものの場合には、ランプの両側にそれぞれ前記遮蔽板を設けることが望ましい。
【００１４】
ここで、ランプの一方の側方において、遮蔽板が複数のガス吹出口それぞれに対応して設けられる構成としては、（１）複数の遮蔽板を有しており、１つの遮蔽板が１つのガス吹出口に対応して設けられる構成、（２）複数の遮蔽板を有しており、１つの遮蔽板が連続して並ぶ２つ以上のガス吹出口に対応して設けられる構成、（３）１つの遮蔽板を有しており、当該１つの遮蔽板が複数のガス吹出口全てに対応して設けられる構成が考えられる。なお、前記（３）のように、１つの遮蔽板を設ける構成であれば、ランプ長手方向の各部における気流を略同一にすることができ、余計な乱流の発生を防ぐことができる。
【００１５】
前記ランプが、一方向に長い扁平形状で且つ短辺方向の端部が滑らかな湾曲形状を有するものであり、前記ガス吹出口が、前記ランプの短辺方向の端部に向けて前記ガスを吹き出すように、前記ランプの両側に複数並べて配置されていることが望ましい。
これならば、ランプの短辺方向の端部に向けてガス吹出口から吹き出されたガスは、その端部の滑らかな湾曲形状に沿って流れて扁平面に緩やかに拡がり、層状の流れを形成する。これにより、ガスの流れがランプの扁平面で緩やかに拡がるので、ガスの流れによる渦の発生が更に抑制される。
【００１６】
前記ランプに対して前記被照射面とは反対側において前記ランプの周囲空間を覆うカバー体を備え、前記遮蔽板が、前記カバー体に設けられていることが望ましい。
このようにランプの周囲空間をカバー体により覆うことで、ガスにより置換すべきランプの周囲空間の容積を小さくすることができ、ガスのパージ効率を高めることができる。また、カバー体に遮蔽板を設けることで、ランプ周囲の装置構成を簡単にすることができるだけでなく、カバー体とランプとを位置決めするだけでランプと遮蔽板とを位置決めできるようになる。
【００１７】
また、カバー体及び遮蔽板を一体成形したものが望ましい。具体的には、前記カバー体における被照射面側の開口側壁部をランプ側に折り曲げることにより、前記遮蔽板を形成することが考えられる。
【００１８】
前記遮蔽板は、具体的には、前記被照射面と平行な方向に延びている、前記ランプの側面方向に向かって被照射面側に傾いて延びている、又は前記被照射面側の表面に凹凸を有する形状とすることがより好ましい。
このような形状とすることでより確実に上述した効果を得ることができる。
【発明の効果】
【００１９】
このように構成した本発明によれば、ガス吹出口及びランプの間において、ガス吹出口よりも被照射面側に遮蔽体を設けているので、ガス吹出口とランプと被照射面との間の空間に形成される渦気流を遮ることができる。これにより、渦気流により粉体が舞い上がり、当該粉体がランプに付着することを防ぐことができ、ランプの汚れや破損を防ぐことができる。
【図面の簡単な説明】
【００２０】
【図１】本実施形態の紫外線照射装置を用いた洗浄装置の構成を示す模式図。
【図２】同実施形態の要部構成を示す断面図。
【図３】同実施形態の要部構成を示す斜視図。
【図４】同実施形態の要部構成を示す平面図。
【図５】同実施形態の不活性ガスの流れを模式的に示す拡大断面図。
【図６】変形実施形態の紫外線照射装置の要部構成を示す模式図。
【図７】従来の紫外線照射装置の渦気流を示す模式図。
【発明を実施するための形態】
【００２１】
以下に本発明に係る紫外線照射装置を、例えばガラス基板用の洗浄装置に適用した場合の一実施形態について図面を参照して説明する。
【００２２】
本実施形態の洗浄装置１００は、洗浄処理の処理対象物であるガラス基板Ｗに対して２００ｎｍ以下の真空紫外線（具体的には波長１７２ｎｍの紫外線）を照射して、その紫外線及びその紫外線によって発生した活性酸素の洗浄作用により、ガラス基板Ｗの表面Ｗａ（以下、被照射面Ｗａ）の有機汚染物を分解除去する装置である。
【００２３】
具体的に洗浄装置１００は、図１に示すように、搬送されるガラス基板Ｗが導入される導入口２ａ及び当該ガラス基板Ｗが搬出される搬出口２ｂを有するケーシング２と、当該ケーシング２内に設けられて、ガラス基板Ｗを搬送する搬送ローラ等の搬送機構３と、前記ケーシング２内に設けられて、前記搬送機構３により搬送されるガラス基板Ｗに対して紫外線を照射する複数の直管状の紫外線ランプ４とを備える。
【００２４】
本実施形態の洗浄装置１００は、紫外線ランプ４の被照射面Ｗａ側とガラス基板Ｗとの間にガラス窓等が配されることなく、気体のみを介する装置構成であり、紫外線ランプ４の配置空間とガラス基板Ｗ等の搬送空間とが連続した構成である。
【００２５】
この洗浄装置１００では、搬送方向上流側（図１において右側）の導入口２ａからガラス基板Ｗが搬入されると、当該ガラス基板Ｗを搬送機構３により搬送方向下流側へ設定速度で搬送し、紫外線ランプ４がガラス基板Ｗに対して紫外線を照射する。紫外線ランプ４が照射する１７２ｎｍ等の真空紫外線は空気中の酸素による吸収が大きいため、ケーシング２内におけるガラス基板Ｗの搬送経路及び付近は、外部から供給される清浄な不活性ガスにて置換されており、前記搬送経路を通過した不活性ガスはケーシング２下部の排気口２ｃ等から排出される。
【００２６】
なお、本実施形態では、上記の不活性ガスとして窒素ガスを使用しているが、他の不活性ガスを使用しても良い。又、目的に応じて紫外線を照射して実質的に処理を行える程度の少量の空気や酸素等を不活性ガスに混入させたガス（プロセスガス）を使用しても良い。さらに、二種類以上のガスを混合したものを使用しても良い。
【００２７】
複数の紫外線ランプ４は、搬送機構３により搬送されるガラス基板Ｗに対向して、搬送方向（図１等において左右方向）に沿って例えば等間隔となるように並列に配置されている。また、各紫外線ランプ４は、その長手方向が搬送機構３による搬送方向に直交する搬送横幅方向と一致するように配置されている。なお、ガラス基板Ｗと紫外線ランプ４との対向方向が上下方向と一致する。
【００２８】
各紫外線ランプ４は、図２に示すように、例えば波長１７２ｎｍの真空紫外線を射出するエキシマランプである。具体的にこの紫外線ランプ４は、例えばキセノンガス等の放電用ガスが封入された放電管４１と、当該放電管４１の外側周面に形成された一対の電極（不図示）とを備えている。
【００２９】
放電管４１は、合成石英ガラスからなり、一方向に長い扁平形状をなすものであり、その長手方向両端部が閉塞された構造である。また、放電管４１は、短辺方向（搬送方向）の端部が滑らかな湾曲形状を有するものである。具体的に放電管４１は、互いに対向する扁平面（上扁平面４１ａ及び下扁平面４１ｂ）と、当該扁平面４１ａ、４１ｂの長手辺部同士を繋げる湾曲側面４１ｃ、４１ｄとを有する。この湾曲側面４１ｃ、４１ｄが、前記短辺方向の端部となるものであり、外方に凸に丸めた滑らかな湾曲形状をなしている。
【００３０】
一対の電極は、前記放電管４１の対をなす扁平面４１ａ、４１ｂに形成されている。放電管４１の上面側の扁平面４１ａに形成された電極は、金属膜が前記扁平面４１ａに一様に形成されたベタ電極であり、放電管４１の下面側の扁平面４１ｂに形成された電極は、金属膜が前記扁平面４１ｂにメッシュ状に形成されたメッシュ電極である。この上下一対の電極に交流高電圧が印加されると、放電管４１の内部空間でいわゆる誘電体バリア放電が発生して放電管４１内の封入ガス等に作用し、封入ガスがキセノンの場合、上記の１７２ｎｍ帯の紫外線を発生する。発生した紫外線は下面側のメッシュ電極の隙間を通過して外部（被照射面Ｗａ）に放射される。
【００３１】
このように構成された紫外線ランプ４は、紫外線を放射する扁平面４１ｂが搬送されるガラス基板Ｗの被照射面Ｗａと略平行であり、且つ、扁平面４１ｂの長手方向が搬送横幅方向に一致するように設置されている。これにより、搬送されるガラス基板Ｗに対して均等な強度の紫外線を比較的に長い距離に亘って照射することができる。
【００３２】
そして、本実施形態の洗浄装置１００は、図２及び図３に示すように、紫外線ランプ４の近傍、特に紫外線ランプ４及び被照射面Ｗａの間の空間に窒素ガスを供給するガス供給部５を有している。
【００３３】
このガス供給部５は、窒素ガスを紫外線ランプ４に吹き付けるためのノズル配管５１と、装置外部に設けられた窒素ガス源（不図示）から窒素ガスを前記ノズル配管５１に供給する供給配管５２とを備えている。なお、供給配管５２は、前記ノズル配管５１の上壁部に接続されており、１つのノズル配管５１に対して複数の供給配管５２が接続されている。
【００３４】
ノズル配管５１は、前記紫外線ランプ４の湾曲側面４１ｃ、４１ｄに対向して当該紫外線ランプ４と略平行に設けられている。つまり、ノズル配管５１は、紫外線ランプ４の湾曲側面４１ｃ、４１ｄに対して搬送方向上流側又は搬送方向下流側において対向して設けられるとともに、搬送横幅方向に沿って設けられている。
【００３５】
具体的にノズル配管５１は、図４に示すように、紫外線ランプ４の長手方向において、紫外線ランプ４と略同じ長さを有している。このノズル配管５１における前記紫外線ランプ４に対向する側壁には、図２及び図３に示すように、前記紫外線ランプ４の長手方向に沿って、不活性ガスを前記紫外線ランプ４の湾曲側面４１ｃ、４１ｄに向けて吹き付けるための複数のガス吹出口５１ｘが形成されている。
【００３６】
このガス吹出口５１ｘは、紫外線ランプ４の湾曲側面４１ｃ、４１ｄに対して搬送方向上流側又は搬送方向下流側（つまり、水平方向）に対向して形成されている。また、ガス吹出口５１ｘの高さ位置は、前記紫外線ランプ４の上下方向中央位置と一致している。このような構成により、ガス吹出口５１ｘから吹き出される窒素ガスは、水平方向に沿って湾曲側面４１ｃ、４１ｄの頂部に向かって吹き出される。
【００３７】
本実施形態では、互いに隣り合う２本の紫外線ランプ４に対して１本のノズル配管５１が設けられているため、ノズル配管５１の左右側壁それぞれに、紫外線ランプ４に不活性ガスを吹き付けるための複数のガス吹出口５１ｘが形成されている。また、１本の紫外線ランプ４に対して、搬送方向上流側及び搬送方向下流側の両側方に、複数のガス吹出口５１ｘが配置されている。なお、複数のガス吹出口５１ｘは、ノズル配管５１の側壁において、例えば等間隔に形成されている。また、図４に示すように、搬送方向上流側と搬送方向下流側とで等間隔で並ぶガス吹出口５１ｘの並びが互いに１／２間隔ずれて千鳥配置状に位置ずれしている。但し、ガス吹出口５１ｘの並びの端部のみは、上流側と下流側とが対向する状態で配置されている。
【００３８】
そして、本実施形態の洗浄装置１００は、図２〜図５に示すように、ガス吹出口５１ｘと紫外線ランプ４と被照射面Ｗａとの間に形成される空間に生じる渦気流を遮るための遮蔽板６を備えている。
【００３９】
この遮蔽板６は、前記ガス吹出口５１ｘ及び前記紫外線ランプ４の間に配置され、前記ガス吹出口５１ｘと前記紫外線ランプ４と前記被照射面Ｗａとの間の空間に形成される渦気流を遮蔽する。
具体的には、ガス吹出口５１ｘ及び紫外線ランプ４の間において、ガス吹出口５１ｘよりも被照射面Ｗａ側に設けられている。具体的に遮蔽板６は、平面視において、ガス吹出口５１ｘ及び紫外線ランプ４の間に設けられており（図４参照）、側面視において、ガス吹出口５１ｘの高さ位置よりも下側であって被照射面Ｗａよりも上側に設けられている（図２及び図５参照）。また、遮蔽板６は、搬送方向に沿って延びており、遮蔽板６のガス吹出口５１ｘからの延出位置は、紫外線ランプ４の下扁平面４１ｂから射出される紫外線を遮らない程度に、紫外線ランプ４の湾曲側面４１ｃ、４１ｄ側まで延びていることが好ましい。
【００４０】
さらに、本実施形態の遮蔽板６は、ノズル配管５１の側壁に形成された複数のガス吹出口５１ｘ全体と被照射面Ｗａとを仕切るように、複数のガス吹出口の配列方向（つまり紫外線ランプ４の長手方向）に沿って設けられている。本実施形態では、紫外線ランプ４の左右両側に複数のガス吹出口５１ｘが配置されているため、遮蔽板６も紫外線ランプ４の左右両側にそれぞれ配置されている。
【００４１】
また、前記遮蔽板６は、特に図２及び図３に示すように、前記紫外線ランプ４の周囲空間を覆うカバー体７に設けられている。このカバー体７により、窒素ガスにより置換すべき紫外線ランプ４の周囲空間の容積を小さくするとともに、窒素ガスのパージ効率を高めることができる。
【００４２】
前記遮蔽板６は、具体的には、前記被照射面Ｗａと平行な方向に延びている、前記紫外線ランプ４の側面方向に向かって被照射面Ｗａ側に傾いて延びている、又は前記被照射面Ｗａ側の表面に凹凸を有する形状とすることがより好ましい。このような形状とすることでより確実に上述した効果を得ることができる。
【００４３】
このカバー体７は、紫外線ランプ４に対して被照射面Ｗａとは反対側である上側に設けられている。具体的にカバー体７は、紫外線ランプ４の長手方向から見て概略コの字状の断面を有しており、コの字の開放側を下方に向けた状態で紫外線ランプ４近傍を上側から覆っている。また、カバー体７は、前記紫外線ランプ４の長手方向全体を覆うように構成されており、本実施形態では、紫外線ランプ４の長手方向において、紫外線ランプ４と略同じ長さを有している。
【００４４】
カバー体７の下端位置は、ノズル配管５１の下端位置よりも下方に位置しており、この下端位置に前記遮蔽板６が形成されている。具体的には、カバー体７における被照射面側の開口側壁部７１の下端部を紫外線ランプ４側（内側）に折り曲げることよって、紫外線ランプ４の片側に１つの平板状の遮蔽板６が形成されている。このように遮蔽板６を形成しているので、遮蔽板６が紫外線ランプ４の長手方向において、紫外線ランプ４と略同じ長さを有している。なお、本実施形態では、紫外線ランプ４の左右両側に複数のガス吹出口５１ｘが配置されているため、カバー体７における両側の開口側壁部７１それぞれが折り曲げられて遮蔽板６が形成されている。このようにカバー体７に遮蔽板６を設けることで、紫外線ランプ４周囲の装置構成を簡単にすることができるだけでなく、カバー体７と紫外線ランプ４とを位置決めするだけで紫外線ランプ４と遮蔽板６とを位置決めできるようになる。
【００４５】
また、カバー体７の開口側壁部７１は、前記ノズル配管５１の側壁とはわずかな隙間を開けて近接配置されており、開口側壁部７１には、ノズル配管５１のガス吹出口５１ｘを遮らないように、ガス吹出口５１ｘよりも大きい開口７１ｘが、各ガス吹出口５１ｘと対応して形成されている。なお、カバー体７に上方を覆われる紫外線ランプ４は、両側の開口側壁部７１に対して均等の距離となるように中央位置に、図示しない支持部材によって取り付けられている。
【００４６】
また、カバー体７の上壁部７２には、不活性ガスを排出するためのスリット状の排出口７２ｘが形成されている。この排出口７２ｘは、紫外線ランプ４の中央位置の直上に位置しており、図４に仮想線で示すように、紫外線ランプ４の長手方向に複数個が並ぶ状態で形成されている。
【００４７】
次に、ガス供給部５における窒素ガスの流れについて、図５を参照して説明する。
ノズル配管５１のガス吹出口５１ｘから噴出された窒素ガスは、紫外線ランプ４の湾曲側面４１ｃ、４１ｄの頂点に当たり、紫外線ランプ４の湾曲側面４１ｃ、４１ｄの湾曲形状に沿って紫外線ランプ４の上面側と下面側に分かれて、それぞれがさらに紫外線ランプ４の上下の扁平面４１ａ、４１ｂに沿って流れる。このような紫外線ランプ４の表面に沿った流れによって、紫外線ランプ４の表面上に清浄な窒素ガスの層が形成される。紫外線ランプ４の上面側の扁平面４１ａに沿って流れた窒素ガスは、更に排出口７２ｘへと流れて外部に排出される。
【００４８】
一方で、紫外線ランプ４の下面側に流れた窒素ガスは、被照射面Ｗａに当たり、その後、ガス吹出口５１ｘ（開口側壁部７１の開口７１ｘ）に向かって流れるが、ガス吹出口５１ｘ（開口側壁部７１の開口７１ｘ）よりも下側に設けられた遮蔽板６に遮られる。つまり、ガス吹出口５１ｘ（開口側壁部７１の開口７１ｘ）に向かって流れる窒素ガスは遮蔽板６の下面に当たり、渦気流の形成が妨げられる。
【００４９】
このように流路が形成される窒素ガスによって、紫外線ランプ４の下面側とガラス基板Ｗとの間の空間が、窒素ガスにより的確に置換される。また、比較的に少ない流量の窒素ガスで、紫外線ランプ４が効果的に冷却され、清浄な窒素ガスの流れによって白粉の付着が効果的に抑制される。さらに、上方側に流れた窒素ガスが排出口７２ｘを経て排出されることで、白粉を舞い散らせる気流の乱れも抑制することができる。下方側に流れた窒素ガスは、ケーシング２下部の排気口２ｃから排出されるか、処理対象物と共にケーシングの導出口２ｂから外部に流れる。
【００５０】
このように構成した本実施形態の紫外線照射装置を用いた洗浄装置１００によれば、紫外線ランプ４の側方にガス吹出口５１ｘを配置して、紫外線ランプ４の側面４１ｃ、４１ｄに直接ガスを吹き付ける構成において、ガス吹出口５１ｘ及び紫外線ランプ４の間において、ガス吹出口５１ｘよりも被照射面Ｗａ側に遮蔽板６を設けているので、ガス吹出口５１ｘと紫外線ランプ４と被照射面Ｗａとの間の空間に形成される渦気流を遮ることができる。これにより、被照射面Ｗａ上で発生する昇華物等の粉体が、渦気流に乗って舞い上がりランプ側面４１ｃ、４１ｄに吹き付けられることを抑制できる。したがって、前記粉体が紫外線ランプ４に付着することを抑制でき、紫外線ランプ４の汚れ、紫外線ランプ４の放電管４１に付着して生じる歪みや破損を抑制できる。
【００５１】
なお、本発明は前記実施形態に限られるものではない。
例えば、前記実施形態では、カバー体７（の開口側壁部７１）に遮蔽板６を設ける構成としているが、図６に示すように、ノズル配管５１の側壁に遮蔽板６を設ける構成としても良いし、その他の周辺部材を用いて遮蔽板６を設ける構成としても良い。
【００５２】
また、前記実施形態では、カバー体７を有するものであったが、カバー体を有さない構成としても良い。
【００５３】
さらに、前記実施形態では、遮蔽板６が、紫外線ランプ４の長手方向において、紫外線ランプ４と略同じ長さを有しており、紫外線ランプ４の側方において１枚の遮蔽板６を設ける構成としているが、ガス吹出口５１ｘそれぞれに対応して遮蔽板６を設ける等、複数の遮蔽板６を設ける構成としても良い。
【００５４】
その上、前記実施形態では、１本のノズル配管を隣接する紫外線ランプ４で共通としているが、各紫外線ランプの両側に、当該紫外線ランプに専用のノズル配管を設ける構成としても良い。
【００５５】
加えて、前記実施形態では、１本の紫外線ランプ４に対して、その両側からガスを吹き出す構成であったが、複数本並べた紫外線ランプに対してまとめてガスを吹き出す構成としても良い。
【００５６】
前記実施形態では、本発明の紫外線照射装置を洗浄装置に適用した場合について説明したが、その他、紫外線を使用する各種の処理装置に適用することができる。また、紫外線照射装置に限られず、可視光等の紫外線以外の光を照射する光照射装置に適用することもできる。
【００５７】
その他、本発明は前記実施形態に限られず、その趣旨を逸脱しない範囲で種々の変形が可能である。
【符号の説明】
【００５８】
１００・・・洗浄装置（光照射装置）
Ｗａ・・・被照射面
４・・・紫外線ランプ
４ｃ、４ｄ・・・ランプの側面
５・・・ガス供給部
５１ｘ・・・ガス吹出口
６・・・遮蔽板
７・・・カバー体
【図１】
2014193450.tif 000003
【図２】
2014193450.tif 000004
【図３】
2014193450.tif 000005
【図４】
2014193450.tif 000006
【図５】
2014193450.tif 000007
【図６】
2014193450.tif 000008
【図７】
2014193450.tif 000009