(57)【要約】【課題】反射防止フィルムにおいて、その正面からの外光の反射光に色味が付かず、また、様々な角度から入射する外光の反射光に対しても色味を低減することができる反射防止フィルムを提供すること。【解決手段】透明支持体上に、ハードコート層、高屈折率層、低屈折率層の３層をこの順に積層して備える反射防止フィルムであって、ハードコート層の膜屈折率が１．４５から１．５４まで範囲にあり、高屈折率層の膜屈折率が１．５７から１．７５までの範囲にあり、低屈折率層の膜屈折率が１．２５から１．３５までの範囲にあり、高屈折率層のバインダーにビスアリールフルオレン骨格を有する（メタ）アクリレートを使用したことで、その正面からの外光の反射光に色味が付かず、また、様々な角度から入射する外光の反射光に対しても色味を低減することができ、かつ機械強度が強い反射防止フィルム。【選択図】図１
2014232279.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明支持体上に、ハードコート層、高屈折率層、低屈折率層の３層をこの順に積層して備える反射防止フィルムであって、
該ハードコート層の膜屈折率が、１．４５から１．５４までの範囲にあり、
該高屈折率層の膜屈折率が、１．５７から１．７５までの範囲にあり、
該低屈折率層の膜屈折率が、１．２５から１．３５までの範囲にあり、
該高屈折率層のバインダーにビスアリールフルオレン骨格を有する（メタ）アクリレートが使用された、反射防止フィルム。
【請求項２】
前記高屈折率層のバインダーに使用されたビスアリールフルオレン骨格を有する（メタ）アクリレートが、前記高屈折率層を形成するための塗液の全固形分に対して２０〜８０質量％で含有される、請求項１に記載の反射防止フィルム。
【請求項３】
前記反射防止フィルム表面における平均視感反射率が、０．０５％以上１．０％以下の範囲内である、請求項１または２に記載の反射防止フィルム。
【請求項４】
請求項１から３までのいずれかに記載の反射防止フィルムを備える偏光板。
【請求項５】
請求項１から３までのいずれかに記載の反射防止フィルムを備えるタッチパネル。
【請求項６】
請求項１から３までのいずれかに記載の反射防止フィルムを表示面に備える表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本明細書の開示内容は、ディスプレイなどの表面、およびタッチパネルの偏光板の間に存在するエアギャップ層において、外光が反射することを防止することを目的として設けられる反射防止フィルム、その反射防止フィルムを備える画像表示装置または液晶表示装置、その反射防止フィルムを備える偏光板およびタッチパネルに関する。
【背景技術】
【０００２】
一般にディスプレイは、室内外での使用を問わず、外光などが入射する環境下で使用される。この外光等の入射光は、ディスプレイ表面等において正反射され、それによる反射像が表示画像と混合することにより、画面表示品質を低下させてしまう。そのため、ディスプレイ表面等に反射防止機能を付与することは必須であり、反射防止機能の高性能化が求められている。
【０００３】
一般に反射防止機能は、透明支持体上に金属酸化物等の透明材料からなる高屈折率層と低屈折率層の繰り返し構造による多層構造の反射防止層を形成することで得られる。これらの多層構造からなる反射防止層は、化学蒸着（ＣＶＤ）法や、物理蒸着（ＰＶＤ）法といった乾式成膜法により形成することができる。乾式成膜法を用いて反射防止層を形成する場合にあっては、低屈折率層、高屈折率層の膜厚を精密に制御できるという利点がある一方、成膜を真空中でおこなうため、生産性が低く、大量生産に適していないという問題を抱えている。一方、反射防止層の形成方法として、大面積化、連続生産、低コスト化が可能である塗液を用いた湿式成膜法による反射防止膜の生産が注目されている。
【０００４】
近年モバイル端末の普及が進み、画像表示装置そのものを手元にて操作する場合が増えている。また、日中の屋外においては、屋内にて使用する場合よりも強い外光にさらされるため、屋外でも視認性を損なわない、低反射率の反射防止フィルムが求められている。
【０００５】
また、定置設置型の画像表示装置に反射防止フィルムを適応する場合、その多くは、固定光源からの反射光を低減することが前提となっている。これは、外光の入射角が変化しないことを意味する。これに対しモバイル端末の場合、屋外での使用や手元での操作があるため、外光の入射が様々な角度から入射し、さらに、視聴者も様々な角度でディスプレイを観察する場合が多くなる。よって、モバイル端末に対して反射防止フィルムを適応しようとした場合、正面からの反射光のみではなく、あらゆる入射角の光源に対しての反射光、特に反射光の色味について検討する必要がある。現状、反射防止フィルムの多くは、定置設置型の画像表示装置に対応した設計となっているため、外光の入射角と反射角が変化することを想定していないフィルム設計となっていることが多い。
【０００６】
様々な角度から入射する外光の反射光に対しても色味が付くことを低減する反射防止フィルムを実現する手法の一つとして、光学多層膜を用いる手法がある。このような光学多層膜は、屈折率の異なる複数の層から構成される。光学多層膜が光学２層であるとき、この光学多層膜は、透明支持体の屈折率よりも高屈折率である高屈折率層、透明支持体の屈折率よりも低屈折率な低屈折率層の順に積層したものである。さらに、光学多層膜が光学３層でるとき、この光学多層膜は、上述の光学２層品における、透明支持体と高屈折率層の間に中屈折率層を設けた構成とるのが一般的である。また、高屈折率層と低屈折率層の層数を任意の数だけ増やした多層光学膜の層構成を使用することも原理上可能である。しかし、コストや良品生産率等を考慮した場合は、前述した光学２層品が好適であるといえる。いずれの構成の場合でも透明支持体の屈折率よりも高屈折率な高屈折率層を積層することは必須である。また、上述の高屈折率層に用いられる材料として、無機微粒子を用いる場合がほとんどである（特許文献１、特許文献２）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２００５−２８３８７２号公報
【特許文献２】特開２００５−３１６３５０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
高屈折率層に無機微粒子を用いて屈折率の向上を図る場合、無機微粒子を膜として固定するためのバインダーを用いる。高屈折率層の屈折率を高くするには無機微粒子の使用割合を増やすことで対応できるが、高屈折率層の膜強度や膜均一性の悪化、塗液の安定性など悪影響が出るため、反射防止フィルムとしての品質を考慮した場合、無機微粒子の使用割合の上限が決まってしまい反射防止膜の光学設計の自由度を損なっており課題であった。
【０００９】
本明細書の開示内容が目的とすることの１つは、正面からの反射光の色相を低減するとともに、様々な角度から入射する外光の反射光に対しても色味が付くことを低減する、膜の機械強度が良好である反射防止フィルム、そのような反射防止フィルムを備える表示装置、そのような反射防止フィルムを備える偏光板およびタッチパネルを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上述の目的は、後述のような反射防止フィルム、その反射防止フィルムを表示面に備える表示装置、その反射防止フィルムを備える偏光板などにより達成される。
【００１１】
すなわち、一態様において、反射防止フィルムが提供され、この反射防止フィルムは、透明支持体上に、ハードコート層、高屈折率層、低屈折率層の３層をこの順に積層して備える。ここで、ハードコート層の膜屈折率は１．４５から１．５４までの範囲にあり、高屈折率層の膜屈折率は、１．５７から１．７５までの範囲にあり、そして、低屈折率層の膜屈折率は、１．２５から１．３５までの範囲にある。さらに、その高屈折率層のバインダーにビスアリールフルオレン骨格を有する（メタ）アクリレートが使用される。ここで、各層の屈折率の関係は下記括弧内の関係にある。
（  高屈折率層＞ハードコート層、透明支持体＞低屈折率層  ）
【００１２】
一実施形態において、上述の反射防止フィルムにおいて、その高屈折率層のバインダーに使用されたビスアリールフルオレン骨格を有する（メタ）アクリレートは、前記高屈折率層を形成するための塗液の全固形分に対して２０〜８０質量％で含有される。
【００１３】
一実施形態において、上述した反射防止フィルム表面における平均視感反射率は０．０５％以上１．０％以下の範囲内である。
【００１４】
別の態様において、上述の反射防止フィルムのいずれかを備える偏光板が提供される。
【００１５】
さらに別の態様において、上述の反射防止フィルムのいずれかを備えるタッチパネルが提供される。
【００１６】
さらに別に態様において、上述した反射防止フィルムいずれかを表示面に備える表示装置が提供される。
【００１７】
本明細書で使用される場合、「表示装置」との用語は、そのユーザに対して視覚的に出力するための端末装置をいい、この表示装置は、例えば、その表示面（ｄｉｓｐｌａｙ  ｓｃｒｅｅｎ）に画像を映し出す。このような表示装置としては、特に、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、ＣＲＴディスプレイ、有機エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、表面電界ディスプレイ（ＳＥＤ）、フィールドエミッションディスプレイ（ＦＥＤ）などが挙げられるが、これらに限定されない。
【発明の効果】
【００１８】
上記のような反射防止フィルムを、表示装置の表示面に設置することよって、その正面からの反射光の色相を低減するとともに、様々な角度から入射する外光の反射光に対しても色味が付くことを低減し、且つ、反射防止フィルム表面での平均視感反射率を０．０５％以上１．０％以下の範囲内にすることができる。また、そのような反射防止フィルムを用いた偏光板を液晶表示装置の表面に設ける場合、また、その反射防止フィルムをタッチパネルに使用する場合においても、同様の効果を得ることが可能である。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】図１は、反射防止フィルムの一実施形態の模式的な断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
以下、本明細書で開示される反射防止フィルムの一例について詳細に説明する。
【００２１】
一態様において、この反射防止フィルムは、透明支持体上に、ハードコート層、高屈折率層、低屈折率層の３層をこの順に積層して備える。そして、そのハードコート層の膜屈折率が、１．４５から１．５４までの範囲にあり、高屈折率層の膜屈折率が１．５７から１．７５までの範囲にあり、低屈折率層の膜屈折率が１．２５から１．３５までの範囲にある。さらに、この反射防止フィルムは、上述の高屈折率層のバインダーにビスアリールフルオレン骨格を有する（メタ）アクリレートを使用する。
【００２２】
例示的な実施形態において、上述の高屈折率層に用いる、ビスアリールフルオレン骨格を有する（メタ）アクリレートは、好ましくは、全固形分中の２０〜８０質量％含まれる。
【００２３】
例示的な実施形態において、上述の反射防止フィルムの平均視感反射率は、０．０５％以上１．０％以下の範囲内であることが好ましい。
【００２４】
上述の反射防止フィルムは、その正面からの反射光の色相を低減するとともに、様々な角度から入射する外光の反射光に対しても色味が付くことを低減することができる。より具体的には、以下に示す条件を満たすことが望ましい。ＣＩＥ標準光源であるＣ光源の波長３８０ｎｍから７８０ｎｍまでの領域における、その入射角が５°から４５°までの範囲にある入射光に対して、入射角と反射角が等しい反射条件における反射光の色相が、ＣＩＥ１９７６Ｌ＊ａ＊ｂ＊色空間において、−３≦ａ＊≦３、−５≦ｂ＊≦５とのを満たす。これにより、外光の入射角度が変化した場合でも、反射防止フィルムの反射光の色相がニュートラルカラーとなる。反射光の色相は、いずれの角度においてもａ＊＝０、ｂ＊＝０となることが理想的には所望されるため、−１≦ａ＊≦１、−１≦ｂ＊≦１であれば更に好ましい。
【００２５】
本明細書で開示される反射防止フィルムの層構成の一例に関して詳細に説明する。この反射防止フィルムは、透明支持体上にハードコート層を塗工し、その上にさらに高屈折率層と低屈折率層とを積層した３層構成を有している。このとき、高屈折率層と低屈折率層の層数を任意の数だけ増やした多層膜の層構成を使用することも原理上可能である。しかしながら、コストや良品生産率等を考慮した場合、図１の例のように、反射防止フィルム（１０）は、透明支持体（１１）の上にハードコート層（１２）を塗布し、さらにその上に高屈折率層（１３）を塗布し、その上に低屈折率層（１４）を積層することが好適である。
【００２６】
このとき、各層の膜厚と屈折率を調整していくことで、反射光の色相パラメータであるａ＊値、ｂ＊値を目的のものへ合わせ込むことが出来る。例えば、各層の膜厚および屈折率が、以下の条件を満たすことが望ましい。すなわち、ハードコート層の膜厚は３．０μｍ以上、１０μｍ以下の範囲にあり、ハードコート層の屈折率は１．４５以上、１．５４以下の範囲にあり；高屈折率層の膜厚ｄ１は、後述の数式（１）の範囲にあり、高屈折率層の屈折率ｎ１は、１．５７以上、１．７５以下の範囲にあり；低屈折率層の膜厚ｄ２は後述の数式（２）の範囲にあり、低屈折率層の屈折率ｎ２は１．２５以上１．３５以下の範囲である。数式（１）及び数式（２）は以下のとおりである：
数式（１）：（２×λ／４）×０．８＜ｎ１ｄ１＜（２×λ／４）×１．２
数式（２）：（１×λ／４）×０．９＜ｎ２ｄ２＜（１×λ／４）×１．１
（式中、反射防止フィルムにおける、反射防止設計中心波長λは、通常、人間が最も感知しやすい緑色の波長帯（例えば５５０ｎｍ）が選ばれる。）
【００２７】
例示的な実施形態において、ハードコート層、高屈折率層および低屈折率層の塗工方法としては、スプレー法、スクリーン印刷法、ドクターブレード法、グラビア印刷法、ダイコート法、インクジェット法等既存の塗布方法が挙げられるが、特に限定しない。
【００２８】
反射防止フィルムにおける透明支持体は、透明性や光の屈折率等の光学特性、さらには耐衝撃性、耐熱性、耐久性などの諸物性を考慮して、それを構成するための材料が選択さされる。ここで使用され得る材料は、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン系、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系、トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、セロファン等のセルロース系、６−ナイロン、６，６−ナイロン等のポリアミド系、ポリメチルメタクリレート等のアクリル系、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリイミド、ポリビニルアルコール、ポリカーボネート、エチレンビニルアルコール等の有機高分子が挙げられる。特に、ポリエチレンテレフタレート、トリアセチルセルロース、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレートが好ましい。中でも、トリアセチルセルロースは、複屈折率が小さく、透明性が良好であることから、各種ディスプレイにとって好適な材料である。
【００２９】
さらに、これらの有機高分子に公知の添加剤、例えば、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、可塑剤、滑剤、着色剤、酸化防止剤、難燃剤等を添加することにより機能を付加させたものも使用できる。また、透明支持体は上記の有機高分子から選ばれる１種または２種以上の混合物、または重合体からなるものでもよく、複数の層を積層させたものであってもよい。
【００３０】
なお、透明支持体の厚さは、２０μｍ以上２００μｍ以下の範囲内にあることが好ましく、２０μｍ以上８０μｍ以下の範囲内にあることがさらに好ましい。
【００３１】
反射防止フィルムにおけるハードコート層は、アクリル系材料を用いて形成され得る。使用されるアクリル系材料としては、多価アルコールのアクリル酸またはメタクリル酸エステルのような単官能、２官能または３官能以上の（メタ）アクリレート化合物、ジイソシアネートと多価アルコール及びアクリル酸またはメタクリル酸のヒドロキシエステル等から合成されるような多官能のウレタン（メタ）アクリレート化合物などが挙げられる。またこれらの他にも、電離放射線型材料として、アクリレート系の官能基を有するポリエーテル樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂等をハードコート層に使用することができる。
【００３２】
なお、本明細書において使用される場合、「（メタ）アクリレート」とは、「アクリレート」と「メタクリレート」の両方を示す。例えば、「ウレタン（メタ）アクリレート」は「ウレタンアクリレート」と「ウレタンメタアクリレート」の両方を示している。
【００３３】
上述の単官能の（メタ）アクリレート化合物としては、例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、アクリロイルモルフォリン、Ｎ−ビニルピロリドン、テトラヒドロフルフリールアクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、イソデシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、トリデシル（メタ）アクリレート、セチル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、２−エトキシエチル（メタ）アクリレート、３−メトキシブチル（メタ）アクリレート、エチルカルビトール（メタ）アクリレート、リン酸（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性リン酸（メタ）アクリレート、フェノキシ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性フェノキシ（メタ）アクリレート、プロピレンオキサイド変性フェノキシ（メタ）アクリレート、ノニルフェノール（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性ノニルフェノール（メタ）アクリレート、プロピレンオキサイド変性ノニルフェノール（メタ）アクリレート、メトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシプロピレングリコール（メタ）アクリレート、２−（メタ）アクリロイルオキシエチル−２−ヒドロキシプロピルフタレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート、２−（メタ）アクリロイルオキシエチルハイドロゲンフタレート、２−（メタ）アクリロイルオキシプロピルハイドロゲンフタレート、２−（メタ）アクリロイルオキシプロピルヘキサヒドロハイドロゲンフタレート、２−（メタ）アクリロイルオキシプロピルテトラヒドロハイドロゲンフタレート、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、テトラフルオロプロピル（メタ）アクリレート、ヘキサフルオロプロピル（メタ）アクリレート、オクタフルオロプロピル（メタ）アクリレート、オクタフルオロプロピル（メタ）アクリレート、２−アダマンタンおよびアダマンタンジオールから誘導される１価のモノ（メタ）アクリレートを有するアダマンチルアクリレートなどのアダマンタン誘導体モノ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００３４】
上述の２官能の（メタ）アクリレート化合物としては、例えば、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、エトキシ化ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、プロポキシ化ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、エトキシ化ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレートなどのジ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００３５】
上述の３官能以上の（メタ）アクリレート化合物としては、例えば、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、エトキシ化トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、プロポキシ化トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリス２−ヒドロキシエチルイソシアヌレートトリ（メタ）アクリレート、グリセリントリ（メタ）アクリレート等のトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート等の３官能の（メタ）アクリレート化合物や、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンヘキサ（メタ）アクリレート等の３官能以上の多官能（メタ）アクリレート化合物や、これら（メタ）アクリレートの一部をアルキル基やε−カプロラクトンで置換した多官能（メタ）アクリレート化合物等が挙げられる。
【００３６】
アクリル系材料の中でも、多官能ウレタンアクリレートを好適に用いることができる。これは、所望する分子量、分子構造を設計でき、形成されるハードコート層の物性のバランスを容易にとることが可能であるといった理由からである。ウレタンアクリレートは、多価アルコール、多価イソシアネート及び水酸基含有アクリレートを反応させることによって得られる。具体的には、共栄社化学社製、ＵＡ−３０６Ｈ、ＵＡ−３０６Ｔ、ＵＡ−３０６ｌ等、日本合成化学社製、ＵＶ−１７００Ｂ、ＵＶ−６３００Ｂ、ＵＶ−７６００Ｂ、ＵＶ−７６０５Ｂ、ＵＶ−７６４０Ｂ、ＵＶ−７６５０Ｂ等、新中村化学社製、Ｕ−４ＨＡ、Ｕ−６ＨＡ、ＵＡ−１００Ｈ、Ｕ−６ＬＰＡ、Ｕ−１５ＨＡ、ＵＡ−３２Ｐ、Ｕ−３２４Ａ等、ダイセルユーシービー社製、Ｅｂｅｃｒｙｌ−１２９０、Ｅｂｅｃｒｙｌ−１２９０Ｋ、Ｅｂｅｃｒｙｌ−５１２９等、根上工業社製、ＵＮ−３２２０ＨＡ、ＵＮ−３２２０ＨＢ、ＵＮ−３２２０ＨＣ、ＵＮ−３２２０ＨＳ等を挙げることができるがこの限りではない。
【００３７】
またこれらの他にも、電離放射線型材料として、アクリレート系の官能基を有するポリエーテル樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂等を使用することができ、特にその材料を限定しない。
【００３８】
また、電離放射線硬化型材料は紫外線により硬化されるため、ハードコート層形成用塗液には光重合開始剤を添加する。光重合開始剤としては、紫外線が照射された際にラジカルを発生するものであれば良い。このような光重合開始剤として例えば、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類を用いることができる。また、光重合開始剤の添加量は、電離放射線硬化型材料１００質量部に対して０．１質量部〜１０質量部、好ましくは１質量部〜７質量部、更に好ましくは１質量部〜５質量部である。
【００３９】
さらに、ハードコート層形成用塗液には、必要に応じて、溶媒や各種添加剤を加えることができる。溶媒としては、トルエン、キシレン、シクロヘキサン、シクロヘキシルベンゼンなどの芳香族炭化水素類、ｎ−ヘキサンなどの炭化水素類、ジブチルエーテル、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、ジエトキシエタン、プロピレンオキシド、ジオキサン、ジオキソラン、トリオキサン、テトラヒドロフラン、アニソールおよびフェネトール等のエーテル類、また、メチルイソブチルケトン、メチルブチルケトン、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、ジプロピルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、およびメチルシクロヘキサノン等のケトン類、また蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ｎ−ペンチル、酢酸メチル、酢酸エチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、酢酸ｎ−ペンチル、およびγ−プチロラクトン等のエステル類、さらには、メチルセロソルブ、セロソルブ、ブチルセロソルブ、セロソルブアセテート等のセロソルブ類、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ブタノール等のアルコール類の中から塗工適正等を考慮して適宜選択される。また、塗液に加えることができる添加剤としては、表面調整剤、屈折率調整剤、密着性向上剤、硬化剤等が挙げられる。
【００４０】
また、ハードコート層形成用塗液にはその他添加剤を加えても良い。添加剤としては、例えば、泡消剤、レベリング剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、重合禁止剤などが挙げられる。
【００４１】
反射防止フィルムにおける高屈折率層において、ビスアリールフルオレン骨格を有する（メタ）アクリレートがバインダーとして使用される。好ましくは屈折率が１．６０以上の屈折率の樹脂が用いられる。ビスアリールフルオレン骨格を有する（メタ）アクリレートの例としては、９，９−ビス（４−（メタ）アクリロイルオキシフェニル）フルオレン、９，９−ビス（３−メチル−４−（メタ）アクリロイルオキシフェニル）フルオレン、９，９−ビス（３−メチル−４−（２−（メタ）アクリロイルオキシエトキシ）フェニル）フルオレンなどが挙げられるが、これらに限定されない。
【００４２】
また、このバインダーとしては、さらに金属アルコキシド、シランカップリング剤、有機樹脂を併用することができる。有機樹脂としては、ハードコート層形成用塗液に含まれる電離放射線硬化型材料として例示したアクリル系材料を混合し併用することができる。アクリル系材料としては、多価アルコールのアクリル酸またはメタクリル酸エステルのような多官能または多官能の（メタ）アクリレート化合物、ジイソシアネートと多価アルコール及びアクリル酸またはメタクリル酸のヒドロキシエステル等から合成されるような多官能のウレタン（メタ）アクリレート化合物を使用することができる。またこれらの他にも、電離放射線型材料として、アクリレート系の官能基を有するポリエーテル樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂等を使用することができる。
【００４３】
さらに、バインダーに金属微粒子や有機微粒子を添加したものを用いることができる。これらの成分は要求される有機系コーティング層の屈折率により適宜選択され、材料の組み合わせ、混合比などにより屈折率を調整する。
【００４４】
金属微粒子や有機微粒子を添加する場合、Ｔｉ、Ｔａ、Ｚｒ、Ｉｎ、Ｚｎなどの金属アルコキシドや、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、酸化インジウム、酸化アンチモン、錫ドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）などの金属微粒子を用いることができる。特に酸化アンチモンやアンチモンをドープした酸化スズ（アンチモン−スズ酸化物（Ｓｂ−ＳｎＯ２）；以下「ＡＴＯ」とする）が好適に用いられる。ＡＴＯ微粒子が用いられる場合、粒径は、５ｎｍから５０ｎｍまでの範囲にするのが好ましい。微粒子の溶媒中の分散状態に依存する場合もあるが、ＡＴＯ微粒子の粒径が大きすぎると、散乱による損失の影響を受けやすく、また、粒径を小さくしすぎると、得られる層の屈折率が低下するといった影響が生じるため、上述の範囲が好ましい。
【００４５】
希釈溶媒として用いられるものは、特に限定されないが、組成物の安定性、ハードコート層に対する濡れ性、揮発性などを考慮して、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、２−メトキシエタノール等のアルコール類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチル等のケトン類、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、ジイソプロピルエーテル等のエーテル類、エチレングリコール、プロピレングリコール、ヘキシレングリコール等のグリコール類、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、エチルカルビトール、ブチルカルビトール等のグリコールエーテル類、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、ハロゲン化炭化水素、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルホルムアミド等が挙げられる。また、溶媒は１種類のみならず２種類以上の混合物として用いることも可能である。
【００４６】
反射防止フィルムにおける低屈折率層に用いられる低屈折粒子としては、ＬｉＦ、ＭｇＦ、３ＮａＦ・ＡｌＦまたはＡｌＦ（いずれも、屈折率１．４）、または、Ｎａ３ＡｌＦ６（氷晶石、屈折率１．３３）等の低屈折材料からなる低屈折率粒子を用いることができる。また、粒子内部に空隙を有する粒子を好適に用いることができる。粒子内部に空隙を有する粒子にあっては、空隙の部分を空気の屈折率（≒１）とすることができるため、非常に低い屈折率を備える低屈折率粒子とすることができる。具体的には、内部に空隙を有する低屈折率シリカ粒子（多孔質シリカ粒子）を用いることができる。多孔質シリカ粒子は、溶剤（例えば、メチルイソブチルケトンなど）に分散させて多孔質シリカ微粒子分散液として調製され、その分散液は低屈折率層形成塗液の調製に用いられる。
【００４７】
低屈折率層に用いられる低屈折率粒子において、その平均粒径は、４０ｎｍから１００ｎｍまでの範囲にあり、好ましくは、５０ｎｍから８０ｎｍまでの範囲にあり、また、更に好ましくは６０ｎｍから７５ｎｍまでの範囲にある。粒径が１００ｎｍ付近である場合、またはそれを超える場合、レイリー散乱によって光が著しく反射され、低屈折率層が白化して反射防止フィルムの透明性が低下する傾向にある。また、形成する層の膜厚の値とその微粒子の平均粒径との値が近いと、膜厚異常が生じる場合もある。一方、平均粒径が上述の範囲にある値よりも小さくなると、形成する層の屈折率が低くすぎる傾向にあり、また、平均粒径が１ｎｍ未満の場合、粒子の凝集による低屈折率層における粒子の不均一性等の問題が生じ得る。なお、本明細書で使用される場合、「平均粒径」とは、別段提示しない限り、また、別の条件から矛盾を生じない限り、溶液中の粒子を動的光散乱方法で測定し、粒径分布を累積分布で表したときの５０％粒径（ｄ５０ メジアン径）を意味する。
【００４８】
低屈折率層を形成するためのバインダマトリックス形成材料としては電離放射線硬化型材料を含む。電離放射線硬化型材料としては、ハードコート層形成用塗液に含まれる電離放射線硬化型材料として例示したアクリル系材料を用いることができる。アクリル系材料としては、多価アルコールのアクリル酸またはメタクリル酸エステルのような多官能または多官能の（メタ）アクリレート化合物、ジイソシアネートと多価アルコール及びアクリル酸またはメタクリル酸のヒドロキシエステル等から合成されるような多官能のウレタン（メタ）アクリレート化合物を使用することができる。またこれらの他にも、電離放射線型材料として、アクリレート系の官能基を有するポリエーテル樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂等を使用することができる。また、適宜これらの樹脂がフッ素化されたものでも構わない。
【実施例】
【００４９】
以下、本明細書で開示される反射防止フィルムを説明するために、実施例および比較例を記載する。この実施例は、例示目的であって、本明細書に開示される反射防止フィルムが当該実施例に限定されることを意図するものではない。
【００５０】
＜調製例１＞
（ハードコート層形成用塗液１：ＨＣ１）
ペンタエリスリトールトリアクリレート２５質量部、ペンタエリスリトールテトラアクリレート２５質量部、ウレタンアクリレート５０質量部、イルガキュア１８４（ＢＡＳＦ社製（光重合開始剤））５質量部を用い、これをアセトンに溶解してハードコート層形成塗液を調製した。
【００５１】
＜調製例２＞
（ハードコート層形成用塗液２：ＨＣ２）
ペンタエリスリトールトリアクリレート１５質量部、ペンタエリスリトールテトラアクリレート２５質量部、ＬＩＮＣ１６２Ａ（共栄社化学（株）製）６０質量部、イルガキュア１８４（ＢＡＳＦ社製（光重合開始剤））５質量部を用い、これをアセトンに溶解してハードコート層形成塗液を調製した。
【００５２】
＜調製例３＞
（ハードコート層形成用塗液３：ＨＣ３）
ペンタエリスリトールトリアクリレート５０質量部、ペンタエリスリトールテトラアクリレート３０質量部、ウレタンアクリレート１０質量部、ＡＴＯ微粒子分散液（固形分２５％、平均粒径９ｎｍ、溶剤：メチルイソブチルケトン）４０質量部、イルガキュア１８４（ＢＡＳＦ社製（光重合開始剤））５質量部を用い、これをアセトンに溶解してハードコート層形成塗液を調製した。
【００５３】
＜調製例４＞
（高屈折率層形成用塗液１：ＨＲ１）
９，９−ビス［４−（２−アクリロイルオキシエトキシ）フェニル]フルオレン４．５質量部、ＡＴＯ微粒子分散液（固形分２５％、平均粒径９ｎｍ、溶剤：メチルイソブチルケトン）７．８質量部、ペンタエリスリトールトリアクリレート１．１質量部、イルガキュア１８４（ＢＡＳＦ社製（光重合開始剤））０．１質量部を用い、これをメチルイソブチルケトン８６．６質量部にて希釈して高屈折率層形成塗液を調製した。
【００５４】
＜調製例５＞
（高屈折率層形成用塗液２：ＨＲ２）
９，９−ビス{４−[２−（３−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシ−プロポキシ）−エトキシ]フェニル}フルオレン４．５質量部、ＡＴＯ微粒子分散液（固形分２５％、平均粒径９ｎｍ、溶剤：メチルイソブチルケトン）７．８質量部、ペンタエリスリトールトリアクリレート１．１質量部、イルガキュア１８４（ＢＡＳＦ社製（光重合開始剤））０．１質量部を用い、これをメチルイソブチルケトン８６．６質量部にて希釈して高屈折率層形成塗液を調製した。
【００５５】
＜調製例６＞
（高屈折率層形成用塗液３：ＨＲ３）
９，９−ビス（４−（メタ）アクリロイルオキシメトキシ−３−エチルフェニル）フルオレン４．５質量部、ＡＴＯ微粒子分散液（固形分２５％、平均粒径９ｎｍ、溶剤：メチルイソブチルケトン）７．８質量部、ペンタエリスリトールトリアクリレート１．１質量部、イルガキュア１８４（ＢＡＳＦ社製（光重合開始剤））０．１質量部を用い、これをメチルイソブチルケトン８６．６質量部にて希釈して高屈折率層形成塗液を調製した。
【００５６】
＜調製例７＞
（高屈折率層形成用塗液４：ＨＲ４）
９，９−ビス［４−（２−アクリロイルオキシエトキシ）フェニル］フルオレン１．５質量部、ＡＴＯ微粒子分散液（固形分２５％、平均粒径９ｎｍ、溶剤：メチルイソブチルケトン）１４．４質量部、ペンタエリスリトールトリアクリレート２．４質量部、イルガキュア１８４（ＢＡＳＦ社製（光重合開始剤））０．１質量部を用い、これをメチルイソブチルケトン８１．６質量部にて希釈して高屈折率層形成塗液を調製した。
【００５７】
＜調製例８＞
（高屈折率層形成用塗液５：ＨＲ５）
９，９−ビス［４−（２−アクリロイルオキシエトキシ）フェニル］フルオレン５．３質量部、ＡＴＯ微粒子分散液（固形分２５％、平均粒径９ｎｍ、溶剤：メチルイソブチルケトン）５．４質量部、ペンタエリスリトールトリアクリレート０．９質量部、イルガキュア１８４（ＢＡＳＦ社製（光重合開始剤））０．１質量部を用い、これをメチルイソブチルケトン８８．４質量部にて希釈して高屈折率層形成塗液を調製した。
【００５８】
＜調製例９＞
（高屈折率層形成用塗液６：ＨＲ６）
９，９−ビス［４−（２−アクリロイルオキシエトキシ）フェニル］フルオレン０．８質量部、ＡＴＯ微粒子分散液（固形分２５％、平均粒径９ｎｍ、溶剤：メチルイソブチルケトン）１６．２質量部、ペンタエリスリトールトリアクリレート２．７質量部、イルガキュア１８４（ＢＡＳＦ社製（光重合開始剤））０．１質量部を用い、これをメチルイソブチルケトン８０．３質量部にて希釈して高屈折率層形成塗液を調製した。
【００５９】
＜調製例１０＞
（高屈折率層形成用塗液７：ＨＲ７）
９，９−ビス［４−（２−アクリロイルオキシエトキシ）フェニル］フルオレン６．０質量部、ＡＴＯ微粒子分散液（固形分２５％、平均粒径９ｎｍ、溶剤：メチルイソブチルケトン）３．６質量部、ペンタエリスリトールトリアクリレート０．６質量部、イルガキュア１８４（ＢＡＳＦ社製（光重合開始剤））０．１質量部を用い、これをメチルイソブチルケトン８９．８質量部にて希釈して高屈折率層形成塗液を調製した。
【００６０】
＜調製例１１＞
（高屈折率層形成用塗液８：ＨＲ８）
９，９−ビス［４−（２−アクリロイルオキシエトキシ）フェニル］フルオレン７．５質量部、イルガキュア１８４（ＢＡＳＦ社製（光重合開始剤））０．１質量部を用い、これをメチルイソブチルケトン９２．５質量部にて希釈して高屈折率層形成塗液を調製した。
【００６１】
＜調製例１２＞
（高屈折率層形成用塗液９：ＨＲ９）
９，９−ビス［４−（２−アクリロイルオキシエトキシ）フェニル］フルオレン２．３質量部、ペンタエリスリトールトリアクリレート５．２質量部、イルガキュア１８４（ＢＡＳＦ社製（光重合開始剤））０．１質量部を用い、これをメチルイソブチルケトン９２．５質量部にて希釈して高屈折率層形成塗液を調製した。
【００６２】
＜調製例１３＞
（高屈折率層形成用塗液１０：ＨＲ１０）
９，９−ビス［４−（２−アクリロイルオキシエトキシ）フェニル］フルオレン２．３質量部、ＡＴＯ微粒子分散液（固形分２５％、平均粒径９ｎｍ、溶剤：メチルイソブチルケトン）２１．０質量部、イルガキュア１８４（ＢＡＳＦ社製（光重合開始剤））０．１質量部を用い、これをメチルイソブチルケトン７６．７質量部にて希釈して高屈折率層形成塗液を調製した。
【００６３】
＜調製例１４＞
（高屈折率層形成用塗液１１：ＨＲ１１）
ＡＴＯ微粒子分散液（固形分２５％、平均粒径９ｎｍ、溶剤：メチルイソブチルケトン）１８．０質量部、ペンタエリスリトールトリアクリレート３．０質量部、イルガキュア１８４（ＢＡＳＦ社製（光重合開始剤））０．１質量部を用い、これをメチルイソブチルケトン７９．０質量部にて希釈して高屈折率層形成塗液を調製した。
【００６４】
＜調製例１５＞
（低屈折率層形成用塗液１：ＬＲ１）
多孔質シリカ微粒子分散液（固形分２０％、平均粒径７５ｎｍ、溶剤：メチルイソブチルケトン）８１．９質量部、ＥＯ変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（商品名：ＤＰＥＡ−１２、日本化薬製）３．６質量部、重合開始剤（ＢＡＳＦ社製、商品名；イルガキュア１８４）０．０７質量部、ＴＳＦ４４６０（商品名、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ（株）製：アルキルポリエーテル変性シリコーンオイル）０．２０質量部を、溶媒であるメチルイソブチルケトン８０質量部で希釈して低屈折率層形成塗液を調製した。
【００６５】
＜調製例１６＞
（低屈折率層形成用塗液２：ＬＲ２）
多孔質シリカ微粒子分散液（固形分２０％、平均粒径７５ｎｍ、溶剤：メチルイソブチルケトン）９０質量部、ＥＯ変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（商品名：ＤＰＥＡ−１２、日本化薬製）２質量部、重合開始剤（ＢＡＳＦ社製、商品名；イルガキュア１８４）０．０７質量部、ＴＳＦ４４６０（商品名、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ（株）製：アルキルポリエーテル変性シリコーンオイル）０．２０質量部を、溶媒であるメチルイソブチルケトン８０質量部で希釈して低屈折率層形成塗液を調製した。
【００６６】
＜調製例１７＞
（低屈折率層形成用塗液３：ＬＲ３）
多孔質シリカ微粒子分散液（固形分２０％、平均粒径７５ｎｍ、溶剤：メチルイソブチルケトン）５０質量部、ＥＯ変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（商品名：ＤＰＥＡ−１２、日本化薬製）１０質量部、重合開始剤（ＢＡＳＦ社製、商品名；イルガキュア１８４）０．０７質量部、ＴＳＦ４４６０（商品名、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ（株）製：アルキルポリエーテル変性シリコーンオイル）０．２０質量部を、溶媒であるメチルイソブチルケトン８０質量部で希釈して低屈折率層形成塗液を調製した。
【００６７】
＜形成例１＞
（ハードコート層の形成）
トリアセチルセルロースフィルム（富士フィルム製：膜厚６０μｍ）の片面にハードコート層形成用塗液を塗布し、６５℃・３０秒オーブンで乾燥し、乾燥後、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン、光源Ｈバルブ）を用いて照射線量２００ｍＪ／ｍ２で紫外線照射をおこなうことにより乾燥膜厚５μｍの透明なハードコート層を形成させた。
【００６８】
＜形成例２＞
（高屈折率層の形成）
上記方法にて形成したハードコート層上に高屈折率層形成用塗液を乾燥後の膜厚が１６５ｎｍとなるように塗布した。紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン、光源Ｈバルブ）を用いて照射線量３５０ｍＪ／ｍ２で紫外線照射をおこなって硬化させて高屈折率層を形成した。
【００６９】
＜形成例３＞
（低屈折率層の形成）
上記方法にて形成した高屈折率層上に低屈折率層形成用塗液を乾燥後の膜厚が１１０ｎｍとなるように塗布した。紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン、光源Ｈバルブ）を用いて照射線量３００ｍＪ／ｍ２で紫外線照射をおこなって硬化させて低屈折率層を形成し、反射防止フィルムを作製した。
【００７０】
実施例１は、ハードコート層においては＜調製例１＞の塗液を用い＜形成例１＞の手法にて製膜を行い、高屈折率層においては＜調製例４＞の塗液を用い＜形成例２＞の手法にて製膜を行い、低屈折率層においては＜調製例１５＞の塗液を用い＜形成例３＞の手法にて製膜を行い、反射防止フィルムを形成した例である。
【００７１】
実施例２は、ハードコート層においては＜調製例１＞の塗液を用い＜形成例１＞の手法にて製膜を行い、高屈折率層においては＜調製例５＞の塗液を用い＜形成例２＞の手法にて製膜を行い、低屈折率層においては＜調製例１５＞の塗液を用い＜形成例３＞の手法にて製膜を行い、反射防止フィルムを形成した例である。
【００７２】
実施例３は、ハードコート層においては＜調製例１＞の塗液を用い＜形成例１＞の手法にて製膜を行い、高屈折率層においては＜調製例６＞の塗液を用い＜形成例２＞の手法にて製膜を行い、低屈折率層においては＜調製例１５＞の塗液を用い＜形成例３＞の手法にて製膜を行い、反射防止フィルムを形成した例である。
【００７３】
実施例４は、ハードコート層においては＜調製例１＞の塗液を用い＜形成例１＞の手法にて製膜を行い、高屈折率層においては＜調製例７＞の塗液を用い＜形成例２＞の手法にて製膜を行い、低屈折率層においては＜調製例１５＞の塗液を用い＜形成例３＞の手法にて製膜を行い、反射防止フィルムを形成した例である。
【００７４】
実施例５は、ハードコート層においては＜調製例１＞の塗液を用い＜形成例１＞の手法にて製膜を行い、高屈折率層においては＜調製例８＞の塗液を用い＜形成例２＞の手法にて製膜を行い、低屈折率層においては＜調製例１５＞の塗液を用い＜形成例３＞の手法にて製膜を行い、反射防止フィルムを形成した例である。
【００７５】
実施例６は、ハードコート層においては＜調製例１＞の塗液を用い＜形成例１＞の手法にて製膜を行い、高屈折率層においては＜調製例９＞の塗液を用い＜形成例２＞の手法にて製膜を行い、低屈折率層においては＜調製例１５＞の塗液を用い＜形成例３＞の手法にて製膜を行い、反射防止フィルムを形成した例である。
【００７６】
実施例７は、ハードコート層においては＜調製例１＞の塗液を用い＜形成例１＞の手法にて製膜を行い、高屈折率層においては＜調製例１０＞の塗液を用い＜形成例２＞の手法にて製膜を行い、低屈折率層においては＜調製例１５＞の塗液を用い＜形成例３＞の手法にて製膜を行い、反射防止フィルムを形成した例である。
【００７７】
実施例８は、ハードコート層においては＜調製例１＞の塗液を用い＜形成例１＞の手法にて製膜を行い、高屈折率層においては＜調製例１１＞の塗液を用い＜形成例２＞の手法にて製膜を行い、低屈折率層においては＜調製例１５＞の塗液を用い＜形成例３＞の手法にて製膜を行い、反射防止フィルムを形成した例である。
【００７８】
比較例１は、ハードコート層においては＜調製例２＞の塗液を用い＜形成例１＞の手法にて製膜を行い、高屈折率層においては＜調製例４＞の塗液を用い＜形成例２＞の手法にて製膜を行い、低屈折率層においては＜調製例１５＞の塗液を用い＜形成例３＞の手法にて製膜を行い、反射防止フィルムを形成した例である。
【００７９】
比較例２は、ハードコート層においては＜調製例３＞の塗液を用い＜形成例１＞の手法にて製膜を行い、高屈折率層においては＜調製例４＞の塗液を用い＜形成例２＞の手法にて製膜を行い、低屈折率層においては＜調製例１５＞の塗液を用い＜形成例３＞の手法にて製膜を行い、反射防止フィルムを形成した例である。
【００８０】
比較例３は、ハードコート層においては＜調製例１＞の塗液を用い＜形成例１＞の手法にて製膜を行い、高屈折率層においては＜調製例１２＞の塗液を用い＜形成例２＞の手法にて製膜を行い、低屈折率層においては＜調製例１５＞の塗液を用い＜形成例３＞の手法にて製膜を行い、反射防止フィルムを形成した例である。
【００８１】
比較例４は、ハードコート層においては＜調製例１＞の塗液を用い＜形成例１＞の手法にて製膜を行い、高屈折率層においては＜調製例１３＞の塗液を用い＜形成例２＞の手法にて製膜を行い、低屈折率層においては＜調製例１５＞の塗液を用い＜形成例３＞の手法にて製膜を行い、反射防止フィルムを形成した例である。
【００８２】
比較例５は、ハードコート層においては＜調製例１＞の塗液を用い＜形成例１＞の手法にて製膜を行い、高屈折率層においては＜調製例４＞の塗液を用い＜形成例２＞の手法にて製膜を行い、低屈折率層においては＜調製例１６＞の塗液を用い＜形成例３＞の手法にて製膜を行い、反射防止フィルムを形成した例である。
【００８３】
比較例６は、ハードコート層においては＜調製例１＞の塗液を用い＜形成例１＞の手法にて製膜を行い、高屈折率層においては＜調製例４＞の塗液を用い＜形成例２＞の手法にて製膜を行い、低屈折率層においては＜調製例１７＞の塗液を用い＜形成例３＞の手法にて製膜を行い、反射防止フィルムを形成した例である。
【００８４】
比較例７は、ハードコート層においては＜調製例１＞の塗液を用い＜形成例１＞の手法にて製膜を行い、高屈折率層においては＜調製例１４＞の塗液を用い＜形成例２＞の手法にて製膜を行い、低屈折率層においては＜調製例１５＞の塗液を用い＜形成例３＞の手法にて製膜を行い、反射防止フィルムを形成した例である。
【００８５】
特に説明のないものについては、実施例１での操作に準じるものとする。
【００８６】
実施例１から実施例８まで、及び比較例１から比較例７までで得られた反射防止フィルムについて、以下の方法で評価を行った。
【００８７】
（塗布ムラ）
作製した反射防止フィルムに対し、塗布膜の面内均一性を評価した。塗布膜の面内均一性は、作成した反射防止フィルムの低屈折率層の形成されていない面につや消し黒色塗料を塗布し、反射防止の処置を行った後に、目視にて評価を行った。判定基準を以下に示す。
○：ムラなし
×：ムラあり 
【００８８】
（機械強度）
塗布膜の機械強度は、低屈折率層表面をスチールウール〔ボンスター＃００００：日本スチールウール（株）製〕により２００ｇ/ｃｍ２、３００ｇ/ｃｍ２、４００ｇ/ｃｍ２、５００ｇ/ｃｍ２でそれぞれ１０回擦り、傷の有無を目視評価した（スチールウール試験）。判定基準を以下に示す。
○：傷なし 
△：薄く傷あり
×：傷あり。
【００８９】
（平均視感反射率） 
得られた反射防止フィルムの低屈折率層表面について、自動分光光度計（日立製作所製、Ｕ−４１００）を用い、入射角５°における分光反射率を測定した。また、得られた分光反射率曲線からＪＩＳＲ３１０６に従って平均視感反射率を求めた。なお、測定の際には透明支持体であるトリアセチルセルロースフィルムのうち低屈折率層の形成されていない面につや消し黒色塗料を塗布し、反射防止の処置をおこなった。
【００９０】
（反射光の色相）
得られた反射防止フィルムの低屈折率層表面について、自動分光光度計（日立製作所製、Ｕ−４１００）を用い、入射角５°、３０°、４５°における分光反射率を測定し、得られた分光反射率曲線からＣＩＥ標準光源であるＣ光源の波長３８０ｎｍから７８０ｎｍまでの領域における反射光の色相を求め、この色相がＣＩＥ１９７６Ｌ＊ａ＊ｂ＊色空間において、いずれの入射角においても−３≦ａ＊≦３、−５≦ｂ＊≦５を満たすかどうかを判定した。なお、測定の際には透明支持体であるトリアセチルセルロースフィルムのうち低屈折率層の形成されていない面につや消し黒色塗料を塗布し、反射防止の処置をおこなった。判定基準を以下に示す。
○：反射色相を満たす
△：一部面内で反射色相を満たす
×：反射色相を満たさない
【００９１】
表１：実施例と比較例の塗液、屈折率一覧
【表１】
2014232279.tif 000003
【００９２】
表１における「固形分比率」は、実施例および比較例の各々において利用した高屈折率層形成用塗液（ＨＲ１〜ＨＲ１１）に含まれる、（Ａ）高屈折率微粒子、（Ｂ）多感能アクリレートおよび（Ｃ）ビスアリールフルオレン骨格を有するアクリレートのそれぞれの固形分（質量部）の総和に対して、上述した物質（Ａ）、（Ｂ）および（Ｃ）の固形分が占める割合を示した値（百分率）である。なお、高屈折率層形成用塗液ＨＲ１からＨＲ１１までの各々に含まれる高屈折率微粒子分散液、具体的には、ＡＴＯ微粒子分散液の固形分は、上述ように、当該分散液における２５％を占めていることに留意のこと。なお、上述の高屈折率層形成用塗液に含まれる全固形分（（Ａ）＋（Ｂ）＋（Ｃ））対するＡＴＯ微粒子の固形分比率は、６０％未満であり、好ましくは、１０％以上６０％未満の範囲であり、さらに好ましくは、１８％以上かつ５０％未満の範囲であり、より好ましくは、１８以上かつ４８以下の範囲である。
【００９３】
表１における各層の屈折率の測定は、次のようにして行った。すなわち、各層の屈折率は、シリコン基板上に各層の塗液を５００ｎｍから１５００ｎｍの膜厚で形成し、分光エリプソメーター（Ｊ．Ａ．Ｗｏｏｌｌａｍ社製ＶＡＳＥ）を用いて３００ｎｍから１３００ｎｍの波長域を測定し、５５０ｎｍでの屈折率を得た。
【００９４】
表２：実施例と比較例の評価結果一覧
【表２】
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【００９５】
表２の結果より、実施例１から実施例８までの反射防止フィルムは良好な性能を示した。他方、比較例１から４まで、及び比較例６のフィルムは、ＣＩＥ標準光源であるＣ光源の波長３８０ｎｍから７８０ｎｍの領域における、入射角が５°から４５°までの範囲にある入射光に対して、入射角と反射角が等しい反射条件における反射光の色相が、ＣＩＥ１９７６Ｌ＊ａ＊ｂ＊色空間において、−３≦ａ＊≦３、−５≦ｂ＊≦５を満たしておらず、反射光に色味が付く結果となった。また、比較例５については、低屈折率層の製膜ができなかった。これは、低屈折率層を構成するバインダーが膜組成に対して不足していたためであると考えられる。また、比較例７に関しては、反射光の色相については目的のものは得られたが、高屈折率層を構成するＡＴＯ微粒子の比率（より具体的には、（Ａ）高屈折率微粒子、（Ｂ）多感能アクリレートおよび（Ｃ）ビスアリールフルオレン骨格を有するアクリレートのそれぞれの固形分（質量部）の総和に対する、（Ａ）高屈折率微粒子の固形分の比）が高いため、塗工液の微粒子分散性が悪化し、製膜した際の面内均一性が悪化したために、塗布ムラが起こったものと考えられる。また、高屈折率層を構成するバインダーが膜組成に対して不足していたため、膜強度も低下する結果となった。
【００９６】
本明細書において開示される反射防止フィルムは、反射防止フィルム表面での平均視感反射率を０．０５％以上１．０％以下の範囲内にすることができ、その正面からの反射光の色相を低減するとともに、様々な角度から入射する外光の反射光に対しても色相を低減することができる。
【符号の説明】
【００９７】
１０…反射防止フィルム
１１…透明支持体
１２…ハードコート層
１３…高屈折率層
１４…低屈折率層
【図１】
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