(57)【要約】【課題】セシウム汚染水を安全且つ効果的に処理することができる装置を提供する。【解決手段】装置１０の処理槽１１は、セシウム汚染水を投入する投入口２０と、この処理槽の所定高さ位置に設けられて処理槽内を上方域１２と下方域１３とに仕切る多孔仕切板１１と、多孔仕切板の上面に多数配置されて超音波振動エネルギーにより処理槽上方域の処理水をミスト化する超音波振動素子１９と、該ミストを処理槽の上部から排出する排出口２１と、処理槽下方域に滞留する高濃度セシウム汚染水２５を排出する排水口２６とを備える。開閉制御可能なバルブ２７を有する排水路２９が排水口に接続され、制御手段３５は、処理槽下方域の処理水の電気伝導率が閾値を越えたときに該バルブを開いて高濃度セシウム汚染水を排水口および排水路を介して排出する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
処理槽と、この処理槽にセシウム汚染水を投入する投入口と、この処理槽の所定高さ位置に設けられて処理槽内を上方域と下方域とに仕切る多孔仕切板と、多孔仕切板の上面に多数配置されて超音波振動エネルギーにより処理槽上方域の処理水をミスト化する超音波振動素子と、該ミストを処理槽の上部から排出する排出口と、処理槽下方域に滞留する高濃度セシウム汚染水を排出する排水口と、を備えることを特徴とするセシウム汚染水の処理装置。
【請求項２】
前記排水口に開閉制御可能なバルブを有する排水路が接続されることを特徴とする、請求項１記載の処理装置。
【請求項３】
前記処理槽下方域に滞留する高濃度セシウム汚染水の電気伝導率を測定するＥＣ計を備え、さらに、このＥＣ計による測定値が閾値を越えたときに前記バルブを開いて高濃度セシウム汚染水を前記排水口および排水路を介して排出するバルブ制御手段を備えることを特徴とする、請求項２記載の処理装置。
【請求項４】
前記処理槽中の水位が前記多孔仕切板上に設けられる振動素子近くの所定高さ位置まで低下したことを検知する水位計が設けられることを特徴とする、請求項１ないし３のいずれか記載の処理装置。
【請求項５】
前記処理槽上方域の処理水のｐＨを測定するｐＨ計を備えることを特徴とする、請求項１ないし４のいずれか記載の処理装置。
【請求項６】
前記多孔仕切板には上面側より下面側の方が小さく開口する逆流防止形状の通水孔が多数形成され、該通水孔が存在しない箇所の多孔仕切板上面に前記振動素子が配置されることを特徴とする、請求項１ないし５のいずれか記載の処理装置。
【請求項７】
請求項１ないし６のいずれか記載の処理装置を一次処理装置とし、さらに、該一次処理装置から排出されるミストを処理する二次処理装置を有し、該二次処理装置は、処理槽と、一次処理装置から排出されるミストを投入する投入口と、処理槽内の処理水を加温するヒーターと、加温により処理液中の水が気化して得られる水蒸気を処理槽の上部から排出する排気口と、処理槽に滞留する高濃度セシウム汚染水を排出する排水口と、を備えることを特徴とするセシウム汚染水の処理装置。
【請求項８】
二次処理装置の処理槽内を減圧する減圧手段が設けられることを特徴とする、請求項７記載の処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、放射性セシウムで汚染されたセシウム汚染水を処理する装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
平成２３年３月１１日に発生した東北地方太平洋沖地震は未曾有の東日本大震災を引き起こし、この地震と津波によって発生した東京電力福島第一原子力発電所事故は放射性物質の漏出に伴う深刻な環境汚染問題を生じさせるに至っている。原子炉から放出された放射性物質は主としてヨウ素１３１，セシウム１３４およびセシウム１３７であり、このうち半減期が８日と短いヨウ素１３１は既に消滅しているが、セシウム１３４（半減期＝約２年）とセシウム１３７（半減期＝約３０年）については現在もなお周辺地域の土壌などに残存していると考えられることから、セシウムの除染作業が急務である。
【０００３】
このような背景から様々な除染方法が開発され提案されており、たとえば、独立行政法人産業技術総合研究所は、土壌を低濃度の酸水溶液で洗浄することによりセシウムイオンを酸水溶液中に脱離させた後、プルシアンブルーナノ粒子に吸着させて回収する技術を開発したとされる（非特許文献１）。これによれば、０．５モル／Ｌ程度の低濃度の希硫酸または稀硝酸であっても高収率でセシウムイオンを抽出することができ、且つ、これをプルシアンブルーナノ粒子でほぼ１００％回収することができ、しかもプルシアンブルーナノ粒子の使用量は汚染土壌の１／１５０で済むことから大幅に廃棄物を減量することができたと報告されている。
【先行技術文献】
【非特許文献】
【０００４】
【非特許文献１】URL：http://www.aist.go.jp/aist_j/press_release/pr2011/pr20110831/pr20110831.html
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、低濃度とは言っても硫酸や硝酸などの強酸薬品を使用することは、その保管・運搬・取扱時の危険性や、処理後の廃棄による環境汚染などが懸念される。設備の整った環境で熟練者が処理するのであれば問題ないとしても、一般の人が実行する方法としては処理を誤った場合に人体などに与える危険が皆無であるとは言えないし、心理的な不安要素も大きい。
【０００６】
また、上記従来技術は希硝酸溶液などをたとえば９５℃、より好ましくは加圧下で１００℃以上に加温して処理することが提案されているが、汚染廃棄物現場などでこのような処理温度を採用することは非現実的である。上記従来技術の図３には、０．５モル／Ｌ希硝酸を固液比２００で混合して４５分静置した場合のセシウムイオン抽出量の温度依存性が示されているが、２００℃ではセシウムイオンをほぼ１００％抽出することができるものの、１００℃を下回ると極端に効果が低下し、常温ではほとんどセシウムイオンが抽出されないことを示している。すなわち、この方法は少なくとも１００℃に近い高温まで加熱することが必須条件であり、常温での処理では効果が認められない。
【０００７】
さらに、プルシアンブルーも熱やアルカリに反応して生体に強い毒性を示すシアン化合物を遊離するので、一般に使用するには危険性が大きい。これらの理由から、上記従来技術は、一定の条件下においてはその効果が認められるとしても、実際上は採用が困難であるため、実験的な実施に止まっているのが現状である。
【０００８】
したがって、本発明が解決しようとする課題は、セシウム汚染水を安全且つ効果的に処理することができる装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記課題を解決するため、請求項１に係る本発明は、処理槽と、この処理槽にセシウム汚染水を投入する投入口と、この処理槽の所定高さ位置に設けられて処理槽内を上方域と下方域とに仕切る多孔仕切板と、多孔仕切板の上面に多数配置されて超音波振動エネルギーにより処理槽上方域の処理水をミスト化する超音波振動素子と、該ミストを処理槽の上部から排出する排出口と、処理槽下方域に滞留する高濃度セシウム汚染水を排出する排水口と、を備えることを特徴とするセシウム汚染水の処理装置である。
【００１０】
請求項２に係る本発明は、請求項１記載の処理装置において、前記排水口に開閉制御可能なバルブを有する排水路が接続されることを特徴とする。
【００１１】
請求項３に係る本発明は、請求項２記載の処理装置において、前記処理槽下方域に滞留する高濃度セシウム汚染水の電気伝導率を測定するＥＣ計を備え、さらに、このＥＣ計による測定値が閾値を越えたときに前記バルブを開いて高濃度セシウム汚染水を前記排水口および排水路を介して排出するバルブ制御手段を備えることを特徴とする。
【００１２】
請求項４に係る本発明は、請求項１ないし３のいずれか記載の処理装置において、前記処理槽中の水位が前記多孔仕切板上に設けられる振動素子近くの所定高さ位置まで低下したことを検知する水位計が設けられることを特徴とする。
【００１３】
請求項５に係る本発明は、請求項１ないし４のいずれか記載の処理装置において、前記処理槽上方域の処理水のｐＨを測定するｐＨ計を備えることを特徴とする。
【００１４】
請求項６に係る本発明は、請求項１ないし５のいずれか記載の処理装置において、前記多孔仕切板には上面側より下面側の方が小さく開口する逆流防止形状の通水孔が多数形成され、該通水孔が存在しない箇所の多孔仕切板上面に前記振動素子が配置されることを特徴とする。
【００１５】
請求項７に係る本発明は、請求項１ないし６のいずれか記載の処理装置を一次処理装置とし、さらに、該一次処理装置から排出されるミストを処理する二次処理装置を有し、該二次処理装置は、処理槽と、一次処理装置から排出されるミストを投入する投入口と、処理槽内の処理水を加温するヒーターと、加温により処理液中の水が気化して得られる水蒸気を処理槽の上部から排出する排気口と、処理槽に滞留する高濃度セシウム汚染水を排出する排水口と、を備えることを特徴とするセシウム汚染水の処理装置である。
【００１６】
請求項８に係る本発明は、請求項７記載の処理装置において、二次処理装置の処理槽内を減圧する減圧手段が設けられることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１７】
請求項１に係る本発明によれば、超音波振動エネルギーによるミスト化を通じてセシウム汚染水を大幅に減容させることができる。超音波によるミスト化（霧化）は加湿器などに実用されており、既存技術の応用で容易に本発明を具体化することができる。処理槽に投入された処理水中のセシウム（主として水酸化セシウムとして存在する）は、そのモル質量（約１５０ｇｍｏｌ−１）が水よりはるかに大きいので徐々に沈降し、多孔仕切板を通過して処理槽下方域に移動して滞留するので、超音波振動エネルギーでミスト化されるのはほとんどが水（Ｈ２Ｏ）であってセシウムをほとんど含まない。したがって、これをミスト排出口を通じてそのまま大気中に放出し、または川や海に放流しても環境汚染を引き起こすことはない。このミスト化によって処理槽内の処理水を大幅に減容することができる。
【００１８】
また、セシウム汚染水は多くの場合泥水に近い状態であるが、本発明によれば、効果的に汚泥と水を分離させることができる。汚泥と水を分離するには一般に凝集剤が用いられるが、凝集剤を用いることは必然的に凝集剤にセシウムが移染し、凝集剤自体がセシウム汚染物になり、セシウム汚染された凝集剤を汚染廃棄物として処理しなければならないという問題が生ずる。本発明によれば、凝集剤を用いずに、上述の質量差による沈降を通じて汚泥を水から分離すると共にミスト化を通じて水を放出して減容させることができるので、新たな汚染廃棄物を生じさせない。
【００１９】
処理槽下方域には、水酸化セシウムの分子に水素イオンが反応してイオン化したセシウムイオン（Ｃｓ＋）が高濃度に存在するが、水中に閉じ込められている限り外部には放出されないので、この高濃度セシウム汚染水を処理槽から排出し、タンクローリーなどに移載して最終処分場まで運搬し、たとえばＦＲＰなどで形成したタンクに密閉して地下に埋設して、セシウム１３７の半減期（約３０年）の経過を待つことにより、セシウムを無害化することができる。なお、地下埋設については、約３０ｃｍの覆土によって地上へのセシウム放散を実質的に防止できることが確認されている。
【００２０】
請求項２記載の本発明によれば、開閉制御可能なバルブを有する排水路が排水口に接続されるので、バルブ開閉によって装置を好適に制御することができる。
【００２１】
請求項３記載の本発明によれば、上記制御の一形態として、ＥＣ計による測定値が閾値を越えたときに、排水路のバルブを開いて、処理槽下方域に滞留する高セシウム濃度の処理水を排出するように制御することができる。処理水のＥＣ値が上昇したことは、水酸化セシウムの沈降およびミスト化による減容の結果として処理槽下方域のセシウムが高濃度化したことを意味するから、所定ＥＣ値を超えたときにこの高濃度セシウム汚染水を排出することによって安全性を確保することができる。
【００２２】
請求項４記載の本発明によれば、処理槽中の水位が多孔仕切板上の振動素子近くまで低下したことを検知する水位計が設けられるので、前記ミスト化による減容が進んでも一定以上の水位を保持し、振動素子の露出による損壊を防止することができる。
【００２３】
請求項５記載の本発明によれば、処理槽上方域の処理水のｐＨを測定するｐＨ計を備えるので、排出口から排出するミストのｐＨが排出に適した所定範囲（たとえば５．８〜８．６）内であることを確認することができる。
【００２４】
請求項６記載の本発明によれば、処理槽上方域から多孔仕切板を通過して一旦処理槽下方域に入り込んだ処理水が処理槽上方域に逆流することを防止するので、処理槽上方域の処理水のセシウム濃度を高めることがなく、安全性を確保することができる。
【００２５】
請求項７記載の本発明によれば、超音波振動により霧化されて放出されたミストを二次処理装置に投入して加熱処理することにより、水とセシウムの沸点が大きく相違することを利用して分留の原理で除染効果をさらに高めることができる。すなわち、超音波振動によるミストに微量のセシウムが含まれることがあるとしても、水の沸点１００℃に対してセシウムの沸点は約９９０℃と非常に高温であることから、排出ミストを二次処理装置の処理槽に貯留し、これを１００℃近くに加熱することによって水だけを気化させて水蒸気として大気中に排出することができる。セシウムは水とは共沸しないので、高濃度セシウム汚染水として処理槽に留まり、前述したように廃棄（地下埋設）して半減期の経過を待つ。
【００２６】
請求項８記載の本発明によれば、二次処理装置の処理槽内を減圧することにより、加温分留効果をより高めることができる。減圧による真空度は、たとえば−０．１〜−０．０８ＭＰａ程度とすることができる。
【図面の簡単な説明】
【００２７】
【図１】本発明の一実施形態によるセシウム汚染水の処理装置の概略構成図である。
【図２】図１中のＡ部を示す拡大断面図である。
【図３】図１の装置を含んで構成されるセシウム除染ラインの一例を示す図である
【図４】本発明の他実施形態によるセシウム汚染水の処理装置の概略構成図である。
【発明を実施するための形態】
【００２８】
図１および図２を参照して、本発明の一実施形態によるセシウム汚染水の処理装置について説明する。この装置１０は、多孔仕切板１４により上方域１２と下方域１３とに仕切られた処理槽１１を有する。多孔仕切板１１は、ＳＵＳ３０４ステンレスなどで形成された金属板１５に、上面１６側より下面１７側の方が小さく開口する逆流防止形状（この実施形態では漏斗形状）の微細通水孔１８が多数形成され、微細通水孔１８が存在しない箇所の多孔仕切板上面１６に任意数の超音波振動素子（圧電セラミックス）１９が配置されている。
【００２９】
処理槽１４の上部には、セシウム汚染水を処理槽１４に投入する投入口２０が設けられると共に、処理水２４をミスト化して排出する排出口２１が設けられる。公知のように、電極（図示せず）間に振動素子１９を挿入して電圧（図示せず）を印加することにより、振動素子１９が伸縮を繰り返して超音波を発生させるので、投入口２０から投入されて処理槽上方域１２に収容されている処理水２４を、この超音波振動エネルギーによりミスト化して、排出口２１から排出管２２を介して排出することができる。符号２３は排出口２１からのミスト排出をより効果的に行うために排出管２２の入口（排出口２１）または出口に任意に設けられる排出ファンである。
【００３０】
処理槽１４は、さらに、処理槽下方域１３に滞留する処理水２５を排出する排水口２６を有する。この排水口２６には、開閉制御可能なバルブ２７およびポンプ２８を備えた排水路２９が接続されている。
【００３１】
装置１０は、さらに、処理槽上方域１２内の処理水２４および処理槽下方域１３内の処理水２５の電気伝導率（導電率）を測定するＥＣ計３０，３１と、処理槽上方域１２内の処理水２４が満水位および渇水位に達したことを検出する水位計３２，３３と、処理槽上方域１２内の処理水２４のｐＨ値を測定するｐＨ計３４を備える。ＥＣ計３０，３１による測定値Ｓ１，Ｓ２、水位計３２，３３による検出結果Ｓ３，Ｓ４およびｐＨ計３４による測定値Ｓ５は、処理槽１１の外部に設けられる制御装置３５に入力され、予め定められた制御プログラムに基いてバルブ２７の開閉制御などの制御を行う。
【００３２】
上記のように構成される装置１０の運転および動作について説明する。バルブ２７が閉じられている状態で、セシウム汚染水（たとえばセシウム汚染された土壌を含む泥水）を投入口２０から処理槽１１内に投入し、処理槽上方域１２の渇水位〜満水位の水位となるように充填する。この状態で、電圧を印加して振動素子１９を駆動し、発生した超音波振動エネルギーを処理水２４に与えることにより、処理水２４が霧化し、微細な水滴すなわちミストとして排出口２１および排出管２２を介して外部に放出される。セシウム（主として水酸化セシウムとして存在する）のモル質量（約１５０ｇｍｏｌ−１）は水よりはるかに大きいので徐々に沈降し、多孔仕切板１４を通過して処理槽下方域１３に移動して滞留するので、超音波振動エネルギーでミスト化されるのはほとんどが水（Ｈ２Ｏ）であってセシウムをほとんど含まない。したがって、そのまま大気中に放散し、または河川や海などに放流しても環境汚染を生じない。
【００３３】
超音波振動と共に加熱を用いて、処理水２４を蒸発させ、水蒸気を排出口２１および排出路２２を通じて大気に放出しても良い。処理水２４に含まれる水酸化セシウムなどのセシウム塩は１０００℃近くにならないと気化も分解もしないので、水の沸点１００℃程度まで加熱してもセシウムが放散されることはなく、ミスト放出と同じく環境汚染を生じない。
【００３４】
処理槽１１内の処理水は、超音波振動によるミスト化（および蒸発）が進行するにつれてその水位が低下していくが、渇水位検出用の水位計３３が設けられているので、この検出結果Ｓ４を受けた制御装置３５が警報装置（図示せず）を鳴動させて投入口２０からの注水を促し、または自動的に投入口２０から注水するように制御することで、振動素子１９の露出による損壊を防止する。
【００３５】
処理槽１１に投入された処理水中のセシウム（主として水酸化セシウムとして存在する）は、そのモル質量（約１５０ｇｍｏｌ−１）が水よりはるかに大きいので徐々に沈降し、多孔仕切板１４の微細通水孔１８を通過して処理槽下方域１３に移動して滞留する。前述のように微細通水孔１８は漏斗形状のような逆流防止形状を有するので、一旦下方域１３に移動したセシウムは微細通水孔１８を通って上方域１２に逆流することなく下方域１３に止まる。このようにして、下方域１３内の処理水２５は、次第にセシウム濃度が増加していく。
【００３６】
下方域１３の処理水２５は直接または一旦別の槽に収容した後にタンクローリーなどに搭載して最終処分場に運搬して地中埋設されることになるが、この処理水２５のセシウム濃度が過度に上昇することはその後の処理や運搬の安全性を低下させる恐れがあるので、ある程度のセシウム濃度に達したときに、バルブ２７を開くと共にポンプ２８を駆動して、この高濃度セシウム汚染処理水２５を排水口２６および排水路２９を介して処理槽１１から排出することが好ましい。しかしながら、処理槽下方域１３は遮蔽された密閉空間であるため、ガイガーカウンターなどで直接放射線量を測定することは困難である。
【００３７】
そこで、この装置１０では、下方域１３の処理水２５の電気伝導度をＥＣ計３１で常時測定し、この測定値をセシウム濃度を示す指標として用いることとしている。電気伝導度は水に溶解する無機塩類の量に概ね比例するので、下方域１３の処理水２５の電気伝導度は、この処理水２５に主として含まれれる無機塩類である水酸化セシウムの濃度に概ね比例すると考えることができる。したがって、ＥＣ計３１による測定値が閾値（たとえば５０，０００μＳ／ｃｍ）を示したときに入力される信号Ｓ２に基いて、制御装置３５はバルブ２７を開くと共にポンプ２８を駆動して、この高濃度セシウム汚染水２５を排水口２６および排水路２９を介して排出する。
【００３８】
この実施形態では、上方域１２の処理水２４についてもその電気伝導度をＥＣ計３０で常時測定するので、この測定値Ｓ１を基準値として、バルブ２７を開くときの閾値（ＥＣ計３１により測定される下方域１３の処理水２５の電気伝導度）を決定しても良い。
【００３９】
ｐＨ計３４は、処理槽上方域１２の処理水２４のｐＨを常時監視するので、排出口２１から排出されるミストのｐＨが排出に適した所定範囲（たとえば５．８〜８．６）内であることを確認することができ、制御装置３５は、ｐＨ計３４による測定値Ｓ５がこの所定範囲から外れたときは水またはアルカリを投入口２０から注入してｐＨ調整するように促し、または自動的にｐＨ調整を行うように制御する。
【００４０】
図３は、この装置１０を含んで構成されるセシウム除染ラインの一例を示す図である。セシウム汚染された土壌や焼却灰などのセシウム汚染物を浸漬槽３６に投入して酸やアルカリなどの洗浄液に浸漬する。好ましくは、セシウム汚染物を回転ドラムに投入し、液体分を回転ドラムの外周面に形成した通水孔から浸漬槽３６に流下させ、回転ドラムに残された固形分は土壌に埋設するような構成を採用する。処理後の洗浄液（廃液）は計量槽３７を経て、本発明装置１０の処理槽１１に投入され、前述したようなミスト化および減容が行われた後、
排水路２９を通って排出され、濃縮セシウム監視槽３８を経てタンク３９に収容され、タンクローリーで最終処分場に運搬されて地中埋設される。好ましくは、濃縮セシウム監視槽３８からの排水を処理槽１１にリターンするリターンライン４０を設けて再処理する。
【００４１】
図４は、本発明の他実施形態によるセシウム汚染水の処理装置の概略構成図である。この処理装置は、図１および図２に示す処理装置１０を一次処理装置として用いると共に、一次処理装置１０から排出されるミストを処理する二次処理装置５０を有する。一次処理装置１０の構成および作用は既述した通りであるので、重複説明を省く。
【００４２】
二次処理装置５０は、処理槽４１と、処理槽４１内の処理水４３を加温するヒーター５６と、処理槽４１内を減圧する真空ポンプ５５とを有する。処理槽４１の上部には、一次処理装置１０の排出管２２を通じて排出されるミストを処理槽４１に投入する投入口４２が設けられると共に、処理槽４１から水蒸気を排出する排気口４４が設けられる。符号４５は排気口４４からの水蒸気排出をより効果的に行うために排気管４６の入口（排気口４４）または出口に任意に設けられる排出ファンである。
【００４３】
処理槽４１は、さらに、処理槽４１の下方域に滞留する処理水４３（高濃度セシウム汚染水）を排出する排水口４７を有する。この排水口４７には、開閉制御可能なバルブ４８およびポンプ４９を備えた排水路５７が接続されている。
【００４４】
二次処理装置５０は、さらに、処理槽４１内の処理水４３の電気伝導率（導電率）を測定するＥＣ計５１と、処理水４３のｐＨ値を測定するｐＨ計５２と、処理水４３が満水位および渇水位に達したことを検出する水位計５３，５４とを備える。ＥＣ計５１，ｐＨ計５２および水位計５３，５４による各検出結果ないし測定値Ｓ５は、制御装置３５（図１）に入力され、予め定められた制御プログラムに基いてバルブ４８の開閉制御などの制御を行う。
【００４５】
上記のように構成される二次処理装置５０の運転および動作について説明する。バルブ４８が閉じられている状態で、一次処理装置１０から排出されるミストが投入口４２から処理槽４１内に投入され、処理槽４１の渇水位〜満水位の水位となるように充填する。この状態で、ヒーター５６を駆動して処理水４３の水温を１００℃近くまで加温することにより、処理水４３中のＨ２Ｏのみを気化して、排気口４４および排気管４６を介して大気中に放出する。一次処理装置１０から排出されるミスト（処理水４３）に微量のセシウムが含まれていたとしても、セシウムの沸点は約９９０℃とはるかに高温なので、１００℃程度の加熱でＨ２Ｏと共に共沸することはなく、分留によって処理槽４１内に留まる。したがって、この加熱により気化した気体をそのまま大気に放出しても汚染の問題は生じない。ヒーター５６により加熱の際に、真空ポンプ５５を駆動して処理槽４１内をたとえば−０．１〜−０．０８ＭＰａ程度の真空度に減圧すると、加熱を効率的に行って気化を進行させることができるので好ましい。
【００４６】
処理水４３中のＨ２Ｏの気化が進行するにつれて、処理水４３が減容され、処理水４３中のセシウム濃度が上昇していく。処理水４３は直接または一旦別の槽に収容した後にタンクローリーなどに搭載して最終処分場に運搬して地中埋設されることになるが、この処理水４３のセシウム濃度が過度に上昇することはその後の処理や運搬の安全性を低下させる恐れがあるので、ある程度のセシウム濃度に達したときに、バルブ４８を開くと共にポンプ４９を駆動して、この高濃度セシウム汚染処理水を排水口４７および排水路５７を介して処理槽４１から排出することが好ましい。しかしながら、処理槽４１は遮蔽された密閉空間であるため、ガイガーカウンターなどで直接放射線量を測定することは困難である。このため、一次処理装置１０と同様に、二次処理装置５０においても、処理水４３の電気伝導度をＥＣ計５１で常時測定し、この測定値をセシウム濃度を示す指標として用いることとしている。すなわち、ＥＣ計５１による測定値が閾値（たとえば５０，０００μＳ／ｃｍ）を示したときに入力される信号に基いて、制御装置３５はバルブ４８を開くと共にポンプ４９を駆動して、この高濃度セシウム汚染水４３を排水口４７および排水路５７を介して排出する。
【００４７】
ｐＨ計５２は、処理槽４１の処理水４３のｐＨを常時監視し、水蒸気として大気に放出して良いとされる所定範囲（たとえば５．８〜８．６）内であることを確認することができ、制御装置３５は、ｐＨ計４３による測定値がこの所定範囲から外れたときは水またはアルカリを投入口４２から注入してｐＨ調整するように促し、または自動的にｐＨ調整を行うように制御することができる。
【符号の説明】
【００４８】
１０  セシウム汚染水の処理装置
１１  処理槽
１２  上方域
１３  下方域
１４  多孔仕切板
１５  金属板
１６  上面
１７  下面
１８  微細通水孔
１９  超音波振動素子
２０  投入口
２１  排出口
２２  排出管
２３  ファン
２４  上方域の処理水
２５  下方域の処理水（高濃度セシウム汚染水）
２６  排水口
２７  バルブ
２８  ポンプ
２９  排水路
３０  ＥＣ計（上方域の処理水のＥＣ測定用）
３１  ＥＣ計（下方域の処理水のＥＣ測定用）
３２  水位計（満水位測定用）
３３  水位計（渇水位測定用）
３４  ｐＨ計（上方域の処理水のｐＨ測定用）
３５  制御装置
３６  浸漬槽
３７  計量槽
３８  濃縮セシウム監視槽
３９  タンク
４０  リターンライン
４１  処理槽
４２  投入口
４３  処理水
４４  排気口
４５  ファン
４６  排気管
４７  排水口
４８  バルブ
４９  ポンプ
５０  二次処理装置
５１  ＥＣ計
５２  ｐＨ計
５３  水位計（満水位測定用）
５４  水位計（渇水位測定用）
５５  真空ポンプ
５６  ヒーター
５７  排水路
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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