(57)【要約】【課題】  広幅で塗布するときの塗布層の厚み変動を小さくすることができ、かつスジ状欠点の発生を抑制することができるグラビアロールおよびこのグラビアロールを用いた積層フィルムの製造方法を提供する。【解決手段】  円筒状の母材ロールの周面にセルが形成されているグラビアロールであって、グラビアロールの外径が１５０ｍｍ以下、グラビアロールの長さが１１００ｍｍ以上、前記母材ロールの材質がセラミックであることを特徴とする、グラビアロール。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
円筒状の母材ロールの周面にセルが形成されているグラビアロールであって、グラビアロールの外径が１５０ｍｍ以下、グラビアロールの長さが１１００ｍｍ以上、前記母材ロールの材質がセラミックであることを特徴とする、グラビアロール。
【請求項２】
前記グラビアロールの周面の最表面がダイヤモンドライクカーボンで被覆されている、請求項１に記載のグラビアロール。
【請求項３】
基材フィルム上にグラビアロールを用いて塗布層を積層する積層フィルムの製造方法において、前記グラビアロールが円筒状の母材ロールの周面にセルが形成されているグラビアロールであって、グラビアロールの外径が１５０ｍｍ以下、グラビアロールの長さが１１００ｍｍ以上、および前記母材ロールの材質がセラミックであることを特徴とする、積層フィルムの製造方法。
【請求項４】
前記グラビアロールの周面の最表面がダイヤモンドライクカーボンで被覆されている、請求項３に記載の積層フィルムの製造方法。
【請求項５】
塗布幅が１１００ｍｍ以上である、請求項３または４に記載の積層フィルムの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、グラビアロールおよびこのグラビアロールを用いた積層フィルムの製造方法に関する。詳細には、グラビアロールを用いて基材フィルム上に塗布層を積層する積層フィルムの製造において、塗布幅方向の塗布層厚み変動およびスジ状欠点の発生を抑制することができるグラビアロールおよび積層フィルムの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
グラビアロールを用いた塗布方式は一般的に知られており、特に薄膜の塗布に好適である。グラビアロールはロールの周面にセルが形成されたロールで、グラビアロールに供給された塗布液はセルに一旦保持された後、連続搬送する基材フィルムにグラビアロールが接触することによってセル内の塗布液が基材フィルム上に塗布される。
【０００３】
グラビアロールとしては、炭素鋼やステンレス鋼からなる金属製の母材ロールの周面に彫刻等でセルが形成されたグラビアロールが一般的に知られている。
【０００４】
また、炭素鋼やステンレス鋼からなる金属製の母材ロールの周面にセラミックからなるセル形成層を設け、そのセル形成層にレーザー等によってセルが形成されたグラビアロールも知られている（特許文献１、２）。特許文献１および特許文献２では、このような金属製の母材ロールの周面にセラミックからなるセル形成層を設けたものをセラミックグラビアロールと称している。しかし、特許文献１および特許文献２に開示されているセラミックグラビアロールは、セラミックからなる母材ロールを使用したものではない。
【０００５】
一方、画像表示装置やタッチパネル等には、反射防止機能、防眩機能、ハードコート機能、導電機能、帯電防止機能、色補正機能等の機能を有する光学フィルムが、画像表示面や表示装置（タッチパネル）の内部に用いられている。
【０００６】
これらの光学フィルムを構成する各種機能層（例えば、反射防止層、防眩層、ハードコート層、導電層、帯電防止層、色補正層等）は、膜厚の精度が高いこと（膜厚のばらつきが小さいこと）が要求されている。これらの機能層の膜厚のばらつき（膜厚の変動）が大きくなると、干渉縞や色むらが目立ちやすくなる等の不都合が生じることがある。
【０００７】
また更に、これらの光学フィルムは、スジやムラ等の欠点が少ないことが要求されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開２００１−１０４８５２号公報
【特許文献２】特開２００３−２６０３９３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
グラビアロールを用いた塗布方式は、前述したように薄膜塗工に好適であり、特に比較的外径が小さい（例えば外径が１５０ｍｍ以下）グラビアロールは薄膜塗工に好適である。
【００１０】
また、基材フィルム上に各種機能を有する塗布層を積層（塗布）する積層フィルムの製造において、生産性を高めるには塗布幅を大きくすることが有効である。
【００１１】
しかしながら、比較的外径が小さいグラビアロールを用いた塗布方式において、生産性を高めるために塗布幅を大きくした場合（例えば塗布幅が１１００ｍｍ以上の場合）、塗布幅方向における塗布層の厚み変動（ばらつき）が大きくなるという問題がある。
【００１２】
また、グラビアロール塗布方式は、基材フィルムとグラビアロールとが接触しながら塗布層を塗布するという塗布方式であることから、スジ状欠点が発生しやすいという問題がある。このスジ状欠点は、比較的外径が小さい（例えば外径が１５０ｍｍ以下）グラビアロールを用いて広幅（例えば塗布幅が１１００ｍｍ以上）で塗布するときに発生しやすいことがわかった。
【００１３】
そこで、本発明の目的は、外径が比較的小さいグラビアロールを用いて塗布幅を大きくして塗布するときの塗布層の厚み変動を小さくすることができ、かつスジ状欠点の発生を抑制することができるグラビアロール、およびこのグラビアロールを用いた積層フィルムの製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
本発明の上記目的は、以下の発明によって基本的に達成された。
［１］円筒状の母材ロールの周面にセルが形成されているグラビアロールであって、グラビアロールの外径が１５０ｍｍ以下、グラビアロールの長さが１１００ｍｍ以上、および前記母材ロールの材質がセラミックであることを特徴とする、グラビアロール。
［２］前記グラビアロールの周面の最表面がダイヤモンドライクカーボンで被覆されている、前記１に記載のグラビアロール。
［３］基材フィルム上にグラビアロールを用いて塗布層を積層する積層フィルムの製造方法において、前記グラビアロールが円筒状の母材ロールの周面にセルが形成されているグラビアロールであって、グラビアロールの外径が１５０ｍｍ以下、グラビアロールの長さが１１００ｍｍ以上、および前記母材ロールの材質がセラミックであることを特徴とする、積層フィルムの製造方法。
［４］前記グラビアロールの周面の最表面がダイヤモンドライクカーボンで被覆されている、前記３に記載の積層フィルムの製造方法。
［５］塗布幅が１１００ｍｍ以上である、前記３または４に記載の積層フィルムの製造方法。
【発明の効果】
【００１５】
本発明によれば、塗布幅の広幅化に伴う課題、即ち、塗布幅方向における塗布層の厚み変動（ばらつき）およびスジ状欠点の発生を抑制することができる。本発明のグラビアロールおよびこのグラビアロールを用いた積層フィルムの製造方法は、特に、塗布層の厚み精度が高いことおよびスジ状欠点の発生が少ないことが要求される光学フィルムの製造方法に好適である。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】図１は本発明のグラビアロールの側面図である。
【図２】図２は本発明のグラビアロールを構成する母材ロールの斜視図である。
【図３】図３は本発明のグラビアロールの部分模式断面図である。
【図３Ａ】図３における土手部の範囲を説明するために、土手部を実線で示し、セルを点線で示した、説明用の図である。
【図４】図４は本発明で用いるリバースグラビア塗布装置の一例を示す概略図である。
【図５】図５は基材フィルムとグラビアロールの接触角度を説明するための概略図である。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
［グラビアロール］
本発明のグラビアロールは、セラミックからなる円筒状の母材ロールの周面にセルが形成されたグラビアロールであり、このグラビアロールの外径は１５０ｍｍ以下、長さは１１００ｍｍ以上である。
【００１８】
図１は、本発明のグラビアロールの側面図（模式図）である。グラビアロール１０の外径（最大径）は符号Ｄで示される寸法であり、グラビアロールの長さ（面長）は符号Ｌで示される寸法である。
【００１９】
本発明のグラビアロールの外径（Ｄ）は１５０ｍｍ以下、長さ（Ｌ）は１１００ｍｍ以上である。つまり、本発明のグラビアロールは、外径が比較的小さくかつ長さが比較的長いグラビアロールである。このようなグラビアロールは、その自重で撓み量が一般的に大きくなる。グラビアロールの撓み量が大きくなると、塗布幅方向における塗布層の厚み変動（ばらつき）が大きくなりやすく、またスジ状欠点が発生しやすくなる。グラビアロールの撓み量は、図１の符号Ｖで示す寸法である。
【００２０】
本発明は、グラビアロールの母材ロールの材質をセラミックとし、かつ円筒状とすることにより、グラビアロールの外径が１５０ｍｍ以下でかつ長さが１１００ｍｍ以上であってもグラビアロールの撓み量が小さくなり、その結果、塗布幅方向における塗布層の厚み変動（ばらつき）が小さくなること、およびスジ状欠点の発生が抑制されることを見出した。
【００２１】
グラビアロールを用いた薄膜塗工において、基材フィルムとグラビアロールに挟まれた塗布液のビードを安定に形成することが重要であり、このためには基材フィルムとグラビアロールとの接触面積を小さくすることが有効である。基材フィルムとグラビアロールとの接触面積を小さくするには、グラビアロールの外径を小さくすることが有効である。
【００２２】
つまり、グラビアロールの外径は１５０ｍｍ以下とすることが、安定で均一な薄膜塗工を実現する上で好ましい。この観点から、グラビアロールの外径は、更に１２０ｍｍ以下が好ましく、１００ｍｍ以下がより好ましく、特に９０ｍｍ以下が好ましい。グラビアロールの外径の下限は、グラビアロールの撓み量を小さくするという観点から２０ｍｍ超が好ましく、３０ｍｍ超がより好ましく、５０ｍｍ超が特に好ましい。
【００２３】
グラビアロールの長さは、塗布幅を大きくして生産性を高めるという観点から大きいほど好ましい。具体的には１３００ｍｍ以上が好ましく、１５００ｍｍ以上がより好ましく、１６００ｍｍ以上が好ましい。グラビアロールの長さの上限は、グラビアロールの撓み量を小さく維持するという観点から３０００ｍｍ以下が好ましく、２５００ｍｍ以下がより好ましく、２３００ｍｍ以下が特に好ましい。
【００２４】
本発明のグラビアロールは、セラミックからなる円筒状の母材ロールの周面にセルが形成されたものである。
【００２５】
図２は、本発明のグラビアロールを構成する母材ロールの斜視図である。本発明のグラビアロールは、この母材ロール１の周面に図示しないセルが形成されたものである。母材ロール１は、セラミックからなる円筒状の中空ロールである。母材ロールを円筒状のロールにすることにより、グラビアロールの撓み量が軽減される。
【００２６】
母材ロール１の外径（ｄｏ）［ｍｍ］と内径（ｄｉ）［ｍｍ］の比率（ｄｉ／ｄｏ）は、グラビアロールの撓み量を軽減するという観点から、０．５０〜０．９０の範囲が好ましく、０．５５〜０．８５の範囲がより好ましく、特に０．６０〜０．８０の範囲が好ましい。
【００２７】
また、母材ロール１の厚み（ｔ）は、母材ロールの加工性の観点から３〜２５ｍｍの範囲が好ましく、５〜２０ｍｍの範囲がより好ましく、特に７〜１５ｍｍの範囲が好ましい。
【００２８】
本発明のグラビアロールは、母材ロールの周面にセルが形成されているが、セルは母材ロールに直接に形成されていてもよいし、あるいは母材ロールの周面にセル形成層を設け、そのセル形成層にセルが形成されていてもよい。本発明のグラビアロールは、後者のセル形成層を設けて、そのセル形成層にセルを形成することが好ましい。
【００２９】
図３は、本発明のグラビアロールの一例の部分模式断面図である。母材ロール１の周面にセル形成層２が設けられ、このセル形成層２にセル３が形成されている。セル３は土手部４で区画されている。ここで、土手部４の範囲を図３Ａを用いて説明すると、図３Ａにおいて実線にて示されている部分が土手部である。
【００３０】
セル３の深さは、５〜１００μｍの範囲が適当であり、１０〜５０μｍの範囲が好ましい。このようなセルを形成するためのセル形成層２の厚みは、１０〜５００μｍの範囲が好ましく、２０〜３００μｍの範囲がより好ましく、特に３０〜１５０μｍの範囲が好ましい。
【００３１】
グラビアロールの周面に形成されるセルの形状は特に限定されず、例えば一般的に知られている、斜線型、格子型（矩形状）、ハニカム型（亀甲型）、ピラミッド型等を採用することができる。上記のセルの中でも、特に斜線型セルが好適である。
【００３２】
斜線型セルのグラビアロールは、ロール周面に螺旋状の斜線溝からなるセルが形成されたものであり、グラビア塗布方式に一般的に用いられているグラビアロールである。
【００３３】
斜線型セルの線数は１インチ（２５．４ｍｍ）当たり３０〜３００線の範囲が好ましく、５０〜２５０線の範囲がより好ましく、特に８０〜２００線の範囲が好ましい。セルの深度は、２０〜３００μｍの範囲が好ましく、３０〜２００μｍの範囲がより好ましく、特に４０〜１００μｍの範囲が好ましい。また、斜線型セルの傾斜角度（グラビアロールの回転軸方向に対する角度）は、３０〜７０度の範囲が一般的であり、４０〜６０度の範囲が好ましい。
【００３４】
セル形成層は、母材ロールの周面にセラミックを溶射して形成されていることが好ましい。セラミックの溶射は、例えばプラズマ溶射法を用いることができる。このようなセル形成層にセルを形成する方式としては、レーザーアブレーション方式が挙げられる。
【００３５】
母材ロールを構成するセラミックとしては、公知のセラミックを用いることができる。例えば、アルミナ、窒化珪素、窒化アルミ、炭化珪素、ジルコニア、チタニア、サーメット、サファイア等のセラミックを用いることができる。
【００３６】
セラミックは、炭素鋼やステンレス鋼などの金属に比べて、ヤング率が大きくかつ比重が小さいので、セラミックからなる母材ロールを用いたグラビアロールは、従来の金属製の母材ロールを用いたグラビアロールに比べて、グラビアロールの撓み量を小さくすることができる。
【００３７】
従って、グラビアロールの外径（Ｄ）が１５０ｍｍ以下、長さ（Ｌ）が１１００ｍｍ以上であるグラビアロールにおいて、母材ロールの材質をセラミックとすることにより、上記したグラビアロールの撓み量の軽減効果が大きくなる。
【００３８】
グラビアロールの撓み量を軽減するという観点から、母材ロールを構成するセラミックとしては、ヤング率が高いセラミックが好ましい。例えば、ヤング率が２５０ＧＰａ以上のセラミックが好ましく、更にヤング率が３００ＧＰａ以上のセラミックがより好ましい。このような高ヤング率のセラミックとしては、アルミナ、窒化珪素、窒化アルミ、炭化珪素、サーメット、サファイア等が挙げられる。これらの中でも、特にアルミナが好ましく用いられる。
【００３９】
セル形成層を構成するセラミックとしては、公知のセラミックを用いることができる。例えば、酸化クロム、アルミナ、窒化珪素、窒化アルミ、ジルコニア、チタニア等のセラミックが好ましく用いられる。
【００４０】
グラビアロールの長さ方向における撓み量（Ｖ；自重による最大撓み量）は、０．１ｍｍ以下が好ましく、０．０８ｍｍ以下がより好ましく、特に０．０６ｍｍ以下が好ましい。例えば、母材ロールの内径（ｄｉ）が４５ｍｍ、グラビアロールの外径（Ｄ）が６０ｍｍ、グラビアロールの長さ（Ｌ）が１８００ｍｍの場合、母材ロールの材質がステンレス鋼のグラビアロールの撓み量は０．１４〜０．１６ｍｍであるが、母材ロールの材質がセラミック（アルミナ）のグラビアロールの撓み量は０．０４〜０．０５ｍｍである。
【００４１】
グラビアロールの撓み量（Ｖ）は、例えば、図示しない設置台にグラビアロール１０の両端の軸部１１を水平に設置して、グラビアロール１０の自重による撓み量（最大撓み量）Ｖを、例えばレーザー式変位計で測定することができる。
【００４２】
本発明のグラビアロールは、ロール周面の最表面がダイヤモンドライクカーボン（以下、「ＤＬＣ」と言う）で被覆されていることが好ましい。これによって、更に塗布幅方向における塗布層の厚み変動およびスジ状欠点の発生が抑制される。ここで、グラビアロールの周面の最表面がＤＬＣで被覆されているとは、図３および図３Ａにおいてグラビアロール１の少なくとも土手部４が被覆されていることを意味する。
【００４３】
グラビアロールを用いた塗布方式は、グラビアロールの周面を基材フィルムに押し当てて（接触させて）塗布する方式であり、グラビアロールにおける基材フィルムとの接触部分である土手部がＤＬＣ被膜で被覆されていることが好ましい。
【００４４】
本発明において、土手部のみがＤＬＣ被膜で被覆されていてもよいし、または土手部とセル内の両方がＤＬＣ被膜で被覆されていてもよい。グラビアロールの耐摩耗性を向上させるという観点から、土手部とセル内の両方がＤＬＣ被膜で被覆されていることが好ましい。つまり、グラビアロールの周面における露出部の全域がＤＬＣ被膜で被覆されていることが好ましい。
【００４５】
ＤＬＣ被膜はスパッタリングまたはプラズマＣＶＤ等によってグラビアロール周面に被覆することができる。ＤＬＣ被膜をスパッタリングまたはプラズマＣＶＤ等によってロール周面に被覆することにより、通常、ロール周面の土手部とセル内は一緒にＤＬＣ被膜で被覆される。
【００４６】
ＤＬＣ被膜の厚みは、０．１μｍ以上が好ましく、０．５μｍ以上がより好ましく、特に１μｍ以上が好ましい。上限の厚みは、１５μｍ以下が好ましく、１０μｍ以下がより好ましく、特に５μｍ以下が好ましい。
【００４７】
［グラビアロールを用いた積層フィルムの製造方法］
グラビアロールを用いて基材フィルム上に塗布層を積層する積層フィルムの製造方法について、以下に説明する。
【００４８】
グラビアロールを用いた塗布方式として、リバースグラビア塗布方式を採用することが好ましい。係るリバースグラビア塗布方式は、連続搬送される基材フィルムの搬送方向とは逆方向に回転させられるグラビアロールが基材フィルムに押し当てられることによって、グラビアロールに供給された（塗布層を構成する）塗布液が基材フィルムに塗布される塗布方法である。通常、グラビアロールに供給された塗布液は基材フィルムに塗布される前に、その余剰分がドクターブレードによって掻き落とされて塗布量が調整される。
【００４９】
リバースグラビア塗布方式について以下に説明する。図４は、リバースグラビア塗布装置の一例を示す概略図である。このリバースグラビア塗工装置はキス方式であり、グラビアロール１０、塗布液供給手段２０、ドクターブレード３０、及び一対の搬送ローラ４１、４２を具備している。ここで、キス方式とは、基材フィルム５０を挟んでグラビアロール１０に対向する位置にバックロールが配置されていない方式であって、一対の搬送ローラ４１と４２に支持されながら搬送する基材フィルム５０にグラビアロール１０を押し当てて塗布する方式である。
【００５０】
グラビアロール１０は、図示しない回転駆動手段によって矢印ｙの方向へ駆動回転させられる。塗布液供給手段２０は、塗布液貯留容器２１と、この塗布液貯留容器２１に収容されている塗布液２２とで構成されている。一対の搬送ローラ４１、４２は、グラビアロール１０の両側に所定間隔をおいて配置されており、基材フィルム５０はグラビアロール１０が押し当てられた状態で矢印ｚの方向に搬送される。
【００５１】
グラビアロール１０は、その下部が塗布液貯留容器２１内の塗布液２２に浸漬するように配置されている。グラビアロール１０を回転させることによってグラビアロール１０の周面に形成されたセルに塗布液が供給され、ドクターブレード３０によってグラビアロール１０の周面の余剰塗布液が掻き落とされ、塗布液の量が調整される。グラビアロール１０を基材フィルム５０の搬送方向（矢印ｚの方向）とは逆方向（矢印ｙの方向）に回転させながら、グラビアロール１０を基材フィルム５０に押し当てることによって、グラビアロール１０のセル内の塗布液が基材フィルム５０に塗布される。
【００５２】
ドクターブレードの材質は特に制限されないが、ステンレス鋼や炭素鋼などからなるドクター母材のグラビアロールとの接触部がフッ素樹脂でコーティングされたものが好ましく用いられる。
【００５３】
本発明において、生産性向上の観点から塗布幅は広い方が好ましい。具体的には、塗布幅は１１００ｍｍ以上が好ましく、１３００ｍｍ以上がより好ましく、１５００ｍｍ以上が特に好ましい。上限の塗布幅は、３０００ｍｍ程度である。
【００５４】
このように塗布幅を広くすると、塗布幅方向における塗布層の厚み変動（ばらつき）が大きくなりやすく、またスジ状欠点が発生しやすくなるが、本発明のグラビアロールを用いることによって塗布幅が広い場合であっても、塗布幅方向における塗布層厚みの変動およびスジ状欠点の発生を抑制することができる。
【００５５】
塗布層を形成するための塗布液は、比較的低粘度の塗布液であることが好ましい。塗布液の粘度（２３℃）は、具体的には５０ｍＰａ・ｓ以下が好ましく、３０ｍＰａ・ｓ以下がより好ましく、特に１０ｍＰａ・ｓ以下が好ましい。塗布液の下限粘度は、０．３ｍＰａ・ｓ程度である。
【００５６】
塗布層の乾燥厚みは、０．０１〜１０μｍの範囲が適当であり、０．０２〜５μｍの範囲が好ましい。塗布層の乾燥厚みは、塗布層を形成するための塗布液（組成物）の固形分濃度の調整、グラビアロールのセルの形状やセル容積等を選択、調整することによって制御することができる。
【００５７】
本発明は、塗布層の乾燥厚みが薄膜であっても、塗布幅方向における塗布層の厚み変動およびスジ状欠点を有効に抑制することができるという特長がある。従って、本発明のグラビアロールを用いた積層フィルムの製造方法は、塗布層の乾燥厚みが３μｍ未満の場合に有効であり、１μｍ未満の場合により有効であり、０．５μｍ未満の場合に特に有効であり、０．２μｍ未満の場合に最も有効である。
【００５８】
上述のリバースグラビア塗布方式において、スジ状欠点の発生をさらに抑制するという観点から、グラビアロールと基材フィルムとの接触角度（抱き角度）を小さくすることが好ましい。
【００５９】
グラビアロールと基材フィルムとの接触角度（抱き角度）について、図５を用いて説明する。矢印の方向に搬送する基材フィルム５０が、グラビアロール１０に最初に接する接点とグラビアロール１０の中心点を結ぶ直線と、グラビアロール１０に接触しながら搬送される基材フィルム５０が初めて離間する接点とグラビアロール１０の中心点とを結ぶ直線とが成す角度θが、グラビアロールと基材フィルムとの接触角度（抱き角度）である。
【００６０】
本発明において、グラビアロールと基材フィルムとの接触角度（抱き角度）θは、５度以下が好ましく、３度以下がより好ましく、特に２度以下が好ましく、１度以下が最も好ましい。接触角度（抱き角度）の下限は０．１度以上が好ましい。
【００６１】
［積層フィルム］
本発明のグラビアロールを用いた積層フィルムの製造方法は、光学フィルムの製造方法に好適である。光学フィルムは、画像表示装置やタッチパネル等の画像表示面や表示装置（タッチパネル）の内部に用いられる。光学フィルムとしては、例えば、反射防止フィルム、ハードコートフィルム、透明導電性フィルム、タッチパネルの電極用透明導電性フィルムの導電層を積層する前の積層フィルム（前述の導電層の色味調整や電極パターンの骨見え（パターンが見えること）を防止するための積層フィルム等が挙げられる。
【００６２】
これらの光学フィルムは、基材フィルム上に各種機能を有する塗布層が積層されたものである。塗布層の詳細は後述する。
【００６３】
［基材フィルム］
本発明で用いる基材フィルムとしては、ポリエステル樹脂フィルム、セルロース樹脂フィルム、ポリオレフィン樹脂フィルム、アクリル樹脂フィルム、ポリカーボネート樹脂フィルム、環状オレフィン樹脂フィルム、エポキシ樹脂フィルム、ポリイミド樹脂フィルム、ポリエーテルイミド樹脂フィルム、ポリアミド樹脂フィルム、ポリスルフォン樹脂フィルム、ポリフェニレンサルファイド樹脂フィルム、ポリエーテルスルフォン樹脂フィルム等が挙げられる。これらの樹脂フィルムの中でもポリエステル樹脂フィルムが好ましく、ポリエステル樹脂フィルムの中でも、物理特性（強度や耐摩耗性等）や耐溶剤性等が優れていることからポリエチレンテレフタレートフィルムが好ましい。
【００６４】
上記基材フィルムの厚みは、１０〜３００μｍの範囲が適当であり、２０〜２５０μｍの範囲が好ましく、特に２０〜２００μｍの範囲が好ましい。
【００６５】
基材フィルムには、予め易接着層、下地層、プライマー層などが設けられていてもよい。
【００６６】
［塗布層］
塗布層の組成や機能は特に限定されるものではなく、積層フィルムの用途に応じて適宜選択される。例えば、積層フィルムが反射防止フィルムである場合、反射防止層（高屈折率層、中屈折率層、低屈折率など）が塗布層となり、積層フィルムがハードコートフィルムの場合、ハードコート層が塗布層となる。
【００６７】
また、積層フィルムが透明導電性フィルムの場合は、導電層が塗布層となる。この導電層としては、銀ナノワイヤーやカーボンナノチューブのような導電性繊維、ポリチオフェンやポリアニリンのようなπ共役系導電性高分子、４級アンモニウム塩ポリマーのようなカチオン系高分子などの導電性材料を含むものが挙げられる。
【００６８】
また、タッチパネルの電極に用いられる透明導電性フィルムは、導電層の色味調整や電極パターンの骨見え（パターンが見えること）を防止するために、導電層が積層される面に特定屈折率の中間層やハードコート層が設けられることがある。本発明の製造方法によって得られる積層フィルムは、透明導電性フィルムの導電層が積層される前の中間層やハードコート層が設けられた積層フィルムとしても好適である。この場合、中間層やハードコート層が塗布層となる。
【００６９】
係る中間層としては、屈折率が１．６０〜１．８０の高屈折率層、屈折率が１．３０〜１．５０の低屈折率層が挙げられる。係るハードコート層としては、屈折率が１．４８〜１．５４の一般的なハードコート層、あるいは屈折率が１．５５〜１．８０の高屈折率ハードコート層が挙げられる。
【００７０】
本発明では、塗布層は、ハードコート層、反射防止層、防眩層、導電層、帯電防止層、屈折率調整層（上記の高屈折率層や低屈折率層）、色調調整層及び防汚層からなる群より選ばれるいずれか１つの機能層であることが好ましい。
【００７１】
塗布層は、熱硬化性樹脂層あるいは活性エネルギー線硬化性樹脂層であることが好ましく、特に活性エネルギー線硬化性樹脂層であることが好ましい。
【００７２】
熱硬化性樹脂層は、熱によって重合または架橋する樹脂、例えばアクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、フッ素系樹脂、ポリイミド系樹脂等の熱硬化性樹脂を含有する組成物（塗布液）を塗布した後、加熱されることにより硬化される層である。
【００７３】
活性エネルギー線硬化性樹脂層とは、紫外線や電子線等の活性エネルギー線で重合し硬化する活性エネルギー線硬化性樹脂を含有する組成物（塗布液）を塗布した後、活性エネルギー線が照射されることにより硬化される層である。
【００７４】
活性エネルギー線硬化性樹脂は、分子中に少なくとも１個のエチレン性不飽和基を有するモノマーやオリゴマーが好ましく用いられる。ここで、エチレン性不飽和基としては、アクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基、アリル基等が挙げられる。
【００７５】
上記の分子中に少なくとも１個のエチレン性不飽和基を有するモノマーの例としては、メチル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、エトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシトリエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシ（メタ）アクリレート等の単官能アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールヘキサ（メタ）トリアクリレート、トリメチロールプロパン（メタ）アクリル酸安息香酸エステル、トリメチロールプロパン安息香酸エステル等の多官能アクリレート、グリセリンジ（メタ）アクリレートヘキサメチレンジイソシアネート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレートヘキサメチレンジイソシアネート等のウレタンアクリレート等を挙げることができる。
【００７６】
上記の分子中に少なくとも１個のエチレン性不飽和基を有するオリゴマーの例としては、ポリエステル（メタ）アクリレート、ポリウレタン（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート、ポリエーテル（メタ）アクリレート、アルキット（メタ）アクリレート、メラミン（メタ）アクリレート、シリコーン（メタ）アクリレート等を挙げることができる。
【００７７】
上記した、分子中に少なくとも１個のエチレン性不飽和基を有するモノマーやオリゴマーは、単独で用いてもよいし、複数併用してもよい。少なくとも、３官能以上の多官能モノマーや多官能オリゴマーを用いることが好ましい。
【００７８】
塗布層が高屈折率層あるいは高屈折率ハードコート層の場合は、上述の活性エネルギー線硬化性樹脂を含む活性エネルギー線硬化性組成物（塗布液）は、更に金属酸化物粒子を含有する。係る金属酸化物粒子としては、酸化ジルコニウム、酸化チタンが好ましく用いられる。
【００７９】
活性エネルギー線硬化性組成物における金属酸化物粒子の含有量は、活性エネルギー線硬化性組成物の固形分総量１００質量％に対して２０質量％以上が好ましく、３０質量％以上がより好ましく、４０質量％以上が特に好ましく、５０質量％以上が最も好ましい。上限は９５質量％以下が好ましく、９０質量％以下がより好ましく、８５質量％以下が特に好ましい。
【００８０】
活性エネルギー線硬化性組成物は、光重合開始剤を含むことが好ましい。このような光重合開始剤の具体例としては、例えばアセトフェノン、２，２−ジエトキシアセトフェノン、ｐ−ジメチルアセトフェノン、ｐ−ジメチルアミノプロピオフェノン、ベンゾフェノン、２−クロロベンゾフェノン、４，４’−ジクロロベンゾフェノン、４，４’−ビスジエチルアミノベンゾフェノン、ミヒラーケトン、ベンジル、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、メチルベンゾイルフォルメート、ｐ−イソプロピル−α−ヒドロキシイソブチルフェノン、α−ヒドロキシイソブチルフェノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンなどのカルボニル化合物、テトラメチルチウラムモノスルフィド、テトラメチルチウラムジスルフィド、チオキサントン、２−クロロチオキサントン、２−メチルチオキサントンなどの硫黄化合物などを用いることができる。
【００８１】
また、光重合開始剤は一般に市販されており、それらを使用することができる。例えば、チバ・スペシャリティー・ケミカルズ（株）製のイルガキュア１８４、９０７、イルガキュア３７９、イルガキュア８１９、イルガキュア１２７、イルガキュア５００、イルガキュア７５４、イルガキュア２５０、イルガキュア１８００、イルガキュア１８７０、イルガキュアＯＸＥ０１、ＤＡＲＯＣＵＲ ＴＰＯ、ＤＡＲＯＣＵＲ１１７３等、日本シイベルヘグナー（株）製のＳｐｅｅｄｃｕｒｅＭＢＢ、ＳｐｅｅｄｃｕｒｅＰＢＺ、ＳｐｅｅｄｃｕｒｅＩＴＸ、ＳｐｅｅｄｃｕｒｅＣＴＸ、ＳｐｅｅｄｃｕｒｅＥＤＢ、Ｅｓａｃｕｒｅ ＯＮＥ、Ｅｓａｃｕｒｅ ＫＩＰ１５０、Ｅｓａｃｕｒｅ ＫＴＯ４６等、日本化薬（株）製のＫＡＹＡＣＵＲＥ ＤＥＴＸ−Ｓ、ＫＡＹＡＣＵＲＥ ＣＴＸ、ＫＡＹＡＣＵＲＥ ＢＭＳ、ＫＡＹＡＣＵＲＥ ＤＭＢＩ等が挙げられる。
【００８２】
これらの光重合開始剤は単独で使用してもよいし、２種以上組み合せて用いてもよい。
【００８３】
光重合開始剤の含有量は、活性エネルギー線硬化性組成物の固形分総量１００質量％に対して０．１〜１０質量％の範囲が適当であり、０．５〜８質量％の範囲が好ましい。
【００８４】
塗布層が低屈折率層である場合は、上記の高屈折率層を形成する活性エネルギー線硬化性組成物における金属酸化物粒子に代えて、シリカやフッ化マグネシウム等の低屈折率粒子、あるいはフッ素化合物が用いられる。
【実施例】
【００８５】
以下、実施例により本発明を詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例によって限定されるものではない。尚、本実施例における、測定方法、評価方法および使用材料を以下に示す。
【００８６】
［測定方法および評価方法］
（１）塗布層の厚み（乾燥厚み）の測定
積層フィルムの断面を超薄切片に切り出し、透過型電子顕微鏡（日立製Ｈ−７１００ＦＡ型）で加速電圧１００ｋＶにて５万倍〜３０万倍の倍率で積層フィルムの断面を観察し、塗布層の厚みを測定した。尚、厚みの測定は、塗布幅方向を均等間隔で５分割し、それぞれの箇所で行い、平均した。
【００８７】
（２）塗布層の屈折率の測定
塗布層を形成するための組成物をシリコンウエハー上にスピンコーターにて塗工形成した塗膜（乾燥厚み約２μｍ）について、２５℃の温度条件下で位相差測定装置（ニコン（株）製：ＮＰＤＭ−１０００）で５８９ｎｍの屈折率を測定した。
【００８８】
（３）塗布幅方向における塗布層の厚み（乾燥厚み）変動の測定
積層フィルムの塗布層が積層された面について、塗布幅方向に１００ｍｍ間隔で光学膜厚を測定し、それぞれの箇所の光学膜厚から下記式１により塗布幅方向における塗布層の厚み変動（％）を求めた。
【００８９】
尚、塗布長さはそれぞれ２０００ｍで、塗布層の厚み変動の測定は塗布開始部分（１００ｍ塗布した部分）と塗布終了部分（２０００ｍ塗布した部分）の２箇所について実施した。
｛（Ｔｍａｘ−Ｔｍｉｎ）／Ｔａ｝×１００  ・・・  式１
式１において、Ｔｍａｘは最大厚み［μｍ］、Ｔｍｉｎは最小厚み［μｍ］、Ｔａは平均厚み［μｍ］を表す。
【００９０】
＜光学膜厚の測定＞
積層フィルムの塗布層が積層された面とは反対側の基材フィルム面に＃３２０〜４００の耐水サンドペーパーで均一に傷をつけた後、黒の油性インク（マジックインキ（登録商標））を塗布して、塗布層とは反対側の面からの反射を完全になくした状態にして、島津製作所（株）の分光光度計ＵＶ−３１５０を用いて塗布層表面の反射スペクトル（４５０〜６００ｎｍ）を測定し、得られた反射スペクトルと塗布層の屈折率から、上記分光光度計ＵＶ−３１５０に組み込まれた専用ソフトで光学膜厚を求めた。
【００９１】
（４）スジ状欠点の評価
積層フィルムの塗布層が積層された面にＬＥＤランプを照射して目視でスジ状欠点を観察した。年齢が２０歳代の健康な男性３人に目視で認識できるスジ状欠点の個数を観察調査させ、それらの個数を平均した。観察面積はそれぞれ３０ｍ２である。評価基準を以下に示す。
Ｇ１；スジ状欠点個数が０．５個／ｍ２未満
Ｇ２；スジ状欠点個数が０．５個／ｍ２以上１．０個／ｍ２未満
Ｇ３；スジ状欠点個数が１．０個／ｍ２以上１．５個／ｍ２未満
Ｇ４；スジ状欠点個数が１．５個／ｍ２以上３．０個／ｍ２未満
Ｇ５；スジ状欠点個数が３．０個／ｍ２以上５．０個／ｍ２未満
Ｇ６；スジ状欠点個数が５．０個／ｍ２以上。
【００９２】
［グラビアロール］
＜グラビアロールａ＞
セラミック（アルミナ）からなる母材ロールの周面に、セル形成層としてセラミック（酸化クロム）溶射皮膜を設け、このセル形成層に斜線型セルを形成した。
【００９３】
母材ロールの外径（ｄｏ）；６０ｍｍ
母材ロールの内径（ｄｉ）；４５ｍｍ
セル形成層の厚み；５０μｍ
グラビアロールの外径（Ｄ）；６０．１ｍｍ
グラビアロールの長さ（Ｌ）；１３００ｍｍ
＜グラビアロールｂ＞
グラビアロールａのセルが形成された周面に、さらにＤＬＣ被膜（厚み２μｍ）をプラズマＣＶＤ法により被覆した。
【００９４】
＜グラビアロールｃ＞
ステンレス鋼からなる母材ロールの周面に、セル形成層としてセラミック（酸化クロム）溶射皮膜を設け、このセル形成層に斜線型セルを形成した。
【００９５】
母材ロールの外径（ｄｏ）；６０ｍｍ
母材ロールの内径（ｄｉ）；４５ｍｍ
セル形成層の厚み；５０μｍ
グラビアロールの外径（Ｄ）；６０．１ｍｍ
グラビアロールの長さ（Ｌ）；１３００ｍｍ
＜グラビアロールｄ＞
セラミック（アルミナ）からなる母材ロールの周面に、セル形成層としてセラミック（酸化クロム）溶射皮膜を設け、このセル形成層に斜線型セルを形成した。
【００９６】
母材ロールの外径（ｄｏ）；６０ｍｍ
母材ロールの内径（ｄｉ）；４５ｍｍ
セル形成層の厚み；５０μｍ
グラビアロールの外径（Ｄ）；６０．１ｍｍ
グラビアロールの長さ（Ｌ）；１８００ｍｍ
＜グラビアロールｅ＞
グラビアロールｄのセルが形成された周面に、さらにＤＬＣ被膜（厚み２μｍ）をプラズマＣＶＤ法により被覆した。
【００９７】
＜グラビアロールｆ＞
ステンレス鋼からなる母材ロールの周面に、セル形成層としてセラミック（酸化クロム）溶射皮膜を設け、このセル形成層に斜線型セルを形成した。
【００９８】
母材ロールの外径（ｄｏ）；６０ｍｍ
母材ロールの内径（ｄｉ）；４５ｍｍ
セル形成層の厚み；５０μｍ
グラビアロールの外径（Ｄ）；６０．１ｍｍ
グラビアロールの長さ（Ｌ）；１８００ｍｍ
［塗布層を形成するための組成物］
＜塗布層ａを形成するための活性エネルギー線硬化性組成物＞
活性エネルギー線硬化性樹脂（ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートとウレタンアクリレートオリゴマー（根上工業（株）製の「アートレジンＵＮ９０１Ｔ」）を質量比３：７で含む）９５質量部、および光重合開始剤（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製「イルガキュア（登録商標）１８４」)５質量部を有機溶剤（メチルエチルケトン／メチルイソブチルケトン＝３０／７０（質量比））に分散あるいは溶解して調製した。この組成物の粘度（２３℃）は７．０ｍＰａ・ｓ、屈折率は１．５１であった。
【００９９】
＜塗布層ｂを形成するための活性エネルギー線硬化性組成物＞
活性エネルギー線硬化性樹脂（ジペンタエリスリトールペンタアクリレート）５０質量部、フッ素化合物として（ダイキン工業（株）製のフッ素樹脂「ＡＲ１１０」）４５質量部、光重合開始剤（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ製  イルガキュア１８４)  ５質量部を有機溶剤（メチルイソブチルケトンとプロピレングリコールモノエチルエーテルとの質量比１：１の混合溶媒）に分散あるいは溶解して調製した。この組成物の粘度（２３℃）は２．０ｍＰａ・ｓ、屈折率は１．４３であった。
【０１００】
［実施例１］
下記の要領で積層フィルムを製造した。
＜塗布層の積層＞
図４のリバースグラビア塗布装置およびグラビアロールａを用いて、ポリエチレンテレフタレートフィルム（東レ（株）製の「ルミラーＵ４８」）に、塗布層ａを形成するための活性エネルギー線硬化性組成物を塗布し、９０℃で乾燥後、紫外線４００ｍＪ／ｃｍ２を照射して硬化させて、厚みが２．５μｍの塗布層（ハードコート層）を形成した。塗布幅は１２００ｍｍである。
【０１０１】
［実施例２〜４および比較例１〜２］
実施例１において、グラビアロールの種類、塗布幅を表１のように変更する以外は、実施例１と同様にしてそれぞれの積層フィルムを製造した。
【０１０２】
［実施例５］
実施例１において、塗布層ａを塗布層ｂに変更し、塗布層ｂの厚み（乾燥厚み）を０．１μｍに変更する以外は、実施例１と同様にして積層フィルムを作成した。尚、塗布層ｂは反射防止層（低屈折率層）である。
【０１０３】
［実施例６〜８および比較例３〜４］
実施例５において、グラビアロールの種類、塗布幅を表１のように変更する以外は、実施例５と同様にしてそれぞれの積層フィルムを製造した。
【０１０４】
［評価］
上記の実施例および比較例で製造された積層フィルムについて、塗布幅方向における塗布層厚みの変動およびスジ状欠点を評価した。その結果を表１に示す。
【０１０５】
【表１】
2014205126.tif 000003
【符号の説明】
【０１０６】
１  母材ロール
２  セル形成層
３  セル
４  土手部
１０  グラビアロール
１１  グラビアロールの軸部
２０  塗布液供給手段
２１  塗布液貯留容器
２２  塗布液
３０  ドクターブレード
４１、４２  一対の搬送ローラ
５０  基材フィルム
Ｄ  グラビアロールの外径
Ｌ  グラビアロールの長さ
Ｖ  グラビアロールの撓み量（自重による最大撓み量）
ｄｏ  母材ロールの外径
ｄｉ  母材ロールの内径
ｔ  母材ロールの厚み
【図１】
2014205126.tif 000004
【図２】
2014205126.tif 000005
【図３】
2014205126.tif 000006
【図３Ａ】
2014205126.tif 000007
【図４】
2014205126.tif 000008
【図５】
2014205126.tif 000009