(57)【要約】【課題】有機ＥＬ材料の塗布均一性を向上させることのできる有機ＥＬ表示装置の製造方法及び製造装置を提供する。【解決手段】有機ＥＬ表示装置の製造方法は、基板上に複数の画素領域毎に複数の第１の電極を形成し、複数の第１の電極を露出して複数の画素領域を画定する複数の隔壁を形成し、複数の画素領域の隣接する２列の画素列に含まれる各画素領域に対応する位置に配置される複数の開口部と、複数の開口部に向かってそれぞれ傾斜し、２列の画素列の間に対応する位置に一部が配置される複数の第１斜面とを有するマスクを、複数の画素領域と複数の開口部とを対応させて複数の隔壁上に配置し、マスク上から有機ＥＬ材料を含む溶液を複数の第１斜面上に滴下して複数の開口部を通過させて複数の第１の電極上にそれぞれ塗布し、溶液の溶媒を気化して複数の有機ＥＬ層を形成し、複数の有機ＥＬ層上に複数の第２の電極を形成することを特徴とする。【選択図】  図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に複数の画素領域毎に複数の第１の電極を形成し、
前記複数の第１の電極を露出して前記複数の画素領域を画定する複数の隔壁を形成し、
前記複数の画素領域の隣接する２列の画素列に含まれる各画素領域に対応する位置に配置される複数の開口部と、前記複数の開口部に向かってそれぞれ傾斜し、前記２列の画素列の間に対応する位置に一部が配置される複数の第１斜面とを有するマスクを、前記複数の画素領域と前記複数の開口部とを対応させて前記複数の隔壁上に配置し、前記マスクの上から有機ＥＬ材料を含む溶液を前記複数の第１斜面上に滴下することにより前記複数の開口部を通過させて前記溶液を前記複数の第１の電極上にそれぞれ塗布し、
前記溶液の溶媒を気化して複数の有機ＥＬ層を形成し、
前記複数の有機ＥＬ層上に複数の第２の電極を形成することを特徴とする有機ＥＬ表示装置の製造方法。
【請求項２】
前記溶液は、前記マスク上の前記２列の画素列の間に対応する位置に、前記溶液を吐出するノズルを前記画素列に沿った方向に移動させることにより、直線状に滴下されることを特徴とする請求項１に記載の有機ＥＬ表示装置の製造方法。
【請求項３】
前記マスクは、前記複数の第１斜面に向かってそれぞれ傾斜した複数の第２斜面を有することを特徴とする請求項１又は２に記載の有機ＥＬ表示装置の製造方法。
【請求項４】
前記マスクは、表面に撥液化処理が施されていることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか一項に記載の有機ＥＬ表示装置の製造方法。
【請求項５】
前記第１の電極は、ＵＶオゾン処理又は酸素プラズマ処理により親液化処理が施されることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか一項に記載の有機ＥＬ表示装置の製造方法。
【請求項６】
前記隔壁は、ＵＶオゾン処理又は酸素プラズマ処理による親液化処理、若しくは、フッ素系ガスを用いたプラズマ処理による撥液化処理が施されることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか一項に記載の有機ＥＬ表示装置の製造方法。
【請求項７】
複数の画素領域毎に、第１の電極と有機ＥＬ層と第２の電極とが順次積層された有機ＥＬ層構造を備える有機ＥＬ表示装置の製造装置であって、
前記複数の画素領域の隣接する２列の画素列に含まれる各画素領域に対応する位置に配置される複数の開口部と、前記複数の開口部に向かってそれぞれ傾斜し、前記２列の画素列の間に対応する位置に一部が配置される複数の第１斜面とを有するマスクと、
所定の方向に移動し、前記マスクの上に有機ＥＬ材料を含む溶液を滴下するノズルと、
を備えることを特徴とする有機ＥＬ表示装置の製造装置。
【請求項８】
前記マスクは、前記複数の第１斜面に向かってそれぞれ傾斜した複数の第２斜面を有することを特徴とする請求項７に記載の有機ＥＬ表示装置の製造装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機ＥＬ（Electroluminescence）表示素子を用いた表示装置の製造方法及び製造装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、有機ＥＬ素子を用いた有機ＥＬ表示装置が開発されている。かかる有機ＥＬ素子は、画素毎に発光する発光層が備えられ、当該発光層に供給する電流量自体を調整することによって発光光量を調整することができるので、エネルギー効率に優れているという特徴を有している。
【０００３】
このような有機ＥＬ素子を用いた表示装置において、Ｒ（赤）Ｇ（緑）Ｂ（青）といった複数色の発光を可能とするためには、画素ごとに異なる有機ＥＬ層構造を実現する必要がある。有機ＥＬ層構造の形成方法としては、例えば、インクジェット法（液体吐出法）やノズルプリンティング法（又は、ノズルコーティング法）等を用いて、発光色毎に異なる有機材料を塗り分ける方法が知られている。
【０００４】
ノズルプリンティング法による有機ＥＬ層構造の形成方法は、図６（ａ）に示すように、有機ＥＬ材料を溶媒に溶かしたインク状の有機溶液５２を、隔壁５３の形成された基板５０に塗布して形成するものである。隔壁５３は、各有機ＥＬ層の形成領域を区画し、各画素領域を画定するものである。隔壁５３によって区画された基板５０上の領域には、図示していないが、各有機ＥＬ層と電気的に接続される電極が形成されている。
【０００５】
図６（ａ）及び（ｂ）に図示したＣ１の方向に、有機溶液５２を吐出するノズル５１を１〜５ｍ／ｓ程度の速さで走査すると、ノズル５１から基板５０に向かって有機溶液５２が一筆書きのように連続して塗布される。このような塗布工程の後、有機溶液５２の溶媒を気化する処理を施すと、隔壁５３によって画定された領域に有機ＥＬ層構造が形成される。
【０００６】
しかしながら、図６（ａ）に示す方法によると、有機溶液５２の溶媒が気化し、隔壁５３上などに有機材料５２´が残留することがあった。また、隔壁５３上に滴下された有機溶液５２は、隔壁５３上から隣接する領域に流れ込むこととなるが、有機溶液５２の固化などにより、その流量を各領域毎に均等に制御することが難しいものであった。
【０００７】
そこで、従来のノズルプリンティング法を用いた有機ＥＬ層構造の形成方法には、図７（ａ）に示すように、ノズル５１と基板５０との間に、有機溶液５２が通過する程度の幅のスリット５４´を有するシャッター板５４を配置し、シャッター板５４によって塗布対象以外の領域を覆い、溶媒の気化によりダスト化した有機材料５２´が、各塗布領域及び隔壁５３上などに付着することを防ごうとするものがある（例えば、特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開２００９−１６３９３１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
しかしながら、上述した従来の有機ＥＬ層構造の形成方法によると、例えば、図７（ｂ）に示すように、デルタ（Ｄｅｌｔａ）配列の画素配列の場合には、隔壁５３上に乗り上げた有機溶液５２が、Ｄ１及びＤ２の方向に流れ、塗布対象以外の領域に塗布されてしまう虞がある。また、図４（ａ）に示すようなペンタイル（Ｐｅｎｔｉｌｅ）配列の場合には、一部の画素は、同じ色の同じ有機材料を用いる画素が直線状に配列されていないため、上述した従来の方法を用いることができない場合がある。
【００１０】
そこで、本発明は、画素配列によらず、簡易な製造工程で有機ＥＬ材料の塗布均一性を向上させることのできる有機ＥＬ表示装置の製造方法及び製造装置を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
上記課題を解決するために、本発明の一実施形態にかかる有機ＥＬ表示装置の製造方法は、基板上に複数の画素領域毎に複数の第１の電極を形成し、前記複数の第１の電極を露出して前記複数の画素領域を画定する複数の隔壁を形成し、前記複数の画素領域の隣接する２列の画素列に含まれる各画素領域に対応する位置に配置される複数の開口部と、前記複数の開口部に向かってそれぞれ傾斜し、前記２列の画素列の間に対応する位置に一部が配置される複数の第１斜面とを有するマスクを、前記複数の画素領域と前記複数の開口部とを対応させて前記複数の隔壁上に配置し、前記マスクの上から有機ＥＬ材料を含む溶液を前記複数の第１斜面上に滴下することにより前記複数の開口部を通過させて前記溶液を前記複数の第１の電極上にそれぞれ塗布し、前記溶液の溶媒を気化して複数の有機ＥＬ層を形成し、前記複数の有機ＥＬ層上に複数の第２の電極を形成することを特徴とする。
【００１２】
前記溶液は、前記マスク上の前記２列の画素列の間に対応する位置に、前記溶液を吐出するノズルを前記画素列に沿った方向に移動させることにより、直線状に滴下されてもよい。
【００１３】
前記マスクは、前記複数の第１斜面に向かってそれぞれ傾斜した複数の第２斜面を有していてもよい。
【００１４】
前記マスクは、表面に撥液化処理が施されていてもよい。
【００１５】
前記第１の電極は、ＵＶオゾン処理又は酸素プラズマ処理により親液化処理が施されていてもよい。
【００１６】
前記隔壁は、ＵＶオゾン処理又は酸素プラズマ処理による親液化処理、若しくは、フッ素系ガスを用いたプラズマ処理による撥液化処理が施されていてもよい。また、前記隔壁は、撥液性を有する材料がコーティングされて形成されていてもよく、前記撥液性を有する材料で形成されていてもよい。
【００１７】
また、上記課題を解決するために、本発明の一実施形態にかかる有機ＥＬ表示装置の製造装置は、複数の画素領域毎に、第１の電極と有機ＥＬ層と第２の電極とが順次積層された有機ＥＬ層構造を備える有機ＥＬ表示装置の製造装置であって、前記複数の画素領域の隣接する２列の画素列に含まれる各画素領域に対応する位置に配置される複数の開口部と、前記複数の開口部に向かってそれぞれ傾斜し、前記２列の画素列の間に対応する位置に一部が配置される複数の第１斜面とを有するマスクと、所定の方向に移動し、前記マスクの上に有機ＥＬ材料を含む溶液を滴下するノズルと、を備えることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１８】
本発明によれば、画素配列によらず、簡易な製造工程で有機ＥＬ材料の塗布均一性を向上させることができる有機ＥＬ表示装置の製造方法及び製造装置が提供される。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】本発明の第１の実施形態に係る有機ＥＬ表示装置の製造方法を説明するための図であり、（ａ）は、基板上の画素配列を示す平面図であり、（ｂ）は、マスクを配置した基板を示す平面図である。
【図２】本発明の第１の実施形態に係る有機ＥＬ表示装置の製造方法に用いるマスクを示す図であり、（ａ）はマスクの平面図であり、（ｂ）は（ａ）に示すＡ−Ａ´線の断面図である。
【図３】本発明の第１の実施形態に係る有機ＥＬ表示装置の製造方法を示す断面図である。
【図４】本発明の第２の実施形態に係る有機ＥＬ表示装置の製造方法を説明するための図であり、（ａ）は、基板上の画素配列を示す平面図であり、（ｂ）は、マスクを配置した基板を示す平面図である。
【図５】本発明の第２の実施形態に係る有機ＥＬ表示装置の製造方法に用いるマスクを示す図であり、（ａ）はマスクの平面図であり、（ｂ）は（ａ）に示すＢ−Ｂ´線の断面図である。
【図６】従来の有機ＥＬ表示装置の製造方法を説明するための図であり、（ａ）は、従来の有機ＥＬ表示装置の製造方法を示す断面図であり、（ｂ）は、従来の有機ＥＬ表示装置の製造方法を示す平面図である。
【図７】従来の有機ＥＬ表示装置の製造方法を説明するための図であり、（ａ）は、従来の有機ＥＬ表示装置の製造方法を示す断面図であり、（ｂ）は、従来の有機ＥＬ表示装置の製造方法を示す平面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
以下、本発明の有機ＥＬ表示装置の製造方法を、図１乃至図５を参照しながら詳細に説明する。
【００２１】
（第１の実施形態）
図１乃至図３を参照し、本発明の第１の実施形態に係る有機ＥＬ表示装置の製造方法について説明する。
【００２２】
図１は、本発明の第１の実施形態に係る有機ＥＬ表示装置の製造方法を説明するための図であり、（ａ）は、基板３０上の画素配列を示す平面図であり、（ｂ）は、マスク１０を配置した基板３０を示す平面図である。図２は、本発明の第１の実施形態に係る有機ＥＬ表示装置の製造方法に用いるマスク１０を示す図であり、（ａ）はマスク１０の平面図であり、（ｂ）は（ａ）に示すＡ−Ａ´線の断面図である。図３は、本発明の第１の実施形態に係る有機ＥＬ表示装置の製造方法を示す断面図である。
【００２３】
はじめに、基板３０を準備する。この基板３０には、例えばガラス基板上に低温ポリシリコン・ＴＦＴや配線等が形成され、画素を構成する有機ＥＬ層に選択的に電流を供給するための回路が作りこまれている。
【００２４】
基板３０の製造方法について、以下、一例を述べる。まず、ガラス基板上のＴＦＴが形成される島状の領域に、ポリシリコンからなる活性領域が形成される。このポリシリコン活性領域は、プラズマ化学気相成長（Ｐｌａｓｍａ Ｅｎｈａｎｃｅｄ  ＣＶＤ）法等を用いてアモルファス・シリコンを成膜し、これをＲＴＡ（急速熱アニール）、ＥＬＡ（エキシマレーザアニール）などの方法でポリシリコン化し、これをパターニングすることによって形成する。
【００２５】
ポリシリコン上には、一面に、ゲート絶縁膜が形成される。ゲート絶縁膜はＣＶＤ法により形成された酸化シリコンや窒化シリコンから形成される。
【００２６】
ゲート絶縁膜上の、ＴＦＴ領域の一部には、ゲート電極が形成される。このゲート電極は、Ａｇ、Ａｌ、Ｔｉ、Ｍｏ、Ｃｕ、Ｗ、もしくはこれらを含む合金等の金属薄膜をパターニングすることによって形成される。
【００２７】
ゲート絶縁膜及びゲート電極上には、絶縁膜が形成される。絶縁膜は、ＣＶＤ法により形成された酸化シリコンや窒化シリコンから形成され、前述のポリシリコンに通じるコンタクトホールが開口される。そして、このコンタクトホールを通じてソース・ドレイン配線を接続する。配線も、Ａｇ、Ａｌ、Ｔｉ、Ｍｏ、Ｃｕ、Ｗ、もしくはこれらを含む合金等の金属薄膜をパターニングすることによって形成される。
【００２８】
絶縁膜及び配線上には、これらを覆う絶縁膜がさらに形成される。絶縁膜は、ＣＶＤ法により形成された酸化シリコンや窒化シリコンから形成される。
【００２９】
次に、上記ＴＦＴと電気的に接続される陽極を形成する。陽極下であって上記絶縁膜上には、Ａｇ等から形成される反射電極が形成されていてもよい。陽極は、ＴＦＴ上の絶縁膜及び反射電極等を貫通して形成されたコンタクトホールによって、基板３０に形成されたＴＦＴと電気的に接続される。陽極は、比較的仕事関数の大きい金属である、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ）、Ｉｎｄｉｕｍ Ｚｉｎｃ Ｏｘｉｄｅ、ＺｎＯ、ＭｏＯ３等で形成する。ここまでの構造が、図１に示す基板３０に対応する。
【００３０】
次に、各画素領域を分離する隔壁３３（図３参照）を形成して陽極をそれぞれ露出する。隔壁３３は、ポリイミド、ポリアミド、アクリル樹脂、ベンゾシクロブテン及びフェノール樹脂からなる群から選択される１つ以上の有機絶縁膜であり、スリットコーティングなどの方法で形成されてもよい。また、有機絶縁膜の代わりに、酸化シリコン、窒化シリコン、アルミナ等からなる群から選択される１つ以上の無機絶縁膜で形成してもよい。これらの材料からなる絶縁膜を形成した後、表面にレジストをコーティングし、そのレジストを選択的に露光することによってパターン形成をし、このレジストをマスクにしてエッチングをすることによって各画素領域を分離する隔壁３３を形成する。
【００３１】
続いて、隔壁３３で区画された陽極上に有機ＥＬ層を形成する。有機ＥＬ層の構成は、陽極上に、ホール注入層（ＨＩＬ）、ホール輸送層（ＨＴＬ）、発光層（ＥＭＬ）、電子輸送層（ＥＴＬ）、電子注入層（ＥＩＬ）がそれぞれ順番に形成されたものであってもよい。
【００３２】
有機ＥＬ層は、図３に示すように、有機ＥＬ材料を溶媒に溶かしたインク状の有機溶液２を、隔壁３３で区画された陽極上にノズルプリンティング法により塗布して形成する。図１（ａ）に示すように、基板３０上には、Ｒ（赤）Ｇ（緑）Ｂ（青）の異なる複数の画素が、デルタ（Ｄｅｌｔａ）配列に配置される。デルタ配列は、図１（ａ）に示すように、Ｒ（赤）Ｇ（緑）Ｂ（青）の各画素を三角形に配列したものであり、縦・横・斜め方向にＲ（赤）Ｇ（緑）Ｂ（青）の各画素が配置される。このため、隣接する画素列の各画素は互いに所定のピッチずれた位置に配置され、隣接する同じ色の画素列の各画素もまた所定のピッチずれた位置に配置される。
【００３３】
このように、各画素がデルタ配列に配置される場合には、図１（ｂ）に示すように、同じ色の同じ有機材料を用いる２つの画素列の各画素に対応して複数の開口部１１を有するマスク１０を配置する。図２（ａ）及び（ｂ）に示すように、マスク１０は、複数の開口部１１を有し、開口部１１は、マスク１０を基板３０上に配置した際に、それぞれ画素領域と対応する位置に配置されるように形成される。また、有機溶液２の塗布工程において、マスク１０は、図３に示すように、複数の隔壁３３の頂部を覆って配置され、複数の開口部１１が複数の有機ＥＬ層の形成領域上に位置するように配置される。
【００３４】
マスク１０は、図２（ａ）及び（ｂ）に示すように、開口部１１と、開口部１１に向かって傾斜した第１斜面１２とを有する。有機溶液２は、図２（ａ）に示すマスク１０上の点線Ｌ１（以下、点線Ｌ１を「塗布ラインＬ１」という。）に沿った位置に、略直線状に滴下される。塗布ラインＬ１は、塗布対象の２列の画素列の間に対応する位置であり、マスク１０の全ての第１斜面１２を横切るように配置される。このため、複数の第１斜面１２は、塗布ラインＬ１が通過する部分が、互いに隣接する第１斜面１２と重なるように配置される。ノズル１の有機溶液２を滴下するヘッド部分を、塗布ラインＬ１に沿うように、図１（ｂ）に示す画素列に沿った方向Ａ１に、マスク１０上の端から端まで移動させる。これにより、マスク１０上の塗布ラインＬ１に沿って有機溶液２が略直線状に滴下される。
【００３５】
このとき、第１斜面１２が開口部１１に向かって傾斜していることから、第１斜面１２上に滴下された有機溶液２を、それぞれ図１（ｂ）に示す方向Ｂ１または方向Ｂ２に各開口部１１に向かって流れ込ませることができる。従って、各開口部１１を通過した有機溶液２を、塗布対象以外の領域や隔壁５３上に滴下させることなく、画素列の方向に沿った一度のノズル１の走査で、同時に２つの画素列の各画素領域に塗布することが可能となる。
【００３６】
このような塗布工程に用いられるノズル１は、ノズル１の径を、例えば、５μｍ〜２０μｍとしてもよい。ノズル１の走査スピードは、例えば、１〜５ｍ／ｓであってもよい。有機溶液２としては、有機材料に例えば導電性ポリマーであるPEDOT / PSS (Polyethylene Dioxythiophene / Polystyrene Sulfonate)を用いるとき、溶媒には例えば、水、エタノール、エチレングリコール等の水系溶媒を用いてもよい。また、ポリフェニレンビニレン系ポリマー、ポリフルオレン系ポリマー等の共役系高分子を用いるとき、溶媒には例えば、水や、テトラリン、テトラメチルベンゼン、メシチレン、キシレン、トルエン等の芳香族系の有機溶媒を用いてもよい。このような構成を備えたノズル１及び有機溶液２を用いることにより、塗布工程中の有機溶液２の固化を防ぎつつ、有機溶液２をノズル１内に滞留させることなくマスク１０に向かって滴下し、マスク１０の第１斜面１２から開口部１１に滞りなく流し込むことが可能となる。
【００３７】
マスク１０は、図２（ａ）に示すように、第１斜面１２に向かって傾斜した第２斜面１３をさらに有していてもよい。図２（ａ）に示すように、第２斜面１３は、第１斜面１２の開口部１１に続く部分を除いた第１斜面１２の三方を囲むように第１斜面１２に接続されていてもよい。このような構成を備えることにより、第２斜面１３は、第１斜面１２上に滴下された有機溶液２が第２斜面１３側にはねたり、有機溶液２が第２斜面１３上に滴下された場合にも、第２斜面１３から第１斜面１２に有機溶液２を向かわせ、開口部１１に流れ込むように構成することができる。
【００３８】
このとき、例えば、マスク１０の複数の開口部１１にそれぞれ連結して形成されている第１斜面１２のｘ軸方向（図２（ａ）参照）の長さをそれぞれ同じ長さとし、複数の開口部１１にそれぞれ連結して形成されている第２斜面１３のｘ軸方向の長さをそれぞれ同じ長さに形成してもよい。これにより、図２（ａ）にａ１として示すように、各開口部１１に連結されている１つの第１斜面のｘ軸方向の長さと２つの第２斜面１３のｘ軸方向の長さとを合わせたｘ軸方向の長さａ１について、それぞれ同じ長さａ１に形成することが可能となる。すなわち、有機溶液２が第１斜面１２及び第２斜面１３上をｘ軸方向に通過する際の直線状の距離を、それぞれほぼ同じ長さａ１の距離とすることができる。従って、第１斜面１２及び第２斜面１３上に滴下されて第１斜面１２及び第２斜面１３を介して各開口部１１に流れ込む有機溶液２を、均等な量に分配することが可能となる。
【００３９】
また、マスク１０の複数の開口部１１は、基板３０上にマスク１０を配置した際に、各画素領域と対応する位置に配置する。このため、複数の開口部１１を、各画素領域と同じ大きさに形成してもよい。しかし、図３に示すように、マスク１０が隔壁３３の頂部を覆うように配置されていれば、複数の開口部１１は、各画素領域の面積よりも小さい面積を有して形成されてもよい。
【００４０】
マスク１０の材質は、インクに対して耐性のある材料を用いることが望ましく、加工精度、熱膨張性を考慮すると、ステンレス鋼（SUS）などの金属を用いてもよい。マスク１０の表面は、撥液化処理が施されていることが望ましく、フッ素系ガスを用いたプラズマ処理による撥液化処理が施されていてもよい。
【００４１】
マスク１０の表面に対してこのような撥液化処理を施すことにより、マスク１０の表面に有機溶液２が滴下された際に、マスク１０の表面上に有機溶液２を残留させることなく、開口部１１に向かって有機溶液２を流れ込ませることが可能となる。例えば、図２（ａ）に示すように、開口部１１並びに第１及び第２斜面１２、１３が形成されていないマスクの表面上の領域Ｒ１上においても、有機溶液２が通過することとなる。このとき、マスク１０の表面上に撥液化処理を施しておくことにより、領域Ｒ１上に有機溶液２を滞留させることなく、隣接するいずれかの第１及び第２斜面１２、１３に有機溶液２を流れ込ませることが可能となる。
【００４２】
また、図２（ａ）に示す領域Ｒ１の面積を、第１及び第２斜面１２、１３の面積を調整して可能な限り小さくすることにより、領域Ｒ１上に有機溶液２が滞留することを防ぎ、開口部１１に向かって有機溶液２が流れ込み易くなるように構成することができる。これにより、有機溶液２がマスク１０上に残留することを防ぎ、各画素領域に均等な流量の有機溶液２を塗布することが可能となる。
【００４３】
また、このような有機溶液２の塗布工程前に、陽極に対して、ＵＶオゾン処理又は酸素プラズマ処理により親液化処理を施してもよい。また、隔壁３３に対して、ＵＶオゾン処理又は酸素プラズマ処理による親液化処理、若しくは、フッ素系ガスを用いたプラズマ処理による撥液化処理を施してもよい。このような処理を施すことにより、有機溶液２を各隔壁３３に付着させないようにしつつ、陽極上に有機溶液２を成膜することがより容易に可能となる。また、隔壁３３を撥液性を有する材料でコーティングして形成してもよく、隔壁３３自体を撥液性を有する材料で形成してもよい。
【００４４】
なお、図１及び図３には、赤色（Ｒ）の画素列に有機溶液２を塗布する工程の一例を図示しているが、緑色画素（Ｇ）及び青色画素（Ｂ）の各画素領域についても同様に、それぞれ同じ有機材料を用いる画素領域に対しては同様のマスク１０を用いて有機溶液２を塗布することができる。なお、有機溶液２の塗布工程中に、基板３０表面の温度を温度制御装置等を用いてコントロールし、冷却もしくは加熱しながら塗布してもよい。
【００４５】
このように、本発明の第１の実施形態に係る有機ＥＬ表示装置の製造方法によれば、既存の製造装置を用いて、ノズル１と基板３０との間にマスク１０を配置することにより、簡易な製造工程で、マスク１０の複数の開口部１１を介して各画素領域に有機溶液２を塗布することが可能となる。また、図６及び図７に示す従来の製造方法と比較すると、隔壁３３上をマスク１０で覆うため、隔壁３３上に有機溶液２が滴下されることがない。従って、隔壁３３上に有機溶液２が滞留することを防ぎ、各画素領域に均等な流量で有機溶液２を分配することが可能となる。
【００４６】
また、本発明の第１の実施形態に係る有機ＥＬ表示装置の製造方法によると、同じ色の画素が直線状に連続して配列されていないデルタ配列のような画素配列であっても、画素列の方向に沿ったノズル１の一度の走査により、一つのマスク１０を用いて、同時に２つの画素列の各画素領域にそれぞれ有機溶液２を塗布することが可能となる。従って、本発明によれば、製造工程数を減らし、簡易な製造工程で、有機ＥＬ材料の塗布均一性を向上させることができる。
【００４７】
このような方法を用いて、各画素領域に有機溶液２を塗布した後、基板３０を加熱処理することによって、溶媒の蒸散を行う。なお、有機溶液２が速乾性を有するものであれば、加熱処理を行わなくてもよい。マスク１０は、有機ＥＬ材料の固化後、基板３０から取り外す。
【００４８】
このような塗付方法を用いて、各画素領域毎に、陽極上に、ホール注入層（ＨＩＬ）、ホール輸送層（ＨＴＬ）、発光層（ＥＭＬ）、電子輸送層（ＥＴＬ）、電子注入層（ＥＩＬ）をそれぞれ順番に形成することにより、有機ＥＬ層が形成される。その後、電子注入層（ＥＩＬ）上に、Ａｌ、Ｎｉ、Ｍｇもしくはこれらを含む合金等からなる陰極を形成することにより、有機ＥＬ層構造が形成される。
【００４９】
なお、上述した有機ＥＬ層構造は、基板３０側に陽極、有機ＥＬ層上に陰極を配置する構造であるが、基板３０側に陰極、有機ＥＬ層上に陽極を配置する構造としてもよい。
【００５０】
（第２の実施形態）
次に、図４及び図５を参照し、本発明の第２の実施形態に係る有機ＥＬ表示装置の製造方法について説明する。
【００５１】
図４は、本発明の第２の実施形態に係る有機ＥＬ表示装置の製造方法を説明するための図であり、（ａ）は、基板４０上の画素配列を示す平面図であり、（ｂ）は、マスク２０を配置した基板４０を示す平面図である。図５は、本発明の第２の実施形態に係る有機ＥＬ表示装置の製造方法に用いるマスク２０を示す図であり、（ａ）はマスク２０の平面図であり、（ｂ）は（ａ）に示すＢ−Ｂ´線の断面図である。
【００５２】
なお、第２の実施形態に係る有機ＥＬ表示装置の製造方法は、第１の実施形態に係る有機ＥＬ表示装置の製造方法とは、有機溶液２を塗布する基板４０上の画素配列の構成のみが異なり、この画素配列に合わせたマスク２０を用いるものである。従って、以下、上述した第１の実施態に係る有機ＥＬ表示装置の製造方法と同様の構成についてはその詳細な説明について省略する。
【００５３】
第２の実施形態に係る有機ＥＬ表示装置の製造方法に用いるマスク２０は、図４（ａ）に示すように、画素配列がペンタイル配列の場合に用いるものである。ペンタイル配列は、図４（ａ）に示すように、一つの画素をＧＲ（緑・赤）またはＧＢ（緑・青）の２つのサブピクセルをセットとして交互に配置した構成を有する。このため、隣接する同じＲ（赤）又はＢ（青）色の画素は、互いに他の色の画素を挟んだ位置に配置される。
【００５４】
このようなペンタイル配列の場合にも、上述したマスク１０と同様に、開口部２１及び第１斜面２２を有するマスク２０を用いることができる。マスク２０は、図５（ａ）及（ｂ）に示すように、開口部２１と、開口部２１に向かって傾斜した第１斜面２２とを有する。図４（ｂ）に示すように、各開口部２１は、隣接する２列の画素列の各画素領域に対応する位置に配置される。図５（ａ）に示すように、第１斜面２２は、２列の画素列の間に対応する位置である塗布ラインＬ１に、その一部が配置される。マスク２０は、上述した第２斜面１３と同様に、第１斜面２２に向かって傾斜した第２斜面２３をさらに有していてもよい。
【００５５】
図３に図示したマスク１０と同様に、マスク２０についても、各画素領域を画定する側壁３３の頂部を覆って配置される。ノズル１の有機溶液２を滴下するヘッド部分を、塗布ラインＬ１に沿うように、図４（ｂ）に示す画素列に沿った方向Ａ１に、マスク２０上の端から端まで移動させる。これにより、マスク２０上の塗布ラインＬ１に沿って有機溶液２が略直線状に滴下される。第１斜面２２に滴下された有機溶液２は、図４（ｂ）に示す方向Ｂ１または方向Ｂ２に流れるため、各開口部２１を通過させた有機溶液２を、各画素領域に均等な流量で分配することができる。
【００５６】
このように、本発明の第２の実施形態に係る有機ＥＬ表示装置の製造方法によれば、第１の実施形態に係る有機ＥＬ表示装置の製造方法と同様に、既存の製造装置を用いて、ノズル１と基板４０との間にマスク２０を配置することにより、マスク２０の複数の開口部２１を介して、各画素領域に有機溶液２を均等に分配することが可能となる。また、図６及び図７に示す従来の製造方法と比較すると、隔壁３３上を覆ってマスク２０を配置するため、隔壁３３上に有機溶液２が滴下されることがない。従って、隔壁３３上に有機溶液２が滞留することを防ぎ、各画素領域に均等な流量で有機溶液２を分配することが可能となる。
【００５７】
また、本発明の第２の実施形態に係る有機ＥＬ表示装置の製造方法によると、同じ色の画素が直線状に連続して配列されていないペンタイル配列のような画素配列であっても、画素列の方向に沿ったノズル１の一度の走査により、一つのマスク２０を用いて、同時に２つの画素列の各画素領域にそれぞれ有機溶液２を塗布することが可能となる。従って、本発明によれば、製造工程数を減らし、簡易な製造工程で、有機ＥＬ材料の塗布均一性を向上させることができる。
【００５８】
なお、上述した第１及び第２の実施形態においては、同じ有機材料を用いる２列の画素列に対して一つのマスク１０、２０を用いて塗布する工程を説明したが、これに限らず、任意の数の画素列に対し、一つのマスク１０、２０を用いて塗布してもよい。また、上述した第１及び第２の実施形態においては、画素配列がデルタ配列またはペンタイル配列である場合を例に挙げて説明したが、これらの画素配列に限らず、同じ有機材料を塗布する２列の画素列の間の位置に、開口部１１、２１と連結された第１斜面１２、２２が配置されるようにマスク１０、２０を構成することにより、その他の画素配列においても本発明を適用することができる。
【００５９】
以上のとおり、本発明の有機ＥＬ表示装置の製造方法によれば、同じ色の画素が直線状に連続して配列されていない画素配列であっても、簡易な製造工程で、有機ＥＬ材料の塗布均一性を向上させることが可能となる。従って、本発明の有機ＥＬ表示装置の製造方法によれば、各画素間の有機ＥＬ層の膜厚のばらつきを抑制した有機ＥＬ表示装置を提供することができる。
【符号の説明】
【００６０】
１０、２０    マスク
１１、２１    開口部
１２、２２    第１斜面
１３、２３    第２斜面
１、５１    ノズル
２、５２    有機溶液
３０、４０、５０    基板
３３、５３    側壁
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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