(57)【要約】【課題】フッ素を含む副原料を使わずに高脱りん能を確保しつつ、スロッピングやスピッティングを抑制し、かつ低コストで短時間での脱りん処理を実現する。【解決手段】上吹ランスと底吹きノズルを備えた上底吹き型の転炉に、C:4.3〜4.6%、Si:0.30〜0.50%およびP:0.090〜0.120%を有する溶銑を装入して、上吹ランスから酸素とともに粉状生石灰を吹付けて脱硅脱りん処理することにより溶銑を脱硅脱りん処理する。この際、(1)固体酸素源を溶銑上に、上吹きランスから酸素供給を開始する直前または直後30秒間以内に酸素流量に換算して2.0〜4.0Nm3/t添加し、上吹きランスからの上吹き酸素供給速度を2.0〜3.0Nm3/min/tとし、(2)底吹きノズルからの底吹きガス供給速度を、脱硅処理期間中には0.2〜0.3Nm3/min/tとするとともに、脱硅処理後脱りん処理終了までは0.4〜0.5Nm3/min/tとし、(3)装入塩基度を質量比率でCaO/SiO2:2.5〜3.0として、(4)装入塩基度の計算に含まれる全CaO質量の80%以上を、最大粒径が0.5mm以下とした粉状生石灰により6kg/min/t以下の吹込み速度で調整して上吹きランスから酸素とともに溶銑に吹付け、(5)上吹酸素の供給時間を6分間以下とし、(7)処理終了後の溶銑中C濃度を質量濃度で3.4〜3.7%とする。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
上吹きランスと底吹きノズルを備えた上底吹き型の転炉に、質量濃度で、Ｃ：４．３〜４．６％、Ｓｉ：０．３０〜０．５０％およびＰ：０．０９０〜０．１２０％を有する溶銑を装入して、前記上吹ランスから酸素とともに粉状生石灰を吹付けて脱硅脱りん処理する方法であって、
固体酸素源を溶銑上に、前記上吹きランスから酸素供給を開始する直前または直後３０秒間以内に、酸素流量に換算して２．０〜４．０Ｎｍ３／ｔ添加し、
前記上吹きランスからの上吹き酸素供給速度を２．０〜３．０Ｎｍ３／ｍｉｎ／ｔとし、
前記底吹きノズルからの底吹きガス供給速度を、脱硅処理期間中には０．２〜０．３Ｎｍ３／ｍｉｎ／ｔとするとともに、脱硅処理後脱りん処理終了までは０．４〜０．５Ｎｍ３／ｍｉｎ／ｔとし、
装入塩基度を質量比率でＣａＯ／ＳｉＯ２：２．５〜３．０として、
該装入塩基度の計算に含まれる全ＣａＯ質量の８０％以上を、最大粒径が０．５ｍｍ以下とした粉状生石灰により６ｋｇ／ｍｉｎ／ｔ以下の吹込み速度で調整して前記上吹きランスから酸素とともに溶銑に吹付け、
該上吹酸素の供給時間が６分間以下であり、
処理終了後の溶銑中Ｃ濃度を質量濃度で３．４〜３．７％とすること
を特徴とする溶銑の脱硅脱りん処理方法。
但し、脱硅処理期間とは、前記上吹酸素の供給開始から溶銑中のＳｉが除去されるまでの期間であって、（１）式により計算される時間（ｍｉｎ）である。
（［Ｓｉ］０×８−Ｑｏ’）／Ｑｏ・・・・・（１）
［Ｓｉ］０：転炉へ装入する溶銑のＳｉ濃度（質量％）
Ｑｏ’：上吹きランスから酸素供給を開始する直前または直後３０秒間以内に溶銑上に添加する固体酸素量（Ｎｍ３／ｔ）
Ｑｏ：上吹きランスから供給する酸素流量（Ｎｍ３／ｍｉｎ／ｔ）
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、転炉で溶銑を脱珪脱りん処理する際に、フッ素を含む副原料を使わず、またスロッピングやスピッティングを抑制し、かつ低コストで短時間に高脱りん能を実現する溶銑の脱珪脱りん処理方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
鉄鋼製品の低りん化ニーズの高まり、およびその製造プロセスを高能率化する必要性に応じて、近年、転炉製鋼プロセスを溶銑予備脱燐処理と溶銑脱炭処理に分割して行う比率が増加している。加えて、製鋼プロセスによる地球環境への負荷低減も益々重要になっている。そのため、溶銑予備脱りん処理においても、蛍石等のフッ素を含む副原料を使わずに脱燐能力が高く、かつ、脱りん処理能率も高い技術が強く求められている。
【０００３】
蛍石等のフッ素を含む副原料を使わずに脱燐能力が高い脱りん処理方法として「粉体上吹脱りん法」の発明（特許文献１）があり、それを更に改良した発明が近年多数公開されている。例えば、（１）脱りん処理中のスピッティング量を低減するために、カバースラグを生成した後にＣａＯ含有脱りん剤を吹付ける方法（特許文献２）や、（２）発生スラグ量を抑制するために、Ｓｉ濃度が０．２０質量％以下の溶銑を用いて脱りん処理後のスラグ塩基度を２．５超４．９５以下で処理する脱りん方法（特許文献３）、（３）高速脱りん処理と滓化率維持を両立させるため、低塩基度かつ粉粒状固体酸素源のランスからの吹込みを併用する方法（特許文献４）がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開平８−３１１５２３号公報
【特許文献２】特許第３６８７４３３号明細書
【特許文献３】特許第３９５２８４６号明細書
【特許文献４】特開２００８−２６６６６６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかし、（１）はスピッティング抑制には効果的であり、（２）は高脱りん能を得られるかもしれないが、いずれも高能率化との関係は不明である。一方、（３）は高能率脱りん操業が可能かもしれないが、粉粒状の固体酸素源を吹込む特別な装置が必要であり、容易に実施することはできない。
【０００６】
溶銑脱りん処理の高能率化のためには、塩基度アップと滓化率向上およびスピッティング抑制の両立、スラグ中ＦｅＯ増加とスロッピング抑制の両立といった難課題の解決が必要であり、未だに課題は山積している。つまり、粉体上吹脱りん法をベースとして余分なコストを発生させず、スロッピングやスピッティングを抑制し、なおかつ従来以上の高処理効率を実現することは、既存の発明だけでは困難であった。
【０００７】
本発明は、以上のような従来技術が有する課題を解決し、より低コストで高脱りん処理効率、高脱りん能を確保する脱硅脱りん処理技術を確立することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明は以下に記載の通りである。
（１）上吹きランスと底吹きノズルを備えた上底吹き型の転炉に、質量濃度で、Ｃ：４．３〜４．６％、Ｓｉ：０．３０〜０．５０％およびＰ：０．０９０〜０．１２０％を有する溶銑を装入して、前記上吹ランスから酸素とともに粉状生石灰を吹付けて脱硅脱りん処理する方法であって、
固体酸素源を溶銑上に、前記上吹きランスから酸素供給を開始する直前または直後３０秒間以内に、酸素流量に換算して２．０〜４．０Ｎｍ３／ｔ添加し、
前記上吹きランスからの上吹き酸素供給速度を２．０〜３．０Ｎｍ３／ｍｉｎ／ｔとし、
前記底吹きノズルからの底吹きガス供給速度を、脱硅処理期間中には０．２〜０．３Ｎｍ３／ｍｉｎ／ｔとするとともに、脱硅処理後脱りん処理終了までは０．４〜０．５Ｎｍ３／ｍｉｎ／ｔとし、
装入塩基度を質量比率でＣａＯ／ＳｉＯ２：２．５〜３．０として、
該装入塩基度の計算に含まれる全ＣａＯ質量の８０％以上を、最大粒径が０．５ｍｍ以下とした粉状生石灰により６ｋｇ／ｍｉｎ／ｔ以下の吹込み速度で調整して前記上吹きランスから酸素とともに溶銑に吹付け、
該上吹酸素の供給時間が６分間以下であり、
処理終了後の溶銑中Ｃ濃度を質量濃度で３．４〜３．７％とすること
を特徴とする溶銑の脱硅脱りん処理方法。
【０００９】
但し、脱硅処理期間とは、前記上吹酸素の供給開始から溶銑中のＳｉが除去されるまでの期間であって、（１）式により計算される時間（ｍｉｎ）である。
【００１０】
（［Ｓｉ］０×８−Ｑｏ’）／Ｑｏ・・・・・（１）
［Ｓｉ］０：転炉へ装入する溶銑のＳｉ濃度（質量％）
Ｑｏ’：上吹きランスから酸素供給を開始する直前または直後３０秒間以内に溶銑上に添加する固体酸素量（Ｎｍ３／ｔ）
Ｑｏ：上吹きランスから供給する酸素流量（Ｎｍ３／ｍｉｎ／ｔ）
【発明の効果】
【００１１】
本発明により、フッ素を含む副原料を使わずに高脱りん能を確保しつつ、スロッピングやスピッティングを抑制し、かつ低コストで短時間での脱りん処理を実現することが可能となり、環境負荷低減（フッ素レス化）、高脱りん能確保（処理後［Ｐ］低下）、および高脱りん処理効率（高速脱りん吹錬）を同時に達成することが可能になった。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
１）基本的な実施態様
高炉から出銑された溶銑を、基本的には溶銑予備脱珪処理を施さず、必要に応じて溶銑予備脱硫処理を施して、質量濃度で、Ｃ：４．３〜４．６％、Ｓｉ：０．３０〜０．５０％およびＰ：０．０９０〜０．１２０％を有する溶銑を、上吹きランスと底吹きノズルを備えた上底吹き型の転炉に装入し、上吹酸素の供給時間が６分間以下で処理終了後の溶銑中Ｃ濃度を質量濃度で３．４〜３．７％として、処理終了後の溶銑中Ｐ濃度を質量濃度で０．０１５％以下に低減する。
【００１３】
このような短時間で上記した脱珪脱燐処理を終了させるためには、上吹きランスからの上吹き酸素供給速度を処理対象溶銑１トン当たり２．０〜３．０Ｎｍ３／ｍｉｎとする必要があり、しかも近年の地球環境への負荷低減を意識して蛍石等のフッ素を含む副原料を使わず、かつ、脱燐剤使用コストを低減するためにＣａＯ源として高価な合成造滓材（カルシウムアルミネートやカルシウムフェライト等）も使用せずに、スロッピングやスピッティングの発生を抑制して、溶銑の低燐濃度化を達成する必要がある。
【００１４】
２）フッ素を含む副原料を使わずに高脱りん能を確保する手段
粉状ＣａＯ含有物質（以降粉体ＣａＯと記す）を上吹酸素とともに溶銑へ上吹する。これは微細ＣａＯ含有物質を高温の火点へ直接吹き付けることで、フッ素を含む副原料を使用せずに滓化を促進させるためである。
【００１５】
粉体ＣａＯとしては、最大粒径が０．５ｍｍ以下等と細かくしておく必要があり、最大粒径は０．１ｍｍ以下等と細かくしておくほど滓化が速く安定しているため好ましい。材質は生石灰粉が好適であるが、ＣａＯ含有濃度が８０質量％以上とした生石灰粉と石灰石粉の混合物等でもよい。
【００１６】
炉内へ供給するＣａＯ質量の内、上記した高速滓化機構を利用するために、粉体ＣａＯで供給する質量比率は８０％以上でなければならない。この比率が８０％未満では、供給ＣａＯの滓化が遅れ、所望する処理後の溶銑中Ｐ濃度を安定して得ることができない。また、供給ＣａＯの滓化が遅れてスラグの塩基度制御に問題が生じるほか、後述するスラグフォーミング抑制機能が十分に発揮されなくなり、スロッピングが発生し易くなってしまう。
【００１７】
粉体ＣａＯで供給する比率は、なるべく高いほうがよく、１００％であることが最も好ましい。
【００１８】
３）高速処理におけるスロッピング抑制手段
炉内スラグ量のコントロールおよび炉内スラグの塩基度制御が重要である。
【００１９】
（１）炉内スラグ量に関しては、高速送酸に伴うスピッティング防止のほか、溶銑中Ｐを低減するためには一定量以上を確保する必要があるが、必要以上の生成はスロッピングを誘発し、操業阻害要因となる。
【００２０】
スラグ生成量はＣａＯ供給量やＦｅＯ生成量にも依存するが、基本的には溶銑中Ｓｉ濃度によってコントロールすることができる。そこで、スピッティング防止や脱りん能力確保を安定して達成することができ、しかもスロッピングを抑制することが出来るスラグ量を検討した結果、溶銑中Ｓｉ濃度を０．３０〜０．５０質量％程度にしておく必要があると分かった。
【００２１】
このＳｉ濃度範囲を外れる溶銑については、本発明に係る他の要件を満たしても上吹き酸素の供給時間が６分間以下で、所望する低Ｐ濃度の溶銑を得ることはできないので、他の対策を施す必要がある。
【００２２】
（２）炉内スラグ塩基度に関しては、脱硅処理期間終了後には供給ＣａＯの滓化率を低下させないようにできる範囲内で、なるべく速やかに上昇させなければならない。なぜなら、脱珪処理期間終了後には、上吹き酸素は主として溶銑中Ｃと反応するようになるため発生ＣＯガス量は増加し、スラグ量が多い、あるいは粘性が高くてＣＯガスが抜け難いようなスラグの場合には、スロッピングが発生し易くなるからである。
【００２３】
このためには、粉体ＣａＯを活用することを前提として、スラグ量を脱りん推進のために多くする必要がある脱りん処理末期の時点で、スラグ塩基度（ＣａＯ／ＳｉＯ２）を２．３〜２．９程度に高めておく必要がある。このようなスラグ塩基度は、装入塩基度を、質量比率でＣａＯ／ＳｉＯ２：２．５〜３．０と高めに設定し、併せてＣａＯの滓化率を９０％以上等と高める工夫を施すことによって達成される。
【００２４】
その工夫の基本的な手段としては、装入塩基度の計算に含まれる全ＣａＯ質量のなるべく多く（８０％以上）を粉体ＣａＯにより、上吹き酸素とともに溶銑に吹き付けることが必要で、この粉状で供給されるＣａＯの比率は１００％であることが好ましい。
【００２５】
ただし、粉状で供給されるＣａＯは、上吹き酸素とともに溶銑に吹き付ける必要があるため、その供給速度が速過ぎると溶銑表面部での滓化率が低下し、スラグ中を経由して炉外へ飛散してしまう比率が高くなる。一方、溶銑表面部で滓化しなかったＣａＯは、スラグがフォーミングしている場合にその破泡に役立つため、供給するＣａＯのうち数％程度はある方が好ましく、この破泡機能を利用するために、脱珪処理期間終了後から脱燐処理終了まで粉体ＣａＯは吹き付け続けることが好ましい。
【００２６】
しかし、供給するＣａＯの滓化率低下は、脱燐処理に要する副原料使用コストの増加に繋がるため、その９０％程度以上は溶融スラグにすることが好ましい。このような溶銑表面部でのＣａＯの滓化は、上吹き酸素の供給速度が２．０〜３．０Ｎｍ３／ｍｉｎ／ｔと決まっている以上、粉体ＣａＯの供給速度を適切に制御することで達成される。粉体ＣａＯの供給速度については、スピッティング抑制対策と併せて後述する。
【００２７】
４）高速処理におけるスピッティング抑制手段
吹錬初期から一定量のカバースラグを形成させること、および形成したスラグを溶融状態に保持することが重要である。
【００２８】
（１）まずカバースラグ形成策として、敢えて炉外脱硅処理は行わず、０．３０質量％以上のＳｉ濃度を有する溶銑を用い、吹錬開始時から上吹き酸素により生成されるＳｉＯ２と粉体ＣａＯとを迅速に反応させ低融点スラグを生成させて、その後添加するＣａＯの滓化を促進させる。
【００２９】
ここで、上吹き酸素供給開始時点で溶銑上に溶融スラグを確保するため、上吹きランスから酸素供給を開始する直前または直後に、固体酸素源（スケールが好ましい）を添加して一部を溶銑中Ｓｉと反応させ、主として酸化鉄およびＳｉＯ２からなる溶融スラグを生成させる必要がある。固体酸素源を上吹き酸素流量に換算して２．０〜４．０Ｎｍ３添加した場合、固体酸素源の溶銑中Ｓｉとの反応効率を５０％と仮定すると生成されるＳｉＯ２は２．５〜５．０ｋｇ／ｔであり、初期カバースラグとしては十分量確保される。
【００３０】
また、上吹き酸素の供給速度を２．０〜３．０Ｎｍ３／ｍｉｎ／ｔとする本発明においては、初期の溶銑中Ｓｉと上吹き酸素との反応効率を１００％と仮定すれば、ＳｉＯ２生成速度は２．５〜３．７ｋｇ／ｍｉｎ／ｔとなる。ただし、溶銑中Ｓｉ濃度は０．３０〜０．５０質量％なので、全生成ＳｉＯ２質量は６．４〜１０．７ｋｇ／ｔに過ぎず、スロッピングを誘発するレベルではない。
【００３１】
（２）炉内形成スラグの溶融状態維持に関しては、粉体ＣａＯの吹付け速度をコントロールすることで対応する。まず、初期に生成させる溶融スラグは、転炉内の溶銑温度が１３００〜１３５０℃程度の低温であることを考慮し、その温度でも溶融状態を保つことができるように、塩基度（ＣａＯ／ＳｉＯ２）は１．０程度であることが望ましい。一方、最終的には装入塩基度を質量比率でＣａＯ／ＳｉＯ２：２．５〜３．０まで高める必要があるため、１０〜２０ｋｇ／ｔのＣａＯが必要になる。
【００３２】
全体の処理時間を６分間以内とすることが前提であるため、脱珪処理期間終了後の期間が４〜５分間程度であることを考えると、ＣａＯの供給速度は平均して５ｋｇ／ｍｉｎ／ｔ以上に高める必要はなく、脱珪処理終了時から１〜２分間のスラグ塩基度の上昇速度を高めたい期間においても、６ｋｇ／ｍｉｎ／ｔ以下で十分と考えられる。この速度が速過ぎると、上吹き酸素とともに吹き付けられる粉体ＣａＯの運動量が高くなり、スピッティングを発生させ易くなるので好ましくない。
【００３３】
ただし、吹錬開始後まもなくの比較的低温条件とはいえ、スラグの塩基度があまり低いと転炉耐火物の溶損が懸念されるし、スラグのフォーミングも心配である。したがって、この期間の粉体ＣａＯの供給速度は３ｋｇ／ｍｉｎ／ｔ程度以上としておくことが好ましい。
【００３４】
本発明において「脱珪処理期間」とは、上吹酸素の供給開始から溶銑中のＳｉが除去されるまでの期間であって、溶銑中Ｓｉの１．０質量％がＳｉＯ２になるためには８．０Ｎｍ３／ｔの酸素が必要であることから、前記（１）式：（［Ｓｉ］０×８−Ｑｏ’）／Ｑｏにより計算される時間（ｍｉｎ）として規定される。
【００３５】
５）高速処理における脱りん促進手段
一定量のスラグ量確保、供給するＣａＯの滓化率確保、およびスラグ−メタル反応の促進が挙げられる。前述の通り、スラグ量確保のためには溶銑成分範囲を定め、スラグ塩基度を高くする工夫を、滓化率確保のためには主に粉体ＣａＯ供給速度を制限する工夫を行い、スラグ−メタル反応の促進については、底吹ガス流量および処理終了時点の溶銑中Ｃ濃度をコントロールすることで対応する。
【００３６】
（１）底吹ガスに関しては、吹錬開始後から脱硅終了までの期間は流量を低下させ溶銑の撹拌を比較的弱くしておくほうが望ましい。なぜなら、上吹き酸素は溶銑中Ｓｉとの反応を主体とし、残りの酸素はＦｅと反応してＦｅＯを生成することが好ましく、逆に生成スラグ中のＦｅＯが溶銑のＣと反応して還元されてしまうことは炉内スラグを溶融状態に保つ上で好ましくない。
【００３７】
一方、脱硅処理期間終了後の、炉内スラグ塩基度を上昇させつつスラグ生成を促進させる期間は、スラグ量が増加するとともに溶銑とスラグとを強撹拌して、溶銑中のＣとスラグ中のＦｅＯとが反応してしまうことを厭わずに、溶銑中のＰとスラグとの反応を促進しなければならない。そこで、本発明における底吹ガス流量は脱硅処理期間中には０．２〜０．３Ｎｍ３／ｍｉｎ／ｔ、脱硅処理後脱りん処理終了までは０．４〜０．５Ｎｍ３／ｍｉｎ／ｔとする。
【００３８】
（２）また、脱珪処理期間終了後には、上吹き酸素は基本的に溶銑中Ｃと反応してＣＯとなるため、底吹きガス流量と比べてそのガス流量は約１０倍であるから、このＣＯガスを適切に利用することによって、脱燐反応は大いに促進される。このＣＯガス発生量は、溶銑中Ｃの酸化減少量によって決まるため、処理終了時点の溶銑中Ｃ濃度を管理することで、ＣＯガスによる溶銑とスラグの撹拌をコントロールすることができる。この目的で、処理終了時点での溶銑中Ｃ濃度は、低目の３．４〜３．７質量％とすることが適切である。
【００３９】
本発明実施後の溶銑は、転炉を用いて溶鋼を製造する脱炭処理に供されるため、処理後の溶銑中Ｃ濃度が低くなり過ぎると脱炭処理時の加熱源が不足してしまう。したがって、処理終了時点での溶銑中Ｃ濃度は、３．４質量％以上としなければならない。
【００４０】
本発明は、上記技術思想の着想に基づき、その着想を具現化するための検討を総合的に進めた結果、一体として具備すべき必要要件として得られたものである。
【実施例】
【００４１】
溶銑７８ｔ〜８５ｔ（組成：［Ｃ］約４．４質量％、［Ｓｉ］０．３０〜０．５０質量％、［Ｐ］０．０９０〜０．１２０質量％）を上底吹転炉へ装入し、上吹酸素２．０〜３．０Ｎｍ３／ｍｉｎ／ｔにて脱珪脱りん処理を行った。上吹き酸素の溶銑への供給を開始する２０〜３０秒前に、固体酸素源としてスケール（主としてＦｅＯ）を酸素量に換算して２．０〜４．５Ｎｍ３／ｔ添加し、上吹き酸素の供給開始と同時に、粉体ＣａＯとしてＣａＯを９２％含有し最大粒径が０．１ｍｍ以下である粉状生石灰を、溶銑１トン当たりＣａＯ純分で３．８〜６．４ｋｇ／ｍｉｎの吹付け速度で、酸素とともに溶銑浴面へ吹き付けて脱硅脱りん処理を行った。また、上吹き酸素の供給開始前あるいはその供給開始直後に、最大粒径が６０ｍｍ以下の塊状生石灰によりＣａＯを０〜７．４ｋｇ／ｔ投入した。なお、フッ素含有副原料およびカルシウムアルミネート等の合成造滓材は一切使用しなかった。
【００４２】
装入塩基度は２．１〜３．０とし、実塩基度との関係を調査した。なお、装入塩基度とは、（添加したＣａＯ含有副原料中のＣａＯ合計量）／（溶銑中［Ｓｉ］が酸化して生成したＳｉＯ２量と炉内投入副原料中のＳｉＯ２量の合計）であり、実塩基度とは、（スラグのＣａＯ質量濃度％）／（スラグのＳｉＯ２質量濃度％）である。
【００４３】
脱りん処理中、底吹羽口からはＮ２ガスを０．２〜０．５Ｎｍ３／ｍｉｎ／ｔで溶銑中へ吹き込んで撹拌を行った。
【００４４】
脱りん処理後の溶銑温度（転炉から出湯後に、鍋内で測定した溶銑温度）は１３０２〜１３４１℃であり、処理後溶銑［Ｃ］は３．３８〜３．６８質量％にコントロールされていた。この調査における各脱りん処理の具体的な条件とその処理結果を表１にまとめて示す。
【００４５】
本発明の目的は、一切のフッ素含有副原料を使用せず、また粉体ＣａＯおよび塊ＣａＯ以外に合成造滓材を使用することなく、（１）処理後溶銑［Ｐ］≦０．０１５質量％、（２）スロッピング，スピッティング抑制、（３）脱燐処理時間（上吹き酸素の供給時間）６分間以下を達成することであり、本発明で規定する条件にて脱りん処理を行った場合には（１）〜（３）すべてを満足することが確認された（表１の本発明例１〜９参照）。
【００４６】
一方、本発明で規定する条件を一つでも満足しない条件で処理した場合には、処理後［Ｐ］＞０．０１５質量％あるいはスロッピング、スピッティングが発生し、安定操業に支障をきたす結果となった（表１の比較例１０〜１６参照）。
【００４７】
【表１】
2014028992.tif 000002
【００４８】
まず、本発明例と比較例１０，１１について述べる。粉体吹込速度が６．０ｋｇ／ｍｉｎ／ｔを超える条件では、その粉体吹付け中にスピッティングが激しくなり、酸素上吹きランスに地金付着が発生した。また、処理後スラグ中に未滓化のＣａＯ（ｆ．ＣａＯ）が１質量％以上存在しており、供給したＣａＯの滓化不良が生じていることが分かった。その結果、脱りん処理後の溶銑［Ｐ］も０．０１５質量％以上となり、脱りん能の低下が確認された。
【００４９】
次に、本発明例と比較例１２〜１４について述べる。脱Ｓｉ期から底吹ガス流量を０．５Ｎｍ３／ｍｉｎ／ｔで強撹拌し続けた結果、処理後［Ｐ］が０．０１５質量％以上となった。これは生成したＦｅＯが強撹拌により溶銑中の［Ｃ］と反応してしまい、炉内スラグが溶融状態で維持されなかったためと考えられる。また、脱硅反応が急速に進行した一方でＣａＯの滓化が遅れてしまった結果、大規模スロッピングが発生し、炉内に残存するスラグ量が減少してしまうことでの脱りん能の低下が確認された。比較例１２のように処理後の溶銑［Ｐ］≦０．０１５質量％を達成する場合も稀に存在するが、スロッピングのレベルが激しくなり安定操業を阻害するため、やはり連続操業条件としては適さない。
【００５０】
最後に、本発明例と比較例１５，１６について述べる。粉体ＣａＯ比率を８０％未満として処理した結果、処理後スラグ中（ｆ．ＣａＯ）が１．５質量％以上となってしまい、上吹き酸素の供給時間６分間以下の高速処理においては、塊状で供給されたＣａＯは十分に滓化が進んでいないことが確認された。その結果、処理後の溶銑［Ｐ］≦０．０１５質量％は達成することが難しいと分かった。
【００５１】
以上の結果から、フッ素を含む副原料を使わずに高脱りん能を確保しつつ、スロッピングやスピッティングを抑制し、かつ低コストで短時間での脱りん処理を実現するためには、本発明で規定する条件の範囲内で操業することの有効性が確認された。