(57)【要約】【課題】複数の半導体チップを同時に熱圧着する際に実装品質を高めることができる実装装置を提供する。【解決手段】上層チップ４を下層チップ８上に配置し、上層チップ４と下層チップ８とを熱圧着によって接合する実装装置１００であって、上層チップ４を下層チップ８上に配置し、熱圧着によって仮接合する第１移動部６と、仮接合された複数の上層チップ４と複数の下層チップ８とを、より長い時間の熱圧着によって本接合する第２移動部１３であって、下層チップ８上に仮接合された複数の上層チップ４を、下層チップ８の上層チップ４の搭載面と平行な吸着面に吸着保持した状態で熱圧着する第２移動部１３とを備えている。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体チップを基板上の所定の接続部に配置し、前記半導体チップと前記基板上の所定の接続部とを熱圧着によって接合する実装装置であって、
前記半導体チップを前記基板上の所定の接続部に配置し、熱圧着によって仮接合する第１の圧着部と、
前記第１の圧着部で仮接合された複数の前記半導体チップと前記基板上の所定の接続部とを、前記第１の圧着部による熱圧着の時間より長い時間の熱圧着によって本接合する第２の圧着部であって、
前記基板上の所定の接続部に仮接合された複数の前記半導体チップを、前記基板の前記半導体チップの搭載面と平行な吸着面に吸着保持した状態で、熱圧着する第２の圧着部と
を備えることを特徴とする実装装置。
【請求項２】
前記基板上の所定の接続部が、前記基板上に接合された他の半導体チップ上に設けられている
ことを特徴とする請求項１に記載の実装装置。
【請求項３】
半導体チップを基板上の所定の接続部に配置し、前記半導体チップと前記基板上の所定の接続部とを熱圧着によって接合する実装方法であって、
前記半導体チップを前記基板上の所定の接続部に配置し、第１の圧着部による熱圧着によって仮接合する第１の圧着工程と、
前記第１の圧着工程で仮接合された複数の前記半導体チップと前記基板上の所定の接続部とを、第２の圧着部による、前記第１の圧着工程による熱圧着の時間より長い時間の熱圧着によって本接合する第２の圧着工程であって、
前記基板上の所定の接続部に仮接合された複数の前記半導体チップを、前記基板の前記半導体チップの搭載面と平行な吸着面に吸着保持した状態で、熱圧着する第２の圧着工程と
を含むことを特徴とする実装方法。
【請求項４】
前記基板上の所定の接続部が、前記基板上に接合された他の半導体チップ上に設けられている
ことを特徴とする請求項３に記載の実装方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、半導体チップを基板上等に実装する際に用いて好適な実装装置及び実装方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
３次元実装における半導体チップ間接続や、半導体チップの基板への実装において用いられるフリップチップ接続は、アレイ状に並んだ複数の導電バンプを用いて、チップとチップ間あるいはチップと基板との間を電気的かつ機械的に接続する技術である。フリップチップ接続を用いて複数のチップを基板上に実装する手法の一つに、熱圧着の工程を２段階に分け、生産性の向上を図るものがある（特許文献１）。この手法では、まず、基板上に複数のチップを１個ずつ１回目の熱圧着で仮接合する。そして、その後、複数個のチップを同時に２回目の熱圧着で本接合する。特許文献１に記載されている実装装置では、本接合の際、複数の加圧ブロックを用いて、複数の半導体チップを同時に加圧する（例えば特許文献１の図９参照）。また、各加圧ブロックの高さのばらつきを吸収するため、各加圧ブロックは独立して上下方向に可動自在に支持されていて、各加圧ブロックは弾性膜を介して空気圧を掛けることで加重される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００５−９３８３８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本出願人においては、フリップチップ接続を用いた実装工程で熱圧着を仮接合と本接合とに分離する技術を検討していたところ、次のような事象が確認された。すなわち、本接合のために再加熱をすると、仮接合されているチップに位置ずれが生じる場合があるということが確認された。この位置ずれの発生はチップの実装精度の低下等、実装品質の低下を引き起こす可能性がある。
【０００５】
本発明は、上記の事情を考慮してなされたものであり、複数の半導体チップを同時に熱圧着する際に実装品質を高めることができる実装装置及び実装方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の実装装置は、半導体チップを基板上の所定の接続部に配置し、前記半導体チップと前記基板上の所定の接続部とを熱圧着によって接合する実装装置であって、前記半導体チップを前記基板上の所定の接続部に配置し、熱圧着によって仮接合する第１の圧着部と、前記第１の圧着部で仮接合された複数の前記半導体チップと前記基板上の所定の接続部とを、前記第１の圧着部による熱圧着の時間より長い時間の熱圧着によって本接合する第２の圧着部であって、前記基板上の所定の接続部に仮接合された複数の前記半導体チップを、前記基板の前記半導体チップの搭載面と平行な吸着面に吸着保持した状態で、熱圧着する第２の圧着部とを備えることを特徴とする。
【０００７】
また、本発明の他の実装装置は、前記基板上の所定の接続部が、前記基板上に接合された他の半導体チップ上に設けられていることを特徴とする。
【０００８】
また、本発明の実装方法は、半導体チップを基板上の所定の接続部に配置し、前記半導体チップと前記基板上の所定の接続部とを熱圧着によって接合する実装方法であって、前記半導体チップを前記基板上の所定の接続部に配置し、第１の圧着部による熱圧着によって仮接合する第１の圧着工程と、前記第１の圧着工程で仮接合された複数の前記半導体チップと前記基板上の所定の接続部とを、第２の圧着部による、前記第１の圧着工程による熱圧着の時間より長い時間の熱圧着によって本接合する第２の圧着工程であって、前記基板上の所定の接続部に仮接合された複数の前記半導体チップを、前記基板の前記半導体チップの搭載面と平行な吸着面に吸着保持した状態で、熱圧着する第２の圧着工程とを含むことを特徴とする。
【０００９】
また、本発明の他の実装方法は、前記基板上の所定の接続部が、前記基板上に接合された他の半導体チップ上に設けられていることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、本接合の際、複数の半導体チップが、基板の半導体チップの搭載面と平行な吸着面に吸着された状態で熱圧着されるので、位置ずれを発生しにくくすることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】本発明の一実施形態としての実装装置の外観構成例を模式的に示した平面図である。
【図２】図１に示した第１移動部６と第２移動部１３と上層チップ４や下層チップ８との位置関係を説明するための斜視図である。
【図３】図１に示した上層チップ４と下層チップ８の接合状態の側面断面図である。
【図４】図１に示した第１移動部６と第２移動部１３との動作例を示したタイミングチャートである。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
以下、図面を参照して本発明の一実施の形態について説明する。図１は、本発明の一実施形態としての実装装置１００の外観構成例を模式的に示した平面図である。図２は、図１に示した第１移動部６と第２移動部１３と上層チップ４や下層チップ８との位置関係を説明するための斜視図である。
【００１３】
図１又は図２に示したように、実装装置１００は、チップトレイ３に予めフリップされて収容されている上層チップ４を、下層チップ８上に実装する装置である。下層チップ８は、他の実装装置によって予め基板８１上に実装されている。実装装置１００は、チップカメラ２と、第１移動部６と、プレースカメラ１０と、第２移動部１３と、第１ガントリ５１と、搬送台５２と、第２ガントリ５３とを備えている。また、実装装置１００は、搬送台５２によって、予め複数の下層チップ８を実装した基板８１をＸ方向に搬送する。また、実装装置１００は、複数の上層チップ４を予めフリップして収納したチップトレイ３を所定の位置に設置している。さらに、実装装置１００は、図示していない制御用のコンピュータを備え、所定のプログラムを実行することで各部を制御し、実装工程を実行する。
【００１４】
第１移動部６は、チップトレイ３に収容されている上層チップ４を吸着して搬送したり、下層チップ８上に配置して熱圧着したりする。この第１移動部６は、Ｙ方向及びＺ方向に移動可能である。また、第１移動部６は、図２（ａ）に示したように、吸着ツール５をその下端に有し、チップトレイ３から上層チップ４を吸着して取り出す。上層チップ４は、図２（ａ）に拡大して示したように、１つの面に（この場合、吸着ツール５の吸着面５ａとは反対側の面に）アレイ状に配列された複数のバンプ４ａを有している。ここで、吸着ツール５は、負圧を利用して１個の上層チップ４を吸着する。図１に示したように、第１移動部６は、第１ガントリ５１上を矢印２０１の方向（すなわちＹ方向）に移動する。この第１ガントリ５１は、架構、構台等とも呼ばれる。第１移動部６は、また、内部に図示していない加熱用のヒーターを有し、図２（ｂ）に示したように、下層チップ８上の所定の搭載位置に上層チップ４を配置し、熱圧着する。その際、本実施形態の実装装置１００では、加熱及び加圧時間を比較的短い時間に制限している。したがって、ここでは上層チップ４は金属接合に至っていないが、基板８１の搬送や、後述する再度の熱圧着において位置ずれが生じない程度の接合力にて下層チップ８上に接合される。本願ではこの接合を仮接合と呼ぶ。
【００１５】
チップカメラ２は、図２（ａ）に示したように吸着ツール５に吸着された状態の上層チップ４を、吸着面５ａと対向する側から撮像する撮像部である。チップカメラ２は、移動部６が搬送中の上層チップ４の裏面（すなわちバンプ４ａ形成面側）を撮像する。そして、この撮像画像に基づいて上層チップ４の位置認識が行われる。
【００１６】
プレースカメラ１０は、第１ガントリ５１上を矢印２０２の方向（すなわちＹ方向）に移動する。プレースカメラ１０は、下層チップ８における上層チップ４の搭載面を撮像する。そして、この撮像画像に基づいて下層チップ８上の上層チップ４の搭載位置（すなわち複数の接続端子）の位置認識が行われる。さらに、この位置認識結果と、上記のチップカメラ２を用いた位置認識結果とを組み合わせることで、上層チップ４を下層チップ８上に仮接合する際に第１移動部６の位置補正が行われる。
【００１７】
第２移動部１３は、第１移動部６によって仮接合された複数の上層チップ４と下層チップ８とを再度、熱圧着する（すなわち再加熱及び加圧する）。この第２移動部１３へは、搬送台５２によって、第１移動部６で上層チップ４を下層チップ８に仮接合した基板８１が搬送される。第２移動部１３は、熱圧着しようとする複数の上層チップ４の位置に合うように、第２ガントリ５３上を矢印２０３の方向（すなわちＹ方向）に移動する。また、第２移動部１３は、図２（ｃ）に示したように端部に吸着ツール１４を有するとともに、内部に図示していない加熱用のヒーターを有している。第２移動部１３は、複数の下層チップ８と複数の上層チップ４とを同時に熱圧着する。その際、第２移動部は、吸着ツール１４に複数の上層チップ４を同時に吸着保持した状態で、上層チップ４と下層チップ８とを加圧及び加熱する。吸着ツール１４は、多孔質金属を用いて形成されていて、基板８１の下層チップ８の搭載面及び下層チップ８の上層チップ４の搭載面と平行となるように設けられた吸着面１４ａを有している。多孔質金属は、小さな気孔を多数有する金属材料であり、種々の金属材料で製品化されている。この吸着ツール１４を介して内部のヒーターで発生した熱が接合部に伝達される。吸着ツール１４は、吸着面１４ａに仮接合された状態の複数の上層チップ４の表面（すなわち上面）を吸着保持した状態で、上層チップ４と下層チップ８とを熱圧着する。その際、本実施形態の実装装置１００では、仮接合の場合と比べて加熱及び加圧時間を長い時間に設定している。すなわち、複数の上層チップ４と下層チップ８とは、仮接合の際の熱圧着時間よりも長い時間、熱圧着される。これによって、複数の上層チップ４と下層チップ８とはバンプ４ａの溶融及び凝固により金属接合される。本願ではこの接合を本接合と呼ぶ。
【００１８】
図３に、本接合における吸着ツール１４、上層チップ４及び下層チップ８の接触状態の一例を示した。図３に示した例では、下層チップ８と、上層チップ４との間に熱硬化性樹脂４ｂが設けられている。また、下層チップ８は、上層チップ４の搭載面とは反対側の表面に、複数のバンプ８ｃを有している。上層チップ４の裏面に設けられた各バンプ４ａは下層チップ８の表面に設けられている対応する各接続端子８ｄにそれぞれ接合される。その際、本実施形態では、図３に示したように、複数の上層チップ４が、その上面全面を吸着面１４ａに密着した状態で下層チップ８上の各接続端子８ｄに熱圧着される。また、下層チップ８の裏面に設けられている複数のバンプ８ｃは基板８１の表面に設けられた対応する各接続端子８１ｄにそれぞれ接合されている。この下層チップ８と基板８１とは、上層チップ４と下層チップ８と同様に熱圧着することができる。すなわち、吸着ツール１４と同様な構成を有する吸着ツールを用いて複数の下層チップ８を同時に、各下層チップ８の上面をその吸着ツールの吸着面に吸着保持した状態で基板８１上の各接続端子８１ｄに熱圧着することができる。
【００１９】
図４は、仮接合用の熱圧着工程における第１移動部６のＹ及びＺ方向の動きと、第２移動部１３のＺ方向の動きとを示したタイミングチャートである。図４に示した例では、第１移動部６による上層チップ４の１個あたりの仮接合のための熱圧着時間が２秒である。また、第１移動部６による、チップトレイ３からの取り出しと下層チップ８上への往復時間を含めた上層チップ４の１個あたり仮接合の工程所要時間が３．３秒である。したがって５個の上層チップ４の仮接合の工程所要時間は１６．５秒である。一方、第２移動部１３によって、仮接合された複数の上層チップ４と複数の下層チップ８とを本接合するための熱圧着時間は１６秒である。また、第２移動部１３を上下する時間（すなわちＺ方向の移動時間）を含めた本接合の工程所要時間は約１６．５秒である。すなわち、この例では、５回の仮接合時間と１回の本接合時間とがほぼ等しい。したがって、この場合、５回の仮接合と１回の本接合とをライン生産方式で行った場合に、生産効率を最も高めることができる。
【００２０】
本実施形態では、本接合の際、吸着ツール１４によって複数の上層チップ４を吸着保持した状態で、複数の上層チップ４と複数の下層チップ８とを同時に熱圧着する。その際、本実施形態では、本接合のとき、複数の上層チップ４が、複数の下層チップ８の上層チップ４の搭載面と平行な吸着面１４ａに吸着された状態で熱圧着される。また、複数の下層チップ８上の上層チップ４の搭載面は、基板８１上の下層チップ８の搭載面と平行である。したがって、吸着を行わない場合と比べて位置ずれを発生しにくくすることができる。また、下層チップ８についても、下層チップ８と基板８１とを熱圧着する際に仮接合と本接合とに熱圧着工程を分割し、さらに本接合の際に同時に複数の下層チップ８上面を吸着ツール１４と同様の構成を用いて吸着保持することができる。この場合、複数の下層チップ８を同時に基板８１に熱圧着する際の位置ずれを小さくすることができる。
【００２１】
また、本実施形態では、吸着ツール１４を多孔質金属を用いて構成しているので、熱伝導特性を容易に高めることができ、装置の小型化や効率化を容易に図ることができる。
【符号の説明】
【００２２】
１００  実装装置
２  チップカメラ
３  チップトレイ
４  上層チップ（半導体チップ）
４ｂ  熱硬化性樹脂
５  吸着ツール
５ａ  吸着面
６  第１移動部（第１の圧着部）
８  下層チップ（半導体チップ）
８ｄ  接続端子（所定の接続部）
１０  プレースカメラ
１３  第２移動部（第２の圧着部）
１４  吸着ツール
１４ａ  吸着面
５１  第１ガントリ
５２  搬送台
５３  第２ガントリ
８１  基板
８１ｄ  接続端子（所定の接続部）
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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