(57)【要約】【課題】転写性および表面強度に優れ、安価に、被転写体表面に保護層を形成することができる、保護層転写シートを提供する。【解決手段】支持体と、前記支持体上に離型層および／または剥離層を介して設けられた活性光線硬化樹脂層と、を少なくとも備えてなる保護層転写シートであって、前記活性光線硬化樹脂層が、不飽和基含有アクリル共重合体を含んでなる活性光線硬化性樹脂に、少なくとも２回以上、活性光線を照射することにより硬化したものであることを特徴とする。【選択図】図１
2014193421.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材シートと、前記基材シート上に設けられた活性光線硬化樹脂層と、前記活性光線硬化樹脂層上に設けられた受像層と、を少なくとも備えてなる受像シートを製造する方法であって、
基材シート上に活性光線硬化性樹脂組成物を塗布して、塗膜を形成し、
前記塗膜に活性光線を照射することにより、塗膜を硬化ないし半硬化させ、
前記硬化ないし半硬化した塗膜上に、受像層を形成する、
ことを含んでなり、
前記塗膜への活性光線照射を少なくとも２回以上行い、活性光線硬化樹脂層を形成することを特徴とする、方法。
【請求項２】
前記活性光線の照射が、別工程にて少なくとも２回以上行われる、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
１回目の照射時の活性光線が紫外線である、請求項１または２に記載の方法。
【請求項４】
前記１回目の活性光線照射が、積算露光量５０〜５００ｍＪ／ｃｍ２で行われる、請求項３に記載の方法。
【請求項５】
２回目の照射時の活性光線が紫外線である、請求項１〜４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項６】
前記２回目の活性光線照射が、積算露光量５０〜５００ｍＪ／ｃｍ２で行われる、請求項５に記載の方法。
【請求項７】
前記活性光線硬化性樹脂組成物に１回目の活性光線を照射した後、前記塗膜上に受像層を形成し、次いで、前記受像層を介して、塗膜に２回目の活性光線を照射する、請求項１〜６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項８】
前記受像層が、中間層および金属化合物含有層を含む、請求項１〜７のいずれか一項に記載の方法。
【請求項９】
前記受像層が、中間層、金属化合物含有層およびトップ層を含む、請求項１〜７のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１０】
前記第１回目の照射の後、少なくとも１時間以上経過後に２回目の照射を行う、請求項１〜９のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１１】
前記塗膜の厚みが３〜２０μｍとなるように、前記活性光線硬化性樹脂組成物を塗布する、請求項１〜１０のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１２】
請求項１〜１１のいずれか一項に記載の方法により得られた受像シート。
【請求項１３】
請求項１２に記載の受像シートを備えたカード基材。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、受像シートに関し、より詳細には、ＩＣチップ等が搭載されたカード基材に好適に使用される受像シートおよびその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
身分証明書カード（ＩＤカード）やクレジットカードなどには、磁気記録方式によりデータを記録する磁気カードが広く利用されてきたが、磁気カードに格納された個人情報のセキュリティー性をより向上させ、また、データの記録容量を高めるため、近年では、ＩＣチップを内蔵したＩＣカードが普及し始めている。このようなＩＣカードは、カード基材の一部にＩＣチップが埋設された構造を有しているため、従来の磁気カードに比べて、カード基材の表面に凹凸が生じ易く、カード基材の表面に印刷した印画品質が必ずしも満足できるものではなかった。
【０００３】
そのため、ＩＣチップを埋設したカード基材と受像層との間に、ＩＣチップの厚みを吸収できるようなクッション層を設けた構造のＩＣカードが提案されている（例えば、特開平７−０８８９７４号公報）。しかし、受像層（表層）の下地であるクッション層が柔軟性を有しているため、ＩＣカードの表面の耐傷性が不十分であるといった問題があった。また、クッション層としてポリオレフィン樹脂等を使用していたため耐薬品性が低く、ＩＣカードが化学薬品や水等に接触すると縁から浸入するといった耐久性の問題もあった。また、カード表面に発生する凹凸を抑制するため、カード基材に埋め込むＩＣチップを所定の厚みにしたり、ＩＣチップをカード基材で挟持する際の接着剤を所定の厚みとなるようにしたりすることも提案されている（例えば、特開２０００−２１１２７８号公報）。しかし、たとえカード基材の表面を平滑にしても、ＩＣカードの表面（受像層）の下地が硬質であると、顔写真のような階調特性を有する画像情報や文字情報などの情報を受像層上に熱転写方式により印画した場合に、印画品質が不十分なものとなることがあった。
【０００４】
また、上記のように、受像層上への印画を熱転写方式により行うと、印画時の熱により、カード基材のＩＣチップが埋設されている部分とそれ以外の部分との熱収縮差に起因する表面の凹凸や不均一性が生じ易くなるといった問題が生じる。このため、カード基材上に設ける受像層を活性光線硬化性樹脂で形成するといった試みもなされている（特開２０００−２９８７１４号公報）。しかし、受像層をカード基材の全面に設けるような場合には、受像層の形成時の活性光線の照射による樹脂の硬化収縮により、ＩＣカードがカールしてしまうという問題もあった。
【０００５】
また、特開２００２−２２２４０３号公報には、カード基材と受像層との間に、活性光線硬化性樹脂からなるクッション層を設けることにより、熱転写方式による印画時や熱プレス時でもカードの変形がなく、耐薬品性等の耐久性にも優れるＩＣカードが実現できることが提案されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開平７−０８８９７４号公報
【特許文献２】特開２０００−２１１２７８号公報
【特許文献３】特開２０００−２９８７１４号公報
【特許文献４】特開２００２−２２２４０３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明者らは、今般、上記した特開２００２−２２２４０３号公報に記載の受像層と基材との間にクッション層を備えたＩＣカード基材において、活性光線硬化性樹脂を用いてクッション層を形成する際に、通常の活性光線照射では、クッション性（即ち印画品質）は向上するものの、耐薬品性や耐傷性が未だ不十分であること、そして、活性光線の露光量を高めて樹脂の重合度を上げても、耐薬品性は向上するものの、クッション層の硬さがそれ以上は硬くならず、耐傷性が不十分であることに気づいた。そして、活性光線を特定の２段階で照射してクッション層を形成することにより、印画品質、耐薬品性および耐傷性のいずれにも優れる受像層付きＩＣカード基材を実現できる、との知見を得た。本発明は係る知見によるものである。
【０００８】
したがって、本発明の目的は、印画品質、耐薬品性および耐傷性のいずれにも優れる受像シートの製造方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明による受像シートの製造方法は、基材シートと、前記基材シート上に設けられた活性光線硬化樹脂層と、前記活性光線硬化樹脂層上に設けられた受像層と、を少なくとも備えてなる受像シートを製造する方法であって、
基材シート上に活性光線硬化性樹脂組成物を塗布して、塗膜を形成し、
前記塗膜に活性光線を照射することにより、塗膜を硬化ないし半硬化させ、
前記硬化ないし半硬化した塗膜上に、受像層を形成する、
ことを含んでなり、
前記塗膜への活性光線照射を少なくとも２回以上行い、活性光線硬化樹脂層を形成することを特徴とするものである。
【００１０】
また、本発明による受像シートの製造方法においては、前記活性光線の照射が、別工程にて少なくとも２回以上行われることが好ましい。
【００１１】
また、本発明による受像シートの製造方法においては、１回目の照射時の活性光線が紫外線であることが好ましい。
【００１２】
また、本発明による受像シートの製造方法においては、前記１回目の活性光線照射が、積算露光量５０〜５００ｍＪ／ｃｍ２で行われることが好ましい。
【００１３】
また、本発明による受像シートの製造方法においては、２回目の照射時の活性光線が紫外線であることが好ましい。
【００１４】
また、本発明による受像シートの製造方法においては、前記２回目の活性光線照射が、積算露光量５０〜５００ｍＪ／ｃｍ２で行われることが好ましい。
【００１５】
また、本発明による受像シートの製造方法においては、前記活性光線硬化性樹脂組成物に１回目の活性光線を照射した後、前記塗膜上に受像層を形成し、次いで、前記受像層を介して、塗膜に２回目の活性光線を照射することが好ましい。
【００１６】
また、本発明による受像シートの製造方法においては、前記受像層が、中間層および金属化合物含有層を含むことが好ましい。
【００１７】
また、本発明による受像シートの製造方法においては、前記受像層が、中間層、金属化合物含有層およびトップ層を含むことが好ましい。
【００１８】
また、本発明による受像シートの製造方法においては、前記第１回目の照射の後、少なくとも１時間以上経過後に２回目の照射を行うことが好ましい。
【００１９】
また、本発明による受像シートの製造方法においては、前記塗膜の厚みが３〜２０μｍとなるように、前記活性光線硬化性樹脂組成物を塗布することが好ましい。
【００２０】
本発明においては、上記の製造方法により得られた受像シート、およびその受像シートを備えたカード基材も提供される。
【発明の効果】
【００２１】
本発明によれば、受像シートの活性光線硬化性樹脂組成物に活性光線を照射して活性光線硬化樹脂を形成する際に、活性光線硬化性樹脂組成物からなる塗膜に少なくとも２回以上活性光線を照射することにより、印画品質、耐薬品性および耐傷性のいずれにも優れる受像シートを得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００２２】
【図１】本発明による方法により得られる受像シートの断面模式図である。
【図２】本発明の受像シートの製造方法の一実施形態による各工程を示した概略工程図である。
【図３】本発明の受像シートの製造方法の他の実施形態による各工程を示した概略工程図である。
【図４】本発明の受像シートの製造方法の他の実施形態による各工程を示した概略工程図である。
【発明を実施するための形態】
【００２３】
＜定義＞
本明細書において、活性光線硬化性樹脂組成物とは活性光線を照射する前の前駆体または組成物を意味し、活性光線を照射して活性光線硬化性樹脂組成物を硬化させたものを活性光線硬化樹脂というものとする。
【００２４】
また、本明細書において、活性光線とは、活性光線硬化性樹脂に対して化学的に作用させて重合を促進せしめる放射線を意味し、具体的には、赤外線、可視光線、紫外線、Ｘ線、電子線、α線、β線、γ線等を意味する。
【００２５】
＜受像シートの製造方法＞
本発明による受像シートの製造方法は、図１に示すような、基材シート１と、基材シート１上に設けられた活性光線硬化樹脂層２と、活性光線硬化樹脂層２上に設けられた受像層３と、を少なくとも備えてなる受像シート１０を製造するものである。受像シート１０は、受像層３として、中間層３Ａおよび金属化合物含有層３Ｂを含んでいてもよく、また、さらに金属化合物含有層３Ｂ上にトップ層３Ｃを含んでいてもよい。以下、本発明による受像シートの製造方法の各工程について説明する。
【００２６】
（ｉ）基材シート準備工程
図２は、本発明による受像シートの製造方法の各工程を示した概略工程図である。本発明による受像シートの製造方法においては、図２（ａ）に示されるように、先ず基材シート１を準備する。シート基材としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンテレフタレート／イソフタレート共重合体等のポリエステル樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン等のポリオレフィン樹脂、ポリフッ化ビニル、ポリフッ化ビニリデン、ポリ４フッ化エチレン、エチレン−４フッ化エチレン共重合体、等のポリフッ化エチレン系樹脂、ナイロン６、ナイロン６．６等のポリアミド、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル／酢酸ビニル共重合体、エチレン／酢酸ビニル共重合体、エチレン／ビニルアルコール共重合体、ポリビニルアルコール、ビニロン等のビニル重合体、三酢酸セルロース、セロファン等のセルロース系樹脂、ポリメタアクリル酸メチル、ポリメタアクリル酸エチル、ポリアクリル酸エチル、ポリアクリル酸ブチル、等のアクリル系樹脂、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリイミド等の合成樹脂シート、又は上質紙、薄葉紙、グラシン紙、硫酸紙等の紙、金属箔等の単層体或いはこれら２層以上の積層体が挙げられる。基材シートは単層構造を有していてもよいし、多層構造を有していてもよい。本発明では、基材シート中に蛍光物質を含有させることができる。また、受像シートに形成される画像の鮮明性を高めるために、基材シート中には、予め白色顔料（例えば、チタンホワイト、炭酸マグネシウム、酸化亜鉛、硫酸バリウム、シリカ、タルク、クレー、炭酸カルシウム等）が添加されているのが好ましい。また、受像シートを、自動車免許証、身分証明書等のＩＤカードに使用する場合は、基材シートを、白色顔料を含む塩化ビニル系樹脂からなるシートもしくはフィルムで構成するのが一般的である。基材シートの厚みは３０〜３００μｍであることが好ましく、より好ましくは５０〜２００μｍである。
【００２７】
（ｉｉ）活性光線硬化層形成工程
次に、基材シート１上に活性光線硬化性樹脂組成物を塗布して、塗膜２’を形成する（図２（ｂ））。この塗膜２’は、上記したように、活性光線の照射により硬化させることにより活性光線硬化樹脂層２が形成される。活性光線硬化樹脂層２は、基材シート１と、画像が形成される受像層３との間に配置されて、電子部品による基材シートの凹凸影響を緩和する役割を担うものである。このような活性光線硬化性樹脂組成物としては、付加重合性または開環重合性を有する化合物を含有する組成物を使用することができる。付加重合性化合物としては、ラジカル重合性化合物（例えば特開平７−１５９９８３号、特公平７−３１３９９号、特開平８−２２４９８２号、特開平１０−８６３号、特開平９−１３４０１１号等に記載されている光重合性化合物など）やカチオン重合系の光硬化性化合物が知られており、最近では可視光以上の長波長域に増感された光カチオン重合系の光硬化性化合物（例えば、特開平６−４３６３３号、特開平８−３２４１３７号公報等）を使用してもよい。
【００２８】
ラジカル重合性化合物としては、通常の光重合性化合物や熱重合性化合物を使用できる。ラジカル重合性化合物は、ラジカル重合可能なエチレン性不飽和結合を有する化合物であり、分子中にラジカル重合可能なエチレン性不飽和結合を少なくとも１つ有する化合物であれば特に制限なく使用でき、モノマー、オリゴマー、ポリマー等の種々の形態のものを使用できる。ラジカル重合性化合物は１種のみ用いてもよく、任意の比率で２種以上を併用してもよい。
【００２９】
ラジカル重合可能なエチレン性不飽和結合を有する化合物としては、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸等の不飽和カルボン酸及びそれらの塩、エステル、ウレタン、アミドや無水物、アクリロニトリル、スチレン、さらに種々の不飽和ポリエステル、不飽和ポリエーテル、不飽和ポリアミド、不飽和ウレタン等のラジカル重合性化合物が挙げられる。具体的には、２−エチルヘキシルアクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、ブトキシエチルアクリレート、カルビトールアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、ベンジルアクリレート、ビス（４−アクリロキシポリエトキシフェニル）プロパン、ネオペンチルグリコールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、エチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ポリプロピレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、テトラメチロールメタンテトラアクリレート、オリゴエステルアクリレート、Ｎ−メチロールアクリルアミド、ジアセトンアクリルアミド、エポキシアクリレート等のアクリル酸誘導体、メチルメタクリレート、ｎ−ブチルメタクリレート、２−エチルヘキシルメタクリレート、ラウリルメタクリレート、アリルメタクリレート、グリシジルメタクリレート、ベンジルメタクリレート、ジメチルアミノメチルメタクリレート、１，６−ヘキサンジオールジメタクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、ポリエチレングリコールジメタクリレート、ポリプロピレングリコールジメタクリレート、トリメチロールエタントリメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、２，２−ビス（４−メタクリロキシポリエトキシフェニル）プロパン等のメタクリル誘導体、その他、アリルグリシジルエーテル、ジアリルフタレート、トリアリルトリメリテート等のアリル化合物の誘導体が挙げられる。より具体的には、山下晋三編、「架橋剤ハンドブック」、（１９８１年大成社）；加藤清視編、「ＵＶ・ＥＢ硬化ハンドブック（原料編）」（１９８５年、高分子刊行会）；ラドテック研究会編、「ＵＶ・ＥＢ硬化技術の応用と市場」、７９頁、（１９８９年、シーエムシー）；滝山栄一郎著、「ポリエステル樹脂ハンドブック」、（１９８８年、日刊工業新聞社）等に記載の市販品もしくは業界で公知のラジカル重合性ないし架橋性のモノマー、オリゴマー及びポリマーを好適に使用することができる。上記ラジカル重合性化合物の含有量は、活性光線硬化性樹脂組成物に対して、好ましくは１〜９７質量％であり、より好ましくは３０〜９５質量％である。
【００３０】
活性光線硬化性樹脂組成物が、ラジカル重合性化合物を含有する場合、ラジカル重合開始剤を併用する必要がある。ラジカル重合開始剤としては、特公昭５９−１２８１号、特公昭６１−９６２１号、及び特開昭６０−６０１０４号等の各公報記載のトリアジン誘導体、特開昭５９−１５０４号及び特開昭６１−２４３８０７号等の各公報に記載の有機過酸化物、特公昭４３−２３６８４号、特公昭４４−６４１３号、特公昭４４−６４１３号及び特公昭４７−１６０４号等の各公報並びに米国特許第３，５６７，４５３号明細書に記載のジアゾニウム化合物、米国特許第２，８４８，３２８号、同第２，８５２，３７９号及び同第２，９４０，８５３号各明細書に記載の有機アジド化合物、特公昭３６−２２０６２号、特公昭３７−１３１０９号、特公昭３８−１８０１５号、特公昭４５−９６１０号等の各公報に記載のオルト−キノンジアジド類、特公昭５５−３９１６２号、特開昭５９−１４０２３号等の各公報及び「マクロモレキュルス（Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ）、第１０巻、第１３０７頁（１９７７年）に記載の各種オニウム化合物、特開昭５９−１４２２０５号公報に記載のアゾ化合物、特開平１−５４４４０号公報、ヨーロッパ特許第１０９，８５１号、同第１２６，７１２号等の各明細書、「ジャーナル・オブ・イメージング・サイエンス」（Ｊ．Ｉｍａｇ．Ｓｃｉ．）」、第３０巻、第１７４頁（１９８６年）に記載の金属アレン錯体、特開平５−２１３８６１号明細書及び特開平５−２５５３４７号明細書に記載の（オキソ）スルホニウム有機ホウ素錯体、特開昭６１−１５１１９７号公報に記載のチタノセン類、「コーディネーション・ケミストリー・レビュー（Ｃｏｏｒｄｉｎａｎｔｉｏｎ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ Ｒｅｖｉｅｗ）」、第８４巻、第８５−第２７７頁（１９８８年）及び特開平２−１８２７０１号公報に記載のルテニウム等の遷移金属を含有する遷移金属錯体、特開平３−２０９４７７号公報に記載の２，４，５−トリアリールイミダゾール二量体、四臭化炭素や特開昭５９−１０７３４４号公報記載の有機ハロゲン化合物等が挙げられる。これらの重合開始剤は、ラジカル重合可能なエチレン不飽和結合を有する化合物１００質量部に対して０．０１〜１０質量部の範囲で含有されるのが好ましい。
【００３１】
活性光線硬化樹脂層を形成するには、必要に応じて、活性光線硬化性樹脂組成物中に、重合促進剤、連鎖移動剤、重合禁止剤、帯電防止剤、界面活性剤、その他の樹脂等の添加剤を適宜含有させてもよい。
【００３２】
重合促進剤や連鎖移動触媒としては、例えば、Ｎ−フェニルグリシン、トリエタノールアミン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン等のアミン類、米国特許第４，４１４，３１２号や特開昭６４−１３１４４号記載のチオール類、特開平２−２９１５６１号記載のジスルフィド類、米国特許第３，５５８，３２２号や特開昭６４−１７０４８号記載のチオン類、特開平２−２９１５６０号記載のｏ−アシルチオヒドロキサメートやＮ−アルコキシピリジンチオン類が挙げられる。
【００３３】
ラジカル重合性化合物を含有する場合には、液保存時の重合を防止する目的で重合禁止剤を含有させることができる。熱重合禁止剤の具体例としては、ｐ−メトキシフェノール、ハイドロキノン、アルキル置換ハイドロキノン、カテコール、ｔｅｒｔ−ブチルカテコール、フェノチアジン等を挙げることができる。
【００３４】
帯電防止剤としては、カチオン系界面活性剤、アニオン系界面活性剤、非イオン性界面活性剤、高分子帯電防止剤、導電性微粒子などのほか「１１２９０の化学商品」化学工業日報社、ｐ８７５〜８７６などに記載の化合物などが挙げられる。
【００３５】
界面活性剤としては、特開昭６２−２５１７４０号、特開平３−２０８５１４号等の各号公報に記載されているような非イオン界面活性剤、或いは特開昭５９−１２１０４４号、特開平４−１３１４９号等の各号公報に記載されているような両性界面活性剤を添加することができる。
【００３６】
シリコーン油、シリコーン−アルキレンオキシド共重合体（たとえばユニオンカーバイド社から市販されているＬ−５４１０）のような界面活性剤、日本ユニカー製のようなシリコーン系活性剤、シリコーン油含有脂肪族エポキシド類、ケイ素含有モノエポキシド等を挙げることができる。東芝シリコーン株式会社１９９４年発行の「新シリコーンとその応用」、アズマックス株式会社１９９６年発行の「特殊シリコーン試薬カタログ」等記載されているＳｉ系添加剤を使用することもできる。
【００３７】
活性光線硬化性樹脂組成物には、上記した以外の樹脂が含まれていてもよく、例えば、ポリビニルブチラール樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、ノボラック樹脂、スチレン、パラメチルスチレン、メタクリル酸エステル、アクリル酸エステル等のビニル単量体やセルロース系、熱可塑性ポリエステル、天然樹脂等、他の任意の高分子重合体を併用してもよい。また、その他、赤松清監修、「新・感光性樹脂の実際技術」、（シーエムシー、１９８７年）や「１０１８８の化学商品」６５７〜７６７頁（化学工業日報社、１９８８年）記載の業界公知の有機高分子重合体を併用してもよい。
【００３８】
これらの中、ラジカルまたは酸により重合可能な不飽和基を含む樹脂が好ましく、特開平９−１３４０１１号等に記載されている様な樹脂を用いることが出来る。具体的には、ここでは、グリシジル基、（メタ）アクリロイル基、ビニル基等の不飽和基をもつ樹脂を挙げることができる。活性光線硬化性樹脂組成物中におけるこれら高分子重合体の含有量は、０．０１〜７０質量％の範囲が好ましく、０．０５〜５０質量％の範囲が更に好ましい。
【００３９】
さらに目的に応じて、増感剤、塗布溶剤、消泡剤、可塑剤等又、耐光剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、腐食防止剤のような安定化剤、染料、有機および無機顔料、ホスフィン、ホスホネート、ホスファイト等の酸素除去剤や還元剤、蛍光増白剤、着色剤、難燃剤、発砲剤、防カビ剤、磁性体やその他種々の特性を付与する添加剤、希釈溶剤等を混合して使用しても良い。又は、被膜表面の改質やレベリング改善のためにＳｉ系化合物、ワックス等を添加することもできる。
【００４０】
塗布溶剤を使用する場合は講談社発行「溶剤ハンドブック」に詳述されている。なお、これらの有機溶剤の使用にあたっては、特に制限はない。
【００４１】
クッション性を付与するために、活性光線硬化性樹脂組成物中には、柔軟性が高く、ゴム弾性の有する重合性化合物が含まれていることが好ましい。例えば、ウレタン系重合性化合物、アルキルグリコール系重合性化合物、プロピレングリコール系重合性化合物、エチレングリコール系重合性化合物、長鎖アルキル基含有重合性化合物等を好ましく使用できる。
【００４２】
また、クッション性付与助剤を添加してもよい。クッション性付与助剤としては、柔軟性が高い材料、低弾性率を有する材料、ゴム弾性を有する材料を添加することが可能である。具体的にはａ）熱可塑性樹脂、ｂ）熱可塑性エラストマー、ｃ）ホットメルト接着剤、ｄ）ゴム弾性樹脂等を好ましく使用できる。これにより印字性、点圧強度、カール性を向上させるが、その他に、画像を受容する受像層が形成される場合、受像層との密着性を向上させ、画像記録体上に表面保護層を形成する場合、表面保護層との密着性を向上させる為にも効果的である。
【００４３】
熱可塑性樹脂としては、ポリアセトアセタール、ブチラール樹脂、ポリウレタン樹脂、セルロース樹脂、ポリスチレン系樹脂、アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂等が挙げられる。これらの熱可塑性樹脂においては熱軟化点が１５０℃以上の樹脂であることが好ましい。本発明においてはウレタン樹脂、アクリル樹脂が特に好ましい。具体的には、大日本インキ社製、ニッポランシリーズ、ポリブチルアクリレート等である。
【００４４】
熱可塑性エラストマーとしては、常温では加硫ゴムと同様な性質を持ち、弾性のあるのが特徴であり、高温では普通の熱可塑性樹脂と同じ性質を持つものを表す。又、熱可塑性エラストマーは一般的に分子中に弾性をもつソフトセグメント（軟質相）と塑性変形を防止するためのハードセグメント（硬質相）との両成分を持っている。
【００４５】
熱可塑性エラストマーの具体例としては、スチレン系（スチレン・ブロック・コポリマー（ＳＢＣ））、オレフィン系（ＴＰ）、ポリスチレンとポリオレフィンのブロックポリマー系、ウレタン系（ＴＰＵ）、ポリエステル系（ＴＰＥＥ）、ポリアミド系（ＴＰＡＥ）、１，２−ポリブタジエン系、塩ビ系（ＴＰＶＣ）、フッ素系、アイオノマー樹脂、塩素化ポリエチレン、シリコーン系等が挙げられ、具体的には１９９６年度版「１２９９６の化学商品」（化学工業日報社）、１９９９年８月発行の「Ｐｏｌｙｆｉｌｅ」Ｐ．７７〜Ｐ１１２等に記載されている。ポリスチレンとポリオレフィンのブロックポリマー系熱可塑性エラストマーとしては、ポリスチレン相とポリオレフィンを水素添加した相をもつブロックポリマーであるスチレン−ブタジエン−スチレン（ＳＢＳ）、スチレン−イソプレン−スチレン（ＳＩＳ）、スチレン−エチレン／ブチレン−スチレン（ＳＥＢＳ）、スチレン−エチレン／プロピレン−スチレン（ＳＥＰＳ）、スチレン−エチレン／プロピレン（ＳＥＰ）のブロックポリマー等が挙げられる。具体的には、シェル化学社製、カリフレックスＴＲ・クレイトンＤおよびＧシリーズ、旭化成社製、タフテックＨおよびＭシリーズ、クラレ製、セプトンシリーズ、ダイセル化学工業社製、エポフレンドシリーズである。
【００４６】
ホットメルト接着剤としては、一般に使用されているものを用いることができる。該ホットメルト接着剤の主成分としては、例えばエチレン・酢酸ビニル共重合体（ＥＶＡ）系、ポリエステル系、ポリアミド系、熱可塑性エラストマー系、ポリオレフィン系などが挙げられる。ポリアミド系ホットメルト接着剤としてはＨｅｎｋｅｌ社製のマクロメルトシリーズ等がある。本発明においては熱可塑性エラストマー系ホットメルト接着剤が好ましく。例えば、シェル化学社製カリフレックスＴＲ及びクレイトンシリーズ、旭化成社製タフプレン、Ｆｉｒｅｓｔｏｎｅ Ｓｙｎｔｈｅｔｉｃ Ｒｕｂｂｅｒ ａｎｄ Ｌａｔｅｘ社製タフデン、Ｐｈｉｌｌｉｐｓ Ｐｅｔｒｏｌｅｕｍ社製ソルプレン４００シリーズなどがある。ポリオレフィン系ホットメルト接着剤としては住友化学社製スミチック、チッソ石油化学製ビスタック、三菱油化製ユカタック、Ｈｅｎｋｅｌ社製マクロメルトシリーズ、三井石油化学社製タフマー、宇部レキセン社製ＡＰＡＯ、イーストマンケミカル社製イーストボンド、ハーキュレス社製Ａ−ＦＡＸ等がある。
【００４７】
ゴム弾性樹脂としては、一般的に樹脂を表す。具体的には、架橋ゴム粒子、天然ゴム、アクリレートゴム、ブチルゴム、ニトリルゴム、ブタジエンゴム、イソプレンゴム、スチレン−ブタジエンゴム、クロロプレンゴム、ウレタンゴム、シリコーンゴム、アクリルゴム、弗素ゴム、ネオプレンゴム、クロロスルホン化ポリエチレン、エピクロルヒドリン、ＥＰＤＭ（エチレン・プロピレン・ジエンゴム）、ウレタンエラストマー等のエラストマー、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブタジエン、ポリブテン、耐衝撃性ＡＢＳ樹脂、ポリウレタン、ＡＢＳ樹脂、アセテート、セルロースアセテート、アミド樹脂、ポリテトラフルオロエチレン、ニトロセルロース、ポリエステル、耐衝撃性アクリル樹脂、スチレン−ブタジエン共重合体、スチレンＴＰＥ、エチレン−酢酸ビニル共重合体、アクリロニトリル−ブタジエン共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリ酢酸ビニル、可塑剤入り塩化ビニル樹脂、塩化ビニリデン樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、長鎖アルキル基含有（メタ）アクリルモノマー含有ビニル共重合体樹脂等の内、針入度の大きな樹脂が挙げられる。針入度を大きくするため、上記各種ポリマーに可塑剤などを添加することも可能である。
【００４８】
上記した活性光線硬化性樹脂組成物を塗布した塗膜２’は、活性光線硬化性樹脂組成物を、ロールコート、リバースロールコート、グラビアコート、リバースグラビアコート、バーコート、ロッドコートなどの公知の手段により、基材シート上に塗布することにより形成することができる。塗膜の厚みは３〜２０μｍであることが好ましく、より好ましくは５．０〜１２．０μｍである。塗膜が３μｍ未満であると、基材シートの凹凸影響を緩和する機能が損なわれる場合があり、また、塗膜が２０μｍを超えると、後記する２回の活性光線の照射によっても完全に活性光線硬化性樹脂組成物が完全に硬化しにくくなる場合がある。塗膜は、活性光線を照射する前に、３０℃〜１２０℃の温度で乾燥またはエージングしてもよい。
【００４９】
続いて、上記のようにして得られた活性光線硬化性樹脂組成物からなる塗膜２’に、活性光線を照射して樹脂組成物を重合させて硬化させる際に、少なくとも２回以上活性光線を照射することにより、活性光線硬化性樹脂組成物を硬化させる。即ち、１回目の活性光線照射により活性光線硬化性樹脂組成物を半硬化させ（図２（ｃ））、次いで、半硬化した活性光線硬化性樹脂組成物に２回目の活性光線の照射を行うことにより活性光線硬化樹脂層２を形成する（図２（ｄ））。
【００５０】
本発明者らは、従来、１回の活性光線の照射により活性光線硬化樹脂層（クッション層）を形成していたものを、上記のように少なくとも２回の活性光線照射により活性光線硬化樹脂層を形成することにより、得られた受像シートの印画品質、耐薬品性および耐傷性のいずれもが改善できることがわかった。この理由は定かではないが以下のように考えられる。従来の１回の露光では、塗膜がある程度の厚みを有する場合、塗膜表面付近に存在する活性光線硬化性樹脂組成物中のモノマーや重合開始剤は重合反応が進行するが、深部（活性光線の照射方向深さ）では、モノマーの不飽和基が未反応のまま残存したり、重合開始剤が原材料のままで残存することがある。そのため、塗膜の厚さ方向で、活性光線硬化樹脂の物性に差が生じていた。露光量を増やしたり露光時間を長くすることで、塗膜の深部にあるモノマーも重合するものの、塗膜の厚さ方向で、活性光線硬化樹脂の物性差を解消することはできなかった。また、露光量を増やしすぎると活性光線硬化樹脂が黄変してしまうという問題も生じる。これに対して、２回目の露光を行うと、１回目の露光時に残存していた未反応モノマーや重合開始剤が、２回目の露光までの間に分子運動（熱揺らぎ）により塗膜全体に拡散しているため、塗膜方向でより均一な重合反応が行われ、その結果、印画品質や耐薬品性が向上するものと考えられる。上記はあくまでも仮定であって、本発明が上記理論に拘束されるものではない。
【００５１】
活性光線の照射は、連続的に２回以上行うよりも、断続的に２回以上行うことが好ましく、１回目の活性光線照射を行った後、別工程にて２回目の活性光線照射を行うことがより好ましい。１回目および２回目の活性光線照射を断続的に行う場合は、例えば、製造ライン上で塗膜２’を形成した後（図２（ｂ））、続いて１回目の活性光線照射を行い（図２（ｃ））、同じ製造ライン上で、２回目の活性光線の照射（図２（ｄ））を行うことができる。また、別工程にて２回目の活性光線照射を行う場合は、１回目の活性光線照射により樹脂を半硬化させた状態（図２（ｃ）の状態）で、一旦、ロール状に巻取り、ロール状の形態で２回目の活性光線照射工程に供給して、半硬化した樹脂（塗膜）に２回目の活性光線の照射を行ってもよい（図２（ｄ））。
【００５２】
活性光線としては、上記したように赤外線、可視光線、紫外線、Ｘ線、電子線、α線、β線、γ線等の種々のものを使用することができるが、別工程にて２回以上の活性光線照射を行う場合、１回目の活性光線の照射は、赤外線、可視光線、紫外線、または電子線であることが好ましく、より好ましくは紫外線または電子線であり、さらに好ましくは紫外線である。１回目の活性光線の照射を紫外線で行う場合、紫外線のピーク照度は５００〜４０００ｍＷ／ｃｍ２が好ましく、より好ましくは、５００〜３０００ｍＷ／ｃｍ２である。また、１回目の紫外線照射の際の積算露光量は５０〜５００ｍｊ／ｃｍ２が好ましく、より好ましくは、１００〜３００ｍｊ／ｃｍ２である。上記のような照射条件により紫外線を照射することにより、活性光線硬化性樹脂を完全硬化させずに半硬化の状態としておくことができる。
【００５３】
２回目の活性光線の照射は、赤外線、可視光線、紫外線、または電子線であることが好ましく、より好ましくは紫外線または電子線であり、さらに好ましくは紫外線である。２回目の活性光線の照射を紫外線で行う場合、紫外線のピーク照度は５００〜４０００ｍＷ／ｃｍ２が好ましく、より好ましくは、５００〜３０００ｍＷ／ｃｍ２である。また、１回目の紫外線照射の際の積算露光量は５０〜５００ｍｊ／ｃｍ２が好ましく、より好ましくは、５０〜３００ｍｊ／ｃｍ２である。上記のような照射条件により紫外線を照射することにより、活性光線硬化樹脂を黄変させることなく、印画品質、耐薬品性および耐傷性のいずれにも優れる受像シートを実現できる。
【００５４】
紫外線の照射は、従来公知の紫外線照射装置を用いることができ、例えば、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、キセノンアーク、メタルハライドランプ、無電極紫外線ランプ、ＬＥＤ等、種々のものを制限なく使用することができる。
【００５５】
２回目以降の活性光線の照射は、図２に示すように、後記する受容層３を形成する（図２（e））前に行ってもよいが、図３に示すように、１回目の活性光線照射により、塗膜２’（活性光線硬化性性樹脂組成物）を半硬化の状態にしておき（図３（ｃ））、その塗膜２’上に、後記のようにして中間層３Ａを形成した後（図３（ｄ））、その中間層３Ａを介して２回目以降の活性光線照射を行ってもよく（図３（ｅ）)、また、図４に示すように、１回目の活性光線照射により、塗膜２’を半硬化の状態にしておき（図４（ｃ））、その塗膜２’上に、中間層３Ａ、金属化合物含有層３Ｂおよびトップ層３Ｃを形成した後（図４（ｄ））、２回目以降の活性光線照射を行ってもよい（図４（ｅ）)）。
【００５６】
また、２回目以降の活性光線照射は、１回目の活性光線照射から１時間以上経過した後に行うのが好ましく、より好ましくは２時間経過後である。１回目の活性光線照射から１時間以上経過した後に２回目以降の活性光線照射を行うことにより、より一層、印画品質、耐薬品性および耐傷性のいずれにも優れる受像シートを得ることができる。
【００５７】
（ｉｉｉ）受容層形成工程
受像層３は、熱転写記録方式で昇華もしくは熱拡散性染料画像を受容して、受像シート１０に文字情報や画像情報を印画するためのものである。受像層を形成するための材料としては、昇華性染料または熱溶融性インキ等の熱移行性の色材を受容し易い従来公知の樹脂材料を使用することができる。例えば、ポリプロピレン等のポリオレフィン系樹脂、ポリ塩化ビニルもしくはポリ塩化ビニリデン等の塩化ビニル系樹脂、ポリ酢酸ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル系共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体もしくはポリアクリル酸エステル等のビニル系樹脂、ポリエチレンテレフタレートもしくはポリブチレンテレフタレート等のポリエステル樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリアミド系樹脂、エチレンもしくはプロピレン等のオレフィンと他のビニルポリマーとの共重合体系樹脂、アイオノマーもしくはセルロースジアスターゼ等のセルロース系樹脂、ポリカーボネート等が挙げられ、特に、塩化ビニル系樹脂、アクリル−スチレン系樹脂またはポリエステル樹脂が好ましい。
【００５８】
本発明においては、受像層３は、後記する色材である色素化合物と反応してキレートを形成し得る金属イオン含有化合物を含有した層（金属化合物含有層３Ｂ）を備えていることが好ましい。すなわち、本発明においては、色材である色素化合物を受像層へ熱転写した後、受像層中の金属イオン含有化合物と色素化合物とを反応させてキレート錯体を形成する、いわゆるポストキレート方式により、受像シートへ転写された画像や文字の耐光性を向上させることができる。
【００５９】
金属化合物含有層中に含有させる金属イオン含有化合物としては、従来公知のものを使用することができ、第Ｉ、第ＶＩＩＩ族に属する２価および多価の金属の無機または有機の塩および金属錯体を好適に使用することができる。例えば、Ｎｉ２＋、Ｃｕ＋、Ｃｏ２＋、Ｃｒ２＋およびＺｎ２＋を含有する、下記一般式：
［Ｍ（Ｑ１）ｋ（Ｑ２）ｍ （Ｑ３）ｎ］ｐ＋ｐ（Ｌ−）
（式中、Ｍは金属イオンを表し、Ｑ１、Ｑ２、Ｑ３は各々Ｍで表される金属イオンと配位結合可能な配位化合物を表わし、Ｌは錯体を形成しうる対アニオンを表し、ｋは１、２または３の整数を表し、ｍは１、２または０を表し、ｎは１または０を表すが、これらは前記一般式で表される錯体が４座配位か、６座配位かによって決定されるか、あるいはＱ１、Ｑ２、Ｑ３の配位子の数によって決定され、ｐは１、２または３を表す。）で表される錯体が好ましく用いられる。これらの中でも、金属と配位結合する少なくとも一個のアミノ基を有する配位化合物が好ましく、具体的にはエチレンジアミンおよびその誘導体、グリシンアミドおよびその誘導体、ピコリンアミドおよびその誘導体が挙げられる。また、錯体を形成しうる対アニオンＬとしては、Ｃｒ、ＳＯ４、ＣｌＯ４等の無機化合物アニオンやベンゼンスルホン酸誘導体、アルキルスルホン酸誘導対等の有機化合物アニオンが挙げられるが、特に好ましくはテトラフェニルホウ素アニオンおよびその誘導体、ならびにアルキルベンゼンスルホン酸アニオンおよびその誘導体である。このような金属イオン含有化合物としては、米国特許第４，９８７，０４９号明細書に例示されたものを挙げることができる。
【００６０】
金属イオン含有化合物の上記したバインダー樹脂中への添加量は０．５〜２０ｇ／ｍ２が好ましく、１〜１５ｇ／ｍ２がより好ましい。
【００６１】
受容層３中には、前述の活性光線硬化樹脂との密着性を向上させるために、中間層３Ａが含まれていてもよい。中間層を構成する材料としては、例えば、塩化ビニル系樹脂、ポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂、ポリビニルアセタール系樹脂、ポリビニルアルコール、ポリカーボネート、セルロース系樹脂、スチレン系樹脂、ウレタン系樹脂、ウレタンアクリレート樹脂、アミド系樹脂、尿素系樹脂、エポキシ樹脂、フェノキシ樹脂、ポリカプロラクトン樹脂、ポリアクリロニトリル樹脂等の樹脂や、スチレン系（スチレン・ブロック・コポリマー（ＳＢＣ））、オレフィン系（ＴＰ）、ウレタン系（ＴＰＵ）、ポリエステル系（ＴＰＥＥ）、ポリアミド系（ＴＰＡＥ）、１,２−ポリブタジエン系、塩ビ系（ＴＰＶＣ）、フッ素系、アイオノマー樹脂、塩素化ポリエチレン、シリコーン系等の熱可塑性エラストマーが挙げられる。熱可塑性エラストマーの具体例としては、１９９６年度版「１２９９６の化学商品」（化学工業日報社）等に記載されているＳＥＢＳ樹脂、ＳＥＰＳ樹脂およびそれらの変性物などが挙げられる。上記した樹脂は一種を単独に用いてもよく、また２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００６２】
上記した樹脂の中でも、ポリスチレンとポリオレフィンのブロックポリマーからなる熱可塑性樹脂やポリビニルブチラール樹脂等が好ましい。ポリビニルブチラール樹脂としては積水化学工業（株）製のエスレックＢＨ−３、ＢＸ−１、ＢＸ−２、ＢＸ−５、ＢＸ−５５、ＢＨ−Ｓ、ＢＬ−Ｓ、電気化学工業（株）製のデンカブチラール＃４０００−２、＃５０００−Ａ、＃６０００−ＥＰ等の市販されているものを使用してもよい。これらポリブチラール樹脂は、熱硬化前の重合度は特に限定されるものではない。また、皮膜強度の観点から、上記した樹脂に熱硬化性化合物を添加してもよい。具体的にはイソシアネート硬化剤やエポキシ硬化剤等を用いることができ、熱硬化条件は５０〜９０℃で１〜７２時間が好ましい。
【００６３】
中間層には、紫外線吸収剤、酸化防止剤、光安定化剤等の添加剤が含まれていてもよい。これら添加剤は、中間層の機能を損なわない程度において添加される必要がある。具体的には、樹脂全固形分１００質量％に対し添加剤の含有量が０．０５〜２０質量％であることが好ましく、より好ましくは０．０５質量％〜１０質量％である。
【００６４】
中間層に添加される紫外線吸収剤としては、色素画像の紫外線吸収用として機能し、かつ熱転写が可能であればよく、例えば特開昭５９−１５８２８７号公報、同６３−７４６８６号公報、同６３−１４５０８９号公報、同５９−１９６２９２号公報、同６２−２２９５９４号公報、同６３−１２２５９６号公報、同６１−２８３５９５号公報、特開平１−２０４７８８号公報等の各公報に記載の化合物、及び写真その他の画像記録材料における画像耐久性を改善するものとして公知の化合物を使用することができる。具体的にはサリチル酸系、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、シアノアクリレート系のものが挙げられ、例えばＴｉｎｕｖｉｎ  Ｐ、Ｔｉｎｕｖｉｎ１２３、２３４、３２０、３２６、３２７、３２８、３１２、３１５、３８４、４００（チバガイギー社製）、Ｓｕｍｉｓｏｒｂ−１１０、１３０、１４０、２００、２５０、３００、３２０、３４０、３５０、４００（住友化学工業（株）製）、ＭａｒｋＬａ−３２、３６、１４１３（アデカア−ガス化学（株）製）等の市販のものを好適に使用できる。また、ベンゾフェノン誘導体等を側鎖に持つペンダントポリマーも好ましく用いられる。また、紫外線領域に吸収を持つ無機微粒子、超微粒子金属酸化物粉末分散剤等も使用することができる。無機微粒子としては酸化チタン、酸化亜鉛、ケイ素化合物等が挙げられる。超微粒子金属酸化物粉末分散剤としては、超微粒子酸化亜鉛粉末、超微粒子酸化チタン粉末、等を水又はアルコール混合液または各種油性分散媒体と、界面活性剤や水溶性高分子や溶剤可溶性高分子等の分散剤を用いて作られたものが挙げられる。
【００６５】
中間層に添加される酸化防止剤としては、特開昭５９−１８２７８５号公報、同６０−１３０７３５号公報、特開平１−１２７３８７号公報等の各公報に記載の酸化防止剤、及び写真その他の画像記録材料における画像耐久性を改善するものとして公知の化合物を挙げることができる。具体的には、フェノール系、モノフェノール系、ビスフェノール系、アミン系等の一次酸化防止剤、或いは硫黄系、リン系等の二次酸化防止剤が挙げられ、例えば、ＳｕｍｉｌｉｚｅｒＢＢＭ−Ｓ、ＢＨＴ、ＢＰ−７６、ＭＤＰ−Ｓ、ＧＭ、ＷＸ−Ｒ、ＢＰ−１７９、ＧＡ、ＴＰＭ、ＴＰ−Ｄ、ＴＮＰ（住友化学工業（株）製）、Ｉｒｇａｎｏｘ−２４５、２５９、５６５、１０１０、１０３５、１０７６、１０８１、１０９８、３１１４（チバガイギー社製）、ＭａｒｋＡＱ−２０、ＡＯ−３０、ＡＯ−４０（アデカアーガス化学（株）製）等の市販のものを好適に使用できる。
【００６６】
中間層に添加される光安定化剤としては、特開昭５９−１５８２８７号公報、同６３−７４６８６号公報、同６３−１４５０８９号公報、同５９−１９６２９２号公報、同６２−２２９５９４号公報、同６３−１２２５９６号公報、同６１−２８３５９５号公報、特開平１−２０４７８８号公報等の各公報に記載の化合物、及び写真その他の画像記録材料における画像耐久性を改善するものとして公知の化合物を挙げることができる。具体的にはヒンダードアミン系等が挙げられ、例えば、Ｔｉｎｕｖｉｎ６２２ＬＤ、１４４、Ｃｈｉｍａｓｓｏｂ  ９４４  ＬＤ（チバガイギー社製）、サノール  ＬＳ−７７０、ＬＳ−７６５、ＬＳ−２９２、ＬＳ−２６２６、ＬＳ−１１４、ＬＳ−７７４（三共（株）製）、Ｍａｒｋ  ＬＡ−６２、ＬＡ−６７、ＬＡ−６３、ＬＡ−６８、ＬＡ−８２、ＬＡ−８７（アデカアーガス化学（株）製）等の市販のものを好適に使用できる。
【００６７】
受像層３には、離型剤が添加されていてもよい。離型剤としては、用いるバインダーと相溶性のあるものが好ましく、具体的には変性シリコーンオイル、変性シリコーンポリマーが代表的であり、例えばアミノ変性シリコーンオイル、エポキシ変性シリコーンオイル、ポリエステル変性シリコーンオイル、アクリル変性シリコーン樹脂、ウレタン変性シリコーン樹脂等が挙げられる。このなかでもポリエステル変性シリコーンオイルはインクシートとの融着を防止するが、受像層の２次加工性を妨げないという点で特に優れている。その他の離型剤として、シリカ等の微粒子や硬化型シリコーン化合物等を使用することもできる。
【００６８】
上記した各成分を溶媒に分散あるいは溶解させた受像層用塗工液を調製し、受像層用塗工液をＩＣカード基材の一方のシート部材上に塗布し、乾燥することよって受像層を形成することができる。受像層の厚みは、一般的に１〜５０μｍ、好ましくは２〜１０μｍ程度である。
【００６９】
また、受容層３には、その最表面にトップ層３Ｃを備えていてもよい。トップ層としては、塩化ビニル系樹脂、ポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂、ポリビニルアセタール系樹脂、ポリビニルブチラール系樹脂、ポリビニルアルコール、ポリカーボネート、セルロース系樹脂、スチレン系樹脂、ウレタン系樹脂、アミド系樹脂、尿素系樹脂、エポキシ樹脂、フェノキシ樹脂、ポリカプロラクトン樹脂、ポリアクリロニトリル樹脂、ＳＥＢＳ樹脂、ＳＥＰＳ樹脂、およびそれらの変性物などを用いることができる。これら樹脂の中でも、好ましいのは、塩化ビニル系樹脂、ポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂、ポリビニルブチラール系樹脂、スチレン系樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン系樹脂、ウレタンアクリレート樹脂、ＳＥＢＳ樹脂、ＳＥＰＳ樹脂である。これらの樹脂は一種を単独に用いることもできるし、二種以上を組み合わせて用いることもできる。
【００７０】
受像層３には、離型剤が添加されていてもよい。離型剤としては、用いるバインダーと相溶性のあるものが好ましく、具体的には変性シリコーンオイル、変性シリコーンポリマーが代表的であり、例えばアミノ変性シリコーンオイル、エポキシ変性シリコーンオイル、ポリエステル変性シリコーンオイル、アクリル変性シリコーン樹脂、ウレタン変性シリコーン樹脂等が挙げられる。このなかでもポリエステル変性シリコーンオイルはインクシートとの融着を防止するが、受像層の２次加工性を妨げないという点で特に優れている。その他の離型剤として、シリカ等の微粒子や硬化型シリコーン化合物等を使用することもできる。
【００７１】
受像層には、画像情報や文字情報を印画する前に、予め、罫線等のフォーマット印刷がされていてもよい。フォーマット印刷は、オフセット印刷、グラビア印刷、シルク印刷、スクリーン印刷、凹版印刷、凸版印刷、インクジェット方式、昇華転写方式、電子写真方式、熱溶融方式等のいずれの方式によって形成することができる。
【００７２】
＜受像シートおよびこれを備えたカード基材＞
上記した製造方法により得られる受像シート１０は、基材シート１と、基材シート１上に設けられた活性光線硬化樹脂層２と、活性光線硬化樹脂層２上に設けられた受像層３と、を少なくとも備えている。受像シート１０の基材シート１側に、シート部材２０を接着剤３０で貼り合わせることによりカード基材１００とすることができる。また、利用者の情報を電気的に記憶するＩＣチップおよびＩＣチップに接続されたコイル状のアンテナ体とから構成される電子部品４０を接着剤３０中に埋設することにより、ＩＣチップ付きカードを形成することができる。本発明においては、このようなＩＣチップ付きカードであっても、受像シートが上記したような製造方法により作製されているため、印画品質、耐薬品性および耐傷性のいずれにも優れるＩＣチップ付きカードを得ることできる。
【実施例】
【００７３】
以下、実施例により、本発明を更に詳細に説明するが、本発明がこれら実施例に限定されるものではない。なお、特に断りのない限り、「％」とは質量％を意味するものとする。
【００７４】
（１）活性光線硬化性樹脂組成物の調製
下記の組成を有する３種類の活性光線硬化性樹脂組成物を調製した。
＜活性光線硬化性樹脂組成物１＞
ウレタンアクリレートオリゴマー（１６０ＴＭ，新中村化学社製）        ５．５％
アクリレート化合物（ＤＣＰ、新中村化学社製）                        １．５％
反応性バインダー（Ｐ１００２Ｓ、新中村化学社製）                    ２．５％
重合開始剤
（イルガキュア１８４、チバ・スペシャリティー・ケミカルズ社製）      ０．５％
溶剤（メチルエチルケトン）                                        ７０．０％
【００７５】
＜活性光線硬化性樹脂組成物２＞
ウレタンアクリレートオリゴマー（ＵＡ−１２８０Ｔ，新中村化学社製）  ４．０％
アクリレート化合物（ＤＣＰ、新中村化学社製）                        ３．０％
反応性バインダー（Ｐ１００２Ｓ、新中村化学社製）                    ２．５％
重合開始剤
（イルガキュア１８４、チバ・スペシャリティー・ケミカルズ社製）      ０．５％
溶剤（メチルエチルケトン）                                        ７０．０％
【００７６】
＜活性光線硬化性樹脂組成物３＞
光硬化性樹脂（ＵＶ３８１０，東亞合成社製）                          ７．７％
熱可塑性樹脂（エポブレンド、ダイセル工業社製）                      ２．０％
重合開始剤
（イルガキュア１２７、チバ・スペシャリティー・ケミカルズ社製）      ０．３％
溶剤（トルエン）                                                  ７０．０％
【００７７】
（２）受像層形成用組成物の調製
受容層を形成するための塗工液として、下記の３種類の受容層形成用組成物を調製した。なお、下記の受容層形成用組成物２の調製に用いた金属イオン含有化合物として、特開２００８−１７０７７２号公報に記載の化合物ＭＳ−７を用いた。
＜受容層形成用組成物１＞
ポリビニルブチラール樹脂（エスレックＢＬ−１、積水化学工業社製）        ９％
イソシアネート（コロネートＨＸ、日本ポリウレタン工業社製）              １％
溶剤（メチルエチルケトン／酢酸ブチル＝８：１溶液）                    ９０％
【００７８】
＜受容層形成用組成物２＞
ポリビニルブチラール樹脂（エスレックＢＸ−１、積水化学工業社製）        ６％
金属イオン含有化合物                                                    ４％
溶剤（メチルエチルケトン／酢酸ブチル＝８：１溶液）                    ９０％
【００７９】
＜受容層形成用組成物３＞
ポリエチレンワックス（ハイテックＥ１０００、東邦化学工業社製）          ２％
ウレタン変性エチレン−アクリル酸共重合体
（ハイテックＳ６２５４、東邦化学工業社製）                              ８％
メチルエチルセルロース（ＳＭ１５、信越化学工業社製）                ０．１％
水                                                                    ９０％
【００８０】
実施例１
基材シート（Ｕ２Ｌ９２Ｗ−１８８、帝人デュポンフィルム社製）上に、塗膜の厚みが１０μｍとなるように、活性光線硬化性樹脂組成物１を塗布して塗膜を形成し、塗膜に、ＵＶ露光器（Ｆｕｓｉｏｎ  ＵＶ、Ｆ６００Ｖ、ＬＨ１０ランプ、Ｈバルブ、反射鏡はコールドタイプ）を用いて表１に示した照射条件にて紫外線の照射を行った。次いで、半硬化させた塗膜上に、上記した受容層形成用組成物１を、塗膜の厚みが０．２μｍとなるように塗布した後、その上に、塗膜の厚みが２．５μｍとなるように受容層形成用組成物２を塗布し、さらに、受容層形成用組成物３を、塗膜の厚みが０．５μｍとなるように塗布した。受容層形成用組成物３の塗膜を形成した後、ＵＶ露光器を用いて表１に示した照射条件にて、受容層形成用組成物３の塗膜を介して、２回目の紫外線の照射を行うことにより受像シートを得た。２回目の紫外線照射は、受容層形成用組成物を塗布した後２時間経過後に行った。なお、ピーク照度および積算露光量の測定は、フィージョン  ＵＶシステムズ・ジャパン株式会社製のＵＶ照度測定器マイクロキュアデーターリーダーにより、マイクロキュア  モデルＭＣ−２を用いて行った。紫外線照射時のピーク照度、積算露光量は、光源と基材との間の距離（ｍｍ）を変更することにより、また、ランプ光源出力（％）や搬送速度（ｍ/ｍｉｎ）を変化させることにより調整した。
【００８１】
得られた受像シートの基材シート側に、ホットメルト接着剤（Ｍａｃｒｏｐｌａｓｔ ＱＲ３４６０、Ｈｅｎｋｅｌ社製）を介して、ＩＣ部品と別のシート（Ｕ２Ｌ９２Ｗ−１８８）とを貼り合わせ、ロールカッターを用いて化粧裁断を行うことにより、厚みが７９０μｍで、カードサイズが５５ｍｍ×８５ｍｍの受像シート付きＩＣカードを作製した。
【００８２】
実施例２〜６
実施例１において、露光条件を表１に示すように変更した以外は、実施例１と同様にして受像シート付きＩＣカードを作製した。
【００８３】
実施例７
実施例１において、ＩＣカードを作製する際にＩＣ部品を加えなかった以外は、実施例１と同様にして受像シート付きカードを作製した。
【００８４】
実施例８
実施例１で用いた活性光線硬化性樹脂組成物１を活性光線硬化性樹脂組成物２に変更した以外は実施例１と同様にして受像シート付きＩＣカードを作製した。
【００８５】
実施例９
実施例２で用いた活性光線硬化性樹脂組成物１を活性光線硬化性樹脂組成物２に変更した以外は実施例１と同様にして受像シート付きＩＣカードを作製した。
【００８６】
実施例１０
実施例７で用いた活性光線硬化性樹脂組成物１を活性光線硬化性樹脂組成物２に変更した以外は実施例７と同様にして受像シート付きカードを作製した。
【００８７】
実施例１１
実施例１で用いた活性光線硬化性樹脂組成物１を活性光線硬化性樹脂組成物３に変更した以外は実施例１と同様にして受像シート付きＩＣカードを作製した。
【００８８】
実施例１２
実施例２で用いた活性光線硬化性樹脂組成物１を活性光線硬化性樹脂組成物３に変更した以外は実施例１と同様にして受像シート付きＩＣカードを作製した。
【００８９】
実施例１３
実施例７で用いた活性光線硬化性樹脂組成物１を活性光線硬化性樹脂組成物３に変更した以外は実施例７と同様にして受像シート付きカードを作製した。
【００９０】
比較例１
実施例１において、２回目の紫外線照射を行わなかった以外は実施例１と同様にして受像シート付きＩＣカードを作製した。
【００９１】
比較例２
比較例１において、１回目の紫外線照射の照射条件を表１に示した照射条件に変更した以外は比較例１と同様にして受像シート付きＩＣカードを作製した。
【００９２】
比較例３
比較例２において、受容層を形成しなかった以外は比較例２と同様にしてＩＣカードを作製した。
【００９３】
比較例４
基材シート（Ｕ２Ｌ９２Ｗ−１８８、帝人デュポンフィルム社製）上に、熱可塑性樹脂（ニッポランＮ５２３０、日本ポリウレタン工業社製）１０％および溶剤（トルエン）９０％とからなる塗工液を、塗膜の厚みが１０．０μｍとなるように塗布した後、乾燥させ、その塗膜上に、上記した受容層形成用組成物１を、塗膜の厚みが０．２μｍとなるように塗布した後、その上に、塗膜の厚みが２．５μｍとなるように受容層形成用組成物２を塗布し、さらに、受容層形成用組成物３を、塗膜の厚みが０．５μｍとなるように塗布した。
【００９４】
得られた受像シートの基材シート側に、ホットメルト接着剤（Ｍａｃｒｏｐｌａｓｔ ＱＲ３４６０、Ｈｅｎｋｅｌ社製）を介して、ＩＣ部品と別のシート（Ｕ２Ｌ９２Ｗ−１８８）とを貼り合わせ、ロールカッターを用いて化粧裁断を行うことにより、厚みが７９０μｍで、カードサイズが５５ｍｍ×８５ｍｍの受像シート付きＩＣカードを作製した。
【００９５】
比較例５
比較例４において、基材シート上に、白色ポリプロピレン樹脂（ノーブレンＦＬ２５ＨＡ、三菱油化製）をエクストルージョンラミネート法で厚さ１０μｍになるように設けた以外は比較例４と同様にして受像シート付きＩＣカードを作製した。
【００９６】
【表１】
2014193421.tif 000003
【００９７】
＜表面強度の評価＞
得られたＩＣカードの受容層の面を、磨耗試験機（ＨＥＵＤＯＮ−１８）を用いて、０．１ｍｍのサファイア針で荷重を変化させながら擦り、粉が発生した荷重を表面が傷つく荷重（ｇ）と判断した。結果は下記の表２に示される通りであった。
【００９８】
＜印画品質の評価＞
次に、得られたＩＣカードの受容層の面に、昇華型感熱転写記録用のインクシートのインク側を重ね合わせインクシート側からサーマルヘッドを用いて出力０．２３Ｗ／ドット、パルス幅０．３〜４．５ｍ秒、ドット密度１６ドット／ｍｍの条件で加熱することにより階調性のある人物画像を受像層に形成した。さらに、受像層と溶融型感熱転写記録用のインクシートのインク側を重ね合わせインクシート側からサーマルヘッドを用いて出力０．５Ｗ／ドット、パルス幅１．０ｍ秒、ドット密度１６ドット／ｍｍの条件で加熱することにより文字情報を印字した。
【００９９】
次いで、上記のＩＣカードの受像層（画像形成した側）に保護層を形成するための保護層転写シートを下記のようにして作製した。
まず、厚さ２５μｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（東レ（株）製、ルミラー）を支持体として用い、その一方の面に、下記の組成からなる剥離層塗工液をグラビアコーティングにより、乾燥後の厚みが１．５μｍになるように塗布し乾燥して剥離層を形成した。
＜剥離層塗工液＞
ノルボルネン系樹脂（日本合成ゴム（株）製、アートンＧ）                ４０％
アクリルポリオール樹脂                                                １０％
（商品名サーモラックＳＵ−１００Ａ、綜研化学（株）製）
溶媒（メチルエチルケトン：トルエン＝２：８）                          ５０％
【０１００】
次に、形成した離型層上に、下記の組成からなる活性光線硬化性樹脂塗工液をグラビアコーティングにより、乾燥後の厚みが６μｍになるように塗布し、乾燥させて塗膜を形成した。
＜活性光線硬化性樹脂塗工液＞
ウレタンオリゴマー                                                    １２％
（商品名ＮＫオリゴ  Ａ−９３００、新中村化学工業株式会社製）
多官能オリゴマー                                                    ７．５％
（商品名ＮＫオリゴ  ＵＡ−１２２Ｐ、新中村化学工業株式会社製）
アクリル系共重合体１                                                    ９％
（商品名パラペットＧＦ、クラレ（株）製）
光重合開始剤                                                        １．５％
（商品名イルガキュア９０７、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）
メチルエチルケトン                                                    ６０％
【０１０１】
上記のように形成した塗膜に、実施例１で用いたＵＶ露光器と同様のものを用いて下記照射条件にて紫外線の照射を行った。ピーク照度および積算露光量の測定は、実施例１と同様にして行った。
・ピーク照度：５０ｍＷ／ｃｍ２
・積算露光量：５０ｍｊ／ｃｍ２
【０１０２】
次に、上記のようにして形成した活性光線硬化樹脂層上に、下記組成からなる中間層塗工液をグラビアコーティングにより、乾燥後の厚みが０．５μｍになるように塗布した後、５０℃で２４時間エージングを行うことにより中間層を形成した。
＜中間層塗工液＞
ポリビニルブチラール樹脂                                                ８％
（商品名ＢＸ−１、エレックスＢシリーズ、積水化学株式会社製）
メチルエチルケトン                                                    ９０％
硬化剤（コロネートＨＸ、日本ポリウレタン株式会社製）                    ２％
【０１０３】
続いて、上記のようにして形成した中間層上に、下記組成からなる接着層塗工液をグラビアコーティングにより、乾燥後の厚みが１．０μｍになるように塗布、乾燥して、接着層を形成し、支持体／活性光線硬化樹脂層／中間層／接着層の層構成を有する保護層転写シートを得た。
＜接着層塗工液＞
塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体                                        ２０％
アクリル樹脂                                                          １０％
溶媒（酢酸エチル：トルエン＝２：５）                                  ７０％
【０１０４】
上記のようにして得られた保護層転写シートの接着面が、上記のＩＣカードの受像層（画像形成した側）とが対向するように、ＩＣカードと保護層転写シートとを重ね合わせ、下記の転写条件にて、被転写体の前面に保護層を形成した。
・サーマルヘッド： ＫＧＴ−２１７−１２ＭＰＬ２０（京セラ株式会社製）
・発熱体平均抵抗値：３１９５（Ω）
・主走査方向印字密度：３００ｄｐｉ
・副走査方向印字密度：３００ｄｐｉ
・印加電力：０．１２（ｗ／ｄｏｔ）
・１ライン周期：５（ミリ秒）
・印字開始温度：４０（℃）
・印加パルス：１ライン周期中に、１ライン周期を２５６に等分割したパルス長を持つ分割パルスの数を０〜２５５個まで可変できるマルチパルス方式のテストプリンターを用い、分割パルスのＤｕｔｙ比を６０％固定とし、ライン周期あたりのパルス数を２１０個固定とし、ベタ印画を行い、印画面全面に保護層を転写した。
【０１０５】
このようにして得られた印画物の印画品質について、目視にて下記の評価基準により評価を行った。
○：文字が問題なく印字されている
△：僅かに印字された文字がかすれている
×：文字が印画されていない
【０１０６】
＜耐薬品性の評価＞
また、印画物（カード）をイソプロピルアルコール５０％の溶液に、液温２５℃で１日浸積した後の、カード表面の状態を目視にて観察し、耐薬品性の評価を行った。評価基準は下記の通りとした。
○：浸漬前の状態と変化がない
△：印画した画像情報の５０％以上がかすれている
×：印画した画像情報が消失している
【０１０７】
評価結果は下記の表２に示される通りであった。
【表２】
2014193421.tif 000004
【符号の説明】
【０１０８】
１    支持体
２    離型層および／または剥離層
３、３’    活性光線硬化性樹脂からなる塗膜
４    活性光線硬化樹脂層
５    中間層
６    接着層
１０  保護層転写シート
【図１】
2014193421.tif 000005
【図２】
2014193421.tif 000006
【図３】
2014193421.tif 000007
【図４】
2014193421.tif 000008