(57)【要約】【課題】基板の上部に薬液が飛散することが防止可能な基板洗浄装置が提供される。【解決手段】本発明の例示的な実施形態にかかる基板洗浄装置３０は、基板２を移送するための複数の移送ローラ４０と、基板２の一面を洗浄するために、一面に薬液を供給する薬液供給器３０ａと、一面に供給された薬液を除去するために、一面に清水を供給する清水供給器３０ｂ〜３０ｄとを含む。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を移送するための複数の移送ローラと、
前記基板の一面を洗浄するために、前記一面に薬液を供給する薬液供給器と、
前記一面に供給された薬液を除去するために、前記一面に清水を供給する清水供給器とを含むことを特徴とする基板洗浄装置。
【請求項２】
前記基板の他面に前記薬液が飛散するのを防止するために、前記基板の他面の上側に設けられるエア供給部をさらに含むことを特徴とする請求項１に記載の基板洗浄装置。
【請求項３】
前記薬液供給器および前記清水供給器それぞれは、
前記基板の下側部に設けられるハウジングと、
前記ハウジングの内部に回転可能に設けられ、上端部が前記基板に接触可能な洗浄ローラと、
前記ハウジングの内部に流体としての前記薬液または清水を供給するためのポンプと、
前記ハウジングの内部に供給される前記流体を貯蔵している流体貯蔵タンクとを含み、
前記ハウジングの内部に供給された前記流体に前記洗浄ローラの一部が浸るように形成されることを特徴とする請求項１または２に記載の基板洗浄装置。
【請求項４】
前記洗浄ローラは、ロールブラシ形態からなることを特徴とする請求項３に記載の基板洗浄装置。
【請求項５】
前記洗浄ローラが回転する時、前記洗浄ローラが過多の流体を含んだ状態で当該流体を移動するのを防止するように、前記洗浄ローラの回転中心軸より高い高さで前記洗浄ローラに当接して配置される飛散防止部材をさらに含むことを特徴とする請求項３または４に記載の基板洗浄装置。
【請求項６】
前記飛散防止部材は、前記基板より低く、前記洗浄ローラの回転中心軸より高い高さに位置することを特徴とする請求項５に記載の基板洗浄装置。
【請求項７】
前記飛散防止部材は、前記洗浄ローラの回転中心軸と平行に配置される棒状部材であることを特徴とする請求項５または６に記載の基板洗浄装置。
【請求項８】
前記飛散防止部材は、前記洗浄ローラの上部両側に一対に形成されることを特徴とする請求項５〜７のいずれか一項に記載の基板洗浄装置。
【請求項９】
前記洗浄ローラの軸の軸方向が前記基板の移送方向に垂直な時、当該基板の移送方向の前記ハウジングの幅が前記洗浄ローラの直径より長く形成されることを特徴とする請求項３〜８のいずれか一項に記載の基板洗浄装置。
【請求項１０】
前記ハウジングの上部面に位置し、前記洗浄ローラの回転による流体の飛散を防止するカバーを含むことを特徴とする請求項３〜９のいずれか一項に記載の基板洗浄装置。
【請求項１１】
前記カバーは、前記洗浄ローラの上部両側に一対に形成され、
前記洗浄ローラの上側部が、前記一対のカバーの間の開口に突出するように形成されることを特徴とする請求項１０に記載の基板洗浄装置。
【請求項１２】
前記エア供給部は、一対のエアナイフを含み、
前記一対のエアナイフは、前記薬液供給器および前記清水供給器の上側、並びに前記基板の上側に位置することを特徴とする請求項２〜１１のいずれか一項に記載の基板洗浄装置。
【請求項１３】
前記一対のエアナイフは、前記基板の移送方向からみて、前記洗浄ローラの前方および後方側に位置することを特徴とする請求項１２に記載の基板洗浄装置。
【請求項１４】
前記一対のエアナイフのうち、前方側に位置するエアナイフは、その先端が後方側に位置するように傾斜して配置され、後方側に位置するエアナイフは、その先端が前方側に位置するように傾斜して配置されることを特徴とする請求項１３に記載の基板洗浄装置。
【請求項１５】
前記基板の移送方向からみて、前記清水供給器は、前記薬液供給器より後方側に位置することを特徴とする請求項１〜１４のいずれか一項に記載の基板洗浄装置。
【請求項１６】
前記清水供給器は、複数個形成されることを特徴とする請求項１５に記載の基板洗浄装置。
【請求項１７】
前記基板の移送方向からみて、前記ハウジングの前方に前記ハウジングから離隔配置される基板移送感知センサをさらに含むことを特徴とする請求項３〜１１のいずれか一項に記載の基板洗浄装置。
【請求項１８】
前記基板が前記ハウジングの上側に進入および前記ハウジングの上側から排出されることを前記移送感知センサが感知した場合、前記ロールブラシの速度が可変的に制御されることを特徴とする請求項１７記載の基板洗浄装置。
【請求項１９】
前記基板の移送方向からみて、前記基板の前方端部が前記移送感知センサ上を通って洗浄ローラの上側まで移動する間、および前記基板の後方端部が前記移送感知センサ上を通って前記洗浄ローラの上側に移動する間の速度は、前記基板の中央部が前記洗浄ローラの上側を通って移動する間の速度より低速であることを特徴とする請求項１８記載の基板洗浄装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板洗浄装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
平板表示装置（Ｆｌａｔ  Ｐａｎｅｌ  Ｄｉｓｐｌａｙ）は、表示装置のうち、平らで厚さの薄い薄型の表示装置であり、液晶表示装置（Ｌｉｑｕｉｄ  Ｃｒｙｓｔａｌ  Ｄｉｓｐｌａｙ）、プラズマ表示装置（Ｐｌａｓｍａ  Ｄｉｓｐｌａｙ  Ｄｅｖｉｃｅ）、有機発光表示装置（Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｌｉｇｈｔ  Ｅｍｉｔｔｉｎｇ  Ｄｉｏｄｅ  Ｄｉｓｐｌａｙ）などがある。
【０００３】
平板表示装置は、映像を表示するための表示パネルを含むが、このような表示パネルを製造するためには、様々な工程、例えば、エッチング工程、洗浄工程などが行われる。
【０００４】
この時、洗浄工程は、実際に素子を製造する単位工程ではないが、工程収率および製品の性能に悪影響を与える場合がある。たとえば、従来は、平板表示装置の基板の下側面の洗浄をするために、清水または薬液をシャワーノズル等の噴射器によって供給してこれをロールブラシを用いて除去する方式で、基板の上下側面を同時に洗浄していた。しかし、このような洗浄装置は、シャワーノズルによって清水および薬液を供給したため、上部保護フイルムに薬液が飛散する場合が多発していた。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開１９９８−００５７０２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明の一実施形態は、基板の下側面の洗浄時、基板の上部に薬液が飛散することを防止可能な基板洗浄装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の一態様によれば、基板を移送するための複数の移送ローラと、前記基板の一面を洗浄するために、前記一面に薬液を供給する薬液供給器と、前記一面に供給された薬液を除去するために、前記一面に清水を供給する清水供給器とを含む基板洗浄装置が提供される。
【０００８】
この時、前記基板の他面に前記薬液が飛散するのを防止するために、前記基板の他面の上側に設けられるエア供給部をさらに含むことができる。
【０００９】
この時、前記薬液供給器および前記清水供給器それぞれは、前記基板の下側部に設けられるハウジングと、前記ハウジングの内部に回転可能に設けられ、上端部が前記基板に接触可能な洗浄ローラと、前記ハウジングの内部に流体としての前記薬液または清水を供給するためのポンプと、前記ハウジングの内部に供給される前記流体を貯蔵している流体貯蔵タンクとを含み、前記ハウジングの内部に供給された前記流体に前記洗浄ローラの一部が浸るように形成される。
【００１０】
この時、前記洗浄ローラは、ロールブラシ形態からなる。
【００１１】
この時、前記洗浄ローラが回転する時、前記洗浄ローラが過多の流体を含んだ状態で当該流体を移動するのを防止するように、前記洗浄ローラの回転中心軸のより高い高さで前記洗浄ローラに当接して配置される飛散防止部材をさらに含むことができる。
【００１２】
この時、前記飛散防止部材は、前記基板より低く、前記洗浄ローラの回転中心軸より高い高さに位置することができる。
【００１３】
この時、前記飛散防止部材は、前記洗浄ローラの回転中心軸と平行に配置される棒状部材であり得る。
【００１４】
この時、前記飛散防止部材は、前記洗浄ローラの上部両側に一対に形成できる。
【００１５】
この時、前記洗浄ローラの軸の軸方向が前記基板の移送方向に垂直な時、当該基板の移送方向の前記ハウジングの幅が前記洗浄ローラの直径より長く形成され得る。
【００１６】
この時、前記ハウジングの上部面に位置し、前記洗浄ローラの回転による流体の飛散を防止する飛散防止カバーを含むことができる。
【００１７】
この時、前記飛散防止カバーは、前記洗浄ローラの上部両側に一対に形成され、前記洗浄ローラの上側部は、前記一対の飛散防止カバーの間の開口に突出するように形成され得る。
【００１８】
この時、前記エア供給部は、一対のエアナイフを含み、前記一対のエアナイフは、前記薬液供給器および前記清水供給器の上側、並びに前記基板の上側に位置することができる。
【００１９】
この時、前記一対のエアナイフは、前記基板の移送方向からみて、前記洗浄ローラの前方および後方側に位置することができる。
【００２０】
この時、前記一対のエアナイフのうち、前方側に位置するエアナイフは、その先端が後方側に位置するように傾斜して配置され、後方側に位置するエアナイフは、その先端が前方側に位置するように傾斜して配置され得る。
【００２１】
この時、前記基板の移送方向からみて、前記清水供給器は、前記薬液供給器より後方側に位置することができる。
【００２２】
この時、前記清水供給器は、複数個形成できる。
【００２３】
この時、前記基板の移送方向からみて、前記ハウジングの前方に前記ハウジングから離隔配置される基板移送感知センサをさらに含むことができる。
【００２４】
この時、前記基板が前記ハウジングの上側に進入および前記ハウジングの上側から排出されることを前記移送感知センサが感知した場合、前記ロールブラシの速度が可変的に制御できる。
【００２５】
この時、前記基板の移送方向からみて、前記基板の前方端部が前記移送感知センサを通って洗浄ローラの上部側まで移動する間、および前記基板の後方端部が前記移送感知センサを通って前記洗浄ローラの上部側に移動する間の速度は、前記基板の中央部が前記洗浄ローラの上部側を通って移動する間の速度より低速であり得る。
【発明の効果】
【００２６】
本発明にかかる基板洗浄装置は、ロールブラシを用いて薬液および清水を基板に塗布して基板の下側面を洗浄するため、基板の下側面を洗浄する間、薬液が基板の上面に飛散するのを防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２７】
【図１】本発明の一実施形態にかかる基板洗浄装置の構成図である。
【図２】本発明の一実施形態にかかる基板洗浄装置の洗浄部のハウジングの断面図である。
【図３】本発明の一実施形態にかかる基板洗浄装置の洗浄部が作動する状態を示す断面図である。
【図４】本発明の一実施形態にかかる基板洗浄装置の洗浄部側に基板が進入する状態を示す作動状態図である。
【図５】本発明の一実施形態にかかる基板洗浄装置の洗浄部から基板が排出される状態を示す作動状態図である。
【発明を実施するための形態】
【００２８】
以下、添付した図面を参考にして、本発明の実施形態について、本発明の属する技術分野における通常の知識を有する者が容易に実施できるように詳細に説明する。本発明は、種々の異なる形態で実現可能であり、ここで説明する実施形態に限定されない。図面において、本発明を明確に説明するために説明上不必要な部分は省略し、明細書全体にわたって同一または類似の構成要素については同一の参照符号を付した。
【００２９】
図１は、本発明の一実施形態にかかる基板洗浄装置の構成図である。
【００３０】
図１を参照すれば、本発明の一実施形態にかかる基板洗浄装置１は、移送ローラ４０と、洗浄部３０と、エア供給部５０とを含む。
【００３１】
移送ローラ４０は、基板２を移送するための構成要素であって、図１に示されるように、フレーム４上に設けられる複数のローラ４０を含む。複数の移送ローラ４０は、水平方向に同一の間隔で配列される。この時、複数の移送ローラ４０は、基板２の移送速度を調整できるように、図示しないモータによって回転速度が調整できるように形成される。
【００３２】
以下、本発明の一実施形態では、基板が、図１において左側から流入して右側に移送されながら洗浄される構造の基板洗浄装置について説明する。
【００３３】
基板２が複数の移送ローラ４０上を通過する間、基板２の下側面を洗浄するために、本発明の一実施形態にかかる基板洗浄装置１は、洗浄部３０と、エア供給部５０とを含む。
【００３４】
本実施形態によれば、洗浄部３０は、基板２の下側面に薬液を供給する薬液供給器３０ａと、基板に供給された薬液を除去するための清水を供給する清水供給器３０ｂ、３０ｃ、３０ｄとを含む。
【００３５】
この時、図１を参照すれば、薬液供給器３０ａは、基板２の移送方向からみて、清水供給器３０ｂ、３０ｃ、３０ｄより前方側（つまり、図１の左側）に位置し、清水供給器３０ｂ、３０ｃ、３０ｄは、薬液供給器３０ａより後方側に配置される。
【００３６】
清水供給器３０ｂ、３０ｃ、３０ｄは、複数個形成され、薬液が塗布された状態の基板をよりきれいに洗浄する。図１を参照すれば、本実施形態では、３つの清水供給器３０ｂ、３０ｃ、３０ｄが設けられるように構成されるが、清水供給器の数はこれに制限されるものではない。
【００３７】
本実施形態によれば、薬液貯蔵タンク１０に貯蔵された薬液が、ポンプ２０により、供給管２４を介して薬液供給器３０ａの内部に供給された後、薬液供給器３０ａの内部に設けられた洗浄ローラ３４により、基板の下側面を洗浄するための薬液が基板２の下側面に塗布されるようにする。
【００３８】
そして、清水貯蔵タンク１２に貯蔵された清水が、ポンプ２０により、供給管２４を介して清水供給器３０ｂ、３０ｃ、３０ｄの内部に供給された後、清水供給器３０ｂ、３０ｃ、３０ｄの内部に設けられた洗浄ローラ３４により、基板２の下側面に塗布された薬液を洗浄するための清水が基板２の下側面に供給されるようにする。
【００３９】
一方、薬液供給器３０ａおよび清水供給器３０ｂ、３０ｃ、３０ｄの上側には、それぞれエア供給部５０が設けられる。エア供給部５０は、一対のエアナイフ５２、５４を含む。一対のエアナイフ５２、５４は、基板２の移送方向からみて、薬液供給器３０ａおよび清水供給器３０ｂ、３０ｃ、３０ｄの内部の洗浄ローラの回転軸を基準として回転軸の前方および後方側に位置する。
【００４０】
この時、一対のエアナイフ５２、５４のうち、基板の移送方向からみて、前方側に位置するエアナイフを第１エアナイフ５２として規定し、後方側に位置するエアナイフを第２エアナイフ５４として規定する時、第１エアナイフ５２は、その先端が後方側に位置するように傾斜して配置され、第２エアナイフ５４は、その先端が前方側に位置するように傾斜して配置される。一対のエアナイフ５２、５４は、その先端からエアを吐出できるように、図示しない空気供給ポンプに連結される。
【００４１】
第１エアナイフ５２および第２エアナイフ５４は、基板２が洗浄部３０を通過しながら洗浄部３０から薬液または清水が基板２の下側面に塗布される間、基板２の上側面に薬液または清水が飛散しないように、基板２側に空気を噴射する。これに関するより詳細な作動は後述する。
【００４２】
本発明の一実施形態によれば、薬液供給器３０ａおよび清水供給器３０ｂ、３０ｃ、３０ｄのそれぞれは、互いに異なる種類の流体を基板に供給することを除いては同一の構造からなり得るが、以下、薬液供給器３０ａおよび清水供給器３０ｂ、３０ｃ、３０ｄ、そして、薬液供給器および清水供給器で薬液および清水を供給するための構成要素を洗浄部３０と総称し、洗浄部の詳細な構造を説明する。
【００４３】
図２は、本発明の一実施形態にかかる基板洗浄装置１の洗浄部３０のハウジングの断面図である。図３は、本発明の一実施形態にかかる基板洗浄装置の洗浄部３０が作動する状態を示す断面図である。
【００４４】
図１および図２を参照すれば、本発明の一実施形態にかかる基板洗浄装置１の洗浄部３０は、ハウジング３２と、洗浄ローラ３４と、ポンプ２０と、流体貯蔵タンク（薬液貯蔵タンク１０、清水貯蔵タンク１２）とを含む。
【００４５】
ハウジング３２は、基板２の通る高さより低い位置に設けられ、底部に流体Ｗが貯蔵できるように水密構造からなる。ハウジング３２は、四角断面を有し、基板の幅方向に延びた直方体形状のボックス形態からなり得るが、ハウジング３２の形態がこれに制限されるものではない。
【００４６】
ハウジング３２の一側面には、ハウジング３２の内部に流体を供給するために供給管２４が連結される。ハウジング３２の底面には、洗浄部が作動しない場合、または洗浄部の掃除をする場合のように、ハウジング３２内部の底面に流体が満たされている必要がない場合、ハウジング３２内部の流体を外部に排出するための排出管２６が設けられる。
【００４７】
ハウジング３２の内部には、洗浄ローラ３４が回転可能に設けられる。洗浄ローラ３４は、ハウジング３２の底面に溜まっている流体を含んだ状態で回転し、ハウジング３２の上側部に位置する基板２の底面に接触して流体を基板の底面に塗布可能にするための構成要素である。
【００４８】
この時、図２および図３を参照すれば、本発明の一実施形態にかかる洗浄ローラ３４は、ＰＶＡ（ｐｏｌｙｖｉｎｙｌ  ａｌｃｏｈｏｌ）材質のロールブラシ形態からなり得、基板２の移送方向に垂直な方向に延びた回転軸を中心として回転可能に形成される。なお、本実施形態では、洗浄ローラ３４がＰＶＡ材質のロールブラシ形態からなるものとして示したが、洗浄ローラの材質および形態がこれに制限されるものではない。
【００４９】
一方、本発明の一実施形態によれば、洗浄ローラ３４の下側端部は、ハウジング３２の底面からやや離隔した高さに位置し、洗浄ローラ３４の上側端部は、ハウジング３２の上側に突出するように形成される。すなわち、洗浄ローラ３４の直径Ｄは、ハウジング３２の幅Ｌ１より小さくなるように形成され、洗浄ローラ３４が回転する時、図２において、洗浄ローラ３４横方向頂部がハウジング３２の両側壁に当たらないように形成される。このように、ハウジング３２の幅を洗浄ローラ３４の直径より広く形成することにより、洗浄ローラ３４が高速で回転する時、流体を円滑に移動できる。
【００５０】
一方、ハウジング３２の内部には飛散防止部材３６が設けられる。図２および図３を参照すれば、飛散防止部材３６は、洗浄ローラ３４が回転する時、洗浄ローラ３４が多量の流体を含んだ状態で回転してハウジング３２の上側方向に流体が飛散するのを防止するように、洗浄ローラ３４の回転中心軸より高い高さで洗浄ローラ３４に当接して配置される。飛散防止部材３６は、たとえばパイプを含む棒状部材からなり得る。また、飛散防止部材３６は、洗浄ローラ３４の回転中心軸と平行に配置され得、図２および図３に示されるように、洗浄ローラ３４の上部両側に一対に形成され得る。
【００５１】
一方、ハウジング３２の上側面にはカバー３８が設けられる。カバー３８は、洗浄ローラ３４の回転によって流体がハウジング３２の上側方向に飛散するのを遮断するための構成要素である。カバー３８の一側は、ハウジング３２の側面に固定され、カバー３８の他側は、図２における洗浄ローラ３４の回転中心方向に延びる。
【００５２】
カバー３８は、基板の移送方向からみて、前後方向にハウジング３２の両側部に一対に形成される。カバー３８の間には、洗浄ローラ３４の上側部が部分的に突出できるように開口が形成される。カバー３８は、基板２の移送方向に洗浄ローラ３４が回転する時、流体がハウジング３２の上側方向に飛散しないように、開口が適切な大きさを有するように形成される。
【００５３】
以上のような構成からなる洗浄部３０の作動について図３を参照して説明すれば、基板２が洗浄部３０の上側を通る間、洗浄ローラ３４が回転して基板２の下側面に流体が塗布されるようにする。具体的には、本発明の一実施形態によれば、洗浄ローラ３４は、柔軟なＰＶＡ材質の複数のブラシからなるため、ハウジング３２の内部に流体がある程度の深さで満たされた状態では、洗浄ローラ３４の下側で複数のロールブラシ３５の間に流体Ｗを含ませられる。この時、洗浄ローラ３４それぞれのロールブラシ３５の大きさおよび長さは、流体を十分に含めるように適宜選択可能である。
【００５４】
一方、洗浄ローラ３４のロールブラシ３５の間に流体が含まれた状態で洗浄ローラ３４を速い速度で回転させることで、洗浄ローラ３４により、図３に示すように、反時計方向に回転させて流体Ｗをハウジング３２の上側に運搬する。このように、洗浄ローラ３４が流体Ｗをハウジング３２の上側に運搬する時、ハウジング３２の側壁が洗浄ローラ３４から離隔しているため、十分な量の流体をハウジング３２の上側に運搬できる。
【００５５】
この時、ハウジング３２の上側部で過度に多い流体がハウジング３２の上側に回転によって運搬されると、洗浄ローラ３４の回転力によって流体Ｗが上側方向に飛散し得るため、洗浄ローラ３４の回転力によって流体Ｗが上側に過度に多く運搬されるのを防止するために飛散防止部材３６が設けられる。
【００５６】
本実施形態では、飛散防止部材３６がパイプ形態からなるものとして示したが、流体Ｗが上側方向に過度に多く移送されるのを防止するための飛散防止部材３６の大きさ、形態および位置は多様に変更可能である。
【００５７】
洗浄ローラ３４のロールブラシ３５が流体を適度に含んだ状態で飛散防止部材３６の位置する位置を通ると、洗浄ローラ３４のロールブラシ３５は基板２の下側面に接するようになる。このように、ロールブラシ３５が基板２の下側面に接しながら流体Ｗが基板２に塗布され、基板２に塗布される流体の種類に応じて基板２の洗浄が行われるようになる。
【００５８】
一方、飛散防止部材３６の存在にもかかわらず、流体Ｗが上側方向に飛散するのを防止するために、ハウジング３２の上側面の両側部には飛散防止用カバー３８が設けられ、これにより、カバー３８の間の開口以外の位置で基板２に流体が塗布または飛散されることが防止される。
【００５９】
基板２の下側面に流体を塗布した後、流体をロールブラシ３５の間に少量含んだ状態のロールブラシ３５は、回転によって再びハウジング３２の下側部にロールブラシ３５を移動し、ハウジング３２の底面に位置する流体Ｗにロールブラシ３５を浸すことにより、再びロールブラシ３５の間に流体を含ませるようにする。
【００６０】
本発明の一実施形態にかかる基板洗浄装置１は、基板の下側面に薬液または清水を塗布するためにロールブラシ形態の洗浄ローラ３４を用いることにより、ノズル形態の流体噴射器によって基板を洗浄するのと比較すると、基板の上板側に流体が飛散することを防止できる。
【００６１】
一方、図２を参照すれば、基板の移送方向からみて、ハウジング３２の前方には、ハウジングから所定間隔離隔配置される基板移送感知センサ６０が設けられる。図２を参照すれば、移送感知センサ６０は、ハウジング３２の中央から所定間隔Ｌ２離隔して配置される。移送感知センサ６０は、基板２が洗浄部３０側に近づいたり、洗浄部３０から遠のいたりする時の基板２の位置を判断する。この時、基板洗浄装置１の制御部（図示せず）は、移送感知センサ６０で基板２の端部の位置を検出した後、基板２の移送速度を計算することにより、洗浄部３０を通る基板の正確な位置を判断することができる。
【００６２】
さらに、本発明の一実施形態によれば、移送感知センサ６０によって検出された基板２の位置に応じて洗浄ローラ３４の回転速度を可変的に制御することにより、基板２の上部面に流体が飛散するのを防止することができる。以下、基板の移送に伴う洗浄部およびエア供給部の作動についてより詳細に説明する。
【００６３】
図４は、本発明の一実施形態にかかる基板洗浄装置の洗浄部側に基板が進入する状態を示す作動状態図である。図５は、本発明の一実施形態にかかる基板洗浄装置の洗浄部から基板が排出される状態を示す作動状態図である。
【００６４】
図４を参照すれば、基板２がＡ区間から洗浄部３０側に接近し、移送感知センサ６０を通ってＢ区間に進入すると、移送感知センサ６０が基板２の位置を感知する。
【００６５】
より詳細には、移送感知センサ６０は、移送感知センサ６０の上側に基板があるか否かを判断することができるが、例えば、移送感知センサ６０の上側に基板がなければオフ状態を維持し、移送感知センサ６０の上側に基板がある時、つまり、基板の先端が移送感知センサ６０の上側を通って図４におけるＢ区間にある間、オン状態を維持するように作動することができる。このように、移送感知センサ６０がオン状態を維持する間、基板洗浄装置１の制御部は移送ローラ４０によって移動する基板の移送速度を確認することにより、基板２の位置を判断することができる。
【００６６】
本発明の一実施形態によれば、移送感知センサ６０がオン状態にある場合、Ｂ区間で洗浄ローラ３４の回転速度を、例えば５０ｒｐｍの低速に維持させる。すなわち、基板２が洗浄部３０側に進入している間、洗浄ローラ３４が速く回転すると、洗浄ローラ３４の回転力によって基板２の上側面に流体が飛散する可能性が大きいため、上述のように、基板２の先端が洗浄部３０に隣接するＢ区間で洗浄ローラ３４の回転速度を低速に維持することにより、基板２の上側面に流体が飛散することを防止する。
【００６７】
その後、基板２が洗浄ローラ３４の上側に進入してＣ区間に達すると、洗浄ローラ３４の回転力を例えば２００ｒｐｍの高速で回転させて基板２の中央部の下部面を洗浄させる。このように、高速で洗浄ローラ３４が回転しながら基板２の下部面に接して流体を基板２の下部面に接触させると、基板２の下部面に接した多くの流体によって基板の下部面が洗浄される。
【００６８】
この時、洗浄ローラ３４が高速で回転する間、第１エアナイフ５２により空気を基板２の上部面に吐出し、基板２の上部面側で基板２の前方端部に飛散した流体、つまり、薬液または清水を押し出すことにより、基板２の上部面に流体が塗布されることを防止する。
【００６９】
一方、基板が移動し、基板２の後端が移送感知センサ６０を通ってＢ区域に移動すると、移送感知センサ６０がオフとなり、制御部は基板２の後端が洗浄部３０側に移動したことを感知する。このように、基板２の後方端部側が洗浄部３０側に移動すると、洗浄部３０の洗浄ローラの回転速度を、例えば、５０ｒｐｍのように低速に減少させる。すなわち、基板２の後端が洗浄ローラ３４に近づいた状態で洗浄ローラ３４の回転速度を低下させることにより、基板２の後端の上側面に流体が飛散することを防止できる。さらに、洗浄ローラ３４の回転速度を低下させる一方、第２エアナイフ５４を介して基板２の上部面に空気を吐出し、基板２の上部面側に飛散した流体を押し出すことにより、基板２の上部面に流体が塗布されることをより確実に防止できる。
【００７０】
なお、基板２が移送される間、洗浄ローラ３４の回転速度、エアナイフの作動時間、エアナイフの作動圧力、基板の移送速度は、基板の上側面に流体が飛散することなく、基板の下部面が洗浄できるように適宜選択可能である。
【００７１】
以上のように、本発明の一実施形態にかかる基板洗浄装置は、薬液および清水を基板に供給する時、ロールブラシのような洗浄ローラを用いることにより、基板の上部面に薬液および清水が飛散しなくて済む。また、本発明の一実施形態にかかる基板洗浄装置は、薬液および清水を基板に供給する時、ロールブラシの速度を可変的に制御し、基板の上部面に薬液および清水が飛散しなくて済む。さらに、本発明の一実施形態にかかる基板洗浄装置は、基板の上部面に空気を吐出するエアナイフを設け、基板の上部面に薬液および清水が飛散しないようにすることができる。
【００７２】
以上、本発明の一実施形態について説明したが、本発明の思想は、本明細書に提示される実施形態に制限されず、本発明の思想を理解する当業者は、同一の思想の範囲内で、構成要素の付加、変更、削除、追加などによって他の実施形態を容易に提案することができるが、これも本発明の思想範囲内に属する。
【符号の説明】
【００７３】
１：洗浄装置、
２：基板、
４：フレーム、
１０：薬液貯蔵タンク、
１２：清水貯蔵タンク、
２０：ポンプ、
２２：バルブ、
２４：供給管、
３０：洗浄部、
３０ａ：薬液供給器、
３０ｂ、３０ｃ、３０ｄ：清水供給器、
３２：ハウジング、
３４：洗浄ローラ、
３６：飛散防止部材、
３８：カバー、
４０：移送ローラ、
５０：エア供給部、
５２：第１エアナイフ、
５４：第２エアナイフ、
６０：移送感知センサ。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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