(57)【要約】【課題】ガラス基板上に毎葉で作製する手法と、透明樹脂フィルム上に連続で作製する手法との両方の利点を有するパターン位相差フィルムを提供する。【解決手段】本発明は、長尺ガラスフィルムを基材とする長尺パターン位相差フィルム２がロール状に巻き取られた長尺パターン位相差フィルム巻取体１である。上記長尺パターン位相差フィルム１は、長尺ガラスフィルム１１と、この長尺ガラスフィルム１１上に形成され、配向パターンが形成されているパターン配向層１２と、このパターン配向層１２上に形成され、配向パターンに沿って配列される位相差層１３とを含む。長尺パターン位相差フィルム１は、長尺ガラスフィルム１１上にパターン配向層１２及び位相差層１３を形成することによって得られる。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
長尺ガラスフィルムを基材とする長尺パターン位相差フィルムがロール状に巻き取られた長尺パターン位相差フィルム巻取体。
【請求項２】
前記長尺パターン位相差フィルムは、前記長尺ガラスフィルムと、この長尺ガラスフィルム上に形成され、配向パターンが形成されているパターン配向層と、このパターン配向層上に形成され、前記配向パターンに沿って配列される位相差層とを含む、請求項１に記載の長尺パターン位相差フィルム巻取体。
【請求項３】
前記位相差層は重合性液晶組成物の硬化物を含有する、請求項２に記載の長尺パターン位相差フィルム巻取体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、長尺パターン位相差フィルム巻取体に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、三次元表示可能なフラットパネルディスプレイが注目を集め始めており、市販も始まっている。そして、今後のフラットパネルディスプレイにおいては三次元表示可能であることが、その性能として当然に求められることが予想され、三次元表示可能なフラットパネルディスプレイの検討が幅広い分野において進められている。
【０００３】
フラットパネルディスプレイにおいて三次元表示をするには、通常、視聴者に対して何らかの方式で右目用の映像と、左目用の映像とを別個に表示することが必要とされる。右目用の映像と左目用の映像とを別個に表示する方法としては、例えば、パッシブ方式というものが知られている。このようなパッシブ方式の三次元表示方式について図を参照しながら説明する。図５はパッシブ方式の三次元表示の一例を示す概略図である。図５に示すようにこの方式では、まず、フラットパネルディスプレイを構成する画素を、右目用映像表示画素と左目用映像表示画素の２種類の複数の画素にパターン状に分割し、一方のグループの画素では右目用の映像を表示させ、他方のグループの画素では左目用の映像を表示させる。また、直線偏光板と当該画素の分割パターンに対応したパターン状の位相差層が形成されたパターン位相差フィルムとを用い、右目用の映像と、左目用の映像とを互いに直交関係にある円偏光に変換する。さらに、視聴者には右目用レンズと左目用レンズとに互いに直交する円偏光レンズを採用した円偏光メガネを装着させ、右目用の映像が右目用レンズのみを通過し、かつ左目用の映像が左目用のレンズのみを通過するようにする。このようにして右目用の映像が右目のみに届き、左目用の映像が左目のみに届くようにすることによって三次元表示を可能とするものがパッシブ方式である。
【０００４】
このようなパッシブ方式では、上記パターン位相差フィルムと、対応する円偏光メガネとを用いることにより容易に三次元表示が可能なものにできるという利点がある。そして、パターン位相差フィルムを作製するための手法として、ガラス基板上に毎葉で作製する手法（特許文献１参照）のほか、トリアセチルセルロースのような位相差値の小さい透明樹脂フィルム上に連続で作製する手法（特許文献２参照）が提案されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００５−４９８６５号公報
【特許文献２】特開２０１３−００３３４４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、ガラス基板上に毎葉で作製する手法では、透明樹脂フィルム上に連続で作製する手法に比べて生産性に劣る。一方、透明樹脂フィルム上に連続で作製する手法では、ガラス基板上に毎葉で作製する手法に比べ、透明樹脂フィルムの耐溶剤性の点で使用可能な溶剤が限定される、透明樹脂フィルムの耐熱性によりプロセス温度が制限されるという課題がある。また、透明樹脂フィルム上に連続で作製する手法では、透明樹脂フィルムが有する微少な面内位相差により完全な円偏光とならず光漏れが生じる、透明樹脂フィルムの吸湿及び熱膨張によっていわゆるピッチずれが生じる、位相差層として用いられる液晶分子がフィルム側に移動することにより位相差値が変わるという課題を有する。ピッチずれが生じる場合、右目用画像及び左目用画像がそれぞれ左目用のλ／４板および右目用のλ／４板の両方を通過することによるクロストークという現象が発生し、三次元画像を正確に視認できない。また、位相差値が変動することにより、円偏光が楕円偏光となり右目用及び左目用画像を分離できなくなる。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明者は、上記課題を解決するために、鋭意研究を重ねたところ、長尺ガラスフィルムを基材とする長尺パターン位相差フィルムがロール状に巻き取られた長尺パターン位相差フィルム巻取体を提供することで、ガラス基板上に毎葉で作製する手法と、透明樹脂フィルム上に連続で作製する手法との両方の利点が得られることを見出し、本発明を完成するに至った。具体的には、本発明では、以下のようなものを提供する。
【０００８】
（１）本発明は、長尺ガラスフィルムを基材とする長尺パターン位相差フィルムがロール状に巻き取られた長尺パターン位相差フィルム巻取体である。
【０００９】
（２）また、本発明は、前記長尺パターン位相差フィルムが、前記長尺ガラスフィルムと、この長尺ガラスフィルム上に形成され、配向パターンが形成されているパターン配向層と、このパターン配向層上に形成され、前記配向パターンに沿って配列される位相差層とを含む、（１）に記載の長尺パターン位相差フィルム巻取体である。
【００１０】
（３）また、本発明は、前記位相差層が重合性液晶組成物の硬化物を含有する、（２）に記載の長尺パターン位相差フィルム巻取体である。
【発明の効果】
【００１１】
本発明によれば、生産効率と品質との両方に優れたパターン位相差フィルムを提供できる。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】本発明に係る長尺パターン位相差フィルム巻取体１を示す外観概略図である。
【図２】本発明に係る長尺パターン位相差フィルム巻取体１から引き出された長尺パターン位相差フィルム２を示す概略断面図である。
【図３】本発明に係る長尺パターン位相差フィルム巻取体の製造方法の一例を示す概略図である。
【図４】光配向方式によって配向パターンを形成する手法を模式的に示した図である。
【図５】パッシブ方式による三次元画像表示の説明に供する図である。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
以下、本発明の具体的な実施形態について、詳細に説明するが、本発明は、以下の実施形態に何ら限定されるものではなく、本発明の目的の範囲内において、適宜変更を加えて実施することができる。
【００１４】
＜長尺パターン位相差フィルム巻取体１＞
図１は、本実施形態の製造方法によって得られる長尺パターン位相差フィルム巻取体１を示す外観概略図であり、図２は、この長尺パターン位相差フィルム巻取体１から引き出された長尺パターン位相差フィルム２を示す概略断面図である。
【００１５】
長尺パターン位相差フィルム巻取体１は、長尺ガラスフィルム１１を基材とし、ロール状に巻き取られている。また、長尺パターン位相差フィルム２は、長尺ガラスフィルム１１と、この長尺ガラスフィルム１１上に形成され、配向パターンが形成されているパターン配向層１２と、このパターン配向層１２上に形成され、上記配向パターンに沿って配列される位相差層１３とを含む。
【００１６】
［長尺ガラスフィルム１１］
長尺ガラスフィルム１１は、オーバーフローダウンドロー法により成形された厚み１〜６００μｍ（好ましくは１〜３００μｍ、更に好ましくは１０〜２００μｍ）の長尺体である。このような厚みに設定した理由は、当該数値範囲の厚みであれば、ガラスフィルム２に対して適度な可撓性と強度を付与することができ、巻取り時において支障を来たすことがないためである。換言すれば、ガラスフィルム２の厚みが１μｍ未満であると、強度不足によって取り扱いが面倒になり、ガラスフィルム２の厚みが６００μｍを超えると、可撓性が不十分となって巻取り半径を不当に大きくせざるを得なくなるという不具合が生じるためである。
【００１７】
長尺ガラスフィルム１１のガラス組成としては、シリカガラスやホウケイ酸ガラスなどのケイ酸塩ガラスなどの種々のガラス組成を使用することができるが、無アルカリガラスであることが好ましい。これは、ガラスフィルム２にアルカリ成分が含有されていると、所謂ソーダ吹きと称される現象が生じて構造的に粗となり、長尺ガラスフィルム１１を湾曲させた場合に、経年劣化により構造的に粗となった部分から破損が生じるおそれがあるためである。なお、ここでいう無アルカリガラスとは、アルカリ成分を実質的に含有していないガラスのことであって、具体的には、アルカリ金属酸化物が１０００ｐｐｍ以下（好ましくは５００ｐｐｍ以下、より好ましくは３００ｐｐｍ以下）であることをいう。
【００１８】
［パターン配向層１２］
パターン配向層１２は、２種類の配向パターンを交互に有する。本実施形態において、配向パターンは、偏光照射により光配向性を発揮する光配向材料を用いて光照射によって配向させる光配向方式によって形成されてもよいし、紫外線硬化樹脂を長尺ガラスフィルム１１に塗布し、この紫外線硬化樹脂の表面に対し、微細な凹凸形状からなる配向パターンが付された賦型用金型を用いて配向パターンを転写し、その後、紫外線硬化樹脂を硬化させる賦型ＵＶ方式によって形成されてもよい。
【００１９】
〔パターン配向層用組成物〕
光配向方式によってパターン配向層１２を形成する場合、パターン配向層１２は、以下に説明するパターン配向層用組成物を含有する。このパターン配向層用組成物は、偏光照射により光配向性を発揮する光配向材料を含有する。
【００２０】
光配向材料とは、偏光紫外線の照射により配向規制力を発現できる材料をいう。配向規制力とは、光配向材料を含む配向層を形成し、この配向層上に棒状化合物からなる層を形成したとき、棒状化合物を所定の方向に配列させる機能をいう。
【００２１】
光配向材料は、偏光を照射することにより上記配向規制力を発現するものであれば特に限定されるものではない。このような光配向材料はシス−トランス変化によって分子形状のみを変化させて配向規制力を可逆的に変化させる光異性化材料と、偏光を照射することにより分子そのものを変化させる光反応材料とに大別することができる。本発明においては上記光異性化材料及び上記光反応材料のいずれであっても好適に用いることができるが、光反応材料を用いることがより好ましい。光反応材料は、偏光が照射されることによって分子が反応して配向規制力を発現するものであるため、不可逆的に配向規制力を発現することが可能になる。したがって、光反応材料の方が配向規制力の経時安定性において優れるからである。
【００２２】
上記光反応材料は、偏光照射によって生じる反応の種類によってさらに分別することができる。具体的には、光二量化反応を生じることによって配向規制力を発現する光二量化型材料、光分解反応を生じることによって配向規制力を発現する光分解型材料、光結合反応を生じることによって配向規制力を発現する光結合型材料、及び光分解反応と光結合反応とを生じることによって配向規制力を発現する光分解−結合型材料等に分けることができる。本発明においては上記光反応材料のいずれであっても好適に用いることができるが、安定性及び反応性（感度）等の観点から光二量化型材料を用いることがより好ましい。
【００２３】
光二量化型材料は、光二量化反応を生じることにより配向規制力を発現できる材料であれば特に限定されないが、配向規制力が良好である点から、光二量化反応を生じる光の波長が２８０ｎｍ以上であることが好ましく、２８０ｎｍ〜４００ｎｍの範囲内であることがより好ましく、３００ｎｍ〜３８０ｎｍの範囲内であることがさらに好ましい。
【００２４】
このような光二量化型材料として、シンナメート、クマリン、ベンジリデンフタルイミジン、ベンジリデンアセトフェノン、ジフェニルアセチレン、スチルバゾール、ウラシル、キノリノン、マレインイミド、又はシンナミリデン酢酸誘導体を有するポリマーが挙げられる。中でも、配向規制力が良好である点で、シンナメート、クマリンの一方又は両方を有するポリマーが好ましく用いられる。このような光二量化型材料の具体例としては、例えば特開平９−１１８７１７号公報、特表平１０−５０６４２０号公報、特表２００３−５０５５６１号公報及びＷＯ２０１０／１５０７４８号公報に記載された化合物を挙げることができる。
【００２５】
なお、本発明に用いられる光配向材料は、１種類のみであってもよく、２種類以上を用いてもよい。
【００２６】
［位相差層１３］
位相差層１３は、重合性液晶組成物の硬化物を含有する。重合性液晶組成物は、液晶性を示し分子内に重合性官能基を有する棒状化合物を含む。位相差層１３は、上記配向パターンに沿って形成されるため、右目用の領域に対応する第１位相差領域１３Ａと、左目用の領域に対応する第２位相差領域１３Ｂとを有する。
【００２７】
（棒状化合物）
棒状化合物は、屈折率異方性を有し、上記配向パターンに沿って規則的に配列することにより、所望の位相差性を付与する機能を有する。棒状化合物として、例えば、ネマチック相、スメクチック相等の液晶相を示す材料が挙げられるが、他の液晶相を示す液晶化合物と比較して規則的に配列させることが容易である点で、ネマチック相を示す棒状化合物を用いることがより好ましい。
【００２８】
上記ネマチック相を示す棒状化合物として、メソゲン両端にスペーサを有する材料を用いることが好ましい。メソゲン両端にスペーサを有する棒状化合物は柔軟性に優れるため、このような棒状化合物を用いることにより、長尺パターン位相差フィルム２を透明性に優れたものにすることができる。
【００２９】
棒状化合物は、分子内に重合性官能基を有する。重合性官能基を有することにより、棒状化合物を重合して固定することが可能になるため、配列安定性に優れ、位相差性の経時変化が生じにくくなる。また、棒状化合物は、分子内に三次元架橋可能な重合性官能基を有することがより好ましい。三次元架橋可能な重合性官能基を有することにより、配列安定性をいっそう高めることができる。なお、「三次元架橋」とは、液晶性分子を互いに三次元に重合して、網目（ネットワーク）構造の状態にすることをいう。
【００３０】
上記重合性官能基としては、例えば、紫外線、電子線等の電離放射線、あるいは熱の作用によって重合する重合性官能基を挙げることができる。これら重合性官能基の代表例としては、ラジカル重合性官能基、あるいはカチオン重合性官能基等が挙げられる。さらにラジカル重合性官能基の代表例としては、少なくとも１つの付加重合可能なエチレン性不飽和二重結合を持つ官能基が挙げられ、具体例としては、置換基を有するもしくは有さないビニル基、アクリレート基（アクリロイル基、メタクリロイル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基を包含する総称）等が挙げられる。また、上記カチオン重合性官能基の具体例としては、エポキシ基等が挙げられる。その他、重合性官能基としては、例えば、イソシアネート基、不飽和３重結合等が挙げられる。中でも、プロセス上の点から、エチレン性不飽和二重結合を持つ官能基が好適に用いられる。
【００３１】
さらにまた、棒状化合物は、末端に上記重合性官能基を有するものが特に好ましい。このような棒状化合物を用いることにより、例えば、互いに三次元に重合して、網目（ネットワーク）構造の状態にすることができるため、列安定性を備え、かつ、光学特性の発現性に優れた上記を形成できるからである。なお、本発明においては片末端に重合性官能基を有する棒状化合物を用いた場合であっても、他の分子と架橋して配列安定化することができる。
【００３２】
本発明に用いられる棒状化合物の具体例としては、下記式（１）〜（１６）で表される化合物を例示できる。
【００３３】
【化１】
2014153539.tif 000003
2014153539.tif 000004
【００３４】
棒状化合物の量は、パターン配向層１２上に塗布する塗布方法に応じて、位相差層形成用塗工液の粘度を所望の値にできるものであれば特に限定されないが、上記塗工液中、５質量部〜４０質量部の範囲内であることが好ましく、１０質量部〜３０質量部の範囲内であることがより好ましい。５質量部未満であると、位相差形成層用塗工液の粘度が低くなり、乾燥の初期段階において膜厚むらが生じる可能性があるため、好ましくない。３０質量部を超えると、位相差層形成用塗工液の粘度が高くなりすぎるため、作業性が劣るため、好ましくない。
【００３５】
棒状化合物は、１種類のみを用いてもよく、２種以上を混合して用いてもよい。例えば、棒状化合物として、両末端に重合性官能基を１つ以上有する棒状化合物と、片末端に重合性官能基を１つ以上有する棒状化合物とを混合して用いると、両者の配合比の調整により重合密度（架橋密度）及び光学特性を任意に調整できる点から好ましい。また、信頼性確保の観点からは、両末端に重合性官能基を１つ以上有する棒状化合物が好ましいが、配向層との密着性の観点からは両末端の重合性官能基が１つであることが好ましい。
【００３６】
（溶媒）
上記した棒状化合物は、通常溶媒に溶かされている。溶媒は、棒状化合物を均一に分散できるものであれば特に限定されるものではなく、例えば、ベンゼン、ヘキサン等の炭化水素系溶媒、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン（以下「ＣＨＮ」という。）等のケトン系溶媒、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン、プロピレングリコールモノエチルエーテル（ＰＧＭＥ）等のエーテル系溶媒、クロロホルム、ジクロロメタン等のハロゲン化アルキル系溶媒、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等のエステル系溶媒、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等のアミド系溶媒、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド系溶媒、シクロヘキサン等のアノン系溶媒、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール（以下「ＩＰＡ」という。）等のアルコール系溶媒を例示することができるが、これらに限られるものではない。また、溶媒は、１種類であってもよいし、２種類以上の溶媒の混合溶媒であってもよい。
【００３７】
溶媒の量は、棒状化合物１００質量部に対して６６質量部以上９００質量部以下であることが好ましい。６６質量部未満であると、棒状化合物を均一に塗工溶かすことができない可能性がある点で好ましくない。９００質量部を超えると、溶媒の一部が残存し、信頼性が低下する可能性、及び均一に塗工できない可能性がある点で好ましくない。
【００３８】
（他の化合物）
重合性液晶組成物は、必要に応じて他の化合物を含むものであっても良い。他の化合物は、上記した棒状化合物の配列秩序を害するものでなければ特に限定されるものではなく、例えば、重合開始剤、重合禁止剤、可塑剤、界面活性剤及びシランカップリング剤等を挙げることができる。
【００３９】
（重合開始剤）
重合開始剤として、例えば、ベンゾフェノン、ｏ−ベンゾイル安息香酸メチル、４，４−ビス（ジメチルアミン）ベンゾフェノン、４，４−ビス（ジエチルアミン）ベンゾフェノン、α−アミノ・アセトフェノン、４，４−ジクロロベンゾフェノン、４−ベンゾイル−４−メチルジフェニルケトン、ジベンジルケトン、フルオレノン、２，２−ジエトキシアセトフェノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオフェノン、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルジクロロアセトフェノン、チオキサントン、２−メチルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、ジエチルチオキサントン、ベンジルジメチルケタール、ベンジルメトキシエチルアセタール、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインブチルエーテル、アントラキノン、２−ｔｅｒｔ−ブチルアントラキノン、２−アミルアントラキノン、β−クロルアントラキノン、アントロン、ベンズアントロン、ジベンズスベロン、メチレンアントロン、４−アジドベンジルアセトフェノン、２，６−ビス（ｐ−アジドベンジリデン）シクロヘキサン、２，６−ビス（ｐ−アジドベンジリデン）−４−メチルシクロヘキサノン、２−フェニル−１，２−ブタジオン−２−（ｏ−メトキシカルボニル）オキシム、１−フェニル−プロパンジオン−２−（ｏ−エトキシカルボニル）オキシム、１，３−ジフェニル−プロパントリオン−２−（ｏ−エトキシカルボニル）オキシム、１−フェニル−３−エトキシ−プロパントリオン−２−（ｏ−ベンゾイル）オキシム、ミヒラーケトン、２−メチル−１［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノプロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン、ナフタレンスルホニルクロライド、キノリンスルホニルクロライド、ｎ−フェニルチオアクリドン、４，４−アゾビスイソブチロニトリル、ジフェニルジスルフィド、ベンズチアゾールジスルフィド、トリフェニルホスフィン、カンファーキノン、アデカ社製Ｎ１７１７、四臭化炭素、トリブロモフェニルスルホン、過酸化ベンゾイン、エオシン、メチレンブルー等の光還元性色素とアスコルビン酸やトリエタノールアミンのような還元剤との組み合わせ等を例示できる。本実施形態では、これらの光重合開始剤を１種又は２種以上を組み合わせて用いることができる。
【００４０】
光重合開始剤は、液晶の配向を大きく損なわない範囲で添加することが必要であり、重合性液晶組成物１００質量部に対し、０．０１〜１５質量部であることが好ましく、０．１〜１２質量部であることがより好ましく、０．１〜１０質量部であることがさらに好ましく、０．５〜１０質量部であることがよりさらに好ましい。
【００４１】
また、重合開始剤のほか、重合開始助剤を併用してもよい。重合開始助剤として、トリエタノールアミン、メチルジエタノールアミン等の３級アミン類や、２−ジメチルアミノエチル安息香酸、４−ジメチルアミド安息香酸エチル等の安息香酸誘導体を例示することができるが、これらに限られるものではない。
【００４２】
（重合禁止剤）
重合禁止剤は、重合性液晶組成物の保存安定性を高めるために用いられる。重合禁止剤として、例えば、ジフェニルピクリルヒドラジド、トリ−ｐ−ニトロフェニルメチル，ｐ−ベンゾキノン、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルカテコール、ピクリン酸、塩化銅、メチルハイドロキノン、メトキノン、ｔｅｒｔ−ブチルハイドロキノン等の反応の重合禁止剤を用いることができるが、保存安定性の点から、ハイドロキノン系重合禁止剤が好ましく、メチルハイドロキノンを用いるのが特に好ましい。
【００４３】
（界面活性剤）
界面活性剤は、重合性液晶組成物の動的表面張力を調整し、位相差層１３の横スジムラを抑制するために用いられる。
【００４４】
界面活性剤の例として、フッ素系界面活性剤が挙げられる。フッ素系界面活性剤としては、末端、主鎖及び側鎖の少なくともいずれかの部位にフルオロアルキル基あるいはフルオロアルキレン基を有する化合物が好ましく、その具体例としては、１，１，２，２−テトラフロロオクチル（１，１，２，２−テトラフルオロ−ｎ−プロピル）エーテル、１，１，２，２−テトラフルオロ−ｎ−オクチル（ｎ−ヘキシル）エーテル、オクタエチレングリコールジ（１，１，２，２−テトラフルオロ−ｎ−ブチル）エーテル、ヘキサエチレングリコール（１，１，２，２，３，３−ヘキサフルオロ−ｎ−ペンチル）エーテル、オクタプロピレングリコールジ（１，１，２，２−テトラフルオロ−ｎ−ブチル）エーテル、ヘキサプロピレングリコールジ（１，１，２，２，３，３−ヘキサフルオロ−ｎ−ペンチル）エーテル、１，１，２，２，３，３−ヘキサフルオロ−ｎ−デカン、１，１，２，２，８，８，９，９，１０，１０−デカフルオロ−ｎ−ドデカン、パーフルオロ−ｎ−ドデシルスルホン酸ナトリウムや、フルオロアルキルベンゼンスルホン酸ナトリウム、フルオロアルキルホスホン酸ナトリウム、フルオロアルキルカルボン酸ナトリウム等のアニオン系界面活性剤、フルオロアルキルポリオキシエチレンエーテル、ジグリセリンテトラキス（フルオロアルキルポリオキシエチレンエーテル）、パーフルオロアルキルポリオキシエタノール、パーフルオロアルキルアルコキシレート、フッ素系アルキルエステル等のノニオン系界面活性剤、フルオロアルキルアンモニウムヨージド等のカチオン系界面活性剤、フルオロアルキルベタイン等の両性界面活性剤を挙げることができる。
【００４５】
フッ素系界面活性剤の市販品としては、商品名で、例えば、ＢＭ−１０００、同−１１００（以上、ＢＭ  ＣＨＥＭＩＥ社製）、メガファックＦ１４２Ｄ、同Ｆ１７２、同Ｆ１７３、同Ｆ１８３、同Ｆ１７８、同Ｆ１９１、同Ｆ４４４、同Ｆ４７１、同Ｆ４７５、同Ｆ４７６、同Ｆ４７７、同Ｆ５５３、同Ｆ５５４（以上、ＤＩＣ社製）、フロラードＦＣ−１７０Ｃ、同ＦＣ−１７１、同ＦＣ−４３０、同ＦＣ−４３１（以上、住友スリーエム社製）、サーフロンＳ−１１２、同Ｓ−１１３、同Ｓ−１３１、同Ｓ−１４１、同Ｓ−１４５、同Ｓ−３８２、同ＳＣ−１０１、同ＳＣ−１０２、同ＳＣ−１０３、同ＳＣ−１０４、同ＳＣ−１０５、同ＳＣ−１０６（以上、旭硝子社製）、エフトップＥＦ３０１、同ＥＦ３０３、同ＥＦ３５２（以上、新秋田化成社製）、フタージェントＦＴ−１００、同ＦＴ−１１０、同ＦＴ−１４０Ａ、同ＦＴ−１５０、同ＦＴ−２５０、同ＦＴ−２５１、同ＦＴＸ−２５１、同ＦＴＸ−２１８、同ＦＴ−３００、同ＦＴ−３１０、同ＦＴ−４００Ｓ（以上、ネオス社製）等を挙げることができる。
【００４６】
フッ素系界面活性剤は、液晶の配向を大きく損なわない範囲で添加することが好ましく、重合性液晶組成物１００質量部に対して０．０１〜５質量部となるように添加することが好ましい。０．０１質量部以上となる量を添加することにより液晶組成物に十分な塗工性を付与することができ、横スジムラの良好な防止効果が発揮される。また添加量を５質量部以下とすることによって、位相差層１３中の液晶に配向不良が生じることを抑制できる。
【００４７】
＜長尺パターン位相差フィルム巻取体１の製造方法＞
以下では、光配向方式によって形成する場合における長尺パターン位相差フィルム巻取体１の製造方法について説明するが、長尺パターン位相差フィルム巻取体１は、賦型ＵＶ方式によって形成されたものであってもよい。
【００４８】
図３は、光配向方式による長尺パターン位相差フィルム巻取体１の製造方法を示す。まず、（Ａ）長尺ガラスフィルム１１がロール状に巻き取られた長尺ガラスフィルム巻取体３１を提供する長尺ガラスフィルム巻取体提供処理を行う。続いて、（Ｂ）長尺ガラスフィルム巻取体３１から長尺ガラスフィルム１１を提供し、この長尺ガラスフィルム１１上にパターン配向層用組成物３２を塗工する組成物塗工処理を行う。続いて、（Ｃ）この組成物を乾燥機３３で熱硬化させて薄膜状のパターン配向層形成用層１２’を形成するパターン配向層形成用層形成処理を行う。続いて、（Ｄ）パターン配向層形成用層１２’に対して紫外線照射装置３４，３５から紫外線を照射する紫外線照射処理を行う。これら（Ａ）〜（Ｄ）の処理によってパターン配向層１２が形成される。
【００４９】
続いて、（Ｅ）位相差層形成用の重合性液晶組成物を含有する位相差層形成用塗工液の供給装置３６から位相差層形成用塗工液１３’を塗工し、位相差層形成用層を形成する位相差層形成用塗工液塗工処理を行う。その後、（Ｆ）レベリング装置３７を用いて、位相差層形成用層の層厚を均一にするレベリング処理を行う。その後、（Ｇ）乾燥機３８を用いて位相差層形成用塗工液の塗膜に含まれる棒状化合物を液晶相形成温度以上に加温することで、上記パターン配向層１２が有する、右目用の領域に対応する第１配向領域１２Ａと、左目用の領域に対応する第２配向領域１２Ｂとの異なる配向方向に沿って、棒状化合物を配列させる配向処理を行う。この配向処理によって位相差層形成用層は、位相差層１３となる。
【００５０】
その後、（Ｈ）冷却機３９を用いて、長尺ガラスフィルム１１／パターン配向層１２／位相差層１３からなる積層体を冷却する冷却処理を行い、（Ｉ）紫外線照射装置４０を用いて、重合性棒状化合物に紫外線を照射する。そして、（Ｊ）フィルムを巻き取りリールに巻き取る。上記の工程を経て長尺パターン位相差フィルム巻取体１が作製される。
【００５１】
［（Ａ）長尺ガラスフィルム巻取体提供処理］
長尺ガラスフィルム１１の巻取体は、次の方法によって提供できる。まず、オーバーフローダウンドロー法、スロットダウンドロー法、リドロー法などのダウンドロー法を実行する成形装置によって、ガラスフィルムを製造する。次に、製造されたガラスフィルムを成形装置から下方に誘導しながら、その搬送経路途中でローラ群等によって略水平方向に湾曲させる。その後、略水平方向に湾曲させたガラスフィルムをその姿勢を維持したまま、ベルトコンベアなどの搬送装置によって下流側に搬送する。そして、最後に搬送経路の下流端で、搬送装置によって搬送されてくるガラスフィルムを巻芯の周りに連続的に巻き取る。
【００５２】
例えば、次のように製造すればよい。まず、ガラスフィルムの元となるガラスとして、日本電気硝子株式会社製のＯＡ−１０Ｇ（引張弾性率７３ＧＰａ）を用い、このガラスをオーバーフローダウンドロー法により厚さ５０μｍに成形し、幅８００ｍｍ、長さ１５ｍにレーザー割断（フルボディー割断）する。そして、ガラスフィルムを、所定の外径を有し、厚さが１０ｍｍ、軸方向長さが１０００ｍｍである塩化ビニル製の管に巻き取る。
【００５３】
［（Ｂ）組成物塗工処理］
続いて、長尺ガラスフィルム巻取体３１から長尺ガラスフィルム１１を提供し、この長尺ガラスフィルム１１上にパターン配向層用組成物３２を塗工する組成物塗工処理を行う。
【００５４】
〔長尺ガラスフィルム１１の提供〕
長尺ガラスフィルム１１の提供にあたっては、長尺フィルムを連続的に搬送できるものであれば、特に限定されるものではなく、一般的な搬送手段を用いる方法を用いることができる。具体的には、ロール状の長尺フィルムを供給する巻き出し機及び長尺フィルムを巻き取る巻き取り機等を用いる方法、ベルトコンベア、搬送用ロール等を用いる方法を挙げることができる。また、エアの吐出と吸引とを行うことにより、長尺配向膜形成用フィルムを浮上させた状態で搬送する浮上式搬送台を用いる方法であっても良い。
【００５５】
また、搬送時の長尺ガラスフィルム１１へのテンション付与の有無については、長尺ガラスフィルム１１を安定的に連続搬送できる方法であれば特に限定されるものではないが、所定のテンションを加えた状態で搬送されることが好ましい。より安定的に連続搬送することができるからである。
【００５６】
搬送手段の色としては、長尺ガラスフィルム１１に紫外線が照射される部位に配置される場合には、長尺ガラスフィルム１１を透過した紫外線を反射しない色であることが好ましい。具体的には、黒色であることが好ましい。このような黒色とする方法としては、例えば、表面をクロム処理する方法を挙げることができる。
【００５７】
〔パターン配向層用組成物３２の塗工〕
パターン配向層用組成物３２を塗工するにあたり、本実施形態では、グラビアコートの手法を適用してパターン配向層用組成物３２を塗工しているが、これに限るものではない。具体的には、グラビアコート法のほか、リバースコート法、ナイフコート法、ディップコート法、スプレーコート法、エアーナイフコート法、スピンコート法、ロールコート法、プリント法、浸漬引き上げ法、カーテンコート法、ダイコート法、キャスティング法、バーコート法、エクストルージョンコート法、Ｅ型塗布方法等を用いることができる。
【００５８】
パターン配向層形成用層１２’の厚さは、所望の平面性を達成できる範囲内であれば特に限定されるものではないが、０．１μｍ〜１０μｍの範囲内であることが好ましく、０．１μｍ〜５μｍの範囲内であることがより好ましく、０．１μｍ〜３μｍの範囲内であることがさらに好ましい。
【００５９】
［（Ｃ）パターン配向層形成用層形成処理］
パターン配向層形成用層形成処理では、乾燥機３３を用いてパターン配向層用組成物を熱硬化させる。この処理では、パターン配向層用組成物３２が塗工された長尺ガラスフィルム１１を乾燥機３３に導き、ここでパターン配向層用組成物を熱硬化させた後、次の工程に送出する。
【００６０】
パターン配向層用組成物の硬化温度は、１００℃以上１８０℃以下であることが好ましい。１００℃未満であると組成物を均一に熱硬化できず、薄膜が不均一になる可能性がある点で好ましくない。１８０℃を超えると、薄膜が収縮する可能性があるため、好ましくない。
【００６１】
パターン配向層用組成物の硬化時間は、１分以上１０分未満であることが好ましい。１分未満であると、熱硬化できず、薄膜が不均一になる可能性がある点で好ましくない。１０分を超えると、ハジキや欠点が発生する可能性や、薄膜が収縮する可能性があるため、好ましくない。
【００６２】
［（Ｄ）紫外線照射処理］
続いて、パターン配向層形成用層１２’に対して紫外線を照射する紫外線照射処理について、図４を参照しながら詳しく説明する。
まず、図４の（Ａ）に示すように、右目用の領域に対応する第１配向準備領域１２’Ａを遮光せず、左目用の領域に対応する第２配向準備領域１２’Ｂだけを遮光したマスク２１を介して、直線偏光による紫外線（偏光紫外線）をパターン配向層形成用層１２’に向けて照射することにより、遮光されていない第１配向準備領域１２’Ａを所望の方向に配向させる。続いて、図４の（Ｂ）に示すように、第１配向準備領域１２’Ａだけを遮光し、第２配向準備領域１２’Ｂを遮光しないマスク２２を介して、１回目の照射とは偏光方向が９０度異なる直線偏光により紫外線をパターン配向層形成用層１２’に向けて照射し、遮光されていない第２配向準備領域１２’Ｂを所望の方向に配向させる。これら２回の紫外線照射により、２種類の配向パターンが形成される。
【００６３】
図４の例では、まず第１配向準備領域１２’Ａに偏光紫外線を照射し、その後、第２配向準備領域１２’Ｂに偏光紫外線を照射しているが、この順番に限るものではなく、まず第２配向準備領域１２’Ｂに偏光紫外線を照射し、その後、第１配向準備領域１２’Ａに偏光紫外線を照射してもよい。
【００６４】
また、図４では、１回目の照射及び２回目の照射の両方でマスク２１，２２を用いているが、１回目の照射だけでマスク２１を用い、２回目の照射ではマスク２２を用いない手法もある。この場合、まず、第１配向準備領域１２’Ａを遮光せず、第２配向準備領域１２’Ｂだけを遮光したマスク２１を介して、直線偏光による紫外線（偏光紫外線）をパターン配向層形成用層１２’に向けて照射することにより、遮光されていない第１配向準備領域１２’Ａを所望の方向に配向させる。続いて、１回目の照射とは偏光方向が９０度異なる直線偏光により紫外線をパターン配向層形成用層１２’の全面に照射し、１回目の照射では未露光の第２配向準備領域１２’Ｂを所望の方向に配向させる。また、１回目の照射ではマスク２１を用いず、２回目の照射だけでマスク２２を用いる手法もある。この場合、まず直線偏光による紫外線をパターン配向層形成用層１２’の全面に照射し、全面を所望の方向に配向させる。続いて、第１配向準備領域１２’Ｂを遮光せず、第２配向準備領域１２’Ａだけを遮光したマスク２２を介して、１回目の照射とは偏光方向が９０度異なる直線偏光をパターン配向層形成用層１２’に向けて照射することにより、遮光されていない第１配向準備領域１２Ｂ’を所望の方向に配向させる。
【００６５】
マスクのパターン、すなわち、パターン照射のパターンは、右目用の領域に対応する第１配向領域１２Ａ（図２参照）と、左目用の領域に対応する第２配向領域１２Ｂ（同）とを安定的に形成できるものであれば特に限定されるものではなく、例えば帯状パターン、モザイク状パターン、千鳥配置状パターン等を挙げることができる。中でも、帯状のパターンであることが好ましく、特に、長尺フィルムの長手方向に互いに平行な帯状のパターンであること、すなわち、パターン照射が、長尺フィルムの長手方向に互いに平行な帯状のパターンに偏光紫外線を照射するものであることが好ましい。偏光紫外線の照射位置を固定し、長尺フィルムを長手方向に搬送することで容易に形成できるからである。また、精度良くパターン状に照射できるからである。また、位相差層１３における、右目用の領域に対応する第１位相差領域１３Ａ及び左目用の領域に対応する第２位相差領域１３Ｂが形成されているパターンと、表示装置に用いられるカラーフィルタ等において画素が形成されているパターンとを対応関係にすることが容易になるからである。
【００６６】
マスクのパターン幅、すなわち、偏光紫外線の照射幅及び照射間隔（非照射幅）としては、同一であってもよく、あるいは異なっていてもよいが、右目用の領域に対応する領域の幅と左目用の領域に対応する領域との幅は同一であることが好ましい。位相差層１３における第１位相差領域１３Ａ及び第２位相差領域１３Ｂが形成されているパターンと、画素部が形成されているパターンとを対応関係にすることが容易になり、その結果、フラットパネルディスプレイを容易に製造できるからである。カラーフィルタのストライプラインと位置を合わせる場合は、右目用の領域に対応する領域及び左目用の領域に対応する領域が形成されたパターンと、上記カラーフィルタのストライプパターンとを対応関係となるような幅で照射されることが好ましい。
【００６７】
三次元表示用途の場合、パターン幅は、５０μｍ〜１０００μｍの範囲内であることが好ましく、１００μｍ〜８００μｍの範囲内であることがより好ましい。なお、ここでいうパターン幅は、長尺ガラスフィルム１１が安定収縮状態である場合の、パターン配向層１２のパターン幅を指す。
【００６８】
マスクを構成する材料としては、所望の開口部を形成できるものであれば特に限定されるものではないが、紫外線による劣化がほとんどない金属や石英等を挙げることができる。具体的には、ＳＵＳ等の金属基板をエッチング加工、レーザー加工、又は電鋳加工によりパターンニングし、さらに必要に応じてニッケルメッキ等の表面処理を施したものを用いることができる。また、ソーダライムガラスや石英からなる基板上に、エマルジョン（銀塩）や、クロムからなる遮光膜を有するものとすることができる。
【００６９】
中でも、合成石英にＣｒをパターニングしたものであることが好ましい。温度・湿度変化等に対する寸法安定性と紫外線透過率とに優れ、パターン配向層用組成物の硬化物からなるパターン配向層形成用層１２’に精度良く紫外線を照射でき、結果として精度の高いパターン配向層１２を形成できるからである。
【００７０】
合成石英マスクの厚さとしては、寸法精度良くパターンを形成できるものであれば特に限定されるものではないが、１ｍｍ〜２０ｍｍの範囲内であることが好ましく、５ｍｍ〜１８ｍｍの範囲内であることがより好ましく、９ｍｍ〜１６ｍｍの範囲内であることがさらに好ましい。厚さが上述の範囲内であることにより、たわまないものとすることができ、寸法精度の高いものとすることができるとともに、フォトマスクとしてハンドリングする際に重過ぎることがないからである。
【００７１】
偏光紫外線の偏光方向は、右目用の領域に対応する領域に対する偏光方向と、左目用の領域に対応する領域に対する偏光方向とが異なるものであれば特に限定されるものではないが、両者の間で９０°異なるものであることが好ましい。第１位相差領域１３Ａと第２位相差領域１３Ｂとの間で屈折率が最も大きくなる方向（遅相軸方向）を互いに直交する関係とすることができることから、三次元表示が可能な表示装置をより好適に製造できるためである。
【００７２】
９０°異なる方向とは、長尺位相差フィルム２を切り出した位相差フィルムを用いて三次元表示が可能な表示装置を形成した際に、精度良く三次元表示を行うことができるものであれば特に限定されるものではないが、通常、９０°±３°の範囲内であることが好ましく、９０°±２°程度の範囲内であることがより好ましく、９０°±１°程度の範囲内であることがさらに好ましい。高性能な三次元表示が可能な表示装置とすることができるからである。
【００７３】
偏光紫外線は、集光されていても良いし、集光されていないものであっても良いが、パターン照射が搬送用ロール上の長尺フィルムに対して行われるような場合、すなわち、偏光紫外線が照射される領域内で、偏光紫外線の光源からの距離の差が生じる場合には、搬送方向に対して集光されていることが好ましい。光源からの距離による影響を低減し、パターン精度良く配向領域を形成することができるからである。
【００７４】
集光方法としては、一般的に用いられる方法、例えば、所望の形状を有する集光リフレクターや集光レンズを用いる方法を挙げることができる。本発明においては、偏光紫外線が搬送方向と直交する方向（幅方向）に対して平行光となるものであることが好ましく、平行化方法としては一般的に用いられる方法、例えば、所望の形状を有する集光リフレクターや集光レンズを用いる方法を挙げることができる。
【００７５】
偏光紫外線の波長は、光配向材料等に応じて適宜設定されるものであり、一般的な光配向材料に配向規制力を発現させる際に用いられる波長とすることができ、具体的には、波長が２１０ｎｍ〜３８０ｎｍ、好ましくは２３０ｎｍ〜３８０ｎｍ、さらに好ましくは２５０ｎｍ〜３８０ｎｍの照射光を用いることが好ましい。
【００７６】
紫外線の光源としては、低圧水銀ランプ（殺菌ランプ、蛍光ケミカルランプ、ブラックライト）、高圧放電ランプ（高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ）、ショートアーク放電ランプ（超高圧水銀ランプ、キセノンランプ、水銀キセノンランプ）等が例示できる。中でも、メタルハライドランプ、キセノンランプ、高圧水銀ランプ灯等を好ましく用いることができる。
【００７７】
偏光紫外線の生成方法としては、偏光紫外線を安定的に照射できる方法であれば特に限定されるものではないが、一定方向の偏光のみが通過できる偏光子を介して紫外線照射する方法を用いることができる。
【００７８】
このような偏光子としては、偏光光の生成に一般的に用いられるものを使用することができ、例えば、スリット状の開口部を有するワイヤーグリッド型偏光子や、石英板を複数枚積層してブリュースター角を利用して偏光分離する方法や、屈折率の異なる蒸着多層膜のブリュースター角を利用して偏光分離する方法を用いるもの等を挙げることができる。
【００７９】
偏光紫外線の照射量は、所望の配向規制力を有する配向領域を形成できるものであれば特に限定されるものではないが、例えば、波長３１０ｎｍである場合には、５ｍＪ／ｃｍ２〜５００ｍＪ／ｃｍ２の範囲内であることが好ましく、７ｍＪ／ｃｍ２〜３００ｍＪ／ｃｍ２の範囲内であることがより好ましく、１０ｍＪ／ｃｍ２〜１００ｍＪ／ｃｍ２の範囲内であることがさらに好ましい。十分な配向規制力を有する配向領域を形成することができるからである。
【００８０】
偏光紫外線の照射距離、すなわち、偏光紫外線の照射を受ける長尺フィルムの搬送方向の距離としては、各露光処理で上述の照射量とすることができるものであれば特に限定されるものではなく、ライン速度等に応じて適宜設定することができる。照射距離が短い場合には、パターン精度の高いものとすることが容易となり、照射距離が長い場合には、ライン速度の速い場合でも十分な配向規制力を有する配向領域とすることができるといった利点がある。なお、照射距離を長くする方法としては、各露光処理での偏光紫外線の照射回数を複数回としたり、搬送方向に照射面積を広くする方法を挙げることができる。
【００８１】
薄膜に対して偏光紫外線を照射する際、薄膜の温度が一定となるように温度調節することが好ましい。配向領域を精度良く形成することができるからである。薄膜の温度は、１５℃〜９０℃であることが好ましく、１５℃〜６０℃であることがより好ましい。温度調節の方法としては、一般的な加熱・冷却装置等の温度調節装置を用いる方法を挙げることができる。具体的には所定の温度の空気を送風することができる送風装置を用いる方法や、上記搬送手段として、温度調節可能なものを用いる方法、より具体的には、温度調節可能な搬送用ロールやベルトコンベア等を用いる方法を挙げることができる。
【００８２】
［（Ｅ）位相差層形成用塗工液塗工処理］
図３に戻り、位相差層形成用塗工液塗工処理について説明する。本実施形態では、位相差層形成用塗工液の供給装置３９から位相差層形成用塗工液を塗工している。具体的な塗工の方法としては、パターン配向層１２上に位相差層形成用塗工液からなる塗膜を安定的に形成できる方法であれば特に限定されるものではなく、（Ａ）組成物塗工処理で説明したものと同じものを例示できる。
【００８３】
〔位相差層形成用層の厚さ〕
位相差層１３は棒状化合物が含有されることにより、位相差性を発現するものになっているところ、当該位相差性の程度は棒状化合物の種類及び位相差層１３の厚さに依存して決定されるものである。したがって、位相差層形成用層の厚さは、所定の位相差性を達成できる範囲内とするものであれば特に限定されるものではなく、位相差フィルム１の用途等に応じて適宜決定されるものである。
【００８４】
［（Ｆ）レベリング処理］
続いて、レベリング装置３７を用いて、位相差層形成用層の層厚を均一にするレベリング処理を行う。位相差層形成用塗工液からなる位相差層形成用層の厚さは、その後に形成される位相差層１３の面内位相差がλ／４分に相当するような範囲内となるように塗布することが好ましい。これにより、第１位相差領域１３Ａ及び第２位相差領域１３Ｂを通過する直線偏光を、互いに直交関係にある円偏光にすることができ、結果として、より精度良く三次元映像を表示できるためである。
【００８５】
位相差層１３の厚さを位相差層１３の面内位相差がλ／４分に相当するような範囲内の距離にする場合、具体的にどの程度の距離にするかは、棒状化合物の種類により適宜決定されることになる。一般的な棒状化合物を用いる場合、当該距離は０．５μｍ〜２μｍの範囲内となるが、これに限られるものではない。
【００８６】
［（Ｇ）配向処理］
続いて、位相差層形成用塗工液の塗膜に含まれる棒状化合物を、上記パターン配向層１２に含まれる第１配向領域１２Ａ及び第２配向領域１２Ｂの異なる配向方向に沿って、棒状化合物を配列させる。棒状化合物を配列させる方法としては、所望の方向に配列させることができる方法であれば特に限定されるものではなく、例えば、乾燥機３８を用いて棒状化合物を液晶相形成温度以上に加温することが挙げられる。
【００８７】
本処理によって形成される位相差層１３のパターンは、パターン配向層１２のパターンと同一となり、右目用の領域に対応する第１配向領域１２Ａ上には、右目用の領域に対応する第１位相差領域１３Ａが形成され、左目用の領域に対応する第２配向領域１２Ｂ上には、左目用の領域に対応する第２位相差領域１３Ｂが形成される。
【００８８】
［（Ｈ）冷却処理］
その後、冷却機３９を用いて、長尺ガラスフィルム１１／パターン配向層１２／位相差層１３からなる積層体を冷却する冷却処理を行う。冷却処理は、積層体が室温になる程度まで行えばよい。
【００８９】
［（Ｉ）硬化処理］
続いて、重合性棒状化合物を重合し硬化させる硬化処理を行う。重合性棒状化合物を重合させる方法としては、重合性棒状化合物が有する重合性官能基の種類に応じて任意に決定すればよいが、適量の重合開始剤を加えて、活性放射線の照射により硬化させる方法が好ましい。活性放射線としては、重合性棒状化合物を重合することが可能な放射線であれば特に限定されるものではないが、通常は装置の容易性等の観点から紫外光又は可視光を使用することが好ましく、具体的には、パターン配向層１２を形成する際に用いた紫外線と同様とすることができる。このような硬化処理を経ることにより、互いに重合して、網目（ネットワーク）構造の状態にすることができるため、列安定性を備え、かつ、光学特性の発現性に優れた位相差層１３を形成できる。
【００９０】
［（Ｊ）巻取処理］
続いて、フィルムを巻き取りリールに巻き取る。上記の工程を経て長尺パターン位相差フィルム巻取体１が作製される。
【００９１】
本発明によると、パターン位相差フィルムを提供するにあたり、ガラス基板上に毎葉で作製する手法と、透明樹脂フィルム上に連続で作製する手法との両方の利点を得ることができる。すなわち、使用可能な溶剤が限定されない、プロセス温度が制限されない、光漏れを防止できる、基材の熱膨張に起因するピッチずれを抑えられる、位相差層として用いられる液晶分子の基材への移動を防止できる点で、ガラス基板上に毎葉で作製する手法の利点を得ることができる。また、長尺フィルム上に連続で作製できる点で、透明樹脂フィルム上に連続で作製する手法の利点を得ることができる。
【符号の説明】
【００９２】
１    長尺パターン位相差フィルム巻取体
２    パターン位相差フィルム
１１    基材
１２    パターン配向層
１３    位相差層
【図１】
2014153539.tif 000005
【図２】
2014153539.tif 000006
【図３】
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【図４】
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【図５】
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