(57)【要約】      （修正有）【課題】基板搬送装置において、基板の落下を抑制する。【解決手段】基板を搬送するための基板搬送装置は、水平方向に移動可能に構成された搬送ステージＴＳ１と、搬送ステージＴＳ１から鉛直方向上方に向けて突出するように３つ以上設けられた基板載置部５０ｃとを備える。基板載置部５０ｃは、水平方向に対して傾斜し、上方側に向けられた第１傾斜面であって、３つ以上の基板載置部５０ｃの内側において基板を載置するための第１傾斜面５１ｃと、水平方向に対して傾斜し、下方側に向けられた第２傾斜面であって、第１傾斜面の上方に形成された第２傾斜面５２ｃとを備える。【選択図】図６
2014175333.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を搬送するための基板搬送装置であって、
水平方向に移動可能に構成された搬送ステージと、
前記搬送ステージから鉛直方向上方に向けて突出するように３つ以上設けられた基板載置部と
を備え、
前記基板載置部は、
前記水平方向に対して傾斜し、上方側に向けられた第１傾斜面であって、前記３つ以上の基板載置部の内側において前記基板を載置するための第１傾斜面と、
前記水平方向に対して傾斜し、下方側に向けられた第２傾斜面であって、前記第１傾斜面の上方に形成された第２傾斜面と
を備えた基板搬送装置。
【請求項２】
請求項１に記載の基板搬送装置であって、
前記第２傾斜面は、前記第１傾斜面と連続する位置に形成された
基板搬送装置。
【請求項３】
請求項１または請求項２に記載の基板搬送装置であって、
前記３つ以上の基板載置部のうちの任意の２つの前記基板載置部の各々の中心点を通る直線方向において、前記第１傾斜面の下端は、前記第２傾斜面の上端よりも、前記基板が載置される側に位置する
基板搬送装置。
【請求項４】
請求項１ないし請求項３のいずれか一項に記載の基板搬送装置であって、
前記第１傾斜面は、
前記水平方向に対して第１の傾斜角度を有する第３傾斜面と、
前記第３傾斜面よりも上方に形成され、前記第１の傾斜角度よりも大きな第２の傾斜角度を有する第４傾斜面と
を備えた基板搬送装置。
【請求項５】
請求項１ないし請求項４のいずれか一項に記載の基板搬送装置を備えた基板研磨装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板の搬送技術に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体製品の製造工程においては、ウェハなどの基板を搬送するために種々の装置が使用される。例えば、下記の特許文献１では、ＣＭＰ（Chemical Mechanical Polishing）装置において、基板を研磨する研磨ユニットと、研磨後の基板を洗浄する洗浄ユニットとの間で基板を搬送するリニアトランスポータを開示している。このリニアトランスポータは、直線往復移動可能な搬送ステージから上方に突出したピンを複数備えている。このピンは、上方に向かって外径が小さくなる形状を有しており、それによって、水平方向に対して傾斜する傾斜面が形成される。かかるリニアトランスポータは、複数のピンの内側の領域において、傾斜面に基板が載置された状態で搬送ステージを移動させることによって、基板を搬送する。かかるリニアトランスポータによれば、簡単な構成で基板を搬送でき、また、基板の受け渡しも行いやすい。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】ＷＯ２００７／０９９９７６
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
上述したリニアトランスポータでは、基板は、ピンの傾斜面に載置されているに過ぎず、ピンに強固に固定されているわけではない。このため、基板の搬送時の加速度（負の加速度を含む）に起因して、例えば、基板の停止時の衝撃によって、基板の載置位置がずれるおそれがある。かかるずれが大きくなると、すなわち、載置された基板の一端側が、傾斜面に沿って上方に大きくずれると、他端側が傾斜面からずれ落ち、その結果、基板が搬送装置から落下するおそれがある。基板が落下すると、基板を再度載置するための復旧時間が必要になり、製造効率が低下することになる。しかも、落下によって基板が損傷するおそれもある。かかる問題は、上述のリニアトランスポータに限らず、基板を載置した状態で搬送するタイプの基板搬送装置に共通する。このようなことから、基板搬送装置において、基板の落下を抑制することが求められる。なお、基板の脱落を抑制するために、基板の搬送を低速で行い、大きな加速度が生じないようにする対応も可能ではあるが、かかる対応では、搬送に要する時間が増大し、製造効率の低下を招くことになる。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明は、上述の課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、例えば、以下の形態として実現することが可能である。
【０００６】
本発明の第１の形態は、基板を搬送するための基板搬送装置として提供される。この基板搬送装置は、水平方向に移動可能に構成された搬送ステージと、搬送ステージから鉛直方向上方に向けて突出するように３つ以上設けられた基板載置部とを備える。基板載置部は、水平方向に対して傾斜し、上方側に向けられた第１傾斜面であって、３つ以上の基板載置部の内側において基板を載置するための第１傾斜面と、水平方向に対して傾斜し、下方側に向けられた第２傾斜面であって、第１傾斜面の上方に形成された第２傾斜面とを備える。
【０００７】
かかる基板搬送装置によれば、基板載置部に基板を載置して当該基板を搬送する際に、
１つの基板載置部において、基板の一端側が第１傾斜面に沿って上方に向けてずれたとしても、当該一端側が第２傾斜面に当接することによって、当該一端側がそれ以上、上方に向けてずれることがない。その結果、他の基板載置部において、基板の他端側が第１傾斜面からずれ落ちることがない。すなわち、基板の落下を抑制できる。
【０００８】
本発明の第２の形態として、第１の形態において、第２傾斜面は、第１傾斜面と連続する位置に形成されていてもよい。かかる形態によれば、第１の傾斜面と第２の傾斜面との間に、水平方向と直交する方向に広がる面が存在する場合と比べて、基板が上方にずれる範囲を制限できる。その結果、基板の落下をいっそう抑制できる。
【０００９】
本発明の第３の形態として、第１または第２の形態において、３つ以上の基板載置部のうちの任意の２つの基板載置部の各々の中心点を通る直線方向において、第１傾斜面の下端は、第２傾斜面の上端よりも、基板が載置される側に位置していてもよい。かかる形態によれば、基板を水平方向に平行な状態に保持したままで、第２傾斜面の上端が基板と干渉することなく、基板を上方から第１の傾斜面に載置できる。つまり、基板を水平方向に対して傾ける必要がない。したがって、基板の搬送に係る作業性に優れる。
【００１０】
本発明の第４の形態として、第１ないし第３のいずれかの形態において、第１傾斜面は、水平方向に対して第１の傾斜角度を有する第３傾斜面と、第３傾斜面よりも上方に形成され、第１の傾斜角度よりも大きな第２の傾斜角度を有する第４傾斜面とを備えていてもよい。かかる形態によれば、大きさの異なる基板を第３傾斜面および第４傾斜面のいずれかに載置できる。つまり、１つの基板搬送装置で大きさの異なる複数の基板を扱えるので、汎用性に優れる。
【００１１】
本発明の第５の形態は、第１ないし第４のいずれかの基板搬送装置を備えた基板研磨装置として提供される。かかる基板研磨装置によれば、第１ないし第４の形態と同様の効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】本発明の実施例としての基板研磨装置の概略構成を示す平面図である。
【図２】基板研磨装置の概略構成を模式的に示す説明図である。
【図３】基板搬送装置の正面図である。
【図４】基板搬送装置の平面図である。
【図５】搬送ステージの構成を示す説明図である。
【図６】ピン（基板載置部）の構成を示す説明図である。
【図７】基板の落下を抑制する様子を示す説明図である。
【図８】比較例としての基板搬送装置から基板が落下する様子を示す説明図である。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
Ａ．実施例：
図１は、本発明の一例としてのＣＭＰ研磨装置の全体構成を示す平面図であり、図２は、図１に示す研磨装置の概要を模式的に示す斜視図である。図１に示すように、研磨装置は、略矩形状のハウジング１を備えており、ハウジング１の内部は、隔壁１ａ，１ｂ，１ｃによって、ロード／アンロード部２と研磨部３（３ａ，３ｂ）と洗浄部４とに区画されている。これらのロード／アンロード部２、研磨部３ａ，３ｂおよび洗浄部４は、それぞれ独立に組み立てられ、独立に排気されるものである。
【００１４】
ロード／アンロード部２は、基板の一種としてのウェハ（以下、単にウェハとも呼ぶ）をストックするウェハカセットを載置する２つ以上（本実施形態では４つ）のフロントロード部２０を備えている。これらのフロントロード部２０は、研磨装置の幅方向（長手方
向と垂直な方向）に隣接して配列されている。フロントロード部２０には、オープンカセット、ＳＭＩＦ（Standard Manufacturing Interface）ポッドまたはＦＯＵＰ（Front Opening Unified Pod）を搭載することができる。
【００１５】
研磨部３は、ウェハの研磨が行われる領域であり、第１研磨ユニット３０Ａと第２研磨ユニット３０Ｂとを内部に有する第１研磨部３ａと、第３研磨ユニット３０Ｃと第４研磨ユニット３０Ｄとを内部に有する第２研磨部３ｂとを備えている。これらの第１研磨ユニット３０Ａ、第２研磨ユニット３０Ｂ、第３研磨ユニット３０Ｃおよび第４研磨ユニット３０Ｄは、図１に示すように、装置の長手方向に沿って配列されている。
【００１６】
図１に示すように、第１研磨ユニット３０Ａは、研磨面を有する研磨テーブル３００Ａと、ウェハを保持し、かつ、ウェハを研磨テーブル３００Ａに対して押圧しながら研磨するためのトップリング３０１Ａと、研磨テーブル３００Ａに研磨液やドレッシング液（例えば、水）を供給するための研磨液供給ノズル３０２Ａと、研磨テーブル３００Ａのドレッシングを行うためのドレッサ３０３Ａと、液体（例えば純水）と気体（例えば窒素）との混合流体または液体（例えば純水）を霧状にして、１または複数のノズルから研磨面に噴射するアトマイザ３０４Ａと、を備えている。同様に、研磨ユニット３０Ｂ，３０Ｃ，３０Ｄは、それぞれ、研磨テーブル３００Ｂ，３００Ｃ，３００Ｄと、トップリング３０１Ｂ，３０１Ｃ，３０１Ｄと、研磨液供給ノズル３０２Ｂ，３０２Ｃ，３０２Ｄと、ドレッサ３０３Ｂ，３０３Ｃ，３０３Ｄと、アトマイザ３０４Ｂ，３０４Ｃ，３０４Ｄとを備えている。
【００１７】
第１研磨部３ａの第１研磨ユニット３０Ａおよび第２研磨ユニット３０Ｂと洗浄部４との間には、長手方向に沿った４つの搬送位置（ロード／アンロード部２側から順番に第１搬送位置ＴＰ１、第２搬送位置ＴＰ２、第３搬送位置ＴＰ３、第４搬送位置ＴＰ４とする）の間でウェハを搬送する、基板搬送装置としての第１リニアトランスポータ５が配置されている。この第１リニアトランスポータ５の第１搬送位置ＴＰ１の上方には、ロード／アンロード部２の、走行機構２１上を移動する搬送ロボット２２から受け取ったウェハを反転する反転機３１が配置されており、その下方には、上下に昇降可能なリフタ３２が配置されている。また、第２搬送位置ＴＰ２の下方には、上下に昇降可能なプッシャ３３が、第３搬送位置ＴＰ３の下方には、上下に昇降可能なプッシャ３４がそれぞれ配置されている。
【００１８】
また、第２研磨部３ｂには、第１リニアトランスポータ５に隣接して、長手方向に沿った３つの搬送位置（ロード／アンロード部２側から順番に第５搬送位置ＴＰ５、第６搬送位置ＴＰ６、第７搬送位置ＴＰ７とする）の間でウェハを搬送する、基板搬送装置としての第２リニアトランスポータ６が配置されている。この第２リニアトランスポータ６の第６搬送位置ＴＰ６の下方には、プッシャ３７が、第７搬送位置ＴＰ７の下方には、プッシャ３８がそれぞれ配置されている。
【００１９】
洗浄部４は、研磨後のウェハを洗浄する領域であり、ウェハを反転する反転機４１と、研磨後のウェハを洗浄する４つの洗浄機４２〜４５と、反転機４１および洗浄機４２〜４５の間でウェハを搬送する搬送ユニット４６とを備えている。これらの反転機４１および洗浄機４２〜４５は、長手方向に沿って直列に配置されている。
【００２０】
図１に示すように、第１リニアトランスポータ５と第２リニアトランスポータ６との間には、第１リニアトランスポータ５、第２リニアトランスポータ６および洗浄部４の反転機４１の間でウェハを搬送するスイングトランスポータ７が配置されている。このスイングトランスポータ７は、第１リニアトランスポータ５の第４搬送位置ＴＰ４から第２リニアトランスポータ６の第５搬送位置ＴＰ５へ、第２リニアトランスポータ６の第５搬送位
置ＴＰ５から反転機４１へ、第１リニアトランスポータ５の第４搬送位置ＴＰ４から反転機４１へ、それぞれウェハを搬送できるようになっている。
【００２１】
図３は、第１リニアトランスポータ５の正面図、図４は第１リニアトランスポータ５の平面図である。図３および図４に示すように、第１リニアトランスポータ５は、直線往復移動可能な４つの搬送ステージＴＳ１，ＴＳ２，ＴＳ３，ＴＳ４を備えており、これらのステージは上下に２段の構成となっている。すなわち、下段には、第１搬送ステージＴＳ１、第２搬送ステージＴＳ２、第３搬送ステージＴＳ３が配置され、上段には、第４搬送ステージＴＳ４が配置されている。
【００２２】
下段の搬送ステージＴＳ１，ＴＳ２，ＴＳ３と上段の搬送ステージＴＳ４とは、図４の平面図上では同じ軸上を移動するように見えるが、設置される高さが異なっているため、下段の搬送ステージＴＳ１，ＴＳ２，ＴＳ３と上段の搬送ステージＴＳ４とは、互いに干渉することなく自由に移動可能となっている。第１搬送ステージＴＳ１は、反転機３１およびリフタ３２が配置された第１搬送位置ＴＰ１と、プッシャ３３が配置された（ウェハの受け渡し位置である）第２搬送位置ＴＰ２と、の間でウェハを搬送し、第２搬送ステージＴＳ２は、第２搬送位置ＴＰ２と、プッシャ３４が配置された（ウェハの受け渡し位置である）第３搬送位置ＴＰ３と、の間でウェハを搬送し、第３搬送ステージＴＳ３は、第３搬送位置ＴＰ３と第４搬送位置ＴＰ４との間でウェハを搬送する。また、第４搬送ステージＴＳ４は、第１搬送位置ＴＰ１と第４搬送位置ＴＰ４との間でウェハを搬送する。
【００２３】
図４に示すように、搬送ステージＴＳ１，ＴＳ２，ＴＳ３，ＴＳ４の各々の上方の面には、それぞれ、４本の基板載置部としてのピン５０ａ〜５０ｄが固定されており、このピン５０ａ〜５０ｄに形成された傾斜面（詳細は後述）にウェハが載置されることによって、当該ウェハの外周縁がガイドされて位置決めされた状態で、ウェハが搬送ステージ上に支持されるようになっている。ピンの数は、４つに限らず、３つ以上の任意の数とすることができる。これらのピン５０ａ〜５０ｄは、本実施例では、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリクロロトリフルオロエチレン（ＰＣＴＦＥ）やポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）などの樹脂から形成される。
【００２４】
ピン５０ａ〜５０ｄへのウェハの載置は、リフタ３２によって行われる。まず、搬送ステージＴＳ１〜ＴＳ４よりも下方に配置されたリフタ３２が、搬送ステージＴＳ１〜ＴＳ４のいずれか（ここでは、第１搬送ステージＴＳ１とする）の内側空間を通過して（搬送ステージＴＳ１〜ＴＳ４の形状は後述）、さらに上方に配置された反転機３１（図１参照）によってクランプ保持されたウェハの直下まで上昇する。次に、反転機３１がクランプを開放して、ウェハがリフタ３２に載置される。リフタ３２は、ウェハを載置したまま降下し、第１搬送ステージＴＳ１の内側空間を通過する。この通過動作によって、リフタ３２に載置されたウェハは、リフタ３２よりも外側に配置されたピン５０ａ〜５０ｄに載せ替えられる。なお、詳細な説明は省略するが、プッシャ３３は、リフタ３２と同様の原理を利用して、第１搬送ステージＴＳ１に載置されたウェハをトップリング３０１Ａに受け渡すと共に、第１研磨ユニット３０Ａで研磨されたウェハを第２搬送ステージＴＳ２に受け渡す。同様に、プッシャ３４は、第２搬送ステージＴＳ２に載置されたウェハをトップリング３０１Ｂに受け渡すと共に、第２研磨ユニット３０Ｂで研磨されたウェハを第３搬送ステージＴＳ３に受け渡す。
【００２５】
搬送ステージＴＳ１〜ＴＳ４は、それぞれ支持部５１，５２，５３，５４により支持されており、図３に示すように、第２搬送ステージＴＳ２（駆動側の搬送ステージ）の支持部５２の下部には、エアシリンダ（駆動機構）５５のロッド５５ａに連結された連結部材５６が取り付けられている。また、第２搬送ステージＴＳ２の支持部５２には、シャフト５７およびシャフト５８が挿通されている。シャフト５７の一端は、第１搬送ステージＴ
Ｓ１（被駆動側の搬送ステージ）の支持部５１に連結され、他端には、ストッパ５７１が設けられている。また、シャフト５８の一端は、第３搬送ステージＴＳ３（被駆動側の搬送ステージ）の支持部５３に連結され、他端には、ストッパ５８１が設けられている。シャフト５７には、第１搬送ステージＴＳ１の支持部５１と第２搬送ステージＴＳ２の支持部５２との間にスプリング５７２が介装されており、同様にシャフト５８には、第２搬送ステージＴＳ２の支持部５２と第３搬送ステージＴＳ３の支持部５３との間にスプリング５８２が介装されている。第１リニアトランスポータ５の両端部には、それぞれ第１搬送ステージＴＳ１の支持部５１および第３搬送ステージＴＳ３の支持部５３に当接するメカストッパ５０１，５０２が設けられている。
【００２６】
エアシリンダ５５が駆動し、ロッド５５ａが伸縮すると、ロッド５５ａに連結された連結部材５６が移動し、第２搬送ステージＴＳ２は、連結部材５６とともに移動する。このとき、第１搬送ステージＴＳ１の支持部５１は、シャフト５７およびスプリング５７２を介して第２搬送ステージＴＳ２の支持部５２に接続されているので、第１搬送ステージＴＳ１は、第２搬送ステージＴＳ２とともに移動する。また、第３搬送ステージＴＳ３の支持部５３は、シャフト５８およびスプリング５８２を介して第２搬送ステージＴＳ２の支持部５２に接続されているので、第３搬送ステージＴＳ３も第２搬送ステージＴＳ２とともに移動する。このように、エアシリンダ５５の駆動により第１搬送ステージＴＳ１、第２搬送ステージＴＳ２および第３搬送ステージＴＳ３が一体となって同時に直線往復移動をするようになっている。
【００２７】
第１搬送ステージＴＳ１が第１搬送位置ＴＰ１を越えて第２搬送位置ＴＰ２と反対側に移動しようとした場合、第１搬送ステージＴＳ１の支持部５１がメカストッパ５０１に規制されて、それ以上の移動がスプリング５７２に吸収され、第１搬送ステージＴＳ１が第１搬送位置ＴＰ１を越えて移動できないようになっている。したがって、第１搬送ステージＴＳ１は、第１搬送位置ＴＰ１に正確に位置決めされる。また同様に、第３搬送ステージＴＳ３が第４搬送位置ＴＰ４を越えて第３搬送位置ＴＰ３と反対側に移動しようとした場合、第３搬送ステージＴＳ３の支持部５３がメカストッパ５０２に規制されて、それ以上の移動がスプリング５８２に吸収され、第３搬送ステージＴＳ３が第４搬送位置ＴＰ４を越えて移動できないようになっている。したがって、第３搬送ステージＴＳ３は第４搬送位置ＴＰ４に正確に位置決めされる。
【００２８】
また、第１リニアトランスポータ５は、上段の第４搬送ステージＴＳ４を直線往復移動させるエアシリンダ５９０を備えており、このエアシリンダ５９０により第４搬送ステージＴＳ４は、下段の搬送ステージＴＳ１，ＴＳ２，ＴＳ３と同時に、かつ、互いに逆方向に移動するように制御される。なお、本実施形態では、リニアトランスポータ５は、エアシリンダ５５，５９０によって駆動されるが、その駆動方法は特に限定されるものではなく、例えば、ボールねじを用いたモータ駆動により駆動されてもよい。
【００２９】
第２リニアトランスポータ６は、直線往復移動可能な３つの搬送ステージＴＳ５，ＴＳ６，ＴＳ７を備えており、これらのステージは上下に２段の構成となっている。すなわち、上段には第５搬送ステージＴＳ５、第６搬送ステージＴＳ６が配置され、下段には第７搬送ステージＴＳ７が配置されている。これによって、上段の搬送ステージＴＳ５，ＴＳ６と下段の搬送ステージＴＳ７とは、リニアトランスポータ５と同様に、互いに干渉することなく自由に移動可能となっている。
【００３０】
第５搬送ステージＴＳ５は、第５搬送位置ＴＰ５と、プッシャ３７が配置された（ウェハの受け渡し位置である）第６搬送位置ＴＰ６と、の間でウェハを搬送し、第６搬送ステージＴＳ６は、第６搬送位置ＴＰ６と、プッシャ３８が配置された（ウェハの受け渡し位置である）第７搬送位置ＴＰ７と、の間でウェハを搬送し、第７搬送ステージＴＳ７は、
第５搬送位置ＴＰ５と第７搬送位置ＴＰ７との間でウェハを搬送する。詳しい説明は省略するが、第２リニアトランスポータ６は、リニアトランスポータ５と同様の構成によって、搬送ステージＴＳ５，ＴＳ６，ＴＳ７の移動およびウェハの支持を行う。
【００３１】
搬送ステージＴＳ１〜ＴＳ７は、同一の構成を有しているので、以下、搬送ステージＴＳ１〜ＴＳ７を代表して、第１搬送ステージＴＳ１について説明する。図５は、第１搬送ステージＴＳ１の構成を示す。図５（ａ）は、第１搬送ステージＴＳ１の上面図であり、図５（ｂ）は、第１搬送ステージＴＳ１の側面図である。図５（ａ）に示すように、第１搬送ステージＴＳ１は、略Ｕ字形状を有している。略Ｕ字形状の内部空間は、上述したように、ウェハの受け渡しの際にリフタ３２が通過するために形成されている。略Ｕ字の対向する部位の一方側には、ピン５０ａ，５０ｂが設けられ、他方側には、ピン５０ｃ，５０ｄが設けられている。ピン５０ａ〜５０ｄは、第１搬送ステージＴＳ１から鉛直方向上方に向けて突出するように設けられている。本実施例では、ピン５０ａ〜５０ｄは、同一の形状を有している。
【００３２】
本実施例では、ピン５０ｂ，５０ｃは、第１搬送ステージＴＳ１の移動方向に並んで設けられている。同様に、ピン５０ａ，５０ｄは、第１搬送ステージＴＳ１の移動方向に並んで設けられている。また、ピン５０ａ，５０ｂは、第１搬送ステージＴＳ１の移動方向と直交する方向に並んで設けられている。同様に、ピン５０ｃ，５０ｄは、第１搬送ステージＴＳ１の移動方向と直交する方向に並んで設けられている。図５（ａ）および図５（ｂ）に示すように、ウェハＷは、ピン５０ａ〜５０ｄの内側において、ピン５０ａ〜５０ｄに載置される。
【００３３】
図６は、第１搬送ステージＴＳ１のピン５０ｃの拡大断面図である。図６では、ピン５０ｃおよびピン５０ｂの中心点（水平面上の中心点）を通るピン５０ｃの断面を示している。図６に示すように、ピン５０ｃは、その中央部に鉛直方向に沿って形成されたボルト穴に挿入されたボルト５９ｃによって、ＴＳ１に固定されている。このピン５０ｃは、第１傾斜面５１ｃと第２傾斜面５２ｃとを備えている。第１傾斜面５１ｃは、水平方向（鉛直方向と直交する方向）に対して傾斜しており、かつ、上方側に向けられている。第２傾斜面５２ｃは、水平方向に対して傾斜しており、かつ、下方側に向けられている。第２傾斜面５２ｃは、第１傾斜面５１ｃの上方に形成されている。本実施例では、第２傾斜面５２ｃは、第１傾斜面５１ｃと連続する位置に形成されている。また、本実施例では、第１傾斜面５１ｃおよび第２傾斜面５２ｃは、鉛直方向に直交する周方向の全体に亘って形成されている。つまり、ピン５０ｃの第１傾斜面５１ｃに対応する部位は、上方に向かってピン５０ｃの外径が次第に小さくなる形状を有している。一方、ピン５０ｃの第２傾斜面５２ｃに対応する部位は、上方に向かってピン５０ｃの外径が次第に大きくなる形状を有している。
【００３４】
本実施例では、第１傾斜面５１ｃは、第３傾斜面５３ｃと第４傾斜面５４ｃとを備えている。第４傾斜面５４ｃは、第３傾斜面５３ｃと連続して、第３傾斜面５３ｃの上方に形成されている。第４傾斜面５４ｃの水平方向に対する傾斜角度は、第３傾斜面５３ｃのそれよりも大きく形成されている。なお、第１傾斜面５１ｃは、傾斜角度が異なる３つ以上の傾斜面を備えていてもよい。
【００３５】
ウェハは、ピン５０ｃのうちの、第３傾斜面５３ｃまたは第４傾斜面５４ｃのいずれかに載置することができる。図６では、ウェハＷ１を第３傾斜面５３ｃに載置した状態と、ウェハＷ２を第４傾斜面５４ｃに載置した状態とを示している。ウェハＷ２は、ウェハＷ１よりも大きいウェハである。図示は省略するが、ピン５０ｃの第３傾斜面５３ｃにウェハＷ１が載置される場合には、当該ウェハＷ１は、ピン５０ａ，５０ｂ，５０ｄの第３傾斜面５３ｃに載置される。つまり、ウェハＷ１は、略水平に載置される。第４傾斜面５４
ｃにウェハＷ２が載置される場合についても同様である。
【００３６】
ウェハＷ１は、図６では、第３傾斜面５３ｃの上端点５７ｃの付近に載置されているが、第３傾斜面５３ｃの任意の位置に載置可能である。ただし、ウェハＷ１がピン５０ｃから落下することを抑制するためには、ウェハＷ１のずれ代を極力大きく確保しておくことが望ましいので、その観点からは、ウェハＷ１は、極力上方に載置することが望ましい。また、上端点５７ｃにウェハＷ１を載置することによって、ウェハＷ１の位置を規制しやすくなる。ピン５０ａ〜５０ｄの位置は、ウェハＷ１の大きさに応じて、そのように設定されることが望ましい。これらの点は、ウェハＷ２についても同様である。
【００３７】
このように、第１搬送ステージＴＳ１は、第１傾斜面５１ｃが第３傾斜面５３ｃと第４傾斜面５４ｃとを備えることによって、大きさの異なる２種類のウェハＷ１，Ｗ２を載置できる。つまり、１つの第１搬送ステージＴＳ１で大きさの異なる複数のウェハを扱えるので、汎用性に優れる。
【００３８】
本実施例では、ピン５０ｃとピン５０ｂの中心点を通る直線方向において、第３傾斜面５３ｃの上端点（第４傾斜面５４ｃの下端点）５７ｃは、第２傾斜面５２ｃの上端点５６ｃよりもウェハが載置される側に位置している。かかる上端点５７ｃと上端点５６ｃとの位置関係は、ピン５０ａ〜５０ｄのうちの任意の２つの各々の中心点を通る直線方向（以下、単に直線方向とも呼ぶ）において、成立する。かかる構成によれば、ウェハＷ１を水平方向に平行な状態に保持したままで、上端点５６ｃがウェハＷ１と干渉することなく、ウェハＷ１を上方から第３傾斜面５３ｃに載置できる。その結果、ウェハの搬送に係る作業効率が向上するとともに、ウェハを載置するための機構を簡単にできる。
【００３９】
上端点５６ｃの位置は、上端点５７ｃから、ウェハが載置される側と反対側（以下、単に反対側とも呼ぶ）に遠い方が望ましい。例えば、上端点５６ｃは、直線方向において、第４傾斜面５４ｃの中央位置よりも反対側に位置することが望ましく、直線方向において、第４傾斜面５４ｃを三等分した場合の反対側の１／３の領域に上端点５６ｃが位置することがさらに望ましい。これらの構成とすれば、第４傾斜面５４ｃにウェハＷ２を載置する場合についても、第３傾斜面５３ｃにウェハＷ１を載置する場合と同様の効果を期待できる。
【００４０】
図７は、ピン５０ａ〜５０ｄによって、ウェハの落下が抑制される様子を示す。図７では、ピン５０ｃおよびピン５０ｂの中心点を通るピン５０ｂ，５０ｃの断面を示している。初期状態では、ウェハは、図７にウェハＷ３として示すように、第３傾斜面５３ｂ，５３ｃに載置されている。そして、図中の矢印の方向、すなわち、ピン５０ｂからピン５０ｃに向かう方向にピン５０ｂ，５０ｃを移動させてウェハを搬送する場合、当該ウェハの搬送時、特に、停止時に受ける衝撃によって、ウェハの一端側（ピン５０ｃ側）が第１傾斜面５１ｃに沿って上方にずれると、ウェハの他端側（ピン５０ｂ側）は、第３傾斜面５３ｂに沿って下方に移動する。しかし、図７にウェハＷ４として示すように、ウェハの一端側は、下方側に向けて形成された第２傾斜面５２ｃに当接するので、当該当接位置からさらに第２傾斜面５２ｃを超えて上方に移動することがない。したがって、ウェハＷ４の他端側は、第３傾斜面５３ｂに載置された状態に維持される。その結果、ウェハの落下が抑制される。しかも、ウェハの落下抑制のために、ウェハの搬送を低速化する必要がないので、製造効率の低下を招くこともない。
【００４１】
図８は、比較例としてのピン１５０ｂ，１５０ｃの構成を示す。ピン１５０ｂ，１５０ｃは、実施例としてのピン５０ｂ，５０ｃと同様に、第１傾斜面１５１ｂ，１５１ｃを備えている。第１傾斜面１５１ｂ，１５１ｃは、それぞれ、実施例としての第３傾斜面５３ｂ，５３ｃおよび第４傾斜面５４ｂ，５４ｃと同一形状の第３傾斜面１５３ｂ，１５３ｃ
および第４傾斜面１５４ｂ，１５４ｃを備えている。第１傾斜面１５１ｂ，１５１ｃの上方には、水平方向に対して垂直な垂直面１５２ｂ，１５２ｃが形成されている。かかるピン１５０ｂ，１５０ｃでは、図中の矢印の方向に向かう方向にピン１５０ｂ，１５０ｃを移動させてウェハを搬送する場合、第３傾斜面１５３ｂ，１５３ｃに載置されたウェハＷ３が当該ウェハの搬送時、特に、停止時に衝撃を受けた際に、ウェハＷ３の一端側が垂直面１５２ｃに沿って制限なく上方に移動可能となるので、ウェハＷ４として示すように、他端側がピン１５０ｂから落下する状況が生じ得る。上述した実施例としてのピン５０ａ〜５０ｄによれば、このようなウェハの落下を抑制できる。
【００４２】
Ｂ．変形例：
Ｂ−１．変形例１：
第１傾斜面５１ｃと第２傾斜面５２ｃとの間には、水平方向と直交する垂直面が形成されていてもよい。こうしても、上述の実施例と同様の効果を奏する。ただし、ウェハの移動範囲を一層小さく規制するためには、上述した実施例の構成がより望ましい。
【００４３】
Ｂ−２．変形例２：
第１傾斜面５１ｃは、１つの傾斜角度のみで形成されていてもよい。こうしても、上述の実施例と同様に、ウェハの落下抑制効果を奏する。この場合、第２傾斜面５２ｃは、直線方向において、第１傾斜面５１ｃの下端点５５ｃ（図６参照）よりも、ウェハが載置される側と反対側に位置していてもよいし、直線方向において、第１傾斜面５１ｃの中央の位置よりも、ウェハが載置される側と反対側に位置していてもよい。こうすれば、上述の実施例と同様に、ウェハの載置を行いやすい。
【００４４】
Ｂ−３．変形例３：
第１傾斜面５１ｃおよび第２傾斜面５２ｃは、ピン５０ｃの周方向の全体に亘って形成されている必要はなく、少なくとも、ウェハが載置される領域に亘って形成されていればよい。
【００４５】
以上、いくつかの実施例に基づいて本発明の実施の形態について説明してきたが、上記した発明の実施の形態は、本発明の理解を容易にするためのものであり、本発明を限定するものではない。本発明は、その趣旨を逸脱することなく、変更、改良され得るとともに、本発明にはその等価物が含まれることはもちろんである。また、上述した課題の少なくとも一部を解決できる範囲、または、効果の少なくとも一部を奏する範囲において、特許請求の範囲および明細書に記載された各構成要素の組み合わせ、または、省略が可能である。
【符号の説明】
【００４６】
１…ハウジング
１ａ，１ｂ，１ｃ…隔壁
２…ロード／アンロード部
３，３ａ，３ｂ…研磨部
４…洗浄部
５，６…リニアトランスポータ
７…スイングトランスポータ
２０…フロントロード部
２１…走行機構
２２…搬送ロボット
３０Ａ〜３０Ｄ…研磨ユニット
３１…反転機
３２…リフタ
３３，３４，３７，３８…プッシャ
４１…反転機
４２…洗浄機
４６…搬送ユニット
５０ａ〜５０ｄ…ピン（基板載置部）
５１，５２，５３，５４…支持部
５１ｂ，５１ｃ…第１傾斜面
５２ｂ，５２ｃ…第２傾斜面
５３ｂ，５３ｃ…第３傾斜面
５４ｂ，５４ｃ…第４傾斜面
５５…エアシリンダ
５５ａ…ロッド
５５ｃ…下端点
５６…連結部材
５６ｃ…上端点
５７…シャフト
５７ｃ…上端点
５８…シャフト
３００Ａ，３００Ｂ，３００Ｃ，３００Ｄ…研磨テーブル
３０１，３０１Ａ，３０１Ｂ，３０１Ｃ，３０１Ｄ…トップリング
３０２Ａ，３０２Ｂ，３０２Ｃ，３０２Ｄ…研磨液供給ノズル
３０３Ａ，３０３Ｂ，３０３Ｃ，３０３Ｄ…ドレッサ
３０４Ａ，３０４Ｂ，３０４Ｃ，３０４Ｄ…アトマイザ
５０１，５０２…メカストッパ
５７１，５８１…ストッパ
５７２，５８２…スプリング
５９０…エアシリンダ
Ｗ１〜Ｗ４…ウェハ
ＴＰ１〜ＴＰ７…搬送位置
ＴＳ１〜ＴＳ７…搬送ステージ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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