(57)【要約】【課題】  本発明は、低温硬化性にも優れ、高硬度、高透過率であり、パターン直線性、耐薬品性に優れる硬化膜を形成できるアルカリ現像可能な感光性樹脂組成物、および該感光性樹脂組成物を用いた、タッチパネルに用いられるオーバーコートに適した高品質の硬化膜を提供することを目的とする。【解決手段】  光ラジカル重合開始剤（Ａ）と、光カチオン重合開始剤（Ｂ）と、カチオン重合性化合物（Ｃ）と、アルカリ可溶性樹脂（Ｆ）とを含有する感光性樹脂組成物であって、カチオン重合性化合物（Ｃ）が、ビニルエーテル化合物（Ｃ１）を含む２種以上のカチオン重合性化合物を含むことを特徴とする感光性樹脂組成物により解決される。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
光ラジカル重合開始剤（Ａ）と、光カチオン重合開始剤（Ｂ）と、カチオン重合性化合物（Ｃ）と、アルカリ可溶性樹脂（Ｆ）とを含有する感光性樹脂組成物であって、カチオン重合性化合物（Ｃ）が、ビニルエーテル化合物（Ｃ１）を含む２種以上のカチオン重合性化合物を含むことを特徴とする感光性樹脂組成物。
【請求項２】
カチオン重合性化合物（Ｃ）が、エポキシ化合物（Ｃ２）およびオキセタン化合物（Ｃ３）から選ばれる少なくとも１種を含むことを特徴とする請求項１記載の感光性樹脂組成物。
【請求項３】
エポキシ化合物（Ｃ２）が、フェノールノボラック型エポキシ樹脂（Ｃ２-ａ）およびクレゾールノボラック型エポキシ樹脂（Ｃ２-ｂ）から選ばれる少なくとも１種を含むことを特徴とする請求項２記載の感光性樹脂組成物。
【請求項４】
カチオン重合性化合物（Ｃ）が、エポキシ化合物（Ｃ２）およびオキセタン化合物（Ｃ３）を含むことを特徴とする請求項１〜３いずれか１項記載の感光性樹脂組成物。
【請求項５】
光ラジカル重合開始剤（Ａ）が、オキシムエステル系光重合開始剤（Ａ１）、チオキサントン系光重合開始剤（Ａ２）、アセトフェノン系光重合開始剤、ベンゾイン系光重合開始剤、ベンゾフェノン系光重合開始剤、トリアジン系光重合開始剤、ボレート系光重合開始剤、カルバゾール系光重合開始剤、およびイミダゾール系光重合開始剤からなる群から選ばれる少なくとも２種を含むことを特徴とする請求項１〜４いずれか１項記載の感光性樹脂組成物。
【請求項６】
光ラジカル重合開始剤（Ａ）が、オキシムエステル系光ラジカル重合開始剤（Ａ１）を含むことを特徴とする請求項１〜５いずれか１項記載の感光性樹脂組成物。
【請求項７】
光ラジカル重合開始剤（Ａ）が、チオキサントン系光ラジカル重合開始剤（Ａ２）を含むことを特徴とする請求項１〜５いずれか１項記載の感光性樹脂組成物。
【請求項８】
光カチオン重合開始剤（Ｂ）が、芳香族スルホニウム塩（Ｂ１）または芳香族ヨードニウム塩（Ｂ２）を含むことを特徴とする請求項１〜７いずれか１項記載の感光性樹脂組成物。
【請求項９】
オキセタン化合物（Ｃ３）が、化学式（３−５）に示される化合物、または（３−エチルオキセタン−３−イル）メチル（メタ）アクリレートを重合してなる重合体を含むことを特徴とする請求項２〜４いずれか１項記載の感光性樹脂組成物。
【化１】
2014232206.tif 000026
【請求項１０】
請求項１〜９いずれか１項記載の感光性樹脂組成物を用いて形成される硬化膜。
【請求項１１】
タッチパネル用である請求項１０記載の硬化膜。
【請求項１２】
請求項１〜９いずれか１項記載の感光性樹脂組成物を基材上に塗布後、マスクを介して露光し、現像してパターンを形成後、加熱焼成する工程を有することを特徴とする硬化膜の製造方法。
【請求項１３】
加熱焼成の温度が、１５０℃以下であることを特徴とする請求項１２記載の硬化膜の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、感光性樹脂組成物およびそれを用いて形成したタッチパネル用に適した硬化膜に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、電子機器の高機能化や多様化や小型軽量化が進むに伴い、液晶等の表示素子の前面に透明タッチパネルを装着し、この透明タッチパネルを通して表示素子に表示された文字や記号、絵柄などの視認、選択を行い、透明タッチパネルの操作によって機器の各機能の切り替えを行うものが急速に普及した。
【０００３】
タッチパネルは、例えば、銀行ＡＴＭ、自動販売機、携帯情報端末（ＰＤＡ、ＵＭＰＣ）、複写機、ファクシミリ、携帯ゲーム機、案内板、カーナビゲーション、スマートフォン、タブレット等に搭載されている。
【０００４】
既存のタッチパネルの方式としては、抵抗膜方式、光学方式、静電容量方式、超音波方式、圧力方式、電磁波誘導方式、画像認識方式、振動検出方式などに分けられる。
液晶などの表示装置上に配置されるタッチパネルとしての具体例としては、抵抗膜方式や静電容量方式があり、抵抗膜方式は押圧された位置を電圧によって検知する方式であり、静電容量方式は押圧することによって起きる静電容量の変化を捉えて位置を検出するものである。
静電容量方式は、特許文献１〜３などが開示され、接触した位置の誤認識を防ぐ為にその積層構造の中に絶縁膜や保護膜を設けることが行なわれている。
【０００５】
現在主流となっている静電容量方式タッチパネルでは、カバーガラスに２枚のＩＴＯフィルムを貼り合わせるＧＦＦ方式を始めとして、軽量化・加工性などに有利な透明導電性フィルムを用いた構成が多く採用されている（例えば、特許文献４）。しかし耐熱性の低いフィルムを使用するため高温焼成ができず、熱硬化を必要としないか、あるいは低温焼成でも硬化膜を得られるＵＶ硬化型保護膜が好んで用いられる（例えば、特許文献５参照）。
【０００６】
静電容量方式タッチパネルでは抵抗膜式タッチパネルのような外部の衝撃を緩和する働きを有する層がないため、表面保護膜にはより高い硬度が求められる。さらには、回路接続を目的とした加工を行うため、感光性に加えて、薬品処理におけるより高い基材密着性が求められる。低温焼成では焼成に比べて熱硬化が進みにくく、ＵＶによる硬化特性を高める必要がある。
【０００７】
低温硬化可能な樹脂組成物として、例えば特許文献６記載のアルカリ可溶性共重合体、エチレン性不飽和結合を有する重合性化合物、光ラジカル発生剤、１分子中にオキセタニル基を２個以上有する化合物および酸発生剤を含有する感放射線性樹脂組成物や、特許文献７記載のカルボキシル基含有ポリシロキサン、溶剤、二重結合および／または三重結合を有する化合物および光重合開始剤を含有する樹脂組成物（例えば、特許文献７参照）が提案されている。しかしこれらの組成物は、Ｓｉ原子を有するガラスや窒化ケイ素基板との接着性は向上するものの、ＩＴＯやモリブデン等のＳｉ原子を有しない基板においては、熱処理や薬品処理後の接着性が不十分である。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開２００８−６５７４８号公報
【特許文献２】特開２００９−１５４８９号公報
【特許文献３】特開２０１０−４４４５３号公報
【特許文献４】特開２０１３−００３９５２号公報
【特許文献５】特開２００１−３３０７０７号公報
【特許文献６】特開２００９−３３６６号公報
【特許文献７】特開２００８−２０８３４２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
本発明は、低温硬化性にも優れ、高硬度、高透過率であり、パターン直線性、耐薬品性に優れる硬化膜を形成できるアルカリ現像可能な感光性樹脂組成物、および該感光性樹脂組成物を用いた、タッチパネルに用いられるオーバーコートに適した高品質の硬化膜を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明の感光性樹脂組成物は、光ラジカル重合開始剤（Ａ）と、光カチオン重合開始剤（Ｂ）と、カチオン重合性化合物（Ｃ）と、アルカリ可溶性樹脂（Ｆ）とを含有し、カチオン重合性化合物（Ｃ）が、ビニルエーテル化合物（Ｃ１）を含む２種以上のカチオン重合性化合物を含むことにより、高硬度、高透明であり、パターン直線性、耐薬品性に優れる硬化膜の形成が可能となり、低温硬化性にも優れたものであることを見出したものである。
【００１１】
すなわち、本発明は、光ラジカル重合開始剤（Ａ）と、光カチオン重合開始剤（Ｂ）と、カチオン重合性化合物（Ｃ）と、アルカリ可溶性樹脂（Ｆ）とを含有する感光性樹脂組成物であって、カチオン重合性化合物（Ｃ）が、ビニルエーテル化合物（Ｃ１）を含む２種以上のカチオン重合性化合物を含むことを特徴とする感光性樹脂組成物に関する。
【００１２】
また、本発明は、カチオン重合性化合物（Ｃ）が、エポキシ化合物（Ｃ２）およびオキセタン化合物（Ｃ３）から選ばれる少なくとも１種を含むことを特徴とする前記感光性樹脂組成物に関する。
【００１３】
また、本発明は、エポキシ化合物（Ｃ２）が、フェノールノボラック型エポキシ樹脂（Ｃ２-ａ）およびクレゾールノボラック型エポキシ樹脂（Ｃ２-ｂ）から選ばれる少なくとも１種を含むことを特徴とする前記感光性樹脂組成物に関する。
【００１４】
また、本発明は、カチオン重合性化合物（Ｃ）が、エポキシ化合物（Ｃ２）およびオキセタン化合物（Ｃ３）を含むことを特徴とする前記感光性樹脂組成物に関する。
【００１５】
また、本発明は、光ラジカル重合開始剤（Ａ）が、オキシムエステル系光重合開始剤（Ａ１）、チオキサントン系光重合開始剤（Ａ２）、アセトフェノン系光重合開始剤、ベンゾイン系光重合開始剤、ベンゾフェノン系光重合開始剤、トリアジン系光重合開始剤、ボレート系光重合開始剤、カルバゾール系光重合開始剤、およびイミダゾール系光重合開始剤からなる群から選ばれる少なくとも２種を含むことを特徴とする前記感光性樹脂組成物に関する。
【００１６】
また、本発明は、光ラジカル重合開始剤（Ａ）が、オキシムエステル系光ラジカル重合開始剤（Ａ１）を含むことを特徴とする前記感光性樹脂組成物に関する。
【００１７】
また、本発明は、光ラジカル重合開始剤（Ａ）が、チオキサントン系光ラジカル重合開始剤（Ａ２）を含むことを特徴とする前記感光性樹脂組成物に関する。
【００１８】
また、本発明は、光カチオン重合開始剤（Ｂ）が、芳香族スルホニウム塩（Ｂ１）を含むことを特徴とする前記感光性樹脂組成物に関する。
【００１９】
また、本発明は、オキセタン化合物（Ｃ３）が、化学式（３−５）に示される化合物、または（３−エチルオキセタン−３−イル）メチル（メタ）アクリレートを重合してなる重合体を含むことを特徴とする前記感光性樹脂組成物。に関する。
【化１】
2014232206.tif 000002
【００２０】
また、本発明は、前記感光性樹脂組成物を用いて形成される硬化膜に関する。
【００２１】
また、本発明は、タッチパネル用である前記硬化膜に関する。
【００２２】
また、本発明は、請求項１〜９いずれか１項記載の感光性樹脂組成物を基材上に塗布後、マスクを介して露光し、現像してパターンを形成後、加熱焼成する工程を有することを特徴とする硬化膜の製造方法。
【００２３】
また、本発明は、加熱焼成の温度が１５０℃以下であることを特徴とする前記記載の硬化膜の製造方法。
【発明の効果】
【００２４】
本発明の感光性樹脂組成物は、低温硬化性にも優れ、高硬度、高透過率であり、パターン直線性、密着性、耐薬品性に優れる硬化膜を形成でき、該硬化膜は、高硬度、高透過率であり、パターン直線性、密着性、耐薬品性に優れるため、特にタッチパネルに用いられるオーバーコートに適している。
【発明を実施するための形態】
【００２５】
まず、本発明の感光性樹脂組成物の各種構成成分について説明する。
なお、本願では、「（メタ）アクリロイル」、「（メタ）アクリル」、「（メタ）アクリル酸」、「（メタ）アクリレート」、または「（メタ）アクリルアミド」と表記した場合には、特に説明がない限り、それぞれ、「アクリロイルおよび／またはメタクリロイル」、「アクリルおよび／またはメタクリル」、「アクリル酸および／またはメタクリル酸」、「アクリレートおよび／またはメタクリレート」、または「アクリルアミドおよび／またはメタクリルアミド」を表すものとする。
【００２６】
本発明の感光性樹脂組成物は、光ラジカル重合開始剤（Ａ）と、光カチオン重合開始剤（Ｂ）と、カチオン重合性化合物（Ｃ）と、アルカリ可溶性樹脂（Ｆ）とを含有する感光性樹脂組成物であって、カチオン重合性化合物（Ｃ）が、ビニルエーテル化合物（Ｃ１）を含む２種以上のカチオン重合性化合物を含むことを特徴とする。
【００２７】
＜光ラジカル重合開始剤（Ａ）＞
本発明の感光性樹脂組成物には、該組成物を紫外線照射により硬化させ、フォトリソグラフィー法により塗膜を形成するために、光ラジカル重合開始剤を加えて溶剤現像型あるいはアルカリ現像型の感光性樹脂組成物の形態で調製することができる。光ラジカル重合開始剤としては従来公知のものをいずれも用いることができる。
【００２８】
光ラジカル重合開始剤（Ａ）として例えば、オキシムエステル系光重合開始剤（Ａ１）、チオキサントン系光重合開始剤、アセトフェノン系光重合開始剤、ベンゾイン系光重合開始剤、ベンゾフェノン系光重合開始剤、トリアジン系光重合開始剤、ボレート系光重合開始剤、カルバゾール系光重合開始剤、イミダゾール系光重合開始剤、またはアシルフォスフィンオキサイド系光重合開始剤が挙げられる。
【００２９】
これらの中でも、光ラジカル重合開始剤（Ａ）が、オキシムエステル系光重合開始剤（Ａ１）、チオキサントン系光重合開始剤、アセトフェノン系光重合開始剤、ベンゾイン系光重合開始剤、ベンゾフェノン系光重合開始剤、トリアジン系光重合開始剤、ボレート系光重合開始剤、カルバゾール系光重合開始剤、およびイミダゾール系光重合開始剤からなる群から選ばれる光ラジカル重合開始剤を含むことが、低温硬化性付与のために好ましく、より好ましくは、少なくとも２種を含む場合、耐薬品性に優れたものとする事ができる。
【００３０】
また、好ましくはオキシムエステル系光ラジカル重合開始剤（Ａ１）を含む場合、感度が高く、添加量が少なくて良いため、透過率が高いものとすることができ、さらにチオキサントン系光ラジカル重合開始剤（Ａ２）を含む場合、交互作用により塗膜の硬化が一層促進されるため、基材への密着性をより優れたものとする事ができる。
【００３１】
具体的には、例えば１，２−オクタンジオン−１−［４−（フェニルチオ）フェニル−２−（ｏ−ベンゾイルオキシム）］、エタノン，１−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］−，１−（ｏ−アセチルオキシム）等のオキシムエステル系光重合開始剤（Ａ１）、
チオキサントン、２−クロルチオキサントン、２−メチルチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、２，４−ジイソプロピルチオキサントン等のチオキサントン系光重合開始剤（Ａ２）、
４−フェノキシジクロロアセトフェノン、４−ｔ−ブチル−ジクロロアセトフェノン、ジエトキシアセトフェノン、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタン−１−オン、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノプロパン−１−オン等のアセトフェノン系光重合開始剤、
２，４，６−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−フォスフィンオキサイド、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルフォスフィンオキサイド等のアシルフォスフィンオキサイド系光重合開始剤、
ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンジルジメチルケタール等のベンゾイン系光重合開始剤、
ベンゾフェノン、ベンゾイル安息香酸、ベンゾイル安息香酸メチル、４−フェニルベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、アクリル化ベンゾフェノン、４−ベンゾイル−４’−メチルジフェニルサルファイド等のベンゾフェノン系光重合開始剤、
２，４，６−トリクロロ−ｓ−トリアジン、２−フェニル−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−メトキシフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−トリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−ピペロニル−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−スチリル−ｓ−トリアジン、２−（ナフト−１−イル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−メトキシ−ナフト−１−イル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２，４−トリクロロメチル−（ピペロニル）−６−トリアジン、２，４−トリクロロメチル（４’−メトキシスチリル）−６−トリアジン等のトリアジン系光重合開始剤、
ボレート系光重合開始剤、カルバゾール系光重合開始剤、
イミダゾール系光重合開始剤等が挙げられる。
これらの光重合開始剤は、１種を単独で、または必要に応じて任意の比率で２種以上混合して用いることができる。
【００３２】
また、オキシムエステル系光重合開始剤（Ａ１）のなかでも、
１，２−オクタンジオン−１−［４−（フェニルチオ）フェニル−２−（ｏ−ベンゾイルオキシム）］、エタノン,１−[９−エチル−６−(２−メチルベンゾイル) −９Ｈ−カルバゾール−３−イル] −,１−(ｏ−アセチルオキシム)、とりわけ、１，２−オクタンジオン−１−［４−（フェニルチオ）フェニル−２−（ｏ−ベンゾイルオキシム）］は、加熱工程時に黄変がより小さく、絶縁膜としての透過率が高く、特に波長４００ｎｍ付近の透過率が高い感光性樹脂組成物を提供することができるため、より好ましい。
【００３３】
さらに、チオキサントン系光重合開始剤（Ａ２）のなかでも、イソプロピルチオキサントン、２，４−ジイソプロピルチオキサントンが好ましく、とりわけ、入手性の観点から２，４−ジイソプロピルチオキサントンが好ましくが好ましい。
【００３４】
オキシムエステル系光重合開始剤（Ａ１）の市販品としては、
例えば、イルガキュアＯＸＥ−０１、イルガキュアＯＸＥ−０２（いずれもＢＡＳＦ社製）、Ｎ−１９１９（ＡＤＥＫＡ社製）、ＴＲＯＮＬＹ ＴＲ−ＰＢＧ−３０４、ＴＲＯＮＬＹ ＴＲ−ＰＢＧ−３０５、ＴＲＯＮＬＹ ＴＲ−ＰＢＧ−３０９（いずれも常州強力電子新材料社製）等が挙げられる。
【００３５】
チオキサントン系光重合開始剤（Ａ２）の市販品としては、
例えば、カヤキュアＤＥＴＸ−Ｓ（日本化薬社製）等が挙げられる。
【００３６】
光ラジカル重合開始剤（Ａ）は、透過率の観点から樹脂組成物の固形分の合計１００重量％中、１〜１５重量％の量で用いることが好ましく、１〜１０重量％の量で用いることがより好ましい。
また、オキシムエステル系光重合開始剤（Ａ１）を含有する場合には、光ラジカル重合開始剤（Ａ）の合計量を基準（１００重量％）として、４０〜９５重量％の量含むことが、硬度および基材密着性の観点で好ましい。
【００３７】
また、さらにチオキサントン系光重合開始剤（Ａ２）を併用する場合、オキシムエステル系光重合開始剤（Ａ１）１００重量部に対してチオキサントン系光重合開始剤（Ａ２）を５重量部〜１００重量部の量で用いることで、基材密着性が良化するため好ましく、２０重量部〜５０重量部の量で用いることで基材密着性がさらに良化するため特に好ましい。
【００３８】
＜増感剤＞
本発明の感光性樹脂組成物は、さらに増感剤として、α−アシロキシエステル、アシルフォスフィンオキサイド、メチルフェニルグリオキシレート、ベンジル、９，１０−フェナンスレンキノン、カンファーキノン、エチルアンスラキノン、４，４’−ジエチルイソフタロフェノン、３，３’，４，４’−テトラ（ｔ−ブチルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、４，４’−ジエチルアミノベンゾフェノン等の化合物を併用することもできる。
これらの増感剤は、１種を単独で、または必要に応じて任意の比率で２種以上混合して用いることができる。
増感剤の含有量は、光重合開始剤（Ａ）１００重量部に対して、０．１〜１５０重量部の量で用いることができる。
【００３９】
＜光カチオン重合開始剤（Ｂ）＞
光カチオン重合開始剤（Ｂ）は、ＵＶ照射あるいは加熱によりテトラフルオロホウ酸や、ヘキサフルオロリン酸などの強酸を生じ、この強酸が後述するカチオン重合性化合物の酸素原子をプロトン化してカチオン活性種が形成され、重合反応が開始されるものであり、公知の化合物を、特に限定なく使用することができる。
【００４０】
光カチオン重合開始剤（Ｂ）として例えば、カチオン部分が、芳香族スルホニウム、芳香族ヨードニウム、芳香族ジアゾニウム、芳香族アンモニウム、チオキサントニウム、（２，４−シクロペンタジエン−１−イル）［（１−メチルエチル）ベンゼン］−鉄カチオン、またはチアンスレニウムであって、アニオン部分が、ＢＦ４−、ＰＦ６−、ＳｂＦ６−、または［ＢＸ４］−（但し、Ｘは、フェニル基の有する水素原子の２個以上が、フッ素原子またはトリフルオロメチル基によって置換された官能基を示す。）で構成される、芳香族スルホニウム塩（Ｂ１）、芳香族ヨードニウム塩（Ｂ２）、芳香族ジアゾニウム塩、芳香族アンモニウム塩、チオキサントニウム塩、または（２，４−シクロペンタジエン−１−イル）［（１−メチルエチル）ベンゼン］−鉄塩等が挙げられる
これらの光カチオン重合開始剤は、１種を単独で、または必要に応じて任意の比率で２種以上混合して用いることができる。
【００４１】
これらの中でも、芳香族スルホニウム塩（Ｂ１）、または芳香族ヨードニウム塩（Ｂ２）が、残膜率および密着性向上のために好ましく、残膜率向上の観点から、より好ましくは、芳香族ヨードニウム塩（Ｂ２）である。
【００４２】
芳香族スルホニウム塩（Ｂ１）としては、例えばビス［４−（ジフェニルスルホニオ）フェニル］スルフィド ビスヘキサフルオロホスフェート、ビス［４−（ジフェニルスルホニオ）フェニル］スルフィド ビスヘキサフルオロアンチモネート、ビス［４−（ジフェニルスルホニオ）フェニル］スルフィド ビステトラフルオロボレート、ビス［４−（ジフェニルスルホニオ）フェニル］スルフィド テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ジフェニル−４−（フェニルチオ）フェニルスルホニウム ヘキサフルオロホスフェート、ジフェニル−４−（フェニルチオ）フェニルスルホニウム ヘキサフルオロアンチモネート、ジフェニル−４−（フェニルチオ）フェニルスルホニウム テトラフルオロボレート、ジフェニル−４−（フェニルチオ）フェニルスルホニウム テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、トリフェニルスルホニウムテトラフルオロボレート、トリフェニルスルホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ビス［４−（ジ（４−（２−ヒドロキシエトキシ））フェニルスルホニオ）フェニル］スルフィド ビスヘキサフルオロホスフェート、ビス［４−（ジ（４−（２−ヒドロキシエトキシ））フェニルスルホニオ）フェニル］スルフィド ビスヘキサフルオロアンチモネート、ビス［４−（ジ（４−（２−ヒドロキシエトキシ））フェニルスルホニオ）フェニル］スルフィド ビステトラフルオロボレート、ビス［４−（ジ（４−（２−ヒドロキシエトキシ））フェニルスルホニオ）フェニル］スルフィド テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート等を使用することができる。
【００４３】
また、芳香族ヨードニウム塩（Ｂ２）としては、例えばジフェニルヨードニウム ヘキサフルオロホスフェート、ジフェニルヨードニウム ヘキサフルオロアンチモネート、ジフェニルヨードニウム テトラフルオロボレート、ジフェニルヨードニウム テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ビス（ドデシルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、ビス（ドデシルフェニル）ヨードニウム ヘキサフルオロアンチモネート、ビス（ドデシルフェニル）ヨードニウム テトラフルオロボレート、ビス（ドデシルフェニル）ヨードニウム テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、４−メチルフェニル−４−（１−メチルエチル）フェニルヨードニウム ヘキサフルオロホスフェート、４−メチルフェニル−４−（１−メチルエチル）フェニルヨードニウム ヘキサフルオロアンチモネート、４−メチルフェニル−４−（１−メチルエチル）フェニルヨードニウム テトラフルオロボレート、４−メチルフェニル−４−（１−メチルエチル）フェニルヨードニウム テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート等を使用することができる。
【００４４】
また、芳香族ジアゾニウム塩としては、例えばフェニルジアゾニウム ヘキサフルオロホスフェート、フェニルジアゾニウム ヘキサフルオロアンチモネート、フェニルジアゾニウム テトラフルオロボレート、フェニルジアゾニウム テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート等を使用することができる。
【００４５】
また、芳香族アンモニウム塩としては、１−ベンジル−２−シアノピリジニウム ヘキサフルオロホスフェート、１−ベンジル−２−シアノピリジニウム ヘキサフルオロアンチモネート、１−ベンジル−２−シアノピリジニウム テトラフルオロボレート、１−ベンジル−２−シアノピリジニウム テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、１−（ナフチルメチル）−２−シアノピリジニウム ヘキサフルオロホスフェート、１−（ナフチルメチル）−２−シアノピリジニウムヘキサフルオロアンチモネート、１−（ナフチルメチル）−２−シアノピリジニウム テトラフルオロボレート、１−（ナフチルメチル）−２−シアノピリジニウム テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート等を使用することができる。
【００４６】
また、チオキサントニウム塩としては、Ｓ−ビフェニル ２−イソプロピル チオキサントニウムヘキサフルオロホスフェート等を使用することができる。
【００４７】
また、（２，４−シクロペンタジエン−１−イル）［（１−メチルエチル）ベンゼン］−鉄塩としては、（２，４−シクロペンタジエン−１−イル）［（１−メチルエチル）ベンゼン］−鉄（II）ヘキサフルオロホスフェート、（２，４−シクロペンタジエン−１−イル）［（１−メチルエチル）ベンゼン］−鉄（II）ヘキサフルオロアンチモネート、２，４−シクロペンタジエン−１−イル）［（１−メチルエチル）ベンゼン］−鉄（II）テトラフルオロボレート、２，４−シクロペンタジエン−１−イル）［（１−メチルエチル）ベンゼン］−鉄（II）テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート等を使用することができる。
【００４８】
光カチオン重合開始剤（Ｂ）としては、例えば、ＣＰＩ−１００Ｐ、ＣＰＩ−２００Ｋ、ＣＰＩ−１０１Ａ（以上、サンアプロ（株）製）、サイラキュア光硬化開始剤ＵＶＩ−６９９０、サイラキュア光硬化開始剤ＵＶＩ−６９９２、サイラキュア光硬化開始剤ＵＶＩ−６９７６（以上、ダウ・ケミカル日本（株）製）、アデカオプトマーＳＰ−１５０、アデカオプトマーＳＰ−１５２、アデカオプトマーＳＰ−１７０、アデカオプトマーＳＰ−１７２（以上、旭電化工業（株）製）、ＣＩ−５１０２、ＣＩ−２８５５（以上、日本曹達（株）製）、サンエイドＳＩ−６０Ｌ、サンエイドＳＩ−８０Ｌ、サンエイドＳＩ−１００Ｌ、サンエイドＳＩ−１１０Ｌ、サンエイドＳＩ−１８０Ｌ、サンエイドＳＩ−１１０、サンエイドＳＩ−１４５、サンエイドＳＩ−１５０、サンエイドＳＩ−１６０、サンエイドＳＩ−１８０（以上、三新化学工業（株）製）、エサキュア１０６４、エサキュア１１８７（以上、ランベルティ社製）、オムニキャット４３２、オムニキャット４４０、オムニキャット４４５、オムニキャット５５０、オムニキャット６５０、オムニキャットＢＬ−５５０（アイジーエム レジン社製）、イルガキュア２５０（ＢＡＳＦ（株）製）、ロードシル フォトイニシエーター２０７４（ＲＨＯＤＯＲＳＩＬ ＰＨＯＴＯＩＮＩＴＩＡＴＯＲ ２０７４（ローディア・ジャパン（株）製）、ＷＰＩ−１１３、ＷＰＩ−１１６、ＷＰＩ−１６９、ＷＰＩ−１７０（和光純薬工業（株）製）等が市販されている。
【００４９】
これらの中では、芳香族スルホニウム塩（Ｂ１）であるサンアプロ社製ＣＰＩ―１００Ｐ、ＣＰＩ―１０１Ａ、ＣＰＩ―２００Ｋ、ＣＰＩ―２１０Ｓ、あるいは芳香族ヨードニウム塩であるＢＡＳＦ社製イルガキュア２５０、和光純薬工業社製ＷＰＩ−１１３、ＷＰＩ−１１６、ＷＰＩ−１６９、ＷＰＩ−１７０が好ましい。
【００５０】
光カチオン重合開始剤（Ｂ）は、感光性樹脂組成物の固形分の合計１００重量％中、０．１〜３０重量％の量で用いることが好ましく、残膜率、耐薬品性、透過率の観点から１〜２０重量％の量で用いることがより好ましい。
【００５１】
＜カチオン重合性化合物（Ｃ）＞
本発明におけるカチオン重合性化合物とは、前述の光カチオン重合開始剤（Ｂ）へのＵＶ照射あるいは加熱により生じたテトラフルオロホウ酸や、ヘキサフルオロリン酸などの強酸と反応し、カチオン活性種を生じる化合物のことである。
カチオン重合性化合物としては、ビニルエーテル化合物（Ｃ１）、エポキシ化合物（Ｃ２）オキセタン化合物（Ｃ３）、スチレン誘導体、またはジエン化合物等が挙げられる。
【００５２】
本発明のカチオン重合性化合物（Ｃ）としては、ビニルエーテル化合物（Ｃ１）を含む２種以上のカチオン重合性化合物であれば、公知の化合物を、特に限定なく使用することができる。
【００５３】
また、好ましくは、さらにエポキシ化合物（Ｃ２）またはオキセタン化合物（Ｃ３）を含むことが、硬度、残膜率、密着性、耐薬品性のために好ましく、より好ましくは、ビニルエーテル化合物（Ｃ１）、エポキシ化合物（Ｃ２）、およびオキセタン化合物（Ｃ３）を含むことにより、硬度、残膜率のために好ましい。
【００５４】
このように、ビニルエーテル化合物（Ｃ１）、エポキシ化合物（Ｃ２）、およびオキセタン化合物（Ｃ３）を含む場合の含有量は、感光性樹脂組成物の固形分を基準（１００重量％）として、ビニルエーテル化合物（Ｃ１）が０．５〜２０重量％、エポキシ化合物（Ｃ２）が３〜４０重量％、オキセタン化合物（Ｃ３）が５〜５０重量％、の範囲にあると硬度、残膜率、密着性、耐薬品性が高く、優れた塗膜が得られるため好ましい。
【００５５】
［ビニルエーテル化合物（Ｃ１）］
ビニルエーテル化合物（Ｃ１）としては、公知の化合物であれば特に制限なく使用できるが、炭素数３〜３５のものが好ましく、例えば以下の単官能又は多官能ビニルエーテルが挙げられる。
尚、上記「単官能ビニルエーテル」とはビニル基の数が１個の、「多官能ビニルエーテル」とはビニル基の数が２個以上の、それぞれビニルエーテル化合物を意味する。
単官能ビニルエーテルとしては、例えば、メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、プロピルビニルエーテル、ｎ−ブチルビニルエーテル、ｔ−ブチルビニルエーテル、２−エチルヘキシルビニルエーテル、ｎ−ノニルビニルエーテル、ラウリルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル、シクロヘキシルメチルビニルエーテル、４−メチルシクロヘキシルメチルビニルエーテル、ベンジルビニルエーテル、ジシクロペンテニルビニルエーテル、２−ジシクロペンテノキシエチルビニルエーテル、メトキシエチルビニルエーテル、エトキシエチルビニルエーテル、ブトキシエチルビニルエーテル、メトキシエトキシエチルビニルエーテル、エトキシエトキシエチルビニルエーテル、メトキシポリエチレングリコールビニルエーテル、テトラヒドロフルフリルビニルエーテル、２−ヒドロキシエチルビニルエーテル、２−ヒドロキシプロピルビニルエーテル、４−ヒドロキシブチルビニルエーテル、４−ヒドロキシメチルシクロヘキシルメチルビニルエーテル、ジエチレングリコールモノビニルエーテル、ポリエチレングリコールビニルエーテル、クロルエチルビニルエーテル、クロルブチルビニルエーテル、クロルエトキシエチルビニルエーテル、フェニルエチルビニルエーテル及びフェノキシポリエチレングリコールビニルエーテル、エチルオキセタンメチルビニルエーテル、ジシクロペンタジエンビニルエーテル、シクロヘキサンジメタノールビニルグリシジルエーテル、トリシクロデカンビニルエーテルアクリル酸２−（ビニロキシエトキシ）エチル、メタクリル酸２−（ビニロキシエトキシ）エチル等が挙げられる。
【００５６】
多官能ビニルエーテルとしては、例えば、エチレングリコールジビニルエーテル、ジエチレングリコールジビニルエーテル、トリエチレングリコールジビニルエーテル、ポリエチレングリコールジビニルエーテル、プロピレングリコールジビニルエーテル、ブチレングリコールジビニルエーテル、ヘキサンジオールジビニルエーテル、ビスフェノールＡアルキレンオキサイドジビニルエーテル、ビスフェノールＦアルキレンオキサイドジビニルエーテル等のジビニルエーテル類；トリメチロールエタントリビニルエーテル、トリメチロールプロパントリビニルエーテル、ジトリメチロールプロパンテトラビニルエーテル、グリセリントリビニルエーテル、ペンタエリスリトールテトラビニルエーテル、ジペンタエリスリトールペンタビニルエーテル、ジペンタエリスリトールヘキサビニルエーテル、ＥＯ付加トリメチロールプロパントリビニルエーテル、ＰＯ付加トリメチロールプロパントリビニルエーテル、ＥＯ付加ジトリメチロールプロパンテトラビニルエーテル、ＰＯ付加ジトリメチロールプロパンテトラビニルエーテル、ＥＯ付加ペンタエリスリトールテトラビニルエーテル、ＰＯ付加ペンタエリスリトールテトラビニルエーテル、ＥＯ付加ジペンタエリスリトールヘキサビニルエーテル及びＰＯ付加ジペンタエリスリトールヘキサビニルエーテル等が挙げられる。
これらのビニルエーテルは、１種を単独で、または必要に応じて任意の比率で２種以上混合して用いることができる。
【００５７】
これらのビニルエーテルのなかでも、高感度化・入手性の観点からジエチレングリコールジビニルエーテル、またはトリエチレングリコールジビニルエーテルが好ましく、耐薬品性の観点からエチルオキセタンメチルビニルエーテル、またはジシクロペンタジエンビニルエーテルが好ましい。
【００５８】
本発明の感光性樹脂組成物に用いられるビニルエーテル化合物（Ｃ１）の含有量は、感光性樹脂組成物の固形分を基準（１００重量％）として、通常０．５〜３０重量％、好ましくは１〜１０重量％である。ビニルエーテル化合物（Ｃ１）の含有量が、前記の範囲にあると残膜率と耐薬品性が高く、優れた塗膜が得られるため好ましい。
【００５９】
［エポキシ化合物（Ｃ２）］
本発明の感光性樹脂組成物に使用されるエポキシ化合物（Ｃ２）としては、エポキシ基を有する公知の化合物を、特に限定されず使用することができる。
【００６０】
エポキシ化合物（Ｃ２）の具体例としては、フェノールノボラック型エポキシ樹脂（Ｃ２-ａ）、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂（Ｃ２-ｂ）、トリスヒドロキシフェニルメタン型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエンフェノール型エポキシ樹脂、ビスフェノール−Ａ型エポキシ樹脂、ビスフェノール−Ｆ型エポキシ樹脂、ビフェノール型エポキシ樹脂、ビスフェノール−Ａノボラック型エポキシ樹脂、ナフタレン骨格含有エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、複素環式エポキシ樹脂等が挙げられる。
これらのなかでも、エポキシ化合物（Ｃ２）がフェノールノボラック型エポキシ樹脂（Ｃ２-ａ）またはクレゾールノボラック型エポキシ樹脂（Ｃ２-ｂ）であることが残膜率、耐薬品性の観点から好ましい。
【００６１】
これらのエポキシ化合物の中でも、速硬化性・耐薬品性の観点からエポキシ当量（ｇ／ｅq.）が１５０〜２５０のものが好ましく、１７０〜２２０のものが特に好ましい。
【００６２】
（フェノールノボラック型エポキシ樹脂（Ｃ２-ａ））
フェノールノボラック型エポキシ樹脂（Ｃ２-ａ）としては、例えば、エピクロンＮ−７４０、エピクロンＮ−７７０、エピクロンＮ−７７５（大日本インキ化学工業（株）製）、Ｄ．Ｅ．Ｎ４３８（ダウ・ケミカル製）、ＲＥ−３０６（日本化薬（株）製）、ｊＥＲ１５２、ｊＥＲ１５４（いずれも三菱化学（株）製）等が挙げられる。
【００６３】
（クレゾールノボラック型エポキシ樹脂（Ｃ２-ｂ））
クレゾールノボラック型エポキシ樹脂（Ｃ２-ｂ）としては、例えば、エピクロンＮ−６６０、エピクロンＮ−６６５、エピクロンＮ−６７０、エピクロンＮ−６７３、エピクロンＮ−６８０、エピクロンＮ−６９５、エピクロンＮ−６６５−ＥＸＰ、エピクロンＮ−６７２−ＥＸＰ（いずれもＤＩＣ（株）製）、ＥＯＣＮ−１０２Ｓ、ＥＯＣＮ−１０３Ｓ、ＥＯＣＮ−１０４Ｓ（いずれも日本化薬（株）製）、ＵＶＲ−６６５０（ユニオンカーバイド（株）製）、ＥＳＣＮ−１９５（住友化学工業（株）製）等が挙げられる。
【００６４】
トリスヒドロキシフェニルメタン型エポキシ樹脂としては、例えば、ＥＰＰＮ−５０３、ＥＰＰＮ−５０２Ｈ、ＥＰＰＮ−５０１Ｈ（いずれも日本化薬（株）製）、ＴＡＣＴＩＸ−７４２（ダウ・ケミカル（株）製）、ｊＥＲ Ｅ１０３２Ｈ６０（三菱化学（株）製）等が挙げられる。
【００６５】
ジシクロペンタジエンフェノール型エポキシ樹脂としては、例えば、エピクロンＥＸＡ−７２００（ＤＩＣ（株）製）、ＴＡＣＴＩＸ−５５６（ダウ・ケミカル（株）製）等が挙げられる。
【００６６】
ビスフェノール型エポキシ樹脂としては、例えば、ｊＥＲ８２８、ｊＥＲ１００１（いずれも三菱化学（株）製）、ＵＶＲ−６４１０（ユニオンカーバイド（株）製）、Ｄ．Ｅ．Ｒ−３３１（ダウ・ケミカル（株）製）、ＹＤ−８１２５（東都化成（株）製）等のビスフェノール−Ａ型エポキシ樹脂、ＵＶＲ−６４９０（ユニオンカーバイド社製）、ＹＤＦ−８１７０（東都化成（株）製）等のビスフェノール−Ｆ型エポキシ樹脂等が挙げられる。
【００６７】
ビフェノール型エポキシ樹脂としては、例えば、ＮＣ−３０００、ＮＣ−３０００Ｈ（いずれも日本化薬（株）製）等のビフェノール型エポキシ樹脂、ｊＥＲ ＹＸ−４０００（三菱化学（株）製）等のビキシレノール型エポキシ樹脂、ｊＥＲ ＹＬ−６１２１（三菱化学（株）製）等が挙げられる。
【００６８】
ビスフェノールＡノボラック型エポキシ樹脂としては、例えば、エピクロンＮ−８８０（ＤＩＣ（株）製）、ｊＥＲ Ｅ１５７Ｓ７５（三菱化学（株）製）等が挙げられる。
【００６９】
ナフタレン骨格含有エポキシ樹脂としては、例えば、ＮＣ−７０００、ＮＣ−７３００（いずれも日本化薬（株）製）、ＥＸＡ−４７５０（ＤＩＣ（株）製）等が挙げられる。
【００７０】
脂環式エポキシ樹脂としては、例えば、ＥＨＰＥ−３１５０（（株）ダイセル製）等が挙げられる。
【００７１】
複素環式エポキシ樹脂としては、例えば、ＴＥＰＩＣ−Ｌ，ＴＥＰＩＣ−Ｈ、ＴＥＰＩＣ−Ｓ（いずれも日産化学工業（株）製）等が挙げられる。
【００７２】
これらのエポキシ化合物は、１種を単独で、または必要に応じて任意の比率で２種以上混合して用いることができる。
【００７３】
本発明の感光性樹脂組成物に用いられるエポキシ化合物（Ｃ２）の含有量は、感光性樹脂組成物の固形分を基準（１００重量％）として、通常０．５〜５０重量％、好ましくは１〜４０重量％である。エポキシ化合物（Ｃ２）の含有量が、前記の範囲にあると耐薬品性が高く、優れた塗膜が得られるため好ましい。
【００７４】
［オキセタン化合物（Ｃ３）］
オキセタン化合物（Ｃ３）としては、オキセタン基を有する公知の化合物を特に限定されず使用することができる。オキセタン化合物（Ｃ３）は、オキセタン基が１官能であるもの、オキセタン基が２官能であるもの、オキセタン基が２官能以上であるものが挙げられる。
【００７５】
オキセタン基が１官能であるものとしては、
(３−エチルオキセタン−３−イル)メチルアクリレート（例えば、大阪有機化学工業社製ＯＸＥ−１０）、(３−エチルオキセタン−３−イル)メチルメタクリレート（例えば、大阪有機化学工業社製ＯＸＥ−３０）、３−エチル−３−ヒドロキシメチルオキセタン（例えば、東亞合成社製ＯＸＴ−２１２）、３−エチル−３−（２−エチルヘキシロキシメチル）オキセタン、３−エチル−３−（フェノキシメチル）オキセタン、３−エチル−３−（２−メタクリロキシメチル）オキセタン、３−エチル−３−｛［３−（トリエトキシシリル）プロポキシ］メチル｝オキセタン等が挙げられる。
【００７６】
オキセタン基が１官能であるものの中では、好ましくは、下記式（３−１）、または式（３−２）で表される、３−エチル−３−（２−エチルヘキシロキシメチル）オキセタン、または３−エチル−３−（２−エチルヘキシロキシメチル）オキセタンが好ましい。
【化７】
2014232206.tif 000003
【化８】
2014232206.tif 000004
【００７７】
オキセタン基が２官能のものとしては、
４，４’−ビス［（３−エチル−３−オキセタニル）メトキシメチル］ビフェニル（例えば、宇部興産（株）製、ＯＸＢＰ）、１，４−ビス［（３−エチル−３−オキセタニル）メトキシメチル］ベンゼン（例えば、宇部興産（株）製ＯＸＴＰ）、１，４−ビス｛［（３−エチル−３−オキセタニル）メトキシ］メチル｝ベンゼン（例えば、東亞合成（株）製ＯＸＴ−１２１）、ジ［１−エチル（３−オキセタニル）］メチルエーテル（例えば、東亞合成（株）製ＯＸＴ−２２１）、ジ［１−エチル（３−オキセタニル）］メチルエーテル−３−エチル−３−ヒドロキシメチルオキセタン、３−エチル−３−（２−エチルヘキシロキシメチル）オキセタン、３−エチル−３−（２−フェノキシメチル）オキセタン、３，７−ビス（３−オキセタニル）−５−オキサ−ノナン、１，２−ビス［（３−エチル−３−オキセタニルメトキシ）メチル］エタン、１，３−ビス［（３−エチル−３−オキセタニルメトキシ）メチル］プロパン、エチレングリコースビス（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、ジシクロペンテニルビス（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、トリエチレングリコールビス（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、テトラエチレングリコールビス（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、１，４−ビス（３−エチル−３−オキセタニルメトキシ）ブタン、１，６−ビス（３−エチル−３−オキセタニルメトキシ）ヘキサン、ポリエチレングリコールビス（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、エチレンオキシド（ＥＯ）変性ビスフェノールＡビス（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、プロピレンオキシド（ＰＯ）変性ビスフェノールＡビス（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、ＥＯ変性水添ビスフェノールＡビス（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、ＰＯ変性水添ビスフェノールＡビス（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、ＥＯ変性ビスフェノールＦ（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、東亞合成（株）製ＯＸＴ−１９１等が挙げられる。
【００７８】
オキセタン基が２官能であるものの中では、好ましくは、下記一般式（３−３）、一般式（３−４）、または化学式（３−５）で表される化合物が挙げられる。とりわけ化学式（３−５）で表される化合物を用いることで、硬度、残膜率、密着性が向上するために好ましい。
【化２】
2014232206.tif 000005
【００７９】
［一般式（３−３）中、Ｒ２は、同一若しくは異なっていても良く、炭素数が１〜１０の炭化水素基、炭素数が１〜１０のアルコキシ基、又は炭素数が１〜１０のヒドロキシアルキレン基を表す。Ｒ３は、炭素数が１〜３０の２価の有機基を表す。ｎ１は１〜２０の整数である。］
【００８０】
Ｒ2の炭素数として、より好ましくは、１〜４であり、更に好ましくは、１又は２であり、特に好ましくは、１である。
【００８１】
【化３】
2014232206.tif 000006
ｎ2は、１〜１０の整数で表されるものが好ましい。
【００８２】
【化４】
2014232206.tif 000007
【００８３】
オキセタン基が２官能以上であるものとしては、
ペンタエリスリトールトリス（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、ペンタエリスリトールテトラキス（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、ジペンタエリスリトールヘキサ（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、ジペンタエリスリトールペンタキス（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、ジペンタエリスリトールテトラキス（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールペンタキス（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、ジトリメチロールプロパンテトラキス（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、オキセタン基を含有する樹脂（例えば、特許第３７８３４６２号記載のオキセタン変性フェノールノボラック樹脂等）や前述の(３−エチルオキセタン−３−イル)メチル（メタ）アクリレートのような（メタ）アクリルモノマーを重合させて得られる重合体が挙げられる。このような重合体は、公知の重合法を用いて得ることができる。
【００８４】
オキセタン基が２官能以上であるものなかでも、オキセタン化合物（Ｃ３）が(３−エチルオキセタン−３−イル)メチル（メタ）アクリレートを重合してなる重合体であることが硬度・耐薬品性の観点から好ましい。
【００８５】
本発明の感光性樹脂組成物に用いられるオキセタン化合物（Ｃ３）の含有量は、感光性樹脂組成物の固形分を基準（１００重量％）として、通常０．５〜５０重量％、好ましくは１〜４０重量％である。オキセタン化合物（Ｃ３）の含有量が、前記の範囲にあると耐薬品性が高く、優れた塗膜が得られるため好ましい。
【００８６】
＜（メタ）アクリル基を有するラジカル重合性化合物＞
本発明の感光性樹脂組成物は、（メタ）アクリル基を有するラジカル重合性化合物を含んでいてもよく、これにより、より硬度に優れた塗膜を得ることができる。（メタ）アクリル基を有するラジカル重合性化合物は硬度、残膜率の観点から少なくとも３官能以上であることが好ましい。
【００８７】
（メタ）アクリル基を有するラジカル重合性化合物の具体例としては、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレ−ト、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレートと酸無水物との反応物、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレートと酸無水物との反応物、ペンタエリスリトールのホモポリマーとアクリル酸の反応生成物などが挙げられる。
【００８８】
また、酸基を有していても良く、例えば、多価アルコールと（メタ）アクリル酸との遊離水酸基含有ポリ（メタ）アクリレート類と、ジカルボン酸類とのエステル化物；多価カルボン酸と、モノヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート類とのエステル化物等を挙げることができる。具体例としては、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタメタクリレート等のモノヒドロキシオリゴアクリレートまたはモノヒドロキシオリゴメタクリレート類と、マロン酸、こはく酸、グルタル酸、テレフタル酸等のジカルボン酸類との遊離カルボキシル基含有モノエステル化物；プロパン−１，２，３，４−テトラカルボン酸、ブタン−１，２，３，４−テトラカルボン酸、ベンゼン−１，２，３，４−テトラカルボン酸等のテトラカルボン酸類と、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルメタクリレート等のモノヒドロキシモノアクリレートまたはモノヒドロキシモノメタクリレート類との遊離カルボキシル基含有オリゴエステル化物等を挙げることができる。
これらの（メタ）アクリル基を有するラジカル重合性化合物は、１種を単独で、または必要に応じて任意の比率で２種以上混合して用いることができる。
【００８９】
このような（メタ）アクリル基を有するラジカル重合性化合物として市販品では、例えば、アロニックスＭ−４００、アロニックスＭ−４６０、アロニックスＭ−４０２、アロニックスＭ−５１０、アロニックスＭ−５２０（東亜合成株式会社製）、ＫＡＹＡＲＡＤ Ｔ−１４２０、ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ、ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＣＡ２０、ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＣＡ３０、ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＣＡ６０、ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＣＡ１２０（日本化薬株式会社製）、ビスコート＃８０２、ビスコート＃２５００、ビスコート＃１０００、ビスコート＃１０８０（大阪有機化学工業株式会社）を挙げることができる。
【００９０】
（メタ）アクリル基を有するラジカル重合性化合物を用いる場合、含有量は、樹脂組成物の固形分の合計１００重量％中、５〜８０重量％の量で用いることが好ましい。この場合、５重量％よりエチレン性不飽和二重結合を有するラジカル重合性化合物が少ないと、硬度アップや耐溶剤性付与という効果が得られ難く、８０重量％より多いと透過率の低下、密着性の低下が起こる場合がある。より好ましくは、１０〜５０重量％である。
【００９１】
＜アルカリ可溶性樹脂（Ｆ）＞
本発明の感光性樹脂組成物に含まれるアルカリ可溶性樹脂としては、例えば、熱可塑性樹脂等が挙げられる。アルカリ可溶性樹脂は、可視光領域の４００〜７００ｎｍの全波長領域において分光透過率が好ましくは８０％以上、より好ましくは９５％以上の透明樹脂であることが好ましい。また、アルカリ現像型感光性組成物の形態で用いる場合には、酸性置換基含有エチレン性不飽和単量体を共重合したアルカリ可溶性アクリル系樹脂を用いることが好ましい。また、さらに光感度を向上させるために、エチレン性不飽和二重結合を有する活性エネルギー線硬化性樹脂を用いることもできる。
【００９２】
熱可塑性樹脂としては、例えば、アクリル樹脂、ブチラール樹脂、スチレンーマレイン酸共重合体、塩素化ポリエチレン、塩素化ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリ酢酸ビニル、ポリウレタン系樹脂、ポリエステル樹脂、ビニル系樹脂、アルキッド樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリアミド樹脂、ゴム系樹脂、環化ゴム系樹脂、セルロース類、ポリエチレン（HDPE、LDPE）、ポリブタジエン、およびポリイミド樹脂等が挙げられる。
【００９３】
酸性置換基含有エチレン性不飽和単量体を共重合したアクリル系アルカリ可溶性樹脂としては、例えば、カルボキシル基、スルホン基等の酸性置換基を有する樹脂が挙げられる。アルカリ可溶性樹脂として具体的には、酸性置換基を有するアクリル樹脂、α−オレフィン／（無水）マレイン酸共重合体、スチレン／スチレンスルホン酸共重合体、エチレン／（メタ）アクリル酸共重合体、又はイソブチレン／（無水）マレイン酸共重合体等が挙げられる。中でも、酸性置換基を有するアクリル樹脂、およびスチレン／スチレンスルホン酸共重合体から選ばれる少なくとも１種の樹脂、特に酸性置換基を有するアクリル樹脂は、耐熱性、透明性が高いため、好適に用いられる。
【００９４】
エチレン性不飽和二重結合を有する活性エネルギー線硬化性樹脂としては、たとえば以下に示す(ｉ)や(ｉｉ)の方法によりエチレン性不飽和二重結合を導入した樹脂が挙げられる。
【００９５】
[方法(ｉ)]
方法(ｉ)としては、例えば、エポキシ基を有するエチレン性不飽和単量体と、他の１種類以上の単量体とを共重合することによって得られた共重合体の側鎖エポキシ基に、エチレン性不飽和二重結合を有する不飽和一塩基酸のカルボキシル基を付加反応させ、更に、生成した水酸基に、多塩基酸無水物を反応させ、エチレン性不飽和二重結合およびカルボキシル基を導入する方法がある。このようにして得られた樹脂は、残膜率および硬度に優れるために好ましい。
【００９６】
エポキシ基を有するエチレン性不飽和単量体としては、例えば、グリシジル（メタ）アクリレート、メチルグリシジル（メタ）アクリレート、２−グリシドキシエチル（メタ）アクリレート、３，４−エポキシブチル（メタ）アクリレート、及び３，４−エポキシシクロヘキシル（メタ）アクリレートが挙げられ、これらは、単独で用いても、２種類以上を併用してもかまわない。次工程の不飽和一塩基酸との反応性の観点で、グリシジル（メタ）アクリレートが好ましい。
【００９７】
不飽和一塩基酸としては、（メタ）アクリル酸、クロトン酸、ｏ−、ｍ−、ｐ−ビニル安息香酸、（メタ）アクリル酸のα位ハロアルキル、アルコキシル、ハロゲン、ニトロ、シアノ置換体等のモノカルボン酸等が挙げられ、これらは、単独で用いても、２種類以上を併用してもかまわない。
【００９８】
多塩基酸無水物としては、テトラヒドロ無水フタル酸、無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、無水コハク酸、無水マレイン酸等が挙げられ、これらは単独で用いても、２種類以上を併用してもかまわない。カルボキシル基の数を増やす等、必要に応じて、トリメリット酸無水物等のトリカルボン酸無水物を用いたり、ピロメリット酸二無水物等のテトラカルボン酸二無水物を用いて、残った無水物基を加水分解したりすること等もできる。また、多塩基酸無水物として、エチレン性不飽和二重結合を有する、テトラヒドロ無水フタル酸、又は無水マレイン酸を用いると、更にエチレン性不飽和二重結合を増やすことができる。
【００９９】
方法(ｉ)の類似の方法として、例えば、カルボキシル基を有するエチレン性不飽和単量体と、他の１種類以上の単量体とを共重合することによって得られた共重合体の側鎖カルボキシル基の一部に、エポキシ基を有するエチレン性不飽和単量体を付加反応させ、エチレン性不飽和二重結合およびカルボキシル基を導入する方法がある。
【０１００】
[方法(ｉｉ)]
方法(ｉｉ)としては、水酸基を有するエチレン性不飽和単量体を使用し、他のカルボキシル基を有する不飽和一塩基酸の単量体や、他の単量体とを共重合することによって得られた共重合体の側鎖水酸基に、イソシアネート基を有するエチレン性不飽和単量体のイソシアネート基を反応させる方法がある。
【０１０１】
水酸基を有するエチレン性不飽和単量体としては、２−ヒドロキシエチル（メタ）アク
リレート、２−若しくは３−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−若しくは３
−若しくは4−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、グリセロール（メタ）アクリレート、又はシクロヘキサンジメタノールモノ（メタ）アクリレート等のヒドロキシアルキルメタアクリレート類が挙げられ、これらは、単独で用いても、２種類以上を併用して用いてもかまわない。また、上記ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレートに、エチレンオキシド、プロピレンオキシド、及び／又はブチレンオキシド等を付加重合させたポリエーテルモノ（メタ）アクリレートや、ポリγ−バレロラクトン、ポリε−カプロラクトン、及び／又はポリ１２−ヒドロキシステアリン酸等を付加したポリエステルモノ（メタ）アクリレートも使用できる。塗膜異物抑制の観点から、２−ヒドロキシエチルメタアクリレート、又はグリセロールメタアクリレートが好ましい。
【０１０２】
イソシアネート基を有するエチレン性不飽和単量体としては、２−（メタ）アクリロイルオキシエチルイソシアネート、又は１，１−ビス〔メタアクリロイルオキシ〕エチルイソシアネート等が挙げられるが、これらに限定することなく、２種類以上併用することもできる。
【０１０３】
アルカリ可溶性樹脂のポリスチレン換算の重量平均分子量は、好ましくは、３０００〜１０００００であり、より好ましくは５０００〜５００００である。アルカリ可溶性樹脂の重量平均分子量が、前記の範囲にあると、塗工性が良好であり、アルカリ可溶性樹脂として使用する際には現像時に膜減りが生じにくく、さらに現像時に未露光部分の現像性が良好である傾向にあり、好ましい。
アルカリ可溶性樹脂の分子量分布［重量平均分子量／数平均分子量］は、好ましくは１．５〜６．０であり、より好ましくは、１．８〜４．０である。分子量分布が、前記の範囲にあると、現像性に優れるので好ましい。
【０１０４】
アルカリ可溶性樹脂（Ｆ）の含有量は、感光性樹脂組成物の固形分を基準（１００重量％）として、通常５〜９０重量％、好ましくは１０〜７０重量％である。アルカリ可溶性樹脂（Ｆ）の含有量が、前記の範囲にあると、現像液への溶解性に優れ、現像残渣が発生し難く、また現像時に露光部の膜減りが生じ難いため好ましい。
【０１０５】
＜溶剤＞
溶剤としては、例えば
１，２，３−トリクロロプロパン、１，３−ブタンジオール、１，３−ブチレングリコール、１，３−ブチレングリコールジアセテート、１，４−ジオキサン、２−ヘプタノン、２−メチル−１，３−プロパンジオール、３，５，５−トリメチル−２−シクロヘキセン−１−オン、３，３，５−トリメチルシクロヘキサノン、３−エトキシプロピオン酸エチル、３−メチル−１，３−ブタンジオール、３−メトキシ−３−メチル−１−ブタノール、３−メトキシ−３−メチルブチルアセテート、３−メトキシブタノール、３−メトキシブチルアセテート、４−ヘプタノン、ｍ−キシレン、ｍ−ジエチルベンゼン、ｍ−ジクロロベンゼン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ｎ−ブチルアルコール、ｎ−ブチルベンゼン、ｎ−プロピルアセテート、Ｎ−メチルピロリドン、ｏ−キシレン、ｏ−クロロトルエン、ｏ−ジエチルベンゼン、ｏ−ジクロロベンゼン、ｐ−クロロトルエン、ｐ−ジエチルベンゼン、ｓｅｃ−ブチルベンゼン、ｔｅｒｔ−ブチルベンゼン、γ―ブチロラクトン、イソブチルアルコール、イソホロン、エチレングリコールジエチルエーテル、エチレングリコールジブチルエーテル、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノターシャリーブチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコールモノヘキシルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジイソブチルケトン、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールモノイソプロピルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、シクロヘキサノール、シクロヘキサノールアセテート、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールメチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノプロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ダイアセトンアルコール、トリアセチン、トリプロピレングリコールモノブチルエーテル、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールジアセテート、プロピレングリコールフェニルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルプロピオネート、ベンジルアルコール、メチルイソブチルケトン、メチルシクロヘキサノール、酢酸ｎ−アミル、酢酸ｎ−ブチル、���酸イソアミル、酢酸イソブチル、酢酸プロピル、二塩基酸エステル、エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート等が挙げられる。
これらの溶剤は、１種を単独で、または必要に応じて任意の比率で２種以上混合して用いることができる。
【０１０６】
特に溶剤の乾燥性を考慮し、ダイコートや印刷法などにおいては、１６０℃以上の高沸点溶剤を含むことが好ましく、たとえば、３−メトキシ−３−メチル−１−ブタノール（ｂｐ１７４℃）、１，３−ブタンジオール（ｂｐ２０３℃）、３−メチル−１，３−ブタンジオール（ｂｐ２０３℃）、２−メチル−１，３−プロパンジオール（ｂｐ２１３℃）、ジイソブチルケトン（ｂｐ１６８．１℃）、エチレングリコールモノブチルエーテル（ｂｐ１７１．２℃）、エチレングリコールモノヘキシルエーテル（ｂｐ２０８．１℃）、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート（ｂｐ１９１．５℃）、エチレングリコールジブチルエーテル（ｂｐ２０３．３℃）、ジエチレングリコールモノメチルエーテル（ｂｐ１９４．０℃）、ジエチレングリコールモノエチルエーテル（ｂｐ２０２．０℃）、ジエチレングリコールジエチルエーテル（ｂｐ１８８．４℃）、ジエチレングリコールモノイソプロピルエーテル（ｂｐ２０７．３℃）、プロピレングリコールモノブチルエーテル（ｂｐ１７０．２℃）、プロピレングリコールジアセテート（ｂｐ１９０．０℃）、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル（ｂｐ１８７．２℃）、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル（ｂｐ１９７．８℃）、ジプロピレングリコールモノプロピルエーテル（ｂｐ２１２．０℃）、ジプロピレングリコールジメチルエーテル（ｂｐ１７５℃）、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル（ｂｐ２０６．３℃）、３−エトキシプロピオン酸エチル（ｂｐ１６９．７℃）、３−メトキシブチルアセテート（ｂｐ１７２．５℃）、３−メトキシ−３−メチルブチルアセテート（ｂｐ１８８℃）、γ−ブチロラクトン（ｂｐ２０４℃）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（ｂｐ１６６．１℃）、Ｎ−メチルピロリドン（ｂｐ２０２℃）、ｐ−クロロトルエン（ｂｐ１６２．０℃）、ｏ−ジエチルベンゼン（ｂｐ１８３．４℃）、ｍ−ジエチルベンゼン（ｂｐ１８１．１℃）、ｐ−ジエチルベンゼン（ｂｐ１８３．８℃）、ｏ−ジクロロベンゼン（ｂｐ１８０．５℃）、ｍ−ジクロロベンゼン（ｂｐ１７３．０℃）、ｎ−ブチルベンゼン（ｂｐ１８３．３℃）、ｓｅｃ−ブチルベンゼン（ｂｐ１７８．３℃）、ｔｅｒｔ−ブチルベンゼン（ｂｐ１６９．１℃）、シクロヘキサノール（ｂｐ１６１．１℃）、シクロヘキシルアセテート（ｂｐ１７３℃）、メチルシクロヘキサノール（ｂｐ１７４℃）等が挙げられ、１６０℃以上の高沸点溶剤は溶剤の全量を基準として５〜５０重量％が好ましい。
溶剤の含有量は、樹脂組成物中の固形分の合計１００重量部に対して、２００〜４０００重量部の量で用いることができる。
【０１０７】
＜その他の成分＞
本発明の感光性樹脂組成物には、その他必要に応じてシラン化合物、加熱硬化型触媒、無機酸化物微粒子、酸化防止剤、界面活性剤、貯蔵安定剤、レベリング剤、光安定剤などを使用することもできる。
【０１０８】
＜シラン化合物＞
本発明の感光性樹脂組成物は、さらにシラン化合物を併用してもよい。シラン化合物を含むことでガラス基材、ＩＴＯなどとの密着性が向上するために好ましい。
【０１０９】
シラン化合物としては、アミドまたはウレタン骨格、イミダゾール基、イソシアネート基、ビニル基、グリシジル基、（メタ）アクリロイルオキシ基、アミノ基、ウレイド基、メルカプト基、またはスルフィド基を有するシラン化合物等が挙げられる。
シラン化合物の中でも、アミドまたはウレタン骨格を有するシラン化合物（Ｄ１）、より好ましくは一般式（６）で示されるシラン化合物、またはイミダゾール基を有するシラン化合物（Ｄ２）、より好ましくは化学式（７）で表されるシラン化合物が、より密着性に優れるために好ましい。
【０１１０】
［シラン化合物（Ｄ１）］
シラン化合物（Ｄ１）としては、一般式（６）で示されるシラン化合物が挙げられる。
【化５】
2014232206.tif 000008
［一般式（６）中、Ｒ３１は、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数６〜２０のアリールオキシ基、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数６〜２０のアリール基、炭素数７〜３０のアルアルキル基、炭素数７〜３０のアルカリール基、
Ｘは、炭素数１〜２０のアルキレン基、炭素数６〜２０のアリーレン基、炭素数１〜２０のアルコキシレン基、
Ｒ３２、Ｒ３３およびＲ３４は、互いに独立して、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数６〜２０のアリールオキシ基、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数６〜２０のアリール基、炭素数７〜３０のアルアルキル基、炭素数７〜３０のアルカリール基、置換基を有するシロキサン基、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、または水素原子である。］
【０１１１】
Ｒ３１が、アルキル基、アリール基、アルアルキル基、アルカリール基の場合、アミド骨格を有するシラン化合物となり、Ｒ３１が、アルコキシ基、アリールオキシ基の場合、ウレタン骨格を有するシラン化合物となる。
【０１１２】
一般式（６）で示されるシラン化合物としては、例えば（３−カルバメートエチル）プロピルトリエトキシシラン、（３−カルバメートエチル）プロピルトリメトキシシラン、（３−カルバメートエチル）プロピルトリプロパキシシラン、（３−カルバメートプロピル）プロピルトリエトキシシラン、（３−カルバメートプロピル）プロピルトリメトキシシラン、（３−カルバメートプロピル）プロピルトリプロパキシシラン、（３−カルバメートブチル）プロピルトリエトキシシラン、（３−カルバメートブチル)プロピルトリメトキシシラン、（３−カルバメートブチル)プロピルトリプロパキシシラン、（３−カルバメートブチル)ブチルトリプロパキシシラン、（３−カルバメートブチル）プロピルメチルジエトキシシラン、（３−カルバメートペンチル）プロピルトリエトキシシラン、（３−カルバメートヘキシル）プロピルトリエトキシシラン、３−カルバメートオクチル）ペンチルトリブトキシシラン、（３−カルバメートエチル）プロピルシリルトリクロライド、（３−カルバメートエチル）プロピルトリメチルシラン、３−カルバメートエチル）プロピルジメチルシラン、３−カルバメートエチル）プロピルトリブチルシラン、３−カルバメートエチル）エチル-ｐ-キシレントリエトキシシラン、３−カルバメートエチル）-ｐ-フェニレントリエトキシシランなどが挙げられるが、これらに限られない。また一般式（６）で示されるシラン化合物（Ｄ１）は、その加水分解により生じるシラノール化合物であっても、それらが脱水縮合したポリオルガノシロキサン化合物でも良い。
【０１１３】
一般式（６）で示されるシラン化合物（Ｄ）は耐熱性に優れているため塗膜が黄変しにくく、また化学的にも安定であるため経時安定性に優れ、経時後も現像性が損なわれることがない。
【０１１４】
［シラン化合物（Ｄ２）］  
シラン化合物（Ｄ２）は、イミダゾール基を有するシラン化合物であり、一分子中に第１官能基としてイミダゾール基を、第２官能基としてアルコキシシリル基、クロロシリル基、アセトキシシリル基から選ばれる１種類以上を共に有する化合物などであり、イミダゾール環が飽和炭化水素基、不飽和炭化水素基等の置換基を有していても良い。
詳しくは、イミダゾール、２−アルキルイミダゾール、２，４−ジアルキルイミダゾール、４−ビニルイミダゾール等と３−グリドキシプロピルシラン化合物との反応物、２−エチル−４−メチルイミダゾプロピルシラン、およびこれらの塩、分子内縮合物、分子間縮合物等が挙げられる。
【０１１５】
イミダゾール基を有するシラン化合物の中でも、より好ましくは、化学式（７）で示されるシラン化合物である。
また、化学式（７）で示されるシラン化合物、またはシラン化合物の加水分解により生じるシラノール化合物であっても、シラノール化合物の脱水縮合反応により生じるポリオルガノシロキサン化合物であってもよく、これらの混合物であっても良い。
【化６】
2014232206.tif 000009
【０１１６】
化学式（７）で示されるシラン化合物（Ｄ２）は、市販品としてはＩＭ−１０００（ＪＸ日鉱日石金属社製）が挙げられる。
【０１１７】
その他のシラン化合物としては、ビニルトリクロルシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、ｐ−スチリルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、３−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−トリエトキシシリル−Ｎ−（１，３−ジメチル−ブチリデン）プロピルアミン、Ｎ−フェニル−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−（ビニルベンジル）−２−アミノエチル−３−アミノプロピルトリメトキシシランの塩酸塩、３−ウレイドプロピルトリエトキシシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシラン、３−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、ビス（トリエトキシシリルプロピル）テトラスルフィド、３−イソシアネートプロピルトリエトキシシラン、等が挙げられる。
これらのシラン化合物は、単独で、または必要に応じて任意の比率で２種以上混合して用いることができる。
【０１１８】
またシラン化合物（Ｄ）の重量平均分子量（Ｍｗ）は、２００以上５０００未満であることが、現像性の点からより好ましい。
シラン化合物（Ｄ）の含有量は、樹脂組成物の固形分合計１００重量％中、１重量％以上２０重量％未満であることが、現像性の点からより好ましい。さらに好ましくは、１重量％以上１０重量％未満である。
【０１１９】
シラン化合物（Ｄ）の重量平均分子量（Ｍｗ）が、２００以上の場合、入手性の観点から好ましく、５０００未満の場合、現像性が良好となるために好ましい。また、含有量が１重量％以上の場合、透過率と現像性が優れ、２０重量％未満の場合、基材への密着性や硬度だけでなく、現像性にも優れるために好ましい。
【０１２０】
＜加熱硬化型触媒＞
本発明における感光性樹脂組成物は、加熱硬化型触媒を使用することもできる。
加熱硬化型触媒は、８０〜２００℃以上に加熱されることでエポキシ樹脂に対して触媒能を発揮する化合物又は組成物である。これらは単独で、またはエポキシ樹脂のような他の樹脂に適宜分散させて配合することができる。このような加熱硬化型触媒としては、以下に示すものが挙げられる。
【０１２１】
ジシアンジアミド：市販品としてはｊＥＲキュアＤＩＣＹ７、１５、２０、７Ａ（以上はジャパンエポキシレジン（株）製／商品名）、オミキュアＤＤＡ１０、ＤＤＡ５０、ＤＤＡ１００、ＤＤＡ５、ＣＧ−３２５、ＣＧ−１２００、ＣＧ−１４００、ＤＩＣＹＮＥＸ３２５、ＤＩＣＹ−Ｆ、ＤＩＣＹ−Ｍ（以上はＣＶＣ Ｓｐｅｃｉａｌｔｙ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ，Ｉｎｃ．製／商品名）等が挙げられる。
アミンアダクト体：市販品としてはアミキュアＰＮ−２３、ＭＹ−２４、ＰＮ−Ｄ、ＭＹ−Ｄ、ＰＮ−Ｈ、ＭＹ−Ｈ（以上は味の素ファインテクノ（株）製／商品名）等が挙げられる。
イミダゾール：市販品としてはキュアゾール２ＭＺ、２ＰＺ、２ＰＨＺ、２ＭＺ−ＯＫ、２ＰＺ−ＯＫ、２Ｐ４ＭＨＺ、２ＰＨＺ、２Ｅ４ＭＺ、Ｃ１１Ｚ、Ｃ１７Ｚ、２ＭＡ−ＯＫ、１Ｂ２ＭＺ（以上は四国化成工業（株）製／商品名）、ｊＥＲキュアＩＢＭＩ−１２、ＥＭＩ−２４、ＢＭＩ−１２（以上はジャパンエポキシレジン（株）製／商品名）、ニチゴーイミダゾール２ＰＩ、２ＭＩ、２Ｅ４ＭＩ、１Ｂ２ＭＩ（以上は日本合成化学工業（株）製／商品名）等が挙げられる。また、これら化合物の官能基を適宜不活性基シアノエチル基で置換したタイプ、トリメリット酸等で造塩したタイプ、ジシアンジアミドで変性したタイプも同様に使用できる。これらの市販品としては２Ｅ４ＭＺ−ＣＮ、２ＰＨＺ−ＣＮ、Ｃ１１Ｚ−ＣＮＳ、２ＭＺ−ＡＺＩＮＥ（以上は四国化成工業（株）製／商品名）、等が挙げられる。
尿素型アダクト系、芳香族ウレア：市販品としてはフジキュアＦＸＲ１０２０、１０３０、１０８１（以上は富士化成工業（株）製／商品名）、ＤＣＭＵ（保土谷化学工業（株）製、３−(３，４−ジクロロフェニル)−１，１−ジメチル尿素／商品名）、オミキュア２４、５２、９４（以上はＣＶＣ Ｓｐｅｃｉａｌｔｙ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ，Ｉｎｃ．製／商品名）等が挙げられる。
イリドタイプ系：市販品としてはエピキュアＹＰＨ−１０１、１０２、１０３、１０４、２０１、２０２、２０３、２０４、２０５、２０６、２０７、２０８、２０９、２１０（以上はジャパンエポキシレジン（株）製／商品名）が挙げられる。
ｐ−トルエンスルホン酸の塩：市販品としてはアンカー１７８６Ｂ、キャタリスト２１３４（以上はエアープロダクツジャパン（株）製／商品名）、アデカハードナーＥＨ−３２９３Ｓ（（株）ＡＤＥＫＡ製／商品名）等が挙げられる。
マイクロカプセル化潜在性硬化剤：市販品としてはノバキュアＨＸ−３７２１、３７２２、３７４１、３７４２、３７４８、３６１３、３０８８、３９２１ＨＰ、３９４１ＨＰ（以上は旭化成ケミカルズ（株）製／商品名）等が挙げられる。
その他、ジアミノマレオニトリルとその誘導体、シッフベース、メラミンとその誘導体、カルボン酸エステルとジメチルヒドラジンとエポキシ化合物によって合成されるアミンイミド、アミンイミドイミダゾール系化合物等が適宜使用できる。
【０１２２】
これらのなかでも、イミダゾール系化合物又はジシアンジアミド類及びこれらの変性物が、硬化性や入手性などの観点から好ましい。
加熱硬化型触媒の含有量は、感光性樹脂組成物の固形分合計１００重量％中、好ましくは０．５〜３０重量％、さらに好ましくは０．７〜１５重量％である。この範囲を逸脱すると、硬化が十分に進行しないか、十分に密着性が発現しないという不具合が生じる場合がある。
【０１２３】
＜酸無水物系硬化剤＞
本発明の感光性樹脂組成物は、さらに酸無水物系硬化剤を併用してもよい。酸無水物系硬化剤は、エポキシ樹脂と混合することで熱硬化を促進することができる。前述の加熱硬化型触媒との違いは触媒作用がない点である。
【０１２４】
酸無水物系硬化剤としては、
無水酢酸、無水プロピオン酸、酪酸無水物、へキサン酸無水物 、酢酸プロピオン酸無水物等の脂肪族カルボン酸無水物、コハク酸無水物、マレイン酸無水物等の脂肪族ジカルボン酸無水物、シクロへキサン酸カルボン酸等の脂肪族環式カルボン酸無水物、安息香酸無水物、フタル酸無水物、等の芳香族カルボン酸無水物、ピロメリット酸無水物、トリメリット酸無水物、等の芳香族ジカルボン酸無水物等が挙げられる。
【０１２５】
より具体的には、１，２，３，６−テトラヒドロ無水フタル酸、３，４，５，６−テトラヒドロ無水フタル酸、３−メチル−１，２，３，６−テトラヒドロ無水フタル酸、４−メチル−１，２，３，６−テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、３−メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、４−メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、メチル−３，６ エンドメチレン−１，２，３，６−テトラヒドロ無水フタル酸３，３’ ，４，４’−ビフェニルテトラカルボン酸ニ無水物を好ましく使用することができる。
【０１２６】
市販品としては、
リカシッドＴＨ、リカシッドＨＴ−１Ａ、リカシッドＨＨ、リカシッドＭＨ−７００、リカシッドＭＨ−７００Ｇ、リカシッドＭＨ（いずれも新日本（株）製）、ＨＮ−２２００、ＨＮ−２０００、ＨＮ−５５００、無水メチルハイミック酸（ＭＨＡＣ−Ｐ）（いずれも日立化成（株）製）、ＹＨ−３０６、ＹＨ−３０７（いずれも三菱化学（株）製）等が挙げられる。
【０１２７】
酸無水物系硬化剤は、エポキシ化合物（Ｃ２）の固形分の合計１００重量％中、０．１〜４０重量％の量で用いることが好ましく、耐薬品性の観点から５〜３０重量％の量で用いることがより好ましい。
【０１２８】
＜無機酸化物微粒子＞
本発明の感光性樹脂組成物は無機酸化物微粒子を用いることができる。無機酸化物微粒子としては、得られる硬化性組成物の硬化被膜の無色性の観点から、ケイ素、アルミニウム、ジルコニウム、チタニウム、亜鉛、インジウム、スズ、アンチモンおよびセリウムよりなる群から選ばれる少なくとも一つの元素の酸化物粒子であることが好ましい。なかでも透過率の観点から、ケイ素、ジルコニウム、チタニウムまたはアルミニウムの酸化物粒子が好ましく、とくにケイ素の酸化物粒子が好ましい。
【０１２９】
無機酸化物微粒子は、分散液中あるいは塗布液中で、分散安定化を図るために、あるいはアルカリ可溶性成分との親和性、結合性を高めるために、プラズマ放電処理やコロナ放電処理のような物理的表面処理、界面活性剤やカップリング剤等による化学的表面処理がなされていても良い。
【０１３０】
酸化物粒子の平均一次粒子径は、１ｎｍ〜１０００ｎｍが好ましく、３ｎｍ〜１００ｎｍがさらに好ましく、５ｎｍ〜３０ｎｍが特に好ましい。平均一次粒子径が１０００ｎｍを超えると、硬化物としたときの透明性が低下したり、被膜としたときの表面状態が悪化する傾向がある。また、粒子の分散性を改良するために各種の界面活性剤やアミン類を添加してもよい。
【０１３１】
無機酸化物微粒子の平均一次粒子径は、たとえばＢＥＴ法を用いて測定される。具体的には、ＢＥＴ法にて得られた無機酸化物微粒子の比表面積を得、無機酸化物の比重を用いて体積と表面積の比を算出し、粒子を真球であると仮定して、これらの比から粒子径を求め、平均一次粒子径とする方法がある。
【０１３２】
無機酸化物粒子は、有機溶媒分散物として用いるのが好ましい。有機溶媒分散物として用いる場合、他の成分との相溶性、分散性の観点から、分散媒は、有機溶剤が好ましい。このような有機溶剤としては、例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、オクタノール等のアルコール類； アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類； 酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸エチル、γ − ブチロラクトン、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート等のエステル類； エチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル等のエーテル類； ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類； ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、Ｎ − メチルピロリドン等のアミド類を挙げることができる。中でも、メタノール、イソプロパノール、ブタノール、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、酢酸エチル、酢酸ブチル、トルエン、キシレンが好ましい。
【０１３３】
ケイ素の酸化物微粒子分散体として市販されている商品としては、日産化学工業（株）製ＰＭＡ−ＳＴ、ＰＭＡ−ＳＴ−ＭＳ、ＩＰＡ−ＳＴ、ＩＰＡ−ＳＴ−ＭＳ、ＩＰＡ−ＳＴ−Ｌ、ＩＰＡ−ＳＴ−ＺＬ、ＩＰＡ−ＳＴ−ＵＰ、ＥＧ−ＳＴ、ＮＰＣ−ＳＴ−３０、ＭＥＫ−ＳＴ、ＭＥＫ−ＳＴ−Ｌ、ＭＩＢＫ−ＳＴ、ＮＢＡ−ＳＴ、ＸＢＡ−ＳＴ、ＤＭＡＣ−ＳＴ、ＳＴ−ＵＰ、ＳＴ−ＯＵＰ、ＳＴ−２０、ＳＴ−４０、ＳＴ−Ｃ、ＳＴ−Ｎ、ＳＴ−Ｏ、ＳＴ−５０、ＳＴ−ＯＬ等、触媒化成工業（株）製中空シリカＣＳ６０−ＩＰＡ等を挙げることができる。また粉体シリカとしては、日本アエロジル（株）製アエロジル１３０、アエロジル３００、アエロジル３８０、アエロジルＴＴ６００、アエロジルＯＸ５０、旭硝子（株）製シルデックスＨ３１、Ｈ３２、Ｈ５１、Ｈ５２、Ｈ１２１、Ｈ１２２、日本シリカ工業（株）製Ｅ２２０Ａ、Ｅ２２０、富士シリシア（株）製ＳＹＬＹＳＩＡ４７０、日本板硝子（株）製ＳＧフレ−ク等を挙げることができる。
【０１３４】
アルミニウムの酸化物微粒子分散体として市販されている商品としては、日産化学工業（株）製アルミナゾル−１００、アルミナゾル−２００、アルミナゾル−５２０、住友大阪セメント（株）製ＡＳ−１５０Ｉ、ＡＳ−１５０Ｔが挙げられる。
【０１３５】
ジルコニアの酸化物微粒子分散体として市販されている商品としては、日産化学工業（株）製ＺＲ−４０ＢＬ、ＺＲ−３０ＢＳ、ＺＲ−３０ＡＬ、ＺＲ−３０ＡＨ等、住友大阪セメント（株）製ＨＸＵ−１１０ＪＣを挙げることができる。その他、ジルコニアの酸化物微粒子分散液は特許４６９２６３０号公報記載の方法等で得ることができる。
【０１３６】
チタニウムの酸化物微粒子分散体として市販されている商品としては、シーアイ化成（株）製 ナノテック、堺化学工業（株）製 Ｄ−９６２を挙げることができる。その他、チタニウムの酸化物微粒子分散液は特許４６９２６３０号公報等記載の方法で得ることができる。
【０１３７】
その他、亜鉛等の酸化物微粒子分散体の市販品としては、シーアイ化成（株）製ナノテック等を挙げることができる。
【０１３８】
無機酸化物微粒子を含む場合、含有量は、感光性樹脂組成物における固形分合計１００重量％中、１０〜８０重量％が好ましく、２０〜７０重量％がさらに好ましい。添加量が１０重量％以上であれば、硬度・耐酸性向上の効果が高く、一方で８０重量％以下である場合、現像性、透過率にも優れたものとすることができる。
【０１３９】
＜酸化防止剤＞
本発明の樹脂組成物には酸化防止剤を含有することができる。酸化防止剤は、加熱工程を経ることによる黄変等による透過率の低下を抑制することができる。そのため、酸化防止剤を含むことで、加熱工程時の黄変を防止し、透過率の高い塗膜を得る事ができる。
【０１４０】
本発明における「酸化防止剤」とは、紫外線吸収機能、ラジカル補足機能、または、過酸化物分解機能を有する化合物であればよく、具体的には、酸化防止剤としてヒンダードフェノール系、ヒンダードアミン系、リン系、イオウ系、ベンゾトリアゾール系、ベンゾフェノン系、ヒドロキシルアミン系、サルチル酸エステル系、およびトリアジン系の化合物があげられ、公知の紫外線吸収剤、酸化防止剤等が使用できる。これらの酸化防止剤の中でも、塗膜の透過率と感度の両立の観点から、フェノール系酸化防止剤、リン系酸化防止剤およびイオウ系酸化防止剤が好ましい。フェノール系のなかでも特に、立体障害性の高いヒンダードフェノール系酸化防止剤がより好ましい。
【０１４１】
［フェノール系酸化防止剤］
例えば、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−エチルフェノール、２，４−ビス−（ｎ−オクチルチオ）−６−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチルアニリノ）−１，３，５−トリアジン、２，２−チオ−ジエチレンビス｛３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート｝、Ｎ，Ｎ'−ヘキサメチレンビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−ヒドロシンナミド）、３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジルフォスフォネート−ジエチルエステル、トリス−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−イソシアヌレート、２，６−ジ−ｔ−ブチルフェノール、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メトキシフェノール、トリエチレングリコール−ビス｛３−（３−ｔ−ブチル−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート｝、１，６−ヘキサンジオール−ビス｛３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート｝、ペンタエリスリチル−テトラキス｛３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート｝、オクタデシル−３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）ベンゼンなどが挙げられ、単独又は２種以上を使用してもよい。
【０１４２】
なかでも、２，４−ビス−（ｎ−オクチルチオ）−６−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチルアニリノ）−１，３，５−トリアジン、ペンタエリスリトールテトラキス［３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、Ｎ，Ｎ'−ヘキサメチレンビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−ヒドロシンナミド）、３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジルフォスフォネート−ジエチルエステル、及びトリス−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−イソシアヌレートからなる群から選ばれるヒンダードフェノール系酸化防止剤は、光硬化性の面から好ましい。
【０１４３】
［リン系酸化防止剤］
リン系酸化防止剤としては、市販されているものを使用できるが、トリス［２，４−ジ−（ｔｅｒｔ）−ブチルフェニル］ホスフィントリス［２−［［２，４，８，１０−テトラキス（１，１−ジメチルエチル）ジベンゾ［ｄ，ｆ］［１，３，２］ジオキサホスフェピン−６−イル］オキシ］エチル］アミン、トリス［２−［（４，６，９，１１−テトラ−ｔｅｒｔ−ブチルジベンゾ［ｄ，ｆ］［１，３，２］ジオキサホスフェピン−２−イル）オキシ］エチル］アミン、亜りん酸エチルビス（２，４−ジｔｅｒｔ−ブチル−６−メチルフェニル）  が挙げられ、  これらからなる群から選ばれる少なくとも１種の化合物であることが好ましく、これらは１種又は２種以上を使用することができる。
【０１４４】
［イオウ系酸化防止剤］
イオウ系酸化防止剤は分子中にイオウを含む酸化防止剤である。このような含イオウ系酸化防止剤としては市販されているものを使用できるが、３，３'−チオジプロパン酸ジオクタデシル、ジミリスチル−３，３’−チオジプロピオネート、ジパルミチル−３，３’−チオジプロピオネート、ジステアリル−３，３’−チオジプロピオネート、４，４’−チオビス−３−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール、チオジエチレンビス［３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］が挙げられ、これらからなる群から選ばれる少なくとも１種の化合物であることが好ましく、これらは１種又は２種以上を使用することができる。
【０１４５】
これらの酸化防止剤は、１種を単独で、または必要に応じて任意の比率で２種以上混合して用いることができる。
【０１４６】
酸化防止剤の含有量は、樹脂組成物の固形分合計１００重量％中、０．１重量％以上４重量％未満であることが好ましい。０．１重量％より少ない場合は、酸化防止剤が不足するため黄変防止効果が得られにくく、４重量％より多い場合には紫外線露光時に発生するラジカルを補足してしまうため、感光性樹脂組成物の硬化が不十分となることがある。
【０１４７】
＜貯蔵安定剤＞
貯蔵安定剤としては、例えばベンジルトリメチルクロライド、ジエチルヒドロキシアミンなどの４級アンモニウムクロライド、乳酸、シュウ酸などの有機酸およびそのメチルエーテル、ｔ−ブチルピロカテコール、トリエチルホスフィン、トリフェニルフォスフィンなどの有機ホスフィン、亜リン酸塩等が挙げられる。貯蔵安定剤は、樹脂組成物の合計１００重量％中、０．１〜５重量％の量で用いることができる。
【０１４８】
＜レベリング剤＞
本発明の感光性樹脂組成物には、透明基板上での組成物のレベリング性をよくするため、レベリング剤を添加することが好ましい。レベリング剤としては、主鎖にポリエーテル構造又はポリエステル構造を有するジメチルシロキサンが好ましい。主鎖にポリエーテル構造を有するジメチルシロキサンの具体例としては、東レ・ダウコーニング社製ＦＺ−２１２２、ビックケミー社製ＢＹＫ−３３０などが挙げられる。主鎖にポリエステル構造を有するジメチルシロキサンの具体例としては、ビックケミー社製ＢＹＫ−３１０、ＢＹＫ−３７０などが挙げられる。主鎖にポリエーテル構造を有するジメチルシロキサンと、主鎖にポリエステル構造を有するジメチルシロキサンとは、併用することもできる。レベリング剤の含有量は通常、樹脂組成物の合計１００重量％中、０．００３〜０．５重量％用いることが好ましい。
【０１４９】
レベリング剤として特に好ましいものとしては、分子内に疎水基と親水基を有するいわゆる界面活性剤の一種で、親水基を有しながらも水に対する溶解性が小さく、着色組成物に添加した場合、その表面張力低下能が低いという特徴を有し、さらに表面張力低下能が低いにも拘らずガラス板への濡れ性が良好なものが有用であり、泡立ちによる塗膜の欠陥が出現しない添加量において十分に帯電性を抑止できるものが好ましく使用できる。このような好ましい特性を有するレベリング剤として、ポリアルキレンオキサイド単位を有するジメチルポリシロキサンが好ましく使用できる。ポリアルキレンオキサイド単位としては、ポリエチレンオキサイド単位、ポリプロピレンオキサイド単位があり、ジメチルポリシロキサンは、ポリエチレンオキサイド単位とポリプロピレンオキサイド単位とを共に有していてもよい。
【０１５０】
また、ポリアルキレンオキサイド単位のジメチルポリシロキサンとの結合形態は、ポリアルキレンオキサイド単位がジメチルポリシロキサンの繰り返し単位中に結合したペンダント型、ジメチルポリシロキサンの末端に結合した末端変性型、ジメチルポリシロキサンと交互に繰り返し結合した直鎖状のブロックコポリマー型のいずれであってもよい。ポリアルキレンオキサイド単位を有するジメチルポリシロキサンは、東レ・ダウコーニング株式会社から市販されており、例えば、ＦＺ−２１１０、ＦＺ−２１２２、ＦＺ−２１３０、ＦＺ−２１６６、ＦＺ−２１９１、ＦＺ−２２０３、ＦＺ−２２０７が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【０１５１】
レベリング剤には、アニオン性、カチオン性、ノニオン性、または両性の界面活性剤を補助的に加えることも可能である。界面活性剤は、２種以上混合して使用しても構わない。
レベリング剤に補助的に加えるアニオン性界面活性剤としては、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸塩、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム、スチレン−アクリル酸共重合体のアルカリ塩、アルキルナフタリンスルホン酸ナトリウム、アルキルジフェニルエーテルジスルホン酸ナトリウム、ラウリル硫酸モノエタノールアミン、ラウリル硫酸トリエタノールアミン、ラウリル硫酸アンモニウム、ステアリン酸モノエタノールアミン、ステアリン酸ナトリウム、ラウリル硫酸ナトリウム、スチレン−アクリル酸共重合体のモノエタノールアミン、ポリオキシエチレンアルキルエーテルリン酸エステルなどが挙げられる。
【０１５２】
レベリング剤に補助的に加えるカオチン性界面活性剤としては、アルキル４級アンモニウム塩やそれらのエチレンオキサイド付加物が挙げられる。レベリング剤に補助的に加えるノニオン性界面活性剤としては、ポリオキシエチレンオレイルエーテル、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルエーテルリン酸エステル、ポリオキシエチレンソルビタンモノステアレート、ポリエチレングリコールモノラウレートなどの；アルキルジメチルアミノ酢酸ベタインなどのアルキルベタイン、アルキルイミダゾリンなどの両性界面活性剤、また、フッ素系やシリコーン系の界面活性剤が挙げられる。
【０１５３】
＜樹脂組成物の製法＞
本発明の感光性樹脂組成物は、光ラジカル重合開始剤（Ａ）、光カチオン重合開始剤（Ｂ）、カチオン重合性化合物（Ｃ）、アルカリ可溶性樹脂（Ｆ）、および必要に応じて、溶剤、加熱硬化型触媒、無機酸化物微粒子、シラン化合物、酸化防止剤、レベリング剤、その他の成分等を攪拌・混合して得ることが出来る。
本発明の感光性樹脂組成物は、遠心分離、焼結フィルタ、メンブレンフィルタ等の手段にて、５μｍ以上の粗大粒子、好ましくは１μｍ以上の粗大粒子、さらに好ましくは０．５μｍ以上の粗大粒子および混入した塵、異物の除去を行うことが好ましい。
【０１５４】
＜硬化膜＞
本発明の硬化膜は、本発明の感光性樹脂組成物を用いて、ガラス基材、ＩＴＯ上、モリブデン上、その他の金属膜上、有機膜上に、スピンコートなどの回転塗布、ダイコートなどの流延塗布、ロールコートによる塗布、ロール転写法による塗布などにより形成することができる。
本発明の硬化膜は、高硬度、高透過率であり、パターン直線性、密着性、耐薬品性に優れるため、特にタッチパネルに用いられるオーバーコートに適している。
【０１５５】
オーバーコートは例えば、タッチパネルに用いられる金属配線保護膜用途、タッチセンサーのＸ電極−Ｙ電極間を絶縁するための絶縁膜用途等に用いられており、いずれで使用されても良い。
【０１５６】
硬化膜は、本発明の感光性樹脂組成物を用いて、印刷法またはフォトリソグラフィー法により、製造することができ、フォトリソグラフィー法を用いることが好ましい。
【０１５７】
フォトリソグラフィー法により製造する場合、例えば感光性樹脂組成物を基材上に塗布後、マスクを介して露光し、現像してパターンを形成後、加熱焼成する工程により硬化膜を製造することができる。
【０１５８】
硬化膜を形成する場合、まず、ガラス基材、ＩＴＯ膜、モリブデン、その他の金属膜、有機膜などの基材上に、感光性樹脂組成物をスプレーコートやスピンコート、スリットコート、ロールコート等の塗布方法により塗布したのち、プレベークを行って溶剤を蒸発させて、塗布膜を形成する。次いで、この塗布膜にマスクを介して超高圧水銀ランプを用いて露光したのち、溶剤またはアルカリ現像液を用いて浸漬するか、もしくはスプレーなどにより現像液を噴霧して現像し、塗膜の未露光部を溶解除去し、所望のパターンを形成後、加熱焼成することにより硬化膜を形成することができる。
【０１５９】
現像に際しては、アルカリ現像液として炭酸ナトリウム、水酸化ナトリウム等の水溶液が使用され、ジメチルベンジルアミン、トリエタノールアミン等の有機アルカリを用いることもできる。又、現像液には、消泡剤や界面活性剤を添加することもできる。
【０１６０】
現像処理方法としては、シャワー現像法、スプレー現像法、ディップ（浸漬）現像法、パドル（液盛り）現像法等を適用することができる。
【０１６１】
加熱焼成温度については、２００℃を超える温度での高温焼成工程を経て、得られる場合が多く、高温焼成工程は塗膜の熱硬化を促進するため、２００℃以下での低温焼成で得られる塗膜に比べて、耐薬品性等が優れたものとなる。しかし、本発明の感光性樹脂組成物は、高温焼成を必要とせず、１５０℃以下の低温焼成であっても、耐薬品性等の必要特性に優れた硬化膜を得ることができる。そのため、タッチパネルの構成に耐熱性の低いフィルムが含まれるなどして低温焼成が必要となる場合にも、１５０℃以下の低温で、優れた硬化膜を得ることが可能である。
ただし、加熱焼成温度が１００℃未満である場合は、十分な耐薬品性等が得られないため、１００℃以上で加熱焼成することが好ましい。
【実施例】
【０１６２】
以下に、実施例により本発明を説明する。なお、実施例中の「部」および「％」とは、それぞれ「重量部」および「重量％」を表す。また、「ＰＧＭＥＡ」とはプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートを意味する。
【０１６３】
実施例に先立ち、樹脂の重量平均分子量、および酸価の測定方法について説明する。
（樹脂の重量平均分子量）
樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）は、ＴＳＫｇｅｌカラム（東ソー社製）を用い、ＲＩ検出器を装備したＧＰＣ（東ソー社製、ＨＬＣ−８１２０ＧＰＣ）で、展開溶媒にＴＨＦを用いて測定したポリスチレン換算の重量平均分子量（Ｍｗ）である。
【０１６４】
（酸価）
樹脂溶液０．５〜１ｇに、アセトン８０ｍｌおよび水１０ｍｌを加えて攪拌して均一に溶解させ、０．１ｍｏｌ／ＬのＫＯＨ水溶液を滴定液として、自動滴定装置（「ＣＯＭ−５５５」平沼産業製）を用いて滴定し、樹脂溶液の酸価を測定した。そして、樹脂溶液の酸価と樹脂溶液の固形分濃度から、樹脂の固形分あたりの酸価を算出した。
【０１６５】
続いて、アルカリ可溶性樹脂（Ｆ）溶液、およびオキセタン化合物の製造方法について説明する。
【０１６６】
＜アルカリ可溶性樹脂（Ｆ）溶液の製造方法＞
（アルカリ可溶性樹脂溶液（Ｆ−１）の調製）
セパラブル４口フラスコに温度計、冷却管、窒素ガス導入管、撹拌装置を取り付けた反応容器にプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート１００部を入れ、容器に窒素ガスを注入しながら１２０℃に加熱して、同温度で滴下管より
スチレン５．２部、
グリシジルメタクリレート３５．５部、
ジシクロペンタニルメタクリレート４１．０部、
アゾビスイソブチロニトリル１．０部
の混合物を２．５時間かけて滴下し重合反応を行った。
次にフラスコ内を空気置換し、
アクリル酸１７．０部
にトリスジメチルアミノメチルフェノール０．３部、およびハイドロキノン０．３部を投入し、１２０℃で５時間反応を続け固形分酸価＝０．８となったところで反応を終了し、重量平均分子量が約１２０００（ＧＰＣによる測定）の樹脂溶液を得た。
さらにテトラヒドロ無水フタル酸３０．４部、トリエチルアミン０．５部を加え１２０℃で４時間反応させ、不揮発分が４０％になるようにプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートを添加して樹脂溶液（Ｆ１−１）を調製した。
【０１６７】
（アルカリ可溶性樹脂溶液（Ｆ−２）の調製）
アルカリ可溶性樹脂溶液（Ｆ−１）の
ジシクロペンタニルメタクリレートを
ジシクロペンテニルメタクリレートにした
以外は樹脂溶液（Ｆ１−１）と同様の方法にて合成反応を行い、樹脂溶液（Ｆ１−２）を調製した。重量平均分子量は１２５００であった。
【０１６８】
（アルカリ可溶性樹脂溶液（Ｆ−３）の調製）
アルカリ可溶性樹脂溶液（Ｆ−１）の
ジシクロペンタニルメタクリレートを
ジシクロペンタニルオキシエチルメタクリレートにした
以外は樹脂溶液（Ｆ−１）と同様の方法にて合成反応を行い、樹脂溶液（Ｆ−３）を調製した。重量平均分子量は１２５００であった。
【０１６９】
（アルカリ可溶性樹脂溶液（Ｆ−４）の調製）
アルカリ可溶性樹脂溶液（Ｆ−１）の
ジシクロペンタニルメタクリレートを
ジシクロペンテニルオキシエチルメタクリレートにした
以外は樹脂溶液（Ｆ−１）と同様の方法にて合成反応を行い、樹脂溶液（Ｆ−４）を調製した。重量平均分子量は１２５００であった。
【０１７０】
（アルカリ可溶性樹脂溶液（Ｆ−５）の調製）
温度計、冷却管、窒素ガス導入管、滴下管及び撹拌装置を備えたセパラブル４口フラスコにＰＧＭＥＡ３７０部を仕込み、８０℃に昇温し、フラスコ内を窒素置換した後、滴下管より、
パラクミルフェノールエチレンオキサイド変性アクリレート（東亜合成社製アロニックスＭ１１０）１８部、
ベンジルメタクリレート１０部、
グリシジルメタクリレート１８．２部、
メタクリル酸メチル２５部、
及び２，２'−アゾビスイソブチロニトリル２．０部
の混合物を２時間かけて滴下した。滴下後、更に１００℃で
３時間反応させた後、アゾビスイソブチロニトリル１．０部をシクロヘキサノン５０部で溶解させたものを添加し、更に１００℃で１時間反応を続けた。次に、容器内を空気置換に替え、
アクリル酸９．３部（グリシジル基の当量）
にトリスジメチルアミノフェノール０．５部及びハイドロキノン０．１部を上記容器内に投入し、１２０℃で６時間反応を続け固形分酸価０．５となったところで反応を終了し、アクリル樹脂の溶液を得た。更に、引き続き
テトラヒドロ無水フタル酸１９．５部（生成した水酸基の当量）、
トリエチルアミン０．５部を加え１２０℃で３．５時間反応させアクリル樹脂の溶液を得た。
室温まで冷却した後、樹脂溶液約２ｇをサンプリングして１８０℃、２０分加熱乾燥して不揮発分を測定し、先に合成した樹脂溶液に不揮発分が２０重量％になるようにＰＧＭＥＡを添加してアクリル樹脂溶液（Ｆ−５）を調製した。重量平均分子量（Ｍｗ）は１９０００であった。
【０１７１】
（アルカリ可溶性樹脂溶液（Ｆ−６）の調製）
セパラブル４口フラスコに温度計、冷却管、窒素ガス導入管、滴下管および撹拌装置を取り付けた反応容器にシクロヘキサノン１９６部を仕込み、８０℃に昇温し、反応容器内を窒素置換した後、滴下管より、ｎ−ブチルメタクリレート３７．２部、２−ヒドロキシエチルメタクリレート１２．９部、メタクリル酸１２．０部、パラクミルフェノールエチレンオキサイド変性アクリレート（東亞合成株式会社製「アロニックスＭ１１０」）２０．７部、２，２’−アゾビスイソブチロニトリル１．１部の混合物を２時間かけて滴下した。滴下終了後、更に３時間反応を継続し、アクリル樹脂の溶液を得た。室温まで冷却した後、樹脂溶液約２部をサンプリングして１８０℃、２０分加熱乾燥して不揮発分を測定し、先に合成した樹脂溶液に不揮発分が２０質量％になるようにメトキシプロピルアセテートを添加してアクリル樹脂溶液１を調製した。重量平均分子量（Ｍｗ）は２６０００であった。
【０１７２】
（アルカリ可溶性樹脂溶液（Ｆ−７）の調製）
セパラブル４口フラスコに温度計、冷却管、窒素ガス導入管、滴下管および撹拌装置を取り付けた反応容器にシクロヘキサノン２０７部を仕込み、８０℃に昇温し、反応容器内を窒素置換した後、滴下管より、メタクリル酸２０部、パラクミルフェノールエチレンオキサイド変性アクリレート（東亜合成社製アロニックスＭ１１０）２０部、メタクリル酸メチル４５部、２−ヒドロキシエチルメタクリレート８．５部、及び２，２'−アゾビスイソブチロニトリル１．３３部の混合物を２時間かけて滴下した。滴下終了後、更に３時間反応を継続し、共重合体樹脂溶液を得た。次に得られた共重合体溶液全量に対して、窒素ガスを停止し乾燥空気を１時間注入しながら攪拌したのちに、室温まで冷却した後、２−メタクリロイルオキシエチルイソシアネート（昭和電工社製カレンズＭＯＩ）６．５部、ラウリン酸ジブチル錫０．０８部、シクロヘキサノン２６部の混合物を７０℃で３時間かけて滴下した。滴下終了後、更に１時間反応を継続し、アクリル樹脂の溶液を得た。室温まで冷却した後、樹脂溶液約２部をサンプリングして１８０℃、２０分加熱乾燥して不揮発分を測定し、先に合成した樹脂溶液に不揮発分が２０質量％になるようにシクロヘキサノンを添加してアクリル樹脂溶液２を調製した。重量平均分子量（Ｍｗ）は１８０００であった。
【０１７３】
＜オキセタン化合物の製造方法＞
（オキセタン化合物溶液（Ｃ３−１））  
ガス導入管、コンデンサー、攪拌翼、および温度計を備え付けた反応槽に、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート１００部を仕込み、窒素気流下で９０℃に昇温し、滴下槽から、(３−エチルオキセタン−３−イル)メチルメタクリレート１００部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート４８部および２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）３部を予め均一に混合した混合液を２時間かけて滴下し、その後２時間、９０℃を保ち反応させた。室温に冷却後、固形分が２０％となるようにプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートで希釈し、オキセタン化合物（Ｃ３−１）のプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶液を得た。
【０１７４】
＜シラン化合物の製造方法＞
（シラン化合物（Ｄ−３））
反応槽として冷却管を付けたフラスコを準備し、３−イソシアネートプロピルトリエトキシシラン（信越化学工業製「ＫＢＥ−９００７」）１００ｇ、エタノール（キシダ化学社製）１００ｇをよく攪拌混合したものを準備し、窒素置換した後、攪拌しながらオイルバスで加熱して反応槽の温度を６０℃まで昇温した。反応槽の温度が６０℃に安定してから、６時間攪拌した。ＦＴ−ＩＲスペクトルにより反応が終了したことを確認し、反応槽の温度を常温まで下げ、試料を窒素置換した容器に取り出し保管した。
【０１７５】
［実施例１］
（感光性樹脂組成物（Ｒ１））
下記組成の混合物を均一になるように攪拌混合した後、１μｍのフィルタで濾過して、樹脂組成物（Ｒ−１）を得た。
・光ラジカル重合開始剤（Ａ）
ＯＸＥ−０１                                          ：  ２．００部
「イルガキュアＯＸＥ−０１」（ＢＡＳＦ社製）；
１，２−オクタンジオン−１−［４−（フェニルチオ）フェニル−２
−（ｏ−ベンゾイルオキシム）］
・カチオン重合開始剤（Ｂ）
Ｉｒｇ２５０                                          ：  ２．８６部
「イルガキュア２５０」（ＢＡＳＦ社製）；
ヨードニウム，（４−メチルフェニル）[４−（２メチルプロピル）フェニル] 
−ヘキサフルオロフォスフェート（１−）
・カチオン重合性化合物（Ｃ）
ＤＶＥ−３                                            ：  １．００部
「ＤＶＥ−３」（ＢＡＳＦ社製）；トリエチレングリコールジビニルエーテル
スチレン                                              ：  １．００部
・アルカリ可溶性樹脂（Ｆ）
Ｆ−１                                                ：７９．９５部
・レベリング剤
ＢＹＫ−３３０                                        ：  １．００部
「ＢＹＫ−３３０」（ビックケミー社製）；ポリエーテル構造含有
ジメチルシロキサンのＰＧＭＥＡ溶液（固型分１％に調整）
・溶剤
ＰＧＭＥＡ                                            ：１２．１９部
【０１７６】
［実施例２〜７４、比較例１］
（感光性組成物（Ｒ−２〜７５））
以下、表１〜表１２に示すように組成および配合量（重量部）を変更した以外は、感光性樹脂組成物（Ｒ−１）と同様にして感光性樹脂組成物（Ｒ−２〜７５）を得た。
【０１７７】
【表１】
2014232206.tif 000010
【０１７８】
【表２】
2014232206.tif 000011
【０１７９】
【表３】
2014232206.tif 000012
【０１８０】
【表４】
2014232206.tif 000013
【０１８１】
【表５】
2014232206.tif 000014
【０１８２】
【表６】
2014232206.tif 000015
【０１８３】
【表７】
2014232206.tif 000016
【０１８４】
【表８】
2014232206.tif 000017
【０１８５】
【表９】
2014232206.tif 000018
【０１８６】
【表１０】
2014232206.tif 000019
【０１８７】
【表１１】
2014232206.tif 000020
【０１８８】
【表１２】
2014232206.tif 000021
【０１８９】
表１．〜表１２．の略語を下記に記す。
＜光ラジカル重合開始剤（Ａ）＞
［オキシムエステル系光ラジカル重合開始剤（Ａ１）］
・ＯＸＥ−０１：「イルガキュアＯＸＥ−０１」（ＢＡＳＦ社製）；
１，２−オクタンジオン−１−［４−（フェニルチオ）フェニル−２−（ｏ−ベンゾイルオキシム）］
・ＯＸＥ−０２：「イルガキュアＯＸＥ−０２」（ＢＡＳＦ社製）；エタノン，１−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］−，１−（ｏ−アセチルオキシム）
・ＰＢＧ−３０４：「ＴＲＯＮＬＹ ＴＲ−ＰＢＧ−３０４」（常州強力電子新材料社製）
・ＰＢＧ−３０５：「ＴＲＯＮＬＹ ＴＲ−ＰＢＧ−３０５」（常州強力電子新材料社製）
・ＰＢＧ−３０９：「ＴＲＯＮＬＹ ＴＲ−ＰＢＧ−３０９」（常州強力電子新材料社製）
・Ｎ−１９１９（ＡＤＥＫＡ社製）
【０１９０】
［チオキサントン系光ラジカル重合開始剤（Ａ２）］
・ＤＥＴＸ−Ｓ：「カヤキュアＤＥＴＸ−Ｓ」（日本化薬社製）；２，４−ジエチルチオキサントン
・２−イソプロピルチオキサントン（東京化成工業社製）
［その他の光ラジカル重合開始剤］
・Ｉｒｇ３６９：「イルガキュア３６９」（ＢＡＳＦ社製）；２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタン−１−オン
【０１９１】
＜光カチオン重合開始剤（Ｂ）＞
［芳香族スルホニウム塩（Ｂ１）］
・ＣＰＩ−１００Ｐ：「ＣＰＩ−１００Ｐ」（サンアプロ社製）；トリアリールスルホニウム・ＰＦ6塩の５０％プロピレンカーボネート溶液
・ＣＰＩ−１０１Ａ：「ＣＰＩ−１０１Ａ」（サンアプロ社製）；トリアリールスルホニウム・ＳｂＦ6塩の５０％プロピレンカーボネート溶液
・ＣＰＩ−２１０Ｋ：「ＣＰＩ−２１０Ｋ」（サンアプロ社製）；トリアリールスルホニウム・特殊リン系アニオン塩の５０％プロピレンカーボネート溶液
［芳香族ヨードニウム塩（Ｂ２）］
・Ｉｒｇ２５０：「イルガキュア２５０」（ＢＡＳＦ社製）；ヨードニウム，（４−メチルフェニル）[４−（２メチルプロピル）フェニル] −ヘキサフルオロフォスフェート（１−）の７５％プロピレンカーボネート溶液
・ＷＰＩ−１１３：「ＷＰＩ−１１３」（和光純薬社製）；ジフェニルヨードニウム・ＰＦ6塩の５０％プロピレンカーボネート溶液
・ＷＰＩ−１１６：「ＷＰＩ−１１６」（和光純薬社製）；ジフェニルヨードニウム・ＳｂＦ6塩の５０％プロピレンカーボネート溶液
・ＷＰＩ−１６９：「ＷＰＩ−１６９」（和光純薬社製）；ジフェニルヨードニウム・ビス(パーフルオロブタンスルホニル)イミド塩の５０％プロピレンカーボネート溶液
・ＷＰＩ−１７０：「ＷＰＩ−１７０」（和光純薬社製）；ジフェニルヨードニウム・ＰＦ6塩の５０％プロピレンカーボネート溶液
【０１９２】
＜カチオン重合性化合物（Ｃ）＞
［ビニルエーテル化合物（Ｃ１）］
・ＨＥＶＥ：「ＨＥＶＥ」（丸善石油化学社製）；２−ヒドロキシエチルビニルエーテル
・ＤＥＧＶ：「ＤＥＧＶ」（丸善石油化学社製）；ジエチレングリコールモノビニルエーテル
・ＨＢＶＥ：「ＨＢＶＥ」（丸善石油化学社製）；４−ヒドロキシブチルビニルエーテル
・ＥＯＸＴＶＥ：「ＥＯＸＴＶＥ」（丸善石油化学社製）；エチルオキセタンメチルビニルエーテル
・ＣＨＤＭＶＧ：「ＣＨＤＭＶＧ」（丸善石油化学社製）；シクロヘキサンジメタノールビニルグリシジルエーテル
・ＤＶＥ−２：「ＤＶＥ−２」（ＢＡＳＦ社製）；ジエチレングリコールジビニルエーテル
・ＤＶＥ−３：「ＤＶＥ−３」（ＢＡＳＦ社製）；トリエチレングリコールジビニルエーテル
・ＶＥＥＡ：「ＶＥＥＡ」（日本触媒社製）；アクリル酸２−（ビニロキシエトキシ）エチル
【０１９３】
［エポキシ化合物（Ｃ２）］
・ｊＥＲ１５２：「ｊＥＲ１５２」（三菱化学社製）；フェノールノボラック型エポキシ樹脂のＰＧＭＥＡ溶液（固型分２０％に調整）
・ｊＥＲ１５４：「ｊＥＲ１５４」（三菱化学社製）；フェノールノボラック型エポキシ樹脂のＰＧＭＥＡ溶液（固型分２０％に調整）
・Ｎ−６６０：「エピクロンＮ−６６０」（ＤＩＣ社製）；クレゾールノボラック型エポキシ樹脂のＰＧＭＥＡ溶液（固型分２０％に調整）
・Ｎ−６７３：「エピクロンＮ−６７３」（ＤＩＣ社製）；クレゾールノボラック型エポキシ樹脂のＰＧＭＥＡ溶液（固型分２０％に調整）
・Ｎ−６９５：「エピクロンＮ−６９５」（ＤＩＣ社製）；クレゾールノボラック型エポキシ樹脂のＰＧＭＥＡ溶液（固型分２０％に調整）
・Ｎ−７４０：「エピクロンＮ−７４０」（ＤＩＣ社製）；フェノールノボラック型エポキシ樹脂のＰＧＭＥＡ溶液（固型分２０％に調整）
・Ｎ−７７０：「エピクロンＮ−７７０」（ＤＩＣ社製）；フェノールノボラック型エポキシ樹脂のＰＧＭＥＡ溶液（固型分２０％に調整）
・Ｎ−７７５：「エピクロンＮ−７７５」（ＤＩＣ社製）；フェノールノボラック型エポキシ樹脂のＰＧＭＥＡ溶液（固型分２０％に調整）
・ＥＨＰＥ−３１５０：「ＥＨＰＥ−３１５０」（ダイセル社製）；２，２−ビス（ヒドロキシメチル）−１−ブタノールの１，２−エポキシ−４−（２−オキシラニル）シクロヘキサン付加物のＰＧＭＥＡ溶液（固型分２０％に調整）
・セロキサイド２０２１Ｐ：「セロキサイド２０２１Ｐ」（ダイセル社製）：３、４−エポキシシクロヘキセニルのＰＧＭＥＡ溶液（固型分２０％に調整）
・ＥＸＡ−７２００：「エピクロンＥＸＡ−７２００」（ＤＩＣ社製）；ジシクロペンタジエンフェノール型エポキシ樹脂のＰＧＭＥＡ溶液（固型分２０％に調整）
・ｊＥＲ Ｅ１５７Ｓ７５：「ｊＥＲ Ｅ１５７Ｓ７５」（三菱化学社製）；ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂のＰＧＭＥＡ溶液（固型分２０％に調整）
・ｊＥＲ８２８：「ｊＥＲ８２８」（三菱化学社製）；ビスフェノール型エポキシ樹脂のＰＧＭＥＡ溶液（固型分２０％に調整）
・ｊＥＲ ＹＸ−４０００：「ｊＥＲ ＹＸ−４０００」（三菱化学社製）；ビフェノール型エポキシ樹脂のＰＧＭＥＡ溶液（固型分２０％に調整）
・ＴＥＰＩＣ−Ｓ：「ＴＥＰＩＣ−Ｓ」（日産化学工業社製）；複素環式エポキシ樹脂のＰＧＭＥＡ溶液（固型分２０％に調整）
【０１９４】
［オキセタン化合物（Ｃ３）］
・ＯＸＴ−２２１：「アロンオキセタンＯＸＴ−２２１」（東亞合成社製）：ジ［１−エチル（３−オキセタニル）］メチルエーテル
・ＯＸＢＰ：「ＯＸＢＰ」（宇部興産社製）；４，４’−ビス［（３−エチル−３−オキセタニル）メトキシメチル］ビフェニル
・ＯＸＴＰ：「ＯＸＴＰ」（宇部興産社製）；１，４−ビス［（３−エチル−３−オキセタニル）メトキシメチル］ベンゼン
・ＯＸＴ−１０１：「アロンオキセタンＯＸＴ−１０１」（東亞合成社製）：３−エチル３−ヒドロキシメチルオキセタン
・ＯＸＴ−２１２：「アロンオキセタンＯＸＴ−２１２」（東亞合成社製）：２−エチルヘキシルオキセタン
・ＯＸＴ−１２１：「アロンオキセタンＯＸＴ−１２１」（東亞合成社製）：キシリレンビスオキセタン
・ＯＸＴ−２２１：「アロンオキセタンＯＸＴ−２２１」（東亞合成社製）：３−エチル−３{[（３−エチルオキセタン−３−イル）メトキシ]メチル}オキセタン
【０１９５】
＜（メタ）アクリル基を有するラジカル重合性化合物＞
・Ｍ−４０２：「アロニックスＭ−４０２」（東亞合成社製）：ジペンタエリスリトールペンタアクリレートおよびジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物
・Ｖ＃８０２：「Ｖ＃８０２」（大阪有機化学工業社製）：トリペンタエリスリトールヘプタアクリレートおよびトリペンタエリスリトールオクタアクリレートを主成分とするペンタエリスリトールのホモポリマーとアクリル酸の反応生成物
【０１９６】
＜無機酸化物微粒子分散液＞
・ＰＭＡ−ＳＴ：「ＰＭＡ−ＳＴ」（日産化学工業（株）製）：ケイ素の酸化物微粒子のＰＧＭＥＡ分散液（不揮発分３０重量％）
＜加熱硬化性触媒＞
・２Ｅ４ＭＺ：「２Ｅ４ＭＺ」（四国化成（株）製）：２−エチル−４−メチルイミダゾール
＜酸無水物系硬化剤＞
・ＢＰＤＡ：３，３’ ，４，４’−ビフェニルテトラカルボン酸ニ無水物（三菱化学社製）
＜シラン化合物＞
・ＩＭ−１０００：「ＩＭ−１０００」（ＪＸ日鉱日石金属社製）：イミダゾール基を有する
【化７】
2014232206.tif 000022
【０１９７】
＜レベリング剤＞
・ＢＹＫ−３３０：「ＢＹＫ−３３０」（ビックケミー社製）；ポリエーテル構造含有ジメチルシロキサンのＰＧＭＥＡ溶液（固型分１％に調整）
＜溶剤＞
・ＰＧＭＥＡ：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート
【０１９８】
＜感光性樹脂組成物の評価＞
以下に示す評価方法にて得られた感光性樹脂組成物をそれぞれ評価した。結果を表１２〜１４に示す。
【０１９９】
（１）透過率の測定
得られた感光性樹脂組成物を用いて、１５０℃６０分加熱により、仕上がり膜厚が１．５μｍとなるように塗布した基板を得た。
まず、１００ｍｍ×１００ｍｍ、０．７ｍｍ厚のガラス基板（コーニング社製ガラス イーグル２０００）に、スピンコーターを用いて、得られた感光性樹脂組成物を塗布し、ホットプレート（アズワン社製「ＥＣ−１２００Ｎ（商品名）」）を用いて１００℃で２分間プリベークした。
超高圧水銀ランプを用いて、照度２０ｍＷ／ｃｍ２、露光量２００ｍＪ／ｃｍ２で紫外線露光を行った。
塗布基板を１５０℃で６０分加熱、放冷して膜厚が１．５μｍの硬化膜を得た。膜厚は、アルバック社製の触針式膜厚計ＤＥＣＴＡＣ−３で測定した。
顕微分光光度計（オリンパス光学社製「ＯＳＰ−ＳＰ１００」）を用いて、得られた塗膜の波長４００ｎｍにおける透過率を測定した。
透過率は９５％以上で良好といえる。それ以下は実用には適さない透過率である。
【０２００】
（２）鉛筆硬度の測定
前記（１）記載の方法で得られた膜厚１．５μｍの硬化膜について、「ＪIＳ Ｋ５６００−５−４（１９９９）」に準拠して鉛筆硬度を測定した。 
この値が４Ｈまたはそれより硬いとき、表面硬度は良好といえる。硬度が３Ｈの場合は、実用可能な最低限の硬度、２Ｈ以下は実用には適さない硬度である。
◎；５Ｈ以上
○；４Ｈ
△；３Ｈ
×；２Ｈ以下
【０２０１】
（３）パターン直線性
得られた感光性樹脂組成物を用いて、１５０℃６０分加熱により、仕上がり膜厚が１．５μｍとなるように塗布した基板を得た。
【０２０２】
まず、１００ｍｍ×１００ｍｍ、０．７ｍｍ厚のガラス基板（コーニング社製ガラス イーグル２０００）に、スピンコーターを用いて、得られた感光性樹脂組成物を塗布し、ホットプレート（アズワン社製「ＥＣ−１２００Ｎ（商品名）」）を用いて１００℃で２分間プリベークした。
超高圧水銀ランプを用いて、５０μｍのラインアンドスペースパターンを形成可能なマスクを介して照度２０ｍＷ／ｃｍ２、露光量１００ｍＪ／ｃｍ２で紫外線露光を行った。
続いて、自動現像装置（「（商品名）」、アクテス社製）を用いて、０．０４５ｗｔ％水酸化カリウム水溶液で９０秒間スプレー現像し、次いで水で３０秒間リンスした。
現像後の基板を１５０℃で６０分加熱、放冷後、パターンの直線性を評価した。
○；直線性が良好
×；ギザつき、剥離等による直線性不良
【０２０３】
（４）残膜率
得られた感光性樹脂組成物を用いて、２３０℃２０分加熱加熱により、仕上がり膜厚が１．５μｍとなるように塗布した基板を得た。
【０２０４】
まず、１００ｍｍ×１００ｍｍ、０．７ｍｍ厚のガラス基板（コーニング社製ガラス イーグル２０００）に、スピンコーターを用いて、得られた感光性樹脂組成物を塗布し、ホットプレート（アズワン社製「ＥＣ−１２００Ｎ（商品名）」）を用いて１００℃で２分間プリベークしたのち、アルバック社製の触針式膜厚計ＤＥＣＴＡＣ−３で膜厚を測定した（膜厚１）。
続いて超高圧水銀ランプを用いて、５０μｍのラインアンドスペースパターンを形成可能なマスクを介して照度２０ｍＷ／ｃｍ２、露光量１００ｍＪ／ｃｍ２で紫外線露光を行った。
さらに、自動現像装置（「ＡＤＥ−３０００Ｓ（商品名）」、アクテス社製）を用いて、０．０４５ｗｔ％水酸化カリウム水溶液で９０秒間スプレー現像し、次いで水で３０秒間リンスした。
現像後の基板を１５０℃で３０分加熱、放冷後、アルバック社製の触針式膜厚計ＤＥＣＴＡＣ−３で膜厚を測定した（膜厚２）。
得られた膜厚から下記式を用いて残膜率を算出した。
（残膜率）＝（膜厚２）／（膜厚１）×１００（％）
○；残膜率８０％以上
△；残膜率７０％以上８０％未満
×；残膜率７０％未満
【０２０５】
（５）ＩＴＯ接着性の評価（密着性）
表面にＩＴＯをスパッタリングしたガラス基板（「０００７（商品名）」、ジオマテック製；以下、「ＩＴＯ基板」）上に、前記（１）記載の方法と同様にして膜厚１．５μｍの硬化膜を形成し、ＪＩＳ「Ｋ５６００−５−６（１９９９年４月２０日制定）」に準じてＩＴＯと硬化膜の接着性を評価した。
ガラス基板上のＩＴＯ表面に、カッターナイフでガラス板の素地に到達するように、直交する縦横１１本ずつの平行な直線を１ｍｍ間隔で引いて、１ｍｍ×１ｍｍのマス目を１００個作製した。切られた硬化膜表面にセロハン粘着テープ（幅＝１８ｍｍ、粘着力＝３．７Ｎ／１０ｍｍ）を張り付け、消しゴム（ＪＩＳ Ｓ６０５０合格品）で擦って密着させ、テープの一端を持ち、板に直角を保ち瞬間的に剥離した際のマス目の残存数を目視によって評価した。マス目の剥離面積により以下のように判定し、３以上を合格とした。
５：剥離面積＝０％
４：剥離面積＝＜５％
３：剥離面積＝５〜１４％
２：剥離面積＝１５〜３４％
１：剥離面積＝３５％〜６４％
０：剥離面積＝６５％〜１００％
【０２０６】
（６）薬液処理方法（耐薬品性）
（６−１）酸の処理方法
（５）で作製した硬化膜を有するＩＴＯ基板を、ＨＣｌ／ＨＮＯ３／Ｈ２Ｏ＝１８／４／７８（重量比）で混合した３５℃の水溶液に８０秒間処理した。処理後の基板について、（５）と同様にして接着性の評価を行った。
【０２０７】
（６−２）アルカリの処理方法
（５）で作製した硬化膜を有するＩＴＯ基板を、モノエタノールアミン／ジエチレングリコールモノブチルエーテル＝３０／７０（重量比）で混合した６０℃の溶液に５分間処理した。処理後の基板について、（５）と同様にして接着性の評価を行った。
【０２０８】
【表１３】
2014232206.tif 000023
【０２０９】
【表１４】
2014232206.tif 000024
【０２１０】
【表１５】
2014232206.tif 000025
【０２１１】
表１３〜１５に示すように、光ラジカル重合開始剤（Ａ）と、光カチオン重合開始剤（Ｂ）と、カチオン重合性化合物（Ｃ）と、アルカリ可溶性樹脂（Ｆ）とを含有する感光性樹脂組成物であって、カチオン重合性化合物（Ｃ）が、ビニルエーテル化合物（Ｃ１）を含む２種以上のカチオン重合性化合物を含む感光性樹脂組成物により、加熱焼成温度が、１５０℃と低温の場合にも硬化性に優れ、高硬度、高透過率であり、パターン直線性、耐薬品性に優れていた。
【０２１２】
なお、本発明の感光性樹脂組成物を用いて、加熱焼成温度を、２３０℃に変更した場合にも、硬化性に優れ、高硬度、高透過率であり、パターン直線性、耐薬品性に優れていた。
【０２１３】
以上の結果より、本願の感光性樹脂組成物により、硬化性に優れ、高硬度、高透過率であり、解像性、耐薬品性にも優れた塗膜を得ることができ、該塗膜は、タッチパネルに用いられるオーバーコートに適した高品質の硬化膜である事が確認できた。