(57)【要約】【課題】有機半導体層を有する半導体素子の製造において、熱転写を利用して、汚染による特性低下の無い、高パターン精度の有機半導体層の形成を可能にする。【解決手段】波長４μｍ以上のレーザ光を照射する光学系と、レーザ光の透過率が５０％以上である支持体の表面に有機半導体膜を形成してなるドナー基板とを用い、ドナー基板と半導体素子になる被処理基板とを対面させて、支持体側からレーザ光を入射して走査することで、被処理基板に有機半導体膜を転写して、半導体層を形成することにより、この課題を解決する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
有機半導体材料からなる半導体層を有する有機半導体素子の製造方法であって、
波長４μｍ以上のレーザ光を照射する光学系と、前記レーザ光の透過率が５０％以上である支持体の表面に、前記有機半導体材料からなる有機半導体膜を形成してなるドナー基板とを用い、
前記ドナー基板と半導体素子になる被処理基板とを、前記有機半導体膜と半導体層の形成面とを対面させて位置し、前記光学系によって、前記支持体側からレーザ光を入射して、このレーザ光を、形成する前記半導体層に応じて変調しつつ走査することにより、前記被処理基板に前記有機半導体膜を転写して、前記半導体層を形成することを特徴とする有機半導体素子の製造方法。
【請求項２】
前記ドナー基板の有機半導体膜を形成する有機半導体材料が、単結晶もしくは多結晶である請求項１に記載の有機半導体素子の製造方法。
【請求項３】
前記ドナー基板の支持体と有機半導体膜との界面における、前記レーザ光のエネルギ密度が５０Ｊ／ｃｍ2である請求項１または２に記載の有機半導体素子の製造方法。
【請求項４】
前記ドナー基板の支持体と有機半導体膜との界面におけるレーザ光のエネルギ密度が、前記レーザ光の焦点位置の０．２〜０．７倍となるように、前記光学系とドナー基板との相対的な位置を調節する請求項１〜３のいずれか１項に記載の有機半導体素子の製造方法。
【請求項５】
前記光学系とドナー基板との相対的な位置の調節を、前記光学系とドナー基板とが近接するように行う請求項４に記載の有機半導体素子の製造方法。
【請求項６】
前記被処理基板に転写される有機半導体膜が単相である請求項１〜５のいずれか１項に記載の有機半導体素子の製造方法。
【請求項７】
前記レーザ光の走査間隔が、前記ドナー基板の支持体と有機半導体膜との界面におけるレーザ光のスポット径以下である請求項１〜６のいずれか１項に記載の有機半導体素子の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機半導体材料を用いた薄膜トランジスタなどの有機半導体素子の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
軽量化、低コスト化、柔軟化が可能であることから、液晶ディスプレイや有機ＥＬディスプレイに用いられるＴＦＴ（薄膜トランジスタ）、ＲＦＩＤ（ＲＦタグ）やメモリなどの論理回路を用いる装置等に、有機半導体材料からなる有機半導体層を有する有機半導体素子が利用されている。
【０００３】
有機半導体素子の製造において、有機半導体層は、一般的に、真空蒸着などの真空プロセスや、有機半導体材料を溶解してなる塗料を用いる塗布法などの湿式プロセスで形成されている。
一方で、真空プロセスや湿式プロセスが不要な方法として、特許文献１や特許文献２に示されるような、レーザ光を用いる熱転写（レーザ熱転写）が知られている。
【０００４】
レーザ熱転写による有機半導体層の形成は、レーザ光が透過可能な支持体上に全面的に光熱変換層を有し、この光熱変換層の上に全面的に有機半導体材料からなる膜（有機半導体膜）を有する、ドナー基板を用いて行われる。
すなわち、このドナー基板と、有機半導体層を形成される被処理基板（基板上にゲート電極や絶縁層が形成された物など）とを、有機半導体膜と有機半導体層の形成面とを対面させて積層し、ドナー基板の支持体側からレーザ光を入射する。このレーザ光の入射によって、レーザ光が入射した位置の光熱変換層が発熱し、この発熱によって、有機半導体膜が加熱、溶融して、被処理基板に転写され有機半導体層が形成される。あるいは、有機半導体膜が加熱されることによる熱アブレーションによって、有機半導体膜が被処理基板に転写され有機半導体層が形成される。
【０００５】
このようなレーザ熱転写による有機半導体層の形成では、予めドナー基板を作製する必要があるものの、被処理基板への有機半導体層の形成に、真空プロセスや湿式プロセスは不要であり、有機半導体層を形成する工程の簡略化等を図ることができる。
また、多様な条件での熱転写が可能であるため、転写条件の調節によって、プロセスに高移動度化のための処理を組み込むことが可能である。
さらに、レーザ熱転写によれば、高いパターン精度で、均一な膜厚の有機半導体層を形成できるので、高移動度、高パターン精度および低性能バラツキの全てを、優れたレベルで実現した有機半導体素子が製造できる可能性が高い。
【０００６】
その反面、レーザ熱転写では、転写時に有機半導体層（有機半導体材料）のみならず、高熱になる光熱変換層も転写されてしまう場合が有る。このような異物が有機半導体層と共に転写されれば、汚染による有機半導体素子の性能低下の原因となってしまう。
光熱変換層が必要な理由は、有機半導体材料は、一般的にレーザ熱転写に用いられる近赤外レーザの波長（７８０〜１０００ｎｍ）に対して吸収を有さないためである。
【０００７】
他方、レーザ熱転写を行うレーザ光として、紫外領域のレーザ光を用いることで、有機半導体材料を直接加熱できるので、光熱変換層を無くすことができる。しかしながら、紫外領域のレーザ光を用いると、レーザ光によって、有機半導体材料が光化学的に分解したり劣化したりする懸念が有る。
【０００８】
一方で、光熱変換層を用いず、かつ、赤外領域のレーザ光を用いる熱転写によって有機半導体層を形成する有機半導体素子の製造方法が、特許文献３に記載されている。
この方法では、ポリイミドを支持体として、この支持体の表面に有機半導体膜を形成したドナー基板と、波長１０．６μｍの炭酸ガスレーザとを用いて、先と同様にして、レーザ熱転写によって有機半導体層を形成している。
【０００９】
しかしながら、波長１０．６μｍの炭酸ガスレーザは、ポリイミドを透過しない。すなわち、この方法では、光熱変換層の代わりに、ポリイミドからなる支持体をレーザ光で加熱して、この熱によって、有機半導体層を被処理基板に転写している。
そのため、やはり、高温になるポリイミドが、有機半導体層と共に転写されて、汚染物質となってしまい、有機半導体素子の特性が低下してしまう可能性が有る。また、ポリイミドは、基本的に、光熱変換を目的とする材料では無い。そのため、ポリイミドの発熱による加熱では、レーザ照射等の条件によっては、有機半導体層を十分に被処理基板に転写することができず、目的とする有機半導体素子が作製できない場合も有る。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１０】
【特許文献１】特開２００７−３５７４２号公報
【特許文献２】特開２０１１−１０８９９２号公報
【特許文献３】特開２００４−２４７７１６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
本発明の目的は、このような従来技術の問題点を解決することにあり、レーザ熱転写によって、高精細かつ均一な膜厚を有し、汚染や有機半導体材料の分解のない高品質な有機半導体層を形成できる有機半導体素子の製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
このような目的を達成するために、本発明の有機半導体装置の製造方法は、有機半導体材料からなる半導体層を有する有機半導体素子の製造方法であって、波長４μｍ以上のレーザ光を照射する光学系と、レーザ光の透過率が５０％以上である支持体の表面に、有機半導体材料からなる有機半導体膜を形成してなるドナー基板とを用い、ドナー基板と半導体素子になる被処理基板とを、有機半導体膜と半導体層の形成面とを対面させて位置し、光学系によって、支持体側からレーザ光を入射して、このレーザ光を、形成する半導体層に応じて変調しつつ走査することにより、被処理基板に有機半導体膜を転写して、半導体層を形成することを特徴とする有機半導体素子の製造方法を提供する。
【００１３】
このような本発明の有機半導体素子の製造方法において、ドナー基板の有機半導体膜を形成する有機半導体材料が、単結晶もしくは多結晶であるのが好ましい。
また、ドナー基板の支持体と有機半導体膜との界面における、レーザ光のエネルギ密度が５０Ｊ／ｃｍ2であるのが好ましい。
また、ドナー基板の支持体と有機半導体膜との界面におけるレーザ光のエネルギ密度が、レーザ光の焦点位置の０．２〜０．７倍となるように、光学系とドナー基板との相対的な位置を調節するのが好ましい。
また、光学系とドナー基板との相対的な位置の調節を、光学系とドナー基板とが近接するように行うのが好ましい。
また、被処理基板に転写される有機半導体膜が単相であるのが好ましい。
さらに、レーザ光の走査間隔が、ドナー基板の支持体と有機半導体膜との界面におけるレーザ光のスポット径以下であるのが好ましい。
【発明の効果】
【００１４】
このような本発明によれば、レーザ熱転写によって、高精細かつ均一な膜厚を有し、汚染や有機半導体材料の分解がない高品質な有機半導体層を形成できるので、移動度の高い高性能な有機半導体素子を製造できる。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】本発明の有機半導体素子の製造方法の一例を説明するための概念図である。
【図２】（Ａ）〜（Ｅ）は、本発明の有機半導体素子の製造方法の一例を説明するための概念図である。
【図３】（Ａ）〜（Ｃ）は、本発明の有機半導体素子の製造方法の実施例を説明するための概念図である。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
図１および図２に、本発明の有機半導体素子の製造方法の一例を概念的に示す。
図１および図２に示すように、本発明の有機半導体素子の製造方法（以下、単に『本発明の製造方法』とも言う）は、支持体１２の表面に有機半導体膜１４を形成してなるドナー基板１０と、波長４μｍ以上のレーザ光Ｌを照射する光学系１６とを用い、レーザ光Ｌによる熱転写（レーザ熱転写）によって、半導体素子となる被処理基板２０に有機半導体層２４（図２（Ｅ）参照）を形成するものである。
【００１７】
なお、図１および図２に示す例は、素子基板２６の上にゲート電極２８を有し、このゲート電極２８および素子基板２６を覆って絶縁層３０を有し、この絶縁層３０の上にドレイン電極３２およびソース電極３４を有する被処理基板２０の上に、有機半導体層２４を形成している。
すなわち、この例は、ボトムゲート−ボトムコンタクト型の有機半導体素子を製造するものである。しかしながら、本発明は、これ以外にも、トップゲート−ボトムコンタクト型、ボトムゲート−トップコンタクト型、トップゲート−ボトムコンタクト型など、公知の各種の有機半導体素子の製造における、有機半導体層の形成に利用可能である。
【００１８】
光学系１６は、波長４μｍ以上のレーザ光Ｌを照射するものである。
この光学系１６は、波長４μｍ以上のレーザ光Ｌを照射するレーザ光源、各種のレンズやミラー等の光学素子、レーザ光の変調手段などを組み合わせてなる、公知のレーザ光学系（レーザビーム光学系）である。
【００１９】
本発明の製造方法において、有機半導体層２４の熱転写を行うためのレーザ光Ｌは、波長が４μｍ以上である。
一般的に、有機半導体材料は、波長が４μｍ以上のレーザ光を吸収する。後に詳述するが、本発明の製造方法では、このレーザ光Ｌによって、直接的に、有機半導体膜１４（有機半導体材料）を加熱して、被処理基板２０に有機半導体膜１４をレーザ熱転写する。本発明の製造方法は、これにより、高精細で均一な膜厚を有し、汚染や有機半導体材料の汚染が無い高品位な有機半導体層２４の形成を可能にしている。
このレーザ熱転写が好適に行える等の点で、レーザ光Ｌの波長は６μｍ以上が好ましく、特に、８μｍ以上が好ましい。
【００２０】
本発明の製造方法において、波長４μｍ以上のレーザ光Ｌとしては、炭酸ガスレーザによる波長９．３μｍのレーザ光、炭酸ガスレーザによる波長１０．６μｍのレーザ光、量子カスケードレーザによる波長４〜１３μｍのレーザ光等、波長４μｍ以上の公知の各種のレーザ光が利用可能である。
中でも、有機半導体材料がレーザ光を効率良く吸収する等の点で、炭酸ガスレーザによる波長９．３μｍのレーザ光は、好適に利用される。
【００２１】
レーザ光Ｌの強度は、レーザ光Ｌの波長、熱転写する有機半導体材料の種類等に応じて、ドナー基板１０の有機半導体膜１４を十分に加熱して熱転写でき、かつ、有機半導体材料を劣化させない強度を、適宜、設定すればよい。
ここで、本発明者の検討によれば、ドナー基板１２と有機半導体膜１４との界面において、レーザ光Ｌのエネルギ密度（ビームスポットのエネルギ密度）が５０Ｊ／ｃｍ2以上であるのが好ましく、特に、８０Ｊ／ｃｍ2以上であるのが好ましい。
これにより、より確実に有機半導体膜１４を熱転写して、適正な有機半導体層１４を形成し、目的とする性能を確実に発現する有機半導体素子を、安定して製造することが可能になる。
【００２２】
また、レーザ光Ｌは、ドナー基板１０の支持体１２と有機半導体膜１４との界面におけるエネルギ密度（ビームスポットのエネルギ密度）が、焦点位置のエネルギ密度の０．２〜０．７倍となるようにして、ドナー基板１０に入射するのが好ましい。
【００２３】
レーザ熱転写を、最も効率よく行うためには、ドナー基板１２の支持体１２と有機半導体膜１４との界面が焦点位置（フォーカスポイント）となるように、レーザ光Ｌをドナー基板１０に入射する必要が有る。
しかしながら、この界面に焦点を形成すると、レーザ光Ｌのエネルギが高すぎて過加熱のような状態になってしまい、有機半導体材料が変性や劣化してしまう場合が有る。また、焦点でのビームスポットは、中心と周辺部分とのエネルギの差が大きく、有機半導体膜１４のレーザ熱転写にムラが生じてしまう場合も有る。
【００２４】
これに対して、本発明では、好ましくは、レーザ光Ｌの焦点位置を支持体１２と有機半導体膜１４との界面からズラして（レーザ光Ｌをデフォーカスして）、この界面におけるレーザ光Ｌのエネルギ密度が、焦点位置の０．２〜０．７倍となるようにする。
これにより、支持体１２と有機半導体膜１４との界面におけるレーザ光Ｌのエネルギ密度を適正にし、かつ、この界面におけるビームスポットのエネルギ分布を均一化できる。そのため、より好適に、有機半導体材料の分解を防止し、かつ、ムラの無いレーザ熱転写を行って、より安定して適正な有機半導体層２４を形成することが可能になる。
【００２５】
デフォーカスの方法としては、一例として、支持体１２と有機半導体膜１４との界面が焦点位置になるように、ドナー基板１０と光学系１６との位置（光学的な距離）を設定し、ドナー基板１０および光学系１６の少なくとも一方を、レーザ光Ｌの光軸方向に移動する方法が例示される。
ここで、このデフォーカスは、レーザ光Ｌの焦点位置が、支持体１２と有機半導体膜１４との界面よりも光学系１６側に位置するように行うのが好ましい。すなわち、レーザ光Ｌの焦点が、支持体１２と有機半導体膜１４との界面よりも、レーザ光Ｌの進行方向の上流側に位置するように、デフォーカスを行うのが好ましい。これにより、レーザ光Ｌの損失を少なくして、かつ、乱れの無いレーザ光を支持体１２と有機半導体膜１４との界面に入射して、熱転写を行うことができ、より安定して適正な有機半導体層２４を形成することが可能になる。
【００２６】
一方、ドナー基板１０は、前述のように、支持体１２と、この支持体１２の表面に形成される、有機半導体材料の膜である有機半導体膜１４とを有する。
【００２７】
支持体１２は、レーザ光Ｌの透過率が５０％以上の板状物（シート状物）である。前述のように、レーザ光Ｌは、波長４μｍ以上のレーザ光である。
【００２８】
後に詳述するが、本発明の製造方法は、有機半導体膜１４と被処理基板２０の有機半導体層２４の形成面とを対面した状態で、レーザ光Ｌで、支持体１２側からドナー基板１０を走査することにより、有機半導体膜１４を被処理基板２０に熱転写して、半導体素子を構成する有機半導体層２４を形成する。
ここで、波長４μｍ以上のレーザ光は、有機半導体膜１４（有機半導体材料）に吸収される。そのため、レーザ光Ｌは、５０％以上が支持体１２を透過して、有機半導体膜１４を、直接、加熱して熱転写できる。従って、本発明においては、ドナー基板１０に、有機半導体膜１４を加熱するための光熱変換層を設ける必要が無い。さらに、この熱転写は、支持体１２の加熱による熱転写ではなく、有機半導体膜１４を、直接、加熱しての熱転写である。そのため、本発明の製造方法によれば、レーザ熱転写によって、光熱変換層や支持体に起因する不純物の無い、単相の有機半導体層２４を形成できる。また、紫外領域のレーザ光を用いる熱転写のように、有機半導体材料を劣化させることも無い。
さらに、レーザ光Ｌの走査による有機半導体膜１４の熱転写なので、厚さが均一で、かつ、高精細で高精度なパターンの有機半導体層２４の形成が可能である。また、当然、ドナー基板１０の有機半導体膜１４は、パターンニングして形成する必要はなく、支持体１２の全面に、いわゆるベタの状態で形成すればよい。
【００２９】
本発明の製造方法において、支持体１２は、使用するレーザ光Ｌに応じて、レーザ光Ｌの透過率が５０％を超えるものが、各種、利用可能である。
支持体１２の一例として、シリコン、ゲルマニウム、セレン化亜鉛、硫化亜鉛、フッ化バリウム、フッ化カルシウム等の材料からなる支持体１２は、波長４μｍ以上のレーザ光Ｌであれば、利用可能である。
【００３０】
支持体１２のレーザ光透過率は、高い方が好ましい。具体的には、レーザ熱転写を効率よく行える、支持体１２の不要な加熱を抑制できる等の点で、支持体１２のレーザ光Ｌの透過率は、６０％以上が好ましく、特に、７０％以上が好ましい。
【００３１】
なお、支持体１２の厚さは、支持体１２の形成材料に応じて、有機半導体膜１４を形成して支持する基板として十分な剛性（機械的強度）を有し、かつ、有機半導体膜１４へのレーザ光Ｌの入射を大きく妨げない厚さを、適宜、設定すればよい。
なお、レーザ光Ｌの利用効率を考慮すれば、必要な剛性が確保できれば、支持体１２は、薄い方が好ましい。
【００３２】
支持体１２の表面には、有機半導体材料からなる膜である有機半導体膜１４が形成される。前述のように、本発明の製造方法においては、波長４μｍ以上のレーザ光によって、有機半導体膜１４を直接的に加熱して、被処理基板２０に熱転写する。
有機半導体膜１４を形成する有機半導体材料は、有機半導体素子の有機半導体層として利用される、公知の材料が、各種、利用可能である。
具体的には、６，１３−ビス（トリイソプロピルシリルエチニル）ペンタセン（ＴＩＰＳペンタセン）、テトラメチルペンタセン、パーフルオロペンタセン等のペンタセン類、ＴＥＳ-ＡＤＴ、ｄｉＦ−ＴＥＳ-ＡＤＴ等のアントラジチオフェン類、ＤＰｈ-ＢＴＢＴ、Ｃｎ−ＢＴＢＴ等のベンゾチエノベンゾチオフェン類、Ｃｎ−ＤＮＴＴ等のジナフトチエノチオフェン類、ペリキサンテノキサンテン等のジオキサアンタントレン類、ルブレン類、Ｃ６０、ＰＣＢＭ等のフラーレン類、銅フタロシアニン、フッ素化銅フタロシアニン等のフタロシアニン類、Ｐ３ＲＴ、ＰＱＴ、Ｐ３ＨＴ、ＰＱＴ等のポリチオフェン類、ＰＢＴＴＴ等のポリチエノチオフェン類等が例示される。
【００３３】
有機半導体膜１４の厚さは、有機半導体材料の種類、形成する有機半導体層２４の厚さ等に応じて、適宜、設定すればよい。
本発明者の検討によれば、０．０１〜１μｍ程度が好ましい。
【００３４】
有機半導体膜１４は、用いる有機半導体材料に応じて、公知の膜形成技術を用いて形成できる。
好適な一例として、有機半導体膜１４となる有機半導体材料をトルエン等の溶剤に溶解した塗布液（塗料）を調製して、この塗料を支持体１２に塗布、乾燥する、いわゆる塗布法による形成が例示される。この際において、塗料の塗布方法は、スピンコート、ドロップキャスト、ディップコート、ドクターナイフ、グラビアコート等の公知の塗布方法が、各種、利用可能である。
これ以外にも、真空蒸着等の気相堆積法（気相成膜法）、印刷等の方法も、有機半導体膜１４の形成に好適に利用可能である。
【００３５】
有機半導体膜１４は、単結晶あるいは多結晶などの結晶であるのが好ましく、特に、単結晶であるのが好ましい。
有機半導体膜１４を結晶とすることにより、単結晶あるいは多結晶の有機半導体層２４を形成することができ、移動度の高い有機半導体素子を製造できる。
なお、有機半導体膜１４を結晶化する方法は、公知の結晶化方法が、各種利用可能である。具体的には、形成した有機半導体膜１４を加熱する方法、塗布法で有機半導体膜１４を形成する際に、塗膜の端部から乾燥を行わせる方法等が例示される。
【００３６】
以下、図２を参照して、本発明の製造方法について、より詳細に説明する。
まず、図２（Ａ）〜（Ｂ）に示すように、支持体１２の表面に有機半導体膜１４を形成したドナー基板１０を用意して、有機半導体膜１４と、被処理基板２０の有機半導体層２４の形成面とを対面して、位置させる。
前述のように、図示例は、ボトムゲート−ボトムコンタクト型の有機半導体素子を製造する例であるので、有機半導体膜１４とドレイン電極３２およびソース電極３４とが対面するように、ドナー基板１０と被処理基板２０とを位置させる。
【００３７】
ここで、図２（図１も同）に示す例では、一例として、ドナー基板１０と被処理基板２０とは、有機半導体膜１４とドレイン電極３２およびソース電極３４とが接触した状態で、積層されている。
しかしながら、本発明の製造方法は、このように両者を接触した状態以外にも、例えば図２（Ａ）に示される状態のように、ドナー基板１０と被処理基板２０とが、所定の間隔、離間した状態で、有機半導体膜１４と、被処理基板２０における有機半導体層２４の形成面とを対面させてもよい。なお、この際におけるドナー基板１０と被処理基板２０との間隔は、有機半導体材料の種類、レーザ光Ｌの強度、被処理基板２０の構成等に応じて、適宜、設定すればよい。
【００３８】
ここで、ドナー基板１０と被処理基板２０とを接触して積層する場合でも、離間して対面させる場合でも、有機半導体膜１４の表面と、有機半導体層２４の形成面との距離が、全面的に等しくなるようにドナー基板１０と被処理基板２０とを対面させるのが好ましい。すなわち、図２に示すように積層する場合には、ドナー基板１０と被処理基板２０との対向面が、全面的に密着するように積層するのが好ましい。
これにより、有機半導体膜１４のレーザ熱転写を、ドナー基板１０（有機半導体層２４の形成面）の全面で均一に行って、全面的に均一かつ適正な有機半導体層２４を形成して、高品質な有機半導体素子を、より安定して製造することが可能になる。
なお、図示例のように、被処理基板２０における有機半導体層２４の形成面が凹凸を有する場合には、有機半導体膜１４の表面と、素子基板２６の表面（ドナー基板側の面）との距離が、全面的に等しくなるように、ドナー基板１０と被処理基板２０とを位置させればよい。
【００３９】
次いで、図２（Ｃ）〜図２（Ｄ）に示すように、光学系１６からドナー基板１０に、レーザ光Ｌを照射して、形成する有機半導体層２４に応じてレーザ光Ｌを変調しつつ、レーザ光Ｌでドナー基板１０を二次元的に走査する。
図示例においては、一例として、図中矢印ｘ方向にレーザ光Ｌを走査（矢印ｘ方向に走査線を画成＝主走査）した後、矢印ｘ方向と直交するｙ方向（図２の紙面に垂直な方向  図３（Ｂ）参照）に所定量だけレーザ光Ｌを移動（副走査）して、再度、図中矢印ｘ方向にレーザ光Ｌを走査することを繰り返すことにより、レーザ光Ｌでドナー基板１０を二次元的に走査している。
【００４０】
前述のように、支持体１２は、レーザ光Ｌを５０％以上、透過するので、ドナー基板１０に入射したレーザ光Ｌは、支持体１２を透過して、有機半導体膜１４に入射して加熱する。また、レーザ光Ｌは、有機半導体材料が吸収する波長４μｍ以上のレーザ光である。
従って、このレーザ光Ｌの走査によって、レーザ光Ｌが照射された部分の有機半導体膜１４（有機半導体材料）が、直接、レーザ光Ｌによって加熱され、熱で有機半導体材料が溶解され、あるいは、熱アブレーションによって、あるいは、蒸発して蒸着のような状態となって、あるいは、これらの複数が混在的に作用して、有機半導体膜１４が、被処理基板２０に熱転写され、有機半導体層２４が形成される。
また、レーザ光Ｌの二次元的な走査によって熱転写を行う本発明によれば、レーザ光Ｌのｏｎ／ｏｆｆや強度の調節など、レーザ光の変調を行うことによって、被処理基板２０の所望の位置に、所望のパターンを有する有機半導体層２４を形成できる。
【００４１】
このような二次元的なレーザ光Ｌの走査は、光学系１６を移動して行ってもよく、ドナー基板１０および被処理基板２０を移動して行ってもよく、光学系１６とドナー基板１０および被処理基板２０との両方を移動して行ってもよい。
あるいは、光学系１６に光偏向器を設け、例えば、レーザ光Ｌを矢印ｘ方向（もしくはｙ方向）に偏向（主走査）しつつ、光学系１６とドナー基板１０および被処理基板２０とを、矢印ｙ方向（もしくはｘ方向）に相対的に移動することにより、レーザ光Ｌによって二次元的にドナー基板１０を走査してもよい。
【００４２】
本発明の製造方法において、レーザ光Ｌの走査は、ドナー基板１０の支持体１２と有機半導体膜１４との界面におけるレーザ光Ｌのスポット径に応じて、レーザ光Ｌのスポットの中心の間隔（図２に示す例では、ｘ方向に画成される走査線の中心の間隔）が、スポット径以下となるように行うのが好ましい。これにより、有機半導体膜１４の熱転写すべき部分を確実に加熱して、転写ムラや必要な部分の非転写を防止して、より安定して、適正な有機半導体層２４を形成することが可能になる。
なお、この界面におけるレーザ光のスポット径は、形成する有機半導体層２４の形状や大きさ等に応じて、適宜、設定すればよい。
【００４３】
さらに、レーザ光Ｌの走査速度（線速）は、レーザ光Ｌの強度、レーザ光（ビームスポット）のエネルギ密度、レーザ光Ｌの支持体１２の透過率、有機半導体材料の種類、有機半導体膜１４の厚さ等に応じて、適正なレーザ熱転写が可能な走査速度を、適宜、設定すればよい。
なお、本発明者らの検討によれば、レーザ光Ｌの走査速度は、０．０１〜０．５ｍ／ｓｅｃ程度とするのが好ましい。
【００４４】
レーザ光Ｌによって必要な領域を走査したら、図２（Ｅ）に示すように、被転写基板２０からドナー基板１０を取り外し、熱転写によって有機半導体層２４が形成された半導体素子を取り出す。
前述のように、この有機半導体層２４は、レーザ光Ｌによってドナー基板１０の有機半導体膜１４を直接的に加熱して熱転写した有機半導体材料で形成されたものであるので、光熱変換層などの不純物が無く、かつ、紫外線等に起因する有機材料の劣化等も無い、高い移動度を有する高品質なものである。
【００４５】
以上、本発明の有機半導体素子の製造方法について詳細に説明したが、本発明は、上述の例に限定はされず、本発明の要旨を逸脱しない範囲において、各種の改良や変更を行ってもよいのは、もちろんである。
【実施例】
【００４６】
以下、本発明の具体的実施例を挙げ、本発明の有機半導体素子の製造方法について、より詳細に説明する。
【００４７】
［実施例１］
ＴＩＰＳペンタセンをトルエンに溶解して、有機半導体膜１４を形成するための塗布液を調製した。この塗布液におけるＴＩＰＳペンタセンの濃度は、１質量％とした。
支持体１２として、厚さが０．７ｍｍのｎ型シリコン製の板を用意した。この支持体１２の波長９．３μｍのレーザ光の透過率は、９０％である。
【００４８】
この支持体１２の表面に、６０秒のＵＶオゾン処理を施した。
次いで、スピンコートによって、調製した塗布液を支持体１２の表面に塗布し、９０℃のホットプレートの上に１０分置くことによって乾燥して、支持体１２の表面に有機半導体膜１４（ＴＩＰＳペンタセンの膜）を形成してなる、ドナー基板１０を作製した。有機半導体膜１４の厚さは約０．５μｍとした。
【００４９】
被処理基板として、表面に熱酸化膜が３００ｎｍ形成された、ｎ型シリコン基板を用意した。
本例は、ボトムゲート−トップコンタクト型の有機半導体素子を作製するものであり、このｎ型シリコン基板が、ゲート電極として作用する。
【００５０】
被処理基板（ｎ型シリコン基板）熱酸化膜と有機半導体膜１４とを対面して、全面を密着させて、被処理基板とドナー基板１０とを積層した（図２参照）。
この積層体に、キーエンス社製のＭＬ−Ｚ９５５０Ｔを用いて、支持体１２側からレーザ光Ｌを入射して、図３（Ａ）〜（Ｃ）に概念的に示すように、全面をレーザ光Ｌによって走査して、有機半導体膜１４をドナー基板１０から被処理基板に熱転写して、被処理基板（熱酸化膜）の表面に有機半導体層を形成した。
なお、レーザ光Ｌは炭酸ガスレーザによる波長９．３μｍのもので、出力は１８Ｗとした。また、レーザ光Ｌの焦点は、ドナー基板１０の支持体１２と有機半導体膜１４との界面とした（デフォーカス０ｍｍ）。
また、レーザ光の走査は、ドナー基板１０の支持体１２と有機半導体膜１４との界面におけるレーザ光のスポットの中心の間隔（走査ピッチ）を０．０３ｍｍとして、０．０２ｍ／ｓｅｃの走査速度（線速）で行った。
【００５１】
有機半導体層を形成した被処理基板の表面（有機半導体層の表面）に、金を蒸着して、上部電極（ソース電極およびドレイン電極）を形成し、ＴＩＰＳペンタセンからなる有機半導体層を有する、ボトムゲート−トップコンタクト型の有機半導体素子（ＴＦＴ）を作製した。
【００５２】
［実施例２〜実施例７］
積層体を光学系側に移動して、レーザ光の焦点を０．１ｍｍ、被処理基板側に移動した以外は（デフォーカス０．１ｍｍ、［実施例２］）、
積層体を光学系側に移動して、レーザ光の焦点を０．２ｍｍ、被処理基板側に移動した以外は（デフォーカス０．２ｍｍ、［実施例３］）、
積層体を光学系と逆側に移動して、レーザ光の焦点を０．２ｍｍ、被処理基板と逆側に移動した以外は（デフォーカス−０．２ｍｍ、［実施例４］）、
積層体を光学系側に移動して、レーザ光の焦点を１ｍｍ、被処理基板側に移動した以外は（デフォーカス１ｍｍ、［実施例５］）、
積層体を光学系と逆側に移動して、レーザ光の焦点を１ｍｍ、被処理基板側と逆側に移動した以外は（デフォーカス−１ｍｍ、［実施例６］）、
積層体を光学系側に移動して、レーザ光の焦点を２ｍｍ、被処理基板側に移動した以外は（デフォーカス２ｍｍ、［実施例７］）、それぞれ、実施例１と同様にして、有機半導体素子を作製した。
【００５３】
［実施例８］
レーザ光Ｌの走査ピッチを０．１ｍｍにした以外は、実施例１と同様にして、有機半導体素子を作製した。
【００５４】
［実施例９］
レーザ光Ｌの走査速度を０．２ｍ／ｓｅｃにした以外は、実施例１と同様にして、有機半導体素子を作製した。
【００５５】
［比較例１］
ドナー基板の支持体を、厚さ０．７ｍｍのポリイミド（ＰＩ）製の板に変更した以外は、実施例１と同様にして、有機半導体素子を作製した。
この支持体の波長９．３μｍのレーザ光の透過率は、５％である。
【００５６】
［比較例２］
レーザ光を、Ｎｄ：ＹＶＯ4レーザによる波長１．０６４μｍのレーザ光（キーエンス社製のＭＤ−Ｖ９９２０を使用）に変更した以外は、実施例１と同様にして、有機半導体素子を作製した。なお、レーザ光の出力は１３Ｗとした。
【００５７】
［比較例３］
レーザ光ではなく、３００℃のホットプレート（ＨＰ）を用いて有機半導体膜１２の熱転写を行った以外は、実施例１と同様にして、有機半導体素子を作製した。
【００５８】
このようにして作製した各有機半導体素子に関して、上記した各諸元、ならびに、支持体１２と有機半導体膜１４との界面（以下、単に界面とする）におけるレーザ光Ｌのスポット径、界面におけるレーザ光Ｌのエネルギ密度、および、レーザ光Ｌの焦点位置のエネルギ密度に対する界面のエネルギ密度（界面エネルギ密度比）を、下記表に示す。
なお、実施例１は、レーザ光Ｌの焦点位置は界面（デフォーカス０）であり、実施例２〜７は、実施例１において、積層体をレーザ光Ｌの光軸方向に移動することで、焦点位置を界面から移動した例である。従って、実施例２〜７における焦点位置のエネルギ密度は、３５９Ｊ／ｃｍ2である。
【００５９】
＜移動度の測定＞
このようにして作製した、ボトムゲート−トップコンタクト型の各有機半導体素子の各電極と、Agilent Technologies社製の４１５５Ｃに接続されたマニュアルプローバの各端子とを接続して、電界効果トランジスタ（ＦＥＴ）の評価を行なった。具体的には、ドレイン電流‐ゲート電圧（Ｉｄ‐Ｖｇ）特性を測定することにより電界効果移動度（［ｃｍ2／Ｖ・ｓｅｃ］）を算出した。
その結果、実施例１が５．０×１０-4；  実施例２が５．０×１０-4；  実施例３が１．０×１０-3；  実施例４が２．０×１０-3；  実施例５が２．０×１０-3；  実施例６が２．０×１０-3；  実施例７が８．０×１０-4；  実施例８が２．０×１０-4；  実施例９が１．０×１０-4；  であった。
これに対し、比較例１〜３は、移動度の測定が出来なかった。
結果を下記表に併記する。
【００６０】
【表１】
2014183191.tif 000003
【００６１】
上記表に示されるように、本発明の製造方法で作製した半導体素子（ＴＦＴ）は、何れも良好な移動度を有する。
ここで、前述のように、実施例１は、レーザ光Ｌの焦点位置を界面（支持体１２と有機半導体膜１４との界面）にした例（デフォーカス０）である。他方、実施例２〜７は、実施例１に対して、積層体を移動（デフォーカス）することで、レーザ光Ｌの焦点位置を界面から移動して、界面におけるレーザ光Ｌのエネルギ密度を、焦点位置と変更した例である。上記表に示されるように、焦点位置を移動して、支持体１２と有機半導体膜１４との界面におけるエネルギ密度を、焦点位置の０．２〜０．７倍とした実施例３〜６は、有機半導体膜１４のレーザ熱転写が好適に行われ、より優れた移動度が得られている。
これに対し、ドナー基板の支持体としてポリイミド（ＰＩ）を用いた比較例１は、有機半導体膜と共に絶縁材料であるポリイミドも転写されてしまい、有機半導体素子が動作しなかった（測定不能）。また、１．０６４μｍのレーザ光を用いた比較例２、および、３００℃のホットプレート（ＨＰ）を用いた比較例３は、有機半導体膜１４を適正に加熱することができず、有機半導体膜１４が適正に転写されなかったため、同様に、有機半導体素子が動作しなかった（測定不能）。
以上の結果より、本発明の効果は明らかである。
【産業上の利用可能性】
【００６２】
ＴＦＴ等の有機半導体材料を用いる有機半導体素子の製造に、好適に利用可能である。
【符号の説明】
【００６３】
１０  ドナー基板
１２  支持体
１４  有機半導体膜
１６  光学系
２０  被処理基板
２６  素子基板
２８  ゲート電極
３０  絶縁層
３２  ドレイン電極
３４  ソース電極
【図１】
2014183191.tif 000004
【図２】
2014183191.tif 000005
【図３】
2014183191.tif 000006