(57)【要約】      （修正有）【課題】封止樹脂と端子部の密着性を高めるようにした半導体素子搭載用リードフレームとその製造方法を提供する。【解決手段】銅板１の表面の所望位置に所望形状の端子８を形成するためハーフエッチング法により凹み２を形成する工程と、該凹み２内に所定の厚さの貴金属めっき層４を形成する工程ｃと、前記凹み２内の前記めっき層４より大き目に前記銅板１の表面側を覆うと共に前記銅板１の裏面全体を覆うレジストマスク５を形成してハーフエッチングを行うことにより前記銅板の表面側に前記めっき層４を含む突出部を形成する工程ｄと、前記めっき層４を除いて前記レジストマスク５を除去する工程と、プレス加工により前記めっき層４を含む前記突出部を有する銅板１を圧縮加工する工程とにより、半導体素子載置部１１と、めっき層４を含む最上面部よりその下部の径が小さく断面形状にくびれがあるような形状の端子部８を形成する。【選択図】図４
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体素子載置部と、めっき層を含む最上面部よりその下部の径が小さく断面形状にくびれがあるような形状の端子部と、を有することを特徴とする半導体素子搭載用リードフレーム。
【請求項２】
厚さ０．１〜０．２ｍｍの銅板の表面の所望位置に所望形状の端子を形成するためハーフエッチング法により深さ１０μｍ〜２０μｍ程度の凹みを形成する工程と、該凹み内に所定の厚さの貴金属めっき層を形成する工程と、前記凹み内の前記めっき層より大き目に前記銅板の表面側を覆うと共に前記銅板の裏面全体を覆うレジストマスクを形成してハーフエッチングを行うことにより前記銅板の表面側に前記めっき層を含む突出部を形成する工程と、前記めっき層を除いて前記レジストマスクを除去する工程と、プレス加工により前記めっき層を含む前記突出部を有する銅板を圧縮加工する工程とを含むことを特徴とする半導体素子搭載用リードフレームの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、半導体素子搭載用リードフレーム、特に半導体素子搭載部と端子部の形状に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体装置は、多ピン化、小型化、薄型化の要請から、ポリイミドフィルを使用したＴ
ＡＢ、半田ボールを使用したＢＧＡ、あるいは半導体チップの下側にアウターリードを配
置したＣＳＰ等さまざまなパッケージが考案されている。
その中でも、比較的安価で、チップサイズに近い搭載面積で対応できる方法として金属材料を利用したＱＦＮタイプがある。
【０００３】
このタイプは、金属材料を使用し、中央に半導体素子を置きその周辺にエリアアレイ状に、表面が半導体素子とワイヤで繋ぐワイヤボンディング部と裏面側が端子となって導体端子を配置した半導体パッケージであって、ワイヤボンディング部と端子部を共有することで、比較的安価で、チップサイズに近い搭載面積を実現している。
【０００４】
その後、特許文献１乃至３により、端子を樹脂封止面から露出させるタイプのものが提案されているが、このタイプのものは、以下の製造方法を取っている。即ち、この製造法は、リードフレーム用の銅材の表面に貴金属をめっきする第１工程と、裏面に耐エッチングレジスト膜を成形した後、表面のめっき層をレジスト層としてハーフエッチング加工する第２工程と、上記リードフレーム材の所定位置に半導体素子を搭載し半導体素子と金属めっき層をワイヤーボンディングする第３工程と、これら全体を樹脂封止する第４工程と、リードフレーム材の裏面に形成した耐エッチングレジストを除去し、前記貴金属めっき層をレジスト膜として使用して裏面をエッチング加工して、リードを露出させる第５工程とから成っている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特許第3780122号公報
【特許文献２】特許第4137981号公報
【特許文献３】特許第3947750号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、この製造方法では、めっき層を含む端子部の形成をエッチング加工で行っており、端子部の表面側の形状が図１に示すように、台形になる場合があり、前記第５工程において端子が、個々に切り離された時、引っ掛かりがないため、樹脂封止し、裏面をエッチング加工した後、樹脂から抜け落ちる不具合が発生する可能性がある。即ち、封止樹脂と端子部の密着性が低く、信頼性が十分でないという問題点がある。
【０００７】
そこで、本発明は、上記問題点に鑑みてなされたものであり、封止樹脂と端子部の密着性を高めるようにした半導体素子搭載用リードフレームとその製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記目的を達成するために、本発明による半導体素子搭載用リードフレームは、めっき層を含む端子部の最上面部よりその下部の径が小さく断面形状にくびれがあるような形状の端子部を有することを特徴とする。
【０００９】
また、本発明による半導体素子搭載用リードフレームの製造方法は、厚さ０．１〜０．２ｍｍの銅板の表面の所望位置に所望形状の端子を形成するためハーフエッチング法により深さ１０μｍ〜２０μｍ程度の凹みを形成する工程と、該凹み内に所定の厚さの貴金属めっき層を形成する工程と、前記凹み内の前記めっき層より大き目に前記銅板の表面側を覆うと共に前記銅板の裏面全体を覆うレジストマスクを形成してハーフエッチングを行うことにより前記銅板の表面側に前記めっき層を含む突出部を形成する工程と、前記めっき層を除いて前記レジストマスクを除去する工程と、プレス加工により前記めっき層を含む前記突出部を有する銅板を圧縮加工する工程とを含むことを特徴とする。
【００１０】
本発明において、銅材は、リードフレーム用の銅合金で厚さ０．１〜０．２ｍｍのものを使用する。そして、銅板の表面に形成しようとする端子の位置及び形状になるように、ハーフエッチング法により深さ１０μｍ〜２０μｍ程度の凹みを形成する。次いで、所定の金属めっき層を該凹み内に形成する。貴金属めっきは、特に指定しないが、一般的に、Ｎｉ，Ｐｄ，Ａｕの三層めっきやＮｉ，Ｐｄの二層めっき等を行う。
【００１１】
次に、表面側は、貴金属めっき層にこのめっき層よりも３０μｍ〜５０μｍ大きくなるように覆うレジストマスクを形成し、裏面側は、全面を覆うレジストマスクを形成し、所定の形状に金属材をハーフエッチング加工する。ハーフエッチングは、銅板の深さ方向（厚さ方向）に銅板を貫通しないように０．０５〜０．１ｍｍを目途に行う。その後、レジストマスクを除去する。これにより、端子となる表面側が形成される。
【００１２】
ここで、形成された端子の上部の断面形状は、前述のとおり、エッチング加工を行っていることにより、台形形状（富士山形状）になることがある。そこで、本発明では、この後、プレス機により、端子上部を圧縮加工し、端子の上端側面に樹脂への楔となる突起形状が形成される。
【００１３】
上記圧縮加工の深さは、端子の形状にもよるが、形状がФ０．３ｍｍの大きさの場合０．０２ｍｍ前後で、上端側面の突起量は、０．０１ｍｍ〜０．０２ｍｍになる。端子の形状が、Ф０．３ｍｍより大きい場合は、圧縮加工及び端子上端面へのハーフエッチング加工の深さは深く、小さい場合は、浅く設定し、端子上端側面の突起量が発生するように圧縮深さを調整する。
【００１４】
その後は、公知技術を使用し、半導体素子の搭載及び半導体素子と端子上面へボディング加工し、半導体素子を含む銅材の上面を樹脂封止する。最後に裏面側をエッチングして、端子を露出させ完成する。
【発明の効果】
【００１５】
端子の上端側面側に突起が形成されることにより、樹脂封止し裏面をエッチング加工した後の、端子と封止樹脂との密着性を高めた半導体素子搭載用リードフレームを得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】従来のエッチング方法による端子上部の断面図である。
【図２】本発明方法においてプレス加工を行う前の端子上部の断面図である。
【図３】本発明方法においてプレス加工を行った後の端子上部の断面図である。
【図４】本発明による製造方法を示すフロー図である。
【図５】端子部の圧縮量と突起量との関係を示すグラフである。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
以下、図４を参照して、本発明に係る半導体素子搭載用リードフレームの製造方法を説明する。
先ず、工程a）において銅板１を準備し、次に工程ｂ）においてハーフエッチングにより銅板１に凹み２の形成し、次に工程c)において銅板１の表裏面にめっき用ジレストマスク３を形成し、露光・現像を行って、表面側凹み２内にめっき層４を形成し、同時に裏面上にもめっき層４を形成する。次に工程ｄ）において表面側にめっき層４を覆うめっき層４より大き目なエッチング用レジストマスク５を、裏面側に全面を覆うエッチング用レジストマスクを形成する。そして、工程e）においてハーフエッチングを行い、両面のエッチング用レジストマスクを除去することにより、端子の上端面６が形成される。
【００１８】
このようにして得られた端子付き銅板１を、工程ｆ）においてプレス金型７を用いてプレス加工する。工程g）はプレス加工が終了した状態であり、８は工程g）により得られた端子の形態を示している。
【００１９】
次に、工程h）において、半導体素子９の載置部１１上への搭載及びボンディングワイヤー１０による半導体素子９と端子上面へのボンディング加工を行ない、工程i）において銅板１の上面側を樹脂１２により封止し、工程j）において銅板１の裏面側をエッチングして端子を露出させ、全工程を終了する。
【実施例】
【００２０】
以下に本発明の実施例を説明する。
銅板１として、厚さ０．１２５ｍｍの銅材を使用した。ここでは、古河電工製ＥＦＴＥＣ６４−Ｔを用い、両面にドライフィルムレジストをラミネートした。
【００２１】
次に、所定のパターンで表面に露光を行い、現像して凹み２の必要部分を露出させた。続いて、所定のハ−フエッチング加工を施し、凹み（ディンプル）形状を形成した。次に、両面のドライレジストフィルムを除去し、再度、同様にドライレジストフィルムをラミネ−トし、露光、現像を行って、めっきが必要な部分（凹み上）が開口されたレジストマスクを成形した。
【００２２】
次に、形成したレジストマスクの開口部から露出している銅板に、Ｎｉを１μｍ、Ｐｄを０．０７μｍ、Ａｕを０．００３μｍの厚さで順次めっき層を形成した。
【００２３】
次に、レジスト膜を剥離し、めっき層が形成された銅板の両側に、前記と同じドライフィルムレジストをラミネートし、半導体素子が搭載される表側は、形成しためっき層より５０μｍ大きいパターンで露光し現像を行い、めっき層より大きいレジストマスクを形成した。そして、反対側の裏面側には、全面を覆うレジストマスクを形成した。
【００２４】
次に、液温４０℃のエッチング液（メック製メックブライト）を用いて、４分間エッチングを行い、表面側から約０．０９ｍｍの深さまでハーフエッチングを行った。次に、両面のレジストマスクを剥離した。
【００２５】
その後、プレス機（加圧能力８トン）を使用し、回転数８０ＳＰＭで端子表面側を、金型を用いて平面で圧縮加工した。端子の大きさは、φ０．２７ｍｍとし、圧縮量は２０μｍとした。これにより、突起量は１５μｍであった。
【００２６】
また、比較例として同じ形状のものを、圧縮量を５、１０、３０μｍで行った結果、５、１０μｍでは変化（突起量）は乏しく、３０μｍでは、端子がある方向に傾いて歪んでしまった。よって、φ０．２７ｍｍ前後の形状の場合、圧縮量は２０μｍ前後が好ましいことが分かった。
【００２７】
なお、本実施例において、圧縮量５、１０、２０、３０μｍのとき、得られた突起量との関係は、図５のグラフに示す通りであった。
【符号の説明】
【００２８】
１・・銅板
２・・銅板上に掲載された凹み（ディンプル）
３・・メッキ用レジストマスク
４・・めっき層
５・・エッチング用レジストマスク
６・・エッチングで形成された端子の上端面
７・・プレス金型（平面）
８・・プレスで成形した端子
９・・半導体素子
１０・ボンディングワイヤー
１１・半導体素子の載置部
１２・樹脂
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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