(57)【要約】      （修正有）【課題】低コストで交換が容易なフィルタ、フィルタの製造方法、及び、当該フィルタを用いた光学装置を提供する。【解決手段】フィルタは、ロール状のフィルム１３を有するものである。さらに、フィルタは、フィルム１３の長手方向に沿って配列された複数の透過部１２と、透過部１２の周囲に設けられた支持部１１と、を備えている。透過部１２は、フィルム１３上に形成されたメッシュ状の支持パターン１４ｂを有している。支持部１１では、支持パターン１４ａがフィルム１３の全面に形成されている。【選択図】図３
2014232743.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ロール状のフィルムと、
前記フィルム上に形成されたメッシュ状の支持パターンを有し、前記フィルムの長手方向に沿って配列された複数の透過部と、
前記支持パターンが前記フィルムの全面に形成され、前記透過部の周囲に設けられた支持部と、を備えたフィルタ。
【請求項２】
前記支持パターンが前記フィルムよりも厚く形成されている請求項１に記載のフィルタ。
【請求項３】
前記フィルムがジルコニウム膜によって形成され、
前記支持パターンが、ニッケルメッキ膜によって形成されている請求項１、又は２に記載のフィルタ。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか１項に記載のフィルタと、
前記フィルタを張設するように、前記フィルタが巻き付けられた一対のリールと、
前記フィルタの前記透過部を通過する光を出射する光源と、
前記光源からの光の光路中に配置される前記透過部を順番に送り出すために、前記一対のリールを駆動する駆動機構と、
前記フィルタと前記一対のリールと前記光源とを収容する真空チャンバと、を備えた光学装置。
【請求項５】
複数の透過部と、前記透過部の周囲に設けられた支持部とを備えたロールフィルム状のフィルタの製造方法であって、
前記透過部となる領域にはメッシュ状の開口部を有し、前記支持部となる領域で開口したレジストパターンをベースフィルム上に形成するステップと
前記レジストパターンをマスクとして、前記ベースフィルムにメッキ膜を形成するステップと、
前記レジストパターン、及び前記メッキ膜を覆うようにフィルタ膜を形成するステップと、
前記フィルタ膜、及び前記メッキ膜から、前記ベースフィルム、及び前記レジストパターンを取り外すステップと、を備えたフィルタの製造方法。
【請求項６】
前記メッキ膜が前記フィルタ膜よりも厚く形成されている請求項５に記載のフィルタの製造方法。
【請求項７】
前記フィルタ膜を形成する前に、レジストパターンの表面を粗面化する工程をさらに備える請求項５、又は６に記載のフィルタの製造方法。
【請求項８】
前記ベースフィルムに、前記透過部を複数列形成し、
隣接する列間の位置でフィルタ膜を切断する請求項５〜７のいずれか１項に記載のフィルタの製造方法。
【請求項９】
前記フィルタ膜がジルコニウム膜であり、
前記メッキ膜が、ニッケルメッキ膜である請求項５〜８のいずれか１項に記載のフィルタの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学装置、フィルタ、及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
Ｘｅプラズマを光源からＸ線を取り出すＸ線フィルタにおいて、ジルコニウムフォイルを用いたフィルタが利用されている（非特許文献１、２）。ジルコニウムフォイルを用いることで、赤外線を効果的にカットすることができる。Ｘ線の透過率を高くするためには、ジルコニウムフォイルの厚さを１００ｎｍ程度とすることが望ましい。
【０００３】
しかしながら、フォイルを薄くした結果、機械的な強度が不足し、光源から飛来するデブリなどの衝突によって、フィルタに容易に穴が開いてしまう。特に、透過率が高い薄いフィルタは、頻繁に交換する必要がある。また、フィルタ交換の際は、真空を破る必要がある。したがって、真空チャンバを再度真空にするまでの時間を含めると数時間要してしまう。したがって、交換時間が長くなってしまい、フィルタが設置される装置の稼働率が低下してしまう。さらに、装置にフィルタを固定するためには、非特許文献１のようにフィルタの外周部にフレームを形成する必要がある。すなわち、機械的強度を高めるために、フィルタの周辺にフレームを設ける必要がある。フレームを持つ複雑な構造とした場合、フィルタの低コスト化が困難になってしまう。
【先行技術文献】
【非特許文献】
【０００４】
【非特許文献１】T.A. Johnson, R. Soufli, E.M. Gulikson, M. Clift, “Zirconium and Niobium Transmission Data at Wavelengths from 11-16 nm and 200-1200 nm” Optical Constants of Materials for UV to X-Ray Wavelengths (part of SPIE's Annual Meeting on Optical Science and Technology
【非特許文献２】Forbes R. Powell, Terry A. Johnson, “Filter windows for EUV lithography”, [平成２５年５月２１日検索]  インターネットURL:http://www.luxel.com/wp-content/uploads/2010/04/EUVL-Paper.pdf#search=%27Filter+windows+for+EUV+lithography%27
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明は、このような事情を背景としてなされたものであり、低コストで交換が容易なフィルタ、フィルタの製造方法、及び光学装置を提供することを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の一態様に係るフィルタは、ロール状のフィルムと、前記フィルム上に形成されたメッシュ状の支持パターンを有し、前記フィルムの長手方向に沿って配列された複数の透過部と、前記支持パターンが前記フィルムの全面に形成され、前記透過部の周囲に設けられた支持部と、を備えたものである。これにより、低コストで交換が容易なフィルムを実現することができる。
【０００７】
上記のフィルタにおいて、前記支持パターンが前記フィルムよりも厚く形成されていてもよい。これにより、フィルム１３を確実に支持することができる
【０００８】
上記のフィルタにおいて、前記フィルムがジルコニウム膜によって形成され、前記支持パターンが、ニッケルメッキ膜によって形成されていてもよい。これにより、Ｘ線を効果的に透過させることができる。
【０００９】
本発明の一態様にかかる光学装置は、上記のフィルタと、前記フィルタを張設するように、前記フィルタが巻き付けられた一対のリールと、前記フィルタの前記透過部を通過する光を出射する光源と、前記光源からの光の光路中に配置される前記透過部を順番に送り出すために、前記一対のリールを駆動する駆動機構と、前記フィルタと前記一対のリールと前記光源とを収容する真空チャンバと、を備えたものである。
【００１０】
本発明の一態様にかかるフィルタの製造方法は、複数の透過部と、前記透過部の周囲に設けられた支持部とを備えたロールフィルム状のフィルタの製造方法であって、前記透過部となる領域にはメッシュ状の開口部を有し、前記支持部となる領域で開口したレジストパターンをベースフィルム上に形成するステップと、前記レジストパターンをマスクとして、前記ベースフィルムにメッキ膜を形成するステップと、前記レジストパターン、及び前記メッキ膜を覆うようにフィルタ膜を形成するステップと、前記フィルタ膜、及び前記メッキ膜から、前記ベースフィルム、及び前記レジストパターンを取り外すステップと、を備えたものである。これにより、高い生産性で、フィルタを製造することができる。
【００１１】
上記のフィルタの製造方法において、前記メッキ膜が前記フィルタ膜よりも厚く形成されていてもよい。これにより、フィルタを確実に支持することができる。
【００１２】
上記のフィルタの製造方法において、前記フィルタ膜を形成する前に、レジストパターンの表面を粗面化する工程をさらに備えていてもよい。これにより、張力によって、フィルタが破れるのを防ぐことができる。
【００１３】
上記のフィルタの製造方法において、前記ベースフィルムに、前記透過部を複数列形成し、隣接する列間の位置で、前記フィルム膜を切断するようにしてもよい。こうすることで、より低コストで、フィルタを製造することができる。
【００１４】
上記のフィルタの製造方法において、前記フィルタ膜がジルコニウム膜であり、前記メッキ膜が、ニッケルメッキ膜であってもよい。これにより、Ｘ線を効果的に透過させることができる。
【発明の効果】
【００１５】
本発明によれば、低コストで交換が容易なフィルタ、フィルタの製造方法、及び光学装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】本実施の形態にかかるフィルタを用いた光学装置の全体構成を示す図である。
【図２】フィルタの構成を示す平面図である。
【図３】図２のＩＩＩ−ＩＩＩ断面図である。
【図４】図２のＩＩＩ−ＩＩＩ断面図である。
【図５】フィルタの製造工程を示す工程断面図である。
【図６】フィルタの別の製造工程を示す平面図である
【図７】フィルタの変形例を示す平面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
以下、本発明の実施の形態について図面を参照して説明する。以下の説明は、本発明の好適な実施の形態を示すものであって、本発明の範囲が以下の実施の形態に限定されるものではない。以下の説明において、同一の符号が付されたものは実質的に同様の内容を示している。また、以下、説明の明確化のため、ＸＹＺ直交座標系を用いて説明する。
【００１８】
図１を用いて、本実施の形態にかかる光学装置について、説明する。図１は、フィルタ１０を用いた光学装置１００の全体構成を模式的に示す図である。光源装置１００は、真空チャンバ１、光源チャンバ２、フィルタ用チャンバ３、光源５、及びフィルタ装置６を備えている。フィルタ装置６は、フィルタ１０、回転軸２１、回転軸２２、送り出しリール２３、及び巻き取りリール２４を備えている。
【００１９】
真空チャンバ１は、光源チャンバ２とフィルタ用チャンバ３を備えている。光源チャンバ２は、フィルタ用チャンバ３と連通している。真空チャンバ１は、図示しない真空ポンプによって排気され、真空状態となっている。
【００２０】
光源チャンバ２には、光源５が収容されている。光源５は、例えば、放電によりＸ線を発生するプラズマＸ線源である。光源５は、内部に放電用の電極を備えており、ガス配管５ａから供給される光源ガスを放電させることでＸ線を発生させる。すなわち、放電ガスを光源チャンバ２に供給しながら、光源５の電極に電圧を印加することで、光源５内でプラズマが発生する。これにより、光源５からＸ線Ｌが発生する。Ｘ線Ｌは、所定の角度で拡がりながら、フィルタ用チャンバ３に入射する。ここでは、Ｘ線Ｌの光軸をＺ方向として説明する。ガス配管５ａから供給する放電ガスとしては、Ｘｅガス、Ｓｎガス又はこれらの混合ガス等を用いることができる。なお、ＸｅガスやＳｎガス以外の放電ガスを用いたＤＰＰ（Discharge Produced Plasma）光源、あるいはＬＰＰ（Laser Produced Plasma）光源を光源５として用いてもよい。
【００２１】
フィルタ用チャンバ３には、フィルタ装置６が収容されている。フィルタ装置６は、一対のリールである送り出しリール２３及び巻き取りリール２４を備えている。送り出しリール２３及び巻き取りリール２４は円筒状になっている。送り出しリール２３、及び巻き取りリール２４の側面にフィルタ１０がロール状に巻き付けられている。すなわち、フィルタ１０の一端は、送り出しリール２３に取り付けられ、他端は巻き取りリール２４に取り付けられている。フィルタ１０は、送り出しリール２３及び巻き取りリール２４の間に張設されている。このように、フィルタ１０は、送り出しリール２３及び巻き取りリール２４に巻き付けられたロールフィルムとなっている。例えば、５ｍ程度の長さを有するフィルタ１０が送り出しリール２３、巻き取りリール２４に巻き付けられている。
【００２２】
送り出しリール２３、及び巻き取りリール２４には、駆動機構である回転軸２１、２２がそれぞれ取り付けられている。回転軸２１、２２は、ＸＺ平面に垂直な方向に沿って配置されている。回転軸２１、２２は、図示しないモータなどによって、回転する。回転軸２１が送り出しリール２３を回転駆動し、回転軸２２が巻き取りリール２４を回転駆動する。これにより、ロール状のフィルタ１０が、Ｘ方向に送り出されていく。
【００２３】
送り出しリール２３と、巻き取りリール２４はＸ方向に離間して配置されている。送り出しリール２３と、巻き取りリール２４とは、Ｘ線Ｌの光路を挟むように配置されている。そして、Ｘ線Ｌが通過する位置では、フィルム状のフィルタ１０が、Ｚ方向と垂直な面に配置されている。すなわち、フィルタ１０の厚さ方向がＺ方向と平行になっている。したがって、送り出しリール２３と巻き取りリール２４との間に張設されたフィルタ１０をＸ線Ｌが横切る。フィルタ１０が、不要な波長の光（例えば、赤外線）をカットする。さらには、フィルタ１０が、光源５で発生したデブリ、分子、イオンをカットする。
【００２４】
例えば、Ｘ線Ｌを用いた光学装置１００は、Ｘ線露光用の露光装置や、Ｘ線露光用マスクの検査装置である。したがって、フィルタ用チャンバ３の後段には、Ｘ線Ｌのアプリケーションとなる検査装置や露光装置が設けられている。したがって、図１において図示はされないが、真空チャンバ１内には、Ｘ線Ｌを伝搬するための光学系や、Ｘ線が照射されるウェハやマスクなどが収容される。例えば、フィルタ１０を通過したＸ線Ｌを反射するミラー（不図示）が真空チャンバ１内に配置されている。すなわち、フィルタ１０の後段にはミラーが配置されて、Ｘ線Ｌを所定の方向に反射する。
【００２５】
次に、フィルタ１０の構成について、図２を用いて説明する。図２は、フィルタ１０の一部分を示す平面図である。図２は、フィルタ１０の、送り出しリール２３と巻き取りリール２４とに張設された部分を模式的に示すＸＹ平面図である。
【００２６】
フィルタ１０は、Ｘ方向を長手方向とする短冊状になっている。フィルタ１０は、支持部１１と、透過部１２を備えている。透過部１２は、Ｘ線を透過させる部分であり、フィルタ１０に複数設けられている。図２では、７個の透過部１２が図示されている。複数の透過部１２は、フィルタ１０の長手方向（Ｘ方向）に沿って、１列に並んでいる。それぞれの透過部１２は、円形になっている。それぞれの透過部１２は、フィルタ１０を通過するＸ線Ｌのスポット径に応じた直径を有している。例えば、Ｘ線Ｌが透過部１２を横切るように、透過部１２は、Ｘ線Ｌのスポット径よりも若干大きくなっている。透過部１２は、例えば、直径５０ｍｍ程度の円形になっている。
【００２７】
複数の透過部１２の周囲に、支持部１１が形成されている。支持部１１は、透過部１２の外周を囲むように配置されている。Ｘ方向において、隣接する透過部１２の間には、支持部１１が配置されている。換言すると、支持部１１を設けることで、透過部１２が複数に分割される。フィルタ１０の透過部１２以外の部分が、支持部１１となる。支持部１１は、透過部１２を支持している。
【００２８】
複数の透過部１２は、Ｘ方向、すなわち、送り出しリール２３の送りだし方向に沿って配列されている。そして、１列に配列された透過部１２が順番に使用されていく。例えば、光源５で発生したデブリによって、フィルタ１０に穴が開いた場合は、フィルム状のフィルタ１０をＸ方向に送り出す。図１に示した回転軸２１、２２が送り出しリール２３、巻き取りリール２４を回転させて、ロールフィルム状のフィルタ１０を送り出していく。これにより、穴が開いた透過部１２が、巻き取りリール２４によって巻き取られる。そして、送り出しリール２３に巻き付けられていたフィルタ１０の新しい透過部１２が、Ｘ線Ｌの光路を横切る位置に移動する。新しい透過部１２、すなわち、穴が開いていない透過部１２をＸ線Ｌが通過する。なお、一定時間ごとに、新しい透過部１２を送り出すようにしてもよい。
【００２９】
このように、回転軸２１、２２が一対のリールを駆動することで、光源５からの光の光路中に配置される透過部１２を順番に送り出すことができる。それぞれの透過部１２が、１枚のＸ線フィルタとして機能する。モータによって回転軸２１、２２を駆動するだけで、実質的にフィルタを交換することができる。これにより、真空チャンバ１を大気開放することなく、フィルタ１０を連続的に使用することができる。そして、全ての透過部１２を使用し終わった後に、フィルタ１０が巻き付けられた送り出しリール２３、巻き取りリール２４を交換する。このように、複数の透過部１２を順番に使用していくことで、光学装置１００のダウンタイムを短くすることができる。実質的に、複数のＸ線フィルタを真空チャンバ１内に収容することができるため、光学装置１００の稼働時間を長くすることができる。例えば、フィルタ１０に１００個の透過部１２を形成することで、稼働時間を１００倍程度にすることができる。また、フィルタ１０、回転軸２１、２２、送り出しリール２３、及び巻き取りリール２４を真空チャンバ１内に収容するのみでよい。よって、多数の透過部１２を有するフィルタ装置６を真空チャンバ１内に収容した場合でも、真空チャンバ１の大型化を防ぐことができる。
【００３０】
Ｘ線Ｌに対するフィルタ１０の透過率を高くするために、フィルタ１０を薄くする必要がある。以下、フィルタ１０の断面構造について、図３を用いて説明する。図３は、図２のＩＩＩ−ＩＩＩ断面図である。図３は、透過部１２を横切る位置でのＹＺ断面図である。
【００３１】
図３では、左下に、図２のＩＩＩ−ＩＩＩ断面が示されている。さらに、図３では右上に、Ａの部分、すなわち透過部１２を拡大して示している。上記のように、透過部１２の両端に支持部１１が位置している。支持部１１は、フィルム１３と支持パターン１４ａの２層構造となっている。すなわち、支持部１１では、フィルム１３の全体に支持パターン１４ａが形成されている。
【００３２】
透過部１２には、フィルム１３が設けられている。さらに、図３の右上の拡大断面図に示すように、透過部１２には、部分的に支持パターン１４ｂが形成されている。透過部１２の支持パターン１４ｂは、メッシュ状に形成されている。例えば、透過部１２では、支持パターン１４ｂが格子状のメッシュ又はハニカム状のメッシュになっている。
【００３３】
支持パターン１４ａ、１４ｂの厚さはフィルム１３よりも厚くなっている。よって、フィルム１３を十分に薄くした場合でも、フィルム１３を確実に支持することができる。フィルム１３は、例えば、厚さ約１００ｎｍ、あるいは１００ｎｍ以下のジルコニウム膜である。支持パターン１４ｂは、例えば、ピッチ３００μｍ、幅３０μｍ、厚み５０μｍのニッケルメッシュである。支持パターン１４ｂは支持パターン１４ａと同じ材料、及び同じ厚さで形成されている。
【００３４】
このように、透過部１２では、フィルム１３に網目状の支持パターン１４ｂを設けている。すなわち、透過部１２では支持パターン１４ｂが非常に薄いフィルム１３を支持している。さらに、透過部１２の周囲に、支持パターン１４ａが全面に形成された支持部１１が設けられている。これにより、フィルム１３の厚さを十分に薄くすることができる。よって、フィルム１３を厚さ１００ｎｍ程度のジルコニウム膜で形成することができ、Ｘ線の透過率を高くすることができる。
【００３５】
図４に波長１３．５ｎｍの光における透過率のシミュレーション結果を示す。図４では、横軸に、ジルコニウム膜の厚さを示し、縦軸に波長１３．５ｎｍでの透過率を示している。さらに、実線はニッケルメッシュがある場合を示し、破線はニッケルメッシュがない場合を示している。図４に示すように、ジルコニウム膜が薄くなるほど、透過率が高くなる。例えば、ジルコニウム膜を１００ｎｍ以下とすることで、約６０％の透過率を得ることができる。
【００３６】
次に、フィルタ１０の製造方法について、図５(ａ)〜図５（ｄ）を参照して説明する。図５（ａ）〜図５（ｄ）は、フィルタ１０の製造工程を示す工程断面図である。図５(ａ)〜図５（ｄ）は、ＹＺ断面を示している。したがって、図５(ａ)〜図５（ｄ）の両端が支持部１１となり、中央部が透過部１２となる。
【００３７】
まず、図５（ａ）に示すように、ベースフィルム３１上にレジストパターン３２を形成する。レジストパターン３２は、支持パターン１４ａ、１４ｂを形成しない位置に形成される。したがって、透過部１２となる領域では、レジストパターン３２はメッシュ状の開口部３２ａを有する。一方、支持部１１では、レジストパターン３２が除去されて、開口している。例えば、ベースフィルム３１としては、例えば、１００μｍ程度の厚さを有するフレキシブルなステンレス基板を用いることができる。ベースフィルム３１の全面にドライフィルムレジストを貼り付けた後、レジストを露光する。そして、レジストを現像することで、ベースフィルム３１にレジストパターン３２を形成することができる。あるいは、予めパターンが形成されたドライフィルムレジストをベースフィルム３１に貼り付けるようにしてもよい。
【００３８】
次に、図５（ｂ）に示すように、レジストパターン３２をマスクとして、ベースフィルム３１上に、Ｎｉメッキ膜３３を形成する。これにより、レジストパターン３２が形成されていない領域で、ベースフィルム３１上にＮｉメッキ膜３３が形成される。したがって、支持部１１では、ベースフィルム３１の全面にＮｉメッキ膜３３が形成される。一方、透過部１２では、レジストパターン３２の開口部３２ａであった位置に、Ｎｉメッキ膜３３が形成され、レジストパターン３２がある位置には、Ｎｉメッキ膜３３が形成されない。例えば、電鋳加工によって、導電性のベースフィルム３１が露出している部分に、Ｎｉメッキ膜３３を形成する。Ｎｉメッキ膜３３は、レジストパターン３２とほぼ同じ厚さとなっている。換言すると、Ｎｉメッキ膜３３と同程度の厚さのレジストパターン３２が、ベースフィルム３１上に塗布される。
【００３９】
そして、図５（ｃ）に示すように、Ｎｉメッキ膜３３、及びレジストパターン３２の上から、フィルタ膜となるジルコニウム膜３４を形成する。ジルコニウム膜３４は、Ｎｉメッキ膜３３、及びレジストパターン３２を覆うように、ベースフィルム３１の全面に成膜される。ジルコニウム膜３４はスパッタや蒸着などの公知の成膜方法によって形成される。
【００４０】
なお、ジルコニウム膜３４を形成する前に、レジストパターン３２の表面を粗面化する処理を施してもよい。例えば、ブラスト処理によって、レジストパターン３２の表面を粗くする。あるいは、酸やアルカリなどの溶液を用いて、化学的にレジストパターン３２の表面を粗くしてもよい。これにより、ジルコニウム膜３４が成膜されるレジストパターン３２の表面に微細な凹凸が形成される。すなわち、ジルコニウム膜３４の成膜面が凹凸面になる。これにより、ジルコニウム膜３４にかかる張力を緩和することができる。
【００４１】
例えば、ジルコニウム膜３４を平坦な成膜面上に成膜した場合、張力によってジルコニウム膜３４が破れやすくなってしまう。これに対して、レジストパターン３２の表面を粗面化することで、ジルコニウム膜３４にかかる張力を緩和することができる。よって、ジルコニウム膜３４を破れにくくすることができる。なお、レジストパターン３２の表面を粗面化する工程は、レジストの形成後からジルコニウム膜３４の形成前であれば、どのタイミングで行われてもよい。例えば、レジストの露光前、レジストの露光後、レジストパターン形成後、メッキ処理後等に、レジストパターン３２の表面を粗面化することも可能である。
【００４２】
次に、図５（ｄ）に示すように、ジルコニウム膜３４、及びＮｉメッキ膜３３から、ベースフィルム３１、及びレジストパターン３２を取り外す。例えば、レジストパターン３２をジルコニウム膜３４から剥離するとともに、ベースフィルム３１をＮｉメッキ膜３３から剥離する。これにより、ジルコニウム膜３４、及びＮｉメッキ膜３３から、ベースフィルム３１、及びレジストパターン３２が除去される。ジルコニウム膜３４、及びＮｉメッキ膜３３の積層構造のみが残る。ジルコニウム膜３４がフィルム１３となり、Ｎｉメッキ膜３３が支持パターン１４ａ、１４ｂとなる。このようにして、透過部１２の周囲に、支持部１１が形成される。
【００４３】
具体的な一手法として、ベースフィルム３１の端部において、ベースフィルム３１をＮｉメッキ膜３３から剥離する。そして、レジストパターン３２とベースフィルム３１の間から、酸などの溶液を用いて、レジストパターン３２を溶解させる。こうすることで、ジルコニウム膜３４、Ｎｉメッキ膜３３をベースフィルム３１、及びレジストパターン３２を取り外すができる。あるいは、ベースフィルム３１とＮｉメッキ膜３３を物理的に剥離してもよい。カーボン等の微細な粒子をベースフィルム３１上に散布させてもよい。例えば、レジストの塗布前、あるいは、レジストパターン３２の形成後に、ベースフィルム３１上にカーボン粒子を散布させる。これにより、Ｎｉメッキ膜３３とベースフィルム３１とを容易に剥離することができる。
【００４４】
支持部１１では、フィルタ１０が、支持パターン１４ａ、及びジルコニウム膜３４の２層構造となっている。一方、透過部１２では、支持パターン１４ｂが、フィルム１３上にメッシュ状に形成される。すなわち、透過部１２では、支持パターン１４ｂとフィルム１３の２層構造の部分と、フィルム１３の１層構造の部分が混在している。
【００４５】
本実施の形態では、ロールtoロールの製造装置によって、フィルタ１０を製造することができる。すなわち、ロール状のベースフィルム３１を用意する。そして、ロール状のベースフィルム３１に対して、ロールtoロール方式でレジスト塗布、露光、現像、メッキ、成膜、レジスト剥離等の処理を行う。例えば、ロール状のベースフィルム３１を送り出しながら、各工程の処理が施される。このように、ロールtoロール方式で、フィルタ１０を製造することができるため、一度に多数の透過部１２を形成することができる。よって、フィルタ１０の生産性を向上することができる。
【００４６】
本実施形態では、Ｎｉメッキ膜３３上に、ジルコニウム膜３４を直接成膜している。これにより、ニッケルメッシュと、ジルコニウムフォイルとの間に、接着剤を設ける必要がなくなる。すなわち、接着剤を用いなくても、ジルコニウム膜３４とＮｉメッキ膜３３とを十分に密着させることができる。一方、エポキシ樹脂などの接着剤によって、ジルコニウムフォイルとニッケルメッシュを貼り合わせた場合、耐熱温度が３００℃程度になってしまう。したがって、メッキ膜３３上に直接ジルコニウム膜３４を成膜することで、フィルタ１０の耐熱性を向上することができる。さらん、接着剤を用いた貼り付け工程が不要になるため、製造コストを抑制することができる。
【００４７】
図１に示したように、一対のリールによって、フィルタ１０を真空チャンバ１内に保持している。すなわち、送り出しリール２３、巻き取りリール２４が、フィルタ１０のロール部分を支持する構成としている。よって、非特許文献１のように、フィルタの外周部に機械的なフレームを取り付ける必要がなくなる。これにより、フィルタ１０の部品コストを抑制することが可能になる。
【００４８】
フィルタ１０のＮｉメッキ膜３３側を光源５とは反対に配置するようにしてもよい。すなわち、フィルタ１０のＮｉメッキ膜３３が設けられていない面を、光源５側に配置するようにしてもよい。１つの透過部１２を大きくすることで、フィルタ１０を光源５からより離して配置することができる。これにより、光源５からのイオンやデブリ等がフィルタ１０に入射するまでにガス分子などと衝突して、速度が低くなる。よって、フィルタ１０に穴が開くのを防ぐことができる。
【００４９】
また、ベースフィルム３１を幅広にして、ベースフィルム３１に複数列の透過部を形成すれば、一度に複数のフィルタ１０を製造することができる。例えば、図６に示すように、ベースフィルム３１の幅方向に、複数の透過部１２を配置できるように、ベースフィルム３１を幅広にする。すると、１つのベースフィルム３１から、複数列の透過部１２が設けられたフィルム１３が形成される。すなわち、フィルム１３には、マトリクス状に透過部１２が形成される。図６では、１つのフィルム１３に３列の透過部１２が形成されている。そして、隣接する列間の位置で、フィルム１３を切断する。すなわち、図６の一点鎖線で示される切断線に沿って、フィルム１３を切断する。これにより、複数列の透過部１２が１列ずつに分断される。１つのベースフィルム３１から、複数のフィルタ１０を製造することができる。よって、生産性をより向上することができる。なお、複数のフィルムに切断する工程の順序は特に限定されるものではない。例えば、ジルコニウム膜３４がベースフィルム３１、及びレジストパターン３２がＮｉメッキ膜３３、ジルコニウム膜３４に取り付けられている状態で、ベースフィルム３１、及びジルコニウム膜３４などを切断してもよい。あるいは、ベースフィルム３１、及びレジストパターン３２からＮｉメッキ膜３３、ジルコニウム膜３４を取り外した後に、ジルコニウム膜３４、及びレジストパターン３２を切断してもよい。
【００５０】
なお、図７に示すように、フィルタ１０に送り出しリール２３、巻き取りリール２４に取り付けるための開口部１６を設けてもよい。例えば、Ｙ方向におけるフィルタ１０の両エッジの近傍に、複数の開口部１６を設ける。複数の開口部１６は、Ｘ方向において、等間隔に配列されている。そして、送り出しリール２３、巻き取りリール２４の外周面には、開口部１６に挿入される歯車を形成する。こうすることで、ロールフィルム状のフィルタ１０を容易に送り出しリール２３、巻き取りリール２４に巻き付けることが可能になる。さらに、送り出しリール２３、巻き取りリール２４によるフィルタ１０の送り出し、及び巻き取りを容易に行うことができる。
【００５１】
なお、上記の説明ではフィルタ１０が、Ｘ線を通過させるＸ線フィルタであるとして説明したが、フィルタ１０の透過波長は、特に限定されるものではない。例えば、フィルタ１０が、ＥＵＶ露光に用いられるＥＵＶ光を通過させるフィルタであってもよい。さらには、フィルタ１０は、光の透過を制限する光学的なフィルタに限らず、デブリ等の通過を遮る物理的なフィルタであってもよい。また、フィルタ１０が用いられる光学装置１００は、検査装置や露光装置に限られるものではない。
【符号の説明】
【００５２】
１  真空チャンバ
２  光源チャンバ
３  フィルタチャンバ
５  光源
６  フィルタ装置
１０  フィルタ
１１  支持部
１２  透過部
１３  フィルム
１４  支持パターン
１６  開口部
２１、２２  回転軸
２２  回転軸
２３  送り出しリール
２４  巻き取りリール
３１  ベースフィルム
３２  レジストパターン
３３  Ｎｉメッキ膜
３４  ジルコニウム膜
１００  光学装置
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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