(57)【要約】      （修正有）【課題】ガスの配管として耐熱性の低い樹脂製チューブの使用が可能であって、しかも小型で温度ムラが少なく、組み立てが容易なガス温調装置を提供する。【解決手段】壁体（例えば底板１ｂ）に温調回路３により駆動制御されるヒータ２が取り付けられた筐体１の内部に、螺旋状に巻回された管４を、枠体によって筐体１に対し非接触で支持するとともに、筐体１内の雰囲気を攪拌する攪拌装置６を備えた構造とし、小型の筐体１内に長い流路をもつ管４を収容し、コンパクトでありながら、管４内を流れるガスの温度を安定かつ正確に設定温度に維持できるようにする。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガス源からのガスを所定温度に温調して供給先に供給するためのガス温調装置であって、
天板、底板、および側壁で覆われた筐体と、その筐体の天板、底板もしくは側壁に取り付けられたヒータと、上記筐体内の雰囲気温度が設定温度を維持するように上記ヒータを駆動制御する温調回路と、上記筐体内で螺旋状に巻回され、その両端が当該筐体外に取り出されてその一方が上記ガス源に、他方が上記供給先にそれぞれ連通する管と、上記筐体内に支柱を介して固定され、上記管の螺旋状の巻回部分を上記筐体に対して非接触状態で保持する枠体と、上記筐体内の雰囲気を攪拌する攪拌装置を備えていることを特徴とするガス温調装置。
【請求項２】
上記攪拌装置は、上記管の螺旋状の巻回部分の内側に配置され、当該螺旋の軸線方向に送風するよう構成されていることを特徴とする請求項１に記載のガス温調装置。
【請求項３】
上記枠体は、上記管の螺旋状の巻回部分を搭載する台板と、その台板上での上記管の巻回部分を位置決めする複数の位置決め用支柱と、上記巻回部分の上方を覆う蓋体とを有し、上記台板および蓋体は、上記攪拌装置による送風を通過させるための孔が形成されていることを特徴とする請求項１または２に記載のガス温調装置。
【請求項４】
上記管は金属パイプであり、上記位置決め用支柱は、その金属パイプの螺旋状の巻回部分の外側もしくは内側に沿って設けられていることを特徴とする請求項３に記載のガス温調装置。
【請求項５】
上記管は樹脂製チューブであり、上記位置決め用支柱は、その樹脂製チューブの巻回部分の外側と内側の双方に沿って、かつ、外側と内側の支柱どうしが互いに対向するように設けられていることを特徴とする請求項３に記載のガス温調装置。
【請求項６】
高周波電圧が印加される誘導コイルを備えたプラズマトーチに、流量制御手段を介してガス源からのプラズマガスを供給して誘導結合プラズマを生成するとともに、そのトーチ内に試料溶液を噴霧することにより試料成分をイオン化し、そのイオンを質量分析部に導いて質量分析を行うＩＣＰ質量分析装置において、
上記ガス源と流量制御手段との間に、請求項１から５のいずれかに記載のガス温調装置を介在させていることを特徴とするＩＣＰ質量分析装置。
【請求項７】
高周波電圧が印加される誘導コイルを備えたプラズマトーチに、流量制御手段を介してガス源からのプラズマガスを供給して誘導結合プラズマを生成するとともに、そのトーチ内に試料溶液を噴霧することにより試料原子および／またはイオンを励起し、その原子および／またはイオンが基底状態に戻る際に放出される光を分光器で分光して波長ごとの強度を求めるＩＣＰ分光分析装置において、
上記ガス源と流量制御手段との間に、請求項１から５のいずれかに記載のガス温調装置を介在させていることを特徴とするＩＣＰ分光分析装置。
【請求項８】
第１と第２の質量分離部の間に、流量制御手段を介してガス源からのコリジョンガスを導入するコリジョンセルが配置され、第１の質量分離部で選択されたイオンをコリジョンセル内でコリジョンガスと衝突させて開裂し、その開裂により生成したプロダクトイオンを第２の質量分離部を経て検出器で検出する質量分析装置において、
上記ガス源と流量制御手段の間に、請求項１から５のいずれかに記載のガス温調装置を介在させていることを特徴とする質量分析装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えばガスボンベなどのガス源からのガスを所定の温度に温調して供給先へと流出させるガス温調装置と、そのガス温調装置を用いたＩＣＰ質量分析装置、ＩＣＰ分光分析装置、ガスクロマトグラフ分析装置、ガスクロマトグラフ質量分析装置並びにコリジョンセルを備えた質量分析装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
ＩＣＰ（Ｉｎｄｕｃｔｉｖｅｌｙ  Ｃｏｕｐｌｅｄ  Ｐｌａｓｍａ；誘導結合プラズマ）質量分析装置においては、一般に、高周波電圧が印加される誘導コイルを備えたプラズマトーチに、アルゴンガスなどのプラズマガスを供給して誘導結合プラズマを生成するとともに、そのトーチには併せて試料溶液を噴霧供給し、誘導結合プラズマを励起源として試料成分を原子化並びにイオン化し、その原子イオンを質量分析部に導いて質量分析を行う（例えば特許文献１参照）。
【０００３】
また、ＩＣＰ分光分析装置においては、同じく高周波電圧が印加される誘導コイルを備えたプラズマトーチに、アルゴンガスなどのプラズマガスを供給して誘導結合プラズマを生成するとともに、そのトーチに試料溶液を噴霧供給することによって、誘導結合プラズマを励起源として試料を原子化ないしはイオン化し、その励起された原子やイオンが基底状態に戻る際に放出する光を分光し、各波長成分の強度を計測する（例えば特許文献２参照）。
【０００４】
更に、ＳＲＭ（Ｓｅｌｅｃｔｉｖｅ  Ｒｅａｃｔｉｏｎ  Ｍｏｎｉｔｏｒｉｎｇ）機能をもつ質量分析装置では、第１と第２の質量分離部の間に、アルゴンガスやヘリウムガスなどのコリジョンガスが導入されるコリジョンセルを配置し、第１の質量分離部で選択したイオンをコリジョンセル内に導いてコリジョンガスと衝突させることによって、多原子イオンを開裂（もしくは衝突によって失われる運動エネルギー差を利用して分別（これをＥＤ（Ｅｎｅｒｇｙ  Ｄｉｓｃｒｉｍｉｎａｔｉｏｎ）という；参考資料『現場で役立つ環境分析の基礎』１３５ページ参照／社団法人日本分析化学会編／オーム社刊）し、上記多原子イオンと干渉する単原子イオンのみを第２の質量分離部で分離して検出器に導いてモニタリングする（例えば特許文献３参照）。
ＭＳ型の質量分析装置の場合は、導入したイオンをまずコリジョンガス内に導いて、コリジョンガスと衝突させることによって開裂もしくは衝突による失われる運動エネルギー差を利用して分別し、干渉する多原子イオンを除去して単原子イオンのみ質量分析部に送り、検出器に導いてモニタリングする。
【０００５】
以上のＩＣＰ質量分析装置やＩＣＰ分光分析装置におけるプラズマトーチに導入するプラズマガスや、コリジョンセルに導入するコリジョンガスは、その流量の精度や安定性が分析値の精度や安定性に影響する。
【０００６】
そのため、上記の分析に使用するガス流量の精度や安定を図る方法として、通常、あらかじめガス温度を規定の温度で温調した上で、ガスの流量制御手段によって流量制御している。その際、周囲温度に対してガス温度を１０℃以上程度高い温度に温調する方法が一般的である。
【０００７】
このようなガスの温調の手法としては、次の２種の手法が採用されている。その一つはガス配管に対して直接的にラバーヒータやコードヒータなどのヒータを当てて暖める方法であり、他の一つは、例えば質量分析装置の他の構成部材とともに共通の温調槽内に挿入する方法である。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開平１０−２８３９８０号公報
【特許文献２】特開２００９−１９２４７５号公報
【特許文献３】特開２０１２−０９４５４３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
ところで、以上のような供給ガスの温調方法のうち、前者のガス配管を直接的に暖める方法は、加熱時にヒータが高温になるため、配管にはステンレスや銅など、高温耐性のある材質、実用的には金属を用いる必要がある。つまり、耐熱性の低い樹脂製のチューブなどは使用できない。また、配管は一般的にその外周が円形であるため、配管にヒータを巻き付けるなどの方法をとる必要があり、安定して再現性よく組み立てられない可能性がある。
【００１０】
一方、後者の他の構成部材とともに温調槽内に配管を収容する方法は、ヒータが配管に直接当たらないため、配管内を流れるガスを規定の温度に温調するためには、ある程度の長さの配管を温調槽内に入れる必要があり、その分、温調槽の容積が大きくなってしまい、これを分析装置のフレーム内に収容する場合には分析装置全体が大型化することになる。また、温調槽の容積が大きくなると、槽内に温度ムラが生じやすくなり、ガスの温度制御が難しくなる。
【００１１】
本発明はこのような実情に鑑みてなされたもので、ガスの配管として、金属よりも耐熱性の低い樹脂製チューブの使用が可能であり、しかも、小型で温度ムラが少なく、組み立てが容易なガス温調装置と、このガス温調装置を用いることによって高い精度で安定した分析結果を得ることのできる分析装置の提供をその課題としている。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
上記の課題を解決するため、本発明のガス温調装置は、ガス源からのガスを所定温度に温調して供給先に供給するためのガス温調装置であって、天板、底板、および側壁で覆われた筐体と、その筐体の天板、底板もしくは側壁に取り付けられたヒータと、上記筐体内の雰囲気温度が設定温度を維持するように上記ヒータを駆動制御する温調回路と、上記筐体内で螺旋状に巻回され、その両端が当該筐体外に取り出されてその一方が上記ガス源に、他方が上記供給先にそれぞれ連通する管と、上記筐体内に支柱を介して固定され、上記管の螺旋状の巻回部分を上記筐体に対して非接触状態で保持する枠体と、上記筐体内の雰囲気を攪拌する攪拌装置を備えていることによって特徴づけられる（請求項１）。
【００１３】
ここで、本発明のガス温調装置においては、上記攪拌装置は、上記管の螺旋状の巻回部分の内側に配置され、当該螺旋の軸線方向に送風するよう構成すること（請求項２）が好ましい。
【００１４】
また、本発明のガス温調装置においては、上記枠体は、上記管の螺旋状の巻回部分を搭載する台板と、その台板上での上記管の巻回部分を位置決めする複数の位置決め用支柱と、上記巻回部分の上方を覆う蓋体とを有し、上記台板および蓋体は、上記攪拌装置による送風を通過させるための孔が形成されている構成（請求項３）を採用することができる。
【００１５】
更に、本発明においては、上記管は金属パイプであり、上記位置決め用支柱は、その金属パイプの螺旋状の巻回部分の外側もしくは内側に沿って設けられている構成（請求項４）を採用することができる。
【００１６】
また更に、本発明のガス温調装置においては、上記管は樹脂製チューブであり、上記位置決め用支柱は、その樹脂製チューブの巻回部分の外側と内側の双方に沿って、かつ、外側と内側の支柱どうしが互いに対向するように設けられている構成（請求項５）を好適に採用することができる。
【００１７】
本発明のＩＣＰ質量分析装置は、高周波電圧が印加される誘導コイルを備えたプラズマトーチに、流量制御手段を介してガス源からのプラズマガスを供給して誘導結合プラズマを生成するとともに、そのトーチ内に試料溶液を噴霧することにより試料成分をイオン化し、そのイオンを質量分析部に導いて質量分析を行うＩＣＰ質量分析装置において、上記ガス源と流量制御手段との間に、請求項１から５のいずれかに記載のガス温調装置を介在させていることによって特徴づけられる（請求項６）。
【００１８】
また、本発明のＩＣＰ分光分析装置は、高周波電圧が印加される誘導コイルを備えたプラズマトーチに、流量制御手段を介してガス源からのプラズマガスを供給して誘導結合プラズマを生成するとともに、そのトーチ内に試料溶液を噴霧することにより試料原子および／またはイオンを励起し、その原子および／またはイオンが基底状態に戻る際に放出される光を分光器で分光して波長ごとの強度を求めるＩＣＰ分光分析装置において、上記ガス源と流量制御手段との間に、請求項１から５のいずれかに記載のガス温調装置を介在させていることによって特徴づけられる（請求項７）。
【００１９】
そして、本発明の質量分析装置は、第１と第２の質量分離部の間に、流量制御手段を介してガス源からのコリジョンガスを導入するコリジョンセルが配置され、第１の質量分離部で選択されたイオンをコリジョンセル内でコリジョンガスと衝突させて開裂し、その開裂により生成したプロダクトイオンを第２の質量分離部を経て検出器で検出する質量分析装置において、上記ガス源と流量制御手段の間に、請求項１から５のいずれかに記載のガス温調装置を介在させていることによって特徴づけられる（請求項８）。
【００２０】
本発明は、筐体の天板、底板もしくは側壁にヒータを固定して温調槽とし、その筐体内には、螺旋状に巻回した管を、枠体を介して筐体に対して非接触状態で保持するとともに、筐体内の雰囲気温度を設定温度に温調し、かつ、その雰囲気を攪拌装置で攪拌することによって課題を解決しようとするものである。
【００２１】
すなわち、筐体の壁体（天板、底板または側壁）にヒータを取り付け、その内部に螺旋状に巻回した管を、枠体を介して筐体に対して非接触状態で支持し、筐体内の雰囲気を攪拌装置で攪拌しながらその雰囲気温度を温調回路で所定温度に温調することにより、温調槽としての筐体を小さくしながら、その内部での管の長さを長くすることができ、小型で温度ムラの少ない温調が可能となり、その温度が管の内部を流れるガスに確実に伝達されるようになる。
【００２２】
請求項２に係る発明のように、攪拌装置を管の螺旋状の巻回部分の内側に配置することで、攪拌装置のスペースを確保するために筐体を大きくする必要がなくなり、筐体の小型化に寄与することができる。
【００２３】
また、管を筐体に対して非接触状態で巻回すので、管として樹脂製チューブの使用が可能であり、その場合、請求項５に係る発明のように、枠体に樹脂チューブの巻回部分の内側と外側に互いに対向するように複数対の位置決め用支柱を設けた構造のものを採用すると、その各位置決め用支柱の対の間を通るように樹脂チューブ巻回することで樹脂チューブによる螺旋が構築され、製作が容易になる。なお、管として金属製のパイプを用いる場合には、枠体に取り付ける前に螺旋状に巻回しておき、筐体内では枠体に設けた位置決め用支柱によりその螺旋の外側もしくは内側で位置決めすればよい。
【００２４】
以上のような本発明のガス温調装置は、ＩＣＰ質量分析装置やＩＣＰ分光分析装置のプラズマトーチに対するプラズマガスの供給配管におけるガス流量制御手段とガス源との間、もしくは、コリジョンセルを備えた質量分析装置におけるコリジョンセルへのコリジョンガスの供給配管におけるガス流量制御手段とガス源との間に配置することで、分析装置が大型化することなく、供給ガスの温度を安定して正確に所定の温度に維持した状態で流量制御を行うことが可能となり、ひいては分析結果の高精度化と安定化に寄与することができる。
【発明の効果】
【００２５】
本発明によれば、コンパクトな構成のもとに、温度ムラのない温調槽が得られ、その内部に螺旋状に巻回されて流路長を稼いだ管内にガスを流すことになるので、温調槽の雰囲気温度が確実に管内を流れるガスに伝達される。
【００２６】
このようなガス温調装置をプラズマガスの供給系に用いたＩＣＰ質量分析装置やＩＣＰ分光分析装置、ガスクロマトグラフ分析装置、ガスクロマトグラフ質量分析装置あるいはコリジョンガスの供給系に用いたＭＳ／ＭＳなどの質量分析装置によれば、供給すべきガスの流量制御が正確で安定したものとなる結果、分析装置としての精度および安定性が向上する。
【図面の簡単な説明】
【００２７】
【図１】本発明の実施形態に係るガス温調装置の縦断面図。
【図２】図１の実施形態における筐体の内部構造を示す斜視図。
【図３】図１、図２に示す実施の形態を用いたＩＣＰ質量分析装置の構成図。
【発明を実施するための形態】
【００２８】
以下、図面を参照しつつ本発明の実施の形態について説明する。
図１は本発明に係るガス温調装置の縦断面図であり、図２はその筐体１の内部構造を示す斜視図である。
【００２９】
筐体１は天板１ａと底板１ｂ、および側壁１ｃによって六方が覆われた空間をその内部に形成している。これらの筐体１の天板１ａと底板１ｂ、および側壁１ｃは、それぞれ、金属板Ｍと断熱材Ｉとを貼り付けた構造を有しており、天板１ａでは金属板Ｍの内側に断熱材Ｉを、その他は金属板Ｍの外側に断熱材Ｉが貼り付けられている。底板１ｂにはラバーヒータ等のヒータ２が固着されており、このヒータ２は、筐体１の内部に設けられる温度センサ（図示略）の出力を用いた温調回路３によって、筐体１内の雰囲気温度が設定温度を維持するように駆動制御される。
【００３０】
筐体１の内部には、螺旋状（断面形状は円形に限らず、例えば楕円形などでもよい）に巻回された樹脂チューブ４が当該筐体１に対して非接触のもとに枠体５によって支持された状態で収容されている。
【００３１】
枠体５は、樹脂チューブ４の螺旋状の巻回部分４ａを搭載する台板５ａと、樹脂チューブ４の上方に設けられる蓋体５ｂと、これらの台板５ａと蓋体５ｂの間を繋ぐように設けられた複数本の位置決め用支柱５ｃ、および、台板５ａの下面から突出する支柱５ｄによって構成されている。枠体５を構成する上記の各部材のうち、樹脂チューブ４の巻回部分４ａを搭載する台板５ａについては、金属板Ｍの上面に断熱材Ｉを貼り付けたものが用いられている。
【００３２】
各位置決め用支柱５ｃは、本実施例において、樹脂チューブ４の螺旋状の巻回部分４ａの内周側と外周側にそれぞれ４本ずつ計８本設けられており、外周側のものと内周側のものは互いに対向して対をなす位置に配置されている。
【００３３】
樹脂チューブ４の両端はガスの流入口４ｂおよび流出口４ｃであって、例えば筐体１の側壁１ｃに穿たれた孔を介してそれぞれ筐体１の外部に導出されている。
【００３４】
前記した枠体１の台板５ａと蓋体５ｂの中央部分には孔Ｈが穿たれているとともに、蓋体５ｂの下面には攪拌装置６が取り付けられている。この攪拌装置６は軸流の送風ファンであり、これを駆動することにより、樹脂チューブ４の巻回部分４ａが形成する螺旋の軸線に沿った方向への送風が行われる。この送風により、筐体１内では、樹脂チューブ４の巻回部分４ａの内側と外側に連なる還流が形成されることになり、筐体１内の雰囲気が有効に攪拌されて、その温度が均一化される。
【００３５】
以上の本発明の実施の形態によると、樹脂チューブ４は長い流路をもちながら螺旋状に巻回することによってコンパクトにまとめられ、筐体１は、その螺旋状に巻回された樹脂チューブ４を壁体に対して若干の隙間をもって収容するだけの大きさでよいため、攪拌装置６の駆動によりその内部の雰囲気温度はムラなく均一なものとなる。そしてその雰囲気温度は、螺旋状に巻回されて筐体１内で長い流路をもつ樹脂チューブ４内を流れるガスに確実に伝達される結果、ガス源から流入したガスは設定温度に正確に温調された状態で流出する。
【００３６】
また、以上の実施の形態の組み立ては、枠体５を筐体１内に挿入する前に、枠体５の台板５ａに位置決め用支柱５ｃを固定した状態で、蓋体５ｂを装着する前に、互いに対向する各位置決め用支柱５ｃの対の間に樹脂チューブ４を挿入しながら巻回していく。これにより樹脂チューブ４が螺旋状に巻回された状態となり、その後、蓋体５ｂを装着することによって樹脂チューブ４の上下方向への移動を規制した後、天井板１ａを取り外した状態の筐体１内に挿入して支柱５ｄにおいて筐体１の底板１ｂに固定した後、攪拌装置６を装着した天井板１ａを取り付ける、という簡単な工程でよい。
【００３７】
以上の本発明の実施の形態のガス温調装置は、例えばガスボンベなどのガス源からのガスを、流量制御部を介して分析装置等へ供給する際に、ガス源と流量制御部との間に挿入して使用される。図３は上記したガス温調装置をＩＣＰ質量分析装置に適用した例を示す構成図である。
【００３８】
分析装置としての基本構成は従来のものと同じであり、ここでの詳細な説明は省略するが、概略の装置構成を述べると、高周波電圧が印加される誘導コイルを備えたプラズマトーチ１０にはプラズマガスとしてＡｒガスが供給されるとともに、このプラズマトーチ１０には併せてネブライザ等を介して試料溶液が噴霧供給され、プラズマトーチ１０で生成された誘導結合プラズマによって試料が原子化およびイオン化される。この試料イオンはイオン導入部１１を介して４重極マスアナライザ１２に導入され、この４重極マスアナライザ１２で質量電荷比ごとに分離されたイオンがイオン検出器１３によって検出され、その検出出力から試料に含まれる成分原子の質量スペクトルが得られる。
【００３９】
この例の特徴は、プラズマトーチ１０へのプラズマガスの供給系にあり、図３においてＴＧで示されるのが図１、図２に示したガス温調装置であり、Ａｒガスボンベ１４とガスフローコントローラ１５との間に挿入されている点を特徴としている。
【００４０】
すなわち、Ａｒガスボンベ１４からのＡｒガスはガスフローコントローラ１５により規定流量に流量制御された上でプラズマガストーチ１０に供給されるが、このガスフローコントローラ１５の上流側に上記した実施の形態のガス温調装置ＴＧが挿入されている。Ａｒガスはこのガス温調装置ＴＧを通過することにより、前記したようにその温度が正確に設定温度に温調される結果、ガスフローコントローラ１５により制御される流量の精度と安定性が向上し、ひいては分析結果の精度と安定性が向上する。しかも、ガス温調装置ＴＧは、小型の筐体１の内部に長い流路の樹脂チューブ４が巻回された状態で収容されているため、分析装置を特に大型化する要因とはならない。
【００４１】
また、以上のプラズマトーチ１０とガスフローコントローラ１５との組み合わせは、ＩＣＰ分光分析装置にも同等のものが用いられるが、このようなＩＣＰ分光分析装置のプラズマガス供給系にも、上記と同様にＡｒガスボンベ等のプラズマガス源とガスフローコントローラとの間に図１、図２に示した本発明に係るガス温調装置ＴＧを挿入することで、プラズマガスの流量の精度および安定性が向上し、分析結果の精度および安定性も向上する。
【００４２】
更に、２段の質量分析計を備えたＭＳ／ＭＳによるＭＲＭ（Ｍｕｌｔｉｐｌｅ  Ｒｅａｃｔｉｏｎ  Ｍｏｎｉｔｏｒｉｎｇ）においては、第１の質量分離部と第２の質量分離部の間にコリジョンセル（衝突室）を設け、そのコリジョンセル内にＡｒガスやＨｅガスなどのコリジョンガス（ＣＩＤガス）を導入し、第１の質量分離部により分離されたイオンをコリジョンガスの分子と衝突させて開裂し、干渉する多原子イオンを除去し単原子イオンのみを第２の質量分離部で質量電荷比ごとに分離してイオン検出器に導く。このコリジョンセルへのコリジョンガスの導入に際しても、ガス流量の精度、安定性が必要である。
そこで、コリジョンセルへのコリジョンガスの導入系に、図１、図２のガス温調装置を挿入することが有効となる。すなわち、ＡｒガスボンベやＨｅガスボンベなどのガス源と、ガスフローコントローラとの間に前記したガス温調装置ＴＧを介在させる。これにより、ガス源からのガスは設定温度に正確に安定して温調された上でガスフローコントローラに流入し、コリジョンセルに導入するガスの流量の精度、安定性が向上し、ＭＲＭの分析精度、安定性が向上する。
【００４３】
さて、図１、図２で説明した実施の形態において、筐体１の各壁体として、金属板Ｍの外側に断熱材Ｉを貼り付けたものを用いたが、使用環境の外気温の変動が少ない場合には、断熱材を特に用いる必要はない。
【００４４】
また、ガス流路を形成する管は樹脂チューブの他、金属パイプも用いることができる。金属パイプを用いる場合には、枠体５の位置決め用支柱は金属パイプの螺旋状への巻回部分の外側と内側のいずれか一方に配置すればよく、あらかじめ特定の径で螺旋状に巻回した金属パイプを、その径に合わせて巻回部分の外側または内側に位置するように配置した各位置決め用支柱に沿って配置すればよい。
【００４５】
更に、筐体１内に収容する樹脂チューブないしは金属パイプによるガス流路は、図１、図２の実施の形態のように１系統とする他、複数のガス流路を一つの筐体内に収容してもよい。その場合、各流路についてそれぞれに必要な長さを螺旋状に巻回したものを、その各巻回部分が枠体５の台板５ａ上で螺旋の軸線方向に積み重ねるように配置すればよい。
【００４６】
また、枠体の位置決め用支柱の数は特に限定されることはなく、ガス流路を構成する管の螺旋状の巻回部分が枠体上で移動しないように位置決めすることができれば任意の複数本とすることができる。
【符号の説明】
【００４７】
１  筐体
１ａ  天板
１ｂ  底板
１ｃ  側壁
２  ヒータ
３  温調回路
４  樹脂チューブ（管）
４ａ  巻回部分
４ｂ  ガス流入口
４ｃ  ガス流出口
５  枠体
５ａ  台板
５ｂ  蓋体
５ｃ  位置決め用支柱
５ｄ  支柱
６  攪拌装置
１０  プラズマトーチ
１１  イオン導入部
１２  ４重極マスアナライザ
１３  イオン検出器
１４  Ａｒガスボンベ
１５  ガスフローコントローラ
ＴＧ  ガス温調装置
【図１】
2014153166.tif 000003
【図２】
2014153166.tif 000004
【図３】
2014153166.tif 000005