(57)【要約】【課題】製造が簡便容易であり、透過率および導電性が高く、かつ、虹状の斑模様の発生を抑制し得る透明導電性フィルムを提供すること。【解決手段】本発明の透明導電性フィルムは、透明基材と、該透明基材上に形成された透明導電層を有し、全光線透過率が８０％以上の透明導電性フィルムであって、該透明基材の厚み方向の位相差の絶対値が１００ｎｍ以下であり、該透明導電層が金属ナノワイヤまたは金属メッシュを含む。好ましい実施形態においては、上記透明基材の厚み方向の位相差が５０ｎｍ以下である。【選択図】図１
2014112510.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基材と、該透明基材上に形成された透明導電層を有し、全光線透過率が８０％以上の透明導電性フィルムであって、
該透明基材の厚み方向の位相差の絶対値が１００ｎｍ以下であり、
該透明導電層が金属ナノワイヤまたは金属メッシュを含む、
透明導電性フィルム。
【請求項２】
前記透明基材の厚み方向の位相差が、５０ｎｍ以下である、請求項１に記載の透明導電性フィルム。
【請求項３】
前記透明基材の面内位相差が、１０ｎｍ以下である、請求項１または２に記載の透明導電性フィルム。
【請求項４】
前記透明基材が、シクロオレフィン系樹脂を含む、請求項１から３のいずれかに記載の透明導電性フィルム。
【請求項５】
前記透明基材が、アクリル系樹脂を含む、請求項１から３のいずれかに記載の透明導電性フィルム。
【請求項６】
前記金属ナノワイヤが銀ナノワイヤである、請求項１から５のいずれかに記載の透明導電性フィルム。
【請求項７】
請求項１から６のいずれかに記載の透明導電性フィルムを含む、タッチパネル。
【請求項８】
請求項１から６のいずれかに記載の透明導電性フィルムを含む、電磁波シールド。
【請求項９】
請求項７に記載のタッチパネルを備える、液晶表示素子。
【請求項１０】
請求項８に記載の電磁波シールドをさらに備える、請求項９に記載の液晶表示素子。
【請求項１１】
請求項８に記載の電磁波シールドを備える、液晶表示素子。
【請求項１２】
請求項７に記載のタッチパネルと、偏光板と、有機エレクトロルミネッセンス素子とを視認側からこの順に備える、有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
【請求項１３】
請求項７に記載のタッチパネルと、前記偏光板との間に、請求項８に記載の電磁波シールドをさらに備える、請求項１２に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
【請求項１４】
請求項８に記載の電磁波シールドと、偏光板と、有機エレクトロルミネッセンス素子とを視認側からこの順に備える、有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、透明導電性フィルムに関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、透明導電性フィルムは、タッチパネル等の電子機器部品の電極、電子機器の誤作動の原因となる電磁波を遮断する電磁波シールド等に使用されている。透明導電性フィルムは、スパッタ法により、透明樹脂フィルム上にＩＴＯ（インジウム・スズ複合酸化物）などの金属酸化物層を形成して得られることが知られている。しかし、スパッタ法による透明導電性フィルムの製造には、大規模な設備を必要としてコストが高くなるという問題がある。また、幅の広い透明導電性フィルムを製造することが困難であるという問題もある。さらに、スパッタ法により得られた透明導電性フィルムは、光透過率が低くなるという問題がある。
【０００３】
上記スパッタ法の問題を解決する方法として、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）基材上に、金属ナノワイヤ、金属メッシュ等から構成された導電層を形成する方法が提案されている。例えば、特許文献１においては、ＰＥＴ基材上に銀ナノワイヤを含む層を形成させる方法が提案されている。この方法で得られた透明導電性フィルムは、銀ナノワイヤを含む層が開口部を有して透過率が高い。しかし、基材として用いられるＰＥＴは、実用的な機械強度を得るために延伸処理を必要とするため、位相差が非常に大きく、このようなＰＥＴ基材を用いて得られた透明導電性フィルムを、例えば液晶ディスプレイに組合せて用いた場合、虹状の斑模様（以下、虹斑ともいう）が生じる。このような現象は、透過率の高い透明導電性フィルム（例えば、上記のように金属ナノワイヤ（銀ナノワイヤ）、金属メッシュ等を含む透明導電性フィルム）を用いた場合、すなわち、透明導電性フィルムから出射する光量が多い場合において、特に問題となる。また、この虹斑は、斜め方向からの視認において顕著に見られるため、画面端部を斜め方向から見ることになる大型ディスプレイにおいて、虹斑の発生は特に問題となる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特表２００９−５０５３５８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明は上記の課題を解決するためになされたものであり、その目的とするところは、製造が簡便容易であり、透過率および導電性が高く、かつ、虹状の斑模様の発生を抑制し得る透明導電性フィルムを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の透明導電性フィルムは、透明基材と、該透明基材上に形成された透明導電層を有し、全光線透過率が８０％以上の透明導電性フィルムであって、該透明基材の厚み方向の位相差の絶対値が１００ｎｍ以下であり、該透明導電層が金属ナノワイヤまたは金属メッシュを含む。
好ましい実施形態においては、上記透明基材の厚み方向の位相差が５０ｎｍ以下である。
好ましい実施形態においては、上記透明基材の面内位相差が、１０ｎｍ以下である。
好ましい実施形態においては、上記透明基材が、シクロオレフィン系樹脂を含む。
好ましい実施形態においては、上記透明基材が、アクリル系樹脂を含む。
好ましい実施形態においては、上記金属ナノワイヤが銀ナノワイヤである。
本発明の別の局面によれば、タッチパネルが提供される。このタッチパネルは、上記透明導電性フィルムを含む。
本発明のさらに別の局面によれば、電磁波シールドが提供される。この電磁波シールドは、上記透明導電性フィルムを含む。
本発明のさらに別の局面によれば、液晶表示素子が提供される。この液晶表示素子は、上記タッチパネルおよび／または上記電磁波シールドを備える。
本発明のさらに別の局面によれば、有機エレクトロルミネッセンス表示装置が提供される。この有機エレクトロルミネッセンス表示装置は、上記タッチパネルと、偏光板と、有機エレクトロルミネッセンス素子とを視認側からこの順に備える。
好ましい実施形態においては、上記有機エレクトロルミネッセンス表示装置は、上記タッチパネルと、上記偏光板との間に、上記電磁波シールドをさらに備える。
本発明のさらに別の局面によれば、有機エレクトロルミネッセンス表示装置が提供される。この有機エレクトロルミネッセンス表示装置は、上記電磁波シールドと、偏光板と、有機エレクトロルミネッセンス素子とを視認側からこの順に備える。
【発明の効果】
【０００７】
本発明によれば、厚み方向の位相差の絶対値が小さい透明基材上に金属ナノワイヤまたは金属メッシュを含む透明導電層が形成されていることにより、透過率および導電性が高く、かつ、虹状の斑模様の発生を抑制し得る透明導電性フィルムを提供することができる。本発明の透明導電性フィルムは、塗工により上記透明導電層を形成することができるので、簡便容易に製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
【図１】本発明の好ましい実施形態による透明導電性フィルムの概略断面図である。
【図２】本発明の実施形態のひとつによる液晶表示素子の概略断面図である。
【図３】本発明の実施形態のひとつによる液晶表示素子の概略断面図である。
【図４】本発明の実施形態のひとつによる有機エレクトロルミネッセンス表示装置の概略断面図である。
【図５】本発明の実施形態のひとつによる有機エレクトロルミネッセンス表示装置の概略断面図である。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
Ａ．透明導電性フィルムの全体構成
図１は、本発明の好ましい実施形態による透明導電性フィルムの概略断面図である。図１に示すように、本発明の透明導電性フィルム１０は、透明基材１と透明基材１上に形成された透明導電層２とを有する。透明導電層２は金属ナノワイヤまたは金属メッシュを含む。
【００１０】
本発明の透明導電性フィルムの全光線透過率は、好ましくは８０％以上であり、より好ましくは８５％以上であり、特に好ましくは９０％以上である。本発明においては、金属ナノワイヤまたは金属メッシュを含む透明導電層を備えることにより、全光線透過率の高い透明導電性フィルムを得ることができる。また、本発明の透明導電性フィルムは、厚み方向の位相差の小さい透明基材を備えるので、このように透過率が高くても、すなわち、透明導電性フィルムから出射する光量が多くても、虹斑を抑制し得る。高光透過率と虹斑の抑制とを両立したことが本発明の効果のひとつである。
【００１１】
本発明の透明導電性フィルムの表面抵抗値は、好ましくは０．１Ω／□〜１０００Ω／□であり、より好ましくは０．５Ω／□〜５００Ω／□であり、特に好ましくは１Ω／□〜２５０Ω／□である。本発明においては、金属ナノワイヤまたは金属メッシュを含む透明導電層を備えることにより、表面抵抗値の小さい透明導電性フィルムを得ることができる。また、少量の金属により、上記のように表面抵抗値が小さく優れた導電性を発現させることができるので、光透過率の高い透明導電性フィルムを得ることができる。
【００１２】
Ｂ．透明基材
上記透明基材の厚み方向の位相差Ｒｔｈの絶対値は、１００ｎｍ以下であり、好ましくは７５ｎｍ以下であり、より好ましくは５０ｎｍ以下であり、特に好ましくは１０ｎｍ以下であり、最も好ましくは５ｎｍ以下である。なお、本明細書において厚み方向の位相差Ｒｔｈは２３℃、波長５４５．６ｎｍにおける透明基材の厚み方向の位相差値をいう。Ｒｔｈは、面内の屈折率が最大になる方向（すなわち、遅相軸方向）の屈折率をｎｘとし、厚み方向の屈折率をｎｚとし、透明基材の厚みをｄ（ｎｍ）としたとき、Ｒｔｈ＝（ｎｘ−ｎｚ）×ｄによって求められる。
【００１３】
上記透明基材の面内位相差Ｒｅは、好ましくは１０ｎｍ以下であり、より好ましくは５ｎｍ以下であり、さらに好ましくは０ｎｍ〜２ｎｍである。なお、本明細書において面内位相差Ｒｅは２３℃、波長５４５．６ｎｍにおける透明基材の面内位相差値をいう。Ｒｅは、面内の屈折率が最大になる方向（すなわち、遅相軸方向）の屈折率をｎｘとし、面内で遅相軸と直交する方向（すなわち、進相軸方向）の屈折率をｎｙとし、光学フィルムの厚みをｄ（ｎｍ）としたとき、Ｒｅ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄによって求められる。
【００１４】
本発明の透明導電性フィルムは、上記のように厚み方向の位相差の小さい透明基材を用いることにより、虹斑を抑制し得る。また、厚み方向の位相差および面内位相差の両方が、小さい透明基材を用いることにより、虹斑を抑制する効果はより顕著となる。低位相差の透明基材を用いれば、透明基材を斜め方向に透過する光の光路差が低減して、上記のような効果が得られると考えられる。また、このような効果は、透明基材を透過する光が楕円偏光の場合により顕著となる。
【００１５】
上記透明基材の厚みは、好ましくは２０μｍ〜２００μｍであり、より好ましくは３０μｍ〜１５０μｍである。このような範囲であれば、位相差の小さい透明基材を得ることができる。
【００１６】
上記透明基材の全光線透過率は、好ましくは８０％以上であり、より好ましくは８５％以上であり、さらに好ましくは９０％以上である。
【００１７】
上記透明基材を構成する材料は、任意の適切な材料が用いられ得る。具体的には、例えば、フィルムやプラスチックス基材などの高分子基材が好ましく用いられる。透明基材の平滑性および透明導電性形成用の組成物に対する濡れ性に優れ、また、ロールによる連続生産により生産性を大幅に向上させ得るからである。好ましくは、上記範囲の厚み方向の位相差Ｒｔｈを発現し得る材料が用いられる。
【００１８】
上記透明基材を構成する材料は、代表的には熱可塑性樹脂を主成分とする高分子フィルムである。熱可塑性樹脂としては、例えば、ポリノルボルネン等のシクロオレフィン系樹脂；アクリル系樹脂；低位相差ポリカーボネート樹脂等が挙げられる。なかでも好ましくは、シクロオレフィン系樹脂またはアクリル系樹脂である。これらの樹脂を用いれば、位相差の小さい透明基材を得ることができる。また、これらの樹脂は、透明性、機械的強度、熱安定性、水分遮蔽性などに優れる。上記熱可塑性樹脂は、単独で、または２種以上組み合わせて用いてもよい。
【００１９】
上記ポリノルボルネンとは、出発原料（モノマー）の一部または全部に、ノルボルネン環を有するノルボルネン系モノマーを用いて得られる（共）重合体をいう。上記ノルボルネン系モノマーとしては、例えば、ノルボルネン、およびそのアルキルおよび／またはアルキリデン置換体、例えば、５−メチル−２−ノルボルネン、５−ジメチル−２−ノルボルネン、５−エチル−２−ノルボルネン、５−ブチル−２−ノルボルネン、５−エチリデン−２−ノルボルネン等、およびハロゲン等の極性基置換体；ジシクロペンタジエン、２，３−ジヒドロジシクロペンタジエン等；ジメタノオクタヒドロナフタレン、そのアルキルおよび／またはアルキリデン置換体、およびハロゲン等の極性基置換体、シクロペンタジエンの３〜４量体、例えば、４，９：５，８−ジメタノ−３ａ，４，４ａ，５，８，８ａ，９，９ａ−オクタヒドロ−１Ｈ−ベンゾインデン、４，１１：５，１０：６，９−トリメタノ−３ａ，４，４ａ，５，５ａ，６，９，９ａ，１０，１０ａ，１１，１１ａ−ドデカヒドロ−１Ｈ−シクロペンタアントラセン等が挙げられる。
【００２０】
上記ポリノルボルネンとしては、種々の製品が市販されている。具体例としては、日本ゼオン社製の商品名「ゼオネックス」、「ゼオノア」、ＪＳＲ社製の商品名「アートン（Ａｒｔｏｎ）」、ＴＩＣＯＮＡ社製の商品名「トーパス」、三井化学社製の商品名「ＡＰＥＬ」が挙げられる。
【００２１】
上記アクリル系樹脂は、（メタ）アクリル酸エステル由来の繰り返し単位（（メタ）アクリル酸エステル単位）および／または（メタ）アクリル酸由来の繰り返し単位（（メタ）アクリル酸単位）を有する樹脂をいう。上記アクリル系樹脂は、（メタ）アクリル酸エステルまたは（メタ）アクリル酸の誘導体に由来する構成単位を有していてもよい。
【００２２】
上記アクリル系樹脂において、上記（メタ）アクリル酸エステル単位、（メタ）アクリル酸単位、および（メタ）アクリル酸エステルまたは（メタ）アクリル酸の誘導体に由来する構成単位の合計含有割合は、該アクリル系樹脂を構成する全構成単位に対して、好ましくは５０重量％以上であり、より好ましくは６０重量％〜１００重量％であり、特に好ましくは７０重量％〜９０重量％である。このような範囲であれば、低位相差の透明基材を得ることができる。
【００２３】
上記アクリル系樹脂は、主鎖に環構造を有していてもよい。環構造を有することにより、アクリル系樹脂の位相差の上昇を抑制しつつ、ガラス転移温度を向上させることができる。環構造としては、例えば、ラクトン環構造、無水グルタル酸構造、グルタルイミド構造、Ｎ−置換マレイミド構造、無水マレイン酸構造等が挙げられる。
【００２４】
上記ラクトン環構造は、任意の適切な構造をとり得る。上記ラクトン環構造は、好ましくは４〜８員環であり、より好ましくは５員環または６員環であり、さらに好ましくは６員環である。６員環のラクトン環構造としては、例えば、下記一般式（１）で表されるラクトン環構造が挙げられる。
【化１】
2014112510.tif 000003
上記一般式（１）中、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数が１〜２０の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基、炭素数が１〜２０の不飽和脂肪族炭化水素基、または炭素数が１〜２０の芳香族炭化水素基である。上記アルキル基、不飽和脂肪族炭化水素基および芳香族炭化水素基は、水酸基、カルボキシル基、エーテル基またはエステル基等の置換基を有していてもよい。
【００２５】
上記無水グルタル酸構造としては、例えば、下記一般式（２）で表される無水グルタル酸構造が挙げられる。無水グルタル酸構造は、例えば、（メタ）アクリル酸エステルと（メタ）アクリル酸との共重合体を、分子内で脱アルコール環化縮合させて得ることができる。
【化２】
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上記一般式（２）中、Ｒ４およびＲ５は、それぞれ独立して、水素原子またはメチル基である。
【００２６】
上記グルタルイミド構造としては、例えば、下記一般式（３）で表されるグルタルイミド構造が挙げられる。グルタルイミド構造は、例えば、（メタ）アクリル酸エステル重合体をメチルアミンなどのイミド化剤によりイミド化して得ることができる。
【化３】
2014112510.tif 000005
上記一般式（３）中、Ｒ６およびＲ７は、それぞれ独立して、水素原子または炭素数が１〜８の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基であり、好ましくは水素原子またはメチル基である。Ｒ８は、水素原子、炭素数が１〜１８の直鎖アルキル基、炭素数が３〜１２のシクロアルキル基または炭素数が６〜１０のアリール基であり、好ましくは炭素数が１〜６の直鎖アルキル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基またはフェニル基である。
【００２７】
１つの実施形態においては、上記アクリル系樹脂は、下記一般式（４）で表されるグルタルイミド構造と、メタクリル酸メチル単位とを有する。
【化４】
2014112510.tif 000006
上記一般式（４）中、Ｒ９〜Ｒ１２は、それぞれ独立に、水素原子または炭素数が１〜８の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基である。Ｒ１３は炭素数が１〜１８の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基、炭素数が３〜１２のシクロアルキル基、または炭素数が６〜１０のアリール基である。
【００２８】
上記Ｎ−置換マレイミド構造としては、例えば、下記一般式（５）で表されるＮ−置換マレイミド構造が挙げられる。Ｎ−置換マレイミド構造を主鎖に有するアクリル樹脂は、例えば、Ｎ−置換マレイミドと（メタ）アクリル酸エステルとを共重合して得ることができる。
【化５】
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上記一般式（５）中、Ｒ１４およびＲ１５は、それぞれ独立して、水素原子またはメチル基であり、Ｒ１６は、水素原子、炭素数が１〜６の直鎖アルキル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基またはフェニル基である。
【００２９】
上記無水マレイン酸構造としては、例えば、下記一般式（６）で表される無水マレイン酸構造が挙げられる。無水マレイン酸構造を主鎖に有するアクリル樹脂は、例えば、無水マレイン酸と（メタ）アクリル酸エステルとを共重合して得ることができる。
【化６】
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上記一般式（６）中、Ｒ１７およびＲ１８は、それぞれ独立して、水素原子またはメチル基である。
【００３０】
上記アクリル系樹脂は、その他の構成単位を有し得る。その他の構成単位としては、例えば、スチレン、ビニルトルエン、α−メチルスチレン、アクリロニトリル、メチルビニルケトン、エチレン、プロピレン、酢酸ビニル、メタリルアルコール、アリルアルコール、２−ヒドロキシメチル−１−ブテン、α−ヒドロキシメチルスチレン、α−ヒドロキシエチルスチレン、２−（ヒドロキシエチル）アクリル酸メチルなどの２−（ヒドロキシアルキル）アクリル酸エステル、２−（ヒドロキシエチル）アクリル酸などの２−（ヒドロキシアルキル）アクリル酸等などの単量体に由来する構成単位が挙げられる。
【００３１】
上記アクリル系樹脂の具体例としては、上記で例示したアクリル系樹脂の他、特開２００４−１６８８８２号公報、特開２００７−２６１２６５号公報、特開２００７−２６２３９９号公報、特開２００７−２９７６１５号公報、特開２００９−０３９９３５号公報、特開２００９−０５２０２１号公報、特開２０１０−２８４８４０号公報に記載のアクリル系樹脂も挙げられる。
【００３２】
上記透明基材を構成する材料のガラス転移温度は、好ましくは１００℃〜２００℃であり、より好ましくは１１０℃〜１５０℃であり、特に好ましくは１１０℃〜１４０℃である。このような範囲であれば、耐熱性に優れる透明導電性フィルムを得ることができる。
【００３３】
上記透明基材は、必要に応じて任意の適切な添加剤をさらに含み得る。添加剤の具体例としては、可塑剤、熱安定剤、光安定剤、滑剤、抗酸化剤、紫外線吸収剤、難燃剤、着色剤、帯電防止剤、相溶化剤、架橋剤、および増粘剤等が挙げられる。使用される添加剤の種類および量は、目的に応じて適宜設定され得る
【００３４】
上記透明基材を得る方法としては、任意の適切な成形加工法が用いられ、例えば、圧縮成形法、トランスファー成形法、射出成形法、押出成形法、ブロー成形法、粉末成形法、ＦＲＰ成形法、およびソルベントキャスティング法等から適宜、適切なものが選択され得る。これらの製法の中でも好ましくは、押出成形法またはソルベントキャスティング法が用いられる。得られる透明基材の平滑性を高め、良好な光学的均一性を得ることができるからである。成形条件は、使用される樹脂の組成や種類等に応じて適宜設定され得る。
【００３５】
必要に応じて、上記透明基材に対して各種表面処理を行ってもよい。表面処理は目的に応じて任意の適切な方法が採用される。例えば、低圧プラズマ処理、紫外線照射処理、コロナ処理、火炎処理、酸またはアルカリ処理が挙げられる。１つの実施形態においては、透明基材を表面処理して、透明基材表面を親水化させる。透明基材を親水化させれば、水系溶媒により調製された透明導電層形成用組成物を塗工する際の加工性が優れる。また、透明基材と透明導電層との密着性に優れる透明導電性フィルムを得ることができる。
【００３６】
Ｃ．透明導電層
上記透明導電層は、金属ナノワイヤまたは金属メッシュを含む。
【００３７】
（金属ナノワイヤ）
金属ナノワイヤとは、材質が金属であり、形状が針状または糸状であり、径がナノメートルサイズの導電性物質をいう。金属ナノワイヤは直線状であってもよく、曲線状であってもよい。金属ナノワイヤで構成された透明導電層を用いれば、金属ナノワイヤが網の目状となることにより、少量の金属ナノワイヤであっても良好な電気伝導経路を形成することができ、電気抵抗の小さい透明導電性フィルムを得ることができる。さらに、金属ナノワイヤが網の目状となることにより、網の目の隙間に開口部を形成して、光透過率の高い透明導電性フィルムを得ることができる。
【００３８】
上記金属ナノワイヤの太さｄと長さＬとの比（アスペクト比：Ｌ／ｄ）は、好ましくは１０〜１００，０００であり、より好ましくは５０〜１００，０００であり、特に好ましくは１００〜１０，０００である。このようにアスペクト比の大きい金属ナノワイヤを用いれば、金属ナノワイヤが良好に交差して、少量の金属ナノワイヤにより高い導電性を発現させることができる。その結果、光透過率の高い透明導電性フィルムを得ることができる。なお、本明細書において、「金属ナノワイヤの太さ」とは、金属ナノワイヤの断面が円状である場合はその直径を意味し、楕円状である場合はその短径を意味し、多角形である場合は最も長い対角線を意味する。金属ナノワイヤの太さおよび長さは、走査型電子顕微鏡または透過型電子顕微鏡によって確認することができる。
【００３９】
上記金属ナノワイヤの太さは、好ましくは５００ｎｍ未満であり、より好ましくは２００ｎｍ未満であり、特に好ましくは１０ｎｍ〜１００ｎｍであり、最も好ましくは１０ｎｍ〜５０ｎｍである。このような範囲であれば、光透過率の高い透明導電層を形成することができる。
【００４０】
上記金属ナノワイヤの長さは、好ましくは２．５μｍ〜１０００μｍであり、より好ましくは１０μｍ〜５００μｍであり、特に好ましくは２０μｍ〜１００μｍである。このような範囲であれば、導電性の高い透明導電性フィルムを得ることができる。
【００４１】
上記金属ナノワイヤを構成する金属としては、導電性の高い金属である限り、任意の適切な金属が用いられ得る。上記金属ナノワイヤを構成する金属としては、例えば、銀、金、銅、ニッケル等が挙げられる。また、これらの金属にメッキ処理（例えば、金メッキ処理）を行った材料を用いてもよい。なかでも好ましくは、導電性の観点から、銀、銅または金であり、より好ましくは銀である。
【００４２】
上記金属ナノワイヤの製造方法としては、任意の適切な方法が採用され得る。例えば溶液中で硝酸銀を還元する方法、前駆体表面にプローブの先端部から印可電圧又は電流を作用させ、プローブ先端部で金属ナノワイヤを引き出し、該金属ナノワイヤを連続的に形成する方法等が挙げられる。溶液中で硝酸銀を還元する方法においては、エチレングリコール等のポリオール、およびポリビニルピロリドンの存在下で、硝酸銀等の銀塩の液相還元することによりにより、銀ナノワイヤが合成され得る。均一サイズの銀ナノワイヤは、例えば、Ｘｉａ，Ｙ．ｅｔａｌ．，Ｃｈｅｍ．Ｍａｔｅｒ．（２００２）、１４、４７３６−４７４５  、Ｘｉａ，  Ｙ．ｅｔａｌ．，  Ｎａｎｏ  ｌｅｔｔｅｒｓ（２００３）３（７）、９５５−９６０  に記載される方法に準じて、大量生産が可能である。
【００４３】
上記透明導電層は、上記透明基材上に、上記金属ナノワイヤを含む透明導電層形成用組成物を塗工することにより形成することができる。より具体的には、溶媒中に上記金属ナノワイヤを分散させた分散液（透明導電層形成用組成物）を、上記透明基材上に塗布した後、塗布層を乾燥させて、透明導電層を形成することができる。
【００４４】
上記溶媒としては、水、アルコール系溶媒、ケトン系溶媒、エーテル系溶媒、炭化水素系溶媒、芳香族系溶媒等が挙げられる。環境負荷低減の観点から、水を用いることが好ましい。
【００４５】
上記金属ナノワイヤを含む透明導電層形成用組成物中の金属ナノワイヤの分散濃度は、好ましくは０．１重量％〜１重量％である。このような範囲であれば、導電性および光透過性に優れる透明導電層を形成することができる。
【００４６】
上記金属ナノワイヤを含む透明導電層形成用組成物は、目的に応じて任意の適切な添加剤をさらに含有し得る。上記添加剤としては、例えば、金属ナノワイヤの腐食を防止する腐食防止材、金属ナノワイヤの凝集を防止する界面活性剤等が挙げられる。使用される添加剤の種類、数および量は、目的に応じて適切に設定され得る。また、該透明導電層形成用組成物は、本発明の効果が得られる限り、必要に応じて、任意の適切なバインダー樹脂を含み得る。
【００４７】
上記金属ナノワイヤを含む透明導電層形成用組成物の塗布方法としては、任意の適切な方法が採用され得る。塗布方法としては、例えば、スプレーコート、バーコート、ロールコート、ダイコート、インクジェットコート、スクリーンコート、ディップコート、凸版印刷法、凹版印刷法、グラビア印刷法等が挙げられる。塗布層の乾燥方法としては、任意の適切な乾燥方法（例えば、自然乾燥、送風乾燥、加熱乾燥）が採用され得る。例えば、加熱乾燥の場合には、乾燥温度は代表的には１００℃〜２００℃であり、乾燥時間は代表的には１〜１０分である。
【００４８】
上記透明導電層が金属ナノワイヤを含む場合、該透明導電層の厚みは、好ましくは０．０１μｍ〜１０μｍであり、より好ましくは０．０５μｍ〜３μｍであり、特に好ましくは０．１μｍ〜１μｍである。このような範囲であれば、導電性および光透過性に優れる透明導電性フィルムを得ることができる。
【００４９】
上記透明導電層が金属ナノワイヤを含む場合、該透明導電層の全光線透過率は、好ましくは８５％以上であり、より好ましくは９０％以上であり、さらに好ましくは９５％以上である。
【００５０】
上記透明導電層における金属ナノワイヤの含有割合は、透明導電層の全重量に対して、好ましくは８０重量％〜１００重量％であり、より好ましくは８５重量％〜９９重量％である。このような範囲であれば、導電性および光透過性に優れる透明導電性フィルムを得ることができる。
【００５１】
上記金属ナノワイヤが銀ナノワイヤである場合、透明導電層の密度は、好ましくは１．３ｇ／ｃｍ３〜１０．５ｇ／ｃｍ３であり、より好ましくは１．５ｇ／ｃｍ３〜３．０ｇ／ｃｍ３である。このような範囲であれば、導電性および光透過性に優れる透明導電性フィルムを得ることができる。
【００５２】
（金属メッシュ）
金属メッシュを含む透明導電層は、上記透明基材上に、金属細線が格子状のパターンに形成されてなる。金属メッシュを含む透明導電層は、任意の適切な方法により形成させることができる。該透明導電層は、例えば、銀塩を含む感光性組成物（透明導電層形成用組成物）を上記積層体上に塗布し、その後、露光処理および現像処理を行い、金属細線を所定のパターンに形成することにより得ることができる。また、該透明導電層は、金属微粒子を含むペースト（透明導電層形成用組成物）を所定のパターンに印刷して得ることもできる。このような透明導電層およびその形成方法の詳細は、例えば、特開２０１２−１８６３４号公報に記載されており、その記載は本明細書に参考として援用される。また、金属メッシュから構成される透明導電層およびその形成方法の別の例としては、特開２００３−３３１６５４号公報に記載の透明導電層およびその形成方法が挙げられる。
【００５３】
上記透明導電層が金属メッシュを含む場合、該透明導電層の厚みは、好ましくは０．１μｍ〜３０μｍであり、より好ましくは０．１μｍ〜９μｍであり、さらに好ましくは１μｍ〜３μｍである。
【００５４】
上記透明導電層が金属メッシュを含む場合、該透明導電層の透過率は、好ましくは８０％以上であり、より好ましくは８５％以上であり、さらに好ましくは９０％以上である。
【００５５】
上記透明導電性フィルムがタッチパネル等の電極に用いられる場合は、上記透明導電層は所定のパターンにパターン化され得る。透明導電層のパターンの形状はタッチパネル（例えば、静電容量方式タッチパネル）として良好に動作するパターンであれば特に限定はされないが、例えば、特表２０１１−５１１３５７号公報、特開２０１０−１６４９３８号公報、特開２００８−３１０５５０号公報、特表２００３−５１１７９９号公報、特表２０１０−５４１１０９号公報に記載のパターンが挙げられる。透明導電層は透明基材上に形成された後、公知の方法を用いてパターン化することができる。
【００５６】
Ｄ．その他の層
上記透明導電性フィルムは、必要に応じて、任意の適切なその他の層を備え得る。上記その他の層としては、例えば、ハードコート層、帯電防止層、アンチグレア層、反射防止層、カラーフィルター層等が挙げられる。
【００５７】
上記ハードコート層は、上記透明基材に耐薬品性、耐擦傷性および表面平滑性を付与させる機能を有する。
【００５８】
上記ハードコート層を構成する材料としては、任意の適切なものを採用し得る。上記ハードコート層を構成する材料としては、例えば、エポキシ系樹脂、アクリル系樹脂、シリコーン系樹脂およびこれらの混合物が挙げられる。なかでも好ましくは、耐熱性に優れるエポキシ系樹脂である。上記ハードコート層はこれらの樹脂を熱または活性エネルギー線により硬化させて得ることができる。
【００５９】
Ｅ．用途
上記透明導電性フィルムは、表示素子等の電子機器に用いられ得る。より具体的には、透明導電性フィルムは、例えば、タッチパネル等に用いられる電極；電子機器の誤作動の原因となる電磁波を遮断する電磁波シールド等として用いられ得る。
【００６０】
１つの実施形態においては、上記透明導電性フィルムと液晶パネルとを組み合わせて、液晶表示素子が提供され得る。好ましくは、該液晶表示素子は、上記透明導電性フィルムと、液晶パネルとを視認側からこの順に備える。
【００６１】
上記透明導電性フィルムを備える液晶表示素子のより具体的な一例として、図２の概略断面図に示す液晶表示素子が挙げられる。この液晶表示素子１００は、電極として本発明の透明導電性フィルムを含むタッチパネル１１０と、液晶パネル１２０とを視認側からこの順に備える。タッチパネルとしては、任意の適切なタッチパネルが用いられ得、例えば、抵抗膜型タッチパネル、静電容量型タッチパネル等が挙げられる。１つの実施形態においては、図示例のように、２枚の透明導電性フィルム１０と、２枚の透明導電性フィルム１０の間に配置されたスペーサー１１とを有するタッチパネル（抵抗膜型タッチパネル）が用いられ得る。また、静電容量型タッチパネルが用いられる場合、本発明の導電性フィルムの透明導電層は、上記Ｅ項で説明したように所定のパターンにパターン化される。液晶パネルとしては、任意の適切な液晶パネルが用いられ得る。代表的には、図示例のように、２枚の偏光板２０と、２枚の偏光板の間に配置された液晶セル２１とを有する液晶パネルが用いられ得る。偏光板および液晶セルとしては、任意の適切なものが用いられ得る。なお、上記タッチパネルおよび液晶パネルは、任意の適切な他の部材をさらに備え得る。
【００６２】
上記透明導電性フィルムを備える液晶表示素子の別の具体例として、図３の概略図断面図に示す液晶表示素子が挙げられる。この液晶表示素子１００’は、タッチパネル１１０’と、本発明の透明導電性フィルム１０から構成される電磁波シールド１３０と、液晶パネル１２０とを視認側からこの順に備える。
【００６３】
図３に示す実施形態においては、タッチパネル１１０’として、任意の適切なタッチパネルが用いられ得る。例えば、抵抗膜型タッチパネル、静電容量型タッチパネル等が挙げられる。また、タッチパネル１１０’に用いられる電極としては、任意の適切な電極が用いられ得る。例えば、１つの実施形態においては電極として本発明の透明導電性フィルムが用いられ、別の実施形態においてはＩＴＯ電極が用いられる。タッチパネル１１０’が静電容量型タッチパネルの場合、電極は、任意の適切なパターンにパターン化され得る。電極のパターンの形状は、例えば、特表２０１１−５１１３５７号公報、特開２０１０−１６４９３８号公報、特開２００８−３１０５５０号公報、特表２００３−５１１７９９号公報、特表２０１０−５４１１０９号公報に記載のパターンが挙げられる。なお、電磁波シールド１３０の視認側には、タッチパネルに代えて、他の部材（例えば、保護シート）が配置されていてもよい。
【００６４】
別の実施形態においては、上記透明導電性フィルムと、偏光板と、有機エレクトロルミネッセンス素子とを組み合わせて、有機エレクトロルミネッセンス表示装置が提供され得る。好ましくは、該有機エレクトロルミネッセンス表示装置は、上記透明導電性フィルムと、偏光板と、有機エレクトロルミネッセンス素子とを視認側からこの順に備える。
【００６５】
上記透明導電性フィルムを備える有機エレクトロルミネッセンス表示装置のより具体的な一例として、図４の概略断面図に示す有機エレクトロルミネッセンス表示装置が挙げられる。この有機エレクトロルミネッセンス表示装置２００は、電極として本発明の透明導電性フィルムを含むタッチパネル１１０と、偏光板２０と、有機エレクトロルミネッセンス素子３０とを視認側からこの順に備える。タッチパネルとしては、任意の適切なタッチパネルが用いられ得、例えば、抵抗膜型タッチパネル、静電容量型タッチパネル等が挙げられる。１つの実施形態においては、図示例のように、２枚の透明導電性フィルム１０と、２枚の透明導電性フィルム１０の間に配置されたスペーサー１１とを有するタッチパネル（抵抗膜型タッチパネル）が用いられ得る。また、静電容量型タッチパネルが用いられる場合、本発明の導電性フィルムの透明導電層は、上記Ｅ項で説明したように所定のパターンにパターン化される。偏光板および有機エレクトロルミネッセンス素子としては、任意の適切なものが用いられ得る。なお、上記有機エレクトロルミネッセンス表示装置は、任意の適切な他の部材をさらに備え得る。
【００６６】
上記透明導電性フィルムを備える有機エレクトロルミネッセンス表示装置の別の具体例として、図５の概略図に示す有機エレクトロルミネッセンス表示装置が挙げられる。この有機エレクトロルミネッセンス表示装置２００’は、タッチパネル１１０’と、本発明の透明導電性フィルム１０から構成される電磁波シールド１３０と、偏光板２０と、有機エレクトロルミネッセンス素子３０とを視認側からこの順に備える。
【００６７】
図５に示す実施形態においては、タッチパネル１１０’として、任意の適切なタッチパネルが用いられ得る。例えば、図３において説明したようなタッチパネルが用いられ得る。また、該タッチパネルは、図３において説明したような電極を含み得る。なお、電磁波シールド１３０の視認側には、タッチパネルに代えて、他の部材（例えば、保護シート）が配置されていてもよい。
【実施例】
【００６８】
以下、実施例により本発明を具体的に説明するが、本発明はこれら実施例になんら限定されるものではない。実施例における評価方法は以下のとおりである。なお、厚みは尾崎製作所製ピーコック精密測定機器  デジタルゲージコードレスタイプ「ＤＧ−２０５」を使用して測定した。
【００６９】
（１）位相差値
透明基材層の位相差値を、王子計測機器社製の商品名「ＫＯＢＲＡ−ＷＲＰ」を用いて、測定した。測定温度は２３℃、測定波長は５４５．６ｎｍとした。
（２）表面抵抗値
得られた透明導電性フィルムの表面抵抗値を、三菱化学アナリテック社製の商品名「Ｌｏｒｅｓｔａ−ＧＰ  ＭＣＰ−Ｔ６１０」を用いて、四端子法により測定した。測定温度は２３℃とした。
（３）全光線透過率
得られた透明導電性フィルムの全光線透過率を、村上色彩研究所製の商品名「ＨＲ−１００」を用いて、室温にて測定した。なお、それぞれ３回ずつ測定し、平均値を測定値とした。
（４）虹斑観察
偏光板（日東電工社製、商品名「ＮＰＦ−ＳＥＧ１４２５ＤＵ」）上に、該偏光板の吸収軸と透明基材の遅相軸とが垂直となるように、透明導電性フィルムを貼り合わせた。得られた積層体をバックライト上に配置し、透明基材の遅相軸方向に対して斜め４５°の角度から虹斑の発生有無を観察した。
【００７０】
（製造例１）金属ナノワイヤの合成および透明導電層形成用組成物の調製
攪拌装置を備えた反応容器中、１６０℃下で、無水エチレングリコール５ｍｌ、ＰｔＣｌ２の無水エチレングリコール溶液（濃度：１．５×１０−４ｍｏｌ／Ｌ）０．５ｍｌを加えた。４分経過後、得られた溶液に、ＡｇＮＯ３の無水エチレングリコール溶液（濃度：０．１２ｍｏｌ／ｌ）２．５ｍｌと、ポリビニルピロリドン（ＭＷ：５５００）の無水エチレングリコール溶液（濃度：０．３６ｍｏｌ／ｌ）５ｍｌとを同時に、６分かけて滴下して、銀ナノワイヤを生成した。この滴下は、１６０℃下で、ＡｇＮＯ３が完全に還元されるまで行った。次いで、上記のようにして得られた銀ナノワイヤを含む反応混合物に、該反応混合物の体積が５倍になるまでアセトンを加えた後、該反応混合物を遠心分離して（２０００ｒｐｍ、２０分）、銀ナノワイヤを得た。
得られた銀ナノワイヤは、短径が３０ｎｍ〜４０ｎｍであり、長径が３０ｎｍ〜５０ｎｍであり、長さは２０μｍ〜５０μｍであった。
純水中に、該銀ナノワイヤ（濃度：０．２重量％）、およびドデシル−ペンタエチレングリコール（濃度：０．１重量％）を分散させ、透明導電層形成用組成物を調製した。
【００７１】
（実施例１）
透明基材として、ノルボルネン系シクロオレフィンフィルム（日本ゼオン社製、商品名「ゼオノアＺＦ１４」、厚み：４０μｍ）を用いた。該ノルボルネン系シクロオレフィンフィルムの厚み方向の位相差Ｒｔｈおよび面内位相差Ｒｅを表１に示す。
該ノルボルネン系シクロオレフィンフィルムに、コロナ処理を行い表面を親水化した。その後、バーコーター（第一理科社製、製品名「バーコーター  Ｎｏ．０６」）を用いて、製造例１で調製した透明導電層形成用組成物を塗布し、その後、送風乾燥機内において、１２０℃で２分間乾燥させて、透明基材上に透明導電層（０．１μｍ）が形成された透明導電性フィルムを得た。
得られた透明導電性フィルムを、上記（２）〜（４）の評価に供した。結果を表１に示す。
【００７２】
（実施例２）
ノルボルネン系シクロオレフィンフィルムに代えて、アクリル系ポリマーフィルム（カネカ社製、商品名「ＨＸ−４０ＵＣ」）を用いた以外は、実施例１と同様にして、透明導電性フィルムを得た。用いたアクリル系ポリマーフィルム、および得られた透明導電性フィルムを、上記（１）〜（４）の評価に供した。結果を表１に示す。
【００７３】
（実施例３）
実施例１で用いたノルボルネン系シクロオレフィンフィルムに、コロナ処理を行い表面を親水化した。その後、銀ペースト（トーヨーケム株式会社製、商品名「ＲＡ  ＦＳ  ０３９」）を用いてスクリーン印刷法にて金属メッシュを形成し(線幅：１００μｍ、ピッチ１．５ｍｍの格子)、１２０℃で１０分間焼結し、透明導電性フィルムを得た。
得られた透明導電性フィルムを、上記（２）〜（４）の評価に供した。結果を表１に示す。
【００７４】
（比較例１）
ノルボルネン系シクロオレフィンフィルムに代えて、ＰＥＴフィルム（三菱樹脂社製、商品名「ダイアホイル  Ｔ６０２」）を用いた以外は、実施例１と同様にして、透明導電性フィルムを得た。用いたＰＥＴフィルムフィルム、および得られた透明導電性フィルムを、上記（１）〜（４）の評価に供した。結果を表１に示す。
【００７５】
【表１】
2014112510.tif 000009
【００７６】
表１から明らかなように、本発明の透明導電性フィルムは、光透過率および導電性が高く、かつ、虹状の斑模様の発生を抑制し得る。
【産業上の利用可能性】
【００７７】
本発明の透明導電性フィルムは、表示素子等の電子機器に用いられ得る。より具体的には、透明導電性フィルムは、例えば、タッチパネル等に用いられる電極；電磁波シールドとして用いられ得る。
【符号の説明】
【００７８】
１            透明基材
２            透明導電層
１０          透明導電性フィルム
１１          スペーサー
２０          偏光板
２１          液晶セル
３０          有機エレクトロルミネッセンス素子
１００        液晶表示素子
２００        有機エレクトロルミネッセンス表示装置
【図１】
2014112510.tif 000010
【図２】
2014112510.tif 000011
【図３】
2014112510.tif 000012
【図４】
2014112510.tif 000013
【図５】
2014112510.tif 000014