(57)【要約】【課題】腐食性流体の漏出を防ぎつつ、ＭＦＣの前後の配管やＭＦＣのセンサの劣化も防止することができるガラス合成用流体供給装置を提供する。【解決手段】ガラス合成用流体供給装置１０は、パージガス供給ラインＬ１と、腐食性流体供給ラインＬ２と、パージガス供給ラインＬ１と腐食性流体供給ラインＬ２とが合流された合流ラインＬ３と、合流ラインＬ３に設けられたＭＦＣ５と、を備え、合流ラインＬ３におけるＭＦＣ５の下流側に反応容器２が接続され、パージガス供給ラインＬ１と腐食性流体供給ラインＬ２には、それぞれ、電磁弁６ａ，６ｂで操作される空気式操作弁７ａ，７ｂが設けられ、空気式操作弁７ａ，７ｂは全てノーマルクローズ型であり、ＭＦＣ５は全てノーマルオープン型であり、パージガス供給ラインＬ１用の電磁弁６ａがノーマルオープン型であり、腐食性流体供給ラインＬ２用の電磁弁６ｂがノーマルクローズ型である。【選択図】図１
2014131946.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガラスを合成する際に用いられる腐食性流体を反応容器に向けて供給するガラス合成用流体供給装置であって、
パージガス供給ラインと、
腐食性流体供給ラインと、
前記パージガス供給ラインと前記腐食性流体供給ラインとが合流された合流ラインと、
前記合流ラインに設けられた流量制御機構と、を備え、
前記合流ラインにおける前記流量制御機構の下流側に前記反応容器が接続され、前記パージガス供給ラインと前記腐食性流体供給ラインには、それぞれ、電磁弁で操作される空気式操作弁が設けられ、
前記空気式操作弁は全てノーマルクローズ型であり、
前記流量制御機構は全てノーマルオープン型であり、
前記電磁弁は、前記パージガス供給ライン用がノーマルオープン型であり、前記腐食性流体供給ライン用がノーマルクローズ型である、ガラス合成用流体供給装置。
【請求項２】
前記合流ラインにおける前記流量制御機構の下流側に、除害装置が接続された除害装置側ラインが設けられ、
前記反応容器への供給ラインが、前記合流ラインと、前記パージガス供給ラインとは別の反応容器側パージガス供給ラインとからなり、
前記合流ラインにおける前記流量制御機構の下流側と前記除害装置側ラインと前記反応容器側パージガス供給ラインには、それぞれ、電磁弁で操作されるノーマルクローズ型の空気式操作弁が設けられ、
前記合流ラインにおける前記流量制御機構の下流側の前記電磁弁がノーマルクローズ型であり、
前記除害装置側ラインと前記反応容器側パージガス供給ラインの各前記電磁弁がノーマルオープン型である、請求項１に記載のガラス合成用流体供給装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ガラス合成装置にガラス合成用の流体を供給するガラス合成用流体供給装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
ガラスを合成するためのガラス原料ガス（または液体）やガラス合成に用いられるガス（または液体）を、ガラス合成装置に供給するための装置が知られている（例えば、特許文献１参照）。このような装置では、供給するガスや液体の流量を制御するために流量制御機構（ＭＦＣ）が用いられる。ＭＦＣは、例えば電源供給が遮断された場合には、ガスや液体の外部への漏れ出しを防ぐために閉止されるのが一般的である。例えば、特許文献２には、ＭＦＣがノーマルクローズ型であることが開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００９−１０２２０７号公報
【特許文献２】特開２００５−１７９１０７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、ＭＦＣがノーマルクローズ型であると、停電などの異常発生時に、ＭＦＣ以降のラインへの腐食性流体の漏出は防げるものの、ＭＦＣの前後でガラス原料ガス（または液体）やガラス合成に用いられるガス（または液体）等の流体が溜まってしまう。これらのガラス原料ガス（または液体）やガラス合成に用いられるガス（または液体）は腐食性を有する腐食性流体である。そのため、ＭＦＣの前後の配管やＭＦＣのセンサが腐食性流体により腐食されて劣化してしまうことがある。
また、流体供給・排気ラインに用いる空気式操作弁及びそれを操作する電磁弁にも、異常性の動作を考えたときに、各々ノーマルクローズ型にするか、ノーマルオープン型にするかを決めておく必要があるが、どのように決めておくべきかは明確ではなかった。
【０００５】
そこで、本発明の目的は、腐食性流体の漏出を防ぎつつ、ＭＦＣの前後の配管やＭＦＣのセンサの劣化も防止することができるガラス合成用流体供給装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記の目的を達成するために、本発明は、ガラスを合成する際に用いられる腐食性流体を反応容器に向けて供給するガラス合成用流体供給装置であって、
パージガス供給ラインと、
腐食性流体供給ラインと、
前記パージガス供給ラインと前記腐食性流体供給ラインとが合流された合流ラインと、
前記合流ラインに設けられた流量制御機構と、を備え、
前記合流ラインにおける前記流量制御機構の下流側に前記反応容器が接続され、前記パージガス供給ラインと前記腐食性流体供給ラインには、それぞれ、電磁弁で操作される空気式操作弁が設けられ、
前記空気式操作弁は全てノーマルクローズ型であり、
前記流量制御機構は全てノーマルオープン型であり、
前記電磁弁は、前記パージガス供給ライン用がノーマルオープン型であり、前記腐食性流体供給ライン用がノーマルクローズ型である。
【０００７】
また、前記合流ラインにおける前記流量制御機構の下流側に、除害装置が接続された除害装置側ラインが設けられ、
前記反応容器への供給ラインが、前記合流ラインと、前記パージガス供給ラインとは別の反応容器側パージガス供給ラインとからなり、
前記合流ラインにおける前記流量制御機構の下流側と前記除害装置側ラインと前記反応容器側パージガス供給ラインには、それぞれ、電磁弁で操作されるノーマルクローズ型の空気式操作弁が設けられ、
前記合流ラインにおける前記流量制御機構の下流側の前記電磁弁がノーマルクローズ型であり、
前記除害装置側ラインと前記反応容器側パージガス供給ラインの各前記電磁弁がノーマルオープン型であってもよい。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によれば、空気式操作弁が全てノーマルクローズ型であり、なおかつ腐食性流体供給ライン用の電磁弁がノーマルクローズ型であることにより、空気式操作弁の空気圧低下時や停電などの異常時には腐食性流体が流量制御機構に供給されず、流量制御機構内や流量制御機構付近に溜まることも無い。また、腐食性流体が外に漏れ出ることも無い。
【０００９】
一方、パージガス供給ラインはノーマルオープン型の電磁弁を用い、流量制御機構もノーマルオープン型であるので、停電時には、パージガス供給ラインから合流ラインや流量制御機構にパージガスが供給され、流量制御機構内や流量制御機構付近をパージガスでパージすることができる。また、停電時に反応容器にもパージガスが供給される。
【００１０】
これにより、腐食性流体の漏出を防ぎつつ、流量制御機構の前後の配管や流量制御機構のセンサの劣化も防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】本発明のガラス合成用流体供給装置の第１の実施形態に係る概略構成を示すブロック図である。
【図２】本発明のガラス合成用流体供給装置の第２の実施形態に係る概略構成を示すブロック図である。
【図３】本発明のガラス合成用流体供給装置の第３の実施形態に係る概略構成を示すブロック図である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
本発明のガラス合成用流体供給装置における流体の供給ラインには、供給する流体を選択したり、排気するラインを選択したりするため、分岐する配管に電磁弁により駆動される空気式操作弁が設けられている。また、供給する流体の流量を制御するために流量制御機構（ＭＦＣ）が用いられる。このような流体の供給ラインにおいて、汚染した流体が停電時やパージガス供給異常時に逆流したり、パージガス配管内に腐食性流体が進入したりするのを防ぐためには、停電時やパージガス供給異常時に、電磁弁、空気式操作弁及びＭＦＣにどのような動作をさせるかが重要となる。本発明はその対策を施したガラス合成用流体供給装置である。
【００１３】
以下、本発明の実施の形態に係るガラス合成用流体供給装置について、図面を参照して詳細に説明する。
【００１４】
図１は、本発明のガラス合成用流体供給装置の第１の実施形態に係る概略構成を示すブロック図である。
【００１５】
図１に示したガラス合成用流体供給装置１０は、ガラスを合成する際に用いられる腐食性流体を反応容器２に向けて供給する装置である。反応容器２では、例えば、ＯＶＤ法（外付け気相蒸着法）やＶＡＤ法（気相軸付け法）により、光ファイバ用の円柱状ガラス母材などのガラス合成が行われる。ＯＶＤ法の場合、反応容器２内で出発ガラスロッドを軸方向に往復移動させるとともに回転させながら、その外周に、腐食性流体供給部３から供給されるガラス原料となる腐食性流体を、Ｈ2などの燃料ガスとＯ2などの助燃ガスとともにバーナーから吹き付ける。そして、火炎加水分解反応によりガラス微粒子を生成して堆積させ、ガラス微粒子堆積体として円柱状ガラス母材を合成する。
【００１６】
上記腐食性流体としては、ガラス合成用原料ガスまたは液体（ＰＯＣｌ３、ＴｉＣｌ４、ＳｉＣｌ４，ＧｅＣｌ４など）や、プロセス用ガスまたは液体（ＢＣｌ３、ＳＦ６、Ｃｌ２、ＳｉＦ４、ＣＦ４など）が挙げられる。
【００１７】
ガラス合成用流体供給装置１０は、流体を供給する流路として、パージガス供給部４からパージガスを供給する第１ラインＬ１（パージガス供給ラインの一例）と、腐食性流体供給部３から腐食性流体を供給する第２ラインＬ２（腐食性流体供給ラインの一例）と、第１ラインＬ１と第２ラインＬ２とが合流する第３ラインＬ３（合流ラインの一例）とを備えている。第１ラインＬ１には、電磁弁６ａで操作される空気式操作弁７ａが設けられ、第２ラインＬ２には、電磁弁６ｂで操作される空気式操作弁７ｂが設けられている。そして、第１ラインＬ１の空気式操作弁７ａの下流側と第２ラインＬ２の空気式操作弁７ｂの下流側とが、合流して上記第３ラインＬ３となっている。第３ラインＬ３は、電気的に内部のバルブ（弁）の開閉を操作して通過する流体の流量を制御するＭＦＣ５（流量制御機構）を備え、その下流側が反応容器２に接続されている。
【００１８】
空気式操作弁７ａ，７ｂは、駆動用の空気圧（ガス圧）によって開閉動作をする弁である。電磁弁６ａ，６ｂは、ソレノイドのコイルに電流が供給されて開閉動作をする弁である。電磁弁６ａ，６ｂのオン／オフによりパージガス供給部４からのガスが空気式操作弁７ａ，７ｂに対して駆動用のガス圧として作用し、このガス圧により空気式操作弁７ａ，７ｂの開閉が操作される。すなわち、各流路（第１ラインＬ１、第２ラインＬ２）に設けられた空気式操作弁７ａ，７ｂは、それぞれ駆動用の電磁弁６ａ，６ｂを制御することで動作し、各流路（第１ラインＬ１、第２ラインＬ２）を開閉できる。
【００１９】
空気式操作弁７ａ，７ｂは、非動作時に流路が閉状態となるノーマルクローズ型が使用される。これにより、駆動用のパージガス圧低下などの異常時に閉状態となることにより、第１ラインＬ１と第２ラインＬ２が閉じられる。
【００２０】
また、電磁弁６ａには、ソレノイドの非動作時に流路が開状態となるノーマルオープン型が使用され、電磁弁６ｂには、ソレノイドの非動作時に流路が閉状態となるノーマルクローズ型が使用される。これにより、停電時には、電磁弁６ａからのガスにより空気式操作弁７ａが開けられ、電磁弁６ｂからのガスが供給されない空気式操作弁７ｂは閉じられる。
【００２１】
また、ＭＦＣ５はノーマルオープン型を使用し、停電時に、第３ラインＬ３にガスが流れ続けられるようにする。
【００２２】
次に、ガラス合成用流体供給装置１０の動作について説明する。
ガラス合成時には、ガラス合成用流体供給装置１０は、電磁弁６ａを閉じることで空気式操作弁７ａを閉じ、電磁弁６ｂを開けることで空気式操作弁７ｂを開けるように制御される。これにより、第１ラインＬ１から第３ラインＬ３にパージガスが供給されず、第２ラインＬ２から第３ラインＬ３にガラス原料ガス等の腐食性流体が供給される。そして、第３ラインＬ３に供給された腐食性流体は、ＭＦＣ５によって流量が適宜制御されて、反応容器２へ供給される。
【００２３】
ガラス非合成時には、ガラス合成用流体供給装置１０は、電磁弁６ｂを閉じることで空気式操作弁７ｂを閉じ、電磁弁６ａを開けることで空気式操作弁７ａを開けるように制御される。これにより、第２ラインＬ２から第３ラインＬ３にガラス原料ガス等の腐食性流体が供給されず、第１ラインＬ１から第３ラインＬ３にパージガスが供給される。そして、第３ラインＬ３に供給されたパージガスは、ＭＦＣ５によって流量が適宜制御されて、反応容器２へ供給される。
【００２４】
停電時等の異常時には、ガラス合成用流体供給装置１０は、電磁弁６ａはノーマルオープン型であるので自動的に弁が開く。これによって空気式操作弁７ａが開く。また、電磁弁６ｂはノーマルクローズ型であるので自動的に弁が閉じ、これによって空気式操作弁７ｂが閉じる。これにより、第１ラインＬ１から第３ラインＬ３にパージガスが供給されるが、第２ラインＬ２から第３ラインＬ３にはガラス原料ガス等の腐食性流体は供給されない。また、ＭＦＣ５はノーマルオープン型であるので自動的に弁が開き、反応容器２にもパージガスが供給される。
【００２５】
以上のように、ガラス合成用流体供給装置１０によれば、空気式操作弁７ａ，７ｂが全てノーマルクローズ型であり、なおかつ第２ラインＬ２用の電磁弁６ｂがノーマルクローズ型であることにより、停電時には腐食性流体がＭＦＣ５に供給されず、ＭＦＣ５内やＭＦＣ５付近に溜まることも無い。
【００２６】
一方、第１ラインＬ１の電磁弁６ａはノーマルオープン型であり、ＭＦＣ５もノーマルオープン型であるので、停電時には、第３ラインＬ３にパージガスが流れ続ける。これにより停電時は、ＭＦＣ５内やＭＦＣ５付近及び反応容器２内をパージガスでパージすることができる。これにより、ＭＦＣ５の前後の配管やＭＦＣ５のセンサの劣化も防止することができる。
【００２７】
また、空気式操作弁が全てノーマルクローズ型であることから、空気式操作弁の空気圧低下時などの異常時には、腐食性流体がＭＦＣ５に供給されず、ＭＦＣ５内やＭＦＣ５付近に溜まることも無い。また、腐食性流体が外に漏れ出ることも無い。
【００２８】
次に、除害装置が接続された例である、第２、第３の実施形態について説明する。
図２は、本発明のガラス合成用流体供給装置の第２の実施形態に係る概略構成を示すブロック図である。なお、図２の説明において図１と同一の要素には同一の符号を付し、重複する説明を省略する。
【００２９】
図２に示した、第２の実施形態のガラス合成用流体供給装置２０は、第１の実施形態のガラス合成用流体供給装置１０の構成に加えて、第３ラインＬ３（合流ラインの一例）におけるＭＦＣ５の下流側に、除害装置８が接続された第４ラインＬ４（除害装置側ラインの一例）が設けられている。除害装置８は、ガラスの合成に使用されなかった腐食性流体を処理するものである。
【００３０】
また、反応容器２への供給ラインは、第３ラインＬ３と、第１ラインＬ１とは別のパージガス供給ラインである第５ラインＬ５（反応容器側パージガス供給ラインの一例）とからなる。
そして、第５ラインＬ５には、ノーマルオープン型の電磁弁６ｃで操作されるノーマルクローズ型の空気式操作弁７ｃが設けられている。
【００３１】
また、第３ラインＬ３におけるＭＦＣ５の下流側には、反応容器２との間で第５ラインＬ５と合流する前に、ノーマルクローズ型の電磁弁６ｄで操作されるノーマルクローズ型の空気式操作弁７ｄが設けられている。
【００３２】
また、第４ラインＬ４には、ＭＦＣ５と除害装置８との間にノーマルオープン型の電磁弁６ｅで操作されるノーマルクローズ型の空気式操作弁７ｅが設けられている。
【００３３】
次に、ガラス合成用流体供給装置２０の動作について説明する。
ガラス合成時には、ガラス合成用流体供給装置２０は、電磁弁６ａを閉じることで空気式操作弁７ａを閉じ、電磁弁６ｂを開けることで空気式操作弁７ｂを開けるように制御される。これにより、第３ラインＬ３のＭＦＣ５の上流側には、第１ラインＬ１からパージガスが供給されず、第２ラインＬ２からガラス原料ガス等の腐食性流体が供給される。そして、ＭＦＣ５によって流量が適宜制御されて、ＭＦＣ５の下流側へ腐食性流体が供給される。
また、電磁弁６ｃを閉じることで空気式操作弁７ｃを閉じ、電磁弁６ｄを開けることで空気式操作弁７ｄを開け、電磁弁６ｅを閉じることで空気式操作弁７ｅを閉じるように制御する。これにより、第３ラインＬ３には第５ラインＬ５からパージガスは供給されず、ＭＦＣ５の下流側から除害装置８には腐食性流体は供給されず、反応容器２へ腐食性流体が供給される。
【００３４】
ガラス非合成時には、ガラス合成用流体供給装置２０は、電磁弁６ｂを閉じることで空気式操作弁７ｂを閉じ、電磁弁６ａを開けることで空気式操作弁７ａを開けるように制御される。これにより、第３ラインＬ３のＭＦＣ５の上流側には、第２ラインＬ２からガラス原料ガス等の腐食性流体が供給されず、第１ラインＬ１からパージガスが供給される。そして、ＭＦＣ５によって流量が適宜制御されて、ＭＦＣ５の下流側へパージガスが供給される。
また、電磁弁６ｃを開けることで空気式操作弁７ｃを開け、電磁弁６ｄを閉じることで空気式操作弁７ｄを閉じ、電磁弁６ｅを開けることで空気式操作弁７ｅを開けるように制御する。これにより、第５ラインＬ５から反応容器２へパージガスが供給され、ＭＦＣ５の下流側から第４ラインＬ４を通って除害装置８へパージガスが供給される。
また、ＭＦＣ５の内部及びＭＦＣ５の前後のラインに存在していた腐食性流体も、パージガスと共に第４ラインＬ４を通って除害装置８へ流れる。
【００３５】
停電等の異常時には、ガラス合成用流体供給装置２０は、電磁弁６ａはノーマルオープン型であるので自動的に弁が開き、これによって空気式操作弁７ａが開く。また、電磁弁６ｂはノーマルクローズ型であるので自動的に弁が閉じ、これによって空気式操作弁７ｂが閉じる。これにより、第３ラインＬ３のＭＦＣ５の上流側には、第１ラインＬ１からパージガスが供給されるが、第２ラインＬ２からはガラス原料ガス等の腐食性流体は供給されない。また、ＭＦＣ５はノーマルオープン型であるので自動的に弁が開き、下流側にパージガスが供給される。
また、電磁弁６ｃはノーマルオープン型であるので自動的に弁が開き、これによって空気式操作弁７ｃが開く。電磁弁６ｄはノーマルクローズ型であるので自動的に弁が閉じ、これにより空気式操作弁７ｄが閉じる。電磁弁６ｅはノーマルオープン型であるので自動的に弁が開き、これによって空気式操作弁７ｅが開く。これにより、第５ラインＬ５から反応容器２へパージガスが供給され、ＭＦＣ５の下流側から第４ラインＬ４を通って除害装置８へパージガスが供給される。
また、ＭＦＣ５の内部及びＭＦＣ５の前後のラインに腐食性流体が存在していた場合も、パージガスと共に第４ラインＬ４を通って除害装置８へ流れる。
【００３６】
図３は、本発明のガラス合成用流体供給装置の第３の実施形態に係る概略構成を示すブロック図である。なお、図３の説明において図１及び図２と同一の要素には同一の符号を付し、重複する説明を省略する。
【００３７】
図３に示した、第３の実施形態のガラス合成用流体供給装置３０は、第２の実施形態のガラス合成用流体供給装置２０の構成において、複数の反応容器と接続させた例であり、本実施形態では、２つの反応容器２ａ、２ｂが接続されている。反応容器２ａへの供給ラインは、第３ラインＬ３ａと第５ラインＬ５ａとからなり、反応容器２ｂへの供給ラインは、第３ラインＬ３ｂと第５ラインＬ５ｂとからなる。
【００３８】
また、第３ラインＬ３ａにおけるＭＦＣ５ａの下流側に、除害装置８ａが接続された第４ラインＬ４ａが設けられ、第３ラインＬ３ｂにおけるＭＦＣ５ｂの下流側に、除害装置８ｂが接続された第４ラインＬ４ｂが設けられている。
【００３９】
各第５ラインＬ５ａ、Ｌ５ｂには、それぞれノーマルオープン型の電磁弁６ｃａ、６ｃｂで操作されるノーマルクローズ型の空気式操作弁７ｃａ、７ｃｂが設けられている。
【００４０】
また、各第３ラインＬ３ａ、Ｌ３ｂにおけるＭＦＣ５ａ、ＭＦＣ５ｂの下流側には、それぞれ反応容器２ａ、２ｂとの間で各第５ラインＬ５と合流する前に、ノーマルクローズ型の電磁弁６ｄａ、６ｄｂで操作されるノーマルクローズ型の空気式操作弁７ｄａ、７ｄｂが設けられている。
【００４１】
また、各第４ラインＬ４ａ、Ｌ４ｂには、それぞれＭＦＣ５ａ、ＭＦＣ５ｂと除害装置８ａ、８ｂとの間にノーマルオープン型の電磁弁６ｅａ、６ｅｂで操作されるノーマルクローズ型の空気式操作弁７ｅａ、７ｅｂが設けられている。
【００４２】
ガラス合成用流体供給装置３０において、反応容器２ａ及び除害装置８ａ、或いは、反応容器２ｂ及び除害装置８ｂに対する動作はそれぞれ前述のガラス合成用流体供給装置２０の動作と同様である。
【００４３】
なお、上記第３の実施形態では、複数の反応容器として２つの反応容器２ａ、２ｂ及び除害装置８ａ、８ｂが接続されている例を述べたが、３つ以上の反応容器及び除害装置が接続された構成であってもよい。
【００４４】
以上に説明した第２の実施形態に係るガラス合成用流体供給装置２０および第３の実施形態に係るガラス合成用流体供給装置３０によれば、停電時に、第５ラインＬ５（Ｌ５ａ、Ｌ５ｂ）から反応容器２（２ａ、２ｂ）にパージガスが供給されることで、反応容器２（２ａ、２ｂ）からのガス等がＭＦＣ５（５ａ、５ｂ）に逆流することが防がれる。
【００４５】
また、停電時に、第３ラインＬ３（Ｌ３ａ、Ｌ３ｂ）におけるＭＦＣ５（５ａ、５ｂ）の下流側の空気式操作弁７ｄ（７ｄａ、７ｄｂ）は閉じられ、第４ラインＬ４（Ｌ４ａ、Ｌ４ｂ）の空気式操作弁７ｅａ、７ｅｂは開けられるので、第１ラインＬ１（Ｌ１ａ、Ｌ１ｂ）からパージガスが通り、第４ラインＬ４（Ｌ４ａ、Ｌ４ｂ）から除害装置８（８ａ、８ｂ）へと供給され、ＭＦＣ５（５ａ、５ｂ）内やＭＦＣ５（５ａ、５ｂ）付近の腐食性流体を除害装置８（８ａ、８ｂ）へ送ることができる。同時に、ＭＦＣ５（５ａ、５ｂ）内やＭＦＣ５（５ａ、５ｂ）付近をパージガスでパージすることができる。
【００４６】
また、空気式操作弁が全てノーマルクローズ型であることから、空気式操作弁の空気圧低下時などの異常時には、腐食性流体がＭＦＣ５（５ａ、５ｂ）に供給されず、ＭＦＣ５（５ａ、５ｂ）内やＭＦＣ５（５ａ、５ｂ）付近に溜まることも無い。また、腐食性流体が外に漏れ出ることも無い。
【００４７】
以上、各実施形態に基づいて本発明に係るガラス合成用流体供給装置について説明したが、上記各実施形態は本発明の理解を容易にするためのものであって、本発明を限定するものではない。本発明は、その趣旨を逸脱することなく変更・改良され得ると共に、本発明にはその等価物が含まれる事は勿論である。
【符号の説明】
【００４８】
１０，２０，３０：ガラス合成用流体供給装置、２，２ａ，２ｂ：反応容器、３：腐食性流体供給部、４：パージガス供給部、５，５ａ，５ｂ：ＭＦＣ（流量制御機構）、６ａ，６ｂ，６ｃ，６ｄ，６ｅ，６ａａ，６ｂａ，６ｃａ，６ｄａ，６ｅａ，６ａｂ，６ｂｂ，６ｃｂ，６ｄｂ，６ｅｂ：電磁弁、７ａ，７ｂ，７ｃ，７ｄ，７ｅ，７ａａ，７ｂａ，７ｃａ，７ｄａ，７ｅａ，７ａｂ，７ｂｂ，７ｃｂ，７ｄｂ，７ｅｂ：空気式操作弁、８，８ａ，８ｂ：除害装置、Ｌ１，Ｌ１ａ，Ｌ１ｂ：第１ライン（パージガス供給ライン）、Ｌ２，Ｌ２ａ，Ｌ２ｂ：第２ライン（腐食性流体供給ライン）、Ｌ３，Ｌ３ａ，Ｌ３ｂ：第３ライン（合流ライン）、Ｌ４，Ｌ４ａ，Ｌ４ｂ：第４ライン（除害装置側ライン）、Ｌ５，Ｌ５ａ，Ｌ５ｂ：第５ライン（反応容器側パージガス供給ライン）
【図１】
2014131946.tif 000003
【図２】
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【図３】
2014131946.tif 000005