(57)【要約】【課題】高開口率及び高透過率による高反射率化と大面積化の両立が可能な空間結像素子およびその製造方法を提供することにより、高反射率化及びその結果得られる高輝度な空中への結像を実現可能とする。【解決手段】本発明の空間結像素子は、透明レジストを使った露光プロセスで形成した透明パターンで光透過領域を構成し、隣接する透明パターンの間にメタル層を形成することにより、透明パターン側壁とメタル層の界面で鏡面領域を構成するものである。このメタル層は２層構造であって、２層のメタル層は１層目のメタルを電極とした電界メッキで形成することを特徴とする。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の導電体が形成された透明基板上に透明感光性樹脂を形成する工程と、
前記透明感光性樹脂を形成した前記透明基板面の逆の面からの紫外光照射及びその後の現像処理によって、前記第１の導電体の形成箇所以外の前記透明基板上に、前記透明感光性樹脂のパターニングによって構成された光透過領域を形成する工程と、
前記第１の導電体を陰極として電解メッキを行うことで、前記第１の導電体上及び前記光透過領域パターン間に第２の導電体を形成する工程と、を含む空間結像素子の製造方法。
【請求項２】
前記第１の導電体が紫外光に対する遮蔽性を有することを特徴とする請求項１に記載の空間結像素子の製造方法。
【請求項３】
前記第１の導電体が金属で構成されていることを特徴とする請求項１から２に記載の空間結像素子の製造方法。
【請求項４】
前記第１の導電体を構成する金属がニッケル、アルミ、クロムあるいはこれらの金属を主体とする合金であることを特徴とする請求項３に記載の空間結像素子の製造方法。
【請求項５】
前記第２の導電体が金属であることを特徴とする請求項１から４に記載の空間結像素子の製造方法。
【請求項６】
前記第２の導電体を構成する金属がニッケル、ニッケルパラジウム、ニッケルコバルトであることを特徴とする請求項５に記載の空間結像素子の製造方法。
【請求項７】
前記光透過領域及び前記第２の導電体の表面にカバー層が配置されており、
前記カバー層の表面は平坦な形状であることを特徴とする請求項１から６のいずれか１つに記載の空間結像素子の製造方法。
【請求項８】
前記カバー層は屈折率が前記光透過領域と同じである透明な樹脂で構成されていることを特徴とする請求項７に記載の空間結像素子の製造方法。
【請求項９】
請求項１から８に記載の製造方法で作成した空間結像素子。
【請求項１０】
請求項９に記載の空間結像素子と、
前記空間結像素子の下面側に配置されて被投影物として映像を表示する表示面を備えたディスプレイと、を有し、
前記映像が、前記空間結像素子の前記第１の導電体もしくは前記第２の導電体と前記光透過領域の界面で２回反射した後に、前記空間結像素子を対称面とする面対称位置に結像することによって、映像として表示されることを特徴とする表示装置。
【請求項１１】
ストライプ状パターンの第１の導電体が形成された透明基板上に透明感光性樹脂を形成する工程と、
前記透明感光性樹脂を形成した前記透明基板面の逆の面からの紫外光照射及びその後の現像処理によって、前記第１の導電体の形成箇所以外の前記透明基板上に、前記透明感光性樹脂のパターニングによって構成された光透過領域を形成する工程と、
前記第１の導電体を陰極として電解メッキを行うことで、前記第１の導電体上及び前記光透過領域パターン間に第２の導電体を形成することで第１の構造体を得る工程と、
前記第１の構造体と同じ工程を行うことにより、第２の構造体を得る工程と、
前記第１の構造体の前記第２の導電体及び前記光透過領域の上に透明接着層を形成する工程と、
前記第１の構造体と前記第２の構造体が互いに９０度回転した向きになるように、前記透明接着層の上に前記第２の構造体を配置する工程と、
前記透明接着層を硬化させる工程と、を含む空間結像素子の製造方法。
【請求項１２】
前記透明接着層は屈折率が前記光透過領域と同じである透明な樹脂で構成されていることを特徴とする請求項１１に記載の空間結像素子の製造方法。
【請求項１３】
請求項１１から１２に記載の製造方法で作成した空間結像素子。
【請求項１４】
請求項１３に記載の空間結像素子と、
前記空間結像素子の下面側に配置されて被投影物として映像を表示する表示面を備えたディスプレイと、を有し、
前記映像が、前記空間結像素子の前記第１の構造体の前記第１の導電体もしくは第２の導電体と前記光透過領域の界面で反射して、次に前記第２の構造体の前記第１の導電体もしくは第２の導電体と前記光透過領域の界面で反射した後に、前記空間結像素子を対称面とする面対称位置に結像することによって、映像として表示されることを特徴とする表示装置。
【請求項１５】
請求項１０または請求項１４に記載の表示装置を搭載した端末機。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、アレイ状に並んだ直交する２つの鏡面要素による光の反射を利用して、光源と面対称の位置に反射光を結像させることで、空中に画像を表示させる空間結像素子及びその製造方法に関する。さらには、本発明は、該空間結像素子の製造方法で製造された空間結像素子を用いた表示装置および端末機に関する。
【背景技術】
【０００２】
３Ｄ表示装置は、テレビ、携帯端末、携帯ゲーム機など、種々の情報処理端末の表示装置として用いられており、最近では、裸眼での３Ｄ表示が可能な液晶表示装置が実用化されている。
【０００３】
これら左右の視差を利用した３Ｄ表示装置では、長時間の視聴により眼が疲労するケースがあり、視聴者への負担がより少ない３Ｄ表示システムが要求されるようになってきている。
【０００４】
この要求に応えるものとして、図２に示すように、アレイ状に並んだ直交する２つの鏡面要素（２面コーナーリフレクタアレイ）による光の反射を利用して、光源４５と面対称の位置に反射光を結像させることで、空中に画像を表示させるシステムが特許文献１、２、３で提案されている。
【０００５】
左右の視差を利用した３Ｄ表示システムでは視認対象が虚像であるのに対して、２面コーナーリフレクタアレイによる３Ｄ表示画像は実像であることから、眼や脳に対する疲労感は少なくなる。
【０００６】
このシステムで用いられている空間結像素子には、所定の基盤に厚み方向に貫通させた複数の矩形の孔を形成し、各孔の内壁を直交する鏡面で形成することで構成しているものや、光透過性の基板上に形成した透明構造物の側壁面を鏡面で形成する構成のもの等が挙げられる。
【０００７】
反射光の輝度を上げて明るい像を得るためには高い反射率を実現する必要があり、高い反射率を実現するためには、基盤面内の貫通穴や透明構造物等の割合で決定される開口率を高くすることが効果的であり、そのためには隣接する貫通穴や透明構造物の距離をより短くする必要がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特許第４７３４６５２号公報
【特許文献２】国際公開第２００７／１１６６３９号パンフレット
【特許文献３】特開２００９−２２９９０５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
しかしながら図３に示すように、このシステムで用いられている空間結像素子５のうち、所定の基盤６に厚み方向に貫通させた複数の貫通孔７を形成し、各穴の内壁を直交する鏡面で形成するという構成のものについては、貫通孔７を形成するための加工精度および精度を確保した上で取り扱い可能な基板サイズの制約から、素子を構成する基盤６の大きさは小さなサイズに限定されてしまう。
【００１０】
また、貫通孔７の加工の微細化にも限界があることから、基盤６の面内の貫通孔７の割合で決定される開口率も低くなり、その結果反射率も低くなるという問題がある。
【００１１】
また、光透過性の基板上に形成した透明構造物の側壁面を鏡面で形成する構成のものについては、側壁面が透明な状態で高い反射率を確保するためには光の入射角が限定されるという課題がある。
【００１２】
また図５に示すように、スパッタ等で内壁面に金属膜を形成する場合には、スパッタによる成膜では開口部付近に厚い金属膜８が着いてしまうために、隣接する透明層２の距離が近くなると表面付近にしか膜が形成されずに非成膜領域９ができてしまうことや、図６に示すような、透明層の表面にも金属膜１０が成膜されてしまって透過率が低下するという問題が発生する。
【００１３】
そこで、本発明は、高開口率及び高透過率による高反射率化と大面積化の両立が可能な空間結像素子およびその製造方法を提供することにより、高反射率化及びその結果得られる高輝度な空中への結像を実現可能とすることを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
上記課題を解決するために、本発明の空間結像素子の製造方法は、第１の導電体が形成された前記透明基板上に透明感光性樹脂を形成する工程と、前記透明感光性樹脂を形成した前記透明基板面の逆の面からの紫外光照射及びその後の現像処理によって、前記第１の導電体の形成箇所以外の前記透明基板上に、前記透明感光性樹脂のパターニングによって構成された前記光透過領域を形成する工程と、前記第１の導電体を陰極として電解メッキを行うことで、前記第１の導電体上及び前記光透過領域パターン間に前記第２の導電体を形成する工程と、を含むことを特徴とする。
【００１５】
本発明の空間結像素子の製造方法は、前記第１の導電体が紫外光に対する遮蔽性を有することを特徴とする。
【００１６】
本発明の空間結像素子の製造方法は、前記第１の導電体が金属で構成されていることを特徴とし、また、この金属がニッケル、アルミ、クロムあるいはこれらの金属を主体とする合金であることを特徴とする。
【００１７】
また、本発明の空間結像素子の製造方法は、前記第２の導電体が金属であることを特徴とし、また、この金属がニッケルやニッケルパラジウムやニッケルコバルトであることを特徴とする。
【００１８】
さらに、本発明の空間結像素子の製造方法は、前記光透過領域及び前記第２の導電体の表面にカバー層が配置されており、前記カバー層の表面は平坦な形状であることを特徴とする。
【００１９】
また、前記空間結像素子における前記カバー層の屈折率は、前記光透過領域と同じである透明な樹脂で構成されていることを特徴とする。
【００２０】
他方、本発明の空間結像素子は、以上の製造方法により作成した空間結合素子であることを特徴とする。
【発明の効果】
【００２１】
本発明では、第１の導電体が形成された前記透明基板上に透明感光性樹脂を形成し、前記透明感光性樹脂を形成した前記透明基板面の逆の面からの紫外光照射及びその後の現像処理によって、前記透明基板の表面に配置された所定の平面パターン形状の第１の導電体と前記第１の導電体の非形成領域上に配置された光透過領域を形成することができる。
【００２２】
従来は機械加工のため高開口率なパターン形成をすることができなかったが、本発明のようにフォトリソグラフィ工程を用いることにより、微細なパターンが形成可能である。
【００２３】
さらに、前記第１の導電体を陰極として電解メッキを行い、前記第１の導電体上及び前記光透過領域パターン間に前記第２の導電体を形成することで、前記光透過領域と第１の導電体と前記第１の導電体の表面上に配置された第２の導電体が前記透明基板の表面にアレイ状に配置された構造を得ることができる。
【００２４】
以上のように、本発明によれば微細パターン内への緻密な膜形成が可能であるため、前記光透過領域と前記第２の導電体との界面は高反射率の鏡面となる。また、アスペクト比の高い透明感光性樹脂への緻密な金属層の形成が可能である。
【００２５】
このため、高反射率な空間結像素子が実現可能となる。また、以上の空間結像素子を使うことで、高輝度な空中への結像が実現可能となる。
【００２６】
以上のとおり、本発明によれば、パターンの微細化と光透過領域の高開口率化、高透過率化及び大面積化が同時に実現可能であり、高反射率化及びその結果得られる高輝度な空中への結像が実現可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００２７】
【図１】本発明の第１の実施形態の空間結像素子の構造の概略を示す断面図である。
【図２】本発明の技術分野における空間結像素子の動作原理を示す断面図であって、（ａ）は上面図、（ｂ）は側面図である。
【図３】本発明の技術分野における従来の空間結像素子の構造の概略を示す図である。
【図４】本発明の第１の実施形態の空間結像素子の内壁面への金属膜の形成の概略を示す図である。
【図５】本発明の第１の実施形態の空間結像素子の内壁面への金属膜の形成をスパッタで行う場合の問題点の概略を示す断面図である。
【図６】本発明の第１の実施形態の空間結像素子の内壁面への金属膜の形成をスパッタで行う場合の他の問題点の概略を示す断面図である。
【図７】本発明の第１の実施形態の空間結像素子の製造工程の概略を示す製造工程図である。
【図８】本発明の第２の実施形態の空間結像素子の構造の概略を示す断面図である。
【図９】本発明の第２の実施形態の空間結像素子の効果の概略を示す断面図である。
【図１０】本発明の第３の実施形態の空間結像素子の構造の概略を示す断面図であって、（ａ）は上面図、（ｂ）は側面図である。
【図１１】本発明の第４の実施形態の空間結像素子の構造の概略を示す断面図である。
【図１２】本発明の第５の実施形態の空間結像素子の製造工程の概略を示す製造工程図である。
【図１３】本発明の第５の実施形態の空間結像素子の動作原理を示す断面図であって、（ａ）は上面図、（ｂ）は側面図である。
【図１４】空間結像素子の構造による動作原理の違いを示す上面図である。
【図１５】本発明の第５の実施形態の端末機の構造の概略を示す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２８】
次に、本発明の実施の形態について図面を参照して詳細に説明する。
【００２９】
（第１の実施形態）
図１は、本発明の一実施形態における空間結像素子の厚み方向の断面図を示したものである。
【００３０】
本実施形態の空間結像素子は透明基板１を有している。透明基板１はガラス製、もしくはＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）やＰＣ（ポリカーボネイト）等の樹脂製である。
【００３１】
透明基板１上の同一平面内には、マトリクス状に配置された透明層２と、この各透明層２を区画するパターン状の金属層２０を有する。前記金属層２０部分は、第１金属層３と第２金属層４の二層により構成されている。
【００３２】
透明層２は、その形状としては、高さ（厚さ）は１０〔μｍ〕〜１００〔μｍ〕の範囲のものが妥当であり、本第１の実施形態では４０〔μｍ〕となっている。この透明層２の幅は、透明基板１の表面で１０〔μｍ〕〜１００〔μｍ〕の範囲が妥当であり、本第１実施形態では４０〔μｍ〕に設定されている。
【００３３】
また、金属層２０の幅は、透明基板１の表面で１〔μｍ〕〜３０〔μｍ〕の範囲が妥当であり、本第１実施形態では１０〔μｍ〕に設定されている。
【００３４】
後述するように、第１金属層３は、透明層２を形成するためのフォトマスクとしての機能と第２金属層４を電解メッキで形成する際の電極としての機能を兼ねる。そのため、露光光である紫外光に対する遮蔽性と電解メッキ用の電極として機能するための導電性が必要である。また、第２金属層４の密着強度を確保するためには、電解メッキ用の電極は金属で構成することが好ましい。
【００３５】
導電性を有する材料としては導電性樹脂等も該当するが、第２金属層４との十分な密着強度の確保や透明パターン側壁との界面で高い反射率の鏡面を構成するためには、導電性の金属で構成する必要がある。
【００３６】
ここで、図１に示す例では、透明層２と金属層２０が図１に示すように配置されている。平面配置としては、この透明層２と金属層２０は、図４に示すような格子状の平面パターンを構成するように配置されている。
【００３７】
以上の構成からなる空間結像素子について、図７に、本実施形態による空間結像素子の製造工程を示す。
【００３８】
まず、透明基板１の表面に第１金属層３のパターンを形成する（図７（１）参照）。透明基板１は、ガラスやＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）もしくはＰＣ（ポリカーボネイト）からなる。
【００３９】
また、第１金属層３は、遮光性と導電性を兼ね備えた金属であるクロムやアルミやニッケルあるいはこれらの金属を主体とする合金等からなる。また、第１金属層３の幅は透明基板１の表面で１〔μｍ〕〜３０〔μｍ〕の範囲が妥当であり、本実施の形態では１０〔μｍ〕に設定されている。
【００４０】
第２金属層４の膜厚は、０．１〔μｍ〕〜０．４〔μｍ〕の範囲が妥当であり、本実施の形態では０．２〔μｍ〕に設定されている。次に、透明基板１の表面に透明感光性樹脂２５を形成する（図７（２）参照）。透明感光性樹脂２５としては、化薬マイクロケム社の化学増幅型フォトレジスト（商品名：ＳＵ−８）を用いる。
【００４１】
この透明感光性樹脂２５は、紫外線を照射することで光開始剤が酸を発生し、このプロトン酸を触媒として硬化性モノマーを重合させるエポキシ系（具体的にはビスフェノールＡノボラックのグリシジルエーテル誘導体）のネガレジストである。また、この透明感光性樹脂２５は、可視光領域において非常に透明性の高い特性を有している。
【００４２】
この透明感光性樹脂層２５に含まれる硬化性モノマーは、硬化前の分子量が比較的小さいため、シクロペンタノン、ＰＥＧＭＥＡ（プロピレングリコールメチルエーテルアセテート）、ＧＢＬ（ガンマブチルラクトン）やＭＩＢＫ（イソブチルケトン）等の溶媒に非常に良く溶けることから厚膜形成が容易である。
【００４３】
さらに、この透明感光性樹脂２５は、近紫外領域の波長においても光透過性が非常に良いので、厚膜であっても紫外線を透過させる特徴を有している。
【００４４】
透明感光性樹脂２５の形成方法としては、例えば、スリットダイコータ、ワイヤコータ、アプリケータ、ドライフィルム転写、スプレイ塗布などの成膜方法を用いることができる。
【００４５】
また、この透明感光性樹脂２５は、このような特徴を有することから、アスペクト比が３以上の高アスペクト比のパターンも形成可能である。さらに、硬化性モノマーには官能基が多く存在していることから、この透明感光性樹脂２５は、硬化後、非常に高密度な架橋となり、熱的にも化学的にも非常に安定である特徴を有する。このため、この透明感光性樹脂２５は、パターン形成後の加工も容易となる。
【００４６】
もちろん、本発明において用いられる透明感光性樹脂２５は、ここで述べた透明感光性樹脂（商品名：ＳＵ−８）に限られるわけではなく、同様の特性を有するものであれば、どのような光硬化性材料を用いても構わない。
【００４７】
次に第１金属層３のパターンを露光用マスクとして用いて、透明感光性樹脂２５に対して透明基板１の前記樹脂と形成した面とは逆の面である裏面側から背面露光を行う（図７（３）参照）。
【００４８】
光源としてはＵＶ光源を用いており、波長３６５ｎｍのＵＶ光を露光光３０として照射する。この際の露光量は５０ｍＪ／ｃｍ２〜５００ｍＪ／ｃｍ２の範囲内であり、本実施の形態では３００ｍＪ／ｃｍ２とした。露光、現像すると透明層２が形成される（図７（４）参照）。
【００４９】
透明層２は、その形状としては、高さ（厚さ）は１０〔μｍ〕〜１００〔μｍ〕の範囲のものが妥当であり、本第１実施形態では４０〔μｍ  〕に設定している。この透明層２の幅は１０〔μｍ〕〜１００〔μｍ〕の範囲が妥当であり、本第１実施形態では４０〔μｍ〕に設定している。
【００５０】
次に、アノードＡである陽極に対して第１金属層３を陰極として電解メッキを行うことで、第１金属層３の上に第２金属層４を形成する。第２金属層４はニッケル（Ｎｉ）やニッケルパラジウム（ＮｉＰｄ）やニッケルコバルト（ＮｉＣｏ）等からなり、本実施の形態ではニッケルで構成する（図７（５）参照）。以上で本実施形態における空間結像素子を得る（図７（６）参照）。
【００５１】
（第２の実施形態）
図８に本発明の第２の実施形態における空間結像素子の断面図を示す。なお、簡単のため、基板等の符号に関しては第１の実施形態と同じ符号を用いて説明する。
【００５２】
第１の実施の形態と同じ内容で透明基板１上に形成した透明層２および第２金属層４の上にカバー層１５が配置されている。カバー層の膜厚は５〜３０μｍとし、本実施の形態では１０μｍとする。また、カバー層１５は表面での光の散乱を防止するために、表面粗さは２μｍ以内とし本実施の形態では１μｍとする。
【００５３】
カバー層１５としては、透明層２と同じ化薬マイクロケム社の透明感光性樹脂（商品名：ＳＵ−８）を用いる。透明感光性樹脂（商品名：ＳＵ−８）の屈折率は１．５８であり、透明層２とカバー層１５の屈折率が同じ値となる。透明層２とカバー層１５を同じ材料で構成すれば、両者の界面で光は反射しないため、透過率の低下が防止される。もちろん、本発明において用いられるカバー層１５は、ここで述べた透明感光性樹脂（商品名：ＳＵ−８）に限られるわけではなく、同様の光学特性（屈折率や透過率等）を有するものであれば、どのような材料を用いても構わない。また、樹脂の硬化手段についても光硬化以外に熱硬化でも構わない。
【００５４】
カバー層１５の形成方法としては、例えば、スリットダイコータ、ワイヤコータ、アプリケータ、ドライフィルム転写、スプレイ塗布などの成膜方法を用いることができる。
【００５５】
図９に示すように、透明層２の表面に凹凸が存在する場合は、反射光４０の散乱光３５が発生し空間結像の乱れを引き起こす。これに対して本実施形態のカバー層１５を形成すると、透明層２の表面での凹凸が覆い隠されて無くなるために反射光４０は散乱することなく出射されるので、鮮明な空間結像が得られる。
【００５６】
（第３の実施形態）
図１０に本発明の第３の本実施形態における表示装置５８の構成を示す。第１の実施の形態及び第２の実施の形態に記載の空間結像素子５の下側に、被投影物として映像を表示する表示面を備えた光源４５が配置されている。
【００５７】
この光源４５からの投影映像を空間結像素子５の２つの光反射面のそれぞれで１回ずつの計２回反射させることで、空間結像素子５を対称面とする面対称位置に結像した映像５５を得ることができる。
【００５８】
（第４の実施形態）
図１１に本発明の第４の本実施形態における端末機６５の構成を示す。筐体６０の内部に、第１の実施の形態及び第２の実施の形態に記載の空間結像素子５および、被投影物として映像を表示する表示面を備えたディスプレイ５０が配置されている。
【００５９】
このディスプレイ５０からの投影映像を空間結像素子５の光反射面で反射させることで結像した映像５５が筐体６０の外部で得られている。観察者７０の位置からは、筐体６０の外側に結像した映像５５が見える。
【００６０】
（第５の実施形態）
図１２と図１３に本発明の第５の実施形態における空間結像素子の製造工程を示す。なお、簡単のため、基板等の符号に関しては第１の実施形態と同じ符号を用いて説明する。
【００６１】
第１の実施の形態と同じ内容で透明基板１上に形成した透明層２および第１金属層３が配置されている（図１２（１）参照）。次に第１の実施の形態と同様に第１金属層３の上に第２金属層４を形成することで金属層２０が配置された第１の構造体１６が構成されている（図１２（２）参照）。透明層２と金属層２０の平面配置としては、図１２（２）に示すようなストライプ状の平面パターンを構成するように配置されている。次に第１の構造体１６の透明層２と第２金属層４の上に透明接着層１７を配置する（図１２（３）参照）。透明接着層１７の膜厚は５〜２０μｍとし、本実施の形態では１０μｍとする。
【００６２】
透明接着層１７としては、透明層２と同じ化薬マイクロケム社の透明感光性樹脂（商品名：ＳＵ−８）を用いる。透明感光性樹脂（商品名：ＳＵ−８）の屈折率は１．５８であり、透明層２と透明接着層１７の屈折率が同じ値となる。透明層２と透明接着層１７を同じ材料で構成すれば、両者の界面で光は反射しない為、透過率が保持される。もちろん、本発明において用いられる透明接着層１７は、ここで述べた透明感光性樹脂（商品名：ＳＵ−８）に限られるわけではなく、同様の屈折率を有するものであれば、どのような材料を用いても構わない。また図１２（４）で実施する樹脂の硬化においても、硬化手段は光硬化以外に熱硬化でも構わない。
【００６３】
透明接着層１７の形成方法としては、例えば、スリットダイコータ、ワイヤコータ、アプリケータ、ドライフィルム転写、スプレイ塗布などの成膜方法を用いることができる。
【００６４】
次に、第１の構造体１６と同じ構成である第２の構造体１８を製造して、第１の構造体１６と第２の構造体１８が互いに９０度回転した向きになるように、透明接着層１７の上に別の構造体１８を配置する（図１２（４）参照）。次に透明接着層１７を硬化させることで、空間結像素子９０が得られる（図１２（５）参照）。
【００６５】
図１３に本発明の第５の実施形態における表示装置５８の構成を示す。空間結像素子９０の下側に、被投影物として映像を表示する光源４５が配置されている。この光源４５からの投影映像を空間結像素子９０の１層目と２層目の２つの光反射面のそれぞれで１回ずつの計２回反射させることで、空間結像素子９０を対称面とする面対称位置に結像した映像５５を得ることができる。
【００６６】
図１４（ａ）に示すように、光反射面が格子パターン状である空間結像素子では、入射光１１が入射した位置によって反射光ａ４２と反射光ｂ４３の２つの反射光に分かれる可能性がある。これに対して、図１４（ｂ）に示すように、２層のストライプ状の光反射面が互いに９０度回転した構造である空間結像素子では、入射光１１が入射した位置に依存せず１つであることから、より鮮明な空間結像が得られる。
【００６７】
図１５に本発明の第５の本実施形態における端末機６５の構成を示す。筐体６０の内部に、第５の実施の形態に記載の空間結像素子９０および、被投影物として映像を表示する表示面を備えたディスプレイ５０が配置されている。
【００６８】
このディスプレイ５０からの投影映像を空間結像素子９０の光反射面で反射させることで結像した映像５５が筐体６０の外部で得られている。観察者７０の位置からは、筐体６０の外側に結像した映像５５が見える。
【符号の説明】
【００６９】
１    透明基板
２    透明層
３    第１金属層
４    第２金属層
５、９０    空間結像素子
６    基盤
７    貫通孔
８    金属膜
９    非成膜領域
１０  透明層表面の金属膜
１１  入射光
１２  透明層表面の金属膜による反射光
１３  透明層の表面に形成した金属膜の通過光
１４  メッキ用電解液
１５  カバー膜
１６  第１の構造体
１７  透明接着層
１８  第２の構造体
２０  金属層
２５  透明感光性樹脂
３０  露光光
３５  透明層表面での散乱光
４０  反射光
４２  反射光ａ
４３  反射光ｂ
４５  光源
５０  ディスプレイ
５５  結像した映像
５８  表示装置
６０  筐体
６５  端末機
７０  観察者
Ａ    アノード
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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