(57)【要約】【課題】拡散光の割合が少なく、鏡面性に優れたフィルムミラーを有する反射体およびその製造方法の提供。【解決手段】基材と、接着剤層と、フィルムミラーとをこの順に有する反射体を製造する製造方法であって、  基材の一方の表面に、接着剤を設け、接着剤層を形成する接着剤層形成工程と、  接着剤層の基材と反対側の表面の十点平均粗さＲｚを低減する表面平滑化工程と、  接着剤層を冷却し、接着剤の粘着力を低減させる冷却工程と、  接着剤層の基材と反対側の表面に、フィルムミラーを重ね合わせ後に加熱・加圧処理を施し、フィルムミラーを有する反射体を作製するフィルミラー形成工程とをこの順に有する反射体の製造方法。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材と、接着剤層と、フィルムミラーとをこの順に有する反射体を製造する製造方法であって、
基材の一方の表面に、接着剤を設け、接着剤層を形成する接着剤層形成工程と、
前記接着剤層の前記基材と反対側の表面の十点平均粗さＲｚを低減する表面平滑化工程と、
前記接着剤層を冷却し、前記接着剤の粘着力を低減させる冷却工程と、
前記接着剤層の前記基材と反対側の表面に、前記フィルムミラーを重ね合わせ後に加熱・加圧処理を施し、フィルムミラーを有する反射体を作製するフィルミラー形成工程とをこの順に有する反射体の製造方法。
【請求項２】
前記接着剤が、ホットメルト型接着剤であり、
前記表面平滑化工程が、前記接着剤層の前記基材と反対側の表面に、加熱・加圧処理を施す工程である、請求項１に記載の反射体の製造方法。
【請求項３】
前記表面平滑化工程における加熱・加圧処理が、下記式（１）に示す温度（Ｔ）条件および下記式（２）に示す圧力（Ｐ）条件を満たす、請求項２に記載の反射体の製造方法。
Ｔｍ≦Ｔ≦Ｔｍ＋４０℃  ・・・（１）
０．０５ＭＰａ≦Ｐ≦１０ＭＰａ  ・・・（２）
（式（１）、Ｔｍは、ホットメルト型接着剤の融点（℃）を表す。）
【請求項４】
前記表面平滑化工程において、前記接着剤層の前記基材と反対側の表面に剥離フィルムを設けた後に、前記加熱・加圧処理を施し、
前記冷却工程において、前記接着剤層を冷却した後に前記剥離フィルムを剥離する、請求項２または３に記載の反射体の製造方法。
【請求項５】
基材と、接着剤層と、フィルムミラーとをこの順に有する反射体であって、
前記接着剤層と前記フィルムミラーとの界面の十点平均粗さＲｚが、０．１５μｍ以下である反射体。
【請求項６】
前記接着剤層が、ホットメルト型接着剤で構成される、請求項５に記載の反射体。
【請求項７】
前記基材と前記接着剤層との界面の十点平均粗さＲｚが、０．５０μｍ以上１０μｍ以下である請求項５または６に記載の反射体。
【請求項８】
前記接着剤層の膜厚が、５〜１００μｍである請求項５〜７のいずれか１項に記載の反射体。
【請求項９】
前記接着剤層の膜厚と、前記基材と前記接着剤層との界面の十点平均粗さＲｚとの比率（膜厚／Ｒｚ）が、１０以上である請求項５〜８のいずれか１項に記載の反射体。
【請求項１０】
前記基材が、金属材料、樹脂材料、セラミック材料およびガラス材料からなる群から選択される少なくとも一種の材料で構成される請求項５〜９のいずれか１項に記載の反射体。
【請求項１１】
前記ホットメルト型接着剤が、ポリエステル系、オレフィン系、エチレン−酢酸ビニール共重合体系、ウレタン系、クロロプレンゴム系、および、スチレンブタジエンゴム系からなる群から選択される少なくとも１種のホットメルト型接着剤である請求項６〜１０のいずれか１項に記載の反射体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、フィルムミラーを有する反射体およびその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
太陽光の反射装置には、太陽光による紫外線や熱、風雨、砂塵等に晒されるため、従来、ガラス製ミラーが用いられてきた。
しかしながら、ガラス製ミラーを用いる場合、輸送時に破損する問題や、ミラーを設置する架台に高い強度が要求されるため建設費がかさむといった問題があった。
このような問題を解決するために、近年では、ガラス製ミラーを樹脂製反射シート（フィルムミラー）に置き換えることが提案されている。
【０００３】
例えば、特許文献１には、「樹脂基材上に、構成層として少なくとも、接着層、銀反射層及び保護層がこの順に設けられたフィルムミラーであって、前記樹脂基材、銀反射層及び保護層の光入射側の表面粗さＲａが０．００５〜０．０４μｍであることを特徴とするフィルムミラー。」が記載されており（［請求項１］）、また、このフィルムミラーを用いた太陽熱発電用反射装置として、樹脂基材を挟んで銀反射層を有する側と反対側の樹脂基材面に塗設された粘着層を介して、他基材上に、特に金属基材上に、当該フィルムミラーを貼り付けて形成した態様が記載されており（［請求項４］［０１４２］）、更に、この粘着層として、粘着剤、ホットメルト剤等が記載されている（［０１４４］）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】国際公開第２０１２／０５７００４号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明者らは、特許文献１に記載された太陽熱発電用反射装置について検討したところ、粘着層として粘着剤やホットメルト剤を使用した場合であっても、その使用条件や、他基材（特に金属基材）表面の十点平均粗さＲｚ（例えば、０．５０μｍ以上）によっては、フィルムミラーを有する太陽熱発電用反射装置（すなわち反射体）の鏡面性が低下し、拡散光の割合が高くなることが明らかとなった。
【０００６】
そこで、本発明は、拡散光の割合が少なく、鏡面性に優れたフィルムミラーを有する反射体およびその製造方法を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明者は、上記課題を達成すべく鋭意研究した結果、接着剤を用いて形成される接着剤層の十点平均粗さＲｚを特定の値以下とすることにより、拡散光の割合が少なく、鏡面性に優れたフィルムミラーを有する反射体を作製できることを見出し、本発明を完成させた。
すなわち、本発明は、以下の（１）〜（１１）を提供する。
【０００８】
（１）  基材と、接着剤層と、フィルムミラーとをこの順に有する反射体を製造する製造方法であって、
基材の一方の表面に、接着剤を設け、接着剤層を形成する接着剤層形成工程と、
接着剤層の基材と反対側の表面の十点平均粗さＲｚを低減する表面平滑化工程と、
接着剤層を冷却し、接着剤の粘着力を低減させる冷却工程と、
接着剤層の基材と反対側の表面に、フィルムミラーを重ね合わせ後に加熱・加圧処理を施し、フィルムミラーを有する反射体を作製するフィルミラー形成工程とをこの順に有する反射体の製造方法。
（２）  接着剤が、ホットメルト型接着剤であり、
表面平滑化工程が、接着剤層の基材と反対側の表面に、加熱・加圧処理を施す工程である、（１）に記載の反射体の製造方法。
（３）  表面平滑化工程における加熱・加圧処理が、下記式（１）に示す温度（Ｔ）条件および下記式（２）に示す圧力（Ｐ）条件を満たす、（２）に記載の反射体の製造方法。
Ｔｍ≦Ｔ≦Ｔｍ＋４０℃  ・・・（１）
０．０５ＭＰａ≦Ｐ≦１０ＭＰａ  ・・・（２）
（式（１）、Ｔｍは、ホットメルト型接着剤の融点（℃）を表す。）
（４）  表面平滑化工程において、接着剤層の基材と反対側の表面に剥離フィルムを設けた後に、加熱・加圧処理を施し、
冷却工程において、接着剤層を冷却した後に剥離フィルムを剥離する、（２）または（３）に記載の反射体の製造方法。
【０００９】
（５）  基材と、接着剤層と、フィルムミラーとをこの順に有する反射体であって、
接着剤層とフィルムミラーとの界面の十点平均粗さＲｚが、０．１５μｍ以下である反射体。
（６）  接着剤層が、ホットメルト型接着剤で構成される、（５）に記載の反射体。
（７）  基材と接着剤層との界面の十点平均粗さＲｚが、０．５０μｍ以上１０μｍ以下である（５）または（６）に記載の反射体。
（８）  接着剤層の膜厚が、５〜１００μｍである（５）〜（７）のいずれかに記載の反射体。
（９）  接着剤層の膜厚と、基材と接着剤層との界面の十点平均粗さＲｚとの比率（膜厚／Ｒｚ）が、１０以上である（５）〜（８）のいずれかに記載の反射体。
（１０）  基材が、金属材料、樹脂材料、セラミック材料およびガラス材料からなる群から選択される少なくとも一種の材料で構成される（５）〜（９）のいずれかに記載の反射体。
（１１）  ホットメルト接着剤が、ポリエステル系、オレフィン系、エチレン−酢酸ビニール共重合体系、ウレタン系、クロロプレンゴム系、および、スチレンブタジエンゴム系からなる群から選択される少なくとも１種のホットメルト型接着剤である（６）〜（１０）のいずれかに記載の反射体。
【発明の効果】
【００１０】
以下に説明するように、本発明によれば、拡散光の割合が少なく、鏡面性に優れたフィルムミラーを有する反射体およびその製造方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】図１は、本発明の反射体の実施態様の一例を示す模式的な断面図である。
【図２】図２（Ａ）〜（Ｈ）は、本発明の反射体が有するフィルムミラーの実施態様の例を示す模式的な断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
〔反射体〕
本発明の反射体は、基材と、接着剤層と、フィルムミラーとをこの順に有する反射体である。
本発明の反射体の特徴は、接着剤層とフィルムミラーとの界面の十点平均粗さＲｚが０．１５μｍ以下となる点である。
ここで、十点平均粗さＲｚは、ＪＩＳ Ｂ０６０１：１９９４で規定する「十点平均粗さ」をいい、以下、本明細書においては、単に「平均粗さＲｚ」や「Ｒｚ」ともいう。なお、反射体からの分析は、反射体を小型切断機等で割断した割断面から算出する（見積もる）ことができる。具体的には、割断した割断面を研磨し、イオンミリングを施した後に電子顕微鏡で撮影し、汎用ソフト（例えば、ＷｉｎＲＯＯＦ、ＭＡＴＬＡＢ等）による画像処理を施して接着剤層とフィルムミラーとの界面（線分）を抽出し、抽出した線分から十点平均粗さを算出することができる。
【００１３】
このような特徴を有する本発明の反射体は、拡散光の割合が少なく、鏡面性に優れたフィルムミラーを有する反射体となる。本発明者は、この理由を以下のように推測している。
すなわち、従来公知の反射体（例えば、特許文献１の太陽熱発電用反射装置など）に用いられる一般的な基材（特に金属基材）の表面の平均粗さＲｚは０．５μｍ以上であることから、基材上に粘着剤や接着剤を介して設けられるフィルムミラーには、基材表面の粗さ（例えば、凹凸など）に起因した僅かな歪みが生じており、その結果、拡散光の割合が増加していることが明らかとなった。
これに対し、本発明においては、接着剤を用いて接着剤層を構成し、例えば、後述する本発明の反射体の製造方法で示す通り、表面平滑化工程（加熱・加圧処理）等を施すことにより、基材表面の粗さを低減（例えば、基材表面の凹凸のレベリング）することができたため、拡散光の割合が少なく、鏡面性に優れたフィルムミラーが形成できたと考えられる。
これは、後述する比較例３において、接着剤層の表面の平均粗さＲｚが０．１６０μｍである場合には、基材表面の平均粗さＲｚが実施例と同じ値であっても、拡散光の割合が高くなっていることからも推察することができる。
【００１４】
次に、本発明の反射体の概要について図１を用いて説明したのちに、各構成について、材料、寸法等を説明する。
【００１５】
図１に示すように、本発明の反射体２０は、基材２１と、接着剤層２２と、フィルムミラー２３とをこの順に有する。
また、本発明の反射体２０は、接着剤層２２とフィルムミラー２３との界面２２ａにおける接着剤層の平均粗さＲｚが０．１５μｍ以下となる。
【００１６】
＜基材＞
本発明の反射体が有する基材は特に限定されないが、本発明による拡散光の低減効果が大きくなり、接着剤層との密着性、特に長期保存での密着性が良好となる理由から、その表面、すなわち、反射体における接着剤層との界面（図１においては符号２１ａ）の平均粗さＲｚが、０．５０μｍ以上１０μｍ以下となる基材を用いるのが好ましく、０．８μｍ以上３μｍ以下となる基材を用いることがより好ましい。
【００１７】
このような基材としては、具体的には、例えば、金属材料、樹脂材料、セラミック材料およびガラス材料からなる群から選択される少なくとも一種の材料で構成される基材が挙げられる。
これらのうち、剛性が高く、割れにくい（衝撃に強い）という理由から、以下に示す金属材料から構成される金属基材であるのが好ましい。
ここで、上記金属材料としては、具体的には、例えば、鋼板、銅板、アルミニウム板、アルミニウムめっき鋼板、アルミニウム系合金めっき鋼板、銅めっき鋼板、錫めっき鋼板、クロムめっき鋼板、ステンレス鋼板等が挙げられる。
【００１８】
＜接着剤層＞
本発明の反射体が有する接着剤層の構成材料としての接着剤は特に限定されず、例えば、ホットメルト型接着剤；スチレンブタジエンゴム（ＳＢＲ）、クロロプレンゴム、二トリルゴムなどのゴム系接着剤；ポリウレタン樹脂、シリコーン樹脂などの樹脂系の接着剤；等を用いることができる。
これらのうち、接着剤層は、反射体における接着剤層との界面（図１においては符号２１ａ）の平均粗さＲｚを調整しやすい理由から、ホットメルト型接着剤で構成されるのが好ましい。
ここで、「ホットメルト型接着剤」とは、常温で固体であり、使用時に加熱溶融して被着体に塗布し、冷却することにより、被着物を接着することができ、再度、加熱溶融することで被着体を剥離することができる接着剤をいう。
【００１９】
このようなホットメルト型接着剤としては、例えば、ポリエステル系、オレフィン系、エチレン−酢酸ビニール共重合体（以下、「ＥＶＡ」（ethylene vinyl acetate）とも略す。）系、ウレタン系、クロロプレンゴム系、スチレンブタジエンゴム系等のホットメルト型接着剤が挙げられ、これらを１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
これらのうち、フィルムミラーや基材（特に金属基材）との接着性に優れる理由から、ポリエステル系、オレフィン系、ＥＶＡ系、ウレタン系のホットメルト型接着剤を用いるのが好ましい。
【００２０】
本発明においては、上述した通り、接着剤層の表面、すなわち、反射体における接着剤層とフィルムミラーとの界面（図１においては符号２２ａ）の平均粗さＲｚは０．１５μｍ以下であり、フィルムミラーの拡散光の割合がより少なくなり、フィルムミラーの鏡面性がより良好となる理由から、０．００１〜０．１０μｍであるのが好ましく、０．００２〜０．０８μｍであるのがより好ましい。
【００２１】
また、本発明においては、基材表面の粗さを十分に低減し、フィルムミラーの拡散光の割合がより少なくなり、フィルムミラーの鏡面性がより良好となる理由から、接着剤層の膜厚と、基材と接着剤層との界面の十点平均粗さＲｚとの比率（膜厚／Ｒｚ）が、１０以上であるのが好ましく、１０〜５０であるのがより好ましく、１５〜３０であるのが更に好ましい。
【００２２】
更に、本発明においては、接着剤層の膜厚は、基材表面の粗さを十分に低減し、フィルムミラーの拡散光の割合がより少なくなり、フィルムミラーの鏡面性がより良好となる理由から、５〜１００μｍであるのが好ましく、１０〜５０μｍであるのがより好ましく、１５〜３０μｍであるのが更に好ましい。
【００２３】
＜フィルムミラー＞
本発明の反射体が有するフィルムミラーは、樹脂基材と金属反射層とを有するものであれば特に限定されず、従来公知のフィルムミラーを用いることができる。
フィルムミラーとしては、具体的には、例えば、図２に示すように、樹脂基材２と金属反射層３と表面被覆層４とを有する態様（図２（Ａ）〜（Ｄ）参照）や、第１の樹脂基材１１と金属反射層１２と第２の樹脂基材１３と表面被覆層１４とを有する態様（図２（Ｅ）〜（Ｈ）参照）等が挙げられる。
本発明においては、フィルムミラーを構成する樹脂基材等の各部材については特に限定されず、従来公知の材料を用いることができる。なかでも、樹脂基材については、上述した接着剤層との接着が良好となる理由から、ポリエステル系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、アクリル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリカーボネート樹脂を用いるのが好ましい。
【００２４】
〔反射体の製造方法〕
本発明の反射体の製造方法（以下、「本発明の製造方法」とも略す。）は、基材と、接着剤層と、フィルムミラーとをこの順に有する反射体を製造する製造方法であり、以下に示す、接着剤層形成工程、表面平滑化工程、冷却工程、および、フィルミラー形成工程をこの順に有する製造方法である。
なお、本発明の製造方法で用いる基材、接着剤層およびフィルムミラーは、以下に明記しない限り、上述した本発明の反射体が有する基材、接着剤層およびフィルムミラーと同様である。
【００２５】
＜接着剤層形成工程＞
本発明の製造方法は、基材の一方の表面に、接着剤層を形成する接着剤層形成工程を有する。
ここで、基材の一方の表面（図１においては符号２１ａ）に、接着剤を設ける方法は特に限定されず、例えば、ペースト状の接着剤を塗布（塗工）する方法、融点以上の温度で溶融させたホットメルト型接着剤を塗布する方法、フィルム状のホットメルト型接着剤を貼り合わせる方法等が挙げられる。
また、溶融させたホットメルト型接着剤を塗布する方法は特に限定されず、例えば、スロットコートガンを用いて面状に接触塗布する方法、スプレーガンを用いて霧状に非接触塗布する方法等が挙げられる。
【００２６】
＜表面平滑化工程＞
本発明の製造方法は、上述した接着剤層形成工程の後に、接着剤層の基材と反対側の表面の十点平均粗さＲｚを低減する表面平滑化工程を有する。
ここで、表面平滑化工程は、接着剤層の基材と反対側の表面（図１においては符号２２ａ）の平均粗さＲｚを基材の一方の表面（図１においては符号２１ａ）の平均粗さＲｚよりも小さくすることを目的としている。
【００２７】
このような表面処理工程としては、例えば、接着剤層にホットメルト型接着剤を用いる場合、加熱・加圧処理を施す処理工程であるのが好ましい。
ここで、上記加熱・加圧処理は、ホットメルト型接着剤の軟化点以上の温度で加熱し、かつ、ホットメルト型接着剤のヤング率以上の圧力で加圧する処理であれば特に限定されないが、ホットメルト型接着剤を適量だけ変形および流動させ、接着剤層の基材と反対側の表面を所望の平均粗さＲｚ以下に容易に調整できる理由から、下記式（１）に示す温度（Ｔ）条件および下記式（２）に示す圧力（Ｐ）条件を満たす処理であるのが好ましい。
Ｔｍ≦Ｔ≦Ｔｍ＋４０℃  ・・・（１）
０．０５ＭＰａ≦Ｐ≦１０ＭＰａ  ・・・（２）
（式（１）、Ｔｍは、ホットメルト型接着剤の融点（℃）を表す。）
【００２８】
上記式（１）に示す温度（Ｔ）条件は、過剰な変形や流動を抑制するという理由から、下記式（１ａ）に示す条件であるのが好ましく、上記式（２）に示す圧力（Ｐ）条件は、同様の理由から、下記式（２ａ）に示す条件であるのが好ましい。
Ｔｍ＋１０℃≦Ｔ≦Ｔｍ＋３０℃  ・・・（１ａ）
０．５ＭＰａ≦Ｐ≦５ＭＰａ  ・・・（２ａ）
【００２９】
上記加熱・加圧処理の処理時間は特に限定されず、例えば、ホットメルト型接着剤が所望の温度まで均一に加熱され、接着剤層の基材と反対側の表面のレベリングが安定化されるという観点から、３０秒間〜３０分間程度であるのが好ましく、６０秒間〜１５分間程度であるのがより好ましい。
【００３０】
本発明においては、フィルムミラーの拡散光の割合がより少なくなり、フィルムミラーの鏡面性がより良好となる理由から、このような加熱・加圧処理を施し、接着剤層の基材と反対側の表面の平均粗さＲｚを０．１５μｍ以下とするのが好ましく、０．００１〜０．１０μｍとするのが好ましく、０．００２〜０．０８μｍとするのがより好ましい。
【００３１】
＜冷却工程＞
本発明の製造方法は、上述した表面平滑化工程の後に、接着剤層を冷却し、粘着力を低減させる冷却工程を有する。
ここで、冷却工程は、後述するフィルムミラー形成工程において接着剤層にフィルムミラーを重ね合わせる際の作業性を改善することを目的としている。
そのため、冷却工程における冷却温度は、接着剤層の表面のベタツキや流動性が消失する温度であるのが好ましく、例えば、接着剤のガラス転移点または凝固点以下に冷却するのが好ましい。
【００３２】
接着剤層の冷却は、接着剤層にホットメルト型接着剤を用いる場合、ホットメルト型接着剤の粘着力が低減する温度であれば特に限定されないが、ホットメルト型接着剤の表面タック（ベタツキ）が消失する温度であるのが好ましく、具体的は、ホットメルト型接着剤のガラス転移温度以下（例えば、４０℃以下）に冷却するのが好ましい。
【００３３】
＜フィルムミラー形成工程＞
本発明の製造方法は、上述した冷却工程の後に、接着剤層の基材と反対側の表面に、フィルムミラーを重ね合わせ後に加熱・加圧処理を施し、フィルムミラーを有する反射体を作製するフィルミラー形成工程を有する。
ここで、フィルミラー形成工程は、加熱・加圧処理を施すことにより接着剤層を構成する接着剤の粘着力を増加（回復）させ、接着剤層とフィルムミラーとを接着させることを目的としている。
なお、フィルムミラー形成工程における加熱・加圧処理は、上述した表面平滑化工程における加熱・加圧処理と同様の条件で施すことができる。
【００３４】
＜任意の処理＞
本発明の製造方法においては、接着剤層の基材と反対側の表面の平均粗さＲｚを容易に小さくすることができる理由から、上述した表面平滑化工程において、接着剤層の基材と反対側の表面に剥離フィルムを設けた後に、上述した加熱・加圧処理を施し、かつ、上述した冷却工程において、接着剤層を冷却した後に剥離フィルムを剥離する処理を有するのが好ましい。
ここで、剥離フィルムとしては、具体的には、例えば、テトラフルオロエチレン（Ｃ2Ｆ4）とエチレン（Ｃ2Ｈ4）の共重合体〔ＥＴＦＥ（POLY(ETHYLENE-CO-TETRAFLUOROETHYLENE）〕、ポリテトラフルオロエチレン〔ＰＴＦＥ（polytetrafluoroethylene）〕、四フッ化エチレン（Ｃ2Ｆ4）とパーフルオロアルコキシエチレンとの共重合体〔ＰＦＡ（perfluoroalkoxyalkane）〕等のフッ素系透明樹脂フィルムを好適に用いることができる。
【００３５】
また、本発明の製造方法においては、上述したフィルムミラー形成工程の後、接着剤層を構成する接着剤を固化し、接着力を高める理由から、任意の冷却工程を有するのが好ましい。
ここで、冷却工程における冷却方法は特に限定されないが、上述したフィルムミラー形成工程により作製された反射体を室温下で徐冷する方法が好適に挙げられる。
【実施例】
【００３６】
以下に、実施例を挙げて本発明を具体的に説明する。ただし、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００３７】
（実施例１）
アルミニウム板（材質：Ａ５０５２、厚み：１ｍｍ、平均粗さＲｚ：１．４μｍ）の表面に、１２０℃で溶融させたウレタン系ホットメルト型接着剤（型番：Ｈ−８４５、融点：１１０℃、ＤＩＣ社製）をスロットコートにて塗布した。
次いで、これを熱プレス機に移し、接着剤上に剥離フィルム（ＥＴＦＥ）を被覆した後、１２０℃、３．０ＭＰａの条件で加熱・加圧処理（表面平滑化工程）を１分間施した。
次いで、これを常温まで冷却し、ホットメルト型接着剤からなる接着剤層の表面が平滑化された接着剤層付きアルミニウム板を得た。
次いで、剥離フィルムを剥がし、接着剤層の表面にタック（ベタツキ）がないことを確認した後、接着剤層にフィルムミラーを重ね合わせ、１２０℃、３．０ＭＰａの条件で再び加熱・加圧処理（フィルミラー形成工程）を１分間施した後、常温まで冷却し、反射体を作製した。
【００３８】
（実施例２）
加熱・加圧処理（表面平滑化工程）の条件を１２０℃、０．１ＭＰａに変更した以外は、実施例１と同様の方法により、反射体を作製した。
【００３９】
（実施例３）
加熱・加圧処理（表面平滑化工程）の条件を１５０℃、０．１ＭＰａに変更した以外は、実施例１と同様の方法により、反射体を作製した。
【００４０】
（実施例４）
ＥＶＡ系のホットメルト型接着剤（型番：ＮＵＣ−３１４０Ｎ、融点：９０℃、日本ユニカー社製）を用いた以外は、実施例１と同様の方法により、反射体を作製した。
【００４１】
（実施例５）
アルミニウム板（材質：Ａ５０５２、厚み：１ｍｍ、平均粗さＲｚ：１．４μｍ）に代えて樹脂基材（材質：ポリカーボネート、厚み：１．５ｍｍ、平均粗さＲｚ：０．６μｍ）を用いた以外は、実施例１と同様の方法により、反射体を作製した。
【００４２】
（実施例６）
アルミニウム板（材質：Ａ５０５２、厚み：１ｍｍ、平均粗さＲｚ：１．４μｍ）の表面に、フィルムタイプのオレフィン系ホットメルト型接着剤（型番：Ｘ−４３６０、融点：７０℃、厚み：５０μｍ、倉敷紡績化学社製）を重ね合わせ、その上に剥離フィルム（ＥＴＦＥ）を被覆した後、１００℃、３．０ＭＰａの条件で加熱・加圧処理（表面平滑化工程）を１分間施した。
次いで、これを常温まで冷却し、ホットメルト型接着剤からなる接着剤層の表面が平滑化された接着剤層付きアルミニウム板を得た。
次いで、剥離フィルムを剥がし、接着剤層の表面にタック（ベタツキ）がないことを確認した後、接着剤層にフィルムミラーを重ね合わせ、１００℃、３．０ＭＰａの条件で再び加熱・加圧処理（フィルミラー形成工程）を１分間施した後、常温まで冷却し、反射体を作製した。
【００４３】
（実施例７）
アルミニウム板（材質：Ａ５０５２、厚み：１ｍｍ、平均粗さＲｚ：１．４μｍ）の表面に、フィルムタイプのポリエステル系ホットメルト型接着剤（型番：Ｇ−５、融点：１００℃、厚み：３０μｍ、倉敷紡績化学社製）を重ね合わせ、その上に剥離フィルム（ＥＴＦＥ）を被覆した後、１２０℃、３．０ＭＰａの条件で加熱・加圧処理（表面平滑化工程）を１分間施した。
次いで、これを常温まで冷却し、ホットメルト型接着剤からなる接着剤層の表面が平滑化された接着剤層付きアルミニウム板を得た。
次いで、剥離フィルムを剥がし、接着剤層の表面にタック（ベタツキ）がないことを確認した後、接着剤層にフィルムミラーを重ね合わせ、１２０℃、３．０ＭＰａの条件で再び加熱・加圧処理（フィルミラー形成工程）を１分間施した後、常温まで冷却し、反射体を作製した。
【００４４】
（実施例８）
加熱・加圧処理（表面平滑化工程）の条件を１２０℃、０．０４ＭＰａに変更した以外は、実施例１と同様の方法により、反射体を作製した。
【００４５】
（実施例９）
加熱・加圧処理（表面平滑化工程）の条件を１６０℃、３．０ＭＰａに変更した以外は、実施例１と同様の方法により、反射体を作製した。
【００４６】
（実施例１０）
ウレタン系ホットメルト型接着剤の塗布流量（設定量）を実施例１の４０％に減らした以外は、実施例１と同様の方法により、反射体を作製した。
【００４７】
（比較例１）
アルミニウム板（材質：Ａ５０５２、厚み：１ｍｍ、平均粗さＲｚ：１．４μｍ）の表面に、１２０℃で溶融させたウレタン系ホットメルト型接着剤（型番：Ｈ−８４５、融点：１１０℃、ＤＩＣ社製）をスロットコートにて塗布した。
その後、加熱・加圧処理（表面平滑化工程）および冷却工程を施さず、接着剤層にフィルムミラーを重ね合わせ、１２０℃、３．０ＭＰａの条件で加熱・加圧処理（フィルミラー形成工程）を１分間施した後、常温まで冷却し、反射体を作製した。
【００４８】
（比較例２）
アルミニウム板（材質：Ａ５０５２、厚み：１ｍｍ、平均粗さＲｚ：１．４μｍ）の表面に、液状ウレタン系接着剤（ＬＩＳ８２５、東洋インキ社製）をスロットコートにて膜厚が２９μｍとなるように塗布した。
その後、表面平滑化工程および冷却工程を施さず、接着剤層にフィルムミラーを重ね合わせ、常温下、３ＭＰａの押圧で加圧処理を施し、反射体を作製した。
【００４９】
（比較例３）
アルミニウム板（材質：Ａ５０５２、厚み：１ｍｍ、平均粗さＲｚ：１．４μｍ）の表面に、貼合機を用いて粘着フィルム（型番：ＳＫ２０５７、オレフィン系ＯＣＡ、厚み：５０μｍ、総研科学社製）を３．０ＭＰａの押圧で常温下で貼り付けた。
その後、冷却工程を施さず、貼合機を用いてフィルムミラーを３．０ＭＰａの押圧で常温下で貼り付け、反射体を作製した。
【００５０】
作製した反射体について、接着剤層の膜厚および平均粗さＲｚ、フィルムミラーの平均粗さＲｚ、ならびに、反射光中の拡散光の割合（比率）を以下に示す方法により測定し、評価した。これらの結果を下記第１表に示す。
【００５１】
＜接着剤層の膜厚＞
作製した反射体を小型切断機で割断した割断面を研磨し、イオンミリングを施した後に走査型電子顕微鏡で撮影した。
撮影した反射体の割断面の画像から、接着剤層の膜厚を測定した。
【００５２】
＜接着剤層（接着剤層とフィルムミラーとの界面）の平均粗さＲｚ＞
接着剤層の膜厚の測定に用いた割断面の画像に画像処理ソフト（ＷｉｎＲＯＯＦ）を用いて画像処理を施し、接着剤層とフィルムミラーとの界面（線分）を抽出し、抽出した線分から、ＪＩＳ Ｂ０６０１：１９９４で規定する十点平均粗さを算出した。
【００５３】
＜フィルムミラーの平均粗さＲｚ＞
接着剤層の膜厚の測定に用いた割断面の画像に画像処理ソフト（ＷｉｎＲＯＯＦ）を用いて画像処理を施し、フィルムミラー（反射体）の表面（線分）を抽出し、抽出した線分から、ＪＩＳ Ｂ０６０１：１９９４で規定する十点平均粗さを算出した。
【００５４】
＜拡散光の割合（比率）＞
拡散光の割合は、全反射光に対する拡散成分のエネルギー比率を算出した。
具体的には、光源用ＬＥＤからフィルムミラー上に光を照射させ、その反射光をレンズを通して、ＣＣＤイメージセンサに画像として受光させ、得られた画像における正反射成分と拡散成分との合計面積中の拡散成分の占める割合から算出した。
【００５５】
【表１】
2014149449.tif 000003
【００５６】
第１表に示す結果から、ホットメルト型接着剤を用いて形成される接着剤層の十点平均粗さＲｚを０．１５μｍ以下とすることにより、拡散光の割合が低減し、鏡面性に優れたフィルムミラーを有する反射体が作製できることが分かった（実施例１〜１０）。
特に、実施例１と実施例８および９との対比から、表面平滑化工程における加熱・加圧が、上記式（１）に示す温度（Ｔ）条件および上記式（２）に示す圧力（Ｐ）条件を満たす処理であると、フィルムミラーの表面のＲｚが低減し、拡散光の割合がより低減することが分かった。
また、実施例１と実施例１０との対比から、接着剤層形成工程における、接着剤層の膜厚と、接着剤層が形成される基材の一方の表面のＲｚとの比率（膜厚／Ｒｚ）が１０以上であると、フィルムミラーの表面のＲｚが低減し、拡散光の割合がより低減することが分かった。
【符号の説明】
【００５７】
１  フィルムミラー
２  樹脂基材
３  金属反射層
４  表面被覆層
５  プライマー層
６  バックコート層
１０  フィルムミラー
１１  第１の樹脂基材
１２  金属反射層
１３  第２の樹脂基材
１４  表面被覆層
１５  プライマー層
１６  バックコート層
２０  反射体
２１  基材
２１ａ  基材表面（基材と接着剤層との界面）
２２  接着剤層
２２ａ  接着剤層表面（接着剤層とフィルムミラーとの界面）
２３  フィルムミラー
【図１】
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【図２】
2014149449.tif 000005