(57)【要約】      （修正有）【課題】１つの部材の駆動で２回対称性をもつ収差を任意の方位に関して制御できる露光装置を提供する。【解決手段】露光装置は、投影光学系１１０の光軸に沿って配置され回転非対称な形状の面を有する光学要素と、前記光学要素を少なくとも２つの自由度で駆動する駆動部２２と、前記２つの自由度の駆動量と２回対称性を持つ収差の２つの方向の成分との関係を示す情報と前記収差の２方向の成分それぞれの調整すべき量とに基づいて、前記２つの方向成分の収差の線形和で表される方向成分の収差を補正するように前記２つの自由度の駆動を制御する制御部１２３と、を備える。【選択図】図１
2014120682.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
レチクルのパターンを投影光学系を介して基板に投影し前記基板を露光する露光装置であって、
前記投影光学系の光軸に沿って配置され回転非対称な形状の面を有する光学要素と、
前記光学要素を少なくとも２つの自由度で駆動する駆動部と、
前記２つの自由度の駆動量と２回対称性を持つ収差の２つの方向の成分との関係を示す情報と、前記収差の２方向の成分それぞれの調整すべき量とに基づいて、前記２つの方向の成分の収差の線形和で表される方向の収差を補正するように前記２つの自由度の駆動を制御する制御部と、
を備えることを特徴とする露光装置。
【請求項２】
前記基板の下地となる複数のショット領域の形状を計測する計測器をさらに備え、
前記制御部は、前記計測器により計測された前記複数のショット領域の形状の歪みから前記収差の前記２つの方向の成分それぞれについての調整すべき量を求める、ことを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項３】
前記光軸に平行な方向にｚ軸を、前記光軸に垂直な平面上で互いに直交するようにｘ軸およびｙ軸を定めるとき、前記回転非対称な形状の面は、ｚ＝Ａｘ３＋Ｂ（ｘ＋ｙ）３で表され（ただし、Ａ、Ｂは定数）、前記２つの自由度の駆動は、ｙ軸方向に沿う駆動とｘｙ平面上でｘ軸から１３５°の角度をなす方向に沿う駆動である、ことを特徴とする請求項１又は２に記載の露光装置。
【請求項４】
ｒ、θを変数とし、Ａ、Ｂを定数とするとき、前記回転非対称な形状の面は、Ａｒ３ｃｏｓ３θまたはＢｒ３ｓｉｎ３θで表され、前記２つの自由度の駆動は、前記光軸に垂直な平面上の互いに直交する２つの軸に沿う駆動である、ことを特徴とする請求項１又は２に記載の露光装置。
【請求項５】
前記光軸に平行な方向にｚ軸を、前記光軸に垂直な平面上で互いに直交するようにｘ軸およびｙ軸を定めるとき、前記回転非対称な同一の形状の面は、ｙｚ平面への投影がｙ軸に対して傾斜した直線で表される平面であり、前記２つの自由度の駆動は、ｘ軸周りの回転駆動とｙ軸周りの回転駆動である、ことを特徴とする請求項１又は２に記載の露光装置。
【請求項６】
前記回転非対称な同一の形状の面は、シリンドリカル面、もしくは、ｒ、θを変数、Ａ、Ｂを定数とするとき、Ａｒ２ｃｏｓ２θまたはＢｒ２ｓｉｎ２θで表され、前記２つの自由度の駆動は、前記光軸に沿う駆動と前記光軸周りの回転駆動である、ことを特徴とする請求項１又は２に記載の露光装置。
【請求項７】
前記２回対称性を持つ収差は、非点収差又は倍率差であることを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項８】
前記光学要素は、前記レチクルを保持するレチクルステージと前記投影光学系との間に配置されることを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項９】
前記光学要素は、前記投影光学系の中に配置されることを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項１０】
請求項１乃至９のいずれか１項に記載の露光装置を用いて基板を露光する工程と、
露光された前記基板を現像する工程と、
を含むデバイス製造方法。
【請求項１１】
レチクルのパターンを投影光学系を介して基板に投影する露光装置を用いて前記基板を露光する露光方法であって、
前記露光装置は、
前記投影光学系の光軸に平行な方向に沿って配置され回転非対称な形状の面を有する光学要素と、
前記光学要素を少なくとも２つの自由度で駆動する駆動部と、
を備え、
前記方法は、前記２つの自由度の駆動量と２回対称性を持つ収差の２方向の成分との関係を示す情報と前記収差の２方向の成分それぞれの調整すべき量とに基づいて、前記収差を任意の方位に関して制御するために前記２つの自由度の駆動を制御する工程を含むことを特徴とする露光方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、露光装置、露光方法及びデバイス製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
露光装置の投影光学系は非常に良好な光学性能が要求される。そのためこれまで、投影光学系には、倍率を調整する機構や波面収差を調整する機構など様々な光学性能の調整機構が付加されてきた。投影光学系に残存する、または投影光学系の使用時に発生する、回転非対称な収差の調整も課題である。回転非対称な収差には様々なものがあるが、その中でも、２回対称性を持つ回転非対称な収差が投影光学系には特徴的に残存または発生する場合がある。２回対称性とは、１／２回転したら元の図形に重なる性質をいう。２回対称性を持つ回転非対称な収差の代表的なものは、非点収差と縦横倍率差である。非点収差の場合は、投影光学系の瞳座標を（ｒ、θ）と極座標表示したときに、波面収差がｒ^２×ｃｏｓ(２θ＋φ)の形で表され、波面収差が瞳座標に関して２回対称性を有する。
【０００３】
また、縦横倍率差の場合は、ディストーション（像ずれ）が、像面座標に関して２回対称性を有する。なお、本明細書中では「縦横倍率差」と呼称するが、この名称が意味するのは縦方向と横方向の倍率の差のみならず、任意の直交する２方向の倍率の差である。また、非点収差に関しても、縦横倍率差に関しても、さらに高次（動径方向の次数が高い）の収差が現れることもある。
【０００４】
これら非点収差や縦横倍率差は、投影光学系を構成するレンズやミラーの面の誤差の結果として生じる場合があり、組立調整で調整しきれなかった残差が投影光学系に残存する場合がある。また、投影光学系が露光熱を吸収することにより、投影光学系が光軸に関して非対称に温められることにより生じる場合もある。この場合、これらの収差は露光熱の吸収度合いにより時々刻々と変化する。
【０００５】
２回対称性を有する収差の特徴として、２種類の基本的な収差成分が存在し、それらの線形結合で、全方位の収差が表現できる。例えば波面収差が非点収差（アス）の場合、ＡＳｃ＝ｒ^２×ｃｏｓ（２θ）と、ＡＳｓ＝ｒ^２×ｓｉｎ（２θ）という２つの基本成分があり、全方位の非点収差ＡＳは、これらの線形結合ＡＳ＝Ｃ１×ＡＳｃ＋Ｃ２×ＡＳｓとして表現することができる。
【０００６】
一方、縦横倍率差の場合は、０°方向の縦横倍率差と４５°方向の縦横倍率差の２つの基本収差の線形結合によって全方位の縦横倍率差を表現することができる。まず、任意方位の縦横倍率差は下式１のように表すことができる。ここで、ｄｘはｘ方向の像ずれ量、ｄｙはｙ方向の像ずれ量、Ｍは縦横倍率差の大きさを表し、θは縦横倍率差の方位を表す。
ｄｘ＝（Ｍ／２）（ｘｃｏｓ２θ＋ｙｓｉｎ２θ）
ｄｙ＝（Ｍ／２）（ｘｓｉｎ２θ−ｙｃｏｓ２θ）・・・（１）
θ＝0°の場合、式１は式２に変形される。以下、この場合をＴＹ_０と呼ぶ。（図３の（ａ）、（ｂ）を参照）
ｄｘ＝（Ｍ／２）ｘ
ｄｙ＝−（Ｍ／２）ｙ・・・（２）
また、θ＝４５°の場合、式１は式３に変形される。以下この場合をＴＹ_４５と呼ぶ。（図３の（ｃ）、（ｄ）を参照）
ｄｘ＝（Ｍ／２）ｙ
ｄｙ＝（Ｍ／２）ｘ・・・（３）
このＴＹ_０、ＴＹ_４５の２成分を用いることで、式１における任意のθについても、ＴＹ_０、ＴＹ_４５の２つの性能の線形結合によって全方位の縦横倍率差を表現することができる。
【０００７】
従来、投影光学系の特定方位の２回対称性を持つ回転非対称な光学性能は、回転非対称な形状を持つ２部材を設け、２部材間の間隔を変化させる、もしくは２部材を相対的に回転させる、ことにより調整することが知られている（特許文献１）。従来、２回対称性の収差成分の調整は、レチクルが非対称に伸びるのを投影光学系で補償する、又は、ステップアンドスキャン型の露光装置で既に露光された下地の変形に合わせる（ステップアンドスキャン型の露光装置にはｓｋｅｗ成分と呼ばれる平行四辺形に歪むディストーションが発生することが知られている）、等の目的で使用されてきた。その場合、前者ではＴＹ_０成分のみを制御すればよく、後者ではＴＹ_４５成分のみを制御すればよかった。そのため、投影光学系には、ＴＹ_０成分のみ、あるいは、ＴＹ_４５成分のみを制御する機構を搭載しておけばある程度の効果が得られた。
【０００８】
しかし、重ね合わせ精度の要求が上がるに伴い、ＴＹ_０成分とＴＹ_４５成分の両方を制御したいという要求が増えてきている。特に近年、ＴＳＶなどのチップ積層技術や、裏面照射型のＣＭＯＳセンサの興隆に伴い、歪んだウエハ内の歪んだショットに合わせて露光を行うことが、露光装置に求められるようになってきた。なお、ＴＳＶ（Through-silicon via）は、シリコン貫通電極を使用した実装技術である。ウエハの歪みは一様ではなく、場所ごとに異なる大きさと方位を持っている。そのため、ウエハの歪みに合わせるためには、ショット毎に投影光学系の縦横倍率差の大きさと方位を変えながら露光を行うことが必要となる。そのためには、投影光学系に、ＴＹ_０成分とＴＹ_４５成分の両方を制御できる機構を搭載することが必要である。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００９】
【特許文献１】特許０３３４１２６９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
特許文献１記載の方法では、ＴＹ_０成分とＴＹ_４５成分の両方を制御するために、１方位の縦横倍率差を制御するユニット２つを互いに４５°をなすように配置する、又は、１方位の縦横倍率差を制御するユニット全体を回転可能とする、ことを必要とした。しかし、１方位の縦横倍率差を制御するユニット２つを互いに４５°をなすようにして配置することは、スペースの観点から困難である。通常、投影光学系は非常に高い光学性能が要求されるため、収差補正のために、物体面から像面まで隙間なくレンズが並んでおり、それらを保持する鏡筒部品が隙間なく配されている。その光路中に回転非対称な部材とそれを高精度に制御する機構とをともに配置するスペースを空けるのは、１組分のスペースならばまだしも、２組分以上となると設計上困難である。
【００１１】
また、１方位の縦横倍率差を制御するユニット全体を回転可能とすることも、駆動精度の観点から困難である。２部材の間隔を変化させて縦横倍率差を制御する機構の場合、２部材の間隔の変化は、他の光学性能に影響を与えないために、間隔以外の変化（例えば光軸と垂直方向の移動や、傾きなど）を起こさないよう、非常に高精度に行われる。そのため、２部材の間隔の変化の範囲（ストローク）は自ずと数百μｍ〜数ｍｍの範囲に限定される。部材の回転によって縦横倍率差を制御する機構の場合も事情は同じで、回転角度のストロークは、数分から数度に限定される。ところが、縦横倍率差の発生方位を制御するためにユニット全体を回転させる場合、その範囲は３６０度いかなる方向にも向かねばならない。そのような広い範囲を自由に、しかも軸ずれや傾きなく高精度に回転させるのは、メカニカルな構造上、非常に困難である。しかも、ショット間で高速に駆動させる必要があるため、なおさら困難である。
【００１２】
また、１つの部材の駆動を用いて２つの異なる収差を補正することはこれまで考えられてきたが、１つの部材の駆動で１つの収差の独立な成分を任意方向に補正する方法は考えられてこなかった。
【００１３】
本発明は、以上の課題を解決すべく提案されるものであり、１つの部材の駆動で２回対称性をもつ１つの収差を任意の方位に関して制御することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
本発明の一側面は、レチクルのパターンを投影光学系を介して基板に投影し前記基板を露光する露光装置であって、前記投影光学系の光軸に沿って配置され回転非対称な形状の面を有する光学要素と、前記光学要素を少なくとも２つの自由度で駆動する駆動部と、前記２つの自由度の駆動量と２回対称性を持つ収差の２つの方向の成分との関係を示す情報と、前記収差の２方向の成分それぞれの調整すべき量とに基づいて、前記２つの方向成分の収差の線形和で表される方向成分の収差を補正するように前記２つの自由度の駆動を制御する制御部と、を備えることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１５】
本発明により、１つの部材の駆動で２回対称性をもつ収差を任意の方位に関して制御することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】第１実施形態の露光装置を示した図である。
【図２】収差を調整する２つの光学要素の組の一例を示した図である。
【図３】縦横倍率差による像ずれ収差について示した図である。
【図４】光学要素の面形状の一例を示した図である。
【図５】露光方法のフローチャートである。
【図６】光学要素の組の他例を示した図である。
【図７】光学要素の組の他例を示した図である。
【図８】第２実施形態の投影光学系を示した図である。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
以下に、本発明の好ましい実施形態を添付の図面に基づいて詳細に説明する。なお、本発明は以下の実施形態に限定されるものではなく、本発明の実施に有利な具体例を示すにすぎない。また、以下の実施形態の中で説明されている特徴の組み合わせの全てが本発明の課題を解決するために必須のものであるとは限らない。
【００１８】
〔第１実施形態〕
図１は、第１実施形態の露光装置を示す。光源１０１は、複数の波長帯域の光を露光光として出力することができる。光源１０１より射出された光は、照明光学系１０４の整形光学系（不図示）を介して所定の形状に整形される。整形された光は、オプティカルインテグレータ（不図示）に入射され、ここで、後述するレチクル１０９を均一な照度分布で照明するために多数の２次光源が形成される。
【００１９】
照明光学系１０４の開口絞り１０５の開口部の形状はほぼ円形であり、照明光学系制御部１０８によってその開口部の直径、ひいては照明光学系１０４の開口数（ＮＡ）を所望の値に設定できるようになっている。この場合、投影光学系１１０の開口数に対する照明光学系１０４の開口数の比の値がコヒーレンスファクタ（σ値）であるため、照明光学系制御部１０８は照明光学系１０４の開口絞り１０５を制御することで、σ値を設定できる。
【００２０】
照明光学系１０４の光路上にはハーフミラー１０６が配置され、レチクル１０９を照明する露光光の一部がこのハーフミラー１０６により反射されて取り出される。ハーフミラー１０６の反射光の光路上には紫外光用のフォトセンサ１０７が配置され、露光光の強度（露光エネルギー）に対応した出力を発生する。原版としてのレチクル（マスク）１０９の上には焼き付けを行う半導体デバイスの回路のパターンが形成されており、照明光学系１０４より照明される。投影光学系１１０は、レチクル１０９のパターンを縮小倍率β（例えばβ＝１／２）で縮小し、フォトレジストが塗布されたウエハ（基板）１１５上の１つのショット領域を投影するよう配置されている。投影光学系１１０は、屈折型またはカタディオプトリック系などの光学系でありうる。
【００２１】
投影光学系１１０の瞳面（レチクルに対するフーリエ変換面）上には、開口部がほぼ円形である開口絞り１１１が配置され、モータ等の開口絞り駆動部１１２によって開口部の直径を制御することができる。光学素子駆動部１１３は、フィールドレンズのような、投影光学系１１０中のレンズ系の一部を構成している光学素子を、投影光学系１１０の光軸に沿って移動させる。これにより、投影光学系１１０の諸収差の悪化を防止しつつ、投影倍率を良好にさせ歪曲誤差を減らしている。投影光学系制御部１１４は、主制御部１０３の制御の下、開口絞り駆動部１１２及び光学素子駆動部１１３を制御する。
【００２２】
ウエハ１１５を保持するウエハステージ（基板ステージ）１１６は、３次元方向に移動可能であり、投影光学系１１０の光軸方向（Ｚ方向）、及びその方向に直交する面内（Ｘ−Ｙ面）を移動できる。なお、図１では、投影光学系１１０の光軸と平行にかつウエハ１１５からレチクル１０９に向かう方向をｚ軸とし、それと垂直な平面上で互いに直交する方向にｘ軸とｙ軸を定めている。したがって、ｙ軸は紙面内にあり、ｘ軸は紙面に対して垂直で紙面手前向きである。ウエハステージ１１６に固定された移動鏡１１７との間の距離をレーザ干渉計１１８で計測することでウエハステージ１１６のＸ−Ｙ面位置が検出される。また、アライメント計測系１２４を用いて、ウエハ１１５とウエハステージ１１６の位置ずれを計測する。露光装置の主制御部１０３の制御下にあるステージ制御部１２０は、前記計測結果をもとにモータ等のステージ駆動部１１９を制御することで、ウエハステージ１１６を所定のＸ−Ｙ面位置へ移動させる。
【００２３】
投光光学系１２１、検出光学系１２２は、フォーカス面を検出する。投光光学系１２１はウエハ１１５上のフォトレジストを感光させない非露光光から成る複数個の光束を投光し、その光束はウエハ１１５上に各々集光されて反射される。ウエハ１１５で反射された光束は、検出光学系１２２に入射される。図示は略したが、検出光学系１２２内には各反射光束に対応させて複数個の位置検出用の受光素子が配置されており、各受光素子の受光面とウエハ１１５上での各光束の反射点が結像光学系によりほぼ共役となるように構成されている。投影光学系１１０の光軸方向におけるウエハ１１５面の位置ずれは、検出光学系１２２内の位置検出用の受光素子に入射する光の位置ずれとして計測される。
【００２４】
図１に示されるように、投影光学系１１０は、レチクル１０９に対向する一対の光学要素２１１，２１２の組からなる収差を調整する収差調整部材２１を備える。２つの光学要素（第１光学要素、第２光学要素）２１１，２１２は、投影光学系１１０の光軸に沿って間隙を介して配置されている。２つの光学要素（第１光学要素、第２光学要素）２１１，２１２は、回転非対称な同一の形状の面を前記間隙の側にそれぞれ有している。２つの光学要素（第１光学要素、第２光学要素）２１１，２１２の少なくともいずれかは、光学要素駆動部２２により少なくとも２つの自由度で駆動される。光学要素駆動部２２による少なくとも２つの自由度の駆動は、光学要素制御部（制御部）１２３により制御されている。なお、本実施形態では、収差調整部材２１を一対の光学要素２１１，２１２の組で構成したが、２つの光学要素（第１光学要素、第２光学要素）２１１，２１２の一方を使用してもよい。
【００２５】
図１の収差調整部材２１の構成について、具体的に説明する。収差調整部材２１は、投影光学系１１０の一部として構成されていてもよいし、投影光学系１１０とは独立したユニットとして構成されていてもよい。また、収差調整部材２１は、レチクル１０９を保持するレチクルホルダまたはレチクルステージ機構（不図示）と一体的に構成されていてもよい。図２において、２つの光学要素２１１，２１２の外側の面２１１ａ，２１２ａは平面形状であり、互いに向き合っている内側の面２１１ｂ，２１２ｂは互いに相補な関係にある非球面形状である。
【００２６】
［実施例１］
図２は、２回対称性をもつ収差を調整する実施例１の収差調整部材２１を示す。実施例１では、光学要素２１１の２つの自由度の駆動は、２つの方向への平行移動である。２つの光学要素２１１，２１２の互いに向き合っている内側の面２１１ｂ，２１２ｂの回転非対称な形状の面は、例えば式４で表わされる。Ａ、Ｂは定数である。
ｚ＝Ａｘ３＋Ｂ（ｘ＋ｙ）３・・・（４）
式４で示される回転非対称な形状は、図４の（ａ）に示すようなθ＝０°（ｘ軸）方向への３次形状と図４の（ｂ）に示すようなθ＝４５°方向への３次形状を足し合わせた図４の（ｃ）に示す形状である。この場合の光学要素２１１の２つの自由度の駆動は、ｙ軸方向に沿う駆動とｘｙ平面上でｘ軸から１３５°の角度をなす方向に沿う駆動である。
【００２７】
光学要素駆動部２２により光学要素２１１をｘ軸から１３５°の角度をなす方向に沿って駆動することにより、図３の（ａ）、（ｂ）に示すＴＹ_０成分のディストーションが発生する。また、光学要素２１１をｙ軸方向に沿って駆動することにより、図３の（ｃ）、（ｄ）に示すＴＹ_４５成分のディストーションが発生する。よって、光学要素２１１をｙ方向、x軸と１３５°をなす方向からなる平面上で２つの自由度の駆動量を制御することで２つの方向の成分の収差の線形和で表される方向すなわち任意の方位の収差を発生させるように２方向の成分を制御することができる。
【００２８】
また、収差調整部材２１が有する回転非対称な形状の面は、例えば式５で表わされる形状でもよい。ｒ、θは変数、Ａ、Ｂは定数である。
ｚ＝Ａｒ３ｃｏｓ３θ、又は、
ｚ＝Ｂｒ３ｓｉｎ３θ・・・（５）
この場合、光学要素２１１が駆動される２つの方向は、ｘ軸方向とｙ軸方向との２方向となる。よって、１つの光学要素２１１をｘ軸方向とｙ軸方向とからなる平面上で任意の方向に駆動することにより、縦横倍率差を任意の方位に関して制御することができる。
【００２９】
つぎに、図５を用いて、２回対称性をもつ収差を調整する収差調整部材２１を用いた露光方法の一例について説明する。図５に示すように、ウエハをロードした後、Ｓ１で主制御部１０３は、アライメント計測系（計測器）１２４を用いて、下地となる複数のショット領域の形状を計測し、その全ショットの歪みをデータとして記憶する。
【００３０】
次にＳ２で主制御部１０３は、各ショット領域の形状に合わせて露光するために、収差の２方向の成分（ＴＹ_０成分、ＴＹ_４５成分）の調整すべき量（調整量）を計算する。また、主制御部１０３は、他の像ずれ成分についても調整量を計算してもよい。Ｓ３で光学要素制御部１２３は、２つの自由度の駆動量と収差の２方向の成分との関係を示す情報と、収差の２方向の成分の調整量とに基づいて、２つの自由度の駆動量を求める。光学要素制御部１２３は、求められた２つの自由度の駆動量に基づいて、ＴＹ_０成分とＴＹ_４５成分とを調整するように光学要素駆動部２２により光学要素２１１を駆動する。このとき、他の像ずれ成分をも調整するために、投影光学系制御部１１４を介して光学素子駆動部１１３により投影光学系１１０の光学素子と、ステージ制御部１２０を介してステージ駆動部１１９によりウエハステージ１１６とを同時に駆動しても良い。光学要素２１１の駆動が完了したら、Ｓ４で主制御部１０３は、露光を行う。
【００３１】
Ｓ５で主制御部１０３は、次の露光すべきショットに移動するようにウエハステージ１１６を駆動する。主制御部１０３は、Ｓ１、Ｓ２で予め行っておいたショット領域の歪みの計測、調整量の計算結果に基づき光学要素２１１の駆動と露光とを繰り返す。Ｓ６において全ショット領域の露光が終了したら、主制御部１０３は、ウエハをアンロードし、また次のウエハをロードして図５のフローを繰り返し行う。
【００３２】
このフローに基づいた露光方法で、２回対称性をもつ縦横倍率差を任意の方位に関して補正して露光するで、下地となるショット歪みに合わせたショット形状に合わせて露光することができ、重ね合わせ精度が向上する。
【００３３】
［実施例２］
図６の（ａ）〜（ｃ）を用いて、２回対称性をもつ収差を調整する実施例２の収差調整部材２１について説明する。実施例２では、光学要素２１１の２つの自由度の駆動は、ｘ軸周り（ωｘ方向）の回転駆動とｙ軸周り（ωｙ方向）の回転駆動である。実施例２の収差調整部材２１の回転非対称な形状の面は、図６の（ａ）からわかるように、ｙｚ平面への投影がｙ軸に対して傾斜した直線で表される平面である、いわゆる楔形状である。
【００３４】
光学要素２１１を図６の（ｂ）のようにｘ軸を回転軸として回転駆動することにより、図３の（ａ）、（ｂ）に示すＴＹ_０成分のディストーションが発生する。また、光学要素２１１を図６の（ｃ）のようにｙ軸を回転軸にして回転駆動することにより、図３の（ｃ）、（ｄ）に示すＴＹ_４５成分のディストーションが発生する。
【００３５】
よって、光学要素２１１を楔が付いた平面とｚ軸との交点を中心に任意方向に回転駆動することにより、縦横倍率差を任意の方位に関して発生させ、制御することができる。この収差調整部材２１を用いても、実施例１と同様に２回対称性をもつ回転非対称な縦横倍率差を任意の方位に関して制御して露光することができる。
【００３６】
［実施例３］
図７の（ａ）〜（ｃ）を用いて、２回対称性をもつ収差を調整する実施例３の収差調整部材２１について説明する。実施例３では、光学要素２１１の２つの自由度の駆動は、ｚ方向への平行移動とｚ軸周り（ωｚ方向）の回転駆動である。実施例３の収差調整部材２１の回転非対称な形状の面は、例えば図７の（ａ）に示すような、円柱面、すなわちｙ軸方向のシリンドリカル面である。なお、回転非対称な形状の面を、シリンドリカル面に替えて、ｒ、θを変数、Ａ、Ｂを定数として、Ａｒ２ｃｏｓ２θまたはＢｒ２ｓｉｎ２θで表される面としてもよい。
【００３７】
光学要素２１１を図７の（ｂ）のように光軸（ｚ軸）に沿って駆動することにより、図３の（ａ）、（ｂ）に示すＴＹ_０成分のディストーションが発生する。また、光学要素２１１を図７の（ｃ）のように光軸周りのωｚ方向に回転駆動することにより、図３の（ｃ）、（ｄ）に示すＴＹ_４５成分のディストーションが発生する。よって、光学要素２１１のｚ軸方向への駆動とωｚ方向への回転駆動とを組み合わせて駆動することにより、縦横倍率差を任意の方位に関して発生させ、制御することができる。この収差調整部材２１を用いても、実施例１と同様に２回対称性をもつ回転非対称な縦横倍率差を任意の方位に関して制御して露光することができる。
【００３８】
〔第２実施形態〕
図８は第２実施形態の調整機構を含む投影光学系の図である。本実施例の投影光学系１１０は、屈折型またはカタディオプトリック系などの投影光学系であり、不図示の照明系によって照明されたレチクル１０９上（マスク上）のパターンをウエハ１１５（基板）に投影している。図８に示されるように、投影光学系１１０は、その内部に２回対称性をもつ収差を調整する収差調整部材２１を備える。収差調整部材２１は、非球面を有する２つの光学素子（第１光学要素、第２光学要素）２１１，２１２を有し、光学要素制御部１２３により、少なくとも一方の光学要素を移動または回転可能に構成されている。
【００３９】
第１実施形態同様に、光学要素２１１の２つの自由度の駆動を組み合わせることにより、非点収差（アス）を任意の方位に関して発生させ、制御することができる。
【００４０】
〔第３実施形態〕
つぎに、本発明の一実施形態のデバイス（半導体デバイス、液晶表示デバイス等）の製造方法について説明する。半導体デバイスは、ウエハに集積回路を作る前工程と、前工程で作られたウエハ上の集積回路チップを製品として完成させる後工程を経ることにより製造される。前工程は、前述の露光装置を使用して感光剤が塗布されたウエハを露光する工程と、ウエハを現像する工程を含む。後工程は、アッセンブリ工程（ダイシング、ボンディング）と、パッケージング工程（封入）を含む。液晶表示デバイスは、透明電極を形成する工程を経ることにより製造される。透明電極を形成する工程は、透明導電膜が蒸着されたガラス基板に感光剤を塗布する工程と、前述の露光装置を使用して感光剤が塗布されたガラス基板を露光する工程と、ガラス基板を現像する工程を含む。本実施形態のデバイス製造方法によれば、従来よりも高品位のデバイスを製造することができる。
【００４１】
以上、本発明の好ましい実施形態について説明したが、本発明はこれらの実施形態に限定されず、その要旨の範囲内で種々の変形および変更が可能である。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図４】
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