(57)【要約】【課題】液滴吐出ヘッド全体の外形寸法を保持しつつ、簡単な構造で、異なる周波数域においてもインク（液体）のリフィル振動を安定的に抑制できる液滴吐出ヘッドを提供する。【解決手段】液滴吐出ヘッドは、複数のノズルが形成されたノズル基板と、前記ノズル基板上に配置され、隔壁で区切られた個別液室と、液体の導入路となる液体導入部と、前記液体導入部から前記個別液室へ液体を供給する流路に流体抵抗部を備えた液室ユニットを複数有している個別液室基板と、前記ノズル基板に設けられたノズルにより液体を噴射させるアクチュエータとを含む液滴吐出ヘッドであって、前記流体抵抗部は、同一平面上に形成された折り返し部を少なくとも１つ有する。【選択図】図２
2014177103.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数のノズルが形成されたノズル基板と、
前記ノズル基板上に配置され、隔壁で区切られた個別液室と、
液体の導入路となる液体導入部と、前記液体導入部から個別液室へ液体を供給する流路に流体抵抗部を備えた液室ユニットを複数有している個別液室基板と、
前記ノズル基板に設けられたノズルにより液体を噴射させるアクチュエータとを含む液滴吐出ヘッドであって、
前記流体抵抗部は、同一平面上に形成された折り返し部を少なくとも１つ有することを特徴とする、液滴吐出ヘッド。
【請求項２】
前記流体抵抗部は、前記流路の上流側に設けられていることを特徴とする、請求項１に記載した液滴吐出ヘッド。
【請求項３】
前記流体抵抗部は、前記流路内に向かって互い違いに突出する突出部により折り返し部が形成されていることを特徴とする、請求項１又は２に記載した液滴吐出ヘッド。
【請求項４】
前記突出部の角部又は隅部は、滑らかな曲線に形成されていることを特徴とする、請求項１〜３のいずれか一に記載した液滴吐出ヘッド。
【請求項５】
前記流体抵抗部の流路は、前記突出部の先端と隔壁との間の流路幅に対して、隣接する突出部間との流路幅が狭く形成されていることを特徴とする、請求項１〜４のいずれか一に記載した液滴吐出ヘッド。
【請求項６】
前記突出部は、流路に対して傾斜をつけて形成されていることを特徴とする、請求項１〜５のいずれか一に記載した液滴吐出ヘッド。
【請求項７】
請求項１乃至７のいずれか一に記載の液滴吐出ヘッドを有するインクジェット記録装置。
【請求項８】
請求項７に記載のインクジェット記録装置を具備した画像形成装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液滴吐出ヘッド、液滴吐出ヘッドを有するインクジェット記録装置、及びインクジェット記録装置を具備した画像形成装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来から、インクなどの液体が充填された個別液室を圧力変動させて、ノズル基板に形成したノズルから液体を噴射させる液滴吐出ヘッドが実用化されている。
【０００３】
前記個別液室に圧力変動させる手段としては、例えば幅広い物性の液体に対応可能であるアクチュエータを個別液室上に設置する方法が知られている。
【０００４】
近年、当該アクチュエータは、半導体プロセス技術ＭＥＭＳ（Ｍｉｃｒｏ  Ｅｌｅｃｔｒｏ  Ｍｅｃｈａｎｉｃａｌ  Ｓｙｓｔｅｍｓ）を用いることにより微細化され、液滴吐出ヘッド全体を小型化することができている。
【０００５】
アクチュエータにより個別液室内の液体に圧力をかける際には安定した圧力駆動が必要である。比較的低粘度の液体が使用される場合、個別液室内へ吐出した分の液体を補充するリフィル時に、液振動が生じ、メニスカス(液体と空気の界面)が大きく振動して安定した圧力駆動を妨げることが知られている。これは、駆動周波数を高周波数化する上での制約となっている。
【０００６】
特許文献１には、液体充填口からノズルまでの流体の流路を、立体的に配置したアクチュエータが開示されている。これによると、流路長さを十分に確保して流体抵抗値を高めてインク（液体）のリフィル振動を抑制している。
【０００７】
また、特許文献２及び特許文献３には、個別液室の上流側に流体抵抗部を設けてインク（液体）のリフィル振動を抑制するアクチュエータが開示されている。流体抵抗部は、流路を複数に分けることで形成したり、流路幅を狭くして形成することで、流体リアクタンスを小さくしてインク（液体）のリフィル振動を抑制するものである。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
特許文献１は、流体の流路を立体的に配置してインク（液体）のリフィル振動を抑制している。しかし、立体的に配置するためには部材点数が多く複雑になり、且つ精密な組み立てが求められるので歩留まりが低下する虞がある。
【０００９】
また、ノズルへ向かう鉛直下方方向への流路が長く、この流路間に構造的な干渉を受けると液体の液滴特性に大きな影響を与えて画質が悪化する虞がある。
【００１０】
また、特許文献２では、粘度が３ｍＰａ・ｓ程度の液体に対応したものであり、駆動周波数が低い領域でしか使用できない問題がある。同じく、特許文献３では、粘度が８ｍＰａ・ｓ程度の液体に対応したものであるため、例えば３ｍＰａ・ｓ程度の低粘度液体に対応しようとすると流体抵抗部の長さを十分に取る必要が生じ、ヘッド全体が大型化してしまう問題がある。
【００１１】
本発明の一つの実施形態の目的は、液滴吐出ヘッド全体の外形寸法を保持しつつ、簡単な構造で、異なる周波数域においてもインク（液体）のリフィル振動を安定的に抑制できる液滴吐出ヘッドを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
上記課題に鑑み、本発明の実施の形態の液滴吐出ヘッドは、複数のノズルが形成されたノズル基板と、前記ノズル基板上に配置され、隔壁で区切られた個別液室と、液体の導入路となる液体導入部と、前記液体導入部から前記個別液室へ液体を供給する流路に流体抵抗部を備えた液室ユニットを複数有している個別液室基板と、前記ノズル基板に設けられたノズルにより液体を噴射させるアクチュエータとを含む液滴吐出ヘッドであって、前記流体抵抗部は、同一平面上に形成された折り返し部を少なくとも１つ有することを特徴とする。
【発明の効果】
【００１３】
本発明の実施の形態によれば、液滴吐出ヘッド全体の外形寸法を保持しつつ、簡単な構造で、異なる周波数域においてもインク（液体）のリフィル振動を安定的に抑制できる液滴吐出ヘッドを提供できる。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】本発明に係る液滴吐出ヘッドの実施形態の一例を示す断面斜視図を示す。
【図２】図1の要部Ｒの断面図を示す。
【図３】図２のＡ−Ａ'矢視断面図を示す。
【図４】図２のＢ−Ｂ'矢視断面図を示す。
【図５】実施例２における図２のＢ−Ｂ'矢視断面図を示す。
【図６】流体抵抗部内の流路長さの関係を示す拡大断面図である。
【図７】実施例３における図２のＢ−Ｂ'矢視断面図を示す。
【図８】本発明の実施例４に係る液滴吐出ヘッドを有するインクジェット記録装置の一例を説明する概略側面図である。
【図９】本発明の実施例４に係る液滴吐出ヘッドを有するインクジェット記録装置の一例を説明する概略平面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
以下に、本発明の一つの実施の形態としての液体突出ヘッドを、図面を参照しつつ説明する。
【００１６】
本発明の一つの実施の形態の液滴吐出ヘッドは、被写機、複合機、プリンタ、スキャナ、プロッタ、ファクシミリ、ファックス及びその他記録媒体の表面に画像を形成するもの（装置、機器、ユニットなど）であれば、いずれのものにも用いることができる。ここで、記録媒体の表面に画像を形成するとは、印刷、印写、印字、記録などを含む。また、本発明の一つの実施の形態としての液滴吐出ヘッドは、三次元の形状を形成する装置に用いることができる。三次元の形状を形成するとは、ＤＮA試料、レジスト、パターン材料、配線などの微小形状の物体を形成することを含む。
【００１７】
なお、以後の説明において、添付の全図面の記載の同一又は対応する部材又は部品には、同一又は対応する参照符号を付し、重複する説明を省略する。また、図面は、部材もしくは部品間の相対比を示すことを目的としない。したがって、具体的な寸法は、以下の限定的でない実施形態に照らし、当業者により決定することができる。
【００１８】
[液滴吐出ヘッドの構成]
図１〜３に液滴吐出ヘッド１００の一実施形態であるインクジェット記録ヘッドを示す（以下、単に液滴吐出ヘッド１００と云う。）。図1は液滴吐出ヘッド１００の断面斜視図である。図２は図1の要部Ｒの断面斜視図を示し、図３は図２のＡ−Ａ'矢視断面図を示している。
【００１９】
図示した液滴吐出ヘッド１００は、インク液滴をノズル基板１に設けたノズルから吐出させるサイドシュータ方式のインクジェット記録ヘッドである。インク系統は4つに分かれており、４色のインクを１つのヘッドから吐出される４色一体型ヘッドである。
【００２０】
図１〜３に示すとおり、本実施の形態による液滴吐出ヘッド１００は、ノズル基板１、個別液室基板１０、振動基板２０、保持基板３０、共通液室基板４０、ダンパーフィルム５０、補強基板６０、が積層されて構成されている。
【００２１】
補強基板６０に設けられたマニホールド６２から供給されたインクなどの液体は、共通液室基板４０に形成された共通液室４１内に導入される。液体は、図２に示す保持基板３０に設けられた液体供給口３１と、振動基板２０に設けられた液体充填口１４を経由し、流体抵抗部１２を介して個別液室１１内へ供給され、ノズル２から吐出する。
【００２２】
ノズル基板１は、複数のノズル２を備えている。ここで、複数のノズル２は、液滴吐出ヘッド１００の長手方向（図１の左右方向）に配列されている。
【００２３】
ノズル２の開口径、ノズル配列数、配列密度（間隔）などは、液滴吐出ヘッド１００に要求される条件に合わせて適宜設計される。
【００２４】
ノズル基板１の材料は剛性や加工性に応じて適宜選択可能である。例えば、ＳUＳ（ステンレス鋼）、ニッケルなどの金属や合金、シリコン、セラミックなどの無機材料、ポリイミドなどの樹脂材料を使用することができる。ノズル２の加工方法は、ノズル基板１の材料特性や要求される精度・加工性を考慮して選択することができる。例えば、電鋳めっき法、エッチング法、プレス加工法、レーザ加工法、フォトリソグラフィ法などを用いることができる。
【００２５】
液滴吐出ヘッド１００の詳細を、図２、図３及び、図２のＢ−Ｂ'矢視平面図を示した図４に基づいて説明する。
【００２６】
個別液室基板１０は、隔壁１５により区切られた個別液室１１と、液体の導入路となる液体導入部１３と、液体導入部１３から個別液室１１へ液体を供給する流路に形成された流体抵抗部１２を備えた液室ユニット１６を有している。図４では説明を簡潔にするために３ユニット分を示したが、ノズル基板１のノズル２に対応させて個別液室基板１０の鉛直方向と水平方向に適切な間隔をあけて複数設けられている。
【００２７】
個別液室基板１０は、好適には３００ｄｐｉ（約８５μｍピッチ）以上でフォトグラフィ法を用いて加工できるシリコン基板（例えば単結晶シリコン基板）を用いる。その他、ウエットエッチング法、ドライエッチング法などで加工することができる。
【００２８】
振動基板２０は、上記個別液室基板１０の上面に積層されるプレートであり、個別液室１１に液体を供給する液体充填口１４を複数有している。
【００２９】
振動基板２０としては、シリコンや窒化物、酸化物、炭化物などの剛性の高い材料が使用される。また、異なる材料を積層したプレートを使用することも可能である。その際、それぞれの材料の内部応力を考慮し、残留応力が少ない構成とすることが好ましい。例えば、Ｓｉ３Ｎ４とＳｉＯ２を積層する場合、引っ張り応力となるＳｉ３Ｎ４と圧縮応力となるＳｉＯ２を交互に積層して内部応力を緩和させることが好ましい。
【００３０】
振動基板２０の厚さは、好適には０、５μｍ〜１０μｍである。更に好適には、１、０μｍ〜５、０μｍである。
【００３１】
振動基板２０の上面には、図２、図３に示すように、下部電極２１、圧電体２２、上部電極２３を順に積層した圧電素子２４が設置されている。
【００３２】
圧電素子２４は個別液室１１の直上位置に配置され、上部電極２３から個別電極配線２５、下部電極２１から共通電極配線２６が引き出されて、同振動基板２０上に設けられた駆動部２９と接続されて駆動可能な構成とされている。
【００３３】
駆動部２９は、ＩＣなどのチップ化された集積回路中に少なくとも圧電素子２４の駆動回路を備えた電子部材であり、駆動電圧制御部（図示省略）から供給された電圧を、印字パターンをもとに圧電素子２４に選択的に供給して圧電素子２４を制御している。
【００３４】
個別電極配線２５と共通電極配線２６は振動基板２０の上面に設置された第一絶縁膜２７の上に設置されている。また、第一絶縁膜２７の上面に積層される第二絶縁膜２８（パッシベーション）により圧電素子２４の一部又は全面が覆われている。
【００３５】
圧電素子２４を構成している下部電極２１と上部電極２３としては、金属、合金、導電性化合物が使用され、例えばＰｔ、Ｉｒ、Ｉｒ酸化物、Ｐｄ、Ｐｄ酸化物などの材料が好適に用いられる。また、両電極２１、２３の表層面に振動基板２０と圧電体２２との密着性を考慮した密着層を、Ｔｉ、Ｔａ、Ｗ、Ｃｒなどにより形成してもよい。
【００３６】
圧電体２２は、圧電性を示す強誘電体材料が使用され、例えば、チタン酸ジルコン酸鉛、チタン酸バリウムなどの材料が好適に用いられる。成膜方法としては、スパッタリング法、ゾルゲル法などが好ましい。
【００３７】
上記の圧電素子２４と駆動部２９によってアクチュエータＴを構成しており、両部材により、振動基板２０を変形させ、個別液室１１内に供給された液体に圧力を負荷する。
【００３８】
保持基板３０は、個別液室基板１０の個別液室１１へ液体を供給する液体供給口３１を有する。更に、その下面には圧電素子２４を内在可能な凹部３２が形成されている。凹部３２は、密閉空間であり、圧電素子２４が変位可能な稼動空間である。保持基板３０は、反りを防止するため他の部材の熱膨張係数と近い材料が選択される。ガラス、シリコン、ＳｉＯ２、ＺｒＯ２、Ａｌ２０３などのセラミクス材料が好ましい。
【００３９】
共通液室基板４０は、図１に示すように、複数のフレーム基板を積層して構成されており、共通液室４１を有する。積層されるフレーム基板の枚数は限定されるものではないが、複数のフレーム基板に梁部材を設けることが好ましいため３枚以上が好ましい。図１は３つのフレーム基板４０ａ、４０ｂ、４０ｃの積層構造を示している。
【００４０】
フレーム基板の材質は限定されないが、熱伝導率の良いものが好ましく、熱伝導率が１００（Ｗ／ｍ・ｋ）以上のものがより好ましい。具体的な材料としては、銅、アルミニウムなどが使用される。
【００４１】
上記フレーム基板４０ａの上面にはダンパーフィルム５０が設けられている。ダンパーフィルム５０は、共通液室４１における圧力を緩和する。
【００４２】
補強基板６０は、ダンパーフィルム５０の稼動域を確保しており、共通液室４１へインクなどの液体を供給するマニホールド６２を有する。  
【実施例１】
【００４３】
実施例1の液滴吐出ヘッド１００は、複数のノズル２が形成されたノズル基板１と、同ノズル基板１上に配置された個別液室基板１０と、ノズル基板１に設けられたノズル２により液体を噴射させるアクチュエータＴとを含む構成とされている。
【００４４】
アクチュエータＴは上記した駆動部２９と圧電素子２４とで構成されている。
【００４５】
個別液室基板１０は、図２、図４に示すように、隔壁１５で区切られた個別液室１１と、液体の導入路となる液体導入部１３と、同液体導入部１３から個別液室１１へ液体を供給する流路に流体抵抗部１２を含む液室ユニット１６を複数有している。
【００４６】
なお、図４に示す個別液室基板１０は説明を簡潔にするために３つの液室ユニット１６のみを示しているが、ノズル２に対応して複数有するものである。
【００４７】
流体抵抗部１２は、個別液室１１へ液体を供給する液体導入部１３に近くで、ノズル２からは離れた上流側の流路に設けられており、個別液室基板１０の同一平面上に設けた折り返し部である。
【００４８】
折り返し部は、流体抵抗部１２を設ける流路内に向かって互い違いに突出する突出部１７ａ、１７ｂにより形成されている。図４に示す突出部１７ａ、１７ｂは、液体導入部１３とノズル２とを結ぶ直線に対して直交する方向に突出している。これにより、流体抵抗部１２の流路が矩形波形状となる。図示例では４個の突出部を互い違いに設けて流路長を十分に確保しているが、周波数領域にあわせて突出部の個数を増減することができる。
【００４９】
この折り返し部１２は個別液室１１への流路部分を有効活用するので、液滴吐出ヘッド１００の外形寸法を変化させることなく、必要な流体抵抗を得ることができる。
【００５０】
個別液室基板１０は、具体的にはＩＣＰ（Ｉｎｄｕｃｔｉｖｅｌｙ  Ｃｏｕｐｌｅｄ  Ｐｌａｓｍａ）ドライエッチングによるエッチングにより、個別液室１１、流体抵抗部１２、液体導入部１３が形成される。
【００５１】
図1に示す補強基板６０に設けられたマニホールド６２から供給された液体が、共通液室基板４０に形成された共通液室４１内に供給される。そして、図２に示す保持基板３０に設けられた液体供給口３１と、液体充填口１４を経由し、液体導入部１３と流体抵抗部１２を介して個別液室１１へ供給される。
【００５２】
駆動部２９は圧電素子２４を伸張させて振動基板２０をノズル２の方向に変形させる。このとき、振動基板２０の変形によって個別液室１１内の容積（体積）が収縮されて、同個別液室１１内の液体に圧力を負荷し、液体を加圧することによって、ノズル２から液滴を吐出（噴射）する。
【００５３】
吐出後、駆動部２９により圧電素子２４を伸張前の状態（初期値）に戻すと、個別液室１１の膨張によって個別液室１１内が減圧される。すると、保持基板３０の液体供給口３1を介して、共通液室４１から個別液室１１内に液体を充填するリフィル動作（以下の、実施例においてインクリフィル動作という。）が行われる。
【００５４】
この個別液室１１内に液体を充填するインクリフィル動作において、同個別液室１１へ液体を供給する流路に互い違いに設置された折り返し部が形成されているため、簡単な構造で流体抵抗により液振動を確実に減衰させることができる。それにより、ノズル２のメニスカス面の振動も減衰（安定）できるため、高い駆動周波数を使用することが可能となる。
【実施例２】
【００５５】
実施例２を図５に示す。
実施例１と同様のものは同様の符号を付した。
実施例２の液滴吐出ヘッド１００は、液室ユニット１６の流体抵抗部１２２は実施例と同様に、液体導入部１３とノズル２とを結ぶ直線に対して直交する方向に互い違いに突出した突出部１７２ａ、１７２ｂにより形成されている。
【００５６】
この折り返し部を形成する突出部１７２ａ、１７２ｂは、その角部又は隅部が、滑らかな曲線に形成されている。これにより、図６の拡大図に示すように、流体抵抗部１２内に気泡Ｋが入り込んだ場合、その流路内に気泡Ｋが滞留することがなく滑らかな曲線を描く液体流れF２になるので、ノズル２からの液滴の不吐出を防止できる。
【００５７】
突出部１７２ａ、１７２ｂの角部又は隅部を滑らかな曲線（半円孤形状）とすることにより、流体抵抗値が若干低下する虞がある。その場合は、図６に示すように、流体抵抗部１２２の流路が、突出部１７２ａ、１７２ｂの先端と隔壁１５との間の流路幅Ｒｓに対して、隣接する突出部間との流路幅Ｒｗを狭く形成する。これにより、気泡Ｋの滞留を防止しつつも、必要な流体抵抗値を確実に確保してインクリフィル動作の振動を抑制できる。
【実施例３】
【００５８】
実施例３を図７に示す。
実施例１、２と同様の機能を有する部品、箇所には同様の符号を付した。
実施例３の液滴吐出ヘッド１００は、液室ユニット１６の流体抵抗部１２３は、液体導入部１３とノズル２とを結ぶ直線に対して傾斜する突出部１７３ａ、１７３ｂにより形成されている。
【００５９】
突出部１７３ａはノズル２方向に向かって約４５度傾斜しており、突出部１７３ｂは突出部１７３ａと平行する配置に形成されている。傾斜角度は上記の限りではなく、使用する液滴の種類、印加される周波数域などにより適宜変更される。
【００６０】
上記形状にすることで、流体抵抗部１２３内に入ってくる液体は、上流側では液体導入部１３からノズル２へ向かう方向へ（インクの平均流れ方向）誘導される。しかし、下流側では突出部１７３ｂにより逆方向（液体導入部１３へ向かう方向）の液体流れF３へ誘導される。したがって、液体の流体抵抗値を大きくできる。
【００６１】
また、図示例では、突出部１７３ａ、１７３ｂがそれぞれノズル２方向に向かって傾斜しているが、突出部１７３ａ、１７３ｂを液体導入部１３に向かって傾斜する態様で実施することもできる。
【００６２】
また、この流体抵抗部１２３も実施例２と同様に、突出部１７３ａ、１７３ｂの角部又は隅部が、滑らかな曲線に形成されている。
【実施例４】
【００６３】
図８は、液滴吐出ヘッドを有するインクジェット記録装置の一例を説明する概略側面図である。図９は液滴吐出ヘッドを有するインクジェット記録装置の一例を説明する平面図である。
【００６４】
インクジェット記録装置３００には、ヘッドユニット３０４が収納されている。同ヘッドユニット３０４は、記録装置３００の内部に主走査方向に移動可能なキャリッジ３０１と、同キャリッジ３０１内に搭載されたインクジェット記録ヘッド３０２と、同記録ヘッド３０２へ液体を供給するインクタンク３０３などで構成される。インクジェット記録ヘッド３０２は、実施例１〜３の液滴吐出ヘッド１００に相当する。
【００６５】
インクジェット記録装置３００は、その下方部に前方側から多数の記録媒体３０５（例えば用紙）を積載可能な用紙積載部３０６を有する補給カセット３０７が備えられている。また、用紙積載部３０６に配置された記録媒体３０５をヘッドユニット３０４へ搬入する搬入ベルト３０８、複数の搬送ローラ３０９を備えた搬入手段３１０が備えられている。更に、ヘッドユニット３０４で画像を形成した記録媒体３０５を搬出する搬出手段３１１（排紙トレイ）が備えられている。
【００６６】
このように、上記したインクジェット記録装置３００において、本発明を実施した液滴吐出ヘッド１００を有しているので、インクリフィル動作におけるインク滴吐出不良がなく、高い周波数駆動に際しても安定したインク滴吐出特性が得られて、画像品質が向上する。
【００６７】
また、ここでは、インクジェット記録装置３００についてのみ記述したが、上記インクジェット記録装置をヘッドユニット３０４に配置し、制御装置などの外部装置を組み合わせて画像形成装置を構成することができる。
【００６８】
以上のとおり、本発明の好ましい実施形態について説明したが、本発明は上述した実施の形態に制限されるものではない。また、本発明は、添付の特許請求の範囲に照らし、種々に変形又は変更することが可能である。
【符号の説明】
【００６９】
１      ノズル基板
２      ノズル
１０    個別液室基板
１１    個別液室
１２    流体抵抗部
１３    液体導入部
１４    液体充填口
１５    隔壁
１６    液室ユニット
２０    振動基板
２４    圧電素子
２９    駆動部
３０    保持基板
３１    液体供給口
３２    凹部
４０    共通液室基板
４１    共通液室
５０    ダンパーフィルム
６０    補強基板
Ｔ    アクチュエータ
１００  液滴吐出ヘッド
【先行技術文献】
【特許文献】
【００７０】
【特許文献１】特許第４９１５２６０号公報
【特許文献２】特開２０１２―２４１０７７号公報
【特許文献３】特開２００７−１４４８８６号公報
【図１】
2014177103.tif 000003
【図２】
2014177103.tif 000004
【図３】
2014177103.tif 000005
【図４】
2014177103.tif 000006
【図５】
2014177103.tif 000007
【図６】
2014177103.tif 000008
【図７】
2014177103.tif 000009
【図８】
2014177103.tif 000010
【図９】
2014177103.tif 000011