(57)【要約】【課題】  フィルタアセンブリをコンディショニングするための新規なシステムおよび方法を提供すること。【解決手段】  本発明によるシステムおよび方法は、上流側と下流側とを有する透過性フィルタメディアと、前記フィルタメディアの上流側の入口および通気孔と、前記フィルタメディアの下流側の出口とを含むフィルタアセンブリをコンディショニングするためのものであり、簡単には、フィルタメディアの細孔および空隙からおよびフィルタメディアの上流側および下流側から汚染物質を除去するためにパージ液をフィルタアセンブリに通すというものである。【選択図】  図１
2014094375.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
上流側と下流側とを有する透過性フィルタメディアと、
前記フィルタメディアの上流側の入口および通気孔と、
前記フィルタメディアの下流側の出口と
を含むフィルタアセンブリをコンディショニングするための方法であって、
前記入口および前記通気孔を開放して、前記出口を閉じるとともに、パージ液を、開放した前記入口に通過させて、前記フィルタメディアの上流側に沿って、前記フィルタアセンブリの開放した通気孔に通すステップと、
前記入口および前記出口を開放して、前記通気孔を閉じるとともに、最初に、パージ液を、第１の流量で、開放した前記入口に通過させて、前記上流側から前記下流側へ前記フィルタメディアに通過させるとともに、前記フィルタメディアの下流側に沿って、前記フィルタアセンブリの開放した出口に通し、その後、パージ液を、第１の流量よりも多い第２の流量で、開放した前記入口に通して、前記上流側から前記下流側へ前記フィルタメディアに通過させるとともに、前記フィルタメディアの下流側に沿って、前記フィルタアセンブリの開放した出口に通し、それにより、前記フィルタアセンブリにパージ液を充填するステップと、
を備える方法。
【請求項２】
パージ液を通過させる前記ステップが溶媒を通過させるステップを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
パージ液を、開放した前記入口に通過させて、前記フィルタメディアの上流側に沿って、開放した前記通気孔に通す前記ステップが、前記フィルタアセンブリの前記入口の圧力を増大させるステップを含む、請求項１または２に記載の方法。
【請求項４】
パージ液を第１の流量で通過させる前記ステップが、前記フィルタアセンブリの前記出口の圧力を減少させるステップを含む、請求項１〜３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項５】
前記フィルタアセンブリの前記出口の圧力を減少させる前記ステップが、前記フィルタアセンブリの前記出口からパージ液を真空引きするステップを含む、請求項４に記載の方法。
【請求項６】
パージ液を第２の流量で通過させる前記ステップが、前記フィルタアセンブリの前記入口のパージ液の圧力を増大させるステップを含む、請求項１〜５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項７】
パージ液を、開放した前記入口に通過させて、前記フィルタメディアの上流側に沿って、前記フィルタアセンブリの開放した前記通気孔に通す前記ステップが、パージ液を、開放した前記通気孔から、前記フィルタアセンブリの前記通気孔に流体結合される廃棄物リザーバへ方向付けるステップを含む、請求項１〜６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項８】
パージ液を、第１の流量で、開放した前記入口に通過させて、前記上流側から前記下流側へ前記フィルタメディアに通過させるとともに、前記フィルタアセンブリの開放した出口に通す前記ステップが、パージ液を、前記出口から、前記フィルタアセンブリの前記出口に結合される廃棄物リザーバへ方向付けるステップを含む、請求項１〜７のいずれか一項に記載の方法。
【請求項９】
前記フィルタアセンブリの前記入口のパージ液の圧力を増大させる前記ステップが、パージ液を収容するとともに前記フィルタアセンブリの前記入口に流体結合される容器に対して圧力を印加し、それにより、パージ液を前記容器から前記フィルタアセンブリの前記入口へ推し進めるステップを含む、請求項３または６に記載の方法。
【請求項１０】
前記フィルタアセンブリの前記入口に流体結合される第１の容器からパージ液を供給するステップを更に備える、請求項１〜８のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１１】
パージ液を、第２の流量で、開放した前記入口に通して、前記上流側から前記下流側へ前記フィルタメディアに通過させるとともに、前記フィルタアセンブリの開放した出口に通す前記ステップが、パージ液を、前記出口から、パージ液を収容することができる第２の容器へ方向付けるステップを含む、請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
前記第２の容器を第２のフィルタアセンブリの入口に結合して、前記第２の容器内のパージ液を用いて前記第２のフィルタアセンブリをコンディショニングするステップを更に備える、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
前記第２のフィルタアセンブリをコンディショニングする前記ステップが、前記第２の容器と前記第２のフィルタアセンブリの入口との間のフィルタにパージ液を通すステップを含む、請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
パージ液を前記フィルタアセンブリの前記出口から前記第２の容器へ方向付ける前記ステップが、パージ液を前記出口と前記第２の容器との間のフィルタに通すステップを含む、請求項１１または１２に記載の方法。
【請求項１５】
流側と下流側とを有する透過性フィルタメディアと、
前記フィルタアセンブリの上流側の入口および通気孔と、
前記フィルタアセンブリの下流側の出口と
を含むフィルタアセンブリをコンディショニングするための方法であって、
前記入口および前記通気孔を開放して、前記出口を閉じるステップと、
前記フィルタアセンブリの前記入口に流体結合される第１の容器からパージ液を供給するステップと、
パージ液を、開放した前記入口に通過させて、前記フィルタメディアの上流側に沿って、開放した前記通気孔に通すステップと、
パージ液を開放した前記通気孔から廃棄物リザーバへ方向付け、その後、前記入口および出口を開放するとともに、前記通気孔を閉じるステップと、
前記フィルタアセンブリの前記入口に流体結合される前記第１の容器からパージ液を供給するステップと、
最初に、パージ液を、開放した前記入口に通過させて、前記上流側から前記下流側へ前記フィルタメディアに通過させるとともに、前記フィルタメディアの下流側に沿って、開放した前記出口に通して、前記廃棄物リザーバへ送るステップと、
その後、パージ液を、開放した前記入口に通過させて、前記上流側から前記下流側へ前記フィルタメディアに通過させるとともに、前記フィルタメディアの下流側に沿って、開放した前記出口に通して、パージ液を収容できる第２の容器へ送り、それにより、前記フィルタアセンブリにパージ液を充填するとともに、パージ液の一部を回収するステップと、
を備える方法。
【請求項１６】
前記第２の容器を第２のフィルタアセンブリの入口に結合して、前記第２の容器内のパージ液を用いて前記第２のフィルタアセンブリをコンディショニングするステップを更に備える、請求項１５に記載の方法。
【請求項１７】
前記フィルタアセンブリの前記出口と前記第２の容器との間に結合されるフィルタを通じてパージ液を方向付けるステップを更に備える、請求項１５または１６に記載の方法。
【請求項１８】
前記第２の容器と前記第２のフィルタアセンブリとの間に結合されるフィルタを通じてパージ液を方向付けるステップを更に備える、請求項１６に記載の方法。
【請求項１９】
パージ液を、開放した前記入口に通過させて、前記上流側から前記下流側へ前記フィルタメディアに通過させるとともに、開放した前記出口に通して、前記廃棄物リザーバへ送る前記ステップは、パージ液を第１の流量で開放した前記入口に通すステップを含み、パージ液を、開放した前記入口に通過させて、前記上流側から前記下流側へ前記フィルタメディアに通過させるとともに、開放した前記出口に通して、パージ液を収容できる第２の容器へ送る前記ステップは、パージ液を第１の流量よりも多い第２の流量で開放した前記入口に通すステップを含む、請求項１５〜１８のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２０】
パージ液を通過させる前記ステップが溶媒を通過させるステップを含む、請求項１５〜１９のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２１】
パージ液を、開放した前記入口に通過させて、前記フィルタメディアの上流側に沿って、開放した前記通気孔を通じて前記廃棄物リザーバへ送る前記ステップが、前記フィルタアセンブリの前記入口の圧力を増大させるステップを含む、請求項１５〜２０のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２２】
パージ液を、開放した前記入口に通過させて、前記上流側から前記下流側へ前記フィルタメディアに通過させるとともに、開放した前記出口に通して、前記廃棄物リザーバへ送る前記ステップが、前記フィルタアセンブリの前記出口の圧力を減少させるステップを含む、請求項１５〜２０のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２３】
前記フィルタアセンブリの前記出口の圧力を減少させる前記ステップが、前記フィルタアセンブリの前記出口からパージ液を真空引きするステップを含む、請求項２２に記載の方法。
【請求項２４】
パージ液を、開放した前記入口に通過させて、前記上流側から前記下流側へ前記フィルタメディアに通過させるとともに、開放した前記出口に通して、前記第２の容器へ送る前記ステップが、前記フィルタアセンブリの前記入口の圧力を増大させるステップを含む、請求項１５〜２３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２５】
上流側と下流側とを含むフィルタメディアと、
前記フィルタメディアの上流側の入口および通気孔と、
前記フィルタメディアの下流側の出口と
を有するフィルタアセンブリをコンディショニングするためのシステムであって、
フィルタアセンブリの入口に結合可能なパージ液供給源と、
前記フィルタアセンブリの出口および通気孔に結合可能な廃棄物リザーバと、
パージ液を前記パージ液供給源から前記フィルタアセンブリの前記入口へ推し進めるようになっている圧力源と、
前記フィルタアセンブリの前記入口を開閉するように動作可能な入口弁と、
前記フィルタアセンブリの前記出口を開閉するように動作可能な出口弁と、
前記フィルタアセンブリの前記通気孔を開閉するように動作可能な通気弁と、
前記圧力源、前記入口弁、前記出口弁、および、前記通気弁に接続されるコントローラと
を備え、
前記コントローラが、第１の段階で、前記入口弁および前記通気弁を開放して、前記出口弁を閉じるとともに、パージ液を、前記パージ液供給源から、前記フィルタアセンブリの開放した前記入口に通過させて、前記フィルタメディアの上流側に沿って、開放した通気孔に通して前記廃棄物リザーバへ方向付けるように動作可能であり、前記コントローラが、続く第２の段階の第１の局面で、前記入口弁および前記出口弁を開放して、前記通気弁を閉じるとともに、パージ液を、前記パージ液供給源から、第１の流量で、前記フィルタアセンブリの開放した前記入口に通過させて、前記上流側から前記下流側へ前記フィルタメディアに通過させるとともに、前記フィルタメディアの下流側に沿って、開放した出口に通して前記廃棄物リザーバへ方向付けるように動作可能であり、前記コントローラが、第２の段階の続く第２の局面で、前記入口弁および前記出口弁を開放して、前記通気弁を閉じるとともに、パージ液を、前記パージ液供給源から、より多い第２の流量で、前記フィルタアセンブリの開放した前記入口に通して、前記上流側から前記下流側へ前記フィルタメディアに通過させるとともに、前記フィルタメディアの下流側に沿って、開放した出口を通じて方向付けるように動作可能であり、それにより、前記フィルタアセンブリにパージ液を充填する、システム。
【請求項２６】
前記フィルタアセンブリの前記出口に結合可能な真空装置を更に備え、
前記コントローラが、前記真空装置に結合されるとともに、第２の段階の第１の局面中に前記フィルタアセンブリの前記出口の圧力を減少させるために真空源を制御するように動作可能である、請求項２５に記載のシステム。
【請求項２７】
前記コントローラが、第１の段階中に前記フィルタアセンブリの前記入口の圧力を増大させるために前記圧力源を制御するように動作可能である、請求項２５または２６に記載のシステム。
【請求項２８】
前記コントローラが、第２の段階の第２の局面中に前記フィルタアセンブリの前記入口の圧力を増大させるために前記圧力源を制御するように動作可能である、請求項２５または２６に記載のシステム。
【請求項２９】
前記パージ液供給源が容器を備え、前記圧力源が、前記容器の外面に圧力を及ぼしてパージ液を前記容器から前記フィルタアセンブリの前記入口へ推し進めるように前記コントローラによって制御される、請求項２５または２６に記載のシステム。
【請求項３０】
前記パージ液供給源がパージ液を収容するための第１の容器を備え、前記システムが、パージ液を収容するための第２の容器と、前記フィルタアセンブリの前記出口、前記廃棄物リザーバ、および、前記第２の容器の間に結合される第１の弁装置とを更に備え、前記コントローラは、第２の段階の第１の局面中にパージ液を開放した前記出口から前記廃棄物リザーバへ方向付けるとともに第２の段階の第２の局面中にパージ液を開放した前記出口から前記第２の容器へ方向付けるように前記第１の弁装置に接続される、請求項２５〜２８のいずれか一項に記載のシステム。
【請求項３１】
前記第２の容器が第２のフィルタアセンブリの入口に結合可能である、請求項３０に記載のシステム。
【請求項３２】
前記第１の容器、前記フィルタアセンブリの前記出口、および、前記フィルタアセンブリの前記入口の間に結合される第２の弁装置と、
前記第２の容器、前記フィルタアセンブリの前記出口、および、前記フィルタアセンブリの前記入口の間に結合される第３の弁装置と
を更に備え、
前記パージ液供給源が前記第１の容器および前記第２の容器を備え、前記コントローラが、パージ液を前記第１の容器から第１のフィルタアセンブリの開放した入口および開放した出口を通じて前記第２の容器へ推し進めることと、パージ液を前記第２の容器から第２のフィルタアセンブリの開放した入口および開放した出口を通じて前記第１の容器へ推し進めることとを交互に行なうように前記第２および第３の弁装置に接続される、請求項３０に記載のシステム。
【請求項３３】
前記フィルタメディアが約０．０５ミクロン以下の除去率を有する、請求項２５〜３２のいずれか一項に記載のシステム。
【請求項３４】
上流側と下流側とを含むフィルタメディアと、
前記フィルタメディアの上流側の入口および通気孔と、
前記フィルタメディアの下流側の出口と
を有するフィルタアセンブリをコンディショニングするためのシステムであって、
パージ液を収容し、フィルタアセンブリの前記入口に結合可能な第１の容器と、
パージ液を収容し、フィルタアセンブリの前記出口に結合可能な第２の容器と、
前記フィルタアセンブリの前記出口および前記通気孔に結合可能な廃棄物リザーバと、
パージ液を前記第１の容器から前記フィルタアセンブリの前記入口へ推し進めるようになっている圧力源と、
前記フィルタアセンブリの前記入口を開閉するように動作可能な入口弁と、
前記フィルタアセンブリの前記出口を開閉するように動作可能な出口弁と、
前記フィルタアセンブリの前記通気孔を開閉するように動作可能な通気弁と、
前記圧力源、前記入口弁、前記出口弁、および、前記通気弁に接続されるコントローラと
を備え、
前記コントローラが、第１の段階で、前記前記入口弁および前記通気弁を開放して、前記出口弁を閉じるとともに、パージ液を、前記第１の容器から、前記フィルタアセンブリの開放した前記入口に通過させて、前記フィルタメディアの上流側に沿って、開放した通気孔に通して前記廃棄物リザーバへ方向付けるように動作可能であり、前記コントローラが、第２の段階の第１の局面で、前記入口弁および前記出口弁を開放して、前記通気弁を閉じるとともに、パージ液を、前記第１の容器から、前記フィルタアセンブリの開放した前記入口に通過させて、前記上流側から前記下流側へ前記フィルタメディアに通過させるとともに、前記フィルタメディアの下流側に沿って、開放した出口に通して前記廃棄物リザーバへ方向付けるように動作可能であり、前記コントローラが、第２の段階の続く第２の局面で、前記入口弁および前記出口弁を開放して、前記通気弁を閉じるとともに、パージ液を、前記第１の容器から、開放した前記入口に通して、前記上流側から前記下流側へ前記フィルタメディアに通過させるとともに、前記フィルタメディアの下流側に沿って、開放した出口を通じて第２の容器へ方向付けるように動作可能であり、それにより、前記フィルタアセンブリにパージ液を充填するとともに、パージ液の一部を回収する、システム。
【請求項３５】
前記フィルタアセンブリの前記出口、前記廃棄物リザーバ、および、前記第２の容器の間に結合される第１の弁装置を更に備え、
前記コントローラが、前記第１の弁装置に接続されるとともに、第２の段階の第１の局面中にパージ液を前記廃棄物リザーバへ方向付けるとともに第２の段階の第２の局面中にパージ液を前記第２の容器へ方向付けるように動作可能である、請求項３４に記載のシステム。
【請求項３６】
前記フィルタアセンブリの前記出口に結合可能な真空装置を更に備え、
前記コントローラが、前記真空装置に結合されるとともに、第２の段階の第１の局面中に前記フィルタアセンブリの前記出口の圧力を減少させるために真空源を制御するように動作可能である、請求項３４または３５に記載のシステム。
【請求項３７】
前記圧力源が、前記第１の容器の外面に圧力を及ぼしてパージ液を前記容器から前記フィルタアセンブリの前記入口へ推し進めるように前記コントローラによって制御される、請求項３４〜３６のいずれか一項に記載のシステム。
【請求項３８】
前記コントローラが、第１の段階中に前記フィルタアセンブリの前記入口の圧力を増大させるために前記圧力源を制御するように動作可能である、請求項３４〜３６のいずれか一項に記載のシステム。
【請求項３９】
前記コントローラが、第２の段階の第２の局面中に前記フィルタアセンブリの前記入口の圧力を増大させるために前記圧力源を制御するように動作可能である、請求項３４〜３６のいずれか一項または３８に記載のシステム。
【請求項４０】
前記第２の容器が前記フィルタアセンブリの前記入口に結合可能である、請求項３４〜３９のいずれか一項に記載のシステム。
【請求項４１】
前記第１の容器、前記フィルタアセンブリの前記出口、および、前記フィルタアセンブリの前記入口の間に結合される第２の弁装置と、前記第２の容器、前記フィルタアセンブリの前記出口、および、前記フィルタアセンブリの前記入口の間に結合される第３の弁装置とを更に備え、
前記圧力源がパージ液を前記第２の容器から推し進めるようになっており、前記コントローラが、パージ液を前記第１の容器から第１のアセンブリの開放した入口および開放した出口を通じて前記第２の容器へ推し進めることと、パージ液を前記第２の容器から第２のフィルタアセンブリの開放した入口および開放した出口を通じて前記第１の容器へ推し進めることとを交互に行なうように前記第２および第３の弁装置に結合される、請求項３４〜３９のいずれか一項に記載のシステム。
【請求項４２】
前記フィルタメディアが約０．０５ミクロン以下の除去率を有する、請求項３４〜４１のいずれか一項に記載のシステム。
【発明の詳細な説明】
【発明の開示】
【０００１】
発明の開示
[0001]マイクロエレクトロニクス産業や医薬産業を含む多くの産業で使用される化学物質は、極めて純度が高いものでなければならない。これらの産業により使用されるプロセスを妨げる場合がある何らかの汚染物質を除去するために、或いはこれらの産業により形成される製品を損なう場合がある何らかの汚染物質を除去するために、使用ポイントにおいてしばしば、これらの化学物質を極めて微細な濾過を行う必要がある。一般に、これらの化学物質を濾過するために使用されるフィルタアセンブリは、透過性フィルタメディアを有する。化学物質がフィルタメディアを通過し、化学物質中のいかなる汚染物質をもフィルタメディア内またはフィルタメディアの表面上にて捕捉される。
【０００２】
[0002]化学物質が濾過される前に、本発明を具現化するシステムおよび方法は、フィルタアセンブリをコンディショニングして、フィルタアセンブリ自体が汚染物質を化学物質中に入り込むことを防止する。一般に、新たに製造されたフィルタアセンブリであってもフィルタアセンブリ内に含まれる場合がある何らかの汚染物質を除去するために、パージ液がフィルタアセンブリを通じてフラッシングされる。パージ液は、濾過されるべき化学物質に適合する任意の液体であるとよい。毒性が低いまたは安価な化学物質の場合には、パージ液が化学物質自体であってもよい。多くの場合、パージ液は、化学物質の毒性が低いあるいは安価な液状成分または化学物質のための液体溶剤である。フィルタアセンブリがフラッシングされると、パージ液は、フィルタアセンブリ内のあらゆるガスを移動させて、フィルタアセンブリ内に含まれるあらゆる他の汚染物質を取り除くことができる。フラッシング後、パージ液が充填されたコンディショニング済みのフィルタアセンブリは、保管されおよび／または輸送されてもよく、また、パージ液がフィルタアセンブリから除去された後に化学物質を濾過するために使用されてもよい。
【発明の概要】
【０００３】
[0003]本発明を具現化するシステムおよび方法は、フィルタアセンブリを１つずつあるいは同時に複数、コンディショニングするために使用されてもよい。各フィルタアセンブリは、フィルタメディアと、入口と、通気孔と、出口とを含むものとすることができる。フィルタメディアは、フィルタアセンブリ内に上流側と下流側とを有する。入口および通気孔がフィルタメディアの上流側にあってもよく、出口がフィルタメディアの下流側にあってもよい。
【０００４】
[0004]本発明の一態様によれば、フィルタアセンブリをコンディショニングするための方法は、入口および通気孔を開放して、フィルタアセンブリの出口を閉じるステップを備えてもよい。その後、パージ液が、開放した入口に通されて、フィルタメディアの上流側に沿って、開放した通気孔に通されてもよい。方法は、入口および出口を開放して、通気孔を閉じるステップを更に備えてもよい。その後、パージ液はまず、第１の流量で、開放した入口に通されて、上流側から下流側へフィルタメディアを通過されるとともに、開放した出口に通されてもよい。続いて、パージ液は、第１の流量よりも多い第２の流量で、開放した入口に通されて、上流側から下流側へフィルタメディアを通過されるとともに、フィルタメディアの下流側に沿って、開放した出口に通されてもよい。パージ液は、フィルタメディアの上流側、フィルタメディア内、および、フィルタメディアの下流側のフィルタアセンブリ内の汚染物質を含むフィルタアセンブリにおけるあらゆる空気および他の汚染物質を移動させおよび／または取り除き、それにより、フィルタアセンブリに汚染物質がない状態にしてパージ液が充填される。
【０００５】
[0005]本発明の他の態様によれば、フィルタアセンブリをコンディショニングするためのシステムは、パージ液供給源と、廃棄物リザーバと、圧力源とを備えてもよい。パージ液供給源はフィルタアセンブリの入口に結合されてもよく、また、圧力源は、パージ液をパージ液供給源からフィルタアセンブリの入口へ推し進めるようになっていてもよい。廃棄物リザーバは、フィルタアセンブリの出口および通気孔に結合されてもよい。システムは、入口弁、出口弁、通気弁、および、コントローラを更に備えてもよい。入口弁は、フィルタアセンブリの入口を開閉するように動作可能であってもよく、出口弁は、フィルタアセンブリの出口を開閉するように動作可能であってもよく、および、通気弁は、フィルタアセンブリの通気孔を開閉するように動作可能であってもよい。コントローラは、少なくとも圧力源、入口弁、出口弁、および、通気弁に接続されてもよい。コントローラは、第１の段階で、入口弁および通気弁を開放して、出口弁を閉じるとともに、パージ液を、パージ液供給源から、フィルタアセンブリの開放した入口に通過させて、フィルタメディアの上流側に沿って、開放した通気孔を通じて方向付けるように動作可能であってもよい。コントローラは、第２の段階の第１の局面で、入口弁および出口弁を開放して、通気弁を閉じるとともに、パージ液を、第１の流量で、フィルタアセンブリの開放した入口に通過させて、上流側から下流側へフィルタメディアに通過させるとともに、開放した出口を通じて方向付けるように動作可能であってもよい。コントローラは、更に、第２の段階の続く第２の局面で、入口弁および出口弁を開放して、通気弁を閉じるとともに、パージ液を、第１の流量よりも多い第２の流量で、フィルタアセンブリの開放した入口に通して、上流側から下流側へフィルタメディアに通過させるとともに、フィルタメディアの下流側に沿って、開放した出口を通じて方向付けるように動作可能であってもよい。パージ液は、フィルタメディアの上流側、フィルタメディア内、および、フィルタメディアの下流側のフィルタアセンブリ内の汚染物質を含むフィルタアセンブリ内のあらゆる汚染物質を移動させおよび／または取り除き、それにより、フィルタアセンブリに汚染物質がない状態にしてパージ液が充填される。
【０００６】
[0006]本発明のこれらの態様を具現化する方法およびシステムは、例えば汚染物質をフィルタアセンブリから除去するために非常に有効な特徴を含む多くの有利な特徴を有する。例えば、１）パージ液を、開放した入口に通して、フィルタメディアの上流側に沿って、出口が閉じられた状態で開放した通気孔を通じて方向付けること、および、２）パージ液を、開放した入口に通して、上流側から下流側へフィルタメディアに通過させ、フィルタメディアの下流側に沿って、通気孔が閉じられた状態で開放した出口を通じて方向付けることの両方により、本発明のこれらの態様を具現化する方法およびシステムは、フィルタメディアの上流側、フィルタメディア自体、および、フィルタメディアの下流側が全て完全にパージ液によってフラッシングされるようにする。また、パージ液を第１の低流量で、続いて第２の高流量でフィルタメディアを通じて方向付けることにより、本発明のこれらの態様を具現化する方法およびシステムは、汚染物質がフィルタメディア内から更に一層効果的に除去されるようにする。パージ液を第１の低流量でフィルタメディアに通すことにより、パージ液は、フィルタメディア内の細孔および空隙の全てを完全に満たすことができ、それにより、さもなければフィルタメディアに捕捉されたままとなる場合がある小さい気孔または気泡を含む全ての汚染物質が移動する。続いて、パージ液を第２の高流量でフィルタメディアに通すと、フィルタメディア内から除去された全ての汚染物質がフィルタメディアの下流側を通じておよび開放した出口を通じて効果的にフラッシングされる。
【０００７】
[0007]本発明の他の態様によれば、フィルタアセンブリをコンディショニングするための方法は、入口および通気孔を開放して、フィルタアセンブリの出口を閉じるステップを備えてもよい。その後、パージ液が、第１の容器から供給されて、開放した入口に通され、フィルタメディアの上流側に沿って、開放した通気孔に通されるとともに、開放した通気弁から廃棄物リザーバへ方向付けられてもよい。方法は、入口および出口を開放して、フィルタアセンブリの通気孔を閉じるステップを更に備えてもよい。その後、パージ液が第１の容器から開放した入口へ供給されてもよい。最初に、パージ液は、開放した入口に通過されて、上流側から下流側へフィルタメディアに通過されるとともに、フィルタメディアの下流側に沿って、開放した出口に通されて、廃棄物容器へ送られてもよい。続いて、パージ液は、開放した入口に通過されて、上流側から下流側へフィルタメディアに通過されるとともに、フィルタメディアの下流側に沿って、開放した出口に通されて、パージ液を収容できる第２の容器へ送られてもよく、それにより、フィルタアセンブリに汚染物質がない状態のままパージ液が充填される。また、パージ液の一部が第２の容器内に回収されてもよい。
【０００８】
[0008]本発明の他の態様によれば、フィルタアセンブリをコンディショニングするためのシステムは、第１の容器と、第２の容器と、廃棄物リザーバと、圧力源とを備えてもよい。第１の容器は、パージ液を収容して、フィルタアセンブリの入口に結合可能であってもよく、圧力源は、パージ液を第１の容器からフィルタアセンブリの入口へ推し進めるようになっていてもよい。廃棄物リザーバは、フィルタアセンブリの出口および通気孔に結合可能であってもよい。第２の容器は、フィルタアセンブリの出口に結合可能であってもよく、また、パージ液を収容できてもよい。システムは、入口弁、出口弁、通気弁、および、コントローラを更に備えてもよい。入口弁は、フィルタアセンブリの入口を開閉するように動作可能であってもよく、出口弁は、フィルタアセンブリの出口を開閉するように動作可能であってもよく、および、通気弁は、フィルタアセンブリの通気孔を開閉するように動作可能であってもよい。コントローラは、少なくとも圧力源、入口弁、出口弁、および、通気弁に接続されてもよい。コントローラは、第１の段階で、入口弁および通気弁を開放して、出口弁を閉じるとともに、パージ液を、第１の容器から、フィルタアセンブリの開放した入口に通過させて、フィルタメディアの上流側に沿って、開放した通気孔に通して廃棄物リザーバへ方向付けるように動作可能であってもよい。コントローラは、第２の段階の第１の局面で、入口弁および出口弁を開放して、通気弁を閉じるとともに、パージ液を、第１の容器から、フィルタアセンブリの開放した入口に通過させて、上流側から下流側へフィルタメディアに通過させるとともに、フィルタメディアの下流側に沿って、開放した出口に通して廃棄物リザーバへ方向付けるように動作可能であってもよい。コントローラは、第２の段階の続く第２の局面で、入口弁および出口弁を開放して、通気弁を閉じるとともに、パージ液を、第１の容器から、フィルタアセンブリの開放した入口に通して、上流側から下流側へフィルタメディアに通過させるとともに、フィルタメディアの下流側に沿って、開放した出口を通じて第２の容器へ方向付けるように更に動作可能であってもよく、それにより、フィルタアセンブリに汚染物質がない状態のままパージ液が充填される。また、パージ液の一部が第２の容器内に回収されてもよい。
【０００９】
[0009]本発明のこれらの態様を具現化する方法およびシステムは、例えば、汚染物質を除去するために非常に有効な特徴と廃棄物をかなり減少させる特徴とを含む多くの有利な特徴を有する。例えば、この場合も先と同様に、１）パージ液を、開放した入口に通して、フィルタメディアの上流側に沿って、出口が閉じられた状態で開放した通気孔を通じて方向付けること、および、２）パージ液を、開放した入口に通して、上流側から下流側へフィルタメディアに通過させ、フィルタメディアの下流側に沿って、通気孔が閉じられた状態で開放した出口を通じて方向付けることの両方により、本発明のこれらの態様を具現化する方法およびシステムは、フィルタメディアの上流側、フィルタメディア自体、および、フィルタメディアの下流側が全て完全にパージ液によってフラッシングされるようにする。また、パージ液の一部分を廃棄物リザーバへではなく第２の容器へ方向付けることにより、パージ液のこの部分が回収されて再使用されてもよく、それにより、廃棄物の発生量がかなり減少される。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】フィルタアセンブリをコンディショニングするためのシステムの一実施形態の概略図である。
【図２】フィルタアセンブリをコンディショニングするためのシステムの他の実施形態の概略図である。
【図３】フィルタアセンブリをコンディショニングするためのシステムの他の実施形態の概略図である。
【図４】フィルタアセンブリをコンディショニングするためのシステムの他の実施形態の概略図である。
【図５】フィルタアセンブリからパージ液を移動させるためのシステムの一部の一実施形態の概略図である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
[0015]本発明の１つ以上の態様に係るフィルタアセンブリをコンディショニングするためのシステムは、任意の多数の方法で具現化されることができ、また、任意の多種多様なフィルタアセンブリをコンディショニングする、すなわち、一度に１つのアセンブリをコンディショニングするあるいは一度に複数のフィルタアセンブリの全てをコンディショニングするために使用されてもよい。
【００１２】
[0016]各フィルタアセンブリは様々に構成され得る。一般に、各フィルタアセンブリ１１は、産業プロセスで使用される液状化学物質から汚染物質を除去するためのフィルタメディア１２を含む。これらの産業、例えば、マイクロエレクトロニクス産業および医薬産業の多くにおいては、化学物質が極めて純度の高いものでなければならない。その結果、フィルタメディアは、微細孔範囲またはナノ細孔範囲の除去率を有してもよい。例えば、除去率は、約４０、３０、２０、１０、または、５ナノメートル以下を含めて、約０．０５ミクロンまたは０．０５ミクロン未満にまで至ってもよい。フィルタは、例えば、透過性金属材料、透過性セラミック材料、あるいは、透過性高分子膜または高分子のファイバあるいはフィラメントの透過性のシートあるいはマスを含む透過性高分子材料から形成されてもよい。また、フィルタメディアは、例えば、平坦構造、ハニカム構造、襞構造、螺旋巻回構造、または、中空ファイバ構造を有してもよい。
【００１３】
[0017]フィルタアセンブリ１１は、フィルタメディア１２を取り囲むハウジング１３を更に含んでもよく、フィルタメディア１２は、フィルタアセンブリ１１内を上流側１４と下流側１５とに画定する。コンディショニング前、フィルタアセンブリ１１には、フィルタメディア１２内の細孔および空隙を含めて、ガス、例えば空気または窒素などの不活性ガスが充填されてもよく、あるいは、プレウェッティング液、例えば、水またはアルコールを含む溶液が充填されてもよい。フィルタアセンブリ１１は、フィルタメディア１２の上流側１４に互いに離間される入口２０および通気孔２１を更に含むとともに、フィルタメディア１２の下流側１５に出口２２を更に含んでもよい。入口、通気孔、および、出口は、上端、下端、および／または、側部を含むフィルタアセンブリの様々な場所に配置されてもよい。図示の実施形態において、入口２０、通気孔２１、および、出口２２はそれぞれハウジング１３の上端にあってもよい。ハウジング１３は、フィルタアセンブリ１１内に、例えば入口２０と通気孔２１との間および入口２０と出口２２との間に１つ以上の流路を形成してもよい。多くの実施形態に関して、フィルタメディア１２は、中空の略円筒状の形態を有してもよく、また、ブラインドエンドキャップ２３がフィルタメディア１２の一端に接合されてもよい。フィルタアセンブリ１１は、フィルタメディア１２の外部のフィルタアセンブリ１１の上流側１４からフィルタメディア１２の内部のフィルタアセンブリ１１の下流側１５へ外側から内側へ流すようになっていてもよい。あるいは、フィルタアセンブリが内側から外側へ流すようになっていてもよい。例えば取引称号ＥＺＤ下で米国ニューヨーク州のポートワシントンのＰａｌｌ社から入手できるフィルタアセンブリを含む多くの異なるフィルタアセンブリが本発明を具現化するシステムおよび方法によってコンディショニングされてもよい。
【００１４】
[0018]コンディショニングしステム１０の一実施形態の多くの様々な例のうちの１つが図１に示されている。コンディショニングしステム１０は、様々な方法でフィルタアセンブリ１１の入口２０に結合可能であってもよいパージ液供給源２４を含んでもよい。例えば、入口ライン２５がパージ液供給源２４とフィルタアセンブリ１１の入口２０との間で延びてもよい。圧力源２６が、パージ液をパージ液供給源２４から例えば入口ライン２５に沿ってフィルタアセンブリ入口２０へ推し進めるようになっていてもよい。コンディショニングしステム１０は、フィルタアセンブリ１１の通気孔２１および出口２２に任意の様々な方法で結合可能な廃棄物リザーバ３０を含んでもよい。例えば、別個の通気ライン３１および出口ライン３２がフィルタアセンブリ１１の通気孔２１および出口２２のそれぞれと廃棄物リザーバ３０との間で延びてもよい。コンディショニングしステム１０は、入口弁３３、通気弁３４、および、出口弁３５を更に含んでもよい。入口弁３３、通気弁３４、および、出口弁３５は、入口２０、通気孔２１、および、出口２２を開閉するために、フィルタアセンブリ１１の入口２０、通気孔２１、および、出口２２のそれぞれと作用的に関連付けられてもよい。処理の一部が手作業で行なわれてもよいが、大部分の実施形態に関して、コンディショニングしステム１０は、フィルタアセンブリ１１のコンディショニングを制御するために構成要素のうちの１つ以上に接続されるコントローラ３６を更に含む。例えば、図１のコンディショニングしステム１０において、コントローラ３６は、圧力源２６、入口弁３３、通気弁３４、および、出口弁３５に接続されてもよい。
【００１５】
[0019]コンディショニングしステム１０の構成要素が任意の多数の方法で構成されてもよい。例えば、パージ液供給源は、例えば、大量のパージ液を保持するタンクまたはドラムとして、または、少量のパージ液を収容する柔軟容器を含む更に小さい容器として様々に構成されてもよい。パージ液を供給するための様々な容器が、米国特許出願公開２００５／０１７３４５８号明細書で特定されるような分配液を収容する容器、リザーバ、および、バッグの多くを含めて適し得る。任意の多数のパージ液がパージ液供給源内に収容されてもよい。パージ液は、化学物質自体、化学物質の１つ以上の成分、例えば主成分、または、化学物質あるいは成分のための溶媒を含む、フィルタアセンブリによって濾過されるべき化学物質と適合する任意の液体であってもよい。化学物質およびパージ液は、例えば、産業内の所望のプロセスに応じて変わってもよい。例えば、フォトリソグラフィ産業において、濾過されるべき化学物質は、光反応性化学物質、例えば、フォトレジスト、反射防止コーティング、または、基板ウエハ上に分配されるようになっている任意の他の化学物質であってもよい。多くの実施形態において、パージ液は、これらの分配可能な化学物質のための溶媒であってもよい。そのような溶媒の例としては、エチル（Ｓ）−２−ヒドロキシプロパン酸、１−メトキシ−２−プロピルアセテート、シクロヘキサノン、ブチルアセテート、ジヒドロフラン−２（３Ｈ）−１、および、１−メトキシプロパン−２−ｏ１が挙げられるが、これらに限定されない。
【００１６】
[0020]圧力源は、パージ液をフィルタアセンブリの入口へ推し進めるために様々な方法で構成されてもよい。殆どの実施形態において、圧力源は、フィルタアセンブリの入口に増大された圧力または正圧を与える。その結果、圧力源は、ポンプとして構成されてもよく、また、パージ液供給源とフィルタアセンブリ入口との間に配置されてもよい。例えば、ポンプが入口ラインに配置されてもよい。あるいは、ポンプは、フィルタアセンブリの入口に負圧を印加するために、通気孔および／または出口にあるいはその下流側に、例えば通気ラインおよび／または出口ラインに配置されてもよい。ポンプは、例えば、低容量、低せん断の容積移送式ポンプとして様々に構成されてもよい。あるいは、圧力源は、重力供給式アセンブリあるいは空気圧式または機械的なエクスプレッサを備えてもよい。多くの実施形態において、圧力源２６は、取引称号ＮＯＷＰａｋ下でＡＴＭＩから入手できるエクスプレッサなどの空気圧式エクスプレッサを備えてもよい。空気圧式エクスプレッサにおいて、パージ液供給源は、パージ液が充填されて圧力容器内に配置される柔軟容器またはバッグであってもよい。所望の流量のパージ液を柔軟容器から例えば入口ラインに沿ってフィルタアセンブリの入口へ推し進めるために、窒素などの不活性ガスが柔軟容器の外側で圧力容器へ供給されてもよい。
【００１７】
[0021]廃棄物リザーバ３０は、フィルタアセンブリ１１からの汚染されたパージ液を受けるべく様々な方法で構成されてもよい。例えば、廃棄物リザーバは、汚染されたパージ液を受けて適切に廃棄するための排液ラインであってもよい。あるいは、廃棄物リザーバは、より多くの量を受けて蓄えるためのタンクまたはドラム、あるいは、少量の汚染されたパージ液を受けて蓄えるための固定されたまたは柔軟容器を含んでもよい。
【００１８】
[0022]任意の多数の弁が、入口弁３３、通気弁３４、および、出口弁３５に適している。それらの弁のうちの１つ以上は、流量可変弁であってもよく、かつ、フィルタアセンブリへの及び／またはフィルタアセンブリからの流体の流量を制御するために使用されてもよい。しかしながら、多くの実施形態において、弁は、バイナリＯＮ／ＯＦＦ弁、例えば高速作動ＯＮ／ＯＦＦ弁であってもよく、また、流量が圧力源２６によって制御されてもよい。各弁は、フィルタアセンブリの入口、通気、または、出口を開閉するために様々な位置に配置されてもよい。例えば、入口弁３３は、入口２０またはその近傍に配置されてもよく、例えば入口ライン２５に配置されてもよく、通気弁３４は、通気孔２１またはその近傍に配置されてもよく、例えば通気ライン３１に配置されてもよく、また、出口弁３５は、出口２２またはその近傍に配置されてもよく、例えば出口ライン３２に配置されてもよい。
【００１９】
[0023]コントローラ３６は任意の様々な方法で構成されてもよい。例えば、コントローラ３６は、電子コントローラであってもよく、例えば、フィルタアセンブリをコンディショニングすることに関与する様々なステップを実施するためのマイクロプロセッサまたは論理アレイ、例えばプログラマブル論理アレイを含んでもよい。コントローラは、別個のユニットであってもよく、また、コンディショニングしステムの残りの部分またはコンディショニングしステムの任意の他の構成要素と共に物理的に配置されてもよい。あるいは、コントローラは、フィルタアセンブリをコンディショニングすることに加えて、１つ以上のプロセス、例えば分配プロセスを制御するための大型電子システムと一体化されてもよい。コントローラは、システムに関する情報を受けるおよび／または送るためおよび／またはコンディショニングしステムの１つ以上の構成要素の機能を制御するためにコンディショニングしステムの任意の構成要素に接続されてもよい。例えば、図１に示されるコントローラ３６は、パージ液供給源２４からフィルタアセンブリ１１の入口２０へのパージ液の流れを制御するために圧力源２６に接続されてもよい。コントローラ３６は、弁を開閉してフィルタアセンブリ１１を通じた流れを制御するために、入口弁３３、通気弁３４、および、出口弁３５に接続されてもよい。
【００２０】
[0024]コンディショニングしステムは、システムに関する更なる情報を与えるために、例えば圧力センサ、温度センサ、流量センサ、および、レベルセンサなどのセンサを含む１つ以上の更なる構成要素を含んでもよい。更なる構成要素は、システム内の補助機能を果たすために、緩衝器、脱気器、気泡トラップ、および、フィルタなどの他の装置を含んでもよい。例えば、圧力センサおよび／または流量センサが、フィルタアセンブリの入口および／または出口と関連付けられる圧力情報または流量情報を与えるために入口ラインおよび／または出口ラインに配置されてもよく、緩衝器、脱気器、および／または、フィルタが、フィルタアセンブリの入口よりも上流側で補助機能を果たすために入口ラインに配置されてもよく、および／または、気泡トラップが、フィルタアセンブリの出口よりも下流側で補助機能を果たすために出口ラインに配置されてもよい。
【００２１】
[0025]本発明の１つ以上の態様に係るフィルタアセンブリをコンディショニングするための方法が任意の多数の方法で具現化されてもよい。フィルタアセンブリが本発明を具現化するコンディショニングしステムに組み込まれた後、フィルタアセンブリは、これらの方法のうちのいずれかにしたがってコンディショニングされてもよく、また、システムコントローラは、これらの方法のうちのいずれかに関して記載されるステップおよび一連のステップにしたがってプログラミングされてもよい。
【００２２】
[0026]コンディショニング方法の一実施形態の多くの様々な例のうちの１つは、第１の段階で、例えば図１に示されるフィルタアセンブリ１１の入口２０および通気孔２１を開放すること、および、出口２２を閉じることを含んでもよい。多くの実施形態において、入口２０を開放すること、通気孔２１を開放すること、および、出口２２を閉じることは、コントローラ３６の指示で、入口弁３３を開くこと、通気弁３４を開くこと、および、出口弁３５を閉じることをそれぞれ含んでもよい。入口２０および通気孔２１が開いて出口２２が閉じられた状態で、パージ液、例えば前述したような溶媒が、例えばプラスのゲージ圧で、フィルタアセンブリ１１の内側のフィルタメディア１２の上流側１４に沿って、開放した入口２０に通されるとともに、開放した通気孔２１に通されてもよい。例えば、コントローラ３６の指示で、圧力源２６は、パージ液をフィルタアセンブリ１１を通じてフィルタメディア１２の上流側１４に沿って推し進めるために、任意の様々な方法でフィルタアセンブリ１１の入口２０の圧力を増大させてもよい。多くの実施形態においては、パージ液供給源２４が柔軟容器であってもよく、また、圧力源２６が空気圧式エクスプレッサであってもよい。コントローラ３６は、不活性ガス、例えば窒素を柔軟容器２４の外面に押しつけるように加えて、パージ液を柔軟容器２４から例えば入口ライン２５に沿って開放した入口弁３３を介して開放した入口２０を通じて推し進めるべく、圧力源２６を制御してもよい。パージ液は、パージ液がフィルタアセンブリ１１の底部へ流れてフィルタメディア１２の上流側１４に沿って上昇できるようにする流量で、上昇するパージ液に先立ってフィルタメディア１２の上流側１４にあるフィルタアセンブリ１１内の任意のガスまたは任意のプレウェッティング液を開放した通気孔２１を通じて移動させるように、開放した入口２０に通されてもよい。フィルタメディア１２の上流側１４に沿う流れは、ガスまたはプレウェッティング液とパージ液との任意の混合を減らすために、少なくとも当初は非乱流であってもよい。この流量は、フィルタアセンブリのサイズ、例えばフィルタアセンブリ内の流路のサイズを含む多くの因子に依存してもよい。マイクロエレクトロニクス産業を対象にするフィルタアセンブリと共に用いる実施形態を含む多くの実施形態において、開放した入口２０を通るパージ液流量は、例えば、約２０ｍＬ／分以下〜約１００ｍＬ／分以上の範囲内であってもよい。
【００２３】
[0027]パージ液が任意のガスまたはプレウェッティング液をフィルタメディア１２の上流側１４から移動させたら、開放した入口２０を通じたパージ液の流れが続いてもよく、また、排出されたあるいは浸出された微粒子または他の物質を含む汚染物質をフィルタメディア１２の上流側１４からあるいはハウジング１３の内側から開放した通気孔２１を通じて更に除去するために、流量が更に増大されてもよくあるいは増大されなくてもよい。例えば、コントローラ３６の指示で、圧力源２６は、フィルタアセンブリ１１の入口２０の圧力を更に増大させてもよい。マイクロエレクトロニクス産業を対象にする実施形態を含む多くの実施形態において、第１の段階で開放した入口２０を通じてフィルタメディア１２の上流側１４に沿っておよび開放した通気孔２１を通じてフラッシングされるパージ液の総量は、例えば、約１００ｍＬ以下〜約３００ｍＬ以上の範囲であってもよい。
【００２４】
[0028]殆どの実施形態において、コンディショニング方法の第１の段階で開放した通気孔２１を通じてフィルタアセンブリ１１から出るパージ液および汚染物質は、廃棄物リザーバ３０へ方向付けられてもよい。例えば、コントローラ３６の指示で、フィルタアセンブリ１１の内側のフィルタメディア１２の上流側１４からのパージ液および汚染物質は、圧力源２６により開放した通気孔２１を通じて廃棄物リザーバ３０へ、例えば開放した通気弁３４および通気ライン３１を介して推し進められてもよい。第１の段階の終わりに、フィルタアセンブリ１１の内側のフィルタメディア１２の上流側１４に汚染物質がないパージ液が充填されてもよい。
【００２５】
[0029]コンディショニング方法は、コンディショニング方法の第２の段階において、入口２０を開放すること、出口２２を開放すること、および、フィルタアセンブリ１１の通気孔２１を閉じることを更に含んでもよい。この場合も先と同様に、入口２０を開放すること、出口２２を開放すること、および、通気孔２１を閉じることは、コントローラ３６の指示で、入口弁３３を開くこと、出口弁３５を開くこと、および、通気弁３４を閉じることを含んでもよい。入口２０および出口２２が開いて通気孔２１が閉じられた状態で、パージ液は、例えばプラスのゲージ圧において、第２の段階の第１の局面において、第１の流量で、開放した入口２０に通されて、上流側１４から下流側１５へフィルタメディア１２に通され、フィルタメディア１２の下流側１５に沿って、開放した出口２２に通されてもよい。例えば、コントローラ３６の指示で、圧力源２６は、パージ液をフィルタメディア１２を通じて開放した出口２２へ推し進めるために、任意の様々な方法でフィルタアセンブリ１１の入口２０の圧力を増大させてもよい。この場合も先と同様に、多くの実施形態において、コントローラ３６は、不活性ガスを柔軟容器２４の外面に押しつけるように供給して、パージ液を柔軟容器２４から例えば入口ライン２５に沿って開放した入口弁３３を介して開放した入口２０に通して第１の流量で推し進めるべく、圧力源２６を制御してもよい。
【００２６】
[0030]第２の段階の第１の局面における第１の流量は、パージ液がフィルタメディアを完全に満たすようにフィルタメディア１２を通じて十分にゆっくりと流れることができるようにしてもよい。開放した入口２０の圧力は、パージ液がフィルタメディア１２の細孔および空隙の全ての中に拡散できるようにするために、十分な時間にわたって保持されてもよく、それにより、さもなければフィルタメディア１２に捕捉されたままとなり得る全てのガスまたはプレウェッティング液がこれらの細孔および空隙から移動する。パージ液がフィルタメディア１２を通過するにつれて、第１の流量により、パージ液は、パージ液に先立って任意のガスまたはプレウェッティング液を開放した出口２２を通じて移動させるように、フィルタアセンブリ１１の内側のフィルタメディア１２の下流側１５を下から上へ満たすことができてもよい。第１の流量は、ガスまたはプレウェッティング液とパージ液との任意の混合を減らすために、非乱流プロファイルを可能にしてもよい。また、第１の流量は、フィルタアセンブリのサイズ、および、フィルタメディアの特性、例えば除去率を含む多くの因子に依存してもよい。フィルタメディアが約０．０５ミクロン以下の除去率を有する場合があるマイクロエレクトロニクス産業で使用される実施形態を含む多くの実施形態において、第２の段階の第１の局面におけるパージ液の第１の流量は、例えば、約２０ｍＬ／分以下〜約１００ｍＬ／分以上の範囲内であってもよい。
【００２７】
[0031]パージ液がフィルタメディア１２の細孔および空隙からガスまたはプレウェッティング液の全てを移動させて、ガスまたはプレウェッティング液がフィルタメディア１２の下流側１５から移動すると、開放した入口２０を通じた、フィルタメディア１２を通じた、および、開放した出口２２を通じたパージ液の流量が、第２の段階の第２の局面で、第１の流量よりも多い第２の流量へ増大されてもよい。例えば、コントローラ３６の指示で、圧力源２６は、フィルタアセンブリ１１の入口２０のゲージ圧を更に増大させてもよく、それにより、パージ液がパージ液供給源２４から更に多くの流量で開放した入口２０へ推し進められる。より多くの第２の流量は、フィルタメディアから排出されあるいは浸出される微粒子または他の物質を含む汚染物質並びに任意の残りのガスまたはプレウェッティング液を、より少ない第１の流量よりもかなり効果的に、フィルタアセンブリ１１からフラッシングする。第２の流量は、第１の流量と同じ因子の多くに依存してもよい。マイクロエレクトロニクス産業で使用される実施形態を含む多くの実施形態において、第２の流量は、約５０ｍＬ／分以下〜約５００ｍＬ／分以上を含む最大で約５００ｍＬ／分以上の範囲内であってもよい。また、第２の段階中に開放した入口２０を通じて、フィルタメディア１２を通じて、および、開放した出口２２を通じてフラッシングされるパージ液の総量は、例えば、約２５０ｍＬ以下〜約１０００ｍＬ以上の範囲内であってもよく、総量のかなりの部分、例えば５％〜約２５％以上が、第２の段階の第２の局面においてフィルタアセンブリ１１を通じてフラッシングされる。
【００２８】
[0032]図１のコンディショニング方法の第２の段階の第１の局面および第２の局面の両方で開放した出口２２を通じてフィルタアセンブリ１１から出るパージ液および汚染物質は、廃棄物リザーバ３０へ方向付けられてもよい。例えば、コントローラ３６の指示で、フィルタメディア１２内からおよびフィルタアセンブリ１１内のフィルタメディアの下流側１５からのパージ液および汚染物質は、圧力源２６によって開放した出口２２を通じて例えば開放した出口弁３５および出口ライン３２を介して廃棄物リザーバ３０へ推し進められてもよい。第２の段階の終わりに、フィルタアセンブリ１１の全体に汚染物質がないパージ液が充填されてもよい。その後、フィルタアセンブリがコンディショニングしステムから除去されてもよい。入口、出口、および、通気孔がシールされてもよく、それにより、フィルタアセンブリを汚染物質がないパージ液を充填して保管しおよび／または輸送できる。これに代えてあるいはこれに加えて、パージ液は、例えば、濾過されるべき化学物質によってフィルタアセンブリから移動されてもよく、また、フィルタアセンブリは、化学物質を濾過するために使用状態に置かれてもよい。
【００２９】
[0033]コンディショニングしステム１０およびコンディショニング方法の他の実施形態が図２に示される。図２のコンディショニングしステム１０は、図１のコンディショニングしステム１０に非常に類似しており、そのため、類似の構成要素が同じ参照符号によって特定される。図２のコンディショニングしステム１０は、既に説明した方法のうちのいずれかで、例えば入口ライン２５を介して、フィルタアセンブリ１１の入口２０に結合可能であってもよいパージ液供給源２４を同様に含んでもよい。圧力源２６が、同様に、例えば圧力源２６に接続されるコントローラ３６の制御下で、パージ液をパージ液供給源２４からフィルタアセンブリの入口２０へ推し進めるようになっていてもよい。入口弁３３、通気弁３４、および、出口弁３５は、同様に、フィルタアセンブリ１１の入口２０、通気孔２１、および、出口２２のそれぞれと作用的に関連付けられて、コントローラ３６に接続されてもよい。また、コンディショニングしステム１０は、フィルタアセンブリ１１の通気孔２１および出口２２に例えば通気ライン３２および出口ライン３３を介して同様に結合される廃棄物リザーバ３０を含んでもよい。
【００３０】
[0034]また、図２のコンディショニングしステム１０は、開放した出口２２を通じて例えばマイナスのゲージ圧でパージ液をフィルタアセンブリ１１の開放した入口２０へ引き込むための真空装置４０を含んでもよい。真空装置は様々な方法で構成されてもよい。例えば、真空装置４０は、排出装置を含んでもよく、また、パージ液を開放した入口２０へ真空引きしてもよい。真空装置４０は、コントローラ３６に接続されてもよく、また、コンディショニングしステム１０の様々な場所に結合されてもよい。例えば、真空装置４０は、出口２２の圧力を減少させてフィルタアセンブリ１１を通るパージ液を開放した入口２０からフィルタメディア１２および開放した出口２２を通じて引き込むために、フィルタアセンブリ１１の出口２２に結合されてもよい。図示の実施形態において、真空装置４０は、出口ライン３２に、例えば出口弁３５よりも下流側に配置されてもよい。
【００３１】
[0035]図２のフィルタアセンブリ１１をコンディショニングするための方法は、図１のフィルタアセンブリ１１をコンディショニングするための方法に非常に類似してもよい。例えば、図２のコンディショニング方法の第１の段階は、既に説明した図１のコンディショニング方法の第１の段階に非常に類似してもよい。多くの実施形態において、第１の段階では、真空装置４０が使用不能であってもよく、入口２０および通気孔２１が開放されてもよく、出口２２が閉じられてもよく、また、パージ液は、パージ液供給源２４から、開放した入口２０を通じて、フィルタアセンブリ１１内のフィルタメディア１２の上流側１４に沿って、開放した通気孔２１を通り、廃棄物リザーバ３０へ送られてもよい。例えば、コントローラ３６の指示で、入口弁３３および通気弁３４が開放されてもよく、出口弁３５が閉じられてもよく、また、圧力源２６が開放した入口２０の圧力を増大させ、それにより、パージ液をフィルタアセンブリ１１内へ推し進めてもよい。フィルタアセンブリ１１内のフィルタメディア１２の上流側１４のパージ液および汚染物質は、開放した通気孔２１から出て、既に説明したように廃棄物リザーバ３０へ推し進められる。第１の段階の終わりに、フィルタアセンブリ１１内のフィルタメディア１２の上流側１４に汚染物質がないパージ液が充填されてもよい。
【００３２】
[0036]図２のコンディショニング方法の第２の段階では、前述したように、入口２０および出口２２が開放されてもよく、また、通気孔２１が閉じられてもよく、また、第２の段階の第１の局面では、前述したように、パージ液が第１の流量でフィルタアセンブリに通されてもよい。しかしながら、第２の段階の第１の局面では、真空装置４０および圧力源２６が、大気圧よりも低い圧力をフィルタアセンブリ１１の開放した出口２２に与えるようになっていてもよい。例えば、圧力源２６は、大気圧を上回る圧力増大を開放した入口２０に殆ど与えなくてもよくあるいは全く与えなくてもよく、一方、真空装置４０は、開放した出口２２の圧力を大気圧未満に、例えば約−１２ｐｓｉｇ以下まで減少させてもよい。多くの実施形態において、コントローラ３６は、パージ液を収容する柔軟容器２４の外面に大気圧を上回る増大した圧力を殆ど印加しないあるいは全く印加しないように圧力源２６に指示してもよく、一方、真空装置４０は、コントローラ３６の指示で、開放した出口２２の圧力を大気圧未満に減少させる。
【００３３】
[0037]第２の段階のこの第１の局面において、パージ液は、例えばコントローラ３６の指示で、真空装置４０により、パージ液供給源２４から、例えば入口ライン３１に沿って、開放した入口弁３３を通じて、フィルタアセンブリ１１へ引き込まれてもよい。その後、パージ液は、第１の流量で開放した入口２０を通じて引き込まれ、上流側１４から下流側１５へフィルタメディア１２に通されて、フィルタメディア１２の下流側１５に沿って、開放した出口２２を通じて引き込まれてもよい。第１の流量は、非乱流プロファイルを可能にしてもよく、また、パージ液が細孔および空隙の全てを満たすべくフィルタメディア１２を通じて十分にゆっくりと流れることができるようにしてもよく、それにより、図１に関して既に説明したように、細孔および空隙からガスまたはプレウェッティング液が移動する。開放した出口２２に大気圧未満の圧力を与えることにより、真空装置４０は、フィルタメディア１２の細孔および空隙からのガスまたはプレウェッティング液の除去を更に促進させる。真空装置４０の「引き」は、フィルタメディア１２の細孔および空隙からガスまたはプレウェッティング液をより完全に除去するために流入するパージ液の「押し」と組み合わさってもよく、また、約０．０５ミクロン以下の除去率を有するフィルタメディアの小さい細孔および空隙にとって特に効果的である。フィルタメディア１２から、パージ液は、フィルタアセンブリ１１内のフィルタメディア１２の下流側１５を例えば下から上へ満たしてもよく、それにより、空気またはプレウェッティング液がパージ液に先立って開放した出口２２に通される。
【００３４】
[0038]パージ液がフィルタメディア１２の細孔および空隙並びにフィルタメディア１２の下流側１５からガスまたはプレウェッティング液を移動させた後、開放した入口２０を通じた、フィルタメディア１２を通じた、および、開放した出口２２を通じたパージ液の流量が、コンディショニング方法の第２の段階の第２の局面で、より多い第２の流量へ増大されてもよい。図２のコンディショニング方法の第２の段階の第２の局面は、真空装置４０を使用不能にすることを含んでもよいが、前述した図１のコンディショニング方法の第２の段階の第２の局面とほぼ同一であってもよい。例えば、真空装置４０が使用不能であってもよく、また、圧力源２６は、例えばコントローラ３６の指示で、より多い第２の流量を達成するために、フィルタアセンブリ１１の開放した入口２０の圧力を増大させてもよい。その後、より多くのパージ液が、より多い第２の流量で、パージ液供給源２４から開放した入口２０へ推し進められ、図１に関して前述したように、汚染物質をフィルタアセンブリ１１からより効果的にフラッシングする。
【００３５】
[0039]図２のコンディショニング方法の第２の段階の第１の局面および第２の局面の両方でフィルタアセンブリ１１の開放した出口２２から出るパージ液および汚染物質は、例えば前述したようにコントローラ３６の指示で開放した出口弁３５および出口ライン３２を介して、廃棄物リザーバ３０へ方向付けられてもよい。第２の段階の終わりに、フィルタアセンブリの全体に汚染物質がないパージ液が充填されてもよく、また、前述したように、フィルタアセンブリ１１の全体が輸送、保管、または、使用に備えてもよい。
【００３６】
[0040]コンディショニングしステム１０およびコンディショニング方法の他の実施形態が図３に示される。図３のコンディショニングしステム１０は、図１および図２のコンディショニングしステム１０に非常に類似しており、そのため、類似の構成要素が同じ参照符号によって特定される。図３のコンディショニングしステム１０は、既に説明した方法のうちのいずれかで、例えば入口ライン２５を介して、フィルタアセンブリ１１の入口２０に結合可能であってもよいパージ液供給源２４を同様に含んでもよい。圧力源２６が、同様に、例えば圧力源２６に結合されるコントローラ３６の制御下で、パージ液をパージ液供給源２４からフィルタアセンブリ１１の入口２０へ推し進めるようになっていてもよい。入口弁３３、通気弁３４、および、出口弁３５は、同様に、フィルタアセンブリ１１の入口２０、通気孔２１、および、出口２２のそれぞれと作用的に関連付けられて、コントローラ３６に接続されてもよい。また、コンディショニングしステム１０は、フィルタアセンブリ１１の通気孔２１および出口２２に例えば通気ライン３２および出口ライン３３を介して結合される廃棄物リザーバ３０を含んでもよい。また、図３のコンディショニングしステム１０は、図２に示される真空装置４０と同様に、例えば出口ライン３２を介して出口２２に結合されてコントローラ３６に接続される真空装置４０を含んでもよい。
【００３７】
[0041]また、図３のコンディショニングしステム１０は、パージ液を収容できる容器４１、例えば第２の容器を含んでもよい。第２の容器４１は、例えば固定されたあるいは柔軟な容器として様々に構成されてもよく、また、フィルタアセンブリ１１の出口２２に様々な方法で結合されてもよい。例えば、第２の容器４１は、回収ライン４２と該回収ライン４２を出口ライン３２に接続する出口弁装置４３，４４とを介してフィルタアセンブリ１１の出口２２に結合されてもよい。真空装置４０を含む実施形態において、回収ライン４２は、図３に示されるように出口ライン３２の上流側に接続されてもよく、あるいは、真空装置４０の下流側に接続されてもよい。コントローラ３６に接続されてもよい出口弁装置４３，４４は、パージ液をフィルタアセンブリ１１の開放した出口２２から廃棄物リザーバ３０または第２の容器４１のいずれかへ方向付けるようになっていてもよい。
【００３８】
[0042]図３のフィルタアセンブリ１１をコンディショニングするための方法は、図１または図２のフィルタアセンブリ１１をコンディショニングするための方法に非常に類似してもよい。例えば、図３のコンディショニング方法の第１の段階は、既に説明した図１または図２のコンディショニング方法の第１の段階とほぼ同一であってもよい。多くの実施形態において、第１の段階では、真空装置４０が使用不能であってもよく、フィルタアセンブリ１１の入口２０および通気孔２１が開放されてもよく、出口２２が閉じられてもよく、また、パージ液は、パージ液供給源２４から、開放した入口２０を通じて、フィルタアセンブリ１１内のフィルタメディア１２の上流側１４に沿って、開放した通気孔２１を通り、廃棄物リザーバ３０へ送られてもよい。例えば、コントローラ３６の指示で、入口弁３３および通気弁３４が開放されてもよく、出口弁３５が閉じられてもよく、また、圧力源２６は、前述したように、開放した入口２０の圧力を増大させ、それにより、パージ液を開放した入口２０へ送って、フィルタメディア１２の上流側１４のパージ液およびあらゆる汚染物質を開放した通気孔２１を通じて廃棄物リザーバ３０へフラッシングしてもよい。第１の段階の終わりに、フィルタアセンブリ１１内のフィルタメディア１２の上流側１４に汚染物質がないパージ液が充填されてもよい。
【００３９】
[0043]図３のコンディショニング方法の第２の段階は、図２のコンディショニング方法の第２の段階とほぼ同一であってもよい。フィルタアセンブリ１１の入口２０および出口２２が開放されてもよく、また、通気孔２１が閉じられてもよい。例えば、コントローラ３６の指示で、入口弁３３および出口弁３５が開放されてもよく、また、通気弁３４が閉じられてもよい。また、圧力源２６および真空装置４０は、前述したように、大気圧よりも低い圧力を開放した出口２２に与えるようになっていてもよい。しかしながら、パージ液が第２の段階の第１の局面でフィルタアセンブリ１１の開放した入口２０に通される前に、出口弁装置４３，４４は、例えばコントローラ３６の指示で、回収ライン４２を閉じるとともに出口弁装置４３，４４と廃棄物リザーバ３０との間の出口ライン３２を開放するようになっていてもよい。その結果、パージ液は、図２に関して既に説明したように、真空装置４０により、パージ液供給源２４からフィルタアセンブリ１１の開放した入口２０へ引き込まれるとともに、更に第１の流量で開放した入口２０を通り、上流側１４から下流側１５へフィルタメディア１２を通って、フィルタメディア１２の下流側１５に沿って、開放した出口２２に通されてもよい。フィルタメディア１２内およびフィルタメディア１２の下流側１５のガスまたはプレウェッティング液を含む汚染物質は、フィルタアセンブリ１１から開放した出口２２を通じて効果的に移動されおよび／または運ばれる。第２の段階の第１の局面中に、パージ液および汚染物質は、開放した出口２２から廃棄物リザーバ３０へ方向付けられてもよい。例えば、出口弁装置４３，４４は、コントローラ３６の指示で、パージ液および汚染物質を出口ライン３２を介して廃棄物リザーバ３０へ方向付けてもよい。
【００４０】
[0044]パージ液がフィルタメディア１２の細孔および空隙並びにフィルタメディア１２の下流側１５からガスまたはプレウェッティング液を移動させた後、開放した入口２０を通じた、フィルタメディア１２を通じた、および、開放した出口２２を通じたパージ液の流量が、コンディショニング方法の第２の段階の第２の局面で、より多い第２の流量へ増大されてもよい。図３のコンディショニング方法の第２の段階の第２の局面は、図２のコンディショニング方法の第２の段階の第２の局面とほぼ同一であってもよい。例えば、真空装置４０が使用不能であってもよく、また、圧力源２６は、例えばコントローラ３６の指示で、より多い第２の流量を達成するために、フィルタアセンブリ１１の開放した入口２０の圧力を増大させてもよい。その後、パージ液が、より多い第２の流量で、パージ液供給源２４からフィルタアセンブリ１１の開放した入口２０へ推し進められ、図１および図２に関して前述したように、汚染物質をフィルタアセンブリ１１からより効果的にフラッシングする。
【００４１】
[0045]また、図３のコンディショニング方法は、第２の段階の第２の局面中に、パージ液をフィルタアセンブリ１１の開放した出口２２から第２の容器４１へ廃棄物リザーバ３０から離れて方向付けることを更に含む。例えば、第２の段階の第２の局面中、出口弁装置４３，４４は、例えばコントローラ３６の指示で、出口弁装置４３，４４よりも下流側の出口ライン３２を閉じて回収ライン４２を開くようになっていてもよい。その結果、パージ液は、フィルタアセンブリ１１の開放した出口２２から、例えば出口ライン３２および回収ライン４２を介して、第２の容器４１へ移動する。多くの実施形態においては、十分な量のパージ液が第２の流量でフィルタアセンブリ１１およびフィルタメディア１２を通過した後、ほぼ全ての汚染物質がフィルタメディア１２およびフィルタアセンブリ１１内のフィルタメディア１２の下流側１５から除去されてしまっている。第２の流量でのパージ液の連続した流れは、残りの分離された汚染物質を除去するのに有益となり得るが、一般に、このときに開放した出口２２から出るパージ液は、汚染物質がほぼなく、第２の容器４１内に回収されてもよい。フィルタメディア１２を含むフィルタアセンブリ１１を汚染物質がほぼない状態にするために第２の段階の第２の局面中にフィルタアセンブリ１１に通されてもよいパージ液の十分な量は、例えば、フィルタアセンブリ１１のサイズおよび清浄度、並びに、フィルタメディア１２の特性、例えば除去率に応じて変わってもよく、また、任意の所定のフィルタアセンブリ１１に関して実験的に決定されてもよい。多くの実施形態においては、コンディショニング方法の第２の段階の第２の局面中にフィルタアセンブリ１１に通されるパージ液の総量の約５％以下〜約２５％以上が第２の容器４１内に回収されてもよい。第２の段階の終わりに、フィルタアセンブリの全体に汚染物質がないパージ液が充填されてもよく、また、前述したように、フィルタアセンブリの全体が輸送、保管、または、使用に備えてもよい。また、パージ液供給源から供給されるパージ液のかなりの部分が第２の容器内に回収されてもよい。
【００４２】
[0046]図３のコンディショニング方法は、第２の容器４１内に回収されるパージ液を再使用することを更に含んでもよい。例えば、第２の容器４１は、図３のコンディショニングしステム１０に組み込まれる新たなフィルタアセンブリ１１の開放した入口に結合されてもよい。幾つかの実施形態において、回収されたパージ液を収容する第２の容器４１は、圧力源２６内の使い果たされたパージ液供給源２４、例えば使い果たされた第１の容器に取って代わってもよい。このとき、第２の容器は、例えば入口ライン２５を介して新たなフィルタアセンブリ１１の入口２０に結合されてもよく、また、フィルタ、例えば新たなフィルタアセンブリ１１内のフィルタメディアの除去率と同様の除去率を有するフィルタが入口ライン２５に配置されてもよい。また、空の第２の容器４１が、例えば回収ライン４２の端部で、フィルタアセンブリ１１の出口２２に結合されてもよい。その後、圧力源２６は、例えばコントローラ３６の指示で、新たなフィルタアセンブリ１１をコンディショニングするために、第２の容器内の回収されたパージ液を新たなフィルタアセンブリ１１の開放した入口２０へ推し進めてもよい。入口ライン２５のフィルタ（図示せず）は、回収されたパージ液から微量汚染物質を除去してもよい。回収されたパージ液のかなりの部分が、回収ライン４２に結合される空の第２の容器４１内に再び回収されてもよい。
【００４３】
[0047]コンディショニングしステム１０およびコンディショニング方法の他の実施形態が図４に示される。図４のコンディショニングしステム１０は、図１、図２および図３のコンディショニングしステム１０に非常に類似しており、そのため、類似の構成要素が同じ参照符号によって特定される。図４のコンディショニングしステム１０は、既に説明した方法のうちのいずれかで、例えば入口ライン２５を介して、フィルタアセンブリ１１の入口２０に結合可能であってもよいパージ液供給源２４、例えば第１の容器を含んでもよい。第１の圧力源２６が、例えば第１の圧力源２６に結合されるコントローラ３６の制御下で、パージ液をパージ液供給源２４からフィルタアセンブリ１１の入口２０へ推し進めるようになっていてもよい。入口弁３３、通気弁３４、および、出口弁３５は、フィルタアセンブリ１１の入口２０、通気孔２１、および、出口２２のそれぞれと作用的に関連付けられて、コントローラ３６に接続されてもよい。コンディショニングしステム１０は、廃棄物リザーバ３０、真空装置４０、および、パージ液を収容できる第２の容器４１を更に含んでもよい。廃棄物リザーバ３０は、例えば通気ライン３１および出口ライン３２を介してフィルタアセンブリ１１の通気孔２１および出口２２に結合されてもよい。真空装置４０は、例えば出口ライン３２を介してフィルタアセンブリ１１の出口２２に結合されてもよく、また、コントローラ３６に接続されてもよい。第２の容器４１は、例えば出口弁装置４３，４４および回収ライン４２を介して、フィルタアセンブリ１１の出口２２に結合されてもよい。
【００４４】
[0048]また、図４のコンディショニングしステム１０は、パージ液を第２の容器４１から推し進めるための第２の圧力源４５を含んでもよい。第２の圧力源４５は、第１の圧力源２６の方法と同様の様々な方法で構成されてもよい。例えば、第２の圧力源４５は、空気圧式エクスプレッサであってもよく、また、コントローラ３６に結合されてもよい。第２の容器４１が第２の圧力源４５内に配置される柔軟容器であってもよく、また、第２の圧力源４５は、第１の圧力源２６に関して既に説明したように、例えばコントローラ３６の指示で、窒素などの不活性ガスを柔軟な第２の容器の外面に適用するようになっていてもよい。一方の容器２４，４１を一度に回収ライン４２に接続して他方の容器４１，２４を回収ライン４２から分離するために、回収弁装置５０，５１が回収ライン４２と第１および第２の容器２４，４１との間に結合されてもよい。一方の容器２４，４１を一度に入口ライン２５に接続して他方の容器４１，２４を入口ライン２５から分離するために、入口弁装置５２，５３が入口ライン２５と第１および第２の容器２４，４１との間に結合されてもよい。回収弁装置５０，５１および入口弁装置５２，５３はいずれも、コントローラ３６に結合されてもよく、また、交互に、１）第２の容器４１が入口ライン２５にではなく回収ライン４２に結合される一方で第１の容器２４を回収ライン４２にではなく入口ライン２５に結合し、２）第１の容器２４が入口ライン２５にではなく回収ライン４２に結合される一方で第２の容器４１を回収ライン４２にではなく入口ライン２５に結合するようになっていてもよい。したがって、図４のコンディショニングしステム１０は、幾つかのサイクルにわたって長期間、複数のフィルタアセンブリを個別にコンディショニングしてもよい。各サイクルでは、第１の容器２４がフィルタアセンブリ１１をコンディショニングするためにパージ液を供給し、一方、第２の容器４１がパージ液の一部を回収し、その後、第２の容器４１がフィルタアセンブリ１１をコンディショニングするためにパージ液を供給し、一方、第１の容器２４がパージ液の一部を回収する。回収されたパージ液から微量汚染物質を除去するために、図３に関して説明したフィルタと同様のフィルタ５４が入口ライン２５に配置されてもよい。
【００４５】
[0049]図４のコンディショニング方法は、図１、図２および図３のコンディショニング方法に非常に類似してもよい。例えば、図４のコンディショニング方法の第１および第２の段階は、容器４１，２４の一方を入口ライン２５から分離すること、および、容器２４，４１の他方を回収ライン４２から分離することに加えて、前述したように、図３のコンディショニング方法の第１および第２の段階とほぼ同一であってもよい。例えば、コントローラ３６は、第２の容器４１を回収ライン４２に接続するとともに第２の容器４１を入口ライン２５から分離するために、回収弁装置５０，５１を制御してもよい。コントローラ３６は、第１の容器２４を入口ラインに接続するとともに第１の容器を回収ライン４２から分離するために入口弁装置５２，５３を制御してもよい。その後、複数のフィルタアセンブリ１１のコンディショニングが第１の半サイクルにわたって続いてもよい。すなわち、一方のフィルタアセンブリ１１が、他方のフィルタアセンブリの後に、コンディショニングしステム１０に組み込まれて、コンディショニング方法の第１および第２の段階に晒され、その後、コンディショニングしステム１０から除去される。第１の圧力源２６は、コンディショニング方法の連続する第１および第２の段階中、第１の容器２４が使い果たされて第２の容器４１が第１の容器２４から供給されるパージ液のかなりの部分を回収するまで、パージ液を第１の容器２４から各フィルタアセンブリ１１へ推し進めてもよい。
【００４６】
[0050]第２の半サイクル中、例えば、回収弁装置５０，５１および入口弁装置５２，５３の作用により、コントローラ３６の制御下で、回収されたパージ液を収容する第２の容器４１が入口ライン２５に結合されて回収ライン４２から分離され、一方、第１の容器２４が回収ライン４２に接続されて入口ライン２５から分離される。その後、複数のフィルタアセンブリ１１のコンディショニングが、第２の半サイクルにわたって、第２の容器４１の回収されたパージ液が使い果たされて第１の容器２４が第２の容器４１から供給される回収されたパージ液のかなりの部分を再び回収するまで、同様に続いてもよい。その後、図４のコンディショニング方法は、各サイクルにわたって、回収されたパージ液がかなり汚染されて信頼を以って使用できなくなるまであるいは十分な量のパージ液が回収されなくなるまで、フィルタアセンブリ１１のコンディショニングを続けてもよい。
【００４７】
[0051]本発明を具現化するコンディショニングしステムおよびコンディショニング方法は、化学物質を濾過するためのコンディショニングされたフィルタアセンブリを前処理することを更に含んでもよい。前処理システムは、別個の独立型システムであってもよく、あるいは、前述したコンディショニングしステムまたは分配システムを含む他のシステムと一体化されてもよい。前処理システム６０の多くの異なる例のうちの１つが図５に示される。一般に、前処理システム６０は、パージ液が充填されたコンディショニングされたフィルタアセンブリ１１の入口２０に結合される不活性ガス供給源６１、例えば窒素ガス源を含んでもよい。不活性ガス供給源６１は、例えばタンクまたはキャニスタとして様々に構成されてもよい。図示の実施形態において、不活性ガス供給源６１は、例えば入口弁３３の上流側の入口ライン２５を介してコンディショニングされたフィルタアセンブリ１１の入口２０に直接的にあるいは間接的に結合される不活性ガスラインを備えてもよい。コンディショニングしステムのコントローラ３６などのコントローラに結合されてもよいガスライン弁６２が、例えばコントローラ３６の指示で、不活性ガス供給源６１を入口ライン２５に結合しあるいは不活性ガス供給源６１を入口ライン２５から分離するようになっていてもよい。
【００４８】
[0052]前処理システム６０は、例えばタンクまたはラインとして、あるいは、図５に示されるように容器、例えば柔軟容器として様々に構成されてもよい化学物質供給源６３を更に含んでもよい。化学物質供給源６３は、例えば入口弁３３の上流側の入口ライン２５に接続される化学物質ライン６４を介して、コンディショニングされたフィルタアセンブリ１１の入口２０に直接的にあるいは間接的に結合されてもよい。化学物質ライン６４の弁６５が、コントローラ３６に接続されてもよく、また、例えばコントローラ３６の指示下で化学物質供給源６３を入口ライン２５に結合しあるいは化学物質供給源６３を入口ライン２５から分離するようになっていてもよい。前述した圧力源２６と同様の圧力源６６が、コントローラ３６に接続されてもよく、また、化学物質をフィルタアセンブリ入口２０へ推し進めるようになっていてもよい。例えば、圧力源６６が空気圧式エクスプレッサを備えてもよく、このエクスプレッサは、化学物質供給源６３を取り囲むとともに、例えばコントローラ３５の指示でガス圧を化学物質供給源６３の外面に対して印加し、それにより、化学物質がフィルタアセンブリ入口２０へ推し進められる。
【００４９】
[0053]前処理システム６０は、前述した廃棄物リザーバと同様の廃棄物リザーバ３０を更に備えてもよい。廃棄物リザーバ３０は、様々な方法でコンディショニングされたフィルタアセンブリ１１の通気孔２１および出口２２に結合されてもよい。例えば、通気孔２１は、通気ライン３１とコントローラ３６に接続される通気弁３４とを通じて、廃棄物リザーバ３０に結合されてもよい。出口２２は、出口ライン３２とコントローラ３６に結合される出口弁３５とを通じて、廃棄物リザーバ３０に結合されてもよい。
【００５０】
[0054]コンディショニングされたフィルタアセンブリ１１を前処理するための方法は、任意の多数の方法で具現化されてもよい。例えば、前処理方法は、最初に、コンディショニングされたフィルタアセンブリ１１のフィルタメディア１２の上流側１４からパージ液を移動させることを備えてもよい。フィルタメディアの上流側のパージ液は、化学物質自体によって移動してもよい。しかしながら、図５に示される実施形態において、パージ液は、不活性ガスによってフィルタメディア１２の上流側１４から移動してもよい。例えば、コンディショニングされたフィルタアセンブリ１１の入口２０および通気孔２１が開放されて、出口２２が閉じられてもよい。多くの実施形態においては、例えばコントローラ３６の指示で、入口２０および通気孔２１が入口弁３３および通気弁３４を開くことによって開放されてもよく、また、出口２２が出口弁３５を閉じることによって閉じられてもよい。また、例えばコントローラ３６の指示で、ガスライン弁６２が開放されてもよく、また、化学物質ライン弁６５が閉じられてもよい。その後、加圧下の不活性ガスが、例えばコントローラ３６の指示で、不活性ガス供給源６１からコンディショニングされたフィルタアセンブリ１１の開放した入口２０へ供給されてもよく、この場合、不活性ガスは、開放した入口２０を通り、フィルタアセンブリ１１内のフィルタメディア１２の上流側１４に沿って、開放した通気孔２１を通過する。
【００５１】
[0055]不活性ガスは、パージ液をフィルタアセンブリ１１内のフィルタメディア１２の上流側１４から移動させ、それにより、パージ液が開放した通気孔２１を通じて推し進められる。不活性ガスの圧力は、パージ液をフィルタメディア１２の上流側１４に沿って開放した通気孔２１に通過させるべく十分大きいが、ガスがフィルタメディア１２の細孔および空隙に無理やり入るのを防止するべく十分低くてもよい。適した圧力は、例えば、除去率、例えば細孔および空隙のサイズに応じて、所定のフィルタメディアに関して実験的に決定されてもよい。開放した通気孔２１から、不活性ガスは、例えばコントローラの指示で、移動するパージ液を、例えば開放した通気弁３４および通気ライン３１を介して、廃棄物リザーバ３０へ推し進めてもよい。他の実施形態において、移動するパージ液は、例えば前述したような回収ラインおよび第２の容器を介して、容器内に回収されてもよい。
【００５２】
[0056]多くの実施形態において、パージ液がフィルタメディア１２の上流側１４から移動した後、前処理方法は、フィルタアセンブリ内のフィルタメディア１２の上流側１４に化学物質を充填することを含んでもよい。例えば、入口２０および通気孔２１、例えば入口弁３３および通気弁３４が開放したままであってもよく、また、出口２２、例えば出口弁３５が閉じられたままであってもよい。例えばコントローラ３６の指示で、ガスライン弁６２が閉じられてもよく、また、化学物質ライン弁６５が開かれてもよい。その後、例えばコントローラ３６の指示で、化学物質供給源６３内の化学物質がフィルタアセンブリ１１の開放した入口２０へ送られてもよい。圧力源６６は、化学物質を化学物質供給源６３からフィルタアセンブリ１１の開放した入口２０へ推し進めてもよい。その後、化学物質は、開放した入口２０を通過し、フィルタアセンブリ１１内のフィルタメディア１２の上流側１４に沿って、開放した通気孔２１を通り、それにより、フィルタメディア１２の上流側１４に沿ってフィルタアセンブリ１１に化学物質が充填されるとともに、不活性ガスがフィルタメディア１２の上流側１４に沿って推し進められて開放した通気孔２１に通される。開放した通気孔２１から、化学物質および不活性ガスが廃棄物リザーバ３０へ方向付けられてもよい。
【００５３】
[0057]前処理方法は、パージ液をフィルタメディア１２およびフィルタメディア１２の下流側１５から移動させること、および、フィルタメディア１２およびフィルタメディア１２の下流側１５に化学物質を充填することを更に含んでもよい。例えば、フィルタメディア１２の上流側１４に化学物質が充填された後、例えばコントローラ３６の指示で入口弁３３および出口弁３５を開くとともに通気弁３４を閉じることによって、入口２０および出口２２が開放されて、通気孔２１が閉じられてもよい。このとき、化学物質は、化学物質供給源６３から開放した入口２０へ供給されて、開放した入口２０を通り、上流側１４から下流側１５へフィルタメディア１２を通過するとともに、フィルタメディア１２の下流側１５に沿って、開放した出口２２を通過してもよく、それにより、フィルタメディア１２の細孔および空隙とフィルタメディア１２の下流側１５とに化学物質が充填されるとともに、パージ液が開放した出口２２を通じて移動する。開放した出口２２から、化学物質およびパージ液は、例えば開放した出口弁３５および出口ライン３２を介して、廃棄物リザーバ３０へ送られてもよい。前処理方法の終わりに、フィルタアセンブリは、汚染物質がない化学物質で満たされ、いつでも使用できる状態となる。
【００５４】
[0058]本発明を既に説明されて図示された実施形態で開示してきたが、本発明はこれらの実施形態に限定されない。例えば、実施形態の１つ以上の特徴が排除されあるいは変更されてもよく、１つの実施形態の１つ以上の特徴が他の実施形態の１つ以上の特徴と組み合わされてもよく、あるいは、本発明の範囲から逸脱することなく、非常に異なる特徴を有する実施形態が想起されてもよい。例えば、幾つかの実施形態は、パージ液を回収するための第２の容器を含んでもよいが、パージ液を第１の流量でフィルタメディアを通じて引き込むための真空源を含まなくてもよい。これらの実施形態は、パージ液を第１の流量でフィルタメディアを通じて推し進めるために圧力源を使用してもよい。幾つかの実施形態において、コンディショニングしステムは、フィルタアセンブリを製造するあるいは使用するための任意のシステムとは別個の独立型ユニットであってもよい。他の実施形態において、コンディショニングしステムは、分配システムなどのエンドユーザのシステムまたは製造システムと一体化されるサブシステムであってもよい。幾つかの実施形態において、コンディショニングしステムおよびコンディショニング方法は、フィルタアセンブリを保管または輸送のために前処理してもよい。幾つかの実施形態において、コンディショニングしステムおよびコンディショニング方法は、エンドユーザによる即時の使用のためにフィルタアセンブリを前処理してもよい。したがって、本発明は、特許請求の範囲内に入り得る数えきれない数の実施形態および改良を包含する。
【００５５】
[0059]本明細書中で挙げられる公報、特許出願、および、特許を含む全ての文献は、あたかも各文献が参照することにより組み入れられるべく個別に且つ具体的に示されてその全体が本明細書中に記載されたかと同じ程度まで、参照することにより本源に組み入れられる。
【００５６】
[0060]本発明を説明する文脈（特に以下の特許請求の範囲の文脈）における用語「１つ（ａ，ａｎ）」および「その」並びに同様の指示対象の使用は、本明細書中で別段示唆されずあるいは文脈により明らかに矛盾しなければ、単数形および複数形の両方を網羅するように解釈されるべきである。用語「備える」、「有する」、「含む」、および、「包含する」は、他に言及されなければ、非制約的用語（すなわち、「〜を含むがそれに限定されない」を意味する）として解釈されるべきである。本明細書中における値の範囲の列挙は、本明細書で他に示唆されなければ、その範囲内に入るそれぞれの別個の値を個別に参照する速記法としての役目を果たすべく意図されるにすぎず、また、それぞれの別個の値は、あたかもそれが本明細書中に個別に列挙されたかのように明細書中に組み入れられる。本明細書中に記載される全ての方法は、本明細書中で別段示唆されずあるいは文脈により明らかに矛盾しなければ、任意の適した順序で行なうことができる。本明細書中で与えられる任意の全ての例または典型的な用語（例えば「など」）の使用は、本発明をより良く説明しようとしているにすぎず、特許請求の範囲に別段記載がなければ、本発明の範囲を限定するものではない。明細書中の用語は、特許請求の範囲に記載されない任意の要素を本発明の実施に不可欠であるとして示すように解釈されるべきではない。
【符号の説明】
【００５７】
１０…コンディショニングしステム、１１…フィルタアセンブリ、１２…フィルタメディア、１３…ハウジング、１４…上流側、１５…下流側、２０…入口、２１…通気孔、２２…出口、２３…ブラインドエンドキャップ、２４…パージ液供給源、２４…柔軟容器、２５…入口ライン、２６…圧力源、３０…廃棄物リザーバ、３１…通気ライン、３２…出口ライン、３３…入口弁、３４…通気弁、３５…出口弁、３６…コントローラ、４０…真空装置、４１…第２の容器、４２…回収ライン、４３，４４…出口弁装置、４５…第２の圧力源、５０，５１…回収弁装置、５２，５３…入口弁装置、６０…前処理システム、６１…不活性ガス供給源、６２…ガスライン弁、６３…化学物質供給源、６４…化学物質ライン、６５…化学物質ライン弁、６６…圧力源
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【外国語明細書】
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