(57)【要約】【課題】狭回路幅不良を防止することができる狭回路幅不良防止装置及びその方法を提供する。【解決手段】回路パターンを形成するための設計デザインに係るデータである第１の設計情報Ｄ１及び第２の設計情報Ｄ２を用いて、脆弱部の狭回路幅不良を防止する狭回路幅不良防止装置１０００であって、脆弱部の種類によって区分されたダム設計情報を格納する格納手段１３００と、第１の設計情報Ｄ１を分析して脆弱部の種類及び位置を探し出す分析手段１１００と、格納手段１３００に格納されたダム設計情報の中から分析手段１１００が探し出した脆弱部の種類に対応するダム設計情報を抽出するマッチング手段１２００と、マッチング手段１２００で抽出されたダム設計情報によるダムが分析手段１１００が探し出した脆弱部の位置に追加されるように第１の設計情報Ｄ１を変更する変更手段１４００とを含む。【選択図】図３
2014131030.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
回路パターンを形成するための設計デザインに係るデータである第１の設計情報及び第２の設計情報を用いて、脆弱部の狭回路幅不良を防止する狭回路幅不良防止装置であって、
前記脆弱部の種類によって区分された前記ダム設計情報を格納する格納手段と、
前記第１の設計情報を分析して前記脆弱部の種類及び位置を探し出す分析手段と、
前記格納手段に格納された前記ダム設計情報の中から前記分析手段が探し出した前記脆弱部の種類に対応するダム設計情報を抽出するマッチング手段と、
前記マッチング手段で抽出された前記ダム設計情報によるダムが前記分析手段が探し出した前記脆弱部の位置に追加されるように前記第１の設計情報を変更する変更手段と
を含む狭回路幅不良防止装置。
【請求項２】
前記脆弱部は、
第１の回路パターンと該第１の回路パターンに隣接する第２の回路パターンとの間で前記第１の回路パターン上に位する第１の脆弱部であることを特徴とする請求項１に記載の狭回路幅不良防止装置。
【請求項３】
前記第１の脆弱部は、
前記第１の回路パターンと前記第２の回路パターンとの間の距離が変化される地点であることを特徴とする請求項２に記載の狭回路幅不良防止装置。
【請求項４】
前記第１の脆弱部は、
前記第２の回路パターンに平行で、前記第１の回路パターン上に位する仮想線と前記第１の回路パターンとが成す角度が１度以上変化する地点であることを特徴とする請求項３に記載の狭回路幅不良防止装置。
【請求項５】
前記ダムは、三角形状で構成されることを特徴とする請求項２に記載の狭回路幅不良防止装置。
【請求項６】
前記ダムは、
一辺が前記第１の回路パターンに接し、前記第１の回路パターンに接する辺の一頂点は、前記第１の脆弱部に位し、他の頂点は、前記第１の回路パターンと前記第２の回路パターンとの間の間隔が広くなる方向に位置することを特徴とする請求項５に記載の狭回路幅不良防止装置。
【請求項７】
前記ダムは、
第１の回路パターンに接触されない辺の中で少なくとも一辺が第２の回路パターンに平行を成すことを特徴とする請求項６に記載の狭回路幅不良防止装置。
【請求項８】
前記脆弱部は、
第１の回路パターンと該第１の回路パターンに隣接するパッドとの間で前記第１の回路パターン上に位する第２の脆弱部であることを特徴とする請求項１に記載の狭回路幅不良防止装置。
【請求項９】
前記第２の脆弱部は、
前記第１の回路パターンと前記パッドとの間の距離が最小になる地点であることを特徴とする請求項８に記載の狭回路幅不良防止装置。
【請求項１０】
前記ダムは、半円形状で構成されることを特徴とする請求項９に記載の狭回路幅不良防止装置。
【請求項１１】
前記ダムは、一辺が前記第１の回路パターンに接し、弧部分は、前記パッドに向け、前記第１の回路パターンに接する辺の一頂点は、前記第２の脆弱部に位する少なくとも二つの半円で構成されることを特徴とする請求項１０に記載の狭回路幅不良防止装置。
【請求項１２】
回路パターンを形成するための設計デザインに係るデータである第１の設計情報及び第２の設計情報を用いて、脆弱部の狭回路幅不良を防止する狭回路幅不良防止方法であって、
前記第１の設計情報を分析して前記脆弱部の種類及び位置を探し出す脆弱部分析ステップと、
前記脆弱部分析ステップで探し出された前記脆弱部の種類に対応するダム設計情報を抽出するダムマッチングステップと、
前記ダムマッチングステップで抽出されたダム設計情報が前記脆弱部分析ステップで探し出された前記脆弱部の位置に追加されるように第１の設計情報を変更する設計情報変更ステップと
を含む狭回路幅不良防止方法。
【請求項１３】
請求項１〜請求項１１のうちのいずれか一つの狭回路幅不良防止装置を用いて前記脆弱部の狭回路幅不良を防止する狭回路幅不良防止方法であって、
前記第１の設計情報を分析して前記脆弱部の種類及び位置を探し出す脆弱部分析ステップと、
前記脆弱部分析ステップで探し出された前記脆弱部の種類に対応するダム設計情報を抽出するダムマッチングステップと、
前記ダムマッチングステップで抽出されたダム設計情報が前記脆弱部分析ステップで探し出された前記脆弱部の位置に追加されるように第１の設計情報を変更する設計情報変更ステップと
を含む狭回路幅不良防止方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、狭回路幅不良防止装置及びその方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
印刷回路基板の分野において広く使われている方法の一つとして、テンティング（ｔｅｎｔｉｎｇ）法がある。
【０００３】
このテンティング法は、導電膜の表面にドライフィルムなどでレジストパターンを形成してから、該レジストパターンが形成されない領域、すなわちレジストパターン外部へ露出した領域の導電膜をエッチングで除去した後、該レジストパターンを除去して回路パターンを形成する手法を意味する。この手法は、特許文献１などに示されている。
【０００４】
最近、電子機器の高性能化と共にスリム化及び小型化の要求が益々高くなり、微細なパターンがさらに薄く狭い面積に高い集積度で形成されているのが実情である。
【０００５】
このような回路パターンは多様な形状にデザインされるが、回路パターンのデザインによってエッチング液の流速が異なり、その結果、エッチング量の差が生じることになる。
【０００６】
図１は、エッチング液の流速によるエッチング量の差を説明するための図面である。
【０００７】
図１に示すように、領域Ａのように回路パターン間が広く離間している部分では、エッチング液の流速が相対的に速く、領域Ｃのように回路パターン間の間隔が狭い部分では、エッチング液の流速が相対的に遅い。
【０００８】
そのため、領域Ａのエッチング量が領域Ｃのエッチング量より大きくなるようになる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００９】
【特許文献１】韓国特開第２００３-００１２９７８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
また、領域Ｂのように回路パターン間の間隔が初期には広く段々狭くなる区間では、エッチング液の流速が急激に速くなり、これによって回路パターンが過度にエッチングされるという不都合がある。このような現象は、特にＢ１で表示した領域でたくさん発生する。
【００１１】
このような過多エッチングは、回路幅が過度に狭くなる、いわゆる狭回路幅の不良を引き起こす。この狭回路幅不良は、インピーダンスの増加を誘発し、製品性能が設計値より低くなるような要因になる。
【００１２】
従来には、このような狭回路幅不良を防止するために、回路パターンまたはパッドの幅を一括して増やすか減らす方法を採用していた。
【００１３】
しかし、一括して回路幅を増やす方法だけでは、前述の図１の領域Ｂなどの特定部分で発生する狭回路幅不良を防止するには困難さがある。
【００１４】
図２（ａ）及び図２（ｂ）は、狭回路幅不良が発生した脆弱部分を示す図面である。
【００１５】
図２（ａ）及び図２（ｂ）に示すように、エッチング液の流速が速くなる部分で過度なエッチングによる狭回路幅不良が発生した状態が認められる。
【００１６】
このような狭回路幅不良は、回路幅が細くなるほどさらに深刻な問題になり、その解決策が切実に求められている。
【００１７】
本発明は上記の問題点に鑑みて成されたものであって、狭回路幅不良を防止することができる狭回路幅不良防止装置及びその方法を提供することに、その目的がある。
【課題を解決するための手段】
【００１８】
上記目的を解決するために、本発明の一形態による、狭回路幅不良防止装置は、回路パターンを形成するための設計デザインに係るデータである第１の設計情報及び第２の設計情報を用いて脆弱部の狭回路幅不良を防止する狭回路幅不良防止装置であって、前記脆弱部の種類によって区分された前記設計情報を格納する格納手段と、前記第１の設計情報を分析して前記脆弱部の種類及び位置を探し出す分析手段と、前記格納手段に格納された前記ダム設計情報の中から前記分析手段が探し出した前記脆弱部の種類に対応するダム設計情報を抽出するマッチング手段と、前記マッチング手段で抽出された前記ダム設計情報によるダムが前記分析手段が探し出した前記脆弱部の位置に追加されるように前記第１の設計情報を変更する変更手段とを備える。
【００１９】
一形態によれば、前記脆弱部は、第１の回路パターンと該第１の回路パターンに隣接する第２の回路パターンとの間で前記第１の回路パターン上に位する第１の脆弱部である。
【００２０】
また、一形態によれば、前記第１の脆弱部は、前記第１の回路パターンと前記第２の回路パターンとの間の距離が変化される地点である。
【００２１】
また、一形態によれば、前記第１の脆弱部は、前記第２の回路パターンに平行で、前記第１の回路パターン上に位する仮想線と前記第１の回路パターンとが成す角度が１度以上変化される地点である。
【００２２】
また、一形態によれば、前記ダムは、三角形状で構成される。
【００２３】
また、一形態によれば、前記ダムの一辺は、前記第１の回路パターンに接し、前記第１の回路パターンに接する辺の一頂点は前記第１の脆弱部に位し、他の頂点は前記第１の回路パターンと前記第２の回路パターンとの間の間隔が広くなる方向に位置される。
【００２４】
また、一形態によれば、前記ダムは、第１の回路パターンに接触されない辺の中で少なくとも一辺が第２の回路パターンに平行になる。
【００２５】
また、一形態によれば、前記脆弱部は、第１の回路パターンと該第１の回路パターンに隣接するパッドとの間で前記第１の回路パターン上に位する第２の脆弱部である。
【００２６】
また、一形態によれば、前記第２の脆弱部は、前記第１の回路パターンと前記パッドとの間の距離が最小になる地点である。
【００２７】
また、一形態によれば、前記ダムは半円形状で構成される。
【００２８】
また、一形態によれば、前記ダムは、一辺が前記第１の回路パターンに接し、弧部分は前記パッドに向け、前記第１の回路パターンに接する辺の一頂点は前記第２の脆弱部に位する少なくとも二つの半円で構成される。
【００２９】
また、上記目的を解決するために、本発明の他の形態による狭回路幅不良防止方法は、回路パターンを形成するための設計デザインに係るデータである第１の設計情報及び第２の設計情報を用いて脆弱部の狭回路幅不良を防止する狭回路幅不良防止方法であって、前記第１の設計情報を分析して前記脆弱部の種類及び位置を探し出す脆弱部分析ステップと、前記脆弱部分析ステップで探し出された前記脆弱部の種類に対応するダム設計情報を抽出するダムマッチングステップと、前記ダムマッチングステップで抽出されたダム設計情報が前記脆弱部分析ステップで探し出された前記脆弱部の位置に追加されるように第１の設計情報を変更する設計情報変更ステップとを備える。
【発明の効果】
【００３０】
従って、本発明によれば、特定地点に対する過多エッチングによって回路幅が減少する狭回路幅不良を防止すると共に、従来のテンティング法で具現することができなかった微細な回路パターンをテンティング法で具現することができるという効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【００３１】
【図１】エッチング液の流速によるエッチング量の差を説明するための図面である。
【図２】図２（ａ）及び図２（ｂ）よりなり、各々は狭回路幅不良が発生された脆弱部分を示す図面である。
【図３】本発明の一実施形態による狭回路幅不良防止装置を概略的に示す図面である。
【図４】本発明の一実施形態による狭回路幅不良防止方法を概略的に示す図面である。
【図５】図５（ａ）〜図５（ｃ）よりなり、各々は狭回路幅不良が発生する場合及び脆弱部を説明するための図面である。
【図６】図６（ａ）及び図６（ｂ）よりなり、各々は本発明の一実施形態による狭回路幅不良防止のためのダムが備えられる形状を概略的に示す図面である。
【図７】図７（ａ）〜図７（ｃ）よりなり、各々は、狭回路幅不良が発生する場合、各場合別の脆弱部及び各場合にマッチングされたダムが設けられる形状を概略的に示す図面である。
【発明を実施するための形態】
【００３２】
以下、本発明の好適な実施の形態は図面を参考にして詳細に説明する。次に示される各実施の形態は当業者にとって本発明の思想が十分に伝達されることができるようにするために例として挙げられるものである。従って、本発明は以下示している各実施の形態に限定されることなく他の形態で具体化されることができる。そして、図面において、装置の大きさ及び厚さなどは便宜上誇張して表現されることができる。明細書全体に渡って同一の参照符号は同一の構成要素を示している。
【００３３】
本明細書で使われた用語は、実施形態を説明するためのものであって、本発明を制限しようとするものではない。本明細書において、単数形は文句で特別に言及しない限り複数形も含む。明細書で使われる「含む」とは、言及された構成要素、ステップ、動作及び／又は素子は、一つ以上の他の構成要素、ステップ、動作及び／又は素子の存在または追加を排除しないことに理解されたい。
【００３４】
以下、添付図面を参照して、本発明の構成及び作用効果について詳記する。
【００３５】
図３は、本発明の一実施形態による狭回路幅不良防止装置１０００を概略的に示す図面で、図４は、本発明の一実施形態による狭回路幅不良防止方法を概略的に示す図面であり、図５（ａ）〜図５（ｃ）は各々、狭回路幅不良が発生する場合及び脆弱部を説明するための図面で、図６（ａ）及び図６（ｂ）は各々、本発明の一実施形態による狭回路幅不良防止のためのダムが備えられる形状を概略的に示す図面で、図７（ａ）〜図７（ｃ）は各々、狭回路幅不良が発生する場合、各場合別の脆弱部及び各場合にマッチングされたダムが設けられる形状を概略的に示す図面である。
【００３６】
図３〜図７（ｃ）に示すように、本発明の一実施形態にまる狭回路幅不良防止装置１０００は、分析手段１１００、マッチング手段１２００、変更手段１４００及び格納手段１３００を備え、第１の設計情報Ｄ１を第２の設計情報Ｄ２に変更することによって、脆弱部の狭回路幅不良を防止することができる。
【００３７】
印刷回路基板（Ｐｒｉｎｔｅｄ  Ｃｉｒｃｕｉｔ  Ｂｏａｒｄ:ＰＣＢ）の製造分野において広く活用されている方法の中の代表的な方法の一つとして、感光材料が塗布された導電膜にフォトプロッター（Ｐｈｏｔｏ  Ｐｌｏｔｔｅｒ）を用いて光を照射してレジストパターンを形成し、導電膜をエッチングして回路パターンを形成する、いわゆるテンティング法が挙げられる。
【００３８】
フォトプロッターがレジストパターンを形成するようにディジタル化されたデータが提供されるが、このようなデータにてガーバーフォーマットデータ（Ｇｅｒｂｅｒ  Ｆｏｒｍａｔ  Ｄａｔａ）が現在最も広く使われている。
【００３９】
このガーバーフォーマットデータは、ファイルパラメーター（Ｆｉｌｅ  Ｐａｒａｍｅｔｅｒ）、Ｘ／Ｙ座標デー夕、機能指令などの要素からなり、最終的に形成しようとする回路パターンの設計情報が含まれる。
【００４０】
ここでは、回路パターンの設計情報を第１の設計情報Ｄ１及び第２の設計情報Ｄ２と称する事にする。すなわち、第１の設計情報Ｄ１及び第２の設計情報Ｄ２はガーバーフォーマットデータとして、回路パターンを形成するためにフォトプロッターなどに提供される情報である。
【００４１】
また、第１の設計情報Ｄ１は、回路パターンを形成するために作られたベースデータとして、本発明の一実施形態による狭回路幅不良防止装置１０００によって脆弱部が補完されることができるように変更される。
【００４２】
詳しくは、第１の設計情報Ｄ１が本発明の実施形態による狭回路幅不良防止装置１０００によって変更されたデータを第２の設計情報Ｄ２と称する。
【００４３】
分析手段１１００は、第１の設計情報Ｄ１を分析して脆弱部の種類及び位置を探し出す。
【００４４】
図５（ａ）及び図５（ｂ）には、第１の回路パターン１１、１２に第２の回路パターン２１、２２及び第３の回路パターン３１、３２が隣接して配置された場合が示されている。
【００４５】
まず、図５（ａ）に示すように、第１の回路パターン１１、第２の回路パターン２１及び第３の回路パターン３１が平行に上方に進行しながら、間隔が互いに遠くなるような形状を成す。
【００４６】
図１及び図２に示すように、第１の回路パターン１１と第２の回路パターン２１とが遠くなり始める地点及び第１の回路パターン１１と第３の回路パターン３１とが遠くなり始める地点では、エッチング液の流速が急増することによって過度なエッチングが発生することになる。そのため、回路幅が狭くなる、いわゆる狭回路幅不良が発生するようになる。
【００４７】
この点、第１の回路パターン１１と第２の回路パターン２１とが遠くなり始める地点及び第１の回路パターン１１と第３の回路パターン３１とが遠くなり始める地点を第１の脆弱部１１０と定義する。
【００４８】
同図では、第１の回路パターン１１と第２の回路パターン２１とが遠くなり始める地点を通って第２の回路パターン２１に平行な仮想線と第１の回路パターン１１とが成す鋭角を、θ１で表示している。
【００４９】
また、第１の回路パターン１１と第３の回路パターン３１とが遠くなり始める地点を通って第２の回路パターン２１に平行な仮想線と第１の回路パターン１１とが成す鋭角を、θ２で表示している。
【００５０】
詳しくは、第１の脆弱部１１０は、第２の回路パターン２１に平行で、前記第１の回路パターン１１上に位する仮想線と前記第１の回路パターン１１とが成す角度θ１が１度以上変化する地点や、第３の回路パターン３１に平行で、前記第１の回路パターン１１上に位する仮想線と前記第１の回路パターン１１とが成す角度θ２が１度以上変化する地点を意味する。
【００５１】
また、図５（ｂ）に示すように、第２の回路パターン２２と第３の回路パターン３２とが第１の回路パターン１２から遠くなる方向が互いに逆方向になることが分かる。
【００５２】
また、図５（ｃ）に示すように、第１の回路パターン１３にパッド４０が隣接して配置されてもよい。
【００５３】
図１及び図２を挙げて前述のように、第１の回路パターン１３とパッド４０とが隣接する場合、第１の回路パターン１３とパッド４０との間の距離が最大になる地点のうち、第１の回路パターン１３上に位置する地点においてエッチング液の流速が急増することによって過度なエッチングが発生し、それによって、回路幅が狭くなるいわゆる狭回路幅不良が発生するようになる。
【００５４】
この点、第１の回路パターン１３とパッド４０との間の距離が最小になる地点のうち、第１の回路パターン１３上に位置する地点を第２の脆弱部１２０と定義する。
【００５５】
これによって、分析手段１１００は第１の設計情報Ｄ１を分析し、前述の第１の脆弱部１１０及び第２の脆弱部１２０を探し出す機能を行う。第１の脆弱部１１０及び第２の脆弱部１２０の種類を区分してその位置を探し出してもよい。
【００５６】
詳しくは、分析手段１１００は、ガーバーフォーマットデータなど第１の設計情報Ｄ１を分析することによって、回路パターンが形成されるデザインを把握すると共に、ディジタルロジッグを用いてそのような回路パターンのデザインの中で第１の脆弱部１１０及び第２の脆弱部１２０に当たる地点を探し出すことができる。
【００５７】
図６（ａ）は、第１の回路パターン１１と第３の回路パターン３１との間に第１のダム２１０が設けられる場合を示している。
【００５８】
同図のように、第１のダム２１０は、一辺が第１の回路パターン１１に接する三角形状で構成される。
【００５９】
第１の回路パターン１１に接する辺の一頂点は第１の脆弱部１１０に位し、他の頂点は第１の回路パターン１１と第３の回路パターン３１との間の間隔が広くなる方向に位置する。
【００６０】
これによって、第１の回路パターン１１と第３の回路パターン３１との間の間隔が広くから細くなる方向へのエッチング液の流れが第１のダム２１０によって緩和され、第１の脆弱部１１０を経ちながらエッチング液の流れが急激に速くならなくなり、第１の脆弱部１１０の過度なエッチング現象を防止することができる。
【００６１】
一方、第１のダム２１０において第１の回路パターン１１に接触しない辺の中の少なくとも一辺は、第３の回路パターン３１に対して平行になるようにすることによって、第１の脆弱部１１０でのエッチング液の急激な加速をさらに効率よく防止することができる。
【００６２】
図６（ｂ）は、第１の回路パターン１３とパッド４０との間に第２のダム２２０が設けられる場合を示している。
【００６３】
同図のように、第２のダム２２０は半円形状で構成され、第１の回路パターン１３にその一辺が接する。
【００６４】
第２のダム２２０の弧部分は、パッド４０に向けて位置し、第１の回路パターン１３に接する辺の一頂点は第２の脆弱部１２０に位する。
【００６５】
また、第２のダム２２０は、第２脆弱部１２０を中心にそれぞれ両方向に位する二つの半円で構成される。
【００６６】
ここで、第２のダム２２０は楕円の一部であってもよい。
【００６７】
これによって、第１の回路パターン１３とパッド４０との間の間隔が広くから細くなる方向へのエッチング液の流れが第２のダム２２０によって緩和され、第２の脆弱部１２０を経ちながらエッチング液の流れが急激に速くならなくなり、第２の脆弱部１２０の過度なエッチングを防止することができるようになる。
【００６８】
このように、前述の第１の脆弱部１１０に対応する第１のダム２１０及び第２の脆弱部１２０に対応する第２のダム２２０を設計するためのダム設計情報が格納手段１３００に格納される。
【００６９】
第１の脆弱部１１０及び第２の脆弱部１２０による区切りだけでなく、第１の脆弱部１１０を成すパターン間の間隔及び角度によってダム設計情報が変わってもよい。
【００７０】
例えば、第１の回路パターン１１、１２と第２の回路パターン２１、２２との間の距離や、第１の回路パターン１１、１２と第３の回路パターン３１、３２とが遠くなり始める地点を通って第３の回路パターン３１、３２に平行な仮想線と第１の回路パターン１１、１２とが成す鋭角θ２の大きさによって、三角形状の第１のダム２１０の大きさや内角が変わる。よって、このように最適化された第１のダム２１０及び第２のダム２２０設計情報がルックアップテーブルなどで纏められて格納手段１３００に格納される。
【００７１】
このようなことは、第２の脆弱部１２０についても同様で適用される。
【００７２】
これによって、分析手段１１００が第１の設計情報Ｄ１を分析して探し出した脆弱部の種類が第１の脆弱部１１０か第２の脆弱部１２０かによって最適化されたダム設計情報が格納手段１３００から抽出される。このような抽出過程は、マッチング手段１２００によって行われる。
【００７３】
詳しくは、マッチング手段１２００は、分析手段１１００から探し出された脆弱部の種類、第１の回路パターン１１、１２と第２回路パターン２１、２２との間の距離、第１の回路パターン１１、１２と第３回路パターン３１、３２とが遠くなり始める地点を通って第３の回路パターン３１、３２に平行な仮想線と第１の回路パターン１１とが成す鋭角θ２の大きさになどを用いて、最適化されたダム設計情報を抽出する。
【００７４】
次に、変更手段１４００は、マッチング手段１２００が抽出したダム設計情報を第１の設計情報Ｄ１に反映し、脆弱部１１０、１２０にダム２１０、２２０が設けられるようにする。
【００７５】
すなわち、第１の設計情報Ｄ１による回路パターンデザインにおいて、脆弱部にダムが追加されるように第１の設計情報Ｄ１を変更して第２の設計情報Ｄ２を生成する。
【００７６】
これによって、実際のフォトプロッターなどでレジストパターンを形成する時、第２の設計情報Ｄ２によってレジストパターンを形成すると、脆弱部にダムが追加されたレジストパターンが形成され、該レジストパターンを用いてエッチングを行うことによって、狭回路幅不良を防止することができるようになる。
【００７７】
図７（ａ）〜図７（ｃ）は各々、狭回路幅不良が発生する場合、各場合別の脆弱部及び各場合にマッチングされたダムが設けられる形状を概略的に例示している。同図のように、第１のダム２１０によって第１の脆弱部１１０の過渡エッチングを防止し、第２のダム２２０によって第２の脆弱部１２０の過渡エッチングを防止することができることを分かる。
【００７８】
図４は、本発明の一実施形態による狭回路幅不良防止方法を概略的に示す図面である。
【００７９】
図４に示すように、本発明の一実施形態による狭回路幅不良防止方法は、脆弱部分析ステップ、ダムマッチングステップ及び設計情報変更ステップを備える。
【００８０】
まず、脆弱部分析ステップでは、回路設計情報を分析して脆弱部を探し出す（Ｓ１１０、Ｓ１２０）。
【００８１】
すなわち、前述の第１の設計情報Ｄ１を分析して第１の脆弱部１１０または第２の脆弱部１２０の種類及び位置などを探し出すステップであって、前述の分析手段１１００によって行われる。
【００８２】
次に、ダムマッチングステップでは、前ステップで探し出された脆弱部の種類によって、エッチング液の流速の急変現象を緩和させることに最適化されたダムの設計情報を抽出する（Ｓ１３０）。
【００８３】
このダム設計情報は、前述の格納手段１３００に格納されているもので、前述のマッチング手段１２００によってダムマッチングステップが行われる。
【００８４】
次に、設計情報変更ステップでは、最初の回路設計情報、すなわち、第１の設計情報Ｄ１を変更する（Ｓ１４０）。
【００８５】
詳しくは、ダムマッチングステップで抽出されたダム設計情報によるダム２１０、２２０が第１の脆弱部１１０及び第２の脆弱部１２０などに反映されるように第１の設計情報Ｄ１を変更する。
【００８６】
この設計情報変更ステップは、前述の変更手段１４００によって行われ、第１の設計情報Ｄ１を変更した新たな設計情報である第２の設計情報Ｄ２が生成される。
【００８７】
これによって、実際のフォトプロッターなどでレジストパターンを形成する時、第２の設計情報Ｄ２によってレジストパターンを形成すると、脆弱部にダムが追加されたレジストパターンが形成されると共に、該レジストパターンを用いてエッチングを行うことによって、狭回路幅不良を防止することができるようになる。
【００８８】
今回開示された実施の形態はすべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は、前記した実施の形態の説明ではなくて特許請求の範囲によって示され、特許諾求の範囲と均等の意味及び範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。
【符号の説明】
【００８９】
１０００  狭回路幅不良防止装置
１１００  分析手段
１２００  マッチング手段
１３００  格納手段
１４００  変更手段
Ｄ１  第１の設計情報
Ｄ２  第２の設計情報
１１０  第１の脆弱部
１２０  第２の脆弱部
１１、１２、１３  第１の回路パターン
２１、２２  第２の回路パターン
３１、３２  第３の回路パターン
４０  パッド
２１０  第１のダム
２２０  第２のダム
【図１】
2014131030.tif 000003
【図２】
2014131030.tif 000004
【図３】
2014131030.tif 000005
【図４】
2014131030.tif 000006
【図５】
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【図６】
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【図７】
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