(57)【要約】【課題】偽造防止効果、装飾効果及び美的効果を持ち、曲面や立体物への転写が可能で、被着体に跡を残らず簡単に剥がせ、剥がす操作により、光学構造形成層が壊れ、再利用不可能な表示体を提供する。【解決手段】基材フィルム１上に、剥離保護層２、光学構造形成層３、反射性薄膜層４、接着層５を順次設け、被着体に転写して使用される表示体９であって、前記接着層５が１８０℃〜２４０℃の温度で、押し出し塗工されたホットメルト接着剤であり、その塗工膜厚が２５μｍ〜７５μｍであることを特徴とする転写表示体１０。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材フィルム上に、剥離保護層、光学構造形成層、反射性薄膜層、接着層を順次設けた構成の、被着体に転写して使用される転写表示体であって、
前記接着層が１８０℃〜２４０℃の温度で、押し出し塗工されたホットメルト接着剤であり、その塗工膜厚が２５μｍ〜７５μｍであることを特徴とする転写表示体。
【請求項２】
前記ホットメルト接着剤に、伸縮性を持たせることにより、剥離時に光学構造形成層が壊れる様にしたことを特徴とする請求項１に記載の転写表示体。
【請求項３】
請求項１または請求項２に記載の転写表示体が、転写されていることを特徴とする転写表示体付き物品。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、偽造防止効果、装飾効果及び美的効果を提供する転写表示体及び転写表示体付き物品に関する。
【背景技術】
【０００２】
有価証券、証明書、ブランド品及び個人認証媒体などの物品は、偽造が困難であることが望まれる。そのため、このような物品には、偽造防止効果に優れた表示体を支持させることがある。
【０００３】
このような表示体の一種に、回折格子、ホログラム及びレンズアレイなどの微細構造を含んでいるものがある。これら微細構造は、解析することが困難である。また、これら微細構造を含んだ表示体を製造するためには、電子線描画装置などの高価な製造設備が必要である。それゆえ、このような表示体は、高い偽造防止効果を発揮し得る。
【０００４】
このような構造(光学素子)を含む表示体の実施形態として、転写箔やラベル等があり、ＰＥＴ等公知のプラスチックフィルムを基材として作られる（特許文献１）。
【０００５】
ラベルは、光学素子が基材と強固に結びついている為、比較的容易に光学素子を分離可能であり、張替え防止策として、切り欠け加工（特許文献２）、脆性加工（特許文献３）が提案されている。
【０００６】
しかしながら、偽造防止ラベルが貼付されるような高価な化粧品や電化製品などは、そのデザイン性が非常に重要視される場合には、被着体から完全にラベルを剥がすのに手間がかかったり、粘着剤が残るようなものを直接本体へ貼付して使うことができない。
【０００７】
一方、転写箔は、基材がなく被着体から光学素子を分離する事はほぼ不可能であり、なんらかの方法で分離できたとしてもその光学素子を再度使用されることはない。しかしながら、一般的な転写機は平面へ貼付するように設計されている為、曲面や立体物への貼付は一般的に困難である。
【０００８】
曲面や立体への貼付が可能であり、被着体に跡を残さず簡単に剥がせるが、剥がした光学素子が再利用不可能な表示体とすることはむずかしい。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００９】
【特許文献１】特開昭６２‐８００４５号公報
【特許文献２】特開２００８‐２９８９８８号公報
【特許文献３】特開平８‐１５２８４２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
偽造防止効果、装飾効果及び美的効果を持ち、曲面や立体物への転写が可能で、被着体に跡を残らず簡単に剥がせ、剥がす操作により、光学構造形成層が壊れ、再利用不可能な表示体を提供する。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
上記の課題を解決するための手段として、請求項１に記載の発明は、基材フィルム上に
、剥離保護層、光学構造形成層、反射性薄膜層、接着層を順次設けた構成の、被着体に転写して使用される転写表示体であって、
前記接着層が１８０℃〜２４０℃の温度で、押し出し塗工されたホットメルト接着剤であり、その塗工膜厚が２５μｍ〜７５μｍであることを特徴とする転写表示体である。
【００１２】
また、請求項２に記載の発明は、前記ホットメルト接着剤に、伸縮性を持たせることにより、剥離時に光学構造形成層が壊れる様にしたことを特徴とする請求項１に記載の転写表示体である。
【００１３】
また、請求項３に記載の発明は、請求項１または請求項２に記載の転写表示体が、転写されていることを特徴とする転写表示体付き物品である。
【発明の効果】
【００１４】
曲面や立体物に容易に貼付することが可能で、かつ、剥がすと光学素子が壊れる為に再利用が不可能な表示体となる。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】本発明の転写表示体の構成を示した断面概念図である。
【図２】本発明の転写表示体を被着体に熱転写する状態を示した概念図である。
【図３】本発明の表示体の使用時の状態を示した概念図である。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
以下本発明を実施するための形態を、図面を用いて詳細に説明する。図１は本は発明の転写表示体の構成を示しており、基材１に対して各層を順に設ける。各層は具体的には以下とする。
【００１７】
この時、基材１の無い表示体を扱いやすくする為、接着層５は２５〜７５μｍの厚さが必要である。また、剥離時にかかる張力で容易に光学構造形成層３が破壊されるように、接着層５は伸縮性があるが、容易に破断されない物質とする。
【００１８】
＜基材１＞
光学構造形成層３は、基材１上に形成することができる。基材１としては、ＰＥＴ等の公知のプラスチックフィルムを用いることができる。
【００１９】
＜剥離保護層２＞
剥離兼保護層２は、熱可塑性アクリル樹脂、塩化ゴム樹脂、あるいはこの塩化ゴム樹脂とニトロセルロース、アセチルセルロース、セルロースアセテートブチレート、ポリスチレン又は塩酢ビ樹脂の混合物等からなる。
【００２０】
また、これらの材料にメラミン樹脂、アルキッド樹脂、エポキシ樹脂あるいは尿素樹脂等の熱硬化性樹脂を加えた材料により構成してもよい。この剥離保護層２はこれらの層構成材料をグラビア法やマイクログラビア法などの公知のコーティング法を用いて０．１〜１０μｍの厚さで基材上にコーティングすることにより形成する。
【００２１】
＜光学構造形成層３＞
光学構造形成層３は、例えば、光透過性の熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、及び紫外線又は電子線硬化性樹脂（以下、光硬化性樹脂ともいう）などの樹脂を使用する。光学構造形成層の材料として熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂又は光硬化性樹脂を用いると、原版を用いた転写により、一方の主面に、凹構造、凸構造を容易に形成することができる。
【００２２】
凹構造、凸構造を持つ、光学素子としては、回折格子や表面レリーフ型のホログラムが知れており、偽造防止媒体に使用されている。
【００２３】
光透過性を有する熱可塑性樹脂としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリカーボネート、酢酸セルロース、酢酸酪酸セルロース、酢酸プロピオン酸セルロース、ニトロセルロース、ポリエチレン、ポリプロピレン、アクリルスチレン共重合体、塩化ビニル及びポリメタクリル酸メチルが挙げられる。
【００２４】
光透過性を有する熱硬化性樹脂としては、例えば、ポリイミド、ポリアミド、ポリエステルウレタン、アクリルウレタン、エポキシウレタン、シリコーン、エポキシ及びメラミン樹脂が挙げられる。
【００２５】
光硬化性樹脂とは、紫外線及び電子線などの光の照射によって硬化する樹脂をいう。光の照射によってラジカル重合する代表的な樹脂としては、分子中にアクリロイル基を有するアクリル樹脂が挙げられ、例えば、エポキシアクリレート系、ウレタンアクリレート系、ポリエステルアクリレート系若しくはポリオールアクリレート系のオリゴマー若しくはポリマー、単官能、２官能若しくは多官能重合性（メタ）アクリル系モノマー（例えば、テトラヒドロフルフリルアクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピルアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート，ポリプロピレングリコールジアクリレート，トリメチロールプロパントリアクリレート，ペンタエリトリトールトリアクリレート又はペンタエリトリトールテトラアクリレート）又はそのオリゴマー若しくはポリマー、又はこれらの混合物が使用される。
【００２６】
＜反射性材料層４＞
反射性材料層４は、界面部の少なくとも一部を被覆している。反射性材料層４としては、例えば、アルミニウム、銀、錫、クロム、ニッケル、銅、金及びこれらの合金などの金属材料からなる金属又は合金層を使用することができる。
【００２７】
この場合、反射性材料層４は、典型的には、真空製膜法を用いて形成する。真空製膜法としては、例えば、真空蒸着法及びスパッタリング法が挙げられる。反射性材料層４の厚みは、例えば、１〜１００ｎｍの範囲内とする。
【００２８】
反射性材料層４は、表示体に、視認性がより優れた像を表示させる役割を担っている。また、反射性材料層４を設けることにより、光学構造形成層３の一方の主面に設けられた凹構造、凸構造の損傷を生じ難くすることも可能となる。
【００２９】
＜接着層５＞
公知のホットメルト接着剤を押し出し方式で塗工し、接着層５を形成する。この時、ホットメルトの塗工温度を１８０℃〜２４０℃、塗工膜厚を２５μｍ〜７５μｍとする。
【００３０】
最後に、図２のように、光学構造形成層３を破壊せずに、常温下で基材１を剥離する。これは、接着層５を高温で形成したことにより、基材１と剥離保護層２の密着が弱くなり、容易に剥離できるために行える。
【００３１】
表示体としての実施の形態に関して記す。上記製造例にて製造された転写表示体１０は曲面や立体物へ貼付することができる。例えば、被着体７に密着させた状態で接着層５の軟化点まで高温にすると密着する。また、転写表示体１０を高温にしてから接着層５が再び固まる前に被着７へ、熱転写ロール８等を用い、押し付けることによっても密着させることができる。この時、基材１のフィルムを取り除くことが多様されている。
【００３２】
基材１を剥がすことにより、表示体９を被着体７から、剥がして、再利用することが難しくなる。
【００３３】
また、被着体７に対して、ある程度密着するが完全に一体とはならないホットメルトを選定することにより、密着した表示体９を剥離させる力をかけると、接着層５が変形しながらも完全に剥離することができ、且つ、この接着層５の変形に伴い光学構造形成層３も破壊される表示体９となる。
【符号の説明】
【００３４】
１・・・基材
２・・・剥離保護層
３・・・光学構造形成層
４・・・反射性材料層
５・・・接着層
６・・・界面部
７・・・被着体
８・・・熱転写ロール
９・・・表示体
１０・・・転写表示体
【図１】
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【図２】
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【図３】
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