(57)【要約】【課題】オブジェクトの本体の剛性の増加及び／又は制振によって可撓性及びその結果としての内部変形を低減する。【解決手段】  本体を有する可動オブジェクトを位置決めする位置決めシステムであって、位置決めシステムが、オブジェクト位置測定システムと、オブジェクトアクチュエータと、オブジェクトコントローラとを含み、位置決めシステムが、オブジェクトの本体内の剛性を増加させ、及び／又は相対運動を制振するスティフナーをさらに含み、スティフナーが、各々が本体の内部歪み又は相対変位を表す測定信号を決定するように配置された１つ又は複数のセンサと、各々が本体の一部に作動力を加えるように配置された１つ又は複数のアクチュエータと、センサのうちの少なくとも１つのセンサの測定信号に基づいて、アクチュエータの少なくとも１つに作動信号を提供して本体内の剛性を増加させ、及び／又は運動を制振するように構成された少なくとも１つのコントローラとを含む位置決めシステム。【選択図】図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
本体を有する可動オブジェクトを位置決めする位置決めシステムであって、前記位置決めシステムが、
前記オブジェクトの位置量を測定するオブジェクト位置センサと、
前記オブジェクト上に作動力を加えるオブジェクトアクチュエータと、
所望の位置量と測定された位置量との差に基づいて前記アクチュエータにオブジェクト作動信号を提供するオブジェクトコントローラと、
前記オブジェクトの本体内の剛性を増加させ、及び／又は相対運動を制振するスティフナーと、
を備え、前記スティフナーが、
前記本体の内部歪み又は相対変位を表す測定信号を決定するセンサと、
前記本体の一部に作動力を加えるアクチュエータと、
前記センサの前記測定信号に基づいて、前記アクチュエータに作動信号を提供して前記本体内の剛性を増加させ、及び／又は前記運動を制振するコントローラと、
を備える位置決めシステム。
【請求項２】
前記センサが、前記本体内の前記測定信号を測定する、請求項１に記載の位置決めシステム。
【請求項３】
前記センサが、前記本体の一部と基準オブジェクトとの間の距離又は距離の変化を測定する、請求項１に記載の位置決めシステム。
【請求項４】
前記基準オブジェクトが、前記オブジェクト位置センサの一部である、請求項３に記載の位置決めシステム。
【請求項５】
前記センサが、前記本体の２つの部分の間の距離の変化を測定し、前記コントローラが、前記アクチュエータに前記作動信号を提供して距離の変化を実質的にゼロレベルに維持する、請求項１に記載の位置決めシステム。
【請求項６】
前記センサが、前記本体の２つの部分の間の距離の変化を測定する光センサである、請求項１に記載の位置決めシステム。
【請求項７】
前記本体が、光透過性素子を備え、前記光センサの測定ビームが、主に前記光透過性素子を通して伝搬する、請求項６に記載の位置決めシステム。
【請求項８】
前記本体が、主平面を有する板形状を有し、前記スティフナーが、前記主平面の前記本体の剛性を増加させる、請求項１に記載の位置決めシステム。
【請求項９】
前記本体の内部歪み又は相対変位を表す測定信号を決定する複数のセンサを備え、前記センサの各々が、前記センサが前記本体の上に広がった測定ライン網を提供するように、前記本体の２つの異なる部分の間の長さを測定するように配置される、請求項１に記載の位置決めシステム。
【請求項１０】
前記本体の内部歪み又は相対変位を表す測定信号を決定する複数のセンサを備え、前記本体が主平面を有する板形状を有し、第１の主表面が前記本体の第１の側にあり、第２の主表面が前記本体の反対側にあり、前記複数のセンサのうち第１のセンサが前記第１の主表面に近い前記本体の部分の間の第１の距離を測定し、前記複数のセンサのうち第２のセンサが前記第２の主表面に近い前記部分の間の第２の距離を測定し、前記コントローラが前記第１及び前記第２の測定距離の差の変化に基づいて作動信号を提供する、請求項１に記載の位置決めシステム。
【請求項１１】
パターンを放射ビームの断面に付与してパターン付放射ビームを形成することができるパターニングデバイスを支持するパターニングデバイス支持体と、
基板を保持する基板支持体と、
前記パターン付放射ビームを前記基板のターゲット部分に投影する投影システムと、
本体を有する支持体のうちの１つの支持体の位置を制御する位置決めシステムであって、前記位置決めシステムが、
前記１つの支持体の前記本体の位置量を測定する支持体位置センサと、
前記１つの支持体の前記本体上に作動力を加える支持体アクチュエータと、
所望の位置量と測定された位置量との差に基づいてアクチュエータに作動信号を提供する支持体コントローラと、
前記オブジェクトの前記本体内の剛性を増加させ、及び／又は相対運動を制振するスティフナーと、
を備え、前記スティフナーが、
前記本体の内部歪み又は相対変位を表す測定信号を決定するセンサと、
前記本体の一部に作動力を加えるアクチュエータと、
前記センサの前記測定信号に基づいて、前記アクチュエータに作動信号を提供して前記本体内の剛性を増加させ、及び／又は運動を制振するコントローラと、
を備えるリソグラフィ装置。
【請求項１２】
前記センサが、前記本体内の前記測定信号を測定する、請求項１０に記載のリソグラフィ装置。
【請求項１３】
前記センサが、前記本体の２つの部分の間の距離の変化を測定する光センサである、請求項１０に記載のリソグラフィ装置。
【請求項１４】
前記センサが、前記本体の一部と基準オブジェクトとの間の距離又は距離の変化を測定する、請求項１０に記載のリソグラフィ装置。
【請求項１５】
前記本体の内部歪み又は相対変位を表す測定信号を測定するセンサと、前記本体の一部に作動力を加えるアクチュエータと、前記センサの前記測定信号に基づいて、前記アクチュエータに作動信号を提供して前記本体内の剛性を増加させ、及び／又は運動を制振するコントローラとを備えるスティフナーを用いてオブジェクトの本体内の剛性を増加させ、及び／又は運動を制振することで可撓性と内部変形とを低減する方法であって、
前記センサで前記本体の２つの部分の間の距離を測定して前記測定信号を入手するステップと、
前記アクチュエータに前記作動信号を提供して前記本体の部分上に力を加えて前記本体の２つの部分の間の実質的に同じ距離を維持するステップと、
を含む方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
[0001]  本発明は、オブジェクトの本体の剛性の増加及び／又は制振によって可撓性及びその結果としての内部変形を低減する位置決めシステム、リソグラフィ装置及び方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
[0002]  リソグラフィ装置は、所望のパターンを基板に、通常は基板のターゲット部分に適用する機械である。リソグラフィ装置は、例えば、集積回路（ＩＣ）の製造に使用可能である。このような場合、代替的にマスク又はレチクルとも呼ばれるパターニングデバイスを使用して、ＩＣの個々の層上に形成すべき回路パターンを生成することができる。このパターンを、基板（例えばシリコンウェーハ）上のターゲット部分（例えば１つ又は幾つかのダイの一部を含む）に転写することができる。パターンの転写は通常、基板に設けた放射感応性材料（レジスト）の層への結像により行われる。一般的に、１枚の基板は、順次パターンが与えられる隣接したターゲット部分のネットワークを含んでいる。従来のリソグラフィ装置は、パターン全体をターゲット部分に１回で露光することによって各ターゲット部分が照射される、いわゆるステッパと、基板を所与の方向（「スキャン」方向）と平行あるいは逆平行に同期的にスキャンしながら、パターンを所与の方向（「スキャン」方向）に放射ビームでスキャンすることにより、各ターゲット部分が照射される、いわゆるスキャナとを含む。パターンを基板にインプリントすることによっても、パターニングデバイスから基板へとパターンを転写することが可能である。
【０００３】
[0003]  周知のリソグラフィ装置は、基板を支持する基板支持体の位置を制御する位置決めデバイスを含む。この位置決めデバイスは、基板支持体のいくつかのセンサ又はセンサのターゲット位置を測定するように構成された位置測定システムを含む。
【０００４】
[0004]  リソグラフィ装置の使用中に、基板支持体には力が働く。例えば、露光段階で、すなわち、基板レベルのターゲット位置へのパターン付ビームの投影中に、レベル操作を実行して基板の上面をレンズ列に対して正しい向きに位置決めすることができる。基板支持体の剛性は限られているため、レベル操作によって基板支持体が一時的に内部変形することがある。そのような内部変形によって焦点エラー及び／又はオーバレイのオフセットが引き起こされることがある。
【０００５】
[0005]  基板テーブルの内部変形の危険とその結果として焦点エラー又はオーバレイオフセットの危険を低減するために、より剛性の構造を提供することで基板支持体の剛性を増加させることが提案されている。しかし、基板支持体の位置決めの精度と速度への要求が高まっているため、別の問題に、例えば、重量に関する問題に遭遇することなく基板支持体の構造の剛性を増加させる可能性は限界に達している。
【０００６】
[0006]  増加する加速度の結果としての基板支持体の可撓性の上記限界は、パターニングデバイス支持体などの他のオブジェクトの位置制御でも問題になる。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
[0007]  可動オブジェクト、特に基板テーブル又はパターニングデバイス支持体を位置決めする位置決めシステムであって、可動オブジェクトの本体の内部変形及びその結果としての焦点エラー及び／又はオーバレイのオフセットを回避することができるか又は少なくとも低減することができるように可動オブジェクトの本体が剛性である位置決めシステムが提供される。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
[0008]  本発明のある実施形態によれば、本体を有する可動オブジェクトを位置決めする位置決めシステムであって、オブジェクトの位置量を測定するオブジェクト位置測定システムと、オブジェクト上に作動力を加えるオブジェクトアクチュエータと、所望の位置量と測定された位置量との差に基づいてアクチュエータにオブジェクト作動信号を提供するオブジェクトコントローラとを含み、位置決めシステムがオブジェクトの本体内の剛性を増加させ、及び／又は相対運動を制振する剛化システムをさらに含み、剛化システムが各々が本体の内部歪み又は相対変位を表す測定信号を決定するように配置された１つ又は複数のセンサと、各々が本体の一部に作動力を加えるように配置された１つ又は複数のアクチュエータと、センサの少なくとも１つの測定信号に基づいて、アクチュエータの少なくとも１つに作動信号を提供して本体内の剛性を増加させ、及び／又は運動を制振するように構成された少なくとも１つのコントローラとを含む位置決めシステムが提供される。
【０００９】
[0009]  本発明のある実施形態によれば、放射ビームを調節するように構成された照明システムと、パターンを放射ビームの断面に付与してパターン付放射ビームを形成することができるパターニングデバイスを支持するように構築された支持体と、基板を保持するように構築された基板テーブルと、パターン付放射ビームを基板のターゲット部分に投影するように構成された投影システムとを含むリソグラフィ装置であって、リソグラフィ装置が本体を有する支持体又は基板テーブルの位置を制御する位置決めシステムを含み、位置決めシステムが、支持体又は基板テーブルの本体の位置量を測定する本体位置測定システムと、支持体又は基板テーブルの本体上に作動力を加える本体アクチュエータと、所望の位置量と測定された位置量との差に基づいてアクチュエータに作動信号を提供する本体コントローラとを含み、位置決めシステムがオブジェクトの本体内の剛性を増加させ、及び／又は相対運動を制振する剛化システムをさらに含み、剛化システムが各々が本体の内部歪み又は相対変位を表す測定信号を決定するように配置された１つ又は複数のセンサと、各々が本体の一部に作動力を加えるように配置された１つ又は複数のアクチュエータと、センサのうちの少なくとも１つのセンサの測定信号に基づいて、アクチュエータの少なくとも１つに作動信号を提供して本体内の剛性を増加させ、及び／又は運動を制振するように構成された少なくとも１つのコントローラとを含むリソグラフィ装置が提供される。
【００１０】
[0010]  本発明のある実施形態によれば、オブジェクトの本体内の剛性を増加させ、及び／又は運動を制振することで可撓性とその結果としての内部変形とを低減する方法であって、本体の内部歪み又は相対変位を表す測定信号を測定するように配置された１つ又は複数のセンサと、各々が本体の一部に作動力を加えるように配置された１つ又は複数のアクチュエータと、センサのうちの少なくとも１つのセンサの測定信号に基づいて、アクチュエータの少なくとも１つに作動信号を提供して本体内の剛性を増加させ、及び／又は運動を制振して少なくとも１つのセンサで本体の２つの部分の間の距離を測定して測定信号を入手するように構成された少なくとも１つのコントローラとを含む剛化システムを提供するステップと、アクチュエータの１つ以上に作動信号を提供して距離をゼロレベルに維持するステップと、アクチュエータの１つ以上に作動信号を供給して本体の少なくとも１つの部分上に力を加えるステップとを含む方法が提供される。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
[0011]  対応する参照符号が対応する部分を示す添付の概略図を参照しながら以下に本発明の実施形態について説明するが、これは単に例示としてのものに過ぎない。
【図１】[0012]本発明のある実施形態によるリソグラフィ装置を示す図である。
【図２】[0013]基板テーブルの従来の剛体の位置決めシステムを示す図である。
【図３】[0014]本発明のある実施形態による基板テーブルの位置決めシステムを示す図である。
【図４】[0015]図３の基板テーブルの上面図である。
【図５】[0016]本発明のある実施形態による基板テーブルの位置決めシステムを示す図である。
【図６】[0017]本発明のある実施形態による基板テーブルの位置決めシステムを示す図である。
【図７】[0018]本発明のある実施形態による基板テーブルの位置決めシステムを示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
[0019]  図１は、本発明の一実施形態によるリソグラフィ装置を概略示す。この装置は、放射ビームＢ（例えば、ＵＶ放射又は任意の他の適切な放射）を調節するように構成された照明システム（イルミネータ）ＩＬと、パターニングデバイス（例えば、マスク）ＭＡを支持するように構築され、一定のパラメータに従ってパターニングデバイスを正確に配置するように構成された第１の位置決めデバイスＰＭに接続されたパターニングデバイス支持体又はマスク支持構造（例えば、マスクテーブル）ＭＴとを含む。この装置は、また、基板（例えば、レジストコートウェーハ）Ｗを保持するように構築され、一定のパラメータに従って基板を正確に配置するように構成された第２の位置決めデバイスＰＷに接続された基板テーブル（例えば、ウェーハテーブル）ＷＴ又は「基板支持体」を含む。さらに、この装置は、基板Ｗのターゲット部分Ｃ（例えば、１つ又は複数のダイを含む）上にパターニングデバイスＭＡによって放射ビームＢへ付与されたパターンを投影するように構成された投影システム（例えば、屈折投影レンズシステム）ＰＳを含む。
【００１３】
[0020]  照明システムは、放射の誘導、整形、又は制御を行うための、屈折、反射、磁気、電磁気、静電気型等の光学コンポーネント、又はその任意の組合せなどの種々のタイプの光学コンポーネントを含んでいてもよい。
【００１４】
[0021]  パターニングデバイス支持体は、パターニングデバイスの方向、リソグラフィ装置の設計等の条件、例えばパターニングデバイスが真空環境で保持されているか否かに応じた方法で、パターニングデバイスを保持する。このパターニングデバイス支持体は、パターニングデバイスを保持するために、機械的、真空、静電気等のクランプ技術を使用することができる。パターニングデバイス支持体は、例えばフレーム又はテーブルでよく、必要に応じて固定式又は可動式でよい。パターニングデバイス支持体は、パターニングデバイスが例えば投影システムに対して確実に所望の位置にくるようにできる。本明細書において「レチクル」又は「マスク」という用語を使用した場合、その用語は、より一般的な用語である「パターニングデバイス」と同義と見なすことができる。
【００１５】
[0022]  本明細書において使用する「パターニングデバイス」という用語は、基板のターゲット部分にパターンを生成するように、放射ビームの断面にパターンを与えるために使用し得る任意のデバイスを指すものとして広義に解釈されるべきである。ここで、放射ビームに与えられるパターンは、例えばパターンが位相シフトフィーチャ又はいわゆるアシストフィーチャを含む場合、基板のターゲット部分における所望のパターンに正確には対応しないことがある点に留意されたい。一般的に、放射ビームに与えられるパターンは、集積回路などのターゲット部分に生成されるデバイスの特定の機能層に相当する。
【００１６】
[0023]  パターニングデバイスは透過性又は反射性でよい。パターニングデバイスの例には、マスク、プログラマブルミラーアレイ、及びプログラマブルＬＣＤパネルがある。マスクはリソグラフィにおいて周知のものであり、これには、バイナリマスク、レベンソン型(alternating)位相シフトマスク、ハーフトーン型(attenuated)位相シフトマスクのようなマスクタイプ、さらには様々なハイブリッドマスクタイプも含まれる。プログラマブルミラーアレイの一例として、小さなミラーのマトリクス配列を使用し、そのミラーは各々、入射する放射ビームを異なる方向に反射するよう個々に傾斜することができる。傾斜したミラーは、ミラーマトリクスによって反射する放射ビームにパターンを与える。
【００１７】
[0024]  本明細書において使用する「投影システム」という用語は、例えば使用する露光放射、又は液浸液の使用や真空の使用などの他の要因に合わせて適宜、例えば屈折光学システム、反射光学システム、反射屈折光学システム、磁気光学システム、電磁気光学システム及び静電気光学システム、又はその任意の組合せを含む任意のタイプの投影システムを網羅するものとして広義に解釈されるべきである。本明細書において「投影レンズ」という用語を使用した場合、これはさらに一般的な「投影システム」という用語と同義と見なすことができる。
【００１８】
[0025]  本明細書で示すように、本装置は透過タイプである（例えば透過マスクを使用する）。あるいは、装置は反射タイプでもよい（例えば上記で言及したようなタイプのプログラマブルミラーアレイを使用する、又は反射マスクを使用する）。
【００１９】
[0026]  リソグラフィ装置は２つ（デュアルステージ）又はそれ以上の基板テーブル又は「基板支持体」（及び／又は２つ以上のマスクテーブル又は「マスク支持体」）を有するタイプでよい。このような「マルチステージ」機械においては、追加のテーブル又は支持体を並行して使用するか、又は１つ又は複数の他のテーブル又は支持体を露光に使用している間に１つ又は複数のテーブル又は支持体で予備工程を実行することができる。
【００２０】
[0027]  リソグラフィ装置は、投影システムと基板との間の空間を充填するように、基板の少なくとも一部を水などの比較的高い屈折率を有する液体で覆えるタイプでもよい。液浸液は、例えばパターニングデバイス（例えばマスク）と投影システムの間など、リソグラフィ装置の他の空間に適用することもできる。液浸技術は、投影システムの開口数を増加させるために当技術分野で周知である。本明細書で使用する「液浸」という用語は、基板などの構造を液体に沈めなければならないという意味ではなく、露光中に投影システムと基板の間に液体が存在するというほどの意味である。
【００２１】
[0028]  図１を参照すると、イルミネータＩＬは放射源ＳＯから放射ビームを受ける。放射源ＳＯとリソグラフィ装置とは、例えば放射源がエキシマレーザである場合に、別々の構成要素であってもよい。このような場合、放射源はリソグラフィ装置の一部を形成すると見なされず、放射ビームは、例えば適切な誘導ミラー及び／又はビームエクスパンダなどを備えるビームデリバリシステムＢＤの助けにより、放射源ＳＯからイルミネータＩＬへと渡される。他の事例では、例えば放射源ＳＯが水銀ランプの場合は、放射源ＳＯがリソグラフィ装置の一体部分であってもよい。放射源ＳＯ及びイルミネータＩＬは、必要に応じてビームデリバリシステムＢＤとともに放射システムと呼ぶことができる。
【００２２】
[0029]  イルミネータＩＬは、放射ビームの角度強度分布を調整するアジャスタＡＤを含んでいてもよい。通常、イルミネータＩＬの瞳面における強度分布の外側及び／又は内側半径範囲（一般にそれぞれ、σ-outer及びσ-innerと呼ばれる）を調整することができる。また、イルミネータＩＬは、インテグレータＩＮ及びコンデンサＣＯなどの他の種々のコンポーネントを備えていてもよい。イルミネータＩＬを用いて放射ビームを調節し、その断面にわたって所望の均一性と強度分布とが得られるようにしてもよい。
【００２３】
[0030]  放射ビームＢは、パターニングデバイス支持体（例えば、マスクテーブル）ＭＴ上に保持されたパターニングデバイス（例えば、マスク）ＭＡに入射し、パターニングデバイスによってパターニングされる。パターニングデバイス（例えばマスク）ＭＡを横断した放射ビームＢは、投影システムＰＳを通過し、投影システムＰＳは、ビームを基板Ｗのターゲット部分Ｃ上に合焦させる。第２の位置決めデバイスＰＷと位置センサＩＦ（例えば、干渉計デバイス、リニアエンコーダ又は容量センサ）の助けを借りて、基板テーブルＷＴは、例えば、様々なターゲット部分Ｃを放射ビームＢの経路に位置決めできるように正確に移動できる。同様に、第１の位置決めデバイスＰＭと別の位置センサ（図１には明示されていない）を用いて、マスクライブラリからの機械的な取り出し後又はスキャン中などに放射ビームＢの経路に対してパターニングデバイス（例えばマスク）ＭＡを正確に位置決めできる。一般に、パターニングデバイス支持体（例えばマスクテーブル）ＭＴの移動は、第１の位置決めデバイスＰＭの部分を形成するロングストロークモジュール（粗動位置決め）及びショートストロークモジュール（微動位置決め）の助けにより実現できる。同様に、基板テーブルＷＴ又は「基板支持体」の移動は、第２のポジショナＰＷの部分を形成するロングストロークモジュール及びショートストロークモジュールを用いて実現できる。ステッパの場合（スキャナとは対照的に）、パターニングデバイス支持体（例えばマスクテーブル）ＭＴをショートストロークアクチュエータのみに接続するか、又は固定してもよい。パターニングデバイス（例えばマスク）ＭＡ及び基板Ｗは、マスクアライメントマークＭ１、Ｍ２及び基板アライメントマークＰ１、Ｐ２を使用して位置合わせすることができる。図示のような基板アライメントマークは、専用のターゲット部分を占有するが、ターゲット部分の間の空間に位置してもよい（スクライブレーンアライメントマークとして周知である）。同様に、パターニングデバイス（例えばマスク）ＭＡ上に複数のダイを設ける状況では、マスクアライメントマークをダイ間に配置してもよい。
【００２４】
[0031]  図示のリソグラフィ装置は、以下のモードのうち少なくとも１つにて使用可能である。
【００２５】
[0032]  １．ステップモードにおいては、パターニングデバイス支持体（例えばマスクテーブル）ＭＴ又は「マスク支持体」及び基板テーブルＷＴ又は「基板支持体」は、基本的に静止状態に維持される一方、放射ビームに与えたパターン全体が１回でターゲット部分Ｃに投影される（すなわち単一静的露光）。次に、別のターゲット部分Ｃを露光できるように、基板テーブルＷＴ又は「基板支持体」がＸ方向及び／又はＹ方向に移動される。ステップモードでは、露光フィールドの最大サイズによって、単一静的露光で像が形成されるターゲット部分Ｃのサイズが制限される。
【００２６】
[0033]  ２．スキャンモードにおいては、パターニングデバイス支持体（例えばマスクテーブル）ＭＴ又は「マスク支持体」及び基板テーブルＷＴ又は「基板支持体」は同期的にスキャンされる一方、放射ビームに与えられるパターンがターゲット部分Ｃに投影される（すなわち単一動的露光）。パターニングデバイス支持体（例えばマスクテーブル）ＭＴ又は「マスク支持体」に対する基板テーブルＷＴ又は「基板支持体」の速度及び方向は、投影システムＰＳの拡大（縮小）及び像反転特性によって求めることができる。スキャンモードでは、露光フィールドの最大サイズによって、単一動的露光におけるターゲット部分の（非スキャン方向における）幅が制限され、スキャン動作の長さによってターゲット部分の（スキャン方向における）高さが決まる。
【００２７】
[0034]  ３．別のモードでは、パターニングデバイス支持体（例えばマスクテーブル）ＭＴ又は「マスク支持体」はプログラマブルパターニングデバイスを保持して基本的に静止状態に維持され、基板テーブルＷＴ又は「基板支持体」を移動又はスキャンさせながら、放射ビームに与えられたパターンをターゲット部分Ｃに投影する。このモードでは、一般にパルス状放射源を使用して、基板テーブルＷＴ又は「基板支持体」を移動させる毎に、又はスキャン中に連続する放射パルスの間で、プログラマブルパターニングデバイスを必要に応じて更新する。この動作モードは、以上で言及したようなタイプのプログラマブルミラーアレイなどのプログラマブルパターニングデバイスを使用するマスクレスリソグラフィに容易に利用できる。
【００２８】
[0035]  上述した使用モードの組合せ及び／又は変形、又は全く異なる使用モードも利用できる。
【００２９】
[0036]  図２は、従来のリソグラフィ装置の部分詳細図を示す。投影システム１は、メトロフレーム２上に取り付けられている。投影システム１は、基板支持体５上に支持された基板４にパターン付放射ビームを投影するように構成されている。基板支持体５は、ショートストロークステージとも呼ばれる基板テーブル６と、基板テーブル６を支持するように配置されたロングストロークステージとも呼ばれる基板テーブル支持体７とを含む。
【００３０】
[0037]  基板テーブル支持体７は、ベースフレーム８上に可動自在に取り付けられている。基板テーブル支持体７は、少なくとも２つの方向（Ｘ，Ｙ）に比較的長い範囲にわたってベースフレーム８に対して移動可能である。基板テーブル６は、比較的小さい範囲にわたって基板テーブル支持体７に対して移動可能である。
【００３１】
[0038]  投影システム１に対して基板４のターゲット部分を整列させる位置決めシステム１１が提供される。位置決めシステムは、基板テーブル６上に取り付けられたエンコーダヘッド１２を含む基板テーブル位置測定システム又はセンサと、メトロフレーム２上に配置されたグリッド又は格子１３とを含む。好ましくは、各々が２方向に位置を測定可能であって、それによって基板テーブル６の少なくとも６自由度（ＤＯＦ）の位置情報を提供する少なくとも３つのエンコーダへッド１２が提供される。
【００３２】
[0039]  グリッド又は格子１３は、例えば、メトロフレーム２上に取り付けられたグリッドプレート上に提供される。位置決めシステムは、基板テーブル６を所望の位置に、極めて正確に、好ましくは６自由度（ＤＯＦ）で位置決めするように配置された基板テーブルアクチュエータ１５にアクチュエータ信号を提供するコントローラ１４をさらに含む。
【００３３】
[0040]  基板テーブル６は基板テーブル支持体７に対して比較的小さい範囲でしか移動することができないため、位置決めシステムは、基板テーブル７の要求された運動が基板テーブル支持体７に対する基板テーブル６の比較的小さい移動範囲内に留まるように、基板テーブルの動きに追随するように基板テーブル支持体７を作動する。基板テーブル６のこの小さい範囲は高精度に制御することができる。
【００３４】
[0041]  エンコーダヘッド１２の各々は、グリッド又は格子１３に対するエンコーダヘッド１２の位置又は位置の変化を表す測定信号を提供する。コントローラは、セットポイントジェネレータによって生成された所望の位置信号から測定された位置が減算される減算器を含む。その結果として得られるエラー信号は、エラー信号に基づいて作動信号を生成するコントローラ１４の制御デバイスに供給される。この作動信号は、基板テーブルアクチュエータに供給されてアクチュエータを所望の位置へ移動させる。基板テーブル６の位置制御にフィードフォワードループを追加して制御システムの精度と反応時間とをさらに改善することができる。
【００３５】
[0042]  上記位置決めシステムは、従来の位置決めシステムである。位置決め制御では、基板テーブルは、本体の加速中に内部変形がない剛体として振舞うものとする。しかし、リソグラフィのスループットと精度の要求が高まるにつれて、位置決め中の基板テーブル６の加速及び減速は一般的に増加する。その結果、運動中、特に加速及び減速中の基板テーブル６の内部変形が基板テーブル６の位置決めの精度に果たす役割が増大している。したがって、該当する周波数範囲で、基板テーブル６はもはや剛体とはみなされない。
【００３６】
[0043]  図３は、本発明のある実施形態による位置決めシステムを示す。特に断りのない限り、図３の位置決めシステムは、図２の位置決めシステムと同様であり、システムの各部分は同じ参照数字で示される。
【００３７】
[0044]  位置決めシステムは、エンコーダヘッド１２と、グリッド又は格子１３と、コントローラ１４と、アクチュエータ１５とを含む剛体の制御システム又はコントローラを含む。剛体の制御システムの次に、図３の位置決めシステムは、基板テーブル６内の剛性及び／又は相対運動の制振を能動的に増大させるように構成された剛化システム又はスティフナーを含む。
【００３８】
[0045]  剛化システム又はスティフナーは、センサ２０、２１と、アクチュエータ２２とを含む。スティフナーは、コントローラ１４内に一体化された制御ユニットをさらに含む。代替実施形態では、スティフナーの制御ユニットは、別の制御ユニットであってもよい。アクチュエータ２２は、任意の好適なタイプ、例えば、ローレンツタイプのアクチュエータであってもよい。アクチュエータ２２は、基板テーブル６の表面の上で分割され、アクチュエータ２２を表す両方向矢印が示すｚ方向に基板テーブル６上に力を加えるように配置されている。基板テーブル６上に作動力を加える十分な場所を提供するために、複数のアクチュエータ２２、例えば、１０〜２０個のアクチュエータを基板テーブル６の表面の上で分割することができる。しかし、ある実施形態では、例えば、基板テーブル６の１つの特定の内部変形モードに対抗するために、１つのセンサと１つのアクチュエータだけを提供することも可能である。
【００３９】
[0046]  センサ２０、２１は、レーザ源と、検出器ユニット２０ａ、２１ａと、ミラーユニット２０ｂ、２１ｂとを含む。レーザ源及び検出器ユニット内のレーザ源は、ミラーユニット２０ｂ、２１ｂへ向けて放射又はレーザビームを放出し、ミラーユニット２０ｂ、２１ｂは、レーザ源及び検出器ユニット２０ａ内の検出器へ向けてビームを反射する。検出器は、信号を提供し、この信号は、レーザ源と基準検出器との間のレーザ源及び検出器ユニット内だけを移動する基準ビームが提供する信号と比較される。レーザ干渉法が使用されるこの測定システムでは、基板テーブル６の異なる部分の間の距離の変化を決定することができる。
【００４０】
[0047]  基板テーブル６内の距離の変化を決定する特にレーザ干渉法などの光測定システムを用いた他の任意のセンサ構成も使用することができる。代替策として、高性能の歪み計、すなわち、距離の微小な変化を短時間に測定することができる歪み計を適用してもよい。
【００４１】
[0048]  ある実施形態では、センサ２０のレーザ源及び検出器は、配線を必要とするすべての部分が基板テーブル６内に取り付けられないように、基板テーブル支持体７内に取り付けることができる。基板テーブル６内の測定ビームは、ミラーによって所望の測定経路に沿ってそれぞれの検出器へ案内することができる。基板テーブル支持体７内のレーザ源及び検出器の場所は、基板テーブル６の可動性と重量とに良い影響を与えることができる。
【００４２】
[0049]  図３に示す実施形態では、基板テーブル６は、測定ビームが通過できるガラスなどの光透過性材料で構成される。別の実施形態では、測定ビームが基板テーブルの側面に沿って移動することができるように、又は、測定ビームが通過できる空間、例えば、ドリル穴などのチャネルが基板テーブル６内に提供することができるように、測定センサを基板テーブルの外側に取り付けることができる。測定ビームが通過する光透過性の本体の利点は、測定ビームに雰囲気の変化の影響がないか少ないことである。
【００４３】
[0050]  センサ２０、２１は、基板テーブル６の２つの端部２３、２４の間の距離の変化を測定するように配置されている。図示の実施形態では、第１のセンサ２０は、基板テーブル６の上側の基板テーブル６の一方の端部２３とそれに対向する端部２４との間の長さを測定するように配置され、第２のセンサ２１は、基板テーブル６の下側の基板テーブル６の一方の端部２３とそれに対向する端部２４との間の長さを測定するように配置されている。両方のセンサ２０、２１は、基板テーブル６内に内部変形がない時に一定である距離を測定する。基板テーブル６の２つの端部２３、２４の間の距離の変化の測定によって、基板テーブル６の内部変形を表す測定信号が提供される。
【００４４】
[0051]  測定信号は、コントローラ１４へ供給される。コントローラ１４は、アクチュエータ２２の１つ以上に作動信号を提供し、基板テーブル６の２つの端部２３、２４の間の距離の変化に対抗し、それによって基板テーブルの内部変形に対抗する。
【００４５】
[0052]  スティフナーの制御動作は、２つの端部２３、２４の間で測定した距離の変化を実質的にゼロに維持することを目的とする。その結果、基板テーブル６の剛性は大幅に増加し、及び／又は基板テーブル６内の相対運動は制振される。本発明のある実施形態のスティフナーを用いて、基板テーブル６の剛性を大幅に、例えば４倍〜８倍に増加させることができる。
【００４６】
[0053]  一般に、制御動作は、剛性の増加及び／又は基板テーブル６内の相対運動の制振によって基板テーブル６の可撓性を低減し、それによって結果としての内部変形を低減することを目的とする。特に、剛体の運動以外の変位への力の伝達機能は最小限でなければならない。
【００４７】
[0054]  実行される測定の感度を上げるために、第１のセンサ２０と第２のセンサ２１の測定信号を比較してもよい。例えば、基板テーブル６の端部２３、２４が上方に屈曲している時には、板状の基板テーブル６の上側の長さは減少し、一方下側の長さは増加する。その結果、センサ２０及び２１の２つの測定信号の間の変化は、測定信号それ自体の各々の変化よりも大きい。したがって、特に基板テーブル６の屈曲モード又はトルクモードを測定するために、板状の基板テーブル６の上面及び下面の近くに配置されたセンサ２０、２１を使用することが有益である。また、好ましくは、上面及び下面の近くのセンサの測定信号を結合して測定感度をさらに上げることが有益である。
【００４８】
[0055]  図３に示す実施形態では、２つのセンサ２０、２１だけが示されている。実際、以下に説明するように、複数のセンサを用いて基板テーブル６の内部変形、すなわち、基板テーブル６内の相対運動を測定することができる。
【００４９】
[0056]  図４は、各々がレーザ源及び検出器ユニット２０ａとミラーユニット２０ｂとを有する複数のセンサ２０が配置された基板テーブル６の上面図を示す。これらのセンサ２０は、基板テーブル６上に測定ライン網を提供する。センサ２０のいずれかの距離の変化を測定することで、内部変形を決定し、これを用いてアクチュエータ２２によって内部変形に対抗することができる。基板テーブル６全体の表面にわたってセンサ２０を提供することで、基板テーブル上の任意の場所の内部変形に関する情報を得ることができる。同様のセンサ２１の網を基板テーブル６の底面側の近くの場所に提供することができる。
【００５０】
[0057]  センサ部分２０ａ、２０ｂは、基板テーブル６の縁部付近に配置され、測定ビームは比較的長い経路を移動する。それによって、センサ２０は、基板テーブル６の比較的小さい形状変化を感知する。センサ２０は、２００ｍｍの距離で約１０ナノメートルを超える解像度、又は約１ナノメートルを超える解像度で測定が可能である。
【００５１】
[0058]  センサ２０の情報を例えばコントローラ１４で使用して、基板テーブル６がどの変形モード、例えばトルク及び／又は屈曲モードにあるかを決定することができる。これらの変形モードは、コントローラ１４内で内部変形に対抗するためにアクチュエータ２２が及ぼす作動力を計算するのに有用である。
【００５２】
[0059]  代替実施形態で、センサ２０は、基板テーブル６の異なる部分の間の距離の変化を測定するために基板テーブル６上で任意の好適な方法で分割することができる。例えば、センサ２０を基板テーブル６の特に屈曲モードを決定するために基板テーブルの縁部だけに沿って提供してもよい。一般に、基板テーブル６の特定の支配的な屈曲モードを知り、センサがそれらの屈曲モードを感知するような方法でセンサ２０を配置することが有益である。センサを基板テーブル６の異なる高さに配置し、測定ビームを図４に示すＸ及びＹ方向とは異なる角度に提供することもできる。例えば、歪みモードを決定するには、斜めの測定経路が極めて好適である。
【００５３】
[0060]  図５は、板状の基板テーブル６の剛性を高めるように構成されたスティフナーを含む位置決めシステムの代替実施形態を示す。図５の実施形態で、エンコーダヘッド１２と同様のセンサ構造を用いて基板テーブル６内の内部変形が決定される。コントローラ及びアクチュエータなどのスティフナーのその他の部分も図３の実施形態と実質的に同じであり、ここでは詳述しない。
【００５４】
[0061]  センサ構造は、基板テーブル６の対向する端部２３、２４に配置されたセンサヘッド３０（２つだけを図示）を含む。センサヘッド３０は基板テーブル６の上面に配置され、基板テーブル６の外周にわたって分割することができる、すなわち、基板４によって覆われていない基板テーブル６の上面で分割することができる。センサヘッド３０の各々は、グリッド又は格子３によって反射されてセンサヘッド３０へ戻るレーザビームを提供するレーザ源を含む。しかし、エンコーダヘッド１２とは異なり、測定ビームは、センサヘッド１２とグリッド又は格子１３との間を移動して戻るだけでなく、光学要素３１を介して測定ビームは基板テーブル６を通過する。この測定経路内の長さのいかなる変化も決定することができる。したがって、基板テーブル６とグリッド又は格子１３との間の距離の変化だけでなく、端部２３と２４との間の距離の変化も図５の実施形態のセンサ構造によって決定することができる。
【００５５】
[0062]  この測定信号で、剛体の運動によるセンサヘッド１２とグリッド又は格子１３との間の距離の変化は内部変形を決定する際に考慮してはならない。この理由から、センサ構造をこれらの運動から独立させることができ、又は測定信号から剛体の運動を減算することができる。剛体の運動から独立した測定信号は、基板テーブル６の内部変形を表し、アクチュエータ２２に作動信号を提供するためのコントローラ１４への入力として使用することができる。
【００５６】
[0063]  なお、実際、剛体モードと内部変形モードの両方の制御に多次元制御方式を使用してもよい。したがって、両モードの制御に対する１つのコントローラ１４のみを示す。また、剛体モードと内部変形モードの両方にセンサとアクチュエータとを使用してもよい。
【００５７】
[0064]  作動信号に基づいて、アクチュエータ２２は、基板テーブル６の内部変形に対抗する力を基板テーブル６上に加える。その結果、基板テーブル６の剛性は、大幅に改善され、及び／又は基板テーブル６内の部分の相対運動は低減される。
【００５８】
[0065]  センサヘッド３０とグリッド又は格子３との間の距離にわたってｚ方向に測定が可能な測定ビームを有するセンサ構造を使用する利点は、このｚ方向の測定が基板テーブル６の特定のモード形状、特に基板テーブル６の屈曲及びトルクを感知するということである。これらの屈曲及びトルクモードは、周知の基板テーブルのレイアウトで支配的であり、したがって、これらのモードを特に感知するセンサ構造を有することは有用である。
【００５９】
[0066]  主平面の実質的に垂直な方向と同様、主平面に実質的に平行な方向に基板テーブルに沿って移動する又は基板テーブルを通過する光測定ビームを用いたその他のセンサ構造も適用可能である。
【００６０】
[0067]  図６は、板状の基板テーブル６の剛性を高めるスティフナーを含む位置決めシステムの別の代替形態を示す。図６の実施形態では、基板テーブル６内の内部変形を決定するセンサ４０が提供される。コントローラ及びアクチュエータなどのスティフナーのその他の部分も図３の実施形態と実質的に同じであり、ここでは詳述しない。
【００６１】
[0068]  センサ４０は、基板テーブル６の外周に、すなわち、基板４によって覆われていない上面領域に配置されている。センサ４０は、基板支持体６とグリッド又は格子１３との間の距離又は距離の変化を測定するように構成されている。センサ４０は、センサヘッド１２に対応していてもよく、又はセンサ４０とグリッド又は格子１３との間の距離又は距離の変化を測定することが可能なその他の任意のタイプのセンサであってもよい。センサは、基板支持体６の剛体の運動を感知しないように構成することができ、又は剛体の運動を測定した距離から減算してもよい。
【００６２】
[0069]  センサ４０によって測定された距離の結果として生まれる変化は基板テーブル６の内部変形を表し、アクチュエータ２２に作動信号を提供するためのコントローラ１４への入力として使用することができる。これらの作動信号に基づいて、アクチュエータ２２は、基板テーブル６の内部変形に対抗する力を基板テーブル６上に加える。その結果、基板テーブル６の剛性は大幅に改善され、及び／又は基板テーブル６内の部分の相対運動は低減される。
【００６３】
[0070]  図６の実施形態のセンサ構造を使用する利点は、基板テーブル６の異なる部分とグリッド又は格子１３との間の距離の差分の変化が基板テーブル６内の内部変形についての信頼できる情報を提供するという点である。さらに、センサヘッド１２によって測定される剛体の運動の測定のためにグリッド又は格子１３がすでに提供されているため、別に基準オブジェクトを提供する必要はない。
【００６４】
[0071]  図７は、板状の基板テーブル６の剛性をたかめるスティフナーを含む位置決めシステムで使用するセンサ構造のさらに別の代替形態を示す。特に断りのない限り、図７の位置決めシステムは、図３〜図６の実施形態と同様に実施することができる。
【００６５】
[0072]  図７のセンサ構造は、基板テーブル６の底面側に配置されたセンサ５０を含む。センサ５０は、グリッドプレート５１に対する距離又は距離の変化を測定するように構成されている。グリッドプレート５１は、運動結合ポイント５２を介して基板テーブル支持体７の上面側に配置され、それによって加速及び／又は振動がグリッドプレート５１の位置に与える影響を回避するか少なくとも低減する。代替実施形態では、基板テーブルの動作と同様の力アクチュエータによって完全な減結合を提供するか、又は基板テーブル支持体７とグリッドプレート５１との間に受動もしくは能動制振システムを提供してもよい。
【００６６】
[0073]  センサ５０は、基板テーブル支持体７の底面側の表面にわたって好適に分割して基板テーブル６の内部変形を感知することができる。センサ５０は、基板テーブル６の外周付近に配置することができるが、その他の場所にも配置することができる。
【００６７】
[0074]  図示の実施形態では、グリッドプレート５１は、基板テーブル６の全領域を覆う。しかし、基板テーブル支持体７の運動範囲は、基板テーブル６に対して小さく、グリッドプレート５１上の小さいグリッドだけがグリッドプレート５１に対するセンサ５０の全運動範囲を覆うことができる。なお、図７に示す全センサ５０に対する１つのグリッドプレート５１の代替策として、限られた数のセンサ５０、又は１つのセンサ５０に対する１つの比較的小さいグリッドプレートを提供してもよい。実際、基板テーブル６と基板テーブル支持体７との間のアクチュエータ１５などの他のコンポーネントに必要な空間があるため、そのような小さいグリッドプレートは有用である。
【００６８】
[0075]  センサ５０は、センサヘッド１２に対応していてもよく、又はセンサ５０とグリッドプレート５１との間の距離又は距離の変化を測定することが可能なその他の任意のタイプのセンサであってもよい。また、この実施形態では、センサ信号は、例えば、センサ５０を積み上げて、又は測定信号の剛体の運動を減算することで基板支持体６の剛体の運動を感知しないように構成することができる。
【００６９】
[0076]  センサ５０によって測定された距離の結果として生まれる変化は、基板テーブル６の内部変形を表し、アクチュエータ２２に作動信号を提供するためのコントローラ１４への入力として使用することができる。これらの作動信号に基づいて、アクチュエータ２２は、基板テーブル６の内部変形に対抗する力を基板テーブル６上に加える。その結果、基板テーブル６の剛性は大幅に改善され、及び／又は基板テーブル６内の部分の相対運動は低減される。
【００７０】
[0077]  図７の実施形態の利点は、グリッドプレート５１の形態の基準オブジェクトを基板テーブル支持体７に装着できるという点である。この基板テーブル支持体７の運動範囲は、基板テーブル６に対して小さいため、小さいグリッドだけがグリッドプレート５１に対するセンサ５０の全運動範囲を覆うことができる。さらに、基板テーブル６の底面側で利用可能な空間は、投影システム又は基板４の存在によって制限されない。したがって、センサ５０は、基板４の下に配置してもよい。この利点は、基板４のターゲット部分、すなわち、パターン付ビームが投影されるウェーハの部分の場所の内部変形が高精度に決定することができるという点である。
【００７１】
[0078]  グリッドプレート５１を用いた光測定システムの代わりに、他の任意の好適なシステム、好ましくは、光測定システムを用いて基板テーブル６と基板テーブル支持体７との間の距離又は距離の変化を測定することができる。運動結合、力アクチュエータ、又は能動制振システム又はダンパーあるいはその他の好適なシステムによって、グリッドプレート５１などの基準オブジェクトが基板テーブル支持体７の加速及び／又は振動を感知しないようにすることが好ましい。
【００７２】
[0079]  以上、位置決めシステム又は板状のオブジェクト内に適用可能なスティフナーについて説明した。スティフナーは板状のオブジェクト内に適用されるので、スティフナーは、オブジェクトの主平面に実質的に平行な層内に能動的な剛性を提供するように構成されている。また、スティフナーは、別の形状のオブジェクト、例えば、ボックスタイプの構造内に適用可能である。さらに、スティフナーは、複数の方向の内部変形に対抗しなければならないオブジェクトにも適用可能である。これらの用途で、スティフナーは、内部変形に対抗するように構成することができ、センサ及びアクチュエータは複数の方向に配置されている。
【００７３】
[0080]  さらに、本発明のある実施形態によるスティフナーを用いて加速又は減速中の内部変形に対抗することができ、また基板テーブルの異なる部分の温度差又は基板テーブルに作用する外部力、例えば、リソグラフィ装置の液浸システムによって加えられる力などのその他の原因による内部変形にも対抗することができる。
【００７４】
[0081]  なお、アクチュエータ１５は、アクチュエータ２２とは異なる周波数で作動可能である。例えば、アクチュエータ１５は、アクチュエータ２２よりも低い周波数で作動することができる。より低い周波数は、基板テーブル６の運動動作の周波数範囲に対応していてもよい。こうして、アクチュエータ２２のドリフトによって引き起こされた基板テーブル６の不要な変形を低減することができる。ドリフトは、アクチュエータ２２に接続された増幅器又は電流センサ内でも引き起こされることがある。
【００７５】
[0082]  本文ではＩＣの製造におけるリソグラフィ装置の使用に特に言及しているが、本明細書で説明するリソグラフィ装置には他の用途もあることを理解されたい。例えば、これは、集積光学システム、磁気ドメインメモリ用誘導及び検出パターン、フラットパネルディスプレイ、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、薄膜磁気ヘッドなどの製造である。こうした代替的な用途に照らして、本明細書で「ウェーハ」又は「ダイ」という用語を使用している場合、それぞれ、「基板」又は「ターゲット部分」という、より一般的な用語と同義と見なしてよいことが、当業者には認識される。本明細書に述べている基板は、露光前又は露光後に、例えばトラック（通常はレジストの層を基板に塗布し、露光したレジストを現像するツール）、メトロロジーツール及び／又はインスペクションツールで処理することができる。適宜、本明細書の開示は、以上及びその他の基板処理ツールに適用することができる。さらに基板は、例えば多層ＩＣを生成するために、複数回処理することができ、したがって本明細書で使用する基板という用語は、既に複数の処理済み層を含む基板も指すことができる。
【００７６】
[0083]  光リソグラフィの分野での本発明の実施形態の使用に特に言及してきたが、本発明は文脈によってはその他の分野、例えばインプリントリソグラフィでも使用することができ、光リソグラフィに限定されないことを理解されたい。インプリントリソグラフィでは、パターニングデバイス内の微細構成（ｔｏｐｏｇｒａｐｈｙ）が基板上に作成されたパターンを画定する。パターニングデバイスの微細構成は基板に供給されたレジスト層内に刻印され、電磁放射、熱、圧力又はそれらの組合せを印加することでレジストは硬化する。パターニングデバイスはレジストから取り除かれ、レジストが硬化すると内部にパターンが残される。
【００７７】
[0084]  本明細書で使用する「放射」及び「ビーム」という用語は、イオンビーム又は電子ビームなどの粒子ビームのみならず、紫外線（ＵＶ）放射（例えば、３６５ｎｍ、２４８ｎｍ、１９３ｎｍ、１５７ｎｍ若しくは１２６ｎｍ、又はこれら辺りの波長を有する）及び極端紫外線光（ＥＵＶ）放射（例えば、５ｎｍ〜２０ｎｍの範囲の波長を有する）を含むあらゆるタイプの電磁放射を網羅する。
【００７８】
[0085]  「レンズ」という用語は、状況が許せば、屈折、反射、磁気、電磁気及び静電気光学コンポーネントを含む様々なタイプの光学コンポーネントのいずれか一つ、又はその組合せを指すことができる。
【００７９】
[0086]  ある実施形態では、本体を有する可動オブジェクトを位置決めする位置決めシステムが提供される。位置決めシステムは、オブジェクト位置センサと、オブジェクトアクチュエータと、オブジェクトコントローラとを備える。オブジェクト位置センサは、オブジェクトの位置量を測定するように構成されている。オブジェクトアクチュエータは、オブジェクト上に作動力を加えるように構成されている。オブジェクトコントローラは、所望の位置量と測定された位置量との差に基づいてアクチュエータにオブジェクト作動信号を提供するように構成されている。位置決めシステムは、オブジェクトの本体内の剛性を増加させ、及び／又は相対運動を制振するように構成されたスティフナーをさらに備える。スティフナーは、センサと、アクチュエータと、コントローラとを備える。センサは、本体の内部歪み又は相対変位を表す測定信号を決定するように構成されている。アクチュエータは、本体の一部に作動力を加えるように構成されている。コントローラは、センサの測定信号に基づいて、アクチュエータに作動信号を提供して本体内の剛性を増加させ、及び／又は運動を制振するように構成されている。
【００８０】
[0087]  センサは、本体内の測定信号を測定するように構成してもよい。センサは、本体の一部と基準オブジェクトとの間の距離又は距離の変化を測定するように構成してもよい。基準オブジェクトは、オブジェクト位置センサの一部であってもよい。基準オブジェクトは、可動オブジェクト上に取り付けてもよく、基準オブジェクトは本体に堅固に結合されていなくてもよい。
【００８１】
[0088]  センサは、本体の２つの部分の間の距離の変化を測定するように構成してもよく、コントローラは、アクチュエータに作動信号を提供して距離の変化を実質的にゼロレベルに維持するように構成してもよい。
【００８２】
[0089]  センサは、本体の２つの部分の間の距離の変化を測定するように構成された光センサであってもよい。光センサは、レーザ干渉法を使用してもよい。
【００８３】
[0090]  本体は、光透過性素子を含んでいてもよく、光センサの測定ビームは、主に光透過性素子を通して伝搬してもよい。
【００８４】
[0091]  本体は、主平面を有する板形状を有していてもよく、スティフナーは、主平面の本体の剛性を増加させるように構成してもよい。
【００８５】
[0092]  位置決めシステムは、本体の内部歪み又は相対変位を表す測定信号を決定するように構成された複数のセンサを含んでいてもよい。センサの各々は、センサが本体の上に広がった測定ライン網を提供するように、本体の２つの異なる部分の間の長さを測定するように配置してもよい。
【００８６】
[0093]  位置決めシステムは、本体の内部歪み又は相対変位を表す測定信号を決定するように構成された複数のセンサを含んでいてもよい。本体は、主平面を有する板形状を有していてもよい。第１の主表面は本体の第１の側にあってもよく、第２の主表面は本体の反対側にあってもよい。複数のセンサのうち第１のセンサは、第１の主表面に近い本体の部分の間の第１の距離を測定するように構成してもよく、複数のセンサのうち第２のセンサは、第２の主表面に近い部分の間の第２の距離を測定するように構成してもよい。コントローラは、第１及び第２の測定距離の差の変化に基づいて作動信号を提供してもよい。
【００８７】
[0094]  センサは、別のオブジェクトに対するオブジェクトの距離の変化と組み合わせて本体の２つの部分の間の距離の変化を測定するように構成してもよい。
【００８８】
[0095]  ある実施形態では、パターニングデバイスと、基板支持体と、投影システムと位置決めシステムとを備えるリソグラフィ装置が提供される。パターニングデバイス支持体は、パターニングデバイスを支持するように構築されている。パターニングデバイスは、パターンを放射ビームの断面に付与してパターン付放射ビームを形成することができる。基板支持体は、基板を保持するように構築されている。投影システムは、パターン付放射ビームを基板のターゲット部分に投影するように構成されている。位置決めシステムは、本体を有する支持体のうちの１つの支持体の位置を制御するように構成されている。位置決めシステムは、支持体位置センサと、支持体アクチュエータと、支持体コントローラとを備える。支持体位置センサは、前記１つの支持体の本体の位置量を測定するように構成されている。支持体アクチュエータは、前記１つの支持体の本体上に作動力を加えるように構成されている。支持体コントローラは、所望の位置量と測定された位置量との差に基づいてアクチュエータに作動信号を提供するように構成されている。位置決めシステムは、オブジェクトの本体内の剛性を増加させ、及び／又は相対運動を制振する剛化システムをさらに備える。スティフナーは、センサと、アクチュエータと、コントローラとを備える。センサは、本体の内部歪み又は相対変位を表す測定信号を決定するように構成されている。アクチュエータは、本体の一部に作動力を加えるように構成されている。またコントローラは、センサの測定信号に基づいて、アクチュエータに作動信号を提供して本体内の剛性を増加させ、及び／又は運動を制振するように構成されている。センサは、本体内の測定信号を測定するように構成してもよい。
【００８９】
[0096]  センサは、本体の２つの部分の間の距離の変化を測定するように構成された光センサであってもよい。センサは、本体の一部と基準オブジェクトとの間の距離又は距離の変化を測定するように構成してもよい。基準オブジェクトは、支持体又は基板テーブルのメトロフレーム又はロングストローク部上に取り付けてもよい。
【００９０】
[0097]  ある実施形態では、スティフナーを用いてオブジェクトの本体内の剛性を増加させ、及び／又は運動を制振することで可撓性と内部変形とを低減する方法が提供される。スティフナーは、センサと、アクチュエータと、コントローラとを備える。センサは、本体の内部歪み又は相対変位を表す測定信号を測定するように構成されている。アクチュエータは、本体の一部に作動力を加えるように構成されている。コントローラは、センサの測定信号に基づいて、アクチュエータに作動信号を提供して本体内の剛性を増加させ、及び／又は運動を制振するように構成されている。この方法は、センサで本体の２つの部分の間の距離を測定して測定信号を入手するステップと、アクチュエータに作動信号を提供して本体の部分上に力を加えて本体の２つの部分の間の実質的に同じ距離を維持するステップとを含む。
【００９１】
[0098]  以上、本発明の特定の実施形態を説明したが、説明とは異なる方法でも本発明を実践できることが理解される。例えば、本発明は、上記で開示したような方法を述べる機械読み取り式命令の１つ又は複数のシーケンスを含むコンピュータプログラム、又はこのようなコンピュータプログラムを内部に記憶したデータ記憶媒体（例えば半導体メモリ、磁気又は光ディスク）の形態をとることができる。
【００９２】
[0099]  上記の説明は例示的であり、限定的ではない。それ故、下記に示す特許請求の範囲から逸脱することなく、記載されたような本発明を変更できることが当業者には明白である。
【図１】
2014135519.tif 000003
【図２】
2014135519.tif 000004
【図３】
2014135519.tif 000005
【図４】
2014135519.tif 000006
【図５】
2014135519.tif 000007
【図６】
2014135519.tif 000008
【図７】
2014135519.tif 000009
【手続補正書】
【提出日】平成26年4月22日(2014.4.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上にパターン付放射ビームを投影するように構成された投影システムと、
前記基板を保持するための基板テーブルと、
前記基板テーブルを移動させるための位置決めシステムと
を備え、
前記位置決めシステムが、
コントローラと、
アクチュエータと、
グリッドプレートと、
前記グリッドプレートに関する距離又は距離の変化を測定するように構成されたセンサと
を備え、
前記センサが、前記基板テーブルの底面側に配置され、
前記センサが前記基板テーブルの内部変形を表す前記コントローラへの入力を提供し、前記コントローラが前記入力に基づいて前記アクチュエータへの作動信号を提供し、前記アクチュエータが前記作動信号に基づいて前記内部変形に対抗するように力を前記基板テーブルに加える、リソグラフィ装置。
【請求項２】
前記アクチュエータがローレンツタイプのアクチュエータである、請求項１に記載のリソグラフィ装置。
【請求項３】
複数の前記センサを備える、請求項１又は２に記載のリソグラフィ装置。
【請求項４】
複数の前記アクチュエータを備える、請求項３に記載のリソグラフィ装置。
【請求項５】
前記複数のアクチュエータが、１０〜２０個の範囲内である、請求項４に記載のリソグラフィ装置。
【請求項６】
前記複数のセンサ及び前記複数のアクチュエータが複数の方向に配置された、請求項４又は５に記載のリソグラフィ装置。
【請求項７】
前記複数のセンサが前記基板テーブルの外周付近に配置された、請求項３から６のいずれか一項に記載のリソグラフィ装置。
【請求項８】
前記グリッドプレートが前記基板テーブルの全領域を覆う、請求項１から７のいずれか一項に記載のリソグラフィ装置。
【請求項９】
前記内部変形が加速又は減速によって引き起こされた、請求項１から８のいずれか一項に記載のリソグラフィ装置。
【外国語明細書】
2014135519000001.pdf