(57)【要約】【課題】屈折率が１．３０未満である低屈折率層を備え、反射防止効果をさらに高めた反射防止フィルムおよびこれを用いた透過型液晶ディスプレイを得ることを課題とする。【解決手段】少なくとも透明基材上に低屈折率層（１５）を有する反射防止フィルム（１）であって、前記低屈折率層がバインダー樹脂と微粒子からなり、前記低屈折率層の表面の算術平均粗さ（Ｒａ）が３ｎｍ以上８ｎｍ以下であり、前記微粒子の平均一次粒子径が２０ｎｍ以上３００ｎｍ以下であり、前記微粒子の前記低屈折率層に対する面積占有率が前記バインダー樹脂の前記低屈折率層に対する面積占有率よりも高いことを特徴とする反射防止フィルムおよびこれを用いた透過型液晶ディスプレイにより上記課題を解決した。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも透明基材上に低屈折率層を有する反射防止フィルムであって、
前記低屈折率層がバインダー樹脂と微粒子からなり、
前記低屈折率層の表面の算術平均粗さ（Ｒａ）が３ｎｍ以上８ｎｍ以下であり、
前記微粒子の平均一次粒子径が２０ｎｍ以上３００ｎｍ以下であり、
前記微粒子の前記低屈折率層に対する面積占有率が前記バインダー樹脂の前記低屈折率層に対する面積占有率よりも高いことを特徴とする反射防止フィルム。
【請求項２】
ヘイズが０．１％以上１．０％以下であることを特徴とする請求項１に記載の反射防止フィルム。
【請求項３】
前記微粒子がシリカ粒子であることを特徴とする請求項１または２に記載の反射防止フィルム。
【請求項４】
前記微粒子が中空シリカ粒子であることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の反射防止フィルム。
【請求項５】
前記透明基材上に少なくともハードコート層と、高屈折率層と、前記低屈折率層とをこの順に有することを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の反射防止フィルム。
【請求項６】
請求項１乃至５のいずれか１項に記載の反射防止フィルムを用いてなる反射防止性偏光板であって、前記透明基材の前記低屈折率層が設けられた面の反対の面に第２の透明基材と、第１の偏光層とをこの順に有することを特徴とする反射防止性偏光板。
【請求項７】
観察者側から順に、請求項６に記載の反射防止性偏光板と、液晶セルと、第２の偏光板と、バックライトユニットとをこの順に備えていることを特徴とする透過型液晶ディスプレイ。
【請求項８】
請求項１乃至５のいずれか１項に記載の反射防止フィルムを湿式で製造する方法であって、
透明基材上にバインダー樹脂および微粒子を含む低屈折率層形成用塗液を塗布し、塗膜を形成する塗膜形成工程と、
前記塗膜を乾燥する乾燥工程と、
前記塗膜の乾燥後に電離放射線を照射し硬膜し、低屈折率層を５０ｎｍ以上１５０ｎｍ以下の厚さで形成する硬膜工程と、
を有すること特徴とする反射防止フィルムの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、窓やディスプレイなどの表面に設けられる反射防止フィルムに関する。特に、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、ＣＲＴディスプレイ、有機エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、表面電界ディスプレイ（ＳＥＤ）、フィールドエミッションディスプレイ（ＦＥＤ）などのディスプレイの表面に設けられる反射防止フィルムに関する。特に、ＬＣＤ表面に設けられる反射防止フィルムに関する。さらには、透過型ＬＣＤ表面に設けられる反射防止フィルムに関する。
【背景技術】
【０００２】
一般にディスプレイは、室内外での使用を問わず、外光などが入射する環境下で使用される。この外光等の入射光は、ディスプレイ表面等において正反射され、それによる反射像が表示画像と混合することにより、画面表示品質を低下させてしまう。そのため、ディスプレイ表面等に反射防止機能を付与することは必須であり、反射防止フィルムをディスプレイ表面に設けることにより、その反射防止機能によって外光の反射を抑制することができ明所でのコントラストを向上させることができる。
【０００３】
一般に反射防止フィルムは、透明基材上に金属酸化物等の透明材料からなる高屈折率層と低屈折率層の繰り返し構造による多層構造の反射防止層を形成することで得られる。これらの多層構造からなる反射防止層は、化学蒸着（ＣＶＤ）法や、物理蒸着（ＰＶＤ）法といった乾式成膜法により形成することができる。ただし、透明基材および各層は低複屈折であることが要求されるため使用可能な材料は限定的である。
【０００４】
乾式成膜法を用いて反射防止層を形成する場合にあっては、低屈折率層、高屈折率層の膜厚を精密に制御できるという利点がある一方、成膜を真空中でおこなうため、生産性が低く、大量生産に適していないという問題を抱えている。一方、反射防止層の形成方法として、大面積化、連続生産、低コスト化が可能である塗液を用いた湿式成膜法による反射防止膜の生産が注目されている。
【０００５】
また、塗液を用いた湿式成膜法による反射防止膜の生産においては、その形態が薄膜であることから、表面硬度を付与するために一般にアクリル系材料を硬化して得られるハードコート層を設け、その上に次層を形成するという手法が用いられている。このハードコート層はアクリル系材料により、高い表面硬度、光沢性、透明性、耐擦傷性を有する。この様なフィルムは、反射防止機能に加え、表面保護機能を付与することが同時に可能となる。
【０００６】
湿式成膜法によって反射防止層を形成する場合、これらの電離放射線硬化型材料を硬化して得られるハードコート層の上に少なくとも低屈折率層を塗布して製造されるものであり、乾式成膜法に比べ安価に製造できるメリットがあり、市場に広く出まわっている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２００５−２０２３８９号公報
【特許文献２】特開２００５−１９９７０７号公報
【特許文献３】特開平１１−９２７５０号公報
【特許文献４】特開２００７−１２１９９３号公報
【特許文献５】特開２００５−１４４８４９号公報
【特許文献６】特開２００６−１５９４１５号公報
【特許文献７】特開２０１０−００８８６３号公報
【特許文献８】特開２０１０−０８５６８２号公報
【特許文献９】国際公開ＷＯ２０１０／０３８７０９号パンフレット
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
反射防止機能を高めるためには、より屈折率の低い材料で最表層を形成する必要があるが、屈折率は誘電率と透磁率から定まる物質固有の値である。一般に低屈折率とされるフッ素系の材料や中空の材料を用いてもその屈折率は１．３２程度であり、既存の材料を用いて１．３０未満の屈折率を有する透明固体層を形成することは極めて困難であるといった課題がある。本発明の目的は、当該課題を解決し、屈折率が１．３０未満である低屈折率層を備え、反射防止効果をさらに高めた反射防止フィルムおよびその製造方法を提供することにある。また本発明の別の目的は、当該反射防止フィルムを使用し、優れた反射防止機能を備えた反射防止性偏光板および透過型液晶ディスプレイを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記課題を解決するために請求項１に記載の発明は、少なくとも透明基材上に低屈折率層を有する反射防止フィルムであって、前記低屈折率層がバインダー樹脂と微粒子からなり、前記低屈折率層の表面の算術平均粗さ（Ｒａ）が３ｎｍ以上８ｎｍ以下であり、前記微粒子の平均一次粒子径が２０ｎｍ以上３００ｎｍ以下であり、前記微粒子の前記低屈折率層に対する面積占有率が前記バインダー樹脂の前記低屈折率層に対する面積占有率よりも高いことを特徴とする反射防止フィルムである。
請求項２に記載の発明は、ヘイズが０．１％以上１．０％以下であることを特徴とする請求項１に記載の反射防止フィルムである。
請求項３に記載の発明は、前記微粒子がシリカ粒子であることを特徴とする請求項１または２に記載の反射防止フィルムである。
請求項４に記載の発明は、前記微粒子が中空シリカ粒子であることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の反射防止フィルムである。
請求項５に記載の発明は、前記透明基材上に少なくともハードコート層と、高屈折率層と、前記低屈折率層とをこの順に有することを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の反射防止フィルムである。
請求項６に記載の発明は、請求項１乃至５のいずれか１項に記載の反射防止フィルムを用いてなる反射防止性偏光板であって、前記透明基材の前記低屈折率層が設けられた面の反対の面に第２の透明基材と、第１の偏光層とをこの順に有することを特徴とする反射防止性偏光板である。
請求項７に記載の発明は、観察者側から順に、請求項６に記載の反射防止性偏光板と、液晶セルと、第２の偏光板と、バックライトユニットとをこの順に備えていることを特徴とする透過型液晶ディスプレイである。
請求項８に記載の発明は、請求項１乃至５のいずれか１項に記載の反射防止フィルムを湿式で製造する方法であって、
透明基材上にバインダー樹脂および微粒子を含む低屈折率層形成用塗液を塗布し、塗膜を形成する塗膜形成工程と、
前記塗膜を乾燥する乾燥工程と、
前記塗膜の乾燥後に電離放射線を照射し硬膜し、低屈折率層を５０ｎｍ以上１５０ｎｍ以下の厚さで形成する硬膜工程と、
を有すること特徴とする反射防止フィルムの製造方法である。
【発明の効果】
【００１０】
本発明による反射防止フィルムにあっては、１．３０未満の屈折率を有する低屈折率層を有し、反射防止効果がさらに高まる。前記反射防止フィルムを用いれば、写り込みのより少ない反射防止性偏光板および透過型液晶ディスプレイを得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】本発明の一実施例の反射防止フィルムの断面模式図である。
【図２】本発明の一実施例の反射防止フィルムの製造工程の概略図である。
【図３】本発明の一実施例の反射防止フィルムを用いた反射防止性偏光板の断面模式図である。
【図４】本発明の一実施例の反射防止フィルムを備える透過型液晶ディスプレイを示す断面模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
図１に本発明の反射防止フィルム（１）の断面模式図を示した。
【００１３】
本発明の反射防止フィルム（１）にあっては、透明基材（１１）の少なくとも一方の面に低屈折率層（１５）が備えられていることを特徴としている。場合によっては低屈折率層（１５）の下層にハードコート層（１２）、高屈折率層（１４）の各層単体もしくはこれらを組み合わせた多層構造が備えられていてもよい。
【００１４】
まず、透明基材（１１）について述べる。
【００１５】
本発明の反射防止フィルムにおける透明基材は、種々の有機高分子からなるフィルムまたはシートを用いることができる。例えば、ディスプレイ等の光学部材に通常使用される基材が挙げられ、透明性や光の屈折率等の光学特性、さらには耐衝撃性、耐熱性、耐久性などの諸物性を考慮して、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン系、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系、トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、セロファン等のセルロース系、６−ナイロン、６，６−ナイロン等のポリアミド系、ポリメチルメタクリレート等のアクリル系、シクロオレフィンポリマー等の環状オレフィン系、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリイミド、ポリビニルアルコール、ポリカーボネート、エチレンビニルアルコール等の有機高分子からなるものが用いられる。特に、ポリエチレンテレフタレート、トリアセチルセルロース、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレートが好ましい。さらに、これらの有機高分子に公知の添加剤、例えば帯電防止剤、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、可塑剤、滑剤、着色剤、酸化防止剤、難燃剤等を添加することにより機能を付加させたものも使用できる。また、透明基材は上記の有機高分子から選ばれる１種または２種以上の混合物、または重合体からなるものでもよく、複数の層を積層させたものであってもよい。また、透明基材の厚みとしては、１０μｍ以上１２０μｍ以下を用いることが好ましい。また、トリアセチルセルロースを用いる場合は、２５μｍ以上８０μｍ以下の厚みを用いることが好ましい。また、ポリエチレンテレフタレートを用いる場合は、２０μｍ以上８０μｍ以下の厚みを用いることが好ましい。
【００１６】
中でも、トリアセチルセルロースフィルムは複屈折が少なく、透明性が良好であることから、本発明の反射防止フィルムを液晶ディスプレイに用いるにあっては好適に使用することができる。トリアセチルセルロースフィルムの屈折率は約１．５０であって、他の透明基材と比較して屈折率が低い。一般に透明基材として広範に用いられるポリエチレンテレフタレートフィルムは、１．６０程度である。
【００１７】
次に、低屈折率層（１５）について述べる。
【００１８】
本発明の低屈折率層としては、バインダー樹脂（１６）および微粒子（１７）からなる。
【００１９】
また、本発明の低屈折率層は、低屈折率層の５８９ｎｍの光源に対する屈折率が１．２５以上１．３０未満であることを特徴とする。低屈折率層の屈折率を１．２５以上１．３０未満の範囲内とすることにより、高性能の反射防止機能を付与することができる。屈折率が１．３０を超える場合にあっては得られる反射防止フィルムが十分な反射防止機能を有しない。したがって、低屈折率層の屈折率はより低い方が好ましいが、本発明の手法を用いて１．２５を下回るような低屈折率層を形成した場合、十分な機械的強度を有する層とならない。
【００２０】
また、本発明の光学用フィルムは低屈折率層表面の算術平均粗さ（Ｒａ）が３ｎｍ以上８ｎｍ以下の範囲内であることを特徴とする。本発明では低屈折率層の表面粗さを制御することで材料中に任意の凹凸（空気層）を設け低屈折率を実現する。算術平均粗さが３ｎｍに満たない場合にあっては、表面が平滑であるためその屈折率は構成材料が有する屈折率とほぼ同一となり、前述の１．３０未満の屈折率を満たすことができない。一方、表面粗さが８ｎｍを超える場合にあっては、脆性と比表面積の増大に伴い物理的または化学的な耐性を持たずフィルムとして機能しない。また、低屈折率を達成するために、微粒子の平均一次粒子径が２０ｎｍ以上３００ｎｍ以下であることが好ましい。
【００２１】
また、本発明の低屈折率層においては微粒子（１７）の面積占有率がバインダー樹脂（１６）形成材料の面積占有率よりも高い。これにより低屈折率層に微粒子の粒径に準じた表面粗さを有することとなる。面積占有率は、低屈折率層の断面を透過型電子顕微鏡により観察することにより求めることができる。このとき微粒子が中空状であった場合、その面積は内部の空気層を含めた範囲を示すものである。より好ましくは微粒子の面積占有率が８０％以上、例えば８０％以上９９％以下であり、これによって層内の比表面積が増大しより低い屈折率を有する層を形成することができる。
【００２２】
本発明の低屈折率層における微粒子としては、シリカ粒子が挙げられ、好ましくは中空シリカ粒子がよい。中空シリカ粒子にあっては、空隙の部分を空気の屈折率（≒１）とすることができるため、非常に低い屈折率を付与することができる。中空シリカ粒子としては、多孔質シリカ粒子やシェル（殻）構造のシリカ粒子を用いることができる。中空シリカ粒子の内部の空隙は、例えば２０ｎｍ以上２００ｎｍ以下である。また、内部に空隙を有する有機珪素材料も用いることができる。なお空隙としては、平均径が２０ｎｍ以上１５０ｎｍ以下であることが好ましい。平均径が１５０ｎｍを超える場合、レイリー散乱によって光が著しく反射され、低屈折率層が白化して反射防止フィルムの透明性が低下する傾向にある。一方、平均径が２０ｎｍ未満の場合、屈折率の高い層構成となってしまい平均視感反射率の上昇に転じるためである。
【００２３】
また、本発明の反射防止フィルムはヘイズが０．１％以上１．０％以下であることが好ましい。膜の構成上ヘイズは層の表面粗さの影響を受ける。ヘイズが０．１％に満たない場合にあっては、前述の表面粗さを満たすことができない。一方、ヘイズが１．０％を超える場合にあっては、表面散乱の影響が大きくなり層の透明性を損なう。
【００２４】
反射防止フィルムに十分な反射防止機能を発揮させるために、低屈折率層膜厚（ｄ）は、その膜厚（ｄ）に低屈折率層の屈折率（ｎ）をかけることによって得られる光学膜厚（ｎｄ）が可視光の波長の１／４と等しくなるように設計される。したがって、低屈折率層の膜厚としては、５０ｎｍ以上１５０ｎｍ以下であることが好ましい。
【００２５】
バインダー樹脂としては、アクリル系の材料が挙げられる。
【００２６】
以上の材料からなる低屈折率層は湿式成膜法により塗布、塗膜化されることにより形成することができる。
【００２７】
次に、ハードコート層（１２）について述べる。
【００２８】
本発明のハードコート層にあっては、電離放射線硬化型材料であるアクリル系材料からなる。
【００２９】
また、本発明の反射防止フィルムにおいて、形成されるハードコート層の膜厚は３μｍ以上１０μｍ以下であることが好ましく、その鉛筆硬度は、物理的な耐擦傷性を備えるために、Ｈ以上であることが好ましい。膜厚が薄すぎる場合は鉛筆硬度が未達となり、厚すぎる場合は硬化による内部応力によるフィルムの湾曲が顕著となる。
【００３０】
次に、高屈折率層（１４）について述べる。
【００３１】
高屈折率層は、電離放射線硬化型材料である前述のアクリル系材料等の光硬化性材料からなる。光硬化性材料に金属微粒子が添加されていてもよく、光硬化性材料と金属微粒子の混合比率を変える事で任意の屈折率を選択することが出来る。
【００３２】
このとき反射防止フィルムに十分な反射防止機能を発揮させるために、高屈折率層膜厚（Ｄ）は、その膜厚（Ｄ）に低屈折率層の屈折率（Ｎ）をかけることによって得られる光学膜厚（ＮＤ）が可視光の波長の１／２と等しくなるように設計される。なお、本発明の高屈折率層は、膜厚が１００ｎｍ以上２００ｎｍ以下であることが好ましく、その屈折率は５８９ｎｍの光源を用いた際に１．５０以上１．７０以下であることが好ましい。この値の膜厚および屈折率とすることで反射防止フィルムの反射色をより色味の少ないものにできる。また、これらは高屈折率層形成塗液を塗布する湿式成膜法により形成される。
【００３３】
以下に反射防止フィルムの形成方法の一例を示す。
【００３４】
まず、ハードコート層（１２）の形成方法を示す。
【００３５】
まず、ハードコート層形成用塗液を透明基材（１１）上に塗布し、ハードコート層の塗膜を形成する。ハードコート層形成用塗液を、透明基材上に塗布するための塗工方法としては、ロールコーター、リバースロールコーター、グラビアコーター、マイクログラビアコーター、ナイフコーター、バーコーター、ワイヤーバーコーター、ダイコーター、ディップコーターを用いた塗布方法を用いることができる。
【００３６】
ハードコート層形成塗液にあっては、電離放射線硬化型材料であるアクリル系材料を含んでいてもよい。多価アルコールのアクリル酸またはメタクリル酸エステルのような多官能の（メタ）アクリレート化合物、ジイソシアネートと多価アルコール及びアクリル酸またはメタクリル酸のヒドロキシエステル等から合成されるような多官能のウレタン（メタ）アクリレート化合物を使用することができる。またこれらの他にも、電離放射線型材料として、アクリレート系の官能基を有するポリエーテル樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂等を使用することができる。
【００３７】
なお、本発明において「（メタ）アクリレート」とは「アクリレート」と「メタクリレート」の両方およびそれらの単官能、多官能を含む化合物を示している。たとえば、「ウレタン（メタ）アクリレート」は「ウレタンアクリレートおよびウレタンメタアクリレート」の両方およびそれらの単官能、多官能を含む化合物を示している。
【００３８】
また、ハードコート層形成用塗液にあっては、光重合開始剤を含んでいてもよい。透明基材上にハードコート層形成用塗液を湿式成膜法により塗布し塗膜を形成後、電離放射線として紫外線を用い、紫外線照射により塗膜を硬化するにあっては、塗液に光重合開始剤が加えられる。光重合開始剤としては、例えば、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類等が挙げられる。また、光増感剤としてｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、ポリ−ｎ−ブチルホスフィン等を用いることができる。
【００３９】
また、ハードコート層形成用塗液にあっては、帯電防止剤を含んでいてもよい。四級アンモニウム塩または金属酸化物微粒子または導電性高分子を使用することができる。
【００４０】
また、ハードコート層形成用塗液には、必要に応じて、溶媒が加えられる。溶媒を加えることにより、塗工適性を向上させることができる。溶媒としては、トルエン、キシレン、シクロヘキサン、シクロヘキシルベンゼンなどの芳香族炭化水素類、ｎ−ヘキサン、ヘキサデカン、エチルシクロヘキサンなどの炭化水素類、ジブチルエーテル、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、ジエトキシエタン、プロピレンオキシド、ジオキサン、ジオキソラン、トリオキサン、テトラヒドロフラン、アニソールおよびフェネトール等のエーテル類、また、メチルイソブチルケトン、メチルブチルケトン、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、ジプロピルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、およびメチルシクロヘキサノン等のケトン類、また蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ｎ−ペンチル、酢酸メチル、酢酸エチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、酢酸ｎ−ペンチル、およびγ−ブチロラクトン等のエステル類、さらには、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、セロソルブアセテート等のセロソルブ類、メタノール、エタノール、ｎ−プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、エチレングリコール等のアルコール類、水等の中から塗工適正等を考慮して適宜選択される。
【００４１】
ハードコート層形成用塗液にあっては、ハードコート層形成用塗液を塗布し、形成される塗膜においてハジキ、ムラといった塗膜欠陥の発生を防止するために、表面調整剤と呼ばれる添加剤を加えても良い。表面調整剤は、その働きに応じて、レベリング剤、消泡剤、界面張力調整剤、表面張力調整剤とも呼ばれるが、いずれも形成される塗膜の表面張力を変化させる働きを備える。
【００４２】
また、ハードコート層形成用塗液においては、塗液中に先に述べた表面調整剤のほかにも、他の添加剤を加えても良い。機能性添加剤としては、帯電防止剤、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、密着性向上剤、硬化剤などを用いることができる。
【００４３】
次に、ハードコート層形成用塗液を用い透明基材上に形成されたハードコート層塗膜を乾燥することにより、塗膜中の溶媒は除去される。このとき乾燥手段としては、加熱、送風、熱風等を用いることができる。
【００４４】
次に、電離放射線を照射することにより、ハードコート層を硬膜する。電離放射線としては、紫外線、電子線を用いることができる。紫外線硬化の場合は、高圧水銀灯、低圧水銀灯、超高圧水銀灯、メタルハライドランプ、カーボンアーク、キセノンアーク等の光源が利用できる。紫外線硬化においてはそのピーク照度が１００〜５００ｍＷ／ｃｍ２かつ積算光量が５０〜８００ｍＪ／ｃｍ２であることが好ましい。紫外線硬化の場合は窒素置換雰囲気中で処理を行っても良く、ラジカル重合反応を主反応とする場合これにより酸素による硬化阻害を抑制することができる。また、電子線硬化の場合はコックロフトワルト型、バンデグラフ型、共振変圧型、絶縁コア変圧器型、直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子線加速器から放出される電子線が利用できる。電子線は、５０〜１０００ｋｅＶのエネルギーを有するのが好ましい。１００〜３００ｋｅＶのエネルギーを有する電子線がより好ましい。
【００４５】
次に高屈折率層（１４）の形成方法を示す。
【００４６】
まず、高屈折率層形成用塗液を透明基材（１１）もしくは基材上に形成されたハードコート層（１２）に塗布し、高屈折率層の塗膜を形成する。このときの塗工方法としては、ロールコーター、リバースロールコーター、グラビアコーター、マイクログラビアコーター、ナイフコーター、バーコーター、ワイヤーバーコーター、ダイコーター、ディップコーターを用いた塗布方法を用いることができる。
【００４７】
高屈折率層形成用塗液としては、電離放射線硬化型材料であるアクリル系材料等からなる光硬化性材料を含んでいてもよい。高屈折率層形成用塗液用のアクリル系材料としては、多価アルコールのアクリル酸またはメタクリル酸エステルのような多官能の（メタ）アクリレート化合物、ジイソシアネートと多価アルコール及びアクリル酸またはメタクリル酸のヒドロキシエステル等から合成されるような多官能のウレタン（メタ）アクリレート化合物を使用することができる。またこれらの他にも、電離放射線型材料として、アクリレート系の官能基を有するポリエーテル樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂等を使用することができる。
【００４８】
また、高屈折率層形成用塗液にあっては、光重合開始剤を含んでいてもよい。電離放射線として紫外線を用い、紫外線照射により塗膜を硬化するにあっては、塗液に光重合開始剤が加えられる。光重合開始剤としては、例えば、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類等が挙げられる。また、光増感剤としてｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、ポリ−ｎ−ブチルホスフィン等を用いることができる。
【００４９】
高屈折率層形成用塗液にあっては、光硬化性材料に金属微粒子が添加されていてもよく、具体的な金属微粒子としては酸化ジルコニウム、五酸化アンチモン、酸化チタン、スズドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）アンチモンドープ酸化スズ（ＡＴＯ）、フッ化マグネシウム、シリカ等を用いることができる。
【００５０】
また、アクリル系材料単独で高屈折率層形成用塗液を成しても良い。アクリル系材料単独で高い屈折率を実現するための手法として、芳香環を有するアクリル酸エステルまたはメタクリル酸エステルを使用することができる。
【００５１】
また、高屈折率層形成用塗液には、必要に応じて、溶媒が加えられる。溶媒を加えることにより、塗工適性を向上させることができる。溶媒としては、トルエン、キシレン、シクロヘキサン、シクロヘキシルベンゼンなどの芳香族炭化水素類、ｎ−ヘキサン、エチルシクロヘキサン、ヘキサデカンなどの炭化水素類、ジブチルエーテル、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、ジエトキシエタン、プロピレンオキシド、ジオキサン、ジオキソラン、トリオキサン、テトラヒドロフラン、アニソールおよびフェネトール等のエーテル類、また、メチルイソブチルケトン、メチルブチルケトン、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、ジプロピルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、およびメチルシクロヘキサノン等のケトン類、また蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ｎ−ペンチル、酢酸メチル、酢酸エチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、酢酸ｎ−ペンチル、およびγ−ブチロラクトン等のエステル類、さらには、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、セロソルブアセテート等のセロソルブ類、メタノール、エタノール、ｎ−プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、エチレングリコール等のアルコール類、水等の中から塗工適正等を考慮して適宜選択される。
【００５２】
次に、形成された高屈折率層塗膜を乾燥することにより塗膜中の溶媒は除去される。このとき乾燥手段としては、加熱、送風、熱風等を用いることができる。
【００５３】
次に、電離放射線を照射することにより、高屈折率層を硬膜する。電離放射線としては、紫外線、電子線を用いることができる。塗料の特性に応じて工程を適宜選択することができる。紫外線硬化の場合は、高圧水銀灯、低圧水銀灯、超高圧水銀灯、メタルハライドランプ、カーボンアーク、キセノンアーク等の光源が利用できる。紫外線硬化においてはそのピーク照度が１００〜５００ｍＷ／ｃｍ２かつ積算光量が５０〜８００ｍＪ／ｃｍ２であることが好ましい。紫外線硬化の場合は窒素置換雰囲気中で処理を行っても良く、ラジカル重合反応を主反応とする場合これにより酸素による硬化阻害を抑制することができる。また、電子線硬化の場合はコックロフトワルト型、バンデグラフ型、共振変圧型、絶縁コア変圧器型、直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子線加速器から放出される電子線が利用できる。電子線は、５０〜１０００ｋｅＶのエネルギーを有するのが好ましい。１００〜３００ｋｅＶのエネルギーを有する電子線がより好ましい。
【００５４】
次に低屈折率層（１５）の形成方法を示す。
【００５５】
まず、低屈折率層形成用塗液を透明基材（１１）、もしくは基材上に形成されたハードコート層（１２）、もしくは基材またはハードコート層上に形成された高屈折率層（１４）上に塗布し、低屈折率層の塗膜を形成する。このときの塗工方法としては、ロールコーター、リバースロールコーター、グラビアコーター、マイクログラビアコーター、ナイフコーター、バーコーター、ワイヤーバーコーター、ダイコーター、ディップコーターを用いた塗布方法を用いることができる。
【００５６】
低屈折率層形成用塗液としては、無機微粒子とバインダー樹脂材料を含んでよい。このとき無機微粒子量とバインダー樹脂量の比率を調整することで任意の表面粗さを形成することができる。
【００５７】
具体的には、無機微粒子とバインダー樹脂からなるバインダーマトリックスに占めるバイダー樹脂の質量比が２０％以下であることが好ましい。より好ましくは１０％以下であり、この値は無機微粒子の屈折率に応じて適宜選択できる。
【００５８】
このとき微粒子、例えば無機微粒子においてはバインダー樹脂との相溶性を制御するために表面処理が施されていても良い。具体的な表面処理としてはメチルトリエトキシシラン、テトラエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３-アクリロキシプロピルトリメトキシシラン等のアルコキシシラン類や、ヘキサメチルジシラザン等のシラザン類を用いた表面修飾法を用いて良い。
【００５９】
低屈折率層形成用塗液に用いられる具体的なアクリル系材料としては、多価アルコールのアクリル酸またはメタクリル酸エステルのような多官能の（メタ）アクリレート化合物、ジイソシアネートと多価アルコール及びアクリル酸またはメタクリル酸のヒドロキシエステル等から合成されるような多官能のウレタン（メタ）アクリレート化合物を使用することができる。またこれらの他にも、電離放射線型材料として、アクリレート系の官能基を有するポリエーテル樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂等を使用することができる。
【００６０】
また、低屈折率層形成用塗液にあっては、光重合開始剤を含んでいてもよい。電離放射線として紫外線を用い、紫外線照射により塗膜を硬化するにあっては、塗液に光重合開始剤が加えられる。光重合開始剤としては、例えば、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類等が挙げられる。また、光増感剤としてｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、ポリ−ｎ−ブチルホスフィン等を用いることができる。
【００６１】
また、低屈折率層形成用塗液に対して任意の溶剤を加えることができる。具体的には、メタノール、エタノール、ｎ−プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、エチレングリコール等のアルコール類、トルエン、キシレン、シクロヘキサン、シクロヘキシルベンゼンなどの芳香族炭化水素類、ｎ−ヘキサンなどの炭化水素類、ジブチルエーテル、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、ジエトキシエタン、プロピレンオキシド、ジオキサン、ジオキソラン、トリオキサン、テトラヒドロフラン、フルオロエーテル、アニソールおよびフェネトール等のエーテル類、また、メチルイソブチルケトン、メチルブチルケトン、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、ジプロピルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、およびメチルシクロヘキサノン等のケトン類、また蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ｎ−ペンチル、酢酸メチル、酢酸エチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、酢酸ｎ−ペンチル、およびγ−ブチロラクトン等のエステル類、さらには、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、セロソルブアセテート等のセロソルブ類等の中から塗工適正等を考慮して適宜選択される。この他に添加物として表面調整剤を用いても良い。表面調整剤は、その働きに応じて、レベリング剤、消泡剤、界面張力調整剤、表面張力調整剤とも呼ばれるが、いずれも形成される塗膜の表面張力の制御が可能となる。
【００６２】
以上の材料を調製して得られる低屈折率層形成用塗液を湿式成膜法により各層上に塗布し塗膜を形成することで低屈折率層を形成することができる。バインダー樹脂として電離放射線硬化型材料を用いた場合にあっては、必要に応じて塗膜の乾燥を行なった後に、電離放射線を照射し硬膜することにより、低屈折率層が形成することができる。
【００６３】
このときの電離放射線としては、紫外線、電子線を用いることができる。塗料の特性に応じて工程を適宜選択することができる。紫外線硬化の場合は、高圧水銀灯、低圧水銀灯、超高圧水銀灯、メタルハライドランプ、カーボンアーク、キセノンアーク等の光源が利用できる。紫外線硬化においてはそのピーク照度が１００〜５００ｍＷ／ｃｍ２かつ積算光量が５０〜８００ｍＪ／ｃｍ２であることが好ましい。紫外線硬化の場合は窒素置換雰囲気中で処理を行っても良く、ラジカル重合反応を主反応とする場合これにより酸素による硬化阻害を抑制することができる。また、電子線硬化の場合はコックロフトワルト型、バンデグラフ型、共振変圧型、絶縁コア変圧器型、直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子線加速器から放出される電子線が利用できる。電子線は、５０〜１０００ｋｅＶのエネルギーを有するのが好ましい。１００〜３００ｋｅＶのエネルギーを有する電子線がより好ましい。
【００６４】
本発明の反射防止フィルムはロール・ツー・ロール方式により連続形成される。図２は本発明の一実施例の反射防止フィルムの製造工程の概略図であり、巻き取られているウェブ状の透明基材を巻き出し部（３１）から巻き取り部（３２）まで連続走行させ、このとき、透明基材（１１）を塗布ユニット（塗布工程（２１））、加熱・乾燥ユニット（加熱・乾燥工程（２２））、電離放射線照射ユニット（硬膜工程（２３））を通過させることにより、透明基材（１１）上にハードコート層（１２）が連続形成される。その後、高屈折率層（１４）、低屈折率層（１５）を同様にして塗布から硬膜工程を通過させることにより、ハードコート層（１２）上に高屈折率層（１４）、低屈折率層（１５）と形成され、反射防止フィルム（１）を製造することができる。ハードコート層を形成した段階でロールに巻き取り、低屈折率層形成時に再度、ロール・ツー・ロール方式で低屈折率層を形成しても良いし、ハードコート層形成後、引き続き連続して、低屈折率層を形成してからロールに巻き取るようにしても良い。
【００６５】
以上により、本発明の反射防止フィルムを得ることができる。
【００６６】
次に、本発明の反射防止フィルム（１）を用いた反射防止性偏光板（５１０）について説明する。
【００６７】
図３は、本発明の一実施例の反射防止フィルムを用いた反射防止性偏光板の断面模式図であり、図３の反射防止性偏光板（５１０）は、第１の透明基材（１１）の一方の面にハードコート層（１２）と、高屈折率層（１４）と、低屈折率層（１５）を順に備え、低屈折率層非形成面側に、第１の偏光層（５３）と、透明基材（５２）を順に備えた反射防止性偏光板（５１０）となる。
【００６８】
本発明の実施の形態に係る反射防止フィルム（１）は、ディスプレイ部材、画像装置の一部として用いることができる。
【００６９】
次に、本発明の反射防止フィルムを用いた透過型液晶ディスプレイの構成について説明する。
【００７０】
図４は、本発明の一実施例の反射防止フィルムを備える透過型液晶ディスプレイを示す断面模式図であり、図４（ａ）の透過型液晶ディスプレイにおいては、本発明の反射防止性偏光板（５００）、液晶セル（６０）、第２の偏光板（７０）、バックライトユニット（８０）をこの順に備えている。第１の偏光板（５０）は、低屈折率層非形成面に設けられている。このとき、反射防止フィルム（１）側が観察側すなわちディスプレイ表面となる。
【００７１】
図４（ａ）にあっては、反射防止フィルム（１）の透明基材（１１）と第１の偏光板（５０）の透明基材（５１）を別々に備える透過型液晶ディスプレイとなっている。
【００７２】
バックライトユニット（８０）は、光源と光拡散板を備える。液晶セル（６０）は、一方の透明基材に電極が設けられ、もう一方の透明基材に電極及びカラーフィルターを備えており、両電極間に液晶が封入された構造となっている。液晶セル（６０）を挟むように設けられる第１、第２の偏光板にあっては、透明基材（５１、５２、７１、７２）間に偏光層（５３、７３）を挟持した構造となっている。
【００７３】
また、図４（ｂ）にあっては、本発明の反射防止性偏光板（５１０）、液晶セル（６０）、第２の偏光板（７０）、バックライトユニット（８０）をこの順に備えている。このとき、反射防止フィルム（１）の低屈折率層（１５）側が観察側すなわちディスプレイ表面となる。
【００７４】
図４（ｂ）にあっては、反射防止フィルム（１）の低屈折率層非形成面に、第１の偏光板として、偏光層（５３）と透明基材（５２）を、この順に備えた反射防止性偏光板（５１０）を備えた透過型液晶ディスプレイとなっている。
【００７５】
図４（ｂ）においても、図４（ａ）と同様に、バックライトユニット（８０）は、光源と光拡散板を備える。液晶セルは、一方の透明基材に電極が設けられ、もう一方の透明基材に電極及びカラーフィルターを備えており、両電極間に液晶が封入された構造となっている。液晶セル（６０）を挟むように設けられる第１、第２の偏光板にあっては、透明基材（１１、５２、７１、７２）間に偏光層（５３、７３）を挟持した構造となっている。
【００７６】
また、本発明の透過型液晶ディスプレイにあっては、他の機能性部材を備えても良い。他の機能性部材としては、例えば、バックライトから発せられる光を有効に使うための、拡散フィルム、プリズムシート、輝度向上フィルムや、液晶セルや偏光板の位相差を補償するための位相差フィルムが挙げられるが、本発明の透過型液晶ディスプレイはこれらに限定されるものではない。
【００７７】
以上により、本発明の反射防止フィルムを用いた、透過型液晶ディスプレイが製造される。
【実施例】
【００７８】
以下、本発明を実施例によりさらに詳細に説明するが、本発明はその要旨を超えない限り以下の実施例に限定されるものではない。
【００７９】
透明基材として、トリアセチルセルロースフィルム（富士フイルム製、厚さ６０μｍ、屈折率１．４９）を用意した。
【００８０】
（ハードコート層形成用塗液）
・ウレタンアクリレート（共栄社化学製  商品名：ＵＡ３０６Ｉ）      １００重量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製  商品名：イルガキュア１８４）      １０重量部
を用い、これをメチルエチルケトンに固形分が５０％になるように溶解してハードコート層形成用塗液を調製した。
【００８１】
（ハードコート層の形成）
トリアセチルセルロースフィルム（膜厚６０μｍ）の片面に、前記ハードコート層形成用塗液を塗布し、４０℃のオーブン内で６０秒間乾燥させた。乾燥後、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン、光源Ｈバルブ）を用いて照射線量３００ｍＪ／ｃｍ２で紫外線照射をおこなうことにより乾燥膜厚５μｍの透明なハードコート層を形成させた。
【００８２】
次に、前記ハードコート層の上層に、高屈折率層を形成する。その際に用いる塗液の調合例を以下に示す。
【００８３】
（高屈折率層用塗液）
・ペンタエリスリトールトリアクリレート                              １００重量部
・酸化ジルコニウム分散液（ソーラー社製  商品名：ＮＡＮＯＮ５）      ５００重量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製  商品名：イルガキュア１８４）        １０重量部
メチルエチルケトンに固形分が１０％になるように溶解して高屈折率層形成用塗液を調製した。
【００８４】
（高屈折率層の形成）
高屈折率層の具体的な形成方法としては、前記ハードコート層の上に、高屈折率層形成用塗液を塗布し、４０℃のオーブン内で６０秒間乾燥させた。乾燥後、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン、光源Ｈバルブ）を用いて照射線量３００ｍＪ／ｃｍ２で紫外線照射をおこなうことにより乾燥膜厚１５５ｎｍの透明な高屈折率層形成させた。
【００８５】
このときの高屈折率層の屈折率を反射分光膜厚計（大塚電子社製  ＦＥ‐３０００）にて測定した。その結果、その屈折率は５８９ｎｍの波長に対し１．６２であった。
【００８６】
次に、前記高屈折率層の上層に、低屈折率層を形成する。
【００８７】
（低屈折率層用塗液  調液例１）
・ペンタエリスリトールトリアクリレート                                １１重量部
・内部に空隙を有する低屈折率シリカ微粒子分散液
（一次粒子径６０ｎｍ／固形分２０ｗｔ％／メチルエチルケトン分散）    ５００重量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製  商品名：イルガキュア１８４）          １重量部
メチルエチルケトンに固形分が１０％になるように溶解して低屈折率層形成用塗液を調製した。
【００８８】
（低屈折率層用塗液  調液例２）
・ペンタエリスリトールトリアクリレート                              １００重量部
・内部に空隙を有する低屈折率シリカ微粒子分散液
（一次粒子径６０ｎｍ／固形分２０ｗｔ％／メチルエチルケトン分散）    ５００重量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製  商品名：イルガキュア１８４）        １０重量部
メチルエチルケトンに固形分が１０％になるように溶解して低屈折率層形成用塗液を調製した。
【００８９】
（低屈折率層用塗液  調液例３）
・ペンタエリスリトールトリアクリレート                                  １重量部
・内部に空隙を有する低屈折率シリカ微粒子分散液
（一次粒子径６０ｎｍ／固形分２０ｗｔ％／メチルエチルケトン分散）    ５００重量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製  商品名：イルガキュア１８４）      ０．１重量部
メチルエチルケトンに固形分が１０％になるように溶解して低屈折率層形成用塗液を調製した。
【００９０】
（低屈折率層用塗液  調液例４）
・ペンタエリスリトールトリアクリレート                                  ３重量部
・内部に空隙を有する低屈折率シリカ微粒子分散液
（一次粒子径６０ｎｍ／固形分２０ｗｔ％／メチルエチルケトン分散）    ５００重量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製  商品名：イルガキュア１８４）      ０．３重量部
メチルエチルケトンに固形分が１０％になるように溶解して低屈折率層形成用塗液を調製した。
【００９１】
（低屈折率層用塗液  調液例５）
・ペンタエリスリトールトリアクリレート                                  ６重量部
・内部に空隙を有する低屈折率シリカ微粒子分散液
（一次粒子径６０ｎｍ／固形分２０ｗｔ％／メチルエチルケトン分散）    ５００重量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製  商品名：イルガキュア１８４）      ０．６重量部
メチルエチルケトンに固形分が１０％になるように溶解して低屈折率層形成用塗液を調製した。
【００９２】
（低屈折率層用塗液  調液例６）
・ペンタエリスリトールトリアクリレート                                １８重量部
・内部に空隙を有する低屈折率シリカ微粒子分散液
（一次粒子径６０ｎｍ／固形分２０ｗｔ％／メチルエチルケトン分散）    ５００重量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製  商品名：イルガキュア１８４）      １．８重量部
メチルエチルケトンに固形分が１０％になるように溶解して低屈折率層形成用塗液を調製した。
【００９３】
（低屈折率層用塗液  調液例７）
・ペンタエリスリトールトリアクリレート                                ４３重量部
・内部に空隙を有する低屈折率シリカ微粒子分散液
（一次粒子径６０ｎｍ／固形分２０ｗｔ％／メチルエチルケトン分散）    ５００重量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製  商品名：イルガキュア１８４）      ４．３重量部
メチルエチルケトンに固形分が１０％になるように溶解して低屈折率層形成用塗液を調製した。
【００９４】
前記ハードコート層上に高屈折率層を形成し、さらにその上に（調液例１）〜（調液例７）を用いて低屈折率層を積層することで、それぞれ（実施例１）、（比較例１）、（比較例２）、（比較例３）、（実施例２）、（実施例３）、（比較例４）の反射防止フィルムを得る。
【００９５】
（低屈折率層の形成）
低屈折率層形成用塗液（調液例１）〜（調液例７）を乾燥後の膜厚が１００ｎｍとなるように高屈折率層上へ塗布した。オーブン内で乾燥処理を４０℃、６０秒の条件下で行った。乾燥処理の後、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン社製、光源Ｈバルブ）を用いて照射線量１９２ｍＪ／ｃｍ２で紫外線照射をおこなって硬膜させて低屈折率層を形成し、それぞれ（実施例１）、（比較例１）、（比較例２）、（比較例３）、（実施例２）、（実施例３）、（比較例４）の反射防止フィルムを作製した。
【００９６】
このときの低屈折率層の屈折率を反射分光膜厚計（大塚電子社製、ＦＥ-３０００）にて測定した。その結果、（実施例１）、（比較例１）、（比較例２）、（比較例３）、（実施例２）、（実施例３）、（比較例４）の反射防止フィルムの順に、その屈折率は５８９ｎｍの波長に対し１．２８、１．３８、１．２４、１．２４、１．２５、１．２９、１．３５であった。
【００９７】
また、（実施例１）、（比較例１）、（比較例２）、（比較例３）、（実施例２）、（実施例３）、（比較例４）の反射防止フィルムについて、写像性測定器（日本電色工業社製、ＮＤＨ−２０００）を使用してヘイズを測定した。その結果、（実施例１）、（比較例１）、（比較例２）、（比較例３）、（実施例２）、（実施例３）、（比較例４）の反射防止フィルムの順に、０．３０％、０．１８％、０．７４％、０．７０％、０．４５％、０．２３％、０．１９％であった。
【００９８】
また、（実施例１）、（比較例１）、（比較例２）、（比較例３）、（実施例２）、（実施例３）、（比較例４）の反射防止フィルムについて、原子間力顕微鏡（Ｂｒｕｋｅｒ ＡＸＳ社製）を使用して表面粗さを測定した。その結果、（実施例１）、（比較例１）、（比較例２）、（比較例３）、（実施例２）、（実施例３）、（比較例４）の反射防止フィルムの順に、１μｍ角内の算術平均粗さ（Ｒａ）は５．３ｎｍ、１．７ｎｍ、１０．２ｎｍ、１０．０ｎｍ、７．１ｎｍ、３．３ｎｍ、２．７ｎｍであった。
【００９９】
得られた反射防止フィルムの断面を透過型電子顕微鏡を用いて観察した。（実施例１）の反射防止フィルムでは低屈折率層における中空シリカの面積占有率が８６％であった。（比較例１）の反射防止フィルムでは低屈折率層における中空シリカの面積占有率が４５％であった。（比較例２）の反射防止フィルムでは低屈折率層における中空シリカの面積占有率は９５％であった。同様に、（比較例３）、（実施例２）、（実施例３）、（比較例４）該面積占有率は、９５％、９３％、８０％、６５％であった。
【０１００】
ただし、（比較例２）で得られた反射防止フィルムは、十分な膜強度が無く巻き取り時に低屈折率層が剥離する現象が確認された。また、２４時間後には表層に多数の白濁が生じ透明フィルムとしての機能を満たさなかった。
【０１０１】
実施例で得られた反射防止フィルムにあっては、１．３０未満の屈折率を有する低屈折率層を有する反射防止フィルムを提供することができた。
【産業上の利用可能性】
【０１０２】
本発明の反射防止フィルムは、窓やディスプレイなどの光学フィルムの他、拡散フィルム、プリズムシート、輝度向上フィルム、タッチパネル、液晶セル、偏光板の光学特性を補償するための部材やレンズ、プリズム素子、発光ダイオード、フォトダイオード、ＣＣＤ、照明機器など、反射を防止すべき部材全てに適用できる。
【符号の説明】
【０１０３】
１        反射防止フィルム
１１、５１、５２  透明基材
１２      ハードコート層
１４      高屈折率層
１５      低屈折率層
１６      バインダー樹脂
１７      微粒子
２１      塗布工程
２２      加熱・乾燥工程
２３      硬膜工程
３１      巻き出し部
３２      巻き取り部
５０      第１の偏光板
５３      第１の偏光層
６０      液晶セル
７０      第２の偏光板
７３      第２の偏光層
８０      バックライトユニット
５００、５１０    反射防止性偏光板
【図１】
2014056066.tif 000003
【図２】
2014056066.tif 000004
【図３】
2014056066.tif 000005
【図４】
2014056066.tif 000006