(57)【要約】【課題】ノズルからの塗布液の吐出方向が副走査方向に傾きを持つ状態で基板への塗布液の塗布走査を行うことを防止し、位置精度の高い塗布処理を実現すること。【解決手段】各ノズル５２ａ〜５２ｃからの塗布液の吐出角度を検出する。この検出にはレーザ変位計による実測を行うことが可能である。各ノズル５２ａ〜５２ｃには、それぞれの軸心ＡＸまわりにノズルを回動させる機構が付加されており、ノズルからの塗布液の吐出方向が副走査Ｙ方向に成分を持つ場合には、軸心ＡＸまわりにノズルを回動させる。これによって吐出口からの塗布液の吐出方向が副走査方向Ｙの成分を持たないように吐出方向の調整を行うことができる。この調整によって主走査Ｘ方向には傾きが残ってしまうが、主走査方向への塗布液の吐出経路の傾きは、ライン状の塗布を行う場合には実質的な影響を生じない。その結果、位置精度の高い塗布処理を実現できる。【選択図】図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数のノズルから塗布液を連続的に吐出しつつ基板の上方を直線状に走査し当該基板にパターンを生成する塗布装置において、前記複数のノズルから吐出される塗布液の吐出方向を調節する方法であって、
前記複数のノズルのそれぞれにおいて、当該ノズルから吐出される塗布液の吐出角度に対応する指標値を計測する吐出角度指標値計測工程と、
前記吐出角度指標値計測工程による計測結果に基づいて、前記複数のノズルのそれぞれについて、当該ノズルの軸心周りに回動させるノズル回動工程と、
を備え、
前記複数のノズルにおいて吐出される塗布液の吐出方向が平面視において前記直線状の走査の方向と一致するように、前記ノズル回動工程によって前記複数のノズルをそれぞれ個別に回動させることを特徴とする、塗布液の吐出角度調節方法。
【請求項２】
基板上に塗布液を塗布する塗布装置であって、
前記基板の保持領域の上方を主走査方向に沿って直線的に移動可能であって、前記塗布液を下方に吐出する吐出口を有する複数のノズルと、
前記複数のノズルをそれぞれ個別に回動可能状態と回動不能状態とで切り替えて保持するノズル保持機構と、
前記複数のノズルにそれぞれ個別に備えられており、前記複数のノズルをそれぞれ当該ノズルの軸心周りに回動させる回動手段と、
を備え、
前記複数のノズルのそれぞれについて、前記回動手段によるノズルの回動動作を行う場合には前記ノズル保持機構による当該ノズルの保持を解除して回動可能とし、前記塗布液を下方に吐出する塗布動作を行う場合には前記ノズル保持機構による各ノズルを回動不能にして実行し、
前記ノズルから吐出される塗布液の吐出方向が平面視において前記主走査方向と一致するように前記回動手段によって前記複数のノズルをそれぞれ個別に回動させた状態で、前記塗布動作を実行することを特徴とする塗布装置。
【請求項３】
請求項２に記載の塗布装置であって、
前記複数のノズルのそれぞれについて、当該ノズルの吐出口から吐出される塗布液の吐出角度に対応する指標値を計測する吐出角度指標値計測手段をさらに備え、
当該吐出角度指標値計測手段による計測結果に基づいて、前記ノズルから吐出される塗布液の吐出方向が平面視において前記主走査方向と一致するように、前記回動手段によって前記複数のノズルをそれぞれ個別に回動させることを特徴とする塗布装置。
【請求項４】
請求項２または請求項３に記載の塗布装置であって、
基板への非塗布時に前記主走査方向に移動する前記ノズルから吐出された塗布液が塗布される試験塗布部をさらに備え、
前記複数のノズルより当該試験塗布部へ塗布された試験塗布動作の結果に基づいて、前記回動手段によって前記複数のノズルをそれぞれ個別に回動させることを特徴とする塗布装置。
【請求項５】
請求項２ないし請求項４のいずれかに記載の塗布装置であって、
前記複数のノズルの吐出口の断面形状が円形であることを特徴とする塗布装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板にノズルから液柱状態の塗布液を吐出して塗布する塗布装置と、当該塗布液の吐出角度調節方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、ノズルから塗布液を吐出しつつ、基板を走査して基板に塗布液を塗布する塗布装置が開発されている。例えば、有機ＥＬ表示装置を製造する装置では、ステージ上に載置されたガラス基板等の基板の主面に所定のパターン形状で有機ＥＬ材料がノズルを用いて塗布される。
【０００３】
このような塗布装置においては、基板に塗布液を塗布する際の塗布液のピッチを調節するため、当該塗布液を吐出する複数のノズル間のピッチを調節する機構が備えられることがある。例えば、特許文献１の塗布装置におけるノズルピッチの調節時には、各可動ノズルが副走査方向（塗布処理時に基板が走査する主走査方向と直交する方向）に個別に順次移動されることにより、複数のノズルの副走査方向におけるピッチの調節が行われる。
【０００４】
このような構成であるので、基板上に塗布すべきパターンに対応して各ノズルの副走査方向のピッチは個別に調整される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００８−１５５１３８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、特許文献１に示すようなピッチ調節機構を備える塗布装置において、当該塗布液を吐出する複数のノズル間のピッチを調節したとしても、必ずしも当該調節後のピッチに対応して基板に塗布液が塗布されるとは限らない。
【０００７】
すなわち、副走査方向に調節されたピッチに対応して基板上に塗布液が塗布されるためには、各ノズルから吐出される塗布液の吐出方向が鉛直下方となっているか、あるいは傾きを有する場合であってもその傾きは主走査方向となっている必要がある。仮に、平面視における塗布液の吐出方向が副走査方向の成分を含むノズルにおいては、主走査時（基板への塗布処理時）に、塗布対象基板に形成された当該塗布液が供給されるべきラインから副走査方向に一定程度ずれた位置に塗布液が着弾される。
【０００８】
また、この「着弾位置の一定程度のずれ」は、塗布対象基板の表面の起伏にも影響されるため、上記ピッチ調節機構によるノズル間のピッチ調節のみによっては取り除くことが困難である。しかしながら、この「着弾位置の一定程度のずれ」を取り除かなければ、塗布対象基板に形成された塗布液が供給されるべきライン上に正確に塗布液が塗布されず、基板の塗布品質の低下をもたらし、その結果、当該塗布装置の歩留まりの低下に繋がる。
【０００９】
本発明は以上の課題を鑑みてなされたものであり、各ノズルから吐出される塗布液の吐出方向が傾く場合においても、その傾きが上面視において主走査方向と一致するように修正可能であり、塗布液の着弾位置のずれを防止できる塗布装置および塗布方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記課題を解決するために、請求項１の発明は、複数のノズルから塗布液を連続的に吐出しつつ基板の上方を直線状に走査し当該基板にパターンを生成する塗布装置において、前記複数のノズルから吐出される塗布液の吐出方向を調節する方法であって、前記複数のノズルのそれぞれにおいて、当該ノズルから吐出される塗布液の吐出角度に対応する指標値を計測する吐出角度指標値計測工程と、前記吐出角度指標値計測工程による計測結果に基づいて、前記複数のノズルのそれぞれについて、当該ノズルの軸心周りに回動させるノズル回動工程と、を備え、前記複数のノズルにおいて吐出される塗布液の吐出方向が平面視において前記直線状の走査の方向と一致するように、前記ノズル回動工程によって前記複数のノズルをそれぞれ個別に回動させることを特徴とする、塗布液の吐出角度調節方法である。
【００１１】
請求項２の発明は、基板上に塗布液を塗布する塗布装置であって、前記基板の保持領域の上方を主走査方向に沿って直線的に移動可能であって、前記塗布液を下方に吐出する吐出口を有する複数のノズルと、前記複数のノズルをそれぞれ個別に回動可能状態と回動不能状態とで切り替えて保持するノズル保持機構と、前記複数のノズルにそれぞれ個別に備えられており、前記複数のノズルをそれぞれ当該ノズルの軸心周りに回動させる回動手段と、を備え、前記複数のノズルのそれぞれについて、前記回動手段によるノズルの回動動作を行う場合には前記ノズル保持機構による当該ノズルの保持を解除して回動可能とし、前記塗布液を下方に吐出する塗布動作を行う場合には前記ノズル保持機構による各ノズルを回動不能にして実行し、前記ノズルから吐出される塗布液の吐出方向が平面視において前記主走査方向と一致するように前記回動手段によって前記複数のノズルをそれぞれ個別に回動させた状態で、前記塗布動作を実行することを特徴とする。
【００１２】
請求項３の発明は、請求項２に記載の塗布装置であって、前記複数のノズルのそれぞれについて、当該ノズルの吐出口から吐出される塗布液の吐出角度に対応する指標値を計測する吐出角度指標値計測手段をさらに備え、当該吐出角度指標値計測手段による計測結果に基づいて、前記ノズルから吐出される塗布液の吐出方向が平面視において前記主走査方向と一致するように、前記回動手段によって前記複数のノズルをそれぞれ個別に回動させることを特徴とする。
【００１３】
請求項４の発明は、請求項２または請求項３に記載の塗布装置であって、基板への非塗布時に前記主走査方向に移動する前記ノズルから吐出された塗布液が塗布される試験塗布部をさらに備え、前記複数のノズルより当該試験塗布部へ塗布された試験塗布動作の結果に基づいて、前記回動手段によって前記複数のノズルをそれぞれ個別に回動させることを特徴とする。
【００１４】
請求項５の発明は、請求項２ないし請求項４のいずれかに記載の塗布装置であって、前記複数のノズルの吐出口の断面形状が円形であることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１５】
請求項１の調節方法では、塗布装置に含まれる複数のノズルのそれぞれについて塗布液の吐出角度の指標値についての計測を行う。そして、当該吐出角度の指標値についての計測結果に基づいて、塗布液の吐出方向が平面視においてノズルの主走査方向と一致するように、上記複数のノズルのそれぞれを各ノズルの軸心周りに個別に回動させる。
【００１６】
このため、全ての上記複数のノズルから位置精度の高い塗布処理を実現することができる。
【００１７】
請求項２ないし請求項５のいずれかに記載の発明の塗布装置は、請求項１の調節方法の実施に適した構成を有している。この塗布装置は、塗布液を基板に吐出する複数のノズルと、当該複数のノズルのそれぞれを回動可能状態と回動不能状態とで切り替えて保持するノズル保持機構と、上記複数のノズルのそれぞれを当該ノズルの軸心周りに回動させる回動手段とを備える構成となっている。
【００１８】
したがって、本発明の塗布装置は、上記ノズル保持機構と上記回動手段とを能動化させることにより、上記複数のノズルのうち回動動作の対象となるノズルについては一時的に上記ノズル保持機構による保持を解除して（回動可能状態として）回動させ、塗布処理時には当該回動動作で調節したノズルの回動度合いを保ちつつ（回動不能状態として）塗布液の吐出を行うことが可能となる。その結果、上記複数のノズルから位置精度の高い塗布処理を実現することができる。
【００１９】
特に、請求項３の発明の塗布装置は、上記複数のノズルのそれぞれについて当該ノズルの吐出口から吐出される塗布液の吐出角度の指標値を計測する吐出角度指標値計測手段をさらに備える。そのため、吐出角度指標値計測手段を能動化し上記複数のノズルのそれぞれについて塗布液の吐出角度を計測する計測動作を行うことで、各ノズルについて、回動動作が必要か否か、回動動作でどの程度回動させれば塗布液の吐出方向が平面視においてノズルの主走査方向と一致するか、等を判断することが可能となる。その結果、上記複数のノズルから、さらに位置精度の高い塗布処理を実現することができる。
【００２０】
特に、請求項４の発明の塗布装置は、基板への非塗布時に前記主走査方向に移動する前記ノズルから吐出された塗布液が塗布される試験塗布部をさらに備える。そのため、試験塗布部による試験塗布動作を行うことで、各ノズルにおける塗布軌跡を分析（例えば、画像データとして分析）することが可能となる。このため、試験塗布部と塗布装置の制御を行う制御部との各種機能を実行することによって、調節対象ノズルを抽出することが可能となる。
【００２１】
したがって、試験塗布動作によって抽出された調節対象ノズルにのみ計測動作および回動動作を実施すれば、全てのノズルに対して計測動作および回動動作を実施することと、同様の効果を得ることができる。また、試験塗布動作は一回行うだけで全てのノズルにおける分析を行う（例えば、画像データを分析する）ことが可能であり、上述した計測動作のようにノズル毎に個別に行う必要がない。このため、塗布装置が有するノズルが多いほど、吐出角度調節処理にかかる時間の短縮効果が大きくなる。
【図面の簡単な説明】
【００２２】
【図１】第１実施形態に係る塗布装置１の要部概略構成を示す平面図および正面図である。
【図２】第１実施形態に係るノズル保持機構５４の構成を示す概略的な側面図および上面図である。
【図３】第１実施形態およびその変形例に係るノズル回動機構５５の構成を示す概略的な模式図である。
【図４】第１実施形態に係るレーザヘッド６０ａ，６０ｂの構成を示す概略的な斜視図である。
【図５】吐出角度計測機構６による計測動作の一例を示す上面図である。
【図６】吐出角度計測機構６による計測動作の一例を示す側面図である。
【図７】制御部１０の電気的な構成を示すブロック図である。
【図８】吐出角度θ１の規定方法の一例を示す図である。
【図９】塗布装置１の塗布処理を示すフロー図である。
【図１０】吐出方向（塗布液の吐出角度）による塗布軌跡への影響を示した上面図である。
【図１１】吐出方向（塗布液の吐出角度）による塗布軌跡への影響を示した側面図である。
【図１２】吐出方向（塗布液の吐出角度）と基板の起伏との関係を示す図である。
【図１３】第１実施形態における吐出角度調節処理の一例を示すフロー図である。
【図１４】第２実施形態における塗布装置１の要部概略構成を示す平面図および正面図である。
【図１５】第２実施形態におけるテープユニットの断面図である。
【図１６】第２実施形態におけるテープユニットの断面図である。
【図１７】第２実施形態における当接部材およびその近傍の断面図である。
【図１８】第２実施形態におけるテープユニットの断面図である。
【図１９】第２実施形態における吐出角度調節処理の一例を示すフロー図である。
【発明を実施するための形態】
【００２３】
｛第１実施形態｝
＜１．１  塗布装置１の全体の概略構成＞
以下、本発明の実施形態に係る塗布装置１について、図面を参照しつつ説明を行う。説明を具体的にするために、当該塗布装置が有機ＥＬ材料、正孔輸送材料、正孔注入材料等を塗布液として用いる有機ＥＬ表示装置を製造する塗布装置に適用された例を用いて、以下の説明を行う。当該塗布装置１は、有機ＥＬ材料、正孔輸送材料、正孔注入材料等を、ステージ上に載置されたガラス基板上に所定のパターン形状に塗布して有機ＥＬ表示装置のパネルを製造するものである。なお、この明細書に添付した図において、Ｘ方向およびＹ方向は水平面を規定する２次元座標軸であり、Ｚ方向はＸＹ面に垂直な鉛直方向を規定している。
【００２４】
図１は、塗布装置１の要部概略構成を示す平面図である。また、図１（ｂ）は、塗布装置１の正面図である。なお、塗布装置１は、上述したように有機ＥＬ材料、正孔輸送材料、正孔注入材料等の複数の塗布液を用いることが可能であるが、それらの代表として有機ＥＬ材料を塗布液とした場合について説明を行う。
【００２５】
図１において、塗布装置１は、大略的に、基板載置装置２、有機ＥＬ塗布機構５、吐出角度計測機構６、および、制御部１０を備えている。
【００２６】
＜１．２  基板載置装置２の構成＞
図１（ｂ）に示すように、基板載置装置２は、ステージ２１、旋回部２２、平行移動テーブル２３、ガイド受け部２４、およびガイド部材２５を有している。
【００２７】
ステージ２１は、被塗布体となるガラス基板等の基板Ｐをそのステージ上面に載置する水平な厚板状の剛性材である。ステージ２１の下部は、旋回部２２によって支持されており、旋回部２２の回動動作によって図示θ方向にステージ２１が水平面内で旋回可能に構成されている。
【００２８】
また、ステージ２１の内部には、有機ＥＬ材料が塗布された基板Ｐをステージ２１面上で予備加熱処理するための加熱機構や基板Ｐを下方から吸着して保持する吸着機構や、基板Ｐを搬送機構との間で受け渡しする際に利用される受け渡しピン機構等（いずれも図示せず）が設けられている。このように、ステージ２１によって基板Ｐが保持されるため、当該ステージ２１によって基板が保持される領域が、本発明における「基板の保持領域」に相当する。
【００２９】
有機ＥＬ塗布機構５の下方を通るように、ガイド部材２５が図示Ｙ軸方向に延設されて床面に水平に固定される。平行移動テーブル２３の下面には、ガイド部材２５と当接してガイド部材２５上を滑動するガイド受け部２４が固設されている。
【００３０】
また、平行移動テーブル２３の上面には、旋回部２２が固設される。これによって、平行移動テーブル２３が、例えばリニアモータ（図示せず）からの駆動力を受けてガイド部材２５に沿った図示Ｙ軸方向に移動可能になり、旋回部２２に支持されたステージ２１の水平直進移動も可能になる。なお、以下の説明においては、平行移動テーブル２３、ガイド受け部２４、ガイド部材２５、および、例えばリニアモータ（図示せず）からなる機構について、「ステージ移動機構２６」と称することがある。
【００３１】
＜１．３  有機ＥＬ塗布機構５の構成＞
有機ＥＬ塗布機構５について、主に図１および図１（ｂ）を参照しつつ説明する。有機ＥＬ塗布機構５は、ノズルユニット５０とノズル移動機構５１とを有している。
【００３２】
ノズルユニット５０は、赤、緑、および青色の何れか１色の有機ＥＬ材料を吐出する複数の塗布ノズル５２（図１では、３本の塗布ノズル５２ａ、５２ｂ、および５２ｃ）を並設した状態で保持する。
【００３３】
各塗布ノズル５２ａ〜５２ｃへは、それぞれ図示しない供給部から赤、緑、および青色の何れか１色の有機ＥＬ材料が供給される。このように、複数の塗布ノズル５２から同じ色の有機ＥＬ材料が吐出されるが、説明を具体的にするために赤色の有機ＥＬ材料が３本の塗布ノズル５２ａ〜５２ｃから吐出される例を用いる。
【００３４】
塗布ノズル５２ａ〜５２ｃの先端は、それらの高さ（Ｚ軸方向に関する位置）が同じであり、水平ＸＹ面内においてはＸ軸方向から傾いた斜め方向に、等間隔でほぼ直線的に１列に配置されている。また、ノズルピッチ（各ノズル間のＹ方向の間隔）は、適宜設定することが可能であるが、第１実施形態においては、基板Ｐに形成されたストライプ状の溝３列分の間隔と一致するように設定されている。
【００３５】
ノズル移動機構５１は、図示Ｘ軸方向に延設されているシャフトガイド５１１およびボールネジ５１２と、図示しないモータとにより構成される。ノズルユニット５０には、ボールネジ５１２が螺合し、シャフトガイド５１１が貫通している構成となっている。そのため、図示しないモータにより、ボールネジ５１２が回動されると、それと螺合されるノズルユニット５０はガイドシャフトに沿って、Ｘ方向に自在に移動する。
【００３６】
したがって、制御部１０が、塗布ノズル５２ａ〜５２ｃから有機ＥＬ材料を塗布させつつ、ノズルユニット５０をＸ軸方向に沿って移動させるようにノズル移動機構５１を制御することで、ステージ２１上に保持される基板Ｐの溝に、塗布ノズル５２ａ〜５２ｃから所定流量の有機ＥＬ材料を吐出させる。このとき、第１実施形態の塗布装置１では、塗布ノズル５２ａ〜５２ｃのピッチが基板Ｐの溝３列分と一致するため、互いに２列ずつ間隔をあけた３列分の溝について塗布が行われる。
【００３７】
また、ノズル５２ａ〜５２ｃのＸ軸方向吐出位置において、ステージ２１に載置された基板Ｐから逸脱する両サイド空間には、基板Ｐから外れて吐出された有機ＥＬ材料を受ける液受部５３Ｌおよび５３Ｒがそれぞれ固設されている。ノズル移動機構部５１は、基板Ｐの一方サイド外側に配設されている液受部５３（例えば、液受部５３Ｌ）の上部空間から、基板Ｐを横断して基板Ｐの他方サイド外側に配設されている液受部５３（例えば、液受部５３Ｒ）の上部空間まで、ノズルユニット５０を往復移動させることで、基板上に有機ＥＬ材料を塗布する。
【００３８】
また、平行移動テーブル２３は、ノズルユニット５０が液受け部５３の上部空間に配置されている際、ノズル往復移動方向とは垂直の所定方向（図示Ｙ軸方向）に所定ピッチ（例えば、ノズルピッチの３倍分）だけステージ２１を移動させる。このようなノズル移動機構５１および平行移動テーブル２３の動作と、塗布ノズル５２ａ〜５２ｃから有機ＥＬ材料を液柱状態で吐出する吐出動作とを行うことによって、赤色の有機ＥＬ材料が基板Ｐに形成されたストライプ状の溝毎に配列された、いわゆる、ストライプ配列が基板Ｐ上に形成される。
【００３９】
また、第１実施形態の塗布装置１には、基板上に塗布すべきパターンに対応してノズル５２ａ〜５２ｃのＹ軸方向のピッチを個別に調整する機構を備えても良い。このようなピッチ調節機構を備える本発明の塗布装置１の構成については、後述する「｛変形例｝」で詳細に説明する。
【００４０】
また、第１実施形態のノズルユニット５０には、後述する「吐出角度調節処理」の際に用いる機構として、ノズル保持機構５４およびノズル回動機構５５が備えられている。以下、ノズル保持機構５４およびノズル回動機構５５について説明する。
【００４１】
＜１．３．１  ノズル保持機構５４の構成＞
図２（ａ）〜図２（ｃ）を参照しつつ、ノズル保持機構５４について説明する。なお、図２（ａ），（ｂ）は、ノズル５２ａにおけるノズル保持機構５４の構成を示す図解的な側面図である。また、図２（ｃ）は、ノズルホルダ５４１の図解的な上面図である。
【００４２】
また、ノズル保持機構５４ａ〜５４ｃはそれぞれノズル５２ａ〜５２ｃをノズルホルダ５４１に保持する機構であり、どれも同様の構成である。以下、ノズル保持機構５４ａ〜５４ｃの代表として、特にノズル保持機構５４ａについて説明する。
【００４３】
図２（ａ）および図２（ｃ）に示すように、ノズル保持機構５４ａは、ノズルホルダ５４１（楔型溝５４４ａおよびノズル孔５４５ａが形成されている）、楔型部材５４２ａ、および、駆動部５４３ａにより構成される。
【００４４】
ノズル５２ａは、その吐出口ＬＱが鉛直下側を向くように、ノズルホルダ５４１に設けられたノズル孔５４５ａを貫通する構成となっている。また、駆動部５４３ａ（例えば、シリンダ機構）と楔型部材５４２ａとは連結されており、駆動部５４３ａが上下に駆動されることにより楔型部材５４２ａも一体となって上下に駆動される構成となっている。また、ノズルホルダ５４１の上面には楔形溝５４４ａが設けられている（図２（ｂ），図２（ｃ）参照）。
【００４５】
このような構成となっているため、駆動部５４３ａにより楔型部材５４２ａが鉛直下方向に駆動されると、楔型部材５４２ａが楔型溝５４４ａに嵌め合わされる（図２（ａ）参照）。その結果、ノズル５２ａは当該楔型部材５４２ａとノズルホルダ５４１とに挟まれ固定される（以下、この回動不能状態を「ロック状態」と呼ぶ）。
【００４６】
一方、図２（ｂ）に示すように楔型部材５４２ａが鉛直上方向に駆動されると、ノズル５２ａは当該楔型部材５４２ａとノズルホルダ５４１とに挟まれたロック状態から解放される（以下、この回動可能状態を「解放状態」と呼ぶ）。したがって、ノズル保持機構５４は、ノズル５２ａを回動可能状態と回動不能状態とで切り替えて保持可能である。
【００４７】
ノズル５２ａ内を貫通する塗布液供給路ＬＲのうち、少なくとも吐出口ＬＱに連続する部分は直線的な管路となっており、基準状態（すなわち設計上で想定した理想状態）においては、塗布液供給路ＬＲの管路の中心軸ＡＸまわりにノズル５２ａの塗布液供給路ＬＲおよび吐出口ＬＱは回転対称となっている。具体的には吐出口ＬＱの断面形状は、基準状態で円形とされている。ただし、図２（ａ）では、図示の便宜上、塗布液供給路ＬＲおよび吐出口ＬＱは実際よりも大きめに描かれている。以下における「ノズルの軸心」とは、このようなノズル５２ａの設計上の中心軸ＡＸを指している。
【００４８】
ノズル５２ａの軸心（中心軸）ＡＸは鉛直Ｚ方向に一致しており、ノズル５２ａが基準状態にあるならば塗布液はこのノズル５２ａの軸心ＡＸに沿って鉛直下方に流下する。しかしながら実際の装置では種々の原因によりノズル５２ａの吐出口ＬＱから吐出される塗布液の流路方向は鉛直Ｚ方向から傾いている場合がある。このため、以下では、ノズル５２ａの吐出口ＬＱから流下する塗布液の流路方向を、ノズル５２ａの軸心ＡＸとは区別して、「吐出方向ＡＬ」（後述する図６参照）と呼ぶことにする。ノズル５２ａの吐出口ＬＱから吐出される塗布液の軌跡は厳密には放物線に近い曲線となるが、鉛直Ｚ方向からのその傾き角は小さく、また吐出口ＬＱから基板表面までの距離は短いことから、その曲線の曲率は小さく、塗布液の軌跡を近似的に直線とみなすことができる。吐出方向ＡＬは、そのような直線を用いて一義的に定義できる。
【００４９】
以上、ノズル保持機構５４ａの構成について説明したが、この構成はノズル保持機構５４ｂおよびノズル保持機構５４ｃについても同様である。すなわち、駆動部５４３（５４３ｂ，５４３ｃ）が鉛直下方向に駆動されると楔型部材５４２（５４２ｂ，５４２ｃ）も一体となって下方向に駆動され、ノズル５２（５２ｂ，５２ｃ）をロック状態（ノズルホルダ５４１に固定された状態）とすることができる。また、駆動部５４３（５４３ｂ，５４３ｃ）が鉛直上方向に駆動されると楔型部材５４２（５４２ｂ，５４２ｃ）も一体となって上方向に駆動され、ノズル５２（５２ｂ，５２ｃ）を解放状態（ノズルホルダ５４１に固定されていない状態）とすることができる。
【００５０】
＜１．３．２  ノズル回動機構５５の構成＞
次に、図３（ａ）〜図３（ｄ）を参照しつつ、ノズル回動機構５５について説明する。ノズル回動機構５５（５５ａ〜５５ｃ）は、それぞれノズル５２（５２ａ〜５２ｃ）を当該ノズルの軸心ＡＸまわりに回動させる機構であれば足り、種々の回動機構を採用することができる。この実施形態でのノズルの軸心ＡＸは鉛直Ｚ方向に一致させているため、ノズル５２のそれぞれの軸心ＡＸまわりにそれらのノズル５２を回動させる機構は、鉛直Ｚ方向まわりに各ノズル５２（５２ａ〜５２ｃ）回動させる機構と見ることができる。
【００５１】
図３（ａ）は、第１実施形態におけるノズル回動機構５５の構成を示す模式図である。図３（ｂ）〜図３（ｄ）は、ノズル回動機構５５の他の構成を示す模式図である。また、説明を容易にするため、図３（ａ）〜図３（ｄ）においては、ノズル５２ａと当該ノズル５２ａを回動させるノズル回動機構５５ａの構成のみを図解的に示している。
【００５２】
以下、図３（ａ）を参照して第１実施形態のノズル回動機構５５ａ〜５５ｃについて、図３（ｂ）〜図３（ｄ）を参照して他の実施形態のノズル回動機構５５ａ〜５５ｃについて説明するが、ノズル回動機構５５ａ〜５５ｃはそれぞれ同様の構成であるので、代表として、ノズル回動機構５５ａについて説明する。
【００５３】
図３（ａ）に示すように、第１実施形態のノズル回動機構５５ａは、プーリ５５１ａとノズル５２ａとにタイミングベルト５５２ａが架け渡されて構成される。このため、モータＭが回転することによりプーリ５５１ａが回動し、それと連動してノズル５２ａが軸心ＡＸまわりに回動される。なお、上述したロック状態においてノズル５２ａはノズルホルダ５４１に固定され回動不能であるので、ノズル回動機構５５ａによるノズル５２ａの回動動作は上述した解放状態（回動可能な状態）において行われる。また、ノズル５２ａの回動動作の後、当該ノズル５２ａをロック状態とすることで当該回動位置に固定することができる。
【００５４】
また、図３（ｂ）に示す他の実施形態の回動機構５５ａは、巻き取りローラ５５３ａ、ワイヤ５５４ａ、モータＭ、および、図示しない発条体（渦巻状弾性体：いわゆるゼンマイ）により構成される。この構成においては、この発条体の弾性力により自然状態において反時計回り（図の矢印ｂ１方向）に付勢されるノズル５２ａにワイヤ５５４ａを連結し、巻き取りローラ５５３ａおよびモータＭによってワイヤ５５４ａを時計回り（図の矢印ｂ２方向）に巻き取ることで、当該ワイヤ５５４ａと連動してノズル５２ａを時計回り（図の矢印ｂ２方向）に回動させることができる。また、巻き取りローラ５５３ａおよびモータＭによるワイヤ５５４ａの巻き取りをリリース（解放）することで、ノズル５２ａは発条体の弾性力により反時計回り（図の矢印ｂ１方向）に回動され初期状態に戻る。
【００５５】
また、図３（ｃ）に示す他の実施形態の回動機構５５ａは、ノズル５２ａに設けられるノブ５５５ａとリニアアクチュエータ５５６ａとにより構成される。この構成においては、リニアアクチュエータ５５６ａの駆動によりノブ５５５ａが押されることで、当該ノブ５５５ａと一体となっているノズル５２ａが回動する。
【００５６】
また、図３（ｄ）に示す他の実施形態の回動機構５５ａは、ノズル５２ａに設けられるリンク部材５５７ａと駆動部５５８ａにより構成される。この構成においては、駆動部５５８ａの駆動力がリンク部材５５７ａを介してノズル５２ａに伝達することで、回動機構５５ａとノズル５２ａとがリンク機構として機能し、ノズル５２ａが回動される。
【００５７】
以上、回動機構５５の種々の実施形態について説明したが、図３（ｂ）〜図３（ｄ）に示した他の実施形態のノズル回動機構５５ａにおいても、上述した第１実施形態と同様、回動動作は解放状態（回動可能な状態）において行われる。そして、ノズル５２ａの回動動作の後、当該ノズル５２ａをロック状態（回動不能な状態）とすることで当該回動位置に固定することができる。また、回動機構５５ｂ，５５ｃについても同様である。
【００５８】
以上説明したように、各ノズル５２ａ〜５２ｃのそれぞれにノズル保持機構５４ａ〜５４ｃおよびノズル回動機構５５ａ〜５５ｃが設けられている。そのため、本発明の第１実施形態の塗布装置１では、各ノズル５２ａ〜５２ｃについて個別にノズルの回動動作を行うことが可能となる。また、上記ノズル回動機構５５ａ〜５５ｃが、本発明における「回動手段」に相当する。
【００５９】
＜１．４  吐出角度計測機構６の構成＞
吐出角度計測機構６について、図４〜図６を参照しつつ説明する。吐出角度計測機構６は、計測対象のノズル（例えば、ノズル５２ａ）から吐出される塗布液の吐出角度を計測できる機構であれば足り、種々の機構を採用することができる。なお、本実施形態の吐出角度計測機構６は、レーザ変位計であるレーザヘッド６０ａ，６０ｂおよびレーザヘッド移動機構６５ａ，６５ｂを有している。
【００６０】
図４は、レーザヘッド６０ａ，６０ｂの構成を示す図解的な斜視図である。また、図５は、塗布液の吐出角度を計測する計測動作の際のレーザヘッド６０ａ，６０ｂの位置関係を示す上面図である。
【００６１】
図４に示すように、レーザヘッド６０ａは、一側面に長尺状の開口部６１ａ，６２ａを有する箱形状の装置であり、それぞれの開口部６１ａ，６２ａから水平に、断面が水平帯状となっている帯状レーザＲ１ａ，Ｒ２ａを発射するレーザ変位計である。
【００６２】
したがって、例えば、塗布液が帯状レーザＲ１ａの範囲内を通過する場合には、当該塗布液が帯状レーザＲ１ａを通過した際のレーザヘッド６０ａと塗布液との距離を計測することができる。同様に、塗布液が帯状レーザＲ２ａの範囲内を通過した場合には、当該塗布液が帯状レーザＲ２ａを通過した際のレーザヘッド６０ａと塗布液との距離を計測することができる。なお、図中のカッコ内に付してある符号は、レーザヘッド６０ｂの構成に対応している。
【００６３】
レーザヘッド６０ｂもレーザヘッド６０ａと同様の構成である（図４参照）。すなわち、レーザヘッド６０ｂは、開口部６１ｂおよび開口部６２ｂを有する箱形状の装置であり、それぞれの開口部６１ｂ，６２ｂから水平に帯状レーザＲ１ｂ，Ｒ２ｂを発射するレーザ変位計である。そして、帯状レーザＲ１ｂ，Ｒ２ｂを通過した場合には、レーザヘッド６０ｂと当該塗布液との距離を計測することができる。
【００６４】
また、レーザヘッド６０ａは開口部６１ａ，６２ａが＋Ｘ側となるように液受け部５３Ｌの−Ｘ側に配置され、レーザヘッド６０ｂは開口部６１ｂ，６２ｂが＋Ｙ側となるように液受け部５３Ｌの−Ｙ側に配置されている。さらに、開口部６１ａ，６２ａおよび開口部６１ｂ，６２ｂは同じ高さとなるよう、レーザヘッド６０ａ，６０ｂは配置されている。
【００６５】
このため、図５に示すように、レーザヘッド６０ａの帯状レーザＲ１ａ，Ｒ２ａは＋Ｘ方向に発射され、レーザヘッド６０ｂの帯状レーザＲ１ｂ，Ｒ２ｂは＋Ｙ方向に発射される（帯状レーザＲ１ａ，Ｒ２ａと帯状レーザＲ１ｂ，Ｒ２ｂとが直交する）。また、帯状レーザＲ１ａと帯状レーザＲ１ｂとが重複する領域Ｄ１、および、帯状レーザＲ２ａと帯状レーザＲ２ｂとが重複する領域Ｄ２とが生じる。なお、図５は上面図であるため、開口部６１ａ，６２ａ、開口部６１ｂ，６２ｂ、帯状レーザＲ１ａ，Ｒ２ａ、帯状レーザＲ１ｂ，Ｒ２ｂ、および領域Ｄ１，Ｄ２がそれぞれ重なって描かれている。
【００６６】
そして、領域Ｄ１，Ｄ２は帯状レーザＲ１ａ，Ｒ２ａと帯状レーザＲ１ｂ，Ｒ２ｂとの重複領域となるため、当該領域Ｄ１，Ｄ２を塗布液が通過する場合には、当該塗布液とレーザヘッド６０ａとの距離（Ｘ方向距離）および当該塗布液とレーザヘッド６０ｂとの距離（Ｙ方向距離）が計測される。換言すれば、当該領域Ｄ１，Ｄ２を通過する塗布液については、上面視（ＸＹ平面）における当該塗布液の通過位置が計測される。
【００６７】
また、レーザヘッド６０ａ，６０ｂにはそれぞれレーザヘッド移動機構６５ａ，６５ｂが備えられており、レーザヘッド６０ａはＹ方向に沿って、レーザヘッド６０ｂはＸ方向に沿ってそれぞれ水平に移動可能となっている（図５参照）。その結果、帯状レーザＲ１ａ，Ｒ２ａと帯状レーザＲ１ｂ，Ｒ２ｂとの重複領域である領域Ｄ１，Ｄ２についても、レーザヘッド６０ａ，６０ｂの移動と対応して移動される。このため、領域Ｄ１，Ｄ２の移動可能な範囲内においては、当該領域Ｄ１，Ｄ２を通過する塗布液の距離を計測することが可能となる。
【００６８】
なお、レーザヘッド移動機構６５ａ，６５ｂはレーザヘッド６０ａ，６０ｂを水平に移動させる機構であれば足り、種々の機構を採用することができる。例えば、ステージ移動機構２６と同様に、ガイド部材とリニアモータからなる移動機構を採用することができる。また、ノズル移動機構５１と同様に、ボールネジ、ガイドシャフト、およびモータからなる移動機構を採用してもよい。
【００６９】
以下、図６を参照しつつ、任意のノズル５２（例えば、ノズル５２ａ）から吐出される塗布液の通過点の計測をおこなう計測動作について詳述する。なお、図６（ａ）はレーザヘッド６０ａによる計測動作の一例を示す側面図である。また、図６（ｂ）はレーザヘッド６０ｂによる計測動作の一例を示す側面図である。
【００７０】
上述したように、計測対象のノズル（例えば、ノズル５２ａ）から吐出される塗布液の通過位置を２点計測するには、当該塗布液が領域Ｄ１，Ｄ２を通過する必要がある。また、第１実施形態の塗布装置１では、実際に塗布液を吐出して当該塗布液の計測動作を行う（実測を行う）ため、計測動作中に吐出される塗布液を受ける機構（例えば、液受け部５３Ｌ）が必要となる。
【００７１】
そのため、レーザヘッド６０ａから水平に発射される帯状レーザＲ１ａ，Ｒ２ａが、ノズル５２ａと液受け部５３Ｌとの間を通過するように、レーザヘッド６０ａが配置される（図６（ａ）参照）。また、レーザヘッド６０ｂについても、レーザヘッド６０ｂから水平に発射される帯状レーザＲ１ｂ，Ｒ２ｂが、ノズル５２ａと液受け部５３Ｌとの間を通過するように、レーザヘッド６０ｂが配置される（図６（ｂ）参照）。その結果、当該計測動作中にノズル５２ａから吐出される塗布液は、ノズル５２ａの下方に配置される液受け部５３Ｌによって液受けされる（図１、図６（ａ），（ｂ）参照）。
【００７２】
さらに、ノズル５２ａから吐出される塗布液が領域Ｄ１，Ｄ２を通過するように（図６（ａ），（ｂ）参照）、ノズル５２ａとレーザヘッド６０ａ，６０ｂとのＸＹ方向における相対的位置関係が調節されることによって、当該塗布液が領域Ｄ１，Ｄ２を通過する位置を測定することが可能となる。このような位置関係の調節についてはレーザヘッド移動機構６５ａ，６５ｂを用いればよい。具体的には、レーザヘッド移動機構６５ａによりレーザヘッド６０ａをＹ方向に駆動させ、レーザヘッド移動機構６５ｂによりレーザヘッド６０ｂをＸ方向に駆動させることで、ノズル５２ａとレーザヘッド６０ａ，６０ｂとのＸＹ方向における相対的位置関係が調節される。
【００７３】
以上のような構成となっているので、吐出角度計測機構６では、ノズル５２ａから吐出される塗布液の領域Ｄ１通過時の水平面位置Ｐ１（Ｘ１，Ｙ１）と領域Ｄ２通過時の水平面位置Ｐ２（Ｘ２，Ｙ２）とを計測することができる。
【００７４】
そして計測動作の後、吐出角度計測機構６は、２つの位置Ｐ１，Ｐ２に関するデータ（以下、「計測データＦＤ」と呼ぶ）を生成し、当該計測データＦＤを制御部１０内の記憶装置１４に格納する。なお、吐出角度計測機構６が、本発明における「吐出角度指標値計測手段」に相当する。また、吐出角度計測機構６による計測動作が、本発明における「吐出角度指標値計測工程」に相当する。
【００７５】
＜１．５  制御部１０の構成＞
図７は、塗布装置１の電気的構成を説明するためのブロック図である。
【００７６】
制御部１０は、図７に示されるように、例えば、ＣＰＵ１１、ＲＯＭ１２、ＲＡＭ１３、記憶装置１４等が、バスライン１５を介して相互接続された一般的なコンピュータによって構成される。ＲＯＭ１２は基本プログラム等を格納しており、ＲＡＭ１３はＣＰＵ１１が所定の処理を行う際の作業領域として供される。記憶装置１４は、フラッシュメモリ、あるいは、ハードディスク装置等の不揮発性の記憶装置によって構成される。
【００７７】
また、制御部１０では、入力部１６および出力部１７もバスライン１５に接続されている。入力部１６では、各種スイッチ、タッチパネル等により構成されており、オペレータ（塗布装置１を操作する作業者）から処理レシピ等の各種の入力設定指示を受ける。出力部１７は、液晶表示装置、ランプ等により構成されており、ＣＰＵ１１による制御のもと各種の情報を表示する。
【００７８】
さらに、制御部１０には、基板載置装置２、有機ＥＬ塗布機構５、吐出角度計測機構６が制御対象として接続されている。以上のような構成となっているため、制御部１０によって、塗布装置１内の各装置（基板載置装置２、有機ＥＬ塗布機構５、吐出角度計測機構６）の動作が制御される。
【００７９】
＜１．５．１  吐出角度の推定＞
上述したように、吐出角度計測機構６による塗布液の計測作業後、制御部１０内の記憶装置１４には計測データＦＤが格納される。そして、制御部１０は、当該計測データＦＤに基づいて、塗布対象ノズル（例えば、ノズル５２ａ）から吐出される塗布液の平面視（ＸＹ座標）における吐出角度を算出する。
【００８０】
以下、図８を参照して、ノズル５２ａから吐出される塗布液の吐出角度の算出方法について説明する。なお、図８（ａ）は、上記計測作業により計測された位置Ｐ１（Ｘ１，Ｙ１）および位置Ｐ２（Ｘ２，Ｙ２）について、位置Ｐ１を原点位置として当該２点をＸＹ座標にプロットした図である。
【００８１】
そして、制御部１０は、上記計測作業により計測された位置Ｐ１（Ｘ１，Ｙ１）および位置Ｐ２（Ｘ２，Ｙ２）に基づいて、当該塗布液の上面視における吐出方向ＡＬを近似線（例えば、直線）として算出する。直線Ｌ１は、当該近似線の一例であり、位置Ｐ１，Ｐ２の２点を通る直線である（図８（ａ）参照）。
【００８２】
そして、制御部１０は、直線Ｌ１（吐出方向ＡＬの近似線）とＸ軸との間の角度として、角度θ１（０≦θ１≦９０）を規定し、当該角度θ１を角度データＫＤとして記憶装置１４に格納する。
【００８３】
また、図８（ｂ）は、図８（ａ）に示す位置Ｐ１，Ｐ２の比較例として示す図であり、塗布液が領域Ｄ１を通過した位置Ｐ３（Ｘ３，Ｙ３）と領域Ｄ２を通過した位置Ｐ４（Ｘ４，Ｙ４）とについて、位置Ｐ３を原点位置として当該２点をＸＹ座標にプロットした図である。
【００８４】
図８（ｂ）に示すように、Ｙ３＝Ｙ４となる場合、当該塗布液の上面視における吐出方向ＡＬの近似線（例えば、直線）として、直線Ｌ２（Ｘ軸と重複する）を規定することができる。このとき、制御部１０は、直線Ｌ２（吐出方向ＡＬの近似線）とＸ軸との間の角度として、角度θ１（角度θ１＝０）を規定し、当該角度θ１を角度データＫＤとして記憶装置１４に格納する。
【００８５】
また、図８（ｃ）は、図８（ａ）に示す位置Ｐ１，Ｐ２の比較例として示す図であり、塗布液が領域Ｄ１を通過した位置Ｐ５（Ｘ５，Ｙ５）と領域Ｄ２を通過した位置Ｐ６（Ｘ６，Ｙ６）とが一致する場合について、位置Ｐ５（Ｐ６）を原点位置としてＸＹ座標にプロットした図である。
【００８６】
この場合、高さの異なる２点Ｐ５，Ｐ６で、上面視において同一の点を通過していることから、例えば塗布液は直下したものとみなし、当該塗布液の上面視における吐出方向ＡＬを近似線（例えば、直線）として直線Ｌ３（原点と一致する）を規定することができる。このとき、制御部１０は、直線Ｌ３（吐出方向ＡＬの近似線）とＸ軸との間の角度として、角度θ１（角度θ１＝０）を規定し、当該角度θ１を角度データＫＤとして記憶装置１４に格納する。
【００８７】
以上説明したように、制御部１０は、各ノズル５２ａ〜５２ｃについて、吐出される塗布液の上面視（ＸＹ平面）における吐出角度を計測データＦＤに基づいて算出する。したがって、この計測データＦＤが、本発明における「塗布液の吐出角度に対応する指標値」に相当する。
【００８８】
＜２  塗布装置１の各種動作＞
次に、上記のように構成された塗布装置１の各種動作について説明する。
【００８９】
＜２．１  塗布処理＞
図９は、塗布装置１において１枚の基板Ｐに有機ＥＬ材料の塗布処理が行われる際の工程を示したブロック図である。以下、図９を参照しつつ塗布装置１の塗布処理の概要について説明する。
【００９０】
塗布装置１における塗布処理の対象となる基板Ｐは、図示しない搬送ロボット等によって塗布装置１に搬入されてステージ２１上に載置される。このとき、基板Ｐは、有機ＥＬ発光セルの列を規定するように形成された多数の溝がＸ軸方向に平行となるように載置される（ステップＳＴ１）。塗布装置１に搬入されてくる基板Ｐには、有機ＥＬ発光セル用の陽極および正孔輸送層がすでに形成されている。
【００９１】
塗布装置１に搬入された基板Ｐがステージ２１に固定されると、制御部１０は、ステージ２１、および、塗布ノズルユニット５０を初期位置に移動させる（ステップＳＴ２）。具体的には、予め定められた初期位置にステージ２１を基板Ｐごと移動させるとともに、ノズル移動機構５１（シャフトガイド５１１、ボールネジ５１２）の一端に塗布ノズルユニット５０を移動させる。このとき、ノズルユニット５０は、液受け部５３Ｒの上方（＋Ｘ側の一端）か液受け部５３Ｌの上方（−Ｘ側の一端）かどちらか一方に移動される。以下の説明では、ノズルユニット５０の初期位置が液受け部５３Ｒの上方である場合について説明する。
【００９２】
なお、ステージ２１の初期位置は、基板ＰにおいてＹ軸方向に並んで形成された複数本の溝のうちの最もＹ軸正方向側にある溝の真上に塗布ノズル５２ｃ（塗布ノズル５２ａ〜５２ｃのうちで最もＹ軸正方向側にある塗布ノズル）が位置する位置である。以上のように液受け洗浄装置４、ステージ２１、および、塗布ノズルユニット５０が初期位置に配置されると、制御部１０は塗布ノズル５２ａ〜５２ｃから有機ＥＬ材料の吐出を開始する（ステップＳＴ３）。
【００９３】
塗布ノズルユニット５０の各塗布ノズル５２ａ〜５２ｃから赤色の有機ＥＬ材料が吐出されるとともに、塗布ノズルユニット５０がノズル移動機構５１（シャフトガイド５１１、ボールネジ５１２）の一端（液受け部５３Ｒの上方）から他端（液受け部５３Ｌの上方）へ移動する（ステップＳＴ４）。このステップＳＴ４の工程を、以下「一回の塗布動作（主走査）」と称する。
【００９４】
なお、上述のように、各塗布ノズル５２ａ〜５２ｃのＹ軸方向のピッチは基板Ｐに形成された溝３列分の間隔と一致する。そのため、１回の塗布動作においては、基板Ｐに対して２列毎に間隔を空けて３列の溝について有機ＥＬ材料の直線状の塗布が行われる。
【００９５】
一回の塗布動作が終了すると、ノズルユニット５０は液受け部５３Ｌの上方で有機ＥＬ材料の吐出を行いつつ待機する。
【００９６】
また、このようにノズルユニット５０が待機している間に、ステージ移動機構２６によって所定ピッチ（例えば、ノズルピッチの３倍分）だけステージ２１を＋Ｙ方向に移動させる。その結果、ステージ２１上に載置される基板Ｐも＋Ｙ方向に移動される（ステップＳＴ５）。このステップＳＴ５の工程を、以下「一回の基板送り動作（副走査）」と称する。ノズルピッチは基板Ｐの３列分の溝間隔であるため、一回の基板送り動作では溝９列分だけ基板Ｐが＋Ｙ方向に移動される。
【００９７】
ステップＳＴ６に示すように、塗布処理が終了した場合には有機ＥＬ材料の吐出が停止され（ステップＳＴ７）、塗布処理が終了していない場合にはステップＳＴ４に移行する。結果として、上記一回の塗布動作と、上記一回の送り動作と、を繰り返すことによって、基板Ｐへの塗布が３列分ずつ行われる。これによって、基板Ｐに有機ＥＬ材料が３列のストライプ状に塗布されていく。
【００９８】
一回の塗布動作および一回の送り動作は、基板Ｐの有効領域（溝が形成されている領域）に対して有機ＥＬ材料が塗布されるまで行われる。なお、この時点では、Ｘ軸方向に関しては基板Ｐの有効領域以外の部分についても有機ＥＬ材料が塗布されるが、有効領域以外の領域に塗布された有機ＥＬ材料は、後述する除去処理によって除去される。以上によって、塗布ノズル５２ａ〜５２ｃによる有機ＥＬ材料の吐出が終了する（ステップＳＴ７）。
【００９９】
なお、塗布装置１における塗布処理が完了した基板Ｐは、図示しない搬送ロボットにより塗布装置１から搬出される（ステップＳＴ８）。搬出された基板Ｐに対しては、基板Ｐの有効領域以外の領域に付着した有機ＥＬ材料が除去される。除去処理は、基板Ｐ上の有機ＥＬ材料を除去する方法であればどのような方法であってもよく、例えば、レーザアブレーションによって有機ＥＬ材料を除去する方法であってもよいし、除去領域に予めマスキングテープを貼付しておく方法であってもよい。そして、除去処理が完了した基板Ｐに対して乾燥処理（ベーク処理）が行われる。
【０１００】
以上によって、赤色の有機ＥＬ材料について塗布・乾燥処理が完了したことになる。この後、基板Ｐに対しては、赤色の場合と同様に、緑色および青色の有機ＥＬ材料について塗布・乾燥処理が行われる。すなわち、緑色の有機ＥＬ材料を塗布する処理、塗布された緑色の有機ＥＬ材料を乾燥させる処理、青色の有機ＥＬ材料を塗布する処理、および、塗布された青色の有機ＥＬ材料を乾燥させる処理が順に行われる。このように赤色、緑色および青色の有機ＥＬ材料について塗布・乾燥処理が行われることによって、有機ＥＬ表示装置の発光層が形成される。さらに、発光層が形成された基板に対して例えば真空蒸着法により陰極電極が発光層上に形成されることによって、有機ＥＬ表示装置が製造される。
【０１０１】
＜２．１．１  吐出方向による塗布軌跡への影響＞
上述したように、塗布装置１における塗布処理の対象となる基板Ｐは、有機ＥＬ発光セルの列を規定するように形成された多数の溝がＸ軸方向に平行となるように載置されている。そして、ノズルピッチ（各ノズル間のＹ方向の間隔）は、適宜設定することが可能であるが、第１実施形態においては、基板Ｐに形成された溝３列分の間隔と一致するように設定されている。したがって、一回の塗布動作（主走査）によって、基板Ｐに対して２列毎に間隔を空けて３列の溝について有機ＥＬ材料の直線状の塗布が行われる。
【０１０２】
しかしながら、現実に本実施形態の塗布装置１によって一回の塗布動作（主走査）を行った場合に、必ずしも基板Ｐに対して２列毎に間隔を空けて３列の溝について有機ＥＬ材料の直線状の塗布が行われるとは限らない。これは、各ノズル５２ａ〜５２ｃから吐出される塗布液の吐出方向ＡＬが、必ずしも直下（−Ｚ方向のみの成分）とは限られないためである。
【０１０３】
つまり、ノズル５２（例えば、ノズル５２ａ）の加工精度の影響やノズル５２ａの吐出口付近に付着する汚れの影響によって、ノズル５２ａから吐出される塗布液の吐出方向ＡＬが偏倚した場合（例えば、吐出方向ＡＬにＹ成分が含まれる場合）、当該塗布液が本来塗布されるはずの溝より一定距離ずれた位置に塗布される恐れがある。
【０１０４】
＜２．１．２  吐出方向による塗布軌跡への影響（具体例）＞
以下、ノズル５２（例えば、ノズル５２ａ）から吐出される塗布液の吐出方向ＡＬによる塗布軌跡への影響について、図８、図１０、および図１１を参照しつつ説明する。
【０１０５】
図１０は、ノズル５２ａからの吐出される塗布液の吐出方向ＡＬが、Ｙ成分を含む場合（図８（ａ）の場合）、Ｙ成分を含まずＸ成分を含む場合（図８（ｂ）の場合）、Ｘ成分もＹ成分も含まない場合（図８（ｃ）の場合）について、当該塗布液が本来塗布されるべきラインとしての溝（以下、「溝ＬＣ」と呼ぶ）と基板Ｐに塗布される塗布液の軌跡（以下、「塗布軌跡」と呼ぶ）との位置関係を示した図解的な上面図である。
【０１０６】
また、図１１は、ノズル５２ａからの吐出される塗布液の吐出方向ＡＬが、Ｙ成分を含む場合（図８（ａ）の場合）、Ｙ成分を含まずＸ成分を含む場合（図８（ｂ）の場合）、Ｘ成分もＹ成分も含まない場合（図８（ｃ）の場合）について、溝ＬＣと塗布軌跡との位置関係を示した図解的な側面図である。
【０１０７】
なお、図１０および図１１においては、説明を容易にするため、基板Ｐに形成される複数の溝のうち１本の溝ＬＣのみを表現し、ノズル５２ａ〜５２ｃにより形成される複数の塗布軌跡のうち溝ＬＣと対応する（ノズル５２ａによって形成される）１本の塗布軌跡のみを表現している。
【０１０８】
図８（ａ）に示すようにノズル５２ａから吐出される塗布液の吐出方向ＡＬにＹ成分が含まれる場合（角度θ１≠０の場合）、塗布処理における主走査方向はＸ方向であるため、上面視において走査方向（ノズル５２ａの移動方向）とは異なる方向に塗布液が吐出される。その結果、溝ＬＣと塗布軌跡Ｌ１１との距離が角度θ１に対応する一定距離ΔＴ１生じる（図１０（ａ），図１１（ａ）参照）。
【０１０９】
また、図８（ｂ）に示すようにノズル５２ａから吐出される塗布液の吐出方向ＡＬがＹ成分を含まずＸ成分を含む場合（角度θ１＝０の場合）、塗布処理における主走査方向はＸ方向であるため、上面視において走査方向（ノズル５２ａの移動方向）と吐出方向ＡＬとが一致する。その結果、溝ＬＣ上に塗布液が吐出される（図１０（ｂ），図１１（ｂ）参照）。
【０１１０】
また、図８（ｃ）に示すようにノズル５２ａから塗布液が直下（−Ｚ方向）に吐出される場合（角度θ１＝０の場合）においても、上面視において走査方向（ノズル５２ａの移動方向）と吐出方向ＡＬとが一致する。その結果、溝ＬＣ上に塗布液が吐出される（図１０（ｃ），図１１（ｃ）参照）。
【０１１１】
なお、上記説明においては特にノズル５２ａを例に挙げたが、ノズル５２ｂおよび５２ｃについても同様である。すなわち、上面視において塗布液の吐出方向ＡＬと塗布処理中の主走査方向（Ｘ方向）とを一致させることで、位置精度の高い塗布処理を実現することができる。
【０１１２】
＜２．１．３  平面度と吐出方向とによる塗布軌跡への影響＞
また、第１実施形態の塗布装置１のように、吸着機構を有するステージ２１の表面にはある程度の起伏が生じることが一般的であり、ステージ２１の表面は必ずしも完全な平面とはならない。このような場合、ステージ２１上に載置される基板Ｐについても、その表面（塗布処理を施される側の面）にある程度の起伏が生じる。
【０１１３】
したがって、以下の説明では図１２を参照しつつ、「＜２．１．２  吐出方向による塗布軌跡への影響（具体例）＞」では考慮していなかった「基板Ｐの表面の起伏」についても考慮した上で、吐出方向ＡＬによる塗布軌跡への影響について説明する。
【０１１４】
図１２（ａ）は、起伏（凸部と凹部との高低差ΔＸ）を有する基板Ｐに塗布処理を施す様子を示した側面図である。
【０１１５】
また、図１２（ｂ）は、吐出角度θ１＝０の場合と吐出角度θ１≠０の場合とについて、図１２（ａ）の凸部をＡ−Ａ断面に示す方向から見た側面図と、図１２（ａ）の凹部をＢ−Ｂ断面に示す方向から見た側面図と、を比較する比較例を示す図である。
【０１１６】
また、図１２（ｃ）は、図１２（ａ）に示す塗布処理により形成される塗布軌跡を、吐出角度θ１＝０の場合と吐出角度θ１≠０の場合とについて比較する比較例を示す図である。
【０１１７】
まず、θ１＝０の場合について説明する。上述したように、θ１＝０の場合には上面視における塗布液の吐出方向ＡＬと主走査方向（Ｘ方向）とが一致する。したがって、図１２（ｂ）に示すように、塗布液はＹ方向にずれることなく吐出される。その結果、図１２（ｃ）に示すように、上面視において塗布軌跡Ｌ１２（Ｌ１３）と溝ＬＣとが一致する。
【０１１８】
次に、θ１≠０の場合について説明する。上述したように、θ１≠０の場合には塗布液の吐出方向ＡＬにＹ成分が含まれる。したがって、図１２（ｂ）に示すように、塗布液はＹ方向に吐出され、凸部と凹部とでは塗布液のＹ方向の着弾位置に差ΔＴ２が生じる。その結果、塗布軌跡Ｌ１１は基板Ｐの起伏（ΔＸ）に対応した曲線となり、塗布軌跡Ｌ１１と溝ＬＣとは距離Ｔ〜Ｔ＋ΔＴ２だけずれてしまう（図１２（ｃ）参照）。
【０１１９】
以上、「＜２．１．２  吐出方向による塗布軌跡への影響（具体例）＞」と「＜２．１．３  平面度と吐出方向とによる塗布軌跡への影響＞」とで説明したように、第１実施形態における塗布装置１で塗布処理を実行する場合、上面視における塗布液の吐出方向ＡＬと塗布処理中の主走査方向（本実施形態ではＸ方向）とが一致すれば（角度θ１＝０となれば）、塗布軌跡と塗布液が本来塗布されるべき溝ＬＣとが一致する。すなわち、位置精度の高い塗布処理を実現することができる。
【０１２０】
一方、上面視における塗布液の吐出方向ＡＬと塗布処理中の主走査方向とが一致しない（角度θ１≠０となる）場合、塗布軌跡と溝ＬＣとの間に距離（例えば、ΔＴ１）が生じる。そして、この距離が大きい場合には、塗布装置１によって塗布される塗布液が対応する溝ＬＣ内に塗布されず基板Ｐが不良品となる恐れもある。したがって、このような角度θ１≠０となっているノズル５２ａについては、吐出方向ＡＬを上面視において主走査方向と一致させること（後述する「吐出角度調節処理」）が求められる。
【０１２１】
＜２．２  吐出角度調節処理＞
次に、吐出角度調節処理における塗布装置１の動作を説明する。図１３は、塗布装置１の吐出角度調節処理の流れを示すフローチャートである。
【０１２２】
吐出角度調節処理は、吐出方向ＡＬにＹ成分を含む状態（角度θ１≠０）のノズルに対して、上述したノズル回動機構５５ａ〜５５ｃによるノズル５２の回動動作を行うことで、当該ノズル５２を吐出方向ＡＬにＹ成分を含まない状態（角度θ１＝０）にする処理である。
【０１２３】
なお、吐出角度調節処理は、塗布装置１による１日の作業の開始前または終了後に行われてもよいし、所定枚数の基板に対する塗布処理が終了する毎に行われてもよいし、所定時間間隔で行われてもよい。また、吐出角度調節処理は、作業者によって手動で制御部１０に指示されたことに応じて開始されてもよいし、所定の条件に従って制御部１０によって自動的に開始されるようにしてもよい。
【０１２４】
吐出角度調節処理において、まず、制御部１０は、各塗布ノズル５２ａ〜５２ｃの中から吐出角度調節処理の対象となる一のノズル（例えば、ノズル５２ａ）を選択する（図１３：ステップＳＴ１１）。
【０１２５】
そして、塗布装置１は、ノズル５２ａから塗布液の吐出を開始し、図６（ａ），（ｂ）に示すように、ノズルユニット５０とレーザヘッド６０ａ，６０ｂとの相対的な位置関係を調節する（ステップＳＴ１２）。より具体的には、ノズルユニット５０とレーザヘッド６０ａとの相対位置はレーザヘッド移動機構６５ａによって調節され、ノズルユニット５０とレーザヘッド６０ｂとの相対位置はレーザヘッド移動機構６５ｂによって調節される。この結果、ノズル５２ａから吐出される塗布液は、領域Ｄ１，Ｄ２を通過して液受け部５３Ｌに接液する状態となる。
【０１２６】
ノズルユニット５０とレーザヘッド６０ａ，６０ｂとの相対的な位置関係が調節されると、吐出角度計測機構６によって、ノズル５２ａから吐出される塗布液の吐出角度が計測される。つまり、ノズル５２ａから吐出される塗布液の領域Ｄ１通過時の位置Ｐ１（Ｘ１，Ｙ１）と領域Ｄ２通過時の位置Ｐ２（Ｘ２，Ｙ２）とが計測される。そして、吐出角度計測機構６は、２つの位置Ｐ１，Ｐ２に関する計測データＦＤを生成し、当該計測データＦＤを制御部１０内の記憶装置１４に格納する（ステップＳＴ１３）。
【０１２７】
そして、制御部１０は、当該計測データＦＤに基づいて、ノズル５２ａから吐出される塗布液の平面視（ＸＹ座標）における吐出角度を算出する。より具体的には、計測作業によって位置Ｐ１，Ｐ２の２点を通る近似線（例えば、直線Ｌ１〜Ｌ３）を規定し、この直線を当該塗布液の上面視における吐出方向ＡＬとしてみなす（図８参照）。そして、制御部１０は、直線とＸ軸（主走査方向）との間の角度として、角度θ１を規定し、当該角度θ１を角度データＫＤとして記憶装置１４に格納する（ステップＳＴ１４）。
【０１２８】
角度データＫＤが記憶装置１４に格納されると、制御部１０は、当該角度データＫＤに基づいてノズル５２ａの回動動作を行う（ステップＳＴ１５）。より具体的には、ステップＳＴ１４で規定した角度θ１がθ１＝０となるように（吐出方向ＡＬが主走査方向と一致するように）ノズル５２ａを回動させる。そのため、ステップＳＴ１４で規定した角度θ１が既にθ１＝０である場合には当該回動動作を行う必要はない。
【０１２９】
また、上述したように、回動動作の際には、ノズル保持機構５４ａによってノズル５２ａを解放状態とした上でノズル回動機構５５ａによる回動動作を行う。そして、当該回動動作後には、ノズル保持機構５４ａによって当該ノズル５２ａを再びロック状態とする。この結果、ノズル５２ａは吐出方向ＡＬが主走査方向と一致する状態でノズル保持機構５４ａによってロック状態とされるため、位置精度の高い塗布処理を実現することが可能となる（ステップＳＴ１５）。
【０１３０】
ステップＳＴ１６では、制御部１０は、吐出角度調節を行う他のノズル５２があるかについて判断する。そして、制御部１０は、ステップＳ１１〜ステップＳ１５の工程が終了していない他のノズル（例えば、ノズル５２ｂ，５２ｃ）がある場合、上記ステップＳ１１に戻って当該他のノズルに対して吐出角度調節処理を行う。一方、当該他のノズルがない場合、制御部１０は、吐出角度調節処理を終了する。
【０１３１】
＜３  第１実施形態における塗布装置１の効果＞
以下、上述した本発明第１実施形態の塗布装置１の効果について説明する。
【０１３２】
有機ＥＬ塗布機構５、吐出角度計測機構６および制御部１０の各種機能を実行することによって、吐出される塗布液の上面視における吐出角度θ１が、ノズル５２ａ〜５２ｃごとに個別に規定される。そして、ノズル保持機構５４ａ〜５４ｃ、ノズル回動機構５５ａ〜５５ｃ、および制御部１０の各種機能を実行することによって、ノズル５２ａ〜５２ｃごとに個別に回動動作を行うことが可能となる。
【０１３３】
したがって、上面視において塗布液の吐出方向ＡＬと主走査方向とが一致しない（角度θ１≠０となる）ノズル５２ａ〜５２ｃについて、それぞれ個別に必要な角度だけ回動させることが可能となる。その結果、すべてのノズル５２ａ〜５２ｃから位置精度の高い塗布処理を実現することが可能となる。
【０１３４】
｛第２実施形態｝
＜４  第２実施形態における塗布装置１の構成＞
本発明の第２実施形態について説明する。なお、第２実施形態において第１実施形態の各要素と同一の要素については同じ符号を付して説明する。また、第１実施形態と同様の構成あるいは動作については、重複説明を省略する。
【０１３５】
以下、図１４〜図１８を参照しつつ、第２実施形態の塗布装置１の構成について説明する。
【０１３６】
第２実施形態の塗布装置１の基本的構成については、第１実施形態の塗布装置１と同一である。一方、第２実施形態の塗布装置１と第１実施形態の塗布装置１との相違点は、第２実施形態の塗布装置１には試験塗布部７が設けられた構成となっている点である（図１４参照）。
【０１３７】
試験塗布部７は、基板９への非塗布時に、ノズル５２ａ〜５２ｃからの有機ＥＬ材料の吐出状態を確認するために、試験的に有機ＥＬ材料が塗布される部位である。第２実施形態の塗布装置１は当該試験塗布部７を有しているため、後述する試験塗布動作を通して塗布液の塗布状態（塗布の有無、塗布幅、塗布ピッチなど）を分析することが可能となる。その結果、第１実施形態の塗布装置１とは異なるバリエーションの吐出角度調節処理を実行することが可能となる。
【０１３８】
試験塗布部７は、ステージ２１の＋Ｙ側に配置された２つのテープユニット７１を有している。２つのテープユニット７１は、主走査方向に離間するとともに、副走査方向のほぼ同じ位置に配置されている。各テープユニット７１は、接続部材７２を介してステージ１０に固定されている。
【０１３９】
図１５および図１６は、それぞれ、ＹＺ平面およびＸＺ平面に沿ったテープユニット７１の縦断面図である。図１５は、図１６中のI−I位置から見た縦断面図に相当し、図１６は、図１５中のII−II位置から見た縦断面図に相当する。図６及び図７に示したように、テープユニット７１は、主として、テープ台７１１、テープ７１２、テープ送り機構７１３、およびハウジング７１４を有している。
【０１４０】
テープ７１２は、例えば、ＰＰＳ（ポリフェニレンサルファイト）等の樹脂により形成された帯状部材である。試験塗布時には、テープ７１２のテープ台７１１上に位置する部分の上面７１２ａに、有機ＥＬ材料が塗布される。すなわち、テープ７１２のテープ台７１１上に位置する部分の上面７１２ａが、有機ＥＬ材料を試験的に塗布するための試験塗布面となる。
【０１４１】
テープ送り機構７１３は、テープ７１２の＋Ｙ側の端部が接続されたドラム状の繰り出し部７１３ａと、テープ７１２の−Ｙ側の端部が接続されたドラム状の巻き取り部７１３ｂとを有している。テープ送り機構７１３は、繰り出し部７１３ａと巻き取り部７１３ｂとを回動させることにより、テープ台７１１上において、テープ７１２を−Ｙ側に送ることができる。これにより、テープ７１２のテープ台７１１上に位置する部分が変更される。
【０１４２】
テープ台７１１の上面７１１ａには、テープ７１２を真空吸着する吸引孔（図示省略）が形成されている。テープ台７１１は、試験塗布時には、吸引孔に負圧を発生させることにより、その上面７１１ａにテープ７１２を吸着させる。テープ台７１１の上面７１１ａに吸着されたテープ７１２の上面７１２ａは、ステージ２１上に載置された基板Ｐの上面と略同一の高さとなる。また、テープ送り機構７１３によりテープ７１２を送るときには、テープ台７１１の上面７１１ａに対するテープ７１２の吸着が解除される。
【０１４３】
ハウジング７１４は、テープ台７１１、テープ７１２、およびテープ送り機構７１３を内部に収容する筐体である。ハウジング７１４は、テープ台７１１の上方に開口７１４ａを有する。ハウジング７１４の上方位置においてノズル５２ａ〜５２ｃから吐出された有機ＥＬ材料は、開口７１４ａを介して、テープ台７１１上のテープ７１２の上面に塗布される。また、図１６に示したように、テープ台７１１の＋Ｘ側及び−Ｘ側には、試験用回収トレイ７３が設けられている。試験塗布時に、テープ７１２の＋Ｙ側および−Ｙ側の側方においてノズル５２ａ〜５２ｃから吐出された有機ＥＬ材料は、試験用回収トレイ７３に回収される。
【０１４４】
ハウジング７１４は、接続部材７２を介してステージ２１に固定されている。また、ハウジング７１４の下面には、スライダ７１５が固定されている。スライダ７１５は、副走査方向に摺動可能な状態で、ガイド部材２５に取り付けられている。ステージ移動機構２６を動作させると、ステージ２１とともに、一対のテープユニット７１、一対の接続部材７２、および試験用回収トレイ７３も、一体として副走査方向（Ｙ方向）に移動する。
【０１４５】
図１６に示したように、テープ台７１１の上面７１１ａの主走査方向の寸法ｄ１１は、テープ７１２の主走査方向の寸法ｄ１２よりも小さい。そして、テープ台７１１には、テープ台７１１の上面７１１ａから主走査方向にはみ出したテープ７１２の側辺を、下方へ向けて湾曲させる当接部材７１６が設けられている。
【０１４６】
図１７は、当接部材７１６およびその近傍のＸＺ平面に沿った拡大縦断面図である。図８に示したように、当接部材７１６は、Ｘ軸およびＺ軸に対して斜め方向のびる傾斜部７１６ａと、傾斜部７１６ａの上端部からテープ台７１１の内側へ向けて水平に延びる「ひさし部」７１６ｂとを有している。
【０１４７】
傾斜部７１６ａは、テープ台７１１の上面７１１ａから主走査方向にはみ出したテープ７１２の側辺７１２ｂに、上面側から当接する傾斜面７１６ｃを有する。傾斜部７１６ａの傾斜面７１６ｃがテープ７１２の側辺７１２ｂに当接することにより、テープ７１２の側辺７１２ｂは下方へ向けて湾曲する。水平面に対する傾斜面７１６ｃの角度θ５は、例えば１００°〜１５０°程度とすればよい。ひさし部７１６ｂは、テープ７１２のテープ台７１１の上面７１１ａに載置される部分の上面を覆うことにより、テープ７１２の中央部分が、テープ台７１１の上面７１１ａから浮いてしまうことを防止する。
【０１４８】
このように、本実施形態のテープ台７１１には、テープ７１２の側辺７１２ｂを下方へ向けて湾曲させる当接部材７１６が設けられている。試験塗布時には、ノズルユニット５０が有機ＥＬ材料を吐出しつつテープ７１２の上方を通過するが、テープ７１２の側辺７１２ｂが下方へ向けて湾曲されているため、テープ７１２の側辺７１２ｂからテープ７１２の下面側への有機ＥＬ材料の侵入は抑制される。このため、テープ台７１１とテープ７１２との間への有機ＥＬ材料の侵入も抑制され、テープの巻き取り不良を防止できる。
【０１４９】
当接部材７１６は、例えば、アルミニウム等の金属材料により形成することができる。但し、当接部材７１６は、テープ７１２より高い剛性を有するものであれば、他の材料により形成されていてもよい。
【０１５０】
図１８は、図１５中のIII−III位置から見たテープユニット７１の水平断面図である。図１８に示したように、当接部材７１６は、テープ台７１１の＋Ｘ側の端部と、−Ｘ側の端部とに、２つずつ設けられている。＋Ｘ側の端部に設けられた２つの当接部材７１６は、テープ台７１１の上面７１１ａから＋Ｘ側にはみ出したテープ７１２の側辺７１２ｂに当接する。また、−Ｘ側の端部に設けられた２つの当接部材７１６は、テープ台７１１の上面７１１ａから−Ｘ側にはみ出したテープ７１２の側辺７１２ｂに当接する。これにより、テープ７１２の両側辺７１２ｂが下方へ湾曲される。このため、テープ７１２の両側辺７１２ｂからテープ７１２の下面側への有機ＥＬ材料の侵入が抑制される。
【０１５１】
図１８に示したように、テープ台７１１の＋Ｘ側の端部に設けられた２つの当接部材７１６は、有機ＥＬ材料が塗布される領域７１２ｃの＋Ｙ側および−Ｙ側に配置されている。また、テープ台７１１の−Ｘ側の端部に設けられた２つの当接部材７１６も、有機ＥＬ材料が塗布される領域７１２ｃの＋Ｙ側および−Ｙ側に配置されている。このため、４つの当接部材７１６は、テープ７１２の側辺７１２ｂのうち、有機ＥＬ材料が塗布される領域７１２ｃの両側の部分に当接する。従って、当接部材７１６自体に有機ＥＬ材料が付着することを防止しつつ、テープ７１２の両側辺７１２ｂを湾曲させることができる。
【０１５２】
また、試験塗布部７には、一対のテープユニット７１の上方に位置する図示しない撮影部（例えば、一対のカメラ）が設けられている。撮影部は、試験塗布後のテープ７１２の上面７１２ａを撮影するための機構である。第２実施形態では、撮影部は、ステージ２１や試験塗布部７とともに移動しない定位置に固定されている。撮影部は、テープユニット７１の上方位置からテープ７１２の上面７１２ａを撮影する。撮影部により取得された画像データは、制御部１０に送信され、有機ＥＬ材料の塗布状態（塗布の有無、塗布幅、塗布ピッチなど）を分析するために使用される（試験塗布動作）。
【０１５３】
＜５  第２実施形態における吐出角度調節処理＞
次に、第２実施形態の吐出角度調節処理における塗布装置１の動作を説明する。図１９は、塗布装置１の吐出角度調節処理の流れを示すフローチャートである。また、図１９において、カッコ外に付してある符号ステップＳＴ２１〜ステップＳＴ２６は、それぞれ、カッコ内に付してある符号ステップＳＴ１１〜ステップＳＴ１６に対応している。
【０１５４】
第２実施形態の吐出角度調節処理では、試験塗布部７における試験塗布動作を行い、この試験塗布動作の結果を基に吐出角度調節処理の対象となるノズルを抽出する。すなわち、各塗布ノズル５２ａ〜５２ｃから塗布液が吐出された試験塗布後のテープ７１２の上面７１２ａを撮影した画像データを基に、制御部１０によって吐出角度調節処理の対象となるノズルを抽出される（ステップＳＴ２０）。
【０１５５】
この抽出方法として、例えば、全てのノズル５２について吐出角度調節処理が行われた状態（塗布軌跡が等ピッチとなった理想状態）で試験塗布動作行った際の画像データを予め記憶装置１４に格納しておき、当該画像データとステップＳＴ２１での試験塗布動作により得られた画像データとを比較するという方法を採用することができる。この場合、２つの画像データを比較することで、吐出方向ＡＬが主走査方向と一致していない（角度θ１がθ１≠０）状態のノズル（以下、「調節対象ノズル」と呼ぶ）を抽出することが可能となる。以下、この抽出方法によって、調節対象ノズル５２（例えば、ノズル５２ａとノズル５２ｃ）が抽出された場合について説明を続ける。
【０１５６】
次に、ステップＳＴ２０で抽出された調節対象ノズル（例えば、ノズル５２ａとノズル５２ｃ）の中から吐出角度調節処理の対象となる一のノズル（例えば、ノズル５２ａ）を選択する（ステップＳＴ２１）。
【０１５７】
そして、塗布装置１は、ノズル５２ａから塗布液の吐出を開始し、図６（ａ），（ｂ）に示すように、ノズルユニット５０とレーザヘッド６０ａ，６０ｂとの相対的な位置関係を調節する（ステップＳＴ２２）。より具体的には、ノズルユニット５０とレーザヘッド６０ａとの相対位置はレーザヘッド移動機構６５ａによって調節され、ノズルユニット５０とレーザヘッド６０ｂとの相対位置はレーザヘッド移動機構６５ｂによって調節される。この結果、ノズル５２ａから吐出される塗布液は、領域Ｄ１，Ｄ２を通過して液受け部５３Ｌに接液する状態となる。
【０１５８】
ノズルユニット５０とレーザヘッド６０ａ，６０ｂとの相対的な位置関係が調節されると、吐出角度計測機構６によって、ノズル５２ａから吐出される塗布液の吐出角度が計測される。つまり、ノズル５２ａから吐出される塗布液の領域Ｄ１通過時の位置Ｐ１（Ｘ１，Ｙ１）と領域Ｄ２通過時の位置Ｐ２（Ｘ２，Ｙ２）とが計測される。そして、吐出角度計測機構６は、２つの位置Ｐ１，Ｐ２に関する計測データＦＤを生成し、当該計測データＦＤを制御部１０内の記憶装置１４に格納する（ステップＳＴ２３）。
【０１５９】
そして、制御部１０は、当該計測データＦＤに基づいて、ノズル５２ａから吐出される塗布液の平面視（ＸＹ座標）における吐出角度を算出する。より具体的には、計測作業によって位置Ｐ１，Ｐ２の２点を通る近似線（例えば、直線Ｌ１〜Ｌ３）を規定し、この直線を当該塗布液の上面視における吐出方向ＡＬとしてみなす（図８参照）。そして、制御部１０は、直線とＸ軸との間の角度として、角度θ１を規定し、当該角度θ１を角度データＫＤとして記憶装置１４に格納する（ステップＳＴ２４）。
【０１６０】
角度データＫＤが記憶装置１４に格納されると、制御部１０は、当該角度データＫＤに基づいてノズル５２ａの回動動作を行う（ステップＳＴ２５）。より具体的には、ステップＳＴ１４で規定した角度θ１がθ１＝０となるように（吐出方向ＡＬが主走査方向と一致するように）ノズル５２ａを回動させる。そのため、ステップＳＴ１４で規定した角度θ１が既にθ１＝０である場合には当該回動動作を行う必要はない。
【０１６１】
また、上述したように、回動動作の際には、ノズル保持機構５４ａによってノズル５２ａを解放状態とした上でノズル回動機構５５ａによる回動動作を行う。そして、当該回動動作後には、ノズル保持機構５４ａによって当該ノズル５２ａを再びロック状態とする。この結果、ノズル５２ａは吐出方向ＡＬが主走査方向と一致する状態でノズル保持機構５４ａによってロック状態とされるため、位置精度の高い塗布処理を実現することが可能となる（ステップＳＴ２５）。
【０１６２】
ステップＳＴ２６では、制御部１０は、吐出角度調節を行う他の調節対象ノズル５２があるかについて判断する。そして、制御部１０は、ステップＳ２１〜ステップＳ２６の工程が終了していない他のノズル５２（例えば、ノズル５２ｃ）がある場合、上記ステップＳ２１に戻って当該他のノズルに対して吐出角度調節処理を行う。一方、当該他のノズルがない場合、制御部１０は、吐出角度調節処理を終了する。
【０１６３】
＜６  第２実施形態における塗布装置１の効果＞
以下、上述した本発明第２実施形態の塗布装置１の効果について説明する。
【０１６４】
試験塗布部７による試験塗布動作を行うことで、各ノズル５２ａ〜５２ｃにおける塗布軌跡を画像データとして分析することが可能となる。このため、試験塗布部７と制御部１０との各種機能を実行することによって、調節対象ノズルを抽出することが可能となる。
【０１６５】
したがって、第２実施形態の塗布装置１では、試験塗布動作によって抽出された調節対象ノズルにのみ計測動作および回動動作を実施（図１９参照）すれば、全てのノズル５２に対して計測動作および回動動作を実施（図１３参照）することと、同様の効果を得ることができる。
【０１６６】
また、試験塗布動作は一回行うだけで全てのノズル５２における画像データを得ることが可能であり、上述した計測動作のようにノズル５２毎に個別に行う必要がない。このため、塗布装置１の有するノズルが多いほど、吐出角度調節処理にかかる時間の短縮効果が大きくなる。
【０１６７】
｛変形例｝
以上、本発明の実施の形態について説明したが、この発明はその趣旨を逸脱しない限りにおいて、上述したもの以外に種々の変更を行うことが可能である。
【０１６８】
また、変形例の説明において、本発明の実施形態の各要素と同一の要素については同じ符号を付して説明する。また、本発明の実施形態と同様の構成あるいは動作については、重複説明を省略する。
【０１６９】
上記実施形態の塗布装置１では、角度計測の方法として、レーザ変位計であるレーザヘッド６０ａ，６０ｂを用いた角度計測方法を採用していた。しかし、本発明の角度計測方法としては、一のノズル５２（例えば、ノズル５２ａ）から吐出される塗布液の吐出角度を計測（或いは規定）できるものであれば足りる。また、吐出角度そのものを計測せずとも、吐出角度と対応する所定の指標値を計測すれば足りる。
【０１７０】
たとえば、吐出角度を実角度ではなく、所定の角度範囲をまとめて段階的に規定しておき、いずれの角度段階にあるかを計測してもよい。また、吐出方向ＡＬが＋Ｙ方向に傾いているか、それとも−Ｙ方向に傾いているかという、吐出角度の正負符号だけを検出する構成であってもよい。その場合には、たとえばその正負符号の検出結果とノズルの回動作との間でフィードバックループを形成しておき、所定の微小角だけノズルを回動させるような単位回動動作を１回行うごとに吐出角度の正負符号が反転するかどうかを判定する。その判定によって正符号から負符号に反転し、あるいはその逆の現象が生じたことが検知された時点で回動動作を停止する。これによって当該微小角に相当する誤差範囲で、吐出方向ＡＬのＹ方向の傾きを是正できる。
【０１７１】
また、例えば、画像データ取得手段（ＣＣＤカメラ等）によって、吐出される塗布液の画像データを取得し、当該画像データを基に塗布液の吐出角度を規定するものであってもよい。また、他の実施形態としては、ノズル５２ａ〜５２ｃの吐出口ＬＱ周辺の形状データを取得する吐出口データ取得手段（ＣＣＤカメラ等）を設けてもよい。この場合、当該形状データ（吐出口周辺の付着物や加工時のバリの有無、大きさ、位置関係等）を基に、塗布液の吐出方向ＡＬを算出し、塗布液の吐出角度を推定する方法を採用できる。
【０１７２】
この構成の場合には、吐出口ＬＱ周辺の画像データから、基準状態での吐出口ＬＱの断面形状（この実施形態では円形）からの不整部分（凹凸部など）を検出し、不整部分の位置および面積を特定する。そのような不整部分の位置と大きさとの種々のバリエーションに応じた塗布液の吐出角度をあらかじめ実験的に計測しておき、その結果を参照テーブルとしてデータベース化しておく。実際の装置においては、計測された不整部分のデータをこのデータベースの参照テーブルに当てはめて、吐出口ＬＱからの塗布液の吐出角度を特定し、それに応じた回動角度だけ各ノズルを回動させておけばよい。このようにすれば、実際の塗布装置においては、塗布液の吐出を伴う実測を行わずに吐出角度を特定できる。
【０１７３】
また、上記第２実施形態においては、試験塗布部７は調節対象ノズルを抽出するための手段として用いられていたが、試験塗布部７の利用方法はこれに限られるものではない。例えば、上記角度計測手段に代えて、試験塗布部７への試験塗布動作における画像データ解析によって塗布液の吐出角度計測をおこなっても良い。この場合、例えば、テープ７１２の上面７１２ａに描かれる塗布軌跡の位置と、対応するノズル５２から吐出される塗布液の吐出角度との関係式を予め設定しておくことで、試験塗布動作における画像データの解析によって塗布液の吐出角度を規定することが可能である。
【０１７４】
また、上記実施形態の塗布装置１には、塗布ノズル２５ａ〜２５ｃのＹ軸方向のピッチを個別に調整する機構を備えても良い。このようなピッチ調整の機構としては、ピッチ調整機構（特開２００８-１５５１３８号公報）など種々のピッチ調整の機構を採用することができる。この場合、上記吐出角度調節処理により各ノズルからの吐出方向が主走査方向と一致した状態（理想状態）としたうえで、各ノズル間のピッチ調整を行うことで、基板上に塗布すべきパターンに対応して種々のピッチで塗布処理を実行することができる。
【符号の説明】
【０１７５】
１  塗布装置
２  基板載置装置
６  吐出角度計測機構
７  試験塗布部
１０  制御部
２１  ステージ
５０  ノズルユニット
５１  ノズル移動機構
５２  塗布ノズル
５３  液受け部
５４  ノズル保持機構
５５  回動機構
６０ａ，６０ｂ  レーザヘッド
６５ａ，６５ｂ  レーザヘッド移動機構
７０  試験塗布部
７１，７２  テープユニット
ＬＲ  塗布液供給路
ＬＱ  吐出口
ＡＸ  ノズルの軸心
ＡＬ  吐出方向
【図１】
2014069114.tif 000003
【図２】
2014069114.tif 000004
【図３】
2014069114.tif 000005
【図４】
2014069114.tif 000006
【図５】
2014069114.tif 000007
【図６】
2014069114.tif 000008
【図７】
2014069114.tif 000009
【図８】
2014069114.tif 000010
【図９】
2014069114.tif 000011
【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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