(57)【要約】      （修正有）【課題】ノズルのメンテナンスを行う場合、塗布装置の動作を停止させることになるため、生産性に影響を及ぼす可能性がある。生産性の低下を抑えることができる塗布装置及び塗布方法を提供する。【解決手段】塗布部に複数のノズルが設けられており、切替部によって複数のノズルを基板の搬送経路上に切り替えて配置させることができるので、搬送経路上に配置されたノズルとは異なるノズルについては、塗布動作とは異なる用途（例えばメンテナンスなど）に用いることができる。したがって、複数のノズルのうち一のノズルに対してメンテナンスを行っている間は、他のノズルを搬送経路上に切り替えて配置させることで、装置の動作を停止させずに済む。これにより、生産性が低下するのを抑制することができる。【選択図】図５
2014069124.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を所定の搬送経路に沿って搬送する基板搬送部と、
液状体を前記基板に対して吐出する複数のノズルを有する塗布部と、
複数の前記ノズルを前記基板の前記搬送経路上に切り替えて配置させる切替部と
を備える塗布装置。
【請求項２】
前記切替部は、前記搬送経路の側方から複数の前記ノズルを前記搬送経路上に配置させると共に、複数の前記ノズルを前記搬送経路上から前記搬送経路の側方に退避させるノズル駆動部を有する
請求項２に記載の塗布装置。
【請求項３】
前記ノズル駆動部は、
前記ノズルの一端部を支持する軸部と、
前記軸部を中心として、前記搬送経路の側方と前記搬送経路上との間で前記ノズルが回転移動するように前記ノズルに回転力を付与する付与部と
を有する
請求項２に記載の塗布装置。
【請求項４】
前記軸部は、前記搬送経路の側方に設けられている
請求項３に記載の塗布装置。
【請求項５】
前記軸部は、複数の前記ノズルを支持する
請求項３又は請求項４に記載の塗布装置。
【請求項６】
前記軸部は、複数設けられている
請求項３から請求項５のうちいずれか一項に記載の塗布装置。
【請求項７】
複数の前記軸部は、前記搬送経路に沿って並んで配置されている
請求項６に記載の塗布装置。
【請求項８】
基板を所定の搬送経路に沿って搬送する基板搬送ステップと、
複数の前記ノズルを前記基板の前記搬送経路上に切り替えて配置させるノズル配置ステップと、
前記搬送経路上に切り替えて配置されたそれぞれの前記ノズルから、液状体を前記基板に吐出することで前記基板に前記液状体を塗布する塗布ステップと
を備える塗布方法。
【請求項９】
前記ノズル配置ステップは、前記搬送経路の側方から複数の前記ノズルを前記搬送経路上に配置させることを含む
請求項８に記載の塗布方法。
【請求項１０】
前記ノズル配置ステップは、前記液状体の塗布に用いられた複数の前記ノズルを前記搬送経路上から前記搬送経路の側方に退避させることを含む
請求項８又は請求項９に記載の塗布方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、塗布装置及び塗布方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶ディスプレイなどの表示パネルを構成するガラス基板上には、配線や電極、カラーフィルタなどの微細なパターンが形成されている。一般的にこのようなパターンは、例えばフォトリソグラフィなどの手法によって形成される。フォトリソグラフィ法では、ガラス基板上にレジスト膜を塗布形成する塗布工程、このレジスト膜をパターン露光する露光工程、その後に当該レジスト膜を現像する現像工程がそれぞれ行われる。
【０００３】
このうち塗布工程では、スリットノズルを有する塗布装置が用いられる。このような塗布装置として、例えばスリットノズルの下方を通過するようにガラス基板を搬送しつつレジストを塗布する構成が知られている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００５−２３６０９２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ノズルを用いて液状体を塗布する場合、例えばノズルの開口部に異物や固化した状態の液状体などが付着し、吐出精度が低下するおそれがあるため、定期的にノズルのメンテナンスを行う必要がある。ノズルのメンテナンスを行う場合、塗布装置の動作を停止させることになるため、生産性に影響を及ぼす可能性がある。
【０００６】
以上のような事情に鑑み、本発明は、生産性の低下を抑えることができる塗布装置及び塗布方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の第一の態様に係る塗布装置は、基板を所定の搬送経路に沿って搬送する基板搬送部と、液状体を前記基板に対して吐出する複数のノズルを有する塗布部と、複数の前記ノズルを前記基板の前記搬送経路上に切り替えて配置させる切替部とを備える。
【０００８】
本発明によれば、塗布部に複数のノズルが設けられており、切替部によって複数のノズルを基板の搬送経路上に切り替えて配置させることができるので、搬送経路上に配置されたノズルとは異なるノズルについては、塗布動作とは異なる用途（例えばメンテナンスなど）に用いることができる。したがって、複数のノズルのうち一のノズルに対してメンテナンスを行っている間は、他のノズルを搬送経路上に切り替えて配置させることで、装置の動作を停止させずに済む。これにより、生産性が低下するのを抑制することができる。
【０００９】
上記の塗布装置において、前記切替部は、前記搬送経路の側方から複数の前記ノズルを前記搬送経路上に配置させると共に、複数の前記ノズルを前記搬送経路上から前記搬送経路の側方に退避させるノズル駆動部を有する。  
本発明によれば、切替部が搬送経路の側方から複数のノズルを搬送経路上に配置させると共に、複数のノズルを搬送経路上から搬送経路の側方に退避させるノズル駆動部を有するので、複数のノズルを効率的に切り替えることができる。
【００１０】
上記の塗布装置において、前記ノズル駆動部は、前記ノズルの一端部を支持する軸部と、前記軸部を中心として、前記搬送経路の側方と前記搬送経路上との間で前記ノズルが回転移動するように前記ノズルに回転力を付与する付与部とを有する。  
本発明によれば、ノズル駆動部がノズルの一端部を支持する軸部と、軸部を中心として、搬送経路の側方と搬送経路上との間でノズルが回転移動するようにノズルに回転力を付与する付与部とを有するので、構成を複雑化させること無く、効率的に複数のノズルを切り替えることができる。
【００１１】
上記の塗布装置において、前記軸部は、前記搬送経路の側方に設けられている。  
本発明によれば、軸部が搬送経路の側方に設けられているので、ノズルを搬送経路にアクセスさせやすい構成となる。これにより、複数のノズルを効率的に切り替えることができる。
【００１２】
上記の塗布装置において、前記軸部は、複数の前記ノズルを支持する。  
本発明によれば、軸部が複数のノズルを支持することとしたので、複数のノズルを共通の回転軸を中心として回転させることで、複数のノズルの切替を効率的に行うことができる。
【００１３】
上記の塗布装置において、前記軸部は、複数設けられている。  
本発明によれば、軸部が複数設けられているので、複数の軸部を順次回転させることにより、複数のノズルを効率的に切り替えることができる。これにより、軸部の負担を軽減させることができる。
【００１４】
上記の塗布装置において、複数の前記軸部は、前記搬送経路に沿って並んで配置されている。  
本発明によれば、複数の軸部が搬送経路に沿って並んで配置されていることとしたので、複数の軸部においてノズルの切替を効率的に行うことができる。
【００１５】
本発明に係る塗布方法は、基板を所定の搬送経路に沿って搬送する基板搬送ステップと、複数の前記ノズルを前記基板の前記搬送経路上に切り替えて配置させるノズル配置ステップと、前記搬送経路上に切り替えて配置されたそれぞれの前記ノズルから、液状体を前記基板に吐出することで前記基板に前記液状体を塗布する塗布ステップとを含む。
【００１６】
本発明によれば、基板を所定の搬送経路に沿って搬送し、複数のノズルを基板の搬送経路上に切り替えて配置させ、搬送経路上に切り替えて配置されたそれぞれのノズルから、液状体を基板に吐出することで基板に液状体を塗布することとしたので、搬送経路上に配置されたノズルとは異なるノズルについては、塗布動作とは異なる用途（例えばメンテナンスなど）に用いることができる。したがって、複数のノズルのうち一のノズルに対してメンテナンスを行っている間は、他のノズルを搬送経路上に切り替えて配置させることで、装置の動作を停止させずに済む。これにより、生産性が低下するのを抑制することができる。
【００１７】
上記の塗布方法において、前記ノズル配置ステップは、前記搬送経路の側方から複数の前記ノズルを前記搬送経路上に配置させることを含む。  
本発明によれば、ノズル配置ステップにおいて、搬送経路の側方から複数のノズルを搬送経路上に配置させることとしたので、複数のノズルを効率的に切り替えて配置させることができる。
【００１８】
上記の塗布方法において、前記ノズル配置ステップは、前記液状体の塗布に用いられた複数の前記ノズルを前記搬送経路上から前記搬送経路の側方に退避させることを含む。  
本発明によれば、ノズル配置ステップにおいて、液状体の塗布に用いられた複数のノズルを搬送経路上から搬送経路の側方に退避させることとしたので、複数のノズルを効率的に切り替えて配置させることができる。
【発明の効果】
【００１９】
本発明によれば、生産性の低下を抑えることができる。
【図面の簡単な説明】
【００２０】
【図１】本発明の実施の形態に係る塗布装置の全体構成を示す図。
【図２】本実施形態に係るノズルの構成を示す図。
【図３】本実施形態に係るノズルの構成を示す図。
【図４】本実施形態に係る塗布部の一部の構成を示す図。
【図５】本実施形態に係る塗布装置の塗布処理の過程を示す図。
【図６】本実施形態に係る塗布装置の塗布処理の過程を示す図。
【図７】本実施形態に係る塗布装置の塗布処理の過程を示す図。
【図８】本実施形態に係る塗布装置の塗布処理の過程を示す図。
【図９】本実施形態に係る塗布装置の塗布処理の過程を示す図。
【図１０】本実施形態に係る塗布装置の塗布処理の過程を示す図。
【図１１】本実施形態に係る塗布装置の塗布処理の過程を示す図。
【図１２】本発明の変形例に係る塗布装置の構成を示す図。
【図１３】本発明の変形例に係る塗布装置の構成を示す図。
【図１４】本発明の変形例に係る塗布装置の構成を示す図。
【図１５】本発明の変形例に係る塗布装置の構成を示す図。
【発明を実施するための形態】
【００２１】
以下、図面を参照して、本発明の実施の形態を説明する。  
図１は、本実施形態に係る塗布装置ＣＴＲの構成を示す概略図である。  
図１に示すように、塗布装置ＣＴＲは、例えば工場などの床面に載置されて用いられる。塗布装置ＣＴＲは、基板Ｓを所定経路に沿って一方向に搬送する基板搬送部１０と、基板Ｓに対して液状体を吐出する複数のノズルＮＺを有する塗布部２０と、複数のノズルＮＺのメンテナンスを行うメンテナンス部３０と、これら塗布装置ＣＴＲの各部を統括的に制御する制御部ＣＯＮＴとを有する。
【００２２】
以下の各図において、本実施形態に係る基板処理装置の構成を説明するにあたり、表記の簡単のため、ＸＹＺ座標系を用いて図中の方向を説明する。当該ＸＹＺ座標系においては、床面に平行な平面をＸＹ平面とする。このＸＹ平面において基板Ｓの搬送方向が並べられた方向をＸ方向と表記し、ＸＹ平面上でＸ方向に直交する方向をＹ方向と表記する。ＸＹ平面に垂直な方向はＺ方向と表記する。Ｘ方向、Ｙ方向及びＺ方向のそれぞれは、図中の矢印の方向が＋方向であり、矢印の方向とは反対の方向が−方向であるものとして説明する。
【００２３】
基板搬送部１０は、基板Ｓを案内する案内面１１ｆを有するステージ１１と、基板Ｓを移動させる基板駆動部１２とを有する。案内面１１ｆは、床面（ＸＹ平面）に平行に形成されている。ステージ１１には、基板Ｓを搬入する第一搬入部１１ａ及び第二搬入部１１ｂと、基板Ｓを搬出する搬出部１１ｃとが設定されている。第一搬入部１１ａは、案内面１１ｆのうち−Ｘ側の端部に設けられている。第二搬入部１１ｂは、案内面１１ｆのうちＸ方向の中央部に設けられている。搬出部１１ｃは、案内面１１ｆのうち＋Ｘ側の端部に設けられている。
【００２４】
基板駆動部１２は、コロやローラーなど、基板ＳをＸ方向に移動させる構成を有する。なお、基板駆動部１２として、基板Ｓを浮上させる浮上機構と、浮上した基板Ｓを保持して移動させる移動子とが設けられた構成であっても良い。
【００２５】
塗布部２０は、第一ノズルＮＺ１、第二ノズルＮＺ２及びノズル駆動部ＮＡを有している。  
図２は、第一ノズルＮＺ１の構成を示す図である。図３は、−Ｚ側から第一ノズルＮＺ１を見たときの構成を示している。第一ノズルＮＺ１及び第二ノズルＮＺ２は、同一の構成となっている。図２では第一ノズルＮＺ１を代表させて示しており、以下の説明では第一ノズルＮＺ１について述べるが、第二ノズルＮＺ２についても同様の説明が可能である。
【００２６】
図２に示すように、第一ノズルＮＺ１は、長尺状に形成されており、長手方向がＸ方向に平行になるように配置されている。第一ノズルＮＺ１は、本体部ＮＺａ及び突出部ＮＺｂを有している。本体部ＮＺａは、内部に液状体を収容可能な筐体である。本体部ＮＺａは、例えばチタン又はチタン合金を含んだ材料を用いて形成されている。突出部ＮＺｂは、本体部ＮＺａに対して＋Ｘ側及び−Ｘ側にそれぞれ突出して形成されている。突出部ＮＺｂは、ノズル駆動部ＮＡの一部に保持される。
【００２７】
図３に示すように、第一ノズルＮＺ１は、本体部ＮＺａの−Ｚ側の端部（先端ＴＰ）に吐出口ＯＰを有している。吐出口ＯＰは、液状体が吐出される開口部である。吐出口ＯＰは、Ｘ方向に長手となるようにスリット状に形成されている。吐出口ＯＰは、例えば長手方向が基板ＳのＸ方向の寸法とほぼ同一となるように形成されている。
【００２８】
第一ノズルＮＺ１は、液状体を吐出する。ノズルＮＺは、接続配管（不図示）などを介して、それぞれ液状体供給部３３に接続されている。第一ノズルＮＺ１は、内部に液状体を保持する保持部を有している。なお、上記保持部に保持された液状体の温度を調整する温調部が配置されていても構わない。
【００２９】
図１に戻って、ノズル駆動部ＮＡは、第一ノズルＮＺ１及び第二ノズルＮＺ２を基板Ｓの搬送経路上であるステージ１１の＋Ｚ側に配置させると共に、当該第一ノズルＮＺ１及び第二ノズルＮＺ２をステージ１１の側方（−Ｙ側）に退避させる。したがって、ノズル駆動部ＮＡは、複数のノズルＮＺ（第一ノズルＮＺ１及び第二ノズルＮＺ２）を基板Ｓの搬送経路上に切り替えて配置させる切替部として設けられている。
【００３０】
ノズル駆動部ＮＡは、第一ノズルＮＺの一端部を支持する第一軸部ＳＦ１と、第二ノズルＮＺ２の一端部を支持する第二軸部ＳＦ２と、これら第一軸部ＳＦ１及び第二軸部ＳＦ２を中心としてそれぞれ第一ノズルＮＺ１及び第二ノズルＮＺ２に回転力を付与する回転駆動部ＡＣＴと、を有している。
【００３１】
第一軸部ＳＦ１及び第二軸部ＳＦ２は、共にステージ１１の−Ｙ側に設けられており、Ｘ方向に並んで配置されている。第一軸部ＳＦ１及び第二軸部ＳＦ２のうち、第一軸部ＳＦ１は基板Ｓの搬送方向の上流側（−Ｘ側）に配置されており、第二軸部ＳＦ２は基板Ｓの搬送方向の下流側（＋Ｘ側）に配置されている。第一軸部ＳＦ１及び第二軸部ＳＦ２は、第一ノズルＮＺ１及び第二ノズルＮＺ２と衝突しないように、Ｘ方向において当該第一ノズルＮＺ１及び第二ノズルＮＺ２の長手方向の寸法よりも広い間隔を空けて配置されている。
【００３２】
回転駆動部ＡＣＴは、第一軸部ＳＦ１及び第二軸部ＳＦ２をＺ軸回りに回転させる不図示のモーター機構などを有している。第一軸部ＳＦ１及び第二軸部ＳＦ２は、当該回転駆動部ＡＣＴにより、Ｚ軸周りに例えば３６０°の角度で回転可能である。回転駆動部ＡＣＴは、例えば制御部ＣＯＮＴの制御により、第一軸部ＳＦ１及び第二軸部ＳＦ２の回転角度、回転速度、回転のタイミング、回転後の位置などが制御される。
【００３３】
メンテナンス部３０は、ノズルＮＺのメンテナンスを行う部分である。メンテナンス部３０は、ノズル先端管理部４５を有している。  
ノズル先端管理部４５は、ノズルＮＺの先端ＴＰ及びその近傍を洗浄したり、ノズルＮＺの吐出口ＯＰから予備的に吐出したりすることで、ノズル先端のコンディションを整える部分である。ノズル先端管理部４５は、ノズルＮＺの先端ＴＰを払拭する払拭部４５ａと、当該払拭部４５ａを案内するガイドレール４５ｂと、を有している。ノズル先端管理部４５には、ノズルＮＺから排出された液状体や、ノズルＮＺの洗浄に用いられた洗浄液などを収容する廃液収容部（不図示）が設けられている。
【００３４】
ノズル先端管理部４５は、Ｘ方向において第一軸部ＳＦ１と第二軸部ＳＦ２との間に配置されている。このため、第一軸部ＳＦ１のθＺ方向の位置（位相）を調整することで、第一ノズルＮＺ１がノズル先端管理部４５にアクセス可能である。また、第二軸部ＳＦ２のθＺ方向の位置（位相）を調整することで、第二ノズルＮＺ２がノズル先端管理部４５にアクセス可能である。
【００３５】
なお、本実施形態では、第一ノズルＮＺ１及び第二ノズルＮＺ２のうちノズル先端管理部４５に一度にアクセスできるのは一方のみとなっているが、例えば払拭部４５ａ及びガイドレール４５ｂをＹ方向に２列設けるなど、ノズル先端管理部４５の構成によっては、両方同時にアクセス可能とすることができる。
【００３６】
図４は、ノズルＮＺ及びノズル先端管理部４５の断面形状を示す図である。図４に示すように、払拭部４５ａは、断面視においてノズルＮＺの先端ＴＰ及び先端ＴＰ側の斜面の一部を覆う形状に形成されている。
【００３７】
（塗布方法）  
次に、上記のように構成された塗布装置ＣＴＲを用いて基板Ｓに液状体を塗布する方法を説明する。まず、基板Ｓをステージ１１の第一搬送部１１ａに搬入する。その後、制御部ＣＯＮＴは、図５に示すように、ノズル駆動部ＮＡを用いて第一ノズルＮＺ１をステージ１１上に待機させると共に、第二ノズルＮＺ２をノズル先端管理部４５上に待機させる。なお、第一ノズルＮＺ１をステージ１１上に配置させるのに先立ち、当該第一ノズルＮＺ１をノズル先端管理部４５上に配置させ、当該第一ノズルＮＺ１に対して予備吐出動作を行わせるようにしても構わない。また、予備吐出動作の後、払拭部４５ａを用いて第一ノズルＮＺ１の先端ＴＰ及びその近傍の傾斜部を払拭させるようにしても構わない。
【００３８】
第一ノズルＮＺ１及び第二ノズルＮＺ２を待機させた後、制御部ＣＯＮＴは、基板駆動部１２によって基板Ｓを＋Ｘ方向に搬送させる。基板Ｓの＋Ｘ側端部が第一ノズルＮＺ１の吐出口ＯＰに到達した後、制御部ＣＯＮＴは、図６に示すように、基板Ｓを＋Ｘ方向に所定速度で移動させつつ、吐出口ＯＰから基板Ｓへ向けて液状体Ｑを吐出させる。この動作により、基板Ｓが吐出口ＯＰを通過した後には、図７に示すように、基板Ｓの所定領域に液状体Ｑの塗布膜が形成される。
【００３９】
基板Ｓの所定領域に液状体Ｑの塗布膜を形成した後、制御部ＣＯＮＴは、基板駆動部１２を用いて基板Ｓをステージ１１の搬出部１１ｃへ移動させ、当該搬出部１１ｃから外部へ基板Ｓを搬出させる。
【００４０】
一方、制御部ＣＯＮＴは、図８に示すように、ノズル駆動部ＮＡを用いて第二軸部ＳＦ２を図中時計回りに回転させ、ノズル先端管理部４５に配置されていた第二ノズルＮＺ２をステージ１１上に移動させる。制御部ＣＯＮＴは、第二ノズルＮＺ２の吐出口ＯＰの長手方向がＹ方向に平行になった状態で当該第二ノズルＮＺ２を待機させる。その後制御部ＣＯＮＴは、ステージ１１の第二搬入部１１ｂに新たな基板Ｓを搬入させる。
【００４１】
また、第二ノズルＮＺ２がノズル先端管理部４５から退避した後、制御部ＣＯＮＴは、ノズル駆動部ＮＡを用いて第一軸部ＳＦ１を図中時計回りに回転させ、ステージ１１上に配置されていた第一ノズルＮＺ１をノズル先端管理部４５上へ移動させる。制御部ＣＯＮＴは、第一ノズルＮＺ１の吐出口ＯＰが払拭部４５ａの移動経路上に配置された状態で当該第一ノズルＮＺ１を待機させる。その後、制御部ＣＯＮＴは、払拭部４５ａを−Ｘ側へ移動させることで第一ノズルＮＺ１の先端ＴＰ及びその近傍の傾斜部を払拭させる。払拭動作の後、制御部ＣＯＮＴは、払拭部４５ａを＋Ｘ側の位置に戻す。
【００４２】
その後、制御部ＣＯＮＴは、新たに第二搬入部１１ｂに搬入された基板Ｓに対して、塗布動作を行わせる。具体的には、制御部ＣＯＮＴは、基板Ｓを＋Ｘ方向に搬送させ、基板Ｓの＋Ｘ側端部が第二ノズルＮＺ２の吐出口ＯＰに到達した後、図９に示すように、基板Ｓを＋Ｘ方向に所定速度で移動させつつ、吐出口ＯＰから基板Ｓへ向けて液状体Ｑを吐出させる。この動作により、基板Ｓが吐出口ＯＰを通過した後には、図１０に示すように、基板Ｓの所定領域に液状体Ｑの塗布膜が形成される。
【００４３】
基板Ｓの所定領域に液状体Ｑの塗布膜を形成した後、制御部ＣＯＮＴは、基板駆動部１２を用いて基板Ｓを搬出部１１ｃから外部へ搬出させる。また、制御部ＣＯＮＴは、図１０に示すように、ノズル駆動部ＮＡを用いて第一軸部ＳＦ１を図中反時計回りに回転させ、ノズル先端管理部４５に配置されていた第一ノズルＮＺ１をステージ１１上に移動させる。制御部ＣＯＮＴは、第一ノズルＮＺ１の吐出口ＯＰの長手方向がＹ方向に平行になった状態で当該第一ノズルＮＺ１を待機させる。その後制御部ＣＯＮＴは、ステージ１１上に新たな基板Ｓを搬送させる。
【００４４】
また、第一ノズルＮＺ１がノズル先端管理部４５から退避した後、制御部ＣＯＮＴは、ノズル駆動部ＮＡを用いて第二軸部ＳＦ２を図中反時計回りに回転させ、ステージ１１上に配置されていた第二ノズルＮＺ２をノズル先端管理部４５上へ移動させる。制御部ＣＯＮＴは、第二ノズルＮＺ２の吐出口ＯＰが払拭部４５ａの移動経路上に配置された状態で当該第二ノズルＮＺ２を待機させる。その後、制御部ＣＯＮＴは、払拭部４５ａを−Ｘ側へ移動させることで第二ノズルＮＺ２の先端ＴＰ及びその近傍の傾斜部を払拭させる。払拭動作の後、制御部ＣＯＮＴは、払拭部４５ａを＋Ｘ側の位置に戻す。
【００４５】
その後、制御部ＣＯＮＴは、新たにステージ１１に搬送された基板Ｓに対して、塗布動作を行わせる。具体的には、制御部ＣＯＮＴは、基板Ｓを＋Ｘ方向に搬送させ、基板Ｓの＋Ｘ側端部が第二ノズルＮＺ２の吐出口ＯＰに到達した後、図１１に示すように、基板Ｓを＋Ｘ方向に所定速度で移動させつつ、吐出口ＯＰから基板Ｓへ向けて液状体Ｑを吐出させる。
【００４６】
このように、制御部ＣＯＮＴは、連続して搬送されてくる基板Ｓに対して、第一ノズルＮＺ１及び第二ノズルＮＺ２を交互に用いて塗布動作を行わせると共に、塗布動作に用いられない方のノズルについてはノズル先端管理部４５において払拭動作を行わせる。これにより、一方のノズルの塗布動作の時間を利用して、他方のノズルのメンテナンスを行うことができるため、スループットが向上することになる。
【００４７】
以上のように、本実施形態によれば、基板Ｓを所定の搬送経路に沿って搬送する基板搬送部１０と、液状体を基板Ｓに対して吐出する複数のノズル（第一ノズルＮＺ１及び第二ノズルＮＺ２）を有する塗布部２０と、第一ノズルＮＺ１及び第二ノズルＮＺ２を基板Ｓの搬送経路上に切り替えて配置させる切替部としてのノズル駆動部ＮＡとを備えるので、搬送経路上に配置されたノズルとは異なるノズルについては、塗布動作とは異なる用途（例えばメンテナンスなど）に用いることができる。したがって、複数のノズルのうち一のノズルに対してメンテナンスを行っている間は、他のノズルを搬送経路上に切り替えて配置させることで、塗布装置ＣＴＲの動作を停止させずに済む。これにより、生産性が低下するのを抑制することができる。
【００４８】
本発明の技術範囲は上記実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で適宜変更を加えることができる。  
例えば、上記実施形態においては、１つのノズル先端管理部４５を第一ノズルＮＺ１と第二ノズルＮＺ２とで共同で用いる構成を例に挙げて説明したが、これに限られることは無く、第一ノズルＮＺ１及び第二ノズルＮＺ２のそれぞれにノズル先端管理部が設けられた構成であっても構わない。
【００４９】
例えば、図１２に示す構成では、ノズル先端管理部として、第一管理部１４５及び第二管理部２４５の２つが設けられている。そのうち第一管理部１４５は、第一軸部ＳＦ１の−Ｘ側に配置されている。また、第二管理部２４５は、第二軸部ＳＦ２の−Ｘ側、すなわち、第一軸部ＳＦ１と第二軸部ＳＦ２との間に配置されている。
【００５０】
図１２に示す構成の場合、制御部ＣＯＮＴは、第一ノズルＮＺ１を第一管理部１４５にアクセスさせると共に、第二ノズルＮＺ２を第二管理部２４５にアクセスさせるようにノズル駆動部ＮＡを制御すれば良い。また、この場合、ステージ１１上に待機させた状態と、第一管理部１４５及び第二管理部２４５に待機させた状態との間で、それぞれ第一ノズルＮＺ１及び第二ノズルＮＺ２を９０°回転させる構成となっている。
【００５１】
また、例えば図１３に示す構成では、第一管理部１４５が第一軸部ＳＦ１の−Ｙ側に配置され、第二管理部２４５が第二軸部ＳＦ２の−Ｙ側に配置されている。この構成では、第一管理部１４５に設けられる払拭部１４５ａ及び第二管理部２４５に設けられる払拭部２４５ａの移動方向がＹ方向となる。
【００５２】
また、この構成において、ステージ１１上に待機させた状態と、第一管理部１４５及び第二管理部２４５に待機させた状態との間で、それぞれ第一ノズルＮＺ１及び第二ノズルＮＺ２を１８０°回転させる構成となっている。この場合、第一ノズルＮＺ１及び第二ノズルＮＺ２について、それぞれ時計回りに回転させても良いし、反時計回りに回転させても良い。
【００５３】
また、上記実施形態では、第一ノズルＮＺ１及び第二ノズルＮＺ２が別々の軸部（第一軸部ＳＦ１及び第二軸部ＳＦ２）に支持された構成を例に挙げて説明したが、これに限られることは無い。例えば図１４に示すように、第一ノズルＮＺ１及び第ノズルＮＺ２が共通軸部ＳＦ３に支持された構成であっても構わない。
【００５４】
この場合、第一ノズルＮＺ１及び第二ノズルＮＺ２がＺ方向にずれるように配置される。吐出口ＯＰと基板Ｓとの距離を調整するため、例えば共通軸部ＳＦ３がＺ方向に昇降移動可能な構成としても構わない。これにより、第一ノズルＮＺ１がステージ１１上に配置された場合と、第二ノズルＮＺ２がステージ１１上に配置された場合とで、それぞれのノズルの吐出口ＯＰと基板Ｓとの距離を等しくすることができる。
【００５５】
また、図１４に示す構成では、共通軸部ＳＦ３の−Ｘ側に第一管理部１４５が配置され、当該共通軸部ＳＦ３の＋Ｘ側に第二管理部２４５が配置されているが、いずれか一方のみに配置された構成であっても構わないし、共通軸部ＳＦ３の−Ｙ側に１つ配置された構成であっても構わない。
【００５６】
また、上記実施形態では、第一軸部ＳＦ１及び第二軸部ＳＦ２がステージ１１に対して同一の側部に配置された構成を例に挙げて説明したが、これに限られることは無い。例えば図１５に示すように、第一軸部ＳＦ１及び第二軸部ＳＦ２がステージ１１をＹ方向に挟む位置に配置されていても構わない。なお、図１５に示す構成では、第一軸部ＳＦ１と第二軸部ＳＦ２とがＸ方向にずれた位置に配置されているが、これに限られることは無く、例えば第一軸部ＳＦ１と第二軸部ＳＦ２とがＸ方向に等しい位置に配置されていても構わない。
【符号の説明】
【００５７】
ＣＴＲ…塗布装置  Ｓ…基板  Ｆ…塗布膜  ＣＯＮＴ…制御部  ＣＴ…塗布部  ＢＫ…焼成部  ＶＤ…減圧乾燥部  ＢＣ…基台  ＮＺ…ノズル（ＮＺ１…第一ノズル、ＮＺ２…第二ノズル）  ＮＡ…ノズル駆動部  ＳＦ１…第一軸部  ＳＦ２…第二軸部  ＳＦ３…共通軸部  Ｑ…液状体
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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