(57)【要約】【課題】撮影用光源装置は非常に重いこと、多くの場合、撮影用機材を操作する人間に加えて、撮影用光源装置、レフレクタ板のそれぞれを操作する人間が必要であること、さらに屋外で太陽光を光源として使用する場合は撮影用光源装置を操作する人間は必要ではないものの、天候から大きな影響を受ける不安定な太陽光の光に依存してしまうという問題点を解決する撮影用光源装置、および、その撮影用光源装置を提供するためのフレキシブル性を持つ有機ＥＬデバイス、および、その有機ＥＬデバイスに使用する透明ガスバリアフィルムを提供する。【解決手段】基板と、発光層と、前記発光層の両方の面にそれぞれ設けた電極層とを備える有機ＥＬデバイスの前記基板に用いられる透明バリアフィルムであって、透明フィルム基材と、前記透明フィルム基材の少なくとも一方の面に積層された酸化珪素からなる薄膜層とを具備する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板と、発光層と、前記発光層の両方の面にそれぞれ設けた電極層とを備える有機ＥＬデバイスの前記基板に用いられる透明バリアフィルムであって、
透明フィルム基材と、
前記透明フィルム基材の少なくとも一方の面に積層された酸化珪素からなる薄膜層と、
を具備したことを特徴とする透明ガスバリアフィルム。
【請求項２】
基板と、発光層と、前記発光層の両方の面にそれぞれ設けた電極層とを備える有機ＥＬデバイスであって、
前記基板が請求項１記載の透明ガスバリアフィルムからなることを特徴とする有機ＥＬデバイス。
【請求項３】
請求項２記載の有機ＥＬデバイスを備えたことを特徴とする撮影用光源装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機ＥＬデバイスに用いる透明ガスバリアフィルム、および、その透明ガスバリアフィルムを用いた有機ＥＬデバイス、および、その有機ＥＬデバイスを備える撮影用光源装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
カメラあるいはビデオカメラ等の撮影用機材を使用する際の撮影用補助機材として、撮影用光源装置あるいはレフレクタ板が使用されている。撮影用光源装置として主にエレクトロフラッシュ、クォーツハロゲンランプ、ＬＥＤ、蛍光灯等が使用されているが、これだけでは光の制御が困難であるため、レフレクタ板が併用されている。
【０００３】
レフレクタ板は、布あるいは発泡スチロール等の軽くてフレキシブル性を持つ素材で構成されており、撮影用光源装置あるいは太陽光からの光線を反射させることで、被写体に光を当てる。
【０００４】
レフレクタ板は、撮影用光源装置と比較し軽量であるため容易に光の調整を行うことができ、またフレキシブル性を持つため、曲げることで被写体の一部に光を集中あるいは拡散させることも可能である。
【０００５】
しかし、撮影用光源装置は非常に重いこと、そして多くの場合、撮影用機材を操作する人間に加えて、撮影用光源装置、レフレクタ板のそれぞれを操作する人間が必要であること、また屋外で太陽光を光源として使用する場合は撮影用光源装置を操作する人間は必要ではないものの、天候から大きな影響を受ける不安定な太陽光の光量に依存してしまうこと、という問題点がある。そのため、より軽量かつ少ない人員で運用できる撮影用光源装置が求められていた。
【０００６】
上記課題を解決するレフレクタ板の機能を備えたより軽量な撮影用光源装置として、フィルム基材を使用したフレキシブル性を持つ有機ＥＬ光源装置が考えられる。しかし、有機ＥＬ光源装置における有機発光層を構成する有機ＥＬ材料および主な陰極材は水分により著しい劣化を示す。そのため、特にフレキシブル性を持つ有機ＥＬ光源装置は、フィルム基材から透過した水分により内部の有機ＥＬ材料、陰極が劣化し、早期に使用できなくなる問題がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２００８−３６２７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明が解決しようとする課題は、撮影用光源装置は非常に重いこと、多くの場合、撮影用機材を操作する人間に加えて、撮影用光源装置、レフレクタ板のそれぞれを操作する人間が必要であること、さらに屋外で太陽光を光源として使用する場合は撮影用光源装置を操作する人間は必要ではないものの、天候から大きな影響を受ける不安定な太陽光の光に依存してしまうという問題点を解決する撮影用光源装置、および、その撮影用光源装置を提供するためのフレキシブル性を持つ有機ＥＬデバイス、および、その有機ＥＬデバイスに使用する透明ガスバリアフィルムを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明の請求項１に係る透明ガスバリアフィルムは、基板と、発光層と、前記発光層の両方の面にそれぞれ設けた電極層とを備える有機ＥＬデバイスの前記基板に用いられる透明バリアフィルムであって、透明フィルム基材と、前記透明フィルム基材の少なくとも一方の面に積層された酸化珪素からなる薄膜層とを具備する。
【００１０】
本発明の請求項２に係る有機ＥＬデバイスは、基板と、発光層と、前記発光層の両方の面にそれぞれ設けた電極層とを備える有機ＥＬデバイスであって、前記基板が請求項１記載の透明ガスバリアフィルムからなる。
【００１１】
本発明の請求項３に係る撮影用光源装置は、請求項２記載の有機ＥＬデバイスを備えたことを特徴とする。
【発明の効果】
【００１２】
本発明の請求項１に係る透明ガスバリアフィルムによれば、透明フィルム基材の少なくとも一方の面に耐久性が高い酸化珪素からなる薄膜層を積層しているため、他の無機化合物からなるバリアフィルムと比較して、長期間に亘りガスバリア性が高く、かつ、透明度が高い透明ガスバリアフィルムとなる。
【００１３】
本発明の請求項２に係る有機ＥＬデバイスによれば、内部に侵入する水分を前記透明ガスバリアフィルムが防ぐことにより、長期間にわたり安定に使用できる有機ＥＬデバイスとなる。
【００１４】
本発明の請求項３に係る撮影用光源装置によれば、既存の撮影用光源装置よりも軽量かつレフレクタ板としての機能を兼ねた撮影用光源装置となる。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】本発明の実施形態に係る透明ガスバリアフィルムの構成を示す縦断側面図。
【図２】本発明の実施形態に係る有機ＥＬデバイスの構成を示す縦断側面図。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
以下、本発明の実施形態について図面を参照して説明する。  
なお、以下に本発明の実施形態について説明するが、本発明はこの実施形態によって限定されるものではなく、有機ＥＬデバイスあるいは撮影用光源装置の種類、用途に応じて適宜選択される。
【００１７】
図１は、本実施形態に係る透明ガスバリアフィルムの構成を模式的に示すものである。本実施形態に係る透明ガスバリアフィルム１０は、透明フィルム基材１１の少なくとも一方の面に酸化珪素からなる薄膜層（以下、酸化珪素層ともいう）１２が積層されて構成される。
【００１８】
透明フィルム基材１１は、特に制限を受けるものではなく、公知のものを使用することができる。たとえば、ポリオレフィン系（ポリエチレン、ポリプロピレン等）、ポリエステル系（ポリエチレンナフタレート、ポリエチレンテレフタレート等）、ポリアミド系（ナイロン―６、ナイロン―６６等）、ポリスチレン、エチレンビニルアルコール、ポリ塩化ビニル、ポリイミド、ポリビニルアルコール、ポリカーボネイト、ポリエーテルスルホン、アクリル、セルロース系（トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース等）などが挙げられるが、特に限定されない。透明フィルムを用いた場合、大量生産に適するため好ましい。また、厚さに関しても特に制限を受けるものではなく、ガスバリアフィルムを形成する場合の加工性を考慮すると、実用的には１２〜１００μｍの範囲が好ましい。
【００１９】
酸化珪素層１２の厚さは、構成により最適条件が異なるが、一般的には５〜３００ｎｍの範囲内が望ましく、その値は適宜選択される。ただし、膜厚が５ｎｍ未満であると均一な膜が得られないことや膜厚が充分ではないことがあり、ガスバリア材としての機能を充分に果たすことができない場合がある。
【００２０】
また、膜厚が３００ｎｍを越える場合は薄膜にフレキシビリティを保持させることができず、成膜後に折り曲げ、引っ張りなどの外的要因により、薄膜に亀裂を生じるおそれがあるので問題がある。生産性を加味すると、より好ましいのは１０ｎｍから２００ｎｍである。
【００２１】
酸化珪素層１２を透明フィルム基材１１上に形成する方法としては種々あり、真空蒸着法、スパッタリング法やイオンプレーティング法、プラズマ気相成長法などを用いることも可能であり、適宜選択される。ただし、生産性を考慮すれば、現時点では真空蒸着法が最も優れている。真空蒸着法の加熱手段としては、電子線加熱方式や抵抗加熱方式、誘導加熱方式のいずれかの方式を用いてもよいが、蒸発材料の選択性の幅広さを考慮すると、電子線加熱方式を用いることがより好ましい。
【００２２】
図２は、本実施形態に係る有機ＥＬデバイスの構成を模式的に示すものである。本実施形態に係る有機ＥＬデバイス２０は、基板として図１に示した透明ガスバリアフィルム１０を用いている。すなわち、透明ガスバリアフィルム１０を用いたフィルム基板２１上には、画素電極としての陽極２４および発光補助層２５が配設される。
【００２３】
陽極２４の材料としては、ＩＴＯ（インジウムスズ複合酸化物）、ＩＺＯ（インジウム亜鉛複合酸化物）等の金属複合酸化物や金、クロムなどの金属材料を単層または積層したものをいずれも使用できる。この形成方法は、材料に応じて選択される。発光補助層２５として、正孔輸送層、正孔注入層、電子輸送層、電子注入層、電荷発生層いずれも使用することができ、必要に応じて適宜選択される。それぞれ用いられる材料は、特性に応じて選択ができる。
【００２４】
陽極２４を覆うようにして隔壁２２が配設される。隔壁２２は、絶縁性を有する必要があり、感光性材料等を用いることができる。感光性材料としては、ポジ型であってもネガ型であってもよく、光ラジカル重合系、光カチオン重合系の光硬化性樹脂、あるいは、アクリロニトリル成分を含有する共重合体、ポリビニルフェノール、ポリビニルアルコール、ノボラック樹脂、ポリイミド樹脂、及びシアノエチルプルラン等を用いることができる。また、隔壁形成材料として、ＳｉＯ２、ＳｉＮ、ＴｉＯ２等を用いることもできる。
【００２５】
陽極２４上に有機発光層が配設される。有機発光層として、青色発光層２６、緑色発光層２７、赤色発光層２８が積層形成される。有機発光層を構成する有機ＥＬ材料として低分子系材料と高分子系材料に区分されており、また形成方法も、真空成膜法とウェットコーティング法に区分されているが、必要に応じて適宜選択される。
【００２６】
有機発光層上に陰極２３が配設される。陰極２３の材料としては、電子注入効率の高い物質を用いる。形成方法としては、材料に応じて、抵抗加熱蒸着法、電子ビーム蒸着法、スパッタリング法等の乾式成膜法を用いることができる。また、パターンとする必要がある場合には、マスク等によりパターニングすることができる。なお、本発明では陰極２３、陽極２４の配置を有機発光層に対して入れ替えて配置することも可能である。
【００２７】
陰極２３上の一部に支持体２９を配設され、陰極２３との間に空間が存在するように、支持体２９上に透明ガスバリアフィルム１０を用いたフィルム基板２１が配設される。この支持体２９としては、機械的強度や寸法安定性に優れていることが好ましい。言い換えると、透明ガスバリアフィルム１０を用いたフィルム基板２１により、隔壁２２、陰極２３、陽極２４、発光補助層２５、青色発光層２６、緑色発光層２７、赤色発光層２８は外界から封止されている。
【産業上の利用可能性】
【００２８】
本実施形態に係る有機ＥＬデバイス２０は、既存の光源装置よりも軽く、レフレクタ板の機能を併せ持つ長期耐久性が高い撮影用光源装置として利用できる。
【符号の説明】
【００２９】
１０…透明ガスバリアフィルム、１１…透明フィルム基材、１２…薄膜層（酸化珪素層）、２０…有機ＥＬデバイス、２１…フィルム基板、２２…隔壁、２３…陰極、２４…陽極、２５…発光補助層、２６…青色発光層、２７…緑色発光層、２８…赤色発光層、２９…支持体。
【図１】
2014172358.tif 000003
【図２】
2014172358.tif 000004