(57)【要約】【課題】搬送順序情報を変更することなく、基板を搬送させる処理ユニットの順番を変更することができる基板処理装置および基板処理方法を提供する。【解決手段】基板処理装置１は、基板処理列５、６と、フローレシピＦＲとユニット情報ＵＳと第１禁止条件とに基づいて基板処理列５、６を制御する制御部３１と、を備える。ユニット情報ＵＳは、ステータスが「第一種」である処理ユニットおよびステータスが「第二種」である処理ユニットを特定可能な情報である。制御部３１は、ユニット情報ＵＳに基づいて、「第二種」の処理ユニットを有しない基板処理部である第一種処理列と、「第二種」の処理ユニットを有する基板処理部である第二種処理列を特定する。そして、第一種処理列ではフローレシピＦＲどおりに基板を搬送させ、第二種処理列ではフローレシピＦＲとユニット情報ＵＳと第１禁止条件とに基づいて、基板を搬送させる。【選択図】図５
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板処理装置であって、
基板に一連の処理を行う複数の基板処理部と、
搬送順序情報とユニット情報と第１禁止条件とに基づいて、複数の基板処理部を制御する制御部と、
を備え、
前記基板処理部は、
複数の処理ユニットと、
処理ユニットに基板を搬送する主搬送機構と、
を有し、
搬送順序情報は、基板が搬送される処理ユニットの順番を規定する情報であり、
ユニット情報は、そのステータスが「第一種」である処理ユニットおよびそのステータスが「第二種」である処理ユニットを特定可能な情報であり、
第１禁止条件は、搬送順序情報において同じ搬送順番に「第一種」の処理ユニット及び「第二種」の処理ユニットの双方が対応付けられている場合には当該「第一種」の処理ユニットへの基板搬送を禁止する情報であり、
前記制御部は、
ユニット情報に基づいて、「第二種」の処理ユニットを有しない基板処理部である第一種処理部、および、１以上の「第二種」の処理ユニットを有する基板処理部である第二種処理部をそれぞれ特定し、
第一種処理部においては、搬送順序情報どおりに基板を搬送させ、
第二種処理部においては、搬送順序情報とユニット情報と第１禁止条件とに基づいて、基板を搬送させる
基板処理装置。
【請求項２】
請求項１に記載の基板処理装置において、
さらに、基板が収容された収容器から各基板処理部に基板を搬送するインデクサ部を備え、
前記制御部は、収容器内の基板の種類によって収容器を分類可能な収容器情報とユニット情報とに基づいて、基板を搬送する基板処理部を収容器ごとに選択する基板処理装置。
【請求項３】
請求項２に記載の基板処理装置において、
前記制御部は、収容器が更新される度に第一種処理部および第二種処理部を特定する基板処理装置。
【請求項４】
請求項２または３に記載の基板処理装置において、
収容器情報は、「第一種用」の収容器および「第二種用」の収容器を特定可能な情報であり、
前記制御部は、「第二種用」の収容器内の基板を第二種処理部のみに搬送する基板処理装置。
【請求項５】
請求項１から４のいずれかに記載の基板処理装置において、
さらに、ユニット情報を設定または変更するための入力部を備えている基板処理装置。
【請求項６】
複数の処理ユニットに基板を搬送し、基板に一連の処理を行う複数の基板処理部を制御して基板を処理する方法であって、
そのステータスが「第一種」である処理ユニットおよびそのステータスが「第二種」である処理ユニットを特定可能なユニット情報に基づいて、「第二種」の処理ユニットを有しない基板処理部である第一種処理部、および、１以上の「第二種」の処理ユニットを有する基板処理部である第二種処理部をそれぞれ特定する処理部特定工程と、
第一種処理部において、基板が搬送される処理ユニットの順番を規定する搬送順序情報どおりに基板を搬送することによって、「第一種」の処理ユニットのみによって行われる一連の処理である第一種処理を基板に行う第一種処理部処理工程と、
第二種処理部において、搬送順序情報とユニット情報と搬送順序情報において同じ搬送順番に「第一種」の処理ユニット及び「第二種」の処理ユニットの双方が対応付けられている場合には当該「第一種」の処理ユニットへの基板搬送を禁止する第１禁止条件とに基づいて基板を搬送することによって、「第二種」の処理ユニットによる処理を含む一連の処理である第二種処理を基板に行う第二種処理部処理工程と、
を備えている基板処理方法。
【請求項７】
請求項６に記載の基板処理方法において、
「第一種」は、処理品質が保証されている処理ユニットの状態を示し、
「第二種」は、処理品質が保証されていない処理ユニットの状態を示す基板処理方法。
【請求項８】
請求項６または７に記載の基板処理方法において、
基板が収容された収容器から各基板処理部に基板を投入する投入工程を備え、
投入工程は、収容器内の基板の種類によって収容器を分類可能な収容器情報とユニット情報とに基づいて、基板を投入する基板処理部を収容器ごとに選択する基板処理方法。
【請求項９】
請求項８に記載の基板処理方法において、
処理部特定工程は、収容器が更新される度に第一種処理部および第二種処理部を特定する基板処理方法。
【請求項１０】
請求項８または９に記載の基板処理方法において、
収容器情報は、第一種処理を行うための基板を収容する「第一種用」の収容器および第二種処理を行うための基板を収容する「第二種用」の収容器を特定可能な情報であり、
投入工程は、「第二種用」の収容器内の基板を第二種処理部のみに投入し、
第二種処理部処理工程は、「第二種用」の収容器から投入された基板に第二種処理を行う基板処理方法。
【請求項１１】
請求項１０に記載の基板処理方法において、
投入工程は、「第一種用」の収容器内の基板を第一種処理部および第二種処理部の双方に投入し、
第二種処理部処理工程は、搬送順序情報とユニット情報と「第二種」の処理ユニットへの基板搬送を禁止する第２禁止条件とに基づいて「第一種用」の収容器から投入された基板を搬送することによって、当該基板に第一種処理を行う基板処理方法。
【請求項１２】
請求項６から１１のいずれかに記載の基板処理方法において、
さらに、ユニット情報を設定または変更する設定工程を備えている基板処理方法。
【請求項１３】
請求項１２に記載の基板処理方法において、
設定工程は、電源の投入により１以上の基板処理部が起動されたときには、起動された基板処理部が有する各処理ユニットに対応するステータスを「第二種」に設定する基板処理方法。
【請求項１４】
請求項６から１３のいずれかに記載の基板処理方法において、
さらに、運転させる基板処理部を選択するための選択情報を参照し、選択情報によって選択されている基板処理部において第一種処理部処理工程または第二種処理部処理工程の実行を許容し、
選択情報によって選択されていない基板処理部の運転を停止する処理部選択工程を備えている基板処理方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、半導体ウエハ、フォトマスク用のガラス基板、液晶表示装置用のガラス基板、光ディスク用の基板など（以下、単に基板と称する）を処理する基板処理装置および基板処理方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、この種の装置として、複数の基板処理部と制御部とを備える装置がある。各基板処理部は、処理ユニットと、処理ユニットに基板を搬送する主搬送機構とを備え、基板に一連の処理を行う。制御部は、基板が搬送される処理ユニットの順番を規定する搬送順序情報（フローレシピ）に基づいて各基板処理部を制御する。この制御によって、各基板処理部は、基板を複数の処理ユニットに所定の順番で搬送する。このような装置によれば、各基板処理部が並行して基板処理を行うことができるので、基板処理能力（スループット）を向上させることができる（例えば、特許文献１、２参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００９−１０２９１号公報
【特許文献２】特開２００５−９３９２２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、このような構成を有する従来例の場合には、次のような問題がある。
搬送順序情報は、通常、所定の処理が施された基板（製品）を生産するための処理ユニットの順番を規定している。しかし、この生産用の順番と異なる順番で基板を搬送させる場合がある。
【０００５】
例えば、処理ユニットに対してメンテナンスを行った場合、それらの処理ユニットが正常であるかどうかについてテストを行う。テストでは、例えば、処理ユニットの動作確認を行ったり、処理ユニットにおける処理品質を検証する。このとき、生産用の順番と異なる順番で基板を搬送させるのではなく、テスト対象の処理ユニットのみに基板を搬送した方が、テストを効率よく行うことができる。
【０００６】
基板を搬送させる処理ユニットの順番を変える場合、搬送順序情報を変更する。ただし、搬送順序情報は生産用の順番を規定する情報であって、製品の品質に直接的に関わるものであるので、搬送順序情報を頻繁に変更することは好ましくない。
【０００７】
この発明は、このような事情に鑑みてなされたものであって、搬送順序情報を変更することなく、基板を搬送させる処理ユニットの順番を変更することができる基板処理装置および基板処理方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
この発明は、このような目的を達成するために、次のような構成をとる。
すなわち、本発明は、基板処理装置であって、基板に一連の処理を行う複数の基板処理部と、搬送順序情報とユニット情報と第１禁止条件とに基づいて、複数の基板処理部を制御する制御部と、を備え、前記基板処理部は、複数の処理ユニットと、処理ユニットに基板を搬送する主搬送機構と、を有し、搬送順序情報は、基板が搬送される処理ユニットの順番を規定する情報であり、ユニット情報は、そのステータスが「第一種」である処理ユニットおよびそのステータスが「第二種」である処理ユニットを特定可能な情報であり、第１禁止条件は、搬送順序情報において同じ搬送順番に「第一種」の処理ユニット及び「第二種」の処理ユニットの双方が対応付けられている場合には当該「第一種」の処理ユニットへの基板搬送を禁止する情報であり、前記制御部は、ユニット情報に基づいて、「第二種」の処理ユニットを有しない基板処理部である第一種処理部、および、１以上の「第二種」の処理ユニットを有する基板処理部である第二種処理部をそれぞれ特定し、第一種処理部においては、搬送順序情報どおりに基板を搬送させ、第二種処理部においては、搬送順序情報とユニット情報と第１禁止条件とに基づいて、基板を搬送させる基板処理装置である。
【０００９】
［作用・効果］本発明に係る基板処理装置によれば、ユニット情報を参照することによって、制御部は第一種処理部と第二種処理部を特定する。そして、制御部は、第一種処理部においては搬送順序情報どおりに基板を搬送させる。これにより、第一種処理部は、一連の処理を行う。この一連の処理を構成する複数の処理は、すべて「第一種」の処理ユニットによる処理である。本明細書では、「第一種」の処理ユニットのみによって行われる一連の処理を、特に、「第一種処理」という。他方、制御部は、第二種処理部においては搬送順序情報とユニット情報と第１禁止条件とに基づいて基板を搬送させる。これにより、基板を「第二種」の処理ユニットに優先的に搬送させ、基板に一連の処理を行う。この一連の処理を構成する複数の処理の少なくとも１つは、「第二種」の処理ユニットによる処理である。本明細書では、「第二種」の処理ユニットによる処理を含む一連の処理を特に「第二種処理」という。
【００１０】
このように、制御部が搬送順序情報のみならずユニット情報および第１禁止条件も用いることにより、搬送順序情報自体を変更することなく、基板を搬送させる処理ユニットの順番を変えることができる。また、この順番を、基板処理部ごとに個別に変えることができる。さらに、この順番を、基板処理部が有する各処理ユニットのステータスに応じて自動的に変えることができる。よって、複数の基板処理部をそれぞれ適切に運転させることができる。
【００１１】
上述した発明において、さらに、基板が収容された収容器から各基板処理部に基板を搬送するインデクサ部を備え、前記制御部は、収容器内の基板の種類によって収容器を分類可能な収容器情報とユニット情報とに基づいて、基板を搬送する基板処理部を収容器ごとに選択することが好ましい。ユニット情報に基づいて第一種、第二種処理部を特定でき、収容器情報に基づいて収容器内の基板の種類を収容器ごとに特定できる。よって、基板の種類に応じて、基板の投入先を第一種処理部と第二種処理部の間で変えることができ、基板に施す一連の処理を第一種処理と第二種処理との間で変えることができる。
【００１２】
上述した発明において、前記制御部は、収容器が更新される度に第一種処理部および第二種処理部を特定することが好ましい。基板処理部が第一種処理部／第二種処理部であるか否かは、ユニット情報によって変わる。この構成によれば、新たな収容器に切り替わるごとに、第一種処理部および第二種処理部を特定し直すので、ユニット情報の変更に好適に対応することができる。
【００１３】
上述した発明において、収容器情報は、「第一種用」の収容器および「第二種用」の収容器を特定可能な情報であり、前記制御部は、「第二種用」の収容器内の基板を第二種処理部のみに搬送することが好ましい。これによれば、「第二種用」の収容器内の基板に第二処理を行うことができる。
【００１４】
上述した発明において、さらに、ユニット情報を設定または変更するための入力部を備えていることが好ましい。これによれば、ユーザーが入力部を操作することによって、ユニット情報を容易に変更することができる。
【００１５】
また、本発明は、複数の処理ユニットに基板を搬送し、基板に一連の処理を行う複数の基板処理部を制御して基板を処理する方法であって、そのステータスが「第一種」である処理ユニットおよびそのステータスが「第二種」である処理ユニットを特定可能なユニット情報に基づいて、「第二種」の処理ユニットを有しない基板処理部である第一種処理部、および、１以上の「第二種」の処理ユニットを有する基板処理部である第二種処理部をそれぞれ特定する処理部特定工程と、第一種処理部において、基板が搬送される処理ユニットの順番を規定する搬送順序情報どおりに基板を搬送することによって、「第一種」の処理ユニットのみによって行われる一連の処理である第一種処理を基板に行う第一種処理部処理工程と、第二種処理部において、搬送順序情報とユニット情報と搬送順序情報において同じ搬送順番に「第一種」の処理ユニット及び「第二種」の処理ユニットの双方が対応付けられている場合には当該「第一種」の処理ユニットへの基板搬送を禁止する第１禁止条件とに基づいて基板を搬送することによって、「第二種」の処理ユニットによる処理を含む一連の処理である第二種処理を基板に行う第二種処理部処理工程と、を備えている基板処理方法である。
【００１６】
［作用・効果］本発明に係る基板処理方法によれば、処理部特定工程は、ユニット情報に基づいて、第一種処理部と第二種処理部を特定する。第一種処理部処理工程は、第一種処理部において搬送順序情報どおりに基板を搬送させ、基板に第一種処理を行う。第二種処理部処理工程は、第二種処理部において搬送順序情報とユニット情報と第１禁止条件とに基づいて基板を搬送させ、第二種処理を基板に行う。このように、第一種処理部処理工程および第二種処理部処理工程は、同一の搬送順序情報を用いつつ、互いに異なる順番で基板を処理ユニットに搬送することができる。これにより、複数の基板処理部をそれぞれ適切に稼働させることができる。
【００１７】
上述した発明において、「第一種」は、処理品質が保証されている処理ユニットの状態を示し、「第二種」は、処理品質が保証されていない処理ユニットの状態を示すことが好ましい。第一種処理によれば、所定の処理が施された基板（製品）を好適に生産することができる。また、第二種処理によれば、「第二種」の処理ユニットに基板を優先的に搬送するので、「第二種」の処理ユニットを好適にテストすることができる。
【００１８】
上述した発明において、基板が収容された収容器から各基板処理部に基板を投入する投入工程を備え、投入工程は、収容器内の基板の種類によって収容器を分類可能な収容器情報とユニット情報とに基づいて、基板を投入する基板処理部を収容器ごとに選択することが好ましい。これによれば、収容機情報を考慮して基板の投入先を選択するので、基板の種類に応じて、基板に行う一連の処理を第一種処理と第二種処理との間で好適に切り換えることができる。
【００１９】
上述した発明において、処理部特定工程は、収容器が更新される度に第一種処理部および第二種処理部を特定することが好ましい。これによれば、収容器が替わるごとに、第一種処理部および第二種処理部を特定し直すので、ユニット情報の変更に好適に対応することができる。
【００２０】
上述した発明において、収容器情報は、第一種処理を行うための基板を収容する「第一種用」の収容器および第二種処理を行うための基板を収容する「第二種用」の収容器を特定可能な情報であり、投入工程は、「第二種用」の収容器内の基板を第二種処理部のみに投入し、第二種処理部処理工程は、「第二種用」の収容器から投入された基板に第二種処理を行うことが好ましい。これによれば、基板の種類と、基板に行う一連の処理とを好適に適合させることができる。
【００２１】
上述した発明において、投入工程は、「第一種用」の収容器内の基板を第一種処理部および第二種処理部の双方に投入し、第二種処理部処理工程は、搬送順序情報とユニット情報と「第二種」の処理ユニットへの基板搬送を禁止する第２禁止条件とに基づいて「第一種用」の収容器から投入された基板を搬送することによって、当該基板に第一種処理を行うことが好ましい。第二種処理部であっても、第一種処理を基板に行うことができる場合がある。これによれば、第二種処理部に属する「第一種」の処理ユニットを有効に稼動させて、「第一種用」の収容器から投入された基板に第一種処理を行うことができる。
【００２２】
上述した発明において、さらに、ユニット情報を設定または変更する設定工程を備えていることが好ましい。これによれば、基板処理部を、第一種処理部と第二種処理部の間で、または、第一種処理部と第二種処理部とそれら以外の間で変更することができる。
【００２３】
上述した発明において、設定工程は、電源の投入により１以上の基板処理部が起動されたときには、起動された基板処理部が有する各処理ユニットに対応するステータスを「第二種」に設定することが好ましい。これによれば、各ユニット情報を適切なタイミングで、かつ、簡易に設定することができる。
【００２４】
上述した発明において、さらに、運転させる基板処理部を選択するための選択情報を参照し、選択情報によって選択されている基板処理部において第一種処理部処理工程または第二種処理部処理工程の実行を許容し、選択情報によって選択されていない基板処理部の運転を停止する処理部選択工程を備えていることが好ましい。これによれば、搬送順序情報を変更することなく、一部の基板処理部を運転させたり、停止させることができる。
【００２５】
なお、本明細書は、次のような基板処理装置および基板処理方法に係る発明も開示している。
【００２６】
（１）前記制御部は、搬送順序情報とユニット情報とに基づいて、第二種処理部が第一種処理を基板に行うことが可能であるか否かを判断し、可能であると判断した第二種処理部に「第一種用」の収容器から基板を投入させ、当該第二種処理部において第一種処理を基板に行わせることが好ましい。
【００２７】
前記（１）によれば、第二種処理部を有効に稼動させることができる。
【００２８】
（２）前記制御部は、同じ第二種処理部において、一部の基板に第二種処理を行わせながら、他の基板に第一種処理を行わせることが好ましい。
【００２９】
前記（２）によれば、第二種処理部を一層有効に稼動させることができる。
【００３０】
（３）前記制御部は、第二種処理部において第一種処理を基板に行わせる際、搬送順序情報とユニット情報と「第二種」の処理ユニットへの基板搬送を禁止する第２禁止条件とに基づいて基板を搬送させることが好ましい。
【００３１】
前記（３）に記載によれば、搬送順序情報を変更することなく、第一種処理を好適に行うことができる。
【００３２】
（４）さらに、搬送順序情報とユニット情報とに基づいて、第二種処理部が第一種処理を基板に行うことが可能であるか否かを判断する判断工程を備え、投入工程は、判断工程で可能と判断された第二種処理部に対して、「第一種用」の収容器内の基板を投入し、第二種処理部処理工程は、判断工程で可能と判断された第二種処理部において、第一種処理を基板に行うことが好ましい。
【００３３】
前記（４）によれば、第二種処理部を一層有効に稼動させることができる。
【００３４】
（５）前記入力部は、任意の基板処理部に関連するユニット情報を一括して設定または変更可能であることが好ましい。
【００３５】
前記（５）によれば、ユニット情報が多数であっても、容易に変更することができる。
【００３６】
（６）前記制御部は、電源の投入により１以上の基板処理部が起動されたときには、起動された基板処理部に属する各処理ユニットに対応するステータス情報を「第二種」に設定することが好ましい。
【００３７】
前記（６）によれば、各ユニット情報を適切なタイミングで、かつ、簡易に設定することができる。
【００３８】
（７）前記制御部は、さらに、運転させる基板処理部を選択するための選択情報を参照し、選択情報によって選択されている基板処理部を搬送順序情報及びユニット情報に基づいて運転させ、選択情報によって選択されていない基板処理部の運転を停止させることが好ましい。
【００３９】
前記（７）によれば、搬送順序情報を変更することなく、一部の基板処理部を運転させたり、停止させることができる。
【発明の効果】
【００４０】
本発明に係る基板処理装置および基板処理方法によれば、搬送順序情報自体を変更することなく、基板を搬送させる処理ユニットの順番を変えることができる。また、この順番を、基板処理部を構成する処理ユニットのステータスに応じて基板処理部ごとに変えることができる。よって、複数の基板処理部を適切に運転させることができる。
【図面の簡単な説明】
【００４１】
【図１】実施例１に係る基板処理装置の概略構成を示す平面図である。
【図２】処理ユニットの配置を示す概略側面図である。
【図３】処理ユニットの配置を示す概略側面図である。
【図４】図２におけるａ−ａ矢視の各垂直断面図である。
【図５】実施例１に係る基板処理装置の制御ブロック図である。
【図６】フローレシピの構成を示す模式図である。
【図７】ユニット情報の模式図である。
【図８】ＩＤ部および基板処理列を制御する手順を示すフローチャートである。
【図９】第一種処理列および第二種処理列における基板の搬送を模式的に示す図である。
【図１０】第一種処理列および第二種処理列における基板の搬送を模式的に示す図である。
【実施例１】
【００４２】
以下、図面を参照してこの発明の実施例１を説明する。図１は、実施例に係る基板処理装置の概略構成を示す平面図であり、図２と図３は基板処理装置が有する処理ユニットの配置を示す概略側面図であり、図４は、図１におけるａ−ａ矢視の各垂直断面図である。
【００４３】
［基板処理部等の構成］
基板処理装置１は、それぞれ基板（例えば、半導体ウエハ）Ｗに処理を行う。基板処理装置１は、インデクサ部（以下、「ＩＤ部」と呼ぶ）３と複数の基板処理列５、６とインターフェイス部（以下、「ＩＦ部」と呼ぶ）７とを備えている。図２乃至図４に示すように、基板処理列５、６は、上下方向に並ぶように積層されている。ＩＤ部３は、各基板処理列５、６の一側方に隣接するように設けられている。ＩＦ部７は、各基板処理列５、６の他側方に隣接するように設けられている。図１に示すように、ＩＦ部７は、さらに、基板処理装置１とは別体の外部装置である露光機ＥＸＰに隣接している。各基板処理列５、６は、それぞれこの発明における基板処理部に相当する。以下、ＩＤ部３、基板処理列５、６、ＩＦ部７について順に説明する。
【００４４】
ＩＤ部３は、各基板処理列５、６に基板Ｗを投入する。ＩＤ部３は、載置台４とＩＤ用搬送機構ＴＩＤを備えている。載置台４は、複数（４個）のカセットＣを載置可能である。カセットＣは複数の基板Ｗを収容する。ＩＤ用搬送機構ＴＩＤは、水平方向および鉛直方向に移動可能に構成され、載置台４に載置されたカセットＣおよび基板処理列５、６に対して基板Ｗを搬送する。カセットＣは、本発明における収容器に相当する。
【００４５】
各基板処理列５、６は、それぞれ基板Ｗに一連の処理を行う。一連の処理は、例えば、基板Ｗにレジスト膜等を形成し、かつ、露光された基板Ｗを現像する処理である。以下では、各基板処理列５、６は略同じ構成であるので、基板処理列５について説明し、基板処理列６については同符号を付すことで説明を省略する。
【００４６】
基板処理列５は、複数の処理ユニットと、これら処理ユニットに基板Ｗを搬送する主搬送機構Ｔ１、Ｔ２を備えている。各主搬送機構Ｔ１、Ｔ２は、ＩＤ部３とＩＦ部７とを結ぶ方向に並ぶように配置されている。各主搬送機構Ｔ１、Ｔ２は、水平方向および鉛直方向に移動可能である。主搬送機構Ｔ１は、ＩＤ用搬送機構ＴＩＤおよび主搬送機構Ｔ２の間で双方向に基板Ｗを受け渡すとともに、処理ユニットに基板Ｗを搬送する。主搬送機構Ｔ２は、主搬送機構Ｔ１およびＩＦ部７（後述するＩＦ用搬送機構ＴＩＦ１）の間で基板Ｗを受け渡すとともに、処理ユニットに基板Ｗを搬送する。これにより、基板処理列５は、ＩＤ部３とＩＦ部７の間にわたって基板Ｗを往復搬送する。
【００４７】
ＩＤ用搬送機構ＴＩＤと主搬送機構Ｔ１の間には、基板Ｗを載置する載置部ＰＡＳＳ１が配置されている。同様に、主搬送機構Ｔ１と主搬送機構Ｔ２の間、および、主搬送機構Ｔ２とＩＦ用搬送機構ＴＩＦ１の間には、それぞれ、載置部ＰＡＳＳ２および載置部ＰＡＳＳ３が配置されている。搬送機構ＴＩＤ、Ｔ１、Ｔ２、ＴＩＦ１は、載置部ＰＡＳＳ１乃至ＰＡＳＳ３に基板Ｗを一時的に載置することによって、他の搬送機構に基板Ｗを受け渡す。
【００４８】
図４を参照する。載置部ＰＡＳＳ１は、載置部ＰＡＳＳ１Ａと載置部ＰＡＳＳ１Ｂを有する。載置部ＰＡＳＳ１Ａ、ＰＡＳＳ１Ｂは、基板Ｗの搬送方向によって使い分けられる。たとえば、載置部ＰＡＳＳ１Ａには、ＩＤ用搬送機構ＴＩＤから主搬送機構Ｔ１へ搬送される基板Ｗが載置され、載置部ＰＡＳＳ１Ｂには、主搬送機構Ｔ１からＩＤ用搬送機構ＴＩＤへ搬送される基板Ｗが載置される。載置部ＰＡＳＳ２および載置部ＰＡＳＳ３も同様である。
【００４９】
図１を参照する。基板処理列５が有する処理ユニットは、主搬送機構Ｔ１が基板Ｗの搬送を負担する処理ユニットと、主搬送機構Ｔ２が基板Ｗの搬送を負担する処理ユニットとに大きく分けられる。
【００５０】
まず、前者について説明する。主搬送機構Ｔ１が基板Ｗの搬送を負担する処理ユニットは、基板Ｗに塗膜を形成する塗布処理ユニット１１と、基板Ｗに熱処理を行う熱処理ユニット１３である。塗布処理ユニット１１は、主搬送機構Ｔ１の一側方に配置され、熱処理ユニット１３は主搬送機構Ｔ１の他側方に配置されている。
【００５１】
図２に示すように、塗布処理ユニット１１は、具体的には、反射防止膜用塗布処理ユニットＢＡＲＣと、レジスト膜用塗布処理ユニットＲＥＳＩＳＴである。反射防止膜用塗布処理ユニットＢＡＲＣは、基板Ｗに反射防止膜材料を塗布し、基板Ｗの表面上に反射防止膜を形成する処理を行う。レジスト膜用塗布処理ユニットＲＥＳＩＳＴは、基板Ｗにレジストを塗布し、基板Ｗの表面上にレジスト膜を形成する処理を行う。
【００５２】
図１を参照する。各塗布処理ユニット１１は、いわゆる回転式塗布処理ユニットであり、ノズル１５と飛散防止カップ１７を備えている。ノズル１５は、基板Ｗに処理液を吐出する。飛散防止カップ１７は、基板Ｗから飛散する処理液を受け止めて回収する。さらに、塗布処理ユニット１１は、単一の基板Ｗを略水平姿勢で回転可能に保持する保持部等（不図示）を備えている。
【００５３】
図３に示すように、熱処理ユニット１３は、具体的には、冷却ユニットＣＰ、加熱冷却ユニットＰＨＰおよびアドヒージョン処理ユニットＡＨＬである。冷却ユニットＣＰは基板Ｗを冷却する。加熱冷却ユニットＰＨＰは、加熱処理と冷却処理を続けて行う。アドヒージョン処理ユニットＡＨＬは、基板Ｗと被膜の密着性を向上させるためにＨＭＤＳ（ヘキサメチルシラザン）の蒸気雰囲気で熱処理する。
【００５４】
図１を参照して、主搬送機構Ｔ２が基板Ｗの搬送を負担する処理ユニットについて説明する。この処理ユニットとしては、現像処理ユニットＤＥＶと、熱処理ユニット２３およびエッジ露光ユニットＥＥＷである（エッジ露光ユニットＥＥＷについては図３を参照）。現像処理ユニットＤＥＶは、主搬送機構Ｔ２の一側方に配置され、熱処理ユニット２３およびエッジ露光ユニットＥＥＷは主搬送機構Ｔ２の他側方に配置されている。
【００５５】
現像処理ユニットＤＥＶは、基板Ｗに現像処理を行う。現像処理ユニットＤＥＶは、ノズル２５と飛散防止カップ２７を備えている。ノズル２５は基板Ｗに処理液を吐出する。飛散防止カップ２７は基板Ｗから飛散する処理液を受け止めて回収する。さらに、現像処理ユニットＤＥＶは、単一の基板Ｗを略水平姿勢で回転可能に保持する保持部等（不図示）を備えている。
【００５６】
図３に示すように、熱処理ユニット２３は、加熱ユニットＨＰおよび冷却ユニットＣＰである。加熱ユニットＨＰは基板Ｗを加熱する。なお、ＩＦ部７側に配置されている加熱冷却ユニットＰＨＰに関しては、ＩＦ部７（ＩＦ用搬送機構ＴＩＦ１）が基板Ｗの搬送を負担する。エッジ露光ユニットＥＥＷは、基板Ｗの周縁を露光する。エッジ露光ユニットＥＥＷは、図示を省略するが、基板Ｗを保持する保持部と、保持部を回転するモータと、基板Ｗに光を照射する光照射部等を備えている。
【００５７】
図１を参照する。ＩＦ部７は、基板処理列５、６と露光機ＥＸＰに対して基板Ｗを搬送する。ＩＦ部７は基板Ｗを搬送する複数のＩＦ用搬送機構ＴＩＦ１、ＴＩＦ２を備えている。ＩＦ用搬送機構ＴＩＦ１は、基板処理列５、６、および、ＩＦ用搬送機構ＴＩＦ２の間で基板Ｗを受け渡すとともに、上述した加熱冷却ユニットＰＨＰに基板Ｗを搬送する。ＩＦ用搬送機構ＴＩＦ２は、ＩＦ用搬送機構ＴＩＦ１のほかに、さらに露光機ＥＸＰとの間で基板Ｗを搬送する。
【００５８】
ＩＦ用搬送機構ＴＩＦ１、ＴＩＦ２の間には、基板Ｗを載置し、冷却する載置部ＰＡＳＳ−ＣＰが配置されている。載置部ＰＡＳＳ−ＣＰの下方には、基板Ｗを載置する載置部ＰＡＳＳ４が配置されている。載置部ＰＡＳＳ−ＣＰには、ＩＦ用搬送機構ＴＩＦ１からＩＦ用搬送機構ＴＩＦ２へ搬送される基板Ｗが載置される。載置部ＰＡＳＳ４には、ＩＦ用搬送機構ＴＩＦ２からＩＦ用搬送機構ＴＩＦ１へ搬送される基板Ｗが載置される。
【００５９】
［制御系の構成］
図５は、実施例１に係る基板処理装置の制御ブロック図である。
【００６０】
図示するように、基板処理装置１は、制御部３１と記憶部３５とタッチパネル３７を備えている。制御部３１は、コントローラ３２と設定部３３を有する。コントローラ３２は、記憶部３５に記憶される各種の情報に基づいて、ＩＤ部３、基板処理列５、６およびＩＦ部７を統括的に制御する。設定部３３は、記憶部３５に記憶される各種の情報を設定、変更する。タッチパネル３７は、各種情報を設定、変更するための命令を受け付けて、設定部３３に送る。
【００６１】
記憶部３５は、フローレシピＦＲと、ユニット情報ＵＳと、禁止条件と、収容器情報ＣＣと、選択情報ＳＬとを記憶する。フローレシピＦＲは、基板Ｗが搬送される処理ユニットの順番を規定する情報である。ユニット情報ＵＳは、少なくともステータスが「第一種」の処理ユニットおよびステータスが「第二種」の処理ユニットを特定可能な情報である。禁止条件は、特定の処理ユニットへの搬送を禁止する条件に関する情報である。収容器情報ＣＣは、カセットＣ内の基板Ｗの種類によってカセットＣを分類可能な情報である。選択情報ＳＬは、運転させる基板処理列５、６を選択するための情報である。
【００６２】
図６を参照して、フローレシピＦＲを説明する。図６は、フローレシピＦＲの構成を示す模式図である。図示するように、フローレシピＦＲは、搬送順番にカテゴリーおよび処理ユニットの識別情報（以下、適宜に「処理ユニット識別情報」という）が対応付けられている。本実施例では、フローレシピＦＲは、所定の処理が施された基板Ｗ（製品）を生産するときの処理ユニットの順番を規定するように予め設定されており、記憶部３５に記憶されている。
【００６３】
カテゴリーは、処理ユニットの種類を示す情報である。図６では、各基板処理列５、６が有する処理ユニットを、「ｃｐ」、「ｂａｒｃ」、「ｐｈｐ」、「ｒｅｓｉｓｔ」、「ｅｅｗ」、「ｄｅｖ」、「ｈｐ」の７種類のカテゴリーに分類した例を示す。
【００６４】
処理ユニット識別情報は、各処理ユニットを一意に識別できる情報である。図６において、「ＵＴ１」、「ＵＴ２」…「ＵＴ２９」は、基板処理列５が有する全ての処理ユニットにそれぞれ対応づけられた処理ユニット識別情報である。たとえば、「ＵＴ１」は、基板処理列５に設けられる特定の冷却ユニットＣＰを示す情報であり、「ＵＴ２」は基板処理列５に設けられる特定の反射防止膜用塗布処理ユニットＢＡＲＣを示す情報である。他方、「ＵＢ１」、「ＵＢ２」…「ＵＢ２９」は、基板処理列６が有する各処理ユニットに割り当てられた処理ユニット識別情報である。したがって、図６において、部分ＰＴは、基板処理列５に対応するフローレシピＦＲの部分であり、部分ＰＢは、基板処理列６に対応するフローレシピＦＲの部分である。
【００６５】
図６に示すフローレシピＦＲでは、基板処理列５においては、１番目（最初）の基板Ｗの搬送先は、「ＵＴ１」に対応する冷却ユニットＣＰである。続く２番目の搬送先は、「ＵＴ２」、「ＵＴ３」のいずれかに対応する反射防止膜用塗布処理ユニットＢＡＲＣである。続く３番目の搬送先は、「ＵＴ４」、「ＵＴ５」、「ＵＴ６」および「ＵＴ７」のいずれかに対応する加熱冷却ユニットＰＨＰである。以降、同様に、搬送順番に従って、各搬送順番に対応付けられた処理ユニットに搬送する。搬送順番に複数の処理ユニットが対応付けられている場合は、いずれか１の処理ユニットに搬送する。基板処理列６においても同様である。フローレシピＦＲは、本発明における搬送順序情報に相当する。
【００６６】
図７を参照して、ユニット情報ＵＳを説明する。図７は、ユニット情報ＵＳの模式図である。図示するように、ユニット情報ＵＳは、処理ユニット識別情報に、その処理ユニットのステータス（状態）を示すステータス情報が対応付けられている。「第１種」を示すステータス情報は「ＰＵ」であり、「第二種」を示すステータス情報は「ＴＵ」である。ここで、「第１種」は、処理品質が保証されている処理ユニットの状態を意味する。「第二種」は、処理品質が保証されていない処理ユニットの状態を意味する。ユニット情報ＵＳは、予め設定されているが、設定部３３によって適宜に設定・変更される。
【００６７】
図５を参照して、禁止条件を説明する。禁止条件は、第１禁止条件を含む。第１禁止条件は、フローレシピＦＲにおいて同じ搬送順番に「第一種」の処理ユニット及び「第二種」の処理ユニットの双方が対応付けられている場合には当該「第一種」の処理ユニットへの基板搬送を禁止する。
【００６８】
収容器情報ＣＣは、「第一種用」のカセットＣおよび「第二種用」のカセットＣを特定可能である。「第一種用」のカセットＣは第一種処理（後述）を行うための基板Ｗを収容するのに対して、「第二種用」のカセットＣは第二種処理（後述）を行うための基板Ｗを収容する。収容器情報ＣＣは、カセットＣの識別情報（図５では「カセット識別情報」と記載する）とカセットＣを分類する情報（以下、「分類情報」という）が相互に関連づけられている。「第一種用」を示す分類情報は「ＰＣ」であり、「第二種用」を示す分類情報は「ＴＣ」である。なお、収容器情報ＣＣは、外部に設けられる不図示のホストコンピュータから与えられてもよいし、載置台４に載置されるカセットＣに基づいて作成されたものであってもよい。
【００６９】
選択情報ＳＬは、基板処理列識別情報に、運転させる基板処理列に指定されているか否かを示す設定情報が対応付けられている。基板処理列識別情報「ＬＴ」、「ＬＢ」は、それぞれ基板処理列５、６を意味する。運転させる基板処理列に指定されている（「選択」に設定されている）とき、設定情報は「１」となる。運転させる基板処理列に指定されていない（「選択」が解除されている／「非選択」に設定されている）ときには、設定情報は「０」となる。設定情報は例えばフラグによって構成される。選択情報ＳＬは、予め設定されているが、設定部３３によって適宜に設定・変更される。
【００７０】
続いて、図２を参照してタッチパネル３７を説明する。タッチパネル３７は、基板処理装置１の側壁に配置され、ユーザーによって操作される。タッチパネル３７は、その画面上に、ボタン（GUI. Button）３７ａ、３７ｂ、３７ｃ、３７ｄを表示している。ボタン３７ａ、３７ｂによって、基板処理列５、６の「選択」およびその解除を切り換える命令を入力可能である。また、ボタン３７ｃ、３７ｄによって、基板処理列５、６が有する各処理ユニットのステータスを「第１種」、「第二種」に一括に設定する命令を入力可能である。さらに、タッチパネル３７は、各処理ユニットのステータスを個別に設定・変更するための命令を入力可能に構成されている。タッチパネル３７は、本発明における入力部に相当する。
【００７１】
図５を参照してコントローラ３２の制御対象を説明する。コントローラ３２がＩＤ部３において制御する対象は、ＩＤ用搬送機構ＴＩＤである。基板処理列５における制御対象は、基板処理列５が有する主搬送機構Ｔ１、Ｔ２および各処理ユニットである。基板処理列６の制御対象も同様である。ＩＦ部７における制御対象は、ＩＦ用搬送機構ＴＩＦ１、ＴＩＦ２および加熱冷却ユニットＰＨＰである。
【００７２】
制御部３１および記憶部３５は、各種処理を実行する中央演算処理装置（ＣＰＵ）や、演算処理の作業領域となるＲＡＭ（Random-Access Memory）や、各種情報を記憶する固定ディスク等の記憶媒体等によって実現されている。
【００７３】
次に、実施例に係る基板処理装置１の動作について説明する。
【００７４】
［基板処理装置１の基本的な動作］
まず、基板処理装置１の基本的な動作を説明する。ここでは、「第一種用」のカセットＣから各基板処理列５、６に基板Ｗを投入し、基板処理列５、６においてフローレシピＦＲ通りに基板Ｗを搬送する場合を例に採る。以下では、ＩＤ部３からＩＦ部７への搬送と、ＩＦ部７からＩＤ部３への搬送とに分けて説明する。
【００７５】
＜ＩＤ部３からＩＦ部７への搬送＞
ＩＤ用搬送機構ＴＩＤは、カセットＣから基板Ｗを搬出し、搬出した基板Ｗを基板処理列５、６に交互に搬送する。
【００７６】
各基板処理列５／６では、それぞれ同様に動作する。まず、主搬送機構Ｔ１が、ＩＤ部３から受け取った基板ＷをフローレシピＦＲの搬送順番１乃至７に規定されているとおりに搬送する。具体的には、冷却ユニットＣＰ、反射防止膜用塗布処理ユニットＢＡＲＣ、加熱冷却ユニットＰＨＰ、冷却ユニットＣＰ、レジスト膜用塗布処理ユニットＲＥＳＩＳＴ、加熱冷却ユニットＰＨＰ、冷却ユニットＣＰの順に、基板Ｗを搬送する。各処理ユニットはそれぞれ基板Ｗに所定の処理を行う。これにより、反射防止膜およびレジスト膜を形成する塗布処理が基板Ｗに施される。その後、主搬送機構Ｔ１は、基板Ｗを主搬送機構Ｔ２に渡す。主搬送機構Ｔ２は、受け取った基板Ｗをエッジ露光ユニットＥＥＷに搬送する（搬送順番８）。エッジ露光ユニットＥＥＷは、基板Ｗの周縁部を露光する。主搬送機構Ｔ２は、エッジ露光処理が施された基板ＷをＩＦ部７に搬出する。
【００７７】
ＩＦ用搬送機構ＴＩＦ１は、各基板処理列５、６から交互に基板Ｗを受け取り、ＩＦ用搬送機構ＴＩＦ２に渡す。ＩＦ用搬送機構ＴＩＦ２は、受け取った基板Ｗを露光機ＥＸＰに送る。
【００７８】
＜ＩＦ部７からＩＤ部３への搬送＞
ＩＦ用搬送機構ＴＩＦ２は、露光機ＥＸＰから露光済みの基板Ｗを受け取り、ＩＦ用搬送機構ＴＩＦ１に渡す。ＩＦ用搬送機構ＴＩＦ１は、受け取った基板Ｗを加熱冷却ユニットＰＨＰに搬送する（搬送順番９）。加熱冷却ユニットＰＨＰは、基板Ｗに露光後加熱処理（Post Exposure Bake）を行う。ＩＦ用搬送機構ＴＩＦ１は、露光後加熱処理が施された基板Ｗを各基板処理列５、６に搬出する。
【００７９】
各基板処理列５／６では、主搬送機構Ｔ２がＩＦ部７から基板Ｗを受け取り、現像処理ユニットＤＥＶ、加熱ユニットＨＰ、冷却ユニットＣＰの順に、基板Ｗを搬送する（搬送順番１０乃至１３）。これにより、基板Ｗを現像する現像処理が行われる。主搬送機構Ｔ２は、現像処理が施された基板Ｗを主搬送機構Ｔ１に渡す。主搬送機構Ｔ１は、受け取った基板ＷをＩＤ部３に搬出する。
【００８０】
ＩＤ用搬送機構ＴＩＤは、基板処理列５、６から基板Ｗを交互に受け取り、カセットＣ内に搬入する。
【００８１】
このように、各基板処理列５、６はそれぞれ基板Ｗを往復搬送させながら、１３の処理からなる一連の処理を基板Ｗに施す。なお、フローレシピＦＲの搬送順番８と搬送順番９との間には、露光機ＥＸＰへの搬送が行われる。
【００８２】
［設定部３３の動作〜設定工程］
次に、設定部３３が、選択情報ＳＬおよびユニット情報ＵＳを設定・変更する動作について説明する。
【００８３】
ユーザーが選択情報ＳＬ／ユニット情報ＵＳを設定・変更するための命令をタッチパネル３７に入力すると、タッチパネル３７はその命令を設定部３３に出力する。設定部３３は、この命令に基づいて、記憶部３５に記憶される選択情報ＳＬ／ユニット情報ＵＳを書き換える。
【００８４】
また、設定部３３は、タッチパネル３７からの命令に関わらず、ユニット情報ＵＳを自動的に設定・変更することもできる。本実施例では、電源を投入することによって基板処理列５、６の少なくともいずれかが起動されたときには、設定部３３は、起動された基板処理列が有する各処理ユニットのステータスを一律に「第二種」に設定する。言い換えれば、処理ユニットが起動されたときには、設定部３３はそれらの処理ユニットのステータス情報を一旦、「ＴＵ」にリセットする。
【００８５】
なお、選択情報ＳＬやユニット情報ＵＳは、フローレシピＦＲとは別個独立の情報であるので、基板処理列５、６が運転しているときであっても、選択情報ＳＬやユニット情報ＵＳを支障なく設定・変更できる。
【００８６】
また、選択情報ＳＬやユニット情報ＵＳが設定・変更されても、コントローラ３２は、ＩＤ部３および基板処理列５、６の制御内容を直ちに変更しない。以下に説明するように、コントローラ３２の制御内容の変更は、カセットＣの更新時のみに限られている。
【００８７】
［コントローラ３２の動作］
図８を参照して、コントローラ３２が、ＩＤ部３および基板処理列５、６を制御する動作について説明する。図８は、ＩＤ部３および基板処理列５、６を制御する手順を示すフローチャートである。
【００８８】
＜ステップＳ１＞  新規のカセットか？
ＩＤ部３は、カセットＣを随時、新規なカセットＣに更新しながら、基板Ｗを投入する。より詳しく説明すると、ＩＤ部３が基板処理列５、６の少なくともいずれかに基板Ｗを投入するときには、カセットＣ内の全ての基板Ｗを投入し終わるごとに、空になったカセットＣを未処理の基板Ｗが収容された新たなカセットＣに代え、新たなカセットＣから基板Ｗの投入を再開する。コントローラ３２は、カセットＣの更新を監視し、新規なカセットＣに更新される度に、ステップＳ２、Ｓ３、Ｓ４に並列的に進む。そうでないときは、再びステップＳ１に戻る。
【００８９】
＜ステップＳ２＞  カセットの判別
コントローラ３２は、収容器情報ＣＣを参照して、新規なカセットＣが「第一種用」であるか、「第二種用」であるかを判別する。そして、ステップＳ７に進む。
【００９０】
＜ステップＳ３＞  処理列５が選択されているか？  
コントローラ３２は、選択情報ＳＬを参照して、基板処理列５が運転させる基板処理列に選択されているか否かを判断する。選択されていると判断した場合には、ステップＳ４に進む。そうでない場合には、ステップＳ７に進む。
【００９１】
＜ステップＳ４＞  処理列５の判別  〜処理部特定工程
コントローラ３２は、ユニット情報ＵＳを参照して、基板処理列５が１以上の「第二種」の処理ユニットを有しているか否かを判断する。有していると判断したときには、基板処理列５は第二種処理列であると特定する。そうでないときは、基板処理列５が第一種処理列であると特定する。そして、ステップＳ７に進む。
【００９２】
＜ステップＳ５、６＞  〜処理部特定工程
コントローラ３２は、基板処理列６に関しても同様の判別処理を行う。これにより、基板処理列６が選択されているか否かを特定する。また、基板処理列６が選択されている場合には、基板処理列６が第一種処理列および第二種処理列のいずれであるかを特定する。そして、ステップＳ７に進む。
【００９３】
ここで、図７の場合を例に採って、第一種処理列と第二種処理列を説明する。図７に示すように、処理ユニット識別情報ＵＴ１乃至ＵＴ２９に関連付けられるステータス情報は全て「ＰＵ」であり、基板処理列５は「第二種」の処理ユニットを有していない。このため、基板処理列５は第一種処理列であると特定される。また、処理ユニット識別情報ＵＢ２、ＵＢ３、ＵＢ６、ＵＢ７に関連付けられるステータス情報は「ＴＵ」であり、基板処理列６は「第二種」の処理ユニットを有している。このため、基板処理列６は「第二種処理列」であると特定される。
【００９４】
＜ステップＳ７＞  ＩＤ部および基板処理列の制御
コントローラ３２は、ステップＳ２乃至Ｓ６における判別結果と、各種情報に基づいて、ＩＤ部３および基板処理列５、６を以下のように制御する。
【００９５】
基板処理列５が選択情報ＳＬによって選択されていない場合、コントローラ３２は、選択されていない基板処理列５に対応するフローレシピＦＲの部分ＰＴ（図６参照）を無視し、基板処理列５の運転を停止させる。また、コントローラ３２は、ＩＤ部３から基板処理列５への基板Ｗの投入を停止させる。なお、この場合、フローレシピＦＲ自体は変更されない。
【００９６】
基板処理列５が選択されており、かつ、第一種処理列である場合、基板処理列５に対して、「第一種用」のカセットＣから基板Ｗを投入させる。基板処理列５においては、フローレシピＦＲどおりに基板Ｗを搬送させる。
【００９７】
基板処理列５が選択されており、かつ、第二種処理列である場合、基板処理列５に対して、「第二種用」のカセットＣから基板Ｗを投入させる。基板処理列５においては、フローレシピＦＲ、ユニット情報ＵＳおよび第１禁止条件に基づいて基板Ｗを搬送させる。
【００９８】
基板処理列６に関連する制御も、基板処理列５の場合と同様である。すなわち、まず、３つの場合のいずれに該当するかを判断する。３つの場合とは、基板処理列６が選択されていない場合、基板処理列６が選択されており、かつ、第一種処理列である場合、および、基板処理列６が選択されており、かつ、第二種処理列である場合である。そして、各場合に応じて、ＩＤ部３および基板処理列６の制御内容を決定し、実行する。なお、ステップＳ７は、本発明の選択行程、投入工程、第一種処理部処理工程および第二種処理部処理工程に相当する。
【００９９】
図９を参照して、第一種処理列および第二種処理列における基板Ｗの搬送について説明する。図９では、説明の便宜上、各処理ユニットをその識別情報によって模式的に示している。また、参考のため、搬送順番と処理ユニットのカテゴリーを示している。
【０１００】
図９に示す基板処理列５、６は、図７に示すユニット情報ＵＳと対応しており、基板処理列５が第一種処理列であり、基板処理列６が第二種処理列である場合を示している。以下の説明では、基板処理列５／６はいずれも、選択情報ＳＬによって選択されているものとし、基板処理列５／６の制御では、図６に示すフローレシピＦＲが用いられるものとする。
【０１０１】
図９に示すように、基板処理列５では、「第一種用」のカセットＣ１から投入された基板ＷをフローレシピＦＲ通りに搬送し、基板Ｗに一連の処理を施す。この一連の処理は、「第一種」の処理ユニットによる処理のみから構成されている。このような一連の処理を、特に「第一種処理」と呼ぶ。
【０１０２】
基板処理列６に関しては、まず、フローレシピＦＲおよびユニット情報ＵＳを参照して、各搬送順番に対応付けられる処理ユニットが「第一種」および「第二種」のいずれであるか、を特定する。そうすると、搬送順番３に、「第一種」の処理ユニットと「第二種」の処理ユニットの双方が対応付けられていることが判明する。ちなみに、搬送順番１、４乃至１３には「第一種」の処理ユニットのみが対応付けられており、搬送順番２には「第二種」の処理ユニットのみが対応付けられている。
【０１０３】
第１禁止条件は搬送順番３に関して働き、「第一種」の処理ユニット（処理ユニット識別情報ＵＢ４、ＵＢ５に相当する処理ユニット）への基板搬送を禁止し、「第二種」の処理ユニット（ＵＢ６、ＵＢ７）への基板搬送を許容する。言い換えれば、処理ユニット（ＵＢ４、ＵＢ５に）を無視する（無効とみなす）。図９では、無効とみなされた処理ユニットを点線で図示する。また、その他の搬送順番に関しては、第１禁止条件は働かない。
【０１０４】
なお、第１禁止条件が働く場合であっても、働かない場合であっても、フローレシピＦＲ自体は変更されない。
【０１０５】
その結果、基板処理列６では、次のように基板Ｗを搬送する。すなわち、「第二種用」のカセットＣ２から投入された基板Ｗを、搬送順番３では処理ユニット（ＵＢ６、ＵＢ７）のいずれかに搬送し、その他の搬送順番１、２、４乃至１３ではフローレシピＦＲどおりに搬送する。これにより、フローレシピＦＲ上で「第一種」および「第二種」の各処理ユニットのいずれにも基板Ｗを搬送可能な場合には、「第二種」の処理ユニットに優先的に基板Ｗを搬送させることができる。そして、基板Ｗに施される一連の処理は、「第二種」の処理ユニット（ＵＢ２、ＵＢ３）、（ＵＢ６、ＵＢ７）による処理を必ず含むことになる。本明細書では、「第二種」の処理ユニットによる処理を含む一連の処理を、特に「第二種処理」という。
【０１０６】
このように、本実施例によれば、コントローラ３２は、フローレシピＦＲに基づいて第一種処理列を制御し、フローレシピＦＲとユニット情報ＵＳと第１禁止条件とに基づいて第二種処理列を制御する。このため、フローレシピＦＲ自体を変更することなく、基板Ｗを搬送する処理ユニットの順番を異ならせることができる。
【０１０７】
また、複数の基板処理列５、６を備えているので、各基板処理列５、６における当該順番を個別に変更することができる。よって、複数の基板処理列５、６をそれぞれ適切に運転させることができる。さらに、各基板処理列５、６をそれぞれ同時に運転させることができるので、基板処理装置１を効率よく稼動させることができる。
【０１０８】
また、コントローラ３２はユニット情報ＵＳに基づいて第一種、第二種処理列をそれぞれ特定するので、第一種処理列に応じた制御と第二種処理列に応じた制御との間で自動的に切り替えることができる。
【０１０９】
また、本実施例では、「第一種」を処理品質が保証されている処理ユニットのステータスとし、「第二種」を処理品質が保証されていない処理ユニットのステータスとしている。この場合、第一種処理列の運転は製品を生産するための運転となり、第一種処理が施された基板Ｗを製品として扱うことができる。他方、第二種処理列の運転は、処理品質が保証されていない処理ユニットをテストするための運転となる。そして、第二種処理が施された基板Ｗを用いることで、処理ユニットの処理品質を好適に検証できる。
【０１１０】
また、コントローラ３２は基板処理列５、６の判別をカセットＣが更新されるごとに繰り返すので、ユニット情報ＵＳが変更された場合であっても、第一種、第二種処理列をそれぞれ適確に特定することができる。
【０１１１】
また、コントローラ３２は、収容器情報ＣＣに基づいてカセットＣを判別することによって、カセットＣ内の基板Ｗの種類を特定できる。よって、基板Ｗの種類に応じて、基板Ｗを投入する基板処理列５、６を好適に選択することができる。
【０１１２】
特に、収容器情報ＣＣに含まれる分類情報は「第一種用」および「第二種用」の区別を示すので、基板Ｗの種類と基板Ｗに施す処理とを好適に適合させることができる。本実施例では、製品用の基板Ｗに第一種処理を施すことによって、品質のよい製品を生産することができる。また、試験用の基板Ｗに第二種処理を施すことによって、処理ユニットを好適にテストできる。
【０１１３】
さらに、コントローラ３２は「第二種用」のカセットＣから基板Ｗを第二種処理列のみに搬送させ、第一種処理列に搬送させない。これにより、第一種処理列で「第二種用」の基板Ｗを処理させるなど、無用な運転を回避できる。
【０１１４】
また、設定部３３を備えているので、各基板処理列５、６を、第一種処理列と第二種処理列との間で好適に変更することができる。
【０１１５】
また、設定部３３は、基板処理列５／６が起動されたときには、起動された基板処理列５／６が有する各処理ユニットのステータスを自動的に「第二種」に設定する。これにより、各ユニットのステータスを適切、かつ、簡易に設定することができる。本実施例の場合では、基板処理列５／６を起動した後に、各処理ユニットのテストを円滑に行うことができる。
【０１１６】
また、タッチパネル３７を備えているので、ユーザーは、各処理ユニットのステータス（ユニット情報ＵＳ）を容易に変更させることができる。
【０１１７】
また、コントローラ３２が選択情報ＳＬに基づいて制御することによって、フローレシピＦＲを変更せずに、基板処理列５／６の運転・停止を個別に切り換えることができる。
【実施例２】
【０１１８】
以下、図面を参照してこの発明の実施例２を説明する。実施例２の基板処理装置１の構成は、基本的に実施例１と同様であるが、記憶部３５に記憶される情報が異なる。なお、実施例１と同じ構成については同符号を付すことで詳細な説明を省略する。
【０１１９】
便宜上、図５を参照して、説明する。記憶部３５に記憶される禁止条件は、第１禁止条件のほかに、第２禁止条件を含む。第２禁止条件は、「第二種」の処理ユニットへの基板搬送を禁止する。
【０１２０】
次に、実施例２に係る基板処理装置１の動作について説明する。実施例２では、コントローラ３２の制御に関する動作が、実施例１と異なる。そこで、コントローラ３２の動作について説明する。
【０１２１】
［コントローラ３２の動作］
ＩＤ部３および基板処理列５、６を制御する手順は、基本的に実施例１と同様であるので、便宜上、図８を参照して、説明する。
【０１２２】
＜ステップＳ１＞  新規のカセットか？
コントローラ３２は、カセットＣが更新されるたびに、ステップＳ２、Ｓ３、Ｓ４に並列的に進む。そうでないときは、再びステップＳ１に戻る。
【０１２３】
＜ステップＳ２＞  カセットの判別
コントローラ３２は、収容器情報ＣＣを参照して、カセットＣが「第一種用」であるか、「第二種用」であるかを判別する。そして、ステップＳ７に進む。
【０１２４】
＜ステップＳ３＞  処理列５が選択されているか？
コントローラ３２は、選択情報ＳＬを参照して、基板処理列５が選択されているか否かを判断する。選択されていると判断した場合には、ステップＳ４に進む。そうでない場合には、ステップＳ７に進む。
【０１２５】
＜ステップＳ４＞  処理列５の判別
コントローラ３２は、ユニット情報ＵＳを参照して、基板処理列５が第二種処理列であるか、または、第一種処理列であるか、を特定する。基板処理列５が第二処理列であると特定したときは、コントローラ３２は、さらに、ユニット情報ＵＳおよびフローレシピＦＲを参照して、各搬送順番１乃至１３に少なくとも１以上の「第一種」の処理ユニットが対応付けられているか否かを判断する。対応付けられていると判断したときは、基板処理列５が基板Ｗに第一種処理を行うことが可能であるとみなす。そして、ステップＳ７に進む。
【０１２６】
＜ステップＳ５、６＞
コントローラ３２は、基板処理列６に関しても、同様の判別処理を行う。
【０１２７】
ここで、基板Ｗに第一種処理を行うことが可能な第二種処理列とそうでない第二処理列について説明する。図７に示すユニット情報ＵＳの場合、基板処理列６は第二処理列である。図６に示すフローレシピＦＲを併せて参照すると、搬送順番２には、「第二種」の処理ユニット（ＵＢ２、ＵＢ３）のみが対応づけられ、「第一種」の処理ユニットが対応付けられていない。よって、図６、７の場合、基板処理列６は、基板Ｗに第一種処理を行うことが可能ではない第二種処理列と判定される。
【０１２８】
仮に、図７に示すユニット情報ＵＳにおいて、処理ユニット識別情報ＵＢ２、ＵＢ３に対応する処理ユニットの少なくともいずれかのステータスが「第一種」に変わると、基板処理列６は、基板Ｗに第一種処理を行うことが可能となる。
【０１２９】
＜ステップＳ７＞  ＩＤ部および基板処理列の制御
コントローラ３２は、ステップＳ２乃至Ｓ６における判別結果と、各種情報に基づいて、ＩＤ部３および基板処理列５、６を以下のように制御する。
【０１３０】
基板処理列５が選択情報ＳＬによって選択されていない場合、基板処理列５の運転を停止させ、ＩＤ部３から基板処理列５への基板Ｗの投入を停止させる。
【０１３１】
基板処理列５が選択されており、かつ、第一種処理列である場合、基板処理列５に対して、「第一種用」のカセットＣから基板Ｗを投入させる。基板処理列５においては、フローレシピＦＲどおりに基板Ｗを搬送させる。
【０１３２】
基板処理列５が選択されており、基板Ｗに第一種処理を行うことが可能ではない第二種処理列である場合、基板処理列５に対して、「第二種用」のカセットＣから基板Ｗを投入させる。基板処理列５においては、フローレシピＦＲ、ユニット情報ＵＳおよび第１禁止条件に基づいて基板Ｗを搬送させる。
【０１３３】
基板処理列５が選択されており、基板Ｗに第一種処理を行うことが可能である第二種処理列である場合、基板処理列５に対して、「第二種用」のカセットＣから基板Ｗを投入させるのみならず、「第一種用」のカセットＣから基板Ｗを投入する。基板処理列５においては、「第一種用」のカセットＣの基板Ｗについては、フローレシピＦＲ、ユニット情報ＵＳおよび第２禁止条件に基づいて搬送させる。また、「第二種用」のカセットＣの基板Ｗについては、フローレシピＦＲ、ユニット情報ＵＳおよび第１禁止条件に基づいて基板Ｗを搬送させる。
【０１３４】
基板処理列６に関する制御も、基板処理列５の場合と同様である。
【０１３５】
図１０を参照して、第一種処理列および第二種処理列における基板Ｗの搬送について説明する。図１０では、説明の便宜上、各処理ユニットをその識別情報によって模式的に示している。
【０１３６】
図１０に示す基板処理列５、６は、図７に示すユニット情報ＵＳにおいて、処理ユニット識別情報ＵＢ２、ＵＢ３に対応する各処理ユニットのステータスを「第一種」に置き換えたものと対応する。また、基板処理列５／６の制御では、図６に示すフローレシピＦＲが用いられるものとする。そうすると、図１０に示す基板処理列５は第一種処理列であり、基板処理列６は第一種処理を基板Ｗに行うことが可能な第二種処理列である。
【０１３７】
図１０に示すように、基板処理列５に対しては、「第一種用」のカセットＣ１から基板Ｗが投入される。基板処理列５では、基板ＷをフローレシピＦＲ通りに搬送し、基板Ｗに第一種処理を施す。
【０１３８】
基板処理列６に対しては、「第一種用」のカセットＣ１および「第二種用」のカセットＣ２の双方から基板Ｗが投入される。ここで、前者を「「第一種用」の基板Ｗ」と呼び、後者を「「第二種用」の基板Ｗ」と呼ぶ。基板処理列６では、「第一種用」の基板Ｗと「第二種用」の基板Ｗとで、基板Ｗを搬送する処理ユニットの順番が異なる。
【０１３９】
「第一種用」の基板Ｗを搬送する場合、第２禁止条件によって、処理ユニット（ＵＢ６、ＵＢ７）への基板Ｗの搬送を禁止する。その結果、搬送順番３では、基板Ｗは処理ユニット（ＵＢ４、ＵＢ５）のいずれかに必ず搬送され、処理ユニット（ＵＢ６、ＵＢ７）に搬送されることは無い。それ以外の搬送順番では、フローレシピＦＲどおりに基板Ｗが搬送される。これにより、基板Ｗに第一種処理が施される。
【０１４０】
「第二種用」の基板Ｗを搬送する場合、第１禁止条件によって、処理ユニット（ＵＢ４、ＵＢ５）への基板Ｗの搬送を禁止する。その結果、搬送順番３では、基板Ｗは処理ユニット（ＵＢ６、ＵＢ７）のいずれかに必ず搬送される。それ以外の搬送順番では、フローレシピＦＲどおりに基板Ｗが搬送される。これにより、基板Ｗに第二種処理が施される。
【０１４１】
なお、第１、第２禁止条件のいずれが働く場合であっても、フローレシピＦＲ自体は変更されない。
【０１４２】
このように、本実施例２によっても、実施例１と同様な効果を奏する。すなわち、フローレシピＦＲ自体を変更することなく、第一、第二種処理列の間で基板Ｗを搬送する処理ユニットの順番を異ならせることができる。
【０１４３】
さらに、本実施例２によれば、コントローラ３２がフローレシピＦＲ、ユニット情報ＵＳおよび第２禁止条件に基づいて第二種処理列を制御することによって、フローレシピＦＲを変更することなく、第二種処理列において基板Ｗに第一種処理を行うことができる。これにより、第二種処理列に属する「第一種」の処理ユニットを有効に稼動させることができる。
【０１４４】
また、同じ第二種処理列において、一部の基板Ｗに第二種処理を行わせながら、他の基板Ｗに第一種処理を行わせることができるので、第二種処理列を一層有効に稼動させることができる。
【０１４５】
また、第二種処理列において第一種処理を基板Ｗに行わせるときには、コントローラ３２は、「第一種用」のカセットＣから第二種処理列に基板Ｗを投入するので、基板Ｗの種類と基板Ｗに施す処理とを好適に適合させることができる。
【０１４６】
また、コントローラ３２は、フローレシピＦＲとユニット情報ＵＳとに基づいて、第二種処理列が第一種処理を基板Ｗに行うことが可能であるか否かを判断するので、第二種処理列に関する制御を自動的に切り替えることができる。
【０１４７】
この発明は、上記実施形態に限られることはなく、下記のように変形実施することができる。
【０１４８】
（１）上述した実施例１、２では、搬送順番、処理ユニット識別情報およびカテゴリーが互いに関連付けられたフローレシピＦＲを例示したが、フローレシピＦＲの構成はこれに限られない。例えば、カテゴリーを含まないフローレシピに変更してもよいし、その他の情報を含むフローレシピに変更してもよい。
【０１４９】
（２）上述した実施例１、２では、ユニット情報ＵＳは、「第１種」および「第２種」の処理ユニットを特定可能に構成されていたが、これに限られない。すなわち、ユニット情報ＵＳは、「第１種」、「第２種」のみならず、他のステータスの処理ユニットを特定可能であってもよい。他のステータスとしては、たとえば、停止している状態、異常である状態または故障している状態等が例示される。これに応じて、ステータス情報も適宜に変更してもよい。
【０１５０】
上述したように、各処理ユニットのステータスを「第１種」、「第２種」を含む３以上に区分する場合であっても、第一種処理列および第二種処理列の定義は変わらない。たとえば、基板処理列５が停止状態の処理ユニットを有している場合であっても、「第二種」の処理ユニットを有していない限り、基板処理列５は第一種処理列である。このような場合には、予め、停止状態の処理ユニットへの基板Ｗの搬送を禁止する第３禁止条件を禁止条件として規定しておき、この第３禁止条件とフローレシピＦＲとに基づいて第一種処理列を制御することによって、第一種処理列を好適に運転させることができる。
【０１５１】
（３）上述した実施例１、２では、「第１種」は処理品質が保証されている処理ユニットの状態を意味し、「第二種」は処理品質が保証されていない処理ユニットの状態を意味したが、これに限られない。「第１種」および「第二種」によって規定される処理ユニットの状態は、基板処理列５、６の運用に応じて適宜に選択、変更することができる。
【０１５２】
（４）上述した実施例１、２では、収容器情報ＣＣは、「第一種用」のカセットＣと「第二種用」のカセットＣとを特定可能に構成されていたが、これに限られない。すなわち、収容器情報ＣＣは、「第１種用」、「第２種用」を含む３以上の種別に、カセットＣを分類してもよい。これに応じて、分類情報を適宜に変更してもよい。
【０１５３】
（５）上述した実施例１、２では、基板処理列識別情報ＬＴ、ＬＢに設定情報が対応付けられた選択情報ＳＬを例示したが、これに限られない。その他の情報を含む選択情報に変更してもよい。
【０１５４】
（６）上述した実施例１、２では、コントローラ３２による制御内容の変更を、カセットＣの更新時のみに限られていたが、これに限られない。たとえば、その他のタイミングで制御内容の変更をしてもよい。
【０１５５】
（７）上述した実施例１、２では、入力部としてタッチパネル３７を例示したが、これに限られない。タッチパネル３７に代えて、物理的なボタンスイッチ等で入力部を構成してもよい。
【０１５６】
（８）上述した実施例１、２では、基板処理列５、６がともに第一種処理列であるときには、同じカセットＣから基板処理列５、６に基板Ｗを振り分け搬送したが、これに限られない。すなわち、基板処理列５に基板Ｗを供給するカセットＣと、基板処理列６に基板Ｗを供給するカセットＣとが異なっていてもよい。この場合には、コントローラ３２は、各基板処理列５、６に関する制御を別個独立に行うことができる。すなわち、コントローラ３２は、基板処理列５用のカセットＣが更新される度に基板処理列５に関する制御を決定・実行し、基板処理列６用のカセットＣが更新される度に基板処理列６に関する制御を決定・実行すればよい。
【０１５７】
（９）上述した実施例１、２では、基板処理列５、６は２基の主搬送機構Ｔ１、Ｔ２を備えていたが、これに限られない。例えば、１基の主搬送機構を備える基板処理部に変更してもよいし、３基以上の主搬送機構を備える基板処理部に変更してもよい。
【０１５８】
（１０）上述した実施例１、２では、各種の処理ユニットは、基本的に、基板Ｗを１枚ずつ処理する処理ユニット（いわゆる「枚葉式処理ユニット」）であったが、これに限られない。例えば、複数枚の基板Ｗを一括して処理する処理ユニット（いわゆる「バッチ式処理ユニット」）に変更してもよい。
【０１５９】
（１１）上述した実施例１、２では、基板処理列５、６は、同じ処理を行うものであったが、これに限られない。すなわち、基板処理列５、６が互いに異なる処理を行うように変更してもよい。
【０１６０】
（１２）上述した実施例１、２では、一連の処理は、基板Ｗにレジスト膜等を形成し、かつ、基板Ｗを現像する処理であったが、これに限られない。例えば、一連の処理の内容を、処理対象の基板Ｗに応じて適宜に変更してもよい。
【０１６１】
（１３）上述した実施例１、２では、基板処理装置１は２つの基板処理列５、６を備えていたが、これに限られない。すなわち、３以上の基板処理部を備えるように変更してもよい。
【０１６２】
（１４）上述した各実施例１、２および各変形実施例の各構成を適宜に組み合わせるように変更してもよい。
【符号の説明】
【０１６３】
１  …基板処理装置
３  …インデクサ部（ＩＤ部）
５、６  …基板処理列（基板処理部）
３１  …制御部
３７  …タッチパネル（入力部）
Ｃ、Ｃ１、Ｃ２  …カセット（収容器）
Ｔ１、Ｔ２  …主搬送機構
Ｗ  …基板
ＦＲ  …フローレシピ（搬送順序情報）
ＵＳ  …ユニット情報
ＣＣ  …収容器情報
ＳＬ  …選択情報
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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