(57)【要約】      （修正有）【課題】薄膜化が可能で、かつ、画像表示装置の表示画面をフラットなものとすることができ、湿度変化に対する寸法変化を抑制してカールの発生を防止でき、偏光特性を有するサングラスをかけた状態で視認した場合であっても、色味変化が抑制された偏光板一体型光学積層体を提供する。【解決手段】画像表示パネルの表示画面側に配置され、偏光素子フィルム１１上に光学積層体が積層された偏光板一体型光学積層体１０であって、光学積層体は、面内に複屈折率を有する光透過性基材１２、光透過性基材１２の偏光素子フィルム１１と反対側面上の外周に沿って形成された遮蔽層１３、及び、光透過性基材１２及び遮蔽層１３上に設けられたハードコート層１４を有し、光透過性基材１２は、リタデーションが３０００ｎｍ以上であり、偏光素子フィルム１１上に光学積層体の光透過性基材１２が設けられている。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
画像表示パネルの表示画面側に配置され、偏光素子フィルム上に光学積層体が積層された偏光板一体型光学積層体であって、
前記光学積層体は、面内に複屈折率を有する光透過性基材、該光透過性基材の前記偏光素子フィルムと反対側面上の外周に沿って形成された遮蔽層、及び、前記光透過性基材及び前記遮蔽層上に設けられたハードコート層を有し、
前記光透過性基材は、リタデーションが３０００ｎｍ以上であり、
前記偏光素子フィルム上に前記光学積層体の光透過性基材が設けられている
ことを特徴とする偏光板一体型光学積層体。
【請求項２】
面内に複屈折率を有する光透過性基材は、該光透過性基材の面内において最も屈折率が大きい方向である遅相軸方向と、偏光素子フィルムの吸収軸方向とのなす角度が、４５°±１５°の範囲となるように積層されている請求項１記載の偏光板一体型光学積層体。
【請求項３】
遮蔽層は、表示画面側から観察したときに、画像表示パネルを駆動させるドライバＩＣを隠蔽する領域に形成されている請求項１又は２記載の偏光板一体型光学積層体。
【請求項４】
遮蔽層は、厚みが２．０〜５．０μｍである請求項１、２又は３記載の偏光板一体型光学積層体。
【請求項５】
遮蔽層は、透過濃度が３．０〜５．６である請求項１、２、３又は４記載の偏光板一体型光学積層体。
【請求項６】
請求項１、２、３、４又は５記載の偏光板一体型光学積層体を備えることを特徴とする画像表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、偏光板と光学積層体とが一体となった偏光板一体型光学積層体に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置（ＬＣＤ）では、通常、液晶セルの表裏に一対の偏光板が配置され、有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）表示装置では、有機ＥＬ素子の視認側に、偏光板、特に楕円ないし円偏光板を設置して、反射防止機能を持たせることが多い。そして、これらの偏光板には、最表面に反射防止性、ハードコート性等の機能を有する光学積層体が設けられている。
【０００３】
また、一般に、画像表示パネルは、表示画面から外れる外周部に該画像表示パネルを駆動させるドライバＩＣ等が設けられている。そして、画像表示装置には表示画面の周囲を囲うようにベゼル（メタルカバー）と言われる枠状の部材が最表面に設けられ、該ベゼルによりドライバＩＣを表示画面から隠蔽している（例えば、特許文献１、２等参照）。
ところで、近年、画像表示装置は、薄型化とともに表示画面のフラット化が進められているが、このようなベゼルを備えた構成の画像表示装置では、ベゼルが表示画面から飛び出した状態となり、フラットな表示画面とすることができなかった。
【０００４】
そこで、例えば、画像表示パネルを駆動させるドライバＩＣを隠蔽するための枠を、光学積層体と偏光素子フィルムとの間に印刷により形成した偏光板一体型光学積層体を、画像表示パネルの表示画面側に配置し、画像表示装置の表示画面をフラットにする方法が考えられている。
このような構成の偏光板一体型光学積層体は、最表面にドライバＩＣを隠蔽するためのベゼルが不要であるため、表示画面のフラット化を図ることができる。
しかしながら、画像表示装置の薄膜化には、偏光板一体型光学積層体の薄膜化が必須であるところ、このような構成の偏光板一体型光学積層体は、従来の偏光フィルムと光学積層体との間に、更にドライバＩＣを隠蔽するための枠を含む層を形成する必要があるため、薄膜化の要請に充分応えることができないものであった。
【０００５】
また、従来、光学積層体は、光透過性基材上にハードコート層が積層された構成を有しており、この光透過性基材としては、トリアセチルセルロースに代表されるセルロースエステルからなるフィルムが用いられていた（例えば、特許文献３等参照）。これは、セルロースエステルは、透明性、光学等方性に優れ、面内にほとんど位相差を持たない（面内にほとんど複屈折を有さない）ため、入射直線偏光の振動方向を変化させることが極めて少なく、画像表示装置の表示品質への影響が少ないことや、適度な透水性を有することから、光学積層体一体型偏光板を製造した時に偏光子に残留した水分を、光学積層体を通して乾燥させることができる等の利点に基づくものである。
しかしながら、セルロースエステルフィルムは、コスト的には不利な素材であり、また、耐湿性、耐熱性が充分でなく、光学積層体を偏光板保護フィルムとして高温多湿の環境下で使用すると、セルロースエステルフィルムが膨張したり収縮したりすることで応力が生じ、例えば、画像表示装置がＬＣＤであった場合、液晶セル全体がカールし、表示品位が低下するという問題があった。なお、液晶セル全体がカールし、表示品位が低下する例としては、例えば、液晶セルがカールして、バックライト部材と密着することにより、部分的にモアレやムラを生じることなどが挙げられる。このような問題は、近年のノートパソコン用ＬＣＤ、携帯端末用ＬＣＤ、携帯電話用ＬＣＤ等の薄型化の中で、液晶セルのガラス板が、従来０．５〜１ｍｍ厚であったものが、０．５ｍｍ厚未満のガラス板の採用が進んでいるためである。
また、画像表示装置が有機ＥＬ表示装置であった場合、外光反射防止の目的で設置される円偏光板は、有機ＥＬ素子の視認側のみに設置されるため、このカールの問題は更に顕著となる。
【０００６】
このような問題点に対し、例えば、偏光子の保護層として、耐湿性、耐熱性に優れる環状オレフィンポリマー（ＣＯＰ）フィルムを用いることで、湿度に対する寸法変化を小さくすることができることが知られている。また、シクロオレフィンポリマーを用いたλ／４位相差フィルムを偏光子の観測者側の保護層として使用することで、出射側の偏光が円偏光になるために、サングラスをかけた状態で表示画面が見えなくなるという不具合を解消できる技術が提案されている（例えば、特許文献４参照）。
しかしながら、このようなＣＯＰフィルムを偏光子の保護層とした円偏光板を画像表示装置に用いると、偏光特性を有するサングラスをかけた状態で視認しつつ、該画像表示装置を表示画面の外周方向に回転させた場合、表示画像に色味変化が生じるという問題があった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２００５−２１５１８５号公報
【特許文献２】特開２０１０−２７１６２９号公報
【特許文献３】特開２００３−１４９４３８号公報
【特許文献４】特開２０１１−１１３０１８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明は、上記現状に鑑みて、薄膜化が可能で、かつ、画像表示装置の表示画面をフラットなものとすることができ、湿度変化に対する寸法変化を抑制してカールの発生を防止でき、偏光特性を有するサングラスをかけた状態で視認した場合であっても、色味変化が抑制された偏光板一体型光学積層体を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明は、画像表示パネルの表示画面側に配置され、偏光素子フィルム上に光学積層体が積層された偏光板一体型光学積層体であって、上記光学積層体は、面内に複屈折率を有する光透過性基材、該光透過性基材の上記偏光素子フィルムと反対側面上の外周に沿って形成された遮蔽層、及び、上記光透過性基材及び上記遮蔽層上に設けられたハードコート層を有し、上記光透過性基材は、リタデーションが３０００ｎｍ以上であり、上記偏光素子フィルム上に前記光学積層体の光透過性基材が設けられていることを特徴とする偏光板一体型光学積層体である。
【００１０】
本発明の偏光板一体型光学積層体において、上記面内に複屈折率を有する光透過性基材は、該光透過性基材の面内において最も屈折率が大きい方向である遅相軸方向と、上記偏光素子フィルムの吸収軸方向とのなす角度が、４５°±１５°の範囲となるように積層されていることが好ましい。
また、上記遮蔽層は、表示画面側から観察したときに、画像表示パネルを駆動させるドライバＩＣを隠蔽する領域に形成されていることが好ましい。
また、上記遮蔽層は、厚みが２．０〜５．０μｍであり、透過濃度が３．０〜５．６であることが好ましい。
本発明はまた、本発明の偏光板一体型光学積層体を備えることを特徴とする画像表示装置でもある。
以下に、本発明を詳細に説明する。
なお、本発明では、特別な記載がない限り、モノマー、オリゴマー、プレポリマー等の硬化性樹脂前駆体を、“樹脂”と記載する。
【００１１】
本発明者らは、従来の偏光板一体型光学積層体について鋭意検討した結果、画像表示パネルを制御するドライバＩＣを表示画面から隠蔽する遮蔽層を光学積層体中、具体的には、光透過性基材と該光透過性基材上に設けられたハードコート層との間に設けることで、光学積層体の膜厚を厚くすることなく上記ドライバＩＣの表示画面から隠蔽することができ、その結果、薄膜化及び表示画面のフラット化を好適に図ることができることを見出し、本発明を完成するに至った。
【００１２】
図１は、本発明の偏光板一体型光学積層体の一例を模式的に示す断面図である。
図１に示したように、本発明の偏光板一体型光学積層体１０は、偏光素子フィルム１１上に、光透過性基材１２及びハードコート層１４を有する光学積層体が積層されている。
上記光学積層体は、光透過性基材１２の偏光素子フィルム１１と反対側面上の外周沿って形成された遮蔽層１３が形成されており、ハードコート層１４は、光透過性基材１２及び遮蔽層１３上に設けられている。
【００１３】
ここで、従来、偏光素子フィルムは、偏光素子上にトリアセチルセルロース基板等の保護基板が貼り付けられた構成を有するものであり、従来の偏光板一体型光学積層体では、偏光素子フィルムの保護基板上に光学積層体が配設されていた。これに対し、本発明の偏光板一体型光学積層体は、上記偏光素子上に直接光学積層体が配設されている。すなわち、本発明の偏光板一体型光学積層体では、上記光学積層体の光透過性基材が、上記偏光素子フィルムの偏光素子の保護フィルムの役割を兼ねている。このような構成であることで、本発明の偏光板一体型光学積層体は、従来の偏光板一体型光学積層体における偏光素子フィルムの保護フィルムが省略され、薄膜化を図ることができる。
【００１４】
上記偏光素子フィルムとしては、例えば、ポリビニルアルコール偏光素子に代表される。
上記ポリビニルアルコール偏光素子は、ポリビニルアルコール系フィルムにヨウ素や二色性染料を吸着せしめた偏光素子である。
上記ポリビニルアルコール系フィルムとしては特に限定されず、通常使用されているポリビニルアルコール系フィルムを使用することができる。例えば、ポリビニルアルコールフィルム、ポリビニルホルマールフィルム、ポリビニルアセタールフィルム、ポリ（エチレン−酢酸ビニル）共重合体フィルム等を一軸に延伸したもの等が挙げられる。
上記ポリビニルアルコール系フィルムの厚みも特に限定されず、例えば、５〜１５０μｍ程度のものが用いられる。
本発明の偏光板一体型光学積層体では、上記偏光素子フィルムに後述する光学積層体が直接貼り付けられる。
【００１５】
本発明の偏光板一体型光学積層体において、上記遮蔽層は、上記光透過性基材の上記偏光素子フィルムと反対側面上の外周に沿って形成されており、その形状としては、例えば、枠状が挙げられる。
このような遮蔽層は、画像表示パネルのドライバＩＣを表示画面から隠蔽する役割を果たす部材であり、表示画面側から観察したときに、画像表示パネルを駆動させるドライバＩＣを隠蔽する領域に形成されていることが好ましい。
上記遮蔽層は、偏光板一体型光学積層体の外周部からの幅（図１に示した遮蔽層１３における横幅）は、遮蔽するドライバＩＣの大きさにより適宜決定されるが、厚みは２．０〜５．０μｍであることが好ましい。２．０μｍ未満であると、ドライバＩＣを充分に遮蔽できる程度の黒色濃度が得られないことがあり、５．０μｍを超えると、光透過性基材との段差が大きくなり、ハードコート層との間に気泡噛みが発生しやすくなる。また、薄膜化の要請上好ましくない。上記遮蔽層の厚みのより好ましい下限は３．０μｍ、より好ましい上限は４．５μｍである。
【００１６】
また、上記遮蔽層は、透過濃度が３．０〜５．６であることが好ましい。３．０未満であると、ドライバＩＣを充分に遮蔽できないことがあり、５．６を超えるには、遮蔽層厚みを過度に厚くする必要があり好適ではない。上記透過濃度のより好ましい下限は３．３、より好ましい上限は５．５である。なお、上記透過濃度は、ＩＳＯ  ５−２（２００９）で準拠した、フィルム等を対象とした入射光に対する透過光の比率として計測される光学濃度を意味する。
【００１７】
上記遮蔽層は、遮光性の顔料をバインダー樹脂成分中に分散させた遮蔽層用組成物を用いて形成することができる。
上記遮光性の顔料としては特に限定されないが、カーボンブラック、アニリンブラック、ペリレンブラック等の有機系ブラック顔料、銅、鉄、クロム、マンガン、コバルト、チタン等を含有した無機系ブラック顔料、アルミニウムや雲母等の燐片状遮蔽物質を混合した黒色染料等が挙げられ、なかでも、カーボンブラックが好適に用いられる。
【００１８】
上記遮光性の顔料の含有量としては、目的とする遮蔽層の透過濃度に応じて適宜決定されるが、好ましくは、上記遮蔽層用組成物の固形分１００質量部に対して、１０〜７０質量部である。１０質量部未満であると、充分な透過濃度の遮蔽層を形成できないことがあり、７０質量部を超えると、形成する遮蔽層の強度が不充分となることがある。より好ましい下限は２０質量部であり、より好ましい上限は５０質量部である。
【００１９】
上記バインダー樹脂としては、上記遮光性の顔料を担持し得るものであれば特に限定されず、例えば、エチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、エチルヒドロキシセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、メチルセルロース、酢酸セルロース、酪酸セルロース等のセルロース系樹脂；ポリ塩化ビニル、ポリビニルアルコール、ポリ酢酸ビニル、ポリビニルブチラール、ポリビニルアセトアセタール、ポリビニルピロリドン等のビニル系樹脂；ポリ（メタ）アクリレート、ポリ（メタ）アクリルアミド等のアクリル樹脂；ポリウレタン系樹脂；ポリアミド系樹脂；ポリエステル系樹脂等及びそれらの共重合樹脂や変性した樹脂等が挙げられる。
上記バインダー樹脂は、溶剤乾燥型樹脂、二液反応型樹脂やエネルギー線硬化型樹脂であってもよい。
【００２０】
上記遮蔽層用組成物は、上記カーボンブラック等の遮光性の顔料とバインダー樹脂とを、必要に応じて添加する従来公知の添加剤とともに、適当な有機溶剤や水に溶解又は分散させることで得ることができる。
上記有機溶剤としては、トルエン、酢酸エチル、酢酸ブチル、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、エタノール、イソプロピルアルコール、シクロヘキサノン、ジメチルホルムアミド等が挙げられる。
【００２１】
上記遮蔽層用組成物を用いて上記遮蔽層を形成する方法としては、例えば、グラビア印刷法、スクリーン印刷法、グラビアオフセット印刷法等の公知の方法で光透過性基材上に上記遮蔽層用組成物を塗布し、乾燥、加熱、エネルギー線照射等をすることにより形成することができる。
【００２２】
上記ハードコート層は、上記光透過性基材及び上記遮蔽層上に設けられている。
上記ハードコート層は、バインダー樹脂と溶剤とを含有するハードコート層形成用組成物を用いて形成されたものである。
上記ハードコート層用組成物において、上記バインダー樹脂としては、例えば、紫外線若しくは電子線により硬化する樹脂である電離放射線硬化型樹脂、電離放射線硬化型樹脂と溶剤乾燥型樹脂（塗工時に固形分を調整するために添加した溶剤を乾燥させるだけで、被膜となるような樹脂）との混合物、又は、熱硬化型樹脂が挙げられる。なかでも、電離放射線硬化型樹脂を含有することが好ましい。
【００２３】
上記電離放射線硬化型樹脂としては、例えば、アクリレート系の官能基を有する化合物等の１又は２以上の不飽和結合を有する化合物が挙げられる。１の不飽和結合を有する化合物としては、例えば、エチル（メタ）アクリレート、エチルヘキシル（メタ）アクリレート、スチレン、メチルスチレン、Ｎ−ビニルピロリドン等を挙げることができる。２以上の不飽和結合を有する化合物としては、例えば、ポリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸変性トリ（メタ）アクリレート等の多官能化合物と（メタ）アクリレート等の反応生成物（例えば多価アルコールのポリ（メタ）アクリレートエステル）等が挙げられる。
なお、本明細書において、（メタ）アクリレートとは、アクリレート又はメタクリレートを意味する。
【００２４】
上記化合物のほかに、不飽和二重結合を有する比較的低分子量のポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂等も上記電離放射線硬化型樹脂として使用することができる。
【００２５】
電離放射線硬化型樹脂を紫外線硬化型樹脂として使用する場合には、光重合開始剤を用いることが好ましい。光重合開始剤の具体例としては、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ミヒラーベンゾイルベンゾエート、α−アミノキシムエステル、チオキサントン類、プロピオフェノン類、ベンジル類、ベンゾイン類、アシルホスフィンオキシド類が挙げられる。また、光増感剤を混合して用いることが好ましく、その具体例としては、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、ポリ−ｎ−ブチルホスフィン等が挙げられる。
【００２６】
光重合開始剤としては、ラジカル重合性不飽和基を有する樹脂系の場合は、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、チオキサントン類、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル等を単独又は混合して用いることが好ましい。また、カチオン重合性官能基を有する樹脂系の場合は、光重合開始剤として、芳香族ジアゾニウム塩、芳香族スルホニウム塩、芳香族ヨードニウム塩、メタロセン化合物、ベンゾインスルホン酸エステル等を単独又は混合物として用いることが好ましい。光重合開始剤の添加量は、電離放射線硬化性組成物１００質量部に対し、０．１〜１０質量部であることが好ましい。
【００２７】
電離放射線硬化型樹脂に混合して使用される溶剤乾燥型樹脂としては、主として熱可塑性樹脂が挙げられる。
上記熱可塑性樹脂としては一般的に例示されるものが利用される。上記溶剤乾燥型樹脂の添加により、塗布面の塗膜欠陥を有効に防止することができる。好ましい熱可塑性樹脂の具体例としては、上記熱可塑性樹脂は、一般的に例示されるものが利用される。
上記溶剤乾燥型樹脂の添加により、塗布面の塗膜欠陥を有効に防止することができる。
好ましい熱可塑性樹脂の具体例としては、例えば、スチレン系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、酢酸ビニル系樹脂、ビニルエーテル系樹脂、ハロゲン含有樹脂、脂環式オレフィン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、セルロース誘導体、シリコーン系樹脂、及び、ゴム又はエラストマー等が挙げられる。
上記熱可塑性樹脂としては、通常、非結晶性であり、かつ有機溶剤（特に複数のポリマーや硬化性化合物を溶解可能な共通溶剤）に可溶な樹脂を使用することが好ましい。特に、成形性又は製膜性、透明性や耐候性の高い樹脂、例えば、スチレン系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、脂環式オレフィン系樹脂、ポリエステル系樹脂、セルロース誘導体（セルロースエステル類等）等が好ましい。
【００２８】
上記樹脂として使用できる熱硬化性樹脂としては、フェノール樹脂、尿素樹脂、ジアリルフタレート樹脂、メラニン樹脂、グアナミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、アミノアルキッド樹脂、メラミン−尿素共縮合樹脂、ケイ素樹脂、ポリシロキサン樹脂等を挙げることができる。熱硬化性樹脂を用いる場合、必要に応じて、架橋剤、重合開始剤等の硬化剤、重合促進剤、溶剤、粘度調整剤等を併用して使用することもできる。
【００２９】
また、上記バインダー樹脂としては、ウレタン（メタ）アクリレートも好適に用いられる。上記ウレタン（メタ）アクリレートとしては、具体的には、日本合成化学工業社製の紫光シリーズ、例えば、ＵＶ１７００Ｂ、ＵＶ６３００Ｂ、ＵＶ７６０５Ｂ、ＵＶ７６４０Ｂ、ＵＶ７６００Ｂ等；根上工業社製のアートレジンシリーズ、例えば、アートレジンＵＮ９０００Ｈ、アートレジンＵＮ３３２０ＨＡ、アートレジンＵＮ３３２０ＨＢ、アートレジンＵＮ３３２０ＨＣ、アートレジンＵＮ３３２０ＨＳ、アートレジンＵＮ９０１Ｍ、アートレジンＵＮ９０２ＭＳ、アートレジンＵＮ９０３、アートレジンＵＮ９０４等；新中村化学工業社製のＵＡ１００Ｈ、Ｕ４Ｈ、Ｕ６Ｈ、Ｕ１５ＨＡ、Ｕ４ＨＡ、Ｕ６ＨＡ、ＵＡ３２Ｐ、Ｕ６ＬＰＡ、Ｕ３２４Ａ、Ｕ９ＨＡＭＩ等；ダイセル・サイテック社製のＥｂｅｃｒｙｌシリーズ、例えば、Ｅｂｅｃｒｙｌ１２９０、５１２９、２５４、２６４、２６５、１２５９、１２６４、４８６６、９２６０、８２１０、２０４、２０５、６６０２、２２０、４４５０等；荒川化学工業社製のビームセット５７７等；日本化薬社製のＤＰＨＡ４０Ｈ、ＵＸ５０００、ＵＸ５００１Ｔ；サーマー社製のＣＮ９００６、ＣＮ９６８等が挙げられる。なかでも好ましくは、ＵＶ１７００Ｂ、ＵＶ７６００Ｂ（日本合成化学工業社製）、ＤＰＨＡ４０Ｈ（日本化薬社製）、アートレジンＵＮ９０４、アートレジンＵＮ３３２０ＨＳ（根上工業社製）、ビームセット５７７（荒川化学工業社製）、Ｕ１５ＨＡ（新中村化学工業社製）等が挙げられる。
【００３０】
上記ハードコート層形成用組成物は、上述のバインダー樹脂、及び、必要に応じて光重合開始剤、後述する低屈折率化剤や公知の添加剤を、溶剤に溶解又は分散させることで得ることができる。上記ハードコート層は、上記ハードコート層形成用組成物による塗膜を、上記光透過性基材及び上記遮蔽層上に形成し、上記塗膜を硬化させることにより得ることができる。
【００３１】
上記溶剤としては、バインダー樹脂の種類及び溶解性に応じて選択し使用することができ、少なくとも固形分（複数のポリマー及び硬化性樹脂前駆体、反応開始剤、その他添加剤）を均一に溶解できる溶媒であればよい。そのような溶剤としては、例えば、ケトン類（アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等）、エーテル類（ジオキサン、テトラヒドロフラン等）、脂肪族炭化水素類（ヘキサン等）、脂環式炭化水素類（シクロヘキサン等）、芳香族炭化水素類（トルエン、キシレン等）、ハロゲン化炭素類（ジクロロメタン、ジクロロエタン等）、エステル類（酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等）、アルコール類（エタノール、イソプロパノール、ブタノール、シクロヘキサノール等）、セロソルブ類（メチルセロソルブ、エチルセロソルブ等）、セロソルブアセテート類、スルホキシド類（ジメチルスルホキシド等）、アミド類（ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等）等が例示でき、これらの混合溶媒であってもよい。
【００３２】
また、上記ハードコート層用組成物は、低屈折率化剤として中空状シリカ微粒子を含有することが好ましい。上記低屈折率化剤を含有することで形成するハードコート層の屈折率を直下に設ける層よりも低くすることができ、光反射を防止することができる。
上記低屈折率化剤を含有する場合、その屈折率は、直下の層の屈折率未満であるが、その直下の層との屈折率差は０．０２〜０．３でることが好ましく、より好ましくは０．０５〜０．２である。
また、このときのハードコート層の屈折率自体は、１．４５以下が充分な反射防止性が得られる点で好ましく、より好ましくは１．４０以下、更に好ましくは１．３８以下である。
【００３３】
上記中空状シリカ微粒子とは、例えば、外殻を有し、その内部が多孔質又は空洞になっているシリカ微粒子であり、特開平６−３３０６０６号公報、特開平７−０１３１３７号公報、特開平７−１３３１０５号公報、特開２００１−２３３６１１号公報等に記載された様々な製法で得ることができる。
上記中空状シリカ粒子の含有量としては特に限定されず、形成するハードコート層の屈折率が上記範囲となるよう適宜調整される。
【００３４】
上記ハードコート層形成用組成物中における原料の含有割合（固形分）として特に限定されないが、通常は５〜７０質量％、特に２５〜６０質量％とすることが好ましい。
上記ハードコート層形成用組成物には、ハードコート層の硬度を高くする、硬化収縮を抑える、屈折率を制御する、防眩性を付与する等の目的に応じて、樹脂、分散剤、界面活性剤、公知の帯電防止剤、シランカップリング剤、増粘剤、着色防止剤、着色剤（顔料、染料）、消泡剤、レベリング剤、難燃剤、紫外線吸収剤、接着付与剤、重合禁止剤、酸化防止剤、表面改質剤、易滑剤等の添加剤を添加していてもよい。
【００３５】
上記ハードコート層形成用組成物の調製方法としては各成分を均一に混合できれば特に限定されず、例えば、ペイントシェーカー、ビーズミル、ニーダー、ミキサー等の公知の装置を使用して行うことができる。
【００３６】
上記ハードコート層を形成する工程は、具体的には、上記ハードコート層形成用組成物を光透過性基材及び遮蔽層上に塗布して塗膜を形成し、得られた塗膜を硬化することによって行われる。
上記塗布の方法としては特に限定されず、例えば、スピンコート法、ディップ法、スプレー法、ダイコート法、バーコート法、ロールコーター法、メニスカスコーター法、フレキソ印刷法、スクリーン印刷法、ピードコーター法等の公知の方法を挙げることができる。
【００３７】
上記塗膜の硬化としては特に限定されないが、必要に応じて乾燥し、そして加熱、活性エネルギー線照射等により硬化させて形成することが好ましい。
【００３８】
上記活性エネルギー線照射としては、紫外線又は電子線による照射が挙げられる。上記紫外線源の具体例としては、例えば、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク灯、ブラックライト蛍光灯、メタルハライドランプ灯等の光源が挙げられる。また、紫外線の波長としては、１９０〜３８０ｎｍの波長域を使用することができる。上記電子線源の具体例としては、コッククロフトワルト型、バンデグラフト型、共振変圧器型、絶縁コア変圧器型、又は直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子線加速器が挙げられる。
【００３９】
本発明の光学積層体において、上記ハードコート層の膜厚（硬化時）は、３．０〜２０μｍであることが好ましい。３．０μｍ未満であると、鉛筆硬度がＨ未満となり、ハードコート性が不足することがある。２０μｍを超えると、フィルムの屈曲性が不足し、工程中にクラック（ひび割れ）が起きやすくなる。上記ハードコート層の膜厚（硬化時）のより好ましい下限は５μｍ、より好ましい上限は１５μｍである。
なお、上記ハードコート層の膜厚は、光透過性基材上に形成されたハードコート層の断面を電子顕微鏡（ＳＥＭ、ＴＥＭ、ＳＴＥＭ）で観察し、測定した値である。
【００４０】
本発明の光学積層体では、上述した遮蔽層とハードコート層との間に保護層が設けられていてもよい。
上記保護層は、上記ハードコート層形成用組成物に用いられる溶剤から上記遮蔽層を保護する役割を果たす層であり、上記遮蔽層の表面全体を覆うように形成されていればよい。
このような保護層を構成する樹脂としては、上記ハードコート層用組成物に用いられる溶剤、特に上記遮蔽層へ後述する浸透性溶剤が浸透することを抑える材料からなるものであることが好ましい。このような樹脂としては、例えば、ウレタン系、エポキシ系等の二液反応性インキ等が挙げられる。
【００４１】
本発明の光学積層体は面内に複屈折率を有する光透過性基材を有する。
上記面内に複屈折率を有する光透過性基材としては、上記湿度に対する寸法変化を満たすものであれば特に限定されないが、例えば、ポリカーボネート、シクロオレフィンポリマー、アクリル、ポリエステル等からなる基材が挙げられる。なかでも、コスト及び機械的強度において有利なポリエステル基材であることが好適である。なお、以下の説明では、面内に複屈折率を有する光透過性基材をポリエステル基材として説明する。
【００４２】
上記ポリエステル基材は、リタデーションが３０００ｎｍ以上である。３０００ｎｍ未満であると、本発明の偏光板一体型光学積層体を用いた画像表示装置の表示画像を、偏光特性を有するサングラスをかけた状態で視認しつつ、該画像表示装置を表示画面の外周方向に回転させた場合、表示画像に色差が生じてしまう。一方、上記ポリエステル基材のリタデーションの上限としては特に限定されないが、３万ｎｍ程度であることが好ましい。３万ｎｍを超えると、膜厚が相当に厚くなるため好ましくない。
上記ポリエステル基材のリタデーションは、薄膜化の観点から、５０００〜２５０００ｎｍであることが好ましい。より好ましい範囲は７０００〜２万ｎｍである。
【００４３】
なお、上記リタデーションとは、ポリエステル基材の面内において最も屈折率が大きい方向（遅相軸方向）の屈折率（ｎｘ）と、遅相軸方向と直交する方向（進相軸方向）の屈折率（ｎｙ）と、ポリエステル基材の厚み（ｄ）とにより、以下の式によって表わされるものである。
リタデーション（Ｒｅ）＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ
また、上記リタデーションは、例えば、王子計測機器社製ＫＯＢＲＡ−ＷＲによって測定（測定角０°、測定波長５８９．３ｎｍ）することができる。
また、二枚の偏光板を用いて、ポリエステル基材の配向軸方向（主軸の方向）を求め、配向軸方向に対して直交する二つの軸の屈折率（ｎｘ、ｎｙ）を、アッベ屈折率計（アタゴ社製  ＮＡＲ−４Ｔ）によって求める。ここで、より大きい屈折率を示す軸を遅相軸と定義する。ポリエステル基材の厚みｄ（ｎｍ）は、電気マイクロメータ（アンリツ社製）を用いて測定し、単位をｎｍに換算する。屈折率差（ｎｘ−ｎｙ）と、フィルムの厚みｄ（ｎｍ）との積より、リタデーションを計算することもできる。
なお、屈折率は、アッベ屈折率計や、エリプソメーターを用いて測定することもできるし、分光光度計（島津製作所社製のＵＶ−３１００ＰＣ）を用いて、上記ポリエステル基材上に上記遮蔽層及びハードコート層を設けて光学積層体とした場合、該ハードコート層の波長３８０〜７８０ｎｍの平均反射率（Ｒ）を測定し、得られた平均反射率（Ｒ）から、以下の式を用い、屈折率（ｎ）の値を求めてもよい。
ハードコート層の平均反射率（Ｒ）は、易接着処理のない５０μｍＰＥＴ上にそれぞれの原料組成物を塗布し、１〜３μｍの厚さの硬化膜にし、ＰＥＴの塗布しなかった面（裏面）に、裏面反射を防止するために測定スポット面積よりも大きな幅の黒ビニールテープ（例えば、ヤマトビニールテープＮｏ２００−３８−２１  ３８ｍｍ幅）を貼ってから各硬化膜の平均反射率を測定した。ポリエステル基材の屈折率は、測定面とは反対面に同様に黒ビニールテープを貼ってから測定を行った。
Ｒ（％）＝（１−ｎ）２／（１＋ｎ）２
また、光学積層体となった後にハードコート層の屈折率を測定する方法としては、ハードコート膜をカッターなどで削り取り、粉状態のサンプルを作製し、ＪＩＳ  Ｋ７１４２（２００８）Ｂ法（粉体又は粒状の透明材料用）に従ったベッケ法（屈折率が既知のカーギル試薬を用い、上記粉状態のサンプルをスライドガラスなどに置き、そのサンプル上に試薬を滴下し、試薬でサンプルを浸漬する。その様子を顕微鏡観察によって観察し、サンプルと試薬の屈折率が異なることによってサンプル輪郭に生じる輝線；ベッケ線が目視で観察できなくなる試薬の屈折率を、サンプルの屈折率とする方法）を用いることができる。
ポリエステル基材の場合は、方向によって屈折率が異なるので、ベッケ法ではなく、ハードコート層の処理面に上記黒ビニールテープを貼ることで、平均反射率を測定し求めることができる。
【００４４】
なお、本発明では、上記ｎｘ−ｎｙ（以下、Δｎとも表記する）は、０．０５以上であることが好ましい。上記Δｎが０．０５未満であると、上述したリタデーション値を得るために必要な膜厚が厚くなってしまうことがある。一方、上記Δｎは、０．２５以下であることが好ましい。０．２５を超えると、ポリエステル基材を過度に延伸する必要が生じるため、ポリエステル基材が裂け、破れ等を生じやすくなり、工業材料としての実用性が著しく低下することがある。
以上の観点から、上記Δｎのより好ましい下限は０．０７、より好ましい上限は０．１５である。なお、上記Δｎが０．１５を超えると、耐湿熱性試験でのポリエステル基材の耐久性が劣ることがある。耐湿熱性試験での耐久性が優れることから、上記Δｎの更に好ましい上限は０．１２である。
なお、上記（ｎｘ）としては、１．６６〜１．７８であることが好ましく、より好ましい下限は１．６８、より好ましい上限は１．７３である。また、上記（ｎｙ）としては、１．５５〜１．６５であることが好ましく、より好ましい下限は１．５７、より好ましい上限は１．６２である。
上記ｎｘ及びｎｙが上記範囲にあり、かつ、上述したΔｎの関係を満たすことで、好適な反射防止性能及び明所コントラストの向上を図ることができる。
【００４５】
上記ポリエステル基材を構成する材料としては、上述したリタデーションを充足するものであれば特に限定されないが、芳香族二塩基酸又はそのエステル形成性誘導体とジオール又はそのエステル形成性誘導体とから合成される線状飽和ポリエステルが挙げられる。かかるポリエステルの具体例として、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンイソフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリ（１，４−シクロヘキシレンジメチレンテレフタレート）、ポリエチレン−２，６−ナフタレートを例示することができる。
また、ポリエステル基材に用いられるポリエステルは、これらのポリエステルの共重合体であってもよく、上記ポリエステルを主体（例えば８０モル％以上の成分）とし、少割合（例えば２０モル％以下）の他の種類の樹脂とブレンドしたものであってもよい。上記ポリエステルとしてポリエチレンテレフタレート又はポリエチレン−２，６−ナフタレートが力学的物性や光学物性等のバランスが良いので特に好ましい。特に、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）からなることが好ましい。ポリエチレンテレフタレートは汎用性が高く、入手が容易であるからである。本発明においてはＰＥＴのような、汎用性が極めて高いフィルムであっても、表示品質の高い画像表示装置を作製することが可能な、偏光板一体型光学積層体を得ることができる。更に、ＰＥＴは、透明性、熱又は機械的特性に優れ、延伸加工によりリタデーションの制御が可能であり、固有複屈折が大きく、膜厚が薄くても比較的容易に大きなリタデーションが得られる。
【００４６】
上記ポリエステル基材を得る方法としては、上述したリタデーションを充足する方法であれば特に限定されないが、例えば、材料の上記ＰＥＴ等のポリエステルを溶融し、シート状に押出し成形された未延伸ポリエステルをガラス転移温度以上の温度においてテンター等を用いて横延伸後、熱処理を施す方法が挙げられる。
上記横延伸温度としては、８０〜１３０℃が好ましく、より好ましくは９０〜１２０℃である。また、横延伸倍率は２．５〜６．０倍が好ましく、より好ましくは３．０〜５．５倍である。上記横延伸倍率が６．０倍を超えると、得られるポリエステル基材の透明性が低下しやすくなり、横延伸倍率が２．５倍未満であると、延伸張力も小さくなるため、得られるポリエステル基材の複屈折が小さくなり、リタデーションを３０００ｎｍ以上とできないことがある。
また、本発明においては、二軸延伸試験装置を用いて、上記未延伸ポリエステルの横延伸を上記条件で行った後、該横延伸に対する流れ方向の延伸（以下、縦延伸ともいう）を行ってもよい。この場合、上記縦延伸は、延伸倍率が２倍以下であることが好ましい。上記縦延伸の延伸倍率が２倍を超えると、Δｎの値を上述した好ましい範囲にできないことがある。
また、上記熱処理時の処理温度はしては、１００〜２５０℃が好ましく、より好ましくは１８０〜２４５℃である。
【００４７】
上述した方法で作製したポリエステル基材のリタデーションを３０００ｎｍ以上に制御する方法としては、延伸倍率や延伸温度、作製するポリエステル基材の膜厚を適宜設定する方法が挙げられる。具体的には、例えば、延伸倍率が高いほど、延伸温度が低いほど、また、膜厚が厚いほど、高いリタデーションを得やすくなり、延伸倍率が低いほど、延伸温度が高いほど、また、膜厚が薄いほど、低いリタデーションを得やすくなる。
【００４８】
上記ポリエステル基材の厚みとしては、１０〜４００μｍの範囲内であることが好ましい。１０μｍ未満であると、上記ポリエステル基材のリタデーションを３０００ｎｍ以上にできず、また、力学特性の異方性が顕著となり、裂け、破れ等を生じやすくなり、工業材料としての実用性が著しく低下することがある。一方、４００μｍを超えると、ポリエステル基材が非常に剛直であり、高分子フィルム特有のしなやかさが低下し、やはり工業材料としての実用性が低下するので好ましくない。上記ポリエステル基材の厚さのより好ましい下限は５０μｍ、より好ましい上限は３００μｍであり、更により好ましい上限は２００μｍである。
【００４９】
また、上記ポリエステル基材は、可視光領域における透過率が８０％以上であることが好ましく、８４％以上であるものがより好ましい。なお、上記透過率は、ＪＩＳ  Ｋ７３６１−１（プラスチック−透明材料の全光透過率の試験方法）により測定することができる。
【００５０】
また、本発明において、上記ポリエステル基材には本発明の趣旨を逸脱しない範囲で、けん化処理、グロー放電処理、コロナ放電処理、紫外線（ＵＶ）処理、及び火炎処理等の表面処理を行ってもよい。
【００５１】
上記ポリエステル基材は、湿度に対する寸法変化率が０．６％以下であることが好ましい。０．６％を超えると、本発明の偏光板一体型光学積層体を画像表示装置に用いた場合、湿度変化によるポリエステル基材の寸法変化が大きくなり、カールが発生し、表示品位を低下させることがある。上記寸法変化率は、より好ましい上限は０．３％であり、更に好ましい上限は０．１％である。
なお、本明細書において、上記寸法変化率とは、上記ポリエステル基材を、３０℃０％ＲＨの状態で保持した後、３０℃９０％ＲＨの状態に変化させたときの寸法変化率のことであり、以下の式により算出される。
【数１】
2014006447.tif 000003
なお、上記式において、「３０℃９０％ＲＨ環境下での寸法」及び「３０℃０％ＲＨ環境下での寸法」とは、上記ポリエステル基材を、それぞれ３０℃９０％ＲＨ環境下及び３０℃０％ＲＨ環境下で保持したときの、遅相軸方向と該遅相軸方向に直交する方向との所定の２点間の長さの平均値である。
【００５２】
本発明の偏光板一体型光学積層体において、上記ポリエステル基材は、該ポリエステル基材の面内において最も屈折率の大きい方向である遅相軸方向と、上記偏光素子フィルムの吸収軸とのなす角度が、好ましくは４５°±１５°の範囲となるように、より好ましくは４５°±５°の範囲となるように積層されている。なお、上記ポリエステル基材の遅相軸方向と、上記偏光素子フィルムの吸収軸とのなす角度とは、本発明の偏光板一体型光学積層体を表示画面となる側から観察したときの上記遅相軸と吸収軸とがなす角度である。
上記遅相軸方向と吸収軸方向とが上記範囲内の角度となるように、上記ポリエステル基材が積層されていることで、サングラス着用時にも、本発明の偏光板一体型光学積層体を用いたＬＣＤ等の画像表示装置の表示画面の視認性に優れるものとすることができるからである。その理由は、クロスニコル状態に置かれた２枚の偏光板の吸収軸に対し、上記ポリエステル基材の上記遅相軸がある角度θで設置された時、光の透過率（Ｉ／Ｉ０）は下記式で表されるわけであるが、上記範囲内であれば、透過率が充分に上がるからである。
Ｉ／Ｉ０＝ｓｉｎ２２θ・ｓｉｎ２（πＲｅ／λ）
なお、上記式中、Ｉは、クロスニコル状態に置かれた２枚の偏光板を透過した光の強度を示し、Ｉ０は、クロスニコル状態に置かれた２枚の偏光板に入射する光の強度を示し、Ｒｅは、上記ポリエステル基材のリタデーションを示し、λは波長を示す。
【００５３】
上記光学積層体は、また、光透過性等が損なわれない範囲内で、必要に応じて他の層（帯電防止層、防眩層、低屈折率層、防汚層、接着剤層、他のハードコート層等）の１層又は２層以上を適宜形成することができる。なかでも、帯電防止層、防眩層、低屈折率層及び防汚層のうち少なくとも一層を有することが好ましい。これらの層は、公知の光学積層体と同様のものを採用することができる。
【００５４】
上記光学積層体は、全光線透過率が９０％以上であることが好ましい。９０％未満であると、本発明の偏光板一体型光学積層体を画像表示装置の表面に装着した場合において、色再現性や視認性を損なうおそれがある。上記全光線透過率は、９５％以上であることがより好ましく、９８％以上であることが更に好ましい。
【００５５】
また、上記光学積層体は、ヘイズが１％未満であることが好ましく、０．５％未満であることがより好ましい。また、公知の防眩層を形成した場合のように、上記光学積層体に防眩性を付与した場合、上記ヘイズは、８０％未満であることが好ましい。上記防眩層は、内部拡散によるヘイズと、最表面の凹凸形状によるヘイズからなってよく、内部拡散によるヘイズは、３．０％以上７９％未満であることが好ましく、１０％以上５０％未満であることがより好ましい。最表面のヘイズは、１％以上３５％未満であることが好ましく、１％以上２０％未満であることがより好ましく、１％以上１０％未満であることが更に好ましい。
【００５６】
また、上記光学積層体は、ＪＩＳ  Ｋ５６００−５−４（１９９９）による鉛筆硬度試験（荷重４．９Ｎ）において、２Ｈ以上であることが好ましく、３Ｈ以上であることがより好ましい。また、ＪＩＳ  Ｋ５４００に従うテーバー試験で、試験前後の試験片の摩耗量が少ないほど好ましい。
【００５７】
上記構成からなる光学積層体を備えた本発明の偏光板一体型光学積層体は、上記光透過性基材上に上述した遮蔽層を形成し、更に、該光透過性基材及び遮蔽層上に上記ハードコート層を形成した後、上記光学積層体の光透過基材と偏光素子フィルムを公知の水のり等を用いて貼り付けることで製造することができる。上記光学積層体を構成する各部材の製造方法は上述した通りである。
【００５８】
本発明の偏光板一体型光学積層体は、画像表示パネルのドライバＩＣを表示画面側から隠蔽する遮蔽層が所定の位置に設けられたものであるため、薄膜化を好適に図ることができるとともに、従来の画像表示装置のようにベゼルを設ける必要がないため画像表示面のフラット化も図ることができる。
なお、上記画像表示パネルのドライバＩＣとしては特に限定されず、従来公知の画像表示パネルにおいて用いられるものが挙げられる。
【００５９】
本発明の偏光板一体型光学積層体は、画像表示装置の表面に配設される。
上記画像表示装置としては、例えば、ＬＣＤ、ＰＤＰ、ＦＥＤ、ＥＬＤ（有機ＥＬ、無機ＥＬ）、ＣＲＴ、タブレットＰＣ、タッチパネル、電子ペーパー等の画像表示装置であってもよい。
このような本発明の偏光板一体型光学積層体を備える画像表示装置もまた、本発明の一つである。
【００６０】
上記の代表的な例であるＬＣＤは、透過性画像表示パネルと、上記透過性画像表示パネルを背面から照射する光源装置とを備えてなるものである。上記画像表示装置がＬＣＤである場合、この透過性画像表示パネルの表面に、本発明の偏光板一体型光学積層体が形成されてなるものである。
【００６１】
本発明が上記偏光板一体型光学積層体を有する液晶表示装置の場合、光源装置の光源は偏光板一体型光学積層体の下側から照射される。液晶表示装置には、液晶表示素子と偏光板との間に、位相差板が挿入されてよい。この液晶表示装置の各層間には必要に応じて接着剤層が設けられてよい。
【００６２】
上記ＰＤＰは、表面ガラス基板（表面に電極を形成）と当該表面ガラス基板に対向して間に放電ガスが封入されて配置された背面ガラス基板とを備えてなるものである。なお、上記背面ガラス基材としては、電極及び微小な溝を表面に形成し、溝内に赤、緑、青の蛍光体層を形成したガラス基材が挙げられる。本発明の画像表示装置がＰＤＰである場合、上記表面ガラス基板の表面、又はその前面板（ガラス基板又はフィルム基板）に上述した偏光板一体型光学積層体を備えるものでもある。なお、ＰＤＰにおいては、上記偏光板一体型光学積層体の上記光学積層体とは反対側の上記偏光素子面にはλ／４板が積層されることで外光反射を防止することができる。
【００６３】
上記画像表示装置は、電圧をかけると発光する硫化亜鉛、ジアミン類物質等の発光体をガラス基板等に設け、基板にかける電圧を制御して表示を行うＥＬＤ装置、又は、電気信号を光に変換し、人間の目に見える像を発生させるＣＲＴなどの画像表示装置であってもよい。この場合、上記のような各表示装置の最表面又はその前面板の表面に上述した偏光板一体型光学積層体を備えるものである。なお、ＥＬＤにおいては、上記偏光板一体型光学積層体の上記光学積層体とは反対側の上記偏光素子面にはλ／４板が積層されることで外光反射を防止することができる。
【００６４】
本発明の画像表示装置は、いずれの場合も、テレビジョン、コンピュータ、電子ペーパー、タッチパネル、タブレットＰＣなどのディスプレイ表示に使用することができる。特に、ＣＲＴ、液晶パネル、ＰＤＰ、ＥＬＤ、ＦＥＤ、タッチパネル等の高精細画像用ディスプレイの表面に好適に使用することができる。
【発明の効果】
【００６５】
本発明は、上述した構成からなるものであるため、薄膜化が可能で、かつ、画像表示装置の表示画面をフラットなものとすることができ、湿度変化に対する寸法変化を抑制してカールの発生を防止でき、偏光特性を有するサングラスをかけた状態で視認した場合であっても、色味変化が抑制されたものとなる。
このため、本発明の偏光板一体型光学積層体は、陰極線管表示装置（ＣＲＴ）、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）、フィールドエミッションディスプレイ（ＦＥＤ）、電子ペーパー等に好適に適用することができる。
【図面の簡単な説明】
【００６６】
【図１】本発明の偏光板一体型光学積層体の一例を模式的に示す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００６７】
本発明の内容を下記の実施例により説明するが、本発明の内容はこれらの実施態様に限定して解釈されるものではない。また、特別に断りの無い限り、「部」及び「％」は質量基準である。
【００６８】
（実施例１）
ポリエチレンテレフタレート材料を２９０℃で溶融して、フィルム形成ダイを通して、シート状に押出し、水冷冷却した回転急冷ドラム上に密着させて冷却し、未延伸フィルムを作製した。この未延伸フィルムを二軸延伸装置にて、１２０℃の温度で、延伸倍率４．５倍に延伸した後、その延伸方向とは９０度の方向に延伸倍率１．５倍にて延伸を行い、リタデーション＝８０００ｎｍ、膜厚＝８０μｍ、（ｎｘ−ｎｙ）＝０．１０、寸法変化率０．０７％の光透過性基材を得た。なお、光透過性基材の寸法変化率は、熱機械的分析装置（ＳＩＩ社製  ＴＭＡ／ＳＳ６０００）と、湿度発生用循環槽（ＴＨＥＲＭＯ社製  ＰＨＯＥＮＩＸ  ＩＩ  Ｃ２５Ｐ）とを用いて測定した。より具体的には、得られた光透過性基材から５ｍｍ×２０ｍｍのサンプルを切り出し、該サンプルを荷重条件１５０ｍＮ／ｍｍ２にて、３０℃０％ＲＨ環境化に３００ｍｉｎ保持した時の寸法と、３０℃９０％ＲＨ環境下に３００ｍｉｎ保持した時の寸法とを測定し、それらの値から下記式にて寸法変化率を算出した。測定方向は、遅相軸方向と、遅相軸方向に直交する方向とし、その平均値としている。
【数２】
2014006447.tif 000004
得られた光透過性基材の一方の面に、ウレタン樹脂にカーボンブラック顔料、溶剤、添加剤等を混練してなる遮蔽層用組成物（黒色インキ）（製品名：ＳＳ８０５墨、大日精化工業社製）を用い、グラビア印刷法により幅１２ｍｍの枠状の遮蔽層を光透過性基材の外周に沿って設けた。なお、黒色インキには、光透過性基材との密着性強化のため、イソシアネート系硬化剤（製品名：ラミックＢハードナー、大日精化工業社製）を５部添加した。また、遮蔽層は、蛍光灯が透過して見えないように同じ版で黒色インキを３度重ね印刷して充分隠蔽性のある遮蔽層（厚み３．５μｍ）とした。
遮蔽層の厚みは、デジマチックインジケーターＩＤ−Ｈ０５３０（Ｍｉｔｕｔｏｙｏ社製）を用いて、遮蔽層印刷層上を縦横方向にそれぞれ１００ｍｍ間隔で３点測定し、その平均値を印刷厚みとした。
また、遮蔽層について透過濃度を測定した。透過濃度は、透過濃度計３６１Ｔ（Ｘ−Ｒｉｔｅ社製）を用い、上記同様に１００ｍｍ間隔で３点測定し、その平均値を透過濃度とした。透過濃度は、５．０であった。
次いで、電離放射線硬化性樹脂である、Ｍ９０５０（東亞合成社製）、ＵＶ１７００Ｂ（日本合成社製）及び光重合開始剤であるイルガキュア１８４（ＢＡＳＦ社製）を組み合わせたものを、ハードコート層形成用組成物として、光透過性基材及び遮蔽層上に塗布し、紫外線照射で樹脂を半硬化させて、厚み１０μｍのハードコート被膜を形成した。
次に、形成したハードコート被膜の上に、中空状シリカ粒子、ＰＥＴ−３０（日本化薬社製）、Ｘ−２１−１６４Ｅ（信越化学工業社製）及び光重合開始剤であるイルガキュア１２７（ＢＡＳＦ社製）を組み合わせたものを、低屈折率層用組成物として塗布し、紫外線照射で含有する樹脂を硬化させて、厚み１００ｎｍの低屈折率層を形成するとともに、ハードコート被膜も完全に硬化させてハードコート層とし、反射防止性能を備えた光学積層体を作製した。作製した光学積層体については、ハードコート層側から遮蔽層の透過濃度を測定した。透過濃度は、透過濃度計３６１Ｔ（Ｘ−Ｒｉｔｅ社製）を用い、１００ｍｍ間隔で３点測定し、その平均値を透過濃度とした。その結果、遮蔽層の透過濃度は、５．０であった。
本実施例で作製した光学積層体は、遮蔽層が充分な厚み及び透過濃度を有しており、ドライバＩＣ等を問題なく遮蔽することができた。
【００６９】
得られた光学積層体に、偏光子、偏光子保護シートの順に貼り合せ、偏光板一体型光学積層体を作製した。光学積層体偏光板一体型光学積層体は、ＰＶＡ系フィルムを一軸延伸する工程、該ＰＶＡ系フィルムを二色性色素で染色して、その二色性色素を吸着させる工程、二色性色素が吸着されたＰＶＡ系フィルムをホウ酸水溶液で処理する工程、ホウ酸水溶液による処理後に水洗する工程、及び、これらの工程が施されて二色性色素が吸着配向された一軸延伸ＰＶＡ系フィルムを偏光子とし、得られた光学積層体を該偏光子の一方の面に、偏光子保護シートを他方の面に貼り付ける工程を経て製造した。
また、この時、偏光子の吸収軸と光透過性基材の遅相軸とのなす角度は、４５°となっており、偏光子保護シートとしては、膜厚８０μｍ、寸法変化率０．７６％のトリアセチルセルロース基材（ＴＤ８０ＵＬＭ  富士フィルム社製）を用いた。
【００７０】
（参考例１）
黒色インキの印刷回数を１回とした以外は、実施例１と同様にして遮蔽層（厚み１．５μｍ）を光透過性基材の一方の面に形成した。
その後、実施例１と同様にして、ハードコート層及び低屈折率層を設け、反射防止性能を備えた光学積層体を作製した。
参考例１で作製した光学積層体について実施例１と同様に遮蔽層の透過濃度を測定したところ、透過濃度が１．８しかなく、ドライバＩＣ等を充分遮蔽することができなかった。
【００７１】
（実施例２）
実施例１と同様にして得られた未延伸フィルムの延伸倍率を調整して、リタデーション＝４０００ｎｍ、膜厚＝８０μｍ、（ｎｘ−ｎｙ）＝０．０５、寸法変化率０．０７％の光透過性基材を得た。得られた光透過性基材を用いた以外は、実施例１と同様にして偏光板一体型光学積層体を製造した。
【００７２】
（比較例１）
実施例１と同様にして得られた未延伸フィルムの延伸倍率を調整して、リタデーション＝２８００ｎｍ、膜厚＝８０μｍ、（ｎｘ−ｎｙ）＝０．０３５、寸法変化率０．０６％の光透過性基材を得た。
得られた光透過性基材を用いた以外は、実施例１と同様にして偏光板一体型光学積層体を製造した。
【００７３】
（比較例２）
リタデーション＝１４０ｎｍ、膜厚５０μｍ、寸法変化率は、０．００１％のゼオノア（日本ゼオン社製）を光透過性基材として用いた以外は、実施例１と同様にして偏光板一体型光学積層体を製造した。
【００７４】
（比較例３）
面内位相差が５．６ｎｍ、膜厚８０μｍ、（ｎｘ−ｎｙ）＝０．００００７、寸法変化率０．７６％であるトリアセチルセルロース基材（ＴＤ８０ＵＬＭ  富士フイルム社製）を用いたい以外は、実施例１同様の方法にて偏光板一体型光学積層体を製造した。
【００７５】
実施例及び比較例で得られた偏光板一体型光学積層体を用いた液晶表示装置を作製した。
作製した液晶表示装置と、遮蔽層を有さず、ベゼルを備え付けた市販の画像表示装置（ＢＲＡＶＩＡ  ＫＤＬ−３２ＥＸ７２０（ＳＯＮＹ社製）、ＲＥＧＺＡ  ４６ＺＸ９０００（東芝社製））とを見た目で比較した。
その結果、実施例及び比較例で得られた偏光板一体型光学積層体を用いた液晶表示装置は、フラット性や薄さにおいて、ベゼルを備え付けた市販の画像表示装置より優れていることを確認できた。
【００７６】
（ニジムラ評価）
液晶モニター（ＦＬＡＴＯＲＯＮ  ＩＰＳ２２６Ｖ（ＬＧ  Ｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃｓ  Ｊａｐａｎ社製））の観察者側に設置された偏光板を剥がし、その代わりに、実施例、比較例にて作製した偏光板一体型光学積層体の偏光子保護シートと液晶セルを、感圧式接着剤（Ｐ−３１３２、リンテック社製）を介して設置し、液晶表示装置を作製した。
そして、暗所及び明所（液晶モニター周辺照度４００ルクス）にて、正面及び斜め方向（約５０度）から目視及び偏光サングラス越しに表示画像の観察を行い、ニジムラの有無を以下の基準に従い評価した。偏光サングラス越しの観察は、目視よりも非常に厳しい評価法である。観察は１０人で行い、最多数の評価を観察結果としている。結果を表１に示した。
◎：ニジムラが観測されない
○：ニジムラが観測されるが、実使用上問題ないレベル
△：ニジムラが薄く観測される
×：ニジムラが強く観測される
【００７７】
（色味変化評価）
液晶モニター（ＦＬＡＴＯＲＯＮ  ＩＰＳ２２６Ｖ（ＬＧ  Ｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃｓ  Ｊａｐａｎ社製））の観察者側に設置された偏光板を剥がし、その代わりに、実施例、比較例にて作製した偏光板一体型光学積層体の偏光子保護シートと液晶セルを、感圧式接着剤（Ｐ−３１３２、リンテック社製）を介して、設置し、液晶表示装置を作製した。液晶モニターを白表示とし、偏光サングラス吸収軸と液晶モニターの観測者側の偏光板の吸収軸とのなす角度が０度（パラレルニコル）となる時と、９０度（クロスニコル）となる時の正面色味を、輝度計ＢＭ−５（トプコン社製）にて測定し、色差Δｕ’ｖ’を算出した。同時に、１０人で観察を行い、下記の基準に従い、評価（官能評価）した。最多数の評価を観察結果としている。結果を表１に示した。
◎：パラレルニコル時とクロスニコル時の色差がない。
○：パラレルニコル時とクロスニコル時の色差が少しあるが、実使用上問題ない。
×：パラレルニコル時とクロスニコル時の色差がある。
【００７８】
（カール評価）
液晶モニター（ＦＬＡＴＯＲＯＮ  ＩＰＳ２２６Ｖ（ＬＧ  Ｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃｓ  Ｊａｐａｎ社製））の観察者側に設置された偏光板を剥がし、その代わりに、実施例、比較例にて作製した偏光板一体型光学積層体の偏光子保護シートと液晶セルを、感圧式接着剤（Ｐ−３１３２、リンテック社製）を介して、設置し、偏光板一体型光学積層体を有する液晶セルを作製した。偏光板一体型光学積層体を有する液晶セルを、３０℃６０％ＲＨの条件下で、１週間放置した後にカール量を測定した。測定は、カールの凸面を水平台の上に置き、台からもっともカールの大きい端面までの高さを測定してカール値とした。カールは、カール値を液晶モニターのインチサイズで割った値Ｃ／Ｓで示した。
同様の方法にて、偏光板一体型光学積層体を有する液晶モニターを作製し、３０℃６０％ＲＨの条件下で、１週間放置した後に、１０人で点灯させた画像観察を行い、下記の基準に従い、使用可否を評価（官能評価）した。最多数の評価を観察結果としている。
○：液晶セルのカールが小さいため、バックライトとの密着が生じることなく、モアレや輝度ムラ等の表示品位の低下がみられない。
×：モアレや輝度ムラが発生しており、表示品位が低下している。
【００７９】
【表１】
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【００８０】
表１より、実施例に係る偏光板一体型光学積層体を用いた液晶表示装置は、全ての評価で良好な結果であった。
一方、比較例１に係る偏光板一体型光学積層体を用いた液晶表示装置は、光透過性基材のリタデーションが小さく、ニジムラ及び色味変化の評価に劣るものであった。比較例２に係る偏光板一体型光学積層体を用いた液晶表示装置は、色味変化に劣るものであった。また、比較例３に係る偏光板一体型光学積層体を用いた液晶表示装置は、ニジムラ評価には優れるものの、偏光サングラス越しに観察した際、視認できない状態があり、光透過性基材の湿度変化に対する寸法変化率が大きくカール評価に劣っていた。
【産業上の利用可能性】
【００８１】
本発明の偏光板一体型光学積層体は、陰極線管表示装置（ＣＲＴ）、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）、フィールドエミッションディスプレイ（ＦＥＤ）、タッチパネル、電子ペーパー、タブレットＰＣ等に好適に適用することができる。
【符号の説明】
【００８２】
１０  偏光板一体型光学積層体
１１  偏光素子フィルム
１２  光透過性基材
１３  遮蔽層
１４  ハードコート層
【図１】
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