(57)【要約】【課題】ダイアフラム着底後の過大圧印加時に、チップ全体の変形を抑制し、ダイアフラムエッジにおける発生応力を低減して、期待される耐圧を確保する。【解決手段】ストッパ部材１１−２と台座１１−４との間に補強層１１−６を設ける（ストッパ部材１１−２の凹部１１−２ａが設けられた面とは反対側の面に補強層１１−６を設ける）。補強層１１−６によって、センサダイアフラム１１−１のストッパ部材１１−２の凹部１１−２ａへの着底後のさらなる過大圧に対し、ストッパ部材１１−２の変形を抑制し、チップ全体の変形を抑制して、ダイアフラムエッジにおける発生応力を低減する。【選択図】  図１
2014102129.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一方の面および他方の面に受ける圧力差に応じた信号を出力するセンサダイアフラムと、このセンサダイアフラムの一方の面および他方の面にその周縁部を対面させて接合されると共に、その周縁部に囲まれた中央部に前記センサダイアフラムに過大圧が印加された時の当該センサダイアフラムの過度な変位を阻止する凹部を有する第１および第２の保持部材とを備えた圧力センサチップにおいて、
前記第１の保持部材の凹部が設けられた面とは反対側の面に設けられ、前記センサダイアフラムの前記第１の保持部材の凹部への着底後の過大圧に対し、第１の保持部材の変形を抑制する第１の補強層
を備えることを特徴とする圧力センサチップ。
【請求項２】
請求項１に記載された圧力センサチップにおいて、
前記第１の補強層は、
前記第１の保持部材よりも高い剛性率を有する材料で形成されている
ことを特徴とする圧力センサチップ。
【請求項３】
請求項１に記載された圧力センサチップにおいて、
前記第１の補強層は、
予め定められた耐圧の限界値を達成可能な厚みを有する
ことを特徴とする圧力センサチップ。
【請求項４】
請求項１に記載された圧力センサチップにおいて、
前記第２の保持部材の凹部が設けられた面とは反対側の面に設けられ、前記センサダイアフラムの前記第２の保持部材の凹部への着底後の過大圧に対し、第２の保持部材の変形を抑制する第２の補強層
を備えることを特徴とする圧力センサチップ。
【請求項５】
請求項１に記載された圧力センサチップにおいて、
前記第１の補強層の熱膨張係数と前記第１の保持部材の熱膨張係数とが同等である
ことを特徴とする圧力センサチップ。
【請求項６】
請求項１に記載された圧力センサチップにおいて、
前記第２の保持部材の周縁部は、
前記センサダイアフラムの他方の面と対面する領域のうち、外周側の領域が前記センサダイアフラムの他方の面との接合領域とされ、内周側の領域が前記センサダイアフラムの他方の面との非接合領域とされている
ことを特徴とする圧力センサチップ。
【請求項７】
請求項６に記載された圧力センサチップにおいて、
前記第２の保持部材の周縁部の非接合領域は、
前記センサダイアフラムの厚みに対して所定の割合以下として定められた微小な段差とされている
ことを特徴とする圧力センサチップ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、一方の面および他方の面に受ける圧力差に応じた信号を出力するセンサダイアフラムを用いた圧力センサチップ、例えば圧力を受けて変位する薄板状のダイアフラム上に歪抵抗ゲージを形成し、ダイアフラムに形成された歪抵抗ゲージの抵抗値変化からダイアフラムに加わった圧力を検出する圧力センサチップに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来より、工業用の差圧センサとして、一方の面および他方の面に受ける圧力差に応じた信号を出力するセンサダイアフラムを用いた圧力センサチップを組み込んだ差圧センサが用いられている。この差圧センサは、高圧側および低圧側の受圧ダイアフラムに加えられる各測定圧を、圧力伝達媒体としての封入液によってセンサダイアフラムの一方の面および他方の面に導き、そのセンサダイアフラムの歪みを例えば歪抵抗ゲージの抵抗値変化として検出し、この抵抗値変化を電気信号に変換して取り出すように構成されている。
【０００３】
このような差圧センサは、例えば石油精製プラントにおける高温反応塔等の被測定流体を貯蔵する密閉タンク内の上下２位置の差圧を検出することにより、液面高さを測定するときなどに用いられる。
【０００４】
図８に従来の差圧センサの概略構成を示す。この差圧センサ１００は、センサダイアフラム（図示せず）を有する圧力センサチップ１をメータボディ２に組み込んで構成される。圧力センサチップ１におけるセンサダイアフラムは、シリコンやガラス等からなり、薄板状に形成されたダイアフラムの表面に歪抵抗ゲージが形成されている。メータボディ２は、金属製の本体部３とセンサ部４とからなり、本体部３の側面に一対の受圧部をなすバリアダイアフラム（受圧ダイアフラム）５ａ，５ｂが設けられ、センサ部４に圧力センサチップ１が組み込まれている。
【０００５】
メータボディ２において、センサ部４に組み込まれた圧力センサチップ１と本体部３に設けられたバリアダイアフラム５ａ，５ｂとの間は、大径のセンタダイアフラム６により隔離された圧力緩衝室７ａ，７ｂを介してそれぞれ連通され、圧力センサチップ１とバリアダイアフラム５ａ，５ｂとを結ぶ連通路８ａ，８ｂにシリコーンオイル等の圧力伝達媒体９ａ，９ｂが封入されている。
【０００６】
なお、シリコーンオイル等の圧力媒体が必要となるのは、センサダイアフラムに対する計測媒体中の異物付着を防ぐこと、センサダイアフラムを腐食させないため、耐食性を持つ受圧ダイアフラムと応力（圧力）感度を持つセンサダイアフラムとを分離する必要があるためである。
【０００７】
この差圧センサ１００では、図９(ａ)に定常状態時の動作態様を模式的に示すように、プロセスからの第１の流体圧力（第１の測定圧）Ｐａがバリアダイアフラム５ａに印加され、プロセスからの第２の流体圧力（第２の測定圧）Ｐｂがバリアダイアフラム５ｂに印加される。これにより、バリアダイアフラム５ａ，５ｂが変位し、その加えられた圧力Ｐａ，Ｐｂがセンタダイアフラム６により隔離された圧力緩衝室７ａ，７ｂを介し、圧力伝達媒体９ａ，９ｂを通して、圧力センサチップ１のセンサダイアフラムの一方の面および他方の面にそれぞれ導かれる。この結果、圧力センサチップ１のセンサダイアフラムは、その導かれた圧力Ｐａ，Ｐｂの差圧ΔＰに相当する変位を呈することになる。
【０００８】
これに対して、例えば、バリアダイアフラム５ａに過大圧Ｐoverが加わると、図９(ｂ)に示すようにバリアダイアフラム５ａが大きく変位し、これに伴ってセンタダイアフラム６が過大圧Ｐoverを吸収するように変位する。そして、バリアダイアフラム５ａがメータボディ２の凹部１０ａの底面（過大圧保護面）に着底し、その変位が規制されると、バリアダイアフラム５ａを介するセンサダイアフラムへのそれ以上の差圧ΔＰの伝達が阻止される。バリアダイアフラム５ｂに過大圧Ｐoverが加わった場合も、バリアダイアフラム５ａに過大圧Ｐoverが加わった場合と同様にして、バリアダイアフラム５ｂがメータボディ２の凹部１０ｂの底面（過大圧保護面）に着底し、その変位が規制されると、バリアダイアフラム５ｂを介するセンサダイアフラムへのそれ以上の差圧ΔＰの伝達が阻止される。この結果、過大圧Ｐoverの印加による圧力センサチップ１の破損、すなわち圧力センサチップ１におけるセンサダイアフラムの破損が未然に防止される。
【０００９】
この差圧センサ１００では、メータボディ２に圧力センサチップ１を内包させているので、プロセス流体など外部腐食環境から圧力センサチップ１を保護することができる。しかしながら、センタダイアフラム６やバリアダイアフラム５ａ，５ｂの変位を規制するための凹部１０ａ，１０ｂを備え、これらによって圧力センサチップ１を過大圧Ｐoverから保護する構造をとっているので、その形状が大型化することが避けられない。
【００１０】
そこで、圧力センサチップに第１のストッパ部材および第２のストッパ部材を設け、この第１のストッパ部材および第２のストッパ部材の凹部をセンサダイアフラムの一方の面および他方の面に対峙させることによって、過大圧が印加された時のセンサダイアフラムの過度な変位を阻止し、これによってセンサダイアフラムの破損・破壊を防止する構造が提案されている（例えば、特許文献１参照）。
【００１１】
図１０に特許文献１に示された構造を採用した圧力センサチップの概略を示す。同図において、１１−１はセンサダイアフラム、１１−２および１１−３はセンサダイアフラム１１−１を挟んで接合された第１および第２のストッパ部材、１１−４および１１−５はストッパ部材１１−２および１１−３に接合された第１および第２の台座である。ストッパ部材１１−２，１１−３や台座１１−４，１１−５はシリコンやガラスなどにより構成されている。また、台座１１−５はセンサ室内の内壁面（金属製）１０に接合されているが、台座１１−４はセンサ室内の内壁面（金属製）１０には接合されていない（開放状態とされている）。
【００１２】
この圧力センサチップ１１において、ストッパ部材１１−２，１１−３には凹部１１−２ａ，１１−３ａが形成されており、ストッパ部材１１−２の凹部１１−２ａをセンサダイアフラム１１−１の一方の面に対峙させ、ストッパ部材１１−３の凹部１１−３ａをセンサダイアフラム１１−１の他方の面に対峙させている。凹部１１−２ａ，１１−３ａは、センサダイアフラム１１−１の変位に沿った曲面（非球面）とされており、その頂部に圧力導入孔（導圧孔）１１−２ｂ，１１−３ｂが形成されている。また、台座１１−４，１１−５にも、ストッパ部材１１−２，１１−３の導圧孔１１−２ｂ，１１−３ｂに対応する位置に、圧力導入孔（導圧孔）１１−４ａ，１１−５ａが形成されている。
【００１３】
このような圧力センサチップ１１を用いると、センサダイアフラム１１−１の一方の面に過大圧が印加されてセンサダイアフラム１１−１が変位したとき、その変位面の全体がストッパ部材１１−３の凹部１１−３ａの曲面によって受け止められる。また、センサダイアフラム１１−１の他方の面に過大圧が印加されてセンサダイアフラム１１−１が変位したとき、その変位面の全体がストッパ部材１１−２の凹部１１−２ａの曲面によって受け止められる。
【００１４】
これにより、センサダイアフラム１１−１に過大圧が印加された時の過度な変位が阻止され、センサダイアフラム１１−１の周縁部に応力集中が生じないようにして、過大圧の印加によるセンサダイアフラム１１−１の不本意な破壊を効果的に防ぎ、その過大圧保護動作圧力（耐圧）を高めることが可能となる。また、図８に示された構造において、センタダイアフラム６や圧力緩衝室７ａ，７ｂをなくし、バリアダイアフラム５ａ，５ｂからセンサダイアフラム１１−１に対して直接的に測定圧Ｐａ，Ｐｂを導くようにして、メータボディ２の小型化を図ることが可能となる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１５】
【特許文献１】特開２００５−６９７３６号公報
【特許文献２】特願２０１２−０５７２０５
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１６】
しかしながら、図１０に示された圧力センサチップ１１の構造において、ストッパ部材１１−２および１１−３は、センサダイアフラム１１−１の一方の面および他方の面に、その周縁部１１−２ｃおよび１１−３ｃの全面を接合させている。すなわち、ストッパ部材１１−２の凹部１１−２ａを囲む周縁部１１−２ｃをセンサダイアフラム１１−１の一方の面に対面させ、この対面する周縁部１１−２ｃの全領域をセンサダイアフラム１１−１の一方の面に直接接合している。また、ストッパ部材１１−３の凹部１１−３ａを囲む周縁部１１−３ｃをセンサダイアフラム１１−１の他方の面に対面させ、この対面する周縁部１１−３ｃの全領域をセンサダイアフラム１１−１の他方の面に直接接合している。
【００１７】
このような構造の場合、片側から圧力が印加されセンサダイアフラム１１−１が撓んだ際に、引っ張り応力が最も発生する圧力が印加された側のセンサダイアフラム１１−１のエッジ付近（図１０中の一点鎖線で囲んだ部位）が両面とも拘束状態にあるため、その箇所に応力集中が発生し、期待される耐圧が確保できないという問題があった。
【００１８】
更に、ストッパ部材１１−２，１１−３の凹部１１−２ａ，１１−３ａの開口サイズに製作上のズレがあると、センサダイアフラム１１−１の拘束箇所に位置ずれが生じるため、その影響で応力集中がより顕著になる場合がある。この場合、センサダイアフラム１１−１の着底異常に伴う応力集中も重なり、更なる耐圧低下となってしまう虞がある。
【００１９】
なお、本出願人が先に提案したように（例えば、特許文献２参照）、ストッパ部材１１−２および１１−３のセンサダイアフラム１１−１と対面する領域のうち、外周側の領域をセンサダイアフラム１１−１との接合領域とし、内周側の領域をセンサダイアフラム１１−１との非接合領域とすることで応力分散を行うことが考えられる。
【００２０】
しかしながら、このような構造としても、図１０に示されるように台座１１−４が開放状態とされていると、センサダイアフラム１１−１がストッパ部材１１−２の凹部１１−２ａに着底後、過大圧が大きくなると、ストッパ部材１１−２が変形し、これによってチップ全体が変形して、結局センサダイアフラム１１−１の支点（ダイアフラムエッジ）に応力が一点集中してしまい、破壊応力を超えてしまうことがある。
【００２１】
本発明は、このような課題を解決するためになされたもので、その目的とするところは、ダイアフラム着底後の過大圧印加時に、チップ全体の変形を抑制し、ダイアフラムエッジにおける発生応力を低減して、期待される耐圧を確保することが可能な圧力センサチップを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００２２】
このような目的を達成するために本発明は、一方の面および他方の面に受ける圧力差に応じた信号を出力するセンサダイアフラムと、このセンサダイアフラムの一方の面および他方の面にその周縁部を対面させて接合されると共に、その周縁部に囲まれた中央部にセンサダイアフラムに過大圧が印加された時の当該センサダイアフラムの過度な変位を阻止する凹部を有する第１および第２の保持部材とを備えた圧力センサチップにおいて、第１の保持部材の凹部が設けられた面とは反対側の面に設けられ、センサダイアフラムの第１の保持部材の凹部への着底後の過大圧に対し、第１の保持部材の変形を抑制する補強層を備えることを特徴とする。
【００２３】
本発明において、センサダイアフラムが第１の保持部材の凹部に着底後、過大圧が大きくなると、この第１の保持部材の凹部が設けられた面とは反対側の面に設けられた補強層によって第１の保持部材の変形が抑制され、チップ全体の変形が抑制されて、ダイアフラムエッジにおける発生応力が低減される。
【発明の効果】
【００２４】
本発明によれば、第１の保持部材の凹部が設けられた面とは反対側の面に、センサダイアフラムの第１の保持部材の凹部への着底後の過大圧に対し、第１の保持部材の変形を抑制する補強層を設けたので、センサダイアフラムが第１の保持部材の凹部に着底後、過大圧が大きくなると、この補強層によって第１の保持部材の変形が抑制され、チップ全体の変形が抑制されて、ダイアフラムエッジにおける発生応力が低減されるものとなり、期待される耐圧を確保することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００２５】
【図１】本発明に係る圧力センサチップの第１の実施の形態（実施の形態１）の概略を示す図である。
【図２】この圧力センサに用いる補強層の厚さとダイアフラムエッジの破壊強度に対する発生応力の割合との関係を示すグラフである。
【図３】図３に示したグラフにおける詳細なデータを示す図である。
【図４】本発明に係る圧力センサチップの第２の実施の形態（実施の形態２）の概略を示す図である。
【図５】この圧力センサチップにおけるダイアフラム有効径に対する非接合幅の割合（％）と発生応力（％）との関係を示す図である。
【図６】本発明に係る圧力センサチップの第３の実施の形態（実施の形態３）の概略を示す図である。
【図７】この圧力センサチップにおけるストッパ部材の周縁部のダイアフラム厚みに対する段差の割合（％）と破壊応力に対する最大主応力の割合（％）との関係を示す図である。
【図８】従来の差圧センサの概略構成を示す図である。
【図９】この差圧センサの動作態様を模式的に示す図である。
【図１０】特許文献１に示された構造を採用した圧力センサチップの概略を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００２６】
以下、本発明の実施の形態を図面に基づいて詳細に説明する。
【００２７】
〔実施の形態１〕
図１はこの発明に係る圧力センサチップの第１の実施の形態（実施の形態１）の概略を示す図である。同図において、図１０と同一符号は図１０を参照して説明した構成要素と同一或いは同等構成要素を示し、その説明は省略する。なお、この実施の形態では、圧力センサチップを符号１１Ａで示し、図１０に示された圧力センサチップ１１と区別する。
【００２８】
この圧力センサチップ１１Ａにおいて、ストッパ部材１１−２と台座１１−４との間には、補強層１１−６が設けられている。すなわち、ストッパ部材１１−２の凹部１１−２ａが設けられた面とは反対側の面に、補強層１１−６が設けられている。なお、補強層１１−６には、ストッパ部材１１−２の導圧孔１１−２ｂと台座１１−４の導圧孔１１−４ａとを連通する連通孔１１−６ａが設けられている。
【００２９】
この圧力センサチップ１１Ａでは、センサダイアフラム１１−１がストッパ部材の１１−２の凹部１１−２ａに着底後、過大圧が大きくなると、このストッパ部材１１−２の凹部１１−２ａが設けられた面とは反対側の面に設けられた補強層１１−６によってストッパ部材１１−２の変形が抑制され、チップ全体の変形が抑制されて、ダイアフラムエッジにおける発生応力が低減され、期待される耐圧が確保される。補強層１１−６は、このような役割を果たすことができるように、その材質および厚さが定められている。
【００３０】
この圧力センサチップ１１Ａにおいて、補強層１１−６をストッパ部材１１−２よりも高い剛性率を有する材料で形成すると、ストッパ部材１１−２と同材料を使用する場合に対して、厚みを薄くし、小型化を図ることが可能となる。また、補強層１１−６の厚みを調整することで、様々な耐圧の限界値に対応することが可能となる。また、補強層１１−６の熱膨張係数とストッパ部材１１−３の熱膨張係数とを同等とすれば、補強層１１−６とストッパ部材１１−３との接合面での熱応力の発生を抑えることも可能となる。
【００３１】
なお、この実施の形態では、台座１１−５がセンサ室内の内壁面（金属製）１０に接合されているので、ストッパ部材１１−３の凹部１１−３ａが設けられた面とは反対側の面には、ストッパ部材１１−２に対して設けたような補強層１１−６は設けていない。すなわち、センサダイアフラム１１−１のストッパ部材１１−３の凹部１１−３ａへの着底後の過大圧に対しては、センサ室内の内壁面（金属製）１０でストッパ部材１１−３の変形が抑制されて、チップ全体の変形が抑制されるので、ストッパ部材１１−３の凹部１１−３ａが設けられた面とは反対側の面には、ストッパ部材１１−２に対して設けたような補強層１１−６は設けていない。
【００３２】
図２に「補強層厚／ストッパ厚」と「補強なし構造に対する発生応力の割合」との関係をグラフ化して示す。図３に図２に示したグラフにおける詳細なデータを示す。この例では、補強層１１−６の材質をＳｉ（シリコン）、ＳｉＣ（シリコンカーバイド）、Ｐｘ（パイレックス（登録商標）ガラス）とした場合について、「補強層１１−６の厚さとストッパ部材１１−２の厚さとの比」と「補強層１１−６がない構造に対するダイアフラムエッジの発生応力の割合」との関係を示している。なお、図３には、Ｓｉ、ＳｉＣ、Ｐｘについて、そのヤング率と熱膨張係数も合わせて示している。
【００３３】
なお、図３に示したデータは、センサダイアフラム１１−１の材質をＳｉ、ストッパ部材１１−２，１１−３の材質をＳｉ、台座１１−４，１１−５の材質をＰｘとし、ストッパ部材１１−２の受圧面とストッパ部材１１−２の厚みとのアスペクト比を４．６（＝受圧部の直径／ストッパ層の厚み）とした時のデータである。また、図２において、グラフの横軸は、ストッパ層の厚みに対して、補強層はどのくらいの厚みかを示している。また、このグラフは、ある一定の圧力を印加した場合に発生する最大主応力を比較している。
【００３４】
図２に示したグラフから分かるように、同じ厚さでも、Ｐｘ、Ｓｉ、ＳｉＣの順に補強なし構造に対する発生応力の割合（％）が小さくなる。また、厚さが２ｍｍ以上となると、補強なし構造に対する発生応力の割合（％）はあまり変化しない。このような「補強層厚／ストッパ厚」と「補強なし構造に対する発生応力の割合」との関係（補強層厚みによる応力緩和効果）から、使用する補強層１１−６の材質と厚さを決定するようにする。
【００３５】
〔実施の形態２〕
図４はこの発明に係る圧力センサチップの第２の実施の形態（実施の形態２）の概略を示す図である。同図において、図１と同一符号は図１を参照して説明した構成要素と同一或いは同等構成要素を示し、その説明は省略する。なお、この実施の形態では、圧力センサチップを符号１１Ｂで示し、図１に示された圧力センサチップ１１Ａと区別する。
【００３６】
この圧力センサチップ１１Ｂにおいて、ストッパ部材１１−２の周縁部１１−２ｃは、センサダイアフラム１１−１の一方の面と対面する領域Ｓ１のうち、外周側の領域Ｓ１ａがセンサダイアフラム１１−１の一方の面との接合領域とされ、内周側の領域Ｓ１ｂがセンサダイアフラム１１−１の一方の面との非接合領域とされている。また、ストッパ部材１１−３の周縁部１１−３ｃは、センサダイアフラム１１−１の他方の面と対面する領域Ｓ２のうち、外周側の領域Ｓ２ａがセンサダイアフラム１１−１の他方の面との接合領域とされ、内周側の領域Ｓ２ｂがセンサダイアフラム１１−１の他方の面との非接合領域とされている。
【００３７】
ストッパ部材１１−２の周縁部１１−２ｃの外周側の領域Ｓ１ａは、センサダイアフラム１１−１の一方の面に直接接合されることによって接合領域とされ、ストッパ部材１１−３の周縁部１１−３ｃの外周側の領域Ｓ２ａは、センサダイアフラム１１−１の他方の面に直接接合されることによって接合領域とされている。以下、ストッパ部材１１−２の周縁部１１−２ｃの外周側の領域Ｓ１ａを接合領域Ｓ１ａと呼び、ストッパ部材１１−３の周縁部１１−３ｃの外周側の領域Ｓ２ａを接合領域Ｓ２ａと呼ぶ。
【００３８】
ストッパ部材１１−２の周縁部１１−２ｃの内周側の領域Ｓ１ｂは、プラズマや薬液などにより表面を荒らすなどして、センサダイアフラム１１−１の一方の面に接してはいるが、接合はされてない非接合領域とされている。ストッパ部材１１−３の周縁部１１−３ｃの内周側の領域Ｓ２ｂも、プラズマや薬液などにより表面を荒らすなどして、センサダイアフラム１１−１の他方の面に接してはいるが、接合はされてない非接合領域とされている。以下、ストッパ部材１１−２の周縁部１１−２ｃの内周側の領域Ｓ１ｂを非接合領域Ｓ１ｂと呼び、ストッパ部材１１−３の周縁部１１−３ｃの内周側の領域Ｓ２ｂを非接合領域Ｓ２ｂと呼ぶ。
【００３９】
そして、センサダイアフラム１１−１の上面の非接合領域Ｓ１ｂより更に内側がダイアフラムの感圧領域Ｄ１であり、同様に、センサダイアフラム１１−１の下面の非接合領域Ｓ２ｂより更に内側がダイアフラムの感圧領域Ｄ２である。このダイアフラムの感圧領域Ｄ１ではストッパ部材１１−２に対向する面に一方の測定圧Ｐａがかかるとともに、ダイアフラムの感圧領域Ｄ２ではストッパ部材１１−３に対向する面にもう一方の測定圧Ｐｂがかかる。なお、感圧領域Ｄ１及びＤ２の直径がダイアフラムの有効径である。
【００４０】
この圧力センサチップ１１Ｂにおいて、測定圧Ｐａを高圧側の測定圧とし、測定圧Ｐｂを低圧側の測定圧とした場合、センサダイアフラム１１−１の一方の上面の感圧領域Ｄ１に高圧側の測定圧Ｐａがかかると、センサダイアフラム１１−１はストッパ部材１１−２の周縁部１１−２ｃとの非接合領域Ｓ１ｂでストッパ部材１１−２から拘束による過渡な引っ張り応力が生じることなく撓むことができるので、この部分に生じる応力が低減されるものとなる。
【００４１】
また、この圧力センサチップ１１Ｂにおいて、測定圧Ｐｂを高圧側の測定圧とし、測定圧Ｐａを低圧側の測定圧とした場合、センサダイアフラム１１−１の他方の下面の感圧領域Ｄ２に高圧側の測定圧Ｐｂがかかると、センサダイアフラム１１−１はストッパ部材１１−３の周縁部１１−３ｃとの非接合領域Ｓ２ｂでストッパ部材１１−３から拘束による過渡な引っ張り応力が生じることなく撓むことができるので、この部分に生じる応力が低減されるものとなる。
【００４２】
この圧力センサチップ１１Ｂにおいて、所定厚さのセンサダイアフラム１１−１の感圧領域Ｄ１のダイアフラム有効径に対する非接合領域Ｓ１ｂの割合、および所定厚さのセンサダイアフラム１１−１の感圧領域Ｄ２のダイアフラム有効径に対する非接合領域Ｓ２ｂの割合は、図５に示すダイアフラム有効径に対する非接合幅の割合（％）と発生応力（％）との関係から、所定の割合以上として定められている。
【００４３】
図５において、縦軸は従来の非接合幅ゼロ構造（非接合領域ゼロ構造）での発生応力を１００％として表した発生応力（％）を示す軸、横軸は感圧領域のダイアフラム有効径に対する非接合幅（非接合領域の幅）の割合（％）を示す軸である。この図５に示されたグラフは実験により求められたものである。このグラフから、非接合幅を広くすると、発生応力が減少して行くことが分かる。この例では、感圧領域のダイアフラム有効径に対する非接合幅の割合が２％以上となると、発生応力が４０％まで減少している。このことから、図４に示した圧力センサチップ１１Ｂでは、感圧領域のダイアフラム有効径に対する非接合幅の割合を２％以上として定めている。
【００４４】
この圧力センサチップ１１Ｂにおいても、ストッパ部材１１−２の凹部１１−２ａが設けられた面とは反対側の面に補強層１１−６を設けている。これにより、センサダイアフラム１１−１のストッパ部材１１−２の凹部１１−２ａへの着底後のさらなる過大圧に対して、ストッパ部材１１−２の変形が抑制され、チップ全体の変形が抑制されて、ダイアフラムエッジにおける発生応力が低減されて、期待される耐圧が確保されるものとなる。
【００４５】
また、この圧力センサチップ１１Ｂでは、ストッパ部材１１−２，１１−３の凹部１１−２ａ，１１−３ａの開口サイズのズレによるセンサダイアフラム１１−１の拘束箇所の位置ずれが解消されるため、これによる応力増加および着底異常による応力発生についても大幅に改善されるものとなる。
【００４６】
〔実施の形態３〕
実施の形態２では、ストッパ部材１１−２の周縁部１１−２ｃの非接合領域Ｓ１ｂやストッパ部材１１−３の周縁部１１−３ｃの非接合領域Ｓ２ｂをプラズマや薬液などにより表面を荒らすなどして形成するようにしたが、センサダイアフラム１１−１の厚みに対して所定の割合以下として定められた微小な段差として形成するようにしてもよい。このような圧力センサチップの構造を図６に実施の形態３として示す。
【００４７】
図６に示した圧力センサチップ１１Ｃでは、ストッパ部材１１−２の周縁部１１−２ｃの非接合領域Ｓ１ｂを段差ｈ１とし、センサダイアフラム１１−１の一方の面とは接触しない領域としている。また、ストッパ部材１１−３の周縁部１１−３ｃの非接合領域Ｓ２ｂを段差ｈ２とし、センサダイアフラム１１−１の他方の面とは接触しない領域としている。
【００４８】
このストッパ部材１１−２，１１−３の周縁部１１−２ｃ，１１−３ｃの非接合領域Ｓ１ｂ，Ｓ２ｂを形成する段差ｈ１，ｈ２は、図７に示すダイアフラム厚みに対する段差の割合（％）と破壊応力に対する最大主応力の割合（％）との関係から、センサダイアフラム１１−１の厚みに対して所定の割合以下の微小な段差として定められている。
【００４９】
図７において、縦軸は破壊応力に対する最大主応力の割合（％）を示す軸であり、母材強度の理論値を１００％に設定している。横軸はダイアフラム厚みに対する段差の割合（％）を示す軸である。この図７に示されたグラフは実験により求められたものである。このグラフから、ダイアフラムの厚みに対する段差の割合を大きくすると、破壊応力に対する最大主応力の割合が増加して行くことが分かる。この例では、ダイアフラムの厚みに対する段差の割合を１．９５％とした時に、破壊応力に対する最大主応力の割合が１００％となっている。このことから、本実施の形態では、ダイアフラムの厚みに対する段差の割合を１．９５％未満として定めている。例えば、センサダイアフラム１１−１の厚みを３０μｍとした場合、段差ｈ１，ｈ２の許容限界値は約０．６μｍ（解析値）となる。
【００５０】
なお、上述した実施の形態では、ストッパ部材１１−２と台座１１−４との間に補強層１１−６を設けるものとしたが、この補強層１１−６は必ずしも独立した部材でなくてもよく、ストッパ部材１１−２や台座１１−４の厚みを厚くすることにより確保するようにしてもよい。
【００５１】
また、上述した実施の形態において、ストッパ部材１１−３の凹部１１−３ａが設けられた面とは反対側の面にも、ストッパ部材１１−２に対して設けたような補強層１１−６を設けるようにしてもよい。
【００５２】
また、上述した実施の形態では、センサダイアフラム１１−１を圧力変化に応じて抵抗値が変化する歪抵抗ゲージを形成したタイプとしているが、静電容量式のセンサチップとしてもよい。静電容量式のセンサチップは、所定の空間（容量室）を備えた基板と、その基板の空間上に配置されたダイアフラムと、基板に形成された固定電極と、ダイアフラムに形成された可動電極とを備えている。ダイアフラムが圧力を受けて変形することで、可動電極と固定電極との間隔が変化してその間の静電容量が変化する。
【００５３】
〔実施の形態の拡張〕
以上、実施の形態を参照して本発明を説明したが、本発明は上記実施の形態に限定されるものではない。本発明の構成や詳細には、本発明の技術思想の範囲内で当業者が理解し得る様々な変更をすることができる。また、各実施の形態については、矛盾しない範囲で任意に組み合わせて実施することができる。
【符号の説明】
【００５４】
１１Ａ〜１１Ｃ…圧力センサチップ、１１−１…センサダイアフラム、１１−２，１１−３…ストッパ部材、１１−２ａ，１１−３ａ…凹部、１１−２ｂ，１１−３ｂ…圧力導入孔（導圧孔）、１１−３ｃ，１１−３ｃ…周縁部、１１−４，１１−５…台座、１１−４ａ，１１−５ａ…圧力導入孔（導圧孔）、１１−６…補強層、１１−６ａ…連通孔、Ｓ１ａ，Ｓ２ａ…外周側の領域（接合領域）、Ｓ１ｂ，Ｓ２ｂ…内周側の領域（非接合領域）、Ｄ１，Ｄ２…感圧領域、ｈ１，ｈ２…段差。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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