(57)【要約】【課題】ターゲット物質を適切に出力し得るターゲット供給方法を提供すること。【解決手段】ターゲット供給方法は、ノズルを有するターゲット生成器と、圧力センサおよびアクチュエータを有する圧力制御器と、電極と、電圧印加部と、タイマとを含むターゲット供給装置を用い、前記アクチュエータが前記ターゲット生成器内部の圧力を設定圧力まで上げることと、前記ターゲット生成器内部の圧力を設定圧力まで上げる途中であることを検出すると、前記電位印加部が前記電極と前記ターゲット物質とに異なる電位を印加することと、前記ターゲット生成器内部の圧力が前記設定圧力まで上がったことを検出すると、前記静電気力によって前記ターゲット物質を引き出すために、前記電位印加部が前記ターゲット物質に一定の第１電位を印加するとともに、前記電極に第１パルス電圧を印加することとを含んでもよい。【選択図】図４
2014032778.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ノズルを有し、内部にターゲット物質を収容するターゲット生成器と、
前記ターゲット生成器内部の圧力を検出する圧力センサおよび前記ターゲット生成器内部の圧力を制御するアクチュエータを有する圧力制御器と、
前記ノズルのノズル孔から、静電気力によって前記ターゲット物質を引き出す電極と、
前記電極と前記ターゲット生成器内部の前記ターゲット物質とに電位を印加する電位印加部と、
タイマとを含むターゲット供給装置を用い、
前記圧力センサによる前記ターゲット生成器内部の圧力の検出結果に基づいて、前記アクチュエータが前記ターゲット生成器内部の圧力を設定圧力まで上げることと、
前記タイマの時間に基づいて、前記ターゲット生成器内部の圧力を設定圧力まで上げる途中であることを検出すると、前記電位印加部が前記電極と前記ターゲット物質とに異なる電位を印加することと、
前記圧力センサの検出結果に基づいて、前記ターゲット生成器内部の圧力が前記設定圧力まで上がったことを検出すると、前記静電気力によって前記ターゲット物質を引き出すために、前記電位印加部が前記ターゲット物質に一定の第１電位を印加するとともに、前記電極に第１パルス電圧を印加することと、を含むターゲット供給方法。
【請求項２】
請求項１に記載のターゲット供給方法において、
前記ターゲット生成器内部の圧力を設定圧力まで上げる途中であることを検出すると、前記電位印加部が前記電極と前記ターゲット物質とに異なる電位を印加することは、
前記圧力を前記設定圧力まで上げることを開始する前から前記圧力が前記設定圧力まで上がるまでの間に、前記電位印加部が、前記ターゲット物質に前記第１電位と同じ一定の第２電位または前記第１電位と異なる一定の第２電位を印加するとともに、前記電極に前記第１パルス電圧と同じ第２パルス電圧または前記第１パルス電圧と異なる第２パルス電圧を印加することにより行われるターゲット供給方法。
【請求項３】
請求項１に記載のターゲット供給方法において、
前記ターゲット生成器内部の圧力を設定圧力まで上げる途中であることを検出すると、前記電位印加部が前記電極と前記ターゲット物質とに異なる電位を印加することは、
前記圧力を前記設定圧力まで上げることを開始する前から前記圧力が前記設定圧力まで上がるまでの間に、前記電位印加部が、前記ターゲット物質に前記第１電位と同じ一定の第２電位または前記第１電位と異なる一定の第２電位を印加するとともに、前記電極に前記第２電位よりも低い一定の第３電位を印加することにより行われるターゲット供給方法。
【請求項４】
ノズルを有し、内部にターゲット物質を収容するターゲット生成器と、
前記ターゲット生成器内部の圧力を検出する圧力センサおよび前記ターゲット生成器内部の圧力を制御するアクチュエータを有する圧力制御器と、
前記ノズルのノズル孔から、静電気力によって前記ターゲット物質を引き出す電極と、
前記電極と前記ターゲット生成器内部の前記ターゲット物質とに電位を印加する電位印加部と、
タイマと、
前記圧力センサによる前記ターゲット生成器内部の圧力の検出結果および前記タイマの時間に基づいて、前記圧力制御器および前記電位印加部を制御する制御部であって、
前記制御部は、
前記ターゲット生成器内部の圧力を設定圧力まで上げることと、
前記ターゲット生成器内部の圧力を設定圧力まで上げる途中であることを検出すると、前記電極と前記ターゲット物質とに異なる電位を印加することと、
前記ターゲット生成器内部の圧力が前記設定圧力まで上がったことを検出すると、前記静電気力によって前記ターゲット物質を引き出すために、前記ターゲット物質に一定の第１電位を印加するとともに、前記電極に第１パルス電圧を印加することとを行うターゲット供給装置。
【請求項５】
請求項４に記載のターゲット供給装置において、
前記制御部は、前記ターゲット生成器内部の圧力を設定圧力まで上げる途中であることを検出すると、前記電極と前記ターゲット物質とに異なる電位を印加することを、
前記圧力を前記設定圧力まで上げることを開始する前であることを検出し、かつ、前記圧力が前記設定圧力まで上がる前であることを検出すると、前記ターゲット物質に前記第１電位と同じ一定の第２電位または前記第１電位と異なる一定の第２電位を印加するとともに、前記電極に前記第１パルス電圧と同じ第２パルス電圧または前記第１パルス電圧と異なる第２パルス電圧を印加することにより行うターゲット供給装置。
【請求項６】
請求項４に記載のターゲット供給装置において、
前記制御部は、前記ターゲット生成器内部の圧力を設定圧力まで上げる途中であることを検出すると、前記電極と前記ターゲット物質とに異なる電位を印加することを、
前記圧力を前記設定圧力まで上げることを開始する前であることを検出し、かつ、前記圧力が前記設定圧力まで上がる前であることを検出すると、前記ターゲット物質に前記第１電位と同じ一定の第２電位または前記第１電位と異なる一定の第２電位を印加するとともに、前記電極に前記第２電位よりも低い一定の第３電位を印加することにより行うターゲット供給装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本開示は、ターゲット供給装置、および、ターゲット供給方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、半導体プロセスの微細化に伴って、半導体プロセスの光リソグラフィにおける転写パターンの微細化が急速に進展している。次世代においては、７０ｎｍ〜４５ｎｍの微細加工、さらには３２ｎｍ以下の微細加工が要求されるようになる。このため、例えば３２ｎｍ以下の微細加工の要求に応えるべく、波長１３ｎｍ程度の極端紫外光（以下、ＥＵＶ光という場合がある。）を生成するための装置と縮小投影反射光学系とを組み合わせた露光装置の開発が期待されている。
【０００３】
ＥＵＶ光生成装置としては、ターゲット物質にレーザ光を照射することによって生成されるプラズマを用いたＬＰＰ（Ｌａｓｅｒ  Ｐｒｏｄｕｃｅｄ  Ｐｌａｓｍａ）方式の装置と、放電によって生成されるプラズマを用いたＤＰＰ（Ｄｉｓｃｈａｒｇｅ  Ｐｒｏｄｕｃｅｄ  Ｐｌａｓｍａ）方式の装置と、軌道放射光を用いたＳＲ（Ｓｙｎｃｈｒｏｔｒｏｎ  Ｒａｄｉａｔｉｏｎ）方式の装置との３種類の装置が知られている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】米国特許第７４０５４１６号明細書
【概要】
【０００５】
本開示の一態様によるターゲット供給方法は、ノズルを有し、内部にターゲット物質を収容するターゲット生成器と、前記ターゲット生成器内部の圧力を検出する圧力センサおよび前記ターゲット生成器内部の圧力を制御するアクチュエータを有する圧力制御器と、前記ノズルのノズル孔から、静電気力によって前記ターゲット物質を引き出す電極と、前記電極と前記ターゲット生成器内部の前記ターゲット物質とに電位を印加する電位印加部と、タイマとを含むターゲット供給装置を用い、前記圧力センサによる前記ターゲット生成器内部の圧力の検出結果に基づいて、前記アクチュエータが前記ターゲット生成器内部の圧力を設定圧力まで上げることと、前記タイマの時間に基づいて、前記ターゲット生成器内部の圧力を設定圧力まで上げる途中であることを検出すると、前記電位印加部が前記電極と前記ターゲット物質とに異なる電位を印加することと、前記圧力センサの検出結果に基づいて、前記ターゲット生成器内部の圧力が前記設定圧力まで上がったことを検出すると、前記静電気力によって前記ターゲット物質を引き出すために、前記電位印加部が前記ターゲット物質に一定の第１電位を印加するとともに、前記電極に第１パルス電圧を印加することと、を含んでもよい。
【０００６】
本開示の一態様によるターゲット供給装置は、ノズルを有し、内部にターゲット物質を収容するターゲット生成器と、前記ターゲット生成器内部の圧力を検出する圧力センサおよび前記ターゲット生成器内部の圧力を制御するアクチュエータを有する圧力制御器と、前記ノズルのノズル孔から、静電気力によって前記ターゲット物質を引き出す電極と、前記電極と前記ターゲット生成器内部の前記ターゲット物質とに電位を印加する電位印加部と、タイマと、前記圧力センサによる前記ターゲット生成器内部の圧力の検出結果および前記タイマの時間に基づいて、前記圧力制御器および前記電位印加部を制御する制御部であって、前記制御部は、前記ターゲット生成器内部の圧力を設定圧力まで上げることと、前記ターゲット生成器内部の圧力を設定圧力まで上げる途中であることを検出すると、前記電極と前記ターゲット物質とに異なる電位を印加することと、前記ターゲット生成器内部の圧力が前記設定圧力まで上がったことを検出すると、前記静電気力によって前記ターゲット物質を引き出すために、前記ターゲット物質に一定の第１電位を印加するとともに、前記電極に第１パルス電圧を印加することとを行ってもよい。
【図面の簡単な説明】
【０００７】
本開示のいくつかの実施形態を、単なる例として、添付の図面を参照して以下に説明する。
【図１】図１は、例示的なＬＰＰ方式のＥＵＶ光生成装置の構成を概略的に示す。
【図２】図２は、第１実施形態および第２実施形態に係るターゲット供給装置を含むＥＵＶ光生成装置の構成を概略的に示す。
【図３】図３は、第１実施形態に係るターゲット供給方法を示すフローチャートである。
【図４】図４は、第１実施形態に係るターゲット供給方法を示すタイミングチャートである。
【図５Ａ】図５Ａは、第１実施形態に係るドロップレットが引き出される前の状態を表す。
【図５Ｂ】図５Ｂは、第１実施形態に係るターゲット供給装置が動作している最中の状態を表す。
【図６】図６は、課題を有するターゲット供給方法を示すタイミングチャートである。
【図７】図７は、課題を概略的に示し、ドロップレットが第１電極と接触している状態を表す。
【図８】図８は、第２実施形態に係るターゲット供給方法を示すフローチャートである。
【図９】図９は、第２実施形態に係るターゲット供給方法を示すタイミングチャートである。
【図１０Ａ】図１０Ａは、課題を概略的に示し、ドロップレットが第１電極と接触している状態を表す。
【図１０Ｂ】図１０Ｂは、変形例に係るターゲット供給装置が動作している最中の状態を表す。
【実施形態】
【０００８】
内容
１．概要
２．ＥＵＶ光生成装置の全体説明
２．１  構成
２．２  動作
３．ターゲット供給装置を含むＥＵＶ光生成装置
３．１  第１実施形態
３．１．１  概略
３．１．２  構成
３．１．３  動作
３．２  第２実施形態
３．２．１  概略
３．２．２  構成
３．２．３  動作
３．３  変形例
【０００９】
以下、本開示の実施形態について、図面を参照しながら詳しく説明する。以下に説明される実施形態は、本開示のいくつかの例を示すものであって、本開示の内容を限定するものではない。また、各実施形態で説明される構成および動作の全てが本開示の構成および動作として必須であるとは限らない。なお、同一の構成要素には同一の参照符号を付して、重複する説明を省略する。
【００１０】
１．概要
本開示の実施形態においては、ターゲット供給方法は、ノズルを有し、内部にターゲット物質を収容するターゲット生成器と、前記ターゲット生成器内部の圧力を検出する圧力センサおよび前記ターゲット生成器内部の圧力を制御するアクチュエータを有する圧力制御器と、前記ノズルのノズル孔から、静電気力によって前記ターゲット物質を引き出す電極と、前記電極と前記ターゲット生成器内部の前記ターゲット物質とに電位を印加する電位印加部と、タイマとを含むターゲット供給装置を用い、前記圧力センサによる前記ターゲット生成器内部の圧力の検出結果に基づいて、前記アクチュエータが前記ターゲット生成器内部の圧力を設定圧力まで上げることと、前記タイマの時間に基づいて、前記ターゲット生成器内部の圧力を設定圧力まで上げる途中であることを検出すると、前記電位印加部が前記電極と前記ターゲット物質とに異なる電位を印加することと、前記圧力センサの検出結果に基づいて、前記ターゲット生成器内部の圧力が前記設定圧力まで上がったことを検出すると、前記静電気力によって前記ターゲット物質を引き出すために、前記電位印加部が前記ターゲット物質に一定の第１電位を印加するとともに、前記電極に第１パルス電圧を印加することと、を含んでもよい。
【００１１】
本開示の実施形態においては、ターゲット供給装置は、ノズルを有し、内部にターゲット物質を収容するターゲット生成器と、前記ターゲット生成器内部の圧力を検出する圧力センサおよび前記ターゲット生成器内部の圧力を制御するアクチュエータを有する圧力制御器と、前記ノズルのノズル孔から、静電気力によって前記ターゲット物質を引き出す電極と、前記電極と前記ターゲット生成器内部の前記ターゲット物質とに電位を印加する電位印加部と、タイマと、前記圧力センサによる前記ターゲット生成器内部の圧力の検出結果および前記タイマの時間に基づいて、前記圧力制御器および前記電位印加部を制御する制御部であって、前記制御部は、前記ターゲット生成器内部の圧力を設定圧力まで上げることと、前記ターゲット生成器内部の圧力を設定圧力まで上げる途中であることを検出すると、前記電極と前記ターゲット物質とに異なる電位を印加することと、前記ターゲット生成器内部の圧力が前記設定圧力まで上がったことを検出すると、前記静電気力によって前記ターゲット物質を引き出すために、前記ターゲット物質に一定の第１電位を印加するとともに、前記電極に第１パルス電圧を印加することとを行ってもよい。
【００１２】
２．ＥＵＶ光生成装置の全体説明
２．１  構成
図１は、例示的なＬＰＰ方式のＥＵＶ光生成装置１の構成を概略的に示す。ＥＵＶ光生成装置１は、少なくとも１つのレーザ装置３と共に用いられてもよい。ＥＵＶ光生成装置１およびレーザ装置３を含むシステムを、以下、ＥＵＶ光生成システム１１と称する。図１を参照に、以下に詳細に説明されるように、ＥＵＶ光生成装置１は、チャンバ２を含んでもよい。チャンバ２は、密閉可能であってもよい。ＥＵＶ光生成装置１は、ターゲット供給装置７をさらに含んでもよい。ターゲット供給装置７は、例えばチャンバ２に取り付けられていてもよい。ターゲット供給装置７から供給されるターゲットの材料は、スズ、テルビウム、ガドリニウム、リチウム、キセノン、またはそれらのうちのいずれか２つ以上の組合せ等を含んでもよいが、これらに限定されない。
【００１３】
チャンバ２の壁には、少なくとも１つの貫通孔が設けられていてもよい。その貫通孔をレーザ装置３から出力されたパルスレーザ光３２が通過してもよい。あるいは、チャンバ２には、レーザ装置３から出力されたパルスレーザ光３２が透過する少なくとも１つのウインドウ２１が設けられてもよい。チャンバ２の内部には例えば、回転楕円面形状の反射面を有するＥＵＶ集光ミラー２３が配置されてもよい。ＥＵＶ集光ミラー２３は、第１焦点および第２焦点を有し得る。ＥＵＶ集光ミラー２３の表面には例えば、モリブデンとシリコンとが交互に積層された多層反射膜が形成されてもよい。ＥＵＶ集光ミラー２３は、例えば、その第１焦点がプラズマ生成位置またはその近傍のプラズマ生成領域２５に位置し、その第２焦点が露光装置の仕様によって規定される所望の集光位置（中間焦点（ＩＦ）２９２）に位置するように配置されるのが好ましい。所望の集光位置は中間焦点（ＩＦ）２９２と呼んでもよい。ＥＵＶ集光ミラー２３の中央部には、パルスレーザ光３３が通過するための貫通孔２４が設けられてもよい。
【００１４】
ＥＵＶ光生成装置１は、ＥＵＶ光生成制御システム５を含んでいてもよい。また、ＥＵＶ光生成装置１は、ターゲットセンサ４を含んでもよい。ターゲットセンサ４は、ターゲットの存在、軌道、位置等を検出してもよい。ターゲットセンサ４は、撮像機能を有してもよい。
【００１５】
さらに、ＥＵＶ光生成装置１は、チャンバ２内部と露光装置６内部とを連通させるための接続部２９を含んでもよい。接続部２９内部には、アパーチャが形成された壁２９１が設けられてもよい。壁２９１は、そのアパーチャがＥＵＶ集光ミラー２３の第２焦点位置に位置するように配置されてもよい。
【００１６】
さらに、ＥＵＶ光生成装置１は、レーザ光進行方向制御部３４、レーザ光集光光学系２２、ドロップレット２７を回収するためのターゲット回収装置２８等を含んでもよい。レーザ光進行方向制御部３４は、レーザ光の進行方向を規定するための光学素子と、この光学素子の位置や姿勢等を調節するためのアクチュエータとを備えてもよい。
【００１７】
２．２  動作
図１を参照すると、レーザ装置３から出力されたパルスレーザ光３１は、レーザ光進行方向制御部３４を経て、パルスレーザ光３２としてウインドウ２１を透過して、チャンバ２に入射してもよい。パルスレーザ光３２は、少なくとも１つのレーザ光経路に沿ってチャンバ２内に進み、レーザ光集光光学系２２で反射されて、パルスレーザ光３３として少なくとも１つのドロップレット２７に照射されてもよい。
【００１８】
ターゲット供給装置７からは、ドロップレット２７がチャンバ２内部のプラズマ生成領域２５に向けて出力されてもよい。ドロップレット２７には、パルスレーザ光３３に含まれる少なくとも１つのパルスレーザ光が照射され得る。パルスレーザ光３３が照射されたドロップレット２７はプラズマ化し、そのプラズマからＥＵＶを含む光２５１（以下、「ＥＵＶ光を含む光」を「ＥＵＶ光」と表現する場合がある）が放射され得る。ＥＵＶ光２５１は、ＥＵＶ集光ミラー２３によって集光されるとともに反射されてもよい。ＥＵＶ集光ミラー２３で反射されたＥＵＶ光２５２は、中間焦点２９２を通って露光装置６に出力されてもよい。なお、１つのドロップレット２７に、パルスレーザ光３３に含まれる複数のパルスレーザ光が照射されてもよい。
【００１９】
ＥＵＶ光生成制御システム５は、ＥＵＶ光生成システム１１全体の制御を統括してもよい。ＥＵＶ光生成制御システム５は、ターゲットセンサ４によって撮像されたドロップレット２７のイメージデータ等を処理してもよい。ＥＵＶ光生成制御システム５は、例えば、ドロップレット２７を出力するタイミングやドロップレット２７の出力速度等を制御してもよい。また、ＥＵＶ光生成制御システム５は、例えば、レーザ装置３のレーザ発振タイミングやパルスレーザ光３２の進行方向やパルスレーザ光３３の集光位置等を制御してもよい。上述の様々な制御は単なる例示に過ぎず、必要に応じて他の制御を追加してもよい。
【００２０】
３．ターゲット供給装置を含むＥＵＶ光生成装置
３．１  第１実施形態
３．１．１  概略
本開示の第１実施形態のターゲット供給方法において、前記ターゲット生成器内部の圧力を設定圧力まで上げる途中であることを検出すると、前記電位印加部が前記電極と前記ターゲット物質とに異なる電位を印加することは、前記圧力を前記設定圧力まで上げることを開始する前から前記圧力が前記設定圧力まで上がるまでの間に、前記電位印加部が、前記ターゲット物質に前記第１電位と同じ一定の第２電位または前記第１電位と異なる一定の第２電位を印加するとともに、前記電極に前記第１パルス電圧と同じ第２パルス電圧または前記第１パルス電圧と異なる第２パルス電圧を印加することにより行われてもよい。
本開示の第１実施形態のターゲット供給装置において、前記制御部は、前記ターゲット生成器内部の圧力を設定圧力まで上げる途中であることを検出すると、前記電極と前記ターゲット物質とに異なる電位を印加することを、前記圧力を前記設定圧力まで上げることを開始する前であることを検出し、かつ、前記圧力が前記設定圧力まで上がる前であることを検出すると、前記ターゲット物質に前記第１電位と同じ一定の第２電位または前記第１電位と異なる一定の第２電位を印加するとともに、前記電極に前記第１パルス電圧と同じ第２パルス電圧または前記第１パルス電圧と異なる第２パルス電圧を印加することにより行ってもよい。
【００２１】
３．１．２  構成
図２は、第１実施形態および後述する第２実施形態に係るターゲット供給装置を含むＥＵＶ光生成装置の構成を概略的に示す。
ＥＵＶ光生成装置１Ａは、図２に示すように、チャンバ２と、ターゲット供給装置７Ａとを備えてもよい。ターゲット供給装置７Ａは、ターゲット生成部７０Ａと、制御部としてのターゲット制御装置８０Ａと、タイマ８１Ａとを備えてもよい。ターゲット制御装置８０Ａには、レーザ装置３と、ＥＵＶ光生成制御システム５Ａとが電気的に接続されてもよい。
【００２２】
ターゲット生成部７０Ａは、ターゲット生成器７１Ａと、圧力制御器７２Ａと、温度調整部７３Ａと、静電引出部７５Ａとを備えてもよい。
ターゲット生成器７１Ａは、内部にターゲット物質２７０を収容するためのタンク７１１Ａを備えてもよい。タンク７１１Ａは、筒状であってもよい。タンク７１１Ａには、当該タンク７１１Ａ内のターゲット物質２７０を、ドロップレット２７１Ａとしてチャンバ２内に出力するためのノズル７１２Ａが設けられていてもよい。ターゲット生成器７１Ａは、タンク７１１Ａがチャンバ２外部に位置し、ノズル７１２Ａがチャンバ２内部に位置するように設けられてもよい。圧力制御器７２Ａは、タンク７１１Ａに連結されてもよい。
【００２３】
チャンバ２の設置形態によっては、予め設定されるドロップレット２７１Ａの出力方向（ノズル７１２Ａの軸方向（設定出力方向１０Ａと称する））は、必ずしも重力方向１０Ｂと一致するとは限らない。重力方向１０Ｂに対して、斜め方向や水平方向に、ドロップレット２７１Ａが出力されるよう構成されてもよい。なお、第１実施形態では、ドロップレット２７１Ａの設定出力方向１０Ａが重力方向１０Ｂに対して斜めとなるようにチャンバ２が設置されてもよい。
【００２４】
ノズル７１２Ａは、ノズル本体７１３Ａと、保持部７１４Ａと、出力部７１５Ａとを備えてもよい。ノズル本体７１３Ａは、タンク７１１Ａの下面からチャンバ２内に突出するように設けられてもよい。保持部７１４Ａは、ノズル本体７１３Ａの先端に設けられてもよい。保持部７１４Ａは、ノズル本体７１３Ａよりも直径が大きい円筒状に形成されてもよい。
【００２５】
出力部７１５Ａは、略円板状に形成されてもよい。出力部７１５Ａは、ノズル本体７１３Ａの先端面に密着するように、保持部７１４Ａによって保持されてもよい。出力部７１５Ａの中央部分には、円錐台状の突出部７１６Ａ（図５Ａ参照）が設けられてもよい。出力部７１５Ａは、突出部７１６Ａがチャンバ２内に突出するように設けられてもよい。突出部７１６Ａは、そこに電界が集中し易いようにするために設けられてもよい。突出部７１６Ａには、突出部７１６Ａにおける円錐台上面部を構成する先端部の略中央部に開口するノズル孔７１８Ａ（図５Ａ参照）が設けられてもよい。ノズル孔７１８Ａの直径は、６〜１５μｍであってもよい。出力部７１５Ａは、出力部７１５Ａとターゲット物質２７０との接触角が９０°以上の材料で構成されるのが好ましい。あるいは、出力部７１５Ａの少なくとも表面が、当該接触角が９０°以上の材料でコーティングされてもよい。接触角が９０°以上の材料は、ＳｉＣ、ＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、モリブデン、タングステンであってもよい。
【００２６】
タンク７１１Ａと、ノズル７１２Ａと、出力部７１５Ａとは、電気絶縁材料で構成されてもよい。これらが、電気絶縁材料ではない材料、例えばモリブデンなどの金属材料で構成される場合には、チャンバ２とターゲット生成器７１Ａとの間や、出力部７１５Ａと後述する第１電極７５１Ａとの間に電気絶縁材料が配置されてもよい。この場合、タンク７１１Ａと後述するパルス電圧生成器７５３Ａとが電気的に接続されてもよい。
【００２７】
圧力制御器７２Ａは、アクチュエータ７２２Ａと、圧力センサ７２３Ａとを備えてもよい。アクチュエータ７２２Ａには、配管７２４Ａを介して、不活性ガスボンベ７２１Ａが接続されてもよい。アクチュエータ７２２Ａは、ターゲット制御装置８０Ａに電気的に接続されてもよい。アクチュエータ７２２Ａは、ターゲット制御装置８０Ａから送信される信号に基づいて、不活性ガスボンベ７２１Ａから供給される不活性ガスの圧力を制御して、タンク７１１Ａ内の圧力を調節するよう構成されてもよい。
圧力センサ７２３Ａは、配管７２４Ａに設けられてもよい。圧力センサ７２３Ａは、ターゲット制御装置８０Ａに電気的に接続されてもよい。圧力センサ７２３Ａは、配管７２４Ａ内に存在する不活性ガスの圧力を検出して、この検出した圧力に対応する信号をターゲット制御装置８０Ａに送信してもよい。
【００２８】
温度調整部７３Ａは、タンク７１１Ａ内のターゲット物質２７０の温度を調節するよう構成されてもよい。温度調整部７３Ａは、ヒータ７３１Ａと、ヒータ電源７３２Ａと、温度センサ７３３Ａと、温度コントローラ７３４Ａとを備えてもよい。ヒータ７３１Ａは、タンク７１１Ａの外周面に設けられてもよい。ヒータ電源７３２Ａには、ヒータ７３１Ａと、温度コントローラ７３４Ａとが電気的に接続されてもよい。ヒータ電源７３２Ａは、温度コントローラ７３４Ａからの信号に基づいて、ヒータ７３１Ａに電力を供給してヒータ７３１Ａを発熱させてもよい。それにより、タンク７１１Ａ内のターゲット物質２７０が、タンク７１１Ａを介して加熱され得る。
【００２９】
温度センサ７３３Ａは、タンク７１１Ａの外周面におけるノズル７１２Ａ側に設けられてもよいし、タンク７１１Ａ内に設けられてもよい。温度センサ７３３Ａには、温度コントローラ７３４Ａが電気的に接続されてもよい。温度センサ７３３Ａは、タンク７１１Ａの温度を検出して、当該検出した温度に対応する信号を温度コントローラ７３４Ａに送信するよう構成されてもよい。タンク７１１Ａの温度は、ターゲット物質２７０の温度とほぼ同一の温度となり得る。温度コントローラ７３４Ａには、ターゲット制御装置８０Ａが電気的に接続されてもよい。温度コントローラ７３４Ａは、温度センサ７３３Ａからの信号に基づいて、ターゲット物質２７０の温度を所定温度に調節するための信号をヒータ電源７３２Ａに出力するよう構成されてもよい。
【００３０】
静電引出部７５Ａは、第１電極７５１Ａと、第２電極７５２Ａと、パルス電圧生成器７５３Ａと、電圧源７５４Ａとを備えてもよい。後に説明するように、第１電極７５１Ａの電位と第２電極７５２Ａの電位との間の電位差を利用して、ドロップレット２７１Ａを出力部７１５Ａから引き出してもよい。
【００３１】
第２電極７５２Ａは、タンク７１１Ａ内のターゲット物質２７０中に配置されてもよい。第２電極７５２Ａには、フィードスルーを介して電圧源７５４Ａが電気的に接続されてもよい。
パルス電圧生成器７５３Ａおよび電圧源７５４Ａは、本開示の電位印加部であってもよい。パルス電圧生成器７５３Ａおよび電圧源７５４Ａは、接地されてもよい。パルス電圧生成器７５３Ａおよび電圧源７５４Ａには、ターゲット制御装置８０Ａが電気的に接続されてもよい。
【００３２】
タイマ８１Ａは、ターゲット制御装置８０Ａに電気的に接続されてもよい。タイマ８１Ａは、時間を計時して、計時した時間に対応する信号をターゲット制御装置８０Ａに送信してもよい。タイマ８１Ａは、現在時刻を測る時計であってもよいし、当該タイマ８１Ａの操作開始からの時間を測るストップウォッチであってもよい。
ターゲット制御装置８０Ａは、制御部であってもよい。ターゲット制御装置８０Ａは、温度コントローラ７３４Ａに信号を送信して、ターゲット生成器７１Ａ内のターゲット物質２７０の温度を制御してもよい。ターゲット制御装置８０Ａは、アクチュエータ７２２Ａに信号を送信して、ターゲット生成器７１Ａ内の圧力を制御してもよい。ターゲット制御装置８０Ａは、パルス電圧生成器７５３Ａおよび電圧源７５４Ａに信号をそれぞれ送信して、第１電極７５１Ａおよび第２電極７５２Ａに印加する電位を制御してもよい。
【００３３】
３．１．３  動作
図３は、ターゲット供給方法を示すフローチャートである。図４は、ターゲット供給方法を示すタイミングチャートである。図５Ａは、ドロップレットが引き出される前の状態を表す。図５Ｂは、ターゲット供給装置が動作している最中の状態を表す。
なお、以下に示す動作において、ターゲット制御装置８０Ａは、圧力センサ７２３Ａから送信される信号を受信して、この受信した信号に基づいて、ターゲット生成器７１Ａ内の圧力を判断してもよい。ターゲット制御装置８０Ａは、タイマ８１Ａから送信される信号を受信して、この受信した信号に基づいて、時刻を判断してもよい。
【００３４】
ＥＵＶ光生成制御システム５Ａは、ターゲット供給装置７Ａのターゲット制御装置８０Ａにターゲット出力信号を送信してもよい。このとき、ターゲット生成器７１Ａ内の圧力は、大気圧であってもよい。
ターゲット制御装置８０Ａは、ターゲット供給装置７Ａからターゲット出力信号を受信すると、図３に示すように、パルス電圧生成器７５３Ａと電圧源７５４Ａに信号を送信して、第１電極７５１Ａの電位と第２電極７５２Ａの電位をそれぞれグランド（０Ｖ）に設定してもよい（ステップＳ１）。
ターゲット制御装置８０Ａは、温度コントローラ７３４Ａに信号を送信して、ターゲット生成器７１Ａ内のターゲット物質２７０の温度が、当該ターゲット物質２７０の融点以上の温度になるように、ヒータ電源７３２Ａを制御してもよい。
ターゲット制御装置８０Ａは、温度センサ７３３Ａで検出した温度がターゲット物質２７０の融点以上で安定したと判断した場合、ターゲット生成器７１Ａ内の圧力を圧力ＰＬ１に設定してもよい（ステップＳ２）。ここで、温度センサ７３３Ａで検出した温度が当該融点以上の所定温度を中心とした所定範囲内の温度であり、かつ、当該所定範囲内の温度で維持された時間が所定時間以上となったときに、温度センサ７３３Ａで検出した温度がターゲット物質２７０の融点以上で安定したと判断してもよい。ターゲット生成器７１Ａ内の圧力を圧力ＰＬ１に設定することは、ターゲット制御装置８０Ａがアクチュエータ７２２Ａに信号を送信して、不活性ガスボンベ７２１Ａから供給される不活性ガスの圧力を制御することにより行われてもよい。以上の処理によって、図４に示すように、時刻Ｔ０において、第１電極７５１Ａおよび第２電極７５２Ａの電位がそれぞれグランドとなり、ターゲット生成器７１Ａ内の圧力が圧力ＰＬ１となり得る。圧力ＰＬ１の大きさは、図５Ａに示すように、ノズル孔７１８Ａにターゲット物質２７０が到達し、かつ、ターゲット物質２７０がドロップレット２７１Ａとして分断されない大きさであってもよい。圧力ＰＬ１は、例えば、１００ｋＰａであってもよい。
【００３５】
ターゲット制御装置８０Ａは、図３に示すように、パルス電圧生成器７５３Ａと電圧源７５４Ａに信号を送信して、時刻Ｔ１になったときに、第１電極７５１Ａの電位と第２電極７５２Ａの電位をそれぞれ電位ＶＨに設定してもよい（ステップＳ３）。電位ＶＨは、５ｋＶであってもよい。ステップＳ３において第２電極７５２Ａに設定される電位ＶＨは、本開示におけるターゲット物質２７０に印加する一定の第１電位であってもよい。このステップＳ３の処理によって、図４に示すように、時刻Ｔ１において、第１電極７５１Ａの電位と第２電極７５２Ａの電位が電位ＶＨに上がり得る。
【００３６】
ターゲット制御装置８０Ａは、図３および図４に示すように、パルス電圧生成器７５３Ａに信号を送信して、時刻Ｔ２となったときに、第１電極７５１Ａに対し所定の周波数でパルス状の電圧を印加してもよい（ステップＳ４）。ステップＳ４において印加するパルス状の電圧は、本開示における第１パルス電圧であってもよい。パルス状の電位の最大値は、電位ＶＨであってもよい。パルス状の電位の最小値は、電位ＶＬであってもよい。電位ＶＬは、本開示における第２電位であってもよい。電位ＶＬの大きさは、第１電極７５１Ａと第２電極７５２Ａとの電位差（ＶＤ１＝ＶＨ−ＶＬ）によって、ドロップレット２７１Ａを出力部７１５Ａから引き出し可能な大きさであってもよい。第１電極７５１Ａの電位が電位ＶＬに維持されることで、電位差ＶＤ１が生じ続ける第１時間ΔＴＶ１は、後述する時刻Ｔ３から時刻Ｔ４までの昇圧に要する時間ΔＴＰ１より短くてもよい。パルス状の電圧の周期Ｆ１は、昇圧に要する時間ΔＴＰ１より短くてもよい。パルス状の電圧の周波数は、５０ｋＨｚ〜１００ｋＨｚであってもよい。
このとき、第１電極７５１Ａと第２電極７５２Ａとの間に電位差ＶＤ１が生じるため、ノズル７１２Ａからドロップレット２７１Ａが引き出され得る。しかし、ターゲット生成器７１Ａ内の圧力が圧力ＰＬ１であるため、図５Ａに示すように、ノズル孔７１８Ａからターゲット物質２７０が出力されない状態が継続し得る。
【００３７】
ターゲット制御装置８０Ａは、図３に示すように、アクチュエータ７２２Ａに信号を送信して、時刻Ｔ３になったときに、ターゲット生成器７１Ａ内の圧力を設定圧力ＰＤに設定してもよい（ステップＳ５）。このステップＳ５におけるターゲット生成器７１Ａ内の圧力を設定することは、ステップＳ２と同様の方法によって行われてもよい。設定圧力ＰＤは、本開示における設定圧力であってもよい。設定圧力ＰＤの大きさは、ノズル孔７１８Ａからターゲット物質２７０が分断されて、ドロップレット２７１Ａが引き出される大きさであってもよい。設定圧力ＰＤは、例えば、０．５ＭＰａ〜１ＭＰａであってもよい。
このステップＳ５の処理によって、図４に示すように、ターゲット生成器７１Ａ内の圧力が徐々に上がり、時刻Ｔ４において設定圧力ＰＤに到達し得る。また、昇圧に要する時間ΔＴＰ１内において、すなわちターゲット生成器７１Ａ内の圧力が圧力ＰＬ１から設定圧力ＰＤに上がる途中において、第２電極７５２Ａに一定の電位を印加するとともに、第１電極７５１Ａにパルス状の電圧を印加し得る。このことにより、第１電極７５１Ａの電位と第２電極７５２Ａの電位とが同じ電位ＶＨの期間に、ターゲット生成器７１Ａ内の圧力によってターゲット物質２７０がノズル孔７１８Ａの開口面から押し出されて徐々に大きくなり、ドロップレット２７１Ａが形成され得る。そして、第１電極７５１Ａの電位が電位ＶＬに下がったときに、第１電極７５１Ａと第２電極７５２Ａとの間に電位差ＶＤ１が生じ、図５Ｂに示すように、この電位差ＶＤ１によって出力部７１５Ａからドロップレット２７１Ａを引き出され得る。
ここで、上述したように、周期Ｆ１が昇圧に要する時間ΔＴＰ１より短いため、昇圧に要する時間ΔＴＰ１中に、ドロップレット２７１Ａが少なくとも１回出力し得る。
【００３８】
時刻Ｔ４の後、ターゲット生成器７１Ａ内の圧力が設定圧力ＰＤに維持され続け得る。また、第２電極７５２Ａに一定の電位ＶＨが印加され続け、かつ、第１電極７５１Ａに周期Ｆ１のパルス状の電圧が印加され続け得る。
その結果、第１電極７５１Ａの電位と第２電極７５２Ａの電位が、両方ともに電位ＶＨとなる第２時間ΔＴＶ２において、突出部７１６Ａの先端にドロップレット２７１Ａが形成され得る。そして、第１電極７５１Ａと第２電極７５２Ａとの間に電位差ＶＤ１が生じる第１時間ΔＴＶ１において、ドロップレット２７１Ａを出力し得る。
【００３９】
ターゲット制御装置８０Ａは、ドロップレット２７１Ａの生成を停止するか否かを判断してもよい（ステップＳ６）。ターゲット制御装置８０Ａは、ＥＵＶ光生成制御システム５Ａからターゲット出力停止信号を受信した場合、ドロップレット２７１Ａの生成を停止すると判断してもよい。
ステップＳ６において、ターゲット制御装置８０Ａは、ドロップレット２７１Ａの生成を停止しないと判断した場合、所定時間経過後にステップＳ６の処理を再度行ってもよい。一方、ステップＳ６において、ターゲット制御装置８０Ａは、ドロップレット２７１Ａの生成を停止すると判断した場合、アクチュエータ７２２Ａに信号を送信して、ターゲット生成器７１Ａ内の圧力を圧力ＰＬ２に設定してもよい（ステップＳ７）。このステップＳ７の処理によって、図４に示すように、時刻Ｔ５から時刻Ｔ６の期間において、ターゲット生成器７１Ａ内の圧力が設定圧力ＰＤから圧力ＰＬ２に下がり得る。圧力ＰＬ２の大きさは、ノズル孔７１８Ａにターゲット物質２７０が到達し、かつ、ターゲット物質２７０がドロップレット２７１Ａとして分断されない大きさであってもよい。圧力ＰＬ２の大きさは、圧力ＰＬ１よりも小さくてもよいし、同じであってもよいし、大きくてもよい。
そして、遅くとも、ターゲット生成器７１Ａ内の圧力が圧力ＰＬ２に到達した時刻Ｔ６以降、ドロップレット２７１Ａの生成が停止し得る。
【００４０】
ターゲット制御装置８０Ａは、図３に示すように、第１電極７５１Ａの電位を電位ＶＨに設定してもよい（ステップＳ８）。このステップＳ８の処理によって、図４に示すように、時刻Ｔ７から時刻Ｔ８の間において、第１電極７５１Ａの電位と第２電極７５２Ａの電位は、電位ＶＨに維持され得る。その後、ターゲット制御装置８０Ａは、第１電極７５１Ａの電位と第２電極７５２Ａの電位をグランドに設定して（ステップＳ９）、処理を終了してもよい。このステップＳ９の処理によって、時刻Ｔ８以降は、第１電極７５１Ａの電位と第２電極７５２Ａの電位は、グランドに維持され得る。
【００４１】
上述のように、ターゲット供給装置７Ａのターゲット制御装置８０Ａは、ターゲット生成器７１Ａ内の圧力が圧力ＰＬ１の状態において、第２電極７５２Ａに電位ＶＨを印加してもよい。ターゲット制御装置８０Ａは、第２電極７５２Ａに電位ＶＨを印加している状態において、最大値が電位ＶＨであり最小値が電位ＶＬのパルス状の電圧を、第１電極７５１Ａに印加してもよい。ターゲット制御装置８０Ａは、第１電極７５１Ａにパルス状の電圧を印加している状態において、ターゲット生成器７１Ａ内の圧力を設定圧力ＰＤまで上げてもよい。すなわち、ターゲット供給装置７Ａは、昇圧に要する時間ΔＴＰ１内において、第１電極７５１Ａに電位ＶＬを印加するとともに、第２電極７５２Ａに電位ＶＬよりも高い電位ＶＨを印加してもよい。ターゲット供給装置７Ａは、ターゲット生成器７１Ａ内の圧力が設定圧力ＰＤまで上がった後に、第２電極７５２Ａに一定の電位ＶＨを印加するとともに、第１電極７５１Ａにパルス状の電圧を印加してもよい。
【００４２】
ここで、ドロップレットを生成する際、図６に示すような制御を行うことが考えられ得る。図６は、課題を有するターゲット供給方法を示すタイミングチャートである。図７は、課題を概略的に示し、ドロップレットが第１電極と接触している状態を表す。
すなわち、ターゲット制御装置は、時刻Ｔ０において、第１電極７５１Ａの電位と第２電極７５２Ａの電位をグランドにするとともに、ターゲット生成器７１Ａ内の圧力を圧力ＰＬ１にしてもよい。ターゲット制御装置は、時刻Ｔ９１において、第１電極７５１Ａの電位と第２電極７５２Ａの電位を電位ＶＨにしてもよい。ターゲット制御装置は、時刻Ｔ９２から時刻Ｔ９３の間において、ターゲット生成器７１Ａ内の圧力を圧力ＰＬ１から設定圧力ＰＤに上げてもよい。ターゲット制御装置は、時刻Ｔ９３においてターゲット生成器７１Ａ内の圧力が設定圧力ＰＤまで上がった後、ターゲット生成器７１Ａ内の圧力を設定圧力ＰＤに維持してもよい。
【００４３】
この時刻Ｔ９２から時刻Ｔ９４の間において、ターゲット生成器７１Ａ内の圧力が設定圧力ＰＤであるため、ターゲット物質２７０がノズル孔７１８Ａの開口面から押し出されて徐々に大きくなり得る。しかし、第１電極７５１Ａと第２電極７５２Ａとの間に電位差が生じていないため、ターゲット物質２７０は、ドロップレット２７１Ａとしてノズル７１２Ａから分断して引き出されない。そして、第１実施形態の場合と異なり、時刻Ｔ９２から時刻Ｔ９３までの昇圧に要する時間ΔＴＰ９中において、第１電極７５１Ａと第２電極７５２Ａとの間に電位差が生じていないため、第１実施形態の場合と比べて、ノズル孔７１８Ａから押し出されるターゲット物質２７０の量が多くなり得る。
その結果、図７に示すように、突出部７１６Ａの先端にドロップレット２７１Ａよりも大きいドロップレット２７９Ａが生成され得る。ドロップレット２７９Ａの設定出力方向１０Ａが重力方向１０Ｂに対して斜めとなっている場合、ドロップレット２７９Ａが第１電極７５１Ａと接触して、ターゲット物質２７０と第１電極７５１Ａとが短絡し得る。
【００４４】
ターゲット制御装置は、ターゲット生成器７１Ａ内の圧力が設定圧力ＰＤで維持されている時刻Ｔ９４となったときに、ドロップレット２７９Ａを出力するために、第１電極７５１Ａに周期Ｆ９のパルス状の電圧を印加するようにパルス電圧生成器７５３Ａを制御してもよい。このとき、第１電極７５１Ａと第２電極７５２Ａとが短絡し得るため、図６に二点鎖線で示すように、第１電極７５１Ａにパルス状の電圧が印加されないことがあり得る。その結果、ドロップレット２７９Ａが出力しないことがあり得る。
【００４５】
これに対し、第１実施形態では、昇圧に要する時間ΔＴＰ１において第１電極７５１Ａと第２電極７５２Ａとの間に電位差ＶＤ１を生じ得る。このことにより、ターゲット供給装置７Ａは、昇圧に要する時間ΔＴＰ１内に少なくとも１回ドロップレット２７１Ａを出力し得る。このため、ドロップレット２７１Ａの設定出力方向１０Ａが重力方向１０Ｂに対して斜めとなっている場合であっても、ターゲット生成器７１Ａ内の圧力が設定圧力ＰＤまで上がった時刻Ｔ３において、突出部７１６Ａの先端に付着したドロップレット２７１Ａと第１電極７５１Ａとの接触により、ターゲット物質２７０と第１電極７５１Ａとが短絡することを抑制し得る。したがって、ターゲット供給装置７Ａは、ドロップレット２７１Ａを適切に出力し得る。
【００４６】
ターゲット供給装置７Ａのターゲット制御装置８０Ａは、ターゲット生成器７１Ａ内の圧力を上げ始める時刻Ｔ３の前から、第１電極７５１Ａに周期Ｆ１のパルス状の電圧を印加してもよい。
このことにより、圧力制御器７２Ａが圧力を上げ始めてから、ターゲット生成器７１Ａ内の圧力が実際に上がるまでのタイミングが分からない場合であっても、ターゲット供給装置７Ａは、昇圧に要する時間ΔＴＰ１内に少なくとも１回ドロップレット２７１Ａを出力し得る。
【００４７】
なお、第１実施形態では、時刻Ｔ４の前と時刻Ｔ４の後とにおいて、同じ周期Ｆ１のパルス状の電圧を第１電極７５１Ａに印加したが、すなわち本開示における第１パルス電圧と第２パルス電圧とが同じであったが、時刻Ｔ４の後に、時刻Ｔ４の前とは周期が異なるパルス状の電圧を、第２パルス電圧として第１電極７５１Ａに印加してもよい。
また、第１実施形態では、時刻Ｔ４の前と時刻Ｔ４の後とにおいて、同じ大きさの電位ＶＨを第２電極７５２Ａに印加したが、すなわち本開示における第１電位と第２電位とが同じ大きさであったが、時刻Ｔ４の前において、第１電極７５１Ａと第２電極７５２Ａとの間に電位差が生じる大きさであれば、時刻Ｔ４の前に第２電極７５２Ａに印加する第２電位は、電位ＶＨでなくてもよい。
【００４８】
３．２  第２実施形態
３．２．１  概略
本開示の第２実施形態のターゲット供給方法において、前記ターゲット生成器内部の圧力を設定圧力まで上げる途中であることを検出すると、前記電位印加部が前記電極と前記ターゲット物質とに異なる電位を印加することは、前記圧力を前記設定圧力まで上げることを開始する前から前記圧力が前記設定圧力まで上がるまでの間に、前記電位印加部が、前記ターゲット物質に前記第１電位と同じ一定の第２電位または前記第１電位と異なる一定の第２電位を印加するとともに、前記電極に前記第２電位よりも低い一定の第３電位を印加することにより行われてもよい。
本開示の第２実施形態のターゲット供給装置において、前記制御部は、前記ターゲット生成器内部の圧力を設定圧力まで上げる途中であることを検出すると、前記電極と前記ターゲット物質とに異なる電位を印加することを、前記圧力を前記設定圧力まで上げることを開始する前であることを検出し、かつ、前記圧力が前記設定圧力まで上がる前であることを検出すると、前記ターゲット物質に前記第１電位と同じ一定の第２電位または前記第１電位と異なる一定の第２電位を印加するとともに、前記電極に前記第２電位よりも低い一定の第３電位を印加することにより行ってもよい。
【００４９】
３．２．２  構成
第２実施形態のＥＵＶ光生成装置１Ｂにおいて、図２に示すように、ターゲット供給装置７Ｂの制御部としてのターゲット制御装置８０Ｂ以外の構成については、第１実施形態のＥＵＶ光生成装置１Ａと同様のものを適用してもよい。
【００５０】
３．２．３  動作
以下において、第１実施形態と同様の動作については、説明を省略する。図８は、第２実施形態に係るターゲット供給方法を示すフローチャートである。図９は、第２実施形態に係るターゲット供給方法を示すタイミングチャートである。
【００５１】
ターゲット生成器７１Ａ内の圧力は、大気圧であってもよい。
ターゲット制御装置８０Ｂは、図８に示すように、ステップＳ１の処理およびステップＳ２の処理を行ってもよい。以上の処理によって、図９に示すように、時刻Ｔ０において、第１電極７５１Ａと第２電極７５２Ａの電位がそれぞれグランドとなり、ターゲット生成器７１Ａ内の圧力が圧力ＰＬ１となり得る。
【００５２】
ターゲット制御装置８０Ｂは、時刻Ｔ１１になったときに、図８に示すように、第２電極７５２Ａの電位を電位ＶＨに設定してもよい（ステップＳ１１）。このステップＳ１１の処理によって、時刻Ｔ１１において、第２電極７５２Ａの電位が電位ＶＨに上がり得る。そして、第１電極７５１Ａと第２電極７５２Ａとの間に、電位差ＶＤ２（電位差ＶＤ２＝電位ＶＨ−０（グランド））が生じ得る。この電位差ＶＤ２は、電位差ＶＤ１より大きくてもよい。なお、第１電極７５１Ａの電位であるグランドは、本開示の第３電位であってもよい。
【００５３】
ターゲット制御装置８０Ｂは、時刻Ｔ１２になったときに、図８に示すように、ステップＳ５の処理（ターゲット生成器７１Ａ内の圧力を設定圧力ＰＤに設定する処理）を行ってもよい。ターゲット制御装置８０Ｂは、ターゲット生成器７１Ａ内の圧力が設定圧力ＰＤに到達したか否かを判断してもよい（ステップＳ１２）。このステップＳ１２において、ターゲット制御装置８０Ｂは、設定圧力ＰＤに到達していないと判断した場合、所定時間経過後にステップＳ１２の処理を再度行ってもよい。
ステップＳ１２において、ターゲット制御装置８０Ｂは、設定圧力ＰＤに到達したと判断した場合、ステップＳ４の処理（第１電極７５１Ａに対し所定の周波数でパルス状の電圧を印加する処理）を行ってもよい。
【００５４】
ステップＳ１２において設定圧力ＰＤに到達したと判断するまでの間、図９に示すように、ターゲット生成器７１Ａ内の圧力が徐々に上がり、時刻Ｔ１３において設定圧力ＰＤに到達し得る。また、昇圧に要する時間ΔＴＰ２（時刻Ｔ１２から時刻Ｔ１３までの時間）内において、第１電極７５１Ａと第２電極７５２Ａとの間に電位差ＶＤ２が生じ得る。
このことにより、ターゲット生成器７１Ａ内の圧力によって突出部７１６Ａの先端にドロップレット２７１Ａが形成され、電位差ＶＤ２によって出力部７１５Ａからドロップレット２７１Ａを出力し得る。
ここで、昇圧に要する時間ΔＴＰ２の間、電位差ＶＤ２が生じ続け得る。このことにより、突出部７１６Ａの先端に所定の大きさのドロップレット２７１Ａが形成された後に、電位差ＶＤ２によって当該ドロップレット２７１Ａを出力部７１５Ａから出力する処理が繰り返される。
【００５５】
また、ステップＳ４の処理によって、最大値が電位ＶＨ、最小値が電位ＶＬ、周期Ｆ１のパルス状の電圧が第１電極７５１Ａに印加され得る。そして、第１電極７５１Ａの電位が電位ＶＬとなったときに、第１電極７５１Ａと第２電極７５２Ａとの間に電位差ＶＤ１が生じ得る。このとき、ターゲット生成器７１Ａ内の圧力が設定圧力ＰＤであるため、第１電極７５１Ａの電位と第２電極７５２Ａの電位が、両方ともに電位ＶＨとなる第２時間ΔＴＶ２において、突出部７１６Ａの先端にドロップレット２７１Ａが形成され得る。そして、第１電極７５１Ａと第２電極７５２Ａとの間に電位差ＶＤ１が生じる第１時間ΔＴＶ１において、ドロップレット２７１Ａを出力し得る。
【００５６】
ターゲット制御装置８０Ｂは、ステップＳ６の処理を行い、ドロップレット２７１Ａの生成を停止しないと判断した場合、所定時間経過後にステップＳ６の処理を再度行ってもよい。一方、ステップＳ６において、ターゲット制御装置８０Ｂは、ドロップレット２７１Ａの生成を停止すると判断した場合、第１電極７５１Ａの電位をグランドに設定してもよい（ステップＳ１３）。ターゲット制御装置８０Ｂは、ステップＳ７の処理（ターゲット生成器７１Ａ内の圧力を圧力ＰＬ２に設定する処理）を行ってもよい。このステップＳ１３およびステップＳ７の処理によって、図９に示すように、時刻Ｔ１５において第１電極７５１Ａの電位がグランドまで下がり得るとともに、時刻Ｔ１６においてターゲット生成器７１Ａ内の圧力が圧力ＰＬ２まで下がり得る。
そして、ターゲット生成器７１Ａ内の圧力が圧力ＰＬ２に到達した時刻Ｔ１６以降、ドロップレット２７１Ａの生成が停止し得る。
【００５７】
ターゲット制御装置８０Ｂは、図８に示すように、第２電極７５２Ａの電位をグランドに設定して（ステップＳ１４）、処理を終了してもよい。以上のステップＳ１４の処理によって、図９に示すように、時刻Ｔ１７以降は、第１電極７５１Ａの電位および第２電極７５２Ａの電位は、グランドとなり得る。
【００５８】
上述のように、ターゲット供給装置７Ｂのターゲット制御装置８０Ｂは、ターゲット生成器７１Ａ内の圧力が圧力ＰＬ１の状態において、第２電極７５２Ａに電位ＶＨを印加してもよい。ターゲット制御装置８０Ｂは、第２電極７５２Ａに電位ＶＨを印加している状態において、第１電極７５１Ａの電位をグランドにしてもよい。ターゲット制御装置８０Ｂは、第１電極７５１Ａと第２電極７５２Ａとの間に電位差ＶＤ２が生じている状態において、ターゲット生成器７１Ａ内の圧力を設定圧力ＰＤまで上げてもよい。
このことにより、昇圧に要する時間ΔＴＰ２において第１電極７５１Ａと第２電極７５２Ａとの間に電位差ＶＤ２を生じ得る。ターゲット供給装置７Ｂは、昇圧に要する時間ΔＴＰ２内に少なくとも１回ドロップレット２７１Ａを出力し得る。このため、ドロップレット２７１Ａの設定出力方向１０Ａが重力方向１０Ｂに対して斜めとなっている場合であっても、ターゲット生成器７１Ａ内の圧力が設定圧力ＰＤまで上がった時刻Ｔ１３において、突出部７１６Ａの先端に付着したドロップレット２７１Ａと第１電極７５１Ａとの接触により、ターゲット物質２７０と第１電極７５１Ａとが短絡することを抑制し得る。したがって、ターゲット供給装置７Ｂは、ドロップレット２７１Ａを適切に出力し得る。
【００５９】
なお、第２実施形態では、時刻Ｔ１１から時刻Ｔ１３の間において、第１電極７５１Ａの電位をグランドとしたが、第２電極７５２Ａの電位よりも低ければ、グランドでなくてもよい。例えば、第１電極７５１Ａの電位は、電位ＶＬであってもよい。
また、第２実施形態では、時刻Ｔ１４の前と時刻Ｔ１４の後とにおいて、同じ大きさの電位ＶＨを第２電極７５２Ａに印加したが、すなわち本開示における第１電位と第２電位とが同じ大きさであったが、時刻Ｔ１４の前において、第１電極７５１Ａと第２電極７５２Ａとの間に電位差が生じる大きさであれば、時刻Ｔ１４の前に第２電極７５２Ａに印加する第２電位は、電位ＶＨでなくてもよい。
【００６０】
３．３  変形例
なお、ターゲット供給装置としては、以下のような構成としてもよい。
図１０Ａは、課題を概略的に示し、ドロップレットが第１電極と接触している状態を表す。図１０Ｂは、変形例に係るターゲット供給装置が動作している最中の状態を表す。
ドロップレット２７９Ａの設定出力方向１０Ａが重力方向１０Ｂと同じとなっている場合、図６における時刻Ｔ９２から時刻Ｔ９４までの時間の長さによっては、図１０Ａに示すように、ドロップレット２７９Ａが引き出されないまま大きくなり得る。その結果、ドロップレット２７９Ａが第１電極７５１Ａと接触して、ターゲット物質２７０と第１電極７５１Ａとが短絡し得る。
これに対して、設定出力方向１０Ａが重力方向１０Ｂと同じになっている場合において、第１実施形態または第２実施形態のターゲット供給方法を用いることにより、ターゲット供給装置は、図１０Ｂに示すように、ドロップレット２７１Ａが第１電極７５１Ａと接触する大きさとなる前に、ドロップレット２７１Ａを出力し得る。
【００６１】
上記の説明は、制限ではなく単なる例示を意図したものである。従って、添付の特許請求の範囲を逸脱することなく本開示の実施形態に変更を加えることができることは、当業者には明らかであろう。
【００６２】
本明細書及び添付の特許請求の範囲全体で使用される用語は、「限定的でない」用語と解釈されるべきである。例えば、「含む」又は「含まれる」という用語は、「含まれるものとして記載されたものに限定されない」と解釈されるべきである。「有する」という用語は、「有するものとして記載されたものに限定されない」と解釈されるべきである。また、本明細書及び添付の特許請求の範囲に記載される修飾句「１つの」は、「少なくとも１つ」又は「１又はそれ以上」を意味すると解釈されるべきである。
【符号の説明】
【００６３】
７Ａ，７Ｂ…ターゲット供給装置、７１Ａ…ターゲット生成器、７２Ａ…圧力制御器、８１Ａ…タイマ、７２２Ａ…アクチュエータ、７２３Ａ…圧力センサ、７５１Ａ…第１電極（電極）、７５３Ａ…パルス電圧生成器（電位印加部）、７５４Ａ…電圧源（電位印加部）、８０Ａ，８０Ｂ…ターゲット制御装置（制御部）、タイマ８１Ａ。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５Ａ】
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【図５Ｂ】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０Ａ】
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【図１０Ｂ】
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