(57)【要約】      （修正有）【課題】正面からの反射光の色相を低減するとともに、あらゆる角度から入射する外光の反射光に対しても色味が付くことを低減し、膜強度や膜均一性が良好で、外観不良のない反射防止フィルム及び反射防止フィルムを用いた偏光板、タッチパネル、表示装置を提供する。【解決手段】透明フィルム基材１１と、透明フィルム基材１１上に設けられるハードコート層１２と、ハードコート層１２上に設けられ、屈折率がハードコート層１２よりも高い高屈折率層１３と、高屈折率層１３上に設けられ、屈折率がハードコート層１２よりも低い低屈折率層１４とを備え、高屈折率層１３が少なくとも多官能チオールまたは単官能チオール由来の構造単位を含有する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
反射防止フィルムであって、
透明フィルム基材と、
前記透明フィルム基材上に設けられるハードコート層と、
前記ハードコート層上に設けられ、屈折率が前記ハードコート層よりも高い高屈折率層と、
前記高屈折率層上に設けられ、屈折率が前記ハードコート層よりも低い低屈折率層とを備え、
前記高屈折率層が少なくとも多官能チオールまたは単官能チオール由来の構造単位を含有することを特徴とする、反射防止フィルム。
【請求項２】
前記反射防止フィルム表面での視感平均反射率が０．５％以下であることを特徴とする、請求項１に記載の反射防止フィルム。
【請求項３】
前記高屈折率層の固形分中に、高屈折率微粒子が５０質量％以上８０質量％以下の割合で含まれることを特徴とする、請求項１または２に記載の反射防止フィルム。
【請求項４】
前記高屈折率層の屈折率が、１．５〜２．２であり、前記低屈折率層の屈折率が、１．２５〜１．３５であることを特徴とする、請求項１〜３のいずれかに記載の反射防止フィルム。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれかに記載の反射防止フィルムを備えた偏光板。
【請求項６】
請求項１〜４のいずれかに記載の反射防止フィルムを備えたタッチパネル。
【請求項７】
請求項１〜４のいずれかに記載の反射防止フィルムを備えた画像表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はディスプレイ等の表面に外光が反射することを防止することを目的として設けられる反射防止フィルム、該反射防止フィルムを備える画像表示装置または液晶表示装置、該反射防止フィルムを備える偏光板及びタッチパネルに関する。
【背景技術】
【０００２】
一般にディスプレイは、室内外での使用を問わず、外光等が入射する環境下で使用される。この外光等の入射光は、ディスプレイ表面等において正反射され、それによる反射像が表示画像と混合することにより、画面表示品質を低下させてしまう。そのため、ディスプレイ表面等に反射防止機能を付与することは必須であり、特に近年モバイル端末の普及が進み、日中の屋外においては、屋内にて使用する場合よりも強い外光にさらされるため、屋外でも視認性を損なわない、低反射率の反射防止フィルムが求められている。
【０００３】
また、定置設置型の画像表示装置に用いられる反射防止フィルムの多くは、固定光源からの反射光を低減することが前提となっている。これは、外光の入射角が変化しないことを前提としている。これに対し、モバイル端末の場合、屋外での使用や手元での操作があるため、外光の入射が様々な角度から入射し、さらに、視聴者も様々な角度でディスプレイを観察する場合が多くなる。よって、モバイル端末に対して反射防止フィルムを適応しようとした場合、正面からの反射光のみではなく、あらゆる入射角の光源に対しての外光の反射光、特に反射光の色味について検討する必要がある。
【０００４】
これに対し、例えば、反射防止フィルムの色付きを抑制する目的で、導電性金属酸化物と、屈折率低減化物質と電離放射線硬化型樹脂とからなる帯電防止層を形成する方法が示されている（例えば、特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００５−２９２５１０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
また、反射防止フィルムの反射防止層として、透明フィルム基材側から順に屈折率の異なる高屈折率層と低屈折率層とを積層したものが用いられる。高屈折率層の屈折率を高くするには、混合される無機微粒子の使用割合を増やすことで対処できるが、無機微粒子の使用割合を増やすと、高屈折率層の膜強度や膜均一性が悪化したり、高屈折率層を形成するのに用いる塗液の安定性が悪くなったりする等の悪影響が出てしまう。反射防止フィルムとしての品質を考慮した場合、無機微粒子の使用割合の上限が決まってしまい、反射防止フィルムの光学設計の自由度を損なってしまうという課題があった。
【０００７】
本発明の目的は、正面からの反射光の色相を低減するとともに、あらゆる角度から入射する外光の反射光に対しても色味が付くことを低減し、膜強度や膜均一性が良好で、外観不良のない反射防止フィルム、該反射防止フィルムを備える画像表示装置または液晶表示装置、偏光板及びタッチパネルを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
反射防止フィルムであって、透明フィルム基材と、透明フィルム基材上に設けられるハードコート層と、ハードコート層上に設けられ、屈折率がハードコート層よりも高い高屈折率層と、高屈折率層上に設けられ、屈折率がハードコート層よりも低い低屈折率層とを備え、高屈折率層が少なくとも多官能チオールまたは単官能チオール由来の構造単位を含有することを特徴とする。
【０００９】
反射防止フィルム表面での視感平均反射率が０．５％以下であることが好ましい。
【００１０】
高屈折率層の固形分中に、高屈折率微粒子が５０質量％以上８０質量％以下の割合で含まれることが好ましい。
【００１１】
高屈折率層の屈折率が１．５〜２．２であり、低屈折率層の屈折率が１．２５〜１．３５であることが好ましい。
【００１２】
上述のいずれかに記載の反射防止フィルムを備えた偏光板。
【００１３】
上述のいずれかに記載の反射防止フィルムを備えたタッチパネル。
【００１４】
上述のいずれかに記載の反射防止フィルムを備えた画像表示装置。
【発明の効果】
【００１５】
本発明によれば正面からの反射光の色相を低減するとともに、あらゆる角度から入射する外光の反射光に対しても色味が付くことを低減し、膜強度や膜均一性が良好で外観不良のない反射防止フィルム、該反射防止フィルムを備える画像表示装置または液晶表示装置、偏光板及びタッチパネルを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】本発明に係る反射防止フィルムの模式断面図
【発明を実施するための形態】
【００１７】
以下、本発明に係る反射防止フィルムの実施形態について詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００１８】
なお、本発明において「（メタ）アクリレート」とは「アクリレート」と「メタクリレート」の両方を示している。たとえば、「ウレタン（メタ）アクリレート」は「ウレタンアクリレート」と「ウレタンメタクリレート」の両方を示している。
【００１９】
図１は、本発明に係る反射防止フィルム１０の模式断面図である。反射防止フィルム１０は、透明フィルム基材１１と、透明フィルム基材１１上に、ハードコート層１２と、屈折率がハードコート層１２よりも高い高屈折率層１３と、屈折率がハードコート層１２よりも低い低屈折率層１４とをこの順に積層したものである。また、このとき、高屈折率層１３と、低屈折率層１４との層数を任意の数だけ増やした多層膜の層構成を使用することも原理上可能である。しかしながら、コストや良品生産率等を考慮した場合、図１のように、透明フィルム基材１１上の層構成は、ハードコート層１２と、高屈折率層１３と、低屈折率層１４とを積層した３層構成とすると、反射防止フィルム１０として好適に使用することができる。
【００２０】
各層の膜厚と屈折率を調整していくことで、反射光の色相パラメータであるａ＊値、ｂ＊値を目的のものへ合わせ込むことが出来る。反射防止フィルム１０は、正面からの反射光の色相を低減するとともに、様々な角度から入射する外光の反射光に対しても色味が付くことを低減するために、以下に示す条件を満たすことが好ましい。ＣＩＥ標準光源であるＣ光源の波長３８０ｎｍから７８０ｎｍの領域における、入射角が５°から４５°の範囲で、入射角と反射角が等しい反射条件における反射光の色相が、ＣＩＥ１９７６Ｌ＊ａ＊ｂ＊色空間において、外光の入射角度が変化した場合でも、反射防止フィルムの反射光の色相をニュートラルカラーとするため、−３≦ａ＊≦３、−５≦ｂ＊≦５を満たすことが好ましい。反射光の色相は、いずれの角度においてもａ＊＝０、ｂ＊＝０であるほどよいため、−１≦ａ＊≦１、−１≦ｂ＊≦１であれば更に好ましい。
【００２１】
また、反射防止フィルム１０表面での視感平均反射率が０．５％以下であることが好ましい。反射防止フィルム１０表面での視感平均反射率が０．５％より大きい場合、反射防止フィルム１０の反射防止効果が不十分となり、外光の映り込み等がおこりやすくなる。
【００２２】
（透明フィルム基材）
次に、透明フィルム基材１１について説明する。透明フィルム基材１１としては、透明性や光の屈折率等の光学特性、さらには耐衝撃性、耐熱性、耐久性等の諸物性を考慮して、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン系、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系、トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、セロファン等のセルロース系、６−ナイロン、６，６−ナイロン等のポリアミド系、ポリメチルメタクリレート等のアクリル系、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリイミド、ポリビニルアルコール、ポリカーボネート、エチレンビニルアルコール等の有機高分子からなるものが用いられる。特に、ポリエチレンテレフタレート、トリアセチルセルロース、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレートを用いることが好ましい。中でも、トリアセチルセルロースにあっては、複屈折率が小さく、透明性が良好であることから各種ディスプレイに対し好適に用いることができる。また、透明フィルム基材１１は上記の有機高分子から選ばれる１種または２種以上の混合物、または重合体からなるものでもよく、複数の層を積層させたものであってもよい。
【００２３】
さらに、透明フィルム基材１１に公知の添加剤を加えてもよい。添加剤としては、例えば、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、可塑剤、滑剤、着色剤、酸化防止剤、難燃剤等を添加することにより機能を付加させたものを使用できる。
【００２４】
なお、透明フィルム基材１１の厚みは２０μｍ以上２００μｍ以下の範囲内にあることが好ましく、さらには、２０μｍ以上８０μｍ以下の範囲内にあることが好ましい。
【００２５】
（ハードコート層）
次に、ハードコート層１２について説明する。ハードコート層１２としては、電離放射線硬化型材料を用いることができる。電離放射線硬化型樹脂としては、アクリル系材料を用いることができる。アクリル系材料としては、多価アルコールのアクリル酸またはメタクリル酸エステルのような単官能、２官能または３官能以上の（メタ）アクリレート化合物、ジイソシアネートと多価アルコール及びアクリル酸またはメタクリル酸のヒドロキシエステル等から合成されるような多官能のウレタン（メタ）アクリレート化合物を使用することができる。またこれらの他にも、電離放射線硬化型樹脂として、アクリレート系の官能基を有するポリエーテル樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂等を使用することができる。電離放射線硬化型樹脂として用いるアクリル系材料は、特に限定されるものではない。
【００２６】
単官能の（メタ）アクリレート化合物としては、例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、アクリロイルモルフォリン、Ｎ−ビニルピロリドン、テトラヒドロフルフリールアクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、イソデシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、トリデシル（メタ）アクリレート、セチル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、２−エトキシエチル（メタ）アクリレート、３−メトキシブチル（メタ）アクリレート、エチルカルビトール（メタ）アクリレート、リン酸（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性リン酸（メタ）アクリレート、フェノキシ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性フェノキシ（メタ）アクリレート、プロピレンオキサイド変性フェノキシ（メタ）アクリレート、ノニルフェノール（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性ノニルフェノール（メタ）アクリレート、プロピレンオキサイド変性ノニルフェノール（メタ）アクリレート、メトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシプロピレングリコール（メタ）アクリレート、２−（メタ）アクリロイルオキシエチル−２−ヒドロキシプロピルフタレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート、２−（メタ）アクリロイルオキシエチルハイドロゲンフタレート、２−（メタ）アクリロイルオキシプロピルハイドロゲンフタレート、２−（メタ）アクリロイルオキシプロピルヘキサヒドロハイドロゲンフタレート、２−（メタ）アクリロイルオキシプロピルテトラヒドロハイドロゲンフタレート、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、テトラフルオロプロピル（メタ）アクリレート、ヘキサフルオロプロピル（メタ）アクリレート、オクタフルオロプロピル（メタ）アクリレート、オクタフルオロプロピル（メタ）アクリレート、２−アダマンタン及びアダマンタンジオールから誘導される１価のモノ（メタ）アクリレートを有するアダマンチルアクリレート等のアダマンタン誘導体モノ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００２７】
２官能の（メタ）アクリレート化合物としては、例えば、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、エトキシ化ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、プロポキシ化ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、エトキシ化ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート等のジ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００２８】
３官能以上の（メタ）アクリレート化合物としては、例えば、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、エトキシ化トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、プロポキシ化トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリス２−ヒドロキシエチルイソシアヌレートトリ（メタ）アクリレート、グリセリントリ（メタ）アクリレート等のトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート等の３官能の（メタ）アクリレート化合物や、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンヘキサ（メタ）アクリレート等の３官能以上の多官能（メタ）アクリレート化合物や、これら（メタ）アクリレートの一部をアルキル基やε−カプロラクトンで置換した多官能（メタ）アクリレート化合物等が挙げられる。
【００２９】
アクリル系材料の中でも、所望する分子量、分子構造を設計でき、形成されるハードコート層１２の物性のバランスを容易にとることが可能であるといった理由から、多官能ウレタンアクリレートを好適に用いることができる。ウレタンアクリレートは、多価アルコール、多価イソシアネート及び水酸基含有アクリレートを反応させることによって得られる。具体的には、共栄社化学社製、ＵＡ−３０６Ｈ、ＵＡ−３０６Ｔ、ＵＡ−３０６ｌ等、日本合成化学社製、ＵＶ−１７００Ｂ、ＵＶ−６３００Ｂ、ＵＶ−７６００Ｂ、ＵＶ−７６０５Ｂ、ＵＶ−７６４０Ｂ、ＵＶ−７６５０Ｂ等、新中村化学社製、Ｕ−４ＨＡ、Ｕ−６ＨＡ、ＵＡ−１００Ｈ、Ｕ−６ＬＰＡ、Ｕ−１５ＨＡ、ＵＡ−３２Ｐ、Ｕ−３２４Ａ等、ダイセルユーシービー社製、Ｅｂｅｃｒｙｌ−１２９０、Ｅｂｅｃｒｙｌ−１２９０Ｋ、Ｅｂｅｃｒｙｌ−５１２９等、根上工業社製、ＵＮ−３２２０ＨＡ、ＵＮ−３２２０ＨＢ、ＵＮ−３２２０ＨＣ、ＵＮ−３２２０ＨＳ等を挙げることができるがこの限りではない。
【００３０】
また、電離放射線硬化型材料は紫外線により硬化されるため、ハードコート層１２形成用塗液には光重合開始剤を添加する。光重合開始剤としては、紫外線が照射された際にラジカルを発生するものであれば良く、具体例としては、アセトフェノン系化合物、ベンゾイン系化合物、ベンゾフェノン系化合物、オキシムエステル系化合物、チオキサンソン系化合物、トリアジン系化合物、ホスフィン系化合物、キノン系化合物、ボレート系化合物、カルバゾール系化合物、イミダゾール系化合物、チタノセン系化合物等が挙げられる。また、光重合開始剤の添加量は、電離放射線硬化型材料１００重量部に対して０．１重量部〜１０重量部、好ましくは１重量部〜７重量部、更に好ましくは１重量部〜５重量部である。
【００３１】
アセトフェノン系化合物としては、例えば、４−フェノキシジクロロアセトフェノン、４−ｔ−ブチル−ジクロロアセトフェノン、ジエトキシアセトフェノン、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタン−１−オン、２−メチル−１−[４−（メチルチオ）フェニル]−２−モルフォリノプロパン−１−オン等が挙げられる。
【００３２】
ベンゾイン系化合物としては、例えば、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンジルジメチルケタール等が挙げられる。
【００３３】
ベンゾフェノン系化合物としては、例えば、ベンゾフェノン、ベンゾイル安息香酸、ベンゾイル安息香酸メチル、４−フェニルベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、アクリル化ベンゾフェノン、４−ベンゾイル−４’−メチルジフェニルサルファイド等が挙げられる。
【００３４】
オキシムエステル系化合物としては、例えば、エタノン，１−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］−，１−（Ｏ−アセチルオキシム）、１，２−オクタジオン−１−［４−（フェニルチオ）−，２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）］等が挙げられる。
【００３５】
チオキサンソン系化合物としては、例えば、チオキサンソン、２−クロルチオキサンソン、２−メチルチオキサンソン、イソプロピルチオキサンソン、２，４−ジイソプロピルチオキサンソン等が挙げられる。
【００３６】
トリアジン系化合物としては、例えば、２，４，６−トリクロロ−ｓ−トリアジン、２−フェニル−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−メトキシフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−トリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−ピペニル−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−スチリルｓ−トリアジン、２−（ナフト−１−イル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−メトキシ−ナフト−１−イル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２，４−トリクロロメチル−（ピペロニル）−６−トリアジン、２，４−トリクロロメチル（４’−メトキシスチリル）−６−トリアジン等が挙げられる。
【００３７】
ホスフィン系化合物としては、例えば、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）フェニルホスフィンオキサイド、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド等が挙げられる。
【００３８】
キノン系化合物としては、例えば、９，１０−フェナンスレンキノン、カンファーキノン、エチルアントラキノン等が挙げられる。
【００３９】
光重合開始剤は、上記の中から、１種類のみを用いてもよく、２種類以上を組み合わせて用いてもよい。
【００４０】
さらに、ハードコート層１２形成用塗液には、必要に応じて、溶媒や各種添加剤を加えてもよい。溶媒としては、トルエン、キシレン、シクロヘキサン、シクロヘキシルベンゼン等の芳香族炭化水素類、ｎ−ヘキサン等の炭化水素類、ジブチルエーテル、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、ジエトキシエタン、プロピレンオキシド、ジオキサン、ジオキソラン、トリオキサン、テトラヒドロフラン、アニソール、フェネトール等のエーテル類、また、メチルイソブチルケトン、メチルブチルケトン、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、ジプロピルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン等のケトン類、また蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ｎ−ペンチル、酢酸メチル、酢酸エチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、酢酸ｎ−ペンチル、γ−プチロラクトン等のエステル類、さらには、メチルセロソルブ、セロソルブ、ブチルセロソルブ、セロソルブアセテート等のセロソルブ類、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ブタノール等のアルコール類の中から、塗工適正等を考慮して適宜選択して用いることができる。また、塗液には、添加剤として、表面調整剤、屈折率調整剤、密着性向上剤、硬化剤等を加えてもよい。
【００４１】
また、ハードコート層１２形成用塗液には、その他添加剤を加えてもよい。添加剤としては、例えば、泡消剤、レベリング剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、重合禁止剤等が挙げられる。
【００４２】
次に、ハードコート層１２の形成方法について説明する。ハードコート層１２形成用塗液を透明フィルム基材１１上に塗布し、塗膜を形成する。ハードコート層１２形成用塗液の塗工方法としては、スプレー法、スクリーン印刷法、ドクターブレード法、グラビア印刷法、ダイコート法、インクジェット法等既存の塗布方法が挙げられるが、特に限定されるものではない。その後、必要に応じて塗膜の乾燥を行い、電離放射線である紫外線を照射し硬化させることにより、ハードコート層１２が形成される。
【００４３】
なお、反射光の色相パラメータであるａ＊値、ｂ＊値を目的のものへ合わせ込むために、ハードコート層１２の膜厚は３．０μｍ〜１０μｍであることが好ましい。また、ハードコート層１２の屈折率は、高屈折率層１３よりも小さく、かつ、１．４５〜１．５５であることが好ましい。
【００４４】
（高屈折率層）
次に、高屈折率層１３について説明する。
【００４５】
高屈折率層１３は、屈折率を調製するために、高屈折率微粒子を固形分中に５０質量％以上８０質量％以下含有することが望ましい。高屈折率微粒子の含有量が５０質量％未満だと、十分に高い屈折率を得ることが困難となる。一方、高屈折率微粒子の含有量が８０質量％を超えると、硬度不足等を引き起こし、粒子の脱落及び塗工中の反射防止フィルム１０の表面への付着する虞があり、外観不良の原因となるため好ましくない。
【００４６】
また、高屈折率層１３の好ましい屈折率としては、２３℃、波長５５０ｎｍ測定で、１．５〜２．２の範囲であることが好ましい。高屈折率層１３の屈折率が１．５より小さい場合、高屈折率層１３と、ハードコート層１２との屈折率差がほとんどなくなり、高屈折率層１３としての役割が果たせない。一方、高屈折率層１３の屈折率が２．２より大きい場合、高屈折率層１３形成用塗液中の高屈折率微粒子の含有量が多くなるため、機械強度が著しく低下してしまう。また、反射防止フィルム１０の色付きを抑制する観点からは、１．５５〜１．７５の範囲であることが特に好ましい。高屈折率層１３の屈折率を調整する手段は、高屈折率微粒子の種類、添加量が支配的である。
【００４７】
また、高屈折率層１３の膜厚は、光学干渉層としての特性から、５ｎｍ〜１μｍであることが好ましく、１０ｎｍ〜０．３μｍであることがさらに好ましく、３０ｎｍ〜０．２μｍであることが最も好ましい。
【００４８】
次に、高屈折率層の屈折率を調整するのに用いられる高屈折率微粒子の具体例を示す。高屈折率微粒子の具体例としては、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｔａ、Ｉｎ、Ｎｄ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｚｎ，Ｌａ、Ｗ、Ｃｅ、Ｎｂ、Ｖ、Ｓｍ、Ｙ等の酸化物または複合酸化物、硫化物を主成分とする粒子が挙げられる。ここで、主成分とは、粒子を構成する成分の中で最も含有量（質量％）が多い成分をさす。また、高屈折率微粒子としては、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｔａ、Ｉｎ、Ｓｎから選ばれる少なくとも１種の金属元素を含む酸化物もしくは複合酸化物を主成分とする粒子である無機微粒子を好適に用いることができる。
【００４９】
また、無機微粒子には、粒子の中に種々の元素が含有されていても構わない（以下、このような元素を含有元素ということがある）。含有元素としては、例えば、Ｌｉ、Ｓｉ、Ａｌ、Ｂ、Ｂａ、Ｃｏ、Ｆｅ、Ｈｇ、Ａｇ、Ｐｔ、Ａｕ、Ｃｒ、Ｂｉ、Ｐ、Ｓ等が挙げられる。酸化錫、酸化インジウムにおいては粒子の導電性を高めるために、Ｓｂ、Ｎｂ、Ｐ、Ｂ、Ｉｎ、Ｖ、ハロゲン等の含有元素を含有させることが好ましく、特に、アンチモンを含有させたものが最も好ましい。
【００５０】
また、無機微粒子としては、含有元素としてＣｏ、Ｚｒ、Ａｌから選ばれる少なくとも１つの元素を含有する二酸化チタンを主成分とする無機微粒子（以降、「特定の酸化物」と称することもある）や、チタン元素と、酸化物とが屈折率１．９５以上となる金属元素から選ばれる少なくとも１種の金属元素（以下、「Ｍｅｔ」とも略称する）との複合酸化物の粒子で、かつ該複合酸化物はＣｏイオン、Ｚｒイオン及びＡｌイオンから選ばれる金属イオンの少なくとも１種がドープされてなる無機微粒子（「特定の複酸化物」と称することもある）も好適に用いることができる。上記した特定の金属元素または金属イオンをドープする方法は、従来公知の方法を用いることができる。例えば、特開平５−３３０８２５号公報、同１１−２６３６２０号公報、特表平１１−５１２３３６号公報、ヨーロッパ公開特許第０３３５７７３号公報等に記載の方法や、イオン注入法［例えば、権田俊一、石川順三、上条栄治編「イオンビーム応用技術」（株）シ−エムシー、１９８９年刊行、青木康、「表面科学」１８巻（５）、２６２頁、１９９８、安保正一等、「表面科学」２０巻（２）、６０頁、１９９９等記載］等に従って製造できる。
【００５１】
また、無機微粒子は、これをコアとして他の無機化合物とからなるシェルを形成したコア／シェル構造の微粒子であることが好ましい。シェルとしては、Ａｌ、Ｓｉ、Ｚｒから選ばれる少なくとも１種の元素からなる酸化物が好ましい。具体的には、例えば、特開２００１−１６６１０４号公報記載のものが挙げられる。無機微粒子は、上記の中から１種類のみを用いてもよいし、２種類以上を併用して用いてもよい。
【００５２】
無機微粒子は、表面処理されていてもよい。表面処理とは、無機化合物及び／または有機化合物を用いて該粒子表面の改質を実施するものである。表面処理をすることにより、無機微粒子表面の濡れ性が調整され、有機溶媒中での微粒子化、高屈折率層形成用組成物中での分散性や分散安定性が向上するため好ましい。
【００５３】
無機微粒子表面に物理化学的に吸着させる無機化合物としては、例えば、ケイ素を含有する無機化合物（ＳｉＯ２等）、アルミニウムを含有する無機化合物［Ａｌ２Ｏ３，Ａｌ（ＯＨ）３等］、コバルトを含有する無機化合物（ＣｏＯ２，Ｃｏ２Ｏ３，Ｃｏ３Ｏ４等）、ジルコニウムを含有する無機化合物［ＺｒＯ２，Ｚｒ（ＯＨ）４等］、鉄を含有する無機化合物（Ｆｅ２Ｏ３等）等が挙げられる。
【００５４】
表面処理に用いる有機化合物としては、従来公知の金属酸化物や無機顔料等の無機フィラー類の表面改質剤を用いることができる。例えば、「顔料分散安定化と表面処理技術・評価」第一章（技術情報協会、２００１年刊行）等に記載されているものを用いることができる。
【００５５】
表面処理に用いる有機化合物として、具体的には、無機微粒子表面と親和性を有する極性基を有する有機化合物、カップリング化合物が挙げられる。無機微粒子表面と親和性を有する極性基としては、カルボキシ基、ホスホノ基、ヒドロキシ基、メルカプト基、環状酸無水物基、アミノ基等が挙げられ、分子中に少なくともこれらの極性基のうち１種を含有する化合物が好ましい。例えば、長鎖脂肪族カルボン酸（ステアリン酸、ラウリン酸、オレイン酸、リノール酸、リノレイン酸等）、ポリオール類のポリ（メタ）アクリレート化合物（ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ＥＣＨ（エピクロルヒドリン）変性グリセロールトリ（メタ）アクリレート等）、ホスホノ基含有化合物（ＥＯ（エチレンオキサイド）変性リン酸トリ（メタ）アクリレート等）、アルカノールアミン（エチレンジアミンＥＯ付加体（５モル）等）が挙げられる。
【００５６】
カップリング化合物としては、従来公知の有機金属化合物が挙げられ、シランカップリング剤、チタネートカップリング剤、アルミネートカップリング剤等を用いることができる。特に、シランカップリング剤を用いることが最も好ましい。有機金属化合物として、具体的には、例えば、特開２００１−３１０４２３号公報明細書中の段落番号「００１１」〜「００１５」記載の化合物等が挙げられる。これらの表面処理には、２種類以上の化合物を併用することもできる。
【００５７】
無機微粒子の形状は、特に限定されないが、米粒状、球形状、立方体状、紡錘形状または不定形状が好ましい。
【００５８】
高屈折率層１３には、上述の高屈折率微粒子とは組成の異なる無機粒子を含有してもよい。無機粒子の具体例としては、中空シリカ、コロイダルシリカ及びフッ化マグネシウム等が挙げられる。
【００５９】
次に、高屈折率層１３に用いる多官能及び単官能チオールについて説明する。高屈折率層１３における光重合開始系は、多官能及び単官能チオールを配合した複合開始系であることが一つの特徴である。多官能及び単官能チオールを光重合開始剤とともに使用することにより、光照射後のラジカル重合過程において、連鎖移動剤として働き、酸素による重合阻害を受けにくいチイルラジカルが発生するので、高感度となり、高屈折率化のために金属含有量を多くした高屈折率層１３形成の際においても、効率的な光重合反応により、十分な表面硬化性が得られる。
【００６０】
また、高屈折率層１３に添加する多官能及び単官能チオールの含有割合は、固形分割合で、０．１〜１５質量％、より好ましくは０．５〜７．５質量％、さらに好ましくは１〜５質量％である。多官能チオールの含有割合を上記の範囲内とすることによって、分散安定性に優れるとともに、表面硬化性や保存安定性にも優れた、高屈折率層１３を形成することができる。多官能及び単官能チオールの添加量が多すぎると、保存安定性、耐光性の悪化、悪臭の発生等、問題が生じる虞がある。
【００６１】
多官能チオールは、同一分子内に二個以上のメルカプト（ＳＨ）基を有するものである。特に、ＳＨ基がメチレン、エチレン基等の脂肪族基に結合した多官能脂肪族チオールが好ましい。具体的に例示するならば、例えば、ヘキサンジチオール、デカンジチオール、１，４−ジメチルメルカプトベンゼン、ブタンジオールビスチオグリコレート、エチレングリコールビスチオグリコレート、トリメチロールプロパントリスチオグリコレート、ペンタエリスリトールテトラキスチオグリコレート、ブタンジオールビスチオプロピオネート、エチレングリコールビスチオプロピオネート、トリメチロールプロパントリスチオプロピオネート、ペンタエリスリトールテトラキスチオプロピオネート、トリメルカプトプロピオン酸トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレート等が挙げられる。そのほかにも、エチレングリコールビス（３−メルカプトブチレート）、プロピレングリコールビス（３−メルカプトブチレート）、ジエチレングリコールビス（３−メルカプトブチレート）、ブタンジオールビス（３−メルカプトブチレート）、オクタンジオールビス（３−メルカプトブチレート）、トリメチロールプロパントリス（３−メルカプトブチレート）、ペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトブチレート）、ジペンタエリスリトールヘキサキス（３−メルカプトブチレート）、エチレングリコールビス（２−メルカプトプロピオネート）、プロピレングリコールビス（２−メルカプトプロピオネート）、ジエチレングリコールビス（２−メルカプトプロピオネート）、ブタンジオールビス（２−メルカプトプロピオネート）、オクタンジオールビス（２−メルカプトプロピオネート）、トリメチロールプロパントリス（２−メルカプトプロピオネート）、ペンタエリスリトールテトラキス（２−メルカプトプロピオネート）、ジペンタエリスリトールヘキサキス（２−メルカプトプロピオネート）、エチレングリコールビス（３−メルカプトイソブチレート）、プロピレングリコールビス（３−メルカプトイソブチレート）、ジエチレングリコールビス（３−メルカプトイソブチレート）、ブタンジオールビス（３−メルカプトイソブチレート）、オクタンジオールビス（３−メルカプトイソブチレート）、トリメチロールプロパントリス（３−メルカプトイソブチレート）、ペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトイソブチレート）、ジペンタエリスリトールヘキサキス（３−メルカプトイソブチレート）、エチレングリコールビス（２−メルカプトイソブチレート）、プロピレングリコールビス（２−メルカプトイソブチレート）、ジエチレングリコールビス（２−メルカプトイソブチレート）、ブタンジオールビス（２−メルカプトイソブチレート）、オクタンジオールビス（２−メルカプトイソブチレート）、トリメチロールプロパントリス（２−メルカプトイソブチレート）、ペンタエリスリトールテトラキス（２−メルカプトイソブチレート）、ジペンタエリスリトールヘキサキス（２−メルカプトイソブチレート）、エチレングリコールビス（４−メルカプトバレレート）、プロピレングリコールビス（４−メルカプトイソバレレート）、ジエチレングリコールビス（４−メルカプトバレレート）、ブタンジオールビス（４−メルカプトバレレート）、オクタンジオールビス（４−メルカプトバレレート）、トリメチロールプロパントリス（４−メルカプトバレレート）、ペンタエリスリトールテトラキス（４−メルカプトバレレート）、ジペンタエリスリトールヘキサキス（４−メルカプトバレレート）、エチレングリコールビス（３−メルカプトバレレート）、プロピレングリコールビス（３−メルカプトバレレート）、ジエチレングリコールビス（３−メルカプトバレレート）、ブタンジオールビス（３−メルカプトバレレート）、オクタンジオールビス（３−メルカプトバレレート）、トリメチロールプロパントリス（３−メルカプトバレレート）、ペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトバレレート）、ジペンタエリスリトールヘキサキス（３−メルカプトバレレート）が挙げられる。上記の多官能チオールの分子量は、任意の適切な分子量を採用することができる。しかしながら、多官能チオールの分子量は、好ましくは２００〜１０００である。
【００６２】
単官能チオールは、同一分子内にＳＨ基を１個有するものであり、特にＳＨ基が芳香環あるいはヘテロ芳香環に結合した芳香族チオールが好ましく用いられる。このような化合物を具体的に例示するならば、例えば、２−メルカプトベンゾチアゾール、２−メルカプトベンゾオキサゾール、２−メルカプトベンゾイミダゾール、５−フェニル−２−ベンゾオキサゾールチオール、６−メチル−２−ベンゾオキサゾールチオール、４−アミノ−５−メチル−２−ピリジンチオール、チオフェノール、２−メルカプトベンジルアルコール、２−フェノキシチオフェノール、３−メルカプトフェナンスレン等が挙げられる。単官能チオールの添加量は、多官能チオールと同程度の範囲にするのが密着性、保存安定性の観点から好ましい。特に、芳香族チオールは有機溶剤に対する溶解性が高くないので、あまり多く入れすぎると析出する場合がある。
【００６３】
これらの多官能及び単官能チオールは、上記の中から、１種類のみを用いてもよく、または２種類以上を組み合わせて用いてもよい。
【００６４】
また、高屈折率層１３は、電離放射線硬化型樹脂を、高屈折率微粒子のバインダー樹脂として、塗膜の製膜性や物理特性の向上のために含有していてもよい。電離放射線硬化型樹脂としては、ハードコート層１２に用いられる電離放射線硬化型材料として例示したアクリル系材料を用いることができる。高屈折率層１３は、電離放射線硬化型樹脂を固形分中に１５質量％以上４５質量％以下含有することが望ましい。
【００６５】
また、電離放射線硬化型材料は紫外線により硬化されるため、高屈折率層１３形成用塗液には光重合開始剤を添加する。光重合開始剤としては、ハードコート層１２形成用塗液に含まれる光重合開始剤として例示したものを用いることができる。また、光重合開始剤の含有量は、高屈折率層１３形成用塗液の固形分中に０．０１〜２０重量部、好ましくは０．０５〜５質量部である。
【００６６】
また、高屈折率層１３形成用塗液には、その他添加剤を加えても良い。添加剤としては、例えば泡消剤、レベリング剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、重合禁止剤等が挙げられる。
【００６７】
また、高屈折率層１３形成用塗液に、有機溶媒が用いられることが好ましい。有機溶媒としては、例えば、アルコール類（例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、イソブタノール、セカンダリーブタノール、ターシャリーブタノール、ペンタノール、ヘキサノール、シクロヘキサノール、ベンジルアルコール等）、多価アルコール類（例えば、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、ブチレングリコール、ヘキサンジオール、ペンタンジオール、グリセリン、ヘキサントリオール、チオジグリコール等）、多価アルコールエーテル類（例えば、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノフェニルエーテル、プロピレングリコールモノフェニルエーテル等）、アミン類（例えば、エタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、Ｎ−メチルジエタノールアミン、Ｎ−エチルジエタノールアミン、モルホリン、Ｎ−エチルモルホリン、エチレンジアミン、ジエチレンジアミン、トリエチレンテトラミン、テトラエチレンペンタミン、ポリエチレンイミン、ペンタメチルジエチレントリアミン、テトラメチルプロピレンジアミン等）、アミド類（例えば、ホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド等）、複素環類（例えば、２−ピロリドン、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、シクロヘキシルピロリドン、２−オキサゾリドン、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン等）、スルホキシド類（例えば、ジメチルスルホキシド等）、スルホン類（例えば、スルホラン等）、尿素、アセトニトリル、アセトン等が挙げられるが、特に、アルコール類、多価アルコール類、多価アルコールエーテル類を用いることが好ましい。
【００６８】
次に、高屈折率層１３の形成方法について説明する。高屈折率層１３は、上記組成物が含有された高屈折率層１３形成用塗液を、グラビアコーター、ディップコーター、リバースコーター、ワイヤーバーコーター、ダイコーター、又はスプレー塗布、インクジェット塗布等を用いてハードコート層１２表面にウェット膜厚０．１〜１００μｍで塗布し、塗布後、加熱乾燥し、必要に応じて電離放射線である紫外線を照射し硬化させることにより、高屈折率層１３が形成される。また、高屈折率層１３形成用塗液の塗工方法として上記で挙げたものを用いることができるが、特に限定されるものではない。
【００６９】
また、高屈折率層１３の膜厚が、５ｎｍ〜１μｍとなるように、高屈折率層１３形成用塗液組成物の固形分濃度を調整する。
【００７０】
（低屈折率層）
次に、低屈折率層１４について説明する。低屈折率層１４の屈折率は、１．２５〜１．３５であることが好ましい。低屈折率層１４の屈折率が１．２５より小さいと、低屈折率層１４の他の特性（例えば、機械強度）が低下する虞がある。一方、低屈折率層１４の屈折率が１．３５より大きいと、反射防止フィルム１０の反射率が高くなり、反射防止フィルム１０の反射防止効果が低下してしまう。
【００７１】
低屈折率層１４としては、ＬｉＦ、ＭｇＦ、３ＮａＦ・ＡｌＦまたはＡｌＦ（いずれも、屈折率１．４）、または、Ｎａ３ＡｌＦ６（氷晶石、屈折率１．３３）等の低屈折材料からなる低屈折率粒子を用いることができる。また、粒子内部に空隙を有する粒子を好適に用いることができる。粒子内部に空隙を有する粒子にあっては、空隙の部分を空気の屈折率（≒１）とすることができるため、非常に低い屈折率を備える低屈折率粒子とすることができる。具体的には、内部に空隙を有する低屈折率シリカ粒子を用いることができる。
【００７２】
また、低屈折率粒子としては、粒径が１ｎｍ以上１００ｎｍ以下であることが好ましい。粒径が１００ｎｍを超える場合、レイリー散乱によって光が著しく反射され、低屈折率層１４が白化して、反射防止フィルム１０の透明性が低下する傾向にある。一方、粒径が１ｎｍ未満の場合、粒子の凝集により、低屈折率層１４における粒子の不均一性等の問題が生じる。
【００７３】
低屈折率層１４を形成するためのバインダマトリックス形成材料としては、電離放射線硬化型材料を含む。電離放射線硬化型材料としては、ハードコート層１２に用いられる電離放射線硬化型材料として例示したアクリル系材料を用いることができる。
【００７４】
また、電離放射線硬化型材料は紫外線により硬化されるため、低屈折率層１４形成用塗液には光重合開始剤を添加する。光重合開始剤としては、ハードコート層１２形成用塗液に含まれる光重合開始剤として例示したものを用いることができる。また、光重合開始剤の添加量は、電離放射線硬化型材料１００重量部に対して０．１重量部〜１０重量部、好ましくは１重量部〜７重量部、更に好ましくは１重量部〜５重量部である。
【００７５】
また、低屈折率層１４形成用塗液にはその他添加剤を加えても良い。添加剤としては、例えば泡消剤、レベリング剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、重合禁止剤等が挙げられる。
【００７６】
次に、低屈折率層１４の形成方法について説明する。低屈折率層１４形成用塗液を高屈折率層１３上に塗布し、塗膜を形成する。低屈折率層１４形成用塗液の塗工方法としては、スプレー法、スクリーン印刷法、ドクターブレード法、グラビア印刷法、ダイコート法、インクジェット法等既存の塗布方法が挙げられるが、特に限定されるものではない。その後、必要に応じて塗膜の乾燥を行い、電離放射線である紫外線を照射し硬化させることにより、低屈折率層１４が形成される。
【００７７】
また、低屈折率層１４の膜厚が、５ｎｍ〜１μｍとなるように、低屈折率層１４形成用塗液組成物の固形分濃度を調整する。
【実施例】
【００７８】
以下、本発明を実施例及び比較例によりさらに説明するが、本発明は下記実施例に限定されるものではない。
【００７９】
＜調整例１＞
（ハードコート層形成用塗液）
ジペンタエリスリトールトリアクリレート２５質量部と、ペンタエリスリトールテトラアクリレート２５質量部と、ウレタンアクリレート５０質量部と、イルガキュア１８４（ＢＡＳＦ社製（光重合開始剤））５質量部とを用い、これらをメチルエチルケトンに溶解してハードコート層形成塗液、ＨＣ１を調整した。
【００８０】
＜調整例２＞
（高屈折率層形成用塗液）
表１に示す組成（質量比）の混合物を、均一になるように攪拌混合した後、１μｍのフィルタで濾過して、ＨＲ１〜１０の高屈折率層形成用塗液をそれぞれ調整した。なお、表１において、微粒子溶液の行と、多官能及び単官能チオールの行とに示す添加量は、高屈折率層形成用塗液全量の質量を１００％としたときのそれぞれの添加割合（質量％）を示している。また、微粒子溶液の行と、多官能及び単官能チオールの行とに示す固形分中の含有割合は、高屈折率層形成用塗液の固形分の質量に対する添加量の割合（質量％）を示している。
【００８１】
【表１】
2014102377.tif 000003
【００８２】
表１の組成の具体的内容を以下に示す。
・微粒子溶液
・ＡＴＯ（酸化アンチモン／酸化スズ）分散液：固形分２０％、溶剤メチルイソブチルケトン
・ＺｒＯ２分散液：固形分２０％、溶剤メチルイソブチルケトン
・光重合開始剤
・Ｉｒｇ１８４：ＢＡＳＦ社製「イルガキュア１８４」
・ＯＸＥ０１：チバ・ジャパン社製「イルガキュアＯＸＥ０１」
・Ｉｒｇ９０７：チバ・ジャパン社製「イルガキュア９０７」
・多官能及び単官能チオール
・ＴＰＭＢ  ：トリメチロールプロパントリス（３-メルカプトブチレート）
・ＰＥＴＰ  ：ペンタエリスリトールテトラキスチオプロピオネート
・ＴＭＴＰ  ：トリメチロールプロパントリスチオプロピオネート
・ＥＧＴＰ  ：エチレングリコールビスチオプロピオネート
・ＢＤＴＰ  ：ブタンジオールビスチオプロピオネート
・２ＭＢＴ  ：２−メルカプトベンゾチアゾール
・電離放射線硬化型樹脂：ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ）
・溶剤：メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）
【００８３】
＜調整例３＞
（低屈折率層形成用塗液）
表２に示す組成（質量比）の混合物を、均一になるように攪拌混合した後、１μｍのフィルタで濾過して、ＬＲ１〜４の低屈折率層形成用塗液をそれぞれ調整した。
【００８４】
【表２】
2014102377.tif 000004
【００８５】
表２の組成の具体的内容を以下に示す。
・微粒子溶液：多孔質シリカ微粒子分散液（固形分２０％、溶剤：メチルイソブチルケトン）
・光重合開始剤：Ｉｒｇ１８４：チバ・ジャパン社製「イルガキュア１８４」
・電離放射線硬化型樹脂：ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ）
・溶剤：メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）
【００８６】
＜実施例１＞
（ハードコート層の形成）
トリアセチルセルロースフィルム（富士フイルム製：膜厚４０μｍ）の片面にハードコート層形成用塗液ＨＣ１を塗布し、８０℃、６０秒の条件でオーブンを用いて乾燥させた。乾燥後、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン、光源Ｈバルブ）を用いて照射線量３００ｍＪ／ｍ２で紫外線照射を行うことにより、乾燥膜厚５μｍの透明なハードコート層を形成した。ハードコート層の膜厚は５μｍ、５５０ｎｍでの屈折率は１．５２であった。
【００８７】
（高屈折率層の形成） 
上記方法にて形成したハードコート層上に、高屈折率層形成用塗液ＨＲ１を乾燥後の膜厚が１５０ｎｍとなるように塗布した。紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン、光源Ｈバルブ）を用いて照射線量１９２ｍＪ／ｍ２で紫外線照射することにより硬化させて高屈折率層を形成した。高屈折率層の膜厚は１６５ｎｍ、波長５５０ｎｍの光に対する屈折率は１．５８であった。
【００８８】
（低屈折率層の形成） 
上記方法にて形成した高屈折率層上に、低屈折率層形成用塗液ＬＲ１を乾燥後の膜厚が１１０ｎｍとなるように塗布した。紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン、光源Ｈバルブ）を用いて照射線量１９２ｍＪ／ｍ２で紫外線照射することにより硬化させて低屈折率層を形成し、反射防止フィルムを作製した。低屈折率層の膜厚は１０５ｎｍ、波長５５０ｎｍの光に対する屈折率は１．２７であった。
【００８９】
＜実施例２＞
高屈折率層形成用塗液にＨＲ２を用いた以外は、実施例１と同様に反射防止フィルムを作製した。
【００９０】
＜実施例３＞
高屈折率層形成用塗液にＨＲ３を用いた以外は、実施例１と同様に反射防止フィルムを作製した。
【００９１】
＜実施例４＞
低屈折率層形成用塗液にＬＲ２を用いた以外は、実施例１と同様に反射防止フィルムを作製した。
【００９２】
＜実施例５＞
高屈折率層形成用塗液にＨＲ４を用いた以外は、実施例１と同様に反射防止フィルムを作製した。
【００９３】
＜実施例６＞
高屈折率層形成用塗液にＨＲ５を用いた以外は、実施例１と同様に反射防止フィルムを作製した。
【００９４】
＜実施例７＞
高屈折率層形成用塗液にＨＲ６を用いた以外は、実施例１と同様に反射防止フィルムを作製した。
【００９５】
＜比較例１＞
低屈折率層形成用塗液にＬＲ３を用いた以外は、実施例１と同様に反射防止フィルムを作製した。
【００９６】
＜比較例２＞
高屈折率層形成用塗液にＨＲ７を用い、低屈折率層形成用塗液にＬＲ４を用いた以外は、実施例１と同様に反射防止フィルムを作製した。
【００９７】
＜比較例３＞
高屈折率層形成用塗液にＨＲ８を用い、低屈折率層形成用塗液にＬＲ４を用いた以外は、実施例１と同様に反射防止フィルムを作製した。
【００９８】
＜比較例４＞
高屈折率層形成用塗液にＨＲ９を用いた以外は、実施例１と同様に反射防止フィルムを作製した。
【００９９】
＜比較例５＞
高屈折率層形成用塗液にＨＲ１０を用いた以外は、実施例１と同様に反射防止フィルムを作製した。
【０１００】
特に説明のないものについては、実施例１での操作に準じるものとする。
【０１０１】
実施例１〜７、比較例１〜５で用いた、ハードコート層形成用塗液と、高屈折率層形成用塗液と、低屈折率層形成用塗液との組み合わせを表３に示す。また、実施例１〜７、比較例１〜５で作製した反射防止フィルムの各層の、波長５５０ｎｍの光に対する屈折率についても表３に示す。
【０１０２】
【表３】
2014102377.tif 000005
【０１０３】
実施例１〜７及び比較例１〜５で得られた反射防止フィルムについて、以下の方法で評価を行った。
【０１０４】
（塗布ムラ）
作製した反射防止フィルムに対し、塗布膜の面内均一性を評価した。塗布膜の面内均一性は、作成した反射防止フィルムにおいて、低屈折率層が形成されていない面に、つや消し黒色塗料を塗布し、反射防止の処置を行った後に、目視にて評価を行った。判定基準を以下に示す。
○：ムラなし
×：ムラあり
【０１０５】
（機械強度）
作製した反射防止フィルムの塗布膜の機械強度は、低屈折率層表面をスチールウール〔ボンスター＃００００：日本スチールウール（株）製〕により２００ｇ／ｃｍ２、３００ｇ／ｃｍ２、４００ｇ／ｃｍ２、５００ｇ／ｃｍ２でそれぞれ１０回擦り、傷の有無を目視評価した（スチールウール試験）。判定基準を以下に示す。
○：傷なし
△：薄く傷あり
×：傷あり
【０１０６】
（反射色相）
作製した反射防止フィルムの低屈折率層表面について、正面及び斜め４５°の色相を官能評価により実施した。なお、評価の際には透明フィルム基材であるトリアセチルセルロースフィルムのうち低屈折率層の形成されていない面につや消し黒色塗料を塗布し、反射防止の処置を行った。判定基準を以下に示す。
○：正面から４５°の色相変化が明るい照明下でじっくりと評価すると分かる程度
△：正面から４５°の色相変化が明るい照明下で評価すると分かるが問題とならない程度
×：正面から４５°の色相変化が分かる程度
【０１０７】
（平均視感反射率）
作製した反射防止フィルムの低屈折率層表面について、自動分光光度計（日立製作所製、Ｕ−４１００）を用い、入射角５°における分光反射率を測定した。また、得られた分光反射率曲線からＪＩＳＲ３１０６に従って視感平均反射率を求めた。なお、測定の際には透明フィルム基材であるトリアセチルセルロースフィルムのうち低屈折率層の形成されていない面につや消し黒色塗料を塗布し、反射防止の処置を行った。
【０１０８】
（総合評価）
作製した反射防止フィルムについて、反射防止フィルム特性評価としての塗工ムラ、機械強度評価結果と、光学評価としての反射色相、平均視感反射率評価結果を合わせて、反射防止フィルムとしての特性を総合的に判断した。
○：反射防止フィルムとして特性が優れる
△：反射防止フィルムとして特性が優れない点がある
×：反射防止フィルムとして特性が優れない
【０１０９】
上記で行った評価結果を、以下の表４に示す。
【０１１０】
【表４】
2014102377.tif 000006
【０１１１】
表４の結果より、実施例１〜７は、フィルム特性及び光学特性ともに良好な性能を示した。一方、比較例４及び５は、塗工ムラが発生し、機械強度が不足した。これは、高屈折率層形成用塗液にチオール化合物が添加されていないため、高屈折率層の塗膜の硬化性が不十分であったためと考えられる。比較例１では、平均視感反射率が０．５％以上となった。これは、低屈折率層形成用塗液において微粒子溶液の添加量が少なく、低反射率層の屈折率が大きくなったためである。比較例２〜５は、ＣＩＥ標準光源であるＣ光源の波長３８０ｎｍから７８０ｎｍの領域における、入射角が５°から４５°の範囲で、入射角と反射角が等しい反射条件における反射光の色相が、ＣＩＥ１９７６Ｌ＊ａ＊ｂ＊色空間において、−３≦ａ＊≦３、−５≦ｂ＊≦５を満たしておらず、反射光に色味が付く結果となった。これは比較例２では、高屈折率層の微粒子添加量が小さく、低屈折率層の微粒子添加量が大きいためと考えられる。比較例３で塗工ムラが発生したのは、チオール化合物の添加量が多すぎるために、微粒子分散液の均一性が悪化したためと考えられる。
【０１１２】
＜実施例８＞
（反射防止フィルム付き偏光板の作製）
延伸したポリビニルアルコールフィルムにヨウ素を吸着させて偏光膜を作製した。鹸化処理済みの実施例１で作製した反射防止フィルムに、ポリビニルアルコール接着剤を用いて、反射防止フィルムの透明フィルム側（トリアセチルセルロース）が偏光膜側となるように偏光膜の片側に貼り付けた。光学補償層を有する視野角拡大フィルム（ワイビューフィルムＳＡ１２Ｂ、富士写真フイルム（株）製）を鹸化処理し、ポリニルアルコール系接着剤を用いて、偏光膜のもう一方の側に貼り付け、偏光板を作製した。作製した偏光板において、上記の（反射色相評価）に準じた評価を行った結果、実施例１で作製した反射防止フィルムを用いた偏光板は、外観不良もなく、反射率が低く抑えられていることが判った。
【０１１３】
＜実施例９＞
実施例１で作成した反射防止フィルムを、有機ＥＬ表示装置の表面のガラス板に粘着剤を介して貼り合わせたところ、ガラス表面での反射が抑えられ、視認性の高い表示装置が得られた。さらに、この表示装置に対して、上記の（反射色相評価）に準じた評価を行った結果、実施例１で作製した反射防止フィルムを搭載した表示装置は、比較例４または５で作製した反射防止フィルムを搭載した表示装置に比較して、外観不良もなく反射率が低く抑えられていることが判った。
【０１１４】
＜実施例１０＞
実施例１で作製した反射防止フィルムを、有機ＥＬ表示装置の表面及びタッチパネル表面のガラス板に粘着剤を介して貼り合わせ、更に有機ＥＬ表示装置の表面に貼り合わせた反射防止フィルムと、タッチパネル表面のガラス板に貼り合わせた反射防止フィルムとを、粘着剤を介して貼り合わせたところ、タッチパネル表面のガラス板表面での反射が抑えられ、視認性の高いタッチパネルが得られた。さらに、これらのタッチパネルに対して、上記の（反射色相評価）に準じた評価を行った結果、実施例１で作製した反射防止フィルムを搭載したタッチパネルは、外観不良もなく反射率が低く抑えられていることが判った。
【産業上の利用可能性】
【０１１５】
本発明の反射防止フィルムは、有機ＥＬ表示装置等の表示装置やタッチパネルに用いられる反射防止フィルムとして利用できる。
【符号の説明】
【０１１６】
１０    反射防止フィルム
１１    透明フィルム基材
１２    ハードコート層
１３    高屈折率層
１４    低屈折率層
【図１】
2014102377.tif 000007