(57)【要約】【課題】狭幅且つ薄い厚さのベゼル部を形成することにより、同一の外観サイズでより大きいディスプレイ画面を具現することができ、薄い厚さを有するとともに、均一且つ十分な色感を有する白色のベゼル部を備えたタッチパネル及びその製造方法を提供する。【解決手段】本発明によるタッチパネル１００は、透明基板１０１、１０２と、透明基板１０１、１０２の縁に形成される白色層１３１、及び白色層１３１の上部に形成される遮光層１３２を備えるベゼル部１３０と、を含むものである。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基板と、
前記透明基板の縁に形成される白色層、及び前記白色層の上部に形成される遮光層を備えるベゼル部と、を含むタッチパネル。
【請求項２】
前記遮光層は、銀白色の金属または合金で構成されることを特徴とする請求項１に記載のタッチパネル。
【請求項３】
前記遮光層は、チタン系酸化物（ＴｉＯ２）、アルミニウム系酸化物（Ａｌ２Ｏ３）、ケイ素系酸化物（ＳｉＯ２）のうち何れか一つまたはこれらの組み合わせで構成されることを特徴とする請求項１に記載のタッチパネル。
【請求項４】
前記遮光層の厚さが、０．１〜１μｍであることを特徴とする請求項１に記載のタッチパネル。
【請求項５】
前記遮光層の厚さが、２５０〜４００ｎｍであることを特徴とする請求項４に記載のタッチパネル。
【請求項６】
前記遮光層は、絶縁層を含むことを特徴とする請求項１に記載のタッチパネル。
【請求項７】
前記遮光層は、気相蒸着法、原子層蒸着法、及びゾルゲル（Ｓｏｌｇｅｌ）法のうち何れか一つにより形成されることを特徴とする請求項１に記載のタッチパネル。
【請求項８】
前記白色層は、チタン系酸化物（ＴｉＯ２）、アルミニウム系酸化物（Ａｌ２Ｏ３）、マグネシウム系酸化物（ＭｇＯ）、ナトリウム系酸化物（Ｎａ２Ｏ）、リチウム系酸化物（Ｌｉ２Ｏ）、ベリリウム系酸化物（ＢｅＯ）、ケイ素系酸化物（ＳｉＯ２）、マグネシウム系硫化物（ＭｇＳ）、ＭｇＦ２、ＭｇＣｏ３、ＺｎＯ、ＺｎＳ、ＫＮＯ３、ＫＣｌ、ＫＯＨ、Ｇａ２Ｏ３、ＲｂＣｌ、ＲｂＦ、ＢａＴｉＯ３、ＢａＳＯ４、ＢａＣｌ２、ＢａＯ、Ｂａ（ＮＯ３）２、ＢａＣＯ３、ＢａＯＨ、ＢａＢ２Ｏ４、ＳｒＴｉＯ３、ＳｒＣｌ２、ＳｒＯ、Ｙ２Ｏ３、ＹＣｌ３、ＹＦ３、ＺｒＯ２、ＺｒＣｌ４、ＺｒＦ４、Ｎｂ２Ｏ５、ＮｂＯＣｌ３、Ｍｏ（ＣＯ）６、ＣｄＣｌ２、ＩｎＣｌ３、ＳｎＯ２、Ｓｂ２Ｏ３、ＣｓＩ、ＣｓＣｌ、ＣｓＦ、Ｔａ２Ｏ５、ＴａＣｌ５またはＴａＦ５のうち何れか一つまたはこれらの組み合わせからなることを特徴とする請求項１に記載のタッチパネル。
【請求項９】
前記白色層は、スピンコーティング（Ｓｐｉｎ  ｃｏａｔｉｎｇ）、ロールコーティング（Ｒｏｌｌ  ｃｏａｔｉｎｇ）、スロットコーティング（Ｓｌｏｔ  ｃｏａｔｉｎｇ）のうち何れか一つにより形成されることを特徴とする請求項１に記載のタッチパネル。
【請求項１０】
前記ベゼル部は、１０μｍより薄い厚さに形成されることを特徴とする請求項１に記載のタッチパネル。
【請求項１１】
（Ａ）透明基板を準備する段階と、
（Ｂ）前記透明基板の縁に白色層を形成する段階と、
（Ｃ）前記白色層の上部に遮光層を塗布する段階と、を含むタッチパネルの製造方法。
【請求項１２】
前記（Ｂ）段階で、前記白色層は、スピンコーティング（Ｓｐｉｎ  ｃｏａｔｉｎｇ）、ロールコーティング（Ｒｏｌｌ  ｃｏａｔｉｎｇ）、スロットコーティング（Ｓｌｏｔ  ｃｏａｔｉｎｇ）のうち何れか一つの方法により形成されることを特徴とする請求項１１に記載のタッチパネルの製造方法。
【請求項１３】
前記（Ｃ）段階で、前記遮光層は、気相蒸着法、原子層蒸着法、及びゾルゲル（Ｓｏｌｇｅｌ）法のうち何れか一つの方法により形成されることを特徴とする請求項１１に記載のタッチパネルの製造方法。
【請求項１４】
前記（Ｃ）段階で、前記遮光層が表面粗さを有するようにパターン（Ｐａｔｔｅｒｎ）処理されることを特徴とする請求項１１に記載のタッチパネルの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、タッチパネル及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
デジタル技術を用いるコンピュータが発達するにつれて、コンピュータの補助装置もともに開発されており、パソコン、携帯用送信装置、その他の個人用の情報処理装置などは、キーボード、マウスなどの様々な入力装置（Ｉｎｐｕｔ  Ｄｅｖｉｃｅ）を利用してテキスト及びグラフィック処理を行う。
【０００３】
しかし、情報化社会の急速な進行により、コンピュータの用途が益々拡大する傾向にあるため、現在入力装置の役割を担当しているキーボード及びマウスだけでは、効率的な製品の駆動が困難であるという問題点がある。従って、簡単で誤操作が少なく、誰でも簡単に情報を入力することができる機器の必要性が高まっている。
【０００４】
また、入力装置に関する技術は、一般的な機能を満たす水準を越えて、高信頼性、耐久性、革新性、設計及び加工に関する技術などが注目されており、このような目的を達成するために、テキスト、グラフィックなどの情報入力が可能な入力装置としてタッチパネル（Ｔｏｕｃｈ  Ｐａｎｅｌ）が開発された。
【０００５】
タッチパネルは、電子手帳、液晶表示装置（ＬＣＤ；Ｌｉｑｕｉｄ  Ｃｒｙｓｔａｌ  Ｄｉｓｐｌａｙ  Ｄｅｖｉｃｅ）、ＰＤＰ（Ｐｌａｓｍａ  Ｄｉｓｐｌａｙ  Ｐａｎｅｌ）、Ｅｌ（Ｅｌｅｃｔｒｏｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ）などの平板ディスプレイ装置及びＣＲＴ（Ｃａｔｈｏｄｅ  Ｒａｙ  Ｔｕｂｅ）などの画像表示装置の表示面に設けられ、ユーザが画像表示装置を見ながら所望の情報を選択するようにするために利用される機器である。
【０００６】
タッチパネルの種類は、抵抗膜方式（Ｒｅｓｉｓｔｉｖｅ  Ｔｙｐｅ）、静電容量方式（Ｃａｐａｃｉｔｉｖｅ  Ｔｙｐｅ）、電磁方式（Ｅｌｅｃｔｒｏ−Ｍａｇｎｅｔｉｃ  Ｔｙｐｅ）、表面弾性波方式（ＳＡＷ  Ｔｙｐｅ；Ｓｕｒｆａｃｅ  Ａｃｏｕｓｔｉｃ  Ｗａｖｅ  Ｔｙｐｅ）及び赤外線方式（Ｉｎｆｒａｒｅｄ  Ｔｙｐｅ）に区分される。このような多様な方式のタッチパネルは、信号増幅の問題、解像度の差、設計及び加工技術の難易度、光学的特性、電気的特性、機械的特性、耐環境特性、入力特性、耐久性及び経済性を考慮して電子製品に採用されるが、現在もっとも幅広い分野で用いられている方式は、抵抗膜方式タッチパネル及び静電容量方式タッチパネルである。
【０００７】
このようなタッチパネルは、一例として、透明基板と検知部とが接着剤を介して接合された構造で構成されており、透明基板の縁に沿って形成されたベゼル部を検知部のバスライン（Ｂｕｓ  Ｌｉｎｅ）を覆うように形成することができる。
【０００８】
最近、ＩＴ機器における外観デザインの重要性が益々高まっており、ディスプレイ画面も大型化している。機器の外観サイズを増加せずにディスプレイ画面を大きくし、実物に近い色のフルカラー（Ｆｕｌｌ  ｃｏｌｏｒ）を実現するために、ベゼル部の面積をより小さくする必要性が高まっている。
【０００９】
特許文献１には、黒色層及び透明導電膜（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ：ＩＴＯ）を備えたベゼル部が開示されている。
【００１０】
消費者の需要が多様化していることに伴い、特許文献１に記載の黒色だけでなく様々な色のベゼル部の供給が求められており、特に、綺麗なイメージを与え、女性に人気の白色に対する需要が多い。
【００１１】
従来の白色ベゼル部の製作方法は、透明基板の外部を白色で塗装したり、タッチパネルの内側にタッチパネルと一体型に白色ベゼル部が形成されるように、透明基板の下部に白色インクまたは白色ペースト（Ｐａｓｔｅ）をスクリーン印刷（Ｓｃｒｅｅｎ  Ｐｒｉｎｔｉｎｇ）法を利用して塗布する。後者の方法は、狭幅のベゼル部の具現が可能であり、外部損傷を最小化することができるため、より多く利用されている。
【００１２】
ところが、スクリーン印刷法を行うためには、白色インクまたは白色ペーストの粘度の制約のため、その粘度を高めるために濃縮しなければならない。しかし、白色顔料として主に用いられるＴｉＯ２（Ｔｉｔａｎｉｕｍ  Ｄｉｏｘｉｄｅ）は、濃縮しにくいという問題があり、複数回繰り返して印刷しなければならないが、１回の印刷時の厚さが最小５μｍ以上となるため、狭幅のベゼル部を具現することが困難であるだけでなく、タッチセンサの線幅を４０μｍ未満に微細に具現することも困難であるという問題がある。
【００１３】
それを改善するために、感光性白色インクを用いて薄型で且つ狭幅の白色ベゼルを開発するための研究が進んでいるが、ＴｉＯ２などの白色顔料の粒子粉末サイズと粘性の組成などにおいて不均一性があるため、均一且つ十分な白色度が具現されないという問題が依然として存在する。
【００１４】
現在適用されている樹脂ベース（Ｒｅｓｉｎ−Ｂａｓｅ）の白色インクは、スクリーン印刷法により製作されており、スクリーニング（Ｓｃｒｅｅｎｉｎｇ）を複数回行って白色度を増大させ、光の透過を防止するように構成される。しかし、ベゼル部の厚さが１５μｍ以上に形成され、表面粗さも大きくて微細なパターンを具現しにくいため、平坦化作業及び薄い電極層（＜２００ｎｍ）を連結するために、スクリーン層とテーパ層を形成して電極配線の連結性を向上させている。このようにスクリーン印刷法を適用することにより、繰り返されるスクリーニング作業、厚い厚さ、及びテーパ（Ｔａｐｅｒ）構造などによって狭幅のベゼル部を具現することが困難となっている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１５】
【特許文献１】韓国公開特許第１０−２０１１−００５３９４０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１６】
本発明は、上記の従来技術の問題点を解消するためのものであって、本発明の目的は、タッチパネルのベゼル部の面積を狭くすることにより、機器全体のサイズが増加することなく、ディスプレイ画面を最大化することができるタッチパネル及びその製造方法を提供することにある。
【００１７】
本発明の他の目的は、タッチパネルのベゼル部の厚さを薄く具現して、薄型のタッチパネル及びその製造方法を提供することにある。
【００１８】
本発明のさらに他の目的は、均一且つ十分な色感を有するベゼル部を備えたタッチパネル及びその製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１９】
本発明の一つの観点によるタッチパネルは、透明基板と、前記透明基板の一側面の縁に形成される白色層、及び前記白色層の上部に形成される遮光層を備えるベゼル部と、を含む。
【００２０】
前記遮光層は、銀白色の金属またはそれに類似の合金のうち何れか一つまたはこれらの組み合わせで構成されることができる。
【００２１】
また、前記遮光層は、チタン系酸化物（ＴｉＯ２）、アルミニウム系酸化物（Ａｌ２Ｏ３）、ケイ素系酸化物（ＳｉＯ２）のうち何れか一つまたはこれらの組み合わせで構成されることもできる。
【００２２】
前記遮光層の厚さは、０．１〜１μｍであることが好ましく、２５０〜４００ｎｍであることがさらに好ましい。
【００２３】
また、前記遮光層は、絶縁層を含むことができる。
【００２４】
前記遮光層は、気相蒸着法、原子層蒸着法、及びゾルゲル（Ｓｏｌｇｅｌ）法のうち何れか一つにより形成されることができる。
【００２５】
前記白色層は、チタン系酸化物（ＴｉＯ２）、アルミニウム系酸化物（Ａｌ２Ｏ３）、マグネシウム系酸化物（ＭｇＯ）、ナトリウム系酸化物（Ｎａ２Ｏ）、リチウム系酸化物（Ｌｉ２Ｏ）、ベリリウム系酸化物（ＢｅＯ）、ケイ素系酸化物（ＳｉＯ２）、マグネシウム系硫化物（ＭｇＳ）、ＭｇＦ２、ＭｇＣｏ３、ＺｎＯ、ＺｎＳ、ＫＮＯ３、ＫＣｌ、ＫＯＨ、Ｇａ２Ｏ３、ＲｂＣｌ、ＲｂＦ、ＢａＴｉＯ３、ＢａＳＯ４、ＢａＣｌ２、ＢａＯ、Ｂａ（ＮＯ３）２、ＢａＣＯ３、ＢａＯＨ、ＢａＢ２Ｏ４、ＳｒＴｉＯ３、ＳｒＣｌ２、ＳｒＯ、Ｙ２Ｏ３、ＹＣｌ３、ＹＦ３、ＺｒＯ２、ＺｒＣｌ４、ＺｒＦ４、Ｎｂ２Ｏ５、ＮｂＯＣｌ３、Ｍｏ（ＣＯ）６、ＣｄＣｌ２、ＩｎＣｌ３、ＳｎＯ２、Ｓｂ２Ｏ３、ＣｓＩ、ＣｓＣｌ、ＣｓＦ、Ｔａ２Ｏ５、ＴａＣｌ５またはＴａＦ５のうち何れか一つまたはこれらの組み合わせからなることができる。
【００２６】
ここで、前記白色層は、スピンコーティング（Ｓｐｉｎ  ｃｏａｔｉｎｇ）、ロールコーティング（Ｒｏｌｌ  ｃｏａｔｉｎｇ）、スロットコーティング（Ｓｌｏｔ  Ｃｏａｔｉｎｇ）のうち何れか一つにより形成されることができる。
【００２７】
一方、前記ベゼル部は、１０μｍより薄い厚さに形成されることが好ましい。
【００２８】
また、本発明の他の観点によるタッチパネルの製造方法は、（Ａ）透明基板を準備する段階と、（Ｂ）前記透明基板の一側面の縁に白色層を形成する段階と、（Ｃ）前記白色層の上部に遮光層を塗布する段階と、を含む。
【００２９】
前記（Ｂ）段階で、前記白色層は、スピンコーティング（Ｓｐｉｎ  ｃｏａｔｉｎｇ）、ロールコーティング（Ｒｏｌｌ  ｃｏａｔｉｎｇ）、スロットコーティング（Ｓｌｏｔ  ｃｏａｔｉｎｇ）のうち何れか一つの方法により形成されることが好ましい。
【００３０】
前記（Ｃ）段階で、前記遮光層は、気相蒸着法、原子層蒸着法、及びゾルゲル（Ｓｏｌｇｅｌ）法のうち何れか一つの方法により形成されることが好ましい。
【００３１】
また、前記（Ｃ）段階で、前記遮光層が表面粗さを有するようにパターン（Ｐａｔｔｅｒｎ）処理されることができる。
【発明の効果】
【００３２】
本発明によるタッチパネルによると、白色層及び遮光層を備えて狭幅のベゼル部を形成することにより、ディスプレイ画面を最大化し、タッチパネルのベゼル部の厚さを薄く具現して、薄型のタッチパネルを提供することができる。
【００３３】
また、本発明によるタッチパネルによると、白色層と遮光層を別の層にコーティングすることにより、均一且つ十分な色感を有する白色のベゼル部を備えたタッチパネルを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００３４】
【図１】本発明の一実施例によるタッチパネルの断面図である。
【図２】本発明の一実施例によるタッチパネルを構成するベゼル部の断面図である。
【図３】本発明の他の実施例によるタッチパネルを構成するベゼル部の断面図である。
【図４】本発明の一実施例によるタッチパネルの製造工程を示すフローチャートである。
【発明を実施するための形態】
【００３５】
本発明の目的、特定の長所及び新規の特徴は、添付図面に係る以下の詳細な説明及び好ましい実施例によってさらに明らかになるであろう。本明細書において、各図面の構成要素に参照番号を付け加えるに際し、同一の構成要素に限っては、たとえ異なる図面に示されても、できるだけ同一の番号を付けるようにしていることに留意しなければならない。また、「一面」、「他面」、「第１」、「第２」などの用語は、一つの構成要素を他の構成要素から区別するために用いられるものであり、構成要素が前記用語によって限定されるものではない。以下、本発明を説明するにあたり、本発明の要旨を不明瞭にする可能性がある係る公知技術についての詳細な説明は省略する。
【００３６】
以下、添付図面を参照して、本発明の好ましい実施例を詳細に説明する。
【００３７】
参照に、本明細書の全体に亘って用いられる「タッチ」という用語は、接触受容面に対する直接的な接触だけでなく、入力手段が相当の距離だけ接触受容面へ接近することも意味すると幅広く解釈される。即ち、本発明によるタッチパネルは、入力手段の接触を認識したり、または相当な距離以内の接近を認識する機能を備えたタッチパネルであると解釈されるべきである。
【００３８】
以下、添付図面を参照して、本発明の好ましい実施例を詳細に説明する。
【００３９】
図１は、本発明の一実施例によるタッチパネルの断面図であり、図２は、本発明の一実施例によるタッチパネルを構成するベゼル部の断面図であり、図３は、本発明の他の実施例によるタッチパネルを構成するベゼル部の断面図である。
【００４０】
本発明の一実施例によるタッチパネル１００は、図１に図示されたように、活性領域と活性領域を囲む非活性領域とに区画される第１透明基板１０１と、絶縁層１１１を介して第１透明基板１０１の一面に接着された第２透明基板１０２と、第１透明基板１０１と第２透明基板１０２との間に備えられたベゼル部１３０と、接着層１１２を介して第２透明基板１０２の一面に接着された反射防止層１４０と、を含む。
【００４１】
透明基板１０１、１０２は、ユーザによるタッチ作用がなされて、ユーザが機器の動作場面を視覚的に確認する画面領域である活性領域と、活性領域を囲む非活性領域とに区分されるため、透明性を備えなければならない。このような透明性を考慮して、透明基板１０１、１０２は、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリエーテルスルフォン（ＰＥＳ）、環状オレフィンコポリマー（ＣＯＣ）、トリアセチルセルロース（Ｔｒｉａｃｅｔｙｌｃｅｌｌｕｌｏｓｅ；ＴＡＣ）フィルム、ポリビニルアルコール（Ｐｏｌｙｖｉｎｙｌ  ａｌｃｏｈｏｌ；ＰＶＡ）フィルム、ポリイミド（Ｐｏｌｙｉｍｉｄｅ；ＰＩ）フィルム、ポリスチレン（Ｐｏｌｙｓｔｙｒｅｎｅ；ＰＳ）、二軸延伸ポリスチレン（Ｋ樹脂含有ｂｉａｘｉａｌｌｙ  ｏｒｉｅｎｔｅｄ  ＰＳ；ＢＯＰＳ）、ガラスまたは強化ガラスなどで形成することが好ましいが、必ずしもこれに限定されるものではない。
【００４２】
このような透明基板１０１、１０２は、図１による本発明の一実施例によると、第１透明基板１０１及び第２透明基板１０２で構成されており、第１透明基板１０１の活性領域の一面に形成された第１電極パターン１２１と、第１透明基板１０１の非活性領域で第１電極パターン１２１に連結されている第１バスライン（不図示）と、第１電極パターン１２１に対応して第２透明基板１０２の活性領域の他面に形成された第２電極パターン１２２と、第２電極パターン１２２に連結され、第２透明基板１０２の非活性領域に形成された第２バスライン（不図示）と、を備えることができる。
【００４３】
ここで、第１電極パターン１２１は、検知電極パターンであり、第２電極パターン１２２は、第１電極パターン１２１と交差する駆動電極パターンである。反対に、第１電極パターン１２１が駆動電極パターンであって、第２電極パターン１２２が検知電極パターンであってもよい。
【００４４】
図１による本発明の一実施例では、第１透明基板１０１がタッチパネルの最外側に備えるウィンドウ（Ｗｉｎｄｏｗ）として構成される。この際、第１透明基板１０１の露出面（電極パターンが形成された透明基板の一面の反対面）は、ユーザのタッチを収容する。このように、第１透明基板１０１がウィンドウである場合、第１電極パターン１２１がウィンドウに直接形成されるため、別の透明基板に電極パターンを形成した後、前記透明基板をウィンドウに付着する工程を省略して、製造工程を単純化することができ、タッチパネルの全体的な厚さを減少させることができる。
【００４５】
このような第１透明基板１０１は、非活性領域で第１バスライン（不図示）に対応してベゼル部１３０を備える。
【００４６】
具体的には、ベゼル部１３０は、黒色、白色、金色、赤色、緑色、黄色、灰色、紫色、茶色、青色またはこれらの組み合わせからなるカラーインクなどをスクリーン印刷法、ロールコーティング法などの様々な印刷法により印刷した後、例えば、エッチング法、ローラーまたはスタンプを用いた転写法、またはプレスを用いた圧着法を利用して形成することができる。
【００４７】
ここで、ベゼル部１３０を狭幅に形成するほど、画面領域である活性領域が広くなるため好ましい。また、特に、綺麗なイメージを与え、女性に人気の白色にベゼル部１３０を形成することが好ましい。また、ベゼル部１３０の厚さを薄く形成できれば、薄型のタッチパネルが実現される。
【００４８】
白色顔料層の場合、下部層の密着力、厚さによる応力などを考慮すると、膜の厚さが薄いことが好ましいが、白色度（色感）及び光遮断効果を考慮すると、膜の厚さが厚いことが必要とされる。
【００４９】
このように薄型でありながらも色感及び光遮断性を維持するために、本発明の一実施例によると、図２に図示されたように、ベゼル部１３０は、白色インクを薄くコーティングした白色層１３１と、その上に塗布され、白色度を付与して光透過度を減らすための別の遮光層１３２と、を含む。
【００５０】
白色層１３１は、チタン系酸化物（ＴｉＯ２）、アルミニウム系酸化物（Ａｌ２Ｏ３）、マグネシウム系酸化物（ＭｇＯ）、ナトリウム系酸化物（Ｎａ２Ｏ）、リチウム系酸化物（Ｌｉ２Ｏ）、ベリリウム系酸化物（ＢｅＯ）、ケイ素系酸化物（ＳｉＯ２）、マグネシウム系硫化物（ＭｇＳ）、ＭｇＦ２、ＭｇＣｏ３、ＺｎＯ、ＺｎＳ、ＫＮＯ３、ＫＣｌ、ＫＯＨ、Ｇａ２Ｏ３、ＲｂＣｌ、ＲｂＦ、ＢａＴｉＯ３、ＢａＳＯ４、ＢａＣｌ２、ＢａＯ、Ｂａ（ＮＯ３）２、ＢａＣＯ３、ＢａＯＨ、ＢａＢ２Ｏ４、ＳｒＴｉＯ３、ＳｒＣｌ２、ＳｒＯ、Ｙ２Ｏ３、ＹＣｌ３、ＹＦ３、ＺｒＯ２、ＺｒＣｌ４、ＺｒＦ４、Ｎｂ２Ｏ５、ＮｂＯＣｌ３、Ｍｏ（ＣＯ）６、ＣｄＣｌ２、ＩｎＣｌ３、ＳｎＯ２、Ｓｂ２Ｏ３、ＣｓＩ、ＣｓＣｌ、ＣｓＦ、Ｔａ２Ｏ５、ＴａＣｌ５またはＴａＦ５などのうち何れか一つまたはこれらの様々な組み合わせで構成することができる。
【００５１】
遮光層１３２は、Ａｌ、Ｔｉ、Ｍｏ、Ａｇ、Ｃｒなどの銀白色の金属またはそれに類似の合金で形成することができる。また、チタン系酸化物（ＴｉＯ２）、アルミニウム系酸化物（Ａｌ２Ｏ３）、ケイ素系酸化物（ＳｉＯ２）であってもよい。酸化物の場合、単一膜を形成した後、別の工程で酸化させて形成される。また、遮光層１３２が金属で形成される場合、タッチセンサの金属配線のために絶縁層を形成することもできる。これにより、数μｍの薄型のベゼル部１３０を具現することができる。
【００５２】
ここで、絶縁層は、遮光層が金属で形成される場合だけでなく、上記の酸化物で遮光層が形成される場合も含むことができ、絶縁層が遮光層１３２を代替するように構成してもよい。
【００５３】
本発明の一実施例によるベゼル部１３０において、遮光層１３２の均一な分散のために該当材料のみを別に高密度コーティングして、インクやペースト（Ｐａｓｔｅ）の使用時に発生する空間上のバラ付きを改善し、薄い厚さのベゼル部１３０を形成した。そのため、遮光層１３２は、０．１〜１μｍ以下に塗布することが、白色の色感及び密着力の点で好ましい。より好ましくは、２５０〜４００ｎｍの厚さに形成することができる。
【００５４】
遮光層１３２を塗布する方法としては、低温で均一にコーティングする方法が好ましい。従って、スパッタリング（Ｓｐｕｔｔｅｒｉｎｇ）や真空蒸着などのような物理的気相蒸着法（ＰＶＤ：Ｐｈｙｓｉｃａｌ  ｖａｐｏｒ  ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）、またはＰＥＣＶＤ（Ｐｌａｓｍａ−Ｅｎｈａｎｃｅｄ  ｃｈｅｍｉｃａｌ  ｖａｐｏｒ  ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）、ＭＯＣＶＤ（Ｍｅｔａｌｏｒｇａｎｉｃ  ｃｈｅｍｉｃａｌ  ｖａｐｏｒ  ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）などの化学的気相蒸着法（ＣＶＤ：Ｃｈｅｍｉｃａｌ  ｖａｐｏｒ  ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）、原子層蒸着法（ＡＬＤ：Ａｔｏｍｉｃ  Ｌａｙｅｒ  Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）、ゾルゲル（Ｓｏｌｇｅｌ）法などを用いることができる。
【００５５】
一方、遮光層１３２は、表面粗さによって色感を向上することができるため、表面粗さを与えるために、パターン（Ｐａｔｔｅｒｎ）処理することが好ましい。
【００５６】
また、白色層１３１は、スピンコーティング（Ｓｐｉｎ  ｃｏａｔｉｎｇ）、ロールコーティング（Ｒｏｌｌ  ｃｏａｔｉｎｇ）、スロットコーティング（Ｓｌｏｔ  ｃｏａｔｉｎｇ）などにより形成されることが薄型化のために好ましい。白色層１３１の材料としては、有機感光性材料が、露光が可能であるため好ましい。
【００５７】
絶縁層１１１は、第１電極パターン１２１及び第２電極パターン１２２を保護する役割を遂行するものである。ここで、絶縁層１１１は、印刷（Ｐｒｉｎｔｉｎｇ）、ＣＶＤ（Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｖａｐｅｒ  Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）またはスパッタリング（Ｓｐｕｔｔｅｒｉｎｇ）などにより有機絶縁膜または無機絶縁膜で形成することができる。
【００５８】
この際、絶縁層は、エポキシ（Ｅｐｏｘｙ）またはアクリル（Ａｃｒｙｌｉｃ）系樹脂、ＳｉＯｘ薄膜、またはＳｉＮｘ薄膜で形成することができる。
【００５９】
図２及び図３を参照すると、本発明の一実施例によるベゼル部の断面部は、テーパ（Ｔａｐｅｒ）部１３０ａを有するように傾斜して形成されてもよく、直角部１３０ｂを有するように垂直に形成されてもよい。直角部１３０ｂを有するように形成することが大画面を具現するにはより好ましいが、製造工程の効率を考慮すると、テーパ部１３０ａを有するように形成することが好ましい。
【００６０】
タッチパネル１００の下側部には、画像表示装置（不図示）が取り付けられる。
【００６１】
画像表示装置は、画像を出力する役割をするものであり、液晶表示装置（ＬＣＤ、Ｌｉｑｕｉｄ  Ｃｒｙｓｔａｌ  Ｄｉｓｐｌａｙ  Ｄｅｖｉｃｅ）、ＰＤＰ（Ｐｌａｓｍａ  Ｄｉｓｐｌａｙ  Ｐａｎｅｌ）、ＥＬ（Ｅｌｅｃｔｒｏｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ）またはＣＲＴ（Ｃａｔｈｏｄ  Ｒａｙ  Ｔｕｂｅ）などを含む。
【００６２】
一方、図４は、本発明の一実施例によるタッチパネルの製造工程を示すフローチャートである。
【００６３】
図４を参照すると、本発明の一実施例によるタッチパネルの製作方法は、まず、透明材質で形成された透明基板を準備する（Ｓ１１０）。
【００６４】
このような透明基板を準備した後、透明基板の一側面の縁に白色層を形成する（Ｓ１２０）。
【００６５】
具体的には、白色層を形成する段階（Ｓ１２０）は、スピンコーティング（Ｓｐｉｎ  ｃｏａｔｉｎｇ）、ロールコーティング（Ｒｏｌｌ  ｃｏａｔｉｎｇ）、スロットコーティング（Ｓｌｏｔ  ｃｏａｔｉｎｇ）などの方法により行うことができる。白色層の材料としては、感光性材料を用いることが好ましい。
【００６６】
その後、白色層の上部に遮光層を塗布する（Ｓ１３０）。
【００６７】
遮光層を塗布する段階（Ｓ１３０）は、スパッタリング（Ｓｐｕｔｔｅｒｉｎｇ）や真空蒸着などのような物理的気相蒸着法（ＰＶＤ：Ｐｈｙｓｉｃａｌ  ｖａｐｏｒ  ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）、またはＰＥＣＶＤ（Ｐｌａｓｍａ−Ｅｎｈａｎｃｅｄ  ｃｈｅｍｉｃａｌ  ｖａｐｏｒ  ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）、ＭＯＣＶＤ（Ｍｅｔａｌｏｒｇａｎｉｃ  ｃｈｅｍｉｃａｌ  ｖａｐｏｒ  ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）などの化学的気相蒸着法（ＣＶＤ：Ｃｈｅｍｉｃａｌ  ｖａｐｏｒ  ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）、原子層蒸着法（ＡＬＤ：Ａｔｏｍｉｃ  Ｌａｙｅｒ  Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）、ゾルゲル（Ｓｏｌｇｅｌ）法などにより行うことができる。
【００６８】
ここで、遮光層が所定の表面粗さを有するように、エッチング（ｅｔｃｈｉｎｇ）工程またはデスミア（ｄｅｓｍｅａｒ）工程などのパターン（Ｐａｔｔｅｒｎ）処理段階をさらに含むこともできる。このようにパターン処理がなされると、表面が不規則に形成される。
【００６９】
また、必要に応じて、遮光層を塗布する段階（Ｓ１３０）の後に、絶縁層を形成する段階をさらに含むこともできる。
【００７０】
一方、遮光層は、Ａｌ、Ｔｉ、Ｍｏ、Ａｇ、Ｃｒなどの銀白色の金属またはそれに類似の合金で形成することができる。また、チタン系酸化物（ＴｉＯ２）、アルミニウム系酸化物（Ａｌ２Ｏ３）、ケイ素系酸化物（ＳｉＯ２）で構成することもできるが、このような酸化物で形成する場合には、酸化過程をさらに行う。
【００７１】
このような過程を経て、薄い薄膜で、狭幅の白色ベゼル部が形成される。
【００７２】
本発明の一実施例によって、上記のように静電容量方式のタッチパネルを説明したが、本発明は、抵抗膜方式を含む様々な方式のタッチパネルにも適用され得るということは勿論である。
【００７３】
以上、本発明を具体的な実施例に基づいて詳細に説明したが、これは本発明を具体的に説明するためのものであり、本発明はこれに限定されず、該当分野における通常の知識を有する者であれば、本発明の技術的思想内にての変形や改良が可能であることは明白であろう。
【００７４】
本発明の単純な変形乃至変更はいずれも本発明の領域に属するものであり、本発明の具体的な保護範囲は添付の特許請求の範囲により明確になるであろう。
【産業上の利用可能性】
【００７５】
本発明は、タッチパネル及びその製造方法に適用可能である。
【符号の説明】
【００７６】
１００  タッチパネル
１０１  第１透明基板（透明基板）
１０２  第２透明基板（透明基板）
１１１  絶縁層
１１２  接着層
１２１  第１電極パターン
１２２  第２電極パターン
１３０  ベゼル部
１３０ａ  テーパ部
１３０ｂ  直角部
１３１  白色層
１３２  遮光層
１４０  反射防止層
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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