(57)【要約】【課題】製造工程が簡易で製造コストが抑えられた位相差板の製造方法の提供。【解決手段】（ａ）第１の透光性基材１０の一面に塗布でマスクパターン２０を形成し、他面に光配向性材料層を形成する段階と、（ｂ）第１の透光性基材１０の上記一面側から上記他面側に向かって、第１の偏光方向を有する第１の直線偏光紫外線を光配向性材料層に照射し、また、第１の透光性基材１０の上記他面側から上記一面側に向かって、第２の偏光方向を有する第２の直線偏光紫外線を光配向性材料層に照射することで、光配向性材料層を２つの異なる配向方向を具えた光配向層３２とならしめる段階と、（ｃ）光配向層３２に液晶材料を塗布して液晶材料層を形成しこれを硬化させることで、２つの異なる配向方向を具えた位相差板５２を形成する段階と、を有することを特徴とする位相差板の製造方法。【選択図】図７
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ａ）第１の透光性基材の一面に塗布でマスクパターンを形成し、該一面の反対面である他面に光配向性材料層を形成する段階と、
（ｂ）前記第１の透光性基材の前記一面側から前記他面側に向かって、第１の偏光方向を有する第１の直線偏光紫外線を前記光配向性材料層に照射し、また、前記第１の透光性基材の前記他面側から前記一面側に向かって、前記第１の偏光方向とは異なる第２の偏光方向を有する第２の直線偏光紫外線を前記光配向性材料層に照射することで、前記光配向性材料層を、２つの異なる配向方向を具えた光配向層とならしめる段階と
（ｃ）前記光配向層に液晶材料を塗布して液晶材料層を形成し、該液晶材料層を硬化させることで、２つの異なる配向方向を具えた位相差板を形成する段階と、
を有することを特徴とする位相差板の製造方法。
【請求項２】
前記（ｂ）段階において、前記第１の直線偏光紫外線を、前記光配向性材料層に対する積算露光量が前記第２の直線偏光紫外線のそれを上回るように且つ前記第２の直線偏光紫外線よりも先に照射することを特徴とする請求項１に記載の位相差板の製造方法。
【請求項３】
前記（ｂ）段階において、前記第１の直線偏光紫外線を、前記光配向性材料層に対する積算露光量が前記第２の直線偏光紫外線のそれを下回らないように且つ前記第２の直線偏光紫外線よりも後に照射することを特徴とする請求項１に記載の位相差板の製造方法。
【請求項４】
前記第１の透光性基材としては、位相差値が３００ｎｍより小さい位相差を有するものを用い、且つそれを、その遅相軸の方向と、前記第１の直線偏光紫外線の前記第１の偏光方向または前記第２の直線偏光紫外線の前記第２の偏光方向とが成す角度が０度または９０度となるように配置することを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の位相差板の製造方法。
【請求項５】
前記第１の透光性基材としては、位相差値が１００ｎｍより小さい位相差を有するものを用い、且つそれを、その遅相軸の方向と、前記第１の直線偏光紫外線の前記第１の偏光方向または前記第２の直線偏光紫外線の前記第２の偏光方向とが成す角度が４５度となるように配置することを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の位相差板の製造方法。
【請求項６】
前記マスクパターンを、紫外線吸収剤または遮光インクを含んだ塗料の塗布で形成する
ことを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載の位相差板の製造方法。
【請求項７】
前記第１の直線偏光紫外線と前記第２の直線偏光紫外線とを、それぞれの偏光方向である前記第１の偏光方向と前記第２の偏光方向とが垂直になるように照射することを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載の位相差板の製造方法。
【請求項８】
前記（ｃ）段階の後に、第２の透光性基材を、前記位相差板に貼着させる段階を更に有することを特徴とする請求項１〜７のいずれか１項に記載の位相差板の製造方法。
【請求項９】
前記（ｃ）段階の後に、前記マスクパターンを、前記第１の透光性基材の前記一面から除去する段階を更に有することを特徴とする請求項１〜８のいずれか１項に記載の位相差板の製造方法。
【請求項１０】
前記第１の透光性基材および前記第２の透光性基材としては、ポリエステル系樹脂、アセテート系樹脂、ポリエーテルスルホン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、アクリル系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、ポリアリレート系樹脂、ポリフェニレンスルファイド系樹脂、ポリ塩化ビニリデン系樹脂、メタクリル酸エステル系樹脂からなる群より選ばれる材料からなるものを用いることを特徴とする請求項１〜９のいずれか１項に記載の位相差板の製造方法。
【請求項１１】
前記第１の透光性基材および前記第２の透光性基材としては、トリアセテートセルロースまたはポリカーボネートからなるものを用いることを特徴とする請求項１〜９のいずれか１項に記載の位相差板の製造方法。
【請求項１２】
請求項１〜７のいずれか１項に記載の位相差板の製造方法により製造された位相差板。
【請求項１３】
請求項１２に記載の位相差板に、一面に感圧接着層を有する第２の透光性基材を貼着させてなった位相差板積層体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、位相差板の製造方法に関し、特に２つの異なる配向方向を有する位相差板の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
位相差板はいわゆる３Ｄ立体映像ディスプレイ技術に用いられている。３Ｄ立体映像ディスプレイは、その観賞方法によって、めがねをかけるめがね方式と、めがねをかけない裸眼方式とに分けられる。
裸眼方式は、一般に、ディスプレイの解像度及び輝度ともに比較的低く、また有効視野も狭いので同時に観賞できる人数が限られ、これらの点が克服すべき課題となっている。
めがね方式では、観賞時にめがねをかけなくてはならないところが多少の不便であるが、有効視野が比較的広いので、一台のディスプレイを同時に多くの人数で観賞できるという利点がある。まためがね方式は、概してシャッターめがね方式と、偏光めがね方式とに分けられるが、シャッターめがね方式はコストが比較的高く、また映像のちらつきが起こるという問題もあるため、低コストで、まためがねが軽いためかけやすく且つちらつきの問題がない偏光めがね方式が優勢である。
偏光めがね方式では、互い違いに投影される左眼用映像と右眼用映像とを観賞者の左眼と右眼に別々に投影させるために左右各映像の偏光状態をそれぞれ変えることができる光学フィルムが用いられている。このような光学フィルムとしては一般にパターン化された偏光板あるいは位相差板が用いられている。
【０００３】
特開平１１‐８４３８５号公報（特許文献１）では、基板上に設けられたポリイミドなどの配向性のある材料の表面において、ストライプ状に交互に区切られた２つの領域を、それぞれ異なる方向に摩擦することで、パターン化された２つの異なる配向方向（配向規制方向）を具えた配向性層とし、更にその上に液晶層を設けて配向させることで、位相差板を製造するラビング（摩擦）配向方法が開示されている。
しかし、この方法では、材料が摩擦されることで粉塵が発生する上に、摩擦で生じた静電気によりそれら粉塵が基板に付着するという問題がある。しかも、配向性材料の表面にパターン化された２つの領域を形成するために、パターンマスクを用いた複雑なフォトリソグラフィ工程を用いており、工程の精確なコントロールが難しいことから、歩留まりが低いという問題があり、量産には向かない。
【０００４】
特表２０１２‐５１７０２４号公報（特許文献２）では、上記ラビング配向方法の問題点を克服するべく、光配向方法が開示されている。これによれば、それぞれ通過させる偏光の偏光方向が異なる２つの領域を有する偏光板と、該偏光板を通過して異なる方向にそれぞれ偏光された直線偏光紫外線が選択的に通過するように光透過領域と光遮断領域が互い違いに配置されたパターンマスクとを用意し、基板上に設けられた光配向性材料層を、上記偏光板およびパターンマスクを介して平行光源により露光させて硬化させると共に配向性を付与することで、２つの異なる配向方向が具わった配向性層を得た後に、該配向性層に液晶を塗布して更にこれを非直線偏光紫外線の照射で硬化させることで、パターン化された２つの配向方向を具えた位相差板を得ている。
【０００５】
しかし、このような方法は、基板とは別に設けられる例えばガラス製等の硬質のパターンマスクの使用が必須であるので、例えば量産に有利なロールツーロール（roll to roll）方式に応用することが難しい。また、露光時に偏光板とパターンマスクとの位置決めが精確でなくてはいけない上に、パターンマスクと基板との間には一定の間隔があるので、光源が非平行光源、例えば点光源であると、パターンマスクを通過した光が斜めに配向性材料層に照射されたり、あるいはパターンマスクを通過する際の回折等により拡散したりすることで、硬化後の配向性層における２つの配向方向が具わった領域間の境界が不鮮明になるだけでなく、配向結果が不均一となってしまう。そこでこれを防ぐために、露光には平行光源を使用しなくてはならないが、これにより大面積の照射が困難となるだけでなく、製造費用も高くつくので、量産には向かない。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開平１１‐８４３８５号公報
【特許文献２】特表２０１２‐５１７０２４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は、上記問題点を解決するために提案されたもので、パターンマスクを使用せず、また配向性材料の露光に用いる光源が平行光源に限られないことで、製造設備や工程が簡易になることにより製造コストが抑えられた位相差板の製造方法の提供を目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
前記目的を達成するために、本発明は、
（ａ）第１の透光性基材の一面に塗布でマスクパターンを形成し、該一面の反対面である他面に光配向性材料層を形成する段階と、
（ｂ）前記第１の透光性基材の前記一面側から前記他面側に向かって、第１の偏光方向を有する第１の直線偏光紫外線を前記光配向性材料層に照射し、また、前記第１の透光性基材の前記他面側から前記一面側に向かって、前記第１の偏光方向とは異なる第２の偏光方向を有する第２の直線偏光紫外線を前記光配向性材料層に照射することで、前記光配向性材料層を、２つの異なる配向方向を具えた光配向層とならしめる段階と
（ｃ）前記光配向層に液晶材料を塗布して液晶材料層を形成し、該液晶材料層を硬化させることで、２つの異なる配向方向を具えた位相差板を形成する段階と、を有することを特徴とする位相差板の製造方法を提供する。
また、本発明は、上記の製造方法で製造された位相差板を提供する。
更に、本発明は、上記の製造方法で製造された位相差板に、一面に感圧接着層を有する第２の透光性基材を貼着させてなった位相差板積層体をも提供する。
【発明の効果】
【０００９】
上記方法によれば、マスクパターンが第１の透光性基材の一面に直接塗布により形成されているので、露光の際に別にパターンマスクを用意する必要がない。また、マスクパターンと第１の透光性基材との間には間隔がないことから、マスクパターンを通過した第１の直線偏光紫外線が光配向性材料層に照射される前に拡散することがほぼないので、第１の直線偏光紫外線の光源が平行光源である必要がない。これらにより製造設備及び工程が簡易でありまた製造コストが抑えられた位相差板の製造方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】本発明に係る位相差板の製造方法における、各実施形態に共通する段階（ａ）を示す概要断面図である。
【図２】本発明に係る位相差板の製造方法における、第１の実施形態での段階（ｂ）において、第１の直線偏光紫外線を光配向性材料層に照射している状態を示す概要断面図である。
【図３】本発明に係る位相差板の製造方法における、第１の実施形態での段階（ｂ）において、第１の直線偏光紫外線照射後に、１つの配向方向が光配向性材料層に形成された状態を示す概要断面図である。
【図４】本発明に係る位相差板の製造方法における、第１の実施形態での段階（ｂ）において、第２の直線偏光紫外線を光配向性材料層に照射している状態を示す概要断面図である。
【図５】本発明に係る位相差板の製造方法における、段階（ｂ）において、第２の直線偏光紫外線照射後に、２つの異なる配向方向が光配向性材料層に形成された状態を示す概要断面図である。
【図６】本発明に係る位相差板の製造方法における、段階（ｃ）において、光配向層に液晶材料を塗布して液晶材料層を形成し、該液晶材料層を硬化させている状態を示す概要断面図である。
【図７】本発明に係る位相差板の製造方法における、段階（ｃ）において、２つの異なる配向方向を具えた位相差板が形成された状態を示す概要断面図である。
【図８】本発明に係る位相差板の製造方法における、第２の実施形態での段階（ｂ）において、第２の直線偏光紫外線を光配向性材料層に照射している状態を示す概要断面図である。
【図９】本発明に係る位相差板の製造方法における、第２の実施形態での段階（ｂ）において、第２の直線偏光紫外線照射後に、１つの配向方向が光配向性材料層に形成された状態を示す概要断面図である。
【図１０】本発明に係る位相差板の製造方法における、第２の実施形態での段階（ｂ）において、第１の直線偏光紫外線を光配向性材料層に照射している状態を示す概要断面図である。
【図１１】本発明に係る位相差板の製造方法の第４の実施形態において、第２の透光性基材を、硬化した液晶材料層に貼着させる段階を示す概要断面図である。
【図１２】本発明に係る位相差板の製造方法の第４の実施形態において、第２の透光性基材が、硬化した液晶材料層に貼着された状態を示す概要断面図である。
【図１３】本発明に係る位相差板積層体の製造において、位相差板が光配向層から剥離された状態を示す概要断面図である。
【図１４】比較例において光配向性材料層の第１の領域のみが硬化した状態を示す概要断面図である。
【図１５】比較例において光配向性材料層の第２の領域のみが配向された状態を示す概要断面図である。
【図１６】実施例Ａ１にて得られた位相差板の配向結果を観察した偏光顕微鏡図である。
【図１７】比較例Ｂ１´にて得られた位相差板の配向結果を観察した偏光顕微鏡図である。
【図１８】比較例Ｂ２´にて得られた位相差板の配向結果を観察した偏光顕微鏡図である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
以下、添付図面を参照しながら、４つの実施形態とそれらに係る具体例を挙げて本発明を詳しく説明する。
<位相差板の製造方法>
（第１の実施形態）
まずは図１〜図７を参照にして、本発明に係る位相差板の製造方法の第１の実施形態を説明する。第１の実施形態は以下の段階（ａ）〜（ｃ）を有している。
（ａ）第１の透光性基材１０の一面１０１に遮光性塗料を塗布することで、部分的に遮光性を有するマスクパターン２０を形成し、一面１０１の反対面である他面１０２に光配向性材料層３０を形成する（図１参照）。
（ｂ）まず、第１の透光性基材１０の一面１０１側から他面１０２側に向かって、第１の偏光方向を有する第１の直線偏光紫外線４０１を、第１の透光性基材１０を透過して光配向性材料層３０に照射することで（図２参照）、光配向性材料層３０における、マスクパターン２０により遮蔽されなかった第１の領域３０１に、第１の配向方向を付与する（図３参照）。
また、その後、第１の透光性基材１０の他面１０２側から一面１０１側に向かって、第１の偏光方向とは異なる第２の偏光方向を有する第２の直線偏光紫外線４０２を光配向性材料層３０に照射することで（図４参照）、第１の直線偏光紫外線４０１照射時にマスクパターン２０により遮蔽されていた第２の領域３０２に、第２の配向方向を付与する（図５参照）。これにより光配向性材料層３０を、２つの異なる配向方向を具えた光配向層３２とならしめる。
（ｃ）光配向層３２に液晶材料を塗布して液晶材料層５０を形成し、光配向層３２の配向性により液晶材料層５０を配向させ、その後これを硬化させる（図６参照）。これにより、２つの異なる配向方向を具えた位相差板５２を形成する（図７参照）。
以下、各段階の詳細を説明する。
【００１２】
（段階（ａ））
第１の透光性基材１０としては、透明であり且つ可撓性がある材料からなるものを用いればよい。材料の好ましい例として、ポリエステル(polyester)系樹脂、アセテート（acetate）系樹脂、ポリエーテルスルホン（polyethersulfone）系樹脂、ポリカーボネート（polycarbonate）系樹脂、ポリアミド（polyamide）系樹脂、ポリイミド（polyimide）系樹脂、ポリオレフィン（polyolefin）系樹脂、アクリル（acrylic）系樹脂、ポリ塩化ビニル（polyvinyl chloride）系樹脂、ポリスチレン（polystyrene）系樹脂、ポリビニルアルコール（polyvinyl alcohol）系樹脂、ポリアリレート（polyarylate）系樹脂、ポリフェニレンスルファイド（polyphenylenesulfide）系樹脂、ポリ塩化ビニリデン（polyvinylidene chloride）系樹脂、メタクリル酸エステル（methacrylic ester）系樹脂が挙げられる。
【００１３】
なお、第１の透光性基材１０としては、トリアセテートセルロース（triacetate cellulose）またはポリカーボネート（polycarbonate）を材料とするとより好ましい。
段階（ａ）において、第１の透光性基材１０の一面１０１に塗布することでマスクパターン２０を形成するための遮光性塗料としては、特に制限はなく、遮断したい波長域の光を吸収あるいは反射できるものであればよい。例としてはベンゾフェノン（benzophenone）やベンゾトリアゾール（benzotriazole）などの紫外線吸収剤を含んだ塗料、または墨、グラファイト、アゾ顔料、フタロシアニン（phthalocyanine）などを有する遮光インクを含んだ塗料が挙げられる。
【００１４】
上記遮光性塗料は例えば印刷により第１の透光性基材１０の一面１０１に塗布することができる。具体的な方法としては、実施時の利便性により選ばれればよいが、スクリーン印刷、凹版印刷、インクジェット印刷を用いることができる。
また、マスクパターン２０の遮光部分における光透過率は、上記遮光性塗料の塗布量により適宜調整することができる。ここでいう光透過率とは、遮断したい波長域の光線がマスクパターン２０の遮光部分を通過する前の光量に対する通過した後の光量のパーセンテージである。光線の遮断が目的なのでマスクパターン２０の遮光部分の光透過率は低ければ低いほどよく、本発明におけるマスクパターン２０としては、光透過率が２０％以下、好ましくは１５％以下、より好ましくは１０％以下となるように形成される。
【００１５】
上記段階（ａ）において、第１の透光性基材１０の他面１０２に形成される光配向性材料層３０には、第１の透光性基材１０の一面１０１においてマスクパターン２０の透光部分に位置対応する第１の領域３０１と、マスクパターン２０の遮光部分に位置対応する第２の領域３０２が画成される（図１参照）。
光配向性材料層３０としては、光を照射されることにより光化学反応が起こる樹脂が用いられる。ここでは主に三種類に分けられる。即ち、光異性化（photo-induced isomerization）型樹脂、光架橋（photo-induced cross-linking）型樹脂、光分解（photo-induced cracking）型樹脂である。これらの内どれを用いるかは特に制限されないが、光架橋型樹脂は特に好ましい。
【００１６】
上記光架橋型樹脂としては、ケイ皮酸エステル誘導体(cinnamate derivatives)、カルコン誘導体 (chalcone derivative)、マレイミド誘導体(maleimide derivatives)、キノリノン誘導体(quinolinone derivatives)、ジフェニルメチレン誘導体(diphenylmethylene derivatives)、クマリン誘導体(coumarin derivatives)からなる群より選ばれるとよい。
光配向性材料層３０を第１の透光性基材１０に形成する方法は、特に制限されないが、実施時の利便性により選ばれればよく、例としてはスピンコーティング(spin coating)法、バーコーティング(bar coating)法、ディップコーティング(dip coating)法、スロットコーティング(slot coating)法、またはスクリーン印刷、凹版印刷などが挙げられる。
【００１７】
（段階（ｂ））
上記の通り、第１の直線偏光紫外線４０１照射時には、マスクパターン２０により遮蔽されていない第１の領域３０１のみが露光されるので、第１の領域３０１のみが第１の配向方向を付与されると共に硬化する。つまり、マスクパターン２０により遮蔽されている第２の領域３０２はこの時点では未だいかなる配向方向も有していないと共に未硬化である。第２の領域３０２は、後に第２の直線偏光紫外線４０２が照射されることで、第２の配向方向が付与されると共に硬化する。また第１の領域３０１は第１の直線偏光紫外線４０１の照射ですでに硬化しているので、後に第２の直線偏光紫外線４０２が照射されても配向方向は変化せず、つまり第１の配向方向を維持する。これにより、第２の直線偏光紫外線４０２の照射後には、光配向層３２は２つの異なる配向方向を具える。
【００１８】
ここで言う直線偏光紫外線とは、単一の直線偏光方向を持ち、偏光面が平面となる偏光紫外線であり、偏光となっていない通常の紫外線を濾過して、一方向の偏光となっている偏向紫外線だけを透過させることにより得られるもので、一般に偏光フィルムや光学格子を用いることにより得ることができる。また、下述する非直線偏光紫外線とは、通常の紫外線光源が放つ光、つまりは円偏光紫外線であり、強度分布が各方向に均一であり、全方向を照射する。
【００１９】
光配向性材料層３０として光架橋型樹脂を用いた場合を例にすると、所定の偏光方向を有する直線偏光紫外線が照射されると、光配向性材料の分子はその影響を受け、該紫外線の偏光方向に沿って再配列されると共に架橋反応により硬化することで、光配向層３２となる。後に続く段階で液晶が光配向層３２に塗布されると、塗布された液晶の分子が光配向層３２のそれぞれの配向方向に沿って配向される。
【００２０】
なお、本実施形態において、以上のように、第１の直線偏光紫外線４０１を先に、第２の直線偏光紫外線４０２を後に照射して光配向性材料層３０に２つの異なる配向方向を具えさせるためには、光配向性材料層３０に対する第１の直線偏光紫外線４０１の積算露光量が、第２の直線偏光紫外線４０２のそれを上回るように照射する必要がある。また、第１の直線偏光紫外線４０１の積算露光量は５００ｍＪ／ｃｍ2以下であると良い。積算露光量をこれ以上に設定すると、比較的長い露光時間が必要となり、例えばこれをロールツーロール（roll-to-roll）製法で行う場合の支障となるばかりでなく、エネルギーが浪費されコストもかさむ。
【００２１】
なお、ここでいう積算露光量とは、光配向性材料層３０が各直線偏光紫外線の一回の照射で露光された露光量の単位面積あたりの時間積分値である。
ここで特記すべきは、光配向性材料層３０の第１の領域３０１と第２の領域３０２は共に第２の直線偏光紫外線４０２に露光されるが、第１の直線偏光紫外線４０１の積算露光量が第２の直線偏光紫外線４０２のそれを上回るので、第１の領域３０１が有する第１の配向方向は、第２の直線偏光紫外線４０２の照射によって変化することがないという点である。
第２の直線偏光紫外線４０２の積算露光量は、実施時の条件（照射設備や光配向性材料の種類など）によって適宜設定されればよく、光配向性材料層３０として光架橋型樹脂を用いた場合は、５ｍＪ／ｃｍ2以上であれば光化学反応を起こさせ配向させることができる。
【００２２】
（段階（ｃ））
光配向層３２に塗布して液晶材料層５０を形成するための液晶材料としては、特に限定されないが、当業者の用い得るいかなる液晶材料を用いてもよく、例としては光架橋型の液晶材料が挙げられる。
また、これを塗布する方法も、実施時の利便性により決められればよく、例としてはスピンコーティング法、バーコーティング法、ディップコーティング法、スロットコーティング法、またはロールツーロールコーティング法などが挙げられる。
また、これを硬化させる方法も、特別な限定はない。例えば光架橋型の液晶材料であれば、非直線偏光紫外線６０（図６参照）を液晶材料層５０に照射することで、これを硬化させることができる。
液晶材料は光配向層３２に塗布されると、光配向層３２の配向方向に誘導され、液晶材料中の液晶分子が該配向方向に沿って配列される。この時、光配向層３２は２つの異なる配向方向、即ち第１と第２の領域で第１と第２の配向方向を有しているので、液晶材料層５０には、それぞれ第１の配向方向に対応して配向された複数の第１のエリア５２１と、それぞれ第２の配向方向に対応して配向された複数の第２のエリア５２２とが形成される。その後例えば円偏光などの非直線偏光紫外線６０を照射することで、液晶材料層５０は硬化し、これにより２つの異なる配向方向を具えた位相差板５２が形成される。
【００２３】
（第２の実施形態）
次に図１、図５および図８〜図１０を参照にして、本発明に係る位相差板の製造方法の第２の実施形態を説明する。第２の実施形態は第１の実施形態と類似して以下の段階（ａ）〜（ｃ）を有している。なお、第１の実施形態との主な差異は、段階（ｂ）において、第１の直線偏光紫外線４０１と第２の直線偏光紫外線４０２の照射の順番が逆になっている点である。
（ａ）第１の透光性基材１０の一面１０１に遮光性塗料を塗布することで、部分的に遮光性を有するマスクパターン２０を形成し、一面１０１の反対面である他面１０２に光配向性材料層３０を形成する（図１参照）。
（ｂ）まず、第１の透光性基材１０の他面１０２側から一面１０１側に向かって、第２の偏光方向を有する第２の直線偏光紫外線４０２を光配向性材料層３０に照射することで（図８参照）、光配向性材料層３０における、第１の領域３０１及び第２の領域３０２全体に第２の配向方向を付与する（図９参照）。
【００２４】
また、その後、第１の透光性基材１０の一面１０１側から他面１０２側に向かって、第２の偏光方向とは異なる第１の偏光方向を有する第１の直線偏光紫外線４０１を、第１の透光性基材１０を透過して光配向性材料層３０に照射することで（図１０参照）、マスクパターン２０により遮蔽されなかった第１の領域３０１の配向方向を、第２の配向方向から第１の配向方向へと変化させる。  一方、マスクパターン２０により遮蔽された第２の領域３０２は、第１の直線偏光紫外線４０１に露光されないので、第２の配向方向を維持する。これにより光配向性材料層３０を、２つの異なる配向方向を具えた光配向層３２とならしめる（図５参照）。
【００２５】
（ｃ）光配向層３２に液晶材料を塗布して液晶材料層５０を形成し、光配向層３２の配向性により液晶材料層５０を配向させ、その後これを硬化させる（図６参照）。これにより、２つの異なる配向方向を具えた位相差板５２を形成する（図７参照）。
第２の実施形態における段階（ａ）および（ｃ）は第１の実施形態と同様なのでここでは詳細を省き、以下では第１の実施形態と異なる点である段階（ｂ）の詳細を説明する。
【００２６】
本実施形態において、以上のように、第２の直線偏光紫外線４０２を先に、第１の直線偏光紫外線４０１を後に照射して光配向性材料層３０に２つの異なる配向方向を具えさせるためには、光配向性材料層３０に対する第１の直線偏光紫外線４０１の積算露光量が、第２の直線偏光紫外線４０２のそれを下回らないように、つまり同量かそれ以上となるように照射する必要がある。また、第１の実施形態と同様に、第１の直線偏光紫外線４０１の積算露光量は５００ｍＪ／ｃｍ2以下であると良い。
【００２７】
ここで特記すべきは、光配向性材料層３０の第１の領域３０１は、まず第２の直線偏光紫外線４０２に露光された際に第２の偏光方向を有するようになるが、その後に第１の直線偏光紫外線４０１に露光されると、第１の直線偏光紫外線４０１が第２の直線偏光紫外線４０２よりも積算露光量にして同量かあるいはそれ以上となるように照射されるので、第１の直線偏光紫外線４０１の影響を受けて配向方向が変化し、第１の配向方向を有するようになるという点である。
【００２８】
なお、本発明に係る位相差板により良好な３Ｄディスプレイ効果を得るために、上記各実施形態では、第１の直線偏光紫外線４０１と第２の直線偏光紫外線４０２とは、互いの偏光方向が垂直になるようにそれぞれ照射されることが好ましい。
本発明にて用いられる第１の透光性基材１０は、上述の通り、透明であり且つ可撓性があるプラスチック材からなるものであるが、このようなプラスチック材は一般に所定方向に引き伸ばされて作られたポリマーからなるもので、複屈折性、つまりは位相差を有している。周知の通り、位相差と複屈折率の間には以下の式（a）が成り立つ。
Ｒｏ＝△ｎ・ｄ      （a）
式（ａ）において、Ｒｏは位相差値を示し、△ｎは異なる軸方向同士の屈折率の差、つまり複屈折率を示し、ｄは基材の厚さを示す。△ｎは、プラスチック材に用いる材質の物性によるもので、用いる材料によって変化する。そこで、プラスチック材の種類と基材の厚さを調整すれば、第１の透光性基材１０の位相差値を調整することができる。
第１の透光性基材１０に用いる材料の位相差値が高すぎると、第１の直線偏光紫外線４０１が第１の透光性基材１０を透過する際にその偏光特性が変わってしまい、光配向性材料に配向方向を付与することができない円偏光や、光配向性材料に配向方向を付与する効果が比較的弱い楕円偏光に変化してしまい、光配向性材料層３０の第１の領域３０１に均一の配向方向を付与することができなくなる。
【００２９】
そこで、上記各実施形態では、第１の透光性基材１０として、位相差値が高すぎないものを用いる。具体的に言うと、第１の透光性基材１０の遅相軸（屈折率が大きい方の軸）の方向と、第１の直線偏光紫外線４０１の第１の偏光方向または第２の直線偏光紫外線４０２の第２の偏光方向とが成す角度（夾角）が、０度または９０度となるように配置する場合、つまり一方が０度、他方が９０度となるように配置する場合、第１の透光性基材１０としては、位相差値が３００ｎｍより小さいものを用いることが好ましい。また、同角度がそれぞれ４５度となるように配置する場合、つまり一方が＋４５度、他方が−４５度となるように配置する場合、第１の透光性基材１０としては、位相差値が１００ｎｍより小さいものを用いることが好ましい。
【００３０】
（第３の実施形態）
次に、本発明に係る位相差板の製造方法の第３の実施形態を説明する。第３の実施形態では、上記第１または第２の実施形態での段階（ｃ）に続いて、第１の透光性基材１０の一面１０１に形成されているマスクパターン２０を除去する段階を更に有している。
マスクパターン２０を除去する方法は特に限定されないが、例として溶剤により溶解する方法や、機械的に削り取る方法が挙げられる。
【００３１】
（第４の実施形態）
次に、本発明に係る位相差板の製造方法の第４の実施形態を説明する。第４の実施形態では、上記第１または第２の実施形態での段階（ｃ）に続いて、第２の透光性基材８０を、位相差板５２に貼着させる段階を更に有している。
【００３２】
なお、第２の透光性基材８０として用いる材料の好ましい例としては、第１の透光性基材１０と同様に、ポリエステル(polyester)系樹脂、アセテート（acetate）系樹脂、ポリエーテルスルホン（polyethersulfone）系樹脂、ポリカーボネート（polycarbonate）系樹脂、ポリアミド（polyamide）系樹脂、ポリイミド（polyimide）系樹脂、ポリオレフィン（polyolefin）系樹脂、アクリル（acrylic）系樹脂、ポリ塩化ビニル（polyvinyl chloride）系樹脂、ポリスチレン（polystyrene）系樹脂、ポリビニルアルコール（polyvinyl alcohol）系樹脂、ポリアリレート（polyarylate）系樹脂、ポリフェニレンスルファイド（polyphenylenesulfide）系樹脂、ポリ塩化ビニリデン（polyvinylidene chloride）系樹脂、メタクリル酸エステル（methacrylic ester）系樹脂が挙げられる。
【００３３】
<位相差板積層体の製造>
以下は、図１１〜図１３を参照に、本発明に係る位相差板を含んでなる位相差板積層体の製造方法を説明する。
該製造方法は、上記位相差板の製造方法により製造された位相差板５２（図７参照）に、一面に感圧接着層７０が設けられた第２の透光性基材８０を、位相差板５２の表面５２４と感圧接着層７０の表面７０２とを密着させるように貼着させる段階と（図１１、図１２参照）、それらを充分に貼着させた後に、第２の透光性基材８０と位相差板５２とを含んだ位相差板積層体９０と、第１の透光性基材１０と光配向層３２とを含んだ透光性基材積層体１００とが分かれて形成されるように、位相差板５２を光配向層３２から剥離させる段階を含んでいる。
【００３４】
感圧接着層７０の材料としては、特に限定されないが、アクリル（acrylic）、ウレタン（urethane）、ポリイソブチレン（polyisobutylene）、ゴム（例えばスチレンブタジエンゴム）、ポリビニルエーテル（polyvinyl ether）、エポキシ樹脂（epoxy resin）、メラミン樹脂（melamine resin）、ポリエステル（polyester）、フェノール樹脂（phenolic resin）、シリコーン（silicone）またはこれらの混合物からなる感圧接着剤を用いることができる。
感圧接着層７０を第２の透光性基材８０の一面に設ける方法は、実施時の利便性により選ばれればよく、例としてはスピンコーティング法、バーコーティング法、スロットコーティング法などが挙げられる。
【実施例】
【００３５】
[実施例及び比較例]
以下には、具体的な実施例を示して、本発明の実施方法を更に詳しく説明する。また、各比較例も示して、本発明の実施方法による効果を比較説明する。なお、以下の実施例は説明に更なる具体性を供すために示すものであり、本発明を限定する意図を示すものではない。なお、以下の各実施例および各比較例においては、第１と第２の直線偏光紫外線の光源として非平行光源を用いた。
1.   光配向性材料層を形成する塗布液の作製（各実施例及び比較例共通）
（１）   メチルエチルケトン（methylethylketone）とシクロペンタノン（cyclopentanone）とを１：１の重量比率で混合し、混合溶剤３．５ｇを得た。
（２）   光架橋型の樹脂（スイスＲｏｌｉｃ社製、型番：ＲＯＰ１０３、ケイ皮酸エステル系樹脂、固形分１０％）０．５ｇを該混合溶剤に加えて、固形分が１．２５％となる光配向性材料塗布液を得た。
2.   液晶材料層を形成する液晶塗布液の作製（各実施例及び比較例共通）
3.   液晶材料（ドイツＢＡＳＦ社製、型番：ＬＣ２４２）１ｇをシクロペンタノン４ｇに分散させ、固形分２０％の液晶塗布液を得た。
4.   位相差板の作製
5.   Ａ.第１の透光性基材の位相差値が異なる場合
【００３６】
<第１の直線偏光紫外線を先に照射した例>
（実施例Ａ１）
実施例Ａ１における位相差板の製造方法は以下の段階を含んでいる。
（ａ１）マスクパターン形成段階：
粘結剤（熱硬化性樹脂、型番：medium）と溶剤（トルエン）を１：１の重量比率で混合し、１０ｇの混合液を得た。
続いて、この混合液に、紫外線吸収剤（台湾Ｅｖｅｒｌｉｇｈｔ Ｃｈｅｍｉｃａｌ社製、型番：Ｅｖｅｒｓｏｒｂ５１）を、重量比率が１：５０（即ち、紫外線吸収剤と粘結剤が１：２５）となるように混合した。
次に、該混合液を、凹版印刷法によって、ポリカーボネート基材（第１の透光性基材、厚さ６０μｍ、複屈折率（△ｎ）２．１７×１０-4、位相差値１３ｎｍ）の一面に、所定のパターンが形成されると共に厚さが約１μｍとなるよう塗布した。
その後、該基材をオーブンに入れ、６０℃、３０秒間の条件で加熱し、マスクパターンが形成された基材を得た。なお、該マスクパターンの遮光部分の光透過率は１０％であった。
【００３７】
（ａ２）光配向性材料層形成段階：
上記光配向性材料塗布液４ｇを、スピンコーティング法（３０００ｒｐｍ、４０秒間）にて、段階（ａ１）を経た第１の透光性基材の該一面の反対面である他面に平坦に塗布した。
続いて、該基材をオーブンに入れ、１００℃、２分間の条件で加熱し、該塗布液中の溶剤（メチルエチルケトン及びシクロペンタノン）を除去した後に、室温に冷ますことで光配向性材料層を形成した。
（ｂ１）一回目の露光段階（第１の直線偏光紫外線）：
偏光方向の角度が第１の透光性基材の遅相軸に対して０°となる第１の直線偏光紫外線を、第１の透光性基材の上記一面側から他面側に向かって、第１の透光性基材を透過して光配向性材料層に照射した（積算露光量１８０ｍＪ／ｃｍ2、図２参照）。これにより、光配向性材料層における、マスクパターンにより遮蔽されなかった第１の領域が第１の配向方向を具えたと共に硬化した一方、マスクパターンにより遮蔽されていた第２の領域は配向されず硬化もしていない（図３参照）。
【００３８】
（ｂ２）二回目の露光段階（第２の直線偏光紫外線）：
偏光方向の角度が第１の透光性基材の遅相軸に対して９０°となる第２の直線偏光紫外線を、第１の透光性基材の上記他面側から一面側に向かって、光配向性材料層に照射した（積算露光量９０ｍＪ／ｃｍ2）。これにより、光配向性材料層の第２の領域が、第１の領域の第１の配向方向と直交する第２の配向方向を具えたと共に硬化した。よって、光配向性材料層を、２つの異なる配向方向を具えた光配向層とならしめた。
【００３９】
（ｃ１）液晶材料層の形成段階：
上記液晶塗布液５ｇを、スピンコーティング法（３０００ｒｐｍ、４０秒間）にて、光配向層の表面に塗布した。
続いて、該基材をオーブンに入れ、６０℃、５分間の条件で加熱し、該塗布液中の溶剤（シクロペンタノン）を除去した後に、室温に冷ますことで液晶材料層を形成した。
（ｃ２）位相差板の形成段階：
液晶材料層に非直線偏光紫外線を照射して（積算露光量１２０ｍＪ／ｃｍ2）、液晶材料層を硬化させることで位相差板とならしめた。この際、位相差板においては、光配向層の第１の領域に対応して第１の配向方向を具えた第１のエリア（図１６における５２１）と、第２の領域に対応して第２の配向方向を具えた第２のエリア（図１６における５２２）とが形成された。
実施例Ａ１にて得られた位相差板を、偏光顕微鏡で観察した結果、均一で良好な配向結果が得られていたことが観察された（図１６参照）。
【００４０】
（実施例Ａ２）
実施例Ａ２では、第１の透光性基材として、複屈折率（△ｎ）４．５０×１０-3、位相差値２７０ｎｍとなるものを用いた。その他は実施例Ａ１と同じである。
【００４１】
（実施例Ａ３）
実施例Ａ３では、第１の透光性基材として、複屈折率（△ｎ）１．３３×１０-3、位相差値８０ｎｍとなるものを用いた。その他は実施例Ａ１と同じである。
【００４２】
（実施例Ａ４）
実施例Ａ４では、第１と第２の直線偏光紫外線の偏光方向の角度が第１の透光性基材の遅相軸に対してそれぞれ＋４５°、−４５°となるように露光した。その他は実施例Ａ３と同じである。
【００４３】
（比較例Ａ１´）
比較例Ａ１´では、第１の透光性基材として、複屈折率（△ｎ）５．００×１０-3、位相差値３００ｎｍとなるものを用いた。その他は実施例Ａ１と同じである。
【００４４】
（比較例Ａ２´）
比較例Ａ２´では、第１の透光性基材として、複屈折率（△ｎ）１．６７×１０-3、位相差値１００ｎｍとなるものを用いた。その他は実施例Ａ４と同じである。
<第２の直線偏光紫外線を先に照射した例>
【００４５】
（実施例Ａ５）
実施例Ａ５では、段階（ｂ１）と（ｂ２）が以下のように実施例Ａ１と異なり、第２の直線偏光紫外線を先に、第１の直線偏光紫外線を後に照射した。その他は実施例Ａ１と同じである。
（ｂ１）一回目の露光段階（第２の直線偏光紫外線）：
偏光方向の角度が第１の透光性基材の遅相軸に対して９０°となる第２の直線偏光紫外線を、第１の透光性基材の上記他面側から一面側に向かって、光配向性材料層に照射した（積算露光量９０ｍＪ／ｃｍ2、図８参照）。これにより、光配向性材料層における、第１と第２の領域（つまり全体）が第２の配向方向を具えた（図９参照）。
（ｂ２）二回目の露光段階（第１の直線偏光紫外線）：
偏光方向の角度が第１の透光性基材の遅相軸に対して０°となる第１の直線偏光紫外線を、第１の透光性基材の上記一面側から他面側に向かって、第１の透光性基材を透過して光配向性材料層に照射した（積算露光量９０ｍＪ／ｃｍ2、図１０参照）。これにより、光配向性材料層における、マスクパターンにより遮蔽されなかった第１の領域が第２の配向方向から第１の配向方向に変化した一方、マスクパターンにより遮蔽されていた第２の領域は第２の配向方向を維持した。
【００４６】
（実施例Ａ６）
実施例Ａ６では、第１の透光性基材として、複屈折率（△ｎ）４．５０×１０-3、位相差値２７０ｎｍとなるものを用いた。その他は実施例Ａ５と同じである。
【００４７】
（実施例Ａ７）
実施例Ａ４では、第１と第２の直線偏光紫外線の偏光方向の角度が第１の透光性基材の遅相軸に対してそれぞれ＋４５°、−４５°となるように露光した。その他は実施例Ａ６と同じである。
【００４８】
（比較例Ａ３´）
比較例Ａ３´では、第１の透光性基材として、複屈折率（△ｎ）５．００×１０-3、位相差値３００ｎｍとなるものを用いた。その他は実施例Ａ５と同じである。
【００４９】
（比較例Ａ４´）
比較例Ａ４´では、第１の透光性基材として、複屈折率（△ｎ）１．６７×１０-3、位相差値１００ｎｍとなるものを用いた。その他は実施例Ａ８と同じである。
各実施例Ａ１〜Ａ８及び比較例Ａ１´〜Ａ４´で作製された位相差板に対して、位相差測定装置（王子計測機器株式会社製、商品名：ＫＯＢＲＡ−ＣＣＤ）を用いて各位相差板の第１のエリア及び第２のエリアの液晶配向方向を測定した結果、以下の表１の通りとなった。
【００５０】
【表１】
2014006493.tif 000003
【００５１】
表１から読み取れるように、実施例Ａ１〜Ａ４では、光配向性材料層の第１の領域において、段階（ｂ１）つまり一回目の露光段階で第１の直線偏光紫外線の照射により付与された第１の配向方向が、段階（ｂ２）つまり二回目の露光段階で第２の直線偏光紫外線を照射されても変化しなかった結果、図５に示したように、２つの配向方向を具えた配向層が形成された。また、その後の段階（ｃ２）を経て得られた位相差板は２つの配向方向を具えていた。
一方、比較例Ａ１´では、第１の直線偏光紫外線の偏光方向の角度が第１の透光性基材の遅相軸に対して０°となる条件において、第１の透光性基材として位相差値が３００ｎｍとなるものを用いたので、位相差値が高すぎることにより、段階（ｂ１）で第１の直線偏光紫外線が第１の透光性基材を透過した際に、その振動状態が変化して円偏光になってしまう。円偏光では光配向性材料を硬化できるのみで配向はできない。つまり露光された第１の領域は硬化するだけで配向方向は付与されなかった。一方マスクパターンにより遮蔽されていた第２の領域は一回目の露光段階では未硬化なので、図１４に示したように光配向性材料層は間隔をおいて部分的に硬化した。続く段階（ｂ２）では、第２の直線偏光紫外線の照射により第２の領域が第２の配向方向を具えると共に硬化した。この際、第１の領域は、前の段階（ｂ１）ですでに完全に硬化しており、第２の直線偏光紫外線の影響を受けず、やはり何れの配向方向も有さなかったので、図１５に示したように、光配向層においては第２の領域のみに配向方向が付与された。これにより、段階（ｃ２）を経て得られた位相差板も単一の配向方向だけを具えていた。
【００５２】
同様に、比較例Ａ２´では、第１の直線偏光紫外線の偏光方向の角度が第１の透光性基材の遅相軸に対して＋４５°となる条件において、第１の透光性基材として位相差値が１００ｎｍとなるものを用いたので、位相差値が高すぎることにより、第１の直線偏光紫外線に露光された第１の領域は、硬化するだけで配向方向は付与されなかった。これにより、段階（ｃ２）を経て得られた位相差板も単一の配向方向だけを具えていた。
また、実施例Ａ５〜Ａ８では、二回目の露光段階（ｂ２）での第１の直線偏光紫外線の積算露光量が、一回目の露光段階（ｂ１）での第２の直線偏光紫外線の積算露光量を下回らないように照射されたので（第１と第２の直線偏光紫外線の積算露光量ともに９０ｍＪ／ｃｍ2）、段階（ｂ１）にて光配向性材料層の第１と第２の領域全体が単一の配向方向（第２の配向方向）を付与された後に、段階（ｂ２）にてそのうち第１の領域だけを第１の配向方向へと変化させることができた。その結果、実施例Ａ１〜Ａ４と同様に、図５に示したように、２つの配向方向を具えた配向層が形成され、また、その後の段階（ｃ２）を経て得られた位相差板は２つの配向方向を具えていた。
一方、比較例Ａ３´では、第２の直線偏光紫外線の偏光方向の角度が第１の透光性基材の遅相軸に対して９０°となる条件において、第１の透光性基材として位相差値が３００ｎｍとなるものを用いたので、位相差値が高すぎることにより、比較例Ａ１´及びＡ２´と同じく、段階（ｃ２）を経て得られた位相差板は単一の配向方向だけを具えていた。
同様に、比較例Ａ４´では、第２の直線偏光紫外線の偏光方向の角度が第１の透光性基材の遅相軸に対して−４５°となる条件において、第１の透光性基材として位相差値が１００ｎｍとなるものを用いたので、位相差値が高すぎることにより、段階（ｃ２）を経て得られた位相差板は単一の配向方向だけを具えていた。
【００５３】
以上の結果から以下の事が帰結される。
まず比較例Ａ１´及びＡ３´並びに実施例Ａ２及びＡ６の結果から、第１の透光性基材としては、位相差値が３００ｎｍより小さいものを用いることが好ましいことがわかる。
また、第１または第２の直線偏光紫外線のうち一回目に照射される方の偏光方向と第１の透光性基材の遅相軸の方向とがなす角度が±４５°となる場合には、第１の透光性基材としては、位相差値が３００ｎｍより小さいものでも直線偏光紫外線の偏光状態が変わってしまう。そこで、比較例Ａ２´及びＡ４´並びに実施例Ａ４及びＡ８の結果からわかる通り、第１または第２の直線偏光紫外線の偏光方向と第１の透光性基材の遅相軸方向とが成す角度が４５°となる場合には、第１の透光性基材としては、位相差値が１００ｎｍより小さいものを用いることが好ましい。
【００５４】
また、二回目の露光段階（ｂ２）で照射する直線偏光紫外線の積算露光量が、一回目の露光段階（ｂ１）で照射する直線偏光紫外線の積算露光量を下回らないように露光すれば、実施例Ａ５〜Ａ８のように、一回目の露光段階で付与された配向方向を二回目の露光段階で変化させることができる。ただ、二回目の露光段階での積算露光量も、エネルギーの浪費とならない範囲に収めるべきであることは言うまでもなく、よって上記各実施例では、一回目と二回目の露光段階での積算露光量が同量となるように露光した。
Ｂ.マスクパターンの光透過率が異なる場合
【００５５】
（実施例Ｂ１）
実施例Ｂ１での位相差板の製造方法は実施例Ａ１とほぼ相同するが、マスクパターン形成段階（ａ１）だけが異なり、ここでは、マスクパターンの遮光部分における光透過率を実施例Ａ１より高めるために、上記紫外線吸収剤の混合液における重量比率が１：７５（即ち、紫外線吸収剤と粘結剤が１：３７．５）となるように混合した。
【００５６】
（実施例Ｂ２）
実施例Ｂ２での位相差板の製造方法は実施例Ｂ１とほぼ相同するが、ここでは、マスクパターンの遮光部分における光透過率を実施例Ｂ１より高めるために、上記紫外線吸収剤の混合液における重量比率が１：１００（即ち、紫外線吸収剤と粘結剤が１：５０）となるように混合した。
【００５７】
（実施例Ｂ３）
実施例Ｂ３での位相差板の製造方法は実施例Ｂ１とほぼ相同するが、ここでは、マスクパターンの形成に紫外線吸収剤混合液を用いず、代わりに、マスクパターンの遮光部分における光透過率を０％とするために、金属クロムを第１の透光性基材の一面にスパッタリングしてから、所定のパターンが形成されるようにレーザーエッチングにより金属クロム層を部分的に除去した。
以下表２に、実施例Ａ１、Ｂ１〜Ｂ３での各マスクパターンの光透過率と、これら実施例で形成された位相差板の配向結果を示す。
【００５８】
【表２】
2014006493.tif 000004
【００５９】
表２から読み取れるように、マスクパターンの遮光部分は完全に光を遮断するものでなくても、位相差板における２つの配向方向の形成に影響を及ぼさない。
Ｂ´. 硬質のパターンマスクを用いた場合の比較例
以下に、上記各実施例のように紫外線吸収剤混合液を塗布することにより直接第１の透光性基材の一面にマスクパターンを形成するのではなく、代わりに遮光手段として第１の透光性基材とは別に設けられた硬質のパターンマスクを用いた場合を比較例として示す。なお、本比較例では上記各実施例と同様に、第１と第２の直線偏光紫外線の光源として非平行光源を用いている点に留意されたい。
【００６０】
（比較例Ｂ１´）
比較例Ｂ１´での位相差板の製造方法は、実施例Ａ５に類似するが、その内のマスクパターン形成段階（ａ１）が省かれており、その代わりとして、ガラス板の一面に金属クロムをスパッタリングした後に、遮光部分と透光部分が所定のパターンを形成するようにレーザーエッチングにより金属クロム層を部分的に除去したものをフォトマスクとして、以下に示すように一回目の露光段階（ｂ１）と二回目の露光段階（ｂ２）を行った。これ以外の、後に続く（ｃ１）液晶材料層の形成段階及び（ｃ２）位相差板の形成段階は上記各実施例と同じである。
【００６１】
（ｂ１）一回目の露光段階（第２の直線偏光紫外線）：
第１の透光性基材に設けられている光配向性材料層の上に、光配向性材料層との間隔が２００μｍとなるようにスペーサーを挟んで上記フォトマスクを配置した。なお、このように間隔を設けたのはフォトマスクが光配向性材料層に接触して影響を与えないようにするためである。続いて、偏光方向の角度が第１の透光性基材の遅相軸に対して９０°となる第２の直線偏光紫外線を、フォトマスクを透して、光配向性材料層に照射した（積算露光量１８０ｍＪ／ｃｍ2）。これにより、光配向性材料層における、フォトマスクの透光部分に位置対応する第１の領域が露光され第２の配向方向を具えた。
（ｂ２）二回目の露光段階（第１の直線偏光紫外線）：
偏光方向の角度が第１の透光性基材の遅相軸に対して０°となる第１の直線偏光紫外線を、フォトマスクが設けられていない側から、第１の透光性基材を透過して光配向性材料層に照射した（積算露光量９０ｍＪ／ｃｍ2）。これにより、光配向性材料層における、（ｂ１）にてフォトマスクに遮蔽されていた第２の領域が露光され第１の配向方向を具えた。その後、フォトマスク及びスペーサーを第１の透光性基材から除去した。
【００６２】
（比較例Ｂ２´）
比較例Ｂ２´は各露光段階（ｂ１）（ｂ２）が以下のように異なる以外は、比較例Ｂ１´と同様である。
（ｂ１）一回目の露光段階（第１の直線偏光紫外線）：
偏光方向の角度が第１の透光性基材の遅相軸に対して０°となる第１の直線偏光紫外線を、第１の透光性基材を透過するように光配向性材料層に照射した（積算露光量９０ｍＪ／ｃｍ2）。これにより、光配向性材料層の全体（第１と第２の領域）が第１の配向方向を具えた。
（ｂ２）二回目の露光段階（第２の直線偏光紫外線）：
光配向性材料層の上に、光配向性材料層との間隔が２００μｍとなるようにスペーサーを挟んで上記フォトマスクを配置した。続いて、偏光方向の角度が第１の透光性基材の遅相軸に対して９０°となる第２の直線偏光紫外線を、フォトマスクを透して、光配向性材料層に照射した（積算露光量９０ｍＪ／ｃｍ2）。これにより、光配向性材料層において、フォトマスクの透光部分に位置対応する第１の領域が露光され、第１の領域の配向方向が、第１の配向方向から第２の配向方向に変化した。その後、フォトマスク及びスペーサーを第１の透光性基材から除去した。
【００６３】
図１７は比較例Ｂ１´にて得られた位相差板の配向結果を観察した偏光顕微鏡図であり、図１８は比較例Ｂ２´にて得られた位相差板の配向結果を観察した偏光顕微鏡図である。
図示から見て取れるように、比較例Ｂ１´、Ｂ２´で得られた位相差板の配向結果は良好ではなく、特に位相差板における第２のエリア５２２の液晶配向方向が不均一であり、第２のエリア５２２の配向方向は前述の位相差測定装置では測定不能となった。また第１のエリア５２１と第２のエリア５２２との境界も実施例Ａ１でのもの（図１６）と比べて不鮮明であった。
このような結果は、（ｂ１）（ｂ２）での各露光段階における第１と第２の直線偏光紫外線として、設備が比較的廉価ですむ非平行光源を用いて、光配向性材料層との間に間隔を有するフォトマスクを通して光配向性材料層を露光したことにより、フォトマスクと光配向性材料層の間で第２の直線偏光紫外線が拡散してしまい、遮蔽されるべき領域（第２の領域）の一部も露光してしまったこと、及び、拡散により直線偏光紫外線の偏光方向が変化してしまったことに起因する。
【００６４】
1.   位相差板積層体の作製
<第１の直線偏光紫外線を先に照射した例>
（実施例Ｃ１）
位相差板積層体の作製に係る実施例Ｃ１は、上記した位相差板の作製実施例Ａ１と類似するが、マスクパターン形成段階（ａ１）が以下のように実施例Ａ１と異なり、且つ位相差板の形成段階（ｃ２）の後に、更に以下に示す第２の透光性基材貼着段階（ｄ１）と位相差板剥離段階（ｄ２）とを有している。
（ａ１）マスクパターン形成段階：
遮光インクとして、ブラックインク（台湾、台箔科技社製）１ｇを、凹版印刷法によって、ポリカーボネート基材（第１の透光性基材、厚さ６０μｍ、複屈折率（△ｎ）２．１７×１０-4、位相差値１３ｎｍ）の一面に、所定のパターンが形成されると共に厚さが約２μｍとなるよう塗布した。
その後、該基材をオーブンに入れ、６０℃、３０秒間の条件で加熱し、マスクパターンが形成された基材を得た。なお、該マスクパターンの遮光部分の光透過率は１％未満であった。
【００６５】
（ｄ１）第２の透光性基材貼着段階：
アクリル系感圧接着剤塗布液１０ｇ（固形分４０％）をバーコーティング法によりトリアセテートセルロース基材（第２の透光性基材８０）に塗布した。続いて、該基材をオーブンに入れ、１００℃、２分間の条件で加熱し、該塗布液中の溶剤を除去した後に、室温に冷ますことで感圧接着層を形成した。該感圧接着層は、乾燥被覆厚さが２０μｍ、ガラスに対する剥離強度が２００ｇｆ／２５ｍｍであった。
このように一面に感圧接着層を設けたトリアセテートセルロース基材（第２の透光性基材）を、位相差板の形成段階（ｃ２）で得られた位相差板の表面に、該感圧接着層を間に挟むように充分に密着させた。
（ｄ２）位相差板の剥離段階：
その後、第２の透光性基材を、第１の透光性基材側に設けられていた位相差板ごと、第１の透光性基材から剥離することで、第２の透光性基材と位相差板とが積層されてなった位相差板積層体と、第１の透光性基材と光配向層が積層されてなった透光性基材積層体とがそれぞれ形成された。
【００６６】
（実施例Ｃ２）
位相差板積層体の作製に係る実施例Ｃ２は、上記した位相差板の作製実施例Ａ２と類似するが、位相差板の形成段階（ｃ２）の後に、更に実施例Ｃ１と同様に第２の透光性基材貼着段階（ｄ１）と位相差板剥離段階（ｄ２）とを有している。
<第２の直線偏光紫外線を先に照射した例>
【００６７】
（実施例Ｃ３）
位相差板積層体の作製に係る実施例Ｃ３は、上記した位相差板の作製実施例Ａ５と類似するが、位相差板の形成段階（ｃ２）の後に、更に実施例Ｃ１と同様に第２の透光性基材貼着段階（ｄ１）と位相差板剥離段階（ｄ２）とを有している。
1.   マスクパターンの除去
【００６８】
（実施例Ｄ１〜Ｄ８）
実施例Ｄ１〜Ｄ８は、それぞれ実施例Ａ１〜Ａ８と対応するが、位相差板の形成段階（ｃ２）の後に、トルエンが塗布されたクリーニングローラーにより、第１の透光性基材に設けられているマスクパターンを拭き取って除去する段階を更に有している。
以上、総括すると、本発明に係る位相差板の製造方法によれば、第１の透光性基材１０の一面１０１に塗布でマスクパターン２０を形成するので、別にガラスなどからなるフォトマスクを用意する必要がないだけでなく、マスクパターン２０と第１の透光性基材１０との間には間隔がないので、照射される直線偏光紫外線の拡散が防がれる。またマスクパターンが設けられる第１の透光性基材１０は可撓性がある材料からなっている上に、上述のように別にフォトマスクが必要ないので、本発明に係る製造方法は例えばロールツーロール工程にも応用できる。更に、直線偏光紫外線の光源として平行光源の使用が必須である従来の製造方法のような光源の制限がなく、非平行光源を用いても２つの配向方向を具えた良質の位相差板が製造できるので、製造コストを大幅に抑えることができる。また、本発明に係る製造方法によれば位相差板積層体をも製造できるので、例えば薄型化が求められる３Ｄディスプレイに応用することができる。
以上、本発明の好ましい実施形態を説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能であることはいうまでもない。
【産業上の利用可能性】
【００６９】
本発明にかかる位相差板の製造方法によれば、簡易な工程でコストが抑えられた位相差板が製造できるので例えば３Ｄ立体映像を表示するディスプレイの製造に有用である。
【符号の説明】
【００７０】
１０    第１の透光性基材
１０１    一面
１０２    他面
２０    マスクパターン
３０    光配向性材料層
３０１    第１の領域
３０２    第２の領域
３２    光配向層
４０１    第１の直線偏光紫外線
４０２    第２の直線偏光紫外線
５０    液晶材料層
５２    位相差板
５２１    第１のエリア
５２２    第２のエリア
５２４    表面
６０    非直線偏光紫外線
７０    感圧接着層
７０２    表面
８０    第２の透光性基材
９０    位相差板積層体
１００    透光性基材積層体
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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