(57)【要約】【課題】ＣＦ基板製造時やトラブル発生時などにおける柱状スペーサ種類の判別作業の時間を短縮して、製造コストを低減できる液晶表示装置を提供する。【解決手段】互いに対向して配置された第１および第２の基板と、第１の基板の第２の基板に対向する側の主面上に配置され、第１の基板と第２の基板との間のギャップを保持する第１の柱状スペーサと、該第１の柱状スペーサよりも短い第２の柱状スペーサと、第１および第２の基板間に挟持された液晶とを備え、第１の基板は、第１および第２の柱状スペーサのうち一方に関連付けて設けられ、第１および第２の柱状スペーサを識別する識別目印を有している。【選択図】図１
2014240853.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
映像を表示する液晶パネルを備えた液晶表示装置であって、
前記液晶パネルは、
互いに対向して配置された第１および第２の基板と、
前記第１の基板の前記第２の基板に対向する側の主面上に配置され、前記第１の基板と前記第２の基板との間のギャップを保持する第１の柱状スペーサと、該第１の柱状スペーサよりも短い第２の柱状スペーサと、
前記第１および第２の基板間に挟持された液晶と、を備え、
前記第１の基板は、
前記第１および第２の柱状スペーサのうち一方に関連付けて設けられ、前記第１および第２の柱状スペーサを識別する識別目印を有する、液晶表示装置。
【請求項２】
前記識別目印は、
前記第１および第２の柱状スペーサの一方が配置される画素、あるいは前記画素に隣接する画素に含まれる膜パターンの形状を、他の画素とは異なる形状とすることで設けられる、請求項１記載の液晶表示装置。
【請求項３】
映像を表示する液晶パネルを備えた液晶表示装置であって、
前記液晶パネルは、
互いに対向して配置された第１および第２の基板と、
前記第１の基板の前記第２の基板に対向する側の主面上に配置され、前記第１の基板と前記第２の基板との間のギャップを保持する第１の柱状スペーサと、該第１の柱状スペーサよりも短い第２の柱状スペーサと、
前記第１および第２の基板間に挟持された液晶と、を備え、
前記第１の基板は、
前記第１および第２の柱状スペーサの組み合わせが繰り返す画素の繰り返し単位ごとに、前記繰り返し単位の区切り位置を識別する識別目印を有する、液晶表示装置。
【請求項４】
前記識別目印は、
前記繰り返し単位の領域内の少なくとも一つの画素に含まれる膜パターンの形状を、他の画素とは異なる形状とすることで設けられる、請求項３記載の液晶表示装置。
【請求項５】
前記液晶パネルは、
前記液晶を配向させる配向膜を備え、
前記識別目印は、
前記配向膜にラビング処理を行う際のラビンク方向に対して前記第１または第２の柱状スペーサの下流側近傍となる位置に設けられる、請求項１〜４の何れか１項に記載の液晶表示装置。
【請求項６】
前記第１の基板は、
前記第２の基板に対向する側の前記主面上に配置され、マトリクス状に配置された複数の開口部を除いた領域に遮光領域を形成するブラックマトリクスを有し、
前記識別目印は、
前記遮光領域に重なって形成される、請求項１〜４の何れか１項に記載の液晶表示装置。
【請求項７】
前記第１の基板は、
前記第２の基板に対向する側の前記主面上に配置され、マトリクス状に配置された複数の開口部を除いた領域に遮光領域を形成するブラックマトリクスを有し、
前記識別目印は、
前記ブラックマトリクスの前記複数の開口部のうち、前記第１および第２の柱状スペーサの一方が配置される画素、あるいは前記画素に隣接する画素に含まれる１つの開口部の形状を、他の画素とは異なる形状とすることで設けられる、請求項１〜４の何れか１項に記載の液晶表示装置。
【請求項８】
前記第１の基板は、
前記第２の基板に対向する側の前記主面上に配置され、マトリクス状に配置された複数の開口部を除いた領域に遮光領域を形成するブラックマトリクスを有し、
前記識別目印は、
前記ブラックマトリクスの前記複数の開口部のうち、前記第１および第２の柱状スペーサの一方が配置される画素、あるいは前記画素に隣接する画素に含まれる１つの開口部の位置を、他の画素に対してずらすことで設けられる、請求項１〜４の何れか１項に記載の液晶表示装置。
【請求項９】
映像を表示する液晶パネルを備えた液晶表示装置であって、
前記液晶パネルは、
互いに対向して配置された第１および第２の基板と、
前記第１の基板の前記第２の基板に対向する側の主面上に配置され、前記第１の基板と前記第２の基板との間のギャップを保持する第１の柱状スペーサと、該第１の柱状スペーサよりも短い第２の柱状スペーサと、
前記第１および第２の基板間に挟持された液晶と、を備え、
前記第１および第２の柱状スペーサは、
それぞれ前記第１の基板上の特定の同じ色の色材パターンの設けられる異なる画素の画素領域内に配置され、
前記第１の柱状スペーサと、前記第２の柱状スペーサとで、それぞれが配置される前記異なる画素の画素領域内での配置位置が異なる、液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は液晶表示装置に関し、特に、少なくとも２種類の高さの異なる柱状スペーサを備えた液晶表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
一般的な液晶表示装置は、互いに対向する一対の基板間がスペーサによって一定に保持されており、その基板間には液晶が満たされている。一方の基板は格子状にソース配線とゲート配線とが交差配置され、その交差部に薄膜トランジスタを配置したアクティブマトリクス基板(ＴＦＴ基板)である。
【０００３】
他方の基板はカラーフィルタ(ＣＦ)が配置されたフィルタ基板であり、ブラックマトリクス(以下ＢＭ)で画素部が規定されており、画素部にＲ（赤）、Ｇ（緑）およびＢ（青）のカラーフィルタが形成されている。
【０００４】
対向配置された２枚の基板間隔は「セルギャップ」と呼称され、セルギャップを保持する方法として、粒子径が数μｍ程度の粒子状の球状スペーサの散布や基板に柱状の突起を形成して得られる柱状スペーサ （ＰＳ）の配置が挙げられる。
【０００５】
液晶表示装置のコントラストの向上や製造工程数を削減できるという利点から、ＰＳを使用した構成が多く用いられている。
【０００６】
ところがＰＳの高さを１種類とするシングルＰＳ構造では、２枚の基板を押圧する方向の力に対する強度（面押し強度）を高くするような密度にＰＳを配置すると、液晶表示装置が低温に置かれた場合に低温発泡が発生しやすくなる。
【０００７】
すなわち、液晶表示装置が低温に置かれた場合、液晶表示装置を構成する部材は全て収縮しようとするが、液晶表示装置を構成する部材の中では液晶材料の収縮率が最も大きいため、セルギャップが狭くなる方向に収縮する。しかし、面押し強度が高いため、ＰＳの変形がギャップの狭まりに追従できず、液晶表示装置の液晶セル内部の圧力が低くなって、液晶セル内に真空気泡（低温発泡）が発生しやすくなる。
【０００８】
逆に低温発泡が起こらないような密度でＰＳを配置すると、面押し強度が不十分になる可能性がある。
【０００９】
そこで、面押し強度の向上と低温発泡に対するマージンアップとして、例えば特許文献１および２に、少なくとも２種類の高さの異なるＰＳを用いるデュアルＰＳ構造が提案されている。
【００１０】
デュアルＰＳ構造では、例えば、２種類の高さの異なるＰＳを用いる場合、高い方をメインＰＳとし、低い方をサブＰＳとし、メインＰＳには、常に両方の基板に当接して、セルギャップ（基板間距離）を適正（所定値）に保持する役割を持たせる。一方、サブＰＳには、平常時（常温時や特にパネル表面に特別な外圧などが印加されない状態）においては、一方の基板には当接しない状態（浮いた状態）とし、パネル表面に外圧などが印加された場合（面押し状態）、あるいは温度変化により液晶セル内が負圧となった場合など、セルギャップが所定値よりも狭くなった場合においてのみ、両方の基板に当接して、セルギャップを保持する役割を持たせる。
【００１１】
このようなデュアルＰＳ構造には、ＰＳの下層の色材の有無で高さを変えるタイプ（特許文献１参照）や、ＰＳ高さの設計が自由に行えるように同じＰＳ材料を用いて、高さのみを変えるタイプ（特許文献２参照）がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１２】
【特許文献１】特開２００５−１２２１５０号公報
【特許文献２】特開２００２−３４１３５４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１３】
以上説明した、同じＰＳ材料を用いて高さのみを変えるタイプのデュアルＰＳ構造においては、ハーフトーン技術を利用して高さを作り分けることで、コスト的にも優れているという利点があるが、この構造を用いた場合には、メインＰＳとサブＰＳの平面形状等は同じとなる。
【００１４】
この結果、メインＰＳとサブＰＳとで、配置密度、配列規則、配置する色材色などが同じ場合には、ＰＳ付近を光学顕微鏡などを用いて平面観察した程度では、両者を区別することが難しい。
【００１５】
また、一般的なデュアルＰＳ構造においては、一つの画素領域内の特定の位置に、更に配置する色材色も同じ位置に規則的に配列するＰＳとしたうえで、一定の割合のＰＳのみをメインＰＳとし、残りをサブＰＳとする配列に設定されることが多い。具体的には、メインＰＳは比較的低密度に設定することが低温発泡の防止に有効であることから、比率として例えば１割程度の比較的少ない割合で特定の位置のＰＳのみをメインＰＳとし、残りをサブＰＳとする配列に設定される。その場合においても、ＰＳ材料を用いて高さのみを変えるタイプのデュアルＰＳ構造では、平面観察した際に、単に平面形状等が同じＰＳが配列して見えることとなることから、同様に両者を区別することが難しい。
【００１６】
そのため、ある場所のＰＳがメインＰＳかサブＰＳかを調べるには、画素アドレスごとのメインＰＳとサブＰＳの配置に関する設計情報に基づく必要があり、具体的に調査するためには、当該ＰＳについて、正確なアドレスを取得する必要がある。
【００１７】
例えば、ＣＦ基板単体の場合は、平面観察で位置情報の基準として利用できる表示領域端から、ＰＳの位置まで、画素数を数える必要があり、ＰＳの種類の判別作業が困難であり、ＣＦ基板製造時やトラブル発生時などにおけるＰＳの種類の判別作業に時間を要するという問題があった。
【００１８】
本発明は上記のような問題点を解消するためになされたものであり、ＣＦ基板製造時やトラブル発生時などにおけるＰＳ種類の判別作業の時間を短縮して、製造コストを低減できる液晶表示装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１９】
本発明に係る液晶表示装置の態様は、映像を表示する液晶パネルを備えた液晶表示装置であって、前記液晶パネルは、互いに対向して配置された第１および第２の基板と、前記第１の基板の前記第２の基板に対向する側の主面上に配置され、前記第１の基板と前記第２の基板との間のギャップを保持する第１の柱状スペーサと、該第１の柱状スペーサよりも短い第２の柱状スペーサと、前記第１および第２の基板間に挟持された液晶と、を備え、前記第１の基板は、前記第１および第２の柱状スペーサのうち一方に関連付けて設けられ、前記第１および第２の柱状スペーサを識別する識別目印を有している。
【発明の効果】
【００２０】
本発明に係る液晶表示装置によれば、第１および第２の柱状スペーサのうち一方に関連付けて設けられ、第１および第２の柱状スペーサを識別する識別目印を有しているので、平面パターン形状では区別がつかない、高さが異なる柱状スペーサの種類の判別が、平面観察のみで可能となる。柱状スペーサの種類の判別作業の時間を短縮して、製造コストを低減できる。
【図面の簡単な説明】
【００２１】
【図１】本発明に係る液晶表示装置の液晶パネルの全体構成を示す平面図である。
【図２】本発明に係る液晶表示装置の液晶パネルの断面図である。
【図３】本発明に係る実施の形態１の液晶パネルの部分平面図である。
【図４】本発明に係る実施の形態１の液晶パネルの部分断面図である。
【図５】ブラックマトリクスの構成を示す平面図である。
【図６】本発明に係る実施の形態１の液晶パネルの変形例の部分平面図である。
【図７】本発明に係る実施の形態２の液晶パネルの部分平面図である。
【図８】本発明に係る実施の形態３の液晶パネルの部分平面図である。
【図９】本発明に係る実施の形態３の液晶パネルの変形例の部分平面図である。
【図１０】本発明に係る実施の形態４の液晶パネルの部分平面図である。
【図１１】本発明に係る実施の形態４の液晶パネルの変形例の部分平面図である。
【図１２】本発明に係る実施の形態５の液晶パネルの部分平面図である。
【図１３】本発明に係る液晶表示装置の製造方法を説明するフローチャートである。
【発明を実施するための形態】
【００２２】
以下、図面を参照して本発明の実施の形態について説明する。説明の明確化のため、以下の記載および図面は、適宜、省略、簡略化がなされている。また、説明の明確化のため、必要に応じて重複説明は省略されている。なお、各図において同一の符号を付されたものは同様の要素を示しており、適宜、説明が省略されている。
【００２３】
＜液晶パネルの全体構成＞
本発明に係る実施の形態１の説明に先だって、液晶パネル１０の全体構成について、図１および図２を用いて説明する。
【００２４】
図１は、液晶パネル１０の全体構成を示す平面図であり、図２は、図１におけるＡ−Ａ断面線における断面図を示している。ここでは、一例として液晶の動作モードがＴＮ（Twisted Nematic）モードで、スイッチング素子にＴＦＴ（Thin Film Transistor)を用いた液晶パネルを例に採って説明するものとする。
【００２５】
図１に示されるように、液晶パネル１０は、スイッチング素子としてＴＦＴがアレイ状に配置されるＴＦＴアレイ基板（以下、アレイ基板）１１０と、このＴＦＴアレイ基板１１０と対向配置される対向基板であるカラーフィルタなどが形成されるカラーフィルタ基板（以下、ＣＦ基板）１２０と、両者の間の間隙を密封するシールパターン１３３とを備えている。なお、図１において水平方向をＸ、垂直方向をＹとする。
【００２６】
シールパターン１３３は、アレイ基板１１０とＣＦ基板１２０との間において、液晶パネル１０が動作した際に画像を表示する表示面に対応する領域である表示領域１００を少なくとも囲うように配置され、シールパターン１３３とアレイ基板１１０とＣＦ基板１２０とで規定される空間（セル）内に、滴下注入（ＯＤＦ：One Drop Filling）方式により液晶が注入され封止されている。
【００２７】
従って、シールパターン１３３は、図１に示されるように、閉ループ形状であり真空注入方式で製造される液晶パネルのように液晶を注入するための開口部である注入口は形成されておらず、当該注入口を封止するための封止材も設けられていないといった構造的な特徴を備えている。なお、シールパターン１３３の材質は、導電性粒子を混入させた光硬化型シール剤（光硬化型樹脂）で構成されている。
【００２８】
なお、図１においては、カラーフィルタ基板１２０の下に配置されるＴＦＴアレイ基板１１０の構成を図示するために、図中Ｙ方向を上方として主として左上の一部のみカラーフィルタ基板１２０を図示し、それ以外の領域では、カラーフィルタ基板１２０の図示を省略してＴＦＴアレイ基板１１０の構成を図示している。実際の構成としては、カラーフィルタ基板１２０は、シールパターン１３３で囲まれる領域の外側の破線で示される領域ＤＬを覆うように設けられている。
【００２９】
また、表示領域１００の外側を額縁状に囲うように額縁領域１０１が配置される。図中では、表示領域１００となる矩形領域を点線で囲み、額縁領域１０１との境界としている。なお、ここで使用した表示領域１００および額縁領域１０１については、液晶パネル１０のＴＦＴアレイ基板１１０上、カラーフィルタ基板１２０上、あるいは両基板間に挟まれる領域の全てにおいて使用することとし、本明細書中においては全て同様の意味にて使用する。
【００３０】
ＴＦＴアレイ基板１１０は、図２に示されるように、透明基板であるガラスで構成されるガラス基板１１１の一方の主面（ＣＦ基板１２０と対向する側の主面）上に、液晶を駆動する電圧を印加する画素電極１１３、画素電極１１３に電圧を供給するスイッチング素子であるＴＦＴ１１４、ＴＦＴ１１４を覆う絶縁膜１１５、ＴＦＴ１１４に信号を供給する配線である複数のゲート配線１１８ｇおよびソース配線１１８ｓ、ＴＦＴ１１４に供給される信号を外部から受け入れる信号端子１１６、信号端子１１６から入力された信号をカラーフィルタ基板１２０の対向電極１２６へ伝達するためのトランスファ電極（図示省略）などが配設されている。なお、信号端子１１６から入力された信号をゲート配線１１８ｇ、ソース配線１１８ｓおよびトランスファ電極１１７へ伝達する周辺配線は図示を省略している。
【００３１】
ＴＦＴ１１４は、ＴＦＴアレイ基板１１０上の表示領域１００において、ゲート配線１１８ｇとソース配線１１８ｓの各交差部近傍に設けられ、画素電極１１３については、ゲート配線１１８ｇとソース配線１１８ｓにより囲まれる各画素領域内にマトリクス状に配列して設けられている。また、信号端子１１６、トランスファ電極１１７、周辺配線については、額縁領域１０１に形成される。
【００３２】
また、ＴＦＴ１１４を覆う絶縁膜１１５上の、表示領域１００に対応する領域には、液晶を配向させる配向膜１１２が設けられ、ガラス基板１１１の他方の主面上には偏光板１３１が設けられている。
【００３３】
ＣＦ基板１２０は、図２に示されるように、透明基板であるガラス基板１２１の一方の主面（アレイ基板１１０と対向する側の主面）上に、三原色である赤（Ｒ）、緑（Ｇ）および青（Ｂ）のフィルタとして、それぞれ、カラーフィルタ１２４Ｒ、１２４Ｇおよび１２４Ｂが互いに間を開けて設けられている。また、カラーフィルタ１２４Ｒ〜１２４Ｂ間を遮光するため、あるいは表示領域１００に対応する領域外側に配置される額縁領域１０１を遮光するための遮光膜であるブラックマトリクス（ＢＭ：Black Matrix）１２５が設けられ、カラーフィルタ１２４Ｒ〜１２４ＢおよびＢＭ１２５の上にアレイ基板１１０上の画素電極１１３との間に電界を生じさせて液晶を駆動する共通電極１２６が設けられ、共通電極１２６上に液晶を配向させる配向膜１２３が設けられ、ＣＦ基板１２０のガラス基板１２１の他方の主面、すなわち、カラーフィルタ１２４Ｒ〜１２４Ｂ、ブラックマトリクス１２５等が設けられる主面とは反対側の主面には偏光板１３２が設けられている。なお、図２において水平方向をＸ、厚み方向をＺとする。
【００３４】
カラーフィルタ１２４Ｒ〜１２４Ｂとしては、樹脂中に顔料などを分散させた色材層が選択でき、赤、緑、青などの特定の波長範囲の光を選択的に透過するフィルタとして機能する。
【００３５】
ＢＭ１２５は、カラーフィルタ１２４間以外に表示領域２００外側の額縁領域にも配置され、ＣＦ基板１２０における額縁領域のほぼ全域に渡って形成されており、表示に不要な額縁領域におけるＣＦ基板１２０中の光の透過を遮光している。
【００３６】
また、本発明においては、２種類の異なる高さの柱状スペーサ（ＰＳ）によりセルギャップ（基板間距離）を保持するデュアルＰＳ構造を採用しており、ＣＦ基板１２０には、メインＰＳである柱状スペーサ１３４ｍとサブＰＳである柱状スペーサ１３４ｓが設けられている。
【００３７】
図１においては、柱状スペーサ１３４ｍおよび１３４ｓの繰り返し単位ＲＥＰを破線で囲んで示している。また、後に説明する実施の形態１〜６における、メインＰＳとサブＰＳの配置の目印となる識別目印ＰＳＭが繰り返し単位ＲＥＰに設けられている。
【００３８】
なお、識別目印ＰＳＭの具体例については実施の形態１〜６において説明するが、図１においては、実施の形態１で説明する柱状スペーサ１３４ｍの配置される画素において、色材(カラーフィルタ１２４Ｂ)の一部に切り欠き部を設けることで識別目印ＰＳＭとした例を示している。
【００３９】
柱状スペーサ１３４ｍは、通常時は、ＴＦＴアレイ基板１１０とカラーフィルタ基板１２０に当接して、基板間隔を所定値に保持する長さに設定され、柱状スペーサ１３４ｓは、柱状スペーサ１３４ｍより短く設定され、通常時は、ＴＦＴアレイ基板１１０には当接しないが、ＴＦＴアレイ基板１１０とカラーフィルタ基板１２０の表面に外圧などが加わることによって、基板間隔が上記の所定値より狭くなった場合において、ＴＦＴアレイ基板１１０に当接して、基板間隔をある程度の範囲内に保持する。換言すれば、ガラス基板１２１の表面からの高さとして、柱状スペーサ１３４ｍの高さと比較して柱状スペーサ１３４ｓは低い高さに形成されていることから、柱状スペーサ１３４ｍと柱状スペーサ１３４ｓとは、２種類のそれぞれ異なる高さに設けられることとなる。
【００４０】
そして、柱状スペーサ１３４ｍおよび柱状スペーサ１３４ｓにより保持された、カラーフィルタ基板１２０とＴＦＴアレイ基板１１０との間の間隙の少なくとも表示領域１００に対応する領域には液晶層１３０が狭持されており、シールパターン１３３により密封されている。
【００４１】
また、トランスファ電極１１７と共通電極１２６とは、シールパターン１３３中に混入された導電性粒子により電気的に接続されており、信号端子１１６から入力された信号が共通電極１２３に伝達される。導電性粒子としては、導通の安定性の観点から弾性変形可能なものが好ましく、例えば、表面に金メッキがされた球形の樹脂を用いると良い。
【００４２】
以上説明した構成の他に、液晶パネル１０は、駆動信号を発生する制御基板１３５、制御基板１３５を信号端子１１６に電気的に接続するＦＦＣ（Flexible Flat Cable）１３６、光源となるバックライトユニット（通常は、表示面となるＣＦ基板１２０側とは反対側に設けられたＴＦＴアレイ基板１１０の外側に、ＴＦＴアレイ基板１１０の主面に対向して配置されるが、ここでは図示せず）を備え、さらに、液晶パネル１０とバックライトユニット間には光の偏光状態や指向性などを制御する光学シートが配置されている。
【００４３】
そして、液晶パネル１０は、これらの部材と共に表示面となる表示領域１００におけるＣＦ基板１２０の外側の部分が開口部となった筐体（図示せず）の中に収納されて液晶表示装置を構成する。
【００４４】
この液晶表示装置は次のように動作する。すなわち、外部回路である制御基板１３５から画像信号や制御信号などの電気信号が入力されると、画素電極１１３および共通電極１２３に駆動電圧が加わり、駆動電圧に合わせて液晶の分子の方向が変わる。その結果、各画素の光透過率が制御される。そして、バックライトユニットの発する光がＴＦＴアレイ基板１１０、液晶層１３０およびＣＦ基板１２０を介することで、各画素の光透過率に応じて外部に透過あるいは遮断されることにより、液晶パネル１０の表示領域１００にカラー画像等が表示される。
【００４５】
＜実施の形態１＞
以下、本発明に係る実施の形態１の液晶表示装置について図３〜図５を用いて説明する。図３は、図１および図２を用いて説明したＣＦ基板１２０をＴＦＴアレイ基板１１０側から見た場合の部分平面図である。また、図４は、図３におけるＢ−Ｂ断面線における断面図を示している。
【００４６】
先に説明したように、本発明においては、２種類の異なる高さの柱状スペーサ（ＰＳ）によりセルギャップを保持するデュアルＰＳ構造を採用しており、ＣＦ基板１２０には、メインＰＳである柱状スペーサ１３４ｍとサブＰＳである柱状スペーサ１３４ｓが設けられており、図３では、柱状スペーサ１３４ｍおよび１３４ｓの繰り返し単位ＲＥＰを示している。
【００４７】
すなわち、図３に示されるように、カラーフィルタ１２４Ｒ、１２４Ｇおよび１２４Ｂは、Ｘ方向に同色の色材パターンが配列されるように配置され、柱状スペーサ１３４ｍおよび１３４ｓは、それぞれカラーフィルタ１２４Ｂの青色（Ｂ）の１つの色材パターンの配列の異なる色材パターン上に配置され、直近の青色の色材パターンの配列では、柱状スペーサ１３４ｍおよび１３４ｓが配列される色材パターンが１つずつＸ方向にずれるように配置されている。このため、繰り返し単位ＲＥＰは青色の色材パターンの配列を２組含むように規定されている。換言すれば、繰り返し単位ＲＥＰは、Ｒ、Ｇ、Ｂの３色の画素より構成される画素単位である絵素を、Ｘ方向に４絵素（４画素）、Ｙ方向に２絵素（６画素）、合計で８絵素、すなわち、２４個の画素領域の範囲を含むように構成されている。なお、図３においては、１つの絵素を構成するＲ、Ｇ、Ｂの３色の３個の画素の画素領域について、破線で囲む３個の矩形領域で図示しており、カラーフィルタ１２４Ｒ、１２４Ｇおよび１２４Ｂの色材パターンが配置される矩形領域が、それぞれ、Ｒ、Ｇ、Ｂの３色の画素の画素領域に対応している。また、先に説明したとおり、繰り返し単位ＲＥＰは、この破線で囲む矩形の画素領域が２４個繰り返して構成されることとなる。
【００４８】
そして、１つの繰り返し単位ＲＥＰには、少なくとも１つの識別目印ＰＳＭが設けられており、図３においては、識別目印ＰＳＭは、柱状スペーサ１３４ｍを配置する青色の色材パターンの１つの角部を切り欠いた切欠部ＮＰで構成されている。
【００４９】
なお、識別目印ＰＳＭを有するように色材パターンを形成するには、通常の色材パターン形成時と同様に、露光マスクによりレジスト材に光が照射される領域または光が照射されない領域を規定すれば良いので、ＣＦ基板１２０の作製のために新たな工程を増やす必要はない。
【００５０】
ここで、カラーフィルタ１２４Ｒ、１２４Ｇおよび１２４Ｂのそれぞれの色材パターンは、図３および図４に示すように、ブラックマトリクス（ＢＭ）１２５の開口部ＯＰとその周囲を覆うように設けられており、柱状スペーサ１３４ｍおよび１３４ｓは、カラーフィルタ１２４Ｂの色材パターンのうち、ＢＭ１２５の開口部ＯＰの外側を覆う部分（遮光領域）の上に設けられている。また、識別目印ＰＳＭも同様に、ＢＭ１２５の開口部ＯＰの外側を覆う部分を切り欠くように設けられており、液晶表示装置の表示に影響を与えることはない。なお、図５には、ＢＭ１２５にマトリクス状に設けられた開口部ＯＰの配置を示しており、ＢＭ１２５は、これらマトリクス状に設けられた開口部ＯＰを除いた平面的に重なる領域に遮光領域を形成することになる。
【００５１】
先に説明したように、メインＰＳとサブＰＳとで、平面パターン形状において差がなく（区別が付かず）、配置密度、配列規則、配置する色材色が同じに設定される場合などには、ＰＳ付近を光学顕微鏡などを用いて平面観察した程度では、両者を区別することが難しいが、図３に示すように、柱状スペーサ１３４ｍを配置する色材パターンに識別目印ＰＳＭを設けることで、光学顕微鏡による平面観察時において、平面パターン形状では区別がつかない、高さが異なるＰＳの種類の判別が、平面観察のみで可能となる。
【００５２】
なお、識別目印ＰＳＭは、柱状スペーサ１３４ｍの配置される画素領域内に設けた例を用いて説明を行ったが、柱状スペーサ１３４ｓの配置される画素領域内に設けても良い。また、例えば、色材パターンの１つの角部を切り欠いた切欠部ＮＰで形成するのであれば、柱状スペーサ１３４ｍの配置される画素領域内と、柱状スペーサ１３４ｓの配置される画素領域内とで、それぞれ異なる角部に切欠部ＮＰ設けるなど、両者が識別可能な識別目印ＰＳＭとなるのであれば、柱状スペーサ１３４ｍの配置される画素領域内と柱状スペーサ１３４ｓの配置される画素領域内の両者に設けても構わない。つまり、識別目印ＰＳＭは、柱状スペーサ１３４ｍと柱状スペーサ１３４ｓの少なくとも一方の配置される画素領域内に両者が異なる種類に識別可能に設けられれば良い。
【００５３】
また、別目印ＰＳＭは、カラーフィルタの色材パターンで形成することに限定されるものではなく、ブラックマトリクス（ＢＭ）、共通電極、オーバーコート膜（ＯＣ膜）等のＣＦ基板１２０側に設けられる構成であって、目視で確認でき、かつ、ＣＦ基板１２０の作製のための工程数を増やすものでなければ、柱状スペーサ１３４ｍと柱状スペーサ１３４ｓ自体のパターンを除き、どの構成による膜パターンでも良い。
【００５４】
＜変形例＞
図６には実施の形態１の変形例に係るカラーフィルタ１２４Ｒ、１２４Ｇおよび１２４Ｂの色材パターンの構成を示している。
【００５５】
図６においては、繰り返し単位ＲＥＰに含まれる識別目印ＰＳＭは、柱状スペーサ１３４ｍを配置する青色の色材パターンの端縁の一部が平面方向に突出した突出部ＤＰで構成されている。
【００５６】
このような識別目印ＰＳＭを有するように色材パターンを形成する場合でも、通常の色材パターン形成時と同様に、露光マスクによりレジスト材に光が照射される領域または光が照射されない領域を規定すれば良いので、ＣＦ基板１２０の作製のための工程数を増やすものではない。
【００５７】
なお、図３および図６においては、メインＰＳを配置する色材パターンに切欠部ＮＰまたは突出部ＤＰを設ける構成としたが、サブＰＳを配置する色材パターンに切欠部ＮＰまたは突出部ＤＰを設ける構成としても良い。この場合も、平面パターンを観察するだけでも、ＰＳの種類が容易に判別できると言う効果は同じである。
【００５８】
また、図３および図６に示したメインＰＳを配置する色材パターンに識別目印ＰＳＭとして切欠部ＮＰまたは突出部ＤＰを設けた構成においては、何れも、識別目印ＰＳＭは、図５で示したＢＭ１２５により形成される遮光領域に重なって形成されていることから、識別目印ＰＳＭが直接視認されることはなく、液晶表示装置の表示に影響を与えることはない。つまり、図３および図６の態様に限られず、識別目印ＰＳＭがＢＭ１２５により形成される遮光領域に重なって設けられていれば同様の効果が得られることになる。
【００５９】
また、メインＰＳやサブＰＳを配置する画素領域内の色材パターンに識別目印ＰＳＭを設けることに限定されるものではなく、例えば、メインＰＳやサブＰＳの配置される画素に隣接する画素に識別目印ＰＳＭを設けても良い。特にメインＰＳやサブＰＳの配置される画素に隣接する画素に設ける場合には、当該隣接する画素の矩形領域におけるメインＰＳやサブＰＳの位置に近接した辺近傍、あるいは同じく近接した角部近傍に設けることで、比較的、メインＰＳやサブＰＳの配置密度が高く、両者が近接して配置される場合にも識別が容易となる。何れにしても、識別目印ＰＳＭが配置された位置の近傍にメインＰＳやサブＰＳが配置されることになるので、ＰＳの種類が容易に判別できると言う効果は同じである。
【００６０】
また、実施の形態１のカラーフィルタ１２４Ｒ、１２４Ｇおよび１２４Ｂの色材パターンにおいては、同じ色における各画素領域間で分断された孤立パターンより形成された例を用いて説明を行ったが、同じ色の色材パターン、具体的にはカラーフィルタ１２４Ｒ、１２４Ｇおよび１２４Ｂの色材パターンが、それぞれＸ方向に連続したストライプ状に構成されても構わない。このような構成の場合には、上記説明の変形例のように色材パターンに突出部ＤＰを形成して識別目印ＰＳＭとすることが、少し困難となるが、色材パターンに切欠部ＮＰを形成して識別目印ＰＳＭとする場合には、柱状スペーサ１３４ｍ或いは柱状スペーサ１３４ｓの配置される矩形の画素領域の矩形の角部を切り欠いた形状として、識別目印ＰＳＭとすると良い。また、柱状スペーサ１３４ｍあるいは柱状スペーサ１３４ｓの配置される画素に隣接する画素に識別目印ＰＳＭを設けても良いことから、柱状スペーサ１３４ｍ或いは柱状スペーサ１３４ｓの配置される画素と、前記隣接画素間に跨って切り欠きを形成して識別目印ＰＳＭとしても良い。
【００６１】
＜実施の形態２＞
実施の形態１では、識別目印ＰＳＭを、識別したいＰＳが配置される色材パターンに設ける構成を説明したが、先に説明したように、柱状スペーサ１３４ｍおよび１３４ｓは繰り返し単位ＲＥＰで繰り返して配置される。従って、繰り返し単位ＲＥＰが判別できれば、柱状スペーサ１３４ｍおよび１３４ｓの位置も容易に判別することができる。
【００６２】
そこで、本発明に係る実施の形態２の液晶表示装置では、繰り返し単位ＲＥＰの特定の位置に、繰り返し単位ＲＥＰの区切り位置を識別する識別目印ＰＳＭを配置し、識別目印ＰＳＭに基づいてＰＳの種類を特定できる構成を採用している。
【００６３】
図７は、実施の形態２における１つの繰り返し単位ＲＥＰを示しており、最上段の赤色の色材パターンの配列の右端の色材パターンの角部を切り欠いた切欠部ＮＰを識別目印ＰＳＭとしている。
【００６４】
なお、図７は、図１および図２を用いて説明したＣＦ基板１２０をＴＦＴアレイ基板１１０側から見た場合の部分平面図であるので、最上段の赤色の色材パターンの配列は、図１の平面図で見れば繰り返し単位ＲＥＰの再下段の赤色の色材パターンの配列となる。従って、図７における識別目印ＰＳＭは、１つの繰り返し単位ＲＥＰの終わりを示す目印となる。
【００６５】
全ての表示領域に渡って、この繰り返し単位ＲＥＰを繰り返して配列することで、全ての画素配列が構成されると共に、繰り返し単位ＲＥＰの区切り位置が明確となる。
【００６６】
すなわち、図７に示す例では、識別目印ＰＳＭが配置される赤色の色材パターン位置を１行１列目（図中Ｘ方向を列方向、Ｙ方向を行方向）と呼称した場合、それを基準とすることで、柱状スペーサ１３４ｍおよび１３４ｓの位置が特定される。すなわち、柱状スペーサ１３４ｍは、１行３列目と２行６列目の色材パターン上に配置され、柱状スペーサ１３４ｓは、３行３列目と４行６列目の色材パターン上に配置されることが特定できる。
【００６７】
従って、識別したいＰＳの近傍にある識別目印ＰＳＭを探すことにより、繰り返し単位となるＸ方向に４絵素（４画素）、Ｙ方向に２絵素（６画素）の合計２４個の画素領域の範囲の中から識別したいＰＳがメインＰＳであるかサブＰＳであるかを容易に判別することができる。
【００６８】
＜変形例＞
図７においては、繰り返し単位ＲＥＰの最上段の赤色の色材パターンの配列の右端の色材パターンの角部を切り欠いて識別目印ＰＳＭとした例を示したが、識別目印ＰＳＭを設ける位置はこれに限定されるものではない。
【００６９】
目印として比較的使いやすい他の色材パターンの角部に設けても良いし、端縁の中央部や、その他の特定の位置に配置しても構わない。繰り返し単位ＲＥＰに対して、少なくとも１ヶ所の識別目印ＰＳＭが配置されば、設計情報などを元に繰り返し単位ＲＥＰの区切り位置を特定すること、つまり識別することができる。
【００７０】
また、識別目印ＰＳＭは、平面観察で位置が確認可能であれば良く、切欠部ＮＰに限定されず、図６を用いて説明した色材パターンの端縁の一部が平面方向に突出した突出部ＤＰを設けても良いし、ブラックマトリクス（ＢＭ）、共通電極、オーバーコート膜（ＯＣ膜）等のパターン形状を変えることで形成しても良い。
【００７１】
＜実施の形態３＞
実施の形態１では、識別目印ＰＳＭを、識別したいＰＳが配置される色材パターンに設ける構成とし、実施の形態２では、繰り返し単位ＲＥＰの位置が判別できるように、繰り返し単位ＲＥＰの特定の位置の色材パターンに識別目印ＰＳＭを配置した構成を説明したが、識別目印ＰＳＭを設けることで、色材パターンの表面状態の均一性が変化し、後に液晶の配列を均一にするために配向膜１２３（図２）に対するラビング処理の均一性に問題が生じる可能性もある。
【００７２】
すなわち、識別目印ＰＳＭを配置しない従来の構成においては、同じ矩形の色材パターンが配列されているだけであり、同じ凹凸形状が表示領域の全面に渡って繰り返される均一な表面状態となっており、唯一、ＰＳの形成部が局所的な凸部となっているに過ぎない。
【００７３】
これに対して、色材パターンを変形して形成される識別目印ＰＳＭが設けられると、その部分は局所的な凹凸部となり、そこではＰＳの形成部と同様に、上層に設ける配向膜１２３のラビング処理においてラビング布との接触が均一ではなくなる。その結果、ラビング布の毛先を乱すこととなって、所望の配向処理ができなくなるという可能性がある。これは、後に説明するように、ＢＭ１２５の開口部を変形して識別目印とする場合も同様である。
【００７４】
このようにラビング処理を均一にできない場合、表示ムラが視認されやすくなり、表示品位を低下させる場合がある。従って、識別目印はラビングの影響を受けにくい場所に配置することが望ましい。
【００７５】
そこで、本発明に係る実施の形態３の液晶表示装置では、ラビングの影響を受けにくい場所に識別目印を配置する構成を採用している。
【００７６】
図８は、実施の形態１で説明した、識別目印ＰＳＭを識別したいＰＳが配置される色材パターンに設ける構成に対応させた場合の１つの繰り返し単位ＲＥＰを示しており、柱状スペーサ１３４ｍを配置する青色の色材パターンの１つの角部を切り欠いた切欠部ＮＰを識別目印ＰＳＭとしている。
【００７７】
ここで、図３では切欠部ＮＰは、柱状スペーサ１３４ｍが設けられる青色の色材パターンの端縁部とは反対側の端縁部の角部に設けていたが、図８では、柱状スペーサ１３４ｍの直近の角部であって、かつ、矢印Ｚで示すラビング方向に対して柱状スペーサ１３４ｍの下流側となる角部に切欠部ＮＰを設けて識別目印ＰＳＭとしている。ここで、ラビング方向の下流側とは、矢印Ｚの先端側を指す。
【００７８】
先に説明したように、ＰＳの形成部は局所的な凸部となっており、ラビング布の毛先を乱す作用をし、ラビング方向の下流側のＰＳ近傍では、乱れた毛先の状態でラビング処理がなされる。その結果、ラビング方向の下流側のＰＳ近傍は、配向膜表面の配向状態が所望の状態とならず、光漏れなどを生じやすい領域であるので、ＢＭ１２５を広めに形成して遮光領域とし、表示に影響しない領域、すなわち、ラビングによる影響を受けにくい領域としている。
【００７９】
このように、ラビングによる影響を受けにくい領域を有効活用して識別目印ＰＳＭを設けることで、光漏れなどが生じにくくなり表示ムラが視認されやすくなることを抑制できる。
【００８０】
図９は、実施の形態２で説明した、繰り返し単位ＲＥＰの位置が判別できるように特定の色材パターンに識別目印ＰＳＭを配置した構成に対応させた場合の１つの繰り返し単位ＲＥＰを示しており、識別目印ＰＳＭは、柱状スペーサ１３４ｍが設けられた青色の色材パターンに隣接する赤色の色材パターンの角部であって、かつ、矢印Ｚで示すラビング方向に対して柱状スペーサ１３４ｍの下流側となる角部に切欠部ＮＰを設けて識別目印ＰＳＭとしている。
【００８１】
このように、識別目印はラビングの影響を受けにくい場所に配置するのであればどこでも良く、例えば、ＰＳを配置している色材パターンが緑色で、ＰＳを配置している色材パターンに識別目印を配置する場合、赤色や青色に比べ、緑色は透過率が高い分、ムラが視認されやすくなる可能性がある。このような場合、ＰＳを配置している色材パターンに隣接する他の色の色材パターンに識別目印を配置することが望ましい。
【００８２】
以上説明したように、ラビングによる影響を考慮して識別目印を配置することで、ラビング処理の均一性を低下させることなく、表示品位の低下を防止できる。
【００８３】
なお、カラーフィルタ１２４Ｒ、１２４Ｇおよび１２４Ｂの上層に、透明樹脂の平坦化膜であるオーバーコート膜が形成される場合は、識別目印により形成される局所的な凹凸部がある程度平坦化されるので、実施の形態３のような考慮をせずともラビング処理の均一性を低下させる可能性は低くなる。
【００８４】
＜実施の形態４＞
実施の形態１では、識別目印ＰＳＭを、識別したいＰＳが配置される色材パターンに設ける構成とし、実施の形態２では、繰り返し単位ＲＥＰの位置が判別できるように、繰り返し単位ＲＥＰの特定の位置の色材パターンに識別目印ＰＳＭを配置した構成を説明したが、本発明に係る実施の形態４の液晶表示装置では、ＢＭ１２５の開口部により識別目印ＰＳＭを形成する構成を採用している。
【００８５】
図１０は、識別目印ＰＳＭを、柱状スペーサ１３４ｍが配置される色材パターンに覆われるＢＭ１２５の開口部形状を他とは変えることで識別目印ＰＳＭとしている。
【００８６】
すなわち、図１０に示すように、柱状スペーサ１３４ｍが配置される色材パターンに覆われるＢＭ１２５の開口部ＯＰ１の開口形状は、矩形の１つの角部が欠けた台形状をなしており、他の色材パターンに覆われるＢＭ１２５の矩形の開口部ＯＰとは異なっている。
【００８７】
このように、柱状スペーサ１３４ｍが配置される色材パターンに覆われるＢＭ１２５の開口部形状を他とは変えることで識別目印ＰＳＭとした場合も、高さが異なるＰＳの種類の判別が、平面観察のみで可能となるという効果を奏するが、さらにＣＦ基板１２０の表示面側からでもＰＳの種類の判別できるので、ＰＳに起因する不具合が発生した場合に、液晶パネルの状態での解析が可能となる。
【００８８】
なお、ＢＭ１２５の開口部の加工においては、ＢＭ１２５のパターニングに用いるマスク加工時に、開口部ＯＰ１およびＯＰを作り分けられるパターン形状のマスクを作成すれば良いので、ＣＦ基板１２０の製造工程数が増加することはない。
【００８９】
また、繰り返し単位ＲＥＰの位置が判別できるように、繰り返し単位ＲＥＰの特定の位置の色材パターンに覆われるＢＭ１２５の開口部形状を他とは変えることで識別目印ＰＳＭとしても良い。
【００９０】
これにより、識別したいＰＳの近傍にある識別目印ＰＳＭを探すことにより、識別したいＰＳがメインＰＳであるかサブＰＳであるかを容易に判別することができる。さらにＣＦ基板１２０の表示面側からでもＰＳの種類の判別できるので、ＰＳに起因する不具合が発生した場合に、液晶パネルの状態での解析が可能となる。
【００９１】
＜変形例＞
以上説明した実施の形態４の液晶表示装置では、ＢＭ１２５の開口部の形状を変えて識別目印ＰＳＭとする構成を示したが、開口部の形状を変えるとＢＭ１２５の開口面積が変わることとなる。
【００９２】
図１１には、開口部の形状を変えずに識別目印ＰＳＭとする構成を示す。すなわち、図１１においては、柱状スペーサ１３４ｍが配置される色材パターンに覆われるＢＭ１２５の開口部ＯＰ２が、他の色材パターンに覆われるＢＭ１２５の矩形の開口部ＯＰとは少しずれた位置に形成されている。
【００９３】
すなわち、柱状スペーサ１３４ｍが配置される色材パターンに覆われるＢＭ１２５の開口部ＯＰ２は、他の色材パターンに覆われるＢＭ１２５の開口部ＯＰよりもＸ方向にずれた位置に形成されている。
【００９４】
ここで、開口部ＯＰ２のずらし量は、観察に用いる光学顕微鏡の視野内に１つの繰り返し単位ＲＥＰが収まる程度の倍率で開口部ＯＰとＯＰ２とが見分けられる程度のずらし量とすれば良く、例えば、開口部ＯＰの長辺の長さの１／１０〜２／１０程度のずらし量とすれば良い。
【００９５】
また、この程度のずれであれば、画像表示上では視認できず、表示画像の品質には影響を与えない。
【００９６】
このように、ＢＭ１２５の開口部の形状を変えない構成を採ることで、開口面積が変わらず、識別目印の配置により表示画像に影響が生じることを抑制できる。
【００９７】
また、メインＰＳやサブＰＳを配置する画素領域内の開口部の形状を変えることや開口部の位置をずらすことで識別目印ＰＳＭを設けることに限定されるものではなく、例えば、メインＰＳやサブＰＳの配置される画素に隣接する画素に識別目印ＰＳＭを設けても良い。特にメインＰＳやサブＰＳの配置される画素に隣接する画素に設ける場合には、当該隣接する画素の矩形領域におけるメインＰＳやサブＰＳの位置に近接した辺近傍、或いは同じく近接した角部近傍に設けることで、比較的、メインＰＳやサブＰＳの配置密度が高く、両者が近接して配置される場合にも識別が容易となる。何れにしても、識別目印ＰＳＭが配置された位置の近傍にメインＰＳやサブＰＳが配置されることになるので、ＰＳの種類が容易に判別できると言う効果は同じである。
【００９８】
＜実施の形態５＞
以上説明した実施の形態１〜４では、色材パターンの加工またはＢＭ１２５の開口部の加工により識別目印ＰＳＭを設けたが、本発明に係る実施の形態５の液晶表示装置では、ＰＳの種類により、そのＰＳの配置される画素領域内でのＰＳの配置位置を異なったものとする構成を採用している。
【００９９】
図１２は、柱状スペーサ１３４ｍが配置される青色の色材パターンの設けられる画素と、柱状スペーサ１３４ｓが配置される青色の色材パターンの設けられる画素とで、それぞれのPＳの配置される画素領域内でのＰＳの配置位置が異なった構成を示している。すなわち、柱状スペーサ１３４ｍは、青色の色材パターンのＢＭ１２５の開口部ＯＰの外側を覆う部分であって、矩形の色材パターンの長辺方向の２つの端縁部のうち面積の広い方の端縁部のＹ方向下側寄りの位置に配置されている。
【０１００】
一方、柱状スペーサ１３４ｓは、青色の色材パターンのＢＭ１２５の開口部ＯＰの外側を覆う部分であって、矩形の色材パターンの長辺方向の２つの端縁部のうち面積の広い方の端縁部のＹ方向上側寄りの位置に配置されている。
【０１０１】
なお、ＰＳの形成位置をＰＳの種類により変えることは、通常のＰＳパターン形成時と同様に、露光マスクによりレジスト材に光が照射される領域または光が照射されない領域を規定すれば良いので、ＣＦ基板１２０の作製のために新たな工程を増やす必要はない。
【０１０２】
このように、ＰＳの種類により、そのPＳの配置される画素領域内でのＰＳの配置位置を異なったものとすることで、高さが異なるＰＳの種類の判別が光学顕微鏡による平面観察のみで可能となるという効果を奏するが、さらに、色材パターンの変更により凹凸形状が変わることによるラビングへの影響や、ＢＭパターン変更に伴う開口率への影響などが生じないという利点があり、また、色材パターンが各色で同一なので、色材パターン作製時にマスク交換が不要となるという利点がある。
【０１０３】
なお、実施の形態５では、ＰＳの形成位置をＰＳの種類により変えることにより、ＰＳの種類を識別可能としているが、色材パターンとの位置関係やＢＭ１２５の開口部ＯＰとの位置関係については、図１２の態様に限られるものではなく、ＰＳの種類によって、そのＰＳの配置される画素領域内でのＰＳの配置位置が異なり、異なる種類のＰＳであることが識別可能であれば良く、その場合には、本実施の形態５と同様の効果が得られる。ただし、柱状スペーサ１３４ｍと柱状スペーサ１３４ｓが配置される画素の色材パターンの色が異なっている場合には、柱状スペーサ１３４ｍと柱状スペーサ１３４ｓの識別は容易となり、画素領域内でのＰＳの配置位置を異ならせて識別可能とする意味がなくなる。従って、本実施の形態５と同様の効果が得られる前提事項としては、柱状スペーサ１３４ｍと柱状スペーサ１３４ｓが配置される画素が、特定の同じ色であること、換言すれば、柱状スペーサ１３４ｍと柱状スペーサ１３４ｓが配置されるそれぞれの画素に設けられる色材パターンの色が特定の同じ色であることが必要となる。
【０１０４】
＜液晶表示装置の製造フロー＞
本発明に係る実施の形態１〜５の液晶表示装置に共通する製造方法について、図１、図２を参照しつつ、図１３に示すフローチャートを用いて説明する。
【０１０５】
通常、液晶パネルは最終形状よりも大きなマザー基板から、液晶パネルを１枚あるいは複数枚を切り出して（多面取りして）製造され、図１３におけるステップＳ１〜Ｓ９のプロセスは、マザー基板の状態でのプロセスである。
【０１０６】
まず、図示されない基板準備工程において、マザーＴＦＴ基板およびマザーＣＦ基板に対して配線等の形成を行う。すなわち、マザーＴＦＴ基板においては、図１に示したゲート配線１１８ｇ、ソース配線１１８ｓ、ＴＦＴ１１４および画素電極１１３などを作り込む工程を行うが、これらの作り込みは一般的な液晶パネルにおけるＴＦＴ基板の製造方法と同様であるので、製造方法に関する詳細な説明は省略する。
【０１０７】
また、マザーＣＦ基板においては、図２に示したカラーフィルタ１２４Ｒ、１２４Ｇおよび１２４Ｂ、ＢＭ１２５、デュアルＰＳ構造の柱状スペーサ１３４ｍおよび１３４ｓ、さらに識別目印ＰＳＭなどを作り込む工程を行うが、これらの作り込みは一般的な液晶パネルにおけるＣＦ基板の製造方法により可能であるので、製造方法に関する詳細な説明は省略する。
【０１０８】
ここで、柱状スペーサ１３４ｍおよび１３４ｓは、公知のデュアルＰＳ構造の形成方法であるハーフトーン技術を利用して高さのみを作り分ける。なお、実施の形態１〜４を用いて説明した識別目印ＰＳＭは、マザーＣＦ基板の表面に形成される膜、すなわち、ブラックマトリクス（ＢＭ）、色材層、共通電極およびオーバーコート膜を形成するパターンニングの際に、パターン形状を規定する露光マスクなどの設計を変更することによって容易に形成することができる。
【０１０９】
また、実施の形態５において説明した柱状スペーサ１３４ｍおよび１３４ｓの形成位置をＰＳの種類により変える場合には、柱状スペーサ１３４ｍおよび１３４ｓを形成するハーフトーンマスクのマスク設計を変更することで容易に対応することができる。
【０１１０】
上記の基板準備工程を経てマザーＴＦＴ基板およびマザーＣＦ基板を準備した後、まず、ステップＳ１において、マザーＴＦＴ基板およびマザーＣＦ基板に対して配向膜材料の転写を行う。この工程ではマザーＴＦＴ基板およびマザーＣＦ基板の互いに向かい合う主面に配向膜材料を塗布する。この工程は、例えば、印刷法により有機材で構成される配向膜材料を塗布し、ホットプレートなどにより焼成処理し乾燥させる工程を含んでいる。
【０１１１】
次に、ステップＳ２のラビング工程において、配向膜材料にラビングを行い、配向膜材料の表面を配向処理して配向膜を形成する。なお、図２に示されるように、マザーＣＦ基板上に形成された柱状スペーサ１３４ｍおよび１３４ｓ上も配向膜で覆われるが、柱状スペーサ１３４ｍおよび１３４ｓの高さに比べて配向膜は薄いので、柱状スペーサ１３４ｍおよび１３４ｓ上に塗布された配向膜は図示を省略している。
【０１１２】
次に、ステップＳ３において柱状スペーサの高さを測定する。本実施の形態１では柱状スペーサは、マザーＣＦ基板上に形成されるので、マザーＣＦ基板上において初期の高さを測定すれば良い。なお、この工程で柱状スペーサの高さを測定する意味は、後に説明するように、滴下注入（ＯＤＦ）方式で液晶を注入するに際して、液晶の滴下量を決定するためである。
【０１１３】
従って、ステップＳ３では、液晶を満たす空間の容積に関係するセルギャップを規定するメインＰＳである柱状スペーサ１３４ｍの高さを測定する。この際に、柱状スペーサ１３４ｍおよび柱状スペーサ１３４ｓが混在する中で、柱状スペーサ１３４ｍを選択ために識別目印ＰＳＭを活用することができる。
【０１１４】
特に、表示領域内の複数の位置の柱状スペーサ１３４ｍの高さを測定し、平均値を算出することで、測定精度が向上するが、その際に、柱状スペーサ１３４ｍを効率よく選別するために識別目印ＰＳＭが有効である。
【０１１５】
なお、液晶の滴下量の決定に寄与することはないが、ステップＳ３において、サブＰＳである柱状スペーサ１３４ｓの高さについても測定して、仕上がりを確認することで、サブＰＳの形成不良など、不良品検査（良品／不良品判定と選別）を行っても良い。
【０１１６】
また、これら柱状スペーサ１３４ｍおよび１３４ｓの測定については、上記説明の工程で行うのではなく、基板準備工程において、マザーＣＦ基板の製造時において、実施しても良く、その場合においても、本実施の形態において配置した識別目印ＰＳＭは、柱状スペーサ１３４ｍおよび１３４ｓを識別し選択するために有効に活用することができる。
【０１１７】
次に、ステップＳ４のシール剤塗布工程において、スクリーン印刷装置を用いて、マザーＴＦＴ基板あるいはマザーＣＦ基板の主面に、シール剤を印刷ペーストとして塗布する。シール剤は、液晶パネルの表示領域を囲うように塗布され、シールパターン１３３を形成する。
【０１１８】
次に、ステップＳ５の液晶滴下工程において、シールパターン１３３が形成された方の基板のシールパターン１３３で囲まれた領域内に液晶を滴下する。この液晶の滴下量は、ステップＳ３において測定したメインＰＳである柱状スペーサ１３４ｍの高さに基づいて決定される。
【０１１９】
次に、ステップＳ６の真空貼り合わせ工程において、マザーＴＦＴ基板とマザーＣＦ基板とを真空状態で貼り合わせてマザーセル基板を形成する。
【０１２０】
次に、ステップＳ７のＵＶ（紫外線）照射工程でマザーセル基板に紫外線を照射し、シール剤を仮硬化させる。
【０１２１】
その後、ステップＳ８において加熱によりアフターキュアを行い、シール剤を完全に硬化させて、硬化したシールパターンを得る。
【０１２２】
次に、ステップＳ９のパネル分断工程において、マザーセル基板をスクライブラインに沿って切断し、個々の液晶パネルに分断する。
【０１２３】
ステップＳ９で分断された個々の液晶パネルに対して、ステップＳ１０の偏光板貼り付け工程、ステップＳ１１の制御基板実装工程などを実行し、一連の製造工程を終了する。
【０１２４】
また、表示面となるＣＦ基板１２０側とは反対側に設けられたＴＦＴアレイ基板１１０の外側に、位相差板などの光学フィルムを介して、バックライトユニットを配設し、樹脂や金属などで構成される筐体内に、液晶パネル１０およびこれら周辺部材が収納されて液晶表示装置が完成する。
【０１２５】
なお、上記説明では、本発明の柱状スペーサ１３４ｍと柱状スペーサ１３４ｓの判別に識別目印ＰＳＭを用いる方法について、液晶表示装置の製造フローの標準工程において、常時活用される場合を例に取って説明を行った。しかし、本発明のその他の活用例としては、マザーＣＦ基板の製造時のトラブルなどにより、柱状スペーサ１３４ｍあるいは柱状スペーサ１３４ｓの仕上がり状態において高さの異常などの何らかの不具合を有したまま液晶表示装置が製造され、結果として液晶表示装置が不良品となってしまった場合において、不良品の不良原因解析プロセスとして必要となるＰＳ種類の判別作業においても本発明の識別目印ＰＳＭは有効に活用することができる。
【０１２６】
なお、本発明は、その発明の範囲内において、各実施の形態を自由に組み合わせたり、各実施の形態を適宜、変形、省略することが可能である。
【符号の説明】
【０１２７】
１０  液晶パネル、１１０  ＴＦＴアレイ基板、１２０  カラーフィルタ基板、１２４Ｒ，１２４Ｇ，１２４Ｂ  カラーフィルタ、１２５  ブラックマトリクス、１３４ｍ，１３４ｓ  柱状スペーサ。
【図１】
2014240853.tif 000003
【図２】
2014240853.tif 000004
【図３】
2014240853.tif 000005
【図４】
2014240853.tif 000006
【図５】
2014240853.tif 000007
【図６】
2014240853.tif 000008
【図７】
2014240853.tif 000009
【図８】
2014240853.tif 000010
【図９】
2014240853.tif 000011
【図１０】
2014240853.tif 000012
【図１１】
2014240853.tif 000013
【図１２】
2014240853.tif 000014
【図１３】
2014240853.tif 000015