(57)【要約】      （修正有）【課題】露光不良の発生を抑制できる液浸部材を提供する。【解決手段】液浸部材５は、光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材２１と、第１部材２１の下方において露光光の光路Ｋの周囲の少なくとも一部に配置され、第１部材２１の第１下面２６１と間隙を介して対向する第２上面２５２と物体が対向可能な第２下面２６２とを有する第２部材２２と、を備える。第２部材２２は、第１部分２２１と、光路Ｋに対して第１部分２２１の外側に配置される第２部分２２２と、を含む。光学部材の光軸と実質的に垂直な面内において物体が移動する期間の少なくとも一部において、第２部分２２２が駆動装置２７の作動により光軸と実質的に平行な第１方向に移動される。【選択図】図４
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
光学部材の射出面と基板との間の液体を介して露光光で前記基板を露光する液浸露光装置で用いられ、前記光学部材の下方で移動可能な物体上に液浸空間を形成する液浸部材であって、
前記光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、
前記第１部材の下方において前記露光光の光路の周囲の少なくとも一部に配置され、前記第１部材の第１下面と間隙を介して対向する第２上面と前記物体が対向可能な第２下面とを有する第２部材と、を備え、
前記第２部材は、第１部分と、前記光路に対して前記第１部分の外側に配置される第２部分と、を含み、
前記光学部材の光軸と実質的に垂直な面内において前記物体が移動する期間の少なくとも一部において、前記第２部分が駆動装置の作動により前記光軸と実質的に平行な第１方向に移動される液浸部材。
【請求項２】
前記第２部材は、前記第１部分と前記第２部分との間に配置され、前記駆動装置の作動により変形する第３部分を含む請求項１に記載の液浸部材。
【請求項３】
前記第１部分及び前記第２部分は、実質的に変形しない請求項２に記載の液浸部材。
【請求項４】
前記面内における第２軸と実質的に平行な第２方向に前記物体が移動する期間の少なくとも一部において、前記物体の上面と前記第２部分の第２下面との間隙が第１寸法になるように前記第２部分が移動され、
前記第２方向への移動後、前記面内において前記第２軸と直交する第３軸と実質的に平行な第３方向に前記物体が移動する期間の少なくとも一部において、前記物体の上面と前記第２部分の第２下面との間隙が前記第１寸法よりも小さい第２寸法になるように前記第２部分が移動される請求項１〜３のいずれか一項に記載の液浸部材。
【請求項５】
前記物体の移動条件に基づいて、前記第２部分が前記第１方向に移動される請求項１〜４のいずれか一項に記載の液浸部材。
【請求項６】
前記第１方向に関する前記第２部分の移動により、前記第２下面と前記物体の上面との間の液体の界面が前記光路に対する放射方向に移動する請求項１〜５のいずれか一項に記載の液浸部材。
【請求項７】
前記第１部分に接続される第１支持部材と、
前記第２部分に接続される第２支持部材と、を備え、
前記第２支持部材が移動されることにより、前記第２部分が移動する請求項１〜６のいずれか一項に記載の液浸部材。
【請求項８】
前記第２上面が面する第１空間に結ばれるように前記第１部材に形成される貫通孔を有し、
前記第２支持部材の少なくとも一部が前記貫通孔に配置され、
前記貫通孔の内側で前記第２支持部材が移動される請求項７に記載の液浸部材。
【請求項９】
前記第１部分は、前記第１支持部材を介して、前記第１部材に支持される請求項７又は８に記載の液浸部材。
【請求項１０】
前記第１部分は、実質的に移動しない請求項１〜９のいずれか一項に記載の液浸部材。
【請求項１１】
前記第１部材は、実質的に移動しない請求項１〜１０のいずれか一項に記載の液浸部材。
【請求項１２】
前記液浸空間を形成するための液体を供給する供給部と、
前記液浸空間の液体の少なくとも一部を回収する回収部と、を備え、
前記供給部からの液体の供給及び前記回収部からの液体の回収と並行して、前記第２部材の少なくとも一部が前記第１方向に移動される請求項１〜１１のいずれか一項に記載の液浸部材。
【請求項１３】
前記回収部は、前記第１部材に配置され、
前記第２上面が面する第１空間及び前記第２下面が面する第２空間の少なくとも一方からの液体の少なくとも一部を回収する請求項１２に記載の液浸部材。
【請求項１４】
前記第２部材の少なくとも一部は、前記回収部と対向する請求項１３に記載の液浸部材。
【請求項１５】
前記回収部は、多孔部材を含む請求項１２〜１４のいずれか一項に記載の液浸部材。
【請求項１６】
前記供給部は、前記第１部材に配置される請求項１２〜１５のいずれか一項に記載の液浸部材。
【請求項１７】
前記第１部材は、前記露光光が通過可能な第１開口を有し、
前記第２部材は、前記露光光が通過可能な第２開口を有する請求項１〜１６のいずれか一項に記載の液浸部材。
【請求項１８】
前記第１部分に前記第２開口が形成される請求項１７に記載の液浸部材。
【請求項１９】
前記射出面から前記露光光が射出される期間の少なくとも一部において、前記第２部分は移動可能である請求項１〜１８のいずれか一項に記載の液浸部材。
【請求項２０】
液体を介して露光光で基板を露光する露光装置であって、
請求項１〜１９のいずれか一項に記載の液浸部材を備える露光装置。
【請求項２１】
前記物体は、前記基板を含み、
前記液浸空間が形成された状態で、前記基板は、前記光学部材の光軸と実質的に垂直な面内において、第１経路を移動後、第２経路を移動し、
前記第１経路において、前記基板の移動は、前記面内における第２軸と実質的に平行な第２方向への移動を含み、
前記第２経路において、前記基板の移動は、前記面内において前記第２軸と直交する第３軸と実質的に平行な第３方向への移動を含み、
前記基板が前記第１経路を移動する期間の少なくとも一部において、前記基板の上面と前記第２部分の第２下面との間隙が第１寸法になるように、前記第２部分が移動され、
前記基板が前記第２経路を移動する期間の少なくとも一部において、前記基板の上面と前記第２部分の第２下面との間隙が前記第１寸法よりも小さい第２寸法になるように、前記第２部分が移動される請求項２０に記載の露光装置。
【請求項２２】
前記基板が前記第１経路を移動するときに前記液浸空間の液体を介して前記基板のショット領域に前記露光光が照射され、前記第２経路を移動するときに前記露光光が照射されない請求項２１に記載の露光装置。
【請求項２３】
前記基板は、前記第２経路を移動した後に、第３経路を移動し、
前記第３経路において、前記基板の移動は、前記第１方向の反対の第３方向への移動を含み、
前記基板が前記第３経路を移動する期間の少なくとも一部において、前記基板の上面と前記第２下面との間隙が前記第２寸法よりも大きい第３寸法になるように、前記第２部材が移動される請求項２１又は２２に記載の露光装置。
【請求項２４】
前記物体は、前記基板を保持して移動する基板ステージを含む請求項２０〜２３のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項２５】
請求項２０〜２４のいずれか一項に記載の露光装置を用いて基板を露光することと、
露光された前記基板を現像することと、を含むデバイス製造方法。
【請求項２６】
光学部材の射出面と基板との間の液体を介して露光光で前記基板を露光する露光方法であって、
前記光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、前記第１部材の下方において前記露光光の光路の周囲の少なくとも一部に配置され前記第１部材の第１下面と間隙を介して対向する第２上面及び前記物体が対向可能な第２下面をそれぞれ有する第１部分と前記光路に対して前記第１部分の外側に配置される第２部分とを含む第２部材とを備える液浸部材を用いて、前記光学部材の下方で移動可能な前記基板上に前記液体の液浸空間を形成することと、
前記液浸空間の前記液体を介して前記射出面から射出される前記露光光で前記基板を露光することと、
前記光学部材の光軸と実質的に垂直な面内において前記基板が移動する期間の少なくとも一部において、駆動装置の作動により前記第２部分を前記光軸と実質的に平行な第１方向に移動することと、を含む露光方法。
【請求項２７】
請求項２６に記載の露光方法を用いて基板を露光することと、
露光された前記基板を現像することと、を含むデバイス製造方法。
【請求項２８】
コンピュータに、光学部材の射出面と基板との間の液体を介して露光光で前記基板を露光する液浸露光装置の制御を実行させるプログラムであって、
前記光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、前記第１部材の下方において前記露光光の光路の周囲の少なくとも一部に配置され前記第１部材の第１下面と間隙を介して対向する第２上面及び前記物体が対向可能な第２下面をそれぞれ有する第１部分と前記光路に対して前記第１部分の外側に配置される第２部分とを含む第２部材とを備える液浸部材を用いて、前記光学部材の下方で移動可能な前記基板上に前記液体の液浸空間を形成することと、
前記液浸空間の前記液体を介して前記射出面から射出される前記露光光で前記基板を露光することと、
前記光学部材の光軸と実質的に垂直な面内において前記基板が移動する期間の少なくとも一部において、駆動装置の作動により前記第２部分を前記光軸と実質的に平行な第１方向に移動することと、を実行させるプログラム。
【請求項２９】
請求項２８に記載のプログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液浸部材、露光装置、露光方法、デバイス製造方法、プログラム、及び記録媒体に関する。
【背景技術】
【０００２】
フォトリソグラフィ工程で用いられる露光装置において、例えば下記特許文献に開示されているような、液体を介して露光光で基板を露光する液浸露光装置が知られている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】米国特許第７８６４２９２号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
液浸露光装置において、例えば液体が所定の空間から流出したり基板などの物体の上に残留したりすると、露光不良が発生する可能性がある。その結果、不良デバイスが発生する可能性がある。
【０００５】
本発明の態様は、露光不良の発生を抑制できる液浸部材、露光装置、及び露光方法を提供することを目的とする。また、本発明の態様は、不良デバイスの発生を抑制できるデバイス製造方法、プログラム、及び記録媒体を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の第１の態様に従えば、光学部材の射出面と基板との間の液体を介して露光光で基板を露光する液浸露光装置で用いられ、光学部材の下方で移動可能な物体上に液浸空間を形成する液浸部材であって、光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、第１部材の下方において露光光の光路の周囲の少なくとも一部に配置され、第１部材の第１下面と間隙を介して対向する第２上面と物体が対向可能な第２下面とを有する第２部材と、を備え、第２部材は、第１部分と、光路に対して第１部分の外側に配置される第２部分と、を含み、光学部材の光軸と実質的に垂直な面内において物体が移動する期間の少なくとも一部において、第２部分が駆動装置の作動により光軸と実質的に平行な第１方向に移動される液浸部材が提供される。
【０００７】
本発明の第２の態様に従えば、液体を介して露光光で基板を露光する露光装置であって、第１の態様の液浸部材を備える露光装置が提供される。
【０００８】
本発明の第３の態様に従えば、第２の態様の露光装置を用いて基板を露光することと、露光された基板を現像することと、を含むデバイス製造方法が提供される。
【０００９】
本発明の第４の態様に従えば、光学部材の射出面と基板との間の液体を介して露光光で基板を露光する露光方法であって、光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、第１部材の下方において露光光の光路の周囲の少なくとも一部に配置され第１部材の第１下面と間隙を介して対向する第２上面及び物体が対向可能な第２下面をそれぞれ有する第１部分と光路に対して第１部分の外側に配置される第２部分とを含む第２部材とを備える液浸部材を用いて、光学部材の下方で移動可能な基板上に液体の液浸空間を形成することと、液浸空間の液体を介して射出面から射出される露光光で基板を露光することと、光学部材の光軸と実質的に垂直な面内において基板が移動する期間の少なくとも一部において、駆動装置の作動により第２部分を光軸と実質的に平行な第１方向に移動することと、を含む露光方法が提供される。
【００１０】
本発明の第５の態様に従えば、第４の態様の露光方法を用いて基板を露光することと、露光された基板を現像することと、を含むデバイス製造方法が提供される。
【００１１】
本発明の第６の態様に従えば、コンピュータに、光学部材の射出面と基板との間の液体を介して露光光で基板を露光する液浸露光装置の制御を実行させるプログラムであって、光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、第１部材の下方において露光光の光路の周囲の少なくとも一部に配置され第１部材の第１下面と間隙を介して対向する第２上面及び物体が対向可能な第２下面をそれぞれ有する第１部分と光路に対して第１部分の外側に配置される第２部分とを含む第２部材とを備える液浸部材を用いて、光学部材の下方で移動可能な基板上に液体の液浸空間を形成することと、液浸空間の液体を介して射出面から射出される露光光で基板を露光することと、光学部材の光軸と実質的に垂直な面内において基板が移動する期間の少なくとも一部において、駆動装置の作動により第２部分を光軸と実質的に平行な第１方向に移動することと、を実行させるプログラムが提供される。
【００１２】
本発明の第７の態様に従えば、第６の態様のプログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体が提供される。
【発明の効果】
【００１３】
本発明の態様によれば、露光不良の発生を抑制できる。また、本発明の態様によれば、不良デバイスの発生を抑制できる。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】本実施形態に係る露光装置の一例を示す図である。
【図２】本実施形態に係る液浸部材の一例を示す側断面図である。
【図３】本実施形態に係る液浸部材の一例を示す側断面図である。
【図４】本実施形態に係る液浸部材の一部を示す側断面図である。
【図５】本実施形態に係る液浸部材を下方から見た図である。
【図６】本実施形態に係る液浸部材の動作の一例を説明するための図である。
【図７】本実施形態に係る露光装置の動作の一例を説明するための図である。
【図８】本実施形態に係る露光装置の動作の一例を説明するための模式図である。
【図９】本実施形態に係る液浸部材の動作の一例を説明するための模式図である。
【図１０】本実施形態に係る液浸部材の動作の一例を説明するための図である。
【図１１】基板ステージの一例を示す図である。
【図１２】デバイスの製造方法の一例を説明するためのフローチャートである。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
以下、本発明の実施形態について図面を参照しながら説明するが、本発明はこれに限定されない。以下の説明においては、ＸＹＺ直交座標系を設定し、このＸＹＺ直交座標系を参照しつつ各部の位置関係について説明する。水平面内の所定方向をＸ軸方向、水平面内においてＸ軸方向と直交する方向をＹ軸方向、Ｘ軸方向及びＹ軸方向のそれぞれと直交する方向（すなわち鉛直方向）をＺ軸方向とする。また、Ｘ軸、Ｙ軸、及びＺ軸まわりの回転（傾斜）方向をそれぞれ、θＸ、θＹ、及びθＺ方向とする。
【００１６】
図１は、本実施形態に係る露光装置ＥＸの一例を示す概略構成図である。本実施形態の露光装置ＥＸは、液体ＬＱを介して露光光ＥＬで基板Ｐを露光する液浸露光装置である。本実施形態においては、基板Ｐに照射される露光光ＥＬの光路Ｋが液体ＬＱで満たされるように液浸空間ＬＳが形成される。液浸空間とは、液体で満たされた部分（空間、領域）をいう。基板Ｐは、液浸空間ＬＳの液体ＬＱを介して露光光ＥＬで露光される。本実施形態においては、液体ＬＱとして、水（純水）を用いる。
【００１７】
本実施形態の露光装置ＥＸは、例えば米国特許第６８９７９６３号、及び欧州特許出願公開第１７１３１１３号等に開示されているような、基板ステージと計測ステージとを備えた露光装置である。
【００１８】
図１において、露光装置ＥＸは、マスクＭを保持して移動可能なマスクステージ１と、基板Ｐを保持して移動可能な基板ステージ２と、基板Ｐを保持せずに、露光光ＥＬを計測する計測部材（計測器）Ｃを搭載して移動可能な計測ステージ３と、基板ステージ２及び計測ステージ３の位置を計測する計測システム４と、マスクＭを露光光ＥＬで照明する照明系ＩＬと、露光光ＥＬで照明されたマスクＭのパターンの像を基板Ｐに投影する投影光学系ＰＬと、液体ＬＱの液浸空間ＬＳを形成する液浸部材５と、露光装置ＥＸ全体の動作を制御する制御装置６と、制御装置６に接続され、露光に関する各種の情報を記憶する記憶装置７とを備えている。
【００１９】
また、露光装置ＥＸは、投影光学系ＰＬ、及び計測システム４を含む各種の計測システムを支持する基準フレーム８Ａと、基準フレーム８Ａを支持する装置フレーム８Ｂと、基準フレーム８Ａと装置フレーム８Ｂとの間に配置され、装置フレーム８Ｂから基準フレーム８Ａへの振動の伝達を抑制する防振装置１０とを備えている。防振装置１０は、ばね装置などを含む。本実施形態において、防振装置１０は、気体ばね（例えばエアマウント）を含む。なお、基板Ｐのアライメントマークを検出する検出システム及び基板Ｐなどの物体の表面の位置を検出する検出システムの一方又は両方が基準フレーム８Ａに支持されてもよい。
【００２０】
また、露光装置ＥＸは、露光光ＥＬが進行する空間ＣＳの環境（温度、湿度、圧力、及びクリーン度の少なくとも一つ）を調整するチャンバ装置９を備えている。空間ＣＳには、少なくとも投影光学系ＰＬ、液浸部材５、基板ステージ２、及び計測ステージ３が配置される。本実施形態においては、マスクステージ１、及び照明系ＩＬの少なくとも一部も空間ＣＳに配置される。
【００２１】
マスクＭは、基板Ｐに投影されるデバイスパターンが形成されたレチクルを含む。マスクＭは、例えばガラス板等の透明板と、その透明板上にクロム等の遮光材料を用いて形成されたパターンとを有する透過型マスクを含む。なお、マスクＭとして、反射型マスクを用いることもできる。
【００２２】
基板Ｐは、デバイスを製造するための基板である。基板Ｐは、例えば半導体ウエハ等の基材と、その基材上に形成された感光膜とを含む。感光膜は、感光材（フォトレジスト）の膜である。また、基板Ｐが、感光膜に加えて別の膜を含んでもよい。例えば、基板Ｐが、反射防止膜を含んでもよいし、感光膜を保護する保護膜（トップコート膜）を含んでもよい。
【００２３】
照明系ＩＬは、照明領域ＩＲに露光光ＥＬを照射する。照明領域ＩＲは、照明系ＩＬから射出される露光光ＥＬが照射可能な位置を含む。照明系ＩＬは、照明領域ＩＲに配置されたマスクＭの少なくとも一部を均一な照度分布の露光光ＥＬで照明する。照明系ＩＬから射出される露光光ＥＬとして、例えば水銀ランプから射出される輝線（ｇ線、ｈ線、ｉ線）及びＫｒＦエキシマレーザ光（波長２４８ｎｍ）等の遠紫外光（ＤＵＶ光）、ＡｒＦエキシマレーザ光（波長１９３ｎｍ）、及びＦ２レーザ光（波長１５７ｎｍ）等の真空紫外光（ＶＵＶ光）等が用いられる。本実施形態においては、露光光ＥＬとして、紫外光（真空紫外光）であるＡｒＦエキシマレーザ光を用いる。
【００２４】
マスクステージ１は、マスクＭを保持した状態で移動可能である。マスクステージ１は、例えば米国特許第６４５２２９２号に開示されているような平面モータを含む駆動システム１１の作動により移動する。本実施形態において、マスクステージ１は、駆動システム１１の作動により、Ｘ軸、Ｙ軸、Ｚ軸、θＸ、θＹ、及びθＺ方向の６つの方向に移動可能である。なお、駆動システム１１は、平面モータを含まなくてもよい。駆動システム１１は、リニアモータを含んでもよい。
【００２５】
投影光学系ＰＬは、投影領域ＰＲに露光光ＥＬを照射する。投影領域ＰＲは、投影光学系ＰＬから射出される露光光ＥＬが照射可能な位置を含む。投影光学系ＰＬは、投影領域ＰＲに配置された基板Ｐの少なくとも一部に、マスクＭのパターンの像を所定の投影倍率で投影する。本実施形態において、投影光学系ＰＬは、縮小系である。投影光学系ＰＬの投影倍率は、１／４である。なお、投影光学系ＰＬの投影倍率は、１／５、又は１／８等でもよい。なお、投影光学系ＰＬは、等倍系及び拡大系のいずれでもよい。本実施形態において、投影光学系ＰＬの光軸は、Ｚ軸と平行である。投影光学系ＰＬは、反射光学素子を含まない屈折系、屈折光学素子を含まない反射系、反射光学素子と屈折光学素子とを含む反射屈折系のいずれでもよい。投影光学系ＰＬは、倒立像及び正立像のいずれを形成してもよい。
【００２６】
投影光学系ＰＬは、露光光ＥＬが射出される射出面１２を有する終端光学素子１３を含む。射出面１２は、投影光学系ＰＬの像面に向けて露光光ＥＬを射出する。終端光学素子１３は、投影光学系ＰＬの複数の光学素子のうち、投影光学系ＰＬの像面に最も近い光学素子である。投影領域ＰＲは、射出面１２から射出される露光光ＥＬが照射可能な位置を含む。本実施形態において、射出面１２は、−Ｚ方向を向いている。射出面１２から射出される露光光ＥＬは、−Ｚ方向に進行する。射出面１２は、ＸＹ平面と平行である。なお、−Ｚ方向を向いている射出面１２は、凸面でもよいし、凹面でもよい。なお、射出面１２は、ＸＹ平面に対して傾斜してもよいし、曲面を含んでもよい。本実施形態において、終端光学素子１３の光軸は、Ｚ軸と平行である。
【００２７】
終端光学素子１３の光軸と平行な方向に関して、射出面１２側が−Ｚ側であり、入射面側が＋Ｚ側である。投影光学系ＰＬの光軸と平行な方向に関して、投影光学系ＰＬの像面側が−Ｚ側であり、投影光学系ＰＬの物体面側が＋Ｚ側である。
【００２８】
基板ステージ２は、基板Ｐを保持した状態で、射出面１２からの露光光ＥＬが照射可能な位置（投影領域ＰＲ）を含むＸＹ平面内を移動可能である。計測ステージ３は、計測部材（計測器）Ｃを搭載した状態で、射出面１２からの露光光ＥＬが照射可能な位置（投影領域ＰＲ）を含むＸＹ平面内を移動可能である。基板ステージ２及び計測ステージ３のそれぞれは、ベース部材１４のガイド面１４Ｇ上を移動可能である。ガイド面１４ＧとＸＹ平面とは実質的に平行である。
【００２９】
基板ステージ２は、例えば米国特許出願公開第２００７／０１７７１２５号、米国特許出願公開第２００８／００４９２０９号等に開示されているような、基板Ｐをリリース可能に保持する第１保持部と、第１保持部の周囲に配置され、カバー部材Ｔをリリース可能に保持する第２保持部とを有する。第１保持部は、基板Ｐの表面（上面）とＸＹ平面とが実質的に平行となるように、基板Ｐを保持する。第１保持部に保持された基板Ｐの上面と、第２保持部に保持されたカバー部材Ｔの上面とは、実質的に同一平面内に配置される。Ｚ軸方向に関して、射出面１２と第１保持部に保持された基板Ｐの上面との距離は、射出面１２と第２保持部に保持されたカバー部材Ｔの上面との距離と実質的に等しい。なお、Ｚ軸方向に関して、射出面１２と基板Ｐの上面との距離が射出面１２とカバー部材Ｔの上面との距離と実質的に等しいとは、射出面１２と基板Ｐの上面との距離と射出面１２とカバー部材Ｔの上面との距離との差が、基板Ｐの露光時における射出面１２と基板Ｐの上面との距離（所謂、ワーキングディスタンス）の例えば１０％以内であることを含む。なお、第１保持部に保持された基板Ｐの上面と、第２保持部に保持されたカバー部材Ｔの上面とは、同一平面内に配置されなくてもよい。例えば、Ｚ軸方向に関して、基板Ｐの上面との位置とカバー部材Ｔの上面の位置とが異なってもよい。例えば、基板Ｐの上面とカバー部材Ｔの上面との間に段差があってよい。なお、基板Ｐの上面に対してカバー部材Ｔの上面が傾斜してもよいし、カバー部材Ｔの上面が曲面を含んでもよい。
【００３０】
基板ステージ２及び計測ステージ３は、例えば米国特許第６４５２２９２号に開示されているような平面モータを含む駆動システム１５の作動により移動する。駆動システム１５は、基板ステージ２に配置された可動子２Ｃと、計測ステージ３に配置された可動子３Ｃと、ベース部材１４に配置された固定子１４Ｍとを有する。基板ステージ２及び計測ステージ３のそれぞれは、駆動システム１５の作動により、ガイド面１４Ｇ上において、Ｘ軸、Ｙ軸、Ｚ軸、θＸ、θＹ、及びθＺ方向の６つの方向に移動可能である。なお、駆動システム１５は、平面モータを含まなくてもよい。駆動システム１５は、リニアモータを含んでもよい。
【００３１】
計測システム４は、干渉計システムを含む。干渉計システムは、基板ステージ２の計測ミラー及び計測ステージ３の計測ミラーに計測光を照射して、その基板ステージ２及び計測ステージ３の位置を計測するユニットを含む。なお、計測システムが、例えば米国特許出願公開第２００７／０２８８１２１号に開示されているようなエンコーダシステムを含んでもよい。なお、計測システム４が、干渉計システム及びエンコーダシステムのいずれか一方のみを含んでもよい。
【００３２】
基板Ｐの露光処理を実行するとき、あるいは所定の計測処理を実行するとき、制御装置６は、計測システム４の計測結果に基づいて、基板ステージ２（基板Ｐ）、及び計測ステージ３(計測部材Ｃ）の位置制御を実行する。
【００３３】
次に、本実施形態に係る液浸部材５について説明する。なお、液浸部材を、ノズル部材、と称してもよい。図２は、液浸部材５のＸＺ平面と平行な断面図、図３は、液浸部材５のＹＺ平面と平行な断面図、図４は、図２の一部を拡大した図、図５は、液浸部材５を下側（−Ｚ側）から見た図である。
【００３４】
液浸部材５は、終端光学素子１３の下方で移動可能な物体上に液体ＬＱの液浸空間ＬＳを形成する。
【００３５】
終端光学素子１３の下方で移動可能な物体は、射出面１２と対向する位置を含むＸＹ平面内を移動可能である。その物体は、射出面１２と対向可能であり、投影領域ＰＲに配置可能である。その物体は、液浸部材５の下方で移動可能であり、液浸部材５と対向可能である。本実施形態において、その物体は、基板ステージ２の少なくとも一部（例えば基板ステージ２のカバー部材Ｔ）、基板ステージ２（第１保持部）に保持された基板Ｐ、及び計測ステージ３の少なくとも一つを含む。基板Ｐの露光において、終端光学素子１３の射出面１２と基板Ｐとの間の露光光ＥＬの光路Ｋが液体ＬＱで満たされるように液浸空間ＬＳが形成される。基板Ｐに露光光ＥＬが照射されているとき、投影領域ＰＲを含む基板Ｐの表面の一部の領域だけが液体ＬＱで覆われるように液浸空間ＬＳが形成される。
【００３６】
以下の説明においては、物体が基板Ｐであることとする。なお、上述のように、物体は、基板ステージ２及び計測ステージ３の少なくとも一方でもよいし、基板Ｐ、基板ステージ２、及び計測ステージ３とは別の物体でもよい。
【００３７】
液浸空間ＬＳは、２つの物体を跨ぐように形成される場合がある。例えば、液浸空間ＬＳは、基板ステージ２のカバー部材Ｔと基板Ｐとを跨ぐように形成される場合がある。液浸空間ＬＳは、基板ステージ２と計測ステージ３とを跨ぐように形成される場合がある。
【００３８】
液浸空間ＬＳは、終端光学素子１３の射出面１２から射出される露光光ＥＬの光路Ｋが液体ＬＱで満たされるように形成される。液浸空間ＬＳの少なくとも一部は、終端光学素子１３と基板Ｐ（物体）との間の空間に形成される。液浸空間ＬＳの少なくとも一部は、液浸部材５と基板Ｐ（物体）との間の空間に形成される。
【００３９】
液浸部材５は、終端光学素子１３の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材２１と、第１部材２１の下方において光路Ｋの周囲の少なくとも一部に配置される第２部材２２とを備える。第１部材２１は、終端光学素子１３及び第２部材２２に接触しないように配置される。第２部材２２は、終端光学素子１３及び第１部材２１に接触しないように配置される。
【００４０】
液浸部材５は、液浸空間ＬＳを形成するための液体ＬＱを供給可能な液体供給部３３と、液浸空間ＬＳの液体ＬＱの少なくとも一部を回収可能な液体回収部２３とを有する。
【００４１】
終端光学素子１３は、−Ｚ方向を向く射出面１２と、射出面１２の周囲に配置される外側面２９とを有する。外側面２９は、露光光ＥＬを射出しない非射出面である。露光光ＥＬは、射出面１２を通過し、外側面２９を通過しない。
【００４２】
第１部材２１は、第２部材２２よりも基板Ｐ（物体）から離れた位置に配置される。第２部材２２の少なくとも一部は、第１部材２１と基板Ｐ（物体）との間に配置される。第２部材２２の少なくとも一部は、終端光学素子１３と基板Ｐ（物体）との間に配置される。なお、第２部材２２は、終端光学素子１３と基板Ｐ（物体）との間に配置されなくてもよい。
【００４３】
第１部材２１は、−Ｚ方向を向く下面２４と、終端光学素子１３の外側面２９と対向する内側面３０と、内側面３０の上端に接続され、＋Ｚ方向を向く上面３１と、内側面３０の下端に接続され、＋Ｚ方向を向く上面３６と、下面２４の内側エッジと上面３６の内側エッジとを結び、少なくとも一部が終端光学素子１３の外側面２９と対向する内側面４３とを有する。内側面３０は、外側面２９と間隙を介して対向する。内側面４３は、外側面２９と間隙を介して対向する。
【００４４】
第２部材２２は、＋Ｚ方向を向く上面２５と、−Ｚ方向を向く下面２６と、光路Ｋに面する内側面４１と、内側面４１の反対側を向く外側面４２とを有する。内側面４１は、上面２５の内側エッジと下面２６の内側エッジとを結ぶ。外側面４２は、上面２５の外側エッジと下面２６の外側エッジとを結ぶ。第２部材２２は、下面２４に対向可能である。第２部材２２の上面２５の少なくとも一部は、下面２４と間隙を介して対向する。上面２５の少なくとも一部は、射出面１２と間隙を介して対向する。なお、上面２５が射出面１２と対向しなくてもよい。
【００４５】
本実施形態において、下面２４、２６（上面２５、３６）の内側エッジとは、光路Ｋ（光軸ＡＸ）に面する下面２４、２６（上面２５、３６）のエッジをいう。下面２４、２６（上面２５、３６）の外側エッジとは、光路Ｋ（光軸ＡＸ）に対する放射方向に関して内側エッジよりも外側の下面２４、２６（上面２５、３６）のエッジをいう。内側エッジは、外側エッジよりも、光路Ｋに近い。
【００４６】
基板Ｐ（物体）は、下面２６に対向可能である。基板Ｐの上面の少なくとも一部は、下面２６と間隙を介して対向する。基板Ｐの上面の少なくとも一部は、射出面１２と間隙を介して対向する。
【００４７】
第１部材２１は、終端光学素子１３の周囲に配置される。第１部材２１は、環状の部材である。第１部材２１と終端光学素子１３との間に間隙が形成される。第１部材２１は、射出面１２と対向しない。なお、第１部材２１の一部が、射出面１２と対向してもよい。すなわち、第１部材２１の一部が、射出面１２と基板Ｐ（物体）の上面との間に配置されてもよい。
【００４８】
第２部材２２は、露光光ＥＬの光路Ｋの周囲に配置される。第２部材２２は、環状の部材である。第２部材２２と第１部材２１との間に間隙が形成される。
【００４９】
第１部材２１の下面２４は、露光光ＥＬの光路Ｋ（終端光学素子１３の光軸ＡＸ）を囲むように配置される。下面２４は、液体ＬＱと接触可能な位置に配置される。下面２４は、液体ＬＱを回収しない。下面２４は、非回収部であり、液体ＬＱを回収不可能である。第１部材２１の下面２４は、第２部材２２との間で液体ＬＱを保持可能である。
【００５０】
第２部材２２の上面２５は、露光光ＥＬの光路Ｋ（終端光学素子１３の光軸ＡＸ）を囲むように配置される。上面２５は、液体ＬＱと接触可能な位置に配置される。上面２５は、液体ＬＱを回収しない。上面２５は、非回収部であり、液体ＬＱを回収不可能である。第２部材２２の上面２５は、第１部材２１との間で液体ＬＱを保持可能である。
【００５１】
第２部材２２の下面２６は、露光光ＥＬの光路Ｋ（終端光学素子１３の光軸ＡＸ）を囲むように配置される。下面２６は、液体ＬＱと接触可能な位置に配置される。下面２６は、液体ＬＱを回収しない。下面２６は、非回収部であり、液体ＬＱを回収不可能である。第２部材２２の下面２６は、基板Ｐ（物体）との間で液体ＬＱを保持可能である。
【００５２】
液体ＬＱと接触可能な位置に配置される終端光学素子１３の射出面１２及び外側面２９は、液体ＬＱを回収しない。射出面１２及び外側面２９は、非回収部であり、液体ＬＱを回収不可能である。終端光学素子１３の射出面１２は、基板Ｐ（物体）との間で液体ＬＱを保持可能である。
【００５３】
液体ＬＱと接触可能な位置に配置される第１部材２１の内側面３０、上面３６、及び内側面４３は、液体ＬＱを回収しない。内側面３０、上面３６、及び内側面４３は、非回収部であり、液体ＬＱを回収不可能である。
【００５４】
液体ＬＱと接触可能な位置に配置される第２部材２２の内側面４１及び外側面４２は、液体ＬＱを回収しない。内側面４１及び外側面４２は、非回収部であり、液体ＬＱを回収不可能である。
【００５５】
上面２５側に第１空間ＳＰ１が形成される。第１空間ＳＰ１は、上面２５が面する空間を含む。第１空間ＳＰ１は、下面２４と上面２５との間の空間を含む。
【００５６】
下面２６側に第２空間ＳＰ２が形成される。第２空間ＳＰ２は、下面２６が面する空間を含む。第２空間ＳＰ２は、下面２６と基板Ｐ（物体）の上面との間の空間を含む。
【００５７】
内側面３０側に第３空間ＳＰ３が形成される。第３空間ＳＰ３は、内側面３０及び内側面４３が面する空間を含む。第３空間ＳＰ３は、外側面２９と内側面３０及び内側面４３との間の空間を含む。
【００５８】
射出面１２側に第４空間ＳＰ４が形成される。第４空間ＳＰ４は、射出面１２が面する空間を含む。第４空間ＳＰ４は、射出面１２と基板Ｐ（物体）との間の空間を含む。第４空間ＳＰ４は、射出面１２と基板Ｐ（物体）との間の露光光ＥＬの光路Ｋを含む。第４空間ＳＰ４は、射出面１２と基板Ｐ（物体）との間の空間、及び射出面１２と上面２５との間の空間を含む。
【００５９】
本実施形態において、第２部材２２は、第１部分２２１と、光路Ｋに対して第１部分２２１の外側に配置される第２部分２２２とを含む。第１部分２２１は、光路Ｋを囲むように配置される。第２部分２２２は、第１部分２２１に対して＋Ｘ側及び−Ｘ側のそれぞれに配置される。
【００６０】
また、第２部材２２は、第１部分２２１と第２部分２２２との間に配置される第３部分２２３を含む。第３部分２２３は、第１部分２２１に対して＋Ｘ側及び−Ｘ側のそれぞれに配置される。第１部分２２１と第２部分２２２とは、第３部分２２３を介して連結される。
【００６１】
本実施形態において、終端光学素子１３は、実質的に移動しない。第１部材２１も、実質的に移動しない。
【００６２】
第１部分２２１は、実質的に移動しない。第１部分２２１は、第１部材２１に対して実質的に移動しない。第１部分２２１と第１部材２１とは相対移動しない。第１部分２２１と第１部材２１との相対位置は変化しない。
【００６３】
第２部分２２２は、移動可能である。第２部分２２２は、終端光学素子１３及び第１部材２１に対して移動可能である。第２部分２２２と終端光学素子１３とは相対移動可能である。第２部分２２２と第１部材２１とは相対移動可能である。第２部分２２２と終端光学素子１３との相対位置は変化する。第２部分２２２と第１部材２１との相対位置は変化する。第２部分２２２は、第１部材２１の下方において移動可能である。第２部分２２２は、第１部材２１と基板Ｐ（物体）との間において移動可能である。
【００６４】
本実施形態において、第２部分２２２は、少なくとも、終端光学素子１３の光軸ＡＸと実質的に平行なＺ軸方向に移動可能である。なお、第２部分２２２は、Ｘ軸、Ｙ軸、Ｚ軸、θＸ、θＹ、及びθＺ方向に移動可能でもよい。
【００６５】
第２部分２２２は、駆動装置２７の作動により移動する。駆動装置２７は、例えばモータを含み、ローレンツ力を使って第２部分２２２を移動可能である。駆動装置２７は、制御装置６に制御される。
【００６６】
第２部分２２２は、駆動装置２７の作動により、Ｚ軸方向に移動可能である。なお、駆動装置２７は、第２部分２２２を、Ｘ軸、Ｙ軸、Ｚ軸、θＸ、θＹ、及びθＺ方向に移動してもよい。
【００６７】
第３部分２２３の少なくとも一部は、変形可能である。第３部分２２３の少なくとも一部は、第１部分２２１及び第２部分２２２よりも柔らかくてもよい。第３部分２２３の少なくとも一部は、伸縮可能でもよい。第３部分２２３の少なくとも一部は、弾性変形可能でもよい。第３部分２２３の少なくとも一部は、可撓性でもよい。駆動装置２７は、第３部分２２３の少なくとも一部を変形可能である。第３部分２２３の少なくとも一部は、駆動装置２７の作動により変形可能である。例えば、第３部分２２３は、駆動装置２７の駆動力に基づいて変形する程度に柔らかくてもよいし、伸縮可能でもよいし、弾性変形可能でもよいし、可撓性を有してもよい。
【００６８】
本実施形態において、第３部分２２３の少なくとも一部は、曲がることができる。駆動装置２７は、第３部分２２３の少なくとも一部を曲げることができる。図５に示すように、第３部分２２３のそれぞれは、Ｙ軸方向に長い。第３部分２２３は、ヒンジ部と呼ばれてもよい。
【００６９】
第３部分２２３の少なくとも一部が変形すると、その第３部分２２３は、終端光学素子１３及び第１部材２１に対して移動する。第３部分２２３と終端光学素子１３とは相対移動可能である。第３部分２２３と第１部材２１とは相対移動可能である。第３部分２２３と第１部材２１との相対位置は変化する。第３部分２２３と終端光学素子１３との相対位置は変化する。第３部分２２３は、第１部材２１の下方において移動可能である。第３部分２２３は、第１部材２１と基板Ｐ（物体）との間において移動可能である。
【００７０】
第１部分２２１及び第２部分２２２は、実質的に変形しない。第１部分２２１及び第２部分２２２は、第３部分２２３よりも硬い。駆動装置２７は、第１部分２２１及び第２部分２２２を変形不可能である。すなわち、第１部分２２１及び第２部分２２２は、駆動装置２７の駆動力に基づいて変形しない程度に硬い。第１部分２２１及び第２部分２２２は、駆動装置２７の作動によっては変形不可能である。
【００７１】
第２部分２２２は、変形可能な第３部分２２３を介して第１部分２２１に連結される。そのため、第１部分２２１が実質的に移動しなくても、駆動装置２７は、第２部分２２２を移動可能である。第１部分２２１が実質的に移動しなくても、第２部分２２２は、第３部分２２３を介して第１部分２２１に連結された状態で、移動可能である。
【００７２】
本実施形態においては、第１部分２２１、第２部分２２２、及び第３部分２２３のそれぞれが、上面２５及び下面２６を有する。以下の説明において、第１部分２２１の上面２５を適宜、第１上面２５１、と称し、第１部分２２１の下面２６を適宜、第１下面２６１、と称する。第２部分２２２の上面２５を適宜、第２上面２５２、と称し、第２部分２２２の下面２６を適宜、第２下面２６２、と称する。第３部分２２３の上面２５を適宜、第３上面２５３、と称し、第３部分２２３の下面２６を適宜、第３下面２６３、と称する。
【００７３】
本実施形態において、液浸部材５は、第１部分２２１に接続される第１支持部材２８１と、第２部分２２２に接続される第２支持部材２８２とを有する。本実施形態において、駆動装置２７は、第２支持部材２８２を移動する。第２支持部材２８２は、駆動装置２７の作動によって移動可能である。駆動装置２７によって第２支持部材２８２が移動されることにより、第２部分２２２が移動する。本実施形態においては、駆動装置２７は、第２支持部材２８２を、少なくともＺ軸方向に移動する。駆動装置２７によって第２支持部材２８２がＺ軸方向に移動されることにより、第２部分２２２がＺ軸方向に移動する。
【００７４】
本実施形態において、第２支持部材２８２は、第２部分２２２の第２上面２５２の一部に接続される。本実施形態において、第２支持部材２８２は、第１部分２２１に対して＋Ｘ側に配置された第２部分２２２、及び−Ｘ側に配置された第２部分２２２のそれぞれに接続される。第２支持部材２８２は、光路Ｋ（終端光学素子１３の光軸ＡＸ）に対して＋Ｘ側及び−Ｘ側のそれぞれに配置される。駆動装置２７は、第１部分２２１（光路Ｋ）に対して＋Ｘ側に配置された第２部分２２２（第２支持部材２８２）、及び−Ｘ側に配置された第２部分２２２（第２支持部材２８２）のそれぞれに接続される。
【００７５】
制御装置６は、第１部分２２１（光路Ｋ）に対して＋Ｘ側に配置された第２部分２２２と、−Ｘ側に配置された第２部分２２２とを別個に移動可能である。例えば、第１部分２２１（光路Ｋ）に対して＋Ｘ側に配置されている第２部分２２２が＋Ｚ方向に移動される期間の少なくとも一部において、−Ｘ側に配置された第２部分２２２が−Ｚ方向に移動されてもよい。第１部分２２１（光路Ｋ）に対して＋Ｘ側に配置されている第２部分２２２がＺ軸方向に移動される期間の少なくとも一部において、−Ｘ側に配置された第２部分２２２の移動が停止されてもよい。第１部分２２１（光路Ｋ）に対して＋Ｘ側に配置されている第２部分２２２が第１速度で移動される期間の少なくとも一部において、−Ｘ側に配置された第２部分２２２が第１速度とは異なる第２速度で移動されてもよい。第１部分２２１（光路Ｋ）に対して＋Ｘ側に配置されている第２部分２２２が第１加速度で移動される期間の少なくとも一部において、−Ｘ側に配置された第２部分２２２が第１加速度とは異なる第２加速度で移動されてもよい。
【００７６】
本実施形態において、第２支持部材２８２の少なくとも一部は、第１部材２１に形成された孔３２に配置される。第２支持部材２８２は、孔３２の内側において移動可能である。
【００７７】
孔３２は、Ｚ軸方向に関して、第１部材２１の上側の空間と下側の空間を結ぶように第１部材２１に形成される。孔３２は、第１空間ＳＰ１に結ばれるように第１部材２１に形成される。本実施形態において、孔３２は、第１空間ＳＰ１と第３空間ＳＰ３とを結ぶように第１部材２１に形成される。孔３２は、第１部材２１の下面２４と内側面３０とを結ぶように形成される。孔３２の下端が第１空間ＳＰ１に面する。孔３２の上端が第３空間ＳＰ３に面する。本実施形態において、孔３２は、第１空間ＳＰ１と第３空間ＳＰ３とを結ぶように第１部材２１を貫通する貫通孔である。
【００７８】
なお、孔３２は、第１空間ＳＰ１と上面３１が面する空間とを結ぶように第１部材２１に形成されてもよい。すなわち、孔３２は、上面３１と下面２４とを結ぶように形成されてもよい。
【００７９】
本実施形態において、孔３２は、複数形成される。孔３２は、光路Ｋ（終端光学素子１３の光軸ＡＸ）に対して＋Ｘ側及び−Ｘ側のそれぞれに配置される。複数の第２支持部材２８２は、第１部材２１に設けられた複数の孔３２のそれぞれに移動可能に配置される。
【００８０】
第２支持部材２８２は、孔３２の内側において、Ｚ軸方向に移動可能である。駆動装置２７により第２支持部材２８２がＺ軸方向に移動されることにより、第２部分２２２がＺ軸方向に移動する。
【００８１】
本実施形態において、駆動装置２７は、内側面３０側において第２支持部材２８２に接続される。すなわち、本実施形態において、駆動装置２７は、第１部材２１の上側の空間において第２支持部材２８２に接続される。駆動装置２７は、直接的に第２支持部材２８２に接続されてもよいし、間接的に第２支持部材２８２に接続されてもよい。例えば、駆動装置２７の可動子が、直接的に第２支持部材２８２に接続されてもよい。駆動装置２７の可動子と第２支持部材２８２とが、第２支持部材２８２とは別の部材を介して接続されてもよい。
【００８２】
本実施形態において、第１部材２１と第２部材２２とは接触しない。第１部材２１（孔３２の内面）と第２支持部材２８２とは接触しない。第１部材２１と第２部材２２との間に間隙が形成される。第１部材２１と第２支持部材２８２との間に間隙が形成される。第２部材２２（第２部分２２２及び第３部分２２３）は、第１部材２１と接触しないように、第１部材２１の下面２４側において移動可能である。第２支持部材２８２は、第１部材２１と接触しないように、孔３２の内側において移動可能である。駆動装置２７は、第２部材２２及び第２支持部材２８２と第１部材２１とが接触しないように、第２部材２２（第２部分２２２及び第３部分２２３）及び支持部材２８を移動可能である。
【００８３】
なお、駆動装置２７は、複数設けられてもよい。複数の第２支持部材２８２のそれぞれに駆動装置２７が接続されてもよい。例えば、第２支持部材２８２が複数配置される場合、一つの第２支持部材２８２に対して少なくとも一つの駆動装置２７が接続されてもよい。なお、一つの第２支持部材２８２に複数の駆動装置２７が接続され、それら複数の駆動装置２７が一つの第２支持部材２８２を移動してもよい。
【００８４】
本実施形態において、第１支持部材２８１は、第１部分２２１の第１上面２５１の一部に接続される。第１部分２２１は、第１支持部材２８１を介して、第１部材２１に支持される。本実施形態において、第１支持部材２８１の上端は、第１部材２１の下面２４の一部に接続される。第１支持部材２８１の下端は、第１部分２２１の第１上面２５１の一部に接続される。第１支持部材２８１に接続された第１部分２２１の位置は、実質的に固定される。第１部分２２１と第１部材２１との相対位置は変化しない。
【００８５】
第１支持部材２８１は、例えばロッド部材である。第１支持部材２８１は、光路Ｋの周囲に複数配置される。隣り合う第１支持部材２８１の間に、液体ＬＱが流通可能な流路が形成される。なお、第１支持部材２８１が、光路Ｋを囲む周壁部材と、その周壁部材の少なくとも一部に形成され、周壁部材の内側の空間と外側の空間との間において液体ＬＱが流通可能な開口（流路）とを有してもよい。
【００８６】
本実施形態において、第１部材２１は、装置フレーム８Ｂに支持される。第１部材２１は、支持部材（不図示）を介して、装置フレーム８Ｂに支持される。なお、第１部材２１が、支持部材（不図示）を介して、基準フレーム８Ａに支持されてもよい。
【００８７】
本実施形態において、第２部材２２は、装置フレーム８Ｂに支持される。本実施形態において、駆動装置２７は、装置フレーム８Ｂに支持される。なお、駆動装置２７は、支持機構（不図示）を介して、装置フレーム８Ｂに支持されてもよい。第２部材２２（第２部分２２２）は、第２支持部材２８２及び駆動装置２７を介して、装置フレーム８Ｂに支持される。これにより、第２部分２２２の移動により振動が発生しても、防振装置１０によって、その振動が基準フレーム８Ａに伝達されることが抑制される。なお、第２部材２２（第２部分２２２）は、第２支持部材２８２を介して、基準フレーム８Ａに支持されてもよい。
【００８８】
本実施形態において、下面２４は、ＸＹ平面と実質的に平行である。第１上面２５１も、ＸＹ平面と実質的に平行である。第１下面２６１も、ＸＹ平面と実質的に平行である。すなわち、下面２４と第１上面２５１とは、実質的に平行である。第１上面２５１と第１下面２６１とは、実質的に平行である。
【００８９】
本実施形態において、第２上面２５２と第２下面２６２とは、実質的に平行である。また、図２及び図４に示すように、第２部分２２２は、Ｚ軸方向に関して第１下面２６１と第２下面２６２とが実質的に同じ位置（高さ）になるように移動可能である。第２部分２２２は、第１下面２６１と第２下面２６２とが同一面内（ＸＹ平面内）に配置されるように移動可能である。
【００９０】
また、Ｚ軸方向に関して第１下面２６１と第２下面２６２とが実質的に同じ位置（高さ）に配置される状態において、第３下面２６３も、第１下面２６１及び第２下面２６２と実質的に同じ位置（高さ）になるように配置される。第１下面２６１と第２下面２６２と第３下面２６３とは、同一面内（ＸＹ平面内）に配置可能である。
【００９１】
本実施形態において、第１上面２５１と第１下面２６１との距離（第１部分２２１の厚み）と、第２上面２５２と第２下面２６２との距離（第２部分２２２の厚み）とは、実質的に等しい。なお、第１上面２５１と第１下面２６１との距離（第１部分２２１の厚み）が、第２上面２５２と第２下面２６２との距離（第２部分２２２の厚み）よりも、大きくてもよいし、小さくてもよい。
【００９２】
本実施形態において、第３上面２５３と第３下面２６３との距離（第３部分２２３の厚み）は、第１上面２５１と第１下面２６１との距離（第１部分２２１の厚み）よりも小さい。また、第３上面２５３と第３下面２６３との距離（第３部分２２３の厚み）は、第２上面２５２と第２下面２６２との距離（第２部分２２２の厚み）よりも小さい。なお、第３上面２５３と第３下面２６３との距離（第３部分２２３の厚み）は、第１上面２５１と第１下面２６１との距離（第１部分２２１の厚み）よりも大きくてもよいし、実質的に等しくてもよい。なお、第３上面２５３と第３下面２６３との距離（第３部分２２３の厚み）は、第２上面２５２と第２下面２６２との距離（第２部分２２２の厚み）よりも大きくてもよいし、実質的に等しくてもよい。
【００９３】
なお、下面２４が、ＸＹ平面に対して非平行でもよい。下面２４は、ＸＹ平面に対して傾斜してもよいし、曲面を含んでもよい。
【００９４】
なお、第１上面２５１が、ＸＹ平面に対して非平行でもよい。第１上面２５１は、ＸＹ平面に対して傾斜してもよいし、曲面を含んでもよい。
【００９５】
なお、第１下面２６１が、ＸＹ平面に対して非平行でもよい。第１下面２６１は、ＸＹ平面に対して傾斜してもよいし、曲面を含んでもよい。
【００９６】
なお、下面２４と第１上面２５１とは、平行でもよいし、非平行でもよい。第１上面２５１と第１下面２６１とは、平行でもよいし、非平行でもよい。下面２４と第１下面２６１とは、平行でもよいし、非平行でもよい。
【００９７】
なお、第２上面２５２と第２下面２６２とは、平行でもよい。
【００９８】
本実施形態において、第１部材２１の内側面３０は、Ｚ軸（終端光学素子１３の光軸ＡＸ）に対して傾斜する。内側面３０は、光路Ｋ（終端光学素子１３の光軸ＡＸ）に対する放射方向に関して外側に向かって上方に傾斜する。内側面３０と外側面２９とは実質的に平行である。なお、内側面３０と外側面２９とは非平行でもよい。
【００９９】
本実施形態において、第１部材２１の内側面４３は、Ｚ軸（終端光学素子１３の光軸ＡＸ）に対して傾斜する。内側面４３は、光路Ｋ（終端光学素子１３の光軸ＡＸ）に対する放射方向に関して外側に向かって上方に傾斜する。内側面４３と外側面２９とは実質的に平行である。内側面４３と外側面２９との間隙の寸法は、内側面３０と外側面２９との間隙の寸法よりも小さい。なお、内側面４３と外側面２９とは非平行でもよい。
【０１００】
本実施形態において、第２部材２２（第１部分２２１）の内側面４１は、Ｚ軸（終端光学素子１３の光軸ＡＸ）と実質的に平行である。内側面４１と上面２５（第１上面２５１）とがなす角度は、実質的に９０度である。内側面４１と下面２６（第１下面２６１）とがなす角度は、実質的に９０度である。
【０１０１】
なお、内側面４１は、Ｚ軸に対して傾斜してもよい。例えば、内側面４１は、光路Ｋ（終端光学素子１３の光軸ＡＸ）に対する放射方向に関して外側に向かって上方に傾斜してもよい。内側面４１は、光路Ｋ（終端光学素子１３の光軸ＡＸ）に対する放射方向に関して外側に向かって下方に傾斜してもよい。
【０１０２】
本実施形態において、第２部材２２（第３部分２２３）の外側面４２は、Ｚ軸（終端光学素子１３の光軸ＡＸ）と実質的に平行である。外側面４２と上面２５（第３上面２５３）とがなす角度は、実質的に９０度である。外側面４２と下面２６（第３下面２６３）とがなす角度は、実質的に９０度である。
【０１０３】
なお、第３下面２６３がＸＹ平面と実質的に平行に配置されている状態において、外側面４２は、Ｚ軸に対して傾斜してもよい。例えば、外側面４２は、光路Ｋ（終端光学素子１３の光軸ＡＸ）に対する放射方向に関して外側に向かって上方に傾斜してもよい。外側面４２は、光路Ｋ（終端光学素子１３の光軸ＡＸ）に対する放射方向に関して外側に向かって下方に傾斜してもよい。
【０１０４】
本実施形態において、下面２４の内側エッジと上面２５との間に開口４０が形成される。開口４０は、光路Ｋに面するように配置される。なお、開口４０は、第３空間ＳＰ３に面するように配置されてもよい。
【０１０５】
第１部材２１は、射出面１２から射出された露光光ＥＬが通過可能な開口３４を有する。第２部材２２は、射出面１２から射出された露光光ＥＬが通過可能な開口３５を有する。第２部材２２の第１部分２２１に開口３５が形成される。開口３４の内側に終端光学素子１３の少なくとも一部が配置される。開口３４の上端の周囲に上面３６が配置される。開口３４の下端の周囲に下面２４が配置される。開口３５の上端の周囲に上面２５が配置される。開口３５の下端の周囲に下面２６が配置される。
【０１０６】
ＸＹ平面内における開口３４の寸法は、開口３５の寸法よりも大きい。Ｘ軸方向に関して、開口３４の寸法は、開口３５の寸法よりも大きい。Ｙ軸方向に関して、開口３４の寸法は、開口３５の寸法よりも大きい。本実施形態において、射出面１２の直下に第１部材２１は配置されない。第１部材２１の開口３４は、射出面１２の周囲に配置される。開口３４は、射出面１２よりも大きい。終端光学素子１３の外側面２９と第１部材２１との間に形成された間隙の下端の開口４４は、第２部材２２の上面２５に面する。第２部材２２の開口３５は、射出面１２と対向するように配置される。本実施形態において、ＸＹ平面内における開口３５の形状は、長方形状である。開口３５は、Ｘ軸方向に長い。なお、開口３５の形状は、Ｘ軸方向に長い楕円形でもよいし、Ｘ軸方向に長い多角形でもよい。
【０１０７】
なお、開口３４の寸法が開口３５の寸法よりも小さくてもよい。なお、開口３４の寸法が開口３５の寸法と実質的に等しくてもよい。
【０１０８】
なお、本実施形態において、第１部材２１は環状でなくてもよい。例えば、第１部材２１は、終端光学素子１３（光路Ｋ）の周囲の一部に配置されてもよい。例えば、第１部材２１は、終端光学素子１３（光路Ｋ）の周囲において複数配置されてもよい。
【０１０９】
本実施形態において、第１空間ＳＰ１と第４空間ＳＰ４とは、開口４０を介して結ばれる。第３空間ＳＰ３と第４空間ＳＰ４とは、開口４４を介して結ばれる。第１空間ＳＰ１と第３空間ＳＰ３とは、開口４０及び開口４４を介して結ばれる。換言すれば、第１空間ＳＰ１と第３空間ＳＰ３とは、第４空間ＳＰ４を介して結ばれる。第２空間ＳＰ２と第４空間ＳＰ４とは、第２部材２２（下面２６）の内側エッジと基板Ｐ（物体）との間の開口４６を介して結ばれる。第２空間ＳＰ２と第３空間ＳＰ３とは、開口４４、第２部材２２（上面２５）の内側エッジと射出面１２との間の開口４５、及び開口４６を介して結ばれる。換言すれば、第２空間ＳＰ２と第３空間ＳＰ３とは、第４空間ＳＰ４を介して結ばれる。
【０１１０】
第１空間ＳＰ１と第２空間ＳＰ２とは、開口４０、開口４５、及び開口４６を介して結ばれる。換言すれば、第１空間ＳＰ１と第２空間ＳＰ２とは、第２部材２２の内側エッジが面する空間（第４空間ＳＰ４）を介して結ばれる。第２部材２２の内側エッジが面する空間は、第２部材２２の内側面４１が面する空間を含む。
【０１１１】
また、第１空間ＳＰ１と第２空間ＳＰ２とは、第２部材２２（上面２５）の外側エッジと第１部材２１との間の開口４７、及び第２部材２２（下面２６）の外側エッジと基板Ｐ（物体）との間の開口４８を介して結ばれる。換言すれば、第１空間ＳＰ１と第２空間ＳＰ２とは、第２部材２２の外側エッジが面する空間（液体回収部２３と基板Ｐとの間の空間）を介して結ばれる。第２部材２２の外側エッジが面する空間は、第２部材２２の外側面４２が面する空間を含む。
【０１１２】
液体ＬＱは、第１空間ＳＰ１、第２空間ＳＰ２、第３空間ＳＰ３、及び第４空間ＳＰ４のそれぞれを流れることができる。第２部材２２は、終端光学素子１３の光軸ＡＸと垂直なＸＹ平面内において移動可能である。第２部材２２は、ＸＹ平面と実質的に平行に移動可能である。本実施形態において、第２部材２２は、少なくともＸ軸方向に移動可能である。
【０１１３】
液体供給部３３は、光路Ｋ（終端光学素子１３の光軸ＡＸ）に対する放射方向に関して液体回収部２３の内側に配置される。液体供給部３３は、液浸部材５に配置される開口（液体供給口）を含む。本実施形態において、液体供給部３３は、第１部材２１に配置される。本実施形態において、液体供給部３３は、第１部材２１の内側面３０に配置される。
【０１１４】
液体供給部３３は、第３空間ＳＰ３に面するように配置される。液体供給部３３は、外側面２９に対向するように配置される。液体供給部３３は、第３空間ＳＰ３に液体ＬＱを供給する。
【０１１５】
本実施形態において、液体供給部３３は、露光光ＥＬの光路Ｋ（終端光学素子１３の光軸ＡＸ）に対して＋Ｘ側及び−Ｘ側のそれぞれに配置される。なお、液体供給部３３は、露光光ＥＬの光路Ｋ（終端光学素子１３の光軸ＡＸ）に対してＹ軸方向に配置されてもよいし、Ｘ軸方向及びＹ軸方向を含む露光光ＥＬの光路Ｋ（終端光学素子１３の光軸ＡＸ）の周囲に複数配置されてもよい。液体供給部３３は、一つでもよい。
【０１１６】
本実施形態において、液体供給部３３は、第１部材２１の内部に形成された供給流路３３Ｒを介して、液体供給装置３３Ｓと接続される。液体供給装置３３Ｓは、クリーンで温度調整された液体ＬＱを液体供給部３３に供給可能である。液体供給部３３は、液浸空間ＬＳを形成するために、液体供給装置３３Ｓからの液体ＬＱを供給する。
【０１１７】
本実施形態において、液体供給部３３から供給された液体ＬＱは、上面３６を流れた後、開口３４（開口４４）を介して、上面２５に供給される。上面２５に供給された液体ＬＱの少なくとも一部は、開口４０を介して、第１空間ＳＰ１に供給される（流入する）。また、上面２５に供給された液体ＬＱの少なくとも一部は、開口３５（開口４５）を介して、射出面１２と対向する基板Ｐ（物体）上に供給される。これにより、光路Ｋが液体ＬＱで満たされる。また、基板Ｐ（物体）上に供給された液体ＬＱの少なくとも一部は、開口４６を介して、第２空間ＳＰ２に供給される（流入する）。
【０１１８】
液体回収部２３は、第１部材２１に配置される。液体回収部２３は、露光光ＥＬの光路Ｋ（終端光学素子１３の光軸ＡＸ）に対して下面２４の外側に配置される。液体回収部２３は、液浸部材５に配置される開口（液体回収口）を含む。
【０１１９】
液体回収部２３は、露光光ＥＬの光路Ｋ（終端光学素子１３の光軸ＡＸ）に対する放射方向に関して下面２４の外側に配置される。液体回収部２３は、露光光ＥＬの光路Ｋ（終端光学素子１３の光軸ＡＸ）に対する放射方向に関して液体供給部３３の外側に配置される。
【０１２０】
液体回収部２３は、露光光ＥＬの光路Ｋ（終端光学素子１３の光軸ＡＸ）の周囲の少なくとも一部に配置される。液体回収部２３は、下面２４の周囲の少なくとも一部に配置される。図５に示すように、本実施形態において、液体回収部２３は、露光光ＥＬの光路Ｋ（終端光学素子１３の光軸ＡＸ）の周囲に配置される。液体回収部２３は、下面２４の周囲に配置される。
【０１２１】
第２部材２２は、下面２４の全部と対向する。第２部材２２の少なくとも一部は、液体回収部２３と対向する。本実施形態においては、第２部分２２２の少なくとも一部が、液体回収部２３と対向する。なお、第２部分２２２及び第３部分２２３の少なくとも一部が、液体回収部２３と対向してもよい。なお、第２部分２２２、第３部分２２３、及び第１部分２２１の少なくとも一部が、液体回収部２３と対向してもよい。液体回収部２３の少なくとも一部は、第２部材２２の外側に配置される。液体回収部２３の一部が、第２部材２２の周囲に配置される。
【０１２２】
なお、液体回収部２３は、露光光ＥＬの光路Ｋ（終端光学素子１３の光軸ＡＸ）の周囲の一部に配置されてもよい。例えば、液体回収部２３は、光路Ｋ（終端光学素子１３の光軸ＡＸ）の周囲に複数配置されてもよい。
【０１２３】
液体回収部２３の少なくとも一部は、基板Ｐ（物体）が対向するように配置される。また、液体回収部２３の少なくとも一部は、第２部材２２が対向するように配置される。  本実施形態において、基板Ｐ（物体）は、液体回収部２３の少なくとも一部と対向可能である。第２部材２２は、液体回収部２３の少なくとも一部と対向可能である。すなわち、本実施形態において、液体回収部２３に、基板Ｐ（物体）及び第２部材２２が対向可能である。液体回収部２３は、基板Ｐ（物体）の少なくとも一部及び第２部材２２の少なくとも一部と同時に対向可能である。
【０１２４】
液体回収部２３は、第１空間ＳＰ１及び第２空間ＳＰ２の少なくとも一方からの液体ＬＱを回収可能である。すなわち、液体回収部２３は、第１空間ＳＰ１からの液体ＬＱの少なくとも一部を回収可能である。液体回収部２３は、第２空間ＳＰ２からの液体ＬＱの少なくとも一部を回収可能である。第１空間ＳＰ１の液体ＬＱは、開口４７を介して、液体回収部２３に流入可能である。第２空間ＳＰ２の液体ＬＱは、開口４８を介して、液体回収部２３に流入可能である。
【０１２５】
上述のように、第１空間ＳＰ１と第２空間ＳＰ２とは結ばれている。液体ＬＱは、第１空間ＳＰ１及び第２空間ＳＰ２の一方から他方へ移動可能である。第１空間ＳＰ１の液体ＬＱは、第２部材２２の外側エッジが面する空間（液体回収部２３と基板Ｐとの間の空間）を介して、第２空間ＳＰ２に移動可能である。第２空間ＳＰ２の液体ＬＱは、第２部材２２の外側エッジが面する空間（液体回収部２３と基板Ｐとの間の空間）を介して、第１空間ＳＰ１に移動可能である。
【０１２６】
また、第１空間ＳＰ１の液体ＬＱは、第２部材２２の内側エッジが面する空間（第４空間ＳＰ４）を介して、第２空間ＳＰ２に移動可能である。第２空間ＳＰ２の液体ＬＱは、第２部材２２の内側エッジが面する空間（第４空間ＳＰ４）を介して、第１空間ＳＰ１に移動可能である。
【０１２７】
液体回収部２３は、第１部材２１の内部に形成された回収流路（空間）３７Ｒを介して、液体回収装置３７Ｃと接続される。液体回収装置３７Ｃは、液体回収部２３と真空システムとを接続可能である。第１空間ＳＰ１からの液体ＬＱの少なくとも一部は、液体回収部２３を介して回収流路３７Ｒに流入可能である。また、第２空間ＳＰ２からの液体ＬＱの少なくとも一部は、液体回収部２３を介して回収流路３７Ｒに流入可能である。
【０１２８】
本実施形態において、液体回収部２３は、多孔部材３８を含む。液体回収口は、多孔部材３８の孔３７を含む。本実施形態において、多孔部材３８は、メッシュプレートを含む。多孔部材３８は、上面２５及び基板Ｐ（物体）の少なくとも一方が対向可能な下面３９と、回収流路３７Ｒに面する上面と、下面と上面とを結ぶ複数の孔３７とを有する。液体回収部２３は、多孔部材３８の孔３７を介して液体ＬＱを回収する。液体回収部２３（多孔部材３８の孔３７）から回収された第１空間ＳＰ１からの液体ＬＱ及び第２空間ＳＰ２からの液体ＬＱの少なくとも一部は、回収流路３７Ｒに流入し、その回収流路３７Ｒを流れて、液体回収装置３７Ｃに回収される。
【０１２９】
本実施形態においては、液体回収部２３を介して実質的に液体ＬＱのみが回収され、気体の回収が制限されている。制御装置６は、第１空間ＳＰ１の液体ＬＱが多孔部材３８の孔３７を通過して回収流路３７Ｒに流入し、気体は通過しないように、多孔部材３８の下面側の圧力（第１、第２空間ＳＰ１、ＳＰ２側の圧力）と上面側の圧力（回収流路３７Ｒの圧力）との差を調整する。なお、多孔部材を介して液体のみを回収する技術の一例が、例えば米国特許第７２９２３１３号などに開示されている。
【０１３０】
なお、多孔部材３８を介して液体ＬＱ及び気体の両方が回収（吸引）されてもよい。なお、第１部材２１に多孔部材３８が設けられなくてもよい。すなわち、多孔部材を介さずに第１空間ＳＰ１及び第２空間ＳＰ２の少なくとも一方からの流体（液体ＬＱ及び気体の一方又は両方）が回収されてもよい。
【０１３１】
本実施形態において、液体回収部２３の下面は、多孔部材３８の下面を含む。液体回収部２３の下面は、下面２４の周囲に配置される。本実施形態において、液体回収部２３の下面は、ＸＹ平面と実質的に平行である。本実施形態において、液体回収部２３の下面と下面２４とは、同一平面内に配置される（面一である）。
【０１３２】
なお、液体回収部２３の下面が下面２４よりも＋Ｚ側に配置されてもよいし、−Ｚ側に配置されてもよい。なお、液体回収部２３の下面が下面２４に対して傾斜してもよいし、曲面を含んでもよい。
【０１３３】
本実施形態においては、液体供給部３３からの液体ＬＱの供給動作と並行して、液体回収部２３からの液体ＬＱの回収動作が実行されることによって、一方側の終端光学素子１３及び液浸部材５と、他方側の基板Ｐ（物体）との間に液体ＬＱで液浸空間ＬＳが形成される。
【０１３４】
液浸空間ＬＳの液体ＬＱの界面ＬＧの一部は、液浸部材５と基板Ｐ（物体）との間に形成される。図２、図３、及び図４に示す例において、界面ＬＧは、第１部材２１と基板Ｐ（物体）との間に形成される。
【０１３５】
また、液浸空間ＬＳの液体ＬＱの界面ＬＧの一部は、液浸部材５と終端光学素子１３との間に形成される。図２、図３、及び図４に示す例において、界面ＬＧは、第１部材２１と終端光学素子１３との間に形成される。
【０１３６】
以下の説明において、第１部材２１と基板Ｐ（物体）との間に形成される液体ＬＱの界面ＬＧを適宜、第１界面ＬＧ１、と称し、第１部材２１と終端光学素子１３との間に形成される液体ＬＱの界面ＬＧを適宜、第２界面ＬＧ２、と称する。
【０１３７】
なお、液浸空間ＬＳが形成されている状態において、第１部材２１と第２部材２２との間に液体ＬＱの界面ＬＧが形成される場合があるし、第２部材２２と基板Ｐ（物体）との間に液体ＬＱの界面ＬＧが形成される場合もある。
【０１３８】
次に、第２部材２２の動作の一例について説明する。第２部材２２は、基板Ｐ（物体）と独立して移動可能である。
【０１３９】
第２部分２２２は、液浸空間ＬＳが形成されている状態において移動されてもよい。第２部分２２２は、液浸空間ＬＳの液体ＬＱが接触された状態において移動されてもよい。第２部分２２２は、第１空間ＳＰ１及び第２空間ＳＰ２に液体ＬＱが存在する状態で移動されてもよい。第２部分２２２は、第２部分２２２の一部が液浸空間ＬＳに配置された状態（液浸空間ＬＳの液体ＬＱに浸かった状態）において移動されてもよい。第２部分２２２は、第２部分２２２の全部が液浸空間ＬＳに配置された状態（液浸空間ＬＳの液体ＬＱに使った状態）において移動されてもよい。
【０１４０】
なお、第２部分２２２は、第２部材２２と基板Ｐ（物体）とが対向しない状態において移動されてもよい。第２部分２２２は、第２部材２２の下方に物体が存在しない状態において移動されてもよい。
【０１４１】
なお、第２部分２２２は、第２部材２２と基板Ｐ（物体）との間の空間に液体ＬＱが存在しない状態で移動されてもよい。第２部分２２２は、液浸空間ＬＳが形成されていない状態において移動されてもよい。
【０１４２】
第２部分２２２は、射出面１２から露光光ＥＬが射出される期間の少なくとも一部と並行して移動されてもよい。第２部分２２２は、液浸空間ＬＳが形成されている状態で射出面１２から露光光ＥＬが射出される期間の少なくとも一部と並行して移動されてもよい。
【０１４３】
第２部分２２２は、基板Ｐ（物体）の移動と協調して移動されてもよい。第２部分２２２は、基板Ｐ（物体）の移動の少なくとも一部と並行して移動されてもよい。第２部材２２は、基板Ｐ（物体）が移動する期間の少なくとも一部において移動されてもよい。第２部材２２は、液浸空間ＬＳが形成されている状態で基板Ｐ（物体）が移動する期間の少なくとも一部と並行して移動されてもよい。
【０１４４】
第２部分２２２は、基板Ｐ（物体）の移動条件に基づいて移動されてもよい。第２部分２２２は、基板Ｐ（物体）の移動条件に基づいてＺ軸方向に移動されてもよい。制御装置６は、基板Ｐ（物体）の移動条件に基づいて、基板Ｐ（物体）の移動の少なくとも一部と並行して第２部分２２２を移動してもよい。制御装置６は、液浸空間ＬＳが形成され続けるように、液体供給部３３からの液体ＬＱの供給と液体回収部２３からの液体ＬＱの回収とを行いながら、第２部分２２２を移動してもよい。
【０１４５】
図６は、第２部分２２２が移動する状態の一例を示す図である。図６（Ａ）及び図６（Ｂ）に示すように、第２部分２２２は、液浸空間ＬＳが形成されている状態で、Ｚ軸方向に移動可能である。なお、第２部材２２は、例えばＸ軸方向に移動しつつＺ軸方向に移動してもよいし、Ｙ軸方向に移動しつつＺ軸方向に移動してもよい。
【０１４６】
本実施形態において、第２部分２２２は、Ｚ軸方向に関して規定された移動可能範囲（可動範囲）を移動可能である。図６（Ａ）は、移動可能範囲の最も−Ｚ側の端（下端）に第２部分２２２が配置された状態を示す。図６（Ｂ）は、移動可能範囲の最も＋Ｚ側の端（上端）に第２部分２２２が配置された状態を示す。
【０１４７】
以下の説明において、移動可能範囲の最も下端の第２部分２２２の位置を適宜、下端位置、と称し、最も上端の第２部分２２２の位置を適宜、上端位置、と称する。
【０１４８】
図６（Ａ）に示すように、本実施形態においては、第２部分２２２が下端位置に配置されている状態において、Ｚ軸方向に関して第１下面２６１と第２下面２６２とが実質的に同じ位置（高さ）に配置される。また、第２部分２２２が下端位置に配置されている状態において、第１下面２６１と第２下面２６２と第３下面２６３とは、実質的にＸＹ平面と平行な同一面内に配置される。
【０１４９】
図６（Ｂ）に示すように、本実施形態においては、第２部分２２２が上端位置に配置されている状態において、Ｚ軸方向に関して第２下面２６２は第１下面２６１よりも上側（＋Ｚ側）に配置される。また、第２部分２２２が上端位置に配置されている状態において、第２下面２６２は、実質的にＸＹ平面と平行に配置される。また、第２部分２２２が上端位置に配置されている状態において、第３下面２６３は、光路Ｋに対して外側に向かって上方に傾斜する。
【０１５０】
第２部分２２２が上端位置に配置されている状態における第２下面２６２と基板Ｐ（物体）上面との間隙の寸法（距離）は、第２部分２２２が下端位置に配置されている状態における第２下面２６２と基板Ｐ（物体）上面との間隙の寸法（距離）よりも大きい。第２部分２２２が上端位置に配置されている状態における第２下面２６２と基板Ｐ（物体）上面との間の空間は、第２部分２２２が下端位置に配置されている状態における第２下面２６２と基板Ｐ（物体）上面との間の空間よりも大きい。
【０１５１】
第２部分２２２が上端位置に配置されている状態における第２上面２５２と下面２４及び下面３９との間隙の寸法（距離）は、第２部分２２２が下端位置に配置されている状態における第２上面２５２と下面２４及び下面３９との間隙の寸法（距離）よりも小さい。第２部分２２２が上端位置に配置されている状態における第２上面２５２と下面２４及び下面３９との間の空間は、第２部分２２２が下端位置に配置されている状態における第２上面２５２と下面２４及び下面３９との間の空間よりも小さい。
【０１５２】
第２部分２２２が＋Ｚ方向に移動（上昇）することにより、第２部分２２２の第２下面２６２と基板Ｐ（物体）上面との間隙の寸法は大きくなる。第２部分２２２が＋Ｚ方向に移動（上昇）することにより、第２部分２２２の第２上面２５２と第１部材２１の下面２４（多孔部材３８の下面３９）との間隙の寸法は小さくなる。
【０１５３】
第２部分２２２が−Ｚ方向に移動（下降）することにより、第２部分２２２の第２下面２６２と基板Ｐ（物体）上面との間隙の寸法は小さくなる。第２部分２２２が−Ｚ方向に移動（下降）することにより、第２部分２２２の第２上面２５２と第１部材２１の下面２４（多孔部材３８の下面３９）との間隙の寸法は大きくなる。
【０１５４】
本実施形態においては、図６（Ａ）に示すように、第２部分２２２が下端位置に配置されている状態において、液体ＬＱの界面ＬＧ１は、第１部材２１と基板Ｐ（物体）との間に形成される。
【０１５５】
図６（Ｂ）に示すように、第２部分２２２が上端位置に配置されている状態において、液体ＬＱの界面ＬＧ１は、第１部材２１と第２部材２２との間、及び第２部材２２と基板Ｐ（物体）との間のそれぞれに形成される。
【０１５６】
以下の説明において、第１部材２１と第２部材２２との間に形成される界面ＬＧ１を適宜、界面ＬＧ１１、と称し、第２部材２２と基板Ｐ（物体）との間に形成される界面ＬＧ１を適宜、界面ＬＧ１２、と称する。
【０１５７】
第２部分２２２が上昇すると、液浸部材５と基板Ｐ（物体）との間の液体ＬＱの界面ＬＧ１の少なくとも一部は、光路Ｋに近づくように移動する。第２部分２２２が下降すると、液浸部材５と基板Ｐ（物体）との間の液体ＬＱの界面ＬＧ１の少なくとも一部は、光路Ｋから離れるように移動する。つまり、Ｚ軸方向に関する第２部分２２２の移動により、液浸部材５と基板Ｐ（物体）との間の液体ＬＱの界面ＬＧ１の少なくとも一部は、光路Ｋに対する放射方向に移動する。
【０１５８】
また、第２部分２２が上昇と下降とを繰り返す場合、換言すれば、第２部分２２２がＺ軸方向に関して往復移動する場合（第２部分２２２がＺ軸方向に関して振動する場合）、液浸部材５と基板Ｐ（物体）との間において、液体ＬＱの界面ＬＧ１の少なくとも一部は、光路Ｋに対する放射方向に関して往復移動（振動）する。
【０１５９】
また、液体ＬＱの界面ＬＧ１２が下面２６（第２下面２６２）と基板Ｐ（物体）上面との間に形成されている状態で、第２部分２２２が上昇及び下降する場合（第２部分２２２がＺ軸方向に関して振動する場合）、下面２６（第２下面２６２）と基板Ｐ（物体）上面との間の液体ＬＱの界面ＬＧ１２は、光路Ｋに対する放射方向に関して振動する。すなわち、Ｚ軸方向に関する第２部分２２２の移動により、下面２４（第２下面２６２）と基板Ｐ（物体）上面との間の液体ＬＱの界面ＬＧ１２が光路Ｋに対する放射方向に移動する。
【０１６０】
次に、上述の構成を有する露光装置ＥＸを用いて基板Ｐを露光する方法について説明する。
【０１６１】
液浸部材５から離れた基板交換位置において、露光前の基板Ｐを基板ステージ２（第１保持部）に搬入（ロード）する処理が行われる。基板ステージ２が液浸部材５から離れている期間の少なくとも一部において、計測ステージ３が終端光学素子１３及び液浸部材５と対向するように配置される。制御装置６は、液体供給部３３からの液体ＬＱの供給と、液体回収部２３からの液体ＬＱの回収とを行って、計測ステージ３上に液浸空間ＬＳを形成する。
【０１６２】
露光前の基板Ｐが基板ステージ２にロードされ、計測ステージ３を用いる計測処理が終了した後、制御装置６は、終端光学素子１３及び液浸部材５と基板ステージ２（基板Ｐ）とが対向するように、基板ステージ２を移動する。終端光学素子１３及び液浸部材５と基板ステージ２（基板Ｐ）とが対向する状態で、液体供給部３３からの液体ＬＱの供給と並行して液体回収部２３からの液体ＬＱの回収が行われることによって、光路Ｋが液体ＬＱで満たされるように、終端光学素子１３及び液浸部材５と基板ステージ２（基板Ｐ）との間に液浸空間ＬＳが形成される。
【０１６３】
制御装置６は、基板Ｐの露光処理を開始する。制御装置６は、基板Ｐ上に液浸空間ＬＳが形成されている状態で、照明系ＩＬから露光光ＥＬを射出する。照明系ＩＬはマスクＭを露光光ＥＬで照明する。マスクＭからの露光光ＥＬは、投影光学系ＰＬ及び射出面１２と基板Ｐとの間の液浸空間ＬＳの液体ＬＱを介して基板Ｐに照射される。これにより、基板Ｐは、終端光学素子１３の射出面１２と基板Ｐとの間の液浸空間ＬＳの液体ＬＱを介して射出面１２から射出された露光光ＥＬで露光され、マスクＭのパターンの像が基板Ｐに投影される。
【０１６４】
本実施形態の露光装置ＥＸは、マスクＭと基板Ｐとを所定の走査方向に同期移動しつつ、マスクＭのパターンの像を基板Ｐに投影する走査型露光装置（所謂スキャニングステッパ）である。本実施形態においては、基板Ｐの走査方向（同期移動方向）をＹ軸方向とし、マスクＭの走査方向（同期移動方向）もＹ軸方向とする。制御装置６は、基板Ｐを投影光学系ＰＬの投影領域ＰＲに対してＹ軸方向に移動するとともに、その基板ＰのＹ軸方向への移動と同期して、照明系ＩＬの照明領域ＩＲに対してマスクＭをＹ軸方向に移動しつつ、投影光学系ＰＬと基板Ｐ上の液浸空間ＬＳの液体ＬＱとを介して基板Ｐに露光光ＥＬを照射する。
【０１６５】
図７は、基板ステージ２に保持された基板Ｐの一例を示す図である。本実施形態においては、基板Ｐに露光対象領域であるショット領域Ｓがマトリクス状に複数配置される。制御装置６は、終端光学素子１３の射出面１２から射出される露光光ＥＬに対して、第１保持部に保持されている基板ＰをＹ軸方向（走査方向）に移動しつつ、射出面１２と基板Ｐとの間の液浸空間ＬＳの液体ＬＱを介して、射出面１２から射出された露光光ＥＬで、基板Ｐの複数のショット領域Ｓのそれぞれを順次露光する。
【０１６６】
例えば基板Ｐの１つのショット領域Ｓを露光するために、制御装置６は、液浸空間ＬＳが形成されている状態で、射出面１２から射出される露光光ＥＬ（投影光学系ＰＬの投影領域ＰＲ）に対して基板ＰをＹ軸方向に移動するとともに、その基板ＰのＹ軸方向への移動と同期して、照明系ＩＬの照明領域ＩＲに対してマスクＭをＹ軸方向に移動しつつ、投影光学系ＰＬと基板Ｐ上の液浸空間ＬＳの液体ＬＱとを介してそのショット領域Ｓに露光光ＥＬを照射する。これにより、マスクＭのパターンの像がそのショット領域Ｓに投影され、そのショット領域Ｓが射出面１２から射出された露光光ＥＬで露光される。
【０１６７】
そのショット領域Ｓの露光が終了した後、制御装置６は、次のショット領域Ｓの露光を開始するために、液浸空間ＬＳが形成されている状態で、基板ＰをＸＹ平面内においてＹ軸と交差する方向（例えばＸ軸方向、あるいはＸＹ平面内においてＸ軸及びＹ軸方向に対して傾斜する方向等）に移動し、次のショット領域Ｓを露光開始位置に移動する。その後、制御装置６は、そのショット領域Ｓの露光を開始する。
【０１６８】
制御装置６は、基板Ｐ（基板ステージ２）上に液浸空間ＬＳが形成されている状態で、射出面１２からの露光光ＥＬが照射される位置（投影領域ＰＲ）に対してショット領域をＹ軸方向に移動しながらそのショット領域を露光する動作と、そのショット領域の露光後、基板Ｐ（基板ステージ２）上に液浸空間ＬＳが形成されている状態で、次のショット領域が露光開始位置に配置されるように、ＸＹ平面内においてＹ軸方向と交差する方向（例えばＸ軸方向、あるいはＸＹ平面内においてＸ軸及びＹ軸方向に対して傾斜する方向等）に基板Ｐを移動する動作とを繰り返しながら、基板Ｐの複数のショット領域のそれぞれを順次露光する。
【０１６９】
以下の説明において、ショット領域を露光するために、基板Ｐ（基板ステージ２）上に液浸空間ＬＳが形成されている状態で、射出面１２からの露光光ＥＬが照射される位置（投影領域ＰＲ）に対して基板Ｐ（ショット領域）をＹ軸方向に移動する動作を適宜、スキャン移動動作、と称する。また、あるショット領域の露光終了後、基板Ｐ（基板ステージ２）上に液浸空間ＬＳが形成されている状態で、次のショット領域の露光が開始されるまでの間に、ＸＹ平面内において基板Ｐを移動する動作を適宜、ステップ移動動作、と称する。
【０１７０】
本実施形態において、スキャン移動動作は、あるショット領域Ｓが露光開始位置に配置されている状態から露光終了位置に配置される状態になるまで基板ＰがＹ軸方向に移動する動作を含む。ステップ移動動作は、あるショット領域Ｓが露光終了位置に配置されている状態から次のショット領域Ｓが露光開始位置に配置される状態になるまで基板ＰがＸＹ平面内においてＹ軸方向と交差する方向に移動する動作を含む。
【０１７１】
露光開始位置は、あるショット領域Ｓの露光のために、そのショット領域ＳのＹ軸方向に関する一端部が投影領域ＰＲを通過する時点の基板Ｐの位置を含む。露光終了位置は、露光光ＥＬが照射されたそのショット領域ＳのＹ軸方向に関する他端部が投影領域ＰＲを通過する時点の基板Ｐの位置を含む。
【０１７２】
ショット領域Ｓの露光開始位置は、そのショット領域Ｓを露光するためのスキャン移動動作開始位置を含む。ショット領域Ｓの露光開始位置は、そのショット領域Ｓを露光開始位置に配置するためのステップ移動動作終了位置を含む。
【０１７３】
ショット領域Ｓの露光終了位置は、そのショット領域Ｓを露光するためのスキャン移動動作終了位置を含む。ショット領域Ｓの露光終了位置は、そのショット領域Ｓの露光終了後、次のショット領域Ｓを露光開始位置に配置するためのステップ移動動作開始位置を含む。
【０１７４】
以下の説明において、あるショット領域Ｓの露光のためにスキャン移動動作が行われる期間を適宜、スキャン移動期間、と称する。以下の説明において、あるショット領域Ｓの露光終了から次のショット領域Ｓの露光開始のためにステップ移動動作が行われる期間を適宜、ステップ移動期間、と称する。
【０１７５】
スキャン移動期間は、あるショット領域Ｓの露光開始から露光終了までの露光期間を含む。ステップ移動期間は、あるショット領域Ｓの露光終了から次のショット領域Ｓの露光開始までの基板Ｐの移動期間を含む。
【０１７６】
スキャン移動動作において、射出面１２から露光光ＥＬが射出される。スキャン移動動作において、基板Ｐ（物体）に露光光ＥＬが照射される。ステップ移動動作において、射出面１２から露光光ＥＬが射出されない。ステップ移動動作において、基板Ｐ（物体）に露光光ＥＬが照射されない。
【０１７７】
制御装置６は、スキャン移動動作とステップ移動動作とを繰り返しながら、基板Ｐの複数のショット領域Ｓのそれぞれを順次露光する。なお、スキャン移動動作は、主にＹ軸方向に関する等速移動である。ステップ移動動作は、加減速度移動を含む。例えば、あるショット領域Ｓの露光終了から次のショット領域Ｓの露光開始までの間のステップ移動動作は、Ｙ軸方向に関する加減速移動及びＸ軸方向に関する加減速移動の一方又は両方を含む。
【０１７８】
なお、スキャン移動動作及びステップ移動動作の少なくとも一部において、液浸空間ＬＳの少なくとも一部が、基板ステージ２（カバー部材Ｔ）上に形成される場合がある。スキャン移動動作及びステップ移動動作の少なくとも一部において、液浸空間ＬＳが基板Ｐと基板ステージ２（カバー部材Ｔ）とを跨ぐように形成される場合がある。基板ステージ２と計測ステージ３とが接近又は接触した状態で基板Ｐの露光が行われる場合、スキャン移動動作及びステップ移動動作の少なくとも一部において、液浸空間ＬＳが基板ステージ２（カバー部材Ｔ）と計測ステージ３とを跨ぐように形成される場合がある。
【０１７９】
制御装置６は、基板Ｐ上の複数のショット領域Ｓの露光条件に基づいて、駆動システム１５を制御して、基板Ｐ（基板ステージ２）を移動する。複数のショット領域Ｓの露光条件は、例えば露光レシピと呼ばれる露光制御情報によって規定される。露光制御情報は、記憶装置７に記憶されている。
【０１８０】
露光条件（露光制御情報）は、複数のショット領域Ｓの配列情報（基板Ｐにおける複数のショット領域Ｓそれぞれの位置）を含む。また、露光条件（露光制御情報）は、複数のショット領域Ｓのそれぞれの寸法情報（Ｙ軸方向に関する寸法情報）を含む。
【０１８１】
制御装置６は、記憶装置７に記憶されている露光条件（露光制御情報）に基づいて、所定の移動条件で基板Ｐを移動しながら、複数のショット領域Ｓのそれぞれを順次露光する。基板Ｐ（物体）の移動条件は、移動速度、加速度、移動距離、移動方向、及びＸＹ平面内における移動軌跡の少なくとも一つを含む。
【０１８２】
一例として、本実施形態においては、制御装置６は、投影光学系ＰＬの投影領域ＰＲと基板Ｐとが、図７中、矢印Ｓｒに示す移動軌跡に沿って相対的に移動するように基板ステージ２を移動しつつ投影領域ＰＲに露光光ＥＬを照射して、液体ＬＱを介して複数のショット領域Ｓのそれぞれを露光光ＥＬで順次露光する。制御装置６は、スキャン移動動作とステップ移動動作とを繰り返しながら、基板Ｐの複数のショット領域Ｓのそれぞれを順次露光する。
【０１８３】
基板Ｐの複数のショット領域Ｓのそれぞれが順次露光された後、基板ステージ２が基板交換位置に移動され、露光後の基板Ｐを基板ステージ２（第１保持部）から搬出（アンロード）する処理が行われる。
【０１８４】
以下、上述の処理が繰り返され、複数の基板Ｐが順次露光される。
【０１８５】
本実施形態において、第２部分２２２は、ＸＹ平面内において基板Ｐ（物体）が移動する期間の少なくとも一部において、Ｚ軸方向に移動する。第２部分２２２は、基板Ｐの露光処理の少なくとも一部において移動する。第２部分２２２は、例えば液浸空間ＬＳが形成されている状態で基板Ｐ（基板ステージ２）のステップ移動動作の少なくとも一部と並行して移動する。第２部分２２２は、例えば液浸空間ＬＳが形成されている状態で基板Ｐ（基板ステージ２）のスキャン移動動作の少なくとも一部と並行して移動する。第２部分２２２の移動と並行して、射出面１２から露光光ＥＬが射出される。
【０１８６】
図８は、基板Ｐを＋Ｘ方向の成分を含むステップ移動を行いながら、ショット領域Ｓａ、ショット領域Ｓｂ、及びショット領域Ｓｃのそれぞれを順次露光するときの基板Ｐの移動軌跡の一例を模式的に示す図である。ショット領域Ｓａ、Ｓｂ、Ｓｃは、Ｘ軸方向に配置される。
【０１８７】
図８に示すように、ショット領域Ｓａ、Ｓｂ、Ｓｃが露光されるとき、基板Ｐは、終端光学素子１３の下において、位置ｄ１からその位置ｄ１に対して＋Ｙ側に隣り合う位置ｄ２までの経路Ｔｐ１、位置ｄ２からその位置ｄ２に対して＋Ｘ側に隣り合う位置ｄ３までの経路Ｔｐ２、位置ｄ３からその位置ｄ３に対して−Ｙ側に隣り合う位置ｄ４までの経路Ｔｐ３、位置ｄ４からその位置ｄ４に対して＋Ｘ側に隣り合う位置ｄ５までの経路Ｔｐ４、及び位置ｄ５からその位置ｄ５に対して＋Ｙ側に隣り合う位置ｄ６までの経路Ｔｐ５を順次移動する。位置ｄ１、ｄ２、ｄ３、ｄ４、ｄ５、ｄ６は、ＸＹ平面内における位置である。
【０１８８】
経路Ｔｐ１の少なくとも一部は、Ｙ軸と平行な直線である。経路Ｔｐ３の少なくとも一部は、Ｙ軸と平行な直線である。経路Ｔｐ５の少なくとも一部は、Ｙ軸と平行な直線を含む。経路Ｔｐ２は、位置ｄ２．５を経由する曲線を含む。経路Ｔｐ４は、位置ｄ４．５を経由する曲線を含む。位置ｄ１は、経路Ｔｐ１の始点を含み、位置ｄ２は、経路Ｔｐ１の終点を含む。位置ｄ２は、経路Ｔｐ２の始点を含み、位置ｄ３は、経路Ｔｐ２の終点を含む。位置ｄ３は、経路Ｔｐ３の始点を含み、位置ｄ４は、経路Ｔｐ３の終点を含む。位置ｄ４は、経路Ｔｐ４の始点を含み、位置ｄ５は、経路Ｔｐ４の終点を含む。位置ｄ５は、経路Ｔｐ５の始点を含み、位置ｄ６は、経路Ｔｐ５の終点を含む。経路Ｔｐ１は、基板Ｐが＋Ｙ方向に移動する経路である。経路Ｔｐ３は、基板Ｐが−Ｙ方向に移動する経路である。経路Ｔｐ５は、基板Ｐが＋Ｙ方向に移動する経路である。経路Ｔｐ２及び経路Ｔｐ４は、基板Ｐが＋方向を主成分とする方向に移動する経路である。
【０１８９】
液浸空間ＬＳが形成されている状態で基板Ｐが経路Ｔｐ１を移動するとき、液体ＬＱを介してショット領域Ｓａに露光光ＥＬが照射される。液浸空間ＬＳが形成されている状態で基板Ｐが経路Ｔｐ３を移動するとき、液体ＬＱを介してショット領域Ｓｂに露光光ＥＬが照射される。液浸空間ＬＳが形成されている状態で基板Ｐが経路Ｔｐ５を移動するとき、液体ＬＱを介してショット領域Ｓｃに露光光ＥＬが照射される。基板Ｐが経路Ｔｐ２及び経路Ｔｐ４を移動するとき、露光光ＥＬは照射されない。
【０１９０】
基板Ｐが経路Ｔｐ１を移動する動作、経路Ｔｐ３を移動する動作、及び経路Ｔｐ５を移動する動作のそれぞれは、スキャン移動動作を含む。また、基板Ｐが経路Ｔｐ２を移動する動作、及び経路Ｔｐ４を移動する動作のそれぞれは、ステップ移動動作を含む。
【０１９１】
すなわち、基板Ｐが経路Ｔｐ１を移動する期間、経路Ｔｐ３を移動する期間、及び経路Ｔｐ５を移動する期間のそれぞれは、スキャン移動期間（露光期間）である。基板Ｐが経路Ｔｐ２を移動する期間、及び経路Ｔｐ４を移動する期間のそれぞれは、ステップ移動期間である。
【０１９２】
本実施形態においては、経路Ｔｐ１を基板Ｐが移動する期間の少なくなくとも一部において、すなわち、＋Ｙ方向に基板Ｐが移動する期間の少なくとも一部において、基板Ｐの上面と第２部分２２２の第２下面２６２との間隙が寸法Ｈｃになるように、第２部分２２２が駆動装置２７によって移動される。
【０１９３】
また、経路Ｔｐ１の移動後、経路Ｔｐ２を基板Ｐが移動する期間の少なくとも一部において、すなわち、＋Ｘ方向に基板Ｐが移動する期間の少なくとも一部において、基板Ｐの上面と第２部分２２２の第２下面２６２との間隙が寸法Ｈｃよりも小さい寸法Ｈｔになるように、第２部分２２２が駆動装置２７によって移動される。
【０１９４】
また、経路Ｔｐ２の移動後、経路Ｔｐ３を基板Ｐが移動する期間の少なくなくとも一部において、すなわち、−Ｙ方向に基板Ｐが移動する期間の少なくとも一部において、基板Ｐの上面と第２部分２２２の第２下面２６２との間隙が寸法Ｈｔよりも大きい寸法Ｈｃになるように、第２部分２２２が駆動装置２７によって移動される。なお、基板Ｐが経路Ｔｐ１を移動するときの寸法Ｈｃと、基板Ｐが経路Ｔｐ３を移動するときの寸法Ｈｃとは、同じでもよいし、異なってもよい。
【０１９５】
また、経路Ｔｐ３の移動後、経路Ｔｐ４を基板Ｐが移動する期間の少なくとも一部において、すなわち、＋Ｘ方向に基板Ｐが移動する期間の少なくとも一部において、基板Ｐの上面と第２部分２２２の第２下面２６２との間隙が寸法Ｈｃよりも小さい寸法Ｈｔになるように、第２部分２２２が駆動装置２７によって移動される。なお、基板Ｐが経路Ｔｐ２を移動するときの寸法Ｈｔと、基板Ｐが経路Ｔｐ４を移動するときの寸法Ｈｔとは、同じでもよいし、異なってもよい。
【０１９６】
また、経路Ｔｐ４の移動後、経路Ｔｐ５を基板Ｐが移動する期間の少なくなくとも一部において、すなわち、＋Ｙ方向に基板Ｐが移動する期間の少なくとも一部において、基板Ｐの上面と第２部分２２２の第２下面２６２との間隙が寸法Ｈｔよりも大きい寸法Ｈｃになるように、第２部分２２２が駆動装置２７によって移動される。なお、基板Ｐが経路Ｔｐ１（経路Ｔｐ３）を移動するときの寸法Ｈｃと、基板Ｐが経路Ｔｐ５を移動するときの寸法Ｈｃとは、同じでもよいし、異なってもよい。
【０１９７】
すなわち、本実施形態においては、ステップ移動期間の少なくとも一部において、第２部分２２２は、図６（Ａ）に示したように、例えば、下端位置に配置される。スキャン移動期間の少なくとも一部において、第２部材２２２は、図６（Ｂ）に示したように、例えば、上端位置に配置される。
【０１９８】
図９は、第２部分２２２の動作の一例を示す模式図である。
【０１９９】
基板Ｐが位置ｄ１にあるとき、図９（Ａ）に示すように、第１部分２２１に対して＋Ｘ側の第２部分２２２及び−Ｘ側の第２部分２２２は、それぞれ下端位置に配置される。
【０２００】
基板Ｐが経路Ｔｐ１を移動する期間において、第１部分２２１に対して＋Ｘ側の第２部分２２２が＋Ｚ方向に移動する（上昇する）。
【０２０１】
基板Ｐが位置ｄ２にあるとき、図９（Ｂ）に示すように、第１部分２２１に対して＋Ｘ側の第２部分２２２は、上端位置に配置される。すなわち、基板Ｐの位置ｄ１から位置ｄ２へのスキャン移動動作中に、第２部分２２２は、下端位置から上端位置まで移動する（上昇する）。基板Ｐのスキャン移動と同期して、第２部分２２２が上昇する。第２部分２２２が上昇することによって、液体ＬＱの界面ＬＧ１（界面ＬＧ１２）は、光路Ｋに近づくように移動する。
【０２０２】
基板Ｐが経路Ｔｐ２を移動する期間において、第１部分２２１に対して＋Ｘ側の第２部分２２２が−Ｚ方向に移動する（下降する）。
【０２０３】
基板Ｐが位置ｄ２．５にあるとき、図９（Ｃ）に示すように、第１部分２２１に対して＋Ｘ側の第２部分２２２は、上端位置と下端位置との中央位置に配置される。
【０２０４】
基板Ｐが位置ｄ３にあるとき、図９（Ｄ）に示すように、第１部分２２１に対して＋Ｘ側の第２部分２２２は、下端位置に配置される。すなわち、基板Ｐの位置ｄ２から位置ｄ３へのステップ移動動作中に、第２部分２２２は、上端位置から下端位置まで移動する（下降する）。基板Ｐのステップ移動と同期して、第２部分２２２が下降する。第２部分２２２が下降することによって、液体ＬＱの界面ＬＧ１（界面ＬＧ１２）は、光路Ｋから離れるように移動する。
【０２０５】
基板Ｐが経路Ｔｐ３を移動する期間において、第１部分２２１に対して＋Ｘ側の第２部分２２２が＋Ｚ方向に移動する（上昇する）。
【０２０６】
基板Ｐが位置ｄ４にあるとき、図９（Ｅ）に示すように、第１部分２２１に対して＋Ｘ側の第２部分２２２は、上端位置に配置される。すなわち、基板Ｐの位置ｄ３から位置ｄ４へのスキャン移動動作中に、第２部分２２２は、下端位置から上端位置まで移動する（上昇する）。基板Ｐのスキャン移動と同期して、第２部分２２２が上昇する。第２部分２２２が上昇することによって、液体ＬＱの界面ＬＧ１（界面ＬＧ１２）は、光路Ｋに近づくように移動する。
【０２０７】
基板Ｐが経路Ｔｐ４を移動する期間において、第１部分２２１に対して＋Ｘ側の第２部分２２２が−Ｚ方向に移動する（下降する）。
【０２０８】
基板Ｐが位置ｄ４．５にあるとき、図９（Ｆ）に示すように、第１部分２２１に対して＋Ｘ側の第２部分２２２は、上端位置と下端位置との中央位置に配置される。
【０２０９】
基板Ｐが位置ｄ５にあるとき、図９（Ｇ）に示すように、第１部分２２１に対して＋Ｘ側の第２部分２２２は、下端位置に配置される。すなわち、基板Ｐの位置ｄ４から位置ｄ５へのステップ移動動作中に、第２部分２２２は、上端位置から下端位置まで移動する（下降する）。基板Ｐのステップ移動と同期して、第２部分２２２が下降する。第２部分２２２が下降することによって、液体ＬＱの界面ＬＧ１（界面ＬＧ１２）は、光路Ｋから離れるように移動する。
【０２１０】
基板Ｐが経路Ｔｐ５を移動する期間において、第１部分２２１に対して＋Ｘ側の第２部分２２２が＋Ｚ方向に移動する（上昇する）。
【０２１１】
基板Ｐが位置ｄ６にあるとき、図９（Ｈ）に示すように、第１部分２２１に対して＋Ｘ側の第２部分２２２は、上端位置に配置される。すなわち、基板Ｐの位置ｄ５から位置ｄ６へのスキャン移動動作中に、第２部分２２２は、下端位置から上端位置まで移動する（上昇する）。基板Ｐのスキャン移動と同期して、第２部分２２２が上昇する。第２部分２２２が上昇することによって、液体ＬＱの界面ＬＧ１（界面ＬＧ１２）は、光路Ｋに近づくように移動する。
【０２１２】
すなわち、本実施形態において、第２部分２２２は、基板Ｐが経路Ｔｐ１（Ｔｐ３、Ｔｐ５）に沿って移動する期間（スキャン移動期間）の少なくとも一部において、基板Ｐ（物体）との間の寸法（空間）が大きくなるように、＋Ｚ方向に移動する。
【０２１３】
また、本実施形態において、第２部分２２２は、基板Ｐが経路Ｔｐ２（Ｔｐ４）に沿って移動する期間（ステップ移動期間）の少なくとも一部において、基板Ｐ（物体）との間の寸法（空間）が小さくなるように、−Ｚ方向に移動する。
【０２１４】
すなわち、基板Ｐがスキャン移動動作と＋Ｘ方向の成分を含むステップ移動動作とを繰り返す場合、ステップ移動動作中に、基板Ｐとの間の寸法（空間）が小さくなるように、第１部分２２１に対して＋Ｘ側の第２部分２２２が上端位置から下端位置へ−Ｚ方向に移動し、スキャン移動動作中に、次のステップ移動動作において第２部分２２２が再度−Ｚ方向に移動できるように、第２部分２２２が下端位置から上端位置へ戻る。
【０２１５】
なお、図８及び図９を用いて説明した例においては、基板Ｐが位置ｄ１、ｄ３、ｄ５にあるときに、第２部分２２２が下端位置に配置されることとした。基板Ｐが位置ｄ１、ｄ３、ｄ５にあるときに、第２部分２２２が、下端位置と中央位置との間に配置されてもよいし、中央位置に配置されてもよい。
【０２１６】
なお、図８及び図９を用いて説明した例においては、基板Ｐが位置ｄ２、ｄ４、ｄ６にあるときに、第２部分２２２が上端位置に配置されることとした。基板Ｐが位置ｄ２、ｄ４、ｄ６にあるときに、第２部分２２２が、上端位置と中央位置との間に配置されてもよいし、中央位置に配置されてもよい。
【０２１７】
また、本実施形態において、基板Ｐが位置ｄ２．５、ｄ４．５にあるときに、第２部分２２が、中央位置とは異なる位置に配置されてもよい。すなわち、基板Ｐが位置ｄ２．５、ｄ４．５にあるときに、第２部材２２が、例えば上端位置と中央位置との間に配置されてもよいし、下端位置と中央位置との間に配置されてもよい。
【０２１８】
なお、図８及び図９を用いて説明した例においては、基板Ｐがスキャン移動動作と＋Ｘ方向の成分を含むステップ移動動作とを繰り返す場合において、第１部分２２１に対して＋Ｘ側の第２部分２２２がＺ軸方向に移動する場合について説明した。基板Ｐがスキャン移動動作と−Ｘ方向の成分を含むステップ移動動作とを繰り返す場合、第１部分２２１に対して−Ｘ側の第２部分２２２がＺ軸方向に移動する。
【０２１９】
なお、基板Ｐがスキャン移動動作と＋Ｘ方向の成分を含むステップ移動動作とを繰り返す場合において、第１部分２２１に対して＋Ｘ側の第２部分２２２のみならず、−Ｘ側の第２部分２２２もＺ軸方向に移動してもよい。
【０２２０】
なお、基板Ｐがスキャン移動動作と−Ｘ方向の成分を含むステップ移動動作とを繰り返す場合において、第１部分２２１に対して−Ｘ側の第２部分２２２のみならず、＋Ｘ側の第２部分２２２もＺ軸方向に移動してもよい。
【０２２１】
なお、本実施形態においては、液浸空間ＬＳが基板Ｐ上に形成された状態で基板Ｐと同期して第２部分２２２が移動する例について説明した。液浸空間ＬＳが基板ステージ２上に形成された状態で基板ステージ２と同期して第２部分２２２がＺ軸方向に移動してもよい。液浸空間ＬＳが計測ステージ３上に形成された状態で計測ステージ３と同期して第２部分２２２がＺ軸方向に移動してもよい。
【０２２２】
以上説明したように、本実施形態によれば、第１部材２１の下方において移動可能な第２部材２２（第２部分２２２）を設けたので、液浸空間ＬＳが形成されている状態で基板Ｐ（物体）がＸＹ平面内において移動しても、例えば液体ＬＱが液浸部材５と物体との間の空間から流出したり、物体上に液体ＬＱが残留したりすることが抑制される。また、液浸空間ＬＳの液体ＬＱに気泡（気体部分）が発生することも抑制される。
【０２２３】
なお、本実施形態において、例えば図１０に示すように、第２部分２２２が上端位置に配置されている状態において、第２下面２６２がＸＹ平面（第１下面２６１）に対して傾斜してもよい。図１０に示す例では、第２下面２６２は、光路Ｋに対して外側に向かって上方に傾斜する。なお、第２下面２６２が、光路Ｋに対して外側に向かって下方に傾斜してもよい。また、第２部分２２２が上端位置に配置されている状態において、第２上面２５２がＸＹ平面（第１下面２６１）に対して傾斜してもよい。第２上面２５２は、光路Ｋに対して外側に向かって上方に傾斜してもよいし、下方に傾斜してもよい。
【０２２４】
なお、第２部分２２２が下端位置に配置されている状態において、第２下面２６２がＸＹ平面（第１下面２６１）に対して傾斜してもよい。
【０２２５】
なお、第２部分２２２が上端位置に配置されている状態において、第２下面２６２が第１下面２６１よりも上側（＋Ｚ側）に配置され、第２部分２２２が下端位置に配置されている状態において、第２下面２６２が第１下面２６１よりも上側（＋Ｚ側）に配置されてもよい。
【０２２６】
なお、第２部分２２２が上端位置に配置されている状態において、第２下面２６２が第１下面２６１よりも上側（＋Ｚ側）に配置され、第２部分２２２が下端位置に配置されている状態において、第２下面２６２が第１下面２６１よりも下側（−Ｚ側）に配置されてもよい。
【０２２７】
なお、第２部分２２２が上端位置に配置されている状態において、Ｚ軸方向に関して第１下面２６１と第２下面２６２とが実質的に同じ位置（高さ）に配置され、第２部分２２２が下端位置に配置されている状態において、第２下面２６２が第１下面２６１よりも下側（−Ｚ側）に配置されてもよい。
【０２２８】
なお、第２部分２２２が上端位置に配置されている状態において、第２下面２６２が第１下面２６１よりも下側（−Ｚ側）に配置され、第２部分２２２が下端位置に配置されている状態において、第２下面２６２が第１下面２６１よりも下側（−Ｚ側）に配置されてもよい。
【０２２９】
すなわち、第２部分２２２が上端位置に配置されている状態における第２下面２６２と基板Ｐ（物体）上面との間隙の寸法（空間）が、第２部分２２２が下端位置に配置されている状態における第２下面２６２と基板Ｐ（物体）上面との間隙の寸法（空間）よりも大きければよい。
【０２３０】
つまり、第２部分２２２が上端位置に配置されている状態における第２下面２６２と基板Ｐ（物体）上面との間隙の寸法（空間）が、第２部分２２２が下端位置に配置されている状態における第２下面２６２と基板Ｐ（物体）上面との間隙の寸法（空間）よりも大きくなるように、第２部分２２２が上端位置に配置されている状態における第１下面２６１（又は物体の上面）に対する第２下面２６２の位置、及び第２部分２２２が下端位置に配置されている状態における第１下面２６１（又は物体の上面）に対する第２下面２６２の位置のそれぞれが定められればよい。
【０２３１】
なお、本実施形態において、第１部分２２１が移動可能でもよい。例えば、第１部分２２１は、第２部分２２２よりも小さい移動量（移動距離）でＺ軸方向に移動されてもよい。第１部分２２１は、ローレンツ力により作動するアクチュエータによって移動されてもよい。そのアクチュエータは、例えば第１支持部材２８１と第１部材２１との間に配置されてもよいし、第１支持部材２８１と第１部分２２１との間に配置されてもよい。そのアクチュエータは、第１部材２１に対して、第１部分２２１を、Ｘ軸、Ｙ軸、Ｚ軸、θＸ、θＹ、及びθＺ方向に移動してもよい。なお、第１部分２２１がＸ軸方向（Ｙ軸方向）に移動される場合、第２部分２２２は、Ｘ軸方向（Ｙ軸方向）に移動されつつＺ軸方向に移動されてもよい。また、第１部材２１に対して第１部分２２１が柔らかく支持されてもよい。第１部材２１に対して第１部分２２１が揺れるように支持されてもよい。例えば、第１支持部材２８１がばね部材を含んでもよいし、ベローズ部材を含んでもよいし、フレクシャを含んでもよい。
【０２３２】
なお、本実施形態において、第１部分２２１と第２部分２２２とは、第３部分２２３を介して連結されなくてもよい。なお、第１部分２２１と第２部分２２２との間に隙間があってもよい。
【０２３３】
なお、上述の実施形態において、第１部材２１の少なくとも一部が、終端光学素子１３の射出面１２と対向してもよい。
【０２３４】
なお、上述の実施形態において、第１部材２１と終端光学素子１３との間の空間から液体ＬＱと気体の少なくとも一方を吸引する吸引口を第１部材２１に設けてもよい。
【０２３５】
なお、上述の各実施形態において、制御装置６は、ＣＰＵ等を含むコンピュータシステムを含む。また、制御装置６は、コンピュータシステムと外部装置との通信を実行可能なインターフェースを含む。記憶装置７は、例えばＲＡＭ等のメモリ、ハードディスク、ＣＤ−ＲＯＭ等の記録媒体を含む。記憶装置７には、コンピュータシステムを制御するオペレーティングシステム（ＯＳ）がインストールされ、露光装置ＥＸを制御するためのプログラムが記憶されている。
【０２３６】
なお、制御装置６に、入力信号を入力可能な入力装置が接続されていてもよい。入力装置は、キーボード、マウス等の入力機器、あるいは外部装置からのデータを入力可能な通信装置等を含む。また、液晶表示ディスプレイ等の表示装置が設けられていてもよい。
【０２３７】
記憶装置７に記録されているプログラムを含む各種情報は、制御装置（コンピュータシステム）６が読み取り可能である。記憶装置７には、制御装置６に、露光光が射出される光学部材の射出面と基板との間の露光光の光路に満たされた液体を介して露光光で基板を露光する液浸露光装置の制御を実行させるプログラムが記録されている。
【０２３８】
記憶装置７に記録されているプログラムは、上述の実施形態に従って、制御装置６に、光学部材の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材と、第１部材の下方において露光光の光路の周囲の少なくとも一部に配置され第１部材の第１下面と間隙を介して対向する第２上面及び物体が対向可能な第２下面をそれぞれ有する第１部分と光路に対して第１部分の外側に配置される第２部分とを含む第２部材とを備える液浸部材を用いて、光学部材の下方で移動可能な基板上に液体の液浸空間を形成することと、浸空間の液体を介して射出面から射出される露光光で基板を露光することと、光学部材の光軸と実質的に垂直な面内において基板が移動する期間の少なくとも一部において、駆動装置の作動により第２部分を光軸と実質的に平行な第１方向に移動することと、を実行させてもよい。
【０２３９】
記憶装置７に記憶されているプログラムが制御装置６に読み込まれることにより、基板ステージ２、計測ステージ３、及び液浸部材５等、露光装置ＥＸの各種の装置が協働して、液浸空間ＬＳが形成された状態で、基板Ｐの液浸露光等、各種の処理を実行する。
【０２４０】
なお、上述の各実施形態においては、投影光学系ＰＬの終端光学素子１３の射出面１２側（像面側）の光路Ｋが液体ＬＱで満たされているが、投影光学系ＰＬが、例えば国際公開第２００４／０１９１２８号に開示されているような、終端光学素子１３の入射側（物体面側）の光路も液体ＬＱで満たされる投影光学系でもよい。
【０２４１】
なお、上述の各実施形態においては、液体ＬＱが水であることとしたが、水以外の液体でもよい。液体ＬＱは、露光光ＥＬに対して透過性であり、露光光ＥＬに対して高い屈折率を有し、投影光学系ＰＬあるいは基板Ｐの表面を形成する感光材（フォトレジスト）等の膜に対して安定なものが好ましい。例えば、液体ＬＱが、ハイドロフロロエーテル（ＨＦＥ）、過フッ化ポリエーテル（ＰＦＰＥ）、フォンブリンオイル等のフッ素系液体でもよい。また、液体ＬＱが、種々の流体、例えば、超臨界流体でもよい。
【０２４２】
なお、上述の各実施形態においては、基板Ｐが、半導体デバイス製造用の半導体ウエハを含むこととしたが、例えばディスプレイデバイス用のガラス基板、薄膜磁気ヘッド用のセラミックウエハ、あるいは露光装置で用いられるマスクまたはレチクルの原版（合成石英、シリコンウエハ）等を含んでもよい。
【０２４３】
なお、上述の各実施形態においては、露光装置ＥＸが、マスクＭと基板Ｐとを同期移動してマスクＭのパターンを走査露光するステップ・アンド・スキャン方式の走査型露光装置（スキャニングステッパ）であることとしたが、例えばマスクＭと基板Ｐとを静止した状態でマスクＭのパターンを一括露光し、基板Ｐを順次ステップ移動させるステップ・アンド・リピート方式の投影露光装置（ステッパ）でもよい。
【０２４４】
また、露光装置ＥＸが、ステップ・アンド・リピート方式の露光において、第１パターンと基板Ｐとをほぼ静止した状態で、投影光学系を用いて第１パターンの縮小像を基板Ｐ上に転写した後、第２パターンと基板Ｐとをほぼ静止した状態で、投影光学系を用いて第２パターンの縮小像を第１パターンと部分的に重ねて基板Ｐ上に一括露光する露光装置（スティッチ方式の一括露光装置）でもよい。また、スティッチ方式の露光装置が、基板Ｐ上で少なくとも２つのパターンを部分的に重ねて転写し、基板Ｐを順次移動させるステップ・アンド・スティッチ方式の露光装置でもよい。
【０２４５】
また、露光装置ＥＸが、例えば米国特許第６６１１３１６号に開示されているような、２つのマスクのパターンを、投影光学系を介して基板上で合成し、１回の走査露光によって基板上の１つのショット領域をほぼ同時に二重露光する露光装置でもよい。また、露光装置ＥＸが、プロキシミティ方式の露光装置、ミラープロジェクション・アライナー等でもよい。
【０２４６】
また、上述の各実施形態において、露光装置ＥＸが、米国特許第６３４１００７号、米国特許第６２０８４０７号、米国特許第６２６２７９６号等に開示されているような、複数の基板ステージを備えたツインステージ型の露光装置でもよい。例えば、図１１に示すように、露光装置ＥＸが２つの基板ステージ２００１、２００２を備えている場合、射出面１２と対向するように配置可能な物体は、一方の基板ステージ、その一方の基板ステージの第１保持部に保持された基板、他方の基板ステージ、及びその他方の基板ステージの第１保持部に保持された基板の少なくとも一つを含む。
【０２４７】
また、露光装置ＥＸが、複数の基板ステージと計測ステージとを備えた露光装置でもよい。
【０２４８】
露光装置ＥＸが、基板Ｐに半導体素子パターンを露光する半導体素子製造用の露光装置でもよいし、液晶表示素子製造用又はディスプレイ製造用の露光装置でもよいし、薄膜磁気ヘッド、撮像素子（ＣＣＤ）、マイクロマシン、ＭＥＭＳ、ＤＮＡチップ、あるいはレチクル又はマスクなどを製造するための露光装置でもよい。
【０２４９】
なお、上述の実施形態においては、光透過性の基板上に所定の遮光パターン（又は位相パターン・減光パターン）を形成した光透過型マスクを用いたが、このマスクに代えて、例えば米国特許第６７７８２５７号に開示されているような、露光すべきパターンの電子データに基づいて透過パターン又は反射パターン、あるいは発光パターンを形成する可変成形マスク（電子マスク、アクティブマスク、あるいはイメージジェネレータとも呼ばれる）を用いてもよい。また、非発光型画像表示素子を備える可変成形マスクに代えて、自発光型画像表示素子を含むパターン形成装置を備えるようにしてもよい。
【０２５０】
上述の各実施形態においては、露光装置ＥＸが投影光学系ＰＬを備えることとしたが、投影光学系ＰＬを用いない露光装置及び露光方法に、上述の各実施形態で説明した構成要素を適用してもよい。例えば、レンズ等の光学部材と基板との間に液浸空間を形成し、その光学部材を介して、基板に露光光を照射する露光装置及び露光方法に、上述の各実施形態で説明した構成要素を適用してもよい。
【０２５１】
また、露光装置ＥＸが、例えば国際公開第２００１／０３５１６８号に開示されているような、干渉縞を基板Ｐ上に形成することによって基板Ｐ上にライン・アンド・スペースパターンを露光する露光装置（リソグラフィシステム）でもよい。
【０２５２】
上述の実施形態の露光装置ＥＸは、上述の各構成要素を含む各種サブシステムを、所定の機械的精度、電気的精度、光学的精度を保つように、組み立てることで製造される。これら各種精度を確保するために、この組み立ての前後には、各種光学系については光学的精度を達成するための調整、各種機械系については機械的精度を達成するための調整、各種電気系については電気的精度を達成するための調整が行われる。各種サブシステムから露光装置への組み立て工程は、各種サブシステム相互の、機械的接続、電気回路の配線接続、気圧回路の配管接続等が含まれる。この各種サブシステムから露光装置への組み立て工程の前に、各サブシステム個々の組み立て工程があることはいうまでもない。各種サブシステムの露光装置への組み立て工程が終了した後、総合調整が行われ、露光装置全体としての各種精度が確保される。なお、露光装置の製造は温度及びクリーン度等が管理されたクリーンルームで行うことが望ましい。
【０２５３】
半導体デバイス等のマイクロデバイスは、図１２に示すように、マイクロデバイスの機能・性能設計を行うステップ２０１、この設計ステップに基づいたマスク（レチクル）を製作するステップ２０２、デバイスの基材である基板を製造するステップ２０３、上述の実施形態に従って、マスクのパターンからの露光光で基板を露光すること、及び露光された基板を現像することを含む基板処理（露光処理）を含む基板処理ステップ２０４、デバイス組み立てステップ（ダイシング工程、ボンディング工程、パッケージ工程などの加工プロセスを含む）２０５、検査ステップ２０６等を経て製造される。
【０２５４】
なお、上述の各実施形態の要件は、適宜組み合わせることができる。また、一部の構成要素を用いない場合もある。また、法令で許容される限りにおいて、上述の各実施形態及び変形例で引用した露光装置等に関する全ての公開公報及び米国特許の開示を援用して本文の記載の一部とする。
【符号の説明】
【０２５５】
２…基板ステージ、３…計測ステージ、５…液浸部材、６…制御装置、７…記憶装置、１２…射出面、１３…終端光学素子、２１…第１部材、２２…第２部材、２３…液体回収部、２４…下面、２５…上面、２６…下面、３２…孔、３３…液体供給部、３４…開口、３５…開口、２２１…第１部分、２２２…第２部分、２２３…第３部分、２５１…第１上面、２５２…第２上面、２５３…第３上面、２６１…第１下面、２６２…第２下面、２６３…第３下面、２８１…第１支持部材、２８２…第２支持部材、ＥＬ…露光光、ＥＸ…露光装置、ＩＬ…照明系、Ｋ…光路、ＬＱ…液体、ＬＳ…液浸空間、Ｐ…基板。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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