(57)【要約】【課題】シリコンウエハ製造時に付着した不純物をより簡便な洗浄条件においても除去できる洗浄剤組成物を提供する。【解決手段】（ａ）アルカリ剤、（ｂ）多価アルコール、（ｃ）下記一般式（１）で示される非イオン界面活性剤及び水を含有する洗浄剤組成物を用いる。【化１】2014172965.tif 000008  ただし、式中Ｒ１は炭素数１０〜１４のアルキル基もしくはアルケニル基であり、ＡＯは炭素数２〜４のオキシアルキレン基であり、ｎは平均付加モル数であり、１〜４０の数である。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ａ）アルカリ剤、（ｂ）多価アルコール、（ｃ）下記一般式（１）で示される非イオン界面活性剤、及び水を含有してなる洗浄剤組成物。
【化１】
2014172965.tif 000007
ただし、式中Ｒ１は炭素数１０〜１４のアルキル基もしくはアルケニル基であり、ＡＯは炭素数２〜４のオキシアルキレン基であり、ｎは平均付加モル数であり、１〜４０の数である。
【請求項２】
前記（ｂ）多価アルコールが、オキシエチレン基を５０〜１００重量％含有することを特徴とする、請求項１に記載の洗浄剤組成物。
【請求項３】
前記（ｂ）多価アルコールが、分子内に水酸基を４〜１２個有することを特徴とする、請求項１に記載の洗浄剤組成物。
【請求項４】
前記（ａ）アルカリ剤１００質量部に対し、前記（ｂ）多価アルコールを５〜１０００質量部、前記（ｃ）一般式（１）で示される非イオン界面活性剤を５〜１０００質量部含有することを特徴とする、請求項１〜３のいずれか１項に記載の洗浄剤組成物。
【請求項５】
前記（ａ）アルカリ剤を０．０５〜３０質量％、前記（ｂ）多価アルコールを０．０５〜３０質量％、及び前記（ｃ）一般式（１）で示される非イオン界面活性剤を０．０５〜３０質量％含有することを特徴とする、請求項１〜３のいずれか１項に記載の洗浄剤組成物。
【請求項６】
（ｄ）可溶化剤をさらに含有することを特徴とする、請求項１〜５のいずれか１項に記載の洗浄剤組成物。
【請求項７】
シリコンウエハの洗浄に用いることを特徴とする、請求項１〜６のいずれか１項に記載の洗浄剤組成物。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれか１項に記載の洗浄剤組成物を用いることを特徴とするシリコンウエハの洗浄方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、主としてシリコンウエハの洗浄に用いられる洗浄剤組成物に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
太陽電池などの半導体用途に用いられるシリコンウエハは、その表面に残存する不純物を可能な限り低減することが求められている。
【０００３】
例えば、シリコンインゴットをスライスしてシリコンウエハを製造する工程では、切削液（クーラント）、シリコン粉又は砥粒などを含有するスラリーが切削物に付着するため、これを効率的に除去する必要がある。また近年、固定砥粒を用いたワイヤソー方式が実施されるようになり、スライス時に発生する微細な亀裂（ソーマーク）に付着したスラリーの除去が求められている。また、洗浄後のすすぎが容易であることも必要である。
【０００４】
さらに、太陽電池用途のシリコンウエハでは、エネルギー変換効率を向上させるために、シリコンウエハ表面にテクスチャー構造と呼ばれるピラミッド構造がエッチングにより形成され、特に単結晶シリコンウエハにおいては、水酸化ナトリウムなどを含むエッチング液が用いられる。従って、テクスチャー形成工程においては、これらのエッチング液も十分に除去する必要がある。
【０００５】
上記のようなシリコンウエハ製造時の洗浄に用いられる洗浄剤としては、アルカリ剤、界面活性剤、キレート剤などを含むものが開示されている（特許文献１等）。
【０００６】
しかしながら、上記のような従来技術の洗浄剤をシリコンウエハ製造時の洗浄に用いた場合、超音波洗浄等の操作を行わなければ不純物を十分に除去できないという問題があった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２００６−２６５４６９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明は、上記に鑑みてなされたものであり、シリコンウエハ製造時に付着した不純物をより簡便な洗浄条件下でも除去できる優れた洗浄性を有し、すすぎ性も高い洗浄剤組成物を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明の洗浄剤組成物は上記の課題を解決するために、（ａ）アルカリ剤、（ｂ）多価アルコール、（ｃ）下記一般式（１）で示される非イオン界面活性剤、及び水を含有するものとする。
【化１】
2014172965.tif 000002
【００１０】
ただし、式中Ｒ１は炭素数１０〜１４のアルキル基もしくはアルケニル基であり、ＡＯは炭素数２〜４のオキシアルキレン基であり、ｎは平均付加モル数であり、１〜４０の数である。
【００１１】
本発明の洗浄剤組成物において、上記（ｂ）多価アルコールは、オキシエチレン基を５０〜１００重量％含有することができる。（ｂ）多価アルコールは、また、分子内に水酸基を４〜１２個有することが好ましい。
【００１２】
本発明の洗浄剤組成物は、上記（ａ）アルカリ剤１００質量部に対し、（ｂ）多価アルコールを５〜１０００質量部、（ｃ）一般式（１）で示される非イオン界面活性剤を５〜１０００質量部含有することが好ましい。
【００１３】
洗浄剤組成物中の各成分の含有量は限定されないが、例えば、（ａ）アルカリ剤を０．０５〜３０質量％、（ｂ）多価アルコールを０．０５〜３０質量％、（ｃ）一般式（１）で示される非イオン界面活性剤を０．０５〜３０質量％含有するものとすることができる。
【００１４】
上記本発明の洗浄剤組成物には、（ｄ）可溶化剤をさらに含有させることもできる。また、（ｅ）金属イオン封止剤をさらに含有させることもできる。
【００１５】
本発明の洗浄剤組成物は、シリコンウエハの洗浄に好適に用いることができる。
【００１６】
本発明の洗浄方法は、上記本発明の洗浄剤組成物のいずれかを使用するものとする。
【発明の効果】
【００１７】
本発明の洗浄剤組成物は、シリコンウエハ製造時に付着した不純物を、超音波洗浄等の操作なしに浸け置き等の簡便な洗浄条件のみでも除去できる優れた洗浄性と高いすすぎ性を有するものとなる。浸け置き等の簡便な洗浄条件のみでも除去できる高い洗浄性を有するものとなる。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
本発明の洗浄剤組成物は、上記のように（ａ）アルカリ剤、（ｂ）多価アルコール、（ｃ）一般式（１）で示される非イオン界面活性剤及び水を含有してなり、シリコンウエハの洗浄に好適に用いることができ、またエッチングによるテクスチャー形成後の洗浄にも用いることができる。シリコンウエハスライス工程後の洗浄では、洗浄性が極めて優れ、すすぎ性も高く、またテクスチャー形成後の洗浄で使用した場合は、ウエハ表面形状保持効果が高いものとなる。
【００１９】
本発明で用いる（ａ）アルカリ剤は特に限定されないか、例としては水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム、リン酸ナトリウム、リン酸カリウム、第二リン酸ナトリウム、第二リン酸カリウム、第三リン酸ナトリウム、第三リン酸カリウム及びアンモニアなどの無機アルカリ化合物、水酸化テトラメチルアンモニウム、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、メチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、エチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、メチルエタノールアミン、ジメチルエタノールアミン、メチルジエタノールアミン、エチルエタノールアミン、ジエチルエタノールアミン、エチルジエタノールアミン、シクロヘキシルアミン及びトリイソパノールアミンなどの有機アルカリ化合物が挙げられる。これらのうち、洗浄性が優れることから、水酸化ナトリウム及び水酸化カリウムが好ましい。
【００２０】
本発明で用いる（ｂ）多価アルコールとは、水酸基を２つ以上有する化合物である。本発明では、多価アルコールを用いることにより、洗浄性組成物の洗浄性及び間隙洗浄性をより向上させることができ、またテクスチャー形成後の洗浄に使用した場合は、ウエハ表面形状保持効果も優れたものとなる。
【００２１】
多価アルコールの例としては、エチレングリコールやプロピレングリコール、１，４−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオールおよび２−メチル−２，４−ペンタンジオールなどの水酸基を２つ有する化合物、グリセリンなどの水酸基を３つ有する化合物、ペンタエリスリトールなどの水酸基を４つ有する化合物、グルコース、フルクトースなどの水酸基を５つ有する化合物、ソルビトール、ジペンタエリスリトール、ガラクチトールなどの水酸基を６つ有する化合物、トリペンタエリスリトール、ショ糖などの水酸基を８個有する化合物が挙げられる。また、ポリグリセリンを使用することもできる。これらのうち、洗浄性、間隙洗浄性、及びウエハ表面形状保持効果に優れることから、水酸基を４〜１２個有する化合物が好ましく、水酸基を４〜８個有する化合物がより好ましい。
【００２２】
また、上記のような多価アルコールに炭素数２〜４のアルキレンオキサイドを付加した化合物も用いることができる。アルキレンオキサイドは、エチレンオキサイドを５０重量％以上含むことが好ましく、８０重量％以上含むことがより好ましく、９０重量％以上含むことがさらに好ましく、含有量が１００重量％であるポリエチレングリコールが最も好ましい。また、アルキレンオキサイドの付加モル数（平均付加モル数、以下同様）は、１〜３０モルであることが好ましい。
【００２３】
本発明で用いられる（ｃ）非イオン界面活性剤は特に限定されず、種々の洗浄剤組成物に用いられている化合物を広く使用することができるが、アルコールにアルキレンオキサイドを付加したものが好ましく、下記一般式（１）で示されるものがより好ましい。
【化２】
2014172965.tif 000003
【００２４】
式（１）中、Ｒ１は炭素数１０〜１４のアルキル基もしくはアルケニル基を示し、ＡＯは炭素数２〜４のオキシアルキレン基を示し、ｎは平均付加モル数であり、１〜４０の数を示す。
【００２５】
具体例としては、Ｒ１がアルキル基の場合、デシル基、イソデシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基等が挙げられ、Ｒ１がアルケニル基の場合、デセニル基、イソデセニル基、ウンデセニル基、ドデセニル基、トリデセニル基、テトラデセニル基等が挙げられる。ＡＯの例としては、エチレンオキサイド、プロピレンオキサイド、ブチレンオキサイドが挙げられる。中でもエチレンオキサイドを含むことが好ましく、エチレンオキサイドの平均付加モル数は、２〜３０モルが好ましく、３〜２０モルがより好ましく、５〜１５モルがさらに好ましい。ｎは、２〜２０の範囲がより好ましい。上記範囲内とすることにより、すすぎ性をより向上させることができる。
【００２６】
本発明の洗浄剤組成には、必要に応じてさらに（ｄ）可溶化剤を配合することもできる。本発明の洗浄剤組成物が上記（ａ）〜（ｃ）を高濃度で含む水溶液である場合、これらの成分の溶解が不十分となり、沈殿等を生じるおそれがあるが、可溶化剤を配合することにより、これら各成分の溶解性を向上させ、水溶液の透明性を確保し、保存安定性をより向上させることが可能となる。
【００２７】
本発明で用いる（ｄ）可溶化剤は特に限定されないが、例としては、アルキルポリグルコシド、有機酸及び有機酸の塩が挙げられる。アルキルポリグルコシドの例としては、プロピルポリグルコシド、ブチルポリグルコシド、ヘキシルポリグルコシド、オクチルポリグルコシド、ノニルグルコシド、デシルグルコシド、デシルマルトシド、ドデシルマルトシド、トリデシルマルトシド等が挙げられる。有機酸の例としては、クメンスルホン酸、トルエンスルホン酸、キシレンスルホン酸、ナフタレンスルホン酸、ジメチルベンゼンスルホン酸、オクタン酸、２−エチルヘキサン酸等が挙げられる。有機酸としては、上記有機酸のナトリウム塩、カリウム塩、リチウム塩などの金属イオンの塩も用いられ、またアンモニア、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、メチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、エチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、メチルエタノールアミン、ジメチルエタノールアミン、メチルジエタノールアミン、エチルエタノールアミン、ジエチルエタノールアミン、エチルジエタノールアミンなどのオニウムイオンの塩等も用いられる。
【００２８】
可溶化剤は、洗浄剤組成物の上記安定化効果が高いことから、これらの中でもアルキルポリグルコシドが好ましい。
【００２９】
本発明の洗浄剤組成物には、必要に応じて洗浄効果をより向上させるために、（ｅ）金属イオン封止剤をさらに配合することもできる。金属イオン封止剤の種類も特に限定されず、種々の洗浄剤組成物に用いられている化合物を広く使用することができるが、好ましい例としては、エタン−１，１−ジホスホン酸、エタン−１，１，２−トリホスホン酸、１−ヒドロキシエタン−１，１−ジホスホン酸（ＨＥＤＰ）、エタンヒドロキシ−１，１，２−トリホスホン酸、エタン−１，２−ジカルボキシ−１，２−ジホスホン酸、メタンヒドロキシホスホン酸、ニトリロトリメチレンホスホン酸（ＮＴＭＰ）、３−カルボキシ−３−ホスホノヘキサン二酸（ＰＢＴＣ）、エチレンジアミンテトラキスメチレンホスホン酸、Ｌ−グルタミン酸二酢酸、メチルグリシン二酢酸、グルコン酸、グリコール酸、エチレンジアミン四酢酸、ニトリロ三酢酸、イミノ二酢酸、ヒドロキシエチルエチレンジアミン三酢酸、ジエチレントリアミン五酢酸、グリコールエーテルジアミン四酢酸、ヒドロキシエチレンジアミンテトラアミン六酢酸、ヒドロキシエチルイミノ二酢酸、トリエチレンテトラミン六酢酸、クエン酸、リンゴ酸及びこれらの塩などが挙げられる。
【００３０】
本発明の洗浄剤組成物には、上記各成分以外に、消泡剤、防腐剤、防錆剤、酸化防止剤、ｐＨ調整剤等の公知の添加剤を、本発明の目的に反しない範囲で適宜配合することもできる。
【００３１】
上記（ａ）〜（ｃ）成分の配合割合は、（ａ）アルカリ剤１００質量部に対して、（ｂ）多価アルコールは５〜１０００重量部が好ましく、１０〜８００重量部がより好ましく、２０〜５００重量部が更に好ましい。上記範囲内とすることにより、洗浄性がより優れ、テクスチャー形成後の洗浄に使用した場合は、ウエハ表面形状保持効果がより優れたものとなる。また、（ｃ）非イオン界面活性剤は、（ａ）アルカリ剤１００質量部に対して、５〜１０００質量部が好ましく、１０〜８００質量部がより好ましく、２０〜５００質量部が更に好ましい。上記範囲内とすることにより、洗浄性とすすぎ性のバランスがより向上する。
【００３２】
また（ｄ）可溶化剤を使用する場合の配合割合は、（ａ）アルカリ剤１００質量部に対して５〜１０００質量部が好ましく、１０〜８００質量部がより好ましく、２０〜５００質量部が更に好ましい。さらに、（ｃ）非イオン界面活性剤１００質量部に対しては、５〜１０００質量部が好ましく、１０〜８００質量部がより好ましく、５０〜５００質量部が更に好ましい。上記範囲内とすることにより、洗浄剤組成物を高濃度で含む水溶液の作製が可能となり、保存安定性に優れ、使用時に水による希釈がより容易になる。また、すすぎ性がより優れる。
【００３３】
本発明の洗浄剤組成物は、上記（ａ）〜（ｃ）各成分と、必要に応じて用いられる（ｄ）成分及び／又は（ｅ）成分と、残部の水とからなり、使用目的に応じて広範囲の濃度で使用することができる。従って、洗浄剤組成物中の上記（ａ）〜（ｅ）各成分の配合量（濃度）を一律に示すことはできないが、一例を以下に示す。
【００３４】
上記（ａ）アルカリ剤の配合量は０．０５〜３０質量％が好ましく、０．１〜２５質量％がより好ましく、０．２〜２０質量％がさらに好ましい。上記範囲内とすることにより、洗浄性がより優れたものとなる。
【００３５】
上記（ｂ）多価アルコールの配合量は、０．０５〜３０質量％が好ましく、０．１〜２５重量％がより好ましく、０．１〜２０重量％が更に好ましい。上記範囲内とすることより、洗浄性がより優れたものとなる。また、テクスチャー形成後の洗浄においてはウエハ表面形状保持効果がより優れたものとなる。
【００３６】
上記（ｃ）非イオン界面活性剤の配合量は、０．０５〜３０質量％が好ましく、０．１〜２５質量％がより好ましく、０．１〜２０質量％が更に好ましい。上記範囲内とすることにより、洗浄性とすすぎ性のバランスがより優れたものとなる。
【００３７】
上記（ｄ）可溶化剤を使用する場合の配合量は、０．０５〜４０質量％が好ましく、０．１〜３０質量％がより好ましく、０．２〜２０質量％が更に好ましい。上記範囲内とすることにより、水による希釈がより容易になり、また、すすぎ性がより優れる。
【００３８】
上記（ｅ）金属イオン封止剤を使用する場合の配合量は、０．０１〜２０質量％が好ましく、０．０５〜１５質量％がより好ましく、０．１〜１０質量％がさらに好ましい。上記範囲内とすることにより、シリコンウエハ表面に残存する金属量をより低減でき、またすすぎ性もより優れるものとなる。
【００３９】
本発明の洗浄剤組成物は、上記の通り、シリコンウエハの洗浄全般、すなわちシリコンウエハスライス工程後の粗洗浄及び仕上げ洗浄のいずれにも好適に用いることができ、またエッチングによるテクスチャー形成後の洗浄においても用いることができるが、必要に応じて、それ以外の種々の洗浄対象にも用いることができる。
【００４０】
本発明の洗浄剤組成物を用いてシリコンウエハを洗浄する際には、配合量（濃度）の例として示した上記のものをそのまま使用することもでき、これを原液として水で希釈して使用することもできる。上記配合量のものを水で希釈する場合は１００倍以下（但し、体積基準とする。以下同様。）に希釈して使用するのが好ましい。希釈倍率が１００倍を超えると洗浄性が低下するようになる。
【００４１】
洗浄方法は特に限定されず、従来公知の洗浄方法を適宜用いることができる。例えば、浸漬洗浄、超音波洗浄、ブラシ洗浄、スクラブ洗浄、噴流洗浄、スプレー洗浄、手拭き洗浄、及びこれらの組み合わせが挙げられる。但し、本発明の洗浄剤組成物は洗浄効果が高いため、浸漬等の簡易な手段でも十分な洗浄効果を得ることができる。
【００４２】
洗浄後は、使用目的に応じて、そのまま乾燥させることもでき、水等ですすいだのち乾燥させることもできる。
【実施例】
【００４３】
次に、本発明を実施例及び比較例に基づいて説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。また、以下において「部」又は「％」とあるときは、特にことわらない限り質量基準である。
【００４４】
表１〜３に記載の原料をこれらの表に示した配合量で混合することにより、各洗浄剤組成物を調整し、下記の評価を行った。原料の詳細は以下の通りである。結果を表１〜３に示す。
【００４５】
（ａ）アルカリ剤
（ａ−１）水酸化ナトリウム
（ａ−２）水酸化カリウム
（ｂ）多価アルコール
（ｂ−１）ポリエチレングリコール（エチレンオキサイド付加モル数：５）
（ｂ−２）ポリエチレングリコール（エチレンオキサイド付加モル数：１０）
（ｂ−３）ポリエチレングリコール（エチレンオキサイド付加モル数：１５）
（ｂ−４）ソルビトール
（ｂ−５）ショ糖
（ｃ）非イオン界面活性剤
（ｃ−１）イソデシルアルコールにエチレンオキサイド７モルを付加した化合物
（ｃ−２）イソデシルアルコールにエチレンオキサイド１２モルとプロピレンオキサイド２モルをランダム付加した化合物
（ｃ−３）ドデシルアルコールにエチレンオキサイド８モルとプロピレンオキサイド２モルをランダム付加した化合物
（ｃ−４）トリデシルアルコールにエチレンオキサイド８モルを付加した化合物
（ｄ）可溶化剤
（ｄ−１）ブチルポリグルコシド
（ｄ−２）パラトルエンスルホン酸ナトリウム
（ｅ）金属イオン封止剤
（ｅ−１）グルコン酸ナトリウム
（ｅ−２）エチレンジアミン四酢酸ナトリウム
【００４６】
（１）シリコンウエハ製造工程における評価
（洗浄性）
ワイヤーソーオイル（パレス化学株式会社製、ＰＳ−ＤＷＳ−８）とシリコン粉（平均粒子経１μｍ）を質量比９０：１０で混合したものを洗浄対象物のモデルとした。固定砥粒方式でスライスされた単結晶シリコンウエハ（サイズ：１５６ｍｍ×１５６ｍｍ）１枚を上記洗浄対象物のモデル液に完全に浸漬し、引き上げたものをテストピースとした。
【００４７】
表１〜３の各洗浄剤組成物の水１０倍希釈品を調製し、６０℃に調温して上記テストピースを１０分間浸漬し、さらに、４０℃のイオン交換水に１０分間浸漬した。その後、２５℃のイオン交換水にテストピースを１０分間浸漬した後、８０℃乾燥機にて２０分間乾燥した。
【００４８】
それぞれウエハ表面の洗浄対象物の除去面積率（％）を判定し、その平均値を洗浄性（％）とした。判定においては、ウエハと同じサイズの碁盤状の枠（１０×１０マス）を作成し、これを洗浄後のウエハに当てはめてマス目を数えることにより面積を求めた。また、この洗浄性を以下の基準で評価した。その結果を表１〜３に示す。 
○：良好（洗浄性９８％以上）
△：一部洗浄残り（洗浄性９０％以上９８％未満）
×：不良（洗浄性９０％未満）
【００４９】
（間隙洗浄性）
ワイヤーソーオイル（パレス化学株式会社製、ＰＳ−ＤＷＳ−８）とシリコン粉（平均粒子経１μｍ）を質量比９０：１０で混合したものを洗浄対象物のモデルとした。これを固定砥粒方式でスライスされた単結晶シリコンウエハ（サイズ：１５６ｍｍ×１５６ｍｍ）２枚の間にセットした。このとき、ウエハ間の間隔は１５０μｍで固定し、テストピースとした。
【００５０】
表１〜３の各洗浄剤の水２０倍希釈品を調製し、５０℃に調温して上記テストピースを１０分間浸漬し、さらにそのテストピースを２５℃のイオン交換水に１０分間浸漬した。
【００５１】
上記処理後、２枚のウエハを開け、それぞれウエハ表面の洗浄対象物の除去面積率（％）を判定し、その平均値を洗浄性（％）とした。判定においては、ウエハと同じサイズの碁盤状の枠（１０×１０マス）を作成し、これを洗浄後ウエハに当てはめて、除去面積を求めた。また、この除去面積率に基づき洗浄性を以下の基準で評価した。その結果を表１〜３に示す。 
○：良好（洗浄性８０％以上）
△：一部洗浄残り（洗浄性５０％以上８０％未満）
×：不良（洗浄性５０％未満）
【００５２】
（２）テクスチャー形成工程における評価
５質量％水酸化ナトリウム水溶液にイソプロピルアルコールを５質量％添加して８０℃に調温したエッチング液に、単結晶シリコンウエハ（サイズ：１５６ｍｍ×１５６ｍｍ）を２０分間浸漬し、さらに、イオン交換水で水洗後することにより、シリコンウエハ表面にテクスチャーを形成した。これを、王水（硝酸:塩酸＝１：３）に完全に浸漬し、その後、イオン交換水ですすぎ、金属イオンと有機物残渣を除去することにより、シリコンウエハのテストピースを作製した。
【００５３】
表１〜３の各洗浄剤の水１０倍希釈品を調製し、６０℃に調温して上記テストピースを１０分間浸漬し、さらに、４０℃のイオン交換水に１０分間浸漬した。その後、２５℃のイオン交換水にテストピースを１０分間浸漬し、次いで８０℃乾燥機にて２０分間乾燥することにより試験片を作成した。得られた試験片を用いて、以下の通りすすぎ性とウエハ表面形状の評価を行った。
【００５４】
（すすぎ性）
ウエハ表面の有機成分（洗浄剤残渣）をウエハ加熱脱離−ガスクロマトグラフ−質量分析法（株式会社島津製作所、ＧＣＭＳ−ＱＰ２０１０  Ｐｌｕｓ）で分析し、ウエハ片面（約２４３ｃｍ２当たり）に残存する有機成分をヘキサデカン換算量で算出し、以下の基準で評価した。その結果を表１〜３に示す。 
○：良好（１．００μｇ未満）
△：一部洗浄剤残あり（１．００μｇ以上１０．０μｇ未満）
×：不良（１０．０μｇ以上）
【００５５】
（ウエハ表面形状）
走査電子顕微鏡（日本電子株式会社、ＪＳＭ−６３８０ＬＶ）を用いて、ウエハ表面のテクスチャー形状を観察した。評価は、ウエハの四隅、ウエハの中心点及びウエハ各辺の中点の合計９箇所について、洗浄前のテストピースと比較し、以下の基準で行った。その結果を表１〜３に示す。 
○：テクスチャー構造が保持されている
×：テクスチャーのサイズ変化や消滅が見られる
【００５６】
（表面反射率）
紫外・可視分光光度計（株式会社日立ハイテクノロジーズ、Ｕ−３９００Ｈ）を用いて、波長６００ｎｍにおける試験片の反射率を測定した。その結果を表１〜３に示す。テストピースの反射率は１２％であり、ウエハ表面のテクスチャー形状が変化すると反射率が高くなる。
【００５７】
【表１】
2014172965.tif 000004
【００５８】
【表２】
2014172965.tif 000005
【００５９】
【表３】
2014172965.tif 000006
【００６０】
表１〜３に示された結果から、本発明の洗浄剤組成物によれば、（ａ）〜（ｃ）成分併用による相乗効果として、シリコンウエハの洗浄における洗浄効果が顕著に優れ、またすすぎ性にも優れ、更には、テクスチャー形成後の洗浄に使用した場合、ウエハ表面形状保持効果も高いことが分かる。