(57)【要約】【課題】  機能性材料又は機能層を真空状態下におく場合において、機能性材料への不純物質の付着を可能な限り抑制する。【解決手段】  発光パネル用基板１１における各画素部領域に、ホストとドーパントとを含む機能層１６用の機能性材料（発光塗布液１６ａ）を塗布する機能性材料塗布工程と、発光パネル用基板１１における前記機能性材料が塗布された領域とは異なる領域に、前記ドーパントと同じ材料を含む吸着層２１用の吸着性材料（吸着塗布液２１ａ）を塗布する吸着性材料塗布工程とを有し、吸着性材料は、吸着層２１における前記同じ材料の重量比が機能層１６におけるドーパントの重量比よりも高くなるように、同じ材料を含む。【選択図】図６
2014007063.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
発光パネル用基板における各画素部領域に、ホストとドーパントとを含む機能層用の機能性材料を塗布する機能性材料塗布工程と、
前記発光パネル用基板における前記機能性材料が塗布された領域とは異なる領域に、前記ドーパントと同じ材料を含む吸着層用の吸着性材料を塗布する吸着性材料塗布工程と
を有し、
前記吸着性材料は、前記吸着層における前記ドーパントと同じ材料の重量比が前記機能層における前記ドーパントの重量比よりも高くなるように、前記同じ材料を含む
発光パネルの製造方法。
【請求項２】
前記ドーパントは、デンドリマー構造を有する
請求項１に記載の発光パネルの製造方法。
【請求項３】
前記機能層における前記ドーパントの重量比は０．４以下である
請求項１又は２に記載の発光パネルの製造方法。
【請求項４】
前記吸着層は、前記ホストと同じ材料と、前記ドーパントと同じ材料とからなり、
前記吸着層における前記ド―パントと同じ材料の重量比が、０．８以上  １．０未満である
請求項1〜３のいずれか１項に記載の発光パネルの製造方法。
【請求項５】
前記吸着層における前記同じ材料の重量比が、１．０である
請求項１〜３のいずれか１項に記載の発光パネルの製造方法。
【請求項６】
前記機能性材料と前記吸着性材料とが塗布された前記発光パネル用基板を真空装置の真空チャンバーに収容し、前記真空チャンバー内を真空ポンプにより減圧させる減圧工程を有する
請求項１〜５のいずれか１項に記載の発光パネルの製造方法。
【請求項７】
前記減圧工程では、前記真空ポンプに含まれ且つ前記真空ポンプから前記真空チャンバーに侵入するオイル成分又はシール材由来のアウトガス成分を前記吸着層又は前記吸着性材料に吸着させつつ、前記塗布された前記機能性材料を乾燥し、前記機能層を形成する
請求項６に記載の発光パネルの製造方法。
【請求項８】
前記減圧工程の後に、前記発光パネル用基板を加熱する加熱工程を有し、
前記加熱工程では、前記減圧工程中に前記機能層の表面に付着した、前記真空ポンプに含まれ且つ前記真空ポンプから前記真空チャンバーに侵入する前記オイル成分とは異なるオイル成分の一部を前記機能層から除去する
請求項７に記載の発光パネルの製造方法。
【請求項９】
前記吸着性材料が塗布された領域は、前記機能層を区画する隔壁、または、前記画素部領域を含む発光領域とは異なる非発光領域である
請求項１〜８のいずれか１項に記載の発光パネルの製造方法。
【請求項１０】
ホストとドーパントとを含む発光層を有する画素部と、
前記発光層が存する領域と異なる領域に形成された吸着層とを有し、
前記吸着層は、前記発光層における前記ドーパントの重量比よりも高い重量比で前記ドーパントと同じ材料を含む
発光パネル。
【請求項１１】
前記ドーパントは、デンドリマー構造を有する
請求項１０に記載の発光パネル。
【請求項１２】
前記画素部が複数個あり、
前記複数の画素部により発光領域が構成され、
前記吸着層は、前記発光領域以外の領域に形成されている
請求項１０又は１１に記載の発光パネル。
【請求項１３】
前記画素部が複数個あり、
前記画素部の発光層は、当該画素部に隣接する他の画素部の発光層と隔壁を介して区画されており、
前記吸着層は、前記隔壁の上面に形成されている
請求項１０又は１１に記載の発光パネル。
【請求項１４】
ホストとドーパントとを含む発光層を有する発光パネルの中間製品において、
前記発光層が存する領域と異なる領域に形成された吸着層を有し、
前記吸着層は、前記発光層における前記ドーパントの重量比よりも高い重量比で前記ドーパントと同じ材料を含む
発光パネルの中間製品。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ホストとドーパントとを含む機能層を有する発光パネルにおける前記機能層の性能／信頼性に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、固体蛍光性物質の電界発光現象を利用した発光素子である有機ＥＬ素子を備える発光パネルの研究・開発が進んでいる。有機ＥＬ素子は自発光デバイスであるため、応答速度が速い、視野角が広い、コントラストが高い等の特徴を有する。有機ＥＬ素子は陽極および陰極の電極対の間に機能層としての有機発光層を積層して構成される。なお、有機発光層は、キャリア（正孔と電子）の再結合による電界発光現象を行う。
【０００３】
上記有機発光層の成膜方法として塗布成膜法（例えば、特許文献１）が存在し、量産化の点で好ましいとされている。塗布成膜法では、有機発光層を構成する材料（発光性材料）と溶媒とを含む発光塗布液をインクジェット法（液滴吐出法）等で基板に塗布し、発光塗布液を真空装置（例えば、特許文献２）で乾燥させることにより有機発光層を形成する。
【０００４】
真空装置は、主に真空チャンバーと真空ポンプを備えるものである。発光塗布液の乾燥は、当該発光塗布液が塗布された基板を真空チャンバー内に載置して減圧することで行われる。このような真空装置は、発光塗布液の乾燥のほか、有機発光層形成後から次工程を行うまでの保管等の際にも使用される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００９−２６７２９９号公報
【特許文献２】特開平１−２１９３６７号公報
【特許文献３】特開２０１０−２２９１５５号公報
【非特許文献】
【０００６】
【非特許文献１】Ｉｎｇｏｌｄ  ｅｔ  ａｌ．，Ｃａｎａｄｉａｎ  Ｊｏｕｒｎａｌ  ｏｆ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ  ４７，２８７−２９４（１９６９）．
【非特許文献２】Ｍａｒｋｈａｍ  ｅｔ  ａｌ．，Ａｐｐｌｉｅｄ  Ｐｈｙｓｉｃｓ  Ｌｅｔｔｅｒｓ  Ｖｏｌ．８０，  Ｎｏ．１５  ２６４５−２６４７（２００２）．
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
真空装置内に配された機能性材料や機能層への不純物質の付着は可能な限り少なくすることが好ましい。
本発明は、機能性材料又は機能層を真空装置内におく場合において、機能性材料への不純物質の付着を可能な限り抑制することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の一形態である発光パネルの製造方法は、発光パネル用基板における各画素部領域に、ホストとドーパントとを含む機能層用の機能性材料を塗布する機能性材料塗布工程と、前記発光パネル用基板における前記機能性材料が塗布された領域とは異なる領域に、前記ドーパントと同じ材料を含む吸着層用の吸着性材料を塗布する吸着性材料塗布工程とを有し、前記吸着性材料は、前記吸着層における前記ドーパントと同じ材料の重量比が前記機能層における前記ドーパントの重量比よりも高くなるように、前記同じ材料を含む。
【発明の効果】
【０００９】
本発明の一形態である発光パネルの製造方法によれば、吸着層又は吸着性材料が存在するため、真空状態下において不純物質の機能性材料又は機能層への付着を抑制することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】有機ＥＬ表示パネルの構成を示す平面図である。
【図２】図１に示すＡ部拡大図におけるＢ−Ｂ断面を矢印方向から見た断面図である。
【図３】ホストの構造を示す図である。
【図４】ドーパントの構造を示す図である。
【図５】実施の形態１に係る有機ＥＬ表示パネルの製造工程例を示す図である。
【図６】実施の形態１に係る有機ＥＬ表示パネルの製造工程例を示す図である。
【図７】実験に用いたメカニカルブースターポンプによる排気時間と真空チャンバー内の圧力との関係を示すグラフである。
【図８】真空工程を経ない有機ＥＬ素子の発光特性と、真空工程を経た有機ＥＬ素子の発光特性を示す図である。
【図９】酸化防止剤として用いられるジフェニルアミン系化合物の一例を示す図である。
【図１０】ジフェニルアミン系化合物を原因とする、有機ＥＬ素子における発光強度半減寿命低下のメカニズムの一例を説明するための図である。
【図１１】真空工程を経た有機発光層表面の分析結果を示す図である。
【図１２】真空ポンプによる排気時間と真空チャンバー内の圧力との関係を示すグラフである。
【図１３】図１２に示すグラフにおける時刻Ａ、時刻Ｂ、時刻Ｃにおける真空チャンバーと粗引きポンプ内の様子を模式的に示す図である。
【図１４】ドーパント重量比と化合物の物質量との測定結果を示す図である。
【図１５】他の有機層と一緒に形成する他の有機層の有無と有機層に付着した化合物の物質量との関係を示す図である。
【図１６】実施の形態２に係る有機ＥＬ表示パネルの断面図を示す図である。
【図１７】実施の形態２に係る有機ＥＬ表示パネルの製造工程例を示す図である。
【図１８】実施の形態２に係る有機ＥＬ表示パネルの製造工程例を示す図である。
【図１９】実施の形態３に係る有機ＥＬ表示パネルの断面図を示す図である。
【図２０】実施の形態３に係る有機ＥＬ表示パネルの断面図である。
【図２１】吸着層の配置領域の変形例を示す図である。
【図２２】有機ＥＬ表示装置等を示す斜視図である。
【図２３】有機ＥＬ表示装置の全体構成を示す図である。
【図２４】図９に示す化合物１，２，３の有機発光層への吸収挙動を示すグラフである。
【図２５】他のドーパントを示す模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
≪本発明の一形態の概要≫
本発明の一形態に係る発光パネルの製造方法は、発光パネル用基板における各画素部領域に、ホストとドーパントとを含む機能層用の機能性材料を塗布する機能性材料塗布工程と、前記発光パネル用基板における前記機能性材料が塗布された領域とは異なる領域に、前記ドーパントと同じ材料を含む吸着層用の吸着性材料を塗布する吸着性材料塗布工程とを有し、前記吸着性材料は、前記吸着層における前記同じ材料の重量比が前記機能層における前記ドーパントの重量比よりも高くなるように、前記同じ材料を含む。
【００１２】
また、本発明の一形態に係る発光パネルの製造方法の特定の局面では、前記ドーパントは、デンドリマー構造を有する。あるいは、前記機能層における前記ドーパントの重量比は０．４以下である。さらに、前記吸着層は、前記ホストと同じ材料と、前記ドーパントと同じ材料とからなり、前記吸着層における前記ド―パントと同じ材料の重量比が、０．８以上１．０未満である。
【００１３】
また、前記吸着層における前記同じ材料の重量比が、１．０である。あるいは、前記機能性材料と前記吸着性材料とが塗布された前記発光パネル用基板を真空装置の真空チャンバーに収容し、前記真空チャンバー内を真空ポンプにより減圧させる減圧工程を有する。あるいは、前記減圧工程では、前記真空ポンプに含まれ且つ前記真空ポンプから前記真空チャンバーに侵入するオイル成分又はシール材由来のアウトガス成分を前記吸着層又は前記吸着性材料に吸着させつつ、前記塗布された前記機能性材料を乾燥し、前記機能層を形成する。さらに、前記減圧工程の後に、前記発光パネル用基板を加熱する加熱工程を有し、前記加熱工程では、前記減圧工程中に前記機能層の表面に付着した、前記真空ポンプに含まれ且つ前記真空ポンプから前記真空チャンバーに侵入する前記オイル成分とは異なるオイル成分の一部を前記機能層から除去する。あるいは、前記吸着性材料が塗布された領域は、前記機能層を区画する隔壁、または、前記画素部領域を含む発光領域とは異なる非発光領域である。
【００１４】
一方、本発明の一形態に係る発光パネルは、ホストとドーパントとを含む発光層を有する画素部と、前記発光層が存する領域と異なる領域に形成された吸着層とを有し、前記吸着層は、前記発光層における前記ドーパントの重量比よりも高い重量比で前記ドーパントと同じ材料を含む。
また、本発明の一形態に係る発光パネルの特定の局面では、前記ドーパントは、デンドリマー構造を有する。あるいは、前記画素部が複数個あり、前記複数の画素部により発光領域が構成され、前記吸着層は、前記発光領域以外の領域に形成されている。さらに、前記画素部が複数個あり、前記画素部の発光層は、当該画素部に隣接する他の画素部の発光層と隔壁を介して区画されており、前記吸着層は、前記隔壁の上面に形成されている。
【００１５】
一方、本発明の一形態に係る発光パネルの中間体は、ホストとドーパントとを含む発光層を有する発光パネルの中間製品において、前記発光層が存する領域と異なる領域に形成された吸着層を有し、前記吸着層は、前記発光層における前記ドーパントの重量比よりも高い重量比で前記ドーパントと同じ材料を含む。
≪発明の一形態に至った経緯≫
発明者は、有機ＥＬ素子の発光特性について検討を行っている。この中で、有機発光層を成膜した後に真空工程を経て製造された有機ＥＬ素子は、真空工程を経ずに製造された有機ＥＬ素子よりも発光特性が悪くなることを見出した。
【００１６】
そして、発明者は、さらに検討を進めた結果、真空工程を経た場合の発光特性の劣化は、真空工程において、真空チャンバー内が真空ポンプの性能限界まで減圧された際に、真空ポンプに用いられている潤滑剤等に含まれるオイル成分・シール材（樹脂・ゴム）に含まれる成分やシール材に由来のアウトガス成分等の不純物質が真空チャンバー内に拡散し、有機発光層に付着したためと考えるに至った。
【００１７】
そこで、本発明の一形態では、上記「発明が解決しようとする課題」の欄で説明したように、真空装置内に配された機能性材料や機能層へ不純物質が付着するのを抑制することを目的とする。
≪実施の形態１≫
本実施の形態１においては、発光パネルの一例として、有機ＥＬ表示パネルについて説明する。
１．有機ＥＬ表示パネルの全体構成
図１は、有機ＥＬ表示パネルの構成を示す平面図であり、図２は、図１に示すＡ部拡大図におけるＢ−Ｂ断面を矢印方向から見た断面図である。
【００１８】
有機ＥＬ表示パネル１は、ＥＬ基板２と封止基板３とが封止材料（樹脂材料）４を介して貼り付けられてなる。有機ＥＬ表示パネル１は、図２において上側を表示面とする、いわゆるトップエミッション型である。
ＥＬ基板２は、平面視矩形状の表示領域５と、表示領域５の外側に設けられた吸着領域６とを有する。なお、図１の拡大図は、ＥＬ基板２の画素部等を示しており、本来であれば破線で示すところを、便宜上、実線で示している。
【００１９】
表示領域５は、発光色の異なる有機ＥＬ素子７を１つの画素部（サブピクセル）として複数備え、複数の有機ＥＬ素子７がマトリクス状に配設されてなる。ここでは、有機ＥＬ素子７は、発光色が赤（Ｒ），緑（Ｇ），青（Ｂ）の３種類であり、図１のＡ部拡大部に示すように、発光色が赤の有機ＥＬ素子の符号を「７Ｒ」、発光色が青の有機ＥＬ素子の符号を「７Ｂ」、発光色が緑の有機ＥＬ素子の符号を「７Ｇ」として表す。
【００２０】
発光色の異なる３種類の有機ＥＬ素子７Ｒ，７Ｂ，７Ｇにより１つのピクセルが構成される。なお、発光色に関係なく有機ＥＬ素子７Ｒ，７Ｂ，７Ｇを指す場合は、単に符号「７」とする。
封止基板３及び封止材料４は、有機ＥＬ表示パネル１がトップエミッション型であるため、封止基板３としてはガラス材料等の光透過性材料を、封止材料としては、樹脂材料等の光透過性材料をそれぞれ選択する必要がある。
【００２１】
なお、ＥＬ基板２が封止基板３に封止材料４を介して接合されることで、有機ＥＬ表示パネル１内に水分又は酸素が浸入するのを防ぐことができる。
２．表示領域の構成
表示領域５を構成する有機ＥＬ素子７は、基板１１上に形成され、その主な構成として、陽極１２、正孔注入層１４、有機発光層１６、電子輸送層１７、陰極１８を備える。なお、基板１１は、発明の一形態における「発光パネル用基板」に相当し、有機発光層が、発明の一形態における「機能層」に相当する。また、画素部は上記の１つの有機ＥＬ素子７に相当し、後述する各有機ＥＬ素子７Ｒ，７Ｂ，７Ｇを区画するバンク１５は画素部の構成に含まない。
（１）基板１１
基板１１はＥＬ基板２のベースとなる部分であり、例えば、無アルカリガラス、ソーダガラス、無蛍光ガラス、燐酸系ガラス、硼酸系ガラス、石英、アクリル系樹脂、スチレン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリエチレン、ポリエステル、シリコーン系樹脂、またはアルミナ等の絶縁性材料で形成することができる。
【００２２】
図示していないが、基板１１の表面における表示領域には有機ＥＬ素子７を駆動するためのＴＦＴ（薄膜トランジスタ）が形成されており、その上方に陽極１２が形成されている。
（２）陽極１２
陽極１２は、例えば、ＡＣＬ（アルミニウム、コバルト、ランタンの合金）、ＡＰＣ（銀、パラジウム、銅の合金）、ＡＲＡ（銀、ルビジウム、金の合金）、ＭｏＣｒ（モリブデンとクロムの合金）、ＮｉＣｒ（ニッケルとクロムの合金）等で形成することができる。
【００２３】
陽極１２の上面にはＩＴＯ（酸化インジウムスズ）層１３が形成されている。
（３）ＩＴＯ層１３
ＩＴＯ層１３は、各層間（ここでは陽極１２と正孔注入層１４である。）の接合性を良好にする機能を有し、当該ＩＴＯ層１３の上面には正孔注入層１４が形成されている。
（４）正孔注入層１４
正孔注入層１４は、例えば、銀（Ａｇ）、モリブデン（Ｍｏ）、クロム（Ｃｒ）、バナジウム（Ｖ）、タングステン（Ｗ）、ニッケル（Ｎｉ）、イリジウム（Ｉｒ）等の酸化物、あるいは、ＰＥＤＯＴ−ＰＳＳ（ポリチオフェンとポリスチレンスルホン酸との混合物）等の導電性ポリマー材料からなる層である。上記のうち、酸化金属からなる正孔注入層１４は、正孔を安定的に、または正孔の生成を補助して、有機発光層１６に対し正孔を注入する機能を有する。
【００２４】
正孔注入層１４の表面には、有機発光層１６の形成領域となる開口部１１５ａを区画するためのバンク１５が設けられている。
（５）バンク１５
バンク１５は一定の台形断面を持つように形成されており、絶縁性の有機材料（例えばアクリル系樹脂、ポリイミド系樹脂、ノボラック型フェノール樹脂等）からなる。
【００２５】
バンク１５の開口部１５ａ（図５の（ｃ）参照）により区画された正孔注入層１４の表面には、Ｒ，Ｇ，Ｂのいずれかの発光色に対応する有機発光層１６が形成されている。
（６）有機発光層１６
有機発光層１６は、キャリアの再結合による発光を行う部位であり、Ｒ，Ｇ，Ｂのいずれかの色に対応する有機材料を含むように構成されている。
【００２６】
なお、有機発光層１６を発光色により区別する必要がある場合は、有機ＥＬ素子７と同様に、発光色を示すアルファベットを「１６」に付加して、例えば、赤の場合の有機発光層の符号を「１６Ｒ」のように表す。
有機発光層１６として用いることが可能な材料としては、例えば、後述の各実験で用いたＦ８−Ｆ６のほか、ポリパラフェニレンビニレン（ＰＰＶ）、ポリフルオレン、特許公開公報（特開平５−１６３４８８号公報）に記載のオキシノイド化合物、ペリレン化合物、クマリン化合物、アザクマリン化合物、オキサゾール化合物、オキサジアゾール化合物、ペリノン化合物、ピロロピロール化合物、ナフタレン化合物、アントラセン化合物、フルオレン化合物、フルオランテン化合物、テトラセン化合物、ピレン化合物、コロネン化合物、キノロン化合物及びアザキノロン化合物、ピラゾリン誘導体及びピラゾロン誘導体、ローダミン化合物、クリセン化合物、フェナントレン化合物、シクロペンタジエン化合物、スチルベン化合物、ジフェニルキノン化合物、スチリル化合物、ブタジエン化合物、ジシアノメチレンピラン化合物、ジシアノメチレンチオピラン化合物、フルオレセイン化合物、ピリリウム化合物、チアピリリウム化合物、セレナピリリウム化合物、テルロピリリウム化合物、芳香族アルダジエン化合物、オリゴフェニレン化合物、チオキサンテン化合物、シアニン化合物、アクリジン化合物、８−ヒドロキシキノリン化合物の金属錯体、２−ビピリジン化合物の金属錯体、シッフ塩とＩＩＩ族金属との錯体、オキシン金属錯体、希土類錯体等の蛍光物質等が挙げられる。
【００２７】
発光色の異なる有機発光層１６Ｒ，１６Ｇ，１６Ｂのうち、少なくとも１つの有機発光層、例えば、緑の有機発光層１６Ｇは、ホストとドーパントとを含む機能性材料からなる。ホストは、主に電荷輸送を担い、ドーパントは主に発光を担う。
有機発光層１６Ｇにおけるドーパントの重量比は、０．４以下、例えば、０．４である。なお、ここでの重量比は、ドーパント量／（ドーパント量＋ホスト量）である。
【００２８】
図３は、ホストの構造を示す図である。（ａ）にＦ６の化学構造を、（ｂ）にＦ８の化学構造をそれぞれ示している。
図４は、ドーパントの構造を示す図である。（ａ）はデンドリマーのイメージ図であり、（ｂ）はデンドリマーの一例としてイリジウムデンドリマーを示し、（ｃ）は、（ｂ）における置換基Ｒの化学構造を示している。
【００２９】
有機発光層１６Ｇに用いられているホストは、発光性を有する材料、例えば高分子材料であり、図３に示す、Ｆ８−Ｆ６が用いられている。このＦ６およびＦ８の化学構造の特徴は、それぞれ、炭素数６のアルキル鎖６6、炭素数８のアルキル鎖６8を有している点である。
ドーパントは、デンドリマー構造を備える材料、例えば高分子材料であり、図４に示すように、内部に隙間２３を有するような構造を有するのが特徴である。なお、図４（ａ）に示すイメージ図は、特許文献３に開示されているものであり、（ｂ）は非特許文献２に開示されているものである。
【００３０】
ドーパントとして、具体的には、ジェネレーション２のイリジウムデンドリマーであり、図４の（ｃ）に示すような置換基Ｒを備える。
なお、有機発光層１６は、真空装置を利用して形成（乾燥）されている。
（７）電子輸送層１７
電子輸送層１７は、陰極１８から注入された電子を有機発光層１６へ輸送する機能を有する。電子輸送層１７は電子輸送性を有する材料（電子輸送性材料）で構成されており、このような材料としては、例えば、ニトロ置換フルオレノン誘導体、チオピランジオキサイド誘導体、ジフェキノン誘導体、ペリレンテトラカルボキシル誘導体、アントラキノジメタン誘導体、フレオレニリデンメタン誘導体、アントロン誘導体、オキサジアゾール誘導体、ペリノン誘導体、キノリン錯体誘導体（いずれも特開平５−１６３４８８号公報に記載）等が挙げられる。
（８）陰極１８
トップエミッション型の有機ＥＬ表示パネル１を実現するため、本実施の形態１において電子輸送層１７の上に形成された陰極１８は、例えば、ＩＴＯ、ＩＺＯ（酸化インジウム亜鉛）等の光透過性を有する導電性酸化物材料で形成されている。
（９）封止層１９
陰極１８の上に形成された封止層１９は、有機ＥＬ表示パネル１内の有機発光層１６や陰極１８等に水分や酸素が浸入するのを防ぐために設けられている。有機ＥＬ表示パネル１はトップエミッション型であるため、封止層１９には、例えば、ＳｉＮ（窒化シリコン）、ＳｉＯＮ（酸窒化シリコン）等の光透過性材料が採用されている。
３．吸着領域
吸着領域６は、表示領域５の外周を囲繞にするように基板１１に設けられている。吸着領域６は、有機発光層１６の乾燥工程（減圧工程）中に真空装置に起因した不純物質が付着するのを抑制するものである。つまり、吸着領域６は、有機発光層１６よりも不純物質に対して高い吸着性を有する吸着層２１を有している。
【００３１】
吸着層２１は、基板１１上に形成されている。具体的には、表示領域５の最外周に位置するバンク１５ｏと、その外側に形成されたバンク２２との間の開口部１５ｂ（図５の（ｃ）参照）に形成されている。なお、吸着層２１の上方には、表示領域５における有機発光層１６の上方と同様に、電子輸送層１７、陰極１８及び封止層１９が形成されている。
ここでは、吸着層２１は、表示領域５の外側に一重に設けられているが、多重に設けられても良い。また、吸着層２１は、表示領域５を囲繞する領域のすべてに亘って設けられていたが、表示領域５を囲繞する領域の一部に吸着層を設けるようにしても良い。
【００３２】
吸着層２１は、緑の有機発光層１６Ｇを構成するホストと同じ材料と、有機発光層１６Ｇを構成するドーパントと同じ材料を含む。なお、吸着層２１におけるホストとおなじ材料及び吸着層２１におけるドーパントと同じ材料は、その機能が発光層と異なるが、便宜上、吸着層２１におけるこれらの同じ材料も「ホスト」、「ドーパント」という。
ドーパントの構造としては、図４の（ａ）に示すように、デンドリマー構造を有するのが特徴であり、この隙間２３に不純物質の一部または全部が嵌る。
【００３３】
吸着層２１におけるドーパントの重量比は、有機発光層１６Ｇにおけるドーパントの重量比よりも高くなっている。具体的には、有機発光層１６Ｇにおけるドーパントの重量比が０．４以下であり、吸着層２１におけるドーパントの重量比は０．４より高い０．８である。
４．有機ＥＬ表示パネルの製造方法
図５〜図６は、実施の形態１に係る有機ＥＬ表示パネル１の製造工程例を示す図である。これらの図を参照しながら、有機ＥＬ表示パネル１の製造方法について説明する。
【００３４】
ここでは、有機発光層１６を基準にして、当該有機発光層１６よりも下側（基板１１側である。）に位置する陽極１２、ＩＴＯ層１３及び正孔注入層１４を下層とし、当該有機発光層１６よりも上側に位置する電子輸送層１７、陰極１８、封止層１９を上層とする。
（１）下層形成工程
図５の（ａ）に示すように基板１１を準備し、図５の（ｂ）に示すように、当該基板１１における表示領域５に対応する領域（図５の（ｂ）では「表示領域５」としている。）に、陽極１２、ＩＴＯ層１３及び正孔注入層１４を形成する。
【００３５】
具体的には、基板１１をスパッタ成膜装置の成膜容器内に載置する。そして成膜容器内に所定のスパッタガスを導入し、反応性スパッタ法、真空蒸着法等に基づき陽極１２を成膜する。引き続き上記の成膜容器内で、スパッタ法に基づき陽極１２上にＩＴＯ層１３を形成する。そして、ＩＴＯ層１３の各表面を含む基板１１の表面に対し、スパッタ法等を用い金属膜を製膜する。その後、形成された金属膜を酸化することにより、正孔注入層１４を形成する。
【００３６】
このとき、陽極１２、ＩＴＯ層１３及び正孔注入層１４は、表示領域５に対応する領域にのみ形成され、吸着領域６に対応する領域（図５の（ｂ），（ｃ）では「吸着領域６」としている。）には形成されてない。
（２）バンク形成工程
図５の（ｃ）に示すようにバンク１５，２２を形成する。バンク材料として、例えば感光性のレジスト材料、好ましくはフッ素系材料を含有するフォトレジスト材料を用意する。このバンク材料を基板１１上の表示領域５に対応する領域及び吸着領域６に対応する領域上に一様に塗布し、プリベークした後、開口部１５ａ，１５ｂを形成できるようなパターンを有するマスクを重ねる。そして、マスクの上から感光させた後、未硬化の余分なバンク材料を現像液で洗い出す。最後に純水で洗浄することでバンク１５，２２が完成する。
【００３７】
なお、バンク１５は、表示領域５における有機ＥＬ素子７を区画すためのものであり、バンク２２は吸着領域６における吸着層２１を区画するためのものである。開口部１５ｂは表示領域５の最外周に位置するバンク１５と吸着領域６の最内周に位置するバンク２２との間に形成される。
（３）機能層形成工程
（３−１）塗布液塗布工程
図５の（ｄ）に示すように、バンク１５の開口部１５ａ（図５の（ｃ））に対し、インクジェット法に基づき、有機発光層１６を構成する発光性材料および溶媒を含んでなる発光塗布液１６ａを滴下（塗布）する（発光性材料塗布工程）。なお、発光性材料は、発明の一形態における「機能性材料」に相当する。
【００３８】
また、バンク１５とバンク２２との開口部１５ｂ（図５の（ｃ））に対し、インクジェット法に基づき、吸着層２１を構成する吸着性材料および溶媒を含んでなる吸着塗布液２１ａを滴下（塗布）する（吸着性材料塗布工程）。
ここでの、吸着性材料塗布工程は、発光性材料塗布工程の後に行っても良いし、発光性材料塗布工程の前に行っても良いし、発光性材料塗布工程中に行っても良い。
【００３９】
なお、発光塗布液１６ａや吸着塗布液２１ａの滴下方法はインクジェット法に限定されず、例えば、グラビア印刷法、ディスペンサー法、ノズルコート法、凹版印刷、凸版印刷等であってもよい。
（３−２）乾燥工程
基板１１に対して滴下された塗布液１６ａ，２１ａを乾燥させる。この乾燥工程では、真空装置を利用し、所定時間真空チャンバー内を減圧することで行われる。真空装置は、塗布液１６ａ，２１ａが滴下された基板１１を収容する真空チャンバーと、真空チャンバ−内を減圧させる真空ポンプとを備える。乾燥工程では、真空チャンバー内を減圧して行われるため減圧工程でもある。
【００４０】
真空ポンプは、真空チャンバー内を第１圧力（例えば、１００［Ｐａ］程度である。）まで減圧させる粗引きポンプ（例えばドライポンプである、）と、第１圧力まで減圧された真空チャンバー内をさらに第２圧力（例えば、０．６［Ｐａ］から０．７［Ｐａ］程度である。）減圧させるための主排気ポンプ（例えばメカニカルブースターポンプである。）を備える。
【００４１】
真空工程では、塗布液１６ａ，２１ａが滴下された基板１１を真空チャンバー内に収容した後、粗引きポンプで第１圧力まで真空チャンバー内の減圧し、主排気ホンプで第２圧力まで真空チャンバー内を減圧する。
このとき、主排気ポンプの性能限界まで減圧されると、主排気ポンプ側の不純物質３１が真空チャンバー内に拡散し、有機発光層１６や乾燥中の有機発光層中間体１６ａに付着しようとする。しかしながら、基板１１には吸着層２１や乾燥中の吸着層中間体２１ａが表示領域５に対応する領域の外側に存在しているので、図６の（ａ）や（ｂ）に示すように、真空チャンバー内の不純物質３１は、吸着層２１や乾燥中の吸着層中間体２１ａに吸着される。そして、結果的に、不純物質３１が有機発光層１６に付着するのを抑制することができる。
【００４２】
ここでいう「有機発光層中間体」は、発光塗布液中の溶媒の量が、滴下時における発光塗布液中の溶媒の量よりも少なくなったものである。なお、有機発光層中間体の符号は、発光塗布液と同じ「１６ａ」を用いる。また、同様に、「吸着層中間体」は、吸着塗布液中の溶媒の量が、滴下時の吸着塗布液の溶媒に量よりも少なくなったものである。なお、吸着層中間体の符号は、吸着塗布液と同じ「２１ａ」を用いる。
（４）上層形成工程
機能層形成工程後、図６（ｃ）に示すように、上層を形成する。
【００４３】
まず、電子輸送層形成工程を行う。当該工程では、真空成膜法に基づき形成する。具体的には、例えば真空蒸着法やスパッタ法等の真空成膜法に基づき、有機発光層１６や吸着層２１の上面に電子輸送層１７を構成する材料を成膜することにより、電子輸送層１７を形成する。
次に、陰極形成工程を行う。当該工程では、塗布膜としての有機発光層１６や吸着層２１の上方に、真空蒸着法、スパッタ法等の真空成膜法基づき、ＩＴＯ、ＩＺＯ等を成膜することにより陰極１８を形成する。
【００４４】
ここで、「有機発光層１６や吸着層２１の上方に陰極を形成する」には、有機発光層１６や吸着層２１の上に直接的に陰極を形成する場合だけでなく、有機発光層１６や吸着層２１の上に間接的に陰極を形成する場合も含むこととする。すなわち、乾燥工程後から陰極形成工程の間に別の層（例えば電子輸送層等である。）を形成する工程を含んでいてもよいし、含まなくてもよい。
【００４５】
陰極形成工程を終えると、封層層形成工程を行う。当該工程では、蒸着法、スパッタ法等に基づき陰極１８の上に封止層１９を形成する。
以上の工程を経ることで、ＥＬ基板２が完成する。
（５）貼合せ工程
上記工程で完成したＥＬ基板２の上方に封止基板３を対向配置させ、ＥＬ基板２と封止基板３とで形成される空間に封止材料４を充填する。
【００４６】
以上の工程を経ることで、有機ＥＬ表示パネル１が完成する。
以上のように、吸着層２１を、発光塗布液（発光性材料）が塗布された基板に設けることで、有機発光層１６や乾燥中の発光層中間体１６ａへの不純物質３１の付着を抑制することができる。また、吸着層２１は有機発光層１６（ここでは有機発光層１６Ｇである。）のホストとドーパントと同じ材料（重量比は異なる。）を利用しているので、有機発光層１６用の発光塗布液１６ａの塗布工程に関連させて（塗布工程よりも前にしてもよいし、塗布工程の後でもよい）行うことができるので、容易且つ効率的に吸着層２１を設けることができる。
５．吸着層について
（１）真空工程の有無による発光特性の違い
本発明者は、発光層成膜後に真空工程を行うか否かで有機ＥＬ素子の発光特性に違いが現れるかを検証した。実験用の有機ＥＬ素子として、真空工程を経ない有機ＥＬ素子と、真空工程を経る有機ＥＬ素子の２種を準備した。ここで利用した真空装置は、真空チャンバーと真空ポンプとを備える。真空ポンプは、メカニカルブースターポンプを利用している。
（１−１）有機ＥＬ素子の準備について
真空工程を経ない有機ＥＬ素子は、以下のようにして形成した。まず、上述した製造方法に基づき、基板上に陽極、正孔注入層、正孔輸送層を順に積層した。次に、正孔輸送層の上面に発光塗布液を塗布した後、加熱を行い、有機発光層を成膜した。続いて、有機発光層が成膜された基板を、グローブボックスに２０［ｍｉｎ］載置した。そして、有機発光層の上に電子輸送層、陰極、封止層を順に積層することにより、真空工程を経ない有機ＥＬ素子が完成する。
【００４７】
真空工程を経る有機ＥＬ素子は、以下のようにして形成した。まず、真空工程を経ない有機ＥＬ素子と同様に、基板上に陽極、正孔注入層、正孔輸送層、有機発光層を順に積層した。次に、有機発光層が成膜された基板を、真空ポンプに接続された真空チャンバー内に載置した。そして、真空ポンプを起動させて真空チャンバー内を真空状態にし、２０［ｍｉｎ］放置した。そして、有機発光層の上に電子輸送層、陰極、封止層を順に積層することにより、真空工程を経る有機ＥＬ素子が完成する。
【００４８】
図７は、実験に用いたドライポンプ、メカニカルブースターポンプによる排気時間と真空チャンバー内の圧力との関係を示すグラフである。本実験においては、図７に示すような排気プロファイルを有するポンプを用いて実験を行った。横軸が真空ポンプによる排気時間を、縦軸が真空チャンバー内の圧力をそれぞれ示している。
真空工程を経ない有機ＥＬ素子、真空工程を経る有機ＥＬ素子ともに、陽極、正孔注入層、正孔輸送層、電子輸送層、陰極および封止層には、公知の材料を用いた。有機発光層は、ホストとしてＦ８−Ｆ６を、ドーパントとしてデンドリマー構造を有する金属錯体を用いた。
【００４９】
なお、真空工程を経ない有機ＥＬ素子の製造においては、当然のことながら、発光塗布液を乾燥させるための真空工程を行うことができない。そこで、有機発光層を構成する発光性材料を溶解させるための溶媒として、真空工程による乾燥が不要な低沸点溶媒であるキシレンを用いた。ただし、キシレンを溶媒として用いた場合、インクジェット法による塗布を行うことができない。そのため、実験用有機ＥＬ素子の製造においては、発光塗布液の乾燥は加熱により行った。また、実験用有機ＥＬ素子の比較が行えるよう、真空工程を経る有機ＥＬ素子についても同様とした。
（１−２）発光特性
図８は、真空工程を経ない有機ＥＬ素子の発光特性と、真空工程を経た有機ＥＬ素子の発光特性を示す図である。
【００５０】
図８は、実験用の有機ＥＬ素子を発光させた場合の、発光時間と発光強度の関係を示すグラフであり、横軸は発光時間［ｈｒ］を、縦軸は発光強度をそれぞれ示している。発光強度は、発光開始直後を１としたときの相対値で示している。また、真空工程を経ない有機ＥＬ素子の発光特性（図８において「真空工程無」）を実線で、真空工程を経る有機ＥＬ素子の発光特性（図８において「真空工程有」）を二点鎖線でそれぞれ示している。
【００５１】
真空工程を経ない有機ＥＬ素子と比較して、真空工程を経る有機ＥＬ素子は、時間経過に伴う発光強度低下量が大きいことが見てとれる。換言すると、発光塗布液の塗布後に真空工程を経ない有機ＥＬ素子よりも、真空工程を経る有機ＥＬ素子の方が発光強度半減寿命（発光強度が半減するまでに要する時間）が短いことがわかる。
両実験用有機ＥＬ素子の違いは、有機発光層成膜後の基板が置かれる環境のみである。つまり、グローブボックス内に保管するか、真空ポンプに接続された真空チャンバー内に保管するかの違いにより、発光強度半減寿命に大きな差が生じたことになる。
（１−３）考察
本発明者は、図８に示す結果から、機械式の真空ポンプに用いられている潤滑剤の含有成分、もしくは、真空シール材等の含有成分が、不純物質として有機発光層に何らかの悪影響を与えているのではないかと考えた。以下、「機械式の真空ポンプに用いられている潤滑剤の含有成分、もしくは、真空シール材等の含有成分」を、単に「潤滑剤等の含有成分」と記載する。
【００５２】
真空工程を経る実験用の有機ＥＬ素子における電子輸送層は、真空成膜法に基づき形成されている。この真空成膜工程を経てもなお発光特性に悪影響が生じていることからすると、不純物質は真空成膜時の高真空下でも揮発しないような、比較的沸点の高いものであると推定された。そのため、本発明者は、潤滑剤等の含有成分が不純物質ではないかと考えたのである。
【００５３】
潤滑剤は、通常、潤滑成分（例えば、潤滑油である。）と、潤滑成分の酸化を防止するための酸化防止剤を含んでいる。また、真空シール材にも、当該真空シール材を構成する樹脂材料の酸化を防止する目的で酸化防止剤が含まれている。酸化防止剤は、潤滑成分の酸化または樹脂材料の酸化が原因の所謂スラッジやワニスの発生を抑制するものであり、例えば、連鎖停止剤、過酸化物分解剤、金属不活性化剤等の種類が知られている。
【００５４】
この中でも、本発明者は、ジフェニルアミン系化合物やフェノール系化合物等で構成され、潤滑成分の酸化の進行を停止させる連鎖停止剤に注目した。一般にラジカルは不安定である。しかしながら、ジフェニルアミン系化合物やフェノール系化合物が水素原子を失って形成されるラジカル状態は、そのラジカル部分に隣接する芳香環による共鳴安定化が起こるため、比較的安定であると考えられる。そのため、酸化により生じる反応性の高い過酸化物や、ラジカル種へ水素原子を供与して、自身がラジカル状態になるといった反応が進行する。ジフェニルアミン系化合物やフェノール系化合物のラジカル状態は比較的安定であるため、連鎖的な反応を停止することが可能である。この性質が利用され、酸化の進行を停止させる連鎖停止剤として用いられている。
（２）発光強度半減寿命低下のメカニズム
以下、ジフェニルアミン系化合物を主に取り上げて説明する。
【００５５】
図９は、酸化防止剤として用いられるジフェニルアミン系化合物の一例を示す図である。図９（ａ），（ｂ），（ｃ）に、ジフェニルアミン系化合物の一例である化合物１、化合物２、化合物３の化学式をそれぞれ示している。以降の図において、化合物１、化合物２、化合物３に代表されるジフェニルアミン系化合物を、総じて図９（ｄ）で示す化学式で表すこととする。また、ジフェニルアミン系化合物を単に「ＤＰＡ」と記載する。
【００５６】
図１０は、ジフェニルアミン系化合物を原因とする、有機ＥＬ素子における発光強度半減寿命低下のメカニズムの一例を説明するための図である。説明の都合上、有機発光層１６と電子輸送層１７との界面領域１２８を誇張して示している。
まず、式（１）に示すように、有機ＥＬ素子駆動中においては、電子輸送層１７を構成する電子輸送性材料Ｘは、ラジカルアニオン（ポーラロン）状態となることで電子の輸送を行う（図１０における「ラジカルアニオン状態の電子輸送性材料Ｘ」である。）。
【００５７】
そのため、このラジカルアニオン状態の電子輸送性材料Ｘをキャリアと考えることができる。そして、界面領域１２８において、ＤＰＡはラジカルアニオン状態の電子輸送性材料Ｘに水素原子を供与することで、自身がラジカルアニオン状態となる（図１０における「ラジカルアニオン状態のＤＰＡ」である。）。
このような反応が進行する理由として、ラジカルアニオン状態のＤＰＡは、負電荷が２つのベンゼン環において非局在化するため安定に存在し得るからであると考えた。つまり、ラジカルアニオン状態の電子輸送性材料Ｘよりも、ラジカルアニオン状態のＤＰＡの方がさらに安定な構造となり得るからであると考えた。また、ラジカルアニオン状態の電子輸送性材料Ｘは、ＤＰＡから放出された水素原子と結合する（図１０における「ＸＨ」である。）。
【００５８】
式（１）に基づいて説明したように、真空工程を経ることで発光強度の低下が大きくなる要因の１つとして、キャリアであるラジカルアニオン状態の電子輸送性材料ＸがＤＰＡにより消失することにより、有機発光層１６に注入される電子が減少することが考えられる。
次に、式（２）に示すように、界面領域１２８において、ラジカルアニオン状態のＤＰＡは、有機発光層１６を構成する材料Ｙと反応することも想定される。この反応により、有機発光層１６を構成する材料Ｙとは異なる生成物Ｚを与える。これは、有機発光層１６が劣化することに相当する。このように、ＤＰＡと有機発光層１６を構成する材料Ｙが反応してしまうことも、発光強度の低下の一因であると考えられる。また、ＤＰＡとＹが直接反応している場合に限定されず、残存溶媒や、作製途中に含まれる水分により生じうるラジカル物質を介して発光強度低下が起こっている場合も含まれる。
【００５９】
以上説明したようなメカニズムが想定されることからも、潤滑剤等に含まれる酸化防止剤、特に連鎖停止剤が発光強度半減寿命低下に大きく影響していると考えた。
（３）真空工程を経た有機発光層表面の分析
次に、ガスクロマトグラフ質量分析計（ＧＣ−ＭＳ）を用い、真空工程を経た有機発光層の表面に付着している物質を分析した。真空工程を経た有機発光層をヘリウム雰囲気下で昇温加熱し、加熱された有機発光層から放出されるガス（アウトガス）を液体窒素で捕集し、ＧＣ−ＭＳで分析した。ＧＣ−ＭＳ分析は、アジレント・テクノロジー社製の６８９０ＧＣを用い、イオン化はＥＩ法（電子イオン化法）により行った。カラムはアジレント・テクノロジー社製のＤＢ５ｍｓを使用し、４０度から３００度まで昇温した。
【００６０】
図１１は、真空工程を経た有機発光層表面の分析結果を示す図である。縦軸は検出強度（トータルイオンカレントであり、検出された分子数に相当する。）、横軸は保持時間［ｍｉｎ］をそれぞれ示しており、図１１では、保持時間１５〜２０［ｍｉｎ］におけるガスクロマトグラフを示している。保持時間１６〜１９［ｍｉｎ］付近に、化合物１、化合物２、化合物３のピークが検出された。純粋な化合物１、化合物２、化合物３についてもＧＣ−ＭＳ分析を行い、保持時間およびマススペクトルが図１１に示す結果と一致していることを確認した。
【００６１】
ＧＣ−ＭＳ分析の結果より、本発明者は、真空ポンプに用いられている潤滑剤等に酸化防止剤として含まれているジフェニルアミン系化合物が、発光強度半減寿命低下の原因であることを突き止めた。そして、ジフェニルアミン系化合物が次項で説明するメカニズムにより、真空ポンプから真空チャンバーへ飛散するのではないかと考えた。
そこで、有機発光塗布膜を形成した基板を真空チャンバー内に載置した上で、メカニカルブースターポンプで真空チャンバー内を減圧し、上述した方法に基づきＧＣ−ＭＳ分析を行った。その結果、図１１に示すスペクトルのように、不純物質のピークを検出することができた。
（４）真空ポンプから真空チャンバーへの不純物質飛散のメカニズム
図１２は、真空ポンプによる排気時間と真空チャンバー内の圧力との関係を示すグラフである。横軸が排気時間であり、縦軸が真空チャンバー内の圧力である。また、縦軸において、下方にいくほど真空度が高いことを示している。
【００６２】
時刻Ａは、真空ポンプの起動時点に相当する。また、時刻Ｂは、真空チャンバー内の減圧が進行している最中である。時刻Ｃにおいては、真空ポンプの性能限界まで真空チャンバー内が減圧されており、平衡状態に達している。時刻Ａ、時刻Ｂ、時刻Ｃの各々における真空チャンバーと真空ポンプ内の様子を、図１３を用いて説明する。
図１３は、図１２に示すグラフにおける時刻Ａ、時刻Ｂ、時刻Ｃにおける真空チャンバーと真空ポンプ内の様子を模式的に示す図である。
【００６３】
図１２に示すように、真空チャンバー５２は、排気管５５を介して真空ポンプ５３に接続されている。真空チャンバー５２内の気体は、真空ポンプ５３により、排気管５５を通って外部へ排出される。また、各図において、真空ポンプ５３に用いられている潤滑剤等に含まれている酸化防止剤（連鎖停止剤）を、不純物質３１で示している。
図１３の（ａ）は真空ポンプ５３の起動時点である。減圧を開始すると、図１３の（ｂ）において破線の矢印で示すように、真空チャンバー５２内の気体は、排気管５５から真空ポンプ５３を介して外部へ排出される。このように、真空チャンバー５２から排気管５５、真空ポンプ５３へと向かう気流が発生する。このため、減圧期間（時刻Ｂ）においては、不純物質３１が真空チャンバー５２へ飛散することはないと考えられる。
【００６４】
しかしながら、時刻Ｃにおいては、真空ポンプ５３の性能限界まで真空チャンバー５２内が減圧されている。そのため、真空チャンバー５２と真空ポンプ５３との間の気流は平衡状態にある。また、真空チャンバー５２内の真空度が高くなることで、真空チャンバー５２内の圧力に占める不純物質３１の蒸気圧の割合が上昇する。このため、図１３の（ｃ）に示すように、真空ポンプ５３から真空チャンバー５２への不純物質３１の飛散が起こり、有機発光層形成後の有機ＥＬ素子の中間製品５４に不純物質３１が付着するのではないかと考えた。さらに、真空チャンバー５２内の真空度が高くなることで不純物質３１の平均自由行程が長くなるため、有機発光層と不純物質３１の衝突確率がより高くなると考えられる。
（５）吸着層
発明者は、有機発光層１６に不純物質が付着する現象に注目し、有機発光層１６を構成している発光性材料のうち、不純物質を吸引する（不純物質が付着する）材料を利用することで、不純物質を吸着する吸着層としての機能を果せると考えた。
【００６５】
そこで、発明者は、有機発光層１６の材料として利用しているホストとドーパントとを用い、互いの重量比を変えた有機層を製造し、当該有機層に付着した不純物質の付着量を求めた。なお、測定は、化合物の物質量として求めている。
図１４は、ドーパント重量比と化合物の物質量との測定結果を示す図である。
図１４においては、横軸のドーパント重量比「０」はホストのみで有機層を形成した場合であり、ドーパント重量比「１」はドーパントのみで有機層を形成した場合である。また、横軸において、右側に移るに従ってホストが減る一方でドーパントが増え、左側に移るに従ってドーパントが減る一方でホストが増える。
【００６６】
上記のドーパント重量比は、ドーパント量／（ドーパント量＋ホスト量）から算出している。
化合物１は、ドーパント重量比が増加するに従って、有機層への付着量が増加している。化合物２及び化合物３では、ドーパント重量比が０．８を超えると特に有機層への付着量が増える傾向にある。
【００６７】
以上のことから、ドーパント重量比が、表示領域５の有機発光層１６におけるドーパント重量比よりも大きければ、吸着層２１として利用できることが分かる。
図１５は、他の有機層と一緒に形成した場合の有機層に付着する化合物の物質量と、他の有機層と一緒に形成しない場合の有機層に付着する化合物の物質量とを示す図である。
この実験は、ドーパント重量比が０．４の有機層を形成する際に、ドーパント重量比が０．４よりも高い他の有機層と一緒に形成した場合と、ドーパント重量比が０．４の有機層を形成する際に当該有機層のみを形成した場合の２種類について行った。
【００６８】
図１５において、「有」は他の有機層と一緒に形成した場合であり、「無」は他の有機層と一緒に形成していない場合である。
図１５に示すように、すべての化合物において、他の有機層と一緒に形成した場合（図中の「有」である。）、他の有機層と一緒に形成していない場合（図中の「無」である。）に比べて、有機層に付着する化合物の物質量が減少している。
【００６９】
これは、チャンバー内の付着物が、チャンバーに配置された、ドーパント重量比が０．４よりも高い他の有機層に付着したため、同じチャンバー内に配置されていたドーパント重量比が０．４の有機層に付着しなかったと考えられる。
以上のことから、不純物質が有機発光層１６や乾燥中の発光塗布液１６ａに付着するのを防止するには、有機発光層１６を形成する基板上に、表示領域５の有機発光層１６におけるドーパント重量比よりも高いドーパント重量比の有機層（吸着層）を設けるのが有効であることが推測できる。
≪実施の形態２≫
実施の形態１では、有機ＥＬ表示パネル１は、基板１１上に吸着領域６を備えていたが、吸着領域は有機発光層１６を真空装置内で乾燥して形成する際に表示領域５に対応する領域に近接して存在していれば良く、製造工程の最終段階で吸着領域が除去される形態を実施の形態２として説明する。
１．構造
図１６は、実施の形態２に係る有機ＥＬ表示パネルの断面図を示す図である。
【００７０】
有機ＥＬ表示パネル１０１は、ＥＬ基板１０２と封止基板３とが封止材料（樹脂材料）１０３を介して貼り付けられてなる。封止基板３及び封止材料１０３について、実施の形態１におけるこれらと同じ構成であるため、その説明は省略する。
ＥＬ基板１０２は、平面視矩形状の表示領域１０４を有する。表示領域１０４を構成する有機ＥＬ素子は、基板１０５上に形成され、その主な構成として、陽極１２、正孔注入層１４、有機発光層１６、電子輸送層１７、陰極１８を備え、各有機ＥＬ素子は、バンク１５により区画されている。
２．有機ＥＬ表示パネルの製造方法
図１７〜図１８は、実施の形態２に係る有機ＥＬ表示パネル１０１の製造工程例を示す図である。これらの図を参照しながら、有機ＥＬ表示パネル１０１の製造方法について説明する。
【００７１】
ここでも、有機発光層１６を基準にして、当該有機発光層１６よりも下側に位置する陽極１２、ＩＴＯ層１３及び正孔注入層１４を下層とし、当該有機発光層１６よりも上側に位置する電子輸送層１７、陰極１８、封止層１９を上層とする。
（１）下層形成工程
図１７の（ａ）に示すように基板１１１ａを準備し、（ｂ）に示すように、当該基板１１に陽極１２、ＩＴＯ層１３及び正孔注入層１４を形成する。なお。これらの形成は実施の形態１と同じである。
（２）バンク形成工程
図１７の（ｃ）に示すようにバンク１５，１０６を形成する。このときバンク１０６は、基板１１１ａにおける周縁部に形成される。ここでの周縁部は、基板１１１ａにおけるＥＬ基板１０２よりも外側部分である。なお、バンク１５，１０６は、そのバンク材料，バンクの形成方法等が実施の形態１と同じである。
（３）機能層形成工程
吸着層は、表示領域２０４の外側であって、当該表示領域２０４と間隔をおいて形成される。この間隔は、有機ＥＬ表示パネル２０１としたときに、吸着層が有機ＥＬ表示パネル２０１に含まれないように設定されている。
（３−１）塗布液塗布工程
図１７の（ｄ）に示すように、バンク１５の開口部１５ａ（図１７の（ｃ））に対し発光塗布液１６ａを滴下（塗布）する（発光性材料塗布工程）。また、バンク１０６間の開口部１０６ａ（図１７の（ｃ））に対し吸着塗布液１０８ａを滴下（塗布）する（吸着性材料塗布工程）。なお、発光塗布液１６ａや吸着塗布液１０８ａの滴下方法等は実施の形態１と同じである。
【００７２】
ここでも、吸着層は、表示領域２０４の外側に一重になるように設けられているが、多重に設けられても良い。また、吸着層は、表示領域２０４を囲繞する領域のすべてに亘って設けているが、表示領域２０４を囲繞する領域の一部に設けるようにしても良い。
（３−２）乾燥工程
基板１１１ａに対して塗布された塗布液１６ａ，１０８ａを乾燥させる。この乾燥工程では、真空装置を利用し、真空チャンバー内で所定時間だけ減圧することで行われる。乾燥方法等は実施の形態１と同じである。
【００７３】
このとき、主排気ポンプ側の不純物質３１が真空チャンバー内に拡散し、有機発光層１６や乾燥中の発光塗布液１６ａに付着しようとする。しかしながら、基板１１１ａには吸着層１０８や乾燥中の吸着層中間体１０８ａが表示領域５に対応する領域の外側に配されているので、図１８の（ａ）や（ｂ）に示すように、真空チャンバー内の不純物質３１は、吸着層１０８や乾燥中の吸着層中間体１０８ａに吸着される。そして、結果的に、不純物質３１が有機発光層１６に付着するのを抑制することができる。
（４）上層形成工程
乾燥工程後、図１８の（ｃ）に示すように、表示領域１０４に対応する領域に上層を形成する。なお、この上層の形成は実施の形態１と同じである。なお、ここでは、吸着領域に対応する領域（バンク１０６、吸着層１０８）上には上層を形成していないが、上層を形成しても良い。
（５）スクライブ工程
上層形成工程が終了すると、基板１１１ａを所定の大きさにスクライブする。スクライブする位置は、例えば、表示領域１０４の最外周に位置するバンク１５と、吸着領域における表示領域１０４側のバンク１０６との間である。
【００７４】
以上の工程を経ることで、ＥＬ基板１０２が完成する。
有機ＥＬ表示パネル１０１は、上記スクライブ工程を行う前に、基板１１１ａと封止基板３用の基板とを封止材料１０３で貼り合わせた後、表示領域１０４の最外周に位置するバンク１５と、吸着領域における表示領域１０４側のバンク１０６との間でスクライブしても良い。
≪実施の形態３≫
実施の形態１及び実施の形態２における吸着領域は、表示領域の外周側に設けられていたが、吸着領域は、表示領域内に設けても良い。表示領域内に吸着領域を設けた形態を実施の形態３として説明する。
【００７５】
図１９は、実施の形態３に係る有機ＥＬ表示パネルの断面図を示す図であり、図２０は、実施の形態３に係る有機ＥＬ表示パネルの断面図である。
有機ＥＬ表示パネル２０１は、ＥＬ基板２０２と封止基板３とが封止材料（樹脂材料）２０３を介して貼り付けられてなる。封止基板３及び封止材料２０３について、実施の形態１におけるこれらと同じ構成であるため、その説明は省略する。
【００７６】
ＥＬ基板２０２は、平面視矩形状の表示領域２０４を有する。表示領域２０４を構成する有機ＥＬ素子は、基板２０５上に形成され、その主な構成として、陽極１２、正孔注入層１４、有機発光層１６、電子輸送層１７、陰極１８を備え、各有機ＥＬ素子は、バンク２１１により区画されている。
バンク２１１の上面には溝２１１ａが形成されており、この溝２１１ａに吸着層２１３が形成されている。吸着層２１３は、図１９に示すように、マトリクス状（縦横方向）に配置されている有機ＥＬ素子間を縦方向・横方向に延伸するように設けられている。
【００７７】
バンク２１１上の溝２１１ａはグレートーンマスクを用いることで開口部２１１ｂの形成と同時に形成できる。
なお、実施の形態３では、吸着層２１３は、すべての有機ＥＬ素子間を延伸するように設けられていたが、すべての有機ＥＬ素子間に必ずしも設ける必要はない。
図２１は、吸着層の配置領域の変形例を示す図である。
【００７８】
図２１の（ａ）では、ＥＬ基板２３１の吸着層２３５が、緑色発光の有機ＥＬ素子（図中の「Ｇ」で示している。）の両側であって有機ＥＬ素子（Ｇ）の配列方向（隣接する方向でもある。）に延伸している。
ここでは、赤、青、緑色の各発光層の内、１つの発光層、例えば、緑色の発光層でデンドリマー構造のドーパントを利用している。このため、吸着層２３５は緑色の発光層（Ｇ）を区画するバンク２３３ａの上面に形成されている。
【００７９】
図２１の（ｂ）では、ＥＬ基板２５１の吸着層２５５が、緑色発光の有機ＥＬ素子（図中の「Ｇ」で示している。）の片側であって有機ＥＬ素子（Ｇ）の配列方向に沿って延伸している。また、吸着層２５７は、隣接する２つの緑色発光の有機ＥＬ素子（Ｇ）間を当該有機ＥＬ素子（Ｇ）の配列方向と直交する方向に延伸している。吸着層２５５，２５７は、バンク２５３ａ，２５３ｂの上面に設けられている。
【００８０】
なお、ここでは、緑色の発光層にデンドリマー構造を利用したが、他の発光色、例えば、赤色の発光層や青色の発光層にデンドリマー構造を利用しても良いし、２以上の発光色の発光層にデンドリマー構造を利用しても良い。
≪実施の形態４≫
図２２は、有機ＥＬ表示装置等を示す斜視図であり、図２３は、有機ＥＬ表示装置の全体構成を示す図である。
【００８１】
有機ＥＬ表示装置３００は、図２３に示すように、有機ＥＬ表示パネル１と、これに接続された駆動制御部３０１とを備える。駆動制御部３０１は、４つの駆動回路３０２〜３０５と制御回路３０６とから構成されている。なお、実際の有機ＥＬ表示装置３００では、有機ＥＬ表示パネル１に対する駆動制御部３０１の配置や接続関係については、これに限られない。
【００８２】
有機ＥＬ表示装置３００が備える有機ＥＬ表示パネル１を構成する有機ＥＬ素子７においては、有機発光層を真空装置を利用して減圧下で乾燥させても、製造工程中に吸着領域６が設けられているため、有機発光層１６への不純物質の付着が抑制される。したがって、有機発光層の発光特性が良好であるため、有機ＥＬ表示装置３００は画質に優れる。
≪変形例≫
以上、実施の形態について説明したが、本発明は上記の実施の形態に限られない。例えば、以下のような変形例等が考えられる。
１．製造方法
実施の形態１〜３における製造方法では、発光層の形成された基板を加熱する加熱工程を含んでいなかったが、機能性材料を塗布し乾燥させた後に加熱工程を行っても良い。
【００８３】
これにより、真空ポンプから拡散してきた不純物質のうち、図９に示す化合物２、３が有機発光層に付着したとしても、当該加熱工程により除去することができる。
図２４は、図９に示す化合物１，２，３の有機発光層への吸収挙動を示すグラフである。このグラフは、次のようにして得た。
まず、本検証に用いる実験用素子を準備した。上記乾燥工程を経る実験用有機ＥＬ素子と同様に、基板上に陽極、正孔注入層、正孔輸送層、有機発光層を順に積層し、有機発光層は真空装置を用いて減圧することで形成している。
【００８４】
ここで、有機発光層の膜厚が６０［ｎｍ］、８０［ｎｍ］、１００［ｎｍ］とそれぞれ異なる３種の実験用素子を準備した。次に、有機発光層が成膜された各基板を真空チャンバー内に載置した上で、真空ポンプを起動させて真空チャンバー内を減圧し、２０［分］放置した。真空ポンプには、真空チャンバーと連通する箇所にジフェニルアミン系化合物が用いられているメカニカルブースターポンプを使用した。続いて、３種の実験用素子を、その封止層側からの上面視における面積がそれぞれ等しくなるように、すなわち、有機発光層の上面積が等しくなるように切り出した。
【００８５】
そして、乾燥工程を経た各有機発光層をヘリウム雰囲気下で昇温加熱し、加熱された有機発光層からのアウトガスを液体窒素で捕集し、ＧＣ−ＭＳで分析した。使用機器および測定条件等は上記のＧＣ−ＭＳ分析と同様である。得られたスペクトルにおける化合物Ａ，Ｂ，Ｃのピーク強度、標準物質としてのトルエンのピーク強度、化合物１，２，３の分子量およびトルエンの分子量から、切り出した有機発光層に含まれる化合物１，２，３の物質量を算出し、グラフ化した（図２４）。
【００８６】
図２４の横軸は有機発光層の膜厚を、縦軸は切り出した有機発光層に含まれる化合物１，２，３の物質量［ｐｍｏｌ／ｃｍ2］を示している。ここで、「切り出した有機発光層に含まれる化合物１，２，３の物質量」とは、切り出した有機発光層表面における付着量と、同有機発光層内における吸収量の合計である。また、切り出した有機発光層に含まれる化合物１，２，３の物質量に関し、化合物１を菱形のプロットで、化合物２を四角のプロットで、化合物３を三角のプロットで示している。
【００８７】
図２４に示すように、化合物１，２，３のいずれにおいても、有機発光層の膜厚による物質量の差異が見られた。切り出した有機発光層の面積は同じであるため、有機発光層の表面に付着している量に差はないと考えられる。したがって、切り出した有機発光層に含まれる化合物１，２，３の物質量の差異は、有機発光層の膜内に吸収されている量の違いによると考えられ、表面吸着のみならず、塗膜への吸収が起こっていること考えることができる。
【００８８】
また、化合物１，２，３のいずれにおいても、膜厚によって化合物１，２，３の物質量が略直線的に増減する傾向が見られた。さらに、化合物２，３に比べ、化合物１は膜厚による物質量の変化が大きいことも見てとれる。このことより、化合物１，２，３の中では、化合物１が最も有機発光層の膜中に吸収され易いことが分かる。化合物１は、図９にも示すように、化合物２，３とは異なり、その芳香環に置換基が無い分、比較的小さな分子であるため、有機発光層の膜中に吸収され易いと考えられる。
【００８９】
一方で、切り出した有機発光層に対して加熱を行うことで、有機発光層に含まれる化合物１，２，３の物質量が変化するかどうかを測定した。その結果、加熱後の有機発光層から化合物２，３の物質量が低下することが確認できた。なお、加熱は、８０［℃］、１００［℃］及び１３０［℃］で時間は３［分］行った。
以上のことから、有機発光層を形成した後に加熱処理を行うことで、化合物１，２，３の有機発光層への付着量を低下させることができる。一方で、化合物１が有機発光層に付着すると、加熱処理を行っても完全に除去することができず、その除去が困難である。本実施に形態に係る吸着層は、図１４に示すように、化合物１の吸着性が高く、有機発光層に化合物１が付着するのを抑制することができるため、除去が困難である化合物１の付着に対して特に効果的であると言える。
２．吸着層について
（１）材料
実施の形態では、有機発光層をホストとドーパントとを含む材料で構成し、吸着層を有機発光層と同じドーパントを用いて構成していた。
【００９０】
しかしながら、吸着層は、真空ポンプから真空チャンバー内へ拡散してくる不純物質を吸着できれば良く、他のドーパントを利用することもできる。
図２５は、他のドーパントを示す模式図である。
他のドーパントとしては、図２５の（ａ）に示すような、ジェネレーション３のデンドリマーでも良い。なお、ジェネレーション３のデンドリマーにおいても隙間４０１を有している。また、図２５の（ｂ）に示すような、ジェネレーション１のイリジウムデンドリマーであっても良い。
（２）吸着層の乾燥
実施の形態では、有機発光層と吸着層とを同時に乾燥していたが、不純物質は、乾燥前や乾燥中の吸着層（吸着塗布液中の吸着性材料）にだけ付着するのではなく、乾燥後の吸着層にも付着する。したがって、有機発光層の形成は、付着層の形成後に行っても良い。
（３）成膜後の真空環境
成膜後、真空環境に保管する場合において、本発明は有効である。成膜後のから次層形成までに真空環境を経由する場合に付着する不純物質はベーク等で除去できないため、発光部位への不純物質の付着を抑制可能な本手法は非常に有効である。
３．製品について
（１）実施の形態においては、発光パネルの製品の一例として有機ＥＬ表示パネルを取り上げて説明したが、本発明の一形態はこれに限定されない。例えば、有機ＥＬ素子を用いた有機ＥＬ照明パネルなどにも適用できる。
【００９１】
一方で、有機ＴＦＴや太陽電池等にであっても良く、塗布成膜法により成膜される有機層を機能層として有する有機ＴＦＴや太陽電池等の製品にも本発明は適用することができる。
つまり、本発明の一形態は、製造過程において、基板上に有機材料を含んでなる機能層を形成する際に、機能層に不純物質が付着するような製品に適用することができる。このような場合に、前記機能層を構成する材料であって不純物質が付着しようする主材料を、機能層における主材料の重量比よりも高い重量比で含む吸着層を設けることで実施することができる。
【００９２】
機能層が、実施の形態で説明した有機発光層以外の場合、機能層に付着する不純物質は、図９に示す化合物の場合もあるし、他の化合物の場合もある。このような場合、本実施の形態で説明した方法により不純物質の特定をすると共に、不純物質が機能層に付着する要因となる材料を特定し、この要因となる材料の重量比を機能層における要因となる材料の重量比よりも高くした吸着層を設ければ良い。
（２）中間製品
実施の形態に係る吸着層は、機能層を形成する際に存在しておれば良い。例えば、実施の形態１で説明したように、製品として吸着層を備えていても良いし、実施の形態２で説明したように、製造過程の途中で吸着層を備えていて製品としては備えていなくても良い。要するに、吸着層は製造過程の途中である中間製品（最終製品が発光パネルの場合、本中間製品は、発光パネルの中間製品である。）に存在しておれば良い。
【００９３】
つまり、基板上に機能層を有する製品の中間製品において、前記機能層を構成する材料であって前記機能層を形成する際に不純物質に対して吸着性を示す吸着性材料（不純物質が吸着層に付着する要因となる材料である。）を、前記機能層における前記吸着性材料の重量比よりも高い重量比で含む吸着層を前記基板上に備えれば良い。
（３）機能層
実施の形態においては、機能層が有機発光層であるとして説明したが、本発明はこれに限定されない。ＥＬ表示パネルを構成する各層のうち、塗布成膜法により塗布膜が形成された後、減圧下に晒される層のすべてが、本発明の一形態の機能層の対象となり得る。
（４）有機ＥＬ素子、有機ＥＬ表示パネル
実施の形態２において、ＩＴＯ層、正孔注入層、バンク、電子輸送層、及び封止層は必須の構成要件ではない。これらの構成を有しない有機ＥＬ表示パネルに対しても、本発明を適用することが可能である。
【００９４】
逆に、他の構成要素、例えば、正孔阻止層等をさらに含むこととしてもよい。例えば、正孔注入層と有機発光層との間に、正孔注入層から有機発光層への正孔の輸送を促進させる機能を有する正孔輸送層を、さらに形成することとしてもよい。正孔輸送層として用いることが可能な材料としては、例えば、トリアゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、ポリアリールアルカン誘導体、ピラゾリン誘導体及びピラゾロン誘導体、フェニレンジアミン誘導体、アリールアミン誘導体、アミノ置換カルコン誘導体、オキサゾール誘導体、スチリルアントラセン誘導体、フルオレノン誘導体、ヒドラゾン誘導体、スチルベン誘導体、ポリフィリン化合物、芳香族第三級アミン化合物、スチリルアミン化合物、ブタジエン化合物、ポリスチレン誘導体、ヒドラゾン誘導体、トリフェニルメタン誘導体、テトラフェニルベンジン誘導体が挙げられる（いずれも特開平５−１６３４８８号公報に記載）。
【００９５】
さらに、電子輸送層と陰極の間に、陰極から電子輸送層への電子注入を促進させる機能を有する電子注入層を形成することとしてもよい。電子注入層として用いることが可能な材料としては、例えば、バリウム、フタロシアニン、フッ化リチウム等が挙げられる。
また、正孔注入層が基板の上方を覆うように全面に形成されている例を示したが、本発明はこれに限定されない。正孔注入層がＩＴＯ層上のみに形成されていることとしてもよい。また、ＩＴＯ層の側面および上面のみを覆うように形成されていることとしてもよい。
【００９６】
また、陽極を銀（Ａｇ）系材料で形成する場合には、上記の実施の形態のようにＩＴＯ層をその上に形成することが望ましい。陽極をアルミニウム系材料で形成する場合には、ＩＴＯ層を無くして陽極を単層構造にすることも可能である。
また、バンク材料として、有機材料が用いられていたが、無機材料も用いることができる。この場合、バンク材料層の形成は、有機材料を用いる場合と同様、例えば塗布成膜法等により行うことができる。
【００９７】
上記の実施の形態２においては、複数の有機ＥＬ素子をサブピクセルとして基板上に集積する構成の有機ＥＬ表示パネルについて説明したが、この例に限定されず、有機ＥＬ素子を単一で用いることも可能である。有機ＥＬ素子を単一で用いるものとしては、例えば、照明装置等が挙げられる。
有機ＥＬ表示パネルをＲ，Ｇ，Ｂを発光色とするフルカラー表示のパネルであるとしたが、本発明はこれに限定されない。有機ＥＬ表示パネルを、Ｒ、Ｇ、Ｂ、白色およびその他単色の有機ＥＬ素子が複数配列されてなる表示パネルとしてもよい。さらに、いずれか１色のみの有機ＥＬ素子を有する単色表示の有機ＥＬ表示パネルとしてもよい
また、有機ＥＬ表示パネルでは、バンクを井桁状（格子状）に形成し、バンクによって各サブピクセルの周囲を囲繞する、いわゆるピクセルバンク方式を採用しているが、本発明はこれに限られない。例えば、複数のライン状のバンクを並設し、有機発光層をストライプ状に区画するラインバンク方式を採用しても良い。
【００９８】
また、実施の形態２では、トップエミッション型有機ＥＬ表示パネルの製造方法を例に挙げて説明したが、本発明はこれに限定されない。基板側を表示面とするいわゆるボトムエミッション型有機ＥＬ表示パネルの製造方法においても、本発明を適用することが可能である。さらに、陽極の材料を陰極と同じく透明導電性材料とすることで、陽極側および陰極側の両方から光を取り出す両面発光方式の有機ＥＬ表示パネルの製造方法にも適用することが可能である。
【産業上の利用可能性】
【００９９】
本発明は、例えば、家庭用もしくは公共施設、あるいは業務用の各種ディスプレイ、テレビジョン装置、携帯型電子機器用ディスプレイ等に用いられる有機ＥＬ素子の製造や、各種薄膜形成工程、エッチング工程等に好適に利用可能である。
【符号の説明】
【０１００】
１      有機ＥＬ表示パネル
２      ＥＬ基板
１６      発光層
１６ａ    発光塗布液
２１      吸着層
２１ａ    吸着塗布液
３１      不純物質
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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