(57)【要約】【課題】ＵＶ硬化シールを用いた狭額縁構造であっても、表示ムラが抑制され信頼性の高い液晶表示装置を提供する。【解決手段】、ＴＦＴ基板１０１と、複数のメタル配線１１０と、ＵＶ硬化シール３１０と、色レジスト層２２０と、樹脂ＢＭ層２１０と、ＣＦ基板とを有する液晶表示装置において、複数のメタル配線１１０の間の領域に対応してＵＶ硬化シール３１０を介して設けられ、ＵＶ硬化シール３１０の硬化を助長する反射メタル膜３００を更に有する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
ＴＦＴ基板と、
前記ＴＦＴ基板の上に設けられた複数のメタル配線と、
複数の前記メタル配線を覆って配置されたＵＶ硬化シールと、
複数の前記メタル配線の間の領域に対応して前記ＵＶ硬化シールを介して設けられ、前記ＵＶ硬化シールの硬化を助長する反射メタル膜と、
前記反射メタル膜の上部に設けられた色レジスト層と、
前記色レジスト層上に設けられた樹脂ブラックマトリクス層と、
前記樹脂ブラックマトリクス層上に設けられたカラーフィルタ基板と、を有することを特徴とする液晶表示装置。
【請求項２】
請求項１記載の液晶表示装置において、
前記反射メタル膜は、前記ＴＦＴ基板側に対してテーパを有する凸状の形状を有することを特徴とする液晶表示装置。
【請求項３】
請求項２記載の液晶表示装置において、
前記反射メタル膜の幅は、複数の前記メタル配線の間の距離よりも小さく、前記色レジスト層の幅よりも大きいことを特徴とする液晶表示装置。
【請求項４】
請求項２記載の液晶表示装置において、
前記反射メタル膜は、２０ｎｍ〜２００ｎｍの範囲の厚さを有することを特徴とする液晶表示装置。
【請求項５】
請求項３記載の液晶表示装置において、
前記反射メタル膜は、表示領域周辺部のゲート回路部に配置されていることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項６】
請求項５記載の液晶表示装置において、
前記反射メタル膜は、前記ゲート回路部に隣接するゲート配線領域に配置されていることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項７】
請求項１記載の液晶表示装置において、
前記反射メタル膜と前記色レジスト層との間には、オーバーコート層が配置されていることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項８】
請求項１記載の液晶表示装置において、
前記反射メタル膜と前記ＵＶ硬化シールとの間には、オーバーコート層が配置されていることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項９】
請求項１記載の液晶表示装置において、
前記反射メタル膜は、多段の凸部を有することを特徴とする液晶表示装置。
【請求項１０】
請求項９記載の液晶表示装置において、
前記色レジスト層は、多層構造を有することを特徴とする液晶表示装置。
【請求項１１】
ＵＶ光に対して透明な第１の基板と、
前記第１の基板の上に設けられた第１と第２の遮光性部材と、
前記第１と第２の遮光性部材を覆って配置されたＵＶ硬化シールと、
前記第１と第２の遮光性部材の間の領域に対応して前記ＵＶ硬化シールを介して設けられ、前記第１と第２の遮光性部材の間から入射したＵＶ光を散乱する反射部材と、
前記反射部材の上部に配置された第３の遮光性部材と、
前記第３の遮光性部材の上に配置された第２の基板と、を有することを特徴とする液晶表示装置。
【請求項１２】
請求項１１記載の液晶表示装置において、
前記反射部材の幅は、前記第１と第２の遮光性部材の間の距離よりも小さいことを特徴とする液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ＵＶ硬化シールを用いる液晶表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置はフラットで軽量であることから、色々な分野で用途が広がっている。携帯電話やＤＳＣ（Digital Still Camera）等には、小型の液晶表示装置が広く使用されている。
【０００３】
液晶表示装置に使用される液晶表示パネルは、画素電極および薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）等を有する画素がマトリクス状に形成されたＴＦＴ基板と、ＴＦＴ基板に対向して、ＴＦＴ基板の画素電極と対応する場所にカラーフィルタ等が形成された対向基板が配置され、ＴＦＴ基板と対向基板の間に液晶が挟持されている。そして液晶分子による光の透過率を画素毎に制御することによって画像を形成している。
【０００４】
横方向電界方式（ＩＰＳ：In−Plane Switching）の液晶表示装置では、ＴＦＴ基板と対向基板との間の液晶は、ＵＶ硬化シールを用いて液晶表示パネル周辺部（額縁）でシールされる（例えば、特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２０００−８９２３５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
液晶表示パネルにおいて、外形寸法に対して表示画面を大きくするために狭額縁化が進んでおり、ＴＦＴ基板の周辺部に設けられた遮光性の高いゲート回路領域と、ＵＶ硬化シールを配置する領域との重なり部が増加の傾向にある。ＵＶ硬化シールへのＵＶ光の照射は、ブラックマトリクスが形成されているカラーフィルタ（ＣＦ）基板側から行うことは困難であるため、ＴＦＴ基板側から行う必要がある。
【０００７】
液晶表示装置１００は、例えば図５に示すように表示領域１３０と、駆動回路部１４０とを有する。表示領域１３０は、ＴＦＴ基板とＣＦ基板とそれらの間に挟持された液晶、及びＴＦＴ基板の周辺部に設けられたゲート回路領域を含む。
【０００８】
図９Ａおよび図９Ｂに、ＴＦＴ基板（ＵＶ光に対して透明なガラス基板）１０１の上のＵＶ硬化シール形成領域３１５とゲート回路部（トランジスタ形成部）１３６との位置関係を模式的に示す。なお、符号１３５は画素部、符号１３７はゲート配線領域、符号１５０はコモン配線領域、Ｌ１、Ｌ２はＴＦＴ基板端部からゲート配線領域までの距離を示す。これまでは、図９Ｂに示すようにＴＦＴ基板１０１とゲート配線領域１３７までの距離Ｌ２を大きくし、ＵＶ硬化シール形成領域がゲート回路部１３６と重ならない領域に形成していた。しかしながら、狭額縁化のためには距離Ｌ２を距離Ｌ１に短縮する等できるだけ小さくする必要がある。
【０００９】
そこで発明者等は、図９Ａに示すようにゲート回路部１３６とＵＶ硬化シール形成領域３１５とが重なるような狭額縁液晶表示パネルを作製し、課題の有無の確認を行った。その結果、表示ムラが発生し、信頼性が低下することが判明した。
【００１０】
本発明の目的は、ＵＶ硬化シールを用いた狭額縁構造であっても、表示ムラが抑制され信頼性の高い液晶表示装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
上記目的を達成するための一実施形態として、ＴＦＴ基板と、前記ＴＦＴ基板の上に設けられた複数のメタル配線と、複数の前記メタル配線を覆って配置されたＵＶ硬化シールと、複数の前記メタル配線の間の領域に対応して前記ＵＶ硬化シールを介して設けられ、前記ＵＶ硬化シールの硬化を助長する反射メタル膜と、前記反射メタル膜の上部に設けられた色レジスト層と、前記色レジスト層上に設けられた樹脂ブラックマトリクス層と、前記樹脂ブラックマトリクス層上に設けられたカラーフィルタ基板と、を有することを特徴とする液晶表示装置とする。
【００１２】
また、ＵＶ光に対して透明な第１の基板と、前記第１の基板の上に設けられた第１と第２の遮光性部材と、前記第１と第２の遮光性部材を覆って配置されたＵＶ硬化シールと、前記第１と第２の遮光性部材の間の領域に対応して前記ＵＶ硬化シールを介して設けられ、前記第１と第２の遮光性部材の間から入射したＵＶ光を散乱する反射部材と、前記反射部材の上部に配置された第３の遮光性部材と、前記第３の遮光性部材の上に配置された第２の基板と、を有することを特徴とする液晶表示装置とする。
【発明の効果】
【００１３】
本発明によれば、ＵＶ硬化シールを用いた狭額縁構造であっても、表示ムラが抑制され信頼性の高い液晶表示装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】本発明の第１の実施例に係る液晶表示装置の要部（シール部）断面図である。
【図２Ａ】本発明の第１の実施例に係る液晶表示装置の製造工程（ＣＦ基板上に樹脂ＢＭ層形成）を示す断面図である。
【図２Ｂ】本発明の第１の実施例に係る液晶表示装置の製造工程（色レジスト層形成）を示す断面図である。
【図２Ｃ】本発明の第１の実施例に係る液晶表示装置の製造工程（ＯＣ層形成）を示す断面図である。
【図２Ｄ】本発明の第１の実施例に係る液晶表示装置の製造工程（反射メタル層形成）を示す断面図である。
【図２Ｅ】本発明の第１の実施例に係る液晶表示装置の製造工程（ＴＦＴ基板とＣＦ基板とをＵＶ硬化シールで固着）を示す断面図である。
【図３】本発明の第２の実施例に係る液晶表示装置の要部（シール部）断面図である。
【図４Ａ】本発明の第２の実施例に係る液晶表示装置の製造工程（ＣＦ基板上に樹脂ＢＭ層形成）を示す断面図である。
【図４Ｂ】本発明の第２の実施例に係る液晶表示装置の製造工程（色レジスト層形成）を示す断面図である。
【図４Ｃ】本発明の第１の実施例に係る液晶表示装置の製造工程（反射メタル層形成）を示す断面図である。
【図４Ｄ】本発明の第１の実施例に係る液晶表示装置の製造工程（ＯＣ層形成）を示す断面図である。
【図４Ｅ】本発明の第１の実施例に係る液晶表示装置の製造工程（ＴＦＴ基板とＣＦ基板とをＵＶ硬化シールで固着）を示す断面図である。
【図５】発明者等の検討に係る、又本発明の第１、第２及び第３の実施例に係る液晶表示装置の概略全体平面図である。
【図６】図５の領域Ａ １３１で示す部分の概略拡大平面図である。
【図７】図６の領域Ｂ １３２で示す部分の概略拡大平面図である。
【図８】本発明の第３の実施例に係る液晶表示装置の要部（シール部）断面図である。
【図９Ａ】発明者等が検討した液晶表示装置の額縁部の構成を説明するための平面図である。
【図９Ｂ】従来の液晶表示装置の額縁部の構成を説明するための平面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
本発明者等は表示ムラの原因について検討した。その結果、ＵＶ硬化シールから染み出した有機材が原因であることが判明した。この浸み出しは、ゲート配線領域（開口率：１０％〜４０％）１３７やコモン配線領域（開口率：５０％以上）１５０よりもゲート回路部（開口率：５％〜１０％）で顕著であった。即ち、開口率が小さい場合、ＵＶ硬化シールにＵＶ光を照射できる開口領域が少なく、ＵＶ硬化が困難となり、硬化されなかった有機材が浸み出したものと推定された。そこで、ＵＶ硬化シールにＵＶ光を照射できる開口領域が少ない場合であっても、開口領域以外の領域に配置されたＵＶ硬化シールにＵＶ光を照射できる構成について検討し、開口領域に入射したＵＶ光を有効に利用すればよいことに思い到った。具体的には、開口領域に入射したＵＶ光が反射するメタル層を形成し、ＵＶ光が直接照射されない領域のＵＶ硬化シールに対して反射光を照射する構成とした。これにより、開口率の小さな領域に照射されたＵＶ光を有効に利用することができ、直接光が照射されないＵＶ硬化シールでも硬化を助長することが可能となる。
以下、本発明について実施例を用いて詳細に説明する。
【実施例１】
【００１６】
本発明の第１の実施例について図１、図２Ａ〜図２Ｅ、図６、図７を用いて説明する。なお、同一符号は同一構成要素を示す。
液晶表示装置の全体構成は、発明が解決しようとする課題の欄で説明した通りであり、ここでは省略する。図１に本実施例に係る液晶表示装置のシール部の断面図を示す。本図を用いて、ＵＶ光が直接照射されない領域に設けられたＵＶ硬化シールを硬化する方法について説明する。本図において、ＵＶ硬化シール３１０の下側に無機膜（絶縁膜）１２０およびメタル配線（遮光部材）１１０が形成されたＴＦＴ基板、上側に反射メタル膜（反射部材）３００、オーバーコート（ＯＣ）膜２３０、色レジスト層２２０および樹脂ブラックマトリクス（ＢＭ、遮光部材）層２１０が形成されたＣＦ基板が配置されている。
【００１７】
反射メタル膜３００は、メタル配線１１０等の開口領域であって、ＵＶ入射光４００に対してＵＶ硬化シールの裏面側に配置され、側壁がＵＶ光を散乱するような形状（ここではＴＦＴ基板側から見て凸形状）を有する。反射メタル膜を形成することにより散乱され、ＵＶ硬化シールの硬化の助長に有効である。側壁にテーパを設け、特にその角度を４５°とすることにより、垂直入射のＵＶ光を水平方向に反射することができるためＵＶ硬化シールに対する硬化効果を高めることができる。４０°〜５０°が実用的である。これにより、ＵＶ入射光４００がＵＶ硬化シール３１０に照射されると、照射された領域のＵＶ硬化シールが硬化すると共に、反射メタル膜３００で反射されたＵＶ光４１０は散乱され、メタル配線１１０等で遮光されてＵＶ入射光４００が直接照射されない領域のＵＶ硬化シールを硬化することができる。なお、反射メタル膜によるＵＶ光の散乱は、一度集光してから散乱する構成としてもよい。ＵＶ入射光のエネルギーとしては、６０００ｍＪ〜９０００ｍＪを用いることができる。
【００１８】
次に反射メタル膜の形成方法について、図２Ａ〜図２Ｅを用いて説明する。まず、ＣＦ基板２００の上にＢＭを塗布し現像することにより、厚さ１．５μｍの樹脂ＢＭ層２１０を形成した（図２Ａ）。横電界方式の場合、メタルＢＭ層を用いることが困難なため樹脂ＢＭ層を用いた。次に、色レジストを塗布し現像することにより、所望の形状を有する厚さ２〜３μｍの色レジスト層２２０を形成した（図２Ｂ）。次に、色レジスト層２２０を覆うように厚さ２μｍのＯＣ層２３０をＣＦ基板２００の上に形成した（図２Ｃ）。引き続き、色レジスト層２２０の上部にＯＣ層２３０を介して凸形状の反射メタル膜３００を形成した（図２Ｄ）。反射メタル膜３００の幅は色レジスト層２２０の幅に依存するが、１０μｍ〜５０μｍ程度である。反射メタルとしてはアルミニウム（Ａｌ）やモリブデンクロム（ＭｏＣｒ）を用いることができる。又、反射メタル膜の厚さとしては、２０ｎｍ〜２００ｎｍを用いることができる。２０ｎｍより薄いと反射効果が低下する。又、２００ｎｍ以上では加工時間が長くなり実用性が低くなる。
【００１９】
次に、メタル配線１１０および無機膜１２０が形成されたＴＦＴ基板１０１と、反射メタル膜３００が形成されたＣＦ基板とを、メタル配線１１０が形成されていない領域に反射メタル膜３００の形成領域が対向するようにＵＶ硬化シール３１０を介して重ね合わせ、ＵＶ光をＴＦＴ基板側から照射することによりＵＶ硬化シールを硬化させた（図２Ｅ）。なお、反射メタル膜の幅は、メタル配線が形成されていない領域の幅よりも小さく、色レジスト層の幅よりも大きいことが望ましい。メタル配線１１０の材料としてはＡｌやＭｏＣｒを用いることができる。また、厚さは１００ｎｍ〜４００ｎｍ程度である。なお、画素部では液晶がＴＦＴ基板とＣＦ基板との間に狭持される。
【００２０】
次に、反射メタル膜の平面配置位置について説明する。図６は図５の領域Ａ １３１の部分の模式図である。ＴＦＴ基板１０１上にコモン配線領域１５０、画素部１３５、ゲート回路部１３６、ゲート配線領域１３７が形成されている。領域Ｂ １３２の部分の模式図を図７に示す。開口率の低いゲート回路部やゲート配線領域において、トランジスタおよびメタル配線等が形成されていない個所に反射メタル膜（●で表記）を形成した。
【００２１】
上記製造方法を用いて上記構成の液晶表示装置を作製したところ、ＵＶ硬化シールを用いた狭額縁構造であっても、表示ムラが抑制され信頼性の高い液晶表示装置を提供することができた。
【実施例２】
【００２２】
本発明の第２の実施例について、図３と図４Ａ〜図４Ｅを用いて説明する。なお、実施例１に記載され本実施例に未記載の事項は特段の事情が無い限り本実施例にも適用することができる。
【００２３】
図３に本実施例に係る液晶表示装置のシール部の断面図を示す。本図を用いて、ＵＶ光が直接照射されない領域に設けられたＵＶ硬化シールを硬化する方法について説明する。本図において、ＵＶ硬化シール３１０の下側に無機膜１２０およびメタル配線１１０が形成されたＴＦＴ基板、上側にオーバーコート（ＯＣ）膜２３０、反射メタル膜３００、色レジスト層２２０および樹脂ブラックマトリクス（ＢＭ）層２１０が形成されたＣＦ基板が配置されている。
【００２４】
反射メタル膜３００は、メタル配線１１０等の開口領域であって、ＵＶ入射光４００に対してＯＣ層の裏面側に配置され、側壁がＵＶ光を散乱するような形状（ここではＴＦＴ基板側から見て凸形状）を有する。反射メタル膜を形成することにより散乱効果が得られ、ＵＶ硬化シールの硬化に有効であるが、側壁にテーパを設け、その角度を４５°とすることにより、垂直入射のＵＶ光を水平方向に反射することができるためＵＶ硬化シールに対する硬化の効果を高めることができる。４０°〜５０°が実用的である。これにより、ＵＶ入射光４００がＵＶ硬化シール３１０に照射されると、照射された領域のＵＶ硬化シールが硬化すると共に、反射メタル膜３００で反射されたＵＶ光４１０は散乱され、メタル配線１１０等で遮光されてＵＶ入射光４００が直接照射されない領域のＵＶ硬化シールを硬化することができる。特に、反射メタル膜がＵＶ入射光に対してＯＣ層の裏面側に配置されているため、より広い領域にＵＶ反射光を散乱させることができる。反射メタル膜の平面形状は色レジスト層と同形状とすることができる。なお、ＵＶ入射光のエネルギーとしては、６０００ｍＪ〜９０００ｍＪを用いることができる。
【００２５】
次に反射メタル膜の形成方法について、図４Ａ〜図４Ｅを用いて説明する。まず、ＣＦ基板２００の上にＢＭを塗布し現像することにより、厚さ１．５μｍの樹脂ＢＭ層２１０を形成した（図４Ａ）。横電界方式の場合、メタルＢＭ層を用いることが困難なため樹脂ＢＭ層を用いた。次に、色レジストを塗布し現像することにより、所望の形状を有する厚さ２〜３μｍの色レジスト層２２０を形成した（図４Ｂ）。次に、色レジスト層２２０の上部に凸形状の反射メタル膜３００を形成した（図４Ｃ）。反射メタル膜３００の幅は色レジスト層２２０の幅に依存するが、１０μｍ〜５０μｍ程度である。反射メタルとしてはアルミニウム（Ａｌ）やモリブデンクロム（ＭｏＣｒ）を用いることができる。又、反射メタル膜の厚さとしては、２０ｎｍ〜２００ｎｍを用いることができる。２０ｎｍより薄いと反射効果が低下する。又、２００ｎｍ以上では加工時間が長くなり実用性が低くなる。引き続き、反射メタル膜３００を覆うように厚さ２μｍのＯＣ層２３０をＣＦ基板２００の上に形成した（図４Ｄ）。
【００２６】
次に、メタル配線１１０および無機膜１２０が形成されたＴＦＴ基板１０１と、反射メタル膜３００が形成されたＣＦ基板とを、メタル配線１１０が形成されていない領域に反射メタル膜３００の形成領域が対向するようにＵＶ硬化シール３１０を介して重ね合わせ、ＵＶ光をＴＦＴ基板側から照射することによりＵＶ硬化シールを硬化させた（図４Ｅ）。なお、反射メタル膜の幅は、メタル配線が形成されていない領域の幅よりも小さく、色レジスト層の幅よりも大きいことが望ましい。メタル配線１１０の材料としてはＡｌやＭｏＣｒを用いることができる。また、厚さは１００ｎｍ〜４００ｎｍ程度である。なお、画素部では液晶がＴＦＴ基板とＣＦ基板との間に狭持される。
【００２７】
上記製造方法を用いて図７に示す配置の反射メタル膜を有する液晶表示装置を作製したところ、ＵＶ硬化シールを用いた狭額縁構造であっても、表示ムラが抑制され信頼性の高い液晶表示装置を提供することができた。また、反射メタル膜をＵＶ入射光に対して奥側に配置することにより、ＵＶ硬化シールをより広範囲に硬化することができる。
【実施例３】
【００２８】
本発明の第３の実施例について、図８を用いて説明する。なお、実施例１又は２に記載され本実施例に未記載の事項は特段の事情が無い限り本実施例にも適用することができる。
【００２９】
図８に本実施例に係る液晶表示装置のシール部の断面図を示す。本図を用いて、ＵＶ光が直接照射されない領域に設けられたＵＶ硬化シールを硬化する方法について説明する。本図において、ＵＶ硬化シール３１０の下側に無機膜１２０およびメタル配線１１０が形成されたＴＦＴ基板、上側に反射メタル膜３００、オーバーコート（ＯＣ）膜２３０、色レジスト層２２０（色レジスト二層構造２２５）および樹脂ブラックマトリクス（ＢＭ）層２１０が形成されたＣＦ基板が配置されている。色レジスト層は二層に限らずそれ以上の多層とすることができる。
【００３０】
反射メタル膜３００は、メタル配線１１０等の開口領域であって、ＵＶ入射光４００に対してＵＶ硬化シールの裏面側に配置され、側壁がＵＶ光を散乱するような形状（ここではＴＦＴ基板側から見て多段の凸形状）を有する。反射メタル膜を形成することにより散乱効果が得られ、ＵＶ硬化シールの硬化に有効であるが、側壁にテーパを設け、その角度を４５°とすることにより、垂直入射のＵＶ光を水平方向に反射することができるためＵＶ硬化シールに対する硬化の効果を高めることができる。４０°〜５０°が実用的である。これにより、ＵＶ入射光４００がＵＶ硬化シール３１０に照射されると、照射された領域のＵＶ硬化シールが硬化すると共に、反射メタル膜３００で反射されたＵＶ光４１０は散乱され、メタル配線１１０等で遮光されてＵＶ入射光４００が直接照射されない領域のＵＶ硬化シールを硬化することができる。特に、多段とすることによりＵＶ光を反射する側壁領域が増大するため実施例１や２に比してＵＶ硬化シールの硬化の効果を高めることができる。また、反射メタル膜を実施例２と同様、ＵＶ入射光に対してＯＣ膜の背面側に配置することもできる。なお、ＵＶ入射光のエネルギーとしては、６０００ｍＪ〜９０００ｍＪを用いることができる。
【００３１】
上記構成の液晶表示装置は、実施例１の図２Ｂの工程において、色レジスト膜を下層に対して上層の色レジスト層の幅を小さくした多層膜とすることにより実現することができる。
【００３２】
上記製造方法を用いて図７に示す配置の反射メタル膜を有する液晶表示装置を作製したところ、ＵＶ硬化シールを用いた狭額縁構造であっても、表示ムラが抑制され信頼性の高い液晶表示装置を提供することができた。また、反射メタル膜を多段凸構造とすることにより、ＵＶ硬化シールをより広範囲に硬化することができる。
【００３３】
なお、本発明は上記した実施例に限定されるものではなく、様々な変形例が含まれる。例えば、上記した実施例は本発明を分かりやすく説明するために詳細に説明したものであり、必ずしも説明した全ての構成を備えるものに限定されるものではない。また、ある実施例の構成の一部を他の実施例の構成に置き換えることも可能であり、また、ある実施例の構成に他の実施例の構成を加えることも可能である。また、各実施例の構成の一部について、他の構成の追加・削除・置換をすることが可能である。
【符号の説明】
【００３４】
１００…液晶表示装置、１０１…ＴＦＴ基板、１１０…メタル配線、１２０…無機膜、１３０…表示領域、１３１…領域Ａ、１３２…領域Ｂ、１３５…画素部、１３６…ゲート回路部（トランジスタ形成部）、１３７…ゲート配線領域、１４０…駆動回路部、１５０…コモン配線領域、２００…カラーフィルタ基板（ガラス基板）、２１０…樹脂ＢＭ層、２２０…色レジスト層、２２５…色レジスト２層積層構造、２３０…オーバーコート層（ＯＣ）、３００…反射メタル膜、３１０…ＵＶ硬化シール、３１５…ＵＶ硬化シール形成領域、４００…ＵＶ入射光、４１０…ＵＶ反射光。
【図１】
2014032352.tif 000003
【図２Ａ】
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【図２Ｂ】
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【図２Ｃ】
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【図２Ｄ】
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【図２Ｅ】
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【図３】
2014032352.tif 000009
【図４Ａ】
2014032352.tif 000010
【図４Ｂ】
2014032352.tif 000011
【図４Ｃ】
2014032352.tif 000012
【図４Ｄ】
2014032352.tif 000013
【図４Ｅ】
2014032352.tif 000014
【図５】
2014032352.tif 000015
【図６】
2014032352.tif 000016
【図７】
2014032352.tif 000017
【図８】
2014032352.tif 000018
【図９Ａ】
2014032352.tif 000019
【図９Ｂ】
2014032352.tif 000020