(57)【要約】【課題】金属の金属メッシュを用いた透明シールドでは、広い周波数帯において、高い減衰率を有していたため、低周波帯の電磁ノイズを減衰させると共に、無線ＬＡＮ等の高周波帯の電磁信号も減衰させてしまうという課題を有していた。【解決手段】透明基材１０４と、この透明基材１０４の表面の金属ナノワイヤ１０７を含有する透明導電膜１０５と、この透明導電膜１０５の上に形成された、色素を有する光吸収層１０６とを備えた帯域選択透明シールド１０３であって、シート抵抗は５Ω／□以上２００Ω／□以下であり、最大減衰率（Ｓｍａｘ）を示す周波数（Ｆｓｍａｘ）の１０倍高い周波数（Ｆ２）における減衰率Ｓ２は、最大減衰率（Ｓｍａｘ）より１０ｄＢ以上２５ｄＢ以下の範囲で小さい帯域選択透明シールド１０３とする。【選択図】図１
2014241353.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基材と、この透明基材の表面の金属ナノワイヤを含有する透明導電膜と、この透明導電膜の上に形成された、色素を有する光吸収層とを備えた帯域選択透明シールドであって、
シート抵抗は５Ω／□以上２００Ω／□以下であり、
最大減衰率（Ｓｍａｘ）を示す周波数（Ｆｓｍａｘ）の１０倍高い周波数（Ｆ２）における減衰率Ｓ２は、前記最大減衰率（Ｓｍａｘ）より１０ｄＢ以上２５ｄＢ以下の範囲で小さい帯域選択透明シールド。
【請求項２】
透明基材と、この透明基材の表面の金属ナノワイヤを含有する透明導電膜と、この透明導電膜の上に形成された、色素を有する光吸収層とを備えた帯域選択透明シールドであって、
シート抵抗は５Ω／□以上２００Ω／□以下であり、
ＫＥＣ法で測定した最大減衰率（Ｓｍａｘ）は、２０ｄＢ以上７０ｄＢ以下の範囲内にあり、
ＫＥＣ法で測定した前記最大減衰率（Ｓｍａｘ）を示す周波数（Ｆｓｍａｘ）は、０．１ＭＨｚ以上３０ＭＨｚ以下の帯域内である帯域選択透明シールド。
【請求項３】
透明基材と、この透明基材の表面の金属ナノワイヤを含有する透明導電膜と、この透明導電膜の上に形成された、色素を有する光吸収層とを備えた帯域選択透明シールドであって、
前記光吸収層側から測定したヘイズ値は、前記透明基材側から測定したヘイズ値より小さく、
少なくとも１０ＭＨｚ以上１０００ＭＨｚ以下の周波数帯域において、２０ｄＢ以上７０ｄＢ以下の範囲内で周波数が高くなるほど減衰率が低下している帯域選択透明シールド。
【請求項４】
光吸収層は、更に異なる色素、あるいはカーボン、あるいは導電性高分子のうち少なくとも一つを含む請求項１〜３のいずれか一つに記載の帯域選択透明シールド。
【請求項５】
透明基材を準備する準備工程と、
前記透明基材の一面以上に、表面の金属ナノワイヤを含有する透明導電膜を塗布形成する透明導電膜形成工程と、
前記透明導電膜の上に、色素を有する光吸収層を、厚み０．５μｍ以上３００μｍ以下で塗布形成する光吸収層形成工程と、を有し、
シート抵抗は５Ω／□以上２００Ω／□以下であり、最大減衰率（Ｓｍａｘ）を示す周波数（Ｆｓｍａｘ）の１０倍高い周波数（Ｆ２）における減衰率Ｓ２は、最大減衰率（Ｓｍａｘ）より１０ｄＢ以上２５ｄＢ以下の範囲で小さいことを特徴とする帯域選択透明シールドの製造方法。
【請求項６】
画像表示パネル部もしくは静電式タッチパネルと、帯域選択透明シールドと、を有する表示デバイスであって、
前記帯域選択透明シールドのシート抵抗は５Ω／□以上２００Ω／□以下であり、
最大減衰率（Ｓｍａｘ）を示す周波数（Ｆｓｍａｘ）の１０倍高い周波数（Ｆ２）における減衰率Ｓ２は、最大減衰率（Ｓｍａｘ）より１０ｄＢ以上２５ｄＢ以下の範囲で小さい表示デバイス。
【請求項７】
少なくとも、筐体と、筐体内部に内蔵されたアンテナ部もしくは送受信機部のいずれか一つ以上と、
一面以上に設けられた画像表示パネル部と、この画像表示パネル部の上に設けられた帯域選択透明シールドと、この帯域選択透明シールドの上に設けられた静電容量式タッチパネル部と、を有する表示機器であって、
前記帯域選択透明シールドのシート抵抗は、５Ω／□以上２００Ω／□以下であり、
最大減衰率（Ｓｍａｘ）を示す周波数（Ｆｓｍａｘ）の１０倍高い周波数（Ｆ２）における減衰率Ｓ２は、最大減衰率（Ｓｍａｘ）より１０ｄＢ以上２５ｄＢ以下の範囲で小さい表示機器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、帯域選択透明シールドと、帯域選択透明シールドの製造方法、これを用いた表示デバイスと、表示機器に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年ではタブレット端末等が広く普及しつつある。こうしたタブレット端末は、樹脂や金属等からなる薄型の筐体と、この筐体の一面以上の略全面に取り付けられた、タッチパネル付の表示部分を有している。こうしたタッチパネル（ＴＴＰと呼ばれることもある）としては、抵抗式タッチパネルが使われていた。
【０００３】
こうした抵抗式タッチパネルは、静電気の影響を受け易いという課題を有しているため、抵抗式タッチパネルにおいて、静電気の影響を低減するために、金属ナノワイヤを用いた電磁シールドを用いることが提案されている（特許文献１）。これは抵抗式タッチパネルの位置検出原理が、絶縁状態で対面する複数の電極同士が物理的な電気的接触によって通電することを利用して位置検出を行うために、静電気の影響を受けやすいためである。このように抵抗式タッチパネルは、静電気の影響を受けやすいという課題を有していたが、表示部分（例えば液晶やＥＬ等の表示部分）から発生する電磁ノイズの影響を受けることはなかった。これは抵抗式タッチパネルが、電気的なＯＮ／ＯＦＦ現象を利用しているためである。しかしながら、こうした従来の抵抗式タッチパネルの場合、複数位置の同時検出（例えば、２点タッチ、あるいは５点タッチ等のマルチタッチ）を行うことが難しいという課題を有していた。
【０００４】
こうした抵抗式タッチパネルの課題を解決するため、マルチタッチに対応する静電容量式等の新型タッチパネルが開発されている。こうした静電容量式等の新型タッチパネルの位置検出原理は、例えば数百ＫＨｚの低い交流電圧をタッチパネルを構成するマトリックス状の透明導電膜に印加し、誘電体からなる人体（あるいは指先）が、タッチパネルに近づいてタッチすることで、人体（あるいは指先）を通じて流れる微弱な電流を検出するものである。このように静電容量式のタッチパネルは、数百ＫＨｚの周波数帯域において微弱な電流を検出する必要があり、外部ノイズの影響を受けやすいという課題を有している。こうした課題を解決するために、表示部分（例えば液晶やＥＬ等の表示部分）と、静電容量式タッチパネルとの間に、ＩＴＯ膜（ＩＴＯはＩｎ−Ｓｎ酸化物等の酸化物透明導電体）によるシールド用導電層を設けることが提案されている（特許文献２）。しかしＩＴＯは低抵抗化が難しく、透明樹脂フィルムの上に成膜した際にカールする、あるいはＩＴＯ膜が割れやすいという課題を有している。
【０００５】
一方、高い電磁波遮蔽効果を得るために、長軸が４５０ｎｍ〜１５００ｎｍ、短軸が１〜４５ｎｍと、繊維長が１．５μｍ以下の短い金属ナノワイヤを用いることで、表面抵抗を１．０Ω／□以下とした電磁波遮断フィルタが提案されている（特許文献３）。
【０００６】
更に、金属メッシュを用いた透明シールドが従来より市販されている。図１１は、従来の透明シールド１の構造の一例を示す断面図である。従来の透明シールド１は、ガラス基板やフィルムからなる透明基材部２と、透明基材部２の上に黒化部３を介して形成された薄膜金属メッシュ部４と、からなる（特許文献４）。
【０００７】
図１２（Ａ）（Ｂ）は共に、図１１で示した従来の電磁シールドのシールド特性の一例を示す特性図である。図１２（Ａ）において、Ｘ軸は周波数（単位はＭＨｚ）、Ｙ軸は電界減衰率（単位はｄＢ）である。図１２（Ｂ）において、Ｘ軸は周波数（単位はＭＨｚ）、Ｙ軸は磁界減衰率（単位はｄＢ）である。
【０００８】
図１２（Ａ）に示すように、従来の電磁シールドは、少なくとも１ＭＨｚから３００ＭＨｚの周波数域において、約５０ｄＢという優れた電界減衰率を保持することができるという優れた電界減衰率を有している。更に図１２（Ａ）では、従来の電磁シールドは、３００ＭＨｚから１０００ＭＨｚの周波数域において、電界減衰率が増加し、最大で約６０ｄＢという優れた電界減衰率を有していることが判る。
【０００９】
また図１２（Ｂ）に示すように、従来の電磁シールドは、少なくとも０．１ＭＨｚから１００ＭＨｚの周波数域において、０ｄＢから３０ｄＢと、右上がりに徐々に磁界減衰率が増加し、１００ＭＨｚ〜１０００ＭＨｚの周波数域において約３５ｄＢという優れた磁界減衰率を有している。
【００１０】
一方、近年のタブレット端末には、液晶やＥＬ等からなる表示画像の高品位化（ハイレゾリューション化、あるいはハイビジョン化、２Ｋ４Ｋ化、更には表示諧調の高ビット化）が求められている。その結果、液晶やＥＬ等から発生する電磁波の一部が、タッチパネルを誤動作させてしまう、一種のノイズとなることが考えられる。
【００１１】
更にタッチパネル側は、表示画像の高機能化に伴い、高分解能化、１０箇所以上のマルチタッチ化、タッチ位置検出の高精度化、タッチ位置検出の短時間化、タッチ位置の高速変化への対応等の高機能化が求められている。
【００１２】
そして機器を薄型化するために、ノイズ発生源となる液晶やＥＬ等の表示部分と、タッチパネルとの近接密接が求められる場合、表示部分から発生する電磁ノイズの一部によるタッチパネルが誤動作しやすくなるという課題が発生しやすくなる。そのため表示部分から発生する電磁ノイズが、タッチパネルに伝搬しないようにタッチパネルと表示部分との間に、電磁シールド性の高い透明な電磁シールドを設けることが求められている。
【００１３】
一方、近年のタブレット端末（ノートパソコン等も一種のタブレット端末である）には、外部との間の信号授受や電力授受のために無線ＬＡＮや、ＷｉＦｉ（登録商標）（ＷｉＦｉは、ワイファイアライアンスによって国際標準規格であるＩＥＥＥ８０２．１１規格を使用したデバイスを用いた相互接続）や、ＮＦＣ（ＮＦＣは、Ｎｅａｒ  Ｆｉｅｌｄ  Ｃｏｍｍｕｎｉｃａｔｉｏｎ）として知られる無線通信の国際規格の一つ）、ワイヤレス給電（ワイヤレス給電は非接触電力伝達手段の一つ）が広く使われている。そしてタブレット端末（あるいはタブレット端末等に使われる表示機器等）においては、外部との信号授受や電力授受のために、１０００ＭＨｚ以上、２ＧＨｚ以下の無線通信が活用されている。またタブレット端末や表示機器において、外部との信号や電力の授受のために設けられたアンテナ部や、送受信機部は機器の筐体の内部に内蔵されている。そのため、こうした表示機器において、外部との信号や電力の授受は、表示部分やタッチパネルを介して行う必要が生じる場合がある。
【００１４】
このため表示部分とタッチパネルとの間に電磁シールドを設けた場合、図１２（Ａ）（Ｂ）等に示すように、タッチパネルの誤動作原因となる数百ＭＨｚにおいて電磁シールドが期待される一方、１０００ＭＨｚ以上の高周波域における外部との信号授受や電力授受が影響を与える可能性があった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１５】
【特許文献１】特表２０１０−５０７１９９号
【特許文献２】特開２００９−９８８３４号公報
【特許文献３】特開２００４−１９６９２３号公報
【特許文献４】特開平１１−１２６０２４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１６】
このように従来の抵抗式タッチパネルの場合は、電磁ノイズの影響を殆ど受けなかったが、近年のマルチタッチが可能な静電容量型のタッチパネルでは、電磁ノイズの影響を受けやすくなってきた。
【００１７】
そして静電容量型等の電磁ノイズの影響を受けやすいタッチパネルにおいて、従来の電磁シールドを用いた場合、１０００ＭＨｚ以上の周波数域における高い減衰率が外部との信号授受や電力授受に影響を与えてしまうという課題が発生することが考えられる。
【００１８】
本発明は、こうした課題を解決するものであり、静電容量型等の電磁ノイズの影響を受けやすいタッチパネルと、電磁ノイズを発生させる液晶パネル等との間に設ける透明シールドとして、減衰率の周波数依存性を有する、すなわち静電容量型等のタッチパネルに課題となる低周波数帯域では高い電磁減衰率を有しながらも、１０００ＭＨｚ以上のような高周波帯域では電磁減衰率が低いと言う帯域選択性を有する帯域選択透明シールドと、この帯域選択透明シールド付表示装置と、表示機器を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１９】
本発明の一形態である帯域選択透明シールドは、透明基材と、この透明基材の表面の金属ナノワイヤを含有する透明導電膜と、この透明導電膜の上に形成された、色素を有する光吸収層とを備えた帯域選択透明シールドであって、シート抵抗は５Ω／□以上２００Ω／□以下であり、最大減衰率（Ｓｍａｘ）を示す周波数（Ｆｓｍａｘ）の１０倍高い周波数（Ｆ２）における減衰率Ｓ２は、最大減衰率（Ｓｍａｘ）より１０ｄＢ以上２５ｄＢ以下の範囲で小さい帯域選択透明シールドであり、透明シールドの減衰率に周波数依存性を持たせることで、静電式のタッチパネルに対する液晶パネル等からの電磁ノイズを選択的にカットすると共に、１００ＭＨｚ以上あるいは１ＧＨｚ以上の高周波域における透明シールドの減衰率を小さくすることで、１００ＭＨｚ以上あるいは１ＧＨｚ以上の高周波域における外部と、表示機器内部との高周波通信特性を高めることができる。
【００２０】
本発明の一形態である帯域選択透明シールドの他の一例は、透明基材と、この透明基材の表面の金属ナノワイヤを含有する透明導電膜と、この透明導電膜の上に形成された、色素を有する光吸収層とを備えた帯域選択透明シールドであって、シート抵抗は５Ω／□以上２００Ω／□以下であり、ＫＥＣ法で測定した最大減衰率（Ｓｍａｘ）は、２０ｄＢ以上、７０ｄＢ以下の範囲内にあり、ＫＥＣ法で測定した前記最大減衰率（Ｓｍａｘ）を示す周波数（Ｆｓｍａｘ）は、１ＭＨｚ以上３０ＭＨｚ以下の帯域内である帯域選択透明シールドであり、透明シールドの減衰率に周波数依存性を持たせることで、静電式のタッチパネルで課題になる周波数帯域における液晶パネルから漏洩する電磁ノイズを積極的にカットすると共に、１００ＭＨｚ以上あるいは１ＧＨｚ以上の高周波域における透明シールドの減衰率を小さくすることで、１００ＭＨｚ以上あるいは１ＧＨｚ以上の高周波域における外部と、表示機器内部との高周波通信特性を高めることができる。
【００２１】
本発明の一形態である帯域選択透明シールドの他の一例は、透明基材と、この透明基材の表面の金属ナノワイヤを含有する透明導電膜と、この透明導電膜の上に形成された、色素を有する光吸収層とを備えた帯域選択透明シールドであって、前記光吸収層側から測定したヘイズ値は、前記透明基材側から測定したヘイズ値より小さく、少なくとも１００ＭＨｚ以上１０００ＭＨｚ以下の周波数帯域において、２０ｄＢ以上７０ｄＢ以下の範囲内で周波数が高くなるほど減衰率が低下する帯域選択透明シールドであり、透明シールドの減衰率に周波数依存性を持たせることで、静電式のタッチパネルに対する液晶パネル等からの電磁ノイズを積極的にカットすると共に、１００ＭＨｚ以上あるいは１ＧＨｚ以上の高周波域における透明シールドの減衰率を小さくすることで、１００ＭＨｚ以上あるいは１ＧＨｚ以上の高周波域における外部と、表示機器内部との高周波通信特性を高めることができる。
【００２２】
本発明の一形態である帯域選択透明シールドの製造方法の一例は、透明基材を準備する準備工程と、前記透明基材の一面以上に、表面の金属ナノワイヤを含有する透明導電膜を塗布形成する透明導電膜形成工程と、前記透明導電膜の上に、色素を有する光吸収層を、厚み０．５μｍ以上３００μｍ以下で塗布形成する光吸収層形成工程と、を有するシート抵抗は５Ω／□以上２００Ω／□以下であり、最大減衰率（Ｓｍａｘ）を示す周波数（Ｆｓｍａｘ）の１０倍高い周波数（Ｆ２）における減衰率Ｓ２は、最大減衰率（Ｓｍａｘ）より１０ｄＢ以上２５ｄＢ以下の範囲で小さいことを特徴とする帯域選択透明シールドの製造方法であり、この製造方法を用いることによって、減衰率に周波数依存性を持たせてなる帯域選択透明シールドを、安定して安価に生産することができる。
【００２３】
本発明の一形態である表示デバイスの一例は、画像表示パネル部もしくは静電式タッチパネルと、前記画像表示パネル部もしくは静電式タッチパネルのいずれか一つ以上の表面に設けられた帯域選択透明シールドと、を有する表示デバイスであって、前記帯域選択透明シールドのシート抵抗は５Ω／□以上２００Ω／□以下であり、最大減衰率（Ｓｍａｘ）を示す周波数（Ｆｓｍａｘ）の１０倍高い周波数（Ｆ２）における減衰率Ｓ２は、最大減衰率（Ｓｍａｘ）より１０ｄＢ以上２５ｄＢ以下の範囲で小さい表示デバイスであり、表示デバイスにおける電磁ノイズを積極的にカットすると共に、１００ＭＨｚ以上あるいは１ＧＨｚ以上の高周波域における透明シールドの減衰率を小さくすることで、１００ＭＨｚ以上あるいは１ＧＨｚ以上の高周波域における外部と、表示機器内部との高周波通信特性を高めるものである。
【００２４】
本発明の一形態である表示機器の一例は、少なくとも、筐体と、筐体内部に内蔵されたアンテナ部もしくは送受信機部のいずれか一つ以上と、一面以上に設けられた画像表示パネル部と、この画像表示パネル部の上に形成された、帯域選択透明シールドと、この帯域選択透明シールドの上に形成された電磁シールド式タッチパネル部と、を有する表示機器であって、前記帯域選択透明シールドのシート抵抗は、５Ω／□以上２００Ω／□以下であり、最大減衰率（Ｓｍａｘ）を示す周波数（Ｆｓｍａｘ）の１０倍高い周波数（Ｆ２）における減衰率Ｓ２は、最大減衰率（Ｓｍａｘ）より１０ｄＢ以上２５ｄＢ以下の範囲で小さい表示機器であり、透明シールドの減衰率に周波数依存性を持たせることで、静電式のタッチパネルに対する液晶パネル等からの電磁ノイズを積極的にカットすると共に、１００ＭＨｚ以上あるいは１ＧＨｚ以上の高周波域における透明シールドの減衰率を小さくすることで、１００ＭＨｚ以上あるいは１ＧＨｚ以上の高周波域における外部と、表示機器内部との高周波通信特性を高めるものである。
【発明の効果】
【００２５】
本発明によれば、透明シールドによって、静電式のタッチパネルに対する液晶パネル等からの電磁ノイズを積極的にカットすると共に、１００ＭＨｚ以上あるいは１ＧＨｚ以上の高周波域における透明シールドの減衰率を小さくすることで、１００ＭＨｚ以上あるいは１ＧＨｚ以上の高周波域における外部と、表示機器内部との高周波通信特性を高めることができる。
【図面の簡単な説明】
【００２６】
【図１】本発明の帯域選択透明シールドのシールド特性の一例を示す特性図
【図２】機器に組み込まれた帯域選択透明シールドの機能について説明する断面図
【図３】（Ａ）（Ｂ）は、共に金属ナノワイヤによる光の乱反射について説明する断面図
【図４】帯域選択透明シールドの、透明基材側における外部光による、金属ナノワイヤ表面における散乱光について説明する断面図
【図５】発明者らが作製した帯域選択透明シールドのシールド特性の一例を示す特性図
【図６】帯域選択透明シールドを用いた、表示機器の一例を示す断面図
【図７】帯域選択透明シールドの代わりに、従来の薄膜金属メッシュ部を用いた表示機器における課題を説明する断面図
【図８】（Ａ）（Ｂ）は、共に、透明シールドとして、ＩＴＯを用いた場合に発生する課題について説明する模式図
【図９】（Ａ）（Ｂ）は、共に帯域選択透明シールドを用いた表示デバイスの一例を示す断面図
【図１０】（Ａ）（Ｂ）は、共に帯域選択透明シールドを用いた表示デバイスの一例を示す断面図
【図１１】従来の透明シールドの構造の一例を示す断面図
【図１２】（Ａ）（Ｂ）は共に、従来の電磁シールドのシールド特性の一例を示す特性図
【発明を実施するための形態】
【００２７】
（実施の形態１）
実施の形態では、本発明の帯域選択透明シールドの特性について、図１を用いて説明する。図１は、本発明の帯域選択透明シールドのシールド特性の一例を示す特性図である。図１において、Ｘ軸は周波数（Ｆｒｅｑｕｅｎｃｙ／ＭＨｚ）、Ｙ軸は減衰率（Ｓｈｉｅｌｄ  ｐｒｏｐｅｒｔｙ／ｄＢ）である。１０１は、本発明の帯域選択透明シールドのシールド特性を示す曲線（発明品のシールド特性１０１）である。１０２は、従来の透明シールドのシールド特性を示す曲線であり、ＫＥＣ法を用いて測定した曲線（従来品のシールド特性１０２）であり、例えば前述の図１２（Ａ）等である。図１に示すように、従来品のシールド特性１０２は、１ＭＨｚ近くから１０００ＭＨｚ近くまで、約５０ｄＢで略一定の減衰率を保つという、周波数帯域に依存しないというシールド特性を有している。一方、図１に示すように、本発明の帯域選択透明シールドは、１ＭＨｚから１０ＭＨｚの間に、最大減衰率（Ｓｍａｘ、図１においては約５３ｄＢの減衰率）を有している。そして図１に示すように、帯域選択透明シールドは、最大減衰率（Ｓｍａｘ）を示す周波数（Ｆｓｍａｘ、図１においては約８ＭＨｚ）の１０倍高い周波数（Ｆ２、図２においては８０ＭＨｚ）における減衰率Ｓ２は、最大減衰率（Ｓｍａｘ）より１０ｄＢ以上２５ｄＢ以下の範囲で小さい（図１においては、約１５ｄＢ小さい）という特性（発明品のシールド特性１０１）を有している。
【００２８】
ここでＦ１（単位はＭＨｚ）の１０倍高い周波数をＦ２（単位はＭＨｚ）、すなわち「Ｆ１＊１０＝Ｆ２」とした場合、周波数Ｆ１における減衰率（Ｓ１）と、Ｆ２における減衰率（Ｓ２）との差、すなわちＳ１−Ｓ２の値を、１０ｄＢ以上２５ｄＢ以下とすることが、発明品のシールド特性１０１として有用である。
【００２９】
さらにＦ１（単位はＭＨｚ）の１００倍高い周波数をＦ３（単位はＭＨｚ）、すなわち「Ｆ１＊１００＝Ｆ３」とした場合、周波数Ｆ３における減衰率（Ｓ３）と、Ｆ２における減衰率（Ｓ２）との差、すなわちＳ２−Ｓ３の値を、１０ｄＢ以上２５ｄＢ以下とすることが、発明品のシールド特性１０１として有用である。
【００３０】
以上のように、発明品のシールド特性１０１としては、最大減衰率（Ｓｍａｘ）に対して、１０倍、更には１００倍の高周波域において、減衰率を１０〜２５ｄＢ、更には２０〜５０ｄＢの範囲内で小さくすることで、静電式のタッチパネルに対する液晶パネル等からの電磁ノイズを積極的にカットすると共に、１００ＭＨｚ以上あるいは１ＧＨｚ以上の高周波域における透明シールドの減衰率を小さくすることで、１００ＭＨｚ以上あるいは１ＧＨｚ以上の高周波域における外部と、表示機器内部との高周波通信特性を高めることができる。１０倍時の減衰率を１０ｄＢ未満、あるいは１００倍時の減衰率を２０ｄＢ未満とした場合は、高周波域における通信特性に影響を与える場合がある。または１０倍時の減衰率を２５ｄＢ以上、あるいは１００倍時の減衰率を５０ｄＢ以上とすることは透明シールド側に特殊な加工を行う必要があり、コストアップしたり、透過率に影響を与えたりする場合がある。
【００３１】
以上のように、Ｆ１＊１０＝Ｆ２、あるいはＦ１＊１００＝Ｆ３、Ｆ２＊１０＝Ｆ３とした場合、Ｓ１−Ｓ２＝１０ｄＢ以上２５ｄＢ以下、あるいはＳ２−Ｓ３＝１０ｄＢ以上２５ｄＢ以下と、Ｓ１−Ｓ３＝２０ｄＢ以上５０ｄＢ以下と、高周波になるほど減衰率が低下する（あるいは、図１に示すように高周波域で減衰率が低下するという右下がりのグラフ）とすることが望ましい。
【００３２】
なお図１の特性を有する帯域選択透明シールドの構造については、後述する実施の形態２や３、図２〜図４等で説明する。
【００３３】
なお図１に示すように、帯域選択透明シールドのＫＥＣ法で測定した最大減衰率（Ｓｍａｘ）は、２０ｄＢ以上、７０ｄＢ以下の範囲内とする。最大減衰率（Ｓｍａｘ）が２０ｄＢ未満の場合、シールド性に影響を与える場合がある。また７０ｄＢより高くした場合、透明シールド側に特殊な加工を行う必要があり、コストアップしたり、透過率に影響を与えたりする場合がある。またＫＥＣ法で測定した前記最大減衰率（Ｓｍａｘ）を示す周波数（Ｆｓｍａｘ）は、０．１ＭＨｚ以上３０ＭＨｚ以下、更には１ＭＨｚ以上２０ＭＨｚ以下、２ＭＨｚ以上１０ＭＨｚ以下とすることが望ましい。０．１ＭＨｚ未満、あるいは３０ＭＨｚより高い場合は、静電容量型のタッチパネルに対する電磁ノイズの減衰効果に影響を与える場合がある。
【００３４】
（実施の形態２）
実施の形態２では、本発明の帯域選択透明シールドが、機器の性能を高める様子について、図２を用いて説明する。
【００３５】
図２は、機器に組み込まれた帯域選択透明シールドの機能について説明する断面図である。図２において、１０３は実施の形態１で説明した帯域選択透明シールドである。帯域選択透明シールド１０３は、少なくとも、ガラスやＰＥＴ等の樹脂フィルム等よりなる透明基材１０４と、透明導電膜１０５と、光吸収層１０６とを有している。透明導電膜１０５は、少なくとも金属ナノワイヤ１０７と、金属ナノワイヤ１０７を保持するバインダーとなる透明樹脂（番号は付与していない）とから形成されている。光吸収層１０６は、光吸収性を有する色素、あるいはカーボン、あるいは導電性高分子のうち少なくとも一つ以上と、これらを保持するバインダーとなる透明樹脂（番号は付与していない）とから形成されている。１０９は液晶パネルであり、例えばＩＰＳであるが、液晶パネル１０９は、ＥＬ等の表示パネルであっても良い。１１０はタッチパネルであり、タッチパネルは、マルチタッチ性等に優れた透明なものであれば良く、静電容量型のタッチパネル等である。
【００３６】
図２における矢印１０８ａは、液晶パネル１０９から放射される電磁ノイズの一例を示す。液晶やＥＬ等からなる表示部分を高品位化（ハイレゾリューション化、あるいはハイビジョン化、２Ｋ４Ｋ化、更には表示諧調の高ビット化）することで、数百ＫＨｚ〜数ＭＨｚにおいて、矢印１０８ａに示すような電磁ノイズが発生する。矢印１０８ａで示す電磁ノイズは、矢印１０８ｂに示すように帯域選択透明シールド１０３によって大幅に減衰するが、これは図１に示すように帯域選択透明シールド１０３が、数百ＫＨｚ〜数十ＭＨｚの周波数域において、高い減衰率を有するためである。その結果、タッチパネル１１０に届く電磁ノイズは大幅に低減し、タッチパネル１１０の誤動作を減らす。
【００３７】
図２における矢印１０８ｃ〜矢印１０８ｆは、共に帯域選択透明シールド１０３を介して、数百ＭＨｚ〜数ＧＨｚの電磁波が通過する様子を示す。機器の外部に設置されたアンテナ等（図示していない）から発射された電磁波は矢印１０８ｂに示すように、帯域選択透明シールド１０３を介して、機器の内部に設置されたアンテナ等（図示していない）に到達するが、この際、帯域選択透明シールド１０３を通過しても、その減衰は少ないが、これは図１に示すように帯域選択透明シールド１０３が、数百ＭＨｚ〜数ＧＨｚの周波数域において、減衰率が小さいためである。
【００３８】
矢印１０８ｆは、機器の内部に設置されたアンテナ等（図示していない）から発射された電磁波が、帯域選択透明シールド１０３を介して、機器の外部に設置されたアンテナ等（図示していない）に到達する様子を示す。矢印１０８ｆに示すように、帯域選択透明シールド１０３を通過しても、その減衰は少ないが、これは図１に示すように帯域選択透明シールド１０３が、数百ＭＨｚ〜数ＧＨｚの周波数域において、減衰率が小さいためである。
【００３９】
（実施の形態３）
実施の形態３では、帯域選択透明シールド１０３を構成する透明導電膜１０５に含まれる金属ナノワイヤによる光の乱反射を低減する様子について、図３、図４を用いて説明する。
【００４０】
図３（Ａ）（Ｂ）は、共に金属ナノワイヤによる光の乱反射について説明する断面図である。
【００４１】
図３（Ａ）は、金属ナノワイヤの表面で、外部光が乱反射する様子を示す断面図である。図３（Ａ）に示すように、帯域選択透明シールド１０３の表面に、光吸収層を設けていない場合、矢印１０８ａで示す外部光が金属ナノワイヤ１０７の表面で、矢印１０８ｃに示すように乱反射し、ヘイズ等の光学特性を低下させる。
【００４２】
図３（Ｂ）は、帯域選択透明シールド１０３の一面に設けた、光吸収性を有する光吸収層１０６によって、金属ナノワイヤ１０７の表面における散乱光を低減する様子を説明する断面図である。図３（Ｂ）に示すように、金属ナノワイヤ１０７を含む透明導電膜１０５の表面に、光吸収層１０６を設けることで、外部光による散乱光を減らすことができる。これは外部光が矢印１０８ａに示すように光吸収層１０６を斜めに横断する際に光が吸収され、更に金属ナノワイヤ１０７の表面で散乱し、この散乱した光は矢印１０８ｃに示すように光吸収層を斜めに横断する際に吸収されるためである。このようにするには、帯域選択透明シールド１０３は、透明導電膜１０５の透明基材１０４側とは異なる側に設けることが望ましい。なお散乱光の強度については、市販のヘイズメータ等を用いて、ヘイズ値として測定することができる。
【００４３】
帯域選択透明シールド１０３において、光吸収層１０６側から測定したヘイズ値を、透明基材１０４側から測定したヘイズ値より小さくすることが有用である。このように、光吸収層１０６側から測定したヘイズ値を、透明基材１０４側から測定したヘイズ値より小さくすることで、光吸収層の厚みを薄くし、あるいは光吸収層の光吸収率を低くした場合であっても、効果的に散乱光を低減できる。
【００４４】
図４は、帯域選択透明シールドの、透明基材側における外部光による、金属ナノワイヤ表面における散乱光について説明する断面図である。図４に示すように、外部光は矢印１０８ａに示すように、透明基材１０４を斜めに横断し、金属ナノワイヤ表面で散乱し、この散乱した光は矢印１０８ｃに示すように透明基材１０４を斜めに横断するが、この横断の際に殆ど吸収されることはない。なお必要に応じて、透明基材１０４を着色し、透明基材の表面に光吸収層を新たに設けることで、矢印１０８ｃに示す散乱光を低減することは可能であるが、この場合でも、光吸収層１０６側から測定したヘイズ値を、透明基材１０４側から測定したヘイズ値より小さくすることが有用であるが、これは乱反射あるいはヘイズは、表示機器の外部側からの値が重要なためである。
【００４５】
実施の形態３を用いて、発明者らが作製した帯域選択透明シールドのシールド特性について更に詳しく説明する。図５は、発明者らが作製した帯域選択透明シールドのシールド特性の一例を示す特性図である。
【００４６】
図５において、発明品のシールド特性１０１ａは、発明者らが作製した帯域選択透明シールド（ＳａｍｐｌｅＡ、シート抵抗は１５０Ω／□）のシールド特性である。発明品のシールド特性１０１ｂは、発明者らが作製した帯域選択透明シールド（ＳａｍｐｌｅＢ、シート抵抗は４０Ω／□）のシールド特性である。なおシールド特性は共にＫＥＣ法を用いて測定したものである。
【００４７】
図５に示すように、シート抵抗を１５０Ω／□から４０Ω／□と低くすることで、最大減衰率を約４６ｄＢから約５５ｄＢへと大きくすることができる。またシート抵抗を１５０Ω／□から４０Ω／□と低くすることで、最大減衰率を示す周波数をＦ１（Ａ）からＦ１（Ｂ）へと移動させられる。
【００４８】
図５に示すように、帯域選択透明シールドにおいては、シート抵抗の変化（１５０Ω／□〜４０Ω／□の範囲）に関係なく、周波数が１ＭＨｚ以上、更には１０ＭＨｚ以上、更には２０ＭＨｚ以上で１０００ＭＨｚ以下の周波数帯域において、２０ｄＢ以上７０ｄＢ以下の範囲内で周波数が高くなるほど減衰率が低下するという、高周波域での減衰率の右下がりという傾向は変わらない。このような傾向を有する帯域選択シールド効果は、発明者が実験した５Ω／□以上２００Ω／□以下のシート抵抗の範囲において発現する。
【００４９】
なお発明者らが色々実験したところでは、金属ナノワイヤを用いてシート抵抗を１０Ω／□以下、更には５Ω／□以下、２．５Ω／□以下と低抵抗化させた場合には、１０ＭＨｚ以上において減衰率が右下がりになるという、帯域選択性が発生しにくくなる場合や、前述の図１２（Ａ）（Ｂ）に示したようなシールド特性に近づく場合があった。
【００５０】
これはシート抵抗を５Ω／□以下と低くすることで、図１１、図１２で示した従来の透明シールドに近づくためと考えられる。
【００５１】
なお発明者らは、帯域選択透明シールド１０３に用いる金属ナノワイヤ１０７として平均長さが、２μｍ以上、更には３μｍ以上、５μｍ以上、１０μｍ以上と長いものを用いたが、これは一定以上の長さを有する金属ナノワイヤ１０７を用いる方が、発明者らが求める帯域選択性を有するシート抵抗領域（例えば、５Ω／□以上２００Ω／□以下）の形成が容易となるためである。
【００５２】
例えば金属ナノワイヤ１０７の平均長さが５μｍ未満、あるいは２μｍ未満のように短い場合、１０Ω／□以下、５Ω／□以下のような低シート抵抗の実現が容易となる一方、発明者らが求める帯域選択性を有するシート抵抗領域（例えば、５Ω／□以上２００Ω／□以下）の形成が難しくなる場合がある。これは、金属ナノワイヤ１０７の長さが２μｍ未満のように短い場合、金属ナノワイヤ同士の接触確率が低下してしまい５Ω／□以上２００Ω／□以下の抵抗領域を安定して実現することが難しくなる場合がある。例えば、平均長さが２μｍ未満の金属ナノワイヤを用いた透明導電膜において、金属ナノワイヤ１０７同士の接触による導通を得るためには、金属ナノワイヤの坪量（坪量は、ＪＩＳ  Ｐ８１２４  紙および板紙−坪量の測定方法等で定義されたもの）を増やす必要がある。
【００５３】
ここで平均長さが２μｍ未満と短い金属ナノワイヤ１０７を用いて作製した透明導電膜は、例えて言えば「洋紙」に相当するものであり、厚みを厚くすることで紙としての強度は高められるが、厚みを薄くした場合には和紙のような高強度や高耐力は得られない。一方、本発明のように平均長さが５μｍ以上、１０μｍ以上と長い金属ナノワイヤ１０７を用いて作製した透明導電膜１０５は、例えて言えば「和紙」に相当するものであり、優れたカール耐性（カール耐性については、後述する表２等で説明する）等が得られる。
【００５４】
このように本発明の帯域選択透明シールド１０３に使う金属ナノワイヤ１０７を含む透明導電膜１０５は、「和紙」に相当するものとすることが有用であり、そのためには繊維長が長く、低い坪量で繊維同士の絡み合いによる導通が得られ易くすることが有用である。そしてこうして得られた帯域選択透明シールド１０３は、折り曲げても、シート抵抗が変化しないというカール耐性を有した丈夫なものである。そして本発明の帯域選択透明シールド１０３に使う、金属ナノワイヤ１０７を含む透明導電膜１０５は、少ない坪量において繊維同士の接触確率を増加させることで、５Ω／□以上２００Ω／□以下というシート抵抗域をバラツキ無く安定して実現できる。
【００５５】
このようにタッチパネル１１０のノイズ低減に有用な、５Ω／□以上２００Ω／□以下のシート抵抗域を得ようとした場合、平均繊維長さが２μｍ以下のような短い金属ナノワイヤ１０７を用いる場合に比べ、平均繊維長さが５μｍ以上の長い金属ナノワイヤ１０７を用いることで、坪量を小さくでき、コスト的にメリットがある。また出来上った透明導電膜１０５の柔軟性（例えば、長尺のフィルム上に連続塗工した場合のハンドリング性や巻取り性）やカール耐性は、繊維長が長いほど有利である。
【００５６】
このように本発明の帯域選択透明シールド１０３は、「和紙」のような柔軟性、あるいは耐力、更には耐クラック性やカール耐性を持たせているため、透明基材１０４としてガラスのような透明無機物を用いた場合でも、ＰＥＴフィルム等のフレキシブルな透明有機シートを用いた場合であっても、熱膨張係数や柔軟性の大小に関係なく、クラックやカール等の課題が発生しない。
【００５７】
（実施の形態４）
実施の形態４では、帯域選択透明シールド１０３を用いた表示機器の一例について、図６を用いて説明する。
【００５８】
図６は、実施の形態１等で説明した帯域選択透明シールドを用いた、表示機器の一例を示す断面図である。図６において、１１１は表示機器であり、スマートフォン、電子タブレット、病院用の電子カルテ、電子ノート、電子ブック、電子黒板、ノートパソコン等の表示部を有する表示機器である。
【００５９】
表示機器１１１は、一方向に大きな開口部（番号は付与していない）を有する筐体１１２と、この筐体１１２の開口部を塞ぐように設けられた液晶パネル１０９、帯域選択透明シールド１０３、タッチパネル１１０等を有している。
【００６０】
図６の矢印１０８ａで示される、液晶パネル１０９等から発生する数百ＭＨｚ前後の電磁ノイズは、帯域選択透明シールド１０３によって減衰されるため、静電容量式等のタッチパネル１１０の誤動作の発生原因とはならない。なお表示機器１１１に用いるタッチパネル１１０は、静電容量式であっても、ホバー式（非接触式）等のタッチパネルであっても良い。これは図６に示すように、本発明の帯域選択透明シールド１０３を用いることで、液晶パネル１０９から発生する電磁ノイズの影響を受けやすい静電容量式、あるいはホバー式の新型タッチパネルにおける電磁ノイズの影響を防止できるためである。
【００６１】
図６において、１１３は内部アンテナ部であり、内部アンテナ部１１３は、筐体１１２の内部に設置され、１ＧＨｚ以上のような高周波を利用する無線ＬＡＮやＷｉＦｉ（登録商標）、ＮＦＣ、ワイヤレス通信に使われる高周波用のアンテナである。１１４は外部アンテナ部であり、室内あるいは構内等の、筐体１１２の外部に設置された無線ＬＡＮやＷｉＦｉ（登録商標）、ＮＦＣ、ワイヤレス通信用の外部アンテナ部である。図６の矢印１０８ｄ、１０８ｅで示すように、外部アンテナ部１１４から発した電磁波は、帯域選択透明シールド１０３で殆ど吸収されることなく、内部アンテナ部１１３に到達する。
【００６２】
図６において、１１５は、筐体１１２の内部に設置された内部送受信部であり、１ＧＨｚ以上のような高周波を利用する無線ＬＡＮやＷｉＦｉ（登録商標）、ＮＦＣ、ワイヤレス通信に使われる部品である。１１６は外部送受信部であり、室内あるいは構内等の、筐体１１２の外部に設置された無線ＬＡＮやＷｉＦｉ（登録商標）、ＮＦＣ、ワイヤレス通信装置である。図６の矢印１０８ｆ、１０８ｇで示すように、内部送受信部１１５から発した１ＧＨｚ以上のような高周波は、帯域選択透明シールド１０３で殆ど吸収されることなく、外部送受信部１１６に到達する。
【００６３】
図７は、帯域選択透明シールドの代わりに、従来の薄膜金属メッシュ部を用いた表示機器における課題を説明する断面図である。図７に示すように、従来の薄膜金属メッシュ部４（例えば、前述の図１１で説明したもの）を、液晶パネル１０９と、タッチパネル１１０との間に設けた場合、従来の薄膜金属メッシュ部４が、液晶パネル１０９から発生する電磁ノイズを除去と同時に、矢印１０８ａで示す内部アンテナ部１１３と外部アンテナ部１１４との間の通信や、矢印１０８ｂで示す内部送受信部１１５と外部送受信部１１６との間の通信を大きく阻害してしまう場合がある。これは前述の図１２に示すように、従来の金属メッシュや、１Ω／□程度の低抵抗の特殊な金属ナノワイヤを用いた透明シールドの場合、１００ＭＨｚ以上、更には１０００ＭＨｚ付近においても、高い電磁減衰率を有しているためである。
【００６４】
（実施の形態５）
実施の形態５を用いて、透明シールドとして、従来のＩＴＯを用いた透明導電膜を用いた場合に発生する課題について説明する。
【００６５】
図８（Ａ）（Ｂ）は、共に、透明シールドとして、ＩＴＯを用いた場合に発生する課題について説明する模式図である。１１７ａ、１１７ｂは共にＩＴＯ付フィルムである。１１８はクラック等である。
【００６６】
ロール状の樹脂フィルムを用いて、ＩＴＯを用いた透明シールドを作製する場合、図８（Ａ）に示すように、ＩＴＯ付フィルム１１７ａからなる透明シールドがカールし、表面にクラック１１８等が発生する場合があるが、これは有機物からなるフィルムと、酸化物からなるＩＴＯとの間で、熱膨張係数が大きく異なっているためである。こうしたカールや、クラック１１８等の課題は、ＩＴＯ薄膜の抵抗値を３００Ω／□以下の低抵抗を実現するため、ＩＴＯ膜厚を増加したり、熱処理したりする際に発生しやすくなる。
【００６７】
図８（Ｂ）は、ＩＴＯの枚葉の透明シールドにおける課題の一例を説明する斜視図である。図８（Ｂ）のように、枚葉であっても、ＩＴＯ付フィルム１１７ｂからなる透明シールドには、クラック１１８等が発生しやすくなるが、有機物からなるフィルムと、酸化物からなるＩＴＯとの間で、熱膨張係数が大きく異なることによって、こうしたカール（図示していない）や、クラック１１８等が発生する場合がある。こうした課題は、ＩＴＯ薄膜の抵抗値を１５０Ω／□以下の低抵抗化を実現するため、ＩＴＯ膜厚を増加したり、１００℃以上で熱処理したりする際に発生しやすい。
【００６８】
なおＩＴＯ膜厚を増加した場合、ＩＴＯを用いた透明シールド自体が着色（例えば、黄色、あるいはメタリックの金属光沢等）してしまい、光透過率そのものを下げてしまう課題が発生する。そのためＩＴＯを用いた場合、１５０Ω／□以下、１００Ω／□以下の低抵抗を実現することが難しいが、これは上述したクラック１１８が発生しやすくなる（またはカールし易くなる）という課題以外に、ＩＴＯによる着色課題等が発生するためである。
【００６９】
（実施の形態６）
実施の形態６を用いて、帯域選択透明シールドを用いた表示デバイスの一例について、図９、図１０を用いて説明する。
【００７０】
図９（Ａ）（Ｂ）は、共に帯域選択透明シールドを用いた表示デバイスの一例を示す断面図である。例えば静電容量式のタッチパネル１１０の一面に、帯域選択透明シールド１０３を設けてなる表示デバイス１１９である。なおここで表示デバイス１１９とは、表示に関係するデバイスであれば良く、タッチパネルも表示デバイスの一形態である。図９（Ａ）（Ｂ）において、１１９は表示デバイス、１２０は接着層である。
【００７１】
図９（Ａ）に示すように、表示デバイス１１９は、すくなくとも透明基材１０４と、透明導電膜１０５、光吸収層１０６、接着層１２０を有する帯域選択透明シールド１０３を、その一面以上に有している。そして、この接着層１２０等を有する帯域選択透明シールド１０３を矢印１０８に示すように、タッチパネル１１０の一面に貼り付けることで、表示デバイス１１９とする。なお接着層１２０は、タッチパネル１１０等に対する密着性を有したものであれば良く、ゲル状等の透明な光学材料であっても良い。
【００７２】
図９（Ｂ）は、一面に帯域選択性を有する帯域選択透明シールド１０３を設けた表示デバイス１１９の一例を示す断面図である。図９（Ｂ）のような表示デバイス１１９とすることで、外部電磁波の影響を受けにくく、誤作動の少ないタッチパネル機能を有する表示デバイス１１９を実現できる。
【００７３】
図１０（Ａ）（Ｂ）は、共に帯域選択透明シールドを用いた表示デバイスの一例を示す断面図であり、例えば液晶パネルの一面に、帯域選択透明シールド１０３を設けてなる表示デバイスである。
【００７４】
図１０（Ａ）に示すように、表示デバイス１１９を製造することができる。例えば、図１０（Ａ）に示すように、少なくとも透明基材１０４と、透明導電膜１０５、光吸収層１０６、接着層１２０を有する帯域選択透明シールド１０３を準備し、矢印１０８に示すように、液晶パネル１０９の一面に貼り付け、表示デバイス１１９とする。
【００７５】
図１０（Ｂ）は、一面に帯域選択性を有する帯域選択透明シールドを設けた表示デバイスの一例を示す断面図である。図１０（Ｂ）のような表示デバイス１１９とすることで、他の電子機器への電磁ノイズ放射の少ない、表示機能を有する表示デバイス１１９を実現できる。
【００７６】
（実施の形態７）
実施の形態７を用いて、本発明に用いる金属ナノワイヤについて説明する。本発明に用いる金属ナノワイヤ１０７としては、発明者らが特願２００９−１７４５９４号で提案したものを用いることが可能である。
【００７７】
ここで金属ナノワイヤ１０７の製造手段には特に制限は無く、例えば、液相法や気相法などの公知の手段を用いることができる。具体的な製造方法にも特に制限は無く、公知の製造方法を用いることができる。例えば、Ａｇナノワイヤの製造方法として、Ａｄｖ．Ｍａｔｅｒ．２００２，１４，Ｐ８３３〜８３７や、Ｃｈｅｍ．Ｍａｔｅｒ．２００２，１４，Ｐ４７３６〜４７４５、前述の引用文献２等を、Ａｕナノワイヤの製造方法として、特開２００６−２３３２５２号公報等を、Ｃｕナノワイヤの製造方法として、特開２００２−２６６００７号公報等を、Ｃｏナノワイヤの製造方法として、特開２００４−１４９８７１号公報等を挙げることができる。特に、上記のＡｄｖ．Ｍａｔｅｒ．及びＣｈｅｍ．Ｍａｔｅｒ．で報告されたＡｇナノワイヤの製造方法は、水系で簡便にかつ大量にＡｇナノワイヤを製造することができ、また銀の導電率は金属中で最大であることから、本発明で用いる金属ナノワイヤの製造方法として好ましく適用することができる。
【００７８】
本発明において金属ナノワイヤ１０７の平均直径は、透明性の観点から２００ｎｍ以下であることが好ましく、導電性の観点から１０ｎｍ以上であることが好ましい。平均直径が２００ｎｍ以下であれば光透過率の低下を抑えることができるため好ましい。一方で、平均直径が１０ｎｍ以上であれば導電体としての機能を有意に発現でき、平均直径がより大きい方が導電性が向上するため好ましい。従って平均直径は、より好ましくは２０〜１５０ｎｍであり、４０〜１５０ｎｍであることが更に好ましい。また金属ナノワイヤ１０７の平均長さは、導電性の観点から１μｍ以上であることが好ましく、凝集による透明性への影響から１００μｍ以下であることが好ましい。より好ましくは１〜５０μｍであり、３〜５０μｍであることが更に好ましい。金属ナノワイヤ１０７の平均直径及び平均長さは、ＳＥＭやＴＥＭを用いて十分な数のナノワイヤについて電子顕微鏡写真を撮影し、個々の金属ナノワイヤ像の計測値の算術平均から求めることができる。金属ナノワイヤの長さは、本来直線状に伸ばした状態で求めるべきであるが、現実には屈曲している場合が多いため、電子顕微鏡写真から画像解析装置を用いて金属ナノワイヤ１０７の投影径及び投影面積を算出し、円柱体を仮定して算出する（長さ＝投影面積／投影径）ものとする。計測対象の金属ナノワイヤ数は、少なくとも１００個以上が好ましく、３００個以上の金属ナノワイヤを計測するのが更に好ましい。
【００７９】
上記の金属ナノワイヤ１０７は樹脂溶液に分散させて使用されるものであり、樹脂溶液の膜形成のための樹脂成分としては、モノマーやオリゴマーの重合反応によりポリマー化してマトリクスを形成するものが用いられる。
【００８０】
上記の樹脂成分として、光重合反応または熱重合反応する樹脂を使用する場合、可視光、または紫外線や電子線のような電離放射線の照射により直接または開始剤の作用を受けて重合反応を生じるモノマーあるいはオリゴマーを用いることができ、アクリル基あるいはメタクリル基を有するモノマーあるいはオリゴマーが好適である。中でも架橋させて耐擦傷性、硬度を上げるには多官能性バインダー成分であることが好ましい。
【００８１】
そして一分子中に一個の官能基をもつものとして、具体的には例えば、イソアミル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、ブトキシエチル（メタ）アクリレート、エトキシ−ジエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシ−トリエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシ−ポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシジプロピレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、フェノキシ−ポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、イソボニル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート、（メタ）アクリル酸、２−（メタ）アクリロイロキシエチル−コハク酸、２−（メタ）アクリロイロキシエチルフタル酸、イソオクチル（メタ）アクリレート、イソミリスチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、（メタ）アクリロイルモルホリン等が挙げられる。
【００８２】
また二個以上の官能基を持つものとして、具体的には例えば、ポリエチレングリコールジアクリレート、グリセリントリアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート等が挙げられ、更にベンゼン環を有する化合物としては、エチレンオキサイド変性ビスフェノールＡジアクリレート、変性ビスフェノールＡジアクリレート、エチレングリコールジアクリレート、エチレンオキサイドプロピレンオキサイド変性ビスフェノールＡジアクリレート、プロピレンオキサイドテトラメチレンオキサイド変性ビスフェノールＡジアクリレート、ビスフェノールＡ−ジエポキシ−アクリル酸付加物、エチレンオキサイド変性ビスフェノールＦジアクリレート、ポリエステルアクリレート等の多官能アクリレート類あるいはメタクリレート類が挙げられる。
【００８３】
また、１，２−ビス（メタ）アクリロイルチオエタン、１，３−ビス（メタ）アクリロイルチオプロパン、１，４−ビス（メタ）アクリロイルチオブタン、１，２−ビス（メタ）アクリロイルメチルチオベンゼン、１，３−ビス（メタ）アクリロイルメチルチオベンゼンなどの硫黄含有（メタ）アクリレート類を用いることも高屈折率化に有効である。
【００８４】
さらに、紫外線や熱による硬化を促進させるため、光または熱重合開始剤を配合してもよい。
【００８５】
光重合開始剤としては、一般に市販されているもので構わないが、特に例示すると、ベンゾフェノン、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン（チバスペシャリティーケミカルズ（株）製「イルガキュアー６５１」）、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン（チバスペシャリティーケミカルズ（株）製「イルガキュアー１８４」）、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オン（チバスペシャリティーケミカルズ（株）製「ダロキュアー１１７３」、ランベルティー社製「エサキュアーＫＬ２００」）、オリゴ（２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オン）（ランベルティー社製「エサキュアーＫＩＰ１５０」）、２−ヒドロキシエチル−フェニル−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン（チバスペシャリティーケミカルズ（株）製「イルガキュアー２９５９」）、２−メチル−１（４−（メチルチオ）フェニル）−２−モルフォリノプロパン−１−オン（チバスペシャリティーケミカルズ（株）製「イルガキュアー９０７」）、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン−１（チバスペシャリティーケミカルズ（株）製「イルガキュアー３６９」）、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）フェニルフォスフィンオキサイド（チバスペシャリティーケミカルズ（株）製「イルガキュアー８１９」）、ビス（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチル−ペンチルフォスフィンオキサイド（チバスペシャリティーケミカルズ（株）製「ＣＧＩ４０３」）、２，４，６−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−フォスフィンオキサイド（＝ＴＭＤＰＯ）（ＢＡＳＦ社製「ルシリンＴＰＯ」、チバスペシャリティーケミカルズ（株）製「ダロキュアーＴＰＯ」）、チオキサントンまたはその誘導体などが挙げられ、これらのうち１種、あるいは２種以上混合して用いることができる。
【００８６】
また、光増感作用の目的により第三アミン、例えばトリエタノールアミン、エチル−４−ジメチルアミノベンゾエート、イソペンチルメチルアミノベンゾエートなどを添加しても良い。
【００８７】
熱による重合開始剤としては、主として過酸化ベンゾイル（＝ＢＰＯ）などの過酸化物、アゾビスイソブチルニトリル（＝ＡＩＢＮ）などのアゾ化合物が用いられる。
【００８８】
上記の光重合開始剤や熱重合開始剤の配合量は、通常、組成物（樹脂成分＋金属ナノワイヤ）１００質量部に対し、０．１〜１０質量部程度が好ましい。
【００８９】
また、エポキシ基、チオエポキシ基、オキセタニル基等のカチオン重合性官能基を有するモノマーあるいはオリゴマーを用いてもよい。さらに必要に応じて光カチオン開始剤等を組み合わせて用いることもできる。これらは同様に多官能であることが好ましい。
【００９０】
また、熱重合する樹脂については一般的にゾル−ゲル系材料が挙げられ、アルコキシシラン、アルコキシチタン等のゾル−ゲル系材料が好ましい。これらのなかでもアルコキシシランが好ましい。ゾル−ゲル系材料は、ポリシロキサン構造を形成する。アルコキシシランは具体的には、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシラン、テトライソプロポキシシラン、テトラブトキシシラン等のテトラアルコキシシラン類、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリブトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、ｎ−プロピルトリメトキシシラン、ｎ−プロピルトリエトキシシラン、イソプロピルトリメトキシシラン、イソプロピルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、３，４−エポキシシクロヘキシルエチルトリメトキシシラン、３，４−エポキシシクロヘキシルエチルトリエトキシシラン等のトリアルコキシシラン類、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジエチルジメトキシシラン、ジエチルジエトキシシラン等が挙げられる。これらアルコキシシランはその部分縮合物等として用いることができる。これらのなかでもテトラアルコキシシラン類またはこれらの部分縮合物等が好ましい。特に、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシランまたはこれらの部分縮合物が好ましい。
【００９１】
さらに、樹脂溶液のマトリクスを形成する樹脂成分として導電性高分子を用いることもできる。導電性高分子としては、例えば、ポリアニリン、ポリピロール、ポリチオフェン、ポリトリフェニルアミン等を例示することができる。
【００９２】
また樹脂溶液のマトリクスを形成する樹脂成分としては、上記した光重合性の樹脂、熱重合性の樹脂、導電性高分子から選ばれる２種類以上のものを併用してもよい。
【００９３】
樹脂溶液への金属ナノワイヤ１０７の配合量は、後述のように透明導電膜を形成した際に、透明導電膜中に金属ナノワイヤ１０７が０．０１〜９０質量％含有されるように、マトリクス形成用樹脂成分に対する配合量を調整して設定するのが好ましい。金属ナノワイヤの含有量は０．１〜３０質量部がより好ましく、さらに好ましくは０．５〜１０質量％である。
【００９４】
ここで、樹脂溶液には、樹脂固形分、金属ナノワイヤ１０７など固形成分を溶解乃至分散するための溶剤が含有されることが必須であるが、溶剤の種類は特に限定されるものではない。例えば、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等のアルコール類；メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類；酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類；ハロゲン化炭化水素類；トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、あるいはこれらの混合物を用いることができる。これらの中でも、ケトン系の有機溶剤を用いるのが好ましく、ケトン系溶剤を用いて樹脂溶液を調製すると、透明基材の表面に容易に均一に塗布することができ、かつ、塗工後において溶剤の蒸発速度が適度で乾燥むらを起こし難いので、均一な厚さの大面積の透明導電膜を容易に得ることができるものである。また、溶剤としては上記の有機溶剤の他に、水を用いる場合もあり、有機溶剤と水を組み合わせて用いる場合もある。溶剤の量は、上記の各固形成分を均一に溶解、分散することができ、樹脂溶液を調製した後の保存時に凝集を来たさず、かつ、塗工時に希薄すぎない濃度となるように適宜調節するものである。この条件が満たされる範囲内で溶剤の使用量を少なくして高濃度の樹脂溶液を調製し、容量をとらない状態で保存し、使用時に必要分を取り出して塗工作業に適した濃度に溶剤で希釈するのが好ましい。固形分と溶剤の合計量を１００質量部とした時に、全固形分０．１〜５０質量部に対して、溶剤の量を５０〜９９．９質量部に設定するのが好ましく、さらに好ましくは、全固形分０．５〜３０重量部に対して、溶剤を７０〜９９．５質量部の割合で用いることにより、特に分散安定性に優れ、長期保存に適した樹脂溶液を得ることができる。用いる樹脂と溶剤の組み合わせについては、特に規定されるものではないが、配合する樹脂が溶解しやすい溶剤を用いるほうが好ましい。また塗工する透明基材によっては、用いる溶剤によって溶解が発生する場合もあるので、予め透明基材への溶解性を確認したうえで適切な溶剤組成を設計することが望ましい。
【００９５】
一方、本発明で用いる透明基材１０４において、その形状、構造、大きさ等については、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。透明基材の形状としては、例えば平板状、シート状、フィルム状などが挙げられ、また構造としては、例えば単層構造であってもよいし、積層構造であってもよく、適宜選択することができる。透明基材の材料についても特に制限はなく、無機材料及び有機材料のいずれであっても好適に用いることができる。透明基材を形成する無機材料としては、例えば、ガラス、石英、シリコンなどが挙げられる。また有機材料としては、例えば、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）等のアセテート系樹脂；ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）等のポリエステル系樹脂；ポリエーテルスルホン系樹脂、ポリスルホン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、アクリル系樹脂、ポリノルボルネン系樹脂、セルロース系樹脂、ポリアリレート系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリ塩化ビニリデン系樹脂、ポリアクリル系樹脂などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００９６】
また本発明において透明基材１０４としては、上記のような基材単体のものであってもよいが、基材の表面に一層ないし複数層のハードコート層が形成されたものであってもよい。このように透明基材がハードコート層を備える場合、透明導電膜はハードコート層の上に形成されるものである。
【００９７】
このハードコート層はモノマーを重合した樹脂で形成されていてもよく、この樹脂中に粒子等を含んでいてもよい。樹脂としては、特に限定されるものではないが、上記の透明導電膜を形成するマトリクス形成樹脂と同じものを用いることが可能であり、また粒子としては樹脂より低い屈折率あるいは高い屈折率を有するもの、樹脂より高い硬度を有するもの、耐熱性が高いものなど、種々の機能を有するものを用いることができる。
【００９８】
そしてこの透明基材１０４の表面に、上記の金属ナノワイヤを配合した樹脂溶液を塗布して乾燥・硬化させることによって、図４等のような透明導電膜１０５を形成することができるものである。このように形成される透明導電膜１０５中には金属ナノワイヤ１０７が均一に分散した状態で含有されている。樹脂溶液の塗布方法としては、例えば、スピンコート法、キャスト法、ロールコート法、フローコート法、プリント法、ディップコート法、流延成膜法、バーコート法、グラビア印刷法などが挙げられる。また透明導電膜１０５の厚みは、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、０．０１〜１００μｍ程度の範囲が好ましく、０．０５〜１０μｍの範囲がより好ましく、さらに好ましくは０．１〜３μｍの範囲である。
【００９９】
このように透明基材１０４の表面に透明導電膜１０５を形成した後、この透明導電膜１０５の表面に光吸収層１０６を積層して形成する。
【０１００】
光吸収層１０６は、樹脂溶液に光吸収剤を溶解乃至分散させ、この光吸収剤を含有する樹脂溶液を透明導電膜１０５の表面に塗布して乾燥・硬化させることによって形成することができる。
【０１０１】
樹脂溶液を構成するマトリクス樹脂や溶剤としては、透明導電膜１０５を形成する既述の樹脂溶液と同様なものを用いることができる。
【０１０２】
また光吸収剤としては、カーボン、色素、導電性高分子などを用いることができる。これらの光吸収剤は光吸収効率が高いので、少ない使用量で光吸収層１０６を薄く形成することができるものである。従って、光吸収層１０６で透明導電膜の表面抵抗や光透過率が低下することを抑制することができるものである。
【０１０３】
色素としては、例えば、モノアゾピグメント、キナクリドン、アイアン・オキサイド・イエロー、ジスアゾピグメント、フタロシアニングリーン、フタロシアニンブルー、シアニンブルー、フラバンスロンエロー、ジアンスラキノリルレッド、インダンスロンブルー、チオインジゴボルドー、ペリノンオレンジ、ペリレンスカーレット、ペリレンレッド１７８、ペリレンマルーン、ジオキサジンバイオレット、イソインドリノンエロー、キノフタロンエロー、イソインドリンエロー、ニッケルニトロソエロー、マダーレーキ、銅アゾメチンエロー、アニリンブラック、アルカリブルー、弁柄、酸化クロム、鉄黒、チタンエロー、コバルトブルー、セルリアンブルー、コバルトグリーン、ビリジアン、カドミウムエロー、カドミウムレッド、朱、黄鉛、モリブデートオレンジ、クロム酸亜鉛、群青、マンガンバイオレット、コバルトバイオレット、エメラルドグリーン、カーボンブラック、などの有機および無機顔料や、アゾ染料、アントラキノン染料、インジゴイド染料、フタロシアニン染料、カルボニウム染料、キノンイミン染料、メチン染料、キノリン染料、ニトロ染料、ニトロソ染料、ベンゾキノン染料、ナフトキノン染料、ナフタルイミド染料、ベリノン染料などの染料を挙げることができる。
【０１０４】
また導電性高分子を、色素としても良い。有色の、あるいは有機の着色樹脂としての導電性高分子としては、ベンゼン環や五員環などに由来するπ電子が共役したポリマー鎖、具体的にはポリチオフェン系、ポリピロール系、ポリアニリン系などがあるが、これらπ電子共役系はここに挙げたものに限られない。
【０１０５】
これらに例示した光吸収剤は単独で用いる他、二つ以上を組合せて用いることができるものである。
【０１０６】
光吸収剤の樹脂溶液に対する配合量は、樹脂成分に対して０．０１〜２０質量％の範囲に設定するのが好ましく、より好ましくは０．１〜１０質量％である。
【０１０７】
光吸収剤を配合した樹脂溶液を透明導電膜１０５の表面に塗布する方法としては、例えば、スピンコート法、キャスト法、ロールコート法、フローコート法、プリント法、ディップコート法、流延成膜法、バーコート法、グラビア印刷法などが挙げられる。また光吸収層１０６の厚みは、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、０．０１〜５μｍ程度の範囲が好ましく、０．１〜１μｍの範囲がより好ましい。
【０１０８】
このようにして図２や図３（ｂ）等のように形成される透明導電膜１０５は、透明導電膜１０５中に含有される金属ナノワイヤ１０７によって高い導電性を発現するものである。また透明導電膜１０５の表面に光吸収層１０６が形成されているので、透明導電膜１０５に入射される光の多くを光吸収層１０６で吸収することができ、透明導電膜１０５中の金属ナノワイヤ１０７に到達する光を少なくすることができるものであり、金属ナノワイヤ１０７で光が分散されることによるヘイズを低減することができるものである。
【０１０９】
また金属ナノワイヤ１０７の一部が透明導電膜１０５の表面に露出したりすると、透明導電膜１０５の表面平滑性が金属ナノワイヤ１０７で阻害されるおそれがある。例えば、タッチパネルなどのデバイスでは表面に接触機能が必要とされ、また有機ＥＬ等の透明導電膜では表面での電荷を受ける面接合機能が必要とされるように、透明導電膜１０５においてはその表面平滑性が重要であることが多い。しかるに本発明において、透明導電膜１０５の表面は光吸収層１０６で被覆されているので、表面を光吸収層１０６でならして高い表面平滑性を得ることができるものであり、接触機能や面接合機能を向上することができるものである。
【０１１０】
上記のようにして得られる本発明に係る透明導電膜付き基板の用途は、特に制限されるものではないが、有機ＥＬ素子、透明配線、光電変換素子、電磁波シールド、タッチパネル、電子ペーパー等に適用することができるものである。
【実施例】
【０１１１】
次に、本発明に使用する銀ナノワイヤについて実施例によって具体的に説明する。
【０１１２】
（実施例１）
光硬化性アクリル樹脂（新中村化学社製「Ａ−ＤＰＨ」）１８．１質量部と、メチルエチルケトン８．１質量部およびメチルイソブチルケトン２１．８質量部を混合し、アクリル樹脂を溶解させた混合物Ａを調製した。また金属ナノワイヤとして銀ナノワイヤを用いた。この銀ナノワイヤは、公知論文「Materials Chemistry and Physics vol.114 p333-338 "Preparation of Ag nanorods with high yield by polyol process"」に準じて作製したものであり、平均直径１５０ｎｍ、平均長さ５μｍである。この金属ナノワイヤ１２．０質量部をメチルエチルケトン４０．０質量部に分散させた混合物Ｂを調製した。そして混合物Ａと混合物Ｂをよく混合した後、これに光重合開始剤（チバガイギー社製「イルガキュア１８４」）０．１質量部を加えてよく混合し、さらに２５℃の恒温雰囲気下で１時間撹拌混合することによって、金属ナノワイヤを含む樹脂溶液からなるコーティング材組成物を得た。
【０１１３】
そして透明基材１０４としてＰＥＴフィルムを用い、上記のコーティング材組成物をワイヤーバーコーター＃１０で透明基材１０４の表面に塗布し、１２０℃で２分間乾燥した後、ＵＶ積算量４００ｍＪ／ｃｍ２でＵＶを照射することによって、膜厚０．２μｍの透明導電膜１０５を形成した。なお乾燥温度を１２０℃以下、更には１００℃以下に下げるには、乾燥時間を２分以上と長くすることが有用である。
【０１１４】
一方、硬化性アクリル樹脂（新中村化学社製「Ａ−ＤＰＨ」）２０．０質量部と、メチルエチルケトン１９．９質量部およびメチルイソブチルケトン３９．５重量部を混合し、アクリル樹脂を溶解させた混合物Ａを調製した。また光吸収剤として黒色カーボンナノ粒子（三菱化学社製「カーボンブラック＃２６５０」：平均粒径１３ｎｍ）を用い、この光吸収剤１．０質量部をメチルエチルケトン２０．０質量部に分散させた混合物Ｂを調製した。そして混合物Ａと混合物Ｂをよく混合した後、これに光重合開始剤（チバガイギー社製「イルガキュア１８４」）０．１質量部を加えてよく混合し、さらに２５℃の恒温雰囲気下で１時間撹拌混合することによって、光吸収剤を含む樹脂溶液からなる光吸収層コーティング材組成物を得た。
【０１１５】
そして上記のように形成した透明導電膜１０５の表面に、光吸収層コーティング材組成物をワイヤーバーコータ＃６で塗布し、１２０℃で２分間乾燥した後、ＵＶ積算量４００ｍＪ／ｃｍ２でＵＶを照射することによって、膜厚０．１μｍの光吸収層１０６を形成し、図２等のような、実施例１となる帯域選択透明シールド１０３を得た。
【０１１６】
（比較例１）
実施例１において、透明導電膜１０５を形成し、光吸収層１０６を形成しないようにした他は実施例１と同様にして、比較例１を得た。
【０１１７】
上記の実施例１及び比較例１で得た帯域選択透明シールドについて、まずは光学的な評価として、ヘイズ測定、全光線透過率測定、表面抵抗値測定、表面平滑性測定を行なった。ヘイズおよび全光線透過率の測定は、ヘイズメータ（日本電色工業社製「ＮＤＨ２０００」）を使用して行ない、表面抵抗値の測定は、表面抵抗値計（三菱化学社製「ＨｉｒｅｓｔａＩＰ（ＭＣＰ−ＨＴ２６０）」）を使用して行なった。また表面平滑性の測定は、針式表面粗さ計（東京精密株式会社製「ＳＵＲＦＣＯＭ  １３０Ａ」）を使用して行なった。結果を［表１］に示す。
【０１１８】
【表１】
2014241353.tif 000003
【０１１９】
［表１］にみられるように、実施例１のものは透明導電膜の表面に光吸収層を形成したことにより、約０．６％の全光線透過率の低下がみられるが、ヘイズは約０．６低下しており、また表面平滑性が向上しており、本発明の効果を確認することができた。また、光吸収層を形成することによる表面抵抗値の変化は見られなかった。さらに実施例１のものは表面平滑性も向上した。
【０１２０】
（実施の形態８）
実施の形態８では、発明者らが［表１］のサンプルを元に更に特性を改良したものについて検討した結果を示す。［表２］は、発明者らが検討した結果の一例を示す表であり、光学的評価と電磁シールド効果の両方について評価した結果の一例である。［表２］において、比較品１、２は共に市販のＩＴＯ付透明フィルムについて評価したものである。比較品１、２に示すように、ＩＴＯ付透明フィルムでは、低抵抗化時での高透過率化が困難であり、低抵抗化するほど、クラックやカール等の課題が発生してしまう。このようにＩＴＯ付透明フィルムでは、カール耐性が低いため、取り扱い性に課題が発生する場合がある。
【０１２１】
［表２］において、発明品１、２は、図５に示した発明者らが作製したサンプルＡ（ＡｇＮＷ−Ｎｏ１、シート抵抗は１５０Ω／□、発明品１）、サンプルＢ（Ａｇ−ＮＷ−Ｎｏ２、シート抵抗は４０Ω／□、発明品２）について、ヘイズ、全光線透過率等を測定した結果である。
【０１２２】
［表２］より、発明品１、発明品２は、図１や図５に示した帯域選択性を有するという優れたシールド効果を有していた。発明品１、発明品２は、共に液晶パネル等から発せられる周波数帯域では優れたシールド効果を有していたため、優れたＴＴＰ誤動作防止機能（ＴＴＰは透明タッチパネルの意味）を発揮することができた。また発明品１、発明品２は、共に無線ＬＡＮ等で代表される高周波域ではシールド効果（あるいは減衰率）が低減するため、優れた無線ＬＡＮ誤動作防止機能が得られた。
【０１２３】
このように発明品１、２を用いることで、それぞれの周波数帯域において高いシールド効果や、低いシールド効果が得られるため、ＴＴＰ誤動作総合評価と、無線ＬＡＮ誤動作防止の両方を、共に○（Ｇｏｏｄ、良）と両立することができた。
【０１２４】
以上のように、発明品１、２を用いることでＡ７サイズ〜Ａ４サイズ、更にはＢ４サイズ、新聞紙大等のタッチ機能付き表示機器において、表示部分の高品位化（例えば、ハイビジョン化、２Ｋ化、４Ｋ化）を行った場合でも、タッチパネル部分での誤動作が大きく低減できる。
【０１２５】
一方、比較品３、４の示すように、金属ナノワイヤ（ＡｇＮＷ−Ｎｏ１、ＡｇＮＷ−Ｎｏ２）の上に、光吸収層１０６を設けなかった場合は、ヘイズ値が増加して画像の認識性に影響を与えることがわかる。
【０１２６】
【表２】
2014241353.tif 000004
【０１２７】
［表２］の結果について、更に説明する。透明導電膜にＩＴＯを用いたものは、比較品１と比較品２であり、比較品１と比較品２との違いは光吸収層の有無である。［表２］の結果より、透明導電膜にＩＴＯを用いたものは、１００Ω／□以下、更には５０Ω／□以下の低抵抗化が困難であった。これはＩＴＯを低抵抗化するほど、ＩＴＯ皮膜が着色（例えば、黄色やメタリック光沢）したためである。
【０１２８】
なお［表２］における各種評価結果は、各サンプルの取り扱い性等も考慮した結果である。ここで取り扱い性とは、カール耐性に加えて、サンプルの製造途中、あるいは製造後のハンドリング時の折り曲げ等の影響も加味したものである。
【０１２９】
［表２］の評価において、カール耐性とは、サンプル自身にカールが発生する／しないの評価に加えて、繰り返しサンプルを曲げたとき（積極的にカールを発生させた場合）に、カールに起因する課題が発生するかどうかについて評価したものである。［表２］の結果より、比較品１、２に示すＩＴＯを用いたサンプルでは、カールが発生し易かった。またカールが発生したサンプルについて、物理的なカール修正を行ったり、またカールが発生していないサンプルを繰り返し丸めたり、まっすぐ広げたりした際に、ＩＴＯ膜に微細なクラックが発生し、シート抵抗が変化する場合があった。一方、比較品３、４、発明品１、２においてはカールが発生せず、カールが発生していないサンプルを繰り返し丸めたり、まっすぐ広げたりしても、クラック等は発生せず、シート抵抗も変化しなかった。
【０１３０】
［表２］におけるＴＴＰ動作安定性や無線ＬＡＮ通信安定性についての評価は、準備した評価用の透明導電膜付シートについて治具を使って繰り返し曲げたり伸ばしたりするカール耐性等を評価した後のサンプルを用いて行ったものである。［表２］に示すように、比較品１、２において、ＴＴＰ誤動作防止機能や、無線ＬＡＮ誤動作防止機能で、△（課題有）となった背景には、カール耐性の評価において発生したＩＴＯ皮膜のクラック等の影響が考えられる。一方、発明品１、２においては、ＴＴＰ動作安定性や無線ＬＡＮ通信安定性の両方において、○（Ｇｏｏｄ）という優れた評価結果が得られたが、これは発明品１、２において優れたカール耐性を有していたためと考えられる。こうした背景より、発明品１、２を用いた帯域選択透明シールドにおいては、その優れた帯域選択シールド特性が、生産時や加工時の取り扱い状態によって影響を受けないことが判る。このように発明品１、２を用いた帯域選択透明シールドは、表示デバイスの表面にロールラミネータ等を用いて貼り付ける場合、あるいは各種表示機器に組み込むために部分的に折り曲げたりする場合においても、その優れたシールド特性が影響を受けないことが判る。このように、本発明の帯域選択透明シールドの一形態である発明品１、２の場合、表示デバイスとなる液晶やＥＬ等のディスプレイ、あるいは静電容量式の透明タッチパネル等の表面にロールラミネータ等を用いて貼り付ける場合、あるいは各種表示機器に組み込む際に帯域選択透明シールドの一部を部分的に折り曲げたりした場合であっても、優れたＴＴＰ動作安定性や、優れた無線ＬＡＮ通信安定性が得られる。このように本発明の帯域選択透明シールドを用いることで、折り曲げ可能な表示デバイスや、フレキシブルな表示機器においても、優れたＴＴＰ動作安定性や、優れた無線ＬＡＮ通信安定性が得られる。またフレキシブル性が要求されない、一般の表示デバイスや、表示機器に、本発明の帯域選択透明シールドを用いることで優れたＴＴＰ動作安定性と、優れた無線ＬＡＮ通信安定性の両方を同時に満足することができることは言うまでもない。
【０１３１】
一方、ＩＴＯを用いた透明シールド（比較品１、２）の場合、表示デバイスの表面にロールラミネータ等を用いて貼り付ける場合、あるいは各種表示機器に組み込む際に部分的に折り曲げたりすると、ＴＴＰ動作安定性や無線ＬＡＮ通信安定性が低下してしまう可能性がある。
【０１３２】
なお発明者らの実験によると、少なくとも、サンプル形状がスマートフォンサイズ〜Ａ４サイズ程度のタブレットサイズにおいてシート抵抗は５Ω／□以上２００Ω／□以下が適切であった。そのため、より大型のパネル（例えば、畳１畳分〜２畳分）の場合は、スマートフォンやタブレット端末ほどの高性能が必要でない場合は、２Ω／□以上、４００Ω／□以下とシート抵抗域を広げても良い。
【０１３３】
また液晶やＥＬ等の表示色調に合わせて、光吸収層１０６の色調を調整することは有用である。すなわち、液晶パネル１０９（あるいはＥＬパネル）の色調が（あるいはホワイトバランス）が、赤色側にずれている場合、光吸収層１０６の色調をシアン（あるいは補色、あるいは色相環で正反対に位置する色、余色、対照色、反対色と色相となる色調等）とすることで、ホワイトバランスを調整することができる。
【０１３４】
例えば、［表２］に示した比較品１で示すＩＴＯを使った場合には、光学的特性（透過色度）は、Ｌ＊＝９３．０１、ａ＊＝０．３１、ｂ＊＝３．８７であり、ＪＩＳ  Ｚ  ８７２９で定義される色差が大きくなり、ＩＴＯ自身の着色に起因する色差の増加という課題が発生することが判る。
【０１３５】
一方、［表２］に示すように、発明品１（４０Ω／□）の光学的特性（透過色度）は、Ｌ＊＝９５．１４、ａ＊＝−０．３６、ｂ＊＝０．４３であった。発明品２（１５０Ω／□）の光学的特性（透過色度）は、Ｌ＊＝９５．４８、ａ＊＝−０．１０、ｂ＊＝−０．１５であった。このように本発明においては、光吸収層１０６の色調や濃度を液晶パネルや液晶パネル用の光源に応じて調整することで、ＪＩＳ  Ｚ  ８７２９で定義される色差を抑えられるという、優れた特性を有している。
【０１３６】
また必要に応じて、低屈層、高屈層等を、帯域選択透明シールド１０３に追加することで、帯域選択透明シールド１０３の光学的特性を、更に高められることは言うまでも無い。
【産業上の利用可能性】
【０１３７】
本発明によって、携帯端末、小型表示パッド等の表示部分の高品位化（例えば、ハイビジョン化、２Ｋ化、４Ｋ化）と共に、タッチパネル等の高性能化を両立することができる。
【符号の説明】
【０１３８】
１０１  発明品のシールド特性
１０２  従来品のシールド特性
１０３  帯域選択透明シールド
１０４  透明基材
１０５  透明導電膜
１０６  光吸収層
１０７  金属ナノワイヤ
１０８ａ〜１０８ｇ  矢印
１０９  液晶パネル
１１０  タッチパネル
１１１  表示機器
１１２  筐体
１１３  内部アンテナ部
１１４  外部アンテナ部
１１５  内部送受信部
１１６  外部送受信部
１１７  ＩＴＯ付フィルム
１１８  クラック
１１９  表示デバイス
１２０  接着層
【図１】
2014241353.tif 000005
【図２】
2014241353.tif 000006
【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
2014241353.tif 000010
【図７】
2014241353.tif 000011
【図８】
2014241353.tif 000012
【図９】
2014241353.tif 000013
【図１０】
2014241353.tif 000014
【図１１】
2014241353.tif 000015
【図１２】
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