(57)【要約】      （修正有）【課題】デジタイザ用センサ部及びその製造方法を提供する。【解決手段】デジタイザ用センサ部は、絶縁性を有する磁性層１００と、前記磁性層に埋め込んで形成される第１コイル２１０と、前記磁性層の一面に形成される第２コイル２２０と、前記第２コイルを覆って前記磁性層の一面に形成される絶縁層３００と、を含み、第１コイル及び第２コイルが磁性材料からなる磁性層に形成されることにより、コイル間の磁界形成や、コイルと入力装置との間に送受信される信号の安定性がより向上されることができる。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
絶縁性を有する磁性層と、
前記磁性層に埋め込んで形成される第１コイルと、
前記磁性層の一面に形成される第２コイルと、
前記第２コイルを覆って前記磁性層の一面に形成される絶縁層と、を含むデジタイザ用センサ部。
【請求項２】
前記磁性層は、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｚｎ、Ｍｎ、Ｍｇ、Ｃｏ、Ｂａ及びＳｒからなる群から選択された二つ以上の元素を含む酸化物磁性材料からなることを特徴とする請求項１に記載のデジタイザ用センサ部。
【請求項３】
前記絶縁層は、絶縁性を有する磁性層であることを特徴とする請求項１に記載のデジタイザ用センサ部。
【請求項４】
前記絶縁層は、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｚｎ、Ｍｎ、Ｍｇ、Ｃｏ、Ｂａ及びＳｒからなる群から選択された二つ以上の元素を含む酸化物磁性材料からなることを特徴とする請求項３に記載のデジタイザ用センサ部。
【請求項５】
前記磁性層の一面に形成されるパワーコイルをさらに含むことを特徴とする請求項１に記載のデジタイザ用センサ部。
【請求項６】
前記磁性層の他面に形成される電磁波遮蔽層をさらに含むことを特徴とする請求項１に記載のデジタイザ用センサ部。
【請求項７】
前記電磁波遮蔽層は、電磁波吸収物質及び放熱物質を含んでなることを特徴とする請求項６に記載のデジタイザ用センサ部。
【請求項８】
前記電磁波遮蔽層は、接着剤により前記磁性層の他面に付着されることを特徴とする請求項６に記載のデジタイザ用センサ部。
【請求項９】
（ａ）ベースフィルムの一面に絶縁性を有する下部磁性層を形成する段階と、
（ｂ）前記下部磁性層の一面に第１コイルを形成する段階と、
（ｃ）前記第１コイルが埋め込まれるように、前記下部磁性層の一面に上部磁性層を形成する段階と、
（ｄ）前記上部磁性層の一面に第２コイルを形成する段階と、
（ｅ）前記第２コイルを覆うように、前記上部磁性層の一面に絶縁層を形成する段階と、を含むデジタイザ用センサ部の製造方法。
【請求項１０】
前記（ａ）ベースフィルムの一面に絶縁性を有する下部磁性層を形成する段階の後に、前記ベースフィルムを前記下部磁性層から剥離する段階をさらに含むことを特徴とする請求項９に記載のデジタイザ用センサ部の製造方法。
【請求項１１】
前記ベースフィルムを前記下部磁性層から剥離する段階の後に、前記下部磁性層の他面に電磁波遮蔽層を形成する段階をさらに含むことを特徴とする請求項１０に記載のデジタイザ用センサ部の製造方法。
【請求項１２】
前記電磁波遮蔽層は、電磁波吸収物質及び放熱物質を含んでなることを特徴とする請求項１１に記載のデジタイザ用センサ部の製造方法。
【請求項１３】
前記上部磁性層及び前記下部磁性層は、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｚｎ、Ｍｎ、Ｍｇ、Ｃｏ、Ｂａ及びＳｒからなる群から選択された二つ以上の元素を含む酸化物磁性材料からなることを特徴とする請求項９に記載のデジタイザ用センサ部の製造方法。
【請求項１４】
前記絶縁層は、絶縁性を有する磁性層であることを特徴とする請求項９に記載のデジタイザ用センサ部の製造方法。
【請求項１５】
前記絶縁層は、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｚｎ、Ｍｎ、Ｍｇ、Ｃｏ、Ｂａ及びＳｒからなる群から選択された二つ以上の元素を含む酸化物磁性材料からなることを特徴とする請求項１４に記載のデジタイザ用センサ部の製造方法。
【請求項１６】
前記（ｄ）段階は、前記上部磁性層の一面にパワーコイルを形成する段階を含んでなることを特徴とする請求項９に記載のデジタイザ用センサ部の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、デジタイザ用センサ部及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
デジタル技術を用いるコンピュータが発達するにつれて、コンピュータの補助装置もともに開発されており、パソコン、ポータブル伝送装置、その他の個人用の情報処理装置などは、キーボード、マウスなどの様々な入力装置（Ｉｎｐｕｔ  Ｄｅｖｉｃｅ）を利用してテキスト及びグラフィック処理を行う。
【０００３】
しかし、情報化社会の急速な進行により、コンピュータの用途が益々拡大する傾向にあるため、現在入力装置の役割を担当しているキーボード及びマウスだけでは、効率的な製品の駆動が困難であるという問題点がある。従って、簡単で誤操作が少なく、誰でも簡単に情報を入力することができる機器の必要性が高まっている。
【０００４】
また、入力装置に関する技術は、一般的な機能を満たす水準を越えて、高信頼性、耐久性、革新性、設計及び加工に関する技術などが注目されており、このような目的を達成するために、テキスト、グラフィックなどの情報入力が可能な入力装置として、電磁気誘導方式のデジタイザ（Ｄｉｇｉｔｉｚｅｒ）が開発された。
【０００５】
電磁気誘導方式のデジタイザに類する機能を有する入力装置として、静電容量方式のタッチスクリーンがあるが、静電容量方式のタッチスクリーンは、電磁気誘導方式のデジタイザに比べ正確な座標を検知することができず、筆圧も認識できない。従って、電磁気誘導方式のデジタイザが、精度や正確性の点で静電容量方式のタッチスクリーンより有利である。
【０００６】
従来技術によるデジタイザの一例として、韓国特許第１０-０５１０７２９号公報に開示されているデジタイザが挙げられる。
【０００７】
韓国特許第１０-０５１０７２９号公報に開示されているデジタイザは、液晶パネルの下側に配置され、電子ペンがタッチされる位置で共振される電磁波を送受信してタッチ位置を認識するセンサ部と、センサ部を制御する制御部と、を含んで構成される。
【０００８】
ここで、センサ部は、センサＰＣＢと、センサＰＣＢに形成される複数のＸ軸コイル及びＹ軸コイルで構成される。
【０００９】
また、制御部は、センサ部の下側に構成され、センサ部に信号を送信してさらに入力される信号を読み取って電子ペンの位置を検知する役割をするＣＰＵ（Ｃｏｎｔｒｏｌ  Ｐｒｏｃｅｓｓｏｒ  Ｕｎｉｔ）で構成される。
【００１０】
また、電子ペンの内部には、コイルとコンデンサからなる共振回路が内蔵される。
【００１１】
このような従来のデジタイザは、センサ部が制御部からの信号を受信して動作し、Ｘ軸及びＹ軸コイルを選択して電磁気を誘導しながら電磁波を発生させる。電子ペンは発生した電磁波によって共振され、共振周波数は一定時間ホールドされながらセンサ部によって受信される。制御部は、センサ部が受信した信号を読み取ってタッチ位置を検知する。
【００１２】
一方、デジタイザにおいて、コイルで送受信される信号が周辺機器の影響により減衰しないなど、信号の安定性をより向上させる必要がある。しかし、上記の従来のデジタイザはこのような要求に応じるための別の構成を含んでいないという問題がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１３】
【特許文献１】韓国特許第１０-０５１０７２９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１４】
本発明は、上述の従来技術の問題点を解決するためのものであり、本発明の一側面は、センサ部で送受信される信号の安定性が向上されたデジタイザ用センサ部及びその製造方法を提供することをその目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
本発明の実施例によるデジタイザ用センサ部は、絶縁性を有する磁性層と、前記磁性層に埋め込んで形成される第１コイルと、前記磁性層の一面に形成される第２コイルと、前記第２コイルを覆って前記磁性層の一面に形成される絶縁層と、を含む。
【００１６】
本発明の実施例によるデジタイザ用センサ部の前記磁性層は、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｚｎ、Ｍｎ、Ｍｇ、Ｃｏ、Ｂａ及びＳｒからなる群から選択された二つ以上の元素を含む酸化物磁性材料からなることができる。
【００１７】
本発明の実施例によるデジタイザ用センサ部の前記絶縁層は、絶縁性を有する磁性層であることができる。
【００１８】
本発明の実施例によるデジタイザ用センサ部の前記絶縁層は、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｚｎ、Ｍｎ、Ｍｇ、Ｃｏ、Ｂａ及びＳｒからなる群から選択された二つ以上の元素を含む酸化物磁性材料からなることができる。
【００１９】
本発明の実施例によるデジタイザ用センサ部は、前記磁性層の一面に形成されるパワーコイルをさらに含むことができる。
【００２０】
本発明の実施例によるデジタイザ用センサ部は、前記磁性層の他面に形成される電磁波遮蔽層をさらに含むことができる。
【００２１】
本発明の実施例によるデジタイザ用センサ部の前記電磁波遮蔽層は、電磁波吸収物質及び放熱物質を含んでなることができる。
【００２２】
本発明の実施例によるデジタイザ用センサ部の前記電磁波遮蔽層は、接着剤により前記磁性層の他面に付着されることができる。
【００２３】
本発明の実施例によるデジタイザ用センサ部の製造方法は、（ａ）ベースフィルムの一面に絶縁性を有する下部磁性層を形成する段階と、（ｂ）前記下部磁性層の一面に第１コイルを形成する段階と、（ｃ）前記第１コイルが埋め込まれるように、前記下部磁性層の一面に上部磁性層を形成する段階と、（ｄ）前記上部磁性層の一面に第２コイルを形成する段階と、（ｅ）前記第２コイルを覆うように、前記上部磁性層の一面に絶縁層を形成する段階と、を含む。
【００２４】
本発明の実施例によるデジタイザ用センサ部の製造方法は、前記（ａ）段階の後に、前記ベースフィルムを前記下部磁性層から剥離する段階をさらに含むことができる。
【００２５】
本発明の実施例によるデジタイザ用センサ部の製造方法は、前記ベースフィルムを前記下部磁性層から剥離する段階の後に、前記下部磁性層の他面に電磁波遮蔽層を形成する段階をさらに含むことができる。
【００２６】
本発明の実施例によるデジタイザ用センサ部の製造方法において、前記電磁波遮蔽層は、電磁波吸収物質及び放熱物質を含んでなることができる。
【００２７】
本発明の実施例によるデジタイザ用センサ部の製造方法において、前記上部磁性層及び前記下部磁性層は、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｚｎ、Ｍｎ、Ｍｇ、Ｃｏ、Ｂａ及びＳｒからなる群から選択された二つ以上の元素を含む酸化物磁性材料からなることができる。
【００２８】
本発明の実施例によるデジタイザ用センサ部の製造方法において、前記絶縁層は、絶縁性を有する磁性層であることができる。
【００２９】
本発明の実施例によるデジタイザ用センサ部の製造方法において、前記絶縁層は、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｚｎ、Ｍｎ、Ｍｇ、Ｃｏ、Ｂａ及びＳｒからなる群から選択された二つ以上の元素を含む酸化物磁性材料からなることができる。
【００３０】
本発明の実施例によるデジタイザ用センサ部の製造方法において、前記（ｄ）段階は、前記上部磁性層の一面にパワーコイルを形成する段階を含んでなることができる。
【発明の効果】
【００３１】
本発明によると、第１コイル及び第２コイルが磁性材料からなる磁性層に形成されることにより、第１コイルと第２コイルとの間の磁界形成や、コイルと入力装置との間に送受信される信号の安定性がより向上されることができる。
【図面の簡単な説明】
【００３２】
【図１】本発明の実施例によるデジタイザ用センサ部の断面図である。
【図２】図１に図示されたセンサ部の製造方法を説明するための断面図である。
【図３】図１に図示されたセンサ部の製造方法を説明するための断面図である。
【図４】図１に図示されたセンサ部の製造方法を説明するための断面図である。
【図５】図１に図示されたセンサ部の製造方法を説明するための断面図である。
【図６】図１に図示されたセンサ部の製造方法を説明するための断面図である。
【図７】図１に図示されたセンサ部に電磁波遮蔽層がさらに含まれたデジタイザ用センサ部を示した断面図である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３３】
本発明の目的、特定の長所及び新規の特徴は添付図面に係る以下の詳細な説明及び好ましい実施例によってさらに明らかになるであろう。本明細書において、各図面の構成要素に参照番号を付け加えるに際し、同一の構成要素に限っては、たとえ異なる図面に示されても、できるだけ同一の番号を付けるようにしていることに留意しなければならない。また、「一面」、「他面」、「第１」、「第２」などの用語は、一つの構成要素を他の構成要素から区別するために用いられるものであり、構成要素が前記用語によって限定されるものではない。以下、本発明を説明するにあたり、本発明の要旨を不明瞭にする可能性がある係る公知技術についての詳細な説明は省略する。
【００３４】
以下、添付図面を参照して本発明の一実施例によるデジタイザ用センサ部及びその製造方法について詳細に説明する。
【００３５】
図１は本発明の実施例によるデジタイザ用センサ部の断面図であり、図２から図６は図１に図示されたセンサ部の製造方法を説明するための断面図であり、図７は図１に図示されたセンサ部に電磁波遮蔽層がさらに含まれたデジタイザ用センサ部を示した断面図である。
【００３６】
図１に図示されたように、本実施例によるデジタイザ用センサ部１は、絶縁性を有する磁性層１００と、前記磁性層１００に埋め込んで形成される第１コイル２１０と、前記磁性層１００の一面に形成される第２コイル２２０と、前記第２コイル２２０を覆って前記磁性層１００の一面に形成される絶縁層３００と、を含む。
【００３７】
本実施例の後述する第１コイル２１０及び第２コイル２２０は、従来のデジタイザ用センサ部と異なって、磁性材料からなる磁性層１００に形成される。これは、電子ペンなどの入力装置（不図示）の共振回路とコイルの間に送受信される信号の安定性をより向上させるためである。
【００３８】
磁性層１００は、具体的な一例として、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｚｎ、Ｍｎ、Ｍｇ、Ｃｏ、Ｂａ及びＳｒからなる群から選択された二つ以上の元素を含む酸化物磁性材料からなることができる。
【００３９】
磁性層１００は、上記の材料からなることにより、比抵抗が高くて電気絶縁性を有するようになる。磁性層１００が電気絶縁性を有することは、磁性層１００に形成される後述の第１コイル２１０の隣接するラインの間で十分な電気絶縁性を有するようにするためである。
【００４０】
第１コイル２１０及び第２コイル２２０は、入力装置のタッチ位置を検知するための構成である。
【００４１】
まず、入力装置には、インダクタとキャパシタを含む共振回路が内蔵されることができる。前記入力装置の共振回路は、外部から入力される電磁気力によって共振される。共振回路が共振して誘導電流を生成し、生成された誘導電流によるエネルギーがキャパシタに貯蔵されることができる。
【００４２】
また、外部からの電磁気力の供給が中断されると、キャパシタに貯蔵されたエネルギーによって入力装置のキャパシタがインダクタとともに共振し、この過程で電磁気力が放出される。
【００４３】
第１コイル２１０は、磁性層１００に埋め込んで形成されることができる。この際、第１コイル２１０は、一方向に長手方向を有するループ（ｌｏｏｐ）状に形成されることができる。また、第１コイル２１０は、他方向に平行に配列され、並列に連結されるように多数形成されることができる。
【００４４】
第２コイル２２０は、磁性層１００の一面に形成されることができる。第２コイル２２０は第１コイル２１０と交差する方向に長手方向を有するループ状に形成されることができ、この際、垂直に交差することができる。また、第２コイル２２０は、一方向に平行に配列され、並列に連結されるように多数形成されることができる。
【００４５】
第１コイル２１０と第２コイル２２０の交差領域は、入力装置のタッチ位置を検出する検知領域であることができる。
【００４６】
第１コイル２１０と第２コイル２２０のうち何れか一つは、制御部から電流の供給を受ける駆動コイルとして用いられることができる。また、他の一つは、駆動コイルで誘導される磁力線によって電圧が発生する検知コイルであることができる。検知コイルで誘導される電圧（誘導起電力）は、駆動コイルで誘導された磁力線の時間に対する変化量に比例する。従って、検知コイルで電圧が誘導されるためには、駆動コイルで誘導される磁力線が周期的に変化しなければならない。結局、駆動コイルは、誘導される磁力線が周期的に変化するように、制御部から交流（Ａｌｔｅｒｎａｔｉｎｇ  Ｃｕｒｒｅｎｔ、ＡＣ）の供給を受ける。
【００４７】
第１コイル２１０及び第２コイル２２０は、上記のように制御部によって制御されて電圧を有するようになる。この際、入力装置が接近すると、入力装置から放出される電磁気力によって影響を受け、電圧差が発生する。制御部は、このような電圧差を認知して、入力装置のタッチ位置を確認する。
【００４８】
一方、第１コイル２１０は磁性層１００に埋め込んで形成される。ここで、磁性層１００は上述したように電気絶縁性を有するため、第１コイル２１０の隣接するコイルの間が絶縁されている。
【００４９】
第２コイル２２０は磁性層１００の一面に形成される。この際、第２コイル２２０のコイルの間も絶縁されるように、磁性層１００の一面に絶縁層３００が形成されることができる。
【００５０】
絶縁層３００は、絶縁性を有する様々な材料からなることができる。この際、前記磁性層１００と同一の材料からなることもできる。即ち、絶縁層３００は、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｚｎ、Ｍｎ、Ｍｇ、Ｃｏ、Ｂａ及びＳｒからなる群から選択された二つ以上の元素を含む酸化物磁性材料からなることができる。
【００５１】
本実施例によると、絶縁層３００が磁性層１００と同一の酸化物磁性材料からなることにより、第１コイル２１０及び第２コイル２２０の両方が磁性材料からなる磁性層１００内に埋め込んで形成される構造を有する。
【００５２】
一方、磁性層１００の一面には、パワーコイル２３０が形成されることもできる。
【００５３】
入力装置は、共振回路が外部から交流電源の供給を受けて共振する構造を有することもできるが、上述の入力装置のように、外部から電磁気力の入力を受けて共振する無電源入力装置で構成されることもできる。
【００５４】
このような無電源入力装置の共振回路に電磁気力を入力するために、本実施例では、磁性層１００の一面にパワーコイル２３０が形成されることができる。具体的には、パワーコイル２３０は、制御部により上述の第１コイル２１０及び第２コイル２２０とは別に制御されることができ、制御部は、入力装置に電源を供給する時間区間でパワーコイル２３０に駆動電源が印加されるように制御することができる。パワーコイル２３０が印加された電源によって電磁気力を放出すると、入力装置の共振回路は入力される電磁気力を貯蔵する。
【００５５】
また、制御部は、入力装置のタッチ位置を検出するための時間区間でパワーコイル２３０への電源供給を中断することができる。この場合、入力装置は貯蔵されたエネルギーによって電磁気力を放出し、放出された電磁気力は第１コイル２１０と第２コイル２２０の間に電圧差を発生させる。
【００５６】
本発明の一実施例によるデジタイザ用センサ部の製造方法を、図２から図６を参照して説明する。
【００５７】
デジタイザ用センサ部の製造方法は、（ａ）ベースフィルム１０の一面に絶縁性を有する下部磁性層１１０を形成する段階と、（ｂ）前記下部磁性層１１０の一面に第１コイル２１０を形成する段階と、（ｃ）前記第１コイル２１０が埋め込まれるように、前記下部磁性層１１０の一面に上部磁性層１２０を形成する段階と、（ｄ）前記上部磁性層１２０の一面に第２コイル２２０を形成する段階と、（ｅ）前記第２コイル２２０を覆うように、前記上部磁性層１２０の一面に絶縁層３００を形成する段階と、を含む。
【００５８】
前記（ａ）段階は、図２に図示されたように、ベースフィルム１０の一面に下部磁性層１１０を形成する段階である。ベースフィルム１０としては、例えばＰＥＴフィルムが用いられることができる。また、下部磁性層１１０は、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｚｎ、Ｍｎ、Ｍｇ、Ｃｏ、Ｂａ及びＳｒからなる群から選択された二つ以上の元素を含む酸化物磁性材料からなることができる。
【００５９】
下部磁性層１１０は、例えば、下部磁性層１１０の材料となる粉末とポリマーバインダーを混合してベースフィルム上に塗布し、これをローリング（ｒｏｌｌｉｎｇ）やキャスティング（ｃａｓｔｉｎｇ）などの方法で熱圧着することにより、ベースフィルム１０の一面に形成されることができる。但し、下部磁性層１１０をベースフィルム１０に形成する方法は、上記の方法に制限されない。下部磁性層１１０は、下部磁性層１１０の材料となる酸素溶液と金属元素を含む反応溶液を液滴状態にした後、これを噴霧する方法などで塗布することによりベースフィルム１０の一面に形成してもよく、その他の様々な方法でベースフィルム１０の一面に形成してもよい。
【００６０】
前記（ｂ）段階は、図３に図示されたように、下部磁性層１１０の一面に第１コイル２１０を形成する段階である。第１コイル２１０は、メッキや蒸着などの様々な方法によって下部磁性層１１０に形成されることができる。また、第１コイル２１０は、下部磁性層１１０上にループ状に形成されることができる。また、第１コイル２１０は、平行に配列され、並列に連結される構造を有するように多数形成されがこともできる。
【００６１】
前記（ｃ）段階は、図４に図示されたように、第１コイル２１０が埋め込まれるように、下部磁性層１１０の一面に上部磁性層１２０を形成する段階である。
【００６２】
上部磁性層１２０は、下部磁性層１１０と同様に、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｚｎ、Ｍｎ、Ｍｇ、Ｃｏ、Ｂａ及びＳｒからなる群から選択された二つ以上の元素を含む酸化物磁性材料からなることができる。また、下部磁性層１１０が形成される方法と同一の方法で下部磁性層１１０の一面に形成されることができる。
【００６３】
第１コイル２１０は、上部磁性層１２０が形成されることにより、上部磁性層１２０及び下部磁性層１１０の内部に完全に埋め込まれた状態になる。また、上部磁性層１２０及び下部磁性層１１０をなす上記の材料は、比抵抗が高くて電気絶縁性を有する。従って、上部磁性層１２０及び下部磁性層１１０の内部に埋め込まれている第１コイル２１０は、第１コイル２１０の隣接するラインの間が電気的に絶縁されることができる。
【００６４】
前記（ｄ）段階は、図５に図示されたように、上部磁性層１２０の一面に第２コイル２２０を形成する段階である。第２コイル２２０は、第１コイル２１０と同様に、メッキや蒸着などの様々な方法によって上部磁性層１２０に形成されることができる。第２コイル２２０は、第１コイル２１０と同様に、ループ状に形成されることができる。この際、第２コイル２２０は、第１コイル２１０と交差する方向に長手方向を有するように形成されることができる。また、第２コイル２２０は、平行に配列され、並列に連結される構造を有するように多数形成されることができる。
【００６５】
また、本段階は、第２コイル２２０とともに上部磁性層１２０の一面にパワーコイル２３０を形成する段階をさらに含んでなることができる。パワーコイル２３０もループ状に形成されることができる。また、検知領域を形成する第１コイル２１０と第２コイル２２０の交差領域に重ならないように、図５に図示されたように、上部磁性層１２０の外側領域に沿って形成されることができる。
【００６６】
前記（ｅ）段階は、図６に図示されたように、第２コイル２２０を覆うように、上部磁性層１２０の一面に絶縁層３００を形成する段階である。絶縁層３００は第２コイル２２０の隣接するラインの間が電気的に絶縁されるようにするために形成される。絶縁層３００は、電気絶縁性を有する様々な材料からなることができる。また、上部磁性層１２０及び下部磁性層１１０と同一の材料、即ち、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｚｎ、Ｍｎ、Ｍｇ、Ｃｏ、Ｂａ及びＳｒからなる群から選択された二つ以上の元素を含む酸化物磁性材料からなることもできる。上記の材料も比抵抗が高くて電気絶縁性を有するためである。
【００６７】
一方、前記（ａ）段階で準備されたベースフィルム１０は、（ａ）段階を経た後に剥離されて除去されることができる。図１はベースフィルム１０が除去された状態を示す。ベースフィルム１０は、（ａ）段階の直後に剥離されてもよく、または（ｂ）〜（ｅ）段階のうち何れかの段階の後に剥離されてもよい。
【００６８】
本実施例は、上記のベースフィルム１０を剥離する段階の後に、図７に図示されたように、電磁波遮蔽層４００を形成する段階をさらに含むことができる。
【００６９】
電磁波遮蔽層４００は、コイルと入力装置との間で発生する電磁波の外部への漏れを防止することにより、外部に配置される他の機器に電磁波による影響が与えないようにすることは勿論、外部から発生する電磁波がセンサ部１に影響を与えることを防止する機能をする。
【００７０】
電磁波遮蔽層４００は、具体的に、放熱物質及び電磁波吸収物質を含んでなることができる。放熱物質の一例としては、アルミナや窒化アルミニウムが挙げられる。また、電磁波吸収物質の一例としては、フェライト（ｆｅｒｒｉｔｅ）やセンダスト（Ｓｅｎｄｕｓｔ）などが挙げられる。
【００７１】
電磁波遮蔽層４００は、このような物質を含んでなることにより、内、外部への電磁波の流入及び漏れを効果的に遮断することができる。また、電磁波吸収過程で発生する熱に対しても効果的な放熱構造を有する。
【００７２】
電磁波遮蔽層４００は、上記の物質が混在する一つの層からなってもよく、図７に図示されたように、放熱物質からなる放熱層４１０と、電磁波吸収物質を含む電磁波吸収層４２０とに、層を別にする積層構造からなることもできる。
【００７３】
このような電磁波遮蔽層４００は、下部磁性層１１０の他面に接着剤４０１により付着されて形成されることができる。
【００７４】
一方、図１及び図７に図示された参照符号５０１は、ビアホール（ｖｉａ  ｈｏｌｌ）を示すものである。ビアホール５０１は、第１コイル２１０を外部で連結される軟性回路基板（不図示）と連結させるために形成されるものであり、ビアホール５０１は絶縁層３００を貫通して第１コイル２１０に連結されるように形成されることができる。
【００７５】
本発明は、上述したように、第１コイル２１０及び第２コイル２２０が磁性材料からなる磁性層１００に形成されることにより、コイル間の磁界形成や、コイルと入力装置との間に送受信される信号の安定性を向上させることができる利点を提供する。
【００７６】
以上、本発明を具体的な実施例に基づいて詳細に説明したが、これは本発明を具体的に説明するためのものであり、本発明はこれに限定されず、該当分野における通常の知識を有する者であれば、本発明の技術的思想内にての変形や改良が可能であることは明白であろう。
【００７７】
本発明の単純な変形乃至変更はいずれも本発明の領域に属するものであり、本発明の具体的な保護範囲は添付の特許請求の範囲により明確になるであろう。
【符号の説明】
【００７８】
１  センサ部
１０  ベースフィルム
１００  磁性層
１１０  下部磁性層
１２０  上部磁性層
２１０  第１コイル
２２０  第２コイル
２３０  パワーコイル
３００  絶縁層
４００  電磁波遮蔽層
４０１  接着剤
４１０  放熱層
４２０  電磁波吸収層
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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