(57)【要約】【課題】投影光学系を収容する収容部材に対する内外からの熱の影響を抑え、結像性能の安定化に有利な露光装置を提供する。【解決手段】露光装置１は、照明系２からの光を原版に形成されたパターンに照射し、投影光学系５を介してパターンの像を基板上に露光する。この露光装置１は、投影光学系５を内部に収容する収容部材１１と、空調のための気体を供給する気体供給部１６と、収容部材１１の内部である第１空間への気体の給気量と収容部材１１の外部である第２空間への気体の給気量との配分を変更する給気変更部２１とを備える。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
照明系からの光を原版に形成されたパターンに照射し、投影光学系を介して前記パターンの像を基板上に露光する露光装置であって、
前記投影光学系を内部に収容する収容部材と、
空調のための気体を供給する気体供給部と、
前記収容部材の内部である第１空間への前記気体の給気量と前記収容部材の外部である第２空間への前記気体の給気量との配分を変更する給気変更部と、
を備えることを特徴とする露光装置。
【請求項２】
前記給気変更部は、前記気体の給気先を、前記第１空間または前記第２空間とするように切り替えることを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項３】
前記原版を保持する原版ステージと、
前記基板を保持する基板ステージと、を備え、
前記第２空間は、前記収容部材の周囲であって前記原版ステージまたは前記基板ステージに対向する前記収容部材の側面に接する空間であることを特徴とする請求項１または２に記載の露光装置。
【請求項４】
前記給気変更部から前記第２空間に前記気体を導くように、前記収容部材の側面に沿って配置される整流部を備えることを特徴とする請求項１ないし３のいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項５】
前記給気変更部に対して前記気体の給気量の配分の変更を指示する制御部を備え、
前記制御部は、前記露光に関するシーケンスに合わせて、前記気体の給気量の配分の変更のタイミングを制御する、
ことを特徴とする請求項１ないし４のいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項６】
前記制御部は、前記基板への露光処理時には、前記気体の給気先を前記第２空間とするように前記給気変更部へ指示することを特徴とする請求項５に記載の露光装置。
【請求項７】
前記収容部材は、前記気体が内部に給気される給気口に対向する側の壁部に、前記気体の給気に合わせて前記気体を排気する排気口を有することを特徴とする請求項１ないし６のいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項８】
前記気体供給部は、前記気体の温度または供給量を調整可能であることを特徴とする請求項１ないし７のいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項９】
前記気体は、不活性ガス、または、フィルターにより濾過された空気であることを特徴とする請求項１ないし８のいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項１０】
前記気体が前記第１空間に向かう供給経路にて、前記給気変更部の下流側に、前記気体を濾過するケミカルフィルターを備えることを特徴とする請求項１ないし９のいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項１１】
少なくとも、前記原版を保持する原版ステージ、前記基板を保持する基板ステージ、および前記収容部材を一体的に囲むチャンバーと、
前記チャンバーの内部に前記気体を供給する第１供給経路と、
前記給気変更部に向けて前記気体を供給する第２供給経路と、を備え、
前記気体供給部は、前記第１供給経路および前記第２供給経路に前記気体を供給する、
ことを特徴とする請求項１ないし１０のいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項１２】
請求項１ないし１１のいずれか１項に記載の露光装置を用いて基板を露光する工程と、
その露光した基板を現像する工程と、
を含むことを特徴とするデバイス製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、露光装置、それを用いたデバイスの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
露光装置は、半導体デバイスや液晶表示装置などの製造工程に含まれるリソグラフィー工程において、原版（マスクなど）のパターンを、投影光学系を介して感光性の基板（表面にレジスト層が形成されたウエハやガラスプレートなど）に転写する装置である。例えば液晶表示装置製造用の露光装置では、高出力ランプを採用する光源、この光源から照射された光を露光に適した光に整える照明系、およびレンズやミラーなどの光学部材からなる投影光学系を収容する収容部材などを含む。したがって、露光装置を長時間稼働させると、光学部材の露光熱の吸収量が増加し、これに比例して光学部材から収容部材の内部空間への放熱が増えるため、この内部空間の温度が上昇する。さらに、原版や基板、またはそれを保持する各ステージも、露光熱によりまたはステージ自身の駆動により発熱するため、収容部材に対する外部からの入熱となり、収容部材の物体温度が上昇する。このような収容部材に対する内部および外部からの入熱は、収容部材の熱変形を引き起こし、収容部材が収容する光学部材の保持状態を変化させる可能性があり、結像性能への影響が懸念される。そこで、特許文献１は、チャンバー（収容部材を示す）への入熱に対して、非露光時にのみチャンバー内へガスの供給および排出を行い、チャンバーを冷却する露光装置を開示している。さらに、特許文献２は、チャンバー内の投影光学系の周囲に温調カバーを設置し、温調カバー内は、チャンバーの温調を停止したときでも常に温調し続けることで投影光学系の状態を維持する露光装置を開示している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００８−２９２７６１号公報
【特許文献２】特開２００３−７５８６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ここで、特許文献１に示す露光装置にて、露光処理時または非露光処理時にて気体の流量を変化させると想定する。この場合、非露光処理時のみ、または非露光処理時と露光処理時とで、投影光学系の周囲の空間状態をかき乱さない程度の気体の流量でチャンバーへの入熱を取り除くことになる。しかしながら、露光装置の温調設備の容量は、非露光処理時の必要容量を基準として設定されている。したがって、温調設備は、気体の流れを止めている、または気体の流量を絞っている露光処理時でも、安定した気体温度を維持するため、常時一定出力にて稼働していなければならない。すなわち、このような方法では、温調設備の用力に無駄が生じる可能性がある。さらには、特許文献１に示す露光装置での温調設備は、チャンバー内だけの温調を実施するものであるため、チャンバーの外部からの入熱を抑えることができない。さらに、特許文献２に示す露光装置では、温調カバーを用いた温調設備は、露光装置自体（全体）を空調するものとは別に投影光学系を温調する独立した設備となるため、コストおよび設備容量が増大する。
【０００５】
本発明は、このような状況を鑑みてなされたものであり、例えば、投影光学系を収容する収容部材に対する内外からの熱の影響を抑え、結像性能の安定化に有利な露光装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記課題を解決するために、本発明は、照明系からの光を原版に形成されたパターンに照射し、投影光学系を介してパターンの像を基板上に露光する露光装置であって、投影光学系を内部に収容する収容部材と、空調のための気体を供給する気体供給部と、収容部材の内部である第１空間への気体の給気量と収容部材の外部である第２空間への気体の給気量との配分を変更する給気変更部と、を備えることを特徴とする。
【発明の効果】
【０００７】
本発明によれば、例えば、投影光学系を収容する収容部材に対する内外からの熱の影響を抑え、結像性能の安定化に有利な露光装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
【図１】本発明の第１実施形態に係る露光装置の構成を示す図である。
【図２】第１実施形態の給気切替部の構成と給気先の切り替え動作と示す図である。
【図３】収容部材への入熱量を例示するグラフである。
【図４】給気切替部による給気の切り替えタイミングを示すフローチャートである。
【図５】本発明の第２実施形態に係る露光装置の構成を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
以下、本発明を実施するための形態について図面などを参照して説明する。
【００１０】
（第１実施形態）
まず、本発明の第１実施形態に係る露光装置について説明する。図１は、本実施形態に係る露光装置１の構成を示す概略図である。この露光装置１は、一例として液晶表示装置の製造に用いられ、ステップ・アンド・スキャン方式にてマスク（原版）に形成されているパターンをガラスプレート（基板）に転写露光する走査型投影露光装置とする。なお、図１では、投影光学系５の光軸に平行にＺ軸を取り、該Ｚ軸に垂直な平面内で露光時のマスクおよびガラスプレートの走査方向にＸ軸を取り、該Ｘ軸に直交する非走査方向にＹ軸を取っている。露光装置１は、照明系２と、アライメント計測系３と、マスクステージ４と、投影光学系５と、基板ステージ６と、給気機構７と、制御部８とを備える。
【００１１】
照明系２は、例えば超高圧ＵＶランプなどの光源９と、光源９から発光された光を露光に適した光に整える光学系１０とを含み、マスクステージ４に保持されているマスク（不図示）に対してスリット状に成形された照明光を照射する。アライメント計測系３は、マスクステージ４の上面側（光入射側）に配置され、ＴＴＭ（Ｔｈｒｏｕｇｈ  ｔｈｅ  Ｍｉｒｒｏｒ）方式にて、マスクとガラスプレート（不図示）とのそれぞれに形成されているアライメントマークを検出する。制御部８は、アライメント計測系３の検出結果に基づいてマスクおよびガラスプレートの位置を計測する。マスクステージ（原版ステージ）４は、マスクを保持しつつ可動であり、走査露光時には基板ステージ６の移動と同期し相対的に移動する。投影光学系５は、収容部材（鏡筒）１１の内部に設置され、基板ステージ６に保持されたガラスプレートにパターン像を投影する。この投影光学系５は、例えば、反射鏡１２と、凹面鏡１３と、凸面鏡１４との各光学素子で構成されるオフナー光学系である。照明系２から照射された照明光（回折光）は、投影光学系５内にて、反射鏡１２、凹面鏡１３、凸面鏡１４、再び凹面鏡１３、そして反射鏡１２の順に通過し、基板ステージ６上に保持されたガラスプレートの表面上に結像する。なお、図１において、点線で示す光線は、回折光のうちの０次光を表している。基板ステージ６は、感光剤が塗布されたガラスプレートを保持しつつ可動である。
【００１２】
給気機構７は、マスクステージ４、投影光学系５を含む収容部材１１、および基板ステージ６などの露光装置１の本体部分を一体的に囲む略気密構造のチャンバー１５の内部全体に給気し空調する。さらに、給気機構７は、収容部材１１の内部と、チャンバー１５の内部でも特にマスクステージ４および基板ステージ６に面する収容部材１１の側面近傍とに対して、適宜切り替えつつ給気する。この給気機構７は、まず、気体供給部１６と、この気体供給部１６を設置する供給室１７と、この供給室１７に連通し、気体供給部１６から供給される気体１８をチャンバー１５の内壁に沿ってチャンバー１５内の本体部分に導く第１供給経路１９とを備える。気体供給部１６は、気体１８の温度と供給量（風量）とを調整可能とする。なお、気体１８は、不活性ガスか、または、フィルターにより濾過された空気のいずれかであることが望ましい。供給室１７は、気体供給部１６に加えて、気体供給部１６の動作に関わる各種構成要素を含む機械室である。また、給気機構７は、第１供給経路１９とは別に、供給室１７に連通し、気体１８を収容部材１１の内部（第１空間）に導く第２供給経路２０と、この第２供給経路２０の間に設置される給気切替部（給気変更部）２１とを備える。給気切替部２１は、収容部材１１の内部である第１空間への気体の給気量と、収容部材１１の外部である第２空間への気体の給気量との配分を変更する。また、気体１８の給気先を、収容部材１１の内部（第１空間）、または、収容部材１１の外部（第２空間）となるように切り替えることもできる。第２空間は、特に、収容部材１１の周囲であって、マスクステージ４または基板ステージ６に対向する収容部材１１の側面に接する空間（側面近傍の空間）を含む。さらに、給気機構７は、気体１８を効率良く収容部材１１の側面近傍に導くために、各ステージ４、６と収容部材１１との間の領域にて、給気切替部２１から収容部材１１の外壁（側面）に沿うように設置される整流板（整流部）２２を備える。なお、このような給気機構７を設置する観点から、収容部材１１は、例えば、第２供給経路２０に接続された給気口に対向する側の壁部に、内部の気体を外部に排気するための排気口２３を有することが望ましい。
【００１３】
図２は、給気切替部２１の構成と、この給気切替部２１による給気先（空調先）の切り替え動作と示す概略図である。給気切替部２１は、例えば、気体１８の給気先を切り替える機構として、２つの回転扉２４ａ、２４ｂと、これらの回転扉２４ａ、２４ｂを回転させて位置決めする不図示の回転駆動部とを備える。図２（ａ）は、給気先を収容部材１１とする場合の回転扉２４ａ、２４ｂの位置を示す図である。一方、図２（ｂ）は、給気先を整流板２２を介したマスクステージ４または基板ステージ６と面する収容部材１１の側面近傍とする場合の回転扉２４ａ、２４ｂの位置を示す図である。特に、上記側面近傍に対する給気の際は、気体１８は、整流板２２により収容部材１１の外壁に沿って流れるように偏向される。整流板２２は、このように気体１８の流れを収容部材１１の外壁に沿うように偏向することで、収容部材１１への外側からの入熱を抑えるとともに、収容部材１１に対する熱外乱を遮蔽する。これにより、気体１８の有効利用率が向上し、より少ない空調用力で収容部材１１への熱外乱を抑制できる。そして、制御部８は、露光処理工程やその他の工程により、気体１８の望ましい給気先を判別し、回転扉２４ａ、２４ｂの位置を変化させることで、給気先を切り替えさせる（気体１８を相互に吹き分けさせる）。さらに、露光装置１は、給気切替部２１が給気先を収容部材１１の内部とする場合に、気体１８に含まれ得るケミカル物質による投影光学系５を構成する各光学素子への影響を低減させるためのケミカルフィルター２５を、回転扉２４ａ、２４ｂの下流側に備える。ケミカルフィルター２５の実装位置をこの位置にすることで、収容部材１１の内部に給気される気体１８のみがケミカルフィルター２５を通過することになるため、ケミカルフィルター２５の交換頻度を低減させることができる。
【００１４】
制御部８は、露光装置１の各構成要素の動作および調整などを制御し得る。この制御部８は、例えばコンピューターなどで構成され、露光装置１の各構成要素に回線を介して接続され、プログラムなどにしたがって各構成要素の制御を実行し得る。本実施形態の制御部８は、少なくとも、気体供給部１６の動作制御および給気切替部２１の切り替えの指示などを実行する。なお、制御部８は、露光装置１の他の部分と一体で（共通の筐体内に）構成してもよいし、露光装置１の他の部分とは別体で（別の筐体内に）構成してもよい。
【００１５】
このような構成のもと、露光装置１は、投影光学系５の投影倍率を等倍とすると、マスクとガラスプレートとを同期させて走査露光を行うことで、マスクからのパターンの像をガラスプレート上（基板上）に転写させることができる。ここで、投影光学系５を構成する各光学素子は、熱膨張係数の小さい高安定性ガラスを採用している。しかしながら、光源９に採用するランプの出力が大きいこともあり、露光処理時には各光学素子が吸収するエネルギーが大きくなり、各光学素子から放熱される熱量も比例的に増加する。したがって、各光学素子からの放熱により収容部材１１の内部に滞留している気体が温められ、この温度上昇した気体の屈折率が変化することで結像性能が低下する可能性がある。また、露光処理時には、露光光が透過するマスクステージ４上のマスク、および露光光を受ける基板ステージ６上のガラスプレートも露光熱により温められる。さらに、マスクステージ４と基板ステージ６とは、露光処理時には高速で同期しながら走査駆動するので、走査駆動する際に駆動熱を発生させる。したがって、収容部材１１は、この駆動熱により露光光の入射側および出射側の側面の双方から温められることで熱膨張し、収容部材１１が保持する各光学素子の保持状態が変化して、結果的に結像性能が低下する可能性がある。そこで、本実施形態では、露光装置１の本体部分への空調に加えて、給気切替部２１により給気先を適宜切り替えつつ収容部材１１に対して気体１８を給気（空調）することで熱対策を実施する。
【００１６】
次に、露光装置１による一連の工程に関連付けた給気動作（空調動作）について説明する。まず、個別の工程での給気動作に関連し、一連の工程にて収容部材１１がどの程度の熱を受けるかについて説明する。図３は、収容部材１１への入熱量を例示するグラフである。この図３では、上段に露光装置１による一連と工程の流れを時系列で示し、この工程の流れに合わせて、下段にそのときの入熱量を示している。なお、特に下段の入熱量のグラフでは、仮に収容部材１１が熱を受けて変形したとしても、熱変形が許容される範囲となる熱量と許容されない範囲となる熱量とを示す線を付している。まず、参考として、収容部材１１の内部および上記側面近傍に対する切り替え給気（以下「相互給気」という）を実施しない場合には、特に露光工程時において入熱量が上昇し、この露光工程の回数が増えるにつれて入熱量がさらに上昇していく。図３の例で言えば、露光工程を２回実施した時点で、入熱量が許容範囲を超えることがわかる。これに対して、本実施形態のような相互給気を実施すると、露光熱や駆動熱を露光工程後にその都度回収することができるので、収容部材１１の熱変形を許容範囲内に抑え、結像性能を安定化させることができる。
【００１７】
図４は、上記のような相互給気の利点を踏まえ、露光装置１による一連の工程（駆動シーケンス）に合わせた給気切替部２１による給気の切り替えタイミングを示すフローチャートである。なお、気体供給部１６は、露光装置１の稼働後、常時運転すると想定している。まず、制御部８は、露光装置１の稼働を開始すると、ステップＳ１００のアイドル状態では、給気切替部２１により、収容部材１１の内部と、上記側面近傍（以下、単に「外部」という）とへ気体１８を振り分けて相互給気を実施させる。このとき、給気の振り分け比率（配分）は、露光装置１がアイドル状態に入る直前の工程や、ユーザーの設定などにより、適宜変更可能である。例えば、アイドル状態に入る直前の工程が露光量を多く必要とする場合には、収容部材１１に保持されている投影光学系５の各光学素子は、熱を多く吸収するため各光学素子からの放熱も比例して多くなる。そこで、この場合、制御部８は、各光学素子からの放熱が十分少なくなるまで、収容部材１１の内部への給気量が多くなるように、給気切替部２１に対して給気量の配分の変更を指示する。他方、アイドル状態に入る直前の工程が、露光量が少なく、各ステージ４、６の駆動速度が速い場合には、各ステージ４、６からの収容部材１１への入熱を抑える必要がある。そのため、制御部８は、各ステージ４、６からの放熱が十分少なくなるまで、収容部材１１の外部への給気量が多くなるように給気切替部２１に対して給気量の配分の変更を指示する。次に、制御部８は、ステップＳ１０１の基板搬入工程から、ステップＳ１０２のアライメント計測系３を用いた基板計測工程では、収容部材１１の内部へ気体１８が給気されるように、給気切替部２１に対して切り替えさせる。次に、制御部８は、ステップＳ１０３の露光処理工程では、露光処理中のマスクステージ４および基板ステージ６からの入熱を抑えるために、収容部材１１の外部へ気体１８が給気されるように、給気切替部２１に対して切り替えさせる。次に、ステップＳ１０４の基板搬出工程から再度ステップＳ１０１に戻り、ステップＳ１０２の基板計測工程までの間では、ステップＳ１０３での露光処理工程中に、収容部材１１に保持されている各光学素子が吸収した熱を取り除くことが望ましい。そこで、制御部８は、収容部材１１の内部へ気体１８が給気されるように、給気切替部２１に対して切り替えさせる。そして、制御部８は、処理すべきすべてのガラスプレートに対する処理が完了するまで一連の工程を繰り返し、それに合わせて相互給気を実施させる。
【００１８】
露光装置１は、上記のように、露光光を使用しない工程では、収容部材１１の内部に存在していた気体を温調された気体１８でパージして置き換えることで、内部に存在していた気体を介して収容部材１１へ露光熱が入熱することを抑える。ここで、制御部８は、収容部材１１の内部の気体を置き換えた後も、さらに適時までパージを継続させて、投影光学系５の各光学素子が露光処理時に吸収した熱をパージする気体１８中に放出させることが望ましい。露光装置１は、このように各光学素子が吸収した露光熱を露光処理工程後にその都度取り除くことで、収容部材１１への内側に存在する気体からの入熱量を低減させることができる。結果的に、露光装置１は、露光処理時と非露光処理時とで常時一定量の気体を供給する従来の露光装置とは異なり、投影光学系５の周囲近傍の空間状態をかき乱さない程度の流量を考慮する必要がない。すなわち、露光装置１は、投影光学系５での露光熱の吸収および発熱からの影響を取り除くために必要な流量のみを考慮すればよい。一方、露光装置１は、露光光を使用する工程では、温調された気体１８の給気先を収容部材１１の外部とすることで、マスクおよびガラスプレートが吸収した露光熱、および各ステージ４、６の駆動熱などの熱外乱を、気体１８を用いて低減させることができる。また、露光装置１は、収容部材１１の内外への気体１８の給気を１つの系統で実施するので、露光装置１の用力、フットプリント、またはコストの増大を抑えることができる。また、露光装置１は、露光処理工程では収容部材１１の内部に気体１８を給気しないため、投影光学系５の周囲近傍の状態が安定し、結像性能も安定する。さらに、露光装置１は、従来の露光装置に存在する温調設備を気体供給部１６として採用することも考えられる。これによれば、温調設備で作られた温調気体を無駄なく利用することもできる。
【００１９】
このように、露光装置１は、投影光学系５を保持する収容部材１１の内外を、一連の工程に関連付けて適宜相互に給気し空調することで、収容部材１１に対する入熱を一定量以下に抑えることができる。これにより、収容部材１１の熱変形を低減させることができるため、投影光学系５を構成する各光学素子の保持状態を安定させ、結果的に結像性能を安定させることができる。
【００２０】
以上のように、本実施形態によれば、投影光学系を収容する収容部材に対する内外からの熱の影響を抑え、結像性能の安定化に有利な露光装置を提供することができる。また、本実施形態によれば、投影光学系の光学素子（ミラーなど）を直接温調するので、温調応答性の低下を抑えることができる。特許文献２に記載の温調設備は、光学部材を保持する部位の外側だけに対する温調を実施するので、露光光が投影光学系を透過する際の光学部材自身の露光熱の吸収および放熱に対しては、間接的な温調となり、温調応答性の低下を招く可能性がある。
【００２１】
（第２実施形態）
次に、本発明の第２実施形態に係る露光装置について説明する。本実施形態の露光装置の特徴は、第１実施形態での給気切替部２１の構成を変更し、給気先を収容部材１１の外部とした場合に、この外部だけでなく、再度第１供給経路１９に戻る第３供給経路にも気体１８が分岐し、給気される点にある。図５は、本実施形態に係る露光装置３０の構成を示す概略図である。なお、図５において、図１に示す第１実施形態に係る露光装置１と同一構成のものには同一の符号を付し、説明を省略する。また、この露光装置３０は、基本構成は、露光装置１と同様であるが、特に露光負荷量が高負荷となる高負荷露光処理を要する装置、例えば、液晶表示装置の一部として採用され、高照度が要求されるカラーフィルターを製造対象とする露光装置を想定する。このような露光装置３０では、特に高負荷露光処理時に、収容部材１１に保持される投影光学系５の各光学素子が吸収する露光熱が飛躍的に増加する。したがって、露光処理時に各光学素子が吸収した熱量を、非露光処理時にパージする気体１８へその都度放出させるためには、収容部材１１の内部へ気体１８を供給する必要がある。このとき、気体１８の必要量が多くなるが、この収容部材１１の内部向けの気体１８をそれ以外の露光装置の本体部分向けの気体に単純に加えた気体供給機構（温調設備）の用力を考えると、露光装置の用力、フットプリント、またはコストが増大する可能性がある。そこで、本実施形態では、露光装置３０は、第１実施形態の給気切替部２１と同等の給気切替部３１を備える。これに加えて、露光装置３０は、給気切替部３１にて給気先を収容部材１１の外部とした際に、気体１８を第１供給経路１９に連通する第３供給経路３２を備える。そして、気体供給部１６から供給される気体１８が、予め給気切替部３１へ向かう第２供給経路２０に多く供給されるように設定しておく。さらに、この場合には、露光装置３０は、第１実施形態でいうケミカルフィルター２５を設置しなくともよい。これにより、露光装置３０の用力を増加させなくとも、収容部材１１の内部には大量の気体１８が給気されるとともに、収容部材１１の内部に気体１８を給気しない場合には、第１実施形態の露光装置１の場合と同等の気体１８が第１供給経路１９側に供給される。したがって、露光装置３０が高負荷露光処理を要する装置であっても、第１実施形態と同様に、結像性能を安定させることができる。
【００２２】
（デバイスの製造方法）
次に、本発明の一実施形態のデバイス（半導体デバイス、液晶表示デバイス等）の製造方法について説明する。半導体デバイスは、ウエハに集積回路を作る前工程と、前工程で作られたウエハ上の集積回路チップを製品として完成させる後工程を経ることにより製造される。前工程は、前述の露光装置を使用して感光剤が塗布されたウエハを露光する工程と、ウエハを現像する工程を含む。後工程は、アッセンブリ工程（ダイシング、ボンディング）と、パッケージング工程（封入）を含む。液晶表示デバイスは、透明電極を形成する工程を経ることにより製造される。透明電極を形成する工程は、透明導電膜が蒸着されたガラス基板に感光剤を塗布する工程と、前述の露光装置を使用して感光剤が塗布されたガラス基板を露光する工程と、ガラス基板を現像する工程を含む。本実施形態のデバイス製造方法によれば、従来よりも高品位のデバイスを製造することができる。
【００２３】
以上、本発明の好ましい実施形態について説明したが、本発明は、これらの実施形態に限定されず、その要旨の範囲内で種々の変形および変更が可能である。
【符号の説明】
【００２４】
１    露光装置
２    照明系
５    投影光学系
１１  収容部材
１６  気体供給部
２１  給気切替部
【図１】
2014007268.tif 000003
【図２】
2014007268.tif 000004
【図３】
2014007268.tif 000005
【図４】
2014007268.tif 000006
【図５】
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