(57)【要約】【課題】光学シート及び光学シートを具備する有機発光表示装置の製造方法を提供する。【解決手段】少なくとも１つの第１光遮蔽層と少なくとも１つのカラーフィルタ層を交互に繰り返し積層して第１積層構造物を形成する段階と、第１積層構造物を切断して第１切断面を形成する段階と、第１積層構造物を切断して第１切断面に対して平行な第２切断面を形成して、第１光遮蔽層とカラーフィルタ層が積層する方向に対して直交する方向に延伸する複数の光遮蔽層パターンと複数のカラーフィルタ層パターンを含む光学フィルムを形成する段階と、少なくとも１つの第２光遮蔽層と少なくとも１つの光学フィルムを交互に繰り返し積層して第２積層構造物を形成する段階と、第２積層構造物を切断して第３切断面を形成する段階と、第２積層構造物を切断して第３切断面に対して平行な第４切断面を形成する段階と、を含む光学シートの製造方法等が提供される。【選択図】図１０
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも１つの第１光遮蔽層と少なくとも１つのカラーフィルタ層を交互に繰り返し積層して第１積層構造物を形成する段階と、
前記第１積層構造物を切断して第１切断面を形成する段階と、
前記第１積層構造物を切断して前記第１切断面に対して平行な第２切断面を形成して、前記第１光遮蔽層と前記カラーフィルタ層が積層する方向に対して直交する方向に延伸する複数の光遮蔽層パターンと複数のカラーフィルタ層パターンを含む光学フィルムを形成する段階と、
少なくとも１つの第２光遮蔽層と少なくとも１つの前記光学フィルムを交互に繰り返し積層して第２積層構造物を形成する段階と、
前記第２積層構造物を切断して第３切断面を形成する段階と、
前記第２積層構造物を切断して前記第３切断面に対して平行な第４切断面を形成する段階と、を含むことを特徴とする光学シートの製造方法。
【請求項２】
前記第１切断面と前記第２切断面との間の間隔が前記光学フィルムの厚さと同一であり、前記第３切断面と前記第４切断面との間の間隔が前記光学シートの厚さと同一であることを特徴とする請求項１に記載の光学シートの製造方法。
【請求項３】
前記第１切断面及び前記第２切断面は前記第１光遮蔽層と前記カラーフィルタ層が積層する方向に対して直交する方向と平行であり、前記第３切断面及び前記第４切断面は前記第１切断面及び前記第２切断面に対して直交することを特徴とする請求項１又は２に記載の光学シートの製造方法。
【請求項４】
前記第１積層構造物を形成する段階は、１つの第１光遮蔽層上に１つのカラーフィルタ層をコーティングする工程、及び、前記１つのカラーフィルタ層上に他の１つの第１光遮蔽層をコーティングする工程を含むサイクルを繰り返して遂行する段階を含むことを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の光学シートの製造方法。
【請求項５】
前記第１積層構造物を形成する段階は、
複数の第１光遮蔽層を準備する段階と、
複数のカラーフィルタ層を準備する段階と、
前記第１光遮蔽層と前記カラーフィルタ層を交互に繰り返して積層する段階と、を含むことを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の光学シートの製造方法。
【請求項６】
前記第２積層構造物を形成する段階は、
１つの第２光遮蔽層上に１つの光学フィルムを形成する工程、及び、前記１つの光学フィルム上に他の１つの第２光遮蔽層をコーティングする工程を含むサイクルを繰り返して遂行する段階を含むことを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載の光学シートの製造方法。
【請求項７】
前記第２積層構造物を形成する段階は、
複数の第２光遮蔽層を準備する段階と、
複数の光学フィルムを準備する段階と、
前記第２光遮蔽層と前記光学フィルムを交互に繰り返して積層する段階と、を含むことを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載の光学シートの製造方法。
【請求項８】
前記第１光遮蔽層は互いに同じ厚さを有し、前記カラーフィルタ層も互いに同じ厚さを有し、前記第２光遮蔽層は互いに同じ厚さを有し、前記光学フィルムも互いに同じ厚さを有することを特徴とする請求項１〜７のいずれか１項に記載の光学シートの製造方法。
【請求項９】
前記第１光遮蔽層は互いに同じ厚さを有し、前記カラーフィルタ層は互いに違う厚さを有し、前記第２光遮蔽層は互いに同じ厚さを有し、前記光学フィルムは互いに違う厚さを有することを特徴とする請求項１〜７のいずれか１項に記載の光学シートの製造方法。
【請求項１０】
前記カラーフィルタ層は、赤色光に対応する第１カラーフィルタ層、緑色光に対応する第２カラーフィルタ層、及び青色光に対応する第３カラーフィルタ層を含むことを特徴とする請求項１〜９のいずれか１項に記載の光学シートの製造方法。
【請求項１１】
前記光学シートは、赤色光に対応する第１カラーフィルタ層パターン、緑色光に対応する第２カラーフィルタ層パターン、及び青色光に対応する第３カラーフィルタ層パターンを含むことを特徴とする請求項１０に記載の光学シートの製造方法。
【請求項１２】
スイッチング素子、第１電極、有機発光構造物、及び第２電極を含み、前記スイッチング素子、前記第１電極、前記有機発光構造物、前記第２電極が積層する方向に対して直交する第１方向と前記第１方向に直交し、かつ、前記スイッチング素子、前記第１電極、前記有機発光構造物、前記第２電極が積層する方向に対して直交する第２方向に沿って配列される複数の画素領域と、前記画素領域を囲む周辺領域を含む有機発光表示パネルを形成する段階と、
前記表示パネル上に光学シートを形成する段階を含み、
前記光学シートを形成する段階は、
少なくとも１つの第１光遮蔽層と少なくとも１つのカラーフィルタ層を交互に繰り返し積層して第１積層構造物を形成する段階と、
前記第１積層構造物を切断して第１切断面を形成する段階と、
前記第１積層構造物を切断して前記第１切断面に対して平行な第２切断面を形成して、前記第１方向に延伸する複数の光遮蔽層パターンと複数のカラーフィルタ層パターンを含む光学フィルムを形成する段階と、
少なくとも１つの第２光遮蔽層と少なくとも１つの前記光学フィルムを交互に繰り返し積層して第２積層構造物を形成する段階と、
前記第２積層構造物を切断して第３切断面を形成する段階と、
前記第２積層構造物を切断して前記第３切断面に対して平行な第４切断面を形成する段階と、を含むことを特徴とする有機発光表示装置の製造方法。
【請求項１３】
前記第１切断面と前記第２切断面との間の間隔が前記光学フィルムの厚さと同一であり、前記第３切断面と前記第４切断面との間の間隔が前記光学シートの厚さと同一であることを特徴とする請求項１２に記載の有機発光表示装置の製造方法。
【請求項１４】
前記第１切断面及び前記第２切断面は、前記第１方向と平行であり、前記第３切断面及び前記第４切断面は前記第１方向に対して直交することを特徴とする請求項１２又は１３に記載の有機発光表示装置の製造方法。
【請求項１５】
前記第１光遮蔽層は互いに同じ厚さを有し、前記カラーフィルタ層も互いに同じ厚さを有し、前記第２光遮蔽層は互いに同じ厚さを有し、前記光学フィルムも互いに同じ厚さを有することを特徴とする請求項１２〜１４のいずれか１項に記載の有機発光表示装置の製造方法。
【請求項１６】
前記カラーフィルタ層の厚さは、前記画素領域の幅または／及び高さのうち、いずれか一つに対応することを特徴とする請求項１５に記載の有機発光表示装置の製造方法。
【請求項１７】
前記光学フィルムの厚さは、前記画素領域の幅または／及び高さのうち、いずれか一つに対応することを特徴とする請求項１５又は１６に記載の有機発光表示装置の製造方法。
【請求項１８】
前記画素領域は、第１画素領域、第２画素領域、及び第３画素領域を含み、前記光学シートは前記第１画素領域に対応する第１カラーフィルタ層パターン、前記第２画素領域に対応する第２カラーフィルタ層パターン、前記第３画素領域に対応する第３カラーフィルタ層パターンを含むことを特徴とする請求項１２〜１７のいずれか１項に記載の有機発光表示装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学シートの製造方法及び光学シートを具備する有機発光表示装置の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
有機発光表示（ｏｒｇａｎｉｃ  ｌｉｇｈｔ  ｅｍｉｔｔｉｎｇ  ｄｉｓｐｌａｙ：ＯＬＥＤ）装置は、陽極（ａｎｏｄｅ）と陰極（ｃａｔｈｏｄｅ）からそれぞれ提供される正孔と電子が前記陽極と陰極との間に位置する有機発光層で結合して生成する光を利用して、画像や文字などの情報を表示させる装置をいう。有機発光表示装置は、広い視野角、速い応答速度、薄さ、低い消費電力などの様々な長所を有するため、有望な次世代ディスプレイ装置として脚光を浴びている。
【０００３】
従来の有機発光表示装置は、赤色サブ画素、緑色サブ画素、及び青色サブ画素から各々成る多数の画素を有する。前記画素で色純度を向上させるために、有機発光表示パネル上にそれぞれ赤色、緑色及び青色カラーフィルタ層を具備した光学シートを配置する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】韓国特許出願公開１０−２０１１−００１８７８５号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明の課題は、向上した光学的特性を有する新規かつ改良された光学シートの製造方法を提供することにある。
【０００６】
また、本発明の他の課題は、向上した光学的特性を有する光学シートを具備する新規かつ改良された有機発光表示装置の製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記課題を解決するために、本発明のある観点によれば、少なくとも１つの第１光遮蔽層と少なくとも１つのカラーフィルタ層を交互に繰り返し積層して第１積層構造物を形成する段階と、前記第１積層構造物を切断して第１切断面を形成する段階と、前記第１積層構造物を切断して前記第１切断面に対して平行な第２切断面を形成して、前記第１光遮蔽層と前記カラーフィルタ層が積層する方向に対して直交する方向に延伸する複数の光遮蔽層パターンと複数のカラーフィルタ層パターンを含む光学フィルムを形成する段階と、少なくとも１つの第２光遮蔽層と少なくとも１つの前記光学フィルムを交互に繰り返し積層して第２積層構造物を形成する段階と、前記第２積層構造物を切断して第３切断面を形成する段階と、前記第２積層構造物を切断して前記第３切断面に対して平行な第４切断面を形成する段階と、を含むことを特徴とする光学シートの製造方法が提供される。
【０００８】
かかる構成によれば、光学シートの製造方法において、別途のパターニング工程を遂行しないで、カラーフィルタ層パターンを含む光学シートを形成することができる。
【０００９】
前記第１切断面と前記第２切断面との間の間隔が前記光学フィルムの厚さと同一であり、前記第３切断面と前記第４切断面との間の間隔が前記光学シートの厚さと同一としてもよい。
【００１０】
前記第１切断面及び前記第２切断面は前記第１光遮蔽層と前記カラーフィルタ層が積層する方向に対して直交する方向と平行であり、前記第３切断面及び前記第４切断面は前記第１切断面及び前記第２切断面に対して直交としてもよい。
【００１１】
前記第１積層構造物を形成する段階は、１つの第１光遮蔽層上に１つのカラーフィルタ層をコーティングする工程、及び、前記１つのカラーフィルタ層上に他の１つの第１光遮蔽層をコーティングする工程を含むサイクルを繰り返して遂行する段階を含んでもよい。
【００１２】
前記第１積層構造物を形成する段階は、複数の第１光遮蔽層を準備する段階と、複数のカラーフィルタ層を準備する段階と、前記第１光遮蔽層と前記カラーフィルタ層を交互に繰り返して積層する段階とを含んでもよい。
【００１３】
前記第２積層構造物を形成する段階は、１つの第２光遮蔽層上に１つの光学フィルムを形成する工程、及び、前記１つの光学フィルム上に他の１つの第２光遮蔽層をコーティングする工程を含むサイクルを繰り返して遂行する段階を含んでもよい。
【００１４】
前記第２積層構造物を形成する段階は、複数の第２光遮蔽層を準備する段階と、複数の光学フィルムを準備する段階と、前記第２光遮蔽層と前記光学フィルムを交互に繰り返して積層する段階とを含んでもよい。
【００１５】
前記第１光遮蔽層は互いに同じ厚さを有し、前記カラーフィルタ層も互いに同じ厚さを有し、前記第２光遮蔽層は互いに同じ厚さを有し、前記光学フィルムも互いに同じ厚さを有してもよい。
【００１６】
前記第１光遮蔽層は互いに同じ厚さを有し、前記カラーフィルタ層は互いに違う厚さを有し、前記第２光遮蔽層は互いに同じ厚さを有し、前記光学フィルムは互いに違う厚さを有してもよい。
【００１７】
前記カラーフィルタ層は、赤色光に対応する第１カラーフィルタ層、緑色光に対応する第２カラーフィルタ層、及び青色光に対応する第３カラーフィルタ層を含んでもよい。
【００１８】
前記光学シートは、赤色光に対応する第１カラーフィルタ層パターン、緑色光に対応する第２カラーフィルタ層パターン、及び青色光に対応する第３カラーフィルタ層パターンを含んでもよい。
【００１９】
また、上記課題を解決するために、本発明の別の観点によれば、スイッチング素子、第１電極、有機発光構造物、及び第２電極を含み、前記スイッチング素子、前記第１電極、前記有機発光構造物、前記第２電極が積層する方向に対して直交する第１方向と前記第１方向に直交し、かつ、前記スイッチング素子、前記第１電極、前記有機発光構造物、前記第２電極が積層する方向に対して直交する第２方向に沿って配列される複数の画素領域と、前記画素領域を囲む周辺領域を含む有機発光表示パネルを形成する段階と、前記表示パネル上に光学シートを形成する段階を含み、前記光学シートを形成する段階は、少なくとも１つの第１光遮蔽層と少なくとも１つのカラーフィルタ層を交互に繰り返し積層して第１積層構造物を形成する段階と、前記第１積層構造物を切断して第１切断面を形成する段階と、前記第１積層構造物を切断して前記第１切断面に対して平行な第２切断面を形成して、前記第１方向に延伸する複数の光遮蔽層パターンと複数のカラーフィルタ層パターンを含む光学フィルムを形成する段階と、少なくとも１つの第２光遮蔽層と少なくとも１つの前記光学フィルムを交互に繰り返し積層して第２積層構造物を形成する段階と、前記第２積層構造物を切断して第３切断面を形成する段階と、前記第２積層構造物を切断して前記第３切断面に対して平行な第４切断面を形成する段階と、を含むことを特徴とする有機発光表示装置の製造方法が提供される。
【００２０】
かかる構成によれば、前記光学シートが有機発光表示装置に使われる時、前記光学シートのカラーフィルタ層パターンを、前記有機発光表示装置の画素領域に対応させることで、輝度減少を防止し、外光現象を抑制して前記有機発光表示装置が現わす画像の明暗比を向上させることができる。
【００２１】
前記第１切断面と前記第２切断面との間の間隔が前記光学フィルムの厚さと同一であり、前記第３切断面と前記第４切断面との間の間隔が前記光学シートの厚さと同一としてもよい。
【００２２】
前記第１切断面及び前記第２切断面は、前記第１方向と平行であり、前記第３切断面及び前記第４切断面は前記第１方向に対して直交してもよい。
【００２３】
前記第１光遮蔽層は互いに同じ厚さを有し、前記カラーフィルタ層も互いに同じ厚さを有し、前記第２光遮蔽層は互いに同じ厚さを有し、前記光学フィルムも互いに同じ厚さを有してもよい。
【００２４】
前記カラーフィルタ層の厚さは、前記画素領域の幅または／及び高さのうち、いずれか一つに対応してもよい。
【００２５】
前記光学フィルムの厚さは、前記画素領域の幅または／及び高さのうち、いずれか一つに対応してもよい。
【００２６】
前記画素領域は、第１画素領域、第２画素領域、及び第３画素領域を含み、前記光学シートは前記第１画素領域に対応する第１カラーフィルタ層パターン、前記第２画素領域に対応する第２カラーフィルタ層パターン、前記第３画素領域に対応する第３カラーフィルタ層パターンを含んでもよい。
【発明の効果】
【００２７】
以上説明したように本発明によれば、向上した光学的特性を有する光学シートの製造方法、及び、向上した光学的特性を有する光学シートを具備する有機発光表示装置の製造方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２８】
【図１】本発明の例示的な実施形態に係る光学シートの製造方法を説明するための斜視図である。
【図２】本発明の例示的な実施形態に係る光学シートの製造方法を説明するための斜視図である。
【図３】本発明の例示的な実施形態に係る光学シートの製造方法を説明するための斜視図である。
【図４】本発明の例示的な実施形態に係る光学シートの製造方法を説明するための斜視図である。
【図５】本発明の例示的な実施形態に係る光学シートの製造方法を説明するための斜視図である。
【図６】本発明の例示的な実施形態に係る光学シートの製造方法を説明するための斜視図である。
【図７】本発明の例示的な実施形態に係る光学シートの製造方法を説明するための斜視図である。
【図８】本発明の例示的な実施形態に係る光学シートの製造方法を説明するための斜視図である。
【図９】本発明の例示的な実施形態に係る光学シートの製造方法を説明するための斜視図である。
【図１０】本発明の例示的な実施形態に係る光学シートの製造方法を説明するための斜視図である。
【図１１】本発明の他の例示的な実施形態に係る光学シートの製造方法を説明するための斜視図である。
【図１２】本発明の他の例示的な実施形態に係る光学シートの製造方法を説明するための斜視図である。
【図１３】本発明の他の例示的な実施形態に係る光学シートの製造方法を説明するための斜視図である。
【図１４】本発明の他の例示的な実施形態に係る光学シートの製造方法を説明するための斜視図である。
【図１５】本発明のまた他の例示的な実施形態に係る光学シートの製造方法を説明するための斜視図である。
【図１６】本発明のまた他の例示的な実施形態に係る光学シートの製造方法を説明するための斜視図である。
【図１７】本発明の例示的な実施形態に係る光学シートを具備する有機発光表示装置の製造方法を説明するための斜視図である。
【図１８】本発明の例示的な実施形態に係る光学シートを具備する有機発光表示装置の製造方法を説明するための断面図である。
【図１９】本発明の例示的な実施形態に係る光学シートを具備する有機発光表示装置の製造方法を説明するための断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２９】
以下、本発明の例示的な実施形態に係る光学シートの製造方法及び光学シートを含む有機発光表示装置の製造方法に対して添付図面を参照しながら、本発明の好適な実施の形態について説明する。なお、本明細書及び図面において、実質的に同一の機能構成を有する構成要素については、同一の符号を付することにより重複説明を省略する。
【００３０】
＜１．光学シートの製造方法＞
（１−１．例示的な実施形態）
図１〜図１０は本発明の例示的な実施形態に係る光学シートの製造方法を説明するための斜視図である。
【００３１】
図１を参照すると、第１光遮蔽層１００ａ上に第１カラーフィルタ層１１０をコーティングすることができる。
【００３２】
第１光遮蔽層１００ａは、光を遮断できる有機物質を含むことができる。例えば、第１光遮蔽層１００ａはバインダ樹脂及びブラック顔料などを含むことができる。また、第１光遮蔽層１００ａは予め決まった厚さを有することができる。例示的な実施形態において、第１光遮蔽層１００ａの厚さは、表示装置の隣接する画素領域の間の間隔に実質的に対応することができる。
【００３３】
第１カラーフィルタ層１１０は、第１光遮蔽層１００ａ上に塗布できる。例示的な実施形態において、第１カラーフィルタ層１１０は、ディップコーティング（ｄｉｐ  ｃｏａｔｉｎｇ）工程、スピンコーティング（ｓｐｉｎ  ｃｏａｔｉｎｇ）工程、スクリーンコーティング（ｓｃｒｅｅｎ  ｃｏａｔｉｎｇ）工程、スプレーコーティング（ｓｐｒａｙ  ｃｏａｔｉｎｇ）工程、ナイフコーティング（ｋｎｉｆｅ  ｃｏａｔｉｎｇ）工程、グラビアコーティング（Ｇｒａｖｕｒｅ  ｃｏａｔｉｎｇ）工程、超音波微細噴霧コーティング（ｕｌｔｒａｓｏｎｉｃ  ａｔｏｍｉｚｉｎｇ  ｃｏａｔｉｎｇ）工程、スプレーミスト噴霧コーティング（ｓｐｒａｙ−ｍｉｓｔ  ａｔｏｍｉｚｉｎｇ  ｃｏａｔｉｎｇ）工程、オフセットプリンティング（ｏｆｆｓｅｔ  ｐｒｉｎｔｉｎｇ）工程、インクジェットプリンティング（ｉｎｋｊｅｔ  ｐｒｉｎｔｉｎｇ）工程、パッドプリンティング（ｐａｄ  ｐｒｉｎｔｉｎｇ）工程などにより形成できる。
【００３４】
例示的な実施形態において、第１カラーフィルタ層１１０は、バインダ樹脂、光硬化開始剤及びカラー染料などを含む塗布液を使うスピンコーティング工程により第１光遮蔽層１００ａ上に形成することができる。
【００３５】
第１カラーフィルタ層１１０は、赤色光、緑色光、及び青色光のうちのいずれか１つに該当する光を通過させることができる。例示的な一実施形態において、第１カラーフィルタ層１１０は、赤色光に対して高い透過率を有することができる。
【００３６】
また、第１カラーフィルタ層１１０は、予め決まった厚さを有することができる。第１カラーフィルタ層１１０の厚さは、表示装置の前記画素領域の幅または高さに実質的に対応することができる。例示的な一実施形態において、第１カラーフィルタ層１１０の厚さは、表示装置の前記画素領域の幅に実質的に対応することができる。
【００３７】
図２を参照すると、第１カラーフィルタ層１１０上に、第１光遮蔽層１００ｂ及び第２カラーフィルタ層１２０をコーティングすることができる。
【００３８】
第１光遮蔽層１００ｂは、図１を参照して説明した第１光遮蔽層１００ａと実質的に同一であるか、或いは実質的に類似する物質及び厚さを含むことができる。
【００３９】
例えば、第１光遮蔽層１００ｂは、ディップコーティング（ｄｉｐ  ｃｏａｔｉｎｇ）工程、スピンコーティング（ｓｐｉｎ  ｃｏａｔｉｎｇ）工程、スクリーンコーティング（ｓｃｒｅｅｎ  ｃｏａｔｉｎｇ）工程、スプレーコーティング（ｓｐｒａｙ  ｃｏａｔｉｎｇ）工程、ナイフコーティング（ｋｎｉｆｅ  ｃｏａｔｉｎｇ）工程、グラビアコーティング（Ｇｒａｖｕｒｅ  ｃｏａｔｉｎｇ）工程、超音波微細噴霧コーティング（ｕｌｔｒａｓｏｎｉｃ  ａｔｏｍｉｚｉｎｇ  ｃｏａｔｉｎｇ）工程、スプレーミスト噴霧コーティング（ｓｐｒａｙ−ｍｉｓｔ  ａｔｏｍｉｚｉｎｇ  ｃｏａｔｉｎｇ）工程、オフセットプリンティング（ｏｆｆｓｅｔ  ｐｒｉｎｔｉｎｇ）工程、インクジェットプリンティング（ｉｎｋｊｅｔ  ｐｒｉｎｔｉｎｇ）工程、パッドプリンティング（ｐａｄ  ｐｒｉｎｔｉｎｇ）工程などにより第１カラーフィルタ層１１０上に塗布できる。
【００４０】
第２カラーフィルタ層１２０は、第１光遮蔽層１００ｂ上に塗布できる。第２カラーフィルタ層１２０は、図１を参照して説明した第１カラーフィルタ層１１０と実質的に同一または実質的に類似する工程により形成できる。例えば、第２カラーフィルタ層１２０は、バインダ樹脂、光硬化開始剤及びカラー染料などを含む塗布液を使うスピンコーティング工程により第１光遮蔽層１００ｂ上に形成できる。
【００４１】
第２カラーフィルタ層１２０は、赤色光、緑色光及び青色光のうちのいずれか１つに該当する光を通過させることができる。例示的な一実施形態において、第２カラーフィルタ層１２０は、緑色光に対して高い透過率を有することができる。
【００４２】
第２カラーフィルタ層１２０の厚さは、表示装置の前記画素領域の幅または高さに実質的に対応することができる。例示的な実施形態において、第２カラーフィルタ層１２０は第１カラーフィルタ層１２０と実質的に同一または類似する厚さを有することができる。
【００４３】
図３を参照すると、第２カラーフィルタ層１２０上に、他の第１光遮蔽層１００ｃ及び第３カラーフィルタ層１３０をコーティングでき、上述したコーティング工程を繰り返して、第１積層構造物１４０を形成することができる。
【００４４】
第１光遮蔽層１００ｃ及び第３カラーフィルタ層１３０をコーティングする工程は、図２を参照して説明した第１光遮蔽層１００ｂ及び第２カラーフィルタ層１２０をコーティングする工程と実質的に類似する工程とすることができる。ただし、第３カラーフィルタ層１３０は、第２カラーフィルタ層１２０と異なる波長の光を通過させることができる。例示的な一実施形態において、第３カラーフィルタ層１３０は、青色光に対して高い透過率を有することができる。
【００４５】
図１〜図３を参照して説明したコーティング工程を反復的に遂行し、第１光遮蔽層１００ａ、１００ｂ、１００ｃ、１００ｄ、及び、カラーフィルタ層１１０、１２０、１３０が交互に繰り返して積層された第１積層構造物１４０を形成することができる。例示的な実施形態において、第１〜第３カラーフィルタ層１１０、１２０、１３０は、図１〜図３を参照して説明した順序と同じ順序でコーティングできる。他の例示的な実施形態において、第１〜第３カラーフィルタ層１１０、１２０、１３０は、図１〜図３を参照して説明した順序と相異なる順序でコーティングできる。
【００４６】
例示的な実施形態において、第１積層構造物１４０は、互いに実質的に同じ厚さを有する第１光遮蔽層１００ａ、１００ｂ、１００ｃ、１００ｄを含むことができ、互いに実質的に同じ厚さを有する第１〜第３カラーフィルタ層１１０、１２０、１３０を含むことができる。他の例示的な実施形態において、第１積層構造物１４０は、互いに実質的に相異なる厚さを有する第１光遮蔽層１００ａ、１００ｂ、１００ｃ、１００ｄを含むことができる。
【００４７】
図３においては、第１積層構造物１４０がいくつかの第１光遮蔽層１００ａ、１００ｂ、１００ｃ、１００ｄと、カラーフィルタ層１１０、１２０、１３０を含むものとして示したが、本発明はこれに限定されない。例えば、第１光遮蔽層１００ａ、１００ｂ、１００ｃ、１００ｄを形成するためのコーティング工程と、カラーフィルタ層１１０、１２０、１３０を形成するためのコーティング工程のサイクルは、数十〜数千回程度で繰り返すことができる。これにより、数十〜数千枚の第１光遮蔽層１００ａ、１００ｂ、１００ｃ、１００ｄと、カラーフィルタ層１１０、１２０、１３０が交互に繰り返して積層された第１積層構造物１４０を構成することができる。
【００４８】
図４を参照すると、第１積層構造物１４０を切断して第１切断面１４２を形成することができる。
【００４９】
第１積層構造物１４０は、光学的、物理的、熱的、化学的方法、または、これらの方法の２種類以上を組み入れた工程などにより切断することができる。例示的な実施形態において、第１積層構造物１４０は、レーザーを利用して切断することができる。他の例示的な実施形態によると、第１積層構造物１４０は回転する切刃により切断することもできる。
【００５０】
上述した切断工程により第１切断面１４２を形成することができる。第１切断面１４２は、第１積層構造物１４０の表面に対して予め決まった角度で切断することができる。例えば、第１切断面１４２は、第１光遮蔽層１００ａ、１００ｂ、１００ｃ、１００ｄの上面に対して実質的に直交するように切断することができる。
【００５１】
図５を参照すると、第１積層構造物１４０を切断して第２切断面１４４を形成し、第１光学フィルム１５０を形成することができる。
【００５２】
第１切断面１４２を有する第１積層構造物１４０は、光学的、物理的、熱的、化学的方法、または、これらの方法の２種類以上を組み入れた工程などにより切断することができる。例えば、第１積層構造物１４０は、図４を参照して説明した切断工程と実質的に同一または類似する工程により切断することができる。
【００５３】
上述した切断工程により第２切断面１４４を形成することができる。例示的な実施形態において、第２切断面１４４は、第１切断面１４２と実質的に平行となるように切断することができる。また、第２切断面１４４は、第１切断面１４２と予め決まった距離で離隔することができる。第２切断面１４４と第１切断面１４２との間の距離は、表示装置の前記画素領域の幅または高さに実質的に対応することができる。例示的な実施形態において、第１〜第３カラーフィルタ層１１０、１２０、１３０の厚さが、前記表示装置の前記画素領域の幅に実質的に対応する場合、第２切断面１４４と第１切断面１４２との間の距離は、前記表示装置の前記画素領域の高さに実質的に対応することができる。他の例示的な実施形態において、第１〜第３カラーフィルタ層１１０、１２０、１３０の厚さが、前記表示装置の前記画素領域の高さに実質的に対応する場合、第２切断面１４４と第１切断面１４２との間の距離は、前記表示装置の前記画素領域の幅に実質的に対応することができる。
【００５４】
上述した切断工程により、第１切断面１４２と第２切断面１４４を具備する第１光学フィルム１５０を収得することができる。この場合、第１光学フィルム１５０の厚さは、第１切断面１４２と第２切断面１４４との間の距離と実質的に同一とすることもできる。第１光学フィルム１５０は、一方向に沿って延伸する光遮蔽層パターン１０５と、第１〜第３カラーフィルタ層パターン１１５、１２５、１３５とを含むことができる。
【００５５】
図４及び図５において、説明及び描写の便宜上、第１切断面１４２を形成する工程と第２切断面１４４を形成する工程が順次に遂行されると示したが、本発明はこれに限定されない。例えば、第１切断面１４２を形成する工程と第２切断面１４４を形成する工程は、同時に遂行されることもできる。
【００５６】
図６を参照すると、第２光遮蔽層１６０ａ上に、第１光学フィルム１５０を形成することができる。
【００５７】
第２光遮蔽層１６０ａは、図１を参照して説明した第１光遮蔽層１００ａと実質的に同一または類似する物質を含むことができる。
【００５８】
第２光遮蔽層１６０ａ上に、図１〜図５を参照して説明した工程によって形成した第１光学フィルム１５０を配置することができる。この時、第１光学フィルム１５０は、光遮蔽層パターン１０５と、第１〜第３カラーフィルタ層パターン１１５、１２５、１３５とを含むことができる。
【００５９】
例示的な実施形態において、第１光学フィルム１５０は、第２光遮蔽層１６０ａ上にラミネートすることができる。他の例示的な実施形態において、第１光学フィルム１５０と第２光遮蔽層１６０ａとの間に接着層（図示せず）を形成することができる。
【００６０】
第１光学フィルム１５０は予め決まった厚さを有することができる。例示的な一実施形態において、第１光学フィルム１５０の厚さは前記表示装置の前記画素領域の高さに実質的に対応することができる。
【００６１】
図７を参照すると、第１光学フィルム１５０上に第２光遮蔽層１６０ｂをコーティングすることができる。
【００６２】
第２光遮蔽層１６０ｂは、図６を参照して説明した第２光遮蔽層１６０ａと実質的に同一または実質的に類似する物質を含むことができる。また、例示的な実施形態において、第２光遮蔽層１６０ｂは、図６を参照して説明した第２光遮蔽層１６０ａと実質的に同じ厚さを有することができる。他の例示的な実施形態において、第２光遮蔽層１６０ｂは、図６を参照して説明した第２光遮蔽層１６０ａと相異なる厚さを有することができる。
【００６３】
第２光遮蔽層１６０ｂは、図２を参照して説明したコーティング工程と実質的に同一または実質的に類似する工程によりコーティングされることができる。
【００６４】
図８を参照すると、上述した光学フィルムの形成工程及びコーティング工程を繰り返し遂行して、第２積層構造物１７０を形成することができる。
【００６５】
図６及び図７を参照して説明した工程を繰り返し遂行して、第２光遮蔽層１６０ａ、１６０ｂ、１６０ｃ、１６０ｄと、第１〜第３光学フィルム１５０、１５１、１５２とが交互に繰り返し積層された第２積層構造物１７０を形成することができる。即ち、第１光学フィルム１５０上に上述したコーティング工程を通じて第２光遮蔽層１６０ｂを形成し、第２光遮蔽層１６０ｂ上に第２光学フィルム１５１を形成し、第２光学フィルム１５１上に上述したコーティング工程を通じて第２光遮蔽層１６０ｃを形成することができる。また、第２光遮蔽層１６０ｃ上には、第３光学フィルム１５２及び第２光遮蔽層１６０ｄを形成することができる。第２及び第３光学フィルム１５１、１５２を形成するための工程は、第１光学フィルム１５０を形成するための工程と実質的に同一または類似とすることができる。
【００６６】
例示的な実施形態によると、第２光遮蔽層１６０ａ、１６０ｂ、１６０ｃ、１６０ｄは、実質的に同じ厚さを有することができ、光学フィルム１５０、１５１、１５２も実質的に同じ厚さを有することができる。他の例示的な実施形態において、第２光遮蔽層１６０ａ、１６０ｂ、１６０ｃ、１６０ｄは、互いに相異なる厚さを有することができる。
【００６７】
図８では、説明及び描写の便宜上、第２積層構造物１７０がいくつかの第２光遮蔽層１６０ａ、１６０ｂ、１６０ｃ、１６０ｄと、いくつかの光学フィルム１５０、１５１、１５２を含むとして示したが、本発明はこれに限定されない。例えば、第２光遮蔽層１６０ａ、１６０ｂ、１６０ｃ、１６０ｄを形成するためのコーティング工程と、光学フィルム１５０、１５１、１５２を形成するための工程とを含むサイクルは、数十〜数千回程度繰り返すことができる。これにより、数十〜数千枚の第２光遮蔽層１６０ａ、１６０ｂ、１６０ｃ、１６０ｄと、光学フィルム１５０、１５１、１５２とが、交互に繰り返し積層されて第２積層構造物１７０を構成することができる。
【００６８】
図９を参照すると、第２積層構造物１７０を切断して、第３切断面１７２を形成することができる。
【００６９】
第２積層構造物１７０は、図４を参照して説明した工程と実質的に同一または類似する工程により切断することができる。これにより、第２積層構造物１７０の表面に対して予め決まった角度をなす第３切断面１７２を形成することができる。例えば、第３切断面１７２は、第２光遮蔽層１６０ａ、１６０ｂ、１６０ｃ、１６０ｄの上面に対して実質的に直交するように形成することができ、第１〜第３カラーフィルタ層パターン１１５、１２５、１３５が延伸する方向に実質的に直交するように形成することができる。
【００７０】
図１０を参照すると、第２積層構造物１７０を切断して第４切断面１７４を形成し、光学シート１８０を形成することができる。
【００７１】
第３切断面１７２を有する第２積層構造物１７０は光学的、物理的、熱的、化学的方法、または、これらの方法の２種類以上を組み入れた工程などにより切断することができる。
【００７２】
例示的な実施形態において、第４切断面１７４は、第３切断面１７２と実質的に平行とすることができる。また、第４切断面１７４は、第３切断面１７２と予め決まった距離で離隔することもできる。
【００７３】
これにより、第３切断面１７２と第４切断面１７４を具備する光学シート１８０を収得することができる。光学シート１８０は、互いに離隔した第１〜第３カラーフィルタ層パターン１１５、１２５、１３５のアレイを含むことができる。例示的な実施形態において、図１０に示したように、第１カラーフィルタ層パターン１１５は、互いに同じＹ軸座標位置に配置されたアレイを形成することができ、第２カラーフィルタ層パターン１２５及び第３カラーフィルタ層パターン１３５も、互いに同じＹ軸座標位置に配置されたアレイを形成することができる。
【００７４】
第１〜第３カラーフィルタ層パターン１１５、１２５、１３５は、前記表示装置の前記画素領域にそれぞれ対応することができる。例えば、第１〜第３カラーフィルタ層パターン１１５、１２５、１３５は、前記画素領域と実質的に同じ面積及び形態を有することができる。これにより、前記画素領域に対応する第１〜第３カラーフィルタ層パターン１１５、１２５、１３５を含む光学シート１８０を、別途のパターニング工程無しで形成することができる。
【００７５】
（１−２．他の例示的な実施形態）
図１１〜図１４は、本発明の他の例示的な実施形態に係る光学シートの製造方法を説明するための斜視図である。
【００７６】
図１１を参照すると、第１光遮蔽層２００ａ、２００ｂ、２００ｃ、２００ｄ及び第１〜第３カラーフィルタ層２１０、２２０、２３０を交互に繰り返し積層して、第１積層構造物２４０を形成することができる。
【００７７】
図１〜図４を参照して説明した工程と実質的に同一または類似する工程を遂行して、第１積層構造物２４０を形成することができる。ただし、第１カラーフィルタ層２１０、第２カラーフィルタ層２２０、及び第３カラーフィルタ層２３０は、互いに相異なる厚さを有することができる。例示的な実施形態において、第２カラーフィルタ層２２０は、緑色光に対して高い透過率を有することができ、第１カラーフィルタ層２１０より大きい厚さを有することができる。図示はしていないが、他の例示的な実施形態において、第３カラーフィルタ層２３０は、青色光に対して高い透過率を有することができ、第１カラーフィルタ層２１０より大きい厚さを有することができる。前記第１〜第３カラーフィルタ層２１０、２２０、２３０の厚さは、それぞれ表示装置の画素領域の幅または高さに実質的に対応することができる。
【００７８】
一方、第１積層構造物２４０は図１１によって限定されるものではなく、交互に繰り返し積層された数十〜数千枚の第１光遮蔽層とカラーフィルタ層を含むことができる。
【００７９】
図１２を参照すると、第１積層構造物２４０を切断して、第１光学フィルム２５０を形成することができる。
【００８０】
第１積層構造物２４０を切断する工程は、図４及び図５を参照して説明した工程と実質的に同一または類似しているので、これに対する詳細な説明は省略する。これによって、第１光学フィルム２５０は互いに相異なる幅を有する第１〜第３カラーフィルタ層パターン２１５、２２５、２３５及び光遮蔽層パターン２０５を含むことができる。
【００８１】
図１３を参照すると、第２光遮蔽層２６０ａ、２６０ｂ、２６０ｃ、２６０ｄ、及び、第１〜第３光学フィルム２５０、２５１、２５２を交互に繰り返し積層して第２積層構造物２７０を形成することができる。
【００８２】
図１１〜図１２を参照して説明した工程を繰り返して、第１〜第３光学フィルム２５０、２５１、２５２を形成することができる。その後、第２光遮蔽層２６０ａ、２６０ｂ、２６０ｃ、２６０ｄと、第１〜第３光学フィルム２５０、２５１、２５２とを交互に繰り返し積層して、第２積層構造物２７０を形成することができる。
【００８３】
例示的な実施形態によると、第２光遮蔽層２６０ａ、２６０ｂ、２６０ｃ、２６０ｄは、実質的に同じ厚さを有することができる。
【００８４】
説明及び描画の便宜上、図１３では、第２積層構造物２７０がいくつかの第２光遮蔽層２６０ａ、２６０ｂ、２６０ｃ、２６０ｄと、いくつかの光学フィルム２５０、２５１、２５２を含むことを示したが、本発明はこれに限定されるものではない。例えば、第２光遮蔽層２６０ａ、２６０ｂ、２６０ｃ、２６０ｄを形成するためのコーティング工程と、光学フィルム２５０、２５１、２５２を形成するための工程を含むサイクルは、数十〜数千回程度繰り返すことができる。これにより、数十〜数千枚の第２光遮蔽層２６０ａ、２６０ｂ、２６０ｃ、２６０ｄと、光学フィルム２５０、２５１、２５２が、交互に繰り返し積層して、第２積層構造物２７０を構成することができる。
【００８５】
図１４を参照すると、第２積層構造物２７０を切断して、第３切断面２７２及び第４切断面２７４を有する光学シート２８０を形成することができる。
【００８６】
第２積層構造物２７０は、図４及び図５を参照して説明した工程と実質的に同一または類似する工程を通じて切断することができる。これによって、第２積層構造物２７０の表面に対して予め決まった角度をなす第３切断面２７２及び第４切断面２７４を形成することができる。例えば、第３切断面２７２及び第４切断面２７４は、第２光遮蔽層２６０ａ、２６０ｂ、２６０ｃ、２６０ｄの上面に対して実質的に直交するように形成することができる。また、第４切断面２７４は、第３切断面２７２と予め決まった距離で離隔されることができる。
【００８７】
これによって、第３切断面２７２と第４切断面２７４を具備する光学シート２８０を収得することができる。光学シート２８０は、互いに離隔された第１〜第３カラーフィルタ層パターン２１５、２２５、２３５のアレイ及び光遮蔽層パターン２０５を含むことができる。例示的な実施形態において、第１〜第３カラーフィルタ層パターン２１５、２２５、２３５は互いに相異なる幅と面積を有することができる。
【００８８】
第１〜第３カラーフィルタ層パターン２１５、２２５、２３５は、前記表示装置の前記画素領域にそれぞれ対応することができる。例えば、第１〜第３カラーフィルタ層パターン２１５、２２５、２３５は、前記画素領域と実質的に同じ面積及び形態を有することができる。これによって、前記画素領域に対応する第１〜第３カラーフィルタ層パターン２１５、２２５、２３５を含む光学シート２８０を、別途のパターニング工程無しに形成することができる。
【００８９】
（１−３．また他の例示的な実施形態）
図１５及び図１６は、本発明のまた他の例示的な実施形態に係る光学シートの製造方法を説明するための斜視図である。
【００９０】
図１５を参照すると、第１光遮蔽層３００ａ、３００ｂ、３００ｃ、３００ｄと、第１〜第３カラーフィルタ層３１０、３２０、３３０とを交互に繰り返し配置することができる。
【００９１】
例示的な実施形態において、数十〜数千枚の第１光遮蔽層が提供され、また、数十〜数千枚の第１カラーフィルタ層３１０、第２カラーフィルタ層３２０、及び第３カラーフィルタ層３３０が提供される。
【００９２】
例示的な実施形態によると、第１光遮蔽層３００ａ、３００ｂ、３００ｃ、３００ｄは、図１を参照して説明した第１光遮蔽層１００ａ、１００ｂ、１００ｃ、１００ｄと実質的に同一または類似していて、第１〜第３カラーフィルタ層３１０、３２０、３３０は、図１〜図３を参照して説明した第１〜第３カラーフィルタ層１１０、１２０、１３０と実質的に同一または類似とすることができる。
【００９３】
例示的な実施形態において、第１光遮蔽層３００ａ、３００ｂ、３００ｃ、３００ｄのそれぞれは、ゴム系（ｒｕｂｂｅｒ−ｂａｓｅｄ）接着剤、アクリル系（ａｃｒｙｌ−ｂａｓｅｄ）接着剤、ビニールエーテル系（ｖｉｎｙｌ  ｅｓｔｅｒ−ｂａｓｅｄ）接着剤、シリコン系（ｓｉｌｉｃｏｎ−ｂａｓｅｄ）接着剤、ウレタン系（ｕｒｅｔｈａｎｅ−ｂａｓｅｄ）接着剤などの、透明な感圧接着剤を追加で含むことができる。
【００９４】
図１６を参照すると、第１光遮蔽層３００ａ、３００ｂ、３００ｃ、３００ｄと、第１〜第３カラーフィルタ層３１０、３２０、３３０とを接着して、第１積層構造物３４０を形成することができる。
【００９５】
例えば、第１光遮蔽層３００ａ、３００ｂ、３００ｃ、３００ｄが前記接着剤を追加で含む場合、第１光遮蔽層３００ａ、３００ｂ、３００ｃ、３００ｄと、第１〜第３カラーフィルタ層３１０、３２０、３３０とを接着するための別途の接着フィルムが要求されない。例示的な実施形態において、第１光遮蔽層３００ａ、３００ｂ、３００ｃ、３００ｄが感圧接着剤を含む場合、第１光遮蔽層３００ａ、３００ｂ、３００ｃ、３００ｄと、第１〜第３カラーフィルタ層３１０、３２０、３３０とを交互に繰り返して順次に積層した後、圧力を加えて第１積層構造物３４０を形成することができる。
【００９６】
説明及び描画の便宜上、図１６において、第１積層構造物３４０は数個の第１光遮蔽層３００ａ、３００ｂ、３００ｃ、３００ｄと、数枚の第１〜第３カラーフィルタ層３１０、３２０、３３０とを含むことで示したが、本発明はこれに限定されない。例えば、第１積層構造物３４０は交互に繰り返し積層された数十〜数千枚の第１光遮蔽層とカラーフィルタ層を含むことができる。
【００９７】
以後、光学シートを形成するための工程は、図４〜図１０を参照して説明した工程と実質的に同一または類似しているので、これに対する詳細な説明は省略する。
【００９８】
＜２．光学シートを具備する有機発光表示装置の製造方法＞
図１７〜図１９は、本発明の例示的な実施形態に係る光学シートを具備する有機発光表示装置の製造方法を説明するための斜視図及び断面図である。
【００９９】
図１７は本発明の例示的な実施形態に係る有機発光表示装置の製造方法を説明する分解斜視図であり、図１８及び図１９は、図１７のＩ−Ｉ'線に沿って切断した断面図である。
【０１００】
図１８を参照すると、前記有機発光表示装置の表示パネル５００が提供される。
【０１０１】
第１基板５１０は、透明絶縁基板を含むことができる。例えば、第１基板５１０は、ガラス基板、石英基板、透明プラスチック基板などを含むことができる。他の例示的な実施形態において、第１基板５１０は軟性を有する基板（ｆｌｅｘｉｂｌｅ  ｓｕｂｓｔｒａｔｅ）で構成することもできる。
【０１０２】
前記有機発光表示装置が能動型駆動方式を採用する場合、スイッチング構造物を、第１基板５１０上に形成することができる。例示的な実施形態において、前記スイッチング構造物は、それぞれトランジスタのようなスイッチング素子と複数の絶縁層を含むことができる。
【０１０３】
前記スイッチング構造物のスイッチング素子が薄膜トランジスタＴＦＴを含む場合、前記スイッチング素子を形成する工程はゲート電極５５２、ソース電極５５４、ドレーン電極５５６、半導体層５３０などを形成する段階を含むことができる。
【０１０４】
第１基板５１０上に半導体層５３０を形成することができる。また、イオン注入工程により、半導体層５３０はソース領域５３４、ドレーン領域５３６、及びチャネル領域５３２を含むように形成されることができる。その後、半導体層５３０を電気的に絶縁させるゲート絶縁膜５４０が形成されることができる。
【０１０５】
ゲート絶縁膜５４０上にはゲート信号が印加されるゲート電極５５２が形成されることができ、前記ゲート電極５５２を電気的に絶縁させる第１絶縁層５６０が形成されることができる。
【０１０６】
ゲート絶縁膜５４０及び第１絶縁層５６０を貫通して、ソース領域５３４と電気的に接触するソース電極５５４、及び、ドレーン領域５３６と電気的に接触するドレーン電極５５６を形成することができる。その後、ソース電極５５４及びドレーン電極５５６を絶縁させる第２絶縁層５６５が形成されることができる。
【０１０７】
図１８に例示的に示したスイッチング素子において、半導体層５３０上部にゲート電極５５２が配置されるトップゲート（ｔｏｐ−ｇａｔｅ）構造の薄膜トランジスタを例示的に示したが、前記スイッチング素子の構成はこれに限定されない。例えば、前記薄膜トランジスタは、半導体層下にゲート電極が位置するボトムゲート（ｂｏｔｔｏｍ−ｇａｔｅ）構造とすることもできる。
【０１０８】
また、第２絶縁層５６５を貫通して、ドレーン電極５５６と電気的に接触する第１電極５７０を画素領域（Ｉ）に形成し、画素定義膜５７５を周辺領域（ＩＩ）に形成することができる。その後、第１電極５７０及び画素定義膜５７５上に発光構造物及び第２電極６２０を形成することができる。
【０１０９】
前記発光構造物を形成する工程はそれぞれ正孔輸送層ＨＩＬ５９０、有機発光層ＥＬ６００、及び電子輸送層ＥＴＬ６１０を形成する工程を含むことができる。例示的な実施形態において、有機発光層６００は赤色光、緑色光または、青色光を発生させるための発光物質を使って形成することができる。他の例示的な実施形態によると、有機発光層６００は互いに異なる波長を有する光を発生させる複数の発光物質が混合した物質を使って形成されることもできる。
【０１１０】
例示的な実施形態において、有機発光層６００は画素領域（Ｉ）内に形成されることができ、画素定義膜５７５は周辺領域（ＩＩ）内に形成されることができる。従って、有機発光層６００から発生した光は画素領域（Ｉ）から放出され、画素定義膜５７５が配置された周辺領域（ＩＩ）からは光が放出されないこともある。
【０１１１】
例示的な実施形態によると、第１電極５７０は前記発光構造物の正孔輸送層５９０に正孔（ｈｏｌｅｓ）を提供する陽極（ａｎｏｄｅ）に該当し、第２電極６２０は電子輸送層６１０に電子を提供する陰極（ｃａｔｈｏｄｅ）に該当することができる。前記有機発光表示装置の発光方式により第１電極５７０は、透過電極または反透過電極に該当することができ、第２電極６２０は反射電極に該当することもできる。例えば、第１電極５７０は、インジウム亜鉛酸化物（ＩＺＯ）、インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）、錫酸化物（ＳｎＯｘ）、亜鉛酸化物（ＺｎＯｘ）などのような透明導電性物質を使って形成されることができ、第２電極６２０はアルミニウム（Ａｌ）、白金（Ｐｔ）、銀（Ａｇ）、金（Ａｕ）、クロム（Ｃｒ）、タングステン（Ｗ）、モルリブデニュム（Ｍｏ）、チタン（Ｔｉ）、これらの合金などのような相対的に高い反射率を有する金属を使って形成されることができる。
【０１１２】
第２基板６６０は第２電極６２０上に配置されることができる。第２基板６６０は透明基板を含むことができる。例えば、第２基板６６０はガラス基板、透明プラスチック基板などを含むことができる。一方、第２基板６６０は、軟性を有する基板で構成することもできる。例示的な実施形態において、第２基板６６０は第１基板５１０と実質的に同じ物質を含むことができるが、第１及び第２基板５１０、６６０が互いに相異なる物質を含むこともできる。
【０１１３】
表示パネル５００は第１方向とこのような第１方向に対して実質的に直交する第２方向に沿って配列された画素領域（Ｉ）及び画素領域（Ｉ）を囲む周辺領域（ＩＩ）を含むことができる。例示的な実施形態において、画素領域（Ｉ）は赤色光を発光するための第１画素領域、緑色光を発光するための第２画素領域及び青色光を発光するための第３画素領域を含むことができる。ここで、第１方向とは、図１７〜図１９に記載のように、スイッチング素子、第１電極、有機発光構造物、第２電極等が積層する方向に対して直交する方向をいう。また、第２方向とは、第１方向に直交し、かつ、スイッチング素子、第１電極、有機発光構造物、第２電極が積層する方向に対しても直交する方向をいい、具体的には、図１８及び図１９において、紙面の手前から奥に向かう方向を指す。
【０１１４】
図１７及び図１９を参照すると、表示パネル５００上に光学シート４８０を形成することができる。
【０１１５】
光学シート４８０は、図１〜図１０を参照して説明した工程と実質的に同一または実質的に類似する工程によって形成されることができる。即ち、光学シート４８０は、第１〜第３カラーフィルタ層パターン４１５、４２５、４３５、及び、光遮蔽層パターン４００を含むことができる。
【０１１６】
第１〜第３カラーフィルタ層パターン４１５、４２５、４３５は、それぞれ画素領域（Ｉ）に対応することができ、光遮蔽層パターン４００は周辺領域（ＩＩ）に対応することができる。例えば、第１カラーフィルタ層パターン４１５は前記第１画素領域に対応することができ、第２カラーフィルタ層パターン４２５は前記第２画素領域に対応でき、第３カラーフィルタ層パターン４３５は前記第３画素領域に対応することができる。
【０１１７】
また、光学シート４８０の厚さによって前記有機発光表示装置の視野角を調節することができる。例示的な実施形態において、光学シート４８０が比較的に厚い厚さを有する場合、前記有機発光表示装置の視野角を減少させることができる。即ち、画素領域（Ｉ）から発生して光学シート４８０に直交する方向に進行する光（即ち、前記有機発光表示装置の正面方向に進行する光）は第１カラーフィルタ層パターン４１５、第２カラーフィルタ層パターン４２５、または、第３カラーフィルタ層パターン４３５を通過することができる。反面、画素領域（Ｉ）から発生して光学シート４８０と所定の角度をなす方向に進行する光（即ち、前記有機発光表示装置の側面方向に進行する光）は、光遮蔽層パターン４００によって遮断されることができる。結局、前記正面方向に進行する光は通過させ、前記の側面方向に進行する光を遮断させることができるので、前記有機発光表示装置の視野角を制限することができる。光遮蔽層パターン４００は、第１〜第３カラーフィルタ層パターン４１５、４２５、４３５の左右の側面だけでなく、上下にも配置されることができるので、左右方向だけでなく上下方向の視野角を制限することができる。
【０１１８】
例示的な実施形態に係る有機発光表示装置の製造方法において、別途のパターニング工程を遂行しないが、互いに離隔して配置された第１〜第３カラーフィルタ層パターン４１５、４２５、４３５、及び、光遮蔽層パターン４００を具備する光学シート４８０を形成することができる。また、このような光学シート４８０を前記有機発光表示装置の表示パネル５００に形成して、前記表示パネルの輝度減少を抑制しながら、外光反射現象を抑制することができる。これにより、前記有機発光表示装置によって表示される画像の品質を改善することができる。
【０１１９】
以上、添付図面を参照しながら本発明の好適な実施形態について詳細に説明したが、本発明はかかる例に限定されない。本発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者であれば、特許請求の範囲に記載された技術的思想の範疇内において、各種の変更例または修正例に想到し得ることは明らかであり、これらについても、当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。
【０１２０】
本明細書において、特定の構造的ないし機能的説明は、単に本発明の実施形態を説明する目的で例示されたものである。本発明の実施形態は多様な形態で実施されることができ、本明細書に説明された実施形態に限定されると解釈されるべきではなく、本発明の思想及び技術範囲に含まれる全ての変更、均等物ないし代替物を含むと理解されるべきである。
【０１２１】
例えば、ある構成要素が他の構成要素に「連結されて」いる、または「接続されて」いると言及された場合には、その他の構成要素に直接的に連結されている、または、接続されていることも意味するが、中間に他の構成要素が存在する場合も含むと理解されるべきである。一方、ある構成要素が他の構成要素に「直接連結されて」いる、または「直接接続されて」いると言及された場合には、中間に他の構成要素が存在しないと理解されるべきである。構成要素の間の関係を説明する他の表現、即ち、「〜の間に」と「直接〜の間に」または「〜に隣接する」と「〜に直接隣接する」等も同じように解釈されるべきである。
【０１２２】
本明細書で使用した用語は、単に特定の実施形態を説明するために使用されたもので、本発明を限定するものではない。例えば、単数の表現は文脈上明白に異なることがない限り、複数の表現を含む。本明細書で、「含む」、「備える」、または「有する」等の用語は明細書上に記載された特徴、数字、段階、動作、構成要素、部品または、これを組み合わせたのが存在するということを示すものであって、１つまたはそれ以上の他の特徴や数字、段階、動作、構成要素、部品または、これを組み合わせたものの存在または、付加の可能性を、予め排除するわけではない。
【０１２３】
また、別に定義しない限り、技術的或いは科学的用語を含み、本明細書中において使用される全ての用語は本発明が属する技術分野で通常の知識を有する者であれば、一般的に理解するのと同一の意味を有する。一般的な辞書において定義される用語と同じ用語は、関連技術の文脈上有する意味と同一の意味を有するものと理解されるべきで、本明細書において明白に定義しない限り、理想的或いは形式的な意味として解釈してはならない。
【０１２４】
第１、第２、第３、第４等の用語は多様な構成要素を説明するのに使用されるが、これらの構成要素はこのような用語によって限定されてはならない。これらの用語は１つの構成要素を他の構成要素から区別する目的で使われる。例えば、本発明の権利範囲から逸脱せずに第１構成要素を第２構成要素、第３構成要素、または第４構成要素などと命名することができ、同様に第２構成要素、第３構成要素、または第４構成要素も交互に命名することができる。
【産業上の利用可能性】
【０１２５】
本発明の例示的な実施形態に係る光学シートの製造方法において、別途のパターニング工程を要求せずに第１〜第３カラーフィルタ層パターンを含む光学シートを形成することができる。このような光学シートを有機発光表示装置に適用する場合、前記有機発光表示装置の輝度減少を減らしながら外光反射を抑制することができる。
【符号の説明】
【０１２６】
１００ａ、１００ｂ、１００ｃ、１００ｄ    第１光遮蔽層
２００ａ、２００ｂ、２００ｃ、２００ｄ    第１光遮蔽層
３００ａ、３００ｂ、３００ｃ、３００ｄ    第１光遮蔽層
１０５、２０５、４００    光遮蔽層パターン
１１０、２１０、３１０    第１カラーフィルタ層
１１５、２１５、４１５    第１カラーフィルタ層パターン
１２０、２２０、３２０    第２カラーフィルタ層
１２５、２２５、４２５    第２カラーフィルタ層パターン
１３０、２３０、３３０    第３カラーフィルタ層
１３５、２３５、４３５    第３カラーフィルタ層パターン
１４０、２４０、３４０    第１積層構造物
１４２、２４２    第１切断面
１４４、２４４    第２切断面
１５０、２５０    第１光学フィルム
１５１、２５１    第２光学フィルム
１５２、２５２    第３光学フィルム
１６０ａ、１６０ｂ、１６０ｃ、１６０ｄ    第２光遮蔽層
２６０ａ、２６０ｂ、２６０ｃ、２６０ｄ    第２光遮蔽層
１７０、２７０    第２積層構造物
１７２、２７２    第３切断面
１７４、２７４    第４切断面
１８０、２８０、４８０    光学シート
５００    表示パネル
５１０    第１基板
５３０    半導体層
５３２    チャネル領域
５３４    ソース領域
５３６    ドレーン領域
５４０    ゲート絶縁膜
５５２    ゲート電極
５５４    ソース電極
５５６    ドレーン電極
５６０    第１絶縁層
５６５    第２絶縁層
５７０    第１電極
５７５    画素定義膜
５９０    正孔輸送層
６００    有機発光層
６１０    電子輸送層
６２０    第２電極
６６０    第２基板
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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