(57)【要約】【課題】Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の各色の波長の光の透過率に優れ、その変動が抑制されると共に、生産性に優れる液晶プロジェクタ用液晶パネルを提供すること。【解決手段】液晶プロジェクタ用液晶パネルは、第１の積層膜を有する第１の基板部と、該第１の基板部に対向して配置され、第２の積層膜を有する第２の基板部と、第１の基板部と第２の基板部との間に配置される液晶部とを有する。第１の積層膜、第２の積層膜は、いずれも高屈折率膜と低屈折率膜とが交互に６層積層され、各屈折率膜の膜厚は、液晶プロジェクタ用液晶パネルの波長が４５０ｎｍ、５５０ｎｍ、６５０ｎｍの光の透過率が８７％以上となるように所定の膜厚とされている。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の基板本体の各画素部の少なくとも表示部となる部分に、第１の積層膜、第１の透明電極、および第１の配向膜が順に積層された第１の基板部と、前記第１の基板部に対向して配置され、第２の基板本体上に第２の積層膜、第２の透明電極、および第２の配向膜が順に積層された第２の基板部と、前記第１の基板部と前記第２の基板部との間に配置される液晶部とを有し、波長が４５０ｎｍ、５５０ｎｍ、および６５０ｎｍの光の透過率が８７％以上である液晶プロジェクタ用液晶パネルであって、
前記第１の積層膜は、屈折率が１．９〜２．５の高屈折率膜と屈折率が１．２〜１．５の低屈折率膜とが前記第１の基板本体側から交互に計６層積層されてなり、かつ前記屈折率膜の膜厚は１層目が１〜２６ｎｍ、２層目が１〜１０００ｎｍ、３層目が１〜３０ｎｍ、４層目が１〜１０００ｎｍ、５層目が２〜４１ｎｍ、６層目が１〜９５ｎｍであり、
前記第２の積層膜は、屈折率が１．９〜２．５の高屈折率膜と屈折率が１．２〜１．５の低屈折率膜とが前記第２の基板本体側から交互に計６層積層されてなり、かつ前記屈折率膜の膜厚は１層目が１〜２６ｎｍ、２層目が１〜１０００ｎｍ、３層目が１〜３０ｎｍ、４層目が１〜１０００ｎｍ、５層目が２〜４１ｎｍ、６層目が６〜９５ｎｍであることを特徴とする液晶プロジェクタ用液晶パネル。
【請求項２】
前記第１の積層膜の合計膜厚は１５０〜２５０ｎｍ、前記第２の積層膜の合計膜厚は１５０〜２５０ｎｍであることを特徴とする請求項１記載の液晶プロジェクタ用液晶パネル。
【請求項３】
前記第１の積層膜における２層目および５層目の屈折率膜の合計膜厚が５５〜１１０ｎｍであり、前記第２の積層膜における２層目および５層目の屈折率膜の合計膜厚が６０〜１１０ｎｍであることを特徴とする請求項１または２記載の液晶プロジェクタ用液晶パネル。
【請求項４】
前記第１の積層膜における奇数層目となる高屈折率膜の計３層の合計膜厚が１０〜６５ｎｍ、前記第２の積層膜における奇数層目となる高屈折率膜の計３層の合計膜厚が１０〜６５ｎｍであることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項記載の液晶プロジェクタ用液晶パネル。
【請求項５】
前記第１の積層膜における偶数層目となる低屈折率膜の計３層の合計膜厚が１３０〜２０５ｎｍ、前記第２の積層膜における偶数層目となる低屈折率膜の計３層の合計膜厚が１５０〜２０５ｎｍであることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項記載の液晶プロジェクタ用液晶パネル。
【請求項６】
前記第１の透明電極の膜厚が１０〜１６５ｎｍ、前記第１の配向膜の膜厚が４０〜８０ｎｍ、かつ前記第２の透明電極の膜厚が１０〜３０ｎｍ、前記第２の配向膜の膜厚が１５〜５５ｎｍであることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項記載の液晶プロジェクタ用液晶パネル。
【請求項７】
前記第１の透明電極の膜厚が１２０〜１６５ｎｍであり、
前記第１の積層膜における前記屈折率膜の膜厚は、１層目が３〜１５ｎｍ、２層目が４５〜９０ｎｍ、３層目が２〜１６ｎｍ、４層目が１〜１１０ｎｍ、５層目が１２〜２８ｎｍ、６層目が１９〜５２ｎｍであり、
前記第２の積層膜における前記屈折率膜の膜厚は、１層目が１〜１８ｎｍ、２層目が２６〜１００ｎｍ、３層目が１〜２１ｎｍ、４層目が２０〜１０５ｎｍ、５層目が１１〜３２ｎｍ、６層目が２５〜７０ｎｍであることを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項記載の液晶プロジェクタ用液晶パネル。
【請求項８】
前記第１の透明電極の膜厚が６０〜１２０ｎｍ（但し１２０ｎｍを除く）であり、
前記第１の積層膜における前記屈折率膜の膜厚は、１層目が１〜１２ｎｍ、２層目が２３〜１１０ｎｍ、３層目が７〜２４ｎｍ、４層目が３５〜１０３ｎｍ、５層目が８〜２３ｎｍ、６層目が１〜５５ｎｍであり、
前記第２の積層膜における前記屈折率膜の膜厚は、１層目が１〜２０ｎｍ、２層目が２０〜１０６ｎｍ、３層目が１〜２４ｎｍ、４層目が１〜１２０ｎｍ、５層目が８〜３３ｎｍ、６層目が２０〜７４ｎｍであることを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項記載の液晶プロジェクタ用液晶パネル。
【請求項９】
前記第１の透明電極の膜厚が１０〜６０ｎｍ（但し６０ｎｍを除く）であり、
前記第１の積層膜における前記屈折率膜の膜厚は、１層目が１〜２６ｎｍ、２層目が１〜１０００ｎｍ、３層目が１〜３０ｎｍ、４層目が１〜１０００ｎｍ、５層目が２〜４１ｎｍ、６層目が６〜９５ｎｍであり、
前記第２の積層膜における前記屈折率膜の膜厚は、１層目が１〜２６ｎｍ、２層目が１〜１０００ｎｍ、３層目が１〜３０ｎｍ、４層目が１〜１０００ｎｍ、５層目が２〜４１ｎｍ、６層目が６〜９５ｎｍであることを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項記載の液晶プロジェクタ用液晶パネル。
【請求項１０】
前記高屈折率膜は、酸化タンタル、酸化チタン、酸化ジルコニウム、および酸化ハフニウムの中から選ばれる少なくとも１種からなり、前記低屈折率膜は、酸化シリコン、およびフッ化マグネシウムの中から選ばれる少なくとも１種からなることを特徴とする請求項１乃至９のいずれか１項記載の液晶プロジェクタ用液晶パネル。
【請求項１１】
波長が４００〜７００ｎｍの範囲における光の透過率の最大値と最小値との差で表される変動値が１０％以下であることを特徴とする請求項１乃至１０のいずれか１項記載の液晶プロジェクタ用液晶パネル。
【請求項１２】
前記第１の基板本体および前記第２の基板本体が石英基板であることを特徴とする請求項１乃至１１のいずれか１項記載の液晶プロジェクタ用液晶パネル。
【請求項１３】
被投影物に投影するための画像情報を形成する液晶パネルを有する液晶プロジェクタであって、
前記液晶パネルが請求項１乃至１２のいずれか１項記載の液晶プロジェクタ用液晶パネルであることを特徴とする液晶プロジェクタ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶プロジェクタ用液晶パネル、および液晶プロジェクタに関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、画像情報をスクリーン等の被投影物に投影するために液晶プロジェクタが用いられている。液晶プロジェクタは空間変調素子としての液晶パネルを有し、この液晶パネルに光源からの光を照射して変調し、投影レンズによって外部の被投影物に投影している。
【０００３】
液晶パネルは、例えば薄膜トランジスタ基板に対向して微小間隔をおいて対向基板が配置され、これらの間に液晶部が配置されたものである。薄膜トランジスタ基板には、各画素部に電圧の印加により液晶を配向させる表示電極が形成され、対向基板には全面に共通電極が形成されている。対向基板は、例えばガラス基板等の基板本体上にいわゆるブラックマトリクスと呼ばれる遮光性部材が形成され、さらに遮光性部材を覆うようにして略全面に共通電極としてＩＴＯ(Indium Tin Oxide)膜が形成されている（例えば、特許文献１参照）。
【０００４】
このような液晶パネルについては、液晶プロジェクタの明るさを向上させて性能に優れたものとするとともに、消費電力を低減して環境に配慮したものとするために、透過率の向上が求められている。また、特定波長の光の透過率に優れるだけでは液晶プロジェクタとしての使用に適さないことから、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の各色の波長の光の透過率に優れることが求められる。さらに、各色の波長の光の透過率に優れるとしても、これらの透過率に大きな差がある場合には液晶プロジェクタとしての使用に適さないことから、透過率の変動も少ないことが求められる。また、量産性の観点から、製造工程の増加が少ないことも求められる。
【０００５】
このような課題を解決するものとして、例えば液晶パネルの対向基板に積層膜を設けることが知られている。積層膜は、対向基板の基板本体側から高屈折率膜と低屈折率膜とが交互に６層積層されたものであり、各屈折率膜の膜厚が所定の膜厚とされている（例えば、特許文献２参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開平８−３３８９９１号公報
【特許文献２】特許第４４９９１８０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、液晶プロジェクタについては、さらに明るさを向上させて性能に優れたものとするとともに、消費電力を低減して環境に配慮したものとすることが求められている。上記したように、対向基板については、所定の積層膜を設けることにより透過率等が向上することが知られているが、液晶パネルとしたときの透過率等については必ずしも明らかになっておらず、また積層膜を対向基板側だけでなく、薄膜トランジスタ基板側にも設けた場合の効果や、そのときの屈折率膜の最適な層数や膜厚等についても必ずしも明らかになっていない。
【０００８】
本発明は、上記した課題を解決するためになされたものであって、Ｒ、Ｇ、Ｂの各色の波長の光の透過率に優れ、その変動が抑制されるとともに、生産性も良好な液晶プロジェクタ用液晶パネルを提供することを目的としている。また、本発明は、このような液晶プロジェクタ用液晶パネルを用いた高い性能を有する液晶プロジェクタを提供することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明の液晶プロジェクタ用液晶パネルは、第１の基板部と、この第１の基板部に対向して配置される第２の基板部と、これら第１の基板部と第２の基板部との間に配置される液晶部とを有し、波長が４５０ｎｍ、５５０ｎｍ、および６５０ｎｍの光の透過率が８７％以上であることを特徴とする。
【００１０】
第１の基板部は、第１の基板本体の各画素部の少なくとも表示部となる部分に、第１の積層膜、第１の透明電極、および第１の配向膜が順に積層されている。第２の基板部は、第２の基板本体上に、第２の積層膜、第２の透明電極、および第２の配向膜が順に積層されている。
【００１１】
第１の積層膜は、屈折率が１．９〜２．５の高屈折率膜と屈折率が１．２〜１．５の低屈折率膜とが第１の基板本体側から交互に計６層積層されてなり、かつ各屈折率膜の膜厚は１層目が１〜２６ｎｍ、２層目が１〜１０００ｎｍ、３層目が１〜３０ｎｍ、４層目が１〜１０００ｎｍ、５層目が２〜４１ｎｍ、６層目が１〜９５ｎｍである。なお、この６層目は６〜９５ｎｍが好ましい。
【００１２】
第２の積層膜は、屈折率が１．９〜２．５の高屈折率膜と屈折率が１．２〜１．５の低屈折率膜とが第２の基板本体側から交互に計６層積層されてなり、かつ各屈折率膜の膜厚は１層目が１〜２６ｎｍ、２層目が１〜１０００ｎｍ、３層目が１〜３０ｎｍ、４層目が１〜１０００ｎｍ、５層目が２〜４１ｎｍ、６層目が６〜９５ｎｍである。
【００１３】
本発明の液晶プロジェクタは、被投影物に投影するための画像情報を形成する液晶パネルを有するものであり、この液晶パネルが上記した本発明の液晶プロジェクタ用液晶パネルであることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１４】
本発明の液晶プロジェクタ用液晶パネルによれば、対向する１対の基板部の双方に所定の積層膜を設けることで、良好な生産性を維持しつつ、Ｒ、Ｇ、Ｂの各色の波長の光の透過率を向上させ、その変動も抑制することができる。これにより、液晶プロジェクタに好適なものとすることができる。
【００１５】
本発明の液晶プロジェクタによれば、上記した本発明の液晶プロジェクタ用液晶パネルを用いることで、明るさを向上させて性能を向上させるとともに、消費電力を低減して環境に配慮したものとすることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】本発明の液晶パネルの一例を示す一部拡大断面図。
【図２】図１に示す液晶パネルの第１の基板部を示す断面図。
【図３】図１に示す液晶パネルの第２の基板部を示す断面図。
【図４】実施例１〜３および比較例１、２の液晶パネルの透過率を示すグラフ。
【図５】屈折率膜（実施例３、第２の積層膜の２層目）の膜厚と透過率との関係を示すグラフ。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
以下、本発明の実施形態について図面を参照して説明する。
図１は、実施形態の液晶プロジェクタ用液晶パネル（以下、単に液晶パネルという）の一例を示す断面図である。なお、図１には、略１画素部分を拡大して示している。液晶パネル１は、第１の基板部２と、この第１の基板部２に対向して配置される第２の基板部３と、これら第１の基板部２と第２の基板部３との間に配置される液晶部４とを有している。
【００１８】
第１の基板部２は、第１の基板本体２１を有し、その内側、すなわち第２の基板部３に対向する主面側に画素部を有している。各画素部には、薄膜トランジスタ(Thin Film Transistor：TFT)素子等の駆動素子２２が設けられるとともに、少なくとも表示部となる部分に、第１の積層膜２３、表示電極となる第１の透明電極２４、および第１の配向膜２５が順に積層されている。通常、第１の基板部２としては、薄膜トランジスタ基板が好適に用いられる。
【００１９】
なお、図示しないが、十分な透過率が得られる場合には、第１の基板本体２１と第１の積層膜２３との間に下地膜等を設けたり、第１の積層膜２３上に保護膜等を設けたりすることができる。また、図示しないが、十分な透過率が得られる場合には、第１の基板本体２１の外側に液晶パネル１を空気中の粉塵等から保護するための防塵ガラスを設けることもできる。
【００２０】
第２の基板部３は、第２の基板本体３１を有し、その内側、すなわち第１の基板部２に対向する主面側に、第２の積層膜３２、共通電極となる第２の透明電極３３、および第２の配向膜３４が順に積層されている。なお、図示しないが、十分な透過率が得られる場合には、第２の基板本体３１と第２の積層膜３２との間に下地膜等を設けたり、第２の積層膜３２上に保護膜等を設けたりすることができる。また、図示しないが、十分な透過率が得られる場合には、第２の基板本体３１の外側に液晶パネル１を空気中の粉塵等から保護するための防塵ガラスを設けることもできる。
【００２１】
第２の基板本体３１の内側には、例えばブラックマトリクスと呼ばれる遮光性部材３５が設けられていてもよい。遮光性部材３５は、例えば図１に示されるように、第２の積層膜３２を一様な平面状とし、この第２の積層膜３２上に積層することができる。また、図示しないが、例えば第２の基板本体３１上に遮光性部材３５を直接積層し、この周囲を囲むように第２の積層膜３２を設けることもできる。
【００２２】
第１の積層膜２３は、図２に示すように、屈折率が１．９〜２．５（波長５８９ｎｍでの屈折率、以下同様）の高屈折率膜（屈折率膜２３１、２３３、２３５）と屈折率が１．２〜１．５の低屈折率膜（屈折率膜２３２、２３４、２３６）とが第１の基板本体２１側から交互に計６層積層されている。各屈折率膜の膜厚は、１層目の屈折率膜２３１が１〜２６ｎｍ、２層目の屈折率膜２３２が１〜１０００ｎｍ、３層目の屈折率膜２３３が１〜３０ｎｍ、４層目の屈折率膜２３４が１〜１０００ｎｍ、５層目の屈折率膜２３５が２〜４１ｎｍ、６層目の屈折率膜２３６が１〜９５ｎｍである。なお、この６層目の屈折率膜２３６の膜厚は６〜９５ｎｍが好ましい。また、通常、生産性等の観点から、第１の積層膜２３における２層目の屈折率膜２３２および４層目の屈折率膜２３４の膜厚は、それぞれ２００ｎｍ以下が好ましく、１５０ｎｍ以下がより好ましい。
【００２３】
第２の積層膜３２も、図３に示すように、屈折率が１．９〜２．５の高屈折率膜（屈折率膜３２１、３２３、３２５）と屈折率が１．２〜１．５の低屈折率膜（屈折率膜３２２、３２４、３２６）とが第２の基板本体３１側から交互に計６層積層されている。各屈折率膜の膜厚は、１層目の屈折率膜３２１が１〜２６ｎｍ、２層目の屈折率膜３２２が１〜１０００ｎｍ、３層目の屈折率膜３２３が１〜３０ｎｍ、４層目の屈折率膜３２４が１〜１０００ｎｍ、５層目の屈折率膜３２５が２〜４１ｎｍ、６層目の屈折率膜３２６が６〜９５ｎｍである。
【００２４】
なお、上記構成の中でも、第１の透明電極２４の膜厚が１２０〜１６５ｎｍの場合、特に１３５〜１５５ｎｍの場合は、以下の構成が好ましい。第１の積層膜２３は、１層目の屈折率膜２３１が３〜１５ｎｍ、２層目の屈折率膜２３２が４５〜９０ｎｍ、３層目の屈折率膜２３３が２〜１６ｎｍ、４層目の屈折率膜２３４が１〜１１０ｎｍ、５層目の屈折率膜２３５が１２〜２８ｎｍ、６層目の屈折率膜２３６が１９〜５２ｎｍである。第２の積層膜３２は、１層目の屈折率膜３２１が１〜１８ｎｍ、２層目の屈折率膜３２２が２６〜１００ｎｍ、３層目の屈折率膜３２３が１〜２１ｎｍ、４層目の屈折率膜３２４が２０〜１０５ｎｍ、５層目の屈折率膜３２５が１１〜３２ｎｍ、６層目の屈折率膜３２６が２５〜７０ｎｍである。
【００２５】
第１の透明電極２４の膜厚が６０〜１２０ｎｍ（但し１２０ｎｍを除く）の場合、特に９０〜１１０ｎｍの場合は、以下の構成が好ましい。第１の積層膜２３は、１層目の屈折率膜２３１が１〜１２ｎｍ、２層目の屈折率膜２３２が２３〜１１０ｎｍ、３層目の屈折率膜２３３が７〜２４ｎｍ、４層目の屈折率膜２３４が３５〜１０３ｎｍ、５層目の屈折率膜２３５が８〜２３ｎｍ、６層目の屈折率膜２３６が１〜５５ｎｍである。第２の積層膜３２は、１層目の屈折率膜３２１が１〜２０ｎｍ、２層目の屈折率膜３２２が２０〜１０６ｎｍ、３層目の屈折率膜３２３が１〜２４ｎｍ、４層目の屈折率膜３２４が１〜１２０ｎｍ、５層目の屈折率膜３２５が８〜３３ｎｍ、６層目の屈折率膜３２６が２０〜７４ｎｍである。
【００２６】
第１の透明電極２４の膜厚が１０〜６０ｎｍ（但し６０ｎｍを除く）の場合、特に１０〜３０ｎｍの場合は、以下の構成が好ましい。第１の積層膜２３は、１層目の屈折率膜２３１が１〜２６ｎｍ、２層目の屈折率膜２３２が１〜１０００ｎｍ、３層目の屈折率膜２３３が１〜３０ｎｍ、４層目の屈折率膜２３４が１〜１０００ｎｍ、５層目の屈折率膜２３５が２〜４１ｎｍ、６層目の屈折率膜２３６が６〜９５ｎｍである。第２の積層膜３２は、１層目の屈折率膜３２１が１〜２６ｎｍ、２層目の屈折率膜３２２が１〜１０００ｎｍ、３層目の屈折率膜３２３が１〜３０ｎｍ、４層目の屈折率膜３２４が１〜１０００ｎｍ、５層目の屈折率膜３２５が２〜４１ｎｍ、６層目の屈折率膜３２６が６〜９５ｎｍである。通常、生産性等の観点から、第１の積層膜２３における２層目の屈折率膜２３２および４層目の屈折率膜２３４、第２の積層膜３２における２層目の屈折率膜３２２および４層目の屈折率膜３２４の膜厚は、それぞれ２００ｎｍ以下が好ましく、１５０ｎｍ以下がより好ましい。
【００２７】
このような液晶パネル１によれば、第１の基板部２に所定の構成の第１の積層膜２３を有するとともに、第２の基板部３に所定の構成の第２の積層膜３２を有することから、従来の一方の基板部のみに積層膜を有するものに比べて、各色の光の透過率を向上させることができ、また各色の透過率の変動も抑制することができる。
【００２８】
具体的には、波長が４５０ｎｍ、５５０ｎｍ、および６５０ｎｍの光の透過率を８７％以上にすることができる。また、波長が４００〜７００ｎｍの範囲における光の透過率の最大値と最小値との差で表される変動値を１０％以下、好ましくは５％以下とすることができる。なお、変動値は、例えば波長が４００〜７００ｎｍの範囲における光の透過率の最大値が９０％、最小値が８６％の場合、９０％−８６％＝４％として求めることができる。
【００２９】
例えば、従来のように基板本体としての石英基板に透明電極としてのＩＴＯ(Indium Tin Oxide)膜を直接積層した場合、石英基板の屈折率が約１．４６であり、またＩＴＯ膜の屈折率が２程度であることから、これらの屈折率の違いにより必ずしも十分な透過率が得られない。また、液晶パネルを構成する一対の石英基板の一方のみに透過率を向上させるための積層膜を設けることが知られているが、必ずしも一対の石英基板の双方に積層膜を設ける場合の効果や、各積層膜における個々の屈折率膜の最適な膜厚等については必ずしも明確となっていない。
【００３０】
上記した液晶パネル１によれば、第１の基板部２に第１の積層膜２３を設け、第２の基板部３に第２の積層膜３２を設けるとともに、第１の積層膜２３、第２の積層膜３２のそれぞれの層数および各屈折率膜の膜厚を所定のものとすることで、第１の基板本体２１と第１の透明電極２４との屈折率の違い、および第２の基板本体３１と第２の透明電極３３との屈折率の違いを有効に緩和して、液晶パネル１全体としての透過率を向上させるとともに、透過率の変動も抑制することができる。また、従来の液晶パネルに比較して必ずしも大きな製造工程の追加はないことから、生産性についても十分とすることができる。
【００３１】
第１の積層膜２３または第２の積層膜３２における屈折率膜の層数が６層未満の場合、Ｒ、Ｇ、Ｂの各色の波長の光の透過率が十分に高くならず、その変動も十分に抑制できないおそれがある。第１の積層膜２３、第２の積層膜３２における屈折率膜の層数は６層あればＲ、Ｇ、Ｂの各色の波長の光の透過率を十分に高くできるとともに、その変動も十分に抑制でき、これを超えるとかえって製造工程が増加し、生産性が低下するおそれがある。
【００３２】
また、第１の積層膜２３または第２の積層膜３２における１〜６層目のいずれかの屈折率膜の膜厚が上記範囲外の場合、屈折率膜の層数が６層であっても必ずしもＲ、Ｇ、Ｂの各色の波長の光の透過率を十分に高くすることができず、その変動も十分に抑制することができない。また、屈折率膜の膜厚が上記範囲を超える場合、Ｒ、Ｇ、Ｂの各色の波長の光の透過率を十分に高くすることができず、その変動も十分に抑制することができないおそれがあり、また成膜時間の増加に伴って生産性が低下するおそれがある。
【００３３】
第１の基板本体２１、第２の基板本体３１は、透光性材料からなるものであれば必ずしも限定されるものではなく、例えば結晶化ガラスを用いることもできるが、高透過率であること、また低熱膨張であるという理由から石英基板が好適に用いられる。また、これらの厚さについても、必ずしも限定されるものではないが、一般に０．５〜２．５ｍｍが好ましい。なお、第１の基板本体２１と第２の基板本体３１とは、互いに異なる材料、厚さとすることができる。
【００３４】
第１の積層膜２３の高屈折率膜（屈折率膜２３１、２３３、２３５）、第２の積層膜３２の高屈折率膜（屈折率膜３２１、３２３、３２５）は、屈折率が１．９〜２．５のものである。このようなものとしては、例えば酸化タンタル（屈折率：２．０〜２．２）、酸化チタン（屈折率：２．２〜２．５）、酸化ジルコニウム（屈折率：１．９〜２．０）、および酸化ハフニウム（屈折率：１．９５〜２．１５）等の高屈折率材料の中から選ばれる少なくとも１種からなるものが挙げられる。これらの中でも、第１の透明電極２４、第２の透明電極３３、特にＩＴＯ膜を形成する際の熱処理による劣化を抑制する観点から、耐熱性に優れる酸化タンタルが好ましい。
【００３５】
なお、計６層の高屈折率膜は、互いに同一の高屈折率材料からなるものであってもよいし、異なる高屈折率材料からなるものであってもよい。また、計６層の高屈折率膜の各層は、それぞれ単層膜であってもよいし、多層膜であってもよい。多層膜の場合、この多層膜を構成する各層は上記した高屈折率材料からなるものとすることができる。
【００３６】
第１の積層膜２３の低屈折率膜（屈折率膜２３２、２３４、２３６）、第２の積層膜３２の低屈折率膜（屈折率膜３２２、３２４、３２６）は、屈折率が１．２〜１．５のものである。このようなものとしては、酸化シリコン（屈折率：１．４４〜１．４８）、およびフッ化マグネシウム（屈折率：１．３５〜１．４１）等の低屈折率材料の中から選ばれる少なくとも１種からなるものが挙げられる。
【００３７】
なお、計６層の低屈折率膜についても、高屈折率膜と同様、互いに同一の低屈折率材料からなるものであってもよいし、異なる低屈折率材料からなるものであってもよい。また、計６層ある低屈折率膜は、それぞれ単層膜であってもよいし、多層膜であってもよい。多層膜の場合、この多層膜を構成する各層は上記した低屈折率材料からなるものとすることができる。
【００３８】
第１の積層膜２３、第２の積層膜３２は、以下の構成がより好ましい。第１の積層膜２３は、１層目の屈折率膜２３１が２〜１５ｎｍ、２層目の屈折率膜２３２が６０〜７５ｎｍ、３層目の屈折率膜２３３が５〜２０ｎｍ、４層目の屈折率膜２３４が５５〜７０ｎｍ、５層目の屈折率膜２３５が１０〜２５ｎｍ、６層目の屈折率膜２３６が２５〜５５ｎｍである。第２の積層膜３２は、１層目の屈折率膜３２１が２〜１５ｎｍ、２層目の屈折率膜３２２が６０〜７５ｎｍ、３層目の屈折率膜３２３が５〜２０ｎｍ、４層目の屈折率膜３２４が６０〜７０ｎｍ、５層目の屈折率膜３２５が１０〜２５ｎｍ、６層目の屈折率膜３２６が２５〜５５ｎｍである。
【００３９】
なお、上記構成の中でも、第１の透明電極２４の膜厚が１２０〜１６５ｎｍの場合、特に１３５〜１５５ｎｍの場合は、以下の構成が好ましい。第１の積層膜２３は、１層目の屈折率膜２３１が３〜１５ｎｍ、２層目の屈折率膜２３２が６０〜７５ｎｍ、３層目の屈折率膜２３３が５〜１６ｎｍ、４層目の屈折率膜２３４が５５〜７０ｎｍ、５層目の屈折率膜２３５が１２〜２５ｎｍ、６層目の屈折率膜２３６が２５〜３５ｎｍである。第２の積層膜３２は、１層目の屈折率膜３２１が２〜１５ｎｍ、２層目の屈折率膜３２２が６０〜７５ｎｍ、３層目の屈折率膜３２３が５〜２０ｎｍ、４層目の屈折率膜３２４が６０〜７０ｎｍ、５層目の屈折率膜３２５が１１〜２５ｎｍ、６層目の屈折率膜３２６が２５〜５５ｎｍである。
【００４０】
第１の透明電極２４の膜厚が６０〜１２０ｎｍ（但し１２０ｎｍを除く）の場合、特に９０〜１１０ｎｍの場合は、以下の構成が好ましい。第１の積層膜２３は、１層目の屈折率膜２３１が２〜１２ｎｍ、２層目の屈折率膜２３２が６０〜７０ｎｍ、３層目の屈折率膜２３３が７〜２０ｎｍ、４層目の屈折率膜２３４が５５〜７０ｎｍ、５層目の屈折率膜２３５が１０〜２３ｎｍ、６層目の屈折率膜２３６が２５〜４０ｎｍである。第２の積層膜３２は、１層目の屈折率膜３２１が２〜１５ｎｍ、２層目の屈折率膜３２２が６０〜７５ｎｍ、３層目の屈折率膜３２３が１０〜２０ｎｍ、４層目の屈折率膜３２４が６０〜７０ｎｍ、５層目の屈折率膜３２５が１０〜２５ｎｍ、６層目の屈折率膜３２６が３０〜５５ｎｍである。
【００４１】
第１の透明電極２４の膜厚が１０〜６０ｎｍ（但し６０ｎｍを除く）の場合、特に１０〜３０ｎｍの場合は、以下の構成が好ましい。第１の積層膜２３は、１層目の屈折率膜２３１が２〜１５ｎｍ、２層目の屈折率膜２３２が６０〜７５ｎｍ、３層目の屈折率膜２３３が５〜２０ｎｍ、４層目の屈折率膜２３４が６０〜７０ｎｍ、５層目の屈折率膜２３５が１０〜２５ｎｍ、６層目の屈折率膜２３６が４０〜５５ｎｍである。第２の積層膜３２は、１層目の屈折率膜３２１が２〜１５ｎｍ、２層目の屈折率膜３２２が６０〜７５ｎｍ、３層目の屈折率膜３２３が５〜２０ｎｍ、４層目の屈折率膜３２４が６０〜７０ｎｍ、５層目の屈折率膜３２５が１０〜２５ｎｍ、６層目の屈折率膜３２６が４０〜５５ｎｍである。
【００４２】
第１の積層膜２３の合計膜厚、すなわち１層目の屈折率膜２３１から６層目の屈折率膜２３６までの合計膜厚は１５０〜２５０ｎｍが好ましい。また、第２の積層膜３２の合計膜厚、すなわち１層目の屈折率膜３２１から６層目の屈折率膜３２６までの合計膜厚は１５０〜２５０ｎｍが好ましい。それぞれの合計膜厚が１５０ｎｍ以上であれば、Ｒ、Ｇ、Ｂの各色の波長の光の透過率を効果的に向上させることができ、その変動も効果的に抑制することができる。また、それぞれの合計膜厚が２５０ｎｍもあれば十分に透過率等を向上させることができ、これを超えるとかえって成膜時間が増加し、生産性が低下するおそれがある。第１の積層膜２３の合計膜厚は、より好ましくは１８０〜２３０ｎｍであり、さらに好ましくは１９０〜２２０ｎｍである。第２の積層膜３２の合計膜厚は、より好ましくは２００〜２３０ｎｍであり、さらに好ましくは２１０〜２２０ｎｍである。
【００４３】
第１の積層膜２３における２層目の屈折率膜２３２と５層目の屈折率膜２３５との合計膜厚は５５〜１１０ｎｍが好ましい。また、第２の積層膜３２における２層目の屈折率膜３２２と５層目の屈折率膜３２５との合計膜厚は６０〜１１０ｎｍが好ましい。高屈折率膜と低屈折率膜とが交互に３層ずつ計６層積層される場合、１〜３層目の屈折率膜群と、４〜６層目の屈折率膜群とに大きく分けられる。１〜３層目の屈折率膜群における中間層である２層目の屈折率膜と、４〜６層目の屈折率膜群における中間層である５層目の屈折率膜との合計膜厚を上記範囲内とすることで、成膜時間の増加による生産性の低下を抑制しつつ、Ｒ、Ｇ、Ｂの各色の波長の光の透過率を効果的に向上させ、その変動も効果的に抑制することができる。第１の積層膜２３における２層目の屈折率膜２３２と５層目の屈折率膜２３５との合計膜厚は、６５〜１００ｎｍがより好ましく、７５〜９０ｎｍがさらに好ましい。また、第２の積層膜３２における２層目の屈折率膜３２２と５層目の屈折率膜３２５との合計膜厚は、７０〜１００ｎｍがより好ましく、８０〜９０ｎｍがさらに好ましい。
【００４４】
第１の積層膜２３の奇数層目となる高屈折率膜の合計膜厚、すなわち１層目の屈折率膜２３１、３層目の屈折率膜２３３、および５層目の屈折率膜２３５の合計膜厚は、１０〜６５ｎｍが好ましい。また、第２の積層膜３２の奇数層目となる高屈折率膜の合計膜厚、すなわち１層目の屈折率膜３２１、３層目の屈折率膜３２３、および５層目の屈折率膜３２５の合計膜厚は、１０〜６５ｎｍが好ましい。このようなものとすることで、成膜時間の増加による生産性の低下を抑制しつつ、Ｒ、Ｇ、Ｂの各色の波長の光の透過率を効果的に向上させ、その変動も効果的に抑制することができる。第１の積層膜２３、第２の積層膜３２における高屈折率膜の合計膜厚は、それぞれ２０〜５５ｎｍがより好ましく、３０〜４５ｎｍがさらに好ましい。
【００４５】
一方、第１の積層膜２３の偶数層目となる低屈折率膜の合計膜厚、すなわち２層目の屈折率膜２３２、４層目の屈折率膜２３４、および６層目の屈折率膜２３６の合計膜厚は、１３０〜２０５ｎｍが好ましい。また、第２の積層膜３２の偶数層目となる低屈折率膜の合計膜厚、すなわち２層目の屈折率膜３２２、４層目の屈折率膜３２４、および６層目の屈折率膜３２６の合計膜厚は、１５０〜２０５ｎｍが好ましい。このようなものとすることで、成膜時間の増加による生産性の低下を抑制しつつ、Ｒ、Ｇ、Ｂの各色の波長の光の透過率を効果的に向上させ、その変動も効果的に抑制することができる。第１の積層膜２３の低屈折率膜の合計膜厚は、１４０〜１９５ｎｍがより好ましく、１５０〜１８５ｎｍがさらに好ましい。また、第２の積層膜３２の低屈折率膜の合計膜厚は、１６０〜１９５ｎｍがより好ましく、１７０〜１８５ｎｍがさらに好ましい。
【００４６】
第１の積層膜２３の６層目となる屈折率膜２３６は、第２の基板部３側となる表面の表面粗さが０．５ｎｍ以下であることが好ましい。同様に、第２の積層膜３２の６層目となる屈折率膜３２６は、第１の基板部２側となる表面の表面粗さが０．５ｎｍ以下であることが好ましい。上記表面の表面粗さを０．５ｎｍ以下とすることで、ＩＴＯ膜を積層した場合のこれらの界面における透過率の低下を効果的に抑制することができる。なお、表面粗さは、ＪＩＳ  Ｂ０６０１に準拠して測定されるものである。
【００４７】
第１の透明電極２４、第２の透明電極３３は、それぞれＩＴＯ膜が好ましい。第１の透明電極２４、第２の透明電極３３の膜厚は必ずしも限定されるものではないが、第１の透明電極２４の膜厚は１０〜１６５ｎｍが好ましく、第２の透明電極３３の膜厚は１０〜３０ｎｍが好ましい。第１の透明電極２４、第２の透明電極３３の膜厚がこのような範囲内の場合、第１の積層膜２３、第２の積層膜３２を設けることにより、Ｒ、Ｇ、Ｂの各色の波長の光の透過率を効果的に向上させ、その変動も効果的に抑制することができる。
【００４８】
第１の配向膜２５、第２の配向膜３４は、例えばポリイミド系の有機化合物をラビング（配向）処理した膜や、酸化シリコン等の無機材料を斜方蒸着した蒸着膜等とすることができる。第１の配向膜２５、第２の配向膜３４の膜厚は必ずしも限定されるものではないが、第１の配向膜２５の膜厚は、４０〜８０ｎｍが好ましく、５０〜７０ｎｍがより好ましく、第２の配向膜３４の膜厚は、１５〜５５ｎｍが好ましく、２５〜４５ｎｍがより好ましい。第１の配向膜２５、第２の配向膜３４の膜厚がこのような範囲内にある場合、第１の積層膜２３、第２の積層膜３２を設けることにより、Ｒ、Ｇ、Ｂの各色の波長の光の透過率を効果的に向上させ、その変動も効果的に抑制することができる。
【００４９】
液晶部４は、一種または数種のネマティック液晶を混合した液晶分子からなるものとすることができ、第１の基板部２と第２の基板部３との間に封入され、第１の配向膜２５、第２の配向膜３４によって配向されている。
【００５０】
このような液晶パネル１は、第１の基板部２に第１の積層膜２３を設けるとともに、第２の基板部３に第２の積層膜３２を設けることを除き、従来の液晶パネルと同様にして製造することができる。第１の積層膜２３は、第１の基板本体２１上に公知のスパッタリング法により高屈折率膜（屈折率膜２３１、２３３、２３５）と低屈折率膜（屈折率膜２３２、２３４、２３６）とを交互に３層ずつ計６層積層することにより製造することができる。同様に、第２の積層膜３２は、第２の基板本体３１上に公知のスパッタリング法により高屈折率膜（屈折率膜３２１、３２３、３２５）と低屈折率膜（屈折率膜３２２、３２４、３２６）とを交互に３層ずつ計６層積層することにより製造することができる。
【００５１】
スパッタリング法としては、例えば、ＤＣ（直流）スパッタリング方式、ＡＣ（交流）スパッタリング方式、高周波スパッタリング方式、マグネトロンスパッタリング方式が挙げられる。また、スパッタリング法以外に真空蒸着法も使用でき、真空蒸着法としては、イオンプレーティング法、イオンアシスト法などがある。一般的にプロセスが安定し、大面積への成膜が容易であること、および膜厚制御精度の安定性から、ＤＣマグネトロンスパッタリング法、ＡＣマグネトロンスパッタリング法、イオンプレーティング法、イオンアシスト法が好ましい。
【００５２】
高屈折率膜としての酸化タンタル、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化ハフニウムについては、例えばターゲットとしてこれらの金属酸化物を構成する金属元素からなるものを用い、スパッタガスとして酸素を含有するガスを用い、反応性スパッタリング法により容易に形成することができる。また、低屈折率膜としての酸化シリコン層については、例えばターゲットとして炭化ケイ素を用い、スパッタガスとして酸素を含有するガスを用い、反応性スパッタリング法により容易に形成することができる。なお、ターゲットには、Ａｌ、Ｓｉ、Ｚｎ等公知のドーパントが本発明の趣旨に反しない限度においてドープされていてもよい。
【００５３】
第１の基板本体２１上に第１の積層膜２３が形成されたものについては、さらに第１の積層膜２３上に公知の方法により第１の透明電極２４、第１の配向膜２５を順に積層して、第１の基板部２とすることができる。一方、第２の基板本体３１上に第２の積層膜３２が形成されたものについては、さらに第２の積層膜３２上に公知の方法により第２の透明電極３３、第２の配向膜３４を順に積層して、第２の基板部３とすることができる。その後、例えば第１の基板部２と第２の基板部３とを対向して配置した後、これらの間に液晶を封入して液晶部４を形成することにより、液晶パネル１とすることができる。
【００５４】
このような液晶パネル１は、液晶プロジェクタの内部に配置されて使用される。液晶パネル１には、図１に示されるように第１の基板部２側に光源からの光が入射され、この入射した光が液晶パネル１によって変調されて第２の基板部３側から出射され、最終的に投影レンズによって外部に配置された被投影物に投影される。このような液晶パネル１を有する液晶プロジェクタについては、液晶パネル１がＲ、Ｇ、Ｂの各色の波長の光の透過率に優れ、その変動も抑制されているために、明るさが向上してプロジェクタとしての性能に優れると共に、消費電力も低減でき環境に配慮したものとなる。
【実施例】
【００５５】
以下、本発明について実施例を参照して具体的に説明する。
【００５６】
計算により求められた第１の積層膜２３および第２の積層膜３２の最適な膜構成に基づいて、以下に示すように実施例１〜３の液晶パネル１を作製する。また、比較のために第１の積層膜２３および第２の積層膜３２を有しない液晶パネル１（比較例１）、第２の積層膜３２のみを有する液晶パネル１（比較例２）を作製する。
【００５７】
ここで、実施例１〜３の液晶パネル１は、それぞれ第１の透明電極２４の厚さが１４５ｎｍ、１００ｎｍ、２０ｎｍの場合の最適な膜構成を有するものである。最適な膜構成とは、液晶パネル１における波長が４５０ｎｍ、５５０ｎｍ、および６５０ｎｍの光の透過率が８７％以上となるものである。なお、最適な膜構成は以下の条件により求めた。
【００５８】
第１の基板本体２１は石英基板（厚さ１．２ｍｍ、屈折率１．４７）、第１の透明電極２４はＩＴＯ膜（屈折率１．８８）、第１の配向膜２５はポリイミド膜（厚さ６０ｎｍ、屈折率１．５６）、第２の基板本体３１は石英基板（厚さ１．２ｍｍ、屈折率１．４７）、第２の透明電極３３はＩＴＯ膜（厚さ２０ｎｍ、屈折率１．８８）、第２の配向膜３４はポリイミド膜（厚さ３６ｎｍ、屈折率１．５６）、液晶部４はネマティック液晶（厚さ２．５μｍ、屈折率１．５７）とした。また、第１の積層膜２３、第２の積層膜３２はいずれも６層構造とし、高屈折率膜は酸化タンタル（屈折率２．１４）、低屈折率膜は酸化シリコン（屈折率１．４６）とした。
【００５９】
（実施例１）
第１の透明電極２４の厚さが１４５ｎｍのときの最適な膜構成（表１、第１の積層膜、第２の積層膜）に基づいて、液晶パネル１を作製する。すなわち、第１の基板本体２１としての石英基板上に、以下の方法により高屈折率膜としての酸化タンタル膜と、低屈折率膜としての酸化シリコン膜とを交互に３層ずつ計６層、所定の膜厚に積層して第１の積層膜を形成する。さらに、第１の積層膜２３上にスパッタリング法により第１の透明電極２４としてＩＴＯ膜を形成するとともに、第１の配向膜２５を形成して第１の基板部２とする。
【００６０】
また、第２の基板本体３１としての石英基板上に、以下の方法により高屈折率膜としての酸化タンタル膜と、低屈折率膜としての酸化シリコン膜とを交互に３層ずつ計６層、所定の膜厚に積層して第２の積層膜３２を形成する。さらに、第２の積層膜３２上にスパッタリング法により第２の透明電極３３としてＩＴＯ膜を形成するとともに、第２の配向膜３４を形成して第２の基板部３とする。
【００６１】
その後、第１の基板部２と第２の基板部３との間に液晶を封入して液晶部４を形成し、液晶パネル１を作製する。なお、各部の厚さは、上記条件と同様とした。
【００６２】
［酸化タンタル膜の形成］
真空槽内にスパッタターゲットとしてのＴａターゲットをカソード上に設置し、真空槽を２．０×１０−３Ｐａ以下となるまで排気した後、スパッタガスとして酸素ガス６０ｓｃｃｍとアルゴンガス１４０ｓｃｃｍとを導入する。このときの圧力は３．０×１０−１Ｐａである。この状態で、ＤＣパルス電源を用いて反応性スパッタを行うことにより、真空槽内に設置した被処理体としての石英基板あるいは順次屈折率膜が形成されたものに酸化タンタル膜を形成する。なお、酸化タンタル膜の膜厚は、主としてスパッタ時間の調整により行う。
【００６３】
［酸化シリコン膜の形成］
真空槽内にスパッタターゲットとしてのＳｉターゲットをカソード上に設置し、真空槽を２．０×１０−３Ｐａ以下となるまで排気した後、スパッタガスとしてアルゴンガス２１０ｓｃｃｍと酸素ガス１９０ｓｃｃｍとを導入する。このときの圧力は３．４×１０−１Ｐａとなる。この状態で、ＡＣ電源を用いて反応性スパッタを行うことにより、真空槽内に設置した被処理体としての石英基板に順次屈折率膜が形成されたものに酸化シリコン膜を形成する。なお、酸化シリコン膜の膜厚は、主としてスパッタ時間の調整により行う。
【００６４】
（実施例２）
第１の透明電極２４の厚さが１００ｎｍのときの最適な膜構成（表１、第１の積層膜、第２の積層膜）に基づいて液晶パネル１を作製する。なお、上記膜構成とする以外は実施例１と同様にして液晶パネル１を作製する。
【００６５】
（実施例３）
第１の透明電極２４の厚さが２０ｎｍのときの最適な膜構成（表１、第１の積層膜、第２の積層膜）に基づいて液晶パネル１を作製する。なお、上記膜構成とする以外は実施例１と同様にして液晶パネル１を作製する。
【００６６】
（比較例１）
第１の積層膜２３および第２の積層膜３２を設けずに液晶パネル１を作製する。すなわち、第１の基板本体２１上に第１の透明電極２４および第１の配向膜２５を直接積層して第１の基板部２とし、また第２の基板本体３１上に第２の透明電極３３および第２の配向膜３４を直接積層して第２の基板部３とし、その後は実施例１と同様にして液晶パネル１を作製する。なお、第２の透明電極３３の膜厚は１４５ｎｍとする。
【００６７】
（比較例２）
第１の積層膜２３を設けず、第２の積層膜３２のみを設けて液晶パネル１を作製する。すなわち、第１の基板本体２１上に第１の透明電極２４および第１の配向膜２５を直接積層して第１の基板部２とし、第２の基板本体３１上に第２の積層膜３２を介して第２の透明電極３３および第２の配向膜３４を積層して第２の基板部３とし、その後は実施例１と同様にして液晶パネル１を作製する。なお、第２の積層膜３２の構成は、特許第４４９９１８０号公報の実施例１に記載されたものである。
【００６８】
【表１】
2014032215.tif 000003
【００６９】
次に、実施例および比較例の液晶パネル１について透過率の評価を行う。なお、透過率の評価は、例えば日立Ｕ４０００形自記分光光度計にて行う。結果を図１に示す。
【００７０】
第１の積層膜２３および第２の積層膜３２の双方を設けなかった比較例１の液晶パネル１については、低波長域および高波長域の透過率が８７％未満となり、また中波長域とその他の領域との透過率の変動も大きくなることがわかる。また、第２の積層膜３２のみを設けた比較例２の液晶パネル１については、比較例１の液晶パネル１に比べて全体的に透過率が向上するものの、依然として低波長域および高波長域の透過率が８７％未満となり、また中波長域とその他の領域との透過率の変動も大きいことがわかる。
【００７１】
これに対し第１の積層膜２３および第２の積層膜３２の双方を設けた実施例１〜３の液晶パネル１については、波長が４５０ｎｍ、５５０ｎｍ、および６５０ｎｍの各点において８７％以上の透過率を得られることがわかる。また、実施例１〜３の液晶パネル１については、いずれも波長が４００〜７５０ｎｍの範囲において透過率の変動値が４％以下となることがわかる。
【００７２】
次に、実施例１の液晶パネル１（第１の透明電極２４の厚さが１４５ｎｍの場合）、実施例２の液晶パネル１（第１の透明電極２４の厚さが１００ｎｍの場合）、実施例３の液晶パネル１（第１の透明電極２４の厚さが２０ｎｍの場合）の各膜構成を基本とし、第１の積層膜２３および第２の積層膜３２の各屈折率膜の膜厚の許容範囲（最小値、最大値）を計算により求めた。
【００７３】
なお、許容範囲は、波長が４５０ｎｍ、５５０ｎｍ、および６５０ｎｍの光の透過率が８７％以上となり、かつ波長が４００〜７５０ｎｍの範囲における光の透過率の最大値と最小値の差で表される変動値が１０％以下となる範囲を求めた。また、許容範囲は、１つの屈折率膜の膜厚のみを基本構成（基本膜厚）から変更し、他の全ての屈折率膜の膜厚を基本構成（基本膜厚）としたときに上記条件を満たす範囲を求めた。
【００７４】
表２に、実施例１の液晶パネル１について、各屈折率膜の膜厚の許容範囲（最小値、最大値）、その最小値および最大値における透過率（４５０ｎｍ、５５０ｎｍ、６５０ｎｍ）、変動値を示す。同様に、表３、４には、実施例２の液晶パネル１、実施例３の液晶パネル１の結果を示す。また、図５には、実施例３の液晶パネル１において、第２の積層膜３２の２層目の屈折率膜３２２の膜厚を１〜１０００ｎｍの範囲で変更したときの結果を示す。
【００７５】
【表２】
2014032215.tif 000004
【００７６】
【表３】
2014032215.tif 000005
【００７７】
【表４】
2014032215.tif 000006
【００７８】
実施例１〜３の結果から明らかなように、第１の透明電極２４の厚さにかかわらず、同一の層番号を有する屈折率膜については、ほぼ類似した最適膜厚（基本膜厚）となることがわかる。また、表２〜４から明らかなように、最適膜厚（基本膜厚）からの許容範囲についても、同一の層番号を有する屈折率膜については、基本的に一定程度の範囲内に入ることがわかる。従って、第１の透明電極２４の厚さにかかわらない各屈折率膜の許容範囲としては、表２〜４に示される各屈折率膜の最小値と最大値とを採用して以下のものとすることができる。
【００７９】
第１の積層膜２３における各屈折率膜の膜厚は、１層目の屈折率膜２３１が１〜２６ｎｍ、２層目の屈折率膜２３２が１〜１０００ｎｍ、３層目の屈折率膜２３３が１〜３０ｎｍ、４層目の屈折率膜２３４が１〜１０００ｎｍ、５層目の屈折率膜２３５が２〜４１ｎｍ、６層目の屈折率膜２３６が１〜９５ｎｍである。第２の積層膜３２における各屈折率膜の膜厚は、１層目の屈折率膜３２１が１〜２６ｎｍ、２層目の屈折率膜３２２が１〜１０００ｎｍ、３層目の屈折率膜３２３が１〜３０ｎｍ、４層目の屈折率膜３２４が１〜１０００ｎｍ、５層目の屈折率膜３２５が２〜４１ｎｍ、６層目の屈折率膜３２６が６〜９５ｎｍである。
【００８０】
より好ましくは、以下のものである。第１の積層膜２３における各屈折率膜の膜厚は、１層目の屈折率膜２３１が２〜１５ｎｍ、２層目の屈折率膜２３２が６０〜７５ｎｍ、３層目の屈折率膜２３３が５〜２０ｎｍ、４層目の屈折率膜２３４が５５〜７０ｎｍ、５層目の屈折率膜２３５が１０〜２５ｎｍ、６層目の屈折率膜２３６が２５〜５５ｎｍである。第２の積層膜３２における各屈折率膜の膜厚は、１層目の屈折率膜３２１が２〜１５ｎｍ、２層目の屈折率膜３２２が６０〜７５ｎｍ、３層目の屈折率膜３２３が５〜２０ｎｍ、４層目の屈折率膜３２４が６０〜７０ｎｍ、５層目の屈折率膜３２５が１０〜２５ｎｍ、６層目の屈折率膜３２６が４０〜５５ｎｍである。
【符号の説明】
【００８１】
１…液晶パネル、２…第１の基板部、３…第２の基板部、４…液晶部、２１…第１の基板本体、２３…第１の積層膜（２３１…１層目の屈折率膜、２３２…２層目の屈折率膜、２３３…３層目の屈折率膜、２３４…４層目の屈折率膜、２３５…５層目の屈折率膜、２３６…６層目の屈折率膜）、２４…第１の透明電極２４、２５…第１の配向膜、３１…第２の基板本体、３２…第２の積層膜（３２１…１層目の屈折率膜、３２２…２層目の屈折率膜、３２３…３層目の屈折率膜、３２４…４層目の屈折率膜、３２５…５層目の屈折率膜、３２６…６層目の屈折率膜）、３３…第２の透明電極、３４…第２の配向膜
【図１】
2014032215.tif 000007
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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